(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（ｉ−１）又は一般式（ｉ−２）
【化１】
0006701611.tif 000124
（式中、Ｘ、Ｙはそれぞれ独立して酸素原子、カルボニル基、直鎖又は分岐の炭素原子数１〜２０のアルキレン基又は単結合を表し、アルキレン基中の１個又は隣接しない２個以上の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−Ｃ（＝ＣＨ２）−で置換されてもよく、又、アルキレン基中の水素原子は置換基Ｌ（Ｌは、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４０の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基又はＰｉ１−Ｓｐｉ１−（Ｐｉ１は重合性基を表し、Ｓｐｉ１はスペーサー基又は単結合を表す。）を表し、当該アルキル基中の第二級炭素原子は−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−で置換されても良い。）で置換されていてもよいが、−О−は連続にはならなく、
Ｚｉ１及びＺｉ２はそれぞれ独立して、単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＯＯＣＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２−ＣＨ２ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ２―ＣＨ２−、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ−、−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ（ＣＨ３）―ＣＨ２−、−ＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、又は炭素原子数２〜２０のアルキレン基を表し、このアルキレン基中の１個又は隣接しない２個以上の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されてもよく、Ａｉ１及びAｉ２はそれぞれ独立して、２価の６員環芳香族基、２価の６員環複素芳香族基、２価の６員環脂肪族基、２価の６員環複素脂肪族基を表し、これらの環構造中の水素原子は置換基Ｌで置換されていてもよいが、Ｚｉ１、Ｚｉ２、Ａｉ１及びＡｉ２がそれぞれ複数存在する場合は、それぞれ互いに同一であっても異なっていてもよく、
Ｒｉ１はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４０の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基、Ｋｉ１で表される基又はＰｉ１−Ｓｐｉ１−（Ｐｉ１は重合性基を表し、Ｓｐｉ１はスペーサー基又は単結合を表す。）を表し、当該アルキル基中の第二級炭素原子は−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−で置換されても良く、ここで少なくとも一つのＲｉ１はＫｉ１で表される基であり、
Ｒｉ２はそれぞれ独立して、炭素原子数６〜４０の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基を表し、当該アルキル基中の第二級炭素原子は−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−で置換されても良く、
Ｒｉ３はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数１〜４０の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基を表し、当該アルキル基中の第二級炭素原子は−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−で置換されても良く、
Ｋｉ１は、以下の一般式（Ｋ−１）〜一般式（Ｋ−１１）及び一般式（Ｋ−１４）〜一般式（Ｋ−１６）
【化２】
0006701611.tif 000125
（式中、
ＷＫ１は、メチン基、Ｃ−ＣＨ３、Ｃ−Ｃ２Ｈ５、Ｃ−Ｃ3Ｈ7、Ｃ−Ｃ4Ｈ9又は窒素原子を表し、
ＷＫ２は、単結合、−ＣＨ２−、酸素原子又は硫黄原子を表し、
ＸＫ１及びＹＫ１は、それぞれ独立して、−ＣＨ２−、酸素原子又は硫黄原子を表し、
ＺＫ１は、酸素原子又は硫黄原子を表し、
ＵＫ１、ＶＫ１及びＳＫ１は、それぞれ独立して、メチン基又は窒素原子を表すが、（K-5）及び（K-6）がフェニル基又はピリジル基を表すことはなく、
Ｒ１は、水素原子、炭素原子数１〜５の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基、又はＰｉ１−Ｓｐｉ１−を表し、該アルキル基中の−ＣＨ２−は−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されても良く、
一般式（Ｋ−１）〜一般式（Ｋ−１１）及び一般式（Ｋ−１４）〜一般式（Ｋ−１６）中、左端の黒点は結合手を表す。）からなる群より選ばれる基を表し、
ｍｉ１は０を表し、
ｍｉ２は０〜５の整数を表し、
ｎは、１〜１０の整数を表す。）
で表される化合物を１種又は２種以上を含有する液晶組成物。
【請求項２】
前記一般式（ｉ−１）又は一般式（ｉ−２）で表される化合物が、１つ又は２つ以上のＰｉ１−Ｓｐｉ１−（Ｐｉ１は、以下の一般式（P−１）〜一般式（P−１６）
【化３】
0006701611.tif 000126
で表される群より選ばれる基を表し（式中、右端の黒点は結合手を表す。）、Ｓｐｉ１は炭素原子数１〜２０のアルキレン基又は直接結合を表し、当該アルキレン基中の１個又は隣接しない２個以上の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されてもよい。）を有する、請求項１に記載の液晶組成物。
【請求項３】
前記一般式（ｉ−１）又は一般式（ｉ−２）におけるＲｉ１が、それぞれ独立してＫｉ１で表される基又はＰｉ１−Ｓｐｉ１−を表し、ここで少なくとも一つのＲｉ１はＫｉ１で表される基である、請求項１又は２のいずれか一項に記載の液晶組成物。
【請求項４】
前記一般式（ｉ−１）又は一般式（ｉ−２）におけるＲｉ３が水素原子である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の液晶組成物。
【請求項５】
前記Ｋｉ１が一般式（Ｋ−１５）又は一般式（Ｋ−１６）で表される基である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の液晶組成物。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の化合物を含有する誘電率異方性（Δε）が負の液晶組成物。
【請求項７】
一般式（Ｎ−１）、（Ｎ−２）及び（Ｎ−３）：
【化４】
0006701611.tif 000127
（式中、
ＲＮ１１、ＲＮ１２、ＲＮ２１、ＲＮ２２、ＲＮ３１及びＲＮ３２は、それぞれ独立して炭素原子数１〜８のアルキル基を表し、該アルキル基中の１個又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は、それぞれ独立して、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−によって置換されていてもよく、
ＡＮ１１、ＡＮ１２、ＡＮ２１、ＡＮ２２、ＡＮ３１及びＡＮ３２は、それぞれ独立して、
（ａ）  １，４−シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は−Ｏ−に置換されてもよい。）、
（ｂ）  １，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置換されてもよい。）、
（ｃ）  ナフタレン−２，６−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又はデカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基（ナフタレン−２，６−ジイル基又は１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置換されてもよい。）、
及び
（ｄ）  １，４−シクロヘキセニレン基
からなる群より選ばれる基を表し、前記の基（ａ）、基（ｂ）、基（ｃ）及び基（ｄ）は、それぞれ独立して、シアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていてもよく、
ＺＮ１１、ＺＮ１２、ＺＮ２１、ＺＮ２２、ＺＮ３１及びＺＮ３２は、それぞれ独立して、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、
ＸＮ２１は、水素原子又はフッ素原子を表し、
ＴＮ３１は、−ＣＨ２−又は酸素原子を表し、
ｎＮ１１、ｎＮ１２、ｎＮ２１、ｎＮ２２、ｎＮ３１及びｎＮ３２は、それぞれ独立して０〜３の整数を表すが、ｎＮ１１＋ｎＮ１２、ｎＮ２１＋ｎＮ２２及びｎＮ３１＋ｎＮ３２は、それぞれ独立して１、２又は３であり、
ＡＮ１１〜ＡＮ３２、ＺＮ１１〜ＺＮ３２がそれぞれ複数存在する場合は、それぞれは互いに同一であっても異なっていてもよい。）
のいずれかで表される化合物群から選ばれる化合物を更に含有する、請求項６に記載の液晶組成物。
【請求項８】
一般式（Ｌ）：
【化５】
0006701611.tif 000128
（式中、
ＲＬ１及びＲＬ２は、それぞれ独立して炭素原子数１〜８のアルキル基を表し、該アルキル基中の１個又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は、それぞれ独立して、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−によって置換されていてもよく、
ｎＬ１は、０、１、２又は３を表し、
ＡＬ１、ＡＬ２及びＡＬ３は、それぞれ独立して、
（ａ）  １，４−シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は−Ｏ−に置換されてもよい。）、
（ｂ）  １，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置換されてもよい。）、及び
（ｃ）  （ｃ）ナフタレン−２，６−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又はデカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基（ナフタレン−２，６−ジイル基又は１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置換されてもよい。）
からなる群より選ばれる基を表し、前記の基（ａ）、基（ｂ）及び基（ｃ）は、それぞれ独立してシアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていてもよく、
ＺＬ１及びＺＬ２は、それぞれ独立して、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、
ｎＬ１が２又は３であってＡＬ２が複数存在する場合は、それらは互いに同一であっても異なっていてもよく、ｎＬ１が２又は３であってＺＬ２が複数存在する場合は、それらは互いに同一であっても異なっていてもよいが、一般式（Ｎ−１）、（Ｎ−２）及び（Ｎ−３）で表される化合物を除く。）
で表される化合物を更に含有する、請求項１〜７のいずれか一項に記載の液晶組成物。
【請求項９】
重合性化合物を更に含有する、請求項１〜８のいずれか一項に記載の液晶組成物。
【請求項１０】
前記重合性化合物として、一般式（Ｐ）：
【化６】
0006701611.tif 000129
（式中、
Ｚｐ１は、フッ素原子、シアノ基、水素原子、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素原子数１〜１５のアルキル基、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素原子数１〜１５のアルコキシ基、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素原子数１〜１５のアルケニル基、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素原子数１〜１５のアルケニルオキシ基又は−Ｓｐｐ２−Ｒｐ２を表し、
Ｒｐ１及びＲｐ２は、以下の式（Ｒ−Ｉ）〜式（Ｒ−ＩＸ）：
【化７】
0006701611.tif 000130
（式中、
＊でＳｐｐ１と結合し、
Ｒ２〜Ｒ６は、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数１〜５個のアルキル基又は炭素原子数１〜５個のハロゲン化アルキル基を表し、
Ｗは、単結合、−Ｏ−又はメチレン基を表し、
Ｔは、単結合又は−ＣＯＯ−を表し、
ｐ、ｔ及びｑは、それぞれ独立して、０、１又は２を表す。）
のいずれかを表し、
Ｓｐｐ１及びＳｐｐ２はスペーサー基を表し、
Ｌｐ１及びＬｐ２は、それぞれ独立して、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＨ２−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｃ２Ｈ４−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯＣＨ２−、−ＣＨ２ＯＣＯＯ−、−ＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲａ−、−ＮＲａ−ＣＯ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＲａ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＲａ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＲａ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＲａ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＲａ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＯＯ−ＣＲａ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−ＣＲａ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＲａ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−（ＣＨ２）ｚ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−（ＣＨ２）ｚ−Ｏ−（Ｃ＝Ｏ）−、−Ｏ−（Ｃ＝Ｏ）−（ＣＨ２）ｚ−、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ２）ｚ−、−ＣＨ２（CH3)C−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＣＨ２（CH3）C−Ｏ−（Ｃ＝Ｏ）−、−Ｏ−（Ｃ＝Ｏ）−C（CH3）ＣＨ２、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−C（CH3）−ＣＨ２、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−ＣＦ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＦ−、−ＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−又は−Ｃ≡Ｃ−（式中、Ｒａはそれぞれ独立して水素原子又は炭素原子数１〜４のアルキル基を表し、ｚは１〜４の整数を表す。）を表し、
Ｍｐ２は、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、アントラセン−２，６−ジイル基、フェナントレン−２，７−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、インダン−２，５−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基又は単結合を表すが、Ｍｐ２は無置換であるか又は炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素原子数１〜１２のアルコキシ基、炭素原子数１〜１２のハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基若しくは−Ｒｐ１で置換されていてもよく、
Ｍｐ１は、以下の式（ｉ−１１）〜（ｉｘ−１１）：
【化８】
0006701611.tif 000131
（式中、＊でＳｐｐ１と結合し、＊＊でＬｐ１、Ｌｐ２又はＺｐ１と結合する。）
のいずれかを表し、Ｍｐ1上の任意の水素原子は炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素原子数１〜１２のアルコキシ基、炭素原子数１〜１２のハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基若しくは−Ｒｐ１で置換されていてもよく、
Ｍｐ３は、以下の式（ｉ−１３）〜（ｉｘ−１３）：
【化９】
0006701611.tif 000132
（式中、＊でＺｐ１と結合し、＊＊でＬｐ２と結合する。）
のいずれかを表し、Ｍｐ３上の任意の水素原子は炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素原子数１〜１２のアルコキシ基、炭素原子数１〜１２のハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基若しくは−Ｒｐ１で置換されていてもよく、
ｍｐ２〜ｍｐ４は、それぞれ独立して０、１、２又は３を表し、
ｍｐ１及びｍｐ５は、それぞれ独立して１、２又は３を表し、
Ｚｐ１が複数存在する場合にはそれらは互いに同一であっても異なっていてもよく、Ｒｐ１が複数存在する場合にはそれらは互いに同一であっても異なっていてもよく、Ｒｐ２が複数存在する場合にはそれらは互いに同一であっても異なっていてもよく、Ｓｐｐ１が複数存在する場合にはそれらは互いに同一であっても異なっていてもよく、Ｓｐｐ２が複数存在する場合にはそれらは互いに同一であっても異なっていてもよく、Ｌｐ１が複数存在する場合にはそれらは互いに同一であっても異なっていてもよく、Ｍｐ２が複数存在する場合にはそれらは互いに同一であっても異なっていてもよい。）
で表される化合物を１種又は２種以上含有する、請求項９に記載の液晶組成物。
【請求項１１】
二つの基板と、該二つの基板の間に設けられた請求項１〜１０のいずれか一項に記載の液晶組成物を用いた液晶層と、を備える液晶表示素子。
【請求項１２】
アクティブマトリックス駆動用である、請求項１１に記載の液晶表示素子。
【請求項１３】
ＰＳＡ型、ＰＳＶＡ型、ＶＡ型、ＩＰＳ型、ＦＦＳ型又はＥＣＢ型である、請求項１１又は１２に記載の液晶表示素子。
【請求項１４】
前記二つの基板のうち少なくとも一方の基板が配向膜を有さない、請求項１１〜１３のいずれか１項に記載の液晶表示素子。
【請求項１５】
一般式（ｉ−１）又は一般式（ｉ−２）
【化１】
0006701611.tif 000133
（式中、Ｘ、Ｙはそれぞれ独立して酸素原子、カルボニル基、直鎖又は分岐の炭素原子数１〜２０のアルキレン基又は単結合を表し、アルキレン基中の１個又は隣接しない２個以上の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−Ｃ（＝ＣＨ２）−で置換されてもよく、又、アルキレン基中の水素原子は置換基Ｌ（Ｌは、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４０の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基又はＰｉ１−Ｓｐｉ１−（Ｐｉ１は重合性基を表し、Ｓｐｉ１はスペーサー基又は単結合を表す。）を表し、当該アルキル基中の第二級炭素原子は−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−で置換されても良い。）で置換されていてもよいが、−О−は連続にはならなく、
Ｚｉ１及びＺｉ２はそれぞれ独立して、単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＯＯＣＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２−ＣＨ２ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ２―ＣＨ２−、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ−、−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ（ＣＨ３）―ＣＨ２−、−ＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、又は炭素原子数２〜２０のアルキレン基を表し、このアルキレン基中の１個又は隣接しない２個以上の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されてもよく、Ａｉ１及びAｉ２はそれぞれ独立して、２価の６員環芳香族基、２価の６員環複素芳香族基、２価の６員環脂肪族基、２価の６員環複素脂肪族基を表し、これらの環構造中の水素原子は置換基Ｌで置換されていてもよいが、Ｚｉ１、Ｚｉ２、Ａｉ１及びＡｉ２がそれぞれ複数存在する場合は、それぞれ互いに同一であっても異なっていてもよく、
Ｒｉ１はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４０の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基、Ｋｉ１で表される基又はＰｉ１−Ｓｐｉ１−（Ｐｉ１は重合性基を表し、Ｓｐｉ１はスペーサー基又は単結合を表す。）を表し、当該アルキル基中の第二級炭素原子は−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−で置換されても良く、ここで少なくとも一つのＲｉ１はＫｉ１で表される基であり、
Ｒｉ２はそれぞれ独立して、炭素原子数６〜４０の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基を表し、当該アルキル基中の第二級炭素原子は−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−で置換されても良く、
Ｒｉ３はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数１〜４０の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基を表し、当該アルキル基中の第二級炭素原子は−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−で置換されても良く、
Ｋｉ１は、以下の一般式（Ｋ−１）〜一般式（Ｋ−１１）及び一般式（Ｋ−１５）
【化２】
0006701611.tif 000134
（式中、
ＷＫ１は、メチン基、Ｃ−ＣＨ３、Ｃ−Ｃ２Ｈ５、Ｃ−Ｃ3Ｈ7、Ｃ−Ｃ4Ｈ9又は窒素原子を表し、
ＷＫ２は、単結合、−ＣＨ２−、酸素原子又は硫黄原子を表し、
ＸＫ１及びＹＫ１は、それぞれ独立して、−ＣＨ２−、酸素原子又は硫黄原子を表し、
ＺＫ１は、酸素原子又は硫黄原子を表し、
ＵＫ１、ＶＫ１及びＳＫ１は、それぞれ独立して、メチン基又は窒素原子を表すが、（K-5）及び（K-6）がフェニル基又はピリジル基を表すことはなく、
Ｒ１は、水素原子、炭素原子数１〜５の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基、又はＰｉ１−Ｓｐｉ１−を表し、該アルキル基中の−ＣＨ２−は−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されても良く、
一般式（Ｋ−１）〜一般式（Ｋ−１１）及び一般式（Ｋ−１５）中、左端の黒点は結合手を表す。）からなる群より選ばれる基を表し、
ｍｉ１は０を表し、
ｍｉ２は０〜５の整数を表し、
ｎは、１〜１０の整数を表す。）
で表される化合物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶組成物及び液晶表示素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ＶＡ方式の液晶ディスプレイでは、電圧無印加時に液晶分子の垂直配向を誘起し、電圧印加時に液晶分子の水平配向を実現するために、電極上にポリイミド配向膜（ＰＩ）層が設けられている。しかし、ＰＩ層の製膜には多大なコストを要するため、近年では、ＰＩ層を省きつつも、液晶分子の配向を実現するための方法が検討されている。【０００３】
例えば特許文献１には、負の誘電異方性を有する極性化合物の混合物を基礎とし、少なくとも１種類の自発配向性添加剤を含有することを特徴とする液晶媒体が開示され、この液晶媒体が配向層を一切含有しないディスプレイにおける使用に高度に適している旨が記載されている。そして、特許文献１では、自発配向性添加剤として、水酸基を有する特定の化合物が用いられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特表２０１４−５２４９５１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、本発明者らの検討によれば、特許文献１に記載されている自己配向性添加剤を用いた場合、液晶分子を垂直に配向させる配向規制力が十分ではなく、また、該自発配向性添加剤を含有した液晶組成物の保存性の点で改善の余地があることが判明した。【０００６】
そこで、本発明の目的は、液晶組成物に添加した際に保存性を確保でき、ＰＩ層を設けなくとも液晶分子の垂直配向を可能にする液晶組成物用自発配向助剤を提供することにある。また、本発明の他の目的は、保存性に優れ、ＰＩ層を設けなくとも液晶分子の垂直配向が可能な該自発配向性添加剤を含有した液晶組成物、及び該液晶組成物を用いた液晶表示素子を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、シクロファンにＫｉ１で表される基を有する１価の有機基（Ｋｉ１は、以下の一般式（Ｋ−１）〜一般式（Ｋ−１６）で表される置換基を表す。）及びＲ１（Ｒ１は、水素原子、炭素原子数１〜４０の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基、又はＰｉ１−Ｓｐｉ１−を表し、該アルキル基中の−ＣＨ２−は−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されてもよいが、−O−は連続にはならない）が置換された化合物を１種又は２種以上を含有する液晶組成物を提供する。【０００８】
【化１】
0006701611.tif 000002
【０００９】
（式中、
ＷＫ１は、メチン基、Ｃ−ＣＨ３、Ｃ−Ｃ２Ｈ５、Ｃ−Ｃ3Ｈ7、Ｃ−Ｃ4Ｈ9又は窒素原子を表し、
ＷＫ２は、単結合、−ＣＨ２−、酸素原子又は硫黄原子を表し、
ＸＫ１及びＹＫ１は、それぞれ独立して、−ＣＨ２−、酸素原子又は硫黄原子を表し、
ＺＫ１は、酸素原子又は硫黄原子を表し、
ＵＫ１、ＶＫ１及びＳＫ１は、それぞれ独立して、メチン基又は窒素原子を表すが、［ＵＫ１がメチン基、ＶＫ１がメチン基、ＳＫ１が窒素原子］の組み合わせは除き、一般式（Ｋ−１）〜一般式（Ｋ−１６）中、左端の黒点は結合手を表す。）
また、本発明は、前記液晶組成物を用いた液晶表示素子を提供する。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、保存性に優れ、ＰＩ層を設けなくとも液晶分子の均一な垂直配向が可能な該自発配向性添加剤を含有した液晶組成物、及び該液晶組成物を用いた液晶表示素子の提供が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】液晶表示素子の一実施形態を模式的に示す図である。
【図２】図１におけるＩ線で囲まれた領域を拡大した平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
（液晶組成物用自発配向助剤）
本実施形態の液晶組成物は、液晶組成物用自発配向助剤としてシクロファンにＫｉ１で表される基を有する１価の有機基（Ｋｉ１は、以下の一般式（Ｋ−１）〜一般式（Ｋ−１６）で表される置換基を表す。）及びＲ１（Ｒ１は、水素原子、炭素原子数１〜４０の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基、又はＰｉ１−Ｓｐｉ１−を表し、該アルキル基中の−ＣＨ２−は−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されてもよいが、−O−は連続にはならない）が置換された化合物を１種又は２種以上を含有する。
【００１３】
【化２】
0006701611.tif 000003
【００１４】
（式中、
ＷＫ１は、メチン基、Ｃ−ＣＨ３、Ｃ−Ｃ２Ｈ５、Ｃ−Ｃ3Ｈ7、Ｃ−Ｃ4Ｈ9又は窒素原子を表し、
ＷＫ２は、単結合、−ＣＨ２−、酸素原子又は硫黄原子を表し、
ＸＫ１及びＹＫ１は、それぞれ独立して、−ＣＨ２−、酸素原子又は硫黄原子を表し、
ＺＫ１は、酸素原子又は硫黄原子を表し、
ＵＫ１、ＶＫ１及びＳＫ１は、それぞれ独立して、メチン基又は窒素原子を表すが、［ＵＫ１がメチン基、ＶＫ１がメチン基、ＳＫ１が窒素原子］の組み合わせは除き、一般式（Ｋ−１）〜一般式（Ｋ−１６）中、左端の黒点は結合手を表す。）
本実施形態の液晶組成物用自発配向助剤は、シクロファンにＫｉ１で表される基を有する１価の有機基が置換された構造であり、Ｋｉ１として、式（Ｋ−１）〜式（Ｋ−１６）のいずれかで表される構造を有する化合物を含有しているため、液晶組成物に用いられた際に、液晶組成物（液晶層）を挟持する基板に吸着し、液晶分子を垂直方向に配向させた状態で保持することができる。したがって、本実施形態の液晶組成物用自発配向助剤によれば、ＰＩ層を設けなくとも液晶分子を配向させる（電圧無印加時に液晶分子の垂直配向を誘起し、電圧印加時に液晶分子の水平配向を実現する）ことが可能となる。このように、シクロファンにＫｉ１で表される基を有する１価の有機基が置換された化合物は、液晶組成物における液晶分子の自発配向を助けるために好適に使用される。Ｋｉ１で表される基は、シクロファンに１つのみ置換されていてもよいし、複数置換されていてもよい。Ｋｉ１で表される基は、シクロファンに結合する有機基が化合物の長軸方向を形成し、該有機基の末端に結合していることが好ましい。Ｋｉ１で表される基を複数有する場合、複数のＫｉ１で表される基は、化合物の長軸方向の片側の端部に位置していることが好ましい。
【００１５】
加えて、本発明者らは、本実施形態の液晶組成物用自発配向助剤がシクロファンにＫｉ１で表される基を有する１価の有機基が置換された構造を有することにより、液晶分子の配向のみならず、液晶組成物の保存性安定性を確保できることを見出した。
自発配向助剤として化学的安定性を重要視する場合は、Ｋｉ１としては（K−１）、（K−３）、（Ｋ−８）、（Ｋ−９）、（Ｋ−１０）（Ｋ−１１）、（Ｋ−１2）、（Ｋ−１4）、（Ｋ−１5）及び（Ｋ−１６）が好ましく、液晶の配向性を重要視する場合は、（Ｋ−１）〜（Ｋ−７）、（Ｋ−１０）、（Ｋ−１１）、（Ｋ−１2）、（Ｋ−１4）、（Ｋ−１5）及び（Ｋ−１６）が好ましく、液晶化合物への溶解性を重要視する場合は、（Ｋ−１）、（Ｋ−８）、（Ｋ−１０）、（Ｋ−１5）及び（Ｋ−１６）が好ましく、これらのバランスを重要視する場合は、（Ｋ−１）、（Ｋ−３）、（Ｋ−９）、（Ｋ−１１）、（Ｋ−１２）、（Ｋ−１5）及び（Ｋ−１６）がより好ましい。
【００１６】
以上の観点から、本実施形態の液晶組成物用自発配向助剤に含有される化合物は、シクロファンに結合する有機基の末端、好ましくはシクロファンに結合する有機基の主鎖の末端に、Ｋｉ１で表される基を有していればよく、Ｋｉ１で表される基の結合先の化学構造、及びシクロファン構造は、液晶組成物の機能を阻害しない範囲であれば特に制限されない。
【００１７】
シクロファンにＫｉ１で表される基を有する１価の有機基が置換された化合物は、好ましくは、化合物中に１つ又は２つ以上の炭素原子数３以上のアルキレン基を有することが好ましく、該アルキレン基中の１個又は隣接しない２個以上の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−Ｃ（＝ＣＨ２）−で置換されていてもよい。炭素原子数３以上のアルキレン基を有する基がシクロファンに結合することで、液晶組成物の配向性を向上させることができる。
【００１８】
また、シクロファンにＫｉ１で表される基を有する１価の有機基が置換された化合物は、好ましくは、１つ又は２つ以上のＰｉ１−Ｓｐｉ１−（Ｐｉ１は、以下の一般式（P−１）〜一般式（P−１６）で表される群より選ばれる基を表し（式中、右端の黒点は結合手を表す。）、
【００１９】
【化３】
0006701611.tif 000004
【００２０】
Ｓｐｉ１は炭素原子数１〜２０のアルキレン基又は直接結合を表し、アルキレン基中の１個又は隣接しない２個以上の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されてもよい。）
を有することが好ましい。Ｐｉ１−Ｓｐｉ１−を有することで、液晶分子のプレチルト角を好適に形成できる。
【００２１】
前記シクロファン化合物は、一般式（ｉ）：
【００２２】
【化４】
0006701611.tif 000005
【００２３】
（式中、Ｘ、Ｙはそれぞれ独立して酸素原子、カルボニル基、直鎖又は分岐の炭素原子数１〜２０のアルキレン基又は単結合を表し、アルキレン基中の１個又は隣接しない２個以上の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−Ｃ（＝ＣＨ２）−で置換されてもよく、又、アルキレン基中の水素原子は置換基Ｌ（Ｌは、Ｒｉ１、Ｒｉ２及びＲｉ３と同じ意味を表す。）で置換されていてもよいが、−O−は連続にはならなく、
Ｚｉ１及びＺｉ２はそれぞれ独立して、単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＯＯＣＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２−ＣＨ２ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ２―ＣＨ２−、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ−、−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ（ＣＨ３）―ＣＨ２−、−ＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、又は炭素原子数２〜２０のアルキレン基を表し、このアルキレン基中の１個又は隣接しない２個以上の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されてもよく、Ａｉ１及びAｉ２はそれぞれ独立して、２価の６員環芳香族基、２価の６員環複素芳香族基、２価の６員環脂肪族基、２価の６員環複素脂肪族基を表し、これらの環構造中の水素原子は置換基Ｌ（Ｌは、Ｒｉ１、Ｒｉ２及びＲｉ３と同じ意味を表す。）で置換されていてもよいが、Ｚｉ１、Ｚｉ２、Ｚｉ２及びＡｉ２がそれぞれ複数存在する場合は、それぞれ互いに同一であっても異なっていてもよく、
Ｒｉ１、Ｒｉ２及びＲｉ３はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４０の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基、Ｋｉ１で表される基（Ｋｉ１は一般式（Ｋ−１）〜（Ｋ−１６）で表される群より選ばれる基を表す。）又はＰｉ１−Ｓｐｉ１−（Ｐｉ１は重合性基を表し、Ｓｐｉ１はスペーサー基又は単結合を表す。）を表し、アルキル基中の第二級炭素原子は−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されてもよいが−O−は連続にはならなく、
ｍｉ１及びｍｉ２は、０〜５の整数を表し、
ｎは、１〜１０の整数で表される化合物を１種又は２種以上含有する。）
で表される化合物であることが好ましい。
本実施形態の液晶組成物用自発配向助剤に含有される一般式（ｉ）で表される化合物は、例えば一般式（ｉ−１）又は一般式（ｉ−２）
【００２４】
【化５】
0006701611.tif 000006
【００２５】
（式中、Ｘ、Ｙ，Ａｉ１、Ａｉ２、Ｚｉ１、Ｚｉ２、Ｒｉ１、Ｒｉ２、Ｒｉ３、ｍｉ１、ｍｉ２及びｎはそれぞれ独立して、一般式（ｉ）中のＸ、Ｙ，Ａｉ１、Ａｉ２、Ｚｉ１、Ｚｉ２、Ｒｉ１、Ｒｉ２、Ｒｉ３、ｍｉ１、ｍｉ２及びｎと同じ意味を表す。）
で表される化合物（以下「化合物（ｉ−１）」および「化合物（ｉ−２）」ともいう）であることが好ましい。
【００２６】
式（ｉ）、式（ｉ−１）及び式（ｉ−２）中、Ｚｉ１及びＺｉ２は、好ましくは、単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＯＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２−ＣＨ２ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ２―ＣＨ２−、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ−、−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ（ＣＨ３）―ＣＨ２−、−ＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、又は炭素原子数１〜４０の直鎖状又は分岐状のアルキレン基、又は該アルキレン基中の１個又は隣接しない２個以上の−ＣＨ２−が−Ｏ−で置換された基を表し、より好ましくは、単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２−ＣＨ２ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ２―ＣＨ２−、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ−、−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ（ＣＨ３）―ＣＨ２−、−ＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、又は炭素原子数１〜４０の直鎖状又は分岐状のアルキレン基、又は該アルキレン基中の１個又は隣接しない２個以上の−ＣＨ２−が−Ｏ−で置単結合、炭素原子数２〜１５の直鎖状のアルキレン基、又は該アルキレン基中の１個又は隣接しない２個以上の−ＣＨ２−が−Ｏ−で置換された基を表し、更に好ましくは、単結合、ＣＨ２−ＣＨ２ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ２―ＣＨ２−、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ−、−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ（ＣＨ３）―ＣＨ２−、−ＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、又は炭素原子数２のアルキレン基（エチレン基（−ＣＨ２ＣＨ２−））若しくはエチレン基中の−ＣＨ２−の１個が−Ｏ−で置換された基（−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−）、又は炭素原子数３〜１３の直鎖状のアルキレン基若しくは該アルキレン基中の１個又は隣接しない２個以上の−ＣＨ２−が−Ｏ−で置換された基を表す。
【００２７】
Ａｉ１及びＡｉ２は、好ましくは、２価の６員環芳香族基又は２価の６員環脂肪族基を表すが、２価の無置換の６員環芳香族基、２価の無置換の６員環脂肪族基又はこれらの環構造中の水素原子は、置換されていないか炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、ハロゲン原子で置換されていていることが好ましく、２価の無置換の６員環芳香族基若しくはこの環構造中の水素原子がフッ素原子で置換された基、又は２価の無置換の６員環脂肪族基が好ましく、置換基上の水素原子が、ハロゲン原子、アルキル基又はアルコキシ基によって置換されていても良い１，４−フェニレン基、２，６−ナフタレン基又は１，４−シクロヘキシル基が好ましいが、少なくとも一つの置換基はＰｉ１−Ｓｐｉ１−で置換されている。２価の６員環芳香族基又は２価の６員環脂肪族基は、具体的には、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、アントラセン−２，６−ジイル基、フェナントレン−２，７−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、シクロペンタン−１，３−ジイル基、インダン−２，５−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基及び１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基から選択される環構造を表すことが好ましい。
【００２８】
Ｘ及びＹは、好ましくは酸素原子、直鎖又は分岐の炭素原子数１〜２０のアルキレン基又は単結合を表すことが好ましく、アルキレン基中の１個又は隣接しない２個以上の−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−Ｃ（＝ＣＨ２）−又は−ＯＣＯ−Ｃ（＝ＣＨ２）−で置換されていることが好ましく、アルキレン基中の水素原子はＫｉ１又はＰｉ１−Ｓｐｉ１−で置換されていることが好ましい。Ｘ及びＹはより具体的には、以下の式（ｉ−ａ）で表される構造であることが好ましい。
【００２９】
【化６】
0006701611.tif 000007
【００３０】
（式中、ｐは１〜２０の整数を表し、ｑは０又は１を表し、左端の＊でシクロファンを構成するベンゼン環と結合し、右端の黒点でＡｉ１、Ａｉ２、Ｒｉ１又はＲｉ２のいずれかと結合する。式中の−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−Ｃ（＝ＣＨ２）−又は−ＯＣＯ−Ｃ（＝ＣＨ２）−で置換されていてもよく、式中の水素原子はＫｉ１又はＰｉ１−Ｓｐｉ１−で置換されていてもよい。）  一般式（ｉ）中に複数存在するＸ、Ｙは、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
【００３１】
Ｒｉ１、Ｒｉ２、及びＲｉ３は、水素原子、炭素原子数１〜２０の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基、Ｋｉ１又はＰｉ１−Ｓｐｉ１−を表すことが好ましく、アルキル基中の第二級炭素原子はは、−Ｏ−、−ＯＣＯ−、又は−ＣＯＯ−で置換されていることが好ましく（ただし−O−は連続にはならない）、より好ましくは、水素原子、炭素原子数１〜１８の直鎖又は分岐のアルキル基、Ｋｉ１又はＰｉ１−Ｓｐｉ１−を表し、アルキル基中の第二級炭素原子はは、−Ｏ−、−ＯＣＯ−（ただし−O−は連続にはならない）で置換されていることを表す。
【００３２】
Ｒｉ１又はＲｉ２のいずれか一方がＫｉ１又はＰｉ１−Ｓｐｉ１−を表すことが好ましい。Ｒｉ３は水素原子を表すことが好ましい。複数存在するＲｉ１、Ｒｉ２、Ｒｉ３は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。例えば、一般式（ｉ）中のｎ個のＲｉ１が全て同じ基であってもよいし、Ｒｉ１がＫｉ１及びＰｉ１−Ｓｐｉ１−のように異なる基を表してもよい。同様に、一般式（ｉ）中のｎ個のＲｉ２及びＲｉ３が全て同じ基であっても異なっていてもよい。
【００３３】
ｍｉ１及びｍｉ２は、好ましくは０〜３の整数を表し、更に好ましくは０〜１の整数を表す。
【００３４】
ｍｉ１及びｍｉ２が０を表す場合、−Ｘ−Ｒｉ１及び−Ｙ−Ｒｉ２は以下の式（ｉ−ａ−１）で表される構造であることが好ましい。
【００３５】
【化７】
0006701611.tif 000008
【００３６】
（式中、ｐは１〜２０の整数を表し、ｑは０又は１を表し、ｍは１〜４の整数を表し、Ｒｉａ１はそれぞれ独立して水素原子、Ｋｉ１又はＰｉ１−Ｓｐｉ１−を表し、左端の＊でシクロファンを構成するベンゼン環と結合する。式中の−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、又は−Ｃ（＝ＣＨ２）−で置換されていてもよく、式中の水素原子はＫｉ１又はＰｉ１−Ｓｐｉ１−で置換されていてもよい。）
式（ｉ−ａ−１）において、式中の水素原子がＰｉ１−Ｓｐｉ１−で置換される場合、Ｒｉａ１はＫｉ１又はＰｉ１−Ｓｐｉ１−を表すことが好ましい。より具体的には、以下の式（ｉ−ａ−１１）又は式（ｉ−ａ−１２）であることが好ましい。
【００３７】
【化８】
0006701611.tif 000009
【００３８】
（式中、ｐ１は１〜１０の整数を表し、ｍは１〜４の整数を表し、Ｒｉａ１１はそれぞれ独立してＫｉ１又はＰｉ１−Ｓｐｉ１−を表し、左端の＊でシクロファンを構成するベンゼン環と結合する。）
シクロファン構造を形成する同一の環に結合する−Ｘ−Ｒｉ１及び−Ｙ−Ｒｉ２の好ましい組み合わせは、−Ｘ−Ｒｉ１がＫｉ１及び／又はＰｉ１−Ｓｐｉ１−を有する基を表し、−Ｙ−Ｒｉ２が水素原子又は炭素原子数１〜２０の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基を表すことが好ましい。  ｎは、好ましくは、２〜１０の整数であることが好ましく、２〜８の整数であることが好ましく、４〜８の整数であることが好ましく、４〜６の整数であることが好ましい。
【００３９】
一般式（ｉ）、一般式（ｉ−１）又は一般式（ｉ−２）で表される化合物は、化合物中に１つ又は２つ以上のＫｉ１で表される基を有する１価の有機基を有するが、自発配向助剤として化学的安定性を重要視する場合は、Ｋｉ１としては（K−１）、（K−３）、（Ｋ−８）、（Ｋ−９）、（Ｋ−１０）、（Ｋ−１１）、（Ｋ−１2）、（Ｋ−１4）、（Ｋ−１5）及び（Ｋ−１６）が好ましく、液晶の配向性を重要視する場合は、（Ｋ−１）〜（Ｋ−７）、（Ｋ−１０）、（Ｋ−１１）、（Ｋ−１2）、（Ｋ−１4）、（Ｋ−１5）及び（Ｋ−１６）が好ましく、液晶化合物への溶解性を重要視する場合は、（Ｋ−１）、（Ｋ−８）、（Ｋ−１０）、（Ｋ−１5）及び（Ｋ−１６）が好ましく、これらのバランスを重要視する場合は、（Ｋ−１）、（Ｋ−３）、（Ｋ−９）、（Ｋ−１１）、（Ｋ−１２）、（Ｋ−１5）及び（Ｋ−１６）がより好ましい。
【００４０】
式（Ｋ−１）〜式（Ｋ−１6）中、ＷＫ１は、好ましくは単結合、メチン基、C-CH3、又はＣ−Ｃ4Ｈ9を表す。ＸＫ１及びＹＫ１は、それぞれ独立して、好ましくは−ＣＨ２−又は酸素原子を表す。ＺＫ１は、好ましくは酸素原子を表す。
【００４１】
好ましくは、Ｒｉ１、Ｒｉ２、及びＲｉ３から選ばれる少なくとも１つ以上がＫｉ１を表すことが好ましく、Ｒｉ１及びＲｉ２から選ばれる少なくとも１つ以上がＫｉ１を表すことが好ましい。また、Ｘがアルキレン基を表す場合、該アルキレン基中の水素原子がＫｉ１に置換されていることが好ましい。Ｋｉ１で表される基を有する１価の有機基が複数存在する場合、シクロファンに対してＫｉ１で表される基を有する複数の有機基の主鎖が同一方向に並列して結合していることが好ましい。
【００４２】
一般式（ｉ）、一般式（ｉ−１）又は一般式（ｉ−２）で表される化合物は、１つ又は２つ以上のＰｉ１−Ｓｐｉ１−を有することが好ましい。Ｓｐｉ１は、好ましくは炭素原子数１〜１８の直鎖状アルキレン基又は単結合を表し、より好ましくは炭素原子数２〜１５の直鎖状アルキレン基又は単結合を表し、更に好ましくは炭素原子数３〜１２の直鎖状アルキレン基又は単結合を表す。
【００４３】
好ましくは、Ｒｉ１、Ｒｉ２、及びＲｉ３から選ばれる少なくとも１つ以上がＰｉ１−Ｓｐｉ１−を表すことが好ましく、Ｒｉ１及びＲｉ２から選ばれる少なくとも１つ以上がＰｉ１−Ｓｐｉ１−を表すことが好ましい。Ｐｉ１−Ｓｐｉ１−で表される基を有する１価の有機基が複数存在する場合、シクロファンに対してＰｉ１−Ｓｐｉ１−で表される基を有する複数の有機基の主鎖が同一方向に並列して結合していることが好ましい。
【００４４】
Ｋｉ１で表される基とＰｉ１−Ｓｐｉ１−が、シクロファン構造を形成する同一の環が置換されることにより存在していることが好ましい。例えば、Ｒｉ１がＫｉ１で表される基を表し、Ｒｉ２がＰｉ１−Ｓｐｉ１−を表すことが好ましく、また、Ｋｉ１で表される基を有する１価の有機基が更にＰｉ１−Ｓｐｉ１−を有していることも好ましい。  また、Ｋｉ１で表される基とＰｉ１−Ｓｐｉ１−が、シクロファン構造を形成する異なる環にそれぞれ存在していることも好ましい。この場合、シクロファンに対して、Ｋｉ１で表される基を有する有機基と、Ｐｉ１−Ｓｐｉ１−を有する有機基の主鎖の方向は適宜選択できるが、同一方向に並列して結合していることが好ましい。より具体的には、一般式（ｉ）において複数存在するＲｉ１又はＲｉ２がそれぞれ独立してＫｉ１及びＰｉ１−Ｓｐｉ１−を表すことが好ましい。
【００４５】
一般式（ｉ）、一般式（ｉ−１）又は一般式（ｉ−２）で表される化合物は、１つ又は２つ以上の炭素原子数３以上のアルキレン基を有することが好ましく、該アルキレン基中の１個又は隣接しない２個以上の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されていてもよい。炭素原子数３以上のアルキレン基を有する基が複数存在する場合、シクロファンに対して炭素原子数３以上のアルキレン基を有する有機基の主鎖が同一方向に並列して結合していることが好ましい。Ｋｉ１で表される基を有する１価の有機基と、炭素原子数３以上のアルキレン基を有する有機基とが、シクロファン構造を形成する同一の環が置換されることにより存在していることが好ましい。この場合、炭素原子数３以上のアルキレン基を有する有機基の末端に、Ｋｉ１で表される基が結合していることが好ましい。また、Ｋｉ１で表される基を有する１価の有機基と、炭素原子数３以上のアルキレン基を有する有機基とがそれぞれ異なる有機基として存在することも好ましく、Ｋｉ１で表される基を有する有機基と、Ｐｉ１−Ｓｐｉ１−を有する有機基の主鎖の方向は適宜選択できるが、同一方向に並列して結合していることが好ましい。
【００４６】
シクロファン化合物は、化合物中に重合性基を有さない以下の一般式（ｉｉ）：
【００４７】
【化９】
0006701611.tif 000010
【００４８】
（式中、Ｘ、Ｙはそれぞれ独立して酸素原子、カルボニル基、直鎖又は分岐の炭素原子数１〜２０のアルキレン基又は単結合を表し、アルキレン基中の１個又は隣接しない２個以上の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−Ｃ（＝ＣＨ２）−で置換されてもよく、又、アルキレン基中の水素原子は置換基Ｌ（Ｌは、Ｒｉｉ１、Ｒｉｉ２及びＲｉｉ３と同じ意味を表す。）で置換されていてもよく、
Ｚｉｉ１及びＺｉｉ２はそれぞれ独立して、単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＯＯＣＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２−ＣＨ２ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ２―ＣＨ２−、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ−、−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ（ＣＨ３）―ＣＨ２−、−ＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、又は炭素原子数２〜２０のアルキレン基を表し、このアルキレン基中の１個又は隣接しない２個以上の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されてもよく、Ａｉｉ１及びAｉｉ２はそれぞれ独立して、２価の６員環芳香族基、２価の６員環複素芳香族基、２価の６員環脂肪族基、２価の６員環複素脂肪族基を表し、これらの環構造中の水素原子は置換基Ｌ（Ｌは、Ｒｉｉ１、Ｒｉｉ２及びＲｉｉ３と同じ意味を表す。）で置換されていてもよいが、Ｚｉｉ１、Ｚｉｉ２、Ｚｉｉ２及びＡｉｉ２がそれぞれ複数存在する場合は、それぞれ互いに同一であっても異なっていてもよく、
Ｒｉｉ１、Ｒｉｉ２及びＲｉｉ３はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４０の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基、又はＫｉ１で表される基を表し、アルキル基中の第二級炭素原子は−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されてもよいが−O−は連続にはならなく、
ｍｉｉ１及びｍｉｉ２は、０〜５の整数を表し、
ｎは、１〜１０の整数で表される化合物を１種又は２種以上含有する。）
で表される化合物であることも好ましい。
【００４９】
一般式（ｉｉ）において、Ｘ、Ｙ、ｎ、Ｚｉｉ１、Ｚｉｉ２、Ａｉｉ１、Aｉｉ２、Ｒｉｉ１、Ｒｉｉ２、Ｒｉｉ３、ｍｉｉ１及びｍｉｉ２の好ましい基は一般式（ｉ）中のＸ、Ｙ、ｎ、Ｚｉ１、Ｚｉ２、Ａｉ１、Aｉ２、Ｒｉ１、Ｒｉ２、Ｒｉ３、ｍｉ１及びｍｉ２の好ましい基とそれぞれ同じ意味を表す。
【００５０】
一般式（ｉ）及び一般式（ｉｉ）のより具体的な例としては、下記式（Ｒ−１−１）〜（Ｒ−１−４５）のいずれかで表される化合物が挙げられる。式中、Ｒｉ１は、式（ｉ）におけるＲｉ１と同じ意味を表す。
【００５１】
【化１０】
0006701611.tif 000011
【００５２】
【化１１】
0006701611.tif 000012
【００５３】
【化１２】
0006701611.tif 000013
【００５４】
また、一般式（ｉ）のより具体的な例としては、下記式（Ｐ−１−１）から（Ｐ−１−４４）のいずれかで表される化合物が挙げられる。
【００５５】
【化１３】
0006701611.tif 000014
【００５６】
【化１４】
0006701611.tif 000015
【００５７】
【化１５】
0006701611.tif 000016
【００５８】
【化１６】
0006701611.tif 000017
【００５９】
【化１７】
0006701611.tif 000018
【００６０】
（液晶組成物）
本実施形態の液晶組成物は、上記シクロファンにＫｉ１で表される基を有する１価の有機基が置換された化合物を１種又は２種以上含有する。この液晶組成物は、負の誘電率異方性（Δε）を有する。
【００６１】
シクロファンにＫｉ１で表される基を有する１価の有機基が置換されたの含有量は、好ましくは０．０１〜５０質量％であるが、その下限値は、液晶分子を更に好適に配向させられる観点から、液晶組成物全量を基準として、好ましくは、０．０１質量％以上、０．１質量％以上、０．５質量％以上、０．７質量％以上、又は１質量％以上である。化合物（ｉ）の含有量の上限値は、応答特性に優れる観点から、液晶組成物全量を基準として、好ましくは、５０質量％以下、３０質量％以下、１０質量％以下であり、７質量％以下、５質量％以下、４質量％以下、又は３質量％以下である。
【００６２】
液晶組成物は、一般式（Ｎ−１）、（Ｎ−２）及び（Ｎ−３）：
【００６３】
【化１８】
0006701611.tif 000019
【００６４】
のいずれかで表される化合物群から選ばれる化合物を更に含有してもよい。
【００６５】
式（Ｎ−１）、（Ｎ−２）及び（Ｎ−３）中、
ＲＮ１１、ＲＮ１２、ＲＮ２１、ＲＮ２２、ＲＮ３１及びＲＮ３２は、それぞれ独立して炭素原子数１〜８のアルキル基を表し、該アルキル基中の１個又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は、それぞれ独立して、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−によって置換されていてもよく、
ＡＮ１１、ＡＮ１２、ＡＮ２１、ＡＮ２２、ＡＮ３１及びＡＮ３２は、それぞれ独立して、
（ａ）  １，４−シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は−Ｏ−に置換されてもよい。）、
（ｂ）  １，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置換されてもよい。）、
（ｃ）  ナフタレン−２，６−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又はデカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基（ナフタレン−２，６−ジイル基又は１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置換されてもよい。）、及び
（ｄ）  １，４−シクロヘキセニレン基
からなる群より選ばれる基を表し、前記の基（ａ）、基（ｂ）、基（ｃ）及び基（ｄ）は、それぞれ独立して、シアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていてもよく、
ＺＮ１１、ＺＮ１２、ＺＮ２１、ＺＮ２２、ＺＮ３１及びＺＮ３２は、それぞれ独立して、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、
ＸＮ２１は、水素原子又はフッ素原子を表し、
ＴＮ３１は、−ＣＨ２−又は酸素原子を表し、
ｎＮ１１、ｎＮ１２、ｎＮ２１、ｎＮ２２、ｎＮ３１及びｎＮ３２は、それぞれ独立して０〜３の整数を表すが、ｎＮ１１＋ｎＮ１２、ｎＮ２１＋ｎＮ２２及びｎＮ３１＋ｎＮ３２は、それぞれ独立して１、２又は３であり、
ＡＮ１１〜ＡＮ３２、ＺＮ１１〜ＺＮ３２がそれぞれ複数存在する場合は、それぞれは互いに同一であっても異なっていてもよい。
【００６６】
一般式（Ｎ−１）、（Ｎ−２）及び（Ｎ−３）のいずれかで表される化合物は、Δεが負でその絶対値が３よりも大きな化合物であることが好ましい。
【００６７】
一般式（Ｎ−１）、（Ｎ−２）及び（Ｎ−３）中、ＲＮ１１、ＲＮ１２、ＲＮ２１、ＲＮ２２、ＲＮ３１及びＲＮ３２はそれぞれ独立して、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基、炭素原子数２〜８のアルケニル基又は炭素原子数２〜８のアルケニルオキシ基が好ましく、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数１〜５のアルコキシ基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数２〜５のアルケニルオキシ基が好ましく、炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基が更に好ましく、炭素原子数２〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜３のアルケニル基が更に好ましく、炭素原子数３のアルケニル基（プロペニル基）が特に好ましい。
【００６８】
また、それが結合する環構造がフェニル基（芳香族）である場合には、直鎖状の炭素原子数１〜５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１〜４のアルコキシ基及び炭素原子数４〜５のアルケニル基が好ましく、それが結合する環構造がシクロヘキサン、ピラン及びジオキサンなどの飽和した環構造の場合には、直鎖状の炭素原子数１〜５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１〜４のアルコキシ基及び直鎖状の炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましい。ネマチック相を安定化させるためには炭素原子及び存在する場合酸素原子の合計が５以下であることが好ましく、直鎖状であることが好ましい。
【００６９】
アルケニル基としては、式（Ｒ１）から式（Ｒ５）のいずれかで表される基から選ばれることが好ましい（各式中の黒点は結合手を表す。）。
【００７０】
【化１９】
0006701611.tif 000020
【００７１】
ＡＮ１１、ＡＮ１２、ＡＮ２１、ＡＮ２２、ＡＮ３１及びＡＮ３２はそれぞれ独立してΔｎを大きくすることが求められる場合には芳香族であることが好ましく、応答速度を改善するためには脂肪族であることが好ましく、トランス−１，４−シクロへキシレン基、１，４−フェニレン基、２−フルオロ−１，４−フェニレン基、３−フルオロ−１，４−フェニレン基、３，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン基、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキセニレン基、１，４−ビシクロ［２．２．２］オクチレン基、ピペリジン−１，４−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基を表すことが好ましく、下記の構造：
【００７２】
【化２０】
0006701611.tif 000021
【００７３】
を表すことがより好ましく、トランス−１，４−シクロへキシレン基、１，４−シクロヘキセニレン基又は１，４−フェニレン基を表すことがより好ましい。
【００７４】
ＺＮ１１、ＺＮ１２、ＺＮ２１、ＺＮ２２、ＺＮ３１及びＺＮ３２はそれぞれ独立して−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−又は単結合を表すことが好ましく、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＨ２ＣＨ２−又は単結合が更に好ましく、−ＣＨ２Ｏ−又は単結合が特に好ましい。
【００７５】
ＸＮ２１はフッ素原子が好ましい。
【００７６】
ＴＮ３１は酸素原子が好ましい。
【００７７】
ｎＮ１１＋ｎＮ１２、ｎＮ２１＋ｎＮ２２及びｎＮ３１＋ｎＮ３２は１又は２が好ましく、ｎＮ１１が１でありｎＮ１２が０である組み合わせ、ｎＮ１１が２でありｎＮ１２が０である組み合わせ、ｎＮ１１が１でありｎＮ１２が１である組み合わせ、ｎＮ１１が２でありｎＮ１２が１である組み合わせ、ｎＮ２１が１でありｎＮ２２が０である組み合わせ、ｎＮ２１が２でありｎＮ２２が０である組み合わせ、ｎＮ３１が１でありｎＮ３２が０である組み合わせ、ｎＮ３１が２でありｎＮ３２が０である組み合わせ、が好ましい。
【００７８】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｎ−１）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、１０質量％以上であり、２０質量％以上であり、３０質量％以上であり、４０質量％以上であり、５０質量％以上であり、５５質量％以上であり、６０質量％以上であり、６５質量％以上であり、７０質量％以上であり、７５質量％以上であり、８０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、９５質量％以下であり、８５質量％以下であり、７５質量％以下であり、６５質量％以下であり、５５質量％以下であり、４５質量％以下であり、３５質量％以下であり、２５質量％以下であり、２０質量％以下である。
【００７９】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｎ−２）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、１０質量％以上であり、２０質量％以上であり、３０質量％以上であり、４０質量％以上であり、５０質量％以上であり、５５質量％以上であり、６０質量％以上であり、６５質量％以上であり、７０質量％以上であり、７５質量％以上であり、８０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、９５質量％以下であり、８５質量％以下であり、７５質量％以下であり、６５質量％以下であり、５５質量％以下であり、４５質量％以下であり、３５質量％以下であり、２５質量％以下であり、２０質量％以下である。
【００８０】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｎ−３）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、１０質量％以上であり、２０質量％以上であり、３０質量％以上であり、４０質量％以上であり、５０質量％以上であり、５５質量％以上であり、６０質量％以上であり、６５質量％以上であり、７０質量％以上であり、７５質量％以上であり、８０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、９５質量％以下であり、８５質量％以下であり、７５質量％以下であり、６５質量％以下であり、５５質量％以下であり、４５質量％以下であり、３５質量％以下であり、２５質量％以下であり、２０質量％以下である。
【００８１】
本実施形態の組成物の粘度を低く保ち、応答速度が速い組成物が必要な場合は上記の下限値が低く上限値が低いことが好ましい。さらに、本実施形態の組成物のＴｎｉを高く保ち、温度安定性の良い組成物が必要な場合は上記の下限値が低く上限値が低いことが好ましい。また、駆動電圧を低く保つために誘電率異方性を大きくしたいときは、上記の下限値を高く上限値が高いことが好ましい。
【００８２】
一般式（Ｎ−１）で表される化合物として、下記の一般式（Ｎ−１ａ）〜（Ｎ−１ｇ）で表される化合物群を挙げることができる。
【００８３】
【化２１】
0006701611.tif 000022
【００８４】
（式中、ＲＮ１１及びＲＮ１２は一般式（Ｎ−１）におけるＲＮ１１及びＲＮ１２と同じ意味を表し、ｎＮａ１１は０又は１を表し、ｎＮｂ１１は０又は１を表し、ｎＮｃ１１は０又は１を表し、ｎＮｄ１１は０又は１を表し、ｎＮｅ１１は１又は２を表し、ｎＮｆ１１は１又は２を表し、ｎＮｇ１１は１又は２を表し、ＡＮｅ１１はトランス−１，４−シクロへキシレン基又は１，４−フェニレン基を表し、ＡＮｇ１１はトランス−１，４−シクロへキシレン基、１，４−シクロヘキセニレン基又は１，４−フェニレン基を表すが少なくとも１つは１，４−シクロヘキセニレン基を表し、ＺＮｅ １１は単結合又はエチレンを表すが少なくとも１つはエチレンを表す。）
より具体的には、一般式（Ｎ−１）で表される化合物は、一般式（Ｎ−１−１）〜（Ｎ−１−２１）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
【００８５】
一般式（Ｎ−１−１）で表される化合物は下記の化合物である。
【００８６】
【化２２】
0006701611.tif 000023
【００８７】
（式中、ＲＮ１１１及びＲＮ１１２はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ）におけるＲＮ１１及びＲＮ１２と同じ意味を表す。）
ＲＮ１１１は炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、プロピル基、ペンチル基又はビニル基が好ましい。ＲＮ１１２は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましく、エトキシ基又はブトキシ基が好ましい。
【００８８】
一般式（Ｎ−１−１）で表される化合物は単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【００８９】
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、ＴＮＩを重視する場合は含有量を少なめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。
【００９０】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｎ−１−１）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上であり、２３質量％以上であり、２５質量％以上であり、２７質量％以上であり、３０質量％以上であり、３３質量％以上であり、３５質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、５０質量％以下であり、４０質量％以下であり、３８質量％以下であり、３５質量％以下であり、３３質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下であり、１０質量％以下であり、８質量％以下であり、７質量％以下であり、６質量％以下であり、５質量％以下であり、３質量％以下である。
【００９１】
さらに、一般式（Ｎ−１−１）で表される化合物は、式（Ｎ−１−１．１）から式（Ｎ−１−１．２３）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（Ｎ−１−１．１）〜（Ｎ−１−１．４）で表される化合物であることが好ましく、式（Ｎ−１−１．１）及び式（Ｎ−１−１．３）で表される化合物が好ましい。
【００９２】
【化２３】
0006701611.tif 000024
【００９３】
式（Ｎ−１−１．１）〜（Ｎ−１−１．２２）で表される化合物は単独で使用することも、組み合わせて使用することも可能であるが、本実施形態の組成物の総量に対しての単独又はこれら化合物の好ましい含有量の下限値は、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上であり、２３質量％以上であり、２５質量％以上であり、２７質量％以上であり、３０質量％以上であり、３３質量％以上であり、３５質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、５０質量％以下であり、４０質量％以下であり、３８質量％以下であり、３５質量％以下であり、３３質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下であり、１０質量％以下であり、８質量％以下であり、７質量％以下であり、６質量％以下であり、５質量％以下であり、３質量％以下である。
【００９４】
一般式（Ｎ−１−２）で表される化合物は下記の化合物である。
【００９５】
【化２４】
0006701611.tif 000025
【００９６】
（式中、ＲＮ１２１及びＲＮ１２２はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ）におけるＲＮ１１及びＲＮ１２と同じ意味を表す。）
ＲＮ１２１は炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基、ブチル基又はペンチル基が好ましい。ＲＮ１２２は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましく、メチル基、プロピル基、メトキシ基、エトキシ基又はプロポキシ基が好ましい。
【００９７】
一般式（Ｎ−１−２）で表される化合物は単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【００９８】
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を少なめに設定すると効果が高く、ＴＮＩを重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。
【００９９】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｎ−１−２）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、５質量％以上であり、７質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上であり、２３質量％以上であり、２５質量％以上であり、２７質量％以上であり、３０質量％以上であり、３３質量％以上であり、３５質量％以上であり、３７質量％以上であり、４０質量％以上であり、４２質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、５０質量％以下であり、４８質量％以下であり、４５質量％以下であり、４３質量％以下であり、４０質量％以下であり、３８質量％以下であり、３５質量％以下であり、３３質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下であり、１０質量％以下であり、８質量％以下であり、７質量％以下であり、６質量％以下であり、５質量％以下である。
【０１００】
さらに、一般式（Ｎ−１−２）で表される化合物は、式（Ｎ−１−２．１）から式（Ｎ−１−２．２２）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（Ｎ−１−２．３）から式（Ｎ−１−２．７）、式（Ｎ−１−２．１０）、式（Ｎ−１−２．１１）、式（Ｎ−１−２．１３）及び式（Ｎ−１−２．２０）で表される化合物であることが好ましく、Δεの改良を重視する場合には式（Ｎ−１−２．３）から式（Ｎ−１−２．７）で表される化合物が好ましく、ＴＮＩの改良を重視する場合には式（Ｎ−１−２．１０）、式（Ｎ−１−２．１１）及び式（Ｎ−１−２．１３）で表される化合物であることが好ましく、応答速度の改良を重視する場合には式（Ｎ−１−２．２０）で表される化合物であることが好ましい。
【０１０１】
【化２５】
0006701611.tif 000026
【０１０２】
式（Ｎ−１−２．１）から式（Ｎ−１−２．２２）で表される化合物は単独で使用することも、組み合わせて使用することも可能であるが、本実施形態の組成物の総量に対しての単独又はこれら化合物の好ましい含有量の下限値は、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上であり、２３質量％以上であり、２５質量％以上であり、２７質量％以上であり、３０質量％以上であり、３３質量％以上であり、３５質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、５０質量％以下であり、４０質量％以下であり、３８質量％以下であり、３５質量％以下であり、３３質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下であり、１０質量％以下であり、８質量％以下であり、７質量％以下であり、６質量％以下であり、５質量％以下であり、３質量％以下である。
【０１０３】
一般式（Ｎ−１−３）で表される化合物は下記の化合物である。
【０１０４】
【化２６】
0006701611.tif 000027
【０１０５】
（式中、ＲＮ１３１及びＲＮ１３２はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ）におけるＲＮ１１及びＲＮ１２と同じ意味を表す。）
ＲＮ１３１は炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基又はブチル基が好ましい。ＲＮ１３２は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数３〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましく、１−プロペニル基、エトキシ基、プロポキシ基又はブトキシ基が好ましい。
【０１０６】
一般式（Ｎ−１−３）で表される化合物は単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０１０７】
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、ＴＮＩを重視する場合は含有量をおおめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。
【０１０８】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｎ−１−３）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下である。
【０１０９】
さらに、一般式（Ｎ−１−３）で表される化合物は、式（Ｎ−１−３．１）から式（Ｎ−１−３．２１）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（Ｎ−１−３．１）〜（Ｎ−１−３．７）及び式（Ｎ−１−３．２１）で表される化合物であることが好ましく、式（Ｎ−１−３．１）、式（Ｎ−１−３．２）、式（Ｎ−１−３．３）、式（Ｎ−１−３．４）及び式（Ｎ−１−３．６）で表される化合物が好ましい。
【０１１０】
【化２７】
0006701611.tif 000028
【０１１１】
式（Ｎ−１−３．１）〜式（Ｎ−１−３．４）、式（Ｎ−１−３．６）及び式（Ｎ−１−３．２１）で表される化合物は単独で使用することも、組み合わせて使用することも可能であるが、式（Ｎ−１−３．１）及び式（Ｎ−１−３．２）の組み合わせ、式（Ｎ−１−３．３）、式（Ｎ−１−３．４）及び式（Ｎ−１−３．６）から選ばれる２種又は３種の組み合わせが好ましい。本実施形態の組成物の総量に対しての単独又はこれら化合物の好ましい含有量の下限値は、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下である。
【０１１２】
一般式（Ｎ−１−４）で表される化合物は下記の化合物である。
【０１１３】
【化２８】
0006701611.tif 000029
【０１１４】
（式中、ＲＮ１４１及びＲＮ１４２はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ）におけるＲＮ１１及びＲＮ１２と同じ意味を表す。）
ＲＮ１４１及びＲＮ１４２はそれぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましく、メチル基、プロピル基、エトキシ基又はブトキシ基が好ましい。
【０１１５】
一般式（Ｎ−１−４）で表される化合物は単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０１１６】
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、ＴＮＩを重視する場合は含有量を少なめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。
【０１１７】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｎ−１−４）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、３質量％以上であり、５質量％以上であり、７質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下であり、１１質量％以下であり、１０質量％以下であり、８質量％以下である。
【０１１８】
さらに、一般式（Ｎ−１−４）で表される化合物は、式（Ｎ−１−４．１）から式（Ｎ−１−４．１４）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（Ｎ−１−４．１）〜（Ｎ−１−４．４）で表される化合物であることが好ましく、式（Ｎ−１−４．１）、式（Ｎ−１−４．２）及び式（Ｎ−１−４．４）で表される化合物が好ましい。
【０１１９】
【化２９】
0006701611.tif 000030
【０１２０】
式（Ｎ−１−４．１）〜（Ｎ−１−４．１４）で表される化合物は単独で使用することも、組み合わせて使用することも可能であるが、本実施形態の組成物の総量に対しての単独又はこれら化合物の好ましい含有量の下限値は、３質量％以上であり、５質量％以上であり、７質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下であり、１１質量％以下であり、１０質量％以下であり、８質量％以下である。
【０１２１】
一般式（Ｎ−１−５）で表される化合物は下記の化合物である。
【０１２２】
【化３０】
0006701611.tif 000031
【０１２３】
（式中、ＲＮ１５１及びＲＮ１５２はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ）におけるＲＮ１１及びＲＮ１２と同じ意味を表す。）
ＲＮ１５１及びＲＮ１５２はそれぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましくエチル基、プロピル基又はブチル基が好ましい。
【０１２４】
一般式（Ｎ−１−５）で表される化合物は単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０１２５】
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を少なめに設定すると効果が高く、ＴＮＩを重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。
【０１２６】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｎ−１−５）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、５質量％以上であり、８質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、３５質量％以下であり、３３質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下である。
【０１２７】
さらに、一般式（Ｎ−１−５）で表される化合物は、式（Ｎ−１−５．１）から式（Ｎ−１−５．６）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（Ｎ−１−５．１）、式（Ｎ−１−５．２）及び式（Ｎ−１−５．４）で表される化合物が好ましい。
【０１２８】
【化３１】
0006701611.tif 000032
【０１２９】
式（Ｎ−１−５．１）、式（Ｎ−１−５．２）及び式（Ｎ−１−５．４）で表される化合物は単独で使用することも、組み合わせて使用することも可能であるが、本実施形態の組成物の総量に対しての単独又はこれら化合物の好ましい含有量の下限値は、５質量％以上であり、８質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、３５質量％以下であり、３３質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下である。
【０１３０】
一般式（Ｎ−１−１０）で表される化合物は下記の化合物である。
【０１３１】
【化３２】
0006701611.tif 000033
【０１３２】
（式中、ＲＮ１１０１及びＲＮ１１０２はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ）におけるＲＮ１１及びＲＮ１２と同じ意味を表す。）
ＲＮ１１０１は炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基、ブチル基、ビニル基又は１−プロペニル基が好ましい。ＲＮ１１０２は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましく、エトキシ基、プロポキシ基又はブトキシ基が好ましい。
【０１３３】
一般式（Ｎ−１−１０）で表される化合物は単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本実施形態の一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０１３４】
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を高めに設定すると効果が高く、ＴＮＩを重視する場合は含有量を高めに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。
【０１３５】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｎ−１−１０）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下である。
【０１３６】
さらに、一般式（Ｎ−１−１０）で表される化合物は、式（Ｎ−１−１０．１）から式（Ｎ−１−１０．２１）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（Ｎ−１−１０．１）〜（Ｎ−１−１０．５）式（Ｎ−１−１０．２０）及び式（Ｎ−１−１０．２１）で表される化合物であることが好ましく、式（Ｎ−１−１０．１）、式（Ｎ−１−１０．２）、式（Ｎ−１−１０．２０）及び式（Ｎ−１−１０．２１）で表される化合物が好ましい。
【０１３７】
【化３３】
0006701611.tif 000034
【０１３８】
式（Ｎ−１−１０．１）、式（Ｎ−１−１０．２）、式（Ｎ−１−１０．２０）及び式（Ｎ−１−１０．２１）で表される化合物は単独で使用することも、組み合わせて使用することも可能であるが、本実施形態の組成物の総量に対しての単独又はこれら化合物の好ましい含有量の下限値は、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下である。
【０１３９】
一般式（Ｎ−１−１１）で表される化合物は下記の化合物である。
【０１４０】
【化３４】
0006701611.tif 000035
【０１４１】
（式中、ＲＮ１１１１及びＲＮ１１１２はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ）におけるＲＮ１１及びＲＮ１２と同じ意味を表す。）
ＲＮ１１１１は炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基、ブチル基、ビニル基又は１−プロペニル基が好ましい。ＲＮ１１１２は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましく、エトキシ基、プロポキシ基又はブトキシ基が好ましい。
【０１４２】
一般式（Ｎ−１−１１）で表される化合物は単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０１４３】
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を低めに設定すると効果が高く、ＴＮＩを重視する場合は含有量を高めに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。
【０１４４】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｎ−１−１１）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下である。
【０１４５】
さらに、一般式（Ｎ−１−１１）で表される化合物は、式（Ｎ−１−１１．１）から式（Ｎ−１−１１．１５）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（Ｎ−１−１１．１）〜（Ｎ−１−１１．１５）で表される化合物であることが好ましく、式（Ｎ−１−１１．２及び式（Ｎ−１−１１．４）で表される化合物が好ましい。
【０１４６】
【化３５】
0006701611.tif 000036
【０１４７】
式（Ｎ−１−１１．２）及び式（Ｎ−１−１１．４）で表される化合物は単独で使用することも、組み合わせて使用することも可能であるが、本実施形態の組成物の総量に対しての単独又はこれら化合物の好ましい含有量の下限値は、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下である。
【０１４８】
一般式（Ｎ−１−１２）で表される化合物は下記の化合物である。
【０１４９】
【化３６】
0006701611.tif 000037
【０１５０】
（式中、ＲＮ１１２１及びＲＮ１１２２はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ）におけるＲＮ１１及びＲＮ１２と同じ意味を表す。）
ＲＮ１１２１は炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基又はブチル基が好ましい。ＲＮ１１２２は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましく、エトキシ基、プロポキシ基又はブトキシ基が好ましい。
【０１５１】
一般式（Ｎ−１−１２）で表される化合物は単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０１５２】
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、ＴＮＩを重視する場合は含有量をおおめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。
【０１５３】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｎ−１−１２）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下である。
【０１５４】
一般式（Ｎ−１−１３）で表される化合物は下記の化合物である。
【０１５５】
【化３７】
0006701611.tif 000038
【０１５６】
（式中、ＲＮ１１３１及びＲＮ１１３２はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ）におけるＲＮ１１及びＲＮ１２と同じ意味を表す。）
ＲＮ１１３１は炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基又はブチル基が好ましい。ＲＮ１１３２は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましく、エトキシ基、プロポキシ基又はブトキシ基が好ましい。
【０１５７】
一般式（Ｎ−１−１３）で表される化合物は単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０１５８】
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、ＴＮＩを重視する場合は含有量をおおめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。
【０１５９】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｎ−１−１３）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下である。
【０１６０】
一般式（Ｎ−１−１４）で表される化合物は下記の化合物である。
【０１６１】
【化３８】
0006701611.tif 000039
【０１６２】
（式中、ＲＮ１１４１及びＲＮ１１４２はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ）におけるＲＮ１１及びＲＮ１２と同じ意味を表す。）
ＲＮ１１４１は炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基又はブチル基が好ましい。ＲＮ１１４２は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましく、エトキシ基、プロポキシ基又はブトキシ基が好ましい。
【０１６３】
一般式（Ｎ−１−１４）で表される化合物は単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本実施形態の一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０１６４】
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、ＴＮＩを重視する場合は含有量をおおめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。
【０１６５】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｎ−１−１４）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下である。
【０１６６】
一般式（Ｎ−１−１５）で表される化合物は下記の化合物である。
【０１６７】
【化３９】
0006701611.tif 000040
【０１６８】
（式中、ＲＮ１１５１及びＲＮ１１５２はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ）におけるＲＮ１１及びＲＮ１２と同じ意味を表す。）
ＲＮ１１５１は炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基又はブチル基が好ましい。ＲＮ１１５２は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましく、エトキシ基、プロポキシ基又はブトキシ基が好ましい。
【０１６９】
一般式（Ｎ−１−１５）で表される化合物は単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０１７０】
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、ＴＮＩを重視する場合は含有量をおおめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。
【０１７１】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｎ−１−１５）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下である。
【０１７２】
一般式（Ｎ−１−１６）で表される化合物は下記の化合物である。
【０１７３】
【化４０】
0006701611.tif 000041
【０１７４】
（式中、ＲＮ１１６１及びＲＮ１１６２はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ）におけるＲＮ１１及びＲＮ１２と同じ意味を表す。）
ＲＮ１１６１は炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基又はブチル基が好ましい。ＲＮ１１６２は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましく、エトキシ基、プロポキシ基又はブトキシ基が好ましい。
【０１７５】
一般式（Ｎ−１−１６）で表される化合物は単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０１７６】
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、ＴＮＩを重視する場合は含有量をおおめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。
【０１７７】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｎ−１−１６）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下である。
【０１７８】
一般式（Ｎ−１−１７）で表される化合物は下記の化合物である。
【０１７９】
【化４１】
0006701611.tif 000042
【０１８０】
（式中、ＲＮ１１７１及びＲＮ１１７２はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ）におけるＲＮ１１及びＲＮ１２と同じ意味を表す。）
ＲＮ１１７１は炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基又はブチル基が好ましい。ＲＮ１１７２は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましく、エトキシ基、プロポキシ基又はブトキシ基が好ましい。
【０１８１】
一般式（Ｎ−１−１７）で表される化合物は単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０１８２】
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、ＴＮＩを重視する場合は含有量をおおめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。
【０１８３】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｎ−１−１７）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下である。
【０１８４】
一般式（Ｎ−１−１８）で表される化合物は下記の化合物である。
【０１８５】
【化４２】
0006701611.tif 000043
【０１８６】
（式中、ＲＮ１１８１及びＲＮ１１８２はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ）におけるＲＮ１１及びＲＮ１２と同じ意味を表す。）
ＲＮ１１８１は炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基又はブチル基が好ましい。ＲＮ１１８２は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましく、エトキシ基、プロポキシ基又はブトキシ基が好ましい。
【０１８７】
一般式（Ｎ−１−１８）で表される化合物は単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０１８８】
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、ＴＮＩを重視する場合は含有量をおおめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。
【０１８９】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｎ−１−１８）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下である。
【０１９０】
さらに、一般式（Ｎ−１−１８）で表される化合物は、式（Ｎ−１−１８．１）から式（Ｎ−１−１８．５）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（Ｎ−１−１８．１）〜（Ｎ−１−１１．３）で表される化合物であることが好ましく、式（Ｎ−１−１８．２及び式（Ｎ−１−１８．３）で表される化合物が好ましい。
【０１９１】
【化４３】
0006701611.tif 000044
【０１９２】
一般式（Ｎ−１−２０）で表される化合物は下記の化合物である。
【０１９３】
【化４４】
0006701611.tif 000045
【０１９４】
（式中、ＲＮ１２０１及びＲＮ１２０２はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ）におけるＲＮ１１及びＲＮ１２と同じ意味を表す。）
ＲＮ１２０１及びＲＮ１２０２はそれぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基又はブチル基が好ましい。
【０１９５】
一般式（Ｎ−１−２０）で表される化合物は単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０１９６】
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、ＴＮＩを重視する場合は含有量をおおめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。
【０１９７】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｎ−１−２０）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下である。
【０１９８】
一般式（Ｎ−１−２１）で表される化合物は下記の化合物である。
【０１９９】
【化４５】
0006701611.tif 000046
【０２００】
（式中、ＲＮ１２１１及びＲＮ１２１２はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ）におけるＲＮ１１及びＲＮ１２と同じ意味を表す。）
ＲＮ１２１１及びＲＮ１２１２はそれぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基又はブチル基が好ましい。
【０２０１】
一般式（Ｎ−１−２１）で表される化合物は単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０２０２】
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、ＴＮＩを重視する場合は含有量をおおめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。
【０２０３】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｎ−１−２１）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下である。
【０２０４】
一般式（Ｎ−１−２２）で表される化合物は下記の化合物である。
【０２０５】
【化４６】
0006701611.tif 000047
【０２０６】
（式中、ＲＮ１２２１及びＲＮ１２２２はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ）におけるＲＮ１１及びＲＮ１２と同じ意味を表す。）
ＲＮ１２２１及びＲＮ１２２２はそれぞれ独立して、炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基又はブチル基が好ましい。
【０２０７】
一般式（Ｎ−１−２２）で表される化合物は単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０２０８】
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、ＴＮＩを重視する場合は含有量をおおめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。
【０２０９】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｎ−１−２１）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり２０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下であり、１０質量％以下であり、５質量％以下である。
【０２１０】
さらに、一般式（Ｎ−１−２２）で表される化合物は、式（Ｎ−１−２２．１）から式（Ｎ−１−２２．１２）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（Ｎ−１−２２．１）〜（Ｎ−１−２２．５）で表される化合物であることが好ましく、式（Ｎ−１−２２．１）〜（Ｎ−１−２２．４）で表される化合物が好ましい。
【０２１１】
【化４７】
0006701611.tif 000048
【０２１２】
一般式（Ｎ−３）で表される化合物は一般式（Ｎ−３−２）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
【０２１３】
【化４８】
0006701611.tif 000049
【０２１４】
（式中、ＲＮ３２１及びＲＮ３２２はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ）におけるＲＮ１１及びＲＮ１２と同じ意味を表す。）
ＲＮ３２１及びＲＮ３２２は炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、プロピル基又はペンチル基が好ましい。
【０２１５】
一般式（Ｎ−３−２）で表される化合物は単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０２１６】
Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、ＴＮＩを重視する場合は含有量を少なめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。
【０２１７】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｎ−３−２）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、３質量％以上であり、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上であり、２３質量％以上であり、２５質量％以上であり、２７質量％以上であり、３０質量％以上であり、３３質量％以上であり、３５質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、５０質量％以下であり、４０質量％以下であり、３８質量％以下であり、３５質量％以下であり、３３質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下であり、１０質量％以下であり、８質量％以下であり、７質量％以下であり、６質量％以下であり、５質量％以下である。
【０２１８】
さらに、一般式（Ｎ−３−２）で表される化合物は、式（Ｎ−３−２．１）から式（Ｎ−３−２．３）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
【０２１９】
【化４９】
0006701611.tif 000050
【０２２０】
液晶組成物は、一般式（Ｌ）：
【０２２１】
【化５０】
0006701611.tif 000051
【０２２２】
で表される化合物を更に含有してもよい。
【０２２３】
式（Ｌ）中、
ＲＬ１及びＲＬ２は、それぞれ独立して炭素原子数１〜８のアルキル基を表し、該アルキル基中の１個又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は、それぞれ独立して、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−によって置換されていてもよく、
ｎＬ１は、０、１、２又は３を表し、
ＡＬ１、ＡＬ２及びＡＬ３は、それぞれ独立して、
（ａ）  １，４−シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は−Ｏ−に置換されてもよい。）、
（ｂ）  １，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置換されてもよい。）、及び
（ｃ）  （ｃ）ナフタレン−２，６−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又はデカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基（ナフタレン−２，６−ジイル基又は１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置換されてもよい。）
からなる群より選ばれる基を表し、前記の基（ａ）、基（ｂ）及び基（ｃ）は、それぞれ独立してシアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていてもよく、
ＺＬ１及びＺＬ２は、それぞれ独立して、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、
ｎＬ１が２又は３であってＡＬ２が複数存在する場合は、それらは互いに同一であっても異なっていてもよく、ｎＬ１が２又は３であってＺＬ２が複数存在する場合は、それらは互いに同一であっても異なっていてもよいが、一般式（Ｎ−１）、（Ｎ−２）及び（Ｎ−３）で表される化合物を除く。
【０２２４】
一般式（Ｌ）で表される化合物は誘電的にほぼ中性の化合物（Δεの値が−２〜２）に該当する。一般式（Ｌ）で表される化合物は単独で用いてもよいが、組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの所望の性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類である。あるいは別の実施形態では２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類であり、６種類であり、７種類であり、８種類であり、９種類であり、１０種類以上である。
【０２２５】
本実施形態の組成物において、一般式（Ｌ）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。
【０２２６】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｌ）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、１０質量％以上であり、２０質量％以上であり、３０質量％以上であり、４０質量％以上であり、５０質量％以上であり、５５質量％以上であり、６０質量％以上であり、６５質量％以上であり、７０質量％以上であり、７５質量％以上であり、８０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、９５質量％以下であり、８５質量％以下であり、７５質量％以下であり、６５質量％以下であり、５５質量％以下であり、４５質量％以下であり、３５質量％以下であり、２５質量％以下である。
【０２２７】
本実施形態の組成物の粘度を低く保ち、応答速度が速い組成物が必要な場合は上記の下限値が高く上限値が高いことが好ましい。さらに、本実施形態の組成物のＴｎｉを高く保ち、温度安定性の良い組成物が必要な場合は上記の下限値が高く上限値が高いことが好ましい。また、駆動電圧を低く保つために誘電率異方性を大きくしたいときは、上記の下限値を低く上限値が低いことが好ましい。
【０２２８】
信頼性を重視する場合にはＲＬ１及びＲＬ２はともにアルキル基であることが好ましく、化合物の揮発性を低減させることを重視する場合にはアルコキシ基であることが好ましく、粘性の低下を重視する場合には少なくとも一方はアルケニル基であることが好ましい。
【０２２９】
分子内に存在するハロゲン原子は０、１、２又は３個が好ましく、０又は１が好ましく、他の液晶分子との相溶性を重視する場合には１が好ましい。
【０２３０】
ＲＬ１及びＲＬ２は、それが結合する環構造がフェニル基（芳香族）である場合には、直鎖状の炭素原子数１〜５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１〜４のアルコキシ基及び炭素原子数４〜５のアルケニル基が好ましく、それが結合する環構造がシクロヘキサン、ピラン及びジオキサンなどの飽和した環構造の場合には、直鎖状の炭素原子数１〜５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１〜４のアルコキシ基及び直鎖状の炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましい。ネマチック相を安定化させるためには炭素原子及び存在する場合酸素原子の合計が５以下であることが好ましく、直鎖状であることが好ましい。
【０２３１】
アルケニル基としては、式（Ｒ１）から式（Ｒ５）のいずれかで表される基から選ばれることが好ましい（各式中の黒点は結合手を表す。）。
【０２３２】
【化５１】
0006701611.tif 000052
【０２３３】
ｎＬ１は応答速度を重視する場合には０が好ましく、ネマチック相の上限温度を改善するためには２又は３が好ましく、これらのバランスをとるためには１が好ましい。また、組成物として求められる特性を満たすためには異なる値の化合物を組み合わせることが好ましい。
【０２３４】
ＡＬ１、ＡＬ２及びＡＬ３はΔｎを大きくすることが求められる場合には芳香族であることが好ましく、応答速度を改善するためには脂肪族であることが好ましく、それぞれ独立してトランス−１，４−シクロへキシレン基、１，４−フェニレン基、２−フルオロ−１，４−フェニレン基、３−フルオロ−１，４−フェニレン基、３，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキセニレン基、１，４−ビシクロ［２．２．２］オクチレン基、ピペリジン−１，４−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基を表すことが好ましく、下記の構造：
【０２３５】
【化５２】
0006701611.tif 000053
【０２３６】
を表すことがより好ましく、トランス−１，４−シクロへキシレン基又は１，４−フェニレン基を表すことがより好ましい。
【０２３７】
ＺＬ１及びＺＬ２は応答速度を重視する場合には単結合であることが好ましい。
【０２３８】
一般式（Ｌ）で表される化合物は分子内のハロゲン原子数が０個又は１個であることが好ましい。
【０２３９】
一般式（Ｌ）で表される化合物は一般式（Ｌ−１）〜（Ｌ−７）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
【０２４０】
一般式（Ｌ−１）で表される化合物は下記の化合物である。
【０２４１】
【化５３】
0006701611.tif 000054
【０２４２】
（式中、ＲＬ１１及びＲＬ１２はそれぞれ独立して、一般式（Ｌ）におけるＲＬ１及びＲＬ２と同じ意味を表す。）
ＲＬ１１及びＲＬ１２は、直鎖状の炭素原子数１〜５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１〜４のアルコキシ基及び直鎖状の炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましい。
【０２４３】
一般式（Ｌ−１）で表される化合物は単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０２４４】
好ましい含有量の下限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、１質量％以上であり、２質量％以上であり、３質量％以上であり、５質量％以上であり、７質量％以上であり、１０質量％以上であり、１５質量％以上であり、２０質量％以上であり、２５質量％以上であり、３０質量％以上であり、３５質量％以上であり、４０質量％以上であり、４５質量％以上であり、５０質量％以上であり、５５質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、９５質量％以下であり、９０質量％以下であり、８５質量％以下であり、８０質量％以下であり、７５質量％以下であり、７０質量％以下であり、６５質量％以下であり、６０質量％以下であり、５５質量％以下であり、５０質量％以下であり、４５質量％以下であり、４０質量％以下であり、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２５質量％以下である。
【０２４５】
本実施形態の組成物の粘度を低く保ち、応答速度が速い組成物が必要な場合は上記の下限値が高く上限値が高いことが好ましい。さらに、本実施形態の組成物のＴｎｉを高く保ち、温度安定性の良い組成物が必要な場合は上記の下限値が中庸で上限値が中庸であることが好ましい。また、駆動電圧を低く保つために誘電率異方性を大きくしたいときは、上記の下限値が低く上限値が低いことが好ましい。
【０２４６】
一般式（Ｌ−１）で表される化合物は一般式（Ｌ−１−１）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
【０２４７】
【化５４】
0006701611.tif 000055
【０２４８】
（式中ＲＬ１２は一般式（Ｌ−１）における意味と同じ意味を表す。）
一般式（Ｌ−１−１）で表される化合物は、式（Ｌ−１−１．１）から式（Ｌ−１−１．３）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（Ｌ−１−１．２）又は式（Ｌ−１−１．３）で表される化合物であることが好ましく、特に、式（Ｌ−１−１．３）で表される化合物であることが好ましい。
【０２４９】
【化５５】
0006701611.tif 000056
【０２５０】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｌ−１−１．３）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、２質量％以上であり、３質量％以上であり、５質量％以上であり、７質量％以上であり、１０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、２０質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下であり、１０質量％以下であり、８質量％以下であり、７質量％以下であり、６質量％以下であり、５質量％以下であり、３質量％以下である。
【０２５１】
一般式（Ｌ−１）で表される化合物は一般式（Ｌ−１−２）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
【０２５２】
【化５６】
0006701611.tif 000057
【０２５３】
（式中ＲＬ１２は一般式（Ｌ−１）における意味と同じ意味を表す。）
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｌ−１−２）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上であり、２３質量％以上であり、２５質量％以上であり、２７質量％以上であり、３０質量％以上であり、３５質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、６０質量％以下であり、５５質量％以下であり、５０質量％以下であり、４５質量％以下であり、４２質量％以下であり、４０質量％以下であり、３８質量％以下であり、３５質量％以下であり、３３質量％以下であり、３０質量％以下である。
【０２５４】
さらに、一般式（Ｌ−１−２）で表される化合物は、式（Ｌ−１−２．１）から式（Ｌ−１−２．４）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（Ｌ−１−２．２）から式（Ｌ−１−２．４）で表される化合物であることが好ましい。特に、式（Ｌ−１−２．２）で表される化合物は本実施形態の組成物の応答速度を特に改善するため好ましい。また、応答速度よりも高いＴｎｉを求めるときは、式（Ｌ−１−２．３）又は式（Ｌ−１−２．４）で表される化合物を用いることが好ましい。式（Ｌ−１−２．３）及び式（Ｌ−１−２．４）で表される化合物の含有量は、低温での溶解度を良くするために３０質量％以上にすることは好ましくない。
【０２５５】
【化５７】
0006701611.tif 000058
【０２５６】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｌ−１−２．２）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、１０質量％以上であり、１５質量％以上であり、１８質量％以上であり、２０質量％以上であり、２３質量％以上であり、２５質量％以上であり、２７質量％以上であり、３０質量％以上であり、３３質量％以上であり、３５質量％以上であり、３８質量％以上であり、４０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、６０質量％以下であり、５５質量％以下であり、５０質量％以下であり、４５質量％以下であり、４３質量％以下であり、４０質量％以下であり、３８質量％以下であり、３５質量％以下であり、３２質量％以下であり、３０質量％以下であり、２７質量％以下であり、２５質量％以下であり、２２質量％以下である。
【０２５７】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｌ−１−１．３）で表される化合物及び式（Ｌ−１−２．２）で表される化合物の合計の好ましい含有量の下限値は、１０質量％以上であり、１５質量％以上であり、２０質量％以上であり、２５質量％以上であり、２７質量％以上であり、３０質量％以上であり、３５質量％以上であり、４０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、６０質量％以下であり、５５質量％以下であり、５０質量％以下であり、４５質量％以下であり、４３質量％以下であり、４０質量％以下であり、３８質量％以下であり、３５質量％以下であり、３２質量％以下であり、３０質量％以下であり、２７質量％以下であり、２５質量％以下であり、２２質量％以下である。
【０２５８】
一般式（Ｌ−１）で表される化合物は一般式（Ｌ−１−３）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
【０２５９】
【化５８】
0006701611.tif 000059
【０２６０】
（式中ＲＬ１３及びＲＬ１４はそれぞれ独立して炭素原子数１〜８のアルキル基又は炭素原子数１〜８のアルコキシ基を表す。）
ＲＬ１３及びＲＬ１４は、直鎖状の炭素原子数１〜５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１〜４のアルコキシ基及び直鎖状の炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましい。
【０２６１】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｌ−１−３）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上であり、２３質量％以上であり、２５質量％以上であり、３０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、６０質量％以下であり、５５質量％以下であり、５０質量％以下であり、４５質量％以下であり、４０質量％以下であり、３７質量％以下であり、３５質量％以下であり、３３質量％以下であり、３０質量％以下であり、２７質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１７質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下であり、１０質量％以下である。
【０２６２】
さらに、一般式（Ｌ−１−３）で表される化合物は、式（Ｌ−１−３．１）から式（Ｌ−１−３．１３）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（Ｌ−１−３．１）、式（Ｌ−１−３．３）又は式（Ｌ−１−３．４）で表される化合物であることが好ましい。特に、式（Ｌ−１−３．１）で表される化合物は本実施形態の組成物の応答速度を特に改善するため好ましい。また、応答速度よりも高いＴｎｉを求めるときは、式（Ｌ−１−３．３）、式（Ｌ−１−３．４）、式（Ｌ−１−３．１１）及び式（Ｌ−１−３．１２）で表される化合物を用いることが好ましい。式（Ｌ−１−３．３）、式（Ｌ−１−３．４）、式（Ｌ−１−３．１１）及び式（Ｌ−１−３．１２）で表される化合物の合計の含有量は、低温での溶解度を良くするために２０％以上にすることは好ましくない。
【０２６３】
【化５９】
0006701611.tif 000060
【０２６４】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｌ−１−３．１）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、２質量％以上であり、３質量％以上であり、５質量％以上であり、７質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１８質量％以上であり、２０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、２０質量％以下であり、１７質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下であり、１０質量％以下であり、８質量％以下であり、７質量％以下であり、６質量％以下である。
【０２６５】
一般式（Ｌ−１）で表される化合物は一般式（Ｌ−１−４）及び／又は（Ｌ−１−５）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
【０２６６】
【化６０】
0006701611.tif 000061
【０２６７】
（式中ＲＬ１５及びＲＬ１６はそれぞれ独立して炭素原子数１〜８のアルキル基又は炭素原子数１〜８のアルコキシ基を表す。）
ＲＬ１５及びＲＬ１６は、直鎖状の炭素原子数１〜５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１〜４のアルコキシ基及び直鎖状の炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましい。
【０２６８】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｌ−１−４）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１７質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下であり、１０質量％以下である。
【０２６９】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｌ−１−５）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１７質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下であり、１０質量％以下である。
【０２７０】
さらに、一般式（Ｌ−１−４）及び（Ｌ−１−５）で表される化合物は、式（Ｌ−１−４．１）から式（Ｌ−１−４．３）及び式（Ｌ−１−５．１）から式（Ｌ−１−５．３）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（Ｌ−１−４．２）又は式（Ｌ−１−５．２）で表される化合物であることが好ましい。
【０２７１】
【化６１】
0006701611.tif 000062
【０２７２】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｌ−１−４．２）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、２質量％以上であり、３質量％以上であり、５質量％以上であり、７質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１８質量％以上であり、２０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、２０質量％以下であり、１７質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下であり、１０質量％以下であり、８質量％以下であり、７質量％以下であり、６質量％以下である。
【０２７３】
式（Ｌ−１−１．３）、式（Ｌ−１−２．２）、式（Ｌ−１−３．１）、式（Ｌ−１−３．３）、式（Ｌ−１−３．４）、式（Ｌ−１−３．１１）及び式（Ｌ−１−３．１２）で表される化合物から選ばれる２種以上の化合物を組み合わせることが好ましく、式（Ｌ−１−１．３）、式（Ｌ−１−２．２）、式（Ｌ−１−３．１）、式（Ｌ−１−３．３）、式（Ｌ−１−３．４）及び式（Ｌ−１−４．２）で表される化合物から選ばれる２種以上の化合物を組み合わせることが好ましい。これら化合物の合計の含有量の好ましい含有量の下限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、１質量％以上であり、２質量％以上であり、３質量％以上であり、５質量％以上であり、７質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１８質量％以上であり、２０質量％以上であり、２３質量％以上であり、２５質量％以上であり、２７質量％以上であり、３０質量％以上であり、３３質量％以上であり、３５質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、８０質量％以下であり、７０質量％以下であり、６０質量％以下であり、５０質量％以下であり、４５質量％以下であり、４０質量％以下であり、３７質量％以下であり、３５質量％以下であり、３３質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下である。
【０２７４】
組成物の信頼性を重視する場合には、式（Ｌ−１−３．１）、式（Ｌ−１−３．３）及び式（Ｌ−１−３．４））で表される化合物から選ばれる２種以上の化合物を組み合わせることが好ましく、組成物の応答速度を重視する場合には、式（Ｌ−１−１．３）、式（Ｌ−１−２．２）で表される化合物から選ばれる２種以上の化合物を組み合わせることが好ましい。
【０２７５】
一般式（Ｌ−１）で表される化合物は一般式（Ｌ−１−６）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
【０２７６】
【化６２】
0006701611.tif 000063
【０２７７】
（式中ＲＬ１７及びＲＬ１８はそれぞれ独立してメチル基又は水素原子を表す。）
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｌ−１−６）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上であり、２３質量％以上であり、２５質量％以上であり、２７質量％以上であり、３０質量％以上であり、３５質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、６０質量％以下であり、５５質量％以下であり、５０質量％以下であり、４５質量％以下であり、４２質量％以下であり、４０質量％以下であり、３８質量％以下であり、３５質量％以下であり、３３質量％以下であり、３０質量％以下である。
【０２７８】
さらに、一般式（Ｌ−１−６）で表される化合物は、式（Ｌ−１−６．１）から式（Ｌ−１−６．３）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
【０２７９】
【化６３】
0006701611.tif 000064
【０２８０】
一般式（Ｌ−２）で表される化合物は下記の化合物である。
【０２８１】
【化６４】
0006701611.tif 000065
【０２８２】
（式中、ＲＬ２１及びＲＬ２２はそれぞれ独立して、一般式（Ｌ）におけるＲＬ１及びＲＬ２と同じ意味を表す。）
ＲＬ２１は炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、ＲＬ２２は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましい。
【０２８３】
一般式（Ｌ−１）で表される化合物は単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０２８４】
低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、反対に、応答速度を重視する場合は含有量を少なめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。
【０２８５】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｌ−２）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、２質量％以上であり、３質量％以上であり、５質量％以上であり、７質量％以上であり、１０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、２０質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下であり、１０質量％以下であり、８質量％以下であり、７質量％以下であり、６質量％以下であり、５質量％以下であり、３質量％以下である。
【０２８６】
さらに、一般式（Ｌ−２）で表される化合物は、式（Ｌ−２．１）から式（Ｌ−２．６）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（Ｌ−２．１）、式（Ｌ−２．３）、式（Ｌ−２．４）及び式（Ｌ−２．６）で表される化合物であることが好ましい。
【０２８７】
【化６５】
0006701611.tif 000066
【０２８８】
一般式（Ｌ−３）で表される化合物は下記の化合物である。
【０２８９】
【化６６】
0006701611.tif 000067
【０２９０】
（式中、ＲＬ３１及びＲＬ３２はそれぞれ独立して、一般式（Ｌ）におけるＲＬ１及びＲＬ２と同じ意味を表す。）
ＲＬ３１及びＲＬ３２はそれぞれ独立して炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましい。
【０２９１】
一般式（Ｌ−３）で表される化合物は単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０２９２】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｌ−３）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、２質量％以上であり、３質量％以上であり、５質量％以上であり、７質量％以上であり、１０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、２０質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下であり、１０質量％以下であり、８質量％以下であり、７質量％以下であり、６質量％以下であり、５質量％以下であり、３質量％以下である。
【０２９３】
高い複屈折率を得る場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、反対に、高いＴｎｉを重視する場合は含有量を少なめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。
【０２９４】
さらに、一般式（Ｌ−３）で表される化合物は、式（Ｌ−３．１）から式（Ｌ−３．７）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（Ｌ−３．２）から式（Ｌ−３．７）で表される化合物であることが好ましい。
【０２９５】
【化６７】
0006701611.tif 000068
【０２９６】
一般式（Ｌ−４）で表される化合物は下記の化合物である。
【０２９７】
【化６８】
0006701611.tif 000069
【０２９８】
（式中、ＲＬ４１及びＲＬ４２はそれぞれ独立して、一般式（Ｌ）におけるＲＬ１及びＲＬ２と同じ意味を表す。）
ＲＬ４１は炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、ＲＬ４２は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましい。）
一般式（Ｌ−４）で表される化合物は単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０２９９】
本実施形態の組成物において、一般式（Ｌ−４）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。
【０３００】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｌ−４）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、２質量％以上であり、３質量％以上であり、５質量％以上であり、７質量％以上であり、１０質量％以上であり、１４質量％以上であり、１６質量％以上であり、２０質量％以上であり、２３質量％以上であり、２６質量％以上であり、３０質量％以上であり、３５質量％以上であり、４０質量％以上である。本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｌ−４）で表される化合物の好ましい含有量の上限値は、５０質量％以下であり、４０質量％以下であり、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２０質量％以下であり、１５質量％以下であり、１０質量％以下であり、５質量％以下である。
【０３０１】
一般式（Ｌ−４）で表される化合物は、例えば式（Ｌ−４．１）から式（Ｌ−４．３）で表される化合物であることが好ましい。
【０３０２】
【化６９】
0006701611.tif 000070
【０３０３】
低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて、式（Ｌ−４．１）で表される化合物を含有していても、式（Ｌ−４．２）で表される化合物を含有していても、式（Ｌ−４．１）で表される化合物と式（Ｌ−４．２）で表される化合物との両方を含有していてもよいし、式（Ｌ−４．１）から式（Ｌ−４．３）で表される化合物を全て含んでいてもよい。
【０３０４】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｌ−４．１）又は式（Ｌ−４．２）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、３質量％以上であり、５質量％以上であり、７質量％以上であり、９質量％以上であり、１１質量％以上であり、１２質量％以上であり、１３質量％以上であり、１８質量％以上であり、２１質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、４５質量％以下であり、４０質量％以下であり、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下であり、１０質量％以下であり、８質量％以下である。
【０３０５】
式（Ｌ−４．１）で表される化合物と式（Ｌ−４．２）で表される化合物との両方を含有する場合は、本実施形態の組成物の総量に対しての両化合物の好ましい含有量の下限値は、１５質量％以上であり、１９質量％以上であり、２４質量％以上であり、３０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、４５質量％以下であり、４０質量％以下であり、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下である。
【０３０６】
一般式（Ｌ−４）で表される化合物は、例えば式（Ｌ−４．４）から式（Ｌ−４．６）で表される化合物であることが好ましく、式（Ｌ−４．４）で表される化合物であることが好ましい。
【０３０７】
【化７０】
0006701611.tif 000071
【０３０８】
低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて、式（Ｌ−４．４）で表される化合物を含有していても、式（Ｌ−４．５）で表される化合物を含有していても、式（Ｌ−４．４）で表される化合物と式（Ｌ−４．５）で表される化合物との両方を含有していてもよい。
【０３０９】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｌ−４．４）又は式（Ｌ−４．５）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、３質量％以上であり、５質量％以上であり、７質量％以上であり、９質量％以上であり、１１質量％以上であり、１２質量％以上であり、１３質量％以上であり、１８質量％以上であり、２１質量％以上である。好ましい上限値は、４５質量％以下であり、４０質量％以下であり、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下であり、１０質量％以下であり、８質量％以下である。
【０３１０】
式（Ｌ−４．４）で表される化合物と式（Ｌ−４．５）で表される化合物との両方を含有する場合は、本実施形態の組成物の総量に対しての両化合物の好ましい含有量の下限値は、１５質量％以上であり、１９質量％以上であり、２４質量％以上であり、３０質量％以上であり、好ましい上限値は、４５質量％以下であり、４０質量％以下であり、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下である。
【０３１１】
一般式（Ｌ−４）で表される化合物は、式（Ｌ−４．７）から式（Ｌ−４．１０）で表される化合物であることが好ましく、特に、式（Ｌ−４．９）で表される化合物が好ましい。
【０３１２】
【化７１】
0006701611.tif 000072
【０３１３】
一般式（Ｌ−５）で表される化合物は下記の化合物である。
【０３１４】
【化７２】
0006701611.tif 000073
【０３１５】
（式中、ＲＬ５１及びＲＬ５２はそれぞれ独立して、一般式（Ｌ）におけるＲＬ１及びＲＬ２と同じ意味を表す。）
ＲＬ５１は炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、ＲＬ５２は炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数４〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましい。
【０３１６】
一般式（Ｌ−５）で表される化合物は単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０３１７】
本実施形態の組成物において、一般式（Ｌ−５）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。
【０３１８】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｌ−５）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、２質量％以上であり、３質量％以上であり、５質量％以上であり、７質量％以上であり、１０質量％以上であり、１４質量％以上であり、１６質量％以上であり、２０質量％以上であり、２３質量％以上であり、２６質量％以上であり、３０質量％以上であり、３５質量％以上であり、４０質量％以上である。本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｌ−５）で表される化合物の好ましい含有量の上限値は、５０質量％以下であり、４０質量％以下であり、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２０質量％以下であり、１５質量％以下であり、１０質量％以下であり、５質量％以下である
一般式（Ｌ−５）で表される化合物は、式（Ｌ−５．１）又は式（Ｌ−５．２）で表される化合物であることが好ましく、特に、式（Ｌ−５．１）で表される化合物であることが好ましい。
【０３１９】
【化７３】
0006701611.tif 000074
【０３２０】
本実施形態の組成物の総量に対してのこれら化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、２質量％以上であり、３質量％以上であり、５質量％以上であり、７質量％以上である。これら化合物の好ましい含有量の上限値は、２０質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下であり、１０質量％以下であり、９質量％以下である。
【０３２１】
一般式（Ｌ−５）で表される化合物は、式（Ｌ−５．３）又は式（Ｌ−５．４）で表される化合物であることが好ましい。
【０３２２】
【化７４】
0006701611.tif 000075
【０３２３】
本実施形態の組成物の総量に対してのこれら化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、２質量％以上であり、３質量％以上であり、５質量％以上であり、７質量％以上である。これら化合物の好ましい含有量の上限値は、２０質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下であり、１０質量％以下であり、９質量％以下である。
【０３２４】
一般式（Ｌ−５）で表される化合物は、式（Ｌ−５．５）から式（Ｌ−５．７）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、特に式（Ｌ−５．７）で表される化合物であることが好ましい。
【０３２５】
【化７５】
0006701611.tif 000076
【０３２６】
本実施形態の組成物の総量に対してのこれら化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、２質量％以上であり、３質量％以上であり、５質量％以上であり、７質量％以上である。これら化合物の好ましい含有量の上限値は、２０質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下であり、１０質量％以下であり、９質量％以下である。
【０３２７】
一般式（Ｌ−６）で表される化合物は下記の化合物である。
【０３２８】
【化７６】
0006701611.tif 000077
【０３２９】
（式中、ＲＬ６１及びＲＬ６２はそれぞれ独立して、一般式（Ｌ）におけるＲＬ１及びＲＬ２と同じ意味を表し、ＸＬ６１及びＸＬ６２はそれぞれ独立して水素原子又はフッ素原子を表す。）
ＲＬ６１及びＲＬ６２はそれぞれ独立して炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基が好ましく、ＸＬ６１及びＸＬ６２のうち一方がフッ素原子、他方が水素原子であることが好ましい。
【０３３０】
一般式（Ｌ−６）で表される化合物は単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。
【０３３１】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｌ−６）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、２質量％以上であり、３質量％以上であり、５質量％以上であり、７質量％以上であり、１０質量％以上であり、１４質量％以上であり、１６質量％以上であり、２０質量％以上であり、２３質量％以上であり、２６質量％以上であり、３０質量％以上であり、３５質量％以上であり、４０質量％以上である。本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｌ−６）で表される化合物の好ましい含有量の上限値は、５０質量％以下であり、４０質量％以下であり、３５質量％以下であり、３０質量％以下であり、２０質量％以下であり、１５質量％以下であり、１０質量％以下であり、５質量％以下である。Δｎを大きくすることに重点を置く場合には含有量を多くした方が好ましく、低温での析出に重点を置いた場合には含有量は少ない方が好ましい。
【０３３２】
一般式（Ｌ−６）で表される化合物は、式（Ｌ−６．１）から式（Ｌ−６．９）で表される化合物であることが好ましい。
【０３３３】
【化７７】
0006701611.tif 000078
【０３３４】
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、これらの化合物の中から１種〜３種類含有することが好ましく、１種〜４種類含有することがさらに好ましい。また、選ぶ化合物の分子量分布が広いことも溶解性に有効であるため、例えば、式（Ｌ−６．１）又は（Ｌ−６．２）で表される化合物から１種類、式（Ｌ−６．４）又は（Ｌ−６．５）で表される化合物から１種類、式（Ｌ−６．６）又は式（Ｌ−６．７）で表される化合物から１種類、式（Ｌ−６．８）又は（Ｌ−６．９）で表される化合物から１種類の化合物を選び、これらを適宜組み合わせることが好ましい。その中でも、式（Ｌ−６．１）、式（Ｌ−６．３）式（Ｌ−６．４）、式（Ｌ−６．６）及び式（Ｌ−６．９）で表される化合物を含むことが好ましい。
【０３３５】
さらに、一般式（Ｌ−６）で表される化合物は、例えば式（Ｌ−６．１０）から式（Ｌ−６．１７）で表される化合物であることが好ましく、その中でも、式（Ｌ−６．１１）で表される化合物であることが好ましい。
【０３３６】
【化７８】
0006701611.tif 000079
【０３３７】
本実施形態の組成物の総量に対してのこれら化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、２質量％以上であり、３質量％以上であり、５質量％以上であり、７質量％以上である。これら化合物の好ましい含有量の上限値は、２０質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下であり、１０質量％以下であり、９質量％以下である。
【０３３８】
一般式（Ｌ−７）で表される化合物は下記の化合物である。
【０３３９】
【化７９】
0006701611.tif 000080
【０３４０】
（式中、ＲＬ７１及びＲＬ７２はそれぞれ独立して一般式（Ｌ）におけるＲＬ１及びＲＬ２と同じ意味を表し、ＡＬ７１及びＡＬ７２はそれぞれ独立して一般式（Ｌ）におけるＡＬ２及びＡＬ３と同じ意味を表すが、ＡＬ７１及びＡＬ７２上の水素原子はそれぞれ独立してフッ素原子によって置換されていてもよく、ＺＬ７１は一般式（Ｌ）におけるＺＬ２と同じ意味を表し、ＸＬ７１及びＸＬ７２はそれぞれ独立してフッ素原子又は水素原子を表す。）
式中、ＲＬ７１及びＲＬ７２はそれぞれ独立して炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましく、ＡＬ７１及びＡＬ７２はそれぞれ独立して１,４-シクロヘキシレン基又は１,４-フェニレン基が好ましく、ＡＬ７１及びＡＬ７２上の水素原子はそれぞれ独立してフッ素原子によって置換されていてもよく、ＺＬ７１は単結合又はＣＯＯ−が好ましく、単結合が好ましく、ＸＬ７１及びＸＬ７２は水素原子が好ましい。
【０３４１】
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて組み合わせる。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類である。
【０３４２】
本実施形態の組成物において、一般式（Ｌ−７）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。
【０３４３】
本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｌ−７）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、２質量％以上であり、３質量％以上であり、５質量％以上であり、７質量％以上であり、１０質量％以上であり、１４質量％以上であり、１６質量％以上であり、２０質量％以上である。本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｌ−７）で表される化合物の好ましい含有量の上限値は、３０質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１０質量％以下であり、５質量％以下である。
【０３４４】
本実施形態の組成物が高いＴｎｉの実施形態が望まれる場合は式（Ｌ−７）で表される化合物の含有量を多めにすることが好ましく、低粘度の実施形態が望まれる場合は含有量を少なめにすることが好ましい。
【０３４５】
さらに、一般式（Ｌ−７）で表される化合物は、式（Ｌ−７．１）から式（Ｌ−７．４）で表される化合物であることが好ましく、式（Ｌ−７．２）で表される化合物であることが好ましい。
【０３４６】
【化８０】
0006701611.tif 000081
【０３４７】
さらに、一般式（Ｌ−７）で表される化合物は、式（Ｌ−７．１１）から式（Ｌ−７．１３）で表される化合物であることが好ましく、式（Ｌ−７．１１）で表される化合物であることが好ましい。
【０３４８】
【化８１】
0006701611.tif 000082
【０３４９】
さらに、一般式（Ｌ−７）で表される化合物は、式（Ｌ−７．２１）から式（Ｌ−７．２３）で表される化合物である。式（Ｌ−７．２１）で表される化合物であることが好ましい。
【０３５０】
【化８２】
0006701611.tif 000083
【０３５１】
さらに、一般式（Ｌ−７）で表される化合物は、式（Ｌ−７．３１）から式（Ｌ−７．３４）で表される化合物であることが好ましく、式（Ｌ−７．３１）又は／及び式（Ｌ−７．３２）で表される化合物であることが好ましい。
【０３５２】
【化８３】
0006701611.tif 000084
【０３５３】
さらに、一般式（Ｌ−７）で表される化合物は、式（Ｌ−７．４１）から式（Ｌ−７．４４）で表される化合物であることが好ましく、式（Ｌ−７．４１）又は／及び式（Ｌ−７．４２）で表される化合物であることが好ましい。
【０３５４】
【化８４】
0006701611.tif 000085
【０３５５】
さらに、一般式（Ｌ−７）で表される化合物は、式（Ｌ−７．５１）から式（Ｌ−７．５３）で表される化合物であることが好ましい。
【０３５６】
【化８５】
0006701611.tif 000086
【０３５７】
液晶組成物は、重合性化合物を更に含有してもよい。重合性化合物は、液晶組成物に用いられる公知の重合性化合物であってよい。重合性化合物の例としては、一般式（Ｐ）：
【０３５８】
【化８６】
0006701611.tif 000087
【０３５９】
で表される化合物が挙げられる。
【０３６０】
式（Ｐ）中、
Ｚｐ１は、フッ素原子、シアノ基、水素原子、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素原子数１〜１５のアルキル基、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素原子数１〜１５のアルコキシ基、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素原子数１〜１５のアルケニル基、水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい炭素原子数１〜１５のアルケニルオキシ基又は−Ｓｐｐ２−Ｒｐ２を表し、
Ｒｐ１及びＲｐ２は、以下の式（Ｒ−Ｉ）〜式（Ｒ−ＩＸ）：
【０３６１】
【化８７】
0006701611.tif 000088
【０３６２】
（式中、
＊でＳｐｐ１と結合し、
Ｒ２〜Ｒ６は、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数１〜５個のアルキル基又は炭素原子数１〜５個のハロゲン化アルキル基を表し、
Ｗは、単結合、−Ｏ−又はメチレン基を表し、
Ｔは、単結合又は−ＣＯＯ−を表し、
ｐ、ｔ及びｑは、それぞれ独立して、０、１又は２を表す。）
のいずれかを表し、
Ｓｐｐ１及びＳｐｐ２はスペーサー基を表し、
Ｌｐ１及びＬｐ２は、それぞれ独立して、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＨ２−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｃ２Ｈ４−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯＣＨ２−、−ＣＨ２ＯＣＯＯ−、−ＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲａ−、−ＮＲａ−ＣＯ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＲａ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＲａ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＲａ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＲａ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＲａ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＯＯ−ＣＲａ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−ＣＲａ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＲａ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−（ＣＨ２）ｚ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−（ＣＨ２）ｚ−Ｏ−（Ｃ＝Ｏ）−、−Ｏ−（Ｃ＝Ｏ）−（ＣＨ２）ｚ−、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ２）ｚ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−ＣＦ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＦ−、−ＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−又は−Ｃ≡Ｃ−（式中、Ｒａはそれぞれ独立して水素原子又は炭素原子数１〜４のアルキル基を表し、ｚは１〜４の整数を表す。）を表し、
Ｍｐ２は、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、アントラセン−２，６−ジイル基、フェナントレン−２，７−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、インダン−２，５−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基又は単結合を表すが、Ｍｐ２は無置換であるか又は炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素原子数１〜１２のアルコキシ基、炭素原子数１〜１２のハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基若しくは−Ｒｐ１で置換されていてもよく、
Ｍｐ１は、以下の式（ｉ−１１）〜（ｉｘ−１１）：
【０３６３】
【化８８】
0006701611.tif 000089
【０３６４】
（式中、＊でＳｐｐ１と結合し、＊＊でＬｐ１、Ｌｐ２又はＺｐ１と結合する。）
のいずれかを表し、
Ｍｐ1上の任意の水素原子は炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素原子数１〜１２のアルコキシ基、炭素原子数１〜１２のハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基若しくは−Ｒｐ１で置換されていてもよく、
Ｍｐ３は、以下の式（ｉ−１３）〜（ｉｘ−１３）：
【０３６５】
【化８９】
0006701611.tif 000090
【０３６６】
（式中、＊でＺｐ１と結合し、＊＊でＬｐ２と結合する。）
のいずれかを表し、
Ｍｐ３上の任意の水素原子は炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素原子数１〜１２のアルコキシ基、炭素原子数１〜１２のハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基若しくは−Ｒｐ１で置換されていてもよく、
ｍｐ２〜ｍｐ４は、それぞれ独立して０、１、２又は３を表し、
ｍｐ１及びｍｐ５は、それぞれ独立して１、２又は３を表し、
Ｚｐ１が複数存在する場合にはそれらは互いに同一であっても異なっていてもよく、Ｒｐ１が複数存在する場合にはそれらは互いに同一であっても異なっていてもよく、Ｒｐ２が複数存在する場合にはそれらは互いに同一であっても異なっていてもよく、Ｓｐｐ１が複数存在する場合にはそれらは互いに同一であっても異なっていてもよく、Ｓｐｐ２が複数存在する場合にはそれらは互いに同一であっても異なっていてもよく、Ｌｐ１が複数存在する場合にはそれらは互いに同一であっても異なっていてもよく、Ｍｐ２が複数存在する場合にはそれらは互いに同一であっても異なっていてもよい。
【０３６７】
本実施形態の液晶組成物がシクロファンにＫｉ１で表される基を有する１価の有機基が置換された化合物に加えて重合性化合物を更に含有する場合、液晶分子のプレチルト角を好適に形成できる。
【０３６８】
本実施形態の組成物は、分子内に過酸（−ＣＯ−ＯＯ−）構造等の酸素原子同士が結合した構造を持つ化合物を含有しないことが好ましい。
【０３６９】
組成物の信頼性及び長期安定性を重視する場合、カルボニル基を有する化合物の含有量を組成物の総質量に対して、５質量％以下とすることが好ましく、３質量％以下とすることがより好ましく、１質量％以下とすることが更に好ましく、実質的に含有しないことが最も好ましい。
【０３７０】
ＵＶ照射による安定性を重視する場合、塩素原子が置換している化合物の含有量を組成物の総質量に対して、１５質量％以下とすることが好ましく、１０質量％以下とすることが好ましく、８質量％以下とすることが好ましく、５質量％以下とすることがより好ましく、３質量％以下とすることが好ましく、実質的に含有しないことが更に好ましい。
【０３７１】
分子内の環構造がすべて６員環である化合物の含有量を多くすることが好ましく、分子内の環構造がすべて６員環である化合物の含有量を組成物の総質量に対して、８０質量％以上とすることが好ましく、９０質量％以上とすることがより好ましく、９５質量％以上とすることが更に好ましく、実質的に分子内の環構造がすべて６員環である化合物のみで組成物を構成することが最も好ましい。
【０３７２】
組成物の酸化による劣化を抑えるためには、環構造としてシクロヘキセニレン基を有する化合物の含有量を少なくすることが好ましく、シクロヘキセニレン基を有する化合物の含有量を組成物の総質量に対して、１０質量％以下とすることが好ましく、８質量％以下とすることが好ましく、５質量％以下とすることがより好ましく、３質量％以下とすることが好ましく、実質的に含有しないことが更に好ましい。
【０３７３】
粘度の改善及びＴｎｉの改善を重視する場合には、水素原子がハロゲンに置換されていてもよい２−メチルベンゼン−１，４−ジイル基を分子内に持つ化合物の含有量を少なくすることが好ましく、２−メチルベンゼン−１，４−ジイル基を分子内に持つ化合物の含有量を組成物の総質量に対して、１０質量％以下とすることが好ましく、８質量％以下とすることが好ましく、５質量％以下とすることがより好ましく、３質量％以下とすることが好ましく、実質的に含有しないことが更に好ましい。
【０３７４】
本明細書において実質的に含有しないとは、意図せずに含有する物（不可避的不純物）を除いて含有しないという意味である。
【０３７５】
液晶組成物の平均弾性定数（ＫＡＶＧ）の下限値は、１０以上が好ましく、１０．５以上が好ましく、１１以上が好ましく、１１．５以上が好ましく、１２以上が好ましく、１２．３以上が好ましく、１２．５以上が好ましく、１２．８以上が好ましく、１３以上が好ましく、１３．３以上が好ましく、１３．５以上が好ましく、１３．８以上が好ましく、１４以上が好ましく、１４．３以上が好ましく、１４．５以上が好ましく、１４．８以上が好ましく、１５以上が好ましく、１５．３以上が好ましく、１５．５以上が好ましく、１５．８以上が好ましく、１６以上が好ましく、１６．３以上が好ましく、１６．５以上が好ましく、１６．８以上が好ましく、１７以上が好ましく、１７．３以上が好ましく、１７．５以上が好ましく、１７．８以上が好ましく、１８以上が好ましい。液晶組成物の平均弾性定数（ＫＡＶＧ）の上限値は、２５以下が好ましく、２４．５以下が好ましく、２４以下が好ましく、２３．５以下が好ましく、２３以下が好ましく、２２．８以下が好ましく、２２．５以下が好ましく、２２．３以下が好ましく、２２以下が好ましく、２１．８以下が好ましく、２１．５以下が好ましく、２１．３以下が好ましく、２１以下が好ましく、２０．８以下が好ましく、２０．５以下が好ましく、２０．３以下が好ましく、２０以下が好ましく、１９．８以下が好ましく、１９．５以下が好ましく、１９．３以下が好ましく、１９以下が好ましく、１８．８以下が好ましく、１８．５以下が好ましく、１８．３以下が好ましく、１８以下が好ましく、１７．８以下が好ましく、１７．５以下が好ましく、１７．３以下が好ましく、１７以下が好ましい。消費電力削減を重視する場合にはバックライトの光量を抑えることが有効であり、液晶表示素子は光の透過率を向上させることが好ましく、そのためにはＫＡＶＧの値を低めに設定することが好ましい。応答速度の改善を重視する場合にはＫＡＶＧの値を高めに設定することが好ましい。
（液晶表示素子）
本実施形態の液晶組成物は、液晶表示素子に適用される。以下、図１，２を適宜参照しながら、本実施形態に係る液晶表示素子の例を説明する。
【０３７６】
図１は、液晶表示素子の構成を模式的に示す図である。図１では、説明のために便宜上、各構成要素を離間させて示している。本実施形態に係る液晶表示素子１は、図１に示すように、対向するように配置された第一基板２及び第二基板３と、第一基板２と第二基板３との間に設けられた液晶層４とを備えており、液晶層４は前述した本実施形態の液晶組成物により構成される。
【０３７７】
第一基板２には、液晶層４側の面に画素電極層５が形成されている。第二基板３には、液晶層４側に共通電極層６が形成されている。第一基板２及び第二基板３は、一対の偏光板７，８により挟持されていてもよい。第二基板３の液晶層４側には、カラーフィルタ９が更に設けられていてもよい。
【０３７８】
すなわち、一実施形態に係る液晶表示素子１は、第一偏光板７と、第一基板２と、画素電極層５と、液晶組成物を含む液晶層４と、共通電極層６と、カラーフィルタ９と、第二基板３と、第二偏光板８と、がこの順に積層された構成を有している。
【０３７９】
第一基板２及び第二基板３は、例えばガラス又はプラスチック等の柔軟性をもつ材料で形成されている。第一基板２及び第二基板３の少なくとも一方は透明な材料で形成されており、他方は透明な材料で形成されていても、金属やシリコン等の不透明な材料で形成されていてもよい。第一基板２及び第二基板３は、周縁領域に配置されたエポキシ系熱硬化性組成物等のシール材及び封止材によって互いに貼り合わされていて、その間には基板間距離を保持するために、例えば、ガラス粒子、プラスチック粒子、アルミナ粒子等の粒状スペーサー、又はフォトリソグラフィー法により形成された樹脂からなるスペーサー柱が配置されていてもよい。
【０３８０】
第一偏光板７及び第二偏光板８は、各偏光板の偏光軸を調整して視野角やコントラストが良好になるように調整することができ、それらの透過軸がノーマリブラックモードで作動するように、互いに直行する透過軸を有することが好ましい。特に、第一偏光板７及び第二偏光板８のうちいずれかは、電圧無印加時の液晶分子の配向方向と平行な透過軸を有するように配置されることが好ましい。
【０３８１】
カラーフィルタ９は、光の漏れを防止する観点で、ブラックマトリクスを形成することが好ましく、薄膜トランジスタに対応する部分にブラックマトリクス（図示せず）を形成することが好ましい。
【０３８２】
ブラックマトリクスは、アレイ基板と反対側の基板にカラーフィルタと共に設置されてもよく、アレイ基板側にカラーフィルタと共に設置されてもよく、ブラックマトリクスがアレイ基板に、カラーフィルタがもう一方の基板にそれぞれ別に設置されてもよい。また、ブラックマトリクスは、カラーフィルタと別に設置されてもよいが、カラーフィルタの各色を重ねることで透過率を低下させるものであってもよい。
【０３８３】
図２は、図１における第一基板２上に形成された画素電極層５の一部であるＩ線で囲まれた領域を拡大した平面図である。図２に示すように、第一基板２の表面に形成されている薄膜トランジスタを含む画素電極層５では、走査信号を供給するための複数のゲートバスライン１１と表示信号を供給するための複数のデータバスライン１２とが、互いに交差してマトリクス状に配置されている。なお、図２には、一対のゲートバスライン１１，１１及び一対のデータバスライン１２，１２のみが示されている。
【０３８４】
複数のゲートバスライン１１と複数のデータバスライン１２とにより囲まれた領域により、液晶表示素子の単位画素が形成され、該単位画素内には、画素電極１３が形成されている。画素電極１３は、互いに直交して十字形状をなす二つの幹部と、各幹部から延在する複数の枝部とを備える、いわゆるフィッシュボーン構造を有している。また、一対のゲートバスライン１１，１１の間には、ゲートバスライン１１と略平行にＣｓ電極１４が設けられている。また、ゲートバスライン１１とデータバスライン１２とが互いに交差している交差部近傍には、ソース電極１５及びドレイン電極１６を含む薄膜トランジスタが設けられている。ドレイン電極１６には、コンタクトホール１７が設けられている。
【０３８５】
ゲートバスライン１１及びデータバスライン１２は、好ましくはそれぞれ金属膜で形成されており、より好ましくはＡｌ、Ｃｕ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｗ、Ｎｉ又はその合金で形成されており、更に好ましくはＭｏ、Ａｌ又はその合金で形成されている。
【０３８６】
画素電極１３は、透過率を向上させるために、好ましくは透明電極である。透明電極は、酸化物半導体（ＺｎＯ、ＩｎＧａＺｎＯ、ＳｉＧｅ、ＧａＡｓ、ＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）、ＳｎＯ、ＴｉＯ、ＡＺＴＯ（ＡｌＺｎＳｎＯ）等）をスパッタリング等することにより形成される。この際、透明電極の膜厚は、１０〜２００ｎｍであってよい。また、電気的抵抗を低減するために、アモルファスのＩＴＯ膜を焼成することにより多結晶のＩＴＯ膜として透明電極を形成することもできる。
【０３８７】
本実施形態の液晶表示素子は、例えば、第一基板２及び第二基板３上にＡｌ又はその合金等の金属材料をスパッタリングすることにより配線を形成し、画素電極層５及び共通電極層６をそれぞれ形成することができる。また、カラーフィルタ９は、例えば、顔料分散法、印刷法、電着法又は、染色法等によって作成することができる。顔料分散法によるカラーフィルタの作成方法を一例に説明すると、カラーフィルタ用の硬化性着色組成物を、該透明基板上に塗布し、パターニング処理を施し、そして加熱又は光照射により硬化させる。この工程を、赤、緑、青の３色についてそれぞれ行うことで、カラーフィルタ用の画素部を作成することができる。また、カラーフィルタ９は、ＴＦＴ等を有する基板側に設置してもよい。
【０３８８】
第一基板２及び第二基板３は、画素電極層５及び共通電極層６がそれぞれ内側となるように対向させるが、その際にスペーサーを介して、第一基板２及び第二基板３の間隔を調整してもよい。このときは、液晶層４の厚さが、例えば１〜１００μｍとなるように調整するのが好ましい。
【０３８９】
偏光板７，８を使用する場合は、コントラストが最大になるように液晶層４の屈折率異方性Δｎと液晶層４の厚さとの積を調整することが好ましい。また、二枚の偏光板７，８がある場合は、各偏光板の偏光軸を調整して視野角やコントラトが良好になるように調整することもできる。さらに、視野角を広げるための位相差フィルムも使用することもできる。その後、エポキシ系熱硬化性組成物等のシール剤を、液晶注入口を設けた形で該基板にスクリーン印刷し、該基板同士を貼り合わせ、加熱しシール剤を熱硬化させる。
【０３９０】
２枚の基板２，３間に組成物を狭持させる方法は、通常の真空注入法又は滴下注入（ＯＤＦ：Ｏｎｅ  Ｄｒｏｐ  Ｆｉｌｌ）法等を用いることができるが、真空注入法においては滴下痕が発生しないものの、注入の跡が残る課題を有しているものであるが、本実施形態においては、ＯＤＦ法を用いて製造する表示素子により好適に使用することができる。ＯＤＦ法の液晶表示素子製造工程においては、バックプレーン又はフロントプレーンのどちらか一方の基板にエポキシ系光熱併用硬化性などのシール剤を、ディスペンサーを用いて閉ループ土手状に描画し、その中に脱気下で所定量の組成物を滴下後、フロントプレーンとバックプレーンを接合することによって液晶表示素子を製造することができる。本実施形態においては、ＯＤＦ法において、液晶組成物を基板に滴下した際の滴下痕の発生を抑えることができる。なお、滴下痕とは、黒表示した場合に液晶組成物を滴下した痕が白く浮かび上がる現象と定義する。
【０３９１】
また、ＯＤＦ法による液晶表示素子の製造工程においては、液晶表示素子のサイズに応じて最適な液晶注入量を滴下する必要があるが、本実施形態の液晶組成物は、例えば、液晶滴下時に生じる滴下装置内の急激な圧力変化や衝撃に対する影響が少なく、長時間にわたって安定的に液晶を滴下し続けることが可能であるため、液晶表示素子の歩留まりを高く保持することもできる。特に、最近流行しているスマートフォンに多用される小型液晶表示素子は、最適な液晶注入量が少ないために最適値からのずれを一定範囲内に制御すること自体が難しいが、本実施形態の液晶組成物を用いることにより、小型液晶表示素子においても安定した液晶材料の吐出量を実現できる。
【０３９２】
本実施形態の液晶組成物が重合性化合物を含有する場合、重合性化合物を重合させる方法としては、液晶の良好な配向性能を得るためには、適度な重合速度が望ましいので、紫外線又は電子線等の活性エネルギー線を単一又は併用又は順番に照射することによって重合させる方法が好ましい。紫外線を使用する場合、偏光光源を用いてもよいし、非偏光光源を用いてもよい。また、重合性化合物含有組成物を２枚の基板間に挟持させて状態で重合を行う場合には、少なくとも照射面側の基板は活性エネルギー線に対して適当な透明性が与えられていなければならない。また、光照射時にマスクを用いて特定の部分のみを重合させた後、電場や磁場又は温度等の条件を変化させることにより、未重合部分の配向状態を変化させて、更に活性エネルギー線を照射して重合させるという手段を用いてもよい。特に紫外線露光する際には、重合性化合物含有組成物に交流電界を印加しながら紫外線露光することが好ましい。印加する交流電界は、周波数１０Ｈｚ〜１０ｋＨｚの交流が好ましく、周波数６０Ｈｚ〜１０ｋＨｚがより好ましく、電圧は液晶表示素子の所望のプレチルト角に依存して選ばれる。つまり、印加する電圧により液晶表示素子のプレチルト角を制御することができる。横電界型ＭＶＡモードの液晶表示素子においては、配向安定性及びコントラストの観点からプレチルト角を８０度〜８９．９度に制御することが好ましい。
【０３９３】
照射時の温度は、本実施形態の組成物の液晶状態が保持される温度範囲内であることが好ましい。室温に近い温度、即ち、典型的には１５〜３５℃での温度で重合させることが好ましい。紫外線を発生させるランプとしては、メタルハライドランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ等を用いることができる。また、照射する紫外線の波長としては、組成物の吸収波長域でない波長領域の紫外線を照射することが好ましく、必要に応じて、紫外線をカットして使用することが好ましい。照射する紫外線の強度は、０．１ｍＷ／ｃｍ２〜１００Ｗ／ｃｍ２が好ましく、２ｍＷ／ｃｍ２〜５０Ｗ／ｃｍ２がより好ましい。照射する紫外線のエネルギー量は、適宜調整することができるが、１０ｍＪ／ｃｍ２〜５００Ｊ／ｃｍ２が好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ２〜２００Ｊ／ｃｍ２がより好ましい。紫外線を照射する際に、強度を変化させてもよい。紫外線を照射する時間は照射する紫外線強度により適宜選択されるが、１０秒〜３６００秒が好ましく、１０秒〜６００秒がより好ましい。
【０３９４】
本実施形態の液晶組成物においては、化合物（ｉ）は上記重合性化合物の重合反応を阻害しないため、重合性化合物同士が好適に重合し、未反応の重合性化合物が液晶組成物中に残存することを抑制できる。
【０３９５】
重合性化合物として、例えば上記化合物（ｉｉ）を用いた場合、得られる液晶表示素子１は、二つの基板２，３と、二つの基板２，３の間に設けられた液晶組成物及び一般式（ｉｉ）で表される化合物の重合物を含む液晶層４とを備えている。この場合、一般式（ｉｉ）で表される化合物の重合物は、液晶層４中の基板２，３側に偏在していると考えられる。
【０３９６】
液晶表示素子１は、アクティブマトリックス駆動用液晶表示素子であってよい。液晶表示素子１は、ＰＳＡ型、ＰＳＶＡ型、ＶＡ型、ＩＰＳ型、ＦＦＳ型又はＥＣＢ型の液晶表示素子であってよく、好ましくはＰＳＡ型の液晶表示素子である。
【０３９７】
本実施形態の液晶表示素子では、化合物（ｉ）を含有する液晶組成物が用いられているため、第一基板２及び第二基板３の液晶層４側にポリイミド配向膜等の配向膜が設けられている必要がない。すなわち、本実施形態の液晶表示素子は、二つの基板のうち少なくとも一方の基板がポリイミド配向膜等の配向膜を有さない構成をとることができる。
【実施例】
【０３９８】
以下に製造例及び実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。例中の部及び％は、特に記載のない限り、すべて質量基準である。【０３９９】
実施例１〜２０、比較例１  カリックスアレーン化合物の製造
後述する手順でカリックスアレーン化合物（１）〜（２４）を製造した。カリックスアレーン化合物（１）〜（２４）の具体構造は以下の通り。【０４００】
なお、本願実施例において生成物の構造同定は、下記条件にて測定した１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲ、ＦＤ−ＭＳにて行った。【０４０１】
１Ｈ−ＮＭＲはＪＥＯＬ  ＲＥＳＯＮＡＮＣＥ製「ＪＮＭ−ＥＣＭ４００Ｓ」を用い、下記条件により測定した。【０４０２】
磁場強度：４００ＭＨｚ
積算回数：１６回
溶媒：重水素化クロロホルム
試料濃度：２ｍｇ／０．５ｍｌ
１３Ｃ−ＮＭＲはＪＥＯＬ  ＲＥＳＯＮＡＮＣＥ製「ＪＮＭ−ＥＣＭ４００Ｓ」を用い、下記条件により測定した。【０４０３】
磁場強度：１００ＭＨｚ
積算回数：１０００回
溶媒：重水素化クロロホルム
試料濃度：２ｍｇ／０．５ｍｌ
ＦＤ−ＭＳは日本電子株式会社製「ＪＭＳ−Ｔ１００ＧＣ  ＡｃｃｕＴＯＦ」を用い、下記条件により測定した。【０４０４】
測定範囲：ｍ／ｚ＝５０．００〜２０００．００
変化率：２５．６ｍＡ／ｍｉｎ
最終電流値：４０ｍＡ
カソード電圧：−１０ｋＶ【０４０５】
【表１】
0006701611.tif 000091
【０４０６】
【表２】
0006701611.tif 000092
【０４０７】
【表３】
0006701611.tif 000093
【０４０８】
【表４】
0006701611.tif 000094
【０４０９】
実施例１  カリックスアレーン化合物（１）の製造
〈中間体（M−１）の製造〉
攪拌装置、温度計及び還流冷却管を取り付けた四つ口フラスコに、下記構造式（ａ）で表されるターシャリーブチルカリックス［４］アレーン５０ｇ、フェノール３２．２６ｇおよび脱水トルエン３５０ｍｌを仕込み、窒素フロー環境下、３００ｒｐｍで撹拌した。ターシャリーブチルカリックス［４］アレーンは溶解せずに懸濁していた。フラスコを氷浴に漬け、無水塩化アルミニウム（ＩＩＩ）５１．３７ｇを数回に分けて投入した。溶液の色が淡橙透明に変化すると共に、底に無水塩化アルミニウム（ＩＩＩ）が沈殿していた。室温で５時間撹拌を続けた後、反応混合物を１Ｌのビーカーに移し、氷、１Ｎ塩酸１００ｍｌ、トルエン３５０ｍｌを加えて反応を停止させた。溶液の色は淡黄色透明に変化した。反応混合物を分液ロートに移し、有機層を回収した。水層にトルエン１００ｍｌを加えて有機成分を抽出する操作を３回行い、抽出液を有機層と合わせた。有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて脱水した後、濾過した。エバポレーターで溶媒を留去し、白色結晶と無色透明液体の混合物を得た。混合物を撹拌しながらメタノールをゆっくり添加し、液体中に溶解していた生成物を再沈殿させた。桐山ロートで濾過し、得られた白色結晶をメタノールで洗浄した後、真空乾燥させて下記構造式（ｂ）で表される中間体（Ｍ−１）２９．２１ｇを得た。【０４１０】
【化９０】
0006701611.tif 000095
【０４１１】
〈中間体（Ｍ−２）の製造〉
攪拌装置、温度計及び還流冷却管を取り付けた四つ口フラスコに、ラウロイルクロリド７.１５９ｇ、ニトロエタン１６.２７ｇを入れ攪拌した。フラスコを氷浴に漬け、無水塩化アルミニウム（ＩＩＩ）５．５７ｇを数回に分けて投入した。溶液は淡橙透明溶液になった。室温下で３０分攪拌し、前記中間体（M−１）２．３０ｇを数回に分けて投入した。反応混合物は発泡し、橙透明溶液となった。室温で５時間反応させた後、クロロホルム、イオン交換水、氷の入った１Ｌのビーカーに反応混合物をゆっくり移し、反応を停止させた。１Ｎ塩酸を加えてｐＨ１に調整した後、反応混合物を分液ロートに移し、有機層を分液した。水層にクロロホルム３０ｇを加えて有機成分を抽出する操作を３回行い、抽出液を有機層と合わせた。有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて脱水した後、濾過した。エバポレーターで溶媒を留去し、黄色透明溶液を得た。フラスコを氷浴に漬け、メタノールを加えて生成物を再沈殿させた。桐山ロートで濾過し、得られた白色結晶を再度クロロホルムに溶解させ、メタノールを加えて再結晶させた。得られた白色結晶を真空乾燥させて下記構造式（ｃ）で表される中間体（Ｍ−２）５．００ｇを得た。【０４１２】
【化９１】
0006701611.tif 000096
【０４１３】
〈中間体（Ｍ−３）の製造〉
攪拌装置、温度計及び還流冷却管を取り付けた四つ口フラスコに、前記中間体（Ｍ−２）７．００ｇ、ジエチレングリコールモノエチルエーテル８１．４４ｇを入れて攪拌した。フラスコ内は白色懸濁溶液となった。ヒドラジン一水和物２．５８５ｇ加えて撹拌した。フラスコ内は無色透明溶液となった。水酸化カリウムペレット６．８０９ｇを加え、１００℃で３０分攪拌した後、還流条件下で１２時間撹拌を続けた。フラスコ内は黄色透明溶液であった。９０℃まで冷却してイオン交換水を３０ｇ加え、更に３０分攪拌した。室温まで冷却した後、反応混合溶液をビーカーに移し、６Ｎ塩酸を加えてｐＨ１に調整した。クロロホルム３０ｇを加えて反応混合物を分液ロートに移し、有機層を分液した。水層にクロロホルム３０ｇを加えて有機成分を抽出する操作を３回行い、抽出液を有機層と合わせた。有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて脱水し、濾過した。エバポレーターで溶媒を留去し、得られた橙色粘稠液体にメタノールを加えて生成物を再沈殿させた。桐山ロートで濾過し、得られた乳白色結晶を真空乾燥させて下記構造式（ｄ）で表される中間体（Ｍ−３）４．１５６ｇを得た。【０４１４】
【化９２】
0006701611.tif 000097
【０４１５】
〈カリックスアレーン化合物（１）の製造〉
攪拌装置、温度計及び還流冷却管を取り付けた四つ口フラスコに、前記中間体（Ｍ−３）１１．００ｇ、テトラヒドロフラン７２．１１ｇ、トリフェニルホスフィン１２．６２ｇ、ヒドロキシエチルメタクリレート１５．６５ｇを入れて攪拌した。フラスコ内は黄土色懸濁溶液であった。フラスコを氷浴に漬け、アゾジカルボン酸ジイソプロピル８．９２ｇを３０分かけて滴下した。フラスコ内は赤色透明溶液であった。滴下終了後、室温で６時間攪拌した。反応溶液にヘキサンを加え、トリフェニルホスフィン等の副生成物を析出させて除去した。クロロホルムで反応生成物を抽出した後、水及び飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウムを加えて脱水し、濾過した。エバポレーターで溶媒を留去し、得られた赤色粘稠液体をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒  ノルマルヘキサン：アセトン＝９５：５）で精製して淡黄色透明液体を得た。溶媒を留去し、クロロホルムに溶解させた後メタノールを加えて生成物を再沈殿させた。桐山ロートで濾過し、得られた白色結晶を真空乾燥させてカリックスアレーン化合物（１）７．９５ｇを得た。
実施例２、３  カリックスアレーン化合物（２）及び（３）の製造
〈中間体（Ｍ−４）の製造〉
攪拌装置、温度計及び還流冷却管を取り付けた四つ口フラスコに、前記中間体（Ｍ−３）２０．００ｇ、無水アセトニトリル１８０.００ｇ、炭酸カリウム１１.１０ｇ、２−ブロモ酢酸メチル２２．３０ｇを入れ、還流条件下で２０時間撹拌した。室温まで冷却した後、イオン交換水及び０．３Ｎ塩酸を加えてｐＨ６に調整した。クロロホルム５０ｇを加えて反応混合物を分液ロートに移し、有機層を分液した。水層にクロロホルム５０ｇを加えて有機成分を抽出する操作を３回行い、抽出液を有機層と合わせた。有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて脱水し、濾過した。エバポレーターで溶媒を留去し、乳白色固体を得た。クロロホルムに溶解させた後メタノールを加えて生成物を再沈殿させた。桐山ロートで濾過し、得られた乳白色結晶を真空乾燥させて下記構造式（ｅ）で表される中間体（Ｍ−４）２３．８９ｇを得た。【０４１６】
【化９３】
0006701611.tif 000098
【０４１７】
〈中間体（Ｍ−５）の製造〉
攪拌装置、温度計及び還流冷却管を取り付けた四つ口フラスコに、前記中間体（Ｍ−４）１２．００ｇ、テトラヒドロフラン１２５．３８ｇを入れて攪拌した。フラスコ内は淡黄色透明溶液であった。フラスコを氷浴に漬け、水素化アルミニウムリチウム２．６３ｇを加えた。フラスコ内は灰色懸濁液になった。室温下で６時間撹拌して反応させた。フラスコを氷浴に漬け、イオン交換水２ｇ、１０％水酸化ナトリウム水溶液、５ｇ、イオン交換水２０ｇ、クロロホルム３０ｇを添加した。反応液を珪藻土濾過し、濾液に１Ｎ塩酸１ｇ、クロロホルム３０ｇを加えた。反応混合物を分液ロートに移し、有機層を分液した。水層にクロロホルム３０ｇを加えて有機成分を抽出する操作を３回行い、抽出液を有機層と合わせた。有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて脱水し、濾過した。エバポレーターで溶媒を留去し、無色透明液体を得た。メタノールを加えて生成物を再沈殿させ、桐山ロートで濾過した。得られた白色結晶を真空乾燥させて下記構造式（ｆ）で表される中間体（Ｍ−５）８．６３ｇを得た。【０４１８】
【化９４】
0006701611.tif 000099
【０４１９】
〈カリックスアレーン化合物（２）及び（３）の製造〉
攪拌装置、温度計及び還流冷却管を取り付けた四つ口フラスコに、前記中間体（Ｍ−５）２．００ｇ、テトラヒドロフラン６．８０ｇ、トリフェニルホスフィン０．８２４ｇ、メタクリル酸０．２７０ｇを入れ攪拌した。フラスコ内は淡黄色透明溶液であった。フラスコを氷浴に漬け、アゾジカルボン酸ジイソプロピル０．６３５ｇを３０分かけて滴下した。フラスコ内は淡黄色透明溶液であった。滴下終了後、室温で６時間攪拌した。反応溶液にヘキサンを加え、トリフェニルホスフィン等の副生成物を析出させて除去した。クロロホルムで生成物を抽出し、水及び飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウムを加えて脱水し、濾過した。エバポレーターで溶媒を留去し、得られた橙色粘稠液体をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒  ノルマルヘキサン：アセトン＝９０：１０）で精製し、カリックスアレーン化合物（２）０．５２１ｇ及びカリックスアレーン化合物（３）０．７５４ｇを得た。
実施例３、４  カリックスアレーン化合物（３）及び（４）の製造
攪拌装置、温度計及び還流冷却管を取り付けた四つ口フラスコに、前記中間体（Ｍ−５）２．００ｇ、テトラヒドロフラン６．８０ｇ、トリフェニルホスフィン１．０２９ｇ、メタクリル酸０．３３８ｇを入れ攪拌した。フラスコ内は淡黄色透明溶液であった。フラスコを氷浴に漬け、アゾジカルボン酸ジイソプロピル０．７９４ｇを３０分かけて滴下した。フラスコ内は淡黄色透明溶液であった。滴下終了後、室温で６時間攪拌した。反応溶液にヘキサンを加え、トリフェニルホスフィン等の副生成物を析出させて除去した。クロロホルムで生成物を抽出し、水及び飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウムを加えて脱水し、濾過した。エバポレーターで溶媒を留去し、得られた橙色粘稠液体をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒  ノルマルヘキサン：アセトン＝９０：１０）で精製し、カリックスアレーン化合物（３）０．３７４ｇ及びカリックスアレーン化合物（４）０．２８７ｇを得た。
実施例５  カリックスアレーン化合物（５）の製造
〈中間体（Ｍ−６）の製造〉
攪拌装置、温度計及び還流冷却管を取り付けた四つ口フラスコに、前記カリックスアレーン化合物（１）２ｇ、脱水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１２．００ｇを入れ攪拌した。フラスコを氷浴に漬け、水素化ナトリウム（流動パラフィン６０質量％分散体）０．１８１ｇをゆっくり添加した。７−［［（１，１−ジメチルエチル）ジメチルシリル]オキシ]−６−［［［（１，１−１，１−ジメチルエチル）ジメチルシリル]オキシ］メチル］−１−ヨードヘプタン２．２７２ｇを加え、室温で２０時間攪拌した。フラスコ壁に黄色オイル状の物質が析出していた。イオン交換水及び０．３Ｎ塩酸を加え、ｐＨ６に調整した。クロロホルム３０ｇを加えて反応混合物を分液ロートに移し、有機層を分液した。水層にクロロホルム１０ｇを加えて有機成分を抽出する操作を３回行い、抽出液を有機層と合わせた。有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて脱水し、濾過した。エバポレーターで溶媒を留去し、得られた橙色粘稠液体をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒  ノルマルヘキサン：アセトン＝９５：５）で精製し、真空乾燥させて下記構造式（ｇ）で表される無色透明オイル状の中間体（Ｍ−６）０．９３８ｇを得た。【０４２０】
【化９５】
0006701611.tif 000100
【０４２１】
〈カリックスアレーン化合物（５）の製造〉
攪拌装置、温度計及び還流冷却管を取り付けた四つ口フラスコに、前記中間体（Ｍ−６）０．９３８ｇ、テトラヒドロフラン６．５４３ｇを加えた。フラスコ内は無色透明溶液であった。フラスコを氷浴に漬け、テトラブチルアンモニウムフルオリド（１ｍｏｌ/Ｌテトラヒドロフラン溶液）３．６３ｍｌを攪拌しながらゆっくり滴下した。フラスコ内は淡赤色透明溶液であった。２４時間撹拌を続けた後、フラスコを氷浴に漬け、イオン交換水をゆっくり添加した。クロロホルム３０ｇを加えて反応混合物を分液ロートに移し、有機層を分液した。水層にクロロホルム１０ｇを加えて有機成分を抽出する操作を３回行い、抽出液を有機層と合わせた。有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて脱水し、濾過した。エバポレーターで溶媒を留去し、得られた橙色粘稠液体をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒  ノルマルヘキサン：アセトン＝９０：１０）で精製した。生成物を真空乾燥させて、白色粉末のカリックスアレーン化合物（５）０．２１９ｇを得た。
実施例６  カリックスアレーン化合物（６）の製造
攪拌装置、温度計及び還流冷却管を取り付けた四つ口フラスコに、前記中間体（Ｍ−３）５．００ｇ、テトラヒドロフラン１９．７１ｇ、トリフェニルホスフィン５．７３ｇ、グリセリンジメタクレート１２．４８ｇを入れて攪拌した。フラスコ内は黄土色懸濁溶液であった。フラスコを氷浴に漬け、アゾジカルボン酸ジイソプロピル４．０５ｇを３０分かけて滴下した。フラスコ内は赤色透明溶液であった。室温で６時間攪拌した。反応溶液にヘキサンを加え、トリフェニルホスフィン等の副生成物を析出させて除去した。クロロホルムで生成物を抽出し、水及び飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウムを加えて脱水し、濾過した。エバポレーターで溶媒を留去し、得られた赤色粘稠液体をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒  ノルマルヘキサン：アセトン＝９０：１０）で精製し、淡黄色透明液体を得た。溶媒を留去した後、真空乾燥させてカリックスアレーン化合物（６）２．９７ｇを得た。
実施例７  カリックスアレーン化合物（７）の製造
〈中間体（Ｍ−７）の製造〉
攪拌装置、温度計及び還流冷却管を取り付けた四つ口フラスコに、前記カリックスアレーン化合物（６）１．００ｇ、脱水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１２．００ｇを入れて攪拌した。フラスコを氷浴に漬け、水素化ナトリウム（流動パラフィン６０質量％分散体）０．１８１ｇをゆっくり添加した。７−［［（１，１−ジメチルエチル）ジメチルシリル]オキシ]−６−［［［（１，１−１，１−ジメチルエチル）ジメチルシリル]オキシ］メチル］−１−ヨードヘプタン２．２７２ｇを入れ、室温で２０時間攪拌した。フラスコ壁に黄色オイル状の物質が析出していた。イオン交換水及び０．３Ｎ塩酸を加えてｐＨ６に調整した。クロロホルム３０ｇを加えて反応混合物を分液ロートに移し、有機層を分液した。水層にクロロホルム１０ｇを加えて有機成分を抽出する操作を３回行い、抽出液を有機層に合わせた。有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて脱水し、濾過した。エバポレーターで溶媒を留去し、得られた橙色粘稠液体をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒  ノルマルヘキサン：アセトン＝９５：５）で精製し、真空乾燥させて下記構造式（ｈ）で表される無色透明オイル状の中間体（Ｍ−７）０.７９７ｇを得た。【０４２２】
【化９６】
0006701611.tif 000101
【０４２３】
〈カリックスアレーン化合物（７）の製造〉
撹拌装置、温度計及び還流冷却管を取り付けた四つ口フラスコに、前記中間体（Ｍ−７）０．７９７ｇ、テトラヒドロフラン５．０７８ｇを加えた。フラスコ内は無色透明溶液であった。フラスコを氷浴に漬け、テトラブチルアンモニウムフルオリド（１ｍｏｌ/Ｌテトラヒドロフラン溶液）２．８２ｍｌを攪拌しながらゆっくり滴下した。フラスコ内は淡赤色透明溶液であった。２４時間撹拌を続けた後、フラスコを氷浴に漬け、イオン交換水をゆっくり添加した。クロロホルム３０ｇを加えて反応混合物を分液ロートに移し、有機層を分液した。水層にクロロホルム１０ｇを加え有機成分を抽出する操作を３回行い、抽出液を有機層に合わせた。有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて脱水し、濾過した。エバポレーターで溶媒を留去し、得られた橙色粘稠液体をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒  ノルマルヘキサン：アセトン＝９０：１０）で精製し、真空乾燥させて白色粉末のカリックスアレーン化合物（７）０．１８３ｇを得た。
実施例８  カリックスアレーン化合物（８）の製造
〈中間体（Ｍ−８）の製造〉
攪拌装置、温度計及び還流冷却管を取り付けた四つ口フラスコに、前記カリックスアレーン化合物（３）０．１００ｇ、テトラヒドロフラン１．０２２ｇ、トリフェニルホスフィン０．０９３０ｇ、２，２−ビス（ターシャリーブチルジメチルシロキサン）プロピオン酸０．１２８６ｇを入れ攪拌した。フラスコ内は淡黄色透明溶液であった。フラスコを氷浴に漬け、アゾジカルボン酸ジイソプロピル０．０７１７ｇを３０分かけて滴下した。フラスコ内は無色透明溶液であった。室温で６時間攪拌した。反応溶液にヘキサンを加え、トリフェニルホスフィン等の副生成物を析出させて除去した。クロロホルムで生成物を抽出し、水及び飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウムを加えて脱水し、濾過した。エバポレーターで溶媒を留去し、得られた橙色粘稠液体を薄相クロマトグラフィー（展開溶媒  ノルマルヘキサン：アセトン＝８０：２０）にて精製し、下記構造式（ｉ）で表されるオイル状の中間体（Ｍ−８）０．１０４ｇを得た。【０４２４】
【化９７】
0006701611.tif 000102
【０４２５】
〈カリックスアレーン化合物（８）の製造〉
攪拌装置、温度計及び還流冷却管を取り付けた四つ口フラスコに、前記中間体０．１０４ｇ、テトラヒドロフラン１．０００ｇを加えた。フラスコ内は無色透明溶液であった。フラスコを氷浴に漬け、テトラブチルアンモニウムフルオリド（１ｍｏｌ/Ｌテトラヒドロフラン溶液）０．２ｍｌを攪拌しながらゆっくり滴下した。フラスコ内は無色透明溶液であった。２４時間撹拌した後、フラスコを氷浴に漬け、イオン交換水をゆっくり添加した。クロロホルム１０ｇを加えて反応混合物を分液ロートに移し、有機層を分液した。水層にクロロホルム１０ｇを加えて有機成分を抽出する操作を３回行い、抽出液を有機層と合わせた。有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて脱水し、濾過した。エバポレーターで溶媒を留去し、得られた無色透明液体を薄相クロマトグラフィー（展開溶媒  ノルマルヘキサン：アセトン＝８０：２０）で精製した。生成物を真空乾燥させて、白色粉末のカリックスアレーン化合物（８）４２．０４ｍｇを得た。
実施例９  カリックスアレーン化合物（９）の製造
攪拌装置、温度計及び還流冷却管を取り付けた四つ口フラスコに、前記中間体（Ｍ−５）２．００ｇ、テトラヒドロフラン６．８０ｇ、トリフェニルホスフィン０．８２４ｇ、２−メチル−１，１‘−（２−カルボキシ−２−メチル−１，３−プロパンジイル）エステル２−プロペン酸０．８４８ｇを入れて攪拌した。フラスコ内は淡黄色透明溶液であった。フラスコを氷浴に漬け、アゾジカルボン酸ジイソプロピル０．６３５ｇをゆっくり滴下した。フラスコ内は淡黄色透明溶液であった。室温で６時間攪拌した。反応溶液にヘキサンを加え、トリフェニルホスフィン等の副生成物を析出させて除去した。クロロホルムで生成物を抽出し、水及び飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウムを加えて脱水し、濾過した。エバポレーターで溶媒を留去し、得られた橙色粘稠液体をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒  ノルマルヘキサン：アセトン＝９０：１０）で精製し、真空乾燥させてカリックスアレーン化合物（９）１．３０４ｇを得た。
実施例１０  カリックスアレーン化合物（１０）の製造
〈中間体（M−９）の製造〉
攪拌装置、温度計及び還流冷却管を取り付けた四つ口フラスコに、前記カリックスアレーン化合物（９）０．５００ｇ、テトラヒドロフラン４．０５４ｇ、トリフェニルホスフィン０．１８４３ｇ、２，２−ビス（ターシャリーブチルジメチルシロキサン）プロピオン酸０．２５４９ｇを入れて攪拌した。フラスコ内は淡黄色透明溶液であった。フラスコを氷浴に漬け、アゾジカルボン酸ジイソプロピル０．１４２ｇをゆっくり滴下した。フラスコ内は無色透明溶液であった。室温で６時間攪拌した。反応溶液にヘキサンを加え、トリフェニルホスフィン等の副生成物を析出させて除去した。クロロホルムで生成物を抽出し、水及び飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウムを加えて脱水し、濾過した。エバポレーターで溶媒を留去し、得られた橙色粘稠液体を薄相クロマトグラフィー（展開溶媒  ノルマルヘキサン：アセトン＝８０：２０）で精製し、下記構造式（ｊ）で表されるオイル状の中間体（Ｍ−９）０．３１７ｇを得た。【０４２６】
【化９８】
0006701611.tif 000103
【０４２７】
〈カリックスアレーン化合物（１０）の製造〉
攪拌装置、温度計及び還流冷却管を取り付けた四つ口フラスコに、前記中間体（Ｍ−９）０．３１７ｇ、テトラヒドロフラン２．０００ｇを加えた。フラスコ内は無色透明溶液であった。フラスコを氷浴に漬け、テトラブチルアンモニウムフルオリド（１ｍｏｌ/Ｌテトラヒドロフラン溶液）０．５ｍｌを攪拌しながらゆっくり滴下した。フラスコ内は無色透明溶液であった。２４時間撹拌した後、フラスコを氷浴に漬け、イオン交換水をゆっくり添加した。クロロホルム１０ｇを加えて反応混合物を分液ロートに移し、有機層を分液した。水層にクロロホルム１０ｇを加えて有機成分を抽出する操作を３回行い、抽出液を有機層と合わせた。有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて脱水し、濾過した。エバポレーターで溶媒を留去し、得られた無色透明液体を薄相クロマトグラフィー（展開溶媒  ノルマルヘキサン：アセトン＝８０：２０）で精製し、真空乾燥させて、白色粉末のカリックスアレーン化合物（１０）１９２．５ｍｇを得た。
実施例１１  カリックスアレーン化合物（１１）の製造
〈中間体（Ｍ−１０）の製造〉
攪拌装置、温度計及び還流冷却管を取り付けた四つ口フラスコに、前記中間体（Ｍ−５）２．００ｇ、テトラヒドロフラン６．８０ｇ、トリフェニルホスフィン０．８２４ｇ、２−［［（１，１−ジメチルエチル）ジメチルシリル］オキシ］−２−プロペン酸０．６６３ｇを入れて攪拌した。フラスコ内は淡黄色透明溶液であった。フラスコを氷浴に漬け、アゾジカルボン酸ジイソプロピル０．６３５ｇを３０分かけて滴下した。フラスコ内は淡黄色透明溶液であった。室温で６時間攪拌した。反応溶液にヘキサンを加え、トリフェニルホスフィン等の副生成物を析出させて除去した。クロロホルムで生成物を抽出し、水及び飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウムを加えて脱水し、濾過した。エバポレーターで溶媒を留去し、得られた赤色粘稠液体をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒  ノルマルヘキサン：アセトン＝９５：５）で精製し、淡黄色透明液体を得た。溶媒を留去し、クロロホルムに溶解させた後メタノールを加えて生成物を再沈殿させた。桐山ロートで濾過し、得られた白色結晶を真空乾燥させて下記構造式（ｋ）で表される中間体（Ｍ−１０）２．５５４ｇを得た。【０４２８】
【化９９】
0006701611.tif 000104
【０４２９】
〈カリックスアレーン化合物（１１）の製造〉
攪拌装置、温度計及び還流冷却管を取り付けた１００mLの四つ口フラスコに、前記中間体（Ｍ−１０）２．５５４ｇ、テトラヒドロフラン５０．００ｇ、酢酸０．３５６ｇを入れ攪拌した。フラスコ内は無色透明溶液であった。フラスコを氷浴に漬け、テトラブチルアンモニウムフルオリド（１ｍｏｌ/Ｌテトラヒドロフラン溶液）５．９３ｍｌを攪拌しながらゆっくり滴下した。フラスコ内は淡黄色透明溶液であった。室温で６時間攪拌した。フラスコを氷浴に漬け、イオン交換水を加えた。更にクロロホルム３０ｇを加えて反応混合物を分液ロートに移し、有機層を分液した。水層にクロロホルム３０ｇを加えて有機成分を抽出する操作を３回行い、抽出液を有機層と合わせた。有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて脱水し、濾過した。エバポレーターで溶媒を留去し、得られた赤色透明液体をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒  ノルマルヘキサン：アセトン＝９５：５）で精製し、淡黄色透明液体を得た。溶媒を留去し、クロロホルムに溶解させた後メタノールを加えて生成物を再沈殿させた。桐山ロートで濾過し、得られた白色結晶を真空乾燥させて、カリックスアレーン化合物（１１）１．５５１ｇを得た。
実施例１２  カリックスアレーン化合物（１２）の製造
〈中間体（Ｍ−１１）の製造〉
攪拌装置、温度計及び還流冷却管を取り付けた四つ口フラスコに、前記中間体（Ｍ−５）２．００ｇ、テトラヒドロフラン６．８０ｇ、トリフェニルホスフィン０．８２４ｇ、４−［［（１，１−ジメチルエチル）ジメチルシリル］オキシ］−２−メチレンブタン酸０．７０６ｇを入れて攪拌した。フラスコ内は淡黄色透明溶液。フラスコを氷浴に漬け、アゾジカルボン酸ジイソプロピル０．６３５ｇを３０分かけて滴下した。フラスコ内は淡黄色透明溶液であった。室温で６時間攪拌した。反応溶液にヘキサンを加え、トリフェニルホスフィン等の副生成物を析出させて除去した。クロロホルムで生成物を抽出し、水及び飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウムを加えて脱水し、濾過した。エバポレーターで溶媒を留去し、得られた赤色粘稠液体をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒  ノルマルヘキサン：アセトン＝９５：５）で精製し、淡黄色透明液体を得た。溶媒を留去し、クロロホルムに溶解させた後メタノールを加えて生成物を再沈殿させた。桐山ロートで濾過し、得られた白色結晶を真空乾燥させて下記構造式（ｌ）で表される中間体（Ｍ−１１）２．４２０ｇを得た。【０４３０】
【化１００】
0006701611.tif 000105
【０４３１】
〈カリックスアレーン化合物（１２）の製造〉
攪拌装置、温度計及び還流冷却管を取り付けた四つ口フラスコに、前記中間体（Ｍ−１１）２．４２０ｇ、テトラヒドロフラン５０．００ｇ、酢酸０．３２９ｇを入れて攪拌した。フラスコ内は無色透明溶液であった。フラスコを氷浴に漬け、テトラブチルアンモニウムフルオリド（１ｍｏｌ/Ｌテトラヒドロフラン溶液）５．４７ｍｌを攪拌しながらゆっくり滴下した。フラスコ内は淡黄色透明溶液であった。室温で６時間攪拌した。フラスコを氷浴に漬け、イオン交換水を添加した。更にクロロホルム３０ｇを加えて反応混合物を分液ロートに移し、有機層を分液した。水層にクロロホルム３０ｇを加えて有機成分を抽出する操作を３回行い、抽出液を有機層と合わせた。有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて脱水し、濾過した。エバポレーターで溶媒を留去し、得られた赤色透明液体をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒  ノルマルヘキサン：アセトン＝９５：５）で精製し、淡黄色透明液体を得た。溶媒を留去し、クロロホルムに溶解させた後メタノールを加えて生成物を再沈殿させた。桐山ロートで濾過し、得られた白色結晶を真空乾燥させてカリックスアレーン化合物（１２）１．０７１ｇを得た。
実施例１３  カリックスアレーン化合物（１３）の製造
〈中間体（M−１２）の製造〉
攪拌装置、温度計及び還流冷却管を取り付けた四つ口フラスコに、前記中間体（Ｍ−３）５．００ｇ、無水アセトニトリル３７．３９ｇ，炭酸カリウム７．５５４ｇ、１−ブロモ−３−（２，２−ジメチル−１,３−ジオキサン−４−イル）−２−プロパン１２．９６ｇを入れ、還流条件下で２０時間撹拌した。室温まで冷却した後、イオン交換水及び０．３Ｎ塩酸を加えてｐＨ６に調整した。クロロホルム５０ｇを加えて反応混合物を分液ロートに移し、有機層を分液した。水層にクロロホルム５０ｇを加えて有機成分を抽出する操作を３回行い、抽出液を有機層と合わせた。有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて脱水し、濾過した。エバポレーターで溶媒を留去し、乳白色固体を得た。乳白色固体をクロロホルムに溶解させた後メタノールを加えて生成物を再沈殿させた。桐山ロートで濾過し、得られた乳白色結晶を真空乾燥させて、下記構造式（ｍ）で表される中間体（Ｍ−１２）６．６１ｇを得た。【０４３２】
【化１０１】
0006701611.tif 000106
【０４３３】
〈中間体（Ｍ−１３）の製造〉
攪拌装置、温度計及び還流冷却管を取り付けた四つ口フラスコに、前記中間体（Ｍ−１２）５．０００、ジエチレングリコールモノエチルエーテル３８．９５ｇを入れ攪拌した。フラスコ内は白色懸濁溶液であった。ヒドラジン一水和物１１．６３ｇ加えた。フラスコ内は無色透明溶液であった。水酸化カリウムペレット１３．０３ｇ加え、１００℃で３０分攪拌した後、還流条件下で１２時間撹拌を続けた。フラスコ内は黄色透明溶液であった。９０℃まで冷却し、イオン交換水を３０ｇ加え、３０分攪拌した。室温まで冷却し、混合溶液をビーカーに移し、６Ｎ塩酸をｐＨ１になるまで加えた。クロロホルム３０ｇを加えて反応混合物を分液ロートに移し、有機層を分液した。水層にクロロホルム３０ｇを加えて有機成分を抽出する操作を３回行い、抽出液を有機層と合わせた。有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて脱水し、濾過した。エバポレーターで溶媒を留去し、得られた橙色粘稠液体にメタノールを加えて生成物を再沈殿させた。桐山ロートで濾過し、得られた乳白色結晶を真空乾燥させて、下記構造式（ｎ）で表される中間体（Ｍ−１３）３．１９６ｇを得た。【０４３４】
【化１０２】
0006701611.tif 000107
【０４３５】
〈中間体（Ｍ−１４）の製造〉
攪拌装置、温度計及び還流冷却管を取り付けた四つ口フラスコに、前記中間体（Ｍ−１３）２．０００ｇ、イミダゾール０．３９７ｇ、無水塩化メチレン１１．２８ｇを入れて攪拌した。フラスコ内は白色懸濁溶液であった。フラスコを氷浴に漬け、クロロターシャリーブチルジメチルシラン０．８８０ｇを３０分かけゆっくり滴下した。室温に戻し、２４時間撹拌した。十分量のイオン交換水を加えて反応を停止させ、水層に酢酸エチル５０ｇを加えて有機成分を抽出する操作を３回行った。得られた抽出液に硫酸マグネシウムを加えて脱水し、濾過した。溶媒を留去した後、残渣をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒  ノルマルヘキサン：酢酸エチル＝５０:１)で精製し、下記構造式（ｏ）で表される淡黄色液体の中間体（Ｍ−１４）１．５７７ｇを得た。【０４３６】
【化１０３】
0006701611.tif 000108
【０４３７】
〈中間体（Ｍ−１５）の製造〉
攪拌装置、温度計及び還流冷却管を取り付けた四つ口フラスコに、前記中間体（Ｍ−１４）１．５００、トリエチルアミン５０ｇ、４−ジメチルアミノピリジン０．１４０ｇ、塩化メチレン５０ｇを加えた。フラスコを氷浴に漬けて０℃に冷却し、塩化メタクリロイル０．４７９ｇを５分間かけて滴下した。滴下終了後、氷浴を外し、混合物を室温で６時間攪拌した。１Ｈ−ＮＭＲにて出発物質の消失を確認した後、イオン交換水５０ｇを加えて反応を停止させた。クロロホルム３０ｇで生成物を抽出し、飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウムを加えて脱水し、濾過した後、減圧条件下で溶剤を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒  ノルマルヘキサン：酢酸エチル＝１９：１）で精製し、ロータリーエバポレーターで溶剤を留去して下記構造式（ｐ）で表される中間体（Ｍ−１５）１．０４７ｇを得た。【０４３８】
【化１０４】
0006701611.tif 000109
【０４３９】
〈カリックスアレーン化合物（１３）の製造〉
攪拌装置、温度計及び還流冷却管を取り付けた四つ口フラスコに、前記中間体（Ｍ−１５）１．０４７ｇ、テトラヒドロフラン３５．００ｇ、酢酸０．１３５ｇを入れて攪拌した。無色透明溶液。フラスコを氷浴に漬け、テトラブチルアンモニウムフルオリド（１ｍｏｌ/Ｌテトラヒドロフラン溶液）２．２５ｍｌを攪拌しながらゆっくり滴下した。フラスコ内は淡黄色透明溶液であった。室温で６時間攪拌した。フラスコを氷浴に漬け、イオン交換水を添加し、ついでクロロホルム３０ｇを加えた。反応混合物を分液ロートに移し、有機層を分液した。水層にクロロホルム３０ｇを加えて有機成分を抽出する操作を３回行い、抽出液を有機層と合わせた。有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて脱水し、濾過した。エバポレーターで溶媒を留去し、得られた赤色透明液体をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒  ノルマルヘキサン：アセトン＝９５：５）で精製し、淡黄色透明液体を得た。溶媒を留去し、クロロホルムに溶解させた後メタノールを加えて生成物を再沈殿させた。桐山ロートで濾過し、得られた白色結晶を真空乾燥させて、カリックスアレーン化合物（１３）０．５４８９ｇを得た。
実施例１４  カリックスアレーン化合物（１４）の製造
攪拌装置、温度計及び還流冷却管を取り付けた四つ口フラスコに、前記中間体（Ｍ−３）７．０００）、フェノチアジン０．００５ｇ、Ｎ-メチルピロリドン１００．０ｇを入れて攪拌した。フラスコを氷浴に漬け、水素化ナトリウム（流動パラフィン６０質量％分散体）２．３９７ｇをゆっくり添加した。２−ヒドロキシ−３−クロロプロピルメタクリレート１０．７１ｇを入れて攪拌した。９０℃まで加熱してフラスコ内を還流させ、４０時間撹拌した。フラスコ内は茶色透明溶液であった。室温まで冷却し、フラスコを氷浴に漬け、イオン交換水をゆっくり添加した後、更にクロロホルムを添加した。１Ｎ塩酸を加えてｐＨ３に調整した。クロロホルム３０ｇを加えて反応混合物を分液ロートに移し、有機層を分液した。水層にクロロホルム３０ｇを加えて有機成分を抽出する操作を３回行い、抽出液を有機層と合わせた。有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて脱水し、濾過した。エバポレーターで溶媒を留去し、得られた橙色粘稠液体にヘキサンおよびメタノールを加えて生成物を再沈殿させた。桐山ロートで濾過し、得られた乳白色結晶を真空乾燥させて、カリックスアレーン化合物（１４）４．１５６ｇを得た。
実施例１５  カリックスアレーン化合物（１５）の製造
〈中間体（Ｍ−１６）の製造〉
攪拌装置、温度計及び還流冷却管を取り付けた四つ口フラスコに、前記中間体（Ｍ−４）３．００ｇ、テトラヒドロフラン２９．２４ｇ、エタノール２４．９３ｇ、水酸化カリウム１．２１ｇを加え、還流条件下で６時間撹拌した。フラスコ内は白色懸濁液であった。室温まで冷却し、イオン交換水とクロロホルムを加えた。フラスコを氷浴に漬け、６Ｎ塩酸を加えてｐＨ１に調整した。クロロホルム５０ｇを加えて反応混合物を分液ロートに移し、有機層を分液した。水層にクロロホルム３０ｇを加えて有機成分を抽出する操作を３回行い、抽出液を有機層と合わせた。有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて脱水し、濾過した。エバポレーターで溶媒を留去し、乳白色固体を得た。得られた乳白色結晶を真空乾燥させて下記構造式（ｑ）で表される中間体（Ｍ−１６）２．１６ｇを得た。【０４４０】
【化１０５】
0006701611.tif 000110
【０４４１】
〈カリックスアレーン化合物（１５）の製造〉
攪拌装置、温度計及び還流冷却管を取り付けた四つ口フラスコに、前記中間体（Ｍ−１６）１．０００ｇ、テトラブチルアンモニウムアイオダイド０．０５６０ｇ、１−メトキシ−２−プロパノール１３．５５ｇ、フェノチアジン０．００７ｇ、グリシジルメタクリレート４．２７０ｇを入れて攪拌した。９０℃で２０時間加熱撹拌した。フラスコ内は茶色透明溶液であった。室温まで冷却して混合溶液をビーカーに移し、１Ｎ塩酸及びクロロホルム３０ｇを加えた。反応混合物を分液ロートに移し、有機層を分液した。水層にクロロホルム３０ｇを加えて有機成分を抽出する操作を３回行い、抽出液を有機層と合わせた。有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて脱水し、濾過した。エバポレーターで溶媒を留去し、得られた赤色粘稠液体をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒  のるまるヘキサン：アセトン＝９５：５）で精製し、淡黄色透明液体を得た。溶媒を留去し、クロロホルムに溶解させた後メタノールを加えて生成物を再沈殿させた。桐山ロートで濾過し、得られた白色結晶を真空乾燥させてカリックスアレーン化合物（１５）０．４３４ｇを得た。
実施例１６  カリックスアレーン化合物（１６）の製造
攪拌装置、温度計及び還流冷却管を取り付けた四つ口フラスコに、前記中間体（Ｍ−３）１１．００ｇ、テトラヒドロフラン７２．１１ｇ、トリフェニルホスフィン１２．６２ｇ、４−ヒドロキシブチルアクリルレート１７．３４ｇを入れて攪拌した。フラスコ内は黄土色懸濁溶液であった。フラスコを氷浴に漬け、アゾジカルボン酸ジイソプロピル８．９２ｇを３０分かけて滴下した。フラスコ内は赤色透明溶液であった。室温で６時間攪拌した。反応溶液にヘキサンを加え、トリフェニルホスフィン等の副生成物を析出させて除去した。クロロホルムで生成物を抽出し、水及び飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウムを加えて脱水し、濾過した。エバポレーターで溶媒を留去し、得られた赤色粘稠液体をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒  ノルマルヘキサン：アセトン＝９５：５）で精製し、淡黄色透明液体を得た。溶媒を留去し、クロロホルムに溶解させた後メタノールを加えて生成物を再沈殿させた。桐山ロートで濾過し、得られた白色結晶を真空乾燥させてカリックスアレーン化合物（１６）８．２８ｇを得た。
実施例１７  カリックスアレーン化合物（１７）の製造
攪拌装置、温度計及び還流冷却管を取り付けた四つ口フラスコに、前記中間体（Ｍ−５）２．００ｇ、テトラヒドロフラン６．８０ｇ、トリフェニルホスフィン０．８２４ｇ、アクリル酸０．２２６ｇを入れて攪拌した。フラスコ内は淡黄色透明溶液であった。フラスコを氷浴に漬け、アゾジカルボン酸ジイソプロピル０．６３５ｇを３０分かけて滴下した。フラスコ内は淡黄色透明溶液であった。室温で６時間攪拌した。反応溶液にヘキサンを加え、トリフェニルホスフィン等の副生成物を析出させて除去した。クロロホルムで生成物を抽出し、水及び飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウムを加えて脱水し、濾過した。エバポレーターで溶媒を留去し、得られた橙色粘稠液体をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒  ノルマルヘキサン：アセトン＝９０：１０）で精製し、真空乾燥させてカリックスアレーン化合物（１７）０．６２７ｇを得た。
実施例１８  カリックスアレーン化合物（１８）の製造
攪拌装置、温度計及び還流冷却管を取り付けた四つ口フラスコに、前記中間体（Ｍ−３）２．００ｇ、テトラヒドロフラン６．８０ｇ、トリフェニルホスフィン０．９０５．９ｇ、ヒドロキシエチルアクリルアミド０．３９８ｇを入れて攪拌した。フラスコ内は淡黄色透明溶液であった。フラスコを氷浴に漬け、アゾジカルボン酸ジイソプロピル０．６９８ｇを３０分かけて滴下した。フラスコ内は淡黄色透明溶液であった。室温で６時間攪拌した。反応溶液にヘキサンを加え、トリフェニルホスフィン等の副生成物を析出させて除去した。クロロホルムで生成物を抽出し、水及び飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウムを加えて脱水し、濾過した。エバポレーターで溶媒を留去し、得られた橙色粘稠液体をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒  ノルマルヘキサン：アセトン＝９０：１０）で精製し、真空乾燥させてカリックスアレーン化合物（１８）１．０１４ｇを得た。
実施例１９  カリックスアレーン化合物（１９）の製造
攪拌装置、温度計及び還流冷却管を取り付けた四つ口フラスコに、前記中間体（Ｍ−３）２．００ｇ、テトラヒドロフラン６．８０ｇ、トリフェニルホスフィン０．９０５．９ｇ、ヒドロキシエチルビニルエーテル０．３０４ｇを入れて攪拌した。フラスコ内は淡黄色透明溶液であった。フラスコを氷浴に漬け、アゾジカルボン酸ジイソプロピル０．６９８ｇを３０分かけて滴下した。フラスコ内は淡黄色透明溶液であった。室温で６時間攪拌した。反応溶液にヘキサンを加え、トリフェニルホスフィン等の副生成物を析出させて除去した。クロロホルムで生成物を抽出し、水及び飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウムを加えて脱水し、濾過した。エバポレーターで溶媒を留去し、得られた橙色粘稠液体をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒  ノルマルヘキサン：アセトン＝９０：１０）で精製し、真空乾燥させてカリックスアレーン化合物（１９）０．７５６ｇを得た。
実施例２０  カリックスアレーン化合物（２０）の製造
〈中間体（Ｍ−１７）の製造〉
攪拌装置、温度計、滴下ロート、及び還流冷却管を取り付けた四つ口フラスコに、前記中間体（１）８．２０５ｇ、脱水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３０．００ｇ、４９％水酸化ナトリウム水溶液１８．９４ｇを素早く仕込み、窒素フロー環境下、３００ｒｐｍで撹拌した。フラスコ内は淡黄色透明溶液になった。室温条件下、滴下ロートを用いて臭化アリル２８．０７ｇを３０分かけて滴下した。滴下終了後更に撹拌を続け、３０分後に乳白色の固体が析出しスラリー状になった。その後、更に２時間撹拌した。酢酸と純水をゆっくり加えて、反応を停止させた。桐山ロートで濾過し、得られた結晶をメタノールで洗浄した後、真空乾燥させて下記構造式（ｒ）で表される中間体（Ｍ−１７）７．７５ｇを得た。【０４４２】
【化１０６】
0006701611.tif 000111
【０４４３】
〈中間体（Ｍ−１８）の製造〉
攪拌装置、温度計及び還流冷却管を取り付けた四つ口フラスコに、前記中間体（M−１７）７．７５ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン２０．００ｇを仕込み、窒素フロー環境下、３００ｒｐｍで撹拌した。還流条件下で３時間撹拌を続けた。室温まで冷却し、反応混合物をビーカーに移して氷及びクロロホルム２０ｇを投入した。ビーカーを氷浴に漬け、３８％濃塩酸２５．００ｇをゆっくり添加した。ビーカー内は淡黄色透明溶液となった。反応混合物を分液ロートに移し、有機層を分液した。水層にクロロホルム２０ｇを加えて有機成分を抽出する操作を３回行い、抽出液を有機層と合わせた。有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて脱水し、濾過した。エバポレーターで溶媒を留去し、白色結晶と淡緑色透明液体の混合物を得た。混合物にメタノールをゆっくり加えて生成物を再沈殿させた。桐山ロートで濾過し、得られた白色結晶をメタノールで洗浄した後、真空乾燥させて下記構造式（ｓ）で表される中間体（M−１８）７．４６１ｇを得た。【０４４４】
【化１０７】
0006701611.tif 000112
【０４４５】
〈中間体（M−１９）の製造〉
攪拌装置、温度計及び還流冷却管を取り付けた四つ口フラスコに、前記中間体（M−１８）５．０００ｇ、脱水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド６２．５０ｇを入れ攪拌した。フラスコを氷浴に漬け、水素化ナトリウム（流動パラフィン６０質量％分散体）２．０５ｇをゆっくり添加した。１−ヨードドデカン１５．２０ｇを入れて攪拌した。６０℃まで加熱し還流条件下で１０時間撹拌した。フラスコ内は茶色透明溶液であった。室温まで冷却し、フラスコを氷浴に漬け、イオン交換水をゆっくり添加した。１Ｎ塩酸を加えてｐＨ３に調整した。析出した固体を濾過し、クロロホルムに溶解させた後メタノールを加えて生成物を再沈殿させた。桐山ロートで濾過し、得られた乳白色結晶を真空乾燥させて下記構造式（ｔ）で表される中間体（M−１９）６．７２２ｇを得た。【０４４６】
【化１０８】
0006701611.tif 000113
【０４４７】
〈中間体（M−２０）の製造〉
攪拌装置、温度計及び還流冷却管を取り付けた四つ口フラスコに、前記中間体（M−１９）５．０００ｇ、塩化メチレン１６．８８ｇ、炭酸水素ナトリウム２．００３ｇを仕込んだ。次いで、メタクロロ過安息香酸３．０１７ｇをゆっくり添加した。室温で９６時間攪拌した。フラスコ内は黄色溶液であった。反応混合物を分液ロートに移し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、クロロホルムを加え、有機層を分液した。次いで、有機層を１０％チオ硫酸ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて脱水し、濾過した。エバポレーターで溶媒を留去し、クロロホルムに溶解させた後メタノールを加えて生成物を再結晶させた。得られた橙色結晶を真空乾燥させて下記構造式（ｕ）で表される中間体（M−２０）３．３５１ｇを得た。【０４４８】
【化１０９】
0006701611.tif 000114
【０４４９】
〈カリックスアレーン化合物（２０）の製造〉
攪拌装置、温度計及び還流冷却管を取り付けた四つ口フラスコに、前記中間体（M−２０）２．００ｇ、トリフェニルホスフィン０．０２５７ｇ、トルエン１４．００ｇ、メタクリル酸０．５７３ｇを仕込み撹拌した。還流条件下で６時間撹拌した。室温まで冷却し、反応溶液にヘキサンを加え、トリフェニルホスフィン等の副生成物を析出させて除去した。エバポレーターで溶媒を留去し、得られたこげ茶色粘稠液体をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒  ノルマルヘキサン：アセトン＝９０：１０）で精製し、真空乾燥させてカリックスアレーン化合物（２０）１．２２７ｇを得た。
実施例２１  カリックスアレーン化合物（２１）の製造
〈中間体（M−２１）の製造〉
攪拌装置、滴下漏斗、温度計及び還流冷却管を取り付けた１Ｌ四つ口フラスコに、窒素雰囲気下、水素化ナトリウム４．５０ｇを投入し、ヘキサンにてミネラルオイルを洗浄除去した。続いて、乾燥ＤＭＦ６０.００ｇと臭化ヘキシル１５．５０を加え、撹拌下、９０℃に加温した。そこへ、中間体（M−１）１０．００ｇを乾燥ＤＭＦ３０．００ｇに溶かした溶液を滴下漏斗にて添加し、添加終了後、更に２時間撹拌を続けた。室温まで冷却後、反応混合物を氷（１００ｇ）に投入し、濃塩酸を加え、水溶液を酸性にしたのち、ジクロロメタン２００ｇで２回抽出した。このクロロホルム溶液をｐＨが５以上になるまで水で洗浄し、更に、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。エバポレーターで溶媒を除去し、黄色液体を得た。この混合物にメタノールを撹拌しながら加え、固体を析出させた。この固体を濾取し、イソプロピルアルコールにて再結晶した。得られた白色結晶を真空乾燥し下記構造式（ｖ）で表される中間体（M−２１）１５．２０ｇを得た。【０４５０】
【化１１０】
0006701611.tif 000115
【０４５１】
〈中間体（M−２２）の製造〉
公知文献（Ｏｒｇａｎｉｃ  ＆  Ｂｉｏｍｏｌｅｃｕｌａｒ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，  １３，  １７０８−１７２３；  ２０１５）を参考にして、下記構造式（ｖ）で表される中間体（M−２１）１５．００ｇを用いて、２段階で下記構造式（ｘ）で表される中間体（M−２２）１２．２０ｇ、下記構造式（ｙ）で表される中間体（M−２３）１１．１０ｇを得た。【０４５２】
【化１１１】
0006701611.tif 000116
【０４５３】
〈カリックスアレーン化合物（２１）の製造〉
攪拌装置、温度計及び還流冷却管を取り付けた四つ口フラスコに、前記中間体（M−２３）２．００ｇ、トリエチルアミン１．０５ｇ、ジクロロメタン１０．００ｇを仕込み撹拌している中に、氷冷下メチルマロニルクロリド１．３６ｇを滴下し、７時間撹拌した。室温まで昇温し、イオン交換水をゆっくり添加した。１Ｎ塩酸を加えてｐＨ３に調整した。反応混合物を分液ロートに移し、有機層を分液した。水層にジクロロメタン２０ｇを加えて有機成分を抽出する操作を３回行い、抽出液を有機層と合わせた。有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて脱水し、濾過した。エバポレーターで溶媒を留去し、エバポレーターで溶媒を留去し、得られたこげ茶色粘稠液体をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒  ノルマルヘキサン：アセトン＝９０：１０）で精製し、真空乾燥させてカリックスアレーン化合物（M−２１）１．０３ｇを得た。
実施例２２  カリックスアレーン化合物（２２）の製造
〈カリックスアレーン化合物（２２）の製造〉
攪拌装置、温度計及び還流冷却管を取り付けた四つ口フラスコに、前記中間体（M−５）２．００ｇ、トリエチルアミン７．００ｇ、ジクロロメタン１０．００ｇを仕込み撹拌している中に、氷冷下メチルマロニルクロリド９．６０ｇを滴下し、６時間撹拌した。室温まで昇温し、イオン交換水をゆっくり添加した。１Ｎ塩酸を加えてｐＨ３に調整した。反応混合物を分液ロートに移し、有機層を分液した。水層にジクロロメタン２０ｇを加えて有機成分を抽出する操作を３回行い、抽出液を有機層と合わせた。有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて脱水し、濾過した。エバポレーターで溶媒を留去し、エバポレーターで溶媒を留去し、得られたこげ茶色粘稠液体をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒  ノルマルヘキサン：アセトン＝９０：１０）で精製し、真空乾燥させてカリックスアレーン化合物（２２）１．１７ｇを得た。
実施例２３  カリックスアレーン化合物（２３）の製造
〈カリックスアレーン化合物（２３）の製造〉
攪拌装置、温度計及び還流冷却管を取り付けた四つ口フラスコに、前記中間体（M−５）２．００ｇ、トリエチルアミン７．００ｇ、ジクロロメタン１０．００ｇを仕込み撹拌している中に、氷冷下クロログリオキシル酸メチル８．６０ｇを滴下し、６時間撹拌した。室温まで昇温し、イオン交換水をゆっくり添加した。１Ｎ塩酸を加えてｐＨ３に調整した。反応混合物を分液ロートに移し、有機層を分液した。水層にジクロロメタン２０ｇを加えて有機成分を抽出する操作を３回行い、抽出液を有機層と合わせた。有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて脱水し、濾過した。エバポレーターで溶媒を留去し、エバポレーターで溶媒を留去し、得られたこげ茶色粘稠液体をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒  ノルマルヘキサン：アセトン＝９０：１０）で精製し、真空乾燥させてカリックスアレーン化合物（２２）１．０３ｇを得た。
実施例２４  カリックスアレーン化合物（２４）の製造
〈カリックスアレーン化合物（２４）の製造〉
攪拌装置、温度計及び還流冷却管を取り付けた四つ口フラスコに、前記中間体（M−５）２．００ｇ、テトラヒドロフラン１０．００ｇ、トリフェニルホスフィン１．８５ｇ、２−シアノエタノール０．５００ｇを入れて攪拌した。フラスコ内は淡黄色透明溶液。フラスコを氷浴に漬け、アゾジカルボン酸ジイソプロピル１．４５ｇを３０分かけて滴下した。フラスコ内は淡黄色透明溶液であった。室温で１２時間攪拌した。反応溶液にヘキサンを加え、トリフェニルホスフィン等の副生成物を析出させて除去した。クロロホルムで生成物を抽出し、水及び飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウムを加えて脱水し、濾過した。エバポレーターで溶媒を留去し、得られた赤色粘稠液体をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒  ノルマルヘキサン：アセトン＝９５：５）で精製し、淡黄色透明液体を得た。溶媒を留去し、クロロホルムに溶解させた後メタノールを加えて生成物を再沈殿させた。桐山ロートで濾過し、得られた白色結晶を真空乾燥させて、カリックスアレーン化合物（２４）２．０３ｇを得た。
（実施例２５）液晶組成物の調整
下記に示すとおりの化合物と混合比率で構成される組成物：【０４５４】
【化１１２】
0006701611.tif 000117
【０４５５】
に対して、下記の重合性化合物（Ｒ−１−０）を０．３重量％添加した組成物をＬＣ−１とした。【０４５６】
【化１１３】
0006701611.tif 000118
【０４５７】
ＬＣ−１のネマチック相−等方性液体相転移温度（ＴＮＩ）は７５℃、固体相−ネマチ
ック相転移温度（ＴＣＮ）は−３３℃、屈折率異方性（Δｎ）は０．１１、誘電率異方性
（Δε）は−２．８、回転粘性（γ１）は９８ｍＰａ・ｓであった。なお、屈折率異方性
（Δｎ）、誘電率異方性（Δε）、及び回転粘性（γ１）は、いずれも２５℃における測
定結果である（以下、同様）。【０４５８】
さらに、化合物（ｉ）に相当するカリックスアレーン化合物（１）【０４５９】
【化１１４】
0006701611.tif 000119
【０４６０】
をＬＣ−１  １００重量％に対して０．3重量％添加し、液晶組成物を調製した。  
（実施例２６〜４５）
添加量０．3重量％のカリックスアレーン化合物（１）に代えて、下記化合物を表１に示す添加量でＬＣ−１に添加した以外は、実施例１と同様にして液晶組成物を調製した。
（実施例４６）
組成物ＬＣ−１に代えて、下記に示すとおりの化合物と混合比率で構成される組成物：【０４６１】
【化１１５】
0006701611.tif 000120
【０４６２】
に対して、上記の重合性化合物（Ｒ−１−０）を０．４重量％添加した組成物ＬＣ−２を用いた以外は、実施例１と同様にして液晶組成物を調製した。【０４６３】
ＬＣ−２のＴＮＩは８１℃、ＴＣＮは−５４℃、Δｎは０．１１、Δεは−３．０、γ１は９５ｍＰａ・ｓであった。
（実施例４７〜６９）
実施例２５における添加量０．３重量％のカリックスアレーン化合物（１）に代えて、表１に示す添加化合物を表１に示す添加量でＬＣ−２に添加した以外は、実施例４６と同様にして液晶組成物を調製した。
（比較例１）
化合物（P−J−１）を用いなかった以外は、実施例１と同様にして液晶組成物を調製した。
（比較例２〜1４）
化合物カリックスアレーン化合物（１）を０．３重量％添加してことに代えて、下記化合物を表１に示す添加量でＬＣ−１またはＬＣ−２に添加した以外は、実施例１と同様にして液晶組成物を調製した。【０４６４】
【化１１６】
0006701611.tif 000121
【０４６５】
実施例及び比較例の各液晶組成物について、以下の評価試験を行った。各評価試験の結果を表１に示す。
（低温保存性の評価試験）
液晶組成物をメンブレンフィルター（Ａｇｉｌｅｎｔ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製、ＰＴＦＥ  １３ｍｍ−０．２μｍ）にてろ過を行い、真空減圧条件にて１５分間静置し溶存空気の除去を行った。これをアセトンにて洗浄し十分に乾燥させたバイアル瓶に０．５ｇ秤量し、−２５℃の環境下に１０日間静置した。その後、目視にて析出の有無を観察し、以下の２段階で判定した。【０４６６】
Ａ：析出が確認できない。【０４６７】
Ｄ：析出が確認できる。
（垂直配向性の評価試験）
透明な共通電極からなる透明電極層及びカラーフィルタ層を具備した配向膜を有さない第一の基板（共通電極基板）と、アクティブ素子により駆動される透明画素電極を有する画素電極層を有する配向膜を有さない第二の基板（画素電極基板）とを作製した。第一の基板上に液晶組成物を滴下し、第二の基板上で挟持し、シール材を常圧で１１０℃２時間の条件で硬化させ、セルギャップ３．２μｍの液晶セルを得た。このときの垂直配向性および滴下痕などの配向ムラを、偏光顕微鏡を用いて観察し、以下の４段階で評価した。【０４６８】
Ａ：全面に渡り、均一に垂直配向
Ｂ：ごく僅かに配向欠陥が有るも許容できるレベル
Ｃ：配向欠陥が有り許容できないレベル
Ｄ：配向不良がかなり劣悪
（プレチルト角形成の評価試験）
上記（垂直配向性の評価試験）で使用した液晶セルに、１０Ｖ、１００Ｈｚの矩形交流波を印加しながら、高圧水銀ランプを用いて、３６５ｎｍにおける照度が１００ｍ／ｃｍ２であるＵＶ光を２００秒間照射した。その後、白表示の安定性を、１０Ｖ、１００Ｈｚの矩形交流波を印加しながらセルに物理的な外力を加え、クロスニコルの状態で観察を行い、以下の４段階で評価した。【０４６９】
Ａ：均一に配向
Ｂ：ごく僅かに配向欠陥が有るも許容できるレベル
Ｃ：配向欠陥が有り許容できないレベル
Ｄ：配向不良がかなり劣悪
（残存モノマー量の評価試験）
上記（プレチルト角形成の評価試験）にて使用したセルに、さらに、東芝ライテック社製のＵＶ蛍光ランプを６０分間照射した（３１３ｎｍにおける照度１．７ｍＷ／ｃｍ２）後の、重合性化合物（Ｒ１−１−１）の残存量をＨＰＬＣにて定量し、残存モノマー量を決定した。モノマーの残存量に応じて、以下の４段階で評価した。【０４７０】
Ａ：３００ｐｐｍ未満
Ｂ：３００ｐｐｍ以上５００ｐｐｍ未満。【０４７１】
Ｃ：５００ｐｐｍ以上１５００ｐｐｍ未満
Ｄ：１５００ｐｐｍ以上                
（応答特性の評価試験）
上記（プレチルト角形成の評価試験）にて使用したセルギャップ３．２μｍのセルに、さらに、東芝ライテック社製のＵＶ蛍光ランプを６０分間照射した（３１３ｎｍにおける照度１．７ｍＷ／ｃｍ２）。これにより得られたセルに対して、応答速度を測定した。応答速度は、６ＶにおけるＶｏｆｆを、２５℃の温度条件で、ＡＵＴＲＯＮＩＣ−ＭＥＬＣＨＥＲＳ社のＤＭＳ７０３を用いて測定した。応答特性を以下の４段階で評価した。【０４７２】
Ａ：５ｍｓ未満
Ｂ：５ｍｓ以上１５ｍｓ未満
Ｃ：１５ｍｓ以上２５ｍｓ未満
Ｄ：２５ｍｓ以上【０４７３】
【表５】
0006701611.tif 000122
【０４７４】
【表６】
0006701611.tif 000123
【図１】
0006701611.tif 000135
【図２】
0006701611.tif 000136