(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ステージ上での樹脂層の積層により積層体を作製する積層体作製装置であって、
前記ステージに向けてＵＶ硬化性の樹脂インクを吐出する吐出ヘッドと、
前記ステージに向けてＵＶ光を照射するＵＶ光照射装置と、
前記ステージに対して相対移動が可能で該ステージをまたぐように門型に構成され、前記吐出ヘッドと前記ＵＶ光照射装置とを搭載するガントリと、
前記ＵＶ光照射装置を前記ガントリに対して上下に昇降させる昇降装置と、
を備え、
前記吐出ヘッドと前記ＵＶ光照射装置とは、前記相対移動の方向において前記ガントリを挟んで配置され、かつ、前記ＵＶ光の反射光が前記吐出ヘッドに向かうのを前記ガントリにより遮られている
積層体作製装置。
【請求項２】
ステージ上での樹脂層の積層により積層体を作製する積層体作製装置であって、
前記ステージに向けてＵＶ硬化性の樹脂インクを吐出する吐出ヘッドと、
前記ステージに向けてＵＶ光を照射するＵＶ光照射装置と、
前記ステージに対して相対移動が可能で該ステージをまたぐように門型に構成され、前記吐出ヘッドと前記ＵＶ光照射装置とを搭載するガントリと、
を備え、
前記吐出ヘッドと前記ＵＶ光照射装置とは、前記相対移動の方向において前記ガントリを挟んで配置され、かつ、前記ＵＶ光の反射光が前記吐出ヘッドに向かうのを前記ガントリにより遮られ、
前記ステージは、前記吐出ヘッドと前記ＵＶ光照射装置との間で、基台上に立設された前記ガントリの下方を往復動する
積層体作製装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の積層体作製装置であって、
前記ＵＶ光照射装置は、ＵＶ光源と、前記ＵＶ光源の上方に配置され該ＵＶ光源側に空気を送風するファンと、を備える
積層体作製装置。
【請求項４】
請求項１または２に記載の積層体作製装置であって、
前記ＵＶ光照射装置は、ＵＶ光源と、前記ＵＶ光源の上方に配置され該ＵＶ光源側から空気を吸引するファンと、を備える
積層体作製装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、積層体を作製する積層体作製装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、機能性材料を含むインク（液状体）をノズルから吐出して、機能性材料の膜や積層体を作製する積層体作製装置が知られている。例えば、特許文献１には、ステージに固定されたガントリを備え、このガントリに複数のノズルを有する吐出ヘッドが設けられたものにおいて、表面が撥水性を有する高分子膜を備えた基板にＵＶ光を照射して液水膜を形成することや高分子膜にインクを塗布することが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１５−１２５１２５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、このような作製装置として、ＵＶ硬化性の樹脂インクを吐出する吐出ヘッドと、ＵＶ光を照射するＵＶ光照射装置とを備えるものにおいて、コンパクトな構成とするために吐出ヘッドとＵＶ光照射装置とを隣接して配置する場合がある。その場合、ＵＶ光照射装置から照射されたＵＶ光の反射光やＵＶ光照射装置の冷却風などが吐出ヘッドに当たり易くなることがある。そうなると、ノズル内でインクが詰まり易くなったり飛翔するインクの軌道が変化し易くなったりして、吐出不良や吐出位置ずれなどに起因する造形不良が生じることがある。【０００５】
本発明は、コンパクトな構成としつつ、積層体の造形不良を抑制することを主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上述の主目的を達成するために以下の手段を採った。【０００７】
本発明の積層体作製装置は、
ステージ上での樹脂層の積層により積層体を作製する積層体作製装置であって、
前記ステージに向けてＵＶ硬化性の樹脂インクを吐出する吐出ヘッドと、
前記ステージに向けてＵＶ光を照射するＵＶ光照射装置と、
前記ステージに対して相対移動が可能で該ステージをまたぐように門型に構成され、前記吐出ヘッドと前記ＵＶ光照射装置とを搭載するガントリと、
を備え、
前記吐出ヘッドと前記ＵＶ光照射装置とは、前記相対移動の方向において前記ガントリを挟んで配置されている
ことを要旨とする。【０００８】
本発明の積層体作製装置は、ＵＶ硬化性の樹脂インクを吐出する吐出ヘッドとＵＶ光を照射するＵＶ光照射装置とが、ステージとガントリとの相対移動の方向においてガントリを挟んで配置されている。これにより、ＵＶ光照射装置から照射されるＵＶ光の反射光やＵＶ光源を冷却するファンの送風などをガントリで遮ることができる。このため、反射光や送風を遮るための専用の遮蔽板を設けることなく、吐出ヘッドの吐出不良や吐出位置ずれなどに起因する積層体の造形不良を抑制することができる。また、ガントリを挟んで配置される吐出ヘッドとＵＶ光照射装置とをそれ以上離して配置する必要がないから、装置全体をコンパクトに構成することができる。この結果、コンパクトな構成としつつ、積層体の造形不良を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】配線基板作製装置１０の構成の概略を示す構成図。
【図２】樹脂層形成ユニット２０の構成の概略を示す構成図。
【図３】配線基板作製装置１０の電気的な接続関係を示すブロック図。
【図４】配線基板作製処理の一例を示すフローチャート。
【図５】変形例の樹脂層形成ユニット２０Ｂの構成の概略を示す構成図。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
次に、本発明の実施の形態を図面を用いて説明する。図１は、配線基板作製装置１０の構成の概略を示す構成図であり、図２は、樹脂層形成ユニット２０の構成の概略を示す構成図であり、図３は、配線基板作製装置１０の電気的な接続関係を示すブロック図である。なお、図１において、前後方向がＸ方向であり、左右方向がＹ方向であり、上下方向がＺ方向である。
【００１１】
配線基板作製装置１０は、図１に示すように、基台１２と、基台１２上に設置されステージ１４をＹ方向に搬送する搬送装置１６と、ステージ１４上に樹脂層を積層して樹脂基材を作製する樹脂層形成ユニット２０と、樹脂層上に配線パターンを形成する配線層形成ユニット３０と、装置全体をコントロールする制御装置４０（図３参照）とを備える。
【００１２】
搬送装置１６は、例えば、コンベア装置を備え、コンベア装置を駆動することによりステージ１４をＹ方向に往復動させる。また、ステージ１４は、図示しない昇降装置により上下に昇降可能に構成されている。ステージ１４は、樹脂層の積層が進んで樹脂基材の厚みが増しても、例えば樹脂層形成ユニット２０の吐出ヘッド２２から樹脂層形成面までの距離が一定となるように制御装置４０によって高さが制御される。
【００１３】
樹脂層形成ユニット２０は、図１，図２に示すように、基台１２上に立設された門型のガントリ２１と、ステージ１４に向けてＵＶ硬化性の樹脂インクを吐出可能な吐出ヘッド２２と、ステージ１４上に吐出された樹脂インクにＵＶ光を照射可能なＵＶ光照射装置２４とを備える。吐出ヘッド２２とＵＶ光照射装置２４は、ガントリ２１に搭載されている。ガントリ２１は、基台１２上に立設された前後（Ｘ方向）一対の脚部２１ａと、一対の脚部２１ａに掛け渡された梁部２１ｂとにより構成され、ステージ１４をまたぐように配置されている。このため、ステージ１４は、そのガントリ２１の下方をＹ方向に往復動する。吐出ヘッド２２とＵＶ光照射装置２４は、ステージ１４が往復動するＹ方向において、ガントリ２１を挟むように配置されている。
【００１４】
吐出ヘッド２２は、Ｘ方向に複数のノズル２３が配列されたラインヘッドとして構成されている。この吐出ヘッド２２は、搬送装置１６によりＹ方向に搬送（往動）されるステージ１４に対し各ノズル２３から樹脂インクを吐出することで、矩形形状の樹脂層を塗布（印刷）する。なお、吐出ヘッド２２は、Ｘ方向に走査可能なキャリッジに搭載されるシリアルヘッドとして構成してもよい。
【００１５】
ＵＶ光照射装置２４は、Ｘ方向にライン状のＵＶ光を照射するＵＶ光源２５と、ＵＶ光源２５の上方に配置されＵＶ光源２５に向けて送風するファン２６とを備える。ＵＶ光照射装置２４は、ステージ１４をＹ方向に搬送しながらステージ１４上に塗布された矩形形状の樹脂層に、ＵＶ光源２５からライン状（Ｘ方向）のＵＶ光を照射することにより、樹脂層を順次硬化させる。なお、ＵＶ光源２５としては、例えば、水銀ランプやメタルハライドランプ等を用いることができる。また、ファン２６は、ＵＶ光源２５がＵＶ光を照射している間、ＵＶ光源２５に向けて送風するよう制御装置４０によって制御される。
【００１６】
また、本実施形態のＵＶ光照射装置２４は、図２に示すように、昇降装置２８を介してガントリ２１に取り付けられている。昇降装置２８は、出力軸がボールねじ軸に接続された図示しないＺ軸モータと、ボールねじ軸の回転に伴ってＺ方向に移動するスライド２８ａと、備える。ＵＶ光照射装置２４は、このスライダ２８ａに取り付けられており、昇降装置２８のＺ軸モータの駆動により上下（Ｚ方向）に昇降可能となっている。なお、図２（ａ）ではＵＶ光照射装置２４が上昇位置（上端位置）にある場合を示し、図２（ｂ）ではＵＶ光照射装置２４が下降位置（下端位置）にある場合を示す。ＵＶ光源２５から強度が一定のＵＶ光が出力されても、ＵＶ光照射装置２４が上昇位置にあるとステージ１４に到達するＵＶ光の照射強度が弱いものとなり、ＵＶ光照射装置２４が下降位置にあるとステージ１４に到達するＵＶ光の照射強度が強いものとなる。このように、昇降装置２８がＵＶ光照射装置２４を昇降させることによって、１のＵＶ光源２５からステージ１４に到達するＵＶ光の照射強度を制御することができる。
【００１７】
ここで、本実施形態では、吐出ヘッド２２とＵＶ光照射装置２４とがガントリ２１を挟んで配置されているため、図２（ａ）に示すように、ＵＶ光の反射光（点線で図示）が吐出ヘッド２２側に向かうのを遮ることができる。また、図２（ｂ）に示すように、ファン２６から送風される冷却風（実線で図示）が吐出ヘッド２２側に向かうのを遮ることができる。このため、ＵＶ光の反射光によってノズル２３内の樹脂インクの硬化が促されたり、ファン２６の送風によってノズル２３から飛翔するインクの軌道が変化したりするのを抑制することができる。なお、図示の都合上、ＵＶ光照射装置２４が上昇位置にある図２（ａ）においてＵＶ光の反射光がガントリ２１に遮られる様子を示し、ＵＶ光照射装置２４が下降位置にある図２（ｂ）において冷却風がガントリ２１に遮られる様子を示したが、ＵＶ光照射装置２４が上昇位置にあっても冷却風がガントリ２１に遮られ、ＵＶ光照射装置２４が下降位置にあってもＵＶ光の反射光がガントリ２１に遮られる。
【００１８】
樹脂層形成ユニット２０は、吐出ヘッド２２による樹脂層の塗布とＵＶ光照射装置２４による樹脂層の硬化とを複数回に亘って繰り返すことで、樹脂層を積層していき、所定厚さの樹脂基材（積層体）を形成する。
【００１９】
配線層形成ユニット３０は、金属ナノ粒子等の導電性粒子を分散剤に含む導電性粒子含有インクを吐出可能な吐出ヘッド３２と、吐出ヘッド３２から吐出された導電性粒子含有インクにレーザビームを照射するレーザ照射装置３６とを備える。
【００２０】
吐出ヘッド３２は、Ｘ方向に複数のノズルが配列されたラインヘッドとして構成されている。吐出ヘッド３２は、搬送装置１６によりステージ１４をＹ方向に搬送しながら対応するノズルから導電性粒子含有インクを吐出することで、樹脂層上の任意の位置に導電性粒子含有インクを塗布（印刷）することができる。具体的には、吐出ヘッド３２は、予め定められた配線予定ラインに沿って対応するノズルから導電性粒子含有インクを吐出することにより、樹脂層（樹脂基材）上に配線層を形成する。
【００２１】
レーザ照射装置３６は、図示しないキャリッジモータの駆動によりＸ方向の移動が可能なキャリッジ３５に搭載されており、レーザ照射装置３６のＸ方向の移動とステージ１４のＹ方向の移動とによって、ステージ１４に形成された樹脂基材上の配線予定ライン（配線層）に沿ってレーザビームを走査する。配線層は、レーザビームによって導電性粒子の周囲の分散剤が分解されることで、導電化する。
【００２２】
配線層形成ユニット３０は、吐出ヘッド３２による導電性粒子含有インクの塗布とレーザ照射装置３６による導電性粒子含有インクの導電化とを複数回に亘って繰り返すことで、配線層を導電化しながら積層していき、樹脂基材上に配線パターンを形成する。
【００２３】
制御装置４０は、図３に示すように、ＣＰＵ４１を中心としたマイクロプロセッサとして構成されており、ＣＰＵ４１の他に、ＲＯＭ４２と、ＨＤＤ４３と、ＲＡＭ４４と、入出力インタフェース４５とを備える。これらは、バス４６を介して電気的に接続されている。制御装置４０には、図示しないが、ステージ１４のＹ方向の位置やＺ方向の位置（高さ）を検知する検知センサからの検知信号やＵＶ光照射装置２４のＺ方向の位置を検知する検知センサからの検知信号、キャリッジ３５のＸ方向の位置を検知する検知センサからの検知信号などが入出力インターフェース４５を介して入力されている。また、制御装置４０からは、ステージ１４（昇降装置）への制御信号や、搬送装置１６（コンベア装置）への制御信号、吐出ヘッド２２への制御信号、ＵＶ光照射装置２４（ＵＶ光源２５，ファン２６）や昇降装置２８（Ｚ軸モータ）への制御信号、吐出ヘッド３２への制御信号、キャリッジ３５（キャリッジモータ）やレーザ照射装置３６への制御信号などが入出力インターフェース４５を介して出力されている。
【００２４】
次に、こうして構成された配線基板作製装置１０の動作について説明する。図４は、配線基板作製処理の一例を示すフローチャートである。この処理は、制御装置４０のＣＰＵ４１により実行される。
【００２５】
配線基板作製処理が実行されると、ＣＰＵ４１は、まず、樹脂層の形成と配線層の形成の実行順序を定めた工程データを入力し（Ｓ１００）、入力した工程データに基づいて今回の工程が樹脂層形成工程であるか否かを判定する（Ｓ１１０）。ＣＰＵ４１は、今回の工程が樹脂層形成工程であると判定すると、吐出ヘッド２２から樹脂層形成面までの距離が所定距離となるようステージ１４の高さを調整してステージ１４がＹ方向に往動しながら各ノズル２３から樹脂インクが吐出されるようステージ１４と搬送装置１６と吐出ヘッド２２とを制御する（Ｓ１２０）。これにより、ステージ１４上に矩形形状の樹脂層が形成されていく。
【００２６】
また、ＣＰＵ４１は、今回の樹脂層形成工程を開始すると、次回の工程が配線層形成工程であるか否かを判定する（Ｓ１３０）。ＣＰＵ４１は、次回の工程が配線層形成工程であると判定すると、ＵＶ光照射装置２４が上昇位置にあるか否かを判定し（Ｓ１４０）、上昇位置にあると判定すると、ＵＶ光照射装置２４が下降するよう昇降装置２８を制御して（Ｓ１５０）、ＵＶ光を照射するようＵＶ光照射装置２４を制御する（Ｓ１８０）。また、ＣＰＵ４１は、Ｓ１４０でＵＶ光照射装置２４が上昇位置でなく下降位置にあると判定すると、Ｓ１５０をスキップし、Ｓ１８０でＵＶ光を照射する。一方、ＣＰＵ４１は、次回の工程が配線層形成工程でなく樹脂層形成工程であると判定すると、ＵＶ光照射装置２４が下降位置にあるか否かを判定し（Ｓ１６０）、下降位置にあると判定すると、ＵＶ光照射装置２４が上昇するよう昇降装置２８を制御して（Ｓ１７０）、Ｓ１８０でＵＶ光を照射する。また、ＣＰＵ４１は、Ｓ１６０でＵＶ光照射装置２４が下降位置でなく上昇位置にあると判定すると、Ｓ１７０をスキップし、Ｓ１８０でＵＶ光を照射する。
【００２７】
ここで、ＵＶ光照射装置２４が下降位置にある場合、塗布された樹脂層をＵＶ光により完全硬化させるのに必要な強い照射強度が得られることになる。一方、ＵＶ光照射装置２４が上昇位置にある場合、塗布された樹脂層へのＵＶ光の照射強度が下降位置よりも弱くなるため、塗布された樹脂層は完全には硬化しない（半硬化）。次回の工程が配線層形成工程の場合、硬化が十分でない樹脂層上に配線層を形成すると、レーザビームの照射による発熱により、下地の樹脂層の未硬化成分から有機ガスが発生し、発生した有機ガスが分散剤の分解を阻害して、導電性を十分に確保できないおそれがある。このため、次回の工程が配線層形成工程であれば、Ｓ１５０でＵＶ光照射装置２４を下降させて、樹脂層に照射されるＵＶ光の照射強度を強くするのである。一方、次回の工程が樹脂層形成工程である場合、そのようなおそれは生じないものとなる。そのような場合に、ＵＶ光照射装置２４を下降位置として樹脂層（ステージ１４）に照射されるＵＶ光の照射強度を強くすると、比較的強度の高い反射光が生じることになる。このため、次回の工程が樹脂層形成工程であれば、Ｓ１７０でＵＶ光照射装置２４を上昇させて、樹脂層に照射されるＵＶ光の照射強度を必要以上に強くしないことで、反射光の強度を抑えるのである。これにより、吐出ヘッド２２とＵＶ光照射装置２４とをガントリ２１を挟んで配置することと相まって、ＵＶ光の反射光が吐出ヘッド２２に到達し難くすることができる。
【００２８】
そして、ＣＰＵ４１は、往動中のステージ１４が往動側の所定位置に到達したか否かを判定し（Ｓ１９０）、ステージ１４が往動側の所定位置に到達したと判定すると、ステージ１４を復動させてステージ１４を復動側の所定位置まで戻す（Ｓ２００）。なお、ＣＰＵ４１は、復動中もＵＶ光照射装置２４からＵＶ光を照射させる。また、ＣＰＵ４１は、次回が配線層形成工程の場合、Ｓ２００の処理に代えて、配線層形成処理の開始位置にステージ１４を移動させるものとしてもよい。また、本実施形態では、ＵＶ光照射装置２４がステージ１４の往動中と復動中とでＵＶ光を照射するものとしたが、復動中にのみＵＶ光を照射するものとしてもよい。
【００２９】
次に、ＣＰＵ４１は、全ての工程が終了したか否かを判定し（Ｓ２１０）、全ての工程が終了していないと判定すると、Ｓ１１０に戻り処理を繰り返す。また、ＣＰＵ４１は、Ｓ１１０で今回の工程が樹脂層形成工程でなく、配線層形成工程であると判定すると、配線層形成処理を実行して（Ｓ２２０）、Ｓ２１０に進む。配線層形成処理では、ＣＰＵ４１は、まず、吐出ヘッド３２から配線層形成面までの距離が所定距離となるようステージ１４の高さを調整してステージ１４がＹ方向に移動しながら配線予定ラインに沿って吐出ヘッド３２の各ノズルから導電性粒子含有インクが吐出されるようステージ１４と搬送装置１６と吐出ヘッド３２とを制御する。次に、ＣＰＵ４１は、導電性粒子含有インクが塗布された樹脂層（樹脂基材）に対し、配線予定ラインに沿ってレーザ照射装置３６からレーザビームが走査されるようキャリッジ３５および搬送装置１６を制御する。そして、ＣＰＵ４１は、配線層形成処理を実行すると、Ｓ２１０で全ての工程が終了したか否かを判定し、全ての工程が終了したと判定すると、配線基板作製処理を終了する。
【００３０】
ここで、本実施形態の構成要素と本発明の構成要素との対応関係を明らかにする。本実施形態の吐出ヘッド２２が本発明の吐出ヘッドに相当し、ＵＶ光照射装置２４がＵＶ光照射装置に相当し、ガントリ２１がガントリに相当する。また、昇降装置２８が昇降装置に相当し、ＵＶ光源２５がＵＶ光源に相当し、ファン２６がファンに相当する。
【００３１】
以上説明した本実施形態の配線基板作製装置１０は、吐出ヘッド２２とＵＶ光照射装置２４とが門型のガントリ２１を挟んで配置されているから、ＵＶ光照射装置２４から照射されるＵＶ光の反射光やＵＶ光源２５を冷却するファン２６の送風をガントリ２１で遮ることができる。このため、吐出ヘッド２２に到達するＵＶ光の反射光や送風が少なくなるから、反射光によって吐出ヘッド２２のノズル２３内の樹脂インクの硬化が促されたり、送風によって吐出ヘッド２２のノズル２３から飛翔するインクの軌道が変化したりするのを抑制することができる。したがって、反射光や送風を遮るための専用の遮蔽板を設けることなく、吐出不良や吐出位置ずれなどに起因する基板（積層体）の造形不良を抑制することができる。また、吐出ヘッド２２に到達するＵＶ光の反射光や送風が少なくなるため、ガントリ２１を挟んで配置される吐出ヘッド２２とＵＶ光照射装置２４とをそれ以上離して配置する必要がないから、樹脂層形成ユニット２０をコンパクトに構成することができる。
【００３２】
また、配線基板作製装置１０は、ＵＶ光照射装置２４をガントリ２１に対して上下に昇降させる昇降装置２８を備えるから、一のＵＶ光照射装置２４によりＵＶ光の照射強度を容易に制御することが可能となる。このため、ＵＶ光の照射強度を可変とするために、照射強度の異なる複数のＵＶ光源を設ける必要がないから、コンパクトな構成を実現し易くすることができる。
【００３３】
また、配線基板作製装置１０は、ＵＶ光照射装置２４が、ＵＶ光源２５と、ＵＶ光源２５の上方に配置されＵＶ光源２５側に空気を送風するファン２６とを備える。このため、ファン２６が送風した空気（冷却風）が、吐出ヘッド２２側に向かい易くなるため、ガントリ２１で送風を遮る効果を顕著なものとすることができる。
【００３４】
なお、本発明は上述した実施形態に何ら限定されることはなく、本発明の技術的範囲に属する限り種々の態様で実施し得ることはいうまでもない。
【００３５】
例えば、上述した実施形態では、ＵＶ光照射装置２４が上方からＵＶ光源２５側に空気を送風するファン２６を備えるものとしたが、これに限られず、図５に示す変形例のようにしてもよい。図５は、変形例の樹脂層形成ユニット２０Ｂの構成の概略を示す構成図である。なお、図５中の実線矢印は、空気の流れを示す。図示するように、樹脂層形成ユニット２０ＢのＵＶ光照射装置２４Ｂは、ＵＶ光源２５の上方に配置されＵＶ光源２５側から空気を吸引することでＵＶ光源２５を冷却するファン２６Ｂを備えている。このようにすれば、ファン２６Ｂが吸引した空気は上方に排出されるから、吐出ヘッド２２側に向かい難くすることができる。このため、吐出ヘッド２２とＵＶ光照射装置２４Ｂとをガントリ２１を挟んで配置することと相まって、基板（積層体）の造形不良をさらに抑制することができる。
【００３６】
上述した実施形態では、ＵＶ光源２５が照射するＵＶ光の反射光と、ファン２６から送風される空気（冷却風）とをいずれもガントリ２１が遮断するものとしたが、これに限られるものではない。例えば、ＵＶ光照射装置２４がファン２６を備えなくてもよく、ガントリ２１が少なくともＵＶ光の反射光を遮断するものとしてもよい。
【００３７】
上述した実施形態では、ガントリ２１の構造体（脚部２１ａ，梁部２１ｂ）によりＵＶ光の反射光や送風される空気を遮断するものとしたが、これに限られず、ガントリ２１の表面に遮断用の平板を取り付けるものなどとしてもよい。この平板は、例えば、ステンレス製やアルミニウム製などとすることができる。
【００３８】
上述した実施形態では、ガントリ２１が固定されてステージ１４が移動するものとしたが、ステージ１４が固定されてガントリ２１が移動するものなど、ガントリ２１とステージ１４とが相対移動するものであればよい。
【００３９】
上述した実施形態では、ＵＶ光照射装置２４が昇降装置２８によりガントリ２１に対して上下に昇降するものとしたが、これに限られず、昇降装置２８を備えず、ＵＶ光照射装置２４がガントリ２１に固定されたものとしてもよい。
【００４０】
上述した実施形態では、次回の工程が配線層形成工程であるか否かに応じてＵＶ光照射装置２４の高さを変更したが、これに限られるものではない。吐出ヘッド２２により吐出（塗布）される樹脂インクの種類や塗布された樹脂インクの厚み，塗布時間，照射時間など各種形成条件に応じてＵＶ光照射装置２４の高さを変更してもよい。また、ＵＶ光照射装置２４の高さを２段階に変更するものに限られず、３以上の複数段階に変更したり、無段階に変更したりしてもよい。
【００４１】
上述した実施形態では、樹脂層形成ユニット２０と配線層形成ユニット３０とを備える配線基板作製装置１０を例示したが、これに限られず、樹脂層形成ユニット２０のみを備え、樹脂層の積層により積層体を作製する積層体作製装置としてもよい。
【００４２】
上述した実施形態では、ステージ１４の１回の往復動で吐出ヘッド２２による樹脂層の塗布とＵＶ光照射装置２４によるＵＶ光の照射とを行うものとしたが、これに限られるものではない。例えば、ステージ１４の往復動で吐出ヘッド２２による樹脂層の塗布を複数回行った後に、複数の樹脂層に対してＵＶ光照射装置２４によるＵＶ光の照射をまとめて行うものとしてもよい。
【産業上の利用可能性】
【００４３】
本発明は、樹脂層の積層体を作製する積層体作製装置などに利用可能である。
【符号の説明】
【００４４】
１０  配線基板作製装置、１２  基台、１４  ステージ、１６  搬送装置、２０，２０Ｂ  樹脂層形成ユニット、２１  ガントリ、２１ａ  脚部、２１ｂ  梁部、２２  吐出ヘッド、２３  ノズル、２４，２４Ｂ  ＵＶ光照射装置、２５  ＵＶ光源、２６，２６Ｂ  ファン、２８  昇降装置、２８ａ  スライダ、３０  配線層形成ユニット、３２  吐出ヘッド、３５  キャリッジ、３６  レーザ照射装置、４０  制御装置、４１  ＣＰＵ、４２  ＲＯＭ、４３  ＨＤＤ、４４  ＲＡＭ、４５  入出力インターフェース、４６  バス。
【図１】
0006751135.tif 000002
【図２】
0006751135.tif 000003
【図３】
0006751135.tif 000004
【図４】
0006751135.tif 000005
【図５】
0006751135.tif 000006