(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１Ａ）：
【化１】
0006709889.tif 000051
［式中、Ｒ１ａ〜Ｒ６ａはいずれも異なり、それぞれパラ位で置換されていてもよいフェニル基である。］
、一般式（１Ｂ）：
【化２】
0006709889.tif 000052
［式中、Ｒ１ｂ〜Ｒ４ｂはいずれも異なり、それぞれパラ位で置換されていてもよいフェニル基であるか、又はヘテロアリール基である；Ａは環である。］
、又は一般式（１Ｃ）：
【化３】
0006709889.tif 000053
［式中、Ｒ１ｃ〜Ｒ５ｃはいずれも異なり、それぞれパラ位をハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、シリル基、アシル基、アルコキシカルボニル基又はアミノ基で置換されていてもよいフェニル基であるか、又はヘテロアリール基である。］
で示される、多置換芳香族化合物。
【請求項２】
前記一般式（１Ｂ）において、前記Ｒ１ｂ〜Ｒ４ｂはいずれも異なり、それぞれパラ位で置換されていてもよいフェニル基であるか、又は単環ヘテロアリール基であり、前記一般式（１Ｃ）において、前記Ｒ１ｃ〜Ｒ５ｃはいずれも異なり、それぞれパラ位をハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、シリル基、アシル基、アルコキシカルボニル基又はアミノ基で置換されていてもよいフェニル基であるか、又は単環ヘテロアリール基である、請求項１に記載の多置換芳香族化合物。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の多置換芳香族化合物の製造方法であって、
一般式（２）：
【化４】
0006709889.tif 000054
［式中、Ｒ１〜Ｒ４はいずれも異なり、それぞれパラ位で置換されていてもよいフェニル基であるか、又はヘテロアリール基である。］
で示される四置換チオフェンＳ−オキシド化合物と、
一般式（３）：
Ｒ≡Ｃ−Ｒ５
［式中、Ｒは窒素原子又は≡（Ｃ−Ｒ６）で示される基；Ｒ５及びＲ６は異なり、それぞれパラ位で置換されていてもよいフェニル基であるか、又はヘテロアリール基である；Ｒ５及びＲ６はＲ１〜Ｒ４のいずれとも異なる；Ｒ５とＲ６は結合して環を形成してもよい。］
で示される化合物とを反応させる工程
を備える、製造方法。
【請求項４】
前記一般式（３）で示される化合物が、
一般式（３Ａ）：
Ｒ６ａ−Ｃ≡Ｃ−Ｒ５ａ
［式中、Ｒ５ａ及びＲ６ａは異なり、それぞれパラ位で置換されていてもよいフェニル基であるか、又はヘテロアリール基である；Ｒ５ａ及びＲ６ａはＲ１〜Ｒ４のいずれとも異なる。］
で示される化合物、
一般式（３Ｂ）：
【化５】
0006709889.tif 000055
［式中、Ａ’は三重結合を有する環である。］
で示される化合物、又は
一般式（３Ｃ）：
Ｎ≡Ｃ−Ｒ５ｃ
［式中、Ｒ５ｃはパラ位をハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、シリル基、アシル基、アルコキシカルボニル基又はアミノ基で置換されていてもよいフェニル基であるか、又はヘテロアリール基である；Ｒ５ｃはＲ１〜Ｒ４のいずれとも異なる。］
で示される化合物である、請求項３に記載の製造方法。
【請求項５】
前記一般式（２）で示される四置換チオフェンＳ−オキシド化合物が、一般式（４）：
【化６】
0006709889.tif 000056
［式中、Ｒ１〜Ｒ４はいずれも異なり、それぞれパラ位で置換されていてもよいフェニル基であるか、又はヘテロアリール基である。］
で示される四置換チオフェン化合物を酸化させる工程により得られる、請求項３又は４に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、多置換芳香族化合物及びその製造方法に関する。特に、本発明は、完全非対称多置換芳香族化合物及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ベンゼンは分子式がＣ６Ｈ６である六角形の有機分子であり、その構造の単純さと美しさ（亀の甲）から有機化学のシンボルと言われてきた。また、ベンゼンは、その多彩な機能と高い安定性のために、医農薬、香料、染料、プラスチック、液晶、エレクトロニクス材料に最もよく用いられる構造単位にもなっている。このため、ベンゼンにさらに様々な機能を付与することが試みられている。
【０００３】
ベンゼンに様々な機能を付与する鍵は、ベンゼン環に結合している６つの水素原子を様々な置換基に置き換えることにある。どのような置換基をどのような配置で導入するかによって、置換ベンゼンの性質は大きく異なる。このため、所望の置換基をベンゼンに導入する手法の開発は化学の発展を支える最重要課題の１つとなってきた。しかしながら、多置換ベンゼンの破格の構造多様性のために、多置換ベンゼンを意のままに合成することは困難であった。この点は「多置換ベンゼン問題」として、長年化学の未解決問題とされてきた。
【０００４】
多置換ベンゼンの構造多様性は、例えば、ｎ種類の置換基の組み合わせから考えられる置換ベンゼンの分子数Ｎは、Ｎ＝（２ｎ＋２ｎ２＋４ｎ３＋３ｎ４＋ｎ６）／１２で表され（バーンサイドの定理）、その構造多様性は有機分子の中でも突出している。具体的には、多置換ベンゼンを意のままに合成することができれば、理論上は、１０種類の置換基の組み合わせからは８万以上の、５０種類の置換基の組み合わせからは１３億以上の多置換ベンゼンが生成可能ということになり、その汎用性は非常に高く、インパクトも絶大である。
【０００５】
多置換ベンゼンのなかでも、ベンゼンの６つの水素原子を全て芳香族置換基（アリール基又はヘテロアリール基）で置換したヘキサ（ヘテロ）アリールベンゼンは、様々な光電子機能性材料となるばかりでなく、近年ではナノグラフェンの前駆体としても注目を集めている分子群である。しかしながら、前述した合成の難しさから、これまで研究されてきたヘキサ（ヘテロ）アリールベンゼンは１〜２種類のアリール基で置換された対称性の高いものばかりであった（例えば、特許文献１等）。特に、６種類の異なるアリール基又はヘテロアリール基で置換された完全非対称ヘキサ（ヘテロ）アリールベンゼンはこれまで合成及び単離されたことがなく、その物性等は依然として未知のままである。
【０００６】
こうしたなか、様々な多置換有機分子のプログラム合成法の開発研究が盛んに行われている。プログラム合成とは、合成標的とする有機分子において「全ての対象分子構造を意のままにプログラムされた様式で作り分ける」ことを可能にする方法論である。こうした目標設定の中、多置換チオフェン等の様々な多置換有機分子のプログラム合成は確立されている（例えば、非特許文献１等）。しかしながら、その最終目標とも言えるヘキサ（ヘテロ）アリールベンゼンのプログラム合成は困難を極め、その手がかりすらほとんど得られなかったのが現状である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００８−０５０２８１号公報
【非特許文献】
【０００８】
【非特許文献１】Journal of the American Chemical Society, 2009, 131, 14622.
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、６種類の異なるアリール基又はヘテロアリール基で置換された完全非対称ヘキサ（ヘテロ）アリールベンゼン等の多置換芳香族化合物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記の課題に鑑み鋭意研究を重ねた結果、本発明者らは、既にプログラム合成が確立している所定の四置換チオフェン化合物を酸化して四置換チオフェンＳ−オキシド化合物を得た後に、所定の三重結合を有する化合物と反応させることで、種々の多置換芳香族化合物を合成することができ、全ての置換基を異なる種類の置換基とすることも可能であることを見出した。本発明は、このような知見に基づき、さらに研究を重ねた結果、完成されたものである。すなわち、本発明は、以下の構成を包含する。
【００１１】
項１．一般式（１）：
【００１２】
【化１】
0006709889.tif 000002
【００１３】
［式中、Ｒは窒素原子又は−（Ｃ−Ｒ６）＝で示される基；Ｒ１〜Ｒ６はいずれも異なり、それぞれ置換されていてもよいアリール基又は置換されていてもよいヘテロアリール基；Ｒ５とＲ６は結合して環を形成してもよい。］
で示される多置換芳香族化合物。
【００１４】
項２．一般式（１Ａ）：
【００１５】
【化２】
0006709889.tif 000003
【００１６】
［式中、Ｒ１ａ〜Ｒ６ａはいずれも異なり、それぞれ置換されていてもよいアリール基又は置換されていてもよいヘテロアリール基である。］
で示される、項１に記載の多置換芳香族化合物。
【００１７】
項３．一般式（１Ｂ）：
【００１８】
【化３】
0006709889.tif 000004
【００１９】
［式中、Ｒ１ｂ〜Ｒ４ｂはいずれも異なり、それぞれ置換されていてもよいアリール基又は置換されていてもよいヘテロアリール基；Ａは環である。］
で示される、項１に記載の多置換芳香族化合物。
【００２０】
項４．一般式（１Ｃ）：
【００２１】
【化４】
0006709889.tif 000005
【００２２】
［式中、Ｒ１ｃ〜Ｒ５ｃはいずれも異なり、それぞれ置換されていてもよいアリール基又は置換されていてもよいヘテロアリール基である。］
で示される、項１に記載の多置換芳香族化合物。
【００２３】
項５．前記Ｒ１〜Ｒ６はいずれも異なり、それぞれ置換されていてもよいフェニル基又は置換されていてもよい単環ヘテロアリール基である、項１〜４のいずれかに記載の多置換芳香族化合物。
【００２４】
項６．項１〜５のいずれかに記載の多置換芳香族化合物の製造方法であって、
一般式（２）：
【００２５】
【化５】
0006709889.tif 000006
【００２６】
［式中、Ｒ１〜Ｒ４はいずれも異なり、それぞれ置換されていてもよいアリール基又は置換されていてもよいヘテロアリール基である。］
で示される四置換チオフェンＳ−オキシド化合物と、
一般式（３）：
Ｒ≡Ｃ−Ｒ５
［式中、Ｒは窒素原子又は≡（Ｃ−Ｒ６）で示される基；Ｒ５及びＲ６は異なり、それぞれ置換されていてもよいアリール基又は置換されていてもよいヘテロアリール基；Ｒ５及びＲ６はＲ１〜Ｒ４のいずれとも異なる；Ｒ５とＲ６は結合して環を形成してもよい。］
で示される化合物とを反応させる工程
を備える、製造方法。
【００２７】
項７．前記一般式（３）で示される化合物が、
一般式（３Ａ）：
Ｒ６ａ−Ｃ≡Ｃ−Ｒ５ａ
［式中、Ｒ５ａ及びＲ６ａは異なり、それぞれ置換されていてもよいアリール基又は置換されていてもよいヘテロアリール基；Ｒ５ａ及びＲ６ａはＲ１〜Ｒ４のいずれとも異なる。］
で示される化合物、
一般式（３Ｂ）：
【００２８】
【化６】
0006709889.tif 000007
【００２９】
［式中、Ａ’は三重結合を有する環である。］
で示される化合物、又は
一般式（３Ｃ）：
Ｎ≡Ｃ−Ｒ５ｃ
［式中、Ｒ５ｃは置換されていてもよいアリール基又は置換されていてもよいヘテロアリール基；Ｒ５ｃはＲ１〜Ｒ４のいずれとも異なる。］
で示される化合物である、項６に記載の製造方法。
【００３０】
項８．前記一般式（２）で示される四置換チオフェンＳ−オキシド化合物が、一般式（４）：
【００３１】
【化７】
0006709889.tif 000008
【００３２】
［式中、Ｒ１〜Ｒ４はいずれも異なり、それぞれ置換されていてもよいアリール基又は置換されていてもよいヘテロアリール基である。］
で示される四置換チオフェン化合物を酸化させる工程により得られる、項６又は７に記載の製造方法。
【発明の効果】
【００３３】
本発明によれば、従来は不可能とされてきた完全非対称ヘキサ（ヘテロ）アリールベンゼンを自在に合成することが可能である。また、本発明によれば、完全非対称ヘキサ（ヘテロ）アリールベンゼンのみならず、５種類の芳香族置換基で置換されたピリジンや、４種類の芳香族置換基で置換された縮合環式化合物等、種々様々な多置換芳香族化合物を合成することが可能である。このような本発明の多置換芳香族化合物は、医農薬、香料、染料、プラスチック、液晶、エレクトロニクス材料等、種々様々な用途への応用が期待される。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】熱振動楕円体作画ソフト（ORTEP）による、実施例１−２で得た化合物１０ａのＸ線結晶構造を示す図面である（楕円は５０％の原子存在）。明確にするために、水素原子は省略している。
【図２】熱振動楕円体作画ソフト（ORTEP）による、実施例３−１で得た化合物１４ｂのＸ線結晶構造を示す図面である（楕円は５０％の原子存在）。明確にするために、水素原子は省略している。
【発明を実施するための形態】
【００３５】
１．多置換芳香族化合物  本発明の多置換芳香族化合物は、一般式（１）：
【００３６】
【化８】
0006709889.tif 000009
【００３７】
［式中、Ｒは窒素原子又は−（Ｃ−Ｒ６）＝で示される基；Ｒ１〜Ｒ６はいずれも異なり、それぞれアリール基又はヘテロアリール基；Ｒ５とＲ６は結合して環を形成してもよい。］
で示される多置換芳香族化合物である。
【００３８】
一般式（１）において、Ｒ１〜Ｒ６はいずれも異なり、それぞれアリール基又はヘテロアリール基である。
【００３９】
Ｒ１〜Ｒ６で示されるアリール基としては、特に制限はなく、単環アリール基（フェニル基）でも多環アリール基（縮合環アリール基、多環非縮合環アリール基等）でもよいが、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、ビフェニル基等が挙げられる。これらのなかでも、合成の容易さ、収率等の観点から、単環若しくは縮合環アリール基が好ましく、フェニル基、ナフチル基等がより好ましい。
【００４０】
Ｒ１〜Ｒ６で示されるアリール基は置換されていてもよい。Ｒ１〜Ｒ６で示されるアリール基が有し得る置換基としては、特に制限はないが、例えば、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、アルキル基（メチル基、エチル基等のＣ１−６アルキル基等）、ハロアルキル基（トリフルオロメチル基等のＣ１−６ハロアルキル基等）、アルコキシ基（メトキシ基等のＣ１−６アルコキシ基）、シリル基（ｔ−ブチルジメチルシリル基等のトリ（Ｃ１−６アルキル）シリル基等）、アシル基（アセチル基、プロピオニル基等のＣ２−７アシル基等）、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等の（Ｃ１−６アルコキシ）カルボニル基等）、アミノ基（ジエチルアミノ基等のジ（Ｃ１−６アルキル）アミノ基等）等が挙げられる。これらの置換基の数は、０〜６個が好ましく、０〜３個がより好ましい。
【００４１】
Ｒ１〜Ｒ６で示されるヘテロアリール基としては、特に制限はなく、単環ヘテロアリール基でも多環ヘテロアリール基（縮合環ヘテロアリール基等）でもよいが、例えば、ピロリル基、ピリジル基、ピロリジル基、ピペリジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピラジル基、ピリミジル基、ピリダジル基、ピペラジル基、トリアジニル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、モルホリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、フラニル基、チオフェニル基、インドリル基、キノリル基、イソキノリル基、ベンゾイミダゾリル基、キナゾリル基、フタラジル基、プリニル基、プテリジル基、ベンゾフラニル基、クマリル基、クロモニル基、ベンゾチオフェニル基等が挙げられる。これらのなかでも、合成の容易さ、収率等の観点から、単環ヘテロアリール基が好ましい。
【００４２】
Ｒ１〜Ｒ６で示されるヘテロアリール基は置換されていてもよい。Ｒ１〜Ｒ６で示されるヘテロアリール基が有し得る置換基としては、特に制限はないが、例えば、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、アルキル基（メチル基、エチル基等のＣ１−６アルキル基等）、ハロアルキル基（トリフルオロメチル基等のＣ１−６ハロアルキル基等）、アルコキシ基（メトキシ基等のＣ１−６アルコキシ基）、シリル基（ｔ−ブチルジメチルシリル基等のトリ（Ｃ１−６アルキル）シリル基等）、アシル基（アセチル基、プロピオニル基等のＣ２−７アシル基等）、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等の（Ｃ１−６アルコキシ）カルボニル基等）、アミノ基（ジエチルアミノ基等のジ（Ｃ１−６アルキル）アミノ基等）等が挙げられる。これらの置換基の数は、０〜６個が好ましく、０〜３個がより好ましい。
【００４３】
一般式（１）において、Ｒは窒素原子又は−（Ｃ−Ｒ６）＝で示される基である。また、Ｒ５とＲ６は結合して環を形成してもよい。つまり、本発明の多置換芳香族化合物は、６つの異なるアリール基又はヘテロアリール基が置換したベンゼン（完全非対称ヘキサ（ヘテロ）アリールベンゼン）、４つの異なるアリール基又はヘテロアリール基が１つのベンゼン環に置換した縮合環芳香族化合物、５つの異なるアリール基又はヘテロアリール基が置換したピリジンのいずれも包含する。  つまり、本発明の多置換芳香族化合物は、一般式（１Ａ）：
【００４４】
【化９】
0006709889.tif 000010
【００４５】
［式中、Ｒ１ａ〜Ｒ６ａはいずれも異なり、それぞれ置換されていてもよいアリール基又は置換されていてもよいヘテロアリール基である。］
で示される化合物、一般式（１Ｂ）：
【００４６】
【化１０】
0006709889.tif 000011
【００４７】
［式中、Ｒ１ｂ〜Ｒ４ｂはいずれも異なり、それぞれ置換されていてもよいアリール基又は置換されていてもよいヘテロアリール基；Ａは環である。］
で示される化合物、一般式（１Ｃ）：
【００４８】
【化１１】
0006709889.tif 000012
【００４９】
［式中、Ｒ１ｃ〜Ｒ５ｃはいずれも異なり、それぞれ置換されていてもよいアリール基又は置換されていてもよいヘテロアリール基である。］
で示される化合物のいずれも包含する。
【００５０】
一般式（１Ａ）において、Ｒ１ａ〜Ｒ６ａで示されるアリール基及びヘテロアリール基は前記したものが挙げられ、有し得る置換基の種類及び数としても上記したものを採用し得る。
【００５１】
一般式（１Ｂ）において、Ｒ１ｂ〜Ｒ４ｂで示されるアリール基及びヘテロアリール基は前記したものが挙げられ、有し得る置換基の種類及び数としても上記したものを採用し得る。
【００５２】
一般式（１Ｂ）において、Ａで示される環としては、特に制限はないが、例えば、
【００５３】
【化１２】
0006709889.tif 000013
【００５４】
等が挙げられる。
【００５５】
一般式（１Ｃ）において、Ｒ１ｃ〜Ｒ５ｃで示されるアリール基及びヘテロアリール基は前記したものが挙げられ、有し得る置換基の種類及び数としても上記したものを採用し得る。
【００５６】
このため、本発明の多置換芳香族化合物としては、例えば、
【００５７】
【化１３】
0006709889.tif 000014
【００５８】
【化１４】
0006709889.tif 000015
【００５９】
［式中、ＴＢＳはｔ−ブチルジメチルシリル基；以下同様である。］
等が挙げられる。
【００６０】
なお、本発明の多置換芳香族化合物は、これらのみに限定されることはない。後述の本発明の製造方法によれば、所望のアリール基及びヘテロアリール基を所望の箇所に自在に導入することが可能であり、有機化学で通常使用される約５０種類の置換基の組合せによって１３億以上という膨大な数の多置換芳香族化合物を自在に合成することが可能である。
【００６１】
２．多置換芳香族化合物の製造方法  本発明の多置換芳香族化合物の製造方法は、上記した本発明の多置換芳香族化合物を製造する方法であり、一般式（２）：
【００６２】
【化１５】
0006709889.tif 000016
【００６３】
［式中、Ｒ１〜Ｒ４はいずれも異なり、それぞれ置換されていてもよいアリール基又は置換されていてもよいヘテロアリール基である。］
で示される四置換チオフェンＳ−オキシド化合物と、
一般式（３）：
Ｒ≡Ｃ−Ｒ５
［式中、Ｒは窒素原子又は≡（Ｃ−Ｒ６）で示される基；Ｒ５及びＲ６は異なり、それぞれ置換されていてもよいアリール基又は置換されていてもよいヘテロアリール基；Ｒ５及びＲ６はＲ１〜Ｒ４のいずれとも異なる；Ｒ５とＲ６は結合して環を形成してもよい。］
で示される化合物とを反応させる工程（工程（II））を備える。
【００６４】
また、本発明の製造方法において、原料として使用する四置換チオフェンＳ−オキシド化合物は、一般式（４）：
【００６５】
【化１６】
0006709889.tif 000017
【００６６】
［式中、Ｒ１〜Ｒ４はいずれも異なり、それぞれ置換されていてもよいアリール基又は置換されていてもよいヘテロアリール基である。］
で示される四置換チオフェン化合物を酸化させる工程（工程（I））により得ることができる。
【００６７】
（２−１）四置換チオフェン化合物及びその製造方法
一般式（４）において、Ｒ１〜Ｒ４で示されるアリール基及びヘテロアリール基は前記したものが挙げられ、有し得る置換基の種類及び数としても上記したものを採用し得る。このような四置換チオフェン化合物は、例えば、非特許文献１に記載の合成方法に準じて、又は該合成方法を若干改良して合成することができる。具体的には、以下の反応式１：
【００６８】
【化１７】
0006709889.tif 000018
【００６９】
［式中、Ｒ１〜Ｒ４はいずれも異なり、それぞれ前記に同じ；Ｒ７はアルキル基；Ｘはハロゲン原子；Ｙはボロン酸又はそのエステル基；Ｔｆはトリフルオロメタンスルホニル基である。］
にしたがって合成することができる。
【００７０】
Ｒ７で示されるアルキル基としては、メチル基、エチル基等のＣ１−６アルキル基、特にＣ１−４アルキル基が挙げられる。
【００７１】
Ｘで示されるハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
【００７２】
Ｙで示されるボロン酸又はそのエステル基としては、例えば、一般式（６）：
【００７３】
【化１８】
0006709889.tif 000019
【００７４】
［式中、Ｒ８は同じか又は異なり、それぞれ水素原子又はアルキル基；Ｒ８は互いに結合して環を形成してもよい。］
で示される基が好ましい。
【００７５】
Ｒ８で示されるアルキル基としては、メチル基、エチル基等のＣ１−６アルキル基、特にＣ１−４アルキル基が挙げられる。
【００７６】
このようなボロン酸又はそのエステル基としては、例えば、
【００７７】
【化１９】
0006709889.tif 000020
【００７８】
［式中、Ｒ９〜Ｒ１０は同じか又は異なり、それぞれアルキル基である。］
で示される基が挙げられる。
【００７９】
Ｒ９〜Ｒ１０で示されるアルキル基としては、メチル基、エチル基等のＣ１−６アルキル基、特にＣ１−４アルキル基が挙げられる。
【００８０】
化合物（５ａ）→化合物（５ｂ）
本工程で使用できるハロゲン化剤としては、特に制限はないが、塩素（Cl2）、臭素（Br2）、ヨウ素（I2）、１，２−ジブロモエタン、Ｎ−クロロスクシンイミド、Ｎ−ブロモスクシンイミド（NBS）、臭化水素等が挙げられる。ハロゲン化剤の使用量は、使用するハロゲン化剤の種類に応じて適宜設定され得るが、通常、化合物（５ａ）１モルに対して、０．２〜５モルが好ましく、０．５〜２モルがより好ましい。
【００８１】
本工程で使用できるＲ４Ｙで示される化合物の使用量は、通常、化合物（５ａ）１モルに対して、０．２〜５モルが好ましく、０．５〜２モルがより好ましい。
【００８２】
本工程で使用できるパラジウム化合物としては、特に限定されないが、例えば、酢酸パラジウム（Pd(OCOCH3)2；Pd(OAc)2）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（0）（Pd(PPh3)4）、トリフルオロ酢酸パラジウム（Pd(OCOCF3)2）、塩化パラジウム（PdCl2）、臭化パラジウム（PdBr2）、ヨウ化パラジウム（PdI2）、Pd(CH2COCH2COCH3)2、K2PdCl4、K2PdCl6、K2Pd(NO3)4、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（0）（Pd2(dba)3）、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム（0）、ジクロロ（１，５−シクロオクタジエン）パラジウム（II）、２，５−ノルボルナジエンパラジウムジクロリド等が挙げられる。これらのパラジウム化合物は、溶媒和物であってもよい。これらは単独で用いてもよく、２種以上を組合せて用いてもよい。なかでも、本工程では、収率及び合成の容易さの観点から、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（0）（Pd2(dba)3）が好ましい。パラジウム化合物の使用量は、通常、化合物（５ａ）１モルに対して、０．００２〜０．１モルが好ましく、０．００５〜０．０５モルがより好ましい。
【００８３】
本工程では、必要に応じて配位子化合物を使用してもよい。使用できる配位子化合物としては、特に制限されないが、例えば、トリフェニルホスフィン、トリメトキシホスフィン、トリエチルホスフィン、トリイソプロピルホスフィン、トリ（ｔ−ブチル）ホスフィン、トリ（ｎ−ブチル）ホスフィン、トリイソプロポキシホスフィン、トリシクロペンチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリメシチルホスフィン、トリフェノキシホスフィン、ジ（ｔ−ブチル）メチルホスフィン、メチルジフェニルホスフィン、ジメチルフェニルホスフィン、トリエチルアミン、ピリジン、２，２’−ビピリジル、４，４’−（ｔ−ブチル）ビピリジル、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン、１，１’−ビス（ｔ−ブチル）フェロセン、ジフェニルホスフィノメタン、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン、１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン、１，５−ビス（ジフェニルホスフィノ）ペンタン、１，２−ビス（ジペンタフルオロフェニルホスフィノ）エタン、１，２−ビス（ジシクロヘキシルホスフィノ）エタン、１，３−（ジシクロヘキシルホスフィノ）プロパン、１，２−ビス（ジ−ｔ−ブチルホスフィノ）エタン、１，３−ビス（ジ−ｔ−ブチルホスフィノ）プロパン、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）ベンゼン、１，５−シクロオクタジエン等が挙げられる。これらの配位子化合物は、溶媒和物であってもよい。これらは単独で用いてもよく、２種以上を組合せて用いてもよい。なかでも、本工程では、収率及び合成の容易さの観点から、トリ（ｔ−ブチル）ホスフィンが好ましい。配位子化合物の使用量は、通常、パラジウム化合物１モルに対して、１〜１０モルが好ましく、３〜５モルがより好ましい。
【００８４】
本工程では、必要に応じて塩基を使用してもよい。本工程で使用できる塩基としては、特に制限されないが、例えば、カリウムｔ−ブトキシド、ナトリウムｔ−ブトキシド、リチウムｔ−ブトキシド等の金属アルコキシド；リン酸リチウム、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム等のリン酸アルカリ金属塩；水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、水酸化バリウム等の金属水酸化物；炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等の炭酸金属塩；トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等のアミン；ピペリジン、Ｎ−メチルピペリジン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン（ＴＥＭＰＯ）等が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、２種以上を組合せて用いてもよい。なかでも、本工程では、収率及び合成の容易さの観点から、金属水酸化物が好ましく、水酸化ナトリウムがより好ましい。塩基の使用量は、通常、化合物（５ａ）１モルに対して、０．５〜５モルが好ましく、１〜３モルがより好ましい。
【００８５】
本工程は、通常溶媒中で実施することができる。溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジメトキシエタン、シクロペンチルメチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル等の鎖状エーテル類；テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン等の環状エーテル類；ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類；ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素類；クロロベンゼン、トリフルオロトルエン等の芳香族ハロゲン化炭化水素類； メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類等が挙げられる。これらの溶媒は単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて使用してもよい。本工程では、収率及び合成の容易さの観点から、環状エーテル類が好ましく、テトラヒドロフランがより好ましい。
【００８６】
本工程は、不活性ガス雰囲気（窒素ガス、アルゴンガス等）下で行うことが好ましく、反応温度は、通常、−５０〜１５０℃程度が好ましく、０〜１００℃程度がより好ましい。反応時間は、反応が進行する時間とすることができ、通常、１〜７２時間程度が好ましく、２〜４８時間程度がより好ましい。
【００８７】
反応終了後は、必要に応じて通常の単離及び精製工程を経て、目的化合物である化合物（５ｂ）を得ることができる。
【００８８】
化合物（５ｂ）→化合物（５ｃ）
本工程で使用できるＲ２Ｙで示される化合物の使用量は、通常、化合物（５ｂ）１モルに対して、１〜１０モルが好ましく、３〜５モルがより好ましい。
【００８９】
本工程で使用できるパラジウム化合物としては、特に限定されず、前記したものが挙げられる。本工程では、収率及び合成の容易さの観点から、酢酸パラジウム（Pd(OCOCH3)2；Pd(OAc)2）が好ましい。パラジウム化合物の使用量は、通常、化合物（５ｂ）１モルに対して、０．０２〜０．５モルが好ましく、０．０５〜０．２モルがより好ましい。
【００９０】
本工程では、必要に応じて配位子化合物を使用してもよい。使用できる配位子化合物としては、特に限定されず、前記したものが挙げられる。本工程では、収率及び合成の容易さの観点から、２，２’−ビピリジル、４，４’−（ｔ−ブチル）ビピリジル等が好ましく、２，２’−ビピリジルがより好ましい。配位子化合物の使用量は、通常、パラジウム化合物１モルに対して、０．２〜５モルが好ましく、０．５〜２モルがより好ましい。
【００９１】
本工程では、必要に応じて塩基を使用してもよい。本工程で使用できる塩基としては、特に限定されず、前記したものが挙げられる。本工程では、収率及び合成の容易さの観点から、ピペリジン、Ｎ−メチルピペリジン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン（ＴＥＭＰＯ）等が好ましく、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン（ＴＥＭＰＯ）がより好ましい。塩基の使用量は、通常、化合物（５ｂ）１モルに対して、１〜１０モルが好ましく、３〜５モルがより好ましい。
【００９２】
本工程は、通常溶媒中で実施することができる。溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジメトキシエタン、シクロペンチルメチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル等の鎖状エーテル類；テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状エーテル類；ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類；ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素類；クロロベンゼン、トリフルオロトルエン等の芳香族ハロゲン化炭化水素類； メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類等が挙げられる。これらの溶媒は単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて使用してもよい。本工程では、収率及び合成の容易さの観点から、芳香族ハロゲン化炭化水素類が好ましく、トリフルオロトルエンがより好ましい。
【００９３】
本工程は、不活性ガス雰囲気（窒素ガス、アルゴンガス等）下で行うことが好ましいが、脱気しなくてもよいし、水分を除去しなくてもよいため大量合成を容易に行うことができる。反応温度は、通常、０〜１５０℃程度が好ましく、５０〜１００℃程度がより好ましい。反応時間は、反応が進行する時間とすることができ、通常、１〜９６時間程度が好ましく、２〜７２時間程度がより好ましい。
【００９４】
反応終了後は、必要に応じて通常の単離及び精製工程を経て、目的化合物である化合物（５ｃ）を得ることができる。
【００９５】
化合物（５ｃ）→化合物（５ｄ）
本工程は、非特許文献１に開示された方法にしたがって行うことができる。例えば、塩化パラジウム（PdCl2）等のパラジウム化合物の存在下、Ｒ１Ｘで示される化合物を用いて、化合物（５ｃ）に対してＲ１を導入することができる。この際、必要に応じて、ビピリジル等の配位子化合物、炭酸銀（Ag2CO3）等の銀化合物を使用してもよい。
【００９６】
化合物（５ｄ）→化合物（５ｅ）
本工程は、非特許文献１に開示された方法にしたがって行うことができる。例えば、トリブロモボラン等を用いて化合物（５ｄ）を脱アルキル化した後に、トリフルオロメタンスルホン酸無水物等を用いてトリフルオロメタンスルホニル化を行うことができる。トリフルオロメタンスルホニル化は、必要に応じてジイソプロプルエチルアミン等の塩基の存在下に行ってもよい。
【００９７】
化合物（５ｅ）→四置換チオフェン化合物（４）
本工程は、非特許文献１に開示された方法にしたがって行うことができる。例えば、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（0）（Pd(PPh3)4）等のパラジウム化合物の存在下、Ｒ３Ｙで示される化合物を用いて、化合物（５ｅ）に対してＲ３を導入することができる。この際、必要に応じて、水酸化バリウム等の塩基を使用してもよい。
【００９８】
（２−２）工程（I）：四置換チオフェン化合物（４）の酸化
上記した四置換チオフェン化合物（４）と後述の化合物（３）とを反応させても環化反応は進行せず、本発明の多置換芳香族化合物は得られない。本発明では、四置換チオフェン化合物（４）の反応性を向上させるため、原料として四置換チオフェンＳ−オキシド化合物（２）を用いることが好ましい。
【００９９】
本工程では、上記した四置換チオフェン化合物（４）を酸化させることで、四置換チオフェンＳ−オキシド化合物（３）を得ることができる。
【０１００】
本工程において、酸化に使用される酸化剤としては、特に制限されないが、例えば、塩素；過酸化水素；過酢酸、過安息香酸、ｍ−クロロ過安息香酸（m-CPBA）等の過酸類；ｔ−ブチルペルオキシド等のペルオキシド類；メタ過ヨウ素酸ナトリウム等の過ハロゲン酸塩類等が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、２種以上を組合せて用いてもよい。なかでも、本工程では、収率及び合成の容易さの観点から、過酸類が好ましく、ｍ−クロロ過安息香酸（m-CPBA）がより好ましい。酸化剤の使用量は、通常、四置換チオフェン化合物（４）１モルに対して、１〜１０モルが好ましく、３〜５モルがより好ましい。
【０１０１】
本工程では、上記酸化剤の他、酸触媒として三フッ化ホウ素化合物を使用することが好ましい。使用できる三フッ化ホウ素化合物としては、例えば、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体（BF3・OEt2）、三フッ化ホウ素テトラヒドロフラン錯体、三フッ化ホウ素メタノール錯体等が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、２種以上を組合せて用いてもよい。なかでも、本工程では、収率及び合成の容易さの観点から、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体（BF3・OEt2）が好ましい。三フッ化ホウ素化合物の使用量は、通常、四置換チオフェン化合物（４）１モルに対して、２〜３０モルが好ましく、５〜２０モルがより好ましい。
【０１０２】
本工程は、通常溶媒中で実施することができる。溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジメトキシエタン、シクロペンチルメチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル等の鎖状エーテル類；テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状エーテル類；ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類；ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素類；クロロベンゼン、トリフルオロトルエン等の芳香族ハロゲン化炭化水素類； メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類等が挙げられる。これらの溶媒は単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて使用してもよい。本工程では、収率及び合成の容易さの観点から、脂肪族ハロゲン化炭化水素類が好ましく、ジクロロメタンがより好ましい。
【０１０３】
本工程は、不活性ガス雰囲気（窒素ガス、アルゴンガス等）下で行うことが好ましく、反応温度は、通常、−１００〜５０℃程度が好ましく、−５０〜０℃程度がより好ましい。反応時間は、反応が進行する時間とすることができ、通常、１〜２４時間程度が好ましく、２〜１２時間程度がより好ましい。
【０１０４】
反応終了後は、必要に応じて通常の単離及び精製工程を経て、目的化合物である四置換チオフェンＳ−オキシド化合物（２）を得ることができる。
【０１０５】
（２−３）工程（II）：四置換チオフェンＳ−オキシド化合物（２）と化合物（３）との反応
上記した四置換チオフェンＳ−オキシド化合物（２）は、ジエンとしての反応性を有するため、化合物（３）と反応させることで、本発明の多置換芳香族化合物を得ることができる。
【０１０６】
一般式（３）において、Ｒ５〜Ｒ６で示されるアリール基及びヘテロアリール基は前記したものが挙げられ、有し得る置換基の種類及び数としても上記したものを採用し得る。
【０１０７】
一般式（３）において、Ｒは窒素原子又は−（Ｃ−Ｒ６）＝で示される基である。また、Ｒ５とＲ６は結合して環を形成してもよい。つまり、化合物（３）は、一般式（３Ａ）：
Ｒ６ａ−Ｃ≡Ｃ−Ｒ５ａ
［式中、Ｒ５ａ及びＲ６ａは異なり、それぞれ置換されていてもよいアリール基又は置換されていてもよいヘテロアリール基；Ｒ５ａ及びＲ６ａはＲ１〜Ｒ４のいずれとも異なる。］
で示される化合物、
一般式（３Ｂ）：
【０１０８】
【化２０】
0006709889.tif 000021
【０１０９】
［式中、Ａ’は三重結合を有する環である。］
で示される化合物、及び
一般式（３Ｃ）：
Ｎ≡Ｃ−Ｒ５ｃ
［式中、Ｒ５ｃは置換されていてもよいアリール基又は置換されていてもよいヘテロアリール基；Ｒ５ｃはＲ１〜Ｒ４のいずれとも異なる。］
で示される化合物のいずれも包含する。
【０１１０】
一般式（３Ａ）において、Ｒ５ａ〜Ｒ６ａで示されるアリール基及びヘテロアリール基は前記したものが挙げられ、有し得る置換基の種類及び数としても上記したものを採用し得る。
【０１１１】
一般式（３Ｂ）において、Ａ’で示される環としては、特に制限はないが、例えば、
【０１１２】
【化２１】
0006709889.tif 000022
【０１１３】
等が挙げられる。
【０１１４】
一般式（３Ｃ）において、Ｒ５ｃで示されるアリール基及びヘテロアリール基は前記したものが挙げられ、有し得る置換基の種類及び数としても上記したものを採用し得る。
【０１１５】
このため、使用できる化合物（３）としては、例えば、    
【化２２】
0006709889.tif 000023
【０１１６】
等が挙げられる。
【０１１７】
本工程において、化合物（３）の使用量は、通常、四置換チオフェンＳ−オキシド化合物（２）１モルに対して、０．５〜５モルが好ましく、１〜３モルがより好ましい。なお、化合物（３Ｃ）は通常液体であり、反応溶媒としても機能するため、化合物（３Ｃ）を用いる場合は、その使用量は四置換チオフェンＳ−オキシド化合物（２）に対して過剰量とすることが好ましい。
【０１１８】
本工程は、通常溶媒中で実施することができる。溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジメトキシエタン、シクロペンチルメチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル等の鎖状エーテル類；テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状エーテル類；ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類；ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素類；クロロベンゼン、トリフルオロトルエン等の芳香族ハロゲン化炭化水素類； メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類等が挙げられる。これらの溶媒は単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて使用してもよい。収率及び合成の容易さの観点から、状エーテル類及び芳香族炭化水素類が好ましく、テトラヒドロフラン、キシレン、メシチレンがより好ましい。なお、化合物（３Ｃ）は通常液体であるため、化合物（３Ｃ）を用いる場合は、反応溶媒を使用しなくてもよい。
【０１１９】
本工程は、不活性ガス雰囲気（窒素ガス、アルゴンガス等）下で行うことが好ましく、反応温度は、通常、−１００〜５０℃程度が好ましく、−５０〜０℃程度がより好ましい。反応時間は、反応が進行する時間とすることができ、通常、１〜２４時間程度が好ましく、２〜１２時間程度がより好ましい。
【０１２０】
このようにして、本発明の多置換芳香族化合物を得ることができる。  化合物（３）として化合物（３Ａ）を用いた場合は、この時点では一般式（１Ａ）：
【０１２１】
【化２３】
0006709889.tif 000024
【０１２２】
［式中、Ｒ１ａ〜Ｒ６ａはいずれも異なり、それぞれ前記に同じである。］
で示される化合物と、一般式（１Ａ’）：
【０１２３】
【化２４】
0006709889.tif 000025
【０１２４】
［式中、Ｒ１ａ〜Ｒ６ａはいずれも異なり、それぞれ前記に同じである。］
で示される化合物との混合物として得ることができる。このため、通常の単離及び精製工程を経て、目的化合物を単離することができる。
【０１２５】
ただし、Ｒ１ａ〜Ｒ６ａの組合せによっては、上記化合物（１Ａ）と化合物（１Ａ’）とを単離することが困難な場合もある。この場合には、常法により、Ｒ５ａ又はＲ６ａをｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基等のような嵩高い置換基に置換すれば上記化合物（１Ａ）と化合物（１Ａ’）とを単離しやすくすることが可能である。
【０１２６】
化合物（３）として化合物（３Ｂ）を用いた場合は、必要に応じて通常の単離及び精製工程を経て、目的化合物を得ることができる。  化合物（３）として化合物（３Ｃ）を用いた場合は、この時点では一般式（１Ｃ）：
【０１２７】
【化２５】
0006709889.tif 000026
【０１２８】
［式中、Ｒ１ｃ〜Ｒ５ｃはいずれも異なり、それぞれ前記に同じである。］
で示される化合物と、一般式（１Ｃ’）：
【０１２９】
【化２６】
0006709889.tif 000027
【０１３０】
［式中、Ｒ１ｃ〜Ｒ５ｃはいずれも異なり、それぞれ前記に同じである。］
で示される化合物との混合物として得ることができる。このため、通常の単離及び精製工程を経て、目的化合物を単離することができる。
【実施例】
【０１３１】
以下、本発明について、実施例を挙げて具体的に説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら制約されるものではない。
【０１３２】
［合成例１：化合物（５ｂ）の合成］
合成例１−１：化合物１ａの合成
【０１３３】
【化２７】
0006709889.tif 000028
【０１３４】
［式中、Ｍｅはメチル基；以下同様である。］
500 mLの三つ首フラスコに磁気撹拌子を入れ、真空下にフレームドライし、室温まで冷却した後に窒素を充填した。0℃で、このフラスコに、3-メトキシチオフェン（3.0 mL, 30 mmol, 1.0当量）のTHF（300 mL）溶液とN-ブロモスクシンイミド（NBS; 5.34 g, 30 mmol, 1.0当量）とを添加した。混合物を0℃で1時間撹拌した後、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（0）・クロロホルム付加物（Pd2(dba)3・CHCl3; 465.8 mg, 0.45 mmol, 1.5 mol%）、トリ-t-ブチルホスホニウムテトラフルオロボレート（P(t-Bu)3・HBF4; 522.2 mg, 1.8 mmol, 6 mol%）、4-t-ブチルフェニルボロン酸（31.5 mmol, 1.05当量）、及びNaOH水溶液（3 M, 20 mL, 60 mmol, 2.0当量）を添加し、さらに混合物を60℃で20時間撹拌した。溶媒を蒸発させた後、混合物に水（500 mL）及びCH2Cl2（200 mL）を添加した。CH2Cl2で抽出した後、有機層をNa2SO4で乾燥させ、揮発性物質を減圧下に除去した。フラッシュカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝40: 1）により精製し、クーゲルロール（Kugelrohr）により蒸留し、化合物１ａを無色油として得た（7.4 g, quant）。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ 7.65 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.38 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.12 (d, J = 5.6 Hz, 1H), 6.92 (d, J = 5.6 Hz, 1H), 3.90 (s, 3H), 1.33 (s, 9H); 13C NMR (100 MHz, CDCl3): δ 153.3, 149.1, 130.5, 126.5, 125.3, 121.5, 120.1, 117.3, 58.5, 34.4, 31.2; HRMS (DART) m/z calcd for C15H19OS [MH]+: 247.11566, found 247.11528。
【０１３５】
合成例１−２：化合物１ｂの合成
【０１３６】
【化２８】
0006709889.tif 000029
【０１３７】
アリールボロン酸化合物としてm-トリルボロン酸を使用すること以外は合成例１−１と同様に合成し、化合物１ｂを無色油として得た（5.5 g, 90 %）。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ 7.57-7.50 (m, 2H), 7.25 (t, J = 8.0 Hz, 1H), 7.14 (d, J = 5.6 Hz, 1H), 7.04 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 6.92 (d, J = 5.6 Hz, 1H), 3.91 (s, 3H), 2.38 (s, 3H); 13C NMR (100 MHz, CDCl3): δ 153.5, 137.9, 133.2, 128.3, 127.5, 127.1, 124.0, 121.9, 120.2, 117.4, 58.6, 21.5; HRMS (DART) m/z calcd for C12H13OS [MH]+: 205.06871, found 205.06863。
【０１３８】
［合成例２：化合物（５ｃ）の合成］
合成例２−１：化合物２ａｃの合成
【０１３９】
【化２９】
0006709889.tif 000030
【０１４０】
50 mLの二つ首フラスコに磁気撹拌子を入れ、真空下にフレームドライし、室温まで冷却した後に窒素を充填した。このフラスコに、酢酸パラジウム（Pd(OAc)2; 224.5 mg, 1.0 mmol, 10 mol%）、2,2’-ビピリジル（bipy: 156.8 mg, 1.0 mmol, 10 mol%）、フェニルボロン酸（40 mmol, 4.0当量）、2,2,6,6-テトラメチルピペリジン1-オキシル（TEMPO; 4.69 g, 30 mmol, 3.0当量）、合成例１−１で得た化合物１ａ（10 mmol, 1.0当量）、及びα,α,α-トリフルオロトルエン（3.3 mL）を窒素雰囲気下に添加した。容器を80℃で48時間加熱した。反応混合物をシリカゲル（溶離液: 酢酸エチル, 100 mL）でろ過し、揮発性物質を減圧下に除去した。フラッシュカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝20: 1）及びゲルパーミエーションクロマトグラフィー（GPC）により精製し、化合物２ａｃを白色固体として得た（2.43 g, 75 % (β), β/α= 98: 2）。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ 7.72-7.64 (m, 4H), 7.45-7.39 (m, 4H), 7.33 (t, J = 8.0 Hz, 1H), 7.16 (s, 1H), 3.51 (s, 3H), 1.36 (s, 9H); 13C NMR (100 MHz, CDCl3): δ151.3, 150.2, 136.7, 135.1, 130.2, 128.5, 128.2, 127.5, 127.2, 126.9, 125.6, 119.1, 60.7, 34.6, 31.3; HRMS (DART) m/z calcd for C21H23OS [MH]+: 323.14696, found 323.14673。
【０１４１】
合成例２−２：化合物２ｂｃの合成
【０１４２】
【化３０】
0006709889.tif 000031
【０１４３】
合成例１−１で得た化合物１ａの代わりに合成例１−２で得た化合物１ｂを使用すること以外は合成例２−１と同様に合成し、化合物２ｂｃを無色油として得た（2.13 g, 76 % (β), β/α= 91: 9）。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ 7.68-7.64 (m, 2H), 7.58 (d, J = 8.0 Hz, 2H), 7.42 (t, J = 7.6 Hz, 2H), 7.36-7.27 (m, 2H), 7.18 (s, 1H), 7.11 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 3.50 (s, 3H), 2.40 (s, 3H); 13C NMR (100 MHz, CDCl3): δ 151.5, 138.3, 136.8, 135.0, 133.0, 128.6, 128.5, 128.3, 128.03, 127.97, 127.5, 127.3, 124.4, 119.4, 60.7, 21.5; HRMS (DART) m/z calcd for C18H17OS [MH]+: 281.10001, found 281.10046。
【０１４４】
［合成例３：化合物（５ｄ）の合成］
合成例３−１：化合物３ａｃｄの合成
【０１４５】
【化３１】
0006709889.tif 000032
【０１４６】
100 mLのガラス容器にJ. Young Oリングタップを取りつけ、磁気撹拌子を入れ、真空下にフレームドライし、室温まで冷却した後に窒素を充填した。この容器に、塩化パラジウム（PdCl2; 76.6 mg, 0.45 mmol, 10 mol%）、2,2’-ビピリジル（bipy: 70.2 mg, 0.45 mmol, 10 mol%）、炭酸銀（Ag2CO3; 1.24 g, 4.5 mmol, 1.0当量）、合成例２−１で得た化合物２ａｃ（4.5 mmol, 1.0当量）、4-トリフルオロメチルフェニルヨージド（13.5 mmol, 3.0当量）、及び乾燥m-キシレン（24 mL）を窒素雰囲気下に添加した。容器をOリングタップで密封し、120℃で48時間加熱した。反応混合物を室温まで冷却した後、混合物を短いシリカゲルパッド（酢酸エチル）でろ過した。ろ液を真空下に濃縮し、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（GPC）により精製し、化合物３ａｃｄを白色固体として得た（1.77 g, 84 %）。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ 7.73 (d, J = 8.8 Hz, 2H), 7.49-7.42 (m, 4H), 7.40-7.30 (m, 7H), 3.39 (s, 3H), 1.36 (s, 9H); 13C NMR (100 MHz, CDCl3): δ 152.1, 150.6, 138.1, 134.8, 134.2, 133.6, 130.0, 129.7, 129.0 (q, 2JCF = 32.6 Hz), 128.7, 128.6, 128.0, 127.6, 125.7, 125.3 (q, 3JCF = 3.8 Hz), 124.1 (q, 1JCF = 273 Hz), 60.6, 34.6, 31.3; HRMS (DART) m/z calcd for C28H26F3OS [MH]+: 467.16564, found 467.16622。
【０１４７】
合成例３−２：化合物３ｂｃｅの合成
【０１４８】
【化３２】
0006709889.tif 000033
【０１４９】
合成例２−１で得た化合物２ａｃの代わりに合成例２−２で得た化合物２ｂｃを使用し、アリールヨージドとして4-クロロヨードベンゼンを使用すること以外は合成例３−１と同様に合成し、化合物３ｂｃｅを白色固体として得た（1.69 g, 72 %）。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ 7.63-7.57 (m, 2H), 7.39-7.28 (m, 6H), 7.23-7.10 (m, 5H), 3.38 (s, 3H), 2.41 (s, 3H); 13C NMR (100 MHz, CDCl3): δ 152.1, 138.3, 134.5, 134.3, 133.9, 133.3, 132.9, 132.6, 130.0, 129.9, 128.7, 128.6, 128.4, 128.1, 127.9, 127.4, 127.1, 124.4, 60.6, 21.5; HRMS (DART) m/z calcd for C24H20ClOS [MH]+: 391.09234, found 391.09257。
【０１５０】
［合成例４：化合物（５ｅ）の合成］
合成例４−１：化合物４ａｃｄの合成
【０１５１】
【化３３】
0006709889.tif 000034
【０１５２】
50 mLのシュレンクフラスコに磁気撹拌子を入れ、真空下にフレームドライし、室温まで冷却した後に窒素を充填した。このフラスコに、合成例３−１で得た化合物３ａｃｄ（0.5 mmol, 1.0当量）、及び乾燥CH2Cl2（5 mL）を窒素気流下に添加した。内容物を-78℃まで冷却し、ボロントリブロマイド（650μL, 1 M in CH2Cl2, 0.65 mmol, 1.3当量）を添加した。得られた混合物を-78℃で0.5時間撹拌した。反応混合物を室温まで昇温してTLCをモニターした後、混合物に水（20 mL）及びCH2Cl2（20 mL）を添加した。CH2Cl2で抽出した後、有機層をNa2SO4で乾燥させ、揮発性物質を減圧下に除去した。粗生成物を短いシリカゲルパッド（ヘキサン／酢酸エチル＝1: 1）でろ過した。ろ液を真空下に濃縮し、さらなる精製をせずに次の工程にそのまま使用した。
【０１５３】
20 mLのシュレンクフラスコに磁気撹拌子を入れ、真空下にフレームドライし、室温まで冷却した後に窒素を充填した。このフラスコに、上記工程で得た物質、及び乾燥CH2Cl2（2.5 mL）を窒素気流下に添加した。内容物を0℃まで冷却し、このフラスコにN,N-ジイソプロピルエチルアミン（i-Pr2NEt; 130.6μL, 0.75 mmol, 1.5当量）、N,N-ジメチルアミノピリジン（5.5 mg, 50μmol, 10 mol%）、及びトリフルオロメタンスルホン酸無水物（Tf2O; 126.2μL, 0.75 mmol, 1.5当量）を添加した。得られた混合物を0℃で0.5時間撹拌した。反応混合物を室温まで昇温して12時間撹拌した後、混合物を短いシリカゲルパッド（ヘキサン／酢酸エチル＝1: 1）でろ過した。ろ液を真空下に濃縮し粗生成物を、分取薄層クロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝10: 1）により精製し、化合物４ａｃｄを白色固体として得た（130.1 mg, 45 %）。
1H NMR (600 MHz, CDCl3): δ 7.57 (dd, J = 8.4, 1.8 Hz, 2H), 7.52-7.49 (m, 4H), 7.41-7.38 (m, 3H), 7.34-7.29 (m, 4H), 1.37 (s, 9H); 13C NMR (150 MHz, CDCl3): δ152.6, 137.2, 136.9, 135.2, 133.9, 133.6, 131.8, 130.4, 129.9 (q, 2JCF= 33.2 Hz), 128.9, 128.8, 128.6, 128.3, 127.0, 126.0, 125.6 (q, 3JCF= 2.9 Hz), 123.9 (q, 1JCF = 274 Hz), 117.8 (q, 1JCF= 323 Hz), 34.8, 31.2; HRMS (DART) m/z calcd for C28H23F6O3S2[MH]+: 585.09928, found 585.10085。
【０１５４】
合成例４−２：化合物４ｂｃｅの合成
【０１５５】
【化３４】
0006709889.tif 000035
【０１５６】
合成例３−１で得た化合物３ａｃｄの代わりに合成例３−２で得た化合物３ｂｃｅを使用したこと以外は合成例４−１と同様に合成し、化合物４ｂｃｅを白色固体として得た（136.8 mg, 54 %）。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ 7.48-7.34 (m, 6H), 7.31-7.21 (m, 5H), 7.15 (d, J = 8.8 Hz, 2H), 2.43 (s, 3H); 13C NMR (100 MHz, CDCl3): δ 138.8, 137.2, 136.1, 134.2, 133.0, 132.8, 131.9, 131.7, 130.4, 130.01, 129.95, 129.8, 129.2, 128.94, 128.88, 128.7, 128.4, 125.7, 117.9 (q, JCF = 323 Hz), 21.3; HRMS (DART) m/z calcd for C24H17ClF3O3S2[MH]+: 509.02597, found 509.02611。
【０１５７】
［合成例５：四置換チオフェン化合物（４）の合成］
合成例５−１：四置換チオフェン化合物５ａｃｄｅの合成
【０１５８】
【化３５】
0006709889.tif 000036
【０１５９】
50 mLのシュレンク管に磁気撹拌子を入れ、真空下にフレームドライし、室温まで冷却した後に窒素を充填した。このシュレンク管に、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（0）（Pd(PPh3)4; 10.4 mg, 9.0μmol, 10 mol%）、Ba(OH)2（30.8 mg, 0.18 mmol, 2.0当量）、4-クロロフェニルボロン酸（0.270 mmol, 3.0当量）、合成例４−１で得た化合物４ａｃｄ（0.09 mmol, 1.0当量）、乾燥1-ブタノール（3.6 mL）、及びH2O（3.0 mL）を窒素気流下に添加した。シュレンク管を65℃で16時間加熱した。反応混合物を室温まで冷却した後、混合物を短いシリカゲルパッド（酢酸エチル）でろ過した。ろ液を真空下に濃縮し、粗生成物を分取薄層クロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝10: 1）により精製し、四置換チオフェン化合物５ａｃｄｅを白色固体として得た（34.9 mg, 71 %）。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ 7.45 (d, J = 8.0 Hz, 2H), 7.33-7.23 (m, 4H), 7.21-7.12 (m, 5H), 7.10 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 6.95 (dd, J = 7.8, 2.0 Hz, 2H), 6.90 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 1.30 (s, 9H); 13C NMR (100 MHz, CDCl3): δ 150.8, 140.4, 140.2, 137.9, 137.7, 136.4, 135.8, 134.7, 132.7, 132.1, 130.6, 130.5, 129.1, 128.9 (q, 2JCF = 32.4 Hz), 128.7, 128.24, 128.18, 127.1, 125.5, 125.3 (q, 3JCF = 3.9 Hz), 124.1 (q, 1JCF= 277 Hz), 34.6, 31.2; HRMS (DART) m/z calcd for C33H27ClF3S [MH]+: 547.14741, found 547.14724。
【０１６０】
合成例５−２〜５−４：四置換チオフェン化合物５ａｃｄｆ、四置換チオフェン化合物５ｂｃｅｇ、四置換チオフェン化合物５ｂｃｅｈの合成
【０１６１】
【化３６】
0006709889.tif 000037
【０１６２】
4-クロロフェニルボロン酸の代わりに4-メトキシフェニルボロン酸を使用したこと以外は合成例５−１と同様に合成し、四置換チオフェン化合物５ａｃｄｆを白色固体として得た（33.7 mg, 69 %）。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ 7.45 (d, J = 8.8 Hz, 2H), 7.31 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.28-7.22 (m, 2H), 7.20-7.13 (m, 5H), 6.98-6.94 (m, 2H), 6.88 (d, J = 8.8 Hz, 2H), 6.67 (d, J = 8.8 Hz, 2H), 3.75 (s, 3H), 1.29 (s, 9H); 13C NMR (100 MHz, CDCl3): δ158.3, 150.4, 140.8, 139.5, 139.0, 138.0, 136.2, 135.9, 131.9, 131.0, 130.7, 129.1, 128.8 (q, 2JCF = 32.4 Hz), 128.6, 128.1, 126.9, 125.3, 125.2 (q, 3JCF = 3.8 Hz), 124.1 (q, 1JCF= 277 Hz), 113.3, 55.0, 34.5, 31.2; HRMS (DART) m/z calcd for C34H30F3OS [MH]+: 543.19694, found 543.19636。
【０１６３】
合成例４−１で得た化合物４ａｃｄの代わりに合成例４−２で得た化合物４ｂｃｅを使用し、4-クロロフェニルボロン酸の代わりに3,5-ジメトキシフェニルボロン酸を使用したこと以外は合成例５−１と同様に合成し、四置換チオフェン化合物５ｂｃｅｇを白色固体として得た（42.3 mg, 95 %）。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ 7.21-7.08 (m, 9H), 7.06-6.96 (m, 4H), 6.42 (t, J = 2.4 Hz, 1H), 6.09 (s, 2H), 3.49 (s, 6H), 2.28 (s, 3H); 13C NMR (100 MHz, CDCl3): δ160.0, 139.7, 139.2, 139.1, 137.92, 137.89, 136.8, 136.3, 133.8, 133.1, 132.7, 130.6, 130.3, 129.8, 128.5, 128.22, 128.17, 128.0, 126.8, 126.2, 108.8, 99.7, 55.1, 21.4; HRMS (DART) m/z calcd for C31H26ClO2S [MH]+: 497.13420, found 497.13378。
【０１６４】
合成例４−１で得た化合物４ａｃｄの代わりに合成例４−２で得た化合物４ｂｃｅを使用し、4-クロロフェニルボロン酸の代わりに4-n-ブチルフェニルボロン酸を使用したこと以外は合成例５−１と同様に合成し、四置換チオフェン化合物５ｂｃｅｈを白色固体として得た（42.9 mg, 97 %）。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ 7.20-6.98 (m, 11H), 6.98-6.89 (m, 4H), 6.84 (d, J = 8.0 Hz, 2H), 2.51 (t, J = 7.6 Hz, 2H), 2.22 (s, 3H), 1.53 (quin, J = 7.8 Hz, 2H), 1.27 (sext, J = 7.6 Hz, 2H), 0.89 (t, J = 7.6 Hz, 3H); 13C NMR (100 MHz, CDCl3): δ141.2, 139.9, 139.6, 138.8, 137.8, 136.7, 136.3, 134.0, 133.5, 133.0, 132.9, 130.8, 130.5, 130.3, 129.8, 128.5, 128.1, 128.0, 127.9, 126.7, 126.2, 35.2, 33.4, 22.1, 21.3, 14.0; HRMS (DART) m/z calcd for C33H30ClS [MH]+: 493.17567, found 493.17618。
【０１６５】
［合成例６：四置換チオフェンＳ−オキシド化合物（２）の合成］
合成例６−１：四置換チオフェンＳ−オキシド化合物６ａｃｄｅの合成
【０１６６】
【化３７】
0006709889.tif 000038
【０１６７】
20 mLのシュレンク管に磁気撹拌子を入れ、真空下にフレームドライし、室温まで冷却した後に窒素を充填した。このシュレンク管に、合成例５−１で得た四置換チオフェン化合物５ａｃｄｅ（0.1 mmol, 1.0当量）、及び乾燥CH2Cl2（400μL）を添加した。-20℃まで冷却した後、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体（BF3・OEt2; 120μL, 1.0 mmol, 10当量）を添加した。混合物を-20℃で1時間撹拌した後、m-クロロ過安息香酸（m-CPBA; 0.1 mmol, 1.0当量）のCH2Cl2（200μL）溶液をゆっくりと（1時間ごとに4回）添加し、さらに得られた混合物を-20℃で1時間撹拌した。飽和Na2S2O3水溶液及び飽和NaHCO3水溶液を添加して反応をクエンチした。混合物をCH2Cl2で抽出し、Na2SO4で乾燥し、減圧下に濃縮した。粗生成物を分取薄層クロマトグラフィー（ヘキサン／CHCl3＝2: 3）により精製し、四置換チオフェンＳ−オキシド化合物６ａｃｄｅを黄色固体として得た（22.0 mg, 39 %）。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ 7.52 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.47 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.36-7.24 (m, 5H), 7.23-7.17 (m, 2H), 7.14 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 6.95-6.87 (m, 4H), 1.30 (s, 9H); 13C NMR (100 MHz, CDCl3): δ 152.5, 147.9, 144.1, 142.6, 138.7, 134.4, 134.1, 132.6, 131.6, 131.1, 130.3 (q, 2JCF= 33.5 Hz), 129.9, 129.5, 129.3, 128.77, 128.70, 128.66, 126.9, 125.9, 125.6 (q, 3JCF = 3.9 Hz), 123.8 (q, 1JCF= 270 Hz), 34.8, 31.1; HRMS (DART) m/z calcd for C33H27ClF3OS [MH]+: 563.14232, found 563.14329。
【０１６８】
合成例６−２〜６−３：四置換チオフェンＳ−オキシド化合物６ａｃｄｆ、四置換チオフェンＳ−オキシド化合物６ｂｃｅｇ、四置換チオフェンＳ−オキシド化合物６ｂｃｅｈの合成
【０１６９】
【化３８】
0006709889.tif 000039
【０１７０】
合成例５−１で得た四置換チオフェン化合物５ａｃｄｅの代わりに合成例５−２で得た四置換チオフェン化合物５ａｃｄｆを使用したこと以外は合成例６−１と同様に合成し、四置換チオフェンＳ−オキシド化合物６ａｃｄｆを黄色固体として得た（30.0 mg, 54 %）。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ 7.52 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.47 (d, J = 8.8 Hz, 2H), 7.34-7.30 (m, 4H), 7.25-7.16 (m, 3H), 6.94 (d, J = 6.8 Hz, 2H), 6.86 (d, J = 9.2 Hz, 2H), 6.68 (d, J = 9.2 Hz, 2H), 3.75 (s, 3H), 1.29 (s, 9H); 13C NMR (100 MHz, CDCl3): δ 159.4, 152.0, 146.6, 143.7, 143.3, 139.9, 134.4, 133.0, 131.2, 130.1 (q, 2JCF = 37.2 Hz), 129.9, 129.6, 129.3, 128.53, 128.46, 127.5, 125.7, 125.5 (q, 3JCF = 3.8 Hz), 125.2, 123.9 (q, 1JCF= 276 Hz), 113.8, 55.1, 34.7, 31.1; HRMS (DART) m/z calcd for C34H30F3O2S [MH]+: 559.19186, found 559.19277。
【０１７１】
合成例５−１で得た四置換チオフェン化合物５ａｃｄｅの代わりに合成例５−３で得た四置換チオフェン化合物５ｂｃｅｇを使用し、精製処理を分取薄層クロマトグラフィー（CHCl3）としたこと以外は合成例６−１と同様に合成し、四置換チオフェンＳ−オキシド化合物６ｂｃｅｇを黄色固体として得た（22.4 mg, 44 %）。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ 7.34-7.28 (m, 3H), 7.28-7.08 (m, 4H), 6.97 (d, J = 7.2 Hz, 2H), 6.28 (t, J = 2.4 Hz, 1H), 6.07-6.03 (m, 2H), 3.49 (s, 6H), 2.29 (s, 3H); 13C NMR (100 MHz, CDCl3): δ 160.4, 146.7, 144.4, 141.7, 140.5, 138.3, 134.75, 134.73, 133.3, 130.9, 130.2, 130.1, 129.7, 129.4, 129.1, 128.9, 128.5, 128.45, 128.41, 126.8, 107.7, 101.0, 55.2, 21.4; HRMS (DART) m/z calcd for C31H26ClO3S [MH]+: 513.12912, found 513.12807。
【０１７２】
合成例５−１で得た四置換チオフェン化合物５ａｃｄｅの代わりに合成例５−４で得た四置換チオフェン化合物５ｂｃｅｈを使用し、精製処理を分取薄層クロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝5: 1）としたこと以外は合成例６−１と同様に合成し、四置換チオフェンＳ−オキシド化合物６ｂｃｅｈを黄色固体として得た（23.8 mg, 47 %）。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ 7.31 (d, J = 8.8 Hz, 2H), 7.27-7.06 (m, 9H), 6.97-6.89 (m, 4H), 6.81 (d, J = 8.0 Hz, 2H), 2.52 (t, J = 7.6 Hz, 2H), 2.25 (s, 3H), 1.52 (quin, J = 7.6 Hz, 2H), 1.26 (sext, J = 7.6 Hz, 2H), 0.89 (t, J = 7.6 Hz, 3H); 13C NMR (100 MHz, CDCl3): δ 146.2, 144.3, 143.1, 142.0, 141.0, 138.2, 134.7, 133.2, 130.9, 130.33, 130.27, 129.7, 129.6, 129.5, 129.2, 128.9, 128.4, 128.30, 128.27, 126.9, 35.3, 33.2, 22.1, 21.4, 13.9; HRMS (APCI) m/z calcd for C33H30ClOS [MH]+: 509.1700, found 509.1688。
【０１７３】
［合成例７：化合物（３）の合成］
合成例７−１：化合物７ａの合成
【０１７４】
【化３９】
0006709889.tif 000040
【０１７５】
既報（Org. Lett. 15, 936 (2013)）に報告された方法にしたがって4-エチニルアセトフェノンを合成した。
【０１７６】
50 mLのシュレンク管に磁気撹拌子を入れ、真空下にフレームドライし、室温まで冷却した後に窒素を充填した。このシュレンク管に、4-エチニルアセトフェノン（288 mg, 2.0 mmol, 1.0当量）、4-ヨードピリジン（410 mg, 2.0 mmol, 1.0当量）、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（II）ジクロライド（140 mg, 0.2 mmol, 20 mol%）、銅（I）ヨージド（38 mg, 0.2 mmol, 20 mol%）、トリエチルアミン（836μL, 6.0 mmol, 3.0当量）、及び乾燥THF（10 mL）を窒素気流下に添加した。混合物を室温で3時間撹拌した後、水（30 mL）及びCH2Cl2（20 mL）を添加した。CH2Cl2で抽出した後、有機層をNa2SO4で乾燥させ、揮発性物質を減圧下に除去した。フラッシュカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝1: 1）及び再結晶（CHCl3／ヘキサン）により精製し、化合物７ａを橙色結晶として得た（196 mg, 44 %）。
1H NMR (600 MHz, CDCl3): δ 8.64 (d, J = 5.4 Hz, 2H), 7.97 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.64 (d, J = 8.4 Hz, 1H), 7.41 (d, J = 5.4 Hz, 1H), 2.63 (s, 3H); 13C NMR (150 MHz, CDCl3): δ 197.1, 149.9, 136.9, 132.0, 130.7, 128.3, 126.8, 125.5, 92.7, 89.5, 26.6; HRMS (APCI) m/z calcd for C15H12NO [MH]+: 222.09134, found 222.09074。
【０１７７】
合成例７−２：化合物７ｂの合成
【０１７８】
【化４０】
0006709889.tif 000041
【０１７９】
［式中、Ａｃはアセチル基；以下同様である。］
50 mLのシュレンク管に磁気撹拌子を入れ、真空下にフレームドライし、室温まで冷却した後に窒素を充填した。このシュレンク管に、4-エチニルアセトフェノン（158.3 mg, 1.1 mmol, 1.1当量）、2-ヨードナフタレン（254.6 mg, 1.0 mmol, 1.0当量）、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（II）ジクロライド（35.1 mg, 0.05 mmol, 5 mol%）、銅（I）ヨージド（9.5 mg, 0.05 mmol, 5 mol%）、トリエチルアミン（420μL, 3.0 mmol, 3.0当量）、及び乾燥THF（7 mL）を窒素気流下に添加した。反応混合物を室温で9時間撹拌した後、混合物に水（15 mL）及びCH2Cl2（10 mL）を添加した。CH2Cl2で抽出した後、有機層をNa2SO4で乾燥させ、揮発性物質を減圧下に除去した。フラッシュカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝10: 1）及び再結晶（CHCl3／ヘキサン）により精製し、化合物７ｂを白色結晶として得た（196 mg, 73 %）。
1H NMR (600 MHz, CDCl3): δ 8.08 (s, 1H), 7.95 (d, J = 6.6 Hz, 2H), 7.85-7.81 (m, 3H), 7.65 (d, J = 6.6 Hz, 2H), 7.59 (dd, J = 8.4 Hz, 1.8 Hz, 1H), 7.53-7.49 (m, 2H), 2.62 (s, 3H)。
【０１８０】
［合成例８：化合物（３Ｂ）の合成］
合成例８−１：化合物８の合成
【０１８１】
【化４１】
0006709889.tif 000042
【０１８２】
既報（Chem. Commun. 46, 931 (2010)）に報告された方法にしたがって化合物８を合成した。
【０１８３】
［実施例１：化合物（１Ａ）の合成］
実施例１−１：多置換芳香族化合物９ａ及び多置換芳香族化合物９ｂの合成
【０１８４】
【化４２】
0006709889.tif 000043
【０１８５】
［式中、ｔ−Ｂｕはｔ−ブチル基；以下同様である。］
7 mLのスクリューキャップチューブに磁気撹拌子を入れ、真空下にフレームドライし、室温まで冷却した後に窒素を充填した。このスクリューキャップチューブに、合成例６−２で得た四置換チオフェンＳ−オキシド化合物６ａｃｄｆ（25.5 mg, 0.045 mmol, 1.0当量）、合成例７−１で得た化合物７ａ（19.9 mg, 0.090 mmol, 2.0当量）、及びメシチレン（300μL）を窒素気流下に添加した。スクリューキャップチューブを160℃で48時間加熱した。反応混合物を室温まで冷却した後、混合物を真空下に濃縮し、粗生成物を分取薄層クロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝2: 1及びヘキサン／CHCl3＝1: 2）により精製し、多置換芳香族化合物９ａと多置換芳香族化合物９ｂとの混合物を白色固体として得た（10.5 mg, 32 % (混合物), 9a/9b = 5:4）。多置換芳香族化合物９ａと多置換芳香族化合物９ｂとの混合物の再結晶を６回繰り返した後、多置換芳香族化合物９ａを単独の異性体として得た。
1H NMR (600 MHz, CDCl3): δ 8.08 (dd, J = 4.2, 1.8 Hz, 2H), 7.50 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.12 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 6.94-6.87 (m, 9H), 6.79-6.76 (m, 2H), 6.72 (d, J = 6.0 Hz, 1H), 6.69-6.66 (m, 4H), 6.41 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 3.61 (s, 3H), 2.44 (s, 3H), 1.13 (s, 9H); 13C NMR (150 MHz, CDCl3): δ 197.6, 157.3, 148.9, 148.7, 148.3, 144.8, 143.8, 141.5, 141.2, 141.1, 139.6, 138.8, 138.2, 137.7, 136.2, 134.6, 132.2, 132.0, 131.4, 131.3, 131.1, 130.7, 127.7 (q, 2JCF= 31.7 Hz), 127.2, 127.0, 126.2, 125.8, 124.0 (q, 1JCF = 270 Hz), 123.9, 123.8 (q, 3JCF = 2.85 Hz), 112.3, 55.0, 34.2, 31.1, 26.4; HRMS (APCI) m/z calcd for C49H41F3NO2[MH]+: 732.30839, found 732.30566。
【０１８６】
実施例１−２：多置換芳香族化合物１０ａ及び多置換芳香族化合物１０ｂの合成
【０１８７】
【化４３】
0006709889.tif 000044
【０１８８】
7 mLのスクリューキャップチューブに磁気撹拌子を入れ、真空下にフレームドライし、室温まで冷却した後に窒素を充填した。このスクリューキャップチューブに、実施例１−１で得た化合物９ａと化合物９ｂとの混合物（21.9 mg, 0.03 mmol, 1.0当量）、及びメタノール（1.2 mL）を窒素気流下に添加した。内容物を0℃まで冷却し、水素化ホウ素ナトリウムのメタノール溶液（300μL, 0.3 M, 0.09 mmol）をゆっくりと添加した。混合物を0.5時間撹拌した後、反応をNaHCO3水溶液でクエンチした。混合物をCH2Cl2で抽出し、Na2SO4で乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた混合物はさらに精製せずに次の工程に使用した。
【０１８９】
7 mLのスクリューキャップチューブに磁気撹拌子を入れ、真空下にフレームドライし、室温まで冷却した後に窒素を充填した。このスクリューキャップチューブに、上記工程で得た物質、及び乾燥CH2Cl2（600μL）を窒素気流下に添加した。内容物を0℃まで冷却し、このスクリューキャップチューブに2,6-ルチジン（17.5μL, 0.15 mmol）、及びt-ブチルジメチルシリルトリフルオロメタンスルホネート（TBSOTf: 34.5μL, 0.15 mmol）をゆっくりと添加した。混合物を0.5時間撹拌した後、反応をメタノール（3 mL）でクエンチし、混合物を減圧下に濃縮した。粗生成物を分取薄層クロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝10: 1）により精製し、多置換芳香族化合物１０ａ（9.0 mg）と多置換芳香族化合物１０ｂ（8.8 mg）とを白色固体として得た（70 %）。より極性の高い化合物が多置換芳香族化合物１０ａであり、より極性の低い化合物が多置換芳香族化合物１０ｂである。多置換芳香族化合物１０ａの構造はＸ線結晶構造解析で決定した。なお、多置換芳香族化合物１０ａのＸ線結晶構造を図１に示す。
多置換芳香族化合物１０ａ：
1H NMR (600 MHz, CDCl3): δ 8.05 (d, J = 6.0 Hz, 2H), 7.08 (d, J = 9.0 Hz, 2H), 6.92-6.86 (m, 8H), 6.80-6.77 (m, 3H), 6.73-6.67 (m, 8H), 6.40 (d, J = 9.0 Hz, 2H), 4.58 (q, J = 6.0 Hz, 1H), 3.60 (s, 3H), 1.19 (d, J = 6.0 Hz, 3H), 1.13 (s, 9H), 0.80 (s, 9H), -0.12 (s, 3H), -0.25 (s, 3H); 13C NMR (150 MHz, CDCl3): δ157.2, 149.2, 148.7, 147.9, 144.9, 144.3, 141.1, 140.8, 140.5, 140.0, 139.5, 139.2, 137.9, 137.8, 136.5, 132.3, 132.2, 131.6, 131.5, 131.2, 130.9, 130.8, 130.7, 127.3 (q, 2JCF = 33.0 Hz), 126.9, 126.5, 125.6, 124.2, 124.1 (q, 1JCF = 271 Hz), 124.0, 123.8, 123.5, 112.2, 70.6, 55.0, 34.2, 31.2, 27.0, 25.8, 18.2, -4.79, -5.16 (3JCF: not detected); HRMS (APCI) m/z calcd for C55H57F3NO2Si [MH]+: 848.41052 found 848.40628。
多置換芳香族化合物１０ｂ：
1H NMR (600 MHz, CDCl3): δ 8.07 (d, J = 5.4 Hz, 2H), 7.14 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 6.93 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 6.91-6.76 (m, 9H), 6.73-6.64 (m, 8H), 6.40 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 4.59 (q, J = 6.0 Hz, 1H), 3.61 (s, 3H), 1.17 (d, J = 6.0 Hz, 3H), 1.10 (s, 9H), 0.81 (s, 9H), -0.11 (s, 3H), -0.22 (s, 3H); 13C NMR (150 MHz, CDCl3): δ157.2, 149.0, 148.13, 148.08, 144.5, 144.0, 141.8, 141.1, 140.5, 140.3, 139.8, 138.11, 138.06, 137.1, 136.8, 132.4, 132.3, 131.5, 131.2, 130.84, 130.79, 127.8 (q, 2JCF = 33.0 Hz), 127.0, 126.4, 125.6, 124.0 (q, 1JCF= 270 Hz), 123.84 (3JCF: not detected), 123.78, 123.5, 123.4, 112.20, 112.17, 70.7, 55.0, 34.1, 31.1, 27.1, 25.8, 18.2, -4.6, -5.2; HRMS (APCI) m/z calcd for C55H57F3NO2Si [MH]+: 848.41052 found 848.40868。
【０１９０】
実施例１−３：多置換芳香族化合物１１ａ及び多置換芳香族化合物１１ｂの合成
【０１９１】
【化４４】
0006709889.tif 000045
【０１９２】
合成例６−２で得た四置換チオフェンＳ−オキシド化合物６ａｃｄｆの代わりに合成例６−１で得た四置換チオフェンＳ−オキシド化合物６ａｃｄｅ（15.6 mg, 0.028 mmol）を使用し、合成例７−１で得た化合物７ａの代わりに合成例７−２で得た化合物７ｂを使用し、メシチレンの量を190μLとし、精製処理を分取薄層クロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝3: 1）としたこと以外は実施例１−１と同様に合成し、多置換芳香族化合物１１ａ及び多置換芳香族化合物１１ｂを混合物として得た（6.8 mg, 31 %）。
【０１９３】
［実施例２：化合物（１Ｂ）の合成］
実施例２−１：多置換芳香族化合物１２の合成
【０１９４】
【化４５】
0006709889.tif 000046
【０１９５】
20 mLのシュレンクフラスコに磁気撹拌子を入れ、真空下にフレームドライし、室温まで冷却した後に窒素を充填した。この容器に、合成例６−２で得た四置換チオフェンＳ−オキシド化合物６ａｃｄｆ（25.5 mg, 0.045 mmol, 1.0当量）、2-（トリメチルシリル）フェニルトリフルオロメタンスルホネート（32.7μL, 0.135 mmol, 3.0当量）、及びTHF（450μL）を窒素気流下に添加した。内容物を0℃まで冷却し、このフラスコにテトラブチルアンモニウムフルオライドのTHF溶液（200μL, 1.0 M, 0.2 mmol）を添加した。得られた混合物を室温まで昇温し、1時間撹拌した後、混合物に水（1 mL）を添加した。CH2Cl2で抽出した後、有機層をNa2SO4で乾燥させ、揮発性物質を減圧下に除去した。粗生成物を分取薄層クロマトグラフィー（ヘキサン／CH2Cl2＝3: 2）により精製し、多置換芳香族化合物１２を白色固体として得た（22.5 mg, 85 %）。
1H NMR (600 MHz, CDCl3): δ 7.72-7.70 (m, 1H), 7.52-7.48 (m, 2H), 7.42-7.38 (m, 2H), 7.33 (d, J = 7.8 Hz, 2H), 7.26 (dd, J = 6.6, 2.4 Hz, 2H, overlapping with the peak of CHCl3), 7.10 (dd, J = 6.6, 1.8 Hz, 2H), 6.90-6.84 (m, 3H), 6.82-6.78 (m, 2H), 6.70 (dd, J = 6.6, 2.4 Hz, 2H), 6.40 (dd, J = 6.9, 2.4 Hz, 2H), 3.60 (s, 3H), 1.30 (s, 9H); 13C NMR (150 MHz, CDCl3): δ 157.1, 149.2, 143.8, 140.2, 139.4, 139.2, 138.5, 136.6, 136.3, 132.7, 132.3, 132.2, 131.6, 131.5, 131.2, 130.8, 128.5 (q, 2JCF = 33.2 Hz), 127.3, 126.8, 126.3, 126.0, 125.9, 125.6, 124.5 (q, 3JCF = 2.9 Hz), 124.4, 124.3 (q, 1JCF= 273 Hz), 112.1, 55.0, 34.4, 31.3; HRMS (APCI) m/z calcd for C40H34F3O [MH]+: 587.25563, found 587.25334。
【０１９６】
実施例２−２：多置換芳香族化合物１３の合成
【０１９７】
【化４６】
0006709889.tif 000047
【０１９８】
7 mLのスクリューキャップチューブに磁気撹拌子を入れ、真空下にフレームドライし、室温まで冷却した後に窒素を充填した。このスクリューキャップチューブに、合成例６−２で得た四置換チオフェンＳ−オキシド化合物６ａｃｄｆ（25.5 mg, 0.045 mmol, 1.0当量）、合成例８で得た化合物８（ジベンゾ[a, e]シクロオクチン）（18.0 mg, 0.09 mmol, 2.0当量）、及びm-キシレン（450μL）を窒素気流下に添加した。このフラスコを100℃で16時間加熱した。反応混合物を室温まで冷却した後、混合物を真空下に濃縮し、粗生成物を分取薄層クロマトグラフィー（ヘキサン／CHCl3＝2: 1）により精製し、多置換芳香族化合物１３を白色固体として得た（14.1 mg, 44 %）。
1H NMR (600 MHz, C2D2Cl4, 146℃): δ 7.14 (d, J = 7.8 Hz, 2H), 7.06 (d, J = 7.8 Hz, 2H), 7.01-6.75 (m, 15H), 6.72-6.63 (m, 4H), 6.45 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 3.62 (s, 3H), 3.35-3.23 (m, 2H), 3.03-2.94 (m, 2H), 1.17 (s, 9H); 13C NMR (150 MHz, C2D2Cl4, 146℃): δ 157.4, 148.2, 144.6, 141.0, 140.9, 140.8, 140.7, 140.62, 140.59, 140.3, 140.2, 139.3, 139.0, 137.8, 137.2, 133.1, 132.3, 131.3, 130.9, 130.3, 130.2, 128.5, 128.3, 127.5 (q, 2JCF= 31.7 Hz), 126.4, 126.3, 126.0, 125.2, 124.6, 124.5, 124.1  (q, 1JCF = 274 Hz), 123.1, 123.0, 112.4, 55.1, 33.78, 33.75, 33.73, 30.9 (3JCF: not detected); HRMS (APCI) m/z calcd for C46H34F3O [M-C4H8]+: 659.25563, found 659.25314。
【０１９９】
［実施例３：化合物（１Ｃ）の合成］
実施例３−１：多置換芳香族化合物１４ａ及び多置換芳香族化合物１４ｂの合成
【０２００】
【化４７】
0006709889.tif 000048
【０２０１】
7 mLのスクリューキャップチューブに磁気撹拌子を入れ、真空下にフレームドライし、室温まで冷却した後に窒素を充填した。このスクリューキャップチューブに、合成例６−２で得た四置換チオフェンＳ−オキシド化合物６ａｃｄｆ（0.03 mmol, 1.0当量）、及び3-シアノピリジン（300μL, 3.0 mmol）を窒素気流下に添加した。このフラスコを160℃で24時間加熱した。反応混合物を室温まで冷却した後、混合物を分取薄層クロマトグラフィーにより精製し、多置換芳香族化合物１４ａ（1.6 mg）と多置換芳香族化合物１４ｂ（1.6 mg）とを合計収率17 %で得た。より極性の高い化合物が多置換芳香族化合物１４ａであり、より極性の低い化合物が多置換芳香族化合物１４ｂである。多置換芳香族化合物１４ａの構造はＸ線結晶構造解析で決定した。なお、多置換芳香族化合物１４ｂのＸ線結晶構造を図２に示す。
多置換芳香族化合物１４ａ：
1H NMR (600 MHz, CDCl3): δ 8.50 (d, J = 4.8 Hz, 1H), 7.50-7.45 (m, 3H), 7.41 (d, J = 9.0 Hz, 2H), 7.28 (d, J = 8.4 Hz, 1H), 7.10 (dd, J = 7.8 Hz, 4.8 Hz, 1H), 7.08-7.01 (m, 3H), 6.98 (d, J = 7.8 Hz, 2H), 6.89-6.85 (m, 2H), 6.78 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 6.65 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 6.47 (d, J = 9.0 Hz, 2H), 3.64 (s, 3H), 1.18 (s, 9H); 13C NMR (150 MHz, CDCl3): δ 158.8, 157.9, 156.2, 155.1, 150.2, 149.1, 148.9, 144.4, 137.9, 135.4, 135.3, 134.6, 131.6, 131.2, 130.6, 130.5, 129.8, 129.1 (q, 2JCF = 31.7 Hz), 127.7, 126.6, 124.8, 124.4, 124.2 (q, 1JCF = 271 Hz), 124.1, 122.0, 112.5, 55.0, 34.3, 31.2 (3JCF: not detected); HRMS (APCI) m/z calcd for C40H34F3N2O [MH]+: 615.26177 found 615.25989。
多置換芳香族化合物１４ｂ：
1H NMR (600 MHz, CDCl3): δ 8.35 (d, J = 4.8 Hz, 1H), 7.63-7.58 (m, 2H), 7.32 (d, J = 7.8 Hz, 2H), 7.23-7.18 (m, 4H), 7.12-7.08 (m, 1H), 7.02 (d, J = 7.8 Hz, 2H), 6.98-6.93 (m, 3H), 6.79 (d, J = 9.0 Hz, 2H), 6.77-6.72 (m, 2H), 6.56 (d, J = 9.0 Hz, 2H), 3.69 (s, 3H), 1.26 (s, 9H); 13C NMR (150 MHz, CDCl3): δ 158.6, 158.0, 157.2, 155.0, 150.5, 150.3, 148.5, 142.4, 137.65, 137.56, 135.9, 134.4, 132.7, 132.3, 131.3, 130.3, 129.8, 128.0 (q, 2JCF = 31.7 Hz), 127.2, 126.5, 124.8, 124.6, 124.1 (q, 1JCF = 270 Hz), 123.9 (q, 3JCF= 2.85 Hz), 122.2, 113.0, 55.0, 34.5, 31.2; HRMS (APCI) m/z calcd for C40H34F3N2O [MH]+: 615.26177 found 615.26088。
【０２０２】
実施例３−２：多置換芳香族化合物１５ａ及び多置換芳香族化合物１５ｂの合成
【０２０３】
【化４８】
0006709889.tif 000049
【０２０４】
四置換チオフェンＳ−オキシド化合物６ａｃｄｆの量を5.6 mg, 0.01 mmolとし、2-シアノピリジンの代わりに4-メチルベンゾニトリル（145 mg, 1 mmol）を使用し、加熱温度を160℃から230℃としたこと以外は実施例３−１と同様に合成し、多置換芳香族化合物１５ａ（0.5 mg）及び多置換芳香族化合物１５ｂ（0.5 mg）の混合物を合計収率16 %として得た。
【０２０５】
実施例３−３：多置換芳香族化合物１６ａ及び多置換芳香族化合物１６ｂの合成
【０２０６】
【化４９】
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【０２０７】
四置換チオフェンＳ−オキシド化合物６ａｃｄｆの量を5.6 mg, 0.01 mmolとし、2-シアノピリジンの代わりに4-（トリフルオロメチル）ベンゾニトリル（171 mg, 1 mmol）を使用したこと以外は実施例３−１と同様に合成し、多置換芳香族化合物１６ａ及び多置換芳香族化合物１６ｂを混合物として得た（0.7 mg, 10 %（混合物））。
【図１】
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【図２】
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