(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性基体と、
前記導電性基体上に設けられた単層型の感光層であって、結着樹脂と、電荷発生材料と、正孔輸送材料と、下記一般式（１）で表される電子輸送材料と、を含み、感光層の外周面の側を測定したときの表面自由エネルギーが２４ｍＮ／ｍ以上３０ｍＮ／ｍ以下であり、
前記感光層の表面粗さＳａが４．５ｎｍ以上６．０ｎｍ以下である感光層と、
を有する電子写真感光体。
【化１】
0006658155.tif 000018
（一般式（１）中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、及びＲ１７は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、又はアラルキル基を示す。Ｒ１８は、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。）
【請求項２】
請求項１に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
【請求項３】
請求項１に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の電子写真方式の画像形成装置においては、帯電、静電潜像形成、現像、転写のプロセスを通じて電子写真感光体の表面上に形成したトナー像を記録媒体に転写させる。
【０００３】
例えば、特許文献１には、「転写工程後に感光体表面に残留したトナーがファーブラシにより除去される電子写真感光体であって、前記電子写真感光体は支持基体上に感光層が形成されており、前記感光層は表面付近に電荷発生剤を含有し、前記電荷発生剤を含有する層の露光波長に対する膜厚１μｍ当たりの吸光度が０．３以上であることを特徴とする電子写真感光体。」が開示されている。
特許文献２には、「導電性基体上に設けられた下引き層上に、少なくとも電荷発生物質を含む電荷発生層および電荷輸送物質を含む電荷輸送層がこの順で積層された積層型感光層、あるいは電荷発生物質および電荷輸送物質を含む単層型感光層が積層された電子写真感光体であって、前記下引き層が金属酸化物微粒子および結着樹脂を含み、該感光体の最表面層が、少なくとも電荷輸送物質、結着樹脂、および、特定の４フッ化エチレン樹脂微粒子を含み、前記最表面層における結着樹脂が、特定の４フッ化エチレン樹脂微粒子を除いた電荷輸送層形成用塗布液を用いて形成した電荷輸送層において、２５〜３５ｍＪ/ｍｍ2の範囲の表面自由エネルギー値を示すことを特徴とする電子写真感光体。」が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−２２８１８３号公報
【特許文献２】特開２０１５−１１４３５０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の課題は、結着樹脂と、電荷発生材料と、正孔輸送材料と、一般式（１）で表される電子輸送材料と、を含む単層型の感光層を有する感光体において、感光層の外周面の側を測定したときの表面自由エネルギーが２４ｍＮ／ｍ未満又は３０ｍＮ／ｍ超えの感光層を有する場合に比べ、画像を形成したときに生じる色点の発生を抑制する電子写真感光体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題は、以下の手段により解決される。即ち、
＜１＞に係る発明は、
導電性基体と、
前記導電性基体上に設けられた単層型の感光層であって、結着樹脂と、電荷発生材料と、正孔輸送材料と、下記一般式（１）で表される電子輸送材料と、を含み、感光層の外周面の側を測定したときの表面自由エネルギーが２４ｍＮ／ｍ以上３０ｍＮ／ｍ以下である感光層と、
を有する電子写真感光体。
【化１】
0006658155.tif 000002
（一般式（１）中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、及びＲ１７は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、又はアラルキル基を示す。Ｒ１８は、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。）
【０００７】
＜２＞に係る発明は、
前記感光層の表面粗さＳａが４．５ｎｍ以上６．０ｎｍ以下である＜１に記載の電子写真感光体。
【０００９】
＜３＞に係る発明は、
＜１＞又は＜２＞に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
【００１０】
＜４＞に係る発明は、
＜１＞又は＜２＞に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
【発明の効果】
【００１１】
＜１＞に係る発明によれば、結着樹脂と、電荷発生材料と、正孔輸送材料と、一般式（１）で表される電子輸送材料と、を含む単層型の感光層を有する感光体において、感光層の外周面の側を測定したときの表面自由エネルギーが２４ｍＮ／ｍ未満又は３０ｍＮ／ｍ超えの感光層を有する場合に比べ、画像を形成したときに生じる色点の発生を抑制する電子写真感光体が提供される。
【００１２】
＜２＞に係る発明によれば、前記感光層の表面粗さＳａが４．５ｎｍ未満又は６．０ｎｍ超えの場合に比べ、画像を形成したときに生じる色点の発生を抑制する電子写真感光体が提供される。
【００１４】
＜３＞又は＜４＞に係る発明によれば、結着樹脂と、電荷発生材料と、正孔輸送材料と、一般式（１）で表される電子輸送材料と、を含む単層型の感光層を有する感光体において、感光層の外周面の側を測定したときの表面自由エネルギーが２４ｍＮ／ｍ未満又は３０ｍＮ／ｍ超えの感光層を有する電子写真感光体を適用した場合に比べ、画像を形成したときに生じる色点の発生を抑制するプロセスカートリッジ、又は画像形成装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本実施形態に係る電子写真感光体を示す概略部分断面図である。
【図２】本実施形態における浸漬塗布装置を示す概略構成図である。
【図３】本実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。
【図４】他の実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明の一例である実施形態について詳細に説明する。
【００１７】
＜電子写真感光体＞
本実施形態に係る電子写真感光体は、導電性基体と、導電性基体上に設けられた単層型の感光層であって、結着樹脂、電荷発生材料、正孔輸送材料、及び一般式（１）で表される電子輸送材料を含む感光層と、を有する。
そして、前記感光層は、感光層の外周面の側を測定したときの表面自由エネルギー（以下、「感光層の外周面側の表面自由エネルギー」とも称する）が２４ｍＮ／ｍ以上３０ｍＮ／ｍ以下である。
【００１８】
従来、電子写真感光体（以下、「感光体」とも称する）としては、製造コスト及び画質安定性の観点から、単層型の感光層を有する感光体（単層型感光体）が望ましい。単層型感光体は、電荷発生能と、電荷輸送能とを併せ持つ機能一体型の感光層を有するため、積層型感光体ほどの感度が得られにくい。しかし、近年の高画質化の要求に伴い、単層型感光体には更なる高感度化が求められている。
単層型感光体の感度を向上させるため、高い電荷輸送能を持つ、例えば一般式（１）で表される電子輸送材料を用いた感光体が知られている。しかし、上記電子輸送材料を用いた単層型感光体では、高い感度が得られるものの、感光体の帯電時に局所的な電荷の漏れ（以下、「電荷リーク」とも称する）が生じることがあり、この電荷リークに起因して、画像に色点が発生することがある。
電荷リークの発生は、例えば、吸湿性の高い填料（例えば、用紙の填料（炭酸カルシウム、カオリン、シリカ）が感光体表面に付着し、その箇所から電荷が注入されることで引き起こされると考えられている。
この感光体表面への填料の付着性は、感光体の表面自由エネルギーが低いほど抑制される傾向にあるため、填料の付着を抑制する観点から、上記表面自由エネルギーは低いほど望ましい。しかし、感光体の表面自由エネルギーを低くすると、感光体本来の機能である、感光体へのトナーの付着性、及び転写部材へのトナーの転写性（以下、「トナーの付着性及び転写性」とも称する）が低下しやすくなる。
【００１９】
これに対し、本実施形態に係る感光体では、感光層に、結着樹脂と、電荷発生材料と、正孔輸送材料と、一般式（１）で表される電子輸送材料（以下、「特定の電子輸送材料」とも称する）と、を含ませた上で、感光層の外周面側の表面自由エネルギーを２４ｍＮ／ｍ以上３０ｍＮ／ｍ以下の範囲まで低減する。これにより、感光体表面（本実施形態では感光層）に填料が付着しにくくなる。また、感光体本来の機能も確保される。
従って、本実施形態に係る感光体によれば、感光層への填料の付着が抑制されるため、上記填料の付着に起因して生じる局所的な電荷リークの発生が抑制される。この結果、画像を形成したときに生じる色点の発生が抑制されることとなる。
【００２０】
また、感光層への填料の付着は、高湿環境下（例えば８０％ＲＨ）で顕著に生じやすい。しかし、本実施形態に係る感光体によれば、高湿環境下においても、感光層に填料が付着しにくくなるため、上記填料の付着に起因して生じる局所的な電荷リークの発生が抑制され、画像を形成したときに生じる色点の発生が抑制される。
【００２１】
なお、感光層に一般式（１）で表される電子輸送材料（特定の電子輸送材料）を含ませた単層型感光体では、通常、感光層の外周面側の表面自由エネルギーを２４ｍＮ／ｍ以上３０ｍＮ／ｍ以下まで低減すると、感光体本来の機能であるトナーの付着性、及び転写性が確保されにくくなるが、本実施形態の感光体によれば、その感光体本来の機能も確保される。
この理由は、定かではないが、以下に示す理由によるものと考えられる。
本実施形態では、感光層の外周面側の表面自由エネルギーの低減化を実現するため、感光層の表面側（外周面側）において、電荷発生材料、正孔輸送材料、及び特定の電子輸送材料を適度に偏在させ、又は凝集させるように感光層を作製している。つまり、この感光層の表面側に偏在又は凝集して存在する材料（電荷発生材料、正孔輸送材料、及び特定の電子輸送材料）が上記表面自由エネルギーの低減化に寄与すると共に、感光体本来の機能の確保にも寄与していると考えられる。
【００２２】
−感光層の表面自由エネルギー−
本実施形態に係る感光体において、感光層の外周面側の表面自由エネルギーは、上述の通り、２４ｍＮ／ｍ以上３０ｍＮ／ｍ以下であるが、画像を形成したときに生じる色点の発生を抑制する観点から、好ましくは２４ｍＮ／ｍ以上２８ｍＮ／ｍ以下、より好ましくは２４ｍＮ／ｍ以上２５ｍＮ／ｍ以下である。
【００２４】
感光層の外周面の側の表面自由エネルギーは以下の方法により測定される。
まず、測定対象となる感光体から感光層を剥がし取り、小片を切り出して測定用試料を準備する。次に、温度２５℃、湿度５０％ＲＨ環境下にて、各成分の表面自由エネルギーが既知である試薬（純水、ヨウ化メチレン、α−ブロモナフタレン）を使用し、ポータブル接触角計ＰＣＡ−１型（協和界面（株）製）を使用して、上記各試薬の「感光層の外周面の側での接触角」を測定し、同社製表面自由エネルギー解析ソフトＦＡＭＡＳにて、感光層の外周面の側の表面自由エネルギーを算出する。
【００２５】
−感光層の表面粗さＳａ−
本実施形態に係る感光体において、感光層の表面粗さＳａは、画像を形成したときに生じる色点の発生を抑制する観点から、好ましくは４．５ｎｍ以上６．０ｎｍ以下、より好ましくは５．０ｎｍ以上６．０ｎｍ以下、更に好ましくは５.５ｎｍ以上６．０ｎｍ以下である。
ここで、本実施形態における感光層の表面粗さＳａとは、三次元表面性状国際規格であるＩＳＯ２５１７８にて規格化された表面粗さの指標である。
【００２６】
表面粗さＳａを上記範囲とすることにより、感光層の表面側において、電荷発生材料、正孔輸送材料、及び特定の電子輸送材料が適度に偏在又は凝集して存在しやすくなるため、感光層の外周面側の表面自由エネルギーが上記範囲を満たしやすくなる。
これにより、感光層に填料がより付着しにくくなり、上記填料の付着に起因して生じる局所的な電荷リークの発生がより抑制されやすくなる。この結果、画像を形成したときに生じる色点の発生がより抑制されやすくなる。
また、表面粗さＳａを上記範囲とすることにより、感光層の表面側における上記材料（電荷発生材料、正孔輸送材料、及び特定の電子輸送材料）の適度な偏在又は凝集状態により、感光体本来の機能も確保されやすくなると考えられる。
なお、感光層の表面粗さＳａを上記範囲に制御する方法については後述する。
【００２７】
感光層の表面粗さＳａは以下の方法により測定される。
まず、測定対象となる感光体から感光層を剥がし取り、小片を切り出して測定用試料を準備する。次に、走査型プローブ顕微鏡（ＳＰＭ）としての走査型プローブ顕微鏡ＡＦＭ−５２００Ｓ（(株)日立ハイテクサイエンス製）を用いて、片持ちバネ（カンチレバー）のたわみ量が一定になるように深針及び試料間距離（Ｚ）を制御しながら、水平（５０μｍ（Ｘ）、５０μｍ（Ｙ））に走査することで感光層の外周面側の表面粗さＳａを測定する。
【００２８】
以下、図面を参照しつつ、本実施形態に係る電子写真感光体を詳細に説明する。
図１は、本実施形態に係る電子写真感光体１０の一部の断面を概略的に示している。
図１に示した電子写真感光体１０は、例えば、導電性基体３を備え、導電性基体３上に、下引層１及び単層型の感光層２がこの順で設けられている。
なお、下引層１は、必要に応じて設けられる層である。即ち、単層型の感光層２は、導電性基体３上に直接設けられていてもよく、下引層１を介して設けられてもよい。
【００２９】
以下、本実施形態に係る電子写真感光体の各層について詳細に説明する。なお、符号は省略して説明する。
【００３０】
（導電性基体）
導電性基体としては、例えば、金属（アルミニウム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等）又は合金（ステンレス鋼等）を含む金属板、金属ドラム、及び金属ベルト等が挙げられる。また、導電性基体としては、例えば、導電性化合物（例えば導電性ポリマー、酸化インジウム等）、金属（例えばアルミニウム、パラジウム、金等）又は合金を塗布、蒸着又はラミネートした紙、樹脂フィルム、ベルト等も挙げられる。ここで、「導電性」とは体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ未満であることをいう。
【００３１】
導電性基体の表面は、電子写真感光体がレーザプリンタに使用される場合、レーザ光を照射する際に生じる干渉縞を抑制する目的で、中心線平均粗さＲａで０．０４μｍ以上０．５μｍ以下に粗面化されていることが好ましい。なお、非干渉光を光源に用いる場合、干渉縞防止の粗面化は、特に必要ないが、導電性基体の表面の凹凸による欠陥の発生を抑制するため、より長寿命化に適する。
【００３２】
粗面化の方法としては、例えば、研磨剤を水に懸濁させて導電性基体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、回転する砥石に導電性基体を圧接し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化処理等が挙げられる。
【００３３】
粗面化の方法としては、導電性基体の表面を粗面化することなく、導電性又は半導電性粉体を樹脂中に分散させて、導電性基体の表面上に層を形成し、その層中に分散させる粒子により粗面化する方法も挙げられる。
【００３４】
陽極酸化による粗面化処理は、金属製（例えばアルミニウム製）の導電性基体を陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することにより導電性基体の表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては、例えば、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、陽極酸化により形成された多孔質陽極酸化膜は、そのままの状態では化学的に活性であり、汚染され易く、環境による抵抗変動も大きい。そこで、多孔質陽極酸化膜に対して、酸化膜の微細孔を加圧水蒸気又は沸騰水中（ニッケル等の金属塩を加えてもよい）で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行うことが好ましい。
【００３５】
陽極酸化膜の膜厚は、例えば、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。この膜厚が上記範囲内にあると、注入に対するバリア性が発揮される傾向があり、また繰り返し使用による残留電位の上昇が抑えられる傾向にある。
【００３６】
導電性基体には、酸性処理液による処理又はベーマイト処理を施してもよい。
酸性処理液による処理は、例えば、以下のようにして実施される。先ず、リン酸、クロム酸及びフッ酸を含む酸性処理液を調製する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸及びフッ酸の配合割合は、例えば、リン酸が１０質量％以上１１質量％以下の範囲、クロム酸が３質量％以上５質量％以下の範囲、フッ酸が０．５質量％以上２質量％以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は１３．５質量％以上１８質量％以下の範囲がよい。処理温度は例えば４２℃以上４８℃以下が好ましい。被膜の膜厚は、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。
【００３７】
ベーマイト処理は、例えば９０℃以上１００℃以下の純水中に５分から６０分間浸漬すること、又は９０℃以上１２０℃以下の加熱水蒸気に５分から６０分間接触させて行う。被膜の膜厚は、０．１μｍ以上５μｍ以下が好ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。
【００３８】
（下引層）
下引層は、例えば、無機粒子と結着樹脂とを含む層である。
【００３９】
無機粒子としては、例えば、粉体抵抗（体積抵抗率）１０２Ωｃｍ以上１０１１Ωｃｍ以下の無機粒子が挙げられる。
これらの中でも、上記抵抗値を有する無機粒子としては、例えば、酸化錫粒子、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子、酸化ジルコニウム粒子等の金属酸化物粒子がよく、特に、酸化亜鉛粒子が好ましい。
【００４０】
無機粒子のＢＥＴ法による比表面積は、例えば、１０ｍ２／ｇ以上がよい。
無機粒子の体積平均粒径は、例えば、５０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下（好ましくは６０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下）がよい。
【００４１】
無機粒子の含有量は、例えば、結着樹脂に対して、１０質量％以上８０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは４０質量％以上８０質量％以下である。
【００４２】
無機粒子は、表面処理が施されていてもよい。無機粒子は、表面処理の異なるもの、又は、粒子径の異なるものを２種以上混合して用いてもよい。
【００４３】
表面処理剤としては、例えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性剤等が挙げられる。特に、シランカップリング剤が好ましく、アミノ基を有するシランカップリング剤がより好ましい。
【００４４】
アミノ基を有するシランカップリング剤としては、例えば、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００４５】
シランカップリング剤は、２種以上混合して使用してもよい。例えば、アミノ基を有するシランカップリング剤と他のシランカップリング剤とを併用してもよい。この他のシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００４６】
表面処理剤による表面処理方法は、公知の方法であればいかなる方法でもよく、乾式法又は湿式法のいずれでもよい。
【００４７】
表面処理剤の処理量は、例えば、無機粒子に対して０．５質量％以上１０質量％以下が好ましい。
【００４８】
ここで、下引層は、無機粒子と共に電子受容性化合物（アクセプター化合物）を含有することが、電気特性の長期安定性、キャリアブロック性が高まる観点からよい。
【００４９】
電子受容性化合物としては、例えば、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物；テトラシアノキノジメタン系化合物；２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物；２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物；キサントン系化合物；チオフェン化合物；３，３’，５，５’テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物；等の電子輸送性物質等が挙げられる。
特に、電子受容性化合物としては、アントラキノン構造を有する化合物が好ましい。アントラキノン構造を有する化合物としては、例えば、ヒドロキシアントラキノン化合物、アミノアントラキノン化合物、アミノヒドロキシアントラキノン化合物等が好ましく、具体的には、例えば、アントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が好ましい。
【００５０】
電子受容性化合物は、下引層中に無機粒子と共に分散して含まれていてもよいし、無機粒子の表面に付着した状態で含まれていてもよい。
【００５１】
電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着させる方法としては、例えば、乾式法、又は、湿式法が挙げられる。
【００５２】
乾式法は、例えば、無機粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接又は有機溶媒に溶解させた電子受容性化合物を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させて、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。電子受容性化合物の滴下又は噴霧するときは、溶剤の沸点以下の温度で行うことがよい。電子受容性化合物を滴下又は噴霧した後、更に１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に制限されない。
【００５３】
湿式法は、例えば、攪拌、超音波、サンドミル、アトライター、ボールミル等により、無機粒子を溶剤中に分散しつつ、電子受容性化合物を添加し、攪拌又は分散した後、溶剤除去して、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。溶剤除去方法は、例えば、ろ過又は蒸留により留去される。溶剤除去後には、更に１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に限定されない。湿式法においては、電子受容性化合物を添加する前に無機粒子の含有水分を除去してもよく、その例として溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法が挙げられる。
【００５４】
なお、電子受容性化合物の付着は、表面処理剤による表面処理を無機粒子に施す前又は後に行ってよく、電子受容性化合物の付着と表面処理剤による表面処理と同時に行ってもよい。
【００５５】
電子受容性化合物の含有量は、例えば、無機粒子に対して０．０１質量％以上２０質量％以下がよく、好ましくは０．０１質量％以上１０質量％以下である。
【００５６】
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の公知の高分子化合物；ジルコニウムキレート化合物；チタニウムキレート化合物；アルミニウムキレート化合物；チタニウムアルコキシド化合物；有機チタニウム化合物；シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂、導電性樹脂（例えばポリアニリン等）等も挙げられる。
【００５７】
これらの中でも、下引層に用いる結着樹脂としては、上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が好適であり、特に、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂；ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂及びポリビニルアセタール樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂と硬化剤との反応により得られる樹脂が好適である。
これら結着樹脂を２種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。
【００５８】
下引層には、電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のために種々の添加剤を含んでいてもよい。
添加剤としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。シランカップリング剤は前述のように無機粒子の表面処理に用いられるが、添加剤として更に下引層に添加してもよい。
【００５９】
添加剤としてのシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００６０】
ジルコニウムキレート化合物としては、例えば、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。
【００６１】
チタニウムキレート化合物としては、例えば、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。
【００６２】
アルミニウムキレート化合物としては、例えば、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。
【００６３】
これらの添加剤は、単独で、又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
【００６４】
下引層は、ビッカース硬度が３５以上であることがよい。
下引層の表面粗さ（十点平均粗さ）は、モアレ像抑制のために、使用される露光用レーザ波長λの１／（４ｎ）（ｎは上層の屈折率）から１／２までに調整されていることがよい。
表面粗さ調整のために下引層中に樹脂粒子等を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等が挙げられる。また、表面粗さ調整のために下引層の表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が挙げられる。
【００６５】
下引層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた下引層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。
【００６６】
下引層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、公知の有機溶剤、例えば、アルコール系溶剤、芳香族炭化水素溶剤、ハロゲン化炭化水素溶剤、ケトン系溶剤、ケトンアルコール系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤等が挙げられる。
これらの溶剤として具体的には、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が挙げられる。
【００６７】
下引層形成用塗布液を調製するときの無機粒子の分散方法としては、例えば、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー等の公知の方法が挙げられる。
【００６８】
下引層形成用塗布液を導電性基体上に塗布する方法としては、例えば、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【００６９】
下引層の膜厚は、例えば、好ましくは１５μｍ以上、より好ましくは２０μｍ以上５０μｍ以下の範囲内に設定される。
【００７０】
（中間層）
図示は省略するが、下引層と感光層との間に中間層をさらに設けてもよい。
中間層は、例えば、樹脂を含む層である。中間層に用いる樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂等の高分子化合物が挙げられる。
中間層は、有機金属化合物を含む層であってもよい。中間層に用いる有機金属化合物としては、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、ケイ素等の金属原子を含有する有機金属化合物等が挙げられる。
これらの中間層に用いる化合物は、単独で又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
【００７１】
これらの中でも、中間層は、ジルコニウム原子又はケイ素原子を含有する有機金属化合物を含む層であることが好ましい。
【００７２】
中間層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた中間層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。
中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
【００７３】
中間層の膜厚は、例えば、好ましくは０．１μｍ以上３μｍ以下の範囲に設定される。なお、中間層を下引層として使用してもよい。
【００７４】
（単層型の感光層）
本実施形態における単層型の感光層は、結着樹脂と、電荷発生材料と、正孔輸送材料と、一般式（１）で表される電子輸送材料（特定の電子輸送材料）と、必要に応じてその他添加剤と、を含む。以下、単層型の感光層に含まれる各成分について詳細に説明する。
【００７５】
−結着樹脂−
結着樹脂としては、特に制限はないが、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等が挙げられる。これらの結着樹脂は、単独又は２種以上混合して用いてもよい。
これらの結着樹脂の中でも、特に、色点の発生を抑制の観点から、ポリカーボネート樹脂が好ましく、色点の発生を抑制と共に感光層の成膜性の観点から、例えば、粘度平均分子量３００００以上８００００以下のポリカーボネート樹脂がより好ましい。
感光層の全固形分に対する結着樹脂の含有量は、３５質量％以上６０質量％以下、望ましくは２０質量％以上３５質量％以下である。
【００７６】
ここで、結着樹脂の粘度平均分子量の測定は、以下の一点測定法が用いられる。
まず、測定対象となる感光体から感光層を剥がし取り、小片を切り出して測定用試料を準備する。次に、測定試料から結着樹脂を抽出する。抽出した結着樹脂１ｇ分をメチレンクロライド１００ｃｍ３に溶解し、２５℃の測定環境下でウベローデ粘度計にて、その比粘度ηｓｐを測定する。そして、ηｓｐ／ｃ＝〔η〕＋０．４５〔η〕２ｃの関係式（ただしｃは濃度（ｇ／ｃｍ３）より極限粘度〔η〕（ｃｍ３／ｇ）を求め、Ｈ．Ｓｃｈｎｅｌｌによって与えられている式、〔η〕＝１．２３×１０−４Ｍｖ０．８３の関係式より粘度平均分子量Ｍｖを求める。
【００７７】
−電荷発生材料−
電荷発生材料としては、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料；ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料；ペリレン顔料；ピロロピロール顔料；フタロシアニン顔料；酸化亜鉛；三方晶系セレン等が挙げられる。
【００７８】
これらの中でも、近赤外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、金属フタロシアニン顔料、又は無金属フタロシアニン顔料を用いることが好ましい。具体的には、例えば、特開平５−２６３００７号公報、特開平５−２７９５９１号公報等に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン；特開平５−９８１８１号公報等に開示されたクロロガリウムフタロシアニン；特開平５−１４０４７２号公報、特開平５−１４０４７３号公報等に開示されたジクロロスズフタロシアニン；特開平４−１８９８７３号公報等に開示されたチタニルフタロシアニンがより好ましい。
【００７９】
一方、近紫外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料；チオインジゴ系顔料；ポルフィラジン化合物；酸化亜鉛；三方晶系セレン；特開２００４−７８１４７号公報、特開２００５−１８１９９２号公報に開示されたビスアゾ顔料等が好ましい。
【００８０】
すなわち電荷発生材料としては、例えば３８０ｎｍ以上５００ｎｍの露光波長の光源を用いる場合には無機顔料が好ましく、７００ｎｍ以下８００ｎｍの露光波長の光源を用いる場合には、金属及び無金属フタロシアニン顔料が好ましい。
【００８１】
ここで、電荷発生材料としては、単層型感光体の高感度化の点から、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料及びクロロガリウムフタロシアニン顔料から選択される少なくとも１種が好ましく、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料がより好ましい。
【００８２】
ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料としては、特に制限はないが、Ｖ型のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料がよい。
特に、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料としては、例えば、６００ｎｍ以上９００ｎｍ以下の波長域での分光吸収スペクトルにおいて、８１０ｎｍ以上８３９ｎｍ以下の範囲に最大ピーク波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料がより優れた分散性が得られる観点から望ましい。電子写真感光体の材料として用いた場合に、優れた分散性と、十分な感度、帯電性及び暗減衰特性とが得られ易くなる。
【００８３】
また、上記の８１０ｎｍ以上８３９ｎｍ以下の範囲に最大ピーク波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、平均粒径が特定の範囲であり、且つ、ＢＥＴ比表面積が特定の範囲であることが望ましい。具体的には、平均粒径が０．２０μｍ以下であることが望ましく、０．０１μｍ以上０．１５μｍ以下であることがより望ましく、一方、ＢＥＴ比表面積が４５ｍ２／ｇ以上であることが望ましく、５０ｍ２／ｇ以上であることがより望ましく、５５ｍ２／ｇ以上１２０ｍ２／ｇ以下であることが特に望ましい。平均粒径は、体積平均粒径（ｄ５０平均粒径）でレーザ回折散乱式粒度分布測定装置（ＬＡ−７００、堀場製作所社製）にて測定した値である。また、ＢＥＴ式比表面積測定器（島津製作所製：フローソープＩＩ２３００）を用い窒素置換法にて測定した値である。
ここで、平均粒径が０．２０μｍより大きい場合、又は比表面積値が４５ｍ２／ｇ未満である場合は、顔料粒子が粗大化しているか、又は顔料粒子の凝集体が形成される傾向があり、分散性や、感度、帯電性及び暗減衰特性といった特性に欠陥が生じやすい傾向にあり、それにより画質欠陥を生じ易くなることがある。
【００８４】
ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の最大粒径（一次粒子径の最大値）は、１．２μｍ以下であることが望ましく、１．０μｍ以下であることがより望ましく、より望ましくは０．３μｍ以下である。かかる最大粒径が上記範囲を超えると、黒点が発生しやすい傾向にある。
【００８５】
ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、感光体が蛍光灯などに暴露されたことに起因する濃度ムラを抑制する観点から、平均粒径が０．２μｍ以下、最大粒径が１．２μｍ以下であり、且つ、比表面積値が４５ｍ２／ｇ以上であることが望ましい。
【００８６】
ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、ＣｕＫα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．３゜、１６．０゜、２４．９゜、２８．０゜に回折ピークを有するＶ型であることが望ましい。
【００８７】
一方、クロロガリウムフタロシアニン顔料としては、例えば、電子写真感光体材料として優れた感度が得られる、ブラッグ角度（２θ±０．２°）７．４°、１６．６°、２５．５°及び２８．３°に回折ピークを有するものであることが望ましい。
なお、クロロガリウムフタロシアニン顔料の好適な分光吸収スペクトルの最大ピーク波長、平均粒径、最大粒径、及び比表面積値は、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料と同様である。
【００８８】
感光層の全固形分に対する電荷発生材料の含有量は、１質量％以上５質量％以下がよく、好ましくは１．２質量％以上４．５質量％以下である。
【００８９】
−正孔輸送材料−
正孔輸送材料としては、特に制限はないが、例えば、２，５−ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール等のオキサジアゾール誘導体；１，３，５−トリフェニル−ピラゾリン、１−［ピリジル−（２）］−３−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）−５−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）ピラゾリン等のピラゾリン誘導体；トリフェニルアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，４−ジメチルフェニル）ビフェニル−４−アミン、トリ（ｐ−メチルフェニル）アミニル−４−アミン、ジベンジルアニリン等の芳香族第３級アミノ化合物；Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ′−ジフェニルベンジジン等の芳香族第３級ジアミノ化合物、３−（４′−ジメチルアミノフェニル）−５，６−ジ−（４′−メトキシフェニル）−１，２，４−トリアジン等の１，２，４−トリアジン誘導体；４−ジエチルアミノベンズアルデヒド−１，１−ジフェニルヒドラゾン等のヒドラゾン誘導体；２−フェニル−４−スチリル−キナゾリン等のキナゾリン誘導体；６−ヒドロキシ−２，３−ジ（ｐ−メトキシフェニル）ベンゾフラン等のベンゾフラン誘導体；ｐ−（２，２−ジフェニルビニル）−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアニリン等のα−スチルベン誘導体；エナミン誘導体；Ｎ−エチルカルバゾール等のカルバゾール誘導体；ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール及びその誘導体等；上記した化合物で構成される基を主鎖又は側鎖に有する重合体；などが挙げられる。これらの正孔輸送材料は、１種又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００９０】
これらの中でも、電荷移動度の観点から、芳香族第３級アミノ化合物がよく、中でも、下記一般式（ＨＴ１）で示されるトリアリールアミン系正孔輸送材料、及び下記一般式（ＨＴ２）で示されるブタジエン系正孔輸送材料が好ましい。また、トリアリールアミン系正孔輸送材料としては、下記一般式（ＨＴ１ａ）で示されるベンジジン系正孔輸送材料を用いてもよい。
【００９１】
トリアリールアミン系正孔輸送材料（ＨＴ１）について説明する。
トリアリールアミン系正孔輸送材料（ＨＴ１）は、下記一般式（ＨＴ１）で示される正孔輸送材料である。
【００９２】
【化２】
0006658155.tif 000003
【００９３】
一般式（ＨＴ１）中、ＡｒＴ１、ＡｒＴ２、及びＡｒＴ３は、各々独立に、アリール基、又は−Ｃ６Ｈ４−Ｃ（ＲＴ４）＝Ｃ（ＲＴ５）（ＲＴ６）を示す。ＲＴ４、ＲＴ５、及びＲＴ６は、各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を示す。ＲＴ５及びＲＴ６は、結合して炭化水素環構造を形成してもよい。
【００９４】
一般式（ＨＴ１）において、ＡｒＴ１、ＡｒＴ２、及びＡｒＴ３が表すアリール基としては、炭素数６以上１５以下（好ましくは６以上９以下、より好ましくは６以上８以下）のアリール基が挙げられる。
アリール基として具体的には、フェニル基、ナフチル基、フルオレン基などが挙げられる。
これらの中でも、アリール基としては、フェニル基が好ましい。
【００９５】
一般式（ＨＴ１）において、ＲＴ４、ＲＴ５、及びＲＴ６が表すアルキル基としては、後述する一般式（ＨＴ１ａ）において、ＲＣ２１、ＲＣ２２、及びＲＣ２３が表すアルキル基の例と同様であり、好ましい範囲も同様である。
【００９６】
一般式（ＨＴ１）において、ＲＴ４、ＲＴ５、及びＲＴ６が表すアリール基としては、ＡｒＴ１、ＡｒＴ２、及びＡｒＴ３が表すアリール基の例と同様であり、好ましい範囲も同様である。
【００９７】
なお、一般式（ＨＴ１）において、ＡｒＴ１、ＡｒＴ２、及びＡｒＴ３、並びに、ＲＴ４、ＲＴ５、及びＲＴ６が表す上記各置換基は、さらに置換基を有する基も含む。この置換基としては、例えばハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数６以上１０以下アリール基などが挙げられる。また、上記各置換基の置換基としては、炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基も挙げられる。
【００９８】
トリアリールアミン系正孔輸送材料（ＨＴ１）は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００９９】
ここで、電荷移動度の観点から、一般式（ＨＴ１）で示されるトリアリールアミン系正孔輸送材料のうち、特に、「−Ｃ６Ｈ４−Ｃ（ＲＴ４）＝Ｃ（ＲＴ５）（ＲＴ６）」を有するトリアリールアミン系正孔輸送材料が好ましい。中でも、後述するトリアリールアミン系正孔輸送材料（ＨＴ１）の具体例（ＨＴ１−４）で示されるトリアリールアミン系正孔輸送材料が好ましい。
【０１００】
ベンジジン系正孔輸送材料（ＨＴ１ａ）について説明する。
ベンジジン系正孔輸送材料（ＨＴ１ａ）は、下記一般式（ＨＴ１ａ）で示される正孔輸送材料である。
【０１０１】
【化３】
0006658155.tif 000004
【０１０２】
一般式（ＨＴ１ａ）中、ＲＣ２１、ＲＣ２２、及びＲＣ２３は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上１０以下のアルキル基、炭素数１以上１０以下のアルコキシ基、又は、炭素数６以上１０以下のアリール基を表す。
【０１０３】
一般式（ＨＴ１ａ）において、ＲＣ２１、ＲＣ２２、及びＲＣ２３が表すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。これらの中でも、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子が好ましく、塩素原子がより好ましい。
【０１０４】
一般式（ＨＴ１ａ）において、ＲＣ２１、ＲＣ２２、及びＲＣ２３が表すアルキル基としては、炭素数１以上１０以下（好ましくは１以上６以下、より好ましくは１以上４以下）の直鎖状又は分岐状のアルキル基が挙げられる。
直鎖状のアルキル基として具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等が挙げられる。
分岐状のアルキル基として具体的には、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、イソヘキシル基、ｓｅｃ−ヘキシル基、ｔｅｒｔ−ヘキシル基、イソヘプチル基、ｓｅｃ−ヘプチル基、ｔｅｒｔ−ヘプチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、イソノニル基、ｓｅｃ−ノニル基、ｔｅｒｔ−ノニル基、イソデシル基、ｓｅｃ−デシル基、ｔｅｒｔ−デシル基等が挙げられる。
これらの中でも、アルキル基としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基等の低級アルキル基が好ましい。
【０１０５】
一般式（ＨＴ１ａ）において、ＲＣ２１、ＲＣ２２、及びＲＣ２３が表すアルコキシ基としては、炭素数１以上１０以下（好ましくは１以上６以下、より好ましくは１以上４以下）の直鎖状又は分岐状のアルコキシ基が挙げられる。
直鎖状のアルコキシ基として具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基等が挙げられる。
分岐状のアルコキシ基として具体的には、イソプロポキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、イソペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ペンチルオキシ基、イソヘキシルオキシ基、ｓｅｃ−ヘキシルオキシ基、ｔｅｒｔ−ヘキシルオキシ基、イソヘプチルオキシ基、ｓｅｃ−ヘプチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ヘプチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、ｓｅｃ−オクチルオキシ基、ｔｅｒｔ−オクチルオキシ基、イソノニルオキシ基、ｓｅｃ−ノニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ノニルオキシ基、イソデシルオキシ基、ｓｅｃ−デシルオキシ基、ｔｅｒｔ−デシルオキシ基等が挙げられる。
これらの中でも、アルコキシ基としては、メトキシ基が好ましい。
【０１０６】
一般式（ＨＴ１ａ）において、ＲＣ２１、ＲＣ２２、及びＲＣ２３が表すアリール基としては、炭素数６以上１０以下（好ましくは６以上９以下、より好ましくは６以上８以下）のアリール基が挙げられる。
アリール基として具体的には、フェニル基、ナフチル基などが挙げられる。
これらの中でも、アリール基としては、フェニル基が好ましい。
【０１０７】
なお、一般式（ＨＴ１ａ）において、ＲＣ２１、ＲＣ２２、及びＲＣ２３が表す上記各置換基は、さらに置換基を有する基も含む。この置換基としては、上記例示した原子および基（例えばハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基など）が挙げられる。
【０１０８】
ベンジジン系正孔輸送材料（ＨＴ１ａ）は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１０９】
以下に、トリアリールアミン系正孔輸送材料（ＨＴ１）、及びベンジジン系正孔輸送材料（ＨＴ１ａ）の具体例（ＨＴ１−１）〜（ＨＴ１−７）を示すが、これに限定されるわけではない。
【０１１０】
【化４】
0006658155.tif 000005
【０１１１】
ブタジエン系正孔輸送材料（ＨＴ２）について説明する。
ブタジエン系正孔輸送材料（ＨＴ２）は、下記一般式（ＨＴ２）で示される正孔輸送材料である。
【０１１２】
【化５】
0006658155.tif 000006
【０１１３】
一般式（ＨＴ２）中、ＲＣ１１、ＲＣ１２、ＲＣ１３、ＲＣ１４、ＲＣ１５、及びＲＣ１６は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上２０以下のアルキル基、炭素数１以上２０以下のアルコキシ基、又は、炭素数６以上３０以下のアリール基を表し、隣接する２つの置換基同士が結合して炭化水素環構造を形成してもよい。
ｎ及びｍは、各々独立に、０、１又は２を表す。
【０１１４】
一般式（ＨＴ２）において、ＲＣ１１、ＲＣ１２、ＲＣ１３、ＲＣ１４、ＲＣ１５、及びＲＣ１６が表すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。これらの中でも、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子が好ましく、塩素原子がより好ましい。
【０１１５】
一般式（ＨＴ２）において、ＲＣ１１、ＲＣ１２、ＲＣ１３、ＲＣ１４、ＲＣ１５、及びＲＣ１６が表すアルキル基としては、炭素数１以上２０以下（好ましくは１以上６以下、より好ましくは１以上４以下）の直鎖状又は分岐状のアルキル基が挙げられる。
直鎖状のアルキル基として具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、ｎ−オクタデシル基、ｎ−ノナデシル基、ｎ−イコシル基等が挙げられる。
分岐状のアルキル基として具体的には、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、イソヘキシル基、ｓｅｃ−ヘキシル基、ｔｅｒｔ−ヘキシル基、イソヘプチル基、ｓｅｃ−ヘプチル基、ｔｅｒｔ−ヘプチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、イソノニル基、ｓｅｃ−ノニル基、ｔｅｒｔ−ノニル基、イソデシル基、ｓｅｃ−デシル基、ｔｅｒｔ−デシル基、イソウンデシル基、ｓｅｃ−ウンデシル基、ｔｅｒｔ−ウンデシル基、ネオウンデシル基、イソドデシル基、ｓｅｃ−ドデシル基、ｔｅｒｔ−ドデシル基、ネオドデシル基、イソトリデシル基、ｓｅｃ−トリデシル基、ｔｅｒｔ−トリデシル基、ネオトリデシル基、イソテトラデシル基、ｓｅｃ−テトラデシル基、ｔｅｒｔ−テトラデシル基、ネオテトラデシル基、１−イソブチル−４−エチルオクチル基、イソペンタデシル基、ｓｅｃ−ペンタデシル基、ｔｅｒｔ−ペンタデシル基、ネオペンタデシル基、イソヘキサデシル基、ｓｅｃ−ヘキサデシル基、ｔｅｒｔ−ヘキサデシル基、ネオヘキサデシル基、１−メチルペンタデシル基、イソヘプタデシル基、ｓｅｃ−ヘプタデシル基、ｔｅｒｔ−ヘプタデシル基、ネオヘプタデシル基、イソオクタデシル基、ｓｅｃ−オクタデシル基、ｔｅｒｔ−オクタデシル基、ネオオクタデシル基、イソノナデシル基、ｓｅｃ−ノナデシル基、ｔｅｒｔ−ノナデシル基、ネオノナデシル基、１−メチルオクチル基、イソイコシル基、ｓｅｃ−イコシル基、ｔｅｒｔ−イコシル基、ネオイコシル基等が挙げられる。
これらの中でも、アルキル基としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基等の低級アルキル基が好ましい。
【０１１６】
一般式（ＨＴ２）において、ＲＣ１１、ＲＣ１２、ＲＣ１３、ＲＣ１４、ＲＣ１５、及びＲＣ１６が表すアルコキシ基としては、炭素数１以上２０以下（好ましくは１以上６以下、より好ましくは１以上４以下）の直鎖状又は分岐状のアルコキシ基が挙げられる。
直鎖状のアルコキシ基として具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基、ｎ−ウンデシルオキシ基、ｎ−ドデシルオキシ基、ｎ−トリデシルオキシ基、ｎ−テトラデシルオキシ基、ｎ−ペンタデシルオキシ基、ｎ−ヘキサデシルオキシ基、ｎ−ヘプタデシルオキシ基、ｎ−オクタデシルオキシ基、ｎ−ノナデシルオキシ基、ｎ−イコシルオキシ基等が挙げられる。
分岐状のアルコキシ基として具体的には、イソプロポキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、イソペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ペンチルオキシ基、イソヘキシルオキシ基、ｓｅｃ−ヘキシルオキシ基、ｔｅｒｔ−ヘキシルオキシ基、イソヘプチルオキシ基、ｓｅｃ−ヘプチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ヘプチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、ｓｅｃ−オクチルオキシ基、ｔｅｒｔ−オクチルオキシ基、イソノニルオキシ基、ｓｅｃ−ノニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ノニルオキシ基、イソデシルオキシ基、ｓｅｃ−デシルオキシ基、ｔｅｒｔ−デシルオキシ基、イソウンデシルオキシ基、ｓｅｃ−ウンデシルオキシ基、ｔｅｒｔ−ウンデシルオキシ基、ネオウンデシルオキシ基、イソドデシルオキシ基、ｓｅｃ−ドデシルオキシ基、ｔｅｒｔ−ドデシルオキシ基、ネオドデシルオキシ基、イソトリデシルオキシ基、ｓｅｃ−トリデシルオキシ基、ｔｅｒｔ−トリデシルオキシ基、ネオトリデシルオキシ基、イソテトラデシルオキシ基、ｓｅｃ−テトラデシルオキシ基、ｔｅｒｔ−テトラデシルオキシ基、ネオテトラデシルオキシ基、１−イソブチル−４−エチルオクチルオキシ基、イソペンタデシルオキシ基、ｓｅｃ−ペンタデシルオキシ基、ｔｅｒｔ−ペンタデシルオキシ基、ネオペンタデシルオキシ基、イソヘキサデシルオキシ基、ｓｅｃ−ヘキサデシルオキシ基、ｔｅｒｔ−ヘキサデシルオキシ基、ネオヘキサデシルオキシ基、１−メチルペンタデシルオキシ基、イソヘプタデシルオキシ基、ｓｅｃ−ヘプタデシルオキシ基、ｔｅｒｔ−ヘプタデシルオキシ基、ネオヘプタデシルオキシ基、イソオクタデシルオキシ基、ｓｅｃ−オクタデシルオキシ基、ｔｅｒｔ−オクタデシルオキシ基、ネオオクタデシルオキシ基、イソノナデシルオキシ基、ｓｅｃ−ノナデシルオキシ基、ｔｅｒｔ−ノナデシルオキシ基、ネオノナデシルオキシ基、１−メチルオクチルオキシ基、イソイコシルオキシ基、ｓｅｃ−イコシルオキシ基、ｔｅｒｔ−イコシルオキシ基、ネオイコシルオキシ基等が挙げられる。
これらの中でも、アルコキシ基としては、メトキシ基が好ましい。
【０１１７】
一般式（ＨＴ２）において、ＲＣ１１、ＲＣ１２、ＲＣ１３、ＲＣ１４、ＲＣ１５、及びＲＣ１６が表すアリール基としては、炭素数６以上３０以下（好ましくは６以上２０以下、より好ましくは６以上１６以下）のアリール基が挙げられる。
アリール基として具体的には、フェニル基、ナフチル基、フェナントリル基、ビフェニリル基などが挙げられる。
これらの中でも、アリール基としては、フェニル基、ナフチル基が好ましい。
【０１１８】
なお、一般式（ＨＴ２）において、ＲＣ１１、ＲＣ１２、ＲＣ１３、ＲＣ１４、ＲＣ１５、及びＲＣ１６が表す上記各置換基は、さらに置換基を有する基も含む。この置換基としては、上記例示した原子および基（例えばハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基など）が挙げられる。
【０１１９】
一般式（ＨＴ２）において、ＲＣ１１、ＲＣ１２、ＲＣ１３、ＲＣ１４、ＲＣ１５、及びＲＣ１６の隣接する二つの置換基同士（例えばＲＣ１１及びＲＣ１２同士、ＲＣ１３及びＲＣ１４同士、ＲＣ１５及びＲＣ１６同士）が連結した炭化水素環構造における、当該置換基同士を連結する基としては、単結合、２，２’−メチレン基、２，２’−エチレン基、２，２’−ビニレン基などが挙げられ、これらの中でも単結合、２，２’−メチレン基が好ましい。
ここで、炭化水素環構造として具体的には、例えば、シクロアルカン構造、シクロアルケン構造、シクロアルカンポリエン構造等が挙げられる。
【０１２０】
一般式（ＨＴ２）において、ｎ及びｍは、１であることが好ましい。
【０１２１】
一般式（ＨＴ２）において、正孔輸送能の高い感光層（正孔輸送層）形成の点から、ＲＣ１１、ＲＣ１２、ＲＣ１３、ＲＣ１４、ＲＣ１５、及びＲＣ１６が水素原子、炭素数１以上２０以下のアルキル基、又は炭素数１以上２０以下のアルコキシ基を表し、ｍ及びｎが１又は２を表することが好ましく、ＲＣ１１、ＲＣ１２、ＲＣ１３、ＲＣ１４、ＲＣ１５、及びＲＣ１６が水素原子を表し、ｍ及びｎが１を表すことがより好ましい。
つまり、ブタジエン系正孔輸送材料（ＨＴ２）は、下記構造式（ＨＴ２ａ）で示される正孔輸送材料（例示化合物（ＨＴ２−３））であることがより好ましい。
【０１２２】
【化６】
0006658155.tif 000007
【０１２３】
以下に、ブタジエン系正孔輸送材料（ＨＴ２）の具体例（ＨＴ２−１）〜（ＨＴ２−２４）を示すが、これに限定されるわけではない。
【０１２４】
【化７】
0006658155.tif 000008
【０１２５】
なお、上記例示化合物中の略記号は、以下の意味を示す。また、置換基の前に付す番号は、ベンゼン環に対する置換位置を示している。
・ＣＨ３：メチル基
・ＯＣＨ３：メトキシ基
【０１２６】
ブタジエン系正孔輸送材料（ＨＴ２）は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１２７】
正孔輸送材料の含有量は、例えば、結着樹脂に対して１０質量％以上９８質量％以下がよく、望ましくは６０質量％以上９５質量％以下、より望ましくは７０質量％以上９０質量％以下である。
【０１２８】
−電子輸送材料−
本実施形態では、電子輸送材料として、一般式（１）の電子輸送材料（特定の電子輸送材料）が適用される。
【化８】
0006658155.tif 000009
【０１２９】
一般式（１）中、Ｒ１１、Ｒ１２．Ｒ１３．Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、及びＲ１７は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、又はアラルキル基を示す。Ｒ１８は、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。
【０１３０】
一般式（１）中、Ｒ１１〜Ｒ１７が示すハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
【０１３１】
一般式（１）中、Ｒ１１〜Ｒ１７が示すアルキル基としては、例えば、直鎖状又は分岐状で、炭素数１以上４以下（望ましくは１以上３以下）のアルキル基が挙げられ、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基等が挙げられる。
【０１３２】
一般式（１）中、Ｒ１１〜Ｒ１７が示すアルコキシ基としては、例えば、炭素数１以上４以下（望ましくは１以上３以下）のアルコキシ基が挙げられ、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられる。
【０１３３】
一般式（１）中、Ｒ１１〜Ｒ１７が示すアリール基としては、例えば、フェニル基、トリル基等が挙げられる。これらの中でも、Ｒ１１〜Ｒ１７が示すアリール基としては、フェニル基が望ましい。
一般式（１）中、Ｒ１１〜Ｒ１７が示すアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基等が挙げられる。
【０１３４】
一般式（１）中、Ｒ１８が示すアルキル基としては、例えば、炭素数１以上１５以下（好ましくは炭素数３以上１２以下）の直鎖状のアルキル基、炭素数３以上１５以下（好ましくは炭素数３以上１２以下）の分岐状のアルキル基が挙げられる。
炭素数１以上１５以下の直鎖状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等が挙げられる。
炭素数３以上１５以下の分岐状のアルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、イソヘキシル基、ｓｅｃ−ヘキシル基、ｔｅｒｔ−ヘキシル基、イソヘプチル基、ｓｅｃ−ヘプチル基、ｔｅｒｔ−ヘプチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、イソノニル基、ｓｅｃ−ノニル基、ｔｅｒｔ−ノニル基、イソデシル基、ｓｅｃ−デシル基、ｔｅｒｔ−デシル基等が挙げられる。
【０１３５】
一般式（１）中、Ｒ１８が示すアリール基としては、例えば、フェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基等が挙げられる。
【０１３６】
一般式（１）中、Ｒ１８が示すアラルキル基としては、−Ｒ１９−Ａｒで示される基が挙げられる。但し、Ｒ１９は、アルキレン基を示す、Ａｒは、アリール基を示す。
Ｒ１９が示すアルキレン基としては、直鎖状又は分岐状の炭素数１以上８以下のアルキレン基が挙げられ、メチレン基、エチレン基、ｎ−プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ−ブチレン基、イソブチレン基、ｓｅｃ−ブチレン基、ｔｅｒｔ−ブチレン基、ｎ−ペンチレン基、イソペンチレン基、ネオペンチレン基、ｔｅｒｔ−ペンチレン基等が挙げられる。
Ａｒが示すアリール基としては、フェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、等が挙げられる。
【０１３７】
一般式（１）中、Ｒ１８が示すアラルキル基として具体的には、ベンジル基、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、フェニルエチル基、メチルフェニルエチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基等が挙げられる。
【０１３８】
一般式（１）の電子輸送材料としては、単層型感光体の高感度化の点から、Ｒ１８が炭素数３以上１２以下のアルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す電子輸送材料が好ましい。特に、式（１）の電子輸送材料としては、Ｒ１１〜Ｒ１７が各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、又はアルキル基を示し、かつ、Ｒ１８が炭素数３以上１２以下のアルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す電子輸送材料が好ましい。
【０１３９】
以下、一般式（１）の電子輸送材料の例示化合物を示すが、これに限定されるわけではない。なお、以下の例示化合物番号は、例示化合物（１−番号）と以下表記する。具体的には、例えば、例示化合物１５は、「例示化合物（１−１５）」と以下表記する。
【０１４０】
【化９】
0006658155.tif 000010
【０１４１】
なお、上記例示化合物中の略記号は、以下の意味を示す。
・Ｐｈ：フェニル基又はフェニレン基
・ｐ−Ｃ２Ｈ５：パラ位に置換したエチル基
【０１４２】
一般式（１）の電子輸送材料（特定の電子輸送材料）の含有量は、感光体の高感度化の観点、及び感光体の機能を確保する観点から、例えば、結着樹脂に対して４質量％以上７０質量％以下がよく、好ましく８質量％以上５０質量％以下、より好ましくは１０質量％以上３０質量％以下である。
【０１４３】
一般式（１）の電子輸送材料は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を組合せて用いてもよい。また、本実施形態の目的を阻害しない範囲で、必要に応じて一般式（１）の電子輸送材料以外の他の電子輸送材料を併用してもよい。
なお、一般式（１）の電子輸送材料以外の他の電子輸送材料を含有させる場合の含有量としては、電子輸送材料全体に対し、例えば１０質量％以下の範囲が好ましい。
【０１４４】
他の電子輸送材料としては、例えば、ｐ−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物等の電子輸送性化合物が挙げられる。これら他の電子輸送材料は１種を単独で又は２種以上を混合して用いてもよいが、これらに限定されるものではない。
【０１４５】
−正孔輸送材料と一般式（１）の電子輸送材料との比率−
正孔輸送材料と一般式（１）の電子輸送材料との比率は、質量比（正孔輸送材料／一般式（１）の電子輸送材料）で、５０／５０以上９０／１０以下が好ましく、より好ましくは５５／４５以上８０／２０以下である。
【０１４６】
−その他添加剤−
単層型の感光層には、酸化防止剤、光安定剤、熱安定剤等の周知のその他添加剤を含んでいてもよい。また、単層型の感光層が表面層となる場合、フッ素樹脂粒子、シリコーンオイル等を含んでいてもよい。
【０１４７】
＜感光体の製造方法（単層型感光体の製造方法）＞
本実施形態では、感光体の製造方法の一例として、導電性基体上に、下引層と、感光層（単層型の感光層）と、をこの順に有する感光体の製造方法について説明する。
本実施形態の感光体は、具体的には、下引層形成工程と、感光層形成工程と、を実施することにより製造される。
なお、下引層形成工程を実施せずに感光体を製造してもよい。即ち、導電性基体上に直接感光層を形成して感光体を製造してもよい。
【０１４８】
〔下引層形成工程〕
下引層形成工程では、下引層成分（前述の構成材料）と、溶剤と、を含む溶液を混合して得た下引層形成用塗布液を用いて下引層を形成する。具体的には、下引層形成用塗布液を導電性基体（以下、単に「基体」とも称する）上に塗布して、当該塗布液（塗膜）を乾燥させることにより下引層を形成する。
【０１４９】
下引層形成用塗布液を基体上に塗布する方法としては、例えば、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の公知の方法が用いられる。
【０１５０】
溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、２−ブタノン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状もしくは直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤が挙げられる。これら溶剤は単独又は２種以上混合して用いる。
【０１５１】
下引層形成用塗布液中に粒子（例えば無機粒子）を分散させる方法としては、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。
【０１５２】
〔感光層形成工程〕
感光層形成工程では、感光層成分（電荷発生材料、正孔輸送材料、特定の電子輸送材料、結着樹脂等）と、溶剤と、必要に応じてその他添加剤と、を含む溶液を混合して得た感光層形成用塗布液を用いて感光層を形成する。
本実施形態では、感光層形成用塗布液を下引層上に塗布し、当該塗布液（塗膜）を乾燥させることにより感光層を形成する。
溶剤としては、下引層形成用塗布液に用いる溶剤と同様のものが挙げられる。
感光層形成用塗布液中に粒子（例えば電荷発生材料）を分散させる方法、及び感光層形成用塗布液を下引層上に塗布する方法としては、下引層形成用塗布液に粒子を分散させる方法、及び下引層形成用塗布液を基体上に塗布する方法と同様の方法が挙げられる。
【０１５３】
本実施形態では、単層型の感光層形成工程の一例として、図２に示す浸漬塗布装置を用いた浸漬塗布法により下引層上に感光層を形成する方法について説明する。
先ず、浸漬塗布装置２００について説明し、その後に、浸漬塗布装置２００を用いて実施される単層型の感光層形成工程について説明する。
【０１５４】
図２に示す浸漬塗布装置２００は、感光層形成用塗布液Ｌ（以下、塗布液Ｌとも称する）を収容する塗布槽２４と、塗布液Ｌを貯留する貯留槽３０と、塗布槽２４の上部外周面に設けられ、溢れ流れる塗布液Ｌを保持する液受け部（塗布液受け部）２８と、液受け部２８と貯留槽３０とをつなぐ配管２６Ａと、貯留槽３０の下部と塗布槽２４とをポンプ３２を介してつなぐ配管２６Ｂと、塗布液Ｌを循環させるポンプ３２と、を備えている。
なお、ポンプ３２は、塗布液Ｌを予め定められた流量（循環流量）で、貯留槽３０及び塗布槽２４間を循環させ塗布槽２４から常時塗布液を溢れさせる機能を担う。
また、浸漬塗布装置２００は、基体２２を塗布槽２４の塗布液Ｌ中に浸漬及び引き上げる基体昇降機３４と、塗布槽２４中の塗布液Ｌから揮発する溶剤の蒸気を換気（外部に排出）する換気装置、即ち、溶剤蒸気を含む空気を換気する換気装置(不図示)と、塗布環境の露点温度を制御する蒸気圧制御装置(不図示)と、貯留槽３０中の塗布液Ｌの濃度を保つための攪拌機(不図示)とを備えている。また、基体昇降機３４は、基体２２の上部を支持する支持部２０と、支持部２０を昇降するモータ３６とを備えている。
【０１５５】
次に、浸漬塗布装置２００の作用を、当該浸漬塗布装置２００を用いて実施される感光層形成工程によって説明する。感光層形成工程は、具体的には、浸漬工程と、停止工程と、引き上げ工程と、乾燥工程と、を有する。
【０１５６】
（浸漬工程）
浸漬工程では、下引層（不図示）が形成された基体２２を下降させて、当該基体２２を塗布液Ｌに浸漬する。具体的には、基体２２の上部を基体昇降機３４の支持部２０で支持し、その支持部２０で支持された基体２２を、基体昇降機３４により、塗布液Ｌが収容された塗布槽２４の中へ下降させ、予め定められた位置（停止位置）で基体２２の下降を停止させる。
なお、塗布液Ｌの粘度（２５℃）は、例えば２５０ｍＰａ・ｓ以上３５０ｍＰａ・ｓ以下に調整することが好ましい。
【０１５７】
−基体２２の浸漬速度−
浸漬工程では、基体２２を予め定められた速度（浸漬速度）で塗布槽２４の塗布液Ｌ中に浸漬させる。
基体２２の浸漬速度としては、例えば１００ｍｍ／分以上１５００ｍｍ／分以下がよく、３００ｍｍ／分以上１０００ｍｍ／分以下が好ましく、５００ｍｍ／分以上７００ｍｍ／分以下がより好ましい。
基体２２の浸漬速度が上記範囲であると、塗布液Ｌの乱れが適度に生じるため、感光層の表面側に、電荷発生材料、正孔輸送材料、及び特定の電子輸送材料が適度に偏在又は凝集して存在しやすくなる。これにより、感光層の外周面の側の表面自由エネルギーを特定の範囲に制御しやすくなる。
【０１５８】
（停止工程）
停止工程では、塗布液Ｌ中に浸漬された上記基体２２を予め定められた停止位置で、
予め定められた時間停止させる。
塗布液Ｌ中での基体２２の停止時間は、例えば１０秒以上２０秒以下がよく１１秒以上１７秒以下が好ましく、１２秒以上１５秒以下がより好ましい。
塗布液Ｌ中での基体２２の停止時間が上記範囲であると、塗布液Ｌを基体２２上（本実施形態では下引層上）に塗布する際に、塗布液Ｌの乱れが適度に抑制される。これにより、感光層の外周面の側の表面自由エネルギーが低減されやすくなる。
【０１５９】
−塗布液Ｌの循環流量−
上述の浸漬工程、及び停止工程では、塗布液Ｌを予め定められた流量（循環流量）で、貯留槽３０及び塗布槽２４間を循環させながら基体２２の浸漬を実施することが好ましい。なお、本実施形態において、循環流量はポンプ３２により制御される。
塗布液Ｌの循環流量は、感光層形成用塗布液の分散性を向上させる観点、及び、塗布液中の感光層成分の沈降を抑制する観点から、通常、１Ｌ／分以上１５Ｌ／分以下であることが好ましいとされている。しかし、本実施形態では、感光層の表面側に、電荷発生材料、正孔輸送材料、及び特定の電子輸送材料を適度に偏在又は凝集させて、感光層の外周面の側の表面自由エネルギーを特定の範囲に制御しやすくするため、塗布液Ｌ中及び配管２６中における上記材料（電荷発生材料、正孔輸送材料、及び特定の電子輸送材料）の分散性を、適度に低下させる傾向とする。
このため、本実施形態における塗布液Ｌの循環流量としては、例えば１Ｌ／分以上１３Ｌ／分以下がよく、３Ｌ／分以上１０Ｌ／分以下が好ましく、５Ｌ／分以上７Ｌ／分以下がより好ましい。
【０１６０】
−溶剤蒸気の換気（溶剤蒸気を含む空気の換気）−
上述の浸漬工程、停止工程、及び後述の引き上げ工程では、通常、換気装置により塗布槽２４中の塗布液Ｌから揮発する溶剤蒸気を換気（外部に排出）しながら上記工程を実施する。即ち、溶剤蒸気を含む空気を換気しながら上記工程を実施する。
溶剤蒸気を含む空気の換気量は、通常、４ｍ３／分以上１８ｍ３／分以下であることが好ましいとされている。しかし、本実施形態では、上記換気量を、好ましくは１０ｍ３／分以上１８ｍ３／分以下、より好ましくは１３ｍ３／分以上１８ｍ３／分以下、更に好ましくは１５ｍ３／分以上１８ｍ３／分以下とする。
換気量が上記範囲であると、溶剤の蒸気濃度が低減するため（溶剤が揮発されやすくなるため）、引き上げ工程において、塗布液Ｌ（塗膜）の乾燥が促進される。これにより、感光層の表面側において、上記材料（電荷発生材料、正孔輸送材料、及び特定の電子輸送材料）の偏在又は凝集が生じやすくなるため、感光層の外周面の側の表面自由エネルギーを特定の範囲に制御しやすくなる。
なお、本実施形態において、溶剤蒸気の換気（溶剤蒸気を含む空気の換気）は換気装置（不図示）により行われる。
【０１６１】
−塗布環境の露点温度−
上述の浸漬工程、停止工程、及び後述の引き上げ工程では、塗布環境の露点温度を制御しながら上記工程を実施することが好ましい。なお、本実施形態において、塗布環境の露点温度の制御は蒸気圧制御装置（不図示）により行われる。
塗布環境の露点温度としては、例えば６℃以上１０℃以下がよく、７℃以上１０℃以下が好ましく、８℃以上１０℃以下がより好ましい。
塗布環境の露点温度が上記範囲であると、溶剤の揮発で熱が奪われる事による結露が抑えられるため、感光層表面に結露起因の欠陥が発生しにくくなる。これにより、感光層の外周面の側の表面自由エネルギーを特定の範囲に制御しやすくなる。
【０１６２】
−塗布液Ｌの温度−
塗布液Ｌの温度は、塗布液Ｌ中の溶剤が著しく蒸発して、塗布液Ｌの粘度が変化することを抑制する観点から、２６．５℃以上２８．５℃以下であることがよい。
【０１６３】
上述のように、基体２２の浸漬速度、塗布液Ｌ中での基体２２の停止時間、塗布液Ｌの循環流量、溶剤蒸気を含む空気の換気量、又は塗布環境の露点温度を制御することで、塗布液Ｌの状態（例えば乱れ状態）が調整されると考えられる。これにより、感光層の外周面側の表面自由エネルギーを特定の範囲に制御しやすくなると共に感光層の表面粗さＳａについても特定の範囲に制御しやすくなると考えられる。
【０１６４】
（引き上げ工程）
停止工程の後に、引き上げ工程が実施される。引き上げ工程では、停止工程で塗布液Ｌに浸漬された基体２２を塗布液Ｌから引き上げる。これにより、下引層（不図示）上に塗布液Ｌが塗布された塗膜が形成される。
なお、感光層の膜厚は、主に基体２２を塗布液Ｌから引き上げる速度によって調整され、好ましくは５μｍ以上６０μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以上５０μｍ以下の範囲に設定される。
【０１６５】
（乾燥工程）
乾燥工程では、塗布槽２４から引き上げられた基体２２の下端部分に付着した塗布液Ｌを拭き取り、塗膜を、例えば１２０℃以上１４０℃以下で乾燥（溶剤を蒸発により除去）させることで、単層型の感光層を形成する。
【０１６６】
以上のように、下引層形成工程、及び感光層形成工程を経て、電子写真方式の画像形成装置に用いられる単層型の感光体が製造される。
【０１６７】
以上、単層型感光体の製造方法について、一実施形態について説明したが、単層型感光体の製造方法は上記実施形態に限定されるものではない。
例えば、本実施形態では、基体２２を塗布槽２４の塗布液Ｌ中に浸漬及び引き上げる基体昇降機３４、塗布槽２４中の塗布液Ｌから揮発する溶剤蒸気を換気（外部に排出）する換気装置、塗布環境の露点温度を制御する蒸気圧制御装置、及び貯留槽３０中の塗布液Ｌの濃度を保つための攪拌機を用いて、感光体を製造する方法について説明したが、これらの装置は適宜用いることができる。また、その他必要な装置と組み合わせて用いてもよい。
【０１６８】
［画像形成装置（及びプロセスカートリッジ）］
本実施形態に係る画像形成装置は、電子写真感光体と、電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、帯電した電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、トナーを含む現像剤により電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、を備える。そして、電子写真感光体として、上記本実施形態に係る電子写真感光体が適用される。
【０１６９】
本実施形態に係る画像形成装置は、記録媒体の表面に転写されたトナー像を定着する定着手段を備える装置；電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を直接記録媒体に転写する直接転写方式の装置；電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写し、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する中間転写方式の装置；トナー像の転写後、帯電前の電子写真感光体の表面をクリーニングするクリーニング手段を備えた装置；トナー像の転写後、帯電前に電子写真感光体の表面に除電光を照射して除電する除電手段を備える装置；電子写真感光体の温度を上昇させ、相対温度を低減させるための電子写真感光体加熱部材を備える装置等の周知の画像形成装置が適用される。
【０１７０】
中間転写方式の装置の場合、転写手段は、例えば、表面にトナー像が転写される中間転写体と、電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写する一次転写手段と、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する二次転写手段と、を有する構成が適用される。
【０１７１】
本実施形態に係る画像形成装置は、乾式現像方式の画像形成装置、湿式現像方式（液体現像剤を利用した現像方式）の画像形成装置のいずれであってもよい。
【０１７２】
なお、本実施形態に係る画像形成装置において、例えば、電子写真感光体を備える部分が、画像形成装置に対して着脱されるカートリッジ構造（プロセスカートリッジ）であってもよい。プロセスカートリッジとしては、例えば、本実施形態に係る電子写真感光体を備えるプロセスカートリッジが好適に用いられる。なお、プロセスカートリッジには、電子写真感光体以外に、例えば、帯電手段、静電潜像形成手段、現像手段、転写手段からなる群から選択される少なくとも一つを備えてもよい。
【０１７３】
以下、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示すが、これに限定されるわけではない。なお、図に示す主要部を説明し、その他はその説明を省略する。
【０１７４】
図３は、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
本実施形態に係る画像形成装置１００は、図３に示すように、電子写真感光体７を備えるプロセスカートリッジ３００と、露光装置９（静電潜像形成手段の一例）と、転写装置４０（一次転写装置）と、中間転写体５０とを備える。なお、画像形成装置１００において、露光装置９はプロセスカートリッジ３００の開口部から電子写真感光体７に露光し得る位置に配置されており、転写装置４０は中間転写体５０を介して電子写真感光体７に対向する位置に配置されており、中間転写体５０はその一部が電子写真感光体７に接触して配置されている。図示しないが、中間転写体５０に転写されたトナー像を記録媒体（例えば用紙）に転写する二次転写装置も有している。なお、中間転写体５０、転写装置４０（一次転写装置）、及び二次転写装置（不図示）が転写手段の一例に相当する。
【０１７５】
図３におけるプロセスカートリッジ３００は、ハウジング内に、電子写真感光体７、帯電装置８（帯電手段の一例）、現像装置１１（現像手段の一例）、及びクリーニング装置１３（クリーニング手段の一例）を一体に支持している。クリーニング装置１３は、クリーニングブレード（クリーニング部材の一例）１３１を有しており、クリーニングブレード１３１は、電子写真感光体７の表面に接触するように配置されている。なお、クリーニング部材は、クリーニングブレード１３１の態様ではなく、導電性又は絶縁性の繊維状部材であってもよく、これを単独で、又はクリーニングブレード１３１と併用してもよい。
【０１７６】
なお、図３には、画像形成装置として、潤滑材１４を電子写真感光体７の表面に供給する繊維状部材１３２（ロール状）、及び、クリーニングを補助する繊維状部材１３３（平ブラシ状）を備えた例を示してあるが、これらは必要に応じて配置される。
【０１７７】
以下、本実施形態に係る画像形成装置の各構成について説明する。
【０１７８】
−帯電装置−
帯電装置８としては、例えば、導電性又は半導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が使用される。また、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も使用される。
【０１７９】
−露光装置−
露光装置９としては、例えば、電子写真感光体７表面に、半導体レーザ光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を、定められた像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は電子写真感光体の分光感度領域内とする。半導体レーザの波長としては、７８０ｎｍ付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、６００ｎｍ台の発振波長レーザや青色レーザとして４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下に発振波長を有するレーザも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザ光源も有効である。
【０１８０】
−現像装置−
現像装置１１としては、例えば、現像剤を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置が挙げられる。現像装置１１としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて電子写真感光体７に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが好ましい。
【０１８１】
現像装置１１に使用される現像剤は、トナー単独の一成分系現像剤であってもよいし、トナーとキャリアとを含む二成分系現像剤であってもよい。また、現像剤は、磁性であってもよいし、非磁性であってもよい。これら現像剤は、周知のものが適用される。
【０１８２】
−クリーニング装置−
クリーニング装置１３は、クリーニングブレード１３１を備えるクリーニングブレード方式の装置が用いられる。
なお、クリーニングブレード方式以外にも、ファーブラシクリーニング方式、現像同時クリーニング方式を採用してもよい。
【０１８３】
−転写装置−
転写装置４０としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。
【０１８４】
−中間転写体−
中間転写体５０としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等を含むベルト状のもの（中間転写ベルト）が使用される。また、中間転写体の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いてもよい。
【０１８５】
図４は、本実施形態に係る画像形成装置の他の一例を示す概略構成図である。
図４に示す画像形成装置１２０は、プロセスカートリッジ３００を４つ搭載したタンデム方式の多色画像形成装置である。画像形成装置１２０では、中間転写体５０上に４つのプロセスカートリッジ３００がそれぞれ並列に配置されており、１色に付き１つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置１２０は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置１００と同様の構成を有している。
【実施例】
【０１８６】
以下、実施例により本実施形態を詳細に説明するが、本実施形態は、これら実施例に何ら限定されるものではない。なお、以下の説明において、特に断りのない限り、「部」及び「％」はすべて質量基準である。
【０１８７】
＜実施例１＞
−感光体（１）の作製−
電荷発生材料としてＣｕｋα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．３゜、１６．０゜、２４．９゜、２８．０゜の位置に回折ピークを有するＶ型のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料（ＣＧ１）４質量部と、結着樹脂としてビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量５万：Ｂｉｎｄｅｒ１）５８質量部と、表１に示す電子輸送材料（ＥＴＭ１）１５質量部と、表１に示す正孔輸送材料（ＨＴＭ１）２０質量部と、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）２５０質量部と、からなる混合物を、ナノマイザーにて分散し、粘度３００ｍＰａ・ｓに調整した感光層形成用塗布液を得た。
【０１８８】
図２に示す浸漬塗布装置２００を用い、以下の方法にて、直径３００ｍｍ、長さ２４５ｍｍのアルミニウム基体（以下、基体とも称する）上に単層型の感光層を形成した（感光層形成工程）。
まず、上記で得られた感光層形成用塗布液（以下、塗布液とも称する）を図２に示す浸漬塗布装置２００の塗布槽及び貯留槽中に充填し、以下の条件で、膜厚２２μｍの単層型の感光層を形成した。
【０１８９】
−感光層の形成条件−
・基体の浸漬速度                  ５００ｍｍ／分
・塗布液中での基体の停止時間              １０秒
・塗布液からの基体の引き上げ速度  １６０ｍｍ／分
・塗膜の乾燥温度、乾燥時間      １００℃、１５分
・塗布液の循環流量                      ７Ｌ／分
・塗布液の温度                        ２７．５℃
・溶剤蒸気を含む空気の換気量        １８ｍ３／分
・塗布環境の露点温度                        ７℃
【０１９０】
以上の工程を経て、実施例１の単層型の感光体（１）を作製した。
【０１９１】
＜実施例２〜８、比較例１〜６＞
表１、２に従って、感光層形成用塗布液の組成において、電荷発生材料の量、電子輸送材料の種類と量、正孔輸送材料の種類と量、塗布条件を変更した以外は、実施例１の感光体（１）と同様にして、感光体（２）〜（８）、（Ｃ１）〜（Ｃ６）を作製した。
なお、表１、２中、ＣＧは電荷発生材料を表し、ＥＴＭは電子輸送材料を表し、ＨＴＭは正孔輸送材料を表す。
【０１９２】
［評価]
（表面自由エネルギー）
各例で得られた感光体を用いて、既述の方法により、感光層の外周面側の表面自由エネルギーを測定した。結果を表１、２に示す。
【０１９３】
（表面粗さＳａ）
各例で得られた感光体を用いて、既述の方法により、感光層の表面粗さＳａを測定した。結果を表１、２に示す。
【０１９４】
（感度評価）
各例で得られた感光体を用いて、感光体の感度評価を行った。
感度評価は、＋８００Ｖに帯電させたときの半減露光量として評価した。具体的には、静電複写紙試験装置（エレクトロスタティックアナライザーＥＰＡ−８１００、川口電機製作所社製）を用いて、２０℃、４０％ＲＨの環境下、＋８００に帯電させた後、タングステンランプの光を、モノクロメーターを用いて８００ｎｍの単色光にし、感光体表面上で１μＷ／ｃｍ２になるように調整して、照射した。
そして、帯電直後における感光体表面の初期の表面電位Ｖ０（Ｖ）、感光体表面の光照射により表面電位が１／２×Ｖ０（Ｖ）となる半減露光量Ｅ１／２（μＪ／ｃｍ２）を測定した。
評価基準は、以下の通りである。半減露光量Ｅ１／２が０．２μＪ／ｃｍ２以下であるとき、高感度化されたと評価した。結果を表１、２に示す。
【０１９５】
−評価基準−
Ａ（○）：半減露光量Ｅ１／２が０．２μＪ／ｃｍ２以下
Ｂ（×）：半減露光量Ｅ１／２が０．２μＪ／ｃｍ２を超える
【０１９６】
（色点評価）
各例の感光体を改造機（Ｂｒｏｔｈｅｒ社製ＨＬ５３４０Ｄ）に搭載し、温度３３℃、８０％ＲＨの環境下において、色点評価を行った。
色点評価は、前記改造機を用いて、白ベタ画像をＡ４用紙に１２，０００枚出力し、１２，０００枚目に出力した画像について、画像上に発生した色点の数を数え、以下の基準で評価した。なお、画像上に発生した色点は、感光層への填料の付着に伴う局所的な電荷リークの発生に起因して発生した色点とみなす。
また、評価基準２以下であると実用上問題を生ずることがあると評価した。結果を表１、２に示す。
【０１９７】
−評価基準−
５：  ０≦色点の数≦３
４：  ４≦色点の数≦７
３：  ８≦色点の数≦１０
２：  １１≦色点の数≦１４
１：  １５≦色点の数≦２０
【０１９８】
【表１】
0006658155.tif 000011
【０１９９】
【表２】
0006658155.tif 000012
【０２００】
上記結果から、本実施例は、比較例２〜６に比べ、画像を形成したときに生じる色点の発生が抑制されていることがわかる。
感光層の外周面側の表面自由エネルギーが２４ｍＮ／ｍ以上３０ｍＮ／ｍ以下で、かつ感光層の表面粗さＳａが４．５ｎｍ以上６．０ｎｍ以下である実施例１〜５、７、８は、上記表面粗さＳａが６．０ｎｍ超えの実施例６に比べ、画像を形成したときに生じる色点の発生が抑制されていることがわかる。
また、本実施例の感光体は、比較例１に比べ、感光層の外周面側の表面自由エネルギーを２４ｍＮ／ｍ以上３０ｍＮ／ｍ以下まで低減させても感度が良好であり、感光体としての機能することがわかる。
【０２０１】
以下、表中の略称の詳細について示す。
−電荷発生材料−
・ＣＧ１：下記構造式で示される電荷発生材料（ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料）
【化１０】
0006658155.tif 000013
【０２０２】
−電子輸送材料−
・ＥＴＭ１：下記構造式で示される電子輸送材料（例示化合物１−１）
【化１１】
0006658155.tif 000014
【０２０３】
・ＥＴＭ２：下記構造式で示される電子輸送材料
【化１２】
0006658155.tif 000015
【０２０４】
・ＥＴＭ３：下記構造式で示される電子輸送材料（例示化合物１−１５）
【化１３】
0006658155.tif 000016
【０２０５】
・ＨＴＭ１：下記構造式で示される正孔輸送材料（４−(２，２−ジフェニルエテニル)−Ｎ，Ｎ−ビス(４−メチルフェニル)ベンゼンアミン、例示化合物ＨＴ１−４）
【化１４】
0006658155.tif 000017
【符号の説明】
【０２０６】
１  下引層、２  感光層、３  導電性基体、７  電子写真感光体、８  帯電装置、９  露光装置、１０  電子写真感光体、１１  現像装置、１３  クリーニング装置、１４  潤滑材、４０  転写装置、５０  中間転写体、１００  画像形成装置、１２０  画像形成装置、１３１  クリーニングブレード、１３２  繊維状部材、１３３  繊維状部材、３００  プロセスカートリッジ支持部、２０  支持部、２２  導電性基体、２４  塗布槽、２６Ａ，２６Ｂ  配管、２８  液受け部、３０  貯留槽、３２  ポンプ、３４  基体昇降機、２００  浸漬塗布装置
【図１】
0006658155.tif 000019
【図２】
0006658155.tif 000020
【図３】
0006658155.tif 000021
【図４】
0006658155.tif 000022