(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ビーム（２２）を生成するための少なくとも１つの光源（２０）と、測定セル（１７）用の少なくとも１つのレセプタクル装置（１６）と、少なくとも１つの光検出器（２７）とを含む散乱光測定システムであって、レセプタクル装置（１６）および光検出器（２７）が、光源（２０）によって生成されるビーム（２２）のビーム経路内に配置された、該散乱光測定システムであって、
レセプタクル装置（１６）とビーム（２２）が互いに対して可動であり、それにより、ビーム（２２）が、所定の経路（３６）上で動くとき、レセプタクル装置（１６）内に配置された測定セルを通るビーム伝播に対して横方向に移動し、
ビーム（２２）の非散乱光が当たる集光光学系（２３）が、ビーム経路内でレセプタクル装置（１６）の下流に配置され、集光光学系（２３）が光学表面を提供し、該光学表面が、少なくとも経路（３６）の方向でビーム（２２）の非散乱光よりも大きい寸法を有し、
ビーム経路内で集光光学系の下流に中央ダイアフラム（２４）が配置され、ビーム（２２）の非散乱光が、経路（３６）の特定の経路区域（３７）内で、中央ダイアフラム（２４）に当たり、
ビーム（２２）の非散乱光は、中央ダイアフラム（２４）によって吸収され、
集光光学系によって案内されるビーム（２２）は、集光光学系（２３）を通る横方向移動中に異なるように偏向され、
レセプタクル装置（１６）とビーム（２２）が、経路（３６）上で互いに対して横方向に動かされている間でさえ、測定セルとビームの非散乱光との相対運動に基づいてビーム（２２）の非散乱光が受ける偏向および／または横方向運動は、経路区域（３７）にわたって、集光光学系（２３）の寸法によって補償され、
中央ダイアフラム（２４）の幾何形状は、経路区域（３７）の進路でビーム（２２）が常に中央ダイアフラム（２４）表面の一部分に当たるように適合されている
ことを特徴とする前記散乱光測定システム。
【請求項２】
中央ダイアフラム（２４）は、集光光学系（２３）の結像側の焦点に配置されることを特徴とする請求項１に記載の散乱光測定システム。
【請求項３】
中央ダイアフラム（２４）は、円形のダイアフラム表面（３８）を有することを特徴とする請求項２に記載の散乱光測定システム。
【請求項４】
中央ダイアフラム（２４）は、集光光学系（２３）の結像側の焦点の外に配置され、少なくとも経路（３６）の方向で中央ダイアフラムの平面内のビームよりも大きい寸法を有することを特徴とする請求項１に記載の散乱光測定システム。
【請求項５】
中央ダイアフラム（２４）は、楕円形またはストリップ形状のダイアフラム表面（３５）を有することを特徴とする請求項４に記載の散乱光測定システム。
【請求項６】
複数のレセプタクル装置（１６）は支持体（１５）に配置されることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の散乱光測定システム。
【請求項７】
ビーム経路はモジュール（１１）内に延び、モジュール（１１）は、支持体（１５）上に位置するレセプタクル装置（１６）に対して可動であることを特徴とする請求項６に記載の散乱光測定システム。
【請求項８】
集光光学系（２３）は、ビーム経路内に連続して配設された２つの集光レンズ（２９）から形成されることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の散乱光測定システム。
【請求項９】
レセプタクル装置（１６）とビーム（２２）は、経路（３６）の特定の経路区域（３７）で互いに対して一定の速度で動かされることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の散乱光測定システムを動作させるための方法。
【請求項１０】
複数のレセプタクル装置（１６）は支持体（１５）上に円形状に配置され、ビーム（２２）とレセプタクル装置（１６）との相対運動は、円の中心の周りでの回転運動によって生み出されることを特徴とする請求項９に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ビームを生成するための少なくとも１つの光源と、測定セル用の少なくとも１つのレセプタクル装置（ｒｅｃｅｐｔａｃｌｅ  ａｐｐａｒａｔｕｓ）と、少なくとも１つの光検出器とを含む散乱光測定システムに関する。レセプタクル装置および光検出器は、光源によって生成されるビームのビーム経路内に配置される。これは、光源から出たビームが測定セルを通して案内され、したがって測定セル内に位置する検体の光学検査に利用可能であることを意味する。次いで、同様にビーム経路内に配置された光検出器によって測定結果を記録することができる。
【背景技術】
【０００２】
現代の分析機器は、１つのサンプルを使用して多数の検出反応および分析を実施することが可能である。複数の検査を自動化することが可能になるように、把持機能を有する移送アーム、または移送ベルトもしくは回転可能な輸送ホイール、およびピペットデバイスなど液体を移送するための装置など、測定セルをスペース内で移送するための様々な装置が必要とされ、また反応コンテナおよび試験コンテナも必要である。特許文献１で述べられているように、分析機器の測定デバイスを可動式に設計し、その一方で、測定セルはそれらのレセプタクル装置内で固定したままにすることも可能である。適切な機器は制御ユニットを含み、制御ユニットは、適切なソフトウェアによって使用可能にされて、ほぼ独立して、望みの分析のための作業工程を準備および実行する。
【０００３】
本発明の文脈では、レセプタクル装置は、一方では測定セルを固定できるようにし、他方では測定セルに必要な全体的な空間を囲うデバイスとして理解されるべきである。測定光のビームは、レセプタクル装置の一部と理解されるべき上記の全体的な空間を通る。測定セルは、交換可能でよく、またはレセプタクル装置内に存続するように固定することもできる。永久固定により、測定セルを分析機器に組み込むことも可能である（フロースルー測定セル（ｆｌｏｗ−ｔｈｒｏｕｇｈ  ｍｅａｓｕｒｉｎｇ  ｃｅｌｌ））。
【０００４】
そのような分析機器で使用される分析方法の多くは、光学的な方法に基づく。それらの方法は、サンプル中の検体、すなわち、検出または決定すべき物質または粒子の定性および定量検出を可能にする。反応容器（測定セルでもよい）内でサンプルの一部を１つまたは複数の試験反応物と混合し、それにより例えば生化学反応または特定の結合反応を開始し、これがアッセイ混合物の光学的特性または他の物理的特性の測定可能な変化を生じさせることによって、例えば検体の濃度または活性など臨床関連パラメータ（ｃｌｉｎｉｃａｌｌｙ  ｒｅｌｅｖａｎｔ  ｐａｒａｍｅｔｅｒｓ）の決定が多様に行われる。
【０００５】
特に、現代の分析機器に散乱光測定システムを装備することが可能である。散乱光測定システムは、液体または気体中の微細に分解されたコロイド状粒子の濃度の定量決定のために使用することができる：小さな粒子の懸濁物が光線中に導入される場合、光線のビームの入射光の一部は吸収され、一次光線とも呼ばれる別の部分は散乱されずに懸濁物を離れ、さらに別の部分は、入射光線に対して横方向に散乱される。前記横方向に出た散乱光が、散乱光測定（例えば比濁分析）で測定される。本出願の文脈では、レーザビームの光もビームとして理解することができる。
【０００６】
散乱光測定は、主に検体（例えば蛋白質）の定量または定性検出に使用され、これは、好ましくは、２つの特定の結合パートナ（ｂｉｎｄｉｎｇ  ｐａｒｔｎｅｒ）の特定の結合反応によって、例えば抗原−抗体結合によって検出することができる。定量検出の場合、検体の量、濃度、または活性がサンプル中で測定される。また、用語「定量検出」は、サンプル中の検体のおおよその量、濃度、または活性のみを検出する、または、量、濃度、または活性を相対的に特定するようにのみ働く半定量方法も含む。定性検出は、サンプル中に検体が実際に存在するかどうかを検出することとして、または、サンプル中の検体の量、濃度、または活性が特定の、またはいくつかのしきい値よりも下または上であることを示すものとして理解するべきである。
【０００７】
特許文献２で述べられているように、散乱光測定システムは、通常は、光源を含むビームを生成するための少なくとも１つの手段と、少なくとも１つの光検出器と、測定セル用の少なくとも１つのレセプタクル装置とを含む。この設計では、光源と、レセプタクル装置と、光検出器とは、光源によって放出される光線の伝播方向に対して、散乱光の強度が比較的高いある角度またはある角度範囲での散乱光を光検出器が検出するように構成することが可能である。しかし、この幾何形状では、散乱光だけでなく、一次光線も光検出器に達する。しかし、測定結果に寄与することを意図されているのは光の散乱部分のみであり、検出器に当たる一次光線の光は、結局は信号対雑音比の悪化をもたらすに過ぎないので、測定結果を最適化するために一次光線をできるだけ完全に阻止しなければならない。この目的で、光学的な中央ダイアフラム（ｃｅｎｔｒａｌ  ｄｉａｐｈｒａｇｍ）が使用される。前記ダイアフラムは、薄いスレート（ｓｌａｔ）によってビーム経路内で保持され、散乱光のみが検出器に当たるように一次光線のできるだけ多くを阻止するようにそのサイズおよび形状が適合される。特許文献３によれば、さらなるダイアフラムを使用して、散乱光を一次光線の光からさらに効果的に分離することが可能である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】独国特許出願公開第１０  ２００９  ０４３  ５２４  Ａ１号
【特許文献２】独国特許出願公開第１９８  ４９  ５９７  Ａ１号
【特許文献３】独国特許出願公開第３６  ０８  ５５２  Ａ１号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の目的は、多数のサンプルさえできるだけ短時間で測光学的な測定（ｐｈｏｔｏｍｅｔｒｉｃ  ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ）を行うために使用することができる散乱光測定システムを提供することである。さらに、本発明の目的は、多数のサンプルさえできるだけ効率良く実施することができる、そのような散乱光測定システムを操作するための方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明によれば、この目的は、冒頭で特定した散乱光測定システムにおいて、レセプタクル装置とビームが互いに対して可動であり、それにより、ビームが、所定の経路上で動くとき、測定セルを通るビーム伝播に対して横方向に移動することによって実現される。換言すると、本発明によれば、測定セルがビームに対して動かされている間でさえ測定を実施することができるようになっている。しかし、本発明によれば、これは以下の準備を行うことを必要とする。ビーム経路内でレセプタクル装置の下流に（すなわち、測定セル用のレセプタクル装置の全体的な空間の下流に、およびまた測定セルの下流の測定セルの取付部または挿入部の後に）集光光学系（ｃｏｌｌｅｃｔｉｎｇ  ｏｐｔｉｃｓ）が配置され、その集光光学系にビームの非散乱光（ｕｎｓｃａｔｔｅｒｅｄ  ｌｉｇｈｔ）が当たり、集光光学系は、光学表面（すなわち、収光するように作用する表面）を提供し、光学表面は、少なくとも経路の方向で、言い換えるとビームの横方向運動の方向でビーム自体よりも大きい寸法を有する。すなわち、少なくともその経路の特定の経路区域（ｐａｔｈ  ｓｅｃｔｉｏｎ）にわたって前記光が常に集光レンズに当たるという仮定の下で、測定セルとビームの非散乱光との相対運動に基づいてビームの非散乱光が受ける偏向および／または横方向運動は、集光光学系の寸法によって補償される。さらに、本発明によれば、ビーム経路内で集光光学系の下流に中央ダイアフラムが配置され、前述した経路区域内では、ビームの非散乱光が中央ダイアフラムに当たるようになっている。換言すると、集光光学系によって案内されるビームは、集光光学系を通る横方向移動中に異なるように偏向され、中央ダイアフラムの幾何形状は、規定の経路区域の進路でビームが常にそのダイアフラム表面の一部分に当たるように適合される。
【００１１】
本発明に従って散乱光測定システムを構成することは、測定中、測定セルとビームとが、ビーム経路に対して横方向で互いに対して動くことができるという利点を有する。そのような相対運動は、ビーム経路を通る測定セルの動きによって、またはビームの動き、すなわちビームを案内するモジュールの動きによって行うことができる。ここで、ビームが測定セルを通って取る経路は、ビーム経路に沿った光の経路であることは意図されず、その伝播方向に対して横方向のビーム経路である。ビーム行程は、この場合、相対運動に基づいて生じる。Ｆ５０例えば、円筒形（特に円形円筒形）または円錐形容器、例えばキュベットを測定セルとして使用することができ、光学的には棒レンズ（ｂａｒ  ｌｅｎｓ）として働く。その結果、ビームと測定セルとの相対運動は、経路区域に依存してビームの回折を生じ、これは、中央ダイアフラム上でのビームの横方向移動をもたらす。しかし、測定セルが平坦な入射面および出射面を有するときでさえ、前記測定セルが例えばサンプルカルーセル（ｓａｍｐｌｅ  ｃａｒｏｕｓｅｌ）などの支持体上で円形状に互いに配置されるときにはビーム行程が生じることがある。具体的には、測定セルとビームとの相対運動は円形トラック上でも生じ、それにより、経路区域で、ビームに対する測定セルの入射面または出射面の角度オフセットをもたらす。
【００１２】
ビームの経路区域の前記角度変化またはさらには純粋な横方向ずれを補償することができるので、これにより、ビームと測定セルとの相対運動は、測定中にビームが前記経路区域から出ないように迅速に、正確に行うことができる。測定中、本発明による中央ダイアフラム形状は、測定時間全体にわたって、ビームの非散乱光、すなわち一次光線が光検出器に当たらないことを保証する。冒頭で特定した方法による目的の達成によれば、レセプタクル装置とビームとが、経路区域で互いに対して一定の速度で動かされると特に有利である。これは、制御技術を使用して特に容易に行うことができる。この場合、例えば、散乱光測定システムの光学構成要素を含む光学ユニットは一定の速度で動くことができ、複数の測定セルが互いに対して適切な構成で配置される。代替として、レセプタクル装置内の測定セルを支持するサンプル支持体も、一定の速度で直線運動または回転させることができる。有利には、空間を節約するために回転を実装することができ、特にこの場合、複数のレセプタクル装置が支持体上に円形状に配置され、ビームとレセプタクル装置との相対運動は、円の中心の周りでの回転運動によって生成される。
【００１３】
本発明の改良形態によれば、中央ダイアフラムが、集光光学系の結像側の焦点に配置されるようになっている。この場合、有利には、小さなダイアフラム表面を有する中央ダイアフラムを提供することができる。具体的には、ビームが、集光光学系に当たる場所に関係なく同じ点に集束されるので、ビームの移動中、焦点は散発的に動く、またはまったく動かない。好ましくは円形設計の小さなダイアフラム表面は、実際に測定すべき吸収される散乱光の成分が同様に小さいという利点を有する。それにより、有利には、良好な信号対雑音比を実現することができる。
【００１４】
本発明の別の改良形態は、中央ダイアフラムが集光光学系の結像側の焦点の外に配置され、少なくとも経路の方向でビームの非散乱部分よりも大きい寸法を有するようになっている。この構成は、ビームのビーム経路が平行に延びるときに特に有利である。そのようなビームは、例えばレーザによって生成される。別の可能性は、ビームが集光光学系を横切るときに発散ビームを平行ビームに変換することにある。この場合、ビームの移動は、集光光学系によって捕捉されるが、正確に一点には集束されない。ここで、中央ダイアフラムは、有利には楕円形またはストリップ形状のダイアフラム表面を有し、また、ストリップ形状のダイアフラム表面としての設計が必ずしも長方形である必要はなく、丸い隅を有することも可能である。中央ダイアフラムは、散乱光測定システムのビーム経路内に位置合わせされ、それにより、ビームは、ダイアフラム表面の長さの延長に沿って移動し、経路区域上で中央ダイアフラムによって吸収される。
【００１５】
また、集光光学系は、有利には、ビーム経路内に連続的に配設された２つの集光レンズから形成することもできる。これは、比較的費用対効果の高い光学素子によって、適切な品質で集光光学系の短い焦点距離を生成することが可能であるという利点を有する。大きな焦点距離は、特に、中央ダイアフラムが集光光学系の結像側の焦点に位置することになるときに必要とされる。
【００１６】
複数のレセプタクル装置が散乱光測定システム内の支持体に配置されると特に有利である。例として、前記支持体はディスクでよく、その上にレセプタクル装置が円形状に配置される。しかし、直線状の配置も可能である。これは、例えばコンベアベルト上で行うことができる。このとき、コンベアベルトは、レセプタクル装置を、測定セルが挿入された状態で、散乱光測定システムを通して案内する。支持体がディスクとして設計される場合、支持体を回転可能に構成することができ、それにより、ディスクを回転させることによって、散乱光測定システムを通して測定セルを順次に案内することができる。
【００１７】
しかし、支持体が固定して取り付けられていると特に有利である。これは、レセプタクル装置の挿入を、例えばロボットアームによって容易に行うことができるという利点を有する。これはまた、他のレセプタクル装置内の測定セルに対する測定を行うために散乱光測定システムが使用されるのと同時に可能である。支持体が固定して取り付けられているとき、ビーム経路を生成するための光学素子は、固定されたモジュールとして組み立てなければならない。光学素子は、ビームを生成する、ビームを案内する、および散乱光を記録する散乱光測定システムの全ての機能ユニット、すなわち、光源、光検出器、第１および第２の集光光学系、および中央ダイアフラム、ならびにビームのビーム経路内に提供されるさらなる光学素子と理解されるべきである。次いで、モジュールを個々の測定セルに向けて動かすことができる。ビーム経路はモジュール内に延びるので、それにより、測光学的な検査を実施することが可能である。測定セルを導入することができるキャビティ（ｃａｖｉｔｙ）がモジュール内に提供される。
【００１８】
本発明のさらなる詳細は、図面から理解することができる。図面の同じまたは相互に対応する要素は、それぞれ図面の各図において同じ参照番号を付されており、各図の間で相違が生じる範囲のみを繰返し説明する。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明による散乱光測定システムの例示的実施形態の概略長手方向断面の概略平面図である。
【図２】本発明による散乱光測定システムの例示的実施形態の概略長手方向断面の概略平面図である。
【図３】本発明による散乱光測定システムの別の例示的実施形態の概略平面図である。
【図４】本発明による方法の例示的実施形態を異なる段階で示す、散乱光測定システムの関連する構成要素の平面図である。
【図５】本発明による方法の例示的実施形態を異なる段階で示す、散乱光測定システムの関連する構成要素の平面図である。
【図６】本発明による方法の例示的実施形態を異なる段階で示す、散乱光測定システムの関連する構成要素の平面図である。
【図７】同様に本発明による方法の別の例示的実施形態を示す、本発明による散乱光測定システムの関連する部分の平面図である。これらの図では、図４〜図６に記載の構成要素を考慮に入れる必要もある。
【図８】同様に本発明による方法の別の例示的実施形態を示す、本発明による散乱光測定システムの関連する部分の平面図である。これらの図では、図４〜図６に記載の構成要素を考慮に入れる必要もある。
【図９】同様に本発明による方法の別の例示的実施形態を示す、本発明による散乱光測定システムの関連する部分の平面図である。これらの図では、図４〜図６に記載の構成要素を考慮に入れる必要もある。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
図１による散乱光測定システムは、散乱光測定用の光学素子がハウジング１２内に収容されたモジュール１１を有する。前記モジュール１１はモータＭも有し、モータＭは、ハウジング１２を矢印１４の方向で回転軸１３の周りで回転させることができる。円板形状での支持体１５が、回転軸１３が支持体１５の対称軸にもなるようにハウジング１２の下に配置される。支持体には、リング形状のレセプタクル装置１６が取り付けられ、その１つを図１で見ることができる。また、レセプタクル装置１６内には、キュベットの形態での測定セル１７が位置され、測定セル１７は、モジュール１１のキャビティ１８内に位置される。また、キャビティ１８は、光学測定用のビーム経路１９内に位置され、したがって測定セル１７内で光学測定を行うことができる。
【００２１】
光学測定に関して、散乱光測定システムは、ビーム経路１９内に、発光ダイオードの形態での光源２０を有し、光源２０の光は、第１の集光レンズ２１を通して測定セル１７に集束させることができる。光は、測定セルを横切り、生成されたビーム２２の非散乱光は、一次光線として測定セルから出て、さらなる集光光学系２３によって平行ビームに変換される。前記平行ビームは、中央ダイアフラム２４に当たり、そこで吸収される。
【００２２】
しかし、ビーム２２の光はまた、測定セル１７内に位置する検体（詳細には図示せず）によって散乱される。得られた散乱光２５は、集光光学系２３によって捕捉され、さらなる集光レンズ２６によって光検出器２７に集束される。この散乱光２５を、測定結果としてそこで記録することができる。
【００２３】
平面図での光学素子の配置を図２で理解することができ、図２において、測定セル１７を有する支持体１５の一区域を見ることができる。図１に従ってモジュール１１が受ける回転運動１４も同様に図２に示されている。以下でより詳細に説明するように、回転運動１４の効果は、中央ダイアフラム２４の表面上のビーム２２の衝突領域が矢印２８の方向に移動することである。図面の平面内で、中央ダイアフラム２４は、ビームの運動方向２８で、ビーム経路１９に対して横方向の広がりを有し、この横方向の広がりが、測定対象の散乱光２５の一部を捕捉することも見ることができる。しかし、図１に示されるように、散乱光は、中央ダイアフラム２４の上方および下方を通って放射することができる。
【００２４】
図３による構成では、必要とされるダイアフラム表面がより小さい（その上流の光源（図示せず）および集光レンズは、図１および図２による設計と同様に具現化することができる）。ここで、第１の集光光学系２３が２つの集光レンズ２９を含むことを理解されたい。先と同様に測定セル１７に集束されたビーム２２は、２つのレンズ２９によって焦点３０に集束され、ここで、図１および図２による例示的実施形態の場合よりも小さいダイアフラム表面を有する中央ダイアフラム２４を構成することができることをさらに理解されたい。以下により詳細に説明するように、特に、焦点３０は、前記位置が矢印３１に沿って動くときに、ビーム内の測定セル１７の位置に関係なく常に同じ位置にある。
【００２５】
また、散乱光２５の光線が例として示されており、この光線は、測定セル１７へのビームの進入直後に測定セル１７内で生成される（光源、および光源から出て集光光学系によって測定セル１７内に集束されたビームは図示しないが、図１および図２による例示的実施形態と同様に具現化することができる）。散乱光のビームは、集光光学系２３によって回折されて、中央ダイアフラム２４を越えて放射する。さらに続くビーム経路１９内の集光レンズ２６が光線を回折し、それにより、光線は、昼光フィルタ３２を横切った後に光検出器２７に達する。
【００２６】
測定セル１７は、図３によるコンベアベルト３３上に収容される。前記コンベアベルトは、矢印３１の方向に直線動かされる。これは、先と同様に、測定セル１７とビーム２２との相対運動を生じる。
【００２７】
図１によるビーム２２の特定の光線３４は、図４〜図６における軌跡を辿ることができる。光線３４はレーザビームを表すことができ、レーザビームは、本発明における意味合いでは、この場合の光線３４は、平行に進む光線の１つと解釈すべきである。ビームを通る測定セル１７の動きは、矢印３１によって示されており、図１によるデバイスまたは図３によるデバイスによって機械的に生み出すことができる。集光レンズ２９を横切った後、対象のビームの光線３４はダイアフラム２４に当たる。ダイアフラム２４は、丸い隅を有するストリップ形状のダイアフラム表面３５を有する。これは、図４に一点鎖線によって示されており、ダイアフラム表面の半分のみが示されている。
【００２８】
矢印３１に対応する相対運動によって、光線３４は、測定セル１７を通って、光線軸１９に対して横方向に位置合わせされた経路３６を取る。この場合、測定セルは、棒レンズと同様に作用して光線３４を回折し、その結果、この光線３４は、集光レンズを横切った後、中央ダイアフラム２４の一方の縁部付近の集光レンズに当たり、中央ダイアフラム２４に吸収される（図４参照）。光線３４が測定セル１７の中央に当たる場合には、回折されず、したがって、集光レンズ２９を横切った後、ダイアフラム２４の中央に当たる（図５参照）。さらなる動きの進路では、光線は逆方向に回折され、したがって中央ダイアフラム２４の他端に当たる（図６参照）。このことから分かるように、中央ダイアフラム２４の長さの広がりが経路区域３７を画定し、経路区域３７内では、図１によるビーム（光線３４によって表される）は、中央ダイアフラム２４によって吸収され、したがって測定結果に影響を及ぼさない。前記経路区域３７は、図４および図６では測定セル内部のハッチング表面として示されており、前記経路が円形断面を有するとき、測定セル内のビームの経路は直線状に延びないことが明らかである。前記経路は、むしろ直線運動と回転運動との組合せとして表すことができ、集光レンズ２９は、少なくとも実質的にビーム軸に平行に光線を位置合わせし直す（ｒｅａｌｉｇｎｉｎｇ）。
【００２９】
図７〜図９は、それぞれ図４〜図６を補完するものであり、この考察では図４〜図６でのダイアフラム２４は存在しないものとされる。直線状に延びるビーム経路１９において、図７は図４を補完し、図８は図５を補完し、図９は図６を補完する。図４〜図６による集光レンズ２９は、それぞれ図７〜図９によるさらなる集光レンズ２９によって補完され、それぞれ２つの集光レンズ２９が、図３による集光光学系２３を成す。集光レンズ２９の間でビーム軸１９に平行に位置合わせされた光線３４は、図７〜図９による集光レンズ２９によって図７〜図９による中央ダイアフラム２４に集束される。図７から理解できるように、中央ダイアフラム２４は、円形のダイアフラム表面３８を有し、図４によるダイアフラム２４よりも小さい表面を有する。前記表面は、図７に一点鎖線で示され、ダイアフラム表面の半分のみが示されている。集光光学系２３により、光線３４は、経路区域３７内部のどこに位置するかに関係なくビームの他の光線（図示せず）と共に単一の焦点３０を有するので、より小さいダイアフラム表面を実装することができる。（平行に位置合わせされたレーザビームは、その位置が経路区域３７内であるかどうかに関係なく、やはり前記焦点に達する）。中央ダイアフラム２４が前記焦点に配置されるので、中央ダイアフラム２４のダイアフラム表面３８は比較的小さくても足りる。
【符号の説明】
【００３０】
１１  モジュール
１２  ハウジング
１３  回転軸
１４  矢印、回転運動
１５  支持体
１６  レセプタクル装置
１７  測定セル
１８  キャビティ
１９  ビーム経路
２０  光源
２１  集光レンズ
２２  ビーム
２３  集光光学系
２４  中央ダイアフラム
２５  散乱光
２６  集光レンズ
２７  光検出器
２８  矢印
２９  集光レンズ
３０  焦点
３１  矢印
３２  昼光フィルタ
３３  コンベアベルト
３４  光線
３５  ダイアフラム表面
３６  経路
３７  経路区域
３８  ダイアフラム表面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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