(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＮＱＤ（ナフトキノンジアジドスルフォン酸エステル）とノボラック樹脂を含むフォトレジストと、
硫黄元素を含まないフォトレジスト剥離液が使用されるフォトレジスト剥離液槽を有するフォトレジスト剥離装置に用いられるフォトレジスト成分濃度測定装置であって、
前記フォトレジスト剥離液中の硫黄元素の量を蛍光Ｘ線測定装置で測定することを特徴とするフォトレジスト成分濃度測定装置。
【請求項２】
蛍光Ｘ線測定装置の測定量からフォトレジスト剥離液中のフォトレジスト成分濃度を算出する算出手段を備えることを特徴とする請求項１記載のフォトレジスト成分濃度測定装置。
【請求項３】
前記フォトレジスト剥離液槽内に連通した引出配管と、前記引出配管に設けられる測定手段で測定することを特徴とする請求項２記載のフォトレジスト成分濃度測定装置。
【請求項４】
前記引出配管に連通されたＸ線透過配管を備えることを特徴とする請求項３記載のフォトレジスト成分濃度測定装置。
【請求項５】
前記引出配管から吐出される前記フォトレジスト剥離液を受ける測定容器を備えることを特徴とする請求項３記載のフォトレジスト成分濃度測定装置。
【請求項６】
ＮＱＤ（ナフトキノンジアジドスルフォン酸エステル）とノボラック樹脂を含むフォトレジストと、
硫黄元素を含まないフォトレジスト剥離液が使用され、フォトレジスト剥離液槽を有するフォトレジスト剥離装置に用いられるフォトレジスト成分濃度測定方法であって、
前記フォトレジスト剥離液中の硫黄元素の量を蛍光Ｘ線測定装置で測定することを特徴とするフォトレジスト成分濃度測定方法。
【請求項７】
前記硫黄元素の量から前記フォトレジスト剥離液中のフォトレジスト成分の濃度を算出する算出工程を含むことを特徴とする請求項６記載のフォトレジスト成分濃度測定方法。
【請求項８】
前記フォトレジスト剥離液槽内から前記フォトレジスト剥離液を取り出しその取り出された流動する前記フォトレジスト剥離液の硫黄元素の量を測定することを特徴とする請求項７記載のフォトレジスト成分濃度測定方法。
【請求項９】
前記フォトレジスト剥離液槽内から前記フォトレジスト剥離液を取り出し、取り出された前記フォトレジスト剥離液を一度測定容器に貯留した後に硫黄元素の量を測定することを特徴とする請求項７記載のフォトレジスト成分濃度測定方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フォトリソグラフィに用いられるフォトレジスト剥離液中のフォトレジスト濃度を測定するフォトレジスト成分濃度測定装置および濃度測定方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＩＣやＬＳＩ等では、半導体素子の高集積化とチップサイズの縮小化に伴い、配線回路の微細化及び多層化が進んでいる。また、このような微小部品だけでなく、液晶ディスプレイ等のＦＰＤ（Ｆｌａｔ  Ｐａｎｅｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ）でも画素の形成には、微小な配線回路を必要とする。このような微小配線回路を作製するためには、フォトリソグラフィの技術が必須である。
【０００３】
フォトリソグラフィでは、配線回路にするための材料膜を形成し、その膜上にフォトレジストを塗布する。そして、フォトレジストを配線に応じたパターンに感光させ、除去した後、材料膜をエッチングする。最後にフォトレジストを除去する。ポジ型フォトレジストでは、感光したフォトレジストを除去するために、フォトレジスト剥離液が用いられる。
【０００４】
フォトレジスト剥離液は、ある程度繰り返し使用されるため、徐々にフォトレジスト濃度が高まる。フォトレジスト剥離液を繰り返し使用するのは、経済的な問題である。また、ある程度フォトレジスト濃度が高まると、使用をやめるのは、製品の品質上の問題である。
【０００５】
つまり、フォトレジスト剥離液は、使用されている最中に、フォトレジスト濃度をモニタし、所定の濃度以上になったら、全部若しくは一部を交換することが必要となる。
【０００６】
フォトレジスト剥離液中のフォトレジスト濃度の測定には、いくつかの方法が考えられる。大量生産を行う工場においては、短時間で、ある程度の精度で、フォトレジスト濃度を決定できる方法が必要とされる。
【０００７】
特許文献１には、フォトレジスト剥離液中のフォトレジスト濃度を吸光度から求める方法が開示されている。この方法では、フォトレジスト剥離液中のフォトレジスト濃度の上昇に応じて、吸光度が高くなるという現象を利用する。つまり、予めフォトレジスト濃度の分かったフォトレジスト剥離液の吸光度を求めておき、それを検量線として、フォトレジスト濃度を決定する。
【０００８】
しかし、吸光度による濃度測定では、フォトレジスト濃度は一定であっても、フォトレジスト剥離液の吸光度は時間と共に変化するという課題がある。これはフォトレジスト剥離液中に溶解したフォトレジストが徐々に低分子に分解され、吸光スペクトルのピークが低波長側にシフトするためと考えられる。
【０００９】
また、吸光度による濃度測定では、被測定物の温度管理が重要になる。
【００１０】
実際の製造プロセスでは、数週間に渡って、フォトレジスト剥離液を継ぎ足しながら生産を継続する。つまり、さまざまな吸光スペクトルを持つ、溶解したフォトレジストの分解成分がフォトレジスト剥離液中には混在することとなる。すると、特許文献１の方法では、正確なフォトレジスト濃度を測定するのは困難であると言える。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開平０７−２３５４８７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
特許文献１は、吸光度を用いる方法である。フォトレジスト剥離液中に溶解したフォトレジストは徐々に低分子に分解され、吸光スペクトルのピークが低波長側にシフトする。その結果、フォトレジスト剥離液中には、さまざまな吸光スペクトルを持つ、フォトレジスト成分の分子が混在することとなる。
【００１３】
その結果、吸光度を用いる方法では予め求めておいた検量線が、時間と共に利用できなくなり、正確さに欠け、フォトレジスト剥離液中に溶解したフォトレジスト濃度を正確に把握することができないという課題を有していた。また、フォトレジスト剥離液のフォトレジスト成分が分解することによって色味が変化して、濃度測定に誤差を生じさせるという課題を有していた。
【００１４】
本発明は、このような従来の課題を解決するものであり、フォトレジスト剥離液中に溶解したフォトレジストが徐々に低分子に分解されても、フォトレジスト剥離液中に溶解したフォトレジスト濃度を正確に、精度良く測定することができるフォトレジスト成分濃度測定装置、およびフォトレジスト成分濃度測定方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
そして、この目的を達成するために、本発明は、フォトレジストに含まれていて、かつフォトレジスト剥離原液に含まれない元素を特定し、その特定された特定元素のフォトレジスト剥離液中の濃度を測定する構成にしたものであり、これにより所期の目的を達成するものである。
【００１６】
具体的には、特定元素を硫黄とするものであり、また、より具体的には、硫黄の量を蛍光Ｘ線で測定するものである。また、より具体的には、蛍光Ｘ線の測定量からフォトレジスト剥離液中のフォトレジスト成分濃度を算出するものである。
【００１７】
フォトレジストに含まれてフォトレジスト剥離原液に含まれずフォトレジスト剥離液中で分解、あるいは変化しない成分を特定し、その特定された成分のフォトレジスト剥離液中の濃度を測定する構成にしたものである。
【００１８】
その構成により、フォトレジスト剥離液中に溶解したフォトレジスト、すなわちフォトレジスト剥離液中の溶解レジスト濃度を正確に、精度良く測定することができるものである。
【００１９】
特定された特定成分としては、例えば、フォトレジストの感光材成分に硫黄を含有し、フォトレジスト剥離原液に硫黄を含有しない場合には、硫黄がある。
【００２０】
特定された特定成分としては、フォトレジストが含有しフォトレジスト剥離原液には含まれず、フォトレジスト剥離液中で分解されなければ良く、元素でも、或いは化学物質、あるいは化学成分でも良い。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、フォトレジストに含まれてフォトレジスト剥離原液に含まれない元素を特定し、その特定された特定元素のフォトレジスト剥離液中の濃度を測定する構成にしたものである。
【００２２】
これにより、フォトレジスト剥離液中のフォトレジスト濃度であるフォトレジスト剥離液中に溶解したフォトレジスト濃度、すなわち溶解フォトレジスト濃度を正確に、精度良く測定することができるフォトレジスト成分濃度測定装置、およびフォトレジスト成分濃度測定方法を提供することができる。
【００２３】
また、フォトレジスト剥離液のフォトレジスト成分が分解することによって色味が変化しても、濃度測定に誤差を生じさせない。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明に係るフォトレジスト成分濃度測定装置が組み込まれたフォトレジスト剥離装置の構成を示す図である。
【図２】フォトレジスト成分濃度測定装置の構成を示す図である。
【図３】フォトレジスト剥離液中の硫黄濃度を蛍光Ｘ線で計測した実験結果を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下に本発明に係るフォトレジスト成分濃度測定装置について図面を用いて説明を行う。なお、以下の説明は本発明の一実施形態を例示するものであり、本発明は以下の説明に限定されることはない。本発明の趣旨を逸脱しない限りにおいて自由に改変することができる。
【００２６】
図１には、本実施の形態に係るフォトレジスト成分濃度測定装置を組み込んだ、フォトレジスト剥離装置５０の構成を示す。フォトレジスト剥離装置５０は、フォトレジスト剥離液槽５２と、被処理物６０を搬送するコンベア５４と、被処理物６０にフォトレジスト剥離液Ｍを散布するシャワー５６と、フォトレジスト成分濃度測定装置１０を有する。
【００２７】
フォトレジスト剥離装置５０は、以下のように動作する。被処理物６０は、コンベア５４上に載置され、移送される。そして、フォトレジスト剥離液槽５２上でフォトレジスト剥離液Ｍが散布され、フォトレジストが剥離される。フォトレジスト剥離液Ｍは循環使用される。
【００２８】
フォトレジストに含まれてフォトレジスト剥離原液に含まれずフォトレジスト剥離液中で分解、あるいは変化しない成分を特定する。その特定された特定成分としては、フォトレジストが含有しフォトレジスト剥離原液に含まれず、フォトレジスト剥離液中で分解、あるいは変化されなければ良く、元素でも、或いは化学物質、あるいは化学成分でも良い。なお、ここでフォトレジスト剥離原液とは、調製後の未使用のフォトレジスト剥離液をいう。
【００２９】
例えば、フォトレジストが感光剤のＮＱＤ（ナフトキノンジアジドスルフォン酸エステル）と高分子樹脂のノボラック樹脂を含む場合は、フォトレジストは硫黄、すなわち硫黄元素を含むことになる。
【００３０】
例えば、フォトレジスト剥離原液をＭＥＡ（モノエタノールアミン）とＢＤＧ（ジエチレングリコールモノブチルエーテル）と水の組成とした場合は、フォトレジスト剥離原液は硫黄、すなわち硫黄元素を含まないことになる。
【００３１】
フォトレジストに含まれてフォトレジスト剥離原液に含まれない成分、或いは元素を硫黄元素と特定すれば、硫黄を含有する成分がフォトレジスト剥離液中で分解等により変化しても硫黄元素そのものは変化することがない。
【００３２】
したがって、その特定された特定元素である硫黄元素のフォトレジスト剥離液中の濃度を測定することにより、フォトレジスト剥離液中のフォトレジスト濃度であるフォトレジスト剥離液中に溶解したフォトレジスト濃度、すなわち溶解フォトレジスト濃度を算出でき、フォトレジスト剥離液中に溶解したフォトレジスト濃度を正確に、精度良く測定することができることとなる。
【００３３】
循環使用されるフォトレジスト剥離液Ｍは、フォトレジスト剥離液槽５２に貯留されており、ポンプ５６ａによってシャワー配管５６ｂを介して、シャワー５６に送られる。なお、シャワー配管５６ｂには、フィルタ５６ｃが備えられていると望ましい。フォトレジストの固形分等により目詰りを防止できるからである。
【００３４】
そして、被処理物６０のフォトレジストを剥離した後、フォトレジスト剥離液槽５２に戻る。このようにフォトレジスト剥離液Ｍは循環的に利用される。フォトレジスト剥離液Ｍ中のフォトレジストは、剥離された後フォトレジスト剥離液Ｍに溶解する。
【００３５】
これによって、フォトレジスト剥離液槽５２内の溶解されたフォトレジストの濃度は、経時的に増加する。したがって、フォトレジスト剥離液槽５２中のフォトレジスト剥離液Ｍは、溶解された溶解フォトレジストが一定濃度になったら、一部若しくは全部をフォトレジスト剥離液原液である新液と入れ替える。
【００３６】
本発明に係るフォトレジスト成分濃度測定装置１０は、フォトレジスト剥離液槽５２からフォトレジスト剥離液Ｍを取り出し、溶解されたフォトレジスト中の特定元素としての硫黄の量を測定し、再びフォトレジスト剥離液槽５２に戻す。
【００３７】
なお、符号１２ｉはフォトレジスト剥離液Ｍの吸入口であり、符号１８ｏは溶解されたフォトレジスト中の硫黄量を測定したフォトレジスト剥離液Ｍをフォトレジスト剥離液槽５２に戻す排出口である。
【００３８】
なお、図示していないが、硫黄の量を測定したフォトレジスト剥離液Ｍをフォトレジスト剥離液槽５２に戻さずに系外に排出しても良い。
【００３９】
図２には、フォトレジスト成分濃度測定装置１０の構成を示す。フォトレジスト成分濃度測定装置１０は、フォトレジスト剥離液槽５２内に連通した引出配管１２と、前記引出配管１２と、前記引出配管１２内を通過するフォトレジスト剥離液Ｍを測定する測定部１４と、フォトレジスト剥離液Ｍを前記フォトレジスト剥離液槽５２にもどす戻し配管１８を有する。
【００４０】
更に、前記測定部１４内の前記フォトレジスト剥離液Ｍ中の特定された特定元素としての硫黄の量を測定する測定手段としての蛍光Ｘ線測定装置２０と、前記蛍光Ｘ線測定装置２０の硫黄量測定値から前記フォトレジスト剥離液Ｍ中のフォトレジスト成分濃度に算出する算出手段としての制御器３０を有する。
【００４１】
引出配管１２は、フォトレジスト剥離液槽５２からフォトレジスト剥離液Ｍの一部を取り出す。また、引出配管１２には、フォトレジスト剥離液Ｍを移送するためのポンプ１２ａが設けられている。ポンプ１２ａは、下流側に設けられる測定部１４でフォトレジスト剥離液Ｍが支障なく取り扱えるような圧力で引出配管１２中の圧力を調節する。
【００４２】
測定手段としての測定部１４は、蛍光Ｘ線測定装置２０がフォトレジスト剥離液Ｍ中の硫黄の量、すなわち硫黄量を測定するために、引出配管１２に連続して設けられたものである。図２では、引出配管１２に連続して設けられた部分である。蛍光Ｘ線測定装置２０からのＸ線をフォトレジスト剥離液Ｍに照射するため、測定部１４は、Ｘ線を透過する材料を用いている。
【００４３】
測定手段としての測定部１４の形態は特に限定されるものではない。例えば、蛍光Ｘ線から見てＸ線を透過する樹脂のパイプを測定部１４として引出配管１２に連通したり、引出配管１２から一度フォトレジスト剥離液Ｍを貯留する測定容器を引出配管１２に連続して設けるといった形態が考えられる。
【００４４】
本実施の形態では、引出配管１２に連通したＸ線を透過する配管（以後「透過配管」と呼ぶ。）２４で測定部１４を構成した場合について説明する。
【００４５】
この構成では、透過配管２４中を流れるフォトレジスト剥離液Ｍ中の硫黄量を測定する。透過配管２４は、フォトレジスト剥離液で劣化しにくく、且つ、蛍光Ｘ線を透過する材料が用いられる。一例としてフッ素樹脂、ポリエステル、ポリプロピレン等が挙げられ、蛍光Ｘ線で硫黄を測定する際に蛍光Ｘ線が透過する材質で構成されている。
【００４６】
また、透過配管２４全てがＸ線の透過する材料で形成されていなくてもよい。つまり、Ｘ線が照射され、蛍光Ｘ線は発生する部分だけ透過配管２４とし、他の部分はステンレス鋼などの金属配管であってもよい。また、引出配管１２の一部だけをＸ線が透過する配管材料としてもよい。
【００４７】
なお、引出配管１２から得たフォトレジスト剥離液Ｍを一度測定容器で受けて、測定容器内のフォトレジスト剥離液で硫黄量を測定してもよい。
【００４８】
透過配管２４には戻し配管１８が連通される。したがって、ポンプ１２ａによって、フォトレジスト剥離液槽５２から吸い上げられたフォトレジスト剥離液Ｍは、引出配管１２を通過し、透過配管２４内を通り、戻し配管１８中を介してフォトレジスト剥離液槽５２に戻る。
【００４９】
測定手段としての蛍光Ｘ線測定装置２０は、フォトレジスト剥離液Ｍ中の特定された特定元素としての硫黄（Ｓ）を測定する。ポジ型フォトレジストは、感光剤のＮＱＤ（ナフトキノンジアジドスルフォン酸エステル）とノボラック樹脂で構成されている。
【００５０】
感光されたＮＱＤは、アルコール存在下ではインデンカルボン酸となり、アルカリ溶液に溶解する。するとノボラック樹脂同士の結合が切れ、感光されたフォトレジストはアルカリ溶液で剥離、溶解される。
【００５１】
フォトレジスト剥離液Ｍは、フォトレジスト剥離液Ｍの原液である新液と、溶解したノボラック樹脂と、溶解し構造を変えたものも含む溶解したＮＱＤで構成されている。溶解したノボラック樹脂と、溶解し構造を変えたものも含む溶解したＮＱＤをフォトレジスト成分と呼ぶ。フォトレジスト成分は溶解した溶解フォトレジストである。
【００５２】
これらのフォトレジスト成分、すなわち溶解フォトレジストは、全てが単一の形態ではなく、大きな塊であったり、溶解してノボラック樹脂の基本構造まで分解したものも含まれている。
【００５３】
そして、フォトレジスト剥離液Ｍは循環するほど、新たなフォトレジスト成分が追加される。また、時間が経過するほど溶解した溶解フォトレジストであるフォトレジスト成分が分解して変化する。
【００５４】
しかし、ＮＱＤに存在する硫黄の量は変化しない。したがって、フォトレジスト剥離液Ｍ中の硫黄の量を測定することで、フォトレジスト剥離液Ｍ中のフォトレジスト成分の濃度、すなわち、溶解した溶解フォトレジスト濃度を安定的に測定することができる。
【００５５】
なお、ここで硫黄の量、すなわち硫黄量とは、硫黄の蛍光Ｘ線の強度を計測したものであってよい。つまり、硫黄量とは、硫黄の特性Ｘ線の強度（ｋｃｐｓ）であってもよい。
【００５６】
以上のように、本発明のフォトレジスト成分濃度測定装置は、フォトレジスト成分の中の硫黄をフォトレジスト成分の濃度、すなわち、溶解した溶解フォトレジスト濃度の指標として利用する。したがって、フォトレジスト剥離液中の成分に硫酸基が含まれていると、フォトレジスト成分の濃度を正確に計測することができない。
【００５７】
すでに説明したように、フォトレジスト剥離液は、使用済みのフォトレジスト剥離液の一部を廃棄、あるいは排出し、残りにフォトレジスト剥離原液である新液又は再生液を継ぎ足しされて使用される場合が多い。
【００５８】
フォトレジスト剥離原液に硫黄を含む場合は、現時点の硫黄量は、フォトレジスト成分に由来するものか、フォトレジスト剥離液自体に由来するものであるのか区別が付かなくなる。
【００５９】
したがって、本発明に係るフォトレジスト成分濃度測定装置１０は、フォトレジスト剥離液が硫黄元素を有しない材料だけで構成される場合に用いることができる。
【００６０】
フォトレジストに含まれてフォトレジスト剥離原液は含有しない元素を特定し、その特定された特定元素のフォトレジスト剥離液中の濃度を測定するものである。
【００６１】
これにより、元素そのものはフォトレジスト剥離液中で分解、あるいは変化しないので、フォトレジスト剥離液中に溶解した溶解レジストが分解しても、正確にフォトレジスト剥離液中の溶解した溶解レジスト濃度を求めることができるものである。
【００６２】
蛍光Ｘ線測定装置２０の検出部２０ａは、図２では、Ｘ線照射部と受光部が１つになった物を示している。しかし、照射部と受光部は別々の構成であってもよい。
【００６３】
蛍光Ｘ線測定装置２０が測定したフォトレジスト剥離液Ｍ中の硫黄量を、濃度に換算するために、制御器３０が備えられていてもよい。制御器３０は、透過配管２４中のフォトレジスト剥離液Ｍの流量と、蛍光Ｘ線測定装置２０による硫黄測定量からフォトレジスト剥離液Ｍ中のフォトレジスト成分濃度を算出し、それを表示器３０ａに表示する。
【００６４】
また、次のようにしてフォトレジスト成分濃度を算出してもよい。まず、フォトレジスト成分濃度が決まった校正液を透過配管２４中に所定の流量で流す。そして、それを蛍光Ｘ線測定装置２０で計測する。
【００６５】
この計測によって、測定された硫黄量に対するフォトレジスト成分濃度の検量線が求まる。この検量線に基づいてフォトレジスト剥離液Ｍ中のフォトレジスト成分濃度を算出してもよい。
【００６６】
制御器３０はフォトレジスト成分濃度が一定値に達したら、他の機器へ信号を送信する送信線３０ｂを有していてもよい。フォトレジスト剥離液Ｍのフォトレジスト成分濃度が一定値に達したら、フォトレジスト剥離液槽５２中のフォトレジスト剥離液Ｍの全部若しくは一部を入れ替えるためである。
【００６７】
以上の構成を有するフォトレジスト成分濃度測定装置１０の動作について動作を説明する。フォトレジスト剥離液Ｍは引出配管１２を通ってフォトレジスト成分濃度測定装置１０に移送される（図１参照）。
【００６８】
ポンプ１２ａで引出配管１２内の内圧を調整し、フォトレジスト剥離液Ｍは、透過配管２４に送られる。透過配管２４を通過したフォトレジスト剥離液Ｍは、戻し配管１８を通って、フォトレジスト剥離液槽５２にもどされる。
【００６９】
蛍光Ｘ線測定装置２０は、制御器３０の指示で透過配管２４中に流れるフォトレジスト剥離液Ｍ中の硫黄の量を測定する。そして測定値は制御器３０に通知される。
【００７０】
制御器３０は、予め用意されていた検量線を用いて、フォトレジスト剥離液Ｍ中の硫黄濃度を算出する。したがって、このような動作をする制御器３０は算出手段といってよい。算出された硫黄濃度は、表示器３０ａに表示される。また、他の機器への信号として送信される（３０ｂ）。
【００７１】
以上のように、本発明に係るフォトレジスト成分濃度測定装置１０は、フォトレジスト剥離液原液が含有せず溶解フォトレジストが含有する、例えば、フォトレジスト中の硫黄原子に基づいてフォトレジスト剥離液Ｍ中のフォトレジスト成分濃度を測定するので、フォトレジスト剥離液Ｍ中の溶解レジスト成分が分解し、経時変化し、あるいはおよび色味が変化しても正確な濃度測定を行うことが出来る。
【実施例】
【００７２】
以下にフォトレジスト成分を蛍光Ｘ線測定装置で測定した実験結果を示す。分析装置としては、株式会社リガク製の走査型蛍光Ｘ線分析装置（ＺＳＸ  ＰｒｉｍｕｓＩＩ）を用いた。
【００７３】
フォトレジスト剥離液は、ＭＥＡ（モノエタノールアミン）１９％、ＢＤＧ（ジエチレングリコールモノブチルエーテル）６０％、水２１％の組成のものを用いた。何れの材料も硫黄元素を含んでいない。
【００７４】
サンプルのフォトレジスト成分としては、ノボラック樹脂を用いたポジ型フォトレジストを感光後、乾燥・粉末にしたものを用いた。硫黄を特定元素とした。
【００７５】
＜実験方法＞
フォトレジスト剥離液に対し、サンプルのフォトレジスト成分（粉末）を溶解し、０．１、０．３、０．６、１．０ｗｔ％の擬似フォトレジスト剥離液を作成した。そして、上記分析装置でそれぞれの擬似フォトレジスト剥離液の、硫黄のみのＸ線（Ｋα線）強度を測定した。結果を図３に示す。
【００７６】
図３において、横軸は溶解フォトレジストの濃度であるフォトレジスト成分の濃度（「ＰＲ添加濃度［ｗｔ％］」と示した。）であり、縦軸は蛍光Ｘ線の強度（「Ｘ線強度（ｋｃｐｓ）」と示した。）である。
【００７７】
図３を参照して、剥離液に対するフォトレジスト添加濃度と硫黄（Ｓ）に由来するＸ線強度には、０．１ｗｔ％以下の低濃度から、１．０ｗｔ％の高濃度まで、広いレンジで正の高い相関があった。また、同じサンプルを１週間放置して、再測定したところ、変化は見られなかった。
【００７８】
このグラフは、予めフォトレジスト成分の濃度、すなわち溶解した溶解フォトレジストの濃度がわかったフォトレジスト剥離液の硫黄の量を蛍光Ｘ線で測定した結果である。これは算出手段としての検量線として利用することができる。
【００７９】
フォトレジスト成分の濃度、すなわち溶解した溶解フォトレジストの濃度がわからないフォトレジスト剥離液の硫黄の量を蛍光Ｘで測定した場合、Ｘ線強度からフォトレジスト成分の濃度を逆に求めることができる。
【００８０】
これは濃度を算出するといってもよい。なお、検量線は、図３のようなグラフでなくても、数値データからなるテーブルであってもよい。
【産業上の利用可能性】
【００８１】
本発明に係るフォトレジスト成分濃度測定装置は、フォトリソグラフィを用いた微細加工を行う際のフォトレジスト剥離工程に好適に利用することができる。
【符号の説明】
【００８２】
１０  フォトレジスト成分濃度測定装置
１２  引出配管
１２ａ  ポンプ
１２ｉ  吸入口
１４  測定部
１８  戻し配管
１８ｏ  排出口
２０  蛍光Ｘ線測定装置
２０ａ  検出部
２４  透過配管
３０  制御器
３０ａ  表示器
３０ｂ  送信線
５０  フォトレジスト剥離装置
５２  フォトレジスト剥離液槽
５４  コンベア
５６  シャワー
６０  被処理物
５６ａ  ポンプ
５６ｂ  シャワー配管
５６ｃ  フィルタ
Ｍ  フォトレジスト剥離液
【図１】
0006643710.tif 000002
【図２】
0006643710.tif 000003
【図３】
0006643710.tif 000004