(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に設けられた複数の画素と、
前記複数の画素を覆うように前記基板上に設けられた封止膜と、
を備え、
前記複数の画素はそれぞれ、第１電極と、第２電極と、前記第１電極及び前記第２電極に接して挟まれる有機層と、を有する発光素子を有し、
前記封止膜は、積層された第１、第２及び第３の無機膜と、前記第１の無機膜と前記第２の無機膜との間に配置された第１の有機膜と、前記第２の無機膜と前記第３の無機膜との間に配置された第２の有機膜とを含み、
前記第１の有機膜は、第１の隔壁によって複数の領域に分割され、
前記第２の有機膜は、第２の隔壁によって複数の領域に分割され、
前記第１の有機膜の複数の領域はそれぞれ、第１部分と第２部分と、を有し、
前記第２の有機膜の複数の領域はそれぞれ、平面視で前記第１部分と重畳するとともに前記第２部分と重畳しない第３部分を有し、
前記第１の隔壁及び前記第２の隔壁はそれぞれ、平面視で前記発光素子と重畳しないように設けられていることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記第１の隔壁は前記第２の無機膜の一部からなり、前記第２の隔壁は前記第３の無機膜の一部からなることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
複数の前記発光素子の一は、前記第１部分及び前記第３部分と重畳する領域に含まれ、複数の前記発光素子の他の一は、前記第２部分と重畳する領域に含まれることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項４】
前記第１及び第２の隔壁の少なくとも一方は、前記複数の前記発光素子の境界に沿って設けられていることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項５】
前記第1電極の端部を覆うとともにその上面の一部を露出し、前記発光素子を区画するリブをさらに備え、
前記第１の隔壁は、前記リブに沿って設けられていることを特徴とする請求項４に記載の表示装置。
【請求項６】
前記封止膜は、前記リブによって形成される凹凸表面を覆う第４の無機膜と、前記第４の無機膜と前記第１の無機膜との間に設けられ、前記リブによって複数の領域に分割された第３の有機膜とをさらに含むことを特徴とする請求項５に記載の表示装置。
【請求項７】
前記第３の有機膜は、前記第１及び第２の有機膜とは異なる樹脂材料からなることを特徴とする請求項６に記載の表示装置。
【請求項８】
前記複数の画素は、規則的に配置され、
前記第１及び第２の隔壁の少なくとも一方は、平面視で前記複数の画素の境界の延びる方向に対して所定の角度だけ傾斜して延在することを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項９】
前記第１の隔壁によって分割された前記第１の有機膜の複数の領域、及び、前記第２の隔壁によって分割された前記第２の有機膜の複数の領域の少なくとも一方は、互いに形状の異なる２以上の領域を含むことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記第１の隔壁によって分割された前記第１の有機膜の複数の領域、及び、前記第２の隔壁によって分割された前記第２の有機膜の複数の領域の少なくとも一方は、それぞれ前記画素よりも大きな平面サイズを有していることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項１１】
前記第１、第２及び第３の無機膜は、酸化シリコン、窒化シリコン及び酸化アルミニウムの少なくとも一つを含むことを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、水分の侵入を防止するための封止膜を備えた表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、平面表示装置として有機ＥＬ表示装置が注目されている。有機ＥＬ表示装置は、液晶表示装置とは異なり自発光型であることから、バックライトなどが不要であるとともに、高いコントラストを得ることができるという優れた特徴を有している。
【０００３】
しかしながら、有機ＥＬ表示装置の発光層は、水分が侵入すると容易に劣化し、ダークスポットと呼ばれる非点灯領域が発生してしまう。このような問題を解決するため、多くの有機ＥＬ表示装置には、水分の侵入を防止するための封止膜が設けられている。封止膜を備えた有機ＥＬ表示装置としては、例えば特許文献１に記載された有機ＥＬ表示装置が知られている。
【０００４】
特許文献１に記載されているように、封止膜としては透明であり且つ防水機能の高い無機膜を用いることが好ましい。しかしながら、無機膜に欠陥が存在すると、当該欠陥を介した水分の侵入経路が発生してしまうことが懸念される。全く欠陥のない無機膜を形成することは困難であることから、複数の無機膜を積層することによって防水性を高めることが有効である。
【０００５】
無機膜に生じる欠陥としては、偶発的なものの他、異物に起因するものや凹凸に起因するものなどが存在する。異物や凹凸に起因する欠陥は、複数の無機膜をそのまま積層しても上層まで引き継がれる傾向があるため、無機膜と無機膜の間に有機膜を介在させることによりレベリングすることが望ましい。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１０−０２７５６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、有機膜は水分を透過しやすいことから、積層した複数の無機膜にそれぞれ欠陥が存在すると、有機膜を経由した水分の侵入経路が形成されてしまう。このような侵入経路を経由した水分が有機ＥＬ発光層に到達するまでにはかなりの時間を要するものと考えられるが、製品の信頼性を高めるためには、水分の到達時間を遅延させるのではなく、水分の侵入経路自体が形成されにくい構造をもった封止膜を用いることが望まれる。
【０００８】
このような問題は有機ＥＬ表示装置のみならず、水分の侵入によって劣化しうる全ての表示装置について問題となる。
【０００９】
そこで本発明は、水分の侵入経路が形成されにくい封止膜を備えた表示装置を提供することを目的の一つとする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の一実施形態に係る表示装置は、基板上に設けられた複数の画素と、複数の画素を覆うように基板上に設けられた封止膜とを備え、封止膜は、積層された第１、第２及び第３の無機膜と、第１の無機膜と第２の無機膜との間に位置する第１の有機膜と、第２の無機膜と第３の無機膜との間に位置する第２の有機膜とを含み、第１の有機膜は、第１の隔壁によって平面方向に複数の領域に分割されており、第２の有機膜は、第２の隔壁によって平面方向に複数の領域に分割されていることを特徴とする。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の第１実施形態に係る表示装置１０Ａの概略構成を示す斜視図である。
【図２】本発明の第１実施形態に係る表示装置１０Ａの概略構成を示す部分断面図である。
【図３】本発明の第１実施形態に係る表示装置１０Ａの概略構成を示す部分平面図である。
【図４】封止膜４０の製造方法を説明するための工程図である。
【図５】封止膜４０の製造方法を説明するための工程図である。
【図６】本発明の第２実施形態による表示装置１０Ｂの概略構成を示す部分断面図である。
【図７】本発明の第３実施形態による表示装置１０Ｃの概略構成を示す部分平面図である。
【図８】本発明の第４実施形態に係る表示装置１０Ｄの概略構成を示す部分断面図である。
【図９】本発明の第４実施形態に係る表示装置１０Ｄの概略構成を示す部分平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、図面を参照して、本発明のいくつかの実施形態による表示装置について詳細に説明する。なお、本発明の表示装置は以下の実施形態に限定されることはなく、種々の変形を行ない実施することが可能である。全ての実施形態においては、同じ構成要素には同一符号を付して説明する。また、図面の寸法比率は、説明の都合上、実際の比率とは異なったり、構成の一部が図面から省略されたりする場合がある。
【００１３】
＜第１実施形態＞
図１は、本発明の第１実施形態に係る表示装置１０Ａの概略構成を示す斜視図である。
【００１４】
本実施形態に係る表示装置１０Ａは、第１基板２０と、第２基板２１と、複数の画素Ｐと、シール材２２と、端子領域２３と、接続端子２４とを有している。表示装置１０Ａの種類については特に限定されないが、例えば有機ＥＬ表示装置である。
【００１５】
第１基板２０上には、表示領域２５が設けられている。表示領域２５には、第１基板２０上に、各々が少なくとも一つの発光素子を有する複数の画素Ｐが配列されている。
【００１６】
表示領域２５の上面には第１基板２０と対向する第２基板２１が設けられている。第２基板２１は表示領域２５を囲むシール材２２によって、第１基板２０に固定されている。第１基板２０に形成された表示領域２５は、第２基板２１とシール材２２によって大気に晒されないように封止されている。このような封止構造により画素Ｐに設けられる発光素子の劣化を抑制している。
【００１７】
第１基板２０には、一端部に端子領域２３が設けられている。端子領域２３は第２基板２１の外側に配置されている。端子領域２３は、複数の接続端子２４によって構成されている。接続端子２４には、映像信号を出力する機器や電源などと表示パネル（図１では表示装置１０Ａ）とを接続する配線基板が配置される。配線基板と接続する接続端子２４の接点は、外部に露出している。第１基板２０には接続端子２４から入力された映像信号を表示領域２５に出力するドライバＩＣ２６が設けられている。
【００１８】
尚、ドライバＩＣ２６は第１基板２０上ではなく、第１基板２０とは別のフレキシブルプリント基板（ＦＰＣ）に配置し、このフレキシブルプリント基板を接続端子２４に接続しても良い。ドライバＩＣ２６を第１基板２０に配置しないことで第１基板２０の面積に対する表示領域２５の面積を大きくするとができる。
【００１９】
図２は、本発明の第１実施形態に係る表示装置１０Ａの第１基板２０の概略構成を示す部分断面図である。また、図３は、本発明の第１実施形態に係る表示装置１０Ａの概略構成を示す部分平面図である。
【００２０】
図２に示すように、第１実施形態に係る表示装置１０Ａは、第１基板２０と、第１基板２０の主面上に設けられた複数の画素Ｐと、複数の画素Ｐを覆うように第１基板２０の主面上に設けられた封止膜４０とを備える。封止膜４０の上には図１に示したシール材２２と第２基板２１が配置される。
【００２１】
第１基板２０は、複数の画素Ｐの支持体としての役割を果たすものである。第１基板２０の材料としては、ガラス、アクリル樹脂、アルミナ、ポリイミドなどを用いることができる。
【００２２】
複数の画素Ｐは表示装置１０Ａの主構成要素であり、複数の画素Ｐの各々は、発光素子３０を有している。複数の画素Ｐの各々は、複数の容量やトランジスタなどをさらに有しているが、図２においてはこれらの図示が省略されている。また、複数の画素Ｐの各々は、画素Ｐ毎に設けられた第１電極３１の端部を覆うリブ３４によって区画されている。複数の画素Ｐは、本実施形態においては、図３に示すようにマトリクス状に規則的に配列される。
【００２３】
発光素子３０は、第１電極である陽極３１、第２電極である陰極３２及びこれらに挟まれるように設けられた発光層３３を含む。陽極３１は、画素毎に配置される。陽極３１は、発光層３３で発生した光を陰極側に反射させるため、Ａｇ（銀）等の反射率の高い金属層を用いることが好ましい。陰極３２は、複数の画素に共通して配置される。陰極３２は、発光層３３で発光した光を透過させるため、透光性を有し、且つ導電性を有するＩＴＯ（酸化スズ添加酸化インジウム）やＩＺＯ（酸化インジウム・酸化亜鉛）等の透明導電膜、又は光を透過する金属薄膜を用いることが好ましい。
【００２４】
封止膜４０は、この順に積層された無機膜４１〜４４と、無機膜４１と４２の間に設けられた有機膜５１と、無機膜４２と４３の間に設けられた有機膜５２と、無機膜４３と４４の間に設けられた有機膜５３とを含む。特に限定されるものではないが、無機膜４１〜４４の材料としては、酸化シリコン、窒化シリコン、酸化アルミニウムなど、光透過性であり且つ防水機能の高い無機材料を用いることが好ましい。また、有機膜５１〜５３の材料としては、透明な紫外線硬化性樹脂などを用いることができる。
【００２５】
尚、本実施形態では、４層の無機膜４１〜４４及びこれらに挟まれた３層の有機膜５１〜５３によって封止膜４０が構成されているが、本発明がこれに限定されるものではなく、少なくとも３層の無機膜及びこれらに挟まれた２層の有機膜を備えていれば足りる。もちろん、５層以上の無機膜及びこれらに挟まれた４層以上の有機膜を備えていても構わない。また、各無機膜は、単層である必要はなく、複数の無機材料からなる積層膜を用いても構わない。
【００２６】
図２に示すように、無機膜４１は、リブ３４によって形成される凹凸表面を覆っている。しかしながら、その無機膜４１の膜厚は非常に薄いため、無機膜４１の表面形状はリブ３４の凹凸形状をそのまま反映したものとなる。
【００２７】
有機膜５１は無機膜４１の表面に設けられ、その凹凸形状を平坦化する。したがって、有機膜５１の上面は実質的に平坦である。図２に示すように、有機膜５１は隔壁６１によって横方向（以下、平面方向という）に複数の領域に分割されている。本実施形態においては、隔壁６１を平面視した時の位置（以下、平面位置という）が所定のリブ３４の平面位置と一致している。図３に示すように、隔壁６１は、ｘ方向に２画素、ｙ方向に４画素からなるブロックが一単位となるよう、画素の境界である所定のリブ３４に沿って設けられ、リブ３４上で無機膜４１と接触している。隔壁６１によって定義されるブロックは、図３に示すように千鳥配置される。
【００２８】
無機膜４２は有機膜５１を覆うとともに、その一部が隔壁６１を構成する。隔壁６１が形成される平面位置においては、無機膜４２にある程度の段差が形成される。
【００２９】
有機膜５２は無機膜４２の表面に設けられ、その凹凸形状を平坦化する。図２に示すように、有機膜５２は、隔壁６２によって平面方向に複数の領域に分割されている。本実施形態においては、隔壁６２の平面位置が別のリブ３４の平面位置と一致している。図３に示すように、隔壁６２は、ｘ方向に２画素、ｙ方向に４画素からなるブロックが一単位となるよう、画素の境界である別のリブ３４に沿って設けられている。隔壁６２によって定義されるブロックは、図３に示すように千鳥配置され、その一部は隔壁６１によって定義される下層のブロックと平面視で重なっている。本実施形態においては、隔壁６１の平面位置に対して隔壁６２の平面位置がｘ方向及びｙ方向に１画素分シフトしている。
【００３０】
無機膜４３は有機膜５２を覆うとともに、その一部が隔壁６２を構成する。隔壁６２が形成される平面位置においては、無機膜４３にある程度の段差が形成される。
【００３１】
有機膜５３は無機膜４３の表面に設けられ、その凹凸形状を平坦化する。図２に示すように、有機膜５３は、隔壁６３によって平面方向に複数の領域に分割されている。本実施形態においては、隔壁６３の平面位置と隔壁６１の平面位置が一致している。図３に示すように、隔壁６３は、ｘ方向に２画素、ｙ方向に４画素からなるブロックが一単位となるよう、隔壁６１と同じ平面位置に配置される。したがって、隔壁６３によって定義されるブロックの平面位置は、隔壁６１によって定義されるブロックと同じ平面位置となる。
【００３２】
無機膜４４は有機膜５３を覆うとともに、その一部が隔壁６３を構成する。無機膜４４は、封止膜４０の最上層を構成する膜である。
【００３３】
このように、封止膜４０は、無機膜４１〜４４と有機膜５１〜５３が交互に積層された構造を有していることから、無機膜４１〜４４によって水分の侵入が防止されるとともに、有機膜５１〜５３によって平坦性が確保される。このため、異物や段差に起因して生じる無機膜の欠陥が上層まで引き継がれることがなくなる。さらに、本実施形態においては、隔壁６１〜６３によって有機膜５１〜５３がそれぞれ複数の領域に分割されている。このような構成を有することによって、無機膜４１〜４４の全てに欠陥が存在する場合であっても、隔壁６１〜６３が水分の侵入経路を遮断する役割を果たすため、発光素子３０への水分の侵入経路を、確率的に大幅に低減することが可能となる。
【００３４】
例えば、図２に示すように、無機膜４１〜４４にそれぞれ欠陥４１Ｘ〜４４Ｘが存在する場合であっても、有機膜５１〜５３が隔壁６１〜６３によって分断されている結果、発光素子３０に達する侵入経路は形成されない。図２に示す例では、２番目の有機膜５２の所定ブロックまで水分が到達しうるが、当該ブロックの底部は無機膜４２の無欠陥部分で覆われているため、水分の侵入はここでストップし、より下層の有機膜５１に水分が侵入することがなくなる。
【００３５】
特に、表示領域２５内に、無機膜によりブロック化した有機膜を上下左右に複数配置したことで、画素Ｐへの水分の侵入を防止することが可能となる。
【００３６】
ここで、水分の侵入経路をより確実に遮断するためには、隔壁６１〜６３をより多く形成することによって、有機膜５１〜５３をより細かく分割することが好ましい。しかしながら、有機膜５１〜５３を画素Ｐのサイズ未満まで分割すると、多数の隔壁６１〜６３が画素Ｐと平面視で重なるため、輝度の低下を招くおそれがある。この点を考慮すれば、隔壁６１〜６３による有機膜５１〜５３の分割サイズは、画素Ｐのサイズ以上とすることが好ましい。
【００３７】
第１実施形態による表示装置１０Ａにおいては、隔壁６１〜６３が画素Ｐの境界であるリブ３４に沿って設けられていることから、隔壁６１〜６３と画素Ｐが重ならない。このため、隔壁６１〜６３の存在による輝度の低下を防止することができる。
【００３８】
尚、本実施形態においては、隔壁６１と隔壁６３が同じ平面位置に形成され、隔壁６２が隔壁６１，６３と異なる平面位置に形成されているが、本発明がこれに限定されるものではない。例えば、隔壁６１、６２及び６３を全て異なる平面位置に形成しても構わないし、隔壁６１、６２及び６３を全て同じ平面位置に形成しても構わない。さらに、隔壁６１、６２及び６３によって分割される有機膜５１〜５３の各領域の形状やサイズが一定である必要もない。
【００３９】
次に、封止膜４０の製造方法について説明する。
【００４０】
まず、図４（ａ）に示すように、複数の発光素子３０を覆うように無機膜４１を成膜した後、隔壁６１を形成すべき溝領域６１ａを除く全面に紫外線硬化性樹脂５１ａを塗布する。無機膜４１の成膜方法としては、例えばＣＶＤ法など、カバレッジ性の高い成膜方法を用いることが好ましい。以降に形成する無機膜４２〜４４の成膜方法についても同様である。
【００４１】
一方、紫外線硬化性樹脂５１ａの形成方法としては、スクリーン印刷法、オフセット印刷法、インクジェット印刷法、ディスペンス法などを用いて、所望の領域に選択的に塗布することができる。或いは、全面に紫外線硬化性樹脂５１ａを形成した後、フォトリソグラフィー法を用いたパターニングにより、溝領域６１ａに対応する部分の紫外線硬化性樹脂５１ａを除去しても構わない。その後、紫外線ＵＶを照射することによって紫外線硬化性樹脂５１ａを硬化させれば、溝領域６１ａを除く全面が有機膜５１で覆われた状態となる。
【００４２】
次に、図４（ｂ）に示すように、有機膜５１の全面に無機膜４２を成膜する。無機膜４２を成膜すると、溝領域６１ａに無機膜４２の材料が充填されるため、無機膜４２と同じ材料によって隔壁６１が形成されることになる。隔壁６１の底部は無機膜４１の上面と接しており、これにより、隔壁６１によって分割された有機膜５１の各領域は、底面が無機膜４１によって覆われ、上面が無機膜４２によって覆われ、側面が隔壁６１によって覆われた状態となる。
【００４３】
その後は、上記工程を繰り返すことにより有機膜５２、無機膜４３、有機膜５３、無機膜４４をこの順に形成すればよい。
【００４４】
つまり、図４（ｃ）に示すように、隔壁６２を形成すべき溝領域６２ａを除く無機膜４２の全面に紫外線硬化性樹脂５２ａを塗布し、紫外線ＵＶを照射することによって紫外線硬化性樹脂５２ａを硬化させれば、溝領域６２ａを除く全面が有機膜５２で覆われる。次に、図５（ａ）に示すように、有機膜５２の全面に無機膜４３を成膜すれば、溝領域６２ａに無機膜４３の材料が充填されるため、無機膜４３と同じ材料によって隔壁６２が形成される。隔壁６２の底部は無機膜４２の上面と接しており、これにより、隔壁６２によって分割された有機膜５２の各領域は、底面が無機膜４２によって覆われ、上面が無機膜４３によって覆われ、側面が隔壁６２によって覆われた状態となる。
【００４５】
さらに、図５（ｂ）に示すように、隔壁６３を形成すべき溝領域６３ａを除く無機膜４３の全面に紫外線硬化性樹脂５３ａを塗布し、紫外線ＵＶを照射することによって紫外線硬化性樹脂５３ａを硬化させれば、溝領域６３ａを除く全面が有機膜５３で覆われる。そして、図５（ｃ）に示すように、有機膜５３の全面に無機膜４４を成膜すれば、溝領域６３ａに無機膜４４の材料が充填されるため、無機膜４４と同じ材料によって隔壁６３が形成される。隔壁６３の底部は無機膜４３の上面と接しており、これにより、隔壁６３によって分割された有機膜５３の各領域は、底面が無機膜４３によって覆われ、上面が無機膜４４によって覆われ、側面が隔壁６３によって覆われた状態となる。
【００４６】
これにより、複数の発光素子３０を覆う封止膜４０が完成する。以上の工程によれば、有機膜となる紫外線硬化性樹脂５１ａ〜５３ａに溝領域６１ａ〜６３ａを設けるだけで、隔壁６１〜６３を形成することができることから、製造工程が大幅に複雑化することはない。
【００４７】
しかも、本実施形態においては、上下に隣接する２つの隔壁、つまり隔壁６１と隔壁６２や、隔壁６２と隔壁６３の平面位置が互いに異なっていることから、隔壁６１、６２によって生じる凹凸が上層の有機膜５２、５３によって平坦化される。このため、凹凸に起因した無機膜４２〜４４の欠陥を防止することも可能となる。
【００４８】
＜第２実施形態＞
図６は、第２実施形態による表示装置１０Ｂの概略構成を示す部分断面図である。
【００４９】
第２実施形態による表示装置１０Ｂは、無機膜４５及び有機膜５４が追加されている点において、図２に示した表示装置１０Ａと相違している。その他の構成については、図２に示した表示装置１０Ａと同一であることから、重複する説明は省略する。
【００５０】
図６に示すように、有機膜５４は、無機膜４１と無機膜４５との間に設けられ、リブ３４によって区画された画素領域を埋め込むように設けられている。有機膜５４の上面は、リブ３４の上面とほぼ同一平面を構成することが好ましく、この場合、無機膜４５はほぼ平坦となる。これによれば、有機膜５１の膜厚をほぼ一定とすることができることから、有機膜５１の形成が容易となる。
【００５１】
有機膜５４の形成方法としては、インクジェット印刷法を用いることが好ましい。インクジェット印刷法を用いる場合、使用する樹脂材料の粘度がある程度低い必要があるが、リブ３４によって樹脂材料の流動が抑えられるため、インクジェット印刷法を用いて所望の領域に有機膜５４を選択的に形成することが可能である。したがって、有機膜５４については、他の有機膜５１〜５３とは異なる、インクジェット印刷法に適した樹脂材料を用いることができる。
【００５２】
＜第３施形態＞
図７は、第３実施形態による表示装置１０Ｃの概略構成を示す部分平面図である。
【００５３】
図７に示すように、第３実施形態による表示装置１０Ｃは、隔壁６１〜６３が斜め方向に延在している点において、第１実施形態による表示装置１０Ａと相違している。その他の構成については、図３に示した表示装置１０Ａと同一であることから、重複する説明は省略する。
【００５４】
本実施形態においては、隔壁６１〜６３の延在方向をＡとした場合、リブ３４の延在方向であるｘ方向に対して、隔壁６１〜６３の延在方向Ａが角度θだけ傾いている。角度θは、例えば３０°である。
【００５５】
本実施形態によれば、画素Ｐの規則性と隔壁６１〜６３の規則性との間に相関がなくなることから、プロセスばらつきなどによって隔壁６１〜６３の形成位置に多少のずれが生じたとしても、モアレ縞が発生しにくくなる。尚、図７に示した例では、隔壁６１〜６３をいずれも同方向に傾けているが、隔壁６１〜６３をそれぞれ異なる傾きとしても構わない。これによれば、隔壁６１〜６３間の干渉によるモアレ縞の発生を防止することも可能となる。
【００５６】
＜第４実施形態＞
図８は、第４実施形態による表示装置１０Ｄの概略構成を示す部分断面図である。また、図９は、第４実施形態による表示装置１０Ｄの概略構成を示す部分平面図である。
【００５７】
第４実施形態による表示装置１０Ｄは、隔壁６１〜６３の形成位置がランダムである点において、図２及び図３に示した表示装置１０Ａと相違している。その他の構成については、図２及び図３に示した表示装置１０Ａと同一であることから、重複する説明は省略する。
【００５８】
本実施形態においては、隔壁６１〜６３がランダムに形成されていることから、隔壁６１〜６３によって分割される有機膜５１〜５３の各領域のサイズはまちまちとなる。このため、例えば同じ有機膜５１においても、互いに平面サイズの異なる領域が存在することになる。ランダム形状の具体例としては、図９に示すように、サイズの異なる複数の円又は楕円が平面視で重なるようなパターンを用いることができる。
【００５９】
本実施形態においても、画素Ｐの規則性と隔壁６１〜６３の規則性との間に相関がなくなることから、モアレ縞の発生を防止することができる。しかも、隔壁６１〜６３間における相関もほとんどないことから、隔壁６１〜６３間の干渉によるモアレ縞の発生を防止することもできる。
【００６０】
以上、本発明のいくつかの実施形態について説明したが、本発明は、上記の実施形態に限定されることなく、本発明の主旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含されるものであることはいうまでもない。
【符号の説明】
【００６１】
１０Ａ〜１０Ｄ：表示装置  ２０：第１基板  ２１：第２基板  ２２：シール材  ２３：端子領域  ２４：接続端子  ２５：表示領域  ２６：ドライバＩＣ  ３０：発光素子  ３１：陽極  ３２：陰極  ３３：発光層  ３４：リブ  ４０：封止膜  ４１〜４５：無機膜  ４１Ｘ〜４４Ｘ：欠陥  ５１〜５４：有機膜  ５１ａ〜５３ａ：紫外線硬化性樹脂  ６１〜６３：隔壁  ６１ａ〜６３ａ：溝領域  Ｐ：画素  ＵＶ：紫外線
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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