(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性基体と、前記導電性基体上に配置され、電荷発生材料と、下記一般式（ＣＴ１）で表される電荷輸送材料と、下記一般式（ＣＴ２）で表される電荷輸送材料と、分子量３００以上のヒンダードフェノール系酸化防止剤及びベンゾフェノン系紫外線吸収剤から選ばれる少なくとも１種と、を含む感光層と、を有する電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
前記電子写真感光体の表面にステアリン酸亜鉛を含む潤滑剤を供給する潤滑剤供給手段であって、前記潤滑剤を前記電子写真感光体に対して単位面積当たり０．０５μｇ／ｃｍ２以上１．８μｇ／ｃｍ２以下の供給量で供給する潤滑剤供給手段と、
前記電子写真感光体の表面に接触するブレードを有し、前記ブレードにより、前記トナー像を転写した後の前記電子写真感光体の表面をクリーニングするクリーニング手段と、
を備える画像形成装置。
【化１】
0006658125.tif 000032
一般式（ＣＴ１）中、ＲＣ１１、ＲＣ１２、ＲＣ１３、ＲＣ１４、ＲＣ１５及びＲＣ１６は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上２０以下のアルキル基、炭素数１以上２０以下のアルコキシ基、又は炭素数６以上３０以下のアリール基を表し、隣接する２つの置換基同士が結合して炭化水素環構造を形成してもよい。ｍ及びｎは、各々独立に、０、１又は２を表す。
【化２】
0006658125.tif 000033
一般式（ＣＴ２）中、ＲＣ２１、ＲＣ２２及びＲＣ２３は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上１０以下のアルキル基、炭素数１以上１０以下のアルコキシ基、又は炭素数６以上１０以下のアリール基を表す。
【請求項２】
前記感光層が、フッ素含有樹脂粒子と、フッ素含有分散剤と、をさらに含む、請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記感光層が、結着樹脂として、ビフェニル骨格を有する構造単位を含むビフェニル共重合型ポリカーボネート樹脂を含む、請求項１又は請求項２に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記一般式（ＣＴ１）で表される電荷輸送材料において、ＲＣ１１、ＲＣ１２、ＲＣ１３、ＲＣ１４、ＲＣ１５及びＲＣ１６が水素原子を表し、ｍ及びｎが１を表す、請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記一般式（ＣＴ２）で表される電荷輸送材料において、ＲＣ２１及びＲＣ２３が水素原子を表し、ＲＣ２２が炭素数１以上１０以下のアルキル基を表す、請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記分子量３００以上のヒンダードフェノール系酸化防止剤が、下記一般式（ＨＰ）で表される酸化防止剤である、請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【化３】
0006658125.tif 000034
一般式（ＨＰ）中、ＲＨ１及びＲＨ２は、各々独立に、炭素数４以上８以下の分岐状のアルキル基を表し、ＲＨ３及びＲＨ４は、各々独立に、水素原子、又は炭素数１以上１０以下のアルキル基を表し、ＲＨ５は、炭素数１以上１０以下のアルキレン基を表す。
【請求項７】
前記一般式（ＨＰ）で表される酸化防止剤において、ＲＨ１及びＲＨ２がｔｅｒｔ−ブチル基を表す、請求項６に記載の画像形成装置。
【請求項８】
前記ベンゾフェノン系紫外線吸収剤が、下記一般式（ＢＰ）で表される紫外線吸収剤である、請求項１〜請求項７のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【化４】
0006658125.tif 000035
一般式（ＢＰ）中、ＲＢ１及びＲＢ２は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上１０以下のアルキル基、炭素数１以上１０以下のアルコキシ基、又は炭素数６以上１０以下のアリール基を表し、ＲＢ３は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上１０以下のアルキル基、炭素数１以上１０以下のアルコキシ基、炭素数６以上１０以下のアリール基、又は水酸基を表す。
【請求項９】
前記一般式（ＢＰ）で表される紫外線吸収剤において、ＲＢ１及びＲＢ２が水素原子を表し、ＲＢ３が炭素数１以上４以下のアルコキシ基を表す、請求項８に記載の画像形成装置。
【請求項１０】
前記電荷発生材料が、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料である、請求項１〜請求項９のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項１１】
前記転写手段が、前記電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を直接記録媒体に転写する直接転写方式の転写手段である、請求項１〜請求項１０のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、フッ素系樹脂粒子及びフッ化アルキル基含有共重合体を含有する表面保護層を有する感光体を備え、画像部と非画像部を有する画像密度７％の画像形成を繰り返して感光体を５００００回転させた後の感光体の表面をＸ線光電子分光法で分析したときの亜鉛被覆率が５０％乃至１００％である画像形成装置、が開示されている。
【０００３】
特許文献２には、脂肪酸金属塩からなる固形潤滑剤と、固形潤滑剤を被塗布部材に塗布する塗布部材と、被塗布部材に塗布された固体潤滑剤を薄層にする均し部材とを備え、均し部材が被塗布部材上の薄層を８ｎｍ乃至１２ｎｍにする潤滑剤塗布装置、が開示されている。
【０００４】
特許文献３には、使用開始前において表面の少なくとも一部に窒化ホウ素が付着しており、窒化ホウ素の付着量が長手方向１ｃｍにおけるドラム状感光体の周方向の積算量で０．００２ｍｇ／ｃｍ乃至１ｍｇ／ｃｍである感光体、が開示されている。
【０００５】
特許文献４には、ポリカーボネートを最表面層に含有する像担持体と、像担持体の表面にステアリン酸亜鉛を主体とする保護剤を供給する手段とを備え、画像形成を５００枚行った後の像担持体上の保護剤付着量が０．４μｇ／ｃｍ２乃至２．０μｇ／ｃｍ２である画像形成装置、が開示されている。
【０００６】
特許文献５には、像担持体と、潤滑剤塗布部材と、像担持体上に塗布された潤滑剤を均す均し部材とを備え、潤滑剤塗布部材による塗布量が像担持体の単位面積あたり１.２Ｅ−７ｇ／ｃｍ２乃至１.３Ｅ−６ｇ／ｃｍ２である潤滑剤供給装置、が開示されている。
【０００７】
特許文献６には、最表層に低摩擦化剤を含有する感光体と、潤滑剤供給手段と、弾性ゴムクリーニングブレードと、金属酸化物が外添されたトナーとを有し、感光体表面の最大静止摩擦係数が０．４以下であり、感光体の摩耗量が１０万回転当たり０．１μｍ乃至１．０μｍである電子写真装置、が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２０１３−１０５０４６号公報
【特許文献２】特開２００５−２２７６７６号公報
【特許文献３】特開２０１１−１３３８５０号公報
【特許文献４】特開２００９−２２２８０５号公報
【特許文献５】特開２００６−２５９６６１号公報
【特許文献６】特開２００３−０９８７１１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、電荷発生材料と、一般式（ＣＴ１）で表される電荷輸送材料と、一般式（ＣＴ２）で表される電荷輸送材料と、分子量３００以上のヒンダードフェノール系酸化防止剤及びベンゾフェノン系紫外線吸収剤から選ばれる少なくとも１種とを含む感光層を有する電子写真感光体に関し、電子写真感光体の表面にステアリン酸亜鉛を主体とする固体潤滑剤の供給を行わない場合に比べ、電子写真感光体の偏摩耗を抑制する画像形成装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
前記課題を解決するための具体的手段には、下記の態様が含まれる。
【００１１】
＜１＞に係る発明は、
導電性基体と、前記導電性基体上に配置され、電荷発生材料と、下記一般式（ＣＴ１）で表される電荷輸送材料と、下記一般式（ＣＴ２）で表される電荷輸送材料と、分子量３００以上のヒンダードフェノール系酸化防止剤及びベンゾフェノン系紫外線吸収剤から選ばれる少なくとも１種と、を含む感光層と、を有する電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
前記電子写真感光体の表面にステアリン酸亜鉛を含む潤滑剤を供給する潤滑剤供給手段と、
前記電子写真感光体の表面に接触するブレードを有し、前記ブレードにより、前記トナー像を転写した後の前記電子写真感光体の表面をクリーニングするクリーニング手段と、
を備える画像形成装置。
【００１２】
【化１】
0006658125.tif 000002
【００１３】
一般式（ＣＴ１）中、ＲＣ１１、ＲＣ１２、ＲＣ１３、ＲＣ１４、ＲＣ１５及びＲＣ１６は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上２０以下のアルキル基、炭素数１以上２０以下のアルコキシ基、又は炭素数６以上３０以下のアリール基を表し、隣接する２つの置換基同士が結合して炭化水素環構造を形成してもよい。ｍ及びｎは、各々独立に、０、１又は２を表す。
【００１４】
【化２】
0006658125.tif 000003
【００１５】
一般式（ＣＴ２）中、ＲＣ２１、ＲＣ２２及びＲＣ２３は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上１０以下のアルキル基、炭素数１以上１０以下のアルコキシ基、又は炭素数６以上１０以下のアリール基を表す。
【００１６】
＜２＞に係る発明は、
前記潤滑剤供給手段は、前記潤滑剤を、前記電子写真感光体に対してその単位面積当たり０．０５μｇ／ｃｍ２以上１．８μｇ／ｃｍ２以下の供給量で供給する、＜１＞に記載の画像形成装置。
【００１７】
＜３＞に係る発明は、
前記感光層が、フッ素含有樹脂粒子と、フッ素含有分散剤と、をさらに含む、＜１＞又は＜２＞に記載の画像形成装置。
【００１８】
＜４＞に係る発明は、
前記感光層が、結着樹脂として、ビフェニル骨格を有する構造単位を含むビフェニル共重合型ポリカーボネート樹脂を含む、＜１＞〜＜３＞のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【００１９】
＜５＞に係る発明は、
前記一般式（ＣＴ１）で表される電荷輸送材料において、ＲＣ１１、ＲＣ１２、ＲＣ１３、ＲＣ１４、ＲＣ１５及びＲＣ１６が水素原子を表し、ｍ及びｎが１を表す、＜１＞〜＜４＞のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【００２０】
＜６＞に係る発明は、
前記一般式（ＣＴ２）で表される電荷輸送材料において、ＲＣ２１及びＲＣ２３が水素原子を表し、ＲＣ２２が炭素数１以上１０以下のアルキル基を表す、＜１＞〜＜５＞のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【００２１】
＜７＞に係る発明は、
前記分子量３００以上のヒンダードフェノール系酸化防止剤が、下記一般式（ＨＰ）で表される酸化防止剤である、＜１＞〜＜６＞のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【００２２】
【化３】
0006658125.tif 000004
【００２３】
一般式（ＨＰ）中、ＲＨ１及びＲＨ２は、各々独立に、炭素数４以上８以下の分岐状のアルキル基を表し、ＲＨ３及びＲＨ４は、各々独立に、水素原子、又は炭素数１以上１０以下のアルキル基を表し、ＲＨ５は、炭素数１以上１０以下のアルキレン基を表す。
【００２４】
＜８＞に係る発明は、
前記一般式（ＨＰ）で表される酸化防止剤において、ＲＨ１及びＲＨ２がｔｅｒｔ−ブチル基を表す、＜７＞に記載の画像形成装置。
【００２５】
＜９＞に係る発明は、
前記ベンゾフェノン系紫外線吸収剤が、下記一般式（ＢＰ）で表される紫外線吸収剤である、＜１＞〜＜８＞のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【００２６】
【化４】
0006658125.tif 000005
【００２７】
一般式（ＢＰ）中、ＲＢ１及びＲＢ２は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上１０以下のアルキル基、炭素数１以上１０以下のアルコキシ基、又は炭素数６以上１０以下のアリール基を表し、ＲＢ３は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上１０以下のアルキル基、炭素数１以上１０以下のアルコキシ基、炭素数６以上１０以下のアリール基、又は水酸基を表す。
【００２８】
＜１０＞に係る発明は、
前記一般式（ＢＰ）で表される紫外線吸収剤において、ＲＢ１及びＲＢ２が水素原子を表し、ＲＢ３が炭素数１以上４以下のアルコキシ基を表す、＜９＞に記載の画像形成装置。
【００２９】
＜１１＞に係る発明は、
前記電荷発生材料が、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料である、＜１＞〜＜１０＞のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【００３０】
＜１２＞に係る発明は、
前記転写手段が、前記電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を直接記録媒体に転写する直接転写方式の転写手段である、＜１＞〜＜１１＞のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【発明の効果】
【００３１】
＜１＞、＜３＞、＜４＞、＜５＞、＜６＞、＜７＞、＜８＞、＜９＞、＜１０＞、＜１１＞又は＜１２＞に係る発明によれば、電荷発生材料と、一般式（ＣＴ１）で表される電荷輸送材料と、一般式（ＣＴ２）で表される電荷輸送材料と、分子量３００以上のヒンダードフェノール系酸化防止剤及びベンゾフェノン系紫外線吸収剤から選ばれる少なくとも１種とを含む感光層を有する電子写真感光体に関し、電子写真感光体の表面にステアリン酸亜鉛を主体とする固体潤滑剤の供給を行わない場合に比べ、電子写真感光体の偏摩耗を抑制する画像形成装置が提供される。
＜２＞に係る発明によれば、ステアリン酸亜鉛を含む潤滑剤の供給量が０．０５μｇ／ｃｍ２未満である場合に比べ、電子写真感光体の偏摩耗を抑制する画像形成装置が提供され、ステアリン酸亜鉛を含む潤滑剤の供給量が１．８μｇ／ｃｍ２超である場合に比べ、ハーフトーン画像にムラが発生しにくい画像形成装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
【図２】本実施形態に係る画像形成装置が備える電子写真感光体の層構成の一例を示す概略部分断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３３】
本明細書において、「電子写真感光体」を単に「感光体」ともいう。
【００３４】
＜画像形成装置＞
本実施形態に係る画像形成装置は、感光体と、感光体の表面を帯電する帯電手段と、帯電した感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、トナーを含む現像剤により、感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、感光体の表面にステアリン酸亜鉛を含む潤滑剤を供給する潤滑剤供給手段と、感光体の表面に接触するブレードを有し、該ブレードにより、トナー像を転写した後の感光体の表面をクリーニングするクリーニング手段と、を備える。
【００３５】
本実施形態に係る画像形成装置が備える感光体は、導電性基体と、該導電性基体上に配置された感光層とを有し、該感光層は、電荷発生材料と、一般式（ＣＴ１）で表される電荷輸送材料と、一般式（ＣＴ２）で表される電荷輸送材料と、分子量３００以上のヒンダードフェノール系酸化防止剤及びベンゾフェノン系紫外線吸収剤から選ばれる少なくとも１種と、を含む。
【００３６】
本実施形態に係る画像形成装置によれば、感光体の偏摩耗が抑制される。その理由は、下記のように推測される。
【００３７】
感光体の外周面は、トナー像の転写時における記録媒体又は中間転写体との接触、帯電部材との接触、クリーニングブレードとの接触などにより徐々に摩耗する。摩耗には、感光層の外周面の劣化部を除去するという意義があるが、摩耗の偏りが生じた場合には、画像濃度ムラが発生してしまう。感光体の外周面の偏摩耗の原因としては、感光層の層厚ムラ、外周面の凹凸、画像部と非画像部との残トナー量の差などが考えられる。感光体の外周面への潤滑剤（例えば脂肪酸金属塩）の供給は、摩耗を抑制する観点では望ましいが、脂肪酸金属塩は正帯電性を有するので画像部と非画像部とで付着力が異なり、これも感光体の偏摩耗の一因と考えられる。
【００３８】
これに対して、本実施形態における前記成分を含む感光層を備えた感光体に、潤滑剤としてステアリン酸亜鉛を組み合せると、偏摩耗が抑制される。この機序としては、下記が推測される。
感光層に含まれるヒンダードフェノール系酸化防止剤又はベンゾフェノン系紫外線吸収剤は、分子構造中に炭素原子を介して２個の芳香族基が配置された構造を含んでおり、炭素原子を介する故これら芳香族基に存在するπ電子同士の電気的な反発が抑えられ安定的に負帯電化すると考えられる。そして、ヒンダードフェノール系酸化防止剤又はベンゾフェノン系紫外線吸収剤とステアリン酸亜鉛との間に電気的な吸引力がはたらき、画像部と非画像部とのステアリン酸亜鉛の付着力の差を緩和し、その結果、偏摩耗を抑制するものと推測される。
【００３９】
以下本実施形態に係る画像形成装置の構成を、より具体的に説明する。
本実施形態に係る画像形成装置は、記録媒体の表面に転写されたトナー像を定着する定着手段を備える装置；感光体の表面に形成されたトナー像を直接記録媒体に転写する直接転写方式の装置；感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写し、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する中間転写方式の装置；トナー像の転写後、帯電前に感光体の表面に除電光を照射して除電する除電手段を備える装置；感光体の温度を上昇させ、相対湿度を低減させるための感光体加熱部材を備える装置；などの公知の画像形成装置が適用される。
【００４０】
中間転写方式の装置の場合、転写手段は、例えば、表面にトナー像が転写される中間転写体と、感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写する一次転写手段と、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する二次転写手段と、を有する構成が適用される。
【００４１】
本実施形態に係る画像形成装置は、乾式現像方式の画像形成装置、湿式現像方式（液体現像剤を利用した現像方式）の画像形成装置のいずれであってもよい。
【００４２】
感光層が記録媒体に直接接触する直接転写方式の画像形成装置は、中間転写方式の画像形成装置に比べ、感光層の外周面が摩耗しやすいので、摩耗の偏りが蓄積して偏摩耗が発生しやすい。本実施形態に係る画像形成装置によれば、直接転写方式を採用した場合でも、感光体の偏摩耗が抑制される。
【００４３】
本実施形態に係る画像形成装置は、例えば、感光体を備える部分が、画像形成装置に着脱されるカートリッジ構造であってもよい。該カートリッジ構造は、感光体以外に、例えば、帯電手段、静電潜像形成手段、現像手段、転写手段、潤滑剤供給手段、及びクリーニング手段から選ばれる少なくとも一つを備えてもよい。
【００４４】
以下、図面を参照しながら本実施形態に係る画像形成装置の一例を説明するが、本実施形態はこれに限定されるわけではない。
【００４５】
図１は、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
図１に示した画像形成装置１００は、感光体７と、帯電装置８（帯電手段の一例）と、露光装置９（静電潜像形成手段の一例）と、現像装置１０（現像手段の一例）と、感光体７上のトナー像を記録媒体Ｐに直接転写する転写装置２０（転写手段の一例）と、感光体７の外周面に潤滑剤を供給する潤滑剤供給装置３０（潤滑剤供給手段の一例）と、感光体７の外周面をクリーニングするクリーニングブレード４１（クリーニング手段の一例）と、トナー像を記録媒体Ｐに定着させる定着装置５０（定着手段の一例）と、を備える。帯電装置８、露光装置９、現像装置１０、転写装置２０、潤滑剤供給装置３０、及びクリーニングブレード４１は、感光体７の周囲に、感光体７の回転方向に順に配置される。潤滑剤供給装置３０とクリーニングブレード４１とは、例えば、ハウジングにより一体化されている。
【００４６】
図１には、補助クリーニング部材４２を備えた画像形成装置を例示したが、補助クリーニング部材４２は必要に応じて配置される。補助クリーニング部材４２は、ブレード以外の形態の部材であり、例えば、平ブラシである。補助クリーニング部材４２は、感光体７の表面（周面）に接触して配置される。
【００４７】
以下、本実施形態に係る画像形成装置の各構成について説明する。
【００４８】
［感光体］
感光体７は、導電性基体と、導電性基体上に配置された感光層と、を有する。
【００４９】
図２は、感光体７の層構成の一例を示す概略部分断面図である。図２に示す感光体７Ａは、導電性基体４上に、下引層１、電荷発生層２、及び電荷輸送層３が、この順序で積層された構造を有する。電荷発生層２及び電荷輸送層３が感光層５を構成している。
【００５０】
感光体７は、図２に示す感光体７Ａのように電荷発生層２と電荷輸送層３とが分離した機能分離型であってもよいし、電荷発生層２と電荷輸送層３とが一体化した単層型感光層であってもよい。感光体７は、下引層１が設けられていない層構成であってもよい。感光体７は、電荷輸送層３上に、さらに保護層が設けられた層構成であってもよい。
【００５１】
本実施形態において感光層は、電荷発生材料と、一般式（ＣＴ１）で表される電荷輸送材料（「ブタジエン系電荷輸送材料（ＣＴ１）」ともいう。）と、一般式（ＣＴ２）で表される電荷輸送材料（「ベンジジン系電荷輸送材料（ＣＴ２）」ともいう。）と、分子量３００以上のヒンダードフェノール系酸化防止剤（単に「ヒンダードフェノール系酸化防止剤」ともいう。）及びベンゾフェノン系紫外線吸収剤から選ばれる少なくとも１種と、を含む。
【００５２】
感光層が機能分離型の場合、電荷発生層に電荷発生剤を含み、電荷輸送層に、ブタジエン系電荷輸送材料（ＣＴ１）と、ベンジジン系電荷輸送材料（ＣＴ２）と、ヒンダードフェノール系酸化防止剤及びベンゾフェノン系紫外線吸収剤から選ばれる少なくとも１種と、を含む。
【００５３】
本実施形態における感光体は、感光層に上記の成分を含むことにより、同一画像を連続して出力したときに生じる「焼付きゴースト」（連続露光された部分の画像濃度が濃くなる現象）の発生、及び、光暴露されたときに生じる「光疲労」（光暴露された部分の画像濃度が濃く浮き出る現象）の発生を抑制する。その理由は、下記のように推測される。
【００５４】
ブタジエン系電荷輸送材料（ＣＴ１）は、電荷移動度が高く、電荷輸送能の高い感光層（又は電荷輸送層）を得る上で適している。一方で、ブタジエン系電荷輸送材料（ＣＴ１）は、溶剤に対する溶解性が低い性質がある。このため、電荷輸送能の高い感光層を得るためには、ブタジエン系電荷輸送材料（ＣＴ１）と共に、電荷移動度が比較的高く、溶剤に対する溶解性が高いベンジジン系電荷輸送材料（ＣＴ２）を併用することがよい。
【００５５】
しかし、ブタジエン系電荷輸送材料（ＣＴ１）及びベンジジン系電荷輸送材料（ＣＴ２）を含む感光層を有する感光体を使用し、同一画像を連続出力（例えば３０００枚連続出力）した後に、全面ハーフトーン画像を出力すると、同一画像出力により連続露光された部分の濃度が濃くなる「焼付きゴースト」が発生してしまうことがある。また、感光体を交換するとき等に感光体が室内光又は太陽光に光暴露されると、全面ハーフトーン画像を出力した際に光暴露された部分の画像濃度が濃く浮き出る「光疲労」が生じてしまう。
【００５６】
「焼付きゴースト」又は「光疲労」が生じる原因としては、同一画像の連続出力又は感光体の光暴露により、感光層中の電荷発生材料から電荷輸送材料への電荷の注入において、及び電荷輸送材料間の電荷の移動に預かる電子の非局在化領域において、電子が励起されやすい状態になるためと考えられる。つまり、この画像欠陥は、連続して露光された領域又は光暴露された領域において、電荷発生及び電荷注入が活性化されることにより帯電電位が低下し、画像の濃度上昇が生じることによると考えられる。
そして、この帯電電位の低下による画像の濃度上昇は、感光層がブタジエン系電荷輸送材料（ＣＴ１）及びベンジジン系電荷輸送材料（ＣＴ２）を共に含有する場合に顕著となる。これは、ブタジエン系電荷輸送材料（ＣＴ１）が分子構造上、高い電荷輸送能力を有するが故に、分子内の電子の非局在化領域が大きく、ベンジジン系電荷輸送材料（ＣＴ２）及び電荷発生材料との間で相互作用を生じ、同一画像の連続出力又は光暴露によって帯電電位の低下が顕著に生じるためと考えられる。
【００５７】
これに対して、ブタジエン系電荷輸送材料（ＣＴ１）及びベンジジン系電荷輸送材料（ＣＴ２）を含む感光層に、さらに、ヒンダードフェノール系酸化防止剤を含有させると、同一画像の連続出力又は光暴露による帯電電位の低下が抑制される。これは、ヒンダードフェノール系酸化防止剤が、電子の非局在化領域との間で電荷の授受等の相互作用を生じさせ、電子の非局在化領域において、電子のエネルギー状態の変化を抑制することによると考えられる。そして、ヒンダードフェノール系酸化防止剤の分子量を３００以上とすると、感光層を形成するときの乾燥工程において、ヒンダードフェノール系酸化防止剤が揮発することが抑制される。つまり、ヒンダードフェノール系酸化防止剤の分子量を３００以上とすると、感光層中に上記機能を発現する量でヒンダードフェノール系酸化防止剤が残留すると考えられる。
【００５８】
ブタジエン系電荷輸送材料（ＣＴ１）及びベンジジン系電荷輸送材料（ＣＴ２）を含む感光層に、さらに、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤を含有させても、同一画像の連続出力又は光暴露による帯電電位の低下が抑制される。これは、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤が、感光層が受ける光エネルギーを吸収し、電子の非局在化領域において、電子のエネルギー状態の変化を抑制するためと考えられる。
【００５９】
以上の機序によって、本実施形態における感光体は、焼付きゴーストの発生及び光疲労の発生を抑制すると推測される。
【００６０】
感光層が、さらに、フッ素含有樹脂粒子及びフッ素含有分散剤を含む場合、感光層の耐摩耗性が向上する一方で、焼付きゴースト及び光疲労が発生しやすい。これは、フッ素含有分散剤が電荷のトラップサイト（電荷が蓄積されやすい領域）として働き、感光層中で電荷を過剰に蓄積するためと考えられる。本実施形態における感光体では、フッ素含有樹脂粒子及びフッ素含有分散剤を感光層に含む場合でも、焼付きゴーストの発生及び光疲労の発生を抑制する。
【００６１】
感光層が、結着樹脂として、ビフェニル骨格を有する構造単位を含むビフェニル共重合型ポリカーボネート樹脂（「ＢＰポリカーボネート樹脂」という。）を含む場合、感光層の耐摩耗性が向上する一方で、焼付きゴースト及び光疲労が発生しやすい。これは、ＢＰポリカーボネート樹脂のビフェニル骨格のベンゼン環が電荷のトラップサイト（電荷が蓄積されやすい領域）として働き、感光層中で電荷を過剰に蓄積するためと考えられる。本実施形態における感光体では、ＢＰポリカーボネート樹脂を感光層に含む場合でも、焼付きゴーストの発生及び光疲労の発生を抑制する。
【００６２】
感光層が、電荷発生材料として、電荷発生効率の高いヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料を含む場合、発生する電荷量が多いため、同一画像の連続出力又は光暴露による帯電電位の低下が顕著になり、焼付きゴースト及び光疲労が発生しやすい。本実施形態における感光体では、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料を感光層に含む場合でも、焼付きゴーストの発生及び光疲労の発生を抑制する。
【００６３】
以下、感光体の各要素について説明する。
【００６４】
−導電性基体−
導電性基体としては、例えば、金属（アルミニウム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等）又は合金（ステンレス鋼等）を含む金属板、金属ドラム、及び金属ベルト等が挙げられる。導電性基体としては、例えば、導電性化合物（例えば導電性ポリマー、酸化インジウム等）、金属（例えばアルミニウム、パラジウム、金等）又は合金を塗布、蒸着又はラミネートした紙、樹脂フィルム、ベルト等も挙げられる。ここで「導電性」とは、体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ未満であることをいう。
【００６５】
導電性基体の表面は、感光体がレーザプリンタに使用される場合、レーザ光を照射する際に生じる干渉縞を抑制する目的で、中心線平均粗さＲａで０．０４μｍ以上０．５μｍ以下に粗面化されていることが好ましい。非干渉光を光源に用いる場合、干渉縞防止の粗面化は、特に必要ないが、導電性基体の表面の凹凸による欠陥の発生を抑制するため、より長寿命化に適する。
【００６６】
粗面化の方法としては、例えば、研磨剤を水に懸濁させて導電性基体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、回転する砥石に導電性基体を圧接し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化処理等が挙げられる。
【００６７】
粗面化の方法としては、導電性基体の表面を粗面化することなく、導電性又は半導電性粉体を樹脂中に分散させて、導電性基体の表面上に層を形成し、その層中に分散させる粒子により粗面化する方法も挙げられる。
【００６８】
陽極酸化による粗面化処理は、金属製（例えばアルミニウム製）の導電性基体を陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することにより導電性基体の表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては、例えば、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、陽極酸化により形成された多孔質陽極酸化膜は、そのままの状態では化学的に活性であり、汚染されやすく、環境による抵抗変動も大きい。そこで、多孔質陽極酸化膜に対して、酸化膜の微細孔を加圧水蒸気又は沸騰水中（ニッケル等の金属塩を加えてもよい）で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行うことが好ましい。
【００６９】
陽極酸化膜の膜厚は、例えば、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。この膜厚が上記範囲内にあると、注入に対するバリア性が発揮される傾向があり、また、繰り返し使用による残留電位の上昇が抑えられる傾向にある。
【００７０】
導電性基体には、酸性処理液による処理又はベーマイト処理を施してもよい。
酸性処理液による処理は、例えば、以下のようにして実施される。先ず、リン酸、クロム酸及びフッ酸を含む酸性処理液を調製する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸及びフッ酸の配合割合は、例えば、リン酸が１０質量％以上１１質量％以下の範囲、クロム酸が３質量％以上５質量％以下の範囲、フッ酸が０．５質量％以上２質量％以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は１３．５質量％以上１８質量％以下の範囲がよい。処理温度は例えば４２℃以上４８℃以下が好ましい。被膜の膜厚は、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。
【００７１】
ベーマイト処理は、例えば９０℃以上１００℃以下の純水中に５分から６０分間浸漬すること、又は９０℃以上１２０℃以下の加熱水蒸気に５分から６０分間接触させて行う。被膜の膜厚は、０．１μｍ以上５μｍ以下が好ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。
【００７２】
−下引層−
下引層は、例えば、無機粒子と結着樹脂とを含む層である。
【００７３】
無機粒子としては、例えば、粉体抵抗（体積抵抗率）１０２Ωｃｍ以上１０１１Ωｃｍ以下の無機粒子が挙げられる。無機粒子の中でも、上記抵抗値を有する無機粒子としては、例えば、酸化錫粒子、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子、酸化ジルコニウム粒子等の金属酸化物粒子がよく、特に、酸化亜鉛粒子が好ましい。
【００７４】
無機粒子のＢＥＴ法による比表面積は、例えば、１０ｍ２／ｇ以上がよい。
無機粒子の体積平均粒径は、例えば、５０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下（好ましくは６０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下）がよい。
【００７５】
無機粒子の含有量は、例えば、結着樹脂に対して、１０質量％以上８０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは４０質量％以上８０質量％以下である。
【００７６】
無機粒子は、表面処理が施されていてもよい。無機粒子は、表面処理の異なるもの、又は、粒子径の異なるものを２種以上混合して用いてもよい。
【００７７】
表面処理剤としては、例えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性剤等が挙げられる。特に、シランカップリング剤が好ましく、アミノ基を有するシランカップリング剤がより好ましい。
【００７８】
アミノ基を有するシランカップリング剤としては、例えば、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００７９】
シランカップリング剤は、２種以上混合して使用してもよい。例えば、アミノ基を有するシランカップリング剤と他のシランカップリング剤とを併用してもよい。この他のシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００８０】
表面処理剤による表面処理方法は、公知の方法であればいかなる方法でもよく、乾式法又は湿式法のいずれでもよい。
【００８１】
表面処理剤の処理量は、例えば、無機粒子に対して０．５質量％以上１０質量％以下が好ましい。
【００８２】
ここで、下引層は、無機粒子と共に電子受容性化合物（アクセプター化合物）を含有することが、電気特性の長期安定性、キャリアブロック性が高まる観点からよい。
【００８３】
電子受容性化合物としては、例えば、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物；テトラシアノキノジメタン系化合物；２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物；２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物；キサントン系化合物；チオフェン化合物；３，３’，５，５’テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物；等の電子輸送性物質等が挙げられる。電子受容性化合物としては、アントラキノン構造を有する化合物が好ましい。アントラキノン構造を有する化合物としては、例えば、ヒドロキシアントラキノン化合物、アミノアントラキノン化合物、アミノヒドロキシアントラキノン化合物等が好ましく、具体的には、例えば、アントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が好ましい。
【００８４】
電子受容性化合物は、下引層中に無機粒子と共に分散して含まれていてもよいし、無機粒子の表面に付着した状態で含まれていてもよい。
【００８５】
電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着させる方法としては、例えば、乾式法又は湿式法が挙げられる。
【００８６】
乾式法は、例えば、無機粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接又は有機溶媒に溶解させた電子受容性化合物を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させて、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。電子受容性化合物の滴下又は噴霧するときは、溶剤の沸点以下の温度で行うことがよい。電子受容性化合物を滴下又は噴霧した後、さらに１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に制限されない。
【００８７】
湿式法は、例えば、攪拌、超音波、サンドミル、アトライター、ボールミル等により、無機粒子を溶剤中に分散しつつ、電子受容性化合物を添加し、攪拌又は分散した後、溶剤を除去して、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。溶剤の除去方法は、例えば、ろ過又は蒸留により留去される。溶剤の除去後には、さらに１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に限定されない。湿式法においては、電子受容性化合物を添加する前に無機粒子の含有水分を除去してもよく、その例として、溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法が挙げられる。
【００８８】
電子受容性化合物の付着は、表面処理剤による表面処理を無機粒子に施す前又は後に行ってよく、電子受容性化合物の付着と表面処理剤による表面処理と同時に行ってもよい。
【００８９】
電子受容性化合物の含有量は、例えば、無機粒子に対して０．０１質量％以上２０質量％以下がよく、好ましくは０．０１質量％以上１０質量％以下である。
【００９０】
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の公知の高分子化合物；ジルコニウムキレート化合物；チタニウムキレート化合物；アルミニウムキレート化合物；チタニウムアルコキシド化合物；有機チタニウム化合物；シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂、導電性樹脂（例えばポリアニリン等）等も挙げられる。
【００９１】
これらの中でも、下引層に用いる結着樹脂としては、上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が好適であり、特に、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂；ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂及びポリビニルアセタール樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂と硬化剤との反応により得られる樹脂が好適である。
これら結着樹脂を２種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。
【００９２】
下引層には、電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のために種々の添加剤を含んでいてもよい。
添加剤としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。シランカップリング剤は前述のように無機粒子の表面処理に用いられるが、添加剤としてさらに下引層に添加してもよい。
【００９３】
添加剤としてのシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００９４】
ジルコニウムキレート化合物としては、例えば、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。
【００９５】
チタニウムキレート化合物としては、例えば、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。
【００９６】
アルミニウムキレート化合物としては、例えば、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。
【００９７】
これらの添加剤は、単独で、又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
【００９８】
下引層は、ビッカース硬度が３５以上であることがよい。
下引層の表面粗さ（十点平均粗さ）は、モアレ像抑制のために、使用される露光用レーザ波長λの１／（４ｎ）（ｎは上層の屈折率）から１／２までに調整されていることがよい。
表面粗さ調整のために下引層中に樹脂粒子等を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等が挙げられる。表面粗さ調整のために下引層の表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が挙げられる。
【００９９】
下引層の形成は、特に制限はなく、公知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた下引層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。
【０１００】
下引層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、公知の有機溶剤、例えば、アルコール系溶剤、芳香族炭化水素溶剤、ハロゲン化炭化水素溶剤、ケトン系溶剤、ケトンアルコール系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤等が挙げられる。
これらの溶剤として具体的には、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が挙げられる。
【０１０１】
下引層形成用塗布液を調製するときの無機粒子の分散方法としては、例えば、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー等の公知の方法が挙げられる。
【０１０２】
下引層形成用塗布液を導電性基体上に塗布する方法としては、例えば、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【０１０３】
下引層の膜厚は、例えば、好ましくは１５μｍ以上、より好ましくは１８μｍ以上５０μｍ以下の範囲内に設定される。
【０１０４】
−中間層−
図示は省略するが、下引層と感光層との間に中間層をさらに設けてもよい。
中間層は、例えば、樹脂を含む層である。中間層に用いる樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂等の高分子化合物が挙げられる。
中間層は、有機金属化合物を含む層であってもよい。中間層に用いる有機金属化合物としては、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、ケイ素等の金属原子を含有する有機金属化合物等が挙げられる。
これらの中間層に用いる化合物は、単独で又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
【０１０５】
これらの中でも、中間層は、ジルコニウム原子又はケイ素原子を含有する有機金属化合物を含む層であることが好ましい。
【０１０６】
中間層の形成は、特に制限はなく、公知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた中間層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。
中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
【０１０７】
中間層の膜厚は、例えば、好ましくは０．１μｍ以上３μｍ以下の範囲に設定される。
【０１０８】
−電荷発生層−
電荷発生層は、例えば、電荷発生材料と結着樹脂とを含む層である。電荷発生層は、電荷発生材料の蒸着層であってもよい。電荷発生材料の蒸着層は、ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ）、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）イメージアレー等の非干渉性光源を用いる場合に好適である。
【０１０９】
電荷発生材料としては、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料；ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料；ペリレン顔料；ピロロピロール顔料；フタロシアニン顔料；酸化亜鉛；三方晶系セレン等が挙げられる。
【０１１０】
これらの中でも、近赤外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、金属フタロシアニン顔料、又は無金属フタロシアニン顔料を用いることが好ましい。具体的には、例えば、特開平５−２６３００７号公報、特開平５−２７９５９１号公報等に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン；特開平５−９８１８１号公報等に開示されたクロロガリウムフタロシアニン；特開平５−１４０４７２号公報、特開平５−１４０４７３号公報等に開示されたジクロロスズフタロシアニン；特開平４−１８９８７３号公報等に開示されたチタニルフタロシアニンがより好ましい。
【０１１１】
一方、近紫外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料；チオインジゴ系顔料；ポルフィラジン化合物；酸化亜鉛；三方晶系セレン；特開２００４−７８１４７号公報、特開２００５−１８１９９２号公報に開示されたビスアゾ顔料等が好ましい。
【０１１２】
４５０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下に発光の中心波長があるＬＥＤ，有機ＥＬイメージアレー等の非干渉性光源を用いる場合にも、上記電荷発生材料を用いてもよいが、解像度の観点より、感光層を２０μｍ以下の薄膜で用いるときには、感光層中の電界強度が高くなり、基体からの電荷注入による帯電低下、いわゆる黒点と呼ばれる画像欠陥を生じやすくなる。これは、三方晶系セレン、フタロシアニン顔料等のｐ−型半導体で暗電流を生じやすい電荷発生材料を用いたときに顕著となる。
【０１１３】
これに対し、電荷発生材料として、縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、アゾ顔料等のｎ−型半導体を用いた場合、暗電流を生じ難く、薄膜にしても黒点と呼ばれる画像欠陥を抑制し得る。ｎ−型の電荷発生材料としては、例えば、特開２０１２−１５５２８２号公報の段落［０２８８］〜［０２９１］に記載された化合物（ＣＧ−１）〜（ＣＧ−２７）が挙げられるがこれに限られるものではない。
ｎ−型の判定は、通常使用されるタイムオブフライト法を用い、流れる光電流の極性によって判定され、正孔よりも電子をキャリアとして流しやすいものをｎ−型とする。
【０１１４】
本実施形態において電荷発生材料としては、電荷発生効率の観点から、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料が好ましく、Ｖ型のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料がより好ましい。ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料としては、６００ｎｍから９００ｎｍの波長域での分光吸収スペクトルにおいて８１０ｎｍから８３９ｎｍの範囲に最大ピーク波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料が、分散性に優れる観点から好ましい。
【０１１５】
８１０ｎｍから８３９ｎｍの範囲に最大ピーク波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、平均粒径が特定の範囲であり、且つ、ＢＥＴ比表面積が特定の範囲であることが好ましい。具体的には、平均粒径が０．２０μｍ以下であることが好ましく、０．０１μｍ以上０．１５μｍ以下であることがより好ましく、ＢＥＴ比表面積が４５ｍ２／ｇ以上であることが好ましく、５０ｍ２／ｇ以上であることがより好ましく、５５ｍ２／ｇ以上１２０ｍ２／ｇ以下であることが更に好ましい。平均粒径は、体積平均粒径であり、レーザ回折散乱式粒度分布測定装置（堀場製作所ＬＡ−７００）にて測定した値である。ＢＥＴ比表面積は、流動式比表面積自動測定装置（島津製作所フローソープＩＩ２３００）を用い窒素置換法にて測定した値である。
【０１１６】
ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の最大粒径（一次粒径の最大値）は、１．２μｍ以下が好ましく、１．０μｍ以下がより好ましく、０．３μｍ以下が更に好ましい。
【０１１７】
ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、平均粒径が０．２μｍ以下であり、且つ、最大粒径が１．２μｍ以下であり、且つ、ＢＥＴ比表面積が４５ｍ２／ｇ以上であることが好ましい。
【０１１８】
ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、ＣｕＫα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．３゜，１６．０゜，２４．９゜，２８．０゜に回折ピークを有するＶ型であることが好ましい。
【０１１９】
電荷発生材料は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１２０】
電荷発生層に用いる結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択してもよく、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択してもよい。
結着樹脂としては、例えば、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノール類と芳香族２価カルボン酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等が挙げられる。ここで「絶縁性」とは、体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ以上であることをいう。これらの結着樹脂は１種を単独で又は２種以上を混合して用いられる。
【０１２１】
電荷発生材料と結着樹脂の配合比は、質量比で１０：１から１：１０までの範囲内であることが好ましい。
【０１２２】
電荷発生層には、その他、公知の添加剤が含まれていてもよい。
【０１２３】
電荷発生層の形成は、特に制限はなく、公知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた電荷発生層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。電荷発生層の形成は、電荷発生材料の蒸着により行ってもよい。電荷発生層の蒸着による形成は、特に、電荷発生材料として縮環芳香族顔料、ペリレン顔料を利用する場合に好適である。
【０１２４】
電荷発生層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等が挙げられる。これら溶剤は、１種を単独で又は２種以上を混合して用いる。
【０１２５】
電荷発生層形成用塗布液中に粒子（例えば電荷発生材料）を分散させる方法としては、例えば、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、例えば、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式等が挙げられる。この分散の際、電荷発生層形成用塗布液中の電荷発生材料の平均粒径を０．５μｍ以下、好ましくは０．３μｍ以下、更に好ましくは０．１５μｍ以下にすることが有効である。
【０１２６】
電荷発生層形成用塗布液を下引層上（又は中間層上）に塗布する方法としては、例えばブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【０１２７】
電荷発生層の膜厚は、例えば、好ましくは０．１μｍ以上５．０μｍ以下、より好ましくは０．２μｍ以上２．０μｍ以下の範囲内に設定される。
【０１２８】
−電荷輸送層−
電荷輸送層は、例えば、電荷輸送材料と結着樹脂とを含む層である。
【０１２９】
電荷輸送材料としては、ブタジエン系電荷輸送材料（ＣＴ１）及びベンジジン系電荷輸送材料（ＣＴ２）が適用される。ブタジエン系電荷輸送材料（ＣＴ１）及びベンジジン系電荷輸送材料（ＣＴ２）を含む電荷輸送層は、さらに、分子量３００以上のヒンダードフェノール系酸化防止剤及びベンゾフェノン系紫外線吸収剤から選ばれる少なくとも１種を含む。電荷輸送層は、フッ素含有樹脂粒子及びフッ素含有分散剤をさらに含んでもよい。
【０１３０】
・ブタジエン系電荷輸送材料（ＣＴ１）
ブタジエン系電荷輸送材料（ＣＴ１）は、下記一般式（ＣＴ１）で表される電荷輸送材料である。
【０１３１】
【化５】
0006658125.tif 000006
【０１３２】
一般式（ＣＴ１）中、ＲＣ１１、ＲＣ１２、ＲＣ１３、ＲＣ１４、ＲＣ１５及びＲＣ１６は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上２０以下のアルキル基、炭素数１以上２０以下のアルコキシ基、又は炭素数６以上３０以下のアリール基を表し、隣接する２つの置換基同士が結合して炭化水素環構造を形成してもよい。ｍ及びｎは、各々独立に、０、１又は２を表す。
【０１３３】
一般式（ＣＴ１）において、ＲＣ１１、ＲＣ１２、ＲＣ１３、ＲＣ１４、ＲＣ１５及びＲＣ１６が表すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、フッ素原子、塩素原子が好ましく、塩素原子がより好ましい。
【０１３４】
一般式（ＣＴ１）において、ＲＣ１１、ＲＣ１２、ＲＣ１３、ＲＣ１４、ＲＣ１５及びＲＣ１６が表すアルキル基としては、炭素数１以上２０以下（好ましくは１以上６以下、より好ましくは１以上４以下）の直鎖状又は分岐状のアルキル基が挙げられる。直鎖状のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、ｎ−オクタデシル基、ｎ−ノナデシル基、ｎ−イコシル基等が挙げられる。分岐状のアルキル基としては、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、イソヘキシル基、ｓｅｃ−ヘキシル基、ｔｅｒｔ−ヘキシル基、イソヘプチル基、ｓｅｃ−ヘプチル基、ｔｅｒｔ−ヘプチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、イソノニル基、ｓｅｃ−ノニル基、ｔｅｒｔ−ノニル基、イソデシル基、ｓｅｃ−デシル基、ｔｅｒｔ−デシル基、イソウンデシル基、ｓｅｃ−ウンデシル基、ｔｅｒｔ−ウンデシル基、ネオウンデシル基、イソドデシル基、ｓｅｃ−ドデシル基、ｔｅｒｔ−ドデシル基、ネオドデシル基、イソトリデシル基、ｓｅｃ−トリデシル基、ｔｅｒｔ−トリデシル基、ネオトリデシル基、イソテトラデシル基、ｓｅｃ−テトラデシル基、ｔｅｒｔ−テトラデシル基、ネオテトラデシル基、１−イソブチル−４−エチルオクチル基、イソペンタデシル基、ｓｅｃ−ペンタデシル基、ｔｅｒｔ−ペンタデシル基、ネオペンタデシル基、イソヘキサデシル基、ｓｅｃ−ヘキサデシル基、ｔｅｒｔ−ヘキサデシル基、ネオヘキサデシル基、１−メチルペンタデシル基、イソヘプタデシル基、ｓｅｃ−ヘプタデシル基、ｔｅｒｔ−ヘプタデシル基、ネオヘプタデシル基、イソオクタデシル基、ｓｅｃ−オクタデシル基、ｔｅｒｔ−オクタデシル基、ネオオクタデシル基、イソノナデシル基、ｓｅｃ−ノナデシル基、ｔｅｒｔ−ノナデシル基、ネオノナデシル基、１−メチルオクチル基、イソイコシル基、ｓｅｃ−イコシル基、ｔｅｒｔ−イコシル基、ネオイコシル基等が挙げられる。これらの中でも、アルキル基としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基等の低級アルキル基が好ましい。
【０１３５】
一般式（ＣＴ１）において、ＲＣ１１、ＲＣ１２、ＲＣ１３、ＲＣ１４、ＲＣ１５及びＲＣ１６が表すアルコキシ基としては、炭素数１以上２０以下（好ましくは１以上６以下、より好ましくは１以上４以下）の直鎖状又は分岐状のアルコキシ基が挙げられる。直鎖状のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基、ｎ−ウンデシルオキシ基、ｎ−ドデシルオキシ基、ｎ−トリデシルオキシ基、ｎ−テトラデシルオキシ基、ｎ−ペンタデシルオキシ基、ｎ−ヘキサデシルオキシ基、ｎ−ヘプタデシルオキシ基、ｎ−オクタデシルオキシ基、ｎ−ノナデシルオキシ基、ｎ−イコシルオキシ基等が挙げられる。分岐状のアルコキシ基としては、イソプロポキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、イソペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ペンチルオキシ基、イソヘキシルオキシ基、ｓｅｃ−ヘキシルオキシ基、ｔｅｒｔ−ヘキシルオキシ基、イソヘプチルオキシ基、ｓｅｃ−ヘプチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ヘプチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、ｓｅｃ−オクチルオキシ基、ｔｅｒｔ−オクチルオキシ基、イソノニルオキシ基、ｓｅｃ−ノニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ノニルオキシ基、イソデシルオキシ基、ｓｅｃ−デシルオキシ基、ｔｅｒｔ−デシルオキシ基、イソウンデシルオキシ基、ｓｅｃ−ウンデシルオキシ基、ｔｅｒｔ−ウンデシルオキシ基、ネオウンデシルオキシ基、イソドデシルオキシ基、ｓｅｃ−ドデシルオキシ基、ｔｅｒｔ−ドデシルオキシ基、ネオドデシルオキシ基、イソトリデシルオキシ基、ｓｅｃ−トリデシルオキシ基、ｔｅｒｔ−トリデシルオキシ基、ネオトリデシルオキシ基、イソテトラデシルオキシ基、ｓｅｃ−テトラデシルオキシ基、ｔｅｒｔ−テトラデシルオキシ基、ネオテトラデシルオキシ基、１−イソブチル−４−エチルオクチルオキシ基、イソペンタデシルオキシ基、ｓｅｃ−ペンタデシルオキシ基、ｔｅｒｔ−ペンタデシルオキシ基、ネオペンタデシルオキシ基、イソヘキサデシルオキシ基、ｓｅｃ−ヘキサデシルオキシ基、ｔｅｒｔ−ヘキサデシルオキシ基、ネオヘキサデシルオキシ基、１−メチルペンタデシルオキシ基、イソヘプタデシルオキシ基、ｓｅｃ−ヘプタデシルオキシ基、ｔｅｒｔ−ヘプタデシルオキシ基、ネオヘプタデシルオキシ基、イソオクタデシルオキシ基、ｓｅｃ−オクタデシルオキシ基、ｔｅｒｔ−オクタデシルオキシ基、ネオオクタデシルオキシ基、イソノナデシルオキシ基、ｓｅｃ−ノナデシルオキシ基、ｔｅｒｔ−ノナデシルオキシ基、ネオノナデシルオキシ基、１−メチルオクチルオキシ基、イソイコシルオキシ基、ｓｅｃ−イコシルオキシ基、ｔｅｒｔ−イコシルオキシ基、ネオイコシルオキシ基等が挙げられる。これらの中でも、アルコキシ基としては、メトキシ基が好ましい。
【０１３６】
一般式（ＣＴ１）において、ＲＣ１１、ＲＣ１２、ＲＣ１３、ＲＣ１４、ＲＣ１５及びＲＣ１６が表すアリール基としては、炭素数６以上３０以下（好ましくは６以上２０以下、より好ましくは６以上１６以下）のアリール基が挙げられる。アリール基としては、フェニル基、ナフチル基、フェナントリル基、ビフェニリル基等が挙げられ、フェニル基、ナフチル基が好ましい。
【０１３７】
一般式（ＣＴ１）において、ＲＣ１１、ＲＣ１２、ＲＣ１３、ＲＣ１４、ＲＣ１５及びＲＣ１６が表す上記各置換基は、さらに置換基を有する基も含む。この置換基としては、上記例示した原子及び基（例えばハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基等）が挙げられる。
【０１３８】
一般式（ＣＴ１）において、ＲＣ１１、ＲＣ１２、ＲＣ１３、ＲＣ１４、ＲＣ１５及びＲＣ１６から選ばれる２つの置換基、例えば、ＲＣ１１とＲＣ１２、ＲＣ１３とＲＣ１４、ＲＣ１５とＲＣ１６は、結合して炭化水素環構造を形成してもよい。２つの置換基同士を連結する基としては、単結合、２，２’−メチレン基、２，２’−エチレン基、２，２’−ビニレン基等が挙げられ、これらの中でも単結合、２，２’−メチレン基が好ましい。炭化水素環構造としては、例えば、シクロアルカン構造、シクロアルケン構造、シクロアルカンポリエン構造等が挙げられる。
【０１３９】
一般式（ＣＴ１）において、ｍ及びｎは、１であることが好ましい。
【０１４０】
感光層（電荷輸送層）の電荷輸送能を高める観点から、一般式（ＣＴ１）において、ＲＣ１１、ＲＣ１２、ＲＣ１３、ＲＣ１４、ＲＣ１５及びＲＣ１６が、各々独立に、水素原子、炭素数１以上２０以下のアルキル基、又は炭素数１以上２０以下のアルコキシ基を表し、ｍ及びｎが、各々独立に、１又は２を表することが好ましく、ＲＣ１１、ＲＣ１２、ＲＣ１３、ＲＣ１４、ＲＣ１５及びＲＣ１６が水素原子を表し、ｍ及びｎが１を表すことがより好ましい。
つまり、ブタジエン系電荷輸送材料（ＣＴ１）は、下記構造式（ＣＴ１Ａ）で表される電荷輸送材料（例示化合物（ＣＴ１−３））であることが好ましい。
【０１４１】
【化６】
0006658125.tif 000007
【０１４２】
以下に、ブタジエン系電荷輸送材料（ＣＴ１）の具体例を示すが、これに限定されるわけではない。置換基の前に付す番号は、ベンゼン環に対する置換位置を示す。
【０１４３】
【化７】
0006658125.tif 000008
【０１４４】
【化８】
0006658125.tif 000009
【０１４５】
ブタジエン系電荷輸送材料（ＣＴ１）は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１４６】
・ベンジジン系電荷輸送材料（ＣＴ２）
ベンジジン系電荷輸送材料（ＣＴ２）は、下記一般式（ＣＴ２）で表される電荷輸送材料である。
【０１４７】
【化９】
0006658125.tif 000010
【０１４８】
一般式（ＣＴ２）中、ＲＣ２１、ＲＣ２２及びＲＣ２３は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上１０以下のアルキル基、炭素数１以上１０以下のアルコキシ基、又は炭素数６以上１０以下のアリール基を表す。
【０１４９】
一般式（ＣＴ２）において、ＲＣ２１、ＲＣ２２及びＲＣ２３が表すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、フッ素原子、塩素原子が好ましく、塩素原子がより好ましい。
【０１５０】
一般式（ＣＴ２）において、ＲＣ２１、ＲＣ２２及びＲＣ２３が表すアルキル基としては、炭素数１以上１０以下（好ましくは１以上６以下、より好ましくは１以上４以下）の直鎖状又は分岐状のアルキル基が挙げられる。直鎖状のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等が挙げられる。分岐状のアルキル基としては、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、イソヘキシル基、ｓｅｃ−ヘキシル基、ｔｅｒｔ−ヘキシル基、イソヘプチル基、ｓｅｃ−ヘプチル基、ｔｅｒｔ−ヘプチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、イソノニル基、ｓｅｃ−ノニル基、ｔｅｒｔ−ノニル基、イソデシル基、ｓｅｃ−デシル基、ｔｅｒｔ−デシル基等が挙げられる。これらの中でも、アルキル基としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基等の低級アルキル基が好ましい。
【０１５１】
一般式（ＣＴ２）において、ＲＣ２１、ＲＣ２２及びＲＣ２３が表すアルコキシ基としては、炭素数１以上１０以下（好ましくは１以上６以下、より好ましくは１以上４以下）の直鎖状又は分岐状のアルコキシ基が挙げられる。直鎖状のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基等が挙げられる。分岐状のアルコキシ基としては、イソプロポキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、イソペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ペンチルオキシ基、イソヘキシルオキシ基、ｓｅｃ−ヘキシルオキシ基、ｔｅｒｔ−ヘキシルオキシ基、イソヘプチルオキシ基、ｓｅｃ−ヘプチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ヘプチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、ｓｅｃ−オクチルオキシ基、ｔｅｒｔ−オクチルオキシ基、イソノニルオキシ基、ｓｅｃ−ノニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ノニルオキシ基、イソデシルオキシ基、ｓｅｃ−デシルオキシ基、ｔｅｒｔ−デシルオキシ基等が挙げられる。これらの中でも、アルコキシ基としては、メトキシ基が好ましい。
【０１５２】
一般式（ＣＴ２）において、ＲＣ２１、ＲＣ２２及びＲＣ２３が表すアリール基としては、炭素数６以上１０以下（好ましくは６以上９以下、より好ましくは６以上８以下）のアリール基が挙げられる。アリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられ、フェニル基が好ましい。
【０１５３】
一般式（ＣＴ２）において、ＲＣ２１、ＲＣ２２及びＲＣ２３が表す上記各置換基は、さらに置換基を有する基も含む。この置換基としては、上記例示した原子及び基（例えばハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基等）が挙げられる。
【０１５４】
感光層（電荷輸送層）の電荷輸送能を高める観点からは、一般式（ＣＴ２）において、ＲＣ２１、ＲＣ２２及びＲＣ２３が、各々独立に、水素原子、又は炭素数１以上１０以下のアルキル基を表すことが好ましく、ＲＣ２１及びＲＣ２３が水素原子を表し、ＲＣ２２が炭素数１以上１０以下のアルキル基（特にメチル基）を表すことがより好ましい。
具体的には、ベンジジン系電荷輸送材料（ＣＴ２）は、下記構造式（ＣＴ２Ａ）で表される電荷輸送材料（例示化合物（ＣＴ２−２））であることが好ましい。
【０１５５】
【化１０】
0006658125.tif 000011
【０１５６】
以下に、ベンジジン系電荷輸送材料（ＣＴ２）の具体例を示すが、これに限定されるわけではない。置換基の前に付す番号は、ベンゼン環に対する置換位置を示す。
【０１５７】
【化１１】
0006658125.tif 000012
【０１５８】
【化１２】
0006658125.tif 000013
【０１５９】
ベンジジン系電荷輸送材料（ＣＴ２）は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１６０】
・分子量３００以上のヒンダードフェノール系酸化防止剤
ヒンダードフェノール系酸化防止剤は、ヒンダードフェノール環を有し、且つ分子量が３００以上の化合物である。
【０１６１】
ヒンダードフェノール系酸化防止剤が有するヒンダードフェノール環は、例えば、炭素数４以上８以下のアルキル基（例えば炭素数４以上８以下の分岐状のアルキル基）が少なくとも一つ置換されたフェノール環である。具体的には、ヒンダードフェノール環は、例えば、フェノール性水酸基に対してオルトの位置が三級アルキル基（例えばｔｅｒｔ−ブチル基）で置換されたフェノール環である。
【０１６２】
ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、例えば下記が挙げられる。
１）ヒンダードフェノール環を１つ有する酸化防止剤。
２）ヒンダードフェノール環を２つ以上４つ以下有し、且つ直鎖又は分岐状の２価以上４価以下の脂肪族炭化水素基からなる連結基、又は２価以上４価以下の脂肪族炭化水素基の炭素−炭素の結合間に、エステル結合（−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−）及びエーテル結合（−Ｏ−）の少なくとも一方が介在した連結基で、２つ以上４つ以下のヒンダードフェノール環が連結された酸化防止剤。
３）２つ以上４つ以下のヒンダードフェノール環と、一つのベンゼン環（無置換ベンゼン環又はアルキル基等で置換された置換ベンゼン環）又はイソシアヌレート環とを有し、２つ以上４つ以下のヒンダードフェノール環が、各々、ベンゼン環又はイソシアヌレート環とアルキレン基を介して連結された酸化防止剤。
【０１６３】
ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、焼付きゴースト及び光疲労の抑制の観点から、下記一般式（ＨＰ）で表される酸化防止剤が好ましい。
【０１６４】
【化１３】
0006658125.tif 000014
【０１６５】
一般式（ＨＰ）中、ＲＨ１及びＲＨ２は、各々独立に、炭素数４以上８以下の分岐状のアルキル基を表し、ＲＨ３及びＲＨ４は、各々独立に、水素原子、又は炭素数１以上１０以下のアルキル基を表し、ＲＨ５は、炭素数１以上１０以下のアルキレン基を表す。
【０１６６】
一般式（ＨＰ）中、ＲＨ１及びＲＨ２が表すアルキル基としては、炭素数４以上８以下（好ましくは４以上６以下）の分岐状のアルキル基が挙げられる。分岐状のアルキル基としては、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、イソヘキシル基、ｓｅｃ−ヘキシル基、ｔｅｒｔ−ヘキシル基、イソヘプチル基、ｓｅｃ−ヘプチル基、ｔｅｒｔ−ヘプチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基等が挙げられる。これらの中でも、アルキル基としては、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基が好ましく、ｔｅｒｔ−ブチル基がより好ましい。
【０１６７】
一般式（ＨＰ）中、ＲＨ３及びＲＨ４としては、炭素数１以上１０以下（好ましくは１以上４以下）の直鎖状又は分岐状のアルキル基が挙げられる。直鎖状のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等が挙げられる。分岐状のアルキル基としては、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、イソヘキシル基、ｓｅｃ−ヘキシル基、ｔｅｒｔ−ヘキシル基、イソヘプチル基、ｓｅｃ−ヘプチル基、ｔｅｒｔ−ヘプチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、イソノニル基、ｓｅｃ−ノニル基、ｔｅｒｔ−ノニル基、イソデシル基、ｓｅｃ−デシル基、ｔｅｒｔ−デシル基等が挙げられる。これらの中でも、アルキル基としては、メチル基、エチル基等の低級アルキル基が好ましい。
【０１６８】
一般式（ＨＰ）中、ＲＨ５は、炭素数１以上１０以下（好ましくは１以上４以下）の直鎖状又は分岐状アルキレン基を表す。直鎖状のアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、ｎ−プロピレン基、ｎ−ブチレン基、ｎ−ペンチレン基、ｎ−ヘキシレン基、ｎ−ヘプチレン基、ｎ−オクチレン基、ｎ−ノニレン基、ｎ−デシレン基等が挙げられる。分岐状のアルキレン基としては、イソプロピレン基、イソブチレン基、ｓｅｃ−ブチレン基、ｔｅｒｔ−ブチレン基、イソペンチレン基、ネオペンチレン基、ｔｅｒｔ−ペンチレン基、イソヘキシレン基、ｓｅｃ−ヘキシレン基、ｔｅｒｔ−ヘキシレン基、イソヘプチレン基、ｓｅｃ−ヘプチレン基、ｔｅｒｔ−ヘプチレン基、イソオクチレン基、ｓｅｃ−オクチレン基、ｔｅｒｔ−オクチレン基、イソノニレン基、ｓｅｃ−ノニレン基、ｔｅｒｔ−ノニレン基、イソデシレン基、ｓｅｃ−デシレン基、ｔｅｒｔ−デシレン基等が挙げられる。これらの中でも、アルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、ブチレン基等の低級アルキレン基が好ましい。
【０１６９】
一般式（ＨＰ）中、ＲＨ１、ＲＨ２、ＲＨ３、ＲＨ４及びＲＨ５が表す上記各置換基は、さらに置換基を有する基も含む。この置換基としては、例えば、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子）、アルコキシ基（例えば炭素数１以上４以下のアルコキシ基）、アリール基（例えばフェニル基、ナフチル基等）等が挙げられる。
【０１７０】
焼付きゴースト及び光疲労の抑制の観点から、一般式（ＨＰ）において、ＲＨ１及びＲＨ２がｔｅｒｔ−ブチル基を表すことが好ましく、ＲＨ１及びＲＨ２がｔｅｒｔ−ブチル基を表し、ＲＨ３及びＲＨ４が炭素数１以上３以下のアルキル基（特にメチル基）を表し、ＲＨ５が炭素数１以上４以下のアルキレン基（特にメチレン基）を表すことが好ましい。
具体的には、ヒンダードフェノール系酸化防止剤は、例示化合物（ＨＰ−３）で表されるヒンダードフェノール系酸化防止剤が好ましい。
【０１７１】
ヒンダードフェノール系酸化防止剤の分子量は、焼付きゴースト及び光疲労の抑制の観点から、３００以上１０００以下が好ましく、３００以上９００以下がより好ましく、３００以上８００以下が更に好ましい。
【０１７２】
以下に、ヒンダードフェノール系酸化防止剤の具体例を示すが、これに限定されるわけではない。
【０１７３】
【化１４】
0006658125.tif 000015
【０１７４】
【化１５】
0006658125.tif 000016
【０１７５】
【化１６】
0006658125.tif 000017
【０１７６】
ヒンダードフェノール系酸化防止剤は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１７７】
・ベンゾフェノン系紫外線吸収剤
ベンゾフェノン系紫外線吸収剤は、ベンゾフェノン骨格を有する化合物である。
【０１７８】
ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、例えば下記が挙げられる。
１）２つのベンゼン環が無置換の化合物。
２）２つのベンゼン環が、各々独立に、水酸基、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基及びアリール基から選ばれる少なくとも一つの置換基で置換された化合物。
３）２つのベンゼン環の一方が、水酸基、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基及びアリール基から選ばれる少なくとも一つの置換基で置換された化合物。
【０１７９】
ベンゾフェノン系紫外線吸収剤は、２つのベンゼン環の一方に、少なくとも水酸基が置換（特に、−Ｃ（＝Ｏ）−基に対してオルトの位置に置換）されている化合物がよい。
【０１８０】
ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、焼付きゴースト及び光疲労の抑制の観点から、下記一般式（ＢＰ）で表される紫外線吸収剤が好ましい。
【０１８１】
【化１７】
0006658125.tif 000018
【０１８２】
一般式（ＢＰ）中、ＲＢ１及びＲＢ２は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上１０以下のアルキル基、炭素数１以上１０以下のアルコキシ基、又は炭素数６以上１０以下のアリール基を表し、ＲＢ３は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上１０以下のアルキル基、炭素数１以上１０以下のアルコキシ基、炭素数６以上１０以下のアリール基、又は水酸基を表す。
【０１８３】
一般式（ＢＰ）において、ＲＢ１、ＲＢ２及びＲＢ３が表すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。これらの中でも、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子が好ましく、塩素原子がより好ましい。
【０１８４】
一般式（ＢＰ）において、ＲＢ１、ＲＢ２及びＲＢ３が表すアルキル基としては、炭素数１以上１０以下（好ましくは１以上６以下、より好ましくは１以上４以下）の直鎖状又は分岐状のアルキル基が挙げられる。直鎖状のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等が挙げられる。分岐状のアルキル基としては、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、イソヘキシル基、ｓｅｃ−ヘキシル基、ｔｅｒｔ−ヘキシル基、イソヘプチル基、ｓｅｃ−ヘプチル基、ｔｅｒｔ−ヘプチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、イソノニル基、ｓｅｃ−ノニル基、ｔｅｒｔ−ノニル基、イソデシル基、ｓｅｃ−デシル基、ｔｅｒｔ−デシル基等が挙げられる。これらの中でも、アルキル基としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基等の低級アルキル基が好ましい。
【０１８５】
一般式（ＢＰ）において、ＲＢ１、ＲＢ２及びＲＢ３が表すアルコキシ基としては、炭素数１以上１０以下（好ましくは１以上６以下、より好ましくは１以上４以下）の直鎖状又は分岐状のアルコキシ基が挙げられる。直鎖状のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基等が挙げられる。分岐状のアルコキシ基としては、イソプロポキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、イソペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ペンチルオキシ基、イソヘキシルオキシ基、ｓｅｃ−ヘキシルオキシ基、ｔｅｒｔ−ヘキシルオキシ基、イソヘプチルオキシ基、ｓｅｃ−ヘプチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ヘプチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、ｓｅｃ−オクチルオキシ基、ｔｅｒｔ−オクチルオキシ基、イソノニルオキシ基、ｓｅｃ−ノニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ノニルオキシ基、イソデシルオキシ基、ｓｅｃ−デシルオキシ基、ｔｅｒｔ−デシルオキシ基等が挙げられる。これらの中でも、アルコキシ基としては、メトキシ基が好ましい。
【０１８６】
一般式（ＢＰ）において、ＲＢ１、ＲＢ２及びＲＢ３が表すアリール基としては、炭素数６以上１０以下（好ましくは６以上９以下、より好ましくは６以上８以下）のアリール基が挙げられる。アリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられ、フェニル基が好ましい。
【０１８７】
一般式（ＢＰ）において、ＲＢ１、ＲＢ２及びＲＢ３が表す上記各置換基は、さらに置換基を有する基も含む。この置換基としては、上記例示した原子及び基（例えばハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基等）が挙げられる。
【０１８８】
焼付きゴースト及び光疲労の抑制の観点から、一般式（ＢＰ）において、ＲＢ１及びＲＢ２が水素原子を表し、ＲＢ３が炭素数１以上４以下のアルコキシ基を表すことが好ましい。
具体的には、紫外線吸収剤は、下記構造式（ＢＰＡ）で表されるベンゾフェノン系紫外線吸収剤（例示化合物（ＢＰ−３））であることが好ましい。
【０１８９】
【化１８】
0006658125.tif 000019
【０１９０】
以下に、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤（一般式（ＢＰ）で表される紫外線吸収剤）の具体例を示すが、これに限定されるわけではない。置換基の前に付す番号は、ベンゼン環に対する置換位置を示す。
【０１９１】
【化１９】
0006658125.tif 000020
【０１９２】
【化２０】
0006658125.tif 000021
【０１９３】
ベンゾフェノン系紫外線吸収剤は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１９４】
次に、電荷輸送材料、酸化防止剤及び紫外線吸収剤の含有量について説明する。
ブタジエン系電荷輸送材料（ＣＴ１）の含有量は、感光層（電荷輸送層）の電荷輸送能を高める観点から、ＣＴ１と結着樹脂との配合比（質量比、ＣＴ１：結着樹脂）が、０．１：９．９から４．０：６．０までの範囲であることが好ましく、０．４：９．６から３．５：６．５までの範囲であることがより好ましく、０．６：９．４から３．０：７．０の範囲であることが更に好ましい。  
【０１９５】
ベンジジン系電荷輸送材料（ＣＴ２）の含有量は、感光層（電荷輸送層）の電荷輸送能を高める観点から、ＣＴ２と結着樹脂の配合比（質量比、ＣＴ２：結着樹脂）が、１：９から７：３までの範囲であることが好ましく、２：８から６：４までの範囲であることがより好ましく、２：８から４：６の範囲であることが更に好ましい。
【０１９６】
ブタジエン系電荷輸送材料（ＣＴ１）とベンジジン系電荷輸送材料（ＣＴ２）の配合比（質量比、ＣＴ１の含有量／ＣＴ２の含有量）は、感光層（電荷輸送層）の電荷輸送能を高める観点から、１／９以上５／５以下が好ましく、１／９以上４／６以下がより好ましく、１／９以上３／７以下が更に好ましい。
ブタジエン系電荷輸送材料（ＣＴ１）とベンジジン系電荷輸送材料（ＣＴ２）の配合比が上記範囲であると、焼付きゴースト及び光疲労が生じやすいが、ヒンダードフェノール系酸化防止剤及びベンゾフェノン系紫外線吸収剤から選ばれる少なくとも１種により、焼付きゴースト及び光疲労の発生が抑制される。
【０１９７】
感光層（電荷輸送層）には、ブタジエン系電荷輸送材料（ＣＴ１）及びベンジジン系電荷輸送材料（ＣＴ２）以外の他の電荷輸送材料を併用してもよい。但し、その場合、全電荷輸送材料に占める他の電荷輸送材料の含有量は、１０質量％以下（好ましくは５質量％以下）であることがよい。
【０１９８】
感光層（電荷輸送層）におけるヒンダーフェノール系酸化防止剤の含有量は、焼付きゴースト及び光疲労の抑制の観点から、全電荷輸送材料の量に対して、０．５質量％以上３０質量％以下が好ましく、０．５質量％以上１５質量％以下がより好ましく、０．５以上９．０質量％以下が更に好ましい。
【０１９９】
感光層（電荷輸送層）におけるベンゾフェノン系紫外線吸収剤の含有量は、焼付きゴースト及び光疲労の抑制の観点から、全電荷輸送材料の量に対して、０．５質量％以上３０質量％以下が好ましく、０．５質量％以上１５質量％以下がより好ましく、０．５以上９．０質量％以下が更に好ましい。
【０２００】
ヒンダーフェノール系酸化防止剤及びベンゾフェノン系紫外線吸収剤の含有量は、共に、３０質量％以下とすることで、酸化防止剤及び紫外線吸収剤による電荷輸送材料の電荷輸送能力の阻害が抑制される。つまり、光照射による感光体表面への静電潜像形成の阻害が抑制され、目的とする濃度の画像が得られやすくなる。
【０２０１】
・フッ素含有樹脂粒子
フッ素含有樹脂粒子としては、例えば、４フッ化エチレン樹脂、３フッ化塩化エチレン樹脂、６フッ化プロピレン樹脂、フッ化ビニル樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、２フッ化２塩化エチレン樹脂、及びこれらの共重合体のいずれかからなる粒子の１種又は２種以上が好ましい。これらの中でも、フッ素含有樹脂粒子としては、４フッ化エチレン樹脂粒子、フッ化ビニリデン樹脂粒子が好ましい。
【０２０２】
フッ素含有樹脂粒子の一次粒径は、０．０５μｍ以上１μｍ以下であることがよく、好ましくは０．１μｍ以上０．５μｍ以下である。
フッ素含有樹脂粒子の一次粒子は、感光層（電荷輸送層）から試料片を得て、これをＳＥＭ（走査型電子顕微鏡。例えば、日本電子ＪＳＭ−６７００Ｆ、加速電圧５ｋＶ）により例えば倍率５０００倍以上で観察し、一次粒子状態のフッ素樹脂粒子の最大径を測定し、これを５０個の粒子について行った平均値とする。
【０２０３】
フッ素樹脂粒子の市販品としては、例えば、ルブロン（登録商標）シリーズ（ダイキン工業）、テフロン（登録商標）シリーズ（デュポン社）、ダイニオン（登録商標）シリーズ（３Ｍ社）等が挙げられる。
【０２０４】
フッ素含有樹脂粒子の含有量は、感光層（電荷輸送層）の耐摩耗性を向上させる観点から、感光層（電荷輸送層）の全固形分に対して、１質量％以上３０質量％以下が好ましく、３質量％以上２０質量％以下がより好ましく、５質量％以上１５質量％以下が更に好ましい。
【０２０５】
・フッ素含有分散剤
フッ素含有分散剤としては、フッ化アルキル基を有する重合性化合物を単独重合又は共重合した重合体（以下「フッ化アルキル基含有重合体」ともいう。）が挙げられる。
【０２０６】
フッ素含有分散剤として具体的には、フッ化アルキル基を有する（メタ）アクリレートの単独重合体、フッ化アルキル基を有する（メタ）アクリレートとフッ素原子を有しないモノマーとのランダム又はブロック共重合体等が挙げられる。（メタ）アクリレートとは、アクリレート及びメタクリレートの双方を意味する。フッ化アルキル基を有する（メタ）アクリレートとしては、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アククリレート等が挙げられる。フッ素原子を有しないモノマーとしては、（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチルｏ−フェニルフェノール（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェノールグリシジルエーテル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【０２０７】
フッ素含有分散剤としては、米国特許５６３７１４２号明細書、特許第４２５１６６２号公報等に開示されたブロック又はブランチポリマー；フッ素系界面活性剤；も挙げられる。
【０２０８】
フッ素含有分散剤としては、下記一般式（ＦＡ）で表される構造単位を有するフッ化アルキル基含有重合体が好ましく、下記一般式（ＦＡ）で表される構造単位と、下記一般式（ＦＢ）で表される構造単位とを有するフッ化アルキル基含有重合体がより好ましい。
【０２０９】
【化２１】
0006658125.tif 000022
【０２１０】
一般式（ＦＡ）及び一般式（ＦＢ）中、ＲＦ１、ＲＦ２、ＲＦ３及びＲＦ４は、各々独立に、水素原子又はアルキル基を表す。ＸＦ１は、アルキレン鎖（無置換アルキレン鎖）、ハロゲン置換アルキレン鎖、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、又は単結合を表す。ＹＦ１は、アルキレン鎖（無置換アルキレン鎖）、ハロゲン置換アルキレン鎖、−（ＣｆｘＨ２ｆｘ−１（ＯＨ））−、又は単結合を表す。ＱＦ１は、−Ｏ−、又は−ＮＨ−を表す。ｆｌ、ｆｍ及びｆｎは、各々独立に、１以上の整数を表す。ｆｐ、ｆｑ、ｆｒ及びｆｓは、各々独立に、０又は１以上の整数を表す。ｆｔは、１以上７以下の整数を表す。ｆｘは１以上の整数を表す。
【０２１１】
一般式（ＦＡ）及び一般式（ＦＢ）中、ＲＦ１、ＲＦ２、ＲＦ３及びＲＦ４としては、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基等が好ましく、水素原子、メチル基がより好ましく、メチル基が更に好ましい。
【０２１２】
一般式（ＦＡ）及び一般式（ＦＢ）中、ＸＦ１及びＹＦ１としては、炭素数１以上１０以下の直鎖状又は分岐状のアルキレン鎖が好ましい。
【０２１３】
ＹＦ１が−（ＣｆｘＨ２ｆｘ−１（ＯＨ））−の場合、ｆｘは、１以上１０以下の整数が好ましい。
【０２１４】
ｆｐ、ｆｑ、ｆｒ及びｆｓは、各々独立に、０又は１以上１０以下の整数が好ましい。
【０２１５】
ｆｎは、１以上６０以下が好ましい。
【０２１６】
フッ素含有分散剤において、一般式（ＦＡ）で表される構造単位と一般式（ＦＢ）で表される構造単位との比、つまり、ｆｌ：ｆｍは、１：９から９：１までの範囲が好ましく、３：７から７：３までの範囲がより好ましい。
【０２１７】
フッ素含有分散剤は、一般式（ＦＡ）で表される構造単位と一般式（ＦＢ）で表される構造単位とに加え、下記一般式（ＦＣ）で表される構造単位を更に有していてもよい。
【０２１８】
【化２２】
0006658125.tif 000023
【０２１９】
一般式（ＦＣ）中、ＲＦ５及びＲＦ６は、各々独立に、水素原子又はアルキル基を表す。ｆｚは、１以上の整数を表す。
【０２２０】
一般式（ＦＣ）中、ＲＦ５及びＲＦ６としては、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基等が好ましく、水素原子、メチル基がより好ましく、メチル基が更に好ましい。
【０２２１】
一般式（ＦＣ）で表される構造単位の含有比は、一般式（ＦＡ）及び一般式（ＦＢ）で表される構造単位の合計（ｆｌ＋ｆｍ）との比（ｆｌ＋ｆｍ：ｆｚ）で、１０：０から７：３までの範囲が好ましく、９：１から７：３までの範囲がより好ましい。
【０２２２】
フッ素含有分散剤の市販品としては、例えば、ＧＦ３００、ＧＦ４００（東亞合成）、サーフロン（登録商標）シリーズ（ＡＧＣセイミケミカル社）、フタージェントシリーズ（ネオス社）、ＰＦシリーズ（北村化学社）、メガファック（登録商標）シリーズ（ＤＩＣ社）、ＦＣシリーズ（３Ｍ社）等が挙げられる。
【０２２３】
フッ素含有分散剤の重量平均分子量は、例えば、２０００以上２５００００以下が好ましく、３０００以上１５００００以下がより好ましく、５００００以上１０００００以下が更に好ましい。
フッ素含有分散剤の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）により測定される値である。ＧＰＣによる分子量測定は、測定装置として東ソーのＧＰＣ・ＨＬＣ−８１２０を用い、カラムとして東ソーのＴＳＫｇｅｌ  ＧＭＨＨＲ−Ｍ＋ＴＳＫｇｅｌ  ＧＭＨＨＲ−Ｍ（７．８ｍｍＩ．Ｄ．３０ｃｍ）を用い、溶媒としてクロロホルムを用いる。この測定結果から、単分散ポリスチレン標準試料により作成した分子量校正曲線を使用して分子量を求める。
【０２２４】
フッ素含有分散剤の含有量は、フッ素含有樹脂粒子の分散性や、焼付きゴースト及び光疲労の抑制の観点から、例えば、フッ素含有樹脂粒子の質量に対して０．５質量％以上１０質量％以下が好ましく、１質量％以上７質量％以下がより好ましい。
フッ素含有分散剤は、１種を単独で又は２種以上を併用してもよい。
【０２２５】
・結着樹脂
電荷輸送層に用いる結着樹脂は、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーンアルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等が挙げられる。これらの中でも、結着樹脂としては、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂が好適である。これらの結着樹脂は１種を単独で又は２種以上で用いる。
【０２２６】
電荷輸送層に用いる結着樹脂としては、感光層（電荷輸送層）の耐摩耗性を向上させる観点から、ビフェニル骨格を有する構造単位を含むビフェニル共重合型ポリカーボネート樹脂（「ＢＰポリカーボネート樹脂」という。）が好ましい。
【０２２７】
ＢＰポリカーボネート樹脂としては、例えば、ビフェニル骨格を有する構造単位として、下記一般式（ＰＣＡ）で表される構造単位と、他の構造単位とを有するビフェニル共重合型ポリカーボネート樹脂が挙げられる。他の構造単位としては、ビスフェノール骨格（例えば、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＢ、ビスフェノールＢＰ、ビスフェノールＣ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＺ等）を有する構造単位等が挙げられる。
【０２２８】
ＢＰポリカーボネート樹脂としては、より具体的には、ジヒドロキシビフェニル化合物と、ジヒドロキシビスフェノール化合物との共重合体が挙げられる。この共重合体は、例えば、ジヒドロキシビフェニル化合物及びジヒドロキシビスフェノール化合物を原料として用い、ホスゲン等の炭酸エステル形成性化合物との重縮合又はビスアリールカーボネートとのエステル交換反応等の方法によって得られる。
【０２２９】
ジヒドロキシビフェニル化合物は、ビフェニル骨格を有し、ビフェニル骨格の２つのベンゼン環に、各々、一つのヒドロキシル基を有するビフェニル化合物である。ジヒドロキシビフェニル化合物としては、例えば、４，４’−ジヒドロキシビフェニル、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルビフェニル、４，４’−ジヒドロキシ−２，２’−ジメチルビフェニル、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジシクロヘキシルビフェニル、３，３’−ジフルオロ−４，４’−ジヒドロキシビフェニル、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジフェニルビフェニル等が挙げられる。これらジヒドロキシビフェニル化合物は、１種を単独で用いてもよいし、複数種を併用してもよい。
【０２３０】
ジヒドロキシビスフェノール化合物は、ビスフェノール骨格を有し、ビスフェノール骨格の２つのベンゼン環に、各々、一つのヒドロキシル基を有するビスフェノール化合物である。ジヒドロキシビスフェノール化合物としては、例えば、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）オクタン、４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１−ジフェニルメタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（２−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（２−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）エタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロパン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）イソブタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ヘプタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−１−フェニルメタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−アミル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ブタン、ビス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジフルオロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ブロモ−４−ヒドロキシ−５−クロロフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）ブタン、１−フェニル−１，１−ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）エタン、ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）エーテル、１，１−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン等が挙げられる。これらビスフェノール化合物は、１種を単独で用いてもよいし、複数種を併用してもよい。
【０２３１】
ＢＰポリカーボネート樹脂は、感光層（電荷輸送層）の耐摩耗性を向上させる観点から、下記一般式（ＰＣＡ）で表される構造単位と、下記一般式（ＰＣＢ）で表される構造単位と、を含むポリカーボネート樹脂であることが好ましい。
【０２３２】
【化２３】
0006658125.tif 000024
【０２３３】
一般式（ＰＣＡ）及び一般式（ＰＣＢ）中、ＲＰ１、ＲＰ２、ＲＰ３及びＲＰ４は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上６以下のアルキル基、炭素数５以上７以下のシクロアルキル基、又は炭素数６以上１２以下のアリール基を表す。ＸＰ１は、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基、アルキレン基、又はシクロアルキレン基を表す。
【０２３４】
一般式（ＰＣＡ）及び一般式（ＰＣＢ）中、ＲＰ１、ＲＰ２、ＲＰ３及びＲＰ４が表すアルキル基としては、炭素数１以上６以下（好ましくは１以上３以下）の直鎖状又は分岐状のアルキル基が挙げられる。直鎖状のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられる。分岐状のアルキル基としては、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、イソヘキシル基、ｓｅｃ−ヘキシル基、ｔｅｒｔ−ヘキシル基等が挙げられる。これらの中でも、アルキル基としては、メチル基、エチル基等の低級アルキル基が好ましい。
【０２３５】
一般式（ＰＣＡ）及び一般式（ＰＣＢ）中、ＲＰ１、ＲＰ２、ＲＰ３及びＲＰ４が表すシクロアルキル基としては、例えば、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチルが挙げられる。
【０２３６】
一般式（ＰＣＡ）及び一般式（ＰＣＢ）中、ＲＰ１、ＲＰ２、ＲＰ３及びＲＰ４が表すアリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基等が挙げられる。
【０２３７】
一般式（ＰＣＡ）及び一般式（ＰＣＢ）中、ＸＰ１が表すアルキレン基としては、炭素数１以上１２以下（好ましくは１以上６以下、より好ましくは１以上３以下）の直鎖状又は分岐状のアルキレン基が挙げられる。直鎖状のアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、ｎ−プロピレン基、ｎ−ブチレン基、ｎ−ペンチレン基、ｎ−ヘキシレン基、ｎ−ヘプチレン基、ｎ−オクチレン基、ｎ−ノニレン基、ｎ−デシレン基、ｎ−ウンデシレン基、ｎ−ドデシレン基等が挙げられる。分岐状のアルキレン基としては、イソプロピレン基、イソブチレン基、ｓｅｃ−ブチレン基、ｔｅｒｔ−ブチレン基、イソペンチレン基、ネオペンチレン基、ｔｅｒｔ−ペンチレン基、イソヘキシレン基、ｓｅｃ−ヘキシレン基、ｔｅｒｔ−ヘキシレン基、イソヘプチレン基、ｓｅｃ−ヘプチレン基、ｔｅｒｔ−ヘプチレン基、イソオクチレン基、ｓｅｃ−オクチレン基、ｔｅｒｔ−オクチレン基、イソノニレン基、ｓｅｃ−ノニレン基、ｔｅｒｔ−ノニレン基、イソデシレン基、ｓｅｃ−デシレン基、ｔｅｒｔ−デシレン基、イソウンデシレン基、ｓｅｃ−ウンデシレン基、ｔｅｒｔ−ウンデシレン基、ネオウンデシレン基、イソドデシレン基、ｓｅｃ−ドデシレン基、ｔｅｒｔ−ドデシレン基、ネオドデシレン基等が挙げられる。これらの中でも、アルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、ブチレン基等の低級アルキル基が好ましい。
【０２３８】
一般式（ＰＣＡ）及び（ＰＣＢ）中、ＸＰ１が表すシクロアルキレン基としては、炭素数３以上１２以下（好ましくは３以上１０以下、より好ましくは５以上８以下）のシクロアルキレン基が挙げられる。シクロアルキレン基としては、シクロプロピレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロオクチレン基、シクロドデカニレン基等が挙げられ、シクロヘキシレン基が好ましい。
【０２３９】
一般式（ＰＣＡ）及び一般式（ＰＣＢ）中、ＲＰ１、ＲＰ２、ＲＰ３、ＲＰ４及びＸＰ１が表す上記各置換基は、さらに置換基を有する基も含む。この置換基としては、例えば、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子）、アルキル基（例えば炭素数１以上６以下のアルキル基）、シクロアルキル基（例えば炭素数５以上７以下のシクロアルキル基）、アルコキシ基（例えば炭素数１以上４以下のアルコキシ基）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基等）等が挙げられる。
【０２４０】
一般式（ＰＣＡ）において、ＲＰ１及びＲＰ２は、各々独立に、水素原子又は炭素数１以上６以下のアルキル基であることが好ましく、ＲＰ１及びＲＰ２は、水素原子であることがより好ましい。
一般式（ＰＣＢ）において、ＲＰ３及びＲＰ４は、各々独立に、水素原子又は炭素数１以上６以下のアルキル基であることが好ましく、ＸＰ１はアルキレン基又はシクロアルキレン基であることが好ましい。
【０２４１】
ＢＰポリカーボネート樹脂の具体例としては、例えば、下記の化合物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。例示化合物（ＰＣ−１）〜（ＰＣ−３）において、ｐｍ及びｐｎは共重合比（モル比）を示す。
【０２４２】
【化２４】
0006658125.tif 000025
【０２４３】
ＢＰポリカーボネート樹脂において、一般式（ＰＣＡ）で表される構造単位の含有割合（共重合比）は、ＢＰポリカーボネート樹脂を構成する全構造単位に対して５モル％以上９５モル％以下の範囲がよく、感光層（電荷輸送層）の耐磨耗性を高める観点から、好ましくは５モル％以上５０モル％以下の範囲、より好ましくは１５モル％以上３０モル％以下の範囲である。
【０２４４】
例示化合物（ＰＣ−１）〜（ＰＣ−３）において、ｐｍ：ｐｎ（モル比）は、９５：５から５：９５までの範囲が好ましく、５０：５０から５：９５までの範囲がより好ましく、１５：８５から３０：７０までの範囲が更に好ましい。
【０２４５】
ＢＰポリカーボネート樹脂の粘度平均分子量としては、２００００以上８００００以下が好ましい。
ＢＰポリカーボネート樹脂の粘度平均分子量は、下記の方法により測定される値である。樹脂１ｇをメチレンクロライド１００ｃｍ３に溶解し、２５℃の測定環境下でウベローデ粘度計により、比粘度ηｓｐを測定し、ηｓｐ／ｃ＝〔η〕＋０．４５〔η〕２ｃの関係式（但しｃは濃度（ｇ／ｃｍ３））から極限粘度〔η〕（ｃｍ３／ｇ）を求め、Ｈ．Ｓｃｈｎｅｌｌによって与えられている関係式〔η〕＝１．２３×１０−４Ｍｖ０．８３から粘度平均分子量Ｍｖを求める。
【０２４６】
ＢＰポリカーボネート樹脂は、他の結着樹脂と併用してもよい。ただし、他の結着樹脂は、全結着樹脂に対して１０質量％以下（好ましくは５質量％以下）で併用することがよい。
【０２４７】
ＢＰポリカーボネート樹脂の含有量は、例えば、感光層（電荷輸送層）の全固形分に対して、１０質量％以上９０質量％以下が好ましく、３０質量％以上９０質量％以下がより好ましく、５０質量％以上９０質量％以下が更に好ましい。
【０２４８】
全結着樹脂と電荷輸送材料との配合比（質量比、結着樹脂：電荷輸送材料）は１０：１から１：５までの範囲が好ましい。
【０２４９】
電荷輸送層には、その他、公知の添加剤が含まれていてもよい。
【０２５０】
電荷輸送層の形成は、特に制限はなく、公知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた電荷輸送層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。
【０２５１】
電荷輸送層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類；アセトン、２−ブタノン等のケトン類；塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類；テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状又は直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤が挙げられる。これら溶剤は、単独で又は２種以上混合して用いる。
【０２５２】
電荷輸送層形成用塗布液を電荷発生層の上に塗布する際の塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【０２５３】
電荷輸送層の膜厚は、例えば、好ましくは５μｍ以上５０μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以上３０μｍ以下の範囲内に設定される。
【０２５４】
−保護層−
保護層は、必要に応じて感光層上に設けられる。保護層は、例えば、帯電時の感光層の化学的変化を防止したり、感光層の機械的強度をさらに改善する目的で設けられる。
そのため、保護層は、硬化膜（架橋膜）で構成された層を適用することがよい。これら層としては、例えば、下記１）又は２）に示す層が挙げられる。
【０２５５】
１）反応性基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に有する反応性基含有電荷輸送材料を含む組成物の硬化膜で構成された層（つまり当該反応性基含有電荷輸送材料の重合体又は架橋体を含む層）
２）非反応性の電荷輸送材料と、電荷輸送性骨格を有さず、反応性基を有する反応性基含有非電荷輸送材料と、を含む組成物の硬化膜で構成された層（つまり、非反応性の電荷輸送材料と、当該反応性基含有非電荷輸送材料の重合体又は架橋体と、を含む層）
【０２５６】
反応性基含有電荷輸送材料の反応性基としては、連鎖重合性基、エポキシ基、−ＯＨ、−ＯＲ［但し、Ｒはアルキル基を示す］、−ＮＨ２、−ＳＨ、−ＣＯＯＨ、−ＳｉＲＱ１３−Ｑｎ（ＯＲＱ２）Ｑｎ［但し、ＲＱ１は水素原子、アルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表し、ＲＱ２は水素原子、アルキル基、トリアルキルシリル基を表す。Ｑｎは１〜３の整数を表す］等の公知の反応性基が挙げられる。
【０２５７】
連鎖重合性基としては、ラジカル重合しうる官能基であれば特に限定されるものではなく、例えば、少なくとも炭素二重結合を含有する基を有する官能基である。具体的には、ビニル基、ビニルエーテル基、ビニルチオエーテル基、スチリル基、ビニルフェニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくとも一つを含有する基等が挙げられる。中でも、その反応性に優れることから、連鎖重合性基としては、ビニル基、スチリル基、ビニルフェニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくとも一つを含有する基が好ましい。
【０２５８】
反応性基含有電荷輸送材料の電荷輸送性骨格としては、感光体における公知の構造であれば特に限定されるものではなく、例えば、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の含窒素の正孔輸送性化合物に由来する骨格であって、窒素原子と共役している構造が挙げられる。これらの中でも、トリアリールアミン骨格が好ましい。
【０２５９】
これら反応性基及び電荷輸送性骨格を有する反応性基含有電荷輸送材料、非反応性の電荷輸送材料、反応性基含有非電荷輸送材料は、公知の材料から選択すればよい。
【０２６０】
保護層には、その他、公知の添加剤が含まれていてもよい。
【０２６１】
保護層の形成は、特に制限はなく、公知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた保護層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱等の硬化処理することで行う。
【０２６２】
保護層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル等のセロソルブ系溶剤；イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール系溶剤等が挙げられる。これら溶剤は、単独で又は２種以上混合して用いる。保護層形成用塗布液は、無溶剤の塗布液であってもよい。
【０２６３】
保護層形成用塗布液を感光層（例えば電荷輸送層）上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【０２６４】
保護層の膜厚は、例えば、好ましくは１μｍ以上２０μｍ以下、より好ましくは２μｍ以上１０μｍ以下の範囲内に設定される。
【０２６５】
−単層型感光層−
単層型感光層（電荷発生／電荷輸送層）は、例えば、電荷発生材料と電荷輸送材料と、必要に応じて、結着樹脂、及びその他公知の添加剤と、を含む層である。これら材料は、電荷発生層及び電荷輸送層で説明した材料と同様である。
【０２６６】
単層型感光層中、電荷発生材料の含有量は、全固形分に対して１０質量％以上８５質量％以下がよく、好ましくは２０質量％以上５０質量％以下である。単層型感光層中、電荷輸送材料、酸化防止剤及び紫外線吸収剤の含有量は、電荷輸送層中での含有量と同様である。また、単層型感光層中、フッ素含有樹脂粒子及びフッ素含有分散剤の含有量は、電荷輸送層中での含有量と同様である。
【０２６７】
単層型感光層の形成方法は、電荷発生層や電荷輸送層の形成方法と同様である。
単層型感光層の膜厚は、例えば、５μｍ以上５０μｍ以下がよく、好ましくは１０μｍ以上４０μｍ以下である。
【０２６８】
［帯電装置］
帯電装置８としては、例えば、導電性又は半導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が挙げられる。非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等も挙げられる。
【０２６９】
［露光装置］
露光装置９としては、例えば、感光体７表面に、半導体レーザ光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を、定められた像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は感光体の分光感度領域内とする。半導体レーザの波長としては、７８０ｎｍ付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、６００ｎｍ台の発振波長レーザや青色レーザとして４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下に発振波長を有するレーザを利用してもよい。カラー画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザ光源も有効である。
【０２７０】
［現像装置］
現像装置１０としては、例えば、現像剤を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置が挙げられる。現像装置１０としては、現像機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて感光体７に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いる装置が好ましい。
【０２７１】
現像装置１０に使用される現像剤は、トナー単独の一成分系現像剤であってもよいし、トナーとキャリアとを含む二成分系現像剤であってもよい。現像剤は、磁性であってもよいし、非磁性であってもよい。これら現像剤は、公知のものが適用される。
【０２７２】
［転写装置］
転写装置２０としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器などが挙げられる。
【０２７３】
［潤滑剤供給装置］
潤滑剤供給装置３０は、例えば図１に示すように、固体の潤滑剤３１と、潤滑剤３１及び感光体７の外周面に接触して回転する回転ブラシ３２と、を備えている。感光体７の回転に伴って回転ブラシ３２が回転し、回転ブラシ３２により潤滑剤３１の一部が粉体としてかき取られ感光体７の表面に付与される。
【０２７４】
潤滑剤３１は、ステアリン酸亜鉛を含む。潤滑剤３１は、潤滑剤成分として、ステアリン酸亜鉛以外の脂肪酸金属塩、フッ素樹脂、ポリオレフィン等を含んでいてもよい。
【０２７５】
ステアリン酸亜鉛以外の脂肪酸金属塩としては、ステアリン酸の、カルシウム、バリウム、銅、アルミニウム、マグネシウム等の金属塩；二塩基性ステアリン酸鉛：オレイン酸の、亜鉛、マグネシウム、鉄、コバルト、銅、カルシウム等の金属塩；ラウリン酸の、亜鉛、カルシウム、マグネシウム、バリウム、アルミニウム等の金属塩；パルミチン酸の、アルミニウム、カルシウム等の金属塩；カプリル酸鉛、カプロン酸鉛、リノール酸亜鉛、リノール酸コバルト、リシノール酸カルシウム、リシノレイン酸亜鉛、リシノレイン酸カドミウム；が挙げられる。
フッ素樹脂としては、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体（ＰＦＡ）、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体（ＦＥＰ）、ポリビニリデンフルオライド（ＰＶＤＦ）、テトラフルオロエチレン−エチレン共重合体（ＥＴＦＥ）、ポリクロロトリフルオロエチレン（ＰＣＴＦＥ）、クロロトリフルオロエチレン−エチレン共重合体（ＥＣＴＦＥ）、ポリビニルフルオライド（ＰＶＦ）、フルオロオレフィン−ビニルエーテル共重合体、フッ化ビニリデン−四フッ化エチレン共重合体、フッ化ビニリデン−六フッ化プロピレン共重合体等が挙げられる。
ポリオレフィンとしては、パラフィンワックス、パラフィンラテックス、マイクロクリスタリンワックス等が挙げられる。
【０２７６】
潤滑剤３１におけるステアリン酸亜鉛の含有割合は、例えば、８０質量％以上、８５質量％以上、９０質量％以上、９５質量％以上、１００質量％である。
【０２７７】
潤滑剤供給装置３０は、潤滑剤３１を（特にはステアリン酸亜鉛を）、感光体７に対してその単位面積当たり０．０５μｇ／ｃｍ２以上１．８μｇ／ｃｍ２以下の供給量で供給することが好ましい。潤滑剤（特にはステアリン酸亜鉛）の供給量が０．０５μｇ／ｃｍ２以上であると、感光体の偏摩耗をより効果的に抑制する。潤滑剤（特にはステアリン酸亜鉛）の供給量が１．８μｇ／ｃｍ２以下であると、ハーフトーン画像にムラが発生しにくい。上記の観点から、潤滑剤（特にはステアリン酸亜鉛）の供給量は、より好ましくは０．０５μｇ／ｃｍ２以上１．８μｇ／ｃｍ２以下であり、更に好ましくは０．１μｇ／ｃｍ２以上１．５μｇ／ｃｍ２以下である。
潤滑剤３１の供給量は、画像形成前後において潤滑剤３１の重量を測って潤滑剤３１の消費量を求め、該消費量を、画像形成の間に潤滑剤供給装置３０を通過した感光体７外周面の累積面積で除することで求められる。
【０２７８】
［クリーニング装置］
クリーニング装置は、クリーニングブレード４１を備えるブレード方式の装置が用いられる。クリーニングブレード４１は、感光体７の表面に接触するように配置されている。
【０２７９】
クリーニングブレード４１は、例えば、弾性材料で構成される。その弾性材料としては、熱硬化型ポリウレタンゴム、シリコーンゴム、フッ素ゴム、エチレン・プロピレン・ジエンゴム等が挙げられる。これらの中で、耐摩耗性、耐欠損性、耐クリープ性などの機械的性質に優れる観点から、熱硬化型ポリウレタンゴムが好ましい。
【０２８０】
クリーニングブレード４１の接触圧は、例えば１．０ｇｆ／ｍｍ以上５．０ｇｆ／ｍｍ以下である。クリーニングブレード４１の接触幅（感光体の回転方向に沿った接触長）は、例えば０．５ｍｍ以上２．０ｍｍ以下である。クリーニングブレード４１の接触角は、例えば５°以上３０°以下である。
【０２８１】
［定着装置］
定着装置５０としては、例えば、加熱ロールと、該加熱ロールに押圧する加圧ロールとを備える加熱定着装置が挙げられる。
【０２８２】
画像形成装置は、感光体７、帯電装置８、露光装置９、現像装置１０、転写装置２０、潤滑剤供給装置３０、及びクリーニングブレード４１を１つのユニットとし、このユニットが４つ並んで搭載されたタンデム方式の多色画像形成装置であってもよい。
【０２８３】
画像形成装置は、感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写し、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する中間転写方式の装置でもよい。
【実施例】
【０２８４】
以下、実施例により発明の実施形態を詳細に説明するが、発明の実施形態は、これら実施例に限定されるものではない。
以下の説明において、特に断りのない限り、「部」は質量基準である。
【０２８５】
＜実施例１＞
［感光体の作製］
下記の材料を混合して攪拌を行い、２時間還流を行った。その後、１０ｍｍＨｇにてトルエンを減圧留去し、１３５℃で２時間焼き付けて、シランカップリング剤による酸化亜鉛の表面処理を行った。
【０２８６】
・酸化亜鉛（テイカ社ＭＺ３００）                                        １００部
・シランカップリング剤：Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシランの１０質量％トルエン溶液                                            １０部
・トルエン                                                              ２００部
【０２８７】
下記の材料Ａを混合して３０分間攪拌し、下記の材料Ｂを添加し、サンドミルにて３時間の分散を行い、下引層形成用塗布液を得た。下引層形成用塗布液を、浸漬塗布法にて、直径４７ｍｍ、長さ３５７ｍｍ、肉厚１ｍｍのアルミニウム製基体の周面に塗布し、１８０℃で３０分間の乾燥硬化を行い、膜厚２５μｍの下引層を得た。
【０２８８】
−材料Ａ−
・表面処理した酸化亜鉛                                                    ３３部
・ブロック化イソシアネート（住友バイエルウレタン社スミジュール３１７５）    ６部
・下記構造式（ＡＫ−１）で表される化合物                                    １部
・メチルエチルケトン                                                      ２５部
−材料Ｂ−
・ブチラール樹脂（積水化学工業社エスレックＢＭ−１）                        ５部
・シリコーン樹脂粒子（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社トスパール１２０）                                                                        ３部
・レベリング剤：シリコーンオイル（東レ・ダウコーニング社ＳＨ２９ＰＡ）０．０１部
【０２８９】
【化２５】
0006658125.tif 000026
【０２９０】
下記の材料を、容量１００ｍＬのガラス瓶中に、１．０ｍｍφガラスビーズと共に充填率５０％で入れて、ペイントシェーカーを用いて２．５時間分散処理し、電荷発生層形成用塗布液を得た。電荷発生層形成用塗布液を、下引層上に浸漬塗布し、１００℃で５分間の乾燥を行い、膜厚０．２０μｍの電荷発生層を形成した。
【０２９１】
・電荷発生材料：ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料。Ｃｕｋα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．３゜，１６．０゜，２４．９゜，２８．０゜の位置に回折ピークを有するＶ型。６００ｎｍから９００ｎｍの波長域での分光吸収スペクトルにおける最大ピーク波長８２０ｎｍ、平均粒径０．１２μｍ、最大粒径０．２μｍ、ＢＥＴ比表面積６０ｍ２／ｇ。
・結着樹脂：塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂
・ｎ−酢酸ブチル
ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料と塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂の混合比を５５体積％：４５体積％とし、電荷発生層形成用塗布液の固形分量を６質量％とした。上記の体積割合は、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の比重を１．６０６ｇ／ｃｍ３、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂の比重を１．３５ｇ／ｃｍ３として計算した。
【０２９２】
下記の材料を混合し、電荷輸送層形成用塗布液を得た。電荷輸送層形成用塗布液を、電荷発生層上に浸漬塗布し、１５０℃で４０分間の乾燥を行い、膜厚３４μｍの電荷輸送層を形成した。以上の工程を経て、感光体を得た。
【０２９３】
・結着樹脂：ビスフェノールＺ型ポリカーボネート樹脂（ビスフェノールＺの単独重合型、粘度平均分子量５万）                                                ６０．０部
・ブタジエン系電荷輸送材料：例示化合物（ＣＴ１−１）                    ８．０部
・ベンジジン系電荷輸送材料：例示化合物（ＣＴ２−１）                  ３２．０部
・ヒンダードフェノール系酸化防止剤：例示化合物（ＨＰ−１）              ３．２部
（分子量７７５。全電荷輸送材料の合計量に対して８．０質量％）
・テトラヒドロフラン                                                    ３４０部
【０２９４】
［画像形成装置の構成］
直接転写方式の画像形成装置として、富士ゼロックス社Ｄｏｃｕ Ｃｅｎｔｒｅ−ＩＩＣ７５００の改造機を用意した。該画像形成装置に、上記で作製した感光体を装填した。該画像形成装置は、感光体に潤滑剤を供給する潤滑剤供給装置、及び感光体のクリーニング装置を搭載している。潤滑剤供給装置は、固体のステアリン酸亜鉛と回転ブラシとを備えており、クリーニング装置は、熱硬化型ポリウレタンゴム製クリーニングブレードを備えている。潤滑剤供給装置は、感光体に対してその単位面積当たり、表１に示す供給量のステアリン酸亜鉛を供給するように設定した。
潤滑剤の供給量は、画像形成前後において潤滑剤の重量を測って潤滑剤の消費量を求め、該消費量を、画像形成の間に潤滑剤供給装置を通過した感光体の外周面の累積面積で除することで求められる。
【０２９５】
［摩耗の評価］
上記画像形成装置を用いて、温度２８℃、相対湿度８５％の環境下で、Ａ３サイズの紙に、シアン色トナーにより、毎分７５枚モードで、画像濃度７％の全面ハーフトーン画像を２．５万枚連続出力した（感光体５００００回転に相当する。）。画像形成前後において感光体の最外層（電荷輸送層）の膜厚を、渦電流式膜厚測定装置（フィッシャー・インストルメンツ社）にて測定した。測定は、感光体の軸方向に２１ｍｍ刻みで１５点測定し、周方向に３０°刻みで１２点測定し、合計１８０点測定した。全測定点の測定値を平均し、感光体の回転数で除して、感光体１０００回転当たりの平均摩耗量（ｎｍ／ｋｃｙｃｌｅ）を求めた。また、全測定点のうちの摩耗量の最大値と最小値との差を、偏摩耗の指標（ｎｍ／ｋｃｙｃｌｅ）として求めた。
【０２９６】
［ハーフトーン画像の濃度ムラの評価］
２．５万枚の連続出力の次に画像濃度２０％の全面ハーフトーン画像を出力し、目視で観察し、濃度ムラを下記の通りに分類した。
【０２９７】
グレード１（Ｇ１）：濃度ムラは認められない。
グレード２（Ｇ２）：濃度ムラはあるが、極めて少ない。
グレード３（Ｇ３）：濃度ムラはあるが、実用上の許容範囲である。
グレード４（Ｇ４）：濃度ムラがあり、実用上許容できない程度である。
グレード５（Ｇ５）：濃度ムラが激しく発生する。
【０２９８】
［焼付きゴーストの評価］
未使用の感光体を用意し、前記画像形成装置に装填し、温度２８℃、相対湿度８５％の環境下で、Ａ３サイズの紙に、格子模様チャートを３０００枚連続出力した後、シアン色の画像濃度２０％の全面ハーフトーン画像を１枚出力した。画像濃度２０％の全面ハーフトーン画像を目視で観察し、格子模様に対応する部分と格子模様に対応しない部分との濃度差を官能評価した。官能評価は、Ｇ０からＧ５まで０．５刻みで行い、Ｇの数字が小さい程、濃度差が小さく、焼付きゴーストが発生していないことを示す。焼付きゴーストの許容グレードはＧ３．５以下である。
【０２９９】
［光疲労の評価］
未使用の感光体を用意し、２ｃｍ四方の窓を開けた黒紙に巻き、窓開け部のみが光暴露されるようにして、白色蛍光灯（１０００Ｌｕｘ）下で１０分間放置し、感光体を光暴露させた。光暴露させた感光体を、前記画像形成装置に装填し、温度２８℃、相対湿度８５％の環境下で、Ａ３サイズの紙に、シアン色の画像濃度５０％の全面ハーフトーン画像を１枚出力した。出力した全面ハーフトーン画像を目視で観察し、光暴露部と非光暴露部との濃度差を官能評価した。官能評価は、Ｇ０からＧ５まで０．５刻みで行い、Ｇの数字が小さい程、濃度差が小さく、光疲労が発生していないことを示す。光疲労の許容グレードはＧ３．５以下である。
【０３００】
＜実施例２〜７＞
潤滑剤供給装置によるステアリン酸亜鉛の供給量を表１に示す量に変更した以外は、実施例１と同様にして画像形成を行った。
【０３０１】
＜比較例１＞
潤滑剤供給装置によるステアリン酸亜鉛の供給をなし（供給量ゼロ）に変更した以外は、実施例１と同様にして画像形成を行った。
【０３０２】
＜実施例８＞
実施例１において、電荷輸送層形成用塗布液の材料として、ヒンダードフェノール系酸化防止剤に代えてベンゾフェノン系紫外線吸収剤：例示化合物（ＢＰ−１）３．２部（全電荷輸送材料の合計量に対して８．０質量％）を用いた以外は、実施例１と同様にして感光体を作製した。そして、潤滑剤供給装置によるステアリン酸亜鉛の供給量を表１に示す量に変更した以外は、実施例１と同様にして画像形成を行った。
【０３０３】
＜実施例９＞
実施例１において、電荷輸送層形成用塗布液の材料として、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤：例示化合物（ＢＰ−１）３．２部（全電荷輸送材料の合計量に対して８．０質量％）も用いた以外は、実施例１と同様にして感光体を作製した。そして、潤滑剤供給装置によるステアリン酸亜鉛の供給量を表１に示す量に変更した以外は、実施例１と同様にして画像形成を行った。
【０３０４】
＜実施例１０＞
実施例１において、電荷輸送層形成用塗布液の材料として、フッ素含有樹脂粒子：４フッ化エチレン樹脂粒子（体積平均粒径２００ｎｍ）８．０部、及びフッ素含有分散剤：ＧＦ４００（東亜合成社、フッ化アルキル基を有するメタクリレートを少なくとも重合成分とした界面活性剤）０．２４部も用いた以外は、実施例１と同様にして感光体を作製した。そして、潤滑剤供給装置によるステアリン酸亜鉛の供給量を表１に示す量に変更した以外は、実施例１と同様にして画像形成を行った。
【０３０５】
＜実施例１１＞
実施例１において、電荷輸送層形成用塗布液の材料として、ヒンダードフェノール系酸化防止剤に代えてベンゾフェノン系紫外線吸収剤：例示化合物（ＢＰ−１）３．２部（全電荷輸送材料の合計量に対して８．０質量％）を用い、フッ素含有樹脂粒子：４フッ化エチレン樹脂粒子（体積平均粒径２００ｎｍ）８．０部、及びフッ素含有分散剤：ＧＦ４００（東亜合成社、フッ化アルキル基を有するメタクリレートを少なくとも重合成分とした界面活性剤）０．２４部も用いた以外は、実施例１と同様にして感光体を作製した。そして、潤滑剤供給装置によるステアリン酸亜鉛の供給量を表１に示す量に変更した以外は、実施例１と同様にして画像形成を行った。
【０３０６】
＜実施例１２〜２２＞
実施例１において、電荷輸送層形成用塗布液の材料を表２に示すとおりに変更した以外は、実施例１と同様にして感光体を作製した。そして、潤滑剤供給装置によるステアリン酸亜鉛の供給量を表２に示す量に変更した以外は、実施例１と同様にして画像形成を行った。
【０３０７】
＜比較例２〜７＞
実施例１において、電荷輸送層形成用塗布液の材料を表３に示すとおりに変更した以外は、実施例１と同様にして感光体を作製した。そして、潤滑剤供給装置によるステアリン酸亜鉛の供給量を表３に示す量に変更した以外は、実施例１と同様にして画像形成を行った。
【０３０８】
各実施例及び各比較例の電荷輸送層形成用塗布液の組成、並びに、各実施例及び各比較例の評価結果について、表１〜表３に示す。
【０３０９】
比較例１のハーフトーン画像の濃度ムラは、Ｇ４であり、感光体の偏摩耗に起因するものと推測された。実施例７のハーフトーン画像の濃度ムラは、Ｇ２であり、潤滑剤の供給量が過剰なことに起因すると推測された。
【０３１０】
【表１】
0006658125.tif 000027
【０３１１】
【表２】
0006658125.tif 000028
【０３１２】
【表３】
0006658125.tif 000029
【０３１３】
表１〜表３の略称は、下記の化合物を意味する。
【０３１４】
・ＺｎＳｔ：ステアリン酸亜鉛
・ＰＣＺ５００：ビスフェノールＺ型ポリカーボネート樹脂、ビスフェノールＺの単独重合型、粘度平均分子量５万。
・ＰＣ−１：ＢＰポリカーボネート樹脂の例示化合物（ＰＣ−１）、ｐｍ：ｐｎ＝２５：７５、粘度平均分子量４万。
・ＰＣ−２：ＢＰポリカーボネート樹脂の例示化合物（ＰＣ−２）、ｐｍ：ｐｎ＝２５：７５、粘度平均分子量４万。
・ＰＣ−３：ＢＰポリカーボネート樹脂の例示化合物（ＰＣ−３）、ｐｍ：ｐｎ＝２５：７５、粘度平均分子量４万。
・ＣＴ１−１：ブタジエン系電荷輸送材料の例示化合物（ＣＴ１−１）。
・ＣＴ１−２：ブタジエン系電荷輸送材料の例示化合物（ＣＴ１−２）。
・ＣＴ１−３：ブタジエン系電荷輸送材料の例示化合物（ＣＴ１−３）。
・ＣＴ２−１：ベンジジン系電荷輸送材料の例示化合物（ＣＴ２−１）。
・ＣＴ２−２：ベンジジン系電荷輸送材料の例示化合物（ＣＴ２−２）。
・ＨＰ−１：ヒンダードフェノール系酸化防止剤の例示化合物（ＨＰ−１）、分子量７７５。
・ＨＰ−２：ヒンダードフェノール系酸化防止剤の例示化合物（ＨＰ−２）、分子量７８４。
・ＨＰ−３：ヒンダードフェノール系酸化防止剤の例示化合物（ＨＰ−３）、分子量３４０。
・ＣＡＯ−１：下記構造式（ＣＡＯ−１）で表されるヒンダードフェノール系酸化防止剤、分子量２２０。酸化防止剤の比較化合物。
・ＣＡＯ−２：下記構造式（ＣＡＯ−２）で表されるヒンダードアミン系酸化防止剤。酸化防止剤の比較化合物。
【０３１５】
【化２６】
0006658125.tif 000030
【０３１６】
・ＢＰ−１：ベンゾフェノン系紫外線吸収剤の例示化合物（ＢＰ−１）。
・ＢＰ−２：ベンゾフェノン系紫外線吸収剤の例示化合物（ＢＰ−２）。
・ＢＰ−３：ベンゾフェノン系紫外線吸収剤の例示化合物（ＢＰ−３）。
・ＣＵＡ−１：下記構造式（ＣＵＡ−１）で表されるベンゾエート系紫外線吸収剤。紫外線吸収剤の比較化合物。
【０３１７】
【化２７】
0006658125.tif 000031
【符号の説明】
【０３１８】
１  下引層、２  電荷発生層、３  電荷輸送層、４  導電性基体、５  感光層、７Ａ，７  感光体、８  帯電装置、９  露光装置、１０  現像装置、２０  転写装置、３０  潤滑剤供給装置、３１  潤滑剤、３２  回転ブラシ、４１  クリーニングブレード、４２  補助クリーニング部材、５０  定着装置、１００  画像形成装置、Ｐ  記録媒体
【図１】
0006658125.tif 000036
【図２】
0006658125.tif 000037