(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、低屈折率層とを有する反射防止フィルムであって、
前記低屈折率層は、中空構造を有する無機粒子とバインダー樹脂とを含有し、
前記中空構造を有する無機粒子の平均一次粒子径をＲとし、粒子間隔をＫとした場合、平均粒子間隔Ｋａが下記式（１）を満たし、粒子間隔Ｋの分布曲線における半値全幅Ｋｈが下記式（２）を満たし、
前記中空構造を有する無機粒子の平均一次粒子径Ｒが５０〜１２０ｎｍであり、
前記低屈折率層の前記基材とは反対側の面の表面粗さが２０ｎｍ以下である、反射防止フィルム。
Ｋａ≧１．１Ｒ    …  （１）
Ｋｈ≦０．２５Ｒ  …  （２）
【請求項２】
ＪＩＳ  Ｐ  ８１１５：２００１に従いＭＩＴ試験機によって測定した破断折り曲げ回数が１００００回以上である請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
前記基材と前記低屈折率層の間にハードコート層を有する請求項１又は２に記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
ＪＩＳ  Ｋ  ５６００−５−４：１９９９に従って測定した、５００ｇ荷重の鉛筆硬度が２Ｈ以上である請求項１〜３のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項５】
４５０〜６５０ｎｍの波長領域における平均反射率が２％以下である請求項１〜４のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項６】
前記基材が芳香族ポリアミドを含有する請求項１〜５のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項７】
前記Ｋｈが０．２０Ｒ以下である請求項１〜６のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の反射防止フィルムを有する偏光板。
【請求項９】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の反射防止フィルム又は請求項８に記載の偏光板を有する画像表示装置。
【請求項１０】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の反射防止フィルムを有する反射防止物品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止フィルム、偏光板、画像表示装置、及び反射防止物品に関する。
【背景技術】
【０００２】
陰極管表示装置、プラズマディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、蛍光表示ディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ、及び液晶表示装置のような画像表示装置では、表示面での外光の反射によるコントラスト低下、及び像の映り込みを防止するために反射防止フィルムを設けることがある。また、画像表示装置以外でも反射防止フィルムにより反射防止機能を付与する場合がある。【０００３】
反射防止フィルムとしては、基材上に、無機粒子とバインダー樹脂とを有する低屈折率層が積層されたフィルムが知られており、例えば、特許文献１及び２には、中空シリカ等の中空粒子とバインダー樹脂とを含む低屈折率層が基材上に積層された反射防止フィルムが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１６−０７５８６９号公報
【特許文献２】特開２００３−３４４６０３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
近年、フレキシブルなディスプレイの需要が高まり、反復折り曲げ耐性に優れる表面フィルムが強く求められているが、従来の低屈折率層を用いた反射防止フィルムは、反復折り曲げ耐性が十分ではないという問題があった。
本発明の課題は、反射防止性及び反復折り曲げ耐性に優れ、かつ反復折り曲げ後の反射防止性の低下が少ない反射防止フィルム、上記反射防止フィルムを有する偏光板、画像表示装置、及び反射防止物品を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、上記課題を解消すべく鋭意検討した結果、下記手段により達成することができることを見出した。
［１］
基材と、低屈折率層とを有する反射防止フィルムであって、
上記低屈折率層は、中空構造を有する無機粒子とバインダー樹脂とを含有し、
上記中空構造を有する無機粒子の平均一次粒子径をＲとし、粒子間隔をＫとした場合、平均粒子間隔Ｋａが下記式（１）を満たし、粒子間隔Ｋの分布曲線における半値全幅Ｋｈが下記式（２）を満たし、
上記中空構造を有する無機粒子の平均一次粒子径Ｒが５０〜１２０ｎｍであり、
上記低屈折率層の上記基材とは反対側の面の表面粗さが２０ｎｍ以下である、反射防止フィルム。
Ｋａ≧１．１Ｒ    …  （１）
Ｋｈ≦０．２５Ｒ  …  （２）
［２］
ＪＩＳ  Ｐ  ８１１５：２００１に従いＭＩＴ試験機によって測定した破断折り曲げ回数が１００００回以上である［１］に記載の反射防止フィルム。
［３］
上記基材と上記低屈折率層の間にハードコート層を有する［１］又は［２］に記載の反射防止フィルム。
［４］
ＪＩＳ  Ｋ  ５６００−５−４：１９９９に従って測定した、５００ｇ荷重の鉛筆硬度が２Ｈ以上である［１］〜［３］のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
［５］
４５０〜６５０ｎｍの波長領域における平均反射率が２％以下である［１］〜［４］のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
［６］
上記基材が芳香族ポリアミドを含有する［１］〜［５］のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
［７］
上記Ｋｈが０．２０Ｒ以下である［１］〜［６］のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
［８］
［１］〜［７］のいずれか１項に記載の反射防止フィルムを有する偏光板。
［９］
［１］〜［７］のいずれか１項に記載の反射防止フィルム又は［８]に記載の偏光板を有する画像表示装置。
［１０］
［１］〜［７］のいずれか１項に記載の反射防止フィルムを有する反射防止物品。
本発明は、上記［１］〜［１０］に係るものであるが、本明細書には参考のためその他の事項についても記載した。
【０００７】
＜１＞
基材と、低屈折率層とを有する反射防止フィルムであって、
上記低屈折率層は、無機粒子とバインダー樹脂とを含有し、
上記無機粒子の平均一次粒子径をＲとし、粒子間隔をＫとした場合、平均粒子間隔Ｋａが下記式（１）を満たし、粒子間隔Ｋの分布曲線における半値全幅Ｋｈが下記式（２）を満たし、
上記低屈折率層の上記基材とは反対側の面の表面粗さが２０ｎｍ以下である、反射防止フィルム。
Ｋａ≧１．１Ｒ    …  （１）
Ｋｈ≦０．２５Ｒ  …  （２）
＜２＞
ＪＩＳ  Ｐ  ８１１５：２００１に従いＭＩＴ試験機によって測定した破断折り曲げ回数が１００００回以上である＜１＞に記載の反射防止フィルム。
＜３＞
上記無機粒子の平均一次粒子径Ｒが２００ｎｍ以下である＜１＞又は＜２＞に記載の反射防止フィルム。
＜４＞
上記無機粒子が中空構造を有する無機粒子である＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載の反射防止フィルム。
＜５＞
上記基材と上記低屈折率層の間にハードコート層を有する＜１＞〜＜４＞のいずれか１つに記載の反射防止フィルム。
＜６＞
ＪＩＳ  Ｋ  ５６００−５−４：１９９９に従って測定した、５００ｇ荷重の鉛筆硬度が２Ｈ以上である＜１＞〜＜５＞のいずれか１つに記載の反射防止フィルム。
＜７＞
４５０〜６５０ｎｍの波長領域における平均反射率が２％以下である＜１＞〜＜６＞のいずれか１つに記載の反射防止フィルム。
＜８＞
上記基材が芳香族ポリアミドを含有する＜１＞〜＜７＞のいずれか１つに記載の反射防止フィルム。
＜９＞
上記Ｋｈが０．２０Ｒ以下である＜１＞〜＜８＞のいずれか１つに記載の反射防止フィルム。
＜１０＞
＜１＞〜＜９＞のいずれか１つに記載の反射防止フィルムを有する偏光板。
＜１１＞
＜１＞〜＜９＞のいずれか１つに記載の反射防止フィルム又は＜１０＞に記載の偏光板を有する画像表示装置。
＜１２＞
＜１＞〜＜９＞のいずれか１つに記載の反射防止フィルムを有する反射防止物品。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、反射防止性及び反復折り曲げ耐性に優れ、かつ反復折り曲げ後の反射防止性の低下が少ない反射防止フィルム、上記反射防止フィルムを有する偏光板、画像表示装置、及び反射防止物品を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「（数値１）〜（数値２）」という記載は「（数値１）以上（数値２）以下」の意味を表す。
【００１０】
［反射防止フィルム］
本発明の反射防止フィルムは、
基材と、低屈折率層とを有する反射防止フィルムであって、
上記低屈折率層は、無機粒子とバインダー樹脂とを含有し、
上記無機粒子の平均一次粒子径をＲとし、粒子間隔をＫとした場合、平均粒子間隔Ｋａが下記式（１）を満たし、粒子間隔Ｋの分布曲線における半値全幅Ｋｈが下記式（２）を満たし、
上記低屈折率層の上記基材とは反対側の面の表面粗さが２０ｎｍ以下である、反射防止フィルムである。
Ｋａ≧１．１Ｒ    …  （１）
Ｋｈ≦０．２５Ｒ  …  （２）
【００１１】
＜低屈折率層＞
本発明の反射防止フィルムは、基材上に直接又は他の層を介して低屈折率層を有する。
【００１２】
（Ｋ、Ｋａ、及びＫｈ）
本発明の反射防止フィルムの低屈折率層に含まれる無機粒子の平均一次粒子径をＲとし、粒子間隔をＫとした場合、平均粒子間隔Ｋａ及び粒子間隔Ｋの分布曲線における半値全幅Ｋｈは、それぞれ上記式（１）及び式（２）を満たす。ここで、粒子間隔Ｋは、最近接位置に存在する２つの粒子の中心間距離を表す。
本発明において、上記Ｋ、Ｋａ、及びＫｈは以下のように算出した。
【００１３】
反射防止フィルムを厚み方向に（フィルム表面に対して垂直に）切削して断面を得て、その断面を透過型電子顕微鏡（日本電子株式会社製、ＪＥＭ−１２００ＥＸ  ＩＩ）で観察し、無機粒子５００個に対して、粒子間隔Ｋを求め、得られたＫの数平均値をＫａとして算出した。
次に、求めた粒子間隔Ｋの頻度分布曲線を描き、得られた分布曲線から最大頻度を示す粒子間隔の１／２頻度の粒子間隔（Ｋ１及びＫ２、ただしＫ２＞Ｋ１とする）を求め、下記式（３）よりＫｈを算出した。
Ｋｈ＝（Ｋ２−Ｋ１）／Ｒ  …  （３）
【００１４】
Ｒは、上記粒子間隔Ｋを求める方法と同様に、反射防止フィルムを厚み方向に切削し、断面を透過型電子顕微鏡で観察し、無機粒子５００個に対して、円相当径として得られる粒子サイズの平均値を平均一次粒子径Ｒとした。
【００１５】
上記式（１）及び（２）で表されるように、本発明の反射防止フィルムの低屈折率層における無機粒子は、その平均一次粒子径（Ｒ）に対して一定割合以上の平均粒子間隔（Ｋａ）を有し、粒子間隔の分布についても制御されたものである。これにより、低屈折率層全体の伸縮性が高くなり、反復折り曲げによるフィルムの微小割れが抑制される。したがって、反復折り曲げ後の反射防止性（以下、「反復折り曲げ反射防止耐久性」ともいう。）の低下が抑制されると本発明者らは推定している。
【００１６】
ＫａはＲの１．１倍以上であり、反復折り曲げ反射防止耐久性の観点から、１．１５倍以上であることが好ましく、１．２０倍以上であることがより好ましい。また、反射防止性の観点から、Ｒの１．５０倍以下であることが好ましく、１．４０倍以下であることがより好ましい。
【００１７】
ＫｈはＲの０．２５倍以下であり、０．２０倍以下であることが好ましい。
【００１８】
（屈折率）
低屈折率層は、波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．３０〜１．５１であることが好ましく、１．３０〜１．４６であることがより好ましく、１．３２〜１．３８であることが更に好ましい。屈折率を上記範囲内とすることで反射率を抑え、膜強度を維持することができ、好ましい。
【００１９】
（表面粗さ）
低屈折率層の基材とは反対側の面の表面粗さ（Ｒａ）は２０ｎｍ以下である。Ｒａが２０ｎｍ以下であることで、表面の凹凸に起因する視認性悪化を抑制できる。Ｒａは、日本工業規格（ＪＩＳ）  Ｂ  ０６０１：１９９４に従って、一般的な表面粗さ計により測定でき、例えば、触針式表面粗さ計「サーフコーダ  ＳＥ３５００」｛（株）小坂研究所製｝を用いることも好適である。Ｒａは１０ｎｍ以下であることがより好ましく、７ｎｍ以下であることが更に好ましく、５ｎｍ以下であることが特に好ましい。
【００２０】
（無機粒子）
本発明の低屈折率層に含有される無機粒子としては、低屈折率層の屈折率が上述の好ましい範囲となる限りは特に限定されず、フッ化マグネシウム又はシリカ等の無機粒子が挙げられる。
無機粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良い。また無機粒子は単分散粒子が好ましい。無機粒子の形状は、球径が最も好ましいが、不定形であっても良い。
【００２１】
低屈折率化を図るには、無機粒子として、多孔質又は中空構造を有する無機粒子を使用することが好ましく、低屈折率化剤として好適な無機粒子は、中空構造を有するシリカ（酸化珪素）粒子である。
【００２２】
また、低屈折率層形成用バインダーへの分散性を改良するために、無機粒子の表面はオルガノシランの加水分解物及びその部分縮合物の少なくとも１種により処理がされていても良く、具体的な化合物としては、特開２００７−２９８９７４号公報の段落番号［０１３６］〜［０１４５］に記載の化合物が挙げられる。
【００２３】
無機粒子としては、具体的には特開２００７−２９８９７４号公報に記載の無機微粒子、特開２００２−３１７１５２号公報、特開２００３−２０２４０６号公報、及び特開２００３−２９２８３１号公報に記載の中空シリカ微粒子を好適に用いることができる。
【００２４】
無機粒子の平均一次粒子径は、２００ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ〜２００ｎｍであることがより好ましく、５０〜１２０ｎｍであることが更に好ましい。無機粒子の平均一次粒子径を２００ｎｍ以下とすることで、反射防止効果と黒締まり外観を両立できるため好ましい。また、特に無機粒子の平均一次粒子径を５０ｎｍ以上とすることで最上層として使用する際の耐擦傷性が良好となり好ましい。
【００２５】
無機粒子の屈折率は好ましくは１．４６以下であり、より好ましくは１．１５〜１．４６であり、更に好ましくは１．１７〜１．３５であり、特に好ましくは１．１７〜１．３０である。
【００２６】
低屈折率層中の無機粒子の含有量は、無機粒子の平均粒子間隔Ｋａが上記式（１）を満たすように調整されることが望ましい。具体的には、低屈折率層中の無機粒子の充填率が３９体積％以下であることが好ましく、１９〜３９体積％であることがより好ましく、２５〜３５体積％であることが更に好ましい。
【００２７】
（バインダー樹脂）
低屈折率層に含有されるバインダー樹脂は、低屈折率層の屈折率が上述の好ましい範囲となる限りは特に限定されず、例えば、特開２００７−２９８９７４号公報、特開２００２−３１７１５２号公報、特開２００３−２０２４０６号公報、特開２００３−２９２８３１号公報等に記載の公知のバインダー樹脂を用いることができる。バインダー樹脂は、１種のみを用いても、２種以上を併用してもよい。バインダー樹脂は、モノマーまたはオリゴマー（重合性化合物）の重合体であることが好ましい。重合性化合物としては、例えば後述するハードコート層の形成に用いるモノマー（ａ）が挙げられる。モノマーは１種でも２種以上を併用してもよい。
【００２８】
バインダー樹脂は、伸び率が高いモノマー、中でも、伸び率が２００％以上のバインダー樹脂を併用することもできる。
ここで、伸び率とは、フィルム形態の物質が初期から破断されるまでの伸び量（破断標線間距離から元の標線間距離を差し引いた距離）を元の標線間距離で除した割合を指し、下記式（４）で表される。下記式（４）中、Ｅは伸び率、Ｅ２は破断標線間距離、Ｅ１は元の標線間距離を示す。
Ｅ（％）＝１００×（Ｅ２−Ｅ１）／Ｅ１  …  （４）
本発明においては、ＪＩＳ  Ｋ  ６２５１：１９９３に従って測定した破断標線間距離値を用いて伸び率を算出した。
【００２９】
伸び率が２００％以上であるバインダー樹脂の市販品の例としては、バイロンシリーズ（商品名）：東洋紡（株）製、サンプレンシリーズ及びサンレタンシリーズ（ともに商品名）：三洋化成（株）製などが挙げられ、具体例としては、バイロンＵＲ−１５１０、バイロンＵＲ−２３００、バイロンＵＲ−３２００、バイロンＵＲ−３２６０、バイロンＵＲ−８３００、サンプレンＬＱ−３３００、サンプレンＬＱ−３３５８、サンレタンＴＩＭ−２０１１Ａなどを好ましく用いることができる。また、これらのバインダー樹脂に対し、伸び率を損なわない程度に重合性基を導入した化合物も好適に用いることができる。
【００３０】
（低屈折率層形成用塗布組成物）
低屈折率層は、低屈折率層形成用塗布組成物を用いて、塗布により形成されることが好ましい。
低屈折率層形成用塗布組成物は、好ましくは上記無機粒子、上記バインダー樹脂を形成する重合性化合物及び溶剤を含有する。この際、低屈折率層形成用塗布組成物の固形分濃度は、用途に応じて適宜選択されるが、一般的には０．０１〜６０質量％程度であり、好ましくは０．５〜５０質量％、特に好ましくは１〜２０質量％程度とするのが良い。
【００３１】
−重合開始剤−
重合開始剤としては特に限定されず、公知の重合開始剤を用いることができる。
重合開始剤としては、たとえば、後述するハードコート層の形成において用いることができる重合開始剤が挙げられる。
重合開始剤の添加量としては、特に限定はないが、低屈折率層形成組成物中の全固形分に対して０．１〜１５質量％が好ましく、０．５〜１０質量％であることがより好ましく、１〜５質量％であることが特に好ましい。
【００３２】
−溶媒−
低屈折率層用塗布液組成物に含まれる溶媒としては、バインダー樹脂を形成する重合性化合物が沈殿を生じることなく、均一に溶解または分散されるものであれば特に制限はなく、１種でも、２種類以上の溶媒を併用することもできる。好ましい例としては、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等）、エステル類（酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等）、エーテル類（テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等）、アルコール類（メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、エチレングリコール、等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）などを挙げることができる。
【００３３】
−その他の化合物−
また、防汚性、耐水性、耐薬品性、滑り性等の特性を付与する目的で、公知のシリコーン系あるいはフッ素系の防汚剤、滑り剤等を適宜添加することもできる。これらの添加剤を添加する場合には低屈折率層全固形分の０〜２０質量％の範囲で添加されることが好ましく、より好ましくは０〜１０質量％の範囲で添加される場合であり、特に好ましくは０〜５質量％の場合である。
【００３４】
（低屈折率層の作製方法）
低屈折率層は、無機粒子、バインダー樹脂を形成する重合性化合物、その他所望により含有される任意成分を溶解あるいは分散させた塗布組成物を塗布と同時、または塗布、乾燥後に電離放射線照射（例えば光照射、電子線ビーム照射等が挙げられる。）、又は加熱することによる架橋反応、又は重合反応により硬化して、形成することが好ましい。
【００３５】
低屈折率層形成用塗布組成物の塗布方法としては、特に限定されず公知の方法を用いることができる。例えば、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ダイコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法等が挙げられる。
【００３６】
上記のようにして基材、又は基材と低屈折率層との間に有し得る層（例えばハードコート層）上に、低屈折率層形成用塗布組成物を塗布した後、熱及び光照射の少なくともいずれかの手段による硬化処理を行うことが好ましい。
【００３７】
（膜厚）
低屈折率層の膜厚は、２００ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ〜１２０ｎｍであることがより好ましく、８０〜１２０ｎｍであることが更に好ましい。
【００３８】
＜基材＞
本発明の反射防止フィルムの基材は、可視光領域の透過率が７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましい。
基材はポリマー樹脂を含むことが好ましい。
【００３９】
（ポリマー樹脂）
ポリマー樹脂としては、光学的な透明性、機械的強度、熱安定性、などに優れるポリマーが好ましい。
【００４０】
例えば、ポリカーボネート系ポリマー、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル系ポリマー、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等のアクリル系ポリマー、ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマーなどが挙げられる。また、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ノルボルネン系樹脂、エチレン・プロピレン共重合体などのポリオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロン、芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、トリアセチルセルロースに代表されるセルロース系ポリマー、又は上記ポリマー同士の共重合体や上記ポリマー同士を混合したポリマーも例として挙げられる。
【００４１】
特に、芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマーは、ＪＩＳ  Ｐ  ８１１５：２００１に従いＭＩＴ試験機によって測定した破断折り曲げ回数が大きく、硬度も比較的高いことから、基材として好ましく用いることができる。例えば、特許第５６９９４５４号公報の実施例１にあるような芳香族ポリアミドを基材として好ましく用いることができる。
【００４２】
また、基材は、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の紫外線硬化型、熱硬化型の樹脂の硬化層として形成することもできる。
【００４３】
（柔軟化素材）
基材は、上記のポリマー樹脂を更に柔軟化する素材を含有しても良い。柔軟化素材とは、破断折り曲げ回数を向上させる化合物を指し、柔軟化素材としては、ゴム質弾性体、脆性改良剤、可塑剤、スライドリングポリマー等を用いることが出来る。
柔軟化素材として具体的には、特開２０１６−１６７０４３号公報における段落番号［００５１］〜［０１１４］に記載の柔軟化素材を好適に用いることができる。
【００４４】
柔軟化素材は、ポリマー樹脂に単独で混合しても良いし、複数を適宜併用して混合しても良いし、また、樹脂と混合せずに、柔軟化素材のみを単独又は複数併用で用いて基材としても良い。
【００４５】
これらの柔軟化素材を混合する量は、例えば、ポリマー樹脂１００質量部に対して１０質量部とすることができるが、とくに制限はない。すなわち、基材は、十分な破断折り曲げ回数を有していれば良く、ポリマー樹脂単独で構成されても良いし、柔軟化素材を混合しても良いし、すべてを柔軟化素材（１００％）としても良い。
【００４６】
（その他の添加剤）
基材には、用途に応じた種々の添加剤（例えば、紫外線吸収剤、マット剤、酸化防止剤、剥離促進剤、レターデーション（光学異方性）調節剤、など）を添加できる。それらは固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点又は沸点において特に限定されるものではない。また添加剤を添加する時期は基材を作製する工程において何れの時点で添加しても良く、素材調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。更にまた、各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されない。
その他の添加剤としては、特開２０１６−１６７０４３号公報における段落番号［０１１７］〜［０１２２］に記載の添加剤を好適に用いることができる。
【００４７】
以上の添加剤は、１種類を単独で使用してもよいし、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
【００４８】
基材は、透明性の観点から、基材に用いる柔軟性素材及び各種添加剤と、ポリマー樹脂との屈折率の差が小さいことが好ましい。
【００４９】
（基材の作製方法）
基材は、熱可塑性のポリマー樹脂を熱溶融して製膜しても良いし、ポリマーを均一に溶解した溶液から溶液製膜（ソルベントキャスト法）によって製膜しても良い。熱溶融製膜の場合は、上述の柔軟化素材及び種々の添加剤を、熱溶融時に加えることができる。一方、基材を溶液製膜法で作製する場合は、ポリマー溶液（以下、ドープともいう）には、各調製工程において上述の柔軟化素材及び種々の添加剤を加えることができる。またその添加する時期はドープ作製工程において何れでも添加しても良いが、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。
【００５０】
（基材の厚み）
基材の厚みは、１００μｍ以下であることがより好ましく、６０μｍ以下であることが更に好ましく、５０μｍ以下が最も好ましい。基材の厚みが薄くなれば、折れ曲げ時の表面と裏面の曲率差が小さくなり、クラック等が発生し難くなり、複数回の折れ曲げでも、基材の破断が生じなくなる。一方、基材取り扱いの容易さの観点から基材の厚みは１０μｍ以上であることが好ましく、１５μｍ以上であることがより好ましい。反射防止フィルムが組み込まれる画像表示装置の薄型化の観点からは、反射防止フィルムの総厚は、７０μｍ以下であることが好ましく、５０μｍ以下であることが更に好ましい。
【００５１】
＜その他の層＞
本発明の反射防止フィルムは、上記基材と上記低屈折率層の間に、その他の層を有していてもよい。その他の層としては、ハードコート層を有することが好ましく、基材とハードコート層は接していてもよいし、基材とハードコート層の間に別層を有していてもよい。
【００５２】
（ハードコート層）
本発明の反射防止フィルムには、フィルムの物理的強度を付与するために、ハードコート層を設けることができる。好ましくは、ハードコート層上に低屈折率層が設けられると、鉛筆引掻き試験などの耐擦傷性面が強くなり、好ましい。ハードコート層は、二層以上の積層から構成されてもよい。
ハードコート層の波長５５０ｎｍにおける屈折率は１．５６以上であることが好ましく、１．６８以上１．８４以下であることが好ましく、１．７１以上１．８１以下であることがより更に好ましい。
【００５３】
−樹脂−
ハードコート層は樹脂を含有することが好ましく、上記樹脂はモノマー（重合性化合物）の重合体であることが好ましい。
モノマーは１種でも２種以上を併用してもよい。
モノマーは（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基を有することが好ましく、中でも、（メタ）アクリロイル基を有することが好ましい。
【００５４】
・モノマー（ａ）
ハードコート層の樹脂を形成するためのモノマーとして、モノマー（「モノマー（ａ）」とも呼ぶ。）を用いることも好ましい。このようなモノマーの具体例としては、ネオペンチルグリコールアクリレート、１，６−ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート等の多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
２，２−ビス｛４−（アクリロキシ・ジエトキシ）フェニル｝プロパン、２−２−ビス｛４−（アクリロキシ・ポリプロポキシ）フェニル｝プロパン等のエチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類；等を挙げることができる。
【００５５】
さらにはエポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類も用いることができる。
【００５６】
中でも、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。さらに好ましくは、１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能モノマーが好ましい。すなわち、ハードコート層は、１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能モノマーの硬化物を含有することが好ましい。
例えば、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド（ＥＯ）変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド（ＰＯ）変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。
【００５７】
・モノマー（ｂ）
モノマーとして、フルオレン骨格、ジナフトチオフェン骨格、ナフタレン骨格、アントラセン骨格、ベンゾトリアゾール骨格、トリアジン骨格、ベンゾフェノン骨格、メロシアニン骨格、ベンゾオキサゾール骨格、ベンゾチオール骨格、トリフェニレン骨格、シンナモイル骨格、ビスフェノールＳ骨格、及びトラン骨格から選ばれる少なくとも１種の骨格を有する化合物（「モノマー（ｂ）」とも呼ぶ。）を含むことも好ましい。
モノマー（ｂ）を用いることで、ハードコート層の屈折率を高く調整することができる。モノマー（ｂ）の具体例としては、特開２００７−９１８７６号公報の段落００２９〜００４６に記載の一般式（Ｉ）〜（ＶＩ）で表される化合物、特開２０１４−３４５９６号公報の段落０１１３〜０１１５に記載のフルオレン化合物、特開２０１４−８０５７２号公報の一般式（１）で表される縮合環含有化合物（好ましくは同公報の一般式（３）で表される縮合環含有化合物）、特開２０１３−２５３１６１号公報の段落００１６に記載の化合物、特開２００６−３０１６１４号公報の段落００２５〜０１５３に記載の化合物、特開２００７−１０８７３２号公報の段落００２０〜０１２２に記載の化合物、特開２０１０−２４４０３８号公報の段落００１２〜０１０８に記載の化合物等が挙げられる。
モノマー（ｂ）としては、特に、フルオレン骨格、ジナフトチオフェン骨格、ナフタレン骨格、及びアントラセン骨格から選ばれる少なくとも１種の骨格を有する化合物が好ましく、フルオレン骨格を有する化合物が最も好ましい。
【００５８】
−無機粒子−
ハードコート層は無機粒子を含有してもよい。
無機粒子としては、金属（たとえば、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、及びＡｌなど）の酸化物の粒子であることが好ましく、屈折率の観点から、酸化ジルコニウム粒子又は酸化チタン粒子であることがより好ましく、酸化チタン粒子を平均一次粒子径１０ｎｍ未満にすると光活性が強まり、周囲の有機物を分解し易くなり得る観点から、酸化ジルコニウム粒子（ジルコニア粒子）が最も好ましい。
ハードコート層中の無機粒子の含有率を変化させることで屈折率を調整することができる。
ハードコート層中の無機粒子の含有率は、ハードコート層全体に対して、５〜８０体積％であることが好ましく、１０〜６０体積％であることがより好ましく、２０〜５０体積％であることが更に好ましい。無機粒子の含有率が５体積％以上であれば、ハードコート層の屈折率を高くすることができ、８０体積％以下であれば膜を形成しやすい。
ハードコート層中の無機粒子の、質量％に換算したときの好適含有率は、無機粒子の比重によって変わり、例えば無機粒子として酸化ジルコニウム粒子を用いる場合の含有率は、ハードコート層全体に対して、２１〜９５質量％であることが好ましく、３６〜８８質量％であることがより好ましく、５６〜８３質量％であることが更に好ましい。
無機粒子の平均一次粒子径は、１〜８０ｎｍであることが好ましく、１〜４０ｎｍであることがより好ましく、２〜２０ｎｍであることが更に好ましい。
また、無機粒子は後述する樹脂をバインダー成分としてハードコート層中に含有されることが好ましく、ハードコート層中のバインダー成分との密着性を向上させるために、重合性基を有する化合物で修飾して、無機粒子の表面に重合性基を付与することが好ましい。
【００５９】
ハードコート層の膜厚は特に限定されないが、１〜１０μｍであることが好ましく、１．５〜８μｍであることがより好ましく、２〜５μｍであることが更に好ましい。
【００６０】
（ハードコート層の作製方法）
ハードコート層は、基材上に、ハードコート層形成用組成物を塗布する工程、及びモノマーを重合させる工程を含む製造方法により作製されることが好ましい。ハードコート層形成用組成物は、前述のモノマー又は無機粒子に加えて、有機溶剤を含有することが好ましい。
【００６１】
このようなハードコート層を作製する際に使用する有機溶媒としては、例えば、常圧での沸点が２００℃以下の溶媒を挙げることができる。具体的には、アルコール類、ケトン類、エーテル類、エステル類、炭化水素類、アミド類が用いられ、これらは、１種単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。中でも、アルコール類、ケトン類、エーテル類、エステル類が好ましい。
ここで、アルコール類としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、イソブタノール、ｎ―ブタノール、ｔｅｒｔ―ブタノール、エトキシエタノール、ブトキシエタノール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ベンジルアルコール、フェネチルアルコール等を挙げることができる。ケトン類としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等を挙げることができる。エーテル類としては、例えば、ジブチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等を挙げることができる。エステル類としては、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル等を挙げることができる。炭化水素類としては、例えば、トルエン、キシレン等を挙げることができる。アミド類としては、例えば、ホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ―メチルピロリドン等を挙げることができる。中でも、イソプロピルアルコール、エトキシエタノール、ブトキシエタノール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、酢酸ブチル、乳酸エチル等が好ましい。
【００６２】
−重合開始剤−
ハードコート層形成用組成物は、重合開始剤を含んでいてもよい。
モノマーが光重合性化合物である場合は、光重合開始剤を含むことが好ましい。
光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。光重合開始剤の具体例、及び好ましい態様、市販品などは、特開２００９−０９８６５８号公報の段落［０１３３］〜［０１５１］に記載されており、本発明においても同様に好適に用いることができる。
「最新ＵＶ硬化技術」｛（株）技術情報協会｝（１９９１年）、ｐ．１５９、及び、「紫外線硬化システム」加藤清視著（平成元年、総合技術センター発行）、ｐ．６５〜１４８にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
ハードコート層形成用組成物中の重合開始剤の含有率は、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、０．５〜８質量％が好ましく、１〜５質量％がより好ましい。
【００６３】
ハードコート層形成用組成物は上記以外の成分を含有していてもよく、たとえばレベリング剤、又は分散剤などが挙げられる。
【００６４】
ハードコート層形成用組成物の塗布方法としては、特に限定されず公知の方法を用いることができる。例えば、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法等が挙げられる。
【００６５】
ハードコート層形成用組成物を基材上に塗布した後、加熱する工程を設けてもよい。基材を膨潤させる溶剤を用いている場合は、加熱することによって、効果的にモノマーの一部を基材に浸透させることができる。加熱における温度は、基材のガラス転移温度より小さいことが好ましく、具体的には、６０〜１８０℃であることが好ましく、８０〜１３０℃であることがより好ましい。
【００６６】
モノマーが光重合性モノマーである場合、モノマーの重合は電離放射線を照射することで行うことができる。電離放射線の種類については、特に制限はなく、Ｘ線、電子線、紫外線、可視光、赤外線などが挙げられるが、紫外線が広く用いられる。照射量は特に限定されないが、１０ｍＪ／ｃｍ２〜１０００ｍＪ／ｃｍ２が好ましい。照射の際には、上記エネルギーを一度に当ててもよいし、分割して照射することもできる。紫外線ランプ種としては、メタルハライドランプや高圧水銀ランプ等が好適に用いられる。
【００６７】
＜反射防止フィルムの物性＞
（破断折り曲げ回数）
本発明の反射防止フィルムは、ＪＩＳ  Ｐ  ８１１５：２００１に従いＭＩＴ試験機によって測定した破断折り曲げ回数が１００００回以上であることが好ましい。なお、本発明において、破断折り曲げ回数の測定は、反射防止フィルムの基材が内側となるように折り曲げて行った。
【００６８】
（平均反射率）
本発明の反射防止フィルムは、反射防止性の観点から、４５０〜６５０ｎｍの波長領域における平均反射率が２％以下であることが好ましく、１．５％以下であることがより好ましい。
【００６９】
（鉛筆硬度）
本発明の反射防止フィルムは、膜強度の観点から、ＪＩＳ  Ｋ  ５６００−５−４：１９９９に従って測定した５００ｇ荷重の鉛筆硬度が２Ｈ以上であることが好ましく、３Ｈ以上であることがより好ましい。
【００７０】
本発明の反射防止フィルムは、偏光板保護フィルムとして好適に用いることができる。
本発明の反射防止フィルムを用いた偏光板保護フィルムは、偏光子と貼り合せて偏光板とすることができ、液晶表示装置などに好適に用いることができる。
【００７１】
［偏光板］
偏光板は、偏光子と、偏光子を保護する少なくとも１枚の保護フィルムとを有する偏光板であって、保護フィルムの少なくとも１枚が本発明の反射防止フィルムであることが好ましい。
【００７２】
偏光子には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造することができる。
【００７３】
［画像表示装置］
本発明の反射防止フィルム又は偏光板を画像表示装置に適用することもできる。
画像表示装置としては、陰極線管を利用した表示装置、プラズマディスプレイパネル、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、蛍光表示ディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ、及び液晶表示装置を挙げることができ、特に液晶表示装置が好ましい。
一般的に、液晶表示装置は、液晶セル及びその両側に配置された２枚の偏光板を有し、液晶セルは、２枚の電極基板の間に液晶を担持している。更に、光学異方性層が、液晶セルと一方の偏光板との間に一枚配置されるか、又は液晶セルと双方の偏光板との間に２枚配置されることもある。液晶セルは、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モードなど様々な駆動方式の液晶セルが適用できる。
【００７４】
［反射防止物品］
本発明の反射防止フィルムは、画像表示装置以外にも適用することができ、たとえば各種の物品に本発明の反射防止フィルムを貼合することで、反射防止機能を付与した反射防止物品とすることができる。
【実施例】
【００７５】
以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明の範囲はこれによって限定して解釈されるものではない。なお、特別の断りの無い限り、「部」及び「％」は質量基準である。【００７６】
〔反射防止フィルムの作製〕
下記に示す通りに、基材上に、ハードコート層形成用組成物（塗布液）を用いてハードコート層を形成し、次にハードコート層上に低屈折率層を形成して反射防止フィルムを作製した。【００７７】
（芳香族ポリアミドの合成）
攪拌機を備えた重合槽にＮ−メチル−２−ピロリドン６７４．７ｋｇ、無水臭化リチウム１０．６ｇ（シグマアルドリッチジャパン社製）、２，２’−ジトリフルオロメチル−４，４’−ジアミノビフェニル（東レファインケミカル社製「ＴＦＭＢ」）３３．３ｇ、４，４’−ジアミノジフェニルスルフォン（和歌山精化株式会社製「４４ＤＤＳ」）２．９ｇを入れ窒素雰囲気下、１５℃に冷却、攪拌しながら３００分かけてテレフタル酸ジクロライド（東京化成社製）１８．５ｇ、４，４’−ビフェニルジカルボニルクロライド（東レファインケミカル社製「４ＢＰＡＣ」）６．４ｇを４回に分けて添加した。６０分間攪拌した後、反応で発生した塩化水素を炭酸リチウムで中和してポリマー溶液を得た。【００７８】
（基材フィルムＳ−１の作製）
上記で得られたポリマー溶液の一部を最終のフィルム厚みが２５μｍになるようにＴダイを用いて１２０℃のエンドレスベルト上に流延し、ポリマー濃度が４０質量％になる様に乾燥してエンドレスベルトから剥離した。次に溶媒を含んだフィルムを４０℃の大気中でＭＤ（Ｍａｃｈｉｎｅ  Ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）方向に１．１倍延伸し、５０℃の水で水洗して溶媒を除去した。さらに３４０℃の乾燥炉でＴＤ（Ｔｒａｎｓｖｅｒｓｅ  Ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）方向に１．２倍延伸し、芳香族ポリアミドからなる、厚み２５μｍの基材フィルムＳ−１を得た。基材フィルムＳ−１のＪＩＳ  Ｐ  ８１１５：２００１に従いＭＩＴ試験機によって測定した破断折り曲げ回数は２．５万回であった。【００７９】
（ハードコート層形成用組成物の調製）
下記組成で、各々の成分をミキシングタンクに投入し、攪拌して、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して、ハードコート層形成用組成物ＨＴ−１を調製した。【００８０】
ハードコート層形成用組成物ＨＴ−１の組成
硬化性化合物Ａ１：１．５９質量部
硬化性化合物Ａ２：１．５９質量部
ジルコニア分散物ＺＢ：８４．４２質量部
光重合開始剤Ｊ１：１．５０質量部
トルエン：１０．９１質量部【００８１】
硬化性化合物Ａ１：ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（商品名ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）
硬化性化合物Ａ２：ペンタエリスリトールテトラアクリレートとペンタエリスリトールトリアクリレートの混合物（商品名ＫＡＹＡＲＡＤ  ＰＥＴ３０、日本化薬（株）製）
ジルコニア分散物ＺＢ：平均一次粒子径２０ｎｍのジルコニア粒子含有分散物、トルエン３０質量％溶液（ＣＩＫナノテック（株）製）
光重合開始剤Ｊ１：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）１８４（ＢＡＳＦ（株）製）【００８２】
（シリカ粒子分散物Ｒ−１の調製）
シリカ系中空微粒子分散ゾル（触媒化成工業（株）製：商品名スルーリア１４２０、平均一次粒子径６０ｎｍ、濃度２０．５質量％、分散媒：イソプロパノール）５００質量部に、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン３３．５質量部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート１．５１質量部、およびメチルエチルケトン５００質量部を加えて混合した後に、イオン交換水９質量部を加えた。この混合液を６０℃で１０時間反応させた後に室温（２３℃）まで冷却し、アセチルアセトン１．８質量部を添加して分散物を得た。その後、シリカの含率がほぼ一定になるようにシクロヘキサノンを添加しながら、圧力１３３．２３２Ｐａで減圧蒸留による溶媒置換を行い、最後に濃度調整により固形分濃度１８．３質量％の重合性官能基を有する有機珪素化合物で表面修飾した中空シリカ粒子分散物Ｒ−１を作製した。【００８３】
（シリカ粒子分散物Ｒ−３の調製）
シリカ粒子分散物Ｒ−１の調製におけるシリカ系中空微粒子分散ゾル（商品名スルーリア１４２０）を、触媒化成工業（株）製：商品名スルーリア１４２０−１２０（平均一次粒子径１２０ｎｍ、濃度２０．５質量％、分散媒：イソプロパノール）に変更したこと以外は同様にして、固形分濃度１７．９質量％の中空シリカ粒子分散物Ｒ−３を作製した。【００８４】
（低屈折率層用組成物の調製）
下記表１に記載の組成（質量部）となるように、各々の成分をミキシングタンクに投入し、攪拌して、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して、低屈折率層用組成物Ｌ１〜Ｌ９を調製した。【００８５】
【表１】
0006745348.tif 000002
【００８６】
硬化性化合物Ａ３：ウレタンアクリレートポリマー  商品名サンレタン  ＴＩＭ−２０１１Ａのメタクリロイル基導入化合物（三洋化成（株）製、伸び率３００％）
シリカ分散物Ｒ−２：シリカ系中空微粒子分散ゾル（触媒化成工業（株）製、商品名スルーリア１４２０、平均一次粒子径６０ｎｍ）
滑り剤Ｍ１：アクリロイル変性シリコーン系滑り剤（信越化学工業(株)製、商品名Ｘ−２２−１６４Ａ）
ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート【００８７】
［反射防止フィルムＦ−１の作製］
得られた基材Ｓ−１上に、上述のハードコート層形成用組成物ＨＴ−１を、グラビアコーターを用い、ハードコート層厚みが３μｍとなるように調整して塗布した。塗布した組成物を、１２０℃で乾燥した後、酸素濃度が１００ｐｐｍ以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量３０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線照射により硬化させ、ハードコートフィルムを作製した。
得られたハードコートフィルムのハードコート層上に、低屈折率層用組成物Ｌ１を、グラビアコーターを用いて塗布した。塗布した組成物を、６０℃で乾燥した後、酸素濃度が１００ｐｐｍ以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線照射により硬化させ、反射防止フィルムＦ−１を作製した。低屈折率層の膜厚は１００ｎｍであった。【００８８】
反射防止フィルムＦ−１の作製において、表２に記載の低屈折率層用組成物及び低屈折率層の膜厚に変更したこと以外は同様にして、反射防止フィルムＦ−２〜Ｆ−９を作製した。【００８９】
［反射防止フィルムの評価］
（反復折り曲げ耐性）
耐折度試験機（テスター産業（株）製、ＭＩＴ、ＢＥ−２０１型、折り曲げ半径０．４ｍｍ）を用いて、２５℃、相対湿度６５％の状態に１時間静置させた、幅１５ｍｍ、長さ８０ｍｍの反射防止フィルム試料を準備し、基材が内側になるように折り曲げ、荷重５００ｇの条件で、ＪＩＳ  Ｐ  ８１１５：２００１に準拠して測定し、破断するまでの回数（破断折り曲げ回数）で評価した。【００９０】
（平均反射率）
反射防止フィルムの裏面（基材フィルムの低屈折率層側界面とは反対の表面）を、サンドペーパーで粗面化した後に黒色インクで処理し、裏面反射をなくした状態で、分光光度計Ｖ−５５０（日本分光（株）製）を用いて４５０〜６５０ｎｍの波長領域で、入射角５°における鏡面反射率を測定し、平均反射率を算出して下記基準で反射防止性を評価した。
Ａ：鏡面反射率が１．０％未満
Ｂ：鏡面反射率が１．０％以上１．５％未満
Ｃ：鏡面反射率が１．５％以上２％以下【００９１】
（反復折り曲げ反射防止耐久性）
上述の反復折り曲げ耐性の折り曲げ試験における１００００回折り曲げ後の各反射防止フィルム試料について、上述の方法で折り曲げ部の平均反射率を測定した。そして、折り曲げ部の平均反射率と、折り曲げ前の平均反射率との差を算出し、反復折り曲げ反射防止耐久性を評価した。
Ａ：反射率差が０．１％以内（折り曲げ部と非折り曲げ部に見た目の差が無い）
Ｂ：反射率差が０．１％より大きく、０．３％以内（僅かに見た目の差があるが気にならない）
Ｃ：反射率差が０．３％超（明らかに見た目に差があり気になる）【００９２】
（鉛筆硬度試験）
各試料に対し、ＪＩＳ  Ｋ  ５６００−５−４：１９９９に記載の鉛筆硬度評価を荷重５００ｇの条件で行い、その後消しゴムにて鉛筆跡を除去した。各試料を温度２５℃、相対湿度６０％で３時間調湿した後、ＪＩＳ  Ｓ  ６００６：２００７に規定する試験用鉛筆を用いて硬度評価を実施し、更に温度２５℃、相対湿度６０％の環境下で、試験後３時間放置後に下記の基準で評価した。
Ａ：２Ｈ試験後に引っかき傷跡または色味変化が観察されない。
Ｂ：２Ｈ試験後に引っかき傷跡は観察されないが、色味変化が観察される。
Ｃ：２Ｈ試験後に引っかき傷跡及び色味変化が観察される。【００９３】
（屈折率）
多波長アッベ屈折計ＤＲ−Ｍ４（株式会社アタゴ製、製品名）を用い、反射防止フィルムの低屈折率層の波長５５０ｎｍに対する屈折率を測定した。【００９４】
結果を表２に示す。
なお、表２には、低屈折率層における無機粒子の充填率についても併記する。無機粒子の充填率は、反射防止フィルムを厚み方向に切削して得られた断面の透過型電子顕微鏡画像に対し、低屈折率層内の無機粒子の投影面積を求め、低屈折率層全面積で除した値を算出することで求めた。【００９５】
【表２】
0006745348.tif 000003
【００９６】
上記の結果から、本発明の実施例の反射防止フィルムは反復折り曲げ耐性に優れ、反射防止性に優れ、かつ反復折り曲げ後の反射防止性の低下が抑制されている（反復折り曲げ反射防止耐久性に優れる）ことが分かる。また、鉛筆硬度にも優れていることが分かった。