(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１−３）から（１−１０）のいずれか１つで表される化合物。
0006699126.tif 000081
式（１−３）から（１−１０）において、Ｒ１およびＲ２は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルコキシアルキル、または炭素数２から１２のアルケニルである。
【請求項２】
式（１−３）から（１−１０）において、Ｒ１が、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルコキシアルキル、または炭素数２から１２のアルケニルであり、Ｒ２が炭素数１から１２のアルコキシである、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
式（１−３）から（１−６）のいずれか１つで表される、請求項１に記載の化合物。
0006699126.tif 000082
式（１−３）から（１−６）において、Ｒ１は、炭素数１から１２のアルキル、または炭素数２から１２のアルケニルであり、Ｒ２は炭素数１から１２のアルコキシである。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか１項に記載の化合物の少なくとも１つを含有する液晶組成物。
【請求項５】
式（２）から（４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項４に記載の液晶組成物。
0006699126.tif 000083
式（２）から（４）において、
Ｒ１１およびＲ１２は独立して、炭素数１から１０のアルキルまたは炭素数２から１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；
環Ｂ１、環Ｂ２、環Ｂ３、および環Ｂ４は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、またはピリミジン−２，５−ジイルであり；
Ｚ１１、Ｚ１２、およびＺ１３は独立して、単結合、−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−Ｃ≡Ｃ−である。
【請求項６】
式（５）から（１１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項４または５に記載の液晶組成物。
0006699126.tif 000084
式（５）から（１１）において、
Ｒ１３、Ｒ１４、およびＲ１５は独立して、炭素数１から１０のアルキルまたは炭素数２から１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく、そしてＲ１５は、水素またはフッ素であってもよく；
環Ｃ１、環Ｃ２、環Ｃ３、および環Ｃ４は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられた１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、またはデカヒドロナフタレン−２，６−ジイルであり；
環Ｃ５および環Ｃ６は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、またはデカヒドロナフタレン−２，６−ジイルであり；
Ｚ１４、Ｚ１５、Ｚ１６、およびＺ１７は独立して、単結合、−ＣＯＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、または−ＯＣＦ２ＣＨ２ＣＨ２−であり；
Ｌ１１およびＬ１２は独立して、フッ素または塩素であり；
Ｓ１１は、水素またはメチルであり；
Ｘは、−ＣＨＦ−または−ＣＦ２−であり；
ｊ、ｋ、ｍ、ｎ、ｐ、ｑ、ｒ、およびｓは独立して、０または１であり、ｋ、ｍ、ｎ、およびｐの和は、１または２であり、ｑ、ｒ、およびｓの和は、０、１、２、または３であり、ｔは、１、２、または３である。
【請求項７】
式（１２）から（１４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項４から６のいずれか１項に記載の液晶組成物。
0006699126.tif 000085
式（１２）から（１４）において、
Ｒ１６は炭素数１から１０のアルキルまたは炭素数２から１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；
Ｘ１１は、フッ素、塩素、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、−ＣＨ２Ｆ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＨＦ２、−ＯＣＦ２ＣＨＦ２、または−ＯＣＦ２ＣＨＦＣＦ３であり；
環Ｄ１、環Ｄ２、および環Ｄ３は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられた１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、またはピリミジン−２，５−ジイルであり；
Ｚ１８、Ｚ１９、およびＺ２０は独立して、単結合、−ＣＯＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、または−（ＣＨ２）４−であり；
Ｌ１３およびＬ１４は独立して、水素またはフッ素である。
【請求項８】
式（１５）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項４から７のいずれか１項に記載の液晶組成物。
0006699126.tif 000086
式（１５）において、
Ｒ１７は炭素数１から１０のアルキルまたは炭素数２から１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；
Ｘ１２は−Ｃ≡Ｎまたは−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｎであり；
環Ｅ１は、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられた１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、またはピリミジン−２，５−ジイルであり；
Ｚ２１は、単結合、−ＣＯＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、または−Ｃ≡Ｃ−であり；
Ｌ１５およびＬ１６は独立して、水素またはフッ素であり；
ｉは、１、２、３、または４である。
【請求項９】
請求項４から８のいずれか１項に記載の液晶組成物を含む液晶表示素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶性化合物、液晶組成物および液晶表示素子に関する。さらに詳しくは、誘電率異方性が負に大きい液晶性化合物、この化合物を含有し、ネマチック相を有する液晶組成物、およびこの組成物を含む液晶表示素子に関する。
【０００２】
液晶表示素子は、パソコン、テレビなどのディスプレイに広く利用されている。この素子は、液晶性化合物の光学異方性、誘電率異方性などの物性を利用したものである。液晶表示素子の動作モードとしては、ＰＣ（phase change）、ＴＮ（twisted nematic）、ＳＴＮ（super twisted nematic）、ＢＴＮ（bistable twisted nematic）、ＥＣＢ（electrically controlled birefringence）、ＯＣＢ（optically compensated bend）、ＩＰＳ（in-plane switching）、ＶＡ（vertical alignment）、ＦＦＳ（fringe field switching）、ＰＳＡ（polymer sustained alignment）などのモードがある。ＰＳＡモードの素子では、重合体を含有する液晶組成物が用いられる。この組成物では、重合体によって液晶分子の配向を制御することが可能になる。
【０００３】
このような液晶表示素子では、適切な物性を有する液晶組成物が使われている。素子の特性をさらに向上させるには、この組成物に含まれる液晶性化合物が、次の（１）から（８）で示す物性を有するのが好ましい。（１）熱や光に対する高い安定性、（２）高い透明点、（３）液晶相の低い下限温度、（４）小さな粘度（η）、（５）適切な光学異方性（Δｎ）、（６）負に大きな誘電率異方性（Δε）、（７）適切な弾性定数（Ｋ）、（８）他の液晶性化合物との良好な相溶性。
【０００４】
液晶性化合物の物性が素子の特性に及ぼす効果は、次のとおりである。（１）のように、熱や光に対する高い安定性を有する化合物は、素子の電圧保持率を上げる。これによって、素子の寿命が長くなる。（２）のように、高い透明点を有する化合物は、素子の使用可能な温度範囲を広げる。（３）のように、ネマチック相、スメクチック相などのような液晶相の低い下限温度、特にネマチック相の低い下限温度を有する化合物も、素子の使用可能な温度範囲を広げる。（４）のように、粘度の小さな化合物は、素子の応答時間を短くする。
【０００５】
素子の設計に応じて、（５）のように適切な光学異方性、すなわち大きな光学異方性または小さな光学異方性、を有する化合物が必要である。素子のセルギャップを小さくすることにより応答時間を短くする場合には、大きな光学異方性を有する化合物が適している。（６）のように負に大きな誘電率異方性を有する化合物は、素子のしきい値電圧を下げる。これによって、素子の消費電力が小さくなる。一方、小さな誘電率異方性を有する化合物は、組成物の粘度を下げることによって、素子の応答時間を短くする。この化合物は、ネマチック相の上限温度を上げることによって素子の使用可能な温度範囲を広げる。
【０００６】
（７）に関しては、大きな弾性定数を有する化合物は、素子の応答時間を短くする。小さな弾性定数を有する化合物は、素子のしきい値電圧を下げる。したがって、向上させたい特性に応じて適切な弾性定数が必要になる。（８）のように他の液晶性化合物との良好な相溶性を有する化合物が好ましい。これは、異なった物性を有する液晶性化合物を混合して、組成物の物性を調節するからである。
【０００７】
これまでに、負に大きな誘電率異方性を有する液晶性化合物が種々合成されてきた。大きな光学異方性を有する液晶性化合物も種々合成されてきた。新規な化合物には、従来の化合物にはない良好な物性が期待されるからである。新規な化合物が組成物における少なくとも２つの物性に適切なバランスを付与することもあるからである。このような状況から、上記の物性（１）から（８）に関して良好な物性と適切なバランスを有する化合物が望まれている。
【０００８】
特許文献１の２３３頁には、化合物（Ｓ−１）が記載されている。
0006699126.tif 000002
【０００９】
特許文献２の９頁には、化合物（Ｓ−２）が記載されている。
0006699126.tif 000003
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】国際公開第２０１２／０２０６４３号パンフレット
【特許文献２】中国特許出願公開第１０４００３９６４号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
第一の課題は、熱や光に対する高い安定性、高い透明点（またはネマチック相の高い上限温度）、液晶相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学異方性、負に大きな誘電率異方性、適切な弾性定数、他の液晶性化合物との良好な相溶性などの物性の少なくとも１つを充足する液晶性化合物を提供することである。類似の化合物と比較して、負に大きな誘電率異方性および大きな弾性定数比を有する化合物を提供することである。第二の課題は、この化合物を含有し、熱や光に対する高い安定性、ネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学異方性、負に大きな誘電率異方性、大きな比抵抗、適切な弾性定数などの物性の少なくとも１つを充足する液晶組成物を提供することである。この課題は、少なくとも２つの物性に関して適切なバランスを有する液晶組成物を提供することである。第三の課題は、この組成物を含み、素子を使用できる広い温度範囲、短い応答時間、大きな電圧保持率、低いしきい値電圧、大きなコントラスト比、小さなフリッカ率、および長い寿命を有する液晶表示素子を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は、式（１）で表される化合物、この化合物を含有する液晶組成物、およびこの組成物を含む液晶表示素子に関する。
0006699126.tif 000004
式（１）において、
Ｒ１およびＲ２は独立して、炭素数１から１５のアルキルであり、このアルキルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ２ＣＨ２−は−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく；
環Ａ１はテトラヒドロピラン−２，５−ジイルであり、環Ａ２および環Ａ３は独立して、２−フルオロ−１，４−フェニレンまたは２−クロロ−１，４−フェニレンであり；
Ｚ１、Ｚ２、およびＺ３は独立して、単結合または炭素数１から４のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ２ＣＨ２−は、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく；
ａおよびｂは独立して、０または１であり、ａおよびｂの和は１である。
【発明の効果】
【００１３】
第一の長所は、熱や光に対する高い安定性、高い透明点（またはネマチック相の高い上限温度）、液晶相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学異方性、負に大きな誘電率異方性、適切な弾性定数、他の液晶性化合物との良好な相溶性などの物性の少なくとも１つを充足する液晶性化合物を提供することである。類似の化合物と比較して、負に大きな誘電率異方性および大きな弾性定数比を有する化合物を提供することである（比較例１を参照）。第二の長所は、この化合物を含有し、熱や光に対する高い安定性、ネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学異方性、負に大きな誘電率異方性、大きな比抵抗、適切な弾性定数などの物性の少なくとも１つを充足する液晶組成物を提供することである。この長所は、少なくとも２つの物性に関して適切なバランスを有する液晶組成物を提供することである。第三の長所は、この組成物を含み、素子を使用できる広い温度範囲、短い応答時間、大きな電圧保持率、低いしきい値電圧、大きなコントラスト比、小さなフリッカ率、および長い寿命を有する液晶表示素子を提供することである。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
この明細書における用語の使い方は、次のとおりである。「液晶性化合物」、「液晶組成物」、および「液晶表示素子」の用語をそれぞれ「化合物」、「組成物」、および「素子」と略すことがある。「液晶性化合物」は、ネマチック相、スメクチック相などの液晶相を有する化合物、および液晶相を有しないが、上限温度、下限温度、粘度、誘電率異方性のような組成物の物性を調節する目的で添加する化合物の総称である。この化合物は、１，４−シクロヘキシレンや１，４−フェニレンのような六員環を有し、その分子構造は棒状（rod like）である。「液晶表示素子」は液晶表示パネルおよび液晶表示モジュールの総称である。「重合性化合物」は、組成物中に重合体を生成させる目的で添加する化合物である。
【００１５】
液晶組成物は、複数の液晶性化合物を混合することによって調製される。この組成物に、物性をさらに調整する目的で添加物が添加される。重合性化合物、重合開始剤、重合禁止剤、光学活性化合物、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、熱安定剤、色素、および消泡剤のような添加物が必要に応じて添加される。液晶性化合物や添加物は、このような手順で混合される。液晶性化合物の割合（含有量）は、添加物を添加した場合であっても、添加物を含まない液晶組成物の重量に基づいた重量百分率（重量％）で表される。添加物の割合（添加量）は、添加物を含まない液晶組成物の重量に基づいた重量百分率（重量％）で表される。重量百万分率（ｐｐｍ）が用いられることもある。重合開始剤および重合禁止剤の割合は、例外的に重合性化合物の重量に基づいて表される。
【００１６】
「透明点」は、液晶性化合物における液晶相−等方相の転移温度である。「液晶相の下限温度」は、液晶性化合物における固体−液晶相（スメクチック相、ネマチック相など）の転移温度である。「ネマチック相の上限温度」は、液晶性化合物と母液晶との混合物または液晶組成物におけるネマチック相−等方相の転移温度であり、「上限温度」と略すことがある。「ネマチック相の下限温度」を「下限温度」と略すことがある。「誘電率異方性を上げる」の表現は、誘電率異方性が正である組成物のときは、その値が正に増加することを意味し、誘電率異方性が負である組成物のときは、その値が負に増加することを意味する。「電圧保持率が大きい」は、素子が初期段階において室温だけでなく上限温度に近い温度でも大きな電圧保持率を有し、そして長時間使用したあと室温だけでなく上限温度に近い温度でも大きな電圧保持率を有することを意味する。組成物や素子では、経時変化試験（加速劣化試験を含む）の前後で特性が検討されることがある。
【００１７】
式（１）で表される化合物を化合物（１）と略すことがある。式（１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を化合物（１）と略すことがある。「化合物（１）」は、式（１）で表される１つの化合物、２つの化合物の混合物、または３つ以上の化合物の混合物を意味する。これらのルールは、他の式で表される化合物についても適用される。式（１）から（１５）において、六角形で囲んだＡ１、Ｂ１、Ｃ１などの記号はそれぞれ環Ａ１、環Ｂ１、環Ｃ１などの環に対応する。六角形は、シクロヘキサンやベンゼンのような六員環を表す。六角形がナフタレンのような縮合環や、アダマンタンのような架橋環を表すことがある。
【００１８】
成分化合物の化学式において、末端基Ｒ１１の記号を複数の化合物に用いた。これらの化合物において、任意の２つのＲ１１が表す２つの基は同一であってもよく、または異なってもよい。例えば、化合物（２）のＲ１１がエチルであり、化合物（３）のＲ１１がエチルであるケースがある。化合物（２）のＲ１１がエチルであり、化合物（３）のＲ１１がプロピルであるケースもある。このルールは、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｚ１１などの記号にも適用される。化合物（１５）において、ｉが２のとき、２つの環Ｅ１が存在する。この化合物において２つの環Ｅ１が表す２つの基は、同一であってもよく、または異なってもよい。ｉが２より大きいとき、任意の２つの環Ｅ１にも適用される。このルールは、他の記号にも適用される。
【００１９】
「少なくとも１つの‘Ａ’」の表現は、‘Ａ’の数が任意であることを意味する。「少なくとも１つの‘Ａ’は、‘Ｂ’で置き換えられてもよい」の表現は、‘Ａ’の数が１つのとき、‘Ａ’の位置は任意であり、‘Ａ’の数が２つ以上のときも、それらの位置は制限なく選択できることを意味する。このルールは、「少なくとも１つの‘Ａ’が、‘Ｂ’で置き換えられた」の表現にも適用される。「少なくとも１つの‘Ａ’が、‘Ｂ’、‘Ｃ’、または‘Ｄ’で置き換えられてもよい」という表現は、任意の‘Ａ’が‘Ｂ’で置き換えられた場合、任意の‘Ａ’が‘Ｃ’で置き換えられた場合、および任意の‘Ａ’が‘Ｄ’で置き換えられた場合、さらに複数の‘Ａ’が‘Ｂ’、‘Ｃ’、および／または‘Ｄ’の少なくとも２つで置き換えられた場合を含むことを意味する。例えば、「少なくとも１つの−ＣＨ２−が−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよいアルキル」には、アルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルケニル、アルコキシアルケニル、アルケニルオキシアルキルが含まれる。なお、連続する２つの−ＣＨ２−が−Ｏ−で置き換えられて、−Ｏ−Ｏ−のようになることは好ましくない。アルキルなどにおいて、メチル部分（−ＣＨ２−Ｈ）の−ＣＨ２−が−Ｏ−で置き換えられて−Ｏ−Ｈになることも好ましくない。
【００２０】
「Ｒ１１およびＲ１２は独立して、炭素数１から１０のアルキルまたは炭素数２から１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよい」の表現が使われることがある。この表現において、「これらの基において」は、文言どおりに解釈してよい。この表現では、「これらの基」は、アルキル、アルケニル、アルコキシ、アルケニルオキシなどを意味する。すなわち、「これらの基」は、「これらの基において」の用語よりも前に記載された基の総てを表す。
【００２１】
ハロゲンはフッ素、塩素、臭素、およびヨウ素を意味する。好ましいハロゲンは、フッ素および塩素である。さらに好ましいハロゲンはフッ素である。液晶性化合物のアルキルは直鎖状または分岐状であり、環状アルキルを含まない。直鎖状アルキルは、一般的に分岐状アルキルよりも好ましい。これらのことは、アルコキシ、アルケニルなどの末端基についても同様である。１，４−シクロヘキシレンに関する立体配置は、上限温度を上げるためにシスよりもトランスが好ましい。２−フルオロ−１，４−フェニレンは、下記の２つの二価基を意味する。化学式において、フッ素は左向き（Ｌ）であってもよいし、右向き（Ｒ）であってもよい。このルールは、テトラヒドロピラン−２，５−ジイルのような、環から水素を２つ除くことによって生成した、非対称な二価基にも適用される。
0006699126.tif 000005
【００２２】
本発明は、下記の項などである。
【００２３】
項１．  式（１）で表される化合物。
0006699126.tif 000006
式（１）において、
Ｒ１およびＲ２は独立して、炭素数１から１５のアルキルであり、このアルキルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ２ＣＨ２−は−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく；
環Ａ１はテトラヒドロピラン−２，５−ジイルであり、環Ａ２および環Ａ３は独立して、２−フルオロ−１，４−フェニレンまたは２−クロロ−１，４−フェニレンであり；
Ｚ１、Ｚ２、およびＺ３は独立して、単結合または炭素数１から４のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ２ＣＨ２−は、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく；
ａおよびｂは独立して、０または１であり、ａおよびｂの和は１である。
【００２４】
項２．  式（１）において、
Ｒ１およびＲ2は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルコキシアルキル、炭素数２から１２のアルケニル、または炭素数２から１２のアルケニルオキシであり；
環Ａ１はテトラヒドロピラン−２，５−ジイルであり、環Ａ２および環Ａ３は独立して、２−フルオロ−１，４−フェニレンまたは２−クロロ−１，４−フェニレンであり；
Ｚ１、Ｚ２、およびＺ３は独立して、単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−（ＣＨ２）４−、または−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣＨ２−であり；
ａおよびｂは独立して、０または１であり、ａおよびｂの和は１である、項１に記載の化合物。
【００２５】
項３．  式（１−１）または（１−２）で表される、項１に記載の化合物。
0006699126.tif 000007
式（１−１）および（１−２）において、
Ｒ１およびＲ２は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルコキシアルキル、炭素数２から１２のアルケニル、または炭素数２から１２のアルケニルオキシであり；
環Ａ１、はテトラヒドロピラン−２，５−ジイルであり、環Ａ２および環Ａ３は２−フルオロ−１，４−フェニレンである。
【００２６】
項４．  式（１−３）から（１−１０）のいずれか１つで表される、項１に記載の化合物。
0006699126.tif 000008
式（１−３）から（１−１０）において、
Ｒ１およびＲ２は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルコキシアルキル、または炭素数２から１２のアルケニルである。
【００２７】
項５．  式（１−３）から（１−１０）において、Ｒ１が、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルコキシアルキル、または炭素数２から１２のアルケニルであり、Ｒ２が炭素数１から１２のアルコキシである、項４に記載の化合物。
【００２８】
項６．  式（１−３）から（１−６）のいずれか１つで表される、項４に記載の化合物。
0006699126.tif 000009
式（１−３）から（１−６）において、Ｒ１は、炭素数１から１２のアルキル、または炭素数２から１２のアルケニルであり、Ｒ２は炭素数１から１２のアルコキシである。
【００２９】
項７．  項１から６のいずれか１項に記載の化合物の少なくとも１つを含有する液晶組成物。
【００３０】
項８．  式（２）から（４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物をさらに含有する、項７に記載の液晶組成物。
0006699126.tif 000010
式（２）から（４）において、
Ｒ１１およびＲ１２は独立して、炭素数１から１０のアルキルまたは炭素数２から１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；
環Ｂ１、環Ｂ２、環Ｂ３、および環Ｂ４は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、またはピリミジン−２，５−ジイルであり；
Ｚ１１、Ｚ１２、およびＺ１３は独立して、単結合、−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−Ｃ≡Ｃ−である。
【００３１】
項９．  式（５）から（１１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物をさらに含有する、項７または８に記載の液晶組成物。
0006699126.tif 000011
式（５）から（１１）において、
Ｒ１３、Ｒ１４、およびＲ１５は独立して、炭素数１から１０のアルキルまたは炭素数２から１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく、そしてＲ１５は、水素またはフッ素であってもよく；
環Ｃ１、環Ｃ２、環Ｃ３、および環Ｃ４は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられた１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、またはデカヒドロナフタレン−２，６−ジイルであり；
環Ｃ５および環Ｃ６は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、またはデカヒドロナフタレン−２，６−ジイルであり；
Ｚ１４、Ｚ１５、Ｚ１６、およびＺ１７は独立して、単結合、−ＣＯＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、または−ＯＣＦ２ＣＨ２ＣＨ２−であり；
Ｌ１１およびＬ１２は独立して、フッ素または塩素であり；
Ｓ１１は、水素またはメチルであり；
Ｘは、−ＣＨＦ−または−ＣＦ２−であり；
ｊ、ｋ、ｍ、ｎ、ｐ、ｑ、ｒ、およびｓは独立して、０または１であり、ｋ、ｍ、ｎ、およびｐの和は、１または２であり、ｑ、ｒ、およびｓの和は、０、１、２、または３であり、ｔは、１、２、または３である。
【００３２】
項１０．  式（１２）から（１４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物をさらに含有する、項７から９のいずれか１項に記載の液晶組成物。
0006699126.tif 000012
式（１２）から（１４）において、
Ｒ１６は炭素数１から１０のアルキルまたは炭素数２から１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；
Ｘ１１は、フッ素、塩素、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、−ＣＨ２Ｆ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＨＦ２、−ＯＣＦ２ＣＨＦ２、または−ＯＣＦ２ＣＨＦＣＦ３であり；
環Ｄ１、環Ｄ２、および環Ｄ３は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられた１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、またはピリミジン−２，５−ジイルであり；
Ｚ１８、Ｚ１９、およびＺ２０は独立して、単結合、−ＣＯＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、または−（ＣＨ２）４−であり；
Ｌ１３およびＬ１４は独立して、水素またはフッ素である。
【００３３】
項１１．  式（１５）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物をさらに含有する、項７から１０のいずれか１項に記載の液晶組成物。
0006699126.tif 000013
式（１５）において、
Ｒ１７は炭素数１から１０のアルキルまたは炭素数２から１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；
Ｘ１２は−Ｃ≡Ｎまたは−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｎであり；
環Ｅ１は、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられた１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、またはピリミジン−２，５−ジイルであり；
Ｚ２１は、単結合、−ＣＯＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、または−Ｃ≡Ｃ−であり；
Ｌ１５およびＬ１６は独立して、水素またはフッ素であり；
ｉは、１、２、３、または４である。
【００３４】
項１２．  項７から１１のいずれか１項に記載の液晶組成物を含む液晶表示素子。
【００３５】
本発明は、次の項も含む。（ａ）少なくとも１つの光学活性化合物および／または重合性化合物をさらに含有する、上記の組成物。（ｂ）少なくとも１つの酸化防止剤および／または紫外線吸収剤をさらに含有する、上記の組成物。
【００３６】
本発明は、次の項も含む。（ｃ）重合性化合物、重合開始剤、重合禁止剤、光学活性化合物、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、熱安定剤、色素、および消泡剤の群から選択された１つ、２つ、または少なくとも３つの添加物をさらに含有する、上記の組成物。（ｄ）ネマチック相の上限温度が７０℃以上であり、波長５８９ｎｍにおける光学異方性（２５℃で測定）が０．０８以上であり、そして周波数１ｋＨｚにおける誘電率異方性（２５℃で測定）が−２以下である、上記の組成物。
【００３７】
化合物（１）の態様、化合物（１）の合成、液晶組成物、および液晶表示素子について、順に説明する。
【００３８】
１．化合物（１）の態様
化合物（１）は、２−フルオロ−１，４−フェニレン（または、２−クロロ−１，４−フェニレン）と２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレンとを有することを特徴とする。この化合物は、１，４−シクロヘキシレンや１，４−フェニレンのような六員環を有しない。化合物（１）は、類似の化合物と比較して負に大きな誘電率異方性および大きな弾性定数比を有することを特徴とする。化合物（１）の好ましい例について説明をする。化合物（１）における末端基Ｒ、環Ａ、および結合基Ｚの好ましい例は、化合物（１）の下位式にも適用される。化合物（１）において、これらの基を適切に組み合わせることによって、物性を任意に調整することが可能である。化合物の物性に大きな差異がないので、化合物（１）は、２Ｈ（重水素）、１３Ｃなどの同位体を天然存在比の量より多く含んでもよい。なお、化合物（１）の記号の定義は、項１に記載したとおりである。
0006699126.tif 000014
【００３９】
式（１）において、Ｒ１およびＲ２は独立して、炭素数１から１５のアルキルであり、このアルキルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ２ＣＨ２−は−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよい。
【００４０】
好ましいＲ１またはＲ2は、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルコキシアルキル、炭素数２から１２のアルケニル、または炭素数２から１２のアルケニルオキシである。さらに好ましいＲ１は、アルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、またはアルケニルである。特に好ましいＲ１は、アルキルまたはアルケニルである。さらに好ましいＲ２は、アルキル、アルコキシ、またはアルコキシアルキルである。特に好ましいＲ２は、アルコキシである。
【００４１】
好ましいアルキルは、−ＣＨ３、−Ｃ２Ｈ５、−Ｃ３Ｈ７、−Ｃ４Ｈ９、−Ｃ５Ｈ１１、−Ｃ６Ｈ１３、または−Ｃ７Ｈ１５である。
【００４２】
好ましいアルコキシは、−ＯＣＨ３、−ＯＣ２Ｈ５、−ＯＣ３Ｈ７、−ＯＣ４Ｈ９、−ＯＣ５Ｈ１１、−ＯＣ６Ｈ１３、または−ＯＣ７Ｈ１５である。
【００４３】
好ましいアルコキシアルキルは、−ＣＨ２ＯＣＨ３、−ＣＨ２ＯＣ２Ｈ５、−ＣＨ２ＯＣ３Ｈ７、−（ＣＨ２）２−ＯＣＨ３、−（ＣＨ２）２−ＯＣ２Ｈ５、−（ＣＨ２）２−ＯＣ３Ｈ７、−（ＣＨ２）３−ＯＣＨ３、−（ＣＨ２）４−ＯＣＨ３、または−（ＣＨ２）５−ＯＣＨ３である。
【００４４】
好ましいアルケニルは、−ＣＨ＝ＣＨ２、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２、−ＣＨ＝ＣＨＣ２Ｈ５、−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣＨ３、−（ＣＨ２）２−ＣＨ＝ＣＨ２、−ＣＨ＝ＣＨＣ３Ｈ７、−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣ２Ｈ５、−（ＣＨ２）２−ＣＨ＝ＣＨＣＨ３、または−（ＣＨ２）３−ＣＨ＝ＣＨ２である。
【００４５】
好ましいアルケニルオキシは、−ＯＣＨ＝ＣＨ２、−ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２、−ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣＨ３、または−ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣ２Ｈ５である。
【００４６】
好ましいＲ１またはＲ2は、−ＣＨ３、−Ｃ２Ｈ５、−Ｃ３Ｈ７、−Ｃ４Ｈ９、−Ｃ５Ｈ１１、−Ｃ６Ｈ１３、−ＯＣＨ３、−ＯＣ２Ｈ５、−ＯＣ３Ｈ７、−ＯＣ４Ｈ９、−ＯＣ５Ｈ１１、−ＣＨ２ＯＣＨ３、−ＣＨ２ＯＣ２Ｈ５、−ＣＨ２ＯＣ３Ｈ７、−ＣＨ２ＯＣ４Ｈ９、−Ｃ２Ｈ４ＯＣＨ３、−Ｃ２Ｈ４ＯＣ２Ｈ５、−Ｃ２Ｈ４ＯＣ３Ｈ７、、−Ｃ３Ｈ６ＯＣＨ３、−Ｃ３Ｈ６ＯＣ２Ｈ５、−Ｃ３Ｈ６ＯＣ３Ｈ７、−ＣＨ＝ＣＨ２、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ３、−（ＣＨ２）２−ＣＨ＝ＣＨ２、−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣ２Ｈ５、−（ＣＨ２）２−ＣＨ＝ＣＨＣＨ３、−ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２、−ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣＨ３、または−ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣ２Ｈ５である。さらに好ましいＲ１は、−ＣＨ３、−Ｃ２Ｈ５、−Ｃ３Ｈ７、−Ｃ４Ｈ９、−Ｃ５Ｈ１１、−ＯＣＨ３、−ＯＣ２Ｈ５、−ＯＣ３Ｈ７、−ＯＣ４Ｈ９、−ＯＣ５Ｈ１１、−ＣＨ２ＯＣＨ３、−ＣＨ２ＯＣ２Ｈ５、−ＣＨ２ＯＣ３Ｈ７、−Ｃ２Ｈ４ＯＣＨ３、−Ｃ２Ｈ４ＯＣ２Ｈ５、−ＣＨ＝ＣＨ２、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ３、−（ＣＨ２）２−ＣＨ＝ＣＨ２、−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣ２Ｈ５、または−（ＣＨ２）２−ＣＨ＝ＣＨＣＨ３である。特に好ましいＲ１は、−ＣＨ３、−Ｃ２Ｈ５、−Ｃ３Ｈ７、−Ｃ４Ｈ９、−Ｃ５Ｈ１１、−ＣＨ＝ＣＨ２、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ３、−（ＣＨ２）２−ＣＨ＝ＣＨ２、−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣ２Ｈ５、または−（ＣＨ２）２−ＣＨ＝ＣＨＣＨ３である。さらに好ましいＲ２は、−ＣＨ３、−Ｃ２Ｈ５、−Ｃ３Ｈ７、−Ｃ４Ｈ９、−Ｃ５Ｈ１１、−ＯＣＨ３、−ＯＣ２Ｈ５、−ＯＣ３Ｈ７、−ＯＣ４Ｈ９、−ＯＣ５Ｈ１１、−ＣＨ２ＯＣＨ３、−ＣＨ２ＯＣ２Ｈ５、−ＣＨ２ＯＣ３Ｈ７、−Ｃ２Ｈ４ＯＣＨ３、−Ｃ２Ｈ４ＯＣ２Ｈ５である。特に好ましいＲ２は、−ＯＣＨ３、−ＯＣ２Ｈ５、−ＯＣ３Ｈ７、−ＯＣ４Ｈ９、−ＯＣ５Ｈ１１である。
【００４７】
Ｒ１は直鎖であることが好ましいが、分岐鎖であってもよい。Ｒ１が直鎖であるときは、液晶相の温度範囲が広く、そして粘度が小さい。Ｒ１が分岐鎖であるときは、他の液晶性化合物との相溶性がよい。Ｒ１が光学活性である化合物は、キラルドーパントとして有用である。この化合物を組成物に添加することによって、液晶表示素子に発生するリバース・ツイスト・ドメイン（reverse twisted domain）を防止することができる。Ｒ１が光学活性でない化合物は、組成物の成分として有用である。Ｒ１がアルケニルであるとき、好ましい立体配置は二重結合の位置に依存する。好ましい立体配置を有するアルケニル化合物は、小さい粘度、高い上限温度、または液晶相の広い温度範囲を有する。
【００４８】
アルケニルにおける−ＣＨ＝ＣＨ−の好ましい立体配置は、二重結合の位置に依存する。−ＣＨ＝ＣＨＣＨ３、−ＣＨ＝ＣＨＣ２Ｈ５、−ＣＨ＝ＣＨＣ３Ｈ７、−ＣＨ＝ＣＨＣ４Ｈ９、−Ｃ２Ｈ４ＣＨ＝ＣＨＣＨ３、および−Ｃ２Ｈ４ＣＨ＝ＣＨＣ２Ｈ５のような奇数位に二重結合をもつアルケニルにおいてはトランス配置が好ましい。−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣ２Ｈ５、および−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣ３Ｈ７のような偶数位に二重結合をもつアルケニルにおいてはシス配置が好ましい。好ましい立体配置を有するアルケニル化合物は、高い透明点または液晶相の広い温度範囲を有する。Mol. Cryst. Liq. Cryst., 1985, 131, 109およびMol. Cryst. Liq. Cryst., 1985, 131, 327、に詳細な説明がある。
【００４９】
式（１）において、環Ａ１はテトラヒドロピラン−２，５−ジイルであり、環Ａ２および環Ａ３は独立して、２−フルオロ−１，４−フェニレンまたは２−クロロ−１，４−フェニレンである。テトラヒドロピラン−２，５−ジイルの酸素は、左向き（Ｌ）であってもよいし、右向き（Ｒ）であってもよい。環Ａ２または環Ａ３において、２−フルオロ−１，４−フェニレンは２−クロロ−１，４−フェニレンより好ましい。
【００５０】
式（１）において、Ｚ１、Ｚ２、およびＺ３は独立して、単結合または炭素数１から４のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、または−ＯＣＯ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ２ＣＨ２−は、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよい。
【００５１】
好ましいＺ１、Ｚ２、またはＺ３は、単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−（ＣＨ２）４−、または−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣＨ２−である。さらに好ましいＺ１、Ｚ２、またはＺ３は、単結合、−ＣＨ２Ｏ−、または−ＯＣＨ２−である。最も好ましいＺ１、Ｚ２、またはＺ３は、単結合である。
【００５２】
式（１）において、ａおよびｂは独立して、０または１であり、ａおよびｂの和は１である。化合物（１）のうちで好ましい化合物は、化合物（１−１）または（１−２）である。
【００５３】
化合物（１−２）は、誘電率異方性の大きさの観点から化合物（１−１）よりも好ましい。テトラヒドロピラン−２，５−ジイルの向きは、誘電率異方性の大きさの観点から左向きの方が右向きよりも好ましい。すなわち、化合物（１−４）、（１−６）、（１−８）、または（１−１０）は、それぞれに対応の化合物（化合物（１−３）、（１−５）、（１−７）、または（１−９））よりも好ましい。化合物（１−３）から（１−６）は、誘電率異方性の大きさの観点から、化合物（１−７）から（１−１０）よりも好ましい。
【００５４】
２．化合物（１）の合成
化合物（１）の合成法を説明する。化合物（１）は、有機合成化学の方法を適切に組み合わせることによって合成できる。出発物に目的の末端基、環、および結合基を導入する方法は、「オーガニック・シンセシス」（Organic Syntheses, John Wiley & Sons, Inc.）、「オーガニック・リアクションズ」（Organic Reactions, John Wiley & Sons, Inc.）、「コンプリヘンシブ・オーガニック・シンセシス」（Comprehensive Organic Synthesis, Pergamon Press）、「新実験化学講座」（丸善）などの成書に記載されている。
【００５５】
２−１．結合基Ｚの生成
結合基Ｚを生成する方法に関して、最初にスキームを示す。次に、方法（１）から（１１）でスキームに記載した反応を説明する。このスキームにおいて、ＭＳＧ１（またはＭＳＧ２）は少なくとも１つの環を有する１価の有機基である。スキームで用いた複数のＭＳＧ１（またはＭＳＧ２）が表わす一価の有機基は、同一であってもよいし、または異なってもよい。化合物（１Ａ）から（１Ｊ）は化合物（１）に相当する。
【００５６】
0006699126.tif 000015
【００５７】
0006699126.tif 000016
【００５８】
（１）単結合の生成
アリールホウ酸（２１）とハロゲン化物（２２）とを、炭酸塩およびテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウムのような触媒の存在下で反応させて化合物（１Ａ）を合成する。この化合物（１Ａ）は、ハロゲン化物（２３）にｎ−ブチルリチウムを、次いで塩化亜鉛を反応させ、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウムのような触媒の存在下でハロゲン化物（２２）を反応させることによっても合成される。
【００５９】
（２）−ＣＯＯ−の生成
ハロゲン化物（２３）にｎ−ブチルリチウムを、続いて二酸化炭素を反応させてカルボン酸（２４）を得る。化合物（２５）とカルボン酸（２４）とをＤＣＣ（１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド）とＤＭＡＰ（４−ジメチルアミノピリジン）の存在下で脱水させて化合物（１Ｂ）を合成する。
【００６０】
（３）−ＣＦ２Ｏ−の生成
化合物（１Ｂ）をローソン試薬のような硫黄化剤で処理してチオノエステル（２６）を得る。チオノエステル（２６）をフッ化水素ピリジン錯体とＮＢＳ（Ｎ−ブロモスクシンイミド）でフッ素化し、化合物（１Ｃ）を合成する。M. Kuroboshi et al., Chem. Lett., 1992，827.を参照。化合物（１Ｃ）はチオノエステル（２６）をＤＡＳＴ（（ジエチルアミノ）サルファートリフルオリド）でフッ素化しても合成される。W. H. Bunnelle et al., J. Org. Chem. 1990, 55, 768.を参照。Peer. Kirsch et al., Angew. Chem. Int. Ed. 2001, 40, 1480. に記載の方法によってこの結合基を生成させることも可能である。
【００６１】
（４）−ＣＨ＝ＣＨ−の生成
ハロゲン化物（２２）をｎ−ブチルリチウムで処理した後、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）と反応させてアルデヒド（２８）を得る。ホスホニウム塩（２７）をカリウムｔ−ブトキシドのような塩基で処理してリンイリドを発生させる。このリンイリドをアルデヒド（２８）に反応させて化合物（１Ｄ）を合成する。反応条件によってはシス体が生成するので、必要に応じてシス体をトランス体に異性化する。
【００６２】
（５）−ＣＨ２ＣＨ２−の生成
化合物（１Ｄ）をパラジウム炭素のような触媒の存在下で水素化することにより、化合物（１Ｅ）を合成する。
【００６３】
（６）−（ＣＨ２）４−の生成
ホスホニウム塩（２７）の代わりにホスホニウム塩（２９）を用い、方法（４）の方法に従って−（ＣＨ２）２−ＣＨ＝ＣＨ−を有する化合物を得る。これを接触水素化して化合物（１Ｆ）を合成する。
【００６４】
（７）−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣＨ２−の生成
ホスホニウム塩（２７）の代わりにホスホニウム塩（３０）を、アルデヒド（２８）の代わりにアルデヒド（３１）を用い、方法（４）の方法に従って化合物（１Ｇ）を合成する。反応条件によってはトランス体が生成するので、必要に応じてトランス体をシス体に異性化する。
【００６５】
（８）−Ｃ≡Ｃ−の生成
ジクロロパラジウムとハロゲン化銅との触媒存在下で、ハロゲン化物（２３）に２−メチル−３−ブチン−２−オールを反応させたのち、塩基性条件下で脱保護して化合物（３２）を得る。ジクロロパラジウムとハロゲン化銅との触媒存在下、化合物（３２）をハロゲン化物（２２）と反応させて、化合物（１Ｈ）を合成する。
【００６６】
（９）−ＣＦ＝ＣＦ−の生成
ハロゲン化物（２３）をｎ−ブチルリチウムで処理したあと、テトラフルオロエチレンを反応させて化合物（３３）を得る。ハロゲン化物（２２）をｎ−ブチルリチウムで処理したあと化合物（３３）と反応させて化合物（１Ｉ）を合成する。
【００６７】
（１０）−ＯＣＨ２−の生成
アルデヒド（２８）を水素化ホウ素ナトリウムなどの還元剤で還元して化合物（３４）を得る。化合物（３４）を臭化水素酸などで臭素化して臭化物（３５）を得る。炭酸カリウムなどの塩基存在下で、臭化物（３５）を化合物（３６）と反応させて化合物（１Ｊ）を合成する。
【００６８】
（１１）−ＣＦ２ＣＦ２−の生成
J. Am. Chem. Soc., 2001, 123, 5414. に記載された方法に従い、ジケトン（−ＣＯＣＯ−）をフッ化水素触媒の存在下、四フッ化硫黄でフッ素化して−（ＣＦ２）２−を有する化合物を得る。
【００６９】
。
２−２．環Ａの生成
１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、または２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレンのような環に関しては出発物が市販されているか、または生成法がよく知られている。テトラヒドロピラン−２，５−ジイルの生成については特開２０１３−２４１３９７号公報の段落００８４から０１０７を参照のこと。
【００７０】
３．液晶組成物
３−１．成分化合物
本発明の液晶組成物について説明をする。この組成物は、少なくとも１つの化合物（１）を成分（ａ）として含有する。この組成物は、２つまたは３つ以上の化合物（１）を含有してもよい。組成物の成分が化合物（１）のみであってもよい。組成物は、化合物（１）の少なくとも１つを１重量％から５０重量％の範囲で含有することが、良好な物性を発現させるために好ましい。誘電率異方性が負である組成物において、化合物（１）の好ましい含有量は５重量％から６０重量％の範囲である。誘電率異方性が正である組成物において、化合物（１）の好ましい含有量は３０重量％以下である。
【００７１】
0006699126.tif 000017
【００７２】
この組成物は、化合物（１）を成分（ａ）として含有する。この組成物は、表１に示す成分（ｂ）から（ｅ）までから選択された液晶性化合物をさらに含有することが好ましい。この組成物を調製するときには、誘電率異方性の正負と大きさを考慮して成分（ｂ）から（ｅ）までから選択をすることが好ましい。この組成物は、化合物（１）から（１５）とは異なる液晶性化合物を含有してもよい。この組成物は、そのような液晶性化合物を含有しなくてもよい。
【００７３】
成分（ｂ）は、２つの末端基がアルキルなどである化合物である。成分（ｂ）の好ましい例として、化合物（２−１）から（２−１１）、化合物（３−１）から（３−１９）、および化合物（４−１）から（４−７）を挙げることができる。これらの化合物において、Ｒ１１およびＲ１２は独立して、炭素数１から１０のアルキルまたは炭素数２から１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよい。
【００７４】
0006699126.tif 000018
【００７５】
成分（ｂ）は、小さな誘電率異方性を有する。成分（ｂ）は中性に近い。化合物（２）は、粘度を下げるまたは光学異方性を調整する効果がある。化合物（３）および（４）は、上限温度を上げることによってネマチック相の温度範囲を広げる、または光学異方性を調整する効果がある。
【００７６】
成分（ｂ）の含有量を増加させるにつれて組成物の粘度は小さくなるが誘電率異方性が小さくなる。そこで、素子のしきい値電圧の要求値を満たす限り、含有量は多いほうが好ましい。ＩＰＳ、ＶＡなどのモード用の組成物を調製する場合には、成分（ｂ）の含有量は、液晶組成物の重量に基づいて、好ましくは３０重量％以上、さらに好ましくは４０重量％以上である。
【００７７】
成分（ｃ）は、化合物（５）から（１１）である。これらの化合物は、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレンのように、ラテラル位が２つのハロゲンで置換されたフェニレンを有する。成分（ｃ）の好ましい例として、化合物（５−１）から（５−８）、化合物（６−１）から（６−１７）、化合物（７−１）、化合物（８−１）から（８−３）、化合物（９−１）から（９−１１）、化合物（１０−１）から（１０−３）、および化合物（１１−１）から（１１−３）を挙げることができる。これらの化合物において、Ｒ１３、Ｒ１４、およびＲ１５は独立して、炭素数１から１０のアルキルまたは炭素数２から１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく、そしてＲ１５は、水素またはフッ素であってもよい。
【００７８】
0006699126.tif 000019
【００７９】
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【００８０】
成分（ｃ）は、誘電率異方性が負に大きい。成分（ｃ）は、ＩＰＳ、ＶＡ、ＰＳＡなどのモード用の組成物を調製する場合に用いられる。成分（ｃ）の含有量を増加させるにつれて組成物の誘電率異方性が負に大きくなるが、粘度が大きくなる。そこで、素子のしきい値電圧の要求値を満たす限り、含有量は少ないほうが好ましい。誘電率異方性が−５程度であることを考慮すると、充分な電圧駆動をさせるには、含有量が４０重量％以上であることが好ましい。
【００８１】
成分（ｃ）のうち、化合物（５）は二環化合物であるので、粘度を下げる、光学異方性を調整する、または誘電率異方性を上げる効果がある。化合物（５）および（６）は三環化合物であるので、上限温度を上げる、光学異方性を上げる、または誘電率異方性を上げるという効果がある。化合物（８）から（１１）は、誘電率異方性を上げるという効果がある。
【００８２】
ＩＰＳ、ＶＡ、ＰＳＡなどのモード用の組成物を調製する場合には、成分（ｃ）の含有量は、液晶組成物の重量に基づいて、好ましくは４０重量％以上であり、さらに好ましくは５０重量％から９５重量％の範囲である。成分（ｃ）を誘電率異方性が正である組成物に添加する場合は、成分（ｃ）の含有量は３０重量％以下が好ましい。成分（ｃ）を添加することにより、組成物の弾性定数を調整し、素子の電圧−透過率曲線を調整することが可能となる。
【００８３】
成分（ｄ）は、右末端にハロゲンまたはフッ素含有基を有する化合物である。成分（ｄ）の好ましい例として、化合物（１２−１）から（１２−１６）、化合物（１３−１）から（１３−１１３）、化合物（１４−１）から（１４−５７）を挙げることができる。これらの化合物において、Ｒ１６は炭素数１から１０のアルキルまたは炭素数２から１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよい。Ｘ１１は、フッ素、塩素、−ＯＣＦ３、−ＯＣＨＦ２、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、−ＣＨ２Ｆ、−ＯＣＦ２ＣＨＦ２、または−ＯＣＦ２ＣＨＦＣＦ３である。
【００８４】
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【００８５】
0006699126.tif 000022
【００８６】
0006699126.tif 000023
【００８７】
0006699126.tif 000024
【００８８】
0006699126.tif 000025
【００８９】
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【００９０】
成分（ｄ）は、誘電率異方性が正であり、熱や光に対する安定性が非常に良好であるので、ＩＰＳ、ＦＦＳ、ＯＣＢなどのモード用の組成物を調製する場合に用いられる。成分（ｄ）の含有量は、液晶組成物の重量に基づいて１重量％から９９重量％の範囲が適しており、好ましくは１０重量％から９７重量％の範囲、さらに好ましくは４０重量％から９５重量％の範囲である。成分（ｄ）を誘電率異方性が負である組成物に添加する場合、成分（ｄ）の含有量は３０重量％以下が好ましい。成分（ｄ）を添加することにより、組成物の弾性定数を調整し、素子の電圧−透過率曲線を調整することが可能となる。
【００９１】
成分（ｅ）は、右末端基が−Ｃ≡Ｎまたは−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｎである化合物（１５）である。成分（ｅ）の好ましい例として、化合物（１５−１）から（１５−６４）を挙げることができる。これらの化合物において、Ｒ１７は炭素数１から１０のアルキルまたは炭素数２から１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、これらの基において、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよい。；Ｘ１２は−Ｃ≡Ｎまたは−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｎである。
【００９２】
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【００９３】
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【００９４】
成分（ｅ）は、誘電率異方性が正であり、その値が大きいので、ＴＮなどのモード用の組成物を調製する場合に用いられる。この成分（ｅ）を添加することにより、組成物の誘電率異方性を上げることができる。成分（ｅ）は、液晶相の温度範囲を広げる、粘度を調整する、または光学異方性を調整する、という効果がある。成分（ｅ）は、素子の電圧−透過率曲線の調整にも有用である。
【００９５】
ＴＮなどのモード用の組成物を調製する場合には、成分（ｅ）の含有量は、液晶組成物の重量に基づいて１重量％から９９重量％の範囲が適しており、好ましくは１０重量％から９７重量％の範囲、さらに好ましくは４０重量％から９５重量％の範囲である。成分（ｅ）を誘電率異方性が負である組成物に添加する場合、成分（ｅ）の含有量は３０重量％以下が好ましい。成分（ｅ）を添加することにより、組成物の弾性定数を調整し、素子の電圧−透過率曲線を調整することが可能となる。
【００９６】
上記の成分（ｂ）から（ｅ）から適切に選択された化合物と化合物（１）とを組み合わせることによって熱や光に対する高い安定性、高い上限温度、低い下限温度、小さな粘度、適切な光学異方性（すなわち、大きな光学異方性または小さな光学異方性）、正または負に大きな誘電率異方性、大きな比抵抗、適切な弾性定数（すなわち、大きな弾性定数または小さな弾性定数）などの物性の少なくとも１つを充足する液晶組成物を調製することができる。このような組成物を含む素子は、素子を使用できる広い温度範囲、短い応答時間、大きな電圧保持率、低いしきい値電圧、大きなコントラスト比、小さなフリッカ率、および長い寿命を有する。
【００９７】
素子を長時間使用すると、表示画面にフリッカ（flicker）が発生することがある。フリッカ率（％）は、（｜正の電圧を印加したときの輝度−負の電圧を印加したときの輝度｜）／平均輝度）×１００、によって表すことができる。フリッカ率が０％から１％の範囲である素子は、素子を長時間使用しても、表示画面にフリッカ（flicker）が発生しにくい。このフリッカは、画像の焼き付きに関連し、交流で駆動させる際に正フレームと負フレームの間の電位差によって発生すると推定される。化合物（１）を含有する組成物は、フリッカの発生を低減させるのにも有用である。
【００９８】
３−２．添加物
液晶組成物は公知の方法によって調製される。例えば、成分化合物を混合し、そして加熱によって互いに溶解させる。用途に応じて、この組成物に添加物を添加してよい。添加物の例は、重合性化合物、重合開始剤、重合禁止剤、光学活性化合物、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、熱安定剤、色素、消泡剤などである。このような添加物は当業者によく知られており、文献に記載されている。
【００９９】
ＰＳＡ（polymer sustained alignment；高分子支持配向型）モードを有する液晶表示素子では、組成物が重合体を含有する。重合性化合物は、組成物中に重合体を生成させる目的で添加される。まず、少量の重合性化合物を添加した組成物を素子に注入する。次に、この素子の基板のあいだに電圧を印加しながら、組成物に紫外線を照射する。重合性化合物は重合して、組成物中に重合体の網目構造を生成する。この組成物では、重合体によって液晶分子の配向を制御することが可能になるので、素子の応答時間が短縮され、画像の焼き付きが改善される。
【０１００】
重合性化合物の好ましい例は、アクリレート、メタクリレート、ビニル化合物、ビニルオキシ化合物、プロペニルエーテル、エポキシ化合物（オキシラン、オキセタン）、およびビニルケトンである。さらに好ましい例は、少なくとも１つのアクリロイルオキシを有する化合物および少なくとも１つのメタクリロイルオキシを有する化合物である。さらに好ましい例には、アクリロイルオキシとメタクリロイルオキシの両方を有する化合物も含まれる。
【０１０１】
さらに好ましい例は、化合物（Ｍ−１）から（Ｍ−１８）である。これらの化合物において、Ｒ２５からＲ３１は独立して、水素またはメチルであり；Ｒ３２、Ｒ３３、およびＲ３４は独立して、水素または炭素数１から５のアルキルであり、Ｒ３２、Ｒ３３、およびＲ３４の少なくとも１つは炭素数１から５のアルキルであり；ｓ、ｖ、およびｘは独立して、０または１であり；ｔおよびｕは独立して、１から１０の整数である。Ｌ２１からＬ２６は独立して、水素またはフッ素であり；Ｌ２７およびＬ２８は独立して、水素、フッ素、またはメチルである。
【０１０２】
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【０１０３】
重合性化合物は、重合開始剤を添加することによって、速やかに重合させることができる。反応温度を最適化することによって、残存する重合性化合物の量を減少させることができる。光ラジカル重合開始剤の例は、ＢＡＳＦ社のダロキュアシリーズからＴＰＯ、１１７３、および４２６５であり、イルガキュアシリーズから１８４、３６９、５００、６５１、７８４、８１９、９０７、１３００、１７００、１８００、１８５０、および２９５９である。
【０１０４】
光ラジカル重合開始剤の追加例は、４−メトキシフェニル−２，４−ビス（トリクロロメチル）トリアジン、２−（４−ブトキシスチリル）−５−トリクロロメチル−１，３，４−オキサジアゾール、９−フェニルアクリジン、９，１０−ベンズフェナジン、ベンゾフェノン／ミヒラーズケトン混合物、ヘキサアリールビイミダゾール／メルカプトベンズイミダゾール混合物、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２，４−ジエチルキサントン／ｐ−ジメチルアミノ安息香酸メチル混合物、ベンゾフェノン／メチルトリエタノールアミン混合物である。
【０１０５】
液晶組成物に光ラジカル重合開始剤を添加したあと、電場を印加した状態で紫外線を照射することによって重合を行うことができる。しかし、未反応の重合開始剤または重合開始剤の分解生成物は、素子に画像の焼き付きなどの表示不良を引き起こすかもしれない。これを防ぐために重合開始剤を添加しないまま光重合を行ってもよい。照射する光の好ましい波長は１５０ｎｍから５００ｎｍの範囲である。さらに好ましい波長は２５０ｎｍから４５０ｎｍの範囲であり、最も好ましい波長は３００ｎｍから４００ｎｍの範囲である。
【０１０６】
重合性化合物を保管するとき、重合を防止するために重合禁止剤を添加してもよい。重合性化合物は、通常は重合禁止剤を除去しないまま組成物に添加される。重合禁止剤の例は、ヒドロキノン、メチルヒドロキノンのようなヒドロキノン誘導体、４−ｔ−ブチルカテコール、４−メトキシフェノール、フェノチアジンなどである。
【０１０７】
光学活性化合物は、液晶分子にらせん構造を誘起して必要なねじれ角を与えることによって逆ねじれを防ぐ、という効果を有する。光学活性化合物を添加することによって、らせんピッチを調整することができる。らせんピッチの温度依存性を調整する目的で２つ以上の光学活性化合物を添加してもよい。光学活性化合物の好ましい例として、下記の化合物（Ｏｐ−１）から（Ｏｐ−１８）を挙げることができる。化合物（Ｏｐ−１８）において、環Ｊは１，４−シクロヘキシレンまたは１，４−フェニレンであり、Ｒ２８は炭素数１から１０のアルキルである。
【０１０８】
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【０１０９】
酸化防止剤は、大きな電圧保持率を維持するために有効である。酸化防止剤の好ましい例として、下記の化合物（ＡＯ−１）および（ＡＯ−２）；Ｉｒｇａｎｏｘ４１５、Ｉｒｇａｎｏｘ５６５、Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０、Ｉｒｇａｎｏｘ１０３５、Ｉｒｇａｎｏｘ３１１４、およびＩｒｇａｎｏｘ１０９８（商品名；ＢＡＳＦ社）を挙げることができる。紫外線吸収剤は、上限温度の低下を防ぐために有効である。紫外線吸収剤の好ましい例は、ベンゾフェノン誘導体、ベンゾエート誘導体、トリアゾール誘導体などであり、具体例として下記の化合物（ＡＯ−３）および（ＡＯ−４）；Ｔｉｎｕｖｉｎ３２９、ＴｉｎｕｖｉｎＰ、Ｔｉｎｕｖｉｎ３２６、Ｔｉｎｕｖｉｎ２３４、Ｔｉｎｕｖｉｎ２１３、Ｔｉｎｕｖｉｎ４００、Ｔｉｎｕｖｉｎ３２８、およびＴｉｎｕｖｉｎ９９−２（商品名；ＢＡＳＦ社）；および１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）を挙げることができる。
【０１１０】
立体障害のあるアミンのような光安定剤は、大きな電圧保持率を維持するために好ましい。光安定剤の好ましい例として、下記の化合物（ＡＯ−５）、（ＡＯ−６）、および（ＡＯ−７）；Ｔｉｎｕｖｉｎ１４４、Ｔｉｎｕｖｉｎ７６５、およびＴｉｎｕｖｉｎ７７０ｄｆ（商品名；ＢＡＳＦ社）；ＬＡ−７７ＹおよびＬＡ−７７Ｇ（商品名；ＡＤＥＫＡ社）を挙げることができる。熱安定剤も大きな電圧保持率を維持するために有効であり、好ましい例としてＩｒｇａｆｏｓ１６８（商品名；ＢＡＳＦ社）を挙げることができる。ＧＨ（guest host）モードの素子に適合させるために、アゾ系色素、アントラキノン系色素などのような二色性色素（dichroic dye）が組成物に添加される。消泡剤は、泡立ちを防ぐために有効である。消泡剤の好ましい例は、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイルなどである。
【０１１１】
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【０１１２】
化合物（ＡＯ−１）において、Ｒ４０は炭素数１から２０のアルキル、炭素数１から２０のアルコキシ、−ＣＯＯＲ４１、または−ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＲ４１であり、ここでＲ４１は炭素数１から２０のアルキルである。化合物（ＡＯ−２）および（ＡＯ−５）において、Ｒ４２は炭素数１から２０のアルキルである。化合物（ＡＯ−５）において、Ｒ４３は水素、メチルまたはＯ・（酸素ラジカル）であり；環Ｇ１は１，４−シクロヘキシレンまたは１，４−フェニレンであり；化合物（ＡＯ−７）において、環Ｇ２は１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられた１，４−フェニレンであり；化合物（ＡＯ−５）および（ＡＯ−７）において、ｚは、１、２、または３である。
【０１１３】
４．液晶表示素子
液晶組成物は、ＰＣ、ＴＮ、ＳＴＮ、ＯＣＢ、ＰＳＡなどの動作モードを有し、アクティブマトリックス方式で駆動する液晶表示素子に使用できる。この組成物は、ＰＣ、ＴＮ、ＳＴＮ、ＯＣＢ、ＶＡ、ＩＰＳなどの動作モードを有し、パッシブマトリクス方式で駆動する液晶表示素子にも使用することができる。これらの素子は、反射型、透過型、半透過型のいずれのタイプにも適用ができる。
【０１１４】
この組成物は、ＮＣＡＰ（nematic curvilinear aligned phase）素子にも適しており、ここでは組成物がマイクロカプセル化されている。この組成物は、ポリマー分散型液晶表示素子（ＰＤＬＣＤ）や、ポリマーネットワーク液晶表示素子（ＰＮＬＣＤ）にも使用できる。これらの組成物においては、重合性化合物が多量に添加される。一方、重合性化合物の割合が液晶組成物の重量に基づいて１０重量％以下であるとき、ＰＳＡモードの液晶表示素子が作製される。好ましい割合は０．１重量％から２重量％の範囲である。さらに好ましい割合は、０．２重量％から１．０重量％の範囲である。ＰＳＡモードの素子は、アクティブマトリックス方式、パッシブマトリクス方式のような駆動方式で駆動させることができる。このような素子は、反射型、透過型、半透過型のいずれのタイプにも適用ができる。
【実施例】
【０１１５】
１．化合物（１）の実施例
実施例により本発明をさらに詳しく説明する。実施例は典型的な例であるので、本発明は実施例によって制限されない。化合物（１）は、下記の手順により合成した。合成した化合物は、ＮＭＲ分析などの方法により同定した。化合物や組成物の物性、および素子の特性は、下記の方法により測定した。
【０１１６】
ＮＭＲ分析：測定には、ブルカーバイオスピン社製のＤＲＸ−５００を用いた。１Ｈ−ＮＭＲの測定では、試料をＣＤＣｌ３などの重水素化溶媒に溶解させ、室温、５００ＭＨｚ、積算回数１６回の条件で測定した。テトラメチルシランを内部標準として用いた。１９Ｆ−ＮＭＲの測定では、ＣＦＣｌ３を内部標準として用い、積算回数２４回で行った。核磁気共鳴スペクトルの説明において、ｓはシングレット、ｄはダブレット、ｔはトリプレット、ｑはカルテット、ｑｕｉｎはクインテット、ｓｅｘはセクステット、ｍはマルチプレット、ｂｒはブロードであることを意味する。
【０１１７】
ガスクロマト分析：測定には、島津製作所製のＧＣ−２０１０型ガスクロマトグラフを用いた。カラムは、Agilent Technologies Inc.製のキャピラリカラムＤＢ−１（長さ６０ｍ、内径０．２５ｍｍ、膜厚０．２５μｍ）を用いた。キャリアーガスとしてはヘリウム（１ｍＬ／分）を用いた。試料気化室の温度を３００℃、検出器（ＦＩＤ）の温度を３００℃に設定した。試料はアセトンに溶解して、１重量％の溶液となるように調製し、得られた溶液１μｌを試料気化室に注入した。記録計には島津製作所製のＧＣＳｏｌｕｔｉｏｎシステムなどを用いた。
【０１１８】
ＨＰＬＣ分析：測定には、島津製作所製のＰｒｏｍｉｎｅｎｃｅ（ＬＣ−２０ＡＤ；ＳＰＤ−２０Ａ）を用いた。カラムはワイエムシー製のＹＭＣ−Ｐａｃｋ  ＯＤＳ−Ａ（長さ１５０ｍｍ、内径４．６ｍｍ、粒子径５μｍ）を用いた。溶出液はアセトニトリルと水を適宜混合して用いた。検出器としてはＵＶ検出器、ＲＩ検出器、ＣＯＲＯＮＡ検出器などを適宜用いた。ＵＶ検出器を用いた場合、検出波長は２５４ｎｍとした。試料はアセトニトリルに溶解して、０．１重量％の溶液となるように調製し、この溶液１μＬを試料室に導入した。記録計としては島津製作所製のＣ−Ｒ７Ａｐｌｕｓを用いた。
【０１１９】
紫外可視分光分析：測定には、島津製作所製のＰｈａｒｍａＳｐｅｃ  ＵＶ−１７００用いた。検出波長は１９０ｎｍから７００ｎｍとした。試料はアセトニトリルに溶解して、０．０１ｍｍｏｌ／Ｌの溶液となるように調製し、石英セル（光路長１ｃｍ）に入れて測定した。
【０１２０】
測定試料：相構造および転移温度（透明点、融点、重合開始温度など）を測定するときには、化合物そのものを試料として用いた。ネマチック相の上限温度、粘度、光学異方性、誘電率異方性などの物性を測定するときには、化合物と母液晶との混合物を試料として用いた。
【０１２１】
化合物を母液晶と混合した試料を用いた場合は、次の等式によって外挿値を算出し、この値を記載した。〈外挿値〉＝（１００×〈試料の測定値〉−〈母液晶の重量％〉×〈母液晶の測定値〉）／〈化合物の重量％〉．
【０１２２】
母液晶（Ａ）の成分とその割合（重量％）は、下記のとおりである。
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【０１２３】
化合物と母液晶（Ａ）との割合は、１５重量％：８５重量％にした。この割合で結晶（または、スメクチック相）が２５℃で析出した場合、化合物と母液晶（Ａ）との割合を１０重量％：９０重量％、５重量％：９５重量％、１重量％：９９重量％の順に変更をしていき、結晶（または、スメクチック相）が２５℃で析出しなくなった割合で試料を測定した。なお、特に断りのない限り、化合物と母液晶（Ａ）との割合は、１５重量％：８５重量％であった。
【０１２４】
測定方法：物性の測定は下記の方法で行った。これらの多くは、社団法人電子情報技術産業協会（ＪＥＩＴＡ；Japan Electronics and Information Technology Industries Association）で審議制定されるＪＥＩＴＡ規格（ＪＥＩＴＡ・ＥＤ−２５２１Ｂ）に記載されている。これを修飾した方法も用いた。測定に用いたＴＮ素子には、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を取り付けなかった。
【０１２５】
（１）相構造：偏光顕微鏡を備えた融点測定装置のホットプレート（メトラー社ＦＰ−５２型ホットステージ）に試料を置いた。この試料を、３℃／分の速度で加熱しながら相状態とその変化を偏光顕微鏡で観察し、相の種類を特定した。
【０１２６】
（２）転移温度（℃）：測定には、パーキンエルマー社製の走査熱量計、Ｄｉａｍｏｎｄ  ＤＳＣシステムまたはエスアイアイ・ナノテクノロジー社製の高感度示差走査熱量計、Ｘ−ＤＳＣ７０００を用いた。試料は、３℃／分の速度で昇降温し、試料の相変化に伴う吸熱ピークまたは発熱ピークの開始点を外挿により求め、転移温度を決定した。化合物の融点、重合開始温度もこの装置を使って測定した。化合物が固体からスメクチック相、ネマチック相などの液晶相に転移する温度を「液晶相の下限温度」と略すことがある。化合物が液晶相から液体に転移する温度を「透明点」と略すことがある。
【０１２７】
結晶はＣと表した。結晶を二種類に区別できる場合は、それぞれをＣ１またはＣ２と表した。スメクチック相はＳ、ネマチック相はＮと表した。スメクチックＡ相、スメクチックＢ相、スメクチックＣ相、およびスメクチックＦ相のような相の区別がつく場合は、それぞれＳＡ、ＳＢ、ＳＣ、およびＳＦと表した。液体（アイソトロピック）はＩと表した。転移温度は、例えば、「Ｃ  ５０．０  Ｎ  １００．０  Ｉ」のように表記した。これは、結晶からネマチック相への転移温度が５０．０℃であり、ネマチック相から液体への転移温度が１００．０℃であることを示す。
【０１２８】
（３）化合物の相溶性：化合物の割合が、２０重量％、１５重量％、１０重量％、５重量％、３重量％、または１重量％となるように母液晶と化合物とを混合した試料を調製した。試料をガラス瓶に入れ、−２０℃または−３０℃の冷凍庫で一定期間保管した。試料のネマチック相が維持されたか、または結晶（またはスメクチック相）が析出したかを観察した。ネマチック相が維持される条件を相溶性の尺度として用いた。必要に応じて化合物の割合や冷凍庫の温度を変更することもある。
【０１２９】
（４）ネマチック相の上限温度（ＴＮＩまたはＮＩ；℃）：偏光顕微鏡を備えた融点測定装置のホットプレートに試料を置き、１℃／分の速度で加熱した。試料の一部がネマチック相から等方性液体に変化したときの温度を測定した。試料が化合物（１）と母液晶との混合物であるときは、ＴＮＩの記号で示した。この値は、上記の外挿法を使って算出した。試料が化合物（１）と、化合物（２）から（１５）から選択された化合物との混合物であるときは、測定値をＮＩの記号で示した。ネマチック相の上限温度を「上限温度」と略すことがある。
【０１３０】
（５）ネマチック相の下限温度（ＴＣ；℃）：ネマチック相を有する試料をガラス瓶に入れ、０℃、−１０℃、−２０℃、−３０℃、および−４０℃のフリーザー中に１０日間保管したあと、液晶相を観察した。例えば、試料が−２０℃ではネマチック相のままであり、−３０℃では結晶またはスメクチック相に変化したとき、ＴＣを＜−２０℃と記載した。ネマチック相の下限温度を「下限温度」と略すことがある。
【０１３１】
（６）粘度（バルク粘度；η；２０℃で測定；ｍＰａ・ｓ）：測定には東京計器株式会社製のＥ型回転粘度計を用いた。
【０１３２】
（７）光学異方性（屈折率異方性；２５℃で測定；Δｎ）：測定は、波長５８９ｎｍの光を用い、接眼鏡に偏光板を取り付けたアッベ屈折計により行なった。主プリズムの表面を一方向にラビングしたあと、試料を主プリズムに滴下した。屈折率（ｎ‖）は偏光の方向がラビングの方向と平行であるときに測定した。屈折率（ｎ⊥）は偏光の方向がラビングの方向と垂直であるときに測定した。光学異方性（Δｎ）の値は、Δｎ＝ｎ‖−ｎ⊥、の等式から計算した。
【０１３３】
（８）比抵抗（ρ；２５℃で測定；Ωｃｍ）：電極を備えた容器に試料１．０ｍＬを注入した。この容器に直流電圧（１０Ｖ）を印加し、１０秒後の直流電流を測定した。比抵抗は次の等式から算出した。（比抵抗）＝｛（電圧）×（容器の電気容量）｝／｛（直流電流）×（真空の誘電率）｝。
【０１３４】
（９）電圧保持率（ＶＨＲ−１；２５℃で測定；％）：測定に用いたＴＮ素子はポリイミド配向膜を有し、そして２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）は５μｍであった。この素子は試料を入れたあと紫外線で硬化する接着剤で密閉した。この素子にパルス電圧（５Ｖで６０マイクロ秒）を印加して充電した。減衰する電圧を高速電圧計で１６．７ミリ秒のあいだ測定し、単位周期における電圧曲線と横軸との間の面積Ａを求めた。面積Ｂは減衰しなかったときの面積であった。電圧保持率は面積Ｂに対する面積Ａの百分率で表した。
【０１３５】
（１０）電圧保持率（ＶＨＲ−２；８０℃で測定；％）：２５℃の代わりに、８０℃で測定した以外は、上記の方法で電圧保持率を測定した。得られた結果をＶＨＲ−２の記号で示した。
【０１３６】
（１１）フリッカ率（２５℃で測定；％）：測定には横河電機（株）製のマルチメディアディスプレイテスタ３２９８Ｆを用いた。光源はＬＥＤであった。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が３．５μｍであり、ラビング方向がアンチパラレルであるノーマリーブラックモード（normally black mode）のＦＦＳ素子に試料を入れた。この素子を紫外線で硬化する接着剤を用いて密閉した。この素子に電圧を印加し、素子を透過した光量が最大になる電圧を測定した。この電圧を素子に印加しながらセンサ部を素子に近づけ、表示されたフリッカ率を読み取った。
【０１３７】
誘電率異方性が正の試料と負の試料とでは、特性の測定法が異なることがある。誘電率異方性が負の場合の測定法を測定（１２）から（１６）に記載した。
【０１３８】
（１２）粘度（回転粘度；γ１；２５℃で測定；ｍＰａ・ｓ）：測定は、M. Imai et al., Molecular Crystals and Liquid Crystals, Vol. 259, 37 (1995) に記載された方法に従った。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が２０μｍのＶＡ素子に試料を入れた。この素子に３９ボルトから５０ボルトまで１ボルト毎に段階的に印加した。０．２秒の無印加のあと、ただ１つの矩形波（矩形パルス；０．２秒）と無印加（２秒）の条件で印加を繰り返した。この印加によって発生した過渡電流（transient current）のピーク電流（peak current）とピーク時間（peak time）を測定した。これらの測定値とＭ．Ｉｍａｉらの論文、４０頁の等式（８）とから回転粘度の値を得た。この計算に必要な誘電率異方性は、下記の誘電率異方性の項で測定した値を用いた。
【０１３９】
（１３）誘電率異方性（Δε；２５℃で測定）：誘電率異方性の値は、Δε＝ε‖−ε⊥、の等式から計算した。誘電率（ε‖およびε⊥）は次のように測定した。
１）誘電率（ε‖）の測定：よく洗浄したガラス基板にオクタデシルトリエトキシシラン（０．１６ｍＬ）のエタノール（２０ｍＬ）溶液を塗布した。ガラス基板をスピンナーで回転させたあと、１５０℃で１時間加熱した。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が４μｍであるＶＡ素子に試料を入れ、この素子を紫外線で硬化する接着剤で密閉した。この素子にサイン波（０．５Ｖ、１ｋＨｚ）を印加し、２秒後に液晶分子の長軸方向における誘電率（ε‖）を測定した。
２）誘電率（ε⊥）の測定：よく洗浄したガラス基板にポリイミド溶液を塗布した。このガラス基板を焼成した後、得られた配向膜にラビング処理をした。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が９μｍであり、ツイスト角が８０度であるＴＮ素子に試料を入れた。この素子にサイン波（０．５Ｖ、１ｋＨｚ）を印加し、２秒後に液晶分子の短軸方向における誘電率（ε⊥）を測定した。
【０１４０】
（１４）弾性定数（スプレイ弾性定数Ｋ１１およびベンド弾性定数Ｋ３３；２５℃で測定；ｐＮ）：測定には株式会社東陽テクニカ製のＥＣ−１型弾性定数測定器を用いた。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が２０μｍである垂直配向素子に試料を入れた。この素子に２０ボルトから０ボルトの電荷を印加し、静電容量（Ｃ）および印加電圧（Ｖ）を測定した。これらの値を、「液晶デバイスハンドブック」（日刊工業新聞社）、７５頁にある等式（２．９８）、等式（２．１０１）を用いてフィッティングし、等式（２．１００）から弾性定数の値を得た。
【０１４１】
（１５）しきい値電圧（Ｖｔｈ；２５℃で測定；Ｖ）：測定には大塚電子株式会社製のＬＣＤ５１００型輝度計を用いた。光源はハロゲンランプであった。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が４μｍであり、ラビング方向がアンチパラレルであるノーマリーブラックモード（normally black mode）のＶＡ素子に試料を入れ、この素子を紫外線で硬化する接着剤を用いて密閉した。この素子に印加する電圧（６０Ｈｚ、矩形波）は０Ｖから２０Ｖまで０．０２Ｖずつ段階的に増加させた。この際に、素子に垂直方向から光を照射し、素子を透過した光量を測定した。この光量が最大になったときが透過率１００％であり、この光量が最小であったときが透過率０％である電圧−透過率曲線を作成した。しきい値電圧は透過率が１０％になったときの電圧で表した。
【０１４２】
（１６）応答時間（τ；２５℃で測定；ｍｓ）：測定には大塚電子株式会社製のＬＣＤ５１００型輝度計を用いた。光源はハロゲンランプであった。ローパス・フィルター（Low-pass filter）は５ｋＨｚに設定した。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が３．２μｍであり、ラビング方向がアンチパラレルであるノーマリーブラックモード（normally black mode）のＰＶＡ素子に試料を入れた。この素子を紫外線で硬化する接着剤を用いて密閉した。この素子にしきい値電圧を若干超える程度の電圧を１分間印加し、次に５．６Ｖの電圧を印加しながら２３．５ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を８分間照射した。この素子に矩形波（６０Ｈｚ、１０Ｖ、０．５秒）を印加した。この際に、素子に垂直方向から光を照射し、素子を透過した光量を測定した。この光量が最大になったときが透過率１００％であり、この光量が最小であったときが透過率０％であるとみなした。応答時間は透過率９０％から１０％に変化するのに要した時間（立ち下がり時間；fall time；ミリ秒）で表した。
【０１４３】
原料：ソルミックス（登録商標）Ａ−１１は、エタノール（８５．５％）、メタノール（１３．４％）とイソプロパノール（１．１％）の混合物であり、日本アルコール販売（株）から入手した。テトラヒドロフランをＴＨＦと略すことがある。
【０１４４】
［合成例１］化合物（１−３−５０）の合成
0006699126.tif 000033
【０１４５】
第１工程：
公知の方法で合成した化合物（Ｔ−１）（４．５１ｇ、１７．８ｍｍｏｌ）、化合物（Ｔ−２）（３．５９ｇ、１７．８ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（４．９１ｇ、３５．６ｍｍｏｌ）、テトラブチルアンモニウムブロミド（１．１５ｇ、３．５６ｍｍｏｌ）、パラジウム炭素（０．１５７ｇ）、トルエン（２０ｍｌ）、ソルミックス（２０ｍｌ）、および水（２０ｍｌ）の混合物を６時間還流した。反応混合物を室温まで冷やし、パラジウム残渣を濾別した。通常の後処理を行い、シリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、化合物（Ｔ−３）（５．６５ｇ、１７．１ｍｍｏｌ；９６％）を得た。
【０１４６】
第２工程：
化合物（Ｔ−３）（５．６５ｇ、１７．１ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（４５ｍｌ）溶液を、−７０℃に冷却し、ｉ−ＰｒＭｇＣｌ・ＬｉＣｌのＴＨＦ溶液（１．３Ｍ；１４．４４ｍｌ、１８．８ｍｍｏｌ）を滴下した。−７０℃で３時間撹拌した後、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１．７２ｍｌ、２２．２ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１０ｍｌ）溶液を滴下した。−７０℃で１時間撹拌した後、反応混合物を室温に戻し、チオ硫酸ナトリウム水溶液へ注いだ。通常の後処理を行い、シリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、化合物（Ｔ−４）（４．７８ｇ、１７．１ｍｍｏｌ；定量的）を得た。
【０１４７】
第３工程：
塩化リチウム（０．７６０ｇ、１７．９ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（４５ｍｌ）溶液にブロモマグネシウムブロミドのＴＨＦ溶液（１．３１Ｍ；１３．６８ｍｌ、１７．９ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で１時間撹拌した。反応混合物を０℃に冷却し、化合物（Ｔ−４）（４．７８ｇ、１７．１ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１５ｍｌ）溶液を滴下した。反応混合物を室温に戻し、７時間撹拌した後、１Ｍ塩酸へ注いだ。通常の後処理を行い、シリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、化合物（Ｔ−５）（５．２６ｇ、１７．１ｍｍｏｌ；定量的）を得た。
【０１４８】
第４工程：
２−ヨードキシ安息香酸（６３％；９．４９ｇ、２１．３ｍｍｏｌ）のＤＭＳＯ（４０ｍｌ）溶液に、化合物（Ｔ−５）（５．２６ｇ、１７．１ｍｍｏｌ）のＤＭＳＯ（１５ｍｌ）溶液を滴下し、室温で４時間撹拌した。反応混合物に水とトルエンを加え、残渣を濾過により除去し、濾液に亜硫酸ナトリウム水溶液を加えた。通常の後処理を行い、シリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、化合物（Ｔ−６）（５．２３ｇ、１７．１ｍｍｏｌ；定量的）を得た。
【０１４９】
第５工程：
バレルアルデヒド（１．８２ｍｌ、１７．１ｍｍｏｌ）のトルエン（４０ｍｌ）溶液にジプロピルアミン（２．８１ｍｌ、２０．５ｍｍｏｌ）のトルエン（１０ｍｌ）溶液を滴下し、１４時間還流した。反応混合物を室温まで冷やし、通常の後処理を行った。粗生成物をメタノール（２５ｍｌ）およびトルエン（１０ｍｌ）に溶解し、化合物（Ｔ−６）（５．２３ｇ、１７．１ｍｍｏｌ）のトルエン（１５ｍｌ）溶液を加え、５０℃に加熱し、８時間撹拌した。反応混合物を室温まで冷やし、１Ｎ−ＨＣｌを加えた。通常の後処理を行い、シリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、化合物（Ｔ−７）（５．６９ｇ、１４．５ｍｍｏｌ；８５％）を得た。
【０１５０】
第６工程：
化合物（Ｔ−７）（５．６９ｇ、１４．５ｍｍｏｌ）、トルエン（２０ｍｌ）、ギ酸（１５ｍｌ）と酢酸（１５ｍｌ）の混合物に、塩化亜鉛（１．９８ｇ、１４．５ｍｍｏｌ）、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン（１２．２１ｍｌ、７９．８ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で８時間撹拌した。反応混合物を水へ注ぎ、通常の後処理を行い、シリカゲルクロマトグラフィーおよび再結晶により精製し、化合物（１−３−５０）（２．８５ｇ、７．５４ｍｍｏｌ；５２％）を得た。
【０１５１】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：７．５４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．４Ｈｚ），７．０７（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，７．６Ｈｚ，８．４Ｈｚ），６．７９（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，８．１Ｈｚ，８．１Ｈｚ），４．６１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．６，１１．２Ｈｚ），４．１６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），４．１２−４．０９（１Ｈ，ｍ），３．２３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１１．２Ｈｚ），２．０１−１．９２（２Ｈ，ｍ），１．７５−１．６６（１Ｈ，ｍ），１．６３−１．５５（１Ｈ，ｍ），１．４８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），１．４４−１．２７（３Ｈ，ｍ），１．２２−１．０９（２Ｈ，ｍ），０．９２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）．
【０１５２】
相転移温度：Ｃ  ９９．４  Ｎ  １２５．１  Ｉ．上限温度（ＴＮＩ）＝１１３．０℃；誘電率異方性（Δε）＝−６．３；光学異方性（Δｎ）＝０．１７４．弾性定数比（Ｋ３３／Ｋ１１）＝１．３９．
【０１５３】
［合成例２］  化合物（１−５−５０）の合成
0006699126.tif 000034
【０１５４】
第１工程：
公知の方法で合成した化合物（Ｔ−８）（４．８９ｇ、２２．３ｍｍｏｌ）、化合物（Ｔ−９）（４．８１ｇ、２０．３ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（５．６１ｇ、４０．６ｍｍｏｌ）、テトラブチルアンモニウムブロミド（１．３１ｇ、４．０６ｍｍｏｌ）、パラジウム炭素（０．１７９ｇ）、トルエン（２０ｍｌ）、ソルミックス（２０ｍｌ）と水（２０ｍｌ）の混合物を５時間還流した。反応混合物を室温まで冷やし、パラジウム残渣を濾別した。通常の後処理を行い、シリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、化合物（Ｔ−１０）（６．７２ｇ、２０．３ｍｍｏｌ；９９％）を得た。
【０１５５】
第２工程：
化合物（Ｔ−１０）（６．７２ｇ、２０．３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５０ｍｌ）溶液を、−７０℃に冷却し、ｉ−ＰｒＭｇＣｌ・ＬｉＣｌのＴＨＦ溶液（１．３Ｍ；１７．１７ｍｌ、２２．３ｍｍｏｌ）を滴下した。−７０℃で２．５時間撹拌した後、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２．０４ｍｌ、２６．４ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１０ｍｌ）溶液を滴下した。−７０℃で１時間撹拌した後、反応混合物を室温に戻し、チオ硫酸ナトリウム水溶液へ注いだ。通常の後処理を行い、シリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、化合物（Ｔ−１１）（４．５５ｇ、１６．２ｍｍｏｌ；８０．％）を得た。
【０１５６】
第３工程：
塩化リチウム（０．７２２ｇ、１７．０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（４５ｍｌ）溶液にブロモマグネシウムブロミドのＴＨＦ溶液（１３．３ｍｌ、１７．０ｍｍｏｌ、１．３１Ｍ）を滴下し、室温で１時間撹拌した。反応混合物を０℃に冷却し、化合物（Ｔ−１１）（４．５５ｇ、１６．２ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１５ｍｌ）溶液を滴下した。反応混合物を室温に戻し８時間撹拌し、１Ｍ塩酸へ注いだ。通常の後処理を行い、シリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、化合物（Ｔ−１２）（５．００ｇ、１６．２ｍｍｏｌ；定量的）を得た。
【０１５７】
第４工程：
２−ヨードキシ安息香酸（６３％；９．０２ｇ、２０．３ｍｍｏｌ）のＤＭＳＯ（４０ｍｌ）溶液に、化合物（Ｔ−１２）（５．００ｇ、１６．２ｍｍｏｌ；定量的）のＤＭＳＯ（１５ｍｌ）溶液を滴下し、室温で３時間撹拌した。反応混合物に水とトルエンを加え、残渣を濾過により除去し、濾液に亜硫酸ナトリウム水溶液を加えた。通常の後処理を行い、シリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、化合物（Ｔ−１３）（４．９７ｇ、１６．２ｍｍｏｌ；定量的）を得た。
【０１５８】
バレルアルデヒド（１．７５ｍｌ、１６．２ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（４０ｍｌ）溶液にジブチルアミン（３．３１ｍｌ、１９．５ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（１０ｍｌ）溶液を滴下し、１０時間還流した。反応混合物を室温まで冷やし、通常の後処理を行った。粗生成物をＤＭＦ（５０ｍｌ）に溶解し、化合物（Ｔ−１３）（４．９７ｇ、１６．２ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（１５ｍｌ）溶液を加え、５０℃に加熱し、１０時間撹拌した。反応混合物を室温まで冷やし、酢酸を加えた。通常の後処理を行い、シリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、化合物（Ｔ−１４）（５．３５ｇ、１３．６ｍｍｏｌ；８４％）を得た。
【０１５９】
第６工程：
化合物（Ｔ−１４）（５．３５ｇ、１３．６ｍｍｏｌ）、トルエン（２０ｍｌ）、ギ酸（１５ｍｌ）および酢酸（１５ｍｌ）の混合物に、塩化亜鉛（１．８６ｇ、１３．６ｍｍｏｌ）および１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン（１１．５ｍｌ、７５．０ｍｍｏｌ）を加え、室温で１０時間撹拌した。反応混合物を水へ注ぎ、通常の後処理を行い、シリカゲルクロマトグラフィーおよび再結晶により精製し、化合物（１−５−５０）（２．８４ｇ、７．５０ｍｍｏｌ；５５％）を得た。
【０１６０】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：７．０３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．１８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．４Ｈｚ），７．０２（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．１Ｈｚ，８．１Ｈｚ），６．７９（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，８．０Ｈｚ，８．１Ｈｚ），４．３０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１，１１．４Ｈｚ），４．１６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），４．１２−４．０８（１Ｈ，ｍ），３．２２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１１．２Ｈｚ），２．０３−１．９９（１Ｈ，ｍ），１．９４−１．８９（１Ｈ，ｍ），１．７３−１．６５（１Ｈ，ｍ），１．６４−１．５６（１Ｈ，ｍ），１．４８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），１．４１−１．２４（３Ｈ，ｍ），１．２２−１．０９（２Ｈ，ｍ），０．９２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）．
【０１６１】
相転移温度：Ｃ  ９６．４  Ｎ  １１２．２  Ｉ．上限温度（ＴＮＩ）＝１０８．３℃；誘電率異方性（Δε）＝−６．５；光学異方性（Δｎ）＝０．１６７．弾性定数比（Ｋ３３／Ｋ１１）＝１．４６．
【０１６２】
［合成例３］  化合物（１−４−５０）の合成
0006699126.tif 000035
【０１６３】
第１工程：
（メトキシメチル）トリフェニルホスホニウムクロリド（１０．３ｇ、３０．０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１２０ｍｌ）溶液を−３０℃に冷却し、カリウムｔ−ブトキシド（３．３６ｇ、３０．０ｍｍｏｌ）を滴下し、１時間撹拌した。そこへ化合物（Ｔ−４）（７．００ｇ、２５．０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２０ｍｌ）溶液を滴下し、撹拌しながら室温に戻した。反応混合物を水へ注ぎ、通常の後処理を行い、シリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、化合物（Ｔ−１５）（７．６３ｇ、２５．０ｍｍｏｌ；定量的）を得た。
【０１６４】
第２工程：
化合物（Ｔ−１５）（７．６３ｇ、２５．０ｍｍｏｌ）のアセトン（７０ｍｌ）溶液に４Ｎ−ＨＣｌ（４．６ｍｌ）を滴下し、室温で１時間撹拌した。反応混合物を水へ注ぎ、通常の後処理を行い、シリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、化合物（Ｔ−１６）（７．２２ｇ、２４．５ｍｍｏｌ；９８％）を得た。
【０１６５】
第３工程：
化合物（Ｔ−１６）（７．２２ｇ、２４．５ｍｍｏｌ）のトルエン（３０ｍｌ）溶液にジプロピルアミン（４．０３ｍｌ、２９．４ｍｍｏｌ）のトルエン（１０ｍｌ）溶液を滴下し、１４時間還流した。通常の後処理を行い、シリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、化合物（Ｔ−１７）（１０．６ｇ、２８．１ｍｍｏｌ；９８％）を得た。
【０１６６】
第４工程：
化合物（Ｔ−１７）（１０．６ｇ、２８．１ｍｍｏｌ）のトルエン（２０ｍｌ）およびメタノール（３０ｍｌ）溶液に、１−ヘキセン−３−オン（２．８７ｍｌ、２４．５ｍｍｏｌ）のトルエン（１０ｍｌ）溶液を滴下した。反応混合物を５０℃に加熱し、１０時間撹拌した。反応混合物を室温まで冷やし、１Ｎ−ＨＣｌを加えた。通常の後処理を行い、シリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、化合物（Ｔ−１８）（７．８２ｇ、１９．９ｍｍｏｌ；７１％）を得た。
【０１６７】
第５工程：
化合物（Ｔ−１８）（７．８２ｇ、１９．９ｍｍｏｌ）、トルエン（４０ｍｌ）、ギ酸（３０ｍｌ）と酢酸（３０ｍｌ）の混合物に、塩化亜鉛（３．３４ｇ、２４．５ｍｍｏｌ）および１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン（２１．６８ｍｌ、１２３ｍｍｏｌ）を加え撹拌し、さらにメタンスルホン酸（１．５９ｍｌ、２４．５ｍｍｏｌ）を加え、室温で１４時間撹拌した。反応混合物を水へ注ぎ、通常の後処理を行い、シリカゲルクロマトグラフィーおよび再結晶により精製し、化合物（１−４−５０）（５．１１ｇ、１３．５ｍｍｏｌ；６８％）を得た。
【０１６８】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：７．２５−７．２４（２Ｈ，ｍ），７．１９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．５Ｈｚ），７．０７（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，８．６Ｈｚ，８．７Ｈｚ），６．７９（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，８．２Ｈｚ，８．２Ｈｚ），４．１６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），４．０８−４．０４（１Ｈ，ｍ），３．４８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１１．１Ｈｚ），３．３９−３．３５（１Ｈ，ｍ），３．２１−３．１５（１Ｈ，ｍ），２．０５−２．００（１Ｈ，ｍ），１．８８−１．７７（２Ｈ，ｍ），１．６２−１．３５（５Ｈ，ｍ），１．４８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），０．９５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）．
【０１６９】
相転移温度：Ｃ  ７３．７  Ｎ  １０８．３  Ｉ．上限温度（ＴＮＩ）＝１０１．６℃；誘電率異方性（Δε）＝−６．４；光学異方性（Δｎ）＝０．１７４．弾性定数比（Ｋ３３／Ｋ１１）＝１．２２．
【０１７０】
［合成例４］  化合物（１−６−５０）の合成
0006699126.tif 000036
【０１７１】
第１工程：
（メトキシメチル）トリフェニルホスホニウムクロリド（１１．７ｇ、３４．３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１３０ｍｌ）溶液を−３０℃に冷却し、カリウムｔ−ブトキシド（４．１９ｇ、３４．３ｍｍｏｌ）を加え、１時間撹拌した。そこへ化合物（Ｔ−１１）（８．００ｇ、２８．６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（３０ｍｌ）溶液を滴下し、撹拌しながら室温に戻した。反応混合物を水へ注ぎ、通常の後処理を行い、シリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、化合物（Ｔ−１９）（８．８０ｇ、２８．６ｍｍｏｌ；定量的）を得た。
【０１７２】
第２工程：
化合物（Ｔ−１９）（８．８０ｇ、２８．６ｍｍｏｌ）のアセトン（７５ｍｌ）溶液に４Ｎ−ＨＣｌ（４．９ｍｌ）を滴下し、室温で１時間撹拌した。反応混合物を水へ注ぎ、通常の後処理を行い、シリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、化合物（Ｔ−２０）（８．４０ｇ、２８．６ｍｍｏｌ；定量的）を得た。
【０１７３】
第３工程：
化合物（Ｔ−２０）（８．４０ｇ、２８．６ｍｍｏｌ）のトルエン（４０ｍｌ）溶液にジプロピルアミン（４．７０ｍｌ、３４．３ｍｍｏｌ）のトルエン（１５ｍｌ）溶液を滴下し、１４時間還流した。通常の後処理を行い、シリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、化合物（Ｔ−２１）（１０．３ｇ、２７．２ｍｍｏｌ；９５％）を得た。
【０１７４】
第４工程：
化合物（Ｔ−２１）（１０．３ｇ、２７．２ｍｍｏｌ）のトルエン（１０ｍｌ）およびメタノール（３０ｍｌ）溶液に、１−ヘキセン−３−オン（２．８７ｍｌ、２４．５ｍｍｏｌ）のトルエン（２０ｍｌ）溶液を加え、５０℃に加熱し、１０時間撹拌した。反応混合物を室温まで冷やし、１Ｎ−ＨＣｌを加えた。通常の後処理を行い、シリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、化合物（Ｔ−２２）（７．３９ｇ、１８．８ｍｍｏｌ；６９％）を得た。
【０１７５】
第５工程：
化合物（Ｔ−２２）（７．３９ｇ、１８．８ｍｍｏｌ）、トルエン（４０ｍｌ）、ギ酸（３０ｍｌ）および酢酸（３０ｍｌ）の混合物に、塩化亜鉛（３．８９ｇ、２８．６ｍｍｏｌ）および１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン（２５．２ｍｌ、１４３ｍｍｏｌ）を加え撹拌し、さらにメタンスルホン酸（１．８５ｍｌ、２８．６ｍｍｏｌ）を加え、室温で１４時間撹拌した。反応混合物を水へ注ぎ、通常の後処理を行い、シリカゲルクロマトグラフィーおよび再結晶により精製し、化合物（１−６−５０）（５．０８ｇ、１３．４ｍｍｏｌ；７１％）を得た。
【０１７６】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：７．２８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．０６−６．９９（３Ｈ，ｍ），６．７９（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，８．１Ｈｚ，８．１Ｈｚ），４．１６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），４．０７−４．０４（１Ｈ，ｍ），３．４２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１１．２Ｈｚ），３．３７−３．３３（１Ｈ，ｍ），２．８９−２．８３（１Ｈ，ｍ），２．１１−２．０４（１Ｈ，ｍ），１．８２−１．７１（２Ｈ，ｍ），１．５９−１．３７（５Ｈ，ｍ），１．４８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），０．９５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）．
【０１７７】
相転移温度：Ｃ  ７８．３  Ｎ  ８４．１  Ｉ．上限温度（ＴＮＩ）＝８４．３℃；誘電率異方性（Δε）＝−７．２；光学異方性（Δｎ）＝０．１６０．弾性定数比（Ｋ３３／Ｋ１１）＝１．４６．
【０１７８】
［比較例１］
比較するために、下記の化合物（Ａ）および（Ｂ）を選んだ。化合物（Ａ）および（Ｂ）は、Mol. Cryst. Liq. Cryst., 2011, 542, Ｐ538．の記載に従って合成した。
0006699126.tif 000037
【０１７９】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：７．４７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．４２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．０８（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，７．６Ｈｚ，８．４Ｈｚ），６．７８（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，７．５Ｈｚ，８．４Ｈｚ），４．３１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．８，１１．５Ｈｚ），４．１５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），４．１０（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，４．２Ｈｚ，１１．２Ｈｚ），３．２３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．１Ｈｚ，１１．２Ｈｚ），２．０１−１．９６（１Ｈ，ｍ），１．９３−１．８６（１Ｈ，ｍ），１．７６−１．５９（２Ｈ，ｍ），１．４８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），１．４３−１．２３（３Ｈ，ｍ），１．２２−１．０７（２Ｈ，ｍ），０．９２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）
【０１８０】
化合物（Ａ）の物性は、次のとおりであった。
相転移温度：Ｃ  ７２．０  Ｎ  １３７．８  Ｉ．上限温度（ＴＮＩ）＝１２４．６℃；誘電率異方性（Δε）＝−６．２；光学異方性（Δｎ）＝０．１８０．弾性定数比（Ｋ３３／Ｋ１１）＝１．１３．
【０１８１】
0006699126.tif 000038
【０１８２】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δｐｐｍ）：７．４５（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，８．２Ｈｚ），７．２７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．０８（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，７．６Ｈｚ，８．４Ｈｚ），６．７９（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，７．７Ｈｚ，８．４Ｈｚ），４．１６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），４．０５（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，４．２Ｈｚ，１１．２Ｈｚ），３．４４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．２Ｈｚ，１１．２Ｈｚ），３．３６（１Ｈ，ｍ），３．３６（１Ｈ，ｍ），２．１１−２．０４（１Ｈ，ｍ），１．８４−１．７４（２Ｈ，ｍ），１．６１−１．３６（８Ｈ，ｍ），０．９５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）
【０１８３】
化合物（Ｂ）の物性は、次のとおりであった。
相転移温度：Ｃ  ８２．９  Ｎ  １６０．２  Ｉ．上限温度（ＴＮＩ）＝１４５．３℃；誘電率異方性（Δε）＝−５．９；光学異方性（Δｎ）＝０．１８０．弾性定数比（Ｋ３３／Ｋ１１）＝１．２０．
【０１８４】
合成例１から４と比較例１および２で合成した化合物の物性を表２にまとめた。合成例１から４の化合物は、比較化合物（Ａ）および（Ｂ）よりも負に大きな誘電率異方性（Δε）を有していることがわかった。弾性定数比（Ｋ３３／Ｋ１１）が大きいことも分かった。これらの結果から、化合物（１）は、類似の化合物と比較して、負に大きな誘電率異方性および大きな弾性定数比を同時に満たす化合物であると結論できる。負に大きな誘電率異方性を有する化合物は、素子のしきい値電圧を下げる。大きな弾性定数比を有する化合物は、素子の電圧−透過率曲線を急峻にし、コントラスト比を上げる。したがって、化合物（１）は、比較化合物よりも優れている。
【０１８５】
0006699126.tif 000039
【０１８６】
合成例に記載された方法や、「２．化合物（１）の合成」の項を参考にしながら、以下に示す化合物を合成することが可能である。評価結果を
【０１８７】
0006699126.tif 000040
【０１８８】
0006699126.tif 000041
【０１８９】
0006699126.tif 000042
【０１９０】
0006699126.tif 000043
【０１９１】
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【０１９２】
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【０１９３】
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【０１９４】
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【０１９５】
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【０１９６】
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【０１９７】
0006699126.tif 000050
【０１９８】
0006699126.tif 000051
【０１９９】
0006699126.tif 000052
【０２００】
0006699126.tif 000053
【０２０１】
0006699126.tif 000054
【０２０２】
0006699126.tif 000055
【０２０３】
0006699126.tif 000056
【０２０４】
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【０２０５】
0006699126.tif 000058
【０２０６】
0006699126.tif 000059
【０２０７】
0006699126.tif 000060
【０２０８】
0006699126.tif 000061
【０２０９】
0006699126.tif 000062
【０２１０】
0006699126.tif 000063
【０２１１】
0006699126.tif 000064
【０２１２】
0006699126.tif 000065
【０２１３】
0006699126.tif 000066
【０２１４】
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【０２１５】
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【０２１６】
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【０２１７】
0006699126.tif 000070
【０２１８】
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【０２１９】
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【０２２０】
0006699126.tif 000073
【０２２１】
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【０２２２】
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【０２２３】
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【０２２４】
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【０２２５】
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【０２２６】
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【０２２７】
２．組成物の実施例
実施例により本発明をさらに詳しく説明する。実施例は典型的な例であるので、本発明は実施例によって制限されない。例えば、本発明は、使用例の組成物に加えて、使用例１の組成物と使用例２の組成物との混合物を含む。本発明は、使用例の組成物の少なくとも２つを混合することによって調製した混合物をも含む。使用例における化合物は、下記の表２の定義に基づいて記号により表した。表２において、１，４−シクロヘキシレンに関する立体配置はトランスである。使用例において記号の後にあるかっこ内の番号は、化合物が属する化学式を表す。（−）の記号は、化合物（１）から（１５）とは異なる液晶性化合物を意味する。液晶性化合物の割合（百分率）は、添加物を含まない液晶組成物の重量に基づいた重量百分率（重量％）である。最後に、組成物の物性値をまとめた。物性は、先に記載した方法にしたがって測定し、測定値を（外挿することなく）そのまま記載した。
【０２２８】
0006699126.tif 000080
【０２２９】
［使用例１］
３−ＤｈＢ（Ｆ）Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２          （１−６−５０）      ５％
２−ＨＢ−Ｃ                                    （１５−１）          ５％
３−ＨＢ−Ｃ                                    （１５−１）        １２％
３−ＨＢ−Ｏ２                                  （２−５）          １５％
２−ＢＴＢ−１                                  （２−１０）          ３％
３−ＨＨＢ−Ｆ                                  （１３−１）          ４％
３−ＨＨＢ−１                                  （３−１）            ８％
３−ＨＨＢ−Ｏ１                                （３−１）            ５％
３−ＨＨＢ−３                                  （３−１）          １４％
３−ＨＨＥＢ−Ｆ                                （１３−１０）        ４％
５−ＨＨＥＢ−Ｆ                                （１３−１０）        ４％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                            （１３−２）          ５％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                            （１３−２）          ５％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                            （１３−２）          ６％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （１３−３）          ５％
ＮＩ＝９９．９℃；η＝２１．２ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．１０４；Δε＝４．２．
【０２３０】
［使用例２］
３−ＤｈＢ（２Ｆ）Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２        （１−４−５０）      ５％
３−ＨＢ−ＣＬ                                  （１２−２）        １３％
３−ＨＨ−４                                    （２−１）          １２％
３−ＨＢ−Ｏ２                                  （２−５）            ８％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （１３−３）          ３％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （１３−２４）      ２７％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （１３−２４）      ２２％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２                          （４−５）            ５％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３                          （４−５）            ５％
ＮＩ＝７２．８℃；η＝２１．１ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．１１９；Δε＝４．８．
【０２３１】
［使用例３］
３−ｄｈＢ（Ｆ）Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２          （１−５−５０）      ５％
７−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                          （１２−４）          ３％
３−ＨＢ−Ｏ２                                  （２−５）            ７％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                            （１３−２）        １０％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                            （１３−２）        １０％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                            （１３−２）        １０％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ                            （１３−２３）        ８％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ                            （１３−２３）        ８％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ                            （１３−２３）      １３％
２−ＨＢＢ−Ｆ                                  （１３−２２）        ４％
３−ＨＢＢ−Ｆ                                  （１３−２２）        ４％
５−ＨＢＢ−Ｆ                                  （１３−２２）        ３％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （１３−２４）        ５％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （１３−２４）      １０％
ＮＩ＝８６．７℃；η＝２７．５ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．１１７；Δε＝５．４．
【０２３２】
［使用例４］
３−ｄｈＢ（２Ｆ）Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２        （１−３−５０）      ５％
５−ＨＢ−ＣＬ                                  （１２−２）        １６％
３−ＨＨ−４                                    （２−１）          １２％
３−ＨＨ−５                                    （２−１）            ４％
３−ＨＨＢ−Ｆ                                  （１３−１）          ４％
３−ＨＨＢ−ＣＬ                                （１３−１）          ３％
４−ＨＨＢ−ＣＬ                                （１３−１）          ４％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                            （１３−２）          ７％
４−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                            （１３−２）          ８％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                            （１３−２）          ８％
７−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                            （１３−２）          ８％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ                            （１３−２３）        ４％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−５                            （４−１）            ３％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                      （１４−６）          ２％
４−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                      （１４−６）          ３％
５−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                      （１４−６）          ３％
３−ＨＨ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                    （１４−１５）        ３％
４−ＨＨ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                    （１４−１５）        ３％
ＮＩ＝１１５．４℃；η＝２１．７ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．０９５；Δε＝３．４．
【０２３３】
［使用例５］
３−ＤｈＢ（Ｆ）Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２          （１−６−５０）      ５％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （１３−３）          ９％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                      （１３−１５）        ８％
４−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                      （１３−１５）        ８％
５−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                      （１３−１５）        ８％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （１３−２４）      １９％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （１３−２４）      １７％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                      （１３−２７）      １０％
５−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                      （１４−６）          ３％
５−ＨＨＥＢＢ−Ｆ                              （１４−１７）        ２％
３−ＨＨ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                    （１４−１５）        ３％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−４                            （４−１）            ４％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−５                            （４−１）            ４％
ＮＩ＝９９．３℃；η＝３７．７ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．１１８；Δε＝８．１．
上記の組成物に化合物（Ｏｐ−０５）を０．２５重量％の割合で添加したときのピッチは６６．５μｍであった。
【０２３４】
［使用例６］
３−ＤｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）Ｂ（２Ｆ）−Ｏ２        （１−８−５０）      ５％
５−ＨＢ−Ｆ                                    （１２−２）        １２％
６−ＨＢ−Ｆ                                    （１２−２）          ９％
７−ＨＢ−Ｆ                                    （１２−２）          ７％
２−ＨＨＢ−ＯＣＦ３                            （１３−１）          ７％
３−ＨＨＢ−ＯＣＦ３                            （１３−１）          ７％
４−ＨＨＢ−ＯＣＦ３                            （１３−１）          ７％
５−ＨＨＢ−ＯＣＦ３                            （１３−１）          ５％
３−ＨＨ２Ｂ−ＯＣＦ３                          （１３−４）          ４％
５−ＨＨ２Ｂ−ＯＣＦ３                          （１３−４）          ４％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−ＯＣＦ２Ｈ                （１３−３）          ４％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−ＯＣＦ３                  （１３−３）          ５％
３−ＨＨ２Ｂ（Ｆ）−Ｆ                          （１３−５）          ３％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ                            （１３−２３）        ７％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ                            （１３−２３）        ８％
５−ＨＢＢＨ−３                                （４−１）            ３％
３−ＨＢ（Ｆ）ＢＨ−３                          （４−２）            ３％
【０２３５】
［使用例７］
３−ｄｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）Ｂ（Ｆ）−Ｏ２          （１−９−５０）      ５％
５−ＨＢ−ＣＬ                                  （１２−２）        １１％
３−ＨＨ−４                                    （２−１）            ８％
３−ＨＨＢ−１                                  （３−１）            ５％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （１３−３）          ８％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （１３−２４）      １７％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （１３−２４）      １３％
３−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                      （１３−１２）      １０％
４−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                      （１３−１２）        ３％
５−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                      （１３−１２）        ３％
２−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                      （１３−３９）        ３％
３−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                      （１３−３９）        ５％
５−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                      （１３−３９）        ３％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                      （１４−６）          ６％
【０２３６】
［使用例８］
３−ｄｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）Ｂ（２Ｆ）−Ｏ２        （１−７−５０）      ５％
３−ＨＢ−ＣＬ                                  （１２−２）          ６％
５−ＨＢ−ＣＬ                                  （１２−２）          ４％
３−ＨＨＢ−ＯＣＦ３                            （１３−１）          ５％
３−Ｈ２ＨＢ−ＯＣＦ３                          （１３−１３）        ５％
５−Ｈ４ＨＢ−ＯＣＦ３                          （１３−１９）      １５％
Ｖ−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                            （１３−２）          ５％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                            （１３−２）          ５％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                            （１３−２）          ５％
３−Ｈ４ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−ＣＦ３                  （１３−２１）        ８％
５−Ｈ４ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−ＣＦ３                  （１３−２１）      １０％
５−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                      （１３−１５）        ５％
５−Ｈ４ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                      （１３−２１）        ７％
２−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ                          （１３−２６）        ５％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ                          （１３−２６）        ５％
３−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                      （１３−３９）        ５％
【０２３７】
［使用例９］
３−ＤｈＢ（Ｆ）Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２          （１−６−５０）      ５％
５−ＨＢ−ＣＬ                                  （１２−２）        １７％
７−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                          （１２−４）          ３％
３−ＨＨ−４                                    （２−１）          １０％
３−ＨＨ−５                                    （２−１）            ５％
３−ＨＢ−Ｏ２                                  （２−５）          １５％
３−ＨＨＢ−１                                  （３−１）            ５％
３−ＨＨＢ−Ｏ１                                （３−１）            ３％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                            （１３−２）          ７％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                            （１３−２）          ７％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                            （１３−２）          ７％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （１３−３）          ６％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                      （１３−１５）        ５％
４−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                      （１３−１５）        ５％
ＮＩ＝６６．７℃；η＝１６．９ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．０７６；Δε＝２．７．
【０２３８】
［使用例１０］
３−ＤｈＢ（２Ｆ）Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２        （１−４−５０）      ５％
５−ＨＢ−ＣＬ                                  （１２−２）          ３％
７−ＨＢ（Ｆ）−Ｆ                              （１２−３）          ７％
３−ＨＨ−４                                    （２−１）            ９％
３−ＨＨ−５                                    （２−１）          １０％
３−ＨＢ−Ｏ２                                  （２−５）          １１％
３−ＨＨＥＢ−Ｆ                                （１３−１０）        ８％
５−ＨＨＥＢ−Ｆ                                （１３−１０）        ５％
３−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                      （１３−１２）      １０％
４−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                      （１３−１２）        ５％
３−ＧＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （１３−１０９）      ５％
４−ＧＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （１３−１０９）      ６％
５−ＧＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （１３−１０９）      ７％
２−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （１３−３）          ４％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （１３−３）          ５％
ＮＩ＝７０．９℃；η＝２２．０ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．０７２；Δε＝５．７．
【０２３９】
［使用例１１］
３−ｄｈＢ（Ｆ）Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２          （１−５−５０）      ５％
１Ｖ２−ＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｃ                    （１５−１５）        ６％
３−ＨＢ−Ｃ                                    （１５−１）        １６％
２−ＢＴＢ−１                                  （２−１０）        １０％
５−ＨＨ−ＶＦＦ                                （２−１）          ３０％
３−ＨＨＢ−１                                  （３−１）            ４％
ＶＦＦ−ＨＨＢ−１                              （３−１）            ５％
ＶＦＦ２−ＨＨＢ−１                            （３−１）          １１％
３−Ｈ２ＢＴＢ−２                              （３−１７）          ５％
３−Ｈ２ＢＴＢ−３                              （３−１７）          ４％
３−Ｈ２ＢＴＢ−４                              （３−１７）          ４％
ＮＩ＝８１．７℃；η＝１４．９ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．１３２；Δε＝６．１．
【０２４０】
［使用例１２］
３−ｄｈＢ（２Ｆ）Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２        （１−３−５０）      ５％
５−ＨＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ    （１４−４１）        ５％
３−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ    （１４−４７）        ３％
４−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ    （１４−４７）        ７％
５−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ    （１４−４７）        ３％
３−ＨＨ−Ｖ                                    （２−１）          ４１％
３−ＨＨ−Ｖ１                                  （２−１）            ７％
３−ＨＨＥＨ−５                                （３−１３）          ３％
３−ＨＨＢ−１                                  （３−１）            ２％
Ｖ−ＨＨＢ−１                                  （３−１）            ２％
Ｖ２−ＢＢ（Ｆ）Ｂ−１                          （３−６）            ５％
１Ｖ２−ＢＢ―Ｆ                                （１２−１）          ３％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ            （１３−９７）      １１％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                      （１４−６）          ３％
ＮＩ＝７９．９℃；η＝１４．６ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．１０８；Δε＝６．２．
【０２４１】
［使用例１３］
３−ＤｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）Ｂ（Ｆ）−Ｏ２          （１−１０−５０）    ５％
３−ＧＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ    （１４−５７）        ５％
３−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ    （１４−４７）        ３％
４−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ    （１４−４７）        ７％
５−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ    （１４−４７）        ３％
３−ＨＨ−Ｖ                                    （２−１）          ４１％
３−ＨＨ−Ｖ１                                  （２−１）            ３％
３−ＨＨＥＨ−５                                （３−１３）          ３％
３−ＨＨＢ−１                                  （３−１）            ４％
Ｖ−ＨＨＢ−１                                  （３−１）            ５％
Ｖ２−ＢＢ（Ｆ）Ｂ−１                          （３−６）            ５％
１Ｖ２−ＢＢ―Ｆ                                （１２−１）          ３％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ            （１３−９７）        ６％
３−ＧＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ            （１３−１１３）      ５％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                      （１４−６）          ２％
【産業上の利用可能性】
【０２４２】
本発明の液晶性化合物は、良好な物性を有する。この化合物を含有する液晶組成物は、パソコン、テレビなどに用いる液晶表示素子に広く利用できる。