(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
反応炉ハウジング（１）内に配置されプロセスチャンバにプロセスガスを供給するガス入口部材（４）を有し、そのガス入口部材は、出口孔（７）をもつガス出口プレート（９）とそれに平行に延在する背後壁（１０）とを具備するガス分配室（４’）を有すると共にハンガー（３）により反応炉ハウジング（１）に取り付けられており、その場合、ハンガー（３）は、ガス入口部材（４）の側縁から離間してガス入口部材（４）に取り付けられている、少なくとも１つの基板をコーティングするための装置において、
背後壁（１０）とガス出口プレート（９）の間にスペーサ要素（１３）が設けられ、それに対してガス出口プレート（９）と、背後壁（１０）と、ハンガー（３）の下端（３’）とが取り付けられていることを特徴とする装置。
【請求項２】
反応炉ハウジング（１）内に配置されプロセスチャンバにプロセスガスを供給するガス入口部材（４）を有し、そのガス入口部材は、出口孔（７）をもつガス出口プレート（９）とそれに平行に延在する背後壁（１０）とを具備するガス分配室（４’）を有すると共にハンガー（３）により反応炉ハウジング（１）に取り付けられており、その場合、ハンガー（３）は、ガス入口部材（４）の側縁から離間してガス入口部材（４）に取り付けられている、少なくとも１つの基板をコーティングするための装置において、
ハンガー（３）が、その延在方向において互いに離間した第１及び第２の湾曲ゾーン（２５〜２８）を有し、その場合、第１の湾曲ゾーン（２５、２８）は第１の湾曲方向のみの湾曲を許容し、そして第２の湾曲ゾーン（２６、２７）は第１の湾曲方向に垂直な第２の湾曲方向のみの湾曲を許容することを特徴とする装置。
【請求項３】
反応炉ハウジング（１）内に配置されプロセスチャンバにプロセスガスを供給するガス入口部材（４）を有し、そのガス入口部材は、出口孔（７）をもつガス出口プレート（９）とそれに平行に延在する背後壁（１０）とを具備するガス分配室（４’）を有すると共にハンガー（３）により反応炉ハウジング（１）に取り付けられており、その場合、ハンガー（３）は、ガス入口部材（４）の側縁から離間してガス入口部材（４）に取り付けられている、少なくとも１つの基板をコーティングするための装置において、
ハンガー（３）の上端（３”）が、保持装置（２）に対する鉛直位置を調整可能である保持要素（３６）に取り付けられており、その保持要素（３６）は、外側螺子山（３７）を有し、その外側螺子山（３７）に調整リング（３２）の内側螺子山（３４）が螺合しており、かつ、
クランプ要素（４７）が設けられ、そのクランプ要素（４７）は、鉛直位置を調整された保持要素（３６）が上方に変位することを阻止するためのホールダウン器具の機能を有することを特徴とする装置。
【請求項４】
ガス出口プレート（９）の反対側の背後壁（１０）がハンガー（３）の延在方向にわずかに変位することができ、かつ、気密性のためにベローズ（２０）が設けられ、そのベローズ（２０）は、第１の部分によりスペーサ要素（１３）に取り付けられていると共に、第１の部分に対して変位可能な第２の部分により背後壁（１０）に取り付けられていることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項５】
スペーサ要素（１３）が、床（１４’）を具備するキャビティ（１４）を有し、その床（１４’）にハンガー（３）の下端（３’）が取り付けられていることを特徴とする請求項１又は４に記載の装置。
【請求項６】
スペーサ要素（１３）が、ガス出口プレート（９）に強固に接続された脚部（１５）を有することを特徴とする請求項１、４又は５に記載の装置。
【請求項７】
スペーサ要素（１３）の背後壁（１０）に対する変位行程を制限するために背後壁（１０）に取り付けられているリング片（２３）を特徴とする請求項１、４、５、６のいずれかに記載の装置。
【請求項８】
湾曲ゾーン（２５〜２８）が、ハンガー（３）における板バネ状の平坦部分により形成されていることを特徴とする請求項２に記載の装置。
【請求項９】
ハンガー（３）の下端（３’）及び上端（３”）がそれぞれ第１の湾曲ゾーン（２５、２８）の直ぐ隣に配置されており、かつ、これらの第１の湾曲ゾーン（２５、２８）はそれぞれ第２の湾曲ゾーン（２６、２７）の直ぐ隣にあることを特徴とする請求項２又は８に記載の装置。
【請求項１０】
ベローズ（２０）から剥離する可能性のある粒子を収集するために、皿（１９）の形態でスペーサ要素（１３）に配置された装置を特徴とする請求項４〜６のいずれかに記載の装置。
【請求項１１】
ハンガー（３）の上端（３”）が、過負荷の際に壊れるピン（４４）により保持要素（３６)と接続されていることを特徴とする請求項３に記載の装置。
【請求項１２】
フランク（４５’）に対して隣り合う下向きの肩（４０’）を具備するヘッド片（４０）がハンガー（３）の上端（３”）に配置されており、ピン（４４）が壊れた際にハンガー（３）が重力によってフランク（４５’）から肩（４０’）までの距離だけ下方に変位するように、ハンガー（３）が保持要素（３６）に配置されていることを特徴とする請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
保持要素（３６）が、調整リング（３２）により保持装置（２）のフランジ（３０）上で支持されていることを特徴とする請求項３、１１、１２のいずれかに記載の装置。
【請求項１４】
複数のハンガー（３）の各々が、その上端（３”）により保持装置（２）に取り付けられると共にその下端（３’）によりガス入口部材４に取り付けられており、かつ、ガス入口部材（４）の熱膨張によって、ガス入口部材（４）の延在面に対する面法線に対してハンガー（３）の角度位置が変化し、その場合、第１の湾曲ゾーン（２５、２８）の各々の湾曲方向が、ガス入口部材（４）のベース面の面中心（４９）の方に向けられていることを特徴とする請求項２、８、９のいずれかに記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プロセスガスをプロセスチャンバに供給するために反応炉ハウジング内に配置されたガス入口部材を有し、ガス入口部材は、ガス出口孔をもつガス出口プレートとそれに対して平行に延在する背後壁とを具備するガス分配室を有すると共に、ハンガーにより反応炉ハウジングに取り付けられ、ハンガーはガス入口部材の側縁から離間してガス入口部材に取り付けられている、少なくとも１枚の基板のコーティングのための装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
このようなコーティング装置は、基板にコーティングするために用いられる。このために、ＣＶＤ又はＰＶＤプロセスが行われるプロセスチャンバ内に基板が載置される。プロセスガスがガス分配器を用いてプロセスチャンバに供給される。このようなガス分配器は、特許文献１又は特許文献２に記載されている。特許文献３によりガス入口部材が知られており、それは複数のガス分配室を有し、それらは１つの平面内に互いに並んでいる。特許文献４は複数のセグメントからなるガス入口部材を記載している。
【０００３】
特許文献５及び特許文献６によりガス入口部材が知られており、それはガス出口孔を具備するガス出口面を有する。入口部材は保持部材により上方に取り付けられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】独国特許出願公開第10 2014 116 991号公報
【特許文献２】独国特許出願公開第 10 2013 101 534号公報
【特許文献３】特開２０１３−１８７３１８号公報
【特許文献４】中国特許出願公開第103103501号公報
【特許文献５】米国特許第8,721,791号明細書
【特許文献６】米国特許出願公開第2009/0133631号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ＯＬＥＤの堆積の際には有機開始物質が用いられ、それらは搬送ガスに補助されて加熱されたガス分配器に供給される。このようなガス分配器は、ガス入口部材の一部品とすることができる。プロセスガスは、ガス通過孔をもつガス出口面と背後壁とを具備するガス入口部材のガス分配室に供給される。ガス入口部材の温度は、有機開始物質の凝縮を回避する値に維持される。
【０００６】
プロセスチャンバの床はサセプタから形成され、その上に１又は複数の基板が載置される。ガス状の開始物質は、搬送ガスを用いてプロセスチャンバ内の基板の表面に運ばれ、そこで層を形成するように凝縮する。このために、サセプタは、ガス入口部材の温度より低い温度に温度制御される。サセプタは、特に冷却される。基板は、１ｍ２以上の表面積を有することができるので、サセプタ対角線が２〜３ｍのコーティング装置を作製することが必要となる。ガス入口部材は、サセプタの全表面に亘って延在しなければならない。よってガス入口部材は、２〜３ｍの対角線を有する。しかしながら、上方がガス出口面により、そして下方がサセプタ表面により規定されるプロセスチャンバの高さはわずか数ｃｍである。
【０００７】
本発明の目的は、プロセスチャンバ内で大面積基板への堆積を可能とする本発明による装置をさらに発展させることである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
この課題は、請求項に記載された本発明により実現され、各請求項は、この課題の別々の解決手段を構成している。
【０００９】
本発明の第１の態様は、ハンガーの下端をガス入口部材に固定することに関する。本発明によれば、背後壁とガス出口プレートの間にスペーサ要素を有する。このスペーサ要素に、ガス出口プレートと、背後壁と、ハンガーの下端とが取り付けられる。好適には、ガス入口部材を保持するために、反応炉ハウジングの内部で複数のハンガーが用いられ、それらの各々の上端により保持装置に固定され、保持装置は反応炉ハウジングの上部に確実に接続されている。各ハンガーが１つのスペーサ要素に割り当てられることにより、複数のスペーサ要素が背後壁とガス出口プレートの間の間隙空間に配置される。反応炉ハウジングの内部でガス入口部材の保持のために用いられるハンガーのうち少なくとも幾つかは、ガス入口部材の側縁から離間したスペーサ要素に係合し、さらにガス入口部材のベース面上に分散している。
【００１０】
本発明の第２の態様は、ハンガーの構造に関する。本発明によれば、ハンガーが、その延在方向において互いに離間した第１及び第２の湾曲ゾーンを有する。第１の湾曲ゾーンは、ハンガーの第１の湾曲方向のみの湾曲を許容する。第２の湾曲ゾーンは、ハンガーの第２の湾曲方向のみの湾曲を許容する。第１の湾曲方向は、第２の湾曲方向と垂直である。ガス入口部材すなわちそのガス出口プレート及びその背後壁が延在する面をＸＹ平面とすると、ハンガーはＺ軸方向に延在する。それは鉛直方向である。ハンガーは、このＺ軸方向に対してわずかな傾斜を有することができる。湾曲方向はＸＹ平面内にあり、湾曲ゾーンにより得られる湾曲軸に対して垂直である。ハンガーは、２つの湾曲方向のうち少なくとも１つがガス入口部材の面中心に向くように配置されている。なぜなら、ガス入口部材の熱膨張の際に、各ハンガーの下側取付点が面中心に向いた線に沿って動かされると想定されるからである。好適には、第１の湾曲方向が面中心に向いており、かつ、第１の湾曲ゾーンがハンガーの上端又は下端の直ぐ隣にある。
【００１１】
本発明の第３の態様は、ハンガーの上端を保持要素に取り付けることに関する。本発明によれば、保持装置に対するハンガーの鉛直位置を調整可能である。好適には、調整要素が設けられ、それによりハンガーの鉛直位置が調整できることにより、調整要素の調整によっていずれのハンガー位置においてもプロセスチャンバの高さを調整することができる。このために、反応炉ハウジングの上部が開口を有し、それを通して、調整要素に係合して調整要素を調整するために調整ツールを入れることができる。
【００１２】
本発明の上述した態様の更なる好適な進展は、本発明の主旨において、独立して又は組み合わせて実施可能でありかつさらに従来技術を独立して進展させるものであり、以下に記載される。
スペーサ要素が下側の取付要素を形成し、それによりハンガーの下端がガス出口プレートに取り付けられる。スペーサ要素は、上方に開口しかつ床を有するキャビティを有することができる。ハンガーの下端は、このキャビティの床に固定することができる。これは好適には螺子を用いて行われ、その螺子は、床の螺子山付き貫通孔を下側から通ってハンガーの下端の内側螺子山に螺合される。床の下側には螺子山付き貫通孔を有する脚部が設けられ、それを通して取付螺子を挿入可能であり、それを用いて脚部がガス出口プレートに固定されている。
中心孔を具備しその中にスペーサ要素が挿入されるベローズを設けることもできる。従って、スペーサ要素は部分的にベローズにより取り巻かれる。ベローズの下端は、スペーサ要素に、好適にはキャビティの壁から径方向外側に突出するカラーに固定されている。しかしながらベローズの下端は、ガス出口プレートに接続することもできる。ベローズの上端は、スペーサ要素の反対側にて鉛直方向に移動可能な要素に接続される。これは保持要素であり、背後壁に強固に接続されることにより、背後壁が、ガス出口プレートの反対側にて鉛直方向にわずかに変位可能である。ベローズは、第１の部分と、第１の部分に対して変位可能な第２の部分とを有する。このために、第１の部分と第２の部分の間に蛇腹構造がある。第１の部分は好適にはスペーサ要素に、そして第２の部分は背後壁に固定されている。ストッパ要素が設けられ、それにより、ガス出口プレートに対する背後壁の鉛直方向の変位可能性が制限される。このために、特に、リング片又は閉鎖蓋が設けられる。
反応炉ハウジングの内部空間の上部領域に設けられる保持装置は、好適には、剛性の、特に軽量に形成された本体により形成されている。それは、互いに垂直に延在するセル壁を具備する格子枠構造とすることができる。ハンガーの上端は、好適には、過負荷により壊れるピンを用いて保持装置に取り付けられている。このために、ハンガーの上端が横孔を有することができ、その中にピンが挿入される。ピンは、２つの端部を有する。一方の端部はハンガーの孔に挿入される。ピンの他方の端部は、取付本体の孔に挿入され、好適には保持要素と強固に接続される。ハンガーに加わる軸力がピンの破壊強度を超えた場合、ピンは壊れる。そしてハンガーは、重力の効果により鉛直下方に変位する。ハンガーにより保持されたガス入口部材がサセプタ上に落下しないように、ハンガーの頭部に配置された肩の形状の安全索が設けられている。その肩は、保持要素に強固に接続されたフランクから鉛直方向に離れている。ピンの破壊後、ハンガーは、肩がフランクに衝突するまでの間だけ下方に動くことができる。このためにハンガーの上端は、保持要素の孔に、鉛直方向に移動可能であるように装着されている。
調整要素は、好適には調整リングであり、それは径方向外側に向いたカラーを有し、それは保持装置の鍔部分又はフランジ上で支持されている。このように形成された調整リングは、回転させることが可能な１又は複数のツール係合孔を有する。調整リングの内側螺子山が保持要素の外側螺子山と螺合することにより、調整リングのねじ込みによって保持要素が鉛直方向に移動することとなる。鉛直方向に保持装置に取り付けられたクランプ要素が設けられている。クランプ要素は、保持要素に対して鉛直下方向きの力を及ぼし、そしてハンガーの上端が保持要素に強固に接続されているのでハンガーに対しても鉛直下方向きの力を及ぼす。
本発明の実施形態の例は、以下に示す添付の図面を参照して説明される。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】図１は、サセプタ５と、反応炉ハウジング１の上縁に取り付けられた保持装置３にハンガー３を介して接続されたガス入口部材４とを有する反応炉ハウジングの概略断面図を示す。
【図２】図２は、本発明の第２の実施例を同様に概略的に示した図であり、ハンガー３の上端３”が上側取付要素１２を有し、ハンガー３の下端３’が下側取付要素１１を有し、それによりハンガー３がガス入口部材４に取り付けられている。
【図３】図３は、本発明の第３の実施例の下側取付要素の縦断面図であり、ガス入口部材４のガス出口プレート９と背後壁１０の間に配置されたスペーサ要素１３を有する。
【図４】図４は、下側取付要素１１を有するハンガー３を示した図である。
【図５】図５は、図４のラインＶ−Ｖの断面図である。
【図６】図６は、ハンガー３と共に下側取付要素１１の半部を示した斜視図である。
【図７】図７は、上側取付要素１２の縦断面図であり、それによりハンガー３が保持装置２と接続されている（図１０の断面ラインＶＩＩ−ＶＩＩによる）。
【図８】図８は、ハンガー３と共に示した図７の上側取付要素１２の斜視断面図である。
【図９】図９は、ハンガー３と共に上側取付要素１２を示した図である。
【図１０】図１０は、上側取付要素１２の平面図である。
【図１１】図１１は、図１０のラインＸＩ−ＸＩの断面図である。
【図１２】図１２は、図９のラインＸＩＩ−ＸＩＩの断面図である。
【図１３】図１３は、ガス入口部材４の面中心４９に対する第２のハンガー３の配置及びガス入口部材４の加熱による傾き変化を概略的に示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
図１は、ＯＬＥＤの堆積のためのコーティング装置のハウジング１を概略的に示している。この反応炉ハウジング１の内部には、冷却媒体チャネル６により冷却され得るサセプタ５がある。サセプタ５は、水平に延在する上面を有し、その上にコーティングされる基板が載置される。サセプタ５の鉛直上方にガス入口部材が延在し、それによりプロセスガスを、ガス入口部材４の下面とサセプタ５の上面の間にあるプロセスチャンバに供給可能である。このために、ガス入口部材４はガス出口プレート９を有し、それは、温度制御チャネル８を通って流れる温度制御媒体により、サセプタ５の温度より高い温度に維持可能である。ガス出口プレート９には、実質的に均一に分散した複数の篩い状に配置されたガス出口孔７があり、それらはプロセスチャンバをガス分配室４’と接続し、ガス分配室は背後壁１０により鉛直上方を閉じられている。
【００１５】
複数のハンガー３が設けられ、それによりガス入口部材４が保持装置２に取り付けられている。保持装置２は、好適には、格子枠状の軽量構造に作製された本体から形成されており、ハウジング１の上部に取り付けられている。保持装置２は、好適には、水平に延在する輪郭面の縁のみにて反応炉ハウジングに取り付けられている。ハンガー３が実質的にこの輪郭面に亘って均一に分散していることにより、ガス入口部材４は、ガス入口部材のベース面全体に亘って均一に分散して配置された複数の点にて保持される。
【００１６】
図２は、さらに別の実施例を概略的に示した図であり、それによれば、各ハンガー３の下端３’が下側取付要素１１によりガス入口部材４に取り付けられており、その場合、下側取付要素１１は、ガス出口プレート９と背後壁１０に対する間隙保持の機能も有する。ハンガー３の上端３”は、上側取付要素１２を有し、それによりハンガー３の高さ調整を行うことができる。
【００１７】
図１及び図２から、少なくとも幾つかの、好適にはほとんどのハンガー３がガス入口部材４の外縁上ではなく、ガス入口部材４のベース面の縁から離れた複数の取付箇所に取り付けられており、それにより下側取付要素１１がガス分配室４’の内部に配置される。
【００１８】
図３〜図６は、下側取付要素１１の好適な実施例の構成を示している。それは、金属体で形成されたスペース要素１３を有する。スペーサ要素１３は下方に突出した脚部１５を有する。脚部１５は軸方向の孔を有し、それらの孔を通して螺子１６が貫通し、螺子１６の螺子山付き軸がガス出口プレート９の螺子山付き孔にそれぞれ螺合される。このように脚部１５は、ガス出口プレート９の上向きの面と当接する。
【００１９】
スペーサ要素１３は、上方に開口したキャビティ１４を形成しており、それは床１４’と、キャビティ１４を環状に取り囲む壁１４”を有する。床１４’は２つの螺子付き貫通孔を有し、それらを通して螺子１７がそれぞれ貫通し、その螺子付き軸がハンガー３の下端３’の内側螺子山に螺合されることにより、ハンガー３の下端３’が床１４’と強固に接続される。
【００２０】
およそ床１４’の高さ位置にて壁１４”から径方向外側にカラー１８が突出している。このカラー１８にベローズ２０の下端が固定されている。スペーサ要素１３はベローズの孔を貫通している。ベローズ２０の上端は、リング片２２と強固に固定されており、リング片２２は閉鎖蓋２１に当接し、そして好適には閉鎖蓋２１と強固に接続されている。閉鎖蓋２１もまた、壁１４”の上部が通過して延在している背後壁１０の開口の縁に当接している。閉鎖蓋２１は、クランプ片として作用するリング片２３により覆われている。螺子２４によりリング片２３は背後壁１０と螺合されている。
【００２１】
リング片２３は開口を有し、それをハンガー３が貫通している。この開口には、より小径の開口をもつさらに別のリング片２３’が載置されており、その開口をハンガー３が貫通している。壁１４”の上端縁はリング片２３又はリング片２３’から鉛直方向において離間している。それにより背後壁１０が、ガス出口プレート９に対して鉛直方向にわずかに変位することができる。ベローズ２０によりガス分配室４’は上方に対して気密にシールされている。
【００２２】
カラー１８には環状皿形状の部材１９が取り付けられている。これは、ベローズ２０の蛇腹構造の外面上に堆積してベローズ２０の機械的運動の際に剥がれ落ちる可能性のある粒子を受容するための収集皿である。
【００２３】
ハンガー３は、その上端３”及び下端３’の領域に円筒形状の断面を有する。それは円形の断面をもつ中央部２９も具備する。
【００２４】
下端３’と中央部２９の間に、第１の湾曲ゾーン２５及び第２の湾曲ゾーン２６を有する。中央部２９と上端３”の間にも同様に、第１の湾曲ゾーン２８及び第２の湾曲ゾーン２７を有する。
【００２５】
第１の湾曲ゾーン２５、２８の各々は、それを横切って延在する第１の湾曲軸の周りの第１の湾曲方向へのハンガー３のある程度の湾曲を許容する。２つの第２の湾曲ゾーン２６、２７は、第１の湾曲軸に対して垂直に延在する第２の湾曲軸の周りの、第１の湾曲方向に対して垂直な第２の湾曲方向へのハンガー３のある程度の湾曲を許容する。
【００２６】
第１の湾曲ゾーン２５、２８及び第２の湾曲ゾーン２６、２７は、それぞれハンガー３の平坦部分により形成されている。それらは実質的に板バネの形状を有する。
【００２７】
下側の第１の湾曲ゾーン２５は下端３’に直接結合されているので、湾曲ゾーン２５の部分はなお、キャビティ１４の内部に位置する。
【００２８】
上側の第１の湾曲ゾーン２８は保持要素３６に直接結合されており、その保持要素により上端３”が保持装置２と接続される。
【００２９】
保持要素３６は、鉛直方向に延在する孔を有し、その中にハンガー３の上端３”が挿入される。保持要素３６のキャビティ３８の中には、キャビティ３８の床３８’上に取付部材４５がある。取付部材４５はリング状であり、そのリング孔は保持要素３６の孔と繋がっている。取付部材４５における床３８’とは反対側の広い面はフランク４５’を形成する。
【００３０】
ハンガー３の上端３”の上面は、螺子４２によりヘッド片４０と接続される。ヘッド片４０は、上端３”と同じ高さ位置にある下部を有する。ヘッド片４０は径方向に突出するカラーを有し、そのカラーは下向きにフランク４５’に対向する肩４０’を有する。肩４０’は、フランク４５’から鉛直方向に離間している。
【００３１】
上端３”とヘッド片４０の下面の間の境界領域には、横方向のチャネル又は孔４３が形成され、その中に保持ピン４４が挿入されている。横孔４３は、角柱状のクランプジャックから形成されており、それによって保持ピン４４が螺子４２により横孔４３に把持固定される。
【００３２】
保持ピン４４の一端は横孔４３に係合する。保持ピン４４の他端は取付部材４５の穴に係合し、取付部材４５は螺子４６により床３８’に接続される。ハンガー３に加わる引張り力は、保持ピン４４を介して保持要素３６に伝達される。この引張り力が、保持ピン４４の破壊強度に対応する限界の力を超えた場合、保持ピンは壊れる。そのとき、ハンガー３は、フランク４５’と肩４０’の間の離間距離だけ下方に動くことができる。重力により生じる不可避の動きによって肩４０’がフランク４５’に衝突するので、保持ピン４４が過負荷の印加により壊れたときにガス入口部材４がサセプタ５の上に落下することが避けられる。
【００３３】
保持ピン４４はまた、目印としての機能も有する。横孔４３は、第１の湾曲ゾーン２８の第１の湾曲方向の方に延在する。
【００３４】
保持要素３６は外側螺子山３７を有する。この外側螺子山３７に調整リング３２の内側螺子山３４が螺合する。調整リング３２は同時に保持リングを構成し、それにより、保持要素３６が保持装置２に取り付けられている。このために、調整リング３２は、径方向に突出した支持部３３を有し、支持部３３が保持装置２のフランジ３０の支持領域３０’上に載置される。調整リング３２はツール係合孔３５を有し、それを通して調整ツールが調整リング３２を回すために係合することができる。このような調整リング３２の回転動作の結果、保持要素３６とハンガー３が鉛直方向に動かされる。ハンガー３又は保持要素３６が供回りすることを防ぐために、ハンガー３と回転不能に接続されたヘッド片４０が、保持／係合ツール係合孔４１を有する。
【００３５】
実質的に星状の形状を有するクランプ要素４７が設けられる。それは孔４７’を有し、それを通してキャビティ３８にアクセス可能である。クランプ要素４７の環状部から径方向アーム４７”が突出しており、それらは螺子４８の螺子山付き軸に取付可能である。螺子４８の頭部は、フランジ３０に下から係合する。フランジ３０は、径方向に開いた切欠き３１を有し、それを通して螺子４８の頭部に直接繋がった螺子山付き部分が通過する。螺子４８はナットを用いてフランジ３０に固定される。クランプ要素４７は、ホールダウン器具の機能を有する。それは、鉛直位置を調整された保持要素３６が上方に変位することを阻止する。
【００３６】
ハンガー３の鉛直位置を調整するためには、螺子４８のナットが緩められなければならない。その後、調整リング３２を回すことができる。その際、ヘッド片４０は保持される。調整プロセスの完了後、螺子４８のナットが締められることにより、クランプ要素４７の下面が保持要素３６の上面に載置される。
【００３７】
図１３は、保持装置２及びその下に配置されたガス入口部材４を概略的に示しており、ガス入口部材４の面中心はライン４９により示されている。ガス入口部材４のベース面上のいずれの点も、ガス入口部材４の温度変化の際に面中心４９を通るライン上で動く。ハンガー３は、第１の湾曲ゾーン２４、２５の湾曲方向が面中心４９の方に向くように、向けられている。保持ピン４４は第１の湾曲方向に延在しているので、組立時には保持ピン４４の目印としての機能に補助されてこれを行うことができる。
【００３８】
熱膨張の際、傾斜位置ｃの基本位置にあるハンガー３が鉛直位置ｂまで変位することができる。しかしながら、ハンガー３はさらに傾斜位置ａまで変位することもできる。また、ハンガー３が基本位置で鉛直に吊下しており、そしてガス入口部材４が加熱されたとき傾斜位置ａまで変位することも可能である。
【００３９】
上述した説明は、本願により集約的に包括される発明を説明するためのものであり、少なくとも以下の特徴の組合せにより従来技術をそれぞれさらに進展させる。すなわち：
【００４０】
背後壁１０とガス出口プレート９の間にスペーサ要素１３が設けられ、それに対してガス出口プレート９と、背後壁１０と、ハンガー３の下端３’とが取り付けられていることを特徴とする装置。
【００４１】
ハンガー３が、その延在方向において互いに離間した第１及び第２の湾曲ゾーン２５〜２８を有し、第１の湾曲ゾーン２５、２８は第１の湾曲方向のみの湾曲を許容し、そして第２の湾曲ゾーン２６、２７は第１の湾曲方向に垂直な第２の湾曲方向のみの湾曲を許容することを特徴とする装置。
【００４２】
ハンガー３の上端３”が、保持装置２に対する鉛直位置を調整可能である保持要素３６に取り付けられていることを特徴とする装置。
【００４３】
ガス出口プレート９の反対側の背後壁１０がハンガー３の延在方向にわずかに変位することができ、かつ、気密性のためにベローズ２０が設けられ、そのベローズ２０は特に、第１の部分によりスペーサ要素１３に取り付けられていると共に、第１の部分に対して変位可能な第２の部分により背後壁１０に取り付けられていることを特徴とする装置。
【００４４】
スペーサ要素１３が、床１４’を具備するキャビティ１４を有し、その床１４’にハンガー３の下端３’が取り付けられていることを特徴とする装置。
【００４５】
スペーサ要素１３が、ガス出口プレート９に強固に接続された脚部１５を有することを特徴とする装置。
【００４６】
スペーサ要素１３の背後壁１０に対する変位行程を制限するために背後壁１０に取り付けられているリング片２３を特徴とする装置。
【００４７】
湾曲ゾーン２５〜２８が、ハンガー３における板バネ状の平坦部分により形成されていることを特徴とする装置。
【００４８】
ハンガー３の下端３’及び上端３”がそれぞれ第１の湾曲ゾーン２５、２８の直ぐ隣に配置されており、かつ、これらの第１の湾曲ゾーン２５、２８はそれぞれ第２の湾曲ゾーン２６、２７の直ぐ隣にあることを特徴とする装置。
【００４９】
ベローズ２０から剥離する可能性のある粒子を収集するために、特に皿１９の形態でスペーサ要素１３に配置された装置を特徴とする装置。
【００５０】
ハンガー３の上端３”が、過負荷の際に壊れるピン４４により保持要素３６と接続されていることを特徴とする装置。
【００５１】
フランク４５’に対して隣り合う下向きの肩４０’を具備するヘッド片４０がハンガー３の上端３”に配置されており、ピン４４が壊れた際にハンガー３が重力によってフランク４５’から肩４０’までの距離だけ下方に変位するように、ハンガー３が保持要素３６に配置されていることを特徴とする装置。
【００５２】
保持要素３６が、調整リング３２により保持装置２のフランジ３０上で支持されていることを特徴とする装置。
【００５３】
調整要素３２が、内側螺子山３４を有する調整リングであり、保持要素３６の外側螺子山３７と螺合されることを特徴とする装置。
【００５４】
複数のハンガー３の各々が、その上端３”により保持装置２に取り付けられると共にその下端３’によりガス入口部材４に取り付けられており、かつ、ガス入口部材４の熱膨張によって、ガス入口部材４の延在面に対する面法線に対してハンガー３の角度位置が変化し、その場合、第１の湾曲ゾーン２５、２８の各々の湾曲方向が、ガス入口部材４のベース面の面中心４９の方に向けられていることを特徴とする装置。
【００５５】
開示された全ての特徴（それ自体もまた互いの組合せにおいても）本発明の本質である。本願の開示には、関係する優先権書類（先願の複写）もまたその全体が、それらの書類の特徴を本願の請求の範囲に組み込む目的も含め、ここに包含される。従属項はその構成により特徴付けられ、従来技術に対する独立した進歩性ある改良であり、特にこれらの請求項に基づく分割出願を行うためである。
【符号の説明】
【００５６】
１  反応炉ハウジング
２  保持装置
３  ハンガー
３’  下端
３”  上端
４  ガス入口部材
４’  ガス分配室
５  サセプタ
６  冷却媒体チャネル
７  ガス出口孔
８  温度制御チャネル
９  ガス出口プレート
１０  背後壁
１１  下側取付要素
１２  上側取付要素
１３  スペーサ要素
１４  キャビティ
１４’  床
１４”  壁
１５  脚部
１６  螺子
１７  螺子
１８  カラー
１９  皿
２０  ベローズ
２１  閉鎖蓋
２２  リング片
２３  リング片
２３’  リング片
２４  螺子
２５  湾曲ゾーン
２６  湾曲ゾーン
２７  湾曲ゾーン
２８  湾曲ゾーン
２９  円筒ゾーン、中間部
３０  フランジ
３０’  支持領域
３１  切欠き、縁開口
３２  調整リング
３３  支持部
３４  内側螺子山
３５  ツール係合孔
３６  保持要素
３７  外側螺子山
３８  キャビティ
３８’  床
３９  孔
４０  ヘッド片
４０’  肩
４１  ツール係合孔
４２  螺子
４３  横孔
４４  保持ピン
４５  取付部材
４５’  フランク
４６  螺子
４７  クランプ要素
４７’  開口
４７”  アーム
４８  螺子
４９  面中心
ａ  傾斜位置
ｂ  鉛直位置
ｃ  傾斜位置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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