(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の電極と、中間層と、第２の電極とをこの順で積層してなる素子であって、
前記中間層が、シリコーンゴムを含有するシリコーンゴム組成物からなり、
前記中間層が、前記第１の電極面及び前記第２の電極面に対して垂直方向に赤外吸収スペクトルのピーク強度比（１０９５±５ｃｍ−１／１０２５±５ｃｍ−１）が異なることを特徴とする素子。
【請求項２】
第１の電極側の中間層表面から深さ方向に１μｍの位置での赤外吸収スペクトルのピーク強度比（１０９５±５ｃｍ−１／１０２５±５ｃｍ−１）、及び第２の電極側の中間層表面から深さ方向に１μｍの位置での赤外吸収スペクトルのピーク強度比（１０９５±５ｃｍ−１／１０２５±５ｃｍ−１）のいずれかのうち、小さい方のピーク強度比を大きい方のピーク強度比で割った値である、ピーク強度比の変化率が、０．９５以下である請求項１に記載の素子。
【請求項３】
前記シリコーンゴム組成物が、フィラーを含有する請求項１から２のいずれかに記載の素子。
【請求項４】
前記フィラーが、ケイ素原子を有する化合物である請求項３に記載の素子。
【請求項５】
前記ケイ素原子を有する化合物が、シリカ、カオリン、タルク、ウォラストナイト、シリコーンパウダー、及びシルセスキオキサンから選択される少なくとも１種である請求項４に記載の素子。
【請求項６】
前記中間層と、前記第１の電極及び前記第２の電極の少なくともいずれかとの間に空間を有する請求項１から５のいずれかに記載の素子。
【請求項７】
前記中間層における赤外吸収スペクトルのピーク強度比（１０９５±５ｃｍ−１／１０２５±５ｃｍ−１）が小さい側の面が空間側に向いている請求項６に記載の素子。
【請求項８】
前記中間層が、表面改質処理されている請求項１から７のいずれかに記載の素子。
【請求項９】
前記表面改質処理が、プラズマ処理、コロナ放電処理、及び電子線照射処理のいずれかである請求項８に記載の素子。
【請求項１０】
請求項１から９のいずれかに記載の素子を有することを特徴とする発電装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、素子及び発電装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、道路、橋、建築物等の構造体の振動、自動車、鉄道車両等の移動体の振動、及び人の運動による振動によるエネルギーを有効利用する試みがなされている。前記振動によるエネルギーを有効利用する方法としては、振動エネルギーを電気エネルギーに変換する方法が挙げられる。そのような方法としては、例えば、圧電素子を利用する方式、静電誘導を利用する方式などが挙げられる。
【０００３】
前記圧電素子を利用する方式は、主としてセラミックス系の圧電素子を用い、振動によって前記圧電素子に歪が加わる際に、前記圧電素子の表面に電荷が誘起される現象を利用するものである。
【０００４】
前記静電誘導を利用する方式では、一般的に、半永久的に電荷を保持するエレクトレット誘電体が用いられる（例えば、特許文献１〜５参照）。これらの技術において用いられる前記エレクトレット誘電体とは、誘電体を帯電させて半永久的に静電場を発生させることを可能にした材料である。前記エレクトレット誘電体と、これと距離を置いて配置された電極との相対位置を、振動等によって変化させることで、電荷が電極に静電誘導され、発電が行われる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
前記圧電素子を利用する方式は、主としてセラミックス系の圧電素子を用いるため、可撓性がなく壊れやすいという問題がある。
また、前記静電誘導を利用する方式においては、用いられる前記エレクトレット誘導体を作製する際に、誘電体に帯電処理を行う必要がある。前記帯電処理の方法としては、例えば、コロナ放電、プラズマ処理などが挙げられる。しかし、このような処理では、多くの電力を必要とするという問題がある。また、可撓性が十分ではなく、かつ通常、機械的な容量変化機構を備えるため、フレキシブルな素子を実現するのが困難であるという問題がある。
【０００６】
本発明は、可撓性に優れ、発電性能が高い素子を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記課題を解決するための手段としての本発明の素子は、第１の電極と、中間層と、第２の電極とをこの順で積層してなる素子であって、
前記中間層が、シリコーンゴムを含有するシリコーンゴム組成物からなり、
前記中間層が、前記第１の電極面及び前記第２の電極面に対して垂直方向に赤外吸収スペクトルのピーク強度比（１０９５±５ｃｍ−１／１０２５±５ｃｍ−１）が異なる。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によると、可撓性に優れ、発電性能が高い素子を提供する。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】図１は、本発明の素子の一例を示す概略断面図である。
【図２】図２は、本発明の素子の他の一例を示す概略断面図である。
【図３】図３は、本発明の素子における中間層の断面の一例を示す拡大図である。
【図４】図４は、本発明の素子における他の中間層の断面の一例を示す拡大図である。
【図５】図５は、本発明の素子における他の中間層の断面の一例を示す拡大図である。
【図６】図６は、本発明の素子における他の中間層の断面の一例を示す拡大図である。
【図７】図７は、本発明の発電装置の一例を示す概略断面図である。
【図８】図８は、本発明の発電装置の他の一例を示す概略断面図である。
【図９】図９は、実施例１で作製した中間層について前記中間層の深さ方向を変えて測定した赤外吸収スペクトルである。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
（素子）
本発明の素子は、第１の電極と、中間層と、第２の電極とをこの順で積層してなり、更に必要に応じて、その他の部材を有する。
【００１１】
＜第１の電極及び第２の電極＞
前記第１の電極及び前記第２の電極の材質、形状、大きさ、及び構造としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記第１の電極及び前記第２の電極において、その材質、形状、大きさ、及び構造は、同じであってもよいし、異なっていてもよいが、同じであることが好ましい。
【００１２】
前記第１の電極、及び前記第２の電極の材質としては、例えば、金属、炭素系導電材料、導電性ゴム組成物などが挙げられる。
【００１３】
前記金属としては、例えば、金、銀、銅、鉄、アルミニウム、ステンレス、タンタル、ニッケル、リン青銅などが挙げられる。
【００１４】
前記炭素系導電材料としては、例えば、黒鉛、炭素繊維、カーボンナノチューブなどが挙げられる。
【００１５】
前記導電性ゴム組成物としては、例えば、導電性フィラーと、ゴムとを含有する組成物などが挙げられる。
前記導電性フィラーとしては、例えば、炭素材料（例えば、ケッチェンブラック、アセチレンブラック、黒鉛、炭素繊維、カーボンファイバー（ＣＦ）、カーボンナノファイバー（ＣＮＦ）、カーボンナノチューブ（ＣＮＴ）等）、金属フィラー（例えば、金、銀、白金、銅、鉄、アルミニウム、ニッケル等）、導電性高分子材料（例えば、ポリチオフェン、ポリアセチレン、ポリアニリン、ポリピロール、ポリパラフェニレン、及びポリパラフェニレンビニレンのいずれかの誘導体、又は、これら誘導体にアニオン若しくはカチオンに代表されるドーパントを添加したもの等）、イオン液体などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記ゴムとしては、例えば、シリコーンゴム、変性シリコーンゴム、アクリルゴム、クロロプレンゴム、ポリサルファイドゴム、ウレタンゴム、イソブチルゴム、フロロシリコーンゴム、エチレンゴム、天然ゴム（ラテックス）などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００１６】
前記第１の電極の形態、及び前記第２の電極の形態としては、例えば、シート、フィルム、薄膜、織布、不織布、メッシュ、スポンジなどが挙げられる。なお、繊維状の前記炭素材料が重なって形成された不織布であってもよい。
前記第１の電極の形状、及び前記第２の電極の形状としては、特に制限はなく、素子の形状に応じて適宜選択することができる。
前記第１の電極の大きさ、及び前記第２の電極の大きさとしては、特に制限はなく、素子の大きさに応じて適宜選択することができる。
【００１７】
前記第１の電極の平均厚み、及び前記第２の電極の平均厚みは、素子の構造に応じて適宜選択することができるが、導電性及び可撓性の点から、０．０１μｍ〜１ｍｍが好ましく、０．１μｍ〜５００μｍがより好ましい。前記平均厚みが、０．０１μｍ以上であると、機械的強度が適正であり、導電性が向上する。また、前記平均厚みが、１ｍｍ以下であると、素子が変形可能であり、発電性能が良好である。
【００１８】
＜中間層＞
前記中間層は、シリコーンゴムを含有するシリコーンゴム組成物からなり、前記第１の電極面及び前記第２の電極面に対して垂直方向（中間層の深さ方向）に赤外吸収スペクトルのピーク強度比（１０９５±５ｃｍ−１／１０２５±５ｃｍ−１）が異なることを特徴とする。前記シリコーンゴム組成物からなる中間層が深さ方向にピーク強度比が異なることにより、歪みが加わると中間層の両端で電位差が発生して、発電することができると推測される。
ここで、前記「ピーク強度比（１０９５±５ｃｍ−１／１０２５±５ｃｍ−１）が異なる」とは、前記中間層の深さ方向にピーク強度比が異なっていれば特に制限はなく、ピーク強度比が異なる領域を有することが好ましく、ピーク強度比が連続的に変化していても非連続的に変化していてもよく、中間層の第１の電極側のピーク強度比及び中間層の第２の電極側のピーク強度比のいずれが高くなっていても構わない。
【００１９】
−中間層の赤外吸収スペクトル測定−
前記中間層の赤外吸収スペクトルは、中間層から試料片を切り出し、試料片の深さ方向（断面）を顕微赤外分光分析装置で分析することにより、測定することができる。
シリコーンゴムは、１１５０ｃｍ−１〜１０００ｃｍ−１の領域にＳｉ−Ｏ−Ｓｉ伸縮振動に由来する２つの吸収を持つことが知られており、高波数側のピークは対称伸縮振動、低波数側のピークは逆対称伸縮振動に帰属される（「Ｉ．Ｓｏｇａ，  Ｓ．Ｇｒａｎｉｃｋ，  Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ  １９９８，  ３１，  ５４５０」参照）。
本発明においては、前記中間層に、１０９５ｃｍ−１付近と１０２５ｃｍ−１付近にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ伸縮振動に由来する吸収が観察されており、また、中間層の深さ方向に赤外吸収スペクトルのピーク強度比（１０９５±５ｃｍ−１／１０２５±５ｃｍ−１）が異なっている。即ち、前記中間層中にはシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在しており、これに起因して、歪みが加わると中間層の両端で電位差が発生して、発電することができると推測される。
【００２０】
本発明においては、第１の電極側の中間層表面から深さ方向に１μｍの位置での赤外吸収スペクトルのピーク強度比（１０９５±５ｃｍ−１／１０２５±５ｃｍ−１）、及び第２の電極側の中間層表面から深さ方向に１μｍの位置での赤外吸収スペクトルのピーク強度比（１０９５±５ｃｍ−１／１０２５±５ｃｍ−１）のいずれかのうち、小さい方のピーク強度比を大きい方のピーク強度比で割った値である、ピーク強度比の変化率は、０．９５以下であることが好ましい。前記ピーク強度比の変化率が、０．９５以下であると、中間層の深さ方向にピーク強度比が異なっており、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることがわかる。
【００２１】
前記中間層の深さ方向に赤外吸収スペクトルのピーク強度比（１０９５±５ｃｍ−１／１０２５±５ｃｍ−１）を異ならせる方法としては、例えば、中間層を表面改質処理する方法、中間層中にケイ素原子を有する化合物を添加する方法などが挙げられる。
【００２２】
前記中間層は、シリコーンゴム組成物からなる。
前記シリコーンゴム組成物は、シリコーンゴムを含有し、フィラーを含有することが好ましく、更に必要に応じてその他の成分を含有する。
【００２３】
−シリコーンゴム−
前記シリコーンゴムとしては、オルガノポリシロキサン結合を有するゴムであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記シリコーンゴムとしては、例えば、ジメチルシリコーンゴム、メチルフェニルシリコーンゴム、変性シリコーンゴム（例えば、アクリル変性シリコーンゴム、アルキッド変性シリコーンゴム、エステル変性シリコーンゴム、エポキシ変性シリコーンゴム等）などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記シリコーンゴムとしては、適宜合成したものを使用してもよいし、市販品を使用してもよい。前記市販品としては、例えば、ＩＶＳ４３１２、ＴＳＥ３０３３、ＸＥ１４−Ｃ２０４２（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製）、ＫＥ−１９３５（信越化学工業株式会社製）、ＤＹ３５−２０８３（東レ・ダウコーニング株式会社製）などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００２４】
−フィラー−
前記フィラーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、有機フィラー、無機フィラー、有機無機複合フィラーなどが挙げられる。前記フィラーを含有することにより、小さい歪みでも中間層の静電容量が変化して、発電量を増やすことができると推測される。
【００２５】
前記有機フィラーとしては、有機化合物であれば特に制限されずに用いることができる。
前記有機フィラーとしては、例えば、アクリル微粒子、ポリスチレン微粒子、メラミン微粒子、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素樹脂微粒子、シリコーンパウダー（シリコーンレジンパウダー、シリコーンゴムパウダー、シリコーン複合パウダー）、ゴム粉末、木粉、パルプ、デンプンなどが挙げられる。
【００２６】
前記無機フィラーとしては、無機化合物であれば特に制限されずに用いることができる。
前記無機フィラーとしては、例えば、酸化物、水酸化物、炭酸塩、硫酸塩、ケイ酸塩、窒化物、炭素類、金属、又はその他の化合物などが挙げられる。
前記酸化物としては、例えば、シリカ、珪藻土、アルミナ、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化鉄、酸化マグネシウムなどが挙げられる。
前記水酸化物としては、例えば、水酸化アルミニウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウムなどが挙げられる。
前記炭酸塩としては、例えば、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、ハイドロタルサイトなどが挙げられる。
前記硫酸塩としては、例えば、硫酸アルミニウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウムなどが挙げられる。
前記ケイ酸塩としては、例えば、ケイ酸カルシウム（ウォラストナイト、ゾノトライト）、ケイ酸ジルコン、カオリン、タルク、マイカ、ゼオライト、パーライト、ベントナイト、モンモロナイト、セリサイト、活性白土、ガラス、中空ガラスビーズなどが挙げられる。
前記窒化物としては、例えば、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化ホウ素などが挙げられる。
前記炭素類としては、例えば、ケッチェンブラック、アセチレンブラック、黒鉛、炭素繊維、カーボンファイバー、カーボンナノファイバー、カーボンナノチューブ、フラーレン（誘導体を含む）、グラフェンなどが挙げられる。
前記金属としては、例えば、金、銀、白金、銅、鉄、アルミニウム、ニッケルなどが挙げられる。
前記その他の化合物としては、例えば、チタン酸カリウム、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸ジルコン酸鉛、炭化ケイ素、硫化モリブテンなどが挙げられる。
なお、前記無機フィラーは、表面処理をしていてもよい。
【００２７】
前記有機無機複合フィラーとしては、有機化合物と無機化合物とを分子レベルで組み合わせた化合物であれば特に制限されずに用いることができる。
前記有機無機複合フィラーとしては、例えば、シリカ・アクリル複合微粒子、シルセスキオキサンなどが挙げられる。
【００２８】
前記フィラーの中でも、ケイ素原子を有する化合物は、添加により発電量を増やすことができるため好ましい。
前記ケイ素原子を有する化合物としては、例えば、シリカ、珪藻土、ケイ酸塩（ケイ酸カルシウム（ウォラストナイト、ゾノトライト）、ケイ酸ジルコン、カオリン、タルク、マイカ、ゼオライト、パーライト、ベントナイト、モンモロナイト、セリサイト、活性白土、ガラス、中空ガラスビーズ）、シリコーンパウダー（シリコーンレジンパウダー、シリコーンゴムパウダー、シリコーン複合パウダー）、シリカ・アクリル複合微粒子、シルセスキオキサンなどが挙げられる。これらの中でも、発電性能の点から、シリカ、カオリン、タルク、ウォラストナイト、シリコーンパウダー、シルセスキオキサンが好ましい。
【００２９】
前記シリカとしては、例えば、サイシリア４３０（富士シリシア株式会社製）、ＨＳ−２０７（新日鉄住金マテリアルズ株式会社製）などが挙げられる。
前記カオリンとしては、例えば、ＳＴ−１００、ＳＴ−ＫＥ、ＳＴ−ＣＲＯＷＮ（白石カルシウム株式会社製）、ＲＣ−１、Ｇｌｏｍａｘ  ＬＬ、Ｓａｔｉｎｔｏｎｅ  Ｎｏ．５（竹原化学工業株式会社製）などが挙げられる。
前記タルクとしては、例えば、ＪＭ−２０９、ＪＭ−３０９（浅田製粉株式会社製）、Ｐタルク、ＰＨタルク、ミクロライト、ハイミクロンＨＥ５（竹原化学工業株式会社製）、Ｄ−１０００、Ｄ−８００、ＳＧ−９５、Ｐ−３（日本タルク株式会社製）などが挙げられる。
前記マイカとしては、例えば、Ａ−１１（ヤマグチマイカ株式会社製）、ＰＤＭ−５Ｂ（トピー工業株式会社製）などが挙げられる。
前記ウォラストナイトとしては、例えば、ワラストＪＥＴ３０ｗ、ワラスト３２５（浅田製粉株式会社製）、ＳＴ−４０Ｆ（白石カルシウム株式会社製）などが挙げられる。
前記ゼオライトとしては、例えば、ＳＰ＃２３００、ＳＰ＃６００（日東粉化工業株式会社製）などが挙げられる。
前記チタン酸バリウムとしては、例えば、２０８１０８（ＡＬＤＲＩＣＨ社製）など挙げられる。
前記チタン酸ストロンチウムとしては、例えば、３９６１４１（ＡＬＤＲＩＣＨ社製）など挙げられる。
前記セリサイトとしては、例えば、ＳＴ−５０１（白石カルシウム株式会社製）などが挙げられる。
前記珪藻土としては、例えば、ＣＴ−Ｃ４９９（白石カルシウム株式会社製）などが挙げられる。
前記中空ガラスビーズとしては、例えば、Ｓｐｈｅｒｉｃｅｌ  １１０Ｐ８（ポッターズ・バロティーニ社製）などが挙げられる。
前記アクリル微粒子としては、例えば、ＦＨ−Ｓ００５（東洋紡株式会社製）などが挙げられる。
前記ポリスチレン微粒子としては、例えば、１９５２０−５００（テクノケミカル株式会社製）などが挙げられる。
前記シリコーンレジンパウダーとしては、例えば、トスパール１２０（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製）、ＫＭＰ−５９０（信越化学工業株式会社製）などが挙げられる。
前記シリコーンゴムパウダーとしては、例えば、ＥＰ−２６００（東レ・ダウコーニング株式会社製）、ＫＭＰ−５９７（信越化学工業株式会社製）などが挙げられる。
前記シリコーン複合パウダーとしては、例えば、ＫＭＰ−６０５、Ｘ−５２−７０３０（信越化学工業株式会社製）などが挙げられる。
前記シリカ・アクリル複合微粒子としては、例えば、ソリオスターＲＡ（株式会社日本触媒製）などが挙げられる。
前記シルセスキオキサンとしては、例えば、ＰＰＳ−オクタメチル置換体５２６８３５、ＰＰＳ−オクタフェニル置換体５２６８５１、ＰＰＳ−オクタビニル置換体４７５４２４（ＡＬＤＲＩＣＨ社製）などが挙げられる。
前記酸化チタンとしては、例えば、ＣＲ−９０（石原産業株式会社製）などが挙げられる。
前記酸化鉄としては、例えば、トダカラー１００ＥＤ（戸田工業株式会社製）などが挙げられる。
前記カーボンナノファイバーとしては、例えば、ＶＧＣＦ−Ｈ（昭和電工株式会社製）などが挙げられる。
前記フラーレンとしては、例えば、ｎａｎｏｍ  ｐｕｒｐｌｅ  ＳＴ（フロンティアカーボン社製）などが挙げられる。
【００３０】
前記フィラーの平均粒径は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．０１μｍ〜３０μｍが好ましく、０．１μｍ〜１０μｍがより好ましい。前記平均粒径が、０．０１μｍ以上であると、発電性能が向上することがある。また、前記平均粒径が、３０μｍ以下であると、中間層が良好な柔軟性を有しており、発電性能の増加を図ることができる。
前記平均粒径は、公知の粒度分布測定装置、例えば、マイクロトラックＨＲＡ（日機装株式会社製）などを用いて、公知の方法に従って測定することができる。
【００３１】
前記フィラーの含有量は、シリコーンゴム１００質量部に対して、０．１質量部〜１００質量部が好ましく、１質量部〜５０質量部がより好ましい。前記含有量が、０．１質量部以上であると、発電性能が向上することがある。また、前記含有量が、１００質量部以下であると、中間層が良好な柔軟性を有しており、発電性能の増加を図ることができる。
【００３２】
−その他の成分−
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ゴム、添加剤などが挙げられる。前記その他の成分の含有量は、本発明の目的を損なわない程度で適宜選定することができる。
【００３３】
前記ゴムとしては、例えば、フロロシリコーンゴム、アクリルゴム、クロロプレンゴム、天然ゴム（ラテックス）、ウレタンゴム、フッ素ゴム、エチレンプロピレンゴムなどが挙げられる。
前記添加剤としては、例えば、架橋剤、劣化防止剤、耐熱剤、着色剤などが挙げられる。
【００３４】
−シリコーンゴム組成物の調製−
前記シリコーンゴム組成物は、前記シリコーンゴム及び前記フィラー、更に必要に応じて前記その他の成分を混合し、混錬分散することにより調製することができる。
【００３５】
−中間層の形成方法−
前記中間層の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記シリコーンゴム組成物を、基材上にブレード塗装、ダイ塗装、ディップ塗装などで塗布し、その後、熱や電子線などで硬化する方法が挙げられる。
【００３６】
前記中間層は、単層であっても複層であってもよい。
前記中間層の平均厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１μｍ〜１０ｍｍが好ましく、２０μｍ〜２００μｍがより好ましい。前記平均厚みが、１μｍ以上であると、機械的強度が適正であり、発電性能が向上する。また、前記平均厚みが、１０ｍｍ以下であると、中間層の柔軟性が良好であり、発電性能が向上する。
前記中間層の電気特性としては、絶縁性が好ましい。前記絶縁性としては、１０８Ωｃｍ以上の体積抵抗率を持つことが好ましく、１０１０Ωｃｍ以上の体積抵抗率を持つことがより好ましい。前記中間層の体積抵抗率を好ましい数値範囲とすることにより、良好な発電性能を達成できる。
【００３７】
−中間層の表面改質処理−
前記中間層は、表面改質処理を行うことが好ましい。
前記表面改質処理としては、ある程度の照射エネルギーを有し、材料を改質し得るものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、プラズマ処理、コロナ放電処理、電子線照射処理、紫外線照射処理、オゾン処理、放射線（Ｘ線、α線、β線、γ線、中性子線）照射処理などが挙げられる。これらの中でも、処理スピードの点から、プラズマ処理、コロナ放電処理、電子線照射処理が好ましい。
【００３８】
−−プラズマ処理−−
前記プラズマ処理の場合、プラズマ発生装置としては、例えば、平行平板型、容量結合型、誘導結合型のほか、大気圧プラズマ装置でも可能である。耐久性の観点から、減圧プラズマ処理が好ましい。
前記プラズマ処理における反応圧力としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．０５Ｐａ〜１００Ｐａが好ましく、１Ｐａ〜２０Ｐａがより好ましい。
前記プラズマ処理における反応雰囲気としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、不活性ガス、希ガス、酸素などのガスが有効であるが、効果の持続性においてアルゴンが好ましい。また、その際、酸素分圧を５，０００ｐｐｍ以下とすることが好ましい。前記反応雰囲気における酸素分圧が、５，０００ｐｐｍ以下であると、オゾンの発生を抑制でき、オゾン処理装置の使用を控えることができる。
前記プラズマ処理における照射電力量は、（出力×照射時間）により規定される。前記照射電力量としては、５Ｗｈ〜２００Ｗｈが好ましく、１０Ｗｈ〜５０Ｗｈがより好ましい。前記照射電力量が、好ましい範囲内であると、前記中間層に発電機能を付与でき、かつ照射過剰により耐久性を低下させることもない。
【００３９】
−−コロナ放電処理−−
前記コロナ放電処理における印加エネルギー（積算エネルギー）としては、６Ｊ／ｃｍ２〜３００Ｊ／ｃｍ２が好ましく、１２Ｊ／ｃｍ２〜６０Ｊ／ｃｍ２がより好ましい。前記印加エネルギーが、好ましい範囲内であると、良好な発電性能及び耐久性を達成できる。
前記コロナ放電処理における印加電圧は、５０Ｖ〜１５０Ｖが好ましく、１００Ｖがより好ましい。前記コロナ放電処理の反応雰囲気としては、空気が好ましい。
【００４０】
−−電子線照射処理−−
前記電子線照射処理における照射量としては、１ｋＧｙ以上が好ましく、３００ｋＧｙ〜１０ＭＧｙがより好ましい。前記照射量が、好ましい範囲内であると、前記中間層に発電機能を付与でき、かつ照射過剰により耐久性を低下させることもない。
前記電子線照射処理における反応雰囲気としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、アルゴン、ネオン、ヘリウム、窒素等の不活性ガスを充填し酸素分圧を５，０００ｐｐｍ以下とすることが好ましい。前記反応雰囲気における酸素分圧が、５，０００ｐｐｍ以下であると、オゾンの発生を抑制でき、オゾン処理装置の使用を控えることができる。
【００４１】
−−紫外線照射処理−−
前記紫外線照射処理における紫外線としては、波長３６５ｎｍ以下で２００ｎｍ以上が好ましく、波長３２０ｎｍ以下で２４０ｎｍ以上がより好ましい。
前記紫外線照射処理における積算光量としては、５Ｊ／ｃｍ２〜５００Ｊ／ｃｍ２が好ましく、５０Ｊ／ｃｍ２〜４００Ｊ／ｃｍ２がより好ましい。前記積算光量が、好ましい範囲内であると、前記中間層に発電機能を付与でき、かつ照射過剰により耐久性を低下させることもない。
前記紫外線照射処理における反応雰囲気としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、アルゴン、ネオン、ヘリウム、窒素等の不活性ガスを充填し酸素分圧を５，０００ｐｐｍ以下とすることが好ましい。前記反応雰囲気における酸素分圧が、５，０００ｐｐｍ以下であると、オゾンの発生を抑制でき、オゾン処理装置の使用を控えることができる。
【００４２】
従来技術として、プラズマ処理、コロナ放電処理、紫外線照射処理、電子線照射処理などにより励起又は酸化させることで活性基を形成し、層間接着力を高めることが提案されている。しかし、これらの技術は、層間への適用に限定され、最表面への適用はむしろ離型性を低下させるため好ましくないことがわかっている。また、反応を酸素リッチな状態下で行い、効果的に反応活性基（水酸基）を導入している。そのため、そのような従来技術は、本発明における前記表面改質処理とは本質が異なる。
前記表面改質処理は、酸素が少なく減圧された反応環境による処理（例えば、プラズマ処理）のため、表面の再架橋及び結合を促し、例えば、「結合エネルギーの高いＳｉ−Ｏ結合の増加」に起因して耐久性が向上し、更に加えて「架橋密度向上による緻密化」に起因して離型性が向上すると考えられる。
【００４３】
ここで、図３は、本発明の素子を構成する中間層４の微細構造の一例を拡大して示す概略断面図である。
前記中間層４は、シリコーンゴム７を含有するシリコーンゴム組成物からなる。前記中間層４は、前記第１の電極面及び前記第２の電極面に対して垂直方向（中間層の深さ方向）に赤外吸収スペクトルのピーク強度比（１０９５±５ｃｍ−１／１０２５±５ｃｍ−１）が異なっている。
前記中間層４は、中間層のピーク強度比が小さい領域９から中間層のピーク強度比が大きい領域１０へと連続的に変化している。
【００４４】
図４は、本発明の素子を構成する中間層４の微細構造の別の一例を拡大して示す概略断面図である。
前記中間層４は、シリコーンゴム７を含有するシリコーンゴム組成物からなる。前記中間層４は、前記第１の電極面及び前記第２の電極面に対して垂直方向（中間層の深さ方向）に赤外吸収スペクトルのピーク強度比（１０９５±５ｃｍ−１／１０２５±５ｃｍ−１）が異なっている。
前記中間層４は、中間層のピーク強度比が小さい領域９と、中間層のピーク強度比が大きい領域１０とが界面を境に異なっており、非連続的に変化している。
【００４５】
図５は、本発明の素子を構成する中間層４の微細構造の他の一例を拡大して示す概略断面図である。
前記中間層４は、シリコーンゴム７とフィラー８とを含有するシリコーンゴム組成物からなる。
前記中間層４は、前記第１の電極面及び前記第２の電極面に対して垂直方向（中間層の深さ方向）に赤外吸収スペクトルのピーク強度比（１０９５±５ｃｍ−１／１０２５±５ｃｍ−１）が異なっている。
前記中間層４は、中間層のピーク強度比が小さい領域９から中間層のピーク強度比が大きい領域１０へと連続的に変化している。
前記フィラー８は中間層４に均一に分散されていてもよいし、中間層のピーク強度比が小さい領域９及び中間層のピーク強度比が大きい領域１０のいずれかに偏在していてもよい。
【００４６】
図６は、本発明の実施形態の別の中間層４の微細構造を拡大して説明する図である。
前記中間層４は、シリコーンゴム７とフィラー８とを含有するシリコーンゴム組成物からなる。
前記中間層４は、前記第１の電極面及び前記第２の電極面に対して垂直方向（中間層の深さ方向）に赤外吸収スペクトルのピーク強度比（１０９５±５ｃｍ−１／１０２５±５ｃｍ−１）が異なっている。
前記中間層４は、中間層のピーク強度比が小さい領域９と、中間層のピーク強度比が大きい領域１０とが界面を境に異なっており、非連続的に変化している。
前記フィラー８は中間層４に均一に分散されていてもよいし、中間層のピーク強度比が小さい領域９及び中間層のピーク強度比が大きい領域１０のいずれかに偏在していてもよい。
【００４７】
−空間−
前記素子は、前記中間層と、前記第１の電極及び前記第２の電極の少なくともいずれかとの間に空間を有することが好ましい。前記空間を有することにより、弱い振動であっても素子の静電容量が変化して、発電量を増やすことができる。
前記中間層における赤外吸収スペクトルのピーク強度比（１０９５±５ｃｍ−１／１０２５±５ｃｍ−１）が小さい側の面が空間側であることが、発電効率の点から好ましい。
【００４８】
前記空間を設ける方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記中間層と、前記第１の電極及び前記第２の電極の少なくともいずれかとの間にスペーサーを配置する方法などが挙げられる。
【００４９】
−−スペーサー−−
前記スペーサーとしては、その材質、形態、形状、大きさなどについては特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記スペーサーの材質としては、例えば、高分子材料、ゴム、金属、導電性高分子材料、導電性ゴム組成物などが挙げられる。
前記高分子材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニル、ポリイミド樹脂、フッ素樹脂、アクリル樹脂などが挙げられる。
前記ゴムとしては、例えば、シリコーンゴム、変性シリコーンゴム、アクリルゴム、クロロプレンゴム、ポリサルファイドゴム、ウレタンゴム、イソブチルゴム、フロロシリコーンゴム、エチレンゴム、天然ゴム（ラテックス）などが挙げられる。
前記金属としては、例えば、金、銀、銅、アルミニウム、ステンレス、タンタル、ニッケル、リン青銅などが挙げられる。
前記導電性高分子材料としては、例えば、ポリチオフェン、ポリアセチレン、ポリアニリンなどが挙げられる。
【００５０】
前記導電性ゴム組成物としては、例えば、導電性フィラーとゴムとを含有する組成物などが挙げられる。前記導電性フィラーとしては、例えば、炭素材料（例えば、ケッチェンブラック、アセチレンブラック、黒鉛、炭素繊維、カーボンファイバー、カーボンナノファイバー、カーボンナノチューブ等）、金属（例えば、金、銀、白金、銅、鉄、アルミニウム、ニッケル等）、導電性高分子材料（例えば、ポリチオフェン、ポリアセチレン、ポリアニリン、ポリピロール、ポリパラフェニレン、及びポリパラフェニレンビニレンのいずれかの誘導体、又は、これら誘導体にアニオン若しくはカチオンに代表されるドーパントを添加したもの等）、イオン液体などが挙げられる。
前記ゴムとしては、例えば、シリコーンゴム、変性シリコーンゴム、アクリルゴム、クロロプレンゴム、ポリサルファイドゴム、ウレタンゴム、イソブチルゴム、フロロシリコーンゴム、エチレンゴム、天然ゴム（ラテックス）などが挙げられる。
【００５１】
前記スペーサーの形態としては、例えば、シート、フィルム、織布、不織布、メッシュ、スポンジなどが挙げられる。
前記スペーサーの形状、大きさ、厚み、設置場所は、素子の構造に応じて適宜選択することができる。
【００５２】
前記中間層は、静置状態において初期表面電位を持たないことが好ましい。
なお、静置状態における初期表面電位は、以下の測定条件で測定できる。ここで、初期表面電位を持たないとは、下記測定条件で測定した際に、±１０Ｖ以下を意味する。
［測定条件］
前処理：温度３０℃、相対湿度４０％の雰囲気に２４時間静置後、除電を６０秒間実施した（Ｋｅｙｅｎｃｅ社製のＳＪ−Ｆ３００を使用）
装置：Ｔｒｅｃｋ  Ｍｏｄｅｌ３４４
測定プローブ：６０００Ｂ−７Ｃ
測定距離：２ｍｍ
測定スポット径：直径（Φ）１０ｍｍ
【００５３】
本発明の素子は、例えば、発電素子、各種センサ、各種アクチュエータなどとして好適に用いられる。
【００５４】
本発明の前記素子は、中間層が初期表面電位を持たないという点から、特開昭５４−０１４６９６号公報、特許第５５６３７４６号公報、特開２０１２−１６４７２７号公報、特開２０１２−１６４９１７号公報、及び特開２０１４−０２７７５６号公報（特許文献１〜５）に記載の先行技術とは、発電の原理が異なると考えられる。
【００５５】
本発明の素子は、外力又は振動などの負荷を加えることによって素子が変形して、発電する。その発電メカニズムは正確にはまだわかっていないが、負荷を加えることにより、電極近傍の中間層が摩擦帯電に似たメカニズムで帯電する、又は、中間層の内部に電荷が発生する。これに起因して、表面電位差が生じる。この表面電位差がゼロになるように電荷が移動して発電する、と推測される。
【００５６】
ここで、図１は、本発明の素子の一例を示す概略断面図である。この図１に示す素子１は、一対の電極（第１の電極２及び第２の電極３）と、中間層４とから構成されている。
また、図２は、本発明の素子の他の一例を示す概略断面図である。この図２に示す素子１は、第１の電極２と中間層４との間に、スペーサー５を介して空間６が設けられている。この空間６を有することにより、図２に示す素子１は変形しやすい構造となっている。
なお、前記空間６は、前記第１の電極２及び前記第２の電極３の少なくともいずれかとの間に設けることができる。
【００５７】
（発電装置）
本発明の発電装置は、本発明の前記素子を少なくとも有し、更に必要に応じて、その他の部材を有する。前記発電装置は、本発明の素子を採用しているので、動作時に高印加電圧を必要としない。
【００５８】
本発明の発電装置は、外力又は振動などの負荷を加えることによって素子が変形して、発電する。その発電メカニズムは正確にはまだわかっていないが、負荷を加えることにより、電極近傍の中間層が摩擦帯電に似たメカニズムで帯電する、又は中間層の内部に電荷が発生する。この状態で素子が変形すると、静電容量が変化して表面電位差が生じる。この表面電位差がゼロになるように電荷が移動して発電する、と推測される。
【００５９】
＜その他の部材＞
前記その他の部材としては、例えば、カバー材、電線、電気回路などが挙げられる。
【００６０】
−カバー材−
前記カバー材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記カバー材の材質としては、例えば、高分子材料、ゴムなどが挙げられる。前記高分子材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニル、ポリイミド樹脂、フッ素樹脂、アクリル樹脂などが挙げられる。前記ゴムとしては、例えば、シリコーンゴム、変性シリコーンゴム、アクリルゴム、クロロプレンゴム、ポリサルファイドゴム、ウレタンゴム、イソブチルゴム、フロロシリコーンゴム、エチレンゴム、天然ゴム（ラテックス）などが挙げられる。
前記カバー材の構成、形状、大きさ、厚みなどについては、特に制限はなく、発電装置に応じて適宜選択することができる。
【００６１】
−電線−
前記電線としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記電線の材質としては、例えば、金属、合金などが挙げられる。前記金属としては、例えば、金、銀、銅、アルミニウム、ニッケルなどが挙げられる。
前記電線の構成、形状、太さなどについては、特に制限はなく、発電装置に応じて適宜選択することができる。
【００６２】
−電気回路−
前記電気回路としては、例えば、前記素子で発電した電力を取り出す回路であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記電気回路としては、例えば、整流回路、オシロスコープ、電圧計、電流計、蓄電回路、ＬＥＤ、各種センサ（超音波センサ、圧力センサ、触覚センサ、歪みセンサ、加速度センサ、衝撃センサ、振動センサ、感圧センサ、電界センサ、音圧センサなど）などが挙げられる。
【００６３】
＜用途＞
前記発電装置は、例えば、超音波センサ、圧力センサ、触覚センサ、歪みセンサ、加速度センサ、衝撃センサ、振動センサ、感圧センサ、電界センサ、音圧センサ等の各種センサ、特に高電圧を必要としないことからウェラブルセンサ用途に適している。更に、加工性に優れた圧電性フィルムとして、ヘッドホン、スピーカー、マイクロホン、水中マイクロホン、ディスプレイ、ファン、ポンプ、可変焦点ミラー、超音波トランスデューサ、圧電トランス、遮音材料、防音材料、アクチュエータ、キーボードなども適している。更に、前記発電装置は、音響機器、情報処理機、計測機器、医用機器、更には乗り物や建物、又スキーやラケット等のスポーツ用具に用いる制振材（ダンパー）その他の分野で利用することもできる。
更に、前記発電装置は、以下の用途にも適している。
・波力、水力、風力等の自然エネルギーによる発電
・靴、服、床、アクセサリーに埋め込まれ、人の歩行による発電
・自動車のタイヤ等に埋め込まれ、走行による振動発電
また、フレキシブル基板上に形成して、板状発電体や逆に電圧をかけて充電する二次電池や、新しいアクチュエータ（人工筋肉）としての活用も期待できる。
【００６４】
ここで、図７は、本発明の発電装置の構成の一例を示す断面図である。この図７に示す発電装置１１は、素子１、カバー材１２、電線１３、及び電気回路１４から構成されている。
また、図８は、本発明の発電装置の構成の別の一例を示す断面図である。この図８に示す発電装置１１の素子１には空間６が設けられている。素子１が空間６を有することで、素子１が変形しやすい構造となっている。このため、弱い振動であっても素子の静電容量が変化して、発電量を増やすことができる。
【実施例】
【００６５】
以下、本発明の実施例を説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。
【００６６】
（実施例１）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、シリコーンゴム（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、ＩＶＳ４３１２）を塗布して、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み１００μｍの薄膜を形成した。
次に、前記薄膜を以下の条件でコロナ放電処理した。その後、前記ＰＥＴフィルムを剥離した。以上により、中間層を得た。
［コロナ放電処理条件］
印加電圧：１００Ｖ
積算エネルギー：６０Ｊ／ｃｍ２
反応雰囲気：空気
【００６７】
−第１の電極及び第２の電極−
第１の電極及び第２の電極として、パナック社製のアルペット９−１００（アルミ箔の厚み９μｍ、ポリエチレンテレフタレートフィルムの厚み１００μｍ（カバー材））を用いた。
【００６８】
−素子の作製−
得られた中間層を、前記第１の電極及び前記第２の電極で挟み、リード線（太陽電線株式会社製、Ｃ３／ＲＶ−９０  ０．７５ＳＱ）を取り付けて、実施例１の素子を作製した。
【００６９】
−発電装置の作製−
得られた素子に、オシロスコープ（ＬｅＣｒｏｙ社製、ＷａｖｅＡｃｅ１００１）を取り付けて、実施例１の発電装置を作製した。
【００７０】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
作製した実施例１の中間層をミクロトーム（ライカ社製、ＦＣＳ）で試料片を切り出して、Ｓｉウェハー上に保持した。次に、中間層のコロナ放電処理した面を深さ０μｍとして、試料片の深さ方向を変えて顕微赤外分光分析装置（ＰｅｒｋｉｎＥｌｍｅｒ社製、Ｓｐｔｌｉｇｈｔ４００）で測定し、図９に示す赤外吸収スペクトルを得た。
図９の結果から、実施例１の中間層は、該中間層の深さ方向にピーク強度比（１０９５±５ｃｍ−１／１０２５±５ｃｍ−１）が変化しており、深さ１μｍでのピーク強度比は０．８９、深さ９９μｍでのピーク強度比は１．１７であり、ピーク強度比の変化率（深さ１μｍでのピーク強度比／深さ９９μｍでのピーク強度＝０．８９／１．１７）は０．７６であった。このことから、実施例１の中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることが確認できた。
【００７１】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例１の発電装置に、鉄球（重量２００ｇ）を１０ｃｍの高さから落下させ、両電極間に発生するピーク電圧量をオシロスコープ（ＬｅＣｒｏｙ社製、ＷａｖｅＡｃｅ１００１）を用いて計測した。計測を５回行い、得られた平均値を測定値とした。そして、後述する比較例１の測定値に対する倍率を求め、以下の評価基準で評価した。結果を表１−４に示した。
［評価基準］
ランクＡ：比較例１に対して１５倍以上であり、発電性能大きく向上
ランクＢ：比較例１に対して１０倍以上１５倍未満であり、発電性能大きく向上
ランクＣ：比較例１に対して５倍以上１０倍未満であり、発電性能向上
ランクＤ：比較例１に対して１倍超５倍未満であり、発電性能やや向上
ランクＥ：比較例１に対して１倍であり、発電性能同じ
ランクＦ：比較例１に対して１倍未満であり、発電性能低下
【００７２】
（実施例２）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、シリコーンゴム（信越化学工業株式会社製、ＫＥ−１９３５）を塗布して、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み１００μｍの薄膜を形成した。
次に、前記薄膜を実施例１と同様にしてコロナ放電処理を行い、前記ＰＥＴフィルムを剥離し、実施例２の中間層を作製した。
【００７３】
−素子の作製及び発電装置の作製−
前記作製した中間層を用い、実施例１と同様にして、実施例２の素子及び発電装置を作製した。
【００７４】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
作製した実施例２の中間層について、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．８０であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることが確認できた。
【００７５】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例２の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表１−４に示した。
【００７６】
（実施例３）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
シリコーンゴム（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、ＩＶＳ４３１２）１００質量部、及びチタン酸バリウム（ＡＬＤＲＩＣＨ社製、２０８１０８）５０質量部を分散して、シリコーンゴム組成物を調製した。
次に、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、前記シリコーンゴム組成物を塗布して、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み１００μｍの薄膜を形成した。
次に、前記薄膜を実施例１と同様にしてコロナ放電処理を行い、前記ＰＥＴフィルムを剥離し、実施例３の中間層を作製した。
【００７７】
−素子の作製及び発電装置の作製−
前記作製した中間層を用い、実施例１と同様にして、実施例３の素子及び発電装置を作製した。
【００７８】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
作製した実施例３の中間層について、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．９１であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることが確認できた。
【００７９】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例３の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表１−４に示した。
【００８０】
（実施例４）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
シリコーンゴム（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、ＩＶＳ４３１２）１００質量部、及びチタン酸ストロンチウム（ＡＬＤＲＩＣＨ製、３９６１４１）５０質量部を分散して、シリコーンゴム組成物を調製した。
次に、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、前記シリコーンゴム組成物を塗布して、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み１００μｍの薄膜を形成した。
次に、前記薄膜を実施例１と同様にして、コロナ放電処理を行い、前記ＰＥＴフィルムを剥離し、実施例４の中間層を作製した。
【００８１】
−素子の作製及び発電装置の作製−
前記作製した中間層を用い、実施例１と同様にして、実施例４の素子及び発電装置を作製した。
【００８２】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
作製した実施例４の中間層について、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．９１であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることが確認できた。
【００８３】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例４の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表１−４に示した。
【００８４】
（実施例５）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
シリコーンゴム（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、ＩＶＳ４３１２）１００質量部、及びシリカ（富士シリシア株式会社製、サイシリア４３０）１０質量部を分散して、シリコーンゴム組成物を調製した。
次に、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、前記シリコーンゴム組成物を塗布して、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み２００μｍの薄膜を形成した。
次に、前記薄膜をプラズマ処理（処理条件；ヤマト科学株式会社製、ＰＲ−５００、出力１００Ｗ、処理時間４分間、反応雰囲気：アルゴン９９．９９９％、反応圧力１０Ｐａ）した。その後、前記ＰＥＴフィルムを剥離した。以上により、中間層を得た。
【００８５】
−第１の電極及び第２の電極−
第１の電極及び第２の電極として、セーレン社製の導電布Ｓｕｉ−８０−Ｍ３０（銅＋ニッケルをメッキした不織布の厚み３５μｍ）を用いた。
【００８６】
−素子の作製−
得られた中間層を、前記第１の電極及び前記第２の電極で挟み、リード線（太陽電線株式会社製、Ｃ３／ＲＶ−９０  ０．７５ＳＱ）を取り付けて、更に、カバー材（ユーロポート社製、ＳＬＦ−Ｋ０２Ｇ、ポリ塩化ビニルフィルムの厚み８０μｍ）で挟んで、実施例５の素子を作製した。
【００８７】
−発電装置の作製−
得られた素子にオシロスコープ（ＬｅＣｒｏｙ社製、ＷａｖｅＡｃｅ１００１）を取り付けて、実施例５の発電装置を作製した。
【００８８】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
作製した実施例５の中間層について、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．８１であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることが確認された。
【００８９】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例５の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表１−４に示した。
【００９０】
（実施例６）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製、第１の電極及び第２の電極−
中間層の作製、第１の電極及び第２の電極は実施例５と同じ。
【００９１】
−素子の作製−
得られた中間層を、前記第１の電極及び前記第２の電極で挟み、リード線（太陽電線株式会社製、Ｃ３／ＲＶ−９０  ０．７５ＳＱ）を取り付けて、更に、カバー材（ユーロポート社製、ＳＬＦ−Ｋ０２Ｇ、ポリ塩化ビニルフィルムの厚み８０μｍ）で挟み、素子を作製した。
作製の際に、電極と中間層の赤外吸収スペクトルのピーク強度比（１０９５±５ｃｍ−１／１０２５±５ｃｍ−１）が大きい側の面との間には、スペーサー（東レ株式会社製、Ｈ１０ルミラー＃５００、ポリエチレンテレフタレートフィルムの厚み４８０μｍ）を介して空間を設けた。以上により、実施例６の素子を作製した。
【００９２】
−発電装置の作製−
得られた素子にオシロスコープ（ＬｅＣｒｏｙ社製、ＷａｖｅＡｃｅ１００１）を取り付けて、実施例６の発電装置を作製した。
【００９３】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
実施例６の中間層について、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．８１であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることが確認された。
【００９４】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例６の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表１−４に示した。
【００９５】
（実施例７）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製、第１の電極及び第２の電極−
中間層の作製、第１の電極及び第２の電極は実施例５と同じ。
【００９６】
−素子の作製−
得られた中間層を、前記第１の電極及び前記第２の電極で挟み、リード線（太陽電線株式会社製、Ｃ３／ＲＶ−９０  ０．７５ＳＱ）を取り付けて、更に、カバー材（ユーロポート社製、ＳＬＦ−Ｋ０２Ｇ、ポリ塩化ビニルフィルムの厚み８０μｍ）で挟み、素子を作製した。
作製の際に、電極と中間層の赤外吸収スペクトルのピーク強度比（１０９５±５ｃｍ−１／１０２５±５ｃｍ−１）が小さい側の面との間には、スペーサー（東レ株式会社製、Ｈ１０ルミラー＃５００、ポリエチレンテレフタレートフィルムの厚み４８０μｍ）を介して空間を設けた。以上により、実施例７の素子を作製した。
【００９７】
−発電装置の作製−
得られた素子にオシロスコープ（ＬｅＣｒｏｙ社製、ＷａｖｅＡｃｅ１００１）を取り付けて、実施例７の発電装置を作製した。
【００９８】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
実施例７の中間層について、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．８１であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることが確認された。
【００９９】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例７の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表１−４に示した。
【０１００】
（実施例８）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
シリコーンゴム（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、ＩＶＳ４３１２）１００質量部、及びシリカ（富士シリシア株式会社製、サイシリア４３０）５０質量部を分散して、シリコーンゴム組成物を調製した。
次に、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、前記シリコーンゴム組成物を塗布して、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み２００μｍの薄膜を形成した。
次に、前記薄膜を実施例５と同様にして、プラズマ処理を行い、前記ＰＥＴフィルムを剥離し、実施例８の中間層を作製した。
【０１０１】
−素子の作製及び発電装置の作製−
前記作製した中間層を用い、実施例７と同様にして、実施例８の素子及び発電装置を作製した。
【０１０２】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
作製した実施例８の中間層について、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．８７であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることが確認された。
【０１０３】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例８の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表１−４に示した。
【０１０４】
（実施例９）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
シリコーンゴム（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、ＩＶＳ４３１２）１００質量部、及びシリカ（富士シリシア株式会社製、サイシリア４３０）６０質量部を分散して、シリコーンゴム組成物を調製した。
次に、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、前記シリコーンゴム組成物を塗布して、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み２００μｍの薄膜を形成した。
次に、前記薄膜を実施例５と同様にして、プラズマ処理を行い、前記ＰＥＴフィルムを剥離し、実施例９の中間層を作製した。
【０１０５】
−素子の作製及び発電装置の作製−
前記作製した中間層を用い、実施例７と同様にして、実施例９の素子及び発電装置を作製した。
【０１０６】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
作製した実施例９の中間層について、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．８８であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることが確認された。
【０１０７】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例９の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。
結果を表１−４に示した。
【０１０８】
（実施例１０）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
シリコーンゴム（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、ＩＶＳ４３１２）１００質量部、及びシリカ（富士シリシア株式会社製、サイシリア４３０）１０質量部を分散して、シリコーンゴム組成物を調製した。
次に、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、前記シリコーンゴム組成物を塗布して、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み２０μｍの薄膜を形成した。
次に、前記薄膜を実施例５と同様にして、プラズマ処理を行い、実施例１０の中間層を作製した。
【０１０９】
−素子の作製及び発電装置の作製−
前記作製した中間層を用い、実施例７と同様にして、実施例１０の素子及び発電装置を作製した。
【０１１０】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
作製した実施例１０の中間層について、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．８２であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることが確認された。
【０１１１】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例１０の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表１−４に示した。
【０１１２】
（実施例１１）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
シリコーンゴム（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、ＩＶＳ４３１２）１００質量部、及びシリカ（富士シリシア株式会社製、サイシリア４３０）１０質量部を分散して、シリコーンゴム組成物を調製した。
次に、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、前記シリコーンゴム組成物を塗布して、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み３００μｍの薄膜を形成した。
次に、前記薄膜を実施例５と同様にして、プラズマ処理を行い、前記ＰＥＴフィルムを剥離し、実施例１１の中間層を作製した。
【０１１３】
−素子の作製及び発電装置の作製−
前記作製した中間層を用い、実施例７と同様にして、実施例１１の素子及び発電装置を作製した。
【０１１４】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
作製した実施例１１の中間層について、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．８０であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることが確認された。
【０１１５】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例１１の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表１−４に示した。
【０１１６】
（実施例１２）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
シリコーンゴム（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、ＩＶＳ４３１２）１００質量部、及びシリカ（新日鉄住金マテリアルズ株式会社製、ＨＳ−２０７）５０質量部を分散して、シリコーンゴム組成物を調製した。
次に、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、前記シリコーンゴム組成物を塗布して、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み２００μｍの薄膜を形成した。
次に、前記薄膜を実施例５と同様にして、プラズマ処理を行い、前記ＰＥＴフィルムを剥離し、実施例１２の中間層を作製した。
【０１１７】
−素子の作製及び発電装置の作製−
前記作製した中間層を用い、実施例７と同様にして、実施例１２の素子及び発電装置を作製した。
【０１１８】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
作製した実施例１２の中間層について、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．８７であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることが確認された。
【０１１９】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例１２の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表１−４に示した。
【０１２０】
（実施例１３）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
シリコーンゴム（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、ＩＶＳ４３１２）１００質量部、及び珪藻土（白石カルシウム株式会社製、ＣＴ−Ｃ４９９）１０質量部を分散して、シリコーンゴム組成物を調製した。
次に、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、前記シリコーンゴム組成物を塗布して、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み２００μｍの薄膜を形成した。
次に、前記薄膜を実施例５と同様にして、プラズマ処理を行い、前記ＰＥＴフィルムを剥離し、実施例１３の中間層を作製した。
【０１２１】
−素子の作製及び発電装置の作製−
前記作製した中間層を用い、実施例７と同様にして、実施例１３の素子及び発電装置を作製した。
【０１２２】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
作製した実施例１３の中間層について、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．８４であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることが確認された。
【０１２３】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例１３の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表１−４に示した。
【０１２４】
（実施例１４）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
シリコーンゴム（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、ＴＳＥ３０３３）１００質量部、及びカオリン（竹原化学工業株式会社製、Ｇｌｏｍａｘ  ＬＬ）５質量部を分散して、シリコーンゴム組成物を調製した。
次に、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、前記シリコーンゴム組成物を塗布して、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み１５０μｍの薄膜を形成した。
次に、前記薄膜をプラズマ処理（処理条件；ヤマト科学株式会社製、ＰＲ−５００、出力１００Ｗ、処理時間４分間、反応雰囲気：アルゴン９９．９９９％、反応圧力１０Ｐａ）した。その後、前記ＰＥＴフィルムを剥離した。以上により、実施例１４の中間層を得た。
【０１２５】
−第１の電極及び第２の電極−
第１の電極及び第２の電極として、セーレン社製の導電布Ｓｕｉ−８０−Ｍ３０（銅＋ニッケルをメッキした不織布の厚み３５μｍ）を用いた。
【０１２６】
−素子の作製−
得られた中間層を、前記第１の電極及び前記第２の電極で挟み、リード線（太陽電線株式会社製、Ｃ３／ＲＶ−９０  ０．７５ＳＱ）を取り付けて、更に、カバー材（ユーロポート社製、ＳＬＦ−Ｋ０２Ｇ、ポリ塩化ビニルフィルムの厚み８０μｍ）で挟んで、実施例１４の素子を作製した。
【０１２７】
−発電装置の作製−
得られた素子にオシロスコープ（ＬｅＣｒｏｙ社製、ＷａｖｅＡｃｅ１００１）を取り付けて、実施例１４の発電装置を作製した。
【０１２８】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
作製した実施例１４の中間層について、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．７８であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることが確認された。
【０１２９】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例１４の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表１−４に示した。
【０１３０】
（実施例１５）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製、第１の電極及び第２の電極−
中間層の作製、第１の電極及び第２の電極は実施例１４と同じ。
【０１３１】
−素子の作製−
得られた中間層を、前記第１の電極及び前記第２の電極で挟み、リード線（太陽電線株式会社製、Ｃ３／ＲＶ−９０  ０．７５ＳＱ）を取り付けて、更に、カバー材（ユーロポート社製、ＳＬＦ−Ｋ０２Ｇ、ポリ塩化ビニルフィルムの厚み８０μｍ）で挟み、素子を作製した。
作製の際に、電極と中間層の赤外吸収スペクトルのピーク強度比（１０９５±５ｃｍ−１／１０２５±５ｃｍ−１）が大きい側の面との間には、スペーサー（東レ株式会社製、Ｈ１０ルミラー＃５００、ポリエチレンテレフタレートフィルムの厚み４８０μｍ）を介して空間を設けた。以上により、実施例１５の素子を作製した。
【０１３２】
−発電装置の作製−
得られた素子にオシロスコープ（ＬｅＣｒｏｙ社製、ＷａｖｅＡｃｅ１００１）を取り付けて、実施例１５の発電装置を作製した。
【０１３３】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
実施例１５の中間層について、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．７８であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることが確認された。
【０１３４】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例１５の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表１−４に示した。
【０１３５】
（実施例１６）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製、第１の電極及び第２の電極−
中間層の作製、第１の電極及び第２の電極は実施例１４と同じ。
【０１３６】
−素子の作製−
得られた中間層を、前記第１の電極及び前記第２の電極で挟み、リード線（太陽電線株式会社製、Ｃ３／ＲＶ−９０  ０．７５ＳＱ）を取り付けて、更に、カバー材（ユーロポート社製、ＳＬＦ−Ｋ０２Ｇ、ポリ塩化ビニルフィルムの厚み８０μｍ）で挟み、素子を作製した。
作製の際に、電極と中間層の赤外吸収スペクトルのピーク強度比（１０９５±５ｃｍ−１／１０２５±５ｃｍ−１）が小さい側の面との間には、スペーサー（東レ株式会社製、Ｈ１０ルミラー＃５００、ポリエチレンテレフタレートフィルムの厚み４８０μｍ）を介して空間を設けた。以上により、実施例の素子を作製した。
【０１３７】
−発電装置の作製−
得られた素子にオシロスコープ（ＬｅＣｒｏｙ社製、ＷａｖｅＡｃｅ１００１）を取り付けて、実施例１６の発電装置を作製した。
【０１３８】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
実施例１６の中間層について、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．７８であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることが確認された。
【０１３９】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例１６の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表１−４に示した。
【０１４０】
（実施例１７）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
シリコーンゴム（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、ＴＳＥ３０３３）１００質量部、及びカオリン（竹原化学工業株式会社製、Ｇｌｏｍａｘ  ＬＬ）１質量部を分散して、シリコーンゴム組成物を調製した。
次に、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、前記シリコーンゴム組成物を塗布して、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み１５０μｍの薄膜を形成した。
次に、前記薄膜を実施例１４と同様にして、プラズマ処理を行い、前記ＰＥＴフィルムを剥離し、実施例１７の中間層を作製した。
【０１４１】
−素子の作製及び発電装置の作製−
前記作製した中間層を用い、実施例１６と同様にして、実施例１７の素子及び発電装置を作製した。
【０１４２】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
作製した実施例１７の中間層について、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．７３であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることが確認された。
【０１４３】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例１７の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表１−４に示した。
【０１４４】
（実施例１８）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
シリコーンゴム（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、ＴＳＥ３０３３）１００質量部、及びカオリン（竹原化学工業株式会社製、Ｇｌｏｍａｘ  ＬＬ）６０質量部を分散して、シリコーンゴム組成物を調製した。
次に、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、前記シリコーンゴム組成物を塗布して、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み１５０μｍの薄膜を形成した。
次に、前記薄膜を実施例１４と同様にして、プラズマ処理を行い、実施例１８の中間層を作製した。
【０１４５】
−素子の作製及び発電装置の作製−
前記作製した中間層を用い、実施例１６と同様にして、実施例１８の素子及び発電装置を作製した。
【０１４６】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
作製した実施例１８の中間層について、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．８５であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることが確認された。
【０１４７】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例１８の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表１−４に示した。
【０１４８】
（実施例１９）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
シリコーンゴム（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、ＴＥＳ３０３３）１００質量部、及びカオリン（竹原化学工業株式会社製、Ｇｌｏｍａｘ  ＬＬ）５質量部を分散して、シリコーンゴム組成物を調製した。
次に、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、前記シリコーンゴム組成物を塗布して、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み２０μｍの薄膜を形成した。
次に、前記薄膜を実施例１４と同様にして、プラズマ処理を行い、前記ＰＥＴフィルムを剥離し、実施例１９の中間層を作製した。
【０１４９】
−素子の作製及び発電装置の作製−
前記作製した中間層を用い、実施例１６と同様にして、実施例１９の素子及び発電装置を作製した。
【０１５０】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
作製した実施例１９の中間層について、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．８０であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることが確認された。
【０１５１】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例１９の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表１−４に示した。
【０１５２】
（実施例２０）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
シリコーンゴム（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、ＴＳＥ３０３３）１００質量部、及びカオリン（竹原化学工業株式会社製、Ｇｌｏｍａｘ  ＬＬ）５質量部を分散して、シリコーンゴム組成物を調製した。
次に、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、前記シリコーンゴム組成物を塗布して、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み３００μｍの薄膜を形成した。
次に、前記薄膜を実施例１４と同様にして、プラズマ処理を行い、前記ＰＥＴフィルムを剥離し、実施例２０の中間層を作製した。
【０１５３】
−素子の作製及び発電装置の作製−
前記作製した中間層を用い、実施例１６と同様にして、実施例２０の素子及び発電装置を作製した。
【０１５４】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
作製した実施例２０の中間層について、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．７７であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることが確認された。
【０１５５】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例２０の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表１−４に示した。
【０１５６】
（実施例２１）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
シリコーンゴム（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、ＸＥ１４−Ｃ２０４２）１００質量部、及びカオリン（竹原化学工業株式会社製、Ｇｌｏｍａｘ  ＬＬ）５質量部を分散して、第１のシリコーンゴム組成物を調製した。
次に、ポリイミドフィルム上に、前記第１のシリコーンゴム組成物を塗布して、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み１００μｍの第１の薄膜を形成した。
続いて、シリコーンゴム（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、ＸＥ１４−Ｃ２０４２）１００質量部、及びカオリン（竹原化学工業株式会社製、ＲＣ−１）２０質量部を分散して、第２のシリコーンゴム組成物を調製した。
次に、前記第１の薄膜上に、前記第２のシリコーンゴム組成物を塗布し、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み１００μｍの第２の薄膜を形成した。
次に、前記第１及び第２の薄膜を２００℃で５時間加熱した後、前記ポリイミドフィルムを剥がし、実施例２１の中間層を作製した。なお、表面改質処理は実施しなかった。
【０１５７】
−第１の電極及び第２の電極−
第１の電極及び第２の電極として、扶桑ゴム産業株式会社製のシリウス・導電性極薄シリコーンゴム（ゴムシートの厚み１００μｍ）を用いた。
【０１５８】
−素子の作製−
得られた中間層を、前記第１の電極及び前記第２の電極で挟み、リード線（太陽電線株式会社製、Ｃ３／ＲＶ−９０  ０．７５ＳＱ）を取り付けて、更に、カバー材（アイリスオーヤマ社製、ラミネートフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルムの厚み２５０μｍ）で挟んで、素子を作製した。
作製の際に、電極と中間層の赤外吸収スペクトルのピーク強度比が小さい側の面との間には、スペーサー（扶桑ゴム産業株式会社製、エーテル系ウレタンゴムＦＨシート、ゴムシートの厚み１ｍｍ）を介して空間を設けた。以上により、実施例２１の素子を作製した。
【０１５９】
−発電装置の作製−
得られた素子にオシロスコープ（ＬｅＣｒｏｙ社製、ＷａｖｅＡｃｅ１００１）を取り付けて、実施例２１の発電装置を作製した。
【０１６０】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
作製した実施例２１の中間層について、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．９５であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることが確認された。
【０１６１】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例２１の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表１−４に示した。
【０１６２】
（実施例２２）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
ポリイミドフィルム上に、シリコーンゴム（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、ＸＥ１４−Ｃ２０４２）を塗布して、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み１００μｍの第１の薄膜を形成した。
続いて、シリコーンゴム（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、ＸＥ１４−Ｃ２０４２）１００質量部、及びカオリン（白石カルシウム株式会社製、ＳＴ−ＣＲＯＷＮ）５０質量部を分散して、第２のシリコーンゴム組成物を調製した。
次に、前記第２のシリコーンゴム組成物を前記第１の薄膜上に塗布し、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み１００μｍの第２の薄膜を形成した。
次に、前記第１及び第２の薄膜を２００℃で５時間加熱した後、前記ポリイミドフィルムを剥がし、実施例２２の中間層を作製した。なお、表面改質処理は実施しなかった。
【０１６３】
−素子の作製及び発電装置の作製−
前記作製した中間層を用い、実施例２１と同様にして、実施例２２の素子及び発電装置を作製した。
【０１６４】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
作製した実施例２２の中間層について、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．９４であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることが確認された。
【０１６５】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例２２の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表１−４に示した。
【０１６６】
（実施例２３）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
シリコーンゴム（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、ＴＳＥ３０３３）１００質量部、及びタルク（竹原化学工業株式会社製、ミクロライト）１０質量部を分散して、シリコーンゴム組成物を調製した。
次に、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、前記シリコーンゴム組成物を塗布して、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み１５０μｍの薄膜を形成した。
次に、前記薄膜を実施例１と同様にして、コロナ放電処理して、前記ＰＥＴフィルムを剥がし、実施例２３の中間層を作製した。
【０１６７】
−素子の作製及び発電装置の作製−
前記作製した中間層を用い、実施例７と同様にして、実施例２３の素子及び発電装置を作製した。
【０１６８】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
作製した実施例２３の中間層について、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．８２であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることが確認された。
【０１６９】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例２３の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表１−４に示した。
【０１７０】
（実施例２４）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、シリコーンゴム（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、ＸＥ１４−Ｃ２０４２）を塗布して、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み１００μｍの第１の薄膜を形成した。
続いて、シリコーンゴム（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、ＸＥ１４−Ｃ２０４２）１００質量部、及びタルク（日本タルク株式会社製、Ｄ−１０００）１０質量部を分散して、第２のシリコーンゴム組成物を調製した。
次に、前記第１の薄膜上に、前記第２のシリコーンゴム組成物を塗布し、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み１００μｍの第２の薄膜を形成した。
次に、前記第１及び第２の薄膜を実施例１と同様にして、コロナ放電処理して、前記ＰＥＴフィルムを剥がし、実施例２４の中間層を作製した。
【０１７１】
−素子の作製及び発電装置の作製−
前記作製した中間層を用い、実施例２１と同様にして、実施例２４の素子及び発電装置を作製した。
【０１７２】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
作製した実施例２４の中間層について、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．８８であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることが確認された。
【０１７３】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例２４の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表１−４に示した。
【０１７４】
（実施例２５）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
シリコーンゴム（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、ＴＳＥ３０３３）１００質量部、及びウォラストナイト（白石カルシウム株式会社製、ＳＴ−４０Ｆ）１０質量部を分散して、シリコーンゴム組成物を調製した。
次に、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、前記シリコーンゴム組成物を塗布して、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み１００μｍの薄膜を形成した。
次に、前記薄膜を電子線照射処理（処理条件；浜松ホトニクス株式会社製、ライン照射型低エネルギー電子線照射源、照射量１ＭＧｙ、反応雰囲気：窒素、酸素分圧５０００ｐｐｍ以下）し、前記ＰＥＴフィルムを剥がし、実施例２５の中間層を作製した。
【０１７５】
−素子の作製−
中間層２５を電極（セーレン社製、導電布Ｓｕｉ−８０−Ｍ３０、銅＋ニッケルをメッキした不織布の厚み３５μｍ）で挟み、リード線（太陽電線株式会社製、Ｃ３／ＲＶ−９０  ０．７５ＳＱ）を取り付けて、更に、カバー材（ユーロポート社製、ＳＬＦ−ＰＰ０１Ｇ、ポリプロピレンフィルムの厚み２０μｍ）で挟んで、素子を作製した。
作製の際に、電極と中間層２５の赤外吸収スペクトル１０９５±５ｃｍ−１／１０２５±５ｃｍ−１のピーク強度比が小さい側の面との間には、スペーサー（東レ社製、Ｈ１０ルミラー＃５００、ポリエチレンテレフタレートフィルムの厚み４８０μｍ）を介して空間を設けた。以上により、実施例２５の素子を作製した。
【０１７６】
得られた素子にオシロスコープ（ＬｅＣｒｏｙ社製、ＷａｖｅＡｃｅ１００１）を取り付けて、実施例２５の発電装置を作製した。
【０１７７】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
作製した実施例２５の中間層について、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．７８であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることが確認された。
【０１７８】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例２５の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表１−４に示した。
【０１７９】
（実施例２６）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
シリコーンゴム（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、ＴＳＥ３０３３）１００質量部、及びウォラストナイト（浅田製粉株式会社製、ワラストＪＥＴ３０ｗ）１０質量部を分散して、シリコーンゴム組成物を調製した。
次に、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、前記シリコーンゴム組成物を塗布して、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み１００μｍの薄膜を形成した。
次に、前記薄膜を実施例２５と同様にして、電子線照射処理して、前記ＰＥＴフィルムを剥がし、実施例２６の中間層を作製した。
【０１８０】
−素子の作製及び発電装置の作製−
前記作製した中間層を用い、実施例２５と同様にして、実施例２６の素子及び発電装置を作製した。
【０１８１】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
作製した実施例２６の中間層について、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．７８であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることが確認された。
【０１８２】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例２６の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表１−４に示した。
【０１８３】
（実施例２７）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
シリコーンゴム（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、ＴＳＥ３０３３）１００質量部、及びマイカ（ヤマグチマイカ株式会社製、Ａ−１１）２０質量部を分散して、シリコーンゴム組成物を調製した。
次に、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、前記シリコーンゴム組成物を塗布して、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み１００μｍの薄膜を形成した。
次に、前記薄膜を実施例５と同様にしてプラズマ処理して、前記ＰＥＴフィルムを剥がし、実施例２７の中間層を作製した。
【０１８４】
−素子の作製及び発電装置の作製−
前記作製した中間層を用い、実施例２５と同様にして、実施例２７の素子及び発電装置を作製した。
【０１８５】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
作製した実施例２７の中間層について、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．９３であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることが確認された。
【０１８６】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例２７の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表１−４に示した。
【０１８７】
（実施例２８）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
シリコーンゴム（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、ＴＳＥ３０３３）１００質量部、及びゼオライト（日東粉化工業株式会社製、ＳＰ＃２３００）２０質量部を分散して、シリコーンゴム組成物を調製した。
次に、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、前記シリコーンゴム組成物を塗布して、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み１００μｍの薄膜を形成した。
次に、前記薄膜を実施例５と同様にして、プラズマ処理して、前記ＰＥＴフィルムを剥がし、実施例２８の中間層を作製した。
【０１８８】
−素子の作製及び発電装置の作製−
前記作製した中間層を用い、実施例２５と同様にして、実施例２８の素子及び発電装置を作製した。
【０１８９】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
作製した実施例２８の中間層について、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．９２であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることが確認された。
【０１９０】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例２８の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表１−４に示した。
【０１９１】
（実施例２９）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
シリコーンゴム（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、ＴＳＥ３０３３）１００質量部、及びセリサイト（白石カルシウム株式会社製、ＳＴ−５０１）２０質量部を分散して、シリコーンゴム組成物を調製した。
次に、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、前記シリコーンゴム組成物を塗布して、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み１００μｍの薄膜を形成した。
次に、前記薄膜を実施例５と同様にして、プラズマ処理して、前記ＰＥＴフィルムを剥がし、実施例２９の中間層を作製した。
【０１９２】
−素子の作製及び発電装置の作製−
前記作製した中間層を用い、実施例２５と同様にして、実施例２９の素子及び発電装置を作製した。
【０１９３】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
作製した実施例２９の中間層について、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．９０であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることが確認された。
【０１９４】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例２９の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表１−４に示した。
【０１９５】
（実施例３０）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
シリコーンゴム（信越化学工業株式会社製、ＫＥ−１９３５）１００質量部、及び中空ガラスビーズ（ポッターズ・バロティーニ社製、Ｓｐｈｅｒｉｃｅｌ  １１０Ｐ８）２０質量部を分散して、シリコーンゴム組成物を調製した。
次に、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、前記シリコーンゴム組成物を塗布して、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み１００μｍの薄膜を形成した。
次に、前記薄膜を実施例５と同様にして、プラズマ処理して、前記ＰＥＴフィルムを剥がし、実施例３０の中間層を作製した。
【０１９６】
−素子の作製及び発電装置の作製−
前記作製した中間層を用い、実施例２５と同様にして、実施例３０の素子及び発電装置を作製した。
【０１９７】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
作製した実施例３０の中間層について、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．９０であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることが確認された。
【０１９８】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例３０の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表１−４に示した。
【０１９９】
（実施例３１）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
シリコーンゴム（信越化学工業株式会社製、ＫＥ−１９３５）１００質量部、及びアクリル微粒子（東洋紡株式会社製、ＦＨ−Ｓ００５）２０質量部を分散して、シリコーンゴム組成物を調製した。
次に、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、前記シリコーンゴム組成物を塗布して、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み１００μｍの薄膜を形成した。
次に、前記薄膜を実施例５と同様にして、プラズマ処理して、前記ＰＥＴフィルムを剥がし、実施例３１の中間層を作製した。
【０２００】
−素子の作製及び発電装置の作製−
前記作製した中間層を用い、実施例２５と同様にして、実施例３１の素子及び発電装置を作製した。
【０２０１】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
作製した実施例３１の中間層について、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．９５であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることが確認された。
【０２０２】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例３１の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表２−４に示した。
【０２０３】
（実施例３２）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
シリコーンゴム（信越化学工業株式会社製、ＫＥ−１９３５）１００質量部、及びポリスチレン微粒子（テクノケミカル株式会社製、１９５２０−５００）２０質量部を分散して、シリコーンゴム組成物を調製した。
次に、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、前記シリコーンゴム組成物を塗布して、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み１００μｍの薄膜を形成した。
次に、前記薄膜を実施例５と同様にして、プラズマ処理して、前記ＰＥＴフィルムを剥がし、実施例３２の中間層を作製した。
【０２０４】
−素子の作製及び発電装置の作製−
前記作製した中間層を用い、実施例２５と同様にして、実施例３２の素子及び発電装置を作製した。
【０２０５】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
作製した実施例３２の中間層について、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．９５であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることが確認された。
【０２０６】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例３２の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表２−４に示した。
【０２０７】
（実施例３３）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
シリコーンゴム（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、ＸＥ１４−Ｃ２０４２）１００質量部、及びシリカ（新日鉄住金マテリアルズ株式会社製、ＨＳ−２０７）５０質量部を分散して、シリコーンゴム組成物を調製した。
次に、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、前記シリコーンゴム組成物を塗布して、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み５０μｍの第１の薄膜を形成した。
次に、前記第１の薄膜上に、シリコーンゴム（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、ＸＥ１４−Ｃ２０４２）を塗布し、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み５０μｍの第２の薄膜を形成した。
次に、前記第１及び第２の薄膜を実施例２５と同様にして、電子線照射処理して、前記ＰＥＴフィルムを剥がし、実施例３３の中間層を作製した。
【０２０８】
−第１の電極及び第２の電極−
第１の電極として、パナック社製のアルペット２０−１００（アルミニウム箔の厚み２０μｍ、ポリエチレンテレフタレートフィルムの厚み１００μｍ（カバー材））を用いた。また、第２の電極として、パナック社製のパナブリッド３５−５０（銅箔の厚み３５μｍ、ポリエチレンテレフタレートフィルムの厚み５０μｍ（カバー材））を用いた。
【０２０９】
−素子の作製−
得られた中間層を、前記第１の電極及び前記第２の電極で挟み、リード線（太陽電線株式会社製、Ｃ３／ＲＶ−９０  ０．７５ＳＱ）を取り付けて、素子を作製した。
作製の際に、第１の電極と中間層の赤外吸収スペクトルのピーク強度比（１０９５±５ｃｍ−１／１０２５±５ｃｍ−１）が小さい側の面との間には、スペーサー（東レ株式会社製、Ｈ１０ルミラー＃５００、ポリエチレンテレフタレートフィルムの厚み４８０μｍ）を介して空間を設けた。以上により、実施例３６の素子を作製した。
【０２１０】
−発電装置の作製−
得られた素子に、オシロスコープ（ＬｅＣｒｏｙ社製、ＷａｖｅＡｃｅ１００１）を取り付けて、実施例１の発電装置を作製した。
【０２１１】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
作製した実施例３３の中間層について、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．８１であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることが確認された。
【０２１２】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例３３の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表２−４に示した。
【０２１３】
（実施例３４）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
シリコーンゴム（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、ＸＥ１４−Ｃ２０４２）１００質量部、及びウォラストナイト（浅田製粉株式会社製、ワラストＪＥＴ３０ｗ）５０質量部を分散して、シリコーンゴム組成物を調製した。
次に、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、前記シリコーンゴム組成物を塗布して、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み５０μｍの第１の薄膜を形成した。
次に、前記第１の薄膜上に、シリコーンゴム（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、ＸＥ１４−Ｃ２０４２）を塗布し、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み５０μｍの第２の薄膜を形成した。
次に、前記第１及び第２の薄膜を実施例２５と同様にして、電子線照射処理して、前記ＰＥＴフィルムを剥がし、実施例３４の中間層を作製した。
【０２１４】
−素子の作製及び発電装置の作製−
前記作製した中間層を用い、実施例３３と同様にして、実施例３４の素子及び発電装置を作製した。
【０２１５】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
作製した実施例３４の中間層について、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．８１であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることが確認された。
【０２１６】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例３４の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表２−４に示した。
【０２１７】
（実施例３５）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
シリコーンゴム（信越化学工業株式会社製、ＫＥ−１９３５）１００質量部、及びシリコーンレジンパウダー（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、トスパール１２０）２０質量部を分散して、シリコーンゴム組成物を調製した。
次に、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、前記シリコーンゴム組成物を塗布して、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み１００μｍの薄膜を形成した。
次に、前記薄膜を実施例５と同様にして、プラズマ処理して、前記ＰＥＴフィルムを剥がし、実施例３５の中間層を作製した。
【０２１８】
−素子の作製及び発電装置の作製−
前記作製した中間層を用い、実施例３３と同様にして、実施例３５の素子及び発電装置を作製した。
【０２１９】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
作製した実施例３５の中間層について、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．８３であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることが確認された。
【０２２０】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例３５の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表２−４に示した。
【０２２１】
（実施例３６）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
シリコーンゴム（信越化学工業株式会社製、ＫＥ−１９３５）１００質量部、及びシリコーンゴムパウダー（東レ・ダウコーニング株式会社製、ＥＰ−２６００）２０質量部を分散して、シリコーンゴム組成物を調製した。
次に、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、前記シリコーンゴム組成物を塗布して、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み１００μｍの薄膜を形成した。
次に、前記薄膜を実施例５と同様にして、プラズマ処理して、前記ＰＥＴフィルムを剥がし、実施例３６の中間層を作製した。
【０２２２】
−素子の作製及び発電装置の作製−
前記作製した中間層を用い、実施例３３と同様にして、実施例３６の素子及び発電装置を作製した。
【０２２３】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
作製した実施例３６の中間層について、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．８３であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることが確認された。
【０２２４】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例３６の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表２−４に示した。
【０２２５】
（実施例３７）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
シリコーンゴム（信越化学工業株式会社製、ＫＥ−１９３５）１００質量部、及びシリコーン複合パウダー（信越化学工業株式会社製、ＫＭＰ−６０５）２０質量部を分散して、シリコーンゴム組成物を調製した。
次に、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、前記シリコーンゴム組成物を塗布して、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み１００μｍの薄膜を形成した。
次に、前記薄膜を実施例５と同様にして、プラズマ処理して、前記ＰＥＴフィルムを剥がし、実施例３７の中間層を作製した。
【０２２６】
−素子の作製及び発電装置の作製−
前記作製した中間層を用い、実施例３３と同様にして、実施例３７の素子及び発電装置を作製した。
【０２２７】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
作製した実施例３７の中間層について、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．８２であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることが確認された。
【０２２８】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例３７の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表２−４に示した。
【０２２９】
（実施例３８）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
シリコーンゴム（信越化学工業株式会社製、ＫＥ−１９３５）１００質量部、及びシリカ・アクリル複合微粒子（株式会社日本触媒製、ソリオスターＲＡ）１０質量部を分散して、シリコーンゴム組成物を調製した。
次に、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、前記シリコーンゴム組成物を塗布して、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み１００μｍの薄膜を形成した。
次に、前記薄膜を実施例２５と同様にして、電子線照射処理して、前記ＰＥＴフィルムを剥がし、実施例３８の中間層を作製した。
【０２３０】
−素子の作製及び発電装置の作製−
前記作製した中間層を用い、実施例３３と同様にして、実施例３８の素子及び発電装置を作製した。
【０２３１】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
作製した実施例３８の中間層について、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．７５であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることが確認された。
【０２３２】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例３８の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表２−４に示した。
【０２３３】
（実施例３９）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
シリコーンゴム（信越化学工業株式会社製、ＫＥ−１９３５）１００質量部、及びシルセスキオキサン（ＡＬＤＲＩＣＨ社製、ＰＰＳ−オクタメチル置換体５２６８３５）１質量部を分散して、シリコーンゴム組成物を調製した。
次に、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、前記シリコーンゴム組成物を塗布して、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み１００μｍの薄膜を形成した。
次に、前記薄膜を実施例２５と同様にして、電子線照射処理して、前記ＰＥＴフィルムを剥がし、実施例３９の中間層を作製した。
【０２３４】
−素子の作製及び発電装置の作製−
前記作製した中間層を用い、実施例３３と同様にして、実施例３９の素子及び発電装置を作製した。
【０２３５】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
作製した実施例３９の中間層について、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．７２であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることが確認された。
【０２３６】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例３９の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表２−４に示した。
【０２３７】
（実施例４０）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
シリコーンゴム（信越化学工業株式会社製、ＫＥ−１９３５）１００質量部、及びシルセスキオキサン（ＡＬＤＲＩＣＨ社製、ＰＰＳ−オクタフェニル置換体５２６８５１）１質量部を分散して、シリコーンゴム組成物を調製した。
次に、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、前記シリコーンゴム組成物を塗布して、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み１００μｍの薄膜を形成した。
次に、前記薄膜を実施例２５と同様にして、電子線照射処理して、前記ＰＥＴフィルムを剥がし、実施例４０の中間層を作製した。
【０２３８】
−素子の作製及び発電装置の作製−
前記作製した中間層を用い、実施例３３と同様にして、実施例４０の素子及び発電装置を作製した。
【０２３９】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
作製した実施例４０の中間層について、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．７２であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることが確認された。
【０２４０】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例４０の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表２−４に示した。
【０２４１】
（比較例１）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、シリコーンゴム（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、ＩＶＳ４３１２）を塗布して、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み１００μｍの薄膜を形成した。なお、表面改質処理は実施しなかった。以上により、比較例１の中間層を作製した。
【０２４２】
−素子の作製及び発電装置の作製−
前記作製した中間層を用い、実施例１と同様にして、比較例１の素子及び発電装置を作製した。
【０２４３】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
作製した比較例１の中間層において、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．９９であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が同一であることが確認された。
【０２４４】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した比較例１の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表２−４に示した。
【０２４５】
（比較例２）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
エチレンプロピレンジエンゴム（扶桑ゴム産業株式会社製、ＥＰＤＭゴムＦＨ極薄シート、ゴムシートの厚み２００μｍ）を実施例１と同様にして、コロナ放電処理して、比較例２の中間層を作製した。
【０２４６】
−素子の作製及び発電装置の作製−
前記作製した中間層を用い、実施例１と同様にして、比較例２の素子及び発電装置を作製した。
【０２４７】
＜発電性能の評価＞
作製した比較例２の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表２−４に示した。
【０２４８】
（比較例３）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
スチレンブタジエンゴム（扶桑ゴム産業株式会社製、ＳＢＲゴムＦＨ極薄シート、ゴムシートの厚み２００μｍ）を実施例１と同様にして、コロナ放電処理して、比較例３の中間層を作製した。
【０２４９】
−素子の作製及び発電装置の作製−
前記作製した中間層を用い、実施例１と同様にして、比較例３の素子及び発電装置を作製した。
【０２５０】
＜発電性能の評価＞
作製した比較例３の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表２−４に示した。
【０２５１】
（比較例４）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
ウレタンゴム（日新レジン株式会社製、ＡＤＡＰＴ  ６０Ｌ）１００質量部、及びカオリン（竹原化学工業株式会社製、Ｇｌｏｍａｘ  ＬＬ）５０質量部を分散して、ウレタンゴム組成物を調製した。
次に、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、前記ウレタンゴム組成物を塗布して、６０℃で４時間加熱硬化させて、厚み１００μｍの薄膜を形成した。
次に、前記薄膜を実施例１と同様にして、コロナ放電処理して、前記ＰＥＴフィルムを剥がし、比較例４の中間層を作製した。
【０２５２】
−素子の作製及び発電装置の作製−
前記作製した中間層を用い、実施例１と同様にして、比較例４の素子及び発電装置を作製した。
【０２５３】
＜発電性能の評価＞
作製した比較例４の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表２−４に示した。
【０２５４】
（比較例５）
＜素子及び発電装置の作製＞
−素子の作製−
ポリフッ化ビニリデンピエゾフィルム（東京センサ株式会社製、ＰＶＤＦの厚み１１０μｍ、銀電極の厚み６μｍ）にリード線（太陽電線株式会社製、Ｃ３／ＲＶ−９０  ０．
７５ＳＱ）を取り付けて、更に、カバー材（東レ株式会社製、Ｈ１０ルミラー＃１００、ポリエチレンテレフタレートフィルムの厚み１００μｍ）で挟んで、比較例５の素子を作製した。
【０２５５】
−発電装置の作製−
得られた比較例５の素子に、オシロスコープ（ＬｅＣｒｏｙ社製、ＷａｖｅＡｃｅ１００１）を取り付けて、比較例５の発電装置を作製した。
【０２５６】
＜発電性能の評価＞
作製した比較例５の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表２−４に示した。
【０２５７】
（比較例６）
＜素子及び発電装置の作製＞
−エレクトレット誘導体の作製−
銅板（山本テクノ株式会社製、Ｃ１１００、厚み１００μｍ）上に、フッ素樹脂溶液（旭硝子株式会社製、サイトップＣＴＬ−８０９Ａ）をスピンコート塗布した。室温で３０分間静置した後、５０℃で１時間加熱（プレキュア）し、更に３００℃で１時間加熱（ポストキュア）して、厚み１０μｍの薄膜を形成した。
次に、前記薄膜をエレクトレット化処理（コロナ放電処理）して（処理条件；松定プレシジョン株式会社製、ＨＡＲ−２０Ｒ５、コロナ針電圧−１０ｋＶ、グリッド電圧−１ｋＶ、加熱温度１００℃）、エレクトレット誘導体を得た。
【０２５８】
−第１の電極及び第２の電極−
第１の電極として、パナック社製のパナブリッド３５−５０（銅箔の厚み３５μｍ、ポリエチレンテレフタレートフィルムの厚み５０μｍ（カバー材））を用いた。また、第２の電極として、銅板（山本テクノ株式会社製、Ｃ１１００、厚み１００μｍ）を用いた。
【０２５９】
−素子の作製−
得られたエレクトレット誘導体を、前記第１の電極及び前記第２の電極で挟み、リード線（太陽電線株式会社製、Ｃ３／ＲＶ−９０  ０．７５ＳＱ）を取り付けて、更に、カバー材（東レ株式会社製、Ｈ１０ルミラー＃１００、ポリエチレンテレフタレートフィルムの厚み１００μｍ）で挟んで、比較例６の素子を作製した。
【０２６０】
−発電装置の作製−
得られた素子に、オシロスコープ（ＬｅＣｒｏｙ社製、ＷａｖｅＡｃｅ１００１）を取り付けて、比較例６の発電装置を作製した。
【０２６１】
＜発電性能の評価＞
作製した比較例６の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表２−４に示した。
【０２６２】
（実施例４１）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
シリコーンゴム（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、ＴＳＥ３０３３）１００質量部、シリカ（富士シリシア株式会社製、サイシリア４３０）２０質量部、及びチタン酸バリウム（ＡＬＤＲＩＣＨ社製、２０８１０８）１０質量部を分散して、シリコーンゴム組成物を調製した。
次に、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、前記シリコーンゴム組成物を塗布して、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み５０μｍの薄膜を形成した。
次に、前記薄膜をプラズマ処理（処理条件；ヤマト科学株式会社製、ＰＲ−５００、出力１００Ｗ、処理時間４分間、反応雰囲気：アルゴン９９．９９９％、反応圧力１０Ｐａ）した。前記ＰＥＴフィルムを剥がし、実施例４１の中間層を作製した。
【０２６３】
−第１の電極及び第２の電極−
第１の電極及び第２の電極として、扶桑ゴム産業株式会社製のシリウス・導電性極薄シリコーンゴム（ゴムシートの厚み１００μｍ）を用いた。
【０２６４】
−素子の作製−
得られた中間層を、前記第１の電極及び前記第２の電極で挟み、リード線（太陽電線株式会社製、Ｃ３／ＲＶ−９０  ０．７５ＳＱ）を取り付けて、更に、カバー材（アイリスオーヤマ株式会社製、ラミネートフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルムの厚み２５０μｍ）で挟んで、素子を作製した。
作製の際に、電極と中間層の赤外吸収スペクトルのピーク強度比が小さい側の面との間には、スペーサー（扶桑ゴム産業株式会社製、エーテル系ウレタンゴムＦＨシート、ゴムシートの厚み１ｍｍ）を介して空間を設けた。以上により、実施例４１の素子を作製した。
【０２６５】
−発電装置の作製−
得られた素子にオシロスコープ（ＬｅＣｒｏｙ社製、ＷａｖｅＡｃｅ１００１）を取り付けて、実施例４１の発電装置を作製した。
【０２６６】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
作製した実施例４１の中間層について、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．８４であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることが確認された。
【０２６７】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例４１の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表３−４に示した。
【０２６８】
（実施例４２）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
シリコーンゴム（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、ＴＳＥ３０３３）１００質量部、シリカ（富士シリシア株式会社製、サイシリア４３０）２０質量部、及び酸化チタン（石原産業株式会社製、ＣＲ−９０）５質量部を分散して、シリコーンゴム組成物を調製した。
次に、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、前記シリコーンゴム組成物を塗布して、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み５０μｍの薄膜を形成した。
次に、前記薄膜を実施例４１と同様にして、プラズマ処理して、前記ＰＥＴフィルムを剥がし、実施例４２の中間層を作製した。
【０２６９】
−素子の作製及び発電装置の作製−
前記作製した中間層を用い、実施例４１と同様にして、実施例４２の素子及び発電装置を作製した。
【０２７０】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
作製した実施例４２の中間層について、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．８２であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることが確認された。
【０２７１】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例４２の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表３−４に示した。
【０２７２】
（実施例４３）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
シリコーンゴム（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、ＴＳＥ３０３３）１００質量部、シリカ（富士シリシア株式会社製、サイシリア４３０）２０質量部、及び酸化鉄（戸田工業株式会社製、トダカラー１００ＥＤ）５質量部を分散して、シリコーンゴム組成物を調製した。
次に、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、前記シリコーンゴム組成物を塗布して、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み５０μｍの薄膜を形成した。
次に、前記薄膜を実施例４１と同様にして、プラズマ処理して、前記ＰＥＴフィルムを剥がし、実施例４３の中間層を作製した。
【０２７３】
−素子の作製及び発電装置の作製−
前記作製した中間層を用い、実施例４１と同様にして、実施例４３の素子及び発電装置を作製した。
【０２７４】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
作製した実施例４３の中間層について、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．８２であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることが確認された。
【０２７５】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例４３の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表３−４に示した。
【０２７６】
（実施例４４）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
シリコーンゴム（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、ＴＳＥ３０３３）１００質量部、カオリン（竹原化学工業株式会社製、Ｇｌｏｍａｘ  ＬＬ）１０質量部、及びカーボンナノファイバー（昭和電工株式会社製、ＶＧＣＦ−Ｈ）０．１質量部を分散して、シリコーンゴム組成物を調製した。
次に、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、前記シリコーンゴム組成物を塗布して、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み５０μｍの薄膜を形成した。
次に、前記薄膜を実施例４１と同様にして、プラズマ処理して、前記ＰＥＴフィルムを剥がし、実施例４４の中間層を作製した。
【０２７７】
−素子の作製及び発電装置の作製−
前記作製した中間層を用い、実施例４１と同様にして、実施例４４の素子及び発電装置を作製した。
【０２７８】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
作製した実施例４４の中間層について、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．８０であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることが確認された。
【０２７９】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例４４の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表３−４に示した。
【０２８０】
（実施例４５）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
シリコーンゴム（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、ＴＳＥ３０３３）１００質量部、カオリン（竹原化学工業株式会社製、Ｇｌｏｍａｘ  ＬＬ）１０質量部、及びフラーレン（フロンティアカーボン社製、ｎａｎｏｍ  ｐｕｒｐｌｅ  ＳＴ）０．１質量部を分散して、シリコーンゴム組成物を調製した。
次に、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、前記シリコーンゴム組成物を塗布して、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み５０μｍの薄膜を形成した。
次に、前記薄膜を実施例４１と同様にして、プラズマ処理して、前記ＰＥＴフィルムを剥がし、実施例４５の中間層を作製した。
【０２８１】
−素子の作製及び発電装置の作製−
前記作製した中間層を用い、実施例４１と同様にして、実施例４５の素子及び発電装置を作製した。
【０２８２】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
作製した実施例４５の中間層について、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．８０であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることが確認された。
【０２８３】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例４５の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表３−４に示した。
【０２８４】
（実施例４６）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
シリコーンゴム（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、ＴＳＥ３０３３）１００質量部、シリカ（富士シリシア株式会社製、サイシリア４３０）２０質量部、及びシリコーンゴムパウダー（東レ・ダウコーニング株式会社製、ＥＰ−２６００）１０質量部を分散して、シリコーンゴム組成物を調製した。
次に、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、前記シリコーンゴム組成物を塗布して、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み５０μｍの薄膜を形成した。
次に、前記薄膜を実施例４１と同様にして、プラズマ処理して、前記ＰＥＴフィルムを剥がし、実施例４６の中間層を作製した。
【０２８５】
−素子の作製及び発電装置の作製−
前記作製した中間層を用い、実施例４１と同様にして、実施例４６の素子及び発電装置を作製した。
【０２８６】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
作製した実施例４６の中間層について、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．８２であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることが確認された。
【０２８７】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例４６の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表３−４に示した。
【０２８８】
（実施例４７）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
シリコーンゴム（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、ＴＳＥ３０３３）１００質量部、カオリン（竹原化学工業株式会社製、Ｇｌｏｍａｘ  ＬＬ）１０質量部、及びシルセスキオキサン（ＡＬＤＲＩＣＨ社製、ＰＰＳ−オクタメチル置換体５２６８３５）１質量部を分散して、シリコーンゴム組成物を調製した。
次に、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、前記シリコーンゴム組成物を塗布して、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み５０μｍの薄膜を形成した。
次に、前記薄膜を実施例４１と同様にして、プラズマ処理して、前記ＰＥＴフィルムを剥がし、実施例４７の中間層を作製した。
【０２８９】
−素子の作製及び発電装置の作製−
前記作製した中間層を用い、実施例４１と同様にして、実施例４７の素子及び発電装置を作製した。
【０２９０】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
作製した実施例４７の中間層について、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．８１であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることが確認された。
【０２９１】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例４７の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表３−４に示した。
【０２９２】
（実施例４８）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
シリコーンゴム（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、ＩＶＳ４３１２）１００質量部、及びシリカ（富士シリシア株式会社製、サイシリア４３０）５質量部を分散して、シリコーンゴム組成物を調製した。
次に、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、前記シリコーンゴム組成物を塗布して、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み１００μｍの薄膜を形成した。
次に、前記薄膜を紫外線照射処理（処理条件；ヴィルバー・ルーマット社製、ＵＶ照射ランプＶＬ−２１５．Ｃ、波長２５４ｎｍ、積算光量３００Ｊ／ｃｍ２、反応雰囲気：窒素、酸素分圧５，０００ｐｐｍ以下）した。前記ＰＥＴフィルムを剥がし、実施例４８の中間層を作製した。
【０２９３】
−素子の作製及び発電装置の作製−
前記作製した中間層を用い、実施例１と同様にして、実施例４８の素子及び発電装置を作製した。
【０２９４】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
作製した実施例４８の中間層について、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．９３であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態が異なる領域が存在していることが確認された。
【０２９５】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例４８の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表３−４に示した。
【０２９６】
（実施例４９）
＜素子及び発電装置の作製＞
−中間層の作製−
シリコーンゴム（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、ＩＶＳ４３１２）１００質量部、及びシリカ（富士シリシア株式会社製、サイシリア４３０）０．５質量部を分散して、シリコーンゴム組成物を調製した。
次に、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、前記シリコーンゴム組成物を塗布して、１２０℃で３０分間加熱硬化させて、厚み１００μｍの薄膜を形成した。なお、表面改質処理は実施しなかった。前記ＰＥＴフィルムを剥がし、実施例４９の中間層を作製した。
【０２９７】
−素子の作製及び発電装置の作製−
前記作製した中間層を用い、実施例１と同様にして、実施例４９の素子及び発電装置を作製した。
【０２９８】
＜評価＞
＜＜赤外吸収スペクトルの測定＞＞
作製した実施例４９の中間層について、実施例１と同様にして、赤外吸収スペクトルを測定した。ピーク強度比の変化率は０．９８であった。このことから、中間層中にシリコーンゴムのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の状態がほぼ同一であることが確認された。
【０２９９】
＜＜発電性能の評価＞＞
作製した実施例４９の発電装置について、実施例１と同様にして、発電性能を評価した。結果を表３−４に示した。
【０３００】
次に、表１−１〜表１−３には、実施例１〜３０の中間層、第１、第２の電極、スペーサー、カバー材の組成、物性などをまとめて示した。表２−１〜表２−３には、実施例３１〜４０、比較例１〜６の中間層、第１、第２の電極、スペーサー、カバー材の組成、物性などまとめて示した。表３−１〜表３−３には、実施例４１〜４９の中間層、第１、第２の電極、スペーサー、カバー材の組成、物性などまとめて示した。
【０３０１】
【表１−１】
0006699119.tif 000002
【０３０２】
【表１−２】
0006699119.tif 000003
【０３０３】
【表１−３】
0006699119.tif 000004
【０３０４】
【表１−４】
0006699119.tif 000005
【０３０５】
【表２−１】
0006699119.tif 000006
【０３０６】
【表２−２】
0006699119.tif 000007
【０３０７】
【表２−３】
0006699119.tif 000008
【０３０８】
【表２−４】
0006699119.tif 000009
【０３０９】
【表３−１】
0006699119.tif 000010
【０３１０】
【表３−２】
0006699119.tif 000011
【０３１１】
【表３−３】
0006699119.tif 000012
【０３１２】
【表３−４】
0006699119.tif 000013
【０３１３】
表１−１から表１−４、表２−１から表２−４、及び表３−１から表３−４の結果から、実施例１〜４９は、比較例１〜６に比べて、いずれも発電性能が高いことがわかった。
実施例１〜４８は、中間層がシリコーンゴムを含有するシリコーンゴム組成物からなり、かつ、中間層は第１の電極面及び前記第２の電極面に対して垂直方向に赤外吸収スペクトルのピーク強度比（１０９５±５ｃｍ−１／１０２５±５ｃｍ−１）が異なる構成となっているため、比較例１〜６よりも発電性能が高いことがわかった。
更に、実施例３〜４８は、中間層にフィラーを含有しているため、実施例１〜２（フィラー未添加）よりも発電性能が向上することがわかった。
更に、実施例５〜３０、実施例３３〜４８は、フィラーがケイ素原子を有する化合物であるため、実施例３、４、３１、３２（フィラーがケイ素原子を持たない化合物）よりも発電性能が向上している。更に、ケイ素原子を有する化合物がシリカ、カオリン、タルク、ウォラストナイト、シリコーンパウダー、及びシルセスキオキサンのいずれかである場合には、発電性能が特に向上することがわかった。
実施例５〜７と実施例１４〜１６との対比により、中間層と電極との間に空間を有する構成は、空間を有さない構成よりも発電性能が向上することがわかった。更に、中間層における赤外吸収スペクトルのピーク強度比（１０９５±５ｃｍ−１／１０２５±５ｃｍ−１）が小さい側の面が空間側に向いている構成は、ピーク強度比の大きい側の面が空間側に向いている構成よりも発電性能が向上することがわかった。
【０３１４】
（実施例５０）
＜逆圧電効果の評価＞
実施例１の素子を対向する電極の極性が異なるようにファンクションジェネレータ（ＴＥＸＩＯ社製、ＦＧ−２７４）に接続した。以下の条件で素子に電圧を印加し、１ｍ離れた位置から音の可聴を判断した。実施例１の素子は、全ての周波数で音を可聴できた。
［電圧印加条件］
・ＣＭＯＳ出力：±５Ｖ
・出力波形：方形波（Ｄｕｔｙ比５０％）
・周波数：４００Ｈｚ、２ｋＨｚ、１２ｋＨｚの３水準
【０３１５】
（比較例７）
＜逆圧電効果の評価＞
比較例１の素子について、実施例５０と同様にして、逆圧電効果を評価した。比較例１の素子は、いずれの周波数でも音を可聴できなかった。
【０３１６】
実施例５０と比較例７の結果から、本発明の素子は電圧を印加することにより振動する、すなわち、逆圧電効果を発現することが確認された。
【０３１７】
本発明の態様は、例えば、以下のとおりである。
＜１＞  第１の電極と、中間層と、第２の電極とをこの順で積層してなる素子であって、
前記中間層が、シリコーンゴムを含有するシリコーンゴム組成物からなり、
前記中間層が、前記第１の電極面及び前記第２の電極面に対して垂直方向に赤外吸収スペクトルのピーク強度比（１０９５±５ｃｍ−１／１０２５±５ｃｍ−１）が異なることを特徴とする素子である。
＜２＞  第１の電極側の中間層表面から深さ方向に１μｍの位置での赤外吸収スペクトルのピーク強度比（１０９５±５ｃｍ−１／１０２５±５ｃｍ−１）、及び第２の電極側の中間層表面から深さ方向に１μｍの位置での赤外吸収スペクトルのピーク強度比（１０９５±５ｃｍ−１／１０２５±５ｃｍ−１）のいずれかのうち、小さい方のピーク強度比を大きい方のピーク強度比で割った値である、ピーク強度比の変化率が、０．９５以下である前記＜１＞に記載の素子である。
＜３＞  前記シリコーンゴム組成物が、フィラーを含有する前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の素子である。
＜４＞  前記フィラーが、ケイ素原子を有する化合物である前記＜３＞に記載の素子である。
＜５＞  前記ケイ素原子を有する化合物が、シリカ、カオリン、タルク、ウォラストナイト、シリコーンパウダー、及びシルセスキオキサンから選択される少なくとも１種である前記＜４＞に記載の素子である。
＜６＞  前記中間層と、前記第１の電極及び前記第２の電極の少なくともいずれかとの間に空間を有する前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載の素子である。
＜７＞  前記中間層における赤外吸収スペクトルのピーク強度比（１０９５±５ｃｍ−１／１０２５±５ｃｍ−１）が小さい側の面が空間側に向いている前記＜６＞に記載の素子である。
＜８＞  前記中間層が、表面改質処理されている前記＜１＞から＜７＞のいずれかに記載の素子である。
＜９＞  前記表面改質処理が、プラズマ処理、コロナ放電処理、及び電子線照射処理のいずれかである前記＜８＞に記載の素子である。
＜１０＞  前記＜１＞から＜９＞のいずれかに記載の素子を有することを特徴とする発電装置である。
【０３１８】
前記＜１＞から＜９＞のいずれかに記載の素子、及び前記＜１０＞に記載の発電装置によると、従来における前記諸問題を解決し、前記本発明の目的を達成することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０３１９】
【特許文献１】特開昭５４−０１４６９６号公報
【特許文献２】特許第５５６３７４６号公報
【特許文献３】特開２０１２−１６４７２７号公報
【特許文献４】特開２０１２−１６４９１７号公報
【特許文献５】特開２０１４−０２７７５６号公報
【符号の説明】
【０３２０】
１      素子
２      第１の電極
３      第２の電極
４      中間層（全体）
５      スペーサー
６      空間
７      シリコーンゴム
８      フィラー
９      中間層（ピーク強度比が小さい領域）
１０      中間層（ピーク強度比が大きい領域）
１１      発電装置
１２      カバー材
１３      電線
１４      電気回路
【図１】
0006699119.tif 000014
【図２】
0006699119.tif 000015
【図３】
0006699119.tif 000016
【図４】
0006699119.tif 000017
【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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