(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一つの支持体と、
前記支持体上に形成される第１の電極層と、
前記第１の電極層に形成され、ビオロゲン系化合物及びジピリジン系化合物の少なくともいずれかを含むエレクトロクロミック層と、
前記第１の電極層に対向するように設けられる第２の電極層と、
前記第１の電極層と前記第２の電極層との間に充填され、前記エレクトロクロミック層上に形成される電解質層とを有する積層体からなり、
前記支持体が樹脂製基板からなり、前記積層体が所望の曲面形状を有する熱成型物であることを特徴とするエレクトロクロミック調光装置。
【請求項２】
前記第１の電極層及び前記第２の電極層の少なくともいずれかが、導電性金属、導電性酸化物、及び導電性カーボンのいずれかを含有する請求項１に記載のエレクトロクロミック調光装置。
【請求項３】
前記第１の電極層及び前記第２の電極層の少なくともいずれかが、導電性金属及び導電性カーボンのいずれかを含有する層と導電性酸化物層との積層構成である請求項１から２のいずれかに記載のエレクトロクロミック調光装置。
【請求項４】
前記第２の電極層に接して、前記エレクトロクロミック層の酸化還元反応に対して逆の電気化学反応する劣化防止層を有し、
前記劣化防止層が、トリアリールアミン誘導体及びトリアリールアミンを有するラジカル重合性化合物を含む請求項１から３のいずれかに記載のエレクトロクロミック調光装置。
【請求項５】
前記電解質層が固体電解質層であり、前記固体電解質層が、オキシアルキレン鎖を有するマトリックスポリマーとイオン性液体との固溶体を含む請求項１から４のいずれかに記載のエレクトロクロミック調光装置。
【請求項６】
少なくとも一つの支持体と、
前記支持体上に形成される第１の電極層と、
前記第１の電極層に形成されるエレクトロクロミック層と、
前記第１の電極層に対向するように設けられる第２の電極層と、
前記第１の電極層と前記第２の電極層との間に充填され、前記エレクトロクロミック層上に形成される電解質層と、
前記第２の電極層に接して形成され、前記エレクトロクロミック層の酸化還元反応に対して逆の電気化学反応し、トリアリールアミン誘導体及びトリアリールアミンを有するラジカル重合性化合物を含む劣化防止層とを有する積層体からなり、
前記支持体が樹脂製基板からなり、前記積層体が所望の曲面形状を有する熱成型物であることを特徴とするエレクトロクロミック調光装置。
【請求項７】
少なくとも一つの支持体と、
前記支持体上に形成される第１の電極層と、
前記第１の電極層に形成され、ビオロゲン系化合物及びジピリジン系化合物の少なくともいずれかを含むエレクトロクロミック層と、
前記第１の電極層に対向するように設けられる第２の電極層と、
前記第１の電極層と前記第２の電極層との間に充填され、前記エレクトロクロミック層上に形成される電解質層とを有する積層体からなり、
前記支持体が樹脂製基板からなり、前記積層体が熱成型による所望の曲面形状を有するエレクトロクロミック装置を製造する方法であって、
積層体が所望の曲面形状を有するように熱成型する工程を少なくとも含むことを特徴とするエレクトロクロミック装置の製造方法。
【請求項８】
支持体上に第１の電極層を形成する工程と、
前記第１の電極層上にエレクトロクロミック層を形成する工程と、
前記エレクトロクロミック層上に固体電解質層を形成する工程と、
前記固体電解質層上に第２の電極層を形成する工程と、
前記第２の電極層上に保護層を形成して積層体とする工程と、を含む請求項７に記載のエレクトロクロミック装置の製造方法。
【請求項９】
第１の支持体上に第１の電極層を形成し、前記第１の電極層上にエレクトロクロミック層を形成してなる第１の部材を作製する工程と、
第２の支持体上に第２の電極層を形成してなる第２の部材を作製する工程と、
前記第１の部材と前記第２の部材とを電解質層を挟んで貼り合わせ、積層体を形成する工程と、を含む請求項７に記載のエレクトロクロミック装置の製造方法。
【請求項１０】
前記支持体の外側表面に樹脂材料をインジェクション成型又はキャスト成型することで樹脂層を形成して前記支持体を厚膜化し、前記厚膜化した支持体を切削加工し、所望の曲面形状を形成する請求項８から９のいずれかに記載のエレクトロクロミック装置の製造方法。
【請求項１１】
少なくとも一つの支持体と、
前記支持体上に形成される第１の電極層と、
前記第１の電極層に形成されるエレクトロクロミック層と、
前記第１の電極層に対向するように設けられる第２の電極層と、
前記第１の電極層と前記第２の電極層との間に充填され、前記エレクトロクロミック層上に形成される電解質層と、
前記第２の電極層に接して形成され、前記エレクトロクロミック層の酸化還元反応に対して逆の電気化学反応し、トリアリールアミン誘導体及びトリアリールアミンを有するラジカル重合性化合物を含む劣化防止層とを有する積層体からなり、
前記支持体が樹脂製基板からなり、前記積層体が熱成型による所望の曲面形状を有するエレクトロクロミック装置を製造する方法であって、
積層体が所望の曲面形状を有するように熱成型する工程を少なくとも含むことを特徴とするエレクトロクロミック装置の製造方法。
【請求項１２】
エレクトロクロミック調光眼鏡に用いられる請求項１から６のいずれかに記載のエレクトロクロミック調光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エレクトロクロミック装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
電圧を印加することで、可逆的に酸化還元反応が起こり、可逆的に色が変化する現象をエレクトロクロミズムという。このエレクトロクロミズムを利用した装置がエレクトロクロミック装置である。エレクトロクロミック装置は、エレクトロクロミズムの特徴に由来する応用が実現できるとして、今日まで多くの研究がなされている。
エレクトロクロミック装置に用いられるエレクトロクロミック材料としては、有機材料と無機材料とがある。有機材料は、その分子構造により様々な色彩発色が可能であることから、カラー表示装置として有望である。一方、無機材料は、色彩の制御に課題があるが、この特徴を利用し、色彩度が低いことが利点となるアプリケーションとして調光ガラスやＮＤ（Ｎｅｕｔｒａｌ  Ｄｅｎｓｉｔｙ）フィルタへの実用化が検討されている。
【０００３】
このようなエレクトロクロミック装置は、一般に、エレクトロクロミック材料を対向する２つの電極間に形成し、イオン伝導可能な電解質層が電極間に満たされた構成で酸化還元反応を行う。エレクトロクロミックは電気化学現象であるため、電解質層の性能（イオン伝導度等）が応答速度や発色のメモリ効果に影響する。電解質層が電解質を溶媒に溶かした液体状である場合は速い応答性を得やすいが、素子強度及び信頼性の点で固体化、ゲル化による改良が検討されている。即ち、従来から、電気化学素子としての電池やエレクトロクロミック装置では、電解液を使用している。そのため、電解液の漏れ、溶媒の揮発による電池内の乾燥が生じるばかりでなく、電池容器内では、電解液の偏りなどが内部インピーダンスの上昇や内部短絡の原因になっていた。
特にエレクトロクロミック装置は、調光ガラスや表示用途に用いる場合、少なくとも一方向は、ガラスやプラスチック等の透明材料で封止する必要があるため、金属等で電解質層を完全に密閉してしまうことは困難であり、電解液の漏れや揮発がより大きな問題となる。
【０００４】
このような問題点を解決する方法として、高分子固体電解質を用いることが提案されている。高分子固体電解質としては、オキシエチレン鎖やオキシプロピレン鎖を含有するマトリックスポリマーと無機塩との固溶体が挙げられるが、これらは完全固体であり、加工性に優れるものの、電導度が小さい。そこで、高分子固体電解質の電導度を向上させるために、高分子に有機電解液を溶解させて半固形状のものにする方法や、電解質を加えた液状モノマーを重合反応させて電解質を含む架橋重合体とする方法が提案されている。しかし、これらの提案の技術は、いずれも実用レベルには至っていない。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、エレクトロクロミック装置は、一般に、エレクトロクロミック材料を対向する２つの電極間に形成した後、イオン伝導可能な電解質層を介して貼合せることで作製される。そのため、平面な形状のアプリケーションは作りやすいが、曲面形状や三次元（３Ｄ）形状などのアプリケーションには容易に適用できないという課題がある。例えば、レンズ等の三次元（３Ｄ）形状に適用できれば、光学用途として適用範囲が広がる。しかし、貼り合せる２枚の基板の曲面精度や位置精度により、光学不良が発生しやすいという問題がある。更に、メガネレンズでは、ユーザーに合わせて度数調整する必要があり、曲面形状の異なる基板を多数準備することが量産への課題となる。
【０００６】
このような課題を解決するため、エレクトロクロミック装置を貼合せプロセスなしで作製することが試みられているが、従来技術では上記エレクトロクロミック装置を支持体上に薄膜プロセスで形成することは困難である。即ち、このような貼合せプロセスを省略するために、電解質層上に電極層を形成する場合、全固体の電解質層を用いると、上述したように応答速度が遅くなるという問題がある。また、全固体の電解質層として有機材料層を用いると、該電解質層上に形成する電極層の電気抵抗が高くなりやすく、正常に酸化還元駆動できないという問題がある。特に、一般的に透明電極として採用されている真空製膜で形成されたＩＴＯ、ＩＺＯ、ＳｎＯ２、ＡＺＯ、ＧＺＯ等の酸化物層は、有機膜表面に製膜した場合、透明性と電気伝導度とを両立しにくいという課題がある。
【０００７】
一方、全固体の電解質層として無機材料層を用いると、エレクトロクロミック材料が無機エレクトロクロミック化合物に限定されてしまう。該無機エレクトロクロミック化合物を用いる例としては、還元発色層と酸化発色層とを固体電解質層を挟んで対向配置した構造を有するエレクトロクロミック装置がある。エレクトロクロミック装置は、還元発色層が酸化タングステンと酸化チタンを含有する材料で構成され、酸化発色層がニッケル酸化物を含有する材料で構成されており、酸化発色層と固体電解質層との間に、ニッケル酸化物以外の金属酸化物若しくは金属、又はニッケル酸化物以外の金属酸化物と金属との複合物を主成分として構成される透明性を有する中間層を有するものが提案されている（例えば、特許文献１参照）。この提案によれば、中間層を形成することにより、繰り返し特性と応答性が改良して、数秒間で発消色駆動が可能であると記載されている。
しかしながら、上記特許文献１に記載のエレクトロクロミック装置は、構造が複雑であり、真空製膜で無機化合物層を多層形成するため大型化が困難であると共に、コストアップ要因となる。また、製膜プロセスの熱影響が避けられず、基板がガラス等の耐熱性材料に限定されてしまう。更に、無機エレクトロクロミック反応は水分の影響を受けやすく、色彩も青色系に限定されてしまうという課題がある。
【０００８】
本発明は、熱成型による所望の曲面形状を有し、レンズ等の光学用途に好適なエレクトロクロミック装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明のエレクトロクロミック装置は、少なくとも一つの支持体と、
前記支持体上に形成される第１の電極層と、
前記第１の電極層に形成されるエレクトロクロミック層と、
前記第１の電極層に対向するように設けられる第２の電極層と、
前記第１の電極層と前記第２の電極層との間に充填され、前記エレクトロクロミック層上に形成される電解質層とを有する積層体からなり、
前記支持体が樹脂製基板からなり、前記積層体が熱成型による所望の曲面形状を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によると、熱成型による所望の曲面形状を有し、レンズ等の光学用途に好適なエレクトロクロミック装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１Ａ】図１Ａは、第１の実施の形態に係る熱成型前のエレクトロクロミック装置の一例を示す概略断面図である。
【図１Ｂ】図１Ｂは、第１の実施の形態に係る熱成型後のエレクトロクロミック装置の一例を示す概略断面図である。
【図２Ａ】図２Ａは、第２の実施の形態に係る熱成型前のエレクトロクロミック装置の一例を示す概略断面図である。
【図２Ｂ】図２Ｂは、第２の実施の形態に係る熱成型後のエレクトロクロミック装置の一例を示す概略断面図である。
【図３Ａ】図３Ａは、第３の実施の形態に係る熱成型前のエレクトロクロミック装置の一例を示す概略断面図である。
【図３Ｂ】図３Ｂは、第３の実施の形態に係る熱成型後のエレクトロクロミック装置の一例を示す概略断面図である。
【図４Ａ】図４Ａは、第４の実施の形態に係る熱成型前のエレクトロクロミック装置の一例を示す概略断面図である。
【図４Ｂ】図４Ｂは、第４の実施の形態に係る熱成型後のエレクトロクロミック装置の一例を示す概略断面図である。
【図５】図５は、第５の実施の形態に係る熱成型後のエレクトロクロミック装置の一例を示す概略断面図である。
【図６】図６は、本発明のエレクトロクロミック調光装置を有するエレクトロクロミック調光眼鏡の一例を示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
（エレクトロクロミック装置）
本発明のエレクトロクロミック装置は、少なくとも一つの支持体と、該支持体上に形成される第１の電極層と、該第１の電極層に形成されるエレクトロクロミック層と、該第１の電極層に対向するように設けられる第２の電極層と、該第１の電極層と該第２の電極層との間に充填され、上記エレクトロクロミック層上に形成される電解質層と、更に必要に応じてその他の層を有する積層体からなる。
上記その他の層としては、例えば、保護層、劣化防止層、剥離層などが挙げられる。
【００１３】
本発明のエレクトロクロミック装置においては、上記積層体が、熱成型による所望の曲面形状を有することを特徴とする。
「所望の曲面形状」とは、曲率を有する曲面で構成された形状であり、例えば、球状、円筒状、円錐状、各種三次元（３Ｄ）形状などが挙げられる。なお、「所望の曲面形状」は、積層体の少なくとも一部であればよく、全部であっても構わない。
【００１４】
エレクトロクロミック装置は、少なくとも一つの支持体を有し、該支持体が一つであっても、二つの支持体を有する構成であっても構わない。
【００１５】
エレクトロクロミック装置においては、支持体が樹脂製基板からなる。平面形状の樹脂製基板上に各層を形成した積層体を熱成型することで所望の曲面形状を形成するため、コーティング膜形成の生産性に優れ、かつ大型のエレクトロクロミック装置を提供することができる。
【００１６】
エレクトロクロミック装置においては、第１の電極層及び第２の電極層の少なくともいずれかは、導電性金属、導電性酸化物、及び導電性カーボンのいずれかを含有することが好ましい。これにより、熱成型時に支持体が変形しても電極層が分断されにくく、エレクトロクロミック装置として機能することができる。
また、第１の電極層及び第２の電極層の少なくともいずれかは、導電性金属、及び導電性カーボンのいずれかを含有する層と導電性酸化物層との積層構成であることがより好ましい。これにより、面内で均一なエレクトロクロミック反応（発消色）が可能となる。
【００１７】
また、第２の電極層に接して、エレクトロクロミック層の酸化還元反応に対して逆の電気化学反応する劣化防止層を有することが好ましい。劣化防止層は第２の電極層が電気化学反応により劣化することを抑制する。特に、エレクトロクロミック層の酸化還元反応に対して逆の電気化学反応する劣化防止層が形成されていることが好ましい。これは、駆動電圧を低減できるためである。
【００１８】
一方、電極層の分断を防ぐには、熱成型後における積層体の曲面での支持体の最大長軸長さが、熱成型前における積層体の平面での支持体の最大長軸長さに対して１２０％以下になるように成型することが好ましく、真空製膜で形成される透明導電性酸化物（例えば、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＳｎＯ２、ＡＺＯ、ＧＺＯなど）を電極層に用いる場合には、上記割合は１０３％以下であることがより好ましい。
熱成型としては、支持体端部を固定することなく、所望の曲面形状（例えば、三次元（３Ｄ）形状）を有する凸金型と凹金型とにより積層体を加熱成型する方法が用いられる。更に、熱成型と真空成型を組み合わせてもよい。なお、真空製膜で透明導電性酸化物を形成する場合、電極層の結晶性が低いほど好ましい。これは、電極層の結晶性が高いと電極層が分断されやすいためである。この点から、アモルファス膜で高い導電性を示すＩＺＯ、ＡＺＯが好ましい。
【００１９】
電解質層は、固体電解質層であり、無機微粒子が混合された固体電解質層が好ましい。これにより、熱成型による電解質層厚み及び面内分布の変化を低減することができる。また、熱成型時の固体電解質層の漏れを防止することができる。なお、無機微粒子はエレクトロクロミック層中に混合してもよい。
固体電解質層材料としては、オキシエチレン鎖やオキシプロピレン鎖等のオキシアルキレン鎖を有するマトリックスポリマーとイオン性液体との固溶体が好ましい。これにより、均一な固体電解質層を形成することにより、良好な酸化還元反応が得られる。
【００２０】
（エレクトロクロミック装置の製造方法）
本発明のエレクトロクロミック装置の製造方法は、作製した積層体を所望の曲面形状を有するように熱成型する工程を少なくとも含み、更に必要に応じてその他の工程を含んでなる。
【００２１】
上記エレクトロクロミック装置の製造方法としては、第１の形態では、第１の支持体上に第１の電極層を形成し、該第１の電極層上にエレクトロクロミック層を形成してなる第１の部材を作製する工程と、第２の支持体上に第２の電極層を形成してなる第２の部材を作製する工程と、第１の部材と第２の部材とを電解質層を挟んで貼り合わせ、積層体を形成する工程と、を含むことが好ましい。
【００２２】
上記エレクトロクロミック装置の製造方法としては、第２の形態では、支持体上に第１の電極層を形成する工程と、該第１の電極層上にエレクトロクロミック層を形成する工程と、該エレクトロクロミック層上に固体電解質層を形成する工程と、該固体電解質層上に第２の電極層を形成する工程と、該第２の電極層上に保護層を形成して積層体とする工程と、を含むことが好ましい。
第２の形態では、貼り合わせ工程がなく、熱成型は、支持体上にすべての層を形成した後に実施するため、生産性向上効果が得られる。
【００２３】
熱成型としては、支持体端部を固定することなく、所望の曲面形状（例えば、三次元（３Ｄ）形状）を有する凸金型と凹金型とにより積層体を加熱成型する方法が好適である。
熱成型における加熱温度は、支持体を構成する材料の軟化温度付近であることが好ましく、例えば、支持体としてポリカーボネイト樹脂を用いた場合には加熱温度は１３０℃〜１９０℃が好ましい。
【００２４】
上記エレクトロクロミック装置の製造方法においては、支持体の外側表面に樹脂層を形成して該支持体を厚膜化し、該厚膜化した支持体を切削加工し、所望の曲面形状を形成するが好ましい。支持体の厚みが厚くなると熱成型が困難になる。一方、支持体の厚みが薄くなると、支持体の追加工が困難になる。
厚膜化した支持体を切削加工することにより、所望の曲面形状を形成できるので、ユーザー固有の条件に合わせたレンズ加工（度数加工など）が可能になる。即ち、製品形状ごとに金型や部材を準備することが不要となり、多品種少量生産が容易になる。
【００２５】
ここで、図面を参照して、実施の形態の説明を行う。なお、各図面において、同一構成部分には同一符号を付し、重複した説明を省略する場合がある。
【００２６】
＜第１の実施の形態のエレクトロクロミック装置及びその製造方法＞
図１Ａ及び図１Ｂは、第１の実施の形態に係るエレクトロクロミック装置１０の一例を示す概略断面図である。図１Ａは熱成型前、図１Ｂは熱成型後である。この図１Ａ及び図１Ｂを参照すると、エレクトロクロミック装置１０は、第１の支持体１１と、第１の支持体１１上に、順次積層された第１の電極層１２、エレクトロクロミック層１３、及び第２の支持体１６と、第２の支持体１６上に、順次積層された第２の電極層１５、対向する電極間に形成された電解質層１４、外周部を封止した保護層１７を有する。
【００２７】
エレクトロクロミック装置１０において、第１の支持体１１上には第１の電極層１２が設けられ、第１の電極層１２に接してエレクトロクロミック層１３が設けられている。エレクトロクロミック層１３上には、電解質層１４を介して、第１の電極層１２に対向するように第２の電極層１５が設けられている。
なお、便宜上、第１の電極層１２及び第２の電極層１５の各々において、互いに対向する面を内面と称し、各々の内面とは反対側の面を外面と称する。本実施の形態では、第１の電極層１２の内面はエレクトロクロミック層１３と接しており、第１の電極層１２の外面は第１の支持体１１と接している。また、第２の電極層１５の内面は電解質層１４と接しており、第２の電極層１５の外面は第２の支持体１６と接している。図１Ａ及び図１Ｂ中１７は保護層である。
【００２８】
第１の実施の形態のエレクトロクロミック装置１０の製造方法は、第１の支持体１１上に第１の電極層１２、及びエレクトロクロミック層１３を順次積層する工程と、第２の支持体１６上に第２の電極層１５を形成する工程と、２つの支持体間に電解質層１４を形成後硬化させ、更に外周部を保護層１７で封止する工程、その後、熱成型により、曲面形状を形成する工程とを含み、更に必要に応じてその他の工程を含んでなる。
また、第１の実施の形態のエレクトロクロミック装置１０の製造方法は、第１の支持体１１上に第１の電極層１２、及びエレクトロクロミック層１３を順次積層する工程と、エレクトロクロミック層１３上に電解質層１４を形成後硬化させ、第２の電極層１５を積層する工程と、第２の電極層１５上に硬化樹脂からなる第２の支持体１６を形成する工程と、更に外周部を保護層１７で封止する工程と、その後、熱成型により、曲面形状を形成する工程とを含み、更に必要に応じてその他の工程を含んでなる。
なお、図１Ｂではエレクトロクロミック層１３側の支持体が凸球面に加工された図を示しているが、同様に凹球面状の加工も可能である。
【００２９】
電解質層１４は、固体電解質であり、無機微粒子が混合された固体電解質層が好ましい。これにより、熱成型による電解質層厚み及び面内分布の変化を低減することができる。また、熱成型時の電解質層の漏れを防止することができる。
固体電解質層材料としては、オキシエチレン鎖やオキシプロピレン鎖等のオキシアルキレン鎖を有するマトリックスポリマーとイオン性液体との固溶体を含むことが好ましい。均一な電解質層を形成することにより、良好な酸化還元反応が得られる。なお、無機微粒子はエレクトロクロミック層中に混合してもよい。
エレクトロクロミック装置１０において、第１の電極層１２と第２の電極層１５との間に電圧を印加することにより、エレクトロクロミック層１３が電荷の授受により酸化還元反応して発消色する。
このように、第１の実施の形態に係るエレクトロクロミック装置では、熱成型により、所望の曲面形状（例えば、三次元（３Ｄ）形状）の曲面を形成することができるので、生産性（大型化）に優れたエレクトロクロミック装置を提供できる。
【００３０】
以下、第１の実施の形態に係るエレクトロクロミック装置１０を構成する各構成要素について詳細に説明する。
【００３１】
［支持体］
第１及び第２の支持体１１、１６は、第１の電極層１２、エレクトロクロミック層１３、電解質層１４、第２の電極層１５、及び保護層１７を支持する機能を有する。
第１及び第２の支持体１１、１６としては、これらの各層を支持できれば、周知の熱成型可能な樹脂材料をそのまま用いることができる。
第１及び第２の支持体１１、１６としては、例えば、ポリカーボネイト樹脂、アクリル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂等の樹脂基板を用いてもよい。
なお、エレクトロクロミック装置１０が第２の電極層１５側から視認する反射型表示装置である場合は、第１及び第２の支持体１１、１６のどちらかの透明性は不要である。また、第１及び第２の支持体１１、１６の表面に、水蒸気バリア性、ガスバリア性、及び視認性を高めるために透明絶縁層、反射防止層等がコーティングされていてもよい。
第１及び第２の支持体１１、１６の厚みは、熱成型を容易に行える点から、０．２ｍｍ〜１．０ｍｍであることが好ましい。
【００３２】
［第１の電極層、第２の電極層］
第１の電極層１２及び第２の電極層１５の材料としては、透明導電性酸化物材料が好適であり、例えば、スズをドープした酸化インジウム（以下、「ＩＴＯ」と称する）、フッ素をドープした酸化スズ（以下、「ＦＴＯ」と称する）、アンチモンをドープした酸化スズ（以下、「ＡＴＯ」と称する）などが挙げられる。これらの中でも、真空成膜により形成されたインジウム酸化物（以下、「Ｉｎ酸化物」と称する）、スズ酸化物（以下、「Ｓｎ酸化物」と称する）、及び亜鉛酸化物（以下、「Ｚｎ酸化物」と称する）のいずれか１つを含む無機材料が好ましい。
【００３３】
Ｉｎ酸化物、Ｓｎ酸化物、及びＺｎ酸化物は、スパッタ法により、容易に成膜が可能な材料であると共に、良好な透明性と電気伝導度が得られる材料である。これらの中でも、ＩｎＳｎＯ、ＧａＺｎＯ、ＳｎＯ、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＩｎＺｎＯが特に好ましい。更に、電極層は結晶性が低いほど好ましい。結晶性が高いと熱成型により電極層が分断されやすいためである。この点から、アモルファス膜で高い導電性を示すＩＺＯ、ＡＺＯが好ましい。これらの電極層材料を用いる場合は、熱成型後における積層体の曲面での支持体の最大長軸長さが、熱成型前における積層体の平面での支持体の最大長軸長さに対して１２０％以下になるように熱成型することが好ましく、１０３％以下になるように熱成型することがより好ましい。
【００３４】
また、透明性を有する銀、金、銅、アルミニウムを含有する導電性金属薄膜、カーボンナノチューブ、グラフェン等のカーボン膜、更に、導電性金属、導電性カーボン、導電性酸化物等のネットワーク電極、又はこれらの複合層も有用である。ネットワーク電極とは、カーボンナノチューブや他の高導電性の非透過性材料等を微細なネットワーク状に形成して透過率を持たせた電極である。ネットワーク電極は熱成型時に分断されにくい点から、好ましい。
更に、電極層をネットワーク電極と導電性酸化物の積層構成又は導電性金属薄膜と導電性酸化物との積層構成とすることがより好ましい。積層構成にすることにより、エレクトロクロミック層をムラなく発消色させることができる。なお、導電性酸化物層はナノ粒子インクとして塗布形成することもできる。導電性金属薄膜と導電性酸化物の積層構成とは、具体的には、ＩＴＯ／Ａｇ／ＩＴＯなどの薄膜積層構成にて導電性と透明性を両立させた電極である。
【００３５】
第１の電極層１２及び第２の電極層１５の各々の厚みは、エレクトロクロミック層１３の酸化還元反応に必要な電気抵抗値が得られるように調整される。
第１の電極層１２及び第２の電極層１５の材料としてＩＴＯ真空製膜を用いた場合、第１の電極層１２及び第２の電極層１５の各々の厚みは、２０ｎｍ〜５００ｎｍが好ましく、５０ｎｍ〜２００ｎｍがより好ましい。
導電性酸化物層はナノ粒子インクとして塗布形成する場合の厚みは、０．２μｍ〜５μｍが好ましい。また、ネットワーク電極の場合の厚みは、０．２μｍ〜５μｍが好ましい。
更に、調光ミラーとして利用する場合には、第１の電極層１２及び第２の電極層１５のいずれかが反射機能を有する構造であってもよい。その場合には、第１の電極層１２及び第２の電極層１５の材料として金属材料を含むことができる。金属材料としては、例えば、Ｐｔ、Ａｇ、Ａｕ、Ｃｒ、ロジウム、Ａｌ又はこれらの合金、あるいはこれらの積層構成などが挙げられる。
【００３６】
第１の電極層１２及び第２の電極層１５の各々の作製方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法などが挙げられる。また、第１の電極層１２及び第２の電極層１５の各々の材料が塗布形成できるものであれば、例えば、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スリットコート法、キャピラリーコート法、スプレーコート法、ノズルコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、反転印刷法、インクジェットプリント法等の各種印刷法などが挙げられる。
【００３７】
［エレクトロクロミック層］
エレクトロクロミック層１３は、エレクトロクロミック材料を含む層である。
前記エレクトロクロミック材料としては、無機エレクトロクロミック化合物及び有機エレクトロクロミック化合物のいずれであっても構わない。また、エレクトロクロミズムを示すことで知られる導電性ポリマーを用いてもよい。
無機エレクトロクロミック化合物としては、例えば、酸化タングステン、酸化モリブデン、酸化イリジウム、酸化チタンなどが挙げられる。
有機エレクトロクロミック化合物としては、例えば、ビオロゲン、希土類フタロシアニン、スチリルなどが挙げられる。
導電性ポリマーとしては、例えば、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリン、又はそれらの誘導体などが挙げられる。
【００３８】
エレクトロクロミック層１３としては、導電性又は半導体性微粒子に有機エレクトロクロミック化合物を担持した構造を用いることが好ましい。具体的には、電極表面に粒径５ｎｍ〜５０ｎｍ程度の微粒子を結着し、微粒子の表面にホスホン酸やカルボキシル基、シラノール基等の極性基を有する有機エレクトロクロミック化合物を吸着した構造である。
上記構造は、微粒子の大きな表面効果を利用して、効率よく有機エレクトロクロミック化合物に電子が注入されるため、従来のエレクトロクロミック表示素子と比較して高速応答が可能となる。更に、微粒子を用いることで表示層として透明な膜を形成することができるため、エレクトロクロミック化合物の高い発色濃度を得ることができる。また、複数種類の有機エレクトロクロミック化合物を導電性又は半導体性微粒子に担持することもできる。更に導電性粒子は電極層としての導電性を兼ねることができる。
具体的には、ポリマー系及び色素系のエレクトロクロミック化合物としては、例えば、アゾベンゼン系、アントラキノン系、ジアリールエテン系、ジヒドロプレン系、ジピリジン系、スチリル系、スチリルスピロピラン系、スピロオキサジン系、スピロチオピラン系、チオインジゴ系、テトラチアフルバレン系、テレフタル酸系、トリフェニルメタン系、ベンジジン系、トリフェニルアミン系、ナフトピラン系、ビオロゲン系、ピラゾリン系、フェナジン系、フェニレンジアミン系、フェノキサジン系、フェノチアジン系、フタロシアニン系、フルオラン系、フルギド系、ベンゾピラン系、メタロセン系等の低分子系有機エレクトロクロミック化合物、ポリアニリン、ポリチオフェン等の導電性高分子化合物などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
これらの中でも、発消色電位が低く良好な色値を示す点から、ビオロゲン系化合物、ジピリジン系化合物が好ましく、例えば、下記一般式（１）で表されるジピリジン系化合物がより好ましい。
【００３９】
＜一般式（１）＞
【化１】
0006798098.tif 000002
ただし、上記一般式（１）において、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキル基、及びアリール基のいずれかを表し、Ｒ１及びＲ２の少なくとも一方は、ＣＯＯＨ、ＰＯ（ＯＨ）２、及びＳｉ（ＯＣｋＨ２ｋ＋１）３（ただし、ｋは、１〜２０を表す）から選択される置換基を有する。
上記一般式（１）において、Ｘは、一価のアニオンを表す。一価のアニオンとしては、カチオン部と安定に対をなすものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ｂｒイオン（Ｂｒ−）、Ｃｌイオン（Ｃｌ−）、ＣｌＯ４イオン（ＣｌＯ４−）、ＰＦ６イオン（ＰＦ６−）、ＢＦ４イオン（ＢＦ４−）などが挙げられる。
上記一般式（１）において、ｎ、ｍ、及びｌは、それぞれ独立に０、１、又は２を表す。
上記一般式（１）において、Ａ、Ｂ、及びＣは、各々独立に置換基を有してもよい炭素数１〜２０のアルキル基、アリール基、及び複素環基のいずれかを表す。
【００４０】
また、金属錯体系及び金属酸化物系のエレクトロクロミック化合物としては、例えば、酸化チタン、酸化バナジウム、酸化タングステン、酸化インジウム、酸化イリジウム、酸化ニッケル、プルシアンブルー等の無機系エレクトロクロミック化合物を用いることができる。
エレクトロクロミック化合物を担持する導電性又は半導体性微粒子としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、金属酸化物を用いることが好ましい。
金属酸化物の材料としては、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化イットリウム、酸化ホウ素、酸化マグネシウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カリウム、チタン酸バリウム、チタン酸カルシウム、酸化カルシウム、フェライト、酸化ハフニウム、酸化タングステン、酸化鉄、酸化銅、酸化ニッケル、酸化コバルト、酸化バリウム、酸化ストロンチウム、酸化バナジウム、アルミノケイ酸、リン酸カルシウム、アルミノシリケート等を主成分とする金属酸化物などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
これらの中でも、電気伝導性等の電気的特性や光学的性質等の物理的特性の点から、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化ジルコニウム、酸化鉄、酸化マグネシウム、酸化インジウム、及び酸化タングステンから選択される少なくとも１種が好ましく、より発消色の応答速度に優れた色表示が可能である点から、酸化チタン又は酸化スズが特に好ましい。
【００４１】
また、導電性又は半導体性微粒子の形状は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、エレクトロクロミック化合物を効率よく担持するために、単位体積当たりの表面積（以下、比表面積という）が大きい形状が用いられる。例えば、微粒子が、ナノ粒子の集合体であるときは、大きな比表面積を有するため、より効率的にエレクトロクロミック化合物が担持され、発消色の表示コントラスト比が優れる。
【００４２】
エレクトロクロミック層１３及び導電性又は半導体性微粒子層は真空製膜により形成することも可能であるが、生産性の点で粒子分散ペーストとして塗布形成することが好ましい。
エレクトロクロミック層１３の厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．２μｍ〜５．０μｍが好ましい。厚みが、０．２μｍ未満であると、発色濃度が得られにくくなることがあり、５．０μｍを超えると、製造コストが増大すると共に、着色によって視認性が低下しやすくなることがある。
【００４３】
［電解質層］
電解質層１４は、固体電解質層であり、光又は熱硬化樹脂中に電解質を保持した膜として形成される。更に電解質層の層厚を制御する無機粒子を混合していることが好ましい。
電解質層は、無機微粒子、硬化型樹脂及び電解質を混合した溶液としてエレクトロクロミック層１３上に塗布した後、光又は熱で硬化した膜とすることが好ましいが、予め多孔質の無機微粒子層を形成した後、無機微粒子層に浸透するように、硬化型樹脂及び電解質を混合した溶液として塗布した後、光又は熱で硬化した膜とすることもできる。更に、エレクトロクロミック層１３が導電性又は半導体性ナノ粒子にエレクトロクロミック化合物が担持された層である場合は、エレクトロクロミック層に浸透するように、硬化型樹脂及び電解質を混合した溶液を塗布した後、光又は熱で硬化した膜とすることもできる。
【００４４】
電解質としては、イオン性液体等の液体電解質、又は固体電解質を溶媒に溶解した溶液が用いられる。
電解質の材料としては、例えば、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩等の無機イオン塩、４級アンモニウム塩や酸類、アルカリ類の支持塩を用いることができる。具体的には、ＬｉＣｌＯ４、ＬｉＢＦ４、ＬｉＡｓＦ６、ＬｉＰＦ６、ＬｉＣＦ３ＳＯ３、ＬｉＣＦ３ＣＯＯ、ＫＣｌ、ＮａＣｌＯ３、ＮａＣｌ、ＮａＢＦ４、ＮａＳＣＮ、ＫＢＦ４、Ｍｇ（ＣｌＯ４）２、Ｍｇ（ＢＦ４）２などが挙げられる。
【００４５】
イオン性液体としては、特に制限はなく、一般的に研究・報告されている物質であればどのようなものでも構わない。
有機のイオン性液体は、室温を含む幅広い温度領域で液体を示す分子構造がある。
分子構造は、カチオン成分とアニオン成分とからなる。
カチオン成分としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルイミダゾール塩、Ｎ，Ｎ−メチルエチルイミダゾール塩、Ｎ，Ｎ−メチルプロピルイミダゾール塩等のイミダゾール誘導体；Ｎ，Ｎ−ジメチルピリジニウム塩、Ｎ，Ｎ−メチルプロピルピリジニウム塩等のピリジニウム誘導体等の芳香族系の塩；トリメチルプロピルアンモニウム塩、トリメチルヘキシルアンモニウム塩、トリエチルヘキシルアンモニウム塩等のテトラアルキルアンモニウム等の脂肪族４級アンモニウム系化合物などが挙げられる。
アニオン成分としては、大気中の安定性の面でフッ素を含有する化合物が好ましく、例えば、ＢＦ４−、ＣＦ３ＳＯ３−、ＰＦ４−、（ＣＦ３ＳＯ２）２Ｎ−、Ｂ（ＣＮ４）−などが挙げられる。これらのカチオン成分とアニオン成分の組み合わせにより処方したイオン性液体を用いることができる。
【００４６】
溶媒としては、例えば、プロピレンカーボネート、アセトニトリル、γ―ブチロラクトン、エチレンカーボネート、スルホラン、ジオキソラン、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシド、１，２−ジメトキシエタン、１，２−エトキシメトキシエタン、ポリエチレングリコール、アルコール類、又はそれらの混合溶媒などが挙げられる。
【００４７】
硬化樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、塩化ビニル樹脂、エチレン樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂等の光硬化型樹脂、熱硬化型樹脂などの一般的な材料を挙げることができるが、電解質との相溶性が高い材料が好ましい。このような構造としては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のエチレングリコールの誘導体が好ましい。また、硬化樹脂としては、光硬化可能な樹脂を用いることが好ましい。熱重合や溶剤を蒸発させることにより薄膜化する方法に比べて、低温かつ短時間で素子を製造できるためである。
特に好ましい組み合わせは、オキシエチレン鎖やオキシプロピレン鎖を含有するマトリックスポリマーとイオン性液体との固溶体で構成されている電解質層である。この構成を用いることにより、硬度と高いイオン伝導度を両立しやすい。
【００４８】
無機微粒子としては、多孔質層を形成して電解質と硬化樹脂とを保持することができる材料であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、エレクトロクロミック反応の安定性、視認性の点から、絶縁性、透明性、耐久性が高い材料が好ましい。無機微粒子としては、例えば、シリコン、アルミニウム、チタン、亜鉛、錫等の酸化物又は硫化物、あるいはそれらの混合物などが挙げられる。
無機微粒子の大きさ（平均粒径）は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１０ｎｍ〜１０μｍが好ましく、１０ｎｍ〜１００ｎｍがより好ましい。
【００４９】
［保護層］
保護層１７は、エレクトロクロミック装置の側面部を物理的及び化学的に保護するように形成されている。保護層１７は、例えば、紫外線硬化性や熱硬化性の絶縁性樹脂等を、側面及び／又は上面を覆うように塗布し、その後硬化させることにより形成できる。また、硬化樹脂と無機材料とを積層した保護層とすることが更に好ましい。無機材料との積層構造にすることで、酸素や水に対するバリア性が向上する。
無機材料としては、絶縁性、透明性、耐久性が高い材料が好ましく、具体的な材料としては、シリコン、アルミニウム、チタン、亜鉛、錫などの酸化物又は硫化物、あるいはこれらの混合物などが挙げられる。これらの膜はスパッタ法や蒸着法などの真空製膜プロセスで容易に形成することができる。
保護層１７の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．５μｍ〜１０μｍが好ましい。更に、保護層は熱成型後に形成してもよい。
【００５０】
＜第２の実施の形態のエレクトロクロミック装置＞
第２の実施の形態のエレクトロクロミック装置は、第１の実施の形態とは層構成の異なるエレクトロクロミック装置を例示する。なお、第２の実施の形態において、既に説明した実施の形態と同一構成部品についての説明は省略する場合がある。
【００５１】
図２Ａ及び図２Ｂは、第２の実施の形態のエレクトロクロミック装置を例示する断面図である。
図２Ａ及び図２Ｂを参照すると、第２の実施の形態のエレクトロクロミック装置２０は、電解質層１４と第２の電極層１５に接して、劣化防止層１８が形成されている点が、第１の実施の形態に係るエレクトロクロミック装置１０（図１Ａ及び図１Ｂ参照）と相違する。
この第２の実施の形態では、第２の電極層１５の電気化学反応による劣化を防止するために、劣化防止層１８が形成される。これにより、第２の実施の形態に係るエレクトロクロミック装置では、第１の実施の形態の効果に加えて、更に繰り返し特性に優れたエレクトロクロミック装置が提供できる。
【００５２】
［劣化防止層］
劣化防止層１８の役割としては、エレクトロクロミック層１３と逆反応をし、電荷のバランスをとって第２の電極層１５が不可逆的な酸化還元反応により腐食や劣化することを抑制する。結果としてエレクトロクロミック装置２０の繰り返し安定性が向上する。なお、逆反応とは、劣化防止層が酸化還元する場合に加え、キャパシタとして作用することも含む。
【００５３】
劣化防止層１８の材料は、第１の電極層１２及び第２の電極層１５の不可逆的な酸化還元反応による腐食を防止する役割を担う材料であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択される。劣化防止層１８の材料としては、例えば、酸化アンチモン錫、酸化ニッケル、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫、又はそれらを複数含む導電性又は半導体性金属酸化物を用いることができる。更に、劣化防止層の着色が問題にならない場合は、エレクトロクロミック材料と同じものを用いることができる。
これらの中でも、透明性が要求されるレンズのような光学素子としてエレクトロクロミック装置を作製する場合は、劣化防止層１８として、透明性の高い材料を用いることが好ましい。このような材料としては、ｎ型半導体性酸化物微粒子（ｎ型半導体性金属酸化物）を用いることが好ましい。ｎ型半導体性金属酸化物としては、１００ｎｍ以下の一次粒子径粒子からなる、酸化チタン、酸化錫、酸化亜鉛、又はそれらを複数含む化合物粒子、あるいは混合物を用いることができる。
更に、劣化防止層１８を有する場合には、エレクトロクロミック層１３が酸化反応により色彩変化する材料であることが好ましい。その結果、エレクトロクロミック層が酸化反応すると同時にｎ型半導体性金属酸化物が還元（電子注入）され易く、駆動電圧が低減できるからである。
このような形態において、特に好ましいエレクトロクロミック材料としては、有機高分子材料である。塗布形成プロセス等により容易に製膜できるとともに、分子構造により色の調整や制御が可能となる。これらの有機高分子材料の具体例としては、「Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ｏｆ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  ｒｅｖｉｅｗ  ２０１１．２３，３９７−４１５  Ｎａｖｉｇａｔｉｎｇ  ｔｈｅ  Ｃｏｌｏｒ  Ｐａｌｅｔｔｅ  ｏｆ  Ｓｏｌｕｔｉｏｎ−Ｐｒｏｃｅｓｓａｂｌｅ  Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｒｏｍｉｃ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ（Ｒｅｙｎｏｌｄｓ）」（非特許文献１）、「Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ  １９９６．２９  ７６２９−７６３０（Ｒｅｙｎｏｌｄｓ）」（非特許文献２）、「Ｐｏｌｙｍｅｒ  ｊｏｕｒｎａｌ，  Ｖｏｌ．４１，  Ｎｏ．７，Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｒｏｍｉｃ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｍａｔａｌｌｉｃ  Ｈｙｂｒｉｄ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ」（非特許文献３）などに報告されている。
これらの有機高分子材料としては、例えば、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）に系材料、ビス（ターピリジン）類と鉄イオンの錯形成ポリマーなどが挙げられる。
また、特に好ましい形態としては、トリアリールアミン誘導体及びトリアリールアミンを有するラジカル重合性化合物を重合した重合層などが挙げられる。この劣化防止層では安定した酸化還元反応が得られるため、耐久性が向上する。
【００５４】
一方、劣化防止層１８として、透明性の高いｐ型半導体性層の材料としては、ニトロキシルラジカル（ＮＯラジカル）を有する有機材料などであり、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−Ｎ−オキシル（ＴＥＭＰＯ）の誘導体、又は誘導体のポリマー材料などが挙げられる。
なお、劣化防止層１８としては、特に制限はなく、電解質層１４に劣化防止層用材料を混合して、電解質層１４に劣化防止機能を付与することもできる。その場合の層構成は図１Ａ及び図１Ｂの第１の実施の形態のエレクトロクロミック装置１０と同様になる。
【００５５】
劣化防止層１８の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法などが挙げられる。また、劣化防止層１８の材料が塗布形成できるものであれば、例えば、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スリットコート法、キャピラリーコート法、スプレーコート法、ノズルコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、反転印刷法、インクジェットプリント法等の各種印刷法などが挙げられる。
【００５６】
＜第３の実施の形態のエレクトロクロミック装置＞
第３の実施の形態のエレクトロクロミック装置は、第２の実施の形態とは層構成の異なるエレクトロクロミック装置を例示する。なお、第３の実施の形態において、既に説明した実施の形態とお同一構成部品についての説明は省略する場合がある。
【００５７】
図３Ａ及び図３Ｂは、第３の実施の形態のエレクトロクロミック装置３０を例示する断面図である。図３Ａ及び図３Ｂを参照すると、第３の実施の形態のエレクトロクロミック装置３０は、第２の支持体１６が省略され、第２の電極層１５の上に保護層１７が形成されている点が、第２の実施の形態に係るエレクトロクロミック装置２０（図２Ａ及び図２Ｂ参照）と相違する。
第２の電極層１５上に形成される保護層１７は側面部に形成される保護層１７で挙げた材料と同じものを用いることができる。ただし、第２の電極層１５上に形成される保護層１７の材料は側面部に形成される保護層１７の材料と同一であっても異なってもよい。この第３の実施の形態のエレクトロクロミック装置３０は一つの支持体から構成されるため、薄型化と共に、低コストでの生産が可能となる。
【００５８】
＜第４の実施の形態のエレクトロクロミック装置＞
第４の実施の形態のエレクトロクロミック装置は、第３の実施の形態とは層構成の異なるエレクトロクロミック装置を例示する。なお、第３の実施の形態において、既に説明した実施の形態と同一構成部品についての説明は省略する場合がある。
【００５９】
図４Ａ及び図４Ｂは、第４の実施の形態のエレクトロクロミック装置４０を例示する断面図である。図４Ａ及び図４Ｂを参照すると、第４の実施の形態のエレクトロクロミック装置４０は、エレクトロクロミック層１３と劣化防止層１８の配置が逆転している点が第３の実施の形態に係るエレクトロクロミック装置３０（図３Ａ及び図３Ｂ参照）と相違する。
この第４の実施の形態のエレクトロクロミック装置４０では、構成層の配置が異なるが、第１の電極層１２と第２の電極層１５との間に電圧を印加することにより、エレクトロクロミック層１３が電荷の授受により酸化還元反応して発消色することができる。
【００６０】
＜第５の実施の形態のエレクトロクロミック装置＞
第５の実施の形態では、第１の実施の形態である図１Ｂで例示した、エレクトロクロミック装置１０の第２の支持体１６外側表面に樹脂層を形成して第２の支持体を厚膜化したエレクトロクロミック装置を例示する。なお、第５の実施の形態において、既に説明した実施の形態と同一構成部品についての説明は省略する場合がある。
【００６１】
図５は、第５の実施の形態のエレクトロクロミック装置を例示する断面図である。図５を参照すると、第２の支持体１６が厚膜化されている、これにより、第２の支持体１６の外側表面を切削加工することが可能となり、所望の曲面形状を形成できるので、ユーザー固有の条件に合わせたレンズ加工（度数加工など）が可能になる。即ち、製品形状ごとに金型や部材を準備することが不要となり、多品種少量生産が容易になる。
なお、図示を省略しているが、第１の支持体１１の外側表面に樹脂層を形成して厚膜化することも可能である。
厚膜化するための樹脂層形成方法としては、熱成型後のシート状エレクトロクロミック装置を所望の型にセットし、支持体と同じ、又は屈折率が小さい樹脂材料をインジェクション成型する方法、キャスト成型する方法などが挙げられる。
【００６２】
（エレクトロクロミック調光装置）
本発明のエレクトロクロミック調光装置は、本発明の前記エレクトロクロミック装置を有し、更に必要に応じてその他の部材を有してなる。
前記エレクトロクロミック調光装置は、例えば、エレクトロクロミック調光眼鏡、防眩ミラー、調光ガラスなどに好適に用いられる。これらの中でも、エレクトロクロミック調光眼鏡が好ましい。
前記その他の部材としては、特に制限はなく、用途に応じて適宜選択することができ、例えば、眼鏡フレーム、電源、スイッチなどが挙げられる。
【００６３】
ここで、図６は、本発明のエレクトロクロミック調光装置を有するエレクトロクロミック調光眼鏡を示す斜視図である。図６を参照するに、エレクトロクロミック調光眼鏡１５０は、エレクトロクロミック調光装置５１と、眼鏡フレーム５２と、スイッチ５３と、電源５４とを有する。エレクトロクロミック調光装置５１は、本発明の前記エレクトロクロミック調光装置を所望の形状に加工したものである。
２つのエレクトロクロミック調光装置５１は、眼鏡フレーム５２に組み込まれている。眼鏡フレーム５２には、スイッチ５３及び電源５４が設けられている。電源５４は、スイッチ５３を介して、図示しない配線により、第１の電極及び第２の電極と電気的に接続されている。
前記スイッチ５３を切り替えることにより、例えば、第１の電極と第２の電極との間にプラス電圧を印加する状態、マイナス電圧を印加する状態、電圧を印加しない状態の中から１つの状態を選択可能である。
前記スイッチ５３としては、例えば、スライドスイッチやプッシュスイッチ等の任意のスイッチを用いることができる。ただし、少なくとも前述の３つの状態を切り替え可能なスイッチに限る。
前記電源５４としては、例えば、ボタン電池、太陽電池等の任意の直流電源を用いることができる。前記電源５４は、第１の電極と第２の電極との間にプラスマイナス数Ｖ程度の電圧を印加可能である。
例えば、第１の電極と第２の電極との間にプラス電圧を印加することにより、２つのエレクトロクロミック調光装置５１が所定の色に発色する。また、第１の電極と第２の電極との間にマイナス電圧を印加することにより、２つのエレクトロクロミック調光装置５１が消色し透明となる。
ただし、エレクトロクロミック層に使用する材料の特性により、第１の電極と第２の電極との間にマイナス電圧を印加することにより発色し、プラス電圧を印加することにより消色し透明となる場合もある。なお、一度発色した後は、第１の電極と第２の電極との間に電圧を印加しなくても発色は継続する。
【実施例】
【００６４】
以下に、本発明の実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００６５】
（実施例１）
＜エレクトロクロミック装置の作製＞
実施例１は、図２Ａ及び図２Ｂに示すエレクトロクロミック装置２０を作製する例を示す。なお、実施例１で作製したエレクトロクロミック装置２０は、調光レンズ装置としても使用できる。
【００６６】
＜＜第１の電極層、及びエレクトロクロミック層の形成＞＞
まず、第１の支持体１１として最大長軸長さ８０ｍｍ×最大短軸長さ５５ｍｍ、厚み０．５ｍｍの楕円ポリカーボネイト基板を準備した。
第１の支持体上に、ＩＴＯ膜をスパッタ法により厚み約１００ｎｍに製膜して、第１の電極層１２を形成した。
次に、ＩＴＯ膜の表面に酸化チタンナノ粒子分散液（商品名：ＳＰ２１０、昭和タイタニウム株式会社製、平均粒子径：２０ｎｍ）をスピンコート法により塗布し、１２０℃で１５分間アニール処理を行うことによって、厚み約１．０μｍの酸化チタン粒子膜からなるナノ構造半導体材料を形成した。
続いて、下記構造式Ａで表されるエレクトロクロミック化合物を１．５質量％含む２，２，３，３−テトラフロロプロパノール溶液をスピンコート法により塗布した後、１２０℃で１０分間アニール処理を行うことにより、酸化チタン粒子膜に担持（吸着）させて、エレクトロクロミック層１３を形成した。
【００６７】
［構造式Ａ］
【化２】
0006798098.tif 000003
【００６８】
続いて、エレクトロクロミック層１３上に、平均一次粒径２０ｎｍのＳｉＯ２微粒子分散液（シリカ固形分濃度２４．８質量％、ポリビニルアルコール１．２質量％、及び水７４質量％）をスピンコートし、厚み２μｍの絶縁性無機微粒子層を形成した。
【００６９】
＜＜第２の電極層、及び劣化防止層の形成＞＞
第２の支持体１６として第１の支持体１１と同形状及び同厚みのポリカーボネイト基板を準備した。
第２の支持体上に、ＩＴＯ膜をスパッタ法により厚み約１００ｎｍに製膜して、第２の電極層１５を形成した。
次に、ＩＴＯ膜の表面にＡＴＯ粒子分散液［ＡＴＯ平均粒子径：２０ｎｍ、２，２，３，３−テトラフロロプロパノールの６質量％溶液にウレタン系結着剤（ＨＷ１４０ＳＦ、ＤＩＣ社製）を６質量％添加した分散液］をスピンコート法により塗布し、１２０℃で１５分間アニール処理を行うことによって、厚み約１．０μｍのＡＴＯ粒子膜からなる劣化防止層１８を形成した。
【００７０】
続いて、第１の支持体１１上の絶縁性無機微粒子層表面に、ポリエチレンジアクリレート（ＰＥＧ４００ＤＡ、日本化薬株式会社製）と、光重合開始剤（ＩＲＧ１８４、ＢＡＳＦ社製）と、電解質（１−エチル−３−メチルイミダゾリウム塩）とを質量比（１００：５：４０）で混合した溶液を塗布し、第２の支持体１６の劣化防止層１８面と貼り合わせ、紫外線（ＵＶ）照射により硬化させて、電解質層１４を形成した。
【００７１】
＜＜保護層の形成＞＞
次に、貼り合せた積層体の側面部に、紫外線硬化接着剤（商品名：ＫＡＲＡＹＡＤ  Ｒ６０４、日本化薬株式会社製）を滴下し、紫外線照射により硬化させることで保護層１７を３μｍの厚みに形成した。
以上により、図２Ａに示す熱成型前のエレクトロクロミック装置２０を作製した。
【００７２】
＜＜三次元（３Ｄ）熱成型＞＞
作製したエレクトロクロミック装置を曲率半径約１３０ｍｍの凸金型と凹金型とに１３５℃で加熱しながら挟み込むことで三次元（３Ｄ）球面形状を有する実施例１のエレクトロクロミック装置２０を作製した。
熱成型後におけるエレクトロクロミック装置の曲面での支持体の最大長軸長さは８１ｍｍであり、熱成型後におけるエレクトロクロミック装置の曲面での支持体の最大長軸長さは、熱成型前におけるエレクトロクロミック装置の平面での支持体の最大長軸長さに対して、（８１ｍｍ／８０ｍｍ）×１００＝１０１．３％であった。
【００７３】
＜＜発消色駆動＞＞
得られたエレクトロクロミック装置２０の発消色を確認した。具体的には、第１の支持体１１の端部及び第２の支持体１６の端部の一部を剥離し、第１の電極層１２のコンタクト部及び第２の電極層１５のコンタクト部を形成し、第１の電極層１２と第２の電極層１５との間に、第１の電極層がマイナス極となるように−３．５Ｖの電圧を３秒間印加させたところ、エレクトロクロミック装置２０が上記構造式Ａのエレクトロクロミック化合物に由来するマゼンタ色に発色することが確認できた。
更に、第１の電極層１２と第２の電極層１５の引き出し部分との間に、＋３．５Ｖの電圧を２秒間印加させたところ、エレクトロクロミック化合物が消色し、エレクトロクロミック装置が透明になることが確認できた。
【００７４】
（実施例２）
＜エレクトロクロミック装置の作製＞
実施例１において、第１の支持体１１上にＡｇナノ粒子インクを用いて７０μｍライン、４ｍｍピッチ、厚み５μｍの格子状ネットワーク電極を印刷法で形成した後、更にその上にＩＴＯ膜をスパッタ法により厚み５０ｎｍに製膜して、第１の積層電極層１２を形成した以外は、実施例１と同様にして、熱成型前のエレクトロクロミック装置を作製した。
作製したエレクトロクロミック装置を曲率半径約１３０ｍｍの凸金型と凹金型に１３５℃で加熱しながら挟み込み、３Ｄ球面を有する実施例２のエレクトロクロミック装置２０を作製した。
熱成型後におけるエレクトロクロミック装置の曲面での支持体の最大長軸長さは８１ｍｍであり、熱成型後におけるエレクトロクロミック装置の曲面での支持体の最大長軸長さは、熱成型前におけるエレクトロクロミック装置の平面での支持体の最大長軸長さに対して、（８１ｍｍ／８０ｍｍ）×１００＝１０１．３％であった。
【００７５】
＜＜発消色駆動＞＞
得られた実施例２のエレクトロクロミック装置２０の発消色を確認した。具体的には、第１の支持体１１の端部及び第２の支持体１６の端部の一部を剥離し、第１の電極層１２のコンタクト部及び第２の電極層１５のコンタクト部を形成し、第１の電極層１２と第２の電極層１５との間に、第１の電極層がマイナス極となるように−３．５Ｖの電圧を２．５秒間印加させたところ、エレクトロクロミック装置２０が上記構造式Ａのエレクトロクロミック化合物に由来するマゼンタ色に発色することが確認できた。
更に、第１の電極層１２と第２の電極層１５の引き出し部分との間に、＋３．５Ｖの電圧を２．５秒間印加させたところ、エレクトロクロミック化合物が消色し、エレクトロクロミック装置が透明になることが確認できた。
【００７６】
（実施例３）
＜エレクトロクロミック装置の作製＞
実施例２において、スパッタ法により厚み約５０ｎｍのＩＴＯを製膜し、更にカーボンナノチューブの水分散液をスピンコート製膜して厚み約４００ｎｍの第１の積層電極層１２を形成した以外は、実施例２と同様にして、熱成型前のエレクトロクロミック装置を作製した。
作製したエレクトロクロミック装置を曲率半径約９０ｍｍの凸金型と凹金型とに１３５℃で加熱しながら挟み込み、三次元（３Ｄ）球面を有する実施例３のエレクトロクロミック装置２０を作製した。
熱成型後におけるエレクトロクロミック装置の曲面での支持体の最大長軸長さは８１ｍｍであり、熱成型後におけるエレクトロクロミック装置の曲面での支持体の最大長軸長さは、熱成型前におけるエレクトロクロミック装置の平面での支持体の最大長軸長さに対して、（８１ｍｍ／８０ｍｍ）×１００＝１０１．３％であった。
【００７７】
＜＜発消色駆動＞＞
得られた実施例３のエレクトロクロミック装置２０の発消色を確認した。具体的には、第１の支持体１１の端部及び第２の支持体１６の端部の一部を剥離し、第１の電極層１２のコンタクト部及び第２の電極層１５のコンタクト部を形成し、第１の電極層１２と第２の電極層１５との間に、第１の電極層がマイナス極となるように−３．５Ｖの電圧を２．５秒間印加させたところ、エレクトロクロミック装置２０が上記構造式Ａのエレクトロクロミック化合物に由来するマゼンタ色に発色することが確認できた。
更に、第１の電極層１２と第２の電極層１５の引き出し部分との間に、＋３．５Ｖの電圧を２．５秒間印加させたところ、エレクトロクロミック化合物が消色し、エレクトロクロミック装置が透明になることが確認できた。
【００７８】
（実施例４）
＜エレクトロクロミック装置の作製＞
実施例２において、第１の支持体１１上にＡｇインクを用いて７０μｍライン、２ｍｍピッチ、厚み５μｍの格子状ネットワーク電極のみを印刷法で形成した以外は、実施例２と同様にして、熱成型前のエレクトロクロミック装置２０を作製した。
作製したエレクトロクロミック装置を曲率半径９０ｍｍの凸金型と凹金型とに１３５℃で加熱しながら端部を固定して挟み込み、三次元（３Ｄ）球面を有する実施例４のエレクトロクロミック装置２０を作製した。
熱成型後におけるエレクトロクロミック装置の曲面での支持体の最大長軸長さは９６ｍｍであり、熱成型後におけるエレクトロクロミック装置の曲面での支持体の最大長軸長さは、熱成型前におけるエレクトロクロミック装置の平面での支持体の最大長軸長さに対して、（９６ｍｍ／８０ｍｍ）×１００＝１２０％であった。
【００７９】
＜＜発消色駆動＞＞
得られた実施例４のエレクトロクロミック装置２０の発消色を確認した。具体的には、第１の支持体１１の端部及び第２の支持体１６の端部の一部を剥離し、第１の電極層１２のコンタクト部及び第２の電極層１５のコンタクト部を形成し、第１の電極層１２と第２の電極層１５との間に、第１の電極層がマイナス極となるように−３．５Ｖの電圧を３秒間印加させたところ、エレクトロクロミック装置２０が上記構造式Ａのエレクトロクロミック化合物に由来するマゼンタ色に発色することが確認された。
更に、第１の電極層１２と第２の電極層１５の引き出し部分との間に、＋３．５Ｖの電圧を３秒間印加させたところ、エレクトロクロミック化合物が消色し、エレクトロクロミック装置が透明になることが確認された。
【００８０】
（実施例５）
＜エレクトロクロミック装置の作製＞
実施例１において、第２の電極層１５の表面にポリエチレンジアクリレートと、光重合開始剤（ＩＲＧ１８４、ＢＡＳＦ社製）と、下記構造式Ｂで表される化合物と、２−ブタノンとを質量比（２０：１：２０：４００）で混合した溶液を塗布し、窒素雰囲気下で紫外線照射により硬化させ、酸化反応性の劣化防止層１８を形成した以外は、実施例１と同様にして、熱成型前のエレクトロクロミック装置２０を作製した。
【００８１】
［構造式Ｂ］
【化３】
0006798098.tif 000004
【００８２】
作製したエレクトロクロミック装置を曲率半径約１３０ｍｍの凸金型と凹金型とに１３５℃で加熱しながら挟み込み、三次元（３Ｄ）球面を有する実施例５のエレクトロクロミック装置２０を作製した。
熱成型後におけるエレクトロクロミック装置の曲面での支持体の最大長軸長さは８１ｍｍであり、熱成型後におけるエレクトロクロミック装置の曲面での支持体の最大長軸長さは、熱成型前におけるエレクトロクロミック装置の平面での支持体の最大長軸長さに対して、（８１ｍｍ／８０ｍｍ）×１００＝１０１．３％であった。
【００８３】
＜＜発消色駆動＞＞
得られた実施例５のエレクトロクロミック装置２０の発消色を確認した。具体的には、第１の支持体１１の端部及び第２の支持体１６の端部の一部を剥離し、第１の電極層１２のコンタクト部及び第２の電極層１５のコンタクト部を形成し、第１の電極層１２と第２の電極層１５との間に、第１の電極層がマイナス極となるように−３．０Ｖの電圧を３秒間印加させたところ、エレクトロクロミック装置２０が上記構造式Ａのエレクトロクロミック化合物に由来するマゼンタ色と上記構造式Ｂのエレクトロクロミック化合物（劣化防止層）に由来する青色が混色発色することが確認された。
更に、第１の電極層１２と第２の電極層１５の引き出し部分との間に、＋３．０Ｖの電圧を３秒間印加させたところ、エレクトロクロミック化合物が消色し、エレクトロクロミック装置が透明になることが確認された。
【００８４】
（実施例６）
＜エレクトロクロミック装置の作製＞
実施例５において、第１の電極層１２、及び第２の電極層１５として、ＩＴＯ／ＡｇＰｄＣｕ（９８／１／１）／ＩＴＯの３層積層構成で膜厚（１０ｎｍ／５ｎｍ／１０ｎｍ）としてスパッタ製膜で形成した以外は、実施例５と同様にして、熱成型前のエレクトロクロミック装置２０を作製した。
作製したエレクトロクロミック装置を曲率半径約９０ｍｍの凸金型と凹金型とに１３５℃で加熱しながら挟み込み、三次元（３Ｄ）球面を有する実施例６のエレクトロクロミック装置２０を作製した。
熱成型後におけるエレクトロクロミック装置の曲面での支持体の最大長軸長さは８１ｍｍであり、熱成型後におけるエレクトロクロミック装置の曲面での支持体の最大長軸長さは、熱成型前におけるエレクトロクロミック装置の平面での支持体の最大長軸長さに対して、（８１ｍｍ／８０ｍｍ）×１００＝１０１．３％であった。
【００８５】
＜＜発消色駆動＞＞
得られた実施例６のエレクトロクロミック装置２０の発消色を確認した。具体的には、第１の支持体１１の端部及び第２の支持体１６の端部の一部を剥離し、第１の電極層１２のコンタクト部及び第２の電極層１５のコンタクト部を形成し、第１の電極層１２と第２の電極層１５との間に、第１の電極層がマイナス極となるように−３．０Ｖの電圧を２．５秒間印加させたところ、エレクトロクロミック装置２０が上記構造式Ａのエレクトロクロミック化合物に由来するマゼンタ色と上記構造式Ｂのエレクトロクロミック化合物（劣化防止層）に由来する青色が混色発色することが確認された。
更に、第１の電極層１２と第２の電極層１５の引き出し部分との間に、＋３．０Ｖの電圧を２．５秒間印加させたところ、エレクトロクロミック化合物が消色し、エレクトロクロミック装置が透明になることが確認された。
【００８６】
（実施例７）
＜エレクトロクロミック装置の作製＞
実施例７は、図３Ａ及び図３Ｂに示すエレクトロクロミック装置３０において、劣化防止層１８を省略した構成を作製する例を示す。なお、実施例７で作製したエレクトロクロミック装置３０は、調光レンズ装置としても使用できる。
【００８７】
＜＜第１の電極層、及びエレクトロクロミック層の形成＞＞
まず、第１の支持体１１として長軸長さ８０ｍｍ×短軸長さ５５ｍｍ、厚み０．５ｍｍの楕円ポリカーボネイト基板を準備した。
第１の支持体上に、ＩＴＯ膜をスパッタ法により厚み約１００ｎｍに製膜して、第１の電極層１２を形成した。
次に、ＩＴＯ膜の表面に酸化チタンナノ粒子分散液（商品名：ＳＰ２１０、昭和タイタニウム株式会社製、平均粒子径：２０ｎｍ）をスピンコート法により塗布し、１２０℃で１５分間アニール処理を行うことによって、厚み約１．０μｍの酸化チタン粒子膜からなるナノ構造半導体材料を形成した。
続いて、下記構造式Ａで表されるエレクトロクロミック化合物を１．５質量％含む２，２，３，３−テトラフロロプロパノール溶液をスピンコート法により塗布した後、１２０℃で１０分間アニール処理を行うことにより、酸化チタン粒子膜に担持（吸着）させて、エレクトロクロミック層１３を形成した。
【００８８】
［構造式Ａ］
【化２】
0006798098.tif 000005
【００８９】
続いて、エレクトロクロミック層１３上に、平均一次粒径２０ｎｍのＳｉＯ２微粒子分散液（シリカ固形分濃度２４．８質量％、ポリビニルアルコール１．２質量％、及び水７４質量％）をスピンコートし、厚み２μｍの絶縁性無機微粒子層を形成した。
次いで、絶縁性無機微粒子層表面に、ポリエチレンジアクリレート（ＰＥＧ４００ＤＡ、日本化薬株式会社製）と、光重合開始剤（ＩＲＧ１８４、ＢＡＳＦ社製）と、電解質（１−エチル−３−メチルイミダゾリウム塩）とを質量比（１００：５：４０）で混合した溶液を塗布し、紫外線照射により硬化させて固体電解質層１４を形成した。
【００９０】
更に、固体電解質層１４表面にＩＴＯ膜をスパッタ法により厚み約１００ｎｍに製膜して、第２の電極層１５を形成した。
【００９１】
＜＜保護層の形成＞＞
次に、第２の電極層１５上に、紫外線硬化接着剤（商品名：ＫＡＲＡＹＡＤ  Ｒ６０４、日本化薬株式会社製）をスピンコートし、紫外線照射により硬化させることで保護層１７を３μｍの厚みに形成した。
以上により、図３Ａに示す熱成型前のエレクトロクロミック装置３０において、劣化防止層１８を省略した構成を作製した。
【００９２】
＜＜三次元（３Ｄ）熱成型＞＞
作製したエレクトロクロミック装置を曲率半径約１３０ｍｍの凸金型と凹金型とに１３５℃で加熱しながら挟み込むことで三次元（３Ｄ）球面形状を有する実施例７のエレクトロクロミック装置３０を作製した。
熱成型後におけるエレクトロクロミック装置の曲面での支持体の最大長軸長さは８１ｍｍであり、熱成型後におけるエレクトロクロミック装置の曲面での支持体の最大長軸長さは、熱成型前におけるエレクトロクロミック装置の平面での支持体の最大長軸長さに対して、（８１ｍｍ／８０ｍｍ）×１００＝１０１．３％であった。
【００９３】
＜＜発消色駆動＞＞
得られた実施例７のエレクトロクロミック装置３０の発消色を確認した。具体的には、第１の支持体１１の端部を剥離し、第１の電極層１２のコンタクト部及び第２の電極層１５のコンタクト部を形成し、第１の電極層１２と第２の電極層１５との間に、第１の電極層がマイナス極となるように−３．５Ｖの電圧を３．５秒間印加させたところ、エレクトロクロミック装置３０が上記構造式Ａのエレクトロクロミック化合物に由来するマゼンタ色に発色することが確認された。
更に、第１の電極層１２と第２の電極層１５の引き出し部分との間に、＋３．５Ｖの電圧を３．５秒間印加させたところ、エレクトロクロミック化合物が消色し、エレクトロクロミック装置が透明になることが確認された。
【００９４】
（実施例８）
＜エレクトロクロミック調光装置の作製＞
実施例５で作製した熱成型後の３Ｄエレクトロクロミックシートをフレーム形状に合わせて切削加工し、眼鏡フレームに組み込み、図６に示すようなエレクトロクロミック調光眼鏡を作製した。なお、前記眼鏡フレームには、駆動用の電源、信号制御回路、スイッチ、及び配線を実装した。
【００９５】
＜発消色駆動＞
作製したエレクトロクロミック調光眼鏡の発消色を確認した。具体的には、発色のスイッチを入力し、第１の電極の引き出し部分と第２の電極の引き出し部分との間に、−３Ｖの電圧を３秒間印加させたところ、第１の電極と第２の電極の重なった部分に、上記構造式Ａのエレクトロクロミック化合物に由来するマゼンタ色と上記構造式Ｂのエレクトロクロミック化合物（劣化防止層）に由来する青色が混色発色することが確認された。
次いで、消色のスイッチを入力すると、第１の電極の引き出し部分と第２の電極の引き出し部分との間に、＋３Ｖの電圧を３秒間印加させたところ、第１の電極と第２の電極の重なった部分が消色し、透明になることが確認できた。
【００９６】
以上、好ましい実施の形態及び実施例について詳説したが、上述した実施の形態及び実施例に制限されることはなく、特許請求の範囲に記載された範囲を逸脱することなく、上述した実施の形態及び実施例に種々の変形及び置換を加えることができる。例えば、上記各実施の形態は適宜組み合わせることができる。
【００９７】
本発明の態様としては、例えば、以下のとおりである。
＜１＞  少なくとも一つの支持体と、
前記支持体上に形成される第１の電極層と、
前記第１の電極層に形成されるエレクトロクロミック層と、
前記第１の電極層に対向するように設けられる第２の電極層と、
前記第１の電極層と前記第２の電極層との間に充填され、前記エレクトロクロミック層上に形成される電解質層とを有する積層体からなり、
前記支持体が樹脂製基板からなり、前記積層体が熱成型による所望の曲面形状を有することを特徴とするエレクトロクロミック装置である。
＜２＞  熱成型後における積層体の曲面での支持体の最大長軸長さが、熱成型前における積層体の平面での支持体の最大長軸長さに対して１２０％以下である前記＜１＞に記載のエレクトロクロミック装置である。
＜３＞  前記第１の電極層及び前記第２の電極層の少なくともいずれかが、導電性金属、導電性酸化物、及び導電性カーボンのいずれかを含有する前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載のエレクトロクロミック装置である。
＜４＞  前記第１の電極層及び前記第２の電極層の少なくともいずれかが、導電性金属及び導電性カーボンのいずれかを含有する層と導電性酸化物層との積層構成である前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載のエレクトロクロミック装置である。
＜５＞  前記第２の電極層に接して、前記エレクトロクロミック層の酸化還元反応に対して逆の電気化学反応する劣化防止層を有する前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載のエレクトロクロミック装置である。
＜６＞  前記電解質層が固体電解質層であり、前記固体電解質層が、オキシアルキレン鎖を有するマトリックスポリマーとイオン性液体との固溶体を含む前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載のエレクトロクロミック装置である。
＜７＞  前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載のエレクトロクロミック装置を製造する方法であって、
積層体が所望の曲面形状を有するように熱成型する工程を少なくとも含むことを特徴とするエレクトロクロミック装置の製造方法である。
＜８＞  支持体上に第１の電極層を形成する工程と、
前記第１の電極層上にエレクトロクロミック層を形成する工程と、
前記エレクトロクロミック層上に固体電解質層を形成する工程と、
前記固体電解質層上に第２の電極層を形成する工程と、
前記第２の電極層上に保護層を形成して積層体とする工程と、を含む前記＜７＞に記載のエレクトロクロミック装置の製造方法である。
＜９＞  第１の支持体上に第１の電極層を形成し、前記第１の電極層上にエレクトロクロミック層を形成してなる第１の部材を作製する工程と、
第２の支持体上に第２の電極層を形成してなる第２の部材を作製する工程と、
前記第１の部材と前記第２の部材とを電解質層を挟んで貼り合わせ、積層体を形成する工程と、を含む前記＜７＞に記載のエレクトロクロミック装置の製造方法である。
＜１０＞  前記支持体の外側表面に樹脂層を形成して前記支持体を厚膜化し、前記厚膜化した支持体を切削加工し、所望の曲面形状を形成する前記＜８＞から＜９＞のいずれかに記載のエレクトロクロミック装置の製造方法である。
＜１１＞  前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載のエレクトロクロミック装置を有することを特徴とするエレクトロクロミック調光装置である。
＜１２＞  熱成型後における積層体の曲面での支持体の最大長軸長さが、熱成型前における積層体の平面での支持体の最大長軸長さに対して１０３％以下である前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載のエレクトロクロミック装置である。
【００９８】
前記＜１＞から＜６＞及び＜１２＞のいずれかに記載のエレクトロクロミック装置、前記＜７＞から＜１０＞のいずれかに記載のエレクトロクロミック装置の製造方法、及び前記＜１１＞に記載のエレクトロクロミック調光装置、は、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、前記エレクトロクロミック装置、前記エレクトロクロミック装置の製造方法、及び前記エレクトロクロミック調光装置は、熱成型による所望の曲面形状を有し、レンズ等の光学用途に好適なエレクトロクロミック装置などを提供することを目的とする。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００９９】
【特許文献１】特許第４１０５５３７号公報
【非特許文献】
【０１００】
【非特許文献１】Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ｏｆ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  ｒｅｖｉｅｗ  ２０１１．２３，３９７−４１５  Ｎａｖｉｇａｔｉｎｇ  ｔｈｅ  Ｃｏｌｏｒ  Ｐａｌｅｔｔｅ  ｏｆ  Ｓｏｌｕｔｉｏｎ−Ｐｒｏｃｅｓｓａｂｌｅ  Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｒｏｍｉｃ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ（Ｒｅｙｎｏｌｄｓ）
【非特許文献２】Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ  １９９６．２９  ７６２９−７６３０（Ｒｅｙｎｏｌｄｓ）
【非特許文献３】Ｐｏｌｙｍｅｒ  ｊｏｕｒｎａｌ，  Ｖｏｌ．４１，  Ｎｏ．７，Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｒｏｍｉｃ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｍａｔａｌｌｉｃ  Ｈｙｂｒｉｄ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ
【符号の説明】
【０１０１】
１０      エレクトロクロミック装置
１１      第１の支持体
１２      第１の電極層
１３      エレクトロクロミック層
１４      電解質層
１５      第２の電極層
１６      第２の支持体
１７      保護層
１８      劣化防止層
２０      エレクトロクロミック装置
３０      エレクトロクロミック装置
４０      エレクトロクロミック装置
５０      エレクトロクロミック装置
５１      エレクトロクロミック調光装置
１５０      エレクトロクロミック調光眼鏡
【図１Ａ】
0006798098.tif 000006
【図１Ｂ】
0006798098.tif 000007
【図２Ａ】
0006798098.tif 000008
【図２Ｂ】
0006798098.tif 000009
【図３Ａ】
0006798098.tif 000010
【図３Ｂ】
0006798098.tif 000011
【図４Ａ】
0006798098.tif 000012
【図４Ｂ】
0006798098.tif 000013
【図５】
0006798098.tif 000014
【図６】
0006798098.tif 000015