(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに隙間をあけた状態で水平方向に並列する複数の帯状の光伝播用のコアと、上記各コアの下面に設けられたアンダークラッドと、上記各コアの長手方向に延びる両側面と上面とを覆うオーバークラッドと、隣り合う上記コアとコアとの間の、上記各コアの側面を覆うオーバークラッド部分の互いに向かい合う面と面の間に設けられた光吸収部とを備えた光導波路であって、上記光吸収部の表面の高さ位置が、上記コアの頂面の高さ位置と同じに設定されており、上記光吸収部が、上記コア内を伝播する光の吸収能を有する光吸収剤を含有していることを特徴とする光導波路。
【請求項２】
上記アンダークラッドおよびオーバークラッドが、樹脂によって形成されている請求項１記載の光導波路。
【請求項３】
上記オーバークラッドが、空気によって形成されている請求項１記載の光導波路。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光通信，光情報処理，その他一般光学の分野で用いられる光導波路に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
光導波路Ｗ１３は、一般に、図１３（ａ）に平面図で示し、図１３（ｂ）に図１３（ａ）のＣ−Ｃ断面図で示すように、アンダークラッド１の表面に、光伝播用の線状のコア２が所定パターンに突出形成され、そのコア２を被覆した状態で、オーバークラッド３が形成されている。そして、上記光導波路Ｗ１３は、コア２の一端部の光入射部２ａから光を入射させ、その光をコア２の他端部の光出射部２ｂから出射させるようになっている。すなわち、コア２の一端部の光入射部２ａから入射した光は、図示していないが、アンダークラッド１との界面およびオーバークラッド３との界面で反射を繰り返しながら、コア２の中を他端部の光出射部２ｂまで伝播する。なお、図１３（ｂ）において、符号５は、上記光導波路Ｗ１３を作製する際に用いられる基板である。
【０００３】
ところで、上記光導波路Ｗ１３の作製過程において、コア２に異物が混入したり、上記界面が粗面に形成されたりすることがある。コア２に異物が混入していると、コア２の中を伝播する光が、その異物に当たった際に、異常な方向に反射し、上記界面で反射せず、上記界面を透過する（コア２から漏れる）ことがある（２点鎖線で示す矢印Ｌ１参照）。また、上記界面が粗面に形成されていると、上記界面に到達した光が、上記界面で反射せず、上記界面を透過する（コア２から漏れる）ことがある（２点鎖線で示す矢印Ｌ２参照）。
【０００４】
ここで、複数の光伝播用のコア２が並列に形成されている光導波路Ｗ１３において、上記のようにコア２から光が漏れると、その漏れた光が隣のコア２に混入する、いわゆる「クロストーク」が発生する。隣のコア２に混入した光は、隣のコア２を伝播する光（信号Ｓ）にとってノイズ（Ｎ）であり、Ｓ／Ｎ比を悪化させ、光通信を不安定にする。
【０００５】
そこで、図１４（ａ）に平面図で示し、図１４（ｂ）に図１４（ａ）のＤ−Ｄ断面図で示すように、隣り合う光伝播用のコア２とコア２との間に、そのコア２と同じ形成材料を用いて、光伝播に用いないダミーコア２０を設け、そのダミーコア２０により、クロストークを抑制した光導波路Ｗ１４が提案されている（例えば、特許文献１参照）。このものは、ダミーコア２０の屈折率が、コア２と同様、アンダークラッド１およびオーバークラッド３の屈折率よりも大きいことから、図示していないが、コア２から漏れた光がダミーコア２０に侵入すると、その光がダミーコア２０から漏れにくくなることを図ったものである。なお、図１４（ａ）では、コア２およびダミーコア２０の配置を明確にするために、それらコア２およびダミーコア２０に破線で斜線を入れ、その斜線の間隔は、ダミーコア２０の方をコア２よりも広くしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１４−２２１８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上記ダミーコア２０を設けた従来の光導波路Ｗ１４でも、コア２から漏れた光の殆どが、ダミーコア２０を透過し（２点鎖線で示す矢印Ｌ３，Ｌ４参照）、クロストークを充分に抑制することができない。すわなち、コア２から漏れた光がダミーコア２０に侵入したとしても、コア２から光が漏れる原因と同じ原因で、そのダミーコア２０から光が漏れるという不具合がしばしばみられる。
【０００８】
本発明は、このような事情に鑑みなされたもので、クロストークの抑制を向上させることができる光導波路の提供をその目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記の目的を達成するため、本発明の光導波路は、並列する複数の光伝播用のコアと、隣り合うコアとコアとの間にそれらコアと非接触状態で設けられた光吸収部とを備え、その光吸収部が、上記コア内を伝播する光の吸収能を有する光吸収剤を含有しているという構成をとる。
【００１０】
本発明者らは、複数の光伝播用のコアが並列する光導波路において、コア間のクロストークの抑制を向上させるべく、光導波路の構造について研究を重ねた。その研究の過程で、隣り合うコアとコアとの間に、光吸収部を設けることを着想した。その光吸収部は、上記コア内を伝播する光の吸収能を有する光吸収剤を含有しているものとした。その結果、コアから漏れた光が光吸収部に当たると、その光は光吸収部で吸収され、隣のコアに混入しなくなり、クロストークの抑制が向上可能であることを突き止めた。しかし、光吸収部をコアと接触した状態で設けると、コア内を伝播する光が、光吸収部との界面で反射する度に、光吸収部で吸収されて減衰するという知見を得た。すなわち、光吸収部がコアと接触していると、クロストークの抑制が向上可能であっても、コア内での光伝播は適正になされないのである。そこで、光吸収部をコアと非接触状態で設けた結果、クロストークの抑制を向上させることができるとともに、コア内の光伝播も適正になされることを見出し、本発明に到達した。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の光導波路は、並列する複数の光伝播用のコアを有し、隣り合うコアとコアとの間に、光吸収部が設けられている。そして、その光吸収部は、上記コア内を伝播する光の吸収能を有する光吸収剤を含有している。それにより、コアから漏れた光は、光吸収部に当たることにより、その光吸収部に吸収され、隣のコアに混入しなくなっている。そのため、本発明の光導波路は、クロストークの抑制効果を奏する。そのうえ、本発明の光導波路は、上記光吸収部を上記コアと非接触状態で設けている。そのため、コア内を伝播する光が、光吸収部に吸収されて減衰することなく、コア内を伝播することができる。
【００１２】
特に、上記コアと上記光吸収部との非接触状態が、コアを囲うクラッドによってなされている場合には、そのクラッドが光導波路に一般的に用いられるものであることから、大きなコストをかけることなく、クロストークの抑制を向上させることができる。
【００１３】
なかでも、上記クラッドが、樹脂によって形成されている場合には、上記コアと上記光吸収部との非接触状態を、より確実に維持することができる。そのため、コア内を伝播する光の減衰を、より確実に防止することができる。
【００１４】
さらに、上記クラッドが、上記光吸収部で被覆されている場合には、本発明の光導波路の外部からの光（外乱光）がコアに混入することを、上記光吸収部により、より確実に防止することができる。
【００１５】
また、上記クラッドが、空気によって形成されている場合には、コアと空気（エアクラッド）との屈折率差がより大きくなるため、コア内を伝播する光が、コアから漏れにくくなり、クロストークの抑制をより向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の第１の実施の形態の光導波路を模式的に示し、（ａ）は、その光導波路の平面図であり、（ｂ）は、（ａ）のＡ−Ａ断面図である。
【図２】（ａ）〜（ｄ）は、上記光導波路の製法を模式的に示す説明図である。
【図３】本発明の第２の実施の形態の光導波路を模式的に示す断面図である。
【図４】本発明の第３の実施の形態の光導波路を模式的に示す断面図である。
【図５】本発明の第４の実施の形態の光導波路を模式的に示す断面図である。
【図６】本発明の第５の実施の形態の光導波路を模式的に示す断面図である。
【図７】本発明の第６の実施の形態の光導波路を模式的に示す断面図である。
【図８】本発明の第７の実施の形態の光導波路を模式的に示し、（ａ）は、その光導波路の平面図であり、（ｂ）は、（ａ）のＢ−Ｂ断面図である。
【図９】本発明の第８の実施の形態の光導波路を模式的に示す断面図である。
【図１０】上記第７および第８の実施の形態の光導波路の変形例を模式的に示す断面図である。
【図１１】上記第７および第８の実施の形態の光導波路の他の変形例を模式的に示す平面図である。
【図１２】（ａ）は、上記第１の実施の形態の光導波路の変形例を模式的に示す平面図であり、（ｂ）は、上記第７の実施の形態の光導波路の変形例を模式的に示す平面図である。
【図１３】従来の光導波路を模式的に示し、（ａ）は、その光導波路の平面図であり、（ｂ）は、（ａ）のＣ−Ｃ断面図である。
【図１４】従来の他の光導波路を模式的に示し、（ａ）は、その光導波路の平面図であり、（ｂ）は、（ａ）のＤ−Ｄ断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
つぎに、本発明の実施の形態を図面にもとづいて詳しく説明する。
【００１８】
図１（ａ）は、本発明の第１の実施の形態の光導波路Ｗ１を示す平面図であり、図１（ｂ）は、図１（ａ）のＡ−Ａ断面図である。この第１の実施の形態の光導波路Ｗ１は、並列する複数（図では４本）の帯状のアンダークラッド１と、各アンダークラッド１の表面にそのアンダークラッド１の長手方向に沿って１本ずつ形成された光路用のコア２と、各コア２の側面および頂面に沿ってそのコア２を被覆した状態で上記アンダークラッド１の表面に形成されたオーバークラッド３と、上記各アンダークラッド１の側面ならびに上記オーバークラッド３の側面および頂面を被覆した状態で一体に形成された光吸収部４とを備えている。その光吸収部４は、コア２の中を伝播する光の吸収能を有する光吸収剤を含有している。そして、図１（ａ）に示すように、各コア２の長手方向の一端部が光入射部２ａ、他端部が光出射部２ｂになっており、その光入射部２ａから入射した光が、コア２の中を通り、上記光出射部２ｂまで伝播するようになっている。なお、図１（ａ）では、主要な構成であるコア２および光吸収部４の配置を明確にするために、オーバークラッド３等の一部の構成を省略している。また、図１（ｂ）において、符号５は、上記光導波路Ｗ１を作製する際に用いられる基板である。
【００１９】
この第１の実施の形態では、コア２から漏れた光が、アンダークラッド１の側面ならびにオーバークラッド３の側面および頂面からさらに漏れたとしても、その光は、光吸収部４に当たって吸収され、隣のコア２に混入しない（２点鎖線で示すＬ５，Ｌ６参照）。そのため、クロストークの抑制を向上させることができる。
【００２０】
そして、隣り合うオーバークラッド３とオーバークラッド３とで挟まれている光吸収部４の部分の幅を狭くすることにより、コア２の小ピッチ化が可能になる。すなわち、コア２を小ピッチ化しても、クロストークの抑制を向上させることができる。
【００２１】
また、上記光吸収部４は、隣り合うコア２とコア２との間に、オーバークラッド３を介して設けられ、コア２と非接触状態になっているため、コア２の中を伝播する光が光吸収部４に吸収されて減衰することがなく、適正な光伝播がなされる。
【００２２】
上記光吸収部４について、より詳しく説明すると、上記光吸収剤としては、例えば、ジイモニウム塩，シアニン系色素，ナフタロシアニン系色素，フタロシアニン系色素等があげられる。上記光吸収部４に含有させる光吸収剤は、吸収する光の波長（すなわちコア２の中を伝播する光の波長）によって決まり、上記に例示した光吸収剤は、波長７５０〜１０００ｎｍの範囲内の光の吸収に適したものとなっている。上記光吸収部４の形成材料としては、例えば、光硬化性樹脂，熱硬化性樹脂等があげられ、上記光吸収剤の含有率は、例えば、光硬化性樹脂では０．３〜２．０重量％、熱硬化性樹脂では０．５〜３０．０重量％に設定される。上記光吸収剤は、単独でもしくは２種以上併せて用いられる。
【００２３】
上記光導波路Ｗ１の製法の一例について、以下に詳しく説明する。
【００２４】
まず、基板５〔図２（ａ）参照〕を準備する。この基板５の形成材料としては、例えば、金属，樹脂，ガラス，石英，シリコン等があげられる。上記基板５の厚みは、例えば、１０〜１０００μｍの範囲内に設定される。
【００２５】
ついで、図２（ａ）に示すように、上記基板５の表面に、アンダークラッド１の形成材料である感光性樹脂を用い、フォトリソグラフィ法により、並列する複数の帯状のアンダークラッド１を形成する。このアンダークラッド１の寸法は、例えば、厚みが５〜５０μｍの範囲内に設定され、幅が３０〜５００μｍの範囲内に設定され、隣り合うアンダークラッド１とアンダークラッド１との隙間の幅が２０μｍ以上に設定される。
【００２６】
つぎに、図２（ｂ）に示すように、各アンダークラッド１の表面に、コア２の形成材料である感光性樹脂を用い、フォトリソグラフィ法により、そのアンダークラッド１の長手方向に沿って、コア２を１本ずつ形成する。このコア２の寸法は、例えば、厚みが１０〜８０μｍの範囲内に設定され、幅が上記アンダークラッド１の幅の８〜９０％の範囲内に設定され、隣り合うコア２とコア２との隙間の幅Ｔ１が２０〜５００μｍの範囲内に設定される。このコア２の形成材料としては、上記アンダークラッド１および下記オーバークラッド３〔図２（ｃ）参照〕の形成材料よりも屈折率が高い感光性樹脂が用いられる。
【００２７】
つづいて、図２（ｃ）に示すように、各アンダークラッド１の表面に、オーバークラッド３の形成材料である感光性樹脂を用い、フォトリソグラフィ法により、各コア２の側面および頂面に沿ってそのコア２を被覆した状態で、オーバークラッド３を形成する。このオーバークラッド３の厚みは、例えば、コア２の側面を被覆する部分が３〜５００μｍの範囲内に設定され、コア２の頂面を被覆する部分が３〜５０μｍの範囲内に設定される。
【００２８】
そして、図２（ｄ）に示すように、上記基板５の表面に、上記アンダークラッド１の側面および上記オーバークラッド３の側面および頂面を被覆した状態で、光吸収部４を一体に形成する。この光吸収部４は、その光吸収部４の前記形成材料（光硬化性樹脂，熱硬化性樹脂等）に応じた製法により形成される。この光吸収部４の寸法は、例えば、上記オーバークラッド３の頂面からの厚みＴ２が０（零）を超え、２００μｍ以下に設定され、隣り合うオーバークラッド３とオーバークラッド３とで挟まれている部分の幅Ｔ３が０（零）を超え、４００μｍ以下に、好ましくは１０〜２５０μｍの範囲内に設定される。
【００２９】
このようにして、上記基板５の表面に、上記アンダークラッド１，コア２，オーバークラッド３および光吸収部４からなる光導波路Ｗ１を作製することができる。この光導波路Ｗ１は、上記基板５の表面に接触した状態で用いてもよいし、上記基板５から剥離して用いてもよい。
【００３０】
図３は、本発明の第２の実施の形態の光導波路Ｗ２を示す断面図〔図１（ｂ）に相当する断面図〕である。この第２の実施の形態は、図１（ａ），（ｂ）に示す上記第１の実施の形態において、アンダークラッド１と基板５との間にも、光吸収部４の層を設けたものとなっている。すなわち、上記基板５の表面に、１層の光吸収部４の層を形成し、その光吸収部４の層の表面に、上記アンダークラッド１を形成したものとなっている。上記光吸収部４の層も、光導波路Ｗ２の構成の一部である。それ以外の部分は、図１（ａ），（ｂ）に示す上記第１の実施の形態と同様であり、同様の部分には、同じ符号を付している。
【００３１】
この第２の実施の形態では、上記第１の実施の形態と同様の、光吸収部４による光吸収効果に加え、アンダークラッド１の底面から漏れた光をも、アンダークラッド１と基板５との間に設けられた光吸収部４の層で吸収することができる。そのため、クロストークの抑制をさらに向上させることができる。
【００３２】
図４は、本発明の第３の実施の形態の光導波路Ｗ３を示す断面図〔図１（ｂ）に相当する断面図〕である。この第３の実施の形態は、図１（ａ），（ｂ）に示す上記第１の実施の形態において、基板５を、光吸収部４の形成材料で形成したものとなっている。この第３の実施の形態では、光導波路Ｗ３を上記基板５の表面に接触した状態で用いる。それ以外の部分は、図１（ａ），（ｂ）に示す上記第１の実施の形態と同様であり、同様の部分には、同じ符号を付している。
【００３３】
この第３の実施の形態では、上記第１の実施の形態と同様の、光吸収部４による光吸収効果に加え、アンダークラッド１の底面から漏れた光をも、上記基板５で吸収することができる。そのため、クロストークの抑制をさらに向上させることができる。
【００３４】
図５は、本発明の第４の実施の形態の光導波路Ｗ４を示す断面図〔図１（ｂ）に相当する断面図〕である。この第４の実施の形態は、図１（ａ），（ｂ）に示す上記第１の実施の形態において、アンダークラッド１を、並列する複数の帯状に形成するのではなく、一体の層として形成した状態となっている。そして、光吸収部４は、コア２およびオーバークラッド３を除く、アンダークラッド１の表面部分に形成されている。それ以外の部分は、図１（ａ），（ｂ）に示す上記第１の実施の形態と同様であり、同様の部分には、同じ符号を付している。
【００３５】
この第４の実施の形態では、コア２から漏れた光が、オーバークラッド３の側面および頂面からさらに漏れたとしても、その光は、光吸収部４に当たって吸収される。そのため、クロストークの抑制を向上させることができる。
【００３６】
図６は、本発明の第５の実施の形態の光導波路Ｗ５を示す断面図〔図１（ｂ）に相当する断面図〕である。この第５の実施の形態は、図１（ａ），（ｂ）に示す上記第１の実施の形態において、光吸収部４を、コア２に対応させて、それぞれ独立させたものとなっている。すなわち、隣り合う光吸収部４と光吸収部４との間に、隙間を設け、各光吸収部４が、各アンダークラッド１の側面ならびに各オーバークラッド３の側面および頂面を被覆した状態となっている。この第５の実施の形態では、光導波路Ｗ５を上記基板５の表面に接触した状態で用いる。それ以外の部分は、図１（ａ），（ｂ）に示す上記第１の実施の形態と同様であり、同様の部分には、同じ符号を付している。
【００３７】
この第５の実施の形態でも、上記第１の実施の形態と同様の、光吸収部４による光吸収効果を奏する。さらに、各光吸収部４の側面および頂面は、空気に接触しており、光吸収部４の屈折率は、通常、空気の屈折率よりも大きいことから、各光吸収部４の中の光は、その光吸収部４から外側の空気に漏れにくくなっている。そのため、クロストークの抑制をさらに向上させることができる。
【００３８】
上記隣り合う光吸収部４と光吸収部４との隙間の形成は、光吸収部４の形成工程〔図２（ｄ）参照〕において、フォトリソグラフィ法により光吸収部４をパターン形成することによりなされる。または、図１（ａ），（ｂ）に示す上記第１の実施の形態の光導波路Ｗ１の光吸収部４を切削することにより、上記隙間を形成してもよい。上記隙間の幅Ｔ４は、０（零）を超えていればよく、好ましくは５〜２００μｍの範囲内である。
【００３９】
図７は、本発明の第６の実施の形態の光導波路Ｗ６を示す断面図〔図１（ｂ）に相当する断面図〕である。この第６の実施の形態は、図１（ａ），（ｂ）に示す上記第１の実施の形態において、光吸収部４の厚みを薄くして、光吸収部４を、オーバークラッド３の頂面を被覆しない状態で形成したものである。そして、この第６の実施の形態では、上記光吸収部４の表面の高さ位置を、コア２の底面の高さ位置（アンダークラッド１の表面の高さ位置）よりも高く設定している。それ以外の部分は、図１（ａ），（ｂ）に示す上記第１の実施の形態と同様であり、同様の部分には、同じ符号を付している。
【００４０】
この第６の実施の形態では、コア２から漏れた光が、アンダークラッド１の側面ならびにオーバークラッド３の側面および頂面からさらに漏れたとしても、その光の一部は、光吸収部４に当たって吸収される。そのため、クロストークの抑制を向上させることができる。
【００４１】
この第６の実施の形態では、図７に示すように、光吸収部４の表面の高さ位置を、コア２の頂面の高さ位置に設定することが、クロストークの抑制をさらに向上させることができる観点から、好ましい。なお、上記光吸収部４の表面の高さ位置を、コア２の頂面の高さ位置よりも高く設定してもよい。
【００４２】
また、上記第２〜第５の実施の形態についても、光吸収部４の表面の高さ位置を、上記第６の実施の形態と同様に設定してもよい。
【００４３】
図８（ａ）は、本発明の第７の実施の形態の光導波路Ｗ７を示す平面図であり、図８（ｂ）は、図８（ａ）のＢ−Ｂ断面図である。この第７の実施の形態の光導波路Ｗ７は、１層のアンダークラッド１と、このアンダークラッド１の表面の所定位置に形成された並列する複数（図では４本）の線状のコア２と、隣り合うコア２とコア２との間の、上記アンダークラッド１の表面部分に、それらコア２と非接触状態で、それらコア２と平行に形成された線状の光吸収部４と、上記コア２および光吸収部４を被覆した状態で、上記アンダークラッド１の表面に形成されたオーバークラッド３とを備えている。そして、この第７の実施の形態では、上記コア２と上記光吸収部４とは、同じ厚みに形成されている。それ以外の部分は、図１（ａ），（ｂ）に示す上記第１の実施の形態と同様であり、同様の部分には、同じ符号を付している。なお、図８（ａ）では、主要な構成であるコア２および光吸収部４の配置を明確にするために、コア２に破線で斜線を入れている。
【００４４】
この第７の実施の形態では、コア２から漏れた光が、隣のコア２に向かったとしても、その光は、光吸収部４に当たって吸収される。そのため、クロストークの抑制を向上させることができる。
【００４５】
また、この第７の実施の形態では、上記第１〜第６の実施の形態よりも、光吸収部４の体積を小さくして形成することができ、その光吸収部４の形成材料を節約することができる。
【００４６】
この第７の実施の形態の光導波路Ｗ７の製法は、まず、基板５の表面にアンダークラッド１を形成する。ついで、そのアンダークラッド１の表面にコア２を形成する。つぎに、上記アンダークラッド１の表面に、上記コア２と隙間をあけて、光吸収部４を形成する。そして、上記コア２および光吸収部４を被覆した状態で、上記アンダークラッド１の表面にオーバークラッド３を形成する。このようにして、上記基板５の表面に、上記光導波路Ｗ７を作製することができる。なお、上記コア２と上記光吸収部４の形成順番は、逆でもよい。上記光吸収部４の幅Ｔ５は、０（零）を超えていればよく、好ましくは１０〜２５０μｍの範囲内である。隣り合う上記コア２と上記光吸収部４との隙間の幅Ｔ６は、０（零）を超えていればよく、好ましくは５〜２００μｍの範囲内である。
【００４７】
図９は、本発明の第８の実施の形態の光導波路Ｗ８を示す断面図〔図８（ｂ）に相当する断面図〕である。この第８の実施の形態は、図８（ａ），（ｂ）に示す上記第７の実施の形態において、オーバークラッド３を、コア２に対応させて、それぞれ独立させたものとなっている。すなわち、各コア２を、１個のオーバークラッド３で被覆し、光吸収部４をオーバークラッド３で被覆しないものとなっている。そして、この第８の実施の形態では、隣り合うオーバークラッド３と光吸収部４との間に、隙間を設けている。それ以外の部分は、図８（ａ），（ｂ）に示す上記第７の実施の形態と同様であり、同様の部分には、同じ符号を付している
【００４８】
この第８の実施の形態でも、上記第７の実施の形態と同様の、光吸収部４による光吸収効果を奏する。さらに、各オーバークラッド３の側面および頂面は、空気に接触しており、オーバークラッド３の屈折率は、空気の屈折率よりも大きいことから、各オーバークラッド３の中の光は、そのオーバークラッド３から外側の空気に漏れにくくなっている。そのため、クロストークの抑制をさらに向上させることができる。
【００４９】
上記隣り合うオーバークラッド３と光吸収部４との隙間の形成は、図８（ａ），（ｂ）に示す上記第７の実施の形態の光導波路Ｗ７の製法において、オーバークラッド３を、フォトリソグラフィ法によりパターン形成することによりなされる。上記隙間の幅Ｔ７は、０（零）を超えていればよく、好ましくは５〜２００μｍの範囲内である。
【００５０】
なお、上記第７および第８の実施の形態では、光吸収部４の厚みをコア２の厚みと同じとしたが、光吸収部４の厚みは、０（零）を超えていればよく、光吸収部４の厚みの上限は、コア２の厚み未満であってもよいし、コア２の厚みを超えていてもよい。
【００５１】
また、上記第７および第８の実施の形態では、樹脂からなるオーバークラッド３を形成したが、図１０に断面図〔図８（ｂ）に相当する断面図〕で示す光導波路Ｗ９のように、そのオーバークラッド３を形成しなくてもよい。すなわち、樹脂からなるオーバークラッド３に代えて、空気からなるクラッド（エアクラッド）３０としてもよい。このようすると、コア２と空気（エアクラッド３０）との屈折率差がより大きくなるため、コア２の中を伝播する光が、コア２から漏れにくくなり、クロストークの抑制をより向上させることができる。
【００５２】
さらに、上記第７および第８の実施の形態では、線状の光吸収部４を、長手方向に均一幅としたが〔図８（ａ）参照〕、均一幅でなくてもよい。例えば、図１１に平面図で示す光導波路Ｗ１０のように、光吸収部４の長手方向の中央部分の幅を断続的に広くしてもよいし、長手方向の中央にいくにつれて徐々に幅を広くしてもよい（図示せず）。逆に、光吸収部４の長手方向の両端部分の幅を広くしてもよい。なお、図１１では、第７の実施の形態〔図８（ａ）参照〕の変形例を図示している。
【００５３】
そして、上記第１〜第８の実施の形態では、光導波路Ｗ１〜Ｗ１０の長手方向の一端から他端まで、連続的に光吸収部４を形成したが、例えば、図１２（ａ），（ｂ）に平面図で示す光導波路Ｗ１１，Ｗ１２のように、断続的に形成してもよい。なお、図１２（ａ）では、第１の実施の形態〔図１（ａ）参照〕の変形例を図示し、図１２（ｂ）では、第７の実施の形態〔図８（ａ）参照〕の変形例を図示している。
【００５４】
つぎに、実施例について従来例と併せて説明する。但し、本発明は、実施例に限定されるものではない。
【実施例】
【００５５】
〔アンダークラッドおよびオーバークラッドの形成材料〕
成分ａ：エポキシ樹脂（三菱化学社製、ｊＥＲ１００１）７０ｇ。
成分ｂ：エポキシ樹脂（ダイセル社製、ＥＨＰＥ３１５０）２０ｇ。
成分ｃ：エポキシ樹脂（ＤＩＣ社製、ＥＸＡ−４８１６）１０ｇ。
成分ｄ：光酸発生剤（サンアプロ社製、ＣＰＩ−１０１Ａ）０．５ｇ。
成分ｅ：酸化防止剤（共同薬品社製、Ｓｏｎｇｎｏｘ１０１０）０．５ｇ。
成分ｆ：酸化防止剤（三光社製、ＨＣＡ）０．５ｇ。
成分ｇ：乳酸エチル（溶剤）５０ｇ。
これら成分ａ〜ｇを混合することにより、アンダークラッドおよびオーバークラッドの形成材料を調製した。
【００５６】
〔コアの形成材料〕
成分ｈ：エポキシ樹脂（新日鐵化学社製、ＹＤＣＮ−７００−３）５０ｇ。
成分ｉ：エポキシ樹脂（三菱化学社製、ｊＥＲ１００２）３０ｇ。
成分ｊ：エポキシ樹脂（大阪ガスケミカル社製、オグソールＰＧ−１００）２０ｇ。
成分ｋ：光酸発生剤（サンアプロ社製、ＣＰＩ−１０１Ａ）０．５ｇ。
成分ｌ：酸化防止剤（共同薬品社製、Ｓｏｎｇｎｏｘ１０１０）０．５ｇ。
成分ｍ：酸化防止剤（三光社製、ＨＣＡ）０．１２５ｇ。
成分ｎ：乳酸エチル（溶剤）５０ｇ。
これら成分ｈ〜ｎを混合することにより、コアの形成材料を調製した。
【００５７】
〔光吸収部の形成材料〕
成分ｏ：エポキシ樹脂（新日鐵化学社製、ＹＤＣＮ−７００−３）５０ｇ。
成分ｐ：エポキシ樹脂（三菱化学社製、ｊＥＲ１００２）３０ｇ。
成分ｑ：エポキシ樹脂（大阪ガスケミカル社製、オグソールＰＧ−１００）２０ｇ。
成分ｒ：光酸発生剤（サンアプロ社製、ＣＰＩ−１０１Ａ）０．５ｇ。
成分ｓ：光吸収剤（日東電工社製、ＮＴ−ＭＢ−ＩＲＬ３８０１）２．２６ｇ。
成分ｔ：乳酸エチル（溶剤）５０ｇ。
これら成分ｏ〜ｔを混合することにより、光吸収部の形成材料を調製した。
【００５８】
〔実施例１〕
上記形成材料を用いて、樹脂製基板の表面に、図１（ａ），（ｂ）に示す第１の実施の形態の光導波路（長さ５０ｍｍ）を作製した。アンダークラッドの寸法は、厚み４０μｍ、幅１００μｍ、隣り合うアンダークラッドとアンダークラッドとの隙間の幅を１５０μｍとした。コアの寸法は、厚み４０μｍ、幅４０μｍ、形成ピッチ２５０μｍとした。オーバークラッドの厚みは、コアの側面を被覆する部分を３０μｍ、コアの頂面を被覆する部分を３０μｍとした。光吸収部の寸法は、隣り合うオーバークラッドとオーバークラッドとで挟まれている部分の幅を１５０μｍ、オーバークラッドの頂面からの厚みを１５μｍとした。
【００５９】
〔実施例２〕
上記形成材料を用いて、樹脂製基板の表面に、図３に示す第２の実施の形態の光導波路（長さ５０ｍｍ）を作製した。アンダークラッドと基板との間に設けられた光吸収部の層の厚みを２０μｍとした。それ以外の部分の寸法は、上記実施例１と同様とした。
【００６０】
〔実施例３〕
上記形成材料を用いて、樹脂製基板の表面に、図５に示す第４の実施の形態の光導波路（長さ５０ｍｍ）を作製した。コア等の構成の寸法は、上記実施例１と同様とした。
【００６１】
〔実施例４〕
上記形成材料を用いて、樹脂製基板の表面に、図６に示す第５の実施の形態の光導波路（長さ５０ｍｍ）を作製した。隣り合う光吸収部と光吸収部との隙間の幅を５０μｍとした。それ以外の部分の寸法は、上記実施例１と同様とした。
【００６２】
〔実施例５〕
上記形成材料を用いて、樹脂製基板の表面に、図８（ａ），（ｂ）に示す第７の実施の形態の光導波路（長さ５０ｍｍ）を作製した。光吸収部の寸法は、幅１５０μｍ、厚み４０μｍとした。また、隣り合う光吸収部とコアとの間の隙間の幅を３０μｍとした。それ以外の部分の寸法は、上記実施例１と同様とした。
【００６３】
〔実施例６〕
上記形成材料を用いて、樹脂製基板の表面に、図９に示す第８の実施の形態の光導波路（長さ５０ｍｍ）を作製した。光吸収部の寸法は、幅１００μｍ、厚み４０μｍとした。また、隣り合うオーバークラッドと光吸収部との間の隙間の幅を２５μｍとした。それ以外の部分の寸法は、上記実施例１と同様とした。
【００６４】
〔実施例７〕
上記実施例１において、光吸収部の形成材料を、下記の熱硬化性のものに代えた。それ以外の部分は、上記実施例１と同様とした。
【００６５】
〔実施例８〕
上記実施例２において、光吸収部の形成材料を、下記の熱硬化性のものに代えた。それ以外の部分は、上記実施例２と同様とした。
【００６６】
〔光吸収部の熱硬化性の形成材料〕
第１液（樹脂）と第２液（硬化剤）とを混合させるエポキシ樹脂（日東電工社製、ＮＴ−８０３８）を準備し、その第１液５０ｇと第２液５０ｇとともに、前記成分ｓの光吸収剤１１ｇを混合することにより、光吸収部の熱硬化性の形成材料を調製した。
【００６７】
〔従来例〕
上記形成材料を用いて、樹脂製基板の表面に、図１３（ａ），（ｂ）に示す、光吸収部が設けられていない従来の光導波路（長さ５０ｍｍ）を作製した。コアの頂面からのオーバークラッドの厚みを３０μｍとした。それ以外の部分の寸法は、上記実施例１と同様とした。
【００６８】
〔クロストーク抑制値の算出〕
ＶＣＳＥＬ光源（三喜社製、OP250-LS-850-MM50-SC、発光波長８５０ｎｍ）を接続したＧＩ型直径５０μｍのマルチモード光ファイバ（第１の光ファイバ）と、光パワーメータ（アドバンステスト社製、Ｑ８２２１）を接続したＳＩ直径１０５μｍのマルチモード光ファイバ（第２の光ファイバ）とを準備した。そして、上記第１の光ファイバの先端と上記第２の光ファイバの先端とを突き合わせ、上記ＶＣＳＥＬ光源からの光を上記光パワーメータで受光し、その受光強度（Ｉ0 ）を測定した。
【００６９】
ついで、上記第１の光ファイバの先端を、上記実施例１〜８および上記従来例の光導波路における１本のコアの光入射部（一端部）に仮接続するとともに、上記第２の光ファイバの先端を、上記コアの光出射部（他端部）に仮接続した。そして、上記両光ファイバの先端の位置を変えながら、上記ＶＣＳＥＬ光源からの光を上記光パワーメータで受光し、その受光強度が最大となる位置で、上記第１の光ファイバの先端を上記コアの光入射部（一端部）に固定した。これにより、上記第１の光ファイバを上記コアに対して調芯した状態に位置決めした。
【００７０】
つぎに、上記第２の光ファイバの先端部を、上記コアの隣のコアの光出射部（他端部）に接続し、その状態での受光強度（Ｉ）を上記光パワーメータで測定した。そして、測定した上記受光強度から〔−１０×ｌｏｇ（Ｉ／Ｉ0 ）〕を算出し、その値をクロストーク抑制値とした。その結果を下記の表１に示した。
【００７１】
【表１】
0006712718.tif 000002
【００７２】
上記表１の結果から、光吸収部を備えた実施例１〜８は、光吸収部を備えていない従来例よりも、クロストークが抑制されていることがわかる。特に、光吸収部の形成材料として熱硬化性のものを用いた実施例７，８では、クロストークの抑制により優れていることがわかる。
【００７３】
また、図４に示す第３の実施の形態の光導波路および図７に示す第６の実施の形態の光導波路ならびに図１０，図１１および図１２（ａ），（ｂ）に示す光導波路の変形例でも、上記実施例と同様の傾向を示す結果が得られた。
【産業上の利用可能性】
【００７４】
本発明の光導波路は、クロストークの抑制を向上させる場合に利用可能である。
【符号の説明】
【００７５】
Ｗ１  光導波路
１  アンダークラッド
２  コア
３  オーバークラッド
４  光吸収部
５  基板
【図１】
0006712718.tif 000003
【図２】
0006712718.tif 000004
【図３】
0006712718.tif 000005
【図４】
0006712718.tif 000006
【図５】
0006712718.tif 000007
【図６】
0006712718.tif 000008
【図７】
0006712718.tif 000009
【図８】
0006712718.tif 000010
【図９】
0006712718.tif 000011
【図１０】
0006712718.tif 000012
【図１１】
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【図１２】
0006712718.tif 000014
【図１３】
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【図１４】
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