(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機溶剤と、
Ｆｅ原子、Ｃｒ原子、Ｎｉ原子、及び、Ｐｂ原子からなる群から選択される少なくとも１種の原子のイオンと、
Ｚｎ原子を含有する粒子と、を含有する、半導体デバイス製造用の薬液であって、
前記薬液に１種の前記イオンが含有される場合、前記イオンの含有量が、前記薬液の全質量に対して０．１〜１００質量ｐｐｔであって、
前記薬液に２種以上の前記イオンが含有される場合、前記イオンのそれぞれの含有量が、前記薬液の全質量に対して０．１〜１００質量ｐｐｔであり、
前記有機溶剤の含有量が、前記薬液の全質量に対して９８質量％以上であり、
前記Ｚｎ原子を含有する粒子の含有量が、前記薬液の全質量に対して０．０５〜６０質量ｐｐｔであり、
前記薬液の帯電電位が１００ｍＶ以下である、薬液。
【請求項２】
更に、Ｃｒ原子、Ｚｎ原子、Ａｌ原子、及び、Ｐｂ原子からなる群から選択される少なくとも１種の原子を含有する粒子を含有し、
前記薬液が１種の前記粒子を含有する場合、前記薬液中における前記粒子の含有量が、前記薬液の全質量に対して０．１〜１００質量ｐｐｔであり、
前記薬液が２種以上の前記粒子を含有する場合、前記薬液中における前記粒子の合計含有量が、前記薬液の全質量に対して０．１〜１００質量ｐｐｔである、請求項１に記載の薬液。
【請求項３】
有機溶剤と、
Ｆｅ原子、Ｃｒ原子、Ｎｉ原子、及び、Ｐｂ原子からなる群から選択される少なくとも１種の原子のイオンと、
Ｃｒ原子、Ｚｎ原子、Ａｌ原子、及び、Ｐｂ原子からなる群から選択される少なくとも１種の原子を含有する粒子と、を含有する、半導体デバイス製造用の薬液であって、
前記薬液に１種の前記イオンが含有される場合、前記イオンの含有量が、前記薬液の全質量に対して０．１〜１００質量ｐｐｔであって、
前記薬液に２種以上の前記イオンが含有される場合、前記イオンのそれぞれの含有量が、前記薬液の全質量に対して０．１〜１００質量ｐｐｔであり、
前記有機溶剤の含有量が、前記薬液の全質量に対して９８質量％以上であり、
前記薬液が１種の前記粒子を含有する場合、前記薬液中における前記粒子の含有量が、前記薬液の全質量に対して１００質量ｐｐｔ以下であり、
前記薬液が２種以上の前記粒子を含有する場合、前記薬液中における前記粒子の合計含有量が、前記薬液の全質量に対して１００質量ｐｐｔ以下であり、
前記薬液の帯電電位が１００ｍＶ以下である、薬液。
【請求項４】
前記薬液が、Ｃｒ原子を含有する粒子、Ｚｎ原子を含有する粒子、Ａｌ原子を含有する粒子、及び、Ｐｂ原子を含有する粒子を含有し、
前記Ｃｒ原子を含有する粒子の含有量が、前記薬液の全質量に対して、０．１〜３０質量ｐｐｔであり、
前記Ｚｎ原子を含有する粒子の含有量が、前記薬液の全質量に対して、０．１〜２０質量ｐｐｔであり、
前記Ａｌ原子を含有する粒子の含有量が、前記薬液の全質量に対して、０．１〜２０質量ｐｐｔであり、
前記Ｐｂ原子を含有する粒子の含有量が、前記薬液の全質量に対して、０．１〜２０質量ｐｐｔである、請求項１〜３のいずれか１項に記載の薬液。
【請求項５】
有機溶剤と、
Ｆｅ原子、Ｃｒ原子、Ｎｉ原子、及び、Ｐｂ原子からなる群から選択される少なくとも１種の原子のイオンと、
Ｃｒ原子を含有する粒子と、Ｚｎ原子を含有する粒子と、Ａｌ原子を含有する粒子と、Ｐｂ原子を含有する粒子と、を含有する、半導体デバイス製造用の薬液であって、
前記薬液に１種の前記イオンが含有される場合、前記イオンの含有量が、前記薬液の全質量に対して０．１〜１００質量ｐｐｔであって、
前記薬液に２種以上の前記イオンが含有される場合、前記イオンのそれぞれの含有量が、前記薬液の全質量に対して０．１〜１００質量ｐｐｔであり、
前記有機溶剤の含有量が、前記薬液の全質量に対して９８質量％以上であり、
前記Ｃｒ原子を含有する粒子の含有量が、前記薬液の全質量に対して０．１〜３０質量ｐｐｔであり、
前記Ｚｎ原子を含有する粒子の含有量が、前記薬液の全質量に対して０．１〜２０質量ｐｐｔであり、
前記Ａｌ原子を含有する粒子の含有量が、前記薬液の全質量に対して０．１〜２０質量ｐｐｔであり、
前記Ｐｂ原子を含有する粒子の含有量が、前記薬液の全質量に対して０．１〜２０質量ｐｐｔである、
前記薬液の帯電電位が１００ｍＶ以下である、薬液。
【請求項６】
有機溶剤と、
Ｆｅ原子、Ｃｒ原子、Ｎｉ原子、及び、Ｐｂ原子からなる群から選択される少なくとも１種の原子のイオンと、
を含有する、半導体デバイス製造用の薬液であって、
前記薬液に１種の前記イオンが含有される場合、前記イオンの含有量が、前記薬液の全質量に対して０．１〜１００質量ｐｐｔであって、
前記薬液に２種以上の前記イオンが含有される場合、前記イオンのそれぞれの含有量が、前記薬液の全質量に対して０．１〜１００質量ｐｐｔであり、且つ、
Ｆｅイオンの含有量が、前記薬液の全質量に対して０．１〜１０質量ｐｐｔであるか、又は、Ｃｒイオンの含有量が、前記薬液の全質量に対して０．１〜１０質量ｐｐｔであり、
前記有機溶剤の含有量が、前記薬液の全質量に対して９８質量％以上であり、
前記薬液の帯電電位が１００ｍＶ以下である、薬液。
【請求項７】
前記薬液が、Ｆｅイオン、Ｃｒイオン、Ｎｉイオン、及び、Ｐｂイオンを含有し、
前記Ｆｅイオンの含有量が、前記薬液の全質量に対して、０．１〜１０質量ｐｐｔであり、
前記Ｃｒイオンの含有量が、前記薬液の全質量に対して、０．１〜１０質量ｐｐｔであり、
前記Ｎｉイオンの含有量が、前記薬液の全質量に対して、０．１〜１０質量ｐｐｔであり、
前記Ｐｂイオンの含有量が、前記薬液の全質量に対して、０．１〜１０質量ｐｐｔである、請求項１〜６のいずれか１項に記載の薬液。
【請求項８】
有機溶剤と
Ｆｅイオンと、Ｃｒイオンと、Ｎｉイオンと、Ｐｂイオンと、
を含有する、半導体デバイス製造用の薬液であって、
前記Ｆｅイオンの含有量が、前記薬液の全質量に対して０．１〜１０質量ｐｐｔであり、
前記Ｃｒイオンの含有量が、前記薬液の全質量に対して０．１〜１０質量ｐｐｔであり、
前記Ｎｉイオンの含有量が、前記薬液の全質量に対して０．１〜１０質量ｐｐｔであり、
前記Ｐｂイオンの含有量が、前記薬液の全質量に対して０．１〜１０質量ｐｐｔであり、
前記有機溶剤の含有量が、前記薬液の全質量に対して９８質量％以上であり、
前記薬液の帯電電位が１００ｍＶ以下である、薬液。
【請求項９】
更に、有機不純物を含有し、
前記薬液中における有機不純物の合計含有量が、１〜５０００質量ｐｐｍである、請求項１〜８のいずれか一項に記載の薬液。
【請求項１０】
光散乱式液中粒子計数器によって計数される、０．１μｍ以上のサイズの被計数体の数が、１〜１００個／ｍＬである、請求項１〜９のいずれか一項に記載の薬液。
【請求項１１】
更に、水を含有し、
前記薬液中における水の含有量が、０．０１〜１質量％である、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の薬液。
【請求項１２】
前記有機溶剤が、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸エチル、メトキシプロピオン酸メチル、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、γ−ブチロラクトン、ジイソアミルエーテル、酢酸ブチル、及び、４−メチル−２−ペンタノールからなる群から選択される少なくとも１種を含有する、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の薬液。
【請求項１３】
容器と、前記容器に収容された請求項１〜１２のいずれか一項に記載の薬液と、を備え、前記容器内の前記薬液と接触する接液部がＣｒ原子、及び、Ｆｅ原子を含有する金属材料から形成され、
前記金属材料が、ステンレス鋼、及び、電解研磨されたステンレス鋼からなる群から選択される少なくとも１種である、薬液収容体。
【請求項１４】
前記金属材料中における、前記Ｆｅ原子の含有量に対する、前記Ｃｒ原子の含有量の含有質量比が、０．５を超え、３．５未満である、請求項１３に記載の薬液収容体。
【請求項１５】
請求項１〜１２のいずれか一項に記載の薬液を製造する、薬液の製造方法であって、
有機溶剤を準備する、有機溶剤準備工程と、
前記有機溶剤を含有する被精製物をフィルタに通過させ、薬液を得る、ろ過工程と、を含有し、
前記ろ過工程が、以下の条件１及び条件２を満たす、薬液の製造方法。
条件１：前記被精製物が前記フィルタを通過する際の、前記被精製物の温度が２３℃未満である。
条件２：前記被精製物が前記フィルタを通過する際の、前記被精製物の温度が下記の式１を満たす。
（式１）  前記被精製物の温度＜前記有機溶剤の引火点−５
なお、式１中、前記被精製物の温度、及び、前記有機溶剤の引火点の単位は℃である。
【請求項１６】
請求項１３、又は、１４に記載の薬液収容体の製造方法であって、
有機溶剤を準備する、有機溶剤準備工程と、
前記有機溶剤を含有する被精製物をフィルタに通過させ、薬液を得る、ろ過工程と、
前記薬液を、前記容器に収容して、薬液収容体を得る、収容工程と、を含有し、
前記ろ過工程、及び、前記収容工程が、以下の条件３、及び、条件４を満たす、薬液収容体の製造方法。
条件３：前記被精製物が前記フィルタを通過する際の前記被精製物の温度が２３℃未満であり、かつ、前記薬液を前記容器に収容する際の、薬液の温度が２３℃未満である。
条件４：前記被精製物が前記フィルタを通過する際の前記被精製物の温度が下記の式１を満たし、かつ、前記薬液を前記容器に収容する際の、前記薬液の温度が下記の式２を満たす。
（式１）  前記被精製物の温度＜前記有機溶剤の引火点−５
（式２）  前記薬液の温度＜前記有機溶剤の引火点−５
なお、式１、及び、式２中、前記被精製物の温度、前記薬液の温度、及び、前記有機溶剤の引火点の単位は℃である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、薬液、薬液収容体、薬液の製造方法、及び、薬液収容体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ＩＣ（Integrated Circuit、集積回路）又はＬＳＩ（Large Scale Integrated circuit、大規模集積回路）等の半導体デバイスの製造プロセスには、フォトレジスト組成物を用いたリソグラフィーによる微細加工が使用されている。
このようなリソグラフィーには、フォトレジスト組成物（感活性光線性若しくは感放射線性樹脂組成物、又は、化学増幅型レジスト組成物とも呼ばれる。）により膜を形成した後、得られた膜を現像液により現像し、更に、現像後の膜をリンス液で洗浄する方法が使用される。また、基板に対するフォトレジスト組成物の濡れ性を向上させるため、フォトレジスト組成物を基板に塗布する前に、基板上にプリウェット液を接触させたりする。【０００３】
特許文献１には、「炭素数２２以下のアルキルオレフィン含有量が１ｐｐｍ以下、かつ、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｌｉ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｎｉ、及び、Ｚｎの金属元素濃度がいずれも５ｐｐｍ以下である、化学増幅型レジスト膜のパターニング用有機系処理液であって、有機系処理液が有機系現像液であり、現像液全体としての含水率が１０質量％未満である、化学増幅型レジスト膜のパターニング用有機系処理液」が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１５−００７８０７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
昨今、薬液の技術分野においては、さらなる欠陥抑制性能の向上が求められている。本発明者らが、特許文献１に記載された化学増幅型レジスト膜のパターニング用有機系処理液について検討したところ、優れた欠陥抑制性能を有するものの、上記処理液の製造時に、上記処理液の製造用の装置が備える移送管路（例えば、配管、及び、ポンプ等）が破損することがある問題について知見した。【０００６】
そこで、本発明は、優れた欠陥抑制性能を有し、その薬液の製造時に、薬液の製造用の装置が備える移送管路の破損を起こしにくい（以下、「優れた管路破損抑制性能を有する」という。）薬液の提供を課題とする。
また、本発明は、薬液収容体、薬液の製造方法、及び、薬液収容体の製造方法の提供も課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。【０００８】
［１］  有機溶剤と、Ｆｅ原子、Ｃｒ原子、Ｎｉ原子、及び、Ｐｂ原子からなる群から選択される少なくとも１種の原子のイオンと、を含有する薬液であって、薬液に１種のイオンが含有される場合、イオンの含有量が、０．１〜１００質量ｐｐｔであって、薬液に２種以上のイオンが含有される場合、イオンのそれぞれの含有量が、０．１〜１００質量ｐｐｔであり、薬液の帯電電位が１００ｍＶ以下である、薬液。
［２］  更に、Ｃｒ原子、Ｚｎ原子、Ａｌ原子、及び、Ｐｂ原子からなる群から選択される少なくとも１種の原子を含有する粒子を含有し、薬液中における、粒子の含有量が、薬液の全質量に対して、０．１〜１００質量ｐｐｔである、［１］に記載の薬液。
［３］  更に、有機不純物を含有し、薬液中における有機不純物の合計含有量が、１〜５０００質量ｐｐｍである、［１］又は［２］に記載の薬液。
［４］  光散乱式液中粒子計数器によって計数される、０．１μｍ以上のサイズの被計数体の数が、１〜１００個／ｍＬである、［１］〜［３］のいずれかに記載の薬液。
［５］  更に、水を含有し、薬液中における水の含有量が、０．０１〜１質量％である、［１］〜［４］のいずれかに記載の薬液。
［６］  有機溶剤が、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸エチル、メトキシプロピオン酸メチル、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、γ−ブチロラクトン、ジイソアミルエーテル、酢酸ブチル、及び、４−メチル−２−ペンタノールからなる群から選択される少なくとも１種を含有する、［１］〜［５］のいずれかに記載の薬液。
［７］  容器と、容器に収容された［１］〜［６］のいずれかに記載の薬液と、を備え、  容器内の薬液と接触する接液部がＣｒ原子、及び、Ｆｅ原子を含有する金属材料から形成され、金属材料が、ステンレス鋼、及び、電解研磨されたステンレス鋼からなる群から選択される少なくとも１種である、薬液収容体。
［８］  金属材料中における、Ｆｅ原子の含有量に対する、Ｃｒ原子の含有量の含有質量比が、０．５を超え、３．５未満である、［７］に記載の薬液収容体。
［９］  ［１］〜［６］のいずれかに記載の薬液を製造する、薬液の製造方法であって、  有機溶剤を準備する、有機溶剤準備工程と、有機溶剤を含有する被精製物をフィルタに通過させ、薬液を得る、ろ過工程と、を含有し、ろ過工程が、以下の条件１及び条件２を満たす、薬液の製造方法。
条件１：被精製物がフィルタを通過する際の、被精製物の温度が２３℃未満である。
条件２：被精製物がフィルタを通過する際の、被精製物の温度が下記の式１を満たす。
（式１）  被精製物の温度＜有機溶剤の引火点−５
なお、式１中、被精製物の温度、及び、有機溶剤の引火点の単位は℃である。
［１０］  ［７］、又は、［８］に記載の薬液収容体の製造方法であって、有機溶剤を準備する、有機溶剤準備工程と、有機溶剤を含有する被精製物をフィルタに通過させ、薬液を得る、ろ過工程と、薬液を、容器に収容して、薬液収容体を得る、収容工程と、を含有し、ろ過工程、及び、収容工程が、以下の条件３、及び、条件４を満たす、薬液収容体の製造方法。
条件３：被精製物がフィルタを通過する際の被精製物の温度が２３℃未満であり、かつ、薬液を容器に収容する際の、薬液の温度が２３℃未満である。
条件４：被精製物がフィルタを通過する際の被精製物の温度が下記の式１を満たし、かつ、薬液を容器に収容する際の、薬液の温度が下記の式２を満たす。
（式１）  被精製物の温度＜有機溶剤の引火点−５
（式２）  薬液の温度＜有機溶剤の引火点−５
なお、式１、及び、式２中、被精製物の温度、薬液の温度、及び、有機溶剤の引火点の単位は℃である。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、優れた欠陥抑制性能、及び、優れた管路破損抑制性能を有する（以下、「本発明の効果を有する」ともいう。）薬液を提供できる。
また、本発明によれば、薬液収容体、薬液の製造方法、及び、薬液収容体の製造方法も提供できる。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施形態に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施形態に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
また、本発明において「準備」というときには、特定の材料を合成又は調合して備えることのほか、購入等により所定の物を調達することを含む意味である。
また、本発明において、「ｐｐｍ」は「parts-per-million（１０−６）」を意味し、「ｐｐｂ」は「parts-per-billion（１０−９）」を意味し、「ｐｐｔ」は「parts-per-trillion（１０−１２）」を意味し、「ｐｐｑ」は「parts-per-quadrillion（１０−１５）」を意味する。
また、本発明において、１Å（オングストローム）は、０．１ｎｍに相当する。
また、本発明における基（原子群）の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、本発明の効果を損ねない範囲で、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば、「炭化水素基」とは、置換基を有さない炭化水素基（無置換炭化水素基）のみならず、置換基を有する炭化水素基（置換炭化水素基）をも包含するものである。このことは、各化合物についても同義である。
また、本発明における「放射線」とは、例えば、遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ；Extreme ultraviolet）、Ｘ線、又は、電子線等を意味する。また、本発明において光とは、活性光線又は放射線を意味する。本発明中における「露光」とは、特に断らない限り、遠紫外線、Ｘ線又はＥＵＶ等による露光のみならず、電子線又はイオンビーム等の粒子線による描画も露光に含める。
【００１１】
［薬液］
上記薬液は、有機溶剤と、Ｆｅ原子、Ｃｒ原子、Ｎｉ原子、及び、Ｐｂ原子からなる群から選択される少なくとも１種の原子のイオン（以後、このイオンを「金属イオン」とも称する）と、を含有する薬液であって、薬液に１種の上記金属イオンが含有されている場合、上記金属イオンの含有量が０．１〜１００質量ｐｐｔであり、薬液に２種以上の上記金属イオンが含有されている場合、上記金属イオンのそれぞれの含有量が０．１〜１００質量ｐｐｔであって、帯電電位が１００ｍＶ以下である。
【００１２】
本発明者は、薬液中における、金属イオン（２種以上の金属イオンを含有する場合は、それぞれ）の含有量が、薬液の全質量に対して、１００質量ｐｐｔ以下であると、薬液がより優れた欠陥抑制性能を有することを知見した。
更に、本発明者は、金属イオンの含有量を低減した処理液等を製造する際に生じることがある移送管路破損の原因が、上記処理液等（又は、その原料溶液等）が管路内を流動する際に生ずる移送管路との摩擦により、処理液等が帯電する点にあることをはじめて見出した。特に、金属イオンの含有量が低減された処理液等を、処理液等との接液部が樹脂製の移送管路内を流動させた場合にこの傾向は顕著である。
これに対し、本発明の薬液は、金属イオン（２種以上の金属イオンを含有する場合は、それぞれ）の含有量が、薬液の全質量に対して、１００質量ｐｐｔ以下であることに加え、帯電電位が１００ｍＶ以下であるため、結果として、本発明の効果を有するものと推測される。以下では、上記薬液に含有される各成分について詳述する。
【００１３】
上記薬液は、有機溶剤を含有する。
有機溶剤としては特に制限されず、公知の有機溶剤が使用できる。
また、薬液中における有機溶剤の含有量としては特に制限されないが、主成分として含有さるのが好ましい。具体的には、薬液の全質量に対して、有機溶剤の含有量は９８質量％以上が好ましく、９９質量％以上がより好ましく、９９．５質量％以上が更に好ましく、９９．８質量％が特に好ましい。有機溶剤の含有量の上限値としては特に制限されないが、一般に９９．９９質量％以下が好ましい。有機溶剤は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の有機溶剤を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
【００１４】
なお、上記薬液中における有機溶剤の含有量は、ＧＣＭＳ（ガスクロマトグラフ質量分析装置；gas chromatography mass spectrometry）を用いて測定できる。
【００１５】
有機溶剤の沸点としては特に制限されないが、より優れた本発明の効果を有する薬液が得られる点で、２００℃未満が好ましい。
なお、本明細書において沸点とは１気圧下における沸点を意味する。
【００１６】
有機溶剤としては特に制限されないが、例えば、メタノール、エタノール、１−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−プロパノール、２−メチル−１−プロパノール、ｎ−ブタノール、２−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、１−ペンタノール、２−ペンタノール、３−ペンタノール、ｎ−ヘキサノール、シクロヘキサノール、２−メチル−２−ブタノール、３−メチル−２−ブタノール、２−メチル−１−ブタノール、３−メチル−１−ブタノール、２−メチル−１−ペンタノール、２−メチル−２−ペンタノール、２−メチル−３−ペンタノール、３−メチル−１−ペンタノール、３−メチル−２−ペンタノール、３−メチル−３−ペンタノール、４−メチル−１−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノール、２−エチル−１−ブタノール、２，２−ジメチル−３−ペンタノール、２，３−ジメチル−３−ペンタノール、２，４−ジメチル−３−ペンタノール、４，４−ジメチル−２−ペンタノール、３−エチル−３−ペンタノール、１−ヘプタノール、２−ヘプタノール、３−ヘプタノール、２−メチル−２−ヘキサノール、２−メチル−３−ヘキサノール、５−メチル−１−ヘキサノール、５−メチル−２−ヘキサノール、２−エチル−１−ヘキサノール、メチルシクロヘキサノール、トリメチルシクロヘキサノール、４−メチル−３−ヘプタノール、６−メチル−２−ヘプタノール、１−オクタノール、２−オクタノール、３−オクタノール、２−プロピル−１−ペンタノール、２，６−ジメチル−４−ヘプタノール、２−ノナノール、３，７−ジメチル−３−オクタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ブチルメチルエーテル、ブチルエチルエーテル、ブチルプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソブチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルプロピルエーテル、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジペンチルエーテル、ジイソアミルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、シクロヘキシルメチルエーテル、ブロモメチルメチルエーテル、α，α−ジクロロメチルメチルエーテル、クロロメチルエチルエーテル，２−クロロエチルメチルエーテル、２−ブロモエチルメチルエーテル、２，２−ジクロロエチルメチルエーテル、２−クロロエチルエチルエーテル、２−ブロモエチルエチルエーテル、（±）−１，２−ジクロロエチルエチルエーテル、２，２，２−トリフルオロエチルエーテル、エチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、アリルエチルエーテル、アリルプロピルエーテル、アリルブチルエーテル、ジアリルエーテル、２−メトキシプロペン、エチル−１−プロペニルエーテル、ｃｉｓ−１−ブロモ−２−エトキシエチレン、２−クロロエチルビニルエーテル、アリル−１，１，２，２−テトラフルオロエチルエーテル、オクタン、イソオクタン、ノナン、デカン、メチルシクロヘキサン、デカリン、キシレン、エチルベンゼン、ジエチルベンゼン、クメン、第２−ブチルベンゼン、サイメン、ジペンテン、ピルビン酸メチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸エチル、メトキシプロピオン酸メチル、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、酢酸ブチル、酢酸イソアミル、クロロホルム、ジクロロメタン、１，４−ジオキサン、ヘキシルアルコール、γ−ブチロラクトン、２−ヘプタノン、イソアミルアセテート、及び、テトラヒドロフラン等が挙げられる。
【００１７】
なかでも、より優れた本発明の効果を有する薬液が得られる点で、有機溶剤としては、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸エチル、メトキシプロピオン酸メチル、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、γ−ブチロラクトン、ジイソアミルエーテル、酢酸ブチル、及び、４−メチル−２−ペンタノールからなる群から選択される少なくとも１種を含有することが好ましい。
【００１８】
上記薬液が２種以上の有機溶剤を含有する場合、含有される有機溶剤の組合せとしては特に制限されない。上記溶剤が２種以上の有機溶剤を含有する場合、より優れた本発明の効果を有する薬液が得られる点で、それぞれの有機溶剤の沸点、溶解度パラメータ、及び／又は、比誘電率等が異なることが好ましい。
例えば、比誘電率の異なる２種以上の有機溶剤を含有する薬液は、より優れた欠陥抑制性能を有する。この理由としては必ずしも明らかではないが、静電気による欠陥の発生がより抑制されるためだと推測される。
【００１９】
上記薬液が２種以上の有機溶剤を含有する場合、有機溶剤としては、２種以上のエーテル類を含有することが好ましい。２種以上のエーテル類（有機溶剤に該当する）を含有する薬液は、より優れた欠陥抑制性能を有する。
エーテル類としては特に制限されず、公知のエーテル類を使用できる。２種以上のエーテル類としては例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、及び、ジエチレングリコールモノブチルエーテルからなる群から選択される２種以上のエーテル類が好ましい。
なかでも、有機溶剤が、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、及び、プロピレングリコールモノメチルエーテルを含有することが好ましい。
なお、上記薬液が２種の有機溶剤を含有する場合、上記薬液中における、それぞれの有機溶剤の含有質量比としては特に制限されないが、一般に１／９９〜９９／１が好ましく、１０／９０〜９０／１０がより好ましく、２０／８０〜６０／４０が更に好ましい。
【００２０】
また、上記薬液が３種の有機溶剤を含有する場合、３種の有機溶剤の組合せとしては特に制限されないが、以下の有機溶剤の組み合わせ等が好ましい。
・ＰＧＭＥＡ（propylene glycol monomethyl ether acetate）／ＰＧＭＥ（propylene glycol monomethyl ether）／γ−ブチロラクトン
・ＰＧＭＥＡ／ＰＧＭＥ／シクロヘキサノン
・ＰＧＭＥＡ／ＰＧＭＥ／２−ヘプタノン
・ＰＧＭＥＡ／シクロヘキサノン／γ−ブチロラクトン
・ＰＧＭＥＡ／γ−ブチロラクトン／２−ヘプタノン
【００２１】
〔金属イオン〕
上記薬液は、Ｆｅ原子、Ｃｒ原子、Ｎｉ原子、Ｐｂ原子からなる群から選択される少なくとも１種の原子（特定金属原子１）のイオン（金属イオン）を含有する。
なお、本明細書においては、金属イオン、及び、後述する粒子をあわせて、「金属不純物」ということがある。
【００２２】
上記薬液中に１種の金属イオンが含有される場合、金属イオンの含有量は、上記薬液の全質量に対して、０．１〜１００質量ｐｐｔである。上記薬液中に２種以上の金属イオンが含有される場合、金属イオンのそれぞれの含有量は、上記薬液の全質量に対して、０．１〜１００質量ｐｐｔである。なかでも、より優れた本発明の効果を有する薬液が得られる点で、金属イオン（２種以上の金属イオンを含有する場合は、それぞれ）の含有量としては０．１〜５０質量ｐｐｔが好ましい。
薬液中における金属イオン（２種以上の金属イオンを含有する場合は、それぞれ）の含有量が０．１質量ｐｐｔ以上だと、薬液の帯電を制御でき、薬液は優れた欠陥抑制性能を有し、薬液中における金属イオンの含有量が１００質量ｐｐｔ以下だと、薬液は優れた欠陥抑制性能を有する。
なお薬液中における金属イオンの含有量は、ＩＣＰ−ＭＳ（inductively coupled plasma  mass spectrometry、例えば、Ａｇｉｌｅｎｔ  ８８００  ＩＣＰ−ＭＳ）を用いて測定することができる。
【００２３】
薬液が２種以上の金属イオンを含有する場合における金属イオンの含有量の合計は、薬液の全質量に対して、０．１〜５００質量ｐｐｔが好ましく、１．０〜２５０質量ｐｐｔがより好ましく、２００質量ｐｐｔ以下が更に好ましく、１５０質量ｐｐｔ以下が特に好ましく、１００質量ｐｐｔ以下が最も好ましく、５０質量ｐｐｔ以下がより最も好ましい。
【００２４】
上記金属イオンは、薬液中に添加されてもよいし、薬液の製造工程において意図せずに薬液中に混合されるものであってもよい。薬液の製造工程において意図せずに混合される場合としては例えば、金属イオンが、薬液の製造に用いる原料（例えば、有機溶剤）に含有されている場合、及び、薬液の製造工程で混合する（例えば、コンタミネーション）等が挙げられるが、上記に制限されない。
【００２５】
なかでも、薬液がより優れた本発明の効果を有する点で、薬液は、Ｆｅ原子、Ｃｒ原子、Ｎｉ原子、及び、Ｐｂ原子のそれぞれのイオンを含有することが好ましい。各金属イオンの含有量としては、より優れた本発明の効果を有する薬液が得られる点で、薬液の全質量に対する各金属イオンの含有量としては以下のとおりであることがより好ましい。
・Ｆｅイオン：０．１〜５０質量ｐｐｔ（好ましくは、０．１〜１０質量ｐｐｔ）
・Ｃｒイオン：０．１〜３０質量ｐｐｔ（好ましくは、０．１〜１０質量ｐｐｔ）
・Ｎｉイオン：０．１〜５０質量ｐｐｔ（好ましくは、０．１〜１０質量ｐｐｔ）
・Ｐｂイオン：０．１〜３０質量ｐｐｔ（好ましくは、０．１〜１０質量ｐｐｔ）
特定金属原子１の金属イオンを含有する半導体用処理液は、特に帯電し易く、現像液、及び／又は、プリウェット液等として使用した場合、シリコンウェハ等の基板に特定金属原子１の金属イオンが欠陥として残り易い。
特定金属原子１の金属イオンの含有量が上記範囲内である薬液は、より優れた欠陥抑制性能を有し、かつ、薬液の帯電電位を低い状態でより制御し易く、より優れた管路破損抑制性能を有する。
【００２６】
〔任意成分〕
上記薬液は、本発明の効果を奏する範囲内において、上記以外の成分を含有してもよい。上記以外の成分としては、例えば、金属原子を含有する粒子、有機不純物、及び、水等が挙げられる。以下では、上記任意成分について詳述する。
【００２７】
＜粒子（金属原子を含有する粒子）＞
上記薬液は、金属原子を含有する粒子を含有してもよい。なかでも、より優れた本発明の効果を有する薬液が得られる点で、薬液は、Ｃｒ原子、Ｚｎ原子、Ａｌ原子、及び、Ｐｂ原子からなる群から選択される少なくとも１種の原子（特定金属原子２）を含有する粒子を含有することが好ましい。
【００２８】
金属原子を含有する粒子の平均粒子径としては特に制限されないが、一般に２０ｎｍ以下が好ましい。金属原子を含有する粒子の平均粒子径とは、欠陥検査装置ＳＰ−５、及び／又は、欠陥レビュー・分類装置Ｇ６により測定した平均粒子径を意図する。
【００２９】
金属原子を含有する粒子としては特に制限されず、公知の粒子を使用できる。上記薬液中における粒子の含有量としては特に制限されないが、上記薬液の全質量に対して、一般に０．０５〜２００質量ｐｐｔが好ましく、より優れた本発明の効果を有する薬液が得られる点で、０．１〜１００質量ｐｐｔがより好ましく、１．０〜６０質量ｐｐｔが更に好ましい。
なお、上記粒子は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の粒子を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
【００３０】
薬液中における上記粒子の含有量が０．１質量ｐｐｔ以上だと、薬液はより優れた欠陥抑制性能を有する。
一方、薬液中における上記粒子の含有量が１００質量ｐｐｔ以下だと、薬液は優れた管路破損抑制性能を有する。一般に、上記特定金属原子２と、移送管路の材質（例えば、四フッ化エチレン樹脂等）は帯電列上で離れているため、上記特定金属原子２を含有する薬液は帯電しやすいものと考えられるが、粒子の含有量が１００質量ｐｐｔ以下であると、その影響がより小さくなり、結果として、薬液はより優れた管路破損抑制性能を有するものと推測される。
【００３１】
なお薬液中における上記粒子の含有量は、ＩＣＰ−ＭＳ（inductively coupled plasma  mass spectrometry、例えば、Ａｇｉｌｅｎｔ  ８８００  ＩＣＰ−ＭＳ）を用いて測定することができる。
【００３２】
また、粒子に含有される金属原子としては、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
【００３３】
上記粒子は、薬液中に添加されてもよいし、薬液の製造工程において意図せずに薬液中に混合されるものであってもよい。薬液の製造工程において意図せずに混合される場合としては例えば、粒子が、薬液の製造に用いる原料（例えば、有機溶剤）に含有されている場合、及び、薬液の製造工程で混合する（例えば、コンタミネーション）等が挙げられるが、上記に制限されない。
【００３４】
なかでも、薬液がより優れた本発明の効果を有する点で、薬液は、Ｃｒ原子、Ｚｎ原子、Ａｌ原子、及び、Ｐｂ原子をそれぞれ含有する粒子を含有することが好ましい。このとき、薬液中における各粒子の含有量としては特に制限されない。より優れた本発明の効果を有する薬液が得られる点で、薬液の全質量に対する各粒子の含有量としては以下のとおりであることがより好ましい。
・Ｃｒ原子を含有する粒子：０．１〜３０質量ｐｐｔ
・Ｚｎ原子を含有する粒子：０．１〜２０質量ｐｐｔ
・Ａｌ原子を含有する粒子：０．１〜２０質量ｐｐｔ
・Ｐｂ原子を含有する粒子：０．１〜２０質量ｐｐｔ
【００３５】
＜有機不純物＞
上記薬液は、有機不純物を含有することが好ましい。
本明細書において、有機不純物とは、薬液に含まれる主成分である有機溶剤とは異なる化合物であって、上記薬液の全質量に対して、５０００質量ｐｐｍ以下の含有量で含有される有機物を意図する。つまり、本明細書においては、上記薬液の全質量に対して５０００質量ｐｐｍ以下の含有量で含有される有機物は、有機不純物に該当し、有機溶剤には該当しないものとする。
なお、複数種の化合物からなる有機不純物が薬液に含まれる場合、各化合物が上述した５０００質量ｐｐｍ以下の含有量で含有される有機物に該当していれば、それぞれが有機不純物に該当する。
【００３６】
上記薬液中における有機不純物の合計含有量としては特に制限されないが、一般に、薬液の全質量に対して０．０５〜１００００質量ｐｐｍが好ましく、０．１〜５０００質量ｐｐｍがより好ましく、３０００質量ｐｐｍ以下が更に好ましく、１０００質量ｐｐｍ以下が特に好ましく、６５０質量ｐｐｍ以下が最も好ましい。
薬液中における有機不純物の合計含有量が、０．１質量ｐｐｍ以上であると、薬液はより優れた欠陥抑制性能を有し、５０００質量ｐｐｍ以下であると、薬液はより優れた欠陥抑制性能を有する。
有機不純物は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の有機不純物を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
なお、上記薬液中における有機不純物の合計含有量は、ＧＣＭＳ（ガスクロマトグラフ質量分析装置；gas chromatography mass spectrometry）を用いて測定することができる。
【００３７】
有機不純物は、薬液中に添加されてもよいし、薬液の製造工程において意図せずに薬液中に混合されるものであってもよい。薬液の製造工程において意図せずに混合される場合としては例えば、有機不純物が、薬液の製造に用いる原料（例えば、有機溶剤）に含有されている場合、及び、薬液の製造工程で混合する（例えば、コンタミネーション）等が挙げられるが、上記に制限されない。
【００３８】
有機不純物としては、例えば、ジブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、ジステアリルチオジプロピオネート（ＤＳＴＰ）、４，４’−ブチリデンビス−（６−ｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、及び、特開２０１５−２００７７５号公報に記載されている酸化防止剤等の酸化防止剤；未反応の原料；有機溶剤の製造時に生じる構造異性体及び副生成物；有機溶剤の製造装置を構成する部材等からの溶出物（例えば、Ｏリングなどのゴム部材から溶出した可塑剤）；等が挙げられる。
【００３９】
また、有機不純物としては、例えば、有機溶剤の合成に伴い生成する副生成物、及び／又は、未反応の原料（以下、「副生成物等」ともいう。）等も挙げられる。例えば、有機溶剤が、アルコール化合物、ケトン化合物、エステル化合物、エーテル化合物、及び、アルデヒド化合物の場合、副生成物等としては、アルコール化合物、ケトン化合物、エステル化合物、エーテル化合物、及び、アルデヒド化合物等が挙げられる。
上記副生成物等としては、例えば、下記の式Ｉ〜Ｖで表される化合物等が挙げられる。
【００４０】
【化１】
0006794462.tif 000002
【００４１】
式Ｉ中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、アルキル基、若しくは、シクロアルキル基を表すか、又は、互いに結合し、環を形成している。
【００４２】
Ｒ１及びＲ２により表されるアルキル基、又は、シクロアルキル基としては、炭素数１〜１２のアルキル基、又は、炭素数６〜１２のシクロアルキル基が好ましく、炭素数１〜８のアルキル基、又は、炭素数６〜８のシクロアルキル基がより好ましい。
【００４３】
Ｒ１及びＲ２が互いに結合して形成する環は、ラクトン環であり、４〜９員環のラクトン環が好ましく、４〜６員環のラクトン環がより好ましい。
【００４４】
なお、Ｒ１及びＲ２は、式Ｉで表される化合物の炭素数が６以上となる関係を満たすことが好ましい。
【００４５】
式ＩＩ中、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、若しくは、シクロアルケニル基を表すか、又は、互いに結合して環を形成している。但し、Ｒ３及びＲ４の双方が水素原子であることはない。
【００４６】
Ｒ３及びＲ４により表されるアルキル基としては、例えば、炭素数１〜１２のアルキル基が好ましく、炭素数１〜８のアルキル基がより好ましい。
【００４７】
Ｒ３及びＲ４により表されるアルケニル基としては、例えば、炭素数２〜１２のアルケニル基が好ましく、炭素数２〜８のアルケニル基がより好ましい。
【００４８】
Ｒ３及びＲ４により表されるシクロアルキル基としては、炭素数６〜１２のシクロアルキル基が好ましく、炭素数６〜８のシクロアルキル基がより好ましい。
【００４９】
Ｒ３及びＲ４により表されるシクロアルケニル基としては、例えば、炭素数３〜１２のシクロアルケニル基が好ましく、炭素数６〜８のシクロアルケニル基がより好ましい。
【００５０】
Ｒ３及びＲ４が互いに結合して形成する環は、環状ケトン構造であり、飽和環状ケトンであってもよく、不飽和環状ケトンであってもよい。この環状ケトンは、６〜１０員環が好ましく、６〜８員環がより好ましい。
【００５１】
なお、Ｒ３及びＲ４は、式ＩＩで表される化合物の炭素数が６以上となる関係を満たすことが好ましい。
【００５２】
式ＩＩＩ中、Ｒ５は、アルキル基又はシクロアルキル基を表す。
【００５３】
Ｒ５により表されるアルキル基は、炭素数６以上のアルキル基が好ましく、炭素数６〜１２のアルキル基がより好ましく、炭素数６〜１０のアルキル基が更に好ましい。
上記アルキル基は、鎖中にエーテル結合を有していてもよく、ヒドロキシ基等の置換基を有していてもよい。
【００５４】
Ｒ５により表されるシクロアルキル基は、炭素数６以上のシクロアルキル基が好ましく、炭素数６〜１２のシクロアルキル基がより好ましく、炭素数６〜１０のシクロアルキル基が更に好ましい。
【００５５】
式ＩＶ中、Ｒ６及びＲ７は、それぞれ独立に、アルキル基若しくはシクロアルキル基を表すか、又は、互いに結合し、環を形成している。
【００５６】
Ｒ６及びＲ７により表されるアルキル基としては、炭素数１〜１２のアルキル基が好ましく、炭素数１〜８のアルキル基がより好ましい。
【００５７】
Ｒ６及びＲ７により表されるシクロアルキル基としては、炭素数６〜１２のシクロアルキル基が好ましく、炭素数６〜８のシクロアルキル基がより好ましい。
【００５８】
Ｒ６及びＲ７が互いに結合して形成する環は、環状エーテル構造である。この環状エーテル構造は、４〜８員環であることが好ましく、５〜７員環であることがより好ましい。
【００５９】
なお、Ｒ６及びＲ７は、式ＩＶで表される化合物の炭素数が６以上となる関係を満たすことが好ましい。
【００６０】
式Ｖ中、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立に、アルキル基、若しくは、シクロアルキル基を表すか、又は、互いに結合し、環を形成している。Ｌは、単結合又はアルキレン基を表す。
【００６１】
Ｒ８及びＲ９により表されるアルキル基としては、例えば、炭素数６〜１２のアルキル基が好ましく、炭素数６〜１０のアルキル基がより好ましい。
【００６２】
Ｒ８及びＲ９により表されるシクロアルキル基としては、炭素数６〜１２のシクロアルキル基が好ましく、炭素数６〜１０のシクロアルキル基がより好ましい。
【００６３】
Ｒ８及びＲ９が互いに結合して形成する環は、環状ジケトン構造である。この環状ジケトン構造は、６〜１２員環であることが好ましく、６〜１０員環であることがより好ましい。
【００６４】
Ｌにより表されるアルキレン基としては、例えば、炭素数１〜１２のアルキレン基が好ましく、炭素数１〜１０のアルキレン基がより好ましい。
なお、Ｒ８、Ｒ９及びＬは、式Ｖで表される化合物の炭素数が６以上となる関係を満たす。
【００６５】
また、特に沸点が２５０℃以上の有機不純物の含有量は、薬液の全質量に対して０．００１質量ｐｐｍ以上、１００質量ｐｐｍ未満であることが好ましい。
沸点が２５０℃以上の有機不純物とは、上述した有機不純物のうち、沸点が２５０℃以上のものを意味する。
【００６６】
また、薬液の製造工程において混合される有機不純物とは、例えば、製造装置の部材に用いられたプラスチック材料（例えば、Ｏ−リング等）中に含有される樹脂成分又は可塑剤等が挙げられる。上記の成分として、例えば、フタル酸ジオクチル（ＤＯＰ、沸点３８５℃）、フタル酸ジイソノニル（ＤＩＮＰ、沸点４０３℃）、アジピン酸ジオクチル（ＤＯＡ、沸点３３５℃）、フタル酸ジブチル（ＤＢＰ、沸点３４０℃）、及びエチレンプロピレンゴム（ＥＰＤＭ、沸点３００〜４５０℃）等が確認されている。
【００６７】
また、上記沸点が２５０℃以上の有機不純物が、沸点が２７０℃以上の有機不純物を含有する場合、沸点が２７０℃以上の有機不純物の含有量としては、薬液の全質量に対して０．００１〜６０質量ｐｐｍが好ましい。沸点が２７０℃以上の有機不純物の含有量が上記数値範囲であると、薬液は、より優れた欠陥抑制性能を有する。
【００６８】
また、上記沸点が２５０℃以上の有機不純物が、沸点が３００℃以上の有機不純物を含む場合、沸点が３００℃以上の有機不純物の含有量としては、薬液の全質量に対して０．００１〜３０質量ｐｐｍが好ましい。沸点が３００℃以上の有機不純物の含有量が上記数値範囲であると、薬液は、より優れた欠陥抑制性能を有する。
【００６９】
薬液が、更に優れた欠陥抑制性能を有する点で、沸点が２５０℃以上の有機不純物の含有量としては、薬液の全質量に対して０．１〜８質量ｐｐｍが更に好ましい。
【００７０】
沸点が２５０℃以上の有機不純物は、なかでも、炭素数８以上の有機不純物であることが好ましく、炭素数１２以上の有機不純物であることがより好ましい。
【００７１】
＜水＞
上記薬液は水を含有することが好ましい。水としては特に制限されず、例えば、蒸留水、イオン交換水、及び、純水等を使用できる。
上記薬液中における水の含有量としては特に制限されないが、一般に、薬液の全質量に対して、０．０１〜３.０質量％が好ましく、０．０１〜１．０質量％がより好ましい。
薬液中における水の含有量が０．０１質量％以上であると、薬液は、より優れた欠陥抑制性能を有し、薬液中における水の含有量が１．０質量％以下であると、薬液は、より優れた欠陥抑制性能を有する。
【００７２】
水は、薬液中に添加されてもよいし、薬液の製造工程において意図せずに薬液中に混合されるものであってもよい。薬液の製造工程において意図せずに混合される場合としては例えば、水が、薬液の製造に用いる原料（例えば、有機溶剤）に含有されている場合、及び、薬液の製造工程で混合する（例えば、コンタミネーション）等が挙げられるが、上記に制限されない。
【００７３】
本明細書において、水の含有量は、カールフィッシャー水分測定法を測定原理とする装置を用いて、測定される水分含有量を意図する。なお、上記装置による測定方法は実施例に記載したとおりである。
【００７４】
〔薬液の物性〕
上記薬液は、以下の物性を有する。
（１）帯電電位が１００ｍＶ以下である。
また、より優れた本発明の効果を有する薬液が得られる点で、薬液は以下の物性を有することが好ましい。
（２）光散乱式液中粒子計数器によって計数される、０．１μｍ以上のサイズの被計数体の数（以下、「粗大粒子数」ともいう。）が、１〜１００個／ｍＬである。
以下では、上記物性（１）及び（２）について詳述する。
【００７５】
＜物性（１）：帯電電位が１００ｍＶ以下である＞
上記薬液の帯電電位は１００ｍＶ以下である。下限値としては特に制限されないが、一般に０．０００００１ｍＶ以上が好ましい。また、薬液が、より優れた本発明の効果を有する点で、薬液の帯電電位としては、０．０００００１〜５０ｍＶがより好ましい。
なお、本明細書において、薬液の帯電電位は、被接触型静電電位計（例えば、アキレス株式会社製、ＡＳ−２０）を用い、ＪＩＳ（日本工業規格）  Ｃ６１３４０−２−２：２０１３に準拠した方法で測定した帯電電位を意図する。
【００７６】
＜物性（２）：粗大粒子数が１〜１００個／ｍＬである＞
上記薬液は、より優れた本発明の効果を有する点で、光散乱式液中粒子計数器によって計数される、０．１μｍ以上のサイズの被計数体の数（粗大粒子数）が、１〜１００個／ｍＬが好ましく、１〜５０個／ｍＬがより好ましい。
粗大粒子数が１個／ｍＬ以上であると、薬液はより優れた欠陥抑制性能を有し、粗大粒子数が１００個／ｍＬ以下であると、薬液はより優れた欠陥抑制性能を有する。
本明細書において、光散乱式液中粒子計数器によって計数される、０．１μｍ以上のサイズの被計数体を「粗大粒子」ともいう。
【００７７】
なお、粗大粒子としては、例えば、薬液の製造に用いる原料（例えば、有機溶剤）に含有される塵、埃、及び、有機固形物及び無機固形物等の粒子、並びに、薬液の調製中に汚染物として持ち込まれる塵、埃、及び、固形物（有機物、無機物、及び／又は、金属からなる）等が挙げられるがこれに制限されない。
また、粗大粒子としては、金属原子を含有するコロイド化した不純物も含まれる。金属原子としては、特に限定されないが、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｌｉ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｚｎ、及び、Ｐｂ（好ましくは、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｎｉ及びＰｂ）からなる群より選択される少なくとも１種の金属原子の含有量が特に低い場合（例えば、有機溶剤中の上記金属原子の含有量が各々１０００質量ｐｐｔ以下の場合）、これらの金属原子を含有する不純物がコロイド化しやすい。
【００７８】
〔薬液の製造方法〕
上記薬液の製造方法としては特に制限されず、公知の製造方法を使用できる。なかでも、上記薬液をより簡便に得ることができる点で、以下の工程をこの順に含有する薬液の製造方法が好ましい。以下では、各工程について詳述する。
（１）有機溶剤を準備する、有機溶剤準備工程
（２）有機溶剤を含有する被精製物をフィルタに通過させ、薬液を得る、ろ過工程
【００７９】
＜（１）有機溶剤を準備する有機溶剤準備工程＞
有機溶剤準備工程は、有機溶剤を準備する工程である。有機溶剤を準備する方法としては特に制限されず、例えば、有機溶剤を購入等により調達する、及び、原料を反応させて反応物としての有機溶剤を得る等の方法が挙げられる。なお、有機溶剤としては、すでに説明した金属原子を含有する金属不純物、及び／又は、有機不純物の含有量が少ないもの（例えば、有機溶剤の含有量が９９質量％以上のもの）を準備することが好ましい。そのような有機溶剤の市販品としては、例えば、「高純度グレード品」と呼ばれるものが挙げられる。
【００８０】
原料を反応させて反応物としの有機溶剤を得る方法として特に制限されず、公知の方法を使用できる。例えば、触媒の存在下において、一又は複数の原料を反応させて、有機溶剤を得る方法が挙げられる。
より具体的には、例えば、酢酸とｎ−ブタノールとを硫酸の存在下で反応させ、酢酸ブチルを得る方法；エチレン、酸素、及び、水をＡｌ（Ｃ２Ｈ５）３の存在下で反応させ、１−ヘキサノールを得る方法；シス−４−メチル−２−ペンテンをＩｐｃ２ＢＨ（Ｄｉｉｓｏｐｉｎｏｃａｍｐｈｅｙｌｂｏｒａｎｅ）の存在下で反応させ、４−メチル−２−ペンタノールを得る方法；プロピレンオキシド、メタノール、及び、酢酸を硫酸の存在下で反応させ、ＰＧＭＥＡ（プロピレングリコール１−モノメチルエーテル２−アセタート）を得る方法；アセトン、及び、水素を酸化銅−酸化亜鉛−酸化アルミニウムの存在下で反応させて、ＩＰＡ（ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ  ａｌｃｏｈｏｌ）を得る方法；乳酸、及び、エタノールを反応させて、乳酸エチルを得る方法；等が挙げられる。
【００８１】
＜（２）有機溶剤を含有する被精製物をフィルタに通過させ、薬液を得る、ろ過工程＞
ろ過工程は、有機溶剤を含有する被精製物をフィルタに通過させ、薬液を得る工程である。本明細書において、被精製物とは、例えば、有機溶剤準備工程で得られた反応物、後述する蒸留工程で得られた精製物、及び、有機溶剤準備工程で購入等により調達した有機溶剤を意図する。
【００８２】
被精製物をフィルタに通過させる方法としては特に制限されず、被精製物を移送する移送管路の途中に、フィルタと、フィルタハウジングとを備えるフィルタユニットを配置し、上記フィルタユニットに、加圧又は無加圧で被精製物を通過させる方法が挙げられる。
【００８３】
上記ろ過工程において、被精製物がフィルタを通過する際の、被精製物の温度としては特に制限されないが、一般に、０〜３０℃が好ましく、０〜１５℃がより好ましい。なかでも、本発明の効果を有する薬液がより簡便に得られる点で、上記ろ過工程は以下の条件１及び条件２を満たすことがより好ましい。
【００８４】
・条件１：被精製物がフィルタを通過する際の、被精製物の温度が２３℃未満である。
・条件２：被精製物がフィルタを通過する際の、被精製物の温度が下記の式１を満たす。
（式１）  被精製物の温度（℃）＜有機溶剤の引火点（℃）−５
被精製物の温度を上記範囲内に制御する方法としては特に制限されず、公知の方法を使用できる。
なお、本明細書において、有機溶剤の引火点とは、ＪＩＳ  Ｋ  ２２６５−２：２００７に準拠して測定した引火点を意図する。
【００８５】
上記ろ過工程において、被精製物がフィルタを通過する際の、被精製物の温度が０〜３０℃であると、薬液と接触部材（例えば、フィルタ、フィルタハウジング、及び、管路等）との間での帯電（例えば、摩擦による帯電）を抑制でき、管路破損をより抑制することができる。なお、上記被精製物の温度としては、特に温度が低い方が好ましく、製造上の簡易性から０℃以上がより好ましい。
【００８６】
ろ過工程で用いられるフィルタとしては特に制限されず、公知のフィルタを使用できる。
ろ過工程で用いられるフィルタの材質としては、例えば、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）等のフッ素樹脂、ナイロン等のポリアミド系樹脂、ポリエチレン、及び、ポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン樹脂（高密度、超高分子量を含む）等が挙げられる。これらの中でも、ポリアミド系樹脂、ＰＴＦＥ、及び、ポリプロピレン（高密度ポリプロピレンを含む）が好ましく、これらの素材により形成されたフィルタを使用することで、パーティクル欠陥の原因となり易い極性の高い異物をより効率的に除去できる他、金属不純物の量をより効率的に減らすことができる。
【００８７】
フィルタの臨界表面張力として、下限値としては７０ｍＮ／ｍ以上が好ましい。上限値としては、９５ｍＮ／ｍ以下が好ましい。なかでも、フィルタの臨界表面張力は、７５ｍＮ／ｍ以上８５ｍＮ／ｍ以下がより好ましい。
なお、臨界表面張力の値は、メーカーの公称値である。臨界表面張力が上記範囲のフィルタを使用することで、パーティクル欠陥の原因となり易い極性の高い異物をより効率的に除去できる他、金属成分（金属不純物）の量をより効率的に減らすことができる。
【００８８】
フィルタの孔径は、０．００１〜１．０μｍ程度が好ましく、０．０１〜０．５μｍ程度がより好ましく、０．０１〜０．１μｍ程度が更に好ましい。フィルタの孔径を上記範囲とすることで、ろ過詰まりを抑えつつ、被精製物に含まれる微細な異物を確実に除去することが可能となる。
【００８９】
フィルタを使用する際、異なるフィルタを組み合わせてもよい。その際、第１のフィルタでのフィルタリングは、１回のみでもよいし、２回以上行ってもよい。異なるフィルタを組み合わせて２回以上フィルタリングを行う場合には、各フィルタは、互いに同じ種類のものであってもよいし、互いに種類の異なるものであってもよいが、互いに種類の異なるものであることが好ましい。典型的には、第１のフィルタと第２フィルタとは、孔径及び構成素材のうちの少なくとも一方が異なっていることが好ましい。
１回目のフィルタリングの孔径より２回目以降の孔径が同じ、又は、小さい方が好ましい。また、上述した範囲内で異なる孔径の第１のフィルタを組み合わせてもよい。ここでの孔径は、フィルタメーカーの公称値を参照できる。市販のフィルタとしては、例えば、日本ポール株式会社、アドバンテック東洋株式会社、日本インテグリス株式会社（旧日本マイクロリス株式会社）又は株式会社キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタの中から選択できる。また、ポリアミド製の「Ｐ−ナイロンフィルター（孔径０．０２μｍ、臨界表面張力７７ｍＮ／ｍ）」；（日本ポール株式会社製）、高密度ポリエチレン製の「ＰＥ・クリーンフィルタ（孔径０．０２μｍ）」；（日本ポール株式会社製）、及び高密度ポリエチレン製の「ＰＥ・クリーンフィルタ（孔径０．０１μｍ）」；（日本ポール株式会社製）も使用することができる。
【００９０】
特に限定されないが、例えば、本発明の薬液について、所望の効果を得る観点のほか、精製した薬液の保管に際して、金属不純物（特に、固体として薬液中に存在するもの）の増加を抑制する観点からは、被精製物と、フィルタリングに使用するフィルタの材質との関係は、フィルタリングに使用するフィルタの材質から導き出せるハンセン溶解度パラメータ（ＨＳＰ）空間における相互作用半径（Ｒ０）と、被精製物に含有される有機溶剤から導き出せるハンセン空間の球の半径（Ｒａ）とした場合のＲａとＲ０の関係式（Ｒａ／Ｒ０）≦１を満たす組み合わせであって、これらの関係式を満たすフィルタ材質でフィルタリングされた被精製物であることが好ましい。（Ｒａ／Ｒ０）≦０．９８が好ましく、（Ｒａ／Ｒ０）≦０．９５がより好ましい。下限としては、０．５以上が好ましく、０．６以上がより好ましく、０．７が更に好ましい。メカニズムは定かではないが、この範囲内であると、長期保管時における薬液中における金属不純物の含有量の増加が抑制される。
これらのフィルタ及び、被精製物の組み合わせとしては、特に限定されないが、米国ＵＳ２０１６／００８９６２２号公報のものが挙げられる。
【００９１】
第２のフィルタは、上述した第１のフィルタと同様の材料で形成されたフィルタを使用できる。上述した第１のフィルタと同様の孔径のものが使用できる。第２のフィルタの孔径が第１のフィルタより小さいものを用いる場合には、第２のフィルタの孔径と第１のフィルタの孔径との比（第２のフィルタの孔径／第１のフィルタの孔径）が０．０１〜０．９９が好ましく、０．１〜０．９がより好ましく、０．２〜０．９が更に好ましい。第２フィルタの孔径を上記範囲とすることにより、溶液に混入している微細な異物がより確実に除去される。
【００９２】
ろ過圧力はろ過精度に影響を与えることから、ろ過時における圧力の脈動は可能な限り少ない方が好ましい。
【００９３】
上記薬液の製造方法において、ろ過速度は特に限定されないが、より優れた本発明の効果を有する薬液が得られる点で、１．０Ｌ／分／ｍ２以上が好ましく、０．７５Ｌ／分／ｍ２以上がより好ましく、０．６Ｌ／分／ｍ２以上が更に好ましい。
フィルタにはフィルタ性能（フィルタが壊れない）を保障する耐差圧が設定されており、この値が大きい場合にはろ過圧力を高めることでろ過速度を高めることができる。つまり、上記ろ過速度上限は、通常、フィルタの耐差圧に依存するが、通常、１０．０Ｌ／分／ｍ２以下が好ましい。
【００９４】
上記薬液の製造方法において、ろ過圧力は、より優れた本発明の効果を有する薬液が得られる点で、０．００１〜１．０ＭＰａが好ましく、０．００３〜０．５ＭＰａがより好ましく、０．００５〜０．３ＭＰａが更に好ましい。特に、孔径が小さいフィルタを使用する場合には、ろ過の圧力を上げることで被精製物中に溶解している粒子状の異物又は不純物の量を効率的に低下させることができる。孔径が２０ｎｍより小さいフィルタを使用する場合には、ろ過の圧力は、０．００５〜０．３ＭＰａであることが特に好ましい。
【００９５】
また、ろ過フィルタのポアサイズが小さくなるとろ過速度が低下する。しかし、同種のろ過フィルタを、複数個で、並列に接続することでろ過面積が拡大してろ過圧力が下がるので、これにより、ろ過速度低下を補償することが可能になる。
【００９６】
ろ過工程は、以下の各工程を含有することがより好ましい。なお、ろ過工程は、以下の各工程を１回含有してもよいし、複数回含有してもよい。また、以下の各工程の順序は特に制限されない。
１．粒子除去工程
２．金属イオン除去工程
３．有機不純物除去工程
４．イオン交換工程
以下では、上記工程について、それぞれ説明する。
【００９７】
・・粒子除去工程
粒子除去工程は、粒子除去フィルタを用いて、被精製物中の、粗大粒子、及び／又は、金属不純物（そのうち、固体として薬液中に存在するもの）を除去する工程である。粒子除去フィルタとしては特に制限されず、公知の粒子除去フィルタを使用できる。
粒子除去フィルタとしては、例えば、除粒子径が２０ｎｍ以下であるフィルタが挙げられる。上記のフィルタを用いて有機溶剤をろ過することにより、有機溶剤から粗大粒子（粗大粒子の形態としては既に説明したとおりである。）を除去できる。
除粒子径としては、１〜１５ｎｍが好ましく、１〜１２ｎｍがより好ましい。除粒子径が１５ｎｍ以下だと、より微細な粗大粒子を除去でき、除粒子径が１ｎｍ以上だと、ろ過効率が向上する。
ここで、除粒子径とは、フィルタが除去可能な粒子の最小サイズを意味する。例えば、フィルタの除粒子径が２０ｎｍである場合には、直径２０ｎｍ以上の粒子を除去可能である。
フィルタの材質としては、例えば、６−ナイロン、６、６−ナイロン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリアミドイミド、及び、フッ素樹脂等が挙げられる。
ポリイミド、及び／又は、ポリアミドイミドは、カルボキシ基、塩型カルボキシ基及び−ＮＨ−結合からなる群より選択される少なくとも１つを有するものであってもよい。耐溶剤性については、フッ素樹脂、ポリイミド及び／又はポリアミドイミドが優れる。
【００９８】
上記フィルタを複数個用いて、フィルタユニットを構成してもよい。すなわち、上記フィルタユニットは、更に、除粒子径が５０ｎｍ以上のフィルタ（例えば、孔径が５０ｎｍ以上の微粒子除去用の精密濾過膜）を備えてもよい。被精製物中に、コロイド化した不純物、特に鉄又はアルミニウムのような金属原子を含有するコロイド化した不純物以外にも微粒子が存在する場合には、除粒子径が２０ｎｍ以下であるフィルタ（例えば、孔径が２０ｎｍ以下の精密濾過膜）を用いて濾過する前に、除粒子径が５０ｎｍ以上のフィルタ（例えば、孔径が５０ｎｍ以上の微粒子除去用の精密濾過膜）を用いて被精製物のろ過を実施することで、除粒子径が２０ｎｍ以下であるフィルタ（例えば、孔径が２０ｎｍ以下の精密ろ過膜）のろ過効率が向上し、粗大粒子の除去性能がより向上する。
【００９９】
・・金属イオン除去工程
ろ過工程は、更に、金属イオン除去工程を含有することが好ましい。
金属イオン除去工程としては、被精製物を金属イオン吸着フィルタに通過させる工程が好ましい。被精製物を金属イオン吸着フィルタに通過させる方法としては特に制限されず、被精製物を移送する移送管路の途中に、金属イオン吸着フィルタと、フィルタハウジングとを備える金属イオン吸着フィルタユニットを配置し、上記金属印吸着フィルタユニットに、加圧又は無加圧で被精製物を通過させる方法が挙げられる。
【０１００】
金属イオン吸着フィルタとしては特に制限されず、公知の金属イオン吸着フィルタが挙げられる。
なかでも、金属イオン吸着フィルタとしては、イオン交換可能なフィルタが好ましい。ここで、吸着対象となる金属イオンは、特に制限されないが、半導体デバイスの欠陥の原因になりやすいという点から、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｎｉ、及び、Ｐｂからなる群から選択される少なくとも１種の金属のイオンが好ましく、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｎｉ、及び、Ｐｂの全ての金属のイオンが好ましい。
金属イオン吸着フィルタは、金属イオンの吸着性能が向上するという観点から、表面に酸基を有することが好ましい。酸基としては、スルホ基、及び、カルボキシ基等が挙げられる。
金属イオン吸着フィルタを構成する基材（材質）としては、セルロース、ケイソウ土、ナイロン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、及び、フッ素樹脂等が挙げられる。
【０１０１】
また、金属イオン吸着フィルタは、ポリイミド及び／又はポリアミドイミドを含有する材質で構成されていてもよい。上記金属イオン吸着フィルタとしては、例えば、特開２０１６―１５５１２１号公報（ＪＰ  ２０１６−１５５１２１）に記載されているポリイミド及び／又はポリアミドイミド多孔質膜が挙げられる。
上記ポリイミド及び／又はポリアミドイミド多孔質膜は、カルボキシ基、塩型カルボキシ基、及び、−ＮＨ−結合からなる群より選択される少なくとも１つを含有するものであってもよい。金属イオン吸着フィルタが、フッ素樹脂、ポリイミド、及び／又は、ポリアミドイミドからなると、より優れた耐溶剤性を有する。
【０１０２】
・・有機不純物除去工程
ろ過工程は、有機不純物除去工程を含有することが好ましい。有機不純物除去工程としては、被精製物を有機不純物吸着フィルタに通過させる工程が好ましい。被精製物を有機不純物吸着フィルタに通過させる方法としては特に制限されず、被精製物を移送する移送管路の途中に、有機不純物吸着フィルタと、フィルタハウジングとを備えるフィルタユニットを配置し、上記フィルタユニットに、加圧又は無加圧で有機溶剤を通過させる方法が挙げられる。
【０１０３】
有機不純物吸着フィルタとしては特に制限されず、公知の有機不純物吸着フィルタが挙げられる。
なかでも、有機不純物吸着フィルタとしては、有機不純物の吸着性能が向上する点で、有機不純物と相互作用可能な有機物骨格を表面に有すること（言い換えれば、有機不純物と相互作用可能な有機物骨格によって表面が修飾されていること）が好ましい。有機不純物と相互作用可能な有機物骨格としては、例えば、有機不純物と反応して有機不純物を有機不純物吸着フィルタに捕捉できるような化学構造が挙げられる。より具体的には、有機不純物としてｎ−長鎖アルキルアルコール（有機溶剤として１−長鎖アルキルアルコールを用いた場合の構造異性体）を含む場合には、有機物骨格としては、アルキル基が挙げられる。また、有機不純物としてジブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）を含む場合には、有機物骨格としてはフェニル基が挙げられる。
有機不純物吸着フィルタを構成する基材（材質）としては、活性炭を担持したセルロース、ケイソウ土、ナイロン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、及び、フッ素樹脂等が挙げられる。
また、有機不純物吸着フィルタには、特開２００２−２７３１２３号公報及び特開２０１３−１５０９７９号公報に記載の活性炭を不織布に固着したフィルタも使用できる。
【０１０４】
有機不純物吸着フィルタとしては、上記で示した化学吸着（有機不純物と相互作用可能な有機物骨格を表面に有する有機不純物除去フィルタを用いた吸着）以外に、物理的な吸着方法も適用できる。
例えば、有機不純物としてＢＨＴを含む場合、ＢＨＴの構造は１０Å（＝１ｎｍ）よりも大きい。そのため、孔径が１ｎｍの有機不純物吸着フィルタを用いることで、ＢＨＴはフィルタの孔を通過できない。つまり、ＢＨＴは、フィルタによって物理的に捕捉されるので、被精製物中から除去される。このように、有機不純物の除去は、化学的な相互作用だけでなく物理的な除去方法を適用することでも可能である。ただし、この場合には、３ｎｍ以上の孔径のフィルタが「粒子除去フィルタ」として用いられ、３ｎｍ未満の孔径のフィルタが「有機不純物吸着フィルタ」として用いられる。
本明細書において、１Å（オングストローム）は、０．１ｎｍに相当する。
【０１０５】
・・イオン交換工程
上記ろ過工程は、イオン交換工程を更に含有してもよい。
イオン交換工程としては、被精製物をイオン交換ユニットに通過させる工程が好ましい。被精製物をイオン交換ユニットに通過させる方法としては特に制限されず、被精製物を移送する移送管路の途中に、イオン交換ユニットを配置し、上記イオン交換ユニットに、加圧又は無加圧で有機溶剤を通過させる方法が挙げられる。
【０１０６】
イオン交換ユニットとしては特に制限されず、公知のイオン交換ユニットを使用できる。イオン交換ユニットとしては、例えば、塔状の容器内にイオン交換樹脂を収容したもの、及び、イオン吸着膜等が挙げられる。
【０１０７】
イオン交換工程の一形態としては、イオン交換樹脂としてカチオン交換樹脂又はアニオン交換樹脂を単床で設けたもの、カチオン交換樹脂とアニオン交換樹脂とを複床で設けたもの、及び、カチオン交換樹脂とアニオン交換樹脂とを混床で設けたものを用いる工程が挙げられる。
イオン交換樹脂としては、イオン交換樹脂からの水分溶出を低減させるために、極力水分を含まない乾燥樹脂を使用することが好ましい。このような乾燥樹脂としては、市販品を用いることができ、オルガノ社製の１５ＪＳ−ＨＧ・ＤＲＹ（商品名、乾燥カチオン交換樹脂、水分２％以下）、及びＭＳＰＳ２−１・ＤＲＹ（商品名、混床樹脂、水分１０％以下）等が挙げられる。
上記イオン交換工程は、既に説明した蒸留工程の前、又は、後述する水分調整工程の前に実施されることが好ましい。
【０１０８】
イオン交換工程の他の形態としては、イオン吸着膜を用いる工程が挙げられる。
イオン吸着膜を用いることで、高流速での処理が可能である。なお、イオン吸着膜としては特に制限されないが、例えば、ネオセプタ（商品名、アストム社製）等が挙げられる。
上記イオン交換工程は、既に説明した蒸留工程の後に実施されることが好ましい。上記イオン交換工程を経ることで、精製装置内で蓄積した不純物が流出した場合にこれを除去でき、移送管路として利用されるステンレス鋼（ＳＵＳ）等の管路からの溶出物を除去できる。
【０１０９】
＜（３）任意工程＞
上記薬液の製造方法は、上記の工程以外にも任意工程として、蒸留工程、水分調整工程、及び、除電工程等を含有してもよい。以下では上記各任意工程について詳述する。
【０１１０】
（蒸留工程）
上記薬液の製造方法は、蒸留工程を含有してもよい。蒸留工程は、有機溶剤、又は、反応物を蒸留して、精製物を得る工程を意図する。蒸留の方法としては特に制限されず、公知の方法を使用できる。
上記薬液の製造方法が蒸留工程を含有する場合、既に説明した各工程との順序は特に制限されないが、上記薬液をより簡便に得ることができる点で、有機溶剤準備工程の後、ろ過工程の前に含有されることが好ましい。
また、より簡易に精製物を得ることができ、かつ、蒸留工程において、意図しない不純物が精製物に、より混入しにくい点で、以下の精製装置を用いて有機溶剤、又は、反応物を蒸留することがより好ましい。
【０１１１】
・精製装置
上記蒸留工程で使用できる精製装置の一形態としては、例えば、有機溶剤を蒸留して精製物を得るための蒸留塔を含有する精製装置であって、蒸留塔の接液部（例えば、内壁、及び、管路等）が、非金属材料、及び、電解研磨された金属材料からなる群から選択される少なくとも１種から形成される精製装置が挙げられる。
【０１１２】
上記非金属材料としては、特に制限されず、公知の材料を使用できる。
非金属材料としては、例えば、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエチレン−ポリプロピレン樹脂、四フッ化エチレン樹脂、四フッ化エチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、四フッ化エチレン−六フッ化プロピレン共重合樹脂、四フッ化エチレン−エチレン共重合体樹脂、三フッ化塩化エチレン−エチレン共重合樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、三フッ化塩化エチレン共重合樹脂、及び、フッ化ビニル樹脂からなる群から選択される少なくとも１種が挙げられるが、これに制限されない。
【０１１３】
上記金属材料としては、特に制限されず、公知の材料を使用できる。
金属材料としては、例えば、クロム及びニッケルの含有量の合計が金属材料全質量に対して２５質量％超である金属材料が挙げられ、なかでも、３０質量％以上がより好ましい。金属材料におけるクロム及びニッケルの含有量の合計の上限値としては特に制限されないが、一般に９０質量％以下が好ましい。
金属材料としては例えば、ステンレス鋼、及びニッケル−クロム合金等が挙げられる。
【０１１４】
ステンレス鋼としては、特に制限されず、公知のステンレス鋼を使用できる。なかでも、ニッケルを８質量％以上含有する合金が好ましく、ニッケルを８質量％以上含有するオーステナイト系ステンレス鋼がより好ましい。オーステナイト系ステンレス鋼としては、例えばＳＵＳ（Steel Use Stainless）３０４（Ｎｉ含有量８質量％、Ｃｒ含有量１８質量％）、ＳＵＳ３０４Ｌ（Ｎｉ含有量９質量％、Ｃｒ含有量１８質量％）、ＳＵＳ３１６（Ｎｉ含有量１０質量％、Ｃｒ含有量１６質量％）、及びＳＵＳ３１６Ｌ（Ｎｉ含有量１２質量％、Ｃｒ含有量１６質量％）等が挙げられる。
【０１１５】
ニッケル−クロム合金としては、特に制限されず、公知のニッケル−クロム合金を使用できる。なかでも、ニッケル含有量が４０〜７５質量％、クロム含有量が１〜３０質量％のニッケル−クロム合金が好ましい。
ニッケル−クロム合金としては、例えば、ハステロイ（商品名、以下同じ。）、モネル（商品名、以下同じ）、及びインコネル（商品名、以下同じ）等が挙げられる。より具体的には、ハステロイＣ−２７６（Ｎｉ含有量６３質量％、Ｃｒ含有量１６質量％）、ハステロイ−Ｃ（Ｎｉ含有量６０質量％、Ｃｒ含有量１７質量％）、ハステロイＣ−２２（Ｎｉ含有量６１質量％、Ｃｒ含有量２２質量％）等が挙げられる。
また、ニッケル−クロム合金は、必要に応じて、上記した合金の他に、更に、ホウ素、ケイ素、タングステン、モリブデン、銅、及びコバルト等を含有していてもよい。
【０１１６】
金属材料を電解研磨する方法としては特に制限されず、公知の方法を使用できる。例えば、特開２０１５−２２７５０１号公報の００１１〜００１４段落、及び、特開２００８−２６４９２９号公報の００３６〜００４２段落等に記載された方法を使用できる。
【０１１７】
金属材料は、電解研磨されることにより表面の不動態層におけるクロムの含有量が、母相のクロムの含有量よりも多くなっているものと推測される。そのため、接液部が電解研磨された金属材料から形成された蒸留塔からは、有機溶剤中に金属原子を含有する金属不純物が流出しにくいため、不純物含有量が低減された蒸留済みの有機溶剤を得ることができるものと推測される。
なお、金属材料はバフ研磨されていてもよい。バフ研磨の方法は特に制限されず、公知の方法を使用できる。バフ研磨の仕上げに用いられる研磨砥粒のサイズは特に制限されないが、金属材料の表面の凹凸がより小さくなりやすい点で、＃４００以下が好ましい。なお、バフ研磨は、電解研磨の前に行われることが好ましい。
【０１１８】
・精製装置（他の形態）
上記蒸留工程で使用できる精製装置の他の形態としては、例えば、原料を反応させて有機溶剤である反応物を得るための反応部と、すでに説明した蒸留塔と、反応部及び蒸留塔を連結し、反応部から蒸留塔へ反応物を移送するための移送管路と、を備える精製装置が挙げられる。
【０１１９】
上記反応部は、供給された原材料を（必要に応じて触媒の存在下で）反応させて有機溶剤である反応物を得る機能を有する。反応部としては特に制限されず、公知の反応部を使用できる。
反応部としては、例えば、原料が供給され、反応が進行する反応槽と、反応槽内部に設けられた攪拌部と、反応槽に接合された蓋部と、反応槽に原料を注入するための注入部と、反応槽から反応物を取り出すための反応物取出し部と、を備える形態が挙げられる。上記反応部に、原料を連続又は非連続に注入し、注入した原材料を（触媒の存在下で）反応させて有機溶剤である反応物を得ることができる。
また、反応部は所望により反応物単離部、温度調整部、並びにレベルゲージ、圧力計及び温度計等からなるセンサ部等を含有してもよい。
【０１２０】
上記反応部の接液部（例えば反応槽の接液部の内壁等）は、非金属材料、及び、電解研磨された金属材料からなる群から選択される少なくとも１種から形成されることが好ましい。上記各材料の形態としてはすでに説明したとおりである。
上記反応部を含有する精製装置によれば、不純物含有量がより低減された精製物を得ることができる。
【０１２１】
また、上記形態に係る精製装置においては、反応部と蒸留塔とは移送管路により連結されている。反応部と蒸留塔とは移送管路により連結されているため、反応部から蒸留塔への反応物の移送が閉鎖系内にて行われ、金属不純物を含め、不純物が環境中から反応物に混入することが防止される。これにより、不純物含有量がより低減された精製物を得ることができる。
移送管路としては特に制限されず、公知の移送管路を使用できる。移送管路としては、例えば、パイプ、ポンプ、及び弁等を備える形態が挙げられる。
【０１２２】
移送管路の接液部は、非金属材料、及び、電解研磨された金属材料からなる群から選択される少なくとも１種から形成されることが好ましい。上記各材料の形態としてはすでに説明したとおりである。
上記移送管路を備える精製装置によれば、不純物の含有量がより低減された精製物をより簡便に得ることができる。
【０１２３】
・水分調整工程
水分調整工程は、被精製物中に含有される水の含有量を調整する工程である。水の含有量の調整方法としては特に制限されないが、被精製物に水を添加する方法、及び、被精製物中の水を除去する方法が挙げられる。
水を除去する方法としては特に制限されず、公知の脱水方法を使用できる。
水を除去する方法としては、脱水膜、有機溶剤に不溶である水吸着剤、乾燥した不活性ガスを用いたばっ気置換装置、及び、加熱又は真空加熱装置等が挙げられる。
脱水膜を用いる場合には、浸透気化（ＰＶ）又は蒸気透過（ＶＰ）による膜脱水を行う。脱水膜は、例えば、透水性膜モジュールとして構成されるものである。脱水膜としては、ポリイミド系、セルロース系及びポリビニルアルコール系等の高分子系又はゼオライト等の無機系の素材からなる膜を使用できる。
水吸着剤は、被精製物に添加して用いられる。水吸着剤としては、ゼオライト、５酸化２リン、シリカゲル、塩化カルシウム、硫酸ナトリウム、硫酸マグネシウム、無水塩化亜鉛、発煙硫酸及びソーダ石灰等が挙げられる。
なお、脱水処理においてゼオライト（特に、ユニオン昭和社製のモレキュラーシーブ（商品名）等）を使用した場合には、オレフィン類も除去可能である。
【０１２４】
（除電工程）
除電工程は、被精製物を除電することで、被精製物の帯電電位を低減させる工程である。
除電方法としては特に制限されず、公知の除電方法を使用できる。除電方法としては、例えば、被精製物を導電性材料に接触させる方法が挙げられる。
被精製物を導電性材料に接触させる接触時間は、０．００１〜６０秒が好ましく、０．００１〜１秒がより好ましく、０．０１〜０．１秒が更に好ましい。導電性材料としては、ステンレス鋼、金、白金、ダイヤモンド、及びグラッシーカーボン等が挙げられる。
被精製物を導電性材料に接触させる方法としては、例えば、導電性材料からなる接地されたメッシュを管路内部に配置し、ここに被精製物を通す方法等が挙げられる。
【０１２５】
上記除電工程は、有機溶剤準備工程、蒸留工程、及び、ろ過工程からなる群から選択される少なくとも１種の工程の前に含有されることが好ましい。
【０１２６】
なお、既に説明した各工程は、密閉状態でかつ、被精製物に水の混入する可能性が低い不活性ガス雰囲気下で行われることが好ましい。
また、各工程は、水分の混入を極力抑えるために、露点温度が−７０℃以下の不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。−７０℃以下の不活性ガス雰囲気下では、気相中の水分濃度が２質量ｐｐｍ以下であるため、被精製物中に水分が混入する可能性が低くなるためである。
【０１２７】
なお、薬液の製造方法は、上記の各工程以外にも、例えば、国際公開第ＷＯ２０１２／０４３４９６号に記載されている、炭化ケイ素を用いた金属成分の吸着精製処理工程を含有してもよい。
【０１２８】
上記薬液の製造方法においては、製造に関わる装置において薬液が接触する部分は、本発明の薬液の製造の前に洗浄されることが好ましい。洗浄に使用される液体は、特に制限されないが、上記薬液そのもの、又は、上記薬液を希釈したもの等が好ましい。又は、金属原子を含有する粒子、金属イオン成分、及び、有機不純物を実質的に含まないか、十分に低減された有機溶剤を使用できる。洗浄は複数回行ってもよく、また有機溶剤を２種以上使用してもよいし、それらを混ぜて使用してもよい。循環洗浄であってもよい。製造に関わる装置が十分に洗浄されたかは、洗浄に用いた液体に含まれる金属原子を含有する粒子、金属イオン成分、及び、有機不純物の含有量を測定することによって、判断できる。
【０１２９】
〔薬液の用途〕
上記薬液の用途としては特に制限されない。
なかでも、上記薬液の用途としては、半導体デバイス製造プロセスにおいて用いられることが好ましい。上記薬液は、半導体デバイスを製造するためのいずれの工程にも使用できる。具体的な用途としては、例えば、フォトレジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程の前に、組成物の塗布性を改良するために基板上に塗布されるプリウェット液、フォトレジスト組成物により形成された露光後のレジスト膜を現像するための現像液、又は現像後の膜を洗浄するためのリンス液が挙げられる。また、上記溶液は、フォトレジスト組成物に含有されるレジスト材料の希釈液としても使用できる。
【０１３０】
また、上記薬液は、半導体デバイス製造に用いる装置において、上記薬液が接触する部分（接液部）の洗浄に用いることもできる。半導体デバイス製造に用いる装置の接液部を上記薬液（又はその希釈物）によって洗浄することにより、接液部から、半導体基板上の欠陥の原因となる不純物（金属不純物、及び、有機不純物等）を除去できる。
【０１３１】
また、上記薬液は、半導体製造用以外の他の用途でも好適に用いることができ、ポリイミド、センサ用レジスト、及び、レンズ用レジスト等の現像液、及び／又は、リンス液としても使用できる。
【０１３２】
また、上記薬液は、医療用途又は洗浄用途の溶媒としても使用できる。特に、上記薬液は、容器、管路、又は基板（例えば、ウェハ、ガラス等）等の洗浄に好適に使用できる。
【０１３３】
＜容器＞
上記薬液は、使用時まで一時的に容器内に保管してもよい。上記薬液を保管するための容器としては特に制限されず、公知の容器を使用できる。
上記薬液を保管する容器としては、半導体用途向けに、容器内のクリーン度が高く、不純物の溶出が少ないものが好ましい。
使用可能な容器としては、具体的には、アイセロ化学（株）製の「クリーンボトル」シリーズ、及び、コダマ樹脂工業製の「ピュアボトル」等が挙げられるが、これらに限定されない。
【０１３４】
この容器の接液部は、非金属材料により形成されたものであることが好ましい。
非金属材料としては、上述した蒸留塔の接液部に用いられる非金属材料で例示した材料が挙げられる。
特に、上記のなかでも、接液部がフッ素樹脂である容器を用いる場合、接液部がポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、又はポリエチレン−ポリプロピレン樹脂である容器を用いる場合と比べて、エチレン又はプロピレンのオリゴマーの溶出という不具合の発生を抑制できる。
このような接液部がフッ素樹脂である容器の具体例としては、例えば、Ｅｎｔｅｇｒｉｓ社製  ＦｌｕｏｒｏＰｕｒｅＰＦＡ複合ドラム等が挙げられる。また、特表平３−５０２６７７号公報の第４頁等、国際公開第２００４／０１６５２６号の第３頁等、及び、国際公開第９９／４６３０９号の第９頁及び１６頁等に記載の容器も使用できる。なお、非金属材料の接液部とする場合、非金属材料中の薬液への溶出が抑制されていることが好ましい。
【０１３５】
容器としては、薬液と接触する接液部が、Ｃｒ原子、及び、Ｆｅ原子を含有する金属材料から形成され、金属材料が、ステンレス鋼、及び、電解研磨されたステンレス鋼からなる群から選択される少なくとも１種であることも好ましい。
上記容器に薬液を収容した場合、容器内で保管される薬液中に、金属不純物、及び／又は、有機不純物がより溶出しにくい。
【０１３６】
上記ステンレス鋼の形態としては、蒸留塔の接液部の材質として既に説明したとおりである。また、電解研磨されたステンレス鋼についても同様である。
【０１３７】
上記容器の接液部を形成する金属材料中におけるＦｅ原子の含有量に対するＣｒ原子の含有量の含有質量比（以下、「Ｃｒ／Ｆｅ」ともいう。）としては特に制限されないが、一般に、０．５〜４が好ましく、なかでも、容器内で保管される薬液中に金属不純物、及び／又は、有機不純物がさらに溶出しにくい点で、０．５を超え、３．５未満がより好ましい。Ｃｒ／Ｆｅが０．５を超えると、容器内からの金属溶出を抑えることができ、Ｃｒ／Ｆｅが３．５未満だとパーティクルの原因となる内容器のはがれ等が起きにくい。
上記金属材料中のＣｒ／Ｆｅを調整する方法としては特に制限されず、金属材料中のＣｒ原子の含有量を調整する方法、及び、電解研磨により、研磨表面の不動態層におけるクロムの含有量が、母相のクロムの含有量よりも多くする方法等が挙げられる。
【０１３８】
容器は、溶液を収容前にその内部が洗浄されることが好ましい。洗浄に用いる液体としては、上記薬液そのもの、又は、上記薬液を希釈したものが好ましい。上記薬液は、製造後にガロン瓶又はコート瓶等の容器にボトリングし、輸送、保管されてもよい。ガロン瓶はガラス材料を使用したものであってもそれ以外であってもよい。
【０１３９】
保管における溶液中の成分の変化を防ぐ目的で、容器内を純度９９．９９９９５体積％以上の不活性ガス（チッソ、又はアルゴン等）で置換しておいてもよい。特に、含水率が少ないガスが好ましい。また、輸送、保管に際しては、常温でもよいが、変質を防ぐため、−２０℃から３０℃の範囲に温度制御してもよい。
【０１４０】
（クリーンルーム）
上記薬液の製造、容器の開封及び／又は洗浄、溶液の収容等を含めた取り扱い、処理分析、及び、測定は、全てクリーンルームで行うことが好ましい。クリーンルームは、１４６４４−１クリーンルーム基準を満たすことが好ましい。ＩＳＯ（国際標準化機構）クラス１、ＩＳＯクラス２、ＩＳＯクラス３、及び、ＩＳＯクラス４のいずれかを満たすことが好ましく、ＩＳＯクラス１又はＩＳＯクラス２を満たすことがより好ましく、ＩＳＯクラス１を満たすことが更に好ましい。
【０１４１】
［薬液収容体］
本発明の実施形態に係る薬液収容体は、容器と、容器に収容された薬液と、を備え、容器内の薬液と接触する接液部がＣｒ原子、及び、Ｆｅ原子を含有する金属材料から形成され、金属材料が、ステンレス鋼、及び、電解研磨されたステンレス鋼からなる群から選択される少なくとも１種である。
なお、上記容器の形態としては薬液を収容することができる容器の好適形態として既に説明したとおりである。
【０１４２】
〔薬液収容体の製造方法〕
上記薬液収容体の製造方法としては特に制限されず、公知の製造方法を使用ができる。なかでも、上記薬液収容体をより簡便に得ることができる点で、以下の工程をこの順に含有する薬液の製造方法が好ましい。以下では、各工程について詳述する。
（１）有機溶剤を準備する有機溶剤準備工程
（２）有機溶剤を含有する被精製物をフィルタに通過させ、薬液を得る、ろ過工程
（３）薬液を、容器に収容して、薬液収容体を得る収容工程
【０１４３】
＜（１）有機溶剤を準備する有機溶剤準備工程＞
上記薬液収容体の製造方法は、有機溶剤準備工程を含有することが好ましい。有機溶剤準備工程の形態としては、薬液の製造方法の形態として既に説明したとおりである。
【０１４４】
＜（２）有機溶剤を含有する被精製物をフィルタに通過させ、薬液を得る、ろ過工程＞
上記薬液収容体の製造方法は、ろ過工程を含有することが好ましい。ろ過工程の形態としては、薬液の製造方法の形態として既に説明したとおりである。
【０１４５】
＜（３）薬液を、容器に収容して、薬液収容体を得る収容工程＞
上記薬液収容体の製造方法は、収容工程を含有することが好ましい。薬液を容器に収容する方法としては特に制限されず、公知の収容方法を使用できる。
なお。上記容器の形態としては、薬液収容体が備える容器の形態として既に説明したとおりである。
【０１４６】
上記収容工程において、薬液を容器に収容する際の、薬液の温度としては特に制限されないが、一般に、０〜３０℃が好ましく、０〜１０℃がより好ましい。なかでも、本発明の効果を有する薬液がより簡便に得られる点で、上記薬液収容工程は以下の条件Ａ及び条件Ｂを満たすことがより好ましい。
【０１４７】
・条件Ａ：薬液を容器に収容する際の、薬液の温度が２３℃未満である。
・条件Ｂ：薬液を容器に収容する際の、薬液の温度が下記の式２を満たす。
（式２）  薬液の温度（℃）＜有機溶剤の引火点（℃）−５
薬液の温度を上記範囲内に制御する方法としては特に制限されず、公知の方法を使用できる。
【０１４８】
上記収容工程において、薬液を容器に収容する際の、薬液の温度が０〜３０℃であると、薬液と接触部材（例えば、管路等）との間での帯電（例えば、摩擦による帯電）を抑制でき、管路破損をより抑制することができる。なお、上記被精製物の温度としては、特に温度が低い方が好ましく、製造上の簡易性から０℃以上がより好ましい。
【０１４９】
薬液を容器に収容する方法としては、より簡便に上記薬液収容体を得ることができ、かつ、薬液収容工程において、意図しない不純物が薬液に、より混入しにくい点で、以下の収容装置を用いて薬液を容器に収容することがより好ましい。
【０１５０】
・収容装置
上記薬液収容工程で使用できる収容装置の一形態としては、薬液収容部を含有する収容装置であって、薬液収容部の接液部が非金属材料、及び、電解研磨された金属材料からなる群から選択される少なくとも１種から形成される収容装置が挙げられる。
なお、非金属材料、及び、電解研磨された金属材料の形態としては、蒸留装置の接液部の材質として既に説明したとおりである。
【０１５１】
・収容装置（他の形態）
上記薬液収容工程で使用できる収容装置の他の形態としては、薬液収容部と、薬液収容部に接続され、薬液供給部に薬液を供給するための薬液供給管路と、を備える収容装置であって、薬液供給管路の接液部が非金属材料、及び、電解研磨された金属材料からなる群から選択される少なくとも１種から形成される収容装置が挙げられる。
なお、非金属材料、及び、電解研磨された金属材料の形態としては、蒸留装置の接液部の材質として既に説明したとおりである。
【０１５２】
本形態に係る収容装置は、薬液収容部に接続された薬液供給管路を備える。この薬液供給管路は、ろ過工程で用いられる被精製物を移送する管路と接続される。このため、ろ過工程により得られた薬液の薬液収容部への移動が閉鎖系内にて行われ、金属不純物、及び／又は、有機不純物が薬液に混入することをより抑制することができる。
【０１５３】
＜薬液収容体の製造方法の好適形態＞
上記薬液収容体の製造方法としては、以下の各工程を含有することがより好ましい。
（１）有機溶剤を準備する、有機溶剤準備工程
（２）有機溶剤を含有する被精製物をフィルタに通過させ、薬液を得る、ろ過工程
（３）薬液を、容器に収容して、薬液収容体を得る、収容工程
ここで、（２）ろ過工程、及び、（３）収容工程は、以下の条件３、及び、条件４を満たす。
【０１５４】
・条件３：被精製物がフィルタを通過する際の被精製物の温度が２３℃未満であり、かつ、薬液を容器に収容する際の、薬液の温度が２３℃未満である。
・条件４：被精製物がフィルタを通過する際の被精製物の温度が下記の式１を満たし、かつ、薬液を容器に収容する際の、薬液の温度が下記の式２を満たす。
（式１）  被精製物の温度＜有機溶剤の引火点−５
（式２）  薬液の温度＜有機溶剤の引火点−５
なお、式１、及び、式２中、被精製物の温度、薬液の温度、及び、有機溶剤の引火点の単位は℃である。
【０１５５】
有機溶剤準備工程、及び、ろ過工程の形態としては、薬液の製造方法の形態として既に説明したとおりである。また、収容工程の形態としては、薬液収容体の製造方法の形態として既に説明したとおりである。
上記薬液収容体の製造方法によれば、さらに簡便に上記薬液収容体を製造することができる。
【実施例】
【０１５６】
以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。【０１５７】
実施例、及び、比較例の薬液、及び、薬液収容体の製造のために、以下の有機溶剤を準備した。各有機溶剤は、純度９９質量％以上の高純度グレードを用いた。なお、カッコ内は各有機溶剤の略号、及び、ＪＩＳ  Ｋ  ２２６５−２：２００７に準拠して測定した引火点を表している。
・酢酸ブチル（ｎＢＡ、引火点２８℃）
・プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ、引火点３２℃）
・プロピレングリコールモノエチルエーテル（ＰＧＥＥ、引火点３８℃）
・プロピレングリコールモノプロピルエーテル（ＰＧＰＥ、引火点４８℃）
・乳酸エチル（ＥＬ、引火点５３℃）
・シクロペンタノン（ＣｙＰｅ、引火点３４℃）
・シクロヘキサノン（ＣｙＨｅ、引火点４４℃）
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ、引火点４２℃）
・４−メチル−２−ペンタノール（ＭＩＢＣ、引火点４３℃）【０１５８】
有機溶剤として酢酸ブチル（ｎＢＡ）を準備し、以下の方法により薬液１を製造した。
製造には、接液部が電解研磨されたステンレス鋼で形成されたステンレスタンクと、複数のフィルタユニットが循環する移送管路（循環管路）で接続された装置を用いた。また、上記循環管路は、その途中にポンプを備える。なお、循環管路の接液部はＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン、四フッ化エチレン樹脂）から形成されている。使用したフィルタは、タンク側から順に以下のとおりである。
なお、上記有機溶剤がフィルタを通過する際の、有機溶剤の温度（以下、「フィルタリング温度」という。）は、２０℃だった。【０１５９】
・第一金属イオン吸着フィルタ（Ｅｎｔｅｇｒｉｓ社製の１５ｎｍ  ＩＥＸ  ＰＴＦＥ（ＰＴＦＥ製の基材の表面にスルホ基を有する孔径１５ｎｍのフィルタ））
・粒子除去フィルタ（Ｅｎｔｅｇｒｉｓ社製の１２ｎｍ  ＰＴＦＥ（ＰＴＦＥ製の除粒子径１２ｎｍのフィルタである。））
・有機不純物吸着フィルタ（特殊フィルタＡ（特開２０１３−１５０９７９号公報に記載の活性炭を不織布に固着したフィルタ））
更に、上記有機不純物吸着フィルタの下流側には、モレキュラーシーブ３Ａ（ユニオン昭和社製、脱水剤）を含有する水分調整手段を設けた。【０１６０】
酢酸ブチル（ｎＢＡ）をタンクに充填した後、上記フィルタ、及び、水分調整手段を含有する管路を１０回循環させて、薬液１を得た。【０１６１】
得られた薬液１は、薬液収容部、及び、上記タンクと薬液収容部とを接続する薬液供給管路を備える収容装置を用いて、容器に収容し、薬液収容体１を得た。なお、薬液を容器に収容した際の薬液の温度（以下、「収容温度」という。）は、２０℃だった。
なお、上記薬液収容装置の接液部は、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）から形成されていた。
また、容器の接液部は、電解研磨されたステンレス鋼から形成され、接液部の金属材料（ステンレス鋼）中のＦｅ原子の含有量に対するＣｒ原子の含有量の含有質量比は２．８だった。【０１６２】
［実施例２〜４０、比較例１〜４］
表１に記載した各有機溶剤、及び、容器を用い、並びに、フィルタリング温度、及び、収容温度を表１に記載したとおりとしたことを除いては、実施例１と同様にして、各薬液を作製し、容器に収容した。なお、表１に記載の薬液の組成は、使用する材料、フィルタを通過する回数、及び、フィルタの有無などを変更して、調整した。
なお、実施例３、１３〜１８の薬液の作製では、有機不純物吸着フィルタを用いなかった。
なお、実施例２５〜２７の薬液の作製では、モレキュラーシーブ３Ａを用いなかった。
なお、実施例２８〜３０、及び、比較例２の薬液の作製では、粒子除去フィルタを用いなかった。【０１６３】
〔薬液中に含有される各成分の含有量等の測定方法〕
容器に収容した各実施例、及び、比較例で作製した薬液中に含有される各成分の含有量等の測定には、以下の方法を用いた。なお、以下の測定は、全てＩＳＯ（国際標準化機構）クラス２以下を満たすレベルのクリーンルームで行った。測定精度向上のため、各成分の測定において、通常の測定で検出限界以下である場合は体積換算で１００分の１に濃縮して測定を行い、濃縮前の有機溶剤の含有量に換算して含有量の算出を行なった。結果はまとめて表１及び表２に示した。【０１６４】
＜有機溶剤、及び、有機不純物の含有量＞
容器に収容した各実施例、及び、比較例で作製した薬液中に含有される有機溶剤、及び、有機不純物の含有量は、ガスクロマトグラフ質量分析装置（製品名「ＧＣＭＳ−２０２０」、島津製作所社製）を用いて測定した。【０１６５】
（測定条件）
キャピラリーカラム：ＩｎｅｒｔＣａｐ  ５ＭＳ／ＮＰ  ０．２５ｍｍＩ．Ｄ．  ×３０ｍ  ｄｆ＝０．２５μｍ
試料導入法：スプリット  ７５ｋＰａ  圧力一定
気化室温度  ：２３０℃
カラムオーブン温度：８０℃（２ｍｉｎ）−５００℃（１３ｍｉｎ）昇温速度１５℃／ｍｉｎ
キャリアガス：ヘリウム
セプタムパージ流量：５ｍＬ／ｍｉｎ
スプリット比：２５：１
インターフェイス温度：２５０℃
イオン源温度：２００℃
測定モード：Ｓｃａｎ  
試料導入量：１μＬ【０１６６】
＜金属イオン、及び、粒子の含有量＞
容器に収容した各実施例、及び、比較例で作製した薬液中の金属イオン、及び、粒子（金属原子を含有する粒子）の含有量は、Ａｇｉｌｅｎｔ  ８８００  トリプル四重極ＩＣＰ−ＭＳ(半導体分析用、オプション＃２００）を用いて測定した。【０１６７】
（測定条件）
サンプル導入系は石英のトーチと同軸型ＰＦＡ（パーフルオロアルコキシアルカン）ネブライザ（自吸用）、白金インターフェースコーンを使用した。クールプラズマ条件の測定パラメータは以下のとおりである。
・ＲＦ（Ｒａｄｉｏ  Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ）出力（Ｗ）：６００
・キャリアガス流量（Ｌ／ｍｉｎ）：０．７
・メークアップガス流量（Ｌ／ｍｉｎ）：１
・サンプリング深さ（ｍｍ）：１８【０１６８】
＜水＞
容器に収容した各実施例、及び、比較例で作製した薬液中に含有される水の含有量は、カールフィッシャー水分計（製品名「ＭＫＣ−７１０Ｍ」、京都電子工業社製、カールフィッシャー電量滴定式）を用いて測定した。【０１６９】
〔薬液中の物性〕
容器に収容した各実施例、及び、比較例で作製した薬液の物性を以下の方法により測定、又は、計算した。【０１７０】
＜帯電電位＞
容器に収容した各実施例、及び、比較例で作製した薬液の帯電電位は、被接触型静電電位計を用い、ＪＩＳ（日本工業規格）  Ｃ６１３４０−２−２：２０１３に準拠した方法で測定した。【０１７１】
＜粗大粒子数＞
容器に収容した各実施例、及び、比較例で作製した薬液中に含有される粗大粒子数は、以下の方法により測定した。
まず、容器に収容した各実施例、及び、比較例で作製した薬液を調製後、１日間、室温で静置した。静置後の薬液を、光散乱式液中粒子計数器（リオン株式会社製、型番：ＫＳ−１８Ｆ、光源：半導体レーザ励起固体レーザ（波長５３２ｎｍ、定格出力５００ｍＷ）、流量：１０ｍＬ／分、測定原理は、動的光散乱法に基づくものである。）を用いて、１ｍＬ中に含まれる１００ｎｍ以上のサイズの粒子の計数を５回行い、その平均値を粗大粒子数とした。
なお、上記光散乱式液中粒子計数器は、ＰＳＬ（Ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ  Ｌａｔｅｘ）標準粒子液で校正を行った後に用いた。【０１７２】
〔評価〕
容器に収容した各実施例、及び、比較例で作製した薬液を、以下の方法により評価した。なお、以下の評価試験は、全てＩＳＯ（国際標準化機構）クラス２以下を満たすレベルのクリーンルームで行った。【０１７３】
（欠陥抑制性能）
ウェハ上表面検査装置（ＳＰ−５；ＫＬＡ  Ｔｅｎｃｏｒ製）により、直径３００ｍｍのシリコン酸化膜基板表面に存在する直径３２ｎｍ以上のパーティクル（以下、これを「欠陥」という。）数を計測した。次いで、このシリコン酸化膜基板をスピン吐出装置にセットし、回転させながら、上記シリコン酸化膜基板の表面へ、各薬液を１．５Ｌ／分の流速で吐出した。その後、ウェハのスピン乾燥を行った。
得られた乾燥後のウェハについて、再び上記装置（ＳＰ−５）を用いてシリコン酸化膜基板表面に存在する欠陥数の計測を行い、初期値との差分（初期値−計測値）を欠陥数とした。
得られた欠陥数を下記基準に基づき評価した結果を表１に示す。下記基準において、評価が「Ａ」〜「Ｃ」であれば、半導体デバイス製造用の溶液として要求される欠陥抑制性能を達成している。
「Ａ」：欠陥数が５００以下だった。
「Ｂ」：欠陥数が５００を超え、８００以下だった。
「Ｃ」：欠陥数が８００を超え、１２００以下だった。
「Ｄ」：欠陥数が１２００を超えた。【０１７４】
（管路破損抑制性能）
接液部がＰＴＦＥで形成された管路に上記薬液を流し、管路上に静電気が溜まり、それがスパークを起こして管路上にピンホール、クラックが発生する程度を目視で調査した。
「ＡＡ」：管路破損は生じず、管路にはクラック、及び／又は、ピンホールの原因になる傷が確認されなかった。
「Ａ」：管路破損は生じていないが、管路にはクラック、及び／又は、ピンホールの原因になる浅い傷が確認された。
「Ｂ」：管路破損は生じていないが、管路にはクラック、及び／又は、ピンホールの原因になる深い傷が確認された。
「Ｃ」：一部に管路破損が確認された。
「Ｄ」：明らかな管路破損が多数確認された。【０１７５】
【表１】
0006794462.tif 000003
【０１７６】
【表２】
0006794462.tif 000004
【０１７７】
表１中において、実施例３、及び、１６〜１８の薬液中に含有される有機不純物の内訳は以下のとおりであった。
・実施例３：１−ブタノールが５０００質量ｐｐｍ、酢酸イソアミルが３４００質量ｐｐｍ
・実施例１６：１−ブタノールが５０００質量ｐｐｍ、及び、酢酸イソアミルが５０００質量ｐｐｍ
・実施例１７：シクロヘキサノールが５０００質量ｐｐｍ、及び、１,４−ジシクロヘキサノールが５０００質量ｐｐｍ
・実施例１８：プロピレングリコールが５０００質量ｐｐｍ、及び、酢酸が５０００質量ｐｐｍ【０１７８】
上記表１中の略号は以下の内容を表す。
・ＳＵＳ（１）：電解研磨されたステンレス鋼（但し、Ｃｒ／Ｆｅの調整のために電解研磨の条件を変更した。）
・ＰＴＦＥ：四フッ化エチレン樹脂（ポリテトラフルオロエチレン）
なお、有機溶剤の含有量として「残部」とあるのは、薬液の全質量から、有機不純物の含有量、水の含有量、金属イオンの含有量、及び、金属原子を含有する粒子の含有量を除いた、有機溶剤の含有量を表している。各実施例、及び、比較例における有機溶剤の含有量は、いずれも９８質量％以上だった。【０１７９】
表１に記載した結果から、実施例１〜４０の薬液は、本発明の効果を有していることがわかった。一方比較例１〜４の薬液は本発明の効果を有していなかった。
また、金属原子を含有する粒子の含有量０．１〜１００質量ｐｐｔである、実施例１の薬液は、実施例３の薬液（上限値超）と比較して、より優れた本発明の効果を有していた。また、実施例１の薬液は、実施例３５の薬液（下限値未満）と比較して、より優れた本発明の効果を有していた。
また、有機不純物を含有し、有機不純物の含有量が１〜５０００質量ｐｐｔである、実施例１の薬液は、実施例１６の薬液（上限値超）と比較してより優れた本発明の効果を有していた。また、実施例１の薬液は、実施例３６の薬液（下限値未満）と比較して、より優れた本発明の効果を有していた。
また、粗大粒子数が１〜１００個／ｍＬである、実施例１の薬液は、実施例２８の薬液（上限値超）と比較して、より優れた欠陥抑制性能を有していた。また、実施例１の薬液は、実施例３７の薬液（下限値未満）と比較して、より優れた本発明の効果を有していた。
また、水の含有量が０．０１〜１質量％である、実施例１の薬液は、実施例２５の薬液（上限値超）と比較して、より優れた欠陥抑制性能を有していた。また、実施例１の薬液は、実施例３８の薬液と比較して、より優れた本発明の効果を有していた。
また、容器の接液部がＣｒ原子、及び、Ｆｅ原子を含有する金属材料から形成され、金属材料中のＣｒ／Ｆｅが０．５を超え、３．５未満である実施例１の薬液収容体は、実施例３１の薬液収容体（下限値未満）と比較して、収容された薬液がより優れた本発明の効果を有していた。一方、実施例１の薬液収容体は、薬液４０（上限値超）の薬液と比較して、収容された薬液がより優れた本発明の効果を有していた。