(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザビームを照射するレーザ照射装置と、
前記レーザビームを照射する目標位置を決定する制御装置と、
前記目標位置に前記レーザビームが照射されるように、前記レーザビームの照射方向を調整する方向調整装置と
を具備し、
前記制御装置は、脅威物体と防御対象物との間の位置を、サーマルブルーミングを発生させる前記目標位置として決定し、
前記方向調整装置は、前記制御装置からの指令に基づいて、前記レーザビームの照射方向を調整し、
前記レーザ照射装置は、前記制御装置からの指令に基づいて、前記目標位置に前記レーザビームを照射することにより、前記目標位置に、大気温度を所定の閾値以上上昇させて防御領域を生成する
レーザ防御システム。
【請求項２】
請求項１に記載のレーザ防御システムにおいて、
前記制御装置は、脅威物体の位置と防御対象物の位置との両方に基づいて前記目標位置を決定する
レーザ防御システム。
【請求項３】
請求項１または２に記載のレーザ防御システムにおいて、
前記レーザ照射装置は、前記レーザビームの照射中に、前記レーザビームの特性を変更する特性変更機構を備える
レーザ防御システム。
【請求項４】
請求項３に記載のレーザ防御システムにおいて、
変更される前記特性は、前記目標位置における前記レーザビームの強度分布である
レーザ防御システム。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項に記載のレーザ防御システムにおいて、
前記脅威物体の位置を取得する位置取得装置を更に具備し、
前記制御装置は、前記位置取得装置により取得された前記脅威物体の位置に基づいて、前記目標位置を決定する
レーザ防御システム。
【請求項６】
レーザビームを照射するレーザ照射装置と、
前記レーザビームを照射する目標位置を決定する制御装置と、
前記目標位置に前記レーザビームが照射されるように、前記レーザビームの照射方向を調整する方向調整装置と
を具備し、
前記制御装置は、脅威物体と防御対象物との間の位置を前記目標位置として決定し、
前記方向調整装置は、前記制御装置からの指令に基づいて、前記レーザビームの照射方向を調整し、
前記レーザ照射装置は、前記制御装置からの指令に基づいて、前記目標位置に前記レーザビームを照射することにより、前記目標位置に防御領域を生成し、
前記脅威物体の位置が不明である時、前記制御装置は、前記脅威物体の仮想位置に基づいて前記目標位置を決定する
レーザ防御システム。
【請求項７】
請求項６に記載のレーザ防御システムにおいて、
前記脅威物体の位置を取得する位置取得装置を更に具備し、
前記制御装置は、前記位置取得装置により取得された前記脅威物体の位置に基づいて、新たな目標位置を決定し、
前記制御装置は、前記レーザビームの照射目標を、前記仮想位置に基づいて決定された前記目標位置から前記新たな目標位置に変更する変更指令を、前記レーザ照射装置に送信し、
前記レーザ照射装置は、前記変更指令に基づいて、前記新たな目標位置に、新たなレーザビームを照射する
レーザ防御システム。
【請求項８】
レーザビームを照射するレーザ照射装置と、
前記レーザビームを照射する目標位置を決定する制御装置と、
前記目標位置に前記レーザビームが照射されるように、前記レーザビームの照射方向を調整する方向調整装置と
を具備し、
前記制御装置は、脅威物体と防御対象物との間の位置を前記目標位置として決定し、
前記方向調整装置は、前記制御装置からの指令に基づいて、前記レーザビームの照射方向を調整し、
前記レーザ照射装置は、前記制御装置からの指令に基づいて、前記目標位置に前記レーザビームを照射することにより、前記目標位置に防御領域を生成し、
前記レーザ照射装置は、前記レーザビームを照射することにより、前記防御領域にプラズマを生成する
レーザ防御システム。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか一項に記載のレーザ防御システムにおいて、
前記制御装置は、脅威物体破壊モード、または、防御モードを選択的に実行し、
前記脅威物体破壊モードは、前記脅威物体に破壊用レーザビームを直接照射することにより前記脅威物体を破壊するモードであり、
前記防御モードは、前記目標位置に防御用レーザビームである前記レーザビームを照射することにより前記防御領域を生成するモードである
レーザ防御システム。
【請求項１０】
レーザビームを照射するレーザ照射装置と、
前記レーザビームを照射する目標位置を決定する制御装置と、
前記目標位置に前記レーザビームが照射されるように、前記レーザビームの照射方向を調整する方向調整装置と
を具備し、
前記制御装置は、脅威物体と防御対象物との間の位置を前記目標位置として決定し、
前記方向調整装置は、前記制御装置からの指令に基づいて、前記レーザビームの照射方向を調整し、
前記レーザ照射装置は、前記制御装置からの指令に基づいて、前記目標位置に前記レーザビームを照射することにより、前記目標位置に防御領域を生成し、
更に、前記脅威物体が発する電磁波を検出する電磁波検出装置を具備し、
前記制御装置は、前記電磁波検出装置による前記電磁波の検出に基づいて、前記目標位置の算出を開始する
レーザ防御システム。
【請求項１１】
請求項１０に記載のレーザ防御システムにおいて、
前記電磁波検出装置は、レーダ波検出用受信機、光センサ、または、温度センサのうちの少なくとも１つを含む
レーザ防御システム。
【請求項１２】
レーザビームを照射するレーザ照射装置と、
前記レーザビームを照射する目標位置を決定する制御装置と、
前記目標位置に前記レーザビームが照射されるように、前記レーザビームの照射方向を調整する方向調整装置と
を具備し、
前記制御装置は、脅威物体と防御対象物との間の位置を前記目標位置として決定し、
前記方向調整装置は、前記制御装置からの指令に基づいて、前記レーザビームの照射方向を調整し、
前記レーザ照射装置は、前記制御装置からの指令に基づいて、前記目標位置に前記レーザビームを照射することにより、前記目標位置に防御領域を生成し、
前記制御装置は、前記脅威物体と前記防御対象物とを結ぶ線分と、前記レーザビームとのオーバーラップ長さが閾値以上になるように前記目標位置を決定する
レーザ防御システム。
【請求項１３】
請求項１乃至１２のいずれか一項に記載のレーザ防御システムにおいて、
前記レーザ照射装置は、第１照射装置と第２照射装置とを含み、
前記レーザビームは、第１レーザビームと第２レーザビームとを含み、
前記方向調整装置は、
前記第１レーザビームの照射方向を調整する第１調整装置と、
前記第２レーザビームの照射方向を調整する第２調整装置と
を含み、
前記第１照射装置は、前記目標位置に前記第１レーザビームを照射し、
前記第２照射装置は、前記目標位置または前記目標位置とは異なる第２目標位置に前記第２レーザビームを照射する
レーザ防御システム。
【請求項１４】
レーザビームを照射するレーザ照射装置と、
前記レーザビームを照射する目標位置を決定する制御装置と、
前記目標位置に前記レーザビームが照射されるように、前記レーザビームの照射方向を調整する方向調整装置と
を具備し、
前記制御装置は、脅威物体と防御対象物との間の位置を前記目標位置として決定し、
前記方向調整装置は、前記制御装置からの指令に基づいて、前記レーザビームの照射方向を調整し、
前記レーザ照射装置は、前記制御装置からの指令に基づいて、前記目標位置に前記レーザビームを照射することにより、前記目標位置に防御領域を生成し、
前記レーザ照射装置は、第１照射装置と第２照射装置とを含み、
前記レーザビームは、第１レーザビームと第２レーザビームとを含み、
前記方向調整装置は、
前記第１レーザビームの照射方向を調整する第１調整装置と、
前記第２レーザビームの照射方向を調整する第２調整装置と
を含み、
前記第１照射装置は、前記目標位置に前記第１レーザビームを照射し、
前記第２照射装置は、前記目標位置または前記目標位置とは異なる第２目標位置に前記第２レーザビームを照射し、
前記制御装置は、合成モードと分散モードとを選択的に実行し、
前記合成モードは、前記目標位置に、前記第１レーザビームおよび前記第２レーザビームが照射されるように、前記第１調整装置および前記第２調整装置に調整指令を送信するモードであり、
前記分散モードは、前記目標位置に前記第１レーザビームが照射され、前記第２目標位置に前記第２レーザビームが照射されるように、前記第１調整装置および前記第２調整装置に調整指令を送信するモードである
レーザ防御システム。
【請求項１５】
脅威物体の位置を取得または推定するステップと、
前記脅威物体と防御対象物との間の位置を、サーマルブルーミングを発生させる目標位置として決定するステップと、
前記目標位置にレーザビームを照射することにより、前記目標位置に、大気温度を所定の閾値以上上昇させて防御領域を生成するステップと
を具備する
レーザ防御方法。
【請求項１６】
請求項１５に記載のレーザ防御方法において、
前記目標位置に防御領域を生成するステップの後に、前記レーザビームの特性を変更するステップを備える
レーザ防御方法。
【請求項１７】
請求項１５または１６に記載のレーザ防御方法において、
前記レーザビームを前記脅威物体に直接照射する脅威物体破壊モードを実行するステップを更に備える
レーザ防御方法。
【請求項１８】
脅威物体の位置を取得または推定するステップと、
前記脅威物体と防御対象物との間の位置を目標位置として決定するステップと、
前記目標位置にレーザビームを照射することにより、前記目標位置に防御領域を生成するステップと
を具備し、
前記目標位置は、前記脅威物体の位置が不明である時に決定される目標位置であり、
前記脅威物体の位置が取得された後、取得された前記脅威物体の位置と前記防御対象物との間の位置を新たな目標位置として決定するステップと、
前記新たな目標位置に、新たなレーザビームを照射することにより、前記新たな目標位置に新たな防御領域を生成するステップと
を更に備える
レーザ防御方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レーザ防御システム、および、レーザ防御方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、各国において高出力レーザ兵器の研究開発が行われている。他方、高出力レーザに対する防御については研究が進んでおらず、また、十分な防御策が確立されていない。
【０００３】
関連する技術として、特許文献１には、航空機搭載用風計測ライダー装置が記載されている。特許文献１に記載のライダー装置は、所望の遠隔領域の風速をドップラー効果に基づき計測する。ライダー装置は、送信光としてのレーザ光を大気中のエアロゾルに照射して、エアロゾルからのレーザ散乱光を受信光として受信する。ライダー装置は、当該送信光と当該受信光との間の波長変化量（ドップラーシフト量）に基づいて、風速を計測する。特許文献１にライダー装置においては、レーザ光源の前方に、厚みを変えることが可能な光学フィルタが配置される。飛行高度の変動により、航空機前方の大気の屈折率が変動するので、当該屈折率の変動に対応して、光学フィルタの厚さが調整される。光学フィルタの厚さの調整により、風速計の計測精度が向上する。
【０００４】
特許文献２には、高出力レーザ兵器における課題として、サーマルブルーミング、大気収差の問題が記載されている。特許文献２に記載のレーザシステムは、大気収差による出力光ビームの波面歪みを補償する光学素子を含む。
【０００５】
特許文献３には、サーマルブルーミングについて記載されている。特許文献３によれば、サーマルブルーミングは、レーザによりビーム経路の温度が上昇される結果、ビーム経路における屈折率が変化する現象である。また、屈折率が変化すると、レンズ効果により、レーザソースから離れるほどレーザビームの直径が増加する。その結果、サーマルブルーミングは、高出力レーザ兵器の有効性を低減する。
【０００６】
特許文献４には、対ミサイルのレーザ防御システムが記載されている。特許文献４に記載のレーザ防御システムでは、ミサイルにレーザを照射することによりミサイルを破壊する。また、特許文献４には、サーマルブルーミングの問題を解決するために、１つの強力なレーザをミサイルに照射するのに代えて、２つの独立したレーザをミサイルに向けて収束させることが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特許第５６５１８８２号公報
【特許文献２】特開平１１−３４０５５５号公報
【特許文献３】特開平１０−１２３２５１号公報
【特許文献４】米国特許第５１９８６０７号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、レーザ兵器による攻撃を防御可能なレーザ防御システムを提供することにある。
【０００９】
この発明のこれらの目的とそれ以外の目的と利益とは以下の説明と添付図面とによって容易に確認することができる。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
以下に、発明を実施するための形態で使用される番号・符号を用いて、課題を解決するための手段を説明する。これらの番号・符号は、特許請求の範囲の記載と発明を実施するための形態との対応関係の一例を示すために、参考として、括弧付きで付加されたものである。よって、括弧付きの記載により、特許請求の範囲は、限定的に解釈されるべきではない。
【００１１】
いくつかの実施形態におけるレーザ防御システムは、レーザビーム（Ｂ）を照射するレーザ照射装置（１０）と、前記レーザビーム（Ｂ）を照射する目標位置（Ｔ）を決定する制御装置（５０）と、前記目標位置（Ｔ）に前記レーザビーム（Ｂ）が照射されるように、前記レーザビーム（Ｂ）の照射方向を調整する方向調整装置（３０）とを具備する。前記制御装置（５０）は、脅威物体（２００）と防御対象物（１００）との間の位置を前記目標位置（Ｔ）として決定する。前記方向調整装置（３０）は、前記制御装置（５０）からの指令に基づいて、前記レーザビーム（Ｂ）の照射方向を調整する。前記レーザ照射装置（１０）は、前記制御装置（５０）からの指令に基づいて、前記目標位置（Ｔ）に、前記レーザビーム（Ｂ）を照射することにより、前記目標位置（Ｔ）に防御領域（Ｄ）を生成する。
【００１２】
上記レーザ防御システムにおいて、前記制御装置（５０）は、脅威物体（２００）の位置と防御対象物（１００）の位置との両方に基づいて前記目標位置（Ｔ）を決定してもよい。
【００１３】
上記レーザ防御システムにおいて、前記レーザ照射装置（１０）は、前記レーザビーム（Ｂ）の照射中に、前記レーザビーム（Ｂ）の特性を変更する特性変更機構（２０）を備えていてもよい。
【００１４】
上記レーザ防御システムにおいて、変更される前記特性は、前記目標位置（Ｔ）における前記レーザビーム（Ｂ）の強度分布であってもよい。
【００１５】
上記レーザ防御システムにおいて、前記脅威物体（２００）の位置を取得する位置取得装置（７０）を更に具備してもよい。前記制御装置（５０）は、前記位置取得装置（７０）により取得された前記脅威物体（２００）の位置に基づいて、前記目標位置（Ｔ）を決定してもよい。
【００１６】
上記レーザ防御システムにおいて、前記脅威物体（２００）の位置が不明である時、前記制御装置（５０）は、前記脅威物体（２００）の仮想位置（２００−１〜２００−ｎ；２００−Ｗ）に基づいて前記目標位置（Ｔ）を決定してもよい。
【００１７】
上記レーザ防御システムにおいて、前記脅威物体（２００）の位置を取得する位置取得装置（７０）を更に具備してもよい。前記制御装置（５０）は、前記位置取得装置（７０）により取得された前記脅威物体（２００）の位置に基づいて、新たな目標位置（Ｔｎｅｗ）を決定してもよい。前記制御装置（５０）は、前記レーザビーム（Ｂ）の照射目標を、前記仮想位置（２００−１〜２００−ｎ；２００−Ｗ）に基づいて決定された前記目標位置から前記新たな目標位置（Ｔｎｅｗ）に変更する変更指令を、前記レーザ照射装置（１０）に送信してもよい。前記レーザ照射装置（１０）は、前記変更指令に基づいて、前記新たな目標位置（Ｔｎｅｗ）に、新たなレーザビームを照射してもよい。
【００１８】
上記レーザ防御システムにおいて、前記レーザ照射装置（１０）は、前記レーザビーム（Ｂ）を照射することにより、前記防御領域（Ｄ）にプラズマ（Ｐ）を生成してもよい。
【００１９】
上記レーザ防御システムにおいて、前記制御装置（５０）は、脅威物体破壊モード、または、防御モードを選択的に実行してもよい。前記脅威物体破壊モードは、前記脅威物体（２００）に破壊用レーザビームを直接照射することにより前記脅威物体を破壊するモードである。また、前記防御モードは、前記目標位置（Ｔ）に防御用レーザビームである前記レーザビーム（Ｂ）を照射することにより前記防御領域を生成するモードである。
【００２０】
上記レーザ防御システムにおいて、前記脅威物体（２００）が発する電磁波を検出する電磁波検出装置（８０）を更に具備してもよい。前記制御装置（５０）は、前記電磁波検出装置（８０）による前記電磁波の検出に基づいて、前記目標位置（Ｔ）の算出を開始してもよい。
【００２１】
上記レーザ防御システムにおいて、前記電磁波検出装置（８０）は、レーダ波検出用受信機、光センサ、または、温度センサのうちの少なくとも１つを含んでいてもよい。
【００２２】
上記レーザ防御システムにおいて、前記制御装置（５０）は、前記脅威物体（２００）と前記防御対象物（１００）とを結ぶ線分と、前記レーザビーム（Ｂ）とのオーバーラップ長さ（Ｌ２）が閾値以上になるように前記目標位置（Ｔ）を決定してもよい。
【００２３】
上記レーザ防御システムにおいて、前記レーザ照射装置（１０）は、第１照射装置（１０Ａ）と第２照射装置（１０Ｂ）とを含んでいてもよい。前記レーザビーム（Ｂ）は、第１レーザビーム（Ｂ１）と第２レーザビーム（Ｂ２）とを含む。前記方向調整装置（３０）は、前記第１レーザビーム（Ｂ１）の照射方向を調整する第１調整装置（３０Ａ）と、前記第２レーザビーム（Ｂ２）の照射方向を調整する第２調整装置（３０Ｂ）とを含んでいてもよい。前記第１照射装置（３０Ａ）は、前記目標位置（Ｔ）に前記第１レーザビーム（Ｂ１）を照射してもよい。前記第２照射装置（３０Ｂ）は、前記目標位置（Ｔ）または前記目標位置とは異なる第２目標位置（Ｔ２）に前記第２レーザビーム（Ｂ２）を照射してもよい。
【００２４】
上記レーザ防御システムにおいて、前記制御装置（５０）は、合成モードと分散モードとを選択的に実行してもよい。前記合成モードは、前記目標位置（Ｔ）に、前記第１レーザビーム（Ｂ１）および前記第２レーザビーム（Ｂ２）が照射されるように、前記第１調整装置（３０Ａ）および前記第２調整装置（３０Ｂ）に調整指令を送信するモードである。前記分散モードは、前記目標位置（Ｔ）に前記第１レーザビーム（Ｂ１）が照射され、前記第２目標位置（Ｔ２）に前記第２レーザビーム（Ｂ２）が照射されるように、前記第１調整装置（３０Ａ）および前記第２調整装置（３０Ｂ）に調整指令を送信するモードである。
【００２５】
いくつかの実施形態におけるレーザ防御方法は、脅威物体（２００）の位置を取得または推定するステップと、前記脅威物体（２００）と防御対象物（１００）との間の位置を目標位置（Ｔ）として決定するステップと、前記目標位置（Ｔ）に、レーザビーム（Ｂ）を照射することにより、前記目標位置（Ｔ）に防御領域（Ｄ）を生成するステップとを具備する。
【００２６】
上記レーザ防御方法において、前記目標位置（Ｔ）に防御領域（Ｄ）を生成するステップの後に、前記レーザビーム（Ｂ）の特性を変更するステップを備えてもよい。
【００２７】
上記レーザ防御方法において、前記レーザビーム（Ｂ）を前記脅威物体（２００）に直接照射する脅威物体破壊モードを実行するステップを更に備えてもよい。
【００２８】
上記レーザ防御方法において、前記目標位置（Ｔ）は、前記脅威物体（２００）の位置が不明である時に決定される目標位置であってもよい。上記レーザ防御方法は、前記脅威物体（２００）の位置が取得された後、取得された前記脅威物体（２００）の位置と前記防御対象物（１００）との間の位置を新たな目標位置（Ｔｎｅｗ）として決定するステップと、前記新たな目標位置（Ｔｎｅｗ）に、新たなレーザビームを照射することにより、前記新たな目標位置（Ｔｎｅｗ）に新たな防御領域（Ｄｎｅｗ）を生成するステップとを更に備えてもよい。
【発明の効果】
【００２９】
本発明により、レーザ兵器による攻撃を防御可能なレーザ防御システムが提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】図１は、第１の実施形態におけるレーザ防御システム、防御対象物、および、脅威物体を模式的に示す概略図である。
【図２】図２は、第１の実施形態におけるレーザ防御システムの機能を模式的に示す機能ブロック図である。
【図３】図３は、複数のレーザ照射部が脅威物体に搭載されている例を示す図である。
【図４】図４は、変形例におけるレーザ防御システム、防御対象物、および、脅威物体を模式的に示す概略図である。
【図５】図５は、変形例におけるレーザ防御システムの機能を模式的に示す機能ブロック図である。
【図６】図６は、第２の実施形態におけるレーザ防御システム、防御対象物、および、脅威物体を模式的に示す概略図である。
【図７】図７は、第２の実施形態におけるレーザ防御システムの機能を模式的に示す機能ブロック図である。
【図８】図８は、第２の実施形態におけるレーザ防御システム、防御対象物、および、脅威物体を模式的に示す概略図である。
【図９】図９は、第１レーザビームの位相と、第２レーザビームの位相との間の位相差を変化させる例について説明する図である。
【図１０】図１０は、第３の実施形態におけるレーザ防御システム、防御対象物、および、脅威物体を模式的に示す概略図である。
【図１１】図１１は、第３の実施形態におけるレーザ防御システムの機能を模式的に示す機能ブロック図である。
【図１２】図１２は、第３の実施形態におけるレーザ防御システム、防御対象物、および、脅威物体を模式的に示す概略図である。
【図１３】図１３は、第４の実施形態におけるレーザ防御システム、防御対象物、および、脅威物体を模式的に示す概略図である。
【図１４】図１４は、第４の実施形態におけるレーザ防御システムの機能を模式的に示す機能ブロック図である。
【図１５】図１５は、第５の実施形態におけるレーザ防御システム、防御対象物、および、脅威物体を模式的に示す概略図である。
【図１６】図１６は、第５の実施形態におけるレーザ防御システムの機能を模式的に示す機能ブロック図である。
【図１７】図１７は、第５の実施形態におけるレーザ防御システム、防御対象物、および、脅威物体を模式的に示す概略図である。
【図１８】図１８は、第５の実施形態におけるレーザ防御システム、防御対象物、および、脅威物体を模式的に示す概略図である。
【図１９】図１９は、第１例におけるレーザ防御方法の手順を示すフローチャートである。
【図２０】図２０は、第２例におけるレーザ防御方法の手順を示すフローチャートである。
【図２１】図２１は、第３例におけるレーザ防御方法の手順を示すフローチャートである。
【図２２】図２２は、第４例におけるレーザ防御方法の手順を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００３１】
以下、実施形態に係るレーザ防御システム、レーザ防御方法に関して、添付図面を参照して説明する。
【００３２】
（発明者によって認識された事項）
サーマルブルーミングと呼ばれる現象が知られている。サーマルブルーミングは、高出力レーザが大気中を伝播するとき、高出力レーザにより大気の温度が上昇して大気の屈折率が変化する現象である。サーマルブルーミングが発生すると、大気の屈折率の変化により、高出力レーザは、拡散されたり、曲げられたりする。レーザ兵器においては、当該サーマルブルーミングの発生は好ましくないと考えられており、サーマルブルーミングの発生を抑制することが求められている。
【００３３】
ところで、レーザ兵器による攻撃に対する防御については、研究が進んでおらず、十分な防御対策は確立されていない。そこで、発明者は、レーザビームを大気中に照射して、積極的にサーマルブルーミングを発生させることにより、レーザ兵器による攻撃を防御する方策を発明した。以下に示す実施形態では、レーザビームの照射に際してサーマルブルーミングの発生は抑制されるべきとの従来の技術常識を覆し、レーザビームの照射に起因するサーマルブルーミングの積極的活用が提案される。
【００３４】
（第１の実施形態）
図１および図２を参照して、第１の実施形態に係るレーザ防御システム１について説明する。図１は、レーザ防御システム１、防御対象物１００、および、脅威物体２００を模式的に示す概略図である。図２は、レーザ防御システム１の機能を模式的に示す機能ブロック図である。
【００３５】
図２を参照して、レーザ防御システム１は、レーザ照射装置１０と、方向調整装置３０と、制御装置５０とを備える。
【００３６】
（レーザ照射装置）
レーザ照射装置１０は、レーザ照射部１２からレーザビームＢを照射する装置である。レーザ照射装置１０は、光源１４と、光源１４からのレーザ光をレーザ照射部１２に導く光学系１６とを含む。光学系１６には、例えば、レンズ、ミラー、レーザ増幅器、レーザ照射部１２等が含まれる。図１に記載の例では、レーザ照射装置１０は、地上に設置されているが、レーザ照射装置１０は、車両、船、航空機等の移動体に設置されてもよい。
【００３７】
（方向調整装置）
方向調整装置３０は、目標位置ＴにレーザビームＢが照射されるように、レーザビームＢの照射方向を調整する装置である。方向調整装置３０は、光学系１６（例えば、ミラー）を駆動することにより、レーザビームＢの照射方向を調整する。図２に記載の例では、方向調整装置３０は、レーザ照射装置１０に含まれている。
【００３８】
代替的にあるいは付加的に、方向調整装置３０は、レーザ照射装置１０自体を移動させることにより、レーザビームＢの照射方向を調整してもよい。換言すれば、レーザ照射装置１０の外部に方向調整装置３０が設けられてもよい。図１に記載の例では、駆動装置（図示せず）が、レーザ照射装置１０を、Ｘ軸（例えば、水平軸）まわりに回転、および／または、Ｚ軸（例えば、鉛直軸）まわり回転させることにより、レーザビームＢの照射方向が調整される。代替的にあるいは付加的に、方向調整装置３０は、車両、船、航空機等の移動体（図示せず）自体であってもよい。この場合、移動体の位置または向きの変化により、レーザビームＢの照射方向が調整される。
【００３９】
（制御装置）
制御装置５０は、レーザビームＢを照射する目標位置Ｔを決定する装置である。制御装置５０は、ＣＰＵと記憶装置とを備えるコンピュータにより構成されてもよい。制御装置５０は、記憶装置５２に記憶されたプログラムを実行することにより、目標位置決定処理部５４として機能する。
【００４０】
目標位置決定処理部５４（制御装置５０）は、脅威物体２００と防御対象物１００との間の位置を目標位置Ｔとして決定する。目標位置Ｔは、脅威物体２００上の任意の１点と、防御対象物１００上の任意の１点との間の位置であるとも言える。目標位置Ｔは、脅威物体２００上の任意の１点と、防御対象物１００上の任意の１点とを結ぶ線分上に存在する。
【００４１】
脅威物体２００は、高出力レーザ照射部２００Ａであってもよいし、高出力レーザ照射部が搭載された移動体２００Ｂ（例えば、航空機）であってもよい。ただし、脅威物体２００からのレーザビームＢＥを曲げる、あるいは、拡散させるとの観点からは、目標位置Ｔと高出力レーザ照射部２００Ａの距離Ｌ１は短い方が良いため、脅威物体２００は、高出力レーザ照射部２００Ａである方が望ましい。脅威物体２００の位置は、後述の位置取得装置７０によって取得されてもよいし、制御装置５０等によって推定されてもよい。ただし、目標位置Ｔと高出力レーザ照射部２００Ａの距離Ｌ１は短い方が良いため、脅威物体２００の位置として高出力レーザ照射部２００Ａの位置が取得または推定される方が望ましい。防御対象物１００は、レーザ照射装置１０とは異なる構造物あるいは移動体（レーザ照射装置１０とは物理的に分離して配置される構造物あるいは移動体）であってもよいし、レーザ照射装置１０を搭載している構造物あるいは移動体であってもよい。なお、防御対象物１００の位置は、記憶装置５２に記憶されている。防御対象物１００の位置が変化する場合には、記憶装置５２には、例えば、防御対象物１００の最新の位置が記憶される。
【００４２】
目標位置決定処理部５４（制御装置５０）は、例えば、脅威物体２００の位置と、防御対象物１００の位置とを考慮して、目標位置Ｔを決定する。換言すれば、目標位置決定処理部５４は、脅威物体２００の位置と、防御対象物１００の位置との両方に基づいて、目標位置Ｔを決定する。レーザビームにより脅威物体２００を破壊するのであれば、脅威物体２００の位置のみを考慮して目標位置を決定すればよい。これに対し、本実施形態では、脅威物体２００と防御対象物１００との間に、後述の防御領域Ｄ（防御空間）を生成するために、脅威物体２００の位置と、防御対象物１００の位置との両方を考慮して、目標位置Ｔが決定される。
【００４３】
ところで、脅威物体２００からのレーザビームＢＥを曲げる、あるいは、拡散させるとの観点からは、脅威物体２００と目標位置Ｔとの間の距離Ｌ１はできるだけ短い方がよい。他方、高出力レーザ照射部２００Ａが脅威物体２００のどの位置に搭載されているかがわからない時、あるいは、複数のレーザ照射部が脅威物体２００に搭載されている時には、脅威物体２００と目標位置Ｔとの間の距離は、短すぎない方がよい（図３を参照）。また、脅威物体２００からのレーザビームＢＥを曲げる、あるいは、拡散させるとの観点からは、脅威物体２００からのレーザビームＢＥと、レーザビームＢとの間のオーバーラップ長さＬ２は、できるだけ長い方がよい。
【００４４】
以上の観点から、目標位置決定処理部５４は、脅威物体２００と目標位置Ｔとの間の距離Ｌ１が、脅威物体２００と防御対象物１００との間の距離よりも短くなるように、目標位置Ｔを決定する。目標位置決定処理部５４は、当該距離Ｌ１が、例えば、１ｍ以上１００ｍ以下となるように、あるいは、３ｍ以上２００ｍ以下となるように目標位置Ｔを決定してもよい。代替的に、あるいは、付加的に、目標位置決定処理部５４は、脅威物体２００からのレーザビームＢＥ（換言すれば、脅威物体２００と防御対象物１００とを結ぶ線分）と、レーザビームＢとの間のオーバーラップ長さＬ２が、例えば、閾値以上（閾値は、例えば、１ｍ、１０ｍあるいは１００ｍ）となるように、目標位置Ｔを決定してもよい。なお、オーバーラップ長さＬ２は、脅威物体２００と防御対象物１００との間の距離以下である。
【００４５】
防御領域Ｄは、サーマルブルーミングの発生領域を示す。防御領域Ｄは、目標位置Ｔから、所定の距離以内にある領域と定義されてもよい。当該所定の距離は、レーザビームＢの出力等に応じて変化する（所定の距離は、例えば、１ｍ、１０ｍ、１００ｍ等）。代替的に、防御領域Ｄは、レーザビームＢの照射の結果、大気温度Ｔｅｍｐ２が周囲の大気温度Ｔｅｍｐ１より高くなる領域であると定義されてもよい。なお、大気温度Ｔｅｍｐ１は、レーザビームＢを照射する前の、目標位置Ｔにおける大気温度Ｔｅｍｐ１と等しい。また、大気温度Ｔｅｍｐ２は、レーザビームＢを照射している時、あるいは、レーザビームＢを照射した後の任意の位置における大気温度である。代替的に、防御領域Ｄは、レーザビームＢの照射の結果、上記大気温度Ｔｅｍｐ２から上記大気温度Ｔｅｍｐ１を減算した値が、所定の閾値（例えば、０．１℃、１℃、１０℃等）以上となる領域であると定義されてもよい。代替的に、防御領域Ｄは、大気屈折率Ｎ２が周囲の大気屈折率Ｎ１より低い領域であると定義されてもよい。なお、大気屈折率Ｎ１は、レーザビームＢを照射する前の、目標位置Ｔにおける大気屈折率Ｎ１と等しい。また、大気屈折率Ｎ２は、レーザビームＢを照射している時、あるいは、レーザビームＢを照射した後の任意の位置における大気屈折率である。
【００４６】
なお、防御領域Ｄは、光学的には、凹レンズと同様の機能を有する。このため、防御領域Ｄは、凹レンズ領域と言うこともできる。
【００４７】
なお、図１において、脅威物体２００からのレーザビームＢＥは、模式的に記載されたものである。防御領域Ｄがない場合には、防御対象物１００上におけるレーザビームＢＥのビーム径は、一般的には、数ｃｍまたは１０ｃｍ程度である。このため、一般的には、脅威物体２００からのレーザビームＢＥは集束ビームであり、また、レーザビームＢＥは、防御対象物１００の一部のみに照射される。
【００４８】
また、図１に記載の例では、防御対象物１００の全体が防御されるように、目標位置Ｔ（換言すれば、防御領域Ｄ）が設定されているが、防御対象物１００の一部（例えば、重要部分）のみが防御されるように、目標位置Ｔ（換言すれば、防御領域Ｄ）が設定されてもよい。目標位置ＴにおけるレーザビームＢのビーム径は、例えば、１ｃｍ以上３ｍ以下、１ｃｍ以上２ｍ以下、あるいは、１ｃｍ以上１ｍ以下である。であってもよい。目標位置ＴにおけるレーザビームＢのビーム径は、物体の破壊を目的とするレーザビームＢＥのビーム径（一般的には、数ｃｍまたは１０ｃｍ程度）より大きくてもよい。なお、ビーム径とは、例えば、ビームの進行方向に垂直な断面におけるレーザ光の強度が、当該断面におけるレーザ光の最大強度の１／ｅ２（ｅは自然対数の底）となる部分の直径である。
【００４９】
制御装置５０は、決定された目標位置Ｔに基づいて、方向調整装置３０に、調整指令を送信する。その結果、方向調整装置３０は、調整指令に基づいて、レーザビームＢの照射方向を調整する。また、制御装置５０は、レーザ照射装置１０に、照射指令を送信する。そして、レーザ照射装置１０は、照射指令に基づいて、目標位置ＴにレーザビームＢを照射する。その結果、目標位置Ｔに防御領域Ｄが生成される。
【００５０】
脅威物体２００からのレーザビームＢＥは、防御領域Ｄの存在により、曲げられ、または、拡散され、防御対象物１００を破壊することができなくなる。以上のように、本実施形態のレーザ防御システム１では、レーザ兵器による攻撃を防御することができる。なお、レーザビームＢの照射は、脅威物体からのレーザビームＢＥの照射の前に実行されてもよいし、脅威物体からのレーザビームＢＥの照射中に実行されてもよいし、脅威物体からのレーザビームＢＥの照射後に次のレーザビームＢＥの照射を防御するために実行されてもよい。
【００５１】
なお、本実施形態におけるレーザビームＢは、脅威物体の破壊を目的とするものではない。このため、目標位置ＴにおけるレーザビームＢのエネルギ密度は、物体の破壊を目的とするレーザビームＢＥのエネルギ密度よりも低くてもよい。このため、例えば、レーザビームＢの射程を、脅威物体の破壊を目的とするレーザビームＢＥの射程より長くすることが可能である。このため、レーザ防御システム１による防御がより確実となる。また、本実施形態におけるレーザビームＢの質は、物体の破壊を目的とするレーザビームＢＥの質より低くてもよい。さらに、本実施形態におけるレーザビームＢの照射精度は、物体の破壊を目的とするレーザビームＢＥの照射精度より低くてもよい。その結果、より低コストで、レーザ防御システム１を構築することが可能となる。
【００５２】
なお、レーザ防御システム１は、任意付加的に、焦点距離調整装置４０を備えていてもよい。焦点距離調整装置４０は、レーザビームＢの焦点距離を調整する。焦点距離調整装置４０は、例えば、レーザ照射部１２と目標位置Ｔとの間の距離が、レーザビームＢの焦点距離となるように、光学系１６を調整する。焦点距離調整装置４０は、制御装置５０からの焦点距離調整指令に基づいて、レーザ照射部１２と目標位置Ｔとの間の距離が、レーザビームＢの焦点距離となるように、光学系１６を調整してもよい。レーザビームＢの焦点を目標位置Ｔに合わせることにより、目標位置ＴにおけるレーザビームＢのエネルギ密度を増加させることが可能となる。その結果、防御領域Ｄにおける防御能力が向上する。
【００５３】
また、実施形態におけるレーザ防御システム１は、既存のレーザシステムにおいて、制御装置５０を追加または変更することによって実現することも可能である。この場合、制御装置５０は、脅威物体２００にレーザビームＢを直接照射して脅威物体２００を破壊する脅威物体破壊モードと、上述の目標位置ＴにレーザビームＢを照射する防御モードとを選択的に実行できるようにするとよい。例えば、制御装置５０は、防御対象物１００と脅威物体２００との間の距離、あるいは、レーザ照射部１２と脅威物体２００との間の距離が所定の閾値より大きいときには、防御モードを実行し、当該距離が所定の閾値以下であるときには、脅威物体破壊モードを実行するようにしてもよい。換言すれば、制御装置５０は、防御対象物１００と脅威物体２００との間の距離に応じて、脅威物体破壊モードまたは防御モードのうちのいずれか一方を自動的に選択してもよい。代替的に、防御モード、または、脅威物体破壊モードは、オペレータによって手動で選択されてもよい。なお、脅威物体破壊モードにおいて、方向調整装置３０は、光学系１６を調整することにより、レーザビームの照射方向を、目標位置Ｔに向かう方向から、脅威物体２００に向かう方向に変更する。脅威物体破壊モードにおけるレーザビーム（破壊用レーザビーム）の出力は、防御モードにおけるレーザビーム（防御用レーザビーム）の出力よりも高くてもよい。代替的に、あるいは、付加的に、脅威物体破壊モードにおける脅威物体上のレーザビームのエネルギ密度は、防御モードにおける目標位置Ｔ上のレーザビームのエネルギ密度よりも高くてもよい。
【００５４】
（第１の実施形態の第１変形例）
図４および図５を参照して、第１の実施形態の第１変形例について説明する。図４は、レーザ防御システム１、防御対象物１００、および、脅威物体２００を模式的に示す概略図である。図５は、レーザ防御システム１の機能を模式的に示す機能ブロック図である。第１変形例のレーザ防御システムにおいて、第１の実施形態のレーザ防御システムの構成要素と同じ機能を有する構成要素については、同じ図番を付与し、繰り返しの説明を省略する。
【００５５】
図４および図５に記載の例では、レーザ防御システム１が、位置取得装置７０、および／または、電磁波検出装置８０を備える点で、第１の実施形態におけるレーザ防御システムとは異なる。
【００５６】
（位置取得装置）
位置取得装置７０は、脅威物体２００の位置を取得する装置である。位置取得装置７０は、公知のレーダ装置であってもよいし、脅威物体２００（より具体的には、脅威物体２００のエンジン、あるいは、脅威物体の高出力レーザ照射部２００Ａ）を熱源として検出する赤外線画像センサであってもよい。位置取得装置７０により取得された脅威物体２００（または、脅威物体である高出力レーザ照射部２００Ａ）の位置データは、制御装置５０に送信される。制御装置５０は、当該位置データ、および、記憶装置５２に記憶されている防御対象物１００の位置データに基づいて、目標位置Ｔを決定する。
【００５７】
（電磁波検出装置）
電磁波検出装置８０は、脅威物体２００が発する電磁波を検出する装置である。電磁波検出装置８０は、脅威物体２００が発するレーダ波（相手側が当方側を検出するために発するレーダ波）を検出するレーダ波受信機を含んでいてもよい。代替的に、あるいは、付加的に、電磁波検出装置８０は、脅威物体２００が発する低出力レーザ（例えば、レーザレーダ用のレーザ）を検出する光センサを含んでいてもよい。代替的に、あるいは、付加的に、電磁波検出装置８０は、脅威物体２００が発する高出力レーザ（例えば、破壊用のレーザ）を検出する光センサ（例えば、散乱光検出センサ）を含んでいてもよい。なお、光センサの検出帯域は、脅威物体２００からのレーザビームＢＥの波長に依存するが、例えば、波長１μｍ以上５μｍ以下の帯域である。代替的に、あるいは、付加的に、電磁波検出装置８０は、脅威物体２００が発する高出力レーザ（例えば、破壊用のレーザビーム）の到来を検出する温度センサ（図示せず）を含んでいてもよい。温度センサは、例えば、防御対象物１００に埋め込まれた温度センサ、あるいは、防御対象物１００の温度上昇を検出する赤外線画像センサ（赤外線画像センサは、防御対象物１００に設置されてもよいし、防御対象物１００以外の物体に設置されてもよい）である。
【００５８】
電磁波検出装置８０は、脅威物体２００が発する電磁波を検出すると、電磁波を検出したことを示す信号（警戒信号）を制御装置５０に送信する。制御装置５０は、警戒信号を受信すると、目標位置Ｔの算出を開始し、目標位置Ｔを決定する。
【００５９】
なお、電磁波検出装置８０は、脅威物体２００が発する電磁波を検出することにより、脅威物体２００の位置を逆探知あるいは推定することが可能な場合がある。この場合、電磁波検出装置８０を、位置取得装置７０として用いることが可能である。換言すれば、電磁波検出装置８０が、脅威物体の位置取得機能を備えていてもよい。電磁波検出装置８０（位置取得装置）によって取得された脅威物体２００の位置データ（あるいは、脅威物体２００の推定位置データ）は、制御装置５０に送信される。制御装置５０は、当該位置データ、および、記憶装置５２に記憶されている防御対象物１００の位置データに基づいて、目標位置Ｔを決定する。
【００６０】
第１の実施形態の第１変形例は、第１の実施形態と同様の効果を奏する。また、第１変形例では、脅威物体の位置をより正確に取得することが可能である。よって、レーザ防御システムによる防御能力が向上する。また、第１変形例では、脅威物体が発する電磁波を検出することが可能である。このため、具体的な脅威の検出（電磁波の検出）から遅滞なく、レーザ防御システムを作動させること（目標位置を算出すること、および、目標位置に防御領域を生成すること）が可能となる。
【００６１】
なお、位置取得装置７０、および／または、電磁波検出装置８０は、防御対象物１００およびレーザ照射装置１０とは独立して設けられてもよいし、防御対象物１００に設けられてもよいし、レーザ照射装置１０に設けられてもよいし、レーザ照射装置１０を搭載する移動体（図示せず）に設けられてもよい。
【００６２】
（第２の実施形態）
図６乃至図９を参照して、第２の実施形態について説明する。図６、図８は、レーザ防御システム１、防御対象物１００、および、脅威物体２００を模式的に示す概略図である。図７は、レーザ防御システム１の機能を模式的に示す機能ブロック図である。図９は、第１レーザビームＢ１の位相と、第２レーザビームＢ２の位相との間の位相差を変化させる例について説明する図である。なお、第２の実施形態のレーザ防御システムにおいて、第１の実施形態（第１の実施形態の第１変形例を含む）のレーザ防御システムの構成要素と同じ機能を有する構成要素については、同じ図番を付与し、繰り返しの説明を省略する。
【００６３】
第２の実施形態では、レーザ防御システム１のレーザ照射装置１０が、レーザビームＢの特性を変更する特性変更機構２０を備える点で、第１の実施形態におけるレーザ防御システムとは異なる。
【００６４】
図６には、脅威物体２００が発するレーザビームＢＥが、防御領域Ｄによって、曲げられる様子が記載されている。脅威物体２００は、レーザビームＢＥを補正することにより、防御対象物１００にレーザビームＢＥ’を照射する可能性がある。すなわち、レーザビームＢＥを補正することにより、防御領域Ｄが無効化される可能性がある。第２の実施形態では、このような場合に対応して、レーザビームＢの特性（換言すれば、防御領域Ｄの特性）を変更する。
【００６５】
図７を参照して、レーザ照射装置１０は、特性変更機構２０を備える。特性変更機構２０は、レーザビームＢの照射中に、レーザビームＢの特性を変更する。例えば、特性変更機構２０は、レーザビームＢの照射中に、光源１４への供給電力、あるいは、光学系１６等を変化させることにより、目標位置ＴにおけるレーザビームＢの強度分布を変更する。レーザビームＢの特性（例えば、強度分布）の変更は、周期的に繰り返し行われてもよい。レーザビームＢの特性（例えば、強度分布）の変更は、連続的に行われることが好ましいが、間歇的に行われてもよい。レーザビームＢの特性の変更が間歇的に行われる場合には、当該変更は、前回のレーザビームの特性変更から、例えば、１０ミリ秒以内に行われることが好ましい。
【００６６】
以下、目標位置ＴにおけるレーザビームＢの強度分布を変更するための具体例について説明する。
【００６７】
第１の例では、光学系１６等を変化させることにより、レーザビームＢのビーム形状（ビームのビーム照射方向に垂直な断面形状）を変更する。例えば、レーザビームＢのビーム形状を、円形状から楕円形状に変化させてもよい。また、レーザビームＢのビーム形状を、円形状と楕円形状との間で、繰り返し変化させてもよい。
【００６８】
第２の例では、光学系１６等を変化させることにより、レーザビームＢの伝搬モードを変更する。例えば、レーザビームＢの伝搬モードを、ガウス分布を有する基本モードから、ガウス分布以外の分布を有する高次モードに変更してもよいし、基本モードと高次モードとの組み合わせモードにおいて組み合わせ比率（基本モードが全体に占める割合等）を変化させてもよい。これに対し、一般的な高出力レーザ兵器では、小さなスポットにレーザビームを集光させる必要があるため、高次モードは可能な限り排除されている（換言すれば、伝播モードは安定化されており、伝播モードは変化しない）。
【００６９】
第３の例では、光学系１６等を変化させることにより、レーザビームの焦点距離を変更する。例えば、レーザビームＢの焦点距離がより長くなるように（例えば、焦点距離がレーザ照射部１２と目標位置Ｔとの間の距離よりも長くなるように）、焦点距離を変更してもよいし、レーザビームＢの焦点距離がより短くなるように（例えば、焦点距離がレーザ照射部１２と目標位置Ｔとの間の距離よりも短くなるように）、焦点距離を変更してもよい。また、レーザビームＢの焦点距離を長くする動作と短くする動作とが交互に行われてもよい。
【００７０】
第４の例では、光源１４への供給電力等を変化させることにより、レーザビームＢの強度自体（エネルギ密度）を変更する。
【００７１】
第５の例では、レーザ照射装置１０は、目標位置Ｔに、複数のレーザビームＢを照射する。例えば、図８に示されるように、目標位置Ｔに、第１レーザビームＢ１と、第２レーザビームＢ２とを照射することを想定する。この場合、目標位置Ｔにおいて、第１レーザビームＢ１と第２レーザビームＢ２とが結合される。レーザビームの結合に際しては、通常、ビーム中心において、最大のビーム強度が得られるように、第１レーザビームＢ１の位相と、第２レーザビームＢ２の位相との位相差がゼロとなるように、第１レーザビームＢ１の位相と第２レーザビームの位相とが同期制御される。これに対し、第５の例では、光学系１６等を変化させることにより（より具体的には、光学系１６を構成する位相調整器を調整することにより）、第１レーザビームＢ１の位相と、第２レーザビームＢ２の位相との位相差を変化させる（例えば、周期的に変化させる）ことにより、目標位置ＴにおけるレーザビームＢの強度分布を変更する（図９を参照）。図９には、第１レーザビームＢ１の位相（電界ベクトルの方向）を第２レーザビームＢ２の位相に対して変更する様子が記載され、また、位相の変更により、目標位置Ｔにおけるレーザビームの強度分布が変更される様子が記載されている。
【００７２】
なお、レーザビームＢの強度分布を変更するに際し、上述の第１の例乃至第５の例のうちの任意の１つが採用されてもよいし、上述の第１の例乃至第５の例のうちの任意の２つ、３つ、４つ、あるいは、５つが組み合わせられて採用されてもよい。
【００７３】
第２の実施形態では、脅威物体２００が、レーザビームＢＥの補正を行うことにより防御領域Ｄの無効化を図った場合であっても、当該防御領域Ｄの効力を有効に維持することが可能である。
【００７４】
（第３の実施形態）
図１０乃至図１２を参照して、第３の実施形態について説明する。図１０、１２は、レーザ防御システム１、防御対象物１００、および、脅威物体２００を模式的に示す概略図である。図１１は、レーザ防御システム１の機能を模式的に示す機能ブロック図である。なお、第３の実施形態のレーザ防御システムにおいて、第１の実施形態（第１の実施形態の第１変形例を含む）、または、第２の実施形態のレーザ防御システムの構成要素と同じ機能を有する構成要素については、同じ図番を付与し、繰り返しの説明を省略する。
【００７５】
第３の実施形態では、脅威物体２００の位置が不明である場合（脅威物体２００の位置が正確に取得されていない場合を含む）を想定した実施形態である。第３の実施形態では、脅威物体２００の位置が不明である時、制御装置５０が、脅威物体２００の仮想位置に基づいて、目標位置Ｔを決定する点で、第１の実施形態、および、第２の実施形態とは異なる。
【００７６】
図１１を参照して、制御装置５０は、位置推定処理部５６を備える。位置推定処理部５６は、脅威物体２００の存在する可能性のある位置（換言すれば、仮想位置２００−１、２００−２、２００−ｎ、２００−Ｗ等）を推定する。制御装置５０は、記憶装置５２に記憶されたプログラムを実行することにより、位置推定処理部５６として機能する。
【００７７】
位置推定処理部５６（制御装置５０）は、過去に取得された脅威物体２００の位置および速度に基づいて、脅威物体２００の仮想位置を推定してもよい。代替的に、位置推定処理部５６（制御装置５０）は、電磁波検出装置８０によって取得される電磁波（脅威物体２００が発する電磁波）に基づいて、脅威物体２００の存在する可能性のある位置（仮想位置）を推定してもよい。推定される仮想位置は、１つの仮想位置２００−１であってもよいが、複数の仮想位置２００−１乃至２００−ｎ、または、脅威物体２００の存在する可能性のある領域２００−Ｗであってもよい。
【００７８】
目標位置決定処理部５４（制御装置５０）は、脅威物体２００の仮想位置２００−１乃至２００−ｎ（または２００−Ｗ）に基づいて、目標位置Ｔ１乃至Ｔｎを決定する。より具体的には、目標位置決定処理部５４は、脅威物体２００の仮想位置２００−１乃至２００−ｎ（または２００−Ｗ）と防御対象物１００との間の位置を目標位置Ｔ１乃至Ｔｎとして決定する。第３の実施形態では、目標位置Ｔ１に対応して、レーザ照射装置１０から照射される第１レーザビームＢ１により防御領域Ｄ１が生成される。また、第２目標位置Ｔ２に対応して、レーザ照射装置１０から照射される第２レーザビームＢ２により防御領域Ｄ２が生成され、第ｎ目標位置Ｔｎに対応して、レーザ照射装置１０から照射される第ｎレーザビームＢｎにより防御領域Ｄｎが生成される。防御領域Ｄ１と防御領域Ｄ２とは、互いにオーバーラップしていてもよいし、防御領域Ｄｎ−１と防御領域Ｄｎ（ｎは、２以上の自然数）とは、互いにオーバーラップしていてもよい。なお、例えば、第１レーザビームＢ１と第２レーザビームＢ２とは、同時に照射されてもよいし、異なるタイミングで照射されてもよい。後者の場合、例えば、第１レーザビームＢ１により生成される防御領域Ｄ１が消滅する前に、第２レーザビームＢ２を照射すればよい。
【００７９】
第３の実施形態では、脅威物体２００の位置が正確に把握できない場合（あるいは、全く把握できない場合）であっても、脅威物体２００の仮想位置に基づいて、脅威物体２００からのレーザビームに対して防御を行うことが可能である。
【００８０】
なお、第３の実施形態において、脅威物体２００の仮想位置に基づいて、防御領域Ｄ１乃至Ｄｎを生成している時に、位置取得装置７０によって脅威物体２００の位置が取得される場合が想定される。この場合、目標位置決定処理部５４（制御装置５０）は、位置取得装置７０により取得された脅威物体２００の位置に基づいて、新たな目標位置Ｔｎｅｗ（図１２を参照）を決定する。新たな目標位置Ｔｎｅｗを決定するアルゴリズムは、第１の実施形態において、目標位置Ｔを決定するアルゴリズムと同じであってもよい。制御装置５０は、新たな目標位置Ｔｎｅｗが決定された後、レーザビームの照射目標を、仮想位置に基づいて決定された目標位置Ｔ１（または目標位置Ｔ１乃至Ｔｎ）から、新たな目標位置Ｔｎｅｗに変更する変更指令を、レーザ照射装置１０に送信する。そして、レーザ照射装置１０は、制御装置５０からの変更指令に基づいて、新たな目標位置Ｔｎｅｗに、新たなレーザビームＢを照射する。その結果、新たな目標位置Ｔｎｅｗに、新たな防御領域Ｄｎｅｗが生成される。
【００８１】
なお、第３の実施形態において、新たな目標位置Ｔｎｅｗの数は、仮想位置に対応する目標位置Ｔ１乃至Ｔｎの数よりも少なくすることが可能である。換言すれば、第３の実施形態では、脅威物体２００の位置が不明である時、広範囲な防御領域を生成する広域防御モードを実行し、脅威物体２００の位置が取得された時、集中的な防御領域を生成する集中防御モードを実行可能である。広域防御モードでは、例えば、仮想位置に対応する複数の目標位置Ｔ１乃至Ｔｎ（ｎは、２以上の自然数）に、レーザビームが照射される。また、集中防御モードでは、例えば、１つの目標位置Ｔ、あるいは、複数の目標位置Ｔ−１乃至Ｔ−ｋ（ｋは、ｎより小さい自然数）に、レーザビームが照射される。
【００８２】
（第４の実施形態）
図１３および図１４を参照して、第４の実施形態について説明する。図１３は、レーザ防御システム１、防御対象物１００、および、脅威物体２００を模式的に示す概略図である。図１４は、レーザ防御システム１の機能を模式的に示す機能ブロック図である。なお、第４の実施形態のレーザ防御システムにおいて、第１の実施形態（第１の実施形態の第１変形例を含む）、第２の実施形態、または、第３の実施形態のレーザ防御システムの構成要素と同じ機能を有する構成要素については、同じ図番を付与し、繰り返しの説明を省略する。
【００８３】
第４の実施形態では、防御領域Ｄ（または、防御領域Ｄｎｅｗ）の内部において、プラズマＰが生成される点、制御装置５０がプラズマ生成指令部５７を備える点で、第１の実施形態、第２の実施形態、および、第３の実施形態とは異なる。制御装置５０は、記憶装置５２に記憶されたプログラムを実行することにより、プラズマ生成指令部５７として機能する。
【００８４】
第４の実施形態では、目標位置Ｔ（または、目標位置Ｔｎｅｗ）に、レーザビームＢが集光される。レーザビームの集光は、例えば、焦点距離調整装置４０が、レーザ照射部１２と目標位置Ｔ（または、目標位置Ｔｎｅｗ）との間の距離が、レーザビームの焦点距離となるように、光学系１６を調整することにより実行されてもよい。集光されたレーザビームＢは、防御領域Ｄ（または、防御領域Ｄｎｅｗ）の内部において、プラズマＰを生成する。プラズマＰの生成は、レーザビームを高密度に集光すること、および／または、レーザビームの出力を増加させることにより実現可能である。プラズマＰは、レーザ光を吸収しやすい。このため、一旦プラズマＰが生成されると、当該プラズマＰは、レーザ照射装置１０からのレーザビームＢを吸収することにより、効率的に維持される。さらに、プラズマＰは、脅威物体２００から照射されるレーザビームＢＥも吸収する。このため、プラズマＰが、脅威物体２００から照射されるレーザビームＢＥを吸収することにより、防御領域Ｄが維持または拡大される。
【００８５】
プラズマ生成指令部５７（制御装置５０）は、レーザ照射装置１０に、プラズマ生成モードの実行を指令する。レーザ照射装置１０は、プラズマ生成指令部５７からの指令に基づいて、プラズマ生成モードを実行する。プラズマ生成モードにおいては、目標位置Ｔ（または、目標位置Ｔｎｅｗ）におけるレーザビーム密度がプラズマ生成可能な密度以上となるように、光源１４または光学系１６が調整される。なお、パルスレーザビームを用いる方が、連続レーザビームを用いるよりも、プラズマ生成がより容易である。よって、プラズマ生成モードでは、パルスレーザビームが生成されるように、光源１４または光学系１６が調整されてもよい。プラズマ生成モードでは、レーザ照射装置１０が、まず、パルスレーザビームを照射して、目標位置Ｔ（または、目標位置Ｔｎｅｗ）にプラズマＰを生成し、その後、レーザ照射装置１０が、目標位置のプラズマＰに連続レーザビームを照射して、プラズマを成長させてもよい。
【００８６】
第４の実施形態では、防御領域内にプラズマＰが生成されることにより、防御領域内の大気温度の上昇を、局所的（プラズマ生成領域内）に効率よく実現することが可能である。また、第４の実施形態では、プラズマＰ（防御領域）の成長に、脅威物体からのレーザビームを利用することが可能である。
【００８７】
なお、第４の実施形態において生成されたプラズマＰは、電磁パルス（ＥＭＰパルス）を放射する。放射された電磁パルスは、脅威物体２００の電子機器を誤作動させる。このことを考慮して、第４の実施形態のプラズマ生成モードは、脅威物体２００の電子機器を誤作動させる電磁パルス生成モードを含んでいてもよい。電磁パルス生成モードを実行する場合、目標位置Ｔと脅威物体２００との間の距離は、例えば、５０ｍ以下、あるいは、１０ｍ以下に設定される。
【００８８】
なお、例えば、第４の実施形態と、第３の実施形態とを組み合わせることも可能である。例えば、脅威物体２００の仮想位置に基づいて目標位置を決定する場合（例えば、広域防御モードの場合）には、プラズマを生成しないレーザビームを目標位置Ｔ１乃至Ｔｎに照射し、位置取得装置７０によって取得された脅威物体２００の位置に基づいて目標位置を決定する場合（例えば、集中防御モード）には、プラズマＰを生成するレーザビームを目標位置Ｔｎｅｗに照射することも可能である。
【００８９】
（第５の実施形態）
図１５および図１６を参照して、第５の実施形態について説明する。図１５は、レーザ防御システム１、防御対象物１００、および、脅威物体２００を模式的に示す概略図である。図１６は、レーザ防御システム１の機能を模式的に示す機能ブロック図である。なお、第５の実施形態のレーザ防御システムにおいて、第１の実施形態（第１の実施形態の第１変形例を含む）、第２の実施形態、第３の実施形態、または、第４の実施形態のレーザ防御システムの構成要素と同じ機能を有する構成要素については、同じ図番を付与し、繰り返しの説明を省略する。
【００９０】
第５の実施形態では、レーザ照射装置１０が、複数の照射装置を含む。照射装置の数は、２つであってもよいし、３つ以上であってもよい。
【００９１】
図１５、および、図１６に記載の例では、レーザ照射装置１０が、第１照射装置１０Ａ、および、第２照射装置１０Ｂを含む。第１照射装置１０Ａは、第１レーザビームＢ１を照射し、第２照射装置１０Ｂは、第２レーザビームＢ２を照射する。
【００９２】
図１６に記載の例では、第１照射装置１０Ａは、第１調整装置３０Ａ、第１光源１４Ａ、第１光学系１６Ａ、第１レーザ照射部１２Ａを含む。第１照射装置１０Ａは、第１焦点距離調整装置４０Ａを含んでもよいし、第１特性変更機構を含んでいてもよい。第１調整装置３０Ａ、第１光源１４Ａ、第１光学系１６Ａ、第１レーザ照射部１２Ａ、第１焦点距離調整装置４０Ａ、第１特性変更機構の機能は、それぞれ、上述の方向調整装置３０、光源１４、光学系１６、レーザ照射部１２、焦点距離調整装置４０、特性変更機構２０の機能と同じである。
【００９３】
図１６に記載の例では、第２照射装置１０Ｂは、第２調整装置３０Ｂ、第２光源１４Ｂ、第２光学系１６Ｂ、第２レーザ照射部１２Ｂを含む。第２照射装置１０Ｂは、第２焦点距離調整装置４０Ｂを含んでもよいし、第２特性変更機構を含んでいてもよい。第２調整装置３０Ｂ、第２光源１４Ｂ、第２光学系１６Ｂ、第２レーザ照射部１２Ｂ、第２焦点距離調整装置４０Ｂ、第２特性変更機構の機能は、それぞれ、上述の方向調整装置３０、光源１４、光学系１６、レーザ照射部１２、焦点距離調整装置４０、特性変更機構２０の機能と同じである。
【００９４】
第１照射装置１０Ａは、制御装置５０からの指令に基づいて、目標位置Ｔに第１レーザビームＢ１を照射する。目標位置Ｔは、第１の実施形態における目標位置Ｔと同じである。すなわち、目標位置Ｔは、脅威物体２００と防御対象物１００との間の位置である。制御装置５０は、脅威物体２００の位置と防御対象物１００の位置との両方に基づいて、目標位置Ｔを決定する。
【００９５】
第２照射装置１０Ｂは、制御装置５０からの指令に基づいて、第２目標位置Ｔ２に第２レーザビームＢ２を照射する。第２目標位置Ｔ２は、図１５に記載の例では、目標位置Ｔと同じである。図１５に記載の例では、第１レーザビームＢ１、および、第２レーザビームＢ２を目標位置Ｔに照射して、１つの防御領域Ｄを生成している。複数のレーザビームにより１つの防御領域Ｄを生成するモードのことを、本明細書では、合成モードと呼ぶ。合成モードにおいては、制御装置５０は、目標位置Ｔに、第１レーザビームＢ１、および、第２レーザビームＢ２が照射されるように、第１調整装置３０Ａ、および、第２調整装置３０Ｂに調整指令を送信する。なお、合成モードでは、３つ以上のレーザビームが、目標位置Ｔに照射されるようにしてもよい。
【００９６】
代替的に、図１７に記載の例のように、第２目標位置Ｔ２は、目標位置Ｔとは異なる位置であってもよい。第２目標位置Ｔ２は、例えば、脅威物体２００とは異なる第２脅威物体２００’の位置と、防御対象物１００の位置との間の位置である。制御装置５０は、第２脅威物体２００’の位置と防御対象物１００の位置との両方に基づいて、第２目標位置Ｔ２を決定する。なお、第２脅威物体２００’は、高出力レーザ照射部２００’Ａであってもよいし、高出力レーザ照射部が搭載された移動体２００’Ｂであってもよい。
【００９７】
図１７に記載の例では、第１レーザビームＢ１を目標位置Ｔに照射し、第２レーザビームＢ２を第２目標位置Ｔ２に照射することにより、２つの防御領域Ｄ、Ｄ２を生成している。複数のレーザビームにより複数の防御領域を生成するモードのことを、本明細書では、分散モードと呼ぶ。分散モードにおいては、制御装置５０は、目標位置Ｔに第１レーザビームＢ１が照射され、目標位置Ｔとは異なる第２目標位置Ｔ２に第２レーザビームＢ２が照射されるように、第１調整装置３０Ａ、および、第２調整装置３０Ｂに調整指令を送信する。
【００９８】
図１６に記載の制御装置５０は、図２に記載の例と同様に、目標位置決定処理部５４と記憶装置５２とを備える。制御装置５０は、図１４に記載の例のように、位置推定処理部５６、および／または、プラズマ生成指令部５７を備えていてもよい。
【００９９】
制御装置５０は、上述の合成モードと、上述の分散モードとを選択的に実行可能に構成されることが好ましい。なお、照射装置の数が３つ以上である場合、換言すれば、レーザ照射装置１０が、第１照射装置１０Ａと、第２照射装置１０Ｂと、第３照射装置１０Ｃとを備える場合には、合成モードと分散モードとが組み合わせられて実行されてもよい。例えば、図１８に記載の例では、制御装置５０は、第１照射装置１０Ａと、第２照射装置１０Ｂとを用いて、合成モードを実行し、第１照射装置１０Ａまたは第２照射装置１０Ｂと、第３照射装置１０Ｃとを用いて、分散モードを実行している。図１８に記載の例では、合成モードにおいて、第１レーザビームＢ１および第２レーザビームＢ２が、１つの目標位置Ｔに照射されている。また、分散モードにおいて、第１レーザビームＢ１（または第２レーザビームＢ２）が目標位置Ｔに照射され、かつ、第３レーザビームＢ３が、目標位置Ｔとは異なる目標位置Ｔ３に照射されている。
【０１００】
第５の実施形態では、複数の照射装置を備える。このため、照射するレーザビームの本数を増加させることが容易である。また、合成モードを実行する場合には、目標位置におけるレーザビームのエネルギ密度の増加を容易に実施できる。このため、防御領域における防御能力が容易に増強される。あるいは、合成モードを実行することにより、各レーザビームの出力（各照射装置の出力）を小さくすることが可能である。出力を小さくすることにより、各照射装置の小型化が可能である。照射装置の小型化により、照射装置の移動体（車両等）への搭載が容易となる。
【０１０１】
また、第５の実施形態では、合成モードと分散モードとを実行可能である。このため、レーザ防御システムを用いた防御の多様化が容易に実現される。例えば、第５の実施形態の分散モードを実行することにより、第３の実施形態における広域防御モードを容易に実現することが可能であり、かつ、第５の実施形態の合成モードを実行することにより、第３の実施形態における集中防御モードを容易に実現することが可能である。代替的にあるいは付加的に、第５の実施形態の合成モードを実行することにより、第４の実施形態のプラズマ生成モードを容易に実現することが可能である。
【０１０２】
（第６の実施形態）
第１の実施形態乃至第５の実施形態のうちのいずれか１つを用いて、レーザ防御方法を実行することが可能である。以下に、レーザ防御方法について説明する。
【０１０３】
（第１例）
図１９は、第１例におけるレーザ防御方法の手順を示すフローチャートである。
【０１０４】
第１例におけるレーザ防御方法では、第１ステップＳ１において、脅威物体２００の位置が取得または推定される。脅威物体２００の位置の取得は、上述の位置取得装置７０を用いて行われてもよい。また、脅威物体２００の位置の推定は、上述の位置推定処理部５６を用いて行われてもよい。
【０１０５】
レーザ防御方法の第２ステップＳ２は、目標位置Ｔを決定するステップである。目標位置Ｔは、脅威物体２００と防御対象物１００との間の位置である。目標位置Ｔは、例えば、脅威物体２００上の任意の１点と、防御対象物１００上の任意の１点との間の位置である。なお、目標位置Ｔを決定するステップは、上述の目標位置決定処理部５４を用いて行われてもよい。目標位置Ｔの決定は、例えば、脅威物体２００の位置座標と、防御物体１００の位置座標とを結ぶ線分を抽出し、当該線分上の点の中から、脅威物体２００の位置座標を示す点および防御対象１００の位置座標を示す点を除く任意の１点を選択することによって、行われてもよい。
【０１０６】
レーザ防御方法の第３ステップＳ３は、目標位置ＴにレーザビームＢを照射するステップである。目標位置Ｔには、大気が存在する（目標位置Ｔは、大気中の位置である）。目標位置ＴにレーザビームＢを照射することにより、目標位置Ｔの周囲の大気温度が上昇する。その結果、目標位置Ｔに防御領域Ｄが生成される。なお、目標位置ＴにレーザビームＢを照射するステップは、上述のレーザ照射装置１０を用いて行われてもよい。
【０１０７】
第１例におけるレーザ防御方法では、脅威物体から照射されるレーザビームが、防御領域Ｄによって効果的に防御される。
【０１０８】
（第２例）
図２０は、第２例におけるレーザ防御方法の手順を示すフローチャートである。
【０１０９】
第２例におけるレーザ防御方法は、第１例におけるレーザ防御方法において、目標位置に防御領域を生成するステップ（上述の第３ステップＳ３）の後に、レーザビームの特性を変更するステップ（第４ステップＳ４）が付加されている例に相当する。図２０に記載の例では、例えば、目標位置ＴにおけるレーザビームＢの強度分布が変更される。レーザビームＢの強度分布の変更は、上述の特性変更機構２０が、光源１４への供給電力、または、光学系１６等を周期的に変化させることにより行われてもよい。
【０１１０】
第２例におけるレーザ防御方法では、第１例と同様の効果を奏する。加えて、第２例におけるレーザ防御方法では、脅威物体から照射されるレーザビームが補正される場合であっても、防御領域の特性変更により、補正後のレーザビームが効果的に防御される。
【０１１１】
（第３例）
図２１は、第３例におけるレーザ防御方法の手順を示すフローチャートである。
【０１１２】
第３例におけるレーザ防御方法は、第１例または第２例におけるレーザ防御方法において、脅威物体破壊モードを実行するステップ（第５ステップＳ５）が付加されている例に相当する。脅威物体破壊モードを実行するステップ（第５ステップＳ５）は、例えば、目標位置に防御領域を生成するステップ（上述の第３ステップＳ３）の後に付加されるか、あるいは、レーザビームの特性を変更するステップ（上述の第４ステップＳ４）の後に付加される。脅威物体破壊モードは、破壊用レーザビームを脅威物体に直接照射して、脅威物体を破壊するモードである。脅威物体破壊モードにおいては、上述の方向調整装置３０は、光学系１６を調整することにより、レーザビームの照射方向を、目標位置Ｔに向かう方向から、脅威物体２００に向かう方向に変更する。
【０１１３】
脅威物体破壊モードは、防御対象物１００と脅威物体２００との間の距離、あるいは、レーザ照射部１２と脅威物体２００との間の距離が所定の閾値以下となったとき（閾値以下となったときのみ）に、実行されるようにしてもよい。
【０１１４】
第３例におけるレーザ防御方法では、第１例または第２例と同様の効果を奏する。加えて、第３例におけるレーザ防御方法では、防御モードと脅威物体破壊モードとの切り替えにより、より適切な防衛モードを選択することが可能となる。
【０１１５】
（第４例）
図２２は、第４例におけるレーザ防御方法の手順を示すフローチャートである。
【０１１６】
第４例におけるレーザ防御方法では、第１ステップＳ１’において、脅威物体２００の位置が推定される。脅威物体２００の位置の推定は、上述の位置推定処理部５６を用いて行われてもよい。位置推定処理部５６は、過去に取得された脅威物体２００の位置および速度に基づいて、脅威物体２００の仮想位置を推定してもよい。代替的に、位置推定処理部５６は、電磁波検出装置８０によって取得される電磁波（脅威物体２００が発する電磁波）に基づいて、脅威物体２００の存在する可能性のある位置（仮想位置）を推定してもよい。推定される仮想位置は、１つの仮想位置２００−１であってもよいが、複数の仮想位置２００−１乃至２００−ｎ、または、領域２００−Ｗであってもよい。なお、脅威物体２００の位置が完全に不明である場合には、位置推定処理部５６は、記憶装置５２に予め記憶されたデフォルト位置（デフォルト領域を含む）を、脅威物体２００の位置として推定してもよい。
【０１１７】
レーザ防御方法の第２ステップＳ２’は、目標位置Ｔを決定するステップである。目標位置Ｔは、推定された脅威物体２００の位置と防御対象物１００の位置との間の位置である。なお、脅威物体２００の位置として複数の位置（例えば、図１０において、符号２００−１乃至２００−ｎによって示される複数の位置を参照）が推定される場合には、目標位置Ｔは、複数の位置（例えば、図１０において、符号Ｔ１乃至Ｔｎによって示される複数の位置を参照）を含んでいてもよい。目標位置Ｔを決定するステップは、上述の目標位置決定処理部５４を用いて行われてもよい。
【０１１８】
レーザ防御方法の第３ステップＳ３’は、目標位置ＴにレーザビームＢを照射するステップである。目標位置ＴにレーザビームＢを照射することにより、目標位置Ｔに防御領域Ｄが生成される。目標位置Ｔに複数の位置が含まれる場合には、複数の目標位置Ｔ１乃至Ｔｎに、複数のレーザビームＢ１乃至Ｂｎが、それぞれ照射されてもよい。目標位置ＴにレーザビームＢを照射するステップは、上述のレーザ照射装置１０を用いて行われてもよい。
【０１１９】
レーザ防御方法の第４ステップＳ４’は、脅威物体２００の位置を取得するステップである。脅威物体２００の位置の取得は、上述の位置取得装置７０を用いて行われてもよい。
【０１２０】
レーザ防御方法の第５ステップＳ５’は、新たな目標位置Ｔｎｅｗを決定するステップである。新たな目標位置Ｔｎｅｗは、取得された脅威物体２００の位置と防御対象物１００の位置との間の位置である。新たな目標位置Ｔｎｅｗは、例えば、脅威物体２００上の任意の１点と、防御対象物１００上の任意の１点との間の位置である。なお、新たな目標位置Ｔｎｅｗを決定するステップは、上述の目標位置決定処理部５４を用いて行われてもよい。
【０１２１】
レーザ防御方法の第６ステップＳ６’は、新たな目標位置Ｔｎｅｗに新たなレーザビームを照射するステップである。新たな目標位置Ｔｎｅｗに新たなレーザビームを照射することにより、新たな目標位置Ｔｎｅｗに新たな防御領域Ｄｎｅｗが生成される。なお、新たな目標位置Ｔｎｅｗにレーザビームを照射するステップは、上述のレーザ照射装置１０を用いて行われてもよい。
【０１２２】
なお、第４例におけるレーザ防御方法において、第３ステップＳ３’または第６ステップＳ６’の後に、第２例における第４ステップＳ４（レーザビームの特性の変更）が実行されてもよい。代替的に、あるいは、付加的に、第６ステップＳ６’の後に、第３例における第５ステップＳ５（脅威物体破壊モードの実行）が実行されてもよい。
【０１２３】
第４例におけるレーザ防御方法では、第１例、第２例、または、第３例と同様の効果を奏する。加えて、第４例におけるレーザ防御方法では、脅威物体の位置が正確に把握できない場合（あるいは、全く把握できない場合）であっても、脅威物体の仮想位置に基づいて、脅威物体からのレーザビームに対して防御を行うことが可能である。
【０１２４】
本発明は上記各実施形態に限定されず、本発明の技術思想の範囲内において、各実施形態は適宜変形又は変更され得ることは明らかである。また、各実施形態又は変形例で用いられる種々の技術は、技術的矛盾が生じない限り、他の実施形態又は変形例にも適用可能である。
【符号の説明】
【０１２５】
１          ：レーザ防御システム
１０        ：レーザ照射装置
１０Ａ      ：第１照射装置
１０Ｂ      ：第２照射装置
１０Ｃ      ：第３照射装置
１２        ：レーザ照射部
１２Ａ      ：第１レーザ照射部
１２Ｂ      ：第２レーザ照射部
１４        ：光源
１４Ａ      ：第１光源
１４Ｂ      ：第２光源
１６        ：光学系
１６Ａ      ：第１光学系
１６Ｂ      ：第２光学系
２０        ：特性変更機構
３０        ：方向調整装置
３０Ａ      ：第１調整装置
３０Ｂ      ：第２調整装置
４０        ：焦点距離調整装置
４０Ａ      ：第１焦点距離調整装置
４０Ｂ      ：第２焦点距離調整装置
５０        ：制御装置
５２        ：記憶装置
５４        ：目標位置決定処理部
５６        ：位置推定処理部
５７        ：プラズマ生成指令部
７０        ：位置取得装置
８０        ：電磁波検出装置
１００      ：防御対象物
２００      ：脅威物体
２００'    ：第２脅威物体
２００−１、２００−２、２００−ｎ：仮想位置
２００−Ｗ  ：領域
２００Ａ    ：高出力レーザ照射部
２００Ｂ    ：移動体
Ｂ          ：レーザビーム
Ｂ１        ：第１レーザビーム
Ｂ２        ：第２レーザビーム
Ｂ３        ：第３レーザビーム
Ｂｎ        ：第ｎレーザビーム
ＢＥ        ：レーザビーム
Ｄ、Ｄ２、Ｄｎ、Ｄｎｅｗ：防御領域
Ｔ、Ｔ１、Ｔ２、Ｔ３、Ｔｎ、Ｔｎｅｗ：目標位置
【図１】
0006654028.tif 000002
【図２】
0006654028.tif 000003
【図３】
0006654028.tif 000004
【図４】
0006654028.tif 000005
【図５】
0006654028.tif 000006
【図６】
0006654028.tif 000007
【図７】
0006654028.tif 000008
【図８】
0006654028.tif 000009
【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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