(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画素を含む基板と、
前記基板上に前記複数の画素別に配置される第１電極と、
前記第１電極を露出する開口部を有するように前記基板上に配置され、第１部分と、前記第１部分より上に位置する第２部分と、前記第１部分と前記第２部分との間に位置する境界部分を含む側面を含む画素定義膜と、
前記画素定義膜の前記開口部の内部において、前記画素定義膜の前記側面のうち前記境界部分に配置される撥液パターンと、
前記第１電極上に、この順で積層されて配置される正孔注入層、正孔輸送層、及び発光層を含む有機層と、
前記有機層上に形成される第２電極と、を含み、
前記正孔注入層、前記正孔輸送層及び前記発光層の周縁は、これらを囲む前記撥液パターンの下縁部に接するか、または近接して配置される発光表示装置。
【請求項２】
前記有機層中には、前記発光層の上に、電子輸送層が含まれ、
前記電子輸送層の周縁部が、前記撥液パターンを覆う、請求項１に記載の発光表示装置。
【請求項３】
前記有機層中には、前記発光層の上に、この順で積層される電子輸送層及び電子注入層が含まれ、前記電子輸送層、前記電子注入層、及び前記第２電極は、前記各開口部の周縁に近い領域にて、当該開口部の内側へと傾いた斜め上方に向かって、膨出状に形成される請求項１または２に記載の発光表示装置。
【請求項４】
前記撥液パターンは、フルオリンを含む絶縁物質で形成される請求項１に記載の発光表示装置。
【請求項５】
前記画素定義膜は、有機物質または無機物質で形成される請求項１に記載の発光表示装置。
【請求項６】
複数の画素を含む基板上に前記複数の画素別に第１電極を形成する段階と、
前記基板上に前記第１電極を露出する開口部を有し、第１部分と、前記第１部分より上に位置する第２部分と、前記第１部分と前記第２部分との間に位置する境界部分を含む側面を含む画素定義膜を形成する段階と、
前記画素定義膜の前記開口部の内部において、前記画素定義膜の前記側面のうち前記境界部分に撥液パターンを形成する段階と、
前記画素定義膜の前記開口部の内部で前記撥液パターンの下部に配置される発光層を含む有機層を、前記第１電極上に形成する段階と、
前記有機層上に第２電極を形成する段階を含み、
前記撥液パターンを形成する段階は、
前記画素定義膜の前記開口部の内部で前記第１部分と前記境界部分との間の第１位置まで第１溶媒を満たす過程と、
前記第１溶媒上にフルオリンを含む絶縁物質が混合された第２溶媒を吐出する過程と、
前記第２溶媒を乾燥させて前記フルオリンを含む前記絶縁物質を前記第１位置に凝集させる過程と、
前記第１溶媒を乾燥させて前記第１位置に形成される前記撥液パターンによるピニングポイントを形成する過程を含む発光表示装置の製造方法。
【請求項７】
複数の画素を含む基板上に前記複数の画素別に第１電極を形成する段階と、
前記基板上に前記第１電極を露出する開口部を有し、第１部分と、前記第１部分より上に位置する第２部分と、前記第１部分と前記第２部分との間に位置する境界部分を含む側面を含む画素定義膜を形成する段階と、
前記画素定義膜の前記開口部の内部において、前記画素定義膜の前記側面のうち前記境界部分に撥液パターンを形成する段階と、
前記画素定義膜の前記開口部の内部で前記撥液パターンの下部に配置される発光層を含む有機層を、前記第１電極上に形成する段階と、
前記有機層上に第２電極を形成する段階を含み、
前記複数の画素は、第１画素と第２画素を含み、前記画素定義膜の前記開口部は、前記第１画素に形成される前記第１電極を露出する第１開口部と、前記第２画素に形成される前記第１電極を露出する第２開口部に区分され、
前記撥液パターンを形成する段階は、
前記画素定義膜の前記第１開口部の内部であって、前記画素定義膜の前記側面のうち前記画素定義膜の高さを基準とする第１位置までと、前記画素定義膜の前記第２開口部の内部で前記画素定義膜の前記側面のうち前記画素定義膜の高さを基準とする第２位置まで、第１溶媒を満たす過程と、
前記第１溶媒上にフルオリンを含む絶縁物質が混合された第２溶媒を吐出する過程と、
前記第２溶媒を乾燥させて前記フルオリンを含む前記絶縁物質を前記第１位置と前記第２位置のそれぞれに凝集させる過程と、
前記第１溶媒を乾燥させて、前記第１位置に形成される第１撥液パターンによって第１ピニングポイントを形成すると共に、前記第１溶媒を乾燥させて、前記第２位置に形成される第２撥液パターンによって第２ピニングポイントを形成する過程を含む発光表示装置の製造方法。
【請求項８】
前記有機層の発光層を形成する段階は、前記第１開口部の内部で前記第１ピニングポイントと第１発光溶液の表面との間の最大高さと、前記第２開口部の内部で前記第２ピニングポイントと第２発光溶液の表面との間の最大高さが同じとなるように、前記第１発光溶液の体積と前記第２発光溶液の体積を調整し、前記第１発光溶液を前記第１開口部に吐出し、前記第２発光溶液を前記第２開口部に吐出する過程を含む請求項７に記載の発光表示装置の製造方法。
【請求項９】
前記第１溶媒は非極性であり、前記第２溶媒は極性である請求項６〜８のいずれかに記載の発光表示装置の製造方法。
【請求項１０】
前記第２溶媒は、前記第１溶媒よりも、沸点及び密度が高い、請求項６〜９のいずれかに記載の発光表示装置の製造方法。
【請求項１１】
前記の第２溶媒を吐出する過程にて、フルオリンを含む絶縁物質が混合された第２溶媒は、前記撥液パターンに対する接触角が４０°以上である、請求項６〜１０のいずれかに記載の発光表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は発光表示装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
発光表示装置のうち、有機発光表示装置は、自体発光型表示素子として視野角が広く、かつコントラストが優れる。さらに、応答速度が速いという長所を有するため、次世代表示装置として注目をあびている。
【０００３】
有機発光表示装置は、アノード電極とカソード電極との間に有機発光物質からなる有機発光層を備えている。これらの電極に陽極及び陰極電圧がそれぞれ印加されることによって、アノード電極から注入された正孔（ｈｏｌｅ）が正孔注入層及び正孔輸送層を経由して有機発光層に移動し、電子はカソード電極から電子注入層と電子輸送層を経由して有機発光層に移動し、有機発光層で電子と正孔が再結合される。このような再結合によって、励起子（ｅｘｉｔｏｎ）が生成され、この励起子が励起状態から基底状態に変化し、有機発光層が発光されることによって画像が表示される。
【０００４】
有機発光表示装置は、基板にマトリックス形態で配列された画素のそれぞれに形成されるアノード電極を露出するように開口部を有する画素定義膜を含み、この画素定義膜の開口部を介して露出されるアノード電極上に、正孔注入層、正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層、電子注入層及びカソード電極が形成される。これらの中で、正孔注入層、正孔輸送層及び有機発光層は、インクジェットプリント方法などの溶液塗布方法を用いて、溶液を画素定義膜の開口部の内部に吐出させて乾燥させることによって、薄膜形態のパターン層で形成される。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
一方、画素定義膜は、溶液を画素定義膜の開口部の内部に吐出するとき、当該溶液が画素定義膜の開口部の外側に流れ出さないように撥液性を有する物質を含んで形成される。
【０００６】
一例として、画素定義膜は開口部の内部で側面の下部に形成される親液性領域と、開口部の内部で側面の上部に形成される撥液性領域を含んで形成される。このような画素定義膜は、基板に撥液性を有する絶縁物質を蒸着し、パターニングして開口部を形成し、開口部の内部で画素定義膜が側面の下部に紫外線のような光を照射して親液性領域を形成することによって形成される。この場合、画素定義膜の開口部の内部に吐出される溶液は、親液性領域と撥液性領域の境界部であるピニングポイント（ｐｉｎｎｉｎｇ  ｐｏｉｎｔ）を中心に、撥液性領域に流れ出さず、乾燥工程により乾燥時の前記ピニングポイントの下部に位置する親液性領域に、パターン層で形成される。しかし、光を照射する工程で光の散布が発生して、所望しない位置に光が照射され得る。この場合、画素定義膜で光が照射されて形成される親液性領域と撥液性領域の境界部であるピニングポイントが、所望しないところに形成され、所望しない厚さを有するパターン層が形成され得る。
【０００７】
また、画素定義膜は、親液性を有する第１画素定義膜と、第１画素定義膜上に形成され、撥液性を有する第２画素定義膜を含んで形成される。しかし、この場合、第１画素定義膜を形成するためのフォトリソグラフィー工程及び第２画素定義膜を形成するためのフォトリソグラフィー工程により、発光表示装置に対する製造工程が複雑になるという問題がある。
【０００８】
本発明が解決しようとする課題は、所望する位置に所望する厚さを有するパターン層の形成を容易にし、かつ製造工程を単純化できる発光表示装置及びその製造方法を提供することにある。なお、本発明の課題は、以上で言及した技術的課題に制限されない。言及されていないまたは他の技術的課題は、次の記載から当業者に明確に理解できるであろう。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記課題を達成するための本発明の一実施形態による発光表示装置は、複数の画素を含む基板と、前記基板上に前記複数の画素別に配置される第１電極と、前記第１電極を露出する開口部を有するように前記基板上に配置され、第１部分と、前記第１部分より上に位置する第２部分と、前記第１部分と前記第２部分との間に位置する境界部分を含む側面を含む画素定義膜と、前記画素定義膜の前記開口部の内部において、前記画素定義膜の前記側面のうち前記境界部分に配置される撥液パターンと、前記第１電極上に配置され、前記画素定義膜の前記開口部の内部で前記撥液パターンの下部に配置される発光層を含む有機層と、前記有機層上に形成される第２電極とを含む。
【００１０】
前記撥液パターンは、前記画素定義膜の前記側面が形成する外枠に対応して形成され得る。
【００１１】
前記撥液パターンは、前記発光層の終端と接触し得る。
【００１２】
前記撥液パターンは、フルオリンを含む絶縁物質で形成され得る。
【００１３】
前記有機層は、前記第１電極と前記発光層との間に配置される正孔注入層と、前記正孔注入層と前記発光層との間に配置される正孔輸送層と、前記発光層と前記第２電極との間に配置される電子輸送層と、前記電子輸送層と前記第２電極との間に配置される電子注入層のうち、少なくとも何れか一つをさらに含み得、前記正孔注入層と前記正孔輸送層は、前記画素定義膜の前記開口部の内部で前記撥液パターンの下部に配置され得る。
【００１４】
前記画素定義膜は、有機物質または無機物質で形成され得る。
【００１５】
前記課題を達成するための本発明の他の実施形態による発光表示装置は、第１画素と第２画素を含む基板と、前記基板上に前記第１画素及び前記第２画素別に配置される第１電極と、前記第１画素の前記第１電極を露出する第１開口部と前記第２画素の前記第１電極を露出する第２開口部を有するように、前記基板上に配置される画素定義膜と、前記画素定義膜の前記第１開口部の内部で前記画素定義膜の側面のうち前記画素定義膜の高さを基準に第１位置に配置される第１撥液パターンと、前記画素定義膜の前記第２開口部の内部で前記画素定義膜の側面のうち前記画素定義膜の高さを基準に第２位置に配置される第２撥液パターンと、前記画素定義膜の前記第１開口部の内部で前記第１撥液パターンの下部に配置される第１発光層を含む第１有機層と、前記画素定義膜の前記第２開口部の内部で前記第２撥液パターンの下部に配置される第２発光層を含む第２有機層と、前記第１有機層及び前記第２有機層上に形成される第２電極を含む。
【００１６】
前記第１撥液パターンと前記第２撥液パターンのそれぞれは、前記画素定義膜の前記側面が形成する外枠に対応して形成され得る。
【００１７】
前記第１撥液パターンは前記第１発光層の終端と接触し、前記第２撥液パターンは前記第２発光層の終端と接触し得る。
【００１８】
前記第１撥液パターンと前記第２撥液パターンのそれぞれは、フルオリンを含む絶縁物質で形成され得る。
【００１９】
前記第２位置が前記第１位置より低く、前記第２有機層の厚さが前記第１有機層の厚さより薄てもよい。
【００２０】
前記第２位置と前記第１位置の高さが同一であり、前記第２有機層の厚さと前記第１有機層の厚さが同一であり得る。
【００２１】
前記第１画素と前記第２画素は、互いに異なる色を放出する画素であり得る。
【００２２】
前記画素定義膜は、有機物質または無機物質で形成され得る。
【００２３】
前記他の課題を達成するための本発明の一実施形態による発光表示装置の製造方法は、複数の画素を含む基板上に前記複数の画素別に第１電極を形成する段階と、前記基板上に前記第１電極を露出する開口部を有し、第１部分と、前記第１部分より上に位置する第２部分と、前記第１部分と前記第２部分との間に位置する境界部分を含む側面を含む画素定義膜を形成する段階と、前記画素定義膜の前記開口部の内部において、前記画素定義膜の前記側面のうち前記境界部分に撥液パターンを形成する段階と、前記画素定義膜の前記開口部の内部で前記撥液パターンの下部に配置される発光層を含む有機層を、前記第１電極上に形成する段階と、前記有機層上に第２電極を形成する段階を含む。
【００２４】
前記撥液パターンを形成する段階は、前記画素定義膜の前記開口部の内部で前記第１部分と前記境界部分との間の第１位置まで第１溶媒を満たす過程と、前記第１溶媒上にフルオリンを含む絶縁物質が混合された第２溶媒を吐出する過程と、前記第２溶媒を乾燥させて前記フルオリンを含む前記絶縁物質を前記第１位置に凝集させる過程と、前記第１溶媒を乾燥させて前記第１位置に形成される前記撥液パターンによるピニングポイントを形成する過程を含み得る。
【００２５】
前記第１溶媒は非極性であり、前記第２溶媒は極性であり得る。
【００２６】
前記複数の画素は、第１画素と第２画素を含み、前記画素定義膜の前記開口部は前記第１画素に形成される前記第１電極を露出する第１開口部と、前記第２画素に形成される前記第１電極を露出する第２開口部に区分され、前記撥液パターンを形成する段階は、前記画素定義膜の前記第１開口部の内部であって、前記画素定義膜の前記側面のうち前記画素定義膜の高さを基準とする第１位置までと、前記画素定義膜の前記第２開口部の内部で前記画素定義膜の前記の側面のうち前記画素定義膜の高さを基準とする第２位置まで、第１溶媒を満たす過程と、前記第１溶媒上にフルオリンを含む絶縁物質が混合された第２溶媒を吐出する過程と、前記第２溶媒を乾燥させて前記フルオリンを含む前記絶縁物質を前記第１位置と前記第２位置のそれぞれに凝集させる過程と、前記第１溶媒を乾燥させて、前記第１位置に形成される第１撥液パターンによって第１ピニングポイントを形成すると共に、前記第１溶媒を乾燥させて、前記第２位置に形成される第２撥液パターンによって第２ピニングポイントを形成する過程を含み得る。
【００２７】
前記有機層の発光層を形成する段階は、前記第１開口部の内部で前記第１ピニングポイントと第１発光溶液の表面との間の最大高さと、前記第２開口部の内部で前記第２ピニングポイントと第２発光溶液の表面との間の最大高さが同じとなるように、前記第１発光溶液の体積と前記第２発光溶液の体積を調整し、前記第１発光溶液を前記第１開口部に吐出し、前記第２発光溶液を前記第２開口部に吐出する過程を含み得る。
【００２８】
前記第１溶媒は非極性であり、前記第２溶媒は極性であり得る。
【００２９】
その他の実施形態の具体的な内容は、本明細書及び図面に含まれている。
【発明の効果】
【００３０】
本発明の実施形態によれば、少なくとも次のような効果がある。
【００３１】
本発明の一実施形態による発光表示装置は、画素定義膜の開口部の内部で画素定義膜の側面のうち所定の高さに配置される撥液パターンを含むことによって、有機層の構成のうち少なくとも何れか一つ、例えば発光層をインクジェットプリント方法を利用して形成する場合、発光溶液が画素定義膜の開口部の外側に流れ出さないようにし、かつ発光溶液を乾燥させて形成される発光層の形成位置を固定させるピニングポイントを、所望する位置に形成するようにすることができる。
【００３２】
したがって、本発明の一実施形態による発光表示装置はピニングポイントにより、所望する位置に所望する厚さを有する発光層を形成するようにして、表示品質を向上させることができる。また、従来の二回のフォトリソグラフィー工程により、親液性を有する画素定義膜と撥液性を有する画素定義膜を形成してピニングポイントを形成する場合より、製造工程を単純化させることができる。また、全体が撥液性である画素定義膜を有する発光表示装置で、フルオリンの拡散による有機層の発光層の特性及び寿命の低下を減らすことができる。
【００３３】
本発明による効果は、以上で例示した内容によって制限されず、さらに多様な効果が本明細書内に含まれている。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】本発明の一実施形態による発光表示装置の画素を示す概略的な平面図である。
【図２】図１のＩ−Ｉ’線に沿って切断する部分の断面図である。
【図３】図２のＡ部分の拡大断面図である。
【図４】図２の第１撥液パターンの平面図である。
【図５】本発明の他の実施形態による表示装置の断面図である。
【図６】図５のＢ部分の拡大断面図である。
【図７】図２及び図５とは異なる、本発明の他の実施形態による表示装置の断面図である。
【図８】図７のＣ部分の拡大断面図である。
【図９】本発明の一実施形態による発光表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図１０】本発明の一実施形態による発光表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図１１】本発明の一実施形態による発光表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図１２】本発明の一実施形態による発光表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図１３】本発明の一実施形態による発光表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図１４】本発明の一実施形態による発光表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図１５】本発明の一実施形態による発光表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図１６】本発明の一実施形態による発光表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図１７】本発明の一実施形態による発光表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図１８】本発明の一実施形態による発光表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図１９】本発明の一実施形態による発光表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図２０】本発明の一実施形態による発光表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図２１】本発明の一実施形態による発光表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図２２】本発明の一実施形態による発光表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図２３】本発明の一実施形態による発光表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図２４】本発明の一実施形態による発光表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３５】
本発明の利点及び特徴、並びにこれらを達成する方法は、添付する図面と共に詳細に後述する実施形態において明確となる。しかし、本発明は、以下で開示する実施形態に限定されるものではなく、互いに異なる多様な形態で実現されるものである。本実施形態は、単に本発明の開示を完全にし、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者に、発明の範疇を完全に知らせるために提供されるものである。本発明は、特許請求の範囲の記載によってのみ定義される。
【００３６】
素子（ｅｌｅｍｅｎｔｓ）または層が、他の素子または層の上と指称された場合、他の素子の真上にまたは中間に他の層または他の素子を介在する場合のすべてを含む。本明細書全体において、同一の参照符号は同一の構成要素を指称する。
【００３７】
第１、第２などが多様な素子及び構成要素を叙述するために使用されるが、これら素子及び構成要素は、これらの用語によって制限されない。これらの用語は、単に一つ構成要素を他の構成要素と区別するために使用するものである。したがって、以下で言及される第１構成要素は、本発明の技術的思想内で第２構成要であり得る。
【００３８】
以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。
【００３９】
図１は本発明の一実施形態による発光表示装置の画素を示す概略的な平面図である。図２は図１のＩ−Ｉ’線に沿って切断する部分の断面図である。図３は図２のＡ部分の拡大断面図である。図４は図２の第１撥液パターンの平面図である。
【００４０】
図１〜図４を参照すると、本発明の一実施形態による発光表示装置１００は、基板１０５、第１電極１１０、画素定義膜１２０、撥液パターン（１３０ａ、１３０ｂ、１３０ｃ）、有機層（ＯＬ１１、ＯＬ１２、ＯＬ１３）及び第２電極１９０を含むことができる。各部材は、図２のＺ方向に順次に積層されることができる。
【００４１】
基板１０５は、画像を表示する複数の画素Ｐを含む表示領域ＤＡと、表示領域ＤＡの外側に位置する非表示領域ＮＤＡを含むことができる。複数の画素Ｐは、第１方向Ｘと第１方向Ｘと交差する第２方向Ｙに沿って配列され、マトリックス形態を有し、第１画素Ｐ１、第２画素Ｐ２及び第３画素Ｐ３を含み得る。第１画素Ｐ１は例えば赤色を放出する赤色画素であり得、第２画素Ｐ２は例えば緑色を放出する緑色画素であり得、第３画素Ｐ３は例えば青色を放出する青色画素であり得る。
【００４２】
図１では、複数の画素Ｐが互いに異なる３個の色を放出する第１画素Ｐ１、第２画素Ｐ２及び第３画素Ｐ３を含む場合を示すが、これに限定されない。例えば、複数の画素は互いに異なる２個の色を放出する第１画素及び第２画素を含み得る。また、図１では、第２方向Ｙに同一の発光色を放出する画素Ｐが一列に配列され、第１方向Ｘに異なる発光色を放出する画素Ｐが交互に配列される場合を示すが、本発明はこのような配列に限定されない。一方、隣接する画素Ｐの間、例えば図２で第１画素Ｐ１と第２画素Ｐ２との間及び第２画素Ｐ２と第３画素Ｐ３との間には非画素ＮＰが配置されることができる。
【００４３】
基板１０５は絶縁基板を含み得る。前記絶縁基板は、透明なＳｉＯ２を主成分とする透明材質のグラス材で形成されることができる。いくつかの実施形態で、前記絶縁基板は不透明材質からなるか、またはプラスチック材質からなる。さらに、前記絶縁基板はフレキシブル基板であり得る。
【００４４】
図面に示していないが、基板１０５は絶縁基板上に形成された他の構造物をさらに含み得る。前記他の構造物の例としては、配線、電極、絶縁膜などが挙げられる。いくつかの実施形態で、基板１０５は絶縁基板上に形成された複数の薄膜トランジスタを含み得る。前記複数の薄膜トランジスタのうち、少なくとも一部のドレイン電極は、第１電極１１０と電気的に接続されることができる。前記薄膜トランジスタは、非晶質シリコン、多結晶シリコン、または単結晶シリコンなどからなるアクティブ領域を含み得る。いくつかの実施形態で、前記薄膜トランジスタは酸化物半導体で形成されるアクティブ領域を含み得る。
【００４５】
第１電極１１０は、基板１０５上に各画素Ｐ別に配置されることができる。第１電極１１０は、前記薄膜トランジスタのドレイン電極に印加された信号を受けて、有機層（ＯＬ１１、ＯＬ１２、ＯＬ１３）の発光層（１６０ａ、１６０ｂ、１６０ｃ）に正孔を提供するアノード電極または電子を提供するカソード電極であり得る。
【００４６】
第１電極１１０は、透明電極、反射電極または反透過電極として使用され得る。第１電極１１０が透明電極として使用されるときは、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）、ＺｎＯ（Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）またはＩｎ２Ｏ３で形成されることができる。第１電極１１０が反射電極として使用される場合は、Ａｇ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｎｄ、Ｉｒ、Ｃｒ及びこれらの化合物などで反射膜を形成した後、その反射膜の上にＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯまたはＩｎ２Ｏ３を形成して構成され得る。第１電極１１０が反透過電極として使用されるときは、Ａｇ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｎｄ、Ｉｒ、Ｃｒ及びこれらの化合物などで反射膜を薄い厚さで形成した後、その反射膜の上にＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯまたはＩｎ２Ｏ３を形成して構成され得る。第１電極１１０は、フォトリソグラフィー法により形成されることができるが、本発明はこれに限定されない。
【００４７】
第１電極１１０が透明電極として使用されるときは、発光表示装置１００が有機層（ＯＬ１１、ＯＬ１２、ＯＬ１３）の発光層（１６０ａ、１６０ｂ、１６０ｃ）から発生する光が、第１電極１１０方向に放出される背面発光型とすることができる。また、第１電極１１０が反射電極として使用されるときは、発光表示装置１００が有機層（ＯＬ１１、ＯＬ１２、ＯＬ１３）の発光層（１６０ａ、１６０ｂ、１６０ｃ）から発生する光が、第２電極１９０方向に放出される前面発光型である場合であり得る。また、第１電極１１０が反透過電極として使用されるときは、発光表示装置１００が有機層（ＯＬ１１、ＯＬ１２、ＯＬ１３）の発光層（１６０ａ、１６０ｂ、１６０ｃ）から発生する光が、背面から第１電極１１０方向に放出される背面発光型とすることができ、かつ共振構造を有することができる。
【００４８】
前記共振構造は、例えば発光表示装置１００が背面発光型である場合、有機層（ＯＬ１１、ＯＬ１２、ＯＬ１３）の発光層（１６０ａ、１６０ｂ、１６０ｃ）から発生する光のうち、第１電極１１０を透過できない一部の光を第１電極１１０と第２電極１９０との間で再反射により強化させて放出させるための構造であって、前記再反射のために第１電極１１０と第２電極１９０との間の光学共振距離を調整するように有機層（ＯＬ１１、ＯＬ１２、ＯＬ１３）の厚さを調整する構造とすることができる。この場合、第１電極１１０は反透過電極として使用され、第２電極１９０は反射電極として使用され得る。また、発光表示装置１００が前面発光型であり、かつ共振構造を有する場合、第１電極１１０は反射電極として使用されることができ、第２電極１９０は反透過電極として使用され得る。
【００４９】
画素定義膜１２０は、第１電極１１０を露出する開口部（ＯＰ１、ＯＰ２、ＯＰ３）を有するように基板１０５上に配置されることができ、基板１０５上に各画素Ｐを区切ることができる。開口部（ＯＰ１、ＯＰ２、ＯＰ３）の内部で、画素定義膜１２０の側面は傾斜した形態を有し得る。開口部（ＯＰ１、ＯＰ２、ＯＰ３）は、第１画素Ｐ１の第１電極１１０を露出する第１開口部ＯＰ１、第２画素Ｐ２の第１電極１１０を露出する第２開口部ＯＰ２、及び第３画素Ｐ３の第１電極１１０を露出する第３開口部ＯＰ３に区分されることができる。
【００５０】
画素定義膜１２０は、開口部（ＯＰ１、ＯＰ２、ＯＰ３）を介して第１電極１１０上に有機層（ＯＬ１１、ＯＬ１２、ＯＬ１３）が形成されるようにすることができる。画素定義膜１２０は絶縁物質からなることができる。例えば、画素定義膜１２０は、ベンゾシクロブテン（Ｂｅｎｚｏ  Ｃｙｃｌｏ  Ｂｕｔｅｎｅ、ＢＣＢ）、ポリイミド（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ、ＰＩ）、ポリアミド（ｐｏｌｙａｍｉｄｅ、ＰＡ）、アクリル樹脂及びフェノール樹脂などから選択された少なくとも一つの有機物質を含んでなることができる。また、他の例として、画素定義膜１２０はシリコン窒化物などのような無機物質を含んで形成され得る。
【００５１】
撥液パターン（１３０ａ、１３０ｂ、１３０ｃ）は、画素定義膜１２０の開口部（ＯＰ１、ＯＰ２、ＯＰ３）の内部で、画素定義膜１２０の側面のうち画素定義膜１２０の高さを基準に第１部分と第１部分上の第２部分との間の境界部分に薄い厚さを有して配置されることができる。
【００５２】
撥液パターン（１３０ａ、１３０ｂ、１３０ｃ）は、有機層（ＯＬ１１、ＯＬ１２、ＯＬ１３）の構成のうち少なくとも何れか一つ、例えば発光層（１６０ａ、１６０ｂ、１６０ｃ）がインクジェットプリント方法によって形成される場合、画素定義膜１２０の開口部（ＯＰ１、ＯＰ２、ＯＰ３）の内部に吐出される発光溶液に対し、撥液性を有する絶縁物質で形成され得る。このため、撥液パターン（１３０ａ、１３０ｂ、１３０ｃ）は、撥液パターン（１３０ａ、１３０ｂ、１３０ｃ）に対する発光溶液の接触角が４０°以上になるようにする絶縁物質、例えばフルオリンを含む絶縁物質で形成されることができる。撥液パターン（１３０ａ、１３０ｂ、１３０ｃ）は、インクジェットプリント方法を利用して、画素定義膜１２０の開口部（ＯＰ１、ＯＰ２、ＯＰ３）の内部に第１溶媒と、前記第１溶媒上に撥液性絶縁物質が混合された第２溶媒を吐出させた後、前記第２溶媒と前記第１溶媒を順序に乾燥させることによって残る撥液性絶縁物質で形成されることができる。前記第１溶媒は非極性、第１沸点及び第１密度を有する溶媒であり得る。例えば、前記第１溶媒は、ベンゼン（Ｂｅｚｅｎｅ）、１，４−ジオキサン（１、４−Ｄｉｏｘａｎｅ）、シクロペンタン（Ｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｎｅ）及びクロロホルム（Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ）などの溶媒であり得る。前記第２溶媒は、極性、前記第１沸点より低い第２沸点及び前記第１密度より低い第２密度を有する溶媒であり得る。例えば、前記第２溶媒はテトラヒドロフラン（ｔｅｔｒａｈｙｄｒｏｆｕｒａｎ）などの溶媒であり得る。前記第１溶媒と第２溶媒は、互いに混合されない溶媒とすることができる。なお、ある実施形態においては、第１溶媒として、１０１度の第１沸点および１．０３３ｇ／ｍｌの第１密度を有する１，４−ジオキサンが使用され得て、第２溶媒として、６６度の第２沸点および０．８８６ｇ／ｍｌの第２密度を有するテトラヒドロフランが使用され得る。
【００５３】
このような撥液パターン（１３０ａ、１３０ｂ、１３０ｃ）は、画素定義膜１２０の側面のうち第１部分と境界部分との間に定義されるピニングポイント（ｐｉｎｎｉｎｇ  ｐｏｉｎｔ）（ＰＰ１１、ＰＰ１２、ＰＰ１３）を、所望する位置に形成するようにすることができる。これにより、有機層（ＯＬ１１、ＯＬ１２、ＯＬ１３）の構成のうち少なくとも何れか一つ、例えば発光層（１６０ａ、１６０ｂ、１６０ｃ）がインクジェットプリント方法によって形成される場合、発光溶液が画素定義膜１２０の開口部（ＯＰ１、ＯＰ２、ＯＰ３）の外側に流れ出さないようにすることができる。結果として、発光溶液を乾燥して形成される発光層（１６０ａ、１６０ｂ、１６０ｃ）が、ピニングポイント（ＰＰ１１、ＰＰ１２、ＰＰ１３）の下部に所望する厚さを有して形成されるようにし得る。一方、発光層（１６０ａ、１６０ｂ、１６０ｃ）は、撥液性を有する撥液パターン（１３０ａ、１３０ｂ、１３０ｃ）に近づくほど薄くなり得、発光層（１６０ａ、１６０ｂ、１６０ｃ）の終端が撥液パターン（１３０ａ、１３０ｂ、１３０ｃ）と接触し得る。
【００５４】
撥液パターン（１３０ａ、１３０ｂ、１３０ｃ）は、画素定義膜１２０の第１開口部ＯＰ１の内部に配置される第１撥液パターン１３０ａ、第２開口部ＯＰ２の内部に配置される第２撥液パターン１３０ｂ、及び第３開口部ＯＰ３の内部に配置される第３撥液パターン１３０ｃに区分されることができる。図３では、第１撥液パターン１３０ａが画素定義膜１２０の側面のうち画素定義膜１２０の高さを基準に第１部分１２１と、第１部分１２１上の第２部分１２２との間の境界部分１２３に薄い厚さを有して配置される場合が示す。第２撥液パターン１３０ｂ及び第３撥液パターン１３０ｃも同様に、画素定義膜１２０の側面のうち画素定義膜１２０の高さを基準に第１部分と第２部分との間の境界部分に薄い厚さを有して配置されることができる。この場合において、画素定義膜１２０の第１開口部ＯＰ１の内部で、境界部分１２３の位置、第２開口部ＯＰ２の内部で境界部分の位置及び第３開口部ＯＰ３の内部で境界部分の位置が、互いに異なり得る。ここで、画素定義膜１２０の第１開口部ＯＰ１の内部で第１部分１２１、境界部分１２３及び第２部分１２２は、連続的であり得、画素定義膜１２０の第２開口部ＯＰ２の内部及び第３開口部ＯＰ３の内部のそれぞれにおいても第１部分、境界部分及び第２部分は連続的であり得る。なお、第１部分は、画素定義膜における開口部側面のうち、第１電極からピニングポイントまでの部分であり、第２部分は、第１部分上の部分であってもよい。
【００５５】
一方、図４において、第１撥液パターン１３０ａが、画素定義膜１２０の第１開口部ＯＰ１の内部で、画素定義膜１２０の側面が形成する外枠に対応して形成される場合を示す。すなわち、画素定義膜１２０の前記側面が形成する外枠に対応して、第１撥液パターン１３０ａを形成することができる。例えば、前記外枠が角の無い円形状であれば、第１撥液パターン１３０ａはリング形状（リングパターン）となり得る。また、前記外枠が多角形形状であれば、第１撥液パターン１３０ａは多角形形状となり得る。第２撥液パターン１３０ｂ及び第３撥液パターン１３０ｃも、画素定義膜１２０の第２開口部ＯＰ２の内部及び第３開口部ＯＰ３の内部のそれぞれにおいて、画素定義膜１２０の側面にが形成する外枠に対応して、で形成され得る。
【００５６】
ただし、第１撥液パターン１３０ａ、第２撥液パターン１３０ｂ及び第３撥液パターン１３０ｃは、画素定義膜１２０の高さを基準に互いに異なる位置に位置し得る。例えば、第１画素Ｐ１が赤色画素であり、第２画素Ｐ２が緑色画素であり、第３画素Ｐ３が青色画素である場合、第１撥液パターン１３０ａは画素定義膜１２０の側面で第１位置Ｌ１１に位置し得、第２撥液パターン１３０ｂは画素定義膜１２０の側面で第１位置Ｌ１１より低い第２位置Ｌ１２に位置し得、第３撥液パターン１３０ｃは画素定義膜１２０の側面で第２位置Ｌ１２より低い第３位置Ｌ１３に位置し得る。このように位置し得るのは、長い波長を有する赤色光を放出する赤色画素では第１電極１１０と第２電極１９０との間の光学共振距離ｄ１が最も長いためであり、第１有機層ＯＬ１１の厚さが最も厚くなり得る。同様に、短い波長を有する青色光を放出する青色画素では、第１電極１１０と第２電極１９０との間の光学共振距離ｄ３が最も短いため、第３有機層ＯＬ１３の厚さが最も薄くなり得る。また、赤色光の波長と青色光の波長との間にある波長を有する緑色光を放出する緑色画素では、光学共振距離ｄ１と光学共振距離ｄ３との間にある光学共振距離ｄ２により、第２有機層ＯＬ１２の厚さが第１有機層ＯＬ１１の厚さと第３有機層ＯＬ１３の厚さとの間の厚さを有する共振構造を適用した。なお、前記赤色光の波長は約６５０ｎｍであり、前記緑色光の波長は約５５０ｎｍであり、前記青色光の波長は約４３０ｎｍであり得る。
【００５７】
このような第１撥液パターン１３０ａ、第２撥液パターン１３０ｂ及び第３撥液パターン１３０ｃは、共振構造を有する発光表示装置１００において第１有機層ＯＬ１１の厚さ、第２有機層ＯＬ１２の厚さ及び第３有機層ＯＬ１３の厚さを異なるようにすることができる。そのためには、例えば異なる厚さを有する第１発光層１６０ａ、第２発光層１６０ｂ及び第３発光層１６０ｃを、例えばインクジェットプリント方法を利用して形成する場合において、互いに異なる位置に位置する第１ピニングポイントＰＰ１１、第２ピニングポイントＰＰ１２及び第３ピニングポイントＰＰ１３のそれぞれを基準に、同じ表面形状を有するようにするための第１発光溶液（図２２の１６１）、第２発光溶液（図２２の１６２）、第３発光溶液（図２２の１６３）の体積を容易に調整することができる。ここで、第１発光溶液（図２２の１６１）の体積、第２発光溶液（図２２の１６２）の体積及び第３発光溶液（図２２の１６３）の体積は、互いに異なり得る。また、第１発光溶液（図２２の１６１）での発光物質と溶媒の比率、第２発光溶液（図２２の１６２）での発光物質と溶媒の比率及び第３発光溶液（図２２の１６３）での発光物質と溶媒の比率は同じであり得る。前記同じ表面形状を有する第１発光溶液（図２２の１６１）、第２発光溶液（図２２の１６２）及び第３発光溶液（図２２の１６３）が、同一条件を有する乾燥工程により乾燥される場合には、同じ形状を有する第１発光層１６０ａ、第２発光層１６０ｂ及び第３発光層１６０ｃを形成することができる。これによって、画素Ｐ別の発光均一度を向上させることができる。
【００５８】
一方、発光表示装置においてピニングポイントが所望しない位置に形成されると、ピニングポイントの正確な位置を把握しにくい。そのため、特に互いに異なる体積を有する発光溶液が画素定義膜の開口部に吐出された場合、ピニングポイントを基準に同じ表面形状を有するようにすることを制御することが困難となる場合がある。
【００５９】
前記では、共振構造を有する発光表示装置１００において第１有機層ＯＬ１１の厚さ、第２有機層ＯＬ１２の厚さ及び第３有機層ＯＬ１３の厚さを異なるようにするように、第１発光層１６０ａの厚さ、第２発光層１６０ｂの厚さ及び第３発光層１６０ｃ厚さを異なるようにする場合を説明したが、本発明はこれに限定されない。例えば、第１有機層ＯＬ１１の厚さ、第２有機層ＯＬ１２の厚さ及び第３有機層ＯＬ１３の厚さを異なるようにするように、第１発光層１６０ａ、第２発光層１６０ｂ及び第３発光層１６０ｃの厚さ、第１正孔注入層１４０ａ、第２正孔注入層１４０ｂ及び第３正孔注入層１４０ｃの厚さ、並びに第１正孔輸送層１５０ａ、第２正孔輸送層１５０ｂ及び第３正孔輸送層１５０ｃの厚さのうち、少なくとも何れか一つを異なるようにし得る。
【００６０】
有機層（ＯＬ１１、ＯＬ１２、ＯＬ１３）は、画素定義膜１２０の開口部（ＯＰ１、ＯＰ２、ＯＰ３）を介して露出する第１電極１１０上に形成されることができる。有機層（ＯＬ１１、ＯＬ１２、ＯＬ１３）は、画素定義膜１２０の第１開口部ＯＰ１の内部に配置される第１有機層ＯＬ１１、第２開口部ＯＰ２の内部に配置される第２有機層ＯＬ１２、及び第３開口部ＯＰ３の内部に配置される第３有機層ＯＬ１３に区分されることができる。
【００６１】
第１有機層ＯＬ１１は、第１正孔注入層１４０ａ、第１正孔輸送層１５０ａ、第１発光層１６０ａ、第１電子輸送層１７０ａ及び第１電子注入層１８０ａを含み得る。
【００６２】
第１正孔注入層１４０ａは、画素定義膜１２０の第１開口部ＯＰ１の内部で第１電極１１０と画素定義膜１２０の側面に沿って配置されることができる。第１正孔注入層１４０ａは、例えばインクジェットプリント方法を利用して、正孔注入物質を含む正孔注入溶液を画素定義膜１２０の第１開口部ＯＰ１の内部に吐出させて形成されることができる。この場合、第１正孔注入層１４０ａは第１撥液パターン１３０ａの下部、すなわち第１ピニングポイントＰＰ１１の下部に配置されことができ、第１電極１１０の上で画素定義膜１２０の側面に行くほど薄くなる厚さを有し得る。
【００６３】
第１正孔注入層１４０ａは、第１電極１１０と第１正孔輸送層１５０ａとの間のエネルギー障壁を低くする緩衝層として、第１電極１１０から提供される正孔が第１正孔輸送層１５０ａに容易に注入するようにする役割を果たすことができる。第１正孔注入層１４０ａは、有機化合物、例えばＭＴＤＡＴＡ（４、４’、４”−トリス（３−メチルフェニルフェニルアミノ）トリフェニルアミン（４、４’、４”−ｔｒｉｓ（３−ｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｙｌｐｈｅｎｙｌａｍｉｎｏ）ｔｒｉｐｈｅｎｙｌａｍｉｎｅ））、ＣｕＰｃ（銅フタロシアニン（ｃｏｐｐｅｒ  ｐｈｔｈａｌｏｃｙａｎｉｎｅ））またはＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ（ポリ（３、４−エチレンジオキシチオフェン）／ポリスチレンスルフォネート（ｐｏｌｙ（３、４−ｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙｔｈｉｏｐｈｅｎｅ）／ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ  ｓｕｌｆｏｎａｔｅ））などからなることができる。
【００６４】
第１正孔輸送層１５０ａは、画素定義膜１２０の第１開口部ＯＰ１の内部で第１正孔注入層１４０ａ上に配置されることができる。第１正孔輸送層１５０ａは、例えばインクジェットプリント方法を利用して、正孔輸送物質を含む正孔輸送溶液を画素定義膜１２０の第１開口部ＯＰ１の内部に吐出させて形成されることができる。この場合、第１正孔輸送層１５０ａは第１撥液パターン１３０ａの下部、すなわち第１ピニングポイントＰＰ１１の下部に配置されることができ、第１電極１１０の上で画素定義膜１２０の側面に行くほど薄くなる厚さを有し得る。
【００６５】
第１正孔輸送層１５０ａは、第１正孔注入層１４０ａを介して提供を受けた正孔を第１発光層１６０ａに伝達する役割を果たすことができる。第１正孔輸送層１５０ａは、第１正孔注入層１４０ａより低い電気導電性を有する正孔輸送物質で形成されることができる。第１正孔輸送層１５０ａは、有機化合物、例えばＴＰＤ（Ｎ、Ｎ’−ジフェニル−Ｎ、Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１、１’−ビフェニル−４、４’−ジアミン（Ｎ、Ｎ’−ｄｉｐｈｅｎｙｌ−Ｎ、Ｎ’−ｂｉｓ（３−ｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｙｌ）−１、１’−ｂｉｐｈｅｎｙｌ−４、４’−ｄｉａｍｉｎｅ））またはＮＰＢ（Ｎ、Ｎ’−ジ（ナフタレン−１−イル）−Ｎ、Ｎ’−ジフェニル−ベンジディン（Ｎ、Ｎ’−ｄｉ（ｎａｐｈｔｈａｌｅｎ−１−ｙｌ）−Ｎ、Ｎ’−ｄｉｐｈｅｎｙｌ−ｂｅｎｚｉｄｉｎｅ））などで形成されることができるが、これに限定されない。
【００６６】
第１発光層１６０ａは、画素定義膜１２０の第１開口部ＯＰ１の内部で第１正孔輸送層１５０ａ上に配置されることができる。第１発光層１６０ａは、例えばインクジェットプリント方法を利用して、発光物質を含む発光溶液を画素定義膜１２０の第１開口部ＯＰ１の内部に吐出させて形成されることができる。この場合、第１発光層１６０ａは、第１撥液パターン１３０ａの下部、すなわち第１ピニングポイントＰＰ１１の下部に配置されることができ、第１電極１１０の上で画素定義膜１２０の側面に行くほど薄くなる厚さを有し得る。
【００６７】
第１発光層１６０ａは、第１電極１１０から提供される正孔と第２電極１９０から提供される電子を再結合させて光を放出することができる。より詳細に説明すると、第１発光層１６０ａに正孔及び電子が提供されると、正孔及び電子が結合してエクシトンを形成し、このようなエクシトンが励起状態から基底状態に変化しながら光を放出させる。第１発光層１６０ａは、例えば赤色を放出する赤色発光層であり得る。
【００６８】
前記赤色発光層は、一つの赤色発光物質を含むか、ホストと赤色ドーパントを含んで形成される。前記赤色発光層のホストの例としては、Ａｌｑ３（トリス(８-キノリノラト)アルミニウム（Ｔｒｉｓ（８−ｈｙｄｒｏｘｙｑｕｉｎｏｌｉｎａｔｏ）ａｌｕｍｉｎｕｍ））、ＣＢＰ（（４、４’−Ｎ、Ｎ’−ジカルバゾール）ビフェニル（４、４’−Ｎ、Ｎ’−ｄｉｃａｒｂａｚｏｌｅ）ｂｉｐｈｅｎｙｌ））、ＰＶＫ（ポリ（ｎ−ビニルカルバゾール）（ｐｏｌｙ（ｎ−ｖｉｎｙｌｃａｒｂａｚｏｌｅ）））、ＡＤＮ（９、１０−ジ（２−ナフチル）アントラセン（９、１０−Ｄｉ（２−ｎａｐｈｔｈｙｌ）ａｎｔｈｒａｃｅｎｅ））、ＴＣＴＡ（４、４’、４”−トリス（Ｎ−カルバゾリル）トリフェニルアミン（４、４’、４”−ｔｒｉｓ（Ｎ−ｃａｒｂａｚｏｌｙｌ）ｔｒｉｐｈｅｎｙｌａｍｉｎｅ））、ＴＰＢＩ（（１、３、５−トリス（Ｎ−フェニルベンズイミダゾール−２−イル）ベンゼン（１、３、５−ｔｒｉｓ（Ｎ−ｐｈｅｎｙｌｂｅｎｚｉｍｉｄａｚｏｌｅ−２−ｙｌ）ｂｅｎｚｅｎｅ））、ＴＢＡＤＮ（３−ｔｅｒｔ−ブチル−９、１０−ジ（ナフス−２−イル）アントラセン（３−ｔｅｒｔ−ｂｕｔｙｌ−９、１０−ｄｉ（ｎａｐｈｔｈ−２−ｙｌ）ａｎｔｈｒａｃｅｎｅ））、Ｅ３（ｔｅｒ−フルオレン（ｔｅｒ−ｆｌｕｏｒｅｎｅ））、ＤＳＡ（ジスチリルアリーレン（ｄｉｓｔｙｒｙｌａｒｙｌｅｎｅ））などを使用し得るが、これらに限定されない。また、前記赤色ドーパントとして、ＰｔＯＥＰ、Ｉｒ（ｐｉｑ）３、Ｂｔｐ２Ｉｒ（ａｃａｃ）などを利用し得るが、これに限定されない。
【００６９】
第１電子輸送層１７０ａは、第１発光層１６０ａ上に配置されることができる。第１電子輸送層１７０ａは、第２電極１９０から第１電子注入層１８０ａを介して提供を受けた電子を第１発光層１６０ａに伝達する役割を果たすことができる。第１電子輸送層１７０ａは、有機化合物、例えばＢｐｈｅｎ（４、７−ジフェニル−１、１０−フェナントロリン（４、７−ｄｉｐｈｅｎｙｌ−１、１０−ｐｈｅｎａｎｔｈｒｏｌｉｎｅ））、ＢＡｌｑ（アルミニウム（ＩＩＩ）ビス（２−メチル−８−ヒドロキシキノキナト）４−フェニル  フェノラート）（ａｌｕｍｉｎｕｍ（ＩＩＩ）ｂｉｓ（２−ｍｅｔｈｙｌ−８−ｈｙｄｒｏｘｙｑｕｉｎｏｌｉｎａｔｏ）４−ｐｈｅｎｙｌ  ｐｈｅｎｏｌａｔｅ））、Ａｌｑ３（トリス(８-キノリノラト)アルミニウム（Ｔｒｉｓ（８−ｑｕｉｎｏｌｉｎｏｒａｔｅ）ａｌｕｍｉｎｕｍ））、Ｂｅｂｑ２（ベリリウムビス（ベンゾキノリン−１０−オラト）（（ｂｅｒｙｌｌｉｕｍｂｉｓ（ｂｅｎｚｏｑｕｉｎｏｌｉｎ−１０−ｏｌａｔｅ））、ＴＰＢＩ（（１、３、５−トリス（Ｎ−フェニルベンズイミダゾール−２−イル）ベンゼン（１、３、５−ｔｒｉｓ（Ｎ−ｐｈｅｎｙｌｂｅｎｚｉｍｉｄａｚｏｌｅ−２−ｙｌ）ｂｅｎｚｅｎｅ））などで形成されることができるが、これらに限定されない。第１電子輸送層１７０ａは、例えば蒸着方法などにより形成されることができるが、これに限定されない。
【００７０】
第１電子注入層１８０ａは、第１電子輸送層１７０ａ上に配置されることができる。第１電子注入層１８０ａは、第１電子輸送層１７０ａと第２電極１９０との間のエネルギー障壁を低くする緩衝層であることができ、第２電極１９０から提供される電子が第１電子輸送層１７０ａに容易に注入されるようにする役割を果たすことができる。第１電子注入層１８０ａは、例えば、ＬｉＦまたはＣｓＦなどで形成されることができるが、これらに限定されない。第１電子注入層１８０ａは、例えば蒸着方法などにより形成されることができるが、これに限定されない。
【００７１】
第２有機層ＯＬ１２は、第２正孔注入層１４０ｂ、第２正孔輸送層１５０ｂ、第２発光層１６０ｂ、第２電子輸送層１７０ｂ及び第２電子注入層１８０ｂを含み得る。
【００７２】
第２正孔注入層１４０ｂは、第１正孔注入層１４０ａと類似する。そして、第２正孔注入層１４０ｂは、画素定義膜１２０の第２開口部ＯＰ２の内部で第２撥液パターン１３０ｂの下部、すなわち第２ピニングポイントＰＰ１２の下部であって、第１電極１１０及び画素定義膜１２０の側面の上に配置されることができる。また、第２正孔注入層１４０ｂの厚さは、第１正孔注入層１４０ａの厚さと異なり得る。例えば、第２正孔注入層１４０ｂの厚さは、第１正孔注入層１４０ａの厚さより小さくてもよい。なお、前記厚さの比較は、有機層（ＯＬ１１、ＯＬ１２、ＯＬ１３）に含まれた構成がすべて平たい部分で比較した厚さを意味し、これは以下でも同様に適用される。
【００７３】
第２正孔輸送層１５０ｂは、第１正孔輸送層１５０ａと類似する。そして、第２正孔輸送層１５０ｂは、画素定義膜１２０の第２開口部ＯＰ２の内部で第２撥液パターン１３０ｂの下部、すなわち第２ピニングポイントＰＰ１２の下部であって、第２正孔注入層１４０ｂの上に配置されることができる。また、第２正孔輸送層１５０ｂの厚さは、第１正孔輸送層１５０ａの厚さと異なり得る。例えば、第２正孔輸送層１５０ｂの厚さは、第１正孔輸送層１５０ａの厚さより小さくてもよい。
【００７４】
第２発光層１６０ｂは、第１発光層１６０ａと類似する。そして、画素定義膜１２０の第２開口部ＯＰ２の内部で第２撥液パターン１３０ｂの下部、すなわち第２ピニングポイントＰＰ１２の下部であって、第２正孔輸送層１５０ｂの上に配置されることができる。また、第２発光層１６０ｂは、第１発光層１６０ａと異なる色の光を放出する物質で形成されることができる。例えば、第２発光層１６０ｂは緑色を放出する緑色発光層であり得る。前記緑色発光層は、一つの緑色発光物質を含んで形成されることができ、また、ホストと緑色ドーパントを含んで形成されることができる。前記緑色発光層のホストとしては、前記赤色発光層のホストが使用され得る。また、前記緑色ドーパントとして、Ｉｒ（ｐｐｙ）３、Ｉｒ（ｐｐｙ）２（ａｃａｃ）、Ｉｒ（ｍｐｙｐ）３などを利用し得るが、これらに限定されない。また、第２発光層１６０ｂの厚さが、第１発光層１６０ａの厚さと異なり得る。例えば、第２発光層１６０ｂの厚さが、第１発光層１６０ａの厚さより小さくてもよい。
【００７５】
第２電子輸送層１７０ｂは、第１電子輸送層１７０ａと類似する。そして、第２電子輸送層１７０ｂは、第２発光層１６０ｂ上に配置されることができる。
【００７６】
第２電子注入層１８０ｂは、第１電子注入層１８０ａと類似する。そして、第２電子注入層１８０ｂは第２電子輸送層１７０ｂ上に配置されることができる。
【００７７】
第３有機層ＯＬ１３は、第３正孔注入層１４０ｃ、第３正孔輸送層１５０ｃ、第３発光層１６０ｃ、第３電子輸送層１７０ｃ及び第３電子注入層１８０ｃを含み得る。
【００７８】
第３正孔注入層１４０ｃは、第２正孔注入層１４０ｂと類似する。そして、第３正孔注入層１４０ｃは、画素定義膜１２０の第３開口部ＯＰ３の内部で第３撥液パターン１３０ｃの下部、すなわち第３ピニングポイントＰＰ１３の下部であって、第１電極１１０と画素定義膜１２０の側面の上に配置される。また、第３正孔注入層１４０ｃの厚さは、第２正孔注入層１４０ｂの厚さと異なり得る。例えば、第３正孔注入層１４０ｃの厚さは、第２正孔注入層１４０ｂの厚さより小さくてもよい。
【００７９】
第３正孔輸送層１５０ｃは、第２正孔輸送層１５０ｂと類似する。そして、第３正孔輸送層１５０ｃは、画素定義膜１２０の第３開口部ＯＰ３の内部で第３撥液パターン１３０ｃの下部、すなわち第３ピニングポイントＰＰ１３の下部であって、第３正孔注入層１４０ｃの上に配置されることができる。また、第３正孔輸送層１５０ｃの厚さは、第２正孔輸送層１５０ｂの厚さと異なり得る。例えば、第３正孔輸送層１５０ｃの厚さは、第２正孔輸送層１５０ｂの厚さより小さくてもよい。
【００８０】
第３発光層１６０ｃは第２発光層１６０ｂと類似する。そして、画素定義膜１２０の第３開口部ＯＰ３の内部で、第３撥液パターン１３０ｃの下部、すなわち第３ピニングポイントＰＰ１３の下部であって、第３正孔輸送層１５０ｃの上に配置されることができる。また、第３発光層１６０ｃは、第２発光層１６０ｂと異なる色の光を放出する物質で形成されることができる。例えば、第３発光層１６０ｃは、青色を放出する青色発光層であり得る。前記青色発光層は、一つの青色発光物質を含んで形成されることができ、また、ホストと青色ドーパントを含んで形成されることができる。前記青色発光層のホストとしては、前記赤色発光層のホストが使用され得る。また、前記青色ドーパントとして、Ｆ２Ｉｒｐｉｃ、（Ｆ２ｐｐｙ）２Ｉｒ（ｔｍｄ）、Ｉｒ（ｄｆｐｐｚ）３、ｔｅｒ−フルオレン（ｔｅｒ−ｆｌｕｏｒｅｎｅ）、ＤＰＡＶＢｉ（４，４'−ビス[４−(ジ−ｐ−トリルアミノ)スチリル]ビフェニル（４，４’−Ｂｉｓ［４−（ｄｉ−ｐ−ｔｏｌｙｌａｍｉｎｏ）ｓｔｙｒｙｌ］ｂｉｐｈｅｎｙｌ））、ＴＢＰｅ（２，５，８，１１−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチルペリレン（２、５、８、１１−ｔｅｔｒａ−ｔｅｒｔ−ｂｕｔｙｌｐｈｅｒｙｌｅｎｅ））などを利用し得るが、これらに限定されない。また、第３発光層１６０ｃの厚さが、第２発光層１６０ｂの厚さと異なり得る。例えば、第３発光層１６０ｃの厚さが、第２発光層１６０ｂの厚さより小さくてもよい。
【００８１】
第３電子輸送層１７０ｃは、第２電子輸送層１７０ｂと類似する。そして、第３電子輸送層１７０ｃは、第３発光層１６０ｃ上に配置されることができる。
【００８２】
第３電子注入層１８０ｃは、第２電子注入層１８０ｂと類似する。そして、第３電子注入層１８０ｃは、第３電子輸送層１７０ｃ上に配置されることができる。
【００８３】
第２電極１９０は、有機層（ＯＬ１１、ＯＬ１２、ＯＬ１３）上に配置されることができ、発光層（１６０ａ、１６０ｂ、１６０ｃ）に電子を提供するカソード電極または正孔を提供するアノード電極であり得る。第２電極１９０も、第１電極１１０と同様に、透明電極、反射電極または反透過電極として使用され得る。第２電極１９０が透明電極として使用される場合は、発光表示装置１００は有機層（ＯＬ１１、ＯＬ１２、ＯＬ１３）の発光層（１６０ａ、１６０ｂ、１６０ｃ）から発生する光が第２電極１９０の方向に放出される前面発光型とすることができる。また、第２電極１９０が反射電極として使用される場合は、発光表示装置１００は有機層（ＯＬ１１、ＯＬ１２、ＯＬ１３）の発光層（１６０ａ、１６０ｂ、１６０ｃ）から発生する光が第１電極１１０の方向に放出される背面発光型とすることができる。また、第２電極１９０が反透過電極として使用されるときは、発光表示装置１００は有機層（ＯＬ１１、ＯＬ１２、ＯＬ１３）の発光層（１６０ａ、１６０ｂ、１６０ｃ）から発生する光が第２電極１９０の方向に放出される前面発光型であると共に、共振構造を有することができる。第２電極１９０は、例えば蒸着方法などにより形成され得るが、これに限定されない。
【００８４】
図面に示していないが、発光表示装置１００は、第２電極１９０の上部に配置される封止基板をさらに含み得る。前記封止基板は絶縁基板からなることができる。画素定義膜１２０の上の第２電極１９０と封止基板との間には、スペーサが配置されることができる。本発明の他のいくつかの実施形態で、前記封止基板は省略できる。この場合、絶縁物質からなる封止膜が全体構造物を覆って保護することができる。
【００８５】
前述したように、本発明の一実施形態による発光表示装置１００は、画素定義膜１２０の開口部（ＯＰ１、ＯＰ２、ＯＰ３）の内部であって、画素定義膜１２０の側面のうち所定の高さに配置される撥液パターン（１３０ａ、１３０ｂ、１３０ｃ）を含むことによって、有機層（ＯＬ１１、ＯＬ１２、ＯＬ１３）の構成のうち少なくとも何れか一つ、例えば発光層（１６０ａ、１６０ｂ、１６０ｃ）を、例えばインクジェットプリント方法を利用して形成する場合、発光溶液が画素定義膜の開口部（ＯＰ１、ＯＰ２、ＯＰ３）の外側に流れ出さないようにし、かつ発光溶液を乾燥して形成される発光層（１６０ａ、１６０ｂ、１６０ｃ）の形成位置を固定させるピニングポイント（ＰＰ１１、ＰＰ１２、ＰＰ１３）を、所望する位置に形成されるようにし得る。
【００８６】
したがって、本発明の一実施形態による発光表示装置１００は、ピニングポイント（ＰＰ１１、ＰＰ１２、ＰＰ１３）により、所望する位置に所望する厚さを有する発光層（１６０ａ、１６０ｂ、１６０ｃ）を形成するようにして、表示品質を向上させ、従来の二回のフォトリソグラフィー工程により親液性を有する画素定義膜と撥液性を有する画素定義膜を形成し、ピニングポイントを形成する場合よりも、製造工程を単純化させ、かつ全体が撥液性である画素定義膜を有する発光表示装置において、フルオリンの拡散による有機層の発光層の特性及び寿命の低下を減らすことができる。
【００８７】
また、本発明の一実施形態による発光表示装置１００は、画素定義膜１２０の開口部（ＯＰ１、ＯＰ２、ＯＰ３）の内部で、所望する互いに異なる位置に形成される撥液パターン（１３０ａ、１３０ｂ、１３０ｃ）を含むことによって、画素定義膜１２０の開口部（ＯＰ１、ＯＰ２、ＯＰ３）の内部で、所望する互いに異なる位置にピニングポイント（ＰＰ１１、ＰＰ１２、ＰＰ１３）を形成するようにし得る。
【００８８】
これによって、本発明の一実施形態による発光表示装置１００は、共振構造を適用する場合に、画素定義膜１２０の開口部（ＯＰ１、ＯＰ２、ＯＰ３）の内部で互いに異なる厚さを有する有機層（ＯＬ１１、ＯＬ１２、ＯＬ１３）を形成するために、例えば互いに異なる厚さを有する発光層（１６０ａ、１６０ｂ、１６０ｃ）をインクジェットプリント方法を利用して形成する場合において、互いに異なる位置に位置するピニングポイント（ＰＰ１１、ＰＰ１２、ＰＰ１３）を基準に、同じ表面形状を有するようにするための発光溶液（図２１の１６１、１６２、１６３）の体積を容易に調整し得る。
【００８９】
したがって、本発明の一実施形態による発光表示装置１００は、同じ表面形状を有する発光溶液（図２２の１６１、１６２、１６３）が同一条件を有する乾燥工程により乾燥される場合、同じ形状を有する発光層（１６０ａ、１６０ｂ、１６０ｃ）が形成されるようにして、画素Ｐ別の発光均一度を向上させることができる。
【００９０】
図５は本発明の他の実施形態による表示装置の断面図である。図６は図５のＢ部分の拡大断面図である。
【００９１】
図５及び図６を参照すると、本発明の他の実施形態による発光表示装置２００は、図２の発光表示装置１００に比べ、撥液パターン（２３０ａ、２３０ｂ、２３０ｃ）と有機層（ＯＬ２１、ＯＬ２２、ＯＬ２３）のみ異なり、その他は同様の構成を有する。したがって、本発明の他の実施形態による発光表示装置２００では、撥液パターン（２３０ａ、２３０ｂ、２３０ｃ）と有機層（ＯＬ２１、ＯＬ２２、ＯＬ２３）を重点的に説明する。
【００９２】
本発明の他の実施形態による発光表示装置２００は、基板１０５、第１電極１１０、画素定義膜１２０、撥液パターン（２３０ａ、２３０ｂ、２３０ｃ）、有機層（ＯＬ２１、ＯＬ２２、ＯＬ２３）及び第２電極１９０を含むことができる。各部材は、図５のＺ方向に順次に積層されることができる。
【００９３】
撥液パターン（２３０ａ、２３０ｂ、２３０ｃ）は、画素定義膜１２０の第１開口部ＯＰ１の内部に配置される第１撥液パターン２３０ａ、第２開口部ＯＰ２の内部に配置される第２撥液パターン２３０ｂ及び第３開口部ＯＰ３の内部に配置される第３撥液パターン２３０ｃに区分され、図２の撥液パターン（１３０ａ、１３０ｂ、１３０ｃ）と類似する。
【００９４】
ただし、撥液パターン（２３０ａ、２３０ｂ、２３０ｃ）の形成位置（Ｌ２１、Ｌ２２、Ｌ２３）は、画素定義膜１２０の開口部（ＯＰ１、ＯＰ２、ＯＰ３）の内部であって、画素定義膜１２０の側面のうち、画素定義膜１２０の高さを基準に図２の撥液パターン（１３０ａ、１３０ｂ、１３０ｃ）の形成位置（Ｌ１１、Ｌ１２、Ｌ１３）より高い位置に位置することができる。
【００９５】
このような撥液パターン（２３０ａ、２３０ｂ、２３０ｃ）は、画素定義膜１２０の側面に形成されるピニングポイント（ＰＰ２１、ＰＰ２２、ＰＰ２３）を図２のピニングポイント（ＰＰ１１、ＰＰ１２、ＰＰ１３）より高い位置に形成されるようにし得る。したがって、ピニングポイント（ＰＰ２１、ＰＰ２２、ＰＰ２３）が図２のピニングポイント（ＰＰ１１、ＰＰ１２、ＰＰ１３）より図１の第１方向Ｘ及び第２方向Ｙに延長された位置に位置し得る。
【００９６】
したがって、撥液パターン（２３０ａ、２３０ｂ、２３０ｃ）は、発光表示装置１００の場合と比べて、有機層（ＯＬ２１、ＯＬ２２、ＯＬ２３）の構成のうち少なくとも何れか一つ、例えば発光層（２６０ａ、２６０ｂ、２６０ｃ）が画素定義膜１２０の開口部（ＯＰ１、ＯＰ２、ＯＰ３）の内部で、図１の第１方向Ｘ及び第２方向Ｙに広くなったサイズで形成されるようにし得、均一な厚さを有する部分を増加させるようにし得る。したがって、画素Ｐ別の発光均一度及び発光効率を向上させることができる。
【００９７】
有機層（ＯＬ２１、ＯＬ２２、ＯＬ２３）は、画素定義膜１２０の第１開口部ＯＰ１の内部に配置され、第１正孔注入層２４０ａ、第１正孔輸送層２５０ａ、第１発光層２６０ａ、第１電子輸送層１７０ａ及び第１電子注入層１８０ａを含む第１有機層ＯＬ２１と、第２開口部ＯＰ２の内部に配置され、第２正孔注入層２４０ｂ、第２正孔輸送層２５０ｂ、第２発光層２６０ｂ、第２電子輸送層１７０ｂ及び第２電子注入層１８０ｂを含む第２有機層ＯＬ２２と、第３開口部ＯＰ３の内部に配置され、第３正孔注入層２４０ｃ、第３正孔輸送層２５０ｃ、第３発光層２６０ｃ、第３電子輸送層１７０ｃ及び第３電子注入層１８０ｃを含む第３有機層ＯＬ２３に区分されることができ、図２の有機層（ＯＬ１１、ＯＬ１２、ＯＬ１３）と類似する。
【００９８】
ただし、有機層（ＯＬ２１、ＯＬ２２、Ｏ２３）は、図２の有機層（ＯＬ１１、ＯＬ１２、ＯＬ１３）と比べて、撥液パターン（２３０ａ、２３０ｂ、２３０ｃ）によるピニングポイント（ＰＰ２１、ＰＰ２２、ＰＰ２３）により、例えば図１の第１方向Ｘ及び第２方向Ｙに広くなったサイズを有し、均一な厚さを有する部分が増加した発光層（２６０ａ、２６０ｂ、２６０ｃ）を含み得る。
【００９９】
上記のように本発明の他の実施形態による発光表示装置２００は、発光表示装置１００と比べて、画素定義膜１２０の開口部（ＯＰ１、ＯＰ２、ＯＰ３）の内部であって、画素定義膜１２０の側面のうち、画素定義膜１２０の高さを基準に高い位置に形成される撥液パターン（２３０ａ、２３０ｂ、２３０ｃ）を含むことによって、図１の第１方向Ｘ及び第２方向Ｙに延長された位置にピニングポイント（ＰＰ２１、ＰＰ２２、ＰＰ２３）を形成するようにし得る。
【０１００】
したがって、本発明の他の実施形態による発光表示装置２００は、有機層（ＯＬ２１、ＯＬ２２、ＯＬ２３）の構成のうち、少なくとも何れか一つ、例えば発光層（２６０ａ、２６０ｂ、２６０ｃ）がピニングポイント（ＰＰ１１、ＰＰ１２、ＰＰ１３）の下部に発光表示装置１００の場合と同じ形状を有し、かつ、発光表示装置１００と比べて図１の第１方向Ｘ及び第２方向Ｙに広くなったサイズを有し、均一な厚さを有する部分を広い範囲に有するようにすることによって、画素Ｐ別に発光均一度及び発光効率を向上させることができる。
【０１０１】
図７は、図２及び図５とは異なる、本発明の他の実施形態による表示装置の断面図である。図８は、図７のＣ部分の拡大断面図である。
【０１０２】
図７及び図８を参照すると、本発明の他の実施形態による発光表示装置３００は、図２の発光表示装置１００と比較すると、撥液パターン（３３０ａ、３３０ｂ、３３０ｃ）と有機層（ＯＬ３１、ＯＬ３２、ＯＬ３３）のみ異なり、その他は同様の構成を有することができる。したがって、本発明の他の実施形態による発光表示装置３００では、撥液パターン（３３０ａ、３３０ｂ、３３０ｃ）と有機層（ＯＬ３１、ＯＬ３２、ＯＬ３３）を重点的に説明する。
【０１０３】
本発明の他の実施形態による発光表示装置３００は、基板１０５、第１電極１１０、画素定義膜１２０、撥液パターン（３３０ａ、３３０ｂ、３３０ｃ）、有機層（ＯＬ３１、ＯＬ３２、ＯＬ３３）及び第２電極１９０を含むことができる。各部材は図７のＺ方向に順次に積層されることができる。
【０１０４】
撥液パターン（３３０ａ、３３０ｂ、３３０ｃ）は、画素定義膜１２０の第１開口部ＯＰ１の内部に配置される第１撥液パターン３３０ａ、第２開口部ＯＰ２の内部に配置される第２撥液パターン３３０ｂ及び第３開口部ＯＰ３の内部に配置される第３撥液パターン３３０ｃに区分されることができ、図２の撥液パターン（１３０ａ、１３０ｂ、１３０ｃ）と類似する。
【０１０５】
ただし、第１撥液パターン３３０ａの形成位置、第２撥液パターン３３０ｂの形成位置及び第３撥液パターン３３０ｃの形成位置は、「Ｌ３１」で、すべで同じであるため、第１開口部ＯＰ１の内部におけるピニングポイントの位置、第２開口部ＯＰ２の内部におけるピニングポイントの形成位置及び第３開口部ＯＰ３の内部におけるピニングポイントの形成位置が、「ＰＰ３１」ですべて同じであることができる。これは発光表示装置３００が第１有機層ＯＬ３１の厚さ、第２有機層ＯＬ３２の厚さ、及び第３有機層ＯＬ３３の厚さがすべて同じである非共振構造を有することによるものである。このような第１撥液パターン３３０ａ、第２撥液パターン３３０ｂ及び第３撥液パターン３３０ｃは、例えばスピンコート法またはスリットコート法を利用して、画素定義膜１２０の第１開口部ＯＰ１、第２開口部ＯＰ２及び第３開口部ＯＰ３の内部に第１溶媒を吐出し、例えばインクジェットプリント方法を利用して、前記第１溶媒上に撥液性絶縁物質が混合された第２溶媒を吐出させた後、前記第２溶媒と前記第１溶媒を順序に乾燥させることによって残る撥液性絶縁物質によって形成されることができる。撥液パターン（３３０ａ、３３０ｂ、３３０ｃ）の形成に使用される第１溶媒、撥液性絶縁物質及び第２溶媒の種類は、図２の撥液パターン（１３０ａ、１３０ｂ、１３０ｃ）の形成に使用される第１溶媒、撥液性絶縁物質及び第２溶媒の種類と同じであり得る。
【０１０６】
有機層（ＯＬ３１、ＯＬ３２、ＯＬ３３）は、第１開口部ＯＰ１の内部に配置され、第１正孔注入層３４０ａ、第１正孔輸送層３５０ａ、第１発光層３６０ａ、第１電子輸送層１７０ａ及び第１電子注入層１８０ａを含む第１有機層ＯＬ３１と、第２開口部ＯＰ２の内部に配置され、第２正孔注入層３４０ｂ、第２正孔輸送層３５０ｂ、第２発光層３６０ｂ、第２電子輸送層１７０ｂ及び第２電子注入層１８０ｂを含む第２有機層ＯＬ３２と、第３開口部ＯＰ３の内部に配置され、第３正孔注入層３４０ｃ、第３正孔輸送層３５０ｃ、第３発光層３６０ｃ、第３電子輸送層１７０ｃ及び第３電子注入層１８０ｃを含む第３有機層ＯＬ３３に区分されることができ、図２の有機層（ＯＬ１１、ＯＬ１２、ＯＬ１３）と類似する。
【０１０７】
ただし、第１有機層ＯＬ３１の構成、第２有機層ＯＬ３２の構成及び第３有機層Ｏ３３の構成が、互いに同じ厚さを有し得る点で、図２の有機層（ＯＬ１１、ＯＬ１２、ＯＬ１３）とは異なる。
【０１０８】
上記したように、本発明の他の実施形態による発光表示装置３００は、画素定義膜１２０の第１開口部ＯＰ１、第２開口部ＯＰ２及び第３開口部ＯＰ３の内部であって、画素定義膜１２０の側面のうち、画素定義膜１２０の高さを基準に同じ位置Ｌ３１に配置される第１撥液パターン３３０ａ、第２撥液パターン３３０ｂ及び第３撥液パターン３３０ｃを含むことによって、画素定義膜１２０の第１開口部ＯＰ１、第２開口部ＯＰ２及び第３開口部ＯＰ３の内部あって、同じ位置に、ピニングポイントＰＰ３１が形成されるようにし得る。
【０１０９】
したがって、本発明の他の実施形態による発光表示装置３００は、非共振構造でピニングポイントＰＰ３１を介して同じ位置に同じ厚さを有する発光層（３６０ａ、３６０ｂ、３６０ｃ）を形成することにより、表示品質を向上させることができる。そのため、従来の二回のフォトリソグラフィー工程により、親液性を有する画素定義膜と撥液性を有する画素定義膜を形成し、ピニングポイントを形成する場合より、製造工程を単純化させることができ、全体が撥液性の画素定義膜を有する発光表示装置でフルオリンの拡散によって、有機層の発光層の特性及び寿命の低下を減らすことができる。
【０１１０】
また、本発明の他の実施形態による発光表示装置３００は、画素定義膜１２０の第１開口部ＯＰ１の内部、第２開口部ＯＰ２の内部及び第３開口部ＯＰ３の内部で同じ位置に形成されるピニングポイントＰＰ３１を介して、第１有機層ＯＬ３１の厚さ、第２有機層ＯＬ３２の厚さ、及び第３有機層ＯＬ３３の厚さがすべて同じである非共振構造で、第１有機層ＯＬ３１、第２有機層ＯＬ３２及び第３有機層ＯＬ３３のそれぞれの構成のうち、少なくとも何れか一つ、例えば第１発光層３６０ａ、第２発光層３６０ｂ及び第３発光層３６０ｃを、例えばインクジェットプリント方法を利用して形成する場合に、同じ位置に形成されるピニングポイントＰＰ３１を基準に同じ表面形状を有するようにするための発光溶液の体積の調整（非共振構造では発光溶液の体積は同じである）が容易にできる。
【０１１１】
したがって、本発明の他の実施形態による発光表示装置３００は、例えば非共振構造で同じ表面形状を有する発光溶液が同一条件を有する乾燥工程により乾燥される場合、同じ形状を有する発光層（３６０ａ、３６０ｂ、３６０ｃ）が形成されるようにすることで、画素Ｐ別の発光均一度を向上させることができる。
【０１１２】
以下、前述した本発明の多様な実施形態による発光表示装置を製造するための、例示的な方法について説明する。
【０１１３】
図９〜図２４は、本発明の一実施形態による発光表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【０１１４】
図９を参照すると、複数の画素（図１のＰ）を含む基板１０５上に、各画素（図１のＰ）別に第１電極１１０を形成する。第１電極１１０は、基板１０５上に透明電極物質、反射電極物質、及び反透過電極物質のうち少なくとも何れか一つを蒸着し、パターニングして形成されることができる。複数の画素（図１のＰ）は、第１画素Ｐ１、第２画素Ｐ２及び第３画素Ｐ３を含み得る。第１画素Ｐ１は例えば、赤色を放出する赤色画素であり得、第２画素Ｐ２は例えば、緑色を放出する緑色画素であり得、第３画素Ｐ３は例えば青色を放出する青色画素であり得るが、これらに限定されない。
【０１１５】
次いで、図１０を参照すると、基板１０５上に各画素（Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３）を区切り、第１電極１１０を露出する開口部（ＯＰ１、ＯＰ２、ＯＰ３）を有する画素定義膜１２０を形成する。画素定義膜１２０は、第１電極１１０を覆うように基板１０５の全面に蒸着方法を利用して絶縁物質を蒸着し、蒸着された絶縁物質をパターニングして形成されることができる。画素定義膜１２０の開口部（ＯＰ１、ＯＰ２、ＯＰ３）は、第１画素Ｐ１の第１電極１１０を露出させる第１開口部ＯＰ１、第２画素Ｐ２の第１電極１１０を露出させる第２開口部ＯＰ２及び第３画素Ｐ３の第１電極１１０を露出させる第３開口部ＯＰ３に区分されることができる。
【０１１６】
次いで、図１１ないし図１４を参照すると、画素定義膜１２０の開口部（ＯＰ１、ＯＰ２、ＯＰ３）の内部であって、画素定義膜１２０の側面のうち、画素定義膜１２０の高さを基準に、第１部分と第１部分より上にある第２部分との間の境界部分に薄い厚さを有する撥液パターン（１３０ａ、１３０ｂ、１３０ｃ）を形成することができる。ここで、撥液パターン（１３０ａ、１３０ｂ、１３０ｃ）は、画素定義膜１２０の第１開口部ＯＰ１の内部に配置される第１撥液パターン１３０ａ、第２開口部ＯＰ２の内部に配置される第２撥液パターン１３０ｂ及び第３開口部ＯＰ３の内部に配置される第３撥液パターン１３０ｃに区分されることができる。
【０１１７】
具体的には、図１１に示すように、画素定義膜１２０の第１開口部ＯＰ１の内部、第２開口部ＯＰ２の内部及び第３開口部ＯＰ３の内部のそれぞれにおいて、画素定義膜１２０の側面のうち画素定義膜１２０の高さを基準とする第１位置Ｌ１１、第２位置Ｌ１２及び第３位置Ｌ１３のそれぞれの高さまで、第１溶媒（１０ａ、１０ｂ、１０ｃ）のそれぞれを満たすことができる。第１溶媒（１０ａ、１０ｂ、１０ｃ）のそれぞれは、画素定義膜１２０の第１開口部ＯＰ１の内部、第２開口部ＯＰ２の内部及び第３開口部ＯＰ３の内部のそれぞれに、例えばインクジェットプリント方法を利用して、吐出されて満たされることができる。第１溶媒（１０ａ、１０ｂ、１０ｃ）のそれぞれは、体積のみ異なり、同じ種類の溶媒であり得る。第１溶媒（１０ａ、１０ｂ、１０ｃ）は、非極性、第１沸点及び第１密度を有する溶媒であり得る。例えば、第１溶媒（１０ａ、１０ｂ、１０ｃ）は、ベンゼン（Ｂｅｎｚｅｎｅ）、１，４−ジオキサン（１、４−Ｄｉｏｘａｎｅ）、シクロペンタン（Ｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｎｅ）及びクロロホルム（Ｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍ）などの溶媒であり得る。
【０１１８】
その後、図１２に示すように、画素定義膜１２０の第１開口部ＯＰ１の内部、第２開口部ＯＰ２の内部及び第３開口部ＯＰ３の内部のそれぞれにおいて、第１溶媒（１０ａ、１０ｂ、１０ｃ）のそれぞれの上に、例えばインクジェットプリント方法を利用して、撥液性絶縁物質が混合された第２溶媒（２０ａ、２０ｂ、２０ｃ）のそれぞれを吐出させることができる。第２溶媒（２０ａ、２０ｂ、２０ｃ）のそれぞれは同じ体積を有し得、同じ種類の溶媒であり得る。第２溶媒（２０ａ、２０ｂ、２０ｃ）は、極性、前記第１沸点より低い第２沸点及び前記第１密度より低い第２密度を有する溶媒であり得る。例えば第２溶媒（２０ａ、２０ｂ、２０ｃ）は、テトラヒドロフラン（ｔｅｔｒａｈｙｄｒｏｆｕｒａｎ）などの溶媒であり得る。前記撥液性絶縁物質は、撥液パターン（１３０ａ、１３０ｂ、１３０ｃ）に対する発光溶液の接触角が４０°以上になるようにする絶縁物質、例えばフルオリンを含む絶縁物質であり得る。
【０１１９】
その後、図１３に示すように、第２溶媒（２０ａ、２０ｂ、２０ｃ）を乾燥させることができる。その結果、コーヒーリング効果（ｃｏｆｆｅｅ  ｒｉｎｇ  ｅｆｆｅｃｔ）により、第２溶媒（２０ａ、２０ｂ、２０ｃ）に含まれた撥液性絶縁物質は、乾燥の過程において第２溶媒の縁に集まっていき、画素定義膜１２０の側面のうち第１位置Ｌ１１、第２位置Ｌ１２及び第３位置Ｌ１３のそれぞれに凝集することができる。
【０１２０】
その後、図１４に示すように、第１溶媒（１０ａ、１０ｂ、１０ｃ）を乾燥させることができる。その結果、画素定義膜１２０の側面のうち、第１位置Ｌ１１、第２位置Ｌ１２及び第３位置Ｌ１３のそれぞれに、撥液性絶縁物質による第１撥液パターン１３０ａ、第２撥液パターン１３０ｂ及び第３撥液パターン１３０ｃのそれぞれが形成されることができる。第１撥液パターン１３０ａ、第２撥液パターン１３０ｂ及び第３撥液パターン１３０ｃは、画素定義膜１２０の第１開口部ＯＰ１の内部、第２開口部ＯＰ２の内部及び第３開口部ＯＰ３の内部のそれぞれにおいて、第１ピニングポイントＰＰ１１、第２ピニングポイントＰＰ１２及び第３ピニングポイントＰＰ１３のそれぞれが形成されるようにすることができる。
【０１２１】
一方、図７及び図８の発光表示装置３００の第１撥液パターン３３０ａ、第２撥液パターン３３０ｂ及び第３撥液パターン３３０ｃは、例えばスピンコート法またはスリットコート法を利用して、図１５に示すように画素定義膜１２０の第１開口部ＯＰ１の内部、第２開口部ＯＰ２の内部、第３開口部ＯＰ３の内部のそれぞれにおいて、画素定義膜１２０の側面のうち、画素定義膜１２０の高さを基準に第１位置Ｌ３１まで第１溶媒１０ｄを満たすことができる。次に、例えばインクジェットプリント方法を利用して、図１６に示すように、第１溶媒１０ｄ上に第２溶媒２０ｄを吐出した後、第２溶媒２０ｄと第１溶媒１０ｄを順次に乾燥させることによって残る撥液性絶縁物質によって形成されることができる。これによって、図１７に示すように、画素定義膜１２０の第１開口部ＯＰ１の内部、第２開口部ＯＰ２の内部、第３開口部ＯＰ３の内部のそれぞれにおいて、画素定義膜１２０の側面のうち第１位置Ｌ３１に、第１撥液パターン３３０ａ、第２撥液パターン３３０ｂ及び第３撥液パターン３３０ｃのそれぞれが形成されることができる。第１撥液パターン３３０ａ、第２撥液パターン３３０ｂ及び第３撥液パターン３３０ｃは、画素定義膜１２０の第１開口部ＯＰ１の内部、第２開口部ＯＰ２の内部及び第３開口部ＯＰ３の内部のそれぞれにおいて、画素定義膜１２０の側面のうちの同じ位置に、ピニングポイントＰＰ３１が形成されるようにすることができる。
【０１２２】
次いで、図１８及び図１９を参照すると、画素定義膜１２０の第１開口部ＯＰ１の内部、第２開口部ＯＰ２の内部及び第３開口部ＯＰ３の内部のそれぞれにおいて、第１ピニングポイントＰＰ１１、第２ピニングポイントＰＰ１２及び第３ピニングポイントＰＰ１３のそれぞれの下部に位置し、第１電極１１０から画素定義膜１２０の側面に沿って配置される第１正孔注入層１４０ａ、第２正孔注入層１４０ｂ及び第３正孔注入層１４０ｃを形成することができる。
【０１２３】
具体的には、図１８に示すように、画素定義膜１２０の第１開口部ＯＰ１の内部で、第１ピニングポイントＰＰ１１と第１正孔注入溶液１４１の表面との間の最大高さと、第２開口部ＯＰ２の内部で第２ピニングポイントＰＰ１２と第２正孔注入溶液１４２の表面との間の最大高さと、第３開口部ＯＰ３の内部で第３ピニングポイントＰＰ１３と第３正孔注入溶液１４３の表面との間の最大高さが、すべて「ＳＨ１」の高さで同じであるように、画素定義膜１２０の第１開口部ＯＰ１の内部、第２開口部ＯＰ２の内部及び第３開口部ＯＰ３の内部のそれぞれに、第１体積を有する第１正孔注入溶液１４１、第２体積を有する第２正孔注入溶液１４２及び第３体積を有する第３正孔注入溶液１４３のそれぞれを吐出することができる。前記第１体積は前記第２体積より大きくてもよく、前記第２体積は前記第３体積より大きくてもよい。
【０１２４】
その後、同じ条件を有する乾燥工程によって、第１体積を有する第１正孔注入溶液１４１、第２体積を有する第２正孔注入溶液１４２及び第３体積を有する第３正孔注入溶液１４３を乾燥させると、図１９に示すように、画素定義膜１２０の第１開口部ＯＰ１の内部、第２開口部ＯＰ２の内部及び第３開口部ＯＰ３の内部のそれぞれに、第１正孔注入層１４０ａ、第２正孔注入層１４０ｂ及び第３正孔注入層１４０ｃが形成されることができる。
【０１２５】
次いで、図２０及び図２１を参照すると、画素定義膜１２０の第１開口部ＯＰ１の内部、第２開口部ＯＰ２の内部及び第３開口部ＯＰ３の内部のそれぞれにおいて、第１ピニングポイントＰＰ１１、第２ピニングポイントＰＰ１２及び第３ピニングポイントＰＰ１３のそれぞれの下部に位置し、第１電極１１０から画素定義膜１２０の側面に沿って配置される第１正孔輸送層１５０ａ、第２正孔輸送層１５０ｂ及び第３正孔輸送層１５０ｃを形成することができる。
【０１２６】
具体的には、図２０に示すように、画素定義膜１２０の第１開口部ＯＰ１の内部における第１ピニングポイントＰＰ１１と第１正孔輸送溶液１５１の表面との間の最大高さと、第２開口部ＯＰ２の内部における第２ピニングポイントＰＰ１２と第２正孔輸送溶液１５２の表面との間の最大高さと、第３開口部ＯＰ３の内部における第３ピニングポイントＰＰ１３と第３正孔輸送溶液１５３の表面との間の最大高さが、すべて「ＳＨ２」の高さで同じであるように、画素定義膜１２０の第１開口部ＯＰ１の内部、第２開口部ＯＰ２の内部及び第３開口部ＯＰ３の内部のそれぞれに、第１体積を有する第１正孔輸送溶液１５１、第２体積を有する第２正孔輸送溶液１５２及び第３体積を有する第３正孔輸送溶液１５３を吐出することができる。前記第１体積は前記第２体積より大きくてもよく、前記第２体積は前記第３体積より大きくてもよい。
【０１２７】
その後、同一条件を有する乾燥工程により、第１体積を有する第１正孔輸送溶液１５１、第２体積を有する第２正孔輸送溶液１５２及び第３体積を有する第３正孔輸送溶液１５３を乾燥させると、図２１に示すように、画素定義膜１２０の第１開口部ＯＰ１の内部、第２開口部ＯＰ２の内部及び第３開口部ＯＰ３の内部のそれぞれに、第１正孔輸送層１５０ａ、第２正孔輸送層１５０ｂ及び第３正孔輸送層１５０ｃが形成されることができる。
【０１２８】
次いで、図２２及び図２３を参照すると、画素定義膜１２０の第１開口部ＯＰ１の内部、第２開口部ＯＰ２の内部及び第３開口部ＯＰ３の内部のそれぞれにおいて、第１ピニングポイントＰＰ１１、第２ピニングポイントＰＰ１２及び第３ピニングポイントＰＰ１３のそれぞれの下部に位置し、第１電極１１０から画素定義膜１２０の側面に沿って配置される第１発光層１６０ａ、第２発光層１６０ｂ及び第３発光層１６０ｃを形成することができる。
【０１２９】
具体的には、図２２に示すように、画素定義膜１２０の第１開口部ＯＰ１の内部における第１ピニングポイントＰＰ１１と第１発光溶液１６１の表面との間の最大高さと、第２開口部ＯＰ２の内部における第２ピニングポイントＰＰ１２と第２発光溶液１６２の表面との間の最大高さと、第３開口部ＯＰ３の内部における第３ピニングポイントＰＰ１３と第３発光溶液１６３の表面との間の最大高さが、すべて「ＳＨ３」の高さで同じであるように、画素定義膜１２０の第１開口部ＯＰ１の内部、第２開口部ＯＰ２の内部及び第３開口部ＯＰ３の内部のそれぞれに、第１体積を有する第１発光溶液１６１、第２体積を有する第２発光溶液１６２及び第３体積を有する第３発光溶液１６３を吐出することができる。前記第１体積は前記第２体積より大きくてもよく、前記第２体積は前記第３体積より大きくてもよい。
【０１３０】
その後、同一条件を有する乾燥工程により、第１体積を有する第１発光溶液１６１、第２体積を有する第２発光溶液１６２及び第３体積を有する第３発光溶液１６３を乾燥させると、図２３に示すように、画素定義膜１２０の第１開口部ＯＰ１の内部、第２開口部ＯＰ２の内部及び第３開口部ＯＰ３の内部のそれぞれに、第１発光層１６０ａ、第２発光層１６０ｂ及び第３発光層１６０ｃが形成されることができる。
【０１３１】
次いで、図２４を参照すると、発光層（１６０ａ、１６０ｂ、１６０ｃ）上に電子輸送層（１７０ａ、１７０ｂ、１７０ｃ）、電子注入層（１８０ａ、１８０ｂ、１８０ｃ）及び第２電極１９０を形成することができる。電子輸送層（１７０ａ、１７０ｂ、１７０ｃ）、電子注入層（１８０ａ、１８０ｂ、１８０ｃ）及び第２電極１９０は、例えば蒸着方法により、連続的に形成されることができる。
【０１３２】
図面に示していないが、本発明の一実施形態による発光表示装置の製造方法は、第２電極１９０の上部に封止基板を配置する段階をさらに含み得る。また、本発明の一実施形態による発光表示装置の製造方法は、第２電極１９０と封止基板との間にスペーサを配置する段階をさらに含み得る。前記封止基板を配置することやスペーサを配置することができる多様な方法が、当業界に広く公知されているため、具体的な説明は省略する。
【０１３３】
以上添付する図面を参照して本発明の実施形態について説明したが、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者は、本発明のその技術的思想や必須の特徴を変更しない範囲で、他の具体的な形態で実施され得ることを理解できるであろう。したがって、上記実施形態はすべての面で例示的なものであり、限定的なものではないと理解しなければならない。
【符号の説明】
【０１３４】
１００、２００、３００    発光表示装置
１０５    基板
１１０    第１電極
１２０    画素定義膜
１３０ａ、２３０ａ、３３０ａ    第１撥液パターン
１３０ｂ、２３０ｂ、３３０ｂ    第２撥液パターン
１３０ｃ、２３０ｃ、３３０ｃ    第３撥液パターン
ＯＬ１１、ＯＬ２１、ＯＬ３１    第１有機層
ＯＬ１２、ＯＬ２２、ＯＬ３２    第２有機層
ＯＬ１３、ＯＬ２３、ＯＬ３３    第３有機層
１４０ａ、２４０ａ、３４０ａ    第１正孔注入層
１４０ｂ、２４０ｂ、３４０ｂ    第２正孔注入層
１４０ｃ、２４０ｃ、３４０ｃ    第３正孔注入層
１５０ａ、２５０ａ、３５０ａ    第１正孔輸送層
１５０ｂ、２５０ｂ、３５０ｂ    第２正孔輸送層
１５０ｃ、２５０ｃ、３５０ｃ    第３正孔輸送層
１６０ａ、２６０ａ、３６０ａ    第１発光層
１６０ｂ、２６０ｂ、３６０ｂ    第２発光層
１６０ｃ、２６０ｃ、３６０ｃ    第３発光層
１７０ａ    第１電子輸送層
１７０ｂ    第２電子輸送層
１７０ｃ    第３電子輸送層
１８０ａ    第１電子注入層
１８０ｂ    第２電子注入層
１８０ｃ    第３電子注入層
１９０      第２電極
【図１】
0006691764.tif 000002
【図２】
0006691764.tif 000003
【図３】
0006691764.tif 000004
【図４】
0006691764.tif 000005
【図５】
0006691764.tif 000006
【図６】
0006691764.tif 000007
【図７】
0006691764.tif 000008
【図８】
0006691764.tif 000009
【図９】
0006691764.tif 000010
【図１０】
0006691764.tif 000011
【図１１】
0006691764.tif 000012
【図１２】
0006691764.tif 000013
【図１３】
0006691764.tif 000014
【図１４】
0006691764.tif 000015
【図１５】
0006691764.tif 000016
【図１６】
0006691764.tif 000017
【図１７】
0006691764.tif 000018
【図１８】
0006691764.tif 000019
【図１９】
0006691764.tif 000020
【図２０】
0006691764.tif 000021
【図２１】
0006691764.tif 000022
【図２２】
0006691764.tif 000023
【図２３】
0006691764.tif 000024
【図２４】
0006691764.tif 000025