(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光拡散部材の生産方法において、
光源を受け付けるように構成された縁部を含む基板の前面の少なくとも一部分上に散乱中心のパターンを生成する工程であって、前記パターンは、前記縁部に隣接しては、より低い密度の散乱中心を、該縁部からの距離が増加するにつれては、より高い密度の散乱中心を有するものである工程、
を有してなり、
前記生成する工程は、
前記前面上にマスキング材料を成膜して、該前面上にマスクを生成する工程と、
前記マスクを前記前面に接着させる工程と、
前記前面をエッチングする工程と、
前記前面を洗浄する工程と、
を有し、
前記マスキング材料が、インクジェットプリンタで成膜されるインクであり、前記インクジェットプリンタで成膜されるインク液滴が、大きさにおいてランダムに分布した小さな色素粒子を含み、
前記成膜する工程が、
均一な濃度を有するインクの第１の層を成膜する工程と、
前記縁部に隣接しては、より高い濃度を有するインクの第２の層を成膜する工程と、
該縁部からの距離が増加するにつれて、前記インクの濃度を低下させる工程と、
を有する、
ことを特徴とする、光拡散部材の生産方法。
【請求項２】
前記成膜する工程の間に、インクノズルを通してインクが成膜され、該成膜工程の間に成膜されるインクの前記第２の層の濃度が、インクの厚さを変化させるか、インクの色を変化させるか、前記インクノズルの高さを変化させるか、または、該インクノズルの速度を変化させることによって制御される、請求項１記載の光拡散部材の生産方法。
【請求項３】
光拡散部材の生産方法において、
光源を受け付けるように構成された縁部を含む基板の前面の少なくとも一部分上に散乱中心のパターンを生成する工程であって、前記パターンは、前記縁部に隣接しては、より低い密度の散乱中心を、該縁部からの距離が増加するにつれては、より高い密度の散乱中心を有するものである工程、
を有してなり、
前記生成する工程は、
前記前面上にマスキング材料を成膜して、該前面上にマスクを生成する工程と、
前記マスクを前記前面に接着させる工程と、
前記前面をエッチングする工程と、
前記前面を洗浄する工程と、
を有し、
前記接着させる工程が、前記縁部に隣接しては、減少されたエッチングを可能にし、該縁部からの距離が増加するにつれて、増加されたエッチングを可能にするように、前記マスキング材料を硬化させる工程を含み
前記硬化させる工程が、前記縁部に隣接しては、減少されたエッチングを可能にし、該縁部からの距離が増加するにつれて、増加されたエッチングを可能にするように、前記マスキング材料を硬化させる工程を含み、
前記硬化が、該硬化の温度を変化させることによって制御される、
ことを特徴とする、光拡散部材の生産方法。
【請求項４】
前記エッチングする工程が、氷酢酸（ＧＡＡ）およびフッ化アンモニウム（ＮＨ４Ｆ）の混合液を含むエッチング槽内で行われる、請求項１から３のいずれか１項に記載の光拡散部材の生産方法。
【請求項５】
前記基板が、前記前面から間隔をあけた裏面をさらに備え、
前記生産方法は、
前記生成する工程の前に、該裏面を被覆する工程と、
該生成する工程の後に、該裏面を洗浄する工程と、
をさらに含む請求項１から４のいずれか１項に記載の光拡散部材の生産方法。
【発明の詳細な説明】
【関連出願の相互参照】
【０００１】
本出願は、２０１４年１０月２３日出願の米国仮特許出願第６２／０６７，６５７号の優先権の利益を主張し、その内容は、全体として参照により本明細書に組み込まれる。
【技術分野】
【０００２】
本発明は、概して、光拡散部材の製造方法に関し、より詳しくは、透明または半透明表示装置で使用するための光導波路の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００３】
典型的な透過型表示装置は、均一なバックライトによって照らされる液晶積層体を含んでいてもよい。透過型表示装置におけるバックライトは、光導波路で構成された集合体であり、埋め込まれた散乱中心と、ＩＤＦ（画像向き変換フィルム）およびＤ‐ＢＥＦ（輝度上昇フィルム）などの光管理フィルムとを有し、それらに拡散器が後続している。これらの光管理フィルムの組合せ性能は、全範囲に亘って均一な輝度を有するバックライトアセンブリの提供を助ける。バックライトは、交差偏光子を含む多数の部材の後方に隠れるので、透過型バックライトの構成の方が受け入れ易い。
【０００４】
任意のＬＣＤ（液晶表示装置）システムの主要構造は、多数のＬＣＤセルを照らす光導波路である。最も一般的で最新の装置は、側面に位置して光導波路内に光を射出するＬＥＤ光源を用いている。光導波路自体が、底面に散乱中心を有する状態で埋め込まれている。これらの凹または凸の散乱中心は、光を散乱させて、光の向きを、光導波路を通って伝播するように変化させる役割がある。散乱中心またはドットが、光導波路に沿って周期的に置かれると、光抽出パターンは指数的減衰するものとなり、パワーのほとんどが最初に抽出されて、光導波路内において、まだ利用しうるパワーが減少するにつれて、徐々に減衰する。全導波路に亘って均一な輝度を維持するには、パワーが高い所（ＬＥＤの近く）では、より少ない抽出散乱中心を利用しうると共に、パワーが低い所では、より多数の抽出散乱中心を利用しうるように、散乱中心が分布していなくてはならない。そのような装置においては、散乱中心の大きさが一定で、よく画定されていることが多く（典型的には、数百マイクロメートルから１ミリメートルの大きさ）、散乱中心間の距離は、ＬＥＤの近くでの約３００μｍから、一次元勾配の反対の端部での約３０μｍである。
【０００５】
最近の表示装置のトレンドは、透明および半透明表示装置に向かっている。透明または半透明表示装置についての潜在的な使用は、病院の壁面、建物の窓、デジタルサイン、窓での広告および情報投影装置を含むものである。透明表示措置は、ユーザが必要な時だけ現れるオンデマンド型表示装置の概念に、刺激を与えるかもしれない。
【０００６】
透過型表示装置とは異なり、透明または半透明表示装置においては、半透明なＬＣＤ積層体および光導波路という部材のみがあってもよい。透明または半透明表示装置において、拡散器、光管理フィルム、または、後方の反射器はなくなる。そのような表示装置は、見えない位の非常に小さい光散乱中心を必要とするかもしれない。光散乱中心は、ＬＣＤ積層体との干渉（モアレ）を最小限にするように、ランダムにされている必要もあるかもしれない。
【０００７】
透過型表示装置と同様に、光が光導波路を通って伝播するにつれて観察される自然な指数的減衰を補償するためには、均一な光抽出を可能にするように、透明または半透明表示装置の散乱中心の分布に勾配を必要とするかもしれない。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本開示は、透明または半透明表示装置で使用するための光拡散部材または光導波路の製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本開示の一実施形態は、マスキングおよびエッチング処理による光拡散部材または光導波路の生産方法を提供する。その方法は、ガラスシートであってもよい基板の前面の少なくとも一部分上に散乱中心のパターンを生成する工程を有し、その結果、表示装置で使用するための光導波路を提供する。光導波路は、縁部をさらに含んでもよい。縁部は、光源を受け付けるように構成されてもよい。散乱中心のパターンは、縁部に隣接しては、より低い密度の散乱中心、および、縁部からの距離が増加するにつれて、より高い密度の散乱中心を有する。散乱中心は、上記前面上にマスクを生成するように前面上にマスキング材料を成膜すること、マスクを前面に接着させること、および、前面をエッチングすることによって作成されてもよい。次に、前面は、洗浄されてもよい。
【００１０】
本開示の一実施形態において、上記前面上のマスクの密度を制御することによって、散乱中心の密度が制御される。散乱中心の望ましい密度は、縁部に隣接しては、より多い量のマスキング材料を成膜し、縁部からの距離が増加するにつれて、マスキング材料の量を減少させることによって、達成されてもよい。
【００１１】
本開示の他の実施形態において、散乱中心の密度は、縁部に隣接しては、減少されたエッチングを可能にし、縁部からの距離が増加するにつれて、増加されたエッチングを可能にするように、マスキング材料を硬化させることによって制御される。
【００１２】
本開示の他の実施形態は、光源を受け付けるように構成された縁部と、散乱中心が縁部からの距離が増加するにつれて増加した密度を有する状態で、エッチングされた複数の光散乱中心を有する散乱層とを有するガラスシート含むものであるガラスの光拡散部材を提供し、散乱中心は、大きさにおいてランダムに分布している。
【００１３】
更なる特徴および利点は、以下の発明を実施するための形態の記載に示されると共に、部分的には、当業者には、その記載から容易に明らかであるか、または、添付の図面に加えて、本明細書および請求項を含む、ここに記載された実施形態を実施することにより理解されるであろう。
【００１４】
上記概略的な記載および次の発明を実施するための形態の記載の両方が、単に例示的なものであり、請求項の本質および特徴を理解するための概観または枠組みを提供することを意図したものであると理解されるべきである。添付の図面は、更なる理解のために含められたものであり、本明細書に組み込まれ、その部分を構成するものである。図面は、１つ以上の実施形態を示し、その記載と共に、様々な実施形態の原理および動作を説明する役割を果たす。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本開示の一実施形態の工程を示す図である。
【図２】表面にエッチングされた散乱中心を有するガラスシートを示す。
【図３】市販の光導波路および均一な密度の散乱中心を有する光導波路と比較した、本開示の光導波路の効果を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
ここで、添付の図面に例が示された本技術の様々な実施形態を詳細に記載する。全図面を通して、同じまたは類似した部分を参照するには、同じ参照番号を可能な限り用いる。
【００１７】
本開示は、透明または半透明表示装置で使用するための光導波路を作成するためのマスクおよびエッチング処理を提供する。いくつかの実施形態において、本開示は、透明または半透明表示装置における光導波路について、大きさ、ランダム性、および、プロファイル分布の要求を満たすランダムなマイクロドットアレイ構造を生成するものである。ここに記載される光導波路は、表示装置で使用される、プラスチックまたはガラスなどの従来の基板で作られていてもよい。
【００１８】
光導波路で使用される基板の概略的な構造は、ここでは、前面および裏面として記載される、互いに略平行の２つの主平面を有するシートとしてのものであり、少なくとも１つの縁部が、２つの主平面に直交して、それらを接続している。いくつかの実施形態において、基板は、４つの縁部を有する矩形状である。縁部は、平ら（または、平面）であってもよい。若しくは、前面および裏面に縁部を接続する斜面または他の構成を、含んでいてもよい。
【００１９】
図１は、本開示の一実施形態の工程を示す図である。本開示のいくつかの実施形態において、第１の工程は、ガラス裏面を被覆する工程であってもよい、囲み枠１２。ガラス裏面は、ガラス前面に望ましい散乱中心パターンを備えようとする処理から裏面を保護するように、被覆される。エッチング処理で表面を保護するために用いられる、エッチングされない任意の従来の被覆が用いられてもよい。裏面および前面という用語は、最終製品における光導波路の特定の方向を指したものではなく、一方の面の記載を、他方の面の記載から単に区別するために用いられるものである。
【００２０】
次の工程は、ガラス前面を洗浄する工程であってもよい、囲み枠１４。本開示のいくつかの実施形態において、洗浄工程は、ガラス前面をアセトンで完全に拭き、次に、イソプロピルアルコールで完全に拭き、次に、ガラスを、酸素流が３０ｐｓｉ（２０６．８ｋＰａ）の状態で１５分間、ＵＶオゾンに挿入する工程を含み、さらに、後続の５分間の冷却サイクルを含んでもよい。
【００２１】
次の工程は、塗布されるマスクを必要とする、囲み枠１６。マスクは、エッチング液に耐性のある、例えば、有機または無機ポリマー、フォトレジスト、金属（Ａｇ、Ａｕ、Ｃｕ、Ｃｒ）、酸化物（二酸化ケイ素）または窒化物などの任意の従来のマスキング材料で作られていてもよい。
【００２２】
上記のように、全光導波路に亘って、均一な輝度を維持するには、散乱中心は、パワーが高い所（ＬＥＤの近く）では、より少ない散乱中心が位置し、パワーが低い所では、より多数の散乱中心を利用しうるように、分布していなくてはならない。光導波路内の光強度は、典型的には、非線形に減衰する。強度の変化に正しく対処するには、マスクは、ＬＥＤに最も近い所では、より少なく前面がエッチングされて、ＬＥＤ縁部からの距離の関数で、徐々に、より大きくエッチングされるように設計される。光源からの距離が増加するにつれて、より大きくエッチングが行われて、エッチング工程で、より多数の散乱中心が生成されるように、下記のようにエッチングに対する保護が減らされる。散乱中心は、非線形または線形に分布していてもよいが、光導波路内における光強度の変化を引き起こすと共に補正するように分布し、光導波路の前側平面からの強度が略等しく（±２０％以下、±１５％以下、±１０％以下、または、±５％以下）なるようにする。
【００２３】
本開示のいくつかの実施形態においては、マスクは、望ましい散乱中心のプロファイル分布の陰画であるパターンを生成するように、ガラス前面上に成膜されてもよい。上記のように、ＬＥＤが光導波路の１つの縁部（または、側面）のみに置かれた場合には、ＬＥＤに隣接する光導波路のガラス前面は、より大きな保護を受け、ＬＥＤから取り外されている導波路のガラス前面は、より小さい保護を受けるであろう。しかしながら、ＬＥＤが光導波路の対面し合う縁部に置かれる場合には、ガラス前面の中心領域は、エッチングに対して、より小さい保護を受けるであろう。
【００２４】
本開示の制限するものではない実施形態において、マスクは、インクジェットプリンタによって塗布されてもよく、マスクは、インクであってもよい。インクジェットプリンタは、簡単なビットマップファイルによって指示されたように、パターンを塗布してもよい。第１の実施形態では、マスクパターンは、縁部から離れるにつれてインク濃度が徐々に低下する連続したインク勾配になるように作製されてもよい。ＬＥＤが光導波路の対面し合う側面に置かれた場合には、インク濃度が、濃くから、薄くなるように変化し、次に、徐々に再び濃くなるように増加する。上記のように、マスキング材料のみが、エッチングパターンを決定するような場合には、必要とされる最終的な結果の陰画であるパターンを印刷することが重要である。エッチング後に、散乱中心が、縁部の近くでは疎らで、インク濃度が低下された中心部に向かって、もっと間隔が詰まったようになる。ガラス前面は、インク濃度が低下された所で、より大きな程度にエッチングされるであろう。
【００２５】
本開示の限定するものではない実施形態において、マスクは、インクジェットプリンタによって塗布されてもよく、マスクは、２層のインクであってもよい。第１のフォトマスクパターンは、勾配無しで連続するように作製されてもよい。ランダムに置かれたインク液滴で作られた第２のパターンが、第１のマスク上に勾配として成膜されてもよい。この特定の２層マスクにおいては、追加された液滴のない場所では、より速く酸が浸食するので、最終的な構造は、形状および大きさにおいてランダムであるが、位置においてはランダムでない。
【００２６】
第３の実施形態では、間隙に開口部が分布した状態で、濃いインク材料でマスクを作製しうる。開口部は、ドット、または、他の任意の形状でありうる。開口部の大きさは、一定、または、様々となるように保たれうる。開口部の位置は、光導波路の意図する使用に応じて、ランダムに、または、ランダムでないようにされうる。この特定の実施形態は、設計者が、特徴的形状、大きさ、および、位置の特定の目標を満たすことを可能にさせる。はっきりとした経路が酸に提供されているので、エッチングされた基板は、マスクがランダムな場合にのみ、ランダムである特徴物を有するであろう。
【００２７】
インクジェット印刷技術は、容易に開発され、異なるサイズに対処できると共に、完成されているので、マスクとしてのインクを、インクジェットで塗布することは有益であるかもしれない。インクジェットプリンタは、成膜されるインクの大きさの分布および横方向の間隔を容易に制御しうるので、結果的に散乱中心を制御しうる。インクジェットプリンタで成膜されたインク液滴は、顕微鏡では均一に見えるが、ドット内にランダムに分布した多数の、より小さい色素粒子で作られており、肉眼では見えない望ましい大きさ、つまり約２０μｍより小さい散乱中心のランダムなパターンを有する最終製品を提供するかもしれない。
【００２８】
インクジェットプリンタによるパターン形成は、インク被覆範囲、通過回数、インク濃度、インクの厚さ、インクの色、硬化温度、ノズルの高さ、および、ノズル速度などの多数の異なる方法で制御しうる。インクジェットプリンタは、要求に応じて、マスクを、連続したもの、または、間隙のドットを有する不連続なものにしうる。
【００２９】
次の工程は、マスキング材料の硬化を必要とする、囲み枠１８。硬化の種類は、使用されるマスキング材料の種類によって決定されるであろう。例えば、マスクおよびエッチング処理の業界においては、紫外線硬化が周知であり、感ＵＶマスキング材料について、紫外線硬化を使用してもよい。インクジェットプリンタによって成膜されたインクの場合に、ＵＶ硬化が利用されてもよい。
【００３０】
硬化工程は、マスキング材料が、ＬＥＤが置かれることになる光導波路の縁部への距離に応じて、異なる量で硬化されるように調節されてもよい。マスキング材料の硬化は、縁部に隣接しては、エッチングに対する保護を増やすことを可能にすると共に、縁部からの距離が増加するにつれて、エッチングに対する保護を減らすことを可能にするように行われてもよく、硬化温度を変化させることによって制御される。換言すれば、縁部に隣接しては、エッチングを減少させると共に、縁部からの距離が増加するにつれて、エッチングを増加させる硬化を行いうる。そのような実施形態において、マスキング材料は、エッチングされる前面のその部分に、均一に分布していてもよく、達成されるエッチングの量は、マスキング材料の硬化量の関数であってもよい。
【００３１】
次の工程は、ガラス前面のエッチングを必要とする、囲み枠２０．エッチング工程は、マスキング材料によってガラス前面に提供される保護の関数として、ガラス前面をエッチングすることになるであろう。上記のように、マスキングの保護が、より小さい場合には、より大きくエッチングされ、マスキングの保護が、より大きい場合には、より小さくエッチングが行われることになるであろう。さらに、上記のように、マスキングの保護は、マスキング材料が成膜される方法、および、マスキング材料が硬化される方法に由来してもよい。
【００３２】
本開示のいくつかの実施形態において、エッチングは、湿式化学エッチングを用いて行われてもよい。湿式化学エッチング処理は、周知技術であり、例えば、エッチング液は、氷酢酸（ＧＡＡ）およびフッ化アンモニウム（ＮＨ４Ｆ）の混合液で構成されていてもよい。フッ化アンモニウムは、フッ化アンモニウム（ＮＨ４Ｆ）の４０％水溶液であってもよい。ＧＡＡのＮＨ４Ｆに対する体積比が、約９：１から約１：９であってもよい。このエッチング組成物は、相対的に穏やかであり、本開示の処理で使用される機器を腐食または破損させないであろう。
【００３３】
次の工程は、エッチング液の除去であってもよく、例えば、脱イオン水によるリンスによって行いうる、囲み枠２２、さらに、後続の空気乾燥の工程が行われもよい、囲み枠２４。
【００３４】
次の工程は、囲み枠２６に示されたように、残存する余分なマスキング材料を除去する工程を任意で含み、使用されるマスキング材料の種類に適切な任意の従来の方法によって行われる。
【００３５】
最後に、エッチング処理が完了したら、裏面の被覆を除去してもよい。
【００３６】
光導波路の透明性を決める一つの要因は、光導波路の「ヘイズ」である。本技術において、透過ヘイズは、透過光のうち、入射ビームの方向から２．５°より大きく散乱する分の百分率として定義される。ヘイズは、エッチングされた表面の粗さを示すものである。粗さが高いと、ヘイズは増加し、粗さが低いと、ヘイズは減少する。いくつかの制限するものではない実施形態において、透明な表示装置については、光導波路は、約１５％未満、約１４％未満、または、約１０％未満のヘイズを有していてもよい。ヘイズ（および、粗さ）は、エッチング時間だけではなく、酸によるエッチングにおける酸の濃度によって制御されてもよい。濃度が高く、エッチング時間が長くなると。ヘイズ（および、粗さ）が増加する。
【００３７】
３０‐５‐３０Ｍ（マゼンタ）のインク濃度勾配を用いて、本開示による光導波路サンプルが用意された。光導波路サンプルは、ＧＡＡ：ＮＨ４Ｆの４０％水溶液が、９：１の状態でエッチングされた。その結果得られた散乱中心は、図２に示されるように、ランダムであった。散乱中心は、大きさにおいてランダムに分布し、約２００μｍより小さく、任意で、肉眼では見えないものである。図２からわかるように、特徴物の密度分布は、低から高へ、そして、低へと、光源からの距離の関数として変化する。この構成において、光導波路は、２つの側から照らされるように設計されている。
【００３８】
本開示の光導波路サンプルを、市販のタブレットの光導波路、および、勾配を有さない均一にエッチングされた光導波路と比較した。市販のタブレットの光導波路は、一定で、よく画定された散乱中心を含む一方、散乱中心間の距離は、ＬＥＤの近くの約３００μｍから、一次元勾配の反対側の端部では約３０μｍへと減少していた。均一にエッチングされた、勾配を有しない光導波路について、散乱中心は、直径が約２００μｍで、散乱中心間の距離は、ランダムに１０μｍから３００μｍへと変化していた。
【００３９】
検出器が表面を垂直に走査する間、全３つのサンプルが底部から照らされた。図３は、検出器によって取得されたような、検出されたパワーをまとめたものである。図３に示されるように、均一にエッチングされたサンプル（菱形のデータ点）は、そのサンプルの中までの距離の関数として、パワーが徐々に減衰するのを示している。市販のバックライト（三角形のデータ点）は非常に均一であるが、減衰しない出力を示している。この種類の出力は、ＬＥＤバックライトへの利用には好ましい。本開示のバックライト（正方形のデータ点）は、市販のタブレットより、さらに優れた光抽出能力を示している。
【００４０】
当業者には、添付の請求項に記載されたような本開示の態様の精神または範囲から逸脱することなく、様々な変更および変形を加えうることが明らかであろう。
【００４１】
以下、本発明の好ましい実施形態を項分け記載する。
【００４２】
実施形態１  
光拡散部材の生産方法において、
光源を受け付けるように構成された縁部を含む基板の前面の少なくとも一部分上に散乱中心のパターンを生成する工程であって、前記パターンは、前記縁部に隣接しては、より低い密度の散乱中心を、該縁部からの距離が増加するにつれては、より高い密度の散乱中心を有するものである工程、
を有してなり、
前記生成する工程は、
前記前面上にマスキング材料を成膜して、該前面上にマスクを生成する工程と、
前記マスクを前記前面に接着させる工程と、
前記前面をエッチングする工程と、
前記前面を洗浄する工程と、
を有する光拡散部材の生産方法。
【００４３】
実施形態２  
前記基板がガラスシートである、実施形態１記載の光拡散部材の生産方法。
【００４４】
実施形態３  
前記成膜する工程が、前記縁部に隣接して、より高い濃度のマスキング材料を成膜し、該縁部からの距離が増加するにつれて、前記マスキング材料の濃度を低下させる工程を有する、実施形態２記載の光拡散部材の生産方法。
【００４５】
実施形態４  
前記マスキング材料が、インクジェットプリンタで成膜されるインクであり、前記インクジェットプリンタで成膜されるインク液滴が、大きさにおいてランダムに分布した小さな色素粒子を含む、実施形態２記載の光拡散部材の生産方法。
【００４６】
実施形態５  
前記成膜する工程が、前記縁部に隣接して、より高い濃度のインクを成膜し、該縁部からの距離が増加するにつれて、インクの濃度を低下させる工程を有する、実施形態４記載の光拡散部材の生産方法。
【００４７】
実施形態６  
前記成膜する工程の間に、インクノズルを通してインクが成膜され、該成膜工程の間に成膜されるインクの濃度が、インクの厚さを変化させるか、インクの色を変化させるか、前記インクノズルの高さを変化させるか、または、該インクノズルの速度を変化させることによって制御される、実施形態５記載の光拡散部材の生産方法。
【００４８】
実施形態７  
前記成膜する工程が、
均一な濃度を有するインクの第１の層を成膜する工程と、
前記縁部に隣接しては、より高い濃度を有するインクの第２の層を成膜する工程と、
該縁部からの距離が増加するにつれて、前記インクの濃度を低下させる工程と、
を有する、実施形態４記載の光拡散部材の生産方法。
【００４９】
実施形態８  
前記成膜する工程の間に、インクノズルを通してインクが成膜され、該成膜工程の間に成膜されるインクの前記第２の層の濃度が、インクの厚さを変化させるか、インクの色を変化させるか、前記インクノズルの高さを変化させるか、または、該インクノズルの速度を変化させることによって制御される、実施形態７記載の光拡散部材の生産方法。
【００５０】
実施形態９  
前記接着させる工程が、前記縁部に隣接しては、減少されたエッチングを可能にし、該縁部からの距離が増加するにつれて、増加されたエッチングを可能にするように、前記マスキング材料を硬化させる工程を含む実施形態２記載の光拡散部材の生産方法。
【００５１】
実施形態１０  
前記硬化させる工程が、前記縁部に隣接して、減少されたエッチングを可能にし、該縁部からの距離が増加するにつれて、増加されたエッチングを可能にするように、前記マスキング材料を硬化させる工程を含み、
前記硬化が、該硬化の温度を変化させることによって制御される、実施形態９記載の光拡散部材の生産方法。
【００５２】
実施形態１１  
前記エッチングする工程が、前記縁部に隣接しては、減少された密度の散乱中心を、該縁部からの距離が増加するにつれては、増加した密度の散乱中心を有するものである散乱中心の密度勾配を生成するように、前記前面をエッチングする工程を含む、実施形態２記載の光拡散部材の生産方法。
【００５３】
実施形態１２  
前記エッチングする工程が、氷酢酸（ＧＡＡ）およびフッ化アンモニウム（ＮＨ４Ｆ）の混合液を含むエッチング槽内で行われる、実施形態２記載の光拡散部材の生産方法。
【００５４】
実施形態１３  
前記フッ化アンモニウム（ＮＨ４Ｆ）が、フッ化アンモニウム（ＮＨ４Ｆ）の４０％水溶液である、実施形態１２記載の光拡散部材の生産方法。
【００５５】
実施形態１４  
前記氷酢酸（ＧＡＡ）の前記フッ化アンモニウム（ＮＨ４Ｆ）の水溶液に対する体積比が、約１対約９から、約９対約１である、実施形態１３記載の光拡散部材の生産方法。
【００５６】
実施形態１５  
前記ガラスシートが、前記前面から間隔をあけた裏面をさらに備え、
前記生産方法は、
前記生成する工程の前に、該裏面を被覆する工程と、
該生成する工程の後に、該裏面を洗浄する工程と、
をさらに含む、実施形態２記載の光拡散部材の生産方法。
【００５７】
実施形態１６  
光拡散部材において、
前面と、光源を受け付けるように構成された縁部とを有するガラスシート、および、
前記ガラスシートの前記前面の少なくとも一部分の中にエッチングされた複数の光散乱中心を有する少なくとも１つの散乱層であって、前記散乱中心は、前記縁部からの距離が増加するにつれて、増加した密度を有し、該散乱中心は、位置および大きさにおいてランダムに置かれると共に、約２００μｍより小さいものである、少なくとも１つの散乱層、
を備えた光拡散部材。
【図１】
0006688296.tif 000002
【図２】
0006688296.tif 000003
【図３】
0006688296.tif 000004