(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
次の成分（ａ）〜（ｄ）；
（ａ）シトロネラール
（ｂ）ジカプリン酸プロピレングリコール
（ｃ）炭素数８〜１８の脂肪酸と、炭素数２〜１８の１価のアルコールとのモノエステル
（ｄ）炭素数１〜３の一価のアルコール
を含有し、
前記成分（ｂ）、（ｃ）の含有質量割合（ｂ）／（ｃ）が、１／１０〜１０／１の範囲である、パラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシルの変臭をマスキングする組成物。
【請求項２】
前記成分（ａ）が、レモンユーカリの精油又はシトロネラの精油から取り出されるものである請求項１記載のマスキング組成物。
【請求項３】
前記成分（ｃ）のエステルにおいて、脂肪酸の炭素数とアルコールの炭素数の差が４以上のモノエステルである請求項１または２記載のマスキング組成物。
【請求項４】
前記成分（ｃ）が、イソノナン酸イソトリデシル、ミリスチン酸イソプロピル、２−エチルヘキサン酸セチルから選ばれる一種又は二種以上である請求項１〜３のいずれかの項記載のマスキング組成物。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかの項記載のマスキング組成物およびパラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシルを配合した化粧料又は皮膚外用剤。
【請求項６】
霧状に噴霧して使用することができる容器に収容させてなる請求項５記載の化粧料又は皮膚外用剤。
【請求項７】
水中油型日焼け止め料である請求項５又は６記載の化粧料。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はマスキングする組成物に関し、より詳細には、シトロネラール、ジカプリン酸プロピレングリコール、特定のモノエステル、炭素数１〜３の一価のアルコールを含有する組成物であって、パラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシルの変臭をマスキングする効果に優れる特徴を有するものである。
【背景技術】
【０００２】
化粧料には様々な効能効果が期待され、種々の成分が含有されている。なかでもパラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシルは、紫外線防御剤として日焼け止め料等に広く使用されているが、含有されるその他の成分や、経時による影響等により加水分解を生じる場合がある。この加水分解によって生じる２−エチルヘキサノールは不快臭が強く、特に化粧料のように人体に使用する製剤においては、その価値を著しく低下させる要因となっている。通常、化粧料等には香料成分を含有することにより、ある程度の臭いをわかりにくくすることが可能であるが、加水分解のレベルによって著しい不快臭となることから、マスキングする技術が必要となってくる。
【０００３】
一般に、こうした不快臭に対してはそれ以上の強度で香料成分等を共存させることで、不快臭を感じにくくするマスキング方法がとられるが、結果的ににおいが強くなることで化粧料等においては使用感の低下につながることがある。そこで、これまでに不快臭を効果的にマスキングできる成分に関して多くの検討がなされている（例えば、特許文献１および２参照）。また、不快臭は要因となる成分の構造ごとに違いがあり、一律にマスキングすることは困難であるため、不快臭の要因に応じたマスキング方法についても報告がある（例えば、特許文献３および４参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平６−１５８０９６号公報
【特許文献２】特開２００２−３３２９号公報
【特許文献３】特開２００２−４７１２７号公報
【特許文献４】特開２００５−１７０８６０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
前述のように、不快臭は要因となる成分の構造ごとに違いがあり、一律にマスキングすることは困難である。また、従来技術ではパラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシルが加水分解して生じる２−エチルヘキサノールの不快臭を十分にマスキングすることは困難であった。そこで、本発明が解決しようとする課題は、化粧料において有用であるパラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシルが加水分解して生じる２−エチルヘキサノールの不快臭をマスキングする組成物を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
かかる実情に鑑み、本発明者は上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、シトロネラールがパラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシルの変臭に対して高いマスキング効果があることを見出した。シトロネラール等を含有する精油は従来よりマスキング剤として周知であったが、化粧料等への応用する際には、他の多くの成分を含むことにより不快臭が増強される場合があり、シトロネラールによるマスキング効果をさらに高める技術が必要であると考えた。また、そのためには、臭いの原因とされる２−エチルヘキサノールがシトロネラールと混合された状態を安定にし、マスキング組成物として効果を発揮しうるものが必要であるとの考えた。このような条件をもとに、多くの化粧料成分を検討したところ、ジカプリン酸プロピレングリコール、特定のエステル油、一価のアルコールを組み合わせることにより、シトロネラール単独では得られないマスキング効果を高めることを見出し、本発明のマスキング組成物を完成させるに至った。なお、得られた組成物は一層の均一な液体であり、種々の剤への適用が容易であるものとして応用可能性が高いものとなった。
【０００７】
すなわち、本発明は、次の成分（ａ）〜（ｄ）；
（ａ）シトロネラール
（ｂ）ジカプリン酸プロピレングリコール
（ｃ）炭素数８〜１８の脂肪酸と、炭素数２〜１８の１価のアルコールとのモノエステル
（ｄ）炭素数１〜３の一価のアルコール
を含有する、パラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシルの変臭をマスキングする組成物を提供するものである。
【０００８】
前記成分（ｂ）、（ｃ）の含有質量割合（ｂ）／（ｃ）が、１／１０〜１０／１の範囲であるマスキング組成物を提供するものである。
【０００９】
前記成分（ａ）が、レモンユーカリの精油又はシトロネラの精油から取り出されるものであるマスキング組成物を提供するものである。
【００１０】
前記成分（ｃ）のエステルにおいて、脂肪酸の炭素数とアルコールの炭素数の差が４以上のモノエステルであるマスキング組成物を提供するものである。
【００１１】
前記成分（ｃ）が、イソノナン酸イソトリデシル、ミリスチン酸イソプロピル、２−エチルヘキサン酸セチルから選ばれる一種又は二種以上であるマスキング組成物を提供するものである。
【００１２】
前記記載のマスキング組成物を配合する化粧料又は皮膚外用剤を提供するものである。
【００１３】
霧状に噴霧して使用することができる容器に収容させてなる前記記載の化粧料又は皮膚外用剤を提供するものである。
【００１４】
水中油型日焼け止め料である前記記載の化粧料を提供するものである。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によって得られるマスキング組成物は、パラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシルの変臭に対する効果が高いものであり、パラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシルを含有する化粧料等において、その価値を損なうことなく長期間における保管を可能にするものである。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明について詳述する。なお、本明細書においては、「〜」を用いて数値範囲を表す際は、その範囲は両端の数値を含むものとする。
【００１７】
本発明における成分（ａ）シトロネラールとは、３，７−Ｄｉｍｅｔｈｙｌ−６−ｏｃｔｅｎ−１−ａｌのことであり、光学異性体を含むものである。またシトロネラールは、レモンユーカリ（Ｅｕｃａｌｙｐｔｕｓ ｃｉｔｒｉｏｄｏｒａ）、シトロネラ（Ｃｙｍｂｏｐｏｇｏｎ ｗｉｎｔｅｒｉａｎｕｓおよびＣｙｍｂｏｐｏｇｏｎ ｎａｒｄｕｓ）、レモンバーム（Ｍｅｌｉｓｓａ  ｏｆｆｉｃｉｎａｌｉｓ）等の植物の精油中にも含まれており、シトロネラールの代わりに、これらの声優を用いることもできる。中でもシトロネラールの含有量の多いレモンユーカリやシトロネラの精油を用いるのが好ましく、レモンユーカリがより好ましい。
【００１８】
なお、本発明におけるレモンユーカリやシトロネラの精油の採取部位は特に限定されず、花、枝、葉、根、実、蕾等が挙げられるが、レモンユーカリの場合は葉および枝を用いることが好ましく、シトロネラの場合は全草を用いることが好ましい。
【００１９】
また、本発明におけるレモンユーカリやシトロネラの精油の抽出方法は特に限定されず、水蒸気蒸留法、溶媒抽出法、圧搾法、吸着・吸収法、浸出法、植物を傷付け滲出する液を回収する方法等が挙げられるが、水蒸気蒸留法が好ましい。
【００２０】
本発明における成分（ａ）の含有量は、特に限定されないが、マスキング効果の観点から、マスキング組成物中において、０．００１〜９０％（以下、質量％は単に、「％」と略す）、好ましくは、０．０１〜９０％とするのが好ましい。
また、レモンユーカリの精油を用いる場合は、そこに含まれるシトロネラールの含有割合に応じて、上記範囲となるように適宜用いることができるが、これに限定されるものではない。同様に、シトロネラの精油を用いる場合は、そこに含まれるシトロネラールの含有割合に応じて、上記範囲となるように適宜用いることができるが、これに限定されるものではない。
なお、成分（ａ）はこれらから選ばれる一種でもよく、二種以上を混合して用いることも可能である。
【００２１】
本発明における成分（ｂ）は、ジカプリン酸プロピレングリコールは、カプリン酸とプロピレングリコールとのジエステルである。それ自体はほとんど無臭であり、不快臭のマスキング効果はないが、
本発明においては、シトロネラールのマスキング効果を高めることが期待される成分である。このような成分（ｂ）は、通常、化粧料に用いられるものであれば特に限定されるものではない。市販品の例としては、ニッコールＰＤＤ（日光ケミカルズ社製）がある。
【００２２】
本発明における成分（ｂ）の含有量は、特に限定されないが、マスキング組成物中において、１〜９０％、好ましくは、１０〜６０％とするのが効果の点で好ましい。
【００２３】
本発明における成分（ｃ）炭素数８〜１８の脂肪酸と、炭素数２〜１８の一価のアルコールとのモノエステルは、通常、化粧料に用いられるものであれば特に限定されるものではない。成分（ｃ）のエステルとして、好ましくは、脂肪酸部が、炭素数８〜１６であり、さらには、炭素数８〜１４のものがさらに好ましい。また、アルコール部としては、炭素数２〜１６が好ましく、さらには、炭素数３〜１６のものがさらに好ましい。成分（ｃ）はこれらを組み合わせたものであればよいが、具体的には、イソステアリン酸イソステアリル、イソステアリン酸イソセチル、イソステアリン酸イソプロピル、イソステアリン酸エチル、イソステアリン酸エチルヘキシル、イソステアリン酸デシル、イソステアリン酸ヘキシル、イソノナン酸イソステアリル、イソノナン酸イソデシル、イソノナン酸イソトリデシル、イソノナン酸イソノニル、イソノナン酸エチルヘキシル、イソノナン酸オクチル、イソノナン酸セチル、イソノナン酸セテアリル、イソノナン酸トリデシル、イソパルミチン酸エチルヘキシル、イソパルミチン酸オクチル、エチルヘキサン酸イソステアリル、エチルヘキサン酸イソセチル、エチルヘキサン酸エチルヘキシル、エチルヘキサン酸セチル、エチルヘキサン酸セテアリル、エチルヘキサン酸ヘキシルデシル、エチルヘキサン酸ミリスチル、オレイン酸イソデシル、オレイン酸エチル、オレイン酸オレイル、オレイン酸セチル、オレイン酸デシル、カプリル酸セチル、カプリン酸イソヘキシル、カプリン酸セチル、ステアリン酸イソセチル、ステアリン酸イソブチル、ステアリン酸イソプロピル、ステアリン酸エチル、ステアリン酸エチルヘキシル、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸トリデシル、ステアリン酸ブチル、ステアリン酸ヘキシルデシル、ネオデカン酸オクチルドデシル、ノナン酸エチルヘキシル、パルミチン酸イソステアリル、パルミチン酸イソセチル、パルミチン酸イソプロピル、パルミチン酸エチル、パルミチン酸エチルヘキシル、パルミチン酸オクチル、パルミチン酸ヘキシルデシル、ペラルゴン酸エチルヘキシル、ミリスチン酸イソステアリル、ミリスチン酸イソプロピル、ミリスチン酸ブチル、ラウリン酸イソステアリル、ラウリン酸イソデシル、ラウリン酸イソプロピル、ラウリン酸セチル、ラウリン酸ヘキシル、リノール酸イソステアリル、リノール酸イソプロピル、リノール酸エチル等が挙げられる。
なお、成分（ｃ）はこれらから選ばれる一種でもよく、二種以上を混合して用いることも可能である。
中でも脂肪酸の炭素数とアルコールの炭素数の差が４以上であるものが好ましく、イソノナン酸イソトリデシル、ミリスチン酸イソプロピル、２−エチルヘキサン酸セチルが特に好ましい。
【００２４】
本発明においては、上記した成分（ｂ）、成分（ｃ）を含有する際に、含有量は特に限定されるものではながいが、特定の含有量割合とすることにより、マスキングの効果に特に効果的となり好ましい。このような成分（ｂ）、成分（ｃ）の含有割合としては、含有質量割合（ｂ）／（ｃ）が、１／１０〜１０／１の範囲であり、１／１０〜１／５の範囲とすることがより好ましく、そして１／１０〜１／３の範囲とすることがさらにより好ましい。
【００２５】
本発明における成分（ｄ）炭素数１〜３の一価のアルコールは、通常化粧料に用いられるものであれば、特に限定されるものではない。本発明においては、変臭による臭い立ちをおさえる効果等に優れる特性を有する。具体的に示すならば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノールが挙げられ、エタノールが好ましい。
なお、成分（ｄ）はこれらから選ばれる一種でもよく、二種以上を混合して用いることも可能である。
【００２６】
本発明における成分（ｄ）の含有量は、特に限定されないが、マスキング効果の観点から、マスキング組成物中において、１０〜９０％、好ましくは、２０〜７０％とするのが好ましい。
【００２７】
本発明のマスキング組成物には、上記成分の他に、通常化粧料に用いられる成分として、例えば、粉体、界面活性剤、油剤、油性ゲル化剤、保湿剤、高分子、酸化防止剤、紫外線吸収剤、防腐剤、美容剤、香料等を本発明の効果を損なわない範囲で配合することができる。
【００２８】
本発明のマスキング組成物には、必要に応じて本発明の効果を損なわない範囲で、通常、化粧料や皮膚外用剤、食品、インク、洗剤、衣料用柔軟仕上剤、芳香剤、消臭剤、織物等の製剤に使用する成分を加えることができる。すなわち、水(精製水、温泉水、深層水等)、成分（ｂ）および（ｃ）以外の油剤、界面活性剤、金属セッケン、ゲル化剤、粉体、成分（ｄ）以外のアルコール類、水溶性高分子、皮膜形成剤、樹脂、紫外線防御剤、包接化合物、抗菌剤、香料、消臭剤、塩類、ｐＨ調整剤、清涼剤、動物・微生物由来抽出物、植物抽出物、血行促進剤、収斂剤、抗脂漏剤、美白剤、抗炎症剤、活性酸素消去剤、細胞賦活剤、保湿剤、キレート剤、角質溶解剤、酵素、ホルモン類、ビタミン類等を加えることができ、マスキング効果を安定的に発揮するためには組成物が一層であることが好ましい。
【００２９】
本発明のマスキング組成物の製造方法については特に限定されないが、成分（ａ）〜（ｄ）を常温で混合することで組成物を得ることができる。成分（ｃ）や任意成分において常温では固形の油剤等を用いる場合には、加温して添加することも可能である。また、任意成分を加えて乳化物とする際には、通常化粧料等を乳化する際の製造法を参考に組成物を得ることができる。
【００３０】
本発明のマスキング組成物は、そのまま用いることも可能であるが、マスキング組成物を化粧料、皮膚外用剤、食品、インク、洗剤、衣料用柔軟仕上剤、芳香剤、消臭剤、織物等の製剤に使用することが可能である。なかでも皮膚に塗布する製剤は、においが品質に及ぼす影響が高いため、化粧料や皮膚外用剤に配合して用いることに適している。なおここでの化粧料又は皮膚外用剤は、特に限定されるものではないが、マスキング組成物を分散させる必要があることから、油性化粧料又は油性の皮膚外用剤であることが分散性の点からは好ましい。なお、「油性」とは、油を媒体とする製剤のことであるが、マスキング組成物の分散性に適する製剤をさすものであるが、これに水性成分を含有した、油中水型のものであってもよい。またマスキング組成物を他の油性成分とともに被乳化油として乳化された水中油型のものであることも好ましい。
本発明は、パラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシルの変臭をマスキングする技術であるところ、パラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシルは、化粧料としては紫外線吸収剤として用いられることが多く、特に日焼け止め化粧料に用いられることから、水中油型日焼け止め化粧料に使用されることが特に好ましい。
なおこの化粧料又は皮膚外用剤に添加して用いる場合のマスキング組成物の量は、特に制限はないが、マスキング組成物そのものを化粧料又は皮膚外用剤として用いてもよいが、たとえば、化粧料又は皮膚外用剤に対して、マスキング組成物を配合し必要により任意成分を含有させるものであってもよい。このような場合、マスキング組成物は、化粧料又は皮膚外用剤の全量に対し、０．０１〜９０％とすることができ、０．１〜５０％とすることが好ましく、０．１〜１０％とすることがさらに好ましい。この範囲であれば、マスキング効果に優れたものとして好ましい。
【００３１】
化粧料の例としては、特に限定されず、例えば、乳液、クリーム、化粧水、美容液、パック、日焼け止め料等のスキンケア化粧料、ファンデーション、頬紅、口紅、アイカラー、マスカラ、アイライナー、マニキュア等のメーキャップ化粧料、養毛料、ヘアトニック、シャンプー、リンス、ヘアワックス等の頭髪用化粧料、洗顔料、ボディソープ等の洗浄料等のいずれの形態であってもよい。
【００３２】
皮膚外用剤の例としては、特に限定されず、例えば、外用ゲル剤、クリーム剤、軟膏剤、液剤、リニメント剤、ハップ剤等のいずれの形態であってもよい。
【００３３】
本発明のマスキング組成物は、液状、ジェル状、クリーム状、固形状、粉末状、ムース状等の種々の形態で実施することが可能であり、霧状に噴霧可能な容器に収容して霧状に噴霧して用いるものが好ましい。また剤型は、可溶化型、水中油型、油中水型、油性型、水中油中水型、油中水中油型、多層型等特に限定されるものではないが、本発明の技術を用いることで加水分解したパラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシルの変臭を防止するという意味では、加水分解しやすい剤型として、水性成分の含有量が比較的多い水中油型が好ましい。
【００３４】
また、加水分解の起こりやすい環境としては、製剤を振とうすることや、噴射剤等による加圧状態であること等が挙げられるが、本発明のマスキング組成物は、霧状に噴霧して使用することができる容器に収容させてなるものであるものが有用である。これは噴霧時にミスト状となることにより通常の使用に比べて、特に香りを感じやすい場合があり、パラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシルの変臭も感じられやすいことになるからである。なお、容器には、ガス充填することにより霧状に噴霧するものも含まれるが、この場合の充填されるガスとしては、特に限定されるものではなく、ＬＰＧ、ＤＭＥ、窒素ガス、炭酸ガスなどから選択される一種又は、二種以上を混合したものであってもよい。
【００３５】
以下、実施例、比較例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない。
【００３６】
［マスキング組成物］
（本発明品１〜６、比較品１〜１０）
表１〜２示す組成及び下記製造方法にてマスキング組成物を調製した。パラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシルの変臭に対するマスキング効果は、まず変臭の主要因である２−エチルヘキシルアルコールの不快臭を指標に実施した。２−エチルヘキシルアルコールの不快臭をどの程度マスキングできるかを、専門パネル５名の官能評価により調製直後のものにて行った。評価基準、判定基準は以下に示すものに従い、結果をあわせて表１〜２に示した。
【００３７】
【表１】
0006632210.tif 000002
【００３８】
【表２】
0006632210.tif 000003
【００３９】
［マスキング組成物の製造方法］
Ａ：Ｎｏ．１〜１４を均一に混合溶解し、マスキング組成物を得た。
【００４０】
〔評価方法〕：マスキング効果
下記の（イ）評価基準に従って５段階で評価した後、全パネルの評点の平均点を、下記（ロ）判定基準に従って判定した。
（イ）［評価基準］
５段階評価基準：
［評点］：［評価結果］
５点  ：非常に良好
４点  ：良好
３点  ：普通
２点  ：やや不良
１点  ：不良
（ロ）判定基準
［判定］：［評点の平均点］ 
◎  ：４．５以上
○  ：３．５以上〜４．５未満
△  ：１．５以上〜３．５未満
×  ：１．５未満
【００４１】
［マスキング組成物を配合した日焼け止め化粧料］
（実施例１〜３、比較例１、２）
表３に示す組成及び下記製造方法にてマスキング組成物を用いた日焼け止め化粧料を調製した。パラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシルを含有するもので、本発明のマスキング組成物の効果について、専門パネル５名の官能評価により行った。実施例３は、実施例２をミスト容器に充填して使用したものである（ノンエアゾール仕様）。
なお、パラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシルの加水分解を促すため、日焼け止め化粧料は、５０℃１か月保管したものを用いての評価を行った。評価基準、判定基準は以下に示すものに従い、結果をあわせて表３に示した。
【００４２】
【表３】
0006632210.tif 000004
【００４３】
［マスキング組成物を用いた日焼け止め料の製造方法］
（実施例１〜３、比較例１、２）
Ａ：Ｎｏ．１〜８を均一に混合溶解した後、日焼け止め料を得た。
（なお、実施例３は、実施例２と同一処方であるが、噴霧形態の容器に収容して使用評価したものである。）
【００４４】
〔評価方法〕：マスキング効果
下記の（イ）評価基準に従って５段階で評価した後、全パネルの評点の平均点を、下記（ロ）判定基準に従って判定した。
（イ）［評価基準］
５段階評価基準：
［評点］：［評価結果］
５点  ：非常に良好
４点  ：良好
３点  ：普通
２点  ：やや不良
１点  ：不良
（ロ）判定基準
［判定］：［評点の平均点］ 
◎  ：４．５以上
○  ：３．５以上〜４．５未満
△  ：１．５以上〜３．５未満
×  ：１．５未満
【００４５】
表１、２の結果から本発明品１〜６のマスキング組成物は、２−エチルヘキサノールの不快臭をおさえるマスキング効果に優れるものであった。一方で、シトロネラールを含有しない比較品１、ジカンプリンサンプロピレングリコールを含有しない比較品２、炭素数８〜１８の脂肪酸と、炭素数２〜１８の一価のアルコールとのモノエステルを含有しない比較品３、炭素数１〜３の一価のアルコールを含有しない比較品４は、マスキング効果に劣るものであった。また、シトロネラールの代わりに類似の構造をもつ化合物を用いた比較品５〜７も、マスキング効果に劣るものであった。さらに、炭素数８〜１８の脂肪酸と、炭素数２〜１８の一価のアルコールとのモノエステルの代わりに類似の構造をもつ化合物を用いた比較品８〜１０も、マスキング効果に劣るものであった。
一方、表３の結果から、実施例１〜３はマスキング効果に優れるものであった。しかし、マスキング組成物である比較品１、比較品２を用いた比較例１、２の日焼け止め化粧料は、マスキング効果に劣るものであった。
【００４６】
以下、まず本発明のマスキング組成物の他の処方例を示す。
【００４７】
実施例３［マスキング組成物］
（成分）                                                              （％）
１．レモンユーカリの葉から水蒸気蒸留法により得た精油                ５０．０
２．ジカプリン酸プロピレングリコール                                １０．０
３．パルミチン酸イソステアリル                                      ２０．０
４．エタノール                                                        残  量
【００４８】
（製造方法）
１〜４を均一に混合溶解し、マスキング組成物を得た。
【００４９】
実施例４［マスキング組成物］
（成分）                                                              （％）
１．シトロネラの全草を乾燥させ水蒸気蒸留法により得た精油              ０．１
２．ジカプリン酸プロピレングリコール                                ５０．０
３．ステアリン酸イソセチル                                          ２０．０
４．エタノール                                                        残  量
【００５０】
（製造方法）
１〜４を均一に混合溶解し、マスキング組成物を得た。
【００５１】
以下の実施例は、、本発明のマスキング組成物を化粧品等への化粧料に配合した処方例である。
【００５２】
実施例５［化粧水］
（成分）                                                              （％）
１．グリセリン                                                        ３．０
２．１，３−ブチレングリコール                                        ３．０
３．ジプロピレングリコール                                            ３．０
４．ポリオキシエチレングリコール４００                                ３．０
５．マルチトール                                                      １．０
６．キサンタンガム                                                    ０．１
７．乳酸                                                              ０．０５
８．乳酸ナトリウム                                                    ０．１
９．エデト酸２ナトリウム                                              ０．０５
１０．加水分解米エキス                                                ０．０５
１１．モノオレイン酸ポリオキシエチレン（２０モル）ソルビタン          １．０
１２．イソステアリン酸ポリオキシエチレン（５０モル）硬化ヒマシ油      １．０
１３．エタノール                                                      ５．０
１４．本発明品１のマスキング組成物                                    １．０
１５．パラオキシ安息香酸メチル                                        ０．１
１６．パラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル                          ０．５
１７．精製水                                                          残  量
【００５３】
（製造方法）
Ａ：成分１〜１０及び１７を混合溶解する。
Ｂ：成分１１〜１６を混合溶解する。
Ｃ：ＡにＢを添加混合し、化粧水を得た。
【００５４】
実施例５で得られた化粧水は、パラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシルの変臭等もなく安定で使用感にも優れたものであった。
【００５５】
実施例６［日中用乳液］
（成分）                                                          （％）
１．Ｎ−ステアロイル−Ｌ−グルタミン酸                                ０．５
２．水素添加大豆リン脂質                                              ０．５
３．グリセリルモノステアレート                                        １．０
４．１，３−ブチレングリコール                                        ５．０
５．セスキオレイン酸ソルビタン                                        ０．５
６．ベヘニルアルコール                                                ０．５
７．スクワラン                                                        ２．０
８．流動パラフィン                                                    ３．０
９．ジメチルポリシロキサン（１００ＣＳ）                              ０．５
１０．カルボキシビニルポリマー                                        ０．１
１１．パラオキシ安息香酸メチル                                        ０．１
１２．水酸化ナトリウム                                                ０．０５
１３．ソルビトール                                                    １．０
１４．精製水                                                          残  量
１５．エタノール                                                      ５．０
１６．本発明品１のマスキング組成物                                    ０．５
１７．パラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル                          ３．０
１８．香料                                                            ０．１
【００５６】
（製造方法）
Ａ：成分１〜９を７０℃で均一に混合する。
Ｂ：成分１０〜１４を７０℃で均一に混合する。
Ｃ：ＢにＡを加えて乳化し、室温まで冷却する。
Ｄ：Ｃに成分１５〜１８を加えて均一に混合し、日中用乳液を得た。
【００５７】
実施例６で得た日中用乳液は、パラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシルの変臭等もなく安定で使用感にも優れるものであった。
【００５８】
実施例７［日焼け止めスプレー］
（原液成分）                                                          （％）
１．ビスエチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン      ３．０
２．ジカプリン酸プロピレングリコール                                ３０．０
３．パラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル                            ８．０
４．デカメチルシクロペンタシロキサン                                  ５．０
５．フェノキシエタノール                                              ０．３
６．ジポリヒドロキシステアリン酸ＰＥＧ−３０                          ０．２５
７．ＰＥＧ−９ポリジメチルシロキシエチルジメチコン                    ０．５
８．本発明品１のマスキング組成物                                      ３．０
９．シリコーン被覆微粒子酸化亜鉛  （注１）                            ５．０
１０．フェニルベンズイミダゾールスルホン酸                            ３．０
１１．トリエタノールアミン                                            １．６８
１２．ジプロピレングリコール                                          ５．０
１３．精製水                                                          残  量
（注１）ＦＩＮＥＸ−５０Ｓ−ＬＰ２  (堺化学社製)
【００５９】
（製造方法）
Ａ：成分９を適量の成分２および成分７で分散する。
Ｂ：成分１〜３を加熱溶解する。
Ｃ：Ａに成分４〜７、Ｂおよび８を混合し、均一に分散させる。
Ｄ：成分１０〜１３を混合し、Ｃに添加して乳化し、原液を得る。
Ｅ：Ｄで得られた原液６ｇをアルミ製耐圧容器に充填した後バルブを固着し、バルブを通じてＬＰＧ０．１５  ２４ｇを耐圧容器に充填し、エアゾール型日焼け止め化粧料を得た。
【００６０】
実施例７の日焼け止めスプレーは、パラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシルの変臭等もなく安定で使用感にも優れるものであった。
【００６１】
実施例８［水中油型日焼け止め料］
【００６２】
１．トリエタノールアミン                                              １．０
２．精製水                                                            残  量
３．ステアリン酸                                                      １．０
４．ベヘニルアルコール                                                ２．０
５．モノオレイン酸ポリオキシエチレンソルビタン                        １．０
６．メチルポリシロキサン                                              ５．０
７．流動パラフィン                                                    ５．０
８．パラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル                            ５．０
９．ビスエチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン  （注２）
２．０
１０．本発明品１のマスキング組成物                                    ４．０
１１．フェノキシエタノール                                            ０．１
（注２）Ｔｉｎｏｓｏｒｂ  Ｓ  （ＢＡＳＦ社製）
【００６３】
（製造方法）
Ａ：成分１および２を加熱する。
Ｂ：成分３〜９を加熱する。
Ｃ：Ａを撹拌しながら徐々にＢ加えて乳化する。
Ｄ：Ｃを冷却後、成分１１を加え、水中油型日焼け止め料を得た。
【００６４】
実施例８の水中油型日焼け止め料は、パラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシルの変臭等もなく安定で使用感にも優れるものであった。
【００６５】
実施例９［油中水型日焼け止め料］
【００６６】
１．モノラウリン酸ポリオキシエチレン（２０Ｅ.Ｏ.）ソルビタン          ０．２
２．ポリオキシエチレン（６０）硬化ヒマシ油                            ０．１
３．精製水                                                            残  量
４．ジプロピレングリコール                                          １０．０
５．硫酸マグネシウム                                                  ０．５
６．アスコルビン酸グルコシド                                          ２．０
７．ＰＥＧ−９ポリジメチルシロキシエチルジメチコン                    ３．０
８．デカメチルシクロペンタシロキサン                                ２０．０
９．トリ２−エチルヘキサン酸グリセリル                                ５．０
１０．パラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル                          ８．０
１１．本発明品１のマスキング組成物                                  １０．０
１２．香料                                                            ０．１
【００６７】
（製造方法）
Ａ：成分１〜６を均一に混合する。
Ｂ：成分７〜１１を均一に混合する。
Ｃ：Ｂを攪拌しながら徐々にＡを加えて乳化する。
Ｄ：Ｃを冷却後、成分１２を加え、油中水型日焼け止め料を得た。
【００６８】
実施例９の油中水型日焼け止め料は、パラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシルの変臭等もなく安定で使用感にも優れるものであった。
【００６９】
実施例１０［ヘアミルク］
【００７０】
１．ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油                                    ０．５
２．セトステアリルアルコール                                          ２．０
３．モノステアリン酸グリセリル                                        ０．５
４．プロピレングリコール                                              ８．０
５．メチルフェニルポリシロキサン                                      ３．０
６．パラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル                            １．０
７．塩化ステアリルトリメチルアンモニウム                              １．０
８．精製水                                                            残  量
９．香料                                                              ０．２
１０．オリーブ油                                                      ０．２
１１．実施例３のマスキング組成物                                      ５．０
【００７１】
（製造方法）
Ａ：成分１〜６を加熱する。
Ｂ：成分７および８を加熱する。
Ｃ：Ｂを撹拌しながら徐々にＡを加えて乳化する。
Ｄ：Ｃを冷却後、成分９〜１１を加え、ヘアミルクを得た。
【００７２】
実施例１０のヘアミルクは、パラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシルの変臭等もなく安定で使用感にも優れるものであった。
【００７３】
実施例１１［ヘアミスト］
１．精製水                                                            残  量
２．トリメチルグリシン                                                ２．０
３．イソステアリン酸ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油                    ０．５
４．エタノール                                                      １５．０
５．パラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル                            ０．３
６．本発明品６のマスキング組成物                                      ０．３
７．メチルパラベン                                                    ０．１
８．アミノエチルアミノプロピルシロキサン・ジメチルシロキサン共重合体エマルション  （注３）
２．０
（注）ＳＭ  ８９０４  ＣＯＳＭＥＴＩＣ  ＥＭＵＬＳＩＯＮ  （東レ・ダウコーニング社製）
【００７４】
（製造方法）
Ａ：成分１および２を均一の混合する。
Ｂ：成分３〜７を均一に混合する。
Ｃ：Ａを撹拌しながら徐々にＢを加えて可溶化する。
Ｄ：Ｃに成分８を加え、ヘアミストを得た。
【００７５】
実施例１１のヘアミストは、パラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシルの変臭等もなく安定で使用感にも優れるものであった。
【００７６】
実施例１２［ヘアムース］
（原液成分）
１．モノオレイン酸ポリオキシエチレンソルビタン                        ０．５
２．メチルパラベン                                                    ０．１
３．エタノール                                                        ５．０
４．塩化ジステアリルジメチルアンモニウム                              ０．１
５．パラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル                            ０．５
６．実施例４のマスキング組成物                                        ０．５
７．精製水                                                            残  量
８．グリシン                                                          ０．１
９．ビニルピロリドン・酢酸ビニル共重合体液  （注４）                  ５．０
（注４）アコーン  ＫＳ  （大阪有機化学工業社製）
【００７７】
（製造方法）
Ａ：成分１〜６を均一に混合する。
Ｂ：成分７〜９を均一に混合する。
Ｃ：Ｂを撹拌しながら徐々にＡを加えて可溶化する。
Ｄ：Ｃで得られた原液９０ｇをアルミ製耐圧容器に充填した後バルブを固着し、バルブを通じてＬＰＧ０．４４  １０ｇを耐圧容器に充填し、ヘアムースを得た。
【００７８】
実施例１２のヘアムースは、パラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシルの変臭等もなく安定で使用感にも優れるものであった。
【００７９】
実施例１３［化粧下地］
１．セタノール                                                        ２．０
２．ステアリン酸                                                      １．０
３．パラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル                            ４．０
４．ワセリン                                                          ３．０
５．トリ２−エチルヘキサン酸グリセリル                                ５．０
６．酸化チタン                                                        ５．０
７．カルボキシビニルポリマー                                          ０．１
８．グリセリン                                                        ５．０
９．トリエタノールアミン                                              ０．５
１０．ジプロピレングリコール                                        １０．０
１１．精製水                                                          残  量
１２．フェノキシエタノール                                            ０．２
１３．香料                                                            ０．１
１４．本発明品２のマスキング組成物                                    ５．０
【００８０】
（製法）
Ａ．成分１〜６を７５℃に加熱し、均一に混合溶解する。
Ｂ．成分７〜１１を７５℃に加熱し、均一に混合溶解する。
Ｃ．ＡにＢを加え、乳化する。
Ｄ．Ｃを冷却後、成分１２〜１４を加えて均一に混合し、化粧下地を得た。
【００８１】
実施例１３の化粧下地は、パラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシルの変臭等もなく安定で使用感にも優れるものであった。
【００８２】
実施例１４［パウダーファンデーション］
１．タルク                                                          １０．０
２．マイカ                                                            残  量
３．雲母チタン                                                        ３．０
４．ベンガラ                                                          １．０
５．黄酸化鉄                                                          １．０
６．黒酸化鉄                                                          ０．５
７．酸化チタン                                                        ７．０
８．スクワラン                                                        １．０
９．ワセリン                                                          １．０
１０．パラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル                          ３．０
１１．本発明品２のマスキング組成物                                    ３．０
【００８３】
（製造方法）
Ａ：成分１〜７を混合分散する。
Ｂ：成分８〜１１を５０℃で均一に混合溶解する。
Ｃ：ＡにＢを加え、均一に混合する。
Ｄ：Ｃを粉砕し、皿に圧縮成形し、パウダーファンデーションを得た。
【００８４】
実施例１４の化粧下地は、パラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシルの変臭等もなく安定で使用感にも優れるものであった。
【００８５】
実施例１５［リキッドファンデーション］
１．１，３ブチレングリコール                                          ５．０
２．水素添加大豆リン脂質                                              ０．５
３．酸化チタン                                                        ５．０
４．ベンガラ                                                          ０．１
５．黄酸化鉄                                                          １．０
６．黒酸化鉄                                                          ０．０５
７．アクリル酸・メタクリル酸アルキル共重合体（注５）                  ０．５
８．トリエタノールアミン                                              １．５
９．精製水                                                            残  量
１０．グリセリン                                                      ５．０
１１．パラオキシ安息香酸エチル                                        ０．１
１２．ステアリン酸                                                    ０．９
１３．モノステアリン酸グリセリン                                      ０．３
１４．セトステアリルアルコール                                        ０．４
１５．モノオレイン酸ポリオキシエチレン（２０Ｅ.Ｏ.）ソルビタン        ０．２
１６．トリオレイン酸ポリオキシエチレン（２０Ｅ.Ｏ.）ソルビタン        ０．２
１７．パラメトキシケイ皮酸２―エチルヘキシル                          ５．０
１８．本発明品４のマスキング組成物                                    ０．５
【００８６】
（製造方法）
Ａ：成分１〜６を分散する。
Ｂ：Ａに成分７〜１１を加え７０℃で均一に混合する。
Ｃ：成分１２〜１７を７０℃で均一に混合する。
Ｄ：ＣにＢを加え乳化し、室温まで冷却する。
Ｅ：Ｄに成分１８を加え、リキッドファンデーションを得た。
【００８７】
実施例１５のリキッドファンデーションは、パラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシルの変臭等もなく安定で使用感にも優れるものであった。
【００８８】
実施例１６［白粉］
１．水素添加リン脂質１％処理雲母（注６）                              残  量
２．合成金雲母                                                      １５．０
３．タルク                                                          ３５．０
４．雲母チタン                                                      １５．０
５．窒化ホウ素                                                        ３．０
６．シリカ                                                            ２．０
７．パラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル                            ２．０
８．本発明品５のマスキング組成物                                      ０．２
（注６）ニッコール  レシノール  Ｓ−１０ＥＺ（日光ケミカルズ社製）処理
【００８９】
（製造方法）
Ａ：成分７，８を均一に混合溶解する。
Ｂ：成分１〜６と、Ａをヘンシェルミキサー（三井三池社製）で均一分散する。
Ｃ：Ｂをパルベライザーにて粉砕し、白粉を得た。
【００９０】
実施例１６の白粉は、パラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシルの変臭等もなく安定で使用感にも優れるものであった。