(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ターゲットを測定する方法であって、
前記ターゲットと測定装置の測定スポットとの間で第１の方向に第１の相対的な移動を実行することと、
前記第１の相対的な移動の後、少なくとも部分的に前記測定スポットが前記ターゲット上にある間に又は前記測定スポットを前記ターゲット上に位置付けるため、前記測定スポットと前記ターゲットとの間で第２の方向に第２の相対的な移動を実行することと、
前記第２の相対的な移動の間に又は後に、前記ターゲット上の前記測定スポットを用いて前記ターゲットの第１の測定を実行することと、
前記第１の測定の後、前記ターゲットと前記測定スポットとの間で前記第１の方向とは本質的に反対の方向に第３の相対的な移動を実行することと、
前記第３の相対的な移動の後、少なくとも部分的に前記測定スポットが前記ターゲット上にある間に又は前記測定スポットを前記ターゲット上に位置付けるため、前記測定スポットと前記ターゲットとの間で前記第２の方向に第４の相対的な移動を実行することと、
前記第４の相対的な移動の間に又は後に、前記ターゲット上の前記測定スポットを用いて前記ターゲットの第２の測定を実行することと、
前記第１及び第２の測定を平均することと、
を含み、
前記平均によって前記ターゲット又はパターニングプロセスのパラメータが決定される、方法。
【請求項２】
ターゲットを測定する方法であって、
前記ターゲットと測定装置の測定スポットとの間で第１の方向に終端ポイントまで第１の相対的な移動を実行することと、
前記第１の相対的な移動の後、少なくとも部分的に前記測定スポットが前記ターゲット上にある間に又は前記測定スポットを前記ターゲット上に位置付けるため、前記測定スポットと前記ターゲットとの間で第２の方向に第２の相対的な移動を実行することと、
前記第２の相対的な移動の間に又は後に、前記ターゲット上の前記測定スポットを用いて前記ターゲットの第１の測定を実行することと、
前記第１の測定の後、前記ターゲットと前記測定スポットとの間で前記第１の方向とは本質的に反対の方向に前記終端ポイントまで第３の相対的な移動を実行することと、
前記第３の相対的な移動の後、少なくとも部分的に前記測定スポットが前記ターゲット上にある間に又は前記測定スポットを前記ターゲット上に位置付けるため、前記測定スポットと前記ターゲットとの間で第３の方向に第４の相対的な移動を実行することと、
前記第４の相対的な移動の間に又は後に、前記ターゲット上の前記測定スポットを用いて前記ターゲットの第２の測定を実行することと、
を含む方法。
【請求項３】
前記第１の測定及び／又は前記第２の測定を実行することは前記測定スポットを用いて前記ターゲットをスキャンすることを含む、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記第１の相対的な移動の距離は前記第３の相対的な移動の距離と同一である、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項５】
前記第１の相対的な移動の距離は前記第３の相対的な移動の距離とは異なる、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項６】
前記第２及び第３の方向は同一の方向である、請求項２に記載の方法。
【請求項７】
複数のターゲットが提供され、前記方法は、前記複数のターゲットの各ターゲットのための前記第１、第２、第３、及び第４の相対的な移動の各々を、次のターゲットのための前記第１、第２、第３、及び第４の相対的な移動の各々を実行する前に実行することを含む、請求項１から６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
複数のターゲットが提供され、前記方法は、前記複数のターゲットの各ターゲットのための前記第１及び第２の相対的な移動を実行することと、前記複数のターゲットの各ターゲットのための前記第１及び第２の相対的な移動の完了後に、前記複数のターゲットの各ターゲットのための前記第３及び第４の相対的な移動を実行することと、を含む、請求項１から６のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
各ターゲットについて個別に前記第１及び第２の測定を平均することを更に含む、請求項７又は８に記載の方法。
【請求項１０】
前記ターゲットはアライメントマークを含み、前記測定は位置測定を含む、請求項１から９のいずれかに記載の方法。
【請求項１１】
前記第１、第２、第３、又は第４の相対的な移動は、実質的に静止状態の測定スポットに対して前記ターゲットを移動させることを含む、請求項１から１０のいずれかに記載の方法。
【請求項１２】
基板テーブルと、
前記基板テーブル上のターゲットを、前記基板テーブル上のスポットの方へ誘導されるビームを用いて測定するように構成された測定システムと、
前記測定システムに対する前記基板テーブルの位置を制御するように構成された制御システムであって、
前記基板テーブルを移動させて、前記ターゲットと前記スポットとの間で第１の方向に第１の相対的な移動を引き起こし、
前記第１の相対的な移動の後、少なくとも部分的に前記スポットが前記ターゲット上にある間に又は前記スポットを前記ターゲット上に位置付けるため、前記スポットと前記ターゲットとの間で第２の方向に第２の相対的な移動を実行し、
前記第２の相対的な移動の間に又は後に、前記ターゲット上の前記スポットを用いて前記ターゲットの第１の測定を実行し、
前記第１の測定の後、前記基板テーブルを移動させて、前記ターゲットと前記スポットとの間で前記第１の方向とは本質的に反対の方向に第３の相対的な移動を実行し、
前記第３の相対的な移動の後、少なくとも部分的に前記スポットが前記ターゲット上にある間に又は前記スポットを前記ターゲット上に位置付けるため、前記スポットと前記ターゲットとの間で前記第２の方向に第４の相対的な移動を実行し、
前記第４の相対的な移動の間に又は後に、前記ターゲット上の前記スポットを用いて前記ターゲットの第２の測定を実行し、
前記第１及び第２の測定を平均し、前記平均によって前記ターゲット又はパターニングプロセスのパラメータが決定される、
ように構成された制御システムと、
を備える装置。
【請求項１３】
基板テーブルと、
前記基板テーブル上のターゲットの位置を、前記基板テーブル上のスポットの方へ誘導されるビームを用いて測定するように構成された測定システムと、
前記基板テーブルと前記ビームとの間の相対的な位置を制御するように構成された制御システムであって、
前記基板テーブルを移動させて、前記ターゲットと前記スポットとの間で第１の方向に終端ポイントまで第１の相対的な移動を引き起こし、
前記第１の相対的な移動の後、少なくとも部分的に前記スポットが前記ターゲット上にある間に又は前記スポットを前記ターゲット上に位置付けるため、前記スポットと前記ターゲットとの間で第２の方向に第２の相対的な移動を実行し、
前記第２の相対的な移動の間に又は後に、前記ターゲット上の前記スポットを用いて前記ターゲットの第１の測定を実行し、
前記第１の測定の後、前記基板テーブルを移動させて、前記ターゲットと前記スポットとの間で前記第１の方向とは本質的に反対の方向に前記終端ポイントまで第３の相対的な移動を引き起こし、
前記第３の相対的な移動の後、少なくとも部分的に前記スポットが前記ターゲット上にある間に又は前記スポットを前記ターゲット上に位置付けるため、前記スポットと前記ターゲットとの間で第３の方向に第４の相対的な移動を実行し、
前記第４の相対的な移動の間に又は後に、前記ターゲット上の前記スポットを用いて前記ターゲットの第２の測定を実行する、
ように構成された制御システムと、
を備える装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願の相互参照
[0001]  本出願は、２０１５年１０月１２日に出願された米国仮特許出願第６２／２４０，３９６号の優先権を主張する。この出願は援用によりその全体が本願に含まれる。
【０００２】
[0002]  本発明は、センサを備えた装置、及びターゲット測定を実行する方法に関する。
【背景技術】
【０００３】
[0003]  リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板に、通常は基板のターゲット部分に適用する機械である。リソグラフィ装置は、例えば、集積回路（ＩＣ）の製造に使用可能である。このような場合、代替的にマスク又はレチクルとも呼ばれるパターニングデバイスを使用して、ＩＣの個々の層上に形成すべき回路パターンを生成することができる。このパターンを、基板（例えばシリコンウェーハ）上のターゲット部分（例えば１つ又は幾つかのダイの一部を含む）に転写することができる。パターンの転写は通常、基板に設けた放射感応性材料（レジスト）の層への結像により行われる。一般的に、１枚の基板は、順次パターンが付与される隣接したターゲット部分のネットワークを含んでいる。従来のリソグラフィ装置は、パターン全体をターゲット部分に１回で露光することによって各ターゲット部分が照射される、いわゆるステッパと、基板を所与の方向（「スキャン」方向）と平行あるいは逆平行に同期的にスキャンしながら、パターンを所与の方向（「スキャン」方向）に放射ビームでスキャンすることにより、各ターゲット部分が照射される、いわゆるスキャナとを含む。パターンを基板にインプリントすることによっても、パターニングデバイスから基板へとパターンを転写することが可能である。
【０００４】
[0004]  パターニングプロセス（すなわち、基板上にパターンを生成するプロセスであり、光学リソグラフィ、インプリントリソグラフィ等のパターニングステップを含むと共に、任意選択として、レジスト塗布、レジスト現像、基板ベーキング、エッチングのような他の関連する処理も含む）を制御して、基板上に高精度にデバイスデバイスフィーチャを提供するため、一般に、１つ以上のメトロロジーターゲット（例えばオーバーレイターゲット、アライメントマーク等）が、例えば基板上に提供される。例えばリソグラフィ装置内に、この１つ以上のターゲットを測定するため１つ以上のセンサが提供されて、オーバーレイ、アライメントのようなパターニングプロセスのパラメータを測定又は導出する。
【発明の概要】
【０００５】
[0005]  従って、製品フィーチャがますます小型化するにつれて、例えばアライメント及び／又はオーバーレイエラーを制御するため、ターゲットのいっそう正確な測定を行うことが有利であろう。
【０００６】
[0006]  一態様によれば、ターゲットを測定する方法が提供される。この方法は、ターゲットと測定装置の測定スポットとの間で第１の方向に第１の相対的な移動を実行することと、第１の相対的な移動の後、少なくとも部分的に測定スポットがターゲット上にある間に又は測定スポットをターゲット上に位置付けるため、測定スポットとターゲットとの間で第２の方向に第２の相対的な移動を実行することと、第２の相対的な移動の間に又は後に、ターゲット上の測定スポットを用いてターゲットの第１の測定を実行することと、第１の測定の後、ターゲットと測定スポットとの間で第１の方向とは本質的に反対の方向に第３の相対的な移動を実行することと、第３の相対的な移動の後、少なくとも部分的に測定スポットがターゲット上にある間に又は測定スポットをターゲット上に位置付けるため、測定スポットとターゲットとの間で第２の方向に第４の相対的な移動を実行することと、第４の相対的な移動の間に又は後に、ターゲット上の測定スポットを用いてターゲットの第２の測定を実行することと、を含む。
【０００７】
[0007]  一態様によれば、ターゲットを測定する方法が提供される。この方法は、ターゲットと測定装置の測定スポットとの間で第１の方向に終端ポイントまで第１の相対的な移動を実行することと、第１の相対的な移動の後、少なくとも部分的に測定スポットがターゲット上にある間に又は測定スポットをターゲット上に位置付けるため、測定スポットとターゲットとの間で第２の方向に第２の相対的な移動を実行することと、第２の相対的な移動の間に又は後に、ターゲット上の測定スポットを用いてターゲットの第１の測定を実行することと、第１の測定の後、ターゲットと測定スポットとの間で第１の方向とは本質的に反対の方向に終端ポイントまで第３の相対的な移動を実行することと、第３の相対的な移動の後、少なくとも部分的に測定スポットがターゲット上にある間に又は測定スポットをターゲット上に位置付けるため、測定スポットとターゲットとの間で第３の方向に第４の相対的な移動を実行することと、第４の相対的な移動の間に又は後に、ターゲット上の測定スポットを用いてターゲットの第２の測定を実行することと、を含む。
【０００８】
[0008]  一態様によれば、ターゲットを測定する方法が提供される。この方法は、ターゲットと測定装置の測定スポットとの間で第１の方向又は第２の方向に対して非ゼロ角度で第１の相対的な移動を実行することと、第１の相対的な移動の後、少なくとも部分的に測定スポットがターゲット上にある間に又は測定スポットをターゲット上に位置付けるため、測定スポットとターゲットとの間で第１の方向に相対的な移動を実行することと、第１の相対的な移動の間に又は後に、ターゲット上の測定スポットを用いてターゲットの第１の測定を実行することと、第１の測定の後、ターゲットと測定スポットとの間で非ゼロ角度とは本質的に対頂角で第３の相対的な移動を実行することと、第３の相対的な移動の後、少なくとも部分的に測定スポットがターゲット上にある間に又は測定スポットをターゲット上に位置付けるため、測定スポットとターゲットとの間で第２の方向に第４の相対的な移動を実行することと、第４の相対的な移動の間に又は後に、ターゲット上の測定スポットを用いてターゲットの第２の測定を実行することと、を含む。
【０００９】
[0009]  一態様によれば、基板テーブルと、基板テーブル上のターゲットを、基板テーブル上のスポットの方へ誘導されるビームを用いて測定するように構成された測定システムと、測定システムに対する基板テーブルの位置を制御するように構成された制御システムであって、基板テーブルを移動させて、ターゲットとスポットとの間で第１の方向に第１の相対的な移動を引き起こし、第１の相対的な移動の後、少なくとも部分的にスポットがターゲット上にある間に又はスポットをターゲット上に位置付けるため、スポットとターゲットとの間で第２の方向に第２の相対的な移動を実行し、第２の相対的な移動の間に又は後に、ターゲット上のスポットを用いてターゲットの第１の測定を実行し、第１の測定の後、基板テーブルを移動させて、ターゲットとスポットとの間で第１の方向とは本質的に反対の方向に第３の相対的な移動を実行し、第３の相対的な移動の後、少なくとも部分的にスポットがターゲット上にある間に又はスポットをターゲット上に位置付けるため、スポットとターゲットとの間で第２の方向に第４の相対的な移動を実行し、第４の相対的な移動の間に又は後に、ターゲット上のスポットを用いてターゲットの第２の測定を実行するように構成された制御システムと、を備える装置が提供される。
【００１０】
[0010]  一態様によれば、基板テーブルと、基板テーブル上のターゲットの位置を、基板テーブル上のスポットの方へ誘導されるビームを用いて測定するように構成された測定システムと、基板テーブルとビームとの間の相対的な位置を制御するように構成された制御システムであって、基板テーブルを移動させて、ターゲットとスポットとの間で第１の方向に終端ポイントまで第１の相対的な移動を引き起こし、第１の相対的な移動の後、少なくとも部分的にスポットがターゲット上にある間に又はスポットをターゲット上に位置付けるため、スポットとターゲットとの間で第２の方向に第２の相対的な移動を実行し、第２の相対的な移動の間に又は後に、ターゲット上のスポットを用いてターゲットの第１の測定を実行し、第１の測定の後、基板テーブルを移動させて、ターゲットとスポットとの間で第１の方向とは本質的に反対の方向に終端ポイントまで第３の相対的な移動を引き起こし、第３の相対的な移動の後、少なくとも部分的にスポットがターゲット上にある間に又はスポットをターゲット上に位置付けるため、スポットとターゲットとの間で第３の方向に第４の相対的な移動を実行し、第４の相対的な移動の間に又は後に、ターゲット上のスポットを用いてターゲットの第２の測定を実行する、ように構成された制御システムと、を備える装置が提供される。
【００１１】
[0011]  一態様によれば、基板テーブルと、基板テーブル上のターゲットを、基板テーブル上のスポットの方へ誘導されるビームを用いて測定するように構成された測定システムと、ビームに対する基板テーブルの位置を制御するように構成された制御システムであって、基板テーブルを移動させて、ターゲットとスポットとの間で第１の方向又は第２の方向に対して非ゼロ角度で第１の相対的な移動を引き起こし、第１の相対的な移動の後、少なくとも部分的にスポットがターゲット上にある間に又はスポットをターゲット上に位置付けるため、スポットとターゲットとの間で第１の方向に相対的な移動を実行し、第１の相対的な移動の間に又は後に、ターゲット上のスポットを用いてターゲットの第１の測定を実行し、第１の測定の後、基板テーブルを移動させて、ターゲットとスポットとの間で非ゼロ角度とは本質的に対頂角で第３の相対的な移動を引き起こし、第３の相対的な移動の後、少なくとも部分的にスポットがターゲット上にある間に又はスポットをターゲット上に位置付けるため、スポットとターゲットとの間で第２の方向に第４の相対的な移動を実行し、第４の相対的な移動の間に又は後に、ターゲット上のスポットを用いてターゲットの第２の測定を実行する、ように構成された制御システムと、を備える装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
[0012]  対応する参照符号が対応する部分を示す添付の概略図を参照しながら以下に本発明の実施形態について説明するが、これは単に例示としてのものに過ぎない。
【００１３】
【図１】[0013]  一実施形態に従ったリソグラフィ装置を概略的に示す。
【図２】[0014]  一実施形態に従った、例えば基板上で検出されるターゲットの例を概略的に示す。
【図３】[0015]  図２のターゲット等のターゲットを測定するように構成された、この例ではアライメントセンサの形態である測定装置の概略ブロック図である。
【図４】[0016]  一実施形態に従った１つ以上のターゲットを測定するための方法のフローチャート図である。
【図５】[0017]  一実施形態に従った１つ以上のターゲットを測定するための方法の概略図である。
【図６】[0018]  一実施形態に従った１つ以上のターゲットを測定するための方法の概略図である。
【図７Ａ】[0019]  一実施形態に従った、複数のターゲットを測定するための例示的な方法を示す概略図である。
【図７Ｂ】[0019]  一実施形態に従った、複数のターゲットを測定するための例示的な方法を示す概略図である。
【図７Ｃ】[0019]  一実施形態に従った、複数のターゲットを測定するための例示的な方法を示す概略図である。
【図７Ｄ】[0019]  一実施形態に従った、複数のターゲットを測定するための例示的な方法を示す概略図である。
【図７Ｅ】[0019]  一実施形態に従った、複数のターゲットを測定するための例示的な方法を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
[0020]  図１は、リソグラフィ装置ＬＡの一実施形態を概略的に示す。この装置は、
[0021]  放射ビームＢ（例えばＵＶ放射又はＤＵＶ放射）を調節するように構成された照明システム（イルミネータ）ＩＬと、
[0022]  パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡを保持するように構築され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第１のポジショナＰＭに接続された支持構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴと、
[0023]  基板Ｗを保持するように構築され、特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第２のポジショナＰＷに接続された基板テーブル（例えば、ウェーハテーブル）ＷＴａと、
[0024]  パターニングデバイスＭＡによって放射ビームＢに付与されたパターンを基板Ｗのターゲット部分Ｃ（例えば、１つ以上のダイを含む）上に投影するように構成された投影システム（例えば、屈折投影レンズシステム）ＰＳとを含む。
【００１５】
[0025]  照明システムは、放射を誘導し、整形し、又は制御するための、屈折型、反射型、磁気型、電磁型、静電型、又はその他のタイプの光学コンポーネント、あるいはそれらの任意の組み合わせなどの様々なタイプの光学コンポーネントを含むことができる。
【００１６】
[0026]  支持構造は、パターニングデバイスの配向、リソグラフィ装置の設計及び、例えばパターニングデバイスが真空環境で保持されているか否か等の条件に応じた方法でパターニングデバイスを保持する。支持構造は、機械式、真空式、静電式又はその他のクランプ技術を用いて、パターニングデバイスを保持することができる。支持構造は、例えば、必要に応じて固定又は可動式にできるフレーム又はテーブルであってもよい。支持構造は、パターニングデバイスが例えば投影システムに対して確実に所望の位置に来るようにしてもよい。本明細書において「マスク」という用語を使用した場合、その用語は、より一般的な用語である「パターニングデバイス」と同義と見なすことができる。
【００１７】
[0027]  本明細書において使用する「パターニングデバイス」という用語は、基板のターゲット部分にパターンを生成するように、放射ビームの断面にパターンを付与するために使用し得る任意のデバイスを指すものとして広義に解釈されるべきである。ここで、放射ビームに付与されるパターンは、例えばパターンが位相シフトフィーチャ又はいわゆるアシストフィーチャを含む場合、基板のターゲット部分における所望のパターンに正確には対応しないことがある点に留意されたい。一般的に、放射ビームに付与されるパターンは、集積回路などのターゲット部分に生成されるデバイスの特定の機能層に相当する。
【００１８】
[0028]  パターニングデバイスは透過性又は反射性でよい。パターニングデバイスの例には、マスク、プログラマブルミラーアレイ、及びプログラマブルＬＣＤパネルがある。マスクはリソグラフィにおいて周知のものであり、これには、バイナリマスク、レベンソン型（ａｌｔｅｒｎａｔｉｎｇ）位相シフトマスク、ハーフトーン型（ａｔｔｅｎｕａｔｅｄ）位相シフトマスクのようなマスクタイプ、更には様々なハイブリッドマスクタイプも含まれる。プログラマブルミラーアレイの一例として、小型ミラーのマトリクス配列を使用し、ミラーは各々、入射する放射ビームを異なる方向に反射するよう個々に傾斜することができる。傾斜したミラーは、ミラーマトリクスによって反射する放射ビームにパターンを付与する。
【００１９】
[0029]  本明細書において使用する「投影システム」という用語は、例えば使用する露光放射、又は液浸液の使用や真空の使用などの他の要因に合わせて適宜、例えば屈折光学システム、反射光学システム、反射屈折光学システム、磁気光学システム、電磁気光学システム及び静電気光学システム、又はその任意の組み合わせを含む任意のタイプの投影システムを網羅するものとして広義に解釈されるべきである。本明細書において「投影レンズ」という用語を使用した場合、これは更に一般的な「投影システム」という用語と同義と見なすことができる。
【００２０】
[0030]  本明細書で示すように、本装置は透過タイプである（例えば透過マスクを使用する）。あるいは、装置は反射タイプでもよい（例えば上記で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイを使用する、又は反射マスクを使用する）。
【００２１】
[0031]  リソグラフィ装置は、２つ（デュアルステージ）又はそれ以上の基板テーブル（及び／又は２つ以上の支持構造）を有するタイプでよい。このような「マルチステージ」機械においては、追加のテーブル／支持構造を並行して使用するか、１つ以上の他のテーブル／支持構造を露光に使用している間に１つ以上のテーブル／支持構造で予備工程を実行することができる。
【００２２】
[0032]  図１を参照すると、イルミネータＩＬは放射源ＳＯから放射ビームを受ける。放射源及びリソグラフィ装置は、例えば放射源がエキシマレーザである場合に、別々の構成要素であってもよい。このような場合、放射源はリソグラフィ装置の一部を形成すると見なされず、放射ビームは、例えば適切な誘導ミラー及び／又はビームエクスパンダなどを備えるビームデリバリシステムＢＤの助けにより、放射源ＳＯからイルミネータＩＬへと渡される。他の事例では、例えば放射源が水銀ランプの場合は、放射源がリソグラフィ装置の一体部分であってもよい。放射源ＳＯ及びイルミネータＩＬは、必要に応じてビームデリバリシステムＢＤと共に放射システムと呼ぶことができる。
【００２３】
[0033]  イルミネータＩＬは、放射ビームの角度強度分布を調整するように設定されたアジャスタＡＤを備えていてもよい。通常、イルミネータの瞳面における強度分布の外側及び／又は内側半径範囲（一般にそれぞれ、σ−ｏｕｔｅｒ及びσ−ｉｎｎｅｒと呼ばれる）を調節することができる。また、イルミネータＩＬは、インテグレータＩＮ及びコンデンサＣＯなどの他の種々のコンポーネントを備えていてもよい。イルミネータを用いて放射ビームを調節し、その断面にわたって所望の均一性と強度分布とが得られるようにしてもよい。
【００２４】
[0034]  放射ビームＢは、支持構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴ上に保持されたパターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡに入射し、パターニングデバイスによってパターン形成される。パターニングデバイスＭＡを横断した放射ビームＢは、投影システムＰＳを通過し、投影システムＰＳは、ビームを基板Ｗのターゲット部分Ｃ上に合焦させる。第２のポジショナＰＷ及び位置センサＩＦ（例えば、干渉計デバイス、リニアエンコーダ、又は容量センサ）の助けにより、基板テーブルＷＴを、例えば様々なターゲット部分Ｃを放射ビームＢの経路に位置決めするように正確に移動できる。同様に、第１のポジショナＰＭと別の位置センサ（図１には明示されていない）を用いて、マスクライブラリからの機械的な取り出し後又はスキャン中などに放射ビームＢの経路に対してパターニングデバイスＭＡを正確に位置決めできる。一般に、支持構造ＭＴの移動は、第１のポジショナＰＭの部分を形成するロングストロークモジュール（粗動位置決め）及びショートストロークモジュール（微動位置決め）の助けにより実現できる。同様に、基板テーブルＷＴａの移動は、第２のポジショナＰＷの部分を形成するロングストロークモジュール及びショートストロークモジュールを用いて実現できる。ステッパの場合（スキャナとは対照的に）、支持構造ＭＴをショートストロークアクチュエータのみに接続するか、又は固定してもよい。パターニングデバイスＭＡ及び基板Ｗは、マスクアライメントマークＭ１、Ｍ２及び基板アライメントマークＰ１、Ｐ２を使用して位置合わせすることができる。図示のような基板アライメントマークは、専用のターゲット部分を占有するが、ターゲット部分の間の空間に位置してもよい（スクライブラインアライメントマークとして周知である）。同様に、パターニングデバイスＭＡ上に複数のダイを設ける状況では、マスクアライメントマークをダイ間に配置してもよい。
【００２５】
[0035]  図示のリソグラフィ装置は、以下のモードのうち少なくとも１つにて使用可能である。
【００２６】
[0036]  １．ステップモードでは、支持構造ＭＴ及び基板テーブルＷＴａは、本質的に静止状態に維持される一方、放射ビームに付与されたパターン全体が１回でターゲット部分Ｃに投影される（すなわち単一静的露光）。次に、別のターゲット部分Ｃを露光できるように、基板テーブルＷＴがＸ方向及び／又はＹ方向に移動される。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一静的露光で像が形成されるターゲット部分Ｃのサイズが制限される。
【００２７】
[0037]  ２．スキャンモードでは、支持構造ＭＴ及び基板テーブルＷＴａは同期的にスキャンされる一方、放射ビームに付与されるパターンがターゲット部分Ｃに投影される（すなわち単一動的露光）。支持構造ＭＴに対する基板テーブルＷＴａの速度及び方向は、投影システムＰＳの拡大（縮小）及び像反転特性によって求めることができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一動的露光におけるターゲット部分の（非スキャン方向における）幅が制限され、スキャン動作の長さによってターゲット部分の（スキャン方向における）高さが決まる。
【００２８】
[0038]  ３．別のモードでは、支持構造ＭＴはプログラマブルパターニングデバイスを保持して本質的に静止状態に維持され、基板テーブルＷＴａを移動又はスキャンさせながら、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Ｃに投影する。このモードでは、一般にパルス状放射源を使用して、基板テーブルＷＴａを移動させる毎に、又はスキャン中に連続する放射パルスの間で、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に利用できる。
【００２９】
[0039]  上述した使用モードの組み合わせ及び／又は変形、又は全く異なる使用モードも利用できる。
【００３０】
[0040]  図１に示すように、リソグラフィ装置ＬＡは、少なくとも２つのテーブルＷＴａ及びＷＴｂと、少なくとも２つのステーションすなわち露光ステーション及び測定ステーションとを有する、いわゆるマルチステージタイプの装置であり得る。これら２つのステーション間でテーブルを交換することができる。例えば、少なくとも２つの基板テーブルＷＴａ及びＷＴｂが存在する場合、露光ステーションで一方の基板テーブル上の１つの基板を露光している間に、測定ステーションで他方の基板テーブルに別の基板を提供して（例えば他方の基板テーブル上にロードして）、様々な準備ステップを実行できる。準備ステップは、レベルセンサＬＳを用いて基板の表面をマッピングすること、及び／又はアライメントセンサＡＳ等の測定システムを用いて基板上の１つ以上のアライメントマークの位置を測定することを含み得る。これによって、装置のスループットの大幅な増大が可能となる。少なくとも１つのテーブルが基板テーブルであり、少なくとも１つの他のテーブルが測定テーブルである場合、１つの基板テーブル上の基板がアンロードされているか又は他の処理を実行されている間、測定テーブルを露光位置で用いて、例えば投影システムを測定することができる。あるいは、基板テーブル上の基板を露光位置で露光している間に、測定テーブルを１つ以上の処理ステップに使用できる。基板テーブルが測定ステーション及び露光ステーションにある間に位置センサＩＦが基板テーブルの位置を測定できない場合は、基板テーブルの位置を双方のステーションで追跡可能とするため、第２の位置センサを提供することができる。
【００３１】
[0041]  装置ＬＡは、本明細書に記載される様々なアクチュエータ及びセンサの動き及び測定を制御するリソグラフィ装置制御ユニットＬＡＣＵを含む。制御ユニットＬＡＣＵは、装置の動作に関連する所望の計算を実装するための信号処理及びデータ処理機能を含む。実際には、制御ユニットＬＡＣＵは、各々がリアルタイムでのデータ獲得、装置内のサブシステム又は構成要素の処理及び制御を取り扱う、多くのサブユニットのシステムとして実現される。例えば、１つの処理サブシステムを基板ポジショナＰＷのサーボ制御に専用とすることができる。別個のユニットが、粗動アクチュエータ及び微動アクチュエータ、又は異なる軸を取り扱うことも可能である。別のユニットを位置センサＩＦの読み出しに専用とすることができる。装置の全体的な制御は、これらのサブシステム処理ユニットと通信し、更にはリソグラフィ製造プロセスに関与するオペレータ及び他の装置と通信する中央処理ユニットによって制御することができる。
【００３２】
[0042]  いくつかの既知の方法又は技法において、１又は複数のセンサを用いる場合、１つ以上のターゲット（すなわち、格子、１つ以上の特定のデバイスパターンフィーチャ、十字形又はボックス形構造等、パラメータを測定するために設計又は選択された構造）と、１又は複数のセンサの測定スポットとの間で、相対的な移動を実行し（例えば、複数のターゲットを備えた基板を測定ビームスポットに対して移動させることで、複数のターゲットの各々の上に測定ビームスポットを位置付ける）、これによって、１又は複数のセンサが１つ以上のターゲットを測定することを可能とする（例えばターゲットがアライメントマークである場合、アライメント情報を得るため位置を測定する）。典型的に、そのような方法は、それぞれのターゲットについて１回のみ測定を実行することを含む。そのような測定の間、相対的な移動の加速（例えば基板の加速（基板の減速を含む））によって引き起こされる誤差を含めて、測定に誤差を招く可能性のある複数のソースが存在する。観察によって、誤差の振幅は加速（例えば減速）と共に増大し、極性は、「フライイン（ｆｌｙ−ｉｎ）」方向、すなわち測定スポットをターゲット上に又はターゲット付近に到達させるため相対的な移動が実行される方向に依存することが示されている。測定内の誤差を低減させるため、２つの方法が用いられている。１つはターゲットの加速（例えば減速）を低減することであり、もう１つはターゲットの整定時間を増大することである。これらは双方とも、誤差の振幅を低減させるために用いられる。しかしながら、これらの方法は、測定の時間を増大させると共に測定装置のスループットを低減させる可能性があるので、望ましくない場合がある。また、単なる加速／速度の低下、及び／又は整定時間の増大によって、全ての誤差が低減するわけではない。
【００３３】
[0043]  本記載の目的のため、アライメント測定装置の形態である測定装置に関して一実施形態が記載される。しかしながら、以下で検討するように、本記載はアライメント測定装置に限定されない。アライメント測定装置は、ある物体が別の物体と位置合わせしているか否かの判定を可能とするため、ある物体の位置を効果的に決定する。一実施形態では、アライメント測定装置をリソグラフィ装置に提供して、パターンが付与される基板と１つ以上の他の物体（パターニングデバイス等）との間のアライメントの判定を可能とする。しかしながら、アライメント測定装置は、スタンドアロンとするか、又はリソグラフィ装置以外の装置に提供することも可能である（例えば、リソグラフィ装置から与えられる基板を測定するためのメトロロジーシステムに提供される。これは、そのようなメトロロジーシステムが、パターニングプロセスのパラメータ（例えばオーバーレイ、クリティカルディメンション（ＣＤ）、焦点、ドーズ等）を決定するため使用され得る場合である）。
【００３４】
[0044]  先に示唆したように、本記載はアライメント測定装置に限定されない。本明細書に記載される実施形態は他の測定装置にも適用できる。例えば一実施形態において、本明細書に記載される実施形態は、リソグラフィ装置から与えられる基板を測定するためのメトロロジーシステムにおいて使用される。これは、そのようなメトロロジーシステムが、パターニングプロセスのパラメータ（例えばオーバーレイ、クリティカルディメンション（ＣＤ）、焦点、ドーズ等）を決定するため使用され得る場合である。
【００３５】
[0045]  非限定的なアライメント測定装置の実施形態を続けると、一般に、１つ以上のアライメントターゲット（アライメントマークとも呼ぶことができる）は、テーブル上（例えば、基板及び／又は基板テーブルＷＴｂ自体の上である基板テーブルＷＴｂ上、又は、パターニングデバイスＭＡ及び／又はパターニングデバイス支持体ＭＴ自体の上であるパターニングデバイス支持体ＭＴ上）に提供され、例えばリソグラフィ装置のような装置は、例えば図１のセンサＡＳで表すような、ターゲットの位置を高精度に測定する１つ以上のアライメントセンサを含む。アライメントセンサは実際上、ターゲットの位置を測定するように構成された位置測定装置又はシステムである。一実施形態において、アライメントセンサＡＳは、ソース（例えば照明源）からターゲット（例えばアライメント格子）上に測定放射（例えば電磁放射ビーム）を与え、ターゲットから回折又は反射した測定放射を検出器を用いて検出し、検出した放射を（例えば処理ユニットＰＵ（図３を参照のこと）及び／又はコントローラによって）解析してターゲットの測定値を決定するように構成されている。検出した放射の解析に基づいて、コントローラ及び／又は他のデバイスを使用してアライメントを調整することができる。
【００３６】
[0046]  測定装置（例えばアライメントセンサＡＳ）は、その下にある表面（例えば基板及び／又は基板テーブル）上のスポット又は位置（例えば図２のスポット２０５、及び、図３のビーム２２２がその下にある表面に衝突する位置を参照のこと。以下で更に説明する）において測定を行う。この測定スポットをターゲットの検出において使用して、例えばターゲットに対応する位置測定値（例えばＸ座標及び／又はＹ座標）を決定する。一実施形態では、測定装置によって出力された測定放射（例えば電磁放射）が、測定スポットの方へ誘導される。
【００３７】
[0047]  測定スポットを用いて、ターゲットの像を記録すること、又はターゲットをスキャンすること、又はそれらの組み合わせによって、測定値を決定できる。測定値を決定するため任意の数の方法が使用され得る。例えば一実施形態においては、ターゲット及び測定スポットを相対的に移動させて測定を行う。一実施形態では、測定スポットが本質的に静止状態である間、測定スポットに対してターゲットを移動させる。一実施形態では、ターゲットが本質的に静止状態である間、測定装置、測定装置の構成要素、又は測定ビーム自体のスキャンを用いて、測定スポットを移動させる。一実施形態では、ターゲット及び測定スポットの双方を相対的に移動させる。
【００３８】
[0048]  本明細書に記載される測定スポットとターゲットとの間の相対的な移動は、少なくとも部分的に、測定スポットがターゲット上にある間に、又は測定スポットをターゲット上に位置付けるために行われる（例えば、その後、測定を行うため測定スポットとターゲットとの間の相対的な移動を実行するか、又は測定スポットがターゲット上にある時に像を記録する）。測定は、測定スポットがターゲット上にある時に行われ、パターニングプロセスのパラメータの決定は、スポットがターゲット上にある時の測定から得られた情報及び／又はデータを使用する。
【００３９】
[0049]  図２は、例えばＸ位置やオーバーレイ等、及びＹ位置やオーバーレイ等をそれぞれ測定するため、例えば基板Ｗ２上に提供されたターゲット２０２、２０４の例を示す。一実施形態において、この例の各ターゲットは、基板等の表面に適用又はエッチングされた製品層又は他の層に形成された一連のバー（ｂａｒ）を含む。図２に示すような各ターゲットのバーは、規則的に離間し、格子ラインとして作用するので、このターゲットは既知の空間周期（ピッチ）を有する回折格子と見なすことができる。しかしながら、例えば、ターゲットが回折原理に基づいて動作することは必須でないので、この記載は限定を意図したものではなく、ターゲットは、例えば不規則に離間したバー、対称的なバー構成（例えばＶ字形）、ボックス、十字形等を含み得る。一実施形態において、バーは１つの軸に平行であり、他の軸における周期性を与えることができる。例えば、ターゲット２０２のバーはＹ軸に平行であり、Ｘ方向における周期性を与えることができる。
【００４０】
[0050]  測定装置（例えばアライメントセンサＡＳ（図１に示されている））は、例えば放射（測定ビーム）のスポット２０６、２０８を用いて光学的に基板Ｗ２上の各ターゲットを測定する。一実施形態では、スポット２０６、２０８と適用可能なターゲットとの間で相対的な移動が行われて（例えば、相対的な移動は図２の太い矢印で概略的に示され、スポット２０６又は２０８の徐々に移動する位置は点線の輪郭で示されている）、測定装置が正弦波のような周期的に変化する信号を取得するようになっている。一実施形態において、ターゲットは重なり合った周期構造を含み、重なり合った構造の間の横方向変位の関数として非対称性を有する回折信号が生成される。この信号を解析して（例えば、周期的に変化する信号の位相及び／又は回折信号の回折次数の強度非対称性）、パターニングプロセスのパラメータ（例えば、周期的に変化する信号ではターゲットの位置、又は回折信号ではオーバーレイ）を測定し、従って基板Ｗ２を測定する。一実施形態において、周期的に変化する信号では、アライメントセンサに対するターゲットの位置が決定される。アライメントセンサは、装置の基準フレームＲＦに対して固定することができる。
【００４１】
[0051]  アライメントターゲットのために、粗いターゲットと細かいターゲットを提供することで、アライメントセンサが周期信号の異なるサイクルを区別すると共に１サイクル内の正確な位置（位相）を区別することが可能となる。この目的のため、異なるピッチのアライメントターゲットも使用できる。また、アライメントターゲットを傾斜させるか、又はある角度で提供することも可能である（援用によりその全体が本願に含まれる米国特許第８，２０８，１２１号に記載されたもの等）。
【００４２】
[0052]  例えばアライメントセンサ等の様々な測定装置の設計及び動作は、当技術分野において既知である。アライメントセンサは、実際上は位置測定装置である。使用されるアライメントセンサの１つのタイプは、援用によりその全体が本願に含まれる米国特許第６，９６１，１１６号に記載されているような自己参照干渉計に基づくものである。ターゲットは、Ｘ位置やオーバーレイ等、及びＹ位置やオーバーレイ等、位置を得るため、別々に測定され得る。しかしながら、援用によりその全体が本願に含まれる米国特許第８，２０８，１２１号に記載されている技法を用いて、Ｘ及びＹ測定の組み合わせも実行できる。先に述べたような本記載の目的のため、図３に示すようなアライメントセンサＡＳの形態である測定装置に関連付けて、非限定的な実施形態について説明する。
【００４３】
[0053]  図３は、アライメントセンサＡＳの形態である測定装置の概略ブロック図である。照明入力２２０は、１つ以上の波長の放射ビーム２２２を提供する。一実施形態において照明入力２２０は、放射源（例えばレーザ）であるか、又は使用時に放射源に接続される入口であり得る。照明入力からの放射は、偏向デバイス２２３によって、例えば基板Ｗ２上に位置するターゲット２０２等のターゲットへと方向転換される。ターゲット２０２は例示の目的のためにのみ示され、その構成に関して限定は意図していない。一実施形態において、偏向デバイス２２３はスポットミラーであり、放射ビーム２２２はこのミラーによって方向転換され、対物レンズ２２４を介してターゲット２０２へ向かう。一実施形態において、偏向デバイス２２３はプリズムである（また、対物レンズが提供されることは必須ではない）。
【００４４】
[0054]  ターゲット２０２によって反射又は散乱された放射は、対物レンズ２２４によって捕らえられ（又はプリズムを通過し）、情報伝送ビーム２２６にコリメートされ、干渉計２２８に集光される。この情報伝送ビーム２２６を用いて、例えば基準点に対するターゲット２０２の位置を測定する。この基準点は、格子、又は自己参照型である干渉計２２８における「中性線（ｎｅｕｔｒａｌ  ｌｉｎｅ）」とすることができる。干渉計２２８はビーム２２６を処理し、別個のビームを、センサアレイの形態であり得る検出器２３０に出力する。一実施形態において、情報伝達ビーム２２６を処理するためのシステムは干渉計２２８及び検出器２３０とは異なる場合がある。
【００４５】
[0055]  検出器２３０からの（例えばセンサグリッド内の個々のセンサからの）１つ以上の信号２３２は、処理ユニットＰＵ又は信号解析器に提供される。干渉計２２８における光学処理とユニットＰＵにおける計算処理の組み合わせによって、基準フレームＲＦに対する基板上のターゲット２０２のＸ位置及び／又はＹ位置の値が出力される。あるいは、検出器２３０を単一のフォトダイオードとすることができ、格子は、その上に結像される像と同じピッチを有する。格子によって伝送される放射の量は、例えばアライメント格子がＸ方向にスキャンされるにつれて変動する。設計上の選択と便宜上の問題として、処理ユニットＰＵは図１に示された制御ユニットＬＡＣＵとは別個であるか、又はそれらは同じ処理ハードウェアを共有することができる。ユニットＰＵが別個である場合、信号処理の一部をユニットＰＵで実行し、別の部分をユニットＬＡＣＵで実行してもよい。
【００４６】
[0056]  ターゲット２０２の中心が決定された場合に基板テーブルＷＴｂの位置がわかるように、処理ユニットＰＵを基板テーブルＷＴｂ又はその位置センサＩＦに結合することができる。従って、ターゲット２０２の位置は基板テーブルＷＴｂに対して極めて高精度にわかる。あるいは、アライメントセンサＡＳに対してターゲット２０２の中心がわかるように、アライメントセンサＡＳの位置を知ることができる。この結果、基準位置に対するアライメントターゲットの中心の正確な位置がわかる。
【００４７】
[0057]  前述のように、典型的な測定方法は各ターゲットの単一の測定を行うことを含む。ターゲットに対する入力に応じて、更に、任意選択として測定中の測定スポットとターゲットとの間の相対的な移動に応じて、ターゲットから得られた測定値には誤差が存在する可能性がある。
【００４８】
[0058]  測定精度を向上させ、そのような誤差を低減するために、様々な試みがある。場合によっては、これらの努力は誤差の振幅を低減することに役立ち得るが、これらの試みから得られるのは依然として、限定された測定精度と（場合によっては）限定された測定速度であると思われる。また、その結果、例えば加速度の低下と整定時間の増大に起因してシステムのスループットが低減する可能性がある。
【００４９】
[0059]  特定の速度／加速度プロファイルを用いて、第１の「フライイン」方向でターゲットと測定スポットとの間で相対的な移動（例えば測定スポットに対する基板の移動）を行って測定スポットをターゲット付近へ又はターゲット上へ持っていく場合、生じる測定誤差は、第１の「フライイン」方向における相対的な移動と実質的に同じ速度／加速度振幅プロファイルを用いた、第２の「フライイン」方向すなわち第１の「フライイン」方向と本質的に反対であるか又はほぼ反対である方向（角度）における反対方向からの相対的な移動（例えば測定スポットに対する基板の移動）によって生じる測定誤差と、（振幅が）等しいか又は実質的に等しいことが観察されている。しかしながら、これら２つの反対の「フライイン」方向では誤差の符号が逆である（すなわち一方は正であり、他方は負である）。
【００５０】
[0060]  単一のターゲットについて、それぞれが同一面における（本質的に）反対の「フライイン」方向（対応する反対方向）から得られた２つの測定値を組み合わせる（例えば平均する）ことによって、測定誤差のほとんどを相殺し、ターゲットの測定において著しく高い精度を達成できる。この特性は相対的な動きの低速化に頼っていないので、相対的な動き（例えば基板／ステージの動き）を高速化してスループットを増大することができる。また、測定の精度が高くなるので、必要なターゲット数を削減し、かつスループットを増大することが可能となる。従って、本明細書に記載される方法に開示されるように、異なる反対方向から２度ターゲットを測定することで、より精度の高いターゲットの測定値が得られる。図４にそのようなプロセスが大まかに示されている。
【００５１】
[0061]  図４は、例えば基板テーブルＷＴｂ上の１つ以上のターゲットを測定する方法４００を示す。４０２において、１つ以上のターゲットの第１の測定を行い、次いで４０４において、同じ１つ以上のターゲットの少なくとも第２の測定を行う。４０６において、パターニングプロセスのパラメータ（例えば位置、アライメント、オーバーレイ等）を計算する。一実施形態において、パターニングプロセスのパラメータは、第１の測定についてのパラメータの値及び少なくとも第２の測定についてのパラメータの値を平均することによって計算され、及び／又は、パターニングプロセスのパラメータは、第１の測定及び少なくとも第２の測定の計算された平均値から決定される。例えば複数のターゲットを測定する場合、それぞれのターゲットについて第１及び第２の測定値を決定する。次いで、第１及び第２の測定値に基づいて、各ターゲットのパターニングプロセスのパラメータ（例えば位置、オーバーレイ等）の値を計算する。従って、パラメータの複数の値（例えば各ターゲットに１つずつ）を計算し、これらを用いて、例えば基板Ｗ２のパラメータの値を決定することができる。測定に複数のターゲットを用いる例示的な実施形態については、以下で更に説明する。
【００５２】
[0062]  本開示全体を通して、「第１の測定」は、測定装置を用いたターゲットの（例えばスキャン、記録、又は結像による）第１の検出として定義される（例えば、アライメントセンサＡＳのアライメントビームを用いたターゲットのＸ座標及び／又はＹ座標の検出）。「第２の測定」は、測定装置を用いた同一ターゲットの（例えばスキャン、記録、又は結像による）第２の検出として定義される（例えば、アライメントセンサＡＳのアライメントビームを用いたターゲットのＸ座標及び／又はＹ座標の検出）。これら２つの測定の組み合わせに基づいて、パターニングプロセスのパラメータが決定される（例えば、２つの位置測定の組み合わせに基づいてターゲットの位置が決定される）。
【００５３】
[0063]  測定プロセスを更に詳しく参照すると、一実施形態において基板Ｗ２は、図３に示すもののような基板テーブルＷＴ２の上に配置される。基板テーブルＷＴｂは、１又は複数のターゲットを動かすため移動するように構成され、アライメントセンサＡＳは、その上の１又は複数のターゲットを検出するように構成されている。非限定的なスキャン実施形態によれば、基板テーブルＷＴｂは、図３の矢印１１４で示される方向に、スポット２０６がターゲット２０２の長さＬを横断する検出速度で移動させることができる。基板は、基板テーブルＷＴｂ上に搭載されること及び基板位置決めシステムＰＷにより、この移動の際に制御される。一実施形態では、アライメントセンサＡＳ及びスポット２０６は静止状態であり、基板Ｗ２はテーブルＷＴｂと共にある速度で移動する。アライメントセンサＡＳは、ターゲット２０２を効果的に検出している（例えばスキャンしているか又はその像を捕獲している）間、基準フレームＲＦ（図１に示されている）に対して堅固にかつ高精度に搭載することができる。
【００５４】
[0064]  しかしながら前述のように、一実施形態では、測定スポット２０６が（例えばターゲット２０２を横切る方向に）移動すると共に、ターゲット２０２（例えば基板及び／又は基板テーブル）が静止状態であるか又は固定している。一実施形態では、スポット２０６及びターゲット２０２の双方が移動する。
【００５５】
[0065]  図４に示された方法４００は、ターゲットに対して行われる２段階測定を大まかに記載している。一実施形態に従って、１つ以上のターゲットを測定する方法５００が図５に示されている。一実施形態において、図５に概略的に示すターゲット２０２は基板テーブルＷＴｂ上の基板Ｗ２上に提供されているが、他の場所に位置付けることも可能である。方法５００を参照すると、矢印５０２は、ターゲットと測定装置の測定スポットとの間の相対的な移動（又は第１の「フライイン」）（例えば、ターゲットの方へ向かう測定装置の測定スポットの相対的な移動）の第１の方向を表す。一実施形態において、第１の方向すなわち第１の「フライイン」方向における相対的な移動は、測定装置の測定スポットが位置付けられているＸ−Ｙ面内の任意の方向である。一実施形態において、第１の方向すなわち第１の「フライイン」方向における相対的な移動は、ターゲットの縦軸又は横軸に対して、又は測定スポットが測定のターゲット上にある間の測定スポットとターゲットとの間の相対的な移動の方向に対して、又は測定スポットを測定のターゲット上に位置付けるための測定スポットとターゲットとの間の相対的な移動の方向に対して、非ゼロ角度である。
【００５６】
[0066]  一実施形態において、矢印５０２で表された、ターゲットに対する測定スポットの第１の方向における相対的な移動（例えば基板テーブルの移動によって発生する）は、終端ポイント５１２まで行われる。すなわち、一実施形態において終端ポイント５１２は、ターゲット２０２上の測定スポットを用いてターゲット２０２の第１の測定を行う前に測定装置の測定スポットと位置合わせされたターゲット２０２の付近のポイントである。ポイント５１２のような明確な又は具体的な終端ポイントを提供又は使用することは必須ではない。
【００５７】
[0067]  一実施形態では、測定スポットをターゲット上に又はターゲット付近に持っていくための「フライイン」移動は、実質的に直線状である。一実施形態では、「フライイン」移動は直線状であることに限定されない。「フライイン」方向に対して、方向及び速度において滑らかな（ｆｌｕｉｄ）又は漸進的な変更を行うことができる。従って、図に示されているような終端ポイント５１２及び線形の移動は例示であり、限定は意図していない。
【００５８】
[0068]  単に説明の目的のためであるが、以下に記載するような（すなわち、第１の測定及び第２の測定のための）ターゲットの測定は、ターゲットをスキャン方向にスキャンすること、及び、終端ポイント５１２から測定スポットとターゲットとの間の相対的な移動を行って測定スポットをターゲット上に位置付け、測定スポットがターゲット上に位置している間に測定スポットとターゲットとの間で相対的な移動を行うことを含むものとして記載できる。しかしながら、図を参照したこれらの用語の使用は、全ての実施形態がスキャンに限定されることを意図していないことを理解するべきである。逆に、本明細書に記載される１又は複数のターゲットの測定は任意の数の方法及びデバイスを含むことができ、それらには、限定ではないが、測定スポットとターゲットとの間の相対的な移動によって測定スポットをターゲット上に位置付ける（その後、測定スポットとターゲットとの間の相対的な移動が実行されているか又は実行されていない間に測定が実行され得る）ことによって、前述のようにターゲットの像を捕獲する（例えばカメラを用いる、又は像を記録する）ことが含まれる。これらの事例のいずれにおいても、（少なくとも部分的に）スポット２０６がターゲット２０２上にある間の測定ビームスポット２０６とターゲット２０２との間の相対的な移動、又は、スポット２０６をターゲット２０２上に位置付ける相対的な移動は、基板テーブルの移動、測定スポットの移動、又はそれら双方によって実行される。更に、ターゲット２０２の測定値は、スポット２０６がターゲット２０２上にある時に（スキャン、記録、又は像の捕獲によって）収集される情報又はデータ（例えば検出器に対する回折放射又は反射放射）を用いて取得される。
【００５９】
[0069]  図５に概略的に示すように、終端ポイント５１２までの方向５０２の「フライイン」移動の後、ターゲット２０２の第１の測定値を検出する。測定を可能とするため、測定スポットが測定のターゲット上にある間に矢印５０４で示される方向においてターゲットに対する測定スポットの相対的な移動が効果的に実行されるか、又は測定スポットを測定のターゲット上に位置付けるために矢印５０４で示される方向においてターゲットに対する測定スポットの相対的な移動が効果的に実行される。図５では、例えば基板を負のＸ方向に移動させることで、ターゲット２０２はアライメントセンサＡＳからのビームによって正のＸ方向５０４にスキャンされる。（一実施形態では終端ポイント５１２からの）相対的な移動の方向５０４は、矢印５０２で示される「フライイン」方向とは異なる。一実施形態において、方向５０４はＸ−Ｙ面内の任意の方向で実施される。
【００６０】
[0070]  一度測定が完了したら、一実施形態では、矢印５０６で示される方向にターゲットに対する測定スポットの相対的な移動を行って（例えば基板テーブルを移動させる）、第１の方向５０２とは反対の「フライイン」方向で測定スポットとターゲットとの間の相対的な移動を実行できるような位置まで持っていく。矢印５０８は、そのような位置から測定スポットとターゲットとの間の相対的な移動（又は第２の「フライイン」）を行うための、第１の方向（５０２）とは反対の方向を表す。一実施形態において、この第２の「フライイン」方向における相対的な移動は、非ゼロ角度の第１の「フライイン」方向に対して（本質的に）反対である。一実施形態において、矢印５０８で表されている反対の「フライイン」方向における相対的な移動は、ターゲット２０２の第２の測定が行われる前に、終端ポイント５１２まで又は終端ポイント５１２の付近まで行われる。「フライイン」移動は、厳密に同じ終端ポイント５１２まで行われるわけではなく、第２の測定の前に実質的に測定ポイント５１２の付近まで行われ得る。このため、例えば、第２の「フライイン」移動は測定スポットをターゲット上の終端ポイント５１２に位置付けることができ、このポイントにおいて、測定スポットとターゲットとの間の相対的な移動が実行されているか又は実行されていない間に測定を行うことができる。別の例として、第２の「フライイン」移動は測定スポットをターゲットから外れた終端ポイント５１２に位置付けることができ、このポイントにおいて、測定スポットをターゲット上に位置付けるためターゲットに対する測定スポットの相対的な移動が行われ、測定スポットがターゲット上にある間に測定スポットとターゲットとの間の相対的な移動が行われている間に測定を実行するか、又は、測定スポットをターゲット上に位置付けるため終端ポイント５１２からターゲットに対する測定スポットの相対的な移動を行った後に測定を行うことができる。
【００６１】
[0071]  このように、反対の「フライイン」方向からの、例えば終端ポイント５１２まで又は終端ポイント５１２付近への相対的な移動の後、ターゲット２０２の第２の測定値を検出する。終端ポイント５１２から矢印５０４で示される同じ方向に、例えば矢印５１０で示すような正のＸ方向に、相対的な移動が行われる。例えば、測定装置からのビームによってターゲット２０２をスキャンするため、基板テーブルを負のＸ方向（すなわち矢印５１０の反対）に移動させることができる。この場合も、矢印５１０で示される方向は矢印５０８で示される第２の「フライイン」方向とは異なる。一実施形態において、方向５１０はＸ−Ｙ面内の任意の方向で実施される。
【００６２】
[0072]  その後、第１及び第２の測定値を組み合わせて（図４に関して上述したように）、パターニングプロセスのパラメータを決定する。
【００６３】
[0073]  一実施形態では、図５に示すように、第１の「フライイン」において、相対的な移動は第１の方向で終端ポイント５１２へ向かう距離Ｄである。第２の「フライイン」において、相対的な移動は、第１の方向とは反対の方向で終端ポイント５１２（第１の「フライイン」の終端ポイント５１２の付近であるか、又は終端ポイント５１２における同じ位置であり得る）へ向かう実質的に同じ距離Ｄである。一実施形態では、第１及び第２の「フライイン」移動を（双方の方向で）実質的に同じ距離Ｄとすることによって、ターゲットのいっそう正確な測定値が得られる。これらの測定値の組み合わせから生じる誤差は、重複する（そして相互に相殺する）可能性が高いからである。
【００６４】
[0074]  一実施形態では、図６に概略的に示すように、第２の「フライイン」移動中、矢印６０８で表されている第１の「フライイン」移動とは反対方向の終端ポイント５１２へ向かう第２の「フライイン」移動の距離Ｄ２は、矢印５０２で表されている第１の方向の第１の「フライイン」移動の距離Ｄとは異なる。より具体的には、図６は１つ以上のターゲット２０２の位置を測定する方法６００を示し、ターゲットステージに対する測定スポットの相対的な移動は、矢印５０２で示された第１の方向において終端ポイント５１２へ向かう距離Ｄにわたって行われる。矢印５０４で示された方向においてターゲットに対する測定ビームスポットの相対的な移動を行った後及び／又はこの相対的な移動を用いて、（例えばスキャンによって）ターゲット２０２が検出される。測定後、矢印６０６で表されるように、ターゲットに対する測定スポットの相対的な移動を行って、第１の方向とは反対の「フライイン」方向で終端ポイント５１２へ向かうターゲット２０２の移動を実行できるような位置まで持っていく。矢印６０８は、第１の方向５０２とは反対の方向を表す。更に、反対方向６０８の第２の「フライイン」移動は終端ポイント５１２までの距離Ｄ２であり、距離Ｄ２は距離Ｄとは異なる（この例では距離Ｄ２は距離Ｄよりも短い）。１つの「フライイン」移動を別の「フライイン」移動とは異なる距離とすることで、ターゲットのより高速な測定が可能となる。例えば一実施形態において、距離Ｄは距離Ｄ２よりも長い。結果として、距離Ｄ２の相対的な移動を行うための時間の方が（距離Ｄの相対的な移動の時間に比べて）短く、従って、（例えば方向５１０のスキャンによる）ターゲットの検出は比較的迅速に行われる。一実施形態では、第１の「フライイン」移動の距離Ｄの方が第２の「フライイン」移動の距離Ｄ２よりも短い。その後、第１及び第２の測定値を組み合わせて（図４に関して上述したように）、パターニングプロセスのパラメータを決定する。
【００６５】
[0075]  一実施形態において、非ゼロ角度の第１の「フライイン」移動の距離は、対頂角の第２の「フライイン」移動の距離と同一である。一実施形態において、非ゼロ角度の第１の「フライイン」移動の距離は、対頂角の第２の「フライイン」移動の距離とは異なる。
【００６６】
[0076]  複数のターゲットを測定する場合、一実施形態に従って、装置は第１の方向で第１の「フライイン」移動を実行し、複数のターゲットの各ターゲットについて第１の測定を実行し、第１の方向とは反対の方向で第２の「フライイン」移動を実行し、複数のターゲットの各ターゲットについて第２の測定を実行するように機能する。
【００６７】
[0077]  一実施形態において、第２の「フライイン」移動及び第２の測定は、各ターゲットの第１の「フライイン」移動及び第１の測定の後に実行される。図７Ａ〜図７Ｃは、そのような実施形態に従った、測定装置を用いて複数のターゲットを測定する方法７００の概略図を提供する。図７Ａの複数のターゲット２０２１・・・２０２ｘは、例えば基板Ｗ２上においてグループで提供される（「ｘ」は任意のターゲット数を表し、例示する実施形態における数に限定されない）。この場合も、単に例示の目的のためターゲットは２０２１・・・２０２ｘと標示されるが、これは図２に示すような設計にターゲットを限定することは意図していない。
【００６８】
[0078]  方法７００はまず、図７Ａに示すようにグループのターゲット２０２１・・・２０２ｘの第１の「フライイン」移動及び検出を実行すること、次いで、図７Ｂに示すようにターゲット２０２１・・・２０２ｘの第２の「フライイン」移動及び検出を実行することを含む。具体的には、図７Ａは、グループ内の各ターゲット２０２１・・・２０２ｘの検出の第１の部分を示し、７０２で概略的に示すように、各ターゲットで第１の「フライイン」移動（例えば直線状）が行われると共に各ターゲットで第１の測定が実行され、その後、図７Ｂに７０４で概略的に表されるように、第２の「フライイン」移動及び第２の測定が行われる。７０２では、第１の「フライイン」移動が、「フライイン」方向（任意の方向とすればよい）において、例えば図７Ａのターゲット２０２１のような指定されたターゲットまで（例えば基板テーブルを移動させることにより）行われる。次いで、（「フライイン」の後に）測定装置を用いて、その指定されたターゲット２０２１の第１の測定が行われる。例えば各ターゲットをスキャンして、測定スポットを用いた検出を実行できる。ターゲット２０２１のスキャンは任意の方向とすればよい。一実施形態では、図７Ｃで更に詳しく示すように、一実施形態において、各ターゲット２０２１・・・２０２ｘに対する測定スポットの相対的な移動は正のＸ方向である。具体的には、図７Ｃは、ターゲット２０２８に対する第１の「フライイン」方向を７０２として示す。次いで、矢印７０６で示すように、ターゲット２０２８に対する測定スポットの相対的な移動を正のＸ方向で実行して（例えばターゲット２０２８を正のＸ方向にスキャンする）、その第１の測定値を決定する。
【００６９】
[0079]  再び図７Ａを参照すると、そのターゲット２０２１の第１の「フライイン」移動及び検出の双方を行って第１の測定値を決定した後、更に、例えば２０２２のような次のターゲットまで任意の方向で第１の「フライイン」移動が行われる。次いで、次のターゲット２０２２の第１の測定を行う（例えば、図７Ｃに示すものと同じように正のＸ方向（７０６）にターゲット２０２２をスキャンすることによって）。その後、グループ内の残りの各ターゲットまで第１の「フライイン」移動を実行すると共に各ターゲットを測定するプロセスにより、第１の測定が全て行われるまで、図７Ａの７０２において各ターゲット２０２３、２０２４、・・・２０２ｘの第１の測定を順次実行する。
【００７０】
[0080]  ７０２においてグループ内の各ターゲットの第１の測定値を検出した後、図７Ｂに示すように、７０４において、ターゲット２０２１・・・２０２ｘの各々の第２の「フライイン」移動及び第２の測定を（逆方向又は反対方向で）実行する。より具体的には、グループ内の各ターゲット２０２１・・・２０２ｘについて、ターゲットの第１の「フライイン」移動の各方向とは反対方向の第２の「フライイン」移動を、ターゲットのグループに対して逆の順序で（２０２ｘ・・・２０２１）実行し、これと共に７０４では各ターゲットの第２の測定も実行する。例えば、ターゲット２０２８について図７Ｃの詳細図に示すように、ターゲット２０２ｘ（２０２８）の第１の「フライイン」移動の方向（７０２）とは反対の方向（７０４）に第２の「フライイン」移動を行い、次いで、例えば、矢印７０８で表すように、ターゲット２０２ｘ（２０２８）の第１の「フライイン」移動の後と同じＸ方向における測定スポットとターゲットとの間の相対的移動（「フライイン」移動の後）を用いたスキャンによって、そのターゲット２０２ｘ（２０２８）の第２の測定値を検出する。しかしながら、この相対的な移動（例えば各ターゲット２０２１・・・２０２ｘのスキャン）は任意の方向とすればよい。
【００７１】
[0081]  再び図７Ｂを参照すると、ターゲット２０２ｘの第２の「フライイン」移動及び第２の測定の双方を行った後、ターゲット２０２１４について任意の方向で第２の「フライイン」移動を行う。次いで、例えばターゲット２０２１４をスキャンすることによってターゲット２０２１４の第２の測定を行う。その後、各ターゲットの「フライイン」方向における「フライイン」移動のプロセスにより、第２の測定が全て行われるまで、７０４においてグループ内の各ターゲット２０２１３、２０２１２・・・２０２１のそれぞれの第２の「フライイン」移動後に第２の測定を順次実行する。
【００７２】
[0082]  その後、第１及び第２の測定値を組み合わせて（図４に関して上述したように）、パターニングプロセスのパラメータを決定する。例えば一実施形態では、それぞれのターゲット２０２１・・・２０２ｘでパラメータを決定する。
【００７３】
[0083]  図７Ａ〜図７Ｃは直線状の「フライイン」経路を大まかに示すが、これは限定でないことを理解するべきである。図７Ｄ及び図７Ｅに示すように、例えば、グループ内の７０２及び７０４における１つ以上のターゲットの「フライイン」経路は湾曲し、実質的に滑らかに実行され得る。図７Ｄは、７０２における第１の測定のための各ターゲットの湾曲した「フライイン」経路を示し、図７Ｅは、７０４における第２の測定のための逆の順序及び方向における各ターゲットの湾曲した「フライイン」経路を示す。むろん、全ての「フライイン」経路が湾曲している必要はない。
【００７４】
[0084]  「フライイン」方向、及び／又は、測定スポットがターゲット上にある間のもしくは測定スポットをターゲット上に位置付けるためのターゲットに対する測定スポットの相対的な移動の方向は、限定されない。一実施形態では、測定スポットがターゲット上にある間の又は測定スポットをターゲット上に位置付けるためのターゲットに対する測定スポットの相対的な移動の方向は、双方の測定で同一方向である（例えば図５及び図７Ｃを参照のこと）。一実施形態では、第１の測定のための、測定スポットがターゲット上にある間の又は測定スポットをターゲット上に位置付けるためのターゲットに対する測定スポットの相対的な移動の方向は、第２の測定のための、測定スポットがターゲット上にある間の又は測定スポットをターゲット上に位置付けるためのターゲットに対する測定スポットの相対的な移動の方向とは異なる（例えば、第１の測定の方向は正のＸ方向であり、第２の測定の方向は負のＸ方向である）。
【００７５】
[0085]  一実施形態では、ターゲットの第１及び第２の測定のための、測定スポットがターゲット上にある間の又は測定スポットをターゲット上に位置付けるためのターゲットに対する測定スポットの相対的な移動は、例えばＸ方向のような一方向であるが、ターゲットの１つ以上の「フライイン」方向は異なる（例えば、相互に異なるか又はスキャン方向とは異なる）可能性がある。例えば、「フライイン」方向は任意の方向であり得るが、測定スポットがターゲット上にある間の又は測定スポットをターゲット上に位置付けるためのターゲットに対する測定スポットの相対的な移動はＸ方向である。
【００７６】
[0086]  一実施形態によれば、双方の測定において、「フライイン」方向は、測定スポットがターゲット上にある間の又は測定スポットをターゲット上に位置付けるためのターゲットに対する測定スポットの相対的な移動の方向とは異なるが、双方の測定において、測定スポットがターゲット上にある間の又は測定スポットをターゲット上に位置付けるためのターゲットに対する測定スポットの相対的な移動は、同一方向に実行される（例えば図５を参照のこと）。
【００７７】
[0087]  一実施形態では、双方の測定について、測定スポットがターゲット上にある間の又は測定スポットをターゲット上に位置付けるためのターゲットに対する測定スポットの相対的な移動は任意の方向であるが、「フライイン」方向は前述のものと同じである（例えば非ゼロ角度）。
【００７８】
[0088]  一実施形態において、第１の「フライイン」方向は、測定スポットがターゲット上にある間の又は測定スポットをターゲット上に位置付けるためのターゲットに対する測定スポットの相対的な移動の方向に対して鈍角で与えられ、反対方向の第２の「フライイン」方向は、測定スポットがターゲット上にある間の又は測定スポットをターゲット上に位置付けるためのターゲットに対する測定スポットの相対的な移動の方向に対して鋭角で与えられる。一実施形態において、第１の「フライイン」方向は、測定スポットがターゲット上にある間の又は測定スポットをターゲット上に位置付けるためのターゲットに対する測定スポットの相対的な移動の方向に対して鋭角で与えられ、反対方向の第２の「フライイン」方向は、測定スポットがターゲット上にある間の又は測定スポットをターゲット上に位置付けるためのターゲットに対する測定スポットの相対的な移動の方向に対して鋭角で与えられる。
【００７９】
[0089]  更に、図７Ａ〜図７Ｅを参照して記載されているような例示的な方法で測定されるターゲットのグループについて、一実施形態によれば、各ターゲットの「フライイン」方向は同一であり得る。一実施形態では、グループ内の各ターゲットの「フライイン」方向は異なる。一実施形態によれば、ターゲットのグループ内の各ターゲットについて、測定スポットがターゲット上にある間の又は測定スポットをターゲット上に位置付けるためのターゲットに対する測定スポットの相対的な移動は同一方向である。一実施形態では、グループ内の各ターゲットについて、測定スポットがターゲット上にある間の又は測定スポットをターゲット上に位置付けるためのターゲットに対する測定スポットの相対的な移動の方向は異なる方向である。
【００８０】
[0090]  一実施形態によれば、ターゲットのグループ内の各ターゲットについて、測定スポットがターゲット上にある間の又は測定スポットをターゲット上に位置付けるためのターゲットに対する測定スポットの相対的な移動は同一方向であるが、第１の「フライイン」方向（従って、第２の反転した（ｍｉｒｒｏｒｅｄ）又は反対の「フライイン」方向）は、測定スポットがターゲット上にある間の又は測定スポットをターゲット上に位置付けるためのターゲットに対する測定スポットの相対的な移動の方向とは異なる。
【００８１】
[0091]  また、図７Ａ〜図７Ｅには具体的に図示されていないが、ターゲットグループ内のターゲットの１つ以上について、各ターゲットの終端ポイントを確立することができる。更に、グループ内にあるか又は単独であるターゲットに対する「フライイン」移動は、必ずしもターゲットまで又はターゲット前まで到達する必要はないことに留意するべきである。すなわち、相対的な移動がターゲットを「通り過ぎ（ｏｖｅｒｓｈｏｏｔ）」（例えば測定スポットがターゲットを「通り過ぎ」）て、測定スポットがターゲット上にある間の又は測定スポットをターゲット上に位置付けるためのターゲットに対する測定スポットの相対的な移動を反対方向で実行できるように設計され得る。例えば、各ターゲットを通り過ぎてあるポイントに達し、次いで、測定スポットがターゲット上にある間の又は測定スポットをターゲット上に位置付けるためのターゲットに対する測定スポットの相対的な移動を反対方向に実行することができる。
【００８２】
[0092]  図７Ａ〜図７Ｂ及び／又は図７Ｃ〜図７Ｄのターゲット２０２１、２０２２、・・・２０２ｘの位置決めは、限定を意図していないことに留意するべきである。ターゲット２０２１、２０２２、・・・２０２ｘは、単に説明の目的のため、この構成で示されている。更に、ターゲット２０２１、２０２２、・・・２０２ｘについて、図７Ａ〜図７Ｂ及び／又は図７Ｃ〜図７Ｄの矢印は単に概略的なものであり、様々な「フライイン」等の方向の例を表すように設計されている。しかしながら、７０２及び７０４における各ターゲットの「フライイン」等の方向は、図７Ａ〜図７Ｂ及び／又は図７Ｃ〜図７Ｄの矢印が大まかに示すような線形又は連続的な隣接した移動に限定されないことを理解するべきである。例えば、７０２における第１の測定でのターゲット２０２１、２０２２、・・・２０２ｘの各々の連続的な「フライイン」等は任意の順序であり得る。しかしながら、７０４における第２の測定でのターゲット２０２１、２０２２、・・・２０２ｘの第２の「フライイン」等は、７０２における第１の測定の逆の順序であり、各ターゲットの第２の「フライイン」は、同一のターゲットでは第１の「フライイン」の方向の反対方向である。図７Ａに矢印で示すように、例えば一実施形態において、７０２における第１の測定は反時計回りの方向で実行され、７０４における第２の測定は図７Ｂにおいて時計回りの方向で実行される。７０２又は７０４において、測定スポットがターゲット上にある間の又は測定スポットをターゲット上に位置付けるためのターゲットに対する測定スポットの相対的な移動は同一の方向又は異なる方向であり得る。
【００８３】
[0093]  また、２０２１、２０２２、・・・、２０２ｘというターゲットの標示、及びこれらのターゲットに関する記載は、測定装置によってターゲットを処理する順序を限定することは意図していない。
【００８４】
[0094]  本明細書に開示されているように反対方向の又は反対方向における第２の「フライイン」と言う場合、これは、同一面内の移動ラインに沿った逆方向を指す。一実施形態において、これは第１の「フライイン」方向に対して１８０度である。簡略化の目的のため、本開示全体を通して、第２の「フライイン」方向を「反対方向」のフライインと称するが、本開示全体を通して「反対」方向と言う場合、これは、第１の「フライイン」方向に対して実質的に反対の方向、本質的に反対の方向、又はほぼ反対の方向を含むことを理解するべきである。例えば一実施形態において、本質的に反対の方向におけるフライインは、第１の「フライイン」の方向に対して約１７５度から約１８５度の角度（これら双方の角度を含む）の相対的な移動を指す。一実施形態において、反対方向は、第１の「フライイン」方向に対して約１７８度から約１８２度（これら双方の角度を含む）である。
【００８５】
[0095]  一実施形態において、（本質的に）反対の方向でのフライインは、ステージの移動を指す可能性がある。例えば、図５に５０６で、図６に６０６で示すように、第１のスキャン後、ステージは、反対方向に「フライイン」できるようなポイント又は距離まで移動させることができる。一実施形態において、ステージの移動はステージを１８０度回転させることを指す可能性がある。しかしながら、ステージの回転は必須ではない。前述のように、図７Ａ〜図７Ｅを参照して説明した方法７００では、反対向きの「フライイン」方向に加え、「フライイン」方向及び／又は、測定スポットがターゲット上にある間の又は測定スポットをターゲット上に位置付けるためのターゲットに対する測定スポットの相対的な移動の方向は、反時計回りの方向及び時計回りの方向を指す。この反転した又は反対の「フライイン」方向は、測定における誤差を逆転させるので、測定された誤差は相互に相殺することができ、これによってターゲットのよりいっそう正確な測定値が得られる。
【００８６】
[0096]  更に、実施形態では、双方の（反対の）「フライイン」方向を参照して同一の終端ポイント５１２へ向かう移動について説明したが、一実施形態によれば、前述の方法のいずれかにおいて２つの異なる終端ポイントを使用できることに留意するべきである。すなわち、第１の「フライイン」方向は第１の終端ポイントまでであり、反対方向の第２の「フライイン」方向は、第１の終端ポイントとは異なる第２の終端ポイントまでであり得る。一実施形態において、第１の終端ポイントはターゲットの一方側に提供され、第２の終端ポイントはターゲットの別の（例えば反対の）側に提供される。従って、測定スポットがターゲット上にある間の又は測定スポットをターゲット上に位置付けるためのターゲットに対する測定スポットの相対的な移動は、反対方向であり得る。例えば、第１の終端ポイントから、ターゲットは測定中に第１の方向（例えば正の（＋）Ｘ方向）にスキャンされ、第２の終端ポイントから、ターゲットは測定中に第１の方向とは反対の方向（例えば負の（−）Ｘ方向）にスキャンされ得る。
【００８７】
[0097]  更に、本明細書に記載されているような１又は複数のターゲットについて行われる検出又は測定は、限定ではないが、ターゲットの（スキャナによる）スキャン、又は像の捕獲（例えばカメラを用いる、又は像を記録する）を含む、任意の数の方法及びデバイスを含み得ることに再び留意するべきである。
【００８８】
[0098]  更に、本開示全体を通して、ターゲットを（例えば第１又は第２の方向に）移動させることによってターゲットの第１及び第２の測定の検出を実行できることを記載した。しかしながら、一実施形態によれば、１又は複数のターゲットの検出及び／又はスキャンはターゲットを移動させることなく実行され得る。例えば一実施形態では、測定装置によってターゲットをスキャンするため、ターゲットが実質的に静止状態である間に、測定装置自体の構成要素及び／又は測定ビームの測定用ビームがターゲット検出のために移動することができる。
【００８９】
[0099]  上述の実施形態の任意のものにおいて、第２の測定値を取得した後、一実施形態によれば、検出した第１及び第２の測定値を平均することによって、パターニングプロセスのパラメータ（例えば１又は複数のターゲットの位置）を、（例えば処理ユニットＰＵを用いて）決定することができる。この平均値に基づいて、ＰＵ及び／又はＬＡＣＵはパターニングプロセスにおいてアクションを実行できる（例えば、結像のため基板テーブルを移動又は位置合わせする）。
【００９０】
[00100]  開示された方法を用いて、測定装置は、例えば基板Ｗ２の露光の精度向上を達成することができる。反対のフライイン方向で実行された測定値の平均は、測定誤差を相殺するのに役立つ。測定の精度は、ターゲットの単一の測定（１回のＸ測定、１回のＹ測定）のみを使用した従来の方法の結果に比べ、Ｘ方向及び／又はＹ方向において２〜４倍向上する可能性がある。更に、ターゲットをより高速で移動させ得るので、測定プロセスをより高速で実行することができ、これによってより高速な測定を行い、従ってより高い機械スループット（例えば、より高い基板スループット）を得ることができる。
【００９１】
[00101]  更に、開示される方法は、ハードウェアの変更なしで既存の機械に対して実装し適用することができる。例えば、開示される方法は、１つ以上のプロセッサ（例えばＬＡＣＵ及び／又はＰＵ）により読み取って実行され得る、機械読み取り可能媒体上に記憶された命令として実装できる。機械読み取り可能媒体は、機械（例えばコンピューティングデバイス）によって読み取り可能な形態で情報を記憶又は伝送するための任意の機構を含み得る。例えば機械読み取り可能媒体は、読み取り専用メモリ（ＲＯＭ）、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）、磁気ディスク記憶媒体、光記憶媒体、フラッシュメモリデバイス、電気、光、音響、又は他の形態の伝搬信号（例えば搬送波、赤外信号、デジタル信号等）、及び他のものを含み得る。更に、ファームウェア、ソフトウェア、ルーチン、命令が、方法４００のもの及び図４〜図７Ｅに示されているような本明細書に開示された追加の実施形態のものを含む特定のアクションを実行するものとして、本明細書で記載され得る。しかしながら、そのような記載は単に便宜上のものであり、そのようなアクションは実際には、ファームウェア、ソフトウェア、ルーチン、命令等を実行するコンピューティングデバイス、プロセッサ、コントローラ、又は他のデバイスから生じることは認められよう。
【００９２】
[00102]  本文ではＩＣの製造におけるリソグラフィ装置の使用に特に言及しているが、本明細書で説明するリソグラフィ装置には他の用途もあることを理解されたい。例えば、これは、集積光学システム、磁気ドメインメモリ用ガイダンス及び検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッドなどの製造である。こうした代替的な用途に照らして、本明細書で「ウェーハ」又は「ダイ」という用語を使用している場合、それぞれ、「基板」又は「ターゲット部分」という、より一般的な用語と同義と見なしてよいことが、当業者には認識される。本明細書に述べている基板は、露光前又は露光後に、例えばトラック（通常はレジストの層を基板に塗布し、露光したレジストを現像するツール）、メトロロジーツール及び／又はインスペクションツールで処理することができる。適宜、本明細書の開示は、以上及びその他の基板プロセスツールに適用することができる。更に基板は、例えば多層ＩＣを生成するために、複数回処理することができ、したがって本明細書で使用する基板という用語は、既に複数の処理済み層を含む基板も指すことができる。
【００９３】
[00103]  光リソグラフィの分野での実施形態の使用に特に言及してきたが、本発明は文脈によってはその他の分野、例えばインプリントリソグラフィでも使用することができ、光リソグラフィに限定されないことを理解されたい。インプリントリソグラフィでは、パターニングデバイス内のトポグラフィが基板上に作成されたパターンを画定する。パターニングデバイスのトポグラフィは基板に供給されたレジスト層内に刻印され、電磁放射、熱、圧力又はそれらの組み合わせを印加することでレジストは硬化する。パターニングデバイスはレジストから取り除かれ、レジストが硬化すると、内部にパターンが残される。
【００９４】
[00104]  リソグラフィ装置は、投影システムの最終要素と基板との間の空間を充填するように、基板が比較的高い屈折率を有する液体、例えば水などに液浸されるタイプであってもよい。液浸液は、例えばパターニングデバイスと投影システムの最終要素との間など、リソグラフィ装置の他の空間に適用することもできる。液浸技術は、投影システムの開口数を増加させるために当技術分野で周知である。
【００９５】
[00105]  本明細書で使用する「放射」及び「ビーム」という用語は、イオンビーム又は電子ビームなどの粒子ビームのみならず、紫外線（ＵＶ）放射（例えば、３６５ｎｍ、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍもしくは１２６ｎｍ、又はこれら辺りの波長を有する）及び極端紫外光（ＥＵＶ）放射（例えば、５ｎｍ〜２０ｎｍの範囲の波長を有する）を含むあらゆるタイプの電磁放射を網羅する。
【００９６】
[00106]  「レンズ」という用語は、状況が許せば、屈折、反射、磁気、電磁気及び静電気光学コンポーネントを含む様々なタイプの光学コンポーネントのいずれか一つ、又はその組み合わせを指すことができる。
【００９７】
[00107]  以上、本発明の特定の実施形態を説明したが、説明とは異なる方法でも本発明の実施形態を実践できることが理解される。例えば、本発明は、上記で開示したような方法を述べる機械読み取り式命令の１つ以上のシーケンスを含むコンピュータプログラム、又はこのようなコンピュータプログラムを内部に記憶したデータ記憶媒体（例えば半導体メモリ、磁気又は光ディスク）の形態をとることができる。
【００９８】
[00108]  上記の説明は例示的なものであり、限定するものではない。従って、以下に示す特許請求の範囲から逸脱することなく、記載された本発明に対して変更を加えることができることは、当業者には明らかであろう。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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【図７Ｃ】
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【図７Ｄ】
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【図７Ｅ】
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