(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材層、アンダーコーティング層、クラック防止バッファー層、及び導電層を順に含み、
前記アンダーコーティング層は、有機物、または有機物と無機物の混合物を含み、
前記クラック防止バッファー層は、金属酸化物を含み、
前記金属酸化物は、ＮｂＯｘ（１≦Ｘ≦２．５）であり、
前記導電層は、透明導電性酸化物を含み、
前記有機物は、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、チオウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、アルキド樹脂、シロキサン系樹脂及び下記化学式２で表示される有機シラン化合物から選択されるいずれか一つ以上を含み、
［化学式２］
（Ｒ１）ｍ−Ｓｉ−Ｘ（４−ｍ）
ただし、前記化学式２で、Ｒ１は、互いに同一であるか異なることができ、炭素数１〜１２のアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アリールアルキル、アルキルアリール、アリールアルケニル、アルケニルアリール、アリールアルキニル、アルキニルアリール、ハロゲン、置換されたアミノ、アミド、アルデヒド、ケトン、アルキルカルボニル、カルボキシ、メルカプト、シアノ、ヒドロキシ、炭素数１〜１２のアルコキシ、炭素数１〜１２のアルコキシカルボニル、スルホン酸、リン酸、アクリルオキシ、メタクリルオキシ、エポキシまたはビニル基であり、Ｘは、互いに同一であるか異なることができ、水素、ハロゲン、炭素数１〜１２のアルコキシ、アシルオキシ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニルまたは−Ｎ（Ｒ２）２（ここで、Ｒ２は、Ｈまたは炭素数１〜１２のアルキル）であり、この時、酸素または−ＮＲ２（ここで、Ｒ２は、Ｈまたは炭素数１〜１２のアルキル）がラジカルＲ１とＳｉとの間に挿入されて−（Ｒ１）ｍ−Ｏ−Ｓｉ−Ｘ（４−ｍ）または（Ｒ１）ｍ−ＮＲ２−Ｓｉ−Ｘ（４−ｍ）になり得、ｍは、１〜３の整数であることを特徴とする導電性透光フィルム。
【請求項２】
前記クラック防止バッファー層の厚さは、０．１ｎｍ〜２０ｎｍであることを特徴とする請求項１に記載の導電性透光フィルム。
【請求項３】
前記導電層の厚さは、１００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の導電性透光フィルム。
【請求項４】
前記導電層の表面抵抗値は、２０Ω／□〜３００Ω／□範囲であることを特徴とする請求項１に記載の導電性透光フィルム。
【請求項５】
前記導電層の表面抵抗値は、２０Ω／□〜９５Ω／□範囲であることを特徴とする請求項３に記載の導電性透光フィルム。
【請求項６】
前記アンダーコーティング層は、１５０ｎｍ以下の厚さを有することを特徴とする請求項１に記載の導電性透光フィルム。
【請求項７】
光透過率が７５％以上であることを特徴とする請求項１に記載の導電性透光フィルム。
【請求項８】
１ｍｍＸ１ｍｍサイズで用意された前記導電性透光フィルムをバーニアキャリパーでベンディングさせた後、導電層に発生した全体クラックの長さの合算値を１００μｍで割って測定されたクラック密度の値が８０個／ｍｍ２以下であることを特徴とする請求項１に記載の導電性透光フィルム。
【請求項９】
請求項１〜請求項８のうちいずれか１項に記載の導電性透光フィルムを製造する方法であって、
アンダーコーティング層上にクラック防止バッファー層及び導電層を順に用意する段階を含むことを特徴とする導電性透光フィルムの製造方法。
【請求項１０】
請求項１〜請求項８のうちいずれか１項に記載の導電性透光フィルムを含むことを特徴とするタッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願との相互引用
本出願は、２０１６年０５月０９日に出願された大韓民国特許出願第２０１６−００５６３２９号及び２０１７年０５月０２日に出願された韓国特許出願第２０１７−００５６２１６号に基づく優先権の利益を主張し、該当韓国特許出願の文献に開示されたすべての内容は本明細書の一部として組み入れるものとする。
【０００２】
技術分野
本発明は、導電性透光フィルムに関する。
【背景技術】
【０００３】
導電性透光フィルムは、透明基材及びＩＴＯ薄膜（層）を含むように構成されることが一般的である。前記構成のフィルムは、ディスプレイのような映像装置やタッチパネルなどに使われ得る。これと関連して、最近の傾向はディスプレイやタッチパネルの大面積化であるため、導電性透光フィルムやこれに使われる各構成の比抵抗を低めることが重要になっている。
【０００４】
一方、ＩＴＯ層と透明基材との間の屈折率マッチング（ｒｅｆｒａｃｔｉｖｅ  ｉｎｄｅｘ  ｍａｔｃｈｉｎｇ）を通じて導電性透光フィルムの光学特性を改善しようとする試みが行われている。例えば、屈折率マッチングのためにＩＴＯ層と透明基材との間に、いわゆるアンダーコーティング層を位置させ得る。しかし、ＩＴＯ層の形成のための蒸着工程の際に、有機物に形成されたアンダーコーティング層が損傷されることがあり、アンダーコーティング層に由来する有機物はＩＴＯ層を汚染させ得るので、ＩＴＯ層の比抵抗が増加する問題がある。このような比抵抗の増加は、ディスプレイやタッチパネルの大面積化による技術的要求に符合しないだけではなく、導電性透光フィルムの反応時間をさらに遅延させる原因になり得る。また、損傷されたアンダーコーティング層と汚染されたＩＴＯ層の間の不十分な接着力は、導電性透光フィルムの機械的物性の低下を引き起こす。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本出願の一目的は、界面接着力及び機械的物性が改善された導電性透光フィルムを提供することである。
【０００６】
本出願の他の目的は、比抵抗が低く、応答速度のような電気的特性が改善された導電性透光フィルムを提供することである。
【０００７】
本出願のまた他の目的は、光学特性に優れた導電性透光フィルムを提供することである。
【０００８】
本出願の前記目的及びその他の目的は下記に詳しく説明される本出願によっていずれも解決できる。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本出願に関する一例で、本出願は、導電性透光フィルムに関する。前記フィルムは、７５％以上の光透過率を有し得る。より具体的に、前記フィルムは、８０％以上、８５％以上または９０％以上の光透過率を有し得る。特に異なって定義しない限り、本出願で「光」とは、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ波長の可視光、より具体的には、５５０ｎｍ波長の可視光を意味し得る。
【００１０】
前記導電性透光フィルムは、導電層（ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ  ｌａｙｅｒ）、アンダーコーティング層（ｕｎｄｅｒ−ｃｏａｔｉｎｇ  ｌａｙｅｒ）及びクラック防止バッファー層（ａｎｔｉ−ｃｒａｃｋ  ｂｕｆｆｅｒ  ｌａｙｅｒ）を含み得る。
【００１１】
一つの例示で、前記導電層は、透明導電性酸化物を含み得る。前記透明導電性酸化物としては、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）、Ｉｎ２Ｏ３（ｉｎｄｉｕｍ  ｏｘｉｄｅ）、ＩＧＯ（ｉｎｄｉｕｍ  ｇａｌｉｕｍ  ｏｘｉｄｅ）、ＦＴＯ（Ｆｌｕｏｒ  ｄｏｐｅｄ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）、ＡＺＯ（Ａｌｕｍｉｎｉｕｍ  ｄｏｐｅｄ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）、ＧＺＯ（Ｇａｌｉｕｍ  ｄｏｐｅｄ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）、ＡＴＯ（Ａｎｔｉｍｏｎｙ  ｄｏｐｅｄ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  ｄｏｐｅｄ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）、ＮＴＯ（Ｎｉｏｂｉｕｍ  ｄｏｐｅｄ  Ｔｉｔａｎｉｕｍ  Ｏｘｉｄｅ）、ＺｎＯ（ｚｉｎｋ  ｏｘｉｄｅ）またはＣＴＯ（Ｃｅｓｉｕｍ  Ｔｕｎｇｓｔｅｎ  Ｏｘｉｄｅ）などを使用し得る。
【００１２】
また一つの例示で、前記導電層は、透明導電性酸化物としてインジウム酸化物を含み得る。より具体的に、前記導電層は、酸化インジウムと４価金属の酸化物を含むインジウム系複合酸化物を含み得る。４価金属の酸化物は、下記化学式１で表現できる。
【００１３】
［化学式１］
ＡＯ２
【００１４】
前記化学式１で、Ａは、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｇｅ、Ｔｉ、Ｃｅ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｂ及びＷからなる群より選択された４価金属であり得る。
【００１５】
一つの例示で、前記化学式１で表示される４価金属の酸化物は、導電層を構成するインジウム系複合酸化物の全体１００重量部に対して、１〜２０重量部の範囲で含まれ得る。本出願で「重量部」とは、各構成間の含量比を意味し得る。前記範囲の下限を満足しない場合、導電層の電気的特性、例えば、面抵抗及び導電性が良くない。また、前記範囲の上限を満足しない場合、結晶化温度が増加するため導電層形成に関する工程エネルギー効率が良くない。
【００１６】
一つの例示で、前記導電層は、１００ｎｍ以下の厚さを有し得る。より具体的に、前記導電層の厚さは、８０ｎｍ以下または５０ｎｍ以下であり、そして、５ｎｍ以上または１０ｎｍ以上であり得る。前記厚さ範囲を満足する場合、機械的物性、透光性及び面抵抗が均一に優れた導電層を提供し得る。
【００１７】
特別に制限されないが、前記導電層の光屈折率は、１．７〜２．３であり得る。
【００１８】
前記アンダーコーティング層は、導電性透光フィルムの光学特性の改善、すなわち、フィルムの可視光透過率を高めるために含まれた層であり得る。例えば、導電性透光フィルムが前記説明された導電層の外に基材層をさらに含む場合、前記アンダーコーティング層の光屈折率は、基材層の光屈折率及び／または導電層の光屈折率とは相異なる値を有し得る。より具体的に、基材層の光屈折率及び／または導電層の光屈折率と相異なることを前提として、前記アンダーコーティング層は、１．５〜２．０範囲の光屈折率を有し得る。前記範囲及び関係を満足する場合、導電性透光フィルムの可視光透過率を高め得る。
【００１９】
前記アンダーコーティング層は、有機物、無機物またはこれらの混合物を含み得る。
【００２０】
一つの例示で、前記アンダーコーティング層は、熱または光硬化が可能な樹脂を有機物として含み得る。特別に制限されないが、例えば、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、チオウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、アルキド樹脂、シロキサン系樹脂または下記化学式２で表示される有機シラン化合物のうちいずれか一つ以上をアンダーコーティング層の有機物として使用し得る。
【００２１】
［化学式２］
（Ｒ１）ｍ−Ｓｉ−Ｘ（４−ｍ）
【００２２】
前記化学式２で、Ｒ１は、互いに同一であるか異なることができ、炭素数１〜１２のアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アリールアルキル、アルキルアリール、アリールアルケニル、アルケニルアリール、アリールアルキニル、アルキニルアリール、ハロゲン、置換されたアミノ、アミド、アルデヒド、ケトン、アルキルカルボニル、カルボキシ、メルカプト、シアノ、ヒドロキシ、炭素数１〜１２のアルコキシ、炭素数１〜１２のアルコキシカルボニル、スルホン酸、リン酸、アクリルオキシ、メタクリルオキシ、エポキシまたはビニル基であり、Ｘは、互いに同一であるか異なることができ、水素、ハロゲン、炭素数１〜１２のアルコキシ、アシルオキシ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニルまたは−Ｎ（Ｒ２）２（ここで、Ｒ２は、Ｈまたは炭素数１〜１２のアルキル）であり、この時、酸素または−ＮＲ２（ここで、Ｒ２は、Ｈまたは炭素数１〜１２のアルキル）がラジカルＲ１とＳｉとの間に挿入されて−（Ｒ１）ｍ−Ｏ−Ｓｉ−Ｘ（４−ｍ）または（Ｒ１）ｍ−ＮＲ２−Ｓｉ−Ｘ（４−ｍ）になり得、ｍは、１〜３の整数である。
【００２３】
前記のような有機シラン化合物がアンダーコーティング層に使用される場合、有機シラン化合物は、架橋可能であり、屈折率の調節のために高屈折粒子と混合され得る。高屈折粒子の種類は特別に制限されない。
【００２４】
前記有機シラン化合物の種類は特別に制限されない。例えば、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、フェニルジメトキシシラン、フェニルジエトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリフェニルメトキシシラン、トリフェニルエトキシシラン、フェニルジメチルメトキシシラン、フェニルジメチルエトキシシラン、ジフェニルメチルメトキシシラン、ジフェニルメチルエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジフェニルメトキシシラン、ジフェニルエトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ｐ−アミノフェニルシラン、アリルトリメトキシシラン、ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミンプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルジイソプロピルエトキシシラン、（３−グリシドキシプロピル）メチルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、ｎ−フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルトリエトキシシランまたはビニルトリメトキシシランなどが有機シラン化合物として使用され得る。
【００２５】
前記アンダーコーティング層は、無機物を含み得る。例えば、ＴｉＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、Ｔａ２Ｏ５、Ｓｂ２Ｏ５、ＺｒＯ２、ＺｎＯ、ＺｎＳまたは下記化学式３で表示される金属アルコキシド化合物のような無機物が前記アンダーコーティング層に含まれ得る。
【００２６】
［化学式３］
Ｍ−（Ｒ３）Ｚ
【００２７】
前記式で、Ｍは、アルミニウム、ジルコニウム、チタン及びシリコンからなる群より選択される金属を示し、Ｒ３は、互いに同一であるか異なることができ、ハロゲン、炭素数１〜１２のアルキル、アルコキシ、アシルオキシまたはヒドロキシ基であり、Ｚは、２または４の整数である。
【００２８】
前記アンダーコーティング層が有機物と無機物の混合物を含む場合、前記有機物は、全体混合物１００重量部に対して、０．００１重量部以上１００重量部未満の含量で含まれ得る。
【００２９】
一つの例示で、前記アンダーコーティング層は、１５０ｎｍ以下の厚さを有し得る。具体的に、前記アンダーコーティング層の厚さは、１３０ｎｍ以下、１１０ｎｍ以下または１００ｎｍ以下であり得る。アンダーコーティング層の厚さが１５０ｎｍを超過する場合、導電性透光フィルムの透光性と色差指数が低下し得る。アンダーコーティング層の厚さの下限は特別に制限されないが、工程性やアンダーコーティング層の機能を考慮するとき１ｎｍ以上であり得る。
【００３０】
本出願の導電性透光フィルムは、クラック防止バッファー層をさらに含み得る。一つの例示で、前記クラック防止バッファー層は、アンダーコーティング層と導電層との間に位置し得る。クラック防止バッファー層は、導電層の表面抵抗の減少と層間界面接着力の改善に寄与し得る。また、前記クラック防止バッファー層を含んでも、本出願のフィルムは、前記説明された範囲に該当する高い水準の透光性を維持し得る。
【００３１】
例えば、アンダーコーティング層の一面と導電層の一面が直接接するように構成される従来技術、すなわち、アンダーコーティング層の一面上に直接導電層を形成する従来技術では、アンダーコーティング層の有機物による導電層の汚染により、最小１００Ω／□以上、普通１５０Ω／□以上または２５０Ω／□以上の抵抗値を有する導電層が導電性透光フィルムに使われることが一般的であった。このような条件では、導電性透光フィルムによる応答速度の改善を期待しにくい。一方、導電性透光フィルムに一般的に使われる構成を考慮すれば、導電層の抵抗値を低めることは容易ではない。例えば、抵抗値を低めようと試みても、導電層の抵抗値を５Ω／□サイズ程度低めることは非常に難しい。これは導電層の抵抗が１５０Ω／□以下、特に、１００Ω／□に近くなるほど難しい。しかし、本出願の導電性透光フィルムは、アンダーコーティング層と導電層の間にクラック防止バッファー層を含むことでアンダーコーティング層に使われた有機物による導電層界面の汚染を防止し、導電層の抵抗値を従来より低めることができる。その結果、応答速度が改善される。例えば、本出願の導電性透光フィルムに含まれる導電層は、３００Ω／□以下、２００Ω／□以下、１００Ω／□以下または９５Ω／□以下の表面抵抗を有し得る。低い表面抵抗値を有するほど一層はやい応答速度を具現することができるので、導電層の表面抵抗値の下限は特別に限定されないが、例えば、１０Ω／□以上または２０Ω／□以上であり得る。さらに、本出願では、下記構成を満足するクラック防止バッファー層が使われるため、層構成が追加されても透明性のようなフィルムの光学特性の低下が起きない。
【００３２】
一つの例示で、前記クラック防止バッファー層は、金属酸化物を含み得る。より具体的に、前記クラック防止バッファー層は、ＮｂＯｘを含み得る。この時、Ｘは、元素間の含量比として１〜２．５範囲の値を有し得る。前記範囲を有する場合、所定の効果、例えば、薄膜信頼性、高い透光性及び優秀な機械的特性を提供し得る。反対に、前記範囲を満たさない場合には、透光性が低下し、他の層との積層が難しい。前記Ｘは、公知された方法、例えば、ＸＰＳ（Ｘ−ｒａｙ  ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ  ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）などを利用して測定できる。
【００３３】
前記クラック防止バッファー層の厚さは、０．１ｎｍ〜２０ｎｍ範囲であり得る。クラック防止バッファー層の厚さが０．１ｎｍ未満の場合、バッファー層による表面抵抗の低減や界面接着力の増加のような効果を得にくく、その厚さが２０ｎｍを超過する場合、光学物性と機械的物性が低下する。一つの例示で、光透過度のような光学物性やクラック防止のような機械的物性を考慮して、クラック防止バッファー層の厚さを０．１ｎｍ〜５ｎｍ範囲または０．５ｎｍ〜３ｎｍで形成できる。
【００３４】
前記クラック防止バッファー層は、アンダーコーティング層と導電層に対する界面接着力が優秀であるため、導電性透光フィルムのクラック発生を抑制してその機械的物性を改善させ得る。例えば、前記クラック防止バッファー層は、界面接着力が優秀であるため、曲がりのような外部圧力が導電性透光フィルムに加えられる際に、導電層に発生するクラックの発生程度を減少させ得る。
【００３５】
より具体的に、本出願の導電性透光フィルムは、クラック密度値が８０個／ｍｍ２以下の導電層を含み得る。前記クラック密度は、導電性透光フィルムが１ｍｍＸ１ｍｍサイズで裁断された試片をバーニアキャリパーでベンディングさせた後、導電層に発生した全体クラックの長さの合算値を１００μｍで割って測定した値であり得る。界面接着力に優れるほどクラック密度値が小くなるため、クラック密度値の下限は特別に制限されない。一つの例示で、前記クラック密度値の下限は、１個／ｍｍ２以上、５個／ｍｍ２以上または１０個／ｍｍ２以上であり得る。
【００３６】
一つの例示で、前記導電性透光フィルムは、基材層（ｓｕｂｓｔｒａｔｅ  ｌａｙｅｒ）をさらに含み得る。この場合、前記導電性透光フィルムは、基材層、アンダーコーティング層、クラック防止バッファー層及び導電層を順に含み得る。
【００３７】
一つの例示で、前記基材層は、透光性を有する柔軟なプラスチックフィルムを含み得る。光学的に透明で柔軟であれば、基材層に使われるフィルムの種類は特別に制限されない。一つの例示で、ＰＣ（Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ）フィルム、ＰＥＮ（ｐｏｌｙ（ｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｎａｐｈｔｈａｌａｔｅ））フィルムまたはＰＥＴ（ｐｏｌｙ（ｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ））フィルムのようなポリエステルフィルム、ＰＭＭＡ（ｐｏｌｙ（ｍｅｔｈｙｌ  ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ））フィルムなどのようなアクリルフィルム、ＰＡ（ｐｏｌｙａｍｉｄｅ）フィルム、ＰＶＣ（ｐｏｌｙ（ｖｉｎｙｌ  ｃｈｌｏｒｉｄｅ））フィルム、ＰＳ（ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ）フィルム、ＰＥＳ（ｐｏｌｙ（ｅｔｈｅｒｓｕｌｆｏｎｅ）フィルム、ＰＥＩ（ｐｏｌｙ（ｅｔｈｅｒ  ｉｍｉｄｅ））フィルムまたはＰＥ（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ）フィルムまたはＰＰ（ｐｏｌｙｐｒｏｐｙｌｅｎｅ）フィルムなどのポリオレフィンフィルムなどを基材層に使用できるが、これに制限されるものではない。
【００３８】
一つの例示で、前記基材層の表面には、隣接する層との界面接着力の向上のために、コロナ放電処理、紫外線照射処理、プラズマ処理などのような別途の処理が行われ得る。
【００３９】
一つの例示で、前記基材層は、５μｍ〜１５０μｍ範囲の厚さを有し得る。前記厚さが５μｍ未満の場合、機械的強度が良くなく、１５０μｍを超過する場合には、タッチパネルの感度が悪くなる恐れがある。
【００４０】
特別に制限されないが、前記基材層の光屈折率は、１．４〜１．７範囲であり得る。
【００４１】
本出願に関する一例で、本出願は、導電性透光フィルムの製造方法に関する。前記製造方法は、アンダーコーティング層上にクラック防止バッファー層及び導電層を順に用意する段階を含み得る。アンダーコーティング層、クラック防止バッファー層及び導電層の具体的な成分や特性などは上述の通りである。
【００４２】
一つの例示で、前記アンダーコーティング層は、アンダーコーティング層の前駆体組成物を基材層上に塗布した後に硬化させて形成し得る。前記組成物は、前記説明された有機物、無機物またはこれらの混合物を含み得る。硬化条件は特別に制限されず、公知された熱または光硬化方式を使用し得る。
【００４３】
一つの例示で、前記クラック防止バッファー層及び導電層は、蒸着により形成し得る。蒸着方式は特別に制限されず、スパッタリング（Ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ）法や電子ビーム蒸着法（Ｅ−ｂｅａｍ  ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ）のような物理気相蒸着法（Ｐｈｙｓｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ、ＰＶＤ）を使用し得る。
【００４４】
例えば、前記クラック防止バッファー層は、スパッタリング蒸着を通じて製造し得る。特別に制限されないが、蒸着工程を制御することでクラック防止バッファー層を形成するニオブ酸化物（ＮｂＯｘ）含量比であるｘ値を１〜２．５で調節し得る。前記ｘ範囲を満足するように蒸着工程を制御する場合、工程効率が優秀で、且つ薄膜安全性の高いクラック防止バッファー層が提供される。
【００４５】
前記導電層もスパッタリング蒸着を通じて製造し得る。例えば、１ｍｔｏｒｒ〜３０ｍｔｏｒｒの工程圧と１００℃〜５００℃の温度で、インジウム酸化物と前記４価金属酸化物を含む酸化物複合体ターゲットにアルゴンイオンを衝突させて導電層を形成し得る。
【００４６】
本出願に関するまた他の一例で、本出願は、前記導電性透光フィルムを含む装置に関する。前記装置は、ディスプレイ、照明装置またはタッチパネルなどであり得る。
【発明の効果】
【００４７】
本出願の一例によれば、透光性が優秀であるだけではなく、機械的物性と応答速度が同時に改善された導電性透光フィルムが提供される。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】本出願の一例による導電性透光フィルムの断面を概略的に示す。符号１は、基材層を意味し、符号２は、アンダーコーティング層を意味し、符号３は、クラック防止バッファー層を意味し、符号４は、導電層を意味する。
【図２ａ】実験例の試片表面に発生したクラックを撮影したイメージである。具体的に、図２（ａ）は実施例１の表面を撮影したイメージである。
【図２ｂ】実験例の試片表面に発生したクラックを撮影したイメージである。具体的に、図２（ｂ）は実施例２の表面を撮影したイメージである。
【図２ｃ】実験例の試片表面に発生したクラックを撮影したイメージである。具体的に、図２（ｃ）は比較例１の表面を撮影したイメージである。
【発明を実施するための形態】
【００４９】
以下、実施例を通じて本出願を詳細に説明する、しかし、本出願の範囲は、下記提示された実施例によって制限されるものではない。
【００５０】
下記実施例及び比較例の各物性は、次のような方式で評価した。
【００５１】
物性評価方法
＜表面抵抗＞
実施例及び比較例で製造された導電性透光フィルムを１３０℃の温度条件で１時間の間熱処理した後、４−プローブ（Ｐｒｏｂｅ）測定法（Ｌｏｒｅｓｔａ  ＥＰ  ＭＣＰ−Ｔ３６０）を通じてＩＴＯ導電層の表面抵抗（Ω／□）を測定した。
【００５２】
＜透過度＞
実施例及び比較例で製造された導電性透光フィルムを１３０℃の温度条件で１時間の間熱処理した後、Ｈａｚｅｍｅｔｅｒ（ＨＭ−１５０、Ｍｕｒａｋａｍｉ  Ｃｏｌｏｒ  Ｒｅｓｅａｒｃｈ  Ｌｏｂｏｒａｔｏｒｙ）とＵＶ−ＶＩＳ−ＮＩＲ  ＳＰＥＣＴＲＯＰＨＯＴＯＭＥＴＥＲ（ＵＶ−３６００、ＳＨＩＭＡＤＺＵ）を使用して透過度を測定した。
【００５３】
＜機械的物性＞
−クラック（Ｃｒａｃｋ）発生時点の屈曲長さ
実施例及び比較例で製造されたフィルム形態の導電性透光フィルムに保護フィルムを付着し、熱処理してＩＴＯ層を結晶化させた。以後、前記フィルムを１ｍｍＸ１ｍｍサイズで切断して試片を製造した。結晶化されたＩＴＯ層が内側に位置するようにバーニアキャリパーにベンディング（ｂｅｎｄｉｎｇ）された状態で位置させて、３０秒間維持したときにＩＴＯ層にクラックが発生する時点の屈曲長さを測定した。
【００５４】
−クラック（Ｃｒａｃｋ）密度
クラックが発生したＩＴＯ層で、１００μｍの長さを一つのクラックとして、試片に発生した全体クラックの長さを合算した後、合算された値を１００μｍで割った。これによって、長さ及び個数が相異なるクラックを定量化した。
【００５５】
実施例１
厚さ５０μｍの透明ＰＥＴ基材上に、縮合性有機シラン化合物（メチルトリメトキシシラン）を含む溶液をコーティングし、熱硬化して４０ｎｍ厚さのアンダーコーティング層を形成した。ニオブ（Ｎｂ）をターゲットにしてアルゴンと酸素の混合ガスを蒸着装備に供給しながらスパッタリング技法を利用して、前記アンダーコーティング層上に酸化ニオブ（ＮｂＯｘ）を含むクラック防止バッファー層を１ｎｍ厚さで蒸着した。同様に、スパッタリング技法を利用して、クラック防止バッファー層上にＳｎＯ２を含むインジウム酸化物層を２１．３ｎｍの厚さで形成して、導電性透光フィルムを製造した。製造されたフィルムの構成と物性は、各々表１及び表２の通りである。
【００５６】
実施例２〜実施例５
下記表１に記載したように、クラック防止バッファー層の厚さ、表面抵抗値以外は、実施例１と同一な方式でフィルムを製造した。製造されたフィルムの物性は、表２のとおりである。
【００５７】
比較例１
下記表１に記載したように、クラック防止バッファー層を製造せずに、アンダーコーティング層上に直接ＩＴＯ層を形成したこと以外は、実施例１と同一な方式でフィルムを製造した。製造されたフィルムの物性は、表２のとおりである。
【００５８】
【表１】
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【００５９】
【表２】
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【符号の説明】
【００６０】
１  基材層
２  アンダーコーティング層
３  クラック防止バッファー層
４  導電層
【図１】
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【図２ａ】
0006762361.tif 000005
【図２ｂ】
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【図２ｃ】
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