(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
低電位環境から高電位環境へガスを供給するときのガス配管に設けられるガス供給用電気絶縁装置であって、
ガスの流路となる貫通孔が設けられた、絶縁材からなる絶縁本体部と、
前記貫通孔の内周面に設けられガス流路壁面となる管内壁面を有する、絶縁材からなる管と、
前記貫通孔の開口が設けられる前記絶縁本体部の第１の端面の側に固定され、一方の端が前記貫通孔と接続し、他方の端が低電位環境から延びる低電位ガス配管と接続する第１接続孔が設けられた第１金属板と、
前記貫通孔の開口が設けられる前記絶縁本体部の第２の端面の側に固定され、一方の端が前記貫通孔と接続し、他方の端が高電位環境から延びる高電位ガス配管と接続する第２接続孔が設けられた第２金属板と、
前記第１金属板と前記絶縁本体部との間にあり、前記第１接続孔の開口と前記貫通孔の開口との間の第１間隙、及び、前記第２金属板と前記絶縁本体部との間にあり、前記第２接続孔の開口と前記貫通孔の開口との間の第２間隙それぞれの周りを囲むように設けられた内側シール部材と、前記内側シール部材の外側に前記内側シール部材を囲むように設けられた外側シール部材を含む複数のリング状シール部材と、を有し、
前記内側シール部材と前記外側シール部材との間の密閉空間は、前記貫通孔内の圧力よりも高い圧力で加圧された密閉加圧空間となっている、ことを特徴とするガス供給用電気絶縁装置。
【請求項２】
前記外側シール部材は、第１外側シール部材と、前記第１外側シール部材の外側を囲むように設けられた第２外側シール部材と、を含み、
前記第２外側シール部材と前記第１外側シール部材との間の密閉空間は、前記第１外側シール部材と前記内側シール部材との間の密閉空間の圧力よりも高い圧力で加圧された密閉加圧空間となっている、請求項１に記載のガス供給用電気絶縁装置。
【請求項３】
前記第１金属板及び前記第２金属板のそれぞれには、前記密閉空間の側の面から前記密閉空間の側と反対側の面に延びる加圧用ガス供給孔が設けられ、前記加圧用ガス供給孔は、加圧用ガスを供給する加圧用ガス管と接続されている、請求項１または２に記載のガス供給用電気絶縁装置。
【請求項４】
前記加圧用ガス管には、加圧用ガス源から前記加圧用ガスの供給を受け、加圧後に遮断する遮断弁が設けられる、請求項３に記載のガス供給用電気絶縁装置。
【請求項５】
前記加圧用ガス管が前記加圧用ガス供給孔と接続する端の位置から前記遮断弁による遮断位置までの、前記加圧用ガス管の管容積は３〜３０ｃｃであり、
前記加圧用ガス管には、前記密閉空間の圧力を測定する圧力計が設けられる、請求項４に記載のガス供給用電気絶縁装置。
【請求項６】
前記圧力計の測定結果を時系列で記録保持する記録部と、
前記時系列の測定結果のデータの前記時系列の変化から、前記内側シール部材または前記外側シール部材の劣化を判定する判定部と、を備える制御装置を備える、請求項５に記載のガス供給用電気絶縁装置。
【請求項７】
前記密閉空間は、窒素ガスあるいはアルゴンガスで加圧されている、請求項１〜６のいずれか１項に記載のガス供給用電気絶縁装置。
【請求項８】
ガスに高電位を与えてプラズマを形成して基板の処理を行うプラズマ処理装置であって、
請求項１〜７のいずれか１項に記載のガス供給用電気絶縁装置を含むガス輸送装置と、
高電位を用いて輸送したガスからプラズマを生成するプラズマ生成装置と、
生成したプラズマを用いて基板に処理を施す処理装置と、を備える、ことを特徴とするプラズマ処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、低電位環境から高電位環境へガスを供給するときのガス配管に設けられるガス供給用電気絶縁装置、及びこのガス供給用電気絶縁装置を用いたプラズマ処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、基板のプラズマ処理に用いるプラズマ処理装置では、所定のガスにエネルギーを与えてプラズマを形成する。さらに、プラズマから基板に照射するためのイオンビームを引き出す場合、引き出し電極に高電位（例えば、１ｋＶ〜１００ｋＶ）を印加する。
【０００３】
このようなプラズマを形成するために、プラズマ処理装置には、プラズマ生成用のガスがガス源から供給される。ガス源は、一般的には、ガスの充填されたガスボトルであって、プラズマ処理装置の高電位部に配置される。近年、基板の大型化に伴って、ガスの使用量は増大し、ガスボトルの交換頻度が高くなり、基板のプラズマ処理の生産効率が低下するといった問題がある。このため、低電位環境にガスボトルを設けて、ガス配管を引いて高電位環境の場所に供給することが行われる。これにより、低電位環境にあるガスボトルを容易に交換することができる。
さらに、プラズマに使用するガス種がホスフィン、ジボラン、三フッ化ホウ素（ＢＦ３）のような毒性のあるガスを用いる場合が多いことから、ガス管には、機械的強度が高く、損傷あるいは欠陥が生じない金属製のガス管が用いられる。
金属製のガス管は、電気伝導性があるため、低電位環境から高電位環境の場所に延びる金属製の管の途中で放電が生じないように電気絶縁装置を用いられる（特許文献１）。
【０００４】
例えば、低電位環境から高電位環境までガスをブリッジする絶縁装置は、延伸ロッドの全長にわたって延びた中心軸穴を有する延伸ロッドを含む非導電性の輸送インシュレータ及び分離トラッキングインシュレータと、アースグランド電位の導電性の先端シールキャップと高電位の導電性の後端シールキャップとを有する。先端シールキャップ、ソースガスの輸送経路と連結するのに適合する開口を有し、後端シールキャップは、供給先のガスの輸送経路と連結するのに適合する開口を有する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１６−５０２０３５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記絶縁装置では、先端シールキャップ及び後端シールキャップのそれぞれは、Ｏリング等からなる外側シール部材、中央シール部材、及び内側シール部材による３重シール構造を形成している。また、先端シールキャップ及び後端シールキャップのそれぞれには、ガス漏れを検出するトランスデューサが設けられる。
しかし、ガス漏れを検知した場合、毒性のあるガスは、すでに外部に漏れた可能性があり、安全の点から問題である。また、Ｏリング等のシール部材によるガス漏れ防止のためにシール部材を保守交換する場合、シール部材間に残存する毒性のあるガスを大気に放出しないように事前に捕集する必要があり、保守交換は煩雑な作業になる。
【０００７】
そこで、本発明は、従来の問題を解決するために、シール部材のシール特性が劣化した場合でもガスが大気に漏れることを抑制することができるガス供給用電気絶縁装置及びこのガス供給用電気絶縁装置を用いたプラズマ処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一態様は、低電位環境から高電位環境へガスを供給するときのガス配管に設けられるガス供給用電気絶縁装置である。当該ガス供給用電気絶縁装置は、
ガスの流路となる貫通孔が設けられた、絶縁材からなる絶縁本体部と、
前記貫通孔の内周面に設けられガス流路壁面となる管内壁面を有する、絶縁材からなる管と、
前記貫通孔の開口が設けられる前記絶縁本体部の第１の端面の側に固定され、一方の端が前記貫通孔と接続し、他方の端が低電位環境から延びる低電位ガス配管と接続する第１接続孔が設けられた第１金属板と、
前記貫通孔の開口が設けられる前記絶縁本体部の第２の端面の側に固定され、一方の端が前記貫通孔と接続し、他方の端が高電位環境から延びる高電位ガス配管と接続する第２接続孔が設けられた第２金属板と、
前記第１金属板と前記絶縁本体部との間にあり、前記第１接続孔の開口と前記貫通孔の開口との間の第１間隙、及び、前記第２金属板と前記絶縁本体部との間にあり、前記第２接続孔の開口と前記貫通孔の開口との間の第２間隙それぞれの周りを囲むように設けられた内側シール部材と、前記内側シール部材の外側に前記内側シール部材を囲むように設けられた外側シール部材を含む複数のリング状シール部材と、を有しする。
前記内側シール部材と前記外側シール部材との間の密閉空間は、前記貫通孔内の圧力よりも高い圧力で加圧された密閉加圧空間となっている。
【０００９】
前記外側シール部材は、第１外側シール部材と、前記第１外側シール部材の外側を囲むように設けられた第２外側シール部材と、を含み、
前記第２外側シール部材と前記第１外側シール部材との間の密閉空間は、前記第１外側シール部材と前記内側シール部材との間の密閉空間の圧力よりも高い圧力で加圧された密閉加圧空間となっている、ことが好ましい。
【００１０】
前記第１金属板及び前記第２金属板のそれぞれには、前記密閉空間の側の面から前記密閉空間の側と反対側の面に延びる加圧用ガス供給孔が設けられ、前記加圧用ガス供給孔は、加圧用ガスを供給する加圧用ガス管と接続されている、ことが好ましい。
【００１１】
前記加圧用ガス管には、加圧用ガス源から前記加圧用ガスの供給を受け、加圧後に遮断する遮断弁が設けられる、ことが好ましい。
【００１２】
前記加圧用ガス管が前記加圧用ガス供給孔と接続する端の位置から前記遮断弁による遮断位置までの、前記加圧用ガス管の管容積は、３〜３０ｃｃであり、
前記加圧用ガス管には、前記密閉空間の圧力を測定する圧力計が設けられる、ことが好ましい。
【００１３】
前記密閉空間は、窒素ガスあるいはアルゴンガスで加圧されている、ことが好ましい。
【００１４】
前記圧力計の測定結果を時系列で記録保持する記録部と、
前記時系列の測定結果のデータの前記時系列の変化から、前記内側シール部材または前記外側シール部材の劣化を判定する判定部と、を備える制御装置を備える、ことが好ましい。
【００１５】
本発明の他の一態様は、ガスに高電位を与えてプラズマを形成して基板の処理を行うプラズマ処理装置である。当該プラズマ処理装置は、
前記ガス供給用電気絶縁装置を含むガス輸送装置と、
高電位を用いて輸送したガスからプラズマを生成するプラズマ生成装置と、
生成したプラズマを用いて基板に処理を施す処理装置と、を備える。
【発明の効果】
【００１６】
上述のガス供給用電気絶縁装置及び上述のプラズマ処理装置によれば、シール部材のシール特性が劣化した場合でもガスが大気に漏れることを抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】一実施形態のガス供給用電気絶縁装置を用いたガス輸送システムを説明する図である。
【図２】一実施形態のガス供給用電気絶縁装置を詳細に説明する断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、一実施形態のガス供給用電気絶縁装置を用いたガス輸送システムを、図面を参照しながら説明する。図１は、ガス輸送システム１０を説明する図である。
【００１９】
ガス輸送システム１０は、ガスボトル収容装置１２と、ガス供給装置１４と、を備える。ガス供給装置１４から送り出されるガスは、プラズマ処理装置であるイオン源１６に供給される。
【００２０】
ガスボトル収容装置１２は、所望のガス種を貯蔵するガスボトル１２ａを備え、ガスボトル１２ａから金属製の主ガス管１２ｂがガス供給装置１４に延びている。主ガス管１２ｂのガスボトル１２ａの側から順番に、パージガス導入管１２ｅと合流する合流部１２ｄと、遮断弁１２ｃと、排気管１２ｇと分離する分離部１２ｈと、が設けられる。パージガス導入管１２ｅには、遮断弁１２ｆが設けられている。パージガス導入管１２ｅは、図示されないパージガス源に接続されている。パージガスは、例えば、窒素ガスあるいはアルゴンガスが用いられる。排気管１２ｇには、遮断弁１２ｉ及び排気ポンプ１２ｊが設けられている。排気管１２ｇを通して、ガス管１２ｂ内のガスを外部に排気することができる。
主ガス管１２ｂは、ガスボトル１２ａからのガスが流れる内部管を備え、この内部管の周りが窒素ガスで満たされた２重管構造になっていてもよい。
【００２１】
ガスボトル収容装置１２とガス供給装置１４との間の主ガス管１２ｂは、主ガス管１２ｂの周りを外部管が囲う構造となっており、ガスボトル１２ａ内のガスが毒性の高いガスである場合でも、外部への漏れを防ぎ、安全性が確保されるように構成されている。
【００２２】
ガス供給装置１４は、コントロールボックス１４ａと、ガス供給用電気絶縁装置１４ｂと、を備える。
コントロールボックス１４ａは、主ガス管１２ｂ上に、制御弁１４ｃと、流量計１４ｄとが設けられる。また、コントロールボックス１４ａには、制御装置１４ｅが設けられている。
図示されないが、制御弁１４ｃ以外に遮断弁が設けられ、さらに、主ガス管１２ｂにおいてガス漏れの有無が図示されない圧力計の計測結果によって判断される。ガス漏れがあると判断されると、遮断弁が閉じるように制御装置１４ｅは遮断弁を制御するように構成されてもよい。
制御装置１４ｅは、後述するように、ガス供給用電気絶縁装置１４ｂの所定の隙間の圧力の計測結果が断続的に送られ、圧力の監視が行われる。
【００２３】
ガス供給用電気絶縁装置１４ｂは、ガスボトル収容装置１２のような低電位環境からイオン源１６のような高電位環境へガスを供給するときのガス管に設けられる電気絶縁装置である。
以下、ガス供給用電気絶縁装置１４ｂは、ガス供給用電気絶縁装置４０として説明する。
【００２４】
図２は、ガス供給用電気絶縁装置４０を詳細に説明する断面図である。
ガス供給用電気絶縁装置４０は、絶縁本体部４２と、管４４と、第１金属板４６と、第２金属板４８と、複数のリング状シール部材（以降、シール部材という）を有する。シール部材は、図２では、内側シール部材５０ａ、外側シール部材５０ｂ，５０ｃが示されている。
絶縁本体部４２は絶縁材からなり、絶縁本体部４２にはガスの流路となる貫通孔５２が設けられている。絶縁材として、例えばセラミックス、樹脂（例えば、エポキシ樹脂）が挙げられる。
貫通孔５２の内周面には、ガス流路壁面となる管内壁面を有する、絶縁材からなる管４４が設けられている。
絶縁本体部４２及び管４４における絶縁材は、例えば、常温における体積抵抗率は、１０７[Ω・ｃｍ]以上と極めて高い。
管４４の材料は、特に制限されないが、例えばガラス、セラミックス、石英、あるいは樹脂が用いられる。絶縁本体部４２及び管４４における絶縁材は、同じ材料でもよいし、異なる材料でもよい。管４４は、図２に示されるように、絶縁本体部４２の両側の端面で終端している。
第１金属板４６は、貫通孔５２の開口が設けられる絶縁本体部４２の第１の端面（図２に示す上側の端面）の側に設けられる。第１金属板４６には、第１接続孔４７が設けられている。第１接続孔４７の一方の端は貫通孔５２と接続し、他方の端は低電位環境から延びる主ガス管１２ｂ（低電位ガス配管）と接続している。
第２金属板４８は、貫通孔５２の開口が設けられる絶縁本体部４２の第２の端面（図２に示す下側の端面）に設けられる。第２金属板４８には、第２接続孔４９が設けられている。第２接続孔４９の一方の端は貫通孔５２と接続し、他方の端は高電位環境から延びる高電位ガス配管１６ａと接続している。
第１金属板４６及び第２金属板４８は、絶縁本体部４２に対してボルトやナット等の固定治具により機械的に固定される。
【００２５】
シール部材は、第１金属板４６と絶縁本体部４２との間、及び、第２金属板４８と絶縁本体部４２との間のそれぞれに設けられている。
シール部材は、第１金属板４６と絶縁本体部４２との間にあり、第１接続孔４７の開口と貫通孔５２の開口との間の第１間隙、及び、第２金属板と絶縁本体部４２との間にあり、第２接続孔４９の開口と貫通孔５２の開口との間の第２間隙それぞれの周りを囲むように設けられた内側シール部材５０ａと、内側シール部材の外側に内側シール部材５０ａを囲むように設けられた外側シール部材５０ｂ，５０ｃとを含む。
外側シール部材５０ｃ（第２外側シール部材）は、外側シール部材５０ｂ（第１外側シール部材）の外側に外側シール部材５０ｂを囲むように設けられている。
【００２６】
ここで、内側シール部材５０ａと外側シール部材５０ｂとの間の密閉空間４６ａ，４８ａ、外側シール部材５０ｂと外側シール部材５０ｃとの間の密閉空間４６ｂ，４８ｂは、貫通孔５２内の圧力よりも高い密閉加圧空間になっている。
また、密閉空間４６ｂ，４８ｂは、密閉空間４６ａ，４８ａの圧力よりも高くなっている。
【００２７】
このように密閉空間４６ａ，４８ａは、貫通孔５２内の圧力よりも高い加圧空間になっているので、内側シール部材５０ａのシール特性が劣化し、主ガス管１２ｂ及び貫通孔５２を流れるガスが、ホスフィン、ジボラン、三フッ化ホウ素のような毒性のあるガスであっても、密閉空間４６ａ，４８ａに流れ込むことはなく、外部、さらに大気に流出することはなく、密閉空間４６ａ，４８ａ内の気体が、圧力差によって主ガス管１２ｂ及び貫通孔５２に流入するだけであるので、毒性のあるガスが主ガス管１２ｂ及び貫通孔５２の外部、さらには大気に流出することは抑制される。
同様に、密閉空間４６ｂ，４８ｂは、貫通孔５２内の圧力よりも高い加圧空間になっており、さらに、密閉空間４６ａ，４８ａ内の圧力より高くなっているので、シール部材５０ａ，５０ｂのシール特性が劣化し、主ガス管１２ｂ及び貫通孔５２を流れるガスが毒性のあるガスであっても、密閉空間４６ｂ，４８ｂ内の気体が圧力差により密閉空間４６ａ，４８ａに流入するだけであるので、さらに、主ガス管１２ｂ及び貫通孔５２に流入するだけであるので、毒性のあるガスが主ガス管１２ｂ及び貫通孔５２の外部、さらには大気に流出することは抑制される。
主ガス管１２ｂ及び貫通孔５２に流入した気体は、イオン源１６に供給され使用されるので、大気に流出することは抑制される。
【００２８】
なお、図２に示す実施形態では、外側シール部材５０ｂ（第１外側シール部材）の外側に外側シール部材５０ｃ（第２外側シール部材）が設けられている。外側シール部材５０ｃは設けられることが好ましいが、場合によっては、外側シール部材５０ｃは設けられなくてもよい。少なくとも密閉空間４６ａ，４８ａが、貫通孔５２内の圧力よりも高い加圧空間になっていればよい。
密閉空間４６ａ，４６ｂ，４８ａ，４８ｂを真空あるいは減圧空間にして、毒性のあるガスの漏れを密閉空間４６ａ，４６ｂ，４８ａ，４８ｂ内で検出する場合に比べて毒性のあるガスを大気へ流出することを抑制することができる。
すなわち、ガス供給用電気絶縁装置４０によれば、低電位環境と高電位環境との間の電気絶縁を実現しつつ、毒性のあるガスを大気へ流出することを抑制することができる。
【００２９】
一実施形態によれば、図２に示すように、第１金属板４６及び第２金属板４８のそれぞれには、密閉空間４６ａ，４６ｂ，４８ａ，４８ｂの側の面から密閉空間４６ａ，４６ｂ，４８ａ，４８ｂの側と反対側の面に延びる加圧用ガス供給孔５２ａ，５２ｂが設けられ、加圧用ガス供給孔５２ａ，５２ｂは、加圧用ガスを供給する加圧用ガス管５４ａ，５４ｂと接続されていることが好ましい。加圧用ガスを供給することで、目標とする加圧圧力に設定することができる。主ガス管１２ｂ及び貫通孔５２内の圧力が、０．２〜０．２５ＭＰａである場合、密閉空間４６ａ，４８ａの圧力は、例えば、０．３〜０．５ＭＰａであり、密閉空間４６ｂ，４８ｂの圧力は、例えば、０．５〜０．７ＭＰａとすることが好ましい。
【００３０】
一実施形態によれば、図２に示すように、加圧用ガス管５４ａ，５４ｂには、加圧用ガス源５６から加圧用ガスの供給を受け、加圧後に遮断する遮断弁５８ａ，５８ｂが設けられていることが好ましい。加圧用ガス源５６から延びるガス供給管が、遮断弁５８ａ，５８ｂのそれぞれに接続され、遮断弁５８ａ，５８ｂのそれぞれが開けられて、密閉空間４６ａ，４６ｂ，４８ａ，４８ｂ内の圧力が目標圧力となるように加圧用ガスを密閉空間４６ａ，４６ｂ，４８ａ，４８ｂ内に供給することができる。
【００３１】
一実施形態によれば、図２に示すように、加圧用ガス管５４ａ，５４ｂには、加圧空間の圧力を測定する圧力計Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４が設けられる。この場合、加圧用ガス管５４ａ，５４ｂが加圧用ガス供給孔５２ａ，５２ｂと接続する端の位置から遮断弁５８ａ，５８ｂによる遮断位置までの、加圧用ガス管５４ａ，５４ｂの管容積は、３〜３０ｃｃであることが好ましい。密閉空間４６ａ，４６ｂ，４８ａ，４８ｂの体積に対する、加圧用ガス管５４ａ，５４ｂの管容積の比率が大きくなると、内側シール部材５０ａ、外側シール部材５０ｂ，５０ｃのシール特性の劣化による密閉空間４６ａ，４６ｂ，４８ａ，４８ｂ内の圧力の低下を圧力計Ｐ１〜Ｐ４により検出することが困難になる。この点から、加圧用ガス管５４ａ，５４ｂの管容積は、３〜３０ｃｃであることが好ましい。
【００３２】
一実施形態によれば、密閉空間４６ａ，４６ｂ，４８ａ，４８ｂは、加圧のために窒素ガスあるいはアルゴンガスで加圧されている、ことが好ましい。窒素ガスあるいはアルゴンガスは、イオン源１６においてパージガスとして用いられるものであり、イオンビームを形成する場合、密閉空間４６ａ，４６ｂ，４８ａ，４８ｂ内の気体がイオン源１６内に流入しても、イオンビームの生成に与える影響は小さい。
【００３３】
一実施形態によれば、図１に示す制御装置１４ｅは、圧力計Ｐ１〜Ｐ４の計測結果を時系列で記録保持する記録部１４ｅ１と、時系列の測定結果のデータの時系列の変化から、内側シール部材５０ａ、外側シール部材５０ｂ，５０ｃの劣化を判定する判定部１４ｅ２と、を備えることが好ましい。これにより、内側シール部材５０ａ、外側シール部材５０ｂ，５０ｃの劣化を適切に判定することができる。例えば、密閉空間４６ａ，４８ａの圧力を、例えば０．４ＭＰａにし、密閉空間４６ｂ，４８ｂの圧力を、例えば０．６ＭＰａにした場合、許容下限閾値をそれぞれ、０．３ＭＰａ，０．５ＭＰａにし、測定結果がこの許容下限閾値より低下した場合、内側シール部材５０ａ、あるいは外側シール部材５０ｂ，５０ｃのシール特性が劣化したと判定する。あるいは、密閉空間４６ａ，４６ｂ，４８ａ，４８ｂからの自然の漏れを考慮して、密閉空間４６ａ，４８ａの圧力の計測を定期的に行い、圧力の低下速度が所定の閾値を越えたとき、内側シール部材５０ａ、外側シール部材５０ｂ，５０ｃのシール特性が劣化したと判断する。このとき、遮断弁１４ｃを閉じてガスのガスボトル１２ａからの供給を停止するように制御装置１４ｅは制御する。
このように、内側シール部材５０ａ、外側シール部材５０ｂ，５０ｃのシール特性の劣化を、圧力計Ｐ１〜Ｐ４により効率よく判定することができる。
【００３４】
このようなガス供給用電気絶縁装置４０を備えるガス輸送システム１０は、ガスを高電位部に輸送してプラズマを形成して基板の処理を行うプラズマ処理装置に好適に適用することができる。プラズマ処理装置は、上記ガス供給用電気絶縁装置４０を含むガス輸送システム１０(ガス輸送装置)と、高電位部に輸送したガスからプラズマを生成するプラズマ生成装置と、生成したプラズマを用いて基板に処理を施す処理装置と、を備える。
このようなプラズマ処理装置として、イオン注入装置が挙げられる。イオン注入装置は、上記プラズマからイオンを取り出してイオンビームを生成した基板にイオンを注入する。
【００３５】
以上、本発明のガス供給用電気絶縁装置及びプラズマ処理装置について詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されず、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々の改良や変更をしてもよいのはもちろんである。
【符号の説明】
【００３６】
１０  ガス輸送システム
１２  ガスボトル収容装置
１２ａ  ガスボトル
１２ｂ  主ガス管
１２ｃ，１２ｆ，１２ｉ，５８ａ，５８ｂ  遮断弁
１２ｄ  合流部
１２ｅ  パージガス導入管
１２ｇ  排気管１２ｇ
１２ｈ  分離部
１２ｊ  排気ポンプ
１４  ガス供給装置
１４ａ  コントロールボックス
１４ｂ  ガス供給用電気絶縁装置
１４ｃ  制御弁
１４ｄ  流量計
１４ｅ  制御装置
１４ｅ１  記録部
１４ｅ２  判定部
１６  イオン源
１６ａ  高電位ガス配管
４０  ガス供給用電気絶縁装置
４２  絶縁本体部
４４  管
４６  第１金属板
４６ａ，４６ｂ，４８ａ，４８ｂ  密閉空間
４７  第１接続孔
４８  第２金属板
４９  第２接続孔
５０ａ  内側シール部材
５０ｂ，５０ｃ  外側シール部材
５２  貫通孔
５２ａ，５２ｂ  加圧用ガス供給孔
５４ａ，５４ｂ  加圧用ガス管
５６  加圧用ガス源
【要約】
【課題】低電位環境から高電位環境へガスを供給するときのガス配管に設けられるガス供給用電気絶縁装置において、シール部材のシール特性が劣化した場合でもガスが大気に漏れることを抑制する。
【解決手段】ガス供給用電気絶縁装置は、ガスの流路となる貫通孔が設けられた絶縁本体部と、前記貫通孔の内周面に設けられた管と、前記貫通孔の開口が設けられる前記絶縁本体部の両側の端面に固定され、一方の端が前記貫通孔と接続し、他方の端が低電位環境あるいは高電位環境から延びるガス管と接続する接続孔が設けられた第１金属板及び第２金属板と、前記第１金属板、前記第２金属板それぞれと前記絶縁本体部との間の間隙それぞれの周りを囲むように設けられたリング状の内側シール部材と、内側シール部材を囲むように設けられたリング状の外側シール部材と、を有する。前記内側シール部材と前記外側シール部材との間の密閉空間の圧力は、前記貫通孔内の圧力よりも高い。
【選択図】図２【図１】
0006801763.tif 000002
【図２】
0006801763.tif 000003