(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｋｉ１、Ｐｉ１及びＲｉ１を有し、一般式（ｉ）で表される化合物（ｉ）の１種又は２種以上を含有する液晶組成物。
【化１】
0006699799.tif 000188
ただし、Ａｉ１、Ａｉ２及びＡｉ３はそれぞれ独立して１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、アントラセン−２，６−ジイル基、フェナントレン−２，７−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、シクロペンタン−１，３−ジイル基、インダン−２，５−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基及び１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基から選択される環構造を表し、Ａｉ１中の水素原子はＬｉ１又はＰｉ１−Ｓｐｉ１−で置換されてもよく、Ａｉ２及びＡｉ３中の水素原子はＬｉ１、Ｐｉ１−Ｓｐｉ１−又はＫｉ１で置換されてもよく、Ｌｉ１はハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜４０の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基を表し、該アルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されてもよく、Ａｉ２又はＡｉ３の置換基として、或いは、Ｋｉ１の置換基として、少なくとも１つ以上のＰｉ１−Ｓｐｉ１−を有し、
Ｐｉ１は以下の一般式（Ｐ−１）〜一般式（Ｐ−１６）で表される群より選ばれる置換基を表し、
【化２】
0006699799.tif 000189
（式中、右端の黒点は結合手を表す。）
Ｓｐｉ１はスペーサー基又は単結合を表し、
Ｚｉ１及びＺｉ２はそれぞれ独立して単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ−、−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ（ＣＨ３）―ＣＨ２−、−ＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ−又はエチレン基を表し、エチレン基中の−ＣＨ２−の１個が−Ｏ−で置換されるか、エチレン基中の−ＣＨ２−の１個が−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−で置換されてもよく
ｍｉ１は、０〜３の整数を表し、一般式（ｉ）中にＲｉ１、Ａｉ２、Ｚｉ２、Ｌｉ１、Ｋｉ１、Ｘｉ１、Ｐｉ１及びＳｐｉ１が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよく、
Ｒｉ１はそれぞれ独立して、炭素原子数１〜４０の直鎖又は分岐のアルキル基又はハロゲン化アルキル基を表し、これらの基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−で置換されてもよく、
Ｋｉ１は一般式（Ｋ−１）〜（Ｋ−５）から選ばれる基である。
【化３】
0006699799.tif 000190
（式中、Ｙｉ１は、炭素原子数３〜２０の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基又はシアノ化アルキル基を表し、これらのアルキル基中の少なくとも２個以上の第二級炭素原子は−（Ｃ＝Ｘｉ１）−及び／又は−（ＣＨ−ＣＮ）−で置換されており、また、該アルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されてもよく、Ｘｉ１は、酸素原子、硫黄原子、ＮＨ又はＮＲｉｌを表すが、Ｙｉ１の末端に−ＯＨ又は−ＣＯＯＨを含む場合は除外し、
Ｓｉ１は炭素原子数１〜６のアルキレン基又は単結合を表し、該アルキレン基中の−ＣＨ２−は酸素原子が直接隣接しないように−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｃ（＝ＣＨ２）−、−Ｃ（＝ＣＨＲｉ３）−、−Ｃ（＝ＣＲｉ３２）−、−Ｏ−、−（Ｃ＝Ｏ）−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されてもよく、
Ｓｉ２は炭素原子、窒素原子又はケイ素原子を表し、
Ｓｉ３は炭素原子数１〜６のアルキレン基又は単結合を表し、該アルキレン基中の−ＣＨ２−は酸素原子が直接隣接しないように−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｃ（＝ＣＨ２）−、−Ｃ（＝ＣＨＲｉ３）−、−Ｃ（＝ＣＲｉ３２）−、−Ｏ−、−ＮＨ−、−（Ｃ＝Ｏ）−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されてもよく、
Ｒｉ２は水素原子、炭素原子数１〜２０の直鎖又は分岐のアルキル基を表し、これらの基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−で置換されてもよいが、Ｒｉ２の末端に−ＯＨ又は−ＣＯＯＨを含む場合は除外し、
Ｒｉ３は炭素原子数１〜２０の直鎖又は分岐のアルキル基を表し、該アルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−で置換されてもよく、
ｎｉ１は１〜３の整数を表し、ｎｉ２は１〜２の整数を表し、ｎｉ３は０〜２の整数を表すが、Ｓｉ２が炭素原子又はケイ素原子を表す場合、ｎｉ１＋ｎｉ２＋ｎｉ３は３であり、Ｓｉ２が窒素原子を表す場合、ｎｉ１＋ｎｉ２＋ｎｉ３は２であり、一般式（Ｋ−１）中にＲｉ２、Ｘｉ１、Ｙｉ１、Ｓｉ１、Ｓｉ３、Ｐｉ１及びＳｐｉ１が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。）
【化４】
0006699799.tif 000191
（式中、Ｓｉ１、Ｐｉ１及びＳｐｉ１は一般式（Ｋ−１）中のＳｉ１、Ｐｉ１及びＳｐｉ１とそれぞれ同じ意味を表し、ＲＫ２１は炭素原子数１〜１０の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基又はシアノ化アルキル基を表し、これらのアルキル基中の少なくとも２個以上の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、又は−ＮＨ−で置換されてもよく、ｎｉ４、ｎｉＫ２１はそれぞれ独立して０又は１を表すが、ＲＫ２１の末端に−ＯＨ又は−ＣＯＯＨを含む場合は除外する。）
【請求項２】
一般式（ｉ）中のＡｉ１、Ａｉ２及びＡｉ３が、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニレン基、アントラセン−２，６−ジイル基、フェナントレン−２，７−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、インダン−２，５−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基及び１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基から選択される環構造を表し、Ａｉ１中の水素原子は無置換であるか、又はＬｉ１で置換されてもよく、Ａｉ２及びＡｉ３中の水素原子は無置換であるか、又はＬｉ１、Ｐｉ１−Ｓｐｉ１−又はＫｉ１で置換されてもよい、請求項１に記載の液晶組成物。
【請求項３】
一般式（ｉ）中のＫｉ１が（Ｋ−１Ｂ）である請求項１又は２に記載の液晶組成物。
【化５】
0006699799.tif 000192
（式中、Ｓｉ１、Ｓｉ２、Ｓｉ３、Ｙｉ１、Ｐｉ１及びＳｐｉ１は、一般式（Ｋ−１）中のＳｉ１、Ｓｉ２、Ｓｉ３、Ｙｉ１、Ｐｉ１及びＳｐｉ１とそれぞれ同じ意味を表し、ｎｉＢ１は１〜２の整数を表し、ｎｉＢ３は０又は１を表すが、Ｓｉ２が炭素原子又はケイ素原子を表す場合、ｎｉＢ１＋ｎｉＢ３は２であり、Ｓｉ２が窒素原子を表す場合、ｎｉＢ１は１、ｎｉＢ３は０を表す。）
【請求項４】
一般式（ｉ）中のＲｉ１は炭素原子数が３以上のアルキレン基を表し、該アルキレン基中の−ＣＨ２−は酸素原子が直接隣接しないように−Ｏ−で置換されていてもよい、請求項１〜３のいずれか一項に記載の液晶組成物。
【請求項５】
一般式（Ｋ−１）中のＹｉ１が、一般式（Ｙ−１）
【化６】
0006699799.tif 000193
（式中、ＷｉＹ１は単結合又は酸素原子を表し、破線は単結合又は二重結合を表し、ＲｉＹ１は、破線が単結合を表す場合、水素原子又は炭素原子数１〜２０の直鎖又は分岐のアルキル基を表し、該アルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−で置換されてもよく、破線が二重結合を表す場合、＝ＣＨ２、＝ＣＨＲｉＹ４、又は＝ＣＲｉＹ４２を表し、ＲｉＹ４は水素原子、炭素原子数１〜２０の直鎖又は分岐のアルキル基を表し、該アルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−で置換されてもよく、ＲｉＹ３は、破線が単結合を表す場合のＲｉＹ１と同じ意味を表し、ＲｉＹ２は水素原子又は炭素原子数１〜２０の直鎖又は分岐のアルキル基を表し、該アルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−で置換されてもよく、ｎｉＹ１は破線が二重結合を表す場合０であり、破線が単結合を表す場合１であり、ｎｉＹ２は０〜５の整数を表し、ＲｉＹ１、ＲｉＹ３及びＲｉＹ４が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよく、＊でＳｉ３と結合する。）
から選ばれる基を表す、請求項１〜４のいずれか一項に記載の液晶組成物。
【請求項６】
一般式（ｉ）中のｍｉ１が１又は２である請求項１〜５のいずれか一項に記載の液晶組成物。
【請求項７】
一般式（ｉ）中のＡｉ１の少なくとも一つの水素原子は、炭素原子数１〜４０の直鎖又は分岐のアルキル基で置換され、Ａｉ１の少なくとも一つの水素原子は、Ｐｉ１−Ｓｐｉ１−で置換されている、請求項１〜６のいずれか一項に記載の液晶組成物。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の一般式（ｉ）で表される化合物と、該一般式（ｉ）で表される化合物とは異なる他の重合性化合物、及び非重合性液晶化合物を含有する液晶組成物。
【請求項９】
前記重合性化合物として、一般式（Ｐ）：
【化７】
0006699799.tif 000194
（式中、
Ｚｐ１は、フッ素原子、シアノ基、水素原子、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素原子数１〜１５のアルキル基、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素原子数１〜１５のアルコキシ基、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素原子数１〜１５のアルケニル基、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素原子数１〜１５のアルケニルオキシ基又は−Ｓｐｐ２−Ｒｐ２を表し、
Ｒｐ１及びＲｐ２は、以下の式（Ｒ−Ｉ）〜式（Ｒ−ＶＩＩＩ）：
【化８】
0006699799.tif 000195
（式中、
＊でＳｐｐ１と結合し、
Ｒ２〜Ｒ６は、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数１〜５個のアルキル基又は炭素原子数１〜５個のハロゲン化アルキル基を表し、
Ｗは、単結合、−Ｏ−又はメチレン基を表し、
Ｔは、単結合又は−ＣＯＯ−を表し、
ｐ、ｔ及びｑは、それぞれ独立して、０、１又は２を表す。）
のいずれかを表し、
Ｓｐｐ１及びＳｐｐ２はスペーサー基を表し、
Ｌｐ１及びＬｐ２は、それぞれ独立して、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＨ２−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｃ２Ｈ４−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯＣＨ２−、−ＣＨ２ＯＣＯＯ−、−ＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲａ−、−ＮＲａ−ＣＯ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＲａ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＲａ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＲａ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＲａ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＲａ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＯＯ−ＣＲａ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−ＣＲａ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＲａ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−（ＣＨ２）ｚ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−（ＣＨ２）ｚ−Ｏ−（Ｃ＝Ｏ）−、−Ｏ−（Ｃ＝Ｏ）−（ＣＨ２）ｚ−、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ２）ｚ−、−ＣＨ２（ＣＨ３）Ｃ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＣＨ２（ＣＨ３）Ｃ−Ｏ−（Ｃ＝Ｏ）−、−Ｏ−（Ｃ＝Ｏ）−Ｃ（ＣＨ３）ＣＨ２、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−Ｃ（ＣＨ３）−ＣＨ２、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−ＣＦ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＦ−、−ＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−又は−Ｃ≡Ｃ−（式中、Ｒａはそれぞれ独立して水素原子又は炭素原子数１〜４のアルキル基を表し、ｚは１〜４の整数を表す。）を表し
Ｍｐ２は、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、アントラセン−２，６−ジイル基、フェナントレン−２，７−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、インダン−２，５−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基又は単結合を表すが、Ｍｐ２は無置換であるか又は炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素原子数１〜１２のアルコキシ基、炭素原子数１〜１２のハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基若しくは−Ｓｐｐ１−Ｒｐ１で置換されていてもよく、
Ｍｐ１は、以下の式（ｉ−１１）〜（ｉｘ−１１）：
【化９】
0006699799.tif 000196
（式中、＊でＳｐｐ１と結合し、＊＊でＬｐ１、Ｌｐ２又はＺｐ１と結合するが、ベンゼン上の水素原子は炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素原子数１〜１２のアルコキシ基、炭素原子数１〜１２のハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基若しくは−Ｓｐｐ１−Ｒｐ１で置換されていてもよい。）
のいずれかを表し、
Ｍｐ３は、以下の式（ｉ−１３）〜（ｉｘ−１３）：
【化１０】
0006699799.tif 000197
（式中、＊でＺｐ１と結合し、＊＊でＬｐ２と結合するが、ベンゼン上の水素原子は炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素原子数１〜１２のアルコキシ基、炭素原子数１〜１２のハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基若しくは−Ｓｐｐ１−Ｒｐ１で置換されていてもよい。）
のいずれかを表し、
ｍｐ２〜ｍｐ４は、それぞれ独立して０、１、２又は３を表し、
ｍｐ１及びｍｐ５は、それぞれ独立して１、２又は３を表し、
Ｚｐ１が複数存在する場合にはそれらは互いに同一であっても異なっていてもよく、Ｒｐ１が複数存在する場合にはそれらは互いに同一であっても異なっていてもよく、Ｒｐ２が複数存在する場合にはそれらは互いに同一であっても異なっていてもよく、Ｓｐｐ１が複数存在する場合にはそれらは互いに同一であっても異なっていてもよく、Ｓｐｐ２が複数存在する場合にはそれらは互いに同一であっても異なっていてもよく、Ｌｐ１が複数存在する場合にはそれらは互いに同一であっても異なっていてもよく、Ｍｐ２が複数存在する場合にはそれらは互いに同一であっても異なっていてもよい。）
で表される化合物を１種又は２種以上含有する、請求項８に記載の液晶組成物。
【請求項１０】
更に、化合物（ｉ）とは異なる他の自発配向性添加剤を含有する請求項１〜９のいずれか一項に記載の液晶組成物。
【請求項１１】
誘電率異方性（Δε）の値が負である請求項１〜１０のいずれか一項に記載の液晶組成物。
【請求項１２】
一般式（Ｎ−１）、（Ｎ−２）及び（Ｎ−３）：
【化１１】
0006699799.tif 000198
（式中、
ＲＮ１１、ＲＮ１２、ＲＮ２１、ＲＮ２２、ＲＮ３１及びＲＮ３２は、それぞれ独立して
炭素原子数１〜８のアルキル基を表し、該アルキル基中の１個又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は、それぞれ独立して、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−によって置換されていてもよく、
ＡＮ１１、ＡＮ１２、ＡＮ２１、ＡＮ２２、ＡＮ３１及びＡＮ３２は、それぞれ独立して、
（ａ）  １，４−シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は−Ｏ−に置換されてもよい。）、
（ｂ）  １，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置換されてもよい。）、
（ｃ）  ナフタレン−２，６−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又はデカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基（ナフタレン−２，６−ジイル基又は１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置換されてもよい。）、
及び
（ｄ）  １，４−シクロヘキセニレン基
からなる群より選ばれる基を表し、前記の基（ａ）、基（ｂ）、基（ｃ）及び基（ｄ）は、それぞれ独立して、シアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていてもよく、
ＺＮ１１、ＺＮ１２、ＺＮ２１、ＺＮ２２、ＺＮ３１及びＺＮ３２は、それぞれ独立して、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、
ＸＮ２１は、水素原子又はフッ素原子を表し、
ＴＮ３１は、−ＣＨ２−又は酸素原子を表し、
ｎＮ１１、ｎＮ１２、ｎＮ２１、ｎＮ２２、ｎＮ３１及びｎＮ３２は、それぞれ独立して０〜３の整数を表すが、ｎＮ１１＋ｎＮ１２、ｎＮ２１＋ｎＮ２２及びｎＮ３１＋ｎＮ３２は、それぞれ独立して１、２又は３であり、ＡＮ１１〜ＡＮ３２、ＺＮ１１〜ＺＮ３２がそれぞれ複数存在する場合は、それぞれは互いに同一であっても異なっていてもよい。）
のいずれかで表される化合物群から選ばれる化合物を更に含有する、請求項１１に記載の液晶組成物。
【請求項１３】
二つの基板と、該二つの基板の間に設けられた請求項１〜１２のいずれか一項に記載の液晶組成物を用いた液晶表示素子。
【請求項１４】
二つの基板と、該二つの基板の間に設けられた請求項９に記載の液晶組成物および、化合物（ｉ）及び一般式（Ｐ）で表される化合物の重合物を含む液晶層を備える液晶表示素子。
【請求項１５】
アクティブマトリックス駆動用である、請求項１３又は１４に記載の液晶表示素子。
【請求項１６】
ＰＳＡ型、ＰＳＶＡ型、ＶＡ型、ＩＰＳ型、ＦＦＳ型又はＥＣＢ型である、請求項１３〜１５のいずれか一項に記載の液晶表示素子。
【請求項１７】
前記二つの基板のうち少なくとも一方の基板が配向膜を有さない、請求項１３〜１６のいずれか一項に記載の液晶表示素子。
【請求項１８】
対向に配置された第一の基板および第二の基板と、
前記第一の基板と前記第二の基板との間に充填された液晶層と、
前記第一の基板上に、マトリクス状に配置される複数個のゲートバスライン及びデータバスライン、前記ゲートバスラインとデータバスラインとの交差部に設けられる薄膜トランジスタならびに前記薄膜トランジスタにより駆動される画素電極を画素毎に有する電極層と、
前記第一の基板または前記第二の基板上に形成された共通電極と、
前記第一の基板および前記第二の基板の間に重合性化合物が硬化された樹脂成分と、
を有し、
少なくとも一方の基板表面に配向膜を備えていない請求項１３〜１７のいずれか一項に記載の液晶表示素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、重合性化合物、並びにそれを使用した液晶組成物、及び液晶表示素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ＶＡ方式の液晶ディスプレイでは、電圧無印加時に液晶分子の垂直配向を誘起し、電圧印加時に液晶分子の水平配向を実現するために、電極上にポリイミド配向膜（ＰＩ）層が設けられている。しかし、ＰＩ層の製膜には多大なコストを要するため、近年では、ＰＩ層を省きつつも、液晶分子の配向を実現するための方法が検討されている。【０００３】
例えば特許文献１には、負の誘電異方性を有する極性化合物の混合物を基礎とし、少なくとも１種類の自発配向性添加剤を含有することを特徴とする液晶媒体が開示され、この液晶媒体が配向層を一切含有しないディスプレイにおける使用に高度に適している旨が記載されている。そして、特許文献１では、自発配向性添加剤として、水酸基を有する特定の化合物が用いられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特表２０１４−５２４９５１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
一般に、水酸基などに代表されるように基板に対する吸着力が高すぎると、極性基を有する重合性化合物が基板上に均一に展開しないためパネル周辺部にて配向ムラが生じるという問題が生じる。また、水酸基などの極性基を有する重合性化合物を含む液晶組成物は、疎水性である液晶分子との相溶性が低下するため液晶化合物や重合性化合物などが析出するという問題も生ずる。加えて、プレチルト角を形成する過程で、電圧印加時に、液晶組成物中のモノマーを重合反応させる必要がある。【０００６】
しかしながら、本発明者らの検討によれば、特許文献１に記載されている自己配向性添加剤を用いた場合、液晶分子を垂直に配向させる配向規制力及び配向ムラ等の電気光学特性において未だ十分ではなく、また、該自発配向性添加剤を含有した液晶組成物の保存性の点で改善の余地があることが判明した。【０００７】
そこで、本発明の目的は、ＰＩ層を設けなくとも、配向性と相溶性に優れた液晶組成物を提供すること、及びこれを用いた液晶表示素子を提供することにある。【０００８】
また、本発明の他の課題は、保存性に優れ、ＰＩ層を設けなくとも、配向ムラなく液晶分子の垂直配向が可能な該自発配向性添加剤を含有した液晶組成物、及び該液晶組成物を用いた液晶表示素子を提供することにある。【０００９】
また、形成されたプレチルト角が長期にわたり安定である液晶表示素子を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、メソゲン基、Ｋｉ１、重合基及びＲｉ１を含む化合物（ｉ）を１種又は２種以上を含有する液晶組成物、及び該液晶組成物を含有する液晶表示素子を提供する。
ただし、上記Ｋｉ１は炭素原子数３〜４０の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基又はシアノ化アルキル基を表し、これらのアルキル基中の少なくとも２個以上の第二級炭素原子は−Ｃ（＝Ｘｉ１）−及び／又は−（ＣＨ−ＣＮ）−で置換されており、また、該アルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−Ｃ（＝ＣＨ２）−、−Ｃ（＝ＣＨＲｉ３）−、−Ｃ（＝ＣＲｉ３２）−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されてもよく、また、これらのアルキル基中の水素原子はＰｉ１−Ｓｐｉ１−で置換されてもよく、Ｘｉ１は、酸素原子、硫黄原子、ＮＨ又はＮＲｉ３を表し、Ｒｉ３は炭素原子数１〜２０の直鎖又は分岐のアルキル基を表し、該アルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−で置換されてもよく、また、少なくとも１つ以上のＰｉ１−Ｓｐｉ１−を有してもよく、
Ｐｉ１は重合性基を表し、
Ｓｐｉ１はスペーサー基又は単結合を表し、
Ｒｉ１はそれぞれ独立して、炭素原子数１〜４０の直鎖又は分岐のアルキル基又はハロゲン化アルキル基を表し、これらの基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−で置換されてもよい。【００１１】
また、好ましくは、上記化合物（ｉ）が一般式（ｉ）で表される液晶組成物、及び該液晶組成物を含有する液晶表示素子を提供する。【００１２】
【化１】
0006699799.tif 000002
【００１３】
ただし、上記Ｋｉ１は炭素原子数３〜４０の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基又はシアノ化アルキル基を表し、これらのアルキル基中の少なくとも２個以上の第二級炭素原子は−Ｃ（＝Ｘｉ１）−及び／又は−（ＣＨ−ＣＮ）−で置換されており、また、該アルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−Ｃ（＝ＣＨ２）−、−Ｃ（＝ＣＨＲｉ３）−、−Ｃ（＝ＣＲｉ３２）−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されてもよく、また、これらのアルキル基中の水素原子はＰｉ１−Ｓｐｉ１−で置換されてもよく、Ｘｉ１は、酸素原子、硫黄原子、ＮＨ又はＮＲｉ３を表し、Ｒｉ３は炭素原子数１〜２０の直鎖又は分岐のアルキル基を表し、該アルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−で置換されてもよく、
Ｐｉ１は重合性基を表し、
Ｓｐｉ１はスペーサー基又は単結合を表し、
一般式（ｉ）中に、Ａｉ２又はＡｉ３の置換基として、或いは、Ｋｉ１の置換基として、少なくとも１つ以上のＰｉ１−Ｓｐｉ１−を有し、
Ｒｉ１はそれぞれ独立して、炭素原子数１〜４０の直鎖又は分岐のアルキル基又はハロゲン化アルキル基を表し、これらの基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−で置換されてもよい。【００１４】
また、本発明は、一般式（ｉ）で表される化合物を１種又は２種以上含有する液晶組成物、及び該液晶組成物を含有する液晶表示素子を提供する。【００１５】
さらに、本発明は、化合物（ｉ）を１種又は２種以上含有する、誘電率異方性（Δε）が負の液晶組成物を提供し、該液晶組成物を用いた液晶表示素子、該液晶組成物を用いたアクティブマトリックス駆動用の液晶表示素子、該液晶組成物を用いたＰＳＡ型、ＰＳＶＡ型、ＶＡ型、ＩＰＳ型、ＦＦＳ型又はＥＣＢ型である液晶表示素子及び該液晶組成物を用いた二つの基板のうち少なくとも一方の基板が配向膜を有さない液晶表示素子を提供する。
【発明の効果】
【００１６】
本発明に係る液晶組成物は、高い相溶性と液晶分子に対する優れた垂直配向性とを示す。【００１７】
本発明に係る液晶組成物用いることにより、液晶配向層（ＰＩ層）を設けなくとも、配向ムラが無いまたは低減された配向ムラを示し、液晶分子の均一な垂直配向が可能な液晶表示素子の提供が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】液晶表示素子の一実施形態を模式的に示す図である。
【図２】図１におけるＩ線で囲まれた領域を拡大した平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
本実施形態は、メソゲン基、Ｋｉ１、重合基、Ｒｉ１からなる化合物（ｉ）を１種又は２種以上含有する液晶組成物、及び該液晶組成物を含有する液晶表示素子を提供する。
【００２０】
本発明に係るメソゲン基は、剛直な部分を備えた基、例えば環式基が１つ以上備えたものを言い、液晶層に使用される液晶化合物と類似の骨格であることが好ましい。
【００２１】
なお、本明細書において「環式基」は、構成する原子が環状に結合した原子団をいい、炭素環、複素環、飽和または不飽和環式構造、単環、２環式構造、多環式構造、芳香族、非芳香族などを含む。また、環式基は、少なくとも１つのヘテロ原子を含んでもよく、さらに、少なくとも１つの置換基（反応性官能基、有機基（アルキル、アリール等）によって置換されてもよい。
【００２２】
上記メソゲン基は、例えば、一般式（ＡＬ）で表されることが好ましい。
【００２３】
【化２】
0006699799.tif 000003
【００２４】
（上記式中、ＺＡＬは、単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＯＯＣＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２−ＣＨ２ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ２―ＣＨ２−、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ−、−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ（ＣＨ３）―ＣＨ２−、−ＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、又は炭素原子数２〜２０のアルキレン基を表し、このアルキレン基中の１個又は隣接しない２個以上の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されてもよく、
ＡＡＬは、２価の環式基を表し、これらの環構造中の水素原子はハロゲン原子、重合性基（Ｐａｌ−Ｓｐａｌ−）または１価の有機基で置換されていてもよく、
ＺＡＬ及びＡＡＬがそれぞれ複数存在する場合は、それぞれ互いに同一であっても異なっていてもよく、
ｍＡＬは、１〜５の整数を表し、
上記式中の左端の黒点および右端の黒点は結合手を表す。）
上記一般式（ＡＬ）中、ＺＡＬは、単結合または炭素原子数２〜２０のアルキレン基が好ましく、単結合または炭素原子数２〜１０のアルキレン基がより好ましい。上記アルキレン基中の１個又は隣接しない２個以上の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されてもよい。さらに、棒状分子の直線性を目的とする場合は、環と環とを結ぶ原子の数は偶数個が好ましいため、当該連結基ＺＡＬの原子数は偶数個が好ましい。
【００２５】
上記一般式（ＡＬ）中、環式基は、非置換または置換された、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニル基、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基、テトラヒドロチオピラン−２，５−ジイル基、チオフェン−２，５−ジイル基、１，４−ビシクロ（２，２，２）オクチレン基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ピラジン−２，５−ジイル基、チオフェン−２，５−ジイル基−、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、２，６−ナフチレン基、フェナントレン−２，７−ジイル基、９，１０−ジヒドロフェナントレン−２，７−ジイル基、１，２，３，４，４ａ，９，１０ａ−オクタヒドロフェナントレン−２，７−ジイル基、１，４−ナフチレン基、ベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ‘］ジチオフェン−２，６−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ‘］ジセレノフェン−２，６−ジイル基、［１］ベンゾチエノ［３，２−ｂ］チオフェン−２，７−ジイル基、［１］ベンゾセレノフェノ［３，２−ｂ］セレノフェン−２，７−ジイル基及びフルオレン−２，７−ジイル基からなる群から選択される１種の構造を表すことが好ましく、非置換または置換された、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、２，６−ナフチレン基またはフェナントレン−２，７−ジイル基がより好ましく、非置換または置換された、１，４−フェニレン基または１，４−シクロヘキシレン基が好ましい。また、環式基の水素原子はハロゲン原子、重合性基（Ｐａｌ−Ｓｐａｌ−）または１価の有機基で置換されてもよい。
【００２６】
上記一般式（ＡＬ）中、一価の有機基とは、有機化合物が１価の基の形態になることによって、化学構造が構成された基であり、有機化合物から水素原子を１つ取り除いてなる原子団をいい、例えば、炭素原子数１〜１５のアルキル基、炭素原子数２〜１５のアルケニル基、炭素原子数１〜１４のアルコキシ基、炭素原子数２〜１５のアルケニルオキシ基などが挙げられ、炭素原子数１〜１５のアルキル基または炭素原子数１〜１４のアルコキシ基が好ましい。また、上記アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基中の１個又は隣接しない２個以上の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されてもよい。さらには、上記一価の有機基は、後述の配向誘導基としての役割を有しても良い。
【００２７】
上記一般式（ＡＬ）中、ｍＡＬは、２〜４の整数であることが好ましい。
【００２８】
上記メソゲン基の好ましい形態としては、以下の式（ｍｅ−１）〜（ｍｅ−４０）で挙げられるがこれに限定されるものではない。これら式（ｍｅ−１）〜（ｍｅ−４０）中のシクロヘキサン環、ベンゼン環またはナフタレン環中の水素原子の１つまたは２つ以上は、ハロゲン原子、重合性基（スペーサー基を含むＰａｌ−Ｓｐａｌ−）または１価の有機基（例えば、炭素原子数１〜１５のアルキル基、炭素原子数１〜１４のアルコキシ基）に置換されてもよい。
【００２９】
【化３】
0006699799.tif 000004
【００３０】
【化４】
0006699799.tif 000005
【００３１】
【化５】
0006699799.tif 000006
【００３２】
【化６】
0006699799.tif 000007
【００３３】
配向性の観点から上記メソゲン基のうち好ましい形態は、（ｍｅ−５）、（ｍｅ−８）、（ｍｅ−１２）、（ｍｅ−２３）、（ｍｅ−２７）、（ｍｅ−２８）、（ｍｅ−２９）、（ｍｅ−３１）、（ｍｅ−３３）、（ｍｅ−３８）、（ｍｅ−３９）、（ｍｅ−４０）であり、さらにより好ましい様態は（ｍｅ−１２）、（ｍｅ−２３）、（ｍｅ−２７）、（ｍｅ−３１）、（ｍｅ−３８）、である。
【００３４】
また、本実施形態は、一般式（ｉ）で表される化合物を１種又は２種以上含有する液晶組成物、及び該液晶組成物を含有する液晶表示素子を提供する。
【００３５】
【化７】
0006699799.tif 000008
【００３６】
一般式（ｉ）で表される化合物は、特にＫｉ１で表される部分構造を有するため、液晶組成物に用いられた際に、液晶組成物（液晶層）を挟持する基板に配向し、液晶分子を垂直方向に配向させた状態で保持することができる。一般式（ｉ）で表される化合物は、一般式（Ｋ−１）中のＫｉ１で表される部分構造が極性を有するため、液晶組成物（液晶層）を挟持する基板に吸着し、また、該化合物はＫｉ１で表される部分構造を化合物の末端に有するため、液晶分子を垂直方向に配向させた状態で保持すると考えられる。したがって、本実施形態の重合性化合物を用いた液晶組成物によれば、ＰＩ層を設けなくとも液晶分子を配向させる（電圧無印加時に液晶分子の垂直配向を誘起し、電圧印加時に液晶分子の水平配向を実現する）ことが可能となる。このため、化合物（ｉ）を含む液晶組成物は、液晶分子の垂直配向を助けるために好適に使用される。
【００３７】
加えて、本発明者らは、本実施形態における化合物（ｉ）を含む液晶組成物がＫｉ１で表される部分構造を有することにより、液晶分子の配向のみならず、液晶組成物の保存性安定性を確保できることを見出した。
【００３８】
更に、一般式（ｉ）で表される化合物（ｉ）を含む液晶組成物は、Ａｉ２又はＡｉ３の置換基として、或いは、Ｋｉ１の置換基として、特定の位置に重合性基を有するため、より良好な配向性を維持できる。
【００３９】
以上の観点から、本実施形態の液晶組成物における化合物（ｉ）は、分子の末端、好ましくは分子の主鎖の末端に、Ｋｉ１で表される部分構造を有していればよく、Ｋｉ１で表される部分構造が結合する結合先の化学構造は、液晶組成物の機能を阻害しない範囲であれば特に制限されない。
【００４０】
以下、一般式（ｉ）で表される化合物の具体例について説明する。
【００４１】
一般式（ｉ）中のＫｉ１は好ましくは、直鎖又は分岐の炭素原子数３〜４０のアルキル基、炭素原子数３〜４０の直鎖又は分岐のハロゲン化アルキル基、炭素原子数３〜４０の直鎖又は分岐のシアノ化アルキル基であり、ここで、Ｋｉ１中の少なくとも２個以上の第二級炭素原子は−（Ｃ＝Ｘｉ１）−及び／又は−（ＣＨ−ＣＮ）−で置換されており、Ｋｉ１中の少なくとも２個以上の第二級炭素原子は−（Ｃ＝Ｘｉ１）−で置換されていることが好ましく、少なくとも３個以上の第二級炭素原子は−（Ｃ＝Ｘｉ１）−で置換されていることが好ましく、少なくとも４個以上の第二級炭素原子は−（Ｃ＝Ｘｉ１）−で置換されていることが好ましい。Ｘｉ１は電圧保持率（VHR）向上の観点から酸素原子が好ましい。Ｋｉ１は、好ましくは、炭素原子数３〜３０の直鎖又は分岐のアルキル基、直鎖又は分岐のハロゲン化アルキル基、直鎖又は分岐のシアノ化アルキル基を表し、該アルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−（Ｃ＝ＣＨ２）−、−（Ｃ＝ＣＨＲｉ３）−、−（Ｃ＝ＣＲｉ３２）−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−で置換されてもよく、より好ましくは、炭素原子数３〜２０の直鎖又は分岐のアルキル基又は直鎖又は分岐のシアノ化アルキル基を表し、該アルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−（Ｃ＝ＣＨ２）−、−（Ｃ＝ＣＨＲｉ３）−、−（Ｃ＝ＣＲｉ３２）−、−Ｏ−で置換されてもよく、より好ましくは、炭素原子数３〜２０の分岐のアルキル基又は分岐のシアノ化アルキル基を表し、該アルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−（Ｃ＝ＣＨ２）−、−Ｏ−で置換されてもよい。Ｒｉ３は炭素原子数１〜１０の直鎖又は分岐のアルキル基が好ましく、炭素原子数１〜７のアルキル基が好ましく、炭素原子数１〜３のアルキル基が好ましく、該アルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−で置換されてもよい。
【００４２】
また、Ｋｉ１中の水素原子は重合性基、すなわちＰｉ１−Ｓｐｉ１−で置換されていることが好ましい。Ｋｉ１中に極性基と重合性基が存在していることで、より良好な配向性が得られる。
【００４３】
Ｋｉ１は、一般式（Ｋ−１）を表すことが好ましい。
【００４４】
【化８】
0006699799.tif 000009
【００４５】
（式中、Ｙｉ１は、炭素原子数３〜２０の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基又はシアノ化アルキル基を表し、これらのアルキル基中の少なくとも２個以上の第二級炭素原子は−（Ｃ＝Ｘｉ１）−及び／又は−（ＣＨ−ＣＮ）−で置換されており、また、該アルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されてもよく、また、これらのアルキル基中の水素原子はＰｉ１−Ｓｐｉ１−で置換されてもよく、Ｘｉ１は、酸素原子、硫黄原子、ＮＨ又はＮＲｉ３を表し、
Ｓｉ１及びＳｉ３はそれぞれ独立して炭素原子数１〜６のアルキレン基又は単結合を表し、該アルキレン基中の−ＣＨ２−は酸素原子が直接隣接しないように−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−（Ｃ＝ＣＨ２）−、−（Ｃ＝ＣＨＲｉ３）−、−（Ｃ＝ＣＲｉ３２）−、−Ｏ−、−ＮＨ−、−（Ｃ＝Ｏ）−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されてもよく、
Ｓｉ２は炭素原子、窒素原子又はケイ素原子を表し、
Ｒｉ２は水素原子、炭素原子数１〜２０の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基又はシアノ化アルキル基を表し、これらの基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｃ（＝Ｘｉ１）−又は−ＣＨ（−ＣＮ）−で置換されてもよく、
Ｐｉ１は重合性基を表し、
Ｓｐｉ１はスペーサー基又は単結合を表し、
ｎｉ１は１〜３の整数を表し、ｎｉ２及びｎｉ３はそれぞれ独立して０〜２の整数を表すが、Ｓｉ２が炭素原子又はケイ素原子を表す場合、ｎｉ１＋ｎｉ２＋ｎｉ３は３であり、Ｓｉ２が窒素原子を表す場合、ｎｉ１＋ｎｉ２＋ｎｉ３は２である。Ｒｉ３は一般式（ｉ）中のＲｉ３と同じ意味を表し、一般式（Ｋ−１）中にＲｉ２、Ｘｉ１、Ｙｉ１、Ｓｉ１、Ｓｉ３、Ｐｉ１及びＳｐｉ１が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていても良い。）
一般式（Ｋ−１）中のＳｉ１及びＳｉ３は好ましくは、炭素原子数１〜６の直鎖又は分岐のアルキレン基又は単結合であり、該アルキレン基中の−ＣＨ２−は酸素原子が直接隣接しないように−ＣＨ＝ＣＨ−、−（Ｃ＝ＣＨ２）−、−Ｏ−、−（Ｃ＝Ｏ）−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されてもよく、より好ましくは、単結合、炭素原子数１〜６の直鎖状のアルキレン基、又は該アルキレン基中の−ＣＨ２−は酸素原子が直接隣接しないように−Ｏ−で置換された基であることが好ましい。Ｓｉ１及びＳｉ３は、具体的には−（ＣＨ２）ｎ−、−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−、−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−、−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−（ＣＨ２）ｍ−、−ＣＯＯ−（ＣＨ２）ｎ−、−ＯＣＯ−（ＣＨ２）ｎ−を表すことが好ましい（ｎ及びｍは、１〜６の整数を表す。）
Ｓｉ２は炭素原子であることが好ましい。Ｒｉ２は好ましくは、水素原子又は炭素原子数１〜1０の直鎖又は分岐のアルキル基を表し、該アルキル基中の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｘｉ１）−又は−ＣＨ（−ＣＮ）−で置換されてもよく（ただし−O−は連続にはならない）、好ましくは、水素原子又は炭素原子数１〜７の直鎖又は分岐のアルキル基を表し、該アルキル基中の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｘｉ１）−又は−ＣＨ（−ＣＮ）−で置換（ただし−O−は連続にはならない）されてもよく、より好ましくは、水素原子、炭素原子数１〜３の直鎖アルキル基が好ましい。
【００４６】
Ｙｉ１は炭素原子数３〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜２０の直鎖又は分岐のハロゲン化アルキル基、炭素原子数３〜２０の直鎖又は分岐のシアノ化アルキル基であり、ここで、Ｙｉ１中の少なくとも２個以上の第二級炭素原子は−（Ｃ＝Ｘｉ１）−及び／又は−（ＣＨ−ＣＮ）−で置換されており、Ｙｉ１中の少なくとも２個以上の第二級炭素原子は−（Ｃ＝Ｘｉ１）−で置換されていることが好ましい。Ｘｉ１は電圧保持率（VHR）向上の観点から酸素原子が好ましい。Ｙｉ１は、好ましくは、炭素原子数３〜１０の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基、シアノ化アルキル基を表し、該アルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−（Ｃ＝ＣＨ２）−、−（Ｃ＝ＣＨＲｉ３）−、−（Ｃ＝ＣＲｉ３２）−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−で置換されてもよく、より好ましくは、炭素原子数３〜７の直鎖又は分岐のアルキル基又はシアノ化アルキル基を表し、該アルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−（Ｃ＝ＣＨ２）−、−（Ｃ＝ＣＨＲｉ３）−、−（Ｃ＝ＣＲｉ３２）−、−Ｏ−で置換されてもよく、より好ましくは、炭素原子数３〜７の直鎖又は分岐のアルキル基を表し、該アルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−Ｏ−で置換されてもよい。また、アルキル基中の水素原子はＰｉ１−Ｓｐｉ１−で置換されてもよい。
【００４７】
Ｙｉ１は、一般式（Ｙ−１）から選ばれる基を表すことが、液晶の配向性を向上させる観点から好ましい。
【００４８】
【化９】
0006699799.tif 000010
【００４９】
（式中、ＷｉＹ１は単結合又は酸素原子を表し、破線は単結合又は二重結合を表し、ＲｉＹ１は、破線が単結合を表す場合、水素原子、炭素原子数１〜２０の直鎖又は分岐のアルキル基又はＰｉ１−Ｓｐｉ１−を表し、該アルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−又は−ＣＯ−で置換されてもよく、破線が二重結合を表す場合、＝ＣＨ２、＝ＣＨＲｉＹ４、又は＝ＣＲｉＹ４２を表し、ＲｉＹ４は水素原子、炭素原子数１〜２０の直鎖又は分岐のアルキル基を表し、該アルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−で置換されてもよく、ＲｉＹ３は、破線が単結合を表す場合のＲｉＹ１と同じ意味を表し、ＲｉＹ２は水素原子、炭素原子数１〜２０の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基、シアノ化アルキル基を表し、これらのアルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ（＝Ｏ）−又は−ＣＨ２（−ＣＮ）−で置換されてもよく、また、ＲｉＹ２はＰｉ１−Ｓｐｉ１−を表し、ｎｉＹ１は破線が二重結合を表す場合０であり、破線が単結合を表す場合１であり、ｎｉＹ２は０〜５の整数を表し、Ｐｉ１は重合性基を表し、Ｓｐｉ１はスペーサー基又は単結合を表し、ＲｉＹ１、ＲｉＹ３、ＲｉＹ４、Ｐｉ１及びＳｐｉ１が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよく、＊でＳｉ３と結合する。）
ＲｉＹ１は、破線が単結合を表す場合、水素原子又は炭素原子数１〜１０の直鎖又は分岐のアルキル基が好ましく、水素原子又は炭素原子数１〜７のアルキル基が好ましく、水素原子又は炭素原子数１〜３のアルキル基が好ましく、該アルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−で置換されてもよい。具体的には、水素原子を表すことが好ましく、また、耐熱性向上の観点から、炭素原子数１〜３のアルキル基、炭素原子数１〜３のアルコキシ基、−ＣＯ−ＣＨ３、−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ３を表すことが好ましい。また、ＲｉＹ１は耐熱性向上の観点からＰｉ１−Ｓｐｉ１−表すことも好ましい。ＲｉＹ１がＰｉ１−Ｓｐｉ１−を表す場合、一般式（ｉ）で表される化合物が熱により分解してしまうことにより生じる分解物が重合されることから、不純物の増加を防ぐことができ、液晶組成物への悪影響が少なくなると考えられる。Ｐｉ１は重合性基を表し、アクリロイル基、メタクリロイル基、又は後述する一般式（Ｐ−１）〜（Ｐ−１５）で表される群より選ばれる置換基を表すことが好ましい。Ｓｐｉ１は好ましくは炭素原子数１〜１８の直鎖状アルキレン基又は単結合を表し、より好ましくは炭素原子数２〜１５の直鎖状アルキレン基又は単結合を表し、更に好ましくは炭素原子数２〜８の直鎖状アルキレン基又は単結合を表す。
【００５０】
また、破線が二重結合を表す場合、＝ＣＨ２、＝ＣＨＲｉＹ４、又は＝ＣＲｉＹ４２を表し、＝ＣＨ２を表すことが好ましい。ＲｉＹ４は炭素原子数１〜１０の直鎖又は分岐のアルキル基が好ましく、炭素原子数１〜７のアルキル基が好ましく、炭素原子数１〜３のアルキル基が好ましく、該アルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−で置換されてもよい。
【００５１】
ＲｉＹ３の好ましい基は、破線が単結合を表す場合のＲｉＹ１の好ましい基と同じである。ｎｉＹ１は０が好ましい。
【００５２】
ＲｉＹ１及びＲｉＹ３の好ましい組み合わせとして、共に水素原子、共に炭素原子数１〜３のアルキル基、共に炭素原子数１〜３のアルコキシ基、共に−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ３等があげられる。ＲｉＹ１及びＲｉＹ３のいずれか一方がＰｉ１−Ｓｐｉ１−又は−ＣＯ−ＣＨ３を表す場合、他方は水素原子を表すことが好ましい。  ｎｉＹ２は０〜３の整数が好ましく、０、１又は２がより好ましく、０又は１がより好ましい。
【００５３】
ＲｉＹ２は、水素原子又は炭素原子数１〜１０のアルキル基、ハロゲン化アルキル基又はシアノ化アルキル基が好ましく、炭素原子数１〜７のアルキル基、ハロゲン化アルキル基又はシアノ化アルキル基が好ましく、炭素原子数１〜３のアルキル基が好ましい。また、該アルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−Ｏ−、−（Ｃ＝Ｘｉ２）−又は−（ＣＨ２−ＣＮ）−で置換されていることが好ましい。Ｘｉ２はVHR向上の観点から酸素原子が好ましい。また、ＲｉＹ２は、Ｐｉ１−Ｓｐｉ１−を表すことが好ましい。ＲｉＹ２がＰｉ１−Ｓｐｉ１−を表す場合、一般式（ｉ）で表される化合物が熱により分解してしまうことにより生じる分解物が重合されることから、不純物の増加を防ぐことができ、液晶組成物への悪影響が少なくなると考えられる。
【００５４】
一般式（Ｙ−１）は、より具体的には、式（Ｙ−１−１）、（Ｙ−１−２）、（Ｙ−１−３ａ）、（Ｙ−１−３ｂ）、（Ｙ−１−４）が好ましい。
【００５５】
【化１０】
0006699799.tif 000011
【００５６】
（式中、ｎｉＹ１１は０又は１を表し、ＲｉＹ２１は炭素原子数１〜１０のアルキル基、ハロゲン化アルキル基、シアノ化アルキル基を表し、これらのアルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−（Ｃ＝Ｏ）−又は−（ＣＨ２−ＣＮ）−で置換されてもよく、また、ＲｉＹ２１はＰｉ１−Ｓｐｉ１−を表し、ＲｉＹ３１及びＲｉＹ３２はそれぞれ独立して水素原子、炭素原子数１〜１０の直鎖又は分岐のアルキル基を表し、該アルキル基中の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−又は−ＣＯ−で置換されてもよく、また、ＲｉＹ３１及びＲｉＹ３２はＰｉ１−Ｓｐｉ１−を表す。）
ＲｉＹ２１は、炭素原子数１〜７のアルキル基、ハロゲン化アルキル基又はシアノ化アルキル基が好ましく、炭素原子数１〜３のアルキル基が好ましい。また、ＲｉＹ２１は、Ｐｉ１−Ｓｐｉ１−を表すことが好ましい。ＲｉＹ３１及びＲｉＹ３２は水素原子、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数１〜５のアルコキシ基が好ましく、水素原子又、炭素原子数１〜３のアルキル基、炭素原子数１〜３のアルコキシ基、−ＣＯ−ＣＨ３、−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ３を表すことが好ましい。また、ＲｉＹ３１及びＲｉＹ３２の少なくともいずれか一方は、Ｐｉ１−Ｓｐｉ１−を表すことが好ましい。
【００５７】
液晶化合物との相溶性を向上させる観点からは、式（Ｙ−１−１）の構造を有することが好ましい。式（Ｙ−１−１）としては、式（Ｙ−１−１ａ）〜式（Ｙ−１−１ｈ）が好ましい。
【００５８】
【化１１】
0006699799.tif 000012
【００５９】
（式中、ｎｉＹ１１は０又は１を表す。）
液晶化合物との相溶性、耐熱性を向上させる観点からは、式（Ｙ−１−２）の構造を有することが好ましい。式（Ｙ−１−２）としては、式（Ｙ−１−２ａ）〜式（Ｙ−１−２ｆ）が好ましい。
【００６０】
【化１２】
0006699799.tif 000013
【００６１】
（式中、ｎｉＹ１１は０又は１を表す。）  耐熱性を向上させる観点からは、式（Ｙ−１−３ａ）及び式（Ｙ−１−３ｂ）の構造を有することが好ましい。式（Ｙ−１−３ａ）としては、式（Ｙ−１−３ａａ）、式（Ｙ−１−３ｂ）としては、式（Ｙ−１−３ｂａ）が好ましい。
【００６２】
【化１３】
0006699799.tif 000014
【００６３】
（式中、ｎｉＹ１１は０又は１を表す。）
液晶組成物の配向性、電圧保持率を向上させる観点からは、式（Ｙ−１−４）の構造を有することが好ましい。式（Ｙ−１−４）としては、式（Ｙ−１−４ａ）〜式（Ｙ−１−４ｆ）が好ましい。特に、（Ｙ−１−４ａ）〜（Ｙ−１−４ｃ）の構造は、液晶化合物との相溶性と液晶組成物の配向性のバランスがとれていて好ましい。
【００６４】
【化１４】
0006699799.tif 000015
【００６５】
（式中、ｎｉＹ１１は０又は１を表す。）
また、Ｙｉ１は、一般式（Ｙ−２）から選ばれる基を表すことが、好ましい。
【００６６】
【化１５】
0006699799.tif 000016
【００６７】
（式中、ＷｉＹ１、ＲｉＹ３及びＲｉＹ２は一般式（Ｙ−１）中のＷｉＹ１、ＲｉＹ３及びＲｉＹ２と同じ意味を表す。）
一般式（Ｙ−２）は、一般式（Ｙ−２−１）を表すことが好ましい。
【００６８】
【化１６】
0006699799.tif 000017
【００６９】
（式中、ｎｉＹ１１、ＲｉＹ２１及びＲｉ３１は一般式（Ｙ−１−１）中のｎｉＹ１１、ＲｉＹ２１及びＲｉ３１と同じ意味を表す。）
また、Ｙｉ１は、一般式（Ｙ−３）から選ばれる基を表すことが、耐熱性向上の観点から好ましい。
【００７０】
【化１７】
0006699799.tif 000018
【００７１】
（式中、ＲｉＹ１、ＲｉＹ２、ＲｉＹ３、ｎｉＹ１及びｎｉＹ１は一般式（Y−１）中のＲｉＹ１、ＲｉＹ２、ＲｉＹ３、ｎｉＹ１及びｎｉＹ１とそれぞれ同じ意味を表す。）
一般式（Ｙ−３）は、一般式（Ｙ−３−１）〜一般式（Y−３−４）を表すことが好ましい。
【００７２】
【化１８】
0006699799.tif 000019
【００７３】
（式中、ＲｉY２１、ＲｉＹ３１、ＲｉＹ３２及びｎｉＹ１１は一般式（Y−１−１）中のＲｉY２１、ＲｉＹ３１、ＲｉＹ３２及びｎｉＹ１１とそれぞれ同じ意味を表す。）
より具体的には、一般式（Ｙ−３−１）は一般式（Ｙ−３−１１）が好ましい。
【００７４】
【化１９】
0006699799.tif 000020
【００７５】
（式中、ＲｉY２１は一般式（Y−３−１）中のＲｉY２１と同じ意味を表す。）
また、Ｙｉ１は、一般式（Ｙ−４）から選ばれる基を表すことが、耐熱性向上の観点から好ましい。
【００７６】
【化２０】
0006699799.tif 000021
【００７７】
（式中、ＲｉＹ１、ＲｉＹ２、ＲｉＹ３、ｎｉＹ１及びｎｉＹ１は一般式（Y−１）中のＲｉＹ１、ＲｉＹ２、ＲｉＹ３、ｎｉＹ１及びｎｉＹ１とそれぞれ同じ意味を表す。）
一般式（Ｙ−４）は、一般式（Ｙ−４−１）〜一般式（Y−４−３ｂ）を表すことが好ましい。
【００７８】
【化２１】
0006699799.tif 000022
【００７９】
（式中、ＲｉY２１、ＲｉＹ３１、ＲｉＹ３２及びｎｉＹ１１は一般式（Y−１−１）中のＲｉY２１、ＲｉＹ３１、ＲｉＹ３２及びｎｉＹ１１とそれぞれ同じ意味を表す。）
より具体的には、一般式（Ｙ−４−１）は一般式（Ｙ−４−１１）が好ましい。
【００８０】
【化２２】
0006699799.tif 000023
【００８１】
（式中、ＲｉY２１は一般式（Y−４−１）中のＲｉY２１と同じ意味を表す。）
Ｐｉ１は以下の式（P−１）〜一般式（P−１５）で表される群より選ばれる置換基を表すことが好ましい。取り扱いの簡便性、反応性の点から、式（P−１）〜（P−３）、（P−１４）、（Ｐ−１５）のいずれかの置換基が好ましく、式（P−１）、（P−２）が、さらに好ましい。
【００８２】
【化２３】
0006699799.tif 000024
【００８３】
（式中、右端の黒点は結合手を表す。）
【００８４】
Ｓｐｉ１は、好ましくは炭素原子数１〜１８の直鎖状アルキレン基又は単結合を表し、より好ましくは炭素原子数２〜１５の直鎖状アルキレン基又は単結合を表し、更に好ましくは炭素原子数２〜８の直鎖状アルキレン基又は単結合を表す。
【００８５】
ｎｉ１は、液晶の配向性と液晶化合物への溶解性を向上させる観点から、１又は２を表すことが好ましい。ｎｉ２は０又は１を表すことが好ましく、配向性を向上させる観点から１を表すことがより好ましい。ｎｉ３は、０又は１を表すことが好ましい。
【００８６】
一般式（Ｋ−１）は、一般式（Ｋ−１Ａ）又は（Ｋ−１Ｂ）から選ばれる基を表すことが好ましい。
【００８７】
【化２４】
0006699799.tif 000025
【００８８】
（式中、Ｓｉ１、Ｓｉ２、Ｓｉ３、Ｙｉ１、Ｐｉ１及びＳｐｉ１は、一般式（Ｋ−１）中のＳｉ１、Ｓｉ２、Ｓｉ３、Ｙｉ１、Ｐｉ１及びＳｐｉ１とそれぞれ同じ意味を表し、ｎｉＡ１は１〜３の整数を表し、ｎｉＡ３は０〜２の整数を表し、ｎｉＢ１は１〜２の整数を表し、ｎｉＢ３は０又は１を表すが、Ｓｉ２が炭素原子又はケイ素原子を表す場合、ｎｉＡ１＋ｎｉＡ３は３であり、ｎｉＢ１＋ｎｉＢ３は２であり、Ｓｉ２が窒素原子を表す場合、ｎｉＡ１＋ｎｉＡ３は２であり、ｎｉＢ１  は１、ｎｉＢ３は０を表す。）
【００８９】
式（ｉ）中のＫｉ１は液晶組成物を垂直配向させるために重要な構造であり、極性基と重合基が隣接していることで、より良好な配向性が得られ、また液晶組成物への良好な溶解性を示す。従って、液晶の配向性を重要視する場合は、一般式（Ｋ−１B）が好ましい。一方、液晶化合物への溶解性を重要視する場合は、一般式（Ｋ−１A）が好ましい。  一般式（Ｋ−１A）〜（Ｋ−１B）の好ましい例としては以下の式（K−１A−１）〜（K−１A−４）及び式（K−１B−１）〜（K−１B−６）が挙げられるが、液晶組成物への溶解性の点から、式（K−１A−１）〜（K−１A−３）が好ましく、配向性の点からは、式（K−１B−２）〜（K−１B−４）が好ましく、特に好ましくは式（K−１A−１）、（K−１B−２）及び（K−１B−４）が挙げられる。
【００９０】
【化２５】
0006699799.tif 000026
【００９１】
（式中、Ｓｉ１、Ｙｉ１及びＰｉ１はそれぞれ独立して一般式（Ｋ−１）中のＳｉ１、Ｙｉ１及びＰｉ１と同じ意味を表す。）
また、一般式（Ｋ−１）は、一般式（Ｋ−１−１）、（Ｋ−１−２）、（Ｋ−１−３ａ）、（Ｋ−１−３ｂ）、（Ｋ−１−４ａ）、（Ｋ−１−４ｂ）（Ｋ−１−Ｙ２）、（Ｋ−１−Ｙ３）及び（Ｋ−１−Ｙ４）から選ばれる基を表すことが好ましい。
【００９２】
【化２６】
0006699799.tif 000027
【００９３】
【化２７】
0006699799.tif 000028
【００９４】
【化２８】
0006699799.tif 000029
【００９５】
（式中、ｎｉＹ１１、ＲｉＹ２１、ＲｉＹ３１及びＲｉＹ３２はそれぞれ独立して一般式（Ｙ−１−１）〜（Ｙ−４）中のｎｉＹ１１、ＲｉＹ２１、ＲｉＹ３１及びＲｉＹ３２とそれぞれ同じ意味を表し、Ｓｐｉ１及びＰｉ１は一般式（ｉ）中のＳｐｉ１及びＰｉ１とそれぞれ同じ意味を表し、ＲｉＫ１は炭素原子数１〜６のアルキレン基又は単結合を表し、該アルキレン基中の−ＣＨ２−は酸素原子が直接隣接しないように−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−又は−Ｏ−で置換されてもよく、ｎｉＫ１及びｎｉＫ２はそれぞれ独立して０又は１を表す。）
ＲｉＫ１は炭素原子数１〜６の直鎖のアルキレン基が好ましく、炭素原子数１〜３の直鎖のアルキレン基が好ましい。なお、ＲｉＹ２１、ＲｉＹ３１、ＲｉＹ３２、Ｓｐｉ１及びＰｉ１の好ましい基は一般式（Ｙ−１−１）〜（Ｙ−１−４）、（Ｙ−２）〜（Ｙ−４）、一般式（ｉ）中のＲｉＹ２１、ＲｉＹ３１、ＲｉＹ３２、Ｓｐｉ１、Ｐｉ１と同様である。
【００９６】
また、Ｋｉ１は、一般式（Ｋ−２）〜（Ｋ−５）を表すことが好ましい。
【００９７】
【化２９】
0006699799.tif 000030
【００９８】
（式中、Ｓｉ１、Ｐｉ１及びＳｐｉ１は一般式（Ｋ−１）中のＳｉ１、Ｐｉ１及びＳｐｉ１とそれぞれ同じ意味を表し、ＲＫ２１は炭素原子数１〜１０の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基又はシアノ化アルキル基を表し、これらのアルキル基中の少なくとも１個以上の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、又は−ＮＨ−で置換されてもよく、ｎｉ４、ｎｉＫ２１はそれぞれ独立して０又は１を表す。）
ＲＫ２１は炭素原子数１〜５の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基又はシアノ化アルキル基を表すことが好ましく、炭素原子数１〜３の直鎖アルキル基又はシアノ化アルキル基を表すことがより好ましい。また、これらのアルキル基中の少なくとも１個以上の第二級炭素原子は酸素原子が直接隣接しないように−Ｏ−で置換されていることが好ましい。ＲＫ２１は具体的には、炭素原子数１〜３のアルキル基、炭素原子数１〜３のアルコキシ基、炭素原子数１〜３のシアノ化アルキル基が好ましい。
【００９９】
一般式（Ｋ−２）は、以下の一般式（Ｋ−２−１）〜（Ｋ−２−３）を表すことが好ましい。
【０１００】
【化３０】
0006699799.tif 000031
【０１０１】
（式中、Ｓｉ１、Ｐｉ１、Ｓｐｉ１、ｎｉ４及びｎｉＫ２１は一般式（Ｋ−２）中のＳｉ１、Ｐｉ１、Ｓｐｉ１、ｎｉ４及びｎｉＫ２１とそれぞれ同じ意味を表し、ＲＫ２１１は炭素原子数１〜３の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基又はシアノ化アルキル基を表す。）
一般式（Ｋ−３）は、以下の一般式（Ｋ−３−１）及び（Ｋ−３−２）を表すことが好ましい。
【０１０２】
【化３１】
0006699799.tif 000032
【０１０３】
（式中、Ｓｉ１は一般式（Ｋ−３）中のＳｉ１と同じ意味を表し、ＲＫ２１１は炭素原子数１〜３の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基又はシアノ化アルキル基を表す。）
一般式（Ｋ−４）は、以下の一般式（Ｋ−４−１）を表すことが好ましい。
【０１０４】
【化３２】
0006699799.tif 000033
【０１０５】
（式中、Ｓｉ１、Ｐｉ１、Ｓｐｉ１及びｎｉ４は一般式（Ｋ−４）中のＳｉ１、Ｐｉ１、Ｓｐｉ１及びｎｉＫ２１とそれぞれ同じ意味を表し、ＲＫ２１１は炭素原子数１〜３の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基又はシアノ化アルキル基を表す。）
一般式（Ｋ−５）は、以下の一般式（Ｋ−５−１）を表すことが好ましい。
【０１０６】
【化３３】
0006699799.tif 000034
【０１０７】
（式中、Ｓｉ１、Ｐｉ１、Ｓｐｉ１及びｎｉ４は一般式（Ｋ−４）中のＳｉ１、Ｐｉ１、Ｓｐｉ１及びｎｉＫ２１とそれぞれ同じ意味を表し、ＲＫ２１１は炭素原子数１〜３の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基又はシアノ化アルキル基を表す。）
なお、Ｓｉ１、Ｐｉ１及びＳｐｉ１の好ましい基は、一般式（Ｋ−１）中のＳｉ１、Ｐｉ１及びＳｐｉ１と同様である。
【０１０８】
式（ｉ）中、Ｚｉ１及びＺｉ１は、好ましくは、単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＯＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ−、−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ（ＣＨ３）―ＣＨ２−、−ＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、炭素原子数１〜４０の直鎖状又は分岐状のアルキレン基、又は該アルキレン基中の１個又は隣接しない２個以上の−ＣＨ２−が−Ｏ−で置換された基を表し、より好ましくは、単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ−、−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ（ＣＨ３）―ＣＨ２−、−ＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、炭素原子数１〜１０の直鎖状又は分岐状のアルキレン基、又は該アルキレン基中の１個又は隣接しない２個以上の−ＣＨ２−が−Ｏ−で置換された基を表し、より好ましくは、単結合、炭素原子数２〜１５の直鎖状のアルキレン基、又は該アルキレン基中の１個又は隣接しない２個以上の−ＣＨ２−が−Ｏ−で置換された基を表し、更に好ましくは、単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＯＯＣＯ−、−ＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、又は炭素原子数２のアルキレン基（エチレン基（−ＣＨ２ＣＨ２−））若しくはエチレン基中の−ＣＨ２−の１個が−Ｏ−で置換された基（−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−）、若しくはエチレン基中の−ＣＨ２−の１個が−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−で置換された基である。
【０１０９】
Ｒｉ１は、好ましくは炭素原子数１〜２０の直鎖又は分岐のアルキル基、又はハロゲン化アルキル基を表し、該アルキル基中の第二級炭素原子は、酸素原子が直接隣接しないように−Ｏ−、置換されることが良く、より好ましくは、炭素原子数３〜１８の直鎖又は分岐のアルキル基を表し、該アルキル基中の第二級炭素原子は、酸素原子が直接隣接しないように−Ｏ−で置換されても良い。液晶化合物の配向性を向上させる観点から、Ｒｉ１の炭素原子数は３以上が好ましく、４以上が好ましく、５以上が好ましい。
【０１１０】
Ａｉ１は、２価の６員環芳香族基、２価の６員環複素芳香族基、２価の６員環脂肪族基、又は２価の６員環複素脂肪族基、２価の５員環芳香族基、２価の５員環複素芳香族基、２価の５員環脂肪族基、又は２価の５員環複素脂肪族基が好ましく、具体的には、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、アントラセン−２，６−ジイル基、フェナントレン−２，７−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、シクロペンタン−１，３−ジイル基、インダン−２，５−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基及び１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基から選択される環構造を表すことが好ましく、該環構造は無置換であるか又はＬｉ１で置換されていることが好ましい。Ｌｉ１は炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素原子数１〜１２のアルコキシ基、炭素原子数１〜１２のハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基又はニトロ基を表すことが好ましい。Ａｉ１は好ましくは、２価の６員環芳香族基又は２価の６員環脂肪族基を表すが、２価の無置換の６員環芳香族基、２価の無置換の６員環脂肪族基、又はこれらの環構造中の水素原子が炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基又はハロゲン原子で置換された基であることが好ましく、２価の無置換の６員環芳香族基若しくはこの環構造中の水素原子がフッ素原子で置換された基、又は２価の無置換の６員環脂肪族基が好ましく、置換基上の水素原子がハロゲン原子、アルキル基又はアルコキシ基によって置換されていても良い１，４−フェニレン基、２，６−ナフタレン基又は１，４−シクロヘキシル基がより好ましい。
【０１１１】
Ａｉ２及びＡｉ３はそれぞれ独立して、２価の６員環芳香族基、２価の６員環複素芳香族基、２価の６員環脂肪族基、又は２価の６員環複素脂肪族基、２価の５員環芳香族基、２価の５員環複素芳香族基、２価の５員環脂肪族基、又は２価の５員環複素脂肪族基が好ましく、具体的には、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、アントラセン−２，６−ジイル基、フェナントレン−２，７−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、シクロペンタン−１，３−ジイル基、インダン−２，５−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基及び１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基から選択される環構造を表すことが好ましく、該環構造は無置換であるか、又はＬｉ１、Ｐｉ１−Ｓｐｉ１−若しくはＫｉ１で置換されていることが好ましい。また、Ａｉ３は１，３−フェニレン基、１，３−シクロヘキシレン基、ナフタレン２，５−ジイル基から選択される環構造を表すことも好ましい。
【０１１２】
Ｌｉ１の好ましい基は、Ａｉ１中のＬｉ１と同様である。Ａｉ２及びＡｉ３は好ましくは、２価の６員環芳香族基又は２価の６員環脂肪族基を表すが、２価の無置換の６員環芳香族基、２価の無置換の６員環脂肪族基、又はこれらの環構造中の水素原子が炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、ハロゲン原子又はＰ−Ｓｐ−で置換された基であることが好ましく、２価の無置換の６員環芳香族基若しくはこの環構造中の水素原子がフッ素原子で置換された基、又は２価の無置換の６員環脂肪族基が好ましく、置換基上の水素原子がハロゲン原子、アルキル基又はアルコキシ基、Ｐ−Ｓｐ−によって置換されていても良い１，４−フェニレン基、２，６−ナフタレン基又は１，４−シクロヘキシル基がより好ましい。また、Ａｉ３はＫｉ１で置換されていることも好ましい。
【０１１３】
ここで、一般式（ｉ）は、Ａｉ２又はＡｉ３の置換基として、或いは、Ｋｉ１の置換基として、少なくとも１つ以上のＰｉ１−Ｓｐｉ１−を有するが、信頼性をより向上させる観点から、一般式（ｉ）中の重合性基の数は２以上が好ましく、３以上が好ましい。信頼性を重視する場合は、Ａｉ２又はＡｉ３部に重合基を導入することで容易に多官能化が図れ、強固なポリマーを構築することができる。Ａｉ２又はＡｉ３中のＰｉ１−Ｓｐｉ１−の置換される位置は、Ｋｉ１の近傍が好ましく、Ａｉ３がＰｉ１−Ｓｐｉ１−で置換されていることがより好ましい。
【０１１４】
ｍｉ１は、好ましくは０〜３の整数を表し、更に好ましくは０〜１の整数を表す。
【０１１５】
一般式（ｉ）で表される化合物は、以下の一般式（ｉ―１）で表される化合物であることが好ましい。
【０１１６】
【化３４】
0006699799.tif 000035
【０１１７】
（式中、Ｒｉ１、Ａｉ１、Ａｉ２、Ｚｉ１、Ｚｉ２、ｍｉ１、Ｐｉ１及びＳｐｉ１はそれぞれ独立して一般式（ｉ）中のＲｉ１、Ａｉ１、Ａｉ２、Ｚｉ１、Ｚｉ２、ｍｉ１、Ｐｉ１及びＳｐｉ１と同じ意味を表し、Ｙｉ１はそれぞれ独立して一般式（Ｋ−１）中のＹｉ１と同じ意味を表し、ＲｉＫ１、ｎｉＫ１、ｎｉＫ２はそれぞれ独立して一般式（Ｋ−１−１）中のＲｉＫ１、ｎｉＫ１、ｎｉＫ２と同じ意味を表し、Ｌｉ１１は炭素原子数１〜３のアルキル基を表し、ｍｉ３は０〜３の整数を表し、ｍｉ４は０〜３の整数を表すが、ｍｉ３＋ｍｉ４は０〜４を表す。）
一般式（ｉ−１）で表される化合物は、以下の一般式（ｉ―１−１）、（ｉ−１−２）、（ｉ−１−３ａ）、（ｉ−１−３ｂ）、（ｉ−１−４）、（ｉ−１−Ｙ２）、（ｉ−１−Ｙ３）及び（ｉ−１−Ｙ４）であることが好ましい。
【０１１８】
【化３５】
0006699799.tif 000036
【０１１９】
【化３６】
0006699799.tif 000037
【０１２０】
【化３７】
0006699799.tif 000038
【０１２１】
（式中、Ｒｉ１、Ａｉ１、Ａｉ２、Ｚｉ１、Ｚｉ２、ｍｉ１、Ｐｉ１及びＳｐｉ１はそれぞれ独立して一般式（ｉ）中のＲｉ１、Ａｉ１、Ａｉ２、Ｚｉ１、Ｚｉ２、ｍｉ１、Ｐｉ１及びＳｐｉ１と同じ意味を表し、ＲｉＫ１、ＲｉＹ２１、Ｒｉ３Ｙ１、Ｒｉ３Ｙ２、ｎｉＫ１、ｎｉＫ２、ｎｉＹ１１はそれぞれ独立して一般式（Ｋ−１−１）〜（Ｋ−１−３）中のＲｉＫ１、ＲｉＹ２１、Ｒｉ３１、Ｒｉ３２、ｎｉＫ１、ｎｉＫ２、ｎｉＹ１１と同じ意味を表し、Ｌｉ１１は炭素原子数１〜３のアルキル基を表し、ｍｉ３は０〜３の整数を表し、ｍｉ４は０〜３の整数を表すが、ｍｉ３＋ｍｉ４は０〜４を表す。）
なお、一般式（ｉ―１）及び一般式（ｉ―１−１）、（ｉ−１−２）、（ｉ−１−３）中の各符号の好ましい基は、上記一般式（ｉ）、一般式（Ｋ−１）及び一般式（Ｋ−１−１）〜（Ｋ−１−３）中の好ましい基と同様である。
【０１２２】
また、一般式（ｉ）で表される化合物は、以下の一般式（ｉ―２）〜（ｉ−５）で表される化合物であることが好ましい。
【０１２３】
【化３８】
0006699799.tif 000039
【０１２４】
（式中、Ｒｉ１、Ａｉ１、Ａｉ２、Ｚｉ１、Ｚｉ２、ｍｉ１、Ｐｉ１及びＳｐｉ１はそれぞれ独立して一般式（ｉ）中のＲｉ１、Ａｉ１、Ａｉ２、Ｚｉ１、Ｚｉ２、ｍｉ１、Ｐｉ１及びＳｐｉ１と同じ意味を表し、ｎｉ４、ｎｉＫ２１、ＲＫ２１はそれぞれ独立して一般式（Ｋ−２）中のｎｉ４、ｎｉＫ２１、ＲＫ２１と同じ意味を表し、Ｒｉ２２は炭素原子数１〜６のアルキレン基又は単結合を表し、該アルキレン基中の−ＣＨ２−は酸素原子が直接隣接しないように−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−又は−Ｏ−で置換されてもよく、Ｌｉ１１は炭素原子数１〜３のアルキル基を表し、ｎｉ２２は０又は１を表し、ｍｉ２３は０〜３の整数を表し、ｍｉ２４は０〜３の整数を表すが、ｍｉ２３＋ｍｉ２４は０〜４を表す。）
Ｒｉ２２は炭素原子数１〜６の直鎖のアルキレン基が好ましく、炭素原子数１〜３の直鎖のアルキレン基が好ましい。なお、ＲｉＹ２１、ＲｉＹ３１、ＲｉＹ３２、Ｓｐｉ１及びＰｉ１の好ましい基は一般式（Ｙ−１−１）〜（Ｙ−１−３）、一般式（ｉ）中のＲｉＹ２１、ＲｉＹ３１、ＲｉＹ３２、Ｓｐｉ１、Ｐｉ１と同様である。なお、一般式（ｉ―２）中の各符号の好ましい基は、上記一般式（ｉ）、一般式（Ｋ−２）中の好ましい基と同様である。
【０１２５】
一般式（ｉ）は、以下の一般式（Ｒ−１）〜（Ｒ−６）を表すことが好ましい。
【０１２６】
【化３９】
0006699799.tif 000040
【０１２７】
（式中、Ｒｉ１、Ｋｉ１及びＬｉ１は一般式（ｉ）中のＲｉ１、Ｋｉ１及びＬｉ１とそれぞれ同じ意味を表す。）
一般式（ｉ）のより具体的な例としては、下記式（Ｒ−１−１）〜（Ｒ−６−７）に表すがこれに限られたものではない。
【０１２８】
【化４０】
0006699799.tif 000041
【０１２９】
【化４１】
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【０１３０】
【化４２】
0006699799.tif 000043
【０１３１】
（式中、Ｒｉ１、Ｐｉ１、Ｓｉ１及びＹｉ１はそれぞれ独立して一般式（ｉ）及び一般式（Ｋ−１）中のＲｉ１、Ｐｉ１、Ｓｉ１及びＹｉ１と同じ意味を表す。）
【０１３２】
（液晶組成物）
本実施形態の液晶組成物は、上記一般式（ｉ）で表される部分構造を有する化合物を１種又は２種以上含有する。この液晶組成物は、負の誘電率異方性（Δε）を有する。なお、液晶組成物に含有される一般式（ｉ）で表される部分構造を有する化合物は、式（Ｒ−１−１）〜（Ｒ−１−２５）に示される化合物を含めて、上記の化合物（ｉ）と同じであるため、ここでは説明を省略する。
【０１３３】
化合物（ｉ）の含有量は、好ましくは０．０１〜５０質量％であるが、その下限値は、液晶分子を更に好適に配向させられる観点から、液晶組成物全量を基準として、好ましくは、０．０１質量％以上、０．１質量％以上、０．５質量％以上、０．７質量％以上、又は１質量％以上である。化合物（ｉ）の含有量の上限値は、応答特性に優れる観点から、液晶組成物全量を基準として、好ましくは、５０質量％以下、３０質量％以下、１０質量％以下であり、７質量％以下、５質量％以下、４質量％以下、又は３質量％以下である。
上記を踏まえ、さらに好ましくは、０．１質量％以上１．０３質量％以下である。
【０１３４】
液晶組成物は、一般式（Ｎ−１）、（Ｎ−２）及び（Ｎ−３）：
【０１３５】
【化４３】
0006699799.tif 000044
【０１３６】
のいずれかで表される化合物群から選ばれる化合物を更に含有してもよい。
【０１３７】
式（Ｎ−１）、（Ｎ−２）及び（Ｎ−３）中、
ＲＮ１１、ＲＮ１２、ＲＮ２１、ＲＮ２２、ＲＮ３１及びＲＮ３２は、それぞれ独立して炭素原子数１〜８のアルキル基を表し、該アルキル基中の１個又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は、それぞれ独立して、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−によって置換されていてもよく、
ＡＮ１１、ＡＮ１２、ＡＮ２１、ＡＮ２２、ＡＮ３１及びＡＮ３２は、それぞれ独立して、
（ａ）  １，４−シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は−Ｏ−に置換されてもよい。）、
（ｂ）  １，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置換されてもよい。）、
（ｃ）  ナフタレン−２，６−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又はデカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基（ナフタレン−２，６−ジイル基又は１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置換されてもよい。）、及び
（ｄ）  １，４−シクロヘキセニレン基
からなる群より選ばれる基を表し、前記の基（ａ）、基（ｂ）、基（ｃ）及び基（ｄ）は、それぞれ独立して、シアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていてもよく、
ＺＮ１１、ＺＮ１２、ＺＮ２１、ＺＮ２２、ＺＮ３１及びＺＮ３２は、それぞれ独立して、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、
ＸＮ２１は、水素原子又はフッ素原子を表し、
ＴＮ３１は、−ＣＨ２−又は酸素原子を表し、
ｎＮ１１、ｎＮ１２、ｎＮ２１、ｎＮ２２、ｎＮ３１及びｎＮ３２は、それぞれ独立して０〜３の整数を表すが、ｎＮ１１＋ｎＮ１２、ｎＮ２１＋ｎＮ２２及びｎＮ３１＋ｎＮ３２は、それぞれ独立して１、２又は３であり、
ＡＮ１１〜ＡＮ３２、ＺＮ１１〜ＺＮ３２がそれぞれ複数存在する場合は、それぞれは互いに同一であっても異なっていてもよい。
【０１３８】
一般式（Ｎ−１）、（Ｎ−２）及び（Ｎ−３）のいずれかで表される化合物は、Δεが負でその絶対値が３よりも大きな化合物であることが好ましい。
【０１３９】
一般式（Ｎ−１）、（Ｎ−２）及び（Ｎ−３）中、ＲＮ１１、ＲＮ１２、ＲＮ２１、ＲＮ２２、ＲＮ３１及びＲＮ３２はそれぞれ独立して、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基、炭素原子数２〜８のアルケニル基又は炭素原子数２〜８のアルケニルオキシ基が好ましく、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数１〜５のアルコキシ基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数２〜５のアルケニルオキシ基が好ましく、炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基が更に好ましく、炭素原子数２〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜３のアルケニル基が更に好ましく、炭素原子数３のアルケニル基（プロペニル基）が特に好ましい。
【０１４０】
また、それが結合する環構造がフェニル基（芳香族）である場合には、直鎖状の炭素原子数１〜５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１〜４のアルコキシ基及び炭素原子数４〜５のアルケニル基が好ましく、それが結合する環構造がシクロヘキサン、ピラン及びジオキサンなどの飽和した環構造の場合には、直鎖状の炭素原子数１〜５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１〜４のアルコキシ基及び直鎖状の炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましい。ネマチック相を安定化させるためには炭素原子及び存在する場合酸素原子の合計が５以下であることが好ましく、直鎖状であることが好ましい。
【０１４１】
アルケニル基としては、式（Ｒ１）から式（Ｒ５）のいずれかで表される基から選ばれることが好ましい（各式中の黒点は結合手を表す。）。
【０１４２】
【化４４】
0006699799.tif 000045
【０１４３】
ＡＮ１１、ＡＮ１２、ＡＮ２１、ＡＮ２２、ＡＮ３１及びＡＮ３２はそれぞれ独立してΔｎを大きくすることが求められる場合には芳香族であることが好ましく、応答速度を改善するためには脂肪族であることが好ましく、トランス−１，４−シクロへキシレン基、１，４−フェニレン基、２−フルオロ−１，４−フェニレン基、３−フルオロ−１，４−フェニレン基、３，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン基、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキセニレン基、１，４−ビシクロ［２．２．２］オクチレン基、ピペリジン−１，４−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基を表すことが好ましく、下記の構造：
【０１４４】
【化４５】
0006699799.tif 000046
【０１４５】
を表すことがより好ましく、トランス−１，４−シクロへキシレン基、１，４−シクロヘキセニレン基又は１，４−フェニレン基を表すことがより好ましい。
【０１４６】
ＺＮ１１、ＺＮ１２、ＺＮ２１、ＺＮ２２、ＺＮ３１及びＺＮ３２はそれぞれ独立して−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−又は単結合を表すことが好ましく、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＨ２ＣＨ２−又は単結合が更に好ましく、−ＣＨ２Ｏ−又は単結合が特に好ましい。
【０１４７】
ＸＮ２１はフッ素原子が好ましい。
【０１４８】
ＴＮ３１は酸素原子が好ましい。
【０１４９】
ｎＮ１１＋ｎＮ１２、ｎＮ２１＋ｎＮ２２及びｎＮ３１＋ｎＮ３２は１又は２が好ましく、ｎＮ１１が１でありｎＮ１２が０である組み合わせ、ｎＮ１１が２でありｎＮ１２が０である組み合わせ、ｎＮ１１が１でありｎＮ１２が１である組み合わせ、ｎＮ１１が２でありｎＮ１２が１である組み合わせ、ｎＮ２１が１でありｎＮ２２が０である組み合わせ、ｎＮ２１が２でありｎＮ２２が０である組み合わせ、ｎＮ３１が１でありｎＮ３２が０である組み合わせ、ｎＮ３１が２でありｎＮ３２が０である組み合わせ、が好ましい。
【０１５０】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｎ−１）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、１０質量％以上であり、２０質量％以上であり、３０質量％以上であり、４０質量％以上であり、５０質量％以上であり、５５質量％以上であり、６０質量％以上であり、６５質量％以上であり、７０質量％以上であり、７５質量％以上であり、８０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、９５質量％以下であり、８５質量％以下であり、７５質量％以下であり、６５質量％以下であり、５５質量％以下であり、４５質量％以下であり、３５質量％以下であり、２５質量％以下であり、２０質量％以下である。
【０１５１】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｎ−２）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、１０質量％以上であり、２０質量％以上であり、３０質量％以上であり、４０質量％以上であり、５０質量％以上であり、５５質量％以上であり、６０質量％以上であり、６５質量％以上であり、７０質量％以上であり、７５質量％以上であり、８０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、９５質量％以下であり、８５質量％以下であり、７５質量％以下であり、６５質量％以下であり、５５質量％以下であり、４５質量％以下であり、３５質量％以下であり、２５質量％以下であり、２０質量％以下である。
【０１５２】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｎ−３）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、１０質量％以上であり、２０質量％以上であり、３０質量％以上であり、４０質量％以上であり、５０質量％以上であり、５５質量％以上であり、６０質量％以上であり、６５質量％以上であり、７０質量％以上であり、７５質量％以上であり、８０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、９５質量％以下であり、８５質量％以下であり、７５質量％以下であり、６５質量％以下であり、５５質量％以下であり、４５質量％以下であり、３５質量％以下であり、２５質量％以下であり、２０質量％以下である。
【０１５３】
本実施形態の組成物の粘度を低く保ち、応答速度が速い組成物が必要な場合は上記の下限値が低く上限値が低いことが好ましい。さらに、本実施形態の組成物のＴｎｉを高く保ち、温度安定性の良い組成物が必要な場合は上記の下限値が低く上限値が低いことが好ましい。また、駆動電圧を低く保つために誘電率異方性を大きくしたいときは、上記の下限値を高く上限値が高いことが好ましい。
【０１５４】
一般式（Ｎ−１）で表される化合物として、下記の一般式（Ｎ−１ａ）〜（Ｎ−１ｇ）で表される化合物群を挙げることができる。
【０１５５】
【化４６】
0006699799.tif 000047
【０１５６】
（式中、ＲＮ１１及びＲＮ１２は一般式（Ｎ−１）におけるＲＮ１１及びＲＮ１２と同じ意味を表し、ｎＮａ１１は０又は１を表し、ｎＮｂ１１は０又は１を表し、ｎＮｃ１１は０又は１を表し、ｎＮｄ１１は０又は１を表し、ｎＮｅ１１は１又は２を表し、ｎＮｆ１１は１又は２を表し、ｎＮｇ１１は１又は２を表し、ＡＮｅ１１はトランス−１，４−シクロへキシレン基又は１，４−フェニレン基を表し、ＡＮｇ１１はトランス−１，４−シクロへキシレン基、１，４−シクロヘキセニレン基又は１，４−フェニレン基を表すが少なくとも１つは１，４−シクロヘキセニレン基を表し、ＺＮｅ １１は単結合又はエチレンを表すが少なくとも１つはエチレンを表す。）
【０１５７】
より具体的には、一般式（Ｎ−１）で表される化合物は、一般式（Ｎ−１−１）〜（Ｎ−１−２１）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
【０１５８】
一般式（Ｎ−１−１）で表される化合物は下記の化合物である。
【０１５９】
【化４７】
0006699799.tif 000048
【０１６０】
（式中、ＲＮ１１１及びＲＮ１１２はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ）におけるＲＮ１１及びＲＮ１２と同じ意味を表す。）
【０１６１】
ＲＮ１１１は炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、プロピル基、ペンチル基又はビニル基が好ましい。ＲＮ１１２は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましく、エトキシ基又はブトキシ基が好ましい。
【０１６２】
一般式（Ｎ−１−１）で表される化合物は単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０１６３】
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、ＴＮＩを重視する場合は含有量を少なめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。
【０１６４】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｎ−１−１）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上であり、２３質量％以上であり、２５質量％以上であり、２７質量％以上であり、３０質量％以上であり、３３質量％以上であり、３５質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、５０質量％以下であり、４０質量％以下であり、３８質量％以下であり、３５質量％以下であり、３３質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下であり、１０質量％以下であり、８質量％以下であり、７質量％以下であり、６質量％以下であり、５質量％以下であり、３質量％以下である。
【０１６５】
さらに、一般式（Ｎ−１−１）で表される化合物は、式（Ｎ−１−１．１）から式（Ｎ−１−１．２３）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（Ｎ−１−１．１）〜（Ｎ−１−１．４）で表される化合物であることが好ましく、式（Ｎ−１−１．１）及び式（Ｎ−１−１．３）で表される化合物が好ましい。
【０１６６】
【化４８】
0006699799.tif 000049
【０１６７】
式（Ｎ−１−１．１）〜（Ｎ−１−１．２２）で表される化合物は単独で使用することも、組み合わせて使用することも可能であるが、本実施形態の組成物の総量に対しての単独又はこれら化合物の好ましい含有量の下限値は、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上であり、２３質量％以上であり、２５質量％以上であり、２７質量％以上であり、３０質量％以上であり、３３質量％以上であり、３５質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、５０質量％以下であり、４０質量％以下であり、３８質量％以下であり、３５質量％以下であり、３３質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下であり、１０質量％以下であり、８質量％以下であり、７質量％以下であり、６質量％以下であり、５質量％以下であり、３質量％以下である。
【０１６８】
一般式（Ｎ−１−２）で表される化合物は下記の化合物である。
【０１６９】
【化４９】
0006699799.tif 000050
【０１７０】
（式中、ＲＮ１２１及びＲＮ１２２はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ）におけるＲＮ１１及びＲＮ１２と同じ意味を表す。）
【０１７１】
ＲＮ１２１は炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基、ブチル基又はペンチル基が好ましい。ＲＮ１２２は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましく、メチル基、プロピル基、メトキシ基、エトキシ基又はプロポキシ基が好ましい。
【０１７２】
一般式（Ｎ−１−２）で表される化合物は単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０１７３】
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を少なめに設定すると効果が高く、ＴＮＩを重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。
【０１７４】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｎ−１−２）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、５質量％以上であり、７質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上であり、２３質量％以上であり、２５質量％以上であり、２７質量％以上であり、３０質量％以上であり、３３質量％以上であり、３５質量％以上であり、３７質量％以上であり、４０質量％以上であり、４２質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、５０質量％以下であり、４８質量％以下であり、４５質量％以下であり、４３質量％以下であり、４０質量％以下であり、３８質量％以下であり、３５質量％以下であり、３３質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下であり、１０質量％以下であり、８質量％以下であり、７質量％以下であり、６質量％以下であり、５質量％以下である。
【０１７５】
さらに、一般式（Ｎ−１−２）で表される化合物は、式（Ｎ−１−２．１）から式（Ｎ−１−２．２２）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（Ｎ−１−２．３）から式（Ｎ−１−２．７）、式（Ｎ−１−２．１０）、式（Ｎ−１−２．１１）、式（Ｎ−１−２．１３）及び式（Ｎ−１−２．２０）で表される化合物であることが好ましく、Δεの改良を重視する場合には式（Ｎ−１−２．３）から式（Ｎ−１−２．７）で表される化合物が好ましく、ＴＮＩの改良を重視する場合には式（Ｎ−１−２．１０）、式（Ｎ−１−２．１１）及び式（Ｎ−１−２．１３）で表される化合物であることが好ましく、応答速度の改良を重視する場合には式（Ｎ−１−２．２０）で表される化合物であることが好ましい。
【０１７６】
【化５０】
0006699799.tif 000051
【０１７７】
式（Ｎ−１−２．１）から式（Ｎ−１−２．２２）で表される化合物は単独で使用することも、組み合わせて使用することも可能であるが、本実施形態の組成物の総量に対しての単独又はこれら化合物の好ましい含有量の下限値は、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上であり、２３質量％以上であり、２５質量％以上であり、２７質量％以上であり、３０質量％以上であり、３３質量％以上であり、３５質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、５０質量％以下であり、４０質量％以下であり、３８質量％以下であり、３５質量％以下であり、３３質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下であり、１０質量％以下であり、８質量％以下であり、７質量％以下であり、６質量％以下であり、５質量％以下であり、３質量％以下である。
【０１７８】
一般式（Ｎ−１−３）で表される化合物は下記の化合物である。
【０１７９】
【化５１】
0006699799.tif 000052
【０１８０】
（式中、ＲＮ１３１及びＲＮ１３２はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ）におけるＲＮ１１及びＲＮ１２と同じ意味を表す。）
【０１８１】
ＲＮ１３１は炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基又はブチル基が好ましい。ＲＮ１３２は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数３〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましく、１−プロペニル基、エトキシ基、プロポキシ基又はブトキシ基が好ましい。
【０１８２】
一般式（Ｎ−１−３）で表される化合物は単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０１８３】
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、ＴＮＩを重視する場合は含有量をおおめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。
【０１８４】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｎ−１−３）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下である。
【０１８５】
さらに、一般式（Ｎ−１−３）で表される化合物は、式（Ｎ−１−３．１）から式（Ｎ−１−３．２１）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（Ｎ−１−３．１）〜（Ｎ−１−３．７）及び式（Ｎ−１−３．２１）で表される化合物であることが好ましく、式（Ｎ−１−３．１）、式（Ｎ−１−３．２）、式（Ｎ−１−３．３）、式（Ｎ−１−３．４）及び式（Ｎ−１−３．６）で表される化合物が好ましい。
【０１８６】
【化５２】
0006699799.tif 000053
【０１８７】
式（Ｎ−１−３．１）〜式（Ｎ−１−３．４）、式（Ｎ−１−３．６）及び式（Ｎ−１−３．２１）で表される化合物は単独で使用することも、組み合わせて使用することも可能であるが、式（Ｎ−１−３．１）及び式（Ｎ−１−３．２）の組み合わせ、式（Ｎ−１−３．３）、式（Ｎ−１−３．４）及び式（Ｎ−１−３．６）から選ばれる２種又は３種の組み合わせが好ましい。本実施形態の組成物の総量に対しての単独又はこれら化合物の好ましい含有量の下限値は、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下である。
【０１８８】
一般式（Ｎ−１−４）で表される化合物は下記の化合物である。
【０１８９】
【化５３】
0006699799.tif 000054
【０１９０】
（式中、ＲＮ１４１及びＲＮ１４２はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ）におけるＲＮ１１及びＲＮ１２と同じ意味を表す。）
【０１９１】
ＲＮ１４１及びＲＮ１４２はそれぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましく、メチル基、プロピル基、エトキシ基又はブトキシ基が好ましい。
【０１９２】
一般式（Ｎ−１−４）で表される化合物は単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０１９３】
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、ＴＮＩを重視する場合は含有量を少なめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。
【０１９４】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｎ−１−４）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、３質量％以上であり、５質量％以上であり、７質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下であり、１１質量％以下であり、１０質量％以下であり、８質量％以下である。
【０１９５】
さらに、一般式（Ｎ−１−４）で表される化合物は、式（Ｎ−１−４．１）から式（Ｎ−１−４．１４）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（Ｎ−１−４．１）〜（Ｎ−１−４．４）で表される化合物であることが好ましく、式（Ｎ−１−４．１）、式（Ｎ−１−４．２）及び式（Ｎ−１−４．４）で表される化合物が好ましい。
【０１９６】
【化５４】
0006699799.tif 000055
【０１９７】
式（Ｎ−１−４．１）〜（Ｎ−１−４．１４）で表される化合物は単独で使用することも、組み合わせて使用することも可能であるが、本実施形態の組成物の総量に対しての単独又はこれら化合物の好ましい含有量の下限値は、３質量％以上であり、５質量％以上であり、７質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下であり、１１質量％以下であり、１０質量％以下であり、８質量％以下である。
【０１９８】
一般式（Ｎ−１−５）で表される化合物は下記の化合物である。
【０１９９】
【化５５】
0006699799.tif 000056
【０２００】
（式中、ＲＮ１５１及びＲＮ１５２はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ）におけるＲＮ１１及びＲＮ１２と同じ意味を表す。）
【０２０１】
ＲＮ１５１及びＲＮ１５２はそれぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましくエチル基、プロピル基又はブチル基が好ましい。
【０２０２】
一般式（Ｎ−１−５）で表される化合物は単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０２０３】
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を少なめに設定すると効果が高く、ＴＮＩを重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。
【０２０４】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｎ−１−５）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、５質量％以上であり、８質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、３５質量％以下であり、３３質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下である。
【０２０５】
さらに、一般式（Ｎ−１−５）で表される化合物は、式（Ｎ−１−５．１）から式（Ｎ−１−５．６）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（Ｎ−１−５．１）、式（Ｎ−１−５．２）及び式（Ｎ−１−５．４）で表される化合物が好ましい。
【０２０６】
【化５６】
0006699799.tif 000057
【０２０７】
式（Ｎ−１−５．１）、式（Ｎ−１−５．２）及び式（Ｎ−１−５．４）で表される化合物は単独で使用することも、組み合わせて使用することも可能であるが、本実施形態の組成物の総量に対しての単独又はこれら化合物の好ましい含有量の下限値は、５質量％以上であり、８質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、３５質量％以下であり、３３質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下である。
【０２０８】
一般式（Ｎ−１−１０）で表される化合物は下記の化合物である。
【０２０９】
【化５７】
0006699799.tif 000058
【０２１０】
（式中、ＲＮ１１０１及びＲＮ１１０２はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ）におけるＲＮ１１及びＲＮ１２と同じ意味を表す。）
【０２１１】
ＲＮ１１０１は炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基、ブチル基、ビニル基又は１−プロペニル基が好ましい。ＲＮ１１０２は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましく、エトキシ基、プロポキシ基又はブトキシ基が好ましい。
【０２１２】
一般式（Ｎ−１−１０）で表される化合物は単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本実施形態の一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０２１３】
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を高めに設定すると効果が高く、ＴＮＩを重視する場合は含有量を高めに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。
【０２１４】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｎ−１−１０）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下である。
【０２１５】
さらに、一般式（Ｎ−１−１０）で表される化合物は、式（Ｎ−１−１０．１）から式（Ｎ−１−１０．２１）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（Ｎ−１−１０．１）〜（Ｎ−１−１０．５）式（Ｎ−１−１０．２０）及び式（Ｎ−１−１０．２１）で表される化合物であることが好ましく、式（Ｎ−１−１０．１）、式（Ｎ−１−１０．２）、式（Ｎ−１−１０．２０）及び式（Ｎ−１−１０．２１）で表される化合物が好ましい。
【０２１６】
【化５８】
0006699799.tif 000059
【０２１７】
式（Ｎ−１−１０．１）、式（Ｎ−１−１０．２）、式（Ｎ−１−１０．２０）及び式（Ｎ−１−１０．２１）で表される化合物は単独で使用することも、組み合わせて使用することも可能であるが、本実施形態の組成物の総量に対しての単独又はこれら化合物の好ましい含有量の下限値は、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下である。
【０２１８】
一般式（Ｎ−１−１１）で表される化合物は下記の化合物である。
【０２１９】
【化５９】
0006699799.tif 000060
【０２２０】
（式中、ＲＮ１１１１及びＲＮ１１１２はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ）におけるＲＮ１１及びＲＮ１２と同じ意味を表す。）
【０２２１】
ＲＮ１１１１は炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基、ブチル基、ビニル基又は１−プロペニル基が好ましい。ＲＮ１１１２は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましく、エトキシ基、プロポキシ基又はブトキシ基が好ましい。
【０２２２】
一般式（Ｎ−１−１１）で表される化合物は単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０２２３】
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を低めに設定すると効果が高く、ＴＮＩを重視する場合は含有量を高めに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。
【０２２４】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｎ−１−１１）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下である。
【０２２５】
さらに、一般式（Ｎ−１−１１）で表される化合物は、式（Ｎ−１−１１．１）から式（Ｎ−１−１１．１５）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（Ｎ−１−１１．１）〜（Ｎ−１−１１．１５）で表される化合物であることが好ましく、式（Ｎ−１−１１．２及び式（Ｎ−１−１１．４）で表される化合物が好ましい。
【０２２６】
【化６０】
0006699799.tif 000061
【０２２７】
式（Ｎ−１−１１．２）及び式（Ｎ−１−１１．４）で表される化合物は単独で使用することも、組み合わせて使用することも可能であるが、本実施形態の組成物の総量に対しての単独又はこれら化合物の好ましい含有量の下限値は、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下である。
【０２２８】
一般式（Ｎ−１−１２）で表される化合物は下記の化合物である。
【０２２９】
【化６１】
0006699799.tif 000062
【０２３０】
（式中、ＲＮ１１２１及びＲＮ１１２２はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ）におけるＲＮ１１及びＲＮ１２と同じ意味を表す。）
【０２３１】
ＲＮ１１２１は炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基又はブチル基が好ましい。ＲＮ１１２２は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましく、エトキシ基、プロポキシ基又はブトキシ基が好ましい。
【０２３２】
一般式（Ｎ−１−１２）で表される化合物は単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０２３３】
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、ＴＮＩを重視する場合は含有量をおおめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。
【０２３４】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｎ−１−１２）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下である。
【０２３５】
一般式（Ｎ−１−１３）で表される化合物は下記の化合物である。
【０２３６】
【化６２】
0006699799.tif 000063
【０２３７】
（式中、ＲＮ１１３１及びＲＮ１１３２はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ）におけるＲＮ１１及びＲＮ１２と同じ意味を表す。）
【０２３８】
ＲＮ１１３１は炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基又はブチル基が好ましい。ＲＮ１１３２は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましく、エトキシ基、プロポキシ基又はブトキシ基が好ましい。
【０２３９】
一般式（Ｎ−１−１３）で表される化合物は単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０２４０】
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、ＴＮＩを重視する場合は含有量をおおめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。
【０２４１】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｎ−１−１３）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下である。
【０２４２】
一般式（Ｎ−１−１４）で表される化合物は下記の化合物である。
【０２４３】
【化６３】
0006699799.tif 000064
【０２４４】
（式中、ＲＮ１１４１及びＲＮ１１４２はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ）におけるＲＮ１１及びＲＮ１２と同じ意味を表す。）
【０２４５】
ＲＮ１１４１は炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基又はブチル基が好ましい。ＲＮ１１４２は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましく、エトキシ基、プロポキシ基又はブトキシ基が好ましい。
【０２４６】
一般式（Ｎ−１−１４）で表される化合物は単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本実施形態の一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０２４７】
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、ＴＮＩを重視する場合は含有量をおおめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。
【０２４８】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｎ−１−１４）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下である。
【０２４９】
一般式（Ｎ−１−１５）で表される化合物は下記の化合物である。
【０２５０】
【化６４】
0006699799.tif 000065
【０２５１】
（式中、ＲＮ１１５１及びＲＮ１１５２はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ）におけるＲＮ１１及びＲＮ１２と同じ意味を表す。）
【０２５２】
ＲＮ１１５１は炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基又はブチル基が好ましい。ＲＮ１１５２は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましく、エトキシ基、プロポキシ基又はブトキシ基が好ましい。
【０２５３】
一般式（Ｎ−１−１５）で表される化合物は単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０２５４】
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、ＴＮＩを重視する場合は含有量をおおめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。
【０２５５】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｎ−１−１５）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下である。
【０２５６】
一般式（Ｎ−１−１６）で表される化合物は下記の化合物である。
【０２５７】
【化６５】
0006699799.tif 000066
【０２５８】
（式中、ＲＮ１１６１及びＲＮ１１６２はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ）におけるＲＮ１１及びＲＮ１２と同じ意味を表す。）
【０２５９】
ＲＮ１１６１は炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基又はブチル基が好ましい。ＲＮ１１６２は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましく、エトキシ基、プロポキシ基又はブトキシ基が好ましい。
【０２６０】
一般式（Ｎ−１−１６）で表される化合物は単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０２６１】
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、ＴＮＩを重視する場合は含有量をおおめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。
【０２６２】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｎ−１−１６）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下である。
【０２６３】
一般式（Ｎ−１−１７）で表される化合物は下記の化合物である。
【０２６４】
【化６６】
0006699799.tif 000067
【０２６５】
（式中、ＲＮ１１７１及びＲＮ１１７２はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ）におけるＲＮ１１及びＲＮ１２と同じ意味を表す。）
【０２６６】
ＲＮ１１７１は炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基又はブチル基が好ましい。ＲＮ１１７２は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましく、エトキシ基、プロポキシ基又はブトキシ基が好ましい。
【０２６７】
一般式（Ｎ−１−１７）で表される化合物は単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０２６８】
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、ＴＮＩを重視する場合は含有量をおおめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。
【０２６９】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｎ−１−１７）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下である。
【０２７０】
一般式（Ｎ−１−１８）で表される化合物は下記の化合物である。
【０２７１】
【化６７】
0006699799.tif 000068
【０２７２】
（式中、ＲＮ１１８１及びＲＮ１１８２はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ）におけるＲＮ１１及びＲＮ１２と同じ意味を表す。）
【０２７３】
ＲＮ１１８１は炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基又はブチル基が好ましい。ＲＮ１１８２は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましく、エトキシ基、プロポキシ基又はブトキシ基が好ましい。
【０２７４】
一般式（Ｎ−１−１８）で表される化合物は単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０２７５】
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、ＴＮＩを重視する場合は含有量をおおめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。
【０２７６】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｎ−１−１８）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下である。
【０２７７】
さらに、一般式（Ｎ−１−１８）で表される化合物は、式（Ｎ−１−１８．１）から式（Ｎ−１−１８．５）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（Ｎ−１−１８．１）〜（Ｎ−１−１１．３）で表される化合物であることが好ましく、式（Ｎ−１−１８．２及び式（Ｎ−１−１８．３）で表される化合物が好ましい。
【０２７８】
【化６８】
0006699799.tif 000069
【０２７９】
一般式（Ｎ−１−２０）で表される化合物は下記の化合物である。
【０２８０】
【化６９】
0006699799.tif 000070
【０２８１】
（式中、ＲＮ１２０１及びＲＮ１２０２はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ）におけるＲＮ１１及びＲＮ１２と同じ意味を表す。）
【０２８２】
ＲＮ１２０１及びＲＮ１２０２はそれぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基又はブチル基が好ましい。
【０２８３】
一般式（Ｎ−１−２０）で表される化合物は単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０２８４】
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、ＴＮＩを重視する場合は含有量をおおめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。
【０２８５】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｎ−１−２０）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下である。
【０２８６】
一般式（Ｎ−１−２１）で表される化合物は下記の化合物である。
【０２８７】
【化７０】
0006699799.tif 000071
【０２８８】
（式中、ＲＮ１２１１及びＲＮ１２１２はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ）におけるＲＮ１１及びＲＮ１２と同じ意味を表す。）
【０２８９】
ＲＮ１２１１及びＲＮ１２１２はそれぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基又はブチル基が好ましい。
【０２９０】
一般式（Ｎ−１−２１）で表される化合物は単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０２９１】
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、ＴＮＩを重視する場合は含有量をおおめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。
【０２９２】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｎ−１−２１）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下である。
【０２９３】
一般式（Ｎ−１−２２）で表される化合物は下記の化合物である。
【０２９４】
【化７１】
0006699799.tif 000072
【０２９５】
（式中、ＲＮ１２２１及びＲＮ１２２２はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ）におけるＲＮ１１及びＲＮ１２と同じ意味を表す。）
【０２９６】
ＲＮ１２２１及びＲＮ１２２２はそれぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基又はブチル基が好ましい。
【０２９７】
一般式（Ｎ−１−２２）で表される化合物は単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０２９８】
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、ＴＮＩを重視する場合は含有量をおおめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。
【０２９９】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｎ−１−２１）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり２０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下であり、１０質量％以下であり、５質量％以下である。
【０３００】
さらに、一般式（Ｎ−１−２２）で表される化合物は、式（Ｎ−１−２２．１）から式（Ｎ−１−２２．１２）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（Ｎ−１−２２．１）〜（Ｎ−１−２２．５）で表される化合物であることが好ましく、式（Ｎ−１−２２．１）〜（Ｎ−１−２２．４）で表される化合物が好ましい。
【０３０１】
【化７２】
0006699799.tif 000073
【０３０２】
一般式（Ｎ−３）で表される化合物は一般式（Ｎ−３−２）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
【０３０３】
【化７３】
0006699799.tif 000074
【０３０４】
（式中、ＲＮ３２１及びＲＮ３２２はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ）におけるＲＮ１１及びＲＮ１２と同じ意味を表す。）
【０３０５】
ＲＮ３２１及びＲＮ３２２は炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、プロピル基又はペンチル基が好ましい。
【０３０６】
一般式（Ｎ−３−２）で表される化合物は単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０３０７】
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、ＴＮＩを重視する場合は含有量を少なめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。
【０３０８】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｎ−３−２）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、３質量％以上であり、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上であり、２３質量％以上であり、２５質量％以上であり、２７質量％以上であり、３０質量％以上であり、３３質量％以上であり、３５質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、５０質量％以下であり、４０質量％以下であり、３８質量％以下であり、３５質量％以下であり、３３質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下であり、１０質量％以下であり、８質量％以下であり、７質量％以下であり、６質量％以下であり、５質量％以下である。
【０３０９】
さらに、一般式（Ｎ−３−２）で表される化合物は、式（Ｎ−３−２．１）から式（Ｎ−３−２．３）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
【０３１０】
【化７４】
0006699799.tif 000075
【０３１１】
液晶組成物は、一般式（Ｌ）：
【０３１２】
【化７５】
0006699799.tif 000076
【０３１３】
で表される化合物を更に含有してもよい。
【０３１４】
式（Ｌ）中、
ＲＬ１及びＲＬ２は、それぞれ独立して炭素原子数１〜８のアルキル基を表し、該アルキル基中の１個又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は、それぞれ独立して、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−によって置換されていてもよく、
ｎＬ１は、０、１、２又は３を表し、
ＡＬ１、ＡＬ２及びＡＬ３は、それぞれ独立して、
（ａ）  １，４−シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は−Ｏ−に置換されてもよい。）、
（ｂ）  １，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置換されてもよい。）、及び
（ｃ）  （ｃ）ナフタレン−２，６−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又はデカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基（ナフタレン−２，６−ジイル基又は１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置換されてもよい。）
からなる群より選ばれる基を表し、前記の基（ａ）、基（ｂ）及び基（ｃ）は、それぞれ独立してシアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていてもよく、
ＺＬ１及びＺＬ２は、それぞれ独立して、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、
ｎＬ１が２又は３であってＡＬ２が複数存在する場合は、それらは互いに同一であっても異なっていてもよく、ｎＬ１が２又は３であってＺＬ２が複数存在する場合は、それらは互いに同一であっても異なっていてもよいが、一般式（Ｎ−１）、（Ｎ−２）及び（Ｎ−３）で表される化合物を除く。
【０３１５】
一般式（Ｌ）で表される化合物は誘電的にほぼ中性の化合物（Δεの値が−２〜２）に該当する。一般式（Ｌ）で表される化合物は単独で用いてもよいが、組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの所望の性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類である。あるいは別の実施形態では２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類であり、６種類であり、７種類であり、８種類であり、９種類であり、１０種類以上である。
【０３１６】
本実施形態の組成物において、一般式（Ｌ）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。
【０３１７】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｌ）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、１０質量％以上であり、２０質量％以上であり、３０質量％以上であり、４０質量％以上であり、５０質量％以上であり、５５質量％以上であり、６０質量％以上であり、６５質量％以上であり、７０質量％以上であり、７５質量％以上であり、８０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、９５質量％以下であり、８５質量％以下であり、７５質量％以下であり、６５質量％以下であり、５５質量％以下であり、４５質量％以下であり、３５質量％以下であり、２５質量％以下である。
【０３１８】
本実施形態の組成物の粘度を低く保ち、応答速度が速い組成物が必要な場合は上記の下限値が高く上限値が高いことが好ましい。さらに、本実施形態の組成物のＴｎｉを高く保ち、温度安定性の良い組成物が必要な場合は上記の下限値が高く上限値が高いことが好ましい。また、駆動電圧を低く保つために誘電率異方性を大きくしたいときは、上記の下限値を低く上限値が低いことが好ましい。
【０３１９】
信頼性を重視する場合にはＲＬ１及びＲＬ２はともにアルキル基であることが好ましく、化合物の揮発性を低減させることを重視する場合にはアルコキシ基であることが好ましく、粘性の低下を重視する場合には少なくとも一方はアルケニル基であることが好ましい。
【０３２０】
分子内に存在するハロゲン原子は０、１、２又は３個が好ましく、０又は１が好ましく、他の液晶分子との相溶性を重視する場合には１が好ましい。
【０３２１】
ＲＬ１及びＲＬ２は、それが結合する環構造がフェニル基（芳香族）である場合には、直鎖状の炭素原子数１〜５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１〜４のアルコキシ基及び炭素原子数４〜５のアルケニル基が好ましく、それが結合する環構造がシクロヘキサン、ピラン及びジオキサンなどの飽和した環構造の場合には、直鎖状の炭素原子数１〜５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１〜４のアルコキシ基及び直鎖状の炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましい。ネマチック相を安定化させるためには炭素原子及び存在する場合酸素原子の合計が５以下であることが好ましく、直鎖状であることが好ましい。
【０３２２】
アルケニル基としては、式（Ｒ１）から式（Ｒ５）のいずれかで表される基から選ばれることが好ましい（各式中の黒点は結合手を表す。）。
【０３２３】
【化７６】
0006699799.tif 000077
【０３２４】
ｎＬ１は応答速度を重視する場合には０が好ましく、ネマチック相の上限温度を改善するためには２又は３が好ましく、これらのバランスをとるためには１が好ましい。また、組成物として求められる特性を満たすためには異なる値の化合物を組み合わせることが好ましい。
【０３２５】
ＡＬ１、ＡＬ２及びＡＬ３はΔｎを大きくすることが求められる場合には芳香族であることが好ましく、応答速度を改善するためには脂肪族であることが好ましく、それぞれ独立してトランス−１，４−シクロへキシレン基、１，４−フェニレン基、２−フルオロ−１，４−フェニレン基、３−フルオロ−１，４−フェニレン基、３，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキセニレン基、１，４−ビシクロ［２．２．２］オクチレン基、ピペリジン−１，４−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基を表すことが好ましく、下記の構造：
【０３２６】
【化７７】
0006699799.tif 000078
【０３２７】
を表すことがより好ましく、トランス−１，４−シクロへキシレン基又は１，４−フェニレン基を表すことがより好ましい。
【０３２８】
ＺＬ１及びＺＬ２は応答速度を重視する場合には単結合であることが好ましい。
【０３２９】
一般式（Ｌ）で表される化合物は分子内のハロゲン原子数が０個又は１個であることが好ましい。
【０３３０】
一般式（Ｌ）で表される化合物は一般式（Ｌ−１）〜（Ｌ−７）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
【０３３１】
一般式（Ｌ−１）で表される化合物は下記の化合物である。
【０３３２】
【化７８】
0006699799.tif 000079
【０３３３】
（式中、ＲＬ１１及びＲＬ１２はそれぞれ独立して、一般式（Ｌ）におけるＲＬ１及びＲＬ２と同じ意味を表す。）
【０３３４】
ＲＬ１１及びＲＬ１２は、直鎖状の炭素原子数１〜５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１〜４のアルコキシ基及び直鎖状の炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましい。
【０３３５】
一般式（Ｌ−１）で表される化合物は単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０３３６】
好ましい含有量の下限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、１質量％以上であり、２質量％以上であり、３質量％以上であり、５質量％以上であり、７質量％以上であり、１０質量％以上であり、１５質量％以上であり、２０質量％以上であり、２５質量％以上であり、３０質量％以上であり、３５質量％以上であり、４０質量％以上であり、４５質量％以上であり、５０質量％以上であり、５５質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、９５質量％以下であり、９０質量％以下であり、８５質量％以下であり、８０質量％以下であり、７５質量％以下であり、７０質量％以下であり、６５質量％以下であり、６０質量％以下であり、５５質量％以下であり、５０質量％以下であり、４５質量％以下であり、４０質量％以下であり、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２５質量％以下である。
【０３３７】
本実施形態の組成物の粘度を低く保ち、応答速度が速い組成物が必要な場合は上記の下限値が高く上限値が高いことが好ましい。さらに、本実施形態の組成物のＴｎｉを高く保ち、温度安定性の良い組成物が必要な場合は上記の下限値が中庸で上限値が中庸であることが好ましい。また、駆動電圧を低く保つために誘電率異方性を大きくしたいときは、上記の下限値が低く上限値が低いことが好ましい。
【０３３８】
一般式（Ｌ−１）で表される化合物は一般式（Ｌ−１−１）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
【０３３９】
【化７９】
0006699799.tif 000080
【０３４０】
（式中ＲＬ１２は一般式（Ｌ−１）における意味と同じ意味を表す。）
【０３４１】
一般式（Ｌ−１−１）で表される化合物は、式（Ｌ−１−１．１）から式（Ｌ−１−１．３）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（Ｌ−１−１．２）又は式（Ｌ−１−１．３）で表される化合物であることが好ましく、特に、式（Ｌ−１−１．３）で表される化合物であることが好ましい。
【０３４２】
【化８０】
0006699799.tif 000081
【０３４３】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｌ−１−１．３）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、２質量％以上であり、３質量％以上であり、５質量％以上であり、７質量％以上であり、１０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、２０質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下であり、１０質量％以下であり、８質量％以下であり、７質量％以下であり、６質量％以下であり、５質量％以下であり、３質量％以下である。
【０３４４】
一般式（Ｌ−１）で表される化合物は一般式（Ｌ−１−２）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
【０３４５】
【化８１】
0006699799.tif 000082
【０３４６】
（式中ＲＬ１２は一般式（Ｌ−１）における意味と同じ意味を表す。）
【０３４７】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｌ−１−２）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上であり、２３質量％以上であり、２５質量％以上であり、２７質量％以上であり、３０質量％以上であり、３５質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、６０質量％以下であり、５５質量％以下であり、５０質量％以下であり、４５質量％以下であり、４２質量％以下であり、４０質量％以下であり、３８質量％以下であり、３５質量％以下であり、３３質量％以下であり、３０質量％以下である。
【０３４８】
さらに、一般式（Ｌ−１−２）で表される化合物は、式（Ｌ−１−２．１）から式（Ｌ−１−２．４）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（Ｌ−１−２．２）から式（Ｌ−１−２．４）で表される化合物であることが好ましい。特に、式（Ｌ−１−２．２）で表される化合物は本実施形態の組成物の応答速度を特に改善するため好ましい。また、応答速度よりも高いＴｎｉを求めるときは、式（Ｌ−１−２．３）又は式（Ｌ−１−２．４）で表される化合物を用いることが好ましい。式（Ｌ−１−２．３）及び式（Ｌ−１−２．４）で表される化合物の含有量は、低温での溶解度を良くするために３０質量％以上にすることは好ましくない。
【０３４９】
【化８２】
0006699799.tif 000083
【０３５０】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｌ−１−２．２）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、１０質量％以上であり、１５質量％以上であり、１８質量％以上であり、２０質量％以上であり、２３質量％以上であり、２５質量％以上であり、２７質量％以上であり、３０質量％以上であり、３３質量％以上であり、３５質量％以上であり、３８質量％以上であり、４０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、６０質量％以下であり、５５質量％以下であり、５０質量％以下であり、４５質量％以下であり、４３質量％以下であり、４０質量％以下であり、３８質量％以下であり、３５質量％以下であり、３２質量％以下であり、３０質量％以下であり、２７質量％以下であり、２５質量％以下であり、２２質量％以下である。
【０３５１】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｌ−１−１．３）で表される化合物及び式（Ｌ−１−２．２）で表される化合物の合計の好ましい含有量の下限値は、１０質量％以上であり、１５質量％以上であり、２０質量％以上であり、２５質量％以上であり、２７質量％以上であり、３０質量％以上であり、３５質量％以上であり、４０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、６０質量％以下であり、５５質量％以下であり、５０質量％以下であり、４５質量％以下であり、４３質量％以下であり、４０質量％以下であり、３８質量％以下であり、３５質量％以下であり、３２質量％以下であり、３０質量％以下であり、２７質量％以下であり、２５質量％以下であり、２２質量％以下である。
【０３５２】
一般式（Ｌ−１）で表される化合物は一般式（Ｌ−１−３）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
【０３５３】
【化８３】
0006699799.tif 000084
【０３５４】
（式中ＲＬ１３及びＲＬ１４はそれぞれ独立して炭素原子数１〜８のアルキル基又は炭素原子数１〜８のアルコキシ基を表す。）
【０３５５】
ＲＬ１３及びＲＬ１４は、直鎖状の炭素原子数１〜５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１〜４のアルコキシ基及び直鎖状の炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましい。
【０３５６】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｌ−１−３）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上であり、２３質量％以上であり、２５質量％以上であり、３０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、６０質量％以下であり、５５質量％以下であり、５０質量％以下であり、４５質量％以下であり、４０質量％以下であり、３７質量％以下であり、３５質量％以下であり、３３質量％以下であり、３０質量％以下であり、２７質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１７質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下であり、１０質量％以下である。
【０３５７】
さらに、一般式（Ｌ−１−３）で表される化合物は、式（Ｌ−１−３．１）から式（Ｌ−１−３．１３）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（Ｌ−１−３．１）、式（Ｌ−１−３．３）又は式（Ｌ−１−３．４）で表される化合物であることが好ましい。特に、式（Ｌ−１−３．１）で表される化合物は本実施形態の組成物の応答速度を特に改善するため好ましい。また、応答速度よりも高いＴｎｉを求めるときは、式（Ｌ−１−３．３）、式（Ｌ−１−３．４）、式（Ｌ−１−３．１１）及び式（Ｌ−１−３．１２）で表される化合物を用いることが好ましい。式（Ｌ−１−３．３）、式（Ｌ−１−３．４）、式（Ｌ−１−３．１１）及び式（Ｌ−１−３．１２）で表される化合物の合計の含有量は、低温での溶解度を良くするために２０％以上にすることは好ましくない。
【０３５８】
【化８４】
0006699799.tif 000085
【０３５９】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｌ−１−３．１）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、２質量％以上であり、３質量％以上であり、５質量％以上であり、７質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１８質量％以上であり、２０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、２０質量％以下であり、１７質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下であり、１０質量％以下であり、８質量％以下であり、７質量％以下であり、６質量％以下である。
【０３６０】
一般式（Ｌ−１）で表される化合物は一般式（Ｌ−１−４）及び／又は（Ｌ−１−５）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
【０３６１】
【化８５】
0006699799.tif 000086
【０３６２】
（式中ＲＬ１５及びＲＬ１６はそれぞれ独立して炭素原子数１〜８のアルキル基又は炭素原子数１〜８のアルコキシ基を表す。）
【０３６３】
ＲＬ１５及びＲＬ１６は、直鎖状の炭素原子数１〜５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１〜４のアルコキシ基及び直鎖状の炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましい。
【０３６４】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｌ−１−４）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１７質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下であり、１０質量％以下である。
【０３６５】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｌ−１−５）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１７質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下であり、１０質量％以下である。
【０３６６】
さらに、一般式（Ｌ−１−４）及び（Ｌ−１−５）で表される化合物は、式（Ｌ−１−４．１）から式（Ｌ−１−４．３）及び式（Ｌ−１−５．１）から式（Ｌ−１−５．３）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（Ｌ−１−４．２）又は式（Ｌ−１−５．２）で表される化合物であることが好ましい。
【０３６７】
【化８６】
0006699799.tif 000087
【０３６８】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｌ−１−４．２）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、２質量％以上であり、３質量％以上であり、５質量％以上であり、７質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１８質量％以上であり、２０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、２０質量％以下であり、１７質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下であり、１０質量％以下であり、８質量％以下であり、７質量％以下であり、６質量％以下である。
【０３６９】
式（Ｌ−１−１．３）、式（Ｌ−１−２．２）、式（Ｌ−１−３．１）、式（Ｌ−１−３．３）、式（Ｌ−１−３．４）、式（Ｌ−１−３．１１）及び式（Ｌ−１−３．１２）で表される化合物から選ばれる２種以上の化合物を組み合わせることが好ましく、式（Ｌ−１−１．３）、式（Ｌ−１−２．２）、式（Ｌ−１−３．１）、式（Ｌ−１−３．３）、式（Ｌ−１−３．４）及び式（Ｌ−１−４．２）で表される化合物から選ばれる２種以上の化合物を組み合わせることが好ましい。これら化合物の合計の含有量の好ましい含有量の下限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、１質量％以上であり、２質量％以上であり、３質量％以上であり、５質量％以上であり、７質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１８質量％以上であり、２０質量％以上であり、２３質量％以上であり、２５質量％以上であり、２７質量％以上であり、３０質量％以上であり、３３質量％以上であり、３５質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、８０質量％以下であり、７０質量％以下であり、６０質量％以下であり、５０質量％以下であり、４５質量％以下であり、４０質量％以下であり、３７質量％以下であり、３５質量％以下であり、３３質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下である。
【０３７０】
組成物の信頼性を重視する場合には、式（Ｌ−１−３．１）、式（Ｌ−１−３．３）及び式（Ｌ−１−３．４））で表される化合物から選ばれる２種以上の化合物を組み合わせることが好ましく、組成物の応答速度を重視する場合には、式（Ｌ−１−１．３）、式（Ｌ−１−２．２）で表される化合物から選ばれる２種以上の化合物を組み合わせることが好ましい。
【０３７１】
一般式（Ｌ−１）で表される化合物は一般式（Ｌ−１−６）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
【０３７２】
【化８７】
0006699799.tif 000088
【０３７３】
（式中ＲＬ１７及びＲＬ１８はそれぞれ独立してメチル基又は水素原子を表す。）
【０３７４】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｌ−１−６）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上であり、２３質量％以上であり、２５質量％以上であり、２７質量％以上であり、３０質量％以上であり、３５質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、６０質量％以下であり、５５質量％以下であり、５０質量％以下であり、４５質量％以下であり、４２質量％以下であり、４０質量％以下であり、３８質量％以下であり、３５質量％以下であり、３３質量％以下であり、３０質量％以下である。
【０３７５】
さらに、一般式（Ｌ−１−６）で表される化合物は、式（Ｌ−１−６．１）から式（Ｌ−１−６．３）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
【０３７６】
【化８８】
0006699799.tif 000089
【０３７７】
一般式（Ｌ−２）で表される化合物は下記の化合物である。
【０３７８】
【化８９】
0006699799.tif 000090
【０３７９】
（式中、ＲＬ２１及びＲＬ２２はそれぞれ独立して、一般式（Ｌ）におけるＲＬ１及びＲＬ２と同じ意味を表す。）
【０３８０】
ＲＬ２１は炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、ＲＬ２２は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましい。
【０３８１】
一般式（Ｌ−１）で表される化合物は単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０３８２】
低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、反対に、応答速度を重視する場合は含有量を少なめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。
【０３８３】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｌ−２）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、２質量％以上であり、３質量％以上であり、５質量％以上であり、７質量％以上であり、１０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、２０質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下であり、１０質量％以下であり、８質量％以下であり、７質量％以下であり、６質量％以下であり、５質量％以下であり、３質量％以下である。
【０３８４】
さらに、一般式（Ｌ−２）で表される化合物は、式（Ｌ−２．１）から式（Ｌ−２．６）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（Ｌ−２．１）、式（Ｌ−２．３）、式（Ｌ−２．４）及び式（Ｌ−２．６）で表される化合物であることが好ましい。
【０３８５】
【化９０】
0006699799.tif 000091
【０３８６】
一般式（Ｌ−３）で表される化合物は下記の化合物である。
【０３８７】
【化９１】
0006699799.tif 000092
【０３８８】
（式中、ＲＬ３１及びＲＬ３２はそれぞれ独立して、一般式（Ｌ）におけるＲＬ１及びＲＬ２と同じ意味を表す。）
【０３８９】
ＲＬ３１及びＲＬ３２はそれぞれ独立して炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましい。
【０３９０】
一般式（Ｌ−３）で表される化合物は単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０３９１】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｌ−３）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、２質量％以上であり、３質量％以上であり、５質量％以上であり、７質量％以上であり、１０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、２０質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下であり、１０質量％以下であり、８質量％以下であり、７質量％以下であり、６質量％以下であり、５質量％以下であり、３質量％以下である。
【０３９２】
高い複屈折率を得る場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、反対に、高いＴｎｉを重視する場合は含有量を少なめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。
【０３９３】
さらに、一般式（Ｌ−３）で表される化合物は、式（Ｌ−３．１）から式（Ｌ−３．７）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（Ｌ−３．２）から式（Ｌ−３．７）で表される化合物であることが好ましい。
【０３９４】
【化９２】
0006699799.tif 000093
【０３９５】
一般式（Ｌ−４）で表される化合物は下記の化合物である。
【０３９６】
【化９３】
0006699799.tif 000094
【０３９７】
（式中、ＲＬ４１及びＲＬ４２はそれぞれ独立して、一般式（Ｌ）におけるＲＬ１及びＲＬ２と同じ意味を表す。）
【０３９８】
ＲＬ４１は炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、ＲＬ４２は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましい。）
【０３９９】
一般式（Ｌ−４）で表される化合物は単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０４００】
本実施形態の組成物において、一般式（Ｌ−４）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。
【０４０１】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｌ−４）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、２質量％以上であり、３質量％以上であり、５質量％以上であり、７質量％以上であり、１０質量％以上であり、１４質量％以上であり、１６質量％以上であり、２０質量％以上であり、２３質量％以上であり、２６質量％以上であり、３０質量％以上であり、３５質量％以上であり、４０質量％以上である。本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｌ−４）で表される化合物の好ましい含有量の上限値は、５０質量％以下であり、４０質量％以下であり、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２０質量％以下であり、１５質量％以下であり、１０質量％以下であり、５質量％以下である。
【０４０２】
一般式（Ｌ−４）で表される化合物は、例えば式（Ｌ−４．１）から式（Ｌ−４．３）で表される化合物であることが好ましい。
【０４０３】
【化９４】
0006699799.tif 000095
【０４０４】
低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて、式（Ｌ−４．１）で表される化合物を含有していても、式（Ｌ−４．２）で表される化合物を含有していても、式（Ｌ−４．１）で表される化合物と式（Ｌ−４．２）で表される化合物との両方を含有していてもよいし、式（Ｌ−４．１）から式（Ｌ−４．３）で表される化合物を全て含んでいてもよい。
【０４０５】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｌ−４．１）又は式（Ｌ−４．２）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、３質量％以上であり、５質量％以上であり、７質量％以上であり、９質量％以上であり、１１質量％以上であり、１２質量％以上であり、１３質量％以上であり、１８質量％以上であり、２１質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、４５質量％以下であり、４０質量％以下であり、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下であり、１０質量％以下であり、８質量％以下である。
【０４０６】
式（Ｌ−４．１）で表される化合物と式（Ｌ−４．２）で表される化合物との両方を含有する場合は、本実施形態の組成物の総量に対しての両化合物の好ましい含有量の下限値は、１５質量％以上であり、１９質量％以上であり、２４質量％以上であり、３０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、４５質量％以下であり、４０質量％以下であり、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下である。
【０４０７】
一般式（Ｌ−４）で表される化合物は、例えば式（Ｌ−４．４）から式（Ｌ−４．６）で表される化合物であることが好ましく、式（Ｌ−４．４）で表される化合物であることが好ましい。
【０４０８】
【化９５】
0006699799.tif 000096
【０４０９】
低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて、式（Ｌ−４．４）で表される化合物を含有していても、式（Ｌ−４．５）で表される化合物を含有していても、式（Ｌ−４．４）で表される化合物と式（Ｌ−４．５）で表される化合物との両方を含有していてもよい。
【０４１０】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｌ−４．４）又は式（Ｌ−４．５）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、３質量％以上であり、５質量％以上であり、７質量％以上であり、９質量％以上であり、１１質量％以上であり、１２質量％以上であり、１３質量％以上であり、１８質量％以上であり、２１質量％以上である。好ましい上限値は、４５質量％以下であり、４０質量％以下であり、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下であり、１０質量％以下であり、８質量％以下である。
【０４１１】
式（Ｌ−４．４）で表される化合物と式（Ｌ−４．５）で表される化合物との両方を含有する場合は、本実施形態の組成物の総量に対しての両化合物の好ましい含有量の下限値は、１５質量％以上であり、１９質量％以上であり、２４質量％以上であり、３０質量％以上であり、好ましい上限値は、４５質量％以下であり、４０質量％以下であり、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下である。
【０４１２】
一般式（Ｌ−４）で表される化合物は、式（Ｌ−４．７）から式（Ｌ−４．１０）で表される化合物であることが好ましく、特に、式（Ｌ−４．９）で表される化合物が好ましい。
【０４１３】
【化９６】
0006699799.tif 000097
【０４１４】
一般式（Ｌ−５）で表される化合物は下記の化合物である。
【０４１５】
【化９７】
0006699799.tif 000098
【０４１６】
（式中、ＲＬ５１及びＲＬ５２はそれぞれ独立して、一般式（Ｌ）におけるＲＬ１及びＲＬ２と同じ意味を表す。）
【０４１７】
ＲＬ５１は炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、ＲＬ５２は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましい。
【０４１８】
一般式（Ｌ−５）で表される化合物は単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０４１９】
本実施形態の組成物において、一般式（Ｌ−５）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。
【０４２０】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｌ−５）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、２質量％以上であり、３質量％以上であり、５質量％以上であり、７質量％以上であり、１０質量％以上であり、１４質量％以上であり、１６質量％以上であり、２０質量％以上であり、２３質量％以上であり、２６質量％以上であり、３０質量％以上であり、３５質量％以上であり、４０質量％以上である。本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｌ−５）で表される化合物の好ましい含有量の上限値は、５０質量％以下であり、４０質量％以下であり、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２０質量％以下であり、１５質量％以下であり、１０質量％以下であり、５質量％以下である
【０４２１】
一般式（Ｌ−５）で表される化合物は、式（Ｌ−５．１）又は式（Ｌ−５．２）で表される化合物であることが好ましく、特に、式（Ｌ−５．１）で表される化合物であることが好ましい。
【０４２２】
【化９８】
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【０４２３】
本実施形態の組成物の総量に対してのこれら化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、２質量％以上であり、３質量％以上であり、５質量％以上であり、７質量％以上である。これら化合物の好ましい含有量の上限値は、２０質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下であり、１０質量％以下であり、９質量％以下である。
【０４２４】
一般式（Ｌ−５）で表される化合物は、式（Ｌ−５．３）又は式（Ｌ−５．４）で表される化合物であることが好ましい。
【０４２５】
【化９９】
0006699799.tif 000100
【０４２６】
本実施形態の組成物の総量に対してのこれら化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、２質量％以上であり、３質量％以上であり、５質量％以上であり、７質量％以上である。これら化合物の好ましい含有量の上限値は、２０質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下であり、１０質量％以下であり、９質量％以下である。
【０４２７】
一般式（Ｌ−５）で表される化合物は、式（Ｌ−５．５）から式（Ｌ−５．７）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、特に式（Ｌ−５．７）で表される化合物であることが好ましい。
【０４２８】
【化１００】
0006699799.tif 000101
【０４２９】
本実施形態の組成物の総量に対してのこれら化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、２質量％以上であり、３質量％以上であり、５質量％以上であり、７質量％以上である。これら化合物の好ましい含有量の上限値は、２０質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下であり、１０質量％以下であり、９質量％以下である。
【０４３０】
一般式（Ｌ−６）で表される化合物は下記の化合物である。
【０４３１】
【化１０１】
0006699799.tif 000102
【０４３２】
（式中、ＲＬ６１及びＲＬ６２はそれぞれ独立して、一般式（Ｌ）におけるＲＬ１及びＲＬ２と同じ意味を表し、ＸＬ６１及びＸＬ６２はそれぞれ独立して水素原子又はフッ素原子を表す。）
【０４３３】
ＲＬ６１及びＲＬ６２はそれぞれ独立して炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、ＸＬ６１及びＸＬ６２のうち一方がフッ素原子、他方が水素原子であることが好ましい。
【０４３４】
一般式（Ｌ−６）で表される化合物は単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０４３５】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｌ−６）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、２質量％以上であり、３質量％以上であり、５質量％以上であり、７質量％以上であり、１０質量％以上であり、１４質量％以上であり、１６質量％以上であり、２０質量％以上であり、２３質量％以上であり、２６質量％以上であり、３０質量％以上であり、３５質量％以上であり、４０質量％以上である。本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｌ−６）で表される化合物の好ましい含有量の上限値は、５０質量％以下であり、４０質量％以下であり、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２０質量％以下であり、１５質量％以下であり、１０質量％以下であり、５質量％以下である。Δｎを大きくすることに重点を置く場合には含有量を多くした方が好ましく、低温での析出に重点を置いた場合には含有量は少ない方が好ましい。
【０４３６】
一般式（Ｌ−６）で表される化合物は、式（Ｌ−６．１）から式（Ｌ−６．９）で表される化合物であることが好ましい。
【０４３７】
【化１０２】
0006699799.tif 000103
【０４３８】
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、これらの化合物の中から１種〜３種類含有することが好ましく、１種〜４種類含有することがさらに好ましい。また、選ぶ化合物の分子量分布が広いことも溶解性に有効であるため、例えば、式（Ｌ−６．１）又は（Ｌ−６．２）で表される化合物から１種類、式（Ｌ−６．４）又は（Ｌ−６．５）で表される化合物から１種類、式（Ｌ−６．６）又は式（Ｌ−６．７）で表される化合物から１種類、式（Ｌ−６．８）又は（Ｌ−６．９）で表される化合物から１種類の化合物を選び、これらを適宜組み合わせることが好ましい。その中でも、式（Ｌ−６．１）、式（Ｌ−６．３）式（Ｌ−６．４）、式（Ｌ−６．６）及び式（Ｌ−６．９）で表される化合物を含むことが好ましい。
【０４３９】
さらに、一般式（Ｌ−６）で表される化合物は、例えば式（Ｌ−６．１０）から式（Ｌ−６．１７）で表される化合物であることが好ましく、その中でも、式（Ｌ−６．１１）で表される化合物であることが好ましい。
【０４４０】
【化１０３】
0006699799.tif 000104
【０４４１】
本実施形態の組成物の総量に対してのこれら化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、２質量％以上であり、３質量％以上であり、５質量％以上であり、７質量％以上である。これら化合物の好ましい含有量の上限値は、２０質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下であり、１０質量％以下であり、９質量％以下である。
【０４４２】
一般式（Ｌ−７）で表される化合物は下記の化合物である。
【０４４３】
【化１０４】
0006699799.tif 000105
【０４４４】
（式中、ＲＬ７１及びＲＬ７２はそれぞれ独立して一般式（Ｌ）におけるＲＬ１及びＲＬ２と同じ意味を表し、ＡＬ７１及びＡＬ７２はそれぞれ独立して一般式（Ｌ）におけるＡＬ２及びＡＬ３と同じ意味を表すが、ＡＬ７１及びＡＬ７２上の水素原子はそれぞれ独立してフッ素原子によって置換されていてもよく、ＺＬ７１は一般式（Ｌ）におけるＺＬ２と同じ意味を表し、ＸＬ７１及びＸＬ７２はそれぞれ独立してフッ素原子又は水素原子を表す。）
【０４４５】
式中、ＲＬ７１及びＲＬ７２はそれぞれ独立して炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましく、ＡＬ７１及びＡＬ７２はそれぞれ独立して１,４-シクロヘキシレン基又は１,４-フェニレン基が好ましく、ＡＬ７１及びＡＬ７２上の水素原子はそれぞれ独立してフッ素原子によって置換されていてもよく、ＺＬ７１は単結合又はＣＯＯ−が好ましく、単結合が好ましく、ＸＬ７１及びＸＬ７２は水素原子が好ましい。
【０４４６】
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて組み合わせる。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類である。
【０４４７】
本実施形態の組成物において、一般式（Ｌ−７）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。
【０４４８】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｌ−７）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、２質量％以上であり、３質量％以上であり、５質量％以上であり、７質量％以上であり、１０質量％以上であり、１４質量％以上であり、１６質量％以上であり、２０質量％以上である。本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｌ−７）で表される化合物の好ましい含有量の上限値は、３０質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１０質量％以下であり、５質量％以下である。
【０４４９】
本実施形態の組成物が高いＴｎｉの実施形態が望まれる場合は式（Ｌ−７）で表される化合物の含有量を多めにすることが好ましく、低粘度の実施形態が望まれる場合は含有量を少なめにすることが好ましい。
【０４５０】
さらに、一般式（Ｌ−７）で表される化合物は、式（Ｌ−７．１）から式（Ｌ−７．４）で表される化合物であることが好ましく、式（Ｌ−７．２）で表される化合物であることが好ましい。
【０４５１】
【化１０５】
0006699799.tif 000106
【０４５２】
さらに、一般式（Ｌ−７）で表される化合物は、式（Ｌ−７．１１）から式（Ｌ−７．１３）で表される化合物であることが好ましく、式（Ｌ−７．１１）で表される化合物であることが好ましい。
【０４５３】
【化１０６】
0006699799.tif 000107
【０４５４】
さらに、一般式（Ｌ−７）で表される化合物は、式（Ｌ−７．２１）から式（Ｌ−７．２３）で表される化合物である。式（Ｌ−７．２１）で表される化合物であることが好ましい。
【０４５５】
【化１０７】
0006699799.tif 000108
【０４５６】
さらに、一般式（Ｌ−７）で表される化合物は、式（Ｌ−７．３１）から式（Ｌ−７．３４）で表される化合物であることが好ましく、式（Ｌ−７．３１）又は／及び式（Ｌ−７．３２）で表される化合物であることが好ましい。
【０４５７】
【化１０８】
0006699799.tif 000109
【０４５８】
さらに、一般式（Ｌ−７）で表される化合物は、式（Ｌ−７．４１）から式（Ｌ−７．４４）で表される化合物であることが好ましく、式（Ｌ−７．４１）又は／及び式（Ｌ−７．４２）で表される化合物であることが好ましい。
【０４５９】
【化１０９】
0006699799.tif 000110
【０４６０】
さらに、一般式（Ｌ−７）で表される化合物は、式（Ｌ−７．５１）から式（Ｌ−７．５３）で表される化合物であることが好ましい。
【０４６１】
【化１１０】
0006699799.tif 000111
【０４６２】
液晶組成物は、化合物（ｉ）とは異なる他の自発配向性添加剤（ｉｉ）を更に含有してもよい。化合物（ｉ）と、該化合物（ｉ）とは異なる他の自発配向性添加剤（ｉｉ）を組み合わせて用いることで、液晶組成物に対する相溶性が向上する。
【０４６３】
化合物（ｉ）とは異なる他の自発配向性添加剤（ｉｉ）として、例えば、以下の一般式（ｉｉａ）：
【０４６４】
【化１１１】
0006699799.tif 000112
【０４６５】
で表される部分構造を有する化合物（以下「化合物（ｉｉａ）」ともいう）を１種又は２種以上含有することが好ましい。
【０４６６】
式（ｉｉａ）中、Ｚｉｉａ１は、単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、又は炭素原子数２〜２０のアルキレン基（該アルキレン基は直鎖状でも分岐状でもよい）を表し、このアルキレン基中の１個又は隣接しない２個以上の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されてもよく、Ａｉｉａ１は、２価の６員環芳香族基、２価の６員環複素芳香族基、２価の６員環脂肪族基、２価の６員環複素脂肪族基又は単結合を表し、これらの環構造中の水素原子はハロゲン原子で置換されていてもよく、Ｚｉｉａ１及びＡｉｉａ１がそれぞれ複数存在する場合は、それぞれ互いに同一であっても異なっていてもよく、ｍｉｉａ１は、１〜５の整数を表し、Ｋｉｉａ１は、以下の式（Ｋａ−１）〜式（Ｋａ−８）：
【０４６７】
【化１１２】
0006699799.tif 000113
【０４６８】
【化１１３】
0006699799.tif 000114
【０４６９】
のいずれかで表される構造を表し、左端の黒点は結合手を表す。
【０４７０】
式（Ｋａ−１）〜式（Ｋａ−８）中、ＷＫ１は、メチン基又は窒素原子を表し、ＸＫ１及びＹＫ１は、それぞれ独立して、−ＣＨ２−、酸素原子又は硫黄原子を表し、ＺＫ１は、酸素原子又は硫黄原子を表し、ＵＫ１、ＶＫ１及びＳＫ１は、それぞれ独立して、メチン基又は窒素原子を表すが、［ＵＫ１がメチン基、ＶＫ１がメチン基、ＳＫ１が窒素原子］の組み合わせは除き、左端の黒点は結合手を表す。
【０４７１】
また、化合物（ｉ）とは異なる他の自発配向性添加剤（ｉｉ）として、例えば、以下の一般式（ｉｉｂ）で表される化合物が好ましい。
【０４７２】
【化１１４】
0006699799.tif 000115
【０４７３】
（式中、
Ｒｉｉｂ１はそれぞれ独立して、水素原子、炭素原子数１〜４０の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基、又はＰｉｉｂ１−Ｓｐｉｉｂ１−を表し、該アルキル基中の−ＣＨ２−は酸素原子が直接隣接しないように−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されてもよく、Ａｉｉｂ１は、単結合、２価の６員環芳香族基、２価の６員環複素芳香族基、２価の６員環脂肪族基、又は２価の６員環複素脂肪族基を表し、これらの環構造中の水素原子はハロゲン原子、Ｐｉｉｂ１−Ｓｐｉｉｂ１−、Ｋｉｉｂ１で表される置換基を有する１価の有機基、Ｋｉｉｂ１又はＲｉｉｂ１で置換されていてもよく、Ｚｉｉｂ１は、単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＯＯＣＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ−、−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ（ＣＨ３）―ＣＨ２−、−ＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、又は炭素原子数２〜２０のアルキレン基を表し、このアルキレン基中の１個又は隣接しない２個以上の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されてもよく、Ｋｉｉｂ１は一般式（Ｋｂ−１）〜（Ｋｂ−３）で表される基を表し、ＸＫｂ１及びＹＫｂ１は、それぞれ独立して、−ＣＨ２−、酸素原子又は硫黄原子を表し、ＺＫｂ１は、酸素原子又は硫黄原子を表し、Ｓｉｉｂ１、Ｓｉｉｂ3、Sｉｉｂ４及びＳｉｉｂ５は炭素数１〜６のアルキル基及び、単結合であり、Ｓｉｉｂ2はC、N、及びＳｉを表し、Xｉｉｂ１及びXｉｉｂ２は、ＯＨ、ＮＨ２、ＮＨＲｉｉｂｌ、ＣＨＯ、ＣＯＯＨ、ＳＨ、Ｒｉｉｂ１又はPｉｉｂ１を表すが少なくとも何れか一つはOＨ、ＮＨ２、ＮＨＲｉｉｂｌ、ＣＨＯ、ＣＯＯＨ、ＳＨを表し、Ｐｉｉｂ１は重合性基を表し、Ｓｐｉｉｂ１はスペーサー基又は単結合を表し、ｍｉｉｂ１は、１〜４の整数を表し、ｎｉｉｂは０又は１を表し、一般式（ｉｉｂ）中にＲｉｉｂ１、Ａｉｉｂ１、Ｚｉｉｂ１、Ｋｉｉｂ１、ＸＫｂ１、ＹＫｂ１、ＺＫｂ１、Ｓｉｉｂ１、Ｓｉｉｂ2、Ｓｉｉｂ3、Ｓｉｉｂ4、Ｓｉｉｂ５、Ｐｉｉｂ１、Ｓｐｉｉｂ１及びｎｉｉｂが複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていても良い。）
【０４７４】
【化１１５】
0006699799.tif 000116
【０４７５】
式（ｉｉｂ）で表される重合性化合物が一般式（Ｋｂ−１）〜（Ｋｂ−３）で表される部分構造を有することにより、液晶分子の配向のみならず、液晶組成物の保存性安定性を確保できる。
【０４７６】
式（ｉｉｂ）中のＫｉｉｂ１は液晶組成物を垂直配向させるために重要な構造であり、極性基と重合基が隣接していることにより良好な配向性が得られ、また液晶組成物への良好な溶解性を示す。また、信頼性を重視する場合は、Ａｉｉｂｌ部に重合基を導入することで容易に多官能化が図れ、強固なポリマーを構築することができる。液晶の配向性を重要視する場合は、一般式（Ｋｂ−１）が好ましく、液晶化合物への溶解性を重要視する場合は、一般式（Ｋｂ−２）及び一般式（Ｋｂ−３）が好ましい。Ｓｉｉｂ１、Ｓｉｉｂ3、Sｉｉｂ４及びＳｉｉｂ５は炭素数１〜３のアルキル基及び、単結合が好ましく、Ｓｉｉｂ２は炭素が好ましく、ＸＫｂ１及びＹＫｂ１は、酸素原子が好ましい。ＺＫｂ１は、酸素原子又は硫黄原子を表すがＶＨＲの観点から、酸素原子が好ましく、Xｉｉｂ１及びXｉｉｂ２は、−ＯＨ、−ＣＨＯ、−ＣＯＯＨ、−ＳＨ、及び−Pが好ましいが、特にＯＨがより好ましい。ｎｉｉｂは０又は１を表すが、１を表すことが好ましい。
【０４７７】
一般式（Ｋｂ−１）〜（Ｋｂ−３）の好ましい例としては以下の（Kｂ−１−１）〜（Kｂ−１−１０）が挙げられるが、配向性や反応性の点から、式（Kｂ−１−１）、（Kｂ−２−１）、（Kｂ−１−２）〜（Kｂ−１−４）、（Ｋｂ−３−１）及び（Ｋｂ−１−１０）が好ましく、特に好ましくは式（Kｂ−１−１）、（Kｂ−２−１）、（Kｂ−１−３）、及び（Kｂ−１−４）が挙げられる。
【０４７８】
【化１１６】
0006699799.tif 000117
【０４７９】
式（ｉｉｂ）中、Ｐｉｉｂ１はそれぞれ独立して以下の一般式（P−１）〜一般式（P−１４）で表される群より選ばれる置換基を表すことが好ましい。取り扱いの簡便性、反応性の点から、式（P−１）、（P−２）が、さらに好ましい。
【０４８０】
【化１１７】
0006699799.tif 000118
【０４８１】
（式中、右端の黒点は結合手を表す。）
【０４８２】
式（ｉｉｂ）中、Ｓｐｉｉｂ１は、好ましくは炭素原子数１〜１８の直鎖状アルキレン基又は単結合を表し、より好ましくは炭素原子数２〜１５の直鎖状アルキレン基又は単結合を表し、更に好ましくは炭素原子数２〜８の直鎖状アルキレン基又は単結合を表す。
【０４８３】
式（ｉｉｂ）中、Ｚｉｉｂ１は、好ましくは、単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＯＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ−、−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ（ＣＨ３）―ＣＨ２−、−ＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、炭素原子数１〜４０の直鎖状又は分岐状のアルキレン基、又は該アルキレン基中の１個又は隣接しない２個以上の−ＣＨ２−が−Ｏ−で置換された基を表し、より好ましくは、単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ−、−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ（ＣＨ３）―ＣＨ２−、−ＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、炭素原子数１〜１０の直鎖状又は分岐状のアルキレン基、又は該アルキレン基中の１個又は隣接しない２個以上の−ＣＨ２−が−Ｏ−で置換された基を表し、より好ましくは、単結合、炭素原子数２〜１５の直鎖状のアルキレン基、又は該アルキレン基中の１個又は隣接しない２個以上の−ＣＨ２−が−Ｏ−で置換された基を表し、更に好ましくは、単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＯＯＣＯ−、−ＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、又は炭素原子数２のアルキレン基（エチレン基（−ＣＨ２ＣＨ２−））若しくはエチレン基中の−ＣＨ２−の１個が−Ｏ−で置換された基（−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−）、若しくはエチレン基中の−ＣＨ２−の１個が−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−で置換された基（−ＣＨ−ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ−ＣＨ−）である。
【０４８４】
Ｒｉｉｂ１は、好ましくは水素原子、炭素原子数１〜２０の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基、又はＰｉｉｂ１−Ｓｐｉｉｂ１−を表し、該アルキル基中の−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−ＯＣＯ−、又は−ＣＯＯ−、−Ｃ＝Ｃ−で置換されることが良く（ただし−O−は連続にはならない）、より好ましくは、炭素原子数１〜１８の直鎖又は分岐のアルキル基、又はＰｉｉｂ１−Ｓｐｉｉｂ１−を表し、該アルキル基中の−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−ＯＣＯ−で置換（ただし−O−は連続にはならない）されても良い。
【０４８５】
Ａｉｉｂ１は、単結合、又は１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、アントラセン−２，６−ジイル基、フェナントレン−２，７−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、インダン−２，５−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基及び１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基から選択される環構造を表し、該環構造は無置換であるか又は炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素原子数１〜１２のアルコキシ基、炭素原子数１〜１２のハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基若しくはＰｉｉｂ１−Ｓｐｉｉｂ１−で置換されていてもよい基を表すことが好ましい。好ましくは、２価の６員環芳香族基又は２価の６員環脂肪族基を表すが、２価の無置換の６員環芳香族基、２価の無置換の６員環脂肪族基、又はこれらの環構造中の水素原子が炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、ハロゲン原子又はＰｉｉｂ１−Ｓｐｉｉｂ１−で置換された基であることが好ましく、２価の無置換の６員環芳香族基若しくはこの環構造中の水素原子がフッ素原子で置換された基、又は２価の無置換の６員環脂肪族基が好ましく、置換基上の水素原子がハロゲン原子、アルキル基又はアルコキシ基、Ｐｉｉｂ１−Ｓｐｉｉｂ１−によって置換されていても良い１，４−フェニレン基、２，６−ナフタレン基又は１，４−シクロヘキシル基がより好ましい。ｍｉｉｂ１は、好ましくは２〜５の整数を表し、更に好ましくは２〜３の整数を表す。
【０４８６】
Ｐｉｉｂ１は重合性基を表し、（P−１）〜（P−３）、（P−１３）、（Ｐ−１４）のいずれかの置換基が好ましい。
【０４８７】
一般式（ｉ）において、Ｚｉｉｂ１とＫｉｉｂ１中のＳｉｉｂ１との連結部分である「−Ｚｉｉｂ１−Ｓｉｉｂ１−」は、−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−、−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−（ＣＨ２）ｍ−、−ＣＯＯ−（ＣＨ２）ｎ−、−ＯＣＯ−（ＣＨ２）ｎ−を表すことが好ましい（ｎ及びｍは、１〜６の整数を表す。）
【０４８８】
一般式（ｉ）のより具体的な例としては、下記式（ｉｉｂ−１−１）〜（ｉｉｂ−１−２０）に表すがこれに限られたものではない。
【０４８９】
【化１１８】
0006699799.tif 000119
【０４９０】
【化１１９】
0006699799.tif 000120
【０４９１】
【化１２０】
0006699799.tif 000121
【０４９２】
化合物（ｉ）とは異なる他の自発配向性添加剤（ｉｉ）の添加量は、好ましくは０．０１〜５０質量％であるが、その下限値は、液晶分子を更に好適に配向させられる観点から、液晶組成物全量を基準として、好ましくは、０．０１質量％以上、０．１質量％以上、０．５質量％以上、０．７質量％以上、又は１質量％以上である。化合物（ｉｉ）の含有量の上限値は、応答特性に優れる観点から、液晶組成物全量を基準として、好ましくは、５０質量％以下、３０質量％以下、１０質量％以下であり、７質量％以下、５質量％以下、４質量％以下、又は３質量％以下である。上記を踏まえ、さらに好ましくは、０．１質量％以上１．５質量％以下である。
【０４９３】
化合物（ｉ）及び他の自発配向性添加剤（ｉｉ）の添加量の総量は、配向性を大きくすることに重点を置く場合には含有量を多くした方が好ましく、低温での析出に重点を置いた場合には含有量は少ない方が好ましい。好ましくは０．０１〜５０質量％であるが、その下限値は、液晶分子を更に好適に配向させられる観点から、液晶組成物全量を基準として、好ましくは、０．０１質量％以上、０．１質量％以上、０．５質量％以上、０．７質量％以上、又は１質量％以上である。化合物（ｉ）の含有量の上限値は、応答特性に優れる観点から、液晶組成物全量を基準として、好ましくは、５０質量％以下、３０質量％以下、１０質量％以下であり、７質量％以下、５質量％以下、４質量％以下、又は３質量％以下である。上記を踏まえ、さらに好ましくは、０．１質量％以上１．５質量％以下である。
【０４９４】
化合物（ｉ）と、他の自発配向性添加剤（ｉｉ）の添加量の比は、信頼性、配向性を大きくすることに重点を置く場合には含有量を多くした方が好ましく、低温での析出に重点を置いた場合には含有量は少ない方が好ましい。総合的には、２０：１〜１：２０が好ましく１０：１〜１：１０がさらに好ましく、５：１〜１：５が特に好ましい。
【０４９５】
液晶組成物は、重合性化合物を更に含有してもよい。重合性化合物は、液晶組成物に用いられる公知の重合性化合物であってよい。重合性化合物の例としては、一般式（Ｐ）：
【０４９６】
【化１２１】
0006699799.tif 000122
【０４９７】
で表される化合物が挙げられる。
【０４９８】
式（Ｐ）中、
Ｚｐ１は、フッ素原子、シアノ基、水素原子、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素原子数１〜１５のアルキル基、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素原子数１〜１５のアルコキシ基、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素原子数１〜１５のアルケニル基、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素原子数１〜１５のアルケニルオキシ基又は−Ｓｐｐ２−Ｒｐ２を表し、
Ｒｐ１及びＲｐ２は、以下の式（Ｒ−Ｉ）〜式（Ｒ−ＩＸ）：
【０４９９】
【化１２２】
0006699799.tif 000123
【０５００】
（式中、
＊でＳｐｐ１と結合し、
Ｒ２〜Ｒ６は、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数１〜５個のアルキル基又は炭素原子数１〜５個のハロゲン化アルキル基を表し、
Ｗは、単結合、−Ｏ−又はメチレン基を表し、
Ｔは、単結合又は−ＣＯＯ−を表し、
ｐ、ｔ及びｑは、それぞれ独立して、０、１又は２を表す。）
のいずれかを表し、
Ｓｐｐ１及びＳｐｐ２はスペーサー基を表し、
Ｌｐ１及びＬｐ２は、それぞれ独立して、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＨ２−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｃ２Ｈ４−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯＣＨ２−、−ＣＨ２ＯＣＯＯ−、−ＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲａ−、−ＮＲａ−ＣＯ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＲａ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＲａ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＲａ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＲａ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＲａ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＯＯ−ＣＲａ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−ＣＲａ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＲａ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−（ＣＨ２）ｚ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−（ＣＨ２）ｚ−Ｏ−（Ｃ＝Ｏ）−、−Ｏ−（Ｃ＝Ｏ）−（ＣＨ２）ｚ−、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ２）ｚ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−ＣＦ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＦ−、−ＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−又は−Ｃ≡Ｃ−（式中、Ｒａはそれぞれ独立して水素原子又は炭素原子数１〜４のアルキル基を表し、ｚは１〜４の整数を表す。）を表し、
Ｍｐ２は、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、アントラセン−２，６−ジイル基、フェナントレン−２，７−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、インダン−２，５−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基又は単結合を表すが、Ｍｐ２は無置換であるか又は炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素原子数１〜１２のアルコキシ基、炭素原子数１〜１２のハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基若しくは−Ｒｐ１で置換されていてもよく、
Ｍｐ１は、以下の式（ｉ−１１）〜（ｉｘ−１１）：
【０５０１】
【化１２３】
0006699799.tif 000124
【０５０２】
（式中、＊でＳｐｐ１と結合し、＊＊でＬｐ１、Ｌｐ２又はＺｐ１と結合する。）
のいずれかを表し、
Ｍｐ1上の任意の水素原子は炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素原子数１〜１２のアルコキシ基、炭素原子数１〜１２のハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基若しくは−Ｒｐ１で置換されていてもよく、
Ｍｐ３は、以下の式（ｉ−１３）〜（ｉｘ−１３）：
【０５０３】
【化１２４】
0006699799.tif 000125
【０５０４】
（式中、＊でＺｐ１と結合し、＊＊でＬｐ２と結合する。）
のいずれかを表し、
Ｍｐ３上の任意の水素原子は炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素原子数１〜１２のアルコキシ基、炭素原子数１〜１２のハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基若しくは−Ｒｐ１で置換されていてもよく、
ｍｐ２〜ｍｐ４は、それぞれ独立して０、１、２又は３を表し、
ｍｐ１及びｍｐ５は、それぞれ独立して１、２又は３を表し、
Ｚｐ１が複数存在する場合にはそれらは互いに同一であっても異なっていてもよく、Ｒｐ１が複数存在する場合にはそれらは互いに同一であっても異なっていてもよく、Ｒｐ２が複数存在する場合にはそれらは互いに同一であっても異なっていてもよく、Ｓｐｐ１が複数存在する場合にはそれらは互いに同一であっても異なっていてもよく、Ｓｐｐ２が複数存在する場合にはそれらは互いに同一であっても異なっていてもよく、Ｌｐ１が複数存在する場合にはそれらは互いに同一であっても異なっていてもよく、Ｍｐ２が複数存在する場合にはそれらは互いに同一であっても異なっていてもよい。  
一般式（Ｐ）で表される化合物の合計の含有量は、本願の一般式（Ｐ）で表される化合物を含む組成物に対して、０．０５〜１０％含んでいることが好ましく、０．１〜８％含んでいることが好ましく、０．１〜５％含んでいることが好ましく、０．１〜３％含んでいることが好ましく、０．２〜２％含んでいることが好ましく、０．２〜１．３％含んでいることが好ましく、０．２〜１％含んでいることが好ましく、０．２〜０．５６％含んでいることが好ましい。
一般式（Ｐ）で表される化合物の合計の含有量の好ましい下限値は、本願の一般式（Ｐ）で表される化合物を含む組成物に対して、０．０１％であり、０．０３％であり、０．０５％であり、０．０８％であり、０．１％であり、０．１５％であり、０．２％であり、０．２５％であり、０．３％である。
【０５０５】
一般式（Ｐ）で表される化合物の合計の含有量の好ましい上限値は、本願の一般式（Ｐ）で表される化合物を含む組成物に対して、１０％であり、８％であり、５％であり、３％であり、１．５％であり、１．２％であり、１％であり、０．８％であり、０．５％である。
【０５０６】
含有量が少ないと一般式（Ｐ）で表される化合物を加える効果が現れにくく、液晶組成物の配向規制力が弱い又は経時的に弱くなってしまうなどの問題が発生し、多すぎると硬化後に残存する量が多くなる、硬化に時間がかかる、液晶の信頼性が低下する等の問題が生じる。このため、これらのバランスを考慮し含有量を設定する。
【０５０７】
一般式（ｉ）で表される化合物及び一般式（Ｐ）で表される化合物の合計の含有量は、それら化合物を含む組成物に対して、０．０５〜１０％含んでいることが好ましく、０．１〜８％含んでいることが好ましく、０．１〜５％含んでいることが好ましく、０．１〜３％含んでいることが好ましく、０．２〜２％含んでいることが好ましく、０．２〜１．３％含んでいることが好ましく、０．２〜１％含んでいることが好ましく、０．２〜０．５６％含んでいることが好ましい。
【０５０８】
一般式（ｉ）で表される化合物及び一般式（Ｐ）で表される化合物の合計の含有量の好ましい下限値は、それら化合物を含む組成物に対して、０．０１％であり、０．０３％であり、０．０５％であり、０．０８％であり、０．１％であり、０．１５％であり、０．２％であり、０．２５％であり、０．３％である。
【０５０９】
一般式（ｉ）で表される化合物及び一般式（Ｐ）で表される化合物の合計の含有量の好ましい上限値は、それら化合物を含む組成物に対して、１０％であり、８％であり、５％であり、３％であり、１．５％であり、１．２％であり、１％であり、０．８％であり、０．５％である。
【０５１０】
含有量が少ないと一般式（ｉ）で表される化合物及び一般式（Ｐ）で表される化合物を加える効果が現れにくく、液晶組成物の配向規制力が弱い又は経時的に弱くなってしまうなどの問題が発生し、多すぎると硬化後に残存する量が多くなる、硬化に時間がかかる、液晶の信頼性が低下する等の問題が生じる。このため、これらのバランスを考慮し含有量を設定する。
【０５１１】
本発明に係る一般式（Ｐ）で表される化合物の好ましい例として、下記式（Ｐ−１−１）〜式（Ｐ−１−４６）で表される重合性化合物が挙げられる。
【０５１２】
【化１２５】
0006699799.tif 000126
【０５１３】
【化１２６】
0006699799.tif 000127
【０５１４】
【化１２７】
0006699799.tif 000128
【０５１５】
【化１２８】
0006699799.tif 000129
【０５１６】
【化１２９】
0006699799.tif 000130
【０５１７】
（式中、Ｐｐ１１、Ｐｐ１２、Ｓｐｐ１１及びＳｐｐ１２は、一般式（Ｐ−１）におけるＰｐ１１、Ｐｐ１２、Ｓｐｐ１１及びＳｐｐ１２と同じ意味を表す。）
本発明に係る一般式（Ｐ）で表される化合物の好ましい例として、下記式（Ｐ−２−１）〜式（Ｐ−２−１２）で表される重合性化合物が挙げられる。
【０５１８】
【化１３０】
0006699799.tif 000131
【０５１９】
（式中、Ｐｐ２１、Ｐｐ２２、Ｓｐｐ２１及びＳｐｐ２２は、一般式（Ｐ−２）におけるＰｐ２１、Ｐｐ２２、Ｓｐｐ２１及びＳｐｐ２２と同じ意味を表す。）
本発明に係る一般式（Ｐ）で表される化合物の好ましい例として、下記式（Ｐ−３−１）〜式（Ｐ−３−１５）で表される重合性化合物が挙げられる。
【０５２０】
【化１３１】
0006699799.tif 000132
【０５２１】
【化１３２】
0006699799.tif 000133
【０５２２】
（式中、Ｐｐ３１、Ｐｐ３２、Ｓｐｐ３１及びＳｐｐ３２は、一般式（Ｐ−３）におけるＰｐ３１、Ｐｐ３２、Ｓｐｐ３１及びＳｐｐ３２と同じ意味を表す。）
本発明に係る一般式（Ｐ）で表される化合物の好ましい例として、下記式（Ｐ−４−１）〜式（Ｐ−４−１５）で表される重合性化合物が挙げられる。
【０５２３】
【化１３３】
0006699799.tif 000134
【０５２４】
【化１３４】
0006699799.tif 000135
【０５２５】
【化１３５】
0006699799.tif 000136
【０５２６】
【化１３６】
0006699799.tif 000137
【０５２７】
（式中、Ｐｐ４１、Ｐｐ４２、Ｓｐｐ４１及びＳｐｐ４２は、一般式（Ｐ−４）におけるＰｐ４１、Ｐｐ４２、Ｓｐｐ４１及びＳｐｐ４２と同じ意味を表す。）
本発明に係る一般式（Ｐ）で表される化合物の好ましい例として、下記式（Ｐ−１−１）〜式（Ｐ−１−４６）で表される重合性化合物が挙げられる。
【０５２８】
本発明に係る一般式（Ｉ）で表される重合性モノマーの好適な化合物としては、以下の式ＲＭ−１〜ＲＭ−７５−６が挙げられる。
【０５２９】
【化１３７】
0006699799.tif 000138
【０５３０】
本実施形態の液晶組成物が化合物（ｉ）に加えて重合性化合物を更に含有する場合、液晶分子のプレチルト角を好適に形成できる。
【０５３１】
本実施形態の組成物は、分子内に過酸（−ＣＯ−ＯＯ−）構造等の酸素原子同士が結合した構造を持つ化合物を含有しないことが好ましい。
【０５３２】
組成物の信頼性及び長期安定性を重視する場合、カルボニル基を有する化合物の含有量を組成物の総質量に対して、５質量％以下とすることが好ましく、３質量％以下とすることがより好ましく、１質量％以下とすることが更に好ましく、実質的に含有しないことが最も好ましい。
【０５３３】
ＵＶ照射による安定性を重視する場合、塩素原子が置換している化合物の含有量を組成物の総質量に対して、１５質量％以下とすることが好ましく、１０質量％以下とすることが好ましく、８質量％以下とすることが好ましく、５質量％以下とすることがより好ましく、３質量％以下とすることが好ましく、実質的に含有しないことが更に好ましい。
【０５３４】
分子内の環構造がすべて６員環である化合物の含有量を多くすることが好ましく、分子内の環構造がすべて６員環である化合物の含有量を組成物の総質量に対して、８０質量％以上とすることが好ましく、９０質量％以上とすることがより好ましく、９５質量％以上とすることが更に好ましく、実質的に分子内の環構造がすべて６員環である化合物のみで組成物を構成することが最も好ましい。
【０５３５】
組成物の酸化による劣化を抑えるためには、環構造としてシクロヘキセニレン基を有する化合物の含有量を少なくすることが好ましく、シクロヘキセニレン基を有する化合物の含有量を組成物の総質量に対して、１０質量％以下とすることが好ましく、８質量％以下とすることが好ましく、５質量％以下とすることがより好ましく、３質量％以下とすることが好ましく、実質的に含有しないことが更に好ましい。
【０５３６】
粘度の改善及びＴｎｉの改善を重視する場合には、水素原子がハロゲンに置換されていてもよい２−メチルベンゼン−１，４−ジイル基を分子内に持つ化合物の含有量を少なくすることが好ましく、２−メチルベンゼン−１，４−ジイル基を分子内に持つ化合物の含有量を組成物の総質量に対して、１０質量％以下とすることが好ましく、８質量％以下とすることが好ましく、５質量％以下とすることがより好ましく、３質量％以下とすることが好ましく、実質的に含有しないことが更に好ましい。
【０５３７】
本明細書において実質的に含有しないとは、意図せずに含有する物（不可避的不純物）を除いて含有しないという意味である。
【０５３８】
液晶組成物の平均弾性定数（ＫＡＶＧ）の下限値は、１０以上が好ましく、１０．５以上が好ましく、１１以上が好ましく、１１．５以上が好ましく、１２以上が好ましく、１２．３以上が好ましく、１２．５以上が好ましく、１２．８以上が好ましく、１３以上が好ましく、１３．３以上が好ましく、１３．５以上が好ましく、１３．８以上が好ましく、１４以上が好ましく、１４．３以上が好ましく、１４．５以上が好ましく、１４．８以上が好ましく、１５以上が好ましく、１５．３以上が好ましく、１５．５以上が好ましく、１５．８以上が好ましく、１６以上が好ましく、１６．３以上が好ましく、１６．５以上が好ましく、１６．８以上が好ましく、１７以上が好ましく、１７．３以上が好ましく、１７．５以上が好ましく、１７．８以上が好ましく、１８以上が好ましい。液晶組成物の平均弾性定数（ＫＡＶＧ）の上限値は、２５以下が好ましく、２４．５以下が好ましく、２４以下が好ましく、２３．５以下が好ましく、２３以下が好ましく、２２．８以下が好ましく、２２．５以下が好ましく、２２．３以下が好ましく、２２以下が好ましく、２１．８以下が好ましく、２１．５以下が好ましく、２１．３以下が好ましく、２１以下が好ましく、２０．８以下が好ましく、２０．５以下が好ましく、２０．３以下が好ましく、２０以下が好ましく、１９．８以下が好ましく、１９．５以下が好ましく、１９．３以下が好ましく、１９以下が好ましく、１８．８以下が好ましく、１８．５以下が好ましく、１８．３以下が好ましく、１８以下が好ましく、１７．８以下が好ましく、１７．５以下が好ましく、１７．３以下が好ましく、１７以下が好ましい。消費電力削減を重視する場合にはバックライトの光量を抑えることが有効であり、液晶表示素子は光の透過率を向上させることが好ましく、そのためにはＫＡＶＧの値を低めに設定することが好ましい。応答速度の改善を重視する場合にはＫＡＶＧの値を高めに設定することが好ましい。
【０５３９】
（液晶表示素子）
本実施形態の液晶組成物は、液晶表示素子に適用される。以下、図１，２を適宜参照しながら、本実施形態に係る液晶表示素子の例を説明する。
【０５４０】
図１は、液晶表示素子の構成を模式的に示す図である。図１では、説明のために便宜上、各構成要素を離間させて示している。本実施形態に係る液晶表示素子１は、図１に示すように、対向するように配置された第一基板２及び第二基板３と、第一基板２と第二基板３との間に設けられた液晶層４とを備えており、液晶層４は前述した本実施形態の液晶組成物により構成される。
【０５４１】
第一基板２には、液晶層４側の面に画素電極層５が形成されている。第二基板３には、液晶層４側に共通電極層６が形成されている。第一基板２及び第二基板３は、一対の偏光板７，８により挟持されていてもよい。第二基板３の液晶層４側には、カラーフィルタ９が更に設けられていてもよい。
【０５４２】
すなわち、一実施形態に係る液晶表示素子１は、第一偏光板７と、第一基板２と、画素電極層５と、液晶組成物を含む液晶層４と、共通電極層６と、カラーフィルタ９と、第二基板３と、第二偏光板８と、がこの順に積層された構成を有している。
【０５４３】
第一基板２及び第二基板３は、例えばガラス又はプラスチック等の柔軟性をもつ材料で形成されている。第一基板２及び第二基板３の少なくとも一方は透明な材料で形成されており、他方は透明な材料で形成されていても、金属やシリコン等の不透明な材料で形成されていてもよい。第一基板２及び第二基板３は、周縁領域に配置されたエポキシ系熱硬化性組成物等のシール材及び封止材によって互いに貼り合わされていて、その間には基板間距離を保持するために、例えば、ガラス粒子、プラスチック粒子、アルミナ粒子等の粒状スペーサー、又はフォトリソグラフィー法により形成された樹脂からなるスペーサー柱が配置されていてもよい。
【０５４４】
第一偏光板７及び第二偏光板８は、各偏光板の偏光軸を調整して視野角やコントラストが良好になるように調整することができ、それらの透過軸がノーマリブラックモードで作動するように、互いに直行する透過軸を有することが好ましい。特に、第一偏光板７及び第二偏光板８のうちいずれかは、電圧無印加時の液晶分子の配向方向と平行な透過軸を有するように配置されることが好ましい。
【０５４５】
カラーフィルタ９は、光の漏れを防止する観点で、ブラックマトリクスを形成することが好ましく、薄膜トランジスタに対応する部分にブラックマトリクス（図示せず）を形成することが好ましい。
【０５４６】
ブラックマトリクスは、アレイ基板と反対側の基板にカラーフィルタと共に設置されてもよく、アレイ基板側にカラーフィルタと共に設置されてもよく、ブラックマトリクスがアレイ基板に、カラーフィルタがもう一方の基板にそれぞれ別に設置されてもよい。また、ブラックマトリクスは、カラーフィルタと別に設置されてもよいが、カラーフィルタの各色を重ねることで透過率を低下させるものであってもよい。
【０５４７】
図２は、図１における第一基板２上に形成された画素電極層５の一部であるＩ線で囲まれた領域を拡大した平面図である。図２に示すように、第一基板２の表面に形成されている薄膜トランジスタを含む画素電極層５では、走査信号を供給するための複数のゲートバスライン１１と表示信号を供給するための複数のデータバスライン１２とが、互いに交差してマトリクス状に配置されている。なお、図２には、一対のゲートバスライン１１，１１及び一対のデータバスライン１２，１２のみが示されている。
【０５４８】
複数のゲートバスライン１１と複数のデータバスライン１２とにより囲まれた領域により、液晶表示素子の単位画素が形成され、該単位画素内には、画素電極１３が形成されている。画素電極１３は、互いに直交して十字形状をなす二つの幹部と、各幹部から延在する複数の枝部とを備える、いわゆるフィッシュボーン構造を有している。また、一対のゲートバスライン１１，１１の間には、ゲートバスライン１１と略平行にＣｓ電極１４が設けられている。また、ゲートバスライン１１とデータバスライン１２とが互いに交差している交差部近傍には、ソース電極１５及びドレイン電極１６を含む薄膜トランジスタが設けられている。ドレイン電極１６には、コンタクトホール１７が設けられている。
【０５４９】
ゲートバスライン１１及びデータバスライン１２は、好ましくはそれぞれ金属膜で形成されており、より好ましくはＡｌ、Ｃｕ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｗ、Ｎｉ又はその合金で形成されており、更に好ましくはＭｏ、Ａｌ又はその合金で形成されている。
【０５５０】
画素電極１３は、透過率を向上させるために、好ましくは透明電極である。透明電極は、酸化物半導体（ＺｎＯ、ＩｎＧａＺｎＯ、ＳｉＧｅ、ＧａＡｓ、ＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）、ＳｎＯ、ＴｉＯ、ＡＺＴＯ（ＡｌＺｎＳｎＯ）等）をスパッタリング等することにより形成される。この際、透明電極の膜厚は、１０〜２００ｎｍであってよい。また、電気的抵抗を低減するために、アモルファスのＩＴＯ膜を焼成することにより多結晶のＩＴＯ膜として透明電極を形成することもできる。
【０５５１】
本実施形態の液晶表示素子は、例えば、第一基板２及び第二基板３上にＡｌ又はその合金等の金属材料をスパッタリングすることにより配線を形成し、画素電極層５及び共通電極層６をそれぞれ形成することができる。また、カラーフィルタ９は、例えば、顔料分散法、印刷法、電着法又は、染色法等によって作成することができる。顔料分散法によるカラーフィルタの作成方法を一例に説明すると、カラーフィルタ用の硬化性着色組成物を、該透明基板上に塗布し、パターニング処理を施し、そして加熱又は光照射により硬化させる。この工程を、赤、緑、青の３色についてそれぞれ行うことで、カラーフィルタ用の画素部を作成することができる。また、カラーフィルタ９は、ＴＦＴ等を有する基板側に設置してもよい。
【０５５２】
第一基板２及び第二基板３は、画素電極層５及び共通電極層６がそれぞれ内側となるように対向させるが、その際にスペーサーを介して、第一基板２及び第二基板３の間隔を調整してもよい。このときは、液晶層４の厚さが、例えば１〜１００μｍとなるように調整するのが好ましい。
【０５５３】
偏光板７，８を使用する場合は、コントラストが最大になるように液晶層４の屈折率異方性Δｎと液晶層４の厚さとの積を調整することが好ましい。また、二枚の偏光板７，８がある場合は、各偏光板の偏光軸を調整して視野角やコントラトが良好になるように調整することもできる。さらに、視野角を広げるための位相差フィルムも使用することもできる。その後、エポキシ系熱硬化性組成物等のシール剤を、液晶注入口を設けた形で該基板にスクリーン印刷し、該基板同士を貼り合わせ、加熱しシール剤を熱硬化させる。
【０５５４】
２枚の基板２，３間に組成物を狭持させる方法は、通常の真空注入法又は滴下注入（ＯＤＦ：Ｏｎｅ  Ｄｒｏｐ  Ｆｉｌｌ）法等を用いることができるが、真空注入法においては滴下痕が発生しないものの、注入の跡が残る課題を有しているものであるが、本実施形態においては、ＯＤＦ法を用いて製造する表示素子により好適に使用することができる。ＯＤＦ法の液晶表示素子製造工程においては、バックプレーン又はフロントプレーンのどちらか一方の基板にエポキシ系光熱併用硬化性などのシール剤を、ディスペンサーを用いて閉ループ土手状に描画し、その中に脱気下で所定量の組成物を滴下後、フロントプレーンとバックプレーンを接合することによって液晶表示素子を製造することができる。本実施形態においては、ＯＤＦ法において、液晶組成物を基板に滴下した際の滴下痕の発生を抑えることができる。なお、滴下痕とは、黒表示した場合に液晶組成物を滴下した痕が白く浮かび上がる現象と定義する。
【０５５５】
また、ＯＤＦ法による液晶表示素子の製造工程においては、液晶表示素子のサイズに応じて最適な液晶注入量を滴下する必要があるが、本実施形態の液晶組成物は、例えば、液晶滴下時に生じる滴下装置内の急激な圧力変化や衝撃に対する影響が少なく、長時間にわたって安定的に液晶を滴下し続けることが可能であるため、液晶表示素子の歩留まりを高く保持することもできる。特に、最近流行しているスマートフォンに多用される小型液晶表示素子は、最適な液晶注入量が少ないために最適値からのずれを一定範囲内に制御すること自体が難しいが、本実施形態の液晶組成物を用いることにより、小型液晶表示素子においても安定した液晶材料の吐出量を実現できる。
【０５５６】
本実施形態の液晶組成物が重合性化合物を含有する場合、重合性化合物を重合させる方法としては、液晶の良好な配向性能を得るためには、適度な重合速度が望ましいので、紫外線又は電子線等の活性エネルギー線を単一又は併用又は順番に照射することによって重合させる方法が好ましい。紫外線を使用する場合、偏光光源を用いてもよいし、非偏光光源を用いてもよい。また、重合性化合物含有組成物を２枚の基板間に挟持させて状態で重合を行う場合には、少なくとも照射面側の基板は活性エネルギー線に対して適当な透明性が与えられていなければならない。また、光照射時にマスクを用いて特定の部分のみを重合させた後、電場や磁場又は温度等の条件を変化させることにより、未重合部分の配向状態を変化させて、更に活性エネルギー線を照射して重合させるという手段を用いてもよい。特に紫外線露光する際には、重合性化合物含有組成物に交流電界を印加しながら紫外線露光することが好ましい。印加する交流電界は、周波数１０Ｈｚ〜１０ｋＨｚの交流が好ましく、周波数６０Ｈｚ〜１０ｋＨｚがより好ましく、電圧は液晶表示素子の所望のプレチルト角に依存して選ばれる。つまり、印加する電圧により液晶表示素子のプレチルト角を制御することができる。横電界型ＭＶＡモードの液晶表示素子においては、配向安定性及びコントラストの観点からプレチルト角を８０度〜８９．９度に制御することが好ましい。
【０５５７】
照射時の温度は、本実施形態の組成物の液晶状態が保持される温度範囲内であることが好ましい。室温に近い温度、即ち、典型的には１５〜３５℃での温度で重合させることが好ましい。紫外線を発生させるランプとしては、メタルハライドランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ等を用いることができる。また、照射する紫外線の波長としては、組成物の吸収波長域でない波長領域の紫外線を照射することが好ましく、必要に応じて、紫外線をカットして使用することが好ましい。照射する紫外線の強度は、０．１ｍＷ／ｃｍ２〜１００Ｗ／ｃｍ２が好ましく、２ｍＷ／ｃｍ２〜５０Ｗ／ｃｍ２がより好ましい。照射する紫外線のエネルギー量は、適宜調整することができるが、１０ｍＪ／ｃｍ２〜５００Ｊ／ｃｍ２が好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ２〜２００Ｊ／ｃｍ２がより好ましい。紫外線を照射する際に、強度を変化させてもよい。紫外線を照射する時間は照射する紫外線強度により適宜選択されるが、１０秒〜３６００秒が好ましく、１０秒〜６００秒がより好ましい。
【０５５８】
本実施形態の液晶組成物においては、化合物（ｉ）は上記重合性化合物の重合反応を阻害しないため、重合性化合物同士が好適に重合し、未反応の重合性化合物が液晶組成物中に残存することを抑制できる。
【０５５９】
重合性化合物として、例えば上記化合物（ｉｉ）を用いた場合、得られる液晶表示素子１は、二つの基板２，３と、二つの基板２，３の間に設けられた液晶組成物及び一般式（ｉｉ）で表される化合物の重合物を含む液晶層４とを備えている。この場合、一般式（ｉｉ）で表される化合物の重合物は、液晶層４中の基板２，３側に偏在していると考えられる。
【０５６０】
液晶表示素子１は、アクティブマトリックス駆動用液晶表示素子であってよい。液晶表示素子１は、ＰＳＡ型、ＰＳＶＡ型、ＶＡ型、ＩＰＳ型、ＦＦＳ型又はＥＣＢ型の液晶表示素子であってよく、好ましくはＰＳＡ型の液晶表示素子である。
【０５６１】
本実施形態の液晶表示素子では、化合物（ｉ）を含有する液晶組成物が用いられているため、第一基板２及び第二基板３の液晶層４側にポリイミド配向膜等の配向膜が設けられている必要がない。すなわち、本実施形態の液晶表示素子は、二つの基板のうち少なくとも一方の基板がポリイミド配向膜等の配向膜を有さない構成をとることができる。
【実施例】
【０５６２】
以下、実施例に基づき本発明を更に具体的に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。また、以下の実施例及び比較例の組成物における「％」は「質量％」を意味する。
尚、実施例において化合物の記載について以下の略号を用いた。【０５６３】
＜環構造＞【０５６４】
【化１３８】
0006699799.tif 000139
【０５６５】
＜側鎖構造＞【０５６６】
【表１】
0006699799.tif 000140
【０５６７】
（ただし、表中のｎは自然数である。）
＜連結構造＞【０５６８】
【表２】
0006699799.tif 000141
【０５６９】
（ただし、表中のｎは自然数である。）
実施例中、測定した特性は以下の通りである。【０５７０】
Ｔｎｉ  ：ネマチック相−等方性液体相転移温度（℃）
Δｎ  ：２０℃における屈折率異方性
η    ：２０℃における粘度（ｍＰａ・ｓ）
γ１  ：２０℃における回転粘性（ｍＰａ・ｓ）
Δε  ：２０℃における誘電率異方性
Ｋ３３  ：２０℃における弾性定数Ｋ３３（ｐＮ）  【０５７１】
実施例及び比較例の各液晶組成物について、以下の評価試験を行った。各実施例および比較例における、各液晶組成物における各評価試験の結果をそれぞれ表５、表９、表１０、表１２、表１３に示す。【０５７２】
（低温安定性の評価試験）
液晶組成物をメンブレンフィルター（Ａｇｉｌｅｎｔ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製、ＰＴＦＥ  １３ｍｍ−０．２μｍ）にてろ過を行い、真空減圧条件にて１５分間静置し溶存空気の除去を行った。これをアセトンにて洗浄し十分に乾燥させたバイアル瓶に０．５ｇ秤量し、−２５℃の低温環境下に静置した。その後、目視にて析出の有無を観察し、以下の4段階で判定した。
Ａ：1４日静置後、析出が確認できない。
B：７日静置後、析出が確認される。
C：３日静置後、析出が確認できる。
Ｄ：1日静置後、析出が確認できる。【０５７３】
（垂直配向性の評価試験）
透明な共通電極からなる透明電極層及びカラーフィルタ層を具備した配向膜を有さない第一の基板（共通電極基板）と、アクティブ素子により駆動される透明画素電極を有する画素電極層を有する配向膜を有さない第二の基板（画素電極基板）とを作製した。第一の基板上に液晶組成物を滴下し、第二の基板上で挟持し、シール材を常圧で１１０℃２時間の条件で硬化させ、セルギャップ３．２μｍの液晶セルを得た。このときの垂直配向性および滴下痕などの配向ムラを、偏光顕微鏡を用いて観察し、以下の４段階で評価した。【０５７４】
Ａ：端部なども含め、全面に渡り均一に垂直配向
Ｂ：ごく僅かに配向欠陥が有るも許容できるレベル
Ｃ：端部なども含め、配向欠陥が多く許容できないレベル
Ｄ：配向不良がかなり劣悪【０５７５】
（プレチルト角形成の評価試験）
上記（垂直配向性の評価試験）で使用した液晶セルに、１０Ｖ、１００Ｈｚの矩形交流波を印加しながら、高圧水銀ランプを用いて、３６５ｎｍにおける照度が１００ｍ／ｃｍ２であるＵＶ光を２００秒間照射した。その後、白表示の安定性を、１０Ｖ、１００Ｈｚの矩形交流波を印加しながらセルに物理的な外力を加え、数分静置した後にクロスニコルの状態で観察を行い、以下の４段階で評価した。【０５７６】
Ａ：端部なども含め、全面に渡り均一に垂直配向
Ｂ：ごく僅かに配向欠陥が有るも許容できるレベル
Ｃ：端部なども含め、配向欠陥が多く許容できないレベル
Ｄ：配向不良がかなり劣悪【０５７７】
（残存モノマー量の評価試験）
上記（プレチルト角形成の評価試験）にて使用したセルに、さらに、東芝ライテック社製のＵＶ蛍光ランプを６０分間照射した（３１３ｎｍにおける照度１．７ｍＷ／ｃｍ２）後の、重合性化合物（Ｒ１−１−１）の残存量をＨＰＬＣにて定量し、残存モノマー量を決定した。モノマーの残存量に応じて、以下の４段階で評価した。【０５７８】
Ａ：３００ｐｐｍ未満
Ｂ：３００ｐｐｍ以上５００ｐｐｍ未満。【０５７９】
Ｃ：５００ｐｐｍ以上１５００ｐｐｍ未満
Ｄ：１５００ｐｐｍ以上                【０５８０】
（応答特性の評価試験）
上記（プレチルト角形成の評価試験）にて使用したセルギャップ３．２μｍのセルに、さらに、東芝ライテック社製のＵＶ蛍光ランプを６０分間照射した（３１３ｎｍにおける照度１．７ｍＷ／ｃｍ２）。これにより得られたセルに対して、応答速度を測定した。応答速度は、６ＶにおけるＶｏｆｆを、２５℃の温度条件で、ＡＵＴＲＯＮＩＣ−ＭＥＬＣＨＥＲＳ社のＤＭＳ７０３を用いて測定した。応答特性を以下の４段階で評価した。【０５８１】
Ａ：５ｍｓ未満
Ｂ：５ｍｓ以上１５ｍｓ未満
Ｃ：１５ｍｓ以上２５ｍｓ未満
Ｄ：２５ｍｓ以上【０５８２】
（実施例1）液晶組成物の調製
下記表３に示すとおりの化合物と混合比率で構成される組成物：【０５８３】
【表３】
0006699799.tif 000142
【０５８４】
を１００質量部としたときに、下記の重合性化合物（Ｒ−１−０）を０．３質量部添加し、加熱溶解した組成物をＬＣ−１とした。【０５８５】
【化１３９】
0006699799.tif 000143
【０５８６】
さらに、化合物（ｉ）に相当する化合物（P−J−１）：【０５８７】
【化１４０】
0006699799.tif 000144
【０５８８】
をＬＣ−１  １００質量部に対して０．5質量部添加し、加熱溶解することにより液晶組成物を調製した。【０５８９】
（実施例2 〜２４）
実施例1における添加量０．5質量部の化合物（P−J−１）に代えて、下記化合物を表４に示す添加量でＬＣ−１に添加した以外は、実施例1と同様にして液晶組成物を調製した。【０５９０】
【化１４１】
0006699799.tif 000145
【０５９１】
【化１４２】
0006699799.tif 000146
【０５９２】
【表４】
0006699799.tif 000147
【０５９３】
【表５】
0006699799.tif 000148
【０５９４】
（実施例２５〜５４）
実施例1における液晶組成物ＨＬＣ−１に代えて、下記表6に示す通りの化合物及び混合比率で構成される組成物を実施例1と同様に調製し、調製した液晶組成物をＨＬＣ−２からＨＬＣ−８とした。【０５９５】
【表６】
0006699799.tif 000149
【０５９６】
さらに、ＨＬＣ−２からＨＬＣ−８をそれぞれ１００質量部としたときに、重合性化合物（Ｒ−１−０）を０．３質量部添加したベース組成物を加熱溶解により調製し、それぞれＬＣ−２からＬＣ−８とした。【０５９７】
また、ＨＬＣ−１からＨＬＣ−８をそれぞれ１００質量部としたときに、下記の重合性化合物（Ｒ−１−１）を０．３質量部添加したベース組成物を加熱溶解により調製し、ＬＣ−９からＬＣ−１６とした。【０５９８】
【化１４３】
0006699799.tif 000150
【０５９９】
各実施例において、実施例1における（P−J−1）0.5質量部に代わりに、それぞれ、表７に示す添加化合物を、表７に示す添加量で、また、表７に示すＬＣ−２からＬＣ−１６のいずれかをベース組成物として用いた以外は、実施例１と同様にして液晶組成物を調製した。【０６００】
【表７】
0006699799.tif 000151
【０６０１】
【表８】
0006699799.tif 000152
【０６０２】
【表９】
0006699799.tif 000153
【０６０３】
【表１０】
0006699799.tif 000154
【０６０４】
実施例１７から４６と同様に、ベース組成物ＬＣ−２からＬＣ−１６に対して、各種自発配向助剤（Ｐ−Ｊ−２、Ｐ−Ｊ−３、Ｐ−Ｊ−４、Ｐ−Ｊ−５、およびＰ−Ｊ−６）を、適切な濃度で加熱溶解により調製し、上記と同様に配向性試験の評価を行ったところ、比較例より配向性が優れていることを確認した。
（比較例１）
実施例1における化合物（P−J−１）を用いなかった以外は、実施例１と同様にして液晶組成物を調製した。【０６０５】
（比較例２〜２８）
実施例1において、化合物（P−J−１）を０．５質量部添加したことに代えて、下記化合物（Ref-1からRef-6）のいずれかを表９に示す添加量で、表９に示すベース組成物ＬＣ−１からＬＣ−１６のいずれかに添加した以外は、実施例1と同様にして液晶組成物を調製した。【０６０６】
【化１４４】
0006699799.tif 000155
【０６０７】
【表１１】
0006699799.tif 000156
【０６０８】
【表１２】
0006699799.tif 000157
【０６０９】
【表１３】
0006699799.tif 000158
【０６１０】
以上のように本願発明は比較例と比べ、優れた効果を奏することがわかった。
（実施例５５〜１８２）
各実施例において、実施例1における（P−J−1）０．５質量部に代わりに、それぞれ、表１１、表１３．表１５に示す添加化合物を、表１１、表１３．表１５に示す添加量で、また、表１１、表１３．表１５に示すＬＣ−２からＬＣ−１６のいずれかに対応するベース組成物を用いた以外は、実施例１と同様にして液晶組成物を調製した。表１４、表１６、表１７、２０、２１に示す添加化合物は、以下に示すとおりである。【０６１１】
【化１４５】
0006699799.tif 000159
【０６１２】
【化１４６】
0006699799.tif 000160
【０６１３】
【化１４７】
0006699799.tif 000161
【０６１４】
【化１４８】
0006699799.tif 000162
【０６１５】
【化１４９】
0006699799.tif 000163
【０６１６】
【化１５０】
0006699799.tif 000164
【０６１７】
（電圧保持率（VHR）の評価試験）
さらに、上記、実施例５５〜１５６で得られた液晶組成物について、上記（応答特性の評価試験）と同様に作製した東芝ライテック社製のＵＶ蛍光ランプを６０分間照射したセルにて、ＵＶ照射後の電圧保持率（ＶＨＲ（ＵＶ））を測定した。測定した電圧保持率特性を以下の４段階で評価した。
ＶＨＲ： 60 ℃、周波数６０Ｈｚ，印加電圧１Ｖの条件下で３３３Ｋにおける電圧保持率（％）を４段階評価した。測定装置は、東陽テクニカ株式会社のＬＣＭ-２を用いた。【０６１８】
Ａ：９９〜１００％
Ｂ：９８〜９９％
Ｃ：９５〜９８％
Ｄ：９５％以下
各実施例における、各液晶組成物の評価試験結果をそれぞれ表１５、表１８、表１９、表２２、表２３に示す。【０６１９】
【表１４】
0006699799.tif 000165
【０６２０】
【表１５】
0006699799.tif 000166
【０６２１】
【表１６】
0006699799.tif 000167
【０６２２】
【表１７】
0006699799.tif 000168
【０６２３】
【表１８】
0006699799.tif 000169
【０６２４】
【表１９】
0006699799.tif 000170
【０６２５】
【表２０】
0006699799.tif 000171
【０６２６】
【表２１】
0006699799.tif 000172
【０６２７】
【表２２】
0006699799.tif 000173
【０６２８】
【表２３】
0006699799.tif 000174
【０６２９】
（実施例１８３〜２２４）
さらに、各実施例において、実施例1における（P−J−1）0.5質量部に代わりに、それぞれ、表２２に示すベース液晶に、表２２に示す添加化合物を、表２２に示す添加量で加え、さらに、加えて下記表２４、表２５に示す添加物（Ｐ−Ｋ−１）または、（Ｐ−Ｋ−２）を表２４、表２５に示す添加量で添加した以外は、実施例1と同様の方法にて各実施例の液晶組成物を調製した。【０６３０】
【化１５１】
0006699799.tif 000175
【０６３１】
【表２４】
0006699799.tif 000176
【０６３２】
【表２５】
0006699799.tif 000177
【０６３３】
【表２６】
0006699799.tif 000178
【０６３４】
【表２７】
0006699799.tif 000179
【０６３５】
これら試験結果を他の実施例と同様に実施した。その結果を表２６、表２７に示す。【０６３６】
また、同様の実験を上記ベース液晶ＬＣ２〜ＬＣ１６にて実施した結果、同等の優れた評価結果となった。【０６３７】
上記、各実施例の評価結果から、実施例における液晶組成物は、液晶表示素子として、総合的に優れた性能を示した。【０６３８】
（実施例２２５〜２３４）
実施例1における液晶組成物ＨＬＣ−１に代えて、下記表２８に示す通りの化合物及び混合比率で構成される組成物を実施例1と同様に調製し、調製した液晶組成物をＨＬＣ−９とした。【０６３９】
【表２８】
0006699799.tif 000180
【０６４０】
実施例中、測定した特性は以下の通りである。【０６４１】
Ｔｎｉ  ：ネマチック相−等方性液体相転移温度（℃）
Δｎ  ：２０℃における屈折率異方性
η    ：２０℃における粘度（ｍＰａ・ｓ）
γ１  （２５℃）：２５℃における回転粘性（ｍＰａ・ｓ）
Δε（２５℃）  ：２５℃における誘電率異方性
Ｋ３３  ：２０℃における弾性定数Ｋ３３（ｐＮ）  
また、ＨＬＣ−９をそれぞれ１００質量部としたときに、重合性化合物（Ｒ−１−０）を０．３質量部添加したベース組成物を加熱溶解により調製し、ＬＣ−１７とした。
また、ＨＬＣ−９をそれぞれ１００質量部としたときに、重合性化合物（Ｒ−１−０）を０．５質量部添加したベース組成物を加熱溶解により調製し、ＬＣ−１８とした。
また、ＨＬＣ−９をそれぞれ１００質量部としたときに、重合性化合物（Ｒ−１−０）を０．６質量部添加したベース組成物を加熱溶解により調製し、ＬＣ−１９とした。【０６４２】
さらに、各実施例において、それぞれ対応するベース組成物を１００質量部としたときに、表２９、表３１に示す添加化合物を表２９、表３１に示す添加量で用いた以外は、実施例１と同様にして液晶組成物を調製した。また、各種評価結果は、それぞれ表３０、表３２に示した。【０６４３】
表２９、表３０に対応する添加化合物は、以下に示すとおりである。【０６４４】
【化１５２】
0006699799.tif 000181
【０６４５】
【表２９】
0006699799.tif 000182
【０６４６】
【表３０】
0006699799.tif 000183
【０６４７】
【表３１】
0006699799.tif 000184
【０６４８】
【表３２】
0006699799.tif 000185
【０６４９】
【表３３】
0006699799.tif 000186
【０６５０】
【表３４】
0006699799.tif 000187
【０６５１】
これら試験結果を他の実施例と同様に実施した。その結果を表３０、表３２に示す。【０６５２】
また、同様の実験を上記ベース液晶ＬＣ２〜ＬＣ１６にて実施した結果、同等の優れた評価結果となった。【０６５３】
上記、各実施例の評価結果から、実施例における液晶組成物は、液晶表示素子として、総合的に優れた性能を示した。
【図１】
0006699799.tif 000199
【図２】
0006699799.tif 000200