(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）で表される繰り返し単位を含むトリアジン環含有重合体と、架橋剤と、平均一次粒子径が５０ｎｍ〜３μｍであるチタン酸バリウム粒子を含む光拡散剤とを含む光散乱膜形成用組成物であって、
前記チタン酸バリウム粒子が、走査型電子顕微鏡で１００個のチタン酸バリウム粒子の一次粒子径を測定してその平均を算出し、標準偏差÷平均径×１００から算出されるＣＶ値が、２０％以下である光散乱膜形成用組成物。
【化１】
0006693116.tif 000022
［式中、Ｒ及びＲ'は、互いに独立して、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、又はアラルキル基を表し、
Ａｒは、下記式（２）〜（１３）で表される基からなる群から選ばれる少なくとも１種を表す。
【化２】
0006693116.tif 000023
｛式中、Ｒ1〜Ｒ92は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、又は炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐状のアルコキシ基を表し、
Ｒ93及びＲ94は、水素原子、又は炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基を表し、
Ｗ1及びＷ2は、互いに独立して、単結合、−ＣＲ95Ｒ96−、−Ｃ(＝Ｏ)−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓ(＝Ｏ)−、−ＳＯ2−又は−ＮＲ97−を表し、Ｒ95及びＲ96は、互いに独立して、水素原子、又は炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基を表し、これらは互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に環を形成していてもよく、Ｒ97は、水素原子、又は炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基を表し、
Ｘ1及びＸ2は、互いに独立して、単結合、炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基、又は下記式（１４）で表される基を表す。
【化３】
0006693116.tif 000024
（式中、Ｒ98〜Ｒ101は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、又は炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐状のアルコキシ基を表し、Ｙ1及びＹ2は、互いに独立して、単結合、又は炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基を表す。）｝］
【請求項２】
前記チタン酸バリウム粒子の平均一次粒子径が、１５０ｎｍ〜１μｍである請求項１記載の光散乱膜形成用組成物。
【請求項３】
前記チタン酸バリウム粒子が、走査型電子顕微鏡による観察で測定した長径と短径との比（長径／短径）が３以下である請求項１又は２記載の光散乱膜形成用組成物。
【請求項４】
更に、溶媒を含む請求項１〜３のいずれか１項記載の光散乱膜形成用組成物。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項記載の光散乱膜形成用組成物を硬化させて得られる光散乱膜。
【請求項６】
ヘーズ値が３０〜７５である請求項５記載の光散乱膜。
【請求項７】
請求項５又は６の光散乱膜の上に平坦化膜を積層させた光散乱膜。
【請求項８】
ヘーズ値が２５〜７０である請求項７記載の光散乱膜。
【請求項９】
請求項５〜８のいずれか１項記載の光散乱膜を備える有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項１０】
請求項５〜８のいずれか１項記載の光散乱膜を備える発光ダイオード。
【請求項１１】
請求項５〜８のいずれか１項記載の光散乱膜を備える誘電材料。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光散乱膜形成用組成物及び光散乱膜に関する。
【背景技術】
【０００２】
これまで、高分子化合物を高機能化する試みが種々行われてきている。例えば、高分子化合物を高屈折率化する方法として、芳香族環、ハロゲン原子又は硫黄原子を導入する試みがなされている。中でも、硫黄原子を導入したエピスルフィド高分子化合物及びチオウレタン高分子化合物は、眼鏡用高屈折率レンズとして実用化されている。
【０００３】
また、高分子化合物の更なる高屈折率化を達成し得る最も有力な方法として、無機金属酸化物を用いる方法が知られている。例えば、シロキサンポリマーと、ジルコニア又はチタニア等を分散させた微粒子分散材料とを混合してなるハイブリッド材料を用いて屈折率を高める手法が報告されている（特許文献１）。更に、シロキサンポリマーの一部に高屈折率な縮合環状骨格を導入する手法も報告されている（特許文献２）。
【０００４】
また、高分子化合物に耐熱性を付与するための試みも数多くなされており、具体的には、芳香族環を導入することで高分子化合物の耐熱性を向上し得ることがよく知られている。例えば、置換アリーレン繰り返し単位を主鎖に有するポリアリーレンコポリマーが報告されており（特許文献３）、このポリアリーレンコポリマーは、主として耐熱性プラスチックへの応用が期待されている。
【０００５】
メラミン樹脂は、トリアジン系の樹脂としてよく知られているが、黒鉛等の耐熱性材料に比べて遥かに分解温度が低い。これまで、炭素及び窒素からなる耐熱性有機材料としては、芳香族ポリイミドや芳香族ポリアミドが主として用いられているが、これらの材料は直鎖構造を有しているため耐熱温度はそれほど高くない。また、耐熱性を有する含窒素高分子材料としてトリアジン系縮合材料も報告されている（特許文献４）。
【０００６】
ところで、近年、液晶ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイ、光半導体（ＬＥＤ）素子、固体撮像素子、有機薄膜太陽電池、色素増感太陽電池、有機薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）等の電子デバイスを開発する際に、高機能な高分子材料が要求されるようになってきた。求められる具体的な特性としては、１）耐熱性、２）透明性、３）高屈折率、４）高溶解性、５）低体積収縮率等が挙げられる。
【０００７】
この点に鑑み、本発明者らは、トリアジン環及び芳香環を有する繰り返し単位を含むハイパーブランチポリマーが高屈折率を有し、ポリマー単独で高耐熱性、高透明性、高屈折率、高溶解性、低体積収縮を達成でき、電子デバイスを作製する際の膜形成用組成物として好適であることを既に見出している（特許文献５）。しかし、当該組成物から作製された硬化膜を有機ＥＬ素子や発光ダイオードの光取出し層に適用する場合、更なる光取出し効率（光拡散効率）の向上が求められる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００７−２４６８７７号公報
【特許文献２】特開２００８−２４８３２号公報
【特許文献３】米国特許第５８８６１３０号明細書
【特許文献４】特開２０００−５３６５９号公報
【特許文献５】国際公開第２０１０／１２８６６１号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、前記事情に鑑みてなされたものであり、ポリマー単独で高耐熱性、高透明性、高屈折率、高溶解性、低体積収縮を達成できるトリアジン環含有重合体を含み、光拡散効率及び光取出し効率の良好な硬化膜を与え得る、光散乱膜形成用組成物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは、前記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、所定のトリアジン環含有重合体と、架橋剤と、チタン酸バリウムを含む光拡散剤とを含む組成物が、光拡散効率及び光取出し効率の良好な硬化膜を与えることを見出し、本発明を完成した。
【００１１】
したがって、本発明は、下記光散乱膜形成用組成物及び光散乱膜を提供する。
１．下記式（１）で表される繰り返し単位を含むトリアジン環含有重合体と、架橋剤と、チタン酸バリウム粒子を含む光拡散剤とを含む光散乱膜形成用組成物。
【化１】
0006693116.tif 000002
［式中、Ｒ及びＲ'は、互いに独立して、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、又はアラルキル基を表し、
Ａｒは、下記式（２）〜（１３）で表される基からなる群から選ばれる少なくとも１種を表す。
【化２】
0006693116.tif 000003
｛式中、Ｒ1〜Ｒ92は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、又は炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐状のアルコキシ基を表し、
Ｒ93及びＲ94は、水素原子、又は炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基を表し、
Ｗ1及びＷ2は、互いに独立して、単結合、−ＣＲ95Ｒ96−、−Ｃ(＝Ｏ)−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓ(＝Ｏ)−、−ＳＯ2−又は−ＮＲ97−を表し、Ｒ95及びＲ96は、互いに独立して、水素原子、又は炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基を表し、これらは互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に環を形成していてもよく、Ｒ97は、水素原子、又は炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基を表し、
Ｘ1及びＸ2は、互いに独立して、単結合、炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基、又は下記式（１４）で表される基を表す。
【化３】
0006693116.tif 000004
（式中、Ｒ98〜Ｒ101は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、又は炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐状のアルコキシ基を表し、Ｙ1及びＹ2は、互いに独立して、単結合、又は炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基を表す。）｝］
２．前記チタン酸バリウム粒子の平均一次粒子径が、５０ｎｍ〜３μｍである１の光散乱膜形成用組成物。
３．更に、溶媒を含む１又は２の光散乱膜形成用組成物。
４．１〜３のいずれかの光散乱膜形成用組成物を硬化させて得られる光散乱膜。
５．ヘーズ値が３０〜７５である４の光散乱膜。
６．４又は５の光散乱膜の上に平坦化膜を積層させた光散乱膜。
７．ヘーズ値が２５〜７０である６の光散乱膜。
８．４〜７のいずれかの光散乱膜を備える有機ＥＬ素子。
９．４〜７のいずれかの光散乱膜を備える発光ダイオード。
１０．４〜７のいずれかの光散乱膜を備える誘電材料。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の光散乱膜形成用組成物は、所定のトリアジン環含有重合体、架橋剤、及び光拡散剤としてチタン酸バリウムを含むものであるから、この組成物を用いることによって、光拡散性の良好な光散乱膜を効率的に作製することができる。一般的に、硬化膜の光拡散性を向上させるためには光拡散剤を多量に分散させ、膜のヘーズ値を増加させる必要があるが、粒度分布がシャープで球形に近いチタン酸バリウムを用いることで、硬化膜中の充填量が少なく、かつヘーズ値を増加させない場合においても光取出し効率の良好な光散乱膜を得ることができる。
【００１３】
本発明の組成物から得られた光散乱膜は、液晶ディスプレイ、有機ＥＬ素子（有機ＥＬディスプレイや有機ＥＬ照明）、ＬＥＤ素子、固体撮像素子、有機薄膜太陽電池、色素増感太陽電池、ＴＦＴ等の電子デバイスを作製する際の一部材、セラミックコンデンサ、セラミック積層コンデンサ、ＰＣＴサーミスタ、圧電素子等の誘電材料として好適に利用でき、特に、光拡散性に優れているため有機ＥＬ素子やＬＥＤ素子の光散乱層用材料として好適に利用できる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】合成例１で得られたトリアジン環含有ハイパーブランチポリマーHB-TmDA40の1Ｈ−ＮＭＲスペクトル図である。
【図２】合成例１で得られたトリアジン環含有ハイパーブランチポリマーHB-TmDA40のＴＧ−ＤＴＡ測定結果を示す図である。
【図３】実施例４０の光散乱膜（実線）及び比較例６の光散乱膜（点線）における、全放射束の入射角依存性を示すグラフである。
【図４】比較例８の光散乱膜（実線）及び比較例６の光散乱膜（点線）における、全放射束の入射角依存性を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本発明の光散乱膜形成用組成物は、所定のトリアジン環含有重合体と、架橋剤と、チタン酸バリウム粒子を含む光拡散剤とを含むものである。
【００１６】
［トリアジン環含有重合体］
前記トリアジン環含有重合体は、下記式（１）で表される繰り返し単位を含むものである。
【００１７】
【化４】
0006693116.tif 000005
【００１８】
式（１）中、Ｒ及びＲ'は、互いに独立して、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、又はアラルキル基を表すが、屈折率をより高めるという観点から、ともに水素原子であることが好ましい。
【００１９】
アルキル基の炭素数は特に限定されないが、１〜２０が好ましく、ポリマーの耐熱性をより高めることを考慮すると、１〜１０がより好ましく、１〜３がより一層好ましい。また、その構造は、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよい。
【００２０】
アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、シクロブチル基、１−メチル−シクロプロピル基、２−メチル−シクロプロピル基、ｎ−ペンチル基、１−メチル−ｎ−ブチル基、２−メチル−ｎ−ブチル基、３−メチル−ｎ−ブチル基、１,１−ジメチル−ｎ−プロピル基、１,２−ジメチル−ｎ−プロピル基、２,２−ジメチル−ｎ−プロピル基、１−エチル−ｎ−プロピル基、シクロペンチル基、１−メチル−シクロブチル基、２−メチル−シクロブチル基、３−メチル−シクロブチル基、１,２−ジメチル−シクロプロピル基、２,３−ジメチル−シクロプロピル基、１−エチル−シクロプロピル基、２−エチル−シクロプロピル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチル−ｎ−ペンチル基、２−メチル−ｎ−ペンチル基、３−メチル−ｎ−ペンチル基、４−メチル−ｎ−ペンチル基、１,１−ジメチル−ｎ−ブチル基、１,２−ジメチル−ｎ−ブチル基、１,３−ジメチル−ｎ−ブチル基、２,２−ジメチル−ｎ−ブチル基、２,３−ジメチル−ｎ−ブチル基、３,３−ジメチル−ｎ−ブチル基、１−エチル−ｎ−ブチル基、２−エチル−ｎ−ブチル基、１,１,２−トリメチル−ｎ−プロピル基、１,２,２−トリメチル−ｎ−プロピル基、１−エチル−１−メチル−ｎ−プロピル基、１−エチル−２−メチル−ｎ−プロピル基、シクロヘキシル基、１−メチル−シクロペンチル基、２−メチル−シクロペンチル基、３−メチル−シクロペンチル基、１−エチル−シクロブチル基、２−エチル−シクロブチル基、３−エチル−シクロブチル基、１,２−ジメチル−シクロブチル基、１,３−ジメチル−シクロブチル基、２,２−ジメチル−シクロブチル基、２,３−ジメチル−シクロブチル基、２,４−ジメチル−シクロブチル基、３,３−ジメチル−シクロブチル基、１−ｎ−プロピル−シクロプロピル基、２−ｎ−プロピル−シクロプロピル基、１−イソプロピル−シクロプロピル基、２−イソプロピル−シクロプロピル基、１,２,２−トリメチル−シクロプロピル基、１,２,３−トリメチル−シクロプロピル基、２,２,３−トリメチル−シクロプロピル基、１−エチル−２−メチル−シクロプロピル基、２−エチル−１−メチル−シクロプロピル基、２−エチル−２−メチル−シクロプロピル基、２−エチル−３−メチル−シクロプロピル基等が挙げられる。
【００２１】
アルコキシ基の炭素数は特に限定されないが、１〜２０が好ましく、ポリマーの耐熱性をより高めることを考慮すると、１〜１０がより好ましく、１〜３がより一層好ましい。また、そのアルキル部分の構造は、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよい。
【００２２】
アルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、１−メチル−ｎ−ブトキシ基、２−メチル−ｎ−ブトキシ基、３−メチル−ｎ−ブトキシ基、１,１−ジメチル−ｎ−プロポキシ基、１,２−ジメチル−ｎ−プロポキシ基、２,２−ジメチル−ｎ−プロポキシ基、１−エチル−ｎ−プロポキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、１−メチル−ｎ−ペンチルオキシ基、２−メチル−ｎ−ペンチルオキシ基、３−メチル−ｎ−ペンチルオキシ基、４−メチル−ｎ−ペンチルオキシ基、１,１−ジメチル−ｎ−ブトキシ基、１,２−ジメチル−ｎ−ブトキシ基、１,３−ジメチル−ｎ−ブトキシ基、２,２−ジメチル−ｎ−ブトキシ基、２,３−ジメチル−ｎ−ブトキシ基、３,３−ジメチル−ｎ−ブトキシ基、１−エチル−ｎ−ブトキシ基、２−エチル−ｎ−ブトキシ基、１,１,２−トリメチル−ｎ−プロポキシ基、１,２,２−トリメチル−ｎ−プロポキシ基、１−エチル−１−メチル−ｎ−プロポキシ基、１−エチル−２−メチル−ｎ−プロポキシ基等が挙げられる。
【００２３】
アリール基の炭素数は特に限定されないが、６〜４０が好ましく、ポリマーの耐熱性をより高めることを考慮すると、６〜１６がより好ましく、６〜１３がより一層好ましい。
【００２４】
アリール基の具体例としては、フェニル基、ｏ−クロロフェニル基、ｍ−クロロフェニル基、ｐ−クロロフェニル基、ｏ−フルオロフェニル基、ｐ−フルオロフェニル基、ｏ−メトキシフェニル基、ｐ−メトキシフェニル基、ｐ−ニトロフェニル基、ｐ−シアノフェニル基、α−ナフチル基、β−ナフチル基、ｏ−ビフェニリル基、ｍ−ビフェニリル基、ｐ−ビフェニリル基、１−アントリル基、２−アントリル基、９−アントリル基、１−フェナントリル基、２−フェナントリル基、３−フェナントリル基、４−フェナントリル基、９−フェナントリル基等が挙げられる。
【００２５】
アラルキル基の炭素数は、特に限定されないが、７〜２０が好ましく、そのアルキル部分は、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよい。
【００２６】
アラルキル基の具体例としては、ベンジル基、ｐ−メチルフェニルメチル基、ｍ−メチルフェニルメチル基、ｏ−エチルフェニルメチル基、ｍ−エチルフェニルメチル基、ｐ−エチルフェニルメチル基、２−プロピルフェニルメチル基、４−イソプロピルフェニルメチル基、４−イソブチルフェニルメチル基、α−ナフチルメチル基等が挙げられる。
【００２７】
式（１）中、Ａｒは、下記式（２）〜（１３）で表される基からなる群から選ばれる少なくとも１種を表す。
【００２８】
【化５】
0006693116.tif 000006
【００２９】
式中、Ｒ1〜Ｒ92は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、又は炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐状のアルコキシ基を表す。
【００３０】
Ｒ93及びＲ94は、水素原子、又は炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基を表す。
【００３１】
Ｗ1及びＷ2は、互いに独立して、単結合、−ＣＲ95Ｒ96−、−Ｃ(＝Ｏ)−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓ(＝Ｏ)−、−ＳＯ2−又は−ＮＲ97−を表す。Ｒ95及びＲ96は、互いに独立して、水素原子、又は炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基を表し、これらは互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に環を形成していてもよい。Ｒ97は、水素原子、又は炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基を表す。
【００３２】
Ｘ1及びＸ2は、互いに独立して、単結合、炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基、又は下記式（１４）で表される基を表す。
【化６】
0006693116.tif 000007
【００３３】
式中、Ｒ98〜Ｒ101は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、又は炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐状のアルコキシ基を表し、Ｙ1及びＹ2は、互いに独立して、単結合、又は炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基を表す。
【００３４】
ここで、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。なお、アルキル基及びアルコキシ基としては前記と同様のものが挙げられる。炭素数１〜１０の直鎖状又は分岐状のアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基等が挙げられる。
【００３５】
これらの中でも、Ｒ1〜Ｒ92及びＲ98〜Ｒ101としては、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、炭素数１〜５の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、又は炭素数１〜５の直鎖状若しくは分岐状のアルコキシ基が好ましく、水素原子がより好ましい。
【００３６】
特に、Ａｒとしては、式（２）及び（５）〜（１３）で表される基からなる群から選ばれる少なくとも１種が好ましく、式（２）、（５）、（７）、（８）及び（１１）〜（１３）で表される基からなる群から選ばれる少なくとも１種がより好ましい。式（２）〜（１３）で表されるアリール基の具体例としては、以下に示すものが挙げられるが、これらに限定されない。
【００３７】
【化７】
0006693116.tif 000008
【００３８】
これらの中でも、より高い屈折率のポリマーが得られることから、下記式で表されるアリール基がより好ましい。
【００３９】
【化８】
0006693116.tif 000009
【００４０】
前記トリアジン環含有重合体は、レジスト溶媒等の安全性の高い溶媒に対する溶解性をより高めることを考慮すると、特に、式（１５）で表される繰り返し単位を含むことが好ましい。
【００４１】
【化９】
0006693116.tif 000010
（式中、Ｒ、Ｒ'及びＲ1〜Ｒ4は、前記と同じ。）
【００４２】
このような観点から、特に好適な繰り返し単位としては、下記式（１６）で表されるものが挙げられ、下記式（１７）で表されるものが最適である。
【００４３】
【化１０】
0006693116.tif 000011
（式中、Ｒ及びＲ'は、前記と同じ。）
【００４４】
【化１１】
0006693116.tif 000012
【００４５】
前記トリアジン環含有重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は、特に限定されないが、５００〜５００,０００が好ましい。より耐熱性を向上させるとともに収縮率を低くするという点から、Ｍｗは１,０００以上が好ましく、２,０００以上がより好ましく、より溶解性を高め、得られた溶液の粘度を低下させるという点から、Ｍｗは１００,０００以下が好ましく、５０,０００以下がより好ましく、３０,０００以下がより一層好ましく、１０,０００以下が更に好ましい。なお、本発明におけるＭｗは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）分析による標準ポリスチレン換算で得られる平均分子量である。
【００４６】
本発明で用いるトリアジン環含有重合体は、特許文献５に開示された手法によって製造することができる。例えば、下記スキーム１に示されるように、繰り返し単位（１７'）を含むハイパーブランチポリマーは、ハロゲン化シアヌル（１８）及びｍ−フェニレンジアミン化合物（１９）を適当な有機溶媒中で反応させて得ることができる。
【００４７】
【化１２】
0006693116.tif 000013
（式中、Ｒは、前記と同じ。Ｘは、互いに独立して、ハロゲン原子を表す。）
【００４８】
また、下記スキーム２に示されるように、繰り返し単位（１７'）を含むハイパーブランチポリマーは、ハロゲン化シアヌル（１８）及びｍ−フェニレンジアミン化合物（１９）を適当な有機溶媒中で等量用いて反応させて得られる化合物（２０）より合成することもできる。
【００４９】
【化１３】
0006693116.tif 000014
（式中、Ｘ及びＲは、前記と同じ。）
【００５０】
スキーム１及び２の方法における各原料の仕込み量は、目的とする重合体が得られる限りにおいて任意であるが、ハロゲン化シアヌル（１８）１当量に対してｍ−フェニレンジアミン化合物（１９）０.０１〜１０当量が好ましい。ただし、スキーム１の方法においては、ハロゲン化シアヌル（１８）２当量に対して、ｍ−フェニレンジアミン化合物（１９）を３当量用いることを避けることが好ましい。官能基の当量をずらすことで、ゲル化物の生成を防ぐことができる。種々の分子量のトリアジン環末端を多く含むハイパーブランチポリマーを得るために、ハロゲン化シアヌル（１８）２当量に対して、ｍ−フェニレンジアミン化合物（１９）を３当量未満の量で用いることが好ましい。
【００５１】
一方、種々の分子量のアミン末端を多く含むハイパーブランチポリマーを得るために、ｍ−フェニレンジアミン化合物（１９）３当量に対して、ハロゲン化シアヌル（１８）を２当量未満の量で用いることが好ましい。例えば、薄膜を作製した場合に、優れた透明性や耐光性を有するという点では、トリアジン環末端を多く含むハイパーブランチポリマーが好ましい。
【００５２】
このように、ｍ−フェニレンジアミン化合物（１９）やハロゲン化シアヌル（１８）の量を適宜調節することで、得られるハイパーブランチポリマーの分子量を容易に調節することができる。
【００５３】
前記有機溶媒としては、この種の反応において通常用いられる種々の溶媒を用いることができ、例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルスルホキシド；Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホルアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピペリドン、Ｎ,Ｎ−ジメチルエチレン尿素、Ｎ,Ｎ,Ｎ',Ｎ'−テトラメチルマロン酸アミド、Ｎ−メチルカプロラクタム、Ｎ−アセチルピロリジン、Ｎ,Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ−エチル−２−ピロリドン、Ｎ,Ｎ−ジメチルプロピオン酸アミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルイソブチルアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ,Ｎ'−ジメチルプロピレン尿素等のアミド系溶媒、及びそれらの混合溶媒が挙げられる。中でもＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミド、及びそれらの混合系が好ましく、特に、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドンが好適である。
【００５４】
スキーム１及びスキーム２の第２段階の反応において、反応温度は、用いる溶媒の融点から沸点までの範囲で適宜設定すればよいが、特に、０〜１５０℃程度が好ましく、６０〜１００℃がより好ましい。特に、スキーム１の反応では、リニア性を抑え、分岐度を高めるという点から、反応温度は６０〜１５０℃が好ましく、８０〜１５０℃がより好ましく、８０〜１２０℃がより一層好ましい。
【００５５】
スキーム２の第１段階の反応において、反応温度は、用いる溶媒の融点から溶媒の沸点までの範囲で適宜設定すればよいが、特に、−５０〜５０℃程度が好ましく、−２０〜５０℃程度がより好ましく、−１０〜５０℃程度がより一層好ましく、−１０〜１０℃が更に好ましい。特に、スキーム２の方法では、−５０〜５０℃で反応させる第１工程と、この工程に続いて６０〜１５０℃で反応させる第２工程とからなる２段階工程を採用することが好ましい。
【００５６】
前記各反応において、各成分の配合順序は任意であるが、スキーム１の反応においては、ハロゲン化シアヌル（１８）又はｍ−フェニレンジアミン化合物（１９）及び有機溶媒を含む溶液を６０〜１５０℃、好ましくは８０〜１５０℃に加熱し、この温度で、当該溶液中に、ｍ−フェニレンジアミン化合物（１９）又はハロゲン化シアヌル（１８）を加える方法が最適である。この場合、予め溶媒に溶かしておく成分及び後から加える成分はどちらでもよいが、ｍ−フェニレンジアミン化合物（１９）の加熱溶液中にハロゲン化シアヌル（１８）を添加する手法が好ましい。
【００５７】
また、スキーム２の反応において、予め溶媒に溶かしておく成分及び後から加える成分はどちらでもよいが、ハロゲン化シアヌル（１８）の冷却溶液中に、ｍ−フェニレンジアミン化合物（１９）を添加する手法が好ましい。後から加える成分は、ニートで加えても、前述したような有機溶媒に溶かした溶液で加えてもよいが、操作の容易さや反応のコントロールのし易さ等を考慮すると、後者の手法が好適である。また、添加は、滴下等によって徐々に加えても、全量一括して加えてもよい。
【００５８】
スキーム１の反応において、加熱した状態で両化合物を混合した後は、（段階的に温度を上げることなく）一段階で反応させた場合でも、ゲル化することなく、目的とするトリアジン環含有重合体を得ることができる。
【００５９】
また、前記スキーム１及びスキーム２の第２段階の反応では、重合時又は重合後に通常用いられる種々の塩基を添加してもよい。この塩基の具体例としては、炭酸カリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、ナトリウムエトキシド、酢酸ナトリウム、炭酸リチウム、水酸化リチウム、酸化リチウム、酢酸カリウム、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、水酸化バリウム、リン酸三リチウム、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、フッ化セシウム、酸化アルミニウム、アンモニア、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルピペリジン、２,２,６,６−テトラメチル−Ｎ−メチルピペリジン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ−メチルモルホリン等が挙げられる。
【００６０】
塩基の添加量は、ハロゲン化シアヌル（１８）１当量に対して１〜１００当量が好ましく、１〜１０当量がより好ましい。なお、これらの塩基は、水溶液にして用いてもよい。いずれのスキームの方法においても、反応終了後、生成物は再沈法等によって容易に精製できる。
【００６１】
なお、本発明においては、少なくとも１つの末端トリアジン環のハロゲン原子の一部を、アルキル基、アラルキル基、アリール基、アルキルアミノ基、アルコキシシリル基含有アルキルアミノ基、アラルキルアミノ基、アリールアミノ基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、エステル基等でキャップしてもよい。これらの中でも、アルキルアミノ基、アルコキシシリル基含有アルキルアミノ基、アラルキルアミノ基、アリールアミノ基等が好ましく、アルキルアミノ基、アリールアミノ基等がより好ましく、アリールアミノ基が更に好ましい。
【００６２】
前記アルキル基、アルコキシ基、アリール基及びアラルキル基としては、前述したものと同様のものが挙げられる。エステル基の具体例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等が挙げられる。
【００６３】
アルキルアミノ基の具体例としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ｎ−プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ｎ−ブチルアミノ基、イソブチルアミノ基、ｓ−ブチルアミノ基、ｔ−ブチルアミノ基、ｎ−ペンチルアミノ基、１−メチル−ｎ−ブチルアミノ基、２−メチル−ｎ−ブチルアミノ基、３−メチル−ｎ−ブチルアミノ基、１,１−ジメチル−ｎ−プロピルアミノ基、１,２−ジメチル−ｎ−プロピルアミノ基、２,２−ジメチル−ｎ−プロピルアミノ基、１−エチル−ｎ−プロピルアミノ基、ｎ−ヘキシルアミノ基、１−メチル−ｎ−ペンチルアミノ基、２−メチル−ｎ−ペンチルアミノ基、３−メチル−ｎ−ペンチルアミノ基、４−メチル−ｎ−ペンチルアミノ基、１,１−ジメチル−ｎ−ブチルアミノ基、１,２−ジメチル−ｎ−ブチルアミノ基、１,３−ジメチル−ｎ−ブチルアミノ基、２,２−ジメチル−ｎ−ブチルアミノ基、２,３−ジメチル−ｎ−ブチルアミノ基、３,３−ジメチル−ｎ−ブチルアミノ基、１−エチル−ｎ−ブチルアミノ基、２−エチル−ｎ−ブチルアミノ基、１,１,２−トリメチル−ｎ−プロピルアミノ基、１,２,２−トリメチル−ｎ−プロピルアミノ基、１−エチル−１−メチル−ｎ−プロピルアミノ基、１−エチル−２−メチル−ｎ−プロピルアミノ基等が挙げられる。
【００６４】
アルコキシシリル基含有アルキルアミノ基としては、モノアルコキシシリル基含有アルキルアミノ基、ジアルコキシシリル基含有アルキルアミノ基、トリアルコキシシリル基含有アルキルアミノ基のいずれでもよく、その具体例としては、３−トリメトキシシリルプロピルアミノ基、３−トリエトキシシリルプロピルアミノ基、３−ジメチルエトキシシリルプロピルアミノ基、３−メチルジエトキシシリルプロピルアミノ基、Ｎ−(２−アミノエチル)−３−ジメチルメトキシシリルプロピルアミノ基、Ｎ−(２−アミノエチル)−３−メチルジメトキシシリルプロピルアミノ基、Ｎ−(２−アミノエチル)−３−トリメトキシシリルプロピルアミノ基等が挙げられる。
【００６５】
アラルキルアミノ基の具体例としては、ベンジルアミノ基、メトキシカルボニルフェニルメチルアミノ基、エトキシカルボニルフェニルメチルアミノ基、ｐ−メチルフェニルメチルアミノ基、ｍ−メチルフェニルメチルアミノ基、ｏ−エチルフェニルメチルアミノ基、ｍ−エチルフェニルメチルアミノ基、ｐ−エチルフェニルメチルアミノ基、２−プロピルフェニルメチルアミノ基、４−イソプロピルフェニルメチルアミノ基、４−イソブチルフェニルメチルアミノ基、ナフチルメチルアミノ基、メトキシカルボニルナフチルメチルアミノ基、エトキシカルボニルナフチルメチルアミノ基等が挙げられる。
【００６６】
アリールアミノ基の具体例としては、フェニルアミノ基、メトキシカルボニルフェニルアミノ基、エトキシカルボニルフェニルアミノ基、ナフチルアミノ基、メトキシカルボニルナフチルアミノ基、エトキシカルボニルナフチルアミノ基、アントラニルアミノ基、ピレニルアミノ基、ビフェニルアミノ基、ターフェニルアミノ基、フルオレニルアミノ基等が挙げられる。
【００６７】
アリールオキシ基の具体例としては、フェノキシ基、ナフトキシ基、アントラニルオキシ基、ピレニルオキシ基、ビフェニルオキシ基、ターフェニルオキシ基、フルオレニルオキシ基等が挙げられる。
【００６８】
アラルキルオキシ基の具体例としては、ベンジルオキシ基、ｐ−メチルフェニルメチルオキシ基、ｍ−メチルフェニルメチルオキシ基、ｏ−エチルフェニルメチルオキシ基、ｍ−エチルフェニルメチルオキシ基、ｐ−エチルフェニルメチルオキシ基、２−プロピルフェニルメチルオキシ基、４−イソプロピルフェニルメチルオキシ基、４−イソブチルフェニルメチルオキシ基、α−ナフチルメチルオキシ基等が挙げられる。
【００６９】
これらの基は、トリアジン環上のハロゲン原子を対応する置換基を与える化合物で置換することで容易に導入することができる。この際、対応する置換基を与える化合物を他のモノマーと同時に仕込むとよい。すなわち、対応する置換基を与える化合物の存在下で、ハロゲン化シアヌル化合物と、芳香族ジアミン化合物とを反応させることで、ハイパーブランチポリマーの剛直性が緩和された、分岐度の低い柔らかいハイパーブランチポリマーを得ることができる。この手法によって得られたハイパーブランチポリマーは、溶媒への溶解性（凝集抑制）や、架橋剤との架橋性に優れたものとなるため、後述する架橋剤と組み合わせた組成物として用いる場合に特に有利である。
【００７０】
前記対応する置換基を与える化合物としては、有機モノアミン等が挙げられる。前記有機モノアミンとしては、アルキルモノアミン、アラルキルモノアミン、アリールモノアミンのいずれを用いることもできる。
【００７１】
アルキルモノアミンとしては、メチルアミン、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、イソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、イソブチルアミン、ｓ−ブチルアミン、ｔ−ブチルアミン、ｎ−ペンチルアミン、１−メチル−ｎ−ブチルアミン、２−メチル−ｎ−ブチルアミン、３−メチル−ｎ−ブチルアミン、１,１−ジメチル−ｎ−プロピルアミン、１,２−ジメチル−ｎ−プロピルアミン、２,２−ジメチル−ｎ−プロピルアミン、１−エチル−ｎ−プロピルアミン、ｎ−ヘキシルアミン、１−メチル−ｎ−ペンチルアミン、２−メチル−ｎ−ペンチルアミン、３−メチル−ｎ−ペンチルアミン、４−メチル−ｎ−ペンチルアミン、１,１−ジメチル−ｎ−ブチルアミン、１,２−ジメチル−ｎ−ブチルアミン、１,３−ジメチル−ｎ−ブチルアミン、２,２−ジメチル−ｎ−ブチルアミン、２,３−ジメチル−ｎ−ブチルアミン、３,３−ジメチル−ｎ−ブチルアミン、１−エチル−ｎ−ブチルアミン、２−エチル−ｎ−ブチルアミン、１,１,２−トリメチル−ｎ−プロピルアミン、１,２,２−トリメチル−ｎ−プロピルアミン、１−エチル−１−メチル−ｎ−プロピルアミン、１−エチル−２−メチル−ｎ−プロピルアミン、２−エチルヘキシルアミン等が挙げられる。
【００７２】
アラルキルモノアミンの具体例としては、ベンジルアミン、ｐ−メトキシカルボニルベンジルアミン、ｐ−エトキシカルボニルベンジルアミン、ｐ−メチルベンジルアミン、ｍ−メチルベンジルアミン、ｏ−メトキシベンジルアミン等が挙げられる。
【００７３】
アリールモノアミンの具体例としては、アニリン、ｐ−メトキシカルボニルアニリン、ｐ−エトキシカルボニルアニリン、ｐ−メトキシアニリン、１−ナフチルアミン、２−ナフチルアミン、アントラニルアミン、１−アミノピレン、４−ビフェニリルアミン、ｏ−フェニルアニリン、４−アミノ−ｐ−ターフェニル、２−アミノフルオレン等が挙げられる。
【００７４】
例えば、下記スキーム３に示されるように、アニリン誘導体を加えて反応させることで、少なくとも１つの末端にフェニルアミノ基を含むハイパーブランチポリマー（２１）が得られる。
【００７５】
【化１４】
0006693116.tif 000015
（式中、Ｘ及びＲは、前記と同じ。）
【００７６】
スキーム３の反応において、有機モノアミンの使用量は、ハロゲン化シアヌル化合物１当量に対して０.０５〜５００当量が好ましく、０.０５〜１２０当量がより好ましく、０.０５〜５０当量がより一層好ましい。
【００７７】
この場合の反応温度も、リニア性を抑え、分岐度を高めるという点から、反応温度は６０〜１５０℃が好ましく、８０〜１５０℃がより好ましく、８０〜１２０℃がより一層好ましい。ただし、有機モノアミン、ハロゲン化シアヌル化合物及び芳香族ジアミン化合物の３成分の混合は、低温下で行ってもよく、その場合の温度としては、−５０〜５０℃程度が好ましく、−２０〜５０℃程度がより好ましく、−２０〜１０℃が更に好ましい。低温仕込み後は、重合させる温度まで一気に（一段階で）昇温して反応を行うことが好ましい。
【００７８】
また、ハロゲン化シアヌル化合物と芳香族ジアミン化合物との２成分の混合は低温下で行ってもよく、その場合の温度としては、−５０〜５０℃程度が好ましく、−２０〜５０℃程度がより好ましく、−２０〜１０℃が更に好ましい。低温仕込み後、有機モノアミンを加え、重合させる温度まで一気に（一段階で）昇温して反応を行うことが好ましい。また、このような有機モノアミンの存在下で、ハロゲン化シアヌル化合物と芳香族ジアミン化合物とを反応させる反応は、前述したものと同様の有機溶媒を用いて行ってもよい。
【００７９】
［架橋剤］
本発明の組成物に含まれる架橋剤は、前述したトリアジン環含有重合体と反応し得る置換基を含む化合物であれば、特に限定されない。そのような化合物としては、メチロール基、メトキシメチル基等の架橋形成置換基を含むメラミン系化合物、置換尿素系化合物、エポキシ基、オキセタン基等の架橋形成置換基を含む化合物、ブロック化イソシアネート基を含む化合物、酸無水物を含む化合物、(メタ)アクリル基を含む化合物、フェノプラスト化合物等が挙げられる。これらのうち、耐熱性や保存安定性の観点から、エポキシ基、ブロック化イソシアネート基、(メタ)アクリル基を含む化合物が好ましく、特に、ブロック化イソシアネート基を含む化合物や、開始剤を用いなくとも光硬化可能な組成物を与える多官能エポキシ化合物及び／又は多官能(メタ)アクリル化合物が好ましい。なお、これらの化合物は、重合体の末端処理に用いる場合は少なくとも１個の架橋形成置換基を含んでいればよく、重合体同士の架橋処理に用いる場合は少なくとも２個の架橋形成置換基を含む必要がある。
【００８０】
多官能エポキシ化合物としては、エポキシ基を１分子中２個以上含むものであれば、特に限定されない。その具体例としては、トリス(２,３−エポキシプロピル)イソシアヌレート、１,４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１,２−エポキシ−４−(エポキシエチル)シクロヘキサン、グリセロールトリグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、２,６−ジグリシジルフェニルグリシジルエーテル、１,１,３−トリス[ｐ−(２,３−エポキシプロポキシ)フェニル]プロパン、１,２−シクロヘキサンジカルボン酸ジグリシジルエステル、４,４'−メチレンビス(Ｎ,Ｎ−ジグリシジルアニリン)、３,４−エポキシシクロヘキシルメチル−３,４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、トリメチロールエタントリグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル等が挙げられる。
【００８１】
また、多官能エポキシ化合物は、市販品としても入手が可能であり、その具体例としては、少なくとも２個のエポキシ基を含むエポキシ樹脂である、YH-434、YH-434L（以上、新日鉄住金化学(株)製）、シクロヘキセンオキサイド構造を含むエポキシ樹脂である、エポリード（登録商標）GT-401、GT-403、GT-301、GT-302、セロキサイド（登録商標）2021、3000（以上、(株)ダイセル製）、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂である、jER（登録商標）1001、1002、1003、1004、1007、1009、1010、828（以上、三菱化学(株)製）、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂である、jER 807（三菱化学(株)製）、フェノールノボラック型エポキシ樹脂である、jER 152、154（以上、三菱化学(株)製）、EPPN201、202（以上、日本化薬(株)製）、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂である、EOCN-102、EOCN-103S、EOCN-104S、EOCN-1020、EOCN-1025、EOCN-1027（以上、日本化薬(株)製）、jER 180S75（三菱化学(株)製）、脂環式エポキシ樹脂である、デナコール（登録商標）EX-252（ナガセケムテックス(株)製）、アラルダイト（登録商標）CY-175、CY-177、CY-179、CY-182、CY-192、CY-184（以上、ハンツマン・アドバンスト・マテリアルズ社製）、EPICLON（登録商標）200、400（以上、ＤＩＣ(株)製）、jER 871、872（以上、三菱化学(株)製）、ED-5661、ED-5662（以上、セラニーズコーティング(株)製）、脂肪族ポリグリシジルエーテルである、デナコール（登録商標）EX-611、EX-612、EX-614、EX-622、EX-411、EX-512、EX-522、EX-421、EX-313、EX-314、EX-321（以上、ナガセケムテックス(株)製）等を用いることもできる。
【００８２】
多官能(メタ)アクリル化合物は、(メタ)アクリル基を１分子中２個以上含むものであれば、特に限定されない。その具体例としては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジ(メタ)アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エトキシ化グリセリントリ(メタ)アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、エトキシ化ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ポリグリセリンモノエチレンオキサイドポリ(メタ)アクリレート、ポリグリセリンポリエチレングリコールポリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、１,６−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、多塩基酸変性アクリルオリゴマー等が挙げられる。
【００８３】
また、多官能(メタ)アクリル化合物は、市販品としても入手が可能であり、その具体例としては、NKエステルA-200、A-400、A-600、A-1000、A-9300、A-9300-1CL、A-TMPT、UA-53H、1G、2G、3G、4G、9G、14G、23G、ABE-300、A-BPE-4、A-BPE-6、A-BPE-10、A-BPE-20、A-BPE-30、BPE-80N、BPE-100N、BPE-200、BPE-500、BPE-900、BPE-1300N、A-GLY-3E、A-GLY-9E、A-GLY-20E、A-TMPT-3EO、A-TMPT-9EO、AT-20E、ATM-4E、ATM-35E、A-DPH、A-DCP、A-HD-N、TMPT、DCP、NPG、HD-N、NKオリゴU-15HA、バナレジンGH-1203（以上、新中村化学工業(株)製）、KAYARAD（登録商標）DPEA-12、PEG400DA、THE-330、RP-1040（以上、日本化薬(株)製）、アロニックス（登録商標）M-210、M-350（以上、東亞合成(株)製）、KAYARAD DPHA、NPGDA、PET30、DN-0075（日本化薬(株)製）等が挙げられる。
【００８４】
多塩基酸変性アクリルオリゴマーも市販品として入手が可能であり、その具体例としては、アロニックス（登録商標）M-510、520（以上、東亞合成(株)製）等が挙げられる。
【００８５】
酸無水物化合物としては、２分子のカルボン酸を脱水縮合させたカルボン酸無水物であれば、特に限定されない。その具体例としては、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、無水ナジック酸、無水メチルナジック酸、無水マレイン酸、無水コハク酸、オクチル無水コハク酸、ドデセニル無水コハク酸等の分子内に１個の酸無水物基を含むもの；１,２,３,４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、ピロメリット酸無水物、３,４−ジカルボキシ−１,２,３,４−テトラヒドロ−１−ナフタレンコハク酸二無水物、ビシクロ[３.３.０]オクタン−２,４,６,８−テトラカルボン酸二無水物、５−(２,５−ジオキソテトラヒドロ−３−フラニル)−３−メチル−３−シクロヘキセン−１,２−ジカルボン酸無水物、１,２,３,４−ブタンテトラカルボン酸二無水物、３,３',４,４'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３,３',４,４'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２,２−ビス(３,４−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン二無水物、１,３−ジメチル−１,２,３,４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物等の分子内に２個の酸無水物基を含むもの等が挙げられる。
【００８６】
ブロック化イソシアネート基を含む化合物としては、イソシアネート基（−ＮＣＯ）が適当な保護基によりブロックされたブロック化イソシアネート基を１分子中２個以上含み、熱硬化の際の高温に曝されると、保護基（ブロック部分）が熱解離して外れ、生じたイソシアネート基が樹脂との間で架橋反応を起こすものであれば、特に限定されない。このような化合物としては、例えば、下記式で表される基を１分子中２個以上（なお、これらの基は同一のものでも、また各々異なっているものでもよい）含む化合物が挙げられる。
【００８７】
【化１５】
0006693116.tif 000016
（式中、Ｒbは、保護基を表す。）
【００８８】
このような化合物は、例えば、１分子中２個以上のイソシアネート基を含む化合物に対して適当なブロック剤を反応させて得ることができる。
【００８９】
１分子中２個以上のイソシアネート基を含む化合物としては、例えば、イソホロンジイソシアネート、１,６−ヘキサメチレンジイソシアネート、メチレンビス(４−シクロヘキシルイソシアネート)、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等のポリイソシアネート、これらの二量体、三量体、及びこれらとジオール類、トリオール類、ジアミン類又はトリアミン類との反応物等が挙げられる。
【００９０】
ブロック剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、１−ブタノール、２−エトキシヘキサノール、２−Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノエタノール、２−エトキシエタノール、シクロヘキサノール等のアルコール類；フェノール、ｏ−ニトロフェノール、ｐ−クロロフェノール、ｏ−、ｍ−又はｐ−クレゾール等のフェノール類；ε−カプロラクタム等のラクタム類、アセトンオキシム、メチルエチルケトンオキシム、メチルイソブチルケトンオキシム、シクロヘキサノンオキシム、アセトフェノンオキシム、ベンゾフェノンオキシム等のオキシム類；ピラゾール、３,５−ジメチルピラゾール、３−メチルピラゾール等のピラゾール類；ドデカンチオール、ベンゼンチオール等のチオール類等が挙げられる。
【００９１】
ブロック化イソシアネートを含む化合物は、市販品としても入手が可能であり、その具体例としては、タケネート（登録商標）B-830、B-815N、B-842N、B-870N、B-874N、B-882N、B-7005、B-7030、B-7075、B-5010（以上、三井化学(株)製）、デュラネート（登録商標）17B-60PX、TPA-B80E、MF-B60X、MF-K60X、E402-B80T（以上、旭化成ケミカルズ(株)製）、カレンズMOI-BM（登録商標）（昭和電工(株)製）、BI-7950、BI-7951、BI-7960、BI-7961、BI-7963、BI-7982、BI-7991、BI-7992（Baxenden chemicals社製）等が挙げられる。
【００９２】
アミノプラスト化合物としては、メトキシメチレン基を１分子中２個以上含むものであれば、特に限定されず、例えば、CYMEL（登録商標）303（ヘキサメトキシメチルメラミン）、1170（テトラブトキシメチルグリコールウリル）、1123（テトラメトキシメチルベンゾグアナミン）（以上、オルネクス社製）等のサイメルシリーズ、メチル化メラミン樹脂であるニカラック（登録商標）MW-30HM、MW-390、MW-100LM、MX-750LM、メチル化尿素樹脂であるニカラック（登録商標）MX-270、MX-280、MX-290（以上、(株)三和ケミカル製）等のニカラックシリーズ等のメラミン系化合物が挙げられる。
【００９３】
オキセタン化合物としては、オキセタニル基を１分子中２個以上含むものであれば特に限定されず、例えば、アロンオキセタン（登録商標）OXT-221、OX-SQ-H、OX-SC（以上、東亞合成(株)製）等が挙げられる。
【００９４】
フェノプラスト化合物は、ヒドロキシメチレン基を１分子中２個以上含み、そして熱硬化の際の高温に曝されると、本発明の重合体との間で脱水縮合反応により架橋反応が進行するものである。
【００９５】
フェノプラスト化合物としては、例えば、２,６−ジヒドロキシメチル−４−メチルフェノール、２,４−ジヒドロキシメチル−６−メチルフェノール、ビス(２−ヒドロキシ−３−ヒドロキシメチル−５−メチルフェニル)メタン、ビス(４−ヒドロキシ−３−ヒドロキシメチル−５−メチルフェニル)メタン、２,２−ビス(４−ヒドロキシ−３,５−ジヒドロキシメチルフェニル)プロパン、ビス(３−ホルミル−４−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス(４−ヒドロキシ−２,５―ジメチルフェニル)ホルミルメタン、α,α−ビス(４−ヒドロキシ−２,５―ジメチルフェニル)−４−ホルミルトルエン等が挙げられる。
【００９６】
フェノプラスト化合物は、市販品としても入手が可能であり、その具体例としては、26DMPC、46DMOC、DM-BIPC-F、DM-BIOC-F、TM-BIP-A、BISA-F、BI25X-DF、BI25X-TPA（以上、旭有機材工業(株)製）等が挙げられる。
【００９７】
これらの中でも、架橋剤配合による屈折率低下を抑制し得るとともに、硬化反応が速やかに進行するという点から、多官能(メタ)アクリル化合物が好適であり、その中でも、トリアジン環含有重合体との相溶性に優れていることから、下記イソシアヌル酸骨格を含む多官能(メタ)アクリル化合物がより好ましい。このような骨格を含む多官能(メタ)アクリル化合物としては、例えば、NKエステルA-9300、A-9300-1CL（以上、新中村化学工業(株)製）等が挙げられる。
【００９８】
【化１６】
0006693116.tif 000017
（式中、Ｒ111〜Ｒ113は、互いに独立して、末端に少なくとも１つの(メタ)アクリル基を含む１価の有機基である。）
【００９９】
また、硬化速度をより向上させるとともに、得られる硬化膜の耐溶媒性及び耐酸性、耐アルカリ性を高めるという観点から、２５℃で液体であり、かつ、その粘度が５,０００ｍＰａ・ｓ以下、好ましくは１〜３,０００ｍＰａ・ｓ、より好ましくは１〜１,０００ｍＰａ・ｓ、より一層好ましくは１〜５００ｍＰａ・ｓの多官能(メタ)アクリル化合物（以下、低粘度架橋剤という）を、１種単独若しくは２種以上組み合わせて、又は前記イソシアヌル酸骨格を含む多官能(メタ)アクリル化合物と組み合わせて用いることが好適である。
【０１００】
このような低粘度架橋剤も市販品として入手可能であり、例えば、前述した多官能(メタ)アクリル化合物のうち、NKエステルA-GLY-3E（８５ｍＰａ・ｓ、２５℃）、A-GLY-9E（９５ｍＰａ・ｓ、２５℃）、A-GLY-20E（２００ｍＰａ・ｓ、２５℃）、A-TMPT-3EO（６０ｍＰａ・ｓ、２５℃）、A-TMPT-9EO、ATM-4E（１５０ｍＰａ・ｓ、２５℃）、ATM-35E（３５０ｍＰａ・ｓ、２５℃）（以上、新中村化学工業(株)製）等の(メタ)アクリル基間の鎖長が比較的長い架橋剤が挙げられる。
【０１０１】
更に、得られる硬化膜の耐アルカリ性も向上させることを考慮すると、NKエステルA-GLY-20E及びATM-35E（以上、新中村化学工業(株)製）の少なくとも一方と、前記イソシアヌル酸骨格を含む多官能(メタ)アクリル化合物と組み合わせて用いることが好適である。
【０１０２】
前記架橋剤は、１種単独で使用しても、２種以上組み合わせて使用してもよい。架橋剤の使用量は、トリアジン環含有重合体１００質量部に対して１〜１００質量部が好ましいが、溶媒耐性を考慮すると、その下限は、好ましくは２質量部、より好ましくは５質量部であり、屈折率をコントロールすることを考慮すると、その上限は、好ましくは５０質量部であり、より好ましくは２０質量部である。
【０１０３】
本発明の光散乱膜形成用組成物には、各架橋剤に応じた開始剤を配合することもできる。なお、前述のとおり、架橋剤として多官能エポキシ化合物及び／又は多官能(メタ)アクリル化合物を用いる場合、開始剤を使用せずとも光硬化が進行して硬化膜を与えるが、その場合に開始剤を使用しても差し支えない。
【０１０４】
多官能エポキシ化合物を架橋剤として用いる場合には、光酸発生剤や光塩基発生剤を用いることができる。
【０１０５】
光酸発生剤としては、公知のものから適宜選択して用いればよく、例えば、ジアゾニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩等のオニウム塩誘導体を用いることができる。その具体例としては、フェニルジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、４−メトキシフェニルジアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート、４−メチルフェニルジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート等のアリールジアゾニウム塩；ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジ(４−メチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ジ(４−ｔ−ブチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート等のジアリールヨードニウム塩；トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス(４−メトキシフェニル)スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニル−４−チオフェノキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニル−４−チオフェノキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、４,４'−ビス(ジフェニルスルホニオ)フェニルスルフィド−ビスヘキサフルオロアンチモネート、４,４'−ビス(ジフェニルスルホニオ)フェニルスルフィド−ビスヘキサフルオロホスフェート、４,４'−ビス[ジ(β−ヒドロキシエトキシ)フェニルスルホニオ]フェニルスルフィド−ビスヘキサフルオロアンチモネート、４,４'−ビス[ジ(β−ヒドロキシエトキシ)フェニルスルホニオ]フェニルスルフィド−ビス−ヘキサフルオロホスフェート、４−[４'−(ベンゾイル)フェニルチオ]フェニル−ジ(４−フルオロフェニル)スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、４−[４'−(ベンゾイル)フェニルチオ]フェニル−ジ(４−フルオロフェニル)スルホニウムヘキサフルオロホスフェート等のトリアリールスルホニウム塩等が挙げられる。
【０１０６】
光酸発生剤は市販品を用いてもよく、その具体例としては、サンエイド（登録商標）SI-60、SI-80、SI-100、SI-60l、SI-80l、SI-100l、SI-L145、SI-L150、SI-L160、SI-L110、SI-L147（以上、三新化学工業(株)製）、UVI-6950、UVI-6970、UVI-6974、UVI-6990、UVI-6992（以上、ユニオンカーバイド社製）、CPI（登録商標）-100P、100A、200K、200S（以上、サンアプロ(株)製）、アデカオプトマーSP-150、SP-151、SP-170、SP-171（以上、(株)ＡＤＥＫＡ製）、イルガキュア（登録商標）261（ＢＡＳＦ社製）、CI-2481、CI-2624、CI-2639、CI-2064（以上、日本曹達(株)製）、CD-1010、CD-1011、CD-1012（以上、サートマー社製）、DS-100、DS-101、DAM-101、DAM-102、DAM-105、DAM-201、DSM-301、NAI-100、NAI-101、NAI-105、NAI-106、SI-100、SI-101、SI-105、SI-106、PI-105、NDI-105、MBZ-101、MBZ-301、PYR-100、PYR-200、DNB-101、NB-101、NB-201、BBI-101、BBI-102、BBI-103、BBI-109（以上、みどり化学(株)製）、PCI-061T、PCI-062T、PCI-020T、PCI-022T（以上、日本化薬(株)製）、IBPF、IBCF（三和ケミカル(株)製）等が挙げられる。
【０１０７】
一方、光塩基発生剤としても、公知のものから適宜選択して用いればよく、例えば、Ｃｏ−アミン錯体系、オキシムカルボン酸エステル系、カルバミン酸エステル系、第四級アンモニウム塩系光塩基発生剤等を用いることができる。
【０１０８】
その具体例としては、２−ニトロベンジルシクロヘキシルカルバメート、トリフェニルメタノール、Ｏ−カルバモイルヒドロキシアミン、Ｏ−カルバモイルオキシム、[[(２,６−ジニトロベンジル)オキシ]カルボニル]シクロヘキシルアミン、ビス[[(２−ニトロベンジル)オキシ]カルボニル]ヘキサン−１,６−ジアミン、４−(メチルチオベンゾイル)−１−メチル−１−モルホリノエタン、(４−モルホリノベンゾイル)−１−ベンジル−１−ジメチルアミノプロパン、Ｎ−(２−ニトロベンジルオキシカルボニル)ピロリジン、ヘキサアンミンコバルト(III)トリス(トリフェニルメチルボレート)、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−(４−モルホリノフェニル)−ブタノン、２,６−ジメチル−３,５−ジアセチル−４−(２'−ニトロフェニル)−１,４−ジヒドロピリジン、２,６−ジメチル−３,５−ジアセチル−４−(２',４'−ジニトロフェニル)−１,４−ジヒドロピリジン等が挙げられる。
【０１０９】
光塩基発生剤は市販品を用いてもよく、その具体例としては、TPS-OH、NBC-101、ANC-101（以上、みどり化学(株)製）等が挙げられる。
【０１１０】
光酸又は塩基発生剤を用いる場合、その使用量は、多官能エポキシ化合物１００質量部に対して０.１〜１５質量部が好ましく、１〜１０質量部がより好ましい。なお、必要に応じてエポキシ樹脂硬化剤を、多官能エポキシ化合物１００質量部に対して１〜１００質量部の量で配合してもよい。
【０１１１】
一方、多官能(メタ)アクリル化合物を用いる場合には、光ラジカル重合開始剤を用いることができる。光ラジカル重合開始剤は、公知のものから適宜選択して用いればよく、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーのベンゾイルベンゾエート、アミロキシムエステル、オキシムエステル類、テトラメチルチウラムモノサルファイド、チオキサントン類等が挙げられる。
【０１１２】
特に、光開裂型の光ラジカル重合開始剤が好ましい。光開裂型の光ラジカル重合開始剤については、最新ＵＶ硬化技術（１５９頁、発行人：高薄一弘、発行所：(株)技術情報協会、１９９１年発行）に記載されている。
【０１１３】
市販の光ラジカル重合開始剤としては、例えば、イルガキュア127、184、369、379、379EG、651、500、754、819、903、907、784、2959、CGI1700、CGI1750、CGI1850、CG24−61、OXE01、OXE02、ダロキュア（登録商標）1116、1173、MBF、ルシリンTPO（以上、ＢＡＳＦ社製）、UVECRYL（登録商標）P36（サイテックサーフェイススペシャルティーズ社製）、ESACURE（登録商標）KIP150、KIP65LT、KIP100F、KT37、KT55、KTO46、KIP75/B（ランベルティ社製）等が挙げられる。
【０１１４】
光ラジカル重合開始剤を用いる場合、その使用量は、多官能(メタ)アクリレート化合物１００質量部に対して０.１〜２００質量部が好ましく、１〜１５０質量部がより好ましい。
【０１１５】
［光散乱剤］
本発明の組成物に含まれる光散乱剤は、チタン酸バリウム粒子を含むものである。前記チタン酸バリウム粒子は、得られる硬化膜の光散乱性、光透過性及び誘電性を高めるために、公知のものから適宜選択して用いればよい。チタン酸バリウム粒子は、１種単独で用いても、２種以上混合して用いてもよい。
【０１１６】
チタン酸バリウム粒子は、シュウ酸法、水熱法、ゾルゲル法、噴霧熱分解法等の液相法や固相法で合成されるがいずれの方法によって得られたものであってもよい。これらの中でも、粒子の微粒化や粒度分布がシャープになるという観点から、固相法よりも液相法が好ましい。更に、機械的な強粉砕が必要で装置等からのコンタミネーションが多く粒度分布がブロードになりやすいブレークダウン方式よりも、比較的弱い粉砕で単分散可能でシャープな粒度分布となりやすいビルドアップ方式で合成したチタン酸バリウムが好ましい。
【０１１７】
チタン酸バリウム粒子の平均一次粒子径は、特に限定されないが、分散性をより高めるとともに、得られる硬化膜をより薄膜化すること、硬化膜の平坦性をより高めるという観点から、３μｍ以下が好ましく、２μｍ以下がより好ましく、１μｍ以下がより一層好ましい。また、得られる硬化膜に十分な光拡散性を発揮させる観点から、５０ｎｍ以上が好ましく、１００ｎｍ以上がより好ましく、１５０ｎｍ以上がより一層好ましい。なお、本発明において平均一次粒子径は、Ｍｉｅ理論に基づくレーザー回折・散乱法により測定して得られる５０％積算体積径（メジアン径、Ｄ50）である。
【０１１８】
粒度分布がシャープであるとは、走査型電子顕微鏡等で１００個のチタン酸バリウム粒子の一次粒子径を測定してその平均を算出し、標準偏差÷平均径×１００から算出されるＣＶ値が、２０％以下であることであり、１５％以下であることが好ましく、１０％以下がより好ましい。
【０１１９】
粒子形状にとしては、走査型電子顕微鏡等による観察で測定した長径と短径との比（長径／短径）が３以下であることが好ましく、２以下がより好ましく、１.５以下がより一層好ましい。
【０１２０】
チタン酸バリウム粒子としては、市販品を使用することができ、例えば、チタン酸バリウムＢＴシリーズ（堺化学工業(株)製）、BT-HP9DX（粒子径：１００、１５０、２００、２５０、３００、４００ｎｍ）（共立マテリアル(株)製）、パルセラム（登録商標）BT（粒子径：０.３、０.６、２.０μｍ）（日本化学工業(株)製）、チタン酸バリウムBT-シリーズ、HP-シリーズ（富士チタン工業(株)製）、TFP-NA-E、TFP-NB-E、TFP-NC-E、TFP-ND-E、TFP-NE-E、TFP-NF-E、TFP-NJ-R（以上、戸田工業(株)製）等が挙げられる。
【０１２１】
前記光散乱剤は、本発明の効果を損なわない範囲で、チタン酸バリウム粒子以外の、その他の光散乱剤を含んでもよい。その他の光散乱剤としては、無機微粒子、有機微粒子、有機無機複合微粒子などが挙げられる。なお、その他の光散乱剤は単独で用いても、２種以上組み合わせて用いてもよい。
【０１２２】
前記無機微粒子としては、特に限定されないが、本発明においては、Ｂｅ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｃａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔａ、Ｗ、Ｐｂ、Ｂｉ及びＣｅからなる群から選ばれる１種又は２種以上の金属の酸化物、硫化物又は窒化物が好適であり、特に、これらの金属酸化物が好適である。
【０１２３】
金属酸化物の具体例としては、Ａｌ2Ｏ3、ＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、Ｆｅ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ5、ＢｅＯ、ＺｎＯ、ＳｎＯ2、ＣｅＯ2、ＳｉＯ2、ＷＯ3等が挙げられる。また、複数の金属酸化物から得られる複合酸化物を用いてもよい。複合酸化物とは、微粒子の製造段階で２種以上の無機酸化物を混合させて得られるものである。例えば、ＴｉＯ2とＺｒＯ2、ＴｉＯ2とＺｒＯ2とＳｎＯ2、ＺｒＯ2とＳｎＯ2との複合酸化物等が挙げられる。更に、ＺｎＳｂ2Ｏ6、ＳｒＴｉＯ3、ＳｒＳｎＯ3等を使用することもできる。
【０１２４】
前記無機微粒子は、酸化ケイ素、有機ケイ素化合物、有機金属化合物等で処理したものであってもよい。なお、酸化ケイ素による処理とは、無機微粒子を含む分散体中で微粒子表面に、酸化ケイ素微粒子を公知の方法で成長させるものである。有機ケイ素化合物又は有機金属化合物による処理とは、無機微粒子を含む分散体中に、これらの化合物を添加し、加熱攪拌するものである。
【０１２５】
前記有機ケイ素化合物としては、シランカップリング剤やシランが挙げられる。シランカップリング剤の具体例としては、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、２−(３,４−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、ｐ−スチリルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−(アミノエチル)−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−２−(アミノエチル)−３−アミノプロピルメチルトリメトキシシラン、Ｎ−２−(アミノエチル)−３−アミノプロピルメチルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−トリエトキシシリル−Ｎ−(１,３−ジメチル−ブチリデン)プロピルアミン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビス(トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィド、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。
【０１２６】
また、シランの具体例としては、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシランフェニルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン等が挙げられる。
【０１２７】
前記有機金属化合物としては、チタネート系カップリング剤やアルミニウム系カップリング剤が挙げられ、チタネート系カップリング剤の具体例としては、プレンアクト（登録商標）KR TTS、KR 46B、KR 38B、KR 138S、KR238S、338X、KR 44、KR 9SA、KR ET5、KR ET（味の素ファインテクノ(株)製）、アルミニウム系カップリング剤の具体例としては、プレンアクトAL-M（味の素ファインテクノ(株)製）等が挙げられる。
【０１２８】
これら有機ケイ素化合物、有機金属化合物の使用量は、前記無機微粒子１００質量部に対して２〜１００質量部が好ましい。
【０１２９】
金属酸化物微粒子は、公知の方法、例えば、イオン交換法、解こう法、加水分解法、反応法により製造することができる。イオン交換法としては、例えば、前記金属の酸性塩を水素型イオン交換樹脂で処理する方法や、前記金属の塩基性塩を水酸基型陰イオン交換樹脂で処理する方法等が挙げられる。解こう法としては、前記金属の酸性塩を塩基で中和する方法等が挙げられる。加水分解法としては、前記金属のアルコキシドを加水分解する方法、又は前記金属の塩基性塩を加熱下で加水分解した後、不要の酸を除去する方法等が挙げられる。反応法の例としては、前記金属の粉末と酸とを反応させる方法等が挙げられる。
【０１３０】
前記有機微粒子としては、架橋ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）粒子、架橋ポリメチルアクリレート粒子、架橋ポリスチレン粒子、架橋スチレンアクリル共重合粒子、メラミン−ホルムアルデヒド粒子、シリコーン樹脂粒子、シリカ・アクリル複合粒子、ナイロン粒子、ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド粒子、ベンゾグアナミン・メラミン・ホルムアルデヒド粒子、フッ素樹脂粒子、エポキシ樹脂粒子、ポリフェニレンスルフィド樹脂粒子、ポリエーテルスルホン樹脂粒子、ポリアクリロニトリル粒子、ポリウレタン粒子等が挙げられる。このような有機微粒子としては市販品を使用することができ、例えば、架橋ＰＭＭＡ粒子であるMX-150（綜研化学(株)製）、テクポリマー（登録商標）SSXシリーズ（積水化成品工業(株)製）、タフチック（登録商標）FH-Sシリーズ（東洋紡(株)製）、架橋スチレン−アクリル系中空粒子であるナノテックス（登録商標）（ＪＳＲ(株)製）、シリコーン樹脂粒子であるトスパール（登録商標）シリーズ（モメンティブ社製）、ＫＭＰシリーズ（信越化学工業(株)製）、ポリスチレン系及びポリメタクリル酸エステル系粒子であるガンツパール（登録商標）シリーズ（ガンツ化成(株)製）、シリカ・アクリル複合粒子であるソリオスター（登録商標）RA、SP（(株)日本触媒製）、ナイロン粒子であるアミラン（登録商標）（東レ(株)製）、ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド粒子であるエポスター（登録商標）MS、M05、l15（(株)日本触媒製）、ベンゾグアナミン・メラミン・ホルムアルデヒド粒子であるエポスターM30（(株)日本触媒製）、フッ素樹脂粒子であるFluon（登録商標）PTFEディスパージョン（旭硝子(株)製）、エポキシ樹脂粒子であるトレパール（登録商標）EP（東レ(株)製）、ポリフェニレンスルフィド樹脂粒子であるトレパールPPS（東レ(株)製）、ポリエーテルスルホン樹脂粒子であるトレパールPES（東レ(株)製）、ポリアクリロニトリル粒子であるタフチックＦシリーズF-120（東洋紡(株)製）、ポリウレタン粒子であるアートパール（登録商標）（架橋ウレタンビーズＭＭ、根上工業(株)製）等が挙げられる。
【０１３１】
有機無機複合微粒子としては、例えば、メラミン樹脂・シリカ複合粒子等が挙げられる。このような有機無機複合微粒子としては市販品を使用することができ、例えば、メラミン樹脂・シリカ複合粒子であるオプトビーズ（登録商標）500S（日産化学工業(株)製）等が挙げられる。前記有機無機複合微粒子は、表面修飾剤で処理したものを用いることが好ましい。この場合、表面修飾剤としては、マトリックス樹脂と光拡散剤との相溶性を向上し得るものであれば特に限定されないが、マトリックス樹脂がトリアジン環含有重合体であることを考慮すると、シランカップリング剤及び(メタ)アクリル基とイソシアネート基とを有する化合物の２成分を併用することが好ましい。
【０１３２】
その他の光散乱剤の平均一次粒子径、粒度分布及び形状は、特に限定されないが、チタン酸バリウム粒子と同様のものであることが好ましい。
【０１３３】
前記光散乱剤は、マトリックス樹脂であるトリアジン環含有重合体との相溶性や溶媒中での分散性を高められていれば、表面修飾剤にて処理していても、処理していなくてもよい。
【０１３４】
表面修飾剤としては、特に限定されないが、例えば、酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム等の無機酸化物や、多価アルコール、アルカノールアミン、シリコーンオイル、シランカップリング剤、チタンカップリング剤等が挙げられる。
【０１３５】
光散乱剤の使用量は、特に限定されないが、得られる光散乱膜の光散乱効率をより高めることを考慮すると、トリアジン環含有重合体１００質量部に対して、その下限は、好ましくは１質量部、より好ましくは５質量部、より一層好ましくは３０質量部であり、硬化膜の光透過率の低下抑制や製膜性の低下抑制等を考慮すると、その上限は、好ましくは５００質量部、より好ましくは３００質量部、より一層好ましくは１００質量部である。
【０１３６】
光散乱剤中のチタン酸バリウム粒子の含有量は、全光散乱剤中、１質量％以上であることが好ましく、２０質量％以上であることがより好ましく、５０質量％以上がより一層好ましく、１００質量％であることがより一層好ましい。
【０１３７】
［溶媒］
本発明の組成物には各種溶媒を添加し、トリアジン環含有重合体を溶解させて使用することが好ましい。前記溶媒としては、重合体との相溶性を損なわなければ特に限定されないが、光散乱剤の分散能を有するものが好ましい。このような溶媒としては、水、トルエン、ｐ−キシレン、ｏ−キシレン、ｍ−キシレン、エチルベンゼン、スチレン、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコ−ルモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコール、１−オクタノール、エチレングリコール、ヘキシレングリコール、トリメチレングリコール、１−メトキシ−２−ブタノール、シクロヘキサノール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、プロピレングリコール、ベンジルアルコール、１,３−ブタンジオール、１,４−ブタンジオール、２,３−ブタンジオール、γ−ブチロラクトン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルｎ−ブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸イソブチル、酢酸ｎ−ブチル、乳酸エチル、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、ｔ−ブチルアルコール、アリルアルコール、２−メチル−２−ブタノール、イソブチルアルコール、１−ブタノール、２−メチル−１−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−１−ペンタノール、２−エチルヘキサノール、１−メトキシ−２−プロパノール、テトラヒドロフラン、１,４−ジオキサン、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、Ｎ−メチルピロリドン、１,３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、Ｎ−シクロヘキシル−２−ピロリジノン等が挙げられる。これらは、１種単独で用いても、２種以上混合して用いてもよい。なお、前記溶媒は、トリアジン環含有重合体の重合時に用いた溶媒と同じものでも別のものでもよい。
【０１３８】
［その他の成分］
本発明の組成物には、本発明の効果を損なわない限りにおいて、前述した成分以外のその他の成分、例えば、レベリング剤、界面活性剤等の添加剤が含まれていてもよい。
【０１３９】
界面活性剤としては、例えば、ノニオン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤、オルガノシロキサンポリマー等が挙げられる。
【０１４０】
ノニオン系界面活性剤としては、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類；ポリオキシエチレンオクチルフェノールエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェノールエーテル等のポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル類；ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタントリオレエート、ソルビタントリステアレート等のソルビタン脂肪酸エステル類；ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレエート、ポリオキシエチレンソルビタントリステアレート等のポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等が挙げられる。
【０１４１】
フッ素系界面活性剤としては、エフトップ（登録商標）EF301、EF303、EF352（三菱マテリアル電子化成(株)製）、メガファック（登録商標）F171、F173、R-08、R-30、R-40、F-553、F-554、RS-75、RS-72-K（ＤＩＣ(株)製）、FLUORAD（登録商標）FC430、FC431（３Ｍ社製）、商品名アサヒガード（登録商標）AG710（旭硝子(株)製）、サーフロン（登録商標）S-382、SC101、SC102、SC103、SC104、SC105、SC106（ＡＧＣセイミケミカル(株)）等が挙げられる。
【０１４２】
オルガノシロキサンポリマーとしては、KP341（信越化学工業(株)製）、BYK-302、BYK-307、BYK-322、BYK-323、BYK-330、BYK-333、BYK-370、BYK-375、BYK-378（以上、BYK-Chemie社製）等が挙げられる。
【０１４３】
界面活性剤は、１種単独で使用しても、２種以上組み合わせて使用してもよい。界面活性剤の使用量は、トリアジン環含有重合体１００質量部に対して０.０００１〜５質量部が好ましく、０.００１〜１質量部がより好ましく、０.０１〜０.５質量部がより一層好ましい。
【０１４４】
［光散乱膜形成用組成物］
本発明の光散乱膜形成用組成物は、前記トリアジン環含有重合体、架橋剤、光散乱剤、及び必要に応じて溶媒やその他の成分を、任意の順序で混合することによって調製することができる。例えば、溶媒に前記トリアジン環含有重合体を溶解させた後、光散乱剤を添加してこれを分散させ、その後、架橋剤や必要に応じてその他の成分を添加することで調製することができる。
【０１４５】
光散乱剤の分散処理法としては、特に限定されず、超音波処理、湿式ジェットミル、ボールミル、ビーズミル、ペイントシェーカー、バスケットミル、ダイノーミル、ウルトラビスコミル、アニュラー型分散機等を用いることができる。また、これらにより得られた光散乱膜形成用組成物は、必要に応じて公知のろ過機や分離機を用いて更に処理してもよい。
【０１４６】
本発明の組成物中の固形分濃度は、保存安定性に影響を与えない範囲であれば特に限定されず、目的とする膜の厚みに応じて適宜設定すればよい。具体的には、溶解性及び保存安定性の観点から、０.１〜５０質量％が好ましく、０.１〜４０質量％がより好ましい。なお、固形分とは、組成物の成分のうち溶媒を除いたものをいう。
【０１４７】
［光散乱膜］
本発明の光散乱膜形成用組成物を基材に塗布し、その後、必要に応じて加熱して溶媒を蒸発させた後、加熱又は光照射することで、所望の光散乱膜を得ることができる。
【０１４８】
組成物の塗布方法は任意であり、例えば、スピンコート法、ディップ法、フローコート法、インクジェット法、ジェットディスペンサー法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート法、スリットコート法、ロールコート法、転写印刷法、刷毛塗り、ブレードコート法、エアーナイフコート法、スクリーン印刷法等の方法を採用できる。
【０１４９】
また、基材としては、シリコン、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）が成膜されたガラス、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）が成膜されたガラス、金属ナノワイヤ、サファイアガラス、ガラス、石英、セラミックス等からなる基材、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリイミド等のプラスチックが挙げられ、可撓性を有するフレキシブル基材を用いることもできる。
【０１５０】
焼成温度は、溶媒を蒸発させる目的では特に限定されず、例えば４０〜４００℃で行うことができる。
【０１５１】
焼成方法は、特に限定されず、例えば、ホットプレートやオーブンを用いて、大気、窒素等の不活性ガス、真空中等の適切な雰囲気下で蒸発させればよい。
【０１５２】
焼成温度及び焼成時間は、目的とする電子デバイスのプロセス工程に適合した条件を選択すればよく、得られる膜の物性値が電子デバイスの要求特性に適合するような焼成条件を選択すればよい。
【０１５３】
光照射する場合の条件も特に限定されず、用いるトリアジン環含有重合体及び架橋剤に応じて、適宜な照射エネルギー及び時間を採用すればよい。
【０１５４】
このようにして得られた本発明の光散乱膜は、そのヘーズ値を増加させなくても光拡散効率及び光取出し効率に優れるものである。本発明の光散乱膜のヘーズ値は、通常、３０〜７５であるが、３５〜７０が好ましく、４５〜６５が一層好ましい。ヘーズ値が前記範囲であれば、ヘーズ値を増加させなくても光拡散効率及び光取出し効率に優れる。なお、本発明においてヘーズ値は、ＪＩＳ Ｋ ７１３６に従って測定される値である。
【０１５５】
本発明の光散乱膜は、高耐熱性、高透明性、高屈折率、高溶解性及び低体積収縮を達成できるため、液晶ディスプレイ、有機ＥＬ素子（有機ＥＬディスプレイや有機ＥＬ照明）、ＬＥＤ素子、固体撮像素子、有機薄膜太陽電池、色素増感太陽電池、ＴＦＴ等の電子デバイスを作製する際の一部材、セラミックコンデンサ、セラミック積層コンデンサ、ＰＣＴサーミスタ、圧電素子等の誘電材料として好適に利用でき、特に、光拡散性に優れているため有機ＥＬ素子やＬＥＤ素子の光散乱層用材料として好適に利用できる。
【０１５６】
得られた光散乱膜の平坦性をより高めるため、前述した光散乱膜形成用組成物から、光拡散剤を除いた組成物を平坦化材料とし、これを用いて前記光散乱膜の上に平坦化膜を更に積層してもよい。この平坦化材料において、トリアジン環含有重合体や架橋剤等の具体例や、それらの配合量及び膜形成方法は、前述のとおりである。
【０１５７】
前記平坦化膜が積層された光散乱膜のヘーズ値は、通常、２５〜７０であるが、３０〜６５がより好ましく、４０〜６０がより一層好ましい。ヘーズ値が前記範囲であれば、そのヘーズ値を増加させなくても光拡散効率及び光取出し効率に優れる。
【実施例】
【０１５８】
以下、合成例、実施例及び比較例を示して本発明を具体的に説明するが、本発明は下記実施例に限定されない。なお、実施例で用いた測定装置及び試薬は以下のとおりである。
【０１５９】
［1Ｈ−ＮＭＲ］
装置：Varian NMR System 400NB (400 MHz)
JEOL-ECA700 (700 MHz)
測定溶媒：DMSO-d6
基準物質：テトラメチルシラン（ＴＭＳ）（δ０.０ｐｐｍ）
［ＧＰＣ］
装置：東ソー(株)製HLC-8200 GPC
カラム：Shodex KF-804L+KF-805l
カラム温度：４０℃
溶媒：テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）
検出器：ＵＶ（254 nm）
検量線：標準ポリスチレン
［ボールミル］
ヤマト科学(株)製ユニバーサルボールミルUB-32
［縦型バッチ式ビーズミル］
アイメックス(株)製RMB、容器容量：800mL
［スパッタ装置］
サンユー電子(株)製SRS-700T/LL
［エリプソメーター］
装置：ジェー・エー・ウーラム・ジャパン製多入射角分光エリプソメーターVASE
［示差熱天秤（ＴＧ−ＤＴＡ）］
装置：(株)リガク製TG-8120
昇温速度：１０℃／分
測定温度：２５−７５０℃
［光散乱膜の膜厚測定］
装置：(株)小坂研究所製ET-4000
［粒度分布測定］
装置：日機装(株)製マイクロトラック超微粒子粒度分析計UPA-EX150
［全光線透過率（Ｔ.Ｔ.）、ヘーズ値、平行光透過率（Ｐ.Ｔ.）及び拡散光透過率（ＤＩＦ）測定］
装置：日本電色工業(株)製  ＮＤＨ５０００
［光透過・散乱特性測定］
装置：分光計器(株)製積分球型透過蛍光測定装置
電子情報通信学会EID2011-16 (2012-01), pp. 5-8記載のものと同等の装置を作製し測定した。（市販の装置：分光計器製）
［光取出し指数の計算］
電子情報通信学会EID2011-16 (2012-01), pp. 5-8記載のものと同等のソフトウエアを用いて算出した。
［チタン酸バリウム粒子］
戸田工業(株)製チタン酸バリウム粒子粉末TFP-NJ-R、平均一次粒子径：１７５ｎｍ
［酸化チタン粒子］
ＴＡＹＣＡ(株)製ルチル形酸化チタンJR-600A、平均一次粒子径：０.２５μｍ
［Ｆ−４７７］
ＤＩＣ(株)製界面活性剤メガファック（登録商標）Ｆ−４７７
［３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン］
信越化学工業(株)製KBE-503
［架橋剤］
Baxenden chemicals社製BI-7992
三井化学(株)製B-882N
【０１６０】
［１］トリアジン環含有ハイパーブランチポリマーの合成
［合成例１］トリアジン環含有ハイパーブランチポリマーHB-TmDAの合成
【０１６１】
窒素雰囲気下、１,０００ｍＬ四口フラスコにＤＭＡｃ４５６.０２ｇを加え、アセトン−ドライアイス浴により−１０℃まで冷却し、２,４,６−トリクロロ−１,３,５−トリアジン（８４.８３ｇ、０.４６０ｍｏｌ、エポニックデグザ社製）を加え溶解した。その後、ＤＭＡｃ３０４.０１ｇに溶解したｍ−フェニレンジアミン（６２.１８ｇ、０.５７５ｍｏｌ）、及びアニリン（１４.５７ｇ、０.１５６ｍｏｌ）を滴下した。滴下後３０分間攪拌し、この反応溶液を、予め２,０００ｍＬ四口フラスコにＤＭＡｃ６２１.８５ｇを加えてオイルバスで８５℃に加熱してある槽へ送液ポンプにより１時間かけて滴下し、１時間攪拌して重合した。
その後、アニリン（１１３.９５ｇ、１.２２４ｍｏｌ）を加え、１時間攪拌して反応を終了した。氷浴により室温まで冷却後、トリエチルアミン（１１６.３６ｇ、１.１５ｍｏｌ）を滴下し、３０分間攪拌して塩酸をクエンチした。その後、析出した塩酸塩をろ過除去した。ろ過した反応溶液を２８％アンモニア水溶液（２７９.２９ｇ）とイオン交換水８,８２０ｇの混合溶液に再沈殿させた。沈殿物をろ過し、減圧乾燥機で１５０℃、８時間乾燥後、ＴＨＦ８３３.１ｇに再溶解させ、イオン交換水６,６６５ｇに再沈殿した。得られた沈殿物をろ過し、減圧乾燥機で１５０℃、２５時間乾燥し、目的とするトリアジン環含有ハイパーブランチポリマーHB-TmDA40  １１８.０ｇを得た。
HB-TmDA40の1Ｈ−ＮＭＲスペクトルの測定結果を図１に示す。得られたHB-TmDA40は、下記式で表される繰り返し単位を含む化合物である。HB-TmDA40のＭｗは４,３００、分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は３.４４であった。
【化１７】
0006693116.tif 000018
【０１６２】
（１）耐熱性試験
合成例１で得られたHB-TmDA40について、ＴＧ−ＤＴＡ測定を行ったところ、５％重量減少は４１９℃であった。その結果を図２に示す。
（２）屈折率測定
合成例１で得られたHB-TmDA40  ０.５ｇを、シクロヘキサノン４.５ｇに溶解し、薄黄色透明溶液を得た。得られたポリマーワニスをガラス基板上にスピンコーターを用いて２００ｒｐｍで５秒間、２,０００ｒｐｍで３０秒間スピンコートし、１５０℃で１分間、２５０℃で５分間加熱して溶媒を除去し、被膜を得た。得られた被膜の屈折率を測定したところ、５５０ｎｍにおける屈折率は１.７９０であった。
【０１６３】
［２］光散乱膜形成用組成物の調製
［製造例１］
合成例１で得られたHB-TmDA40  ４０ｇをシクロヘキサノン１５３.６ｇ及びイオン交換水６.４ｇの混合溶媒に溶解させ、２０質量％の溶液（HB-TmDA40V）を調製した。
【０１６４】
［製造例２］光拡散粒子分散液TFP-NJ-R-D75の調製
メディア（平均粒径０.５ｍｍのジルコニアビーズ）を７２０ｇ充填した３００ｍＬのガラス瓶に、チタン酸バリウム粒子３６.０ｇ、製造例１で調製したＨＢ−ＴｍＤＡ４０Ｖ６０.０ｇ、及びシクロペンタノン／イオン交換水（９６／４（質量比））２４.０ｇを加え、ボールミルで２２時間分散させ、固形分４０質量％の分散液（TFP-NJ-R-D75）を調製した。チタン酸バリウム：HB-TmDA＝７５：２５（質量比）であった。また、この分散液の粒度分布を測定したところ、０.２４μｍ（Ｄ50）、０.３１μｍ（Ｄ90）であった。
【０１６５】
［製造例３］光拡散粒子分散液TFP-NJ-R-D50の調製
製造例２で調製したTFP-NJ-R-D75  ２０.０ｇにHB-TmDA40V２０.０ｇを加え、固形分３０質量％の分散液（TFP-NJ-R-D50）を調製した。チタン酸バリウム：HB-TmDA＝５０：５０（質量比）であった。
【０１６６】
［製造例４］光拡散粒子分散液TFP-NJ-R-D30の調製
製造例２で調製したTFP-NJ-R-D75  １０.０ｇにHB-TmDA40V３０.０ｇを加え、固形分２５質量％の分散液（TFP-NJ-R-D30）を調製した。チタン酸バリウム：HB-TmDA＝３０：７０（質量比）であった。
【０１６７】
［製造例５］膜形成用組成物HB-TmDA40-V-Fの調製
２Ｌのナスフラスコに、製造例１で調製したHB-TmDA40V  ８７４.６ｇ、架橋剤B-882N  ５０.１ｇ、Ｆ−４７７の５質量％シクロペンタノン／イオン交換水（９６／４（質量比））溶液１.７５ｇ、及びシクロペンタノン／イオン交換水（９６／４（質量比））４７３.５ｇを加え、分散液（HB-TmDA40-V-F）を調製した。
【０１６８】
［製造例６］光拡散粒子分散液JR600A-Dの調製
５００ｍＬのナスフラスコに、酸化チタン粒子５０ｇ、シクロペンタノン１９４.５ｇ、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン５.０ｇ、及びイオン交換水０.５ｇを加えて６０℃で３時間攪拌した。この分散液２３３.３３ｇに製造例１で調製したＨＢ−ＴｍＤＡ４０Ｖ６６.６７ｇを加えて、メディア（φ１.０ｍｍのジルコニアビーズ（ＹＴＺボール、ニッカトー社製））を１,１６０ｇ充填した縦型バッチ式ビーズミルに加えた後、２００ｒｐｍで５分、１５００ｒｐｍで２時間攪拌し、メディアを取り除き、分散液（JR600A-D）を得た。
【０１６９】
［実施例１］光散乱膜形成用組成物TFP-NJ-R-D75-40の調製
製造例２で調製したTFP-NJ-R-D75  ３８.１０ｇ、架橋剤BI-7992  １.１０ｇ、Ｆ−４７７の１質量％シクロペンタノン／イオン交換水（９６／４（質量比））溶液０.１９ｇ、及びシクロペンタノン／イオン交換水（９６／４（質量比））０.６３ｇを加え、固形分４０質量％の分散液（TFP-NJ-R-D75-40）を調製した。
【０１７０】
［実施例２］光散乱膜形成用組成物TFP-NJ-R-D75-30の調製
実施例１で調製したTFP-NJ-R-D75-40  ６.０ｇ、シクロペンタノン／イオン交換水（９６／４（質量比））２.０ｇを加え、固形分３０質量％の分散液（TFP-NJ-R-D75-30）を調製した。
【０１７１】
［実施例３］光散乱膜形成用組成物TFP-NJ-R-D50-30の調製
製造例３で調製したTFP-NJ-R-D50  ３６.３６ｇ、架橋剤BI-7992  １.５７ｇ、Ｆ−４７７の１質量％シクロペンタノン／イオン交換水（９６／４（質量比））溶液０.２７ｇ、及びシクロペンタノン／イオン交換水（９６／４（質量比））１.８１ｇを加え、固形分３０質量％の分散液（TFP-NJ-R-D50-30）を調製した。
【０１７２】
［実施例４］光散乱膜形成用組成物TFP-NJ-R-D50-20の調製
実施例３で調製したTFP-NJ-R-D50-30  ４.０ｇ、及びシクロペンタノン／イオン交換水（９６／４（質量比））２.０ｇを加え、固形分２０質量％の分散液（TFP-NJ-R-D50-20）を調製した。
【０１７３】
［実施例５］光散乱膜形成用組成物TFP-NJ-R-D30-25の調製
製造例４で調製したTFP-NJ-R-D30  ３５.１０ｇ、架橋剤BI-7992  １.７５ｇ、Ｆ−４７７の１質量％シクロペンタノン／イオン交換水（９６／４（質量比））溶液０.３１ｇ、及びシクロペンタノン／イオン交換水（９６／４（質量比））２.８７ｇを加え、固形分２５質量％の分散液（TFP-NJ-R-D30-25）を調製した。
【０１７４】
［実施例６］光散乱膜形成用組成物TFP-NJ-R-D30-15の調製
実施例５で調製したTFP-NJ-R-D30-25  ３.０ｇ、及びシクロペンタノン／イオン交換水（９６／４（質量比））２.０ｇを加え、固形分１５質量％の分散液（TFP-NJ-R-D30-15）を調製した。
【０１７５】
［実施例７］光散乱膜TFP-NJ-R-D-75-T25の作製
実施例１で調製したTFP-NJ-R-D75-40を用い、スピンコート法により、２００ｒｐｍで５秒、６５０ｒｐｍで３０秒の条件で製膜した。その後、１００℃で１分、２００℃で５分乾燥し、光散乱膜TFP-NJ-R-D-75-T25を得た。この光散乱膜の膜厚を測定したところ、２.５μｍであった。
【０１７６】
［実施例８］光散乱膜TFP-NJ-R-D-75-T20の作製
スピンコート法により、２００ｒｐｍで５秒、１,０００ｒｐｍで３０秒の条件で製膜した以外は、実施例７と同様にして光散乱膜TFP-NJ-R-D-75-T20を得た。この光散乱膜の膜厚を測定したところ、２.０μｍであった。
【０１７７】
［実施例９］光散乱膜TFP-NJ-R-D-75-T15の作製
スピンコート法により、２００ｒｐｍで５秒、１,７００ｒｐｍで３０秒の条件で製膜した以外は、実施例７と同様にして光散乱膜TFP-NJ-R-D-75-T15を得た。この光散乱膜の膜厚を測定したところ、１.５μｍであった。
【０１７８】
［実施例１０］光散乱膜TFP-NJ-R-D-75-T10の作製
実施例２で調製したTFP-NJ-R-D75-30を用い、スピンコート法により、２００ｒｐｍで５秒、９００ｒｐｍで３０秒の条件で製膜した。その後、１００℃で１分、２００℃で５分乾燥し、光散乱膜TFP-NJ-R-D-75-T10を得た。この光散乱膜の膜厚を測定したところ、１.０μｍであった。
【０１７９】
［実施例１１］光散乱膜FP-NJ-R-D-50-T25の作製
実施例３で調製したＴＦＰ−ＮＪ−Ｒ−Ｄ５０−３０を用い、スピンコート法により、２００ｒｐｍで５秒、８００ｒｐｍで３０秒の条件で製膜した。その後、１００℃で１分、２００℃で５分乾燥し、光散乱膜TFP-NJ-R-D-50-T25を得た。この光散乱膜の膜厚を測定したところ、２.５μｍであった。
【０１８０】
［実施例１２］光散乱膜TFP-NJ-R-D-50-T20の作製
スピンコート法により、２００ｒｐｍで５秒、１,２００ｒｐｍで３０秒の条件で製膜した以外は、実施例１１と同様にして光散乱膜TFP-NJ-R-D-50-T20を得た。この光散乱膜の膜厚を測定したところ、２.０μｍであった。
【０１８１】
［実施例１３］光散乱膜TFP-NJ-R-D-50-T15の作製
スピンコート法により、２００ｒｐｍで５秒、１,９５０ｒｐｍで３０秒の条件で製膜した以外は、実施例１１と同様にして光散乱膜TFP-NJ-R-D-50-T15を得た。この光散乱膜の膜厚を測定したところ、１.５μｍであった。
【０１８２】
［実施例１４］光散乱膜TFP-NJ-R-D-50-T10の作製
実施例４で調製したTFP-NJ-R-D50-20を用い、スピンコート法により、２００ｒｐｍで５秒、６５０ｒｐｍで３０秒の条件で製膜した。その後、１００℃で１分、２００℃で５分乾燥し、光散乱膜TFP-NJ-R-D-50-T10を得た。この光散乱膜の膜厚を測定したところ、１.０μｍであった。
【０１８３】
［実施例１５］光散乱膜TFP-NJ-R-D-30-T25の作製
実施例５で調製したTFP-NJ-R-D30-25を用い、スピンコート法により、２００ｒｐｍで５秒、１,０５０ｒｐｍで３０秒の条件で製膜した。その後、１００℃で１分、２００℃で５分乾燥し、光散乱膜TFP-NJ-R-D-30-T25を得た。この光散乱膜の膜厚を測定したところ、２.５μｍであった。
【０１８４】
［実施例１６］光散乱膜TFP-NJ-R-D-30-T20の作製
スピンコート法により、２００ｒｐｍで５秒、１,５００ｒｐｍで３０秒の条件で製膜した以外は、実施例１５と同様にして光散乱膜TFP-NJ-R-D-30-T20を得た。この光散乱膜の膜厚を測定したところ、２.０μｍであった。
【０１８５】
［実施例１７］光散乱膜TFP-NJ-R-D-30-T15の作製
スピンコート法により、２００ｒｐｍで５秒、２,７００ｒｐｍで３０秒の条件で製膜した以外は、実施例１５と同様にして光散乱膜TFP-NJ-R-D-30-T15を得た。この光散乱膜の膜厚を測定したところ、１.５μｍであった。
【０１８６】
［実施例１８］光散乱膜TFP-NJ-R-D-30-T10の作製
実施例６で調製したTFP-NJ-R-D30-15を用い、スピンコート法により、２００ｒｐｍで５秒、５００ｒｐｍで３０秒の条件で製膜した。その後、１００℃で１分、２００℃で５分乾燥し、光散乱膜TFP-NJ-R-D-30-T10を得た。この光散乱膜の膜厚を測定したところ、１.０μｍであった。
【０１８７】
［比較例１］光散乱膜形成用組成物JR600A-D-20の調製
製造例６で調製したHB-TmDA40V  ２２３.１０ｇ、製造例１４で調製したJR600A-D  ２５０.９９ｇ、架橋剤BI-7992  １５.９４ｇ、Ｆ−４７７の５質量％シクロペンタノン／イオン交換水（９６／４（質量比））溶液２.７９ｇ、及びシクロペンタノン／イオン交換水（９６／４（質量比））３７.１９ｇを加え、固形分２０質量％の分散液（ＪＲ６００Ａ−Ｄ−２０）を調製した。
【０１８８】
［比較例２］光散乱膜JR600A-D-20-T15の作製
比較例１で調製したJR600A-D-20を用い、スピンコート法により、２００ｒｐｍで５秒、５００ｒｐｍで３０秒の条件で製膜した。その後、１００℃で１分、２００℃で５分乾燥し、光散乱膜JR600A-D-20-T15を得た。
【０１８９】
［比較例３］光散乱膜JR600A-D-20-T10の作製
スピンコート法により、２００ｒｐｍで５秒、１,０００ｒｐｍで３０秒の条件で製膜した以外は、実施例７６と同様にして光散乱膜JR600A-D-20-T10を得た。
【０１９０】
前記実施例７〜１８、比較例２〜３で作製した、各光散乱膜のＴ.Ｔ.、ヘーズ値、Ｐ.Ｔ.及びＤＩＦを、濁色計を用いて測定した。結果を表１に示す。
【０１９１】
【表１】
0006693116.tif 000019
【０１９２】
表１に示すように、光拡散粒子としてチタン酸バリウムを配合することにより光拡散性能が向上しており、光拡散粒子の配合割合が増加するにつれて、ヘーズ値、全光線透過率及び拡散光透過率が上昇した。
【０１９３】
［実施例１９〜３０、比較例４〜５］平坦化光散乱膜
実施例７〜１８及び比較例２〜３で得られた基板上に、製造例５で調製したHB-TmDA40-V-Fを、２００ｒｐｍで５秒間、１,０００ｒｐｍで３０秒間の条件のスピンコート法で製膜した。その後、１００℃で１分間、２００℃で１時間乾燥し、平坦化光散乱膜を得た。平坦化光散乱膜の膜厚を測定したところ、それぞれ１.０μｍ膜厚が増加していた。
【０１９４】
実施例１９〜３０及び比較例４〜５で作製した平坦化光散乱膜のＴ.Ｔ.、ヘーズ値、Ｐ.Ｔ.、及びＤＩＦを、濁色計を用いて測定した。その結果を表２に示す。
【０１９５】
【表２】
0006693116.tif 000020
【０１９６】
表２に示すように、平坦化層としてHB-TmDA40-V-Fを積層することにより、ヘーズ値及び拡散光透過率が低下し、全光線透過率が上昇した。
【０１９７】
［３］光透過・散乱特性測定
［実施例３１〜４２］
実施例１９〜３０及び比較例４〜５で作製した平坦化光散乱膜上に、スパッタ装置を用いて、２２℃で、出力３５０Ｗ、７分間、ＲＦスパッタを行い、ＩＴＯを膜厚２５０ｎｍ積層させた。
【０１９８】
［比較例６］
無アルカリガラス基板上に、スパッタ装置を用いて２２℃で、出力３５０Ｗ、７分間、ＲＦスパッタを行い、ＩＴＯを膜厚２５０ｎｍ積層させた。
【０１９９】
［比較例７〜８］
比較例４〜５で作製した平坦化光散乱膜上に、スパッタ装置を用いて、２２℃で、出力３５０Ｗ、７分間、ＲＦスパッタを行い、ＩＴＯを膜厚２５０ｎｍ積層させた。
【０２００】
実施例３１〜４２及び比較例６〜８で作製した膜の光透過・散乱特性を積分球型透過蛍光測定装置を用いて測定した。比較例６を基準（１.００）としたときのそれぞれの光取出し指数の結果を表３に示す。
【０２０１】
【表３】
0006693116.tif 000021
【０２０２】
表３に示すように、比較例７〜８ではＩＴＯと無アルカリガラスとの間に酸化チタンを用いた光散乱層を導入することで光取出し指数が１.２９倍であるのに対して、チタン酸バリウムを用いた光散乱層を導入した場合、光取出し指数が１.２７〜１.４５倍と向上した。
【０２０３】
また、実施例４０の光散乱膜（実線）及び比較例６の光散乱膜（点線）における、全放射束の入射角依存性を示すグラフを図３に、比較例８の光散乱膜（実線）及び比較例６の光散乱膜（点線）における、全放射束の入射角依存性を示すグラフを図４に示す。
【図１】
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【図２】
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【図３】
0006693116.tif 000027
【図４】
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