(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一つの金属性機能層（１４０）、特には銀又は銀含有金属合金をベースとした少なくとも一つの金属性機能層（１４０）、並びに少なくとも二つの反射防止被覆（１２０，１６０）を含み、赤外領域及び／又は太陽放射における反射特性を有する薄膜の積層体（１４）によって、一つの表面（２９）が被覆された基材（３０）であって、前記被覆は、それぞれ、少なくとも一つの誘電体層（１２２，１６４）を含み、前記機能層（１４０）は、前記二つの反射防止被覆（１２０、１６０）の間に位置し、前記積層体は、一方では、前記表面（２９）から最も離れた積層体の層である終端層（１６８）を含み、この終端層は、少なくとも一つの金属Ｍ２を含み、前記金属は、酸化／還元電位γ２を示す酸化物／金属ペアにおける還元剤であり、前記終端層（１６８）は、金属性の状態であり、かつ、前記積層体は、他方では、前記表面（２９）の方向で前記終端層（１６８）の直下に、前記終端層（１６８）と接触して、位置する積層体の層である、前終端層（１６７）を含み、前記前終端層（１６７）は、少なくとも一つの金属Ｍ１を含み、前記金属は、酸化／還元電位γ１を示す酸化物／金属ペアにおける還元剤であり、前記前終端層（１６７）は、少なくとも部分的に酸化された状態であり、
前記酸化／還元電位γ１は、前記酸化／還元電位γ２よりも大きく、前記酸化／還元電位は、標準水素電極によって計測されること、及び、
前記金属性の終端層（１６８）が、亜鉛及びスズの混合物ＳｎｉＺｎｊで作られており、ここで、スズの原子含有率は０．１≦ｉ≦０．５であり、かつｉ＋ｊ＝１であり、好ましくはさらには、０．１５≦ｉ≦０．４５であり、かつｉ＋ｊ＝１であること
を特徴とする、
基材（３０）。
【請求項２】
前記金属性の終端層（１６８）は、０．５ｎｍと５．０ｎｍの間、好ましくはさらには、１．０ｎｍと４．０ｎｍとの間の厚さを示すことを特徴とする、請求項１に記載の基材（３０）。
【請求項３】
前記前終端層（１６７）は、５．０ｎｍと２０．０ｎｍとの間、好ましくはさらには、１０．０ｎｍと１５．０ｎｍとの間の厚さを示すことを特徴とする、請求項１又は２のいずれか一項に記載の基材（３０）。
【請求項４】
前記前終端層（１６７）は、酸化スズ、又は、スズ及び好ましくは亜鉛を追加的に含む金属元素の混合物の酸化物、であることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の基材（３０）。
【請求項５】
前記前終端層（１６７）は、スズの原子含有率が０．３≦ｘ＜１．０であり、かつｘ＋ｙ＝１であり、好ましくはさらには、０．５＜ｘ＜１．０であり、かつｘ＋ｙ＝１である、亜鉛とスズの混合物ＳｎｘＺｎｙの酸化物であることを特徴とする、請求項４に記載の基材（３０）。
【請求項６】
前記前終端層（１６７）は、前記基材から出発して、誘電体層上に位置し、この誘電体膜は、窒化ケイ素をベースとしており、物理的な厚さが、５．０と５０．０ｎｍの間であり、好ましくはさらには８．０と２０．０ｎｍの間であることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載の基材（３０）。
【請求項７】
枠構造（９０）によって一緒に保持される、少なくとも二つの基材（１０，３０）を含む、複層グレージングであって、前記グレージングは、外部空間（ＥＳ）と内部空間（ＩＳ）との間に仕切りを形成し、少なくとも一つのガス入りキャビティ（１５）が、前記二つの基材の間に位置し、基材の一つ（３０）は、請求項１〜６のいずれか一項に記載されたものである、複層グレージング。
【請求項８】
少なくとも一つの金属性機能層（１４０）、特には銀又は銀含有金属合金をベースとした少なくとも一つの金属性機能層（１４０）、並びに少なくとも二つの反射防止被覆（１２０，１６０）を含み、赤外領域及び／又は太陽放射における反射特性を有する薄層の積層体（１４）で、一つの表面（２９）が被覆された基材（３０）、を得るための、以下の工程を順に含む、方法：
‐請求項１〜６のいずれか一項に記載の、少なくとも一つの金属性機能層（１４０）、特には銀、又は銀含有金属合金をベースとした少なくとも一つの金属性機能層（１４０）、並びに少なくとも二つの反射防止被覆（１２０，１６０）を含み、赤外領域及び／又は太陽放射における反射特性を有する、薄膜の積層体（１４）を、前記基材（３０）の一つの面（２９）に堆積すること、
‐放射、特には赤外放射を生成する発生源を用いて、前記薄層の積層体（１４）を処理すること、ここで、前記終端層（１６８）は、前記処理の後に、少なくとも部分的に、酸化されている。
【請求項９】
前記処理は、酸素を含まない雰囲気中で実行されることを特徴とする、請求項８に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、少なくとも一つの金属性機能層、特には銀又は銀含有金属合金をベースとする少なくとも一つの金属性機能層、並びに少なくとも二つの反射防止被膜を含む、赤外領域及び／又は太陽放射での反射特性を有する薄層の積層体によって、一つの面が被膜された基材に関し、前述の少なくとも二つの反射防止被膜は、それぞれ少なくとも一つの誘電体層を含み、前述の少なくとも一つの機能層は、二つの反射防止被膜の間に位置し、前述の積層体は、被膜された前述の面から最も遠いところにある積層体の層である、終端層を追加的に含む。
【０００２】
従って、このタイプの積層体では、機能層は、それぞれが一般に複数の層を含んでいる二つの反射防止被膜の間に位置し、これら複数の層は、それぞれ、窒化物タイプ、特にはケイ素若しくは窒化アルミニウムタイプ、又は酸化物タイプの誘電体材料でできている。光学的な観点から言うと、一つの又は各々の金属性機能層の枠を形作っているこれらの被膜の目的は、この金属性機能層に、「反射防止性」を付与することである。
【０００３】
しかしながら、時には、ブロッキング被膜が、一つの又は各反射防止被膜と金属性機能層との間に、挿入される；基板の方向で、機能層の下側に位置するブロッキング被膜は、曲げ加工タイプ及び／又は焼きなましタイプで高温加熱処理がされる場合には、その間にこの層を保護し、並びに、基材から見て機能層の反対側に位置するブロッキング層は、上部の反射防止被膜を堆積する間に、及び、曲げ加工タイプ及び／又は焼きなましタイプで高温加熱処理がされる場合には、その間に、この層を、可能的な変質から保護する。
【０００４】
本発明は、より特には、積層体がその上に堆積される基材の表面から、最も遠くにある、積層体の終端層の使用、及び、放射特には赤外線放射を生じる発生源を用いて、薄層の完全な積層体の処理を実施すること、に関する。
【背景技術】
【０００５】
積層体の終端層として吸収層を提供すること、及び、積層体の堆積後に処理を適用して、放射率を低減すること、又は、低放射性積層体の光学的特性を向上させることが、特には、国際出願の、国際公開第２０１０／１４２９２６号から、知られている。金属性終端層を使用することによって、吸収率を増加させ、かつ、処理に必要な電力を低減することが可能となる。終端層は、処理の間に酸化して、透明になるので、処理後の積層体の光学的特性は、有利なものである（特には、高い光透過性が得られる）。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、この解決策は、特定の応用に関しては、完全に満足できるものではない。これは、処理に使用される発生源の非均一性、及び／又は、速度が絶対的に一定となることはない、搬送システムの不完全性、に起因する。
【０００７】
このことは、目で知覚可能な、光学的な非均一性、を招く（光透過性／反射性における差異、及び、一つの場所と別の場所の、色の違い）。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の目的は、一つ以上の機能層を含む新しいタイプの層の積層体、を開発することによって、従来技術の不利な点の克服において成功を収めることであり、この積層体は、処理後において、低いシート抵抗（従って、低放射性）、高い光透過率を示し、かつ、透過性と反射性の両方における、外観の均一性も示す。
【０００９】
別の重要な目的は、処理をより速く実行することを可能にして、結果として、そのコストの低減を可能にすることである。
【００１０】
本発明の主題は、従って、その最も広い意味において、請求項１に記載される通りの、基材である。この基材は、特には銀又は銀含有金属合金をベースとする、少なくとも一つの金属性機能層、並びに少なくとも二つの反射防止被膜を含み、赤外領域及び／又は太陽放射での反射特性を有する薄層の積層体によって、一つの面が被膜されており、前述の被膜は、それぞれ、少なくとも一つの誘電体層を含み、前述の機能層は、二つの反射防止被膜の間に位置し、前述の積層体は、一方では、前述の表面から最も遠くにある積層体の層であって、少なくとも一つの金属Ｍ２を含む、終端層、を含み、前述の金属は、酸化／還元電位γ2を示す酸化物／金属ペアにおける還元剤であり、前述の終端層は、金属状態にあり、かつ、前述の積層体は、他方では、前述の表面の方向において前述の終端層の直下に、前述の終端層に接触して配置された積層体の層であって、少なくとも一つの金属Ｍ１を含む、前終端層、を含み、前述の金属は、酸化／還元電位γ１を示す酸化物／金属ペアにおける還元剤であり、前述の前終端層は、少なくとも部分的に、酸化された状態にある。
【００１１】
本発明によると、前述の酸化／還元電位γ１は、前述の酸化／還元電位γ２よりも大きく、前述の酸化／還元電位は、標準水素電極によって、計測される。
【００１２】
従来通り、用語「誘電体層」は、本発明の意味の範囲内において、その性質の観点から、その材料が、「非金属性」であること、すなわち金属ではないこと、を意味するものと理解されるべきである。本発明の文脈において、この用語が示すものは、ｎ／ｋ比が、可視波長の全範囲（３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ）にわたって５以上である材料である。
【００１３】
用語「吸収層」は、本発明の意味の範囲内においては、この層が、可視波長の全範囲（３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ）にわたって、平均の係数ｋが、０．５よりも大きく、かつ、（文献において知られている通りの）バルク電気抵抗性が、１０−６Ω．ｃｍよりも大きい材料であること、を意味するものと理解されるべきである。
【００１４】
ｎは、所与の波長における材料の実の屈折率を示し、かつ、係数ｋは、所与の波長における屈折率の虚部を表す、ことを忘れてはならない；ｎ／ｋ比は、ｎ及びｋに関して同一の所与の波長で、計算される。
【００１５】
用語「金属性の層」は、本発明の意味の範囲内においては、この層が、上記に示されたように、吸収性であり、かつ、酸素原子又は窒素原子を含まない、ことを意味するものと理解されるべきである。
【００１６】
「酸化／還元電位」は、標準水素電極を用いて得られる、電圧である；これは、参照される文献において一般的に示されている、電位である。
【００１７】
本発明に係る積層体は、従って、「終端層」（又は「保護膜」）として知られる最終の層、すなわち、金属ターゲットから金属状態で堆積され、かつ、意識的に導入された酸素又は窒素を含まない雰囲気中で堆積された層、を含む。この層は、放射、特には赤外線放射を生じる発生源を用いた処理の後に、積層体内において、本質的に化学量論的に、酸化される。
【００１８】
上述の前終端層は、その既知の安定的な化学量論に対して、少なくとも部分的に酸化された状態で、直上に存在する（基材とは逆側にある）層のための酸素供与層として、機能する。
【００１９】
上述の前終端層は、その既知の安定的な化学量論に従って、酸化状態であることができ、実際にはさらには、その既知の安定的な化学量論に対して、過剰に酸化された状態であることができる。
【００２０】
上述の金属性終端層は、好ましくは、０．５ｎｍと５．０ｎｍとの間の厚さ、好ましくは、１．０ｎｍと４．０ｎｍとの間の厚さを示す。この比較的低い厚さによって、処理の間に、終端層の完全な酸化を得ることができ、結果として、比較的高い光透過性を得ることができる。
【００２１】
上述の終端層は、処理時に、放射を生成する発生源の波長λにおいて、高い吸収を示すように、選択される。例えば、終端層の金属の屈折率の虚部ｋ（λ）は、以下に従う：ｋ（λ）＞３（例：９８０ｎｍでのＴｉ）、好ましくは、ｋ（λ）＞４(例：９８０ｎｍでのＺｎ）、好ましくはｋ（λ）＞７(例：９８０ｎｍでの、Ｓｎ，Ｉｎ）。
【００２２】
上述の前終端層は、好ましくは、５．０ｎｍと２０．０ｎｍの間、好ましくは１０．０ｎｍと１５．０ｎｍの間の厚さを示す。この比較的適度な厚さによって、積層体の光学的な外観に過大に大きく影響を及ぼすことなく、効果的な酸素貯留層を作り出すことが可能となる。
【００２３】
特殊な変形形態において、前述の金属性終端層は、チタニウム製であり、又は、亜鉛及びスズの混合物ＳｎｉＺｎｊであり、ここで、スズの原子含重量は、０．１≦ｉ≦０．５であり、かつｉ＋ｊ＝１であり；好ましくは、０．１５≦ｉ≦０．４５であり、かつｉ＋ｊ＝１である。
【００２４】
特殊な変形形態において、上述の前終端層は、酸化スズ（すなわち、Ｓｎ及びＯ以外の元素を含まない層）であるか、又は、スズ及び好ましくは亜鉛を追加的に含む、金属元素の混合物の酸化物である。
【００２５】
この特殊な変形形態では、前述の前終端層は、好ましくは、亜鉛及びスズの混合物ＳｎｘＺｎｙの酸化物であり、ここで、スズの原子含重量は０．３≦ｘ＜１．０であり、かつｘ＋ｙ＝１であり；好ましくは、０．５＜ｉ＜１．０であり、かつｘ＋ｙ＝１である。
【００２６】
好ましくは、前述の金属性終端層及び前述の前終端層が、両方とも、スズ及び亜鉛を含む場合には、亜鉛に対するスズの原子比は、異なり、かつ、前述の前終端層は、前述の金属性終端層よりも、スズをより多く含む；しかしながら、前述の金属性終端層及び前述の前終端層が、両方とも、スズ及び亜鉛を含む場合に、亜鉛に対するスズの原子比は、両層について、同一であり得る。
【００２７】
本発明の特殊な形態では、前述の前終端層は、窒化ケイ素をベースとする誘電体層上に直接配置されており、窒化ケイ素をベースとするこの誘電体層は、好ましくは、酸素を含まない。窒化ケイ素をベースとするこの誘電体層は、５．０と５０．０ｎｍの間、好ましくは８．０ｎｍと２０．０ｎｍの間の、物理的な厚さを好ましくは有し、この層は、好ましくは、アルミニウムでドープされた、窒化ケイ素Ｓｉ3Ｎ4製である。
【００２８】
窒化ケイ素をベースとするこの誘電体層は、雰囲気由来の酸素が基材方向に透過することを防ぐ、バリア層である；金属性機能層が、このバリア層と基材の間に配置されるので、この誘電体層は、雰囲気由来の酸素が、金属性機能層の方向に透過することを防止する。
【００２９】
さらに、基材方向で前終端層の直下に位置する、窒化ケイ素をベースとするこのような誘電体層は、この前終端層の酸素が、処理時に、基材方向に移動することを防止し、結果として、この前終端層の酸素が、反対側へ、すなわち終端層方向へ、移動することを促進する、と推測される。
【００３０】
ケイ素は、伝導性が低い結果、スパッタが困難であり、そのため、窒化ケイ素をベースとする誘電体層を堆積するのは、困難である。前終端層の存在によって、通常よりも低い厚みを有する、窒化ケイ素をベースとする誘電体層を堆積することが、さらに可能となる。
【００３１】
本発明の別の特殊な形態では、機能層は、機能層と機能層の下方にある誘電体被覆との間に位置するブロッキング下方被膜の上側に、直接堆積され、及び／又は、機能層は、機能層と、機能層の上にある誘電体被膜との間に位置するブロッキング上方被膜の下側に直接堆積され、並びに、ブロッキング下方被膜及び／又はブロッキング上方被膜は、物理的な厚さが０．２ｎｍ≦ｅ’≦２．５ｎｍであるような、ニッケル又はチタニウムをベースとする薄層を含む。
【００３２】
本発明は、さらには、特には銀又は銀含有金属合金をベースとする、少なくとも一つの金属性機能層、並びに少なくとも二つの反射防止被膜を含み、赤外線領域及び／又は太陽放射において反射特性を有する薄層の積層体によって、一つの面が被膜された基材、を得るための、以下の工程を順に含む、方法に関する：
‐本発明に係る、特には銀又は銀含有金属合金をベースとする、少なくとも一つの金属性機能層、並びに少なくとも二つの反射防止被膜を含む、赤外線領域及び／又は太陽放射での反射特性を有する薄層の積層体を、前述の基材の一つの表面に、堆積すること、
‐放射、特には赤外放射を生じる発生源を用いて、上述の薄層積層体を処理すること、ここで、上述の終端層は、上述の処理の後に、少なくとも部分的に、酸化されている。
【００３３】
前終端層が存在することで、上述の処理を、酸素を含まない雰囲気中で実行することが可能となる。
【００３４】
さらには、少なくとも二つ以上の基材を含み、枠構造によってこれらが一緒に保持される複層グレージング、を提供することが可能であり、前述のグレージングは、外部空間と内部空間との間に仕切りを作り、二つの基材の間には、一つ以上のガス入りキャビティが挿入されて位置し、ここで、基材の一つは、本発明による。
【００３５】
好ましくは、少なくとも二つの基材を含む複層グレージングのうちの一つの基材のみ、又は、少なくとも三つの基材を含む複層グレージングのうちの一つの基材のみが、赤外線領域及び／又は太陽放射における反射特性を有する薄層の積層体によって、被挿入ガス入りキャビティと接触する内側表面において、被膜される。
【００３６】
その結果、グレージングは、場合により少なくとも一つの別の基材と併せて、少なくとも、本発明に係る積層体を保持する基材を、包含する。
【００３７】
三つの基材を含む複層グレージングにおいて、二つの基材のそれぞれが、被挿入ガス入りキャビティと接触する内側表面において、赤外線領域及び／又は太陽光における反射特性を有する薄層の積層体によって被膜されている、ということも可能である。
【００３８】
各基材は、透明、又は着色されていてよい。特には基材のうちの少なくとも一つが、その本体が着色されたガラスによって製造されていてよい。着色のタイプの選択は、製造完了時にグレージングに対して所望される、光透過性のレベル、及び／又は、測色的な外観、に基づくこととなる。
【００３９】
グレージングは、特には少なくとも二つのガラスタイプの硬質な基材を、少なくとも一つの熱可塑性ポリマーの板と組み合わせた、ラミネート構造を示すことができ、ガラス／薄層積層体／板（群）／ガラス／被挿入ガス入りキャビティ／ガラス板タイプ、の構造を示す。ポリマーは、特には、ポリビニルブチラール  ＰＶＢ、エチレン／ビニルアセテート  ＥＶＡ，ポリエチレンテレフタラート  ＰＥＴ，又はポリ塩化ビニル  ＰＶＣ、であることができる。
【００４０】
有利には、本発明は、このようにして、低放射性(特には≦１％）及び高い日射透過率（ｓｏｌａｒ  ｆａｃｔｏｒ）を示す、一つ以上の機能層を含む、薄層の積層体であって、放射、特には赤外放射を生じる発生源を用いて当該積層体を処理した後に、透過及び反射において均一な光学的外観を示す積層体、を製造することを可能にする。
【００４１】
本文献において示される厚さの範囲においては、これらの範囲の上限及び下限は、これらの範囲に含まれる。
【００４２】
本発明の有利な特徴及び詳細は、添付の図面を用いて図解される、下記の非制限的な実施例によって明らかとなる。添付の図面は、以下を図解する：
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】本発明に係る、機能的単層積層体であり、機能層は、ブロッキング下方被膜上に直接堆積され、かつ、ブロッキング上方被膜の直下に、堆積される。図解される積層体は、放射を生じる発生源を用いた処理時のものである。
【図２】機能単層積層体を包含する、二重グレージングソリューション。
【図３】メートル毎分で表された処理速度ｒの関数としての、三つの一連の例１’、４’及び５’の、パーセントで表した光吸収率ＡＬ。
【００４４】
図１及び２では、これらの理解を促進するために、異なる層の間、又は異なる要素の間での厚さの比は、厳密には守られていない。
【発明を実施するための形態】
【００４５】
図１は、透明なガラス基材３０の表面２９上に堆積された、本発明に係る機能的単層積層体１４の構造であり、特には銀又は銀含有金属合金をベースとする、単層の機能層１４０が、二つの反射防止被膜、すなわち、基材方向で機能層１４０の下方に位置する下層反射防止被膜１２０と、基材３０から見て逆側にあって、機能層１４０の上方に位置する上層反射防止被膜１６０との間に、位置している。
【００４６】
これらの二つの反射防止被膜１２０、１６０は、それぞれ、少なくとも一つの誘電体層１２２，１２８；１６２，１６４，１６６を含んでいる。
【００４７】
場合により、一方では、機能層１４０を、下層反射防止被膜１２０と機能層１４０との間に位置するブロッキング下方被膜１３０上に、直接堆積することができ、かつ、他方では、機能層１４０を、機能層１４０と上層の反射防止被膜１６０との間に位置するブロッキング上方被膜１５０の直下に、堆積することができる。
【００４８】
下方ブロッカー層及び／又は上方ブロッカー層は、金属性の形態で堆積され、かつ金属性の層として存在するが、時には、実際上は、酸化された層である。なぜならば、（特には上方ブロッカー層について）その機能の一つとして、機能層を保護するための積層体の堆積時の酸化が挙げられるからである。
【００４９】
金属性機能層の上方に位置する(又は、複数の金属性機能層がある場合には、基材から最も離れている金属性機能層の上方に位置する）反射防止被膜１６０は、終端層１６８で終わり、終端層１６８は、表面２９から最も離れた、積層体の層である。
【００５０】
さらには、前終端層１６７が、表面２９の方向において、この終端層１６８の直下に、提供される。この前終端層１６７は、上方に位置する終端層と接触する。
【００５１】
図２で図解されるように、積層体が、二重グレージング構造を有する複合グレージング１００において使用されるときには、このグレージングは、二つの基材１０，３０を含み、これらは、枠構造９０によって一緒に保持され、かつ、これらは、被挿入ガス入りキャビティ１５によって、互いから離されている。
【００５２】
グレージングは、このようにして、外部空間ＥＳと内部空間ＩＳとの間に、仕切りを作る。
【００５３】
積層体は、表面３として（建物に入ってくる太陽光の入射方向を考慮したときに建物の最内側である、板上に、かつ、ガス入りキャビティの方向に向いた、板の表面上に）配置されることができる。
【００５４】
図２は、この配置を図解しており（建物に入ってくる太陽光の入射方向は、二重矢印で図解される）、薄層の積層体１４の面３は、基材３０の内側表面２９上に、被挿入ガス入りキャビティ１５と接触して、配置されており、基材３０の別の表面３１は、内部空間ＩＳと接触している。
【００５５】
しかしながら、この二重グレージング構造において、基材のうちの一つが、ラミネート構造を示す、ということも想定することができる。
【実施例】
【００５６】
図１で図解される積層体構造をベースとして、六つの例を実施し、１から６の番号を付した。
【００５７】
これら１から６の例について、反射防止被膜１２０は、二つの誘電体層１２２，１２８を含み；誘電体層１２２は、表面２９と接触しており、高屈折率を有する層であり、かつ、それは、金属性機能層１４０の直下に位置する誘電体湿潤層１２８と、接触している。
【００５８】
１から６の例において、ブロッキング下方被膜１３０は、存在しない。
【００５９】
高屈折率を有する誘電体層１２２は、酸化チタニウムをベースとしている；それは、２．３と２．７の間の屈折率を示し、この例では、正確に２．４６である。
【００６０】
１から６の例に関しては、誘電体層１２８は、「湿潤層」として知られているが、これはなぜかと言えば、この例では銀製である金属性機能層１４０の結晶化を向上させることを可能にし、それにより、伝導性を向上させるからである。この誘電体層１２８は、（５０原子％の亜鉛及び５０原子％の酸素を含むセラミックターゲットから堆積される）酸化亜鉛ＺｎＯ製である。
【００６１】
上層の反射防止被膜１６０は、（５０原子％のドープされた亜鉛及び５０原子％の酸素を含むセラミックターゲットから堆積される）酸化亜鉛製の誘電体層１６２を含み、そして、高屈折率を有し、誘電体層１２２と同じ材料で作られた、誘電体層１６４を含む。
【００６２】
これに続く誘電体層１６６は、Ｓｉ３Ｎ４：Ａｌの窒化物製であり、８重量％のアルミニウムでドープされたＳｉ製の金属ターゲットから、堆積される。
【００６３】
下記のすべての実施例に関して、以下に、層の堆積条件を示す：
【００６４】
【表１】
0006734875.tif 000002
【００６５】
堆積された層は、従って、以下の四つのカテゴリーに分類され得る：
ｉ−  可視波長の全範囲にわたってｎ／ｋ比が５よりも大きい、反射防止／誘電体材料で作られる層：Ｓｉ３Ｎ４、ＴｉＯ２、ＺｎＯ、ＳｎＯ２、ＳｎｘＺｎｙＯｚ、
ｉｉ−  可視波長の前範囲にわたって、平均の係数ｋが０．５よりも大きく、かつ、１０-6Ω．ｃｍよりも大きいバルク電気抵抗率を示す、吸収性材料製の金属層：ＳｎｉＺｎｊ，Ｔｉ、
ｉｉｉ−  赤外領域及び／又は太陽放射において反射特性を有する材料で作られる、金属性機能層：Ａｇ、
ｉｖ−  積層体の堆積時に、機能層の性質が変化することから、機能層を保護することが意図された、下方ブロッカー層及び上方ブロッカー層；これらが光学的特性及びエネルギー特性に及ぼす影響は、一般に知られていない。
【００６６】
銀は、可視波長の全範囲にわたって、０＜ｎ／ｋ＜５の比を示すが、そのバルク電気抵抗率は、１０−６Ω．ｃｍ以下であることが、判明している。
【００６７】
以下のすべての実施例において、薄層の積層体は、サンゴバンによってＰｌａｎｉｃｌｅａｒ（商標）の商標で販売される、厚さ４ｍｍの透明なソーダ石灰ガラス製の基材上に、堆積される。
【００６８】
これらの基材に関しては、以下である：
‐Ｒは、積層体のシート抵抗を、オーム／スクエア（ｏｈｍｓ  ｐｅｒ  ｓｑｕａｒｅ）で示す；
‐ＡLは、Ｄ６５イルミナント（ｉｌｌｕｍｉｎａｎｔ）に従って計測された、％での、可視領域における光吸収率を示す；
‐ＩＴは、透過における、光学的な非均等性を示す；作業者による、１，２，３、又は４の等級づけを伴う：等級１  視覚によっては、いかなる非均等性も知覚されないとき、等級２  強力な拡散照明（＞８００ｌｕｘ）下で、試料の特定の領域に限定して、局所的な非均等性が目で知覚されたとき、等級３  標準的な拡散照明（＜５００ｌｕｘ）下で、試料の特定の領域に限定して、局所的な非均等性が目で知覚されたとき、及び、等級４  標準的な拡散照明（＜５００ｌｕｘ）下で、試料の全表面にわたって広がった非均等性が、目で知覚されたとき；
‐ＩRは、反射における光学的な非均等性を示す；作業者による、１，２，３、又は４の等級づけを伴う：等級１  視覚によっては、いかなる非均等性も知覚されないとき、等級２  強力な拡散照明（＞８００ｌｕｘ）下で、試料の特定の領域に限定して、局所的な非均等性が目で知覚されたとき、等級３  標準的な拡散照明（＜５００ｌｕｘ）下で、試料の特定の領域に限定して、局所的な非均等性が目で知覚されたとき、及び、等級４  標準的な拡散照明（＜５００ｌｕｘ）下で、試料の全表面にわたって広がった非均等性が、目で知覚されたとき。
【００６９】
これらすべての実施例は、１％のオーダーの低放射性、及び、６０％のオーダーの高いｇファクター（ｇ  ｆａｃｔｏｒ）を達成することを可能にする。
【００７０】
例１から６の各層の幾何学的又は物理的な厚さ（光学的な厚さではない）を、ナノメートル単位で、図１への参照と共に、以下の表１に示す：
【００７１】
【表２】
0006734875.tif 000003
【００７２】
終端層１６８及び場合により前終端層に関して、例１から６で試験された材料、並びに、また、それらのそれぞれの厚さ（ｎｍ）、を以下の表２に示す：
【００７３】
【表３】
0006734875.tif 000004
【００７４】
標準水素電極によって計測された酸化／還元電位は、以下であったことを忘れてはならない：
‐Ｔｉ／ＴｉＯ２ペアに関して：−１．６３Ｖ
‐Ｚｎ／ＺｎＯペアに関して：−０．７６Ｖ
‐Ｓｎ／ＳｎＯ２ペアに関して：−０．１３Ｖ。
【００７５】
例４から６に関して、一方では、処理前の金属状態の終端層１６８は、酸化／還元電位γ２を示す酸化物／金属ペアにおける還元剤である、少なくとも一つの金属Ｍ２（Ｚｎ、Ｔｉ）を含み、かつ、他方では、前終端層１６７は、酸化／還元電位γ１を示す酸化物／金属ペアにおける酸化剤である、少なくとも一つの金属Ｍ１（Ｓｎ）を含み、かつ、従って、酸化／還元電位γ１は、酸化／還元電位γ２よりも、大きい。
【００７６】
例４及び６の前終端層１６７は、亜鉛及びスズの混合物ＳｎｘＺｎｙの酸化物であり、スズの原子含有量は、０．３≦ｘ≦１．０であり、かつ、ｘ＋ｙ＝１であり、特には、ｘ＝０．４５及びｙ＝０．５５である。
【００７７】
例５の前終端層１６７は、その安定した化学量論的状態であるＳｎＯ２で堆積される、酸化スズである。
【００７８】
例２の前終端層１６７は、その安定した化学量論的状態であるＴｉＯ２で堆積される、酸化チタニウムである。
【００７９】
例１，２，４及び５の終端層１６８は、ＳｎｉＺｎｊで表される、亜鉛及びスズからなる金属層であり、スズの原子含有量は、０．１≦ｉ≦０．５であり、かつ、ｉ＋ｊ＝１であり、特には、ｉ＝０．１９及びｊ＝０．８１である。
【００８０】
例３及び６の終端層１６８は、チタニウムを含む金属層である。
【００８１】
処理前（ＢＴ）及び処理後（ＡＴ）のそれぞれにおける、これら例１から６の主要な光学的特性及びエネルギー特性を、以下の表３に要約する：
【００８２】
【表４】
0006734875.tif 000005
【００８３】
例１から６に関して、処理前には金属性である、終端層１６８が存在する結果、処理前にこれらの終端層が金属性の状態であることに起因して、９８０ｎｍにおいて、比較的高い吸収率ＡL（３０％から４０％のオーダー）が、得られる。
【００８４】
この例における処理は、６０μｍの幅を有し、２５Ｗ／ｍｍの出力であるレーザーライン２０の下に、基材３０を、１０ｍ／分の速度で前方向に進ませること、を伴う。レーザーラインは、表面２９に対して垂直に向けられており、かつ、終端層１６８の方向を向いている。すなわち、図１で見ることができるように、レーザーライン（直線の黒矢印で図示される）は、積層体の上部に配置され、かつ、レーザーは、積層体の方向に向けられる。
【００８５】
例１から３の処理におけるシート抵抗率の減少は、２０％のオーダーであり、これは良い結果である。
【００８６】
例４の処理におけるシート抵抗率の減少は、非常に素晴らしく、２２．５％である；例５及び６の処理におけるシート抵抗率の減少は、非常に良いわけではないが（それぞれ、１８．４％及び１５．７％）、満足のいくものである；処理後に得られる放射性は、所望する通り、低い。
【００８７】
終端層１６８の処理及び酸化後に、例１から３は、過度に高い光吸収率ＡL（１５％よりも高い）を示し、かつ、ＩＴ及びＩＲ値が２以上であり、透過及び反射の両方において、光学的に十分に均一ではない。
【００８８】
終端層１６８の処理及び酸化後に、例４及び５は、優れた光吸収率ＡＬ（６．５％のオーダー）を示し、かつ、ＩＴ及びＩＲ値が１であり、透過及び反射の両方において、光学的に、非常に均一である。
【００８９】
終端層１６８の処理及び酸化後に、例６は、若干高い光吸収率ＡＬを示したが、ＩＴ及びＩＲ値が１であり、透過及び反射の両方において、光学的に、非常に均一である。
【００９０】
驚くべきことに、本発明に従って前終端層を選択することによって、この層には酸素が存在するにもかかわらず、前終端層は、透過及び反射の両方において、光学的な安定性を促進する。
【００９１】
例１、４及び５を基礎として、例１，４及び５と同一の積層体（同一の層材料、同一の厚さ）を用いて、しかしながら、それらを異なる処理速度ｒで処理して、一連の試験を行った；これら一連の試験は、図３において、それぞれ、例１’、例４’及び例５’として示される。
【００９２】
この図３が示すのは、本発明に係る前終端層を終端層の下に有する例４’及び例５’においては、本発明に係る前終端層を終端層の下に有しない例１’における場合よりも、処理後の吸収率ＡＬが、どの処理速度ｒであっても、より低い、ということである。
【００９３】
さらに、図３が示すのは、処理後の低い吸収率に実際に影響を及ぼすことなく、処理速度を、例４’及び５’に関して、２０％〜５０％だけ、すなわち約１５ｍ／分の値にまで、増加させることが可能であるということである。
【００９４】
本発明は、また、複数の機能層を有する薄層の積層体のために、使用することもできる。本発明に係る終端層は、積層体がその上に堆積される基材の表面上から、最も離れたところにある積層体の層であり、並びに、前終端層は、積層体がその上に堆積される基材の表面の方向で、終端層の直下に位置し、及び、終端層と接触している。
【００９５】
本発明は、上記において、例示として、記述される。当業者は、特許請求の範囲で定義される通りの本特許の範囲から逸脱することなく、本発明の異なる変形形態を作り出すことができる立場にあると理解される。
本開示に含まれる態様は、下記のとおりである。
＜態様１＞
少なくとも一つの金属性機能層（１４０）、特には銀又は銀含有金属合金をベースとした少なくとも一つの金属性機能層（１４０）、並びに少なくとも二つの反射防止被覆（１２０，１６０）を含み、赤外領域及び／又は太陽放射における反射特性を有する薄膜の積層体（１４）によって、一つの表面（２９）が被覆された基材（３０）であって、前記被覆は、それぞれ、少なくとも一つの誘電体層（１２２，１６４）を含み、前記機能層（１４０）は、前記二つの反射防止被覆（１２０、１６０）の間に位置し、前記積層体は、一方では、前記表面（２９）から最も離れた積層体の層である終端層（１６８）を含み、この終端層は、少なくとも一つの金属Ｍ２を含み、前記金属は、酸化／還元電位γ２を示す酸化物／金属ペアにおける還元剤であり、前記終端層（１６８）は、金属性の状態であり、かつ、前記積層体は、他方では、前記表面（２９）の方向で前記終端層（１６８）の直下に、前記終端層（１６８）と接触して、位置する積層体の層である、前終端層（１６７）を含み、前記前終端層（１６７）は、少なくとも一つの金属Ｍ１を含み、前記金属は、酸化／還元電位γ１を示す酸化物／金属ペアにおける還元剤であり、前記前終端層（１６７）は、少なくとも部分的に酸化された状態であり、前記酸化／還元電位γ１は、前記酸化／還元電位γ２よりも大きく、前記酸化／還元電位は、標準水素電極によって計測される、ことを特徴とする、基材（３０）。
＜態様２＞
前記金属性の終端層（１６８）は、０．５ｎｍと５．０ｎｍの間、好ましくはさらには、１．０ｎｍと４．０ｎｍとの間の厚さを示すことを特徴とする、請求項１に記載の基材（３０）。
＜態様３＞
前記前終端層（１６７）は、５．０ｎｍと２０．０ｎｍとの間、好ましくはさらには、１０．０ｎｍと１５．０ｎｍとの間の厚さを示すことを特徴とする、請求項１又は２のいずれか一項に記載の基材（３０）。
＜態様４＞
前記金属性の終端層（１６８）は、チタニウム製であり、又は、亜鉛及びスズの混合物ＳｎｉＺｎｊで作られており、ここで、スズの原子含有率は０．１≦ｉ≦０．５であり、かつｉ＋ｊ＝１であり、好ましくはさらには、０．１５≦ｉ≦０．４５であり、かつｉ＋ｊ＝１であることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の基材（３０）。
＜態様５＞
前記前終端層（１６７）は、酸化スズ、又は、スズ及び好ましくは亜鉛を追加的に含む金属元素の混合物の酸化物、であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の基材（３０）。
＜態様６＞
前記前終端層（１６７）は、スズの原子含有率が０．３≦ｘ＜１．０であり、かつｘ＋ｙ＝１であり、好ましくはさらには、０．５＜ｘ＜１．０であり、かつｘ＋ｙ＝１である、亜鉛とスズの混合物ＳｎｘＺｎｙの酸化物であることを特徴とする、請求項５に記載の基材（３０）。
＜態様７＞
前記前終端層（１６７）は、前記基材から出発して、誘電体層上に位置し、この誘電体膜は、窒化ケイ素をベースとしており、物理的な厚さが、５．０と５０．０ｎｍの間であり、好ましくはさらには８．０と２０．０ｎｍの間であることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一項に記載の基材（３０）。
＜態様８＞
枠構造（９０）によって一緒に保持される、少なくとも二つの基材（１０，３０）を含む、複層グレージングであって、前記グレージングは、外部空間（ＥＳ）と内部空間（ＩＳ）との間に仕切りを形成し、少なくとも一つのガス入りキャビティ（１５）が、前記二つの基材の間に位置し、基材の一つ（３０）は、請求項１〜７のいずれか一項に記載されたものである、複層グレージング。
＜態様９＞
少なくとも一つの金属性機能層（１４０）、特には銀又は銀含有金属合金をベースとした少なくとも一つの金属性機能層（１４０）、並びに少なくとも二つの反射防止被覆（１２０，１６０）を含み、赤外領域及び／又は太陽放射における反射特性を有する薄層の積層体（１４）で、一つの表面（２９）が被覆された基材（３０）、を得るための、以下の工程を順に含む、方法：
‐請求項１〜７のいずれか一項に記載の、少なくとも一つの金属性機能層（１４０）、特には銀、又は銀含有金属合金をベースとした少なくとも一つの金属性機能層（１４０）、並びに少なくとも二つの反射防止被覆（１２０，１６０）を含み、赤外領域及び／又は太陽放射における反射特性を有する、薄膜の積層体（１４）を、前記基材（３０）の一つの面（２９）に堆積すること、
‐放射、特には赤外放射を生成する発生源を用いて、前記薄層の積層体（１４）を処理すること、ここで、前記終端層（１６８）は、前記処理の後に、少なくとも部分的に、酸化されている。
＜態様１０＞
前記処理は、酸素を含まない大気中で実行されることを特徴とする、請求項９に記載の方法。
【図１】
0006734875.tif 000006
【図２】
0006734875.tif 000007
【図３】
0006734875.tif 000008