(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
組成物であって、
少なくとも１つの環式オレフィンと、
少なくとも１つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒と、
少なくとも２つのイソシアナート基を含有する少なくとも１つの化合物を含む少なくとも１つの接着促進剤と、
少なくとも１つの機能性エラストマーと、を含み、前記少なくとも１つの機能性エラストマーが、無水マレイン酸グラフトスチレン−エチレン／ブチレン−スチレン水素化コポリマーである、組成物。
【請求項２】
少なくとも１つの基材材料を更に含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記少なくとも１つの環式オレフィンが、歪みのある環式オレフィン、歪んでいない環式オレフィン、ジエン、及び不飽和ポリマー、又はそれらの組み合わせから選択され、前記環式オレフィンは、官能基を含有することができるか、又はハロゲン、ヒドロキシル、ヒドロカルビル、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アリールオキシ、アラルキルオキシ、アルカリールオキシ、アシル、アシルオキシ、アルコキシカルボニル、アルキルカルボナート、アリールカルボナート、カルボキシ、カルボキシレート、カルバモイル、アルキル置換カルバモイル、ハロアルキル置換カルバモイル、アリール置換カルバモイル、チオカルバモイルアルキル置換チオカルバモイル、アリール置換チオカルバモイル、カルバミド、シアノ、シアナート、チオシアナート、ホルミル、チオホルミル、アミノ、アルキル置換アミノ、アリール置換アミノ、アルキルアミド、アリールアミド、イミノ、アルキルイミノ、アリールイミノ、ニトロ、ニトロソ、スルホ、スルホナート、アルキルスルファニル、アリールスルファニル、アルキルスルフィニル、アリールスルフィニル、アルキルスルホニル、アルキルアミノスルホニル、アリールスルホニル、ボリル、ボロノ、ボロナート、ホスホノ、ホスホナート、ホスフィナート、ホスホ、ホスフィノ、又はそれらの組み合わせから選択される基で置換され得る、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
前記少なくとも１つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒が、式（Ｉ）の構造を有する第８族遷移金属錯体であり、
【化１】
0006787907.tif 000065
式中、
Ｍは第８族遷移金属であり、
Ｌ１、Ｌ２及びＬ３は中性電子供与体配位子から独立して選択され、
Ｌ３  が存在してもしなくてもよいようにｎは０又は１であり、
ｍは０、１又は２であり、
ｋは０又は１であり、
Ｘ１及びＸ２は、独立して、アニオン性配位子であり、
Ｒ１及びＲ２は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、及び官能基から独立して選択され、Ｒ１及びＲ２の一方又は両方は構造式-（Ｗ）ｎ−Ｕ＋Ｖ−を有することができ、式中、Ｗはヒドロカルビレン、置換ヒドロカルビレン、ヘテロ原子含有ヒドロカルビレン、又は置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビレンから選択され、Ｕは、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、又は置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビルで置換された正に荷電した第１５族又は第１６族元素であり、Ｖは負に荷電した対イオンであり、ｎは０又は１であり、
式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｒ１、及びＲ２の任意の２つ以上は一緒になって１つ以上の環式基を形成することができ、更に、式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｒ１、及びＲ２の任意の１つ以上は担持体に結合され得る、請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
前記少なくとも２つのイソシアナート基を含む少なくとも１つの化合物が、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、官能化ヒドロカルビル化合物、又はそれらの混合物から選択される化合物である、請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
前記少なくとも２つのイソシアナート基を含む少なくとも１つの化合物が、少なくとも１つのジイソシアナート化合物、トリイソシアナート化合物、ポリイソシアナート化合物、又はそれらの混合物から選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
前記少なくとも２つのイソシアナート基を含む少なくとも１つの化合物が、ジイソシアナート化合物又はその混合物である、請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
基材材料への樹脂組成物の接着性を改善するための方法であって、
少なくとも１つの環式オレフィンと、少なくとも１つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒と、少なくとも２つのイソシアナート基を含有する少なくとも１つの化合物を含む少なくとも１つの接着促進剤と、少なくとも１つの機能性エラストマーとを組み合わせて樹脂組成物を形成する工程と、
前記樹脂組成物を前記基材材料に接触させる工程と、
前記樹脂組成物を、前記環式オレフィンのオレフィンメタセシス反応を促進するのに有効な条件にさらす工程と、を含み、
前記少なくとも１つの機能性エラストマーが無水マレイン酸グラフトスチレン−エチレン／ブチレン−スチレン水素化コポリマーである、方法。
【請求項９】
前記少なくとも１つの環式オレフィンが、歪みのある環式オレフィン、歪んでいない環式オレフィン、ジエン、及び不飽和ポリマー、又はそれらの組み合わせから選択され、前記環式オレフィンは、官能基を含有することができるか、又はハロゲン、ヒドロキシル、ヒドロカルビル、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アリールオキシ、アラルキルオキシ、アルカリールオキシ、アシル、アシルオキシ、アルコキシカルボニル、アルキルカルボナート、アリールカルボナート、カルボキシ、カルボキシレート、カルバモイル、アルキル置換カルバモイル、ハロアルキル置換カルバモイル、アリール置換カルバモイル、チオカルバモイルアルキル置換チオカルバモイル、アリール置換チオカルバモイル、カルバミド、シアノ、シアナート、チオシアナート、ホルミル、チオホルミル、アミノ、アルキル置換アミノ、アリール置換アミノ、アルキルアミド、アリールアミド、イミノ、アルキルイミノ、アリールイミノ、ニトロ、ニトロソ、スルホ、スルホナート、アルキルスルファニル、アリールスルファニル、アルキルスルフィニル、アリールスルフィニル、アルキルスルホニル、アルキルアミノスルホニル、アリールスルホニル、ボリル、ボロノ、ボロナート、ホスホノ、ホスホナート、ホスフィナート、ホスホ、ホスフィノ、又はそれらの組み合わせから選択される基で置換され得る、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記少なくとも１つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒が、式（Ｉ）の構造を有する第８族遷移金属錯体であり、
【化２】
0006787907.tif 000066
式中、
Ｍは第８族遷移金属であり、
Ｌ１、Ｌ２及びＬ３は中性電子供与体配位子から独立して選択され、
Ｌ３が存在してもしなくてもよいようにｎは０又は１であり、
ｍは０、１又は２であり、
ｋは０又は１であり、
Ｘ１及びＸ２は、独立して、アニオン性配位子であり、
Ｒ１及びＲ２は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、及び官能基から独立して選択され、Ｒ１及びＲ２の一方又は両方は構造式-（Ｗ）ｎ−Ｕ＋Ｖ−を有することができ、式中、Ｗはヒドロカルビレン、置換ヒドロカルビレン、ヘテロ原子含有ヒドロカルビレン、又は置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビレンから選択され、Ｕは、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、又は置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビルで置換された正に荷電した第１５族又は第１６族元素であり、Ｖは負に荷電した対イオンであり、ｎは０又は１であり、
式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｒ１、及びＲ２の任意の２つ以上は一緒になって１つ以上の環式基を形成することができ、更に、式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｒ１、及びＲ２の任意の１つ以上は担持体に結合され得る、請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
前記少なくとも２つのイソシアナート基を含む少なくとも１つの化合物が、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、官能化ヒドロカルビル化合物、又はそれらの混合物から選択される、請求項８に記載の方法。
【請求項１２】
前記少なくとも２つのイソシアナート基を含む少なくとも１つの化合物が、少なくとも１つのジイソシアナート、トリイソシアナート、ポリイソシアナート化合物、又はそれらの混合物から選択される、請求項８に記載の方法。
【請求項１３】
前記少なくとも２つのイソシアナート基を含む少なくとも１つの化合物が、ジイソシアナート化合物又はその混合物である、請求項８に記載の方法。
【請求項１４】
少なくとも１つの環式オレフィンと、少なくとも１つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒と、少なくとも２つのイソシアナート基を含む少なくとも１つの化合物を含む少なくとも１つの接着促進剤と、少なくとも１つの基材材料と、少なくとも１つの機能性エラストマーとを含む少なくとも１つの樹脂組成物を含み、前記少なくとも１つの機能性エラストマーが無水マレイン酸グラフトスチレン−エチレン／ブチレン−スチレン水素化コポリマーである、製品。
【請求項１５】
前記少なくとも１つの環式オレフィンが、歪みのある環式オレフィン、歪んでいない環式オレフィン、ジエン、及び不飽和ポリマー、又はそれらの組み合わせから選択され、前記環式オレフィンは、官能基を含有することができるか、又はハロゲン、ヒドロキシル、ヒドロカルビル、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アリールオキシ、アラルキルオキシ、アルカリールオキシ、アシル、アシルオキシ、アルコキシカルボニル、アルキルカルボナート、アリールカルボナート、カルボキシ、カルボキシレート、カルバモイル、アルキル置換カルバモイル、ハロアルキル置換カルバモイル、アリール置換カルバモイル、チオカルバモイルアルキル置換チオカルバモイル、アリール置換チオカルバモイル、カルバミド、シアノ、シアナート、チオシアナート、ホルミル、チオホルミル、アミノ、アルキル置換アミノ、アリール置換アミノ、アルキルアミド、アリールアミド、イミノ、アルキルイミノ、アリールイミノ、ニトロ、ニトロソ、スルホ、スルホナート、アルキルスルファニル、アリールスルファニル、アルキルスルフィニル、アリールスルフィニル、アルキルスルホニル、アルキルアミノスルホニル、アリールスルホニル、ボリル、ボロノ、ボロナート、ホスホノ、ホスホナート、ホスフィナート、ホスホ、ホスフィノ、又はそれらの組み合わせから選択される基で置換され得る、請求項１４に記載の製品。
【請求項１６】
前記少なくとも１つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒が、式（Ｉ）の構造を有する第８族遷移金属錯体であり、
【化３】
0006787907.tif 000067
式中、
Ｍは第８族遷移金属であり、
Ｌ１、Ｌ２及びＬ３は中性電子供与体配位子から独立して選択され、
Ｌ３が存在してもしなくてもよいようにｎは０又は１であり、
ｍは０、１又は２であり、
ｋは０又は１であり、
Ｘ１及びＸ２は、独立して、アニオン性配位子であり、
Ｒ１及びＲ２は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、及び官能基から独立して選択され、Ｒ１及びＲ２の一方又は両方は構造式-（Ｗ）ｎ−Ｕ＋Ｖ−を有することができ、Ｗはヒドロカルビレン、置換ヒドロカルビレン、ヘテロ原子含有ヒドロカルビレン、又は置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビレンであり、Ｕは、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、又は置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビルで置換された正に荷電した第１５族又は第１６族元素であり、Ｖは負に荷電した対イオンであり、ｎは０又は１であり、
式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｒ１、及びＲ２の任意の２つ以上は一緒になって１つ以上の環式基を形成することができ、更に、式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｒ１、及びＲ２の任意の１つ以上は担持体に結合され得る、請求項１４に記載の製品。
【請求項１７】
前記少なくとも２つのイソシアナート基を含む少なくとも１つの化合物が、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、官能化ヒドロカルビル化合物、又はそれらの混合物から選択される、請求項１４に記載の製品。
【請求項１８】
前記少なくとも２つのイソシアナート基を含む少なくとも１つの化合物が、少なくとも１つのジイソシアナート、トリイソシアナート、ポリイソシアナート化合物、又はそれらの混合物から選択される、請求項１４に記載の製品。
【請求項１９】
前記少なくとも２つのイソシアナート基を含む少なくとも１つの化合物が、ジイソシアナート化合物又はその混合物である、請求項１４に記載の製品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願
本出願は、２０１５年２月１２日に出願された米国仮特許出願第６２／１１５，２７０号の利益を主張し、その内容は参照により本明細書に援用される。
【背景技術】
【０００２】
技術分野
本発明は、基材材料へのオレフィンメタセシス組成物の接着性を改善するため及びポリマー・マトリックス複合材の衝撃特性（例えば、衝撃靱性又は衝撃強度）を改善するための方法及び組成物に関する。より具体的には、本発明は、基材材料への開環メタセシス重合（ＲＯＭＰ）組成物の接着性を改善するため及びＲＯＭＰポリマー・マトリックス複合材の衝撃特性（例えば、衝撃靱性又は衝撃強度）を改善するための方法及び組成物、  並びにＲＯＭＰを介したポリマー物品（例えば、ポリマー複合材物品）の製造に関する。本発明のメタセシス反応によって生成されたポリマー生成物は、広範囲の材料及び複合材用途に利用することができる。本発明は、ポリマー及び材料の化学並びに製造の分野において有用である。
【０００３】
背景技術
ポリマー・マトリックス複合材は、特性の独特の組み合わせを提供し、広範囲の用途に有用である。そのような複合材は、様々な粒子状又は繊維状の充填剤又は補強材を用いて、熱硬化性又は熱可塑性のいずれかのポリマー・マトリックス材料を使用して作製することができる。一般に、ポリマー・マトリックス材料と様々な粒子状又は繊維状基材の表面との間に強い接着性を有することは有利であり、ポリマー・マトリックスへの接着性を最適化するための基材の仕上げ及び他の処理に関しては、かなりの技術がある。例えば、長繊維補強複合材の製造では、ポリマー・マトリックスと繊維補強材との接着性の改善は、材料性能の向上をもたらす。良好な接着性は、層間剥離又は他の接着破損形態によって破損が生じる可能性がある場合に特に重要である。
【０００４】
それらの各々の開示が参照により本明細書に援用される米国特許第５，８４０，２３８号、同第６，３１０，１２１号、及び同第６，５２５，１２５号に記載されているように、オレフィンメタセシスプロセスによって生成されたポリマーは、複合マトリックス材料として有望である。特に有益な用途は、環式オレフィンのＲＯＭＰによって生成されるポリマーである。環式オレフィン樹脂配合物の低粘度、及びＲＯＭＰ動力学制御能力（例えば、それらの各々の開示が参照により本明細書に援用される米国特許第４，７０８，９６９号及び同第５，９３９，５０４号）は、複合材の加工及び製造を容易にし、ＲＯＭＰポリマーの耐腐食性及び高靭性は、良好な複合材耐久性をもたらす。加えて、ＲＯＭＰポリマーの特定の特性、例えば、機械的強度及び剛性、熱変形温度及び耐溶剤性は、熱処理により誘導される架橋によって（例えば、参照により本明細書にその開示が援用される米国特許第４，９０２，５６０号）、又は過酸化物の添加によって化学的に（例えば、参照により本明細書にその開示が援用される米国特許第５，７２８，７８５号）、更に増強され得る。
【０００５】
商業的に重要なＲＯＭＰ樹脂配合物は、一般に、ジシクロペンタジエン（ＤＣＰＤ）、ノルボルネン、シクロオクタジエン（ＣＯＤ）、及び種々のシクロアルケンのような容易に入手可能で安価な環式オレフィンに基づいている。しかしながら、極性官能基化学に基づく従来の樹脂系（例えば、エポキシ樹脂、アクリレート樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂）とは対照的に、これらの非極性ＲＯＭＰ樹脂は、一般的な炭素、ガラス、又は鉱物充填剤及び補強材の比較的極性の表面に対して、固有の不十分な接着性を有する。ＲＯＭＰポリマーの電気的及び機械的特性の改善のためにそのような樹脂配合物に様々なシランを添加することは、米国特許第５，８４０，２３８号、同第６，００１，９０９号、及び同第７，３３９，００６号に記載されており、それらの各々の開示は参照により本明細書に援用される。しかしながら、多くの広く使用されている市販のシランはＲＯＭＰポリマーに最適な特性を与えず、シランが高いメタセシス活性を有する基を含む場合にのみ最大の増強が得られる（様々なメタセシス活性基の相対反応性は、Ｊ．  Ａｍ．  Ｃｈｅｍ．  Ｓｏｃ．，  ２００３，  １２５，  １１３６０−１１３７０に記載されている）。
【０００６】
参照により本明細書にその開示が援用される国際特許出願ＰＣＴ／ＵＳ１２／４２８５０号に記載されているように、少なくとも２つのイソシアナート基を含有する化合物を含む接着促進剤の添加が、例えば炭素及びガラス補強材のような基材材料へのオレフィンメタセシス（例えばＲＯＭＰ）組成物の接着性の有益な改善をもたらすことが発見された。国際特許出願ＰＣＴ／ＵＳ１２／４２８５０号によると、ＲＯＭＰポリマー・マトリックスの接着性を改善した少なくとも２つのイソシアナート基を含有する化合物を含む接着促進剤の使用は、ＡＳＴＭ  Ｄ２３４４にしたがった短ビーム剪断法による測定において、そのような接着促進剤を含まないＲＯＭＰポリマー・マトリックスと比較して、基材材料へのＲＯＭＰポリマー・マトリックスの接着性の改善をもたらした。層間剪断強度（ＩＬＳＳ）は、複合材中のポリマー・マトリックスと基材材料との接着性及び／又は適合性の尺度である。    
【０００７】
国際特許出願ＰＣＴ／ＵＳ１２／４２８５０号は、少なくとも２つのイソシアナート基を含有する化合物が基材材料（例えば、炭素及び／又はガラス補強材）へのＲＯＭＰポリマー・マトリックスの接着性を改善するのに有効であることを実証しているが、ポリマー・マトリックスと基材との強い接着性を有すると同時に改善された衝撃特性（例えば、改善された衝撃強度又は改善された衝撃靱性）もまた有するＲＯＭＰポリマー・マトリックス複合材の作製に関する問題には具体的に対処していない。
【０００８】
衝撃性改良剤の使用により、ＲＯＭＰポリマーの衝撃特性（例えば、衝撃靱性又は衝撃強度）を改善することができることは、当該技術分野において周知である。当該技術分野で周知の、ＲＯＭＰポリマーと使用するための典型的な衝撃性改良剤としては、天然ゴム、ブチルゴム、ポリイソプレン、ポリブタジエン、ポリイソブチレン、エチレン−プロピレンコポリマー、スチレン−ブタジエン−スチレントリブロックゴム、ランダムスチレン−ブタジエンゴム、スチレン−イソプレン−スチレントリブロックゴム、スチレン−エチレン／ブチレン−スチレンコポリマー、  水素添加スチレン−エチレン／ブチレンコポリマー、スチレン−エチレン／プロピレン−スチレンコポリマー、エチレン−プロピレン−ジエンターポリマー、エチレン−酢酸ビニル、及びニトリルゴムが挙げられる。当該技術分野において周知の具体的な衝撃性改良剤としては、ポリブタジエンＤｉｅｎｅ  ５５ＡＣ１０（Ｆｉｒｅｓｔｏｎｅ）、ポリブタジエンＤｉｅｎｅ（登録商標）５５ＡＭ５（Ｆｉｒｅｓｔｏｎｅ）、ＥＰＤＭ  Ｒｏｙａｌｅｎｅ（登録商標）３０１Ｔ、ＥＰＤＭ  Ｂｕｎａ  Ｔ９６５０（Ｂａｙｅｒ）、水素添加スチレン−エチレン／ブチレン−スチレンコポリマーＫｒａｔｏｎ（登録商標）Ｇ１６５１Ｈ（Ｋｒａｔｏｎ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ  Ｕ．Ｓ．  ＬＬＣ）、Ｐｏｌｙｓａｒ（登録商標）Ｂｕｔｙｌ  ３０１（Ｂａｙｅｒ）、水素添加スチレン−エチレン／ブチレン−スチレンコポリマーＫｒａｔｏｎ  Ｇ１７２６Ｍ、Ｅｎｇａｇｅ（商標）８１５０エチレン−オクテンコポリマー（ＤｕＰｏｎｔ−Ｄｏｗ）、スチレン−ブタジエンＫｒａｔｏｎ  Ｄ１１８４、ＥＰＤＭ  Ｎｏｒｄｅｌ（登録商標）１０７０（ＤｕＰｏｎｔ−Ｄｏｗ）、ポリイソブチレンＶｉｓｔａｎｅｘ（登録商標）ＭＭＬ−１４０（Ｅｘｘｏｎ）、水素添加スチレン−エチレン／ブチレン−スチレンコポリマーＫｒａｔｏｎ  Ｇ１６５０Ｍ、水素添加スチレン−エチレン／ブチレン−スチレンコポリマーＫｒａｔｏｎ  Ｇ１６５７Ｍ、及びスチレン−ブタジエンブロックコポリマーＫｒａｔｏｎ  Ｄ１１０１が挙げられる。例えば、米国特許第４，５２０，１８１号、同第４，９４３，６２１号、及び同第６，８３８，４８６号は、ＲＯＭＰポリマーの衝撃特性（例えば、衝撃靭性又は衝撃強度）を改善するための衝撃性改良剤の使用を開示しており、この場合、典型的には１つ以上の衝撃性改良剤が環式オレフィン樹脂に溶解され、選択される衝撃性改良剤は重合反応を妨害しないものであるべきである。したがって、増強された衝撃特性（例えば、改善された衝撃靭性又は衝撃強度）を有するＲＯＭＰポリマー・マトリックス複合材を作製する場合、衝撃性改良剤が重合反応を妨害しないことが重要であり、かつまた、ＲＯＭＰポリマー・マトリックスと基材材料（例えば、ガラス及び／又はカーボン補強材）との間の接着を達成する接着促進剤の能力を衝撃性改良剤が妨害しないことも重要である。
【０００９】
驚くべきことに、本発明者らは、衝撃性改良剤としてＲＯＭＰポリマーとともに使用される、当該技術分野において周知の水素添加スチレン−エチレン／ブチレン−スチレンコポリマーが、少なくとも２つのイソシアナート基を含む接着促進剤がＲＯＭＰポリマー・マトリックスと複合材基材との間の接着性を達成する能力を妨害することがあり、それによって、重合された樹脂及び／又はポリマー・マトリックス複合材の機械的特性に悪影響を与えることを発見した。
【００１０】
したがって、当該技術分野及びそれらの関連用途において達成された進歩、特にオレフィンメタセシスポリマー（例えば、ＲＯＭＰポリマー）の特性における進歩にもかかわらず、ポリマー・マトリックス複合材、特にＲＯＭＰポリマー・マトリックス複合材の製造を含む多くの分野において、更なる改善の必要は引き続き存在している（そのような複合材は、ポリマー・マトリックスと基材材料（例えば、炭素及び／又はガラス補強材）との間の強い接着性を有すると同時に、増強された衝撃特性（例えば、改善された衝撃強度又は衝撃靭性）もまた有する）。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は、前述の問題の１つ以上に対処することを目的とし、少なくとも１つの環式オレフィンと、少なくとも２つのイソシアナート基を含む少なくとも１つの化合物を含む少なくとも１つの接着促進剤と  、少なくとも１つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒とを含む樹脂組成物における機能性エラストマーの使用に関するものであり、前記樹脂組成物を基材材料に接触させてポリマー・マトリックス複合材及び／又は重合樹脂の機械的特性の有用な改善を提供する。
【００１２】
より具体的には、本発明者らは、樹脂組成物、特に、少なくとも１つの環式オレフィンと、少なくとも２つのイソシアナート基を含む少なくとも１つの化合物を含む少なくとも１つの接着促進剤と  、少なくとも１つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒とを含むＲＯＭＰ組成物への本発明による機能性エラストマーの添加が、前記ＲＯＭＰ組成物を基材材料と接触させた場合に、基材材料への樹脂組成物の接着性における有用な改善を提供するとともに、ポリマー・マトリックス複合材及び／又は重合樹脂の衝撃特性（例えば、衝撃強度又は衝撃靭性）の有用な改善を提供することを発見した。
【００１３】
以下に記述する本発明による機能性エラストマーは、一般に、無水マレイン酸グラフトスチレン−エチレン／ブチレン−スチレン水素化コポリマー（例えば、Ｋｒａｔｏｎ  ＦＧ１９０１Ｇ及びＫｒａｔｏｎ  ＦＧ１９２４Ｇ）からなる。
【００１４】
一実施形態では、本発明は、基材材料（例えば、炭素及び／又はガラス補強材）への例えばＲＯＭＰ組成物のような樹脂組成物の接着性を改善するための及び例えばＲＯＭＰポリマー・マトリックス複合材のようなポリマー・マトリックス複合材の衝撃特性を改善するための組成物を提供し、本発明の機能性エラストマーは、少なくとも１つの環式オレフィン、少なくとも２つのイソシアナート基を含有する少なくとも１つの化合物を含む少なくとも１つの接着促進剤、及び少なくとも１つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒（例えば、環式オレフィンメタセシス触媒）と組み合わされることにより、改善された機械的特性を有する組成物を形成する。
【００１５】
別の実施形態では、本発明は、基材材料（例えば、炭素及び／又はガラス補強材）への例えばＲＯＭＰ組成物のような樹脂組成物の接着性を改善するため及び例えばＲＯＭＰポリマー・マトリックス複合材のようなポリマー・マトリックス複合材の衝撃特性を改善するための組成物を提供し、本発明の機能性エラストマーは、少なくとも１つの環式オレフィン、少なくとも２つのイソシアナート基を含有する少なくとも１つの化合物を含む少なくとも１つの接着促進剤、少なくとも１つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒（例えば、環式オレフィンメタセシス触媒）、及び基材材料と組み合わされることにより、改善された機械的特性を有する組成物を形成する。
【００１６】
別の実施形態では、本発明は、基材材料（例えば、炭素及び／又はガラス補強材）への例えばＲＯＭＰ組成物のような樹脂組成物の接着性を改善するため及び例えばＲＯＭＰポリマー・マトリックス複合材のようなポリマー・マトリックス複合材の衝撃特性を改善するための方法を提供し、本発明の機能性エラストマーは、少なくとも１つの環式オレフィン、少なくとも２つのイソシアナート基を含有する少なくとも１つの化合物を含む少なくとも１つの接着促進剤、及び少なくとも１つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒（例えば、環式オレフィンメタセシス触媒）と組み合わされ、それにより、改善された衝撃特性を有する樹脂組成物を形成し、この樹脂組成物を基材材料（例えば、ガラス及び／又は炭素基材材料）と接触させることにより、改善された機械的特性を有するポリマー・マトリックス複合材を形成する。
【００１７】
別の実施形態では、本発明は、基材材料（例えば、炭素及び／又はガラス補強材）への、例えばＲＯＭＰ組成物のような樹脂組成物の接着性を改善するため及び例えばＲＯＭＰポリマー・マトリックス複合材のようなポリマー・マトリックス複合材の衝撃特性を改善するための方法を提供し、本発明の機能性エラストマーは、少なくとも１つの環式オレフィン、少なくとも２つのイソシアナート基を含有する少なくとも１つの化合物を含む少なくとも１つの接着促進剤、少なくとも１つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒（例えば、環式オレフィンメタセシス触媒）、及び基材材料と組み合わされ、それにより、改善された特性を有する樹脂基材複合材を形成する。
【００１８】
別の実施形態では、本発明は、少なくとも１つの環式オレフィンと、少なくとも１つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒と、少なくとも２つのイソシアナート基を含有する少なくとも１つの化合物を含む少なくとも１つの接着促進剤と、少なくとも１つの機能性エラストマーが無水マレイン酸グラフトスチレン−エチレン／ブチレン−スチレン水素化コポリマーである少なくとも１つの機能性エラストマーとを含む組成物を提供する。
【００１９】
別の実施形態では、本発明は、少なくとも１つの環式オレフィンと、少なくとも１つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒と、少なくとも２つのイソシアナート基を含有する少なくとも１つの化合物を含む少なくとも１つの接着促進剤と、少なくとも１つの基材材料と、少なくとも１つの機能性エラストマーが無水マレイン酸グラフトスチレン−エチレン／ブチレン−スチレン水素化コポリマーである少なくとも１つの機能性エラストマーとを含む組成物を提供する。
【００２０】
別の実施形態では、本発明は、ポリマー・マトリックス複合材の衝撃特性を改善するための方法を提供し、この方法は、少なくとも１つの環式オレフィンと、少なくとも１つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒と、少なくとも２つのイソシアナート基を含有する少なくとも１つの化合物を含む少なくとも１つの接着促進剤と、少なくとも１つの機能性エラストマーとを組み合わせて樹脂組成物を形成する工程と、この樹脂組成物を基材材料と接触させる工程と、この樹脂組成物を、環式オレフィンのオレフィンメタセシス反応を促進するのに有効な条件にさらす工程とを有する（ここで、少なくとも１つの機能性エラストマーは、無水マレイン酸グラフトスチレン−エチレン／ブチレン−スチレン水素化コポリマーである）。
【００２１】
別の実施形態では、本発明は、基材材料への樹脂組成物の接着性を改善するための方法を提供し、この方法は、少なくとも１つの環式オレフィンと、少なくとも１つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒と、少なくとも２つのイソシアナート基を含有する少なくとも１つの化合物を含む少なくとも１つの接着促進剤と、少なくとも１つの機能性エラストマーとを組み合わせて樹脂組成物を形成する工程と、この樹脂組成物を基材材料と接触させる工程と、この樹脂組成物を、環式オレフィンのオレフィンメタセシス反応を促進するのに有効な条件にさらす工程とを有し、ここで、少なくとも１つの機能性エラストマーは、無水マレイン酸グラフトスチレン−エチレン／ブチレン−スチレン水素化コポリマーである。
【００２２】
別の実施形態では、本発明は、ポリマー・マトリックス複合材の衝撃特性を改善するための方法を提供し、この方法は、少なくとも１つの環式オレフィンと、少なくとも１つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒と、少なくとも２つのイソシアナート基を含有する少なくとも１つの化合物を含む少なくとも１つの接着促進剤と、少なくとも１つの機能性エラストマーとを組み合わせてＲＯＭＰ組成物を形成する工程と、ＲＯＭＰ組成物を基材材料と接触させる工程と、ＲＯＭＰ組成物を、環式オレフィンのオレフィンメタセシス反応を促進するのに有効な条件にさらす工程とを有する（ここで、少なくとも１つの機能性エラストマーは、無水マレイン酸グラフトスチレン−エチレン／ブチレン−スチレン水素化コポリマーである）。
【００２３】
別の実施形態では、本発明は、基材材料へのＲＯＭＰ組成物の接着性を改善するための方法を提供し、この方法は、少なくとも１つの環式オレフィンと、少なくとも１つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒と、少なくとも２つのイソシアナート基を含有する少なくとも１つの化合物を含む少なくとも１つの接着促進剤と、少なくとも１つの機能性エラストマーとを組み合わせてＲＯＭＰ組成物を形成する工程と、ＲＯＭＰ組成物を基材材料と接触させる工程と、ＲＯＭＰ組成物を、環式オレフィンのオレフィンメタセシス反応を促進するのに有効な条件にさらす工程とを有し、ここで、少なくとも１つの機能性エラストマーは、無水マレイン酸グラフトスチレン−エチレン／ブチレン−スチレン水素化コポリマーである。
【００２４】
別の実施形態では、本発明は、ポリマー・マトリックス複合材の衝撃特性を改善するための方法を提供し、この方法は、少なくとも１つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒と樹脂組成物とを組み合わせてＲＯＭＰ組成物を形成する工程において、この樹脂組成物が少なくとも１つの環式オレフィンと、少なくとも２つのイソシアナート基を含有する少なくとも１つの化合物を含む少なくとも１つの接着促進剤と、少なくとも１つの機能性エラストマーとを含んでいる、工程と、ＲＯＭＰ組成物を基材材料と接触させる工程と、ＲＯＭＰ組成物を環式オレフィンのオレフィンメタセシス反応を促進するのに有効な条件にさらす工程とを有し、ここで、少なくとも１つの機能性エラストマーは、無水マレイン酸グラフトスチレン−エチレン／ブチレン−スチレン水素化コポリマーである。
【００２５】
別の実施形態では、本発明は、基材材料へのＲＯＭＰ組成物の接着性を改善するための方法を提供し、この方法は、少なくとも１つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒と樹脂組成物とを組み合わせてＲＯＭＰ組成物を形成する工程において、樹脂組成物が少なくとも１つの環式オレフィンと、少なくとも２つのイソシアナート基を含有する少なくとも１つの化合物を含む少なくとも１つの接着促進剤と、少なくとも１つの機能性エラストマーとを含んでいる、工程と、ＲＯＭＰ組成物を基材材料と接触させる工程と、ＲＯＭＰ組成物を環式オレフィンのオレフィンメタセシス反応を促進するのに有効な条件にさらす工程とを有し、ここで、少なくとも１つの機能性エラストマーは、無水マレイン酸グラフトスチレン−エチレン／ブチレン−スチレン水素化コポリマーである。
【００２６】
別の実施形態では、本発明は、少なくとも１つの環式オレフィンと、少なくとも１つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒と、少なくとも２つのイソシアナート基を含む少なくとも１つの化合物を含む少なくとも１つの接着促進剤と、少なくとも１つの基材材料と、少なくとも１つの機能性エラストマーが無水マレイン酸グラフトスチレン−エチレン／ブチレン−スチレン水素化コポリマーである少なくとも１つの機能性エラストマーとを含む少なくとも１つの樹脂組成物を含む製品を提供する。
【００２７】
別の実施形態では、本発明は、少なくとも１つの環式オレフィンと、少なくとも１つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒と、少なくとも２つのイソシアナート基を含む少なくとも１つの化合物を含む少なくとも１つの接着促進剤と、少なくとも１つの基材材料と、少なくとも１つの機能性エラストマーが無水マレイン酸グラフトスチレン−エチレン／ブチレン−スチレン水素化コポリマーである少なくとも１つの機能性エラストマーとを含む少なくとも１つのＲＯＭＰ組成物を含む製品を提供する。
【００２８】
別の実施形態では、本発明は、少なくとも１つの環式オレフィンと、少なくとも１つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒と、少なくとも２つのイソシアナート基を含有する少なくとも１つの化合物を含む少なくとも１つの接着促進剤と、少なくとも１つの機能性エラストマーが無水マレイン酸グラフトスチレン−エチレン／ブチレン−スチレン水素化コポリマーである少なくとも１つの機能性エラストマーとを含むＲＯＭＰ組成物を提供する。
【００２９】
別の実施形態では、本発明は、少なくとも１つの環式オレフィンと、少なくとも１つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒と、少なくとも２つのイソシアナート基を含む少なくとも１つの化合物を含む少なくとも１つの接着促進剤と、少なくとも１つの基材材料と、少なくとも１つの機能性エラストマーが無水マレイン酸グラフトスチレン−エチレン／ブチレン−スチレン水素化コポリマーである少なくとも１つの機能性エラストマーとを含むＲＯＭＰ組成物を提供する。
【００３０】
別の実施形態では、本発明は、少なくとも１つの環式オレフィンと、少なくとも１つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒と、少なくとも２つのイソシアナート基を含有する少なくとも１つの化合物を含む少なくとも１つの接着促進剤と、少なくとも１つの機能性エラストマーが無水マレイン酸グラフトスチレン−エチレン／ブチレン−スチレン水素化コポリマーである少なくとも１つの機能性エラストマーとを含む樹脂組成物を提供する。
【００３１】
別の実施形態では、本発明は、少なくとも１つの環式オレフィンと、少なくとも１つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒と、少なくとも２つのイソシアナート基を含む少なくとも１つの化合物を含む少なくとも１つの接着促進剤と、少なくとも１つの基材材料と、少なくとも１つの機能性エラストマーが無水マレイン酸グラフトスチレン−エチレン／ブチレン−スチレン水素化コポリマーである少なくとも１つの機能性エラストマーとを含む樹脂組成物を提供する。
【００３２】
別の実施形態では、本発明は、樹脂組成物と少なくとも１つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒とを含み、その樹脂組成物は少なくとも１つの環式オレフィンと、少なくとも２つのイソシアナート基を含む少なくとも１つの化合物を含む少なくとも１つの接着促進剤と、少なくとも１つの機能性エラストマーが無水マレイン酸グラフトスチレン−エチレン／ブチレン−スチレン水素化コポリマーである少なくとも１つの機能性エラストマーとを含むＲＯＭＰ組成物を提供する。
【００３３】
別の実施形態では、本発明は樹脂組成物と少なくとも１つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒とを含み、その樹脂組成物は少なくとも１つの環式オレフィンと、少なくとも２つのイソシアナート基を含む少なくとも１つの化合物を含む少なくとも１つの接着促進剤と、少なくとも１つの基材材料と、少なくとも１つの機能性エラストマーが無水マレイン酸グラフトスチレン−エチレン／ブチレン−スチレン水素化コポリマーである少なくとも１つの機能性エラストマーとを含むＲＯＭＰ組成物を提供する。
【００３４】
別の実施形態では、本発明は、本明細書に開示されている実施形態又は方法のいずれかによって作製された製品を提供する。
【００３５】
本発明は、官能化されていても官能化されていなくてもよく、置換されていても置換されていなくてもよい環式オレフィンと、少なくとも１つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒（例えば、環式オレフィンメタセシス触媒）と、少なくとも２つのイソシアナート基を含有する少なくとも１つの化合物を含む接着促進剤と、基材材料と、本発明の機能性エラストマーとからなる樹脂組成物、例えばＲＯＭＰ組成物を更に目的とする。本発明の樹脂組成物は、取り扱い及び使用が容易であり、基材材料と混合されて硬化されたときに、改善された特性を有する樹脂基材複合材を形成する。これらの樹脂組成物を、樹脂組成物に基材材料を加えるのでなくむしろ基材材料と接触させて、あるいは基材材料に加えてから更に基材材料と接触させて、次いで、少なくとも１つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒と接着促進剤と機能性エラストマーと、任意選択で加えられた基材材料の存在下で、及び／又はその基材材料との接触下で、環式オレフィンのオレフィンメタセシス反応を促進するのに有効な条件にさらすこができる。
【００３６】
本発明は、官能化されていても官能化されていなくてもよく、置換されていても置換されていなくてもよい環式オレフィンと、少なくとも１つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒と、本発明の機能性エラストマーと、少なくとも２つのイソシアナート基を含有する少なくとも１つの化合物を含む接着促進剤と、例えばガラス基材材料又は炭素基材材料のような基材材料からなる、例えばＲＯＭＰ組成物などの樹脂組成物を更に目的とする。その機能性エラストマーは、樹脂組成物が基材材料の存在下でメタセシス触媒条件にさらされたときに、基材材料への接着性を改善するために及びポリマー・マトリックス複合材の衝撃特性（例えば衝撃強度又は衝撃靭性）を改善するために有効な量で存在するべきである。その接着促進剤は化合物の混合物であってもよく、各化合物は少なくとも２つのイソシアナート基を含有する。その機能性エラストマーは、機能性エラストマーの混合物であってもよく、各機能性エラストマーは、無水マレイン酸グラフトスチレン−エチレン／ブチレン−スチレン水素化コポリマー（例えば、Ｋｒａｔｏｎ  ＦＧ１９０１Ｇ及びＫｒａｔｏｎ  ＦＧ１９２４Ｇ）からなる。
【００３７】
本発明の機能性エラストマーの添加は、本発明の機能性エラストマーが含まれないことを除いて同じである樹脂組成物と比較して、ＲＯＭＰポリマー・マトリックス複合材の衝撃特性に有益な改善を提供する。更に、本発明の機能性エラストマーの添加は、本発明の機能性エラストマーが含まれないことを除いて同じである樹脂組成物と比較して、基材材料（例えば、炭素及び／又はガラス基材材料）へのオレフィンメタセシス（例えば、ＲＯＭＰ）組成物の接着性にも有益な改善を提供する。
【００３８】
本発明のこれら及び他の態様は、以下の発明を実施するための形態及び実施例に照らして当業者には明らかであろう。
開示された発明の詳細説明
用語及び定義
【００３９】
別段の指示がない限り、本発明は、特定の反応物、置換基、触媒、樹脂組成物、反応条件などに限定されず、それらは様々であり得る。また、本明細書で使用される用語は、特定の実施形態のみを説明するためのものであり、限定的なものとして解釈されるべきではないことも理解されたい。
【００４０】
本明細書及び添付の特許請求の範囲で使用されている単数形「ａ」、「ａｎ」及び「ｔｈｅ」は、文脈において明確に示されていない限り、複数の指示対象を含む。したがって、例えば、「α−オレフィン」への言及は、単一のα−オレフィン、及び２つ以上のα−オレフィンの組合せ又は混合物を含み、「置換基」への言及は、単一の置換基及び２つ以上の置換基を包含する。
【００４１】
本明細書及び添付の特許請求の範囲で使用されている「例えば」、「〜のような」、「〜など」、又は「〜が含まれる／挙げられる」という用語は、一般的な主題をより明確にする例を導入する意味で用いられている。別段の指示がない限り、これらの例は本発明の理解の助けとしてのみ提供されており、いかなる限定をも意味しない。
【００４２】
本明細書及び添付の特許請求の範囲において多くの用語への言及がなされるが、それらは以下の意味を有するものと定義される。
【００４３】
本明細書で使用されている用語「アルキル」は、必ずではないが典型的には、１〜約２４個の炭素原子、好ましくは１〜約１２個の炭素原子を含む、メチル、エチル、ｎ−プロピル、  イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、オクチル、デシルなどのような直鎖状、分岐状又は環式の飽和炭化水素基、並びにシクロペンチル、シクロヘキシルなどのようなシクロアルキル基を指す。同様に、必ずではないが一般に、本明細書のアルキル基は１〜約１２個の炭素原子を含む。用語「低級アルキル」は、１〜６個の炭素原子のアルキル基を指し、特定の用語「シクロアルキル」は、典型的には４〜８個、好ましくは５〜７個の炭素原子を有する環式アルキル基を指す。用語「置換アルキル」は、１つ以上の置換基で置換されたアルキルを指し、「ヘテロ原子含有アルキル」及び「ヘテロアルキル」という用語は、少なくとも１個の炭素原子がヘテロ原子で置換されたアルキルを指す。別段の指示がない限り、用語「アルキル」及び「低級アルキル」には、それぞれ、直鎖状、分岐状、環式、未置換、置換、及び／又はヘテロ原子含有アルキル及び低級アルキルが含まれる。
【００４４】
本明細書で使用されている「アルキレン」という用語は、二官能性の直鎖状、分岐状又は環式アルキル基を指し、「アルキル」は上記で定義したとおりである。
【００４５】
本明細書で使用されている「アルケニル」という用語は、例えばエテニル、ｎ−プロペニル、イソプロペニル、ｎ−ブテニル、イソブテニル、オクテニル  、デセニル、テトラデセニル、ヘキサデセニル、エイコセニル、テトラコセニルなどのような、少なくとも１つの二重結合を含む２〜約２４個の炭素原子の直鎖状、分岐状、又は環式の炭化水素基を指す。本明細書の好ましいアルケニル基は２〜約１２個の炭素原子を含む。用語「低級アルケニル」は、２〜６個の炭素原子のアルケニル基を指し、特定の用語「シクロアルケニル」は、好ましくは５〜８個の炭素原子を有する環式アルケニル基を指す。用語「置換アルケニル」は、１つ以上の置換基で置換されたアルケニルを指し、「ヘテロ原子含有アルケニル」及び「ヘテロアルケニル」という用語は、少なくとも１個の炭素原子がヘテロ原子で置換されたアルケニルを指す。別段の指示がない限り、用語「アルケニル」及び「低級アルケニル」には、それぞれ、直鎖状、分岐状、環式、未置換、置換、及び／又はヘテロ原子含有アルケニル及び低級アルケニルが含まれる。
【００４６】
本明細書で使用されている「アルケニレン」という用語は、二官能性の直鎖状、分岐状又は環式のアルケニル基を指し、「アルケニル」は上記で定義したとおりである。
【００４７】
本明細書で使用されている「アルキニル」という用語は、エチニル、ｎ−プロピニルなどのような、少なくとも１つの三重結合を含む２〜約２４個の炭素原子の直鎖状又は分岐状炭化水素基を指す。本明細書の好ましいアルキニル基は２〜約１２個の炭素原子を含む。用語「低級アルキニル」は、２〜６個の炭素原子のアルキニル基を指す。用語「置換アルキニル」は、１つ以上の置換基で置換されたアルキニルを指し、「ヘテロ原子含有アルキニル」及び「ヘテロアルキニル」という用語は、少なくとも１個の炭素原子がヘテロ原子で置換されたアルキニルを指す。別段の指示がない限り、用語「アルキニル」及び「低級アルキニル」には、それぞれ、直鎖状、分岐状、環式、未置換、置換、及び／又はヘテロ原子含有アルキニル及び低級アルキニルが含まれる。
【００４８】
本明細書で使用されている用語「アルコキシ」は、単一の末端エーテル連結を介して結合したアルキル基を指し、すなわち、「アルコキシ」基は、−Ｏ−アルキルとして表すことができ、アルキルは上記で定義したとおりである。用語「低級アルコキシ」基は、１〜６個の炭素原子を含むアルコキシ基を指す。類似して、「アルケニルオキシ」及び「低級アルケニルオキシ」は、それぞれ、単一の末端エーテル連結を介して結合されているアルケニル及び低級アルケニル基を指し、「アルキニルオキシ」及び「低級アルキニルオキシ」は、それぞれ、単一の末端エーテル連結を介して結合されているアルキニル及び低級アルキニル基を指す。
【００４９】
本明細書で使用されている「アリール」という用語は、別段特定されない限り、いっしょに縮合されているか、直接連結されているか、又は間接的に連結されている（異なる芳香族環がメチレン又はエチレン部分のような共通基に結合している）単一の芳香族環又は複数の芳香族環を含む芳香族置換基を指す。好ましいアリール基は５〜２４個の炭素原子を含み、特に好ましいアリール基は５〜１４個の炭素原子を含む。例示的なアリール基は、１つの芳香族環又は２つの縮合又は連結された芳香族環を含み、例えばフェニル、ナフチル、ビフェニル、ジフェニルエーテル、ジフェニルアミン、ベンゾフェノンなどである。以下に更に詳細に説明するように、「置換アリール」は、１つ以上の置換基で置換されたアリール部分を指し、用語「ヘテロ原子含有アリール」及び「ヘテロアリール」は、少なくとも１つの炭素原子がヘテロ原子で置換されているアリール置換基を指す。
【００５０】
本明細書で使用されている「アリールオキシ」という用語は、単一の末端エーテル連結を介して結合されているアリール基を指し、「アリール」は上記で定義した通りである。「アリールオキシ」基は、−Ｏ−アリールとして表すことができ、アリールは上記で定義したとおりである。好ましいアリールオキシ基は５〜２４個の炭素原子を含み、特に好ましいアリールオキシ基は５〜１４個の炭素原子を含む。アリールオキシ基の例としては、フェノキシ、ｏ−ハロ−フェノキシ、ｍ−ハロ−フェノキシ、ｐ  −ハロ  −フェロフェノキシ、ｏ−メトキシフェノキシ、ｍ−メトキシフェノキシ、ｐ−メトキシフェノキシ、２，４−ジメトキシフェノキシ  、３，４，５−トリメトキシ−フェノキシなどが挙げられる。
【００５１】
用語「アルカリール」は、アルキル置換基を有するアリール基を指し、用語「アラルキル」は、アリール置換基を有するアルキル基を指し、「アリール」及び「アルキル」は上記で定義したとおりである。好ましいアルカリル基及びアラルキル基は６〜２４個の炭素原子を含み、特に好ましいアルカリル基及びアラルキル基は６〜１６個の炭素原子を含む。アルカリル基としては、ｐ−メチルフェニル、２，４−ジメチルフェニル、ｐ−シクロヘキシルフェニル、２，７−ジメチルナフチル、７−シクロオクチルナフチル、３−エチル−シクロペンタ−１，４−ジエンなどが挙げられる、これらに限定されない。アラルキル基の例としては、ベンジル、２−フェニルエチル、３−フェニル−プロピル、４−フェニル−ブチル、５−フェニル−ペンチル、４−フェニルシクロヘキシル、４−ベンジルシクロヘキシル、４−フェニルシクロヘキシルメチル、４−ベンジルシクロヘキシルメチルなどが挙げられるが、これらに限定されない。「アルカリルオキシ」及び「アラルキルオキシ」という用語は、式−ＯＲの置換基を指し、式中、Ｒは、直前に定義したアルカリル又はアラルキルである。
【００５２】
「アシル」という用語は、式−（ＣＯ）−アルキル、−（ＣＯ）−アリール、（ＣＯ）−アラルキル、−（ＣＯ）−アルカリル、−（ＣＯ）−アルケニル、又は−（ＣＯ）−アルキニルを有する置換基を指し、「アルコキシ」という用語は、−Ｏ（ＣＯ）−アルキル、  −Ｏ（ＣＯ）−アリール、−Ｏ（ＣＯ）−アラルキル、−Ｏ（ＣＯ）−アルカリル、−Ｏ（ＣＯ）−アルケニル、−Ｏ（ＣＯ）−アルキニルを有する置換基を指し、「アルキル」、「アリール」、「アラルキル」、「アルカリル」、「アルケニル」、及び「アルキニル」は上記で定義されているとおりである。
【００５３】
用語「環式」及び「環」は、置換されていてもいなくてもよい及び／又はヘテロ原子含有でもそうでなくてもよい、及び／又は単環式、二環式、又は多環式であり得る、脂環式基又は芳香族基を指す。用語「脂環式」は、芳香族環式部分とは対照的に、脂肪族環式部分を指す従来の意味で使用されており、単環式、二環式、又は多環式であり得る。
【００５４】
用語「ハロ」及び「ハロゲン」は、クロロ、ブロモ、フルオロ、又はヨード置換基を指す従来の意味で使用される。
【００５５】
「ヒドロカルビル」は、１〜約３０個の炭素原子、好ましくは１〜約２４個の炭素原子、最も好ましくは１〜約１２個の炭素原子を含む一価のヒドロカルビルラジカルを指し、  アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基などの、直鎖状、分岐状、環式、飽和された、及び不飽和の種が含まれる。「低級ヒドロカルビル」という用語は、１〜６個の炭素原子、好ましくは１〜４個の炭素原子のヒドロカルビル基を意図し、「ヒドロカルビレン」という用語は、１〜約３０個の炭素原子、好ましくは１〜約２４個の炭素原子、最も好ましくは１〜約１２個の炭素原子を含む二価ヒドロカルビル部分を指し  、直鎖状、分岐状、環式、飽和された、及び不飽和の種が含まれる。用語「低級ヒドロカルビレン」は、１〜６個の炭素原子のヒドロカルビレン基を指す。「置換ヒドロカルビル」は、１つ以上の置換基で置換されたヒドロカルビルを指し、「ヘテロ原子含有ヒドロカルビル」及び「ヘテロヒドロカルビル」という用語は、少なくとも１個の炭素原子がヘテロ原子で置換されているヒドロカルビルを指す。同様に、「置換ヒドロカルビレン」は、１つ以上の置換基で置換されたヒドロカルビレンを指し、「ヘテロ原子含有ヒドロカルビレン」及び「ヘテロヒドロカルビレン」という用語は、少なくとも１個の炭素原子がヘテロ原子で置換されているヒドロカルビレンを指す。別段の指示がない限り、用語「ヒドロカルビル」及び「ヒドロカルビレン」は、それぞれ、置換及び／又はヘテロ原子含有ヒドロカルビル部分及びヘテロ原子含有ヒドロカルビレン部分を含むものと解釈されるべきである。
【００５６】
「ヘテロ原子含有ヒドロカルビル基」における「ヘテロ原子含有」という用語は、１個以上の炭素原子が炭素以外の原子、例えば窒素、酸素、硫黄、リン、又はケイ素、典型的には窒素、酸素又は硫黄で置換されている炭化水素分子又はヒドロカルビル分子フラグメントを指す。同様に、例えば、用語「ヘテロアルキル」は、ヘテロ原子を含有するアルキル置換基を指し、用語「ヘテロ環式」は、ヘテロ原子を含有する環式置換基を指し、用語「ヘテロアリール」及び「ヘテロ芳香族」は、それぞれ、ヘテロ原子を含有する「アリール」及び「芳香族」置換基を指す。「ヘテロ環式」基又は化合物は芳香族であっても芳香族でなくてもよく、更に、「ヘテロ環」は、「アリール」という用語に関して上述したように、単環式、二環式又は多環式であり得る。ヘテロアルキル基の例としては、アルコキシアリール、アルキルスルファニル置換アルキル、Ｎ−アルキル化アミノアルキルなどが挙げられるが、これらに限定されない。ヘテロアリール置換基の例としては、ピロリル、ピロリジニル、ピリジニル、キノリニル、インドリル、ピリミジニル、イミダゾリル、１，２，４−トリアゾリル、テトラゾリルなどが挙げられるがこれらに限定されず、ヘテロ原子含有脂環式基の例としては、ピロリジノ、モルホリノ、ピペラジノ  、ピペリジノなどが挙げられるがこれらに限定されない。
【００５７】
上記の定義のいくつかで示唆されているように、「置換ヒドロカルビル」、「置換アルキル」、「置換アリール」などにおける「置換」とは、ヒドロカルビル、アルキル、アリール、又は他の部分において、  炭素（又は他の）原子に結合した少なくとも１つの水素原子が、１つ以上の非水素置換基で置換されていることを意味する。そのような置換基の例としては、限定するものではないが、本明細書で「Ｆｎ」と称される官能基、例えば、ハロ、ヒドロキシル、スルフヒドリル、Ｃ１〜Ｃ２４アルコキシ、  Ｃ２〜Ｃ２４  アルケニルオキシ、Ｃ２〜Ｃ２４アルキニルオキシ、Ｃ５〜Ｃ２４アリールオキシ、Ｃ６〜Ｃ２４アラルキルオキシ、  Ｃ６〜Ｃ２４  アルカリルオキシ、アシル（Ｃ２〜Ｃ２４  アルキルカルボニル（−ＣＯ−アルキル）  及びＣ６〜Ｃ２４  アリールカルボニル（−ＣＯ−アリール）を含む）、アシルオキシ（−Ｏ−アシル（Ｃ２〜Ｃ２４  アルキルカルボニルオキシ（−Ｏ−ＣＯ−アルキル）  及び  Ｃ６〜Ｃ２４  アリールカルボニルオキシ（−Ｏ−ＣＯ−アリール）を含む）、Ｃ２〜Ｃ２４  アルコキシカルボニル（−（ＣＯ）−Ｏ−アルキル）、Ｃ６〜Ｃ２４  アリールオキシカルボニル（−（ＣＯ）−Ｏ−アリール）、ハロカルボニル（−ＣＯ）−Ｘで、式中  Ｘはハロ）、Ｃ２〜Ｃ２４  アルキルカルボナート（−Ｏ−（ＣＯ）−Ｏ−アルキル）、Ｃ６〜Ｃ２４  アリールカルボナート（−Ｏ−（ＣＯ）−Ｏ−アリール）、カルボキシ（−ＣＯＯＨ）、カルボキシラート（ＣＯＯ−）、カルバモイル（−（ＣＯ）−ＮＨ２）、モノ−（Ｃ１〜Ｃ２４  アルキル）−置換  カルバモイル（（ＣＯ）−ＮＨ（Ｃ１〜Ｃ２４  アルキル））、ジ−（Ｃ１〜Ｃ２４  アルキル）−置換  カルバモイル（−（ＣＯ）−Ｎ（Ｃ１〜Ｃ２４  アルキル）２）、モノ−（Ｃ１〜Ｃ２４  ハロアルキル）−置換  カルバモイル（−（ＣＯ）−ＮＨ（Ｃ１〜Ｃ２４  ハロアルキル））、ジ−（Ｃ１〜Ｃ２４  ハロアルキル）−置換  カルバモイル（−（ＣＯ）−Ｎ（Ｃ１〜Ｃ２４  ハロアルキル）２）、モノ−（Ｃ５〜Ｃ２４  アリール）−置換  カルバモイル（（ＣＯ）−ＮＨ−アリール）、ジ−（Ｃ５〜Ｃ２４  アリール）−置換  カルバモイル（−（ＣＯ）−Ｎ（Ｃ５〜Ｃ２４  アリール）２）、ジ−Ｎ−（Ｃ１〜Ｃ２４  アルキル）、Ｎ−（Ｃ５〜Ｃ２４  アリール）−置換  カルバモイル（−（ＣＯ）−Ｎ（Ｃ１〜Ｃ２４  アルキル）（Ｃ５〜Ｃ２４  アリール）、チオカルバモイル（−（ＣＳ）−ＮＨ２）、モノ−（Ｃ１〜Ｃ２４  アルキル）−置換チオカルバモイル（−（ＣＳ）−ＮＨ（Ｃ１〜Ｃ２４  アルキル））、ジ−（Ｃ１〜Ｃ２４  アルキル）−置換チオカルバモイル（−（ＣＳ）−Ｎ（Ｃ１〜Ｃ２４  アルキル）２）、モノ−（Ｃ５〜Ｃ２４  アリール）−置換  チオカルバモイル（−（ＣＳ）−ＮＨ−アリール）、ジ（Ｃ５〜Ｃ２４  アリール）−置換  チオカルバモイル（−（ＣＳ）−Ｎ（Ｃ５〜Ｃ２４  アリール）２）、ジ−Ｎ−（Ｃ１〜Ｃ２４  アルキル）、Ｎ−（Ｃ５〜Ｃ２４  アリール）−置換  チオカルバモイル（−（ＣＳ）−Ｎ（Ｃ１〜Ｃ２４  アルキル）（Ｃ５〜Ｃ２４  アリール）、カルバミド（−ＮＨ−（ＣＯ）−ＮＨ２）、シアノ（−Ｃ≡Ｎ）  、シアナート（−Ｏ−Ｃ≡Ｎ）、チオシアナート  （���Ｓ−Ｃ≡Ｎ）、イソシアナート（-Ｎ＝Ｃ＝Ｏ）、チオイソシアナート（-Ｎ＝Ｃ＝Ｓ）、ホルミル（−（ＣＯ）−Ｈ）、チオホルミル（（ＣＳ）−Ｈ）、アミノ（−ＮＨ２）、モノ−（Ｃ１〜Ｃ２４  アルキル）−置換  アミノ（−ＮＨ（Ｃ１〜Ｃ２４  アルキル）、ジ−（Ｃ１〜Ｃ２４  アルキル）−置換  アミノ（−Ｎ（Ｃ１〜Ｃ２４  アルキル）２）、モノ−（Ｃ５〜Ｃ２４  アリール）−置換  アミノ（−ＮＨ（Ｃ５〜Ｃ２４  アリール）、ジ−（Ｃ５〜Ｃ２４  アリール）−置換  アミノ（−Ｎ（Ｃ５〜Ｃ２４  アリール）２）、Ｃ２〜Ｃ２４  アルキルアミド（−ＮＨ−（ＣＯ）−アルキル）、Ｃ６〜Ｃ２４アリールアミド（−ＮＨ−（ＣＯ）−アリール）、イミノ（−ＣＲ＝ＮＨで、  Ｒ  は、限定するものではないが、水素、Ｃ１〜Ｃ２４  アルキル、Ｃ５〜Ｃ２４  アリール、Ｃ６〜Ｃ２４  アルカリール、Ｃ６〜Ｃ２４  アラルキル等を含む）、Ｃ２〜Ｃ２０  アルキルイミノ（ＣＲ＝Ｎ（アルキル）で、Ｒは、限定するものではないが、水素、Ｃ１〜Ｃ２４  アルキル、Ｃ５〜Ｃ２４アリール、Ｃ６〜Ｃ２４アルカリール、Ｃ６〜Ｃ２４アラルキル等を含む）、アリールイミノ（−ＣＲ＝Ｎ（アリール）で、  Ｒ  は、限定するものではないが、水素、Ｃ１〜Ｃ２０  アルキル、Ｃ５〜Ｃ２４  アリール、Ｃ６〜Ｃ２４  アルカリール、Ｃ６〜Ｃ２４  アラルキル等を含む）、ニトロ（−ＮＯ２）、ニトロソ（ＮＯ）、スルホ（−ＳＯ２−ＯＨ）、スルホナート（−ＳＯ２−Ｏ−）、Ｃ１〜Ｃ２４  アルキルスルファニル（−Ｓ−アルキル；「アルキルチオ」とも呼ばれる）、Ｃ５〜Ｃ２４  アリールスルファニル（−Ｓ−アリール；「アリールチオ」とも呼ばれる）、Ｃ１〜Ｃ２４  アルキルスルフィニル（−（ＳＯ）−アルキル）、Ｃ５〜Ｃ２４  アリールスルフィニル（−（ＳＯ）−アリール）、Ｃ１〜Ｃ２４  アルキルスルホニル（ＳＯ２−アルキル）、Ｃ１〜Ｃ２４  モノアルキルアミノスルホニル（−ＳＯ２−Ｎ（Ｈ）  アルキル）、Ｃ１〜Ｃ２４    ジアルキルアミノスルホニル（−ＳＯ２−Ｎ（アルキル）２）、Ｃ５〜Ｃ２４  アリールスルホニル（−ＳＯ２−アリール）、ボリール（−ＢＨ２）、ボロノ（−Ｂ（ＯＨ）２）、ボロナート（−Ｂ（ＯＲ）２で、  Ｒ  は、限定するものではないが、アルキル  又は他のヒドロカルビル）、ホスホノ（−Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）２）、ホスホナート（−Ｐ（Ｏ）（Ｏ−）２）、ホスフィナート（Ｐ（Ｏ）（Ｏ−））、ホスホ（−ＰＯ２）、及び  ホスフィノ（−ＰＨ２）；及び  ヒドロカルビル部分のＣ１〜Ｃ２４  アルキル（好ましくはＣ１〜Ｃ１２  アルキル、より好ましくはＣ１〜Ｃ６  アルキル）、Ｃ２〜Ｃ２４  アルケニル（好ましくは  Ｃ２〜Ｃ１２  アルケニル、より好ましくは  Ｃ２〜Ｃ６  アルケニル）、  Ｃ２〜Ｃ２４  アルキニル（好ましくは  Ｃ２〜Ｃ１２  アルキニル、より好ましくは  Ｃ２〜Ｃ６  アルキニル）、Ｃ５〜Ｃ２４  アリール（好ましくは  Ｃ５〜Ｃ１４  アリール）、Ｃ６〜Ｃ２４  アルカリール（好ましくは  Ｃ６〜Ｃ１６  アルカリール）、及びＣ６〜Ｃ２４  アラルキル（好ましくは  Ｃ６〜Ｃ１６  アラルキル）などが挙げられる。
【００５８】
「官能化ヒドロカルビル」、「官能化アルキル」、「官能化オレフィン」、「官能化環式オレフィン」などにおける「官能化」とは、ヒドロカルビル、アルキル、オレフィン、環式オレフィン又は他の部分における、  炭素（又は他の）原子に結合した少なくとも１つの水素原子が、上記で説明したような１つ以上の官能基で置換されていることを意味する。「官能基」という用語は、本明細書に記載の用途に適した任意の官能性種を含むことを意味する。特に、本明細書中で使用される場合、官能基は、基材表面上の対応する官能基と反応するか又は結合する能力を有する必要があるであろう。
【００５９】
加えて、前記官能基は、特定の基が許容する場合には、１つ以上の追加の官能基又は１つ以上の上記のような特定のヒドロカルビル部分で更に置換され得る。同様に、前記ヒドロカルビル部分は、上述したように１つ以上の官能基又は追加のヒドロカルビル部分で更に置換され得る。
【００６０】
「任意選択による（ｏｐｔｉｏｎａｌ）」又は「所望により（ｏｐｔｉｏｎａｌｌｙ）」は、その後に記述されている状況が起こっても起こらなくてもよいことを意味し、したがって、その記述には、状況が起こる場合及び起こらない場合が含まれる。例えば、「所望により置換された」という語句は、非水素置換基が所与の原子上に存在しても存在しなくてもよいことを意味し、したがって、その記述には、非水素置換基が存在する構造及び非水素置換基が存在しない構造が含まれる。
【００６１】
本明細書で使用されている「基材材料」という用語は、一般に、本発明の樹脂組成物を樹脂に接触させる、適用する、又は基板材料を樹脂に組み入れることができる任意の材料を意味する。限定するものではないが、そのような材料としては、フィラメント、繊維、ロービング、マット、織物、繊維織物、編物、布又は他の周知の構造物、ガラス繊維及びガラス繊維織物、炭素繊維及び炭素繊維織物、アラミド繊維及びアラミド繊維織物、  他のポリマー繊維及びポリマー繊維織物のような補強材料が挙げられる。他の適した基材材料としては、金属密度調節剤、ミクロスフェアのような微粒子密度調節剤、及びガラス又はセラミックビーズのようなマクロ粒子密度調節剤が挙げられる。
機能性エラストマー
【００６２】
本明細書に開示される本発明の機能性エラストマーは、一般に、無水マレイン酸グラフトスチレン−エチレン／ブチレン−スチレン水素化コポリマー（水素化ＳＥＢＳ−ｇ−ＭＡ）である。本発明による無水マレイン酸グラフトスチレン−エチレン／ブチレン−スチレン水素化コポリマーは、好ましくは０．１〜１０重量％のグラフト無水マレイン酸を含み、より好ましくは０．３〜７重量％のグラフト無水マレイン酸を含み、更により好ましくは０．５〜５重量％の無水マレイン酸を含む。本発明による無水マレイン酸グラフトスチレン−エチレン／ブチレン−スチレン水素化コポリマーは、好ましくは１０〜６０％のポリスチレン含量を有し、より好ましくは１０〜５０％のポリスチレン含量を有し、更により好ましくは１０〜４０％のポリスチレン含量を有する。好ましい機能性エラストマーは、無水マレイン酸グラフトスチレン−エチレン／ブチレン−スチレン水素化コポリマー（Ｋｒａｔｏｎ  ＦＧ１９０１Ｇ）及び無水マレイン酸グラフトスチレン−エチレン／ブチレン−スチレン水素化コポリマー（Ｋｒａｔｏｎ  ＦＧ１９２４Ｇ）である。製造元であるＫｒａｔｏｎ  Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓから入手できるデータシート及び製品パンフレット、並びにこの製造元のウェブサイト（ｗｗｗ．ｋｒａｔｏｎ．ｃｏｍ）に記載されている情報によれば、Ｋｒａｔｏｎ  ＦＧ１９０１Ｇは、中間ブロック上にグラフトされた１．４〜２．０重量％の無水マレイン酸を含有するポリスチレン含量３０％を有するスチレン−エチレン／ブチレン−スチレンの水素化された中間ブロックを有する直鎖状スチレントリブロックコポリマーであり、Ｋｒａｔｏｎ  ＦＧ１９２４Ｇは、  中間ブロック上にグラフトされた０．７〜１．３重量％の無水マレイン酸を含有するポリスチレン含量１３％を有するスチレン−エチレン／ブチレン−スチレンの水素化された中間ブロックを有する直鎖状スチレントリブロックコポリマーである。Ｋｒａｔｏｎ  ＦＧ１９０１Ｇ及びＫｒａｔｏｎ  ＦＧ１９２４Ｇの製造元のデータシート及び製品パンフレットによると、グレード命名法において「Ｇ」はＫｒａｔｏｎ  Ｇ水素化スチレンブロックコポリマーを示し、「ＦＧ」は官能化されたＫｒａｔｏｎ  Ｇを示す。オレフィン複合材の機械的特性を改善する任意の濃度の本発明の機能性エラストマーが本発明のために十分である。一般に、機能性エラストマーの好適な量は０．００１〜１０ｐｈｒ、特定すると０．０５〜１０ｐｈｒ、より特定すると０．１〜１０ｐｈｒ、更に特定すると０．５〜４．０ｐｈｒの範囲である。
接着促進剤
【００６３】
本明細書に開示される、本発明に使用され得る接着促進剤は、一般に、少なくとも２つのイソシアナート基（例えば、メチレンジフェニルジイソシアナートとヘキサメチレンジイソシアナートなど）を含有する化合物である。接着促進剤は、ジイソシアナート、トリイソシアナート、又はポリイソシアナート（すなわち、４つ以上のイソシアナート基を含む）であり得る。接着促進剤は、少なくとも１つのジイソシアナート、トリイソシアナート、又はポリイソシアナートの混合物であり得る。本発明のより特定の態様において、接着促進剤は、ジイソシアナート化合物又はジイソシアナート化合物の混合物を含む、又はそれらに限定される。
【００６４】
一般に、本発明に使用し得る接着促進剤は少なくとも２つのイソシアナート基を有する任意の化合物であり得る。適した接着促進剤としては、限定するものではないが、少なくとも２つのイソシアナート基を含むイソシアナート化合物が挙げられ、それらの化合物は、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、及び官能化ヒドロカルビル化合物選択される。上記のように、適したヒドロカルビル接着促進化合物としては、一般に、アルキル、シクロアルキル、アルキレン、アルケニル、アルキニル、アリール、シクロアルキル、アルカリル、及びアラルキル化合物が挙げられる。置換ヘテロ原子含有及び官能化ヒドロカルビル接着促進化合物としては、上記のヒドロカルビル化合物、並びに上記のそれらのバリエーションが含まれる。
【００６５】
本発明に使用し得る接着促進剤は、アルキルジイソシアナートであり得る。アルキルジイソシアナートとは、直鎖状、分岐状、又は環式の、飽和又は不飽和の炭化水素基を指し、必ずではないが典型的には１〜約２４個の炭素原子を含み、好ましくは２〜１２個の炭素原子を含有するジイソシアナートであり、より好ましくは６〜１２個の炭素原子を含むジイソシアナートであり、例えばヘキサメチレンジイソシアナート（ＨＤＩ）、オクタメチレンジイソシアナート、デカメチレンジイソシアナートなどである。シクロアルキルジイソシアナートは、典型的には４〜１６個の炭素原子を有する環式アルキル基を含む。炭素数６〜約１２の好ましいシクロアルキルジイソシアナートは、シクロヘキシル、シクロオクチル、シクロデシルなどである。より好ましいシクロアルキルジイソシアナートは、５−イソシアナート−１−（イソシアナートメチル）−１，３，３−トリメチル−シクロヘキサンと呼ばれる、一般にイソホロンジイソシアナート（ＩＰＤＩ）として知られるアセトンの縮合生成物として、及びイソシアナート−［（イソシアナートシクロヘキシル）メチル］シクロヘキサン（Ｈ１２ＭＤＩ）の異性体として生じる。Ｈ１２ＭＤＩは、アリールジイソシアナートメチレンジフェニルジイソシアナート（ＭＤＩ）の水素化形態から派生する。
【００６６】
本発明に使用し得る接着促進剤は、アリールジイソシアナートであり得る。アリールジイソシアナートとは、いっしょに縮合されているか、直接連結されているか、又は間接的に連結されている（異なる芳香族環がメチレン又はエチレン部分のような共通基に結合している）単一の芳香族環又は複数の芳香族環を含む芳香族ジイソシアナートを指す。好ましいアリールジイソシアナートは、５〜２４個の炭素原子を含み、特に好ましいアリールジイソシアナートは５〜１４個の炭素原子を含む。例示的なアリールジイソシアナートは、１つの芳香族環又は２つの縮合又は連結されている芳香族環を含み、例えばフェニル、トリル、キシリル、ナフチル、ビフェニル、ジフェニルエーテル、ベンゾフェノンなどである。好ましい芳香族ジイソシアナートとしては、トルエンジイソシアナート、テトラメチルキシレンジイソシアナート（ＴＭＸＤＩ）、及びメチレンジフェニルジイソシアナート（ＭＤＩ）が挙げられ、３種の異性体（２．２’−ＭＤＩ、２，４’−ＭＤＩ、４，４’−ＭＤＩ）の任意の混合物を含み得る。
【００６７】
本発明に使用し得る接着促進剤は、例えばジイソシアナートのようなポリマー含有イソシアナートであり得る。ポリマー含有イソシアナートとは、ポリマーを含有する２つ以上の末端及び／又はペンダントアルキルイソシアナート基又はアリールイソシアナート基を指す。ポリマー含有イソシアナートは、一般に、改善された機械的特性を提供するために樹脂での最低限の溶解性を有さなくてはならない。好ましいポリマー含有イソシアナートとしては、限定するものではないが、ＰＭ２００（ポリＭＤＩ）、Ｌｕｐｒａｎａｔｅ（登録商標）（ＢＡＳＦのポリＭＤＩ）、例えばＫｒａｓｏｌ（登録商標）ＬＢＤ２０００（ＴＤＩ系）、Ｋｒａｓｏｌ（登録商標）ＬＢＤ３０００（ＴＤＩ系）、Ｋｒａｓｏｌ（登録商標）ＮＮ−２２（ＭＤＩ系）、  Ｋｒａｓｏｌ（登録商標）ＮＮ−２３（ＭＤＩ系）、Ｋｒａｓｏｌ（登録商標）ＮＮ−２５（ＭＤＩ系）などのような、Ｋｒａｓｏｌ（登録商標）のイソシアナート末端ポリブタジエンプレポリマーが挙げられる。Ｋｒａｓｏｌ（登録商標）のイソシアナート末端ポリブタジエンプレポリマーはＣｒａｙ  Ｖａｌｌｅｙから入手可能である。
【００６８】
本発明に使用し得る接着促進剤は、アルキルジイソシアナート及びアリールジイソシアナートの三量体であってもよい。その最も単純な形態では、ポリイソシアナート化合物の任意の組合せを三量化して、イソシアナート官能基を含むイソシアヌレート環を形成することができる。アルキルジイソシアナート及びアリールジイソシアナートの三量体は、アルキルジイソシアナート又はアリールジイソシアナートのイソシアヌレートとも呼ばれる場合がある。好ましいアルキルジイソシアナート三量体及びアリールジイソシアナート三量体としては、限定するものではないが、ヘキサメチレンジイソシアナート三量体（ＨＤＩｔ）、イソホロンジイソシアナート三量体、トルエンジイソシアナート三量体、テトラメチルキシレンジイソシアナート三量体、メチレンジフェニルジイソシアナート三量体などが挙げられる。より好ましい接着促進剤は、トルエンジイソシアナート、テトラメチルキシレンジイソシアナート（ＴＭＸＤＩ）、及びメチレンジフェニルジイソシアナート（ＭＤＩ）であり、その３つの異性体である２．２’−ＭＤＩ、２，４’−ＭＤＩ、４，４’−ＭＤＩの任意の混合物、液体ＭＤＩ、固体ＭＤＩ、ヘキサメチレンジイソシアナート三量体（ＨＤＩｔ）、ヘキサメチレンジイソシアナート（ＨＤＩ）、イソホロンジイソシアナート（ＩＰＤＩ）、４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアナート）（Ｈ１２ＭＤＩ）、高分子ＭＤＩ（ＰＭ２００）、ＭＤＩプレポリマー（Ｌｕｐｒａｎａｔｅ（登録商標）５０８０）、液体カルボジイミド変性４，４’−ＭＤＩ（Ｌｕｐｒａｎａｔｅ（登録商標）ＭＭ１０３）、液体ＭＤＩ（Ｌｕｐｒａｎａｔｅ（登録商標）ＭＩ）、液体ＭＤＩ（Ｍｏｎｄｕｒ（登録商標）ＭＬ）、及び液体ＭＤＩ（Ｍｏｎｄｕｒ（登録商標）ＭＬＱ）が挙げられる。更により好ましい接着促進剤は、メチレンジフェニルジイソシアナート（ＭＤＩ）であり、その３つの異性体である２，２’−ＭＤＩ、２，４’−ＭＤＩ、４，４’−ＭＤＩの任意の混合物、液体ＭＤＩ、固体ＭＤＩ、ヘキサメチレンジイソシアナート三量体（ＨＤＩｔ）、ヘキサメチレンジイソシアナート（ＨＤＩ）、イソホロンジイソシアナート（ＩＰＤＩ）、４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアナート）（Ｈ１２ＭＤＩ）、高分子ＭＤＩ（ＰＭ２００）、ＭＤＩプレポリマー（Ｌｕｐｒａｎａｔｅ（登録商標）５０８０）、液体カルボジイミド変性４，４’−ＭＤＩ（Ｌｕｐｒａｎａｔｅ（登録商標）ＭＭ１０３）、液体ＭＤＩ（Ｌｕｐｒａｎａｔｅ（登録商標）ＭＩ）、液体ＭＤＩ（Ｍｏｎｄｕｒ（登録商標）ＭＬ）、液体ＭＤＩ（Ｍｏｎｄｕｒ（登録商標）ＭＬＱ）が挙げられる。
【００６９】
オレフィン複合材の機械的特性を改善する任意の濃度の接着促進剤が本発明にとって十分である。一般に、接着促進剤の好適な量は０．００１〜５０ｐｈｒ、特定すると０．０５〜１０ｐｈｒ、より特定すると０．１〜１０ｐｈｒ、更により特定すると０．５〜４．０ｐｈｒの範囲である。
基材表面
【００７０】
本発明は、一般に、本発明の機能性エラストマーが含まれないことを除いて同じである樹脂組成物と比較して本発明の機能性エラストマーの添加が基材材料への樹脂（例えばＲＯＭＰ）組成物の接着性に有益な改善をもたらす任意の基材材料との使用に適している  。更に、本発明は、一般に、本発明の機能性エラストマーが含まれないことを除いて同じであるポリマー・マトリックス複合材と比較して本発明の機能性エラストマーの添加がポリマー・マトリックス複合材（例えばＲＯＭＰポリマー・マトリックス複合材）の衝撃特性に有益な改善をもたらす任意の基材材料との使用に適している。本発明は、仕上げ又はサイジングを含むものを含むエポキシ樹脂及びメタクリレート樹脂と共に使用するのに適したガラス及び炭素材料表面と共に使用するのに特に有益であり、この場合、本発明の機能性エラストマーの有効性のために仕上げ又はサイジングを（例えば、洗浄又は加熱洗浄によって）除去する必要はない。本発明はまた、木材及びアルミニウム材料との使用にも適している。適した基材材料はまた、繊維、織物、微粒子、セラミック、金属、ポリマー、及び半導体材料からも選択され得る。ポリマー・マトリックス複合材（例えば、ＲＯＭＰポリマー・マトリックス複合材）は、１つの基材材料又は異なる基材材料の混合物で構成することができる。
環式オレフィン
【００７１】
本明細書に開示される本発明とともに使用することができる樹脂組成物は、１つ以上の環式オレフィンを含む。一般に、本明細書に開示されるメタセシス反応に適した任意の環式オレフィンを使用することができる。そのような環式オレフィンは、所望により置換された又は所望によりヘテロ原子含有である、モノ不飽和若しくはジ不飽和若しくはポリ不飽和であるＣ５〜Ｃ２４の炭化水素であり得、それはモノ−、ジ−、又はポリ−環式であり得る。環式オレフィンは、その環式オレフィンが個々に又はＲＯＭＰ環式オレフィン組成物の一部としてＲＯＭＰ反応に参加することができるものであるならば、一般に、歪んだ又は歪んでいない環式オレフィンであり得る。シクロヘキセンなどの特定の歪んでいない環式オレフィンは、それ自体ではＲＯＭＰ反応に至らないと一般に理解されているが、そのような歪んでいない環式オレフィンは適切な状況下ではＲＯＭＰ活性であり得る。例えば、ＲＯＭＰ組成物中のコモノマーとして存在する場合、歪んでいない環式オレフィンはＲＯＭＰ活性であり得る。したがって、本明細書中で使用されているように、また当業者によって理解されるように、「歪んでいない環式オレフィン」という用語は、その環式オレフィンがＲＯＭＰ活性である場合に任意の条件下で又は任意のＲＯＭＰ組成物においてＲＯＭＰ反応に至ることができる歪んでいない環式オレフィンを指すことを意図する。
【００７２】
一般に、環式オレフィンは式（Ａ）の構造式によって表され、
【化１】
0006787907.tif 000002
式中、Ｊ、ＲＡ１及びＲＡ２は以下のとおりであり、  
ＲＡ１はＲＡ２  は、水素、ヒドロカルビル（例えば、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル、Ｃ５〜Ｃ２０アリール、Ｃ５〜Ｃ３０アラルキル、又はＣ５〜Ｃ３０アルカリル）、置換ヒドロカルビル（例えば、置換Ｃ１〜Ｃ２０アルキル、Ｃ５〜Ｃ２０アリール、Ｃ５〜Ｃ３０アラルキル、又はＣ５〜Ｃ３０アルカリル）、ヘテロ原子含有ヒドロカルビル（例えば、Ｃ１〜Ｃ２０ヘテロアルキル、Ｃ５〜Ｃ２０ヘテロアリール、ヘテロ原子含有Ｃ５〜Ｃ３０  アラルキル、又はヘテロ原子含有Ｃ５〜Ｃ３０アルカリル）、及び置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビル（例えば、置換Ｃ１〜Ｃ２０ヘテロアルキル、Ｃ５〜Ｃ２０ヘテロアリール、ヘテロ原子含有Ｃ５〜Ｃ３０アラルキル、又はヘテロ原子含有Ｃ５〜Ｃ３０アルカリル）、及び、置換ヒドロカルビル又は置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビルの場合は、置換基がホスホナート、ホスホリル、ホスファニル、ホスフィノ、スルホナート、ホスホノエートＣ１〜Ｃ２０アルキルスルファニル、Ｃ５〜Ｃ２０アリールスルファニル  、Ｃ１〜Ｃ２０  アルキルスルホニル、Ｃ５〜Ｃ２０アリールスルホニル、Ｃ１〜Ｃ２０アルキルスルフィニル、Ｃ５〜Ｃ２０  アリールスルフィニル、スルホンアミド、アミノ、アミド、イミノ、ニトロ、ニトロソ、ヒドロキシル、Ｃ１〜Ｃ２０アルコキシ、Ｃ５〜Ｃ２０アリールオキシ、Ｃ２〜Ｃ２０アルコキシカルボニル、Ｃ５〜Ｃ２０  アリールオキシカルボニル、カルボキシル、カルボキシレート、メルカプト、ホルミル、Ｃ１〜Ｃ２０チオエステル、シアノ、シアナート、チオシアナート、イソシアナート、チオイソシアナート、カルバモイル、エポキシ、スチレニル、シリル、シリルオキシ、シラニル、シロキサザニル、ボロナート、ボリル、又は水素などの官能基（「Ｆｎ」）であるもの、又は金属含有又はメタロイド含有基（その金属は、例えば、Ｓｎ又はＧｅであり得る）であるもの、からなる群から独立して選択される。ＲＡ１及びＲＡ２自体は、前記の基の１つであり得、構造中に示されたオレフィン炭素原子にそのＦｎ部分が直接結合する。しかしながら、後者の場合一般にその官能基は例えば酸素、硫黄、窒素、又はリン原子などの１つ以上の孤立電子対を含有するヘテロ原子を介して、あるいはＧｅ、Ｓｎ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｓｅ、Ｔｅのような電子の豊富な金属又はメタロイドを介して、オレフィン炭素に直接結合されない。そのような官能基では、通常、介在連結基としてＺ＊が存在し、したがって、ＲＡ１及び／又はＲＡ２は構造式−（Ｚ＊）ｎ−Ｆｎを有し、式中、ｎは１、Ｆｎは官能基、Ｚ＊はアルキレン、置換アルキレン、ヘテロアルキレン、置換ヘテロアルケン、アリーレン、置換アリーレン、ヘテロアリーレン又は置換ヘテロアリーレン連結のようなヒドロカルビレン連結基である。
Ｊは置換又は未置換ヒドロカルビレン、置換ヒドロカルビレン、ヘテロ原子含有ヒドロカルビレン、又は置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビレン連結基であり、Ｊが置換ヒドロカルビレン又は置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビレンのとき、置換基は１つ以上の−（Ｚ＊）ｎ−Ｆｎ基を含むことができ、式中、ｎはゼロ又は１、Ｚ＊は前に定義したとおりである。加えて、Ｊ内の環炭素（又は他の）原子に結合している２つ以上の置換基は、連結して二環式又は多環式オレフィンを形成することができる。Ｊは、一般に、単環式オレフィンについては約５〜１４個の環原子、典型的には５〜８個の環原子を含有し、二環式及び多環式オレフィンについては、各環は一般に４〜８個、典型的には５〜７個の環原子を含有する。
【００７３】
構造式（Ａ）に包含されるモノ−不飽和環式オレフィンは、構造式（Ｂ）によって表すことができ、
【化２】
0006787907.tif 000003
式中、ｂは、必ずではないが一般に１〜１０の範囲、典型的には１〜５の範囲の整数であり、
ＲＡ１及びＲＡ２は構造式（Ａ）について上記で定義したとおりであり、ＲＢ１、ＲＢ２、ＲＢ３、ＲＢ４、ＲＢ５及びＲＢ６  は水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、及び−（Ｚ＊）ｎ−Ｆｎであって、式中、ｎ、Ｚ＊及びＦｎは上記で定義したとおりであり、ＲＢ１〜  ＲＢ６部分のいずれかが置換ヒドロカルビル又は置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビルの場合、それらの置換基は１つ以上の−（Ｚ＊）ｎ−Ｆｎ基を含み得る。したがって、ＲＢ１、ＲＢ２、ＲＢ３、ＲＢ４、ＲＢ５及びＲＢ６は、例えば、水素、ヒドロキシル、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル、Ｃ５〜Ｃ２０アリール、Ｃ１〜Ｃ２０アルコキシ、Ｃ５〜Ｃ２０アリールオキシ、Ｃ２〜Ｃ２０アルコキシカルボニル、Ｃ５〜Ｃ２０  アリールオキシカルボニル、アミノ、アミド、ニトロなどであり得る。
更に、ＲＢ１、ＲＢ２、ＲＢ３、ＲＢ４、ＲＢ５及びＲＢ６  部分のいずれかは、４〜３０個の環炭素原子を含有する置換若しくは未置換脂環式基、又は６〜１８個の環炭素原子を含有する置換若しくは未置換アリール基、又はそれらの組み合わせをもたらすように、他のＲＢ１、ＲＢ２、ＲＢ３、ＲＢ４、ＲＢ５及びＲＢ６  部分のいずれかに連結され得、その連結はヘテロ原子又は官能基を含むことができ、例えば、その連結は、エーテル、エステル、チオエーテル、アミノ、アルキルアミノ、イミノ又は無水物部分を含むことができるが、これらに限定されない。脂環式基は、単環式、二環式、又は多環式であり得る。不飽和の場合、環式基は一価不飽和又は多価不飽和を含むことができ、そのうち一価不飽和の環式基が好ましい。置換される場合、環は一置換又は多置換を含有し、それらの置換基は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、−（Ｚ＊）ｎ−Ｆｎ（式中、ｎはゼロ又は１、Ｚ＊及びＦｎは上記で定義したとおり）、及び上記の官能基（Ｆｎ）から独立して選択される。
【００７４】
構造式（Ｂ）に包含される一価不飽和単環式オレフィンの例としては、限定するものではないが、シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン、シクロノネン、シクロデセン、シクロウンデセン、シクロドデセン、トリシクロデセン、テトラシクロデセン、オクタシクロデセン、及びシクロエイコセン、並びにそれらの置換型、例えば、１−メチルシクロペンテン、１−エチルシクロペンテン、１−イソプロピルシクロヘキサン、１−クロロペンテン、１−フルオロシクロペンテン、４−メチルシクロペンテン、４−メトキシ‐シクロペンテン、４−エトキシ‐シクロペンテン、シクロペンタ−３−エン‐チオール、シクロペンタ−３−エン、４−メチルスルファニル−シクロペンテン、３−メチルシクロヘキセン、１−メチルシクロオクテン、１，５−ジメチルシクロオクテンなどが挙げられる。
【００７５】
構造式（Ａ）に包含される単環式ジエン反応物は、一般に、構造式（Ｃ）によって表すことができ、
【化３】
0006787907.tif 000004
式中、ｃ及びｄは、独立して、（反応物がシクロオクタジエンとなるように）１〜約８の範囲、典型的には２〜４の範囲、好ましくは２の整数であり、ＲＡ１及びＲＡ２は構造式（Ａ）について上記に定義したとおりであり、ＲＣ１、ＲＣ２、ＲＣ３、ＲＣ４、ＲＣ５、及びＲＣ６はＲＢ１〜ＲＢ６について定義したとおりである。この場合、ＲＣ３及びＲＣ４は非水素置換基であることが好ましく、この場合、第２のオレフィン部分は四置換されている。単環式ジエン反応物の例としては、１，３−シクロペンタジエン、１，３−シクロヘキサジエン、１，４−シクロヘキサジエン、５−エチル−１，３−シクロヘキサジエン、１，３−シクロヘプタジエン、シクロヘキサジエン、１，５−シクロオクタジエン、  １，３−シクロオクタジエン、及びそれらの置換された類似体が含まれる。トリエン反応体は、ジエン構造（Ｃ）に類似しており、一般に、任意の２つのオレフィンセグメントの間に少なくとも１つのメチレン連結を含む。
【００７６】
構造式（Ａ）に包含される二環式及び多環式オレフィンは、一般に、構造式（Ｄ）によって表すことができ、
【化４】
0006787907.tif 000005
式中、ＲＡ１及びＲＡ２は構造式（Ａ）について上記で定義したとおりであり、ＲＤ１、ＲＤ２、ＲＤ３、及びＲＤ４  はＲＢ１〜ＲＢ６について定義したとおりであり、ｅは１〜８（典型的には２〜４）の範囲の整数であり、ｆは一般に１又は２であり、Ｔは低級アルキレン又はアルケニレン（一般に置換又は未置換メチル又はエチル）、ＣＨＲＧ１、Ｃ（ＲＧ１）２、Ｏ、Ｓ、Ｎ−ＲＧ１、Ｐ−ＲＧ１、Ｏ＝Ｐ−ＲＧ１、Ｓｉ（ＲＧ１）２、Ｂ−ＲＧ１、又はＡｓ−ＲＧ１であり、ＲＧ１はアルキル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、アルカリール、アラルキル又はアルコキシである。更に、  ＲＤ１、ＲＤ２、ＲＤ３、及びＲＤ４部分のいずれかは、４〜３０個の環炭素原子を含有する置換又は未置換脂環式基又は６〜１８個の環炭素原子を含む置換若しくは未置換アリール基、又はそれらの組み合わせをもたらすように他のＲＤ１、ＲＤ２、ＲＤ３、及びＲＤ４  部分に連結され得、その連結はヘテロ原子又は官能基を含むことができ、例えば、その連結は、エーテル、エステル、チオエーテル、アミノ、アルキルアミノ、イミノ又は無水物部分を含むことができるが、これらに限定されない。環式基は、単環式、二環式、又は多環式であり得る。不飽和の場合、環式基は一価不飽和又は多価不飽和を含むことができ、そのうち一価不飽和の環式基が好ましい。置換される場合、環は一置換又は多置換を含有し、それらの置換基は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、−（Ｚ＊）ｎ−Ｆｎ（式中、ｎはゼロ又は１、Ｚ＊及びＦｎは上記で定義したとおり）、及び上記の官能基（Ｆｎ）から独立して選択される。
【００７７】
構造式（Ｄ）によって包含される環式オレフィンは、ノルボルネン族に属する。本明細書で使用するとき、限定するものではないが、ノルボルネンとは、ノルボルネン、置換ノルボルネン、ノルボルナジエン、置換ノルボルナジエン、多環ノルボルネン、及び置換多環ノルボルネンを含む少なくとも１つのノルボルネン又は置換ノルボルネン部分を含む任意の化合物を意味する。この群に属するノルボルネンは、一般に構造式（Ｅ）によって表され、
【化５】
0006787907.tif 000006
式中、ＲＡ１及びＲＡ２は構造式（Ａ）について上記に定義したとおりであり、Ｔは構造式（Ｄ）について上記に定義したとおりであり、ＲＥ１、ＲＥ２、ＲＥ３、ＲＥ４、ＲＥ５、ＲＥ６、ＲＥ７、及びＲＥ８はＲＢ１〜ＲＢ６について定義したとおりであり、「ａ」は単結合又は二重結合を表し、「ｆ」は一般に１又は２であり、「ｇ」は０〜５の整数であり、「ａ」が二重結合であるとき、ＲＥ５、ＲＥ６  のうちの１つ及びＲＥ７、ＲＥ８のうちの１つは存在しない。
【００７８】
更に、ＲＥ５、ＲＥ６、ＲＥ７、及びＲＥ８部分のいずれかは、４〜３０個の環炭素原子を含む置換又は未置換脂環式基、又は６〜１８個の環炭素原子を含む置換若しくは未置換アリール基、又はそれらの組み合わせをもたらすように、他のＲＥ５、ＲＥ６、ＲＥ７、及びＲＥ８部分に連結され得、その連結はヘテロ原子又は官能基を含むことができ、例えば、その連結は、エーテル、エステル、チオエーテル、アミノ、アルキルアミノ、イミノ、又は無水物部分を含むことができるが、これらに限定されない。環式基は、単環式、二環式、又は多環式であり得る。不飽和の場合、環式基は一価不飽和又は多価不飽和を含むことができ、そのうち一価不飽和の環式基が好ましい。置換される場合、環は一置換又は多置換を含有し、それらの置換基は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、−（Ｚ＊）ｎ−Ｆｎ（式中、ｎはゼロ又は１、Ｚ＊及びＦｎは上記で定義したとおり）、及び上記の官能基（Ｆｎ）から独立して選択される。
【００７９】
少なくとも１つのノルボルネン部分を有する、より好ましい環式オレフィンは、構造式（Ｆ）を有し、
【化６】
0006787907.tif 000007
式中、ＲＦ１、ＲＦ２、ＲＦ３、及びＲＦ４はＲＢ１〜ＲＢ６について定義したとおりであり、「ａ」は単結合又は二重結合を表し、「ｇ」は０〜５の整数であり、「ａ」が二重結合であるとき、ＲＦ１、ＲＦ２のうちの１つ及びＲＦ３、ＲＦ４のうちの１つは存在しない。
【００８０】
更に、  ＲＦ１、ＲＦ２、ＲＦ３、及びＲＦ４部分のいずれかは、４〜３０個の環炭素原子を含む置換又は未置換脂環式基、又は６〜１８個の環炭素原子を含む置換若しくは未置換アリール基、又はそれらの組み合わせをもたらすように他の  ＲＦ１、ＲＦ２、ＲＦ３、及びＲＦ４部分に連結され得、その連結はヘテロ原子又は官能基を含むことができ、例えば、その連結は、エーテル、エステル、チオエーテル、アミノ、アルキルアミノ、イミノ、又は無水物部分を含むことができるが、これらに限定されない。脂環式基は、単環式、二環式、又は多環式であり得る。不飽和の場合、環式基は一価不飽和又は多価不飽和を含むことができ、そのうち一価不飽和の環式基が好ましい。置換される場合、環は一置換又は多置換を含み、それらの置換基は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、−（Ｚ＊）ｎ−Ｆｎ（式中、ｎはゼロ又は１、Ｚ＊及びＦｎは上記で定義したとおり）、及び上記の官能基（Ｆｎ）から独立して選択される。
【００８１】
ヒドロカルビル置換及び官能基置換されたノルボルネンの調製のための１つの経路は、シクロペンタジエン又は置換シクロペンタジエンを高温で適したジエノフィルと反応させて、以下の反応スキーム１によって一般に示される置換ノルボルネン付加物を形成するディールス−アルダー付加環化反応を用いる。
【化７】
0006787907.tif 000008
式中、ＲＦ１〜ＲＦ４は構造式（Ｆ）について上記で定義したとおりである。
【００８２】
他のノルボルネン付加物は、適したジエノフィルの存在下でのジシクロペンタジエンの熱分解によって製造することができる。反応は、ジシクロペンタジエンのシクロペンタジエンへの初期熱分解によって始まり、続いてシクロペンタジエンとジエノフィルのディールス−アルダー付加環化によって、以下のスキーム２に示す付加物を与える。
【化８】
0006787907.tif 000009
式中、「ｇ」は０〜５の整数であり、ＲＦ１〜ＲＦ４は構造式（Ｆ）について上記で定義したとおりである。
【００８３】
同様に、ノルボルナジエン及びそのより高次のディールス−アルダー付加物は、以下のスキーム３に示すように、アセチレン反応物の存在下でのシクロペンタジエンとジシクロペンタジエンとの熱反応によっても調製し得る。
【化９】
0006787907.tif 000010
式中、「ｇ」は０〜５の整数であり、ＲＦ１〜ＲＦ４は構造式（Ｆ）について上記で定義したとおりである。
【００８４】
したがって、二環式及び多環式オレフィンの例としては、限定するものではないが、ジシクロペンタジエン（ＤＣＰＤ）、シクロペンタジエンの三量体及び他のより高次のオリゴマーが挙げられ、限定するものではないが、トリシクロペンタジエン（シクロペンタジエントリマー）、シクロペンタジエンテトラマー、シクロペンタジエンペンタマー、エチリデンノルボルネン、ジシクロヘキサジエン、ノルボルネン、５−メチル−２−ノルボルネン、５−エチル−２−ノルボルネン、５−イソブチル−２−ノルボルネン、５，６−ジメチル−２−ノルボルネン、５−フェニルノルボルネン、５−ベンジルノルボルネン、５−アセチルノルボルネン、５−メトキシカルボニルノルボルネン、５−エトキシカルボニル−１−ノルボルネン、５−メチル−５−メトキシ−カルボニルノルボルネン、５−シアノノルボルネン、５，５，６−トリメチル−２−ノルボルネン、シクロヘキセニルノルボルネン、エンド，  エキソ−５，６−ジメトキシノルボルネン、エンド−５，６−ジメトキシノルボルネン、エンド，  エキソ−５，６−ジメトキシカルボニルノルボルネン、エンド，  エンド−５，６−ジメトキシカルボニルノルボルネン、２，３−ジメトキシノルボルネン、ノルボルナジエン、トリシクロアルケン、テトラシクロドデセン、８−メチルテトラシクロドデセン、８−エチルテトラシクロドデセン、８−メトキシカルボニルテトラシクロドデセン、８−メチル−８−テトラシクロドデセン、８−シアノテトラシクロドデセン、ペンタシクロペンタデセン、ペンタシクロヘキサデセンなど、及びそれらの構造異性体、立体異性体、並びにそれらの混合物が含まれる。二環式及び多環式オレフィンの更なる例としては、限定するものではないが、５−ブチル−２−ノルボルネン、５−ヘキシル−２−ノルボルネン、５−オクチル−２−ノルボルネン、５−デシル−２−ノルボルネン、５−ドデシル−２−ノルボルネン、５−ビニル−２−ノルボルネン、５−エチリデン−２−ノルボルネン、５−イソプロペニル−２−ノルボルネン、５−プロペニル−２−ノルボルネン、５−ブテニル−２−ノルボルネンなどのようなＣ２〜Ｃ１２ヒドロカルビル置換ノルボルネンが挙げられる。
【００８５】
好ましい環式オレフィンとしては、Ｃ５〜Ｃ２４不飽和炭化水素が挙げられる。また、Ｏ、Ｎ、Ｓ又はＰのような１つ又は複数（典型的には２〜１２個）のヘテロ原子を含むＣ５〜Ｃ２４の環式炭化水素も好ましい。例えば、クラウンエーテル環式オレフィンは、環の全体を通じて数多くのＯヘテロ原子を含むことができ、これらは本発明の範囲内である。更に、好ましい環式オレフィンは、１つ以上（典型的には２つ又は３つ）のオレフィンを含むＣ５〜Ｃ２４の炭化水素である。例えば、環式オレフィンは、一、二、又は三不飽和であり得る。環式オレフィンの例としては、シクロオクテン、シクロドデセン、及び（ｃ，ｔ，ｔ）−１，５，９−シクロドデカトリエンが含まれるが、これらに限定されない。
【００８６】
環式オレフィンはまた、複数の（典型的には２つ又は３つの）環を含んでもよい。例えば、環式オレフィンは、一、二、又は三環式であり得る。環式オレフィンが２つ以上の環を含む場合、環は縮合していても縮合していなくてもよい。複数の環を含む環式オレフィンの好ましい例としては、ノルボルネン、ジシクロペンタジエン、トリシクロペンタジエン、及び５−エチリデン−２−ノルボルネンが挙げられる。
【００８７】
環式オレフィンはまた、例えば、１つ以上の（典型的には２、３、４、又は５つの）水素が非水素置換基で置換されているＣ５〜Ｃ２４環式炭化水素で置換されていてもよい。適した非水素置換基は、上記の置換基から選択することができる。例えば、官能化環式オレフィン、すなわち１つ以上（典型的には２、３、４、又は５つ）の水素が官能基で置換されているＣ５〜Ｃ２４環式炭化水素は、本発明の範囲内である。適した官能基は、上記の官能基から選択することができる。例えば、アルコール基で官能化された環式オレフィンを使用して、ペンダントアルコール基を含むテレケリックポリマーを調製することができる。官能基がメタセシス触媒を妨害する場合、環式オレフィン上の官能基を保護することができ、当該技術分野で一般に使用される保護基のいずれかを使用することができる。許容可能な保護基は、例えば、  Ｇｒｅｅｎｅらの『Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ、３ｒｄ  Ｅｄ．』（Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ：Ｗｉｌｅｙ，  １９９９）に見いだされる。官能化環式オレフィンの例としては、限定するものではないが、２−ヒドロキシメチル−５−ノルボルネン、２−［（２−ヒドロキシエチル）カルボキシレート］  −５−ノルボルネン、シデカノール、５−ｎ−ヘキシル−２−ノルボルネン、５−ｎ−ブチル−２−ノルボルネンが挙げられる。
【００８８】
上記の特徴（すなわち、ヘテロ原子、置換基、複数のオレフィン、複数の環）の任意の組み合わせが組み込まれた環式オレフィンは、本明細書に開示される方法に適している。更に、上記の特徴（すなわち、ヘテロ原子、置換基、複数のオレフィン、複数の環）の任意の組み合わせが組み込まれた環式オレフィンは、本明細書に開示される発明に適している。
【００８９】
本明細書に開示される方法に有用な環式オレフィンは、歪んでいても歪んでいなくてもよい。環の歪みの量は、それぞれの環式オレフィン化合物ごとに異なり、環の大きさ、置換基の存在及び同一性、及び複数の環の存在を含む多くの因子に依存することが理解されるであろう。環の歪みは、開環オレフィンメタセシス反応に対する分子の反応性を決定する１つの因子である。特定の二環式化合物のような高歪みの環式オレフィンは、オレフィンメタセシス触媒との開環反応に容易に至る。特定の未置換炭化水素単環式オレフィンのような、より歪みの小さい環式オレフィンは、一般に反応性がより低い。場合によっては、本明細書中に開示されるオレフィン化合物の存在下で実施される場合、比較的歪んでいない（したがって、比較的非反応性の）環式オレフィンの開環反応が可能になることがある。更に、本明細書に開示される発明に有用な環式オレフィンは、歪んでいてもいなくてもよい。
【００９０】
本発明の樹脂組成物は複数の環式オレフィンを含み得る。複数の環式オレフィンを使用して、オレフィン化合物からメタセシスポリマーを調製することができる。例えば、上記の環式オレフィンから選択された２つの環式オレフィンを使用して、両方の環式オレフィンを組み込んだメタセシス生成物を形成することができる。２つ以上の環式オレフィンが使用される場合、第２の環式オレフィンの一例は、環式アルケノール、すなわち、官能化環式オレフィンをもたらすように水素置換基の少なくとも１つがアルコール又は保護されたアルコール部分で置換されたＣ５〜Ｃ２４環式炭化水素である。
【００９１】
複数の環式オレフィンの使用は、特に環式オレフィンの少なくとも１つが官能化されている場合には、生成物内の官能基の配置を更に制御することを可能にする。例えば、本明細書に開示される方法を用いて調製されたポリマー及びマクロモノマーにおける架橋点の密度を制御することができる。置換基及び官能基の量及び密度の制御はまた、生成物の物理的特性（例えば、融点、引張強度、ガラス転移温度など）を制御することも可能にする。これら及び他の特性の制御は、単一の環式オレフィンのみを使用する反応で可能であるが、複数の環式オレフィンの使用は、形成される可能なメタセシス生成物及びポリマーの範囲を更に高めることが理解されよう。
【００９２】
より好ましい環式オレフィンとしては、ジシクロペンタジエン；  トリシクロペンタジエン；  ジシクロヘキサジエン；  ノルボルネン；  ５−メチル−２−ノルボルネン；  ５−エチル−２−ノルボルネン；  ５−イソブチル−２−ノルボルネン；  ５，６−ジメチル−２−ノルボルネン；  ５−フェニルノルボルネン；  ５−ベンジルノルボルネン；  ５−アセチルノルボルネン；  ５−メトキシカルボニルノルボルネン；  ５−エトキシカルボニル−１−ノルボルネン；  ５−メチル−５−メトキシ−カルボニルノルボルネン；  ５−シアノノルボルネン；  ５，５，６−トリメチル−２−ノルボルネン；  シクロヘキセニルノルボルネン；  エンド、エキソ−５，６−ジメトキシノルボルネン；  エンド、エンド−５，６−ジメトキシノルボルネン；  エンド、エキソ−５，６−ジメトキシカルボニルノルボルネン；  エンド、エンド−５，６−ジメトキシカルボニルノルボルネン；  ２，３−ジメトキシノルボルネン；  ノルボルナジエン；  トリシクロアルケン；  テトラシクロドデセン；  ８−メチルテトラシクロドデセン；  ８−エチル−テトラシクロドデセン；  ８−メトキシカルボニルテトラシクロドデセン；  ８−メチル−８−テトラシクロドデセン；  ８−シアノテトラシクロドデセン；  ペンタシクロペンタデセン；  ペンタシクロヘキサデセン；  及びシクロペンタジエンテトラマー、シクロペンタジエンペンタマーなどのようなシクロペンタジエンの高次オリゴマー；  並びに、５−ブチル−２−ノルボルネン；  ５−ヘキシル−２−ノルボルネン；  ５−オクチル−２−ノルボルネン；  ５−デシル−２−ノルボルネン；  ５−ドデシル−２−ノルボルネン；  ５−ビニル−２−ノルボルネン；  ５−エチリデン−２−ノルボルネン；  ５−イソプロペニル−２−ノルボルネン；  ５−プロペニル−２−ノルボルネン；  及び５−ブテニル−２−ノルボルネンなどのようなＣ２〜Ｃ１２ヒドロカルビル置換ノルボルネンが挙げられる。更により好ましい環式オレフィンとしては、ジシクロペンタジエン、トリシクロペンタジエン、及び、例えばシクロペンタジエンテトラマー、シクロペンタジエンペンタマーのようなシクロペンタジエンの高次オリゴマー、テトラシクロドデセン、ノルボルネン、及び、５−ブチル−２−ノルボルネン、５−ヘキシル−２−ノルボルネン、５−オクチル−２−ノルボルネン、５−デシル−２−ノルボルネン、５−ドデシル−２−ノルボルネン、５−ビニル−２−ノルボルネン、５−エチリデン−２−ノルボルネン、５−イソプロペニル−２−ノルボルネン、５−プロペニル−２−ノルボルネン、５−ブテニル−２−ノルボルネンなどのようなＣ２〜Ｃ１２ヒドロカルビル置換ノルボルネンが挙げられる。環式オレフィンの例としては、ジシクロペンタジエン、トリシクロペンタジエン、及び、例えばシクロペンタジエンテトラマー、シクロペンタジエンペンタマーなどのようなシクロペンタジエンの高次オリゴマー（構造異性体及び／又は立体異性体を含む）が挙げられ、これらのいずれか及びすべては本発明での使用に適している。環式オレフィンの例としては、ジシクロペンタジエン、トリシクロペンタジエン、及び、テトラシクロペンタジエン（構造異性体及び／又は立体異性体を含む）が挙げられ、これらのいずれか及びすべては本発明での使用に適している。環式オレフィンの例としては、ジシクロペンタジエン及びトリシクロペンタジエン（構造異性体及び／又は立体異性体を含む）が挙げられ、これらのいずれか及びすべては本発明での使用に適している。
金属カルベンオレフィンメタセシス触媒
【００９３】
本明細書に開示される本発明で使用し得る金属カルベンオレフィンメタセシス触媒は、好ましくは、式（Ｉ）の構造を有する第８族遷移金属錯体であり、
【化１０】
0006787907.tif 000011
式中、
Ｍは第８族遷移金属であり、
Ｌ１、Ｌ２、及びＬ３は中性電子供与体配位子であり、  
Ｌ３  が存在してもしなくてもよいようにｎは０又は１であり、
ｍは０、１又は２であり、
ｋは０又は１であり、
Ｘ１及びＸ２はアニオン性配位子であり、
Ｒ１及びＲ２は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、及び官能基から独立して選択され、
式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｒ１、及びＲ２の任意の２つ以上はいっしょになって１つ以上の環式基を形成することができ、更に、式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｒ１、及びＲ２の任意の１つ以上は担持体に結合され得る。
【００９４】
更に、式（Ｉ）において、Ｒ１及びＲ２の一方又は両方は構造式-（Ｗ）ｎ−Ｕ＋Ｖ−を有することができ、式中、Ｗはヒドロカルビレン、置換ヒドロカルビレン、ヘテロ原子含有ヒドロカルビレン、又は置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビレンであり、Ｕは、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、又は置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビルで置換された正に荷電した第１５族又は第１６族元素であり、Ｖは負に荷電した対イオンであり、ｎは０又は１である。更に、Ｒ１及びＲ２は、いっしょになってインデニリデン部分、好ましくはフェニルインデニリデンを形成することができる。
【００９５】
好ましい金属カルベンオレフィンメタセシス触媒は、第８族遷移金属としてＲｕ又はＯｓを含み、Ｒｕが特に好ましい。
【００９６】
本明細書に開示される反応において有用な金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の多数の実施形態をより詳細に以下に記載する。便宜上、金属カルベンオレフィンメタセシス触媒は群で記述されるが、これらの群が決して限定を意味しないことを強調しておかなくてはならない。すなわち、本発明に有用な金属カルベンオレフィンメタセシス触媒は、本明細書に記載されるそれらの群の１つ以上の記述に適合し得る。更に、本明細書の発明には、複数の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒を使用することができる。
【００９７】
第１の群の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒は、第１世代グラブス型触媒と一般に呼ばれるものであり、式（Ｉ）の構造を有する。第１の群の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒に関して、Ｍは第８族遷移金属であり、ｍは０、１又は２であり、ｎ、Ｘ１、Ｘ２、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｒ１、及びＲ２については以下に記載する。
【００９８】
第１群の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒に関して、ｎは０、Ｌ１及びＬ２は、ホスフィン、スルホン化ホスフィン、ホスファイト、ホスフィナイト、ホスホナイト、アルシン、スチビン、エーテル（環式エーテルを含む）、アミン、アミド、イミン、スルホキシド、カルボキシル、ニトロシル、ピリジン、置換ピリジン、イミダゾール、置換イミダゾール、ピラジン、置換ピラジン、及びチオエーテルから独立して選択される。例示的な配位子は三置換ホスフィンである。好ましい三置換ホスフィンは、式ＰＲＨ１ＲＨ２ＲＨ３のものであり、式中、ＲＨ１、ＲＨ２、及びＲＨ３は、それぞれ独立して、置換又は未置換アリール、又はＣ１〜Ｃ１０アルキル、特に第一級アルキル、第二級アルキル、又はシクロアルキルである。最も好ましいものにおいて、Ｌ１及びＬ２は、トリメチルホスフィン（ＰＭｅ３）、トリエチルホスフィン（ＰＥｔ３）、トリ−ｎ−ブチルホスフィン（ＰＢｕ３）、トリ（オルト−トリル）ホスフィン（Ｐ−ｏ−ｔｏｌｙｌ３）、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン（Ｐ−ｔｅｒｔ−Ｂｕ３）、トリシクロペンチルホスフィン（ＰＣｙｃｌｏｐｅｎｔｙｌ３）、トシクロヘキシルホスフィン（ＰＣｙ３）、トリイソプロピルホスフィン（Ｐ−ｉ−Ｐｒ３）、トリオクチルホスフィン（ＰＯｃｔ３）、トリイソブチルホスフィン（Ｐ−ｉ−Ｂｕ３）、トリフェニルホスフィン（ＰＰｈ３）、トリ（ペンタフルオロフェニル）ホスフィン（Ｐ（Ｃ６Ｆ５）３）、メチルジフェニルホスフィン（ＰＭｅＰｈ２）、ジメチルフェニルホスフィン（ＰＭｅ２Ｐｈ）、及びジエチルフェニルホスフィン（ＰＥｔ２Ｐｈ）からなる群から独立して選択される。あるいは、Ｌ１及びＬ２は、ホスファビシクロアルカン（例えば、シクロヘキシルフォバン、イソプロピルフォバン、エチルフォバン、メチルフォバン、ブチルフォバン、ペンチルフォバンなどのようなモノ置換９−ホスファビシクロ［３．３．１］ノナン又はモノ置換９−ホスファビシクロ［４．２．１］ノナン］など）から独立して選択されてもよい。
【００９９】
Ｘ１及びＸ２はアニオン性配位子であり、同じでも異なっていてもよく、いっしょに連結して環式基を形成し、必ずではないが典型的には５〜８員環である。好ましい実施形態では、Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン化物、又は以下の基の１つである。Ｃ１〜Ｃ２０アルキル、Ｃ５〜Ｃ２４アリール、Ｃ１〜Ｃ２０アルコキシ、Ｃ５〜Ｃ２４アリールオキシ、Ｃ２〜Ｃ２０  アルコキシカルボニル、Ｃ６〜Ｃ２４アリールオキシカルボニル、Ｃ２〜Ｃ２４アシル、Ｃ２〜Ｃ２４アシルオキシ、Ｃ１〜Ｃ２０  アルキルスルホナート、Ｃ５〜Ｃ２４アリールスルホナート、Ｃ１〜Ｃ２０アルキルスルファニル、Ｃ５〜Ｃ２４  アリールスルファニル、Ｃ１〜Ｃ２０アルキルスルフィニル、ＮＯ３、−Ｎ＝Ｃ＝Ｏ、−Ｎ＝Ｃ＝Ｓ、又はＣ５〜Ｃ２４アリールスルフィニル。所望により、Ｘ１及びＸ２は、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシ、Ｃ５〜Ｃ２４アリール、及びハロゲン化物から選択される１つ以上の部分で置換され得、それらのうちハロゲン化物以外は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、及びフェニルから選択される１つ以上の基で更に置換され得る。より好ましい実施形態では、Ｘ１及びＸ２は、ハロゲン化物、安息香酸塩、Ｃ２〜Ｃ６アシル、Ｃ２〜Ｃ６アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６  アルキル、フェノキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルファニル、アリール、又はＣ１〜Ｃ６アルキルスルホニルである。更により好ましい実施形態では、  Ｘ１及びＸ２は、それぞれ、ハロゲン化物、ＣＦ３ＣＯ２、ＣＨ３ＣＯ２、ＣＦＨ２ＣＯ２、（ＣＨ３）３ＣＯ、（ＣＦ３）２（ＣＨ３）ＣＯ、（ＣＦ３）（ＣＨ３）２ＣＯ、ＰｈＯ、ＭｅＯ、ＥｔＯ、トシレート、メシレート、又はトリフルオロメタンスルホナートである。最も好ましい実施形態では、Ｘ１及びＸ２はそれぞれ塩化物である。
【０１００】
Ｒ１及びＲ２は、独立して、水素、ヒドロカルビル（例えば、Ｃ１〜Ｃ２０  アルキル、Ｃ２〜Ｃ２０  アルケニル、Ｃ２〜Ｃ２０アルキニル、Ｃ５〜Ｃ２４  アリール、Ｃ６〜Ｃ２４  アルカリル、Ｃ６〜Ｃ２４  アラルキルなど）、置換ヒドロカルビル（例えば、置換Ｃ１〜Ｃ２０  アルキル、Ｃ２〜Ｃ２０  アルケニル、Ｃ２〜Ｃ２０アルキニル、Ｃ５〜Ｃ２４  アリール、Ｃ６〜Ｃ２４  アルカリル、Ｃ６〜Ｃ２４  アラルキルなど）、ヘテロ原子含有ヒドロカルビル（ヘテロ原子含有Ｃ１〜Ｃ２０  アルキル、Ｃ２〜Ｃ２０  アルケニル、Ｃ２〜Ｃ２０アルキニル、Ｃ５〜Ｃ２４  アリール、Ｃ６〜Ｃ２４  アルカリル、Ｃ６〜Ｃ２４  アラルキルなど）、置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビル（例えば、置換ヘテロ原子含有Ｃ１〜Ｃ２０  アルキル、Ｃ２〜Ｃ２０アルケニル、Ｃ２〜Ｃ２０アルキニル、Ｃ５〜Ｃ２４アリール、Ｃ６〜Ｃ２４アルカリル、Ｃ６〜Ｃ２４アラルキルなど）、及び官能基から選択される。Ｒ１及びＲ２はまた、脂肪族又は芳香族であり得る環式基を形成するように連結され得、置換基及び／又はヘテロ原子を含み得る。一般に、そのような環式基は、４〜１２個、好ましくは５、６、７又は８個の環原子を含む。
【０１０１】
好ましい金属カルベンオレフィンメタセシス触媒において、Ｒ１は水素であり、Ｒ２は、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル、Ｃ２〜Ｃ２０アルケニル、及びＣ５〜Ｃ２４アリール、より好ましくは  Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル、及びＣ５〜Ｃ１４アリールから選択される。更により好ましくは、Ｒ２は、フェニル、ビニル、メチル、イソプロピル又はｔ−ブチルであり、  所望により、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６  アルコキシ、フェニル、及び本明細書で先に定義した官能基Ｆｎから選択される１つ以上の部分で置換されている。最も好ましくは、Ｒ２は、メチル、エチル、クロロ、ブロモ、ヨード、フルオロ、ニトロ、ジメチルアミノ、メチル、メトキシ及びフェニルから選択される１つ以上の部分で置換されたフェニル又はビニルである。最適には、Ｒ２はフェニル又は−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ３）２である。
【０１０２】
参照によりその開示が本明細書に組み込まれる米国特許第５，３１２，９４０号に記載されているように、Ｘ１、Ｘ２、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｒ１、及びＲ２のいずれか２つ以上（典型的には２つ、３つ又は４つ）をいっしょにして、二座又は多座配位子を含む環式基を形成することができる。Ｘ１、Ｘ２、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｒ１、及びＲ２のいずれかが連結して環式基を形成するとき、それらの環式基は、４〜１２個、好ましくは４、５、６、７又は８個の原子を含むことができるか、又は、そのような環を２つ又は３つ含むことができ、それらは、縮合されているか連結されているかのいずれかであり得る。環式基は脂肪族又は芳香族であり得、ヘテロ原子含有であり得る及び／又は置換され得る。環式基は、場合によっては、二座配位子又は三座配位子を形成し得る。二座配位子の例としては、ビスホスフィン、ジアルコキシド、アルキルジケトナート、及びアリールジケトナートが挙げられるが、これらに限定されない。
【０１０３】
一般に第２世代グラブス型触媒と呼ばれる金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の第２の群は式（Ｉ）の構造を有し、式中、Ｌ１  は式（ＩＩ）の構造を有するカルベン配位子であり、
【化１１】
0006787907.tif 000012
したがって、この錯体は式（ＩＩＩ）の構造を有することができ、
【化１２】
0006787907.tif 000013
式中、Ｍ、ｍ、ｎ、Ｘ１、Ｘ２、Ｌ２、Ｌ３、Ｒ１、及びＲ２は、第１の群の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒について定義したとおりであり、残りの置換基は以下のとおり。
Ｘ及びＹは、典型的には、Ｎ、Ｏ、Ｓ及びＰから選択されるヘテロ原子である。Ｏ及びＳは二価であるので、ＸがＯ又はＳであるとき、ｐは必ずゼロであり、ＹがＯ又はＳであるとき、ｋはゼロ又は１である。しかしながら、ＸがＮ又はＰであるとき、ｐは１であり、ＹがＮ又はＰであるとき、ｑは１である。好ましい実施形態では、Ｘ及びＹの両方がＮであり、
Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３及びＱ４はリンカー、例えば、ヒドロカルビレン（置換及び／又はヘテロ原子含有アルキレンのような、置換ヒドロカルビレン、ヘテロ原子含有ヒドロカルビレン、及び置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビレンを含む）又は−（ＣＯ）−であり、ｗ、ｘ、ｙ及びｚは独立して０又は１であり、各リンカーが任意選択によることを意味する。好ましくは、ｗ、ｘ、ｙ及びｚはすべてゼロである。更に、Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３、及びＱ４内の隣接する原子上の２つ以上の置換基は、連結して追加の環式基を形成してもよく、    
Ｒ３、Ｒ３Ａ、Ｒ４、及びＲ４Ａは、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、及び置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビルから独立して選択される。更に、Ｘ及びＹは、炭素及び上述のヘテロ原子の１つから独立して選択することができ、好ましくは、Ｘ又はＹの１つ以下が炭素である。また、Ｌ２及びＬ３  はいっしょになって単一の結合電子供与性ヘテロ環配位子を形成することができる。更に、Ｒ１及びＲ２は、いっしょになってインデニリデン部分、好ましくはフェニルインデニリデンを形成することができる。更に、Ｘ１、Ｘ２、Ｌ２、Ｌ３、Ｘ及びＹは、ホウ素又はカルボキシレートに更に配位され得る。
【０１０４】
更に、Ｘ１、Ｘ２、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ３Ａ、Ｒ４、Ｒ４Ａ、Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３、及びＱ４の任意の２つ以上はいっしょになって環式基を形成することができ、  Ｘ１、Ｘ２、Ｌ２、Ｌ３、Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３、Ｑ４、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ３Ａ、Ｒ４、及びＲ４Ａの任意の１つ以上は担持体に結合され得る。Ｘ１、Ｘ２、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ３Ａ、Ｒ４、及びＲ４Ａの任意の２つ以上はまた、いっしょに  -Ａ−Ｆｎになってもよく、式中、「Ａ」は、アルキレン及びアリールアルキレン基から選択される二価の炭化水素部分であり、そのアルキレン基及びアリールアルキレン基のアルキル部分は、直鎖又は分岐、飽和又は不飽和、環式又は非環式であり得、そのアリールアルキレンのアリール部分は置換又は未置換であり得、ヘテロ原子及び／又は官能基はアルキレン及びアリールアルキレン基のアリール又はアルキル部分のいずれかに存在し得、Ｆｎは官能基であるか又はいっしょに環式基を形成し、Ｘ１、Ｘ２、Ｌ２、Ｌ３、Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３、Ｑ４、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ３Ａ、Ｒ４、及びＲ４Ａの任意の１つ以上は担持体に結合され得る。
【０１０５】
Ｒ３ＡとＲ４Ａが連結して環式基を形成し、Ｘ又はＹの少なくとも１つが窒素であるか、又はＱ３又はＱ４の少なくとも１つがヘテロ原子含有ヒドロカルビレン又は置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビレンであり、その少なくとも１つのヘテロ原子が窒素である、式（ＩＩ）の構造を有する特定のクラスのカルベン配位子は、  一般に、Ｎ−ヘテロ環式カルベン（ＮＨＣ）配位子と呼ばれる。好ましくは、Ｒ３Ａ及びＲ４Ａは、カルベン配位子が式（ＩＶ）の構造を有するように環式基を形成するように連結されており、
【化１３】
0006787907.tif 000014
Ｒ３及びＲ４は、上記の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の第２の群について定義したとおりであり、好ましくはＲ３及びＲ４の少なくとも１つ、より好ましくはＲ３及びＲ４の両方が１〜約５環の脂環式又は芳香族であり、所望により  １つ以上のヘテロ原子及び／又は置換基を含有する。Ｑはリンカーであり、典型的には、置換ヒドロカルビレンリンカー、ヘテロ原子含有ヒドロカルビレンリンカー、及び置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビレンリンカーを含むヒドロカルビレンリンカーであり、Ｑ内の隣接する原子の２つ以上の置換基もまた、同様に２〜約５個の環式基の縮合多環式構造を提供するように置換され得る追加の環式構造を形成するように連結され得る。Ｑは、必ずではないが多くの場合、２原子連結又は３原子連結である。
【０１０６】
Ｌ１として適しているＮ−ヘテロ環式カルベン（ＮＨＣ）配位子及び非環式ジアミノカルベン配位子の例は、限定するものではないが、ＤＩＰＰ又はＤｉＰＰがジイソプロピルフェニルであり、Ｍｅｓが２，４，６−トリメチルフェニルである以下のものを含む。
【化１４】
0006787907.tif 000015
【０１０７】
よって、Ｌ１として適したＮ−ヘテロ環式カルベン（ＮＨＣ）配位子及び非環式ジアミノカルベン配位子の追加的な例としては、以下のものが挙げられ、
【化１５】
0006787907.tif 000016
ＲＷ１、ＲＷ２、ＲＷ３、ＲＷ４は、独立して、水素、未置換ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、又はヘテロ原子含有ヒドロカルビルであり、ＲＷ３及びＲＷ４の一方又は両方は、独立して、ハロゲン、ニトロ、アミド、カルボキシル、アルコキシ、アリールオキシ、  スルホニル、カルボニル、チオ、又はニトロソ基から選択され得る。
【０１０８】
Ｌ１として適したＮ−ヘテロ環式カルベン（ＮＨＣ）配位子の追加的な例は、更に、米国特許米国特許第  ７，３７８，５２８号、同第７，６５２，１４５、７，２９４，７１７号、同第６，７８７，６２０号、同第６，６３５，７６８号、同第６，５５２，１３９号に記載されており、それらの各々の開示は参照により本明細書に援用される。
【０１０９】
更に、その開示が参照により本明細書に援用される米国特許第６，８３８，４８９号に開示されているような熱活性化Ｎ−ヘテロ環式カルベン前駆体もまた、本発明とともに使用し得る。
【０１１０】
Ｍがルテニウムであるとき、好ましい錯体は、式（Ｖ）の構造を有する。
【化１６】
0006787907.tif 000017
【０１１１】
より好ましい実施形態では、Ｑは、〜ＣＲ１１Ｒ１２〜ＣＲ１３Ｒ１４−又は〜ＣＲ１１＝ＣＲ１３−、好ましくはＣＲ１１Ｒ１２−ＣＲ１３Ｒ１４−の構造を有する２原子連結であり、式中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、及びＲ１４は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、及び官能基から独立して選択される。本明細書における官能基の例としては、限定するものではないが、所望によりＣ１〜Ｃ１２  アルキル、Ｃ１〜Ｃ１２  アルコキシ、Ｃ５〜Ｃ１４  アリール、ヒドロキシル、スルフヒドリル、ホルミル、及びハロゲン化物から選択される１つ以上の部分で置換されるＣ１〜Ｃ２０  アルコキシ、Ｃ５〜Ｃ２４  アリールオキシ、Ｃ２〜Ｃ２０  アルコキシカルボニル、Ｃ５〜Ｃ２４  アルコキシカルボニル、Ｃ２〜Ｃ２４  アシルオキシ、Ｃ１〜Ｃ２０  アルキルチオ、Ｃ５〜Ｃ２４  アリールチオ、Ｃ１〜Ｃ２０  アルキルスルホニル、及びＣ１〜Ｃ２０  アルキルスルフィニルが挙げられる。Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、及びＲ１４は、好ましくは、水素、Ｃ１〜Ｃ１２  アルキル、置換Ｃ１〜Ｃ１２  アルキル、Ｃ１〜Ｃ１２  ヘテロアルキル、置換Ｃ１〜Ｃ１２  ヘテロアルキル、フェニル、及び置換フェニルから独立して選択される。あるいは、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、及びＲ１４のいずれか２つはいっしょに連結して、例えば  Ｃ４〜Ｃ１２  脂環式基又はＣ５又はＣ６アリール基のような、それ自体が例えば連結又は縮合された脂環式基又は芳香族基若しくは他の置換基で置換され得る置換又は未置換、飽和又は不飽和の環構造を形成し得る。更なる一態様では、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、及びＲ１４の任意の１つ以上は、それらのリンカーの１つ以上を含む。更に、Ｒ３及びＲ４  は、未置換フェニルか、又は、Ｃ１〜Ｃ２０  アルキル、置換Ｃ１〜Ｃ２０  アルキル、Ｃ１〜Ｃ２０  ヘテロアルキル、置換Ｃ１〜Ｃ２０  ヘテロアルキル、Ｃ５〜Ｃ２４  アリール、置換Ｃ５〜Ｃ２４  アリール、Ｃ５〜Ｃ２４  ヘテロアリール、Ｃ６〜Ｃ２４  アラルキル、Ｃ６〜Ｃ２４  アルカリル、又はハロゲン化物から選択される１つ以上の置換基で置換されたフェニルであり得る。更に、Ｘ１及びＸ２はハロゲンであり得る。
【０１１２】
Ｒ３及びＲ４が芳香族のとき、それらは、必ずではないが典型的に、置換でも未置換でもよい１つ又は２つの芳香族環で構成され、例えば、Ｒ３及びＲ４は、フェニル、置換フェニル、ビフェニル、置換ビフェニルなどであり得る。好ましい一実施形態では、Ｒ３とＲ４  は同じであり、それぞれが、Ｃ１〜Ｃ２０  アルキル、置換Ｃ１〜Ｃ２０  アルキル、Ｃ１〜Ｃ２０  ヘテロアルキル、置換Ｃ１〜Ｃ２０  ヘテロアルキル、Ｃ５〜Ｃ２４  アリール、置換Ｃ５〜Ｃ２４  アリール、Ｃ５〜Ｃ２４  ヘテロアリール、Ｃ６〜Ｃ２４  アラルキル、Ｃ６〜Ｃ２４  アルカリル、又はハロゲン化物から選択される３つ以下の置換基で置換された未置換フェニル又はフェニルであり得る。好ましくは、存在するすべての置換基は、水素、Ｃ１〜Ｃ１２  アルキル、Ｃ１〜Ｃ１２  アルコキシ、Ｃ５〜Ｃ１４  アリール、置換Ｃ５〜Ｃ１４アリール、又はハロゲン化物である。例えば、Ｒ３及びＲ４はメシチル（すなわち、本明細書の定義によるＭｅｓ）である。
【０１１３】
式（Ｉ）の構造を有する金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の第３の群において、Ｍ、ｍ、ｎ、Ｘ１、Ｘ２、Ｒ１、及びＲ２は金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の第１の群について定義したとおりであり、Ｌ１は、金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の第１及び第２の群について記述したもののいずれかのような強く配位する中性電子供与体配位子であり、Ｌ２及びＬ３は、所望により置換されたヘテロ環式基の形の弱く配位する中性電子供与体配位子である。ここでも、Ｌ３が存在してもしなくてもよいようにｎは０又は１である。一般に、第３の群の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒において、Ｌ２及びＬ３は、１〜４個、好ましくは１〜３個、最も好ましくは１〜２個のヘテロ原子を含む、所望により置換された５員又は６員の単環式基であるか、又は、そのような５員又は６員の単環式基を２〜５個含んでなる所望により置換された二環式又は多環式構造である。ヘテロ環式基が置換される場合、配位しているヘテロ原子上で置換されるべきでなく、ヘテロ環式基内の環式部分のいずれも、一般に、４つ以上の置換基で置換されない。
【０１１４】
金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の第３の群に関して、Ｌ２及びＬ３の例としては、限定するものではないが、窒素、硫黄、酸素、又はそれらの混合物を含むヘテロ環が挙げられる。
【０１１５】
Ｌ２及びＬ３に適した窒素含有ヘテロ環の例としては、ピリジン、ビピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ビピリジン、ピラジン、１，３，５−トリアジン、１，２，４−トリアジン、１，２，３−トリアジン、ピロール、２Ｈ−ピロール、３Ｈ−ピロール、ピラゾール、２Ｈ−イミダゾール、１，２，３−トリアゾール、１，２，４−トリアゾール、インドール、３Ｈ−インドール、１Ｈ−イソインドール、シクロペンタ（ｂ）ピリジン、インダゾール、キノリン、ビスキノリン、イソキノリン、ビスイソキノリン、シンノリン、キナゾリン、ナフチリジン、ピペリジン、ピペラジン、ピロリジン、ピラゾリジン、キヌクリジン、イミダゾリジン、ピコリルイミン、プリン、ベンゾイミダゾール、ビスイミダゾール、フェナジン、アクリジン、及びカルバゾールが挙げられる。更に、窒素含有ヘテロ環は、所望により、非配位ヘテロ原子上で非水素置換基で置換され得る。
【０１１６】
Ｌ２及びＬ３に適した硫黄含有ヘテロ環の例としては、チオフェン、１，２−ジチオール、１，３−ジチオール、チエピン、ベンゾ（ｂ）チオフェン、ベンゾ（ｃ）チオフェン、チオナフテン、ジベンゾチオフェン、２Ｈ−チオピラン、４Ｈ−チオピラン、及びチオアントレンが挙げられる。
【０１１７】
Ｌ２及びＬ３に適した酸素含有ヘテロ環の例としては、２Ｈピラン、４Ｈ−ピラン、２−ピロン、４−ピロン、１，２−ジオキシン、１，３−ジオキシン、オキセピン、フラン、２Ｈ１ベンゾピラン、クマリン、クマロン、クロメン、クロマン−４−オン、イソクロメン−１−オン、イソクロメン−３−オン、キサンテン、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、及びジベンゾフランが挙げられる。
【０１１８】
Ｌ２及びＬ３に適した混合ヘテロ環の例としては、イソキサゾール、オキサゾール、チアゾール、イソチアゾール、１，２，３−オキサジアゾール、１，２，４−オキサジアゾール、１，３，４−オキサジアゾール、１，２，３，４−オキサトリアゾール、１，２，３，５−オキサトリアゾール、３Ｈ−１，２，３−ジオキサゾール、３Ｈ−１，２−オキサチオール、１，３−オキサチオール、４Ｈ−１，２−オキサジン、２Ｈ１，３−オキサジン、１，４−オキサジン、１，２，５−オキサチアジン、フェノキサジン、フェノチアジン、ピラノ［３，４−ｂ］ピロール、インドキサジン、ベンゾオキサゾール、アントラニル、及びモルホリンが挙げられる。
【０１１９】
好ましいＬ２及びＬ３配位子は、芳香族の窒素含有及び酸素含有ヘテロ環であり、特に好ましいＬ２及びＬ３配位子は、１〜３個、好ましくは１又は２個の置換基で所望により置換された単環式Ｎ−ヘテロアリール配位子である。特に好ましいＬ２及びＬ３配位子の具体的な例は、ピリジン及び置換ピリジンであり、例えば、３−ブロモピリジン、４−ブロモピリジン、３，５−ジブロモピリジン、２，４，６−トリブロモピリジン、２，６−ジブロモピリジン、３−クロロピリジン、４−クロロピリジン、３，５−ジクロロピリジン、２，４，６−トリクロロピリジン、２，６−ジクロロピリジン、４−ヨードピリジン、３，５−ジヨードピリジン、３，５−ジブロモ−４−メチルピリジン、３，５−ジクロロ−４−メチルピリジン、３，５−ジメチル−４−ブロモピリジン、３，５−ジメチルピリジン、４−メチルピリジン、  ３，５−ジイソプロピルピリジン、２，４，６−トリメチルピリジン、２，４，６−トリイソプロピルピリジン、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）ピリジン、４−フェニルピリジン、３，５−ジフェニルピリジン、３，５−ジクロロ−４−フェニルピリジンなどである。
【０１２０】
一般に、Ｌ２及び／又はＬ３上に存在する任意の置換基は、ハロ、Ｃ１〜Ｃ２０  アルキル、置換Ｃ１〜Ｃ２０  アルキル、Ｃ１〜Ｃ２０  ヘテロアルキル、置換Ｃ１〜Ｃ２０  ヘテロアルキル、Ｃ５〜Ｃ２４  アリール、置換Ｃ５〜Ｃ２４  アリール、Ｃ５〜Ｃ２４  ヘテロアリール、置換Ｃ５〜Ｃ２４  ヘテロアリール、Ｃ６〜Ｃ２４  アルカリル、置換Ｃ６〜Ｃ２４  アルカリル、Ｃ６〜Ｃ２４  ヘテロアルカリル、置換Ｃ６〜Ｃ２４  ヘテロアルカリル、Ｃ６〜Ｃ２４  アラルキル、置換Ｃ６〜Ｃ２４  アラルキル、Ｃ６〜Ｃ２４  ヘテロアラルキル、置換Ｃ６〜Ｃ２４  ヘテロアラルキル、及び置換基から選択され、適した官能基としては、限定するものではないが、Ｃ１〜Ｃ２０  アルコキシ、Ｃ５〜Ｃ２４  アリールオキシ、Ｃ２〜Ｃ２０  アルキルカルボニル、Ｃ６〜Ｃ２４  アリールカルボニル、Ｃ２〜Ｃ２０  アルキルカルボニルオキシ、Ｃ６〜Ｃ２４  アリールカルボニルオキシ、Ｃ２〜Ｃ２０  アルコキシカルボニル、Ｃ６〜Ｃ２４  アリールオキシカルボニル、ハロカルボニル、Ｃ２〜Ｃ２０  アルキルカルボナート、Ｃ６〜Ｃ２４  アリールカルボナート、カルボキシ、カルボキシレート、カルバモイル、モノ−（Ｃ１〜Ｃ２０  アルキル）−置換カルバモイル、ジ−（Ｃ１〜Ｃ２０  アルキル）−置換カルバモイル、ジ−Ｎ−（Ｃ１〜Ｃ２０  アルキル）、Ｎ−（Ｃ５〜Ｃ２４  アリール）−置換カルバモイル、モノ−（Ｃ５〜Ｃ２４  アリール）−置換カルバモイル、ジ−（Ｃ６〜Ｃ２４  アリール）−置換カルバモイル、チオカルバモイル、モノ−（Ｃ１〜Ｃ２０  アルキル）−置換チオカルバモイル、ジ−（Ｃ１〜Ｃ２０  アルキル）−置換チオカルバモイル、ジ−Ｎ−（Ｃ１〜Ｃ２０  アルキル）−Ｎ−（Ｃ６〜Ｃ２４  アリール）−置換チオカルバモイル、モノ−（Ｃ６〜Ｃ２４  アリール）−置換チオカルバモイル、ジ−（Ｃ６〜Ｃ２４  アリール）−置換チオカルバモイル、カルバミド、ホルミル、チオホルミル、アミノ、モノ−（Ｃ１〜Ｃ２０  アルキル）−置換アミノ、ジ−（Ｃ１〜Ｃ２０  アルキル）−置換アミノ、モノ−（Ｃ５〜Ｃ２４  アリール）−置換アミノ、ジ−（Ｃ５〜Ｃ２４  アリール）−置換アミノ、ジ−Ｎ−（Ｃ１〜Ｃ２０  アルキル）、Ｎ−（Ｃ５〜Ｃ２４  アリール）−置換アミノ、Ｃ２〜Ｃ２０  アルキルアミド、Ｃ６〜Ｃ２４  アリールアミド、イミノ、Ｃ１〜Ｃ２０  アルキルイミノ、Ｃ５〜Ｃ２４  アリールイミノ、ニトロ、及びニトロソが挙げられる。更に、２つの隣接する置換基は、いっしょになって、一般に５員又は６員の脂環式又はアリール環であり所望により上記のように１〜３個のヘテロ原子及び１〜３個の置換基を含む環を形成することができる。
【０１２１】
Ｌ２及びＬ３上の好ましい置換基としては、限定するものではないが、Ｃ１〜Ｃ１２  アルキル、置換Ｃ１〜Ｃ１２  アルキル、Ｃ１〜Ｃ１２  ヘテロアルキル、置換Ｃ１〜Ｃ１２  ヘテロアルキル、Ｃ５〜Ｃ１４  アリール、置換Ｃ５〜Ｃ１４  アリール、Ｃ５〜Ｃ１４  ヘテロアリール、置換Ｃ５〜Ｃ１４  ヘテロアリール、Ｃ６〜Ｃ１６  アルカリル、置換Ｃ６〜Ｃ１６  アルカリル、Ｃ６〜Ｃ１６  ヘテロアルカリル、置換Ｃ６〜Ｃ１６  ヘテロアルカリル、Ｃ６〜Ｃ１６  アラルキル、置換Ｃ６〜Ｃ１６  アラルキル、Ｃ６〜Ｃ１６  ヘテロアラルキル、置換Ｃ６〜Ｃ１６  ヘテロアラルキル、Ｃ１〜Ｃ１２  アルコキシ、Ｃ５〜Ｃ１４  アリールオキシ、Ｃ２〜Ｃ１２  アルキルカルボニル、Ｃ６〜Ｃ１４  アリールカルボニル、Ｃ２〜Ｃ１２  アルキルカルボニルオキシ、Ｃ６〜Ｃ１４  アリールカルボニルオキシ、Ｃ２〜Ｃ１２  アルコキシカルボニル、Ｃ６〜Ｃ１４  アリールオキシカルボニル、ハロカルボニル、ホルミル、アミノ、モノ−（Ｃ１〜Ｃ１２  アルキル）−置換アミノ、ジ−（Ｃ１〜Ｃ１２  アルキル）−置換アミノ、モノ−（Ｃ５〜Ｃ１４  アリール）−置換アミノ、ジ−（Ｃ５〜Ｃ１４  アリール）−置換アミノ、及びニトロが挙げられる。
【０１２２】
前記のうち、最も好ましい置換基は、ハロ、Ｃ１〜Ｃ６  アルキル、Ｃ１〜Ｃ６  ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６  アルコキシ、フェニル、置換フェニル、ホルミル、Ｎ，Ｎ−ジ（Ｃ１〜Ｃ６  アルキル）アミノ、ニトロ、及び上述したような窒素ヘテロ環である（例えば、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、ピラジン、ピリミジン、ピリジン、ピリダジンなどが含まれる）。
【０１２３】
特定の実施形態では、Ｌ２及びＬ３はいっしょになって、Ｎ、Ｏ、Ｓ又はＰのような２つ以上（一般に２つ）の二座又は多座配位子を形成してもよく、そのような配位子の好ましいものは、ブルックハート型のジイミン配位子である。１つの代表的な二座配位子は、式（ＶＩ）の構造を有するのものであり、
【化１７】
0006787907.tif 000018
式中、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、及びＲ１８ヒドロカルビル（例えば、Ｃ１〜Ｃ２０  アルキル、Ｃ２〜Ｃ２０  アルケニル、Ｃ２〜Ｃ２０アルキニル、Ｃ５〜Ｃ２４  アリール、Ｃ６〜Ｃ２４  アルカリル、又はＣ６〜Ｃ２４  アラルキル）、置換ヒドロカルビル（例えば、置換Ｃ１〜Ｃ２０  アルキル、Ｃ２〜Ｃ２０  アルケニル、Ｃ２〜Ｃ２０アルキニル、Ｃ５〜Ｃ２４  アリール、Ｃ６〜Ｃ２４  アルカリル、又はＣ６〜Ｃ２４  アラルキル）、ヘテロ原子含有ヒドロカルビル（例えば、Ｃ１〜Ｃ２０  ヘテロアルキル、Ｃ５〜Ｃ２４  ヘテロアリール、ヘテロ原子含有Ｃ６〜Ｃ２４  アラルキル、又はヘテロ原子含有Ｃ６〜Ｃ２４  アルカリル）、若しくは置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビル（例えば、置換Ｃ１〜Ｃ２０  ヘテロアルキル、Ｃ５〜Ｃ２４  ヘテロアリール、ヘテロ原子含有Ｃ６〜Ｃ２４  アラルキル、又はヘテロ原子含有Ｃ６〜Ｃ２４  アルカリル）、若しくは（１）  Ｒ１５及びＲ１６、（２）  Ｒ１７及びＲ１８、（３）  Ｒ１６及びＲ１７、又は（４）  Ｒ１５及びＲ１６とＲ１７及びＲ１８の両方は、いっしょになって環、すなわちＮ−ヘテロ環を形成することができる。そのような場合、好ましい環式基は５員及び６員環であり、典型的には芳香族環である。
【０１２４】
式（Ｉ）の構造を有する金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の第４の群では、２つの置換基がいっしょになって二座配位子又は三座配位子を形成する。二座配位子の例としては、ビスホスフィン、ジアルコキシド、アルキルジケトナート、及びアリールジケトナートが挙げられるが、これらに限定されない。具体的な例としては、−Ｐ（Ｐｈ）２ＣＨ２ＣＨ２Ｐ（Ｐｈ）２−、−Ａｓ（Ｐｈ）２ＣＨ２ＣＨ２Ａｓ（Ｐｈ２）−、−Ｐ（Ｐｈ）２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（ＣＦ３）２Ｏ−、ビナフトラートジアニオン、ピナコレートジアニオン、−Ｐ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２Ｐ（ＣＨ３）２−、及び−ＯＣ（ＣＨ３）２（ＣＨ３）２ＣＯ−が挙げられる。好ましい二座配位子は、−Ｐ（Ｐｈ）２  ＣＨ２ＣＨ２Ｐ（Ｐｈ）２−及び−Ｐ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２Ｐ（ＣＨ３）２−である。三座配位子としては、限定するものではないが、（ＣＨ３）２ＮＣＨ２ＣＨ２Ｐ（Ｐｈ）ＣＨ２ＣＨ２Ｎ（ＣＨ３）２が挙げられる。その他の好ましい三座配位子は、Ｘ１、Ｘ２、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｒ１、及びＲ２のうちの任意の３つ（例えば、Ｘ１、Ｌ１、Ｌ２）がいっしょになってシクロペンタジエニル、インデニル、又はフルオレニルとなるものであり、それらのそれぞれは、所望により、Ｃ２〜Ｃ２０  アルケニル、Ｃ２〜Ｃ２０アルキニル、Ｃ１〜Ｃ２０  アルキル、Ｃ５〜Ｃ２０  アリール、Ｃ１〜Ｃ２０  アルコキシ、Ｃ２〜Ｃ２０  アルケニルオキシ、Ｃ２〜Ｃ２０アルキニルオキシ、Ｃ５〜Ｃ２０  アリールオキシ、Ｃ２〜Ｃ２０  アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ２０  アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ２０  アルキルスルホニル、又はＣ１〜Ｃ２０  アルキルスルフィニルで置換され、それらのそれぞれは更に、Ｃ１〜Ｃ６  アルキル、ハロゲン化物、Ｃ１〜Ｃ６  アルコキシで置換され得る、又は、所望によりハロゲン化物、Ｃ１〜Ｃ６  アルキル、若しくはＣ１〜Ｃ６  アルコキシで置換されたフェニル基で置換され得る。より好ましくは、このようなタイプの化合物において、Ｘ、Ｌ１、及びＬ２はいっしょになってシクロペンタジエニル又はインデニルとなり、それぞれは所望により、ビニル、Ｃ１〜Ｃ１０  アルキル、Ｃ５〜Ｃ２０  アリール、Ｃ１〜Ｃ１０カルボキシレート、Ｃ２〜Ｃ１０アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシ、又はＣ５〜Ｃ２０  アリールオキシで置換され、そのそれぞれは、所望により、Ｃ１〜Ｃ６  アルキル、ハロゲン化物、Ｃ１〜Ｃ６  アルコキシで置換され得る、若しくはハロゲン化物、Ｃ１〜Ｃ６  アルキル又はＣ１〜Ｃ６  アルコキシで所望により置換されたフェニル基で置換され得る。より好ましくは、Ｘ、Ｌ１及びＬ２はいっしょになってシクロペンタジエニルとなり得、所望により、ビニル、水素、メチル、又はフェニルで置換され得る。四座配位子としては、Ｏ２Ｃ（ＣＨ２）２Ｐ（Ｐｈ）（ＣＨ２）２Ｐ（Ｐｈ）（ＣＨ２）２ＣＯ２、フタロシアニン、及びポルフィリンが挙げられるが、これらに限定されない。
【０１２５】
Ｙが金属に配位している錯体は、金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の第５の群の例であり、一般に「グラブス‐ホベイダ」触媒と呼ばれる。グラブス‐ホベイダメタセシス活性金属カルベン錯体は、式（ＶＩＩ）として記述することができ、
【化１８】
0006787907.tif 000019
式中、
Ｍは第８族遷移金属、特にＲｕ又はＯｓであり、更に特定するとＲｕであり、
Ｘ１、Ｘ２、及びＬ１は、金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の第１及び第２の群について本明細書で前に定義した通りであり、  
Ｙは、Ｎ、Ｏ、Ｓ及びＰから選択されるヘテロ原子であり、、好ましくはＹはＯ又はＮであり、
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、及びＲ８は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアルキル、ヘテロ原子含有アルケニル、ヘテロアルケニル、ヘテロアリール、アルコキシ、アルケニルオキシ、アリールオキシ、アルコキシカルボニル、カルボニル、アルキルアミノ、アルキルチオ、アミノスルホニル、モノアルキルアミノスルホニル、ジアルキルアミノスルホニル、アルキルスルホニル、ニトリル、ニトロ、アルキルスルフィニル、トリハロアルキル、ペルフルオロアルキル、カルボン酸、ケトン、アルデヒド、硝酸、シアノ、イソシアナート、ヒドロキシル、エステル、エーテル、アミン、イミン、アミド、ハロゲン置換アミド、トリフルオロアミド、スルフィド、ジスルフィド、スルホナート、カルバマート、シラン、シロキサン、ホスフィン、ホスフェート、ホウ酸、又は−Ａ−Ｆｎ（ここで、「Ａ」及びＦｎは上記で定義されているとおり）からなる群から選択され、Ｙ、Ｚ、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、及びＲ８の任意の組み合わせは連結して１つ以上の環式基を形成することができ、
ｎは、０、１又は２であり、２価のヘテロ原子Ｏ又はＳについてはｎは１であり、３価のヘテロ原子Ｎ又はＰについてはｎは２であり、
Ｚは、水素、アルキル、アリール、官能化アルキル、官能化アリールから選択される基であり、その（それらの）官能基は、独立して、アルコキシ、アリールオキシ、ハロゲン、カルボン酸、ケトン、アルデヒド、硝酸、シアノ、イソシアナート、ヒドロキシル、エステル、エーテル、アミン、イミン、アミド、トリフルオロアミド、スルフィド、ジスルフィド、カーバメート、シラン、シロキサン、ホスフィン、ホスフェート、又はホウ酸、メチル、イソプロピル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ネオペンチル、ベンジル、フェニル、及びトリメチルシリルの１つ以上であり得、Ｘ１、Ｘ２、Ｌ１，Ｙ、Ｚ、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、及びＲ８の任意の組み合わせ（１つ又は複数）は担持体に連結され得る。更に、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、及びＺは、独立して、チオイソシアナート、シアナート、又はチオシアナートであり得る。
【０１２６】
本発明に適したグラブス‐ホベイダ配位子を含む錯体の例としては、以下が挙げられ、
【化１９】
0006787907.tif 000020
式中、Ｌ１、Ｘ１、Ｘ２、及びＭは、その他の任意の群の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒について記述したとおりである。適したキレート化カルベン及びカルベン前駆体は、Ｐｅｄｅｒｓｏｎら（各々の開示が参照により本明細書に援用される米国特許第７，０２６，４９５号及び同第６，６２０，９５５号）、及びＨｏｖｅｙｄａら（各々の開示が参照により本明細書に援用される米国特許第６，９２１，７３５号及びＷＯ０２１４３７６号）によって更に説明されている。
【０１２７】
その他の有用な錯体としては、式（Ｉ）、（ＩＩＩ）又は（Ｖ）によるＬ２とＲ２が連結されている構造が含まれ、例えば、スチレン系化合物であり、これは、担持体への結合のための官能基もまた含む。官能基がトリアルコキシシリルで官能化された部分である例としては、限定するものではないが、以下が挙げられる。
【化２０】
0006787907.tif 000021
【０１２８】
連結された配位子を有する錯体の更なる例としては、中性ＮＨＣ配位子とアニオン性配位子との間、中性ＮＨＣ配位子とアルキリジン配位子との間、中性ＮＨＣ配位子とＬ２配位子との間、中性ＮＨＣ配位子とＬ３配位子との間、アニオン配位子とアルキリジン配位子との間に連結を有するもの、及びそれらの任意の組み合わせが挙げられる。可能な構造は多すぎて本明細書に記載しきれないが、式（ＩＩＩ）によるいくつかの適した構造としては以下が挙げられる。
【化２１】
0006787907.tif 000022
【０１２９】
上記のような、式（Ｉ）の構造を有する金属カルベンオレフィンメタセシス触媒に加えて、他の遷移金属カルベン錯体としては、限定するものではないが、以下が挙げられる。
正式に＋２の酸化状態にあり、１６の電子数を有し、五配位であり、一般式（ＩＸ）のものである金属中心を含む中性ルテニウム又はオスミウム金属カルベン錯体、
正式に＋２の酸化状態にあり、１８の電子数を有し、六配位であり、一般式（Ｘ）のものである金属中心を含む中性ルテニウム又はオスミウム金属カルベン錯体、
正式に＋２の酸化状態にあり、１４の電子数を有し、四配位であり、一般式（ＸＩ）のものである金属中心を含むカチオン性ルテニウム又はオスミウム金属カルベン錯体、及び  
正式に＋２の酸化状態にあり、１４又は１６の電子数を有し、それぞれ対応して四配位又は五配位であり、一般式（ＸＩＩ）のものである金属中心を含むカチオン性ルテニウム又はオスミウム金属カルベン錯体。
【化２２】
0006787907.tif 000023
【化２３】
0006787907.tif 000024
【化２４】
0006787907.tif 000025
【化２５】
0006787907.tif 000026
式中、
Ｍ、Ｘ１、Ｘ２、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｒ１、及びＲ２は、上述のように定義された金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の４つの群のいずれかに関して定義されたとおりであり、
ｒ及びｓは、独立して、ゼロ又は１であり、
ｔはゼロ〜５の範囲の整数であり、
ｋはゼロ〜１の範囲の整数であり、
Ｙは、任意の非配位性アニオン（例えば、ハロゲン化物イオン、ＢＦ４−など）であり、
Ｚ１及びＺ２は、独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ２−、−ＰＲ２−、−Ｐ（＝Ｏ）Ｒ２−、−Ｐ（ＯＲ２）−、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ２）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、〜Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｓ（＝Ｏ）−、−Ｓ（＝Ｏ）２−、−、及び所望により置換されている及び／又は所望によりヘテロ原子を含有するＣ１〜Ｃ２０ヒドロカルビレン連結から選択され、
Ｚ３は、−Ｐ（Ｒ２）３＋又は−Ｎ（Ｒ２）３＋のような任意のカチオン性部分であり、
Ｘ１、Ｘ２、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、Ｒ１、及びＲ２  の任意の２つ以上は、いっしょになって環式基、例えば多座配位子を形成することができ、Ｘ１、Ｘ２、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、Ｒ１、及びＲ２の任意の１つ以上は担持体に結合され得る。
【０１３０】
更に、本明細書に開示される本発明で使用し得る金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の別の群は、式（ＸＩＩＩ）の構造を有する第８族遷移金属錯体であり、
【化２６】
0006787907.tif 000027
式中、Ｍは第８族遷移金属であり、特定するとルテニウム又はオスミウム、更に特定するとルテニウムであり、
Ｘ１、Ｘ２、Ｌ１及びＬ２は、上記で定義した金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の第１及び第２の群について定義したとおりであり、
ＲＧ１、ＲＧ２、ＲＧ３、ＲＧ４、ＲＧ５、及びＲＧ６は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアルキル、ヘテロ原子含有アルケニル、ヘテロアルケニル、ヘテロアリール、アルコキシ、アルケニルオキシ、アリールオキシ、アルコキシカルボニル、カルボニル、アルキルアミノ、アルキルチオ、アミノスルホニル、モノアルキルアミノスルホニル、ジアルキルアミノスルホニル、アルキルスルホニル、ニトリル、ニトロ、アルキルスルフィニル、トリハロアルキル、パーフルオロアルキル、カルボン酸、ケトン、アルデヒド、硝酸、シアノ、イソシアナート、チオイソシアナート、シアナート、チオシアナート、ヒドロキシル、エステル、エーテル、チオエーテル、アミン、アルキルアミン、イミン、アミド、ハロゲン置換アミド、トリフルオロアミド、スルフィド、ジスルフィド、スルホナート、カルバマート、シラン、シロキサン、ホスフィン、ホスフェート、ホウ酸、又は-Ａ−Ｆｎからなる群から選択され、「Ａ」は、アルキレン及びアリールアルキレンから選択される２価の炭化水素部分であり、そのアルキレン基及びアリールアルキレン基のアルキル部分は、直鎖又は分岐、飽和又は不飽和、環式又は非環式、及び置換又は未置換のいずれでもよく、そのアリールアルキレンのアリール部分は、置換又は未置換のいずれでもよく、ヘテロ原子及び／又は官能基は、アルキレン基及びアリールアルキレン基のアリール部分又はアルキル部分のいずれかに存在することができ、Ｆｎは官能基であり、又は、ＲＧ１、ＲＧ２、ＲＧ３、ＲＧ４、ＲＧ５、及びＲＧ６の任意の１つ以上はいっしょになって環式基を形成することができ、又は、ＲＧ１、ＲＧ２、ＲＧ３、ＲＧ４、ＲＧ５、及びＲＧ６の任意の１つ以上は担持体に結合され得る。
【０１３１】
更に、式ＸＩＩＩの第８族遷移金属錯体の１つの好ましい実施形態は、式（ＸＩＶ）の第８族遷移金属錯体であり、
【化２７】
0006787907.tif 000028
式中、Ｍ、Ｘ１、Ｘ２、Ｌ１、Ｌ２は、式ＸＩＩＩの第８族遷移金属錯体について上記で定義した通りであり、
ＲＧ７、ＲＧ８、ＲＧ９、ＲＧ１０、ＲＧ１１、ＲＧ１２、ＲＧ１３、ＲＧ１４、ＲＧ１５及びＲＧ１６は、式ＸＩＩＩの第８族遷移金属錯体についてのＲＧ１、ＲＧ２、ＲＧ３、ＲＧ４、ＲＧ５、及びＲＧ６について上記で定義したとおりであり、又は、ＲＧ７、ＲＧ８、ＲＧ９、ＲＧ１０、ＲＧ１１、ＲＧ１２、ＲＧ１３、ＲＧ１４、ＲＧ１５及びＲＧ１６の任意の１つ以上はいっしょになって環式基を形成することができ、又は、ＲＧ７、ＲＧ８、ＲＧ９、ＲＧ１０、ＲＧ１１、ＲＧ１２、ＲＧ１３、ＲＧ１４、ＲＧ１５及びＲＧ１６の任意の１つ以上は担持体に結合され得る。
【０１３２】
更に、式ＸＩＩＩの第８族遷移金属錯体の別の好ましい実施形態は、式（ＸＶ）の第８族遷移金属錯体であり、
【化２８】
0006787907.tif 000029
式中、Ｍ、Ｘ１、Ｘ２、Ｌ１、Ｌ２は、式ＸＩＩＩの第８族遷移金属錯体について上記で定義した通りである。
【０１３３】
更に、本明細書に開示される本発明で使用し得る金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の別の群は、式（ＸＶＩ）の構造を有するシッフ塩基配位子を含む第８族遷移金属錯体であり、
【化２９】
0006787907.tif 000030
式中、Ｍは第８族遷移金属、特定するとルテニウム又はオスミウムであり、更に特定するとルテニウムであり、
Ｘ１及びＬ１は、上記で定義した金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の第１及び第２の群について定義したとおりであり、
Ｚは、酸素、硫黄、セレニウム、ＮＲＪ１１、ＰＲＪ１１、ＡｓＲＪ１１、及びＳｂＲＪ１１からなる群から選択され、
ＲＪ１、ＲＪ２、ＲＪ３、ＲＪ４、ＲＪ５、ＲＪ６、ＲＪ７、ＲＪ８、ＲＪ９、ＲＪ１０、及びＲＪ１１は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアルキル、ヘテロ原子含有アルケニル、  ヘテロアルケニル、ヘテロアリール、アルコキシ、アルケニルオキシ、アリールオキシ、アルコキシカルボニル、カルボニル、アルキルアミノ、アルキルチオ、アミノスルホニル、モノアルキルアミノスルホニル、ジアルキルアミノスルホニル、アルキルスルホニル、ニトリル、ニトロ、アルキルスルフィニル、トリハロアルキル、パーフルオロアルキル、カルボン酸、ケトン、アルデヒド、硝酸、シアノ、イソシアナート、チオイソシアナート、シアナート、チオシアナート、ヒドロキシル、エステル、エーテル、チオエーテル、アミン、アルキルアミン、イミン、アミド、ハロゲン置換アミド、トリフルオロアミド、スルフィド、ジスルフィド、スルホナート、カルバマート、シラン、シロキサン、ホスフィン、ホスフェート、ホウ酸、又は-Ａ−Ｆｎからなる群から選択され、「Ａ  」は、アルキレン及びアリールアルキレンから選択される２価の炭化水素部分であり、そのアルキレン基及びアリールアルキレン基のアルキル部分は、直鎖又は分岐、飽和又は不飽和、環式又は非環式、及び置換又は未置換のいずれでもよく、そのアリールアルキレンのアリール部分は、置換又は未置換のいずれでもよく、  ヘテロ原子及び／又は官能基は、アルキレン基及びアリールアルキレン基のアリール部分又はアルキル部分のいずれかに存在することができ、Ｆｎは官能基であり、又は、ＲＪ１、ＲＪ２、ＲＪ３、ＲＪ４、ＲＪ５、ＲＪ６、ＲＪ７、ＲＪ８、ＲＪ９、ＲＪ１０、及びＲＪ１１の任意の１つ以上はいっしょになって環式基を形成することができ、又は、ＲＪ１、ＲＪ２、ＲＪ３、ＲＪ４、ＲＪ５、ＲＪ６、ＲＪ７、ＲＪ８、ＲＪ９、ＲＪ１０、及びＲＪ１１のいずれか１つ以上は担持体に結合され得る。
【０１３４】
更に、式（ＸＶＩ）の第８族遷移金属錯体の１つの好ましい実施形態は、式（ＸＶＩＩ）の構造を有するシッフ塩基配位子を含む第８族遷移金属錯体であり、
【化３０】
0006787907.tif 000031
式中、Ｍ、Ｘ１、Ｌ１、Ｚ、ＲＪ７、ＲＪ８、ＲＪ９、ＲＪ１０、及びＲＪ１１  は、式ＸＶＩの第８族遷移金属錯体について上記で定義したとおりであり、
ＲＪ１２、ＲＪ１３、ＲＪ１４、ＲＪ１５、ＲＪ１６、ＲＪ１７、ＲＪ１８、ＲＪ１９、ＲＪ２０、及びＲＪ２１は、式ＸＶＩの第８族遷移金属錯体についてのＲＪ１、ＲＪ２、ＲＪ３、ＲＪ４、ＲＪ５、及びＲＪ６について上記で定義したとおりであり、ＲＪ７、ＲＪ８、ＲＪ９、ＲＪ１０、ＲＪ１１、ＲＪ１２、ＲＪ１３、ＲＪ１４、ＲＪ１５、ＲＪ１６、ＲＪ１７、ＲＪ１８、ＲＪ１９、ＲＪ２０、及びＲＪ２１  の任意の１つ以上は連結して環式基を形成することができ、又は、ＲＪ７、ＲＪ８、ＲＪ９、ＲＪ１０、ＲＪ１１、ＲＪ１２、ＲＪ１３、ＲＪ１４、ＲＪ１５、ＲＪ１６、ＲＪ１７、ＲＪ１８、ＲＪ１９、ＲＪ２０、及びＲＪ２１の任意の１つ以上は担持体に結合され得る。
【０１３５】
更に、式（ＸＶＩ）の第８族遷移金属錯体の別の好ましい実施形態は、式（ＸＶＩＩＩ）の構造を有するシッフ塩基配位子を含む第８族遷移金属錯体であり、
【化３１】
0006787907.tif 000032
式中、Ｍ、Ｘ１、Ｌ１、Ｚ、ＲＪ７、ＲＪ８、ＲＪ９、ＲＪ１０、及びＲＪ１１  は、式ＸＶＩの第８族遷移金属錯体について上記で定義したとおりである。
【０１３６】
更に、本明細書に開示される本発明で使用し得る金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の別の群は、式（ＸＩＸ）の構造を有するシッフ塩基配位子を含む第８族遷移金属錯体であり、
【化３２】
0006787907.tif 000033
式中、Ｍは第８族遷移金属、特定するとルテニウム又はオスミウムであり、更に特定するとルテニウムであり、
Ｘ１、Ｌ１、Ｒ１、及びＲ２は、上記で定義した金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の第１及び第２の群について定義したとおりであり、
Ｚは、酸素、硫黄、セレニウム、ＮＲＫ５、ＰＲＫ５、ＡｓＲＫ５、及びＳｂＲＫ５からなる群から選択され、
ｍは０、１又は２であり、
ＲＫ１、ＲＫ２、ＲＫ３、ＲＫ４、及びＲＫ５は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアルキル、ヘテロ原子含有アルケニル、ヘテロアルケニル、ヘテロアリール、アルコキシ、アルケニルオキシ、アリールオキシ、アルコキシカルボニル、カルボニル、アルキルアミノ、アルキルチオ、アミノスルホニル、モノアルキルアミノスルホニル、ジアルキルアミノスルホニル、アルキルスルホニル、ニトリル、ニトロ、アルキルスルフィニル、トリハロアルキル、パーフルオロアルキル、カルボン酸、ケトン、アルデヒド、硝酸、シアノ、イソシアナート、チオイソシアナート、シアナート、チオシアナート、ヒドロキシル、エステル、エーテル、チオエーテル、アミン、アルキルアミン、イミン、アミド、ハロゲン置換アミド、トリフルオロアミド、スルフィド、ジスルフィド、スルホナート、カルバマート、シラン、シロキサン、ホスフィン、ホスフェート、ホウ酸、又は-Ａ−Ｆｎからなる群から選択され、「Ａ」は、アルキレン及びアリールアルキレンから選択される２価の炭化水素部分であり、そのアルキレン基及びアリールアルキレン基のアルキル部分は、直鎖又は分岐、飽和又は不飽和、環式又は非環式、及び置換又は未置換のいずれでもよく、そのアリールアルキレンのアリール部分は、置換又は未置換のいずれでもよく、  ヘテロ原子及び／又は官能基は、アルキレン基及びアリールアルキレン基のアリール部分又はアルキル部分のいずれかに存在することができ、Ｆｎは官能基であり、又は、ＲＫ１、ＲＫ２、ＲＫ３、ＲＫ４、及びＲＫ５の任意の１つ以上はいっしょになって環式基を形成することができ、又は、ＲＫ１、ＲＫ２、ＲＫ３、ＲＫ４、及びＲＫ５のいずれか１つ以上は担持体に結合され得る。    
【０１３７】
更に、式（ＸＶＩ）〜（ＸＩＸ）の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒は、所望により、第８族遷移金属と少なくとも１つのシッフ塩基配位子との間の結合の少なくとも部分的な開裂が生じる活性化化合物と接触させることができ、その活性化化合物は、ハロゲン化銅（Ｉ）；  ＲＹ１がハロゲン、Ｃ１〜Ｃ７アルキル又はアリールである式Ｚｎ（ＲＹ１）２の亜鉛化合物；  ＲＹ２、ＲＹ３、ＲＹ４及びＲＹ５のそれぞれがハロゲン、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル、Ｃ３〜Ｃ１０シクロアルキル、アリール、ベンジル、及びＣ２〜Ｃ７  アルケニルからなる群から独立して選択されるＳｎＲＹ２ＲＹ３ＲＹ４ＲＹ５で表されるスズ化合物；  ＲＹ６、ＲＹ７、ＲＹ８、ＲＹ９のそれぞれが水素、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル、ハロ、Ｃ１〜Ｃ７アルキル、アリール、ヘテロアリール及びビニルからなる群から独立して選択されるＳｉＲＹ６ＲＹ７ＲＹ８ＲＹ９で表されるシリコン化合物からなる群から選択される金属化合物又はシリコン化合物のいずれかである。更に、式（ＸＶＩ）〜（ＸＩＸ）の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒は、所望により、第８族遷移金属と少なくとも１つのシッフ塩基配位子との間の結合の少なくとも部分的な開裂が生じる活性化化合物と接触させることができ、その活性化化合物は、ヨウ化水素、臭化水素、塩化水素、フッ化水素、硫酸、硝酸、ヨウ素酸、過ヨウ素酸、過塩素酸、ＨＯＣｌＯ、ＨＯＣｌＯ２及びＨＯＩＯ３のような無機酸である。更に、式（ＸＶＩ）〜（ＸＩＸ）の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒は、所望により、第８族遷移金属と少なくとも１つのシッフ塩基配位子との間の結合の少なくとも部分的な開裂が生じる活性化化合物と接触させることができ、その活性化化合物は有機酸、例えば、限定するものではないが、メタンスルホン酸、アミノベンゼンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、スルファニル酸及びトリフルオロメタンスルホン酸などが挙げられるスルホン酸類；  限定するものではないが、アセト酢酸、バルビツール酸、ブロモ酢酸、ブロモ安息香酸、クロロ酢酸、クロロ安息香酸、クロロフェノキシ酢酸、クロロプロピオン酸、シス−ケイ皮酸、シアノ酢酸、シアノ酪酸、シアノフェノキシ酢酸、シアノプロピオン酸、ジクロロ酢酸、ジクロロアセチル酢酸、ジヒドロキシ安息香酸、ジヒドロキシマレイン酸、ジヒドロキシ酒石酸、ジコチン酸、ジフェニル酢酸、フルオロ安息香酸、ギ酸、フランカルボン酸、フロ酸、グリコール酸、馬尿酸、ヨード酢酸、ヨード安息香酸、乳酸、ルチジン酸、マンデル酸、α−ナフトエ酸、ニトロ安息香酸、ニトロフェニル酢酸、ｏ−フェニル安息香酸、チオ酢酸、チオフェンカルボン酸、トリクロロ酢酸、及びトリヒドロキシ安息香酸などが挙げられるモノカルボン酸類、及び、限定するものではないが、ピクリン酸及び尿酸のような他の酸性物質などである。
【０１３８】
更に、本発明で使用することができる金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の他の例は、その各々が参照により本明細書に組み込まれる以下の開示に記載されている。米国特許第７，６８７，６３５号、同第７，６７１，２２４号、同第６，２８４，８５２号、同第６，４８６，２７９号、及び同第５，９７７，３９３号、国際公開特許ＷＯ２０１０／０３７５５０号、米国特許出願第１２／３０３，６１５号、同第１０／５９０，３８０号、同第１１／４６５，６５１号（公開公報第２００７／００４３１８８号（ＵＳ）、及び同第１１／４６５，６５１号（公開第２００８／０２９３９０５号（ＵＳ）訂正公報）、並びに欧州特許ＥＰ１７５７６１３Ｂ１号及びＥＰ１５７７２８２Ｂ１号。
【０１３９】
担持された錯体を調製するために使用することができ、本明細書に開示される反応に使用することができる金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の非限定的な例としては以下が挙げられ、便宜上、それらのいくつかは本開示全体を通じてそれらの分子量によっ同定される。
【化３３−１】
0006787907.tif 000034
【化３３−２】
0006787907.tif 000035
【化３３−３】
0006787907.tif 000036
【化３３−４】
0006787907.tif 000037
【化３３−５】
0006787907.tif 000038
【０１４０】
上記の分子構造及び式中、Ｐｈはフェニルを表し、Ｃｙはシクロヘキシルを表し、Ｃｐはシクロペンチルを表し、Ｍｅはメチルを表し、Ｂｕはｎ−ブチルを表し、ｔ−Ｂｕはｔｅｒｔ−ブチルを表し、ｉ−Ｐｒはイソプロピルを表し、ｐｙは（Ｎ原子を介して配位する）ピリジンを表し、Ｍｅｓはメシチル（すなわち、２，４，６−トリメチルフェニル）を表し、ＤｉＰＰ及びＤＩＰＰは２，６−ジイソプロピルフェニルを表し、ＭｉＰＰは２−イソプロピルフェニルを表す。
【０１４１】
担持された錯体の調製及び本明細書に開示される反応に有用な金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の更なる例としては、ルテニウム（ＩＩ）ジクロロ（３−メチル−２−ブテニリデン）ビス（トリシクロペンチルホスフィン）（Ｃ７１６）、ルテニウム（ＩＩ）ジクロロ（３−メチル−２ブテニリデン）ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）（Ｃ８０１）；  ルテニウム（ＩＩ）ジクロロ（フェニルメチレン）ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）（Ｃ８２３）；  ルテニウム（ＩＩ）（１，３−ビス−（２，４，６−トリメチルフェニル）−２−イミダゾリジニリデン）ジクロロ（フェニルメチレン）（トリフェニルホスフィン）（Ｃ８３０）；  ルテニウム（ＩＩ）ジクロロ（フェニルビニリデン）ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）（Ｃ８３５）；  ルテニウム（ＩＩ）ジクロロ（トリシクロヘキシルホスフィン）（ｏ−イソプロポキシフェニルメチレン）（Ｃ６０１）；ルテニウム（ＩＩ）（１，３−ビス−（２，４，６−トリメチルフェニル）−２−イミダゾリジニリデン）ジクロロ（フェニルメチレン）ビス（３−ブロモピリジン）（Ｃ８８４）；  ［１，３−ビス−（２，４，６−トリメチルフェニル）−２−イミダゾリジニリデン］ジクロロ（ｏ−イソプロポキシフェニルメチレン）ルテニウム（ＩＩ）（Ｃ６２７）；  ［１，３−ビス−（２，４，６−トリメチルフェニル）−２−イミダゾリジニリデン］ジクロロ（ベンジリデン）（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（ＩＩ）（Ｃ８３１）；  ［１，３−ビス−（２，４，６−トリメチルフェニル）−２−イミダゾリジニリデン］ジクロロ（ベンジリデン）（メチルジフェニルホスフィン）ルテニウム（ＩＩ）（Ｃ７６９）；［１，３−ビス−（２，４，６−トリメチルフェニル）−２−イミダゾリジニリデン］ジクロロ（ベンジリデン）（トリシクロヘキシルホスフィン）ルテニウム（ＩＩ）（Ｃ８４８）；［１，３−ビス−（２，４，６−トリメチルフェニル）−２−イミダゾリジニリデン］ジクロロ（ベンジリデン）（ジエチルフェニルホスフィン）ルテニウム（ＩＩ）（Ｃ７３５）；［１，３−ビス−（２，４，６−トリメチルフェニル）−２−イミダゾリジニリデン］ジクロロ（ベンジリデン）（トリ−ｎ−ブチルホスフィン）ルテニウム（ＩＩ）（Ｃ７７１）；［１，３−ビス−（２，４，６−トリメチルフェニル）−２−イミダゾリジニリデン］ジクロロ（３−メチル−２−ブテニリデン）（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（ＩＩ）（Ｃ８０９）；  ［１，３−ビス−（２，４，６−トリメチルフェニル）−２−イミダゾリジニリデン］ジクロロ（３−メチル−２−ブテニリデン）（メチルジフェニルホスフィン）ルテニウム（ＩＩ）（Ｃ７４７）；［１，３−ビス−（２，４，６−トリメチルフェニル）−２−イミダゾリジニリデン］ジクロロ（３−メチル−２−ブテニリデン）（トリシクロヘキシルホスフィン）ルテニウム（ＩＩ）（Ｃ８２７）；［１，３−ビス−（２，４，６−トリメチルフェニル）−２−イミダゾリジニリデン］ジクロロ（３−メチル−２−ブテニリデン）（ジエチルフェニルホスフィン）ルテニウム（ＩＩ）（Ｃ７１３）；  ［１，３−ビス−（２，４，６−トリメチルフェニル）−２−イミダゾリジニリデン］ジクロロ（３−メチル−２−ブテニリデン）（トリ−ｎ−ブチルホスフィン）ルテニウム（ＩＩ）（Ｃ７４９）；  ［１，３−ビス−（２，４，６−トリメチルフェニル）−２−イミダゾリジニリデン］ジクロロ（フェニルインデニリデン）（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（ＩＩ）（Ｃ９３１）；  ［１，３−ビス−（２，４，６−トリメチルフェニル）−２−イミダゾリジニリデン］ジクロロ（フェニルインデニリデン）（メチルフェニルホスフィン）ルテニウム（ＩＩ）（Ｃ８６９）；  ［１，３−ビス−（２，４，６−トリメチルフェニル）−２−イミダゾリジニリデン］ジクロロ（フェニルインデニリデン）（トリシクロヘキシルホスフィン）ルテニウム（ＩＩ）（Ｃ９４９）；  ［１，３−ビス−（２，４，６−トリメチルフェニル）−２−イミダゾリジニリデン］ジクロロ（フェニルインデニリデン）（ジエチルフェニルホスフィン）ルテニウム（ＩＩ）（Ｃ８３５）；  ［１，３−ビス−（２，４，６−トリメチルフェニル）−２−イミダゾリジニリデン］ジクロロ（フェニルインデニリデン）（トリ−ｎ−ブチルホスフィン）ルテニウム（ＩＩ）（Ｃ８７１）；  ルテニウム（ＩＩ）ジクロロ（ｔｅｒｔ−ブチルビニリデン）ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）（Ｃ８１５）；  ［１，３−ビス−（２，４，６−トリメチルフェニル）−２−イミダゾリジニリデン］ジクロロ（フェニルビニリデン）（トリシクロヘキシルホスフィン）ルテニウム（ＩＩ）；  及び［１，３−ビス−（２，４，６−トリメチルフェニル）−２−イミダゾリジニリデン］ジクロロ（ｔｅｒｔ−ブチルビニリデン）（トリシクロヘキシルホスフィン）ルテニウム（ＩＩ）（Ｃ８４１）が挙げられる。
【０１４２】
更にまた、ＲＯＭＰ反応及び／又は例えば閉環メタセシス、クロスメタセシス、開環クロスメタセシス、自己メタセシス、エテノリシス、アルケン分解、非環式ジエンメタセシス重合など他のメタセシス反応に有用な金属カルベンオレフィンメタセシス触媒としては、以下の構造のものが挙げられる。
【化３４−１】
0006787907.tif 000039
【化３４−２】
0006787907.tif 000040
【化３４−３】
0006787907.tif 000041
【０１４３】
一般に、本明細書に使用される遷移金属錯体（金属カルベンオレフィンメタセシス触媒）は、以下に記載されているようないくつかの異なる方法によって調製することができる。Ｓｃｈｗａｂら（１９９６）  Ｊ．  Ａｍ．  Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１８：１００−１１０、Ｓｃｈｏｌｌら（１９９９）  Ｏｒｇ．Ｌｅｔｔ．６：９５３−９５６、Ｓａｎｆｏｒｄら（２００１）  Ｊ．  Ａｍ．  Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１２３：７４９−７５０、米国特許第５，３１２，９４０号及び同第５，３４２，９０９号（各々の開示が参照により本明細書に援用される）。また、米国特許公開第２００３／００５５２６２号（Ｇｒｕｂｂｓら）、ＷＯ０２／０７９２０８号、及び米国特許第６，６１３，９１０号（Ｇｒｕｂｂｓら）（各々の開示が参照により本明細書に援用される）も参照されたい。好ましい合成方法は、ＧｒｕｂｂｓらのＷＯ０３／１１４５５Ａ１号に記載されており、その開示は参照により本明細書に組み込まれる。
【０１４４】
好ましい金属カルベンオレフィンメタセシス触媒は、一般に「第１世代グラブス」触媒と呼ばれる式（Ｉ）、一般に「第２世代グラブス」触媒と呼ばれる式（ＩＩＩ）、及び一般に「グラブス−ホベイダ」触媒と呼ばれる式（ＶＩＩ）の構造を有する第８族遷移金属錯体である。
【０１４５】
より好ましい金属カルベンオレフィンメタセシス触媒は、式（Ｉ）、
【化３５】
0006787907.tif 000042
式中、
Ｍは第８族の遷移金属であり、
Ｌ１、Ｌ２、及びＬ３は中性電子供与体配位子であり、
ｎは０又は１であり、
ｍは０、１又は２であり、
ｋは０又は１であり、
Ｘ１及びＸ２はアニオン性配位子であり、
Ｒ１及びＲ２は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、及び官能基から独立して選択され、
式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｒ１、及びＲ２の任意の２つ以上はいっしょになって１つ以上の環式基を形成することができ、更に、式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｒ１、及びＲ２の任意の１つ以上は担持体に結合され得る、
及び式（ＶＩＩ）の構造を有し、
【化３６】
0006787907.tif 000043
式中、
Ｍは第８族遷移金属であり、
Ｌ１中性電子供与体配位子であり、
Ｘ１及びＸ２はアニオン性配位子であり、  
Ｙは、Ｏ又はＮから選択されるヘテロ原子であり、
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、及びＲ８は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、及び置換基から独立して選択され、
ｎは０，１又は２であり、
Ｚは、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、置換ヘテロ原子含有ヒドロカルビル、及び官能基から選択され、
Ｙ、Ｚ、Ｒ５，Ｒ６、Ｒ７、及びＲ８  の任意の組み合わせは連結して１つ以上の環式基を形成することができ、Ｘ１、Ｘ２、Ｌ１、Ｙ、Ｚ、Ｒ５，Ｒ６、Ｒ７、及びＲ８の任意の組み合わせは担持体に結合され得る。
【０１４６】
最も好ましい金属カルベンオレフィンメタセシス触媒は、
【化３７】
0006787907.tif 000044
式中、
Ｍはルテニウム、
ｎは０、
ｍは０、
ｋは１であり、
Ｌ１及びＬ２は、独立して、トリ−ｎ−ブチルホスフィン（Ｐｎ−Ｂｕ３）、トリシクロペンチルホスフィン（ＰＣｐ３）、トリシクロヘキシルホスフィン（ＰＣｙ３）、トリイソプロピルホスフィン（Ｐ−ｉ−Ｐｒ３）、トリフェニルホスフィン（ＰＰｈ３）、メチルジフェニルホスフィン（ＰＭｅＰｈ２）、ジメチルフェニルホスフィン（ＰＭｅ２Ｐｈ）及びジエチルフェニルホスフィン（ＰＥｔ２Ｐｈ）からなる群から選択される三置換ホスフィンであるか、又は、Ｌ１は、１，３−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）−２−イミダゾリジニリデン、１，３−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）イミダゾール−２−イリデン、  １，３−ビス（２，６−ジイソプロピルフェニル）−２−イミダゾリジニリデン、及び１，３−ビス（２，６−ジイソプロピルフェニル）イミダゾール−２−イリデンからなる群から選択されるＮ−ヘテロ環式カルベンであり、Ｌ２は、トリ−ｎ−ブチルホスフィン（Ｐｎ−Ｂｕ３）、トリシクロペンチルホスフィン（ＰＣｐ３）、トリシクロヘキシルホスフィン（ＰＣｙ３）、トリイソプロピルホスフィン（Ｐ−ｉ−Ｐｒ  ３）、トリフェニルホスフィン（ＰＰｈ３）、メチルジフェニルホスフィン（ＰＭｅＰｈ２）  、（ＰＭｅ２Ｐｈ）、及びジエチルフェニルホスフィン（ＰＥｔ２Ｐｈ）からなる群から選択される三置換ホスフィンであり、
Ｘ１及びＸ２は塩化物であり、
Ｒ１は水素、Ｒ２はフェニル又は-ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ３）２、若しくはチエニル又はフェニルチオである、又は、Ｒ１及びＲ２がいっしょになってフェニルインデニリデンを形成する、式（ＶＩＩ）、
及び
【化３８】
0006787907.tif 000045
式中、
Ｍはルテニウム、
Ｌ１は、トリ−ｎ−ブチルホスフィン（Ｐｎ−Ｂｕ３）、トリシクロペンチルホスフィン（ＰＣｐ３）、トリシクロヘキシルホスフィン（ＰＣｙ３）、トリイソプロピルホスフィン（Ｐ−ｉ−Ｐｒ３）、トリ−ｎ−ブチルホスフィン（Ｐｎ−Ｂｕ３）、トリシクロペンチルホスフィン（ＰＣｐ３）、トリシクロヘキシルホスフィン（ＰＣｙ３）、トリイソプロピルホスフィン（Ｐ−ｉ−Ｐｒ３）、トリフェニルホスフィン（ＰＰｈ３）  、メチルジフェニルホスフィン（ＰＭｅＰｈ２）、ジメチルフェニルホスフィン（ＰＭｅ２Ｐｈ）、及びジエチルフェニルホスフィン（ＰＥｔ２Ｐｈ）からなる群から選択される三置換ホスフィン、又は、Ｌ１は、１，３−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）−２−イミダゾリジニリデン、１，３−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）イミダゾール−２−イリデン、１，３−ビス（２，６−ジイソプロピルフェニル）−２−イミダゾリジニリデン、及び１，３−ビス（２，６−ジイソプロピルフェニル）イミダゾール−２−イリデンからなる群から選択されるＮ−ヘテロ環式カルベンであり、
Ｘ１及びＸ２は塩化物であり、  
Ｙは酸素であり、
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、及びＲ８はそれぞれ水素であり、
ｎは１、
Ｚはイソプロピルである、式（ＶＩＩ）の構造を有する。
【０１４７】
好ましい金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の例は、式（Ｉ）の構造を有し、
【化３９】
0006787907.tif 000046
式中、
Ｍはルテニウム、
ｎは０、
ｍは０、
ｋは１であり、
Ｌ１は、１，３−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）−２−イミダゾリジニリデン及び１，３−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）イミダゾール−２−イリデンからなる群から選択される三置換ホスフィンであり、      
Ｌ２は、トリ−ｎ−ブチルホスフィン（Ｐｎ−Ｂｕ３）、トリシクロペンチルホスフィン（ＰＣｐ３）、トリシクロヘキシルホスフィン（ＰＣｙ３）、トリイソプロピルホスフィン（Ｐ−ｉ−Ｐｒ３）、トリフェニルホスフィン（ＰＰｈ３）、メチルジフェニルホスフィン（ＰＭｅＰｈ２）、ジメチルジフェニルホスフィン（ＰＭｅ２Ｐｈ）、及びジエチルジフェニルホスフィン（ＰＥｔ２Ｐｈ）からなる群から選択される三置換ホスフィンであり、
Ｘ１及びＸ２は塩化物であり、
Ｒ１は水素、Ｒ２はフェニル又は-ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ３）２、若しくはチエニルである、又は、Ｒ１及びＲ２がいっしょになってフェニルインデニリデンを形成する。
【０１４８】
好ましい金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の例は、式（Ｉ）の構造を有し、
【化４０】
0006787907.tif 000047
式中、
Ｍはルテニウム、
ｎは０、
ｍは０、
ｋは１であり、
Ｌ１は、Ｎ−ヘテロ環式カルベン１，３−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）−２−イミダゾリジニリデンであり、
Ｌ２は、トリ−ｎ−ブチルホスフィン（Ｐｎ−Ｂｕ３）、トリシクロペンチルホスフィン（ＰＣｐ３）、トリシクロヘキシルホスフィン（ＰＣｙ３）、トリイソプロピルホスフィン（Ｐ−ｉ−Ｐｒ３）、トリフェニルホスフィン（ＰＰｈ３）、メチルジフェニルホスフィン（ＰＭｅＰｈ２）、ジメチルジフェニルホスフィン（ＰＭｅ２Ｐｈ）、及びジエチルジフェニルホスフィン（ＰＥｔ２Ｐｈ）からなる群から選択される三置換ホスフィンであり、
Ｘ１及びＸ２は塩化物であり、
Ｒ１は水素、Ｒ２はフェニル又は-ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ３）２、若しくはチエニルである、又は、Ｒ１及びＲ２がいっしょになってフェニルインデニリデンを形成する。
【０１４９】
好ましい金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の例は、式（Ｉ）の構造を有し、  
【化４１】
0006787907.tif 000048
式中、
Ｍはルテニウム、
ｎは０、
ｍは０、
ｋは１であり、
Ｌ１は、Ｎ−ヘテロ環式カルベン１，３−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）イミダゾール−２−イリデンであり、
Ｌ２は、トリ−ｎ−ブチルホスフィン（Ｐｎ−Ｂｕ３）、トリシクロペンチルホスフィン（ＰＣｐ３）、トリシクロヘキシルホスフィン（ＰＣｙ３）、トリイソプロピルホスフィン（Ｐ−ｉ−Ｐｒ３）、トリフェニルホスフィン（ＰＰｈ３）、メチルジフェニルホスフィン（ＰＭｅＰｈ２）、ジメチルジフェニルホスフィン（ＰＭｅ２Ｐｈ）、及びジエチルジフェニルホスフィン（ＰＥｔ２Ｐｈ）からなる群から選択される三置換ホスフィンであり、
Ｘ１及びＸ２は塩化物であり、
Ｒ１は水素、Ｒ２はフェニル又は-ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ３）２、若しくはチエニルである、又は、Ｒ１及びＲ２がいっしょになってフェニルインデニリデンを形成する。
【０１５０】
好ましい金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の例は、式（Ｉ）の構造を有し、  
【化４２】
0006787907.tif 000049
式中、
Ｍはルテニウム、
ｎは０、
ｍは０、
ｋは１であり、
Ｌ１は、１，３−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）−２−イミダゾリジニリデン及び１，３−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）イミダゾール−２−イリデンからなる群から選択される三置換ホスフィンであり、      
Ｌ２は、トリ−ｎ−ブチルホスフィン（Ｐｎ−Ｂｕ３）、トリシクロペンチルホスフィン（ＰＣｐ３）、トリシクロヘキシルホスフィン（ＰＣｙ３）、トリイソプロピルホスフィン（Ｐ−ｉ−Ｐｒ３）、トリフェニルホスフィン（ＰＰｈ３）、メチルジフェニルホスフィン（ＰＭｅＰｈ２）、ジメチルジフェニルホスフィン（ＰＭｅ２Ｐｈ）、及びジエチルジフェニルホスフィン（ＰＥｔ２Ｐｈ）からなる群から選択される三置換ホスフィンであり、
Ｘ１及びＸ２は塩化物であり、
Ｒ１は水素、Ｒ２はフェニル又は-ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ３）２である、又は、Ｒ１及びＲ２がいっしょになってフェニルインデニリデンを形成する。
【０１５１】
好ましい金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の例は、式（Ｉ）の構造を有し、  
【化４３】
0006787907.tif 000050
式中、
Ｍはルテニウム、
ｎは０、
ｍは０、
ｋは１であり、
Ｌ１は、Ｎ−ヘテロ環式カルベン１，３−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）−２−イミダゾリジニリデンであり、  
Ｌ２は、トリ−ｎ−ブチルホスフィン（Ｐｎ−Ｂｕ３）、トリシクロペンチルホスフィン（ＰＣｐ３）、トリシクロヘキシルホスフィン（ＰＣｙ３）、トリイソプロピルホスフィン（Ｐ−ｉ−Ｐｒ３）、トリフェニルホスフィン（ＰＰｈ３）、メチルジフェニルホスフィン（ＰＭｅＰｈ２）、ジメチルジフェニルホスフィン（ＰＭｅ２Ｐｈ）、及びジエチルジフェニルホスフィン（ＰＥｔ２Ｐｈ）からなる群から選択される三置換ホスフィンであり、
Ｘ１及びＸ２は塩化物であり、
Ｒ１は水素、Ｒ２はフェニル又は-ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ３）２である、又は、Ｒ１及びＲ２がいっしょになってフェニルインデニリデンを形成する。
【０１５２】
好ましい金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の例は、式（Ｉ）の構造を有し、  
【化４４】
0006787907.tif 000051
式中、
Ｍはルテニウム、
ｎは０、
ｍは０、
ｋは１であり、
Ｌ１は、Ｎ−ヘテロ環式カルベン１，３−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）イミダゾール−２−イリデンであり、
Ｌ２は、トリ−ｎ−ブチルホスフィン（Ｐｎ−Ｂｕ３）、トリシクロペンチルホスフィン（ＰＣｐ３）、トリシクロヘキシルホスフィン（ＰＣｙ３）、トリイソプロピルホスフィン（Ｐ−ｉ−Ｐｒ３）、トリフェニルホスフィン（ＰＰｈ３）、メチルジフェニルホスフィン（ＰＭｅＰｈ２）、ジメチルジフェニルホスフィン（ＰＭｅ２Ｐｈ）、及びジエチルジフェニルホスフィン（ＰＥｔ２Ｐｈ）からなる群から選択される三置換ホスフィンであり、
Ｘ１及びＸ２は塩化物であり、
Ｒ１は水素、Ｒ２はフェニル又は-ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ３）２である、又は、Ｒ１及びＲ２がいっしょになってフェニルインデニリデンを形成する。
【０１５３】
好ましい金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の例は、  式（Ｉ）の構造を有し、
【化４５】
0006787907.tif 000052
式中、
Ｍはルテニウム、
ｎは０、
ｍは０、
ｋは１であり、
Ｌ１は、１，３−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）−２−イミダゾリジニリデン及び１，３−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）イミダゾール−２−イリデンからなる群から選択される三置換ホスフィンであり、      
Ｌ２は、トリ−ｎ−ブチルホスフィン（Ｐｎ−Ｂｕ３）、トリシクロペンチルホスフィン（ＰＣｐ３）、トリシクロヘキシルホスフィン（ＰＣｙ３）、トリイソプロピルホスフィン（Ｐ−ｉ−Ｐｒ３）、トリフェニルホスフィン（ＰＰｈ３）、メチルジフェニルホスフィン（ＰＭｅＰｈ２）、ジメチルジフェニルホスフィン（ＰＭｅ２Ｐｈ）、及びジエチルジフェニルホスフィン（ＰＥｔ２Ｐｈ）からなる群から選択される三置換ホスフィンであり、
Ｘ１及びＸ２は塩化物であり、
Ｒ１は水素であり、  
Ｒ２はフェニル又は−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ３）２である。
【０１５４】
好ましい金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の例は、式（Ｉ）の構造を有し、  
【化４６】
0006787907.tif 000053
式中、
Ｍはルテニウム、
ｎは０、
ｍは０、
ｋは１であり、
Ｌ１は、Ｎ−ヘテロ環式カルベン１，３−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）−２−イミダゾリジニリデンであり、  
Ｌ２は、トリ−ｎ−ブチルホスフィン（Ｐｎ−Ｂｕ３）、トリシクロペンチルホスフィン（ＰＣｐ３）、トリシクロヘキシルホスフィン（ＰＣｙ３）、トリイソプロピルホスフィン（Ｐ−ｉ−Ｐｒ３）、トリフェニルホスフィン（ＰＰｈ３）、メチルジフェニルホスフィン（ＰＭｅＰｈ２）、ジメチルジフェニルホスフィン（ＰＭｅ２Ｐｈ）、及びジエチルジフェニルホスフィン（ＰＥｔ２Ｐｈ）からなる群から選択される三置換ホスフィンであり、
Ｘ１及びＸ２は塩化物であり、
Ｒ１は水素であり、  
Ｒ２はフェニル又は−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ３）２である。
【０１５５】
好ましい金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の例は、式（Ｉ）の構造を有し、  
【化４７】
0006787907.tif 000054
式中、
Ｍはルテニウム、
ｎは０、
ｍは０、
ｋは１であり、
Ｌ１は、Ｎ−ヘテロ環式カルベン１，３−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）イミダゾール−２−イリデンであり、
Ｌ２は、トリ−ｎ−ブチルホスフィン（Ｐｎ−Ｂｕ３）、トリシクロペンチルホスフィン（ＰＣｐ３）、トリシクロヘキシルホスフィン（ＰＣｙ３）、トリイソプロピルホスフィン（Ｐ−ｉ−Ｐｒ３）、トリフェニルホスフィン（ＰＰｈ３）、メチルジフェニルホスフィン（ＰＭｅＰｈ２）、ジメチルジフェニルホスフィン（ＰＭｅ２Ｐｈ）、及びジエチルジフェニルホスフィン（ＰＥｔ２Ｐｈ）からなる群から独立して選択される三置換ホスフィンであり、
Ｘ１及びＸ２は塩化物であり、
Ｒ１は水素であり、
Ｒ２はフェニル又は−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ３）２である。
【０１５６】
好ましい金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の例は、式（Ｉ）の構造を有し、  
【化４８】
0006787907.tif 000055
式中、
Ｍはルテニウム、
ｎは０、
ｍは０、
ｋは１であり、
Ｌ１は、１，３−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）−２−イミダゾリジニリデン及び１，３−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）イミダゾール−２−イリデンからなる群から選択されるＮ−ヘテロ環式カルベンであり、
Ｌ２は、トリ−ｎ−ブチルホスフィン（Ｐｎ−Ｂｕ３）、トリシクロペンチルホスフィン（ＰＣｐ３）、トリシクロヘキシルホスフィン（ＰＣｙ３）、トリイソプロピルホスフィン（Ｐ−ｉ−Ｐｒ３）、トリフェニルホスフィン（ＰＰｈ３）、メチルジフェニルホスフィン（ＰＭｅＰｈ２）、ジメチルジフェニルホスフィン（ＰＭｅ２Ｐｈ）、及びジエチルジフェニルホスフィン（ＰＥｔ２Ｐｈ）からなる群から独立して選択される三置換ホスフィンであり、
Ｘ１及びＸ２は塩化物であり、
Ｒ１とＲ２はいっしょになってフェニルインデニリデンを形成する。
【０１５７】
好ましい金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の例は、式（Ｉ）の構造を有し、  
【化４９】
0006787907.tif 000056
式中、
Ｍはルテニウム、
ｎは０、
ｍは０、
ｋは１であり、
Ｌ１は、Ｎ−ヘテロ環式カルベン１，３−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）−２−イミダゾリジニリデンであり、
Ｌ２は、トリ−ｎ−ブチルホスフィン（Ｐｎ−Ｂｕ３）、トリシクロペンチルホスフィン（ＰＣｐ３）、トリシクロヘキシルホスフィン（ＰＣｙ３）、トリイソプロピルホスフィン（Ｐ−ｉ−Ｐｒ３）、トリフェニルホスフィン（ＰＰｈ３）、メチルジフェニルホスフィン（ＰＭｅＰｈ２）、ジメチルジフェニルホスフィン（ＰＭｅ２Ｐｈ）、及びジエチルジフェニルホスフィン（ＰＥｔ２Ｐｈ）からなる群から独立して選択される三置換ホスフィンであり、
Ｘ１及びＸ２は塩化物であり、
Ｒ１とＲ２はいっしょになってフェニルインデニリデンを形成する。
【０１５８】
好ましい金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の例は、式（Ｉ）の構造を有し、  
【化５０】
0006787907.tif 000057
式中、
Ｍはルテニウム、
ｎは０、
ｍは０、
ｋは１であり、
Ｌ１は、Ｎ−ヘテロ環式カルベン１，３−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）イミダゾール−２−イリデンであり、  
Ｌ２は、トリ−ｎ−ブチルホスフィン（Ｐｎ−Ｂｕ３）、トリシクロペンチルホスフィン（ＰＣｐ３）、トリシクロヘキシルホスフィン（ＰＣｙ３）、トリイソプロピルホスフィン（Ｐ−ｉ−Ｐｒ３）、トリフェニルホスフィン（ＰＰｈ３）、メチルジフェニルホスフィン（ＰＭｅＰｈ２）、ジメチルジフェニルホスフィン（ＰＭｅ２Ｐｈ）、及びジエチルジフェニルホスフィン（ＰＥｔ２Ｐｈ）からなる群から独立して選択される三置換ホスフィンであり、
Ｘ１及びＸ２は塩化物であり、
Ｒ１とＲ２はいっしょになってフェニルインデニリデンを形成する。
【０１５９】
好ましい金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の例は、式（Ｉ）の構造を有し、  
【化５１】
0006787907.tif 000058
式中、
Ｍはルテニウム、
ｎは０、
ｍは１、
ｋは１であり、
Ｌ１及びＬ２は、独立して、トリ−ｎ−ブチルホスフィン（Ｐｎ−Ｂｕ３）、トリシクロペンチルホスフィン（ＰＣｐ３）、トリシクロヘキシルホスフィン（ＰＣｙ３）、トリイソプロピルホスフィン（Ｐ−ｉ−Ｐｒ３）、トリフェニルホスフィン（ＰＰｈ３）、メチルジフェニルホスフィン（ＰＭｅＰｈ２）、ジメチルフェニルホスフィン（ＰＭｅ２Ｐｈ）及びジエチルフェニルホスフィン（ＰＥｔ２Ｐｈ）からなる群から選択される三置換ホスフィンであるか、又は、Ｌ１は、１，３−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）−２−イミダゾリジニリデン及び１，３−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）イミダゾール−２−イリデンからなる群から選択されるＮ−ヘテロ環式カルベンであり、Ｌ２は、トリ−ｎ−ブチルホスフィン（Ｐｎ−Ｂｕ３）、トリシクロペンチルホスフィン（ＰＣｐ３）、トリシクロヘキシルホスフィン（ＰＣｙ３）、トリイソプロピルホスフィン（Ｐ−ｉ−Ｐｒ３）、トリフェニルホスフィン（ＰＰｈ３）、メチルジフェニルホスフィン（ＰＭｅＰｈ２）  、（ＰＭｅ２Ｐｈ）、及びジエチルフェニルホスフィン（ＰＥｔ２Ｐｈ）からなる群から選択される三置換ホスフィンであり、
Ｘ１及びＸ２は塩化物であり、
Ｒ１は水素であり、  
Ｒ２はフェニル又はｔｅｒｔ−ブチルである。
【０１６０】
好ましい金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の例は、式（Ｉ）の構造を有し、  
【化５２】
0006787907.tif 000059
式中、
Ｍはルテニウム、
ｎは０、
ｍは１、
ｋは１であり、
Ｌ１は、１，３−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）−２−イミダゾリジニリデン及び１，３−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）イミダゾール−２−イリデンからなる群から選択されるＮ−ヘテロ環式カルベンであり、
Ｌ２は、トリ−ｎ−ブチルホスフィン（Ｐｎ−Ｂｕ３）、トリシクロペンチルホスフィン（ＰＣｐ３）、トリシクロヘキシルホスフィン（ＰＣｙ３）、トリイソプロピルホスフィン（Ｐ−ｉ−Ｐｒ３）、トリフェニルホスフィン（ＰＰｈ３）、メチルジフェニルホスフィン（ＰＭｅＰｈ２）、ジメチルジフェニルホスフィン（ＰＭｅ２Ｐｈ）、及びジエチルジフェニルホスフィン（ＰＥｔ２Ｐｈ）からなる群から選択される三置換ホスフィンであり、
Ｘ１及びＸ２は塩化物であり、
Ｒ１は水素であり、  
Ｒ２はフェニル又はｔｅｒｔ−ブチルである。
【０１６１】
好ましい金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の例は、式（Ｉ）の構造を有し、  
【化５３】
0006787907.tif 000060
式中、
Ｍはルテニウム、
ｎは０、
ｍは１、
ｋは１であり、
Ｌ１は、Ｎ−ヘテロ環式カルベン１，３−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）−２−イミダゾリジニリデンであり、
Ｌ２は、トリ−ｎ−ブチルホスフィン（Ｐｎ−Ｂｕ３）、トリシクロペンチルホスフィン（ＰＣｐ３）、トリシクロヘキシルホスフィン（ＰＣｙ３）、トリイソプロピルホスフィン（Ｐ−ｉ−Ｐｒ３）、トリフェニルホスフィン（ＰＰｈ３）、メチルジフェニルホスフィン（ＰＭｅＰｈ２）、ジメチルジフェニルホスフィン（ＰＭｅ２Ｐｈ）、及びジエチルジフェニルホスフィン（ＰＥｔ２Ｐｈ）からなる群から選択される三置換ホスフィンであり、
Ｘ１及びＸ２は塩化物であり、
Ｒ１は水素であり、  
Ｒ２はフェニル又はｔｅｒｔ−ブチルである。
【０１６２】
好ましい金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の例は、式（Ｉ）の構造を有し、
【化５４】
0006787907.tif 000061
式中、
Ｍはルテニウム、
ｎは０、
ｍは１、
ｋは１であり、
Ｌ１は、Ｎ−ヘテロ環式カルベン１，３−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）イミダゾール−２−イリデンであり、
Ｌ２は、トリ−ｎ−ブチルホスフィン（Ｐｎ−Ｂｕ３）、トリシクロペンチルホスフィン（ＰＣｐ３）、トリシクロヘキシルホスフィン（ＰＣｙ３）、トリイソプロピルホスフィン（Ｐ−ｉ−Ｐｒ３）、トリフェニルホスフィン（ＰＰｈ３）、メチルジフェニルホスフィン（ＰＭｅＰｈ２）、ジメチルジフェニルホスフィン（ＰＭｅ２Ｐｈ）、及びジエチルジフェニルホスフィン（ＰＥｔ２Ｐｈ）からなる群から選択される三置換ホスフィンであり、
Ｘ１及びＸ２は塩化物であり、
Ｒ１は水素であり、  
Ｒ２はフェニル又はｔｅｒｔ−ブチルである。
【０１６３】
本明細書に記載されている任意の金属カルベンオレフィンメタセシス触媒に適した担持体は、合成、半合成、又は天然の物質であり得、有機物でもよく、あるいは例えばポリマー、セラミック又は金属など無機物であってもよい。担持体への付着は、必ずではないが一般には共有結合であり、それは直接的又は間接的共有連結であり得る。間接的共有結合は、必ずではないが典型的には、担持体表面上の官能基を介する。カチオン性基を含む担持体と結合した金属錯体上の１つ以上のアニオン性基の組み合わせ、又はアニオン性基を含む担持体と結合した金属錯体上の１つ以上のカチオン性基の組み合わせを含む、イオン性付着もまた適している。
【０１６４】
担持体を利用する場合、適した担持体は、シリカ、ケイ酸塩、アルミナ、酸化アルミニウム、シリカ−アルミナ、アルミノケイ酸塩、  ゼオライト、チタニア、二酸化チタン、マグネタイト、酸化マグネシウム、酸化ホウ素、粘土、ジルコニア、二酸化ジルコニウム、炭素、ポリマー、セルロース、セルロースポリマー、アミロース、アミロースポリマー、又はそれらの組み合わせから選択され得る。担持体は、好ましくは、シリカ、ケイ酸塩、又はそれらの組み合わせを含む。
【０１６５】
特定の実施形態では、官能基、不活性部分、及び／又は過剰配位子を含むように処理された担持体もまた使用し得る。本明細書に記載されている官能基はいずれも、担持体への組み込みに適しており、一般に当該技術分野で周知の技術によって達成することができる。一般に担持体上の利用可能な付着部位を減少させるために、例えば、担持体に連結された錯体の配置又は量を制御するために、不活性部分もまた担持体上に組み込むことができる。
【０１６６】
以下に記載する金属カルベンオレフィンメタセシス触媒は、当該技術分野で周知の技術によってオレフィンメタセシス反応に利用することができる。金属カルベンオレフィンメタセシス触媒は、典型的には、固体として、溶液として、又は懸濁液として樹脂組成物に添加される。金属カルベンオレフィンメタセシス触媒を懸濁液として樹脂組成物に添加する場合、金属カルベンオレフィンメタセシス触媒は、鉱油、パラフィン油、大豆油、トリイソプロピルベンゼンのような分散担体中に、又は、金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の効果的な分散を可能にする十分に高い粘度を有し、かつ十分に不活性であり、かつオレフィンメタセシス反応において低沸点不純物として作用しないように十分に高い沸点を有する疎水性液体のような分散担体中に懸濁される。  反応に使用される金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の量（すなわち、「触媒充填量」）は、使用される反応物のアイデンティティ及び反応条件などの様々な要因に依存することが理解されよう。したがって、触媒充填量は各反応に対して最適にかつ独立して選択され得ることが理解される。しかしながら、一般に、金属カルベンオレフィンメタセシス触媒は、オレフィン基材の量に対して約０．１ｐｐｍ、１ｐｐｍ、又は５ｐｐｍという低い量から、約１０ｐｐｍ、１５ｐｐｍ、２５ｐｐｍ、５０ｐｐｍ、１００ｐｐｍ、２００ｐｐｍ、５００ｐｐｍ、又は１０００ｐｐｍという高い量までの範囲で存在することになるであろう。
【０１６７】
金属カルベンオレフィンメタセシス触媒は、一般に、オレフィン基材に対して約０．００００１モル％、０．０００１モル％、又は０．０００５モル％という低い量から、約０．００１モル％、約０．００１５モル％、約０．００２５モル％  ０．００５モル％、０．０１モル％、０．０２モル％、０．０５モル％又は０．１モル％という高い量までの範囲で存在することになるであろう。
【０１６８】
モノマー対触媒のモル比として表すと、触媒（「モノマー対触媒比」）充填量は、  一般に、約１０，０００，０００：１、１，０００，０００：１、又は２００，００［ｓｉｃ］：１という低い量から、約１００，０００：１  ６６，６６７：１、４０，０００：１、２０，０００：１、１０，０００：１、５，０００：１，又は１，０００：１という高い量までの範囲で存在することになるであろう。  
環式オレフィン（樹脂）組成物及び物品
【０１６９】
環式オレフィン樹脂、特に、本発明によるＲＯＭＰ組成物は、一般に、少なくとも１つの環式オレフィンと、少なくとも１つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒と、少なくとも２つのイソシアナート基を含む少なくとも１つの化合物を含む少なくとも１つの接着促進剤と、少なくとも１つの本発明の機能性エラストマーと、例えばガラス又は炭素基材材料のような少なくとも１つの基材材料とを含む。別の実施形態では、環式オレフィン樹脂、特に、本発明によるＲＯＭＰ組成物は、一般に、少なくとも１つの環式オレフィンと、少なくとも１つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒と、少なくとも２つのイソシアナート基を含む少なくとも１つの化合物を含む少なくとも１つの接着促進剤と、少なくとも１つの本発明の機能性エラストマーと、少なくとも１つのヘテロ原子官能化基材とを含む。上述の環式オレフィンは、使用に適しており、官能化されていてもいなくてもよく、置換されていてもいなくてもよい。一般に、基材材料へのＲＯＭＰ組成物の接着性を改善するため及びＲＯＭＰ組成物が基材材料の存在下でメタセシス触媒にさらされたときにポリマー・マトリックス複合材の衝撃特性（例えば、衝撃強度又は衝撃靭性）を改善するために有効な量で本発明の機能性エラストマーがＲＯＭＰ樹脂組成物に存在する場合に、特に有利な結果を得ることができる。更に、本発明による環式オレフィン樹脂組成物はまた、少なくとも１つの環式オレフィンと、少なくとも２つのイソシアナート基を含む少なくとも１つの化合物を含む少なくとも１つの接着促進剤と、少なくとも１つの本発明の機能性エラストマーとを含んでもよく、  その樹脂組成物が少なくとも１つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒と組み合わされ、その結果得られる樹脂組成物は、例えば、ガラス基材又は炭素基材のような少なくとも１つの基材に適用される。更に、本発明による環式オレフィン樹脂組成物はまた、少なくとも１つの環式オレフィンと、少なくとも２つのイソシアナート基を含む少なくとも１つの化合物を含む少なくとも１つの接着促進剤と、少なくとも１つの本発明の機能性エラストマーとを含んでもよく、  その樹脂組成物が少なくとも１つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒と組み合わされ、その結果得られる樹脂組成物は、少なくとも１つの基材に適用され、その基材は例えばアミノ官能化基材のような、例えばヘテロ原子官能化基材のような官能化基材であり得る。
【０１７０】
樹脂組成物中の接着促進剤の量は広範にわたり様々であり得、その製造操作又は特定の末端用途に依存して様々であり得る。一般に、機械的特性に望ましい増強をもたらす任意のレベルの接着促進剤に特に関心が持たれる。樹脂組成物と配合する又は組み合わせるときの接着促進剤の濃度は、典型的には０．００１〜５０ｐｈｒ、特定すると０．０５〜１０ｐｈｒ、更に特定すると０．１〜１０ｐｈｒ、又は更に特定すると０．５〜４．０ｐｈｒの範囲である。
【０１７１】
樹脂組成物中の本発明の機能性エラストマーの量は広範にわたり様々であり得、その製造操作又は特定の末端用途に依存して様々であり得る。一般に、機械的特性に望ましい改善をもたらす機能性エラストマーの任意のレベルに、特に関心が持たれる。樹脂組成物と配合する又は組み合わせるときの機能性エラストマーの濃度は、典型的には０．００１〜１０ｐｈｒ、特定すると０．０５〜１０ｐｈｒ、更に特定すると０．１〜１０ｐｈｒ、又は更に特定すると０．５〜４．０ｐｈｒの範囲である。
【０１７２】
本発明の好ましい態様では、本発明の少なくとも１つの機能性エラストマーを含まないそのような樹脂組成物と比較して増強された機械特性はまた、少なくとも１つの環式オレフィンと、少なくとも１つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒と、少なくとも２つのイソシアナート基を含む少なくとも１つの化合物を含む少なくとも１つの接着促進剤と、本発明の少なくとも１つの機能性エラストマーと、少なくとも１つの基材材料とを含む樹脂組成物、又は、少なくとも１つの環式オレフィンと、少なくとも１つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒と、少なくとも２つのイソシアナート基を含む少なくとも１つの化合物を含む少なくとも１つの接着促進剤と、本発明の機能性エラストマーとを含む樹脂組成物に関しても、その樹脂組成物が少なくとも１つの基材材料に適用された場合に、得ることができる。例えば、本発明の機能性エラストマーを含めることは、本発明の機能性エラストマーを含有しない同じ樹脂組成物と比較して、層間剪断強度（ＩＬＳＳ）及び衝撃強度又は衝撃靭性のような機械的特性の改善をもたらし得る。本発明の特定の態様では、基材材料は、有利なことに、アミノシランで処理された基材を含み得る。
【０１７３】
別の実施形態では、本発明による樹脂組成物は、外因性阻害剤を更に含むことができる。本発明で使用するための外因性阻害剤又は「ゲル変性添加剤」は、米国特許第５，９３９，５０４号に記載されており、その内容は参照により本明細書に援用される。別の実施形態では、本発明による樹脂組成物は、ヒドロペルオキシドゲル変性剤を更に含むことができる。本発明で使用するためのヒドロペルオキシドゲル変性剤は、国際特許出願ＰＣＴ／ＵＳ２０１２／０４２８５０号に記載されており、その内容は参照により本明細書に援用される。    
【０１７４】
本発明の樹脂組成物は、所望により添加剤と配合され得る。適した添加剤としては、限定するものではないが、ゲル変性剤、硬度調節剤、酸化防止剤、オゾン劣化防止剤、安定剤、架橋剤、充填剤、結合剤、カップリング剤、チキソトロープ剤、湿潤剤、殺生物剤、  可塑剤、顔料、難燃剤、染料、繊維、及び補強材（コーティング剤、カップリング剤、フィルム形成剤及び／又は潤滑剤で処理されたものなどのような、サイジング処理された補強材及び基材を含む）が挙げられる。更に、この樹脂組成物中に存在する添加剤の量は、使用される特定の添加剤の種類に依存して様々であり得る。この樹脂組成物中の添加剤の濃度は、典型的には、例えば、０．００１〜８５重量％、特定すると０．１〜７５重量％、又は更に特定すると２〜６０重量％の範囲である。
【０１７５】
本発明の樹脂組成物は、所望により、架橋剤、例えば、ジアルキルペルオキシド、ジアシルペルオキシド、及びペルオキシ酸から選択される架橋剤を用いて又は用いずに配合することができる。
【０１７６】
酸化防止剤及びオゾン劣化防止剤としては、ゴム又はプラスチック産業で使用される任意の抗酸化剤又はオゾン劣化防止剤が挙げられる。Ｇｏｏｄｙｅａｒ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ、Ｔｈｅ  Ｇｏｏｄｙｅａｒ  Ｔｉｒｅ  ａｎｄ  Ｒｕｂｂｅｒ  Ｃｏｍｐａｎｙ（オハイオ州アクロン市（郵便コード４４３１６））から『Ｉｎｄｅｘ  ｏｆ  Ｃｏｍｍｅｒｃｉａｌ  Ａｎｔｉｏｘｉｄａｎｔｓ  ａｎｄ  Ａｎｔｉｏｚｏｎａｎｔｓ，  Ｆｏｕｒｔｈ  Ｅｄｉｔｉｏｎ』を入手可能である。適した安定剤（すなわち、酸化防止剤及びオゾン劣化防止剤）としては、限定するものではないが、以下が挙げられる。２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール（ＢＨＴ）、Ｗｉｎｇｓｔａｙ（登録商標）Ｓ（Ｇｏｏｄｙｅａｒ）のようなスチレン化フェノール、２−及び３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノール、Ｗｉｎｇｓｔａｙ  Ｃ（Ｇｏｏｄｙｅａｒ）のようなアルキル化ヒンダードフェノール、４−ヒドロキシメチル−２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ｓｅｃ−ブチルフェノール、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、Ｃｙａｎｏｘ（登録商標）５３（Ｃｙｔｅｃ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ  Ｉｎｃ．）  ａｎｄ  Ｐｅｒｍａｎａｘ  ＷＳＯのような種々のビスフェノール、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−（１−メチルシクロヘキシル）フェノール）、４，４’−ブチリデンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、ポリブチル化ビスフェノールＡ、４，４’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（２，６−ジメチルフェノール）、１，１’−チオビス（２−ナフトール）、エチル抗酸化剤７３８のようなメチレン架橋ポリアリルフェノール、２，２’−チオビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−イソブチリデンビス（４，６−ジメチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、Ｗｉｎｇｓｔａｙ  Ｌのようなｐ−クレゾールとジシクロペンタジエンとのブチル化反応生成物、テトラキス（メチレン−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）メタン、すなわちＩｒｇａｎｏｘ（登録商標）１０１０（ＢＡＳＦ）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、例えばＥｔｈａｎｏｘ（登録商標）３３０（Ａｌｂｅｍａｒｌｅ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）、例えばＥｔｈａｎｏｘ  ４７０２又はＥｔｈａｎｏｘ  ４７１０のような４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、すなわち、Ｇｏｏｄ−ｒｉｔｅ（登録商標）３１１４（Ｅｍｅｒａｌｄ  Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ）、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−アミルヒドロキ���ン、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、トリス（ノニルフェニルホスファイト）、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル）ペンタエリスリトール）ジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、Ｎａｕｇａｒｄ（登録商標）４９２（Ｃｈｅｍｔｕｒａ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）のようなホスフェート化フェノール及びビスフェノール、Ｉｒｇａｎｏｘ  Ｂ２１５のようなホスファイト／フェノール酸化防止剤ブレンド、Ｉｒｇａｎｏｘ  １０９３のようなジ−ｎ−オクタデシル（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ホスホナート、Ｉｒｇａｎｏｘ  ２５９のような１，６−ヘキサメチレンビス（３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオナート）、Ｉｒｇａｎｏｘ  １０７６のようなオクタデシル−３，５−ジ−ｔｅｒｔブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）４，４’−ビフェニリレンジホスホナイト、ジフェニルアミン、４，４’−ジエトキシジフェニルアミンが挙げられる。そのような材料は通常、樹脂組成物中に約０．１０ｐｈｒ〜１０ｐｈｒのレベル、より好ましくは約０．１ｐｈｒ〜５ｐｈｒのレベルで使用される。
【０１７７】
適した補強材料としては、ポリマーに組み込まれたときにポリマー複合材の強度又は剛性を高めるものが含まれる。補強材料は、フィラメント、繊維、ロービング、マット、織物、布地、編物、布、又は他の周知の構造の形態であり得る。適した補強材料としては、ガラス繊維及びガラス繊維織物、炭素繊維及び炭素繊維織物、アラミド繊維及びアラミド繊維織物、ポリオレフィン繊維又はポリオレフィン繊維織物（ＨｏｎｅｙｗｅｌｌによってＳｐｅｃｔｒａ（登録商標）の商品名で製造されている超高分子量ポリエチレン繊維織物を含む）、ポリオキサゾール繊維又はポリオキサゾール繊維織物（Ｔｏｙｏｂｏ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ  （東洋紡株式会社）によって商品名Ｚｙｌｏｎ（登録商標））で製造されているもの）などが挙げられる。表面仕上げ、サイジング、又はコーティングを含む補強材料は、本明細書に記載の発明に特に適しており、Ａｈｌｓｔｒｏｍ社のガラスロービング（Ｒ３３８−２４００）、Ｊｏｈｎｓ  Ｍａｎｖｉｌｌｅ社のガラスロービング（Ｓｔａｒ  ＲＯＶ(R)−０８６）、Ｏｗｅｎｓ  Ｃｏｒｎｉｎｇ社のロービング（ＯＣＶ  ３６６−ＡＧ−２０７、Ｒ２５Ｈ−Ｘ１４−２４００、ＳＥ１２００−２０７、ＳＥ１５００−２４００、ＳＥ２３５０−２５０）、ＰＰＧ社のガラスロービング（Ｈｙｂｏｎ（登録商標）２００２、Ｈｙｂｏｎ（登録商標）２０２６）、Ｔｏｈｏ  Ｔｅｎａｘ（登録商標）炭素繊維トウ（ＨＴＲ−４０）、Ｚｏｌｔｅｋ炭素繊維トウ（Ｐａｎｅｘ（登録商標）３５）が挙げられる。更に、表面仕上げ、サイジング、又はコーティングを含む補強材料を使用して調製された任意の繊維織物が本発明に適している。有利なことに、本発明は、補強材料から表面仕上げ、サイジング、又はコーティングを除去する高価なプロセスを必要としない。加えて、ガラス繊維又はガラス繊維織物としては、Ａガラス、Ｅガラス又はＳガラス、Ｓ−２ガラス、Ｃガラス、Ｒガラス、ＥＣＲガラス、Ｍガラス、Ｄガラス、  及び石英、並びにシリカ／石英が含まれ得る。好ましいガラス繊維補強材料は、エポキシ樹脂、ビニルエステル樹脂、及び／又はポリウレタン樹脂と共に使用するために配合された仕上げを有するものである。これらのタイプの樹脂と組み合わせて使用するように配合された場合、それらの補強材料は「マルチコンパチブル」と呼ばれることがある。そのような補強材料は、一般に、ビニル、アミノ、グリシドキシ、又はメタクリルオキシ官能基（又はそれらの様々な組み合わせ）を含むオルガノシランカップリング剤を用いて製造中に処理され、繊維表面の保護のため、並びに取り扱い及び加工（例えば、スプーリングと製織）を容易にするために、仕上げ剤でコーティングされる。仕上げ剤は、典型的には、フィルム形成剤、界面活性剤、及び潤滑剤のような化学化合物及び高分子化合物の混合物を含む。特に好ましいガラス補強材料は、ある量のアミノ官能化シランカップリング剤を含有するものである。特に好ましい仕上げ剤は、エポキシ系及び／又はポリウレタン系フィルム形成剤を含むものである。好ましいガラス繊維補強材料の例は、Ｈｙｂｏｎ（登録商標）２０２６、２００２、２００１（ＰＰＧ）  マルチコンパチブルロービング、  Ａｈｌｓｔｒｏ���  Ｒ３３８（エポキシシランでサイジング処理されたロービング）、ＳｔａｒＲｏｖ（登録商標）０８６（Ｊｏｈｎｓ  Ｍａｎｖｉｌｌｅ）（ソフトシランサイジング処理されたマルチコンパチブルロービング）、ＯＣＶ（商標）  ３６６、ＳＥ  １２００、Ｒ２５Ｈ（Ｏｗｅｎｓ  Ｃｏｒｎｉｎｇ）マルチコンパチブルロービング、ＯＣＶ（商標）  ＳＥ  １５００  及び２３５０
（Ｏｗｅｎｓ  Ｃｏｒｎｉｎｇ）エポキシ相溶性ロービング、Ｊｕｓｈｉ  Ｇｒｏｕｐのマルチコンパチブルガラスロービング（７５２型、３９６型、３１２型、３８６型）に基づくものである。追加の好適なポリマー繊維及び繊維織物としては、ポリエステル、ポリアミド（例えば、Ｅ．Ｉ．ＤｕＰｏｎｔ社から入手可能なナイロン（ＮＹＬＯＮ）ポリアミド、芳香族ポリアミド（Ｅ．Ｉ．  ＤｕＰｏｎｔ社から入手可能なケブラー（ＫＥＶＬＡＲ）芳香族ポリアミド、又はＬｅｎｚｉｎｇ  Ａｋｔｉｅｎｇｅｓｅｌｌｓｃｈａｆｔ社から入手可能なＰ８４芳香族ポリアミド）、ポリイミド（例えば、Ｅ．Ｉ．  ＤｕＰｏｎｔ社から入手可能なカプトン（ＫＡＰＴＯＮ）ポリイミド）、ポリエチレン（例えば、Ｔｏｙｏｂｏ  Ｃｏ．，  Ｌｔｄ．（東洋紡）のダイニーマ（ＤＹＮＥＥＭＡ）ポリエチレン）が挙げられる。追加の好適な炭素繊維としては、限定するものではないが、Ｈｅｘｃｅｌ  ＣｏｒｐｏｒａｔｉｏｎのＡＳ２Ｃ、ＡＳ４、ＡＳ４Ｃ、ＡＳ４Ｄ、ＡＳ７、ＩＭ６、ＩＭ７、ＩＭ９及びＰＶ４２／８５０；  Ｔｏｒａｙ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ，  Ｉｎｃ．（東レ）のＴＯＲＡＹＣＡ  Ｔ３００、Ｔ３００Ｊ、Ｔ４００Ｈ、Ｔ６００Ｓ、Ｔ７００Ｓ、Ｔ７００Ｇ、Ｔ８００Ｈ、Ｔ８００Ｓ、Ｔ１０００Ｇ、Ｍ３５Ｊ、Ｍ４０Ｊ、Ｍ４６Ｊ、Ｍ５０Ｊ、Ｍ５５Ｊ、Ｍ６０Ｊ、Ｍ３０Ｓ、Ｍ３０Ｇ及びＭ４０；  Ｔｏｈｏ  Ｔｅｎａｘ，  Ｉｎｃ．（東邦テナックス）のＨＴＳ１２Ｋ／２４Ｋ、Ｇ３０−５００  ３ｋ／６Ｋ／１２Ｋ、Ｇ３０−５００  １２Ｋ、Ｇ３０−７００  １２Ｋ、Ｇ３０−７０００  ２４Ｋ  Ｆ４０２、Ｇ４０−８００  ２４Ｋ、ＳＴＳ  ２４Ｋ、ＨＴＲ  ４０  Ｆ２２  ２４Ｋ  １５５０ｔｅｘ；  Ｇｒａｆｉｌ  Ｉｎｃ．の３４−７００、３４−７００ＷＤ、３４−６００、３４−６００ＷＤ及び３４−６００（サイジング処理されていない）；  Ｃｙｔｅｃ  ＩｎｄｕｓｔｒｉｅｓのＴ−３００、Ｔ−６５０／３５、Ｔ−３００Ｃ及びＴ−６５０／３５Ｃが含まれ得る。追加の好適な炭素繊維としては、限定するものではないが、ＡＫＳＡＣＡ（Ａ４２／Ｄ０１１）、ＡＫＳＡＣＡ（Ａ４２／Ｄ０１２）、Ｂｌｕｅ  Ｓｔａｒ  Ｓｔａｒａｆｉｌ（１０２５３５１２−９０）、Ｂｌｕｅ  Ｓｔａｒ  Ｓｔａｒａｆｉｌ（１０２５４０６１−１３０）、ＳＧＬ  Ｃａｒｂｏｎ（Ｃ３０  Ｔ０５０  １．８０）、ＳＧＬ  Ｃａｒｂｏｎ（Ｃ５０  Ｔ０２４  １．８２）、Ｇｒａｆｉｌ（３４７Ｒ１２００Ｕ）、Ｇｒａｆｉｌ（ＴＨＲ  ６０１４Ａ）、Ｇｒａｆｉｌ（ＴＨＲ  ６０１４Ｋ）、Ｈｅｘｃｅｌ  Ｃａｒｂｏｎ（ＡＳ４Ｃ／ＥＸＰ  １２Ｋ）、Ｍｉｔｓｕｂｉｓｈｉ（Ｐｙｒｏｆｉｌ  ＴＲ  ５０Ｓ  １２Ｌ  ＡＦ）、Ｍｉｔｓｕｂｉｓｈｉ（Ｐｙｒｏｆｉｌ  ＴＲ  ５０Ｓ  １２Ｌ  ＡＦ）、Ｔｏｈｏ  Ｔｅｎａｘ（Ｔ７００ＳＣ  １２０００−５０Ｃ）、Ｔｏｒａｙ（Ｔ７００ＳＣ  １２０００−９０Ｃ）、Ｚｏｌｔｅｋ（Ｐａｎｅｘ  ３５  ５０Ｋ、サイジング１１）、Ｚｏｌｔｅｋ（Ｐａｎｅｘ  ３５  ５０Ｋ、サイジング１３）が含まれ得る。追加の好適な炭素繊維織物としては、限定するものではないが、Ｖｅｃｔｏｒｐｌｙ（Ｃ−Ｌ  １８００）及びＺｏｌｔｅｋ（Ｐａｎｅｘ  ３５  ＵＤ  Ｆａｂｉｃ−ＰＸ３５ＵＤ０５００−１２２０）が含まれ得る。追加の好適なガラス繊維織物としては、限定するものではないが、Ｖｅｃｔｏｒｐｌｙ（Ｅ−ＬＴ  ３５００−１０）（ＰＰＧ  Ｈｙｂｏｎ（登録商標）２０２６系）；  Ｓａｅｒｔｅｘ（Ｕ１４ＥＵ９７０−０１１９０−Ｔ２５２５−１２５０００）（ＰＰＧ  Ｈｙｂｏｎ（登録商標）２００２系）；  Ｃｈｏｎｇｑｉｎｇ  Ｐｏｌｙｃｏｍｐ  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎ  Ｃｏｒｐ．（ＣＰＩＣ（登録商標）Ｆｉｂｅｒｇｌａｓｓ）（ＥＫＵ  １１５０（０）／５０−６００）及びＯｗｅｎｓ  Ｃｏｒｎｉｎｇ（Ｌ１０２０／０７Ａ０６  Ｘｗｅｆｔ  ２００ｔｅｘ）により供給されているガラス繊維織物が含まれ得る。
【０１７８】
他の適した充填剤としては、例えば、金属密度調節剤、例えばミクロスフェアのような微粒子密度調節剤、及び例えばガラス又はセラミックビーズのようなマクロ粒子密度調節剤が含まれる。金属密度調節剤としては、粉末状の、焼結された、切削された、フレーク状の、ファイル削りされた、粒状又は顆粒状の金属、金属酸化物、金属窒化物、及び／又は金属炭化物などが含まれるが、これらに限定されない。とりわけ好ましい金属密度調節剤としては、タングステン、炭化タングステン、アルミニウム、チタン、鉄、鉛、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、炭化ホウ素、及び炭化ケイ素が含まれる。微粒子密度調節剤としては、ガラス、金属、熱可塑性プラスチック（膨張性のもの又は予じめ膨張されているもののいずれか）又は熱硬化性プラスチック、及び／又はセラミック／シリケートミクロスフェアが含まれるが、これらに限定されない。マクロ粒子密度調節剤としては、ガラス、プラスチック又はセラミックのビーズ；  金属の棒、塊、片又はショット；  中空のガラス、セラミック、プラスチック又は金属の球、ボール若しくは管などが挙げられるが、これらに限定されない。  
【０１７９】
本発明は、少なくとも１つの環式オレフィンと、少なくとも１つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒と、少なくとも２つのイソシアナート基を含む少なくとも１つの化合物を含む少なくとも１つの接着促進剤と、少なくとも１つの本発明の機能性エラストマーと、少なくとも１つの基材材料とを含む樹脂組成物から製造される物品もまた目的とする。更に、本発明は、少なくとも１つの環式オレフィンと、少なくとも１つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒と、少なくとも２つのイソシアナート基を含む少なくとも１つの化合物を含む少なくとも１つの接着促進剤と、少なくとも１つの本発明の機能性エラストマーとを含む樹脂組成物から製造される物品を目的とし、ここで、樹脂組成物は少なくとも１つの金属カルベンオレフィンメタセシス触媒と組み合わされ、その結果得られる樹脂組成物は、少なくとも１つの基材に適用され、その基材は例えばアミノ官能化基材のような、例えばヘテロ原子官能化基材のような官能化基材であり得る。物品としては、鋳造、遠心鋳造、引抜成形、成形、回転成形、開放成形、反応射出成形（ＲＩＭ）、樹脂トランスファー成形（ＲＴＭ）、注入、真空含浸、表面コーティング、フィラメント巻回、及び、ポリマー物品の製造に有用な周知の他の方法を含む標準的な製造技術によって形成されるものが含まれ得るが、これらに限定されない。成形部品としては、反応射出成形、樹脂トランスファー成形、及び真空アシスト樹脂トランスファー成形が含まれるが、これらに限定されない。更に、本発明の組成物及び製品は、単一のポリマー−表面界面に限定されず、複数のポリマー−表面界面を含む多層及び積層体もまた含む。本発明はまた、樹脂を多孔質材料に注入することによって形成される物品の製造にも適している。そのような多孔質材料としては、木材、セメント、コンクリート、連続気泡及び網状発泡体及びスポンジ、紙、ボール紙、フェルト、天然又は合成繊維のロープ又は編組、及び様々な焼結材料が含まれるが、これらに限定されない。更に、他の製造技術としては、限定するものではないが、セル鋳造、ディップ鋳造、連続鋳造、埋め込み、ポッティング、カプセル化、フィルム鋳造又は溶媒鋳造、ゲート鋳造、鋳型鋳造、スラッシュ鋳造、押出成形、機械的発泡、化学的発泡、物理的発泡、圧縮成形又はマッチドダイ成形、スプレーアップ、真空アシスト樹脂トランスファー成形（ＶＡＲＴＭ）、Ｓｅｅｍａｎの複合樹脂注入成形プロセス（ＳＣＲＩＭＰ）、ブロー成形、インモールドコーティング、インモールド塗装又は射出、真空成形、強化反応射出成形（ＲＲＩＭ）、構造反応射出成型（ＳＲＩＭ）、熱膨張トランスファー成形（ＴＥＲＭ）、樹脂射出再循環成形（ＲＩＣＭ）、制御大気圧樹脂注入（ＣＡＰＲＩ）、ハンドレイアップが挙げられる。限定するものではないが、ＲＩＭ、ＳＲＩＭ及びＲＲＩＭを含むＲＩＭ又はインピンジメント形式の混合ヘッドの使用を必要とする製造技術では、単一の混合ヘッド又は複数の混合ヘッド並びに複数の材料射出流（例えば、２つの樹脂流及び１つの触媒流）を使用して、製品を成形することができる。
【０１８０】
更に、本発明は、任意の構成、重量、サイズ、厚さ、又は幾何学的形状の製品を製造することもまた可能にする。製品の例としては、限定するものではないが、航空宇宙向け構成部品、海洋向け構成部品、自動車構成部品、スポーツ用品構成部品、電気部品、及び工業用構成部品、医療用構成部品、歯科用構成部品、又は軍用構成部品として使用するための任意の成形品又は形作られた物品が挙げられる。一実施形態では、物品は、航空機又は一般的な発電に使用されるタービン構成部品であり得る。一実施形態では、タービン構成部品としては、限定するものではないが、吸気口、パイロン、パイロンフェアリング、音響パネル、スラストリバーサパネル、ファンブレード、ファン格納ケース、バイパスダクト、空力カウル、又は  翼形構成部品が含まれ得る。一実施形態では、物品はタービンブレード構成部品又はタービンブレードであり得る。一実施形態では、物品は、ウィンドタービン用のウィンドローターブレード、タワー、スパーキャップ、又はナセルであり得る。一実施形態では、物品は機体構成部品であり得る。航空宇宙向け構成部品の例としては、限定するものではないが、胴体スキン、翼、フェアリング、ドア、アクセスパネル、空力制御面、又はスティフナーのうちの１つ又は複数が含まれ得る。一実施形態では、物品は自動車構成部品であり得る。自動車構成部品の例としては、限定するものではないが、ボディパネル、フェンダー、スポイラー、荷台、保護プレート、ボンネット、縦レール、ピラー、又はドアのうちの１つ又は複数が含まれ得る。工業用構成部品の例としては、限定するものではないが、ライザー、プラットフォーム、油及びガス用の衝撃保護構造、橋、パイプ、圧力容器、電柱、コイル、容器、タンク、ライナー、収納容器、腐食環境（例えば、塩素アルカリ、腐食性、酸性、塩水等）用の物品、コンクリート建築物及び道路用補強構造物、又はラジエーターのうちの１つ又は複数が含まれ得る。電気部品の例としては、限定するものではないが、例えばコイル又は電気モーターのような巻回物品、若しくは絶縁装置のうちの１つ又は複数が含まれ得る。一実施形態では、物品は、磁気共鳴イメージングシステムの渦電流遮蔽構成部品又は任意の電磁放射用遮蔽構成部品であり得る。一実施形態では、物品は、限定するものではないが、人員又は車両用の耐弾防護装置又は人員又は設備を保護するための防弾構造物を含む軍用構成部品であり得る。一実施形態では、物品は、限定するものではないが、矢軸、テニスラケットフレーム、ホッケースティック、複合弓肢、又はゴルフクラブシャフトを含むスポーツ用品構成部品であり得る。
【０１８１】
本発明による樹脂組成物はサイジング組成物を更に含むことができる、又は、本発明による樹脂組成物を使用して、当該業界で一般的に使用されている特定の市販のシランでサイジング処理されている基材材料への改善された接着性をもたらすことができる。当該技術分野で周知のように、ガラス繊維は、典型的には、ガラス繊維を補強するために、及び加工中並びに複合材の製造中にストランドの機械的完全性を保護するために、それらが形成された直後に化学溶液（例えば、サイジング組成物）で処理される。金属カルベンオレフィンメタセシス触媒及びポリジシクロペンタジエン複合材と適合性のあるサイジング処理は、米国特許第６，８９０，６５０号及び同第６，４３６，４７６号に記載されており、それらの両方の開示は参照により本明細書に援用される。しかしながら、これらの開示は、工業用ガラス製造において一般的に使用されない特殊なシラン処理の使用に基づいている。これに対して、本発明は、業界で一般的に使用されているシランでサイジング処理されたポリマー・ガラス複合材の機械的特性の改善をもたらすことができる。
【０１８２】
ガラスサイジング配合物は、典型的には、少なくとも１つのフィルム形成剤（典型的にはフィルム形成ポリマー）と、少なくとも１つのシランと、少なくとも１つの潤滑剤とを含む。金属カルベンオレフィンメタセシス触媒又はオレフィン重合反応の効果を妨げない又は実質的に低下させないサイジング配合物の任意の成分は、本発明と適合性があると考えられ、一般に本明細書で使用され得る。
【０１８３】
ＲＯＭＰ触媒（金属カルベンオレフィンメタセシス触媒）と適合性のあるフィルム形成剤としては、エポキシ、ポリエステル、ポリウレタン、ポリオレフィン、及び／又はポリ酢酸ビニルが挙げられる。金属カルベンオレフィンメタセシス触媒の性能に悪影響を及ぼさない他の一般的なフィルム形成剤もまた使用され得る。フィルム形成剤は、典型的には、非イオン性水性エマルジョンとして使用される。ガラスの加工性と複合材の機械的特性の望ましいバランスを達成するために、所与のサイジング配合物中に複数のフィルム形成剤を使用してもよい。
【０１８４】
より具体的には、フィルム形成剤は、エポキシド基あたりの平均分子量（ＥＥＷ）が５００未満のエポキシモノマー又はオリゴマーとして定義される低分子量エポキシエマルジョン及び／又はエポキシド基あたりの平均分子量（ＥＥＷ）が５００以上のエポキシモノマー又はオリゴマーとして定義される高分子量エポキシエマルジョンを含むことができる。適した低分子量製品の例としては、Ｆｒａｎｋｌｉｎ  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌが製造しているＦｒａｎｋｌｉｎ  Ｋ８−０２０３（ＥＥＷ  １９０）及びＦｒａｎｋｌｉｎ  Ｅ−１０２（ＥＥＷ  ２２５〜２７５）を含む水性エポキシエマルジョンが挙げられる。低分子量エポキシエマルジョンのその他の例としては、Ｈｅｘｉｏｎから入手できるＥＰＩ−ＲＥＺ（商標）３５１０−Ｗ−６０（ＥＥＷ  １８５〜２１５）及びＥＰＩ−ＲＥＺ（商標）３５１５−Ｗ−６０（ＥＥＷ  ２２５〜２７５）が挙げられる。低分子量エポキシエマルジョンの更なる例としては、ＣＯＩＭから入手できるＦｉｌｃｏ  ３０９（ＥＥＷ  ２７０）及びＦｉｌｃｏ  ３０６（ＥＥＷ  ３３０）が挙げられる。低分子量エポキシエマルジョンの更なる例としては、ＤＳＭから入手できるＮｅｏｘｉｌ（登録商標）９６５（ＥＥＷ  ２２０〜２８０）  及びＮｅｏｘｉｌ（登録商標）４５５５（ＥＥＷ  ２２０〜２６０）が挙げられる。適した高分子量エポキシエマルジョンの例としては、Ｈｅｘｉｏｎから入手できるＥＰＩ−ＲＥＺ（商標）３５２２−Ｗ−６０（ＥＥＷ  ６１５〜７１５）が挙げられる。  
【０１８５】
変性されたエポキシ、ポリエステル、及びポリウレタンの水性エマルジョンもまた、フィルム形成剤に使用することができる。適した変性エポキシ製品の例としては、ＤＳＭによって製造されているエマルジョンが挙げられ、Ｎｅｏｘｉｌ（登録商標）２６２６（５００〜６２０のＥＥＷを有する可塑化エポキシ）、Ｎｅｏｘｉｌ（登録商標）９６２／Ｄ（４７０〜５５０のＥＥＷを有するエポキシ−エステル）、Ｎｅｏｘｉｌ（登録商標）３６１３（５００〜８００のＥＥＷを有するエポキシ−エステル）、Ｎｅｏｘｉｌ（登録商標）５７１６（２１０〜２９０のＥＥＷを有するエポキシ−ノボラック）、Ｎｅｏｘｉｌ（登録商標）００３５（２５００のＥＥＷを有する可塑化エポキシ−エステル）、及びＮｅｏｘｉｌ（登録商標）７２９（２００〜８００のＥＥＷを有する潤滑化エポキシ）が含まれる。変性エポキシエマルジョンの更なる例は、ＣＯＩＭから入手可能であり、Ｆｉｌｃｏ  ３３９（ＥＥＷが２０００の不飽和ポリエステル−エポキシ）及びＦｉｌｃｏ  ３６２（ＥＥＷが５３０のエポキシ−エステル）を含む。適したポリエステル製品の例としては、Ｎｅｏｘｉｌ（登録商標）９５４／Ｄ、Ｎｅｏｘｉｌ（登録商標）２６３５、及びＮｅｏｘｉｌ（登録商標）４７５９（不飽和ビスフェノール系ポリエステル）を含む、ＤＳＭによって製造されているものが挙げられる。その他の適したＤＳＭの製品としては、Ｎｅｏｘｉｌ（登録商標）９１６６及びＮｅｏｘｉｌ（登録商標）９６８／６０（アジペートポリエステル）が挙げられる。適した製品の更なる例としては、Ｆｉｌｃｏ  ３５４／Ｎ（不飽和ビスフェノール系ポリエステル）、Ｆｉｌｃｏ  ３５０（不飽和ポリエステル）、及びＦｉｌｃｏ  ３６８（飽和ポリエステル）を含む、ＣＯＩＭによって製造されているエマルジョンが挙げられる。適したポリウレタン製品の例としては、Ｂａｙｂｏｎｄ（登録商標）３３０及びＢａｙｂｏｎｄ（登録商標）４０１を含む、Ｂａｙｅｒ  Ｍａｔｅｒｉａｌ  Ｓｃｉｅｎｃｅによって製造されているエマルジョンが挙げられる。
【０１８６】
フィルム形成剤はまた、ポリオレフィン又はポリオレフィン−アクリルコポリマー、ポリビニルアセテート、変性ポリビニルアセテート、又はポリオレフィン−アセテートコポリマーを含んでもよい。適したポリオレフィンとしては、限定するものではないが、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブチレン、及びそれらのコポリマーが挙げられ、そのポリオレフィンは効果的なフィルム形成剤としての使用のために酸化、マレイン化、又は他の方法で処理され得る。適した製品の例としては、Ｍｉｃｈｅｍ（登録商標）Ｅｍｕｌｓｉｏｎ  ９１７３５、Ｍｉｃｈｅｍ（登録商標）Ｅｍｕｌｓｉｏｎ  ３５１６０、Ｍｉｃｈｅｍ（登録商標）Ｅｍｕｌｓｉｏｎ  ４２５４０、Ｍｉｃｈｅｍ（登録商標）Ｅｍｕｌｓｉｏｎ  ６９２３０、Ｍｉｃｈｅｍ（登録商標）Ｅｍｕｌｓｉｏｎ  ３４０４０Ｍ１、Ｍｉｃｈｅｍ（登録商標）Ｐｒｉｍｅ  ４９８３Ｒ、及びＭｉｃｈｅｍ（登録商標）Ｐｒｉｍｅ  ４９８２ＳＣを含む、Ｍｉｃｈｅｌｍａｎによって製造されているエマルジョンが挙げられる。適した製品の例としては、ＰＤ７０８Ｈ、ＰＤ７０７、及びＰＤ０１６６を含む、ＨＢ  Ｆｕｌｌｅｒによって製造されているエマルジョンが挙げられる。その他の適した製品としては、Ｄｕｒａｃｅｔ（登録商標）６３７を含む、Ｆｒａｎｋｌｉｎ  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌによって製造されているエマルジョンが挙げられる。その他の適した製品としては、Ｖｉｎａｍｕｌ（登録商標）８８２３（可塑化ポリビニルアセテート）、Ｄｕｒ−Ｏ−Ｓｅｔ（登録商標）Ｅ−２００（エチレン酢酸ビニルコポリマー）、Ｄｕｒ−Ｏ−Ｓｅｔ  ＴＸ８４０（エチレン酢酸ビニルコポリマー）  及びＲｅｓｙｎ（登録商標）１９７１（エポキシ変性ポリビニルアセテート）を含む、Ｃｅｌａｎｅｓｅによって製造されているエマルジョンが挙げられる。
【０１８７】
限定するものではないが、好ましいフィルム形成剤としては、低分子量及び高分子量エポキシ、飽和及び不飽和ポリエステル、及びポリオレフィンが挙げられ、例えば、Ｆｒａｎｋｌｉｎ  Ｋ８０−２０３、Ｆｒａｎｋｌｉｎ  Ｅ−１０２、Ｈｅｘｉｏｎ  ３５１０−Ｗ−６０、Ｈｅｘｉｏｎ  ３５１５−Ｗ−６０、Ｍｉｃｈｅｌｍａｎ  ３５１６０などである。  
【０１８８】
非イオン性潤滑剤もまた、サイジング組成物に添加することができる。ＲＯＭＰ組成物と適合性のある適した非イオン性潤滑剤としては、ポリエチレングリコールのエステル、及びエチレンオキシドとプロピレンオキシドとのブロックコポリマーが挙げられる。ガラスの加工性と複合材の機械的特性の望ましいバランスを達成するために、所望により、所与のサイジング配合物中に複数の非イオン性潤滑剤を使用してもよい。
【０１８９】
適した潤滑剤は、２００〜２０００、好ましくは２００〜６００の平均分子量のポリエチレングリコール（ＰＥＧ）単位を含有することができる。これらのＰＥＧ単位は、オレイン酸塩、タルタル酸塩、ラウリン酸塩、ステアリン酸塩などを含む１つ以上の脂肪酸でエステル化することができる。特に好ましい潤滑剤としては、ＰＥＧ４００のジラウレート、ＰＥＧ６００のジラウレート、ＰＥＧ４００のジステアレート、ＰＥＧ６００のジステアレート、ＰＥＧ４００のジオレエート、及びＰＥＧ６００のジオレエートが挙げられる。適した製品の例としては、ＭＡＰＥＧ（登録商標）４００  ＤＯ、ＭＡＰＥＧ（登録商標）４００  ＤＯＴ、ＭＡＰＥＧ（登録商標）６００  ＤＯ、ＭＡＰＥＧ（登録商標）６００  ＤＯＴ及びＭＡＰＥＧ（登録商標）６００  ＤＳを含む、ＢＡＳＦによって製造されている化合物が挙げられる。その他の適した製品としては、Ｍｕｌｓｉｆａｎ  ２００  ＤＯ、Ｍｕｌｓｉｆａｎ  ４００  ＤＯ、Ｍｕｌｓｉｆａｎ  ６００  ＤＯ、Ｍｕｌｓｉｆａｎ  ２００  ＤＬ、Ｍｕｌｓｉｆａｎ  ４００  ＤＬ、Ｍｕｌｓｉｆａｎ  ６００  ＤＬ、Ｍｕｌｓｉｆａｎ  ２００  ＤＳ、Ｍｕｌｓｉｆａｎ  ４００  ＤＳ、及びＭｕｌｓｉｆａｎ  ６００  ＤＳを含む、Ｚｓｃｈｉｍｍｅｒ  ＆  Ｓｃｈｗａｒｚによって製造されている化合物が挙げられる。その他の適した製品としては、Ａｇｎｉｑｕｅ（登録商標）ＰＥＧ  ３００  ＤＯ、Ａｇｎｉｑｕｅ（登録商標）ＰＥＧ  ４００  ＤＯ、及びＡｇｎｉｑｕｅ（登録商標）ＰＥＧ  ６００  ＤＯを含む、Ｃｏｇｎｉｓによって製造されている化合物が挙げられる。
【０１９０】
適した非イオン性潤滑剤には、エチレンオキシドとプロピレンオキシドのブロックコポリマーもまた含まれる。適した製品の例としては、Ｐｌｕｒｏｎｉｃ（登録商標）Ｌ６２、Ｐｌｕｒｏｎｉｃ（登録商標）Ｌ１０１、Ｐｌｕｒｏｎｉｃ（登録商標）Ｐ１０３、及びＰｌｕｒｏｎｉｃ（登録商標）Ｐ１０５を含む、ＢＡＳＦによって製造されている化合物が挙げられる。
【０１９１】
カチオン性潤滑剤もまた、サイジング組成物に添加することができる。ＲＯＭＰと適合性のあるカチオン性潤滑剤としては、Ｐｕｌｃｒａ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓによって製造されているＥｍｅｒｙ  ６７６０Ｌのような変性ポリエチレンイミンが挙げられる。
【０１９２】
所望により、、サイジング組成物にシランカップリング剤を添加してもよく、非限定的な例としては、アルキルシラン、アルケニルシラン、及びノルボルネニルシラン、並びにメタクリレート官能化シラン、アクリレート官能化シラン、アミノ官能化シラン、又はエポキシ官能化シランが挙げられる。
【０１９３】
所望により、サイジング組成物は、サイジング樹脂のｐＨを修正するための１つ以上の添加剤を含有してもよい。１つの好ましいｐＨ調整剤は酢酸である。
【０１９４】
サイジング組成物は、所望により、ガラスサイジング組成物に有用な他の添加剤を含有してもよい。そのような添加剤としては、乳化剤、消泡剤、共溶媒、殺生物剤、抗酸化剤、及びサイジング組成物の有効性を改善するように設計された添加剤が含まれ得る。サイジング組成物は、任意の方法によって調製することができ、ガラス繊維又はガラス繊維織物のような本明細書で用いるための基材材料に、任意の技術又は方法によって適用することができる。
【０１９５】
好ましい実施形態において、本明細書に開示されるメタセシス反応は、乾燥した不活性雰囲気下で行われる。そのような雰囲気は、窒素及びアルゴンのようなガスを含む任意の不活性ガスを使用して生成され得る。不活性雰囲気の使用は、触媒活性を促進することに関して最適であり、不活性雰囲気下で行われる反応は、典型的には、比較的低い触媒充填量で行われる。本明細書に開示される反応は、酸素含有及び／又は水含有雰囲気中で実施することもでき、一実施形態では、反応は周囲条件下で行われる。しかしながら、反応中の酸素又は水の存在は、不活性雰囲気下で行われる反応と比較して、より高い触媒充填量の使用を必要とすることがある。反応物の蒸気圧が許容する場合、本明細書に開示される反応は、減圧下で行うこともできる。
【０１９６】
本明細書に開示される反応は、溶媒中で行うことができ、交差メタセシスに対して不活性な任意の溶媒を使用することができる。一般に、メタセシス反応に使用され得る溶媒としては、芳香族炭化水素、塩素化炭化水素、エーテル、脂肪族炭化水素、アルコール、水、又はそれらの混合物のような、有機、プロトン性、又は水性の溶媒が挙げられる。溶媒の例としては、ベンゼン、トルエン、ｐ−キシレン、塩化メチレン、１，２−ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、クロロベンゼン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ペンタン、メタノール、エタノール、水、又はそれらの混合物が挙げられる。好ましい実施形態では、本明細書に開示される反応は、ニートで、すなわち溶媒を使用せずに行われる。
【０１９７】
本明細書に開示される方法によるメタセシス反応が行われる温度は、必要に応じて調整することができ、少なくとも約−７８℃、−４０℃、−１０℃、０℃、１０℃、２０℃、２５℃、３５℃、５０℃、  ７０℃、１００℃、又は１５０℃であってもよく、又はその温度は、これらの値のいずれかを上限又は下限とする範囲内であってもよい。好ましい実施形態では、反応は少なくとも約３５℃の温度で行われ、別の好ましい実施形態では、反応は少なくとも約５０℃の温度で行われる。
【０１９８】
本発明をその特定の実施形態と共に説明してきたが、上記の説明及び以下の実施例は例示を目的としたものであり、本発明の範囲を限定するものではないことを理解されたい。本発明の範囲内の他の態様、利点及び変更は、本発明が関係する当業者には明らかであろう。
実験的
【０１９９】
以下の実施例では、使用される数値（例えば、量、温度など）に関する正確性を確保するための努力がなされたが、ある程度の実験誤差及び偏差は考慮されるべきである。別段の指示がない限り、温度は摂氏（℃）単位であり、圧力は大気圧又はそれに近い圧力であり、粘度はセンチポアズ（ｃＰ）単位である。
【０２００】
以下の実施例は、本明細書に記載した本発明を限定するものではないと考えられるべきであり、むしろ、本発明の衝撃改質組成物の代表例及びそれらの使用方法として提供されている。
実施例
材料及び方法
【０２０１】
別段の記述がない限り、すべてのガラス器具はオーブン乾燥され、反応は周囲条件で実施された。別段の記述がない限り、すべての溶媒及び試薬は、商業的供給元から購入し、受け取ったままのものを使用した。
【０２０２】
ジシクロペンタジエン（Ｕｌｔｒｅｎｅ（登録商標）９９）（ＤＣＰＤ）はＣｙｍｅｔｅｃｈ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから入手した。米国特許第４，８９９，００５号に記載されているように、２０〜２５％のトリシクロペンタジエン（及び少量の、より高級のシクロペンタジエン同族体）を含有する変性ＤＣＰＤベース樹脂をＵｌｔｒｅｎｅ（登録商標）９９の熱処理によって調製した。
【０２０３】
Ｂａｙｅｒ  Ｍａｔｅｒｉａｌ  Ｓｃｉｅｎｃｅ（Ｍｏｎｄｕｒ（登録商標）ＭＬＱ）から受け取った液体のＭＤＩ（４，４’−ＭＤＩと２，４’−ＭＤＩとの５０／５０混合物）を、そのまま、指示されているように使用した。Ｅｔｈａｎｏｘ（登録商標）４７０２酸化防止剤（４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）（Ａｌｂｅｍａｒｌｅ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）を、指示されているように使用した。２ｐｈｒのＣａｂ−ｏ−ｓｉｌ  ＴＳ６１０を含有するＣｒｙｓｔａｌ  Ｐｌｕｓ  ７０ＦＧ鉱油を使用して、金属カルベンオレフィンメタセシス触媒懸濁液を調製した。Ａｒｋｅｍａから受け取ったトリフェニルホスフィン（ＴＰＰ）をそのまま使用した。
【０２０４】
一連のスチレン−エチレン／ブチレン−スチレン（ＳＥＢＳ）水素化コポリマー衝撃性改良剤を評価した。これらの改良剤はＫｒａｔｏｎ  Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓから入手し、受け取ったものをそのまま使用した。評価した衝撃性改良剤の組成を、製造元であるＫｒａｔｏｎ  Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓから入手できるデータシート及び製品パンフレット、並びに製造元のウェブサイト（ｗｗｗ．ｋｒａｔｏｎ．ｃｏｍ）が提供している情報にしたがって表１にまとめた。Ｋｒａｔｏｎ  ＦＧ１９０１Ｇ及びＦＧ１９２４Ｇは、ミッドブロック上にグラフトされた、指示された重量％の無水マレイン酸を含有するスチレン−エチレン／ブチレン−スチレン水素化中間ブロックを有する直鎖状スチレントリブロックコポリマーである。Ｋｒａｔｏｎ  Ｇ１６５０Ｍ及びＧ１６５７Ｍは、スチレン−エチレン／ブチレン−スチレン水素化中間ブロックを有する直鎖状スチレントリブロックコポリマーである。Ｋｒａｔｏｎ  ＦＧ１９０１Ｇ、Ｋｒａｔｏｎ  ＦＧ１９２４Ｇ、Ｋｒａｔｏｎ  Ｇ１６５７Ｍ、及びＫｒａｔｏｎ  Ｇ１６５０Ｍの製造元のデータシート及び製品パンフレットによると、グレード命名法において「Ｇ」はＫｒａｔｏｎ  Ｇ水素化スチレンブロックコポリマーを示し、「ＦＧ」は官能化Ｋｒａｔｏｎ  Ｇを示す。スチレン−エチレン／ブチレン−スチレン水素化コポリマー（Ｋｒａｔｏｎ  Ｇ１６５７Ｍ及びＫｒａｔｏｎ  Ｇ１６５０Ｍ）及び無水マレイン酸グラフトスチレン−エチレン／ブチレン−スチレン水素化コポリマー（Ｋｒａｔｏｎ  ＦＧ１９２４Ｇ及びＫｒａｔｏｎ  ＦＧ１９０１Ｇ）を、窒素下で撹拌しながら約５２℃で加熱することにより、変性ＤＣＰＤ（２０〜２５％のトリシクロペンタジエンを含む）中に溶解した。
【表１】
0006787907.tif 000062
【０２０５】
金属カルベンオレフィンメタセシス触媒は、標準的な方法によって調製された、［１，３−ビス−（２，４，６−トリメチルフェニル）−２−イミダゾリジニリデン］ジクロロ（３−メチル−２−ブテニリデン）（トリシクロヘキシルホスフィン）ルテニウム（ＩＩ）（Ｃ８２７）を含むものである。
【０２０６】
ガラス繊維織物は、Ｖｅｃｔｏｒｐｌｙ（Ｅ−ＬＴ  ３５００−１０）（ＰＰＧ  Ｈｙｂｏｎ（登録商標）２０２６系、「Ｖｅｃｔｏｒｐｌｙ  Ｇｌａｓｓ  Ｆａｂｒｉｃ」）、Ｓａｅｒｔｅｘ（Ｕ１４ＥＵ９７０−０１１９０−Ｔ２５２５−１２５０００）（ＰＰＧ  Ｈｙｂｏｎ（登録商標）２００２系、「Ｓａｅｒｔｅｘ  Ｇｌａｓｓ  Ｆａｂｒｉｃ」）、Ｃｈｏｎｇｑｉｎｇ  Ｐｏｌｙｃｏｍｐ  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎ  Ｃｏｒｐ．（ＣＰＩＣ（登録商標）Ｆｉｂｅｒｇｌａｓｓ）（ＥＫＵ  １１５０（０）／５０−６００）（「ＣＰＩＣ  Ｇｌａｓｓ  Ｆａｂｒｉｃ」）、及びＯｗｅｎｓ  Ｃｏｒｎｉｎｇ（Ｌ１０２０／０７Ａ０６  Ｘｗｅｆｔ  ２００ｔｅｘ）（「ＯＣ  Ｇｌａｓｓ  Ｆａｂｒｉｃ」）により供給されたものをそのまま使用した。
【０２０７】
炭素繊維織物は、Ｖｅｃｔｏｒｐｌｙ（Ｃ−Ｌ  １８００）（「Ｖｅｃｔｏｒｐｌｙ  Ｃａｒｂｏｎ  Ｆａｂｒｉｃ」）、Ｚｏｌｔｅｋ（Ｐａｎｅｘ  ３５  ＵＤ  Ｆａｂｉｃ−ＰＸ３５ＵＤ０５００−１２２０）（「Ｚｏｌｔｅｋ  Ｃａｒｂｏｎ  Ｆａｂｒｉｃ」）により供給されたものをそのまま使用した。
【０２０８】
樹脂への添加剤は、樹脂１００万グラム当たりの添加剤のグラム単位重量として定義されるｐｐｍとしてか、又は樹脂１００グラム当たりの添加剤のグラム単位重量として定義されるｐｈｒとして報告されている。
【０２０９】
以下に記載される表１〜６の実施例のガラス複合積層体は、ＶＡＲＴＭプロセスを用いて調製した。複合積層体の底面の型表面は、シールされ脱型処理されたアルミニウム板からなる。このアルミニウム板は、アルミニウム板の底面に機械的に取り付けられた、樹脂注入用入口ポート及び真空源取り付け用出口ポートを有する。ガラス複合積層体は、１／８インチの積層体の厚さを達成するように、それぞれが３インチ×６インチの寸法を有するように切断されたガラス繊維織物４層をアルミニウム板の上面に配置することによって構成された。その４層のガラス繊維織物補強材の上に剥離層（Ｂｒｏｎ  Ａｅｒｏｔｅｃｈ；  ＰＴＦＥ被覆されている）を置いた。ナイロン樹脂分配媒体（Ａｉｒｔｅｃｈ  Ｇｒｅｅｎｆｌｏｗ  ７５）を、入口ポート及び出口ポートの位置にそれぞれ対応する複合積層体の対向する端部の剥離層の上に配置した。完成した層状物の上に、真空バッグフィルム（Ｕｍｅｃｏ  Ｐｒｏｃｅｓｓ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  Ｓｔｒｅｔｃｈ−Ｖａｃ  ２０００）シートを配置した。その真空バッグフィルムをシーラントテープ（Ａｉｒｔｅｃｈ  ＡＴ２００−Ｙテープ）を用いて型の表面に貼り付け、層状物から空気を抜くために、出口ポートに真空をかけて２８ｉｎＨｇ〜２９ｉｎＨｇの真空レベルまで空気を抜いた  。本明細書で以下に記載される実施例にしたがって調製された樹脂は、真空下で攪拌しながら少なくとも２０分間脱気した。触媒懸濁液を真空下で樹脂に注入し、触媒された樹脂を真空下で少なくとも１分間攪拌した。樹脂と触媒懸濁液は、混合の直前に周囲温度（２０〜２５℃）であった。少なくとも１分後、触媒された樹脂の攪拌を止め、真空源を取り外し、触媒された樹脂をアルゴンで再充填した。次いで、周囲圧力と真空ガラス繊維織物層状物との間の圧力勾配作用によって触媒された樹脂をガラス繊維織物に注入した。注入が完了した後、ガラス複合積層体を周囲温度（２０〜２５℃）から３５℃まで２時間加熱した。３５℃で２時間経過後、ガラス複合積層体を１℃／分の加熱速度で１００℃に加熱し、１００℃で１時間保持し、次いで周囲温度（２０〜２５℃）まで冷ました後、脱型した。
【０２１０】
本明細書で以下に記載される表１〜６の実施例の炭素複合積層体は、同様に１／８  インチの積層体厚さを達成するように６層の炭素繊維織物を用いて調製した。    
【０２１１】
機械的特性は標準的な技法を用いて測定した。１０％歪みでの層間剪断強度（ＩＬＳＳ）は、ＡＳＴＭ  Ｄ２３４４にしたがって短ビーム剪断法により、１インチ×１／４インチ×１／８インチの試料について測定した。ＩＬＳＳ値は、ポンド／平方インチ（ｐｓｉ）単位で報告されてた。層間剪断強度（ＩＬＳＳ）は、複合材のポリマー・マトリックスと繊維補強材との間の接着性及び／又は適合性の尺度である。報告されたＩＬＳＳ値は、３つの試料の平均値である。層間の剪断強度値に基づく以下の基準を使用して、ポリマー・マトリックスとガラス又は炭素繊維補強材料との間の接着性及び／又は適合性を特徴付けた。７５００ｐｓｉ未満のＩＬＳＳ値を有する複合材を、ポリマー・マトリックスと繊維補強材との間の接着性及び／又は適合性が乏しい複合材として特徴付け、ポリマー・マトリックスと繊維補強材との間の共有結合の欠如を示唆するものとした。７，５００ｐｓｉ未満のＩＬＳＳ値を有する複合材は、本明細書の表２において負の符号（−）で示されている。７５００ｐｓｉ以上のＩＬＳＳ値を有する複合材を、ポリマー・マトリックスと繊維補強材料との間の接着性及び／又は適合性の優れた複合材として特徴付け、より高度なポリマー・マトリックスと繊維補強材料との間の共有結合を示唆するものとした。７，５００ｐｓｉ以上のＩＬＳＳ値を有する複合材は、本明細書の表２において正の符号（＋）で示されている。すべてのＩＬＳＳの試料は周囲室内条件で保管及び試験した。耐衝撃性は、２．５インチ×１／２インチ×１／４インチの試料を用いてＡＳＴＭ  Ｄ２５６に従って試験した。ノッチ付きアイゾットの値はｆｔ−ｌｂｆ／ｉｎ（フィート重量ポンド／インチ）単位で報告された。報告されたノッチ付きアイゾットの値は５つの試料の平均値であり、本明細書で表３に記載されている。すべてのノッチ付きアイゾットの試料は周囲室内条件で保管及び試験した。
実施例１（ａ）−（ｆ）
ＶＡＲＴＭで作製したガラス及び炭素複合材のＩＬＳＳ
【０２１２】
変性ＤＣＰＤ（２０〜２５％トリシクロペンタジエン含有）は、０．６ｐｈｒのＴＰＰ、２ｐｈｒのＥｔｈａｎｏｘ（登録商標）４７０２酸化防止剤を用いて配合した。樹脂は、鉱油懸濁液にＣ８２７（モノマー対触媒比４５，０００：１）を添加することにより触媒された。ＶＡＲＴＭの試料は、上述のように、市販のガラス繊維織物及び市販の炭素繊維織物を用いて作製した。その複合積層体を上述のように硬化した。得られた複合材のＩＬＳＳを表２に示す。  
実施例２（ａ）−（ｆ）
ＶＡＲＴＭで作製したガラス及び炭素複合材のＩＬＳＳ
【０２１３】
変性ＤＣＰＤ（２０〜２５％トリシクロペンタジエン含有）は、０．６ｐｈｒのＴＰＰ、２ｐｈｒのＥｔｈａｎｏｘ（登録商標）４７０２酸化防止剤、及び２ｐｈｒの  ＭＤＩ（Ｍｏｎｄｕｒ（登録商標）ＭＬＱ）を用いて配合した。樹脂は、鉱油懸濁液にＣ８２７（モノマー対触媒比４５，０００：１）を添加することにより触媒された。ＶＡＲＴＭの試料は、上述のように、市販のガラス繊維織物及び市販の炭素繊維織物を用いて作製した。その複合積層体を上述のように硬化した。得られた複合材のＩＬＳＳを表２に示す。  
実施例３（ａ）−（ｆ）
ＶＡＲＴＭで作製したガラス及び炭素複合材のＩＬＳＳ
【０２１４】
変性ＤＣＰＤ（２０〜２５％トリシクロペンタジエン含有）は、０．６ｐｈｒのＴＰＰ、２ｐｈｒのＥｔｈａｎｏｘ（登録商標）４７０２酸化防止剤、２ｐｈｒの  ＭＤＩ（Ｍｏｎｄｕｒ（登録商標）ＭＬＱ）、及び１  ｐｈｒのスチレン−エチレン／ブチレン−スチレン水素化コポリマー（Ｋｒａｔｏｎ  Ｇ１６５７Ｍ）を用いて配合した。樹脂は、鉱油懸濁液にＣ８２７（モノマー対触媒比４５，０００：１）を添加することにより触媒された。ＶＡＲＴＭの試料は、上述のように、市販のガラス繊維織物及び市販の炭素繊維織物を用いて作製した。その複合積層体を上述のように硬化した。得られた複合材のＩＬＳＳを表２に示す。  
実施例４（ａ）−（ｆ）
ＶＡＲＴＭで作製したガラス及び炭素複合材のＩＬＳＳ
【０２１５】
変性ＤＣＰＤ（２０〜２５％トリシクロペンタジエン含有）は、０．６ｐｈｒのＴＰＰ、２ｐｈｒのＥｔｈａｎｏｘ（登録商標）４７０２酸化防止剤、２ｐｈｒの  ＭＤＩ（Ｍｏｎｄｕｒ（登録商標）ＭＬＱ）、及び１  ｐｈｒの無水マレイン酸グラフトスチレン−エチレン／ブチレン−スチレン水素化コポリマー（Ｋｒａｔｏｎ  ＦＧ１９２４Ｇ）を用いて配合した。樹脂は、鉱油懸濁液にＣ８２７（モノマー対触媒比４５，０００：１）を添加することにより触媒された。ＶＡＲＴＭの試料は、上述のように、市販のガラス繊維織物及び市販の炭素繊維織物を用いて作製した。その複合積層体を上述のように硬化した。得られた複合材のＩＬＳＳを表２に示す。
実施例５（ａ）−（ｆ）
ＶＡＲＴＭで作製したガラス及び炭素複合材のＩＬＳＳ
【０２１６】
変性ＤＣＰＤ（２０〜２５％トリシクロペンタジエン含有）は、０．６ｐｈｒのＴＰＰ、２ｐｈｒのＥｔｈａｎｏｘ（登録商標）４７０２酸化防止剤、２ｐｈｒの  ＭＤＩ（Ｍｏｎｄｕｒ（登録商標）ＭＬＱ）、及び１  ｐｈｒのスチレン−エチレン／ブチレン−スチレン水素化コポリマー（Ｋｒａｔｏｎ  Ｇ１６５０Ｍ）を用いて配合した。樹脂は、鉱油懸濁液にＣ８２７（モノマー対触媒比４５，０００：１）を添加することにより触媒された。ＶＡＲＴＭの試料は、上述のように、市販のガラス繊維織物及び市販の炭素繊維織物を用いて作製した。その複合積層体を上述のように硬化した。得られた複合材のＩＬＳＳを表２に示す。  
実施例６（ａ）−（ｆ）
ＶＡＲＴＭで作製したガラス及び炭素複合材のＩＬＳＳ
【０２１７】
変性ＤＣＰＤ（２０〜２５％トリシクロペンタジエン含有）は、０．６ｐｈｒのＴＰＰ、２ｐｈｒのＥｔｈａｎｏｘ（登録商標）４７０２酸化防止剤、２ｐｈｒの  ＭＤＩ（Ｍｏｎｄｕｒ（登録商標）ＭＬＱ）、及び１ｐｈｒの無水マレイン酸グラフトスチレン−エチレン／ブチレン−スチレン水素化コポリマー（Ｋｒａｔｏｎ  ＦＧ１９０１Ｇ）を用いて配合した。樹脂は、鉱油懸濁液にＣ８２７（モノマー対触媒比４５，０００：１）を添加することにより触媒された。ＶＡＲＴＭの試料は、上述のように、市販のガラス繊維織物及び市販の炭素繊維織物を用いて作製した。その複合積層体を上述のように硬化した。得られた複合材のＩＬＳＳを表２に示す。  
【表２】
0006787907.tif 000063
実施例  ７（ａ）−１１（ａ）
成形ポリマープラークの切欠きアイゾット値
【０２１８】
変性ＤＣＰＤ（２０〜２５％トリシクロペンタジエン含有）は、０．６ｐｈｒのＴＰＰ、２ｐｈｒのＥｔｈａｎｏｘ（登録商標）４７０２酸化防止剤、２ｐｈｒのＭＤＩ（Ｍｏｎｄｕｒ（登録商標）ＭＬＱ）、及び１  ｐｈｒの適切な衝撃性改良剤（Ｋｒａｔｏｎ  Ｇ１６５７Ｍ又はＫｒａｔｏｎ  Ｇ１６５０Ｍ）若しくは適切な機能性エラストマー（Ｋｒａｔｏｎ  ＦＧ１９２４Ｇ又はＫｒａｔｏｎ  ＦＧ１９０１Ｇ）を用いて配合した。樹脂は、鉱油懸濁液にＣ８２７（モノマー対触媒比４５，０００：１）を添加することにより触媒された。樹脂と触媒懸濁液は、混合の直前に周囲温度（２０〜２５℃）であった。触媒された樹脂を攪拌し、６インチｘ  ４インチ  ｘ  １／４インチの窪みを有するアルミニウム型に注ぎ入れた。触媒された樹脂の添加の直前のアルミニウム型は、周囲温度（２０〜２５℃）であった。触媒された樹脂を含むアルミニウム型を実験室オーブンに入れ、周囲温度（２０〜２５℃）から３５℃まで２時間加熱し、次いで加熱速度１℃／分で１００℃まで加熱し、１００℃で１時間保持し、次いで周囲温度（２０〜２５℃）まで冷却させ、その時点で成形ポリマープラークを脱型した。成形ポリマープラークの切欠きアイゾット値を表（３）に示す。  
【表３】
0006787907.tif 000064
【０２１９】
本発明をその特定の実施形態と共に説明してきたが、上記の説明及び以下の実施例は例示を目的としたものであり、本発明の範囲を限定するものではないことを理解されたい。本発明の範囲内の他の態様、利点及び変更は、本発明が関係する当業者には明らかであろう。