(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に、少なくとも２層以上同時重層塗布することで光学機能層を形成する光学フィルムの製造方法であって、
前記同時重層塗布する際に使用する塗布液の液滴を前記基材上に垂直滴下した時に、前記基材に前記液滴が接触後５０ｍｓｅｃ経過時点での前記液滴の接触角が７０度以下となる前記塗布液を、前記同時重層塗布する際に最下層の塗布液として塗布する、光学フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記同時重層塗布する際に使用する塗布液の液滴を前記基材上に垂直滴下した時に、前記基材に前記液滴が接触後５０ｍｓｅｃ経過時点での前記液滴の接触角が７０度以下となる塗布液を前記同時重層塗布する際に最上層の塗布液として塗布する、請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記最下層の塗布液は、粘度が０．５ｃｐ〜３０ｃｐであり、
前記最下層の塗布液の量は１０〜５０ｇ／ｍ２である、請求項１または２に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記光学機能層は、全層の塗布液量が５０〜１５０ｇ／ｍ２である、請求項１〜３のいずれか一つに記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記同時重層塗布する際の塗布速度は５〜２００ｍ／ｍｉｎである、請求項１〜４のいずれか一つに記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項６】
前記光学機能層は鹸化度が異なるポリビニルアルコールを含む、請求項１〜５のいずれか一つに記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項７】
前記光学機能層は赤外線反射層である、請求項１〜６のいずれか一つに記載の光学フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルムの製造方法に関し、詳しくはフィルム基材に塗布液を塗布することで、光学的機能を付与した光学フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学フィルムは、様々な波長の光を透過させたり、反射させたりする機能を有する。このような光学フィルムは、フィルム状の基材に、特定波長を透過または反射する機能を付与するための塗布液を塗布することにより形成される。中でも、近年、窓等に貼りつけるだけで、特定波長を透過または反射する光学フィルムとして、透明赤外遮蔽フィルムがある。透明赤外遮蔽フィルムは、可視光領域の波長を透過し、赤外線領域の波長を反射する機能を持つ。このような光学フィルムの製造方法は、性能やコスト面から、スライド面を用いた同時重層塗布が用いられている。
【０００３】
従来、同時重層塗布には、スライドホッパー型塗布装置が用いられている。スライドホッパー型塗布装置は、複数の塗布液を同時重層塗布できる湿式成膜装置として、多層積層膜の製造に好適に用いられるが、基材フィルムのスジ故障、および縦方向（フィルムの搬送方向）のムラを削減する製造方法が求められている。
【０００４】
たとえば、特許文献１には、スライドホッパー型塗布装置内の塗布液を基材フィルムの幅方向に、塗布幅に広げる部分（以下、チャンバーと表記）からスライド面までの距離（以下、スリット部の長さと表記）を４０ｍｍ以上とすることで、塗布膜の品質の均一性を向上させる製造方法が開示されている。この製造方法によれば、小型で軽量の塗布膜品質の均一性の高いスライドホッパー型塗布装置を提供可能としている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−２８６０４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、光学フィルムの製造方法は、特定波長を透過または反射させる必要性から、高い均一性が求められている。特に、膜厚不均一やスジ等の塗布ムラの発生によって、透過光が屈折したり乱反射したりして、窓にこの光学フィルムを張り付けた際に、視認性を低下させる原因となっていた。この点において、従来の技術はいまだ改善の余地があった。
【０００７】
そこで、本発明の目的は、塗布ムラの発生を抑制し得る、光学フィルムの製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の上記目的は、下記の手段によって達成される。
【０００９】
（１）基材上に、少なくとも２層以上同時重層塗布することで光学機能層を形成する光学フィルムの製造方法であって、
前記同時重層塗布する際に使用する塗布液の液滴を前記基材上に垂直滴下した時に、前記基材に前記液滴が接触後５０ｍｓｅｃ経過時点での前記液滴の接触角が７０度以下となる前記塗布液を、前記同時重層塗布する際に最下層の塗布液として塗布する、光学フィルムの製造方法。
【００１０】
（２）前記同時重層塗布する際に使用する塗布液の液滴を前記基材上に垂直滴下した時に、前記基材に前記液滴が接触後５０ｍｓｅｃ経過時点での前記液滴の接触角が７０度以下となる塗布液を前記同時重層塗布する際に最上層の塗布液として塗布する、（１）に記載の光学フィルムの製造方法。
【００１１】
（３）前記最下層の塗布液は、粘度が０．５ｃｐ〜３０ｃｐであり、
前記最下層の塗布液の量は１０〜５０ｇ／ｍ２である、（１）または（２）に記載の光学フィルムの製造方法。
【００１２】
（４）前記光学機能層は、全層の塗布液量が５０〜１５０ｇ／ｍ２である、（１）〜（３）のいずれか一つに記載の光学フィルムの製造方法。
【００１３】
（５）前記同時重層塗布する際の塗布速度は５〜２００ｍ／ｍｉｎである、（１）〜（４）のいずれか一つに記載の光学フィルムの製造方法。
【００１４】
（６）前記光学機能層は鹸化度が異なるポリビニルアルコールを含む、（１）〜（５）のいずれか一つに記載の光学フィルムの製造方法。
【００１５】
（７）前記光学機能層は赤外線反射層である、（１）〜（６）のいずれか一つに記載の光学フィルムの製造方法。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、塗布液の液滴が基材に接触して５０ｍｓｅｃ経過時点での接触角が７０度以下の塗布液を同時重層塗布の最下層に用いることとしたので、基材に塗布液が均一な厚さで塗布できるようになるので、塗布ムラの発生を抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明を適用した実施形態における同時重層塗布により形成された光学フィルムの構造を示す断面図である。
【図２】接触角を説明するための概略図である。
【図３】同時重層塗布を行ための塗布装置の全体構成を示す概略図である。
【図４】塗布装置の塗布部の細部を示す概略図である。
【図５】同時重層塗布の開始時において塗布液が基材に接触する瞬間を説明するための模式図である。
【図６】同時重層塗布において塗布液が基材に接触した後の状態を説明するための模式図である。
【図７】実施例１、２および４に使用した最下層の塗布液について接触角の測定結果を時間経過と共に示したグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、添付した図面を参照しながら、本発明の実施形態を説明する。なお、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。また、図面の寸法比率は、説明の都合上誇張されており、実際の比率とは異なる場合がある。
【００１９】
図１は、本発明を適用した実施形態における同時重層塗布により形成された光学フィルムの構造を示す断面図である。
【００２０】
光学フィルム１０は、フィルム状の基材２０上に塗布層３０が塗布されている。塗布層３０は光学機能層となる同時重層塗布層である。ここでは、高屈折率層３２および低屈折率層３４が交互に同時重層塗布法により同時重層塗布されたものである。塗布層３０は、塗布装置によって基材２０上に塗布された塗膜４０である。同時重層塗布を行う塗布装置の詳細は後述するが（図３参照）、搬送系１１０によって搬送（移動）している基材２０上に、あらかじめ決められた塗布層３０の積層数となるようにダイコーター１２０から複数層となるように塗布液３００を流出させて、塗布する。
【００２１】
塗布層３０の積層数は、生産性の観点から、好ましくは２００層以下であり、より好ましくは１００層以下であり、さらに好ましくは５０層以下である。１層あたりの厚さは、１〜１０００ｎｍである。このような積層全層の塗布液量は５０〜１５０ｇ／ｍ２となる。
【００２２】
なお、以下において「高屈折率層」および「低屈折率層」は、隣接した２層の屈折率差を比較した場合に、屈折率が高い方および低い方をそれぞれ意味する。
【００２３】
塗布層３０における基材２０に隣接する最下層および外部に露出している最上層は、低屈折率層３４から構成される。最下層と最上層との間に位置する中間層においては、高屈折率層３２と低屈折率層３４とが交互に配置されている。
【００２４】
本実施形態は、このような同時重層塗布により形成される塗布層３０の最下層３５１を形成する塗布液３００として、基材２０との初期接触角が７０度以下、好ましくは６０度以下としている。
【００２５】
また本実施形態は、塗布層３０の最上層３５２を形成する塗布液３００についても、基材２０との初期接触角も７０度以下とすることが好ましい。より好ましくは最上層３５２の塗布液３００においても、６０度以下とすることである
図１に示した重層構造では、最下層３５１と最上層３５２はともに低屈折率層３４であるので、同じ塗布液３００を使用すればよい。もちろん、本発明はこのような重層構造に限定されるものではなく、最下層３５１と最上層３５２は異なる機能、成分、または組成の塗布液を使用してもよい。その場合、最下層の塗布液は基材２０との初期接触角が７０度以下となるようにし、好ましくは最上層３５２の塗布液３００も基材２０との初期接触角が７０度以下となるようにするとよい。
【００２６】
図２は接触角を説明するための概略図である。接触角自体は周知のとおり、静止液体の自由表面が、固体壁に接する場所で、液面と固体面とのなす角（液の内部にある角をとる）と定義されている。これを本実施形態に当てはめれば接触角は、図２に示すように、基材２０上に塗布液３００の液滴３０１を垂直に滴下して、この液滴３０１の液面と基材２０とのなす角θということになる。そして本実施形態で用いている「初期接触角」とは、塗布液３００の液滴３０１が基材２０に接触した瞬間（０ｍｓｅｃ）から５０ｍｓｅｃ経過時点での液滴の接触角としている。液滴３０１を基材２０上に滴下した際は、時間の経過と共に塗布液の形状が変化する。したがって、接触角によって塗布液の特性を規定するためには時間の尺度を入れないと特定できない。このためすでに説明したように、初期接触角を規定したものである。
【００２７】
接触角は、塗布液の特性だけでなく、基材２０表面の状態によっても変化する。したがって、初期接触角を７０度以下にするために、基材表面の状態を変える（改質する）ことでも可能である。たとえば、基材表面をプラズマ処理すること、いわゆる濡れ性をよくするためのプラズマ処理を行うことで、塗布液の基材との初期接触角を７０度以下にすることも可能である。
【００２８】
しかしながら、光学フィルムにおいては、基材の表面改質を行うと、光学特性も変化してしまう。たとえば、特定の波長を反射させ、他の波長を透過させるような光学フィルムにおいては、透過性が落ちることがあり、基材表面の改質には制限がある。
【００２９】
そこで、本実施形態では、主に塗布液の特性を変えることで初期接触角を７０度以下にするようにした。
【００３０】
塗布液の初期接触角を７０度以下にするためには、たとえば界面活性剤を添加することにより行う。界面活性剤の添加量を増やすことで初期接触角を小さくできる。界面活性剤としては、アニオン、カチオンまたはノニオンの各種界面活性剤を使用可能である。
【００３１】
また、有機溶媒を添加することでも、初期接触角を小さくできる。使用する有機溶媒は、高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液を調製するための溶媒と同じでよく、特に制限されない。有機溶媒としては、たとえば、メタノール、エタノール、２−プロパノール（イソプロピルアルコール）、１−ブタノールなどのアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのエステル類、ジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル類、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド類、アセトン、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、シクロヘキサノンなどのケトン類などが挙げられる。これら有機溶媒は、単独でもまたは２種以上組み合わせて用いてもよい。
【００３２】
有機溶媒を用いて初期接触角を制御するには、有機溶媒の添加量を多くすることで、初期接触角を小さくできる。
【００３３】
界面活性剤、有機溶媒の添加量は、塗布液の成分によって様々であり、限定されない。あくまでも初期接触角が７０度以下、好ましくは６０度以下となるように添加量を調整する。また、界面活性剤、有機溶媒をそれぞれ添加してもよいし、一方だけ添加してもよい。
【００３４】
なお、初期接触角の下限は、０（ゼロ）度であってもよく、下限は限定されない。
【００３５】
最下層用の塗布液（初期接触角７０度以下に調製後）の粘度は０．５〜３０ｃｐであることが好ましい。このような粘度範囲の塗布液とすることで、塗布時の基材への液付着性が良好となり、高速での塗布が可能となる。粘度の調製は、水（純水）の添加によって行える。水を添加する場合、添加量を多くすることで粘度を低くできる。一方、水の添加量を少なくするまたは水分を蒸発させて濃縮することで粘度を高くできる。
【００３６】
また、同時重層塗布時に塗布する最下層の塗布液の塗布量は、５〜５０ｇ／ｍ２となるようにすることが好ましい。より好ましくは１０〜５０ｇ／ｍ２である。この最下層の塗布量は、最下層の塗布量が５ｇ／ｍ２未満であると最下層としての層厚が薄くなりすぎて均一に塗布できないおそれがある。一方、５０ｇ／ｍ２を超えて塗布した場合、隣接する層との関係で、最下層のみ厚くなりすぎて所望の光学特性が得られなくなる恐れがある。ただし、このような塗布量は、上記した範囲に限定されるものではない。特に上限については、隣接する層の厚みなどとの兼ね合いからさらに多くても（層厚が厚くなっても）支障の出ない場合もあるので、製造する光学フィルムに合わせて適宜調整すればよい。
【００３７】
ここで、塗布液３００の材料（上記の接触角や粘度調整用の界面活性剤、有機溶媒、水を除く成分）の具体例を説明する。
【００３８】
光学フィルムとして、特定波長を反射する光学反射フィルムを例に説明する。光学反射フィルムは、少なくとも基材上に、高屈折率層および低屈折率層を含む積層体が配置された構成を有する。このような構成とし、高屈折率層および低屈折率層の光学膜厚（膜厚×屈折率）を適宜制御することで、特定波長の光線を反射させる。
【００３９】
光学反射フィルムは、たとえば、波長２００〜４００ｎｍの光線（紫外線）を反射する場合には紫外遮蔽フィルムとなり、波長４００〜７００ｎｍの光線（可視光）を反射する場合には可視光着色フィルムとなり、波長７００〜１２００ｎｍの光線（赤外線）を反射する場合には赤外遮蔽フィルムとなりうる。
【００４０】
その他、積層体の光学膜厚等を適宜設計することで、反射する光線の波長および反射率を制御し、金属光沢調フィルムとすることもできる。これらのうち、光学反射フィルムが遮蔽しうる光線は、波長２００ｎｍ〜１０００μｍの紫外線〜赤外線領域の光線であることが好ましく、２５０〜２５００ｎｍの波長を有する光線であることがより好ましく、波長７００〜１２００ｎｍの近赤外線領域の光線であることがより好ましい。
【００４１】
さらに光学反射フィルムの代表的な例として、以下において赤外遮蔽フィルムについて説明するが、本発明を限定するものではない。
【００４２】
赤外遮蔽フィルムは、基材上に光学機能層として赤外線反射層を有する。赤外線反射層は屈折率の異なる２つの層、すなわち、高屈折率層と低屈折率層とから構成されるユニットを少なくとも１つ含むことが好ましい。たとえば、高屈折率層と低屈折率層とがそれぞれ金属酸化物粒子を含む場合、低屈折率層に含まれる金属酸化物粒子（以下、「第１の金属酸化物粒子」と称する）と、高屈折率層に含まれる金属酸化物粒子（以下、「第２の金属酸化物粒子」と称する）と、が２つの層の界面で混合され、第１の金属酸化物粒子と第２の金属酸化物粒子とを含む層が形成される場合がある。その場合、第１の金属酸化物粒子と第２の金属酸化物粒子との存在比により低屈折率層または高屈折率層とみなす。具体的には、低屈折率層とは、第１の金属酸化物粒子と第２の金属酸化物粒子との合計質量に対して、第１の金属酸化物粒子が、５０〜１００質量％で含まれる層を意味する。高屈折率層とは、第１の金属酸化物粒子と第２の金属酸化物粒子との合計質量に対して、第２の金属酸化物粒子が、５０質量％を超えて１００質量％以下で含まれる層を意味する。なお、屈折率層に含まれる金属酸化物粒子の種類および量は，エネルギー分散型Ｘ線分光法（ＥＤＸ）により分析できる。
【００４３】
金属酸化物粒子としては、特に制限されないが、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、フッ化カルシウム（ＣａＦ２）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化アンチモンスズ（ＡＴＯ）等が挙げられる。これらのうち、高屈折率層用塗布液に含まれる第２の金属酸化物粒子として酸化チタン（ＴｉＯ２）を、低屈折率層用塗布液に含まれる第１の金属酸化物粒子として酸化ケイ素（ＳｉＯ２）を、それぞれ用いることが好ましい。
【００４４】
さらに、酸化チタン粒子を含ケイ素の水和酸化物で被覆してもよい。含ケイ素の水和化合物の被覆量は、好ましくは３〜３０質量％、より好ましくは３〜１０質量％、さらに好ましくは３〜８質量％である。被覆量が３０質量％以下であると、高屈折率層の所望の屈折率が得られ、被覆量が３質量％以上であると粒子を安定に形成することができる。
【００４５】
酸化チタン粒子を含ケイ素の水和酸化物で被覆する方法としては、従来公知の方法により製造することができる。たとえば、特開平１０−１５８０１５号公報（ルチル型酸化チタンへのＳｉ／Ａｌ水和酸化物処理；チタン酸ケーキのアルカリ領域での解膠後酸化チタンの表面にケイ素および／またはアルミニウムの含水酸化物を析出させて表面処理する酸化チタンゾルの製造方法）、特開２０００−２０４３０１号公報（ルチル型酸化チタンにＳｉとＺｒおよび／またはＡｌの酸化物との複合酸化物を被覆したゾル。水熱処理。）、特開２００７−２４６３５１号公報（含水酸化チタンを解膠して得られる酸化チタンのヒドロゾルへ、安定剤として式Ｒ１ｎＳｉＸ４−ｎ（式中Ｒ１はＣ１−Ｃ８アルキル基、グリシジルオキシ置換Ｃ１−Ｃ８アルキル基またはＣ２−Ｃ８アルケニル基、Ｘはアルコキシ基、ｎは１または２である）のオルガノアルコキシシランまたは酸化チタンに対して錯化作用を有する化合物を添加、アルカリ領域でケイ酸ナトリウムまたはシリカゾルの溶液へ添加・ｐＨ調整・熟成することにより、ケイ素の含水酸化物で被覆された酸化チタンヒドロゾルを製造する方法）等に記載された事項である。
【００４６】
一般に、赤外遮蔽フィルムにおいては、低屈折率層と高屈折率層との屈折率の差を大きく設計することが、少ない層数で赤外反射率を高くできるという観点から好ましい。赤外遮蔽フィルムでは、低屈折率層および高屈折率層から構成されるユニットの少なくとも１つにおいて、隣接する低屈折率層と高屈折率層との屈折率差が０．１以上であることが好ましく、より好ましくは０．３以上であり、さらに好ましくは０．３５以上であり、特に好ましくは０．４以上である。赤外遮蔽フィルムが高屈折率層および低屈折率層のユニットを複数有する場合には、全てのユニットにおける高屈折率層と低屈折率層との屈折率差が上記好適な範囲内にあることが好ましい。ただし、最表層や最下層に関しては、上記好適な範囲外の構成であってもよい。また、赤外遮蔽フィルムにおいては、低屈折率層の好ましい屈折率は１．１０〜１．６０であり、より好ましくは１．３０〜１．５０である。また、高屈折率層の好ましい屈折率は１．８０〜２．５０であり、より好ましくは１．９０〜２．２０である。
【００４７】
高屈折率層および低屈折率層の屈折率は、下記の方法に従って求められる。
【００４８】
基材上に屈折率を測定する各屈折率層を単層で塗設したサンプルを作製し、このサンプルを１０ｃｍ×１０ｃｍに断裁した後、下記の方法に従って屈折率を求める。分光光度計として、Ｕ−４０００型（株式会社日立製作所製）を用いて、各サンプルの測定側の裏面を粗面化処理した後、黒色のスプレーで光吸収処理を行って裏面での光の反射を防止して、５度正反射の条件にて可視光領域（４００ｎｍ〜７００ｎｍ）の反射率を２５点測定して平均値を求め、その測定結果より平均屈折率を求める。
【００４９】
特定波長領域の反射率は、隣接する２層の屈折率差と積層数で決まり、屈折率の差が大きいほど、少ない層数で同じ反射率を得られる。この屈折率差と必要な層数については、市販の光学設計ソフトを用いて計算できる。たとえば、赤外反射率９０％以上を得るためには、屈折率差が０．１より小さいと、２００層以上の積層が必要になり、生産性が低下するだけでなく、積層界面での散乱が大きくなり、透明性が低下し、また故障なく製造することも難しくなる。反射率の向上と層数を少なくするという観点からは、屈折率差に上限はないが、実質的には１．４程度が限界である。
【００５０】
赤外遮蔽フィルムの層数としては、たとえば、１０〜４０層、好ましくは１０〜３４層、より好ましくは１０〜２６層である。また、赤外遮蔽フィルムは、たとえば、積層膜の最表層や最下層のどちらも高屈折率層または低屈折率層となる積層膜であってもよい。また赤外遮蔽フィルムとしては、基材に隣接する最下層が低屈折率層で、最表層も低屈折率層である層構成が好ましい。
【００５１】
赤外遮蔽フィルムの全体の厚みは、好ましくは１２μｍ〜３１５μｍ、より好ましくは１５μｍ〜２００μｍ、さらに好ましくは２０μｍ〜１５０μｍである。また、最下層を除く低屈折率層の１層あたりの乾燥後の膜厚は、３０〜５００ｎｍであることが好ましく、３０〜３００ｎｍであることがより好ましい。一方、最下層を除く高屈折率層の１層あたりの乾燥後の膜厚は、３０〜５００ｎｍであることが好ましく、３０〜３００ｎｍであることがより好ましい。最下層の乾燥後の膜厚は、最下層が低屈折率層であるか高屈折率層であるかに関わらず、３００〜１５００ｎｍであることが好ましく、４００〜１２００ｎｍであることがより好ましい。
【００５２】
さらには、赤外遮蔽フィルムの光学特性として、ＪＩＳ  Ｒ３１０６：１９９８で示される可視光領域の透過率は好ましくは５０％以上、より好ましくは７５％以上、さらに好ましくは８５％以上であり、また、波長９００ｎｍ〜１４００ｎｍの領域に反射率５０％を超える領域を有することが好ましい。
【００５３】
赤外遮蔽フィルムは、基材の下または基材と反対側の最表面層の上に、さらなる機能の付加を目的として、導電性層、帯電防止層、ガスバリア層、易接着層（接着層）、防汚層、消臭層、流滴層、易滑層、ハードコート層、耐摩耗性層、反射防止層、電磁波シールド層、紫外線吸収層、赤外吸収層、印刷層、蛍光発光層、ホログラム層、剥離層、粘着層、接着層、本発明の高屈折率層および低屈折率層以外の赤外線カット層（金属層、液晶層）、着色層（可視光線吸収層）、合わせガラスに利用される中間膜層などの機能層の１つ以上を有していてもよい。
【００５４】
低屈折率層用塗布液および高屈折率層用塗布液としては、塗布後に塗膜をセットさせて層間の混合を抑制できるという点から、ポリビニルアルコール類などの水溶性高分子と、水または水と水溶性有機溶剤とを含む水系溶媒とを含む水系塗布液を用いることが好ましい。
【００５５】
塗布液の固形分の濃度は０．１〜１０質量％であることが好ましく、０．１〜５質量％であることがより好ましい。この範囲であると、固形分が低く塗布液の均一性が高いため、より膜厚均一性が向上すると考えられるからである。
【００５６】
低屈折率層用塗布液中の水溶性高分子の濃度は、０．１〜１０質量％であることが好ましい。また、低屈折率層用塗布液中の第１の金属酸化物粒子の濃度は、１〜６０質量％であることが好ましい。
【００５７】
高屈折率層用塗布液中の水溶性高分子の濃度は、０．５〜１０質量％であることが好ましい。また、高屈折率層用塗布液中の第２の金属酸化物粒子の濃度は、１〜６０質量％であることが好ましい。
【００５８】
なお、高屈折率層用塗布液に用いられる第２の金属酸化物粒子は、塗布液を調製する前に、別途、分散液の状態に調製したものを用いることが好ましい。すなわち、体積平均粒径が１００ｎｍ以下のルチル型の酸化チタンを添加、分散して調製した水系の高屈折率層用塗布液を用いて、高屈折率層を形成することが好ましい。さらに、含ケイ素の水和酸化物で被覆された酸化チタン粒子を添加、分散して調製した水系の高屈折率層用塗布液を用いて、高屈折率層を形成することがより好ましい。分散液を用いる場合は、各層において任意の濃度となるように分散液を適宜添加すればよい。
【００５９】
（溶媒）
高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液を調製するための溶媒は、特に制限されないが、水、有機溶媒、またはその混合溶媒が好ましい。
【００６０】
有機溶媒としては、たとえば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−ブタノールなどのアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのエステル類、ジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル類、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド類、アセトン、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、シクロヘキサノンなどのケトン類などが挙げられる。これら有機溶媒は、単独でもまたは２種以上組み合わせて用いてもよい。
【００６１】
環境面、操作の簡便性などから、塗布液の溶媒としては、特に水、または水とメタノー
ル、エタノール、もしくは酢酸エチルとの混合溶媒が好ましい。
【００６２】
（水溶性高分子）
水溶性高分子としては、たとえば、ポリビニルアルコール類、ポリビニルピロリドン類、ポリビニルブチラール、ポリアクリル酸、アクリル酸−アクリルニトリル共重合体、アクリル酸カリウム−アクリルニトリル共重合体、酢酸ビニル−アクリル酸エステル共重合体、もしくはアクリル酸−アクリル酸エステル共重合体などのアクリル系樹脂、スチレン−アクリル酸共重合体、スチレン−メタクリル酸共重合体、スチレン−メタクリル酸−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−α−メチルスチレン−アクリル酸共重合体、もしくはスチレン−α−メチルスチレン−アクリル酸−アクリル酸エステル共重合体などのスチレンアクリル酸樹脂、スチレン−スチレンスルホン酸ナトリウム共重合体、スチレン−２−ヒドロキシエチルアクリレート共重合体、スチレン−２−ヒドロキシエチルアクリレート−スチレンスルホン酸カリウム共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ビニルナフタレン−アクリル酸共重合体、ビニルナフタレン−マレイン酸共重合体、酢酸ビニル−マレイン酸エステル共重合体、酢酸ビニル−クロトン酸共重合体、酢酸ビニル−アクリル酸共重合体などの酢酸ビニル系共重合体およびそれらの塩などの合成水溶性高分子；ゼラチン、増粘多糖類などの天然水溶性高分子などが挙げられる。これらの中で、特に好ましい例としては、製造時のハンドリングと膜の柔軟性の点から、ポリビニルアルコール類、ポリビニルピロリドン類、およびそれらを含有する共重合体、ポリビニルブチラール、ゼラチン、増粘多糖類（特にセルロース類）が挙げられる。これらの水溶性高分子は、単独で用いてもよいし２種以上併用して用いてもよい。
【００６３】
ポリビニルアルコールには、ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のポリビニルアルコールの他に、変性ポリビニルアルコールも含まれる。変性ポリビニルアルコールとしては、カチオン変性ポリビニルアルコール、アニオン変性ポリビニルアルコール、ノニオン変性ポリビニルアルコール、ビニルアルコール系ポリマーが挙げられる。
【００６４】
ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られるポリビニルアルコールは、平均重合度が１，０００以上のものが好ましく用いられ、特に平均重合度が１，５００〜５，０００のものが好ましく、２，０００〜５，０００のものがより好ましく用いられる。ポリビニルアルコールの重合度が１，０００以上であると塗布膜のひび割れがなく、５，０００以下であると塗布液が安定するからである。なお、塗布液が安定するとは塗布液が経時的に安定することを意味する。以下、同様である。
【００６５】
また、鹸化度は、７０〜１００％のものが好ましく、８０〜９９．５％のものが水への溶解性の点でより好ましい。また、鹸化度の異なる複数の水溶性高分子を用いてもよい。
【００６６】
たとえば、平均重合度が１，０００以上のポリビニルアルコールに加えて、重合度が１００〜５００で鹸化度が９５ｍｏｌ％以上である低重合度高鹸化ポリビニルアルコールを高屈折率層および低屈折率層の少なくとも一方が含むことが好ましい。このような低重合度高鹸化ポリビニルアルコールを含有させることにより、塗布液の安定性が向上する。
【００６７】
さらに本発明の効果を損なわない限りにおいて、高屈折率層および低屈折率層の少なくとも一方は、ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のポリビニルアルコールの他に、一部が変性された変性ポリビニルアルコールを含んでもよい。このような変性ポリビニルアルコールとしては、カチオン変性ポリビニルアルコール、アニオン変性ポリビニルアルコール、ノニオン変性ポリビニルアルコール、ビニルアルコール系ポリマー等が挙げられる。
【００６８】
カチオン変性ポリビニルアルコールとしては、たとえば、特開昭６１−１０４８３号公報に記載されているような、第一〜三級アミノ基や第四級アンモニウム基を上記ポリビニルアルコールの主鎖または側鎖中に有するポリビニルアルコールであり、カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体と酢酸ビニルとの共重合体を鹸化することにより得られる。
【００６９】
カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体としては、たとえば、トリメチル−（２−アクリルアミド−２，２−ジメチルエチル）アンモニウムクロライド、トリメチル−（３−アクリルアミド−３，３−ジメチルプロピル）アンモニウムクロライド、Ｎ−ビニルイミダゾール、Ｎ−ビニル−２−メチルイミダゾール、Ｎ−（３−ジメチルアミノプロピル）メタクリルアミド、ヒドロキシルエチルトリメチルアンモニウムクロライド、トリメチル−（２−メタクリルアミドプロピル）アンモニウムクロライド、Ｎ−（１，１−ジメチル−３−ジメチルアミノプロピル）アクリルアミド等が挙げられる。カチオン変性ポリビニルアルコールのカチオン変性基含有単量体の比率は、酢酸ビニルに対して好ましくは０．１〜１０ｍｏｌ％、より好ましくは０．２〜５ｍｏｌ％である。
【００７０】
アニオン変性ポリビニルアルコールは、たとえば、特開平１−２０６０８８号公報に記載されているようなアニオン性基を有するポリビニルアルコール、特開昭６１−２３７６８１号公報および同６３−３０７９７９号公報に記載されているような、ビニルアルコールと水溶性基を有するビニル化合物との共重合体および特開平７−２８５２６５号公報に記載されているような水溶性基を有する変性ポリビニルアルコールが挙げられる。
【００７１】
また、ノニオン変性ポリビニルアルコールとしては、たとえば、特開平７−９７５８号公報に記載されているようなポリアルキレンオキサイド基をビニルアルコールの一部に付加したポリビニルアルコール誘導体、特開平８−２５７９５号公報に記載されている疎水性基を有するビニル化合物とビニルアルコールとのブロック共重合体、シラノール基を有するシラノール変性ポリビニルアルコール、アセトアセチル基やカルボニル基、カルボキシル基などの反応性基を有する反応性基変性ポリビニルアルコール等が挙げられる。
【００７２】
これらポリビニルアルコール類は、単独でも、または重合度や変性の種類違いなどの２種以上を併用してもよい。また、ポリビニルアルコール類は、市販品を用いてもよいし合成品を用いてもよい。市販品の例としては、たとえば、ＰＶＡ−１０２、ＰＶＡ−１０３ＰＶＡ−１０５、ＰＶＡ−１１０、ＰＶＡ−１１７、ＰＶＡ−１２０、ＰＶＡ−１２４、ＰＶＡ−１３５、ＰＶＡ−２０３、ＰＶＡ−２０５、ＰＶＡ−２１０、ＰＶＡ−２１７、ＰＶＡ−２２０、ＰＶＡ−２２４、ＰＶＡ−２３５、ＰＶＡ−６１７等のポバール（株式会社クラレ製）、エクセバール（登録商標、株式会社クラレ製）、ニチゴーＧポリマー（登録商標、日本合成化学工業株式会社製）等が挙げられる。
【００７３】
（添加剤）
低屈折率層用塗布液および高屈折率層用塗布液には、必要に応じて各種添加剤を添加してもよい。以下、添加剤について説明する。
【００７４】
（硬化剤）
低屈折率層および高屈折率層においては、硬化剤を添加することが好ましい。硬化剤の例としては、たとえば、上記の水溶性高分子として好適なポリビニルアルコールと硬化反応を起こす硬化剤が挙げられる。具体的には、ホウ酸およびその塩が好ましい。ホウ酸およびその塩以外にも公知のものが使用でき、一般的にはポリビニルアルコール類と反応し得る基を有する化合物あるいはポリビニルアルコール類が有する異なる基同士の反応を促進するような化合物であり、適宜選択して用いられる。ホウ酸およびその塩以外の硬化剤の具体例としては、たとえば、エポキシ系硬化剤（ジグリシジルエチルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ジグリシジルシクロヘキサン、Ｎ，Ｎ−ジグリシジル−４−グリシジルオキシアニリン、ソルビトールポリグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル等）、アルデヒド系硬化剤（ホルムアルデヒド、グリオキザール等）、活性ハロゲン系硬化剤（２，４−ジクロロ−４−ヒドロキシ−１，３，５−ｓ−トリアジン等）、活性ビニル系化合物（１，３，５−トリスアクリロイル−ヘキサヒドロ−ｓ−トリアジン、ビスビニルスルホニルメチルエーテル等）、アルミニウム明礬等が挙げられる。
【００７５】
ホウ酸およびその塩とは、硼素原子を中心原子とする酸素酸およびその塩のことをいい、具体的には、オルトホウ酸、二ホウ酸、メタホウ酸、四ホウ酸、五ホウ酸および八ホウ酸およびそれらの塩が挙げられる。
【００７６】
硬化剤としてのホウ素原子を有するホウ酸およびその塩は、単独の水溶液でも、また、２種以上を混合して使用してもよい。特に好ましいのはホウ酸とホウ砂との混合水溶液である。
【００７７】
ホウ酸とホウ砂との水溶液は、それぞれ比較的希薄な水溶液でしか添加できないが両者を混合することで濃厚な水溶液にすることができ、塗布液を濃縮できる。また、添加する水溶液のｐＨを比較的自由にコントロールできる利点がある。
【００７８】
ホウ酸およびその塩ならびに／またはホウ砂を用いることは、同時重層塗布において、層間混合をより抑制するという観点から好ましい。ホウ酸およびその塩ならびに／またはホウ砂を用いた場合には、金属酸化物粒子と水溶性バインダー樹脂であるポリビニルアルコール類のＯＨ基とが水素結合ネットワークを形成し、その結果として高屈折率層と低屈折率層との層間混合が抑制され、好ましい近赤外遮蔽特性が達成されると考えられる。特に、高屈折率層と低屈折率層との多層重層をコーターで塗布後、一旦塗膜の膜面温度を１５℃程度に冷やした後、膜面を乾燥させるセット系塗布プロセスを用いた場合には、より好ましく効果を発現させることができる。
【００７９】
硬化剤の総使用量は、ポリビニルアルコール類１ｇ当たり１〜６００ｍｇが好ましく、ポリビニルアルコール類１ｇ当たり１００〜６００ｍｇがより好ましい。
【００８０】
そのほか、高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液に添加可能な各種の添加剤を、以下に列挙する。たとえば、特開昭５７−７４１９３号公報、特開昭５７−８７９８８号公報、および特開昭６２−２６１４７６号公報に記載の紫外線吸収剤、特開昭５７−７４１９２号、特開昭５７−８７９８９号公報、特開昭６０−７２７８５号公報、特開昭６１−１４６５９１号公報、特開平１−９５０９１号公報、および特開平３−１３３７６号公報等に記載されている退色防止剤、アニオン、カチオンまたはノニオンの各種界面活性剤、特開昭５９−４２９９３号公報、特開昭５９−５２６８９号公報、特開昭６２−２８００６９号公報、特開昭６１−２４２８７１号公報、および特開平４−２１９２６６号公報等に記載されている蛍光増白剤、硫酸、リン酸、酢酸、クエン酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、酢酸ナトリウム等のｐＨ調整剤、消泡剤、ジエチレングリコール等の潤滑剤、防腐剤、防黴剤、帯電防止剤、マット剤、熱安定剤、酸化防止剤、難燃剤、結晶核剤、無機粒子、有機粒子、減粘剤、滑剤、赤外線吸収剤、色素、顔料等の公知の各種添加剤などが挙げられる。
【００８１】
次に、本実施形態の作用について説明する。ここでは、本実施形態の理解のために、まず、同時重層塗布のための塗布装置について説明する。
【００８２】
図３は同時重層塗布を行ための塗布装置の全体構成を示す概略図である。また、図４は塗布装置の塗布部の細部を示す概略図である。なお、このような塗布装置は、本発明を実施するために使用する塗布装置の一例であって、本発明がこのような塗布装置を使用する場合に限定されるものではない。
【００８３】
塗布装置１００は、図３に示すように、塗布液を貯めておく貯留部２０１〜２０４と、貯留部２０１〜２０４からそれぞれ供給される塗布液を基材２０上に同時重層塗布するダイコーター１２０（塗布部）と、貯留部２０１〜２０４からの塗布液をダイコーター１２０へ配給する塗布液供給系１５０と、基材２０を搬送する搬送系１１０とを有する。
【００８４】
貯留部２０１〜２０４は、塗布液をダイコーター１２０へ安定供給するために一時的に貯めておくための設備である。塗布液は様々な成分が混合されている。それら成分の混合、調製は別の場所（装置）で行われるか、または各貯留部においてそれぞれ必要な成分が混合されることもある。
【００８５】
ダイコーター１２０は、スライド型であり、光学フィルムの各層に対応する塗布層を同時重層塗布する。このためにダイコーター１２０は、長方形状のバー１３０が順に重ねられた積層体１２２を有する。
【００８６】
バー１３０は、フロントバー１３２、複数の中間バー１３４およびバックバー１３６から構成される。フロントバー１３２は、積層体１２２の最下層を占めているバー１３０であり、基材２０の近傍に位置決めされる。バックバー１３６は、積層体１２２の最上層を占めているバー１３０である。中間バー１３４は、フロントバー１３２とバックバー１３６との間に位置する中間層を占めているバー１３０である。なお、塗布幅方向は、搬送方向（図中矢印Ｆ）と直交している。
【００８７】
バー１３０は、図４に示されるように、基端部１４０、ポケット部１４３および先端部１４６を有する。
【００８８】
基端部１４０は、塗布液供給系１５０と連通している貫通孔１４２を有する。貫通孔１４２は、基端部１４０の塗布幅方向中央に位置し、基端部１４０の端面からポケット部１４３に向かって延長している。
【００８９】
基端部１４０の厚みｔ１は、先端部１４６の厚みｔ２より大きく設定されている。したがって、バー１３０が積層されると、基端部１４０は、隣接する別のバー１３０の基端部１４０と当接する。一方、先端部１４６と隣接する別のバー１３０の先端部１４６との間には、厚みｔ１−ｔ２となるスリット（隙間）１４８が形成される。
【００９０】
スリット１４８は、塗布液が通過する通路として機能する。塗布液は、このスリット１４８の先端から吐出され、先端部１４６の端面１４７を流下する。したがって、端面１４７は、塗布液が流下するスライド面として機能する。スリット１４８の設置数は、光学フィルムの層数に一致しており、光学フィルムの層数に応じて、中間バー１３４の数が調整されることになる。
【００９１】
ポケット部１４３は、バー１３０の塗布幅方向に延在して形成される凹部１４４を有する。凹部１４４は、スリット１４８および貫通孔１４２に連通している塗布液溜まり部である。ポケット部１４３は、塗布液を塗布幅方向に均等に広げて、スリット１４８に安定的に供給するために使用される。
【００９２】
塗布液供給系１５０は、ダイコーター１２０（積層体１２２のバー１３０）の貫通孔１４２に連通している配管系１５１〜１５４を有する。
【００９３】
ここで、図３に示した塗布装置では、最下層用塗布液を貯留部２０１から供給し、中間層用の１つの層（たとえば低屈折率層）の塗布液を貯留部２０２から供給し、隣接する他の中間層用の１つの層（たとえば高屈折率層）の塗布液を貯留部２０３から供給し、最上層用塗布液を貯留部２０４から供給するようになっている。このため各配管は以下のように配設されている。配管系１５１は送液装置１５６を介して貯留部２０１に接続されている。配管系１５２は送液装置１５７を介して貯留部２０２に接続されている。配管系１５３は送液装置１５８を介して貯留部２０３に接続されている。配管系１５４は送液装置１５９を介して貯留部２０４に接続されている。
【００９４】
なお、このような各貯留部と各配管系の接続関係は、塗布層として所望する各層塗布液に応じて自在に変更すればよく、このような接続形態に限定されるものではない。
【００９５】
配管系１５１〜１５４は、その経路中に、たとえば濾過装置、流量計等を適宜配置することも可能である（いずれも不図示）。濾過装置は、塗布液に混入した異物や塗布液成分の凝集体等を除去するために使用される。流量計は、配管系を通過する塗布液の流量を計測するために使用される。流量計は、たとえば、フラップ式、熱線式、カルマン渦式、負圧感知方式を適用することが可能である。流量計に加えて、あるいは流量計の替わりに、塗布液の圧力を計測する圧力計を配置することも可能である。
【００９６】
塗布液が水系の場合は、経路中にさらに分散装置を配置することが好ましい。分散装置は、塗布液に分散処理（せん断処理を含む）を施すことにより、水溶性高分子の分子間および分子内の末端基による結合（ファンデルワールス結合等）を切断し、分子どうしの絡み合いを解消し、塗布液の物性を調製するために使用される。分散装置は、たとえば、マイルダー分散機、圧力式ホモジナイザー、高速回転せん断型ホモジナイザーである。
【００９７】
塗布液は、ポケット部１４３の凹部１４４において塗布幅方向に均等に広げられて、スリット１４８に導入される。スリット１４８を通過した塗布液は、図４に示されるように、バー１３０の先端部１４６の端面１４７を流下し、下方に位置する別のバー１３０の先端部１４６の端面１４７を流下する塗布液と順次重なる。そして、流下する塗布液は、フロントバー１３２のスリット１４８を通過した塗布液と重なった時点において、光学フィルムの層数に一致する層から構成されることになる。
【００９８】
そして、塗布液は、最下層のバー１３０であるフロントバー１３２から離間し、基材２０に流下し、同時重層塗布されて塗膜４０を形成する。
【００９９】
必要に応じ、同時重層塗布の直後に、塗布液の粘性を高める（増粘させる）増粘工程を配置し、層間混合を抑制することも可能である。塗布後塗布液の増粘は、冷却、液体窒素による瞬間凍結乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥等が適用される。たとえば、スライド面を流れる塗布液に対し冷却風を吹きつけることによって塗布液を冷却したり、冷却されたバックロール１１２と基材２０とが接触することによって、基材２０上の塗布液を間接的に冷却したり、スライド面を流れる塗布液に対し熱風を吹きつけあるいは赤外線ヒータにより加熱することによって塗布液を乾燥したり、バックロール１１２の直後に加熱／減圧乾燥ゾーンを設けることにより、塗布液を乾燥したりすることによって、塗布液の粘性を高める（増粘させる）ことが可能である。
【０１００】
搬送系１１０は、バックロール１１２を有する。バックロール１１２は、基材２０の内側に配置され、回転駆動されることによって、基材２０を搬送するように構成されている。矢印Ｆは、基材２０の搬送方向を示している。搬送速度は、たとえば、５〜２００ｍ／ｍｉｎである。この搬送速度はそのまま同時重層塗布における塗布速度ということになる。５ｍ／ｍｉｎ以上であれば液量が少なくなって塗膜の厚さが不均一になることはなく、また２００ｍ／ｍｉｎ未満であれば、速度が速すぎて乾燥工程で乾かなくなることもない。なお、バックロール１１２の近傍には、基材２０を吸引し、その形状の歪みを矯正する減圧機構を配置してもよい。これによりダイコーター１２０と基材２０との間のクリアランス精度を向上させることができる。
【０１０１】
搬送系１１０の下流には、図示しない乾燥装置が設けられている。塗布液および基材２０は、塗布時に昇温されているため、基材２０に塗布された塗布液は、一旦１〜１５℃に冷却され、その後、１０℃以上（たとえば、湿球温度５〜５０℃かつ塗布面温度１０〜５０℃）で乾燥される。この乾燥装置によって塗膜４０を乾燥させることで、基材２０上に塗布層３０が形成された光学フィルムが出来上がる。
【０１０２】
次に、本実施形態の作用を説明する。図５は同時重層塗布の開始時において塗布液が基材に接触する瞬間を説明するための模式図である。図６は同時重層塗布において塗布液が基材に接触した後の状態を説明するための模式図である。なお、図５および図６は図の下方向が鉛直下方向である。
【０１０３】
図５に示すように、同時重層塗布においては、塗布の初め、重層された塗布液３００を送り出した時点ではダイコーター１２０の先端部１４６側から塗布液３００が垂れ下がるようにして流れ出てくる。そしてこの塗布液３００が基材２０と接触する。重層された塗布液３００が基材２０に接触した瞬間は、最上層３５２となる塗布液３００が最初に基材２０に接触する。この瞬間において、中間層３５３や最下層３５１は基材２０と接触してない。
【０１０４】
その後、図６に示すように、時間経過により基材２０が移動すると、最上層３５２に引き込まれるようにして、中間層３５３部分、続いて最下層３５１が基材２０と接触して行く。
【０１０５】
このことから、たとえば、最上層３５２の塗布液３００が最初に基材２０に接触した時点で、最上層３５２の厚さに乱れが生じた場合や、部分的なかすれやスジなどが発生すると、中間層３５３や最下層３５１にもその影響が出て、全体的なの塗布ムラの原因となる場合がある。
【０１０６】
本実施形態は、最上層３５２の塗布液３００も初期接触角７０度以下とすることで、最初に、基材２０に対して最上層３５２の塗布液３００が接触した瞬間から塗布液３００を均一な厚さで塗布ムラなく塗布できるようになる。したがって、最上層３５２の後から塗布されて行く中間層３５３、最下層３５１も均一な厚さで塗布ムラなく重層化されて塗布されるようになる。
【０１０７】
その後、各層の塗布液３００が全て基材２０と接触した後（図６の後）は、図４に示したように、最下層３５１が常に基材２０と接するようになる。このため、最下層３５１の塗布液３００の初期接触角を７０度以下とすることにより、連続塗布されている最中の塗膜４０が均一な厚さで塗布されて、出来上がった塗布層３０の塗布ムラが抑制されるのである。
【０１０８】
このように本実施形態は、同時に複数の層を高速塗布することができる同時重層塗布において、塗布ムラの発生を抑制することができるようになる。また、それによって得られた光学フィルムは、光学機能層となる部分の塗膜が均一な厚さで、スジなどの故障もないので外観（アピアランス）の良い製品となる。
【実施例】
【０１０９】
以下、上述した実施形態に沿って実際に行った実験結果を実施例として説明する。また比較のために実施形態を適用しなかった場合の実験結果を比較例として説明する。
【０１１０】
実施例および比較例の光学フィルムは、低屈折率層用塗布液および高屈折率層用塗布液を調製し、これら２種の塗布液を基材上に同時重層塗布して赤外遮蔽フィルムを作製した。
【０１１１】
［最下層、最上層用塗布液の調製］
（塗布液前駆体１の調製）
コロイダルシリカ（スノーテックスＯＸＳ、日産化学工業株式会社製、固形分１０質量％）１２００質量部に、５質量％ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−１０３、重合度３００、鹸化度９８．５ｍｏｌ％、株式会社クラレ製）水溶液２００質量部、３質量％ホウ酸水溶液１０００質量部をそれぞれ添加した後、４５℃に加熱し、撹拌しながら、５質量％ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−１１７、重合度１７００、鹸化度９８．５ｍｏｌ％、株式会社クラレ製）水溶液２０００質量部、純水１０５００質量部を加えて塗布液前駆体１を１５０００質量部調製した。
【０１１２】
（塗布液前駆体２の調製）
コロイダルシリカを２４００質量部に、５質量％ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−１０３）水溶液を４００質量部に、３質量％ホウ酸水溶液を１５００質量部に、５質量％ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−１１７）水溶液を４０００質量部に、純水を６６００質量部に変更したことを除いては、塗布液前駆体１と同様に塗布液前駆体２を調製した。
【０１１３】
（活性剤、アルコールの添加）
調製した塗布液前駆体１〜２について、５質量％界面活性剤（ソフダゾリン  ＬＭＥＢ−Ｒ、川研ファインケミカル株式会社製）、イソプロピルアルコールをそれぞれ表１に示す添加量となるように添加して、塗布液を調製した。
【０１１４】
（せん断処理）
界面活性剤およびアルコールを添加して調製した塗布液について、せん断処理を行い、塗布液を調製した。せん断処理の詳細は以下のとおりである。
【０１１５】
せん断処理
高速撹拌型分散装置であるクレアミックスＣＬＭ−０．８Ｓ（エム・テクニック株式会社製）を用いてせん断処理を行った。塗布液はロータリーポンプを用いて１Ｌ／ｍｉｎの流量で分散用処理容器（３５０ｃｃベッセル）に供給した。せん断処理は、回転数１８０００ｒｐｍで行い、ローターにはＲ２を、スクリーンにはＳ２．０−２４をそれぞれ用いた。
【０１１６】
（基材の準備）
塗布用基材としては、厚さ５０μｍのＰＥＴ基材（コスモシャインＡ４３００、東洋紡績株式会社製）を使用した。
【０１１７】
（初期接触角の測定）
上記で得られた塗布液について、接触角計ＬＳＥ−Ｂ１００Ｗ（Ｎｉｃｋ社製）に塗布液サンプルと、室温下に２４ｈ以上放置した塗布用ＰＥＴ基材をセットし、室温下で接触角を測定し、５０ｍｓｅｃでの接触角の値を抽出した。この抽出の結果、初期接触角７０度以下のものを実施例、７０度を超えるものを比較例とした。
【０１１８】
［高屈折率層用塗布液の調製］
１５．０質量％酸化チタンゾル（ＳＲＤ−Ｗ、体積平均粒径５ｎｍ、ルチル型二酸化チタン粒子、堺化学工業株式会社製）５０００質量部に純水２００００質量部を加えた後、９０℃に加熱した。次いで、ケイ酸水溶液（ケイ酸ソーダ４号（日本化学工業株式会社製）をＳｉＯ２濃度が２．０質量％となるように純水で希釈したもの）１３０００質量部を徐々に添加し、オートクレーブ中、１７５℃で１８時間加熱処理を行った。冷却後、限外濾過膜にて濃縮することにより、固形分濃度が２０質量％であるＳｉＯ２が表面に付着した二酸化チタンゾル（以下、アニオン処理された二酸化チタンゾル）を得た。
【０１１９】
アニオン処理された二酸化チタンゾル（固形分２０．０質量％）３０００質量部に、５質量％ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−１０３、重合度３００、鹸化度９８．５ｍｏｌ％、株式会社クラレ製）水溶液２００質量部、３質量％ホウ酸水溶液１０００質量部、２質量％クエン酸水溶液１０００質量部をそれぞれ添加した後、４５℃に加熱し、撹拌しながら、５質量％ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−６１７、重合度１７００、鹸化度９５．０ｍｏｌ％、株式会社クラレ製）水溶液２０００質量部、１質量％界面活性剤（ラピゾールＡ３０、日油株式会社製）水溶液１００質量部を添加し、純水２７００質量部を加えて高屈折率層用塗布液を１００００質量部調製した。なお、得られた高屈折率層用塗布液の平均曳糸長さは、０ｃｍであった。
［低屈折率層用塗布液の調製］
コロイダルシリカを１８００質量部に、５質量％ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−１０３）水溶液を３００質量部に、３質量％ホウ酸水溶液を１２５０質量部に、５質量％ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−１１７）水溶液を３０００質量部に、純水を３５５０質量部に変更したことを除いては、塗布液前駆体１と同様に塗布液前駆体を調製した。その前駆体に対し、前記、せん断処理を行ったものを塗布液とした。
【０１２０】
［赤外遮蔽フィルムの作製］
最下層用として調製した塗布液を最下層に配置し、高屈折率層塗布液と低屈折率層用塗布液を４５℃に保温しながら、厚さ５０μｍのＰＥＴ基材（コスモシャインＡ４３００、東洋紡績株式会社製）上に、低屈折率層と高屈折率層とがそれぞれ交互に９層積層されるように、スライドホッパー塗布装置を用いて速度６ｍ／ｍｉｎで９層同時塗布を行い、得られた塗膜を乾燥させて赤外遮蔽フィルムを作製した。乾燥時の平均膜厚が低屈折率層は各層１５０ｎｍであり、高屈折率層は各層１５０ｎｍであった。
【０１２１】
［赤外遮蔽フィルムの評価］
作製した赤外遮蔽フィルムについて、下記の性能評価を行った。
【０１２２】
（貼付窓ガラス視認性評価）
製膜したフィルムを窓ガラスに貼りつけ、目視で、窓の外の視認性を各実施例および各比較例ともにサンプル数Ｎ＝２０で評価した。
【０１２３】
◎：全てのフィルムで視認性問題無し、
○：１８枚以上のフィルムで視認性問題無し、
△：１０枚以上のフィルムで視認性問題無し、
×：視認性問題無しのフィルムが１０枚未満である。
【０１２４】
得られた結果を下記表１に示す。なお、表１中界面活性剤は「活性剤」と記した。
【０１２５】
【表１】
0006658255.tif 000002
【０１２６】
表１から、最下層の塗布液の初期接触角が７０以下である実施例１〜１３はいずれも、最下層の塗布液の初期接触角が７０度を超えている比較例１〜３よりも、貼付窓ガラス視認性評価結果がよい。したがって、最下層の塗布液の初期接触角を７０度以下とすることが塗布ムラの解消に効果のあることがわかる。
【０１２７】
また、実施例４と、実施例５および６は、最下層の塗布液の初期接触角が５８．０５度と同じ塗布液を使用している。一方、最上層の塗布液については、実施例４は初期接触角７０度以下であるが、実施例５および６は７０度以上である。貼付窓ガラス視認性評価結果は、実施例４の方が、実施例５および６よりも良い。このことから、最上層の塗布液についても、初期接触角を７０度以下にすることで、塗布ムラがより一層抑制されていることがわかる。
【０１２８】
しかし、比較例１〜３のように、最上層の塗布液についてのみ初期接触角を７０度以下にしても、最下層の塗布液の初期接触角が７０度を超えていると貼付窓ガラス視認性評価結果がよくないことがわかる。このことから最下層の塗布液の初期接触角を７０度以下にすることが塗布ムラ抑制に有効であることがわかる。
【０１２９】
また、比較例１〜３、実施例１、および２から、界面活性剤の添加量を増やすことで最下層の塗布液の初期接触角が小さくなることがわかる。同様に、実施例２のイソプロピルアルコールなしと、実施例３および４から、界面活性剤と共にイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）を入れた場合、イソプロピルアルコールの添加量を増やすことで、最下層の塗布液の初期接触角が小さくなることがわかる。
【０１３０】
実施例９〜１３から粘度の低い方が貼付窓ガラス視認性評価の結果が良いことがわかる。この点、粘度は比較例１〜３の方が実施例１１〜１３よりも低い。しかし貼付窓ガラス視認性評価結果は比較例１〜３の方が実施例１１〜１３よりも良くない。このことから、初期接触角が塗布ムラの抑制には粘度を下げることも有効ではあるが、最下層の塗布液の初期接触角を７０度以下とすることが最も効果のあることがわかる。
【０１３１】
実施例１、２および８から最下層の塗布液の初期接触角が小さいものほど、貼付窓ガラス視認性評価結果がより良くなっている。このことから最下層の塗布液の初期接触角が小さいものほど塗布ムラ抑制効果が高まる傾向にあることがわかる。
【０１３２】
次に、図７は、実施例１、２および４に使用した最下層の塗布液について接触角の測定結果を時間経過と共に示したグラフである。
【０１３３】
図７からわかるように、液滴が基材面に接触した時点（０ｍｓｅｃ）から、時間御経過と共に接触角が低くなって行くことがわかる。これは、図７に示した各実施例全てにおいて同じ傾向である。中でも実施例１および２のように液滴が基材面に接触した時点（０ｍｓｅｃ）では接触角が７０度を超えていたとしても、規定した５０ｍｓｅｃ経過時点において、７０度以下であれば、上述した表１のとおり実施例１および２においても塗布ムラが解消している。したがって、一定時間経過後の時点（５０ｍｓｅｃ）における接触角を初期接触角と規定して塗布液を調製することは意味のあることである。
【０１３４】
以上、本発明の実施形態を説明したが、本発明は上述した実施形態に限定されるものではない。特に、赤外遮蔽フィルムを挙げて説明したが、本発明は赤外遮蔽フィルムの塗布液に限定されるものではない。本発明は特許請求の範囲で種々改変することができる。
【符号の説明】
【０１３５】
１０  光学フィルム、
２０  基材、
３０  塗布層
１００  塗布装置、
１１０  搬送系、
１２０  ダイコーター、
１２２  積層体、
１３０  バー、
１４０  基端部、
１４２  貫通孔、
１４３  ポケット部、
１４６  先端部、
１４８  スリット、
１５０  塗布液供給系、
２０１〜２０４  貯留部、
３００  塗布液、
３０１  液滴、
３５１  最下層、
３５２  最上層、
３５３  中間層。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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