(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
略鉛直方向に支持された被検査対象のマスクを検査するマスク検査装置であって、
下面と、前記下面と平行な上面と、を有し、前記下面と前記上面との距離が前記上面の短辺より短くなるように形成された定盤と、
前記上面から上方に突出するように前記上面に設けられた柱と、
前記柱に設けられた撮像部と、
設置面上に載置された除振台と、
前記マスクを略鉛直方向に支持するマスク支持部と、
を備え、
前記下面には、四隅にそれぞれ略立方体形状の凹部が形成され、
前記除振台は、前記凹部の深さより高さが高く、
前記凹部の底面は、それぞれ前記除振台により支持され、
前記上面には、平面視において、前記凹部と重ならない位置に、前記定盤の長手方向に沿った溝が形成され、
前記マスク支持部は、前記溝の内部を移動する
ことを特徴とする検査装置。
【請求項２】
前記凹部の深さは、前記下面と前記上面との距離の０．３〜０．５倍となるように形成される
ことを特徴とする請求項１に記載の検査装置。
【請求項３】
前記撮像部は、前記柱に沿って移動可能に設けられ、
前記溝は、前記撮像部が前記定盤に当接したときに、前記マスク支持部に形成された開口部の下端面の高さが、前記撮像部の光軸の高さと略一致するような深さで形成されることを特徴とする請求項１に記載の検査装置。
【請求項４】
前記凹部は、前記下面の前記四隅に設けられる４つの第１の凹部と、前記下面の長辺に沿ってそれぞれ設けられる２つの第２の凹部と、を有し、
前記第２の凹部のうちの１つは、平面視において、一部が前記柱の一部と重なる位置に形成されることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の検査装置。
【請求項５】
前記マスク支持部は、前記溝の内部を移動するガイド部材を有し、
前記ガイド部材は、前記溝の底面に向けて空気を吐出する底面エアパッドと、前記溝の側面に向けて空気を吐出する側面エアパッドと、前記底面エアパッド及び前記側面エアパッドが設けられるガイド部材本体と、を有することを特徴とする請求項１に記載の検査装置。
【請求項６】
前記側面エアパッドは、前記ガイド部材本体の第１側面に固定される第１側面エアパッドと、前記第１側面と反対側の第２側面に形成された穴に設けられる第２側面エアパッドであって、前記ガイド部材本体に対して移動可能に設けられる第２側面エアパッドと、を有し、
前記ガイド部材本体には、前記第１側面エアパッドに形成された貫通孔、前記第２側面エアパッドに形成された貫通孔、及び前記穴と前記第２側面エアパッドとの間の空間に空気を供給する流路が形成され、
前記第２側面エアパッドは、前記穴と前記第２側面エアパッドとの間の空間に供給される空気により前記ガイド部材本体に対して移動されることを特徴とする請求項５に記載の検査装置。
【請求項７】
前記マスク支持部は、前記マスクを保持するフレームと、前記フレームの下側に設けられた調整機構であって、前記フレームの高さを調整する調整機構と、を有し、
前記ガイド部材本体には、上下方向に貫通するピンであって、上端面が略半球面であるピンが設けられ、
前記ピンは、下端が前記底面エアパッドに設けられ、上端が前記調整機構の底面に当接することを特徴とする請求項５又は６に記載の検査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、検査装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、鉛直方向にフォトマスクを支持して、フォトマスクに形成されたパターンを検査するパターン検査装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１０−１８１２９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１に記載の発明では、鉛直方向にフォトマスクを支持するため、水平方向にフォトマスクを指示する装置に比べて、装置の重心位置が高くなってしまう。その結果、装置が安定しないという問題がある。
【０００５】
また、特許文献１に記載の発明では、ステージが設置面（例えば、床）に直接載置されているため、装置駆動時に振動が発生しても、その振動を抑えることができないという問題がある。なお、装置の振動を抑えるため、ステージの下に除振台を設ける場合があるが、この場合には、装置の重心位置が更に高くなってしまう。
【０００６】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、鉛直方向にフォトマスクを支持する検査装置において、定盤の下に除振台を設けつつも、装置の重心位置を低くすることができる検査装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明に係る検査装置は、例えば、鉛直方向に支持された被検査対象のマスクを検査するマスク検査装置であって、下面と、前記下面と平行な上面と、を有し、前記下面と前記上面との距離が前記上面の短辺より短くなるように形成された定盤と、前記上面から上方に突出するように前記定盤に設けられた柱と、前記柱に設けられた撮像部と、設置面上に載置された除振台と、を備え、前記下面には、四隅にそれぞれ略立方体形状の凹部が形成され、前記除振台は、前記凹部の深さより高さが高く、前記凹部の底面は、それぞれ前記除振台により支持されることを特徴とする。
【０００８】
本発明に係る検査装置によれば、定盤の下面に、四隅にそれぞれ略立方体形状の凹部を形成し、設置面上に載置された除振台により凹部の底面を支持することで、定盤が設置面上に載置される。これにより、鉛直方向にフォトマスクを支持する検査装置において、定盤の下に除振台を設けつつも、装置の重心位置を低くすることができる。
【０００９】
ここで、前記マスクを鉛直方向に支持するマスク支持部を備え、前記上面には、平面視において、前記凹部と重ならない位置に、前記定盤の長手方向に沿った溝が形成され、前記マスク支持部は、前記溝の内部を移動するようにしてもよい。これにより、定盤の強度を保ちつつ、重心位置を低くすることができる。
【００１０】
ここで、前記凹部の深さは、前記下面と前記上面との距離の０．３〜０．５倍となるように形成されてもよい。これにより、定盤の強度を保つことができる。
【００１１】
ここで、前記撮像部は、前記柱に沿って移動可能に設けられ、前記溝は、前記撮像部が前記定盤に当接したときに、前記マスク支持部に形成された開口部の下端面の高さが、前記撮像部の光軸の高さと略一致するような深さで形成されてもよい。これにより、重心位置を最も低くすることができる。
【００１２】
ここで、前記凹部は、前記下面の前記四隅に設けられる４つの第１の凹部と、前記下面の長辺に沿ってそれぞれ設けられる２つの第２の凹部と、を有し、前記第２の凹部のうちの１つは、平面視において、一部が前記柱の一部と重なる位置に形成されてもよい。これにより、より重心に近い位置に第２の凹部を設けることができ、その結果少ない第２の凹部で、より歪みの少ない石定盤の支持ができる。
【００１３】
ここで、前記マスク支持部は、前記溝の内部を移動するガイド部材を有し、前記ガイド部材は、前記溝の底面に向けて空気を吐出する底面エアパッドと、前記溝の側面に向けて空気を吐出する側面エアパッドと、前記底面エアパッド及び前記側面エアパッドが設けられるガイド部材本体と、を有してもよい。これにより、ガイド部材と溝（側面及び底面）との間に空気の層が形成される。したがって、ガイド部材を容易に移動させることができる。
【００１４】
ここで、前記側面エアパッドは、前記ガイド部材本体の第１側面に固定される第１側面エアパッドと、前記第１側面と反対側の第２側面に形成された穴に設けられる第２側面エアパッドであって、前記ガイド部材本体に対して移動可能に設けられる第２側面エアパッドと、を有し、前記ガイド部材本体には、前記第１側面エアパッドに形成された貫通孔、前記第２側面エアパッドに形成された貫通孔、及び前記穴と前記第２側面エアパッドとの間の空間に空気を供給する流路が形成され、前記第２側面エアパッドは、前記穴と前記第２側面エアパッドとの間の空間に供給される空気により前記ガイド部材本体に対して移動されてもよい。これにより、溝の第１側面と第１側面エアパッドの先端面との間隔及び溝の第２側面と第２側面エアパッドの先端面との間隔を自動的に調整することができる。
【００１５】
ここで、前記マスク支持部は、前記マスクを保持するフレームと、前記フレームの下側に設けられた調整機構であって、前記フレームの高さを調整する調整機構と、を有し、前記ガイド部材本体には、上下方向に貫通するピンであって、上端面が略半球面であるピンが設けられ、前記ピンは、下端が前記底面エアパッドに設けられ、上端が前記調整機構の底面に当接してもよい。これにより、重いマスク支持部を、剛性の高い溝で支え、かつエアパッドに不都合な偏荷重を避けることができる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、鉛直方向にフォトマスクを支持する検査装置において、定盤の下に除振台を設けつつも、装置の重心位置を低くすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】第１の実施の形態に係る検査装置１の概略を示す正面図である。
【図２】検査装置１の概略を示す平面図である。
【図３】検査装置１の概略を示す斜視図である。
【図４】ガイド部材３３を説明するための概略図であり、検査装置１を部分的に拡大した平面図である。
【図５】ガイド部材３３を説明するための概略図であり、図４のＡ−Ａ断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の実施形態を、図面を参照して詳細に説明する。
【００１９】
＜第１の実施の形態＞
図１は、第１の実施の形態に係る検査装置１の概略を示す正面図である。図２は、検査装置１の概略を示す平面図である。図３は、検査装置１の概略を示す斜視図である。本明細書においては、図１で紙面に垂直な方向をｘ方向と定義し、紙面上下方向をｙ方向（鉛直方向）とし、ｘ方向及びｙ方向と直交する方向をｚ方向と定義する。なお、図２、３においては、一部の構成について図示を省略している。
【００２０】
検査装置１は、例えば、略鉛直方向に被検査対象のフォトマスクＭを支持し、カメラ等を鉛直方向に移動させてフォトマスクＭに形成されたパターン等を検査する検査装置である。
【００２１】
本実施形態において検査対象とされるフォトマスクＭは、例えば液晶表示装置の表示装置用の基板を製造するために用いられる露光用マスクである。フォトマスクＭは、一辺が例えば１ｍを超える大型な略矩形形状の基板上に、１個または複数個のイメージデバイス用転写パターンが形成されたものである。
【００２２】
検査装置１は、主として、定盤１０と、撮像部２０と、マスク支持部３０と、除振台５０（除振台５１、５２を含む。図３参照）と、を有する。
【００２３】
定盤１０は、ステージとして構成されており、設置面Ｆ上の複数箇所（６箇所）に設置されている除振台５１、５２の上に支持される。
【００２４】
定盤１０は、幅Ｗが１２００ｍｍ程度、厚さＴが４００ｍｍ程度の略直方体形状（厚板状）の石製の部材である。言い換えると、定盤１０は、下面１０ａと、下面１０ａと平行な上面１０ｅと、を有し、下面１０ａと上面１０ｅとの距離は、上面１０ｅの短辺より短い。
【００２５】
定盤１０の下面１０ａには、略立方体形状の凹部１０ｂ、１０ｃが形成される。凹部１０ｂは、下面１０ａの４つの隅のそれぞれに一箇所ずつ形成される。凹部１０ｃは、下面１０ａの長辺に沿ってそれぞれ一箇所ずつ、合計２箇所形成される。このように、凹部１０ｂ、１０ｃは、合計６箇所形成される。凹部１０ｂに加えて凹部１０ｃを設けることで、石定盤１０の歪みを少なくすることができる。
【００２６】
２つの凹部１０ｃのうちの、＋ｚ側に形成される凹部１０ｃは、平面視（上（＋ｙ方向）から見たとき）において、柱２１（後に詳述）の一部と重なる位置に形成される。これにより、より重心に近い位置に凹部１０ｃを設け、石定盤１０の歪みをより少なくすることができる。また、２つの凹部１０ｃは、平面視（図２参照）において、検査装置１の重心位置Ｇを挟んで点対称となる位置に形成される。凹部１０ｃは、除振台５２のメンテナンス等のため、凹部１０ｂより横寸法（ｘ方向の寸法）が大きい。
【００２７】
なお、凹部１０ｃは必須ではないが、なるべく多くの除振台５０を設けるためには、凹部１０ｃを少なくとも２つは形成することが望ましい。本実施の形態のように、凹部１０ｃを下面１０ａの長辺に沿ってそれぞれ一箇所ずつ形成することで、少ない凹部１０ｃでより歪みの少ない石定盤１０の支持ができる。また、凹部１０ｃは、図示された位置に限定されず、例えば、２個の凹部１０ｃのｘ方向の位置が異なっていてもよい。ただし、除振台５０の制御等を考慮すると、２つの凹部１０ｃのｘ方向の位置を同じにすることが望ましい。
【００２８】
凹部１０ｂの内部には、設置面Ｆ上に載置された除振台５１が設けられる（図３参照）。凹部１０ｃの内部には、設置面Ｆ上に載置された除振台５２が設けられる（図３参照）。凹部１０ｂ、１０ｃの底面は、除振台５１、５２により支持される支持面１０ｄである。
【００２９】
図１に示すとおり、凹部１０ｂ、１０ｃの深さＤ１より、除振台５１、５２の高さが高い。したがって、除振台５１、５２が支持面１０ｄを支持することで、定盤１０が除振台５１、５２を介して設置面Ｆ上に載置される。検査装置１の安定性は、この支持面１０ｄの位置が基準となる。
【００３０】
このように、厚い定盤１０に凹部１０ｂ、１０ｃを形成し、凹部１０ｂ、１０ｃの内部に除振台５１、５２を設けることで、支持面１０ｄを基準とした時の検査装置１の重心位置Ｇが低くなる。定盤１０の厚さＴを厚くしたり、凹部１０ｂ、１０ｃの深さを深くしたりすることで、重心位置Ｇを低くすることができる。
【００３１】
ただし、凹部１０ｂ、１０ｃの深さＤ１は、定盤１０の強度を保つため、定盤１０の厚さＴの０．３〜０．５倍とする。
【００３２】
また、凹部１０ｂ、１０ｃの深さＤ１、すなわち支持面１０ｄの高さは、支持面１０ｄから検査装置１全体の重心位置Ｇを見上げる角度θ（図１参照）が６０度以下となるように設定される。
【００３３】
ただし、支持面１０ｄから重心位置Ｇを見上げる角度は、小さい方が望ましい。本実施の形態では、支持面１０ｄから重心位置Ｇを見上げる角度θが略４５度程度となるように、凹部１０ｂ、１０ｃが形成される。
【００３４】
また、本実施の形態では、検査装置１の安定性及び輸送時・設置時の利便性により、凹部１０ｂ、１０ｃは、下面１０ａの高さＨ１が１００ｍｍ程度となるように形成される。
【００３５】
定盤１０の上面１０ｅには、溝１０ｆが形成される。溝１０ｆは、平面視（図２参照）において、凹部１０ｂ、１０ｃと重ならない位置に、定盤１０の長手方向（ｘ方向）に沿って形成される。このように、溝１０ｆの水平方向の位置と、凹部１０ｂ、１０ｃの水平方向との位置をずらすことで、定盤１０の溝１０ｆより下の部分の厚さを厚くし、定盤１０の強度を高くすることができる。
【００３６】
溝１０ｆの深さＤ２は、定盤１０の厚さＴに比べて十分に小さい。本実施の形態では、溝１０ｆの深さＤ２は６０ｍｍ程度であり、溝１０ｆより下の部分の厚さは略３４０ｍｍ程度である。したがって、溝１０ｆを形成したとしても、定盤１０の剛性を十分に高い状態とすることができる。
【００３７】
溝１０ｆは、マスク支持部３０をｘ方向に移動自在に支持する。溝１０ｆをマスク支持部３０を移動させる時のガイドとすることで、撮像部２０やマスク支持部３０の高さを低くし、これにより重心位置Ｇを低くすることができる。
【００３８】
溝１０ｆの深さＤ２は、カメラ２２ａ（後に詳述）が上面１０ｅに当接した時のカメラ２２の光軸ａｘが、マスク支持部３０（後に詳述）に支持されたフォトマスクＭの下端と一致するように設定される。この状態が、最も重心位置Ｇが低くなる状態である。本実施の形態では、溝１０ｆの深さＤ２は６０ｍｍ程度であり、このときのフォトマスクＭの下端の高さ（パスライン）Ｈ２は６８０ｍｍ程度である。
【００３９】
撮像部２０は、主として、定盤１０から上方に突出して設けられた柱２１と、柱２１に設けられたカメラ２２と、検査位置においてマスク支持部３０を支持する支持部２３と、を有する（図１参照）。
【００４０】
柱２１は、上面１０ｅから上方（＋ｙ方向）に突出するように、上面１０ｅに取り付けられる。柱２１は、セラミック等により形成される。重心位置Ｇを低くするため、柱２１は中空とすることが好ましい。
【００４１】
カメラ２２は、例えばＣＣＤカメラや特殊なＣＣＤカメラであるＴＤＩカメラであり、２個のカメラ２２ａ、２２ｂを有する。カメラ２２ａ、２２ｂは、ｙ方向に沿って２個隣接して設けられる。カメラ２２と柱２１との間にはエアパッド（図示せず）を含む移動部（図示せず）が設けられる。カメラ２２は、その光軸ａｘがｚ軸と平行となるように、移動部（図示せず）に設けられる。
【００４２】
移動部が上下方向（ｙ方向）に移動することにより、カメラ２２が上下方向（ｙ方向）に移動する。移動部は、２個のカメラ２２ａ、２２ｂを、カメラ２２ａが定盤１０の上面１０ｅに当接する初期位置と、カメラ２２ｂが柱２１の上端近傍の位置する上端位置（図１二点鎖線参照）との間を、柱２１に沿って移動させる。カメラ２２ａを上面１０ｅに当接可能な構成とすることで、重心位置Ｇを低くすることができる。
【００４３】
また、撮像部２０は、図示しない透過照明光源と、反射照明光源と、を有する。透過照明光源は、フォトマスクＭの背面側（−ｚ側）に設けられ、いわゆるｇ線（例えば波長が４３５．８４［ｎｍ］の光）を照射する。反射照明光源は、フォトマスクＭの表面側（＋ｚ側）に設けられ、いわゆるｅ線（例えば波長が５４６．０７［ｎｍ］の光）を照射する。カメラ２２は、透過照明光源から照射されたｇ線と、反射照明光源から照射されたｅ線とを同時に受光し、画像化する。
【００４４】
次に、カメラ２２の構成について説明する。カメラ２２ａ、２２ｂは、それぞれ、ｇ線及びｅ線を平行光に変換する対物レンズと、対物レンズを通過したｇ線とｅ線とを分離する光学部材（例えば、偏光ビームスプリッタとダイクロイックフィルタとの機能を併せ持つ部材）と、光学部材で分離されたｇ線及びｅ線をそれぞれ結像する２組の結像レンズと、２組の結像レンズで結像されたｇ線及びｅ線をそれぞれ画像化する撮像素子と、を有する。このように、カメラ２２ａ、２２ｂは、透過光と反射光とを同時に画像化することができる。なお、カメラ２２ａ、２２ｂは、すでに公知の技術を用いることができるため、詳細な説明を省略する。
【００４５】
ただし、カメラ２２ａ、２２ｂの一方が故障等した場合に備えて、カメラ２２は、ｙ方向に隣接して設けられた２個のカメラ２２ａ、２２ｂを有することが望ましい。
【００４６】
支持部２３は、マスク支持部３０が検査位置に移動されたときに、マスク支持部３０が水平方向に傾かないようにマスク支持部３０を支持する。なお、支持部２３は、すでに公知の技術を用いることができるため、詳細な説明を省略する。
【００４７】
マスク支持部３０は、フォトマスクＭを支持する。マスク支持部３０は、フレーム３１と、調整機構３２と、ガイド部材３３と、を有する。
【００４８】
フレーム３１は、鉛直に支持されるフォトマスクＭの外周を囲むよう、枠状に形成される。フレーム３１は、フォトマスクＭの表面（パターンが形成された面）がｘｙ平面と平行となるようにフォトマスクＭを支持する。
【００４９】
フレーム３１の下方には、調整機構３２が設けられる。調整機構３２は、フォトマスクＭの下辺の高さ方向（ｙ方向）の位置を変更する。調整機構３２はすでに公知であるため、詳細な説明は省略する。
【００５０】
ガイド部材３３は、溝１０ｆの内部を移動する部材である。ガイド部材３３は、図３に示すように、主として、ガイド部材本体３３１と、側面エアパッド３３２、３３３と、下面エアパッド３３４と、ピン３３５と、を有する。
【００５１】
ガイド部材本体３３１は、上方にフレーム３１及び調整機構３２が設けられる棒状の部材である。ガイド部材本体３３１には、側面エアパッド３３２、３３３及びピン３３５が設けられる。また、ガイド部材本体３３１には、ピン３３５を介して底面エアパッド３３４が設けられる。
【００５２】
図４は、ガイド部材３３を説明するための概略図であり、検査装置１を部分的に拡大した平面図である。図４において、空気の流れを太破線矢印で示す。
【００５３】
側面エアパッド３３２、３３３は、略円筒形状の部材（図３参照）である。側面エアパッド３３２は、ガイド部材本体３３１の側面３３１ａに設けられ、側面エアパッド３３３は、側面３３１ａと反対側の側面３３１ｂに設けられる。側面エアパッド３３２の先端面３３２ａは溝１０ｆの側面１０ｇと対向し、側面エアパッド３３３の先端面３３３ａは溝１０ｆの側面１０ｈと対向する。
【００５４】
先端面３３２ａが対向する側面１０ｇは基準面であり、高い精度（例えば、面精度が２μｍ程度、基準面ではない側面１０ｈの面精度は５μｍ程度）で形成される。したがって、先端面３３２ａが、薄い空気の層を挟んで側面１０ｇと対向することで、ガイド部材本体３３１のｚ方向の位置及びｘｚ平面に対する角度が決められる。
【００５５】
側面エアパッド３３２は、略円筒形状の結合部３３２ｂと、略円筒形状のエアパッド部３３２ｃと、を有する。結合部３３２ｂの直径は、エアパッド部３３２ｃの直径より小さい。結合部３３２ｂは、ガイド部材本体３３１に形成された穴３３１ｃの内部に設けられる。結合部３３２ｂの外周面と、穴３３１ｃの内周面との間には、弾性部材（例えば、Ｏリング）３４１が設けられる。また、結合部３３２ｂの直径がエアパッド部３３２ｃの直径より小さいため、結合部３３２ｂの先端面が穴３３１ｃの底面と当接した状態が保たれる。これにより、ガイド部材本体３３１に対する側面エアパッド３３２の角度が一定の状態で維持される。
【００５６】
側面エアパッド３３３は、略円円筒形状の摺動部３３３ｂと、略円円筒形状のエアパッド部３３３ｃと、を有する。摺動部３３３ｂの直径は、エアパッド部３３３ｃの直径より小さい。また、摺動部３３３ｂは、摺動部３３３ｂの直径より大きい直径を有する穴３３１ｄの内部に、ガイド部材本体３３１に対して移動可能に設けられる（後に詳述）。摺動部３３３ｂの外周面と、穴３３１ｄの内周面との間には、供給された空気が逃げないように（後に詳述）弾性部材３４２が設けられる。
【００５７】
側面エアパッド３３２、３３３には、それぞれ内部に貫通孔３３２ｄ、３３３ｄが形成される。貫通孔３３２ｄ、３３３ｄの内部には、オリフィス３３２ｅ、３３３ｅが形成されている。貫通孔３３２ｄ、３３３ｄは、ガイド部材本体３３１に形成された管状の孔３３１ｅに接続されている。孔３３１ｅは、図示しないポンプ等から供給される空気を通路であり、一端はプラグ３４３により覆われており、他端はポンプ等と連結された配管３５１と連結されている。その結果、配管３５１を介して、穴３３１ｄと摺動部３３３ｂとの間の空間及び貫通孔３３２ｄ、３３３ｄに空気が供給される。
【００５８】
貫通孔３３２ｄに供給された空気は、オリフィス３３２ｅを通って、貫通孔３３２ｄの先端面３３２ａ側の開口部から側面１０ｇに向けて吐出される（図４太破線矢印参照）。また、貫通孔３３３ｄに供給された空気は、オリフィス３３３ｅを通って、貫通孔３３３ｄの先端面３３３ａ側の開口部から側面１０ｈに向けて吐出される（図４太破線矢印参照）。これにより、側面１０ｇと側面エアパッド３３２の先端面３３２ａとの間及び側面１０ｈと側面エアパッド３３３の先端面３３３ａとの間に薄い空気の層が形成される。
【００５９】
摺動部３３３ｂと穴３３１ｄとの間の空間に供給された空気は、摺動部３３３ｂの先端面３３３ｆを押圧し、摺動部３３３ｂを、側面３３１ｂの法線方向（ｚ方向）に移動させる。摺動部３３３ｂがｚ方向に移動することにより、側面１０ｇと先端面３３２ａとの間隔及び側面１０ｈと先端面３３３ａとの間隔が自動的に調整される。例えば、溝１０ｆの幅が広い場合には、側面エアパッド３３３をガイド部材本体３３１から突出させる方向（−ｚ方向）に移動させて、側面エアパッド３３３の先端面３３３ａを側面１０ｈに近づける。
【００６０】
先端面３３３ｆの面積をＳＰＩをとし、貫通孔３３２ｄ、３３３ｄから吐出する空気の圧力をＰＰＩとすると、摺動部３３３ｂ、すなわち側面エアパッド３３３に加えられる力ｆは、ＳＰＩとＰＰＩとの積（ｆ＝ＳＰＩ×ＰＰＩ）である。溝１０ｆの幅に合わせて側面エアパッド３３３を移動させるためには、側面エアパッド３３３、すなわち先端面３３３ａの面積ＳＰｄより先端面３３３ｆの面積ＳＰＩを小さくする必要がある。本実施の形態では、面積ＳＰＩは、面積ＳＰｄの０．５〜０．８倍程度である。
【００６１】
側面エアパッド３３２、すなわち先端面３３２ａの面積は、先端面３３３ａの面積と同じ面積ＳＰｄであるため、ガイド部材本体３３１は、溝１０ｆの中で自動的に位置が保たれる。
【００６２】
このとき、摺動部３３３ｂの直径が穴３３１ｄの直径より小さいため、摺動部３３３ｂの中心軸は、穴３３１ｄの中心軸（ガイド部材本体３３１の穴３３１ｄが形成された側面の法線方向）に対して傾くことができる。そのため、側面１０ｇと側面１０ｈとが平行でない場合にも、側面１０ｇと先端面３３２ａとを平行にし、側面１０ｈと先端面３３３ａとを平行にすることができる。
【００６３】
側面１０ｇと先端面３３２ａとの間及び側面１０ｈと先端面３３３ａとの間に形成された薄い空気の層を介して、側面エアパッド３３２、３３３が溝１０ｆの側面をおし広げるようにする。溝１０ｆは石製であり寸法が変化しないため、側面エアパッド３３２、３３３、すなわちガイド部材３３は、溝１０ｆによりガイドされる。
【００６４】
なお、図４に示す形態では、摺動部３３３ｂと穴３３１ｄとの間の空間及び貫通孔３３３ｄには孔３３１ｅから空気が供給されるため、先端面３３３ｆを押圧する空気の圧力と、貫通孔３３３ｄに供給される空気の圧力とが同じであるが、先端面３３３ｆにかかる空気の圧力と、貫通孔３３３ｄに供給される空気の圧力とを異ならせてもよい。例えば、摺動部３３３ｂと穴３３１ｄとの間の空間に孔３３１ｅから供給される空気の流路と、貫通孔３３３ｄに孔３３１ｅから供給される空気の流路とを部分的に異ならせ、その異なる部分に別々のレギュレータを設けるようにしてもよい。
【００６５】
下面エアパッド３３４は、平面視（上（＋ｙ方向）から見て）略矩形形状の部材であり、ガイド部材本体３３１の下側（−ｙ側）にピン３３５（図３、５参照）を介して設けられる。下面エアパッド３３４には、内部に管状の貫通孔３３４ａが形成される。貫通孔３３４ａは、図示しないポンプ等から供給される空気の通路である。貫通孔３３４ａは、一端は下面３３４ｃ（図５参照）に開口し、他端は側面３３４ｄに開口する。貫通孔３３４ａの側面３３４ｄに開口した開口部は、ポンプ等と連結された配管３５２と連結されている。その結果、配管３５２を介して貫通孔３３４ａに空気が供給される。
【００６６】
図５は、ガイド部材３３を説明するための概略図であり、図４のＡ−Ａ断面図である。図５において、空気の流れを太破線矢印で示す。
【００６７】
ピン３３５は、上下に略半球面を持つ棒状の部材である。ピン３３５は、ガイド部材本体３３１を上下方向（ｙ方向）に貫通する。本実施の形態では、ピン３３５の外周面には雄ネジ（図示せず）が形成され、この雄ネジがガイド部材本体３３１をｙ方向に貫通する孔３３１ｆに形成された雌ネジ（図示せず）に螺合される。これにより、ピン３３５がガイド部材本体３３１に固定される。
【００６８】
ピン３３５の下端部は、下面エアパッド３３４の上面に形成された穴３３４ｅに設けられる。穴３３４ｅの底面は略半球面であり、穴３３４ｅの底面とピン３３５の下端の略半球面とが当接する。
【００６９】
ピン３３５の上端は、略半球面である端面３３５ａである。端面３３５ａは、調整機構３２の底面３２ａと当接する。本実施の形態では、端面３３５ａは、底面３２ａに形成された凹部３２ｂに当接する。端面３３５ａが略半球面であるため、調整機構３２がピン３３５に対して傾いたとしても、端面３３５ａの位置に対して調整機構３２の位置を決めることができ、かつエアパッド３３２、３３４に不都合な偏荷重を避けることができる。なお、凹部３２ｂは必須ではないし、凹部３２ｂの形状もこれに限られない。
【００７０】
ピン３３５は、下面エアパッド３３４毎に設けられる。したがって、フレーム３１及び調整機構３２は、２本のピン３３５を介して、２個の下面エアパッド３３４により支持される。
【００７１】
貫通孔３３４ａの内部には、オリフィス３３４ｂが形成される。配管３５２（図４参照）から貫通孔３３４ａに供給された空気は、オリフィス３３４ｂを通って、下面エアパッド３３４の下面３３４ｃ側の開口部から、溝１０ｆの底面１０ｉに向けて吐出される。その結果、貫通孔３３４ａから吐出した空気により、底面１０ｉと下面３３４ｃとの間に薄い空気の層を形成する（図５破線矢印参照）。これにより、フレーム３１、調整機構３２、フォトマスクＭ等の自重に抗して、下面エアパッド３３４、すなわちガイド部材３３が溝１０ｆの底面から浮き上がる。このように、重いフレーム３１及び調整機構３２を、剛性の高い溝１０ｆで支えることができる。
【００７２】
図１〜３の説明に戻る。除振台５０は、図３に示すように、アクティブ除振台である除振台５１と、重さ支えのパッシブ除振台である除振台５２と、を有する。
【００７３】
除振台５２は、ｚ方向に移動可能な受動型バネ要素を有する。除振台５１は、除振台５２に、ｘ方向及びｙ方向のそれぞれに移動可能なアクチュエータ５１ａ、５１ｂと、アクチュエータ５１ａ、５１ｂを制御するためにアクチュエータ５１ａ、５１ｂのそれぞれに設けられたセンサ（図示せず）と、図示しないセンサからの信号に基づいて外部から入力する振動を抑制するようにアクチュエータ５１ａ、５１ｂを制御する制御回路（図示せず）と、を追加したものである。除振台５１、５２については、すでに公知であるため、詳細な説明を省略する。
【００７４】
図１に示すように、除振台５１、５２が支持面１０ｄを支持するため、除振台５１、５２の高さは、凹部１０ｂ、１０ｃの深さＤ１より高い。また、除振台５１、５２の直径は、支持面１０ｄの辺の長さ以下である。これにより、除振台５１、５２が凹部１０ｂ、１０ｃの内部に収まるため、省スペース化することができる。ただし、除振台５１、５２の直径は、凹部１０ｂ、１０ｃの辺の長さ以下でなくてもよい。
【００７５】
次に、検査装置１の動作について説明する。まず、フレーム３１にフォトマスクＭを取り付けて、調整機構３２によりフォトマスクＭの下辺の高さ方向（ｙ方向）の位置を調整する。このときは、マスク支持部３０は、定盤１０の＋方向の端近傍の取付位置に位置する。
【００７６】
次に、ガイド部材３３を溝１０ｆに沿って−ｘ方向に移動させて、フォトマスクＭを取付位置から検査位置に移動させる。
【００７７】
具体的には、ガイド部材３３の図示しないポンプ等から側面エアパッド３３２、３３３に空気を供給して、貫通孔３３２ｄ、３３３ｄから空気を吐出する。また、ガイド部材３３の図示しないポンプ等から下面エアパッド３３４に空気を供給して、貫通孔３３４ａから空気を吐出する。
【００７８】
そしてガイド部材３３の図示しない駆動機構（例えば、リニアモーター等）により、ガイド部材本体３３１に−ｘ方向の力を付勢する。側面エアパッド３３２、３３３と溝１０ｆの側面１０ｇ、１０ｈとの間、及び下面エアパッド３３４と溝１０ｆの底面１０ｉとの間に空気の層が形成されているため、ガイド部材本体３３１に力が付勢されることにより、ガイド部材３３を容易に移動させることができる。
【００７９】
フォトマスクＭが検査位置に移動したら、撮像部２０によりフォトマスクＭの検査を行う。本実施の形態では、透過照明光源からｇ線を、反射照明光源からｅ線を同時に照射し、これらをカメラ２２ａ、２２ｂで同時に受光して画像化する。そして、カメラ２２ａで撮像された画像と、カメラ２２ｂで撮像された画像とを差分して、２枚の画像の差異を求めることで、パターンの欠陥等を発見する。ただし、パターンの欠陥等を発見する方法はこれに限られない。例えば、カメラ２２ａで撮像された画像と、カメラ２２ｂで撮像された画像とのそれぞれを設計データに基づいて生成された画像と比較することで、パターンの欠陥等を発見してもよい。
【００８０】
このように、透過光による画像と反射光による画像とを用いて検査を行うことで、検査を迅速に行うことができると共に、様々な欠陥を発見することができる。
【００８１】
この検査を、まず、カメラ２２ａが定盤１０の上面１０ｅに当接する初期位置で行う。撮像部２０は、透過照明光源からｇ線を、反射照明光源からｅ線を同時に照射しながら、透過照明光源、反射照明光源及びカメラ２２ａ、２２ｂを、柱２１に沿って上方（＋ｙ方向）に移動させる。このようにして、マスク支持部３０に支持されたフォトマスクＭに形成されたパターンを順次撮像していく。
【００８２】
このように、初期位置から上端位置へとカメラ２２ａ、２２ｂを移動させつつ画像を撮像したら、撮像部２０は、カメラ２２ａ、２２ｂを初期位置へ戻す。そして、ガイド部材３３、すなわちフォトマスクＭを所定距離だけ−ｘ方向に移動させる。撮像部２０は、同様に、カメラ２２ａ、２２ｂを移動させつつ画像を撮像する。
【００８３】
このような動作を繰り返し行うことにより、フォトマスクＭの全面が検査できる。カメラ２２ａ、２２ｂの鉛直方向の移動速度や、ガイド部材３３の水平方向の移動速度はカメラ２２ａ、２２ｂの視野範囲及び性能等により調整される。
【００８４】
フォトマスクＭ全面の検査が終了したら、ガイド部材３３の図示しない駆動機構によりガイド部材本体３３１に＋ｘ方向の力を付勢して、マスク支持部３０を取付位置へ移動させる。そして、フォトマスクＭを交換して、次のフォトマスクＭの検査へと移る。
【００８５】
本実施の形態によれば、定盤１０の下面１０ａに凹部１０ｂ、１０ｃを形成し、設置面Ｆ上に載置された除振台５１、５２が凹部１０ｂ、１０ｃの底面（支持面１０ｄ）を支持することで、支持面１０ｄを基準としたときの検査装置１の重心位置Ｇを低くすることができる。検査装置１は、鉛直方向にフォトマスクＭを支持するため、重心位置Ｇが高くなりやすい。しかしながら、凹部１０ｂ、１０ｃの内部に除振台５１、５２を設けることで、定盤１０の下に除振台５１、５２を設けつつも、検査装置１の重心位置Ｇを低くすることができる。また、除振台５１、５２を設けるため、検査装置１の耐振動性を高くすることができる。また、凹部１０ｂ、１０ｃの内部に除振台５１、５２を設けることで、検査装置１を省スペース化することができる。
【００８６】
例えば、凹部が形成されていない定盤の下側に除振台５１、５２を設ける場合には、重心位置Ｇが高くなってしまう。また、凹部が形成されていない定盤の外側に除振台５１、５２を設ける場合には、検査装置の外形が大きくなってしまう。それに対し、厚い定盤１０に凹部１０ｂ、１０ｃを形成し、凹部１０ｂ、１０ｃの内部に除振台５１、５２を設けることで、重心位置Ｇを低くしつつ、検査装置１を小さくすることができる。
【００８７】
また、本実施の形態によれば、定盤１０の上面１０ｅに、平面視において凹部１０ｂ、１０ｃと重ならない位置に溝１０ｆを形成することで、定盤１０の強度を保ちつつ、重心位置Ｇを低くすることができる。例えば、定盤１０の上面１０ｅにレールを形成し、その上にマスク支持部を設けると、重心位置Ｇが高くなってしまう。それに対し、溝１０ｆにマスク支持部３０を設けることで、重心位置Ｇを低くすることができる。
【００８８】
また、本実施の形態によれば、溝１０ｆを形成するため、側面エアパッド３３２、３３３及び下面エアパッド３３４から空気を吐出することで、側面エアパッド３３２、３３３と溝１０ｆの側面１０ｇ、１０ｈとの間、及び下面エアパッド３３４と溝１０ｆの底面１０ｉとの間に空気の層を形成することができる。これにより、ガイド部材３３を溝１０ｆから浮かし、ガイド部材３３を容易に移動させることができる。このような構成及び効果は、定盤１０という硬い素材に溝１０ｆを直接形成することにより始めて実現可能である。
【００８９】
例えば、定盤１０の上面１０ｅにセラミック製又は石製の凸形状のレールを形成し、その上にマスク支持部を設ける場合には、剛性が低く、寸法精度が落ちるうえ、マスク支持部３０の設置位置が高くなってしまうという問題がある。それに対し、溝１０ｆを定盤１０に形成する場合には、剛性が高いうえ、寸法精度も高い。したがって、少ない振動で滑らかにガイド部材３３を移動させることができる。さらに、溝１０ｆは丈夫であるため、貫通孔３３２ｄ、３３３ｄ、３３４ａから高い圧力で空気を吐出することができる。したがって、ガイド部材３３を溝１０ｆから確実に浮かし、ガイド部材３３をより滑らかに移動させることができる。また、定盤１０に溝１０ｆを形成することで、マスク支持部３０の設置位置を低くすることができる。
【００９０】
以上、この発明の実施形態を、図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。
【００９１】
また、本発明において、「略」とは、厳密に同一である場合のみでなく、同一性を失わない程度の誤差や変形を含む概念である。例えば、略立方体形状とは、厳密に立方体形状の場合に限られない。例えば、定盤１０には凹部１０ｂ等が形成されているが、定盤１０を全体としてみれば略立方体形状である。また、例えば、単に鉛直、一致等と表現する場合において、厳密に鉛直、一致等の場合のみでなく、略鉛直、略一致等の場合を含むものとする。
【００９２】
また、本発明において「近傍」とは、例えばＡの近傍であるときに、Ａの近くであって、Ａを含んでもいても含んでいなくてもよいことを示す概念である。
【符号の説明】
【００９３】
１            ：検査装置
１０          ：定盤
１０ａ        ：下面
１０ｂ、１０ｃ：凹部
１０ｄ        ：支持面
１０ｅ        ：上面
１０ｆ        ：溝
１０ｇ、１０ｈ：側面
１０ｉ        ：底面
２０          ：撮像部
２１          ：柱
２２          ：カメラ
２２ａ、２２ｂ：カメラ
２３          ：支持部
３０          ：マスク支持部
３１          ：フレーム
３２          ：調整機構
３２ａ        ：底面
３２ｂ        ：凹部
３３          ：ガイド部材
５０          ：除振台
５１          ：除振台
５１ａ、５１ｂ：アクチュエータ
５２          ：除振台
３３１        ：ガイド部材本体
３３１ａ      ：側面
３３１ｂ      ：側面
３３１ｃ      ：穴
３３１ｄ      ：穴
３３１ｅ      ：孔
３３１ｆ      ：孔
３３２        ：側面エアパッド
３３２ａ      ：先端面
３３２ｂ      ：結合部
３３２ｃ      ：エアパッド部
３３２ｄ      ：貫通孔
３３２ｅ      ：オリフィス
３３３        ：側面エアパッド
３３３ａ      ：先端面
３３３ｂ      ：摺動部
３３３ｃ      ：エアパッド部
３３３ｄ      ：貫通孔
３３３ｅ      ：オリフィス
３３３ｆ      ：先端面
３３４        ：下面エアパッド
３３４ａ      ：貫通孔
３３４ｂ      ：オリフィス
３３４ｃ      ：下面
３３４ｄ      ：側面
３３４ｅ      ：穴
３３５        ：ピン
３３５ａ      ：端面
３４３        ：プラグ
３４１、３４２：弾性部材
３５１、３５２：配管
Ｍ            ：フォトマスク
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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