(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）硬化性化合物、（Ｂ）無機フィラー、及び（Ｃ）熱硬化剤を含有する液晶光学素子用液晶シール剤であって、（Ａ）硬化性化合物は（メタ）アクロイル基を有する化合物、及びエポキシ基を有する化合物を含み、かつ（Ａ）硬化性化合物中の（メタ）アクリロイル基とエポキシ基の総量のうちエポキシ基の割合が２０ｍｏｌ％以下であり、（Ｂ）無機フィラーの液晶シール剤総量中の含有率が１０％以上５０％以下であり、（Ｃ）熱硬化剤の液晶シール剤総量中の含有率が２．２〜５質量％であり、紫外線を３０００ｍＪ／ｃｍ２照射し１２０℃で１時間の熱硬化を行った硬化物の温度８５℃湿度８５％の雰囲気下に２４時間放置した後の吸水率が１％以下である液晶光学素子用シール剤。
【請求項２】
前記成分（Ａ）硬化性化合物にエポキシ（メタ）アクリレートを含有する請求項１に記載の液晶光学素子用シール剤。
【請求項３】
前記成分エポキシ（メタ）アクリレートの分子量が３８０以上であるものを含有する請求項２に記載の液晶光学素子用シール剤。
【請求項４】
前記成分（Ａ）硬化性化合物、に一分子中に反応性基を３個以上有する（メタ）アクリルエステルを含有する請求項１乃至３のいずれか一項に記載の液晶光学素子用シール剤。
【請求項５】
前記成分（Ｂ）無機フィラーの液晶シール剤総量中の含有率が１０％以上５０％以下である請求項１乃至４のいずれか一項に記載の液晶光学素子用シール剤。
【請求項６】
前記成分（Ｃ）熱硬化剤が有機酸ジヒドラジドである請求項１乃至５のいずれか一項に記載の液晶光学素子用シール剤。
【請求項７】
更に（Ｄ）シランカップリング剤を含有する請求項１乃至６のいずれか一項に記載の液晶光学素子用シール剤。
【請求項８】
更に、（Ｅ）熱ラジカル重合開始剤を含有する請求項１乃至７のいずれか一項に記載の液晶光学素子用シール剤。
【請求項９】
更に、（Ｆ）光ラジカル重合開始剤を含有する請求項１乃至８にいずれか一項に記載の液晶光学素子用シール剤。
【請求項１０】
２枚の基板により構成される液晶光学素子用液晶セルにおいて、一方の基板に形成された請求項１乃至９のいずれか一項に記載の液晶光学素子用シール剤の堰の内側に液晶を滴下した後、もう一方の基板を貼り合わせ、その後光及び熱により硬化することを特徴とする液晶光学素子用液晶セルの製造方法。
【請求項１１】
請求項１乃至９のいずれか一項に記載の液晶光学素子用シール剤を硬化して得られる硬化物でシールされた液晶光学素子用液晶セル。
【請求項１２】
請求項１１に記載の液晶光学素子用液晶セルを含む、液晶レンズ、光ピックアップ装置用液晶素子又は液晶光シャッター。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、紫外線および熱によって硬化する液晶光学素子用シール剤であって、液晶滴下工法に使用される液晶光学素子用シール剤に関する。より詳細には、特に低液晶汚染性等の一般的特性においても優れる液晶滴下工法用液晶光学素子用シール剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、電極が形成された透明基板同士の間に液晶層を封入した構造を持つ液晶光学素子が知られている。これら液晶光学素子は、電極間に印加する電圧を制御することで、液晶の配向を制御し、所望の光学特性を可変するものである。この液晶光学素子は、偏光板不要となることもあり、光透過率が基本的に高く、散乱特性と組み合わせ、調光ガラス、光シャッター、レーザー装置などに用いられている。
【０００３】
液晶表示用液晶セルの分野においては、液晶滴下工法による製造が主流となっている。この液晶滴下工法とは、一方の基板に形成された液晶シール剤の堰の内側に液晶を滴下した後、もう一方の基板を貼り合わせることにより液晶が封止される液晶表示セルの製造方法である。
【０００４】
液晶滴下工法は、生産性を最優先した工法である為、特に寸法安定性や、液晶汚染性に厳しい液晶光学素子用としては、用いられていなかった。しかし近年、例えば液晶レンズ、光ピックアップ装置用液晶素子、液晶光シャッター等の小型の液晶光学素子について、液晶滴下工法が提案されるようになった（特許文献１）。しかしながら液晶光学素子は信頼性試験後にシール剤が膨張し、不具合が発生したり、素子が小型のため液晶汚染性が問題となっており、これらの問題を解決する液晶光学素子用シール剤の実現には未だ至っていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−１８０７７５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、紫外線および熱によって硬化する液晶光学素子用シール剤であって、液晶滴下工法に使用される液晶光学素子用シール剤に関する。より詳細には、高温高湿試験後の体積膨張が極めて少なく、低液晶汚染性等の一般的特性においても優れる液晶光学素子用シール剤を提案するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、高温高湿試験後のシール剤の体積が膨張する課題を解決する為に鋭意検討した結果、液晶光学素子用シール剤の吸水率が影響していることを見出し、本願発明に至ったものである。
即ち本発明は、次の１）〜１３）に関するものである。なお本明細書において、「（メタ）アクリル」と記載した場合には、「アクリル」及び／又は「メタクリル」を、「（メタ）アクリロイル」と記載した場合には、「アクリロイル」及び／又は「メタクリロイル」意味するものとする。
【０００８】
１）
（Ａ）硬化性化合物、（Ｂ）無機フィラーを含有し、（Ａ）硬化性化合物は一分子中に（メタ）アクロイル基及びエポキシ基を有する化合物を含み、かつ（Ａ）硬化性化合物中の（メタ）アクリロイル基とエポキシ基の総量のうちエポキシ基の割合が２５ｍｏｌ％以下であり、紫外線を３０００ｍJ／ｃｍ２照射し１２０℃で１時間の熱硬化を行った硬化物の温度８５℃湿度８５％の雰囲気下に２４時間放置した後の吸水率が１％以下である液晶光学素子用シール剤。
２）
上記成分（Ａ）硬化性化合物にエポキシ（メタ）アクリレートを含有する上記１）に記載の液晶光学素子用シール剤。
３）
上記成分エポキシ（メタ）アクリレートの分子量が３８０以上であるものを含有する上記２）に記載の液晶光学素子用シール剤。
４）
上記成分（Ａ）硬化性化合物、に一分子中に反応性基を３個以上有する（メタ）アクリルエステルを含有する上記１）乃至３）のいずれか一項に記載の液晶光学素子用シール剤。
５）
上記成分（Ｂ）無機フィラーの液晶シール剤総量中の含有率が１０％以上５０％以下である上記１）乃至４）のいずれか一項に記載の液晶光学素子用シール剤。
６）
更に、（Ｃ）熱硬化剤を含有する上記１）乃至５）のいずれか一項に記載の液晶光学素子用シール剤。
７）
上記成分（Ｃ）熱硬化剤が有機酸ジヒドラジドである上記６）に記載の液晶光学素子用シール剤。
８）
更に（Ｄ）シランカップリング剤を含有する上記１）乃至７）のいずれか一項に記載の液晶光学素子用シール剤。
９）
更に、（Ｅ）熱ラジカル重合開始剤を含有する上記１）乃至８）のいずれか一項に記載の液晶光学素子用シール剤。
１０）
更に、（Ｆ）光ラジカル重合開始剤を含有する上記１）乃至９）にいずれか一項に記載の液晶光学素子用シール剤。
１１）
２枚の基板により構成される液晶光学素子用液晶セルにおいて、一方の基板に形成された上記１）乃至１０）のいずれか一項に記載の液晶光学素子用シール剤の堰の内側に液晶を滴下した後、もう一方の基板を貼り合わせ、その後光及び／又は熱により硬化することを特徴とする液晶光学素子用液晶セルの製造方法。
１２）
上記１）乃至１０）のいずれか一項に記載の液晶光学素子用シール剤を硬化して得られる硬化物でシールされた液晶光学素子用液晶セル。
１３）
上記１２）に記載の液晶光学素子用液晶セルを含む、液晶レンズ、光ピックアップ装置用液晶素子又は液晶光シャッター。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の液晶光学素子用シール剤は、耐湿信頼性試験後の体積膨張率を最大限抑えることができ、かつ低液晶汚染性においても優れる為、液晶光学素子用液晶シール剤として極めて有用である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
［（Ａ）硬化性化合物］
本発明の液晶光学素子用シール剤は、（Ａ）硬化性化合物を含有する。
成分（Ａ）は、光又は熱によって重合反応するものであり、（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物、エポキシ基を有する硬化性化合物等を挙げることができる。  （メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物は、例えばエポキシ（メタ）アクリレート、（メタ）アクリルエステル等が挙げられる。エポキシ（メタ）アクリレートは、エポキシ化合物と（メタ）アクリル酸との反応により公知の方法で得られる。原料となるエポキシ化合物としては、特に限定されるものではないが、２官能以上のエポキシ化合物が好ましく、例えばビスフェノールＡ型エポキシ化合物、ビスフェノールＦ型エポキシ化合物、ビスフェノールＳ型エポキシ化合物、フェノールノボラック型エポキシ化合物、クレゾールノボラック型エポキシ化合物、ビスフェノールＡノボラック型エポキシ化合物、ビスフェノールＦノボラック型エポキシ化合物、脂環式エポキシ化合物、脂肪族鎖状エポキシ化合物、グリシジルエステル型エポキシ化合物、グリシジルアミン型エポキシ化合物、ヒダントイン型エポキシ化合物、イソシアヌレート型エポキシ化合物、トリフェノールメタン骨格を有するフェノールノボラック型エポキシ化合物、その他、カテコール、レゾルシノール等の二官能フェノール類のジグリシジルエーテル化物、二官能アルコール類のジグリシジルエーテル化物、およびそれらのハロゲン化物、水素添加物などが挙げられる。これらのうち吸水性および液晶汚染性の観点から、分子量が３８０以上であるものを含有することが好ましく、ビスフェノールＡ骨格を有するエポキシ化合物が好ましく、例えばビスフェノールジグリシジルエーテル等である。また、エポキシ基と（メタ）アクリロイル基との比率は限定されるものではなく、工程適合性及び液晶汚染性の観点から適切に選択される。分子量としてさらに好ましくは４００以上である。
したがって、好ましい（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物は、（メタ）アクリロイル基を有し、さらにビスフェノールＡ骨格を有する硬化性化合物であり、例えば、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルのアクリル酸エステルやビスフェノールＡジグリシジルエーテルのメタクリル酸エステルである。
【００１１】
（メタ）アクリルエステルとしては、ベンジルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、グリセロールジメタクリレート、グリセロールトリアクリレート、ＥＯ変性グリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、フロログリシノールトリアクリレート等が挙げられる。
（メタ）アクリルエステルは液晶汚染性の観点から一分子中に官能基数が３以上であることが好ましい。このような（メタ）アクリルエステルとして、ＫＡＹＡＲＡＤＲＴＭＰＥＴ−３０、ＤＰＨＡ、ＤＰＣＡ−２０、ＤＰＣＡ−３０、ＤＰＣＡ−６０、ＤＰＣＡ−１２０、ＤＰＥＡ−１２、ＧＰＯ−３０３、ＴＭＰＴＡ、ＴＨＥ-３３０、ＴＰＡ−３２０、ＴＰＡ−３３０、Ｄ−３１０，Ｄ−３３０、ＲＰ−１０４０、ＵＸ−５０００、ＤＰＨＡ−４０Ｈ（いずれも日本化薬株式会社製）、ＮＫエステルＲＴＭＡ−９３００、Ａ−９３００−１ＣＬ、Ａ−ＧＬＹ−９Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−２０Ｅ、Ａ−ＴＭＭ−３、Ａ−ＴＭＭ−３ＬＭ−Ｎ、Ａ−ＴＭＰＴ、ＡＤ−ＴＭＰ、ＡＴＭ−３５Ｅ、Ａ−ＴＭＭＴ、Ａ−９５５０、Ａ−ＤＰＨ（いずれも新中村化学工業株式会社）、ＳＲ２９５、ＳＲ３５０、ＳＲ３５５、ＳＲ３９９、ＳＲ４９４、ＣＤ５０１、ＳＲ５０２、ＣＤ９０２１、ＳＲ９０３５、ＳＲ９０４１（いずれもサートマー社製）等を挙げることができる。  また更に、（メタ）アクリルエステルは、分子量が８００以上である場合が好ましい。（メタ）アクリルエステルのモル平均分子量が８００より低い場合、溶剤のように液晶へ溶解し易くなる為、硬化前の状態でシール剤が液晶と接触した際に液晶を汚染し、表示性能を劣化させてしまう可能性がある為である。
好ましい成分（Ａ）としては、例えばＫＡＹＡＲＡＤＲＴＭＤＰＣＡ−２０（分子量８０７）、ＤＰＣＡ−３０（分子量９２１）、ＤＰＣＡ−６０（分子量１２６２）ＤＰＥＡ−１２（分子量１１９１）等をあげることができる。
【００１２】
エポキシ基を有する硬化性化合物としては、エポキシ化合物が挙げられる。該エポキシ化合物としては特に限定されるものではないが、２官能以上のエポキシ化合物が好ましく、例えばビスフェノールＡ型エポキシ化合物、ビスフェノールＦ型エポキシ化合物、ビスフェノールＳ型エポキシ化合物、フェノールノボラック型エポキシ化合物、クレゾールノボラック型エポキシ化合物、ビスフェノールＡノボラック型エポキシ化合物、ビスフェノールＦノボラック型エポキシ化合物、脂環式エポキシ化合物、脂肪族鎖状エポキシ化合物、グリシジルエステル型エポキシ化合物、グリシジルアミン型エポキシ化合物、ヒダントイン型エポキシ化合物、イソシアヌレート型エポキシ化合物、トリフェノールメタン骨格を有するフェノールノボラック型エポキシ化合物、その他、二官能フェノール類のジグリシジルエーテル化物、二官能アルコール類のジグリシジルエーテル化物、およびそれらのハロゲン化物、水素添加物などが挙げられる。これらのうち液晶汚染性の観点より好ましいのはビスフェノール型エポキシ化合物、ノボラック型エポキシ化合物である。
【００１３】
本発明における成分（Ａ）は、一分子中に（メタ）アクロイル基及びエポキシ基を有する化合物を含有する。当該化合物は、例えば部分エポキシ（メタ）アクリレート等挙げることができる。これは、上記エポキシ（メタ）アクリレートと同じ意味を表すが、アクリルエステル化率を１００％未満としたものであり、好ましくは３０〜７０％、さらに好ましくは４０〜６０％である。
【００１４】
本発明の硬化性化合物（Ａ）は、吸水性の観点から（メタ）アクリロイル基とエポキシ基の総量のうちエポキシ基の割合が２５ｍｏｌ％以下にする必要があり、好ましくは２０ｍｏｌ％以下である。
【００１５】
［（Ｂ）無機フィラー］
本発明の液晶光学素子用シール剤では成分（Ｂ）無機フィラーを含有する。無機フィラーを含有することで、接着強度向上や耐湿信頼性向上を図ることができる。この（Ｂ）無機フィラーとしては、溶融シリカ、結晶シリカ、シリコンカーバイド、窒化珪素、窒化ホウ素、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム、硫酸カルシウム、マイカ、タルク、クレー、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、珪酸カルシウム、珪酸アルミニウム、珪酸リチウムアルミニウム、珪酸ジルコニウム、チタン酸バリウム、硝子繊維、炭素繊維、二硫化モリブデン、アスベスト等が挙げられ、好ましくは溶融シリカ、結晶シリカ、窒化珪素、窒化ホウ素、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、硫酸カルシウム、マイカ、タルク、クレー、アルミナ、水酸化アルミニウム、珪酸カルシウム、珪酸アルミニウムであり、更に好ましくは溶融シリカ、結晶シリカ、アルミナ、タルクである。これら無機フィラーは２種以上を混合して用いても良い。その平均粒径は、大きすぎると狭ギャップの液晶セル製造時に上下ガラス基板貼り合わせ時のギャップ形成がうまくできない等の不良要因となるため、３μｍ以下が適当であり、好ましくは２μｍ以下である。粒径はレーザー回折・散乱式粒度分布測定器（乾式）（株式会社セイシン企業製；ＬＭＳ−３０）により測定した。
【００１６】
本発明の液晶光学素子用液晶シール剤で使用しうる無機フィラー（Ｂ）の液晶光学素子用液晶シール剤中の含有量は、本発明の液晶光学素子用液晶シール剤の総量中、１０〜５０質量％である。無機フィラーの含有量が少な過ぎる場合、ガラス基板に対する接着強度が低下し、また耐湿信頼性も劣るために、吸湿後の接着強度の低下も大きくなる場合がある。又、無機フィラーの含有量が多過ぎる場合、フィラー含有量が多すぎるため、つぶれにくく液晶セルのギャップ形成ができなくなってしまう場合がある。
【００１７】
本発明の液晶光学素子用液晶シール剤で使用しうる無機フィラー（Ｂ）は無機フィラー表面の水酸基を介してエポキシ骨格とアルコキシシリル基とが結合した構造を有するエポキシシラン化合物等により表面処理されていてもよい。このような表面処理を行うことによって、無機フィラー（Ｂ）と樹脂とのなじみ性が良好になり、耐湿性や密着性が向上する。
【００１８】
［吸水率について］
本発明の液晶光学素子用液晶シール剤は、紫外線を３０００ｍＪ／ｃｍ＾２照射し、１２０℃で１時間の熱硬化のみを行った硬化物の、ＪＩＳ−Ｋ７２０９（Ｄ法）に従って測定した吸水率が１．０％以下である（ただし、試験条件は、８５℃８５％の環境を用いる）。液晶シール剤に吸収された水分は、液晶シール剤を膨張させてギャップムラを発生させたり、液晶シール剤中の有機物の分解を促し、更には分解物や不純物イオンを液晶シール剤外に運び出し、液晶汚染の原因となったりする。
この吸水率は好ましくは０．８％以下であり、更に好ましくは０．６％以下である。
【００１９】
［（Ｃ）熱硬化剤］
本発明の液晶光学素子用液晶シール剤は、（Ｃ）熱硬化剤を含有しても良い。
熱硬化剤は、具体的には、非共有電子対や分子内のアニオンによって、求核的に反応するものであって、例えば多価アミン類、多価フェノール類、有機酸ヒドラジド化合物等を挙げる事ができる。ただしこれらに限定されるものではない。これらのうち有機酸ヒドラジド化合物が特に好適に用いられる。例えば、芳香族ヒドラジドであるテレフタル酸ジヒドラジド、イソフタル酸ジヒドラジド、２，６−ナフトエ酸ジヒドラジド、２，６−ピリジンジヒドラジド、１，２，４−ベンゼントリヒドラジド、１，４，５，８−ナフトエ酸テトラヒドラジド、ピロメリット酸テトラヒドラジド等をあげることが出来る。また、脂肪族ヒドラジド化合物であれば、例えば、ホルムヒドラジド、アセトヒドラジド、プロピオン酸ヒドラジド、シュウ酸ジヒドラジド、マロン酸ジヒドラジド、コハク酸ジヒドラジド、グルタル酸ジヒドラジド、アジピン酸ジヒドラジド、ピメリン酸ジヒドラジド、セバシン酸ジヒドラジド、１，４−シクロヘキサンジヒドラジド、酒石酸ジヒドラジド、リンゴ酸ジヒドラジド、イミノジ酢酸ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビスセミカルバジド、クエン酸トリヒドラジド、ニトリロ酢酸トリヒドラジド、シクロヘキサントリカルボン酸トリヒドラジド、１，３−ビス（ヒドラジノカルボノエチル）−５−イソプロピルヒダントイン等のヒダントイン骨格、好ましくはバリンヒダントイン骨格（ヒダントイン環の炭素原子がイソプロピル基で置換された骨格）を有するジヒドラジド化合物、トリス（１−ヒドラジノカルボニルメチル）イソシアヌレート、トリス（２−ヒドラジノカルボニルエチル）イソシアヌレート、トリス（１−ヒドラジノカルボニルエチル）イソシアヌレート、トリス（３−ヒドラジノカルボニルプロピル）イソシアヌレート、ビス（２−ヒドラジノカルボニルエチル）イソシアヌレート等をあげることができる。硬化反応性と潜在性のバランスから好ましくは、イソフタル酸ジヒドラジド、マロン酸ジヒドラジド、アジピン酸ジヒドラジド、トリス（１−ヒドラジノカルボニルメチル）イソシアヌレート、トリス（１−ヒドラジノカルボニルエチル）イソシアヌレート、トリス（２−ヒドラジノカルボニルエチル）イソシアヌレート、トリス（３−ヒドラジノカルボニルプロピル）イソシアヌレートであり、特に好ましくはトリス（２−ヒドラジノカルボニルエチル）イソシアヌレートである。
成分（Ｃ）は単独で用いても良いし、２種類以上を混合しても良い。本発明の液晶シール剤において、成分（Ｃ）を使用する場合には、液晶光学素子用液晶シール剤総量中、通常０．１〜１０質量％、好ましくは１〜５質量％である。
【００２０】
［（Ｄ）シランカップリング剤］
本発明の液晶光学素子用シール剤は、成分（Ｄ）としてシランカップリング剤を添加して、接着強度や耐湿性の向上を図ることができる。
成分（Ｄ）としては、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）３−アミノプロピルメチルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−（ビニルベンジルアミノ）エチル）３−アミノプロピルトリメトキシシラン塩酸塩、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。これらのシランカップリング剤はＫＢＭシリーズ、ＫＢＥシリーズ等として信越化学工業株式会社等によって販売されている為、市場から容易に入手可能である。本発明の液晶シール剤において、成分（Ｄ）を使用する場合には、液晶光学素子用液晶シール剤総量中、０．０５〜３質量％が好適である。
【００２１】
［（Ｅ）熱ラジカル重合開始剤］
本発明の液晶光学素子用液晶シール剤は、（Ｅ）熱ラジカル重合開始剤を用いて、硬化速度、硬化度の向上を図ることができる。
熱ラジカル重合開始剤は、加熱によりラジカルを生じ、連鎖重合反応を開始させる化合物であれば特に限定されないが、有機過酸化物、アゾ化合物、ベンゾイン化合物、ベンゾインエーテル化合物、アセトフェノン化合物、ベンゾピナコール等が挙げられ、ベンゾピナコールが好適に用いられる。例えば、有機過酸化物としては、カヤメックＲＴＭＡ、Ｍ、Ｒ、Ｌ、ＬＨ、ＳＰ-３０Ｃ、パーカドックスＣＨ−５０Ｌ、ＢＣ−ＦＦ、カドックスＢ−４０ＥＳ、パーカドックス１４、トリゴノックスＲＴＭ２２−７０Ｅ、２３−Ｃ７０、１２１、１２１−５０Ｅ、１２１−ＬＳ５０Ｅ、２１−ＬＳ５０Ｅ、４２、４２ＬＳ、カヤエステルＲＴＭＰ−７０、ＴＭＰＯ−７０、ＣＮＤ−Ｃ７０、Ｏ−５０Ｅ、ＡＮ、カヤブチルＲＴＭＢ、パーカドックス１６、カヤカルボンＲＴＭＢＩＣ−７５、ＡＩＣ−７５（化薬アクゾ株式会社製）、パーメックＲＴＭＮ、Ｈ、Ｓ、Ｆ、Ｄ、Ｇ、パーヘキサＲＴＭＨ、ＨＣ、パＴＭＨ、Ｃ、Ｖ、２２、ＭＣ、パーキュアーＲＴＭＡＨ、ＡＬ、ＨＢ、パーブチルＲＴＭＨ、Ｃ、ＮＤ、Ｌ、パークミルＲＴＭＨ、Ｄ、パーロイルＲＴＭＩＢ、ＩＰＰ、パーオクタＲＴＭＮＤ、（日油株式会社製）などが市販品として入手可能である。
【００２２】
また、アゾ化合物としては、ＶＡ−０４４、Ｖ−０７０、ＶＰＥ−０２０１、ＶＳＰ−１００１（和光純薬工業株式会社製）等が市販品として入手可能である。なお、本明細書中、上付きのＲＴＭは登録商標を意味する。
【００２３】
成分（Ｆ）として好ましいものは、分子内に酸素−酸素結合（−Ｏ−Ｏ−）又は窒素−窒素結合（−Ｎ＝Ｎ−）を有さない熱ラジカル重合開始剤である。分子内に酸素−酸素結合（−Ｏ−Ｏ−）や窒素−窒素結合（−Ｎ＝Ｎ−）を有する熱ラジカル重合開始剤は、ラジカル発生時に多量の酸素や窒素を発するため、液晶光学素子用液晶シール剤中に気泡を残した状態で硬化し、接着強度等の特性を低下させる虞がある。ベンゾピナコール系の熱ラジカル重合開始剤（ベンゾピナコールを化学的に修飾したものを含む）が特に好適である。具体的には、ベンゾピナコール、１,２−ジメトキシ−１，１,２，２−テトラフェニルエタン、１,２−ジエトキシ−１，１,２，２−テトラフェニルエタン、１,２−ジフェノキシ−１，１,２，２−テトラフェニルエタン、１,２−ジメトキシ−１，１,２，２−テトラ（４−メチルフェニル）エタン、１,２−ジフェノキシ−１，１,２，２−テトラ（４−メトキシフェニル）エタン、１,２−ビス（トリメチルシロキシ）−１，１,２，２−テトラフェニルエタン、１,２−ビス（トリエチルシロキシ）−１，１,２，２−テトラフェニルエタン、１,２−ビス（ｔ−ブチルジメチルシロキシ）−１，１,２，２−テトラフェニルエタン、１−ヒドロキシ−２−トリメチルシロキシ−１，１,２，２−テトラフェニルエタン、１−ヒドロキシ−２−トリエチルシロキシ−１，１,２，２−テトラフェニルエタン、１−ヒドロキシ−２−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−１，１,２，２−テトラフェニルエタン等、が挙げられ、好ましくは１−ヒドロキシ−２−トリメチルシロキシ−１，１,２，２−テトラフェニルエタン、１−ヒドロキシ−２−トリエチルシロキシ−１，１,２，２−テトラフェニルエタン、１−ヒドロキシ−２−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−１，１,２，２−テトラフェニルエタン、１,２−ビス（トリメチルシロキシ）−１，１,２，２−テトラフェニルエタンであり、さらに好ましくは１−ヒドロキシ−２−トリメチルシロキシ−１，１,２，２−テトラフェニルエタン、１,２−ビス（トリメチルシロキシ）−１，１,２，２−テトラフェニルエタンであり、特に好ましくは１,２−ビス（トリメチルシロキシ）−１，１,２，２−テトラフェニルエタンである。
上記ベンゾピナコールは東京化成工業株式会社、和光純薬工業株式会社等から市販されている。また、ベンゾピナコールのヒドロキシ基をエーテル化することは、周知の方法によって容易に合成可能である。また、ベンゾピナコールのヒドロキシ基をシリルエーテル化することは、対応するベンゾピナコールと各種シリル化剤をピリジン等の塩基性触媒下で加熱させる方法により合成して得ることができる。シリル化剤としては、一般に知られているトリメチルシリル化剤であるトリメチルクロロシラン（ＴＭＣＳ）、ヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ）、Ｎ,Ｏ−ビス（トリメチルシリル）トリフルオロアセトアミド(ＢＳＴＦＡ）やトリエチルシリル化剤としてトリエチルクロロシラン（ＴＥＣＳ）、ｔ−ブチルジメチルシリル化剤としてｔ−ブチルメチルシラン（ＴＢＭＳ）等が挙げられる。これらの試薬はシリコン誘導体メーカー等の市場から容易に入手することが出来る。シリル化剤の反応量としては対象化合物のヒドロキシ基１モルに対して１．０〜５．０倍モルが好ましい。さらに好ましくは１．５〜３．０倍モルである。１．０倍モルより少ないと反応効率が悪く、反応時間が長くなるため熱分解を促進してしまう。５．０倍モルより多いと回収の際に分離が悪くなったり、精製が困難になったりしてしまう。
【００２４】
成分（Ｅ）は粒径を細かくし、均一に分散することが好ましい。その平均粒径は、大きすぎると狭ギャップの液晶表示セル製造時に上下ガラス基板を貼り合わせる際のギャップ形成が上手くできない等の不良要因となるため、５μｍ以下が好ましく、より好ましくは３μｍ以下である。また、際限なく細かくしても差し支えないが、通常下限は０．１μｍ程度である。粒径はレーザー回折・散乱式粒度分布測定器（乾式）（株式会社セイシン企業製；ＬＭＳ−３０）により測定できる。
【００２５】
成分（Ｅ）の含有量としては、液晶光学素子用液晶シール剤の総量中、０．０００１〜１０質量％であることが好ましく、さらに好ましくは０．０００５〜５質量％であり、０．００１〜３質量％が特に好ましい。
【００２６】
［（Ｆ）光ラジカル重合開始剤］
本発明の液晶光学素子用シール剤は、（Ｆ）光ラジカル重合開始剤を含有する。
光ラジカル重合開始剤は、紫外線や可視光の照射によって、ラジカルを生じ、連鎖重合反応を開始させる化合物であれば特に限定されないが、例えば、ベンジルジメチルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ジエチルチオキサントン、ベンゾフェノン、２−エチルアンスラキノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、２−メチル−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノ−１−プロパン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスヒンオキサイド、カンファーキノン、９−フルオレノン、ジフェニルジスルヒド等を挙げることができる。具体的には、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ  ６５１、１８４、２９５９、１２７、９０７、３６９、３７９ＥＧ、８１９、７８４、７５４、５００、ＯＸＥ０１、ＯＸＥ０２、ＤＡＲＯＣＵＲＥＲＴＭ１１７３、ＬＵＣＩＲＩＮＲＴＭ  ＴＰＯ（いずれもＢＡＳＦ社製）、セイクオールＲＴＭＺ、ＢＺ、ＢＥＥ、ＢＩＰ、ＢＢＩ（いずれも精工化学株式会社製）等を挙げることができる。
また、液晶汚染性の観点から、分子内に（メタ）アクリル基を有するものを使用する事が好ましく、例えば２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネートと１−[４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル]−２−ヒドロキシ−２メチル−１−プロパン−１−オンとの反応生成物が好適に用いられる。この化合物は国際公開第２００６／０２７９８２号記載の方法にて製造して得ることができる。
【００２７】
［（Ｇ）有機フィラー］
本発明の液晶光学素子用液晶シール剤は、（Ｇ）有機フィラーを用いて、接着強度の向上を図ることができる。成分（Ｇ）有機フィラーとしては、例えばウレタン微粒子、アクリル微粒子、スチレン微粒子、スチレンオレフィン微粒子及びシリコーン微粒子が挙げられる。
上記アクリル微粒子を使用する場合、２種類のアクリルゴムからなるコアシェル構造のアクリルゴムである場合が好ましく、特に好ましくはコア層がｎ−ブチルアクリレートであり、シェル層がメチルメタクリレートであるものが好ましい。これはゼフィアックＲＴＭＦ−３５１としてアイカ工業株式会社から販売されている。
これらのものは、単独で用いても良いし、２種以上を併用しても良い。また、好ましくは、ゴム粉末の形状は、添加後の粘度の増粘が少ない球状が良い。本発明の液晶光学素子用液晶シール剤において、成分（Ｇ）を使用する場合には、液晶光学素子用液晶シール剤の総量中、通常５〜５０質量％、好ましくは５〜４０質量％である。
【００２８】
本発明の液晶光学素子用液晶シール剤には、さらに必要に応じて、有機酸やイミダゾール等の硬化促進剤、ラジカル重合防止剤、顔料、レベリング剤、消泡剤、溶剤などの添加剤を配合することができる。
上記硬化促進剤としては、有機酸やイミダゾール等を挙げることができる。
有機酸としては、有機カルボン酸や有機リン酸等が挙げられるが、有機カルボン酸である場合が好ましい。具体的には、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、フランジカルボン酸等の芳香族カルボン酸、コハク酸、アジピン酸、ドデカン二酸、セバシン酸、チオジプロピオン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、トリス（２−カルボキシメチル）イソシアヌレート、トリス（２−カルボキシエチル）イソシアヌレート、トリス（２−カルボキシプロピル）イソシアヌレート、ビス（２−カルボキシエチル）イソシアヌレート等を挙げることができる。
また、イミダゾール化合物としては、２−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−ウンデシルイミダゾール、２−ヘプタデシルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾール、１−ベンジル−２−フェニルイミダゾール、１−ベンジル−２−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−フェニルイミダゾール、１−シアノエチル−２−ウンデシルイミダゾール、２，４−ジアミノ−６（２’−メチルイミダゾール（１’））エチル−ｓ−トリアジン、２，４−ジアミノ−６（２’−ウンデシルイミダゾール（１’））エチル−ｓ−トリアジン、２ ，４−ジアミノ−６（２ ’−エチル−４−メチルイミダゾール（１’））エチル−ｓ−トリアジン、２，４− ジアミノ−６（２’−メチルイミダゾール（１ ’））エチル−ｓ−トリアジン・イソシアヌル酸付加物、２−メチルイミダゾールイソシアヌル酸の２：３付加物、２−フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、２−フェニル−３，５−ジヒドロキシメチルイミダゾール、２−フェニル−４−ヒドロキシメチル−５−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−フェニル−３，５−ジシアノエトキシメチルイミダゾール等が挙げられる。
本発明の液晶光学素子用液晶シール剤において、硬化促進剤を使用する場合には、液晶シール剤の総量中、通常０．１〜１０質量％、好ましくは１〜５質量％である。
【００２９】
上記ラジカル重合防止剤としては、光ラジカル重合開始剤や熱ラジカル重合開始剤等から発生するラジカルと反応して重合を防止する化合物であれば特に限定されるものではなく、キノン系、ピペリジン系、ヒンダードフェノール系、ニトロソ系等を用いることができる。具体的には、ナフトキノン、２−ヒドロキシナフトキノン、２−メチルナフトキノン、２−メトキシナフトキノン、２，２，６，６，−テトラメチルピペリジン−１−オキシル、２，２，６，６，−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジン−１−オキシル、２，２，６，６，−テトラメチル−４−メトキシピペリジン−１−オキシル、２，２，６，６，−テトラメチル−４−フェノキシピペリジン−１−オキシル、ハイドロキノン、２−メチルハイドロキノン、２−メトキシハイドロキノン、パラベンゾキノン、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチルクレゾール、ステアリルβ−（３，５−ジｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオビス−３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、３，９−ビス[１，１−ジメチル−２−[β―（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ]エチル]、２，４，８，１０−テトラオキサスピロ[５，５]ウンデカン、テトラキス−[メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニルプロピオネート）メタン、１，３，５−トリス（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンジル）−ｓｅｃ−トリアジン−２，４，６−（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）トリオン、パラメトキシフェノール、４−メトキシ−１−ナフトール、チオジフェニルアミン、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシアミンのアルミニウム塩、商品名アデカスタブＬＡ−８１、商品名アデカスタブＬＡ−８２（株式会社アデカ製）等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらのうちナフトキノン系、ハイドロキノン系、ニトロソ系ピペラジン系のラジカル重合防止剤が好ましく、ナフトキノン、２−ヒドロキシナフトキノン、ハイドロキノン、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−Ｐ−クレゾール、ポリストップ７３００Ｐ（伯東株式会社製）が更に好ましく、ポリストップ７３００Ｐ（伯東株式会社製）が最も好ましい。
ラジカル重合防止剤の含有量としては本発明の液晶光学素子用液晶シール剤総量中、０．０００１〜１質量％が好ましく、０．００１〜０．５質量％が更に好ましく、０．０１〜０．２質量％が特に好ましい。
【００３０】
本発明の液晶光学素子用シール剤を得る方法の一例としては、次に示す方法がある。まず、成分（Ａ）に必要に応じて必要に応じて（Ｆ）、重合禁止剤等を加熱溶解する。次いで室温まで冷却後、成分（Ｂ）を添加し、必要に応じて成分（Ｃ）、成分（Ｄ）、成分（Ｅ）、成分（Ｇ）並びに有機酸、硬化促進剤、レベリング剤等を添加し、公知の混合装置、例えば３本ロール等により均一に混合し、金属メッシュにて濾過することにより本発明の液晶シール剤を製造することができる。
【００３１】
本発明の液晶光学素子用セルは、基板に所定の電極を形成した一対の基板を所定の間隔に対向配置し、周囲を本発明の液晶光学素子用シール剤でシールし、その間隙に液晶が封入されたものである。封入される液晶の種類は特に限定されない。ここで、基板とはガラス、石英、プラスチック、シリコン等からなる少なくとも一方に光透過性がある組み合わせの基板から構成される。その製法としては、本発明の液晶シール剤に、グラスファイバー等のスペーサ（間隙制御材）を添加後、該一対の基板の一方にディスペンサー、またはスクリーン印刷装置等を用いて該液晶光学素子用液晶シール剤を塗布した後、必要に応じて、６０〜１２０℃で仮硬化を行う。その後、該液晶光学素子用液晶シール剤の堰の内側に液晶を滴下し、真空中にてもう一方のガラス基板を重ね合わせ、ギャップ出しを行う。ギャップ形成後、紫外線照射機により液晶シール剤部に紫外線を照射させて光硬化させる。紫外線照射量は、好ましくは５００〜１００００ｍＪ／ｃｍ２、より好ましくは１０００〜６０００ｍＪ／ｃｍ２の照射量が好ましい。その後必要に応じて、９０〜１４０℃で３０分〜１２０分硬化することにより本発明の液晶表示セルを得ることができる。このようにして得られた本発明の液晶光学素子用セルは、液晶汚染による表示不良が無く、接着性、耐湿信頼性に優れたものである。スペーサとしては、例えばグラスファイバー、シリカビーズ、ポリマービーズ等があげられる。その直径は、目的に応じ異なるが、通常２〜７０μｍ、好ましくは４〜６０μｍである。その使用量は、本発明の液晶シール剤１００質量％に対し通常０．１〜４質量％、好ましくは０．５〜２質量％、更に、好ましくは０．９〜１．５質量％程度である。
【実施例】
【００３２】
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。尚、特別の記載のない限り、本文中「部」及び「％」とあるのは質量基準である。
【００３３】
[合成例１]
[ビスフェノールＡ型ジグリシジルエーテルの全アクリル化物の合成]
ビスフェノールＡ型ジグリシジルエーテル２８２．５ｇ（製品名：ＹＤ−８１２５、新日鉄化学株式会社製）をトルエン２６６．８ｇに溶解し、これに重合禁止剤としてジブチルヒドロキシトルエン０．８ｇを加え、６０℃まで昇温した。その後、エポキシ基の１００％当量のアクリル酸１１７．５ｇを加え更に８０℃まで昇温し、これに反応触媒であるトリメチルアンモニウムクロライド０．６ｇを添加して、９８℃で約３０時間攪拌し、反応液を得た。この反応液を水洗し、トルエンを留去することにより、目的とするビスフェノールＡ型エポキシ化合物のアクリルエステル化物３９５ｇを得た。
【００３４】
[合成例２]
[レゾルシンジグリシジルエーテルの全アクリル化物の合成]
[工程１]
温度計、滴下ロート、冷却管、攪拌器を取り付けたフラスコにレゾルシン５５００ｇ、エピクロルヒドリン３７０００ｇテトラメチルアンモニウムクロライド５００ｇを加え撹拌下で溶解し、７０℃まで昇温した。次いで、フレーク状の水酸化ナトリウム４０００ｇを１００分かけて分割添加した後、更に７０℃で１時間、後反応を行った。反応終了後、水１５０００ｇを加えて水洗した後、油層から１３０℃で減圧下、過剰のエピクロルヒドリンなどを留去した。残留物にメチルイソブチルケトン２２２００ｇを加え溶解し、７０℃にまで昇温した。撹拌下で３０％の水酸化ナトリウム水溶液を１０００ｇ加え１時間反応を行った後、水５５５０ｇで水洗を３回行い、１８０℃で減圧下メチルイソブチルケトンを留去し、レゾルシンジグリシジルエーテル１０５５０ｇを得た。得られたエポキシ化合物のエポキシ当量は１２９ｇ／ｅｑであった。
[工程２]
上記合成例１で得られたレゾルシンジグリシジルエーテル１８１．２ｇをトルエン２６６．８ｇに溶解し、これに重合禁止剤としてジブチルヒドロキシトルエン０．８ｇを加え６０℃まで昇温した。その後、エポキシ基の１００％当量のアクリル酸１１７．５ｇを加え、さらに８０℃まで昇温し、これに反応触媒であるトリメチルアンモニウムクロライド０．６ｇを添加して９８℃で約３０時間撹拌した。得られた反応液を水洗し、トルエンを留去することにより、目的とするレゾルシンジグリシジルエーテルのアクリルエステル化物２５３ｇを得た。
【００３５】
[合成例３]
[１,２−ビス（トリメチルシロキシ）−１，１,２，２−テトラフェニルエタンの合成]
市販ベンゾピナコール（東京化成工業株式会社製）１００部（０．２８モル）をジメチルホルムアルデヒド３５０部に溶解させた。これに塩基触媒としてピリジン３２部（０．４モル）、シリル化剤としてＢＳＴＦＡ（信越化学工業株式会社製）１５０部（０．５８モル）を加え７０℃まで昇温し、２時間攪拌した。得られた反応液を冷却し、攪拌しながら、水２００部を入れ、生成物を沈殿させると共に未反応シリル化剤を失活させた。沈殿した生成物をろ別分離した後十分に水洗した。次いで得られた生成物をアセトンに溶解し、水を加えて再結晶させ、精製した。目的の１, ２−ビス（トリメチルシロキシ）−１，１, ２，２−テトラフェニルエタンを１０５．６部（収率８８．３％）得た。
ＨＰＬＣ(高速液体クロマトグラフィー）で分析した結果、純度は９９．０％（面積百分率）であった。
【００３６】
[実施例１〜４、比較例１〜３の調製]
下記表１に示す割合で合成例１で合成した化合物、合成例２で合成した化合物等の硬化性化合物（成分（Ａ））に、光ラジカル重合開始剤（成分（Ｆ））、重合禁止剤等を加え、９０℃で加熱溶解した。室温まで冷却し、無機フィラー（成分（Ｂ））、熱硬化剤（成分（Ｃ））、シランカップリング剤（成分（Ｄ））、熱ラジカル重合開始剤（成分（Ｅ））、有機フィラー、有機酸等を加え、攪拌した後、３本ロールミルにて分散させ、金属メッシュ（６３５メッシュ）で濾過し、液晶光学素子用液晶シール剤（実施例１〜４、比較例１〜３）を調製した。
【００３７】
[吸水率測定]
実施例、比較例で製造された液晶光学素子用液晶シール剤をポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムに挟み厚み１００μｍの薄膜としたものをメタルハライドランプ(ウシオ電機株式会社製)３０００ｍＪ／ｃｍ＾２（１００Ｗ、３０秒）照射後１２０℃オーブンに１時間投入し硬化させ、硬化後ＰＥＴフィルムをはがしシール剤硬化膜を得られたのち、これを２０ｍｍ×５０ｍｍの短冊状にカットする事でサンプル片とした。得られたサンプル片をＪＩＳ−Ｋ７２０９  Ｄ法に準拠し、２５℃５０％ＲＨの条件において２４時間安定化させたのちに初期重量を測定し、８５℃８５％ＲＨの条件において２４時間吸水させたのちに重量を測定し吸水後重量とした。測定後下記式によって吸水率を算出した。
吸水率（％）＝（（吸水後重量（ｇ）−初期重量（ｇ））／初期重量（ｇ））×１００（％）
【００３８】
（評価用液晶セルの作成）
透明電極付き基板に配向膜液（ＰＩＡ−５５４０−０５Ａ；ＪＮＣ株式会社製）を塗布、焼成し、ラビング処理を施した。この基板に得られた液晶シール剤を貼り合せ後の線幅が１ｍｍとなるようにメインシールおよびダミーシールを縦３０ｍｍ横４０ｍｍの長方形にディスペンスし、次いで液晶（ＪＣ−５０１５ＬＡ;ＪＮＣ株式会社製）の微小滴をシールパターンの枠内に滴下した。更にもう一枚のラビング処理済み基板に面内スペーサ（ハヤビーズ  ＳＤ−ＢＤ  直径３０μｍ：早川ゴム株式会社；貼り合せ後のギャップ幅３０μｍ）を散布、貼り合せ装置を用いて真空中で先の液晶滴下済み基板と貼り合せた。大気開放してギャップ形成した後、シールパターン枠内のみマスクをしてＵＶ照射機により３０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射後、オーブンに投入して１２０℃１時間熱硬化させた。その後ダミーシール部分の基板を切りおとし、評価用液晶セルを作成した。
【００３９】
[初期のシール近傍の液晶配向の評価]
作成した評価用液晶セルのシール近傍の液晶配向乱れを偏光顕微鏡にて観察し、シール近傍の液晶配向について以下に示す基準に従って評価を行った。結果を表１に示す。
（シール近傍の液晶配向の評価）
○：液晶の配向乱れがシールから０．２ｍｍ未満である。
△：液晶の配向乱れがシールから０．２ｍｍ以上０．４ｍｍ未満である。
×：液晶の配向乱れがシールから０．４ｍｍ以上である。
【００４０】
[高温高湿試験後の液晶シール剤の膨潤評価]
上記で作成した評価用液晶セルを８５℃８５％に設定した高温高湿試験機に投入し、２４時間経過後の液晶セルの液晶光学素子用液晶シール剤の膨潤度合確認のためニュートンリングの有無を以下に示す基準に従って確認した。結果を表１に示す。
（高温高湿試験後の液晶シール剤の膨潤評価）
○：目視にてパネルにニュートンリングが観察できない。
×：目視にてパネルにニュートンリングが観察できる。
【００４１】
[高温高湿試験後のシール近傍の液晶配向の評価]
さらに高温高湿試験後の評価用液晶セルの液晶光学素子用液晶シール剤近傍の液晶配向乱れを偏光顕微鏡にて観察し、シール近傍の液晶配向について以下の基準に従って評価を行った。結果を表１に示す。
（高温高湿試験後のシール近傍の液晶配向の評価）
○：液晶の配向乱れがシールから０．２ｍｍ未満である。
△：液晶の配向乱れがシールから０．２ｍｍ以上０．４ｍｍ未満である。
×：液晶の配向乱れがシールから０．４ｍｍ以上である。
【００４２】
【表１】
0006635512.tif 000002
【００４３】
表１の結果より、本願発明の実施例１〜４は、高温高湿試験後でも液晶光学素子用シール剤の体積膨張がなく、また低液晶汚染性にも優れる結果を示した。一方比較例に記載の液晶シール剤は高温高湿試験後に体積膨張があり、寸法安定性が問題となる為、液晶光学素子用シール剤としては使用できない。このことから本願発明は高温高湿試験後の信頼性に非常に優れた液晶光学素子用シール剤であり、またこれを用いた製造された液晶光学素子用セルの信頼性も優れたものであると言える。
【産業上の利用可能性】
【００４４】
本発明の液晶光学素子用シール剤は、高温高湿試験後の液晶表示特性に与える影響が極めて小さい為、信頼性の高い液晶表示素子の製造を実現することができる。