(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象物を、上部対象物及び下部対象物に分離する対象物分離工程であって、前記上部対象物の下端面が水平面に対して斜めの面となるように分離する対象物分離工程と、
前記上部対象物及び前記下部対象物を相互に離間させることにより、前記上部対象物と前記下部対象物との間に介装空間を形成する介装空間形成工程と、
前記介装空間を囲繞する介装型枠を施工する介装型枠施工工程と、
前記介装型枠施工工程の後に、前記介装空間の下部から、前記介装空間に対してセメント硬化体を注入する介装空間注入工程と、を含み、
前記対象物における外縁部の少なくとも一部を除去して、前記対象物における中心部を残置させることにより、当該中心部の周囲に外縁空間を形成する外縁部除去工程と、
前記介装空間注入工程の後に、前記外縁空間を囲繞する外縁型枠を施工する外縁型枠施工工程と、
前記外縁空間の下部から、前記外縁空間に対してセメント硬化体を注入する外縁空間注入工程と、を更に含み、
前記対象物分離工程において、前記対象物の中心部を、上部対象物及び下部対象物に分離する、
セメント硬化体介装方法。
【請求項２】
前記外縁部除去工程において、前記外縁部における除去された部分と除去されていない部分の上方の境界面が、水平面に対して斜めの面となるように前記外縁部を除去する、
請求項１に記載のセメント硬化体介装方法。
【請求項３】
前記対象物は、鉛直方向に沿った主筋が前記外縁部を貫通する柱であって、
前記外縁部に位置する主筋を、上部対象物側の上部主筋、及び下部対象物側の下部主筋に分離する主筋分離工程と、
前記介装空間形成工程の後に、相互に分離された前記上部主筋と前記下部主筋とを相互に接続する主筋接続工程と、を含む、
請求項１又は２に記載のセメント硬化体介装方法。
【請求項４】
前記介装空間に注入されるセメント硬化体は、モルタルである、
請求項１から３のいずれか一項に記載のセメント硬化体介装方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、セメント硬化体介装方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、柱に対して免震装置を後付する工法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。このような工法では、柱を上部柱と下部柱とに分離して、相互に離間し、上部柱と下部柱との間に形成された介装空間にセメント硬化体（例えばモルタル等）を介装していた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１１−１７９２５２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上述した工法では、介装空間に充填したセメント硬化体に気泡が混入してしまう可能性があり、柱の強度が低下してしまう可能性があった。したがって、介装空間に充填したセメント硬化体に気泡が混入してしまう事を防止でき、対象物（例えば柱）の強度を維持しつつ上部柱及び下部柱を相互に離間させる事が可能な工法が要望されていた。
【０００５】
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、介装空間に充填したセメント硬化体に気泡が混入してしまう事を防止でき、対象物の強度を維持しつつ上部対象物及び下部対象物を相互に離間させる事が可能なセメント硬化体介装方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、請求項１に記載のセメント硬化体介装方法は、対象物を、上部対象物及び下部対象物に分離する対象物分離工程であって、前記上部対象物の下端面が水平面に対して斜めの面となるように分離する対象物分離工程と、前記上部対象物及び前記下部対象物を相互に離間させることにより、前記上部対象物と前記下部対象物との間に介装空間を形成する介装空間形成工程と、前記介装空間を囲繞する介装型枠を施工する介装型枠施工工程と、前記介装型枠施工工程の後に、前記介装空間の下部から、前記介装空間に対してセメント硬化体を注入する介装空間注入工程と、を含み、前記対象物における外縁部の少なくとも一部を除去して、前記対象物における中心部を残置させることにより、当該中心部の周囲に外縁空間を形成する外縁部除去工程と、前記介装空間注入工程の後に、前記外縁空間を囲繞する外縁型枠を施工する外縁型枠施工工程と、前記外縁空間の下部から、前記外縁空間に対してセメント硬化体を注入する外縁空間注入工程と、を更に含み、前記対象物分離工程において、前記対象物の中心部を、上部対象物及び下部対象物に分離する。
【０００８】
請求項２に記載のセメント硬化体介装方法は、請求項１に記載のセメント硬化体介装方法において、前記外縁部除去工程において、前記外縁部における除去された部分と除去されていない部分の上方の境界面が、水平面に対して斜めの面となるように前記外縁部を除去する。
【０００９】
請求項３に記載のセメント硬化体介装方法は、請求項１又は２に記載のセメント硬化体介装方法において、前記対象物は、鉛直方向に沿った主筋が前記外縁部を貫通する柱であって、前記外縁部に位置する主筋を、上部対象物側の上部主筋、及び下部対象物側の下部主筋に分離する主筋分離工程と、前記介装空間形成工程の後に、相互に分離された前記上部主筋と前記下部主筋とを相互に接続する主筋接続工程と、を含む。
【００１０】
請求項４に記載のセメント硬化体介装方法は、請求項１から３のいずれか一項に記載のセメント硬化体介装方法において、前記介装空間に注入されるセメント硬化体は、モルタルである。
【発明の効果】
【００１１】
請求項１に記載のセメント硬化体介装方法によれば、対象物を、上部対象物の下端面が水平面に対して斜めの面となるように分離し、介装空間の下部から介装空間に対してセメント硬化体を注入するので、介装空間に注入したセメント硬化体に気泡が混入してしまう事を防止でき、上部対象物及び下部対象物を相互に離間させる事に伴う対象物の強度低下を抑止する事が可能となる。
また、中心部に位置する介装空間にセメント硬化体を注入した後に、外縁空間にセメント硬化体を注入するので、介装空間と外縁空間とを異なるセメント硬化体で形成でき、例えば外縁空間に注入したコンクリートの如きセメント硬化体が沈降した場合であっても、沈降して形成された空隙箇所が対象物の外縁に位置しているため、容易に当該空隙箇所に対して他のセメント硬化体を充填等する事が可能となる。
【００１３】
請求項２に記載のセメント硬化体介装方法によれば、外縁部の上端面が水平面に対して斜めの面となるように外縁部を除去し、外縁空間の下部から外縁空間に対してセメント硬化体を注入するので、外縁空間に気泡が混入してしまう事を防止でき、上部対象物及び下部対象物を相互に離間させる事に伴う対象物の強度低下を一層確実に抑止する事が可能となる。
【００１４】
請求項３に記載のセメント硬化体介装方法によれば、主筋を分断して、介装空間形成工程の後に再度接続するので、柱に対しても当該セメント硬化体介装方法を適用する事が可能となる。
【００１５】
請求項４に記載のセメント硬化体介装方法によれば、介装空間に注入されるセメント硬化体はモルタルであり流動性が高いので、介装空間が狭い場合であっても介装空間の全体にセメント硬化体を介在させる事ができ、介装空間に気泡が混入してしまう事を一層確実に防止する事が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の実施の形態１に係るセメント硬化体介装方法が適用された建築物における対象柱周辺の断面図である。
【図２】セメント硬化体介装方法における手順１にて施工された建築物における対象柱周辺の断面図である。
【図３】セメント硬化体介装方法における手順２にて施工された建築物における対象柱周辺の断面図である。
【図４】セメント硬化体介装方法における手順３にて施工された建築物における対象柱周辺の断面図である。
【図５】セメント硬化体介装方法における手順４にて施工された建築物における対象柱周辺の断面図である。
【図６】セメント硬化体介装方法における手順５にて施工された建築物における対象柱周辺の断面図である。
【図７】セメント硬化体介装方法における手順６にて施工された建築物における対象柱周辺の断面図である。
【図８】本発明の実施の形態２に係るセメント硬化体介装方法が適用された建築物における対象柱周辺の断面図である。
【図９】セメント硬化体介装方法における手順１にて施工された建築物における対象柱周辺の断面図である。
【図１０】セメント硬化体介装方法における手順２にて施工された建築物における対象柱周辺の断面図である。
【図１１】セメント硬化体介装方法における手順３にて施工された建築物における対象柱周辺の断面図である。
【図１２】セメント硬化体介装方法における手順４にて施工された建築物における対象柱周辺の断面図である。
【図１３】セメント硬化体介装方法における手順５にて施工された建築物における対象柱周辺の断面図である。
【図１４】セメント硬化体介装方法における手順６にて施工された建築物における対象柱周辺の断面図である。
【図１５】セメント硬化体介装方法における手順７にて施工された建築物における対象柱周辺の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明に係るセメント硬化体介装方法の実施の形態について図面を参照しつつ詳細に説明する。ただし、この実施の形態によって本発明が限定されるものではない。
【００１８】
［実施の形態の基本的概念］
まずは、各実施の形態の基本的概念について説明する。各実施の形態は、概略的に、対象物を上部対象物と下部対象物とに分離し、上部対象物と下部対象物とを相互に離間させることにより上部対象物と下部対象物との間に介装空間を形成し、この介装空間にセメント硬化体を注入するセメント硬化体介装方法に関する。ここで、「対象物」とは、介装空間を形成する対象となる物であって、その用途や大きさ、形状等は任意である。例えば本実施の形態においては、建築物の柱であるものとして説明するが、例えば建築物の壁でも構わないし、建築物以外のもの（例えばオブジェ）であっても構わない。なお、この柱が設けられる階数や位置については任意であるが、各実施の形態においては、建築物の地下階における免震空間に設けられているものとして説明する。また、建築物の規模や用途については任意である。また、建築物の構造は任意であり、各実施の形態においては鉄筋コンクリート造であるものとして説明するが、鉄骨造、鉄骨鉄筋コンクリート造、又は木造等でも構わない。
【００１９】
［実施の形態の具体的内容］
次に、各実施の形態の具体的内容について説明する。
【００２０】
（実施の形態１）
最初に、実施の形態１について説明する。
【００２１】
（構成）
図１は、本実施の形態１に係るセメント硬化体介装方法が適用された建築物１における対象柱３０周辺の断面図である。この図１に示すように、本実施の形態１に係る建築物１は、上部躯体１０、下部躯体２０、対象柱３０、充填部４０、免震装置５０、上部ベースプレート６０、及び下部ベースプレート７０を備えて構成されている。ここで、以下では図１におけるＸ−Ｘ´方向を幅方向（特にＸ方向を右方向、Ｘ´方向を左方向）、Ｙ−Ｙ´方向（Ｘ−Ｚ平面に直交する方向）を奥行き方向（特にＹ方向（手前の方向）を前方向、Ｙ´方向（奥の方向）を後方向）、Ｚ−Ｚ´方向を高さ方向（特にＺ方向を上方向、Ｚ´方向を下方向）と必要に応じて称して説明する。
【００２２】
（構成−上部躯体）
上部躯体１０は、建築物１における免震空間の上方に位置する躯体であって、本実施の形態１においては、免震空間の上方に位置する全てのスラブや壁等を含む。ただし、図１においては、上部躯体１０のうち免震空間の直上に位置するスラブのみを図示し、他の部分の図示を省略している。なお、上部躯体１０の構成については公知であるため、詳細な説明を省略する。
【００２３】
（構成−下部躯体）
下部躯体２０は、建築物１における免震空間の下方に位置する躯体であって、本実施の形態１においては、免震空間の下方に位置する全てのスラブや壁等を含む。ただし、図１においては、下部躯体２０のうち免震空間の直下に位置するスラブのみを図示し、他の部分の図示を省略している。なお、下部躯体２０の構成については公知であるため、詳細な説明を省略する。
【００２４】
（構成−対象柱）
対象柱３０は、セメント硬化体（本実施の形態１では、コンクリート）が介装される対象となる対象物である。この対象柱３０は、建築物１の幅方向及び奥行き方向に沿って複数並設されており、各対象柱３０は高さ方向に沿って建築物１自体の高さと略同一高さとなるように延設された鉄筋コンクリート製の柱である。ただし、図１においては、これら複数の対象柱３０のうち一つのみに着目して図示している。また、図１においては、当該対象柱３０における上部躯体１０と下部躯体２０との間の一部分のみを図示しており、対象柱３０における他の部分については図示を省略している。ここで、この対象柱３０の具体的な形状については任意であり、例えば角柱形状でも構わないが、本実施の形態１では円柱形状に形成されている。ここで、この対象柱３０は、上部対象柱３１及び下部対象柱３２に分離されており、以下では、上部対象柱３１の下端面を「上部切断面」３３と称し、下部対象柱３２の上端面を「下部切断面」３４と称する。なお、上部切断面３３は、水平面に対して斜めの面（以下、斜面）となるように形成されており、下部切断面３４は、水平面となるように形成されている。
【００２５】
ここで、上部対象柱３１及び下部対象柱３２の間の空間全体を、以下では「分離空間」Ａ１と称する。そして、この分離空間Ａ１のうち特に、上部対象柱３１と下部対象柱３２をジャッキ８０（後述する図２参照）により相互に離間させることにより、上部対象柱３１と下部対象柱３２との間に形成された空間を「介装空間」Ａ２と称して説明する。具体的には、本実施の形態１において、介装空間Ａ２は充填部４０が介装される空間であって、上部ベースプレート６０の上面と上部対象柱３１の上部切断面３３との間の空間である。
【００２６】
ここで、この対象柱３０における外縁には、主筋３５及びフープ筋３６が設けられている。主筋３５は、対象柱３０の軸力を主に負担する鉄筋であって、鉛直方向に沿って延設されている。この主筋３５についても、対象柱３０と同様に上下に分離されており、このうち上部対象柱３１に連結されている主筋３５を「上部主筋」、下部対象柱３２に連結されている主筋３５を「下部主筋」と称して説明する。ただし、図１においては、上部切断面３３より下方に突出した上部主筋の一部分のみを図示しており、上部主筋における他の部分や、下部主筋については図示を省略している。
【００２７】
また、フープ筋３６は、対象柱３０のせん断力を主に負担する鉄筋であって、鉛直方向に沿って複数並設されており、各フープ筋３６はいずれも主筋３５を囲繞するように配置されている。ただし、図１においては、上部切断面３３より下方に突出した上部主筋の一部分に対して取り付けられたフープ筋３６のみを図示しており、上部主筋における他の部分に取り付けられたフープ筋３６や、下部主筋に取り付けられたフープ筋３６については図示を省略している。
【００２８】
（構成−充填部）
充填部４０は、介装空間Ａ２に対して注入されたセメント硬化体である。この充填部４０は、上部ベースプレート６０よりも上方、かつ上部切断面３３よりも下方に配置されており、上部ベースプレート６０と上部対象柱３１とを相互に連結する略円柱形状体である。なお、充填部４０の上端面は、斜面となるように形成されている。ここで、充填部４０に用いるセメント硬化体は任意であり、例えば、モルタル、セメントペースト、又はコンクリート等を適用する事ができるが、本実施の形態１においてはコンクリートを適用するものとして説明する。
【００２９】
ここで、充填部４０の内部には下端鉄筋４１が配筋されている。この下端鉄筋４１は、充填部４０の内部における下方に配置された餅網状の鉄筋であって、端部が鉛直上方向に折曲られており、この折り曲げられた部分と、主筋３５の下端部とが溶接されている。
【００３０】
（構成−免震装置）
免震装置５０は、建築物１の地震動を吸収する免震手段である。この免震装置５０は、上部プレートと下部プレートの相互間に配置されており、上部躯体１０と下部躯体２０とを相互に異なる方向に水平変位させる公知の免震ゴムを備えて構成されている。なお、免震装置５０は免震ゴムに限定されず、例えば公知の滑り支承や転がり支承を備えて構成しても構わない。そして、免震装置５０の上端は上部ベースプレート６０に対してボルト等で連結されており、免震装置５０の下端は下部ベースプレート７０に対してボルト等で連結されている。なお、この免震装置５０は複数のゴムを積層させた公知の構成であるため、詳細な説明を省略する。
【００３１】
（構成−上部ベースプレート）
上部ベースプレート６０は、免震装置５０を水平に設置するための鋼板であり、免震装置５０の上方に取り付けられている。この上部ベースプレート６０の具体的な構成は任意で、例えば本実施の形態１においては、多角形状の板状体に構成されている。
【００３２】
（構成−下部ベースプレート）
下部ベースプレート７０は、免震装置５０を水平に設置するための鋼板であり、免震装置５０の下方に取り付けられている。この下部ベースプレート７０の具体的な構成は任意で、例えば本実施の形態１においては、多角形状の板状体に構成されている。
【００３３】
（セメント硬化体介装方法）
続いて、セメント硬化体介装方法について説明する。本実施の形態１に係るセメント硬化体介装方法は、概略的に、建築物１を免震化する際に実施する方法であって、対象柱３０を切断して対象柱３０の一部を撤去する事により形成された空間に、免震装置５０を配置する方法である。
【００３４】
（セメント硬化体介装方法−手順１）
図２は、セメント硬化体介装方法における手順１にて施工された建築物１における対象柱３０周辺の断面図である。この図２の手順１に示すように、まずは、ジャッキ取り付け工程を行う。
【００３５】
ジャッキ取り付け工程は、上部躯体１０と下部躯体２０との間にジャッキ８０を取り付ける工程である。具体的には、上部躯体１０と下部躯体２０とを相互に離間させる方向に力を加える事が可能な離間手段（ジャッキ８０）を、免震空間に設置し、対象柱３０に係る上部躯体１０の荷重をジャッキ８０に移行させる。なお、このジャッキ８０の種類については任意であり、例えば公知の油圧ジャッキを用いて良い。
【００３６】
（セメント硬化体介装方法−手順２及び手順３）
図３は、セメント硬化体介装方法における手順２にて施工された建築物１における対象柱３０周辺の断面図、図４は、セメント硬化体介装方法における手順３にて施工された建築物１における対象柱３０周辺の断面図である。これら図３の手順２及び図４の手順の手順３に示すように、次に、対象柱分離工程を行う。
【００３７】
対象柱分離工程は、対象柱３０を、上部対象柱３１及び下部対象柱３２に分離する対象物分離工程であって、上部対象柱３１の下端面（すなわち、上部切断面３３）が水平面に対して斜めの面（斜面）となるように分離する対象物分離工程である。ここで、少なくとも上部切断面３３が斜面であれば構わず、下部切断面３４が斜面である必要はなく、本実施の形態１では、下部切断面３４は水平面となるように分離する。ただし、下部切断面３４が斜面であっても構わない。
【００３８】
このような分離を行う具体的な方法は任意であるが、本実施の形態１においては、まず図３に示すように、対象柱３０をワイヤーソーにより二箇所で切断する。この際には、対象柱３０を構成するコンクリート躯体部分と共に、対象柱３０に挿通された主筋３５も切断する。次に、図４に示すように、ウォータージェット等を用いて主筋３５の下端部を露出させる。なお、図示は省略するが、後述する配筋工程における主筋３５の定着長が十分に確保可能な程度に主筋３５を露出させる事が好ましく、例えば主筋３５の周囲のコンクリート躯体部分のみをより大きく斫っても構わない。
【００３９】
（セメント硬化体介装方法−手順４）
図５は、セメント硬化体介装方法における手順４にて施工された建築物１における対象柱３０周辺の断面図である。この図５の手順４に示すように、次に、配筋工程、及び介装空間形成工程を順次実施する。
【００４０】
配筋工程は、主筋３５の下端部に配筋を行う工程である。このように配筋を行う事で、上部対象柱３１に下方向の軸力等が加わること等に伴って主筋３５が外側に広がって変形してしまうことを防止する事が可能となる。具体的には、水平方向に沿って前後左右に配筋された餅網状の下端鉄筋４１を、主筋３５に対して定着させる。具体的には、下端鉄筋４１の端部は鉛直上方向に折曲られており、この折り曲げられた部分と、主筋３５の下端部とを溶接して接合する。
【００４１】
介装空間形成工程は、上部対象柱３１及び下部対象柱３２を相互に離間させることにより、上部対象柱３１と下部対象柱３２との間に介装空間Ａ２を形成する工程である。このように離間させる具体的な方法については任意である。
【００４２】
（セメント硬化体介装方法−手順５）
図６は、セメント硬化体介装方法における手順５にて施工された建築物１における対象柱３０周辺の断面図である。この図６の手順５に示すように、次に、免震装置設置工程を行う。
【００４３】
免震装置設置工程は、上部対象柱３１と下部対象柱３２との間に免震装置５０を設置する工程である。具体的には、まず下部対象柱３２の下部切断面３４に下部ベースプレート７０を設置する。この設置方法は公知の方法を採用できる。例えば、下部対象柱３２の下部切断面３４を斫って下部対象柱３２の主筋３５及びフープ筋３６を突出させ、この斫られた空間部に餅網状の鉄筋（上述した下端鉄筋４１を上下対称にしたもの）を載置して、当該餅網状の鉄筋を下部対象柱３２の主筋３５に定着させる。そして、この餅網状の鉄筋の上に下部ベースプレート７０を載置し、下部ベースプレート７０の上から下部対象柱３２のコンクリート躯体に下部アンカー７１を打ち込む。そして、斫られた部分にコンクリートを再度打設して下部ベースプレート７０の設置を完了する。ただし、上記に示した設置方法は一例に過ぎず、このような設置方法に限定されない。
【００４４】
次に、下部ベースプレート７０の上に免震装置５０を設置する。例えば、免震装置５０の下端を下部ベースプレート７０に対してボルトやナットを用いて固定することにより実施できる。最後に、免震装置５０の上に上部ベースプレート６０を設置する。例えば、免震装置５０の上端を上部ベースプレート６０に対してボルトやナットを用いて固定することにより実施できる。そして、上部ベースプレート６０の下面から、介装空間Ａ２に至るように上部アンカー６１を施工する。
【００４５】
なお、本実施の形態１においては、これらの下部ベースプレート７０、免震装置５０、及び上部ベースプレート６０を順次設置したが、これに限らず、下部ベースプレート７０と免震装置５０と上部ベースプレート６０を相互に組み立ててから下部対象柱３２の上に設置しても構わない。
【００４６】
（セメント硬化体介装方法−手順６）
図７は、セメント硬化体介装方法における手順６にて施工された建築物１における対象柱３０周辺の断面図である。この図７の手順６に示すように、次に、型枠設置工程及び充填部注入工程を行う。
【００４７】
型枠設置工程は、介装空間Ａ２を囲繞する介装型枠９０を施工する介装型枠施工工程である。この介装型枠９０は、上部ベースプレート６０を上部対象柱３１に対して固定するための充填部４０を打設するための型枠である。具体的に、介装型枠９０は、介装空間Ａ２の周囲を覆うように形成されており、対象柱３０の径よりも僅かに（例えば、１０ｃｍ）径の大きい中空円筒形状体である。このように介装型枠９０の径を対象柱３０の径よりも大きくすることにより、介装型枠９０と上部対象柱３１との間に隙間（以下、充填確認孔９１）を形成することができるので、後述する充填部４０注入工程にて充填部４０を介装空間Ａ２に注入した際に、充填確認孔９１から介装型枠９０内部を目視することで、介装空間Ａ２に充填部４０が充満されたか否かを確認できる。
【００４８】
充填部注入工程は、型枠設置工程の後に、介装空間Ａ２の下部から、介装空間Ａ２に対して充填部４０を注入する介装空間注入工程である。ここで、「介装空間Ａ２の下部から」とは、介装空間Ａ２において充填部４０が下方から上方に向かって充填されていくように注入する事である。具体的に、本実施の形態１においては、介装型枠９０の側面の下方に孔を空け、当該孔に対して充填部４０を注入するためのホース９２を取り付け、このホース９２を介して充填部４０を注入する。そして、充填確認孔９１から介装型枠９０の内部を目視して、充填部４０が介装型枠９０の上端まで充填された事を確認したら、充填部４０が介装空間Ａ２に充満されたものと判断して注入を停止し、ホース９２を引き抜いて充填部４０を硬化させる。ただし、このような注入方法に限らず、例えば上記の充填確認孔９１から、介装型枠９０の内部に充填部４０を注入しても構わない。すなわち、このように充填確認孔９１から充填部４０を注入しても、介装空間Ａ２において充填部４０が下方から上方に向かって充填されるように注入する事ができる。このように介装空間Ａ２の下部から充填することにより、充填部４０が上部切断面３３の斜面を伝うように充填されていくため、上部切断面３３が水平である場合と比べて、上部切断面３３の付近に気泡が混入されてしまう事を防止でき、充填に伴う強度低下を抑止する事が可能となる。
【００４９】
そして、充填部注入工程にて注入した充填部４０が充分に硬化したら、型枠設置工程において施工した介装型枠９０を取り外す型枠取り外し工程を行う。例えば、介装型枠９０と、充填部４０との間に専用の工具を挟んで引き剥がすことにより容易に取り外す事ができる。最後に、ジャッキ８０を取り外すジャッキ取り外し工程を行い、ジャッキ８０が負担していた上部躯体１０の荷重を対象柱３０に移行させる。これにて、セメント硬化体介装方法の説明を終了する。
【００５０】
（実施の形態１の効果）
このように、本実施の形態１のセメント硬化体介装方法によれば、対象柱３０を、上部対象柱３１の下端面が水平面に対して斜めの面となるように分離し、介装空間Ａ２の下部から介装空間Ａ２に対して充填部４０を注入するので、介装空間Ａ２に注入した充填部４０に気泡が混入してしまう事を防止でき、上部対象柱３１及び下部対象柱３２を相互に離間させる事に伴う対象柱３０の強度低下を抑止する事が可能となる。
【００５１】
（実施の形態２）
次に、実施の形態２について説明する。この実施の形態２は、概略的に、対象柱の長さを増大させる方法であって、例えば建築物の階高を変更する方法に関する。初めに、実施の形態２に係るセメント硬化体介装方法が適用された建築物の構成について説明する。ただし、特に説明なき構成においては実施の形態１と同様であるものとして説明を省略し、実施の形態１と同様の構成要素には、必要に応じて、実施の形態１で使用したものと同一の符号を付する。
【００５２】
（構成）
図８は、本実施の形態２に係るセメント硬化体介装方法が適用された建築物２における対象柱１００周辺の断面図である。この図８に示すように、本実施の形態２に係る建築物は、上部躯体１０、下部躯体２０、対象柱１００、中心充填部１１０、及び外縁充填部１２０を備えて構成されている。なお、上部躯体１０及び下部躯体２０については、実施の形態１と同様に構成できるため、詳細な説明を省略する。
【００５３】
（構成−対象柱）
対象柱１００は、中心充填部１１０及び外縁充填部１２０が介装される対象となる対象物である。この対象柱１００は、建築物２の幅方向及び奥行き方向に沿って複数並設されており、各対象柱１００は高さ方向に沿って建築物２自体の高さと略同一高さとなるように延設された鉄筋コンクリート製の柱である。ここで、本実施の形態２においては、建築物２の階高を変更するために、一部の対象柱１００の長さを増大させ、残りの対象柱１００については長さを増大させない。ただし、全ての対象柱１００の長さを増大させても構わない。また、図８においては、これら複数の対象柱１００のうち、長さを増大させる一つの対象柱１００のみに着目して図示している。また、図８においては、当該対象柱１００における上部躯体１０と下部躯体２０との間の一部分のみを図示しており、対象柱１００における他の部分については図示を省略している。ここで、この対象柱１００の具体的な形状については任意であり、例えば角柱形状でも構わないが、本実施の形態１では円柱形状に形成されている。ここで、対象柱１００における軸心付近の円柱状の領域を「中心部」１００ａと称し、当該中心部１００ａを囲繞するように位置し、対象柱１００における外縁付近の中空円筒形状の領域を「外縁部」１００ｂと称して区別して説明する。なお、中心部１００ａの一部には、中心充填部１１０が配置されており、外縁部１００ｂの一部には、外縁充填部１２０が配置されている。なお、対象柱１００は、実施の形態１と同様に、鉛直方向に沿った主筋１０５が外縁部１００ｂを貫通する柱であって、当該主筋１０５の周囲には複数のフープ筋１０６が取り付けられている。
【００５４】
ここで、対象柱１００は、上部対象柱１０１及び下部対象柱１０２に分離されており、以下では、上部対象柱１０１の下端面を「上部切断面」１０３と称し、下部対象柱１０２の上端面を「下部切断面」１０４と称する。なお、上部切断面１０３における中心部１００ａに位置する部分を特に「上部中心切断面」１０３ａと称し、上部切断面１０３における外縁部１００ｂに位置する部分を特に「上部外縁切断面」１０３ｂと称する。これらの上部中心切断面１０３ａ及び上部外縁切断面１０３ｂは、いずれも水平面に対して斜めの面となるように形成されている。また、下部切断面１０４における中心部１００ａに位置する部分を特に「下部中心切断面」１０４ａと称し、下部切断面１０４における外縁部１００ｂに位置する部分を特に「下部外縁切断面」１０４ｂと称する。ここで、下部中心切断面１０４ａは水平面に対して斜めの面となるように形成されており、一方、下部外縁切断面１０４ｂは、水平面となるように形成されている。
【００５５】
また、上部対象柱１０１及び下部対象柱１０２の間の空間を、以下では「分離空間」Ｂ１と称して説明する。そして、この分離空間Ｂ１のうち特に、中心部１００ａに形成された空間を「中心空間」Ｂ２、外縁部１００ｂに形成された空間を「外縁空間」Ｂ３と称して説明する。具体的に、本実施の形態２において、中心空間Ｂ２は、中心充填部１１０が介装される空間であって、上部中心切断面１０３ａと下部中心切断面１０４ａとの間の空間である。また、外縁空間Ｂ３は、外縁充填部１２０が介装される空間であって、上部外縁切断面１０３ｂと下部外縁切断面１０４ｂとの間の空間である。
【００５６】
（構成−中心充填部）
中心充填部１１０は、中心空間Ｂ２に対して注入されたセメント硬化体である。この中心充填部１１０は、上部中心切断面１０３ａと下部中心切断面１０４ａとの間に配置されており、上部対象柱１０１と下部対象柱１０２とを相互に連結する略円柱形状体である。ここで、中心充填部１１０に用いるセメント硬化体は任意であり、例えば、モルタル、セメントペースト、又はコンクリート等を適用する事ができるが、本実施の形態２においてはモルタルを適用するものとして説明する。このように、中心空間Ｂ２が、上部切断面１０３と下部切断面１０４との間の僅かな空間であっても、モルタルのように流動性の高い素材を用いることにより、中心空間Ｂ２の全体に中心充填部１１０を行き渡らせる事が可能となる。
【００５７】
（構成−外縁充填部）
外縁充填部１２０は、外縁空間Ｂ３に対して注入されたセメント硬化体である。この外縁充填部１２０は、上部外縁切断面１０３ｂと下部外縁切断面１０４ｂとの間に配置されており、中心充填部１１０を囲繞するように配置された略中空円筒形状体である。ここで、外縁充填部１２０に用いるセメント硬化体は任意であり、例えば、モルタル、セメントペースト、又はコンクリート等を適用する事ができるが、本実施の形態２においてはコンクリートを適用するものとして説明する。
【００５８】
（セメント硬化体介装方法）
続いて、セメント硬化体介装方法について説明する。このセメント硬化体介装方法は、建築物２の階高を変更するために、複数の対象柱１００のうち一部又は全部の長さを増大させる方法に関する。
【００５９】
（セメント硬化体介装方法−手順１）
図９は、セメント硬化体介装方法における手順１にて施工された建築物２における対象柱１００周辺の断面図である。この図９の手順１に示すように、まずは、ジャッキ取り付け工程を行う。なお、ジャッキ取り付け工程については、実施の形態１と同様に実施できるため詳細な説明を省略する。
【００６０】
（セメント硬化体介装方法−手順２）
図１０は、セメント硬化体介装方法における手順２にて施工された建築物２における対象柱１００周辺の断面図である。この図１０の手順２に示すように、次に、外縁部除去工程を行う。
【００６１】
外縁部除去工程は、対象柱１００における外縁部１００ｂの少なくとも一部を除去して、対象柱１００における中心部１００ａを残置させることにより、当該中心部１００ａの周囲に外縁空間Ｂ３を形成する除去工程である。ここで、当該工程においては、外縁部１００ｂにおける除去された部分と除去されていない部分の上方の境界面（すなわち、上部外縁切断面１０３ｂ）が、水平面に対して斜めの面となるように外縁部１００ｂを除去する。このように上部外縁切断面１０３ｂを斜面とすることで、外縁充填部１２０を外縁空間Ｂ３に充填した際に、外縁充填部１２０に気泡が混入され難くする事ができる。
【００６２】
（セメント硬化体介装方法−手順３）
図１１は、セメント硬化体介装方法における手順３にて施工された建築物２における対象柱１００周辺の断面図である。この図１１の手順３に示すように、次に、主筋切断工程及び対象柱分離工程を順次行う。
【００６３】
主筋切断工程は、外縁部１００ｂに位置する主筋１０５を、上部対象物側の上部主筋１０５ａ、及び下部対象物側の下部主筋１０５ｂに分離する主筋分離工程である。具体的には、例えばワイヤーソー等の工具を用いて、対象柱１００の外縁部１００ｂに挿通された複数の主筋１０５を所定長さに切断する。ここで、切断する長さは、後の対象柱分離工程において対象柱１００にワイヤーソーを取り付ける際に、上部主筋１０５ａや下部主筋１０５ｂが取り付けの障害にならない程度の長さが好ましい。
【００６４】
対象柱分離工程は、対象柱１００を、上部対象柱１０１及び下部対象柱１０２に分離する対象物分離工程であって、上部対象柱１０１の下端面（すなわち、上部切断面１０３）が水平面に対して斜めの面（以下、斜面）となるように分離する対象物分離工程である。具体的には、ワイヤーソー等の公知の工具を対象柱１００の中心部１００ａに取り付け、切断した面が斜面となるように切断していく。このように斜めに切断する方法は公知であるため、詳細な説明を省略する。
【００６５】
（セメント硬化体介装方法−手順４）
図１２は、セメント硬化体介装方法における手順４にて施工された建築物２における対象柱１００周辺の断面図である。この図１２の手順４に示すように、次に、介装空間形成工程及び中心型枠設置工程を順次行うことにより、建築物２の階高を補正する。なお、介装空間形成工程については、詳細な説明を省略する。
【００６６】
中心型枠設置工程は、中心空間Ｂ２を囲繞する中心型枠１３０を施工する介装型枠施工工程である。この中心型枠１３０は、上部対象柱１０１と下部対象柱１０２との間に介在される中心充填部１１０であって、対象柱１００の長さを増大させるための中心充填部１１０（後述する図１３参照）を打設するための型枠である。具体的に、中心型枠１３０は、中心空間Ｂ２の周囲を覆うように形成されており、上部対象柱１０１の中心部１００ａの外周、及び下部対象柱１０２の中心部１００ａの外周に対して当接するように配置された略円筒形状の板材である。
【００６７】
（セメント硬化体介装方法−手順５）
図１３は、セメント硬化体介装方法における手順５にて施工された建築物２における対象柱１００周辺の断面図である。この図１３の手順５に示すように、次に、中心充填部注入工程を順次行う。
【００６８】
中心充填部注入工程は、中心型枠設置工程の後に、中心空間Ｂ２の下部から、中心空間Ｂ２に対して中心充填部１１０を注入する介装空間注入工程である。ここで、「中心空間Ｂ２の下部から」とは、中心空間Ｂ２において中心充填部１１０が下方から上方に向かって充填されていくように注入する事である。具体的に、本実施の形態２においては、中心型枠１３０の側面に対して注入口及び空気抜き口を設け、注入口に取り付けたホース１１１から中心充填部１１０の注入を行って圧力をかけ、空気抜き口に取り付けたホース１１２からの溢れを確認する事により、中心空間Ｂ２に中心充填部１１０を充満させる。このように中心空間Ｂ２の下部から充填することにより、中心充填部１１０が上部中心切断面１０３ａの斜面を伝うように充填されていくため、上部中心切断面１０３ａが水平である場合と比べて、上部中心切断面１０３ａの付近に気泡が混入されてしまう事を防止でき、充填に伴う強度低下を抑止する事が可能となる。ここで、気泡の混入を一層防止するためには、図１３に示すように、注入口を中心空間Ｂ２における下方の位置に設け、空気抜き口を中心空間Ｂ２における上方の位置に設ける事が好ましい。
【００６９】
（セメント硬化体介装方法−手順６）
図１４は、セメント硬化体介装方法における手順６にて施工された建築物２における対象柱１００周辺の断面図である。この図１４の手順６に示すように、次に、中心型枠取り外し工程、配筋工程、及び外縁型枠設置工程を順次行う。
【００７０】
中心型枠取り外し工程は、上述した中心充填部注入工程にて注入した中心充填部１１０が硬化した後に、中心型枠１３０を対象柱１００から取り外す工程である。例えば、中心型枠１３０と、中心充填部１１０との間に専用の工具を挟んで引き剥がすことにより容易に取り外す事ができる。
【００７１】
配筋工程は、相互に分離された上部主筋１０５ａと下部主筋１０５ｂとを相互に接続する主筋接続工程である。具体的には、上部主筋１０５ａ及び下部主筋１０５ｂの間に中間主筋１０５ｃを配置し、中間主筋１０５ｃの各端部を上部主筋１０５ａ及び下部主筋１０５ｂに対して接続する。そして、このように配筋した中間主筋１０５ｃの周囲にも新たにフープ筋１０６を取り付ける。
【００７２】
外縁型枠設置工程は、中心充填部注入工程の後に、外縁空間Ｂ３を囲繞する外縁型枠１４０を施工する外縁型枠施工工程である。この外縁型枠１４０は、上部対象柱１０１と下部対象柱１０２との間に介在される外縁充填部１２０であって、主筋１０５やフープ筋１０６の周囲を補強するための外縁充填部１２０（後述する図１５参照）を打設するための型枠である。具体的に、外縁型枠１４０は、外縁空間Ｂ３の周囲を覆うように形成されており、対象柱１００の径よりも僅かに（例えば、１０ｃｍ）径の大きい中空円筒形状体である。このように外縁型枠１４０の径を対象柱１００の径よりも大きくすることにより、外縁型枠１４０と上部対象柱１０１との間に隙間（以下、充填確認孔１４１）を形成することができるので、後述する外縁空間注入工程にて外縁充填部１２０を外縁空間Ｂ３に注入した際に、充填確認孔１４１から外縁型枠１４０の内部を目視することで、外縁空間Ｂ３に外縁充填部１２０が充満されたか否かを確認できる。
【００７３】
（セメント硬化体介装方法−手順７）
図１５は、セメント硬化体介装方法における手順７にて施工された建築物２における対象柱１００周辺の断面図である。この図１５の手順７に示すように、次に外縁空間注入工程を順次行う。
【００７４】
外縁空間注入工程は、外縁空間Ｂ３の下部から、外縁空間Ｂ３に対してセメント硬化体を注入する注入工程である。ここで、「外縁空間Ｂ３の下部から」とは、外縁空間Ｂ３において外縁充填部１２０が下方から上方に向かって充填されていくように注入する事である。具体的に、本実施の形態２においては、外縁型枠１４０の側面の下方に孔を空け、当該孔に対して外縁充填部１２０を注入するためのホース１４２を取り付け、このホース１４２を介して外縁充填部１２０を注入する。そして、充填確認孔１４１から外縁型枠１４０の内部を目視して、外縁充填部１２０が中心型枠１３０の上端まで充填された事を確認したら、外縁充填部１２０が外縁空間Ｂ３に充満されたものと判断して注入を停止し、ホース１４２を引き抜いて外縁充填部１２０を硬化させる。ただし、このような注入方法に限らず、例えば上記の充填確認孔１４１から、中心型枠１３０の内部に外縁充填部１２０を注入しても構わない。すなわち、このように充填確認孔１４１から外縁充填部１２０を注入しても、外縁空間Ｂ３において外縁充填部１２０が下方から上方に向かって充填されるように注入する事ができる。このように外縁空間Ｂ３の下部から充填することにより、外縁充填部１２０が上部外縁切断面１０３ｂの斜面を伝うように充填されていくため、上部外縁切断面１０３ｂが水平である場合と比べて、上部外縁切断面１０３ｂの付近に気泡が混入されてしまう事を防止でき、充填に伴う強度低下を抑止する事が可能となる。
【００７５】
そして、外縁空間注入工程にて注入した外縁充填部１２０が充分に硬化したら、外縁型枠設置工程において施工した外縁型枠１４０を取り外す外縁型枠取り外し工程を行う。例えば、外縁型枠１４０と、外縁充填部１２０との間に専用の工具を挟んで引き剥がすことにより容易に取り外す事ができる。最後に、ジャッキ８０を取り外すジャッキ取り外し工程を行い、ジャッキ８０が負担していた上部躯体１０の荷重を対象柱１００に移行させる。
【００７６】
このように、本実施の形態２では、中心部１００ａをモルタルのように流動性の高い材料で形成して充填性を高め、一方、外縁部１００ｂをコンクリートのように強度が高く沈降する材料で形成する。このように、対象柱１００の外表面に沈降する材料を配置できるので、コンクリートが沈降してコンクリートと対象柱１００との間に隙間が生じてしまった場合であっても対象柱１００の外側から容易に当該隙間を埋める事が可能となる。これにて、セメント硬化体介装方法の説明を終了する。
【００７７】
（実施の形態２の効果）
このように、本実施の形態２のセメント硬化体介装方法によれば、中心部１００ａに位置する中心空間Ｂ２にセメント硬化体を注入した後に、外縁空間Ｂ３にセメント硬化体を注入するので、中心空間Ｂ２と外縁空間Ｂ３とを異なるセメント硬化体で形成でき、例えば外縁空間Ｂ３に注入したセメント硬化体が沈降した場合であっても、沈降して形成された空隙箇所が対象物の外縁に位置しているため、容易に当該空隙箇所に対して他のセメント硬化体を充填等する事が可能となる。
【００７８】
また、外縁部１００ｂの上端面が水平面に対して斜めの面となるように外縁部１００ｂを除去し、外縁空間Ｂ３の下部から外縁空間Ｂ３に対してセメント硬化体を注入するので、外縁空間Ｂ３に気泡が混入してしまう事を防止でき、上部対象物及び下部対象物を相互に離間させる事に伴う対象物の強度低下を抑止する事が可能となる。
【００７９】
また、主筋１０５を分断して、介装空間形成工程の後に再度接続するので、柱に対しても当該セメント硬化体介装方法を適用する事が可能となる。
【００８０】
また、中心空間Ｂ２に注入されるセメント硬化体はモルタルであり流動性が高いので、中心空間Ｂ２が狭い場合であっても中心空間Ｂ２の全体にセメント硬化体を介在させる事ができ、中心空間Ｂ２に気泡が混入してしまう事を一層防止する事が可能となる。
【００８１】
〔実施の形態に対する変形例〕
以上、本発明に係る各実施の形態について説明したが、本発明の具体的な構成及び手段は、特許請求の範囲に記載した各発明の技術的思想の範囲内において、任意に改変及び改良することができる。以下、このような変形例について説明する。
【００８２】
（解決しようとする課題や発明の効果について）
まず、発明が解決しようとする課題や発明の効果は、上述の内容に限定されるものではなく、発明の実施環境や構成の細部に応じて異なる可能性があり、上述した課題の一部のみを解決したり、上述した効果の一部のみを奏することがある。例えば、各実施の形態に係るセメント硬化体介装方法によって、セメント硬化体に気泡が混入してしまう事を防止できない場合であっても、従来と異なる技術によりセメント硬化体を介装できている場合には、本願発明の課題が解決されている。
【００８３】
（寸法や材料について）
発明の詳細な説明や図面で説明したセメント硬化体介装方法にて施工された建築物１、２の各部の寸法、形状、比率、材料等は、あくまで例示であり、その他の任意の寸法、形状、比率、材料等とすることができる。
【００８４】
（セメント硬化体介装方法）
各実施の形態に示したセメント硬化体介装方法の手順は一例に過ぎず、適宜手順を入れ替えて実施しても構わないし、複数の手順を統合して実施しても構わない。
【００８５】
（外縁部について）
各実施の形態においては、外縁充填部１２０の乾燥硬化に伴う沈降によって生じた間隙に、外縁部１００ｂの外側からグラウト充填するものとして説明したが、このグラウト充填を容易に可能とすべく、外縁充填部１２０にグラウト充填孔を形成しても構わない。具体的には、外縁充填部１２０を外縁空間Ｂ３に充填した際に、外縁充填部１２０の上端部に長尺部材を差し込んでおく。この長尺部材の形状や素材は任意で、例えば円柱形状のスチロールで構成できる。そして、外縁充填部１２０が硬化した際に、当該長尺部材を取り出す（あるいは、長尺部を、外縁充填部１２０に反応して自然に溶解する素材で形成しても良い）と、外縁部１００ｂに当該長尺部材と同一形状の孔が形成される。そして、当該孔の内部にホース１４２を挿入してグラウト充填することにより、外縁充填部１２０の沈降により生じた間隙部に対してグラウトを効率的に充填する事が可能となる。
【００８６】
（上部中心切断面の斜面の角度について）
上部中心切断面１０３ａの斜面の角度については任意であるが、各対象柱３０、１００の斜面の角度を適宜調節する事が望ましい。また、各対象柱３０、１００の傾きをそれぞれ相互に異なるように構成しても構わない。
【００８７】
（セメント硬化体の充填方法について）
各実施の形態で示したセメント硬化体の充填方法は一例に過ぎず、適宜入れ替えて実施する事ができる。例えば、図７や図１５に示す充填方法（１つのホース９２、１４２による充填）を、図１３に示す充填工程で用いても良いし、図１３に示す充填方法（２つのホース１１１、１１２による充填）を、図７や図１５に示す充填工程で用いても良い。
【００８８】
（付記）
付記１のセメント硬化体介装方法は、対象物を、上部対象物及び下部対象物に分離する対象物分離工程であって、前記上部対象物の下端面が水平面に対して斜めの面となるように分離する対象物分離工程と、前記上部対象物及び前記下部対象物を相互に離間させることにより、前記上部対象物と前記下部対象物との間に介装空間を形成する介装空間形成工程と、前記介装空間を囲繞する介装型枠を施工する介装型枠施工工程と、前記介装型枠施工工程の後に、前記介装空間の下部から、前記介装空間に対してセメント硬化体を注入する介装空間注入工程と、を含む。
【００８９】
付記２のセメント硬化体介装方法は、付記１に記載のセメント硬化体介装方法において、前記対象物における外縁部の少なくとも一部を除去して、前記対象物における中心部を残置させることにより、当該中心部の周囲に外縁空間を形成する外縁部除去工程と、前記介装空間注入工程の後に、前記外縁空間を囲繞する外縁型枠を施工する外縁型枠施工工程と、前記外縁空間の下部から、前記外縁空間に対してセメント硬化体を注入する外縁空間注入工程と、を含み、前記対象物分離工程において、前記対象物の中心部を、上部対象物及び下部対象物に分離する。
【００９０】
付記３のセメント硬化体介装方法は、付記２に記載のセメント硬化体介装方法において、前記外縁部除去工程において、前記外縁部における除去された部分と除去されていない部分の上方の境界面が、水平面に対して斜めの面となるように前記外縁部を除去する。
【００９１】
付記４のセメント硬化体介装方法は、付記２又は３に記載のセメント硬化体介装方法において、前記対象物は、鉛直方向に沿った主筋が前記外縁部を貫通する柱であって、前記外縁部に位置する主筋を、上部対象物側の上部主筋、及び下部対象物側の下部主筋に分離する主筋分離工程と、前記介装空間形成工程の後に、相互に分離された前記上部主筋と前記下部主筋とを相互に接続する主筋接続工程と、を含む。
【００９２】
付記５のセメント硬化体介装方法は、付記１から４のいずれか一項に記載のセメント硬化体介装方法において、前記介装空間に注入されるセメント硬化体は、モルタルである。
【００９３】
付記１に記載のセメント硬化体介装方法によれば、対象物を、上部対象物の下端面が水平面に対して斜めの面となるように分離し、介装空間の下部から介装空間に対してセメント硬化体を注入するので、介装空間に注入したセメント硬化体に気泡が混入してしまう事を防止でき、上部対象物及び下部対象物を相互に離間させる事に伴う対象物の強度低下を抑止する事が可能となる。
【００９４】
付記２に記載のセメント硬化体介装方法によれば、中心部に位置する介装空間にセメント硬化体を注入した後に、外縁空間にセメント硬化体を注入するので、介装空間と外縁空間とを異なるセメント硬化体で形成でき、例えば外縁空間に注入したコンクリートの如きセメント硬化体が沈降した場合であっても、沈降して形成された空隙箇所が対象物の外縁に位置しているため、容易に当該空隙箇所に対して他のセメント硬化体を充填等する事が可能となる。
【００９５】
付記３に記載のセメント硬化体介装方法によれば、外縁部の上端面が水平面に対して斜めの面となるように外縁部を除去し、外縁空間の下部から外縁空間に対してセメント硬化体を注入するので、外縁空間に気泡が混入してしまう事を防止でき、上部対象物及び下部対象物を相互に離間させる事に伴う対象物の強度低下を一層確実に抑止する事が可能となる。
【００９６】
付記４に記載のセメント硬化体介装方法によれば、主筋を分断して、介装空間形成工程の後に再度接続するので、柱に対しても当該セメント硬化体介装方法を適用する事が可能となる。
【００９７】
付記５に記載のセメント硬化体介装方法によれば、介装空間に注入されるセメント硬化体はモルタルであり流動性が高いので、介装空間が狭い場合であっても介装空間の全体にセメント硬化体を介在させる事ができ、介装空間に気泡が混入してしまう事を一層確実に防止する事が可能となる。
【符号の説明】
【００９８】
１、２  建築物
１０  上部躯体
２０  下部躯体
３０  対象柱
３１  上部対象柱
３２  下部対象柱
３３  上部切断面
３４  下部切断面
３５  主筋
３６  フープ筋
４０  充填部
４１  下端鉄筋
５０  免震装置
６０  上部ベースプレート
６１  上部アンカー
７０  下部ベースプレート
７１  下部アンカー
８０  ジャッキ
９０  介装型枠
９１  充填確認孔
９２  ホース
１００  対象柱
１００ａ  中心部
１００ｂ  外縁部
１０１  上部対象柱
１０２  下部対象柱
１０３  上部切断面
１０３ａ  上部中心切断面
１０３ｂ  上部外縁切断面
１０４  下部切断面
１０４ａ  下部中心切断面
１０４ｂ  下部外縁切断面
１０５  主筋
１０５ａ  上部主筋
１０５ｂ  下部主筋
１０５ｃ  中間主筋
１０６  フープ筋
１１０  中心充填部
１１１、１１２  ホース
１２０  外縁充填部
１３０  中心型枠
１４０  外縁型枠
１４１  充填確認孔
１４２  ホース
Ａ１  分離空間
Ａ２  介装空間
Ｂ１  分離空間
Ｂ２  中心空間
Ｂ３  外縁空間
【図１】
0006635669.tif 000002
【図２】
0006635669.tif 000003
【図３】
0006635669.tif 000004
【図４】
0006635669.tif 000005
【図５】
0006635669.tif 000006
【図６】
0006635669.tif 000007
【図７】
0006635669.tif 000008
【図８】
0006635669.tif 000009
【図９】
0006635669.tif 000010
【図１０】
0006635669.tif 000011
【図１１】
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【図１２】
0006635669.tif 000013
【図１３】
0006635669.tif 000014
【図１４】
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【図１５】
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