(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基材と、
前記ガラス基材上に堆積されたコーティングであって、
ｉ．前記ガラス基材の主要表面上に堆積された第１の無機金属酸化物層であって、１．８以上の屈折率を有する、第１の無機金属酸化物層と、
ｉｉ．前記第１の無機金属酸化物層上に堆積された第２の無機金属酸化物層であって、１．６以下の屈折率を有する、第２の無機金属酸化物層と、
ｉｉｉ．任意の、前記ガラス基材の主要表面上に直接堆積された第３の無機金属酸化物層であって、１．６以下の屈折率を有する、第３の無機金属酸化物層と、を含む、コーティングと、
を含む、コーティングされたガラス物品であって、
前記第１の無機金属酸化物層が、酸化スズまたは二酸化チタンを含み、
前記第２の無機金属酸化物層が、二酸化ケイ素を含み、
前記第２の無機金属酸化物層が、１００ｎｍ以上の厚さで堆積され、
前記第２の無機金属酸化物層が、前記第１の無機金属酸化物層上に直接堆積されて、前記コーティングされたガラス物品の最外表面を形成し、
６．５％以下の総可視光反射率を呈し、
前記コーティングが前記第３の無機金属酸化物層を含まない場合には、前記第１の無機金属酸化物層が、前記ガラス基材の前記主要表面上に直接堆積され、
前記コーティングが前記第３の無機金属酸化物層を含む場合には、前記第１の無機金属酸化物層が、前記第３の無機金属酸化物層上に直接堆積される、コーティングされたガラス物品。
【請求項２】
前記第１の無機金属酸化物層及び前記第２の無機金属酸化物層が、前記コーティングされたガラス物品が１．０×１０５オーム／平方超のシート抵抗を呈するように選択される、請求項１に記載のコーティングされたガラス物品。
【請求項３】
前記コーティングされたガラス物品が、９４％以上（標準の光Ｃ）の総可視光透過率を呈する、請求項１に記載のコーティングされたガラス物品。
【請求項４】
前記コーティングされたガラス物品が呈する前記総可視光反射率が、６．０％以下である、請求項１に記載のコーティングされたガラス物品。
【請求項５】
前記コーティングされたガラス物品が、１．０×１０７オーム／平方以上のシート抵抗を呈する、請求項２に記載のコーティングされたガラス物品。
【請求項６】
前記第１の無機金属酸化物層が、５０ｎｍ以下の厚さで堆積される、請求項１に記載のコーティングされたガラス物品。
【請求項７】
前記コーティングが前記第３の無機金属酸化物層を含み、前記第３の無機金属酸化物層が、二酸化ケイ素である、請求項１に記載のコーティングされたガラス物品。
【請求項８】
前記第１の無機金属酸化物層が、３５ｎｍ以下の厚さで堆積される、請求項６に記載のコーティングされたガラス物品。
【請求項９】
前記第２の無機金属酸化物層が、１００〜１２５ｎｍの厚さで堆積される、請求項１に記載のコーティングされたガラス物品。
【請求項１０】
前記第３の無機金属酸化物層が、２５ｎｍ以下の厚さで堆積される、請求項７に記載のコーティングされたガラス物品。
【請求項１１】
ガラス基材と、
前記ガラス基材上に堆積されたコーティングであって、
ｉ．前記ガラス基材の主要表面上に堆積された第１の無機金属酸化物層であって、１．８以上の屈折率を有し、５０ｎｍ以下の厚さで堆積される、第１の無機金属酸化物層と、
ｉｉ．前記第１の層の直接上にある第２の無機金属酸化物層が、１．６以下の屈折率を有し、１００ｎｍ以上の厚さで堆積され、
ｉｉｉ．前記ガラス基材の前記主要表面上に直接堆積された第３の無機金属酸化物層であって、１．６以下の屈折率を有し、２５ｎｍ以下の厚さで堆積される、第３の無機金属酸化物層と、を含む、コーティングと、を含む、コーティングされたガラス物品であって、
６．０％以下の総可視光反射率、９４％以上（標準の光Ｃ）の総可視光透過率、及び１．０×１０７オーム／平方以上のシート抵抗を呈し、
前記第１の無機金属酸化物層が、前記第３の無機金属酸化物層上に直接堆積される、コーティングされたガラス物品。
【請求項１２】
前記第１の無機金属酸化物層が、未ドープの酸化スズを含み、前記第２の無機金属酸化物層及び前記第３の無機金属酸化物層のそれぞれが、二酸化ケイ素を含む、請求項１１に記載のコーティングされたガラス物品。
【請求項１３】
請求項１に記載のコーティングされたガラス物品を含む、積層ガラスユニット。
【請求項１４】
請求項１に記載のコーティングされたガラス物品を含む、タッチスクリーン電子デバイス。
【発明の詳細な説明】
【関連出願の相互参照】
【０００１】
本出願は、米国特許法第１１９条（ｅ）の下、第６２／０７３，１６７号を認められ、２０１４年１０月３１日に出願された仮出願の利益を主張し、この開示の全体が、これにより参照によって組み込まれる。
【技術分野】
【０００２】
本発明は、反射防止コーティングを有するコーティングされたガラス物品に関する。より具体的には、本発明は、高いシート抵抗を呈する反射防止コーティングを有するコーティングされたガラス物品に関する。
【背景技術】
【０００３】
タッチスクリーン電子デバイスは、ガラスから作製されるスクリーンを含む。タッチスクリーンからの過剰なグレアは、電子デバイスを不可読にし、使用を困難にし得る。閲覧スクリーンからのグレアの低減は、デバイスの可読性及び有用性を改善するだろう。
【０００４】
ガラス上の薄フィルムコーティングは一般に、特定の可視光透過率特性を提供するために利用される。そのようなコーティングは、可視光反射率を低減するために、反射防止であるように設計され得る。典型的には、反射率の低減は、光学干渉の原理によって達成される。光が空気−フィルム界面、フィルム−フィルム界面、及びフィルム−ガラス界面に衝突するとき、光線の一部が各界面で反射される。材料及び厚さを適切に選択することによって、個々の反射光線は互いに破壊的に干渉し、これにより観察される可視反射率を低減することができる。
【０００５】
電子デバイスにおけるタッチスクリーンとして利用することができる、反射防止コーティングを有するコーティングされたガラス物品を提供することが有利である。特定の用途について、本コーティングされたガラス物品が高いシート抵抗を呈することもまた、望ましい。
【発明の概要】
【０００６】
コーティングされたガラス物品の実施形態が提供される。
【０００７】
一実施形態において、本コーティングされたガラス物品は、ガラス基材及びガラス基材上に形成されたコーティングを含む。コーティングは、ガラス基材の主要表面上に堆積された第１の無機金属酸化物層を含む。第１の無機金属酸化物層は、１．８以上の屈折率を有する。コーティングはまた、第１の無機金属酸化物層上に堆積された第２の無機金属酸化物層も含む。第２の無機金属酸化物層は、１．６以下の屈折率を有する。本コーティングされたガラス物品は、６．５％以下の総可視光反射率を呈する。
【０００８】
別の実施形態において、本コーティングされたガラス物品は、ガラス基材及びガラス基材上に形成されたコーティングを含む。コーティングは、ガラス基材の主要表面上に堆積された第１の無機金属酸化物層を含む。第１の無機金属酸化物層は、１．８以上の屈折率を有し、５０ｎｍ以下の厚さで堆積される。第２の無機金属酸化物層は、第１の無機金属酸化物層上に直接堆積される。第２の無機金属酸化物層は、１．６以下の屈折率を有し、１００ｎｍ以上の厚さで堆積される。第３の無機金属酸化物層は、ガラス基材の主要表面上に直接堆積される。第３の無機金属酸化物層は、１．６以下の屈折率を有し、２５ｎｍ以下の厚さで堆積される。本コーティングされたガラス物品は、６．０％以下の総可視光反射率、９４％以上（標準の光Ｃ）の総可視光透過率、及び１．０×１０７オーム／平方以上のシート抵抗を呈する。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
本発明の上記及び他の利点は、当業者にとって、添付の図面を照らして考慮すれば、以下の発明を実施するための形態から容易に明らかになるだろう。
【００１０】
【図１】本発明に従うコーティングされたガラス物品の一実施形態の断面図である。
【図２】本発明に従うコーティングされたガラス物品の別の実施形態の断面図である。
【図３】本発明に従う積層ガラスユニットの一実施形態の断面図である。
【図４】本発明に従うタッチスクリーン電子デバイスの一実施形態の正面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明は、それとは反対に明記される場合を除いて、様々な代替的配向及びステップ順序を想定し得ることを理解されたい。添付の図面において図示され、以下の明細書に記載される特定の層、物品、方法、及びプロセスは、本発明の概念の単に例示的な実施形態であることもまた理解されたい。したがって、開示される実施形態に関する特定の寸法、方向、または他の物理的特徴は、別段はっきりと述べられない限り、限定的なものと見なされるべきではない。
【００１２】
本発明に従うコーティングされたガラス物品１０、１０Ａの実施形態が、後述される。コーティングされたガラス物品１０、１０Ａの実施形態は、単一のコーティングされたガラスシートとして利用することができる。例えば、コーティングされたガラス物品１０、１０Ａは、電子デバイスまたは他の電子界面デバイスのタッチスクリーンの一部として利用することができる。また、コーティングされたガラス物品１０、１０Ａの実施形態は、例えば、積層ガラスユニットと組み合わせて利用することができる。更に、コーティングされたガラス物品１０、１０Ａの実施形態は、例えば、グレイジングにおいて単独で、もしくは組み合わせて利用することができ、かつ／または構築的、住居的、商業的、光起電力的、及び航空宇宙的用途を有することができる。
【００１３】
図１〜２は、コーティングされたガラス物品１０、１０Ａの実施形態を図示する。
【００１４】
図１〜２に図示されるように、コーティングされたガラス物品１０、１０Ａは、ガラス基材１２を含む。ガラス基材１２は、当該技術分野において既知である従来のガラス組成物のうちのいずれかのものであり得る。特定の実施形態において、ガラス基材１２の組成物は、コーティングされたガラス物品１０、１０Ａがある特定のスペクトル特性を呈することを可能にするように選択される。好ましくは、ガラス基材１２は、ソーダ−石灰−シリカガラスである。この実施形態において、基材１２は、フロートガラスリボンであってもよい。ガラス基材１２は、可視光に対して実質的に透明である。一実施形態において、ガラス基材１２は透明であり、低鉄組成物のものである。しかしながら、ガラス基材は、例えば、ボロシリケート組成物などの別の組成物のものであってもよい。また、ガラス基材の透明度または吸収特徴は、本コーティングされたガラス物品の実施形態間で変動し得る。例えば、本コーティングされたガラス物品において、色付きガラス基材が利用されてもよい。
【００１５】
ガラス基材の厚さは、本コーティングされたガラス物品の実施形態間で変動し得る。しかしながら、例えば、本コーティングされたガラス物品がタッチスクリーン電子デバイスにおいて利用される場合などの、特定の実施形態において、ガラス基材１２が、本物品の重量と硬性との間のバランスを提供するように選択される厚さであることが好ましい。これらの実施形態において、好ましくは、ガラス基材１２の厚さは、６ミリメートル（ｍｍ）以下であるように選択される。これらの実施形態において、より好ましくは、ガラス基材１２の厚さは、２ミリメートル（ｍｍ）以下であるように選択される。依然更なる実施形態において、ガラス基材１２の厚さは、約１．０〜２．０ｍｍの間である。一実施形態において、より具体的には、ガラス基材１２の厚さは、１．５〜１．７ｍｍの間である。
【００１６】
コーティング１４、１４Ａは、ガラス基材１２上に堆積される。コーティング１４、１４Ａは、第１のコーティング層１６及び第２のコーティング層１８を含む。特定の実施形態において、図１に図示されるコーティング１４は、上述のコーティング層１６、１８からなる。コーティング層１６、１８は、任意の好適な方法によって堆積され得るが、好ましくは、大気圧化学蒸着（ＡＰＣＶＤ）によって堆積される。例えば、ソル−ゲルコーティング技術またはスパッタコーティング技術などの他の既知の堆積方法が、コーティング層のうちの１つ以上を堆積するのに好適である。基材１２がフロートガラスリボンである実施形態において、コーティング１４、１４Ａは、好ましくは、フロートガラスプロセスの加熱帯域において適用される。
【００１７】
第１のコーティング層１６は、ガラス基材１２の主要表面２０上に、及び特定の実施形態において、その上に直接堆積される。特定の実施形態において、第１のコーティング層１６は、熱分解性コーティングである。好ましくは、第１のコーティング層１６は、１．６超である屈折率を有する。より好ましくは、第１のコーティング層１６は、１．８以上である屈折率を有する。また、特定の実施形態において、第１のコーティング層１６が、比較的高い電気抵抗を有する材料のものであることが好ましい。
【００１８】
特定の実施形態において、第１のコーティング層１６は、無機金属酸化物から形成される。これらの実施形態において、好ましくは、第１のコーティング層１６は、酸化スズ（ＳｎＯ２）、二酸化チタン（ＴｉＯ２）、または別の好適な無機金属酸化物を含む。第１のコーティング層１６が酸化スズの無機金属酸化物層を含む場合、屈折率は１．８以上であり、第１のコーティング層１６が二酸化チタンの無機金属酸化物層を含む場合、屈折率は２．２以上である。酸化スズ及び二酸化チタンは、それらの比較的高い屈折率及びそれらの比較的高い電気抵抗のため、好ましい材料である。したがって、これらの実施形態について、例えば、ドーパント（フッ素など）または別の材料を第１のコーティング層１６に添加することによって、第１のコーティング層の電気抵抗が低減されないことが好ましいことを理解されたい。したがって、第１のコーティング層１６が酸化スズを含む場合、第１のコーティング層１６が未ドープであり、スズ、酸素、及び可能性としては微量以下の混入物（例えば、炭素など）を含むことが好ましく、第１のコーティング層１６が二酸化チタンを含む場合、第１のコーティング層１６が未ドープであり、チタン、酸素、及び可能性としては微量以下の混入物（例えば、炭素など）を含むことが好ましい。
【００１９】
第１のコーティング層１６の厚さは、５０ナノメートル（ｎｍ）以下である。好ましくは、第１のコーティング層１６の厚さは、４０ｎｍ以下である。より好ましくは、第１のコーティング層１６の厚さは、３５ｎｍ以下である。更に他の実施形態において、第１のコーティング層１６の厚さは、３０ｎｍ以下である。第１のコーティング層１６が二酸化チタンを含む実施形態において、第１のコーティング層１６の厚さは、２０ｎｍ以下であり得る。
【００２０】
第１のコーティング層１６が酸化スズを含む実施形態において、第１のコーティング層１６の厚さは、１５〜５０ｎｍであり得る。これらの実施形態において、好ましくは、第１のコーティング層１６の厚さは、１５〜３５ｎｍである。第１のコーティング層１６が二酸化チタンを含む実施形態において、第１のコーティング層１６の厚さは、５〜２０ｎｍであり得る。第１のコーティング層１６が二酸化チタンを含む他の実施形態において、第１のコーティング層１６の厚さは、１５ｎｍ以下であり得る。これらの実施形態において、第１のコーティング層の厚さは、好ましくは、５〜１５ｎｍである。
【００２１】
第２のコーティング層１８は、第１のコーティング層１６上に、及び好ましくは、その上に直接堆積される。好ましくは、第２のコーティング層１８は、コーティングされたガラス物品１０の最外層及び最外表面２２を形成する。また、特定の実施形態において、第２のコーティング層１８は、熱分解性コーティングである。
【００２２】
好ましくは、第２のコーティング層１８は、第１のコーティング層１６の屈折率よりも低い屈折率を有する。一実施形態において、第２のコーティング層１８は、１．６以下、及び好ましくは、１．５以下である屈折率を有する。特定の実施形態において、第２のコーティング層１８が、比較的高い電気抵抗を有することが好ましい。
【００２３】
一実施形態において、第２のコーティング層１８は、低い屈折率を有する無機金属酸化物から形成される。この実施形態において、好ましくは、第２のコーティング層１８は、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）を含む。二酸化ケイ素は、その約１．４６の屈折率のため、第２のコーティング層１８にとって好ましい材料である。また、二酸化ケイ素は、その比較的高い電気抵抗のため、好ましい材料である。第２のコーティング層１８が二酸化ケイ素を含む場合、第２のコーティング層１８が、ケイ素、酸素、及び可能性としては微量以下の混入物（例えば、炭素など）を含むことが好ましい。
【００２４】
第２のコーティング層１８が二酸化ケイ素の無機金属酸化物層を含む実施形態において、第２のコーティング層１８の厚さは、１００ｎｍ以上である。これらの実施形態において、好ましくは、第２のコーティング層１８の厚さは、１００〜１２５ｎｍである。より好ましくは、第２のコーティング層１８が二酸化ケイ素の層である実施形態において、第２のコーティング層１８の厚さは、１１０ｎｍ以上である。これらの実施形態において、更により好ましくは、第２のコーティング層１８の厚さは、１１０〜１２５ｎｍである。
【００２５】
図２に図示されるもののような一実施形態において、コーティング１４Ａは、第３のコーティング層２４を含む。特定の実施形態において、図２に図示されるコーティング１４Ａは、第１のコーティング層１６、第２のコーティング層１８、及び第３のコーティング層２４からなる。第３のコーティング層２４は、任意の好適な方法によって堆積され得るが、好ましくは、大気圧化学蒸着（ＡＰＣＶＤ）によって堆積される。特定の実施形態において、第３のコーティング層２４は、熱分解性コーティングである。例えば、ソル−ゲルコーティング技術またはスパッタコーティング技術などの他の既知の堆積方法が、第３のコーティング層を堆積するのに好適である。
【００２６】
第３のコーティング層２４は、ガラス基材１２の主要表面２０上に、及び好ましくは、その上に直接堆積される。図２に図示される実施形態において、第１のコーティング層１６は、第３のコーティング層２４上に、及び好ましくは、その上に直接堆積される。したがって、この実施形態において、第３のコーティング層２４は、コーティング１４Ａの最内層を形成する。
【００２７】
好ましくは、第３のコーティング層２４は、第１のコーティング層１６の屈折率よりも低い屈折率を有する。一実施形態において、第３のコーティング層２４は、１．６以下、及び好ましくは、１．５以下である屈折率を有する。特定の実施形態において、第３のコーティング層２４が、比較的高い電気抵抗を有することが好ましい。
【００２８】
一実施形態において、第３のコーティング層２４は、低い屈折率を有する無機金属酸化物から形成される。好ましくは、この実施形態において、第３のコーティング層２４は、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）を含む。二酸化ケイ素は、その約１．４６の屈折率のため、第３のコーティング層２４にとって好ましい材料である。また、二酸化ケイ素は、その比較的高い電気抵抗のため、好ましい材料である。第３のコーティング層２４が二酸化ケイ素を含む場合、第３のコーティング層２４が、ケイ素、酸素、及び可能性としては微量以下の混入物（例えば、炭素など）を含むことが好ましい。好ましくは、第３のコーティング層２４の厚さは、２５ｎｍ以下である。第３のコーティング層２４が二酸化ケイ素の無機金属酸化物層を含む実施形態において、第３のコーティング層１８の厚さは、好ましくは、２０ｎｍ以下である。これらの実施形態において、より好ましくは、第３のコーティング層２４の厚さは、１０〜２０ｎｍである。
【００２９】
有利に、コーティングされたガラス物品１０、１０Ａの実施形態は、低い総可視光反射率などの反射防止特性を呈する。コーティングされたガラス物品１０、１０Ａを説明する上で、総可視光反射率とは、ガラス基材の表面にコーティングが堆積された本物品の側面２６から測定される、本コーティングされたガラス物品から反射される可視光のパーセンテージを指す。一実施形態において、コーティングされたガラス物品１０、１０Ａは、６．５％以下の総可視光反射率を呈する。好ましくは、コーティングされたガラス物品１０、１０Ａは、６．０％以下の総可視光反射率を呈する。より好ましくは、コーティングされたガラス物品１０、１０Ａは、５．５％以下の総可視光反射率を呈する。特定の実施形態において、コーティングされたガラス物品１０、１０Ａは、５％以下の総可視光反射率を呈する。本コーティングされたガラス物品は、第１のコーティング層及び第２のコーティング層のそれぞれの組成物及び厚さを適切に選択することによって、例えば、６．５％以下の総可視光反射率を呈する。
【００３０】
コーティングされたガラス物品１０、１０Ａはまた、例えば、１．０×１０５オーム／平方超の高いシート抵抗も呈する。好ましくは、コーティングされたガラス物品１０、１０Ａは、１．０×１０７オーム／平方以上のシート抵抗を呈する。特定の実施形態において、コーティングされたガラス物品１０、１０Ａは、１．０×１０８オーム／平方以上のシート抵抗を呈する。本コーティングされたガラス物品は、第１のコーティング層及び第２のコーティング層のそれぞれの組成物及び厚さを適切に選択することによって、例えば、１．０×１０５オーム／平方超のシート抵抗を呈する。
【００３１】
コーティングされたガラス物品１０、１０Ａはまた、特定の用途において有利である他の特性も呈する。例えば、コーティングされたガラス物品１０、１０Ａは、低減された総可視光反射率を呈するだけでなく、本物品から９０度の入射角度で見たとき、本物品のコーティングされた側面２６から反射される可視光に対して無彩反射色も呈し得ることにも留意されたい。本明細書に開示されるコーティングされたガラス物品１０、１０Ａの実施形態を説明する目的上、反射または透過される光の無彩色は、ＣＩＥＬＡＢ色スケールシステムの下、約６〜約−６の範囲内のａ＊値、約６〜−６の範囲内のｂ＊値によって、定義される。本明細書に記載される特定の実施形態または用途について、非無彩反射及び／または透過色が望ましくあり得、本コーティングされたガラス物品によって呈され得ることにもまた留意されたい。特定の実施形態において、物品１０、１０Ａのコーティングされた側面２６からの反射色は、ａ＊値が約４〜約１０の範囲内、ｂ＊値が約−２〜約−２２の範囲内にある。
【００３２】
また、コーティングされたガラス物品１０、１０Ａは、高い総可視光透過率を呈し得る。本コーティングされたガラス物品を説明する上で、総可視光透過率とは、ガラス基材の表面にコーティングが堆積された本物品の側面から測定される、本物品を通過する可視光のパーセンテージを指す。特定の実施形態において、コーティングされたガラス物品１０、１０Ａは、９３％以上（標準の光Ｃ）の総可視光透過率を呈する。好ましくは、コーティングされたガラス物品１０、１０Ａは、９４％以上（標準の光Ｃ）の総可視光透過率を呈する。より好ましくは、コーティングされたガラス物品１０、１０Ａの総可視光透過率は、９５％以上（標準の光Ｃ）である。更に他の実施形態において、コーティングされたガラス物品１０、１０Ａは、０．６％未満のヘイズ値を呈する。より好ましくは、コーティングされたガラス物品１０、１０Ａは、０．３％以下のヘイズ値を呈し得る。
【００３３】
図３に図示されるもののような特定の実施形態において、コーティングされたガラス物品１０、１０Ａは、積層ガラスユニット３０において利用される。積層ガラスユニット３０は、グレイジング、タッチスクリーン電子デバイス、または別の好適な用途において利用することができる。有利に、かつコーティング１４、１４Ａの存在のために、積層ガラスユニット３０は、低い総可視光反射率などの反射防止特性を呈する。積層ガラスユニットはまた、特定の用途において有利である他の特性も呈する。例えば、コーティング１４、１４Ａの存在のために、積層ガラスユニット３０の外側表面３２は、高いシート抵抗を呈し得る。更に、積層ガラスユニット３０は、ユニット３０のコーティングされた側面３４から９０度の入射角度で見たとき、ユニットから反射され、かつ／またはそれを通して透過される可視光に対して無彩反射色を呈し得る。本明細書に記載される特定の実施形態または用途について、非無彩反射及び／または透過色が望ましくあり得、積層ガラスユニットによって呈され得ることにもまた留意されたい。また、積層ガラスユニット３０は、高い総可視光透過率を呈し得る。
【００３４】
好ましくは、積層ガラスユニット３０はまた、ポリマー中間層３６も含む。ポリマー中間層３６は、コーティングされたガラス物品１０、１０Ａと、第２のガラス物品３８との間に提供される。特定の実施形態において、第２のガラス物品３８は、コーティングされたガラス物品１０、１０Ａの実施形態のうちの１つであってもよい。他の実施形態において、第２のガラス物品３８は、未コーティングのガラス物品であっても、上述のコーティング１４、１４Ａの実施形態とは異なるコーティングを含むコーティングされたガラス物品であってもよい。これらの実施形態において、第２のガラス物品３８は、コーティングされたガラス物品１０、１０Ａのガラス基材１２について上述されるガラス基材を含み得る。
【００３５】
中間層３６は、任意の好適なポリマー材料から形成され得る。好ましくは、そのような好適なポリマー材料は、適切に加熱され、コーティングされたガラス物品１０、１０Ａと、第２のガラス物品３８と間に押し付けられたとき、実質的に透明となる。そのような好適なポリマー材料の例は、ポリビニルブチラール及び塩化ポリビニルである。任意で、ポリマー中間層は、それが日射制御特性を呈するように、コーティングされても、別様に処理されてもよい。
【００３６】
図４に図示されるもののような他の実施形態において、コーティングされたガラス物品１０、１０Ａは、タッチスクリーン電子デバイス４０において利用される。あるいは、図４に図示されるように、積層ガラスユニット３０が、タッチスクリーン電子デバイス４０において利用されてもよい。タッチスクリーン電子デバイス４０はまた、収容部４２も含み得る。収容部４２は、コーティングされたガラス物品１０、１０Ａまたは積層ガラスユニット３０と、タッチスクリーン電子デバイス４０の他の構成要素とを、ともに固定するために利用される。
【００３７】
タッチスクリーン電子デバイス４０は、投影式静電容量タッチ型、光学型、または赤外型のものであり得る。これらの実施形態において、かつ図４に図示されるように、コーティング１４、１４Ａは、デバイス４０とは反対側に面する。したがって、タッチスクリーン電子デバイス４０の使用中、ユーザは、コーティング１４、１４Ａに触れることによってデバイス４０を制御する。
【実施例】
【００３８】
以下の実施例は、単に本コーティングされたガラス物品、積層ガラスユニット、及びタッチスクリーン電子デバイスの実施形態を更に説明し、開示する目的のために提示される。
【００３９】
本発明の範囲内のコーティングされたガラス物品の実施例を、後述し、表１〜５に説明する。
【００４０】
表１〜５において、本発明の範囲内のコーティングされたガラス物品は、実施例１〜実施例５５である。
【００４１】
以下の実験条件が、実施例１〜実施例９に適用される。実施例１〜実施例９について、ガラス基材が形成され、フロートガラス製造プロセスと組み合わせて移動するにつれて、コーティングをガラス基材の堆積表面上に堆積させた。ガラス基材は、ソーダ−石灰−シリカ組成物のものであった。ガラス基材の厚さは、１．６ｍｍであった。コーティングを、第１のコーティング層及び第２のコーティング層を堆積させることによって形成した。各コーティング層を、ＡＰＣＶＤプロセスを利用することによって形成した。
【００４２】
実施例１〜実施例９について、第１のコーティング層は、熱分解性酸化スズを含む無機金属酸化物層であった。酸化スズコーティング層を、ガラス基材上に直接堆積させた。第１のコーティング層を堆積させた後、第２のコーティング層を堆積させた。第２のコーティング層は、熱分解性二酸化ケイ素を含む無機金属酸化物層であった。二酸化ケイ素コーティング層を、第１のコーティング層上に直接堆積させた。
【００４３】
したがって、実施例１〜実施例９のコーティングされたガラス物品は、ガラス／ＳｎＯ２／ＳｉＯ２配置のものである。実施例１〜実施例９の第１のコーティング層及び第２のコーティング層の厚さは、表１にナノメートルで報告し、光学モデル化を介して計算した。実施例１〜実施例９のコーティングされたガラス物品のシート抵抗（Ｒｓ）、総可視光反射率（Ｒｆ）、反射色（Ｒａ＊、Ｒｂ＊）、総可視光透過率（Ｔｖｉｓ）、及びヘイズを、表１に報告する。総可視光反射率及び反射色は、分光光度計を使用して本コーティングされたガラス物品のコーティング側面上で測定した。総可視光反射率は、パーセンテージとして表す。総可視光透過率もまた、分光光度計を使用して測定し、パーセンテージとして表す。ヘイズは、ヘイズメーターを使用して本コーティングされたガラス物品のコーティング側面上で測定し、パーセンテージとして表す。シート抵抗は、抵抗試験器具を使用してコーティングされたガラス物品のコーティング側面上で測定し、オーム／平方で表す。
【表１】
0006802789.tif 000002
【００４４】
表１に示されるように、実施例１〜実施例９のコーティングされたガラス物品は、反射防止特性を呈する。例えば、実施例１〜実施例９のコーティングされたガラス物品は全て、６％未満のガラス基材のコーティング側面からの総可視光反射率を呈した。有利に、実施例１〜実施例９のコーティングされたガラス物品は全て、５．５％未満の総可視光反射率を呈した。更により好ましくは、実施例４及び実施例７のコーティングされたガラス物品が呈した総可視光反射率は、約５％である。比較すると、ソーダ−石灰−シリカ組成物を有する未コーティングのガラス基材からの可視光反射率は、典型的には、約７〜８％である。
【００４５】
更に、実施例１〜実施例９のコーティングされたガラス物品は、有利な他の特性を呈した。例えば、実施例１〜実施例９のコーティングされたガラス物品は全て、１．０×１０５オーム／平方超のシート抵抗を呈した。実際、実施例１〜実施例９のコーティングされたガラス物品は全て、１．０×１０７オーム／平方超のシート抵抗を呈した。実施例８及び実施例９のコーティングされたガラス物品などの特定の実施形態において、１．０×１０８オーム／平方超のシート抵抗が呈された。実施例１〜実施例９のコーティングされたガラス物品が呈した高いシート抵抗は、例えば、コーティングされたガラス物品が特定の電子デバイス用途において利用される場合に有利である。
【００４６】
更に、実施例１〜実施例９について、本コーティングされたガラス物品は、９５％超（標準の光Ｃ）の可視光透過率を呈した。また、実施例１〜実施例９のコーティングされたガラス物品は、０．３％未満のヘイズを呈した。実施例１〜実施例４、実施例６、及び実施例８のコーティングされたガラス物品について、０．２％以下のヘイズが呈された。
【００４７】
本発明の範囲内のコーティングされたガラス物品の更なる例を、後述し、表２に説明する。表２において、本発明の範囲内のコーティングされたガラス物品は、実施例１０〜実施例３１である。
【００４８】
実施例１０〜実施例３１のコーティングされたガラス物品は、予測的であり、実施例１〜実施例９について報告した入力パラメータに類似した入力パラメータを利用してモデル化した。実施例１０〜実施例３１のコーティングされたガラス物品のそれぞれは、ガラス基材を含んだ。各ガラス基材は、１．６ｍｍの厚さ、及びソーダ−石灰−シリカ組成物を有した。実施例１０〜実施例３１のコーティングされたガラス物品のそれぞれはまた、ガラス基材の堆積表面上に堆積されたコーティングも含んだ。各コーティングは、第１のコーティング層及び第２のコーティング層を含んだ。
【００４９】
実施例１０〜実施例３１のコーティングされたガラス物品のそののそれぞれについて、第１のコーティング層は、ガラス基材上に堆積され、酸化スズを含む無機金属酸化物層を含んだ。第１のコーティング層の厚さを、表２に報告する。第２のコーティング層は、第１のコーティング層上に堆積され、二酸化ケイ素を含む無機金属酸化物層である。第２のコーティング層の厚さを、表２に報告する。
【００５０】
したがって、実施例１０〜実施例３１のコーティングされたガラス物品は、ガラス／ＳｎＯ２／ＳｉＯ２配置のものである。実施例１０〜実施例３１のコーティング層の厚さを、表２にナノメートルで報告する。実施例１０〜実施例３１のコーティングされたガラス物品の総可視光反射率（Ｒｆ）、反射色（Ｒａ＊、Ｒｂ＊）、及び総可視光透過率（Ｔｖｉｓ）もまた、表２に報告する。実施例１０〜実施例３１のコーティングされたガラス物品の総可視光反射率、反射色、及び総可視光透過率は、光学モデル化によって計算した。総可視光反射率及び反射色は、本コーティングされたガラス物品のコーティング側面について報告する。総可視光反射率及び総可視光透過率は、パーセンテージとして表す。
【表２】
0006802789.tif 000003
【００５１】
表２に示されるように、実施例１０〜実施例３１のコーティングされたガラス物品は、反射防止特性を呈する。実施例１０〜実施例３１のコーティングされたガラス物品によって図示されるように、６％以下のガラス基材のコーティングされた側面からの可視光反射率を呈した。実際、実施例１０〜実施例３１のコーティングされたガラス物品は、５．５％以下のガラス基材のコーティングされた側面からの可視光反射率を呈した。更に、実施例１９及び実施例２０のコーティングされたガラス物品は、５％以下のガラス基材のコーティングされた側面からの可視光反射率を呈した。
【００５２】
また、実施例１０〜実施例３１のコーティングされたガラス物品は、有利な他の特性を呈する。実施例１０〜実施例３１について、コーティングされたガラス物品は、９４％超（標準の光Ｃ）の可視光透過率を呈した。更に、実施例２１〜実施例２３のコーティングされたガラス物品は、反射において無彩色を呈した。実施例１０〜実施例３１のコーティングされたガラス物品のシート抵抗は、１．０×１０７オーム／平方以上であることもまた予想される。
【００５３】
本発明の範囲内のコーティングされたガラス物品の更なる一実施例、実施例３２を、後述し、表３に説明する。
【００５４】
以下の実験条件が、実施例３２に適用される。実施例３２について、ガラス基材が形成され、フロートガラス製造プロセスと組み合わせて移動するにつれて、コーティングをガラス基材の堆積表面上に堆積させた。ガラス基材は、ソーダ−石灰−シリカ組成物のものであった。ガラス基材の厚さは、３．２ｍｍであった。コーティングを、第１のコーティング層及び第２のコーティング層を堆積させることによって形成した。各コーティング層を、ＡＰＣＶＤプロセスを利用することによって形成した。
【００５５】
実施例３２について、第１のコーティング層は、熱分解性二酸化チタンを含む無機金属酸化物層であった。二酸化チタンコーティング層を、ガラス基材上に直接堆積させた。第１のコーティング層を堆積させた後、第２のコーティング層を堆積させた。第２のコーティング層は、熱分解性二酸化ケイ素を含む無機金属酸化物層であった。二酸化ケイ素コーティング層を、第１のコーティング層上に直接堆積させた。
【００５６】
したがって、実施例３２のコーティングされたガラス物品は、ガラス／ＴｉＯ２／ＳｉＯ２配置のものである。実施例３２の第１のコーティング層及び第２のコーティング層の厚さを、表３にナノメートルで報告し、光学モデル化を介して計算した。実施例３２のコーティングされたガラス物品のシート抵抗（Ｒｓ）、総可視光反射率（Ｒｆ）、反射色（Ｒａ＊、Ｒｂ＊）、総可視光透過率（Ｔｖｉｓ）、及びヘイズもまた、表３に報告する。
【表３】
0006802789.tif 000004
【００５７】
表３に示されるように、実施例３２のコーティングされたガラス物品は、６．０％未満のガラス基材のコーティングされた側面からの可視光反射率を有する反射防止特性を呈した。実際、実施例３２のコーティングされたガラス物品は、５．５％未満のガラス基材のコーティングされた側面からの可視光反射率を呈した。また、実施例３２のコーティングされたガラス物品は、有利な他の特性を呈した。例えば、実施例３２のコーティングされたガラス物品は、９５％超（標準の光Ｃ）の可視光透過率、及び１．０×１０１４オーム／平方超のシート抵抗を呈した。また、実施例３２のコーティングされたガラス物品は、０．２％未満のヘイズを呈した。
【００５８】
本発明の範囲内のコーティングされたガラス物品の更なる例を、後述し、表４に説明する。表４において、本発明の範囲内のコーティングされたガラス物品は、実施例３３〜実施例５４である。
【００５９】
実施例３３〜実施例５４のコーティングされたガラス物品は、予測的であり、実施例１〜実施例９について報告した入力パラメータに類似した入力パラメータを利用してモデル化した。実施例３３〜実施例５４のコーティングされたガラス物品のそれぞれは、ガラス基材を含んだ。各ガラス基材は、１．６ｍｍの厚さ、及びソーダ−石灰−シリカ組成物を有した。実施例３３〜実施例５４のコーティングされたガラス物品のそれぞれはまた、ガラス基材の堆積表面上に堆積されたコーティングも含んだ。各コーティングは、第１のコーティング層及び第２のコーティング層を含んだ。
【００６０】
実施例３３〜実施例５４のコーティングされたガラス物品のそのそれぞれについて、第１のコーティング層は、ガラス基材上に堆積され、二酸化チタンを含む無機金属酸化物層を含んだ。第１のコーティング層の厚さを、表４に報告する。第２のコーティング層は、第１のコーティング層上に堆積され、二酸化ケイ素を含む無機金属酸化物層である。第２のコーティング層の厚さを、表４に報告する。
【００６１】
したがって、実施例３３〜実施例５４のコーティングされたガラス物品は、ガラス／ＴｉＯ２／ＳｉＯ２配置のものである。実施例３３〜実施例５４のコーティング層の厚さを、表４にナノメートルで報告する。実施例３３〜実施例５４のコーティングされたガラス物品の総可視光反射率（Ｒｆ）、反射色（Ｒａ＊、Ｒｂ＊）、及び総可視光透過率（Ｔｖｉｓ）もまた、表４に報告する。実施例３３〜実施例５４のコーティングされたガラス物品の総可視光反射率、反射色、及び総可視光透過率は、光学モデル化によって計算した。総可視光反射率及び反射色は、本コーティングされたガラス物品のコーティング側面について報告する。総可視光反射率及び総可視光透過率は、パーセンテージとして表す。
【表４】
0006802789.tif 000005
【００６２】
表４に示されるように、実施例３３〜実施例５４のコーティングされたガラス物品は、反射防止特性を呈する。実施例３３〜実施例５４のコーティングされたガラス物品によって図示されるように、６％以下のガラス基材のコーティングされた側面からの可視光反射率を呈した。実際、実施例３３〜実施例４３及び実施例４５〜実施例５４のコーティングされたガラス物品は、５．５％以下のガラス基材のコーティングされた側面からの可視光反射率を呈した。更に、実施例３３〜４１及び実施例４９〜実施例５０のコーティングされたガラス物品は、５％以下のガラス基材のコーティングされた側面からの可視光反射率を呈した。
【００６３】
また、実施例３３〜実施例５４のコーティングされたガラス物品は、有利な他の特性を呈する。例えば、実施例３３〜実施例５４のコーティングされたガラス物品はそれぞれ、９３％以上（標準の光Ｃ）の可視光透過率を呈した。実際、実施例３３〜実施例４３及び実施例４５〜実施例５４のコーティングされたガラス物品はそれぞれ、９４％超（標準の光Ｃ）の可視光透過率を呈した。更に、実施例３３〜実施例５４のコーティングされたガラス物品のシート抵抗は、１．０×１０７オーム／平方以上であることが予想される。
【００６４】
本発明の範囲内のコーティングされたガラス物品の更なる一実施例、実施例５５を、後述し、表５に説明する。
【００６５】
以下の実験条件が、実施例５５に適用される。実施例５５について、ガラス基材が形成され、フロートガラス製造プロセスと組み合わせて移動するにつれて、コーティングをガラス基材の堆積表面上に堆積させた。ガラス基材は、ソーダ−石灰−シリカ組成物のものであった。ガラス基材の厚さは、３．２ｍｍであった。コーティングを、第１の無機金属酸化物コーティング層、第２の無機金属酸化物コーティング層、及び第３の無機金属酸化物コーティング層を堆積させることによって形成した。各無機金属酸化物コーティング層を、ＡＰＣＶＤプロセスを利用することによって形成した。
【００６６】
実施例５５について、本コーティングされたガラス物品は、ガラス／ＳｉＯ２／ＳｎＯ２／ＳｉＯ２配置のものである。ガラス基材上に直接堆積させた無機金属酸化物層は、熱分解性二酸化ケイ素を含んだ。二酸化ケイ素の層をガラス基材上に堆積させた後、熱分解性二酸化スズを含む無機金属酸化物層を堆積させた。二酸化スズの層を堆積させた後、熱分解性二酸化ケイ素を含む別の無機金属酸化物層を、酸化スズ層上に直接堆積させた。
【００６７】
実施例５５のコーティング層の厚さを、表５にナノメートルで報告し、光学モデル化を介して計算した。実施例５５のコーティングされたガラス物品のシート抵抗（Ｒｓ）、総可視光反射率（Ｒｆ）、反射色（Ｒａ＊、Ｒｂ＊）、総可視光透過率（Ｔｖｉｓ）、及びヘイズもまた、表５に報告する。
【表５】
0006802789.tif 000006
【００６８】
表５に示されるように、実施例５５のコーティングされたガラス物品は、６．０％未満のガラス基材のコーティングされた側面からの可視光反射率を有する反射防止特性を呈した。実際、実施例５５のコーティングされたガラス物品は、５．５％未満のガラス基材のコーティングされた側面からの可視光反射率を呈した。また、実施例５５のコーティングされたガラス物品は、有利な他の特性を呈した。例えば、実施例５５のコーティングされたガラス物品は、９５％超（標準の光Ｃ）の可視光透過率、及び１．０×１０８オーム／平方超のシート抵抗を呈した。また、実施例３２のコーティングされたガラス物品は、０．２％未満のヘイズを呈した。
【００６９】
上述の記述は、本発明の原理を図示するものとして見なされるにすぎない。更に、多数の修正及び変更が当業者に容易に想起され得るため、本発明を、本明細書に示され、記載される正確な構築物及びプロセスのみに限定することは所望されない。したがって、全ての好適な修正及び等価物を、本発明の範囲内にあるものと見なすことができる。
【図１】
0006802789.tif 000007
【図２】
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【図３】
0006802789.tif 000009
【図４】
0006802789.tif 000010