(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理液供給源から処理液を吐出部を介して被処理体に供給する処理液供給装置において、
前記処理液供給源の下流側に設けられた第１のポンプと、
前記第１のポンプの二次側に設けられ、処理液中の異物を除去するためのフィルタ部と、
前記フィルタ部の二次側に設けられた第２のポンプと、
前記第２のポンプの二次側と、前記第１のポンプの二次側とフィルタ部の一次との間と、を接続する戻り流路と、
前記フィルタ部の二次側から第２のポンプに至るまでの流路から分岐し、前記吐出部に至るまでの吐出流路と、
前記フィルタ部を通過した処理液の流路を、前記第２のポンプに至る循環用の流路と前記吐出流路との間で切り替える切り替え部と、
前記処理液供給源から第１のポンプに処理液を導入するステップと、前記切り替え部を循環用の流路側に切り替えた状態で、第１のポンプに導入された処理液を前記フィルタ部を通過させて第２のポンプに供給するステップと、その後前記切り替え部を吐出流路側に切り替えた状態で、前記第２のポンプに吸い込んだ処理液を戻り流路、前記フィルタ部及び前記吐出流路を介して吐出部に送るステップと、を実行する制御部と、を備えたことを特徴とする処理液供給装置。
【請求項２】
前記フィルタ部と吐出部との間に処理液の圧力を測定する圧力センサを設け、
前記制御部は、前記圧力センサの圧力測定値に基づいて前記第２のポンプから供給される処理液の吐出流量を調整するための制御信号を出力することを特徴とする請求項１に記載の処理液供給装置。
【請求項３】
前記圧力センサと前記吐出部との間に処理液の給断を行うためのバルブを備えたことを特徴とする請求項２に記載の処理液供給装置。
【請求項４】
前記戻り流路から分岐して第１のポンプの一次側に接続された分岐路を備え、
前記制御部は、前記第２のポンプに処理液を供給した後、前記第２のポンプに吸い込んだ処理液を前記戻り流路及び分岐路を介して第１のポンプに戻すステップと、前記切り替え部を循環用の流路側に切り替えた状態で、第１のポンプに導入された処理液を前記フィルタ部を通過させて第２のポンプに供給するステップと、を含むことを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一項に記載の処理液供給装置。
【請求項５】
前記制御部は、前記第２のポンプに吸い込んだ処理液を前記戻り流路及び分岐路を介して第１のポンプに戻すステップと、前記切り替え部を循環用の流路側に切り替えた状態で、第１のポンプに導入された処理液を前記フィルタ部を通過させて第２のポンプに供給するステップと、を繰り返すことを特徴とする請求項４に記載の処理液供給装置。
【請求項６】
処理液を導入する導入ポートを備えた第１のポンプと、
前記第１のポンプから押し出された処理液が流路を介して供給される第２のポンプと、
前記流路に設けられ、処理液中の異物を除去するためのフィルタ部と、
前記流路における前記フィルタ部と、前記第２のポンプとの間に設けられた処理液を吐出するための吐出ポートと、を備えたことを特徴とする機器ユニット。
【請求項７】
前記フィルタ部を通過した処理液の流路を前記第２のポンプに至る循環用の流路側と吐出ポート側との間で切り替える切り替え部を備えたことを特徴とする請求項６記載の機器ユニット。
【請求項８】
処理液供給源から処理液を吐出部を介して被処理体に供給する処理液供給方法において、
前記処理液供給源の下流側に設けられた第１のポンプと、前記第１のポンプの下流側に設けられ処理液中の異物を除去するためのフィルタ部と、前記フィルタ部の下流側に設けられた第２のポンプと、前記第２のポンプの二次側と前記第１のポンプの二次側とフィルタ部の一次との間とを接続する戻り流路と、前記フィルタ部の二次側から第２のポンプに至るまでの流路から分岐し前記吐出部に至るまでの吐出流路と、前記フィルタ部を通過した処理液の流路を、前記第２のポンプに至る循環用の流路と前記吐出流路との間で切り替える切り替え部と、を備え、処理液供給源から処理液を吐出部を介して被処理体に供給する処理液供給装置を用い、
前記処理液供給源から第１のポンプに処理液を導入する工程と、
前記切り替え部を循環用の流路側に切り替えた状態で、第１のポンプに導入された処理液を前記フィルタ部を通過させて第２のポンプに供給する工程と、
その後前記切り替え部を吐出流路側に切り替えた状態で、前記第２のポンプに吸い込んだ処理液を戻り流路を介して前記フィルタ部及び前記吐出流路を介して吐出部に送る工程と、を含むことを特徴とする処理液供給方法。
【請求項９】
処理液供給源から処理液を吐出部を介して被処理体に供給する処理液供給装置に用いられるコンピュータプログラムを記憶した記憶媒体であって、
前記コンピュータプログラムは、請求項８に記載の処理液供給方法を実行するようにステップ群が組まれていることを特徴とする記憶媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、処理液をフィルタ部及び吐出部を介して被処理体に供給する技術分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの製造のフォトリソグラフィ工程においては、基板に対して処理液をノズルから供給して液処理を行う工程がある。液処理としては、例えばレジストパターン形成システムにおけるレジスト液や反射防止膜形成用の薬液の塗布、あるいは絶縁膜形成用の薬液の塗布などが挙げられる。液処理を行うにあたっては、処理液供給源から処理液をポンプやフィルタ部などを含む処理液供給路を介してノズルに送液する処理液供給装置が用いられる。
【０００３】
このような処理液供給装置としては、例えば特許文献１に記載されているようにフィルタ部の一次側及び二次側に夫々供給用のポンプと、吐出用ポンプと、が設けられ、さらに吐出用ポンプから供給用ポンプに処理液を戻す戻り流路と、が設けられた構成が知られている。
【０００４】
一方、レジストパターンの微細化が進んでいることから、基板に付着するパーティクルの許容サイズが厳しくなっており、処理液供給装置から半導体ウエハ（以下「ウエハ」という）に供給される処理液中に含まれるパーティクルの抑制が課題となっている。本発明者は、このような微細なパーティクルが、ポンプの駆動を要因として発塵しており、吐出用ポンプで発生したパーティクルがノズル部から吐出される処理液に混入することを見出した。しかしながらポンプは、処理液と接液する部分を駆動させて容積を変動させることで処理液の給排を行うため、駆動する部分から発生するパーティクルを完全に抑制することは難しい。また吐出用のポンプの下流側にフィルタ部を設ける場合には、処理液供給装置が大型化すると共にコストがかかり、フィルタ部の交換の手間も増える問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特表２０１３−５４３２７０号公報（図２）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明はこのような事情に基づいてなされたものであり、その目的は、処理液中の異物の混入を抑制する技術を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の処理液供給装置は、処理液供給源から処理液を吐出部を介して被処理体に供給する処理液供給装置において、
前記処理液供給源の下流側に設けられた第１のポンプと、
前記第１のポンプの下流側に設けられ、処理液中の異物を除去するためのフィルタ部と、
前記フィルタ部の下流側に設けられた第２のポンプと、
前記第２のポンプの二次側と、前記第１のポンプの二次側とフィルタ部の一次との間と、を接続する戻り流路と、
前記フィルタ部の二次側から第２のポンプに至るまでの流路から分岐し、前記吐出部に至るまでの吐出流路と、
前記フィルタ部を通過した処理液の流路を前記第２のポンプに至る循環用の流路と前記吐出流路との間で切り替える切り替え部と、
前記処理液供給源から第１のポンプに処理液を導入するステップと、前記切り替え部を循環用の流路側に切り替えた状態で、第１のポンプに導入された処理液を前記フィルタ部を通過させて第２のポンプに供給するステップと、その後前記切り替え部を吐出流路側に切り替えた状態で、前記第２のポンプに吸い込んだ処理液を戻り流路を介して前記フィルタ部の一次側に戻し、前記フィルタ部を通過させて前記吐出流路を介して吐出部に送出するステップと、を実行する制御部と、を備えたことを特徴とする。
【０００８】
本発明の機器ユニットは、処理液を導入する導入ポートを備えた第１のポンプと、
前記第１のポンプから押し出された処理液が流路を介して供給される第２のポンプと、
前記流路に設けられ、処理液中の異物を除去するためのフィルタ部と、
前記流路における前記フィルタ部と、前記第２のポンプとの間に設けられた処理液を吐出するための吐出ポートと、を備えたことを特徴とする。
【０００９】
本発明の処理液供給方法は、処理液供給源から処理液を吐出部を介して被処理体に供給する処理液供給方法において、
前記処理液供給源の下流側に設けられた第１のポンプと、前記第１のポンプの下流側に設けられ処理液中の異物を除去するためのフィルタ部と、前記フィルタ部の下流側に設けられた第２のポンプと、前記第２のポンプの二次側と前記第１のポンプの二次側とフィルタ部の一次との間とを接続する戻り流路と、前記フィルタ部の二次側から第２のポンプに至るまでの流路から分岐し前記吐出部に至るまでの吐出流路と、前記フィルタ部を通過した処理液の流路を、前記第２のポンプに至る循環用の流路と前記吐出流路との間で切り替える切り替え部と、を備え、処理液供給源から処理液を吐出部を介して被処理体に供給する処理液供給装置を用い、
前記処理液供給源から第１のポンプに処理液を導入する工程と、
前記切り替え部を循環用の流路側に切り替えた状態で、第１のポンプに導入された処理液を前記フィルタ部を通過させて第２のポンプに供給する工程と、
その後前記切り替え部を吐出流路側に切り替えた状態で、前記第２のポンプに吸い込んだ処理液を戻り流路を介して前記フィルタ部及び前記吐出流路を介して吐出部に送る工程と、を含むことを特徴とする。
【００１０】
本発明の記憶媒体は、処理液供給源から処理液を吐出部を介して被処理体に供給する処理液供給装置に用いられるコンピュータプログラムを記憶した記憶媒体であって、
前記コンピュータプログラムは、上述の処理液供給方法を実行するようにステップ群が組まれていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明は、処理液供給源からの処理液を吐出部から吐出するにあたって、処理液供給源から導入路を介して第１のポンプに導入した処理液を、第１のポンプからフィルタ部を通過させて第２のポンプに送液している。さらに処理液を第２のポンプの二次側から前記第１のポンプの二次側と前記フィルタ部の一次側との間に戻し、当該フィルタ部を通過させて、フィルタ部の二次側と第２のポンプの一次側との間から吐出部に送液している。従って第２のポンプから送液する処理液をフィルタ部を通過させて吐出部に送液することができるため、フィルタ部の個数を抑えながら吐出部から吐出する処理液に含まれる異物を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の実施の形態に係るレジスト液供給装置を示す概略断面図である。
【図２】レジスト液供給装置における第１及び第２のポンプを示す概略断面図である。
【図３】本発明の実施の形態に係るレジスト液供給装置の作用を示す説明図である。
【図４】本発明の実施の形態に係るレジスト液供給装置の作用を示す説明図である。
【図５】本発明の実施の形態に係るレジスト液供給装置の作用を示す説明図である。
【図６】本発明の実施の形態の他の例に係るレジスト液供給装置を示す概略断面図である。
【図７】本発明の実施の形態に係るレジスト液供給装置の作用を示す説明図である。
【図８】検証試験１の結果を示す特性図である。
【図９】実験例３及び比較例における処理液中に含まれるパーティクルを示す特性図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本発明の実施の形態に係る処理液供給装置をレジスト液供給装置に適用した例について説明する。図１はレジスト液供給装置１により供給されるレジスト液をカップモジュール１０に保持されたウエハＷに塗布する液処理装置であるレジスト塗布装置を示す。
【００１４】
レジスト液供給装置１は、処理液であるレジスト液を貯留するレジスト液供給源４と、ウエハＷにレジスト液を供給するノズル５と、レジスト液供給源４とノズル５とを接続する処理液供給路２と、を備えている。処理液供給路２には、レジスト液供給源４側から、バッファタンク４１、第１のポンプ３１、第１の三方弁３６、フィルタ部３、第２の三方弁３７及び第２のポンプ３２が設けられ、第２の三方弁３７には、一端側がノズル５接続された吐出流路２３の他端側が接続されている。吐出流路２３には、第２の三方弁３７側からレジスト液の圧力を測定する圧力測定部７と、ノズル５からレジスト液の供給停止（給断）を制御する供給制御弁６と、が介設されている。供給制御弁６は、例えば開閉弁とサックバックバルブとを含み、供給制御弁６の開閉弁を開くことにより、ノズル５の先端からレジスト液が吐出され、開閉弁を閉じることによりノズル５の先端にてレジスト液の液切れが行われて吐出が停止する。またサックバックバルブは、処理液を吸引してノズル５の先端の液面を引き込み、ノズル５の先端からの液だれを防ぐ役割を持っている。
【００１５】
また第２のポンプ３２の二次側には、戻り流路２６の一端側が接続され、戻り流路２６の他端側は、第１の三方弁３６に接続されている。処理液供給路２については、レジスト液供給源４とバッファタンク４１との間を補充流路２１、バッファタンク４１と第１のポンプ３１との間を導入流路２２と呼ぶものとする。
第１の三方弁３６は、処理液が第１のポンプ３１からフィルタ部３に流れる流路と、戻り流路２６からフィルタ部３に流れる流路と、を切り替える。また第２の三方弁３７は、処理液がフィルタ部３から第２のポンプ３２に流れる流路と、フィルタ部３から吐出流路に流れる流路と、を切り替える。従って第２の三方弁３７は、切り替え部に相当する。
【００１６】
レジスト液供給源４には、不活性ガス例えば窒素（Ｎ２）ガスを供給する不活性ガス供給管４２が接続されており、レジスト液供給源４にＮ２ガスを供給することにより、レジスト液供給源４内の圧力が上昇し、レジスト液供給源４に貯留されたレジスト液が補充流路２１を介して、バッファタンク４１に供給されるように構成されている。バッファタンク４１は、レジスト液を一時的に貯留する容器であり、レジスト液中に発生した気泡を除去するためのドレイン管路４３が設けられている。なお図中の２１Ａ、４２Ａ及び４３Ａはバルブである。またフィルタ部３に設けられた４４及び４４Ａは、レジスト液中に発生した気泡を除去するためのドレイン管路及びバルブである。
【００１７】
第１のポンプ３１及び第２のポンプ３２は略同様に構成されている。図２に示すように第１及び第２のポンプ３１、３２は、下方側が開口する概略円筒形状の外側部材５１と、この外側部材５１の内部にて下方から挿入された円筒形状の進退部材５２と、によって構成されている。
外側部材５１の側周面には、レジスト液を一次側から吸引する吸引口５４と、レジスト液を二次側に供給する吐出口５５と、が互いに対向するように配置されている。そして、これら吸引口５４及び吐出口５５に接続される流路には、夫々バルブ３１Ａ、３１Ｂ（３２Ａ、３２Ｂ）が設けられている。
【００１８】
進退部材５２には、例えばステッピングモーターやサーボモーターなどの駆動部５３が組み合わされて設けられている。駆動部５３は制御部９に接続されており、制御部９の制御信号により、駆動部５３が駆動され、当該進退部材５２は、外側部材５１の開口端に対して、当該進退部材５２の端部における周縁部が気密に接触しながら進退できるように構成されている。従って第１のポンプ３１を例に説明するとバルブ３１Ａを開放すると共に、バルブ３１Ｂを閉止して、進退部材５２を後退（外側部材５１から引き抜く方向に移動）させると、レジスト液が導入流路２２から吸引口５４を介して内部領域５０に引き込まれる。またバルブ３１Ａを閉止すると共に、バルブ３１Ｂを開放して、進退部材５２を前進させると（外側部材５１の内部に向かって押し込むと）、内部領域５０の容積が小さくなりバルブ３１Ｂを介してレジスト液が吐出される。なお明細書中では、ポンプの進退部材５２を後退させる吸引動作をしたときにレジスト液が進入する側を一次側、ポンプの進退部材５２を前進させる吐出動作をしたときにレジスト液が排出される側を二次側とする。
【００１９】
図１に戻って、カップモジュール１０について簡単に説明すると、カップモジュール１０は被処理基板である半導体ウエハ（以下「ウエハ」という）Ｗから飛散するレジスト液をカップ９０により受けて排気管１４から排出するように構成され、ウエハＷの裏面中央部を吸着して水平に保持するスピンチャックを１１備えている。スピンチャック１１は垂直に伸びる回転軸１２を介して回転機構１３と接続されている。回転機構１３は図示しない回転モータ等の回転駆動源を備えており、所定の速度で回転できるように構成されている。そして既述のレジスト液供給装置１のノズル５から所定量のレジスト液がウエハＷに供給される。
【００２０】
レジスト液供給装置１には、例えばコンピュータからなる制御部９が設けられている。制御部９は、プログラム格納部を備えており、プログラム格納部には、後述のシーケンスに従って第１及び第２のポンプ３１、３２によるレジスト液の給排、第１及び第２の三方弁３６、３７の切り替え、圧力測定部７によるレジスト液の圧力の測定、供給制御弁６の制御及びカップモジュール１０の動作の制御を行うステップ群が組み込まれたプログラムが格納される。このプログラムは、例えばフレキシブルディスク、コンパクトディスク、ハードディスク、ＭＯ（光磁気ディスク）、メモリーカードなどの記憶媒体により格納されて制御部９にインストールされる。
【００２１】
続いてレジスト液供給装置１の作用について説明する。まず補充流路２１に設けられたバルブＶ２１が開放され、さらに不活性ガス供給管４２設けられたバルブＶ４２が開放される。これによりレジスト液供給源４内がＮ２ガスの供給により加圧されレジスト液がバッファタンク４１に供給される。バッファタンク４１に所定のレジスト液が供給された後、バルブＶ２１、Ｖ４２が閉じられる。
【００２２】
次いで図３に示すように第１のポンプ３１の吐出口５５側のバルブ３１Ｂを閉じた状態で吸引口５４側のバルブ３１Ａを開き、進退部材５２を後退させる。これによりバッファタンク４１内のレジスト液が導入流路２２を介して第１のポンプ３１に吸入される。なお図３〜図６においては、レジスト液が流れている状態を太線で示している。
【００２３】
続いて第１の三方弁３６を第１のポンプ３１とフィルタ部３とを接続した状態とし、第２の三方弁３７をフィルタ部３と第２のポンプ３２とを接続した状態に切り替える。さらに図４に示すように第１のポンプ３１の吸引口５４側のバルブ３１Ａを閉じ、吐出口５５側のバルブ３１Ｂを開き、第２のポンプ３２の吐出口５５側のバルブ３２Ｂを閉じた状態で、吸引口５４側のバルブ３２Ａを開く。そして第１のポンプ３１の進退部材５２を前進させると共に第２のポンプ３２の進退部材５２を後退させる。これにより第１のポンプ３１内のレジスト液が吐出口５５側から押し出されてフィルタ部３に供給され、フィルタ部３を通過した後、第２のポンプ３２に吸入される。
【００２４】
第１のポンプ３１からレジスト液を押し出してフィルタ部３を通過させると同時に第２のポンプ３２によりレジスト液を吸引するようにすることで、フィルタ部３を通過するレジスト液の流速を安定させることができる。また第１のポンプ３１から押し出す量と第２のポンプ３２の吸引量を調整することでレジスト液の流速を調整できる。フィルタ部３はフィルタ部分を通過するレジスト液の流速により濾過効率が変わるため、レジスト液の流速を変えることにより濾過効率を調整することができる。
【００２５】
その後図５に示すように第１の三方弁３６を戻り流路２６と、フィルタ部３とが接続されるように切り替え、第２の三方弁３７を、フィルタ部３と吐出流路２３とが接続されるように切り替える。また第１のポンプ３１の吐出口５５側のバルブ３１Ｂを閉じ、第２のポンプ３２の吸引口５４側のバルブ３２Ｂを閉じると共に、吐出口５５側のバルブ３２Ｂを開く。さらに供給制御弁６の開閉弁を開き、第２のポンプ３２の進退部材５２を前進させる。これにより第２のポンプ３２内のレジスト液が押し出され、戻り流路２６、フィルタ部３の経路を経て吐出流路２３に流れ込み、ノズル５の先端からウエハＷに向けて吐出される。
また第２のポンプ３２からレジスト液を押し出し、戻り流路２６、フィルタ部３、吐出流路２３の経路を経てノズル５からレジスト液を吐出するときに、圧力測定部７によりレジスト液の圧力を測定する。そして圧力測定値をフィードバックして、制御部９から制御信号を発信し、第２のポンプ３２の進退部材５２の前進速度を調整する。これによりレジスト液の吐出量を調整し、フィルタ部３の下流側のレジスト液の圧力が一定になるように調整する。
【００２６】
上述の実施の形態は、レジスト液を第１のポンプ３１からフィルタ部３を介して、第２のポンプ３２に送り、次いで第２のポンプ３２内のレジスト液を戻り流路２６、フィルタ部３、吐出流路２３の経路を経て、ノズル５から吐出している。即ちレジスト液は、ノズル５から吐出する前にフィルタ部３を２回通過しており、また第２のポンプ３２から吐出したレジスト液はフィルタ部３を通過した後ノズル５に送られる。後述の検証試験に示すように、ポンプの駆動により微小なパーティクルが発生し、処理液中に混入する場合があるが、この実施の形態では、第２のポンプ３２下流側に別のフィルタ部を追加することなく、ウエハＷに供給されるレジスト液中のパーティクルを抑制することができる。このため設備費用のコストアップが抑えられ、機器による占有スペースの増大も抑えられる。
さらに吐出流路２３を流れるレジスト液の圧力を測定し、第２のポンプ３２の吐出量を調整することで、フィルタ部３の二次側におけるレジスト液の圧力が安定するため、ノズル５から吐出されるレジスト液の流量を安定させることができる。
【００２７】
また第１のポンプ３１と、第２のポンプ３２と、第１の三方弁３６、フィルタ部３、第２の三方弁３７が第１のポンプ３１側からこの順で介設されたフィルタ流路２５と、が機器ユニットとして構成し、処理液供給路２に着脱できるように構成してもよい。機器ユニットとして構成される場合には、第１のポンプ３１における導入流路２２が接続されるバルブ３１Ａの入口が導入ポートに相当し、第２の三方弁３７における吐出流路２３に接続される部位が送液ポートに相当する。
【００２８】
またウエハＷにレジスト液を供給する前に、レジスト液をフィルタ部３に繰り返し通過させて、レジスト液の清浄度を高めるようにしてもよい。例えば図６に示すように図１に示す第１のポンプ３１とフィルタ部３との間の流路に設けた第１の三方弁３６を設けることに代えて、当該流路から第１のポンプ３１に戻る第２の分岐路２７を設ける。さらに分岐路２７の分岐端をバルブ３１Ｃを介して第１のポンプ３１の吸入口に接続し、分岐路２７から供給される処理液が第１のポンプ３１に戻されるように構成する。さらに第1のポンプ３１からフィルタ部３に向かう流路における分岐路２７の分岐点とフィルタ部３との間及び戻り流路２６には夫々バルブ２５Ａ、２６Ａとを設ける。
【００２９】
このような処理液供給装置において、第１のポンプ３１にバッファタンク４１からレジスト液を供給（この時バルブ３１Ｃは閉じている）した後、バルブ３１Ａを閉じ、バルブ３１Ｂを開き、さらにバルブ２６Ａを閉じ、バルブ２５Ａを開くことでレジスト液が第１のポンプ３１からフィルタ部３を通過し、第２のポンプ３２に供給される。次いで図７に示すようにバルブ２６Ａを開きバルブ２５Ａを閉じる。また第１のポンプ３１のバルブ３１Ｂを閉じ、バルブ３１Ｃを開く。さらに第２のポンプ３２の吸引口５４側のバルブ３２Ａを閉じ、吐出口５５側のバルブ３２Ｂを開き、第２のポンプ３２の進退部材５２を前進させると共に第１のポンプ３１の進退部材５２を後退させる。これにより第２のポンプ３２からレジスト液が押し出され、戻り流路２６に供給され、分岐路２７を介して第１のポンプ３１に吸引される。そしてさらに既述のように第１のポンプ３１から第２のポンプ３２にレジスト液を供給する。
【００３０】
このようにレジスト液を第１のポンプ３１からフィルタ部３を通過させて第２のポンプ３２に供給する工程と、第２のポンプ３２から戻り流路２６及び分岐路２７を介して、第１のポンプ３１にレジスト液を戻す工程とを繰り返すことで、レジスト液をフィルタ部に複数回通過させてレジスト液の清浄度を高めることができる。
【００３１】
また切り替え部は、三方弁に限らず、例えばフィルタ部３から第２のポンプ３２に向かう流路に、吐出流路２３の上流側端部を接続し、吐出流路２３と、フィルタ部３から第２のポンプ３２に向かう流路における吐出流路２３の接続位置よりも下流側と、に夫々バルブを設け、各バルブの開閉を切り替えることにより、フィルタ部３から第２のポンプ３２に向かう流路と、フィルタ部３から吐出流路２３に向かう流路を切り替えるようにしてもよい。
さらに圧力測定部７にて圧力測定値を測定し、後続のウエハＷに対してレジスト液の吐出を行うときに第２のポンプ３２から吐出する処理液の流量を調整して、ノズル５から吐出するレジストの流量を調整するようにしてもよい。
【００３２】
［検証試験１］
処理液供給路を介して供給される処理液に含まれるパーティクルの発生源を調べるため、以下の試験を行った。まずシンナー供給源とノズルとを配管で接続し、ポンプを駆動させずにシンナーを通過させ、シンナーに含まれるパーティクル（直径２０ｎｍ以上）を計数し実験例１とした。また実験例１の配管にポンプを介設し、ポンプを駆動してノズルからシンナーを吐出し、当該シンナーに含まれるパーティクル（直径２０ｎｍ以上）を計数し実験例２とした。
図８はこの結果を示し実験例１及び実験例２の各々において計数されたパーティクルの個数を示す。実験例１では、パーティクルは５０個であったが、実験例２では、パーティクルは、２５６．５個であった。この結果によればポンプの駆動が、多くのパーティクルが発生する要因となっていることが分かる。
【００３３】
［検証試験２］
また実験例３として、ノズルとシンナー供給源とを接続する処理液供給路にシンナー供給源側から図２に示すポンプ、フィルタ部、供給制御弁の順に介設したシンナー供給装置を用い、シンナーをパターンが形成された検査用ウエハに供給したときに検査用ウエハにおけるパーティクル（直径２０ｎｍ以上）及びパーティクルを計数した。またフィルタ部を設けないことを除いて、実験例３と同様に操作した例を比較例とした。実験例３及び比較例について各々２回操作を行いパーティクルを計数した。
図９はこの結果を示し実験例３及び比較例において計数されたパーティクル数を示す。比較例では、２５０〜３００個のパーティクルが計数されていたが実験例３では、パーティクルの数は、５０個程度であった。この結果によれば、ポンプから吐出する処理液をフィルタ部に通過させることにより、処理液中のパーティクルが抑制されることが分かる。
【符号の説明】
【００３４】
１                処理液供給装置
２                処理液供給路
３                フィルタ部
４                レジスト液供給源
５                ノズル
６                供給制御弁
７                圧力測定部
９                制御部
２２              導入流路
２３              吐出流路
２６              戻り流路
２７              分岐路
３１              第１のポンプ
３２              第２のポンプ
３６              第１の三方弁
３７              第２の三方弁
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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