(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂フィルムと、該樹脂フィルムの一方の面に配した粘着層とを少なくとも有する積層体であって、
前記樹脂フィルムが、アクリル系樹脂フィルム、トリアセチルセルロース系樹脂フィルム、ポリエチレンテレフタラート系樹脂フィルムおよびポリカーボネート系樹脂フィルムから選択される樹脂フィルムで構成された単層フィルム又は２層以上積層フィルムであり、前記粘着層がアクリル系粘着剤の層であり、
前記積層体における積層状態において、前記樹脂フィルムは、前記粘着層を有する面とは反対側の面の、測定視野４ｍｍ×５ｍｍでの表面粗さＳａが３０ｎｍ以下であり、
前記粘着層は、厚みが１００μｍ以下であって、周波数１Ｈｚにおける損失正接の極大値が０℃〜−４０℃の温度領域にあり、かつ前記極大値が１．３以上である積層体。
【請求項２】
前記積層体における積層状態において、前記樹脂フィルムは、前記粘着層を有する面とは反対側の面の、測定視野１２０μｍ×１２０μｍでの表面粗さＳａが２０ｎｍ以下である請求項１に記載の積層体。
【請求項３】
前記樹脂フィルムの厚みが８０μｍ以上である請求項１または２に記載の積層体。
【請求項４】
前記樹脂フィルムの、前記粘着層を有する面とは反対側の面にハードコート層を有する請求項１〜３のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項５】
前記ハードコート層の厚みが１０μｍ以上５０μｍ以下である請求項４に記載の積層体。
【請求項６】
前記ハードコート層の鉛筆硬度が５Ｈ以上である請求項４または５に記載の積層体。
【請求項７】
前記粘着層の、前記樹脂フィルムを有する面とは反対側の面に、直線偏光反射層または円偏光反射層を有する請求項１〜６のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項８】
前記円偏光反射層が、コレステリック液晶層を少なくとも１層含み、前記コレステリック液晶層が重合性液晶化合物および重合開始剤を含む液晶組成物を硬化してなる層である請求項７に記載の積層体。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の積層体を有する、画像表示装置の前面板。
【請求項１０】
請求項９に記載の前面板と、画像表示素子とを有する画像表示装置。
【請求項１１】
前記画像表示素子が液晶表示素子である、請求項１０に記載の画像表示装置。
【請求項１２】
前記画像表示素子が有機エレクトロルミネッセンス表示素子である、請求項１０に記載の画像表示装置。
【請求項１３】
前記画像表示素子がインセルタッチパネル表示素子である、請求項１０〜１２のいずれか１項に記載の画像表示装置。
【請求項１４】
前記画像表示素子がオンセルタッチパネル表示素子である、請求項１０〜１２のいずれか１項に記載の画像表示装置。
【請求項１５】
請求項９に記載の前面板を有する抵抗膜式タッチパネル。
【請求項１６】
請求項９に記載の前面板を有する静電容量式タッチパネル。
【請求項１７】
請求項１０に記載の画像表示装置を用いた画像表示機能付きミラー。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、積層体ならびにこれを有する画像表示装置の前面板、画像表示装置、画像表示機能付きミラ−、抵抗膜式タッチパネルおよび静電容量式タッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
タッチパネル等の画像表示装置の最表面には、割れ、傷つき防止等の目的で、化学強化ガラス等のガラスが使用されている。近年、薄型化、軽量化および折り曲げ性の付与等の観点から、上記ガラスの代替材料として、プラスチックフィルムへの置き換えが進んでいる。このガラス代替プラスチックフィルム（以下、単にフィルムとも称す。）には、ガラスと同等の硬度および耐擦性等の機能的要求に加えて、外観ないし質感においてもよりガラスに近い品質（いわゆるガラスの「高級感」を意味する。以下、この品質を「ガラス品質」と呼ぶ。）なども求められるようになってきている。
例えば、特許文献１には、透明性と平滑な表面外観を有する、アクリル系エラストマー樹脂フィルムが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１６−２０４１５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本願発明者らが検討したところ、上記ガラス品質が、フィルム表面のマクロな領域での凹凸と相関関係を有することを見出した。一般にフィルムの平滑性は、ミクロな領域（例えば、測定視野１２０μｍ□）の凹凸に関係するものである。しかし、上記ガラス品質は、ミクロではなくマクロな領域（例えば、測定視野４ｍｍ×５ｍｍオーダー）の凹凸の影響を受け、マクロの凹凸が平滑であるほどガラスのような高級感に近づくことを見出した。
本願発明者らがガラス代替プラスチックフィルムの検討をさらに進めたところ、フィルムとしては平滑であっても、他の部材に積層してディスプレイとした形態では、フィルムの平滑性が低下し、ガラスを用いた場合に比べて外観が悪くなり、ガラスのような高級感が得られないという問題が生じることがわかった。【０００５】
本発明は、他の部材に積層した際にも優れたガラス品質を示す積層体、ならびに、優れたガラス品質を示す画像表示装置の前面板、画像表示装置、画像表示機能付きミラ−、抵抗膜式タッチパネルおよび静電容量式タッチパネルを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本願発明者らが鋭意検討した結果、上記ガラス品質が、他の部材との積層に使用される粘着剤の物性の影響を受けること、さらには特定の厚みおよび損失正接を有する粘着層と、マクロな領域での表面粗さが特定の値以下である樹脂フィルムとの積層体が、他の部材に積層した際にも、優れたガラス品質を示すことを見出した。また、上記積層体を用いることにより、優れたガラス品質を示す、画像表示装置の前面板、画像表示装置、画像表示機能付きミラ−、抵抗膜式タッチパネルおよび静電容量式タッチパネルを提供できることを見出した。本発明はこれらの知見に基づきさらに検討を重ね、完成されるに至ったものである。【０００７】
すなわち、上記の課題は以下の手段により解決された。
（１）樹脂フィルムと、樹脂フィルムの一方の面に配した粘着層とを少なくとも有する積層体であって、
樹脂フィルムが、アクリル系樹脂フィルム、トリアセチルセルロース系樹脂フィルム、ポリエチレンテレフタラート系樹脂フィルムおよびポリカーボネート系樹脂フィルムから選択される樹脂フィルムで構成された単層フィルム又は２層以上積層フィルムであり、粘着層がアクリル系粘着剤の層であり、
積層体における積層状態において、樹脂フィルムは、粘着層を有する面とは反対側の面の、測定視野４ｍｍ×５ｍｍでの表面粗さＳａが３０ｎｍ以下であり、
粘着層は、厚みが１００μｍ以下であって、周波数１Ｈｚにおける損失正接の極大値が０℃〜−４０℃の温度領域にあり、かつ極大値が１．３以上である積層体。
（２）積層体における積層状態において、樹脂フィルムは、粘着層を有する面とは反対側の面の、測定視野１２０μｍ×１２０μｍでの表面粗さＳａが２０ｎｍ以下である（１）に記載の積層体。
（３）樹脂フィルムの厚みが８０μｍ以上である（１）または（２）に記載の積層体。
（４）樹脂フィルムの、粘着層を有する面とは反対側の面にハードコート層を有する（１）〜（３）のいずれか１つに記載の積層体。
（５）ハードコート層の厚みが１０μｍ以上５０μｍ以下である（４）に記載の積層体。（６）ハードコート層の鉛筆硬度が５Ｈ以上である（４）または（５）に記載の積層体。
（７）粘着層の、樹脂フィルムを有する面とは反対側の面に、直線偏光反射層または円偏光反射層を有する（１）〜（６）のいずれか１つに記載の積層体。
（８）円偏光反射層が、コレステリック液晶層を少なくとも１層含み、コレステリック液晶層が重合性液晶化合物および重合開始剤を含む液晶組成物を硬化してなる層である（７）に記載の積層体。
（９）  （１）〜（８）のいずれか１つに記載の積層体を有する、画像表示装置の前面板。
（１０）  （９）に記載の前面板と、画像表示素子とを有する画像表示装置。
（１１）画像表示素子が液晶表示素子である、（１０）に記載の画像表示装置。
（１２）画像表示素子が有機エレクトロルミネッセンス表示素子である、（１０）に記載の画像表示装置。
（１３）画像表示素子がインセルタッチパネル表示素子である、（１０）〜（１２）のいずれか１つに記載の画像表示装置。
（１４）画像表示素子がオンセルタッチパネル表示素子である、（１０）〜（１２）のいずれか１つに記載の画像表示装置。
（１５）  （９）に記載の前面板を有する抵抗膜式タッチパネル。
（１６）  （９）に記載の前面板を有する静電容量式タッチパネル。
（１７）  （１０）に記載の画像表示装置を用いた画像表示機能付きミラー。
【０００８】
本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
本明細書において、単に「アクリル」又は「（メタ）アクリル」と記載するときは、メタクリル及び／又はアクリルを意味する。また、単に「アクリロイル」又は「（メタ）アクリロイル」と記載するときは、メタクリロイル及び／又はアクリロイルを意味する。【０００９】
本明細書において、重量平均分子量（Ｍｗ）は、特段の断りがない限り、ＧＰＣによってポリスチレン換算の分子量として計測することができる。このとき、ＧＰＣ装置ＨＬＣ−８２２０（東ソー（株）社製）を用い、カラムはＧ３０００ＨＸＬ＋Ｇ２０００ＨＸＬを用い、２３℃で流量は１ｍＬ／ｍｉｎで、ＲＩで検出することとする。溶離液としては、ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）、クロロホルム、ＮＭＰ（Ｎ−メチル−２−ピロリドン）、ｍ−クレゾール／クロロホルム（湘南和光純薬（株）社製）から選定することができ、溶解するものであればＴＨＦを用いることとする。
本明細書において、各層の厚み、表面粗さおよび損失正接（ｔａｎδ）は、実施例記載の方法により測定されるものである。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の積層体は、他の部材に積層した際にも、優れたガラス品質を示すことができる。また、本発明の積層体を有する、画像表示装置の前面板、画像表示装置、画像表示機能付きミラ−、抵抗膜式タッチパネルおよび静電容量式タッチパネルは、優れたガラス品質を示すことができる。
本発明の上記および他の特徴および利点は、適宜添付の図面を参照して、下記の記載からより明らかになるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】図１は、本発明の積層体の構成を示す縦断面図である。
【図２】図２は、ハードコート層を有する本発明の積層体の構成の一実施形態を示す縦断面図である。
【図３】図３は、静電容量式タッチパネルの一実施形態を示す断面概略図である。
【図４】図４は、タッチパネル用導電フィルムの概略図である。
【図５】図５は、図４における第１電極１１と第２電極２１との交差部を示す概略図である。
【図６】図６は、図４におけるアクティブエリアＳ１内における第１導電層８が有してもよい第１ダミー電極１１Ａの一実施形態を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
＜好ましい実施形態＞
［積層体］
本発明の積層体の好ましい実施形態を図１に示す。図１に示す積層体４Ａは、少なくとも、樹脂フィルム１Ａと、樹脂フィルムの一方の面に粘着層２Ａとを有する積層体（すなわち、樹脂フィルム１Ａと、この樹脂フィルム１Ａの一方の面に配した粘着層２Ａとを少なくとも有する積層体）である。積層体における樹脂フィルムは、粘着層を有する面とは反対側の面（すなわち、図１においては、粘着層２Ａが接している面とは反対側の樹脂フィルム１Ａの面）の、測定視野４ｍｍ×５ｍｍでの表面粗さＳａが３０ｎｍ以下であり、積層体における粘着層は、厚みが１００μｍ以下であって、周波数１Ｈｚにおける損失正接の極大値が０℃〜−４０℃の温度領域にあり、かつこの極大値が１．３以上である。
本発明の積層体が上記構成を有することにより、他の部材に積層した際にも、優れたガラス品質を示すことができる。この理由は定かではないが、以下のように考えられる。
一般に、フィルムと他の部材を積層する際には、ＯＣＡ（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｌｅａｒ  Ａｄｈｅｓｉｖｅ）などの粘着剤で貼合される。この貼合プロセスでは、粘着剤とフィルムをローラー等で圧着するため、圧力のムラが生じると予想される。その際、強く圧力がかかった部分が凹凸として目視できるサイズまで変形するため、ガラス品質が悪化すると考えられる。
他方、粘着層が、特定温度範囲内に、特定の値以上の損失正接（ｔａｎδ）の極大値を有する場合には、粘着層は、上記貼合プロセスでの圧力を変形でなく熱に変換して消費できるようになる。このことと、粘着層の厚みを一定程度小さくして粘着剤の絶対量を低減することとが相俟って、樹脂フィルムの凹凸の発生が効果的に抑えられるものと推定される。
【００１３】
（積層体における樹脂フィルムの表面粗さＳａ）
上記積層体における樹脂フィルムの表面粗さＳａとは、樹脂フィルムと粘着層とが積層された状態での、粘着層を有する面とは反対側の面の表面粗さ（以下、単に表面粗さＳａとも称す。）を意味し、後述する樹脂フィルム単体の表面粗さとは異なる。
樹脂フィルムの表面粗さＳａは、測定視野４ｍｍ×５ｍｍで、３０ｎｍ以下であり、２０ｎｍ以下が好ましく、１５ｎｍ未満がより好ましく、１０ｎｍ未満がさらに好ましく、９ｎｍ以下がさらに好ましく、８ｎｍ以下がさらに好ましく、７ｎｍ以下がさらに好ましく、６ｎｍ以下が特に好ましく、５ｎｍ以下が最も好ましい。下限値は１ｎｍ以上であることが実際的である。また、樹脂フィルムの表面粗さＳａは、測定視野１２０μｍ×１２０μｍで、２０ｎｍ以下が好ましく、５ｎｍ以下がより好ましく、３ｎｍ以下がさらに好ましい。下限値は１ｎｍ以上であることが実際的である。
なお、樹脂フィルムが、粘着層を有する面とは反対側の面（以下、視認側の面とも称す。）に、後述するハードコート層等のその他の層を有する場合には、上記「樹脂フィルムの表面粗さＳａ」は、樹脂フィルムが積層体の視認側最表面に位置する積層体の状態で測定される、樹脂フィルムの表面粗さＳａを意味する。すなわち、ハードコート層を有する本発明の積層体においては、ハードコート層が樹脂フィルム上に積層される前の、樹脂フィルムと粘着層の積層体の状態での、樹脂フィルムの表面粗さＳａを意味する。
（樹脂フィルムの厚み）
樹脂フィルムの厚みは、８０μｍ以上が好ましく、９０μｍ以上がより好ましく、１００μｍ以上がさらに好ましい。上限値は３００μｍ以下であることが実際的である。
以下、本発明の積層体を構成する各層について、詳細を説明する。
【００１４】
（１）樹脂フィルム
（樹脂フィルムの材質）
本発明に用いられる樹脂フィルムは、積層体を形成した場合に、測定視野４ｍｍ×５ｍｍでの、積層状態での樹脂フィルムの表面粗さＳａが３０ｎｍ以下となるものであれば、その材質は特に限定されない。
樹脂フィルムは、例えば、アクリル系樹脂フィルム、ポリカーボネート（ＰＣ）系樹脂フィルム、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）系樹脂フィルム、ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）系樹脂フィルム、ポリオレフィン系樹脂フィルム、ポリエステル系樹脂フィルム、および、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体フィルムを挙げることができ、アクリル系樹脂フィルム、トリアセチルセルロース系樹脂フィルム、ポリエチレンテレフタラート系樹脂フィルムおよびポリカーボネート系樹脂フィルムから選択される樹脂フィルムが好ましい。
尚、アクリル系樹脂フィルムとは、アクリル酸エステルおよびメタクリル酸エステルからなる群から選択される１種以上の化合物から形成される重合体または共重合体の樹脂フィルムをいう。アクリル系樹脂フィルムの例としては、ポリメタクリル酸メチル樹脂（ＰＭＭＡ）フィルムが挙げられる。
【００１５】
（樹脂フィルムの構成）
また、樹脂フィルムの構成も限定されず、単層のフィルムであってもよく、２層以上からなる積層フィルムであってもよいが、２層以上の積層フィルムが好ましい。積層フィルムの積層数は、２〜１０層が好ましく、２〜５層がより好ましく、２層または３層がさらに好ましい。３層以上の場合、外層と外層以外の層（コア層等）とは、異なる組成のフィルムが好ましい。また、外層同士は、同じ組成のフィルムが好ましい。
具体的には、ＴＡＣ−ａ／ＴＡＣ−ｂ／ＴＡＣ−ａ、アクリル−ａ／ＰＣ／アクリル−ａおよびＰＥＴ−ａ／ＰＥＴ−ｂ／ＰＥＴ−ａの積層構造を有するフィルム、ならびに、ポリカーボネート系樹脂単層のフィルムが挙げられる。ここで、同じ符号（ａ又はｂ）を付けたフィルム（例えば、Ｔａｃ−ａ）は、同じ組成のフィルムを示す。
【００１６】
（添加剤）
樹脂フィルムは、上述の樹脂の他に添加剤を含有してもよい。添加剤としては、後述のハードコート層で記載する、無機粒子、マット粒子、紫外線吸収剤、含フッ素化合物、表面調整剤、レベリング剤等が挙げられる。
後述の溶融製膜法では、上記添加剤と樹脂とを混合溶融した樹脂溶融物を、また、後述の溶液製膜法では、溶媒（後述のハードコートにおける記載を適用できる。）と樹脂と上記添加剤とを混合したドープ液を、樹脂フィルムの形成に用いることができる。
【００１７】
（樹脂フィルム単体の表面粗さ）
樹脂フィルムと粘着層とを積層する前の、樹脂フィルム単体の、測定視野４ｍｍ×５ｍｍでの表面粗さは、３０ｎｍ以下であり、２０ｎｍ以下がより好ましく、１０ｎｍ以下がさらに好ましく、５ｎｍ以下が最も好ましい。また、測定視野１２０μｍ×１２０μｍでの、樹脂フィルム単体の表面粗さは２０ｎｍ以下が好ましく、５ｎｍ以下がより好ましく、３ｎｍ以下がさらに好ましい。樹脂フィルム単体が、上記好ましい表面粗さを有することで、本発明に用いられる特定の粘着層と樹脂フィルムとの積層体においても、樹脂フィルムは上記特定の表面粗さＳａを有しやすくなり、積層体が優れたガラス品質を示しやすくなる。
【００１８】
（樹脂フィルム単体の厚み）
本発明の積層体の作製前後で、樹脂フィルムの厚みはほとんど変化しない。そのため、樹脂フィルムと粘着層とを積層する前の、樹脂フィルム単体の厚みは、鉛筆硬度や打鍵耐久性の観点から、８０μｍ以上が好ましく、９０μｍ以上がより好ましく、１００μｍ以上がさらに好ましい。上限値は３００μｍ以下であることが実際的である。
【００１９】
（易接着層）
また、本発明に用いられる樹脂フィルムは、易接着層を有していてもよい。易接着層は、特開２０１５−２２４２６７号公報の段落００９８〜０１３３に記載された偏光子側易接着層および偏光子側易接着層の製造方法の内容を、本発明にあわせて本明細書に組み込むことができる。
【００２０】
（樹脂フィルムの製膜方法）
樹脂フィルムは、樹脂フィルムの表面粗さＳａ（好ましくは、樹脂フィルムの表面粗さＳａおよび樹脂フィルム単体での表面粗さ）が上記範囲内になれば、いずれの方法で製膜してもよく、例えば溶融製膜法および溶液製膜法が挙げられる。
【００２１】
＜溶融製膜法、平滑化＞
樹脂フィルムを溶融製膜法で製膜する場合、樹脂を押出機で溶融する溶融工程と、溶融した樹脂をダイからシート状に押し出す工程と、フィルム状に成形する工程とを含むことが好ましい。樹脂の材質によっては、溶融工程の後に溶融樹脂のろ過工程を設けてもよく、シート状に押し出す際に冷却してもよい。
以下、具体的な溶膜製膜法を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００２２】
［樹脂フィルムの形成方法］
上記樹脂フィルムの製造方法は、樹脂を押出機で溶融する溶融工程と、溶融した樹脂をフィルターが設置されたろ過装置に通してろ過するろ過工程と、ろ過した樹脂をダイからシート状に押し出し、冷却ドラムの上に密着させることにより冷却固化して未延伸の樹脂フィルムを成形するフィルム成形工程と、未延伸の樹脂フィルムを、１軸又は２軸延伸する延伸工程とを含む。
このような構成により、樹脂フィルムを製造することができる。溶融した樹脂のろ過工程で使用されるフィルターの孔径が１μｍ以下であると、異物を十分に取り除くことができるため好ましい。その結果、得られる樹脂フィルムのフィルム幅方向の表面粗さを制御することができる。
具体的には、樹脂フィルムの形成方法は下記工程を含むことができる。
【００２３】
＜溶融工程＞
上記樹脂フィルムの製造方法は、樹脂を押出機で溶融する溶融工程を含む。
樹脂、または樹脂と添加剤の混合物を含水率２００ｐｐｍ以下に乾燥した後、一軸（単軸）あるいは二軸の押出機に導入し溶融させることが好ましい。この時、樹脂の分解を抑制するために、窒素中あるいは真空中で溶融することも好ましい。詳細な条件は、特許第４９６２６６１号明細書の［００５１］〜［００５２］（ＵＳ２０１３／０１００３７８号公報の［００８５］〜［００８６］）を援用して、これらの公報に従い実施でき、これらの公報に記載された内容は本明細書に組み込まれる。
押出機は、一軸混練押出機が好ましい。
さらに、溶融樹脂（メルト）の送り出し精度を上げるためギアポンプを使用することも好ましい。
【００２４】
＜ろ過工程＞
上記樹脂フィルムの製造方法は、溶融した樹脂をフィルターが設置されたろ過装置に通してろ過するろ過工程を含み、ろ過工程で使用されるフィルターの孔径は１μｍ以下が好ましい。
このような孔径の範囲のフィルターを有するろ過装置は、ろ過工程において１セットのみ設置してもよく、２セット以上設置してもよい。
【００２５】
＜フィルム成形工程＞
上記樹脂フィルムの製造方法は、ろ過した樹脂をダイからシート状に押し出し、冷却ドラムの上に密着させることにより冷却固化して未延伸の樹脂フィルムを成形するフィルム成形工程を含む。
【００２６】
溶融（および混練）し、ろ過した樹脂（樹脂を含むメルト）をダイからシート状に押し出す際、単層で押出しても、多層で押出してもよい。多層で押出す場合は、例えば、紫外線吸収剤を含む層と含まない層を積層してもよく、紫外線吸収剤を含む層を内層にした３層構成が、紫外線による偏光子の劣化を抑える上、紫外線吸収剤のブリードアウトを抑制できるため、好ましい。
樹脂フィルムが多層で押出されて製造されてなる場合、全層の厚みに対する得られる樹脂フィルムの内層の厚みは、５０％以上９８％以下が好ましく、５０％以上９５％以下がより好ましく、さらに好ましくは６０％以上９５％以下、特に好ましくは６０％以上９０％以下、最も好ましくは７０％以上８５％以下である。このような積層は、フィードブロックダイ及びマルチマニホールドダイ等を用いることで実施できる。
【００２７】
特開２００９−２６９３０１号公報の［００５９］に従い、ダイからシート状に押し出した樹脂（樹脂を含むメルト）を冷却ドラム（キャスティングドラム）上に押出し、冷却固化し、未延伸の樹脂フィルム（原反）を得ることが好ましい。
【００２８】
上記樹脂フィルムの製造方法において、ダイから押し出される樹脂の温度が２８０℃以上３２０℃以下であることが好ましく、２８５℃以上３１０℃以下であることがより好ましい。溶融工程でダイから押し出される樹脂の温度が２８０℃以上であることが、原料樹脂の溶融残りを減少させて異物の発生を抑制し、その後の横延伸工程においてフィルム幅方向の表面粗さを小さく制御することができ、その結果、積層体のガラス品質を向上することができ、好ましい。溶融工程でダイから押し出される樹脂の温度が３２０℃以下であることが、樹脂の分解を減少させて異物の発生を抑制し、その後の横延伸工程においてフィルム幅方向の表面粗さを小さく抑制することができ、その結果、積層体のガラス品質を向上することができ、好ましい。
ダイから押し出される樹脂の温度は、放射温度計（林電工製、型番：ＲＴ６１−２、放射率０．９５で使用）を用いることで、樹脂の表面を非接触で測定することができる。
【００２９】
上記樹脂フィルムの製造方法のフィルム成形工程において、樹脂を冷却ドラムの上に密着させる際に静電印加電極を用いることが好ましい。これにより、フィルム面状が荒れないように樹脂を強く冷却ドラムの上に密着させることができ、その後の横延伸工程においてフィルム幅方向の表面粗さを小さく抑制することができ、その結果、積層体のガラス品質を向上することができる。
【００３０】
上記樹脂フィルムの製造方法において、冷却ドラムの上に密着させる際（ダイから押出された溶融樹脂が冷却ドラムと最初に接触する点）の樹脂の温度は２８０℃以上が好ましい。これにより、樹脂の電気伝導性が高まり、静電印加により冷却ドラムに強く密着することができ、フィルム面状の荒れを抑制できるため、積層体のガラス品質を向上することができる。
冷却ドラムの上に密着させる際の樹脂の温度は、放射温度計（林電工製、型番：ＲＴ６１−２、放射率０．９５で使用）を用いることで、樹脂の表面を非接触で測定することができる。
【００３１】
＜延伸工程＞
上記樹脂フィルムの製造方法は、未延伸の樹脂フィルムを、１軸又は２軸延伸する延伸工程を含む。
縦延伸工程（フィルムの搬送方向と同じ方向に延伸する工程）では、樹脂フィルムが予熱された後、樹脂フィルムが加熱された状態で、周速差のある（すなわち、搬送速度の異なる）ローラー群で搬送方向に延伸される。
【００３２】
縦延伸工程における予熱温度は樹脂フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）に対して、Ｔｇ−４０℃以上、Ｔｇ＋６０℃以下が好ましく、Ｔｇ−２０℃以上、Ｔｇ＋４０℃以下がより好ましく、Ｔｇ以上、Ｔｇ＋３０℃以下がさらに好ましい。また、縦延伸工程における延伸温度は、Ｔｇ以上、Ｔｇ＋６０℃以下が好ましく、Ｔｇ＋２℃以上、Ｔｇ＋４０℃以下がより好ましく、Ｔｇ＋５℃以上、Ｔｇ＋３０℃以下がさらに好ましい。縦方向の延伸倍率は１．０倍以上２．５倍以下が好ましく、１．１倍以上２倍以下がさらに好ましい。
【００３３】
縦延伸工程に加えて、または縦延伸工程に代えて行われる横延伸工程（フィルムの搬送方向に対して垂直な方向に延伸する工程）により、幅方向に横延伸される。横延伸工程では、例えばテンターを好適に用いることができ、このテンターによって樹脂フィルムの幅方向の両端部をクリップで把持し、横方向に延伸する。この横延伸によって、樹脂フィルム単体の表面粗さを調整し、積層体における樹脂フィルムの表面粗さＳａを上記特定の範囲内にすることができる。
【００３４】
横延伸は、テンターを用いて実施するのが好ましく、好ましい延伸温度は樹脂フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）に対して、Ｔｇ以上、Ｔｇ＋６０℃以下が好ましく、より好ましくはＴｇ＋２℃以上、Ｔｇ＋４０℃以下、さらに好ましくはＴｇ＋４℃以上、Ｔｇ＋３０℃以下である。延伸倍率は１．０倍以上５．０倍以下が好ましく、１．１倍以上４．０倍以下がさらに好ましい。横延伸の後に縦、横のいずれか、または両方に緩和させることも好ましい。
【００３５】
また、厚みの幅方向、長手方向の場所による変動をいずれも１０％以下、好ましくは８％以下、より好ましくは６％以下、さらに好ましくは４％以下、最も好ましくは２％以下にすることが好ましい。
【００３６】
尚、ここで、厚みの変動は、以下の通り求めることができる。
【００３７】
延伸された樹脂フィルムを１０ｍ（メートル）サンプリングし、フィルム幅方向の両端部２０％ずつを除き、フィルム中心部から幅方向、長手方向に等間隔でそれぞれ５０点サンプリングし、厚みを測定する。
【００３８】
幅方向の厚み平均値ＴｈＴＤ−ａｖ、最大値ＴｈＴＤ−ｍａｘ、最小値ＴｈＴＤ−ｍｉｎを求め、
（ＴｈＴＤ−ｍａｘ−ＴｈＴＤ−ｍｉｎ）÷  ＴｈＴＤ−ａｖ×１００  ［％］
が幅方向の厚みの変動である。
【００３９】
また、長手方向の厚み平均値ＴｈＭＤ−ａｖ、最大値ＴｈＭＤ−ｍａｘ、最小値ＴｈＭＤ−ｍｉｎを求め、
（ＴｈＭＤ−ｍａｘ−ＴｈＭＤ−ｍｉｎ）÷  ＴｈＭＤ−ａｖ×１００  ［％］
が長手方向の厚みの変動である。
【００４０】
上記延伸工程により、樹脂フィルムの厚み精度の向上を図ることができ、樹脂フィルム単体の表面粗さを小さくすることができる。
【００４１】
延伸後の樹脂フィルムは、巻取工程でロール状に巻き取ることができる。その際、樹脂フィルムの巻取りテンションは、０．０２ｋｇ／ｍｍ２以下とすることが好ましい。
【００４２】
その他詳細な条件については、溶融製膜は特開２０１５−２２４２６７号公報の［０１３４］−［０１４８］に記載された内容、延伸工程は特開２００７−１３７０２８号公報に記載された内容を、本発明にあわせて本明細書に組み込むことができる。
【００４３】
＜溶液製膜法、平滑化＞
樹脂フィルムを溶液製膜法で製膜する場合、ドープ液を流延バンド上に流延し、流延膜を形成する工程と、流延膜に乾燥する工程と、流延膜を延伸する工程とを含むことが好ましい。具体的には、特許第４８８９３３５号明細書に記載の方法によって製膜するのが好ましい。
本発明では、溶液製膜によって得られた樹脂フィルムの表面粗さＳａが上記特定の範囲内になるように、以下の方法を採用することが好ましい。
例えば、特開平１１−１２３７３２号公報に記載の、流延膜の乾燥速度を乾量基準の含有溶媒量で３００質量％／ｍｉｎ（＝５質量％／ｓ）以下とし、緩やかな乾燥を行う方法が挙げられる。また、特開２００３−２７６０３７号公報に記載の、中間層であるコア層の両表面にスキン層（外層）を有する多層構造の流延膜の共流延法において、コア層を形成するドープ液の粘度を高めて流延膜の強度を確保するとともに外層を形成するドープの粘度を低くする方法が挙げられる。さらに、流延膜を急乾燥して流延膜表面に膜を形成し、形成された膜のレベリング効果により面状を平滑化する方法、及び、流延膜を延伸する方法なども好ましく挙げられる。
【００４４】
（２）粘着層
本発明に用いられる粘着層は、周波数１Ｈｚにおける損失正接（ｔａｎδ）の極大値が０℃〜−４０℃の温度領域にあり、かつ極大値が１．３以上となるものであれば、その材質は特に限定されず、粘着剤でも接着剤でもよい。例えば、アクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、合成ゴム系粘着剤、天然ゴム系粘着剤およびシリコン系粘着剤が挙げられ、アクリル系粘着剤が好ましい。なかでも、生産性の観点から、電離放射線硬化基（電離放射線の照射により重合反応又は架橋反応等が進行し、硬化可能な官能基を意味し、例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合基（−ＣＨ＝ＣＨ２）およびエポキシ基等が挙げられる。）を含有し、電離放射線硬化性であることが好ましい。
粘着層は、厚みが１００μｍ以下であり、５０μｍ以下が好ましく、１５μｍ以下がより好ましい。粘着層の厚みが大きすぎると、樹脂フィルムと粘着層とをローラーなどで圧着して積層体を形成した場合に、圧力ムラが生じて、所定の表面粗さＳａを有する積層体を得られない場合がある。
以下、具体的態様として、アクリル系粘着剤を含む粘着層について説明するが、本発明は下記具体的態様に限定されるものではない。
【００４５】
（粘着層の具体的態様）
アクリル系粘着剤の一例としては、重量平均分子量が５０万〜３００万の（メタ）アクリル酸エステル重合体Ａを少なくとも含むアクリル系粘着剤、および、上記（メタ）アクリル酸エステル重合体Ａと重量平均分子量が８０００〜３０万の（メタ）アクリル酸エステル重合体Ｂとが架橋した成分（以下、「架橋重合体」と称す。）を含むアクリル系粘着剤を挙げることができる。
架橋重合体を構成する（メタ）アクリル酸エステル重合体Ａと（メタ）アクリル酸エステル重合体Ｂのうち、重量平均分子量がより小さい（メタ）アクリル酸エステル重合体Ｂが占める割合を増すことにより粘着層の応力緩和率を高くすることができ、その割合を減らすことにより粘着層の応力緩和率を低くすることができる。上記の架橋重合体の構成成分において、（メタ）アクリル酸エステル重合体Ａ１００質量部に対する（メタ）アクリル酸エステル重合体Ｂの占める割合は、５〜５０質量部の範囲であることが好ましく、１０〜３０質量部の範囲であることがより好ましい。
【００４６】
上記の（メタ）アクリル酸エステル重合体Ａおよび（メタ）アクリル酸エステル重合体Ｂの詳細については、特開２０１２−２１４５４５号公報の段落００２０〜００４６を参照できる。更に、これらを架橋する架橋剤の詳細については、特開２０１２−２１４５４５号公報の段落００４９〜００５８を参照できる。
【００４７】
上記アクリル系粘着剤は、シランカップリング剤を含むことができ、含むことが好ましい。シランカップリング剤の詳細については、特開２０１２−２１４５４５号公報の段落００５９〜００６１を参照できる。更に、上記アクリル系粘着剤の調製方法および任意に含まれ得る添加剤および溶媒の詳細については、特開２０１２−２１４５４５号公報の段落００６２〜００７１を参照できる。
【００４８】
一態様では、上記アクリル系粘着剤は、この粘着剤を剥離処理が施された剥離シートの剥離処理面に塗布、乾燥し、粘着層を形成し、粘着層含む粘着シートを形成することができる。この粘着シートの粘着層を上記樹脂フィルムに貼り合せることで、本発明の積層体を形成することができる。
【００４９】
（３）ハードコート層（ＨＣ層）
別の好ましい態様として、本発明の積層体４Ｂは、図２に示すように、少なくとも、樹脂フィルム１Ａの、粘着層２Ａを有する面とは反対側の面にハードコート層（以下、「ＨＣ層」とも称す。）３Ａを有すること（すなわち、粘着層２Ａと、この粘着層２Ａの一方の面に配した樹脂フィルム１Ａと、この樹脂フィルム１Ａ上に配したＨＣ層３Ａとを少なくとも有すること）も好ましい。ＨＣ層は、積層体に所望の鉛筆硬度を付与できれば、いずれの材質から構成されてもよい。
以下、ＨＣ層の具体的態様を説明するが、本発明は下記態様に限定されるものではない。
【００５０】
（ハードコート層（ＨＣ層）形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層）
本発明に用いられるＨＣ層は、ＨＣ層形成用硬化性組成物に活性エネルギー線を照射することにより硬化することで得ることができる。なお本発明および本明細書において、「活性エネルギー線」とは、電離放射線をいい、Ｘ線、紫外線、可視光、赤外線、電子線、α線、β線、γ線等が包含される。
【００５１】
ＨＣ層の形成に用いられるＨＣ層形成用硬化性組成物は、活性エネルギー線の照射により硬化する性質を有する少なくとも一種の成分（以下、「活性エネルギー線硬化性成分」とも記載する。）を含む。活性エネルギー線硬化性成分としては、ラジカル重合性化合物およびカチオン重合性化合物からなる群から選択される少なくとも一種の重合性化合物が好ましい。なお本発明および本明細書において、「重合性化合物」とは、１分子中に１個以上の重合性基を含む化合物である。重合性基とは、重合反応に関与し得る基であり、具体例としては、後述の各種重合性化合物に含まれる基を例示することができる。また、重合反応としては、ラジカル重合、カチオン重合、アニオン重合等の各種重合反応を挙げることができる。
本発明に用いられるＨＣ層は、１層構造でも２層以上の積層構造であってもよいが、下記に詳細を記載する１層構造または２層以上の積層構造からなるＨＣ層が好ましい。
【００５２】
１）１層構造
１層構造のＨＣ層形成用硬化性組成物の好ましい態様としては、第一の態様として、１分子中に２個以上のエチレン性不飽和基を有する重合性化合物を少なくとも一種含むＨＣ層形成用硬化性組成物を挙げることができる。エチレン性不飽和基とは、エチレン性不飽和二重結合を含有する官能基をいう。また、第二の態様として、少なくとも一種のラジカル重合性化合物と少なくとも一種のカチオン重合性化合物とを含むＨＣ層形成用硬化性組成物を挙げることができる。
【００５３】
以下、第一の態様のＨＣ層形成用硬化性組成物について説明する。
第一の態様のＨＣ層形成用硬化性組成物に含まれる１分子中に２個以上のエチレン性不飽和基を有する重合性化合物としては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル化合物〔例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、（シクロヘキサン−１，４−ジイル）ジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、（シクロヘキサン−１，２，３−トリイル）トリメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート〕、上記のエステル化合物のエチレンオキサイド変性体、ポリエチレンオキサイド変性体およびカプロラクトン変性体、ビニルベンゼンおよびその誘導体〔例えば、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサン〕、ビニルスルホン〔例えば、ジビニルスルホン〕、アクリルアミド〔例えば、メチレンビスアクリルアミド〕ならびにメタクリルアミドが挙げられる。
なお本明細書に記載の「（メタ）アクリレート」とは、アクリレートとメタクリレートの一方または両方の意味で用いられる。また、後述の「（メタ）アクリロイル基」は、アクリロイル基とメタクリロイル基の一方または両方の意味で用いられる。「（メタ）アクリル」は、アクリルとメタクリルの一方または両方の意味で用いられる。
上記の重合性化合物としては、一種のみ用いてもよく、構造の異なる二種以上を併用してもよい。なお、同様に、本明細書に記載の各成分は、この成分を、一種のみ用いてもよく、構造の異なる二種以上を併用してもよい。また、各成分の含有量は、構造の異なる二種以上を併用する場合には、それらの合計含有量を意味する。
【００５４】
エチレン性不飽和基を有する重合性化合物の重合は、ラジカル光重合開始剤の存在下、活性エネルギー線の照射により行うことができる。ラジカル光重合開始剤としては、後述するラジカル光重合開始剤が好ましく適用される。また、ＨＣ層形成用硬化性組成物中の、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物に対するラジカル光重合開始剤の含有量比については、後述するラジカル重合性化合物に対するラジカル光重合開始剤の含有量比の記載が好ましく適用される。
【００５５】
次に、第二の態様のＨＣ層形成用硬化性組成物について説明する。
第二の態様のＨＣ層形成用硬化性組成物は、少なくとも一種のラジカル重合性化合物と少なくとも一種のカチオン重合性化合物とを含む。好ましい態様としては、
アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に２個以上含むラジカル重合性化合物と；
カチオン重合性化合物と；
を含むＨＣ層形成用硬化性組成物を挙げることができる。
【００５６】
上記ＨＣ層形成用硬化性組成物は、ラジカル光重合開始剤とカチオン光重合開始剤とを含むことがより好ましい。第二の態様の好ましい一態様としては、
アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に２個以上含むラジカル重合性化合物と；
カチオン重合性化合物と；
ラジカル光重合開始剤と；
カチオン光重合開始剤と；
を含むＨＣ層形成用硬化性組成物を挙げることができる。以下において、本態様を、第二の態様（１）と記載する。
【００５７】
第二の態様（１）において、上記のラジカル重合性化合物は、１分子中に２個以上のラジカル重合性基とともに、１分子中に１個以上のウレタン結合を含むことが好ましい。
【００５８】
第二の態様の他の好ましい一態様では、
ａ）脂環式エポキシ基およびエチレン性不飽和基を含み、１分子中に含まれる脂環式エポキシ基の数が１個であり、かつ１分子中に含まれるエチレン性不飽和基の数が１個であり、分子量が３００以下であるカチオン重合性化合物と；
ｂ）１分子中に３個以上のエチレン性不飽和基を含むラジカル重合性化合物と；
ｃ）ラジカル重合開始剤と；
ｄ）カチオン重合開始剤と；
を含むＨＣ層形成用硬化性組成物を挙げることができる。以下において、本態様を、第二の態様（２）と記載する。第二の態様（２）のＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層は、好ましくは、ＨＣ層の全固形分を１００質量％とした場合に、上記ａ）由来の構造を１５〜７０質量％、上記ｂ）由来の構造を２５〜８０質量％、上記ｃ）由来の構造を０．１〜１０質量％、上記ｄ）由来の構造を０．１〜１０質量％含むことができる。また、一態様では、第二の態様（２）のＨＣ層形成用硬化性組成物は、このＨＣ層形成用硬化性組成物の全固形分を１００質量％とした場合に、上記ａ）を１５〜７０質量％含むことが好ましい。なお、「脂環式エポキシ基」とは、エポキシ環と飽和炭化水素環とが縮合した環状構造を有する１価の官能基を意味する。
【００５９】
以下、第二の態様、好ましくは第二の態様（１）または第二の態様（２）のＨＣ層形成用硬化性組成物に含まれ得る各種成分について、更に詳細に説明する。
【００６０】
−ラジカル重合性化合物−
第二の態様のＨＣ層形成用硬化性組成物は、少なくとも一種のラジカル重合性化合物と少なくとも一種のカチオン重合性化合物とを含む。
（第二の態様（１）におけるラジカル重合性化合物）
第二の態様（１）におけるラジカル重合性化合物は、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に２個以上含む。上記ラジカル重合性化合物は、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を、１分子中に、好ましくは例えば２〜１０個含むことができ、より好ましくは２〜６個含むことができる。
【００６１】
上記ラジカル重合性化合物としては、分子量が２００以上１０００未満のラジカル重合性化合物が好ましい。なお本発明および本明細書において「分子量」とは、多量体については、ゲル浸透クロマトグラフィー（Ｇｅｌ  Ｐｅｒｍｅａｔｉｏｎ  Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ；ＧＰＣ）によりポリスチレン換算で測定される重量平均分子量を意味する。重量平均分子量の具体的な測定条件の一例としては、以下の測定条件を挙げることができる。
ＧＰＣ装置：ＨＬＣ−８１２０（東ソー社製）
カラム：ＴＳＫ  ｇｅｌ  Ｍｕｌｔｉｐｏｒｅ  ＨＸＬ−Ｍ（東ソー社製、内径７．８ｍｍ×カラム長３０．０ｃｍ）
溶離液：テトラヒドロフラン
【００６２】
上記ラジカル重合性化合物は、前述の通り、１分子中に１個以上のウレタン結合を含むことが好ましい。上記ラジカル重合性化合物の１分子中に含まれるウレタン結合の数は、好ましくは１個以上であり、より好ましくは２個以上であり、さらに好ましくは２〜５個であり、例えば２個であることができる。なお１分子中にウレタン結合を２個含むラジカル重合性化合物において、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基は、一方のウレタン結合のみに直接または連結基を介して結合していてもよく、２個のウレタン結合にそれぞれ直接または連結基を介して結合していてもよい。一態様では、連結基を介して結合している２個のウレタン結合に、それぞれアクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基が１個以上結合していることが、好ましい。
【００６３】
より詳しくは、上記ラジカル重合性化合物において、ウレタン結合とアクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基は直接結合していてもよく、ウレタン結合とアクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基との間に連結基が存在していてもよい。連結基としては、特に限定されるものではなく、直鎖または分岐の飽和または不飽和の炭化水素基、環状基、およびこれらの２つ以上の組み合わせからなる基、等を挙げることができる。上記炭化水素基の炭素数は、例えば２〜２０程度であるが、特に限定されるものではなない。また、環状基に含まれる環状構造としては、一例として、脂肪族環（シクロヘキサン環など）、芳香族環（ベンゼン環、ナフタレン環など）、などが挙げられる。上記の基は、無置換であっても置換基を有していてもよい。なお、本発明および本明細書において、特記しない限り、記載されている基は置換基を有してもよく無置換であってもよい。ある基が置換基を有する場合、置換基としては、アルキル基（例えば炭素数１〜６のアルキル基）、水酸基、アルコキシ基（例えば炭素数１〜６のアルコキシ基）、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子）、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、アシル基、カルボキシ基等を挙げることができる。
【００６４】
以上説明したラジカル重合性化合物は、公知の方法で合成することができる。また、市販品として入手することも可能である。例えば、合成方法の一例としては、アルコール、ポリオール、および／または水酸基含有（メタ）アクリル酸等の水酸基含有化合物とイソシアネートを反応させる方法、および、必要に応じて、上記反応によって得られたウレタン化合物を（メタ）アクリル酸でエステル化する方法を挙げることができる。なお「（メタ）アクリル酸」とは、アクリル酸とメタクリル酸の一方または両方を意味するものとする。
【００６５】
上記の１分子中に１個以上のウレタン結合を含むラジカル重合性化合物の市販品としては、下記のものに限定されるものではないが、例えば、いずれも商品名で、共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｉ、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＡ−５１０Ｈ、ＵＦ−８００１Ｇ、ＵＡ−１０１Ｉ、ＵＡ−１０１Ｔ、ＡＴ−６００、ＡＨ−６００、ＡＩ−６００、ＢＰＺＡ−６６、ＢＰＺＡ−１００、新中村化学社製Ｕ−４ＨＡ、Ｕ−６ＨＡ、Ｕ−６ＬＰＡ、ＵＡ−３２Ｐ、Ｕ−１５ＨＡ、ＵＡ−１１００Ｈ、日本合成化学工業社製紫光ＵＶ−１４００Ｂ、同ＵＶ−１７００Ｂ、同ＵＶ−６３００Ｂ、同ＵＶ−７５５０Ｂ、同ＵＶ−７６００Ｂ、同ＵＶ−７６０５Ｂ、同ＵＶ−７６１０Ｂ、同ＵＶ−７６２０ＥＡ、同ＵＶ−７６３０Ｂ、同ＵＶ−７６４０Ｂ、同ＵＶ−６６３０Ｂ、同ＵＶ−７０００Ｂ、同ＵＶ−７５１０Ｂ、同ＵＶ−７４６１ＴＥ、同ＵＶ−３０００Ｂ、同ＵＶ−３２００Ｂ、同ＵＶ−３２１０ＥＡ、同ＵＶ−３３１０ＥＡ、同ＵＶ−３３１０Ｂ、同ＵＶ−３５００ＢＡ、同ＵＶ−３５２０ＴＬ、同ＵＶ−３７００Ｂ、同ＵＶ−６１００Ｂ、同ＵＶ−６６４０Ｂ、同ＵＶ−２０００Ｂ、同ＵＶ−２０１０Ｂ、同ＵＶ−２２５０ＥＡを挙げることができる。また、いずれも商品名で、日本合成化学工業社製紫光ＵＶ−２７５０Ｂ、共栄社化学社製ＵＬ−５０３ＬＮ、大日本インキ化学工業社製ユニディック１７−８０６、同１７−８１３、同Ｖ−４０３０、同Ｖ−４０００ＢＡ、ダイセルＵＣＢ社製ＥＢ−１２９０Ｋ、トクシキ社製ハイコープＡＵ−２０１０、同ＡＵ−２０２０等も挙げられる。
【００６６】
以下に、上記の１分子中に１個以上のウレタン結合を含むラジカル重合性化合物の具体例として例示化合物Ａ−１〜Ａ−８を示すが、本発明は下記具体例に限定されるものではない。
【００６７】
【化１】
0006751438.tif 000002
【００６８】
【化２】
0006751438.tif 000003
【００６９】
以上、１分子中に１個以上のウレタン結合を含むラジカル重合性化合物について説明した。なお、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に２個以上含むラジカル重合性化合物は、ウレタン結合を有さないものであってもよい。また、第二の態様（１）のＨＣ層形成用硬化性組成物は、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に２個以上含むラジカル重合性化合物に加えて、かかるラジカル重合性化合物以外のラジカル重合性化合物の一種以上を含んでいてもよい。
【００７０】
以下において、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に２個以上含み、かつウレタン結合を１分子中に１個以上含むラジカル重合性化合物を、「第一のラジカル重合性化合物」と記載し、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に２個以上含むか否かに関わらず、第一のラジカル重合性化合物に該当しないラジカル重合性化合物を「第二のラジカル重合性化合物」と記載する。第二のラジカル重合性化合物は、ウレタン結合を１分子中に１個以上有していてもよく、有さなくてもよい。第一のラジカル重合性化合物と第二のラジカル重合性化合物とを併用する場合、それらの質量比は、第一のラジカル重合性化合物／第二のラジカル重合性化合物＝３／１〜１／３０であることが好ましく、２／１〜１／２０であることがより好ましく、１／１〜１／１０であることが更に好ましい。
【００７１】
第二の態様（１）のＨＣ層形成用硬化性組成物中のアクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に２個以上含むラジカル重合性化合物（ウレタン結合の有無を問わない）の含有量は、組成物全量１００質量％に対して、好ましくは３０質量％以上であり、より好ましくは５０質量％以上であり、更に好ましくは７０質量％以上である。また、第二の態様（１）のＨＣ層形成用硬化性組成物中のアクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に２個以上含むラジカル重合性化合物（ウレタン結合の有無を問わない）の含有量は、組成物全量１００質量％に対して、好ましくは９８質量％以下であり、より好ましくは９５質量％以下であり、更に好ましくは９０質量％以下である。
また、第二の態様（１）のＨＣ層形成用硬化性組成物中の第一のラジカル重合性化合物の含有量は、組成物全量１００質量％に対して、好ましくは３０質量％以上であり、より好ましくは５０質量％以上であり、更に好ましくは７０質量％以上である。一方、第一のラジカル重合性化合物の含有量は、組成物全量１００質量％に対して、９８質量％以下であることが好ましく、９５質量％以下であることがより好ましく、９０質量％以下であることが更に好ましい。
【００７２】
第二のラジカル重合性化合物は、一態様では、好ましくは、ラジカル重合性基を１分子中に２個以上含み、ウレタン結合を持たないラジカル重合性化合物である。第二のラジカル重合性化合物に含まれるラジカル重合性基は、好ましくはエチレン性不飽和基であり、一態様では、ビニル基が好ましい。他の一態様では、エチレン性不飽和基は、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基であることが好ましい。即ち、第二のラジカル重合性化合物は、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に１個以上有し、かつウレタン結合を持たないことも好ましい。また、第二のラジカル重合性化合物は、ラジカル重合性化合物として、一分子中に、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基の１個以上と、これら以外のラジカル重合性基の１個以上とを含むこともできる。
第二のラジカル重合性化合物の１分子中に含まれるラジカル重合性基の数は、好ましくは、少なくとも２個であり、より好ましくは３個以上であり、更に好ましくは４個以上である。また、第二のラジカル重合性化合物の１分子中に含まれるラジカル重合性基の数は、一態様では、例えば１０個以下であるが、１０個超であってもよい。また、第二のラジカル重合性化合物としては、分子量が２００以上１０００未満のラジカル重合性化合物が好ましい。
【００７３】
第二のラジカル重合性化合物としては、例えば以下のものを例示できる。ただし本発明は、下記例示化合物に限定されるものではない。
【００７４】
例えば、ポリエチレングリコール２００ジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール３００ジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール４００ジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール６００ジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性エチレングリコールジ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば長瀬産業社製の商品名：デナコールＤＡ−８１１等）、ポリプロピレングリコール２００ジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール４００ジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール７００ジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド（ＥＯ；Ｅｔｈｙｌｅｎｅ  Ｏｘｉｄｅ、以下、「ＥＯ」とも略す。）・プロピレンオキシド（ＰＯ；Ｐｒｏｐｙｌｅｎｅ  Ｏｘｉｄｅ、以下、「ＰＯ」とも略す。）ブロックポリエーテルジ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば日本油脂社製の商品名：ブレンマーＰＥＴシリーズ等）、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ  ＥＯ付加型ジ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば東亜合成社製の商品名：Ｍ−２１０、新中村化学工業社製の商品名：ＮＫエステルＡ−ＢＰＥ−２０等）、水添ビスフェノールＡ  ＥＯ付加型ジ（メタ）アクリレート（新中村化学工業社製の商品名：ＮＫエステルＡ−ＨＰＥ−４等）、ビスフェノールＡ  ＰＯ付加型ジ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば共栄社化学社製の商品名：ライトアクリレートＢＰ−４ＰＡ等）、ビスフェノールＡ  エピクロルヒドリン付加型ジ（メタ）アクリレート（市販品として、例えばダイセルＵＣＢ社製の商品名：エピクリル１５０等）、ビスフェノールＡ  ＥＯ・ＰＯ付加型ジ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば東邦化学工業社製の商品名：ＢＰ−０２３−ＰＥ等）、ビスフェノールＦ  ＥＯ付加型ジ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば東亜合成社製の商品名：アロニックスＭ−２０８等）、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレートおよびそのエピクロルヒドリン変性品、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートおよびそのカプロラクトン変性品、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレートモノステアレート、トリメチロールプロパンアクリル酸・安息香酸エステル、イソシアヌル酸ＥＯ変性ジ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば東亜合成社製の商品名：アロニックスＭ−２１５等）等の２官能（メタ）アクリレート化合物が挙げられる。
【００７５】
また、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレートおよびそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン変性品、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレートおよびそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン変性品、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば東亜合成社製の商品名：アロニックスＭ−３１５等）、トリス（メタ）アクリロイルオキシエチルフォスフェート、フタル酸水素−（２，２，２−トリ−（メタ）アクリロイルオキシメチル）エチル、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、およびそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン変性品等の３官能（メタ）アクリレート化合物；ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、およびそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン変性品、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等の４官能（メタ）アクリレート化合物；ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、およびそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン、脂肪酸、アルキル変性品等の５官能（メタ）アクリレート化合物；ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、およびそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン、脂肪酸、アルキル変性品、ソルビトールヘキサ（メタ）アクリレート、およびそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン、脂肪酸、アルキル変性品等の６官能（メタ）アクリレートが挙げられる。
第二のラジカル重合性化合物は２種以上併用してもよい。この場合、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物“ＤＰＨＡ”（商品名、日本化薬社製）などを好ましく用いることができる。
【００７６】
また、第二のラジカル重合性化合物として、重量平均分子量が２００以上１０００未満のポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレートも好ましい。市販品では、ポリエステル（メタ）アクリレートとして、荒川化学工業社製の商品名ビームセット７００シリーズ（例えばビームセット７００（６官能）、ビームセット７１０（４官能）、ビームセット７２０（３官能））等が挙げられる。また、エポキシ（メタ）アクリレートとしては、昭和高分子社製の商品名ＳＰシリーズ（例えばＳＰ−１５０６、５００、ＳＰ−１５０７、４８０）、ＶＲシリーズ（例えばＶＲ−７７）、新中村化学工業社製の商品名ＥＡ−１０１０／ＥＣＡ、ＥＡ−１１０２０、ＥＡ−１０２５、ＥＡ−６３１０／ＥＣＡ等が挙げられる。
【００７７】
また、第二のラジカル重合性化合物の具体例としては、下記例示化合物Ａ−９〜Ａ−１１を挙げることもできる。
【００７８】
【化３】
0006751438.tif 000004
【００７９】
（第二の態様（２）におけるラジカル重合性化合物）
第二の態様の好ましい一態様である第二の態様（２）のＨＣ層形成用硬化性組成物は、ｂ）１分子中に３個以上のエチレン性不飽和基を含むラジカル重合性化合物を含む。ｂ）１分子中に３個以上のエチレン性不飽和基を含む化合物を、以下において「ｂ）成分」とも記載する。
ｂ）成分としては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル、ビニルベンゼンおよびその誘導体、ビニルスルホン、（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。中でも、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に３個以上含むラジカル重合性化合物が好ましい。具体例としては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステルであって、１分子中に３個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物を挙げることができる。より詳しくは、例えば、（ジ）ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、（シクロヘキサン−１，２，３−トリイル）トリメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、トリペンタエリスリトールトリアクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサトリアクリレート、（シクロヘキサン−１，２，４−トリイル）トリ（メタ）アクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート等が挙げられる。なお上記の「（ジ）ペンタエリスリトール」とは、ペンタエリスリトールとジペンタエリスリトールの一方または両方の意味で用いられる。
【００８０】
更に、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に３個以上含む樹脂も好ましい。
アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に３個以上含む樹脂としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリエーテル系樹脂、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、スピロアセタール系樹脂、ポリブタジエン系樹脂、ポリチオールポリエン系樹脂、多価アルコール等の多官能化合物等の重合体等も挙げられる。
【００８１】
アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に３個以上含むラジカル重合性化合物の具体例としては、特開２００７−２５６８４４号公報段落００９６に示されている例示化合物等を挙げることができる。
更に、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に３個以上含むラジカル重合性化合物の具体例としては、いずれも商品名で、日本化薬社製ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ、同ＤＰＨＡ−２Ｃ、同ＰＥＴ−３０、同ＴＭＰＴＡ、同ＴＰＡ−３２０、同ＴＰＡ−３３０、同ＲＰ−１０４０、同Ｔ−１４２０、同Ｄ−３１０、同ＤＰＣＡ−２０、同ＤＰＣＡ−３０、同ＤＰＣＡ−６０、同ＧＰＯ−３０３、大阪有機化学工業社製Ｖ＃４００、Ｖ＃３６０９５Ｄ等のポリオールと（メタ）アクリル酸のエステル化物を挙げることができる。また、いずれも商品名で、紫光ＵＶ−１４００Ｂ、同ＵＶ−１７００Ｂ、同ＵＶ−６３００Ｂ、同ＵＶ−７５５０Ｂ、同ＵＶ−７６００Ｂ、同ＵＶ−７６０５Ｂ、同ＵＶ−７６１０Ｂ、同ＵＶ−７６２０ＥＡ、同ＵＶ−７６３０Ｂ、同ＵＶ−７６４０Ｂ、同ＵＶ−６６３０Ｂ、同ＵＶ−７０００Ｂ、同ＵＶ−７５１０Ｂ、同ＵＶ−７４６１ＴＥ、同ＵＶ−３０００Ｂ、同ＵＶ−３２００Ｂ、同ＵＶ−３２１０ＥＡ、同ＵＶ−３３１０ＥＡ、同ＵＶ−３３１０Ｂ、同ＵＶ−３５００ＢＡ、同ＵＶ−３５２０ＴＬ、同ＵＶ−３７００Ｂ、同ＵＶ−６１００Ｂ、同ＵＶ−６６４０Ｂ、同ＵＶ−２０００Ｂ、同ＵＶ−２０１０Ｂ、同ＵＶ−２２５０ＥＡ、同ＵＶ−２７５０Ｂ（日本合成化学社製）、ＵＬ−５０３ＬＮ（共栄社化学社製）、ユニディック１７−８０６、同１７−８１３、同Ｖ−４０３０、同Ｖ−４０００ＢＡ（大日本インキ化学工業社製）、ＥＢ−１２９０Ｋ、ＥＢ−２２０、ＥＢ−５１２９、ＥＢ−１８３０，ＥＢ−４３５８（ダイセルＵＣＢ社製）、ハイコープＡＵ−２０１０、同ＡＵ−２０２０（トクシキ社製）、アロニックスＭ−１９６０（東亜合成社製）、アートレジンＵＮ−３３２０ＨＡ、ＵＮ−３３２０ＨＣ、ＵＮ−３３２０ＨＳ、ＵＮ−９０４、ＨＤＰ−４Ｔ等の３官能以上のウレタンアクリレート化合物、アロニックスＭ−８１００、Ｍ−８０３０、Ｍ−９０５０（東亜合成社製）、ＫＢＭ−８３０７（ダイセルサイテック社製）の３官能以上のポリエステル化合物なども好適に使用することができる。
また、ｂ）成分としては、一種のみ用いてもよく、構造の異なる二種以上を併用してもよい。
【００８２】
前述の通り、第二の態様（２）のＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層は、好ましくは、ＨＣ層の全固形分を１００質量％とした場合に、上記ａ）由来の構造を１５〜７０質量％、上記ｂ）由来の構造を２５〜８０質量％、上記ｃ）由来の構造を０．１〜１０質量％、上記ｄ）由来の構造を０．１〜１０質量％含むことができる。ｂ）由来の構造は、ＨＣ層の全固形分を１００質量％とした場合に、４０〜７５質量％含有されることがより好ましく、６０〜７５質量％含有されることがさらに好ましい。また、第二の態様（２）のＨＣ層形成用硬化性組成物は、このＨＣ層形成用硬化性組成物の全固形分を１００質量％とした場合に、ｂ）成分を４０〜７５質量％含むことが好ましく、６０〜７５質量％含むことがより好ましい。
【００８３】
−カチオン重合性化合物−
第二の態様のＨＣ層形成用硬化性組成物は、少なくとも一種のラジカル重合性化合物と少なくとも一種のカチオン重合性化合物とを含む。カチオン重合性化合物としては、カチオン重合可能な重合性基（カチオン重合性基）を有するものであれば、何ら制限なく用いることができる。また、１分子中に含まれるカチオン重合性基の数は、少なくとも１個である。カチオン重合性化合物は、カチオン重合性基を１分子中に１個含む単官能化合物であってもよく、２個以上含む多官能化合物であってもよい。多官能化合物に含まれるカチオン重合性基の数は、特に限定されるものではないが、例えば１分子中に２〜６個である。また、多官能化合物の１分子中に２個以上含まれるカチオン重合性基は、同一であってもよく、構造が異なる二種以上であってもよい。
【００８４】
また、カチオン重合性化合物は、一態様では、カチオン重合性基とともに、１分子中に１個以上のラジカル重合性基を有することも好ましい。このようなカチオン重合性化合物が有するラジカル重合性基については、ラジカル重合性化合物についての上述の記載を参照できる。好ましくは、エチレン性不飽和基であり、エチレン性不飽和基は、より好ましくは、ビニル基、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基である。ラジカル重合性基を有するカチオン重合性化合物の１分子中のラジカル重合性基の数は、少なくとも１個であり、１〜３個であることが好ましく、１個であることがより好ましい。
【００８５】
カチオン重合性基としては、好ましくは、含酸素複素環基およびビニルエーテル基を挙げることができる。なおカチオン重合性化合物は、１分子中に、１個以上の含酸素複素環基と１個以上のビニルエーテル基を含んでいてもよい。
【００８６】
含酸素複素環としては、単環であってもよく、縮合環であってもよい。また、ビシクロ骨格を有するものも好ましい。含酸素複素環は、非芳香族環であっても芳香族環であってもよく、非芳香族環であることが好ましい。単環の具体例としては、エポキシ環、テトラヒドロフラン環、オキセタン環を挙げることができる。また、ビシクロ骨格を有するものとしては、オキサビシクロ環を挙げることができる。なお含酸素複素環を含むカチオン重合性基は、１価の置換基として、または２価以上の多価置換基として、カチオン重合性化合物に含まれる。また、上記縮合環は、含酸素複素環の２個以上が縮合したものであっても、含酸素複素環の１個以上と含酸素複素環以外の環構造の１個以上が縮合したものであってもよい。上記の含酸素複素環以外の環構造としては、これらに限定されるものではないが、シクロヘキサン環等のシクロアルカン環を挙げることができる。
【００８７】
以下に、含酸素複素環の具体例を示す。ただし、本発明は、下記具体例に限定されるものではない。
【００８８】
【化４】
0006751438.tif 000005
【００８９】
カチオン重合性化合物には、カチオン重合性基以外の部分構造が含まれていてもよい。そのような部分構造は、特に限定されるものではなく、直鎖構造であっても、分岐構造であっても、環状構造であってもよい。これら部分構造には、酸素原子、窒素原子等のヘテロ原子が１個以上含まれていてもよい。
【００９０】
カチオン重合性化合物の好ましい一態様としては、カチオン重合性基として、またはカチオン重合性基以外の部分構造として、環状構造を含む化合物（以下、「環状構造含有化合物」とも称す。）を挙げることができる。環状構造含有化合物に含まれる環状構造は、１分子中に、例えば１個であり、２個以上であってもよい。環状構造含有化合物に含まれる環状構造の数は、１分子中に、例えば１〜５個であることが好ましいが、特に限定されるものではない。１分子中に２個以上の環状構造を含む化合物は、同一の環状構造を含んでいてもよく、構造の異なる二種以上の環状構造を含んでいてもよい。
【００９１】
上記環状構造含有化合物に含まれる環状構造の一例としては、含酸素複素環を挙げることができる。その詳細は、先に記載した通りである。
【００９２】
カチオン重合性化合物の１分子中に含まれるカチオン重合性基の数（以下、「Ｃ」と記載する。）によって分子量（以下、「Ｂ」と記載する。）を除して求められるカチオン重合性基当量（＝Ｂ／Ｃ）は、例えば３００以下であり、ＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層と樹脂フィルムとの密着性向上の観点からは、１５０未満であることが好ましい。一方、ＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層の吸湿性の観点からは、カチオン重合性基当量は、５０以上であることが好ましい。また、一態様では、カチオン重合性基当量を求めるカチオン重合性化合物に含まれるカチオン重合性基は、エポキシ基（エポキシ環）であることが好ましい。即ち、一態様では、カチオン重合性化合物は、エポキシ環含有化合物である。エポキシ環含有化合物は、ＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層と樹脂フィルムとの密着性向上の観点からは、１分子中に含まれるエポキシ環の数によって分子量を除して求められるエポキシ基当量が、１５０未満であることが好ましい。また、エポキシ環含有化合物のエポキシ基当量は、例えば５０以上であることが好ましい。
【００９３】
また、カチオン重合性化合物の分子量は５００以下であることが好ましく、３００以下であることがより好ましい。下限値に特に制限はないが、１００以上であることが好ましい。上記範囲の分子量を有するカチオン重合性化合物は、樹脂フィルムへ浸透しやすい傾向があり、ＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層と樹脂フィルムとの密着性向上に寄与することができると推察している。
【００９４】
第二の態様（２）のＨＣ層形成用硬化性組成物は、ａ）脂環式エポキシ基およびエチレン性不飽和基を含み、１分子中に含まれる脂環式エポキシ基の数が１個であり、かつ１分子中に含まれるエチレン性不飽和基の数が１個であり、分子量が３００以下であるカチオン重合性化合物を含む。以下において、上記ａ）を、「ａ）成分」と記載する。
【００９５】
エチレン性不飽和基としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等を含むラジカル重合性基が挙げられ、中でも、アクリロイル基、メタクリロイル基またはＣ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２が好ましく、アクリロイル基またはメタクリロイル基がより好ましい。１分子中の脂環式エポキシ基とエチレン性不飽和基の数は、それぞれ１個であることが好ましい。
【００９６】
ａ）成分の分子量は、３００以下であり、２１０以下であることが好ましく、２００以下であることがより好ましい。下限値に特に制限はないが、１００以上であることが好ましい。
【００９７】
ａ）成分の好ましい一態様としては、下記一般式（１）で表される化合物を挙げることができる。
【００９８】
【化５】
0006751438.tif 000006
【００９９】
一般式（１）中、Ｒは単環式炭化水素基または架橋炭化水素基を表し、Ｌは単結合または２価の連結基を表し、Ｑはエチレン性不飽和基を表す。ここで、Ｒは破線で示された環全体を示すものであり、一般式（１）中に記載するエポキシ環と縮環構造を形成している。
【０１００】
一般式（１）中のＲが単環式炭化水素基の場合、単環式炭化水素基は脂環式炭化水素基であることが好ましく、中でも炭素数４〜１０の脂環基であることがより好ましく、炭素数５〜７の脂環基であることが更に好ましく、炭素数６の脂環基であることが特に好ましい。好ましい具体例としては、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基およびシクロヘプチル基を挙げることができ、シクロヘキシル基がより好ましい。
【０１０１】
一般式（１）中のＲが架橋炭化水素基の場合、架橋炭化水素基は、２環系架橋炭化水素（ビシクロ環）基または３環系架橋炭化水素（トリシクロ環）基が好ましい。具体例としては、炭素数５〜２０の架橋炭化水素基が挙げられ、例えば、ノルボルニル基、ボルニル基、イソボルニル基、トリシクロデシル基、ジシクロペンテニル基、ジシクロペンタニル基、トリシクロペンテニル基、トリシクロペンタニル基、アダマンチル基、低級（例えば炭素数１〜６）アルキル基置換アダマンチル基が挙げられる。
【０１０２】
Ｌが２価の連結基を表す場合、２価の連結基は、２価の脂肪族炭化水素基が好ましい。２価の脂肪族炭化水素基の炭素数は、１〜６の範囲であることが好ましく、１〜３の範囲であることがより好ましく、１であることが更に好ましい。２価の脂肪族炭化水素基としては、直鎖状、分岐状または環状のアルキレン基が好ましく、直鎖状または分岐状のアルキレン基がより好ましく、直鎖状のアルキレン基が更に好ましい。
【０１０３】
Ｑとしては、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等を含むエチレン性不飽和基が挙げられ、中でも、アクリロイル基、メタクリロイル基またはＣ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２が好ましく、アクリロイル基またはメタクリロイル基がより好ましい。
【０１０４】
ａ）成分の具体例としては、特開平１０−１７６１４号公報段落００１５に例示されている各種化合物、下記一般式（１Ａ）または（１Ｂ）で表される化合物、１，２−エポキシ−４−ビニルシクロヘキサン等を挙げることができる。中でも、下記一般式（１Ａ）または（１Ｂ）で表される化合物がより好ましい。なお、下記一般式（１Ａ）で表される化合物は、その異性体も好ましい。
【０１０５】
【化６】
0006751438.tif 000007
【０１０６】
【化７】
0006751438.tif 000008
【０１０７】
一般式（１Ａ）、（１Ｂ）中、Ｒ１は水素原子またはメチル基を表し、Ｌ２は炭素数１〜６の２価の脂肪族炭化水素基を表す。
【０１０８】
一般式（１Ａ）および（１Ｂ）中のＬ２で表される２価の脂肪族炭化水素基の炭素数は、１〜６の範囲であり、１〜３の範囲であることがより好ましく、炭素数１であることが更に好ましい。２価の脂肪族炭化水素基としては、直鎖状、分岐状または環状のアルキレン基が好ましく、直鎖状または分岐状のアルキレン基がより好ましく、直鎖状のアルキレン基が更に好ましい。
【０１０９】
第二の態様（２）のＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層は、好ましくは、ＨＣ層の全固形分を１００質量％とした場合に、上記ａ）由来の構造を１５〜７０質量％含むことが好ましく、１８〜５０質量％含むことがより好ましく、２２〜４０質量％含むことが更に好ましい。また、第二の態様（２）のＨＣ層形成用硬化性組成物は、ａ）成分を、ＨＣ層形成用硬化性組成物の全固形分を１００質量％とした場合に、１５〜７０質量％含むことが好ましく、１８〜５０質量％含むことがより好ましく、２２〜４０質量％含むことが更に好ましい。
【０１１０】
上記環状構造含有化合物に含まれる環状構造の他の一例としては、含窒素複素環を挙げることができる。含窒素複素環含有化合物は、ＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層と樹脂フィルムとの密着性向上の観点から好ましいカチオン重合性化合物である。含窒素複素環含有化合物としては、イソシアヌレート環（後述の例示化合物Ｂ−１〜Ｂ−３に含まれる含窒素複素環）およびグリコールウリル環（後述の例示化合物Ｂ−１０に含まれる含窒素複素環）からなる群から選ばれる含窒素複素環を１分子中に１個以上有する化合物が好ましい。中でも、イソシアヌレート環を含む化合物（以下、「イソシアヌレート環含有化合物」とも称す。）は、ＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層と樹脂フィルムとの密着性向上の観点から、より好ましいカチオン重合性化合物である。これは、イソシアヌレート環が樹脂フィルムを構成する樹脂との親和性に優れるためと、本発明者らは推察している。この点からは、アクリル系樹脂フィルムを含む樹脂フィルムがより好ましく、ＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層と直接接する表面がアクリル系樹脂フィルム表面であることが更に好ましい。
【０１１１】
また、上記環状構造含有化合物に含まれる環状構造の他の一例としては、脂環構造を挙げることができる。脂環構造としては、例えば、シクロ環、ジシクロ環、トリシクロ環構造を挙げることができ、具体例としては、ジシクロペンタニル環、シクロヘキサン環等を挙げることができる。
【０１１２】
以上説明したカチオン重合性化合物は、公知の方法で合成することができる。また、市販品として入手することも可能である。
【０１１３】
カチオン重合性基として含酸素複素環を含むカチオン重合性化合物の具体例としては、例えば、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート（ダイセル社製の商品名：サイクロマーＭ１００等の市販品）、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート（例えば、ユニオンカーバイト社製の商品名：ＵＶＲ６１０５、ＵＶＲ６１１０およびダイセル化学社製の商品名：ＣＥＬＬＯＸＩＤＥ２０２１等の市販品）、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート（例えば、ユニオンカーバイト社製の商品名：ＵＶＲ６１２８）、ビニルシクロヘキセンモノエポキサイド（例えば、ダイセル化学社製の商品名：ＣＥＬＬＯＸＩＤＥ２０００）、ε−カプロラクトン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメチル３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート（例えば、ダイセル化学社製の商品名：ＣＥＬＬＯＸＩＤＥ２０８１）、１−メチル−４−（２−メチルオキシラニル）−７−オキサビシクロ［４，１，０］ヘプタン（例えば、ダイセル化学社製の商品名：ＣＥＬＬＯＸＩＤＥ３０００）、７，７’‐ジオキサ‐３，３’‐ビ［ビシクロ［４．１．０］ヘプタン］（例えば、ダイセル化学社製の商品名：ＣＥＬＬＯＸＩＤＥ８０００）、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、１，４ビス｛［（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ］メチル｝ベンゼン、３−エチル−３−（フェノキシメチル）オキセタン、３−エチル−３−（２−エチルヘキシロキシメチル）オキセタンおよびジ［１−エチル（３−オキセタニル）］メチルエーテル等を挙げることができる。
【０１１４】
また、カチオン重合性基としてビニルエーテル基を含むカチオン重合性化合物の具体例としては、１，４−ブタンジオールジビニルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジビニルエーテル、ノナンジオールジビニルエーテル、シキロヘキサンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル等が挙げられる。ビニルエーテル基を含むカチオン重合性化合物としては、脂環構造を有するものも好ましい。
【０１１５】
更に、カチオン重合性化合物としては、特開平８−１４３８０６号公報、特開平８−２８３３２０号公報、特開２０００−１８６０７９号公報、特開２０００−３２７６７２号公報、特開２００４−３１５７７８号公報、特開２００５−２９６３２号公報等に例示されている化合物を用いることもできる。
【０１１６】
以下に、カチオン重合性化合物の具体例として例示化合物Ｂ−１〜Ｂ−１４を示すが、本発明は下記具体例に限定されるものではない。
【０１１７】
【化８】
0006751438.tif 000009
【０１１８】
【化９】
0006751438.tif 000010
【０１１９】
【化１０】
0006751438.tif 000011
【０１２０】
また、ＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層と樹脂フィルムとの密着性向上の観点からは、ＨＣ層形成用硬化性組成物の好ましい態様としては、下記（１）〜（４）の態様を挙げることができる。下記態様の１つ以上を満たすことがより好ましく、２つ以上を満たすことが更に好ましく、３つ以上を満たすことがいっそう好ましく、すべて満たすことがよりいっそう好ましい。なお１つのカチオン重合性化合物が、複数の態様を満たすことも好ましい。例えば、含窒素複素環含有化合物が、カチオン重合性基当量１５０未満であること等を、好ましい態様として例示できる。
（１）カチオン重合性化合物として、含窒素複素環含有化合物を含む。好ましくは、含窒素複素環含有化合物が有する含窒素複素環は、イソシアヌレート環およびグリコールウリル環からなる群から選択される。含窒素複素環含有化合物は、より好ましくは、イソシアヌレート環含有化合物である。更に好ましくは、イソシアヌレート環含有化合物は、１分子中に１つ以上のエポキシ環を含むエポキシ環含有化合物である。
（２）カチオン重合性化合物として、カチオン重合性基当量が１５０未満のカチオン重合性化合物を含む。好ましくは、エポキシ基当量が１５０未満のエポキシ基含有化合物を含む。
（３）カチオン重合性化合物が、エチレン性不飽和基を含む。
（４）カチオン重合性化合物として、１分子中に１個以上のオキセタン環を含むオキセタン環含有化合物を、他のカチオン重合性化合物とともに含む。好ましくは、オキセタン環含有化合物は、含窒素複素環を含まない化合物である。
【０１２１】
上記ＨＣ層形成用硬化性組成物中のカチオン重合性化合物の含有量の下限値は、ラジカル重合性化合物とカチオン重合性化合物との合計含有量１００質量部に対して、好ましくは１０質量部以上であり、より好ましくは１５質量部以上であり、更に好ましくは２０質量部以上である。また、上記ＨＣ層形成用硬化性組成物中のカチオン重合性化合物の含有量の上限値は、ラジカル重合性化合物とカチオン重合性化合物との合計含有量１００質量部に対して、５０質量部以下であることが好ましい。
また、上記ＨＣ層形成用硬化性組成物中のカチオン重合性化合物の含有量の下限値は、第一のラジカル重合性化合物の含有量とカチオン重合性化合物との合計含有量１００質量部に対して、好ましくは０．０５質量部以上であり、より好ましくは０．１質量部以上であり、更に好ましくは１質量部以上である。一方、カチオン重合性化合物の含有量の上限値は、第一のラジカル重合性化合物の含有量とカチオン重合性化合物との合計含有量１００質量部に対して、５０質量部以下であることが好ましく、４０質量部以下であることがより好ましい。
なお本発明および本明細書において、カチオン重合性基とラジカル重合性基をともに有する化合物は、カチオン重合性化合物に分類し、ＨＣ層形成用硬化性組成物における含有量を規定するものとする。
【０１２２】
−重合開始剤−
ＨＣ層形成用硬化性組成物は重合開始剤を含むことが好ましく、光重合開始剤を含むことがより好ましい。ラジカル重合性化合物を含むＨＣ層形成用硬化性組成物は、ラジカル光重合開始剤を含むことが好ましく、カチオン重合性化合物を含むＨＣ層形成用硬化性組成物は、カチオン光重合開始剤を含むことが好ましい。なおラジカル光重合開始剤は一種のみ用いてもよく、構造の異なる二種以上を併用してもよい。この点は、カチオン光重合開始剤についても同様である。
以下、各光重合開始剤について、順次説明する。
【０１２３】
（ｉ）ラジカル光重合開始剤
ラジカル光重合開始剤としては、光照射により活性種としてラジカルを発生することができるものであればよく、公知のラジカル光重合開始剤を、何ら制限なく用いることができる。具体例としては、例えば、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−２−モルホリノ−１−［４−（メチルチオ）フェニル］プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−１−ブタノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−（１−メチルビニル）フェニル］−１−プロパノンオリゴマー、２−ヒロドキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン等のアセトフェノン類；１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）等のオキシムエステル類；ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン類；ベンゾフェノン、オルト−ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチル−ジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−［２−（１−オキソ−２−プロペニルオキシ）エチル］ベンゼンメタナミニウムブロミド、（４−ベンゾイルベンジル）トリメチルアンモニウムクロリド等のベンゾフェノン類；２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン、２−（３−ジメチルアミノ−２−ヒドロキシ）−３，４−ジメチル−９Ｈ−チオキサントン−９−オンメソクロリド等のチオキサントン類；２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド等のアシルフォスフォンオキサイド類；等が挙げられる。
また、ラジカル光重合開始剤の助剤として、トリエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、４，４’−ジメチルアミノベンゾフェノン（ミヒラーケトン）、４，４’−ジエチルアミノベンゾフェノン、２−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸（ｎ−ブトキシ）エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル、２，４−ジエチルチオキサンソン、２，４−ジイソプロピルチオキサンソン等を併用してもよい。
以上のラジカル光重合開始剤および助剤は、公知の方法で合成可能であり、市販品として入手も可能である。市販のラジカル光重合開始剤としては、いずれも商品名で、ＢＡＳＦ社製のイルガキュア（１２７，６５１，１８４，８１９，９０７，１８７０（ＣＧＩ−４０３／Ｉｒｇ１８４＝７／３混合開始剤）、５００，３６９，１１７３，２９５９，４２６５，４２６３、ＯＸＥ０１等）、日本化薬社製のＫＡＹＡＣＵＲＥ（ＤＥＴＸ−Ｓ，ＢＰ−１００，ＢＤＭＫ，ＣＴＸ，ＢＭＳ，２−ＥＡＱ，ＡＢＱ，ＣＰＴＸ，ＥＰＤ，ＩＴＸ，ＱＴＸ，ＢＴＣ，ＭＣＡ等）、サートマー社製のＥｓａｃｕｒｅ（ＫＩＰ１００Ｆ，ＫＢ１，ＥＢ３，ＢＰ，Ｘ３３，ＫＴ０４６，ＫＴ３７，ＫＩＰ１５０，ＴＺＴ等）等を好ましい例として挙げられる。
【０１２４】
上記ＨＣ層形成用硬化性組成物中のラジカル光重合開始剤の含有量は、ラジカル重合性化合物の重合反応（ラジカル重合）を良好に進行させる範囲で適宜調整すればよく、特に限定されるものではない。上記ＨＣ層形成用硬化性組成物に含まれるラジカル重合性化合物１００質量部に対して、例えば０．１〜２０質量部の範囲であり、好ましくは０．５〜１０質量部、より好ましくは１〜１０質量部の範囲である。
【０１２５】
（ｉｉ）カチオン光重合開始剤
カチオン光重合開始剤としては、光照射により活性種としてカチオンを発生することができるものであればよく、公知のカチオン光重合開始剤を、何ら制限なく用いることができる。具体例としては、公知のスルホニウム塩、アンモニウム塩、ヨードニウム塩（例えばジアリールヨードニウム塩）、トリアリールスルホニウム塩、ジアゾニウム塩、イミニウム塩などが挙げられる。より具体的には、例えば、特開平８−１４３８０６号公報段落００５０〜００５３に示されている式（２５）〜（２８）で表されるカチオン光重合開始剤、特開平８−２８３３２０号公報段落００２０にカチオン重合触媒として例示されているもの等を挙げることができる。また、カチオン光重合開始剤は、公知の方法で合成可能であり、市販品としても入手可能である。市販品としては、例えば、いずれも商品名で、日本曹達社製のＣＩ−１３７０、ＣＩ−２０６４、ＣＩ−２３９７、ＣＩ−２６２４、ＣＩ−２６３９、ＣＩ−２７３４、ＣＩ−２７５８、ＣＩ−２８２３、ＣＩ−２８５５およびＣＩ−５１０２等、ローディア社製のＰＨＯＴＯＩＮＩＴＩＡＴＯＲ２０４７等、ユニオンカーバイト社製のＵＶＩ−６９７４、ＵＶＩ−６９９０、サンアプロ社製のＣＰＩ−１０Ｐを用いることができる。
【０１２６】
カチオン光重合開始剤としては、光重合開始剤の光に対する感度、化合物の安定性等の点からは、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、イミニウム塩が好ましい。また、耐候性の点からは、ヨードニウム塩が最も好ましい。
【０１２７】
ヨードニウム塩系のカチオン光重合開始剤の具体的な市販品としては、例えば、いずれも商品名で、東京化成社製のＢ２３８０、みどり化学社製のＢＢＩ−１０２、和光純薬工業社製のＷＰＩ−１１３、ＷＰＩ−１２４、ＷＰＩ−１６９、ＷＰＩ−１７０、東洋合成化学社製のＤＴＢＰＩ−ＰＦＢＳを挙げることができる。
【０１２８】
また、カチオン光重合開始剤として使用可能なヨードニウム塩化合物の具体例としては、下記化合物ＰＡＧ−１、ＰＡＧ−２を挙げることもできる。
【０１２９】
【化１１】
0006751438.tif 000012
【０１３０】
【化１２】
0006751438.tif 000013
【０１３１】
上記ＨＣ層形成用硬化性組成物中のカチオン光重合開始剤の含有量は、カチオン重合性化合物の重合反応（カチオン重合）を良好に進行させる範囲で適宜調整すればよく、特に限定されるものではない。カチオン重合性化合物１００質量部に対して、例えば０．１〜２００質量部の範囲であり、好ましくは１〜１５０質量部、より好ましくは２〜１００質量部の範囲である。
【０１３２】
その他の光重合開始剤としては、特開２００９−２０４７２５号公報の段落００５２〜００５５に記載の光重合開始剤を挙げることもでき、この公報の内容は本発明に組み込まれる。
【０１３３】
−ＨＣ層形成用硬化性組成物に任意に含まれ得る成分−
ＨＣ層形成用硬化性組成物は、活性エネルギー線の照射により硬化する性質を有する少なくとも一種の成分を含み、任意に少なくとも一種の重合開始剤を含むことができ、含むことが好ましい。それらの詳細は、先に記載した通りである。
次に、ＨＣ層形成用硬化性組成物に任意に含まれ得る各種成分について説明する。
【０１３４】
（ｉ）無機粒子
ＨＣ層形成用硬化性組成物は、平均一次粒径が２μｍ未満の無機粒子を含むことができる。ＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層を有する前面板の硬度向上（更にはこの前面板を有する液晶パネルの硬度向上）の観点からは、ＨＣ層形成用硬化性組成物およびこの組成物を硬化したＨＣ層は、平均一次粒径が２μｍ未満の無機粒子を含むことが好ましい。無機粒子の平均一次粒径は、１０ｎｍ〜１μｍの範囲であることが好ましく、１０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲であることがより好ましく、１０ｎｍ〜５０ｎｍの範囲であることが更に好ましい。
無機粒子および後述のマット粒子の平均一次粒径については、透過型電子顕微鏡（倍率５０万〜２００万倍）で粒子の観察を行い、無作為に選択した粒子（一次粒子）１００個を観察し、それらの粒径の平均値をもって平均一次粒径とする。
【０１３５】
上記無機粒子としては、シリカ粒子、二酸化チタン粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化アルミニウム粒子などが挙げられる。中でもシリカ粒子が好ましい。
【０１３６】
上記無機粒子は、ＨＣ層形成用硬化性組成物に含まれる有機成分との親和性を高めるために、その表面が有機セグメントを含む表面修飾剤で処理されていることが好ましい。表面修飾剤としては、無機粒子と結合を形成又は無機粒子に吸着し得る官能基と、有機成分と高い親和性を有する官能基とを同一分子内に有するものが好ましい。無機粒子に結合または吸着し得る官能基を有する表面修飾剤としては、シラン系表面修飾剤、アルミニウム、チタニウム、ジルコニウム等の金属アルコキシド基を有する金属アルコキシド表面修飾剤、又は、リン酸基、硫酸基、スルホン酸基、カルボン酸基等のアニオン性基を有する表面修飾剤が好ましい。有機成分との親和性の高い官能基としては、有機成分と同様の親疎水性を有する官能基、有機成分と化学的に結合し得る官能基等が挙げられる。中でも、有機成分と化学的に結合し得る官能基等が好ましく、エチレン性不飽和基または開環重合性基がより好ましい。
【０１３７】
好ましい無機粒子表面修飾剤は、金属アルコキシド基またはアニオン性基とエチレン性不飽和基または開環重合性基とを同一分子内に有する重合性化合物である。これらの表面修飾剤によって無機粒子と有機成分とを化学的に結合させることによりＨＣ層の架橋密度を高めることができ、その結果、前面板の硬度（更にはこの前面板を含む液晶パネルの硬度）を向上させることができる。
【０１３８】
上記表面修飾剤の具体例としては、以下の例示化合物Ｓ−１〜Ｓ−８が挙げられる。
Ｓ−１  Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ３Ｈ６Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ−２  Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＴｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
Ｓ−３  Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＣＯＣ５Ｈ１０ＯＰＯ（ＯＨ）２
Ｓ−４  （Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＣＯＣ５Ｈ１０Ｏ）２ＰＯＯＨ
Ｓ−５  Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＳＯ３Ｈ
Ｓ−６  Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯ（Ｃ５Ｈ１０ＣＯＯ）２Ｈ
Ｓ−７  Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ５Ｈ１０ＣＯＯＨ
Ｓ−８  ＣＨ２＝ＣＨ（Ｏ）ＣＨ２ＯＣ３Ｈ６Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
（Ｘは、水素原子またはメチル基を表す）
【０１３９】
表面修飾剤による無機粒子の表面修飾は、溶液中で行うことが好ましい。無機粒子を機械的に分散する際に、一緒に表面修飾剤を存在させるか、無機粒子を機械的に分散した後に表面修飾剤を添加して攪拌するか、または、無機粒子を機械的に分散する前に表面修飾を行って（必要により、加温、乾燥した後に加熱、またはｐＨ（ｐｏｗｅｒ  ｏｆ  ｈｙｄｒｏｇｅｎ）変更を行う）、その後に分散を行ってもよい。表面修飾剤を溶解する溶媒としては、極性の大きな有機溶媒が好ましい。具体的には、アルコール、ケトン、エステル等の公知の溶媒が挙げられる。
【０１４０】
無機粒子の含有量は、ＨＣ層形成用硬化性組成物中の全固形分を１００質量％とした場合に、５〜４０質量％が好ましく、１０〜３０質量％がより好ましい。無機粒子の一次粒子の形状は、球形、非球形を問わないが、無機粒子の一次粒子は球形であることが好ましく、ＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層中において、球形の２〜１０個の無機粒子（一次粒子）が連結した非球形の２次粒子以上の高次粒子として存在することが更なる硬度向上の観点からより好ましい。
【０１４１】
無機粒子の具体的な例としては、いずれも商品名で、ＥＬＣＯＭ  Ｖ−８８０２（日揮触媒化成社製の平均一次粒径１５ｎｍの球形シリカ粒子）、ＥＬＣＯＭ  Ｖ−８８０３（日揮触媒化成社製の異形シリカ粒子）、ＭｉＢＫ−ＳＤ（日産化学工業社製の平均一次粒径１０〜２０ｎｍの球形シリカ粒子）、ＭＥＫ−ＡＣ−２１４０Ｚ（日産化学工業社製の平均一次粒径１０〜２０ｎｍの球形シリカ粒子）、ＭＥＫ−ＡＣ−４１３０（日産化学工業社製の平均一次粒径４５ｎｍの球形シリカ粒子）、ＭｉＢＫ−ＳＤ−Ｌ（日産化学工業社製の平均一次粒径４０〜５０ｎｍの球形シリカ粒子）、ＭＥＫ−ＡＣ−５１４０Ｚ（日産化学工業社製の平均一次粒径８５ｎｍの球形シリカ粒子）等を挙げることができる。中でも、日揮触媒化成社製のＥＬＣＯＭ  Ｖ−８８０２が、更なる硬度向上の観点から好ましい。
【０１４２】
（ｉｉ）マット粒子
ＨＣ層形成用硬化性組成物は、マット粒子を含むこともできる。マット粒子とは、平均一次粒径が２μｍ以上の粒子を意味し、無機粒子であっても有機粒子であってもよく、または無機、有機の複合材料の粒子であってもよい。マット粒子の形状は、球形、非球形を問わない。マット粒子の平均一次粒径は、２〜２０μｍの範囲であることが好ましく、４〜１４μｍの範囲であることがより好ましく、６〜１０μｍの範囲であることが更に好ましい。
【０１４３】
マット粒子の具体例としては、例えばシリカ粒子、ＴｉＯ２粒子等の無機粒子、架橋アクリル粒子、架橋アクリル−スチレン粒子、架橋スチレン粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子等の有機粒子を挙げることができる。中でも、マット粒子は有機粒子が好ましく、架橋アクリル粒子、架橋アクリル−スチレン粒子又は架橋スチレン粒子がより好ましい。
【０１４４】
マット粒子は、ＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層における単位体積あたりの含有量として、０．１０ｇ／ｃｍ３以上であることが好ましく、０．１０ｇ／ｃｍ３〜０．４０ｇ／ｃｍ３であることがより好ましく、０．１０ｇ／ｃｍ３〜０．３０ｇ／ｃｍ３であることがさらに好ましい。
【０１４５】
（ｉｉｉ）紫外線吸収剤
ＨＣ層形成用硬化性組成物は、紫外線吸収剤を含有することも好ましい。紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール化合物、トリアジン化合物を挙げることができる。ここでベンゾトリアゾール化合物とは、ベンゾトリアゾール環を有する化合物であり、具体例としては、例えば特開２０１３−１１１８３５号公報段落００３３に記載されている各種ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤を挙げることができる。トリアジン化合物とは、トリアジン環を有する化合物であり、具体例としては、例えば特開２０１３−１１１８３５号公報段落００３３に記載されている各種トリアジン系紫外線吸収剤を挙げることができる。ＨＣ層中の紫外線吸収剤の含有量は、例えばＨＣ層に含まれる樹脂１００質量部に対して０．１〜１０質量部程度であるが、特に限定されるものではない。また、紫外線吸収剤については、特開２０１３−１１１８３５号公報段落００３２も参照できる。なお本発明および本明細書における紫外線とは２００〜３８０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する光を意味する。
【０１４６】
（ｉｖ）含フッ素化合物
ＨＣ層形成用硬化性組成物は、レベリング剤および防汚剤等の含フッ素化合物を含有することも好ましい。
レベリング剤としては、含フッ素ポリマーが好ましく用いられる。例えば、特許第５１７５８３１号明細書に記載されているフルオロ脂肪族基含有ポリマーが挙げられる。また、フルオロ脂肪族基含有ポリマーを構成する全重合単位中、同特許における一般式（１）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの含有量が５０質量％以下であるフルオロ脂肪族基含有ポリマーをレベリング剤として用いることもできる。
ＨＣ層が防汚剤を含むと、指紋や汚れの付着を低減し、また、付着した汚れの拭き取り
を容易にすることができる。また、表面のすべり性を向上させる事により耐擦性をより向上させることも可能になる。
防汚剤は、含フッ素化合物を含有することが好ましい。この含フッ素化合物は、パーフルオロポリエーテル基および重合性基（好ましくは、ラジカル重合性基）を有することが好ましく、パーフルオロポリエーテル基および重合性基を有し、かつ重合性基を一分子中に複数有することがより好ましい。このような構成とすることにより、耐擦性改良という効果をより効果的に発揮させることができる。
尚、本明細書では、防汚剤が、重合性基を有する場合であっても、後述の重合性化合物１〜３および他の重合性化合物には該当しないものとして扱う。
上記含フッ素化合物は、モノマー、オリゴマーおよびポリマーのいずれであってもよいが、オリゴマー（含フッ素オリゴマー）であることが好ましい。
なお、後述の（ｖｉ）その他の成分に記載するリベリング剤および防汚剤も、上記に加えて含有することができる。
【０１４７】
本発明で用いることができる防汚剤については、上記の他、特開２０１２−０８８６９９号公報の段落００１２〜０１０１に記載の材料を用いることができ、この公報の内容は本明細書に組み込まれる。
以上説明した防汚剤としては、公知の方法で合成したものを用いてもよく、市販品を用いてもよい。市販品としては、ＤＩＣ社製のＲＳ−９０、ＲＳ−７８（商品名）などを好ましく用いることができる。
【０１４８】
ＨＣ層形成用硬化性組成物が、防汚剤を含有する場合の含有量は、ＨＣ層形成用硬化性組成物中の全固形分の０．０１〜７質量％が好ましく、０．０５〜５質量％がより好ましく、０．１〜２質量％がさらに好ましい。
ＨＣ層形成用硬化性組成物は、防汚剤を、１種のみ含んでいても良いし、２種以上含んでいても良い。２種以上含まれている場合、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
また、ＨＣ層形成用硬化性組成物は、防汚剤を実質的に含まない構成とすることもできる。
【０１４９】
（ｖ）溶媒
ＨＣ層形成用硬化性組成物は、溶媒を含むことも好ましい。溶媒としては、有機溶媒が好ましく、有機溶媒の１種または２種以上を任意の割合で混合して用いることができる。有機溶媒の具体例としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ｎ−ブタノール、ｉｓｏ−ブタノール等のアルコール類；アセトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；エチルセロソルブ等のセロソルブ類；トルエン、キシレン等の芳香族類；プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等の酢酸エステル類；ジアセトンアルコール等が挙げられる。これらの中でも、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンまたは酢酸メチルが好ましく、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンおよび酢酸メチルを任意の割合で混合して用いることがより好ましい。このような構成とすることにより、耐擦性、打抜き性および密着性により優れた積層体が得られる。
【０１５０】
ＨＣ層形成用硬化性組成物中の溶媒量は、上記組成物の塗布適性を確保できる範囲で適宜調整することができる。例えば、重合性化合物および光重合開始剤の合計量１００質量部に対して、溶媒を５０〜５００質量部とすることができ、好ましくは８０〜２００質量部とすることができる。
また、ＨＣ形成用硬化性組成物中の固形分量は、１０〜９０質量％であることが好ましく、５０〜８０質量％であることがより好ましく、６５〜７５質量％であることが特に好ましい。
【０１５１】
（ｖｉ）その他の成分
ＨＣ層形成用硬化性組成物は、上記成分に加えて、公知の添加剤の一種以上を任意の量で含むことができる。添加剤としては、表面調整剤、レベリング剤、重合禁止剤、ポリロタキサン等を挙げることができる。それらの詳細については、例えば特開２０１２−２２９４１２号公報の段落００３２〜００３４を参照できる。また、市販の防汚剤または公知の方法で調製可能な防汚剤を含むこともできる。ただし添加剤はこれらに限らず、ＨＣ層形成用硬化性組成物に一般に添加され得る各種添加剤を用いることができる。また、ＨＣ層形成用硬化性組成物は、上記（ｖ）溶媒の他に、公知の溶媒を任意の量で含むこともできる。
【０１５２】
ＨＣ層形成用硬化性組成物は、以上記載した各種成分を同時に、または任意の順序で順次混合することにより調製することができる。調製方法は特に限定されるものではなく、調製には公知の攪拌機等を用いることができる。
【０１５３】
２）２層以上の積層構造
本発明の積層体は、図２におけるＨＣ層３Ａが、少なくとも、第１のＨＣ層、および第２のＨＣ層を樹脂フィルム１Ａ側から順に有する態様も好ましい。
樹脂フィルム１Ａの表面に、第１のＨＣ層が位置していても、間に他の層を有していてもよい。同様に、第１のＨＣ層の表面に、第２のＨＣ層が位置していても、間に他の層を有していても良い。第１のＨＣ層と第２のＨＣ層の密着性を高める観点からは、第１のＨＣ層の表面に第２のＨＣ層が位置する、すなわち、両層は、膜面の少なくとも一部において接していることが好ましい。
【０１５４】
また、第１のＨＣ層および第２のＨＣ層は、それぞれ、１層であっても、２層以上であってもよいが、１層が好ましい。
さらに、詳細を後述するとおり、本発明の積層体をタッチパネルに用いる場合、上記第２のＨＣ層が画像表示素子の前面側となるように積層体を配置することが好ましいが、積層体表面の耐擦性、打抜き性を優れたものにするためには、上記第２のＨＣ層が積層体の表面側、特に、最表面に配置されることが好ましい。
【０１５５】
＜第１のＨＣ層、第１のＨＣ層形成用硬化性組成物＞
本発明に用いられる第１のＨＣ層は、第１のＨＣ層形成用硬化性組成物から形成される。
第１のＨＣ層形成用硬化性組成物は、ラジカル重合性基を有する重合性化合物１と、同一分子内にカチオン重合性基とラジカル重合性基を有し、かつ重合性化合物１とは異なる重合性化合物２とを含有し、第１のＨＣ層形成用硬化性組成物に含まれる重合性化合物中、重合性化合物２の含有量が５１質量％以上である。
【０１５６】
（重合性化合物）
重合性化合物１としては、前述のラジカル重合性化合物の記載が好ましく適用され、重合性化合物２としては、前述のカチオン重合性化合物におけるａ）成分の記載が好ましく適用される。
また、第１のＨＣ層形成用硬化性組成物は、重合性化合物１とも重合性化合物２とも異なる他の重合性化合物を有していてもよい。
上記他の重合性化合物は、カチオン重合性基を有する重合性化合物であることが好ましい。上記カチオン重合性基としては、重合性化合物２で述べたカチオン重合性基と同義であり、好ましい範囲も同様である。特に、本発明では、他の重合性化合物として、カチオン重合性基を含む、含窒素複素環含有化合物が好ましい。このような化合物を用いることにより、樹脂フィルムと第１のＨＣ層の密着性をより効果的に向上させることができる。
含窒素複素環としては、イソシアヌレート環（前述の例示化合物Ｂ−１〜Ｂ−３に含まれる含窒素複素環）およびグリコールウリル環（前述の例示化合物Ｂ−１０に含まれる含窒素複素環）からなる群から選ばれる含窒素複素環が例示され、イソシアヌレート環がより好ましい。他の重合性化合物が有するカチオン性基の数は、１〜１０が好ましく、２〜５がより好ましい。また、他の重合性化合物として、カチオン重合性基と含窒素複素環構造を有する重合性化合物を用いる場合、樹脂フィルムは、アクリル系樹脂フィルムを含む樹脂フィルムが好ましい。このような構成とすることにより、樹脂フィルムと第１のＨＣ層の密着性がより向上する傾向にある。
他の重合性化合物の具体例としては、前述の例示化合物Ｂ−１〜Ｂ−１４が挙げられるが、本発明は前述の具体例に限定されるものではない。
【０１５７】
（その他）
その他、前述の、重合開始剤、無機粒子、マット粒子、紫外線吸収剤、含フッ素化合物、溶媒およびその他の成分の記載を好ましく適用することができる。
特に第１のＨＣ層形成用硬化性組成物は、溶媒を含むことが好ましく、第２のＨＣ層形成用硬化性組成物は、防汚剤を含むことが好ましい。
【０１５８】
（ＨＣ層の厚み）
ＨＣ層の厚みは、３μｍ以上１００μｍ以下が好ましく、５μｍ以上７０μｍ以下がより好ましく、１０μｍ以上５０μｍ以下がさらに好ましい。
（ＨＣ層の鉛筆硬度）
ＨＣ層の鉛筆硬度は、硬いほどよく、具体的には５Ｈ以上が好ましく、７Ｈ以上がより好ましい。
鉛筆硬度は、実施例に記載の方法で測定することができる。
【０１５９】
−ＨＣ層の形成方法−
ＨＣ層形成用硬化性組成物を、樹脂フィルム上に直接、または易接着層等の他の層を介して、塗布し、活性エネルギー線を照射することにより、ＨＣ層を形成することができる。塗布は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ダイコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法等の公知の塗布方法により行うことができる。なおＨＣ層は、二種以上の異なる組成の組成物を同時または逐次塗布することにより二層以上（例えば二層〜五層程度）の積層構造のＨＣ層として形成することもできる。
【０１６０】
塗布されたＨＣ層形成用硬化性組成物に対して活性エネルギー線照射を行うことにより、ＨＣ層を形成できる。例えば、ＨＣ層形成用硬化性組成物がラジカル重合性化合物、カチオン重合性化合物、ラジカル光重合開始剤およびカチオン光重合開始剤を含む場合、ラジカル重合性化合物およびカチオン重合性化合物の重合反応を、それぞれラジカル光重合開始剤、カチオン光重合開始剤の作用により開始させ進行させることができる。照射する光の波長は、用いる重合性化合物および重合開始剤の種類に応じて決定すればよい。光照射のための光源としては、１５０〜４５０ｎｍ波長帯域の光を発する高圧水銀ランプ、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ、無電極放電ランプ、ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ）等を挙げることができる。また、光照射量は、通常、３０〜３０００ｍＪ／ｃｍ２の範囲であり、好ましくは１００〜１５００ｍＪ／ｃｍ２の範囲である。光照射の前および後の一方または両方において、必要に応じて乾燥処理を行ってもよい。乾燥処理は、温風の吹き付け、加熱炉内への配置、加熱炉内での搬送等により行うことができる。ＨＣ層形成用硬化性組成物が溶媒を含む場合、加熱温度は、溶媒を乾燥除去できる温度に設定すればよく、特に限定されるものではない。ここで加熱温度とは、温風の温度または加熱炉内の雰囲気温度を意味する。
【０１６１】
（反射防止層）
本発明のＨＣ層を有する積層体においては、ＨＣ層の樹脂フィルムと反対側には、反射防止層を設けてもよい。反射防止層は特に限定されないが、例えば低屈折率層と高屈折率層とが複数積層されたものが挙げられる。上記の低屈折率層と高屈折率層の積層順序も特に限定されないが、樹脂フィルムから最も遠い層（空気側の層）は低屈折率層であることが好ましい。また、反射防止性能向上の観点から、低屈折率層と高屈折率層とがそれぞれ複数層積層されていることが好ましく、低屈折率層と高屈折率層とが交互に複数層積層されていることがより好ましい。
【０１６２】
―低屈折率層―
低屈折率層を構成する材料としては、高屈折率層を構成する材料よりも低屈折率な材料、例えば、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、不定比性の酸化ケイ素（ＳｉＯ２−Ｘ，０≦Ｘ＜１）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）、およびそれらの混合物等が挙げられ、なかでも酸化ケイ素が好ましい。
【０１６３】
低屈折率層の屈折率は、１．３５以上１．５以下であることが好ましく、１．３８以上１．４７以下であることがより好ましい。また、低屈折率層の光学膜厚は、設計波長λ０を５００ｎｍとしたときに、０．４４λ０以下であることが好ましく、０．３５λ０以下であることがより好ましく、０．１４λ０以下であることがさらに好ましい。
【０１６４】
―高屈折率層―
高屈折率層を構成する材料としては、低屈折率層を構成する材料よりも高屈折率な材料、例えば、五酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）、五酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、チタン酸ランタン（ＬａＴｉＯ３）、酸化ハフニウム（ＨｆＯ２）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化クロム（Ｃｒ２Ｏ３）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ）、硫化亜鉛（ＺｎＳ）、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、およびそれらの混合物等が挙げられる。
【０１６５】
高屈折率層の屈折率は、１．７以上２．５以下であることが好ましく、１．８以上２．２以下であることがより好ましい。また、高屈折率層の光学膜厚は、設計波長λ０を５００ｎｍとしたときに、０．０３６λ０以上０．５４λ０以下であることが好ましく、０．０７２λ０以上０．４３λ０以下であることがより好ましい。
【０１６６】
低屈折率層および高屈折率層を成膜する方法は特に限定されず、ウェットコーティング法、ドライコーティング法のいずれでもよいが、膜厚の均一な薄膜を形成し得ること、およびナノメートルレベルの薄膜の膜厚の調整が容易であることから、真空蒸着、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）、スパッタ、電子線蒸着等のドライコーティング法が好ましく、なかでもスパッタまたは電子線蒸着が好ましい。
【０１６７】
（４）積層体を有する物品
本発明の積層体を含む物品としては、家電業界、電気電子業界、自動車業界、住宅業界をはじめとする様々な産業界において耐擦性を向上することが求められる各種物品を挙げることができる。具体例としては、タッチセンサ、タッチパネル、液晶表示装置等の画像表示装置、自動車の窓ガラス、住居の窓ガラス等を挙げることができる。これら物品に、好ましくは表面保護フィルムとして本発明の積層体を設けることにより、優れたガラス品質を示す物品を提供することが可能となる。本発明の積層体は、画像表示装置用の前面板に用いられる積層体として好ましく用いられ、タッチパネルの画像表示素子の前面板に用いられる積層体であることがより好ましい。
本発明の積層体を用いることができるタッチパネルは特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、表面型静電容量式タッチパネル、投影型静電容量式タッチパネル、抵抗膜式タッチパネルなどが挙げられる。詳細については、後述する。
なお、タッチパネルとは、いわゆるタッチセンサを含むものとする。タッチパネルにおけるタッチパネルセンサー電極部の層構成は、２枚の透明電極を貼合する貼合方式、１枚の基板の両面に透明電極を具備する方式、片面ジャンパー方式、スルーホール方式および片面積層方式のいずれでもよい。
【０１６８】
＜＜画像表示装置＞＞
本発明の画像表示装置は、本発明の積層体を有する前面板と、画像表示素子とを有する画像表示装置である。
画像表示装置としては、液晶表示装置（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ；ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、陰極管表示装置およびタッチパネルのような画像表示装置が挙げられる。
液晶表示装置としては、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ−Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＴＳＴＮ（Ｔｒｉｐｌｅ  Ｓｕｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）型、マルチドメイン型、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、ＩＰＳ（Ｉｎ  Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）型、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  ＣｏｍｐｅｎｓａｔｅｄＢｅｎｄ）型等が挙げられる。
画像表示装置は、脆性が改良されハンドリング性に優れ、表面平滑性やシワによる表示品位を損なう事が無く、湿熱試験時の光漏れを低減できることが好ましい。
すなわち、本発明の画像表示装置は、画像表示素子が液晶表示素子であることが好ましい。液晶表示素子を有する画像表示装置としては、ソニーエリクソン社製、エクスペリアＰ（商品名）などを挙げることができる。
【０１６９】
本発明の画像表示装置は、画像表示素子が有機エレクトロルミネッセンス（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ；ＥＬ）表示素子であることも好ましい。
有機エレクトロルミネッセンス表示素子は、公知技術を、何ら制限なく適用することができる。有機エレクトロルミネッセンス表示素子を有する画像表示装置としては、ＳＡＭＳＵＮＧ社製、ＧＡＬＡＸＹ  ＳＩＩ（商品名）などを挙げることができる。
【０１７０】
本発明の画像表示装置は、画像表示素子がインセル（Ｉｎ−Ｃｅｌｌ）タッチパネル表示素子であることも好ましい。インセルタッチパネル表示素子とは、タッチパネル機能を画像表示素子セル内に内蔵したものである。
インセルタッチパネル表示素子は、例えば、特開２０１１−７６６０２号公報、特開２０１１−２２２００９号公報等の公知技術を、何ら制限なく適用することができる。インセルタッチパネル表示素子を有する画像表示装置としては、ソニーエリクソン社製、エクスペリアＰ（商品名）などを挙げることができる。
【０１７１】
また、本発明の画像表示装置は、画像表示素子がオンセル（Ｏｎ−Ｃｅｌｌ）タッチパネル表示素子であることも好ましい。オンセルタッチパネル表示素子とは、タッチパネル機能を画像表示素子セル外に配置したものである。
オンセルタッチパネル表示素子は、例えば、特開２０１２−８８６８３号公報等の公知技術を、何ら制限なく適用することができる。オンセルタッチパネル表示素子を有する画像表示装置としては、ＳＡＭＳＵＮＧ社製、ＧＡＬＡＸＹ  ＳＩＩ（商品名）などを挙げることができる。
【０１７２】
＜＜タッチパネル＞＞
本発明のタッチパネルは、本発明の積層体における粘着層にタッチセンサーフィルムを貼り合わせてタッチセンサを含むタッチパネルである。
タッチセンサーフィルムとしては特に制限はないが、導電層が形成された導電性フィルムであることが好ましい。
導電性フィルムは、任意の支持体の上に導電層が形成された導電性フィルムであることが好ましい。
【０１７３】
導電層の材料としては特に制限されるものではなく、例えば、インジウム・スズ複合酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ；ＩＴＯ）、スズ酸化物、スズ・チタン複合酸化物、アンチモン・スズ複合酸化物（Ａｎｔｉｍｏｎｙ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ；ＡＴＯ）、銅、銀、アルミニウム、ニッケル、クロム及びこれらの合金などがあげられる。
導電層は、電極パターンを有することが好ましい。また、透明電極パターンを有することも好ましい。電極パターンは透明導電材料層をパターニングしたものでもよく、不透明な導電材料の層をパターン形成したものでもよい。
【０１７４】
透明導電材料としてはＩＴＯおよびＡＴＯなどの酸化物、銀ナノワイヤ、カーボンナノチューブ、導電性高分子等を用いることができる。
【０１７５】
不透明な導電材料の層としては例えば金属層が挙げられる。金属層を構成する金属としては導電性を持った金属であれば使用可能であり、銀、銅、金、アルミニウム等が好適に用いられる。金属層は単体の金属または合金であってもよく、金属粒子が結着材により結着されたものでもよい。又、必要に応じて、金属表面に対し黒化処理及び防錆処理等が適用されていてもよい。金属を用いる場合は、実質透明なセンサー部と周辺の配線部とを一括形成することが可能である。
【０１７６】
導電層が、複数の金属細線を含むことが好ましい。
金属細線が銀または銀を含む合金からなることが好ましい。金属細線が銀または銀を含む合金からなる導電層としては特に制限は無く、公知の導電層を用いることができる。例えば、特開２０１４−１６８８８６号公報の段落００４０〜００４１に記載の導電層を用いることが好ましく、この公報の内容は本明細書に組み込まれる。
金属細線が銅または銅を含む合金からなることも好ましい。上記合金は、特に制限は無く、公知の導電層を用いることができる。例えば、特開２０１５−４９８５２号公報の段落００３８〜００５９に記載の導電層を用いることが好ましく、この公報の内容は本明細書に組み込まれる。
【０１７７】
導電層が酸化物からなることも好ましい。導電層が酸化物からなる場合、酸化物が酸化スズを含有する酸化インジウムまたはアンチモンを含有する酸化スズからなることがより好ましい。導電層が酸化物からなる導電層としては特に制限は無く、公知の導電層を用いることができる。例えば、特開２０１０−２７２９３号公報の段落００１７〜００３７に記載の導電層を用いることが好ましく、この公報の内容は本明細書に組み込まれる。
【０１７８】
これらの構成の導電層の中でも、導電層が、複数の金属細線を含み、金属細線がメッシュ状もしくはランダム状に配置されていることが好ましく、金属細線がメッシュ状に配置されていることがより好ましい。その中でも、金属細線がメッシュ状に配置されており、金属細線が銀または銀を含む合金からなることが特に好ましい。
タッチセンサーフィルムは、両面に導電層を有することも好ましい。
【０１７９】
タッチセンサーフィルムの好ましい態様については、特開２０１２−２０６３０７号公報の段落００１６〜００４２に記載があり、この公報の内容は本明細書に組み込まれる。
【０１８０】
＜＜抵抗膜式タッチパネル＞＞
本発明の抵抗膜式タッチパネルは、本発明の前面板を有する抵抗膜式タッチパネルである。
抵抗膜式タッチパネルは、導電性膜を有する上下１対の基板の導電性膜同士が対向するようにスペーサーを介して配置された基本構成からなるものである。なお抵抗膜式タッチパネルの構成は公知であり、本発明では公知技術を何ら制限なく適用することができる。
【０１８１】
＜＜静電容量式タッチパネル＞＞
本発明の静電容量式タッチパネルは、本発明の前面板を有する静電容量式タッチパネルである。
静電容量式タッチパネルの方式としては、表面型静電容量式、投影型静電容量式等が挙げられる。投影型の静電容量式タッチパネルは、Ｘ軸電極と、Ｘ電極と直交するＹ軸電極とを絶縁体を介して配置した基本構成からなる。具体的態様としては、Ｘ電極およびＹ電極が、１枚の基板上の別々の面に形成される態様、１枚の基板上にＸ電極、絶縁体層、Ｙ電極を上記順で形成する態様、１枚の基板上にＸ電極を形成し、別の基板上にＹ電極を形成する態様（この態様では、２枚の基板を貼り合わせた構成が上記基本構成となる）等が挙げられる。なお静電容量式タッチパネルの構成は公知であり、本発明では公知技術を何ら制限なく適用することができる。
【０１８２】
図３に、静電容量式タッチパネルの実施形態の構成の一例を示す。タッチパネル２は表示装置と組み合わせて使用される。表示装置は、図３の保護層７Ｂ側、すなわち、表示装置側に配置されて使用される。図３において、樹脂フィルム３側が、視認側（すなわち、タッチパネルの操作者が表示装置の画像を視認する側）である。本発明の積層体（図３中、符号４Ｃで表す）は、タッチパネル用導電フィルム１を粘着層４上に貼り合せて用いられる。タッチパネル用導電フィルム１は、可撓性の透明絶縁基板５の両面上にそれぞれ導電部材６Ａ（第１導電層８）および導電部材６Ｂ（第２導電層９）を有している。導電部材６Ａおよび導電部材６Ｂは、それぞれ後述するタッチパネルとしての電極と周辺配線と外部接続端子とコネクタ部とを少なくとも構成する。
また、図３に示すように、平坦化または、導電部材６Ａおよび６Ｂを保護する目的で、導電部材６Ａおよび導電部材６Ｂを覆うように透明な保護層７Ａおよび保護層７Ｂが配置されていてもよい。
積層体４Ｃには、後述する周辺領域Ｓ２を遮光する加飾層を形成してもよい。
透明絶縁基板５の材質としては、例えば、ガラス、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）、ＣＯＰ（シクロオレフィンポリマー）、ＣＯＣ（シクロオレフィンコポリマー）、ＰＣ（ポリカーボネート）等が使用できる。また、透明絶縁基板５の厚さは２０〜２００μｍが好ましい。
粘着層４としては、本発明に用いられる粘着層の規定を満たす、光学透明粘着シート（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｌｅａｒ  Ａｄｈｅｓｉｖｅ）または光学透明粘着樹脂（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｌｅａｒ  Ｒｅｓｉｎ）が使用できる。粘着層４の好ましい膜厚は１０〜１００μｍである。光学透明粘着シートとしては、一般的には、例えば３Ｍ社製の８１４６シリーズが好ましく使用できる。粘着層４の比誘電率の好ましい値は４．０〜６．０であり、より好ましくは５．０〜６．０である。
保護層７Ａおよび保護層７Ｂとしては、例えば、ゼラチン、アクリル樹脂、ウレタン樹脂等の有機膜、および、二酸化シリコン等の無機膜を使用できる。膜厚としては、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下が好ましい。比誘電率は、２．５〜４．５が好ましい。
保護層７Ａおよび保護層７Ｂ中のハロゲン不純物の濃度は、５０ｐｐｍ以下であることが好ましく、ハロゲン不純物は含有しないことがより好ましい。この態様によれば、導電部材６Ａおよび導電部材６Ｂの腐食を抑制できる。
【０１８３】
図４に示されるように、タッチパネル用導電フィルム１には、透明なアクティブエリアＳ１が区画されると共に、アクティブエリアＳ１の外側に周辺領域Ｓ２が区画されている。
アクティブエリアＳ１内には、透明絶縁基板５の表面（第１面）上に形成された第１導電層８と透明絶縁基板５の裏面（第２面）上に形成された第２導電層９とが互いに重なるように配置されている。なお、第１導電層８および第２導電層９は、透明絶縁基板５を介して、互いに絶縁された状態で配置されている。
透明絶縁基板５の表面上の第１導電層８により、それぞれ第１の方向Ｄ１に沿って延び且つ第１の方向Ｄ１に直交する第２の方向Ｄ２に並列配置された複数の第１電極１１が形成され、透明絶縁基板５の裏面上の第２導電層９により、それぞれ第２の方向Ｄ２に沿って延び且つ第１の方向Ｄ１に並列配置された複数の第２電極２１が形成されている。
これら複数の第１電極１１および複数の第２電極２１は、タッチパネル２の検出電極を構成するものである。第１電極１１および第２電極２１の電極幅は１〜５ｍｍが好ましく、電極間ピッチは３〜６ｍｍであることが好ましい。
【０１８４】
一方、周辺領域Ｓ２における透明絶縁基板５の表面上に、複数の第１電極１１に接続された複数の第１周辺配線１２が形成され、透明絶縁基板５の縁部に複数の第１外部接続端子１３が配列形成されると共に、それぞれの第１電極１１の両端に第１コネクタ部１４が形成されている。第１コネクタ部１４に、対応する第１周辺配線１２の一端部が接続され、第１周辺配線１２の他端部は、対応する第１外部接続端子１３に接続されている。
同様に、周辺領域Ｓ２における透明絶縁基板５の裏面上に、複数の第２電極２１に接続された複数の第２周辺配線２２が形成され、透明絶縁基板５の縁部に複数の第２外部接続端子２３が配列形成されると共に、それぞれの第２電極２１の両端に第２コネクタ部２４が形成されている。第２コネクタ部２４に、対応する第２周辺配線２２の一端部が接続され、第２周辺配線２２の他端部は、対応する第２外部接続端子２３に接続されている。
タッチパネル用導電フィルム１は、透明絶縁基板５の表面上に第１電極１１、第１周辺配線１２、第１外部接続端子１３および第１コネクタ部１４を含む導電部材６Ａを有すると共に、透明絶縁基板５の裏面上に第２電極２１、第２周辺配線２２、第２外部接続端子２３および第２コネクタ部２４を含む導電部材６Ｂを有する。
【０１８５】
図４において、第１電極１１と第１周辺配線１２とは、第１コネクタ部１４を介して接続されているが、第１コネクタ部１４を設けずに第１電極１１と第１周辺配線１２とを直接接続する構成でもよい。また、同じく第２コネクタ部２４を設けずに第２電極２１と第２周辺配線２２とを直接接続する構成でもよい。
第１コネクタ部１４および第２コネクタ部２４を設けることで、電極と周辺配線との接続箇所での電気的導通を良くすることができる効果がある。特に、電極と周辺配線の材料が異なる場合は、第１コネクタ部１４および第２コネクタ部２４を設けることが好ましい。第１コネクタ部１４および第２コネクタ部２４の幅は、それぞれ接続される電極の幅の１／３以上、電極の幅以下であることが好ましい。第１コネクタ部１４および第２コネクタ部２４の形状はベタ膜形状でもよいし、国際公開２０１３／０８９０８５号公報に示されているような枠形状、またはメッシュ形状でもよい。
第１周辺配線１２および第２周辺配線２２の配線幅は１０μｍ以上２００μｍ以下であり、最小配線間隔（最小配線間距離）は２０μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましい。
各周辺配線は、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等からなる保護絶縁膜で覆ってもよい。保護絶縁膜を設けることにより、周辺配線のマイグレーション、錆び等を防止できる。なお、周辺配線の腐食を引きこす可能性があるので、絶縁膜中にはハロゲン不純物を含有しないことが好ましい。保護絶縁膜の膜厚は１〜２０μｍが好ましい。
タッチパネル用導電フィルム１をタッチパネルとして使用する場合、第１外部接続端子１３と第２外部接続端子２３とは異方性導電フィルム（Ａｎｉｓｏｔｒｏｐｉｃ  Ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ  Ｆｉｌｍ）を介してフレキブル配線基板（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ  Ｐｒｉｎｔｅｄ  Ｃｉｒｃｕｉｔｓ）と電気的に接続される。フレキシブル配線基板は、駆動機能と位置検出機能とを有するタッチパネル制御基板に接続される。
第１外部接続端子１３と第２外部接続端子２３はフレキシブル配線基板との電気接続性を良くする目的で、第１周辺配線１２および第２周辺配線２２の配線幅より大きい端子幅で形成される。具体的には、第１外部接続端子１３と第２外部接続端子２３の端子幅は０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下が好ましく、端子長さは０．５ｍｍ以上２．０ｍｍ以下が好ましい。
【０１８６】
なお、透明絶縁基板５は、第１面、および、第１面と対向する第２面を有する基板に該当し、第１面（表面）上に第１導電層８が配置され、第２面（裏面）上に第２導電層９が配置される。なお、図３では、透明絶縁基板５と第１導電層８および第２導電層９とが直接接している形状で示しているが、透明絶縁基板５と第１導電層８および第２導電層９との間に、密着強化層、下塗層、ハードコート層、光学調整層等の機能層を一層以上形成することもできる。
【０１８７】
図５に、第１電極１１と第２電極２１との交差部を示す。透明絶縁基板５の表面上に配置された第１電極１１は、第１金属細線１５からなるメッシュパターンＭ１により形成されており、透明絶縁基板５の裏面上に配置された第２電極２１も、第２金属細線２５からなるメッシュパターンＭ２により形成されている。そして、第１電極１１と第２電極２１との交差部において、視認側から見たときに、第１金属細線１５と第２金属細線２５とが互いに交差するように配置されている。なお、図５では、第１金属細線１５と第２金属細線２５との区別を分かりやすくするために、第２金属細線２５を点線で示しているが、実際は第１金属細線１５と同様に接続された線で形成されている。
メッシュパターンの形状としては、図５のような同一のメッシュ（定形セル）が繰り返し配置されたパターンが好ましく、メッシュの形状はひし形が特に好ましいが、平行四辺形、正方形、長方形等の四角形でも良く、正六角形や他の多角形であっても良い。ひし形の場合、そのひし形の狭角角度は２０°以上７０°以下であることが表示装置の画素とのモアレ低減の観点から好ましい。メッシュの中心間距離（メッシュピッチ）は１００〜６００μｍであることが視認性の観点から好ましい。第１金属細線１５からなるメッシュパターンＭ１と第２金属細線２５からなるメッシュパターンＭ２が同一形状であることが好ましい。さらに、図５のように、第１金属細線１５からなるメッシュパターンＭ１と第２金属細線２５からなるメッシュパターンＭ２とを、メッシュピッチ半分相当の距離だけずらして配置し、視認側からはメッシュピッチが半分になるメッシュパターンを形成するように配置することが、視認性の観点から好ましい。別の形態としては、メッシュの形状はランダムなパターン、または特開２０１３−２１４５４５号公報に示されているようなひし形の定形セルのピッチに１０％程度のランダム性を付与するような、定形セル形状にある一定のランダム性を付与したセミランダム形状であっても良い。
また、互いに隣り合う第１電極１１の間、互いに隣り合う第２電極２１の間に、それぞれ第１金属細線１５、第２金属細線２５で形成された電極と絶縁されたダミーメッシュパターンを有していてもよい。ダミーメッシュパターンは、電極を形成するメッシュパターンと同一のメッシュ形状で形成することが好ましい。
【０１８８】
タッチパネル２と表示装置とを貼り合わせる方法は、透明な粘着剤を用いて直接貼り合わせる方式（ダイレクトボンディング方式）、および、両面テープを用いてタッチパネル２と表示装置との周辺のみを貼り合わせる方式（エアギャップ方式）があるが、どちらの方式でもよい。タッチパネル２と表示装置とを貼り合わせる際には、導電部材６Ｂ上または保護層７Ｂ上に別途保護フィルムを設けてもよい。保護フィルムは、例えばハードコート付きＰＥＴフィルム（厚み２０〜１５０μｍ）が使用され、光学透明粘着シート（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｌｅａｒ  Ａｄｈｅｓｉｖｅ）を用いて、導電部材６Ｂ上または保護層７Ｂ上に貼り付けられる構成を採用できる。
ダイレクトボンディング方式に使用される透明な粘着剤は前述の透明な粘着層４と同じく、光学透明粘着シート（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｌｅａｒ  Ａｄｈｅｓｉｖｅ）または光学透明粘着樹脂（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｌｅａｒ  Ｒｅｓｉｎ）が使用でき、好ましい膜厚として１０μｍ以上１００μｍ以下である。光学透明粘着シートとしては、例えば同じく３Ｍ社製の８１４６シリーズが好ましく使用できる。ダイレクトボンディング方式に使用される透明な粘着剤の比誘電率は、前述の透明な粘着層４の比誘電率より小さいものを使用することがタッチパネル２の検出感度を向上させる点で好ましい。ダイレクトボンディング方式に使用される透明な粘着剤の比誘電率の好ましい値は、２．０〜３．０である。
【０１８９】
また、本発明の効果がより優れる点で、第１金属細線１５の視認側の表面、および、第２金属細線２５の視認側の表面のそれぞれの可視光反射率は５％以下であることが好ましく、１％未満であることがより好ましい。可視光反射率は本範囲にすることにより、メッシュ見え低減およびヘイズ低減を効果的に得られる。
上記可視光反射率の測定方法としては、以下の方法が挙げられる。先ず、日本分光社製紫外可視分光光度計Ｖ６６０（１回反射測定ユニットＳＬＭ−７２１）を使用し、測定波長３５０ｎｍから８００ｎｍ、入射角５度で反射スペクトルを測定する。なお、アルミ蒸着平面鏡の正反射光をベースラインとする。得られた反射スペクトルからＸＹＺ表色系Ｄ６５光源２度視野のＹ値（等色関数ＪＩＳ  Ｚ９７０１−１９９９）を、日本分光社製色彩計算プログラムを用いて計算し、可視光反射率とする。
【０１９０】
第１金属細線１５および第２金属細線２５を構成する材料としては、銀、アルミニウム、銅、金、モリブデン、クロム等の金属およびそれらの合金を用いることができ、これらを単層または積層体として用いることができる。金属細線のメッシュ見えおよびモアレの低減の観点から、第１金属細線１５および第２金属細線２５の線幅は０．５μｍ以上５μｍ以下であることが好ましい。第１金属細線１５および第２金属細線２５は、直線、折線、曲線、または、波線形状でもよい。また、第１金属細線１５および第２金属細線２５の膜厚は、抵抗値の観点から０．１μｍ以上であり、斜め方向からの視認性の観点から３μｍ以下であることが好ましい。より好ましい膜厚としては、金属細線の線幅に対して１／２以下であることが、斜め方向からの視認性の観点およびパターニング加工性の観点からより好ましい。さらに、第１金属細線１５および第２金属細線２５の可視光反射率低減の為、第１金属細線１５および第２金属細線２５の視認側に黒化層を設けてもよい。
第１金属細線１５を構成する材料で、第１電極１１、第１周辺配線１２、第１外部接続端子１３および第１コネクタ部１４を含む導電部材６Ａを形成することができる。よって、第１電極１１、第１周辺配線１２、第１外部接続端子１３および第１コネクタ部１４を含む導電部材６Ａはすべて同じ金属で同じ厚みで形成され、同時形成することができる。
第２電極２１、第２周辺配線２２、第２外部接続端子２３および第２コネクタ部２４を含む導電部材６Ｂに関しても同様である。
【０１９１】
第１電極１１と第２電極２１のシート抵抗は０．１Ω／□以上２００Ω／□以下であることが好ましく、特に投影型静電容量式タッチパネルに使用する場合は１０Ω／□以上１００Ω／□以下であることが好ましい。
【０１９２】
なお、図６に示されるように、アクティブエリアＳ１内における透明絶縁基板５の表面上に配置されている第１導電層８は、複数の第１電極１１の間にそれぞれ配置された複数の第１ダミー電極１１Ａを有していてもよい。これらの第１ダミー電極１１Ａは、複数の第１電極１１から絶縁されており、第１電極１１と同様に、多数の第１セルＣ１で構成された第１メッシュパターンＭ１を有している。
なお、第１電極１１と隣接する第１ダミー電極１１Ａとは、連続的な第１メッシュパターンＭ１に沿って配置された金属細線に幅５μｍ以上３０μｍ以下の断線を設けることにより、電気的に絶縁している。図６は、第１電極１１と隣接する第１ダミー電極１１Ａとの境界線のみに断線を形成した形状であるが、第１ダミー電極１１Ａ内の第１セルＣ１の辺の全てに、または部分的に断線を形成してもよい。
また、図示しないが、アクティブエリアＳ１内における透明絶縁基板５の裏面上に配置されている第２導電層９は、複数の第２電極２１の間にそれぞれ配置された複数の第２ダミー電極を有していてもよい。これらの第２ダミー電極は、複数の第２電極２１から絶縁されており、第２電極２１と同様に、多数の第２セルＣ２で構成された第２メッシュパターンＭ２を有している。
なお、第２電極２１と隣接する第２ダミー電極とは、連続的な第２メッシュパターンＭ２に沿って配置された金属細線に幅５μｍ以上３０μｍ以下の断線を設けることにより、電気的に絶縁している。第２電極２１と隣接する第２ダミー電極との境界線のみに断線を形成した形状でもよいが、第２ダミー電極内の第２セルＣ２の辺の全てに、または部分的に断線を形成してもよい。
【０１９３】
上述したように、タッチパネル用導電フィルム１は、透明絶縁基板５の表面上に第１電極１１、第１周辺配線１２、第１外部接続端子１３および第１コネクタ部１４を含む導電部材６Ａを形成すると共に、透明絶縁基板５の裏面上に第２電極２１、第２周辺配線２２、第２外部接続端子２３および第２コネクタ部２４を含む導電部材６Ｂを形成することにより製造される。
このとき、第１電極１１は、第１メッシュパターンＭ１に沿って第１金属細線１５が配置された第１導電層８からなり、第２電極２１は、第２メッシュパターンＭ２に沿って第２金属細線２５が配置された第２導電層９からなり、第１導電層８と第２導電層９とが透明絶縁基板５を挟んで図４のようにアクティブエリアＳ１内で互いに重なるように配置されるものとする。
これら導電部材６Ａおよび導電部材６Ｂの形成方法は、特に限定されるものではない。例えば、特開２０１２−１８５８１３号公報の［００６７］〜［００８３］、特開２０１４−２０９３３２号公報の［０１１５］〜［０１２６］、または、特開２０１５−５４９５号公報の［０２１６］〜［０２１５］に記載されているように感光性ハロゲン化銀塩を含有する乳剤層を有する感光材料を露光し、現像処理を施すことによって、導電部材６Ａおよび６Ｂを形成することができる。
【０１９４】
また、透明絶縁基板５の表面および裏面に、それぞれ金属薄膜を形成し、各金属薄膜にレジストをパターン状に印刷するか、または、全面塗布したレジストを露光し、現像することでパターン化して、開口部の金属をエッチングすることにより、これらの導電部材を形成することもできる。さらに、これ以外にも、導電部材を構成する材料の微粒子を含むペーストを透明絶縁基板５の表面および裏面に印刷してペーストに金属めっきを施す方法、導電部材を構成する材料の微粒子を含むインクを用いたインクジェット法を用いる方法、導電部材を構成する材料の微粒子を含むインクをスクリーン印刷で形成する方法、透明絶縁基板５に溝を形成し、その溝に導電インクを塗布する方法、マイクロコンタクト印刷パターニング法等を用いることができる。
【０１９５】
なお、上記では、透明絶縁基板５の表面上に第１電極１１、第１周辺配線１２、第１外部接続端子１３および第１コネクタ部１４を含む導電部材６Ａを配置すると共に、透明絶縁基板５の裏面上に第２電極２１、第２周辺配線２２、第２外部接続端子２３および第２コネクタ部２４を含む導電部材６Ｂを配置しているが、これに限るものではない。
例えば、透明絶縁基板５の一方の面側に、導電部材６Ａと導電部材６Ｂが層間絶縁膜を介して配置される構成とすることもできる。
さらに、２枚基板の構成とすることもできる。すなわち、第１透明絶縁基板の表面上に導電部材６Ａを配置し、第２透明絶縁基板の表面上に導電部材６Ｂを配置し、これら第１透明絶縁基板および第２透明絶縁基板を、光学透明粘着シート（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｌｅａｒ  Ａｄｈｅｓｉｖｅ）を用いて貼り合わせて使用することもできる。
さらに、透明絶縁基板５を用いずに、図３に示した積層体４Ｃにおける粘着層４側の表面上に導電部材６Ａと導電部材６Ｂが層間絶縁膜を介して配置される構成としてもよい。
【０１９６】
静電容量式タッチパネルの電極パターンの形状としては、図４に示す、所謂バーアンドストライプの電極パターン形状以外にも、例えば国際公開２０１０／０１２１７９号公報の図１６に開示されているダイヤモンドパターン、国際公開２０１３／０９４７２８号公報の図７または図２０に開示されている電極パターン形状を適用できることはもちろんのこと、他の形状の静電容量式タッチパネルの電極パターンも適用できる。
また、ＵＳ２０１２／０２６２４１４号公報等に開示されている交差部がない電極構成のように、検出電極が基板の片側にしかない構成のタッチパネルにも適用できる。
さらに、タッチパネルは他の機能フィルムとの組合せでの使用も可能である、特開２０１４−１３２６４号公報に開示されている高レターデーション値を有する基板を用いたニジムラを防止する画像品位向上用機能フィルム、特開２０１４−１４２４６２号公報に開示されているタッチパネルの電極の視認性改善の為の円偏光板との組合せ等も可能である。
【０１９７】
＜＜画像表示機能付きミラー＞＞
本発明の積層体は、粘着層の、樹脂フィルムを有する面とは反対側の面に、反射層（直線偏光反射層または円偏光反射層）を有してもよい。かかる積層体は、画像表示素子と組み合わせることにより、画像表示機能付きミラーの前面板に用いられる積層体として好ましく用いられる。本明細書において、画像表示機能付きミラーの前面板に用いられる、直線偏光反射層または円偏光反射層を有する積層体を「ハーフミラー」と称することがある。
【０１９８】
画像表示機能付きミラーで用いられる画像表示素子としては、特に限定されるものではなく、たとえば前述の画像表示装置において好適に用いられる画像表示素子が挙げられる。
【０１９９】
画像表示機能付きミラーは、ハーフミラーの直線偏光反射層または円偏光反射層を有する側に、画像表示素子が配置されて構成される。画像表示機能付きミラーにおいて、ハーフミラーと画像表示素子は、直接接していてもよく、ハーフミラーと画像表示素子との間に別の層が介在していてもよい。例えば、画像表示素子とハーフミラーとの間には、空気層が存在してもよく、接着層が存在していてもよい。
【０２００】
本明細書においては、画像表示素子に対してハーフミラー側の表面を前面ということがある。
【０２０１】
画像表示機能付きミラーは、例えば、車両のルームミラー（インナーミラー）として用いることができる。画像表示機能付きミラーは、ルームミラーとしての使用のため、フレーム、ハウジングおよび車両本体に取り付けるための支持アーム等を有していてもよい。あるいは、画像表示機能付きミラーはルームミラーへの組み込み用に成形されたものであってもよい。かかる形状の画像表示機能付きミラーにおいては、通常使用時に上下左右となる方向が特定できる。
【０２０２】
画像表示機能付きミラーは、板状またはフィルム状であればよく、曲面を有していてもよい。画像表示機能付きミラーの前面は平坦であってもよく、湾曲していてもよい。湾曲させて、凸曲面を前面側とすることにより、広角的に後方視野等を視認できるワイドミラーとすることも可能である。このような湾曲した前面は湾曲したハーフミラーを用いて作製することができる。
湾曲は、上下方向、左右方向、または上下方向および左右方向にあればよい。また、湾曲は、曲率半径が５００〜３０００ｍｍであればよく、１０００〜２５００ｍｍであることがより好ましい。曲率半径は、断面で湾曲部分の外接円を仮定した場合の、この外接円の半径である。
【０２０３】
＜＜反射層＞＞
反射層としては、半透過半反射層として機能できる反射層を用いればよい。すなわち、反射層は、画像表示時には、画像表示素子が備える光源からの出射光を透過させることにより、画像表示機能付きミラーの前面に画像が表示されるように機能し、一方で、画像非表示時には、反射層は、前面方向からの入射光の少なくとも一部を反射するとともに、画像表示素子からの反射光を透過させ、画像表示機能付きミラーの前面がミラーとなるように機能するものであればよい。
反射層としては、偏光反射層が用いられる。偏光反射層は、直線偏光反射層または円偏光反射層であればよい。
【０２０４】
［直線偏光反射層］
直線偏光反射層としては、例えば、（ｉ）多層構造の直線偏光反射板、（ｉｉ）複屈折の異なる薄膜を積層してなる偏光子、（ｉｉｉ）ワイヤーグリッド型偏光子、（ｉｖ）偏光プリズムおよび（ｖ）散乱異方性型偏光板が挙げられる。
【０２０５】
（ｉ）多層構造の直線偏光反射板としては、屈折率の異なる誘電体材料を支持体上に斜め方向から真空蒸着法またはスパッタリング法によって積層した複数層積層薄膜が挙げられる。波長選択反射膜とするためには、高屈折率の誘電体薄膜と低屈折率の誘電体薄膜とを交互に複数層積層することが好ましいが、２種以上に限定されず、それ以上の種類であってもよい。積層数は、２層〜２０層が好ましく、２層〜１２層がより好ましく、４層〜１０層が更に好ましく、６層〜８層が特に好ましい。積層数が２０層を超えると、生産効率が低下し、本発明の目的及び効果を達成できなくなることがある。
誘電体薄膜の成膜方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、イオンプレーティングおよびイオンビーム等の真空蒸着法、スパッタリング等の物理的気相成長法（ＰＶＤ法）ならびに化学的気相成長法（ＣＶＤ法）が挙げられる。これらの中でも、真空蒸着法またはスパッタリング法が好ましく、スパッタリング法が特に好ましい。
【０２０６】
（ｉｉ）複屈折の異なる薄膜を積層してなる偏光子としては、例えば特表平９−５０６８３７号公報などに記載された偏光子を用いることができる。また、所望の屈折率関係を得るために選ばれた条件下で加工することにより、広く様々な材料を用いて、偏光子を形成できる。一般に、第一の材料の一つが、選ばれた方向において、第二の材料とは異なる屈折率を有することが必要である。この屈折率の違いは、フィルムの形成、フィルムの形成後の延伸、押出成形、コーティング等の工程において様々な方法で達成できる。更に、２つの材料を同時押出することができるように、類似のレオロジー特性（例えば、溶融粘度）を有することが好ましい。
複屈折の異なる薄膜を積層した偏光子としては、市販品を用いることができ、市販品としては、例えば、ＤＢＥＦ（登録商標）（３Ｍ社製）が挙げられる。
【０２０７】
（ｉｉｉ）ワイヤーグリッド型偏光子は、金属細線の複屈折によって、偏光の一方を透過させ、他方を反射させる偏光子である。
ワイヤーグリッド型偏光子は、金属ワイヤーを周期的に配列したもので、テラヘルツ波帯域で主に偏光子として用いられる。ワイヤーグリッドが偏光子として機能するためには、ワイヤー間隔が入射電磁波の波長よりも十分小さいことが必要となる。
ワイヤーグリッド型偏光子では、金属ワイヤーが等間隔に配列されている。金属ワイヤーの長手方向と平行な偏光方向の偏光成分はワイヤーグリッド型偏光子において反射され、垂直な偏光方向の偏光成分はワイヤーグリッド型偏光子を透過する。
【０２０８】
ワイヤーグリッド型偏光子としては、市販品を用いることができ、市販品としては、例えば、エドモンドオプティクス社製のワイヤーグリッド偏光フィルタ５０×５０、ＮＴ４６−６３６（商品名）が挙げられる。
【０２０９】
［円偏光反射層］
ハーフミラーに円偏光反射層を用いることにより、前面側からの入射光を円偏光として反射させ、画像表示素子からの入射光を円偏光として透過させることができる。そのため、円偏光反射層を用いた画像表示機能付きミラーでは、偏光サングラスを介しても、画像表示機能付きミラーの方向に依存せずに、表示画像およびミラー反射像の観察を行うことができる。
【０２１０】
円偏光反射層の例としては、直線偏光反射板と１／４波長板とを含む円偏光反射層、およびコレステリック液晶層を含む円偏光反射層（以下、両者の区別のため、それぞれ「Ｐｏｌλ／４円偏光反射層」、「コレステリック円偏光反射層」ということがある。）が挙げられる。
【０２１１】
［［Ｐｏｌλ／４円偏光反射層］］
Ｐｏｌλ／４円偏光反射層において、直線偏光反射板と１／４波長板とは直線偏光反射板の偏光反射軸に対しλ／４波長板の遅相軸が４５°となるように配置されていればよい。また、１／４波長板と直線偏光反射板とは、例えば、接着層により接着されていればよい。
Ｐｏｌλ／４円偏光反射層において、直線偏光反射板が画像表示素子に近い面となるように配置して使用する、つまり、粘着層に対し１／４波長板および直線偏光反射板をこの順に配置して使用することで、画像表示素子からの画像表示のための光を効率よく円偏光に変換して、画像表示機能付きミラー前面から出射させることができる。画像表示素子からの画像表示のための光が直線偏光であるとき、この直線偏光を透過するように直線偏光反射板の偏光反射軸を調整すればよい。
Ｐｏｌλ／４円偏光反射層の膜厚は２．０μｍ〜３００μｍの範囲が好ましく、８．０μｍ〜２００μｍの範囲がより好ましい。
直線偏光反射板としては、上記で直線偏光反射層として説明したものを用いることができる。
１／４波長板としては、後述する１／４波長板を用いることができる。
【０２１２】
［コレステリック円偏光反射層］
コレステリック円偏光反射層は、コレステリック液晶層を少なくとも１層含む。コレステリック円偏光反射層に含まれるコレステリック液晶層は可視光領域で選択反射を示すものであればよい。
円偏光反射層は２層以上のコレステリック液晶層を含んでいてもよく、配向層などの他の層を含んでいてもよい。円偏光反射層はコレステリック液晶層のみからなることが好ましい。また、円偏光反射層が複数のコレステリック液晶層を含むときは、隣接するコレステリック液晶層同士が直接接していることが好ましい。円偏光反射層は、３層および４層など、３層以上のコレステリック液晶層を含んでいることが好ましい。
コレステリック円偏光反射層の膜厚は、２．０μｍ〜３００μｍの範囲が好ましく、８．０〜２００μｍの範囲がより好ましい。
【０２１３】
本明細書において、「コレステリック液晶層」は、コレステリック液晶相を固定した層を意味する。コレステリック液晶層を単に液晶層ということもある。
コレステリック液晶相は、特定の波長域において右円偏光および左円偏光のいずれか一方のセンスの円偏光を選択的に反射させるとともに、他方のセンスの円偏光を選択的に透過する円偏光選択反射を示すことが知られている。本明細書において、円偏光選択反射を単に選択反射ということもある。
【０２１４】
円偏光選択反射性を示すコレステリック液晶相を固定した層を含むフィルムとして、重合性液晶化合物を含む組成物から形成されたフィルムは従来から数多く知られており、コレステリック液晶層については、それらのフィルムを参照することができる。
【０２１５】
コレステリック液晶層は、コレステリック液晶相となっている液晶化合物の配向が保持されている層であればよい。典型的には、重合性液晶化合物をコレステリック液晶相の配向状態としたうえで、紫外線照射、加熱等によって重合、硬化し、流動性が無い層を形成して、同時に、外場や外力によって配向形態に変化を生じさせることのない状態に変化した層であればよい。なお、コレステリック液晶層においては、コレステリック液晶相の光学的性質が層中において保持されていれば十分であり、層中の液晶化合物はもはや液晶性を示していなくてもよい。例えば、重合性液晶化合物は、硬化反応により高分子量化して、もはや液晶性を失っていてもよい。
【０２１６】
コレステリック液晶層の選択反射の中心波長λは、コレステリック液晶相における螺旋構造のピッチＰ（＝螺旋の周期）に依存し、コレステリック液晶層の平均屈折率ｎとλ＝ｎ×Ｐの関係に従う。なお、コレステリック液晶層の選択反射の中心波長と半値幅は下記のように求めることができる。
分光光度計ＵＶ３１５０（島津製作所社製、商品名）を用いて反射層の透過スペクトル（コレステリック液晶層の法線方向から測定したもの）を測定すると、選択反射領域に透過率の低下ピークがみられる。この最も大きいピーク高さの１／２の高さの透過率となる２つの波長のうち、短波長側の波長の値をλ１（ｎｍ）、長波長側の波長の値をλ２（ｎｍ）とすると、選択反射の中心波長と半値幅は下記式で表すことができる。
選択反射の中心波長＝（λ１＋λ２）／２
半値幅＝（λ２−λ１）
上記のように求められる、コレステリック液晶層が有する選択反射の中心波長λは、コレステリック液晶層の法線方向から測定した円偏光反射スペクトルの反射ピークの重心位置にある波長と通常一致する。なお、本明細書において、「選択反射の中心波長」はコレステリック液晶層の法線方向から測定した時の中心波長を意味する。
上記式から分かるように、螺旋構造のピッチを調節することによって、選択反射の中心波長を調整できる。ｎ値とＰ値を調節することにより、所望の波長の光に対して右円偏光および左円偏光のいずれか一方を選択的に反射させるための、中心波長λを調節することができる。
【０２１７】
コレステリック液晶層に対して斜めに光が入射する場合は、選択反射の中心波長は短波長側にシフトする。そのため、画像表示のために必要とされる選択反射の中心波長に対して、上記のλ＝ｎ×Ｐの式に従って計算されるλが長波長となるようにｎ×Ｐを調整することが好ましい。屈折率ｎ２のコレステリック液晶層中で、コレステリック液晶層の法線方向（コレステリック液晶層の螺旋軸方向）に対して光線がθ２の角度で通過するときの選択反射の中心波長をλｄとすると、λｄは以下の式で表される。
λｄ＝ｎ２×Ｐ×ｃｏｓθ２
【０２１８】
上記を考慮して、円偏光反射層に含まれるコレステリック液晶層の選択反射の中心波長を設計することにより、画像の斜めからの視認性の低下を防止することができる。また、画像の斜めからの視認性を意図的に低下させることもできる。これは例えばスマートフォン及びパーソナルコンピューターにおいて、覗き見を防止することができるため有用である。また、上記の選択反射の性質により、本発明の画像表示機能付きミラーは、斜め方向から見た、画像およびミラー反射像に、色味が出てしまうことがある。円偏光反射層に赤外光領域に選択反射の中心波長を有するコレステリック液晶層を含ませることによって、このような色味を防止することも可能である。この場合の赤外光領域の選択反射の中心波長は具体的には、７８０〜９００ｎｍ、好ましくは７８０〜８５０ｎｍにあればよい。
赤外光領域に選択反射の中心波長を有するコレステリック液晶層を設ける場合は、可視光領域に選択反射の中心波長をそれぞれ有するコレステリック液晶層すべてに対し、最も画像表示素子側に設けることが好ましい。
【０２１９】
コレステリック液晶相のピッチは重合性液晶化合物とともに用いるキラル剤の種類、またはその添加濃度に依存するため、これらを調整することによって所望のピッチを得ることができる。なお、螺旋のセンス及びピッチの測定法については、「液晶化学実験入門」日本液晶学会編  シグマ出版２００７年出版、４６頁、および「液晶便覧」液晶便覧編集委員会  丸善  １９６頁に記載の方法を用いることができる。
【０２２０】
本発明の画像表示機能付きミラーにおいて、円偏光反射層は、赤色光の波長域に選択反射の中心波長を有するコレステリック液晶層と、緑色光の波長域に選択反射の中心波長を有するコレステリック液晶層と、青色光の波長域に選択反射の中心波長を有するコレステリック液晶層とを含むことが好ましい。反射層は、例えば、４００ｎｍ〜５００ｎｍに選択反射の中心波長を有するコレステリック液晶層、５００ｎｍ〜５８０ｎｍに選択反射の中心波長を有するコレステリック液晶層、および５８０ｎｍ〜７００ｎｍに選択反射の中心波長を有するコレステリック液晶層を含むことが好ましい。
【０２２１】
また、円偏光反射層が複数のコレステリック液晶層を含むときは、より画像表示素子に近いコレステリック液晶層がより長い選択反射の中心波長を有していることが好ましい。このような構成により、画像における斜め色味を抑えることができる。
【０２２２】
特に、１／４波長板を含まないコレステリック円偏光反射層を利用した画像表示機能付きミラーにおいて、各コレステリック液晶層が有する選択反射の中心波長は、画像表示素子の発光のピークの波長と５ｎｍ以上異なるようにすることが好ましい。この差異は、１０ｎｍ以上とすることもより好ましい。選択反射の中心波長と画像表示素子の画像表示のための発光ピークの波長をずらすことにより、画像表示のための光がコレステリック液晶層で反射されず、表示画像を明るくすることができる。画像表示素子の発光のピークの波長は、画像表示素子の白表示時の発光スペクトルで確認できる。ピーク波長は上記発光スペクトルの可視光領域におけるピーク波長であればよく、例えば、画像表示素子の上述の赤色光の発光ピーク波長λＲ、緑色光の発光ピーク波長λＧ、および青色光の発光ピーク波長λＢからなる群から選択されるいずれか１つ以上であればよい。コレステリック液晶層が有する選択反射の中心波長は、画像表示素子の上述の赤色光の発光ピーク波長λＲ、緑色光の発光ピーク波長λＧ、および青色光の発光ピーク波長λＢのいずれとも５ｎｍ以上異なっていることが好ましく、１０ｎｍ以上異なっていることがより好ましい。円偏光反射層が複数のコレステリック液晶層を含む場合は、すべてのコレステリック液晶層の選択反射の中心波長を、画像表示素子の発光する光のピークの波長と５ｎｍ以上、好ましくは１０ｎｍ以上異なるようにすればよい。例えば、画像表示素子が白表示時の発光スペクトルにおいて赤色光の発光ピーク波長λＲと、緑色光の発光ピーク波長λＧと、青色光の発光ピーク波長λＢとを示すフルカラー表示の表示素子である場合、コレステリック液晶層が有する全ての選択反射の中心波長が、λＲ、λＧ、およびλＢのいずれとも５ｎｍ以上、好ましくは１０ｎｍ以上異なるようにすればよい。
【０２２３】
使用するコレステリック液晶層の選択反射の中心波長を、画像表示素子の発光波長域、および円偏光反射層の使用態様に応じて調整することにより、光利用効率良く明るい画像を表示することができる。円偏光反射層の使用態様としては、特に円偏光反射層への光の入射角、画像観察方向などが挙げられる。
【０２２４】
各コレステリック液晶層としては、螺旋のセンスが右及び左のいずれかであるコレステリック液晶層が用いられる。コレステリック液晶層の反射円偏光のセンスは螺旋のセンスに一致する。複数のコレステリック液晶層の螺旋のセンスは全て同じであっても、異なるものが含まれていてもよい。すなわち、右及び左のいずれか一方のセンスのコレステリック液晶層を含んでいてもよく、右および左の双方のセンスのコレステリック液晶層を含んでいてもよい。ただし、１／４波長板を含む画像表示機能付きミラーにおいては、複数のコレステリック液晶層の螺旋のセンスは全て同じであることが好ましい。そのときの螺旋のセンスは、各コレステリック液晶層として、画像表示素子から出射して１／４波長板を透過して得られているセンスの円偏光のセンスに応じて決定すればよい。具体的には、画像表示素子から出射して１／４波長板を透過して得られているセンスの円偏光を透過する螺旋のセンスを有するコレステリック液晶層を用いればよい。
【０２２５】
選択反射を示す選択反射帯の半値幅Δλ（ｎｍ）は、液晶化合物の複屈折Δｎと上記ピッチＰに依存し、Δλ＝Δｎ×Ｐの関係に従う。そのため、選択反射帯の幅の制御は、Δｎを調整して行うことができる。Δｎの調整は重合性液晶化合物の種類及びその混合比率を調整したり、配向固定時の温度を制御したりすることで行うことができる。
選択反射の中心波長が同一の１種のコレステリック液晶層の形成のために、周期Ｐが同じで、同じ螺旋のセンスのコレステリック液晶層を複数積層してもよい。周期Ｐが同じで、同じ螺旋のセンスのコレステリック液晶層を積層することによって、特定の波長での円偏光選択性を高くすることができる。
【０２２６】
（１／４波長板）
コレステリック円偏光反射層を用いた画像表示機能付きミラーにおいて、ハーフミラーはさらに１／４波長板を含んでいてもよく、高Ｒｅ（面内レターデーション）位相差膜と、コレステリック円偏光反射層と、１／４波長板とをこの順に含むことが好ましい。
画像表示素子とコレステリック円偏光反射層との間に１／４波長板を含むことによって、特に、直線偏光により画像表示している画像表示素子からの光を円偏光に変換してコレステリック円偏光反射層に入射させることが可能となる。そのため、円偏光反射層において反射されて画像表示素子側に戻る光を大幅に減らすことができ、明るい画像の表示が可能となる。また、１／４波長板の利用によりコレステリック円偏光反射層において画像表示素子側に反射するセンスの円偏光を生じさせない構成が可能であるため、画像表示素子およびハーフミラーの間の多重反射による画像表示品質の低下が生じにくい。
すなわち、例えば、コレステリック円偏光反射層に含まれるコレステリック液晶層の選択反射の中心波長が、画像表示素子の白表示時の発光スペクトルにおける青色光の発光ピーク波長と略同一（例えば差異が５ｎｍ未満）であったとしても、円偏光反射層において画像表示側に反射するセンスの円偏光を生じさせることなく、画像表示素子の出射光を前面側に透過させることができる。
【０２２７】
コレステリック円偏光反射層と組み合わせて用いられる１／４波長板は画像表示素子に接着した際に、画像が最も明るくなるように、角度調整されていることが好ましい。すなわち、特に直線偏光により画像表示している画像表示素子に対し、上記直線偏光を最もよく透過させるように上記直線偏光の偏光方向（透過軸）と１／４波長板の遅相軸との関係が調整されていることが好ましい。例えば、一層型の１／４波長板の場合、上記透過軸と遅相軸とは４５°の角度をなしていることが好ましい。直線偏光により画像表示している画像表示素子から出射した光は１／４波長板を透過後、右または左のいずれかのセンスの円偏光となっている。円偏光反射層は、上記のセンスの円偏光を透過する捩れ方向を有するコレステリック液晶層で構成されていればよい。
【０２２８】
１／４波長板は、可視光領域において１／４波長板として機能する位相差層であればよい。１／４波長板の例としては、一層型の１／４波長板、および１／４波長板と１／２波長位相差板とを積層した広帯域１／４波長板などが挙げられる。
前者の１／４波長板の正面位相差は、画像表示素子の発光波長の１／４の長さであればよい。それゆえ、例えば画像表示素子の発光波長が４５０ｎｍ、５３０ｎｍおよび６４０ｎｍの場合は、４５０ｎｍの波長で１１２．５ｎｍ±１０ｎｍ、好ましくは１１２．５ｎｍ±５ｎｍ、より好ましくは１１２．５ｎｍ、５３０ｎｍの波長で１３２．５ｎｍ±１０ｎｍ、好ましくは１３２．５ｎｍ±５ｎｍ、より好ましくは１３２．５ｎｍ、６４０ｎｍの波長で１６０ｎｍ±１０ｎｍ、好ましくは１６０ｎｍ±５ｎｍ、より好ましくは１６０ｎｍの位相差であるような逆分散性の位相差層が、１／４波長板として最も好ましいが、位相差の波長分散性の小さい位相差板または順分散性の位相差板も用いることができる。なお、「逆分散性」とは長波長になるほど位相差の絶対値が大きくなる性質を意味し、「順分散性」とは短波長になるほど位相差の絶対値が大きくなる性質を意味する。
【０２２９】
積層型の１／４波長板は、１／４波長板と１／２波長位相差板とをその遅相軸を６０°の角度で貼り合わせ、１／２波長位相差板側を直線偏光の入射側に配置して、且つ１／２波長位相差板の遅相軸を入射直線偏光の偏光面に対して１５°、または７５°に交差して使用するもので、位相差の逆分散性が良好なため好適に用いることができる。
【０２３０】
λ／４波長板としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、石英板、延伸されたポリカーボネートフィルム、延伸されたノルボルネン系ポリマーフィルム、炭酸ストロンチウムのような複屈折を有する無機粒子を含有して配向させた透明フィルム、および支持体上に無機誘電体を斜め蒸着した薄膜などが挙げられる。
【０２３１】
λ／４波長板としては、例えば、（１）特開平５−２７１１８号公報、及び特開平５−２７１１９号公報に記載された、レターデーションが大きい複屈折性フィルムと、レターデーションが小さい複屈折性フィルムとを、それらの光軸が直交するように積層させた位相差板、（２）特開平１０−６８８１６号公報に記載された、特定波長においてλ／４波長となっているポリマーフィルムと、それと同一材料からなり同じ波長においてλ／２波長となっているポリマーフィルムとを積層させて、広い波長領域でλ／４波長が得られる位相差板、（３）特開平１０−９０５２１号公報に記載された、二枚のポリマーフィルムを積層することにより広い波長領域でλ／４波長を達成できる位相差板、（４）国際公開第００／２６７０５号パンフレットに記載された、変性ポリカーボネートフィルムを用いた広い波長領域でλ／４波長を達成できる位相差板、ならびに（５）国際公開第００／６５３８４号パンフレットに記載された、セルロースアセテートフィルムを用いた広い波長領域でλ／４波長を達成できる位相差板、などが挙げられる。
λ／４波長板としては、市販品を用いることもでき、市販品としては、例えば、ピュアエース（登録商標）  ＷＲ（帝人株式会社製ポリカーボネートフィルム）が挙げられる。
【０２３２】
１／４波長板は、重合性液晶化合物、高分子液晶化合物を配列させて固定して形成してもよい。例えば、１／４波長板は、仮支持体、配向膜、または前面板表面に液晶組成物を塗布し、液晶組成物中の重合性液晶化合物を液晶状態においてネマチック配向に形成後、光架橋及び／又は熱架橋によって固定化して、形成することができる。液晶組成物および製法についての詳細は後述する。１／４波長板は、高分子液晶化合物を含む組成物を、仮支持体、配向膜、または前面板表面に液晶組成物を塗布し、液晶状態においてネマチック配向に形成後、冷却することによって配向を固定化して得られる層であってもよい。
λ／４波長板はコレステリック円偏光反射層と、直接接していてもよく、接着層により接着されていてもよく、直接接していることが好ましい。
【０２３３】
（コレステリック液晶層および液晶組成物から形成される１／４波長板の作製方法）
以下、コレステリック液晶層および液晶組成物から形成される１／４波長板の作製材料および作製方法について説明する。
上記１／４波長板の形成に用いる材料としては、重合性液晶化合物を含む液晶組成物などが挙げられる。上記コレステリック液晶層の形成に用いる材料としては、重合性液晶化合物と、さらにキラル剤（光学活性化合物）とを含む液晶組成物などが挙げられる。必要に応じて、さらに界面活性剤及び重合開始剤などと混合して溶媒などに溶解した上記液晶組成物を、仮支持体、支持体、配向膜、高Ｒｅ位相差膜、下層となるコレステリック液晶層及び１／４波長板などに塗布し、配向熟成後、液晶組成物の硬化により固定化して、コレステリック液晶層および／または１／４波長板を形成することができる。
【０２３４】
−重合性液晶化合物−
重合性液晶化合物としては、重合性の棒状液晶化合物を用いればよい。
重合性の棒状液晶化合物の例としては、棒状ネマチック液晶化合物が挙げられる。棒状ネマチック液晶化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。低分子液晶化合物だけではなく、高分子液晶化合物も用いることができる。
【０２３５】
重合性液晶化合物は、重合性基を液晶化合物に導入することで得られる。重合性基の例には、不飽和重合性基、エポキシ基、およびアジリジニル基が含まれ、不飽和重合性基が好ましく、エチレン性不飽和重合性基が特に好ましい。重合性基は種々の方法で、液晶化合物の分子中に導入できる。重合性液晶化合物が有する重合性基の個数は、好ましくは１〜６個、より好ましくは１〜３個である。重合性液晶化合物の例は、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許第４６８３３２７号明細書、米国特許第５６２２６４８号明細書、米国特許第５７７０１０７号明細書、ＷＯ９５／２２５８６Ａ、ＷＯ９５／２４４５５Ａ、ＷＯ９７／００６００Ａ、ＷＯ９８／２３５８０Ａ、ＷＯ９８／５２９０５Ａ、特開平１−２７２５５１号公報、特開平６−１６６１６号公報、特開平７−１１０４６９号公報、特開平１１−８００８１号公報、および特開２００１−３２８９７３号公報などに記載の化合物が含まれる。１種の重合性液晶化合物を単独で用いてもよく、２種類以上の重合性液晶化合物を併用してもよい。２種類以上の重合性液晶化合物を併用すると、配向温度を低下させることができる。
【０２３６】
また、液晶組成物中の重合性液晶化合物の含有量は、液晶組成物の固形分質量（溶媒を除いた質量）に対して、８０〜９９．９質量％であることが好ましく、８５〜９９．５質量％であることがより好ましく、９０〜９９質量％であることが特に好ましい。
【０２３７】
−キラル剤：光学活性化合物−
コレステリック液晶層の形成に用いる材料はキラル剤を含んでいることが好ましい。キラル剤はコレステリック液晶相の螺旋構造を誘起する機能を有する。キラル剤は、化合物によって誘起する螺旋のセンスまたは螺旋ピッチが異なるため、目的に応じて選択すればよい。
キラル剤としては、特に制限はなく、通常用いられる化合物（例えば、液晶デバイスハンドブック、第３章４−３項、ＴＮ、ＳＴＮ用カイラル剤、１９９頁、日本学術振興会第１４２委員会編、１９８９に記載）、イソソルビドおよびイソマンニド誘導体を用いることができる。
キラル剤は、一般に不斉炭素原子を含むが、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物あるいは面性不斉化合物もキラル剤として用いることができる。軸性不斉化合物または面性不斉化合物の例には、ビナフチル、ヘリセン、パラシクロファンおよびこれらの誘導体が含まれる。キラル剤は、重合性基を有していてもよい。キラル剤と液晶化合物とがいずれも重合性基を有する場合は、重合性キラル剤と重合性液晶化合物との重合反応により、重合性液晶化合物から誘導される繰り返し単位と、キラル剤から誘導される繰り返し単位とを有するポリマーを形成することができる。この態様では、重合性キラル剤が有する重合性基は、重合性液晶化合物が有する重合性基と、同種の基であることが好ましい。従って、キラル剤の重合性基も、不飽和重合性基、エポキシ基またはアジリジニル基であることが好ましく、不飽和重合性基であることがさらに好ましく、エチレン性不飽和重合性基であることが特に好ましい。
また、キラル剤は、液晶化合物であってもよい。
【０２３８】
液晶組成物におけるキラル剤の含有量は、重合性液晶化合物１００モルに対して、０．０１モル〜２００モルが好ましく、１モル〜３０モルがより好ましい。
【０２３９】
−重合開始剤−
本発明に用いられる液晶組成物は、重合開始剤を含有していることが好ましい。紫外線照射により重合反応を進行させる態様では、使用する重合開始剤は、紫外線照射によって重合反応を開始可能な光重合開始剤であることが好ましい。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、米国特許第２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、米国特許第２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３−４０７９９号公報、特公平５−２９２３４号公報、特開平１０−９５７８８号公報、特開平１０−２９９９７号公報記載）、オキシム化合物（特開２０００−６６３８５号公報、日本特許第４４５４０６７号明細書記載）、ならびにオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）等が挙げられる。
液晶組成物中の光重合開始剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して０．１〜２０質量部であることが好ましく、０．５〜５質量部であることがさらに好ましい。
【０２４０】
−架橋剤−
液晶組成物は、硬化後の膜強度向上、耐久性向上のため、任意に架橋剤を含有していてもよい。架橋剤としては、紫外線、熱、湿気等で硬化するものが好適に使用できる。
架橋剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレートおよびペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート等の多官能アクリレート化合物；グリシジル（メタ）アクリレートおよびエチレングリコールジグリシジルエーテル等のエポキシ化合物；２，２−ビスヒドロキシメチルブタノール−トリス［３−（１−アジリジニル）プロピオネート］および４，４−ビス（エチレンイミノカルボニルアミノ）ジフェニルメタン等のアジリジン化合物；ヘキサメチレンジイソシアネートおよびビウレット型イソシアネート等のイソシアネート化合物；オキサゾリン基を側鎖に有するポリオキサゾリン化合物；ならびにビニルトリメトキシシランおよびＮ−（２−アミノエチル）３−アミノプロピルトリメトキシシラン等のアルコキシシラン化合物が挙げられる。また、架橋剤の反応性に応じて通常用いられる触媒を用いることができ、膜強度および耐久性向上に加えて生産性を向上させることができる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
液晶組成物中における架橋剤の含有量は３質量％〜２０質量％が好ましく、５質量％〜１５質量％がより好ましい。架橋剤の含有量が、上記下限値以上であることにより、架橋密度向上の効果を得ることができる。また、上記上限値以下とすることにより、形成される層の安定性を維持することができる。
【０２４１】
−配向制御剤−
液晶組成物中には、安定的にまたは迅速にプレーナー配向とするために寄与する配向制御剤を添加してもよい。配向制御剤の例としては特開２００７−２７２１８５号公報の段落〔００１８〕〜〔００４３〕等に記載のフッ素（メタ）アクリレート系ポリマーならびに特開２０１２−２０３２３７号公報の段落〔００３１〕〜〔００３４〕等に記載の式（Ｉ）〜（ＩＶ）で表される化合物などが挙げられる。
なお、配向制御剤としては１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０２４２】
液晶組成物中における、配向制御剤の添加量は、全ての重合性液晶化合物の合計１００質量部に対して０．０１〜１０質量部が好ましく、０．０１〜５質量部がより好ましく、０．０２〜１質量部が特に好ましい。
【０２４３】
−その他の添加剤−
その他、液晶組成物は、塗膜の表面張力を調整し膜厚を均一にするための界面活性剤、および重合性モノマー等の種々の添加剤から選ばれる少なくとも１種を含有していてもよい。また、液晶組成物中には、必要に応じて、さらに重合禁止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、色材、金属酸化物微粒子等を、光学的性能を低下させない範囲で添加することができる。
【０２４４】
−溶媒−
液晶組成物の調製に使用する溶媒としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、有機溶媒が好ましく用いられる。
有機溶媒としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばケトン類、アルキルハライド類、アミド類、スルホキシド類、ヘテロ環化合物、炭化水素類、エステル類およびエーテル類が挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、環境への負荷を考慮した場合にはケトン類が特に好ましい。
【０２４５】
−塗布、配向、重合−
仮支持体、配向膜、高Ｒｅ位相差膜、１／４波長板、及び／又は下層となるコレステリック液晶層などへの液晶組成物の塗布方法は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、ワイヤーバーコーティング法、カーテンコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スピンコーティング法、ディップコーティング法、スプレーコーティング法およびスライドコーティング法などが挙げられる。また、別途支持体上に塗設した液晶組成物を転写することによっても実施できる。塗布した液晶組成物を加熱することにより、液晶分子を配向させる。コレステリック液晶層形成の際はコレステリック配向させればよく、１／４波長板形成の際は、ネマチック配向させることが好ましい。コレステリック配向の際、加熱温度は、２００℃以下が好ましく、１３０℃以下がより好ましい。この配向処理により、重合性液晶化合物が、フィルム面に対して実質的に垂直な方向に螺旋軸を有するように捩れ配向している光学薄膜が得られる。ネマチック配向の際、加熱温度は、２５℃〜１２０℃が好ましく、３０℃〜１００℃がより好ましい。
【０２４６】
配向させた液晶化合物は、更に重合させ、液晶組成物を硬化することができる。重合は、熱重合、光照射による光重合のいずれでもよいが、光重合が好ましい。光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ２〜５０Ｊ／ｃｍ２が好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ２〜１，５００ｍＪ／ｃｍ２がより好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下または窒素雰囲気下で光照射を実施してもよい。照射紫外線波長は３５０ｎｍ〜４３０ｎｍが好ましい。重合反応率は安定性の観点から、高いことが好ましく、具体的には７０％以上が好ましく、８０％以上がより好ましい。重合反応率は、重合性の官能基の消費割合をＩＲ吸収スペクトルを用いて測定することにより、決定することができる。
【０２４７】
個々のコレステリック液晶層の厚みは、上記特性を示す範囲であれば、特に限定はされないが、好ましくは１．０μｍ以上１５０μｍ以下の範囲、より好ましくは２．５μｍ以上１００μｍ以下の範囲であればよい。また、液晶組成物から形成される１／４波長板の厚みは、特に限定はされないが、好ましくは０．２〜１０μｍ、より好ましくは０．５〜２μｍであればよい。
【実施例】
【０２４８】
以下に、実施例に基づき本発明についてさらに詳細に説明する。なお、本発明がこれにより限定して解釈されるものではない。以下の実施例において組成を表す「部」及び「％」は、特に断らない限り質量基準である。【０２４９】
＜実施例＞
［実施例１］
＜１．樹脂フィルムの作製＞
（１）コア層セルロースアシレートドープ液の調製
下記の組成物をミキシングタンクに投入して撹拌し、コア層セルロースアシレートドープ溶液を調製した。
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
コア層セルロースアシレートドープ液
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
・アセチル置換度２．８８、重量平均分子量２６０，０００のセルロースアセテート
１００質量部
・下記構造のフタル酸エステルオリゴマーＡ                  １０質量部
・下記式Ｉで表される化合物（Ａ−１）                        ４質量部
・下記式ＩＩで表される紫外線吸収剤（ＢＡＳＦ社製）      ２．７質量部
・光安定剤（ＢＡＳＦ社製、商品名：ＴＩＮＵＶＩＮ１２３）
０．１８質量部
・Ｎ−アルケニルプロピレンジアミン３酢酸（ナガセケムテックス社製、商品名：テークランＤＯ）
０．０２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）                        ４３０質量部
・メタノール（第２溶媒）                                  ６４質量部
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−【０２５０】
使用した化合物を以下に示す。
フタル酸エステルオリゴマーＡ（重量平均分子量：７５０）【０２５１】
【化１３】
0006751438.tif 000014
【０２５２】
下記式Ｉで表される化合物（Ａ−１）
式Ｉ：【０２５３】
【化１４】
0006751438.tif 000015
【０２５４】
式ＩＩで表される紫外線吸収剤
式ＩＩ：【０２５５】
【化１５】
0006751438.tif 000016
【０２５６】
（２）外層セルロースアシレートドープ液の調製
上記のコア層セルロースアシレートドープ液９０質量部に下記の無機粒子含有組成物を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープ液を調製した。
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
無機粒子含有組成物
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
平均一次粒径２０ｎｍのシリカ粒子（日本アエロジル社製、商品名：ＡＥＲＯＳＩＬ  Ｒ９７２）
２質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                          ７６質量部
メタノール（第２溶媒）                                  １１質量部
コア層セルロースアシレートドープ液                        １質量部
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−【０２５７】
（３）樹脂フィルム（ＴＡＣ−１）の作製
外層セルロースアシレートドープ液がコア層セルロースアシレートドープ液の両側に配されるように、外層セルロースアシレートドープ液、コア層セルロースアシレートドープ液、および外層セルロースアシレートドープ液の３種を、流延口から表面温度２０℃の流延バンド上に同時に流延した。
流延バンドとして幅２．１ｍで長さが７０ｍのステンレス製のエンドレスバンドを利用した。流延バンドは、厚みが１．５ｍｍ、表面粗さが０．０５μｍ以下になるように研磨した。その材質はＳＵＳ３１６製であり、十分な耐腐食性と強度を有する流延バンドを用いた。流延バンドの全体の厚みムラは０．５％以下であった。
得られた流延膜に、風速が８ｍ／ｓ、ガス濃度が１６％、温度が６０℃の急速乾燥風を流延膜表面に当てて初期膜を形成した。その後、流延バンド上部の上流側からは１４０℃の乾燥風を送風した。また下流側からは１２０℃の乾燥風および６０℃の乾燥風を送風した。
残留溶媒量を約３３質量％にした後、バンドから剥ぎ取った。次いで、得られたフィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、溶媒残留量が３〜１５質量％のフィルムを、横方向に１．０６倍延伸しつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、更に乾燥し、厚さが８０μｍ（外層／コア層／外層＝３μｍ／７４μｍ／３μｍ）である樹脂フィルム（ＴＡＣ−１）を作製した。【０２５８】
＜２．粘着シートの作製＞
〔合成例１：水分散型（メタ）アクリル系重合体（Ａ）の合成〕
冷却管、窒素導入管、温度計及び攪拌機を備えた反応容器に、ブチルアクリレート（ＢＡ）９６部、アクリル酸（ＡＡ）４部、ｔ−ドデカンチオール（連鎖移動剤）０．０８部、ポリオキシエチレンラウリル硫酸ナトリウム（乳化剤）２部、及びイオン交換水１５３部を乳化したもの（すなわち、モノマー原料のエマルション）を仕込み、窒素ガスを導入しながら、室温（２５℃）で１時間攪拌した。【０２５９】
その後、６０℃に昇温し、１０％水溶液に調製した２，２’−アゾビス［Ｎ−（２−カルボキシエチル）−２−メチルプロピオンアミジン］水和物（重合開始剤）（商品名：ＶＡ−０５７、和光純薬工業社製）を固形分量で０．１部投入し、６０℃で３時間撹拌し、重合した。この反応液に１０％アンモニウム水を添加して液性をｐＨ７．５に調整し、水分散型（メタ）アクリル系重合体（Ａ）を得た。【０２６０】
合成例１で得られた水分散型（メタ）アクリル系重合体（Ａ）を固形分量で７０部と、合成ポリイソプレンラテックス（商品名：セポレックスＩＲ−１００Ｋ、住友精化社製）を固形分量で３０部配合した。次いで、粘着付与剤として芳香族変性テルペン樹脂エマルション（商品名：ナノレットＲ−１０５０、ヤスハラケミカル社製、軟化点１００℃）を固形分量で２５部配合し、さらにエポキシ系架橋剤（商品名：ＴＥＴＲＡＤ−Ｃ、三菱ガス化学社製）を０．０７部配合して、水分散型粘着剤組成物を調製した。【０２６１】
上記で調製した水分散型粘着剤組成物を、ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面をシリコーン系剥離剤で剥離処理した剥離シート（リンテック社製、商品名：ＳＰ−ＰＥＴ３８１１）の剥離処理面に、乾燥後の厚さが１５μｍとなるように塗布し、雰囲気温度１００℃で１分間加熱し、粘着層を形成した。この粘着層と、ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面をシリコーン系剥離剤で剥離処理した別の剥離シート（リンテック社製、商品名：ＳＰ−ＰＥＴ３８０１）の剥離処理面とを貼り合わせて、剥離シート／粘着層／剥離シートの順に積層された、粘着シートを作製した。【０２６２】
＜３．積層体の作製（粘着層の貼合）＞
粘着シートにおける片方の剥離シートを剥がして粘着層をむき出しにした。むき出しにした粘着層と樹脂フィルム（ＴＡＣ−１）を、樹脂フィルム（ＴＡＣ−１）の流延バンドと接していた面と粘着層とが隣接するように、ゴムローラーで２ｋｇの荷重を掛けながら貼り合わせ、図１の構成を有する実施例１の積層体を作製した。【０２６３】
［実施例２］
樹脂フィルムの作製において、横方向の延伸倍率を１．０９倍にした以外は、実施例１と同様に製膜し、図１の構成を有する実施例２の積層体を作製した。
［実施例３］
樹脂フィルムの作製において、横方向の延伸倍率を１．１２倍にした以外は、実施例１と同様に製膜し、図１の構成を有する実施例３の積層体を作製した。
［実施例４］
樹脂フィルムの作製において、横方向の延伸倍率を１．１８倍にした以外は、実施例１と同様に製膜し、図１の構成を有する実施例４の積層体を作製した。
［実施例５］
樹脂フィルムの作製において、横方向の延伸倍率を１．２５倍にした以外は、実施例１と同様に製膜し、図１の構成を有する実施例５の積層体を作製した。
［実施例６］
樹脂フィルムの乾燥後の膜厚を１００μｍ（外層／コア層／外層＝３μｍ／９４μｍ／３μｍ）とした以外は、実施例４と同様に製膜し、図１の構成を有する実施例６の積層体を作製した。
［実施例７］
樹脂フィルムの乾燥後の膜厚を１２０μｍ（外層／コア層／外層＝３μｍ／１１４μｍ／３μｍ）とした以外は、実施例４と同様に製膜し、図１の構成を有する実施例７の積層体を作製した。【０２６４】
［実施例８］
＜１．樹脂フィルム（ＰＭＭＡ／ＰＣ／ＰＭＭＡ）の作製＞
住友化学社製のアクリル系樹脂（商品名：スミペックスＥＸ）のペレットを押出径６５ｍｍの１軸押出機に、住化スタイロンポリカーボネート社製のポリカーボネート系樹脂（商品名：カリバー３０１−１０）を押出径４５ｍｍの１軸押出機に、それぞれ投入して溶融し、マルチマニホールド方式にて溶融積層一体化させ、乾燥後の各層の膜厚が３５μｍ／２３０μｍ／３５μｍとなるよう制御して、設定温度２６０℃のＴ型ダイスを介して押出した。得られたフィルム状物を１対の金属製ロールの間に挟み込んで成形することにより、厚さが３００μｍである、アクリル系樹脂フィルム／ポリカーボネート系樹脂フィルム／アクリル系樹脂フィルムの３層構成からなる樹脂フィルム（ＰＭＭＡ／ＰＣ／ＰＭＭＡ）を作製した。
＜２．積層体の作製＞
樹脂フィルム（ＴＡＣ−１）の代わりに上記の樹脂フィルム（ＰＭＭＡ／ＰＣ／ＰＭＭＡ）を使用した以外は、実施例１と同様の方法で、図１の構成を有する実施例８の積層体を作製した。【０２６５】
［実施例９］
＜１．易接着層形成用組成物の調製＞
（１）ポリエステル系樹脂の調製
下記組成の重合性化合物を共重合し、ポリエステル系樹脂のスルホン酸系水分散体を得た。
（酸成分）テレフタル酸／イソフタル酸／５−ソジウムスルホイソフタル酸／／（ジオール成分）エチレングリコール／ジエチレングリコール＝４４／４６／１０／／８４／１６（モル比）【０２６６】
（２）架橋剤（イソシアネート系化合物Ａ）の調製
撹拌器、温度計、還流冷却管、窒素吹き込み管を取り付けた４ツ口フラスコ（反応器）内を窒素雰囲気にし、この反応器に、ＨＤＩ（ヘキサメチレンジイソシアネート）１０００質量部、３価アルコールであるトリメチロールプロパン（分子量１３４）２２質量部を仕込み、反応器内の反応液温度を９０℃に保持しながら１時間撹拌し、ウレタン化を行った。その後、反応液温度を６０℃に保持しながら撹拌している反応液に、イソシアヌレート化触媒であるトリメチルベンジルアンモニウムハイドロオキサイドを加え、イソシアヌレート転化率が４８％になった時点でリン酸を添加し反応を停止した。次いで、反応液を濾過した後、未反応のＨＤＩを薄膜蒸留装置により除去し、イソシアネート系化合物ａを得た。
得られたイソシアネート系化合物ａの２５℃における粘度は２５，０００ｍＰａ・ｓ、イソシアネート基含有量は１９．９質量％、数平均分子量は１０８０、イソシアネート基平均数は５．１であった。ＮＭＲ（Ｎｕｃｌｅａｒ  Ｍａｇｎｅｔｉｃ  Ｒｅｓｏｎａｎｃｅ）測定により、ウレタン結合、アロファネート結合、イソシアヌレート結合の存在を確認した。
撹拌器、温度計、還流冷却管、窒素吹き込み管、滴下ロートを取り付けた４ツ口フラスコ（反応器）内を窒素雰囲気にし、この反応器に、上記で得られたイソシアネート系化合物ａ  １００質量部、数平均分子量４００のメトキシポリエチレングリコール４２．３質量部、ジプロピレングリコールジメチルエーテル７６．６質量部を仕込み、反応液温度を８０℃に保持しながら６時間撹拌した。その後、反応液温度を６０℃に冷却し、マロン酸ジエチル７２質量部、ナトリウムメチラートの２８質量％メタノール溶液０．８８質量部を添加し、反応液温度を保持しながら４時間撹拌した後、２−エチルヘキシルアシッドホスフェート（モノ−、ジ−エステル混合物）０．８６質量部を添加した。次いで、ジイソプロピルアミン４３．３質量部を添加し、反応液温度を７０℃で保持しながら５時間撹拌した。この反応液をガスクロマトグラフで分析し、ジイソプロピルアミンの反応率が７０％であることを確認し、イソシアネート系化合物Ａを得た（固形分濃度７０質量％、有効ＮＣＯ基５．３質量％）。【０２６７】
（３）易接着層形成用組成物の調製
ケン化度７７％、重合度６００のカルボン酸変性ポリビニルアルコール樹脂（クラレ社製）５７．６質量部、上記で作製したポリエステル系樹脂２８．８質量部（固形分量）、上記で作製したイソシアネート系化合物Ａ  ４．０質量部（固形分量）、有機スズ系化合物（第１工業製薬社製、商品名：エラストロンＣａｔ・２１）０．７質量部、平均一次粒径８０ｎｍのシリカゾル８．１質量部（固形分量）を混合し、固形分が８．９質量部になるよう水で希釈し、易接着層形成用組成物を調製した。【０２６８】
＜２．樹脂フィルム（ＰＥＴ）の作製＞
（１）原料ポリエステル１の調製
以下に示すように、テレフタル酸およびエチレングリコールを直接反応させて水を留去し、エステル化した後、減圧下で重縮合を行う直接エステル化法を用いて、連続重合装置により原料ポリエステル１（Ｓｂ触媒系ＰＥＴ）を得た。
（１−１）エステル化反応
高純度テレフタル酸４．７トンとエチレングリコール１．８トンを９０分かけて混合してスラリー形成させ、３８００ｋｇ／ｈの流量で連続的に第１エステル化反応槽に供給した。更に三酸化アンチモンのエチレングリコール溶液を連続的に供給し、撹拌下、反応槽内温度２５０℃、平均滞留時間約４．３時間で反応を行なった。このとき、三酸化アンチモンはＳｂ添加量が元素換算値で１５０質量ｐｐｍ（ｍａｓｓ  ｐａｒｔｓ  ｐｅｒ  ｍｉｌｌｉｏｎ）となるように連続的に添加した。
この反応物を第２エステル化反応槽に移送し、撹拌下、反応槽内温度２５０℃、平均滞留時間１．２時間で反応させた。第２エステル化反応槽には、酢酸マグネシウムのエチレングリコール溶液と、リン酸トリメチルのエチレングリコール溶液を、Ｍｇ添加量およびＰ添加量が元素換算値でそれぞれ６５質量ｐｐｍ、３５質量ｐｐｍになるように連続的に供給した。
（１−２）重縮合反応
上記で得られたエステル化反応生成物を連続的に第１重縮合反応槽に供給し、撹拌下、反応温度２７０℃、反応槽内圧力２０ｔｏｒｒ（２．６７×１０−４ＭＰａ、１Ｔｏｒｒは約１３３．３２２４Ｐａ）、平均滞留時間約１．８時間で重縮合させた。
更に、この反応物を第２重縮合反応槽に移送し、撹拌下、反応槽内温度２７６℃、反応槽内圧力５ｔｏｒｒ（６．６７×１０−４ＭＰａ）、滞留時間約１．２時間の条件で反応（重縮合）させた。
次いで、この反応物を更に第３重縮合反応槽に移送し、反応槽内温度２７８℃、反応槽内圧力１．５ｔｏｒｒ（２．０×１０−４ＭＰａ）、滞留時間１．５時間の条件で反応（重縮合）させ、反応物（ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ））を得た。
（１−３）原料ポリエステル１の調製
次に、得られた反応物を、冷水にストランド状に吐出し、直ちにカッティングしてポリエステルのペレット＜断面：長径約４ｍｍ、短径約２ｍｍ、長さ：約３ｍｍ＞を作製した。得られたポリマーは、ＩＶ（Ｉｎｔｒｉｎｓｉｃ  Ｖｉｓｃｏｓｉｔｙ；固有粘度）＝０．６３ｄＬ／ｇであった。このポリマーを原料ポリエステル１とした。【０２６９】
（２）原料ポリエステル２の調製
乾燥させた紫外線吸収剤（２，２’−（１，４−フェニレン）ビス（４Ｈ−３，１−ベンズオキサジン−４−オン））１０質量部、原料ポリエステル１（ＩＶ＝０．６３ｄＬ／ｇ）９０質量部を混合し、混練押出機を用い、原料ポリエステル１の調製と同様にしてペレット化して、紫外線吸収剤を含有する原料ポリエステル２を得た。【０２７０】
（３）ＰＥＴフィルムの作製
３層構成（第Ｉ層／第ＩＩ層／第ＩＩＩ層）のポリエステル系樹脂フィルム（積層フィルム）を、以下の方法で作製した。
以下に示す第ＩＩ層用組成物を、含水率が２０質量ｐｐｍ以下となるまで乾燥させた後、直径５０ｍｍの１軸混練押出機のホッパーに投入し、押出機で３００℃に溶融することにより、第Ｉ層と第ＩＩＩ層との間に位置する第ＩＩ層を形成するための樹脂溶融物を調製した。
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
第ＩＩ層用組成物
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
原料ポリエステル１                                      ９０質量部
紫外線吸収剤（２，２’−（１，４−フェニレン）ビス（４Ｈ−３，１−ベンズオキサジン−４−オン））を１０質量％含有する原料ポリエステル２
１０質量部
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
原料ポリエステル１を、含水率が２０質量ｐｐｍ以下となるまで乾燥させた後、直径３０ｍｍの１軸混練押出機のホッパーに投入し、押出機で３００℃に溶融することにより、第Ｉ層および第ＩＩＩ層を形成するための樹脂溶融物を調製した。
これらの２種の樹脂溶融物を、それぞれギアポンプ、濾過器（孔径１μｍ）に通した後、２種３層合流ブロックにて、第ＩＩ層用押出機から押出された樹脂溶融物が内部の層に、第Ｉ層用および第ＩＩＩ層用押出機から押出された樹脂溶融物が外層になるように積層し、幅１２０ｍｍのダイよりシート状に押し出した。
ダイから押出した溶融樹脂シートを、表面温度２５℃に設定された冷却キャストドラム上に押出し、静電印加法を用い冷却キャストドラムに密着させた。冷却キャストドラムに対向配置された剥ぎ取りロールを用いて、冷却後のフィルムをドラムから剥離し、未延伸フィルムを得た。未延伸フィルムにおける第Ｉ層、第ＩＩ層、第ＩＩＩ層の厚みの比が１０：８０：１０となるように、上記各押出機の吐出量を調整した。
未延伸フィルムを、加熱されたロール群および赤外線ヒーターを用いて、フィルム表面温度が９５℃になるように加熱し、その後、周速差のあるロール群でフィルムの搬送方向に対して垂直方向に４．０倍延伸して、厚さが８０μｍである樹脂フィルム（積層フィルム）を作製した。【０２７１】
（４）易接着層付き樹脂フィルム（ＰＥＴ）の作製
上記で作製した樹脂フィルムの片面に、５００Ｊ／ｍ２の処理量でコロナ放電処理を実施した。その後、リバースロール法にて、コロナ放電処理面に上記で作製した易接着層形成用組成物を乾燥後の厚さが０．１μｍになるように調整しながら塗布し、易接着層付き樹脂フィルム（ＰＥＴ）を作製した。
＜３．積層体の作製＞
樹脂フィルム（ＴＡＣ−１）の代わりに易接着層付き樹脂フィルム（ＰＥＴ）を使用した以外は、実施例１と同様の方法で、易接着層／樹脂フィルム／粘着層／剥離フィルムの順に積層された、図１の構成を有する実施例９の積層体を作製した。【０２７２】
［実施例１０］
樹脂フィルム（ＴＡＣ−１）の代わりに、特許第３３２５５６０号明細書の［実施例３］を参考に作製した、厚み３００μｍのポリカーボネート（ＰＣ）フィルム（５５０ｎｍにおける面内レターデーションは１４０ｎｍだった。）を使用した以外、実施例１と同様の方法で、図１の構成を有する実施例１０の積層体を作製した。【０２７３】
［実施例１１］
粘着層の厚みを５０μｍにした以外、実施例６と同様に製膜し、図１の構成を有する実施例１１の積層体を作製した。
［実施例１２］
粘着層の厚みを７５μｍにした以外、実施例６と同様に製膜し、図１の構成を有する実施例１２の積層体を作製した。
［実施例１３］
粘着層の厚みを１００μｍにした以外、実施例６と同様に製膜し、図１の構成を有する実施例１３の積層体を作製した。
［実施例１４］
芳香族変性テルペン樹脂エマルション（商品名：ナノレットＲ−１０５０、ヤスハラケミカル社製、軟化点１００℃）の配合量を固形分量で１６部にした以外、実施例６と同様に製膜し、図１の構成を有する実施例１４の積層体を作製した。
［実施例１５］
芳香族変性テルペン樹脂エマルション（商品名：ナノレットＲ−１０５０、ヤスハラケミカル（株）社製、軟化点１００℃）の配合量を固形分量で１１部にした以外、実施例６と同様に製膜し、図１の構成を有する実施例１５の積層体を作製した。
［実施例１６］
芳香族変性テルペン樹脂エマルション（商品名：ナノレットＲ−１０５０、ヤスハラケミカル（株）社製、軟化点１００℃）の配合量を固形分量で４部にした以外、実施例６と同様に製膜し、図１の構成を有する実施例１６の積層体を作製した。【０２７４】
［実施例１７〜２２］
下記表１に示す、ハードコート層（ＨＣ層）形成用硬化性組成物Ａ−１〜Ａ−４のいずれかを使用し、以下に示す方法で、図２の構成を有する、ハードコート層付き積層体を作製した。
ハードコート層付き積層体の作製における各工程の詳細と、使用した化合物の説明を以下に示す。【０２７５】
＜１．ハードコート層（ＨＣ層）形成用組成物の調製＞
下記表１に示す組成で各成分を混合し、孔径１０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、ＨＣ層形成用硬化性組成物Ａ−１〜Ａ−４を調製した。【０２７６】
【表１】
0006751438.tif 000017
【０２７７】
上記表１において、固形分および溶媒の合計量がそれぞれ１００質量％となるように記載している。
表１に記載した各化合物の詳細を以下に示す。【０２７８】
＜重合性化合物＞
ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（日本化薬社製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ）【０２７９】
サイクロマーＭ１００：３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート（ダイセル社製、商品名）【０２８０】
＜無機粒子＞
ＭＥＫ−ＡＣ−２１４０Ｚ：オルガノシリカゾル、粒子径１０〜１５ｎｍ（日産化学工業社製、商品名）【０２８１】
＜重合開始剤＞
Ｉｒｇ１８４：１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（α−ヒドロキシアルキルフェノン系のラジカル光重合開始剤、ＢＡＳＦ社製、商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４）
ＰＡＧ−１：以下に示すヨードニウム塩化合物であるカチオン光重合開始剤【０２８２】
【化１６】
0006751438.tif 000018
【０２８３】
＜ＵＶ（紫外線）吸収剤＞
ＴＩＮＵＶＩＮ９２８：２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（−メチル−１−フェニルエチル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール【０２８４】
＜含フッ素化合物＞
ＲＳ−９０：防汚剤、ＤＩＣ社製、ラジカル重合性基を有する含フッ素オリゴマー
Ｐ−１１２：レベリング剤、特許第５１７５８３１号明細書の段落００５３に記載の化合物Ｐ−１１２【０２８５】
＜溶媒＞
ＭＥＫ：メチルエチルケトン
ＭＩＢＫ：メチルイソブチルケトン【０２８６】
＜２．積層体の作製（ハードコート層の形成）＞
実施例６で作製した積層体の、粘着層とは逆側の樹脂フィルム表面上に、ＨＣ層形成用硬化性組成物を塗布し、硬化させてハードコート層を形成し、実施例１７〜２２の積層体を作製した。
塗布および硬化の方法は、具体的には、次の通りとした。特開２００６−１２２８８９号公報の実施例１記載のスロットダイを用いたダイコート法で、搬送速度３０ｍ／分の条件でＨＣ層形成用硬化性組成物を塗布し、雰囲気温度６０℃で１５０秒間乾燥した。その後、更に窒素パージ下、酸素濃度約０．１体積％で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス社製）を用いて、照度２０ｍＷ／ｃｍ２、照射量３０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、塗布したＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化させてハードコート層を形成した後、巻き取りを行った。【０２８７】
［実施例２３］
実施例２１のハードコート層（第１のＨＣ層とする。）の表面に、表１に記載のＨＣ層形成用硬化性組成物Ａ−４を用い、膜厚を表２に記載の膜厚にした以外は実施例２１のハードコート層の形成と同じ条件で、塗布、乾燥および硬化して第２のＨＣ層を形成し、図２の構成を有する実施例２３の積層体を作製した。【０２８８】
［実施例４７］
樹脂フィルムの乾燥後の膜厚を７０μｍ（外層／コア層／外層＝３μｍ／６４μｍ／３μｍ）とした以外は、実施例４と同様に製膜し、図１の構成を有する実施例４７の積層体を作製した。【０２８９】
［実施例４８］
樹脂フィルムの乾燥後の膜厚を８０μｍ（外層／コア層／外層＝３μｍ／７４μｍ／３μｍ）とした以外は実施例２３と同様にして、図２の構成を有する実施例４８の積層体を作製した。【０２９０】
［実施例４９］
樹脂フィルムの乾燥後の膜厚を１２０μｍ（外層／コア層／外層＝３μｍ／１１４μｍ／３μｍ）とした以外は実施例２３と同様にして、図２の構成を有する実施例４９の積層体を作製した。【０２９１】
［実施例５０］
樹脂フィルムの乾燥後の膜厚を１５０μｍ（外層／コア層／外層＝３μｍ／１４４μｍ／３μｍ）とした以外は実施例２３と同様にして、図２の構成を有する実施例５０の積層体を作製した。【０２９２】
［実施例５１］
樹脂フィルムの乾燥後の膜厚を２００μｍ（外層／コア層／外層＝３μｍ／１９４μｍ／３μｍ）とした以外は実施例２３と同様にして、図２の構成を有する実施例５１の積層体を作製した。【０２９３】
［実施例５２］
樹脂フィルムの乾燥後の膜厚を３００μｍ（外層／コア層／外層＝３μｍ／２９４μｍ／３μｍ）とした以外は実施例２３と同様にして、図２の構成を有する実施例５２の積層体を作製した。【０２９４】
［実施例５３］
実施例２３の積層体を用い、マグネトロンスパッタリング装置のチャンバー内に、第２のＨＣ層がむき出しになるように配置した。ＳｉＯ２をスパッタリングすることにより、第２のＨＣ層上に低屈折率層１（屈折率：１．４７、厚み：２０ｎｍ）を形成した。さらに、Ｎｂ２Ｏ５をスパッタリングすることにより、低屈折率層１上に高屈折率層１（屈折率：２．３３、厚み：１７ｎｍ）を形成した。さらに、ＳｉＯ２をスパッタリングすることにより、高屈折率層１上に低屈折率層２（屈折率：１．４７、厚み：４２ｎｍ）を形成した。さらに、Ｎｂ２Ｏ５をスパッタリングすることにより、低屈折率層２上に高屈折率層２（屈折率：２．３３、厚み：３０ｎｍ）を形成した。さらに、ＳｉＯ２をスパッタリングすることにより、高屈折率層２上に低屈折率層３（屈折率：１．４７、厚み：１１０ｎｍ）を形成し、実施例５３の積層体を作製した。【０２９５】
＜比較例＞
［比較例１］
実施例１の樹脂フィルム（ＴＡＣ−１）の作製において、得られた流延膜に乾燥風を当てず、流延バンド上部の上流側から送風する乾燥風の温度を８０℃にし、また下流側からは６０℃の乾燥風を送風するだけにした以外は、実施例１と同様に製膜し、比較例１の樹脂フィルム（ＴＡＣ−２）を作製した。
樹脂フィルム（ＴＡＣ−１）の代わりに樹脂フィルム（ＴＡＣ−２）を使用した以外、実施例１と同様にして、比較例１の積層体を作製した。【０２９６】
［比較例２］
＜１．粘着シートの作製＞
撹拌機、還流冷却器、温度計及び窒素導入管を備えた反応装置に、ブチルアクリレート（ＢＡ）９０質量部、アクリル酸（ＡＡ）１０質量部及び、酢酸エチル（ＥｔＡｃ）１２０質量部を仕込み窒素ガスを導入しながら７０℃に昇温し、撹拌した。次いで、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）０．２質量部を加え、窒素雰囲気下、７０℃で５時間重合反応を行なった。反応終了後、酢酸エチル（ＥｔＡｃ）にて希釈し、重量平均分子量６０万の（メタ）アクリル系共重合体Ａを得た。【０２９７】
また、撹拌機、還流冷却器、温度計及び窒素導入管を備えた反応装置に、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）９５質量部、アクリルアミド（ＡＭ）５質量部及び、トルエン（Ｔｏ）１００質量部を仕込み窒素ガスを導入しながら１１０℃に昇温し、撹拌した。次いで、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）２質量部を加え、窒素雰囲気下、７０℃で５時間重合反応を行なった。反応終了後、酢酸エチル（ＥｔＡｃ）にて希釈し、重量平均分子量２万の（メタ）アクリル系共重合体Ｂを得た。【０２９８】
得られた（メタ）アクリル系共重合体Ａの固形分量で１００質量部に対して、（メタ）アクリル系共重合体Ｂの固形分量で４０質量部、及び、架橋剤であるテトラッドＸ（三菱ガス化学社製、商品名）０．０５質量部を添加して粘着剤組成物を調製した。この粘着剤組成物を、剥離処理された３８μｍポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムの剥離処理面に、乾燥後の厚さが１５μｍになるように塗工し、乾燥機で８０℃、２分乾燥し、粘着層を形成した。この粘着層と、別の、剥離処理された３８μｍＰＥＴフィルムの剥離処理面とを貼り合わせ、２３℃で７日間熟成して、剥離シート／粘着層／剥離シートの順に積層された、比較例２の粘着シートを作製した。【０２９９】
＜２．積層体の作製（粘着層の貼合）＞
実施例４における粘着シートに代えて上記で作製した比較例２の粘着シートを使用した以外、実施例４と同様に製膜し、比較例２の積層体を作製した。【０３００】
［比較例３］
粘着層の厚みを１１０μｍにした以外、実施例４と同様に、比較例３の積層体を作製した。
［比較例４］
樹脂フィルムを実施例８で作製した樹脂フィルム（ＰＭＭＡ／ＰＣ／ＰＭＭＡ）にした以外、比較例２と同様に、比較例４の積層体を作製した。
［比較例５］
樹脂フィルムを実施例９で作製した樹脂フィルム（ＰＥＴ）にした以外、比較例２と同様に、比較例５の積層体を作製した。
［比較例６］
樹脂フィルムを実施例１０で作製した樹脂フィルム（ＰＣ）にした以外、比較例２と同様に、比較例６の積層体を作製した。【０３０１】
［参考例１］
ガラス板（ゴリラガラス、コーニング社製、５０ｍｍ×１００ｍｍ×厚さ０．７ｍｍ）を参考例１として使用した。【０３０２】
＜試験＞
上記で作製した積層体及びガラス板について、以下の試験を行った。試験結果を下記表２及び３にまとめて記載する。ここで、実施例１〜２３、４７〜５３が本発明の積層体であり、比較例１〜６が比較の積層体である。なお、各試験において、積層体における「視認側」とは、樹脂フィルムに対して、粘着層が貼り合わされた面とは逆側の面を意味する。【０３０３】
［試験例１−１］表面粗さ（４ｍｍ×５ｍｍ）
視認側の樹脂フィルム表面について、Ｖｅｒｔｓｃａｎ２．０（株式会社菱化システム社製）を用い、レンズ倍率×２．５、鏡筒倍率×０．５、Ｗａｖｅモードにて、視野サイズ３７２４μｍ×４９６５μｍでの表面粗さＳａを測定した。
［試験例１−２］表面粗さ（１２０μｍ×１２０μｍ）
視認側の樹脂フィルム表面について、Ｖｅｒｔｓｃａｎ２．０（株式会社菱化システム社製）を用い、レンズ倍率×１０、Ｐｈａｓｅモードにて、視野サイズ１２０μｍ×１２０μｍでの表面粗さＳａを測定した。
なお、下記表２の樹脂フィルムの欄に記載する表面粗さは、樹脂フィルムと粘着層とを積層する前の、樹脂フィルム単体の表面粗さであり、積層体とした際に視認側となる表面の粗さである。
また、下記表２の積層体の欄に記載する表面粗さは、樹脂フィルムと粘着層が積層された状態での、視認側の樹脂フィルムの表面粗さである。積層体がＨＣ層を有する場合は、ＨＣ層を形成する前の、樹脂フィルムと粘着層の積層体の状態での表面粗さとする。【０３０４】
［試験例２］層の厚み
各積層体を、ミクロトームで切削して断面を切り出し、約３質量％の四酸化オスミウム水溶液で１晩染色した後、再度断面を切り出して、断面をＳＥＭ（Ｓｃａｎｎｉｎｇ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｍｉｃｅｏｓｃｏｐｅ、走査型電子顕微鏡）を用いて観察した。各層について、断面画像から無作為に１０箇所を抽出して厚みを測定し、その平均を厚みとした。【０３０５】
［試験例３］損失正接（ｔａｎδ）
各積層体に使用した粘着剤組成物を用い、面積１０ｍｍ×１００ｍｍ、厚み２５μｍの粘着層を作製した。この粘着層を団子状に丸め、粘着層の損失弾性率Ｅ”、貯蔵弾性率Ｅ’およびｔａｎδを、−１０℃環境下で、動的粘弾性測定装置ＤＶＡ−２２５（アイティー計測制御株式会社製、商品名）を用いて、せん断モード、周波数１Ｈｚにて、−１００℃から５０℃の温度領域に渡って測定した。０℃〜−４０℃における、ｔａｎδの極大値を下記表２に記載した。【０３０６】
［試験例４］品質
積層体のガラス品質を以下の手順により評価した。
積層体の剥離シートを剥がして粘着層をむき出しにし、積層体と液晶セル用光学ガラス（Ｃｏｒｎｉｎｇ社製、商品名：イーグルＸＧ、厚み４００μｍ）を、粘着層と光学ガラスが隣接するように、ゴムローラーで２ｋｇの荷重を掛けながら貼り合わせた。この光学ガラスの、積層体のフィルムが貼り合わされていない側の面に、粘着剤付き黒色ＰＥＴフィルム（商品名：くっきりミエール、巴川製紙所社製）を、光学ガラスと粘着剤が隣接するように、ゴムローラーで２ｋｇの荷重を掛けながら貼り合わせた。この積層体の視認側の最表面に蛍光灯の光を投射し、蛍光灯の反射像を観察して、以下の通り評価した。
＜評価基準＞
Ａ：蛍光灯の反射像にゆがみがなかった（ガラスと同様の品質だった）。
Ｂ：蛍光灯の反射像のゆがみがほとんど認められなかった。
Ｃ：蛍光灯の反射像のゆがみが認められたが極僅かであった。
Ｄ：蛍光灯の反射像のゆがみが認められたが僅かであった。
Ｅ：蛍光灯の反射像が大きくゆがんでいた。【０３０７】
［試験例５］鉛筆硬度
ＪＩＳ（ＪＩＳは、Ｊａｐａｎｅａｓｅ  Ｉｎｄｕｓｕｓｔｒｉａｌ  Ｓｔａｎｄａｒｄｓ（日本工業規格）である）  Ｋ  ５４００に従い鉛筆硬度を評価した。
各積層体を、剥離シートを剥がして粘着層をむき出しにした。むき出しにした粘着層とガラス板（Ｃｏｒｎｉｎｇ社製、商品名：イーグル  ＸＧ、厚み１ｍｍ）を、ゴムローラーで２ｋｇの荷重を掛けながら貼り合わせ、温度２５℃、相対湿度６０％で２時間調湿した。その後、積層体の視認側最表面の異なる５箇所について、ＪＩＳ  Ｓ  ６００６に規定する６Ｂ〜９Ｈの試験用鉛筆を用いて、４．９Ｎの荷重にて引っ掻いた。その後、目視で認められる傷が０〜２箇所であった鉛筆の硬度のうち、最も硬度の高い鉛筆硬度を評価結果とした。鉛筆硬度は、「Ｈ」の前に記載される数値が高いほど、硬度が高く好ましい。【０３０８】
［試験例６］耐擦性
ラビングテスター（テスター産業株式会社製）を用いて、温度２５℃、相対湿度６０％の環境下で、評価対象（積層体）と接触するテスターの擦り先端部（１ｃｍ×１ｃｍ）にスチールウール（日本スチールウール社製、Ｎｏ．０）を巻いて動かないようバンド固定し、各積層体の、視認側最表面を以下の条件で擦った。
移動距離（片道）：１３ｃｍ、こすり速度：１３ｃｍ／秒、荷重：１０００ｇ、先端部接触面積：１ｃｍ×１ｃｍ。
試験後の各積層体の視認側と逆側の最表面に油性黒インキを塗り、反射光を目視観察して、スチールウールと接触していた部分に傷が入ったときの擦り回数を計測し、以下の基準で評価した。
＜評価基準＞
Ａ：１００００回擦っても傷が付かない。
Ｂ：１０００回を超え１００００回擦る間に、初めて傷が付いた。
Ｃ：１００回を超え１０００回擦る間に、初めて傷が付いた。
Ｄ：１０回を超え１００回擦る間に、初めて傷が付いた。
Ｅ：１０回擦る間に傷が付いた。【０３０９】
［試験例７］打鍵耐久性
各積層体を、剥離シートを剥がして粘着層をむき出しにした。むき出しにした粘着層とガラス板（Ｃｏｒｎｉｎｇ社製、商品名：イーグル  ＸＧ、厚み１ｍｍ）を、ゴムローラーで２ｋｇの荷重を掛けながら貼り合わせ、温度２５℃、相対湿度６０％で２時間調湿した。その後、打鍵試験機（株式会社ＹＳＣ製）を用いて、ガラス板とは反対側の上方から、入力ペン（ペン先材料はポリアセタール、Ｒ＝０．８ｍｍ、ワコム株式会社製）を打鍵速度：２回／分、荷重：２５０ｇの条件で押し当て、以下の基準で評価した。
＜評価基準＞
Ａ：５００００回打鍵しても凹みが発生しなかった
Ｂ：打鍵回数１００００回を超え５００００回押し当てる間に凹みが発生した。
Ｃ：打鍵回数１０００回を超え１００００回押し当てる間に凹みが発生した。
Ｄ：打鍵回数１００回を超え１０００回押し当てる間に凹みが発生した。
Ｅ：打鍵回数１００回押し当てる間に凹みが発生した。【０３１０】
【表２−１】
0006751438.tif 000019
【０３１１】
【表２−２】
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【０３１２】
表２に記載するように、積層状態での視認側の樹脂フィルムの表面粗さＳａ（測定視野：４ｍｍ×５ｍｍ）が粗い比較例１の積層体は、ガラスのような品質を示さなかった。また、０℃〜−４０℃におけるｔａｎδ（周波数１Ｈｚ）の極大値が１．３より小さい粘着層を有する比較例２および４〜６の積層体は、それぞれ、同じ樹脂フィルムを用いた実施例６および８〜１０に対して、低いガラス品質を示した。また、粘着層の厚みが１１０μｍと厚すぎる比較例３の積層体も、ガラスのような品質を示さなかった。
これに対して、積層状態での視認側の樹脂フィルムの表面粗さＳａ（測定視野：４ｍｍ×５ｍｍ）が特定の範囲にあり、粘着層の厚みが特定の厚み以下であり、粘着層の０℃〜−４０℃におけるｔａｎδ（周波数１Ｈｚ）の極大値が特定の値以上である本発明の積層体は、いずれも優れたガラス品質を示した。【０３１３】
下記表３に記載するように、樹脂フィルム上にＨＣ層が積層された実施例１７〜２３、４７〜５３の積層体は、優れた鉛筆硬度および耐擦性を備えていた。【０３１４】
【表３】
0006751438.tif 000021
【０３１５】
［実施例２４〜４６および比較例７〜１２］
以下に示すミラー反射層Ａおよびミラー反射層Ｂのいずれかを反射層として有する、反射層付き積層体を作製した。
反射層付き積層体の作製における各工程の詳細と、使用した化合物の説明を以下に示す。【０３１６】
＜１．ミラー反射層Ａ（コレステリック液晶層）の作製＞
（１）塗布液の調製
１／４波長板用として塗布液１を、また、コレステリック液晶層形成用として塗布液２、塗布液３および塗布液４を、下記表４に示す組成で調製した。なお、質量部は省略して記載する。【０３１７】
【表４】
0006751438.tif 000022
【０３１８】
【化１７】
0006751438.tif 000023
【０３１９】
【化１８】
0006751438.tif 000024
【０３２０】
上記化合物２は、特開２００５−９９２４８号公報に記載の方法で製造した。【０３２１】
（２）仮支持体の調製
仮支持体（２８０ｍｍ×８５ｍｍ）は、東洋紡社製ＰＥＴフィルム（商品名：コスモシャインＡ４１００、厚み：１００μｍ）を使用し、ラビング処理（レーヨン布、圧力：０．１ｋｇｆ（０．９８Ｎ）、回転数：１０００ｒｐｍ、搬送速度：１０ｍ／ｍｉｎ、回数：１往復）を施した。
（３）ミラー反射層Ａの作製
塗布液１を、ワイヤーバーを用いて上記ＰＥＴフィルムのラビング処理を施した表面に塗布した後、乾燥させて、３０℃のホットプレート上にＰＥＴフィルムがホットプレートと接するように置き、フュージョンＵＶシステムズ株式会社製無電極ランプ「Ｄバルブ」（商品名、６０ｍＷ／ｃｍ２）にて、６秒間ＵＶ（ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ）照射し、液晶相を固定して、膜厚０．８μｍの１／４波長板を形成した。形成した１／４波長板の表面に塗布液２をワイヤーバーを用いて塗布した後、乾燥させて、３０℃のホットプレート上にＰＥＴフィルムがホットプレートと接するように置き、フュージョンＵＶシステムズ株式会社製無電極ランプ「Ｄバルブ」（６０ｍＷ／ｃｍ２）にて６秒間ＵＶ照射し、コレステリック液晶相を固定して、膜厚３．５μｍのコレステリック液晶層を得た。さらに塗布液３および塗布液４を順に用いて同様の工程を繰り返し、１／４波長板と３層のコレステリック液晶層とを積層し、ＰＥＴフィルムを剥離することで、ミラー反射層Ａ（塗布液３の層の膜厚：３．０μｍ、塗布液４の層の膜厚：２．７μｍ）を作製した。ミラー反射層Ａは、１／４波長板の上に、６３０ｎｍ、５４０ｎｍおよび４５０ｎｍのコレステリック液晶層がこの順に積層された構造を有する。ミラー反射層Ａの透過スペクトルを分光光度計（日本分光株式会社製、商品名：Ｖ−６７０）で測定したところ、６３０ｎｍ、５４０ｎｍ、４５０ｎｍに選択反射の中心波長を有する透過スペクトルが得られた。【０３２２】
＜２．ミラー反射層Ｂ（直線偏光反射層）の作製＞
特表平９−５０６８３７号公報に記載された方法に基づき、直線偏光反射層を作製した。２，６−ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）を、２，６−ナフタレンジカルボン酸とエチレングリコールを用いて、標準ポリエステル樹脂合成釜において合成した。また、ナフタレートおよびテレフタレートのコポリエステル（ｃｏＰＥＮ、共重合質量比はナフタレート：テレフタレート＝７０：３０）を、ジオールとしてエチレングリコールを用いて、標準ポリエステル樹脂合成釜において合成した。２，６−ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）およびｃｏＰＥＮの単層フィルムをそれぞれ押出成型した後、約１５０℃において、延伸比５：１で延伸した。配向軸に関するＰＥＮの屈折率は、約１．８８、横断軸に関する屈折率は、１．６４、ｃｏＰＥＮフィルムの配向軸および横断軸に関する屈折率は、いずれも約１．６４となることを確認した。
標準押出ダイに供給した上記のＰＥＮおよびｃｏＰＥＮを、５０スロット供給ブロックを用いて同時押出することにより、下記表５（１）に示す膜厚を有するＰＥＮの層（以下、ＰＥＮ層と称す。）とｃｏＰＥＮの層（以下、ｃｏＰＥＮ層と称す。）とが、交互に合計５０層積層した反射層Ｂ１を形成した。続いて、膜厚を下記表５（２）〜（５）に変更した以外は反射層Ｂ１の形成と同様にして、各反射層Ｂ２〜Ｂ５を形成した。得られた反射層Ｂ１〜Ｂ５を、各反射層のＰＥＮ層とｃｏＰＥＮ層が交互になり、反射層Ｂ１のＰＥＮ層および反射層Ｂ５のｃｏＰＥＮ層が最表面となるように、この順に積層して、合計２５０層が積層された反射層ＢＡｌｌを形成した。得られた反射層ＢＡｌｌを延伸し、続いて、エアーオーブン内において、約２３０℃で３０秒間熱硬化し、ミラー反射層Ｂを得た。【０３２３】
【表５】
0006751438.tif 000025
【０３２４】
＜３．積層体の作製（反射層の貼合）＞
実施例１〜２３および比較例１〜６の積層体とミラー反射層Ａとを、積層体の粘着層とミラー反射層Ａの１／４波長板とが隣接するように貼合して、実施例２４〜４６および比較例７〜１２のミラー反射層Ａ付き積層体をそれぞれ作製した。
また、実施例１〜２３および比較例１〜６の積層体とミラー反射層Ｂとを、積層体の粘着層とミラー反射層ＢのＰＥＮ層とが隣接するように貼合して、実施例２４〜４６および比較例７〜１２のミラー反射層Ｂ付き積層体をそれぞれ作製した。
なお、積層体は、積層体の剥離シートを剥がして粘着層をむき出しにして上記貼合に用いた。【０３２５】
＜試験＞
上記で作製したミラー反射層Ａ付き積層体およびミラー反射層Ｂ付き積層体について、以下の試験を行った。試験結果を下記表６にまとめて記載する。ここで、実施例２４〜４６が本発明の反射層付き積層体であり、比較例７〜１２が比較の反射層付き積層体である。なお、各試験において、積層体における「視認側」とは、樹脂フィルムに対して、粘着層が貼り合わされた面とは逆側の面を意味する。【０３２６】
［試験例８］ミラー品質
積層体のミラー品質を以下の手順により評価した。
積層体の視認側の最表面に蛍光灯の光を投射し、京浜光膜工業社製の銀ミラー（以下、Ａｇミラーと称す。）と比較し、蛍光灯の反射像のミラー品質を、以下の通り評価した。ミラー品質には、反射像のゆがみの他に、ゆず肌状の面質悪化も、ミラー品質低下に関係することから、ゆがみ評価とゆず肌評価を合わせて評価した。
＜ゆがみ評価基準＞
ａ：蛍光灯の反射像にゆがみが無く、Ａｇミラーと同様の品質だった。
ｂ：蛍光灯の反射像のゆがみがほとんど認められなかった。
ｃ：蛍光灯の反射像のゆがみが認められたが極僅かであった。
ｄ：蛍光灯の反射像のゆがみが認められたが僅かであった。
ｅ：蛍光灯の反射像が大きくゆがんでいた。
＜ゆず肌評価基準＞
ａ：蛍光灯の反射像にゆず肌状の面質ムラが無く、Ａｇミラーと同様の品質だった。
ｂ：蛍光灯の反射像のゆず肌状の面質ムラがほとんど認められなかった。
ｃ：蛍光灯の反射像のゆず肌状の面質ムラが認められたが極僅かであった。
ｄ：蛍光灯の反射像のゆず肌状の面質ムラが認められたが僅かであった。
ｅ：蛍光灯の反射像のゆず肌状の面質ムラが強く、ミラー品質が低下していた。【０３２７】
【表６】
0006751438.tif 000026
【０３２８】
表６に記載するように、積層状態での視認側の樹脂フィルムの表面粗さＳａ（測定視野：４ｍｍ×５ｍｍ）が粗い、比較例７のミラー反射層付き積層体は、鏡のような品質（ミラー品質）を示さなかった。また、０℃〜−４０℃におけるｔａｎδ（周波数１Ｈｚ）の極大値が１．３より小さい粘着層を有する比較例８および１０〜１２の積層体は、それぞれ、同じ樹脂フィルムを用いた実施例２９および３１〜３３に対して、低いミラー品質を示した。また、粘着層の厚みが１１０μｍと厚すぎる比較例９の積層体も、鏡のような品質を示さなかった。
これに対して、積層状態での視認側の樹脂フィルムの表面粗さＳａ（測定視野：４ｍｍ×５ｍｍ）が特定の範囲にあり、粘着層の厚みが特定の厚み以下であり、粘着層の０℃〜−４０℃におけるｔａｎδ（周波数１Ｈｚ）の極大値が特定の値以上である本発明の積層体は、いずれも優れたミラー品質を示した。【０３２９】
本発明の積層体を、画像表示装置の前面板、画像表示装置、画像表示機能付きミラ−、抵抗膜式タッチパネルおよび静電容量式タッチパネルに用いた際には、上記前面板等は優れたガラス品質を示し、本発明の積層体がＨＣ層を有する場合には、優れた鉛筆硬度および耐擦性をも備え、本発明の積層体が反射層を有する場合には、優れたミラー品質を示すと考えられる。【０３３０】
本発明をその実施態様とともに説明したが、我々は特に指定しない限り我々の発明を説明のどの細部においても限定しようとするものではなく、添付の請求の範囲に示した発明の精神と範囲に反することなく幅広く解釈されるべきであると考える。【０３３１】
本願は、２０１６年５月２４日に日本国で特許出願された特願２０１６−１０３７６２、２０１６年６月２２日に日本国で特許出願された特願２０１６−１２３２４０、及び２０１６年９月２０日に日本国で特許出願された特願２０１６−１８３１７９に基づく優先権を主張するものであり、これらはいずれもここに参照してその内容を本明細書の記載の一部として取り込む。
【符号の説明】
【０３３２】
１Ａ：樹脂フィルム
２Ａ：粘着層
３Ａ：ハードコート層（ＨＣ層）
４Ａ、４Ｂ：積層体
１：タッチパネル用導電フィルム
２：タッチパネル
３：樹脂フィルム
４：粘着層
４Ｃ：積層体
５：透明絶縁基板
６Ａ、６Ｂ：導電部材
７Ａ、７Ｂ：保護層
８：第１導電層
９：第２導電層
１１Ａ：第１ダミー電極
１１：第１電極
１２：第１周辺配線
１３：第１外部接続端子
１４：第１コネクタ部
１５：第１金属細線
２１：第２電極
２２：第２周辺配線
２３：第２外部接続端子
２４：第２コネクタ部
２５：第２金属細線
Ｃ１：第１セル
Ｃ２：第２セル
Ｄ１：第１の方向
Ｄ２：第２の方向
Ｍ１：第１メッシュパターン
Ｍ２：第２メッシュパターン
Ｓ１：アクティブエリア
Ｓ２：周辺領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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