(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
シクロオレフィン系樹脂を含有する光学フィルムであって、
前記シクロオレフィン系樹脂が、少なくとも一つの水素結合受容性基を有するシクロオレフィン系樹脂であり、
フィルム中にアルコール系溶媒を１０〜１０００ｐｐｍの範囲内で含有し、ヒンダードフェノール系化合物を、０．１〜０．５質量％の範囲内で含有し、かつ、
メタノールウエッタビリティ法で測定される疎水化度が、メタノールと純水が体積比で３：７の第１溶液を用いたときの当該疎水化度が２０％以下であり、メタノールと純水が体積比で６：４の第２溶液を用いたときの当該疎水化度８０％以上であるシリカ粒子をフィルムの全質量に対して０．１〜２．５質量％含有することを特徴とする光学フィルム。
【請求項２】
前記シリカ粒子のフィルム中の二次平均粒径が、１００〜４００ｎｍの範囲内であることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
前記光学フィルムの膜厚ｄが５μｍ≦ｄ≦４０μｍであり、測定波長５９０ｎｍにおける面内位相差Ｒｏと厚さ方向の位相差ＲｔがそれぞれＲｏ≦５ｎｍ、−１５ｎｍ≦Ｒｔ≦１５ｎｍであることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の光学フィルム。
【請求項４】
シクロオレフィン系樹脂を含有する光学フィルムであって、
前記シクロオレフィン系樹脂が、少なくとも一つの水素結合受容性基を有するシクロオレフィン系樹脂であり、
フィルム中にアルコール系溶媒とヒンダードフェノール系化合物と、さらに、水を５０〜５００ｐｐｍの範囲内で含有し、かつ、
メタノールウエッタビリティ法で測定される疎水化度が、メタノールと純水が体積比で３：７の第１溶液を用いたときの当該疎水化度が２０％以下であり、メタノールと純水が体積比で６：４の第２溶液を用いたときの当該疎水化度８０％以上であるシリカ粒子をフィルムの全質量に対して０．１〜２．５質量％含有することを特徴とする光学フィルム。
【請求項５】
前記シリカ粒子のフィルム中の二次平均粒径が、１００〜４００ｎｍの範囲内であることを特徴とする請求項４に記載の光学フィルム。
【請求項６】
前記光学フィルムの膜厚ｄが５μｍ≦ｄ≦４０μｍであり、測定波長５９０ｎｍにおける面内位相差Ｒｏと厚さ方向の位相差ＲｔがそれぞれＲｏ≦５ｎｍ、−１５ｎｍ≦Ｒｔ≦１５ｎｍであることを特徴とする請求項４又は請求項５に記載の光学フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルムに関する。より詳しくは、光学フィルムを偏光板の保護フィルムに用いた際に、偏光板の打ち抜き時のクラックや切り粉の発生を低減した光学フィルム等に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、偏光板を液晶表示装置用にカットする際の形状は長方形であったが、デザイン性の向上等の観点で、近年ではカーナビゲーションシステムなどの車載のディスプレイでは、多角形や曲線を持つディスプレイが登場してきているため、多様な形状に対応させて偏光板をカットすることが必要である。
【０００３】
また、車載のディスプレイは高温高湿等過酷な環境にさらされるため、シクロオレフィン系樹脂フィルム等、耐熱性、耐湿性に優れた樹脂を用いた光学フィルムが好ましく用いられている。
【０００４】
前述の偏光板を長方形以外の形にカットする場合は、フリーフォームで打ち抜きを行う必要があるが、曲線部分等は偏光子や保護フィルムの配向方向が均一でないため、打ち抜いた際に端面にササクレや割れ等のクラックが生じたり、切断による切粉が生じやすいことが問題となっており、偏光板の薄膜化に伴いこの問題はより深刻な問題となっている。
【０００５】
一般に、フィルム製造工程や加工工程におけるハンドリング性向上のためにシリカ粒子等のマット剤（微粒子）が好適に用いられるが、シクロオレフィン系樹脂中ではシリカ粒子は凝集しやすく、凝集したシリカ粒子が偏光板の打ち抜きを行った際に、前記クラックの起点になりやすい。
【０００６】
特許文献１には、シクロオレフィン系樹脂フィルムにマット剤微粒子を含有させる例が記載されているが、たしかに当該技術によって、ハンドリング性を向上させることはできるが、前記フリーフォームでの打ち抜き時のクラックや切り粉の発生を低減するには不十分であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００７−９８６４３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、光学フィルムを偏光板の保護フィルムに用いた際に、偏光板の打ち抜き時のクラックや切り粉の発生を低減した光学フィルムを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討する過程において、少なくとも一つの水素結合受容性基を有するシクロオレフィン系樹脂、アルコール系溶媒、ヒンダードフェノール系化合物、及びメタノールウエッタビリティ法で測定される疎水化度が、特定の範囲を満たすシリカ粒子を特定量含有する光学フィルムによって、光学フィルムを偏光板の保護フィルムに用いた際に、偏光板の打ち抜き時のクラックや切り粉の発生を低減した光学フィルムが得られることを見出した。
【００１０】
すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。
【００１１】
１．シクロオレフィン系樹脂を含有する光学フィルムであって、
前記シクロオレフィン系樹脂が、少なくとも一つの水素結合受容性基を有するシクロオレフィン系樹脂であり、
フィルム中にアルコール系溶媒を１０〜１０００ｐｐｍの範囲内で含有し、ヒンダードフェノール系化合物を、０．１〜０．５質量％の範囲内で含有し、かつ、
メタノールウエッタビリティ法で測定される疎水化度が、メタノールと純水が体積比で３：７の第１溶液を用いたときの当該疎水化度が２０％以下であり、メタノールと純水が体積比で６：４の第２溶液を用いたときの当該疎水化度８０％以上であるシリカ粒子をフィルムの全質量に対して０．１〜２．５質量％含有することを特徴とする光学フィルム。
【００１２】
２．前記シリカ粒子のフィルム中の二次平均粒径が、１００〜４００ｎｍの範囲内であることを特徴とする第１項に記載の光学フィルム。
【００１３】
３．前記光学フィルムの膜厚ｄが５μｍ≦ｄ≦４０μｍであり、測定波長５９０ｎｍにおける面内位相差Ｒｏと厚さ方向の位相差ＲｔがそれぞれＲｏ≦５ｎｍ、−１５ｎｍ≦Ｒｔ≦１５ｎｍであることを特徴とする第１項又は第２項に記載の光学フィルム。
【００１４】
４．シクロオレフィン系樹脂を含有する光学フィルムであって、
前記シクロオレフィン系樹脂が、少なくとも一つの水素結合受容性基を有するシクロオレフィン系樹脂であり、
フィルム中にアルコール系溶媒とヒンダードフェノール系化合物と、さらに、水を５０〜５００ｐｐｍの範囲内で含有し、かつ、
メタノールウエッタビリティ法で測定される疎水化度が、メタノールと純水が体積比で３：７の第１溶液を用いたときの当該疎水化度が２０％以下であり、メタノールと純水が体積比で６：４の第２溶液を用いたときの当該疎水化度８０％以上であるシリカ粒子をフィルムの全質量に対して０．１〜２．５質量％含有することを特徴とする光学フィルム。
【００１５】
５．前記シリカ粒子のフィルム中の二次平均粒径が、１００〜４００ｎｍの範囲内であることを特徴とする第４項に記載の光学フィルム。
６．前記光学フィルムの膜厚ｄが５μｍ≦ｄ≦４０μｍであり、測定波長５９０ｎｍにおける面内位相差Ｒｏと厚さ方向の位相差ＲｔがそれぞれＲｏ≦５ｎｍ、−１５ｎｍ≦Ｒｔ≦１５ｎｍであることを特徴とする第４項又は第５項に記載の光学フィルム。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の上記手段により、光学フィルムを偏光板の保護フィルムに用いた際に、偏光板の打ち抜き時のクラックや切り粉の発生を低減した光学フィルムを提供することができる。
【００１７】
本発明の効果の発現機構ないし作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。
【００１８】
前記特許文献１に開示されているマット剤微粒子を含有させる技術では、ハンドリング性を向上させることができるが、フリーフォームでの打ち抜き時のクラックや切り粉の発生を低減するには不十分であった。
【００１９】
そこで、本発明者らはシクロオレフィン系樹脂からなる光学フィルムに、特定の化合物を含有させることで製造工程におけるハンドリングに優れ偏光板打ち抜き時にクラックや切粉の発生が低減した光学フィルムが得られることを見出した。
【００２０】
本発明の光学フィルムは、少なくとも一つの水素結合受容性基を有するシクロオレフィン系樹脂、アルコール系溶媒、ヒンダードフェノール系化合物、及びメタノールウエッタビリティ法で測定される疎水化度が、特定の範囲を満たすシリカ粒子を特定量含有する光学フィルムであることが特徴である。かかる構成の光学フィルムによって、偏光板の保護フィルムに用いた際に、樹脂とマット剤の相互作用を維持することがきるため、フィルムの強度が上がり、偏光板の打ち抜き時のクラックや切り粉の発生を低減できることが分かった。
【００２１】
一般的にシクロオレフィン系樹脂は疎水性の樹脂であるため、フィルム化した際に水分があると分離しやすく透明性の観点から好ましくないが、本発明で用いられるシクロオレフィン系樹脂は少なくとも一つの水素結合受容性基を含む樹脂組成物から形成されているため、アルコールのヒドロキシ基やヒンダードフェノール系化合物のヒドロキシ基と水素結合できることから、水分を多少含んだ状態であっても、透明性も維持でき、逆に水素結合によりフィルム強度が向上するという特徴がある。
【００２２】
これは、樹脂がフィルム中のアルコール、シリカ粒子表面の極性成分及びヒンダードフェノール系化合物のヒドロキシ基と相互作用することによって、さらにフィルム系外から取り込まれる空気中の水分子を介した相互作用もしやすくなるため、前述のとおりフィルムの強度が上がるものと推察される。
【００２３】
また、ヒンダードフェノール系の化合物を入れることで、当該化合物が凝集防止剤として働き、シクロオレフィン系樹脂フィルム中でのシリカ粒子の凝集を抑制し、シリカ粒子のフィルム中の二次粒径を適切な範囲に制御できることも見出した。
【００２４】
上記相互作用の指標として、シリカ粒子の疎水化度を尺度として用いることができ、当該疎水化度が特定の範囲を満たすシリカ粒子を特定量含有することによって、樹脂とマット剤、マット剤とアルコール、及びマット剤とヒンダードフェノール系化合物との相互作用をも促進して、フィルム強度がより向上することを見出した。
【００２５】
すなわち、メタノールと純水が体積比で３：７の第１溶液を用いてシリカ粒子の疎水化度を求めたときに、当該疎水化度が２０％以下であれば、マット剤とシクロオレフィン系樹脂との相溶性に優れ、さらにヒンダードフェノール系化合物の存在下、粒子が凝集しにくいためクラックの発生源が低減する。同様に、メタノールと純水が体積比で６：４の第２溶液を用いてシリカ粒子の疎水化度を求めたときに、当該疎水化度が８０％以上であれば、マット剤とアルコールとの相互作用によって、ドープ中でのシリカ粒子が凝集しにくくなるため、クラックの発生源そのものを低減することによって、クラックや切り粉の発生が低減するものと推察される。そのため、上記フィルムを用いた偏光板は、上記偏光板の打ち抜き時のクラックや切り粉の発生といった問題の発生を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明に好ましい溶液流延製膜方法のドープ調製工程、流延工程、乾燥工程及び巻取り工程の一例を示す模式図
【発明を実施するための形態】
【００２７】
本発明の光学フィルムは、シクロオレフィン系樹脂を含有する光学フィルムであって、前記シクロオレフィン系樹脂が、少なくとも一つの水素結合受容性基を有するシクロオレフィン系樹脂であり、フィルム中にアルコール系溶媒を１０〜１０００ｐｐｍの範囲内で含有し、ヒンダードフェノール系化合物を、０．１〜０．５質量％の範囲内で含有し、かつ、メタノールウエッタビリティ法で測定される疎水化度が、メタノールと純水が体積比で３：７の第１溶液を用いたときの当該疎水化度が２０％以下であり、メタノールと純水が体積比で６：４の第２溶液を用いたときの当該疎水化度８０％以上であるシリカ粒子をフィルムの全質量に対して０．１〜２．５質量％含有することを特徴とし、かかる構成によって、光学フィルムを偏光板の保護フィルムに用いた際に、偏光板の打ち抜き時のクラックや切り粉の発生を低減した光学フィルムを提供することができる。
【００２８】
この特徴は、請求項１から請求項６までの各請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。
【００２９】
本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、前記シリカ粒子のフィルム中の二次平均粒径が、１００〜４００ｎｍの範囲内であることが、製造時や加工時のハンドリング性を向上し、かつ偏光板の打ち抜き時のクラックや切り粉の発生を低減する観点から、好ましい粒径の範囲である。
【００３０】
フィルム中に、前記アルコール系溶媒を１０〜１０００ｐｐｍの範囲内で含有し、ヒンダードフェノール系化合物を、０．１〜０．５質量％の範囲内で含有することが、前記マット剤との相互作用において、フィルム強度を向上するという本発明の効果を発現する観点から、必要な含有量である。
【００３１】
樹脂組成物中に含まれる残留溶媒成分として、アルコール系溶媒に加えて、さらに水が含まれていることが好ましく、その含有量は５０〜５００ｐｐｍである。５０ｐｐｍ以上であれば、得られるフィルムの機械強度や脆性が向上するが、フィルムの透明性の観点から５００ｐｐｍ以下である。ここで水とは、水道水、脱イオン水、超純水、及び蒸留水等が挙げられるが、不純物、コスト等生産性の観点から好ましくは蒸留水である。
【００３２】
また、前記光学フィルムの膜厚ｄが５μｍ≦ｄ≦４０μｍであり、測定波長５９０ｎｍにおける面内位相差Ｒｏと厚さ方向の位相差ＲｔがそれぞれＲｏ≦５ｎｍ、−１５ｎｍ≦Ｒｔ≦１５ｎｍであることが、偏光板保護フィルムとして用いる際に、軽量で薄膜な偏光板を提供することができ、またＩＰＳモード型液晶表示装置用の偏光板として最適な位相差を付与できる観点から、好ましい。
【００３３】
また、本発明の光学フィルムは、溶液流延製膜法によって製膜し、かつ、前記少なくとも一つの水素結合受容性基を有するシクロオレフィン系樹脂、前記疎水化度を満たすシリカ粒子、前記ヒンダードフェノール系化合物、及びアルコール系溶媒を含む有機溶媒を含有するドープを、溶解温度１５〜５０℃の範囲内で調製することが、好ましい製造方法である。
【００３４】
溶解温度が、１５℃以上であれば十分に樹脂や添加剤を溶解できるため、異物の少ないフィルムが得られる。また５０℃以下であれば、アルコールとヒンダードフェノール化合物の反応によるドープ及び、得られるフィルムの着色を抑制できる観点から好ましく、アルコールと親和性が良いシリカ粒子を添加することでも着色を抑制する効果がある。
【００３５】
さらに、生産性向上の観点からヒドロキシ基を有するアルコール系溶媒と水とを組み合わせて用いることがより好ましい。
【００３６】
水は一分子中に水素結合性供与基を複数持つため、フィルムの強度を上げるために好ましく用いることができる。水は全溶媒量に対して０．1〜１質量％含むことが好ましい。０．１質量％以上であれば、他のアルコール系溶媒や水素結合受容性基を含むシクロオレフィン系樹脂やシリカ粒子と相互作用しやすくなるため好ましいが、１質量％を超えると疎水性の強いシクロオレフィン系樹脂がゲル化してしまい、異物が発生しやすくなる。
【００３７】
以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。
【００３８】
≪本発明の光学フィルムの概要≫
本発明の光学フィルムは、シクロオレフィン系樹脂を含有する光学フィルムであって、前記シクロオレフィン系樹脂が、少なくとも一つの水素結合受容性基を有するシクロオレフィン系樹脂であり、フィルム中にアルコール系溶媒を１０〜１０００ｐｐｍの範囲内で含有し、ヒンダードフェノール系化合物を、０．１〜０．５質量％の範囲内で含有し、かつ、メタノールウエッタビリティ法で測定される疎水化度が、メタノールと純水が体積比で３：７の第１溶液を用いたときの当該疎水化度が２０％以下であり、メタノールと純水が体積比で６：４の第２溶液を用いたときの当該疎水化度８０％以上であるシリカ粒子をフィルムの全質量に対して０．１〜２．５質量％含有することを特徴とする。
【００３９】
〈メタノールウエッタビリティ法〉
本発明に係るシリカ粒子の疎水化度は、アルコール系を含む溶媒や純水などを用いて定量することができる。疎水化度を定量化する方法としては、メタノールウエッタビリティ法（以下、「ＭＷ法」と称する。）が好ましい。本発明において、疎水化度は、本法で求められるメタノールウエッタビリティ値（以下、「ＭＷ値」と称する。）で表す。
【００４０】
上記のＭＷ法において、微粒子の疎水化度を定量化するためには、メタノールと純水とを混合させた第１溶液及び第２溶液をそれぞれ用いる。このとき、メタノールと純水との配合比は、第１溶液においては体積比が３：７であり、また、第２溶液では体積比が６：４である。そして、各溶液に前記微粒子を同量添加して撹拌混合し、この混合した各溶液を遠心分離させて、前記微粒子の沈降物の体積をそれぞれ求め、第１溶液における微粒子の沈降物の体積をｔｍＬとし、第２溶液における微粒子の沈降物の体積をｓｍＬとしたときに、それぞれＭＷ値を、第１溶液におけるＭＷ値＝（ｔ／Ａ）×１００［％］、及び第２溶液におけるＭＷ値＝（ｓ／Ａ）×１００［％］から求める。ここで、Ａは、初めに添加したシリカ粒子の体積（ＡｍＬ）である。
【００４１】
〔ＭＷ法〕
（１）メタノール溶液Ｃと純水Ｄとを、体積比で３：７になるように混合して、第１溶液Ａを調製する（例えば、メタノール溶液Ｃが４０ｍＬに対して、純水Ｄが６０ｍＬ）
（２）次に、１０ｍＬの沈降管Ｆに、０．２ｇのシリカ粒子粉末Ｅと７ｍＬの第１溶液Ａとを入れる。
（３）沈降管Ｆにふたをして、ターブラーミキサを用いて、微粒子粉末Ｅを第１溶液Ａ中に振盪混合する。この際、ターブラーミキサの条件は９０ｒｐｍで３０秒間である。
（４）シリカ粒子粉末Ｅを沈降させるため、遠心分離機を用いる。遠心分離機の条件は、３５００ｒｐｍで１０分間である。
（５）沈降管の目盛で読み取ることができる沈降した微粒子粉末Ｅの沈降物量を体積として読み取り、その値をｔｍＬとする。
（６）新たに、メタノール溶液Ｃと純水Ｄとが、体積比で６：４となるように混合して、第２溶液Ｂを調製する（例えば、メタノール溶液Ｃが６０ｍＬに対して、純水Ｄが４０ｍＬ）。
（７）第２溶液Ｂを用いて、上記（２）〜（５）と同じ手順（８）〜（１１）により、シリカ粒子粉末Ｅの沈降物を作製して、沈降管の目盛で読み取ることができる沈降したシリカ粒子粉末Ｅの沈降物量を体積として読み取り、その値をｓｍＬとする。
（１２）下記式によりＭＷ値（％）を求める。
【００４２】
第１溶液におけるＭＷ値＝（ｔ／Ａ）×１００［％］
第２溶液におけるＭＷ値＝（ｓ／Ａ）×１００［％］
ここで、Ａは、初めに添加したシリカ粒子の体積（ＡｍＬ）である。
【００４３】
例えば、第１溶液Ａを用いた際に得られた微粒子の沈降物の体積が１ｍＬであり、初めに添加したシリカ粒子の体積（ＡｍＬ）が５ｍＬであれば、
第１溶液におけるＭＷ値＝（１／５）×１００［％］であり、疎水化度ＭＷ値は２０％となる。
【００４４】
＜本発明の光学フィルムの構成＞
〔１〕シクロオレフィン系樹脂
本発明の実施態様としては、生産性向上の観点から、溶媒成分として水を含むことが好ましく、出来上がりのフィルムとしても、水分を含むことが好ましい。
【００４５】
一般的にシクロオレフィン系樹脂疎水性の樹脂であるため、フィルム化した際に水分があると分離しやすく透明性の観点から好ましくないが、本発明で用いられる、シクロオレフィン系樹脂は、少なくとも一つの水素結合受容性基を含む樹脂組成物から形成されているため、アルコールのヒドロキシ基やヒンダードフェノール系化合物のヒドロキシ基と水素結合できることから、水分を多少含んだ状態であっても、透明性も維持でき、逆に水素結合によりフィルム強度が向上するという特徴がある。「水素結合受容性基」とは、水素結合を形成する際に水素原子を受容する官能基をいう。
【００４６】
本発明に係るシクロオレフィン系樹脂は、少なくとも一つの水素結合受容性基を含む樹脂組成物から形成されることを特徴としている。
【００４７】
水素結合受容性基としては、例えば、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、炭素原子数１〜１０のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１０のアルコキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、シアノ基、アミド基、イミド環含有基、トリオルガノシロキシ基、トリオルガノシリル基、アシル基、炭素原子数１〜１０のアルコキシシリル基、スルホニル含有基、及びカルボキシ基など挙げられる。これらの極性基についてさらに具体的に説明すると、上記アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基等が挙げられ；アシルオキシ基としては、例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基等のアルキルカルボニルオキシ基、及びベンゾイルオキシ基等のアリールカルボニルオキシ基が挙げられ；アルコキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等が挙げられ；アリルオキシカルボニル基としては、例えば、フェノキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基、フルオレニルオキシカルボニル基、ビフェニリルオキシカルボニル基等が挙げられ；トリオルガノシロキシ基としては、例えば、トリメチルシロキシ基、トリエチルシロキシ基等が挙げられ；トリオルガノシリル基としてはトリメチルシリル基、トリエチルシリル基等が挙げられ；アルコキシシリル基としては、例えば、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基等が挙げられる。
【００４８】
樹脂成分中に含まれる上記水素結合受容性基を含むシクロオレフィン系樹脂の量は、特に限定されるものではないが、好ましくは、含有割合が１０〜１００質量％である。１０質量％以上であると、得られる開環共重合体がトルエンやジクロロメタンなどの溶媒への溶解性を示しやすくなるため好ましく、更に溶解性やフィルムの強度、透明性の観点から、３０〜１００質量％の範囲にあると更に好ましい。
【００４９】
本発明に係るシクロオレフィン系樹脂としては、例えば、次のような（共）重合体が挙げられる。
【００５０】
【化１】
0006676930.tif 000002
【００５１】
〔式中、ｐは０又は１であり、ｍは０又は１以上の整数である。Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、ハロゲン原子、又は水素結合受容性基を表す。また、Ｒ１〜Ｒ４は、二つ以上が互いに結合して、不飽和結合、単環又は多環を形成していてもよく、この単環又は多環は、二重結合を有していても、芳香環を形成してもよい。〕
本発明において、シクロオレフィン系樹脂の好ましい水素結合受容性基の保有比率は一般式（Ｉ）でＲ１〜Ｒ４のうち１〜２個が水素結合受容性基を有することが好ましい。
【００５２】
また、シクロオレフィン系樹脂の水素結合受容性基の保有比率は例えば、カーボン-１３核磁気共鳴（１３ＣＮＭＲ）スペクトル法を用いて同定することができる。
【００５３】
また一般式（Ｉ）中、Ｒ１及びＲ３が水素原子又は炭素数１〜１０、さらに好ましくは１〜４、特に好ましくは１〜２の炭化水素基であり、Ｒ２及びＲ４の少なくとも一つは水素原子及び炭化水素基以外の極性を有する水素結合受容性基を示し、ｐとｍは、ガラス転移温度が高くかつ機械的強度が優れるという観点から、ｍ＝１、ｐ＝０であるものが好ましい。
【００５４】
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子が挙げられる。炭素原子数１〜３０の炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基；ビニル基、アリル基、プロペニル基等のアルケニル基；フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等の芳香族基等が挙げられる。これらの炭化水素基は置換されていてもよく、置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、フェニルスルホニル基等が挙げられる。
【００５５】
本発明に係るシクロオレフィン系樹脂の好ましい分子量は、固有粘度〔η〕ｉｎｈで０．２〜５ｃｍ３／ｇ、さらに好ましくは０．３〜３ｃｍ３／ｇ、特に好ましくは０．４〜１．５ｃｍ３／ｇであり、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定したポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）は８０００〜１０００００、さらに好ましくは１００００〜８００００、特に好ましくは１２０００〜５００００であり、重量平均分子量（Ｍｗ）は２００００〜３０００００、さらに好ましくは３００００〜２５００００、特に好ましくは４００００〜２０００００の範囲のものが好適である。
【００５６】
固有粘度〔η〕ｉｎｈ、数平均分子量及び重量平均分子量が上記範囲にあることによって、シクロオレフィン樹脂の耐熱性、耐水性、耐薬品性、機械的特性と、本発明に係るシクロオレフィン系樹脂フィルムとしての成形加工性が良好となる。
【００５７】
本発明に係るシクロオレフィン系樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）としては、通常、１１０℃以上、好ましくは１１０〜３５０℃、さらに好ましくは１２０〜２５０℃、特に好ましくは１２０〜２２０℃である。Ｔｇが１１０℃以上の場合は、高温条件下での使用、又はコーティング、印刷などの二次加工による変形が抑制されるため好ましい。また、Ｔｇが３５０℃以下であると、成形加工や成形加工時の熱による樹脂劣化が抑制されるため好ましい。
【００５８】
以上説明したシクロオレフィン系樹脂は、市販品を好ましく用いることができ、市販品の例としては、ＪＳＲ（株）からアートン（Ａｒｔｏｎ）Ｇ、アートンＦ、アートンＲ、及びアートンＲＸという商品名で発売されており、これらを使用することができる。
【００５９】
〔２〕シリカ粒子
本発明の光学フィルムには、製造されたフィルムがハンドリングされる際に、傷が付いたり、搬送性が悪化することを防止するとともに、光学フィルムを偏光板の保護フィルムに用いた際に、偏光板の打ち抜き時のクラックや切り粉の発生を低減した光学フィルムを得るために、特定の疎水化度を有するシリカ粒子を含有する。
【００６０】
本発明に係るシリカ粒子は、メタノールウエッタビリティ法で測定される疎水化度が、メタノールと純水が体積比で３：７の第１溶液を用いたときの当該疎水化度が２０％以下であり、メタノールと純水が体積比で６：４の第２溶液を用いたときの当該疎水化度８０％以上であるシリカ粒子である。疎水化度は前述のＭＷ法によって測定する。
【００６１】
シリカ粒子とは、二酸化ケイ素を主成分とする粒子である。主成分とは、粒子を構成する成分の５０％以上を含有することをいい、好ましくは７０％以上、より好ましくは８０％以上、特に好ましくは９０％以上含まれることをいう。
【００６２】
また、二酸化ケイ素系の粒子で、かつ表面がアルキル化処理により疎水化処理された微粒子を添加すると、溶媒に対しての分散性がよく、異物の発生を抑制できることから、好ましい。
【００６３】
シリカ粒子に対する上記疎水化処理は、アルキル化処理であることが好ましい。アルキル化処理された微粒子の表面はアルキル基を有し、そのアルキル基の炭素数は１〜２０の範囲であることが好ましく、より好ましくは炭素数１〜１２の範囲であり、特に好ましくは、炭素数１〜８の範囲である。
【００６４】
前記シリカ粒子において、表面に炭素数１〜２０の範囲のアルキル基を有するものは、例えば、前記の二酸化ケイ素の粒子をオクチルシランで処理することにより得ることができる。また、表面にオクチル基を有するものの一例としては、アエロジルＲ８０５（日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、好ましく用いられる。
【００６５】
シリカ粒子の一次粒子の平均粒径は、５〜４００ｎｍの範囲内が好ましく、さらに好ましいのは１０〜３００ｎｍの範囲内である。
【００６６】
シリカ粒子の二次粒子の平均粒径は、１００〜４００ｎｍの範囲内であることが、好ましく、一次粒子の平均粒径が１００〜４００ｎｍの範囲内であれば、凝集せずに一次粒子として含まれていることも好ましい。
【００６７】
〈シリカ粒子の平均粒径の測定方法〉
光学フィルム中におけるシリカ粒子の粒子径の測定は、ミクロトームで断層カットしたフィルム断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ：Ｓｃａｎｎｉｎｇ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）で適当な倍率で撮影し、断層カット写真に含まれる１００個の粒子の粒子径を測定し、平均値を求め平均粒径とする。粒子径は、粒子の断面が円形状の場合はその直径とし、円形状以外の場合は面積を算出し、それを円形状に換算したときの直径とする。
【００６８】
ＳＥＭ：ＪＳＭ−６０６０ＬＡ（ＪＥＯＬ：日本電子株式会社）
ミクロトーム：ライカ製ＥＭ  ＵＣ６
フィルム中のシリカ粒子の含有量は、フィルムの全質量に対して０．１〜２．５質量％含有する必要があり、０．５〜２．０質量％の範囲内であることが好ましく、特に１．０〜２．０質量％の範囲内であることが、本発明の効果を発現する上で好ましい。
【００６９】
シリカ粒子は、市販品を好ましく使用することができ、上記アエロジルＲ８０５以外に、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ９７６Ｓ、Ｒ８１２、Ｒ８１２Ｓ、ＲＹ３００、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上、日本アエロジル株式会社製）の商品名で市販されており、使用することができる。
【００７０】
これらの中でもアエロジルＲ８０５、Ｒ８１２、Ｒ９７６Ｓが、本発明に係る疎水化度を満たすことから、ハンドリング時の取り扱い性を向上しかつ光学フィルムのヘイズを低く保つことができ、好ましい。
【００７１】
本発明の光学フィルムにおいては、シリカ粒子を含有し、少なくとも一方の面の動摩擦係数が０．２〜１．０の範囲内であることが好ましい。動摩擦係数は、「ＪＩＳ  Ｋ７１２５  プラスチック−フィルム及びシート摩擦係数試験方法」に準じて測定することができる。
【００７２】
本発明に係るシリカ粒子の添加方法については、以下の第１〜第３の方法が挙げられるが、いずれの方法を用いてもよい。
【００７３】
〔第１添加方法〕
溶媒と粒子とを撹拌混合した後、分散機を用いて分散を行い、これをドープに加えて撹拌することで流延ドープを得る。
【００７４】
〔第２添加方法〕
溶媒と粒子とを撹拌混合した後、分散機を用いて分散を行ない、粒子分散液を作製する。次に、溶剤に少量の樹脂を加え、撹拌溶解させたものに前記粒子分散液を加えて撹拌した後、これを原料ドープ液に加えて十分に混合させて流延ドープを得る。
【００７５】
〔第３添加方法〕
溶媒に少量の樹脂を加え、撹拌溶解させた後、粒子を加えて分散機を用いて分散を行う。これをドープに加えて十分に混合させる。
【００７６】
完成した流延ドープに含有するシリカ粒子は、ドープの調製に再生フィルムを用いた場合には、この中に含有されるものでもよいが、再生フィルムチップの元となるフィルムを製造する際の流延ドープは、本発明によるものであることが好ましい。
【００７７】
〔３〕ヒンダードフェノール系化合物
フェノール系化合物は既知の化合物であり、例えば、米国特許第４８３９４０５号明細書の第１２〜１４欄に記載されており、２，６−ジアルキルフェノール誘導体化合物が含まれる。このような化合物のうち好ましい化合物として、下記一般式（Ａ）で表される化合物が好ましい。
【００７８】
【化２】
0006676930.tif 000003
【００７９】
式中、Ｒ５１〜Ｒ５６は水素原子又は置換基を表す。置換基としては、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子等）、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ヒドロキシエチル基、メトキシメチル基、トリフルオロメチル基、ｔ−ブチル基等）、シクロアルキル基（例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、アラルキル基（例えば、ベンジル基、２−フェネチル基等）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、ｐ−トリル基、ｐ−クロロフェニル基等）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基等）、シアノ基、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ブチルチオ基等）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基等）、スルホニルアミノ基（例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基等）、ウレイド基（例えば、３−メチルウレイド基、３，３−ジメチルウレイド基、１，３−ジメチルウレイド基等）、スルファモイルアミノ基（ジメチルスルファモイルアミノ基等）、カルバモイル基（例えば、メチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基等）、スルファモイル基（例えば、エチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基等）、スルホニル基（例えば、メタンスルホニル基、ブタンスルホニル基、フェニルスルホニル基等）、アシル基（例えば、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基等）、アミノ基（メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基等）、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、ニトロソ基、アミンオキシド基（例えば、ピリジン−オキシド基）、イミド基（例えば、フタルイミド基等）、ジスルフィド基（例えば、ベンゼンジスルフィド基、ベンゾチアゾリル−２−ジスルフィド基等）、カルボキシル基、スルホ基、ヘテロ環基（例えば、ピロール基、ピロリジル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、ベンズオキサゾリル基等）等が挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。
【００８０】
また、Ｒ５１は水素原子、Ｒ５２、Ｒ５６はｔ−ブチル基であるフェノール系化合物が好ましい。
【００８１】
本発明に係るヒンダードフェノール系化合物は、特に限定されるものではないが、以下の具体例を挙げることができる。
【００８２】
当該化合物の具体例としては、ｎ−オクタデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、ｎ−オクタデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−アセテート、ｎ−オクタデシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ｎ−ヘキシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルベンゾエート、ｎ−ドデシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルベンゾエート、ネオ−ドデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ドデシルβ（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、エチルα−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）イソブチレート、オクタデシルα−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）イソブチレート、オクタデシルα−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２−（ｎ−オクチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンゾエート、２−（ｎ−オクチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニルアセテート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンゾエート、２−（２−ヒドロキシエチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ジエチルグリコールビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニル）プロピオネート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ステアルアミドＮ，Ｎ−ビス−［エチレン３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ｎ−ブチルイミノＮ，Ｎ−ビス−［エチレン３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２−（２−ステアロイルオキシエチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−（２−ステアロイルオキシエチルチオ）エチル７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ヘプタノエート、１，２−プロピレングリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、エチレングリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ネオペンチルグリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、エチレングリコールビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート）、グリセリン−ｌ−ｎ−オクタデカノエート−２，３−ビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート）、ペンタエリスリトール−テトラキス−［３−（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，１，１−トリメチロールエタン−トリス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ソルビトールヘキサ−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオ���ート］、２−ヒドロキシエチル７−（３−メチル−５−ｔブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２−ステアロイルオキシエチル７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ヘプタノエート、１，６−ｎ−ヘキサンジオール−ビス［（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ペンタエリトリトール−テトラキス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）等が挙げられる。
【００８３】
中でも有用なヒンダードフェノール系酸化防止剤の具体例として、下記の例示化合物を示すが、これに限定されるものではない。
【００８４】
【化３】
0006676930.tif 000004
【００８５】
また、上記タイプのフェノール化合物は、例えば、ＢＡＳＦジャパン株式会社から、”Ｉｒｇａｎｏｘ１０３５”、”Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６”及び”Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０”という商品名で市販されている。
【００８６】
シクロオレフィン系樹脂１００質量部に対する前記フェノール系化合物の添加量は適宜設計できるが、０．１〜１．０質量部の範囲であることが好ましく、０．３〜０．５質量部の範囲であることがより好ましい。
【００８７】
〔４〕その他の添加剤
〔４．１〕可塑剤
可塑剤とは、可塑剤の例には、ポリエステル化合物、多価アルコールエステル化合物、多価カルボン酸エステル化合物（フタル酸エステル化合物を含む）、グリコレート化合物、及びエステル化合物（脂肪酸エステル化合物やリン酸エステル化合物などを含む）が含まれる。これらは、単独で用いても、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
【００８８】
本発明の光学フィルムに好ましい可塑剤は、ジカルボン酸とジオールを反応させて得られる繰り返し単位を含むポリエステル化合物である。
【００８９】
ポリエステル化合物を構成するジカルボン酸は、芳香族ジカルボン酸、脂肪族ジカルボン酸又は脂環式ジカルボン酸であり、好ましくは芳香族ジカルボン酸である。ジカルボン酸は、１種類であっても、２種類以上の混合物であってもよい。
【００９０】
ポリエステル化合物を構成するジオールは、芳香族ジオール、脂肪族ジオール又は脂環式ジオールであり、好ましくは脂肪族ジオールであり、より好ましくは炭素数１〜４のジオールである。ジオールは、１種類であっても、２種類以上の混合物であってもよい。
【００９１】
中でも、ポリエステル化合物は、少なくとも芳香族ジカルボン酸を含むジカルボン酸と、炭素数１〜４のジオールとを反応させて得られる繰り返し単位を含むことが好ましく、芳香族ジカルボン酸と脂肪族ジカルボン酸とを含むジカルボン酸と、炭素数１〜４のジオールとを反応させて得られる繰り返し単位を含むことがより好ましい。
【００９２】
ポリエステル化合物の分子の両末端は、封止されていても、封止されていなくてもよいが、フィルムの透湿性を低減する観点からは、封止されていることが好ましい。
【００９３】
また、多価アルコールエステル化合物は、２価以上の脂肪族多価アルコールと、モノカルボン酸とのエステル化合物（アルコールエステル）であり、好ましくは２〜２０価の脂肪族多価アルコールエステルである。多価アルコールエステル化合物は、分子内に芳香環又はシクロアルキル環を有することが好ましい。
【００９４】
脂肪族多価アルコールの好ましい例には、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ジブチレングリコール、１，２，４−ブタントリオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、トリメチロールエタン、キシリトール等が含まれる。中でも、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールなどが好ましい。
【００９５】
モノカルボン酸は、特に制限はなく、脂肪族モノカルボン酸、脂環式モノカルボン酸又は芳香族モノカルボン酸等でありうる。フィルムの透湿性を高め、かつ揮発しにくくするためには、脂環式モノカルボン酸又は芳香族モノカルボン酸が好ましい。モノカルボン酸は、１種類であってもよいし、２種以上の混合物であってもよい。また、脂肪族多価アルコールに含まれるＯＨ基の全部をエステル化してもよいし、一部をＯＨ基のままで残してもよい。
【００９６】
脂肪族モノカルボン酸は、炭素数１〜３２の直鎖又は側鎖を有する脂肪酸であることが好ましい。脂肪族モノカルボン酸の炭素数はより好ましくは１〜２０であり、さらに好ましくは１〜１０である。脂肪族モノカルボン酸の例には、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸；ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等が含まれる。中でも、セルロースアセテートとの相溶性を高めるためには、酢酸、又は酢酸とその他のモノカルボン酸との混合物が好ましい。
【００９７】
脂環式モノカルボン酸の例には、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸などが含まれる。
【００９８】
芳香族モノカルボン酸の例には、安息香酸；安息香酸のベンゼン環にアルキル基又はアルコキシ基（例えば、メトキシ基やエトキシ基）を１〜３個を導入したもの（例えば、トルイル酸など）；ベンゼン環を２個以上有する芳香族モノカルボン酸（例えば、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸など）が含まれ、好ましくは安息香酸である。
【００９９】
多価アルコールエステル化合物の具体例は、特開２００６−１１３２３９号公報段落〔００５８〕〜〔００６１〕記載の化合物が挙げられる。
【０１００】
多価カルボン酸エステル化合物は、２価以上、好ましくは２〜２０価の多価カルボン酸と、アルコール化合物とのエステル化合物である。多価カルボン酸は、２〜２０価の脂肪族多価カルボン酸であるか、３〜２０価の芳香族多価カルボン酸又は３〜２０価の脂環式多価カルボン酸であることが好ましい。
【０１０１】
多価カルボン酸エステル化合物の例には、トリエチルシトレート、トリブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート（ＡＴＥＣ）、アセチルトリブチルシトレート（ＡＴＢＣ）、ベンゾイルトリブチルシトレート、アセチルトリフェニルシトレート、アセチルトリベンジルシトレート、酒石酸ジブチル、酒石酸ジアセチルジブチル、トリメリット酸トリブチル、ピロメリット酸テトラブチル等が含まれる。
【０１０２】
グリコレート化合物の例には、アルキルフタリルアルキルグリコレート類が含まれる。アルキルフタリルアルキルグリコレート類の例には、メチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等が含まれ、好ましくはエチルフタリルエチルグリコレートである。
【０１０３】
エステル化合物には、脂肪酸エステル化合物、クエン酸エステル化合物やリン酸エステル化合物などが含まれる。
【０１０４】
脂肪酸エステル化合物の例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、及びセバシン酸ジブチル等が含まれる。クエン酸エステル化合物の例には、クエン酸アセチルトリメチル、クエン酸アセチルトリエチル、及びクエン酸アセチルトリブチル等が含まれる。リン酸エステル化合物の例には、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ビフェニルジフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、及びトリブチルホスフェート等が含まれ、好ましくはトリフェニルホスフェートである。
【０１０５】
中でも、ポリエステル化合物、グリコレート化合物、リン酸エステル化合物が好ましく、ポリエステル化合物が特に好ましい。
【０１０６】
可塑剤の含有量は、シクロオレフィン系樹脂１００質量部に対して、好ましくは１〜２０質量％の範囲であり、より好ましくは１．５〜１５質量％の範囲である。可塑剤の含有量が上記範囲内であると、可塑性の付与効果が発現でき、光学フィルムからの可塑剤の耐染みだし性にも優れる。
【０１０７】
〔４．２〕位相差上昇剤
本発明の光学フィルムは、位相差を調整するために位相差上昇剤を含有することができる。
【０１０８】
本願でいう位相差上昇剤とは、シクロオレフィン系樹脂１００質量部に対して当該化合物を３質量部含有した光学フィルムの厚さ方向の位相差値Ｒｔ（光波長５９０ｎｍ測定）が、未添加の光学フィルムと比べて１．１倍以上の値を示す機能を有する化合物をいう。
【０１０９】
本発明に用いられる位相差上昇剤は、特に制限されるものではなく、例えば、従来知られている、特開２００６−１１３２３９号公報段落〔０１４３〕〜〔０１７９〕に記載の芳香族環を有する円盤状化合物（１，３，５−トリアジン系化合物等）、特開２００６−１１３２３９号公報段落〔０１０６〕〜〔０１１２〕記載の棒状化合物、特開２０１２−２１４６８２号公報段落〔０１１８〕〜〔０１３３〕記載のピリミジン系化合物等を用いることができる。
【０１１０】
〔４．３〕紫外線吸収剤
本発明の光学フィルムは、偏光板や液晶表示装置に照射される不要な紫外線を遮蔽するために、紫外線吸収剤を含有することが好ましい。
【０１１１】
紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等を挙げることができるが、着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。また、特開平１０−１８２６２１号公報、特開平８−３３７５７４号公報に記載の紫外線吸収剤、特開平６−１４８４３０号公報に記載の高分子紫外線吸収剤も好ましく用いられる。
【０１１２】
本発明の光学フィルムを、光学補償フィルムのほかに、偏光板の保護フィルムとして用いる場合、紫外線吸収剤としては、偏光子や液晶の劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ液晶の表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ない特性を備えていることが好ましい。
【０１１３】
紫外線吸収剤の添加量は、高分子組成物に対して０．１〜５．０質量％の範囲内であることが好ましく、０．５〜５．０質量％の範囲内であることがさらに好ましい。
【０１１４】
本発明に有用なベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル］ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、オクチル−３−［３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル］プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−［３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル］プロピオネートの混合物等を挙げることができるが、これらに限定されない。
【０１１５】
また、市販品として、「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１０９」、「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１７１」、「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３２６」、「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３２８」（以上、商品名、ＢＡＳＦジャパン社製）を好ましく使用できる。
【０１１６】
〔５〕光学フィルムの製造方法
本発明の光学フィルムの製造方法は、溶液流延製膜法又は溶融流延製膜法を採用することができるが、溶液流延製膜法によって製造することが好ましい。
【０１１７】
本発明の光学フィルムは、溶液流延製膜法によって製膜し、かつ、前記少なくとも一つの水素結合受容性基を有するシクロオレフィン系樹脂、前記疎水化度を満たすシリカ粒子、前記ヒンダードフェノール系化合物、及びアルコール系溶媒を含む有機溶媒を含有するドープを、溶解温度１５〜５０℃の範囲内で調製することが好ましい。
【０１１８】
溶解温度が、１５℃以上であれば十分に樹脂や添加剤を溶解できるため、異物の少ないフィルムが得られる。また５０℃以下であれば、アルコールとヒンダードフェノール化合物の反応によるドープ及び、得られるフィルムの着色を抑制できる観点から好ましく、アルコールと親和性が良いシリカ粒子を添加することでも着色を抑制する効果がある。
【０１１９】
本発明の光学フィルムは、少なくともシクロオレフィン系樹脂、シリカ粒子、ヒンダードフェノール系化合物及びアルコール系溶媒を含む有機溶媒を含有するドープを調製する工程（ドープ調製工程）と、前記ドープを支持体上に流延してウェブ（流延膜ともいう。）を形成する工程（流延工程）と、支持体上でウェブから溶媒を蒸発させる工程（溶媒蒸発工程）、ウェブを支持体から剥離する工程（剥離工程）、得られたフィルムを乾燥させる工程（予備乾燥工程）、フィルムを延伸する工程（延伸工程）、延伸後のフィルムを更に乾燥させる工程（乾燥工程）、得られた光学フィルムを巻取る工程（巻取り工程）によって製造されることが好ましい。
【０１２０】
以上の工程を図をもって説明する。
【０１２１】
図１は、本発明に好ましい溶液流延製膜法のドープ調製工程、流延工程、乾燥工程及び巻取り工程の一例を模式的に示した図である。
【０１２２】
分散機によって溶媒と本発明に係るシリカ粒子を分散させた微粒子分散液は仕込み釜４１から濾過器４４を通過しストック釜４２にストックされる。一方主ドープであるシクロオレフィン系樹脂は溶媒とともに溶解釜１にて溶解され、適宜ストック釜４２に保管されている微粒子分散液が添加されて混合され主ドープを形成する。得られた主ドープは、濾過器３、ストック釜４から濾過器６によって濾過され、合流管２０によって添加剤が添加されて、混合機２１で混合されて加圧ダイ３０に液送される。
【０１２３】
一方、添加剤（本発明に係るヒンダードフェノール系化合物や、紫外線吸収剤、位相差上昇剤など）は、溶媒に溶解され、添加剤仕込み釜１０から濾過器１２を通過してストック釜１３にストックされる。その後、濾過器１５を通して導管１６を経由して合流管２０、混合機２１によって主ドープと混合される。
【０１２４】
加圧ダイ３０に液送された主ドープは、金属ベルト状の支持体３１上に流延されてウェブ３２を形成し、所定の乾燥後剥離位置３３で剥離されフィルムを得る。剥離されたウェブ３２は、多数の搬送ローラーに通しながら、所定の残留溶媒量になるまで乾燥された後、延伸装置３４によって長手方向又は幅手方向に延伸される。延伸後、乾燥装置３５によって所定の残留溶媒量になるまで、搬送ローラー３６に通しながら乾燥し、巻取り装置３７によって、ロール状に巻取られる。
【０１２５】
以下、各工程について説明する。
【０１２６】
（１）ドープ調製工程
シクロオレフィン系樹脂に対する良溶媒を主とする有機溶媒に、溶解釜中で当該シクロオレフィン系樹脂及びヒンダードフェノール系化合物、場合によって、位相差上昇剤、シリカ粒子又はその他の化合物を撹拌しながら溶解しドープを調製する工程、又は当該シクロオレフィン系樹脂溶液に、前記ヒンダードフェノール系化合物、場合によっては位相差上昇剤、シリカ粒子又はその他の化合物溶液を混合して主溶解液であるドープを調製する工程である。
【０１２７】
本発明の光学フィルムを溶液流延法で製造する場合、ドープを形成するのに有用な有機溶媒は、シクロオレフィン系樹脂、ヒンダードフェノール系化合物、又は位相差上昇剤及びその他の化合物を同時に溶解するものであることが好ましい。
【０１２８】
用いられる有機溶媒として、以下の溶媒が好ましく用いられる。
【０１２９】
溶液流延法に用いられる溶媒としては、例えば、クロロホルム、ジクロロメタンなどの塩素系溶媒；トルエン、キシレン、ベンゼン、及びこれらの混合溶媒などの芳香族系溶媒；メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、２−ブタノールなどのアルコール系溶媒；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、酢酸エチル、ジエチルエーテル；などが挙げられる。これら溶剤は１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１３０】
本発明に係る溶媒が良溶媒と貧溶媒の混合溶媒である場合、当該良溶媒は、例えば、塩素系有機溶媒としては、ジクロロメタン、非塩素系有機溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、メチルエチルケトン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−ヘキサフルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、ニトロエタン、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等が挙げられ、中でもジクロロメタンであることが好ましい。
【０１３１】
貧溶媒は本発明に係るアルコール系溶媒であり、光学フィルム中に１０〜１０００ｐｐｍ含有されることが、本発明の効果を発現する上で必要である。
【０１３２】
本発明の光学フィルム中に含有される上記アルコール系溶媒の含有量は、いわゆる残留溶媒量であって、フィルム製造後にフィルム中に含有される含有量をいう。当該溶媒量は、後述するヘッドスペースガスクロマトグラフィーにより定量することができるが、その測定はフィルム製造後からフィルム加工前までの期間に測定されたときの値をいう。通常、フィルムは、製造されて巻き取られた後に保護シート等にくるまれて準密閉状態で保管され、加工されるまではその状態であるため、残留溶媒量の変動は小さい。したがって、残留溶媒量の測定はフィルム製造後からフィルム加工前までの期間に測定されたときの値をもって、本願発明の構成であるかを判断することができる。
【０１３３】
残留溶媒量の制御は、溶媒の構成比率、製膜中における乾燥温度、乾燥時間等の乾燥条件、膜厚等で行うことができる。
【０１３４】
本発明の光学フィルム中に含有されるアルコール系溶媒の含有量は、１０〜５００ｐｐｍの範囲内であることが好ましく、２０〜２００ｐｐｍの範囲であることがより好ましい。１０ｐｐｍ以上で本発明の効果を発現し、また溶液流延製膜における金属支持体からの剥離性も向上する。１０００ｐｐｍ以下では、ヘイズと環境安全性の観点から好ましい。
【０１３５】
本発明に係るアルコール系溶媒は、メタノール、エタノール及びブタノールから選択されることが、本発明の効果とともに、剥離性を改善し、高速度流延を可能にする観点から好ましい。中でもエタノールが上記観点から好ましい。
【０１３６】
本発明では、混合溶媒であれば、前記良溶媒を溶媒全体量に対して５５質量％以上を用いることが好ましく、より好ましくは７０質量％以上、更に好ましくは８０質量％以上用いることである。
【０１３７】
また、本発明の光学フィルムは、生産性向上の観点からヒドロキシ基を有するアルコール系溶媒と水とを組み合わせて用いることがより好ましく、前記ドープに水を加えて、残留溶媒量として水を５０〜５００ｐｐｍの範囲内でフィルム中に含有する。
【０１３８】
水は一分子中に水素結合性供与基を複数持つため、フィルムの強度を上げるために好ましく用いることができる。水は全溶媒量に対して０．1〜１質量％含むことが好ましい。０．１質量％以上であれば、他のアルコール系溶媒や水素結合受容性基を含むシクロオレフィン系樹脂やシリカ粒子と相互作用しやすくなるため好ましいが、１質量％以内であれば疎水性の強いシクロオレフィン系樹脂のゲル化を抑制し、異物の発生を抑えることができる。
【０１３９】
＜残留溶媒量＞
溶媒成分として、用いた前記アルコール及び水の残留量は以下の測定方法によって行う。
【０１４０】
一定の形状に切り取った光学フィルムを２０ｍＬの密閉ガラス容器に入れ、１２０℃で２０分間処理したあと、ガスクロマトグラフィー（機器：ＨＰ社 ５８９０ＳＥＲＩＥＳ II、カラム：Ｊ＆Ｗ社 ＤＢ−ＷＡＸ（内径０．３２ｍｍ、長さ３０ｍ）、検出：ＦＩＤ）でＧＣ昇温条件を４０℃で５分間保持したあと、８０℃／分で１００℃まで昇温して求めた。
【０１４１】
シクロオレフィン系樹脂及びヒンダードフェノール系化合物、場合によっては位相差上昇剤、その他の化合物の溶解には、常圧で行う方法、主溶媒の沸点以下で行う方法、主溶媒の沸点以上で加圧して行う方法、特開平９−９５５４４号公報、特開平９−９５５５７号公報、又は特開平９−９５５３８号公報に記載の如き冷却溶解法で行う方法、特開平１１−２１３７９号公報に記載されている高圧で行う方法等種々の溶解方法を用いることができるが、０．８〜４ＭＰａの範囲で行うことが溶解性の観点から好ましい。
【０１４２】
ドープ中のシクロオレフィン系樹脂の濃度は、１０〜４０質量％の範囲であることが好ましい。溶解中又は後のドープに化合物を加えて溶解及び分散した後、濾材で濾過し、脱泡して送液ポンプで次工程に送る。
【０１４３】
ドープの濾過については、好ましくはリーフディスクフィルターを具備する主な濾過器３で、ドープを例えば、９０％捕集粒子径が微粒子の平均粒子径の１０倍〜１００倍の濾材で濾過することが好ましい。
【０１４４】
本発明において、濾過に使用する濾材は、絶対濾過精度が小さい方が好ましいが、絶対濾過精度が小さすぎると、濾過材の目詰まりが発生しやすく、濾材の交換を頻繁に行わなければならず、生産性を低下させるという問題点ある。
【０１４５】
このため、本発明において、シクロオレフィン系樹脂含有ドープに使用する濾材は、絶対濾過精度０．００８ｍｍ以下のものが好ましく、０．００１〜０．００８ｍｍの範囲が、より好ましく、０．００３〜０．００６ｍｍの範囲の濾材がさらに好ましい。
【０１４６】
濾材の材質には、特に制限はなく、通常の濾材を使用することができるが、ポリプロピレン、テフロン（登録商標）等のプラスチック繊維製の濾材やステンレス繊維等の金属製の濾材が繊維の脱落等がなく好ましい。
【０１４７】
本発明において、濾過の際のドープの流量が、１０〜８０ｋｇ／（ｈ・ｍ２）、好ましくは２０〜６０ｋｇ／（ｈ・ｍ２）であることが好ましい。ここで、濾過の際のドープの流量が、１０ｋｇ／（ｈ・ｍ２）以上であれば、効率的な生産性となり、濾過の際のドープの流量が、８０ｋｇ／（ｈ・ｍ２）以内であれば、濾材にかかる圧力が適正となり、濾材を破損させることがなく、好ましい。
【０１４８】
濾圧は、３５００ｋＰａ以下であることが好ましく、３０００ｋＰａ以下が、より好ましく、２５００ｋＰａ以下であることがさらに好ましい。なお、濾圧は、濾過流量と濾過面積を適宜選択することで、コントロールできる。
【０１４９】
多くの場合、主ドープには返材が１０〜５０質量％程度含まれることがある。
【０１５０】
返材とは、例えば、光学フィルムを細かく粉砕した物で、光学フィルムを製膜するときに発生する、フィルムの両サイド部分を切り落とした物や、擦り傷などでフィルムの規定値を越えた光学フィルム原反が使用される。
【０１５１】
また、ドープ調製に用いられる樹脂の原料としては、あらかじめシクロオレフィン系樹脂及びその他の化合物などをペレット化したものも、好ましく用いることができる。
【０１５２】
（２）流延工程
（２．１）ドープの流延
ドープを、送液ポンプ（例えば、加圧型定量ギヤポンプ）を通して加圧ダイ３０に送液し、無限に移送する無端の金属支持体３１、例えば、ステンレスベルト、又は回転する金属ドラム等の金属支持体上の流延位置に、加圧ダイスリットからドープを流延する工程である。
【０１５３】
流延（キャスト）工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルト若しくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。キャストの幅は１〜４ｍの範囲、好ましくは１．３〜３ｍの範囲、さらに好ましくは１．５〜２．８ｍの範囲とすることができる。流延工程の金属支持体の表面温度は−５０℃〜溶剤が沸騰して発泡しない温度以下、さらに好ましくは−３０〜０℃の範囲に設定される。温度が高い方がウェブ（流延用金属支持体上にドープを流延し、形成されたドープ膜をウェブという。）の乾燥速度が速くできるので好ましいが、余り高すぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。好ましい支持体温度としては０〜１００℃で適宜決定され、５〜３０℃の範囲が更に好ましい。または、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。
【０１５４】
金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風又は冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。温風を用いる場合は溶媒の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。特に、流延から剥離するまでの間で支持体の温度及び乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。
【０１５５】
ダイは、ダイの口金部分のスリット形状を調整でき、膜厚を均一にしやすい加圧ダイが好ましい。加圧ダイには、コートハンガーダイやＴダイ等があり、いずれも好ましく用いられる。金属支持体の表面は鏡面となっている。製膜速度を上げるために加圧ダイを金属支持体上に２基以上設け、ドープ量を分割して積層してもよい。
【０１５６】
（２．２）溶媒蒸発工程
ウェブを流延用金属支持体上で加熱し、溶媒を蒸発させる工程であり、後述する剥離時の残留溶媒量を制御する工程である。
【０１５７】
溶媒を蒸発させるには、ウェブ側から風を吹かせる方法又は支持体の裏面から液体により伝熱させる方法、輻射熱により表裏から伝熱する方法等があるが、裏面液体伝熱方法が、乾燥効率が良く好ましい。また、それらを組み合わせる方法も好ましく用いられる。流延後の支持体上のウェブを３０〜１００℃の雰囲気下、支持体上で乾燥させることが好ましい。３０〜１００℃の雰囲気下に維持するには、この温度の温風をウェブ上面に当てるか赤外線等の手段により加熱することが好ましい。
【０１５８】
面品質、透湿性、剥離性の観点から、３０〜１８０秒以内で当該ウェブを支持体から剥離することが好ましい。
【０１５９】
（２．３）剥離工程
金属支持体上で溶媒が蒸発したウェブを、剥離位置で剥離する工程である。剥離されたウェブはフィルムとして次工程に送られる。
【０１６０】
金属支持体上の剥離位置における温度は好ましくは１０〜４０℃の範囲であり、さらに好ましくは１１〜３０℃の範囲である。
【０１６１】
本発明では、前記溶媒蒸発工程でウェブ中の溶媒を蒸発するが、剥離する時点での金属支持体上でのウェブの残留溶媒量は、１５〜１００質量％の範囲内とすることが好ましい。残留溶媒量の制御は、前記溶媒蒸発工程における乾燥温度及び乾燥時間で行うことが好ましい。
【０１６２】
前記残留溶媒量が１５質量％以上であると、支持体上での乾燥過程において、シリカ粒子が厚さ方向に分布を持たずフィルム中に均一に分散した状態になるため、好ましい。
【０１６３】
また、前記残留溶媒量が１００質量％以内であれば、フィルムが自己支持性を有し、フィルムの剥離不良を回避でき、ウェブの機械的強度も保持できることから剥離時の平面性が向上し、剥離張力によるツレや縦スジの発生を抑制できる。
【０１６４】
ウェブ又はフィルムの残留溶媒量は下記式（Ｚ）で定義される。
【０１６５】
式（Ｚ）
残留溶媒量（％）＝（ウェブ又はフィルムの加熱処理前質量−ウェブ又はフィルムの加熱処理後質量）／（ウェブ又はフィルムの加熱処理後質量）×１００
なお、残留溶媒量を測定する際の加熱処理とは、１１５℃で１時間の加熱処理を行うことを表す。
【０１６６】
金属支持体からウェブを剥離してフィルムとする際の剥離張力は、通常、１９６〜２４５Ｎ／ｍの範囲内であるが、剥離の際に皺が入りやすい場合、１９０Ｎ／ｍ以下の張力で剥離することが好ましい。
【０１６７】
本発明においては、当該金属支持体上の剥離位置における温度を−５０〜４０℃の範囲内とするのが好ましく、１０〜４０℃の範囲内がより好ましく、１５〜３０℃の範囲内とするのが最も好ましい。
【０１６８】
（３）乾燥及び延伸工程
乾燥工程は予備乾燥工程、本乾燥工程に分けて行うこともできる。
【０１６９】
（３．１）予備乾燥工程
金属支持体からウェブ剥離して得られたフィルムは、予備乾燥させる。フィルムの予備乾燥は、フィルムを、上下に配置した多数のローラーにより搬送しながら乾燥させてもよいし、テンター乾燥機のようにフィルムの両端部をクリップで固定して搬送しながら乾燥させてもよい。
【０１７０】
ウェブを乾燥させる手段は特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ローラー、マイクロ波等で行うことができるが、簡便さの点で、熱風で行うことが好ましい。
【０１７１】
ウェブの予備乾燥工程における乾燥温度は好ましくはフィルムのガラス転移点−５℃以下であって、３０℃以上の温度で１分以上３０分以下の熱処理を行うことが効果的である。乾燥温度は４０〜１５０℃の範囲内、更に好ましくは５０〜１００℃の範囲内で乾燥が行われる。
【０１７２】
（３．２）延伸工程
本発明の光学フィルムは、延伸装置３４にて残留溶媒量下で延伸処理を行うことで、フィルム中の樹脂にシリカ粒子を均一に分散させたり、フィルムの平面性を向上したり、フィルム内の分子の配向を制御することで、所望の位相差値Ｒｏ及びＲｔを得ることができる。
【０１７３】
本発明の光学フィルムの製造方法は、当該フィルムを延伸する工程において、延伸開始時の残留溶媒量を１質量％以上１５質量％未満とすることが好ましい。より好ましくは２〜１０質量％の範囲内であり、前記残留溶媒量の範囲であると、延伸時に不均一な応力がフィルムにかかることを回避することができる。
【０１７４】
本発明の光学フィルムは、長手方向（ＭＤ方向、流延方向ともいう。）及び／又は幅手方向（ＴＤ方向ともいう。）、及び／又は斜め方向に延伸することが好ましく、少なくとも延伸装置によって、幅手方向に延伸して製造することが好ましい。
【０１７５】
延伸操作は多段階に分割して実施してもよい。また、二軸延伸を行う場合には同時二軸延伸を行ってもよいし、段階的に実施してもよい。この場合、段階的とは、例えば、延伸方向の異なる延伸を順次行うことも可能であるし、同一方向の延伸を多段階に分割し、かつ異なる方向の延伸をそのいずれかの段階に加えることも可能である。
【０１７６】
すなわち、例えば、次のような延伸ステップも可能である：
・長手方向に延伸→幅手方向に延伸→長手方向に延伸→長手方向に延伸
・幅手方向に延伸→幅手方向に延伸→長手方向に延伸→長手方向に延伸
・幅手方向に延伸→斜め方向に延伸
また、同時二軸延伸には、一方向に延伸し、もう一方を、張力を緩和して収縮させる場合も含まれる。
【０１７７】
本発明の光学フィルムは、延伸後の膜厚が所望の範囲になるように長手方向及び／又は幅手方向に、好ましくは幅手方向に、フィルムのガラス転移温度をＴｇとしたときに、（Ｔｇ＋５）〜（Ｔｇ＋５０）℃の温度範囲で延伸することが好ましい。上記温度範囲で延伸すると、位相差の調整がしやすく、また延伸応力を低下できるのでヘイズが低くなる。また、破断の発生を抑制し、平面性、フィルム自身の着色性に優れた光学フィルムが得られる。延伸温度は、（Ｔｇ＋１０）〜（Ｔｇ＋４０）℃の範囲で行うことが好ましい。
【０１７８】
なお、ここでいうガラス転移温度Ｔｇとは、市販の示差走査熱量測定器を用いて、昇温速度２０℃／分で測定し、ＪＩＳ  Ｋ７１２１（１９８７）に従い求めた中間点ガラス転移温度（Ｔｍｇ）である。具体的な光学フィルムのガラス転移温度Ｔｇの測定方法は、ＪＩＳ  Ｋ７１２１（１９８７）に従って、セイコーインスツル（株）製の示差走査熱量計ＤＳＣ２２０を用いて測定する。
【０１７９】
本発明の光学フィルムは、フィルムを少なくとも幅手方向に、元幅に対して５〜４０％の範囲内の延伸率で延伸することが好ましく、さらにフィルムの長手方向及び幅手方向において、それぞれ５〜４０％の範囲内の延伸率で延伸することがより好ましい。特に当該延伸率の範囲は、元幅に対して１０〜３０％の範囲内で延伸することがさらに好ましい。上記範囲内であれば、特に位相差上昇剤を含む場合は所望の位相差値が得られるばかりではなく、フィルムを薄膜化できる。本発明でいう延伸率とは、延伸前のフィルムの長手又は幅手の長さに対して、延伸後のフィルムの長手又は幅手の長さの比率（％）をいう。
【０１８０】
長手方向に延伸する方法には特に限定はない。例えば、複数のロールに周速差をつけ、その間でロール周速差を利用して縦方向に延伸する方法、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を進行方向に広げて縦方向に延伸する方法、又は縦横同時に広げて縦横両方向に延伸する方法などが挙げられる。もちろんこれ等の方法は、組み合わせて用いてもよい。
【０１８１】
幅手方向に延伸するには、例えば、特開昭６２−４６６２５号公報に示されているような乾燥全工程又は一部の工程を幅方向にクリップ又はピンでウェブの幅両端を幅保持しつつ乾燥させる方法（テンター方式と呼ばれる）、中でもクリップを用いるテンター方式、ピンを用いるピンテンター方式が好ましく用いられる。
【０１８２】
幅手方向への延伸に際し、フィルム幅手方向に２５０〜５００％／ｍｉｎの延伸速度で延伸することが、フィルムの平面性を向上する観点から、好ましい。
【０１８３】
延伸速度は２５０％／ｍｉｎ以上であれば、平面性が向上し、またフィルムを高速で処理することができるため、生産適性の観点で好ましく、５００％／ｍｉｎ以内であれば、フィルムが破断することなく処理することができ、好ましい。
【０１８４】
好ましい延伸速度は、３００〜４００％／ｍｉｎの範囲内であり、低倍率の延伸時に有効である。延伸速度は下記式１によって定義されるものである。
【０１８５】
式１  延伸速度（％／ｍｉｎ）＝［（ｄ１／ｄ２）−１］×１００（％）／ｔ
（式１において、ｄ１は延伸後の本発明の光学フィルムの前記延伸方向の幅寸法であり、ｄ２は延伸前の光学フィルムの前記延伸方向の幅寸法であり、ｔは延伸に要する時間（ｍｉｎ）である。）
本発明の光学フィルムは、延伸することにより所望の位相差値を付与することができる。
【０１８６】
本発明の光学フィルムの膜厚は５μｍ≦ｄ≦４０μｍであり、測定波長５９０ｎｍにおける面内位相差Ｒｏと厚さ方向の位相差ＲｔがそれぞれＲｏ≦５ｎｍ、−１５ｎｍ≦Ｒｔ≦１５ｎｍであることが、偏光板保護フィルムとして用いる際に、軽量で薄膜な偏光板を提供することができ、またＩＰＳモード型液晶表示装置用の偏光板として最適な位相差を付与できる観点から、好ましい。
【０１８７】
面内位相差値Ｒｏ、及び厚さ方向の位相差値Ｒｔは自動複屈折率計アクソスキャン（Ａｘｏ  Ｓｃａｎ  Ｍｕｅｌｌｅｒ  Ｍａｔｒｉｘ  Ｐｏｌａｒｉｍｅｔｅｒ：アクソメトリックス社製）を用いて、２３℃・５５％ＲＨの環境下、５９０ｎｍの波長において、三次元屈折率測定を行い、得られた屈折率ｎｘ、ｎｙ、ｎｚから算出することができる。
【０１８８】
式（ｉ）：Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（ｎｍ）
式（ii）：Ｒｔ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ（ｎｍ）
〔式（ｉ）及び式（ii）において、ｎｘは、フィルムの面内方向において屈折率が最大になる方向ｘにおける屈折率を表す。ｎｙは、フィルムの面内方向において、前記方向ｘと直交する方向ｙにおける屈折率を表す。ｎｚは、フィルムの厚さ方向ｚにおける屈折率を表す。ｄは、フィルムの厚さ（ｎｍ）を表す。〕
延伸工程では、通常、延伸した後、保持・緩和が行われる。すなわち、本工程は、フィルムを延伸する延伸段階、フィルムを延伸状態で保持する保持段階及びフィルムを延伸した方向に緩和する緩和段階をこれらの順序で行うことが好ましい。保持段階では、延伸段階で達成された延伸率での延伸を、延伸段階における延伸温度で保持する。緩和段階では、延伸段階における延伸を保持段階で保持した後、延伸のための張力を解除することによって、延伸を緩和する。緩和段階は、延伸段階における延伸温度以下で行えば良い。
【０１８９】
（３．３）乾燥工程
乾燥工程では、乾燥装置３５によって延伸後のフィルムを加熱して乾燥させる。
【０１９０】
光学フィルム中に含有する有機溶媒量を調整するのに、乾燥工程の条件を適宜調整して行うことが好ましい。
【０１９１】
熱風等によりフィルムを加熱する場合、使用済みの熱風（溶媒を含んだエアーや濡れ込みエアー）を排気できるノズルを設置して、使用済み熱風の混入を防ぐ手段も好ましく用いられる。熱風温度は、４０〜３５０℃の範囲がより好ましい。また、乾燥時間は５秒〜６０分程度が好ましく、１０秒〜３０分がより好ましい。
【０１９２】
また、加熱乾燥手段は熱風に制限されず、例えば、赤外線、加熱ローラー、マイクロ波等を用いることができる。簡便さの観点からは、千鳥状に配置した搬送ローラー３６でフィルムを搬送しながら、熱風等で乾燥を行うことが好ましい。乾燥温度は残留溶媒量、搬送における伸縮率等を考慮して、４０〜３５０℃の範囲がより好ましい。
【０１９３】
乾燥工程においては、残留溶媒量が一般的には０．５質量％以下になるまで、フィルムを乾燥することが好ましい。
【０１９４】
（４）巻取り工程
（４．１）ナーリング加工
所定の熱処理又は冷却処理の後、巻取り前にスリッターを設けて端部を切り落とすことが良好な巻姿を得るため好ましい。更に、幅手両端部にはナーリング加工をすることが好ましい。
【０１９５】
ナーリング加工は、加熱されたエンボスローラーをフィルム幅手端部に押し当てることにより形成することができる。エンボスローラーには細かな凹凸が形成されており、これを押し当てることでフィルムに凹凸を形成し、端部を嵩高くすることができる。
【０１９６】
本発明の光学フィルムの幅手両端部のナーリングの高さは４〜２０μｍの範囲、幅５〜２０ｍｍの範囲が好ましい。
【０１９７】
（４．２）
良好な巻姿を得る別の手段として、巻き取る前に、フィルム同士のブロッキングを防止する目的で、マスキングフィルム（プロテクトフィルムともいう。）を重ねて同時に巻き取ってもよいし、延伸フィルムの少なくとも一方、好ましくは両方の端にテープ等を張り合わせながら巻き取ってもよい。マスキングフィルムとしては、上記フィルムを保護することができるものであれば特に制限されず、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルムなどが挙げられる。
【０１９８】
また、本発明においては、上記のナーリング加工は、フィルムの製膜工程において乾燥終了後、巻取りの前に設けることが好ましい。
【０１９９】
（４．３）巻取り工程
フィルム中の残留溶媒量が２質量％以下となってからフィルムとして巻取る工程であり、残留溶媒量を好ましくは１質量％以下にすることにより寸法安定性の良好なフィルムを得ることができる。
【０２００】
巻取り方法は、一般に使用されているものを用いればよく、定トルク法、定テンション法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法等があり、それらを使い分ければよい。
【０２０１】
〔６〕光学フィルムの物性
〈ヘイズ〉
本発明の光学フィルムは、ヘイズが１％未満であることが好ましく、０．５％未満であることがより好ましい。ヘイズを１％未満とすることにより、フィルムの透明性がより高くなり、光学用途のフィルムとしてより用いやすくなるという利点がある。本発明の光学フィルムは、均一な粒子径を有するシリカ粒子が分散しているため、粒子による光散乱の程度が低く、透明性に優れる。
【０２０２】
ヘイズ値の測定は、２３℃・５０％ＲＨの環境下、ヘイズメーター（日本電色工業社製、ＮＤＨ２０００）により、フィルムの幅手方向に等間隔で１０点の測定を行い、その平均値を求めヘイズとする。
【０２０３】
〈平衡含水率〉
本発明の光学フィルムは、２５℃、相対湿度６０％における平衡含水率が４％以下であることが好ましく、３％以下であることがより好ましい。平衡含水率を４％以下とすることにより、湿度変化に対応しやすく、光学特性や寸法がより変化しにくく好ましい。
【０２０４】
平衡含水率は、試料フィルムを２３℃・２０％ＲＨに調湿された部屋に４時間以上放置した後、２３℃・８０％ＲＨに調湿された部屋に２４時間放置し、サンプルを微量水分計（例えば、三菱化学アナリテック（株）製、ＣＡ−２０型）を用いて、温度１５０℃で水分を乾燥・気化させた後、カールフィッシャー法により定量する。
【０２０５】
〈フィルム長、幅、膜厚〉
本発明の光学フィルムは、長尺であることが好ましく、具体的には、１００〜１００００ｍ程度の長さであることが好ましく、ロール状に巻き取られる。また、本発明の光学フィルムの幅は１ｍ以上であることが好ましく、更に好ましくは１．３ｍ以上であり、特に１．３〜４ｍであることが好ましい。
【０２０６】
延伸後のフィルムの膜厚は、表示装置の薄型化、生産性の観点から、５〜４０μｍの範囲内であることが好ましい。膜厚が５μｍ以上であれば、一定以上のフィルム強度や位相差を発現させることができる。膜厚が４０μｍ以下であれば、所望の位相差を具備し、かつ偏光板及び表示装置の薄型化に適用できる。好ましくは、フィルムの膜厚は１０〜３０μｍの範囲内である。
【０２０７】
〔７〕光学フィルムの応用
本発明の光学フィルムは、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置等の各種表示装置やタッチパネルに用いられる機能フィルムであることが好ましい。具体的には、本発明の光学フィルムは、液晶表示装置又は有機ＥＬ表示装置用の偏光板保護フィルム、位相差フィルム、反射防止フィルム、輝度向上フィルム、ハードコートフィルム、防眩フィルム、帯電防止フィルム、視野角拡大等の光学補償フィルムなどでありうる。典型的には、本発明の光学フィルムは、偏光板保護フィルムである。本発明の光学フィルムは、前記位相差フィルムを兼ねる偏光板保護フィルムとして用いることもできる。
【０２０８】
〔７．１〕偏光板
〔７．１．１〕偏光子
偏光子は、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、その例には、ポリビニルアルコール系偏光フィルムが含まれる。
【０２０９】
ポリビニルアルコール系偏光フィルムには、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと、二色性染料を染色させたものとがある。
【０２１０】
偏光子は、ポリビニルアルコールフィルムを一軸延伸した後、染色するか又はポリビニルアルコールフィルムを染色した後、一軸延伸して、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理をさらに行って得ることができる。
【０２１１】
偏光子の膜厚は、５〜３０μｍの範囲内が好ましく、５〜１５μｍの範囲内であることがより好ましい。
【０２１２】
ポリビニルアルコールフィルムとしては、特開２００３−２４８１２３号公報、特開２００３−３４２３２２号公報等に記載のエチレン単位の含有量１〜４モル％、重合度２０００〜４０００、ケン化度９９．０〜９９．９９モル％のエチレン変性ポリビニルアルコールが好ましく用いられる。また、特開２０１１−１００１６１号公報、特許第４６９１２０５号公報、特許第４８０４５８９号公報に記載の方法で、偏光子を作製し本発明の光学と貼り合わせて偏光板を作製することが好ましい。
【０２１３】
〔７．１．２〕接着剤
［水糊］
本発明に用いられる偏光板は、本発明の光学フィルムを完全ケン化型ポリビニルアルコール水溶液（水糊）を用いて偏光子に貼り合わせることが好ましい。もう一方の面には他の偏光板保護フィルムを貼合することができる。本発明の光学フィルムは液晶表示装置とされた際に、偏光子の液晶セル側に設けられることが好ましく、偏光子の外側のフィルムは、本発明の光学フィルム、及び従来の偏光板保護フィルムのどちらでも用いることができる。
【０２１４】
例えば、従来の偏光板保護フィルムとしては、市販のセルロースエステルフィルム（例えば、コニカミノルタタック  ＫＣ８ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ８ＵＣＲ４、ＫＣ８ＵＣＲ５、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ６ＵＹ、ＫＣ６ＵＡ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ４ＵＥ、ＫＣ８ＵＥ、ＫＣ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＣ８ＵＸ−ＲＨＡ、ＫＣ８ＵＸＷ−ＲＨＡ−Ｃ、ＫＣ８ＵＸＷ−ＲＨＡ−ＮＣ、ＫＣ４ＵＸＷ−ＲＨＡ−ＮＣ、以上コニカミノルタ（株）製）が好ましく用いられる。
【０２１５】
［活性エネルギー線硬化性接着剤］
また、本発明に用いられる偏光板においては、本発明の光学フィルムと偏光子とが、活性エネルギー線硬化性接着剤により貼合されていることが好ましい。
【０２１６】
活性エネルギー線硬化性接着剤は、下記紫外線硬化型接着剤を用いることが好ましい。
【０２１７】
本発明においては、光学フィルムと偏光子との貼合に紫外線硬化型接着剤を適用することにより、薄膜でも強度が高く、平面性に優れた偏光板を得ることができる。
【０２１８】
〈紫外線硬化型接着剤の組成〉
偏光板用の紫外線硬化型接着剤組成物としては、光ラジカル重合を利用した光ラジカル重合型組成物、光カチオン重合を利用した光カチオン重合型組成物、並びに光ラジカル重合及び光カチオン重合を併用したハイブリッド型組成物が知られている。
【０２１９】
光ラジカル重合型組成物としては、特開２００８−００９３２９号公報に記載のヒドロキシ基やカルボキシ基等の極性基を含有するラジカル重合性化合物及び極性基を含有しないラジカル重合性化合物を特定割合で含む組成物）等が知られている。特に、ラジカル重合性化合物は、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物であることが好ましい。ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物の好ましい例には、（メタ）アクリロイル基を有する化合物が含まれる。（メタ）アクリロイル基を有する化合物の例には、Ｎ置換（メタ）アクリルアミド系化合物、（メタ）アクリレート系化合物などが含まれる。（メタ）アクリルアミドは、アクリアミド又はメタクリアミドを意味する。
【０２２０】
また、光カチオン重合型組成物としては、特開２０１１−０２８２３４号公報に開示されているような、（α）カチオン重合性化合物、（β）光カチオン重合開始剤、（γ）３８０ｎｍより長い波長の光に極大吸収を示す光増感剤、及び（δ）ナフタレン系光増感助剤の各成分を含有する紫外線硬化型接着剤組成物が挙げられる。ただし、これ以外の紫外線硬化型接着剤が用いられてもよい。
【０２２１】
（１）前処理工程
前処理工程は、光学フィルムの偏光子との接着面に易接着処理を行う工程である。易接着処理としては、コロナ処理、プラズマ処理等が挙げられる。
【０２２２】
（紫外線硬化型接着剤の塗布工程）
紫外線硬化型接着剤の塗布工程としては、偏光子と光学フィルムとの接着面のうち少なくとも一方に、上記紫外線硬化型接着剤を塗布する。偏光子又は光学フィルムの表面に直接、紫外線硬化型接着剤を塗布する場合、その塗布方法に特段の限定はない。例えば、ドクターブレード、ワイヤーバー、ダイコーター、カンマコーター、グラビアコーター等、種々の湿式塗布方式が利用できる。また、偏光子と光学フィルムの間に、紫外線硬化型接着剤を流延させたのち、ローラー等で加圧して均一に押し広げる方法も利用できる。
【０２２３】
（２）貼合工程
上記の方法により紫外線硬化型接着剤を塗布した後は、貼合工程で処理される。この貼合工程では、例えば、先の塗布工程で偏光子の表面に紫外線硬化型接着剤を塗布した場合、そこに光学フィルムが重ね合わされる。また、はじめに光学フィルムの表面に紫外線硬化型接着剤を塗布する方式の場合には、そこに偏光子が重ね合わされる。また、偏光子と光学フィルムの間に紫外線硬化型接着剤を流延させた場合は、その状態で偏光子と光学フィルムとが重ね合わされる。そして、通常は、この状態で両面の光学フィルム側から加圧ローラー等で挟んで加圧することになる。加圧ローラーの材質は、金属やゴム等を用いることが可能である。両面に配置される加圧ローラーは、同じ材質であってもよいし、異なる材質であってもよい。
【０２２４】
（３）硬化工程
硬化工程では、未硬化の紫外線硬化型接着剤に紫外線を照射して、カチオン重合性化合物（例えば、エポキシ化合物やオキセタン化合物）やラジカル重合性化合物（例えば、アクリレート系化合物、アクリルアミド系化合物等）を含む紫外線硬化型接着剤層を硬化させ、紫外線硬化型接着剤を介して重ね合わせた偏光子と光学フィルムを接着させる。偏光子の片面に光学フィルムを貼合する場合、活性エネルギー線は、偏光子側又は光学フィルム側のいずれから照射してもよい。また、偏光子の両面に光学フィルムを貼合する場合、偏光子の両面にそれぞれ紫外線硬化型接着剤を介して光学フィルムを重ね合わせた状態で、紫外線を照射し、両面の紫外線硬化型接着剤を同時に硬化させるのが有利である。
【０２２５】
紫外線の照射条件は、本発明に適用する紫外線硬化型接着剤を硬化しうる条件であれば、任意の適切な条件を採用できる。紫外線の照射量は積算光量で５０〜１５００ｍＪ／ｃｍ２の範囲であることが好ましく、１００〜５００ｍＪ／ｃｍ２の範囲であるのがさらに好ましい。
【０２２６】
偏光板の製造工程を連続ラインで行う場合、ライン速度は、接着剤の硬化時間によるが、好ましくは１〜５００ｍ／ｍｉｎの範囲、より好ましくは５〜３００ｍ／ｍｉｎの範囲、さらに好ましくは１０〜１００ｍ／ｍｉｎの範囲である。ライン速度が１ｍ／ｍｉｎ以上であれば、生産性を確保することができ、又は光学フィルムへのダメージを抑制することができ、耐久性に優れた偏光板を作製することができる。また、ライン速度が５００ｍ／ｍｉｎ以下であれば、紫外線硬化型接着剤の硬化が十分となり、目的とする硬度を備え、接着性に優れた紫外線硬化型接着剤層を形成することができる。
【０２２７】
〔７．１．３〕保護フィルム
偏光子の本発明の光学フィルムとは反対側に配置されるフィルムは、偏光子の保護フィルムとして機能するフィルムであることが好ましい。
【０２２８】
このような保護フィルムとしては、本発明の光学フィルムを用いてもよいが、例えば、市販のセルロースエステルフィルム（例えば、コニカミノルタタックＫＣ８ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ４ＳＲ、ＫＣ４ＢＲ、ＫＣ４ＣＲ、ＫＣ４ＤＲ、ＫＣ４ＦＲ、ＫＣ４ＫＲ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ６ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ４ＵＥ、ＫＣ８ＵＥ、ＫＣ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＣ２ＵＡ、ＫＣ４ＵＡ、ＫＣ６ＵＡＫＣ、２ＵＡＨ、ＫＣ４ＵＡＨ、ＫＣ６ＵＡＨ、以上コニカミノルタ（株）製、フジタックＴ４０ＵＺ、フジタックＴ６０ＵＺ、フジタックＴ８０ＵＺ、フジタックＴＤ８０ＵＬ、フジタックＴＤ６０ＵＬ、フジタックＴＤ４０ＵＬ、フジタックＲ０２、フジタックＲ０６、以上富士フイルム（株）製）も好ましく用いることができる。
【０２２９】
また、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート等の樹脂フィルム、脂環式ポリオレフィン（例えば、日本ゼオン株式会社製、ゼオノア（登録商標）、ポリアリレート、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、シクロオレフィンコポリマー、ポリイミド（例えば、三菱ガス化学株式会社製、ネオプリム（登録商標））、フルオレン環変性ポリカーボネート、脂環変性ポリカーボネート、アクリロイル化合物等の樹脂フィルムが挙げられる（括弧内はガラス転移温度Ｔｇを示す。）。これら樹脂基材のうち、コストや入手の容易性の点では、ポリエチレンテレフタレート（略称：ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート（略称：ＰＥＮ）、ポリカーボネート（略称：ＰＣ）等のフィルムが保護フィルムとして好ましく用いられる。
【０２３０】
上記保護フィルムの厚さは、特に制限されないが、１０〜２００μｍ程度とすることができ、好ましくは１０〜１００μｍの範囲内であり、より好ましくは１０〜７０μｍの範囲内である。
【０２３１】
〔７．２〕液晶表示装置
上記本発明の光学フィルムを貼合した偏光板を液晶表示装置に用いることによって、種々の視認性に優れた本発明に用いられる液晶表示装置を作製することができる。
【０２３２】
また、本発明の光学フィルムは、多角形や曲線を持つディスプレイ用途の偏光板に好ましく使用され、フリーフォームで打ち抜きを行った際に端面にササクレや割れ等のクラックが生じたり、切断による切粉が生じやすいという、従来の問題を解決することができる。
【０２３３】
本発明に用いられる偏光板は、ＳＴＮ、ＴＮ、ＯＣＢ、ＨＡＮ、ＶＡ（ＭＶＡ、ＰＶＡ）、ＩＰＳ、ＯＣＢなどの各種駆動方式の液晶表示装置に用いることができる。好ましくはＶＡ（ＭＶＡ，ＰＶＡ）型液晶表示装置及びＩＰＳ型液晶表示装置である。
【０２３４】
液晶表示装置には、通常視認側の偏光板とバックライト側の偏光板の２枚の偏光板が用いられるが、本発明に用いられる偏光板を両方の偏光板として用いることも好ましく、片側の偏光板として用いることも好ましい。特に本発明に用いられる偏光板は外部環境に直接触れる視認側の偏光板として用いることが好ましく、本発明の光学フィルムが保護フィルムである場合は視認側表面、又は本発明の光学フィルムが光学補償フィルムである場合は、液晶セル側に配置されることが好ましい。ＩＰＳ型液晶表示装置の光学補償フィルムとして用いる場合には、液晶セルの両側に配置されることが好ましい。
【０２３５】
また、バックライト側の偏光板は本発明以外の偏光板を用いることもでき、その場合は偏光子の両面を、例えば、市販のセルロースエステルフィルム（例えば、コニカミノルタタックＫＣ８ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ４ＳＲ、ＫＣ４ＢＲ、ＫＣ４ＣＲ、ＫＣ４ＤＲ、ＫＣ４ＦＲ、ＫＣ４ＫＲ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ６ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ４ＵＥ、ＫＣ８ＵＥ、ＫＣ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＣ２ＵＡ、ＫＣ４ＵＡ、ＫＣ６ＵＡ、ＫＣ２ＵＡＨ、ＫＣ４ＵＡＨ、ＫＣ６ＵＡＨ、以上コニカミノルタ（株）製、フジタックＴ４０ＵＺ、フジタックＴ６０ＵＺ、フジタックＴ８０ＵＺ、フジタックＴＤ８０ＵＬ、フジタックＴＤ６０ＵＬ、フジタックＴＤ４０ＵＬ、フジタックＲ０２、フジタックＲ０６、以上富士フイルム（株）製等）を貼合した偏光板が好ましく用いられる。
【０２３６】
また、バックライト側の偏光板として、偏光子の液晶セル側に本発明の光学フィルムを用い、反対側の面に上記市販の保護フィルムや位相差フィルム、ポリエステルフィルム、アクリルフィルム、ポリカーボネートフィルム、又は他のシクロオレフィンフィルムを貼合した偏光板も好ましく用いることができる。
【０２３７】
本発明に用いられる偏光板を用いることで、特に画面が３０型以上の大画面の液晶表示装置であっても、表示ムラ、正面コントラストなど視認性に優れた液晶表示装置を得ることができる。
【０２３８】
〔７．３〕有機エレクトロルミネッセンス表示装置
本発明のシクロオレフィン系樹脂を用いた光学フィルムは滑り性が良好であるため加工適性が高く、例えば、曲面形状を有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置にも好適である。
【０２３９】
本発明に用いられる有機エレクトロルミネッセンス表示装置に適用可能な有機ＥＬ素子の概要については、例えば、特開２０１３−１５７６３４号公報、特開２０１３−１６８５５２号公報、特開２０１３−１７７３６１号公報、特開２０１３−１８７２１１号公報、特開２０１３−１９１６４４号公報、特開２０１３−１９１８０４号公報、特開２０１３−２２５６７８号公報、特開２０１３−２３５９９４号公報、特開２０１３−２４３２３４号公報、特開２０１３−２４３２３６号公報、特開２０１３−２４２３６６号公報、特開２０１３−２４３３７１号公報、特開２０１３−２４５１７９号公報、特開２０１４−００３２４９号公報、特開２０１４−００３２９９号公報、特開２０１４−０１３９１０号公報、特開２０１４−０１７４９３号公報、特開２０１４−０１７４９４号公報等に記載されている構成を挙げることができる。
【実施例】
【０２４０】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」又は「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」又は「質量％」を表す。
【０２４１】
＜光学フィルム１０１の作製＞
（シクロオレフィン系樹脂Ｐの合成）
８−メチル−８−メトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン（ＤＮＭ）７５質量％、ジシクロペンタジエン（ＤＣＰ）２４質量％、２−ノルボルネン１質量％、分子量調節剤の１−ヘキセン９部及びトルエン２００部を、窒素置換した反応容器に仕込んで１１０℃に加熱した。これにトリエチルアルミニウム０．００５部、メタノール変性ＷＣｌ６（無水メタノール：ＰｈＰＯＣｌ２ ：ＷＣｌ６＝１０３：６３０：４２７質量比）０．００５部を加え１時間反応させることにより重合体を得た。得られた重合体の溶液をオートクレーブに入れ、さらにトルエンを２００部加えた。次に、水素添加触媒であるＲｕＨＣｌ（ＣＯ）［Ｐ（Ｃ６Ｈ５）］３を０．００６部添加し、９０℃まで加熱した後、水素ガスを反応器へ投入し、圧力を１０ＭＰａとした。その後、圧力を１０ＭＰａに保ったまま、１６５℃、３時間の反応を行った。反応終了後、多量のメタノール溶液に沈殿させ、更に沈殿物をトルエン及びメタノールを用いて再沈殿精製して共重合体Ｐを得た。
【０２４２】
共重合体Ｐは、ゲルパーミエ−ションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）測定による重量平均分子量（Ｍｗ）＝７．２×１０４、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）＝３．３、固有粘度（ηｉｎｈ）＝０．５９、ガラス転移温度（Ｔｇ）＝１４３℃であった。なお、１３ＣＮＭＲ測定により共重合体Ｐのメトキシカルボニル基添加率を求めたところ、メトキシカルボニル基を有する単量体が７５質量％添加されていることが確認された。上記で得られた共重合体Ｐは水素結合受容性基としてメトキシカルボニル基を有する単量体を７５質量％保有するシクロオレフィン樹脂Ｐである。
【０２４３】
（微粒子分散液の調製）
シリカ微粒子（アエロジルＲ８１２  日本アエロジル（株）製）    １１質量％
ジクロロメタン                                                ８９質量％
以上をディゾルバーで５０分間撹拌混合した後、マントンゴーリン分散機を用いて分散を行い、微粒子分散液を調製した。 
（微粒子添加液１の調製）
溶解タンクにジクロロメタンを入れ、ジクロロメタンを十分に撹拌しながら上記調製した微粒子分散液を５０質量％となるようにゆっくりと添加した。更に、二次粒子の粒径が、所定の大きさとなるようにアトライターにて分散を行った。これを日本精線（株）製のファインメットＮＦで濾過して、微粒子添加液１を調製した。
（ドープＡの調製）
エタノールの入った加圧溶解タンクに、上記合成したシクロオレフィン樹脂Ｐを撹拌しながら投入した。次いで、微粒子添加液を表１に記載の添加量になるように添加した後、表１に記載の溶解温度で３時間加熱し、撹拌しながら、完全に溶解した。その後、安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過し、ドープＡを調製した。ドープＡの組成を下記に示す。
【０２４４】
シクロオレフィン樹脂Ｐ                                  １００．０質量％
ジクロロメタン                                          ２９０．０質量％
微粒子添加液                                              ２７．３質量％
ヒンダードフェノール系化合物（凝集防止剤Ａ）                ０．１質量％
バンド流延装置を用い、前記調製したドープＡをステンレス製の流延支持体（支持体温度２２℃）に流延した。ドープＡ中の残留溶媒量が略２０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンターで把持し、残留溶媒量が１０質量％の状態で、１２５℃の温度下で幅方向に１．０１倍（１％）延伸しつつ乾燥した。その後、９０℃の熱処理装置のロール間を３０分かけて搬送することによりさらに乾燥させ、光学フィルム１０１を作製した。厚さは１５μｍ、幅は１４９２ｍｍであった。
【０２４５】
ヒンダードフェノール系化合物（凝集防止剤Ａ）は、ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６（ＢＳＦジャパン（株）製）を用いた。
【０２４６】
＜光学フィルム１０２の作製＞
（微粒子分散液の調製）
シリカ微粒子（アエロジルＲ８１２：トリメチルシラン処理品  日本アエロジル（株）製）                                                            １１質量％
エタノール                                                    ８９質量％
以上をディゾルバーで５０分間撹拌混合した後、マントンゴーリン分散機を用いて分散を行い、微粒子分散液を調製した。 
（微粒子添加液１の調製）
溶解タンクにジクロロメタンを入れ、ジクロロメタンを十分に撹拌しながら上記調製した微粒子分散液を５０質量％となるようにゆっくりと添加した。更に、二次粒子の粒径が、所定の大きさとなるようにアトライターにて分散を行った。これを日本精線（株）製のファインメットＮＦで濾過して、微粒子添加液１を調製した。
【０２４７】
（ドープＢの調製）
エタノールの入った加圧溶解タンクに、上記合成したシクロオレフィン樹脂Ｐを撹拌しながら投入した。次いで、微粒子添加液を表１に記載の添加量になるように添加した後、表１に記載の溶解温度で３時間加熱し、撹拌しながら、完全に溶解した。その後、安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過し、ドープＢを調製した。ドープＢの組成を下記に示す。
【０２４８】
シクロオレフィン樹脂Ｐ                                  １００．０質量％
ジクロロメタン                                          ２９０．０質量％
エタノール                                                １０．０質量％
蒸留水                                                      １．０質量％
微粒子添加液                                              ２７．３質量％
バンド流延装置を用い、前記調製したドープＢをステンレス製の流延支持体（支持体温度２２℃）に流延した。ドープＢ中の残留溶媒量が略２０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンターで把持し、残留溶媒量が１０質量％の状態で、１２５℃の温度下で幅方向に１．０１倍（１％）延伸しつつ乾燥した。その後、９０℃の熱処理装置のロール間を３０分かけて搬送することによりさらに乾燥させ、光学フィルム１０１を作製した。厚さは１５μｍ、幅は１４９２ｍｍであった。
【０２４９】
＜光学フィルム１０３の作製＞
光学フィルム１０２の作製において、下記ドープＣを用いた以外は同様にして光学フィルム１０３を作製した。
【０２５０】
（ドープＣの調製）
エタノールの入った加圧溶解タンクに、上記合成したシクロオレフィン樹脂Ｐを撹拌しながら投入し、次いで表１に記載の溶解温度で３時間加熱し、撹拌しながら完全に溶解した。その後、安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過し、ドープＣを調製した。ドープＣの組成を下記に示す。
【０２５１】
シクロオレフィン樹脂Ｐ                                  １００．０質量％
ジクロロメタン                                          ２９０．０質量％
エタノール                                                １０．０質量％
蒸留水                                                      １．０質量％
ヒンダードフェノール系化合物（凝集防止剤Ａ）                ０．３質量％
＜光学フィルム１０４の作製＞
光学フィルム１０２の作製において、下記ドープＤを用いた以外は同様にして光学フィルム１０４を作製した。
【０２５２】
（ドープＤ）
シクロオレフィン樹脂Ｐ                                １００．０質量％
ジクロロメタン                                          ２９０．０質量％
エタノール                                                １０．０質量％
蒸留水                                                      １．０質量％
微粒子添加液                                              ０．９１質量％
ヒンダードフェノール系化合物（凝集防止剤Ａ）                ０．３質量％
＜光学フィルム１０５〜１０８の作製＞
光学フィルム１０４の作製において、シリカ粒子の添加量を表１に記載のように変化させた以外は同様にして、光学フィルム１０５〜１０８を作製した。
【０２５３】
＜光学フィルム１０９〜１１３の作製＞
光学フィルム１０４の作製において、シリカ粒子の種類を表１に記載のように変化させた以外は同様にして、光学フィルム１０９〜１１３を作製した。
【０２５４】
表中、Ｒ８０５、Ｒ９７６Ｓ、ＲＹ３００、２００Ｖ及びＲ８１２Ｓはいずれも、日本アエロジル株式会社製のアエロジルシリーズの製品である。
【０２５５】
Ｒ８０５：オクチルシラン処理品
Ｒ９７６Ｓ：ジメチルシラン処理品
ＲＹ３００：ジメチルポリシロキサン処理品
２００Ｖ：未処理品
Ｒ８１２Ｓ：トリメチルシラン処理品
＜光学フィルム１１４〜１１８の作製＞
光学フィルム１０４の作製において、ヒンダードフェノール系化合物（凝集防止剤Ａ）の添加量を表１に記載のように変化させた以外は同様にして、光学フィルム１１４〜１１８を作製した。
【０２５６】
また、光学フィルム１１８は、ヒンダードフェノール系化合物（凝集防止剤Ａ）の代わりに、ヒンダードフェノール系化合物（凝集防止剤Ｂ）：ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０（ＢＳＦジャパン（株）製）を用いた。
【０２５７】
＜光学フィルム１１９〜１２２の作製＞
光学フィルム１０４の作製において、フィルム中のエタノール量を表２記載の量になるように、エタノールの添加量及び乾燥温度・乾燥時間を変化させた以外は同様にして光学フィルム１１９〜１２２を作製した。
【０２５８】
具体的には、以下の条件でそれぞれ作製した。
光学フィルム１１９は、ドープ組成のエタノール添加量を５質量部、延伸後の乾燥熱処理装置の温度を１１０℃、５０分かけて搬送した。
【０２５９】
光学フィルム１２０はドープ組成のエタノール添加量を５質量部、延伸後の乾燥熱処理装置の温度を９０℃、３０分かけて搬送した。
【０２６０】
光学フィルム１２１はドープ組成のエタノール添加量を２０質量部、延伸後の乾燥熱処理装置の温度を９℃、３０分かけて搬送した。
【０２６１】
光学フィルム１２２ドープ組成のエタノール添加量を２２質量部、延伸後の乾燥熱処理装置の温度を９０℃、３０分かけて搬送した。
【０２６２】
＜光学フィルム１２３及び１２４の作製＞
光学フィルム１０６の作製において、ドープの溶解温度を５５℃及び１０℃にそれぞれ変化させた以外は同様にして、光学フィルム１２３及び１２４を作製した。
【０２６３】
＜光学フィルム１２５の作製＞
（シクロオレフィン系樹脂Ｑ合成液の調製）
下記のノルボルネン系モノマー混合液にシリカ微粒子、１０−ウンデセン酸、フェノール系安定剤、リン系安定剤、ヒンダードアミン系光安定剤を加えて溶化し又は分散させ、さらにトリフェニルホスフィン、下記化合物Ｃで示したルテニウム触媒を添加し、ラインミキサーで混合し、水素結合受容性基を有しないシクロオレフィン系樹脂Ｑ合成液を調製した。シクロオレフィン樹脂Ｑ合成液の組成を下記に示す。
（シクロオレフィン系樹脂Ｑ合成液の組成）
ノルボルネン系モノマー混合液（ジシクロペンタジエン９０部、トリシクロペンタジエン１０部）                                                １００．０質量％
シリカ微粒子（アエロジル Ｒ８１２ 日本アエロジル（株）製）  １．６質量％
１０−ウンデセン酸                                          ０．３質量％
ヒンダードフェノール系化合物（凝集防止剤Ａ）                ０．１質量％
リン系安定剤                                                １．０質量％
トリフェニルホスフィン                                      １．０質量％
ルテニウム触媒                                              １．６質量％
【化４】
0006676930.tif 000005
【０２６４】
上記で調製したシクロオレフィン系樹脂Ｑ合成液を２５℃で、厚さ０．０７５ｍｍのポリエチレンテレフタレート製キャリアフィルム上に塗工しキャスト製膜を行い、次いで直ぐに、塗布層の上から別に用意した前記同様のキャリアフィルムをラミネートした。その後、２００℃で３分間加熱を行い、その後、２０℃まで冷却した後、上下のキャリアフィルムをそれぞれ剥離し、水素結合性受容基のないシクロオレフィン系樹脂Ｑが主成分である光学フィルム１２５（厚さは１５μｍ、幅は１４９２ｍｍ）を作製した。
【０２６５】
＜光学フィルム１２６の作製＞
光学フィルム１０６の作製において、下記ドープＥを用いた以外は同様にして光学フィルム１２６を作製した。
【０２６６】
（ドープＥ）
シクロオレフィン樹脂Ｐ                                  １００．０質量％
ジクロロメタン                                          ２９０．０質量％
エタノール                                                １０．０質量％
微粒子添加液                                              ２７．３質量％
ヒンダードフェノール系化合物（凝集防止剤Ａ）                ０．３質量％
＜光学フィルム１２７の作製＞
光学フィルム１０６の作製において、下記ドープＦを用いた以外は同様にして光学フィルム１２７を作製した。
【０２６７】
（ドープＦ）
シクロオレフィン樹脂Ｐ                                  １００．０質量％
ジクロロメタン                                          ２９０．０質量％
メタノール                                                  ８．０質量％
蒸留水                                                      １．０質量％
微粒子添加液                                              ２７．３質量％
ヒンダードフェノール系化合物（凝集防止剤Ａ）                ０．３質量％
＜光学フィルム１２８の作製＞
光学フィルム１０６の作製において、下記ドープＧを用いた以外は同様にして光学フィルム１２８を作製した。ここで使用したシクロオレフィン樹脂Ｒとして、ヒンダードフェノール系化合物（凝集防止剤Ａ）を１００質量部に対して０．２５質量％含んでいる、ＪＳＲ（株）製のアートンＧ７８１０を用いた。
【０２６８】
（ドープＧ）
シクロオレフィン樹脂Ｒ（ＪＳＲ（株）ＡＲＴＯＮ  Ｇ７８１０）
１００．０質量％
ジクロロメタン                                          ２９０．０質量％
エタノール                                                １０．０質量％
蒸留水                                                      １．０質量％
微粒子添加液                                              ２７．３質量％
＜光学フィルム１２９及び１３０の作製＞
光学フィルム１０６の作製において、ドープを２５℃で、厚さ０．０７５ｍｍのポリエチレンテレフタレート製キャリアフィルム上に塗工しキャスト製膜を行い、次いで直ぐに、塗布層の上から別に用意した前記同様のキャリアフィルムをラミネートした。その後、２００℃で３分間加熱を行い、その後、２０℃まで冷却した後、上下のキャリアフィルムをそれぞれ剥離し、光学フィルム１２９（厚さは３μｍ、幅は１４９２ｍｍ）、及び光学フィルム１３０（厚さは５μｍ、幅は１４９２ｍｍ）を作製した。
【０２６９】
≪評価≫
以上作製した光学フィルム１０１〜１３０を用いて以下の評価を行った。
【０２７０】
［１］シリカ粒子の疎水化度測定
シリカ粒子の疎水化度は、メタノールウエッタビリティ法（以下、ＭＷ法と称する。）を用いて、本法で求められるメタノールウエッタビリティ値（以下、ＭＷ値と称する。）で表した。
【０２７１】
上記のＭＷ法において、微粒子の疎水化度を定量化するためには、メタノールと純水とを混合させた第１溶液及び第２溶液をそれぞれ用いた。このとき、メタノールと純水との配合比は、第１溶液においては体積比が３：７であり、また、第２溶液では体積比が６：４である。そして、各溶液に前記微粒子を同量添加して撹拌混合し、この混合した各溶液を遠心分離させて、前記微粒子の沈降物の体積をそれぞれ求め、第１溶液における微粒子の沈降物の体積をｔｍＬとし、第２溶液における微粒子の沈降物の体積をｓｍＬとしたときに、それぞれＭＷ値を、第１溶液におけるＭＷ値＝（ｔ／Ａ）×１００［％］、及び第２溶液におけるＭＷ値＝（ｓ／Ａ）×１００［％］から求めた。ここで、Ａは、初めに添加したシリカ粒子の体積（ＡｍＬ）である。
【０２７２】
〔ＭＷ法〕
（１）メタノール溶液Ｃと純水Ｄとを、体積比で３：７になるように混合して、第１溶液Ａを調製する（例えば、メタノール溶液Ｃが４０ｍＬに対して、純水Ｄが６０ｍＬ）
（２）次に、１０ｍＬの沈降管Ｆに、０．２ｇのシリカ粒子粉末Ｅと７ｍＬの第１溶液Ａとを入れる。
（３）沈降管Ｆにふたをして、ターブラーミキサを用いて、微粒子粉末Ｅを第１溶液Ａ中に振盪混合する。この際、ターブラーミキサの条件は９０ｒｐｍで３０秒間である。
（４）シリカ粒子粉末Ｅを沈降させるため、遠心分離機を用いる。遠心分離機の条件は、３５００ｒｐｍで１０分間である。
（５）沈降管の目盛で読み取ることができる沈降した微粒子粉末Ｅの沈降物量を体積として読み取り、その値をｔｍＬとする。
（６）新たに、メタノール溶液Ｃと純水Ｄとが、体積比で６：４となるように混合して、第２溶液Ｂを調製する（例えば、メタノール溶液Ｃが６０ｍＬに対して、純水Ｄが４０ｍＬ）。
（７）第２溶液Ｂを用いて、上記（２）〜（５）と同じ手順（８）〜（１１）により、シリカ粒子粉末Ｅの沈降物を作製して、沈降管の目盛で読み取ることができる沈降したシリカ粒子粉末Ｅの沈降物量を体積として読み取り、その値をｓｍＬとする。
（１２）下記の式によりＭＷ値（％）を求める。
【０２７３】
第１溶液におけるＭＷ値＝（ｔ／Ａ）×１００［％］
第２溶液におけるＭＷ値＝（ｓ／Ａ）×１００［％］
ここで、Ａは、初めに添加したシリカ粒子の体積（ＡｍＬ）である。
【０２７４】
［２］シリカ粒子の平均粒径
シリカ粒子の平均粒径の測定は以下の方法で行った。
【０２７５】
光学フィルム中におけるシリカ粒子の粒子径の測定は、ミクロトームで断層カットしたフィルム断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ：Ｓｃａｎｎｉｎｇ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）で適当な倍率で撮影し、断層カット写真に含まれる１００個の粒子の粒子径を測定し、平均値を求め平均粒径とする。粒子径は、粒子の断面が円形状の場合はその直径とし、円形状以外の場合は面積を算出し、それを円形状に換算したときの直径とした。
【０２７６】
ＳＥＭ：ＪＳＭ−６０６０ＬＡ（ＪＥＯＬ：日本電子株式会社）
ミクロトーム：ライカ製ＥＭ  ＵＣ６
［３］フィルム中のエタノール量、メタノール量及び蒸留水量
フィルム中のエタノール量及びメタノール量は以下の方法によって測定した。
【０２７７】
溶媒成分として、用いた前記アルコール及び蒸留水の残留量は以下の測定方法によって行った。
【０２７８】
一定の形状に切り取った光学フィルムを２０ｍＬの密閉ガラス容器に入れ、１２０℃で２０分間処理したあと、ガスクロマトグラフィー（機器：ＨＰ社 ５８９０ＳＥＲＩＥＳ II、カラム：Ｊ＆Ｗ社 ＤＢ−ＷＡＸ（内径０．３２ｍｍ、長さ３０ｍ）、検出：ＦＩＤ）でＧＣ昇温条件を４０℃で５分間保持したあと、８０℃／分で１００℃まで昇温して求めた。
【０２７９】
［４］縦シワ
作製した光学フィルムから幅９０ｃｍ、長さ１００ｃｍの大きさの試料を切り出し、台の上に置いた。４０Ｗの蛍光灯（パナソニック社製の「ＦＬＲ４０Ｓ−ＥＸ−Ｄ／Ｍ」）を５本並べ、台上の試料に対して４５°の角度から光が照射されるように、台から１．５ｍの高さに固定した。蛍光灯のスイッチを入れて試料を照らし、試料の表面を目視で観察し、次の基準で評価した。 
○：蛍光灯が５本とも真っ直ぐに見える
△：蛍光灯が少し曲がって見える部分がある 
×：蛍光灯が全体的に曲がって見える
【０２８０】
［５］偏光板打ち抜きクラック
上記作製した光学フィルム１０１〜１３０を用いて偏光板を作製した。
厚さ３０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して厚さ７μｍの偏光子を得た。
【０２８１】
次いで、上記作製した偏光子を、前記作製した光学フィルム１０１〜１３０で両面から挟持して、下記紫外線硬化型接着剤液を介して、接着し偏光板を作製した。
【０２８２】
その際、偏光子の吸収軸と本発明の光学フィルムの遅相軸とが直交するように貼合した。
【０２８３】
〔紫外線硬化型接着剤液１の調製〕
下記の各成分を混合した後、脱泡して、紫外線硬化型接着剤液１を調製した。なお、トリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェートは、５０％プロピレンカーボネート溶液として配合し、下記にはトリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェートの固形分量を表示した。
【０２８４】
３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート                                                          ４５質量部
エポリードＧＴ−３０１（ダイセル社製の脂環式エポキシ樹脂）    ４０質量部
１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル                    １５質量部
トリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェート          ２．３質量部
９，１０−ジブトキシアントラセン                            ０．１質量部
１，４−ジエトキシナフタレン                                ２．０質量部
なお、偏光板作製は、フィルムの表面にコロナ出力強度２．０ｋＷ、ライン速度１８ｍ／分でコロナ放電処理を施し、コロナ放電処理面に、上記調製した紫外線硬化型接着剤液１を、硬化後の膜厚が約３μｍとなるようにバーコーターで塗工して紫外線硬化型接着剤層を形成した。
【０２８５】
上記偏光板は一方の光学フィルム側から、ベルトコンベヤー付き紫外線照射装置（ランプは、フュージョンＵＶシステムズ社製のＤバルブを使用）を用いて、積算光量が７５０ｍＪ／ｃｍ２となるように紫外線を照射し、紫外線硬化型接着剤層を硬化させた。
【０２８６】
得られた偏光板を偏光子の吸収軸方向を２０ｃｍ、吸収軸に対し直角方向を１０ｃｍの大きさで長方形の角を２Ｒの曲げ加工した刃型で打ち抜きし、粘着層を介してガラス板に貼り合わせを行いサンプルを得る。そのサンプルを−４０℃の雰囲気下に３０分放置した後、９０℃の雰囲気下に３０分放置し、この操作を１サイクルとする。以下にある基準でサイクルを繰り返した後、偏光板を観察し、クラックが発生している場合は、その長さを測定した。同時に、偏光板の偏光度の測定も行い、下に示すような基準で評価を行った。
〈クラック評価〉
○：５００サイクルでもクラック発生なし又は発生しても１ｃｍ以下
△：２５０〜５００サイクルまでクラック発生なし又は発生しても１ｃｍ以下
×：２５０サイクルまではクラック発生なし、又は発生しても１ｃｍ以下
【０２８７】
［６］打ち抜き切り粉評価
偏光板を裁断した際の切粉の発生状態を光学顕微鏡にて観察し、裁断部から１ｃｍのところの５μｍ以上の裁断切り粉の発生有無を見た。
○：切粉発生なし
×：切粉発生あり
【０２８８】
［７］透明性（ヘイズ）
光学フィルムを、市販されているヘイズメーター（日本電色社製、製品名「ＮＤＨ ２０００」）を用いて、ＪＩＳＫ−７１３６に準拠してヘイズ（％）を測定し、下記の基準で評価した。ヘイズが０．５％未満であれば、透明光学フィルムとして様々なデバイスに使用が可能である。
○：０．５％未満
×：０．５％以上
【０２８９】
［８］位相差
面内位相差値Ｒｏ、及び厚さ方向の位相差値Ｒｔは自動複屈折率計アクソスキャン（Ａｘｏ  Ｓｃａｎ  Ｍｕｅｌｌｅｒ  Ｍａｔｒｉｘ  Ｐｏｌａｒｉｍｅｔｅｒ：アクソメトリックス社製）を用いて、２３℃・５５％ＲＨの環境下、５９０ｎｍの波長において、三次元屈折率測定を行い、得られた屈折率ｎｘ、ｎｙ、ｎｚから下記式を用いて算出する。
【０２９０】
式（ｉ）：Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（ｎｍ）
式（ii）：Ｒｔ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ（ｎｍ）
〔式（ｉ）及び式（ii）において、ｎｘは、フィルムの面内方向において屈折率が最大になる方向ｘにおける屈折率を表す。ｎｙは、フィルムの面内方向において、前記方向ｘと直交する方向ｙにおける屈折率を表す。ｎｚは、フィルムの厚さ方向ｚにおける屈折率を表す。ｄは、フィルムの厚さ（ｎｍ）を表す。〕
［９］視認性：液晶表示装置としての特性評価
ＩＰＳ型のタブレット型液晶表示装置であるソニーモバイルコミュニケーションズ株式会社製の商品名『ＸＰＥＲＩＡ  Ｚ４  Ｔａｂｌｅｔ』の偏光板を剥がし、液晶セルを挟むようにして、前記作製した偏光板２枚を偏光板の偏光軸が元と変わらないように互いに直交するように貼り付け、偏光板で挟まれていないところは光が漏れないように表示側から、黒いテープを張り、簡易的なＩＰＳ型カラー液晶ディスプレイを作製し、光学フィルムの偏光板としての特性を評価したところ、本発明の偏光板を用いた液晶表示装置は、偏光板を剥がす前の液晶テレビと比べても、遜色ないコントラスト性能、更に色ムラもない優れた表示性を示した。
○：コントラスト、色ムラともに問題ない
×：コントラスト、色ムラのどちらかでも明らかな劣化が見られた
【０２９１】
［１０］着色
得られたシートについて、白い紙を敷いた上に当該シートを置き、目視にて着色度合いを評価した。
○：着色が見られない
△：やや黄色い着色が見られる
×：黄色い着色が明らかに見られる
［１１］輝点異物
フィルムの輝点異物を以下の測定法によって行った。
２枚の偏光板を直交状態（クロスニコル）に配置して透過光を遮断し、２枚の偏光板の間に作製した試料を置く。偏光板はガラス製保護板のものを使用した。片側から光を照射し、反対側から光学顕微鏡（５０倍）で１００ｃｍ２当たりの直径０．０１ｍｍ以上の輝点の数をカウントした。輝点異物の数は少ないほど良好な特性である。
○：０〜２個 
△：３〜１２個
×：１３個以上
○、△であれば実用に供することができる。
【０２９２】
光学フィルムの構成と、以上の評価結果をまとめて表１及び表２に示した。
【０２９３】
【表１】
0006676930.tif 000006
【０２９４】
【表２】
0006676930.tif 000007
【０２９５】
表１及び表２から、本発明の光学フィルムは、水素結合受容性基を有するシクロオレフィン系樹脂、アルコール系溶媒、ヒンダードフェノール系化合物、水及び特定の疎水化度を有するシリカ粒子を含有することで、打ち抜きクラック、及び打ち抜き切り粉の発生が顕著に低減し、併せて縦シワ、透明性、位相差、ＩＰＳモード型液晶表示装置の視認性、着色及び輝点異物にも優れる、総合的に優れたシクロオレフィン系樹脂を用いた光学フィルムが得られたことが分かる。
【符号の説明】
【０２９６】
１  溶解釜
３、６、１２、１５  濾過器
４、１３  ストック釜
２、５、１１、１４  送液ポンプ
８、１６  導管
１０  添加剤仕込釜
２０  合流管
２１  混合機
３０  加圧ダイ
３１  金属支持体
３２  ウェブ
３３  剥離位置
３４  延伸装置
３５  乾燥装置
３６  搬送ローラー
３７  巻取り装置
４１  仕込釜
４２  ストック釜
４３  ポンプ
【図１】
0006676930.tif 000008