(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
原子炉の燃料棒へのニッケルの付着量を評価するニッケル付着量試験装置であって、
前記燃料棒を模擬した棒状でかつ加熱されるヒータピンと、
前記ヒータピンの周囲を覆う容器と、
前記容器に両端が接続され、前記容器から排出された流体を前記容器に供給し、前記流体を循環させる液体循環部と、
前記液体循環部に配置され、前記原子炉の一次冷却水の経路に配置されたニッケル系金属を模擬したニッケル系金属が配置された１つのニッケル配置部、及び、前記液体循環部に配置され、前記原子炉の一次冷却水の経路に配置された鉄系金属を模擬した鉄系金属が配置された２つの鉄配置部を備える金属元素供給部と、
前記液体循環部を流れる流体の一部を回収し、前記流体に含まれる塩を除去し、前記液体循環部に供給する脱塩部と、
前記液体循環部を流れる流体に元素を供給し、溶存ガス濃度を調整する溶存ガス濃度調整部と、を有し、
前記容器は、前記ヒータピンの周囲を囲み、軸方向に直交する断面積が一定の筒形状の流路を備え、
前記金属元素供給部は、一方の前記鉄配置部、前記ニッケル配置部、他方の前記鉄配置部が、液体の流れ方向において、この順で配置されていることを特徴とするニッケル付着量試験装置。
【請求項２】
前記ニッケル系金属は、前記原子炉の一次冷却水の経路に配置されたニッケル系金属と同一成分の合金であることを特徴とする請求項１に記載のニッケル付着量試験装置。
【請求項３】
前記ニッケル配置部は、ニッケル系金属が前記流体の流れ方向に平行に配置されていることを特徴とする請求項１または２に記載のニッケル付着量試験装置。
【請求項４】
前記溶存ガス濃度調整部は、前記流体の水素濃度を調整することを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載のニッケル付着量試験装置。
【請求項５】
前記容器に不活性ガスを供給する不活性ガス供給部と、
前記容器の前記流体を排出するドレン部と、
前記不活性ガス供給部から不活性ガスを供給しつつ、前記ドレン部で前記容器から前記流体を排出させ、前記ヒータピンの周りを不活性ガス雰囲気とする制御装置と、を有することを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載のニッケル付着量試験装置。
【請求項６】
原子炉の燃料棒へのニッケルの付着量を評価するニッケル付着量試験方法であって、
前記燃料棒を模擬した棒状でかつ加熱されるヒータピンを、前記ヒータピンの周囲を覆う容器に設置することと、
前記原子炉の一次冷却水の経路に配置されたニッケル系金属を模擬したニッケル系金属が配置された１つのニッケル配置部、及び、前記原子炉の一次冷却水の経路に配置された鉄系金属を模擬した鉄系金属が配置された２つの鉄配置部を備える金属元素供給部を通過させる経路で、液体循環部で前記容器の流体を循環させることと、
前記液体循環部を流れる流体の一部を回収し、前記流体に含まれる塩を除去し、前記液体循環部に供給することと、
前記液体循環部を流れる前記流体に元素を供給し、溶存ガス濃度を調整すること、を含み、
前記容器は、前記ヒータピンの周囲を囲み、軸方向に直交する断面積が一定の筒形状の流路を備え、
前記金属元素供給部は、一方の前記鉄配置部、前記ニッケル配置部、他方の前記鉄配置部が、液体の流れ方向において、この順で配置されていることを特徴とするニッケル付着量試験方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、燃料棒へのニッケルの付着を評価するニッケル付着量試験装置およびニッケル付着量試験方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
例えば、加圧水型原子炉（ＰＷＲ：Pressurized  Water  Reactor）を備える原子力発電プラントは、一次冷却水としての軽水を原子炉冷却材および中性子減速材として使用し、炉心全体にわたって沸騰しない高温高圧水とし、この高温高圧水を蒸気発生器に送って熱交換により蒸気を発生させ、この蒸気をタービン発電機へ送って発電するものである。また、原子力発電プラントとしては、軽水を原子炉冷却材および中性子減速材とし、この軽水を炉心で沸騰させて蒸気を発生させ直接タービン発電機に導き電気を得る発電用原子炉である沸騰水型原子炉（ＢＷＲ：Boiling  Water  Reactor）がある。
【０００３】
このような原子力発電プラントでは、燃料棒に付着したニッケルが放射化して放射性のコバルトになる。放射化したコバルトは、一次冷却水が流通する流路を流れ、各部に付着する。特許文献１には、沸騰水型原子炉の炉水中又は給水中に含まれる溶解性物質及び不溶解性物質のうち少なくとも一方の濃度を制御することにより、第１回原子炉核燃料交換前の原子炉運転期間に燃料棒表面への腐食生成物の付着を抑制し、第１回原子炉核燃料交換後の原子炉運転期間に燃料棒表面への腐食生成物の付着を促進することを特徴とする沸騰水型原子力プラントの水質制御方法が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０００−９８８９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１に記載の方法のように、燃料棒へのニッケルの付着を制御することで、原子炉内の放射性物質の汚染を抑制する技術が検討されている。また、特許文献１に記載されているように原子力発電プラントは、燃料棒へのニッケルの付着が運転条件によって変化する。実際の燃料棒に付着したニッケルは、放射性物質となっているため、付着状態を計測するのが困難である。
【０００６】
本発明は、上述した課題を解決するものであり、高い精度で燃料棒へのニッケルの付着量を評価することができるニッケル付着量試験装置およびニッケル付着量試験方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上述の目的を達成するために、本発明は、原子炉の燃料棒へのニッケルの付着量を評価するニッケル付着量試験装置であって、前記燃料棒を模擬した棒状でかつ加熱されるヒータピンと、前記ヒータピンの周囲を覆う容器と、前記容器に両端が接続され、前記容器から排出された流体を前記容器に供給し、前記流体を循環させる液体循環部と、前記液体循環部に配置され、前記原子炉の一次冷却水の経路に配置されたニッケル系金属を模擬したニッケル系金属が配置されたニッケル配置部、及び、前記液体循環部に配置され、前記原子炉の一次冷却水の経路に配置された鉄系金属を模擬した鉄系金属が配置された鉄配置部を備える金属元素供給部と、前記液体循環部を流れる流体の一部を回収し、前記流体に含まれる塩を除去し、前記液体循環部に供給する脱塩部と、前記液体循環部を流れる流体に元素を供給し、溶存ガス濃度を調整する溶存ガス濃度調整部と、を有し、前記容器は、前記ヒータピンの周囲を囲み、軸方向に直交する断面積が一定の筒形状の流路を備えることを特徴とする。
【０００８】
また、  前記ニッケル系金属は、前記原子炉の一次冷却水の経路に配置されたニッケル系金属と同一成分の合金であることが好ましい。
【０００９】
また、前記ニッケル配置部は、ニッケル系金属が前記流体の流れ方向に平行に配置されていることが好ましい。
【００１０】
また、前記溶存ガス濃度調整部は、前記流体の水素濃度を調整することが好ましい。
【００１１】
また、前記容器に不活性ガスを供給する不活性ガス供給部と、前記容器の前記流体を排出するドレン部と、前記不活性ガス供給部から不活性ガスを供給しつつ、前記ドレン部で前記容器から前記流体を排出させ、前記ヒータピンの周りを不活性ガス雰囲気とする制御装置と、を有することが好ましい。
【００１２】
上述の目的を達成するために、本発明は、原子炉の燃料棒へのニッケルの付着量を評価するニッケル付着量試験方法であって、前記燃料棒を模擬した棒状でかつ加熱されるヒータピンを、前記ヒータピンの周囲を覆う容器に設置することと、前記原子炉の一次冷却水の経路に配置されたニッケル系金属を模擬したニッケル系金属が配置されたニッケル配置部、及び、前記原子炉の一次冷却水の経路に配置された鉄系金属を模擬した鉄系金属が配置された鉄配置部を備える金属元素供給部を通過させる経路で、液体循環部で前記容器の流体を循環させることと、前記液体循環部を流れる流体の一部を回収し、前記流体に含まれる塩を除去し、前記液体循環部に供給することと、前記液体循環部を流れる前記流体に元素を供給し、溶存ガス濃度を調整すること、を含み、前記容器は、前記ヒータピンの周囲を囲み、軸方向に直交する断面積が一定の筒形状の流路を備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、ニッケルの付着量の変化を高い精度で試験することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】図１は、原子力プラントの一例の概略構成図である。
【図２】図２は、試験装置の一例を示す概略構成図である。
【図３】図３は、ヒータピン及び容器の断面図である。
【図４】図４は、ニッケル配置部の概略構成を示す模式図である。
【図５】図５は、試験装置を用いた試験方法の一例を示すフローチャートである。
【図６】図６は、試験装置を用いた試験方法の一例を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下に、本発明に係る実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、この実施形態によりこの発明が限定されるものではない。また、下記実施形態における構成要素には、当業者が置換可能かつ容易なもの、あるいは実質的に同一のものが含まれる。
【００１６】
図１は、原子力プラントの一例の概略構成図である。原子力プラント１は、原子力発電設備である。原子力プラント１を構成する原子炉２は、ＰＷＲ（Pressurized  Water  Reactor：加圧水型原子炉）である。原子力プラント１は、格納容器１Ｗ内に原子炉２、蒸気発生器３、加圧器４、一次冷却材ポンプ５、再生熱交換器１１が配置される。また、格納容器１Ｗの外には、タービン８、復水器９及び発電機１０が配置される。原子炉２は、圧力容器の内部に核燃料２Ｃが配置されている。核燃料２Ｃは、複数の燃料棒である。また、圧力容器の内部には一次冷却材（冷却水に相当し、例えば軽水が用いられる）Ｃ１が満たされている。一次冷却材ポンプ５と原子炉２とは一次冷却材第１供給通路６Ａで接続され、原子炉２と蒸気発生器３とは、一次冷却材第２供給通路６Ｂで接続される。また、蒸気発生器３と一次冷却材ポンプ５とは、一次冷却材回収通路６Ｃで接続される。
【００１７】
このような構成により、一次冷却材ポンプ５から吐出された一次冷却材Ｃ１は、一次冷却材第１供給通路６Ａを通って原子炉２の圧力容器内へ供給される。そして、圧力容器の内部に配置される核燃料２Ｃの核分裂反応によって発生した熱エネルギーで一次冷却材Ｃ１が加熱される。加熱された一次冷却材Ｃ１は、一次冷却材第２供給通路６Ｂを通って蒸気発生器３へ供給される。そして、一次冷却材Ｃ１は、蒸気発生器３の伝熱管３Ｔを通過した後、蒸気発生器３から流出し、一次冷却材回収通路６Ｃを通って一次冷却材ポンプ５へ戻り、再び一次冷却材第１供給通路６Ａから原子炉２の圧力容器内へ吐出される。
【００１８】
蒸気発生器３は、前述した伝熱管３Ｔを複数備えており、伝熱管３Ｔ内を流れる一次冷却材Ｃ１によって伝熱管３Ｔ外の二次冷却材Ｃ２が加熱されて沸騰し、二次冷却材Ｃ２の高温高圧の蒸気が生成される。蒸気発生器３とタービン８とは、蒸気供給通路７Ｓで接続されており、復水器９と蒸気発生器３とは、二次冷却材回収通路７Ｒで接続されている。これによって、蒸気発生器３で生成された二次冷却材Ｃ２の高温高圧の蒸気は、蒸気供給通路７Ｓを通ってタービン８へ供給されてこれを駆動する。そして、タービン８の駆動軸に連結された発電機１０によって電力を発生させる。タービン８を駆動した後の二次冷却材Ｃ２は、復水器９で液体となり、二次冷却材回収通路７Ｒを通って再び蒸気発生器３へ送られる。
【００１９】
原子炉２は、加圧水型原子炉であり、加圧器４が一次冷却材第２供給通路６Ｂに接続されている。そして、加圧器４が一次冷却材第２供給通路６Ｂ内の一次冷却材Ｃ１に圧力を与える。このような構造により、一次冷却材Ｃ１は、核燃料２Ｃの核分裂反応によって発生した熱エネルギーで加熱されても沸騰せず、液相の状態で原子炉２及びその冷却系を循環する。ここで、原子炉２の冷却系は、一次冷却材ポンプ５、一次冷却材第１供給通路６Ａ、一次冷却材第２供給通路６Ｂ、蒸気発生器３、一次冷却材回収通路６Ｃで構成される一次冷却材Ｃ１が流れる循環経路である。
【００２０】
一次冷却材Ｃ１に含まれる不純物を除去するため、脱塩塔１６が設けられる。脱塩塔１６は、第１脱塩塔１６Ａ及び第２脱塩塔１６Ｂで構成されており、格納容器１Ｗの外側に設けられる。第１脱塩塔１６Ａは冷却材温床式脱塩塔であり、第２脱塩塔１６Ｂは、冷却材陽イオン脱塩塔である。原子炉２の冷却系から脱塩塔１６へは、一次冷却材ポンプ５の入口側（上流側）から取り出された一次冷却材Ｃ１が供給されて脱塩処理が施され、脱塩後の一次冷却材Ｃ１は、一次冷却材ポンプ５の出口側（下流側）に戻される。
【００２１】
一次冷却材Ｃ１の脱塩処理系は、一次冷却材取り出し通路１３Ａ、再生熱交換器１１、一次冷却材通路１３Ｂ、非再生熱交換器１２、一次冷却材通路１３Ｃ、脱塩塔１６、一次冷却材通路１３Ｄ、体積制御タンク１４、一次冷却材戻し通路１３Ｅ、１３Ｆで構成される。一次冷却材取り出し通路１３Ａは、原子炉２の冷却系を構成する一次冷却材回収通路６Ｃと再生熱交換器１１とを接続している。再生熱交換器１１と非再生熱交換器１２とは一次冷却材通路１３Ｂで接続されており、また、非再生熱交換器１２と脱塩塔１６とは一次冷却材通路１３Ｃで接続される。
【００２２】
脱塩塔１６と体積制御タンク１４とは一次冷却材通路１３Ｄで接続されており、体積制御タンク１４と再生熱交換器１１とは一次冷却材戻し通路１３Ｅで接続される。また、再生熱交換器１１と一次冷却材第１供給通路６Ａとは、一次冷却材戻し通路１３Ｆで接続される。一次冷却材戻し通路１３Ｅには充填ポンプ１５が設けられている。
【００２３】
一次冷却材Ｃ１は、一次冷却材取り出し通路１３Ａ、すなわち、一次冷却材ポンプ５の入口側（上流側）から取り出される。原子炉２の冷却系から取り出された一次冷却材Ｃ１は、再生熱交換器１１へ導かれた後、一次冷却材通路１３Ｂ、非再生熱交換器１２、一次冷却材通路１３Ｃを通って脱塩塔１６へ導かれ、ここで脱塩処理される。脱塩処理された一次冷却材Ｃ１は、一次冷却材通路１３Ｄを通って体積制御タンク１４へ一時的に貯められた後、一次冷却材戻し通路１３Ｅに設けられる充填ポンプ１５によって再生熱交換器１１へ送られる。再生熱交換器１１を通過した一次冷却材Ｃ１は、一次冷却材戻し通路１３Ｆを通って一次冷却材第１供給通路６Ａ、すなわち、一次冷却材ポンプ５の出口側（下流側）に戻される。
【００２４】
また、原子力プラント１の薬剤注入装置２０は、一次冷却材Ｃ１に薬剤を注入する。薬剤としては、ホウ素（Ｂ）や、リチウム（Ｌｉ）、不活性ガス、水素等がある。薬剤注入装置２０は、薬剤タンク２１、薬剤注入手段である薬剤注入ポンプ２２、薬剤タンク２１と薬剤注入ポンプ２２とを接続する薬剤供給通路２４及び薬剤供給通路２４に設けられる流量調整弁２３を備える。薬剤は液体であり、薬剤タンク２１に貯められる。また、流量調整弁２３によって、薬剤の注入速度が調整される。なお、薬剤注入ポンプ２２を制御することで、薬剤の注入速度を調整してもよい。本実施例では、薬剤注入ポンプ２２と流量調整弁２３との少なくとも一方を用いて、薬剤の注入速度を調整する。
【００２５】
薬剤注入ポンプ２２と一次冷却材戻し通路１３Ｅとは、薬剤注入通路２５で接続される。薬剤注入通路２５には、開閉弁２６が設けられる。開閉弁２６は、薬剤の注入が必要な場合に開かれて、薬剤の注入が不要な場合には閉じられる。薬剤注入ポンプ２２、流量調整弁２３、開閉弁２６は、例えば、作業員によるマニュアル操作によってそれぞれの動作が制御される。
【００２６】
次に、図２から図６を用いて、原子力プラント１を運転することで核燃料２Ｃである燃料棒に付着する金属の付着状態の傾向を試験する試験装置について説明する。図２は、試験装置の一例を示す概略構成図である。図３は、ヒータピン及び容器の断面図であり、図２のＡ−Ａ線断面図である。図４は、ニッケル配置部の概略構成を示す模式図である。
【００２７】
図２に示す試験装置３０は、ヒータピン３２と、容器（オートクレーブ）３４と、液体循環部３６と、金属元素供給部３８と、水質調整部４０と、制御装置４２と、分析装置４４と、を有する。試験装置３０は、容器３４にヒータピン３２が挿入される。ヒータピン３２が配置される容器（オートクレーブ）３４と、液体循環部３６と、金属元素供給部３８とが圧力の高い液体が流れる高圧循環系統３１となる。具体的には、液体循環部３６で昇圧された液体が容器（オートクレーブ）３４と、液体循環部３６と、金属元素供給部３８とを流れる。
【００２８】
ヒータピン３２は、ヒータピン本体５０と、加熱部５２と、被覆部５４と、を有する。ヒータピン本体５０は、棒状の部材であり、加熱部５２により加熱される。ヒータピン本体５０は、少なくとも一部を容器３４に対して着脱可能な状態で容器３４の内部に挿入することができる。加熱部５２は、ヒータピン本体５０を加熱する。被覆部５４は、ヒータピン本体５０の表面を覆っている。被覆部５４は、燃料棒の表面を模擬した部分となる。被覆部５４は、核燃料２Ｃの燃料棒の表面と同一の材料で形成されている。例えば、燃料棒の被覆部がジルカロイで形成されている場合、被覆部５４は、ジルカロイで形成される。
【００２９】
容器３４は、ヒータピン３２のうち、被覆部５４に覆われた部分のヒータピン本体５０が挿入される。容器３４は、液体循環部３６から供給される液体が流通される流路５８となる。容器３４は、被覆部５４と対向する位置にスペーサ５６が配置されている。スペーサ５６は、ヒータピン３２の被覆部５４の周囲を囲んでいる。
【００３０】
容器３４の内部には、ヒータピン３２の一部が配置される。ここで、図２３に示すように、ヒータピン本体５０、被覆部５４、容器３４の内周面及びスペーサ５６は、断面が円となり、同心円上に配置されている。具体的には、ヒータピン本体５０は、円形の外周面にリング上の被覆部５４が配置されている。スペーサ５６は、被覆部５４の外周側に被覆部５４と距離ｄ離れて配置されている。スペーサ５６は、容器３４の内周面に設置されている。容器３４とヒータピン３２は、被覆部５４とスペーサ５６との間が空間となり、試験時に液体が流れる流路５８となる。試験装置３０は、被覆部５４の周囲の流路５８に液体を流すことで、原子力プラント１の核燃料２Ｃの燃料棒の被覆部５４の周囲に一次冷却材Ｃ１が流れている状態を模擬することができる。なお、本実施形態では、ヒータピン本体５０、被覆部５４、容器３４の内周面及びスペーサ５６の断面を円としたが、四角形でも楕円でも四角形以外の多角形でもよい。また、ヒータピン３２と容器３４は、棒状のヒータピン本体５０の軸方向が鉛直方向に沿った向きで配置されている。ヒータピン３２と容器３４は、棒状のヒータピン本体５０の軸方向が鉛直方向と平行となる向きで配置することが好ましいが、傾いていてもよい。
【００３１】
液体循環部３６は、容器３４に高圧の液体を循環させる。液体循環部３６は、循環ライン６０と、制御弁６２と、液体加熱部６３と、循環ポンプ６４と、制御弁６６と、不活性ガス供給部６７と、ドレン部６８と、を有する。
【００３２】
循環ライン６０は、両端が容器３４と接続され、液体が循環する流路となる。循環ライン６０は、一方の端部が、容器３４のヒータピン３２の一方の端部が配置されている領域の近傍に接続され、他方の端部が、容器３４のヒータピン３２の他方の端部が配置されている領域の近傍に接続されている。制御弁６２は、循環ライン６０が液体を循環させている場合の流れ方向においてヒータピン３２の下流側に配置されている。制御弁６２は、開度、開閉を切り換えることで、循環ライン６０での液体の流れを変化させる。
【００３３】
液体加熱部６３は、循環ライン６０に配置されている。具体的には、液体加熱部６３は、循環ライン６０が液体を循環させている場合の流れ方向において制御弁６２の下流側に配置されている。液体加熱部６３は、循環ライン６０を流れる液体を加熱する。
【００３４】
循環ポンプ６４は、循環ライン６０に配置されている。循環ポンプ６４は、循環ライン６０が液体を循環させている場合の流れ方向において液体加熱部６３の下流側に配置されている。循環ポンプ６４は、循環ライン６０に充填された液体を加圧し、かつ、所定の方向に送る。制御弁６６は、循環ライン６０が液体を循環させている場合の流れ方向において循環ポンプ６４の下流側に配置されている。制御弁６６は、開度、開閉を切り換えることで、循環ライン６０での液体の流れを変化させる。
【００３５】
不活性ガス供給部６７は、循環ライン６０に不活性ガスを供給する。不活性ガス供給部６７は、不活性ガス供給ライン６７ａと、不活性ガス供給源６７ｂと、制御弁６７ｃと、を有する。不活性ガス供給ライン６７ａは、循環ライン６０の容器３４と制御弁６２との間に接続している。不活性ガス供給ライン６７ａは、容器３４に接続している循環ライン６０の２つの箇所のうち、鉛直方向上側に接続している側の箇所に接続されている。不活性ガス供給源６７ｂは、不活性ガスが貯留されており、不活性ガス供給ライン６７ａに不活性ガスを供給する。制御弁６７ｃは、不活性ガス供給ライン６７ａに設置されている。制御弁６７ｃは、開閉及び開度を切り換えることで、不活性ガス供給部６７から循環ライン６０への不活性ガスの供給を制御する。
【００３６】
ドレン部６８は、循環ライン６０から排出される、具体的には試験停止時に容器から排出される液体を回収する。ドレン部６８は、ドレンライン６８ａと、ドレンタンク６８ｂと、制御弁６８ｃと、を有する。ドレンライン６８ａは、循環ライン６０の容器３４と制御弁６６との間に接続している。ドレンライン６８ａは、容器３４に接続している循環ライン６０の２つの箇所のうち、鉛直方向下側に接続している側の箇所に接続されている。ドレンタンク６８ｂは、ドレンライン６８ａを介して排出される液体を貯留する。制御弁６８ｃは、ドレンライン６８ａに設置されている。制御弁６８ｃは、開閉を切り換えることで、ドレンライン６８ａからドレンタンク６８ｂに液体を排出するか否かを切り換える。
【００３７】
金属元素供給部３８は、バイパスライン７０と、制御弁７１、７２、７３と、鉄配置部７４と、ニッケル配置部７６と、鉄配置部７８と、を有する。バイパスライン７０は、両端が循環ライン６０の液体加熱部６３と循環ポンプ６４との間に接続されている。制御弁７１は、循環ライン６０の液体加熱部６３と循環ポンプ６４との間に接続されている。制御弁７２、７３は、バイパスライン７０に接続されている。金属元素供給部３８は、制御弁７１を開き、制御弁７２、７３を閉じることで、液体がバイパスライン７０を流れない状態とし、制御弁７１を閉じ、制御弁７２、７３を開くことで、液体がバイパスライン７０を流れ、循環ライン６０のバイパスライン７０と並列となる領域に流れない状態とする。また、金属元素供給部３８は、制御弁７１、７２、７３の開度を調整することで、バイパスライン７０を流れる液体と、循環ライン６０のバイパスライン７０と並列となる領域を流れる液体との割合を調整することもできる。
【００３８】
鉄配置部７４と、ニッケル配置部７６と、鉄配置部７８と、は、バイパスライン７０に、液体の循環時の液体の流れ方向において、この順で配置されている。鉄配置部７４、７８は、バイパスライン７０を流れる液体が通過する流路であり、内部に鉄を含有する合金が配置されている。鉄を含有する合金は、試験対象の原子力プラント１の一時冷却材Ｃ１が循環する経路に配置されている鉄を含有する合金と同様の材料であり、例えばステンレス鋼である。ステンレス鋼としては、ＳＵＳ３０４Ｌ、ＳＵＳ３１６Ｌ例示される。ここで、試験対象の原子力プラント１の一時冷却材Ｃ１が循環する経路に配置されている鉄を含有する合金は、例えば、一次冷却材第１供給通路６Ａ、一次冷却材第２供給通路６Ｂ、一次冷却材回収通路６Ｃ等の配管として配置されている。鉄配置部７４、７８は、試験対象の原子力プラントの一時冷却材Ｃ１が循環する経路に配置されている鉄を含有する合金に対応する面積の鉄を含有する合金が配置されている。また、試験対象に鉄を含有する合金が複数種類配置されている場合、鉄配置部７４、７８は、鉄を含有する合金が複数種類配置される。
【００３９】
ニッケル配置部７６は、バイパスライン７０を流れる液体が通過する流路であり、内部にニッケルを含有する合金が配置されている。ニッケルを含有する合金は、試験対象の原子力プラント１の一時冷却材１Ｃ循環する経路に配置されているニッケルを含有する合金と同様の材料であり、例えばインコネル等のニッケル基合金である。インコネル合金としては、インコネル６００及びインコネル６９０系合金が例示される。ここで、試験対象の原子力プラント１の一時冷却材１Ｃが循環する経路に配置されているニッケルを含有する合金は、例えば、蒸気発生器３の伝熱管３Ｔとして配置されている。ニッケル配置部７６は、試験対象の原子力プラント１の一時冷却材１Ｃが循環する経路に配置されているニッケルを含有する合金に対応する面積のニッケルを含有する合金が配置されている。また、試験対象にニッケルを含有する合金が複数種類配置されている場合、ニッケル配置部７６は、ニッケルを含有する合金が複数種類配置される。
【００４０】
鉄配置部７４と、ニッケル配置部７６と、鉄配置部７８と、は、配置されている金属が異なる以外同様の構成である。以下、代表してニッケル配置部７６の構造を説明する。ニッケル配置部７６は、図４に示すように、筐体８０と複数の金属板８２と、を有する。筐体８０は、内部が空間の箱であり、バイパスライン７０に接続されている。複数の金属板８２は、試験対象の設備と同様のニッケルを含有する合金で作成された板である。金属板８２は、筐体８０内の液体の流れ方向に平行な向きで配置されている。つまり、金属板８２は、筐体８０のバイパスライン７０との接続部を繋いだ線に沿って配置されている。複数の金属板８２は、筐体８０内の液体の流れ方向に垂直な向きに並んでいる。鉄配置部７４と、ニッケル配置部７６と、鉄配置部７８とは、金属板８２が配置された筐体８０の内部に液体を通過させることで、液体と金属板８２とを接触させる。
【００４１】
水質調整部４０は、循環ライン６０に液体を供給し、循環ライン６０を循環する液体の一部を回収する。また、水質調整部４０は、循環ライン６０に供給する液体に含まれる成分の除去、添加を行い、成分を調整することで、循環ライン６０を循環する液体に含まれる成分を調整する。水質調整部４０は、試験対象の試験装置の一次循環系統の脱塩塔１６や薬剤注入装置２０を模擬した装置である。水質調整部４０は、回収ライン９０と、水質調整タンク９２と、供給ライン９４と、注入ポンプ９５と、制御弁９６、１００、１０２、１０６と、サンプリング部９８と、ドレンライン１０４と、冷却部１１０と、脱塩部１１２と、薬品供給部１１４、１１６と、溶存ガス濃度調整部１１８と、給水部１２０と、サンプリング部１２２と、を有する。水質調整部４０は、回収ライン９０、水質調整タンク９２、供給ライン９４が１つの流路となり、循環ライン６０に接続される。
【００４２】
回収ライン９０は、一方の端部が循環ライン６０の制御弁６２と液体加熱部６３との間と接続し、他方の端部が水質調整タンク９２と接続している。回収ライン９０には、制御弁９６、サンプリング部９８、冷却部１１０、脱塩部１１２、薬品供給部１１４が設けられている。制御弁９８は、回収ライン９０の冷却部１１０とサンプリング部９８との間に配置されている。制御弁９８は、開度や開閉を切り換えることで、循環ライン６０から回収ライン９０に流れる液体の量を調整する。
【００４３】
水質調整タンク９２は、液体を貯留するタンクである。水質調整タンク９２は、回収ライン９０から液体が供給され、貯留した液体を供給ライン９４に供給する。水質調整タンク９２には、薬品供給部１１６、溶存ガス濃度調整部１１８、給水部１２０が接続されている。
【００４４】
供給ライン９４は、一方の端部が水質調整タンク９２と接続し、他方の端部が循環ライン６０の循環ポンプ６４と制御弁６６との間と接続している。供給ライン９４には、制御弁９６、サンプリング部９８、冷却部１１０、脱塩部１１２、薬品供給部１１４が設けられている。注入ポンプ９５は、供給ライン９４に接続されている。注入ポンプ９５は、水質調整タンク９２に貯留された液体を加圧して、循環ライン６０に送る。制御弁１００と制御弁１０２とは、注入ポンプ９５を挟んで配置されている。制御弁１００、１０２は、開度や開閉を切り換えることで、回収ライン９４から循環ライン６０に流れる液体の量を調整する。
【００４５】
サンプリング部９８は、回収ライン９０を流れる液体を取得する。試験装置３０は、サンプリング部９８で回収ライン９０を流れる液体を取得することで、液体の成分を計測することができる。サンプリング部９８は、サンプリングライン９８ａと、サンプリングタンク９８ｂと、制御弁９８ｃと、を有する。サンプリングライン９８ａは、回収ライン９０の制御弁９６と薬品供給部１１４との間に接続している。サンプリングタンク９８ｂは、サンプリングライン９８ａを介して排出される液体を貯留する。制御弁９８ｃは、サンプリングライン９８ａに設置されている。制御弁９８ｃは、開閉を切り換えることで、サンプリングライン９８ａからサンプリングタンク９８ｂに液体を排出するか否かを切り換える。
【００４６】
ドレンライン１０４は、回収ライン９０を流れる液体を系外に排出する。制御弁１０６は、ドレンライン１０４に設置されている。制御弁１０６は、開閉を切り換えることで、ドレンライン１０４を介して回収ライン９０を流れる液体を排出するか否かを切り換える。
【００４７】
冷却部１１０は、回収ライン９０の制御弁９２よりも循環ライン６０側に配置されている。冷却部１１０は、回収ライン９０を流れる液体を冷却する。
【００４８】
脱塩部１１２は、回収ライン９０の薬品供給部１１４よりも水質調整タンク９２側に配置されている。脱塩部１１２は、脱塩ライン１１２ａと脱塩塔１１２ｂと制御弁１１２ｃ、１１２ｃと、を有する。脱塩ライン１１２ａは、両端が回収ライン９０に接続されている。脱塩塔１１２ｂは、脱塩ライン１１２ａに配置されている。脱塩塔１１２ｂは、液体に含まれる所定の成分を回収する。具体的には、脱塩塔１１２ｂは、脱塩塔１６が回収する成分と同様の成分を回収する。制御弁１１２ｃは、脱塩ライン１１２ａに接続されている。制御弁１１２ｄは、脱塩ライン１１２の両端に挟まれた部分の回収ライン９０に配置されている。脱塩部１１２は、制御弁１１２ｄを開き、制御弁１１２ｃを閉じることで、液体が脱塩ライン１１２ａを流れない状態とし、制御弁１１２ｄを閉じ、制御弁１１２ｃを開くことで、液体が脱塩ライン１１２ａを流れ、回収ライン９０の脱塩ライン１１２ａと並列となる領域に流れない状態とする。また、脱塩部１１２は、制御弁１１２ｃ、１１２ｄの開度を調整することで、脱塩ライン１１２ａを流れる液体と、回収ライン９０の脱塩ライン１１６ａと並列となる領域を流れる液体との割合を調整することもできる。
【００４９】
薬品供給部１１４は、回収ライン９０のサンプリング部９８と脱塩部１１２との間に配置されている。薬品供給部１１４は、薬品として、微量の金属元素（Ｆｅ，Ｎｉ，Ｚｎ，Ｃｏ）、ホウ素（Ｂ）、リチウム（Ｌｉ）を添加する。薬液供給部１１４は、複数の薬品のうち、試験に必要な薬品を必要な量、試験中に水質調整タンク９２に供給する。薬品供給部１１４は、回収ライン９０を流れる液体に薬品を添加する。薬品供給部１１４は、薬品供給ライン１１４ａと、薬品供給源１１４ｂと、制御弁１１４ｃと、を有する。薬品供給ライン１１４ａは、回収ライン９０に接続している。薬品供給源１１４ｂは、薬品供給ライン１１４ａを介して供給する薬品を貯留する。制御弁１１４ｃは、薬品供給ライン１１４ａに設置されている。制御弁１１４ｃは、開閉、開度を切り換えることで、薬品供給ライン１１４ａから回収ライン９０に供給する薬品の量、供給タイミングを制御する。
【００５０】
薬品供給部１１６は、水質調整タンク９２に接続されている。薬品供給部１１６は、水質調整タンク９２に貯留されている液体に薬品を添加する。薬品としては、ホウ素（Ｂ）や、リチウム（Ｌｉ）に加え、液体の水質を維持するために必要な物質である。薬品供給部１１６は、薬品供給ライン１１６ａと、薬品供給源１１６ｂと、制御弁１１６ｃと、を有する。薬品供給ライン１１６ａは、水質調整タンク９２に接続している。薬品供給源１１６ｂは、薬品供給ライン１１６ａを介して供給する薬品を貯留する。制御弁１１６ｃは、薬品供給ライン１１６ａに設置されている。制御弁１１６ｃは、開閉、開度を切り換えることで、薬品供給ライン１１６ａから水質調整タンク９２に供給する薬品の量、供給タイミングを制御する。
【００５１】
溶存ガス濃度調整部１１８は、水質調整タンク９２に貯留されている液体に溶けている気体の濃度を調整する。溶存ガス濃度調整部１１８は、ガス排出部１３０と、ガス供給部１３２とを有する。ガス排出部１３０は、ガス排出ライン１３０ａと、ガス溶解タンク１３０ｂと、外部排出ライン１３０ｃと、を有する。ガス排出ライン１３０ａは、一方の端部が、水質調整タンク９２の気体が充満している領域、つまり水面よりも上側に接続され、他方の端部が、ガス溶解タンク１３０ｂの液体が貯留されている領域に接続されている。ガス溶解タンク１３０ｂは、液体が貯留されている。外部排出ライン１３０ｃは、ガス溶解タンク１３０ｂの気体が充満している領域、つまり水面よりも上側に接続されている。ガス排出部１３０は、水質調整タンク９２内のガスがガス排出ライン１３０ａを介してガス溶解タンク１３０ｂに流入する。ガス溶解タンク１３０ｂに流入し、液体に溶解しないガスは、外部排出ライン１３０ｃから排出される。ガス排出部１３０は、水質調整タンク９２から排出されたガスを、液体を通過させた後、外部に排出することで、水質調整タンク９２から排出されたガスに可燃成分や、有毒な成分が含まれる場合も、液体に溶解させることができる。
【００５２】
ガス供給部１３２は、ガス供給ライン１４０と、水素供給源１４２と、不活性ガス供給源１４４と、制御弁１４６、１５０と、逆止弁１４８、１５２と、を有する。ガス供給ライン１４０は、一方の端部が分岐して水素供給源１４２及び不活性ガス供給源１４４と接続され、他方の端部が水質調整タンク９２の液体が充満している領域、つまり水面よりも下側に接続されている。水素供給源１４２は、ガス供給ライン１４０に水素を供給する。制御弁１４６と逆止弁１４８は、水質調整タンク９２と水素供給源１４２との間に配置されている。制御弁１４６は、開閉を制御することで、水質調整タンク９２への水素の供給を制御する。逆止弁１４８は、水素供給源１４２から水質調整タンク９２に気体が流れ、水質調整タンク９２から水素供給源１４２に気体が流れないように、気体の流れを規制する。不活性ガス供給源１４４は、ガス供給ライン１４０に不活性ガス（本実施形態ではアルゴン）を供給する。制御弁１５０と逆止弁１５２は、水質調整タンク９２と不活性ガス供給源１４４との間に配置されている。制御弁１５０は、開閉を制御することで、水質調整タンク９２への不活性ガスの供給を制御する。逆止弁１５２は、不活性ガス供給源１４４から水質調整タンク９２に気体が流れ、水質調整タンク９２から不活性ガス供給源１４４に気体が流れないように、気体の流れを規制する。ガス供給部１３２は、水質調整タンク９２に不活性ガスを供給し、液体に不活性ガスを通過させることで液体内の酸素の濃度を調整する。ガス供給部１３２は、水質調整タンク９２に、水素を供給し、液体に水素を通過させることで液体内の水素の濃度を調整する。
【００５３】
給水部１２０は、水質調整タンク９２に液体を供給する。給水部１２０は、給水ライン１２０ａと、給水源１２０ｂと、脱塩塔１２０ｃと、制御弁１２０ｄ、１２０ｅと、を有する。給水ライン１２０ａは、水質調整タンク９２と接続している。給水源１２０ｂは、給水ライン１２０ａに液体（水）を供給する。脱塩塔１２０ｃは、給水ライン１２０ａに配置されている。脱塩塔１２０ｃは、液体に含まれる所定の成分を回収する。具体的には、脱塩塔１２０ｃは、給水源１２０ｂから供給される液体に含まれる不純物を除去する。制御弁１２０ｄと制御弁１２０ｅは、脱塩塔１２０ｃを挟んで配置されている。制御弁１２０ｄ、１２０ｅは、開閉を切り換えることで、水質調整タンク９２への液体の供給を制御する。
【００５４】
サンプリング部１２２は、水質調整タンク９２に貯留されている液体を取得する。試験装置３０は、サンプリング部１２２で水質調整タンク９２に貯留されている液体を取得することで、液体の成分を計測することができる。サンプリング部１２２は、サンプリングライン１２２ａと、サンプリングタンク１２２ｂと、制御弁１２２ｃと、を有する。サンプリングライン１２２ａは、水質調整タンク９２に接続している。サンプリングタンク１２２ｂは、サンプリングライン１２２ａを介して排出される液体を貯留する。制御弁１２２ｃは、サンプリングライン１２２ａに設置されている。制御弁１２２ｃは、開閉を切り換えることで、サンプリングライン１２２ａからサンプリングタンク１２２ｂに液体を排出するか否かを切り換える。
【００５５】
制御装置４２は、試験装置３０の各部の動作を制御する。具体的には、ポンプの運転、制御弁の開度、開閉、加熱源による加熱等の制御を行う。分析装置４４は、金属が付着した状態のヒータピン３２を分析する。具体的には、分析装置４４は、ヒータピン３２に付着した金属の成分、厚み、付着した領域等を計測する。
【００５６】
図５は、試験装置を用いた試験方法の一例を示すフローチャートである。図６は、試験装置を用いた試験方法の一例を示すフローチャートである。図５及び図６に示す試験方法は、作業者が各種機器を用いて実行しても、作業機械が自動で実行してもよい。以下の説明では、作業者が作業を行い、試験装置３０を運転させる場合として説明する。
【００５７】
図５は、試験装置３０を運転する準備の処理を示している。まず、作業者は、被覆部５４を設けたヒータピン３２を容器３４内に設置し、スペーサ５６を設置する（ステップＳ１２）。作業者は、試験時に被覆部５４の周囲を流れる液体の流速を設定に基づいて、スペーサ５６の厚みを調整し、スペーサ５６と被覆部５４との間の距離を調整する。例えば、スペーサ５６と被覆部５４との間の距離を試験対象の燃料棒の被覆部５４と被覆部５４との最短距離と同じ距離とする。
【００５８】
次に、作業者は、金属元素供給部３８に金属板８２を設置する（ステップＳ１４）。具体的には、試験対象の原子力プラント１の一次冷却材の循環経路に基づいて、設置する合金と各合金の面積を決定し、決定した合金と面積に基づいて金属板を作成し、作成した金属板８２を筐体８０の内部に配置する。
【００５９】
次に、作業者は、水質調整タンク９２に水を供給し（ステップＳ１６）、薬品供給部１１６から水質調整タンク９２に薬剤を供給する（ステップＳ１８）。具体的には、水質調整タンク９２に液体を充填し、その後、リチウム、ホウ素を供給する。
【００６０】
次に、作業者は、溶存ガス濃度調整部１１８から不活性ガスを供給し、その後水素ガスを供給する（ステップＳ２０）。水質調整タンク９２に充填された液体の不活性ガスを通過させることで溶解している酸素を低減し、水素ガスを通過させることで、液体に水素を添加する。これにより、水質調整タンク９２に充填された液体の溶存酸素濃度と溶存水素濃度を試験条件の濃度とする。
【００６１】
次に、作業者は、注入ポンプ９５で高圧循環系統３１に注水し、満水にする（ステップＳ２２）。具体的には、制御弁１００、１０２を開状態とした後、注水ポンプ９５を駆動して、水質調整タンク９２に貯留した水を循環ライン６０に供給する。これにより、高圧循環系統３１に成分を調整した液体を充填させることができ、容器３４の内部に高圧の液体を充填した状態となる。
【００６２】
次に、図６を用いて、試験装置３０を用いた試験方法について説明する。作業者は、図５に示す処理を行った後、図６に示す試験を開始する。図６に示す処理は、作業者の操作や制御装置４２による処理に基づいて試験装置３０の各部が動作を実行することで実現することができる。以下、試験装置３０の動作として説明する。
【００６３】
試験装置３０は、循環ポンプ６４を駆動し、液体循環部３６で液体の循環を開始する（ステップＳ３２）。液体の循環する流量を調整することで、被覆部５４の周囲を流れる液体の流速を設定した速度とする。試験装置３０は、制御弁７２、７３を開き、制御弁７１を閉じて、液体が金属元素供給部３８を流れる状態とする。
【００６４】
試験装置３０は、液体加熱部６３による加熱を開始する（ステップＳ３４）。試験装置３０は、ヒータピン３２の加熱部５２によるヒータピン本体５０の加熱を開始する（ステップＳ３６）。ヒータピン３２の加熱は、液体の温度が所定の温度に上昇し、安定した温度に移行した後に実行する。これにより、循環ライン６０を流れる液体と、被覆部５４を、原子力プラント１の運転時の一次冷却材Ｃ１の温度と、燃料棒の温度に対応した温度に、昇温する。
【００６５】
試験装置３０は、試験条件に基づいて設定された時間、運転を実行する（ステップＳ３８）。これにより、原子力プラント１の運転を模擬した状態で、液体を循環させる。
【００６６】
次に、試験装置３０は、加熱を停止させ、容器３４の上流と下流の制御弁を閉じる（ステップＳ４０）。試験装置３０は、不活性ガス供給部６７から不活性ガスを供給し、ドレン部６８の制御弁６８ｃを開く（ステップＳ４２）。容器３４内の液体の循環を停止させ、その後、容器３４内に不活性ガスを供給することで、容器３４内の被覆部５４の周囲に液体が付着していない状態とし、不活性ガス雰囲気とする。
【００６７】
試験装置３０は、冷却後、ヒータピン３２を取り出し、被覆部５４を分析する（ステップＳ４４）。
【００６８】
このように試験装置３０を用いて、燃料棒を模擬した棒状でかつ加熱されるヒータピン３２の周囲に付着するニッケルを評価することで、高い精度でニッケルの付着量の変化を評価することができる。なお、本実施形態ではニッケルの付着量を評価したがニッケル以外の元素の付着を評価してもよい。具体的には、ヒータピン３２の被覆部５４の周囲の流路５８の距離をｄとし、原子炉の一次冷却水の経路に配置されたニッケル系金属を模擬したニッケル系金属が配置されたニッケル配置部７６、及び、原子炉の一次冷却水の経路に配置された鉄系金属を模擬した鉄系金属が配置された鉄配置部７４、７８を備える金属元素供給部３８を循環ライン（液体循環部）６０に配置し、脱塩部１１２と、溶存ガス濃度調整部１１８と、を設けることで、高い精度でニッケル等の金属の付着状態を評価することができる。
【００６９】
原子炉の燃料棒へのニッケル付着量を評価する試験装置３０は、容器３４でヒータピン３２の周囲を囲み、軸方向に直交する断面積が一定の筒形状の流路とすることで、ヒータピン３２の周囲の流速を効率よく早くすることができる。本実施形態のようにスペーサ５６を配置することで、距離ｄを簡単に調整することができる。また、距離ｄを調整することで、運転時の液体の流速を変化させた場合の状況を試験することができる。ここで、距離ｄは、上述したように、評価対象の原子力プラント１の隣り合う燃料棒間の距離のうち最も短い距離とすることが好ましい。
【００７０】
また、試験装置３０は、金属元素供給部３８を設け、原子力プラント１の一次冷却系統の金属に対応する金属を面積比に基づいて、金属板８２を配置し、液体が金属板と接触する構造とすることで、ニッケル、鉄等の元素を溶液の状態で添加する場合よりも評価対象の状態に即した試験を行うことができる。また、金属板８２に評価対象の原子力プラント１に用いている合金と同じ合金を用いることで、試験の精度を高くすることができる。また、金属板８２を流体の流れ方向に平行に配置することで、装置全体の圧力損失の増加を抑制しつつ、金属板８２を配置することができる。
【００７１】
また、試験装置３０は、脱塩部１１４や、溶存ガス濃度調整部１１８を設けることで、循環する液体を評価対象の原子力プラント１の一次冷却材Ｃ１により近づけることができる。また、スペーサ５６、金属元素供給部３８、脱塩部１１４や、溶存ガス濃度調整部１１８、薬剤供給部１１４、１１６を設けることで、試験条件を簡単に調整することができ、調整した試験条件を評価対象の原子力プラント１の運転条件に簡単に対応させることができる。具体的には、金属板８２の量や、金属の種類を調整することで、配管や伝熱管の材料を変化させた場合のニッケル付着量の変化を評価することができる。また、金属板８２の予被膜付与期間を変えることで，材料使用時期に応じた試験も行うことができる。脱塩部１１４の運転状況を変化させることで脱塩部１１４の運転を変化させた場合のニッケル付着量の変化を評価することができる。また、脱塩部１１４で用いる脱塩用のフィルタ、例えば樹脂を交換することで、フィルタを変化させた場合のニッケル付着量の変化を評価することができる。また、溶存ガス濃度調整部１１８で、水素濃度、酸素濃度を変化させることで、運転を変化させた場合のニッケル付着量の変化を評価することができる。また、薬品供給部１１４、１１６で供給する薬品の量や種類を変化させることで、添加する薬品を変化させた場合のニッケル付着量の変化を評価することができる。このように、試験装置３０は、各種条件を簡単に試験することができ、より最適な原子力プラント１の運転条件をより高い精度で推定することができる。
【符号の説明】
【００７２】
１  原子力プラント
１Ｗ  格納容器
２  原子炉
２Ｃ  核燃料
３  蒸気発生器
３Ｔ  伝熱管
４  加圧器
５  一次冷却材ポンプ
６Ａ  一次冷却材第１供給通路
６Ｂ  一次冷却材第２供給通路
６Ｃ  一次冷却材回収通路
７Ｓ  蒸気供給通路
７Ｒ  二次冷却材回収通路
８  タービン
９  復水器
１０  発電機
１１  再生熱交換器
１２  非再生熱交換器
１３Ａ  一次冷却材取り出し通路
１３Ｂ、１３Ｃ、１３Ｄ  一次冷却材通路
１３Ｅ、１３Ｆ  一次冷却材戻し通路
１４  体積制御タンク
１５  充填ポンプ
１６  脱塩塔
２０  薬剤注入装置
２１  薬剤タンク
２２  薬剤注入ポンプ
２３  流量調整弁
２４  薬剤供給通路
２５  薬剤注入通路
２６  開閉弁
３０  試験装置
３１  高圧循環系統
３２  ヒータピン
３４  容器（オートクレーブ）
３６  液体循環部
３８  金属元素供給部  
４０  水質調整部
４２  制御装置
４４  分析装置
５０  ヒータピン本体
５２  加熱部
５４  被覆部
５６  スペーサ
５８  流路
６０  循環ライン
６２  制御弁
６３  液体加熱部
６４  循環ポンプ
６６  制御弁
６７  不活性ガス供給部
６７ａ不活性ガス供給ライン
６７ｂ不活性ガス供給源
６７ｃ制御弁
６８  ドレン部
６８ａドレンライン
６８ｂドレンタンク
６８ｃ制御弁
７０  バイパスライン
７１、７２、７３  制御弁
７４、７８  鉄配置部
７６  ニッケル配置部
８０  筐体
８２  金属板
９０  回収ライン
９２  水質調整タンク
９４  供給ライン
９５  注入ポンプ
９６、１００、１０２、１０６  制御弁
９８  サンプリング部
１０４  ドレンライン
１１０  冷却部
１１２  脱塩部
１１４、１１６  薬品供給部
１１８  溶存ガス濃度調整部
１２０  給水部
１２２  サンプリング部
１３０  ガス排出部
１３２  ガス供給部
１４０  ガス供給ライン
１４２  水素供給源
１４４  不活性ガス供給源
１４６、１５０  制御弁
１４８、１５２  逆止弁
【図１】
0006691800.tif 000002
【図２】
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【図３】
0006691800.tif 000004
【図４】
0006691800.tif 000005
【図５】
0006691800.tif 000006
【図６】
0006691800.tif 000007