(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、前記基材上に設けられた離型層と、前記離型層上に設けられた中間層と、前記中間層上に設けられた保護層とを、少なくとも備えた転写箔であって、
前記中間層が、ワックス成分およびゴム成分を含み、
前記保護層が、活性光線硬化樹脂を含み、
前記中間層が、ワックス成分として、ポリエチレンワックス及びカルナバワックスを含み、
前記ポリエチレンワックスと前記カルナウバワックスとの配合比が、質量基準で、７／２以上、８以下であることを特徴とする、転写箔。
【請求項２】
基材と、前記基材上に設けられた離型層と、前記離型層上に設けられた中間層と、前記中間層上に設けられた保護層とを、少なくとも備えた転写箔であって、
前記中間層が、ワックス成分およびゴム成分を含み、
前記保護層が、活性光線硬化樹脂を含み、
前記ゴム成分が、体積平均粒径が８０ｎｍ以上、２５０ｎｍ以下の粒子形状のゴム粒子を含むことを特徴とする、転写箔。
【請求項３】
前記ゴム成分が、体積平均粒径が８０ｎｍ以上、２５０ｎｍ以下の粒子形状のゴム粒子を含む、請求項１に記載の転写箔。
【請求項４】
前記中間層が、ゴム成分としてスチレン−ブタジエンゴムを含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の転写箔。
【請求項５】
前記ゴム成分が、中間層中に、０．０１質量％以上、３５質量％以下含まれる、請求項１〜４いずれか一項に記載の転写箔。
【請求項６】
前記中間層の厚さが、０．０５μｍ以上、１μｍ以下である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の転写箔。
【請求項７】
前記活性光線硬化樹脂が、下記一般式（１）：
【化１】
0006658175.tif 000005
（式中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して、水素原子またはメチル基を表し、Ｒ３は、水素原子、アルキル基またはアリール基であるが、Ｒ２がメチル基である場合にＲ３は水素原子であり、Ｌは２価の連結基を表す。）
で表されるモノマー単位を含む不飽和基含有アクリル共重合体を含む、請求項１〜６のいずれか一項に記載の転写箔。
【請求項８】
前記保護層上に設けられた受容層をさらに備える、請求項１〜７のいずれか一項に記載の転写箔。
【請求項９】
前記離型層が、メラミン系樹脂を含む、請求項１〜８のいずれか一項に記載の転写箔。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、転写性が良好な転写箔に関し、より詳細には、被転写体表面に十分な耐久性能を付与することができるとともに、尾引やバリなどの転写不良を生じることなく、かつ優れた剥離安定性を有する転写箔に関する。
【背景技術】
【０００２】
身分証明書などのＩＤカードや銀行などのキャッシュカードなどのＩＣカードは、表面に顔写真や住所、氏名などの個別情報が記録されており、その内容が偽造、変造されないようにセキュリティー処理が施されている。例えば、ＩＣカード表面にホログラムを設けたものが広く流通している。このようなＩＣカードの表面には、記録した情報やホログラムを保護するため、転写箔を用いて転写層が設けられている。
【０００３】
転写箔は、基材上に転写可能な保護層などを含む転写層を設けた構成を有するものであり、ＩＣカードなどの被転写体の表面に、転写層を転写することにより、被転写体表面に、耐溶剤性、耐摩耗性などの耐久性能を付与することができるものである。また、転写層は、基材から剥離し易いほど、転写効率は向上するため、転写層は、必要最小限の接着力で基材に接着していることが好ましいが、その一方で、転写層と基材との接着力が弱すぎると、転写することを予定していない箇所の転写層も被転写体に転写されてしまうという、いわゆる尾引きやバリなどの転写不良が発生する。このような問題を解決するため、例えば、基材と転写層との間に設ける離型層にメラミン樹脂などを添加することにより、転写層が基材に適度に保持される程度の接着力を転写箔へ付与することが行われている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
ところで、転写箔を用いて設けられる保護層は、ＩＣカードなどの被転写体表面の保護を担うものであるため、保護層には高い表面強度を有することが求められる。そのため、紫外線などで硬化する活性光線硬化樹脂を用いて保護層を形成することが行われているが、保護層の表面硬度を上げるために、これらの樹脂を用いると、メラミン樹脂を含む離型層を設けた場合であっても、箔切れが悪化したり、使用する樹脂によっては、転写層と基材との接着力を過度に低下させてしまったり、保護層の表面強度を低下させてしまうという問題が生じていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−６７０１２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明者らは今般、上記したような転写不良が、保護層に使用する樹脂中の成分と離型層中のメラミン樹脂と何らかの相互作用によるものであることを見出した。また、転写箔から保護層を転写する際の剥離力が均一ではなく、その結果、転写不良の原因となってしまうことを見出した。そして、これらの知見に基づき、転写箔の基材と離型層との間に、ワックスおよびゴム成分を含む中間層を設けることにより、尾引きやバリなどの転写不良を改善でき、かつ均一な剥離力を付与できるとの知見を得た。本発明は係る知見によるものである。
【０００７】
したがって、本発明の目的は、被転写体表面に十分な耐久性能を付与することができるとともに、尾引やバリなどの転写不良を生じることなく、かつ優れた剥離安定性を有する転写箔を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明による転写箔は、基材と、前記基材上に設けられた離型層と、前記離型層上に設けられた中間層と、前記中間層上に設けられた保護層とを、少なくとも備え、前記中間層が、ワックス成分およびゴム成分を含み、前記保護層が、活性光線硬化樹脂を含むことによって、上記課題を解決することができることを知見し、本発明を解決するに至った。
【０００９】
すなわち、本発明の一態様によれば、基材と、前記基材上に、離型層、ワックス成分およびゴム成分を含む中間層ならびに活性光線硬化樹脂を含む保護層と、を少なくとも備える転写箔が提供される。
【００１０】
また、本発明による転写箔においては、前記中間層が、ゴム成分として、スチレン−ブタジエンゴムを含むことが好ましい。
【００１１】
また、本発明による転写箔においては、前記中間層が、ワックス成分として、ポリエチレンワックスを含むことが好ましい。
【００１２】
また、本発明による転写箔においては、前記中間層が、ワックス成分として、カルナウバワックスを含むことが好ましい。
【００１３】
また、本発明による転写箔においては、ポリエチレンワックスとカルナウバワックスとの配合比（ポリエチレンワックス／カルナウバワックス）が、質量基準で、１／８以上、８以下であることが好ましい。
【００１４】
また、本発明による転写箔においては、前記ゴム成分が、体積平均粒径が８０ｎｍ以上、２５０ｎｍ以下の粒子形状であることが好ましい。
【００１５】
また、本発明による転写箔においては、前記ゴム成分が、中間層中に、０．０１質量％以上、２０質量％以下含まれることが好ましい。
【００１６】
また、本発明による転写箔においては、前記中間層の厚さが、０．０５μｍ以上、１μｍ以下であることが好ましい。
【００１７】
また、本発明による転写箔においては、前記活性光線硬化樹脂層が、下記一般式（１）：
【化１】
0006658175.tif 000002
（式中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して、水素原子またはメチル基を表し、Ｒ３は、水素原子、アルキル基またはアリール基であるが、Ｒ２がメチル基である場合にＲ３は水素原子であり、Ｌは２価の連結基を表す。）
で表されるモノマー単位を含む不飽和基含有アクリル共重合体を含むことが好ましい。
【００１８】
また、本発明による転写箔においては、前記保護層上に受容層をさらに備えることが好ましい。
【００１９】
また、本発明による転写箔においては、前記離型層が、メラミン系樹脂を含むことが好ましい。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、転写箔が、離型層、活性光線硬化樹脂を含む保護層ならびにワックス成分およびゴム成分を含む中間層を備えるため、被転写体表面に十分な耐久性能を付与することができ、転写層を転写不良が生じることなく転写でき、高い剥離安定性を有する。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の一実施形態による転写箔の断面模式図である。
【図２】本発明の一実施形態による転写箔の断面模式図である。
【図３】本発明の一実施形態による転写箔の断面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
＜定義＞
本明細書において、配合を示す「部」、「％」、「比」などは特に断らない限り質量基準である。また、活性光線硬化性樹脂とは活性光線を照射する前の前駆体または組成物を意味し、活性光線を照射して活性光線硬化性樹脂を硬化させたものを活性光線硬化樹脂というものとする。
【００２３】
また、本明細書において、活性光線とは、活性光線硬化性樹脂に対して化学的に作用させて重合を促進せしめる放射線を意味し、具体的には、可視光線、紫外線、Ｘ線、電子線、α線、β線、γ線などを意味する。
【００２４】
＜転写箔＞
本発明による転写箔を、図面を参照しながら詳細に説明する。図１は、本発明の一実施形態による転写箔の断面模式図を示したものである。本発明による転写箔１は、図１に示すように、基材１０と、基材１０上に設けられた離型層２０と、中間層３０と、保護層４０と、を少なくとも備えている。また、一実施形態によれば、転写箔１は、図２および図３に示すように、保護層４０上に、接着層５０や受容層６０が設けられていてもよい。このような転写箔１を用いて被転写体（図示せず）へ転写すると、転写層７０（接着層５０や受容層６０を備える場合は、中間層３０、保護層４０、接着層５０および受容層６０）が、被転写体へ転写される。なお、後述するように接着層は、その構成を調整することにより受容層としての役割を果たすこともできる。以下、本発明による転写箔を構成する各層について、説明する。
【００２５】
＜基材＞
基材としては、転写箔から転写層を被転写体へ転写する際の熱エネルギー（例えば、サーマルヘッドの熱）に耐え得る耐熱性を有し、転写層を支持できる機械的強度や耐溶剤性を有しているものであれば、特に制限なく使用することができる。例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレート−イソフタレート共重合体、テレフタル酸− シクロヘキサンジメタノール− エチレングリコール共重合体、ポリエチレンテレフタレート／ポリエチレンナフタレートの共押し出しフィルムなどのポリエステル系樹脂、ナイロン−６、ナイロン−６，６などのポリアミド系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテンなどのポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニルなどのビニル系樹脂、ポリアクリレート、ポリメタアクリレート、ポリメチルメタアクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリイミド、ポリエーテルイミドなどのイミド系樹脂、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド、ポリアラミド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルニトリル、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルサルファイトなどのエンジニアリング樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、高衝撃ポリスチレン、ＡＳ樹脂（アクリロニトリル−スチレン共重合体）、ＡＢＳ樹脂（アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体）などのスチレン系樹脂、セロファン、セルロースアセテート、ニトロセルロースなどのセルロース系樹脂、などを用いて作成したフィルム、シート、ボードが挙げられる。
【００２６】
基材は、上記した樹脂を主成分とする共重合樹脂若しくは混合体（アロイを含む）、または複数層からなる積層体であっても良い。また、基材は、延伸フィルムであっても、未延伸フィルムであってもよいが、強度を向上させる目的で、一軸方向または二軸方向に延伸されたフィルムを使用することが好ましい。上記した樹脂からなる基材の中でも、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系のフィルムは、耐熱性、機械的強度に優れるため好適に使用され、この中でもポリエチレンテレフタレートフィルムがより好ましい。
【００２７】
また、ブロッキング防止のために、必要に応じて基材表面に凹凸を付与することができる。凹凸を形成する手段としては、マット剤の練り込み、サンドブラスト加工、ヘアライン加工、マットコーティング、もしくはケミカルエッチングなどが挙げられる。マットコーティングの場合、有機物および無機物のいずれを用いてもよい。
【００２８】
基材の厚さは０．５μｍ以上、５０μｍ以下が好ましく、４μｍ以上、２０μｍ以下がより好ましい。基材の厚みを上記数値範囲とすることにより、機械的強度を維持しつつ、転写箔から転写層を転写する際の熱エネルギーの伝達性を向上させることができる。
【００２９】
基材には、後記するように、その表面に離型層を設けるため、予め、離型層を設ける面に、コロナ放電処理、プラズマ処理、オゾン処理、フレーム処理、プライマー（アンカーコート、接着促進剤、易接着剤とも呼ばれる）塗布処理、予熱処理、除塵埃処理、蒸着処理、アルカリ処理、帯電防止層付与などの易接着処理を行ってもよい。また、基材には、必要に応じて、充填剤、可塑剤、着色剤、帯電防止剤などの添加剤を加えても良い。
【００３０】
＜離型層＞
次に、本発明による転写箔が備える離型層について説明する。基材上に設けられる離型層は、これらの層上に設けられる転写層を、転写箔から剥離して被転写体へ転写させるための層である。なお、転写層を転写箔から剥離する際、離型層は基材側に留まる。
【００３１】
離型層に用いられる樹脂としては、例えば、メラミン系樹脂、フッ素系樹脂、セルロース系樹脂、尿素系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、繊維素系樹脂などが挙げられる。これらの中で、転写箔に対し、基材と転写層との適度な接着力を付与することができることから、メラミン系樹脂が好ましい。
【００３２】
通常、離型層の厚さは、０．０５μｍ以上、５μｍ以下であることが好ましく、０．１μｍ以上、２μｍ以下であることがより好ましい。
【００３３】
離型層は、上述の樹脂を溶媒へ分散または溶解して、ロールコート、グラビアコートなどの公知のコーティング方法で、塗布し乾燥して、温度１５０℃以上、２００℃以下程度で焼き付けることにより形成することができる。あるいは、上述の樹脂を溶媒へ分散または溶解して未延伸あるいは一軸延伸後のポリエチレンテレフタレートフィルム（基材）などに前記塗布液を塗布、乾燥した後、少なくとも一軸方向に延伸し、次いで熱処理を行うことによっても形成することができる。
【００３４】
＜中間層＞
次に、離型層上に設けられ、転写層を構成する中間層について説明する。本願発明において、中間層は、ワックス成分およびゴム成分を含むため、後述のような表面強度の高い保護層を用いた場合であっても、離型層と転写層との接着力を調整する機能および剥離安定性を高める機能を有する。なお、転写の際、中間層は、転写層とともに剥離される。
【００３５】
ワックス成分としては例えば、ポリエチレンワックス、カルナウバワックス、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、キャンデリラワックス、鯨ロウ、木ロウ、ミツロウ、一部変性ワックス、脂肪酸エステル、脂肪酸アミドなどが挙げられる。上記したワックス成分は一種を単独に用いてもよく、また２種以上を組み合わせて用いてもよい。上記したワックス成分の中でも、ポリエチレンワックスおよびカルナウバワックスが好ましく、ポリエチレンワックスがより好ましい。さらには、ポリエチレンワックスとカルナウバワックスとを併用することが好ましい。中間層が、ポリエチレンワックスおよびカルナウバワックスを含む場合、これらの配合比（ポリエチレンワックス／カルナウバワックス）は、質量基準で、１／８以上、８以下であることが好ましく、
０．５以上、５以下であることがさらに好ましい。
カルナウバワックスとは、ヤシ科の植物由来のワックスであり、天然のカルナウバワックス並びにその副生物および誘導体を含む。市販されているカルナウバワックスとしては、コニシ（株）製のＷＥ−９５、ＷＥ−１８８、ＷＥ−２００などが挙げられる。
【００３６】
ゴム成分としては、例えば、ブタジエンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、ニトリルゴム、ニトリルブタジエンゴム、ハイスチレンゴム、イソブチレンゴム、アクリルゴム、エピクロルヒドリンゴム、ブチルゴムおよびエチレン−プロピレンゴム、並びにそれらの変性物などが挙げられる。上記したゴム成分は一種を単独に用いてもよく、また２種以上を組み合わせて用いてもよい。上記したゴム成分の中でも、スチレン−ブタジエンゴムが特に好ましい。例えば、特に好ましいゴム成分として、日本ゼオン（株）製のＮｉｐｏｌＬＸ４３０、ＮｉｐｏｌＬＸ４３３Ｃ、ＮｉｐｏｌＬＸ４３５およびＮｉｐｏｌ２５０７Ｈ（商品名）などが挙げられる。
【００３７】
また、ゴム成分は、ガラス転移点温度（Ｔｇ）が２０℃以下であることが好ましい。より好ましくは、Ｔｇは−２０℃以上、２０℃以下であり、特に好ましくは、０℃以上、１０℃以下である。Ｔｇが上記数値範囲内であれば、剥離の安定性を得ることができ、かつ隣接する層同士の混合を防止することができる。なお、Ｔｇは、ＪＩＳ−Ｋ−７１２１（２０１２年発行）に準拠して示差走査熱量測定により求めることができる。
【００３８】
また、ゴム成分は、体積平均粒径が８０ｎｍ以上、２５０ｎｍ以下の粒子形状であることが好ましく、より好ましくは１００ｎｍ以上、２００ｎｍ以下である。なお、体積平均粒径は、粒度分布・粒径分布測定装置（例えば、ナノトラック粒度分布測定装置、日機装株式会社製など）を用いて、ＪＩＳ−Ｚ−８８１９−２（２００１年発行）に準拠して測定することができる。
【００３９】
上記したワックス成分は、中間層に５０質量％以上、９９質量％以下の割合で含まれていることが好ましく、より好ましくは、６９質量％以上、９８質量％以下である。中間層に含まれるワックス成分の含有量が上記数値範囲内であれば、転写箔の剥離安定性を向上させることができる。また、上記したゴム成分は、中間層に０．０１質量％以上、３５質量％以下の割合で含まれていることが好ましく、より好ましくは、２質量％以上、３２質量％以下である。
【００４０】
中間層の厚さは０．０５μｍ以上、１μｍ以下が好ましく、０．０５μｍ以上、０．５μｍ以下がより好ましい。中間層の厚さを上記数値範囲内とすることにより、転写効率を向上させることができる。
また、中間層の厚さを上記数値範囲内とすることにより、転写されるべき被転写体が破れて転写箔の側に剥ぎ取られてしまう、いわゆる紙むけや欠けといった転写不良や、転写する必要のない部分の転写層を一部伴う尾引きやバリなどの転写不良を防止することができ、箔切れ性および剥離安定性を向上させることができる。
【００４１】
中間層の形成は、上記したワックス成分およびゴム成分を溶媒へ分散または溶解させた塗工液を、ロールコート、リバースロールコート、グラビアコート、リバースグラビアコート、バーコート、ロッドコートなどの公知の手段により、基材上または離型層上に塗布、乾燥することにより形成することができる。
【００４２】
＜保護層＞
次に、保護層について説明する。保護層は、転写後、被転写体表面の保護を担うものであり、活性光線硬化樹脂を含む。本発明による転写箔の備える保護層は、活性光線硬化樹脂を含む、表面強度が高く、被転写体表面に十分な耐久性能を付与することができる。
【００４３】
保護層を形成する活性光線硬化性樹脂は、下記一般式（１）：
【化２】
0006658175.tif 000003
で表されるモノマー単位を含む不飽和基含有アクリル共重合体を含むことが好ましい。
【００４４】
上記一般式（１）において、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して、水素原子またはメチル基を表し、Ｒ３は、水素原子、アルキル基またはアリール基である。Ｒ３のアルキル基としては、メチル基、エチル基などの炭素数７までのアルキル基が好ましい。また、Ｒ３のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基などの炭素数１０までのアリール基が好ましい。但し、Ｒ２がメチル基である場合、Ｒ３は水素原子である。
【００４５】
また、上記一般式（１）において、Ｌは２価の連結基を表し、例えば、−ＣＨ2−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ2−Ｏ−、−ＯＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2ＯＣＯ−、−ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＮＨ−Ｒ4−ＮＨＣＯＯＣＨ2−（式中、Ｒ4はｐ−フェニレン基である）、−ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＣＨ2ＣＨ2ＣＯＯＣＨ2−、−ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯ−Ｒ5−ＣＯＯＣＨ2−（式中、Ｒ5はｏ−フェニレン基である）などが挙げられる。これらの中でも、Ｌが、−ＣＨ2−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ2−Ｏ−であることが好ましい。
【００４６】
上記一般式（１）で表されるモノマーは、カルボキシル基を有するモノマー、であるα，β−不飽和カルボン酸類（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸など）を、一旦、無水マレイン酸などの無水物と共重合させて、その後、片側のカルボン酸部分にメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコールで無水物を加水分解して片側のカルボン酸部分に長鎖のアルキル基を付加するか、あるいは、高分子重合体中の活性基、例えばヒドロキシル基、アミノ基にジカルボン酸や酸無水物を高分子反応させる方法などにより得ることができる。
【００４７】
不飽和基含有アクリル共重合体は、上記一般式（１）で表されるモノマー単位を、分子内に０．０１質量％以上、５０質量％以下含有していることが好ましく、より好ましくは０．１質量％以上、２０質量％以下である。一般式（１）で表されるモノマー単位が上記範囲内にあることにより、不飽和基含有のアクリル共重合体を効率的に合成することができるとともに、表面強度の高い保護層を得ることができる。
【００４８】
上記一般式（１）で表されるモノマー単位と共重合させる他のモノマー単位としては、芳香族水酸基を有するモノマー、脂肪族水酸基を有するモノマー、アミノスルホニル基を有するモノマー、スルホンアミド基を有するモノマー、α，β−不飽和カルボン酸類、置換または無置換のアルキルアクリレート、置換または無置換のアルキルメタクリレート、アクリルアミドもしくはメタクリルアミド類、フッ化アルキル基を含有するモノマー、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、スチレン類、ビニルケトン類、オレフィン類、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾール、４−ビニルピリジン、シアノ基を有するモノマー、アミノ基を有するモノマーなどが挙げられる。
【００４９】
また、不飽和基含有アクリル共重合体の酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）は５以上、５００以下であることが好ましく、より好ましくは１０以上、１５０以下である。酸価が上記範囲にある不飽和基含有アクリル共重合体を用いることにより、後記する接着層との密着性が改善されるとともに、表面強度の高い転写層を得ることができる。なお、本発明において「酸価」とは、ポリマー１ｇ中に含まれる遊離脂肪酸を中和するのに必要な水酸化カリウムのミリグラム数を意味し、ＪＩＳ−Ｋ−２５０１に準拠した方法により測定することができる。ポリマーの酸価は、ポリマーを構成するモノマー成分の比率を調整することにより適宜調整することができる。
【００５０】
また、不飽和基含有アクリル共重合体の質量平均分子量は３０００以上、１０００００以下が好ましく、１００００以上、８００００以下がより好ましい。不飽和基含有アクリル共重合体の質量平均分子量を上記数値範囲とすることにより、耐熱性、耐薬品性およびスクラッチ強度を向上させることができる。また、保存中におけるゲル化反応の発生を抑制することができ、保存安定性を高めることもできる。なお、本発明において「質量平均分子量」とは、ポリスチレンを標準物質としてゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定した値を意味し、ＪＩＳ−Ｋ−７２５２−１に準拠した方法で測定することができる。
【００５１】
上記した不飽和基含有アクリル共重合体は、活性光線硬化性樹脂に１０質量％以上、８０質量％以下含有されていることが好ましく、より好ましくは、２０質量％以上、７０質量％以下、更に好ましくは２０質量％以上、５０質量％以下である。
【００５２】
活性光線硬化性樹脂に含まれる他のモノマーとしては、重合性二重結合を１分子中に少なくとも１個有するモノマーまたはオリゴマーであれば特に制限することなく使用できる。例えば、２−エチルヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、グリセロールアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ノニルフェノキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルオキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルオキシヘキサノリドアクリレート、１，３−ジオキサンアルコールのε−カプロラクトン付加物のアクリレート、１，３−ジオキソランアクリレートなどの単官能アクリル酸エステル類、あるいはこれらのアクリレートをメタクリレート、イタコネート、クロトネート、マレエートに代えたメタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸エステル、例えば、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングルコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ハイドロキノンジアクリレート、レゾルシンジアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールのジアクリレート、ネオペンチルグリコールアジペートのジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールのε−カプロラクトン付加物のジアクリレート、２−（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）−５−ヒドロキシメチル−５−エチル−１，３−ジオキサンジアクリレート、トリシクロデカンジメチロールアクリレート、トリシクロデカンジメチロールアクリレートのε−カプロラクトン付加物、１，６−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテルのジアクリレートなどの２官能アクリル酸エステル類、あるいはこれらのアクリレートをメタクリレート、イタコネート、クロトネート、マレエートに代えたメタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸エステル、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートのε−カプロラクトン付加物、ピロガロールトリアクリレート、プロピオン酸・ジペンタエリスリトールトリアクリレート、プロピオン酸・ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ヒドロキシピバリルアルデヒド変性ジメチロールプロパントリアクリレートなどの多官能アクリル酸エステル酸、あるいはこれらのアクリレートをメタクリレート、イタコネート、クロトネート、マレエートに代えたメタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸エステル、ホスファゼンモノマー、トリエチレングリコール、イソシアヌール酸エチレンオキシド変性ジアクリレート、イソシアヌール酸エチレンオキシド変性トリアクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート、トリメチロールプロパンアクリル酸安息香酸���ステル、アルキレングリコールタイプアクリル酸変性、ウレタン変性アクリレートなどが挙げられる。
【００５３】
上記のなかでも、アクリル酸エステル化合物、メタクリル酸エステル化合物が特に好適に使用できる。これらの化合物のうち１種または２種以上を混合して用いることができる。その他に、付加重合もしくは架橋可能な化合物として、適当な分子量のオリゴマーにアクリル酸、またはメタクリル酸を導入し、光重合性を付与した、所謂プレポリマーと呼ばれるものも好適に使用できる。また、これらはプレポリマーのみ１種または２種以上を混合して用いてもよいし、上述のモノマー類と混合して用いてもよい。
【００５４】
プレポリマーとして、例えばアジピン酸、トリメリット酸、マレイン酸、フタル酸、テレフタル酸、ハイミック酸、マロン酸、コハク酸、グルタール酸、イタコン酸、ピロメリット酸、フマル酸、グルタール酸、ピメリン酸、セバシン酸、ドデカン酸、テトラヒドロフタル酸などの多塩基酸と、エチレングリコール、プロピレングルコール、ジエチレングリコール、プロピレンオキサイド、１，４−ブタンジオール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ソルビトール、１，６−ヘキサンジオール、１，２，６−ヘキサントリオールなどの多価のアルコールの結合で得られるポリエステルに（メタ）アクリル酸を導入したポリエステルアクリレート類、例えば、ビスフェノールＡ・エピクロルヒドリン・（メタ）アクリル酸、フェノールノボラック・エピクロルヒドリン・（メタ）アクリル酸のようにエポキシ樹脂に（メタ）アクリル酸を導入したエポキシアクリレート類、例えば、エチレングリコール・アジピン酸・トリレンジイソシアネート・２−ヒドロキシエチルアクリレート、ポリエチレングリコール・トリレンジイソシアネート・２−ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルフタリルメタクリレート・キシレンジイソシアネート、１，２−ポリブタジエングリコール・トリレンジイソシアネート・２−ヒドロキシエチルアクリレート、トリメチロールプロパン・プロピレングリコール・トリレンジイソシアネート・２−ヒドロキシエチルアクリレートのように、ウレタン樹脂に（メタ）アクリル酸を導入したウレタンアクリレート、例えば、ポリシロキサンアクリレート、ポリシロキサン・ジイソシアネート・２−ヒドロキシエチルアクリレートなどのシリコーン樹脂アクリレート類、その他、油変性アルキッド樹脂に（メタ）アクリロイル基を導入したアルキッド変性アクリレート類、スピラン樹脂アクリレート類などが挙げられる。
【００５５】
重合性二重結合を分子中に１個以上有するモノマーオリゴマーまたはプレポリマーは、活性光線硬化性樹脂に、２０質量％以上、９０質量％以下の割合で含有されていてよい。
【００５６】
保護層は、上記した樹脂以外にフィラーを含んでいてもよい。本発明においては、後記するような露光により、転写箔の剥離安定性と耐久性の両方を改善できるものであるが、保護層の破断強度が向上しているため、保護層がある程度の厚みを有する場合は、転写層が基材から容易に剥離せず転写層の転写効率が悪くなると共に、転写不良が生じ、剥離安定性が低下する傾向にある。保護層にフィラーを含有させることにより、保護層の厚みが２０μｍを超えるような場合であっても、破断性が向上し、転写箔の剥離安定性と耐久性の両方を改善することができる。
【００５７】
保護層に含有されるフィラーは、体積平均粒径が４０ｎｍ以下であることが好ましい。フィラーの体積平均粒径が４０ｎｍ以下であることにより保護層の透明性を維持することができる。また、フィラーの体積平均粒径は、１０ｎｍ以上であることが好ましい。フィラーの体積平均粒径が１０ｎｍ以上であることにより分散性を維持することができるとともに、保護層塗工液の安定性を維持することができる。
【００５８】
また、フィラーとしては、有機フィラー、無機フィラーおよび有機−無機のハイブリッド型のフィラーが挙げられる。また、フィラーは、粉体であっても、ゾル状のものであってもよい。分散性という観点からは、上記したフィラーの中でも無機粒子が好ましい。
【００５９】
無機粒子としては、例えば、シリカ粒子（コロダイルシリカ、ヒュームドシリカ、沈降性シリカなど）、アルミナ粒子、ジルコニア粒子、チタニア粒子、酸化亜鉛粒子などの金属酸化物粒子が挙げられ、耐摩耗性向上という観点から、シリカ粒子を用いることが好ましい。さらに、無機粒子は、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランなどのシランカップリング剤などを用いて表面処理が施されたものであることが好ましい。
【００６０】
上記フィラーは、保護層の固形分総量に対し、５質量％以上、６０質量％以下含まれていることが好ましい。フィラーの含有量が上記数値範囲内であることにより、転写箔の転写性およびこの転写箔を用いて得られる印画物の耐摩耗性を向上させることができるとともに、保護層が脆くなり、ひび割れなどの欠陥が生じてしまうのを防止することができる。
【００６１】
保護層の厚みは、５μｍ以上、２０μｍ以下であることが好ましい。保護層の厚みを上記数値範囲とすることにより、十分な耐久性能を付与することができると共に、尾引き、バリ、紙むけや欠けといった転写不良を抑制することができる。
【００６２】
保護層は、上記したような活性光線硬化性樹脂を含む組成物からなる塗工液を、ロールコート、リバースロールコート、グラビアコート、リバースグラビアコート、バーコート、ロッドコートなどの公知の手段により、中間層上に塗布して塗膜を形成させ、活性光線により硬化させることにより形成することができる。例えば、紫外線の照射は、従来公知の紫外線照射装置を用いることができ、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ、無電極紫外線ランプ、ＬＥＤなど、種々のものを制限なく使用することができる。また、電子線の照射は、１００ｋｅＶ以上、３００ｋｅＶ以下のエネルギーで電子線を照射する高エネルギー型電子線照射装置や１００ｋｅＶ以下のエネルギーで電子線を照射する低エネルギー型電子線照射装置のいずれを用いてもよく、また、照射方式も、走査型やカーテン型いずれの方式の照射装置であってもよい。
【００６３】
＜接着層＞
次に、本発明による転写箔が所望により備える接着層について説明する。
接着層は、保護層上に設けられ、転写層と、被転写体との接着性を向上させるものである。さらに、この接着層は、熱転写によって、色材層を有する熱転写シートから熱転写法によって画像が形成される、受容層としての機能を果たすものであっても良い。そして、画像が形成された転写箔の転写部は、被転写体に転写され、その結果、印画物が形成される。
【００６４】
接着層を形成するための材料としては、熱で溶融または軟化して接着する熱接着型接着剤が挙げられ、具体的には、アイオノマー系樹脂、酸変性ポリオレフィン系樹脂、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エステル共重合体、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ビニル系樹脂、アクリル系・メタクリル系などの（メタ）アクリル系樹脂、アクリル酸エステル系樹脂、マレイン酸系樹脂、ブチラール系樹脂、アルキッド系樹脂、ポリエチレンオキサイド系樹脂、フェノール系樹脂、ユリア系樹脂、メラミン系樹脂、メラミン−アルキッド系樹脂、セルロース系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリビニールエーテル系樹脂、シリコーン系樹脂、ゴム系樹脂などが挙げられる。これらの樹脂を単独または複数を組み合せて使用する。これらの中でも、接着力などの点で、ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ブチラール系樹脂、ポリエステル系樹脂が好ましい。より好ましくは、ビニル系樹脂、エチレン−（メタ）エチルアクリレート共重合体などの（メタ）アクリル系樹脂、アクリル酸エステル系樹脂である。
【００６５】
また、接着層を、受容層としての機能を果たすものとする場合、昇華性染料または熱溶融性インキなどの熱移行性の色材を受容し易い樹脂を使用することが好ましい。例えば、ポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル系重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体もしくはポリアクリル酸エステルなどのビニル系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリエステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、エチレンもしくはプロピレンなどのオレフィンと他のビニルポリマーとの共重合体系樹脂、アイオノマーもしくはセルロースジアスターゼなどのセルロース系樹脂、ポリカーボネートなどを用いることができ、これらの中でも、塩化ビニル−酢酸ビニル系重合体、またはポリ塩化ビニルが好ましく、塩化ビニル−酢酸ビニル系重合体が特に好ましい。
【００６６】
通常、接着層の厚さは、０．５μｍ以上、１０μｍ以下であることが好ましく、１μｍ以上、３μｍ以下であることがより好ましい。
【００６７】
＜受容層＞
本発明による転写箔は、所望により受容層を備えていてもよい。当該受容層について、以下に説明する。
上述の通り、接着層は、その構成を調整することにより、受容層としての役割を果たすが、転写箔は、これとは別に受容層を備えていてもよい。この場合、受容層は、接着層上に設けられ、この受容層上には、熱転写によって、色材層を有する熱転写シートから熱転写法によって画像が形成される。そして、画像が形成された転写箔の転写部は、被転写体に転写され、その結果、印画物が形成される。
【００６８】
このため、受容層を形成するための材料としては、接着層を、受容層としての機能を果たすものとする場合に接着層を形成させる材料と同様の材料を使用することができる。
【００６９】
受容層が接着剤などを介して被転写体に転写される場合には、受容層自体の接着性は必ずしも要求されない。しかし、受容層が接着剤などを介さないで被転写体に転写される場合には、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体などの接着性を有する樹脂材料を用いて受容層を形成することが好ましい。
【００７０】
通常、受容層の厚さは、０．５μｍ以上、１０μｍ以下であることが好ましく、１μｍ以上、３μｍ以下であることがより好ましい。
【００７１】
受容層は、上述の材料の中から選択された単独または複数の材料および必要に応じて各種添加剤などを加え、水または有機溶剤などの適当な溶剤に溶解または分散させて受容層用塗工液を調製し、これをグラビア印刷法、スクリーン印刷法またはグラビア版を用いたリバースコーティング法などの手段により、塗布、乾燥して形成することができる。
【００７２】
また、本発明の転写箔では、受容層上に、受容層としての機能を有しない上記接着層をさらに設けることも可能である。
【００７３】
＜転写層の転写＞
本発明による転写箔を用いて、被転写体上に転写層を転写する方法としては、公知の転写法でよく、例えば、熱刻印によるホットスタンプ（箔押）、熱ロールによる全面またはストライプ転写、サーマルヘッド（感熱印画ヘッド）によるサーマルプリンタ（熱転写プリンタともいう）などの公知の方法が適用できる。中でも、熱ロールによる転写が好ましい。
【００７４】
被転写体としては、耐磨耗性や耐可塑剤性などの耐久性を必要とする用途であれば特に限定されず、例えば、天燃繊維紙、コート紙、トレーシングペーパー、転写時の熱で変形しないプラスチックフイルム、ガラス、金属、セラミックス、木材、布あるいは染料受容性のある媒体などいずれのものでもよい。また、ＩＣカードなどは、通常意匠性やセキュリティー性が要求されるため、本発明による転写箔が受容層を備えていない場合、被転写体の転写層が転写される面には、印刷層やホログラム層などが設けられるのが一般的である。
【実施例】
【００７５】
以下、実施例により、本発明をさらに詳細に説明するが、本発明がこれら実施例に限定されるものではない。
【００７６】
（実施例１）
厚さ１２μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムの一方面にメラミン系樹脂の離型層が塗布されたフィルムを基材として用い、その離型層上に、下記の組成からなる中間層塗工液をグラビアコーティングにより、乾燥後の厚みが０．５μｍになるように塗布した。
＜中間層塗工液組成Ａ＞
・カルナウバワックス                                                      ２部
（コニシ（株）製、商品名：ＷＥ−９５、固形分：４０％）
・ポリエチレンワックス（固形分：４０％）                                  ７部
・スチレン−ブタジエンゴム                                                １部
（日本ゼオン（株）製、商品名：ＮｉｐｏｌＬＸ４３０、体積平均粒径：１５０ｎｍ、
固形分：４９％、Ｔｇ：１２℃）
・純水／イソプロピルアルコール（１／１）                              １００部
【００７７】
次に、形成した中間層上に、下記の組成からなる保護層塗工液をグラビアコーティングにより、乾燥後の厚みが６μｍになるように塗布し、乾燥させた後に、ＵＶ露光器（Ｆｕｓｉｏｎ  ＵＶ、Ｆ６００Ｖ、ＬＨ１０ランプ、Ｈバルブ、反射鏡はコールドタイプ）を用いて紫外線を照射し、保護層を形成した。
＜保護層塗工液組成Ａ＞
・多官能アクリレート                                                    ２０部
（新中村化学工業（株）製、商品名：ＮＫエステルＡ−９３００、３官能）
・ウレタンアクリレート                                                  ２０部
（新中村化学工業（株）製、商品名：ＮＫオリゴマーＵＡ１２２−Ｐ、２官能）
・ウレタンアクリレート                                                  １０部
（新中村化学工業（株）製、商品名：ＮＫエステルＵ−１５ＨＡ、１５官能）
・アクリル共重合体                                                        ５部
（新中村化学工業（株）製、商品名：ＮＫエステルＣ２４Ｔ）
・光重合開始剤                                                            ５部
（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製、商品名：イルガキュア１８４）
・フィラー（シリカ）                                                    ４０部
（日産化学工業（株）製、商品名：ＭＥＫ−ＡＣ２１４０Ｚ、体積平均粒径：１２ｎｍ）
・トルエン                                                            ２００部
・メチルエチルケトン                                                  ２００部
【００７８】
次に、上記のようにして形成した保護層上に下記組成からなる接着層塗工液をグラビアコーティングにより、乾燥後の厚みが２μｍとなるように塗布、乾燥して、接着層を形成した。なお、下記組成からなる本実施例における接着層は、受容層としての役割も果たすものであった。
＜接着層塗工液組成＞
・塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体                                        ９５部
（日信化学工業（株）製、商品名：ＣＮＬ）
・エポキシ変性シリコーンオイル                                            ５部
（信越化学工業（株）製、商品名：ＫＰ−１８００Ｕ）
・トルエン                                                            ２００部
・ＭＥＫ                                                              ２００部
【００７９】
（実施例２）
実施例１において、乾燥後の厚みが０．２μｍとなるように塗布、乾燥することにより形成した保護層へ変更した以外は、実施例１と同様にして転写箔を作成した。
【００８０】
（実施例３）
実施例１において、中間層塗工液の組成を、以下に示す組成に変更した以外は、実施例１と同様にして転写箔を作成した。
＜中間層塗工液組成Ｂ＞
・カルナウバワックス                                                  ４．５部
（コニシ（株）製、商品名：ＷＥ−９５、固形分：４０％）
・ポリエチレンワックス（固形分：４０％）                              ４．５部
・スチレン−ブタジエンゴム                                                １部
（日本ゼオン（株）製、商品名：ＮｉｐｏｌＬＸ４３０、体積平均粒径：１５０ｎｍ、
固形分：４９％）
・純水／イソプロピルアルコール（１／１）                              １００部
【００８１】
（実施例４）
実施例１において、中間層塗工液の組成を、以下に示す組成に変更した以外は、実施例１と同様にして転写箔を作成した。
＜中間層塗工液組成Ｃ＞
・カルナウバワックス                                                      ７部
（コニシ（株）製、商品名：ＷＥ−９５、固形分：４０％）
・ポリエチレンワックス（固形分：４０％）                                  ２部
・スチレン−ブタジエンゴム                                                １部
（日本ゼオン（株）製、商品名：ＮｉｐｏｌＬＸ４３０、体積平均粒径：１５０ｎｍ、
固形分：４９％）
・純水／イソプロピルアルコール（１／１）                              １００部
【００８２】
（実施例５）
実施例１において、中間層塗工液の組成を、以下に示す組成に変更した以外は、実施例１と同様にして転写箔を作成した。
＜中間層塗工液組成Ｄ＞
・カルナウバワックス                                                ９．８５部
（コニシ（株）製、商品名：ＷＥ−９５、固形分：４０％）
・スチレン−ブタジエンゴム                                          ０．２５部
（日本ゼオン（株）製、商品名：ＮｉｐｏｌＬＸ４３０、体積平均粒径：１５０ｎｍ、
固形分：４９％）
・純水／イソプロピルアルコール（１／１）                              １００部
【００８３】
（実施例６）
実施例１において、中間層塗工液の組成を、以下に示す組成に変更した以外は、実施例１と同様にして転写箔を作成した。
＜中間層塗工液組成Ｅ＞
・カルナウバワックス                                                ９．１５部
（コニシ（株）製、商品名：ＷＥ−９５、固形分：４０％））
・スチレン−ブタジエンゴム                                          ０．８５部
（日本ゼオン（株）製、商品名：ＮｉｐｏｌＬＸ４３０、体積平均粒径：１５０ｎｍ、
固形分：４９％）
・純水／イソプロピルアルコール（１／１）                              １００部
【００８４】
（実施例７）
実施例１において、中間層塗工液の組成を、以下に示す組成に変更した以外は、実施例１と同様にして転写箔を作成した。
＜中間層塗工液組成Ｆ＞
・カルナウバワックス                                                      ２部
（コニシ（株）製、商品名：ＷＥ−９５、固形分：４０％）
・ポリエチレンワックス（固形分：４０％）                                  ７部
・スチレン−ブタジエンゴム                                                １部
（日本ゼオン（株）製、商品名：ＮｉｐｏｌＬＸ４３３Ｃ、体積平均粒径：１００ｎｍ、
固形分：５０％、Ｔｇ：５０℃）
・純水／イソプロピルアルコール（１／１）                              １００部
【００８５】
（実施例８）
実施例１において、中間層塗工液の組成を、以下に示す組成に変更した以外は、実施例１と同様にして転写箔を作成した。
＜中間層塗工液組成Ｆ＞
・カルナウバワックス                                                      ２部
（コニシ（株）製、商品名：ＷＥ−９５、固形分：４０％）
・ポリエチレンワックス（固形分：４０％）                                  ７部
・スチレン−ブタジエンゴム                                                １部
（日本ゼオン（株）製、商品名：ＮｉｐｏｌＬＸ４３５、体積平均粒径：１２０ｎｍ、
固形分：５０％、Ｔｇ：−１４℃）
・純水／イソプロピルアルコール（１／１）                              １００部
【００８６】
（実施例９）
実施例１において、中間層塗工液の組成を、以下に示す組成に変更した以外は、実施例１と同様にして転写箔を作成した。
＜中間層塗工液組成Ｆ＞
・カルナウバワックス                                                      ２部
（コニシ（株）製、商品名：ＷＥ−９５、固形分：４０％）
・ポリエチレンワックス（固形分：４０％）                                  ７部
・スチレン−ブタジエンゴム                                                １部
（日本ゼオン（株）製、商品名：Ｎｉｐｏｌ２５０７Ｈ、体積平均粒径：２５０ｎｍ、
固形分：５２％、Ｔｇ：５８℃）
・純水／イソプロピルアルコール（１／１）                              １００部
【００８７】
（比較例１）
実施例１において、離型層および中間層を形成させなかった以外は、実施例１と同様にして転写箔を作成した。
【００８８】
（比較例２）
実施例１において、中間層を形成させず、保護層を以下に示す組成からなる塗工液を用いて形成させた層に変更した以外は、実施例１と同様にして転写箔を作成した。
＜保護層塗工液組成Ｂ＞
・活性光線硬化性樹脂組成物ｂ                                            ３０部
・ポリエチレンワックス                                                ０．６部
・光重合開始剤                                                        ０．９部
（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名：イルガキュア９０７）
・酢酸エチル／メチルイソブチルケトン（１／１）                          ７０部
＜活性光線硬化性樹脂組成物ｂの作成手順＞
活性光線硬化性樹脂組成物ｂは次の手順で生成した。攪拌機、乾留冷却器、滴下漏斗および温度計を取り付けた反応器に、酢酸エチル６１部（２０６．１ｇ）およびイソホロンジイソシアネートの三量体（ＨＵＬＳ社製、商品名：ＶＥＳＴＡＮＡＴ  Ｔ１８９０、融点：１１０℃）３９部（１３３．５ｇ）を仕込み、８０℃に昇温させ、溶解させた。溶液中に空気を吹き込んだ後、ハイドロキノンモノメチルエーテル０．１１部（０．３８ｇ）、ペンタエリスリトールトリアクリレート（大阪有機化学工業社製、商品名：ビスコート３００）７３．４部（２４９．３ｇ）およびジブチル錫ジラウレート０．１１部（０．３８ｇ）を仕込んだ。次いで、８０℃で５時間反応させた後、酢酸エチル２０３部（６８８．９ｇ）を添加して冷却することにより、活性光線硬化性樹脂組成物ｂを得た。
【００８９】
（比較例３）
実施例１において、中間層を形成させなかった以外は、実施例１と同様にして転写箔を作成した。
【００９０】
（比較例４）
実施例１において、保護層を下記組成からなる保護層塗工液をグラビアコーティングにより、乾燥後の厚みが６μｍとなるように塗布、乾燥することにより形成した保護層へ変更した以外は、実施例１と同様にして転写箔を作成した。
＜保護層塗工液組成Ｃ＞
・スチレン−アクリル系樹脂                                              １５部
（三井化学（株）社製、商品名：ミューティクルＰＰ３２０Ｐ）
・ポリビニルアルコール                                                  １０部
（ザ・インクテック（株）社製、商品名：Ｃ−３１８）
・水／エタノール（１／１）                                                ７部
【００９１】
（比較例５）
実施例１において、中間層塗工液の組成を、以下に示す組成に変更した以外は、実施例１と同様にして転写箔を作成した。
＜中間層塗工液組成Ｆ＞
・カルナウバワックス                                                    １０部
（コニシ（株）製、商品名：ＷＥ−９５）
・純水／イソプロピルアルコール（１／１）                              １００部
【００９２】
（比較例６）
実施例１において、中間層塗工液の組成を、以下に示す組成に変更した以外は、実施例１と同様にして転写箔を作成した。
＜中間層塗工液組成Ｇ＞
・カルナウバワックス                                                      ８部
（コニシ（株）製、商品名：ＷＥ−９５、固形分：４０％）
・パラフィンワックス                                                      ２部
（コニシ（株）製、商品名：ＷＥ−６５）
・純水／イソプロピルアルコール（１／１）                              １００部
【００９３】
＜転写箔の評価＞
下記材料組成のカード基材を被転写体とした。
＜カード基材の組成＞
・ポリ塩化ビニルコンパウンド（重合度８００）                          １００部
（安定化剤などの添加剤を１０％含有）
・白色顔料（酸化チタン）                                                １０部
・可塑剤（フタル酸ジオクチル）                                        ０．５部
【００９４】
上記実施例１〜９および比較例１〜６の転写シートを、ＨＤＰ−５０００プリンタ（ＨＩＤ社製）を用いて、上記カード上に転写層（保護層、接着層兼受容層）を転写して印画物を形成した。
【００９５】
＜＜剥離安定性試験＞＞
７０℃に加温したテーブル上に両面テープを貼りつけ，その上に６５ｍｍ幅サイズの転写箔サンプルを置き両面テープと密着させる．サンプルを丸型バネ式テンションゲージを用いて９０度剥離し，剥離力測定を３回行い，最大値および最小値を測定し、以下の式に基づき最大／最小剥離力の変動（剥離安定性）を算出した。また、以下の評価基準で評価試験を行った。評価結果は下記表１で示される通りであった。
［式１］
剥離安定性＝最大剥離力／最小剥離力
○：剥離安定性の値が１．００以上、１．３５未満
△：剥離安定性の値が１．３５以上、１．７５未満
×：剥離安定性の値が１．７５以上
【００９６】
＜＜箔切れ性試験＞＞
上記の転写条件にて、カード基材への転写層の箔切れ性（尾引き）の確認を目視にて行い、以下の評価基準で評価試験を行った。評価結果は、下記表１に示される通りであった。
○：尾引きが殆ど生じない（１ｍｍ未満）
△：尾引きが生じる（１ｍｍ以上、２ｍｍ未満）
×：尾引きがかなり生じる（２ｍｍ以上）
【００９７】
【表１】
0006658175.tif 000004
【符号の説明】
【００９８】
１  転写箔
１０  基材
２０  離型層
３０  中間層
４０  保護層
５０  接着層
６０  受容層
７０  転写層
【図１】
0006658175.tif 000006
【図２】
0006658175.tif 000007
【図３】
0006658175.tif 000008