(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の段階
（ｉ）  １，１，１−トリフルオロ−２−クロロエタンを脱フッ化水素処理して、１−クロロ−２，２−ジフルオロエチレンを含む生成物流を形成する段階、
（ｉｉ）  段階（ｉ）で得られた１−クロロ−２，２−ジフルオロエチレンを水素化して１−クロロ−２，２−ジフルオロエタンを生じる段階
を含む１−クロロ−２，２−ジフルオロエタンの調製方法。
【請求項２】
段階（ｉ）が、液相または気相中で実施されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
段階（ｉ）が、脱フッ化水素処理剤の存在下で実施されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
段階（ｉ）が、熱分解として実施されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
脱フッ化水素処理剤が塩基である、請求項３に記載の方法。
【請求項６】
塩基がアルカリ金属水酸化物またはアルカリ土類金属水酸化物であることを特徴とする、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
塩基が、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウムおよび水酸化カルシウムからなる群から選択されることを特徴とする、請求項５または６に記載の方法。
【請求項８】
脱フッ化水素処理剤が、固体または溶融状態、または水性または非水性の苛性溶液であることを特徴とする、請求項５から７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
段階（ｉ）が、触媒の存在下で行われることを特徴とする、請求項５から８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
触媒が相間移動触媒であることを特徴とする、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
段階（ｉ）が、触媒の不存在下で２０から３００℃の範囲の温度で行われることを特徴とする、請求項５から８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
段階（ｉ）が１５０から６５０℃の範囲の温度で行われることを特徴とする、請求項９に記載の方法。
【請求項１３】
段階（ｉ）が脱フッ化水素処理剤の不存在下で３５０から１０００℃の範囲の温度で行われる熱分解であることを特徴とする、請求項４に記載の方法。
【請求項１４】
脱フッ化水素処理剤が段階（ｉ）の後に回収されることを特徴とする、請求項２から１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
段階（ｉｉ）が触媒の存在下で行われることを特徴とする、請求項１から１４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６】
段階（ｉｉ）の生成物流の少なくとも一部を段階（ｉｉ）の供給原料にリサイクルすることを特徴とする、請求項１から１５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１７】
段階（ｉｉ）の生成物流が１−クロロ−２，２−ジフルオロエタンを含むことを特徴とする、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
段階（ｉｉ）が２０℃から２５０℃の入口温度で行われることを特徴とする、請求項１から１７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１９】
１−クロロ−２，２−ジフルオロエタンが段階（ｉｉ）の後に精製されることを特徴とする、請求項１から１８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２０】
工程（ｉ）の後に、１−クロロ−２，２−ジフルオロエチレンが生成物流から分離されることを特徴とする、請求項１から１９のいずれか一項に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、１，１，１−トリフルオロ−２−クロロエタン（ＨＣＦＣ−１３３ａ）から１−クロロ−２，２−ジフルオロエタン（ＨＣＦＣ−１４２）を製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＨＣＦＣ−１４２は、既知の発泡剤であり、農薬または医薬品の調製における出発原料として使用することもできる。
【０００３】
塩素化有機原料からＨＣＦＣ−１４２を調製するいくつかの方法が知られている。例えば、ＦＲ２７８３８２０号は、フッ化水素（ＨＦ）と１，１，２−トリクロロエタン（ＨＣＣ−１４０）との間の液相反応を使用するＨＣＦＣ−１４２の製造方法を記載する。この反応は、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔａ、ＮｂまたはＴｉを含むルイス酸の存在下、３０℃から１８０℃で行われる。
【０００４】
ＵＳ２００２／０１８３５６９号は、ＨＣＣ−１４０とフッ化水素との間の接触気相反応を用いたＨＣＦＣ−１４２の製造方法を開示しており、触媒は、典型的には、クロム、鉄 、ニオブ、ニッケル、アンチモン、スズ、タンタルおよびチタンから選ばれる元素の、１つ以上の担持されたまたは担持されないフッ素化塩である。
【０００５】
ＷＯ２０１３／０５３８００号は、ＨＦと、ＦｅＣｌ３およびＭｇＣｌ２をクロミア−アルミナに共蒸着することによって、または活性炭にＣｒ（ＮＯ３）３およびＮｉ（ＮＯ３）２を共蒸着することによって、またはＺｎＣｌ２をアルミナにドープすることによって調製された特定の触媒を用いる、ＨＣＣ−１４０および／または１，２−ジクロロエテン（ＨＣＣ−１１３０）の接触気相フッ素化に関する
【０００６】
上記の方法の不便さは、それらが容易に入手できない塩素化原料を使用することである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】仏国特許第２７８３８２０号明細書
【特許文献２】米国特許出願公開第２００２／０１８３５６９号明細書
【特許文献３】国際公開第２０１３／０５３８００号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ＨＣＦＣ−１４２は、容易に入手可能な原料であるＨＣＦＣ−１３３ａから高収率で、しかも選択的に都合よく調製できることが今や発見された。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、以下の段階を含むＨＣＦＣ−１４２の調製方法を提供する：
（ｉ）  ＨＣＦＣ−１３３ａを脱フッ化水素処理して、ＨＣＣ−１１２２を含む生成物流を生じる段階、
（ｉｉ）  前段階で得られたＨＣＣ−１１２２を水素化して、ＨＣＦＣ−１４２を生じる段階。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明の方法は脱フッ化水素反応および水素化反応を含み、一実施形態によれば、第１の反応からの生成物流が第２の反応のための供給原料を形成し、別の実施形態によれば、第１の反応からの生成物流は第２の反応に供給される前に分離段階に供される。
【００１１】
反応は、連続的、半連続的またはバッチ式に行うことができる。このように、本発明は、容易に入手可能で安価な出発原料であるＨＣＦＣ−１３３ａからＨＣＦＣ−１４２を調製するための効率的かつ経済的な方法を提供する。
【００１２】
従って、本発明は、以下の段階：即ち、（ｉ）１，１，１−トリフルオロ−２−クロロエタンを脱フッ化水素処理をして、１−クロロ−２，２−ジフルオロエチレンを含む生成物流を形成する段階、場合により生成物流から１−クロロ−２，２−ジフルオロエチレンを分離する段階、および（ｉｉ）段階（ｉ）で得られた１−クロロ−２，２−ジフルオロエチレンを水素化して、１−クロロ−２，２−ジフルオロエタンを生じる段階を含む１−クロロ−２，２−ジフルオロエタンの調製方法を提供する。
【００１３】
段階（ｉ）の脱フッ化水素反応は、任意の従来の方法、例えば、液相または気相のいずれかでも実施することができ、反応が実質的に定量的であるように操作条件を選択することができる。
【００１４】
従って、本発明の好ましい実施形態は、ＨＣＦＣ−１３３ａを脱フッ化水素処理剤と接触させることを含むが、後者は、本発明を実現するために基本的ではない
【００１５】
好ましい一実施形態では、脱フッ化水素処理剤は塩基である。
【００１６】
適切な塩基には、金属水酸化物、特に塩基性金属水酸化物、例えば、アルカリ金属水酸化物またはアルカリ土類金属水酸化物が含まれる。
【００１７】
用語「アルカリ金属水酸化物」とは、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ルビジウムおよび水酸化セシウムから選択される化合物または化合物の混合物を指す。
【００１８】
用語「アルカリ土類金属水酸化物」とは、水酸化ベリリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウムおよび水酸化バリウムから選択される化合物または化合物の混合物を指す。
【００１９】
特に好ましい塩基性脱フッ化水素処理剤は、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウムおよび水酸化カルシウムから選択される。
【００２０】
前記塩基性脱フッ化水素処理剤の１つによる脱フッ化水素処理は、２０℃から３００℃、好ましくは５０℃から２５０℃、より好ましくは８０℃から２００℃の幅のある温度範囲で行うことができる。
【００２１】
適切な絶対圧力は、０．１から３０バールの幅のある範囲である。
【００２２】
塩基性脱フッ化水素処理剤は、典型的には、段階（ｉ）に存在する全ての化合物に対して１から９０重量％（重量％）、好ましくは２から８５重量％、有利には５から６５重量％の程度で存在する。
【００２３】
塩基性脱フッ化水素反応の時間は変化し得るが、好適には３０秒から５０時間の範囲、好ましくは１０分から３０時間の範囲、有利には１から２０時間の範囲である。
【００２４】
脱フッ化水素処理は、溶媒の存在下または不存在下で行うことができる。
【００２５】
溶媒を使用しない場合、ＨＣＦＣ−１３３ａは、固体の脱フッ化水素処理剤の上、または半固体の（溶融した）脱フッ化水素処理剤の中または上を通過させることができる。
【００２６】
溶媒が使用される場合、特定の実施形態では、好ましい溶媒は水であり、他のものではアルコール（例えば、プロパン−１−オール）、ジオール（例えば、エチレングリコール）およびポリオール（例えば、ポリエチレングリコール）等のアルコール性溶媒が好ましい。さらなる実施形態では、極性非プロトン性溶媒として知られている種類の溶媒が好ましい場合がある。このような極性非プロトン性溶媒の例には、ジグリム、スルホラン、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジオキサン、アセトニトリル、ヘキサメチルホスホラミド（ＨＭＰＡ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）およびＮ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）が含まれる。溶媒は、単独でまたは組み合わせて使用することができる。溶媒の沸点は、理想的には、設定された反応条件下で過度の圧力を生じないようなものである。
【００２７】
脱フッ化水素処理は好ましくは溶媒として水を使用することができ、従って、例えば、共溶媒または希釈剤を必要とせずに、アルカリ金属水酸化物またはアルカリ土類金属水酸化物のような少なくとも１つの塩基の水溶液中で起こる。
【００２８】
しかし、共溶媒または希釈剤もまた、本発明の様々な実施形態において、例えば、系の粘度を改変するため、反応副生成物の好ましい相として作用するため、または熱質量を増加させるために使用することができる。有用な共溶媒または希釈剤は、メタノールおよびエタノール等のアルコール；エチレングリコール等のジオール；ジエチルエーテルまたはジブチルエーテル等のエーテル；酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル；シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の直鎖、分岐または環状アルカン；ヘキサフルオロイソプロパノール、パーフルオロテトラヒドロフランおよびパーフルオロデカリン等のフッ素化希釈剤をはじめとする、工程での平衡および動力学に影響を与えないものか、または悪影響を及ぼさないものである。
【００２９】
上記のような塩基介在脱フッ化水素反応は、場合により触媒処理される。この触媒は、理想的には、例えば、水相から有機相へのイオン性化合物の移動を促進する相間移動触媒である。水が溶媒として使用される場合、水性または無機相がアルカリ金属水酸化物の結果として存在し、有機相がフルオロカーボンの結果として存在する。相間移動触媒は、これらの異なる成分の反応を促進する。異なる相間移動触媒は異なる方法で機能することができるが、その作用機序は、脱フッ化水素反応を促進するならば、本発明においてはその有用性を左右しない。
【００３０】
相間移動触媒は、イオン性または中性であり得、典型的には、クラウンエーテル、オニウム塩、クリプタンド、およびポリアルキレングリコールおよびそれらの誘導体（例えば、それらのフッ素化誘導体）から選択される群から選択される。
【００３１】
相間移動触媒の有効量は、所望の反応を達成し、所望の生成物への選択性に影響を与えるか、または収率を高めるために使用され得る。そのような量は、一旦反応物質、工程条件および相間移動触媒が選択されると、限定された実験によって決定され得る。典型的には、存在する有機化合物の量に対して使用される触媒の量は、０．００１から２０モル％、例えば、０．０１から１０モル％、または例えば、０．０５から５モル％である。
【００３２】
上に引用した群の１つの中からの相間移動触媒の組み合わせも複数の群からの組み合わせまたは混合物と同様に有用であり得る。例えば、１８−クラウン−６などのクラウンエーテルおよびそのフッ素化誘導体ならびにベンジルトリエチルアンモニウムクロライドなどの第４級アンモニウム塩は、現在、好ましい触媒群である。
【００３３】
別の好ましい実施形態において、ＨＣＦＣ−１３３ａの脱フッ化水素処理は、脱フッ化水素処理剤としての脱フッ化水素処理触媒を用いて行われる。
【００３４】
脱フッ化水素処理触媒は、金属、理想的には遷移金属またはその酸化物、ハロゲン化物もしくはオキシハロゲン化物誘導体を主成分とすることができる。従って、適切な触媒は、塩化鉄、オキシフッ化クロム、ニッケル（Ｎｉメッシュ格子を含む）、塩化ニッケル、フッ化クロム、およびそれらの混合物を含む。他の考えられる触媒は、木炭に担持された触媒、アンチモン系触媒、アルミニウム系触媒（例えば、フッ化アルミニウム、酸化アルミニウム、オキシフッ化アルミニウム、フッ素化アルミナ）、パラジウム、白金、ロジウムおよびルテニウムである。ＵＳ５３９６０００号、第１欄第５０行から第２欄第２行に記載されているリストまたはＷＯ２００７／０５６１９４号、第１６頁、第１３から２３行頁に記載されているリストを参照することができる。
【００３５】
一実施形態では、クロムおよびニッケルの両方を含む混合触媒が使用される。Ｃｒ：Ｎｉのモル比は、一般に０．５から５の間、例えば、０．７から２の間、より具体的にはほぼ１に等しい。触媒は、０．５から２０重量％のクロムおよび０．５から２０重量％のニッケルを含み、好ましくはそれぞれ２から１０重量％である。
【００３６】
金属は、金属形態、または一般に触媒金属の活性化によって得られる酸化物、ハロゲン化物またはオキシハロゲン化物等の誘導体として存在していてもよい。金属の活性化は必要ではないが、活性であれば好ましい。
【００３７】
混合触媒は、活性化形態または不活性化形態のクロムおよびニッケルを、場合によりその中の金属の活性化を受けた担体上に含むことができる。
【００３８】
触媒は、好ましくは、アルミナ、活性アルミナまたはアルミニウム誘導体等のアルミニウム系の担体を用いて担持されていてもよい。アルミニウム誘導体は、特に、例えば、ＵＳ４９０２８３８号に記載されているか、または以下に記載の活性化方法によって得られるハロゲン化アルミニウムまたはオキシハロゲン化アルミニウムである。
【００３９】
触媒は、アルミナ、より具体的には、高多孔性の「活性」アルミナを主成分とし、金属活性化処理を受けたアルミナとは異なる触媒担体を含浸させることによって調製することができる。第１段階において、アルミナは、空気およびフッ化水素酸を用いたフッ素化により、フッ化アルミニウムまたはフッ化アルミニウムとアルミナとの混合物に変換される。アルミナのフッ化アルミニウムへの転化の程度は、主としてアルミナがフッ素化される温度（一般に２００℃から４５０℃の間、好ましくは２５０℃から４００℃の間）に依存する。次に、クロム塩およびニッケル塩の水溶液を使用して、またはクロム酸、ニッケル塩およびメタノールの水溶液を使用して担体を含浸させ、後者はクロム還元剤として働く。使用することができるクロム塩およびニッケル塩には、担体に吸収され得る量の水に可溶性である限り、これらの金属の塩化物またはシュウ酸塩、ギ酸塩、酢酸塩、硝酸塩、硫酸塩および二クロム酸ニッケルのような他のものが含まれる。触媒はまた、上記のクロム化合物およびニッケル化合物の溶液を用いてアルミナ（一般に活性化された）を直接含浸させることによっても調製することができる。この場合、触媒金属の活性化の間に、アルミナのフッ化アルミニウムまたはオキシフッ化アルミニウムへの少なくとも部分的な転化（即ち、７０％以上）が起こる。
【００４０】
触媒の調製に適した活性アルミナは周知であり、市販されている。活性アルミナは、一般に、３００℃から８００℃の間の温度でアルミナ水和物（即ち、水酸化アルミニウム）を焼成することによって調製される。活性アルミナが活性化されているか否かにかかわらず、このアルミナは、これが触媒性能を妨害することなく、例えば、１０００ｐｐｍまでの大量のナトリウムを含有していてもよい。
【００４１】
好ましくは、必ずではないが、触媒は「調整化」または「活性化」される。これらの用語は、触媒が、使用前の予備的な活性化操作を介して、必要な反応条件下で、活性で安定な成分に変換されることを示すために同義語として使用される。活性化は、脱フッ化水素反応器中で「インサイチュ」で、または活性化条件に耐えるように設計された適切な装置内のいずれかで行うことができる。
【００４２】
活性化は、一般に、以下の段階を含む：
−  乾燥段階。この乾燥段階は、通常、窒素または空気の流れの下で高温（２５０℃から４５０℃、好ましくは３００℃から３５０℃）で実施され、場合により空気または窒素の存在下での低温（１００℃から１５０℃、好ましくは１１０℃から１２０℃）での初期乾燥段階が先行する。乾燥段階の全持続時間は、１０から５０時間の間であり得る。
−  温度が３５０℃を超えないようにＨＦ含有量を制御しながら、フッ化水素酸および窒素の混合物を用いて低温（１８０℃から３５０℃）で実施されるフッ素化工程。フッ素化段階の持続時間は、１０から５０時間の間であり得る。
−  最高４５０℃の温度で、純粋なフッ化水素酸または窒素で希釈したフッ化水素酸の流れの下での任意の仕上げ段階。仕上げ段階の持続時間は、２から１５時間の間であり得る。
【００４３】
操作中、触媒前駆体（例えば、ハロゲン化ニッケルおよびハロゲン化クロム、クロム酸ニッケルもしくは二クロム酸ニッケル、酸化クロム）は対応するフッ化物および／またはオキシフッ化物に変換され、水および／または塩酸が放出される。活性化後の特定の元素（即ち、クロム、ニッケル、フッ素、アルミニウム、酸素）の化学分析により、触媒の鉱物組成を特徴付けることができる。そのような触媒の１つがＥＰ−Ａ−４８６３３３号に記載されている（第３頁、第１１から４８行；実施例１Ａ、２Ａおよび４Ａ）。
【００４４】
脱フッ化水素処理剤として触媒を使用する脱フッ化水素処理段階は、１５０℃から６５０℃の間、好ましくは２００℃から６００℃の間、有利には２５０℃から５５０℃の間、特に有利には３００℃から５００℃の間の温度で行うことができる。
【００４５】
接触時間（触媒の体積と総充填流量との比）は、一般に０．１から１００秒の間、好ましくは１から５０秒の間、有利には５から４０秒の間である。
【００４６】
脱フッ化水素処理触媒を用いた脱フッ化水素反応の反応圧力は、大気圧、準大気圧、または過圧であってもよい。
【００４７】
段階（ｉ）の反応は、ハロゲンを含む反応を収容するように設計された１つ以上の反応器で行うことができる。そのような反応器は当業者に知られており、例えば、Ｈａｓｔｅｌｌｏｙ（Ｒ）、Ｉｎｃｏｎｅｌ（Ｒ）、Ｍｏｎｅｌ（Ｒ）またはフルオロポリマーを主成分とするライニングを有することができる。必要であれば、反応器はまた、熱交換手段を含んでもよい。
【００４８】
触媒はまた、例えば、酸化剤またはフッ化水素による処理によって、当該技術分野における任意の従来の手段を用いて、その活性を回復させるために一定時間後に再生されてもよい。
【００４９】
段階（ｉ）が気相中で行われる場合には、窒素、ヘリウムまたはアルゴンのような希釈ガスを反応に使用することができ、窒素が好ましい不活性ガスである。この方法は、あらゆる炭素質堆積物をＣＯ２ガスに酸化するために、ガス状酸化剤の存在下で行うこともできる。この目的のために、例えば、空気のような酸素含有ガスを使用することができる。触媒の寿命を延ばすことができるために、不活性ガスに対してガス状酸化剤を使用することが好ましい場合がある。
【００５０】
段階（ｉ）で使用される任意の脱フッ化水素処理剤は、好ましくは、方法のこの段階の後に回収され得る。
【００５１】
脱フッ化水素処理剤の使用が好ましい場合もあるが、それは必要ではない。
【００５２】
１，１，１−トリフルオロ−２−クロロエタン（ＨＣＦＣ−１３３ａ）の脱フッ化水素処理を行う別の好ましい方法は、脱フッ化水素処理剤の不存在下での高温での反応ゾーンでの熱分解によるものである。適切な温度は、３５０℃から１０００℃の範囲であり、有利には４５０℃から９００℃の間の範囲である。反応ゾーンにおけるガスの滞留時間は、一般に０．１から１００秒の間、好ましくは１から５０秒の間、有利には２から４０秒の間である。
【００５３】
触媒の不存在下での高温での脱フッ化水素反応の反応圧力は、大気圧、準大気圧または過圧であってもよい。一般に、大気圧付近の圧力が好ましい。しかし、脱フッ化水素処理は、有益には減圧下（即ち、１気圧未満の圧力）で行うことができる。
【００５４】
脱フッ化水素処理の程度を増加させるために、場合により、窒素、ヘリウムまたはアルゴンのような不活性ガスの存在下で熱分解を行うことができる。窒素が好ましい不活性ガスである。
【００５５】
この反応は、他の脱フッ化水素処理の実施形態と同じ種類の反応器で行われる。場合により、反応器は、粒子、または多孔板、リング、ワイヤ、スクリーン、チップ、パイプ、ショット、ガーゼもしくはウールを含む成形された形状等の適切な形態の金属で充填されてもよい。
【００５６】
水素化段階はまた、気相中で、好ましくは触媒を用いて、当業者にとって通常の方法で実施することができる。当業者は、反応が実質的に定量的であるように操作条件を選択することができる。
【００５７】
水素化反応において使用され得る触媒には、この目的のために既に知られているものが含まれる。特に第ＶＩＩＩ族の金属またはレニウムを主成分とする触媒が挙げられる。この触媒は、担持されていてもよく（例えば、木炭、アルミナ、フッ化アルミニウム等）、または担持されていなくてもよい（例えば、ラネーニッケル）。適切な金属には白金およびパラジウムが含まれ、有利には木炭またはアルミナに担持されており、パラジウムが好ましい。この金属は、銀、銅、金、テルル、亜鉛、クロム、モリブデンまたはタリウムのような他の金属と組み合わせることもできる。これらの水素化触媒は既知である。
【００５８】
触媒は、任意の適切な形態、例えば、流動床の形態、または好ましくは固定床として存在してもよい。流れの方向は上向きでも下向きでもよい。触媒床内の触媒の分布は、発熱反応によって発生する熱流を制御するように設計することができる。従って、反応の発熱性を制御するために、例えば、触媒の電荷密度および気孔率勾配を調節することが可能である。例えば、触媒床の第１の部分はより少ない触媒を含むことができ、第２の部分はより多くの触媒を含むことができる。
【００５９】
触媒を活性化または再生するための段階は、既知の方法で工程に組み込むこともできる。窒素等の希釈ガスまたは好ましくはＨＦＣ−１４２を含有する生成物流のリサイクルされた部分の共供給もまた想定される。
【００６０】
水素化段階は発熱性であり、従って反応温度は、必要に応じて反応器内でこの目的のために設計された手段によって制御することができる。反応中、温度は数十度変化し得る。例えば、入口温度は２０℃から２５０℃の範囲であり、温度における利得は５℃から１００℃の範囲であり得る。
【００６１】
水素化反応は、好ましくは０．１から２０バールの間、有利には１から５バールの間の絶対圧で行われる。
【００６２】
接触時間（触媒の体積と総充填流量との間の比）は、一般に０．１から１００秒の間、好ましくは１から５０秒の間、有利には２から１０秒の間である。
【００６３】
注入される水素の量は、広い範囲内で変化し得る。水素／有機物の比は広い範囲、特に１（化学量論量）から５０の間、好ましくは１．５から２０の間、有利には３から１５の間で変化し得る。高い比は、希釈、ひいては反応の発熱性のより良好な管理に繋がる。
【００６４】
一実施形態によれば、非常に良好な転化率および選択率を維持しながら水素化反応の発熱性を制御するおよび／または触媒の失活を低減することが可能である。
【００６５】
この実施形態による方法は、（ａ）ＨＣＣ−１１２２を気相で超化学量論的な量で２０から２００℃の間、好ましくは５００から１２０℃の間の温度で、水素化触媒の存在下、水素と反応させ；（ｂ）ＨＣＦＣ−１４２、未反応水素および場合により未反応ＨＣＣ−１１２２を含む、反応器から生じるガス状排出流の一部をリサイクルし、（ｃ）ＨＣＦＣ−１４２を場合により精製段階の後に、反応器から生じるガス状排出流の他の部分から回収することを特徴とする。
【００６６】
リサイクルループおよび反応物質を含むガス流は、反応器に導入する前に予熱することができる。断熱性の反応器が好ましい。
【００６７】
段階（ｉ）および（ｉｉ）を含む工程の最後に、得られたＨＦＣ−１４２を有利に精製することができる。
【実施例】
【００６８】
以下の非限定的な実施例によって本発明をさらに説明する。
【００６９】
［実施例１］
１，１，１−トリフルオロ−２−クロロエタン（ＨＣＦＣ−１３３ａ）の脱フッ化水素処理
使用した触媒は、空気およびフッ化水素を用いて約２８０℃で固定床中でアルミナをフッ素化することによって調製したＡｌＦ３触媒であった（空気中の酸の体積濃度は５から１０％の範囲である）。触媒は以下の物理化学的特性を有する：
−  形態：直径０．５から２ｍｍのビーズ
−  ＢＥＴ比表面積：２２０ｍ２／ｇ
−  細孔容積：１．３ｃｍ３／ｇ
【００７０】
炉の内部に設置された２５０ｃｍ３のＩｎｃｏｎｅｌ（Ｒ）反応器に、固定床の形態のＡｌＦ３触媒１０ｇを充填した。触媒を窒素下で２５０℃および大気圧で乾燥させた。一晩後、床の温度を５００℃に上昇させ、窒素流をゼロに減少させ、１，１，１−トリフルオロ−２−クロロエタン（ＨＣＦＣ−１３３ａ）を２秒の接触時間で反応器に供給した。
【００７１】
１，１，１−トリフルオロ−２−クロロエタン（ＨＣＦＣ−１３３ａ）の転化率は、約４５．０％であった。所望の（ＨＣＣ−１１２２）生成物の選択率は、約９３．０％であった。
【００７２】
［実施例２］
１−クロロ−２，２−ジフルオロエチレン（ＨＣＣ−１１２２）の水素化
炉の内部に設置された管状反応器に１０ｇの湿潤０．５％Ｐｄ／Ｃペレット型触媒を入れた。触媒を窒素下で１１０℃および大気圧で最初に乾燥させた。次に、窒素流中に水素を導入し、温度を１１０℃に維持することによって触媒を還元した。２時間後、床の温度を８０℃に下げ、窒素流をゼロに減少させ、１−クロロ−２，２−ジフルオロエチレン（ＨＣＣ−１１２２）を反応器に供給した。有機原料に対する水素のモル比は８．７であった。接触時間は約４．５秒であった。１−クロロ−２，２−ジフルオロエチレン（ＨＣＣ−１１２２）の転化率は約１００．０％であった。所望の（ＨＣＦＣ−１４２）生成物の選択率は約９８．７％であった。