(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一面（１ａ）を有する基板（１）と、
前記基板の一面と平行な面内において一方向を縦方向（Ｙ１）、前記縦方向と直交する方向を横方向（Ｙ２）として、前記基板の一面上にて前記縦方向および前記横方向に繰り返し配列された複数個の主ピクセル（１００）と、を備え、
前記複数個の主ピクセルのそれぞれは、電界によるエネルギーで発光する分子量が１００００以上の有機ＥＬの高分子発光材料よりなる発光層（５０）を有するサブピクセル（１１〜１３）の集合体よりなるものであって、当該集合体として第１発光色、第２発光色、第３発光色の少なくとも異なる３色の前記サブピクセルを有して形成されたものであり、
前記基板の一面上には、前記サブピクセル間に位置して個々の前記サブピクセルを区画するバンク（７０）が設けられており、
前記バンクを介して、前記縦方向に同色の前記サブピクセルが繰り返し並び、前記横方向に異なる色の前記サブピクセルが繰り返し並んでおり、
前記横方向においては、１個の前記主ピクセル内にて前記第１発光色と前記第２発光色との間に前記第３発光色が位置するような前記サブピクセルの並びとされており、且つ、１個の前記主ピクセル内では、前記第１発光色と前記第２発光色とが隣り合わないような前記サブピクセルの並びとされており、
前記複数個の主ピクセルにおいて前記横方向に隣接する前記主ピクセル同士の一方を第１主ピクセル（１０１）、他方を第２主ピクセル（１０２）として、
前記第１主ピクセルに含まれる前記サブピクセルと前記第２主ピクセルに含まれる前記サブピクセルのうち、前記横方向にて隣接する前記サブピクセル同士は、同色であり、且つ、当該同色のサブピクセルの色は、前記３色の発光色のうちの前記第１発光色または前記第２発光色であり、
前記基板の一面上のうち前記横方向にて隣接する同色の前記サブピクセル間に位置する部位では、前記バンクが省略されている有機ＥＬ表示装置。
【請求項２】
前記第１発光色は赤であり、前記第２発光色は青であり、前記第３発光色は緑もしくは緑と白である請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項３】
前記横方向にて隣接し前記第１発光色にて同色である前記サブピクセル同士の２個合計の前記横方向における前記発光層の幅をＷ１とし、前記第３発光色の前記サブピクセルの１個の前記横方向における前記発光層の幅をＷ３としたとき、２Ｗ３≧Ｗ１とされている請求項１または２に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項４】
前記横方向にて隣接し前記第２発光色にて同色である前記サブピクセル同士の２個合計の前記横方向における前記発光層の幅をＷ２としたとき、２Ｗ３≧Ｗ１、かつ、２Ｗ３≧Ｗ２とされている請求項３に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項５】
前記第１主ピクセルと前記第２主ピクセルとは、前記縦方向に沿ってずれた位置にある請求項１ないし４のいずれか１つに記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項６】
前記縦方向に沿ったずれ度合は、前記主ピクセルの前記縦方向における寸法の半分である請求項５に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項７】
一面（１ａ）を有する基板（１）と、
前記基板の一面と平行な面内において一方向を縦方向（Ｙ１）、前記縦方向と直交する方向を横方向（Ｙ２）として、前記基板の一面上にて前記縦方向および前記横方向に繰り返し配列された複数個の主ピクセル（１００）と、を備え、
前記複数個の主ピクセルのそれぞれは、電界によるエネルギーで発光する分子量が１００００以上の有機ＥＬの高分子発光材料よりなる発光層（５０）を有するサブピクセル（１１〜１３）の集合体よりなるものであって、当該集合体として第１発光色、第２発光色、第３発光色の少なくとも異なる３色の前記サブピクセルを有して形成されたものであり、
前記基板の一面上には、前記サブピクセル間に位置して個々の前記サブピクセルを区画するバンク（７０）が設けられており、
前記バンクを介して、前記縦方向に同色の前記サブピクセルが繰り返し並び、前記横方向に異なる色の前記サブピクセルが繰り返し並んでおり、
前記横方向においては、１個の前記主ピクセル内にて前記第１発光色と前記第２発光色との間に前記第３発光色が位置するような前記サブピクセルの並びとされており、且つ、１個の前記主ピクセル内では、前記第１発光色と前記第２発光色とが隣り合わないような前記サブピクセルの並びとされており、
前記複数個の主ピクセルにおいて前記横方向に隣接する前記主ピクセル同士の一方を第１主ピクセル（１０１）、他方を第２主ピクセル（１０２）として、
前記第１主ピクセルに含まれる前記サブピクセルと前記第２主ピクセルに含まれる前記サブピクセルのうち、前記横方向にて隣接する前記サブピクセル同士は、同色であり、且つ、当該同色のサブピクセルの色は、前記３色の発光色のうちの前記第１発光色または前記第２発光色である、有機ＥＬ表示装置の製造方法であって、
前記高分子発光材料を含む溶液をインクとして用いた凸版印刷によって前記サブピクセルにおける前記発光層を印刷して形成するものであり、
前記横方向にて隣接する同色の前記サブピクセル同士については、共通の凸部（２０１）で一括して前記発光層の印刷を行うようにした有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、少なくとも異なる３色のサブピクセルの集合体を１個の主ピクセルとし、この主ピクセルを複数個、縦横の各方向に配列してなる有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示装置、および、そのような有機ＥＬ表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種の有機ＥＬ表示装置としては、特許文献１に記載のものが提案されている。このものは、一面を有する基板と、基板の一面と平行な面内において一方向を縦方向、縦方向と直交する方向を横方向として、基板の一面上にて縦方向および横方向に繰り返し配列された複数個の主ピクセルと、を備えている。
【０００３】
複数個の主ピクセルのそれぞれは、電界によるエネルギーで発光する分子量が１００００以上の有機ＥＬの高分子発光材料よりなる発光層を有するサブピクセルの集合体よりなる。そして、当該集合体として第１発光色（たとえば赤）、第２発光色（たとえば青）、第３発光色（たとえば緑）の少なくとも異なる３色のサブピクセルを有して、１個の主ピクセルが形成されている。
【０００４】
ここで、従来では、基板の一面上において、縦方向に同色のサブピクセルが繰り返し並び、横方向に異なる色のサブピクセルが繰り返し並んだ配置とされている。また、基板の一面上には、サブピクセル間に位置して個々のサブピクセルを区画するバンクが設けられている。
【０００５】
このような有機ＥＬの高分子発光材料よりなる発光層は、当該高分子発光材料を溶剤に溶かした溶液を用いて、印刷で作られる。ここで、発光色の違いは、高分子発光材料の種類や溶剤を変えることで実現される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００９−９９４４０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、従来の様な高分子発光材料よりなる発光層を印刷により形成する場合、発光材料すなわち発光色の種類により、印刷における濡れ性の相違が存在する。
【０００８】
この印刷時における発光層の濡れ拡がりが大きいと、隣接する異なる色のサブピクセル同士では発光層が重なって、混色のおそれがある。そこで、このような混色を極力無くしたいという要望がある。
【０００９】
本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、混色の抑制に適した有機ＥＬ装置を実現することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するため、請求項１に記載の発明では、一面（１ａ）を有する基板（１）と、基板の一面と平行な面内において一方向を縦方向（Ｙ１）、縦方向と直交する方向を横方向（Ｙ２）として、基板の一面上にて縦方向および横方向に繰り返し配列された複数個の主ピクセル（１００）と、を備え、
複数個の主ピクセルのそれぞれは、電界によるエネルギーで発光する分子量が１００００以上の有機ＥＬの高分子発光材料よりなる発光層（５０）を有するサブピクセル（１１〜１３）の集合体よりなるものであって、当該集合体として第１発光色、第２発光色、第３発光色の少なくとも異なる３色のサブピクセルを有して形成されたものであり、
基板の一面上には、サブピクセル間に位置して個々のサブピクセルを区画するバンク（７０）が設けられており、
バンクを介して、縦方向に同色のサブピクセルが繰り返し並び、横方向に異なる色のサブピクセルが繰り返し並んでおり、
横方向においては、１個の主ピクセル内にて第１発光色と第２発光色との間に第３発光色が位置するようなサブピクセルの並びとされており、且つ、１個の主ピクセル内では、第１発光色と第２発光色とが隣り合わないようなサブピクセルの並びとされており、
複数個の主ピクセルにおいて横方向に隣接する主ピクセル同士の一方を第１主ピクセル（１０１）、他方を第２主ピクセル（１０２）として、
第１主ピクセルに含まれるサブピクセルと第２主ピクセルに含まれるサブピクセルのうち、横方向にて隣接するサブピクセル同士は、同色であり、且つ、当該同色のサブピクセルの色は、３色の発光色のうちの第１発光色または第２発光色であり、
基板の一面上のうち横方向にて隣接する同色のサブピクセル間に位置する部位では、バンクが省略されている有機ＥＬ表示装置が提供される。
【００１１】
それによれば、１個の主ピクセル内にて第１発光色と第２発光色とが隣接しないので、第１発光色と第２発光色との混色を防止できる。また、隣接する主ピクセル間においても、第１発光色と第２発光色とが隣接しない配置となるので、第１発光色と第２発光色とについては混色を回避できる。よって、本発明によれば、混色の抑制に適した有機ＥＬ表示装置を実現することができる。
【００１２】
ここで、請求項１の発明においては、請求項２に記載の発明のように、第１発光色は赤であり、第２発光色は青であり、第３発光色は緑もしくは緑と白であるものにできる。
【００１３】
通常、この種の有機ＥＬ表示装置においては、赤、青、緑の３色のサブピクセルよりなる主ピクセル、または緑を緑と白の２色のサブピクセルに置き換えた主ピクセルとする。ここで、本発明者の検討によれば、特に赤、青の高分子発光材料は、緑や白の高分子発光材料に比べて濡れ性が大きく、濡れ拡がりやすいことが実験的に確認された。そこで、本発明のように、第１発光色を赤、第２発光色を青とすれば、混色の抑制に効果的である。
【００１４】
なお、特許請求の範囲およびこの欄で記載した各手段の括弧内の符号は、後述する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示す一例である。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の第１実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置のピクセルの配置構成を示す概略平面図である。
【図２】第１実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置の概略断面図である。
【図３】第１実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置における１個のサブピクセルを示す概略断面図である。
【図４】第１実施形態におけるサブピクセルの凸版印刷による製造方法を概略的に示す図である。
【図５】本発明の第２実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置の要部を示す概略平面図である。
【図６】第２実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置の概略断面図である。
【図７】第２実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置の他の例を示す概略断面図である。
【図８】第２実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置のもう一つの他の例を示す概略断面図である。
【図９】本発明の第３実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置の要部を示す概略断面図である。
【図１０】本発明の第４実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置の要部を示す概略平面図である。
【図１１】本発明の他の実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置の要部を示す概略平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明の実施形態について図に基づいて説明する。なお、以下の各実施形態相互において、互いに同一もしくは均等である部分には、説明の簡略化を図るべく、図中、同一符号を付してある。
【００１７】
（第１実施形態）
本発明の第１実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置について、図１〜図３を参照して述べる。なお、本有機ＥＬ表示装置における各色のサブピクセル１１、１２、１３は、互いに発光層５０の材質が異なるだけのものであるから、１個のサブピクセル１１〜１３の断面構造は、図３に示されるサブピクセルに共通したものである。また、図３以外の断面図においては、図３に示される正孔注入層３０、高分子架橋層４０および陰極６０は省略してある。
【００１８】
図１〜図３に示されるように、有機ＥＬ表示装置は、一面１ａを有する基板１と、基板１の一面１ａ上にて配列された複数個の主ピクセル１００と、を備えて構成されている。
【００１９】
ここで、図１に示されるように、基板１の一面１ａと平行な面内において一方向を縦方向Ｙ１、縦方向Ｙ１と直交する方向を横方向Ｙ２とする。このとき、複数個の主ピクセル１００は、基板１の一面１ａ上にて縦方向Ｙ１および横方向Ｙ２に繰り返し配列されたものとされている。
【００２０】
複数個の主ピクセル１００のそれぞれは、３個のサブピクセル１１〜１３の集合体よりなるものであって、当該集合体として第１発光色としての赤、第２発光色としての青、第３発光色としての緑の異なる３色のサブピクセル１１〜１３を有して形成されたものである。
【００２１】
図１およびそれ以外の平面図と各断面図においては、赤色のサブピクセル１１には符号Ｒ、青色のサブピクセル１２には符号Ｂ、緑色のサブピクセル１３には符号Ｇを付してある。また、これらの平面図における破線は、主ピクセル１００間の区切り（つまり境界）を示すものであり、図２における一点鎖線はサブピクセル１１〜１３間の境界線Ｋ１を示すものである。ここで、たとえば、図１では、縦方向Ｙ１に２個、横方向Ｙ２に４個の主ピクセル１００が並んだ配置が示されている。
【００２２】
サブピクセル１１〜１３のそれぞれは、図３に示されるように、電界によるエネルギーで発光する分子量が１００００以上の有機ＥＬの高分子発光材料よりなる発光層５０を有するものであり、印刷により形成される。そして、この発光層５０における高分子発光材料や印刷時に用いる溶剤を適宜変更することにより、発光色の変更がなされている。
【００２３】
個々のサブピクセル１１〜１３の詳細構成については、図３を参照して後述する。また、基板１の一面１ａ上には、サブピクセル１１〜１３間に位置して個々のサブピクセル１１〜１３を区画するバンク７０が設けられている。このバンク７０は、樹脂や無機物等の絶縁材料よりなるものである。
【００２４】
そして、図１、図２に示されるように、バンク７０を介して、縦方向Ｙ１に同色のサブピクセル１１〜１３が繰り返し並び、横方向Ｙ２に異なる色のサブピクセル１１〜１３が繰り返し並んでいる。
【００２５】
ここで、図１、図２に示されるように、横方向Ｙ２においては、１個の主ピクセル１００内にて第１発光色である赤と第２発光色である青との間に第３発光色である緑が位置するようなサブピクセル１１〜１３の並びとされている。さらに、１個の主ピクセル１００内では、第１発光色である赤と第２発光色である青とが隣り合わないようなサブピクセル１１〜１３の並びとされている。
【００２６】
ここで、図１に示されるように、複数個の主ピクセル１００において横方向Ｙ２に隣接する主ピクセル１００同士の一方を第１主ピクセル１０１、他方を第２主ピクセル１０１とする。
【００２７】
このとき、第１主ピクセル１０１に含まれるサブピクセル１１〜１３と第２主ピクセル１０２に含まれるサブピクセル１１〜１３のうち、横方向Ｙ２にて隣接するサブピクセル１１、１２同士は、同色である。さらに、この同色のサブピクセル１１、１２の色は、３色の発光色のうちの第１発光色である赤または第２発光色である青とされている。
【００２８】
具体的に、図１の上側に示される例では、第１主ピクセル１０１と第２主ピクセル１０２との間で、横方向Ｙ２にて赤色のサブピクセル１１同士が隣接している。一方、図１の下側に示される例では、第１主ピクセル１０１と第２主ピクセル１０２との間で、横方向Ｙ２にて青色のサブピクセル１２同士が隣接している。
【００２９】
次に、図３を参照して、個々のサブピクセル１１〜１３の詳細構成について述べる。
【００３０】
１個のサブピクセルは、基板１の一面１ａ上に形成されたホール注入電極として機能する陽極２０と電子注入電極として機能する陰極６０との間に、陽極２０側から正孔注入層３０、高分子架橋層４０、発光層５０が順次積層されてなるものである。
【００３１】
陽極２０は、基板１０上にスパッタリング等により形成され、陽極２０の上に、低分子材料よりなる正孔注入層３０を蒸着等によって積層した後、正孔注入層３０の上に、架橋された高分子よりなる正孔輸送性を有する高分子架橋層４０が、塗布法等により形成されている。
【００３２】
そして、高分子架橋層４０の上に塗布法または印刷法等により分子量が１００００以上の高分子発光材料よりなる発光層５０が形成され、発光層５０の上には、陰極６０が蒸着法等によって積層されている。このようなサブピクセルは、陰極６０まで形成した後、最後に乾燥窒素雰囲気中にて図示しない封止缶を基板１の素子形成側に貼り合わせ、封止している。
【００３３】
基板１は、例えばガラスなどの透明基板であるが、ガラスには限られず、バリア膜付きの樹脂基板や金属基板等様々なものを用いることができる。
【００３４】
陽極２０は、透明または半透明の電極を形成することのできる任意の導電性物質とすることができる。具体的には、酸化物として酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化亜鉛アルミニウム、酸化亜鉛ガリウム、酸化チタンニオブ等を使用し、スパッタリングなどによって積層することができる。このうち、ＩＴＯは、特に、低抵抗であること、耐溶剤性があること、透明性に優れていることなどの利点を有する材料である。
【００３５】
ＩＴＯなどの導電性層の表面に、または、基板１の上に、アルミニウム、金、銀等の金属材料を蒸着して半透明導電層を形成しても良いし、ポリアニリン等の有機半導体を用いて陽極２０としても良い。また、更にその他の方法を用いて陽極２０としても良い。
【００３６】
また、陽極２０は、必要に応じて、成膜後にエッチングによってディスプレイなどにおいて要求される形状にパターニングしたり、ＵＶ処理やプラズマ処理などにより表面の活性化を行ってもよい。
【００３７】
陰極６０は、仕事関数の低い材料を用いること、特に、発光層５０との界面が低仕事関数であることが望まれ、例えば、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属とアルミニウム等の金属電極との積層、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属のハロゲン化物とアルミニウム等の金属電極との積層などを用いることができる。
【００３８】
具体的には、陰極６０としては、Ａｌ／Ｃａ（発光層側）、Ａｌ／Ｂａ（発光層側）、Ａｌ／Ｌｉ（発光層側）、Ａｌ／ＬｉＦ（発光層側）、Ａｌ／ＣｓＦ（発光層側）、Ａｌ／ＣａＦ（発光層側）、Ａｌ／Ｃａ／ＬｉＦ（発光層側）とする積層構造などが採用可能であり、これらの積層構造は、例えば真空蒸着法などによって形成することができる。
【００３９】
正孔注入層３０は、低分子材料を真空蒸着法等を用いて成膜することで、膜の純度、密度、平坦性に優れた高品質な膜を得ることができる。
【００４０】
正孔注入層３０の形成方法としては、真空蒸着法以外にも、インクジェット法や静電スプレー法や一般的な押圧による転写法及びレーザー転写（ＬＩＴＩ）法などによる印刷法や、スピンコート等による塗布法、気相成長法などもある。但し、有機ＥＬ素子の高温度高湿度耐久性の向上の観点から、正孔注入層３０の膜質が重要であり、上記のように、膜の純度、密度、平坦性などの観点より、真空蒸着法を用いることが最も望ましい。
【００４１】
また、真空蒸着法によって低分子材料を蒸着形成した後、高分子架橋層４０を形成する前に、正孔注入層３０の熱処理をすることが望ましい。この熱処理により、正孔注入層３０、特に高分子架橋層４０との界面となる表面を平滑かつ緻密な状態とすることができ、高分子架橋層４０の形成に用いられる溶媒への耐性（耐溶媒性）を向上させることができる。
【００４２】
高分子架橋層４０は、架橋された高分子と、正孔注入層と同一の低分子材料とが混合された混合層４１よりなるもので、正孔輸送層として機能するものである。ここで、混合層４１中の低分子材料の濃度としては、特に限定するものではないが、たとえば１重量％以上５０重量％以下程度とすることができる。
【００４３】
高分子架橋層４０は、架橋された高分子となる原料を溶媒に混合させた原料溶液を、正孔注入層３０の上に塗布することにより形成される。これにより、正孔注入層３０中の低分子材料を溶媒に溶解させて原料溶液に含有させた状態とし、この状態で原料を架橋させて混合層４１を形成することができる。
【００４４】
高分子架橋層４０の上に高分子発光材料を用いて発光層５０を形成する方法としては、いわゆるウエット処理と呼ばれる方法が採用できる。このウエット処理は、溶媒に原料である高分子発光材料を分散させた原料溶液を被形成面に付着させる方法であり、スピンコート法、ディップコート法、スプレー法などの塗布法や、上述のようなインクジェット法、転写、ＬＩＴＩ法などの印刷法などがあげられる。本実施形態では、発光層５０は、上記特許文献１に記載の様な凸版印刷により形成される。
【００４５】
ここで、上述のように、本実施形態では、高分子架橋層４０は、原料を、架橋された高分子の架橋温度に供して形成するものであり、発光層５０としては、高分子発光材料の塗布層または印刷層が形成されるものである。そして、発光層５０の原料溶液の積層後、溶媒を乾燥させる乾燥工程が施される。
【００４６】
このとき、正孔注入層３０の低分子材料は、そのガラス転移点、またはガラス転移点のない材料の場合にはその融点が、高分子架橋層４０の架橋された高分子の架橋温度以上であることが望ましい。さらに、当該架橋温度は、発光層５０の塗布または印刷形成後に実行される乾燥温度以上であることが望ましい。それによれば、当該架橋温度による正孔注入層３０への熱的ダメージ、および、当該乾燥温度による正孔注入層３０および高分子架橋層４０への熱的ダメージを抑制できる。
【００４７】
ここで、発光層５０の材料について述べておく。
【００４８】
高分子発光材料は塗布形成後の表面平坦性や低素子駆動電圧化を考えて、平均分子量が１００００以上であることが望ましい。高分子発光材料としては、例えば、ポリフルオレン（ＰＦ）系高分子、ポリフェニレンビニレン（ＰＰＶ）系高分子、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）系高分子などを用いることができ、蛍光性色素や燐光性色素を前記高分子やポリスチレン系高分子、ポリチオフェン系高分子、ポリメチルメタクリレート系高分子等に分散させたもの等も用いることができる。
【００４９】
更に、他の高分子としては、ポリフェニレンエチニレン（ＰＰＥ）系高分子、ポリフェニレン（ＰＰ）系高分子、ポリパラフェニレン（ＰＰＰ）系高分子、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）などのポリシラン系高分子などを採用することも可能である。なお、これらの高分子は、単独で用いても良いが、２種以上を混合して用いても良いし、低分子材料などと混合して用いても良い。
【００５０】
発光層５０の塗布または印刷において用いられる、これら高分子発光材料の溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、アセトン、アニソール、メチルアニソール、ジメチルアニソール、テトラリン、メシチレン、安息香酸エチル、安息香酸メチル、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、酢酸エチル、酢酸ブチル、水などの、単独または混合溶媒（溶剤）を用いることができる。これら溶剤に溶解させて発光層５０の原料溶液を調製し、得られた原料溶液を、上述のように、塗布法や印刷法などのウエット処理によって高分子架橋層４０上に付着させる。その後、溶媒を乾燥除去することで発光層５０を形成することができる。
【００５１】
上記溶媒のうちでも特に、トルエン、キシレン、アニソール、メチルアニソール、ジメチルアニソール、テトラリン、メシチレン、安息香酸エチル、安息香酸メチル等の芳香族系溶媒は、高分子有機発光材料の溶解性が良く扱いも容易であることから、より好ましい溶媒である。また、塗布法としてはスピンコート法、ディップコート法、スプレー法など、印刷法としては、インクジェット法、転写法等の手法を用いることができる。
【００５２】
ポリフルオレン系高分子の一例としては、発光材料の一種であるＰｏｌｙ［９，９−ｄｉ−（２’−ｅｔｈｙｌｈｅｘｙｌｆｌｕｏｒｅｎｙｌ−２，７’−ｄｉｙｌ）］高分子発光材料が挙げられる。この発光材料は、例えばキシレン溶媒に溶解させることができる。
【００５３】
ポリフェニレンビニレン系高分子の一例としては、発光材料の一種であるＰｏｌｙ（２−ｍｅｔｈｏｘｙ−５−（２’−ｅｔｈｙｌｈｅｘｙｌｏｘｙ）−１，４−ｐｈｅｎｙｌｅｎｅｖｉｎｙｌｅｎｅ）高分子発光材料が挙げられる。この発光材料も、例えばキシレン溶媒に溶解させることができる。
【００５４】
ポリビニルカルバゾール系高分子材料は、例えば、２−（４−Ｂｉｐｈｅｎｙｌｙｌ）−５−ｐｈｅｎｙｌ−１，３，４−ｏｘａｄｉａｚｏｌｅ低分子材料と混合して溶媒に溶かして用いることができる。この場合の溶媒としては、例えば、ジクロロエタンを用いることができる。
【００５５】
なお、いずれの高分子発光材料及びこれを溶かした溶媒を用いて、発光層５０を高分子架橋層４０の上に形成した後には、溶媒を除去するための乾燥処理を実行する。乾燥処理は、たとえば１２０℃程度で、窒素ガスやアルゴンガスなどの不活性ガスなど非酸化雰囲気中にて実行される。
【００５６】
次に、図４を参照して、本実施形態におけるサブピクセル１１〜１３の製造方法の好ましい例として、凸版印刷による方法について、述べる。この凸版印刷法は、特許文献１に記載の方法と同様であり、高分子発光材料を含む溶液をインクとして用いた凸版印刷によって、１つの色毎に、サブピクセル１１〜１３における発光層５０を印刷して形成するものである。
【００５７】
図４に示されるように、本実施形態の製造方法では、１つの色に対応したローラー２００を、各色について、ここでは赤、青、緑についてそれぞれ用意する。ローラー２００には、１つの色の発光層に対応した凸部２０１が設けられている。この凸部２０１にインクを付着させ、これを基板１上に転写するものである。
【００５８】
ここで、本実施形態では、横方向Ｙ２にて隣接する同色のサブピクセル同士、すなわち赤と青のそれぞれのサブピクセル１１、１２については、共通の凸部２０１で一括して発光層５０の印刷を行うようにしている。こうして、本実施形態における凸版印刷による発光層５０の形成が行える。
【００５９】
ところで、本実施形態によれば、１個の主ピクセル１００内にて第１発光色である赤と第２発光色である青とが隣接しないので、赤と青との混色を防止できる。また、横方向Ｙ２にて隣接する主ピクセル１００間においても、第１発光色である赤と第２発光色である青とが隣接しない配置となるので、赤と青とについては混色を回避できる。よって、本実施形態によれば、混色の抑制に適した有機ＥＬ表示装置を実現することができる。
【００６０】
また、本実施形態では、第１発光色は赤であり、第２発光色は青であり、第３発光色は緑である。本発明者の検討によれば、特に赤、青の高分子発光材料は、緑の高分子発光材料に比べて濡れ性が大きく、濡れ拡がりやすいことが実験的に確認された。
【００６１】
そこで、本実施形態のように、第１発光色を赤、第２発光色を青とすれば、混色の抑制に効果的である。さらに言えば、青に赤が混ざると緑に赤が混ざった場合よりも、混色による青色特性への影響が大きいので、第１発光色を赤、第２発光色を青とすることは、混色の抑制に有効である。
【００６２】
また、上記の図２に示されるように、バンク７０を介して横方向Ｙ２にて隣接する異なる色のサブピクセル１１〜１３同士においては、バンク７０上にて横方向Ｙ２にて隣接する異なる色の発光層５０同士が接触せずに離れている。
【００６３】
一方、第１発光色である赤のサブピクセル１１および第２の発光色である青のサブピクセル１２においては、当該サブピクセル１１、１２の発光層５０が、バンク７０を介して横方向Ｙ２にて隣接するサブピクセルとの境界線Ｋ１を越えてバンク７０上に形成されている。ここで、この隣接するサブピクセルとの境界線Ｋ１とは、バンク７０における幅方向の中央に相当するもので、上述のように図２中、一点鎖線で示してある。
【００６４】
また、第３発光色である緑のサブピクセル１３においては、当該サブピクセル１３の発光層５０が、上記の隣接するサブピクセルとの境界線Ｋ１を越えないようにバンク７０上に形成されている。
【００６５】
上述のように、第１発光色である赤および第２発光色である青の発光層５０は、第３発光色である緑の発光層５０に比べて濡れ拡がりやすいものであるから、バンク７０上の境界線Ｋ１を越えて形成された状態になりやすい。一方、濡れ性の低い第３発光色である緑の発光層５０は、バンク７０上の境界線Ｋ１を越えない。
【００６６】
そのため、バンク７０を介して横方向Ｙ２にて隣接する異なる色のサブピクセル１１〜１３同士においては、バンク７０上にて隣接する異なる色の発光層５０同士が接触せずに離れたものにできている。その結果、当該隣接する異なる色のサブピクセル１１〜１３同士にて、バンク７０上における混色を防止することができる。
【００６７】
また、図２に示されるように、バンク７０を介して横方向Ｙ２にて隣接する赤もしくは青の同色のサブピクセル１１、１２同士においては、バンク７０上にて横方向Ｙ２にて隣接する同色の発光層５０同士が接触して連続している。それによれば、上述したように、横方向Ｙ２にて隣接する同色のサブピクセル１１、１２同士を一括して印刷するのに好ましい構成となる。
【００６８】
（第２実施形態）
図５〜図８を参照して、本発明の第２実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置について、上記第１実施形態との相違点を中心に述べることとする。本実施形態は、サブピクセル１１〜１３に位置するバンク７０の構成を変形したものである。
【００６９】
まず、図５、図６に示される例では、バンク７０のうち横方向Ｙ２にて隣接する同色のサブピクセル１１間に位置する部分における横方向の幅を幅Ｈ１とする。そして、この幅Ｈ１は、バンク７０のうち横方向Ｙ２にて隣接する異なる色のサブピクセル１１〜１３間に位置する部分における横方向の幅Ｈ２に比べて、狭いものとなっている。
【００７０】
また、本実施形態の他の例を、図７に示す。このように、バンク７０のうち横方向Ｙ２にて隣接する同色のサブピクセル１１間に位置する部分を、バンク７０のうち横方向Ｙ２にて隣接する異なる色のサブピクセル１１〜１３間に位置する部分よりも、基板１の一面１ａ上の高さが低いものとしてもよい。
【００７１】
さらに、本実施形態のもう一つの他の例を、図８に示す。このように、基板１の一面１ａ上のうち横方向Ｙ２にて隣接する同色のサブピクセル１１間に位置する部位では、バンク７０が省略されたものとしてもよい。
【００７２】
これら、図５〜図８に示される形態によれば、横方向Ｙ２にて隣接する同色のサブピクセル１１同士を一括して印刷するのに好ましい。ここで、図５〜図８では、赤色にて同色のサブピクセル１１間に位置する部分について示したが、青色にて同色のサブピクセル１２間に位置する部分についても、赤色の場合と同様である。
【００７３】
なお、図５〜図８では、バンク７０の上にまで発光層５０がはみ出して形成されていないが、これら図５〜図８においても、上記の図２のようにバンク７０の上に発光層５０が形成されていてもよいことはもちろんである。
【００７４】
（第３実施形態）
図９を参照して、本発明の第３実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置について、上記第１実施形態との相違点を中心に述べることとする。本実施形態は、各色のサブピクセル１１〜１３における発光層５０の幅の関係を工夫したものである。
【００７５】
図９に示されるように、横方向Ｙ２にて隣接し第１発光色の赤色にて同色であるサブピクセル１１同士の２個合計の横方向Ｙ２における発光層５０の幅をＷ１とする。また、第３発光色である緑色のサブピクセル１３の１個の横方向Ｙ２における発光層５０の幅をＷ３とする。このとき、本実施形態では、２Ｗ３≧Ｗ１の関係とされている。
【００７６】
また、図９に示されるように、横方向Ｙ２にて隣接し第２発光色の青色にて同色であるサブピクセル１２同士の２個合計の横方向Ｙ２における発光層５０の幅をＷ２とする。このとき、上記の２Ｗ３≧Ｗ１、かつ、２Ｗ３≧Ｗ２の関係であることが望ましい。
【００７７】
第３発光色のサブピクセル１３については、横方向Ｙ２における発光層５０の幅Ｗ３は、１個のサブピクセル分の印刷の最小幅よりも小さくできない。一方、横方向Ｙ２にて隣接し第１発光色にて同色であるサブピクセル１１、１２同士については、２個分の発光層５０を一括して印刷できる。
【００７８】
そのため、横方向Ｙ２にて隣接し第１発光色にて同色であるサブピクセル１１、１２の１個については、上記の寸法関係より、印刷の最小幅よりも狭くすることができるため、高精細化が実現しやすい。なお、本実施形態では、上記の２Ｗ３≧Ｗ１の関係だけでもよいが、さらに、２Ｗ３≧Ｗ２であれば、好ましいことは言うまでも無い。
【００７９】
（第４実施形態）
図１０を参照して、本発明の第４実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置について、上記第１実施形態との相違点を中心に述べることとする。本実施形態は、横方向Ｙ２に隣接する主ピクセル１００同士の配置関係を変形したものである。
【００８０】
図１０に示されるように、横方向Ｙ２にて隣接する第１主ピクセル１０１と第２主ピクセル１０２とは、縦方向Ｙ１に沿ってずれた位置にある。この縦方向Ｙ１に沿ったずれ度合は限定するものではないが、典型的には、主ピクセル１００の縦方向Ｙ１における寸法の半分とする。本実施形態によれば、表示の見栄えの向上が期待される。
【００８１】
（他の実施形態）
なお、図１１に示されるように、第３発光色としては、緑だけでなく、緑と白の２色であってもよい。白は図１１中の符号Ｗを付したサブピクセル１３である。つまり、このように、第１発光色は赤であり、第２発光色は青であり、第３発光色は緑と白であってもよい。さらに、赤と青の発光色について、第１発光色を青とし、第２発光色を赤としてもよい。
【００８２】
また、サブピクセル１１〜１３としては、発光層５０およびこれを発光させるための陽極２０、陰極６０を有するものであればよく、場合によっては、正孔注入層３０や高分子架橋層４０は省略されたものであってもよい。
【００８３】
また、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載した範囲内において適宜変更が可能である。また、上記各実施形態は、互いに無関係なものではなく、組み合わせが明らかに不可な場合を除き、適宜組み合わせが可能であり、また、上記各実施形態は、上記の図示例に限定されるものではない。また、上記各実施形態において、実施形態を構成する要素は、特に必須であると明示した場合および原理的に明らかに必須であると考えられる場合等を除き、必ずしも必須のものではないことは言うまでもない。また、上記各実施形態において、実施形態の構成要素の個数、数値、量、範囲等の数値が言及されている場合、特に必須であると明示した場合および原理的に明らかに特定の数に限定される場合等を除き、その特定の数に限定されるものではない。また、上記各実施形態において、構成要素等の形状、位置関係等に言及するときは、特に明示した場合および原理的に特定の形状、位置関係等に限定される場合等を除き、その形状、位置関係等に限定されるものではない。
【符号の説明】
【００８４】
１      基板
１１    第１発光色のサブピクセル
１２    第２発光色のサブピクセル
１３    第３発光色のサブピクセル
５０    発光層
７０    バンク
１００  主ピクセル
１０１  第１主ピクセル
１０２  第２主ピクセル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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