(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被加工物（４）にレーザビーム（１００）を結像するための装置であって、
前記レーザビームの強度分布を変換するための少なくとも１つの第２光学素子（２）に前記レーザビーム（１００）を結像するための少なくとも１つの第１光学素子（１）と、前記レーザビーム（１００）を前記被加工物（４）に結像するための少なくとも１つの第３光学素子（３）とを有する装置において、
位置固定の被加工物（４）において、当該被加工物（４）上の前記レーザビーム（１００）の直径が、前記強度分布を保持した状態で変更可能であり、
前記少なくとも１つの第１光学素子（１）および前記少なくとも１つの第２光学素子（２）は一緒にシフト可能であり、これによって前記少なくとも１つの第２光学素子上の前記レーザビーム（１００）の直径は固定して保持され、前記被加工物（４）上の前記レーザビーム（１００）の直径が、前記強度分布を保持した状態で変更可能である、
ことを特徴とする装置。
【請求項２】
前記レーザビームを形成および／または増幅および／または減衰するための手段をさらに有し、
位置固定の被加工物（４）において、前記被加工物（４）上の前記レーザビーム（１００）の直径が、前記強度分布を保持した状態で、同時に前記レーザビーム（１００）のエネルギ密度および／または出力密度を保持した状態で変更可能である、
請求項１に記載の装置。
【請求項３】
被加工物（４）にレーザビーム（１００）を結像するための装置であって、
前記レーザビームの強度分布を変換するための少なくとも１つの第２光学素子（２）に前記レーザビーム（１００）を結像するための少なくとも１つの第１光学素子（１）と、前記レーザビーム（１００）を前記被加工物（４）に結像するための少なくとも１つの第３光学素子（３）とを有する装置において、
位置固定の被加工物（４）において、当該被加工物（４）上の前記レーザビーム（１００）の直径が、前記強度分布を保持した状態で変更可能であり、
前記少なくとも１つの第２光学素子（２）上の前記レーザビームの直径（Ｄ）が固定して保持され、かつ、前記レーザビーム（１００）の拡散が前記少なくとも１つの第２光学素子の領域において変化するように前記少なくとも１つの第１光学素子（１）がシフト可能であり、これによって前記被加工物上の前記レーザビーム（１００）の直径が、前記強度分布を保持した状態で変更可能である、
ことを特徴とする装置。
【請求項４】
前記少なくとも１つの第２光学素子（２）により、ガウス形強度分布のレーザビーム（１００）が、トップハット形強度分布のレーザビーム（１００）に変換可能である、
請求項１から３までのいずれか１項に記載の装置。
【請求項５】
前記少なくとも１つの第２光学素子（２）は、回折式の光学素子である、
請求項１から４までのいずれか１項に記載の装置。
【請求項６】
レーザビーム（１００）の強度分布を変換するための少なくとも１つの第２光学素子（２）に前記レーザビーム（１００）を結像するための少なくとも１つの第１光学素子（１）と、前記レーザビーム（１００）を被加工物（４）に結像するための少なくとも１つの第３光学素子（３）とを有する装置により、レーザビーム（１００）を前記被加工物（４）上に結像する方法において、
該方法は、
・  前記レーザビーム（１００）を、少なくとも１つの第１光学素子（１）により、少なくとも１つの第２光学素子（２）に結像するステップと、
・  前記レーザビーム（１００）の前記強度分布を前記少なくとも１つの第２光学素子（２）によって変換するステップと、
・  前記レーザビーム（１００）を少なくとも１つの第３光学素子（３）によって前記被加工物上に結像するステップと、
・  位置固定の被加工物（４）において、当該被加工物（４）上の前記レーザビーム（１００）の直径を、前記強度分布を保持した状態で変更するステップとを有し、
前記少なくとも１つの第１光学素子（１）および前記少なくとも１つの第２光学素子（２）を一緒にシフトさせて、前記少なくとも１つの第２光学素子（２）上の前記レーザビーム（１００）の直径を固定して保持し、前記強度分布を保持した状態で前記被加工物上の前記レーザビーム（１００）の直径を変化させる、
ことを特徴とする方法。
【請求項７】
前記レーザビーム（１００）を形成および／または増幅および／または減衰するための手段により、位置固定の被加工物（４）において、前記被加工物（４）上の前記レーザビーム（１００）のエネルギ密度および／または出力密度を保持する一方で、前記強度分布を保持した状態で前記被加工物（４）上の前記レーザビーム（１００）の直径を変化させる、
請求項６に記載の方法。
【請求項８】
レーザビーム（１００）の強度分布を変換するための少なくとも１つの第２光学素子（２）に前記レーザビーム（１００）を結像するための少なくとも１つの第１光学素子（１）と、前記レーザビーム（１００）を被加工物（４）に結像するための少なくとも１つの第３光学素子（３）とを有する装置により、レーザビーム（１００）を前記被加工物（４）上に結像する方法において、
該方法は、
・  前記レーザビーム（１００）を、少なくとも１つの第１光学素子（１）により、少なくとも１つの第２光学素子（２）に結像するステップと、
・  前記レーザビーム（１００）の前記強度分布を前記少なくとも１つの第２光学素子（２）によって変換するステップと、
・  前記レーザビーム（１００）を少なくとも１つの第３光学素子（３）によって前記被加工物上に結像するステップと、
・  位置固定の被加工物（４）において、当該被加工物（４）上の前記レーザビーム（１００）の直径を、前記強度分布を保持した状態で変更するステップとを有し、
前記少なくとも１つの第１光学素子（１）をシフトさせて、前記少なくとも１つの第２光学素子（２）上の前記レーザビームの直径を固定して保持し、前記レーザビーム（１００）の拡散を、前記少なくとも１つの第２光学素子（２）の領域において変化させて、前記強度分布を保持した状態で前記被加工物（４）上の前記レーザビーム（１００）の直径を変化させる、
ことを特徴とする方法。
【請求項９】
前記少なくとも１つの第２光学素子（２）により、ガウス形強度分布の前記レーザビーム（１００）を、トップハット形強度分布のレーザビーム（１００）に変換する、
請求項６から８までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
前記少なくとも１つの第２光学素子（２）は、回折式の光学素子である、
請求項６から９までのいずれか１項に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レーザ材料加工のための装置および方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
μｓからｆｓまでのパルス幅範囲におけるレーザパルスによる切削は基本的に何年も前から公知であり、例えば、Dausinger, F., Schmitz, G. and Sutter, D. (2005),「機械製作におけるフェムトレーザ−マイクロストクチャおよびホール」”Femtonische Laser im Maschinenbau - Mikrostrukturieren und Bohren”. LTJ, 2: 40-47. doi: 10.1002/latj.200790064（非特許文献１）を参照されたい。
【０００３】
特に集束されたレーザビームを動かすことによって３次元構造を切削することは公知であり、レーザビームの集束面は一般的に、加工すべき被加工物の表面に近傍にある。
【０００４】
被加工物に対するレーザの焦点の移動は、例えば、ＸＹ方向（すなわち被加工物表面に対して縦横）においてガルバノスキャナによって行うことができる。例えば回転するくさび型プレートおよび／または類似の物を有する別のビーム偏向装置も公知である。ビーム路に配置された可動のレンズにより、レーザの焦点をビーム方向に付加的にシフトすることも公知であり、例えばスキャンラブ（Scanlab）社のシステムバリオスキャン（System VarioScan）を参照されたい。
【０００５】
レーザビームの強度分布を変換するための光学素子も同様にすでに公知である。例えば、回折式および／または屈折式の光学系を用い、ガウス形強度分布のレーザビームを、１つまたは複数の所定の面においてトップハット形強度分布のレーザビームに変換することができる。このような光学系は、例えば、ＴＯＰＡＧレーザ技術社（TOPAG Lasertechnik）のガウス・ツー・トップハットフォーカスビームシェーパ（Gauss-to-Top Hat Focus Beam Shaper）であり、これについては例えば独国特許公開第102010005774号明細書（特許文献１）を参照されたい。トップハット形強度分布を有するこのようなレーザビームは、特に５０ｐｓよりも短いレーザパルスを使用する場合、レーザ材料加工にとって特に魅力的である。なぜならばこのレーザビームによれば、実質的に一定のエネルギまたは出力密度で特に良好にかつ再現可能に加工成果を得ることができるからである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】独国特許公開第102010005774号明細書
【非特許文献】
【０００７】
【非特許文献１】Dausinger, F., Schmitz, G. and Sutter, D. (2005),「機械製作におけるフェムトレーザ−マイクロストクチャおよびホール」（”Femtonische Laser im Maschinenbau - Mikrostrukturieren und Bohren”）. LTJ, 2: 40-47. doi: 10.1002/latj.200790064
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の課題は、被加工物表面の最適な加工を可能とする、被加工物上にレーザビームを結像するための装置および方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の基にある観察は、トップハット形強度分布を有するレーザビームでは、強度分布は、レーザビーム全体に沿ってトップハット形ではなく、ビーム方向の１つまたは複数の位置においてのみ、トップハット分布と類似性を有しているということである。ビーム伝搬において、これらの位置から出発すると、トップハット形強度分布は、少なくとも一時的に別の強度分布に移行し、ここでこの移行は、光が伝搬時にその波の性質に起因してしたがう物理法則に相応して行われる。図１にはこの現象が一連のシーケンスに基づいて示されており、このシーケンスには、集束されたレーザビームの、種々異なる複数の位置における強度分布が、個々のグラフ１ａないし１ｐに示されている。ビーム方向における各位置は、それぞれ示したｚ位置によって特徴付けられている。
【００１０】
この例においてレーザビームは、焦平面、ｚ位置[ｍｍ]＝１００の位置（図１のグラフi)を参照されたい）、ｚ位置[ｍｍ]＝８６（図１のグラフb)を参照されたい）およびｚ位置[ｍｍ]＝９４（図１のグラフf)を参照されたい）およびｚ位置[ｍｍ]＝１０８（図１のグラフm)を参照されたい）の複数の位置にだけ、トップハット形強度分布を有する。これらの間においてこのレーザビームは、レーザ材料加工に対しては、特に５０ｐｓよりも短いレーザパルスを使用する際には、少なくとも部分的に有利でない別の強度分布を有する。
【００１１】
本発明の別の態様は、レーザビームの１つまたは複数の位置においてトップハット形強度分布を有する、有利には集束されたレーザビームによって被加工物を加工する際に、レーザビームにおけるこの１つまたはこれらの複数の位置に、被加工物の加工すべき表面を配置することである。さらに、最初に被加工物の加工すべき表面を、これらの位置のうちの１つに配置し、つぎにこれらの位置のうちの別の１つに配置することも可能である。すなわち、言い換えると、ここではトップハット形強度分布を有するビームの複数の位置の間を「ジャンプ」するのである。図１の例において、これは、例えば、ｚ座標ｚ位置[ｍｍ]＝８６を有する（図１のグラフb)を参照されたい）位置およびｚ位置[ｍｍ]＝１００を有する（図１のグラフi)を参照されたい）位置である。これらの位置におけるビーム直径は異なるため、この方法の発展形態において可能であるのは、大きなビーム半径（例えばｚ位置[ｍｍ]＝８６において、図１のグラフ)bを参照されたい）による被加工物の大まかな加工と、例えば後続の、小さいビーム半径（例えばｚ位置[ｍｍ]＝１００において、図１のグラフi)を参照されたい）による細かな加工を行うことである。
【００１２】
トップハット形強度分布を有する、ビームの種々異なる位置間の上記の「ジャンプ」は、当然のことながら基本的に上記レーザビームにおいて被加工物をシフトすることによって行うことも可能である。
【００１３】
しかしながらレーザビームにおける被加工物のシフトは、移動させる質量が比較的大きいことに起因して、比較的コストがかかりかつ低速である。このため、有利には加工中には被加工物を位置固定にして、トップハット形強度分布を有するビームの種々異なる位置間の「ジャンプ」をつぎのようにして具現化する。すなわち、複数の光学素子を用いてビーム方向にレーザビームを操作することによってこれらの位置をシフトさせることによって具現化するのである。この際に移動される質量は比較的小さいため、これははるかに少ないコストで、ないしは、格段に高速に行うことができる。
【００１４】
本発明による方法において被加工物へのレーザビームの結像は、以下の複数のステップによって行われる。すなわち、
・  集束式またはデフォーカス式の少なくとも１つの第１光学素子から、ビームを形成する回折式または屈折式の少なくとも１つの第２光学素子にレーザビームを伝送するステップと、
・  レーザビームの波面を少なくとも１つの第１光学素子によって変調して、第３素子によってビームを集束した後、集光ビームの複数の面において、トップハットに類似するビームプロファイルを発生させるようにするステップと、
・  このレーザビームを少なくとも１つの第３光学素子によって被加工物に結像するステップと、
・  位置固定の被加工物において、トップハットに類似する強度分布を保った状態で、被加工物におけるレーザビームの直径を離散量間で変化させるステップとを有する。
【００１５】
択一的にはビーム源と、集束式またはデフォーカス式の第１光学素子との間にビーム形成素子を配置することができる。この場合には、レーザからビームが伝搬した後、ビーム形成素子の箇所において発生するビーム直径に対して位相変調式ビーム形成素子を正確に設計する。
【００１６】
本発明はさらに、本発明による方法を具現化することの可能な装置に関する。
【００１７】
本発明においてレーザビームという語は基本的に付加的な制限のない光ビームの意味であると理解することができるが、このレーザビームは、特に５０ｐｓよりも短いパルスを有するパルスレーザビームとすることができる。ここではこのレーザビーム、例えば、少なくとも十分に回折が制限された（例えばＭ2＜１．２）レーザビームとすることができる。このレーザビームは、例えば、モード結合された固体レーザによって形成することができ、例えば、１μｍの範囲の光学的な波長またはその周波数を２倍または３倍にした波長を有し得る。
【００１８】
本発明において結像とは基本的に単に、ビーム軸に沿ったレーザビームの空間的な伝搬のことを意味する。しかしながら所定の箇所における所定のビームプロファイルの結像、例えばトップハット形プロファイルの結像とは、レーザビームがこの箇所においてこのプロファイルを有することを意味する。
【００１９】
本発明において設けられる複数の光学素子はそれぞれ、例えばレンズまたはレンズ系とすることが可能である。基本的には別の光学素子も考えられる。
【００２０】
特別な光学素子は、回折式光学素子である。この回折式光学素子は、例えば、光位相変調器として構成することができ、例えば（ほとんど）ガウス形強度分布を有する、コリメートされたレーザビームのほとんど平坦な波面を変調して、このレーザビームが、集束された後、所定の面においてビームウェストの周りに別の強度分布を、例えばトップハット形強度分布を有するようにすることが可能である。当然のことながら、ビームウェストの周りの所定の面内にレーザビームの強度分布を変換するための別の光学素子も、例えば対応する屈折式光学系も、付加的または択一的に使用することができる。
【００２１】
本発明においてレーザビームの強度分布の保持または変換という概念は、ビーム直径および強度のパラメタを対象とするものではなく、例えば、図１に示したように横方向の位置座標について強度を示した場合の、強度分布の基本的な形状を単に対象としている。
【００２２】
したがってトップハット形プロファイルが別のトップハット形プロファイルに変化することは、たとえビーム直径および／またはビーム強度が変化したり、またこれらのトップハットに類する分布間のすべての面において別のビームプロファイルが生じたとしても、ビームプロファイルが保持される例として挙げることができる。トップハット形プロファイルとは、特にEN ISO 13694:2000の意味のトップハットプロファイルのことであり、大きいが有限のエッジ勾配を有しかつ小さなリップルが残っている強度分布も、ここでは、専門家の間で一般的であるように、なおトップハット形プロファイルと称される。
【００２３】
ビームウェストの周りの所定の面内においてガウス形プロファイルをトップハット形プロファイルに変換することは、ビームプロファイルの変換の例として挙げることできる。
【００２４】
有利には被加工物におけるレーザビームのエネルギ密度および／または出力密度は、加工中に保持される。すなわち、これらは最大でもわずかにしか、例えば１０％未満にしか変動しない。すなわち、種々異なるビーム直径を有するレーザビームによって被加工物を加工する際には、レーザ出力ないしはレーザ／パルスエネルギを対応して適合させる。この点においてレーザビームを形成および／または増幅および／または減衰するための対応する手段が使用される。
【００２５】
ビーム路において所定の強度分布を有する位置のビーム方向へのシフトは基本的に、すでに上で説明したように、このビーム路内の１つまたは複数の光学コンポーネントをシフトさせることによって行うことができる。しかしながら複雑な問題は、レーザビームの強度分布を変換するための、特に回折式の第２光学素子の有効性が、ビーム路内の１つまたは複数のコンポーネントの上記のようなシフトによって損なわれ得るという点にある。
【００２６】
この場合、ガウス形強度分布のレーザビームの、トップハット形強度分布のレーザビームへの例えば本発明において行われる変換は、例えば、もはや望み通りには行われない。
【００２７】
この際の極めて重要なパラメタは、特に回折式または屈折式に位相変調する第２光学素子の照明である。すなわち、特に回折式または屈折式に位相変調する第２光学素子の箇所におけるレーザビームのビーム直径である。さらに確認されたのは、特に回折式または屈折式に位相変調する第２光学素子の箇所におけるレーザビームの拡散は、ここで行われる変換が望み通りに行われるか否かについて無視できる程度の影響しか及ぼさないことである。したがって所定のビームプロファイルを具現化する、ビームにおける位置をビーム方向にシフトするため、特に上記のパラメタが使用される。
【００２８】
本発明の発展形態では、少なくとも１つの第２光学素子におけるレーザビームの直径が固定して保持され、少なくとも１つの第２光学素子の領域におけるレーザビームの拡散が変化し、これによってトップハットに類似する強度分布を保持した状態で、被加工物におけるレーザビームの直径を種々異なる離散量の間で変化させることができる装置および方法に関する。
【００２９】
本発明の発展形態において、これは、一方において、第１光学素子および特に回折式の第２光学素子を同じ間隔だけ、同じ方向にレーザビームに沿って移動することによって得ることができる。例えば、同期化された駆動器または共通のキャリッジを使用することができる。
【００３０】
択一的には第１光学素子を望遠鏡として構成する。この望遠鏡は、その箇所においてビーム直径および拡散に影響を及ぼして、第２光学素子の箇所においてレーザビームの拡散だけを変化させるが、レーザビームの直径を固定して保持する。第２光学素子はこの場合、位置固定して保持することができる。
【００３１】
本発明による装置の有利な実施形態ではさらに、レーザビームを形成および／または増幅および／または減衰するための手段を有し、位置固定の被加工物において、この被加工物上のレーザビームの直径が、強度分布を保持した状態で、同時にレーザビームのエネルギ密度および／または出力密度を保持した状態で変更可能である。
【００３２】
本発明による装置の有利な実施形態において、少なくとも１つの第１光学素子および少なくとも１つの第２光学素子は一緒にシフト可能であり、これによって少なくとも１つの第２光学素子上のレーザビームの直径は固定して保持され、この被加工物上のレーザビームの直径が、強度分布を保持した状態で変更可能である。
【００３３】
本発明による装置の有利な実施形態において、少なくとも１つの第２光学素子上のレーザビームの直径は固定して保持され、かつ、レーザビームの拡散が少なくとも１つの第２光学素子の領域において変化するように少なくとも１つの第１光学素子がシフト可能であり、これによって被加工物上のレーザビームの直径が、強度分布を保持した状態で変更可能である。
【００３４】
本発明による装置の有利な実施形態では、少なくとも１つの第２光学素子により、ガウス形強度分布のレーザビームが、トップハット形強度分布のレーザビームに変換可能である。
【００３５】
本発明による方法では、上で説明した実施形態に示した装置により、レーザビームを被加工物上に結像する方法において、この方法は、
・  レーザビームを、少なくとも１つの第１光学素子により、特に回折式の少なくとも１つの第２光学素子に結像するステップと、
・  レーザビームの前記強度分布を前記少なくとも１つの第２光学素子によって変換するステップと、
・  レーザビームを少なくとも１つの第３光学素子によって被加工物上に結像するステップと、
・  位置固定の被加工物において、この被加工物上のレーザビームの直径を、強度分布を保持した状態で変更するステップとを有する。
【００３６】
本発明による方法の有利な実施形態では、レーザビームを形成および／または増幅および／または減衰するための手段により、位置固定の被加工物において、この被加工物上のレーザビームのエネルギ密度および／または出力密度を保持する一方で、強度分布を保持した状態で被加工物上のレーザビームの直径を変化させる。
【００３７】
本発明による方法の有利な実施形態では、少なくとも１つの第１光学素子および少なくとも１つの第２光学素子を一緒にシフトさせて、少なくとも１つの第２光学素子上のレーザビームの直径を固定して保持し、強度分布を保持した状態で被加工物上のレーザビームの直径を変化させる。
【００３８】
本発明による方法の有利な実施形態では、少なくとも１つの第１光学素子をシフトさせて、少なくとも１つの第２光学素子上のレーザビームの直径を固定して保持し、レーザビームの拡散を、少なくとも１つの第２光学素子の領域において変化させて、強度分布を保持した状態で被加工物上のレーザビームの直径を変化させる。
【００３９】
本発明による方法の有利な実施形態では、少なくとも１つの第２光学素子により、ガウス形強度分布のレーザビームを、トップハット形強度分布のレーザビームに変換する。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】トップハット形ビームプロファイルを有するレーザビームの集束と、このレーザビームの種々異なる位置における強度分布とを示すグラフを示す図である。
【図２ａ】本発明の一実施例を示す図である。
【図２ｂ】本発明の一実施例を示す図である。
【図３】本発明の別の一実施例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００４１】
図２ａには、本発明の第１実施形が示されている。例えばコリメートされた、パルス状の緑色のレーザビームであって、ガウス形ビームプロファイルを有するレーザビーム１００は、図示しないレーザ装置によって形成され、第１光学素子１に入射する。第１光学素子１は、それぞれ互いに無関係にビーム方向をシフトさせることの可能な２つのレンズ１ａ，１ｂの対から構成されている。２つのレンズ１ａ，１ｂの対の図示した位置において、拡散されて再びコリメートされた、ガウス形ビームプロファイルのレーザビーム１００は、直径Ｄで第２光学素子２に結像される。この場合に第２光学素子２は、入射したレーザビームをトップハット形プロファイルのレーザビームに変換し、かつ、位置固定して配置されている。この光学素子は、波面変調器として構成された回折式（ＤＯＥ）または屈折式の光学系である。
【００４２】
ビーム方向に見て後置されているのは、第３光学素子３であり、この光学素子はガルバノメータスキャナとして構成されており、この点において偏向ユニットおよび入射したレーザビームを集束するための対物レンズを有する。図２ａにおいてこの集束は、集束面が被加工物表面４上にあるようにし、かつ、この被加工物表面上で図１のグラフにおけるｚ座標ｚ＝１００に対応する第１のトップハット形強度分布（TH No.0）を有するように行われる。
【００４３】
図２ｂには、２つのレンズ１ａ，１ｂの対が一般的に互いに相対的にシフトされた後の図２ａの装置が示されている。これらをシフトした結果、レーザビーム１００はここでも直径Ｄで第２光学素子２に入射するが、ここでは拡散したビームとして入射する。したがってレーザビーム１００の集束面は、被加工物に入るようにシフトし、ｚ座標ｚ位置[ｍｍ]＝９４（図１のグラフf)を参照されたい）（TH No.1）に相応して、同様にトップハット形プロファイルを有するが以前よりも大きなビーム直径のビーム位置が被加工物表面４上に形成されるようになる。
【００４４】
レーザビームを増幅してここでも以前と同じ出力密度ないしはエネルギ密度（図２ａまたは図１ｙ）が被加工物に到達するようにすることが可能であり、これによって以前と同様に被加工物表面４の最適な加工を行うことができる。
【００４５】
別の実施例は図３に示されている。この実施例は、ビーム路において第１光学素子１が第２光学素子２と一緒にシフト可能である点が第１実施例と異なっている。このために第１光学素子１は第２光学素子２と共に、例えばモータ駆動のキャリッジ５上に一緒に配置されている。コリメートされたビームにおいて一緒に動かすことにより、ここでも第２光学素子におけるビーム直径Ｄがつねに一定に保持される。同時に焦平面を被加工物表面に対して相対的にシフトさせることができる。これにより、第１実施例の場合に同様に種々異なるビーム位置を、ひいては種々異なるビーム直径を有する種々異なるトップハット形強度分布を被加工物表面に結像することができる。
【００４６】
当然のことながら、共通のキャリッジ５による機械的な結合とは択一的に、第１光学素子１および第２光学素子２は、電子的に互いに同期した独立した駆動部を有することも可能である。
【符号の説明】
【００４７】
１  第１光学素子、  ２  第２光学素子、  ３  第３光学素子、  ４  被加工物、  ５  キャリッジ、  １００  レーザビーム
【図１】
0006679284.tif 000002
【図２ａ】
0006679284.tif 000003
【図２ｂ】
0006679284.tif 000004
【図３】
0006679284.tif 000005