(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ドライブライン装置を潤滑する方法であって、
（ａ）潤滑粘度の油；
（ｂ）ヒドロカルビル置換されたイミドまたはアミドを含み、第四級窒素原子および炭素含有アニオンをさらに含有する油溶性の第四級アンモニウム化合物であって、該アニオンがヒドロカルビル硫酸アニオンである、油溶性の第四級アンモニウム化合物；ならびに
（ｃ）チアジアゾール化合物
を含む組成物を該ドライブライン装置に供給することを含む、方法。
【請求項２】
前記イミドまたはアミドがスクシンイミドまたはスクシンアミドである、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記イミドまたはアミドの前記ヒドロカルビル置換基が１２〜５００個の炭素原子を含有する、請求項１または請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記アニオンが、アルキル基が１〜３０個の炭素原子を含有するアルキル硫酸アニオンである、請求項１から３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
前記アニオンがメチル硫酸アニオンである、請求項１から４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
前記第四級アンモニウム化合物がヒドロカルビル置換されたコハク酸または無水物およびＮ，Ｎ−ジアルキルプロピレンジアミンの反応生成物を含み、該反応生成物が四級化されている、請求項１から５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
前記第四級アンモニウム化合物がヒドロカルビル置換されたコハク酸または無水物およびＮ，Ｎ−ジメチルプロピレンジアミンの反応生成物を含み、該反応生成物が四級化されている、請求項１から６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
前記第四級アンモニウム化合物が物質であって、そのカチオンが次の構造
【化１９】
0006789973.tif 000028
［式中、Ｒ１は少なくとも１６個または少なくとも２４個の炭素原子のヒドロカルビル基を表し、ただし、Ｒ１は環式結合を含む様々な結合のいずれかによって前記環式イミド構造に結合され得、さらにＲ１は複数の環式イミド構造に結合され得；
Ｒ２はアルキル基、ヒドロキシアルキル基、またはアリールアルキル基であり；Ｒ４はアルキル基であり、Ｒ５はメチルまたはエチルである］
によって表される物質を含む、請求項１から７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
前記第四級アンモニウム化合物が次の構造
【化２０】
0006789973.tif 000029
［式中、Ｒ１は少なくとも１６個または少なくとも２４個の炭素原子のヒドロカルビル基を表し、ただし、Ｒ１は環式結合を含む様々な結合のいずれかによって前記環式イミド構造に結合され得、さらにＲ１は複数の環式イミド構造に結合され得；
Ｒ２はアルキル基、ヒドロキシアルキル基、またはアリールアルキル基であり；Ｒ３はメチルまたはエチルである］
で表される物質またはその異性体（またはそれに対応する非環式アミド構造）を含む、請求項１から８のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
前記第四級アンモニウム化合物が次の構造
【化２１】
0006789973.tif 000030
［式中、ＰＩＢは２４〜４００個の炭素原子のポリイソブテン基を表す］
で表される物質を含む、請求項１から９のいずれかに記載の方法。
【請求項１１】
前記潤滑剤中の前記第四級アンモニウム化合物の量が０．１〜５または０．５〜５重量パーセント（活性化学物質基準）である、請求項１から１０のいずれかに記載の方法。
【請求項１２】
前記チアジアゾール化合物が、少なくとも１つの２−アルキルジチオ−５−メルカプト−［１，３，４］−チアジアゾール、少なくとも１つの２，５−ビス（アルキルジチオ）−［１，３，４］−チアジアゾール、少なくとも１つの２−アルキルヒドロキシフェニルメチルチオ−５−メルカプト−［１，３，４］−チアジアゾール、または２，５−ジメルカプト−［１，３，４］−チアジアゾールと窒素を含有する分散剤との反応生成物、またはこれらの混合物を含む、請求項１から１１のいずれかに記載の方法。
【請求項１３】
前記チアジアゾール化合物の量が０．０５〜２重量パーセントまたは０．１〜１重量パーセントである、請求項１から１２のいずれかに記載の方法。
【請求項１４】
前記組成物が、少なくとも１種の第四級でない分散剤、過塩基化金属清浄剤、シール膨潤剤、リン含有摩耗防止剤、無機のリンの酸、酸化防止剤、消泡剤、摩擦調整剤、防錆剤、粘度調整剤、流動点降下剤、またはこれらの混合物をさらに含む、請求項１から１３のいずれかに記載の方法。
【請求項１５】
前記ドライブライン装置が湿式クラッチを含む、請求項１から１４のいずれかに記載の方法。
【請求項１６】
前記ドライブライン装置がトランスミッションである、請求項１から１５のいずれかに記載の方法。
【請求項１７】
前記ドライブライン装置がデュアルクラッチトランスミッションである、請求項１から１６のいずれかに記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
背景
開示されている技術は、デュアルクラッチトランスミッションのようなドライブライン用途で特に有用な、第四級アンモニウム化合物を含有する潤滑剤に関する。第四級アンモニウム化合物はヒドロカルビルスクシンイミドの第四級アンモニウム塩のような第四級アンモニウム塩を含む。
【背景技術】
【０００２】
トランスミッションはオートマチックトランスミッションおよびデュアルクラッチトランスミッションを含み得、後者はダブルクラッチまたはツインクラッチトランスミッションとしても公知であり、様々なタイプのものが公知である。例えば、Automotive  Engineering  International、２００１年７月の「Transmission  Options」は６７〜６８頁でダブルクラッチトランスミッションおよびその限界の幾つかを論じている。本発明は、特にデュアルクラッチトランスミッション（「ＤＣＴ」）のようなオートマチックトランスミッションを含むドライブライン装置の円滑かつ効率的な潤滑の要求を満たそうとする。本明細書に記載されている単一の潤滑剤は、マニュアルトランスミッションに特有の伝動装置の潤滑、および同様にマニュアルトランスミッションに特有のギアシンクロナイザの潤滑を含むかかるトランスミッションの複数の要求を同時に満足する一方で、それに付随するすべての難解な要求を伴うオートマチックトランスミッションに特徴的なスリッピングスタートアップクラッチのような湿式クラッチ部品も潤滑する。特に、ＤＣＴのギアはピッチング保護を必要とし、シンクロナイザは、良好なシフティング耐久性を提供すると共に適正な摩擦曲線パラメータを有する流体を必要とし、ギアを含有する２つの平行な入力軸のためのクラッチは適正な潤滑を必要とする。また、潤滑剤は良好な腐食性能も有していなければならず、すなわち、接触し得る銅含有部品の過度の腐食を引き起こしてはならない。
【０００３】
米国特許第６，５２８，４５８号、Tiptonら、２００３年３月４日は、デュアルクラッチトランスミッションを潤滑する方法を開示している。潤滑組成物は、他の成分と共に、油、摩擦調整剤、および（とりわけ）スクシンイミド分散剤のような分散剤を含んでいる。
【０００４】
米国特許第８，１５３，５７０号、２０１２年４月１０日、および米国特許第８，４７６，２０７号、２０１３年７月２日、Bartonらは、潤滑組成物または燃料に使用するための第四級アンモニウム塩清浄剤を開示している。実施例２は、第四級アンモニウム塩をもたらす、ジメチルアミノプロピルアミンスクシンイミドと硫酸ジメチルとの反応生成物を開示している。
【０００５】
米国特許出願公開第２０１２／０２４７５１４号、Butkeら、２０１２年１０月４日は、スクシンイミド分散剤および／または第四級アンモニウム塩分散剤を含む分散剤成分を含む潤滑剤系クリーンアップ組成物を開示している。これは油圧系に使用され得る。四級化剤は、とりわけ硫酸ジアルキルであり得る。
【０００６】
米国特許出願公開第２００８／０１１３８９０号、Moretonら、２００８年５月１５日は、（ａ）少なくとも１つの第三級アミノ基を有するポリアルケンで置換されたアミン、および（ｂ）四級化剤の反応の反応生成物から作製される第四級アンモニウム塩清浄剤、ならびにその燃料組成物での使用を開示している。四級化剤は硫酸ジアルキルであり得る。潤滑粘度の油および第四級アンモニウム塩によってエンジンが潤滑され得る。
【０００７】
米国特許第４，１７１，９５９号、Vartanian、１９７９年１０月２３日は、スクシンイミドの第四級アンモニウム塩を含有する燃料組成物を開示している。Ｘアニオンは、酸、すなわち、ハロゲン化物または有機酸のアニオン（例えば、スルホネートまたはカルボネート）でよい。
【０００８】
米国特許第５，２５４，１３８号、Kurek、１９９３年１０月１９日は、第四級アンモニウム塩を含有する燃料組成物を開示している。アニオンＺ−がとりわけメチル硫酸アニオンであり得る四級化されたスクシンイミド物質であるようである。
【０００９】
米国特許出願公開第２０１２／０１０１０１２号、Delbridge、２０１２年４月２６日は、内燃機関用の潤滑剤添加剤成分としての無灰または低灰第四級清浄剤を開示している。ドライブライン部品（例えば、オートマチックまたはマニュアルトランスミッション）を潤滑するためのこの物質の使用が述べられている。
米国特許出願公開第２００７／０１５５６３６号、Koishikawa、２００７年７月５日は、良好な洗浄性能を有する潤滑油添加剤および潤滑油組成物を開示している。添加剤は少なくとも１０の塩基価を有する第四級アンモニウム塩である。潤滑油組成物は、内燃機関潤滑油、駆動系潤滑油（例えば、マニュアルトランスミッション油、差動装置油またはオートマチックトランスミッション油）などに使用することができる。
米国特許第３，７４９，６９５号、de  Vries、１９７３年７月３１日は、ヒドロカルビルで置換されたポリアミンまたはスクシンイミドとアルカンスルトンの反応生成物である効果的な清浄剤および分散剤を含有する潤滑組成物を開示している。この潤滑組成物は内燃機関に使用される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】米国特許第６，５２８，４５８号明細書
【特許文献２】米国特許第８，１５３，５７０号明細書
【特許文献３】米国特許第８，４７６，２０７号明細書
【特許文献４】米国特許出願公開第２０１２／０２４７５１４号明細書
【特許文献５】米国特許出願公開第２００８／０１１３８９０号明細書
【特許文献６】米国特許第４，１７１，９５９号明細書
【特許文献７】米国特許第５，２５４，１３８号明細書
【特許文献８】米国特許出願公開第２０１２／０１０１０１２号明細書
【特許文献９】米国特許出願公開第２００７／０１５５６３６号明細書
【特許文献１０】米国特許第３，７４９，６９５号明細書
【非特許文献】
【００１１】
【非特許文献１】Automotive  Engineering  International、２００１年７月、「Transmission  Options」、６７〜６８頁
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【００１２】
要旨
本明細書に記載されている潤滑剤の使用は、デュアルクラッチトランスミッションまたはオートマチックトランスミッションのようなドライブライン装置の潤滑における良好な摩擦特性を保持しながら銅腐食の低いレベルを提供する。
【００１３】
開示されている技術は、ドライブライン装置を潤滑する方法であって、（ａ）潤滑粘度の油；および（ｂ）第四級窒素原子および酢酸アニオン以外またはアルキルカルボン酸アニオン以外の炭素含有アニオンをさらに含有するヒドロカルビル置換されたイミドまたはアミドを含む油溶性の第四級アンモニウム化合物；および（ｃ）チアジアゾール化合物を含む組成物をドライブライン装置に供給することを含む、方法を提供する。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
詳細な説明
以下、非限定例により、様々な好ましい特徴および実施形態を記載する。
【００１５】
開示されている技術の１つの成分は、基油とも呼ばれる潤滑粘度の油である。基油は、アメリカ石油協会（ＡＰＩ）Base  Oil  Interchangeability  Guidelines（２０１１年）のグループＩ〜Ｖ、すなわち、
基油カテゴリー  硫黄分（％）              飽和分（％）  粘度指数
グループＩ      ＞０．０３  および／または  ＜９０          ８０〜１２０未満
グループＩＩ    ≦０．０３  および          ≧９０          ８０〜１２０未満
グループＩＩＩ  ≦０．０３  および          ≧９０          ≧１２０
グループＩＶ  全てのポリアルファオレフィン（ＰＡＯ）
グループＶ    グループＩ、ＩＩ、ＩＩＩまたはＩＶに含まれない他の全て
の基油のいずれかから選択され得る。グループＩ、ＩＩおよびＩＩＩは鉱油ベースストックである。その他以下の一般に認められているカテゴリーの基油が、ＡＰＩによって公式に同定されていなくても使用され得る：グループＩＩ＋は、１１０〜１１９の粘度指数および他のグループＩＩの油より低い揮発性を有するグループＩＩの物質を意味し；グループＩＩＩ＋は、１３０を超えるかまたはそれに等しい粘度指数を有するグループＩＩＩの物質を意味する。潤滑粘度の油は天然または合成油およびこれらの混合物を含むことができる。鉱油および合成油（例えばポリアルファオレフィン油および／またはポリエステル油）の混合物を使用してもよい。
【００１６】
天然油は動物油および植物油（例えば植物酸エステル）ならびに鉱物潤滑油（例えば、液体石油およびパラフィン系、ナフテン系、または混合パラフィン−ナフテン系タイプの溶剤処理または酸処理鉱物潤滑油）を含む。水素処理または水素化分解した油も有用な潤滑粘度の油である。石炭またはシェールに由来する潤滑粘度の油も有用である。
【００１７】
合成油は、重合および共重合オレフィンおよびこれらの混合物、アルキルベンゼン、ポリフェニル、アルキル化ジフェニルエーテル、ならびにアルキル化ジフェニルスルフィドおよびこれらの誘導体、これらの類似体および同族体のような、炭化水素油およびハロ置換炭化水素油を含む。アルキレンオキシドポリマーおよび共重合体およびこれらの誘導体、ならびに末端のヒドロキシル基が例えばエステル化またはエーテル化によって修飾されているものは他のクラスの合成潤滑油である。他の適切な合成潤滑油はジカルボン酸のエステルならびにＣ５〜Ｃ１２モノカルボン酸およびポリオールまたはポリオールエーテルから作製されたものを含む。他の合成潤滑油はリン含有酸の液体エステル、ポリマー性テトラヒドロフラン、ポリ−アルキル−、ポリアリール−、ポリアルコキシ−、またはポリアリールオキシ−シロキサン油、およびシリケート油のようなケイ素をベースとする油を含む。
【００１８】
他の合成油はフィッシャー・トロプシュ反応により生成したもの、通例水素異性化フィッシャー・トロプシュ炭化水素またはワックスを含む。一実施形態では、油は、フィッシャー・トロプシュガスツーリキッド合成手順ならびにその他のガスツーリキッド油により調製され得る。
【００１９】
上記開示のタイプの天然または合成の未精製、精製および再精製油（ならびにこれらの混合物）を使用することができる。未精製油は天然または合成起源からさらに精製処理することなく直接得られるものである。精製油は、１または複数の性質を改良するために１または複数の精製ステップでさらに処理されていることを除いて未精製油と同様である。再精製油は、精製油を得るのに使用されるのと類似のプロセスを、既に使用に供された精製油に施用することによって得られる。再精製油は使用済の添加剤および油分解生成物を除去するためにさらに処理されることが多い。
【００２０】
油の量は通例、他の規定成分が占めた後の組成物の１００パーセントに等しい量である。ある特定の実施形態では、量は、重量で５０〜９９．５パーセント、または６０〜９８、または７０〜９５、または８０〜９２、または８４〜９０パーセントであり得る。油の量は、ある種の添加剤により慣例的に寄与される希釈油の量を含むように計算され得る。
【００２１】
第２の成分は、第四級窒素原子および酢酸アニオン以外または、代わりに、アルキルカルボン酸アニオン以外の炭素含有アニオンをさらに含有するヒドロカルビル置換されたイミドまたはヒドロカルビル置換されたアミドを含む油溶性の第四級アンモニウム化合物である。（「アルキルカルボン酸アニオン」とは、構造Ｒ−ＣＯＯ−（式中、Ｒはアルキル基である）のアニオンを意味する。例えば、アルカン酸アニオン）本明細書で使用されている場合、用語「油溶性」は、問題の物質が、分子レベルで真の溶液が得られるかどうかとは関係なく、室温で鉱油に事実上溶解または分散し得ることを意味する。かかる溶解性はヒドロカルビル基の存在によって提供され得る。溶解性の程度は、所望の量の問題の物質が潤滑剤または濃縮物に事実上提供され得るのに少なくとも適している。油溶性の第四級アンモニウム化合物に関して、油溶性は重量で少なくとも０．２５パーセント、または重量で少なくとも０．５もしくは１．０もしくは２パーセントの溶解性を意味し得る。
【００２２】
第四級窒素化合物は公知である。通常窒素は三価の元素であり、アンモニアまたはアミン：ＮＨｘＲ３−ｘ（式中、Ｒは、Ｒ基の炭素原子を介して窒素原子に結合した基である）内の水素または炭素原子と３つの共有結合を形成する。第四級窒素化合物は他方で、一般式ＮＲ４＋Ｘ−で表され、第四級アンモニウムイオンおよび対イオン（例えば、水酸化物、ハロゲン化物）を含む。かかる物質において、窒素は炭素原子に対して４つの実質的に非イオン化性の共有結合を有する。第四級カチオンは永久に帯電しており、媒質のｐＨによって比較的影響を受けない。したがって、普通のアンモニウムイオンまたはプロトン化されたアミンとは区別され、これらの物質は、炭素に対する３つまでの実質的に非イオン化性の共有結合および窒素原子と結合した１または複数の酸性の水素原子またはプロトンを含有する。このように、本技術のイオン性第四級アンモニウム塩は、一般構造ＨＮＲ３＋Ｘ−ではなくＮＲ４＋Ｘ−を有するという意味で酸性のプロトンをもたない。しかし、分子は全体として、全酸価（ＴＡＮ）として滴定可能な他の酸性水素を、物質のカチオン以外の他の部分に含有していてもよい（または、していなくてもよい）。一実施形態では、第四級窒素は、それぞれ１つの結合ずつの４つの単結合によって４つの炭素原子に結合する。一実施形態では、第四級窒素は２つの単結合および１つの二重結合によって３つの炭素原子に結合する。一実施形態では第四級窒素はイミダゾールまたはイミダゾリン構造の一部であり、別の実施形態ではそうではない。一実施形態では第四級窒素は芳香環の一部であり、別の実施形態ではそうではない。
【００２３】
開示されている技術の第四級アンモニウム化合物はヒドロカルビル置換基を含有し、これは１２〜５００個の炭素原子、もしくは２４〜４００個の炭素原子を含有し得るか、または３５０〜５０００もしくは４００〜２０００、もしくは５００〜１８００、例えば１０００または１５００の数平均分子量を有し得る。ヒドロカルビル置換基はさらに、以下に示すスクシンイミド構造中のＲ１基に関連して記載される。
【００２４】
第四級アンモニウム化合物はヒドロカルビル置換されたスクシンイミドまたはスクシンアミドをベースとするか、またはそれから調製することができる。スクシンイミドまたはスクシンアミドは、特に、ヒドロカルビル置換基が、分子が分散剤特性を示すことができるように十分な油溶性を提供するほどに十分に長い場合、スクシンイミドまたはスクシンアミド分散剤と記載してもよい。かかるヒドロカルビル基は、例えば少なくとも２４個または少なくとも３０個の炭素原子を含有し得る。
【００２５】
イミドまたはアミドは通例（四級化の前に）少なくとも１つの第三級アミン基を含有する。例えば、第四級でない普通のスクシンイミド物質は以下により詳細に記載され、以下にさらに記載するような次の一般構造
【化１】
0006789973.tif 000002
の物質を含み得る。しかし、本技術にとって特に有用であるために、すなわち、四級化することができるためには、少なくとも１つの第三級アミン基がなければならない。すなわち、構造中の−ＮＨ−基の少なくとも１つは代わりに−ＮＲ−基（式中、Ｒはアルキル基であり得る）であり得る。
【００２６】
特に適切な出発物質は次式で表される一般構造
【化２】
0006789973.tif 000003
を有するものであり得る。かかる構造で、Ｒ１は通例少なくとも１６または２４個の炭素原子を有するアルキルまたはアルキレン基であり得、様々な環式結合を含む様々な結合様式で５員環に結合し得る。右側の基は示されているように第三級アミノ基を含有する。カッコ内に示されている連結基は、示されているように単純な（simple）プロピレン基であってもよいし、または２〜１２または３〜６個の炭素原子の分岐したもしくは線状の基であってもよく、任意選択で１または複数の酸素原子または窒素原子を含有し、すなわち、ヒドロキシまたはエーテル基、またはアミノ基を、側基としてか、または鎖自体内に（ヒドロキシを除く）含有していてもよい。窒素原子上の基Ｒ２およびＲ９は独立して通例メチル基のようなアルキル基であるが、例えば２〜１８個の炭素原子のより長い鎖のアルキル基であってもよいし、または互いに一緒になって５または６員環のような環を形成していてもよい。
【００２７】
基Ｒ２およびＲ９はまた、四級化反応を妨げない追加の官能基を有していてもよい。これらは、例えば上で連結基について記載したような酸素または窒素原子を有していてもよい。
【００２８】
一実施形態では、Ｒ２およびＲ９は両方ともメチル基である。かかる物質は、置換された無水コハク酸と、Ｎ，Ｎ−ジメチルプロピレンジアミン、すなわち、ジメチルアミノプロピルアミンまたは（より一般的にはＲ２およびＲ９がアルキルである場合）Ｎ，Ｎ−ジアルキルプロピレンジアミンとの縮合によって調製され得る。他の実施形態では、Ｒ２はメチルであり、Ｒ９は２−ヒドロキシ−１−プロピルまたは２−ヒドロキシ−２−フェニルエチルであり得る。
【００２９】
開示されている技術の物質は、得られる第四級アンモニウム塩が硫黄含有アニオン、すなわち硫酸アニオンまたはスルホン酸アニオンを含有するように硫黄含有四級化剤を使用して四級化することができる。あるいは、四級化剤はシュウ酸ジメチルのようなシュウ酸ジアルキル（アルキルシュウ酸アニオンが得られる）またはサリチル酸メチルのようなアルキルヒドロキシ安息香酸エステル（ヒドロキシ安息香酸（hydroxybenxzoate）アニオンが得られる）であり得る。アニオンが酢酸アニオン以外であり、または一部の実施形態ではアルキルカルボン酸アニオン以外であるのが望ましくあり得る。酢酸アニオンまたはアルキルカルボン酸アニオンが第四級アンモニウムイオンに対する対イオンとして最初に存在する場合、潤滑剤配合物中または濃縮物配合物中の交換反応（おそらくはｉｎ  ｓｉｔｕで）により、より適切なアニオンによって置き換えられ得る。
【００３０】
ある特定の実施形態では、得られる物質は次の構造
【化３】
0006789973.tif 000004
［式中、Ｒ１は少なくとも１６個または少なくとも２４個の炭素原子のヒドロカルビル基を表し、ただし、Ｒ１は環式結合を含む様々な結合のいずれかにより環式のイミド構造に結合し得、さらに（この構造および一般にその他のかかる構造で）Ｒ１は複数の環式イミド構造に結合され得；Ｒ２はアルキル基、ヒドロキシアルキル基、またはアリールアルキル基であり；Ｒ４はアルキル基であり、Ｒ５はメチルまたはエチルである］
で表されるカチオンを含有し得る。
【００３１】
ある特定の実施形態では、第四級物質は、双性イオン特性のものであり得、すなわち、アニオンおよび第四級アンモニウムイオンが同一分子内で共有結合している。幾つかのかかる物質はベタイン様構造を含有し得、ここでベタインは
【化４】
0006789973.tif 000005
である。ベタイン構造を有する第四級アンモニウムスクシンイミドは
【化５】
0006789973.tif 000006
で表され得る。かかる物質は第三級アミンとクロロ酢酸ナトリウムの反応によって調製され得る。
【００３２】
したがって、四級化剤は、ある特定の実施形態では、四級化される部分の第三級アミノ基に供与されるかまたは結合される少なくとも１つのアルキル基を含有する硫黄含有剤であり得る。多くの場合アルキル基はメチル基であり、したがって四級化剤は硫酸ジメチルであり得る。幾つかの場合では、第四級窒素は対イオン交換反応を使用して調製され得る。例えば、酢酸イオンのような弱酸のアニオンを有する第四級アンモニウム化合物は、アルキルアリールスルホン酸のような強酸の塩と対イオンアニオン交換反応を起こし得る。こうして、アルカリールスルホン酸第四級アンモニウムが酢酸第四級アンモニウムから形成され得る。次の反応スキームは実例である：
【化６】
0006789973.tif 000007
【００３３】
実例のスルフェートは硫酸ジメチルを含む。メチル基の供与後、残りのアニオンはメチル硫酸アニオンである。メチル硫酸（またはエチル硫酸）対イオンを有する分散剤のような四級化されたスクシンイミド物質の幾つかの例は次の構造
【化７】
0006789973.tif 000008
または、幾分より一般的には以下の構造
【化８】
0006789973.tif 000009
またはこれらの異性体（またはそれに対応する非環式アミド構造、これは例えばジアミドまたはアミド−エステル基の一部であり得る）で表される。ここで、Ｒ１は少なくとも約１６個または少なくとも約２４個の炭素原子のヒドロカルビル基を表し、ただし、Ｒ１は環式結合を含む様々な結合のいずれかで環式イミド構造に結合してもよく、また、Ｒ１は複数の環式イミド構造に結合してもよく；Ｒ２はアルキル基、ヒドロキシアルキル基、またはアリールアルキル基であり；Ｒ３はメチルまたはエチルである。
【００３４】
実例のスルホネートは、アルキルスルホネート、アリールスルホネート（arysulfonate）、ならびにメチルベンジルスルホネートおよびメチルトリルスルホネートのようなアラルキルスルホネートを含む。ベンジルスルホネートまたはトリルスルホネート対イオンを有する分散剤のような四級化された物質の例は次の構造：
【化９】
0006789973.tif 000010
で表される。
【００３５】
四級化された物質（例えば分散剤）は、第三級窒素を含有する化合物を適切な硫黄含有四級化剤と反応させることにより調製され得る。例えば、鉱油のような溶媒中の物質を昇温（例えば、５０〜１５０℃または７０〜１３０℃または８０〜１１０℃または９０〜１００℃）で化学量論またはわずかに化学量論未満の量の四級化剤と反応させることができる。適切な時間は１／２〜６時間または１〜５時間または２〜４時間または約３時間であり得る。
【００３６】
潤滑剤配合物中の四級化された化合物の量は重量で０．１〜５パーセント、または０．３〜５、または０．５〜５パーセント、または重量で１〜４パーセント、２〜３．５パーセント、２．２〜２．８パーセント、または２．３〜２．５パーセント、または他の実施形態では重量で０．０５〜１パーセント、または０．１〜１、または０．２５〜０．７５または０．３〜０．６パーセントであり得る。通例、より長い鎖のヒドロカルビル基を有する物質は比較的より高い濃度で、より短い鎖の基を有する物質はより低い濃度で使用され得る。
【００３７】
潤滑剤、殊にトランスミッションまたはオートマチックトランスミッションまたはデュアルクラッチトランスミッションのようなドライブライン装置用の潤滑剤で通例見られ得る他の成分も開示されている技術の潤滑剤中に任意選択で存在し得る。これらは、慣用の量で存在し得る。
【００３８】
存在し得る１つの任意選択成分は慣用の分散剤、すなわち本明細書に記載されている四級化された物質または分散剤以外の分散剤である。分散剤は潤滑剤の分野で周知であり、主として無灰分散剤およびポリマー性分散剤として公知のものを含む。無灰分散剤は、供給された状態で金属を含有せず、したがって潤滑剤に添加されたとき通常硫酸塩灰分をもたらさないのでこう呼ばれる。しかし、もちろん、金属含有種を含む潤滑剤に添加されると周囲の金属と相互作用し得る。無灰分散剤は比較的高分子量の炭化水素鎖に結合した極性の基によって特徴付けられる。典型的な無灰分散剤は、典型的には次式
【化１０】
0006789973.tif 000011
［式中、各Ｒ１は独立してアルキル基であり、多くの場合ポリイソブチレン前駆体をベースとする５００〜５０００の分子量（Ｍｎ）を有するポリイソブチレン基であり、Ｒ２はアルキレン基、一般にエチレン（Ｃ２Ｈ４）基である］
を含む様々な化学構造を有するＮ−置換長鎖アルケニルスクシンイミドを含む。かかる分子は一般にアルケニルアシル化剤とポリアミンとの反応に由来し、上に示した単純なイミド構造の他に様々なアミドおよび第四級アンモニウム塩を含む多種多様な結合が２つの部分間に可能である。上記構造でアミン部分はアルキレンポリアミンとして示されているが、他の脂肪族および芳香族のモノ−およびポリアミンも使用できる。また、イミド構造上のＲ１基は様々な環式結合を含む様々な結合様式が可能である。アシル化剤のカルボニル基対アミンの窒素原子の比は１：０．５〜１：３、他の場合には１：１〜１：２．７５または１：１．５〜１：２．５であり得る。スクシンイミド分散剤は米国特許第４，２３４，４３５号および同第３，１７２，８９２号ならびに欧州特許第０３５５８９５号により詳細に記載されている。
【００３９】
別のクラスの無灰分散剤は高分子量エステルである。これらの物質は、ヒドロカルビルアシル化剤とグリセロール、ペンタエリスリトール、またはソルビトールのような多価脂肪族アルコールとの反応で調製されているとみられ得ることを除いて、上記スクシンイミドと同様である。かかる物質は米国特許第３，３８１，０２２号により詳細に記載されている。
【００４０】
別のクラスの無灰分散剤はマンニッヒ塩基である。これらは、高めの分子量のアルキル置換フェノールと、アルキレンポリアミンと、ホルムアルデヒドのようなアルデヒドとの縮合により形成される物質である。かかる物質は次の一般構造
【化１１】
0006789973.tif 000012
を有し得（様々な異性体などを含む）、米国特許第３，６３４，５１５号により詳細に記載されている。
【００４１】
他の分散剤はポリマー性分散剤添加剤を含み、これは一般にポリマーに特徴的な分散性（dispersancy）を付与する極性の官能基を含有する炭化水素をベースとするポリマーである。
【００４２】
分散剤は、様々な作用物質のいずれかとの反応により後処理し得る。これらの中には、尿素、チオ尿素、ジメルカプトチアジアゾール、二硫化炭素、アルデヒド、ケトン、カルボン酸、炭化水素で置換された無水コハク酸、ニトリル、エポキシド、ホウ素化合物、およびリン化合物がある。かかる処理を詳細に述べている文献は米国特許第４，６５４，４０３号に挙げられている。
【００４３】
本技術の十分に配合された潤滑剤中の任意選択の慣用の分散剤の量は、存在する場合、重量で、潤滑剤組成物の少なくとも０．１％、または少なくとも０．３％もしくは０．５％もしくは１％であり得、ある特定の実施形態では多くとも９％または８％または６％または４％または３％または２％であり得る。これらの量は上記第四級物質または分散剤の量に加えられ得る。
【００４４】
開示されている技術の組成物はまたチアジアゾール化合物も含有する。かかる物質の例はジメルカプトチアジアゾール（dimercaptothiadozole）（「ＤＭＴＤ」）を含み、その調製は米国特許第５，２９８，１７７号により詳細に記載されている。４２〜４７欄参照。要約すると、本技術で利用することができるジメルカプトチアジアゾールは通例ＤＭＴＤの可溶性形態または誘導体である。ジメルカプトチアジアゾール核を含有する油溶性誘導体の調製のための出発物質であることができる物質は２，５−ジメルカプト−［１，３，４］−チアジアゾール、３，５−ジメルカプト−［１，２，４］−チアジアゾール、３，４−ジメルカプト−［１，２，５］−チアジアゾール、および４，−５−ジメルカプト−［１，２，３］−チアジアゾール（thiadaizole）を含むことができる。これらのうちで最も容易に入手可能なものは２，５−ジメルカプト−［１，３，４］−チアジアゾールである。
【００４５】
ＤＭＴＤは、アルカリ性の媒質中での１モルのヒドラジン、またはヒドラジン塩と２モルの二硫化炭素との反応、その後の酸性化により便利に調製される。ＤＭＴＤの油溶性誘導体の調製のためには、既に調製されたＤＭＴＤを利用するか、またはＤＭＴＤをｉｎ  ｓｉｔｕで調製し、その後ＤＭＴＤと反応させる物質を添加することが可能である。
【００４６】
米国特許第２，７１９，１２５号；同第２，７１９，１２６号；および同第３，０８７，９３７号は様々な２，５−ビス−（炭化水素ジチオ）−１，３，４−チアジアゾールおよび２−ヒドロカルビルジチオ−５−メルカプト−［１，３，４］−チアジアゾールの調製を記載している。炭化水素基は環式、脂環式、アラルキル、アリールおよびアルカリールを含む脂肪族または芳香族であり得る。かかるポリ硫化物は次の一般式
【化１２】
0006789973.tif 000013
［式中、ＲおよびＲ’は一般に上記ヒドロカルビルアミン塩のＲ基に対して定義された通りであり得る同一または異なるヒドロカルビル基でよく、ｘおよびｙは０〜８の整数であり、ｘおよびｙの和は少なくとも１である］
で表すことができる。あるいは、ある特定の実施形態では、Ｒ’はｙが０であるときＨであることができる。かかる誘導体を調製するためのプロセスは米国特許第２，１９１，１２５号に記載されており、ＤＭＴＤを適切な塩化スルフェニルと反応させるかまたはジメルカプトチアジアゾール（diathiazole）を塩素（chloreine）と反応させ、得られた塩化ジスルフェニル（disulfenyl  chloride）を第一級または第三級メルカプタンと反応させることを含む。米国特許第３，０８７，９３２号はさらに２，５−ビス（ヒドロカルビルジチオ）−１，３，４−チアジアゾールを調製する一ステッププロセスを記載している。別の変形として、ＤＭＴＤのカルボン酸エステルが米国特許第２，７６０，９３３号に記載されている。同様に、少なくとも１０個の炭素原子を有するアルファ−ハロゲン化脂肪族モノカルボン酸とＤＭＴＤとの縮合生成物が米国特許第２，８３６，５６４号に記載され、一方米国特許第２，７６５，２８９号はＤＭＴＤをアルデヒドおよびジアリールアミンと約１：１：１〜約１：４：４のモル比で反応させることにより得られる生成物を記載している。ＤＭＴＤ物質はまたアミン塩のような塩としても存在し得る。さらなる誘導体はまた上記米国特許第５，２９８，１７７号により詳細に記載されている。
【００４７】
一実施形態では、チアゾール化合物は、フェノールとアルデヒドおよびジメルカプトチアジアゾールとの反応生成物であり得る。フェノールは、アルキル基が少なくとも約６、例えば、６〜２４、または６もしくは７〜１２個の炭素原子を含有するアルキルフェノールであり得る。アルデヒドは１〜７個の炭素原子を含有するアルデヒドまたはホルムアルデヒドのようなアルデヒドシントンであり得る。一実施形態では、アルデヒドはホルムアルデヒドまたはパラホルムアルデヒドである。アルデヒド、フェノールおよびジメルカプトチアジアゾールは、通例、５０℃〜１３０℃のような約１５０℃までの温度で、ジメルカプトチアジアゾール１モルに付き０．５〜２モルのフェノールおよび０．５〜２モルのアルデヒドのモル比でそれらを混合することにより反応させられる。一実施形態では、３つの試薬を等モル量で反応させる。生成物はアルキルヒドロキシフェニルメチルチオ置換［１，３，４］−チアジアゾールと記載され得、アルキル部分はとりわけへキシル、ヘプチル、オクチル、またはノニルであり得る。
【００４８】
したがって、有用なチアジアゾール化合物は２−アルキルジチオ−５−メルカプト−［１，３，４］−チアジアゾール、２，５−ビス（アルキルジチオ）−［１，３，４］−チアジアゾール、２−アルキルヒドロキシフェニルメチルチオ−５−メルカプト−［１，３，４］−チアジアゾール、およびこれらの混合物を含み得る。
【００４９】
別の有用なＤＭＴＤ誘導体は、ＤＭＴＤを希釈剤中で実質的に中性または酸性のカルボン酸分散剤、例えば、スクシンイミド分散剤（本明細書に記載されている四級化された化学種以外）またはコハク酸エステル分散剤のような油溶性の分散剤と、混合物を約１００℃超に加熱することによって反応させることにより得られる。この手順およびそれにより生成する誘導体は様々なタイプの適切な分散剤として米国特許第４，１３６，０４３号に記載されている。
【００５０】
適切なジメルカプトチアジアゾールの例は２，５−ジメルカプト−１，３，４−チアジアゾールまたはヒドロカルビル置換された２，５−ジメルカプト−１，３−４−チアジアゾールを含む。幾つかの実施形態では、ヒドロカルビル置換基上の炭素原子の数は１〜３０、２〜２５、４〜２０、または６〜１６個を含む。適切な２，５−ビス（アルキル−ジチオ）−１，３，４−チアジアゾールの例は２，５−ビス（ｔｅｒｔ−オクチルジチオ）−１，３，４−チアジアゾール  ２，５−ビス（ｔｅｒｔ−ノニルジチオ）−１，３，４−チアジアゾール、２，５−ビス（ｔｅｒｔ−デシルジチオ）−１，３，４−チアジアゾール、２，５−ビス（ｔｅｒｔ−ウンデシルジチオ）−１，３，４−チアジアゾール、２，５−ビス（ｔｅｒｔ−ドデシルジチオ）−１，３，４−チアジアゾール、２，５−ビス（ｔｅｒｔ−トリデシルジチオ）−１，３，４−チアジアゾール、２，５−ビス（ｔｅｒｔ−テトラデシルジチオ）−１，３，４−チアジアゾール、２，５−ビス（ｔｅｒｔ−ペンタデシルジチオ）−１，３，４−チアジアゾール、２，５−ビス（ｔｅｒｔ−ヘキサデシルジチオ）−１，３，４−チアジアゾール、２，５−ビス（ｔｅｒｔ−ヘプタデシルジチオ）−１，３，４−チアジアゾール、２，５−ビス（ｔｅｒｔ−オクタデシルジチオ）−１，３，４−チアジアゾール、２，５−ビス（ｔｅｒｔ−ノナデシルジチオ）−１，３，４−チアジアゾールまたは２，５−ビス（ｔｅｒｔ−エイコシルジチオ）−１，３，４−チアジアゾール、またはこれらのオリゴマーを含む。
【００５１】
チアジアゾールの量は、ある特定の実施形態では、部分的に特定の化合物の独自性（identity）に依存して、重量で組成物の０．０１〜５、または０．０５〜２、または０．１〜１パーセントであり得る。例えば、チアジアゾール化合物が上に示した構造に対して記載されている通りであれば、その量は重量で０．０１〜１パーセント、または０．０２〜０．４または０．０３〜０．１パーセントであり得る。あるいは、チアジアゾールが窒素を含有する分散剤と反応するのであれば、合わせられた生成物の総重量は同じ活性のチアジアゾール化学物質を付与するためにかなり高くなり、例えば、重量で０．１〜５パーセント、または０．２〜２または０．３〜１または０．４〜０．６パーセントであり得る。チアジアゾール物質によって提供される硫黄の量は０．００３〜０．３重量パーセント、または０．００６〜０．１２重量パーセント、または０．００９〜０．０３重量パーセントであり得る。この量は濃縮物では比例してより高くなる。
【００５２】
本発明の組成物はまた任意選択で１種または複数種の清浄剤も含有してもよいし、または一定の用途では清浄剤は省かれ得る。清浄剤は通例過塩基化（overbased）物質であり、他の場合には過塩基化または超塩基化（superbased）塩といわれ、一般に金属および清浄剤アニオンの化学量論に従う中和のために存在する量を超える金属含量を有する均質なニュートン系である。過剰の金属の量は、金属比として、すなわち、酸性の有機化合物の当量に対する金属の総当量の比として表され得る。過塩基化物質は、酸性の物質（例えば、二酸化炭素）を酸性の有機化合物、不活性な反応媒質（例えば、鉱油）、化学量論過剰の金属塩基、およびフェノールまたはアルコールのような促進剤と反応させることによって調製される。酸性の有機物質は通常油溶性を提供するのに十分な数の炭素原子を有する。
【００５３】
過塩基化清浄剤は、試料１グラム当たりのＫＯＨ（ｍｇ）として表される全塩基価（ＴＢＮ、ＡＳＴＭ  Ｄ２８９６）、すなわち物質の塩基度の全てを中和するのに必要とされる強酸の量によって特徴付けることができる。過塩基化清浄剤は一般にこの文書の目的のために希釈油を含有する形態で提供されるので、ＴＢＮは油を含まない基準で計算し直される。幾つかの有用な清浄剤は１００〜８００、または１５０〜７５０、または４００〜７００のＴＢＮを有し得る。
【００５４】
塩基性の金属塩を作製する際に有用な金属化合物は一般に１族または２族の金属化合物のいずれかである（元素の周期律表のＣＡＳ版）。例はナトリウム、カリウム、リチウム、銅、マグネシウム、カルシウム、バリウム、亜鉛、およびカドミウムのようなアルカリ金属を含む。一実施形態では、金属はナトリウム、マグネシウム、またはカルシウムである。塩のアニオン部分は水酸化物、酸化物、炭酸イオン、ホウ酸イオン、または硝酸イオンであることができ、炭酸イオンであることが多い。
【００５５】
一実施形態では、潤滑剤は、過塩基化スルホネート清浄剤を含有することができる。適切なスルホン酸は、単核または多核の芳香族または脂環式の化合物を含むスルホン酸およびチオスルホン酸を含む。幾つかの油溶性スルホネートはＲ２−Ｔ−（ＳＯ３−）ａまたはＲ３−（ＳＯ３−）ｂ（式中、ａおよびｂは各々が少なくとも１であり；Ｔはベンゼンまたはトルエンのような環式核であり；Ｒ２はアルキル、アルケニル、アルコキシ、またはアルコキシアルキルのような脂肪族基であり；（Ｒ２）−Ｔは通例合計で少なくとも１５個の炭素原子を含有し；Ｒ３は通例少なくとも１５個の炭素原子を含有する脂肪族ヒドロカルビル基である）で表すことができる。基Ｔ、Ｒ２、およびＲ３はまた他の無機または有機の置換基を含有することもできる。一実施形態では、スルホネート清浄剤は、米国特許出願公開第２００５０６５０４５号の段落［００２６］〜［００３７］に記載されている少なくとも８の金属比を有する主に線状のアルキルベンゼンスルホネート清浄剤であり得る。一部の実施形態では、線状のアルキル基は、アルキル基の線状の鎖に沿ってどこかで、しかし多くの場合は線状の鎖の２、３または４位で、幾つかの場合では主に２位でベンゼン環に結合し得る。
【００５６】
別の過塩基化物質は過塩基化フェネート清浄剤である。フェネート清浄剤を作製する際に有用なフェノールは（Ｒ１）ａ−Ａｒ−（ＯＨ）ｂ（式中、Ｒ１は４〜４００または６〜８０または６〜３０または８〜２５または８〜１５個の炭素原子の脂肪族ヒドロカルビル基であり；Ａｒはベンゼン、トルエンまたはナフタレンのような芳香族基であり；ａおよびｂは各々少なくとも１であり、ａおよびｂの和はＡｒの芳香核上の置換可能な水素の数まで、例えば１〜４または１〜２である）で表すことができる。通例各々のフェノール化合物に対して平均して少なくとも８個の脂肪族炭素原子がＲ１基によってもたらされる。またフェネート清浄剤は硫黄架橋種として提供されることもある。
【００５７】
一実施形態では、過塩基化物質は過塩基化サリゲニン清浄剤である。過塩基化サリゲニン清浄剤は、サリゲニン誘導体をベースとする過塩基化マグネシウム塩であることがある。サリゲニン誘導体の一般的な例は次式
【化１３】
0006789973.tif 000014
［式中、Ｘは−ＣＨＯまたは−ＣＨ２ＯＨであり、Ｙは−ＣＨ２−または−ＣＨ２ＯＣＨ２−であり、−ＣＨＯ基は通例少なくとも１０モルパーセントのＸおよびＹ基を含み；Ｍは水素、アンモニウム、または金属イオンの原子価であり（すなわち、Ｍが多価である場合、原子価の１つは示した構造により満たされ、その他の原子価はアニオンのような他の化学種または同じ構造の別の例により満たされる）、Ｒ１は１〜６０個の炭素原子のヒドロカルビル基であり、ｍは０〜通例１０であり、各ｐは独立して０、１、２、または３であり、ただし、少なくとも１つの芳香環がＲ１置換基を含有し、全てのＲ１基中の炭素原子の総数は少なくとも７である］
で表すことができる。ｍが１またはそれ超である場合、Ｘ基の１つは水素であることができる。一実施形態では、ＭはＭｇイオンの原子価またはＭｇおよび水素の混合物である。サリゲニン清浄剤は米国特許第６，３１０，００９号に、特にその合成方法（８欄および実施例１）ならびにＸおよびＹの様々な化学種の好ましい量（６欄）が、より詳細に開示されている。
【００５８】
サリキサレート清浄剤は、式（Ｉ）または式（ＩＩ）の少なくとも１つの単位および式（ＩＩＩ）または（ＩＶ）の末端基を有する化合物の各末端を含む化合物により表すことができる過塩基化物質である：
【化１４】
0006789973.tif 000015
かかる基は、同一でも異なってもよい二価の架橋基Ａによって結合される。式（Ｉ）〜（ＩＶ）で、Ｒ３は水素、ヒドロカルビル基、または金属イオンの原子価であり；Ｒ２はヒドロキシルまたはヒドロカルビル基であり、ｊは０、１、または２であり；Ｒ６は水素、ヒドロカルビル基、またはヘテロ置換ヒドロカルビル基であり；Ｒ４がヒドロキシルであって、Ｒ５およびＲ７が独立して水素、ヒドロカルビル基、もしくはヘテロ置換ヒドロカルビル基のいずれかであるか、またはＲ５およびＲ７が両方ともヒドロキシルであって、Ｒ４が水素、ヒドロカルビル基、もしくはヘテロ置換ヒドロカルビル基であるかのいずれかであり；ただし、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６およびＲ７の少なくとも１つは少なくとも８個の炭素原子を含有するヒドロカルビルであり；分子は平均して少なくとも１つの単位（Ｉ）または（ＩＩＩ）および少なくとも１つの単位（ＩＩ）または（ＩＶ）を含有し、組成物中の単位（Ｉ）および（ＩＩＩ）の総数対単位（ＩＩ）および（ＩＶ）の総数の比は０．１：１〜２：１である。同一でも異なっていてもよい二価の架橋基「Ａ」は各出現において−ＣＨ２−および−ＣＨ２ＯＣＨ２−を含み、そのいずれも、ホルムアルデヒドまたはホルムアルデヒド等価体（例えば、パラホルム、ホルマリン）に由来し得る。
【００５９】
サリキサレート誘導体およびその調製方法は米国特許第６，２００，９３６号および国際公開第０１／５６９６８号により詳細に記載されている。サリキサレート誘導体は大環状ではなく主に線状の構造を有しているが、両方の構造が用語「サリキサレート」によって包含されることが意図されていると考えられる。
【００６０】
グリオキシレート清浄剤は、一実施形態では次の構造
【化１５】
0006789973.tif 000016
［式中、各Ｒは独立して少なくとも４または８個の炭素原子を含有するアルキル基であるが、ただし全てのかかるＲ基中の炭素原子の総数は少なくとも１２または１６または２４個である］
を有し得るアニオン性の基をベースとする。あるいは、各Ｒはオレフィンポリマー置換基であることができる。過塩基化グリオキシレート清浄剤を調製する原料となる酸性の物質はヒドロカルビル置換フェノールのようなヒドロキシ芳香族物質とグリオキシル酸または別のオメガ−オキソアルカン酸のようなカルボン酸反応体との縮合生成物であり得る。過塩基化グリオキシル酸清浄剤（Overbased  glyoxylic  detergent）およびその調製方法は米国特許第６，３１０，０１１号およびそこに引用されている文献により詳細に開示されている。
【００６１】
過塩基化清浄剤は過塩基化サリチレート、例えば、置換されたサリチル酸のアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩であることもできる。サリチル酸はヒドロカルビルで置換されていてもよく、ここで各置換基は平均して置換基１個当たり少なくとも８個の炭素原子および１分子当たり１〜３個の置換基を含有する。置換基はポリアルケン置換基であることができる。一実施形態では、ヒドロカルビル置換基は７〜３００個の炭素原子を含有しており、１５０〜２０００の分子量を有するアルキル基であることができる。過塩基化サリチレート清浄剤およびその調製方法は米国特許第４，７１９，０２３号および同第３，３７２，１１６号に開示されている。
【００６２】
他の過塩基化清浄剤は米国特許第６，５６９，８１８号に開示されているようにマンニッヒ塩基構造を有する過塩基化清浄剤を含むことができる。
【００６３】
ある特定の実施形態では、上記清浄剤（例えば、フェネート、サリゲニン、サリキサレート、グリオキシレート、またはサリチレート）のヒドロキシ置換された芳香環上のヒドロカルビル置換基はＣ１２脂肪族ヒドロカルビル基をもたないか、または実質的にもたない（例えば、置換基の重量で１％未満、０．１％未満、または０．０１％未満がＣ１２脂肪族ヒドロカルビル基である）。一部の実施形態では、かかるヒドロカルビル置換基は、少なくとも１４個または少なくとも１８個の炭素原子を含有する。
【００６４】
本技術の配合物中の過塩基化清浄剤の量は油を含まない基準で０〜５重量パーセント、通例少なくとも０．０５重量パーセント、または少なくとも０．０７もしくは０．１重量パーセント、かつ５、または３、または１または０．５重量パーセントまでであり得る。単一の清浄剤または複数の清浄剤のいずれかが存在することができる。
【００６５】
本技術で使用される組成物中に使用され得る別の任意選択成分は摩擦調整剤である。摩擦調整剤は当業者に周知であり、以下：
【表１】
0006789973.tif 000017
およびこれらの２またはそれ超の混合物を含み得る。
【００６６】
これらのタイプの摩擦調整剤の各々の代表例は公知であり、市販されている。例えば、脂肪ホスファイトは一般に式（ＲＯ）２ＰＨＯまたは（ＲＯ）（ＨＯ）ＰＨＯ（式中、Ｒは油溶性を付与するのに十分な長さのアルキルまたはアルケニル基であり得る）であり得る。適切なホスファイトは商業的に入手可能であり、また米国特許第４，７５２，４１６号に記載されているようにして合成することができる。
【００６７】
ホウ素化脂肪エポキシドはカナダ国特許第１，１８８，７０４号に開示されている。これらは、ホウ酸または三酸化ホウ素のようなホウ素源を、少なくとも８個の炭素原子を含有し得る脂肪エポキシドと反応させることによって調製することができる。非ホウ素化脂肪エポキシドも有用であり得る。
【００６８】
ホウ素化アミン（borated  amine）は米国特許第４，６２２，１５８号に開示されている。ホウ素化アミン（ホウ素化アルコキシル化脂肪アミンを含む）は、上記のようなホウ素化合物と、単純な脂肪アミンおよびヒドロキシ含有第三級アミンを含む対応するアミンとの反応によって調製することができる。アミンは米国特許第４，７４１，８４８号に記載されている市販のアルコキシル化脂肪アミンを含み得る。
【００６９】
アルコキシル化脂肪アミンおよび脂肪アミン自体（例えば、オレイルアミン）が摩擦調整剤として有用であり得る。これらのアミンは市販されている。
【００７０】
グリセロールのホウ素化脂肪酸エステルおよび非ホウ素化脂肪酸エステルの両方を摩擦調整剤として使用することができる。グリセロールのホウ素化脂肪酸エステルはグリセロールの脂肪酸エステルをホウ酸のようなホウ素源でホウ素化することによって調製することができる。グリセロールの脂肪酸エステル自体は当技術分野で周知の様々な方法によって調製することができる。グリセロールモノオレイン酸エステルおよびグリセロール牛脂脂肪酸エステルのようなこれらのエステルの多くは商業規模で製造される。市販のグリセロールモノオレイン酸エステルは重量で４５％〜５５％のモノエステルおよび重量で５５％〜４５％のジエステルの混合物を含有し得る。
【００７１】
脂肪酸はその金属塩、アミド、およびイミダゾリンとして使用することができる。脂肪酸は６〜２４、または８〜１８個の炭素原子を含有し得る。一例はオレイン酸である。
【００７２】
脂肪酸のアミドは、アンモニアとの、またはジエチルアミンおよびジエタノールアミンのような第一級または第二級アミンとの縮合によって調製することができる。脂肪イミダゾリンは酸とジアミンまたはポリエチレンポリアミンのようなポリアミンとの環状縮合生成物を含み得る。一実施形態では、摩擦調整剤はＣ８〜Ｃ２４脂肪酸とポリアルキレンポリアミンとの縮合生成物、例えば、イソステアリン酸とテトラエチレンペンタミンとの生成物であり得る。縮合生成物はイミダゾリンまたはアミドであり得る。
【００７３】
脂肪酸は、酸性、中性または塩基性（過塩基性）であり得る亜鉛塩として存在し得る。これらの塩は、亜鉛を含有する試薬、例えば酸化亜鉛と、カルボン酸またはその塩との反応で調製することができる。適切なカルボン酸はステアリン酸、オレイン酸、リノレイン酸、またはパルミチン酸を含む。亜鉛が化学量論量の１．１〜１．８倍（例えば、１．３〜１．６倍）存在する塩を使用することができる。これらのカルボン酸亜鉛は当技術分野で公知であり、米国特許第３，３６７，８６９号に記載されている。金属塩はまた、過塩基化されていてもよいカルシウム塩も含み得る。
【００７４】
硫化オレフィンもまた摩擦調整剤として使用される周知の市販物質である。適切な硫化オレフィンは米国特許第４，９５７，６５１号および同第４，９５９，１６８号に記載されているように調製することができる。２またはそれ超の反応体の共硫化（cosulfurized）混合物は多価アルコールの脂肪酸エステル、脂肪酸、オレフィン、および一価アルコールの脂肪酸エステルから選択され得る。オレフィン成分は、４〜４０個の炭素原子を含有し得る脂肪族オレフィンであり得る。これらのオレフィンの混合物は市販されている。本技術のプロセスに有用な硫化剤は元素状硫黄、硫化水素、ハロゲン化硫黄プラス硫化ナトリウム、ならびに硫化水素および硫黄または二酸化硫黄の混合物を含む。
【００７５】
アルキルサリチレートの金属塩は、長鎖（例えばＣ１２〜Ｃ１６）アルキルで置換されたサリチル酸のカルシウム塩およびその他の塩を含む。
【００７６】
アルキルリン酸のアミン塩は、Ｐｒｉｍｅｎｅ（商標）という商標で販売されている、リン酸のオレイルおよびその他の長鎖エステルと第三級脂肪族第一級アミンのようなアミンとの塩を含む。
【００７７】
一般に摩擦調整剤は摩擦を低減したり、増大したり、またはその他調整したりするのに使用され得るが、摩擦調整剤は湿式クラッチを有するトランスミッションでバランスのとれた安定な動的摩擦係数を付与するために使用されることが多い。適当な摩擦は食いつき（grabbiness）またはシャダーなしにクラッチの円滑な係合を提供する。かかる摩擦調整剤は、上記段落で述べた摩擦調整剤に加えて、米国特許出願公開第２０１２−００１５８５５号、米国特許第８，５０１，６７４号、米国特許出願公開第２０１２−００２１９５８号、米国特許出願公開第２０１２−０１２２７４４号、および国際公開第２０１２／１５４７０８号に記載されているようなＮ−アルキルプロパンジアミンアミドおよびエステル、シュウ酸ビス−アミドまたはアミド−エステル、Ｎ−（３−ジアルキルアミンプロピル）アミド、イミド、オキサルアミド、またはスルホンアミド、およびピロメリト酸ジイミドを含み得る。
【００７８】
摩擦調整剤が存在する場合その量は潤滑組成物の重量で０．１〜１．５パーセント、例えば０．２〜１．０または０．２５〜０．７５パーセントであり得る。
【００７９】
本技術の組成物はまた、少なくとも１種のリンの酸（phosphorus  acid）、リンの酸塩（phosphorus  acid  salt）、リンの酸エステル（phosphorus  acid  ester）または硫黄を含有する類似体を含むその誘導体も０．００２〜１．０重量パーセントの量で含むことができる。リンの酸、その塩、エステルまたは誘導体はリン酸、亜リン酸、リンの酸エステルまたはこれらの塩、ホスファイト、リン含有アミド、リン含有カルボン酸またはエステル、リン含有エーテル、およびこれらの混合物を含む。
【００８０】
一実施形態では、リンの酸、エステルまたは誘導体は、有機または無機のリンの酸、リンの酸エステル、リンの酸塩、またはその誘導体であることができる。リンの酸は、リン酸、ホスホン酸、ホスフィン酸、およびジチオリン酸を含むチオリン酸、ならびにモノチオリン酸、チオホスフィン酸およびチオホスホン酸を含む。リン化合物の１つの群は、次式
【化１６】
0006789973.tif 000018
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３はアルキルもしくはヒドロカルビル基であり、またはＲ１およびＲ２の１つはＨであることができる］
で表されるアルキルリン酸モノアルキル第一級アミン塩である。この物質は通常ジアルキルおよびモノアルキルリン酸エステルの１：１混合物である。このタイプの化合物は米国特許第５，３５４，４８４号に記載されている。
【００８１】
８５パーセントのリン酸は十分に配合された組成物に添加される任意選択の物質であり、組成物の重量を基準にして０．０１〜０．３重量パーセント、例えば０．０３〜０．２または０．１パーセントのレベルで含まれ得る。リン酸はスクシンイミド分散剤のような塩基性の成分と塩を形成し得る。
【００８２】
任意選択で存在し得るその他のリン含有物質は亜リン酸ジブチルのようなジアルキルホスファイト（ホスホン酸水素ジアルキルと呼ばれることがある）を含む。ジアルキルホスファイトが存在する場合、その量は重量で０．０５〜２パーセント、または０．１〜１、または０．２〜０．３パーセントであり得る。さらに他のリン物質はホスホロチオ酸のリン酸化ヒドロキシ置換トリエステルおよびそのアミン塩、ならびにリン酸の硫黄を含まないヒドロキシ置換ジエステル、リン酸の硫黄を含まないリン酸化ヒドロキシ置換ジ−またはトリ−エステル、およびこれらのアミン塩を含む。これらの物質は米国特許出願公開第２００８−０１８２７７０号にさらに記載されている。
【００８３】
別の任意選択成分は酸化防止剤であり得る。酸化防止剤はフェノール性酸化防止剤を包含し、これはヒンダードフェノール性酸化防止剤であり得、フェノール環上の一方または両方のオルト位がｔ−ブチルのような嵩高い基により占められている。パラ位はヒドロカルビル基または２つの芳香環を橋架けする基により占められ得る。ある特定の実施形態では、パラ位は、例えば次式
【化１７】
0006789973.tif 000019
［式中、Ｒ３は例えば１〜１８または２〜１２または２〜８または２〜６個の炭素原子を含有するアルキル基のようなヒドロカルビル基であり；ｔ−アルキルはｔ−ブチルであることができる］
の酸化防止剤のようなエステル含有基によって占められる。かかる酸化防止剤は米国特許第６，５５９，１０５号により詳細に記載されている。
【００８４】
酸化防止剤はまた芳香族アミンも含む。一実施形態では、芳香族アミン酸化防止剤はノニル化ジフェニルアミンまたはジ−ノニル化およびモノ−ノニル化ジフェニルアミンの混合物のようなアルキル化ジフェニルアミンを含むことができる。
【００８５】
酸化防止剤はまた一硫化物または二硫化物またはこれらの混合物のような硫化オレフィンも含む。これらの物質は一般に１〜１０個の硫黄原子（例えば１〜４個、または１個もしくは２個）のスルフィド結合を有する。本発明の硫化された有機組成物を形成するために硫化することができる物質は油、脂肪酸およびエステル、オレフィンおよびそれから作製されるポリオレフィン、テルペン、またはディールス・アルダー付加物を含む。幾つかのかかる硫化物質を調製する方法の詳細は米国特許第３，４７１，４０４号および同第４，１９１，６５９号に見ることができる。
【００８６】
モリブデン化合物も酸化防止剤として役立つことができ、これらの物質はまた摩耗防止剤または摩擦調整剤のような様々な他の機能も発揮することができる。米国特許第４，２８５，８２２号は、極性の溶媒、酸性のモリブデン化合物および油溶性の塩基性窒素化合物を組み合わせてモリブデン含有複合体を形成し、複合体を二硫化炭素と接触させてモリブデン−および硫黄−含有組成物を形成することにより調製されたモリブデン−および硫黄−含有組成物を含有する潤滑油組成物を開示している。
【００８７】
酸化防止剤の典型的な量はもちろん具体的な酸化防止剤およびその個々の有効性に依存するが、実例の総量は重量で０．０１〜５パーセント、または０．１５〜４．５パーセント、または０．２〜４パーセントであることができる。
【００８８】
よく使用される別の任意選択成分は粘度調整剤である。粘度調整剤（ＶＭ）および分散剤粘度調整剤（ＤＶＭ）は周知である。ＶＭおよびＤＶＭの例はポリメタクリレート、ポリアクリレート、ポリオレフィン、水素添加されたビニル芳香族−ジエンコポリマー（例えば、スチレン−ブタジエン、スチレン−イソプレン）、スチレン−マレイン酸エステルコポリマー、ならびにホモポリマー、コポリマー、およびグラフトコポリマーを含む同様なポリマー性物質を含み得る。ＤＶＭは窒素を含有するメタクリレートポリマー、例えばメタクリル酸メチルおよびジメチルアミノプロピルアミンから誘導される窒素含有メタクリレートポリマーを含み得る。
【００８９】
市販されているＶＭ、ＤＶＭおよびそれらの化学的タイプの例は以下のものを含み得る：ポリイソブチレン（例えば、ＢＰ  ＡｍｏｃｏのＩｎｄｏｐｏｌ（商標）またはＥｘｘｏｎＭｏｂｉｌのＰａｒａｐｏｌ（商標））；オレフィンコポリマー（例えば、ＬｕｂｒｉｚｏｌのＬｕｂｒｉｚｏｌ（商標）７０６０、７０６５、および７０６７ならびにＭｉｔｓｕｉのＬｕｃａｎｔ（商標）ＨＣ−２０００ＬおよびＨＣ−６００）；水素添加されたスチレン−ジエンコポリマー（例えば、ＳｈｅｌｌのＳｈｅｌｌｖｉｓ（商標）４０および５０、ならびにＬｕｂｒｉｚｏｌのＬＺ（登録商標）７３０８、および７３１８）；分散剤コポリマーであるスチレン／マレエートコポリマー（例えば、ＬｕｂｒｉｚｏｌのＬＺ（登録商標）３７０２および３７１５）；幾つかは分散剤特性を有するポリメタクリレート（例えば、ＲｏｈＭａｘのＶｉｓｃｏｐｌｅｘ（商標）シリーズのもの、ＡｆｔｏｎのＨｉｔｅｃ（商標）シリーズの粘度指数向上剤、ならびにＬｕｂｒｉｚｏｌのＬＺ（登録商標）７７０２、ＬＺ（登録商標）７７２７、ＬＺ（登録商標）７７２５およびＬＺ（登録商標）７７２０Ｃ）；オレフィン−グラフト−ポリメタクリレートポリマー（例えば、ＲｏｈＭａｘのＶｉｓｃｏｐｌｅｘ（商標）２−５００および２−６００）；ならびに水素添加されたポリイソプレン星形ポリマー（例えば、ＳｈｅｌｌのＳｈｅｌｌｖｉｓ（商標）２００および２６０）。使用され得る粘度調整剤は米国特許第５，１５７，０８８号、同第５，２５６，７５２号および同第５，３９５，５３９号に記載されている。ＶＭおよび／またはＤＶＭは機能液中に重量で２０％までの濃度で使用することができる。重量で１〜１２％、または３〜１０％の濃度を使用してもよい。
【００９０】
別の任意選択物質は補助的腐食防止剤、すなわち、上記チアジアゾールに加わるものであり得る。腐食防止剤の例はオクタン酸オクチルアミン、ドデセニルコハク酸もしくは無水物またはその混合物の縮合生成物のような物質を含む。補助的腐食防止剤が存在する場合その量は潤滑組成物の０．００１ｗｔ％〜１０ｗｔ％、０．００５ｗｔ％〜５ｗｔ％、０．０１ｗｔ％〜３ｗｔ％または０．０２ｗｔ％〜２ｗｔ％または０．１ｗｔ．％〜１．５ｗｔ．％であり得る。存在しないかまたは実質的に存在しない場合、その量は０．０１ｗｔ．％未満または０．００５ｗｔ．％未満または０．００１ｗｔ．％未満、例えば０．０００１〜０．００１重量パーセントであり得る。
【００９１】
潤滑剤、特にトランスミッションまたはデュアルクラッチトランスミッション用の潤滑剤に一般に使用されるその他の物質を使用してもよく、または必要でないときはそのうちの１もしくは複数を省いてもよい。かかる物質は流動点降下剤、防錆剤、消泡剤、シール膨潤剤、および着色剤を含み得、その慣用の量（例えば、多くの場合０．０５〜１パーセント；消泡剤の場合０．００５〜０．１パーセント）で使用され得る。
【００９２】
添加剤成分およびそれらを含有する潤滑剤を含む現在開示されている技術は、ドライブライン装置、特にオートマチックトランスミッションまたは殊にデュアルクラッチトランスミッションのようなトランスミッションを潤滑するのに有用である。様々なタイプの、ダブルクラッチまたはツインクラッチトランスミッションとしても知られるデュアルクラッチトランスミッションが公知である。本発明は、デュアルクラッチトランスミッションの円滑かつ効率的な潤滑の要求を満たそうとし、同時にマニュアルトランスミッションに特有の伝動装置の潤滑、およびやはりマニュアルトランスミッションに特有のギアシンクロナイザの潤滑を含むかかるトランスミッションの複数の要求を満足する一方で、それに付随するすべての難解な要求を伴うオートマチックトランスミッションに特徴的なスリッピングスタートアップクラッチのような湿式クラッチ部品も潤滑する。特に、ＤＣＴのギアはピッチング保護を必要とし；シンクロナイザは良好なシフティング耐久性を提供すると共に適正な摩擦曲線パラメータを有する流体を必要とし；ギアを含有する２つの平行な入力軸のためのクラッチは適正な潤滑を必要とする。また、潤滑剤は良好な腐食性能も有していなければならず、すなわち、接触し得る銅含有部品の過度の腐食を引き起こしてはならない。
【００９３】
本明細書で使用されている場合、用語「縮合生成物」は、縮合反応が実際に起こって直接生成物を導くか否かにかかわりなく、酸または酸の反応性等価体（例えば、酸ハロゲン化物、無水物、またはエステル）とアルコールまたはアミンとの縮合反応によって調製することができるエステル、アミド、イミドおよびその他のかかる物質を包含することが意図されている。例えば、特定のエステルは縮合反応による直接ではなく、むしろエステル交換反応によって調製することができる。得られる生成物はやはり縮合生成物と考えられる。
【００９４】
記載されている各化学成分の量は、別段の指示がない限り、市販の材料中に通常存在し得る任意の溶媒または希釈油を除外して、すなわち、活性化学物質基準で表されている。しかし、別段の指示がない限り、本明細書で言及される各化学物質または組成物は、商用グレード材料中に通常存在すると理解される異性体、副生成物、誘導体、およびその他のかかる物質を含有し得る商用グレード材料であると解釈するべきである。
【００９５】
本明細書で使用されている場合、用語「ヒドロカルビル置換基」または「ヒドロカルビル基」は当業者に周知であるその普通の意味で使用されている。特に、分子の残部に直接結合した炭素原子を有し、かつ主に炭化水素特性を有する基を意味する。ヒドロカルビル基の例は以下を含む：脂肪族、脂環式、および芳香族の置換基を含む炭化水素置換基；置換された炭化水素置換基、すなわち、本発明との関連において置換基の主たる炭化水素性を変えない非炭化水素基を含有する置換基；ならびにヘテロ置換基、すなわち、同様に主に炭化水素特性を有するが環または鎖内に炭素以外を含有する置換基。用語「ヒドロカルビル置換基」または「ヒドロカルビル基」のより詳細な定義は公開された米国特許出願公開第２０１０−０１９７５３６号の段落［０１３７］〜［０１４１］に見られる。
【００９６】
上記物質の幾つかは最終の配合物中で相互作用し得、その結果最終配合物の成分が最初に加えられるものと異なることがあり得るということは公知である。例えば、（例えば、清浄剤の）金属イオンは他の分子の他の酸性またはアニオン性の部位に移行することができる。本発明の組成物をその目的とする用途に使用する際に形成される生成物を含む、形成される生成物は容易に説明することはできないかもしれない。にもかかわらず、全てのかかる改変および反応生成物は本発明の範囲内に含まれ；本発明は上記成分を混ぜることによって調製される組成物を包含する。
【００９７】
以下の実施例を参照するとより良好に理解され得るように、開示されている技術はドライブライン装置の潤滑において良好な摩擦特性を保持しつつ低レベルの銅腐食を提供するのに有用である。
【実施例】
【００９８】
調製例Ａ、パート１は、撹拌しながら窒素雰囲気下で１１０℃に加熱される、Ｍｎが１０００のポリイソブチレン（２１４２５ｇ）および希釈油（３７８１ｇ）から調製されるポリイソブチレンで置換された無水コハク酸の混合物から調製される。
【００９９】
パート２。Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアミン（ＤＭＡＰＡ、２３１４グラム）を、パート１の材料に、バッチ温度を１１５℃より低く維持しながらゆっくり４５分かけて加える。反応温度を１５０℃に上げ、さらに３時間保つ。得られる化合物はＤＭＡＰＡスクシンイミドである。
【０１００】
パート３。調製例Ａ、パート２と同様にして調製した材料（７３．４グラム）を撹拌しながら９０℃に加熱する。硫酸ジメチル（３５ｇ）を反応ポットに仕込み、窒素ブランケット下で撹拌する（３００ｒｐｍ）；発熱によってバッチ温度が１００℃に上昇する。反応を１００℃に３時間維持した後冷却する。得られる化合物はメチル硫酸第四級アンモニウム塩である。（小量の未反応第三級アミンも存在して生成物中の未反応硫酸ジメチルが最小になり得る。）
【０１０１】
調製例Ｃ（比較）。出発物質が、Ｍｎが１０００のポリイソブテンではなくＣ１６アルキル基で置換された無水コハク酸である以外は調製例Ａを繰り返す。
【０１０２】
調製例Ｆ（比較）。調製例Ａ、パート１と同様にして調製した反応生成物の１００重量部（ｐｂｗ）を８０℃に加熱し、撹拌機、凝縮器、サブライン添加パイプにつながった供給ポンプ、窒素ライン、および温度調節器システムを有するマントルを備えたジャケット付き反応容器に仕込む。反応容器を１００℃に加熱し、バッチ温度を１２０℃より低く維持してＤＭＡＰＡ（１０．９３ｐｂｗ）を反応に仕込む。次に、反応混合物を１５０℃に加熱し、３時間保つ。得られる生成物の四級化されてないスクシンイミド分散剤を冷却し、集める。この材料を７５℃に加熱し、同様な反応容器に仕込み、２−エチルヘキサノール（４１ｐｂｗ）、水（１ｐｂｗ）および酢酸（５．９ｐｂｗ）を容器に仕込み、３時間保つ。次いで、酸化プロピレン（８．５４ｐｂｗ）を表面下スパージリングによって仕込み、反応混合物を７５℃に６時間保つ。冷却し集められる得られる生成物は酢酸対イオンを有する第四級スクシンイミド塩である。
【０１０３】
実施例Ｉ（比較）。これは、ポリエチレンポリアミンと縮合され、５０．５の全塩基価を有する（４０％希釈油を含む）、Ｍｎが１０００のポリイソブテンで置換された無水コハク酸から調製された、第四級でない市販されているスクシンイミド分散剤である。この材料は１：１．３〜１．６のＣＯ：Ｎ部分のモル比を有する。
【０１０４】
調製例Ｊ．パート１。調製例Ａ、パート２の反応生成物（ＤＭＡＰＡスクシンイミド）（４１１．３ｇ）、メタノール（１７０ｇ）、および酢酸（２４．３ｇ）を、熱電対、窒素導入口、および凝縮器を備えたフラスコに加え、窒素ブランケット下において２３０ｒ．ｐ．ｍ．で撹拌しながら５６℃で加熱する。酸化プロピレン（４３ｍＬ、３５．６ｇ）を４時間かけて反応混合物中に導入し（表面下）、さらに２時間維持した後室温に冷却する。
【０１０５】
パート２。パート１の反応生成物（５５３．１ｇ）およびＣ２０〜２４アルキルベンゼン（alkybenzene）スルホン酸（２０６．５ｇ）を希釈油（４２９．７ｇ）中で５０℃に加熱し、温度を１時間維持する。真空にし、３時間かけて温度が９０℃に上昇すると蒸留物を取り出し、７０．６ｇの蒸留物を集める。追加量の希釈油（２１６．５ｇ）を９０℃で加え、混合物を３０分撹拌した後室温に冷却する。生成物はアルキルベンゼンスルホン酸塩である。
【０１０６】
調製例Ｋ。調製例Ａ、パート２と同様にして調製された材料（９５１ｇ）、２−エチルヘキサノール（２８５ｇ）および水（７１ｇ）を窒素雰囲気下で掻き混ぜながら３０分間６０℃に加熱する。クロロ酢酸ナトリウム（１１６．５ｇ）を反応混合物に仕込んだ後３．５時間８０℃に加熱する。反応混合物を芳香族溶媒（重質芳香族ナフサ）で５０％希釈し、ろ過して塩化ナトリウムを除去する。生成物はベタイン構造を含有する。
【０１０７】
調製例Ｌ。出発アミンがジ（３−アミノプロピル）メチルアミンであり、無水コハク酸がＣ１６アルキル基で置換されていることを除いて調製例Ａと類似の手順で第四級物質を調製する。得られる生成物は次の構造
【化１８】
0006789973.tif 000020
で表される。
【０１０８】
調製例Ｍ。サリチル酸対イオンを有する第四級物質。撹拌機、凝縮器、および窒素供給口を備えたフラスコに、２５１．４ｇの調製例Ａ、パート２からの材料（ＤＭＡＰＡスクシンイミド）および２−エチルヘキサノール（４１８．０ｇ）を仕込む。サリチル酸メチル（５２．７ｇ）を加え、混合物を１時間にわたり撹拌しながら１００℃に加熱した後、１４０℃に上昇させ、温度を１２時間維持する。その後混合物を冷却する。
【０１０９】
調製例Ｎ。シュウ酸アニオンを有する第四級物質。撹拌機、凝縮器、および窒素供給口を備えたフラスコに、３３０．２ｇの調製例Ａ、パート２からの材料（ＤＭＡＰＡスクシンイミド）および２４８ｇの芳香族溶媒を仕込む。混合物を撹拌しながら８０℃に加熱して、この温度に２０分維持する；次いで、シュウ酸ジメチル（１５８．２ｇ）およびオクタン酸（３．７ｇ）を加え、混合物を９０〜１２０℃に加熱し、６時間維持し、続いて９０〜１０５℃、２０ｋＰａ（０．２バール）で蒸留しながら３０分間真空ストリッピングする。その後、温度を１２０〜１５０℃に上昇させ、８５ｋＰａ（０．８５バール）の真空下に２〜３時間維持する。反応混合物を冷却し、１８７ｇの芳香族溶媒を加え、１時間９０℃で撹拌して溶媒中の生成物を得る。
【０１１０】
腐食試験。幾つかの上記材料を含有する潤滑剤を銅腐食スクリーン試験で評価する。試験油９０ｇおよびきれいにし秤量した銅細片を、凝縮器を備えた試験管に入れる。試験管を、８３ｍＬ／分の空気で試料をパージしながら１５０℃の浴中に７日間入れる。試験の終了時、試験流体中の銅の量（百万部当たりの部）を測定し報告する。
【０１１１】
試験配合物は、特に注記しなければ第四級物質（または基準の第四級でない物質）の２．５重量％の活性化学物質（すなわち、油を除く）を含有する通常のオートマチックトランスミッション流体配合物である。配合物のその他の成分は次の成分を含む：
重量で、分散粘度調整剤（２２％の希釈油を含む）    １４％
酸化防止剤    ０．６％
腐食防止剤（ジアルキルジメルカプトチアジアゾール）    ０．５％
シール膨潤剤
脂肪酸／ポリアミン縮合物
リンを含有する摩耗防止剤
の各々    ０．２〜０．４％
ホウ素を含有する摩擦調整剤
過塩基化金属清浄剤（４２％の油を含む）
流動点降下剤（５４％の油を含む）
リン酸（８５％）
の各々    ０．１〜０．２％
より少量の他の成分
合計１００％とするのに十分な潤滑粘度の油。
【０１１２】
腐食の程度を次の表に示す：
【表２】
0006789973.tif 000021
【０１１３】
開示されている技術の第四級物質は非常に低い銅腐食を示す。腐食結果は、第四級物質を腐食防止剤と組み合わせたときに特に良好である。
【０１１４】
調製例Ａまたは比較例Ｉの材料を様々な比で、しかし３％活性成分の同じ総濃度で含有する上記配合物について同じ銅腐食試験を行う。結果を以下の表に示す：
【表３】
0006789973.tif 000022
【０１１５】
結果は、開示されている第四級物質が小部分でも存在すると銅腐食の予想外に顕著な低減がもたらされることを示す。
【０１１６】
別の実験で、実施例Ｉと同様の慣用の分散剤を重量で３パーセント含有する潤滑剤配合物を実施例Ｌで調製した量（活性化学物質基準で示した量）の第四級物質でトップ処理する。この潤滑剤配合物を同じ銅腐食試験に供し、結果を以下の表に示す：
【表４】
0006789973.tif 000023
【０１１７】
結果は、第四級物質が存在すると、慣用の分散剤の量が低減しなくても銅腐食の改良を肯定的に引き起こすことを示す。
【０１１８】
摩擦試験。上記配合物の幾つかを、ＳＡＥ  ＃２試験リグスタンドを使用し、表に示されているようにＢＷ（商標）６１００と名付けられたＢｏｒｇＷａｒｎｅｒ  ＤＣＴ摩擦ライニング、またはＤｙｎａｘの摩擦ライニングを有するクラッチパックを用いて摩擦試験に供する。クラッチを、２Ｌの試験潤滑剤を用いて９０℃で潤滑する。この試験では断続的に接触する８つの摩擦面があり、総摩擦接触面積は４２．６ｃｍ２である。クラッチ材料間の初期係合スピードは２３００ｒ．ｐ．ｍ．である。試験配合物のその他の成分は上記と同じである。
【０１１９】
結果は、Ｓ１／Ｄ比として下記表に示す。Ｓ１／Ｄ比は静止摩擦係数対動的摩擦係数の比であり、後者は係合プロセスのおよそ中心点である。
【０１２０】
【表５】
0006789973.tif 000024
調製例Ｉの第四級でない分散剤は、上に示されているように、良好なＳ１／Ｄ比（１．０未満）の潤滑剤を提供するが高い銅腐食を示す。調製例Ｆの酢酸イオン第四級物質はＳ１／Ｄ比が悪く（１．０超）しかも高い銅腐食を示す。しかし、調製例Ａの硫酸イオン第四級物質は良好なＳ１／Ｄ比ならびに非常に低い銅腐食の両方を提供する。
【０１２１】
具体的に上で挙げたか否かに関係なく、優先権を主張するあらゆる先の出願を含む上で言及した文書は各々参照により本明細書に組み込まれる。いずれの文書の言及も、かかる文書がいかなる権限においても先行技術として認められるかまたは当業者の一般的な知識を構成することを承認するものではない。実施例、またはその他明記されている場合を除いて、本明細書中で物質の量、反応条件、分子量、炭素原子の数、などを規定するあらゆる数量は、単語「約」によって修飾されているものと理解されたい。本明細書中に述べられている量、範囲、および比の上限および下限は独立して組み合わせることができるものと理解されたい。同様に、本発明の各々の要素に対する範囲および量は他の要素のいずれかに対する範囲または量と一緒に使用することができる。
【０１２２】
本明細書で使用されている場合、「含む（including）」、「含有する（containing）」または「特徴付けられる（characterized  by）」と同義である移行用語「含む（comprising）」は包括的であるかまたはオープンエンドであり（open-ended）、追加の列挙されてない要素または方法ステップを排除しない。しかし、本明細書中「含む（comprising）」の各々の列挙で、この用語は、代替の実施形態として、語句「から本質的になる（consisting  essentially  of）」および「からなる（consisting  of）」も包含することを意図しており、ここで、「からなる」は規定されていないあらゆる要素またはステップを排除し、「から本質的になる」は検討中の組成物または方法の基本的かつ新規な特徴に実質的に影響しない追加の列挙されてない要素またはステップの包含を許容する。
【０１２３】
本発明を例示する目的で幾つかの代表的な実施形態および詳細を示して来たが、当業者には明らかなように、本発明の範囲から逸脱することなく様々な変化および改変をなすことができる。この点に関して、本発明の範囲は添付の特許請求の範囲によってのみ制限される。
本発明は、例えば、以下の項目を提供する。
（項目１）
ドライブライン装置を潤滑する方法であって、
（ａ）潤滑粘度の油；
（ｂ）ヒドロカルビル置換されたイミドまたはアミドを含み、第四級窒素原子および酢酸アニオン以外またはアルキルカルボン酸アニオン以外の炭素含有アニオンをさらに含有する油溶性の第四級アンモニウム化合物；ならびに
（ｃ）チアジアゾール化合物
を含む組成物を該ドライブライン装置に供給することを含む、方法。
（項目２）
前記イミドまたはアミドがスクシンイミドまたはスクシンアミドである、項目１に記載の方法。
（項目３）
前記イミドまたはアミドの前記ヒドロカルビル置換基が約１２〜約５００個の炭素原子を含有する、項目１または項目２に記載の方法。
（項目４）
前記アニオンがヒドロカルビル硫酸アニオン、ヒドロカルビルスルホン酸アニオン、アルキルシュウ酸アニオン、またはヒドロキシ安息香酸アニオンであるか、あるいは前記アニオンが双性イオン構造内で前記第四級窒素原子に共有結合している、項目１から３のいずれかに記載の方法。
（項目５）
前記アニオンが、アルキル基が１〜約３０個の炭素原子を含有するアルキル硫酸アニオン、またはアルキル基が１〜約３０個の炭素原子を含有するアルキルアリールスルホン酸アニオンである、項目１から４のいずれかに記載の方法。
（項目６）
前記アニオンがメチル硫酸アニオンである、項目１から５のいずれかに記載の方法。
（項目７）
前記第四級アンモニウム化合物がヒドロカルビル置換されたコハク酸または無水物およびＮ，Ｎ−ジアルキルプロピレンジアミン（殊にＮ，Ｎ−ジメチルプロピレンジアミン）の反応生成物を含み、該反応生成物が四級化されている、項目１から６のいずれかに記載の方法。
（項目８）
前記第四級アンモニウム化合物が物質であって、そのカチオンが次の構造
【化１９】
0006789973.tif 000025
［式中、Ｒ１は少なくとも約１６個または少なくとも約２４個の炭素原子のヒドロカルビル基を表し、ただし、Ｒ１は環式結合を含む様々な結合のいずれかによって前記環式イミド構造に結合され得、さらにＲ１は複数の環式イミド構造に結合され得；
Ｒ２はアルキル基、ヒドロキシアルキル基、またはアリールアルキル基であり；Ｒ４はアルキル基であり、Ｒ５はメチルまたはエチルである］
によって表される物質を含む、項目１から７のいずれかに記載の方法。
（項目９）
前記第四級アンモニウム化合物が次の構造
【化２０】
0006789973.tif 000026
［式中、Ｒ１は少なくとも約１６個または少なくとも約２４個の炭素原子のヒドロカルビル基を表し、ただし、Ｒ１は環式結合を含む様々な結合のいずれかによって前記環式イミド構造に結合され得、さらにＲ１は複数の環式イミド構造に結合され得；
Ｒ２はアルキル基、ヒドロキシアルキル基、またはアリールアルキル基であり；Ｒ３はメチルまたはエチルである］
で表される物質またはその異性体（またはそれに対応する非環式アミド構造）を含む、項目１から８のいずれかに記載の方法。
（項目１０）
前記第四級アンモニウム化合物が次の構造
【化２１】
0006789973.tif 000027
［式中、ＰＩＢは約２４〜約４００個の炭素原子のポリイソブテン基を表す］
で表される物質を含む、項目１から９のいずれかに記載の方法。
（項目１１）
前記潤滑剤中の前記第四級アンモニウム化合物の量が約０．１〜約５または約０．５〜約５重量パーセント（活性化学物質基準）である、項目１から１０のいずれかに記載の方法。
（項目１２）
前記チアジアゾール化合物が、少なくとも１つの２−アルキルジチオ−５−メルカプト−［１，３，４］−チアジアゾール、少なくとも１つの２，５−ビス（アルキルジチオ）−［１，３，４］−チアジアゾール、少なくとも１つの２−アルキルヒドロキシフェニルメチルチオ−５−メルカプト−［１，３，４］−チアジアゾール、または２，５−ジメルカプト−［１，３，４］−チアジアゾールと窒素を含有する分散剤との反応生成物、またはこれらの混合物を含む、項目１から１１のいずれかに記載の方法。
（項目１３）
前記チアジアゾール化合物の量が約０．０５〜約２重量パーセントまたは約０．１〜約１重量パーセントである、項目１から１２のいずれかに記載の方法。
（項目１４）
前記組成物が、少なくとも１種の第四級でない分散剤、過塩基化金属清浄剤、シール膨潤剤、リン含有摩耗防止剤、無機のリンの酸、酸化防止剤、消泡剤、摩擦調整剤、防錆剤、粘度調整剤、流動点降下剤、またはこれらの混合物をさらに含む、項目１から１３のいずれかに記載の方法。
（項目１５）
前記ドライブライン装置が湿式クラッチを含む、項目１から１４のいずれかに記載の方法。
（項目１６）
前記ドライブライン装置がトランスミッションである、項目１から１５のいずれかに記載の方法。
（項目１７）
前記ドライブライン装置がデュアルクラッチトランスミッションである、項目１から１６のいずれかに記載の方法。