(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
生体組織に高周波電流を流す中性極デバイスであって、
第１面及び第２面を有する支持構造体（４０）と、
前記支持構造体（４０）の前記第１面に配置される１以上の電極（３４、３４’）と、
前記支持構造体（４０）の前記第２面に配置され、熱を吸収する相変化物質（ＰＣＭ）とを含み、
前記相変化物質は、少なくとも一部が複数のブロック（３７、３７’）となり、当該複数のブロック（３７、３７’）の少なくとも一部は、複数の空隙（３８、３８’）を形成するために、相互に離間して前記支持構造体（４０）の前記第２面に配置され、
前記相変化物質は、スポンジ状のポリマー構造を有する
中性極デバイス。
【請求項２】
複数の電極（３４、３４’）を特徴とし、具体的には、アルミニウム合金から作製された複数の電極（３４、３４’）を特徴とする
請求項１に記載の中性極デバイス。
【請求項３】
前記中性極デバイスは、ヒドロゲルである粘弾性流体類からなる導電性物質を含むことを特徴とする
請求項１又は２に記載の中性極デバイス。
【請求項４】
前記複数のブロック（３７、３７’）は、それぞれ、多面体である幾何学体に形成されている
請求項１〜３のいずれか１項に記載の中性極デバイス。
【請求項５】
前記複数のブロック（３７、３７’）は、前記支持構造体（４０）から離れる方向に先細りになる
請求項１〜４のいずれか１項に記載の中性極デバイス。
【請求項６】
前記複数のブロック（３７、３７’）によって区切られた前記複数の空隙（３８、３８’）は、前記支持構造体（４０）全体にわたり、複数の直線に沿って延在する
請求項１〜５のいずれか１項に記載の中性極デバイス。
【請求項７】
２以上の前記複数のブロック（３７、３７’）は、同一の形状を有し、相互に一定の間隔で、かつ／あるいは、相互に一定の距離をずらして、前記支持構造体（４０）に配置される
請求項１〜６のいずれか１項に記載の中性極デバイス。
【請求項８】
少なくとも一部の前記複数のブロック（３７、３７’）は、サーモクロミック染料及び／又は着色顔料を含む
請求項１〜７のいずれか１項に記載の中性極デバイス。
【請求項９】
少なくとも一部の前記複数のブロック（３７、３７’）は、第１相変化物質を有する、下層である第１層（３７ａ）と、第２相変化物質を有する、上層である第２層（３７ｃ）とを含み、当該第１相変化物質の融点は、当該第２相変化物質の融点よりも有意に高く、具体的には５％以上高い、かつ／あるいは、１０％以上高い
請求項１〜８のいずれか１項に記載の中性極デバイス。
【請求項１０】
組織を凝固させ、かつ／あるいは切断するための電気手術システムであって、
請求項１〜９のいずれか１項に記載の中性極デバイス（３０）と、
１以上の電気手術器具、具体的にはモノポーラ器具（２０）と、
前記中性極デバイス（３０）及び前記１以上の器具（２０）に接続される高周波発生器とを含む
電気手術システム。
【請求項１１】
中性極デバイス、具体的には、請求項１〜９のいずれか１項に記載の中性極デバイス（３０）の製造方法であって、
支持構造体（４０）を製造するステップと、
少なくとも部分的には下方に開口した鋳型（５０）であって、ブロック（３７、３７’）を製造するための複数のセグメント（５２、５２’）を含み、当該複数のセグメントは隣接する複数のセグメント（５２、５２’）と複数の隔壁（５１、５１’）で隔てられる鋳型（５０）を、前記支持構造体（４０）上に配置するステップと、
相変化物質（ＰＣＭ）が少なくとも部分的には液体となるよう、当該相変化物質を加熱するステップと、
加熱した前記相変化物質を前記鋳型（５０）に注入するステップと、
前記鋳型（５０）を取り外すステップとを含む
製造方法。
【請求項１２】
前記支持構造体（４０）を製造するステップにおいて、フィルム、具体的にはＰＥＴ支持体（３３）に１以上の電極（３４、３４’）を塗布し、当該フィルムにおける当該電極（３４、３４’）とは反対側の面に繊維構造体、具体的には不織布支持体（３２）を塗布し、糊付けする
請求項１１に記載の製造方法。
【請求項１３】
前記相変化物質と前記フィルムとが一体的に結合されるよう、前記繊維構造体を選択し、前記相変化物質を前記鋳型（５０）に注入する
請求項１２に記載の製造方法。
【請求項１４】
相互に異なる複数の相変化物質であって、具体的には融点が異なる複数の相変化物質を、連続的して前記鋳型（５０）に注入する
請求項１１〜１３のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１５】
１以上の相変化物質をスポンジ状のポリマー構造に加工する
請求項１１〜１４のいずれか１項に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、潜熱蓄熱体、具体的には相変化物質（ＰＣＭ）を有する中性極デバイスに関し、対応の中性極デバイスを有するシステム、及び中性極デバイスの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
高周波手術（ＲＦ手術）においては、組織を治療又は切断する目的で人体に高周波の交流電流を流す。メスを利用した従来の切断技術と比較して、切断と同時に該当部分の血管を塞ぐことで出血を少なくすることができ、場合によっては止血までできるという大きな利点がある。
【０００３】
よく利用されている技術は、モノポーラ（単極）である。この場合、高周波電圧源の一極を最も可能な部分を介して患者につなぐ。この電極は、中性極と呼ばれる。もう一方の極（アクティブ電極）は、手術器具にある。このアクティブ電極から中性極に電流が流れる。電流密度は、アクティブ電極のすぐ近傍で最大になる。このときに組織が凝固する、あるいは切断される。
【０００４】
中性極の場合、肌と近接の電極との間で過度に高い伝達抵抗が生じることのないようにしなければならない。伝達抵抗が高いと、生体組織がかなり熱せられ、火傷になることもある。最近、周波数が比較的高い電流を長時間流す方法の多くで問題が生じている。中性極の箇所で火傷になる危険性が高まっている。このとき、中性極の縁の部分における物理的条件次第で、その部分に最大の熱が生じることも留意点である。火傷は、この縁の部分で起こる可能性が特に高い。
【０００５】
組織に不要な損傷を与えないよう、表面積を大きくした中性極が使用されており、これによって、中性極のすぐ近傍の電流密度は下げられている。また、中性極の部分的な剥離を見つけるための装置であって、こうした場合に対応するための装置であるモニタリング装置がある。
【０００６】
現在の標準として、所定の長さの時間、ある電流を流し続けた場合の中性極における温度上昇が最大値を超えないようにする試験がある。
【０００７】
ドイツ特許出願第１０  ２００８  ０４６  ３００号（Ａ１）には、相変化物質を使って熱を吸収することで熱のピークを吸収する中性極デバイスが開示されている。この中性極デバイスの問題は、組織に確実に接触させるため、表面積が比較的小さくなるように作られなければならないということである。
【０００８】
米国特許第６，１８３，８５５号（Ｂ１）も参照すると、概して、衣料品に相変化物質を使用することが開示されている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、ドイツ特許出願第１０  ２００８  ０４６  ３００号（Ａ１）を発展させた改良版の中性極デバイスについて説明することを目的とする。具体的には、接触特性（中性極デバイスと組織との間の接触状態）は良好なまま、熱吸収力が向上する。
【００１０】
さらに、対応の電気手術システム及び中性極デバイスの製造方法を説明する。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
この目的は、請求項１に記載の中性極デバイス、請求項１０に記載のシステム、及び請求項１１に記載の方法によって、達成される。
【００１２】
具体的にこの目的を達成するのは、生体組織に高周波電流（例えば１００ｋＨｚ〜１ＭＨｚ）を流す中性極デバイスであって、第１面及び第２面を有する支持構造体と、前記支持構造体の第１面に配置される１以上の電極と、支持構造体の第２面に配置され、熱を吸収する相変化物質とを含み、相変化物質は、少なくとも一部が複数のブロックとなり、複数のブロックの少なくとも一部は、複数の空隙を形成するために、相互に離間して支持構造体の第２面に配置される。
【００１３】
柔軟性を高めるために少なくとも部分的には相互に間隔を空けて並べられたマトリクス状の複数のブロックに、相変化物質を流し込む。この間隔又は空隙によって、平面被覆型の中性極デバイスに比べ、高い柔軟性が実現される。可能な中性極デバイスとしては、この目的に合わせた表面を患者の大腿部等に取り付けることができる中性極デバイスがある。このような表面は、患者ごとに形状が異なり、丸みを帯びている。中性極デバイスは、ブロック間の間隔によって柔軟になるので、ほぼ全ての患者に思い通りに取り付けることができる。ブロックは、好ましくは、中性極デバイスの支持構造体の第２面に配置される。この面は、好ましくは、患者に取り付けられた際に中性極デバイスの支持構造体における組織とは反対側（組織遠位側）の面である。
【００１４】
支持構造体は、複数の電極を含んでよい。どういった支持構造体かによるが、支持構造体の第１面に電極を設けることもできる。使用する電極は、好ましくは、薄膜電極であり、かつ／あるいは、アルミニウム合金から作製される。
【００１５】
一実施形態において、中性極デバイスは、導電性物質、具体的には、粘弾性流体類からなる導電性物質を含む。これは、ヒドロゲルであってもよく、ヒドロゲルであれば、前記１以上の電極と組織との密着性が高まる。この導電性物質は、好ましくは、支持構造体の第１面、すなわち、組織対向側の面に設けられる。
【００１６】
少なくとも一部のブロックを幾何学体に形成することができる。この場合、好ましくは多面体である。この幾何学体は、中性極デバイスに高い柔軟性を持たせるような形態で、容易に形成及び配置されることが可能である。
【００１７】
全ブロック又は全ブロックのうちの少なくとも一部のブロックは、支持構造体から離れる方向に先細りになっていてもよい。したがって、ブロック間の間隔は必ずしも一定でなくてよく、ブロックの底部に向かう方向に間隔を狭めることができる。本発明によれば、ブロックは相互に接触していてよく、それぞれの底部の領域でつながっていてもよい。前述した空隙は、支持構造体からさらに離れた領域に形成されることになる。
【００１８】
支持構造体の方向にブロックの幅が広がることは、できる限り広い面積でエネルギーを吸収でき、その部分では柔軟性がほとんど制限されないという利点がある。一実施形態において、ブロックによって区切られた空隙は、複数の直線に沿って延在する。このように、複数の直線すなわち空隙が全体として網目状に形成される例もある。一実施形態において、これらの直線のうち、一部の直線は相互に直角に接触し、あるいは平行に隣接して配置される。
【００１９】
一実施形態（別の実施形態）において、交差する直線であって、これに沿って空隙が形成される直線のうち、一部の直線は、角度をなす。この角度の各測定値がとり得る最小値の範囲は、３０度〜９０度、好ましくは５０度〜９０度である。この点に関し、ブロックを規則正しく配列することで、高い柔軟性が確保される。
【００２０】
これらのブロックの形状は、それぞれ異なってもよい。例として、これらのブロックは、長方形に形成することができ、断面が台形の構造体とすることもでき、あるいは涙滴形状とすることもできる。ブロックの底部は、好ましくは、支持構造体とつながっている。ブロックの高さは、最大でも１ｃｍとし、８ｍｍ又は６ｍｍでもよい。好ましくは、支持構造体が広がる平面、具体的には支持構造体の第２面から測定した最大高さが４ｍｍである。
【００２１】
例として、一実施形態において、ブロックの最大体積は、１ｃｍ３、好ましくは０．５ｃｍ３である。
【００２２】
一実施形態において、２以上の複数のブロックは、同一の形状を有する。複数のブロックは、少なくとも部分的に、相互に一定の間隔で、かつ／あるいは、相互に一定の距離をずらして、支持構造体に配置されることが可能である。
【００２３】
少なくとも一部のブロックは、サーモクロミック染料及び／又は着色顔料を含んでよい（例えば、０．１〜４重量％、特に０．５〜２．５重量％）。相変化物質の溶融状態を見えるようにするために、サーモクロミックインクを使用することが可能である。この点に関し、サーモクロミック染料を含む相変化物質は、熱を吸収するだけでなく、危険な状態又は使用状況の表示も行える（潜熱蓄熱体の蓄熱容量の５０％が使用済みである等）。
【００２４】
相変化物質の均一な混合物からブロックをすべて作製することができる。一実施形態において、少なくとも一部のブロックは、多層構造であり、それらの層は、好ましくは、支持構造体に平行に延在する。例として、第１相変化物質を有する下層である第１層と、第２相変化物質を有する、好ましくは上層である第２層とを設けることができる。第１相変化物質は、第２相変化物質と融点が異なるという点で異なっていてよい。例として、第１相変化物質の融点は、第２相変化物質の融点よりも５％及び／又は１０％及び／又は２０％高くてよい。融点が異なる相変化物質又は相変化物質層をさらに設けることも考えられる。好適な実施形態において、ブロックは、支持構造体から遠ざかるにつれ、融点が連続的に、又は、連続することなく段階的に、低下するよう、相変化物質から作製される。例として、最下層は約３０°Ｃで溶融するのに対し、それより上の層は２８°Ｃ及び２５°Ｃで溶融するとしてもよい。これによって、電極及び／又は組織からの熱移動が向上する。これに代えて、あるいは、これに加えて、積層構造中の位置によって熱伝導性が異なるブロックを形成することもできる。
【００２５】
本発明では、通常、融点が２０度〜４０度、好ましくは２５度〜３０度の範囲にある相変換物質を使用することができる。
【００２６】
序文で示した目的は、システム、具体的には、組織を凝固させ、かつ／あるいは切断するための電気手術システムによっても達成される。このシステムは、好ましくは、中性極デバイスと、１以上の電気手術器具、具体的にはモノポーラ器具と、この中性極デバイス及びこの１以上の器具に接続される高周波発生器（動作周波数が１００ｋＨｚ〜１ＭＨｚ）とを含む。
【００２７】
一実施形態において、この中性極デバイスは、前述の実施形態のいずれかで説明したものである。その中性極デバイスの説明に併せて既に述べた利点と同様の利点が得られる。
【００２８】
序文で示した目的は、中性極デバイスの製造方法によっても達成される。この方法は、支持構造体を製造するステップと、少なくとも部分的には下方に開口する鋳型であって、ブロックを製造するための複数のセグメントを含み、その複数のセグメントは隣接する複数のセグメントと複数の隔壁で隔てられる鋳型を、支持構造体上に配置するステップと、相変化物質が少なくとも部分的には液体となるよう、当該相変化物質を加熱するステップと、加熱したその相変化物質を鋳型に注入するステップと、鋳型を取り外すステップとを含んでよい。
【００２９】
一実施形態において、この中性極デバイスは、上述の特徴の一部又は全てを有する。
【００３０】
その中性極デバイスに関する限りは、その説明に併せて説明した利点と同様の利点が得られる。
【００３１】
下方に開口した鋳型を使用することで、相変化物質を迅速に、かつ効率的に塗布することができる。
【００３２】
一実施形態において、支持構造体を製造するステップにおいて、フィルム、具体的にはＰＥＴフィルム、すなわちＰＥＴ支持体に１以上の電極を塗布する。さらに、フィルムにおける電極とは反対側の面に繊維構造体、具体的には不織布支持体を設けることができる。フィルムと繊維構造体とは、相互に糊付けすることができる。
【００３３】
この繊維構造体は、特に、ブロックとの強固な結合を実現させるのに適している。
【００３４】
相変化物質を鋳型に注入して、相変化物質とフィルムとが一体的に結合されるようにすることができる。最終的に、この結合ができると、相変化物質は、繊維構造体を貫通し、フィルムと接触する。これによって、使用中、電極が熱くなった際には、急速に放熱される。
【００３５】
一実施形態において、異なる複数の相変化物質であって、具体的には融点が異なる複数の相変化物質を、連続的して鋳型に注入する。この結果、前述の積層構造が形成され、熱伝導性、すなわち熱移動が向上する。
【００３６】
複数の相変化物質のうち、少なくとも１つは、ポリマー構造に加工する。ポリマー構造は、スポンジ状であってよい。ポリマー構造にすることで、加工が向上する可能性があり、また、使用中に相変化物質が部分的または全体的に溶融しても、使用ブロックの形状が維持できるようになる。このため、本発明に係る中性極デバイスの可撓性は、相変化物質が再硬化したとしても維持される。
【００３７】
支持構造体には、織布、ＮＣＦ（Ｎｏｎ−Ｃｒｉｍｐ  Ｆａｂｒｉｃ）、不織布又は編布が含まれてよい。少なくとも部分的に液化状態にある相変化物質が少なくとも部分的には浸潤及び／又は浸透できる目の粗い織布、ＮＣＦ、不織布又は編布の使用が好ましい。これにより、製造が簡単になり、中性極デバイスの熱伝導性が向上する。織布、ＮＣＦ、不織布又は編布は、例えば、経糸密度及び／又は緯糸密度が１センチメートルあたり最大３０、２０、又は１０本と低い。
【００３８】
従属請求項で、さらに好適な実施形態をより明確にする。以下では、図面に基づき本発明を説明する。
【００３９】
図面は、以下のとおりである。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】図１は、組織を凝固させ、かつ／あるいは切断するためのモノポーラ電気手術器具と、中性極デバイスとを含む電気手術システムを示す図である。
【図２】図２は、図１の中性極デバイスにおける支持構造体に配置された複数のＰＣＭブロックの詳細を示した略図である。
【図３】図３は、図２の中性極デバイス、特にＰＣＭブロックの断面の一例を示す図である。
【図４】図４は、台形のＰＣＭブロックを含む別の中性極デバイスの側面図である。
【図５】図５は、円筒状のＰＣＭブロックを含む中性極デバイスの別の一実施形態を示す図である。
【図６】図６は、ＰＣＭブロックが多層構造の別の中性極デバイスの断面図である。
【図７】図７は、図１の中性極デバイスを製造する鋳型の一例を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００４１】
以下、同様の構成要素には同一の参照符号を付して説明する。
【００４２】
図１は、電気手術システムを示す。この電気手術システムは、高周波発生器１０と、モノポーラ器具２０と、中性極デバイス３０とを含む。高周波電流を流すと、モノポーラ器具２０と中性極デバイス３０との間に電圧（例えば、１００Ｖ〜５０００Ｖ）がかかる。治療対象の人体、本例では胴体１の生体組織に高周波の治療用電流（例えば、数アンペア）を流す。モノポーラ器具２０のすぐ近傍で電流密度が高くなり、隣接する組織を凝固させる、あるいは切断する。
【００４３】
中性極デバイス３０の部分で火傷しないよう、本発明では、潜熱蓄熱体が設けられる。図２は、対応の中性極デバイス３０を詳細に示す図であり、この中性極デバイス３０には、支持構造体４０と、支持構造体４０に配置された複数のＰＣＭブロック３７、３７’とが含まれる。
【００４４】
ＰＣＭブロック３７、３７’は、規則的に、具体的にはマトリクス状に配置される。中性極デバイス３０に最大限の可撓性をもたせるよう、ＰＣＭブロック３７、３７’は相互に離間している。したがって、個々のＰＣＭブロック３７、３７’間は谷間となり、縦方向及び横方向それぞれに空隙３８、３８’を形成する。図示した実施形態では、空隙３８、３８’は、相互に垂直又は平行に延在する。こうして、格子状の空隙３８、３８’が形成される。
【００４５】
この実施形態では、ＰＣＭブロック３７、３７’は、底面がほぼ正方形で、高さ（支持構造体４０の表面からＰＣＭブロック３７、３７’の外面までを測定した高さ）が約３ｍｍである。
【００４６】
図３は、図２の中性極デバイス３０の縁の領域の概略断面図である。この断面における中性極デバイス３０の主要部品は、電源側（組織遠位側）の面と下面（組織対向側の面）とを有する支持構造体４０、及びＰＣＭブロック３７である。このＰＣＭブロック３７は、支持構造体４０の上面に配置され、固定される。支持構造体４０の下面には、複数の電極３４、３４’が相互に離間して配置される。電極３４、３４’はヒドロゲル層３６に覆われ、配置時には、このヒドロゲル層３６が患者の肌等の組織と直に密着する。
【００４７】
支持構造体４０は、不織布支持体３２とＰＥＴ支持体３３とを含む。本実施形態において、ＰＥＴ支持体３３は、不織布支持体３２に糊付けされる。ＰＥＴ支持体３３の厚さは、２０μｍ〜８０μｍとしてよく、図示した実施形態では、５０μｍになる。ＰＥＴ支持体３３は、中性極デバイス３０を機械的に安定させるために用いられ、下面で電極３４、３４’のＰＥＴ部分と接続され、他方の面で不織布支持体３２と接続される。不織布支持体３２は、ポリエステル製の不織布であってよく、生体適合性を有する接着剤によって、ＰＥＴ支持体３３に密着させることができる。
【００４８】
本実施形態では、支持構造体４０は、ＰＥＴ支持体３３と不織布支持体３２とを含む。本発明において、支持構造体４０は、電極３４、３４’も含み、可能であればヒドロゲル層３６をも含むようにすることもできる。
【００４９】
ＰＣＭブロック３７、３７’は、スポンジ状のポリマー構造を有し、これによって、加工が向上し、かつＰＣＭが溶融しても、製造時のＰＣＭブロック３７、３７’の構造のまま、形状を維持できるようになる。
【００５０】
図４は、別の中性極デバイス３０の概略側面図である。ここでもＰＣＭブロック３７、３７’は、支持構造体４０に配置される。ブロック３７、３７’の底部は、前述の実施形態の場合と同様、支持構造体４０に接続される。ＰＣＭブロック３７は、支持構造体４０から遠ざかるにつれて先細りになる。図示した実施形態では、ブロックは、縦断面及び横断面の形状が台形である。対応の実施形態として、２つの断面のいずれか一方のみが台形となるよう、ＰＣＭブロック３７、３７’を形成することも考えられる。本発明において、本実施形態のＰＣＭブロック３７、３７’の底部は、相互に接触してもよく、あるいは相互にわずかに離間してもよい。ＰＣＭブロック３７、３７’の側壁間の距離は、支持構造体４０から遠ざかるにつれて大きくなる。図４に示す間隙３８等、縦方向に延在する間隙３８、３８’が形成される。
【００５１】
図５は、本発明の中性極デバイス３０の別の実施形態を示す図である。ここで、ブロック３７、３７’は、垂直方向の円筒状、つまり直立した円筒状に形成され、かつ、前述の実施形態と同様、支持構造体４０に固定され、本実施形態においても、一種のマトリクス状に配置される。また、本発明において、ＰＣＭブロック３７、３７’は、相互にずらされて配置される。例として、２列目のＰＣＭブロックを１列目のＰＣＭブロックから約３ｍｍずらして配置するよう、図５又は図２の実施形態を変更することが考えられる。本実施形態において、一部の間隙３８、３８’は、鈍角又は鋭角に交差する。
【００５２】
図６は、いくつかの特徴について、図３に対応する。一方、図示した実施形態において、ＰＣＭブロック３７は、多層構造を有する。ＰＣＭブロック３７は、下（組織近位側）から上（組織遠位側）に、第１ＰＣＭ層３７ａと、第２ＰＣＭ層３７ｂと、第３ＰＣＭ層３７ｃとを含む。本発明において、ＰＣＭブロック３７を多層構造にする場合は、融点が異なるＰＣＭを使用してもよい。例として、第１ＰＣＭ層３７ａは、３０°Ｃで溶融し、第２ＰＣＭ層３７ｂは、２８°Ｃで溶融し、第３ＰＣＭ層３７ｃは、２５°Ｃで溶融するように構成される。したがって、第３ＰＣＭ層が最初に溶融し、下地層から熱を奪う。これによって、中性極デバイスが貼られる組織からの熱移動が向上する。本発明では、層数の増減が可能である。個々のＰＣＭ層３７ａ、３７ｂ、３７ｃ間の層遷移状態も、離散的でなくても、図６に示すような平面的でなくてもよい。個々のＰＣＭ層３７ａ、３７ｂ、３７ｃは、境界領域で混ざり合ってもよく、湾曲部分及び凹みのある境界層を形成してもよい。本実施形態の主な特徴は、ＰＣＭブロック３７内部の２以上の地点で、使用したＰＣＭの融点が異なることである。ここで、支持構造体４０から離れた地点ほど、他の地点よりも融点が低いことが好ましい。
【００５３】
図７は、鋳型５０の概略平面図であり、この鋳型５０を用いて、例えば、図２の中性極デバイス３０を製造できる。この鋳型５０は、ほぼ長方形の枠体５３を有し、この内部に複数の隔壁５１、５１’が横方向及び縦方向に配置される。隔壁５１、５１’は、上方及び下方に開口したセグメント５２、５２’を区切る。本発明に係る中性極デバイスの製造方法には、以下のステップが含まれる。支持構造体４０を製造するステップと、鋳型５０を支持構造体４０上に配置するステップと、相変化物質が少なくとも部分的には液化するよう、相変化物質を加熱するステップと、セグメント５２、５２’を少なくとも部分的には充填するよう、相変化物質を鋳型５０に注入するステップと、鋳型５０を取り外すステップとが含まれる。
【００５４】
取り外しは、ブロック３７、３７’が少なくとも部分的に硬化してから行われれるとよい。必要に応じて、異なる相変化物質、例えば、積層構造体製造用の相変化物質を連続して注入することができる。注入過程において、経時変化するＰＣＭについて、例えば、支持構造体４０から遠ざかるにつれてＰＣＭの融点が低くなるような混合率にすることも考えられる。
【００５５】
以下では、ＰＣＭを有する本発明の支持構造体４０を製造する場合に取り得る、その他の選択事項について説明する。
【００５６】
本発明において、前述の各実施形態をそれぞれ任意に組み合わせることができる。例として、図４の実施形態では、ＰＣＭブロック３７、３７’について多層構造を選択してもよい。図７の鋳型５０は、図５の中性極デバイス３０を製造できるように、変更できる。さらに、例として、中性極デバイス３０において、ＰＣＭブロック３７の配列をずらしたり、不規則にしたりすることも考えられる。また、中性極デバイス３０のＰＣＭブロック３７には、異なる形状（正方形、円筒形、立方体、台形、角錐等）のものが含まれてもよい。
【符号の説明】
【００５７】
１  胴体
１０  高周波発生器
２０  モノポーラ器具
３０  中性極デバイス
３２  不織布支持体
３３  ＰＥＴ支持体
３４、３４’  電極
３６  ヒドロゲル
３７、３７’  ＰＣＭブロック
３７、３７ｂ、３７ｃ  ＰＣＭ層
３８、３８’  空隙
４０  支持構造体
５０  鋳型
５１、５１’  隔壁
５２、５２’  セグメント
５３  枠体
【図１】
0006630230.tif 000002
【図２】
0006630230.tif 000003
【図３】
0006630230.tif 000004
【図４】
0006630230.tif 000005
【図５】
0006630230.tif 000006
【図６】
0006630230.tif 000007
【図７】
0006630230.tif 000008