(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
リソグラフィ装置（100）用のミラー（204）であって、
光学的活性領域（220）及び光学的不活性領域（222）を備え、前記光学的不活性領域（222）の少なくとも一部が前記光学的活性領域（220）の内側に配置された表面（226）を有するミラー本体（224）と、
前記光学的不活性領域（222）に配置され、機械的安定化手段（232）を備える、前記ミラー（204）の光学収差の低減手段（218）と、
を備えるミラー。
【請求項２】
請求項１に記載のミラーであって、前記光学的活性領域（220）が、研磨面及び／又はミラーコーティングを備えるミラー。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のミラーであって、前記光学的不活性領域（222）は、その全体が、前記光学的活性領域（220）の内側及び／又は中央部に配置されているミラー。
【請求項４】
請求項１乃至３の何れか一項に記載のミラーであって、前記ミラー（204）が、前記光学的活性領域（220）及び前記光学的不活性領域（222）の上方に体積（228）を備え、前記光学収差の低減手段（218）が、前記体積（228）のうち、光学的に使用されない部分体積（230）内に突入しているミラー。
【請求項５】
請求項４に記載のミラーであって、前記光学的に使用されない部分体積（230）が、一点に向けてテーパ状となり、及び／又は、円錐台形状を有し、及び／又は、楕円形状のベース面を有するミラー。
【請求項６】
請求項１乃至５の何れか一項に記載のミラーであって、前記機械的安定化手段（232）が、振動ダンパーを備えるミラー。
【請求項７】
請求項１乃至６の何れか一項に記載のミラーであって、前記機械的安定化手段（232）が、同調質量ダンパーを備えるミラー。
【請求項８】
請求項１乃至７の何れか一項に記載のミラーであって、該ミラー（204）がブレース（500）を備え、該ブレース（500）が、一端では前記機械的安定化手段（232）に接続され、他端では前記ミラー本体（224）に接続されているミラー。
【請求項９】
請求項８に記載のミラーであって、前記ブレース（500）が、光学収差を補償するために能動的に作動可能であるミラー。
【請求項１０】
請求項１乃至９の何れか一項に記載のミラーであって、前記光学的不活性領域（222）の下方における前記ミラー本体（224）の領域（602）が、前記ミラー本体（224）の隣接領域とは異種の材料よりなるミラー。
【請求項１１】
請求項１乃至１０の何れか一項に記載のミラーであって、前記ミラー本体（224）の温度制御手段（700）を更に備えるミラー。
【請求項１２】
請求項１１に記載のミラーであって、前記光学収差の低減手段（218）が、前記ミラー本体（224）の前記温度制御手段（700）を含むミラー。
【請求項１３】
請求項１１に記載のミラーであって、前記ミラー本体（224）の前記温度制御手段（700）が、前記光学収差の低減手段（218）の下方における前記ミラー本体（224）内に設けられているミラー。
【請求項１４】
請求項１乃至１３の何れか一項に記載のミラーであって、前記光学収差の低減手段（218）が、円錐形状を有するミラー。
【請求項１５】
請求項１乃至１４の何れか一項に記載のミラー（204）を備えるリソグラフィ装置（100）。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、リソグラフィ装置用のミラー及びリソグラフィ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
本願における優先権主張の基礎出願、ドイツ国特許出願第102014224822号における開示は、その全体が参照により本願明細書に組み込まれるものとする。
【０００３】
リソグラフィ装置は、例えば、集積回路の製造に際して、マスクに形成されるマスクパターンをシリコンウェハ等の基板上に結像させるために使用される。この場合、投影光学ユニットを使用することにより、マスクパターンを基板上に結像させる。このような投影光学ユニットは、複数のミラーで構成される。これら複数のミラーの構成において、光学的観点で最適な構成要件と、動的観点で最適な構成要件は必ずしも両立しない。各ミラーが位置決めされるべき位置は、投影光学ユニットにより規定される。仮に投影光学ユニット内における特定箇所にてスペースが僅かしかなければ、ミラーを薄く構成するしかない。しかしながら、動的観点を考慮すれば、ミラーを大きな厚さで構成し、その剛性を向上させるのが有利な場合がある。例えばミラーが薄過ぎて機械的に不安定であれば、光学収差が生じる可能性があるからである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】国際公開第2010/028748号公報
【発明の概要】
【０００５】
上述した背景事情に鑑み、本発明の課題は、光学収差を低減可能なリソグラフィ装置用のミラーを提供すると共に、特に、そのようなミラーを備えるリソグラフィ装置を提供することである。
【０００６】
この課題は、表面を有するミラー本体を備えるリソグラフィ装置用ミラーにより解決される。ミラーの表面は、光学的活性領域及び光学的不活性領域を備えると共に、光学的不活性領域の少なくとも一部が光学的活性領域の内側に配置される。これに加えて、ミラーは、光学的不活性領域内に配置されると共に、光学収差の低減手段を更に備える。この場合、光学収差の低減手段は、機械的安定化手段を備える。
【０００７】
有利には、ミラーの光学収差の低減手段が設けられる。したがって、ミラーは、ビーム経路における位置に起因して僅かな厚さで構成されるにも関わらず、光学収差が回避されるか又は低減される。ミラーにおける僅かな厚さに起因する不安定性は、光学収差の低減手段によって補償され得る。ミラーにおける光学収差の低減手段は、光学的不活性領域内に配置されるため、投影光学ユニット内におけるビーム経路に干渉することはない。更に、ミラーをコンパクトに構成することが可能となる。
【０００８】
光学収差の低減手段は、機械的安定化手段を備える。リソグラフィ装置内又は投影光学ユニット内におけるミラーの配置によっては、ミラーを僅かな厚さでしか構成できない場合がある。これは、リソグラフィ装置内又は投影光学ユニット内における該当領域において、ミラーをより大きな厚さで構成するためのスペースがないからである。僅かな厚さを有するミラーは、大きな厚さを有するミラーに比べて機械的安定性が小さい。機械的安定化手段を使用すれば、ミラーの機械的安定性を高めることが可能となり、僅かな厚さしか有さないミラーであっても機械的安定性が付与され得る。
【０００９】
ミラー本体の表面における光学的活性領域とは、リソグラフィ装置の作動時に放射波の反射を生じさせる領域を指す。また、ミラー本体の表面における光学的不活性領域とは、リソグラフィ装置の作動時に、その装置又は投影光学ユニットの構成に起因して放射波が当たらない領域を指す。
【００１０】
光学的不活性領域の少なくとも一部は、光学的活性領域の内側に位置している。特に、光学的不活性領域の全部は、光学的活性領域の内側に位置してよい。
【００１１】
更に、ミラーは、例えば光学収差の低減手段によって熱的に安定化されてもよい。これにより、ミラーの変形又は振動が回避又は低減される。したがって、ミラーにおける光学収差が生じないか、又は生じたとしてもより小さくなる。光学収差は、例えば、理想的な波面に対する実際の波面の偏差を測定することによって算出可能である。
【００１２】
ミラー本体及び／又は光学収差の低減手段は、セラミック材料又はガラスセラミック材料、例えば（ショット社が開発した）好適には低膨張係数を有するゼロデュア（登録商標）で構成されてよい。他の材料としては、炭化ケイ素、反応焼結炭化ケイ素（ＳｉＳｉＣ）、炭素繊維強化炭化ケイ素（ＣＳｉＣ）、窒化ケイ素（ＳｉＮ）及び酸化チタン‐酸化ケイ素ガラス、例えばＵＬＥ（登録商標）を使用してよい。更に、使用可能な材料は、特許文献１（国際公開第2010/028748号公報）の第16、17頁にも記載されており、その開示内容全体は参照により本願明細書に組み込まれる。
【００１３】
上述したミラーは、原理的に、任意の波長の電磁放射波に適している。本発明に係るミラーは、特に、ＥＵＶ（極端紫外線）及びＤＵＶ（遠紫外線）の波長範囲に適している。この場合、ＥＵＶの波長範囲は0.1〜30nm、ＤＵＶの波長範囲は、30〜200nmである。
【００１４】
ミラーの実施形態によれば、光学的活性領域は、研磨面及び／又はミラーコーティングを備える。これにより、有利には、本発明に係るミラーを使用し、所望の波長の放射波を反射可能である。
【００１５】
ミラーの他の実施形態によれば、光学的不活性領域は、その全体が光学的活性領域の内側及び／又は中央部に配置される。この場合、光学的不活性領域内に配置される光学収差の低減手段も、完全に光学的活性領域の内側及び／又は中央部に配置されるのが有利である。
【００１６】
ミラーの他の実施形態によれば、ミラーは、光学的活性領域及び光学的不活性領域の上方に体積を備え、光学収差の低減手段が、全体積のうち、光学的に使用されない部分体積内に突入している。光学的に使用されない部分体積内に光学収差の低減手段が突入するため、光学収差の低減手段は、対応する空間的な拡がりを有してよい。このような空間的拡がりは、光学収差の低減手段が機械的安定化手段又は熱的安定化手段を備えるために必要とされるものである。
【００１７】
ミラーの他の実施形態によれば、光学的に使用されない部分体積は、一点に向けてテーパ状となり、及び／又は、円錐台形状を有し、及び／又は、楕円形状のベース面を有する。光学的に使用されない部分体積は、基本的に任意の形状を有してよい。この場合、光学的に使用されない部分体積は、ビーム経路における絞りに応じて生じる。
【００１８】
ミラーの他の実施形態によれば、機械的安定化手段は、振動ダンパーを備える。振動ダンパーにより、ミラーに生じ得る振動が能動的又は受動的に減衰される。
【００１９】
ミラーの他の実施形態によれば、機械的安定化手段は、同調質量ダンパーを備える。同調質量ダンパーは、重り及びばねを備える。重り及びばねは、組み合わされることにより振り子を構成する。振り子の固有振動数は、除去すべき振動周波数、即ちミラーにおいて生じ得る振動に調整される。この周波数に調整された同調質量ダンパーにより、ミラーにおける固有振動運動を生じさせる振動エネルギーが消失する。したがって、好適には、１個以上の同調質量ダンパーを使用すれば、特定周波数又は複数の特定周波数でミラーの振動が減衰される。
【００２０】
ミラーの他の実施形態よれば、ミラーはブレースを備え、そのブレースが、一端では機械的安定化手段に接続され、他端ではミラー本体に接続される。有利には、機械的安定化手段及びブレースにより、ミラーの剛性を高めることができる。これにより、ミラーの変形及び／又は振動が低減される。更に、剛性を高めることができれば、厚さが僅かなミラーも使用可能となる。各ブレースは、機械的安定化手段及びミラー本体に固定されると共に、その構成に応じて、引張り負荷及び／又は圧縮負荷が加わり得る。ブレースは、大きな剛性を有する曲げ不可能な要素として構成してよい。この場合、圧縮負荷及び／又は引張り負荷がブレースに加わり得る。ただしブレースは、一種のロープ、ワイヤ又はケーブルとして構成してもよい。この場合、ブレースには、引張り負荷のみが加わり得る。
【００２１】
ミラーの他の実施形態によれば、各ブレースの一部は、光学的に使用される部分体積を通過するよう延びる。各ブレースは、光学的に使用されない部分体積から突出してよい。この場合、各ブレースは、リソグラフィ装置内のビーム経路又は投影光学ユニットの光学結像に可能な限り干渉しないよう構成される。この理由により、各ブレースは、薄く構成してよい。
【００２２】
ミラーの他の実施形態によれば、各ブレースは、第１端部及び第２端部を有する。この場合、第１端部は、機械的安定化手段において、ミラー本体から離れた箇所に接続され、第２端部は、ミラーのエッジに接続される。これにより、ブレースは、有利に接続可能であり、ミラーの補強、したがってミラーの安定化が可能となる。ブレースは、第１端部にて、好適には、機械的安定化手段の先端部又は上部に固定され、第２端部にて、好適には、光学的活性領域の外側におけるミラーのエッジに固定される。これにより、ミラーのエッジと機械的安定化手段の先端部との間に張力が生じ得る。この張力は、ミラーの補強、したがってミラーの安定化に寄与するものである。
【００２３】
ミラーの他の実施形態によれば、ブレースは、光学収差を補償するために能動的に作動可能である。ブレースには、特に、引張り負荷を加えてよい。ミラーは、個々のブレースに引張り負荷及び／又は圧縮負荷を加えることにより変形してよい。ミラーをこのように変形させることにより、光学収差が補償される。
【００２４】
ミラーの他の実施形態によれば、ブレースは、能動的な作動を可能とするために、第２端部にて、アクチュエータを介してミラーのエッジに接続される。有利には、ブレースは、アクチュエータによって作動させてよい。これにより、ブレースには、引張り及び／又は圧縮力が生じる。
【００２５】
ミラーの他の実施形態によれば、ミラーは支持カラムを備え、そのカラムが、一端では機械的安定化手段に接続され、他端では光学的活性領域内又は光学的不活性領域内におけるミラー本体に接続される。
【００２６】
支持カラムは、機械的安定化手段及びミラーの安定性を高めるために設けられる付加的な要素である。支持カラムは、一端では機械的安定化手段に固定され、他端ではミラー本体に固定される。ミラー本体への固定は、光学的活性領域内又は光学的不活性領域内で行ってよい。
【００２７】
支持カラムは、光学的に使用されない部分体積から突出してよい。この場合、支持カラムは、リソグラフィ装置内のビーム経路又は投影光学ユニットの光学結像に干渉しないよう構成される。
【００２８】
ミラーの他の実施形態によれば、光学的不活性領域の下方におけるミラー本体の領域は、ミラー本体の隣接領域とは異なる材料を備える。これにより、有利には、ミラーの安定性を高めることが可能となる。
【００２９】
ミラーの他の実施形態によれば、ミラーは、ミラー本体の温度を制御するための手段を備える。ミラー本体の温度制御手段を備えることにより、熱によって引き起こされるミラーの変形及び／又は不安定化を回避又は低減することが可能となる。ミラー本体の温度の制御手段により、ミラーの温度が一定又はほぼ一定に維持され得る。ミラーは、ミラー本体の温度制御手段により冷却又は加熱されてよい。
【００３０】
ミラーの他の実施形態によれば、光学収差の低減手段は、ミラー本体の温度制御手段を備える。これにより、有利には、光学的不活性領域が効果的に使用される。
【００３１】
ミラーの他の実施形態によれば、ミラー本体の温度制御手段は、ミラー本体内、特に光学収差の低減手段の下方に設けられる。この場合、有利には、ミラー本体の温度制御手段は、要素内、即ち可能な限り温度が一定に維持されるべきミラー本体内に予め設けられる。
【００３２】
ミラーの他の実施形態によれば、ミラー本体の温度制御手段は、複数の加熱素子を備える。複数の加熱素子を使用すれば、可及的に均一かつ一定の温度分布が保証される。
【００３３】
ミラーの他の実施形態によれば、加熱素子は、ミラー本体上及び／又は光学収差の低減手段上に分布される。有利には、加熱素子は、分布するよう配置されてよい。光学収差の低減手段における加熱素子は、ミラー本体の光学的活性領域を照射する放射ヒーターであってよい。
【００３４】
ミラーの他の実施形態によれば、光学収差の低減手段は、円錐形状を有する。これにより、光学収差の低減手段が、光学的に使用されない部分体積内に有利に収まる。
【００３５】
ミラーの他の実施形態によれば、ミラー本体は、光学的活性領域にて、凸状又は凹状である。
【００３６】
ミラーの他の実施形態によれば、光学収差の低減手段は、一体的に構成される。
【００３７】
更に、上述したミラーを備えるリソグラフィ装置用の投影システムが提供される。
【００３８】
投影システムの実施形態によれば、投影システムは、そのビーム経路に配置されると共に、ミラー本体の表面上における光学的不活性領域と、光学的活性領域及び光学的不活性領域の上方における光学的に使用されない部分体積とを生成する絞りを備える。有利には、絞りにより、光学的不活性領域及び光学的に使用されない部分体積が生成され、したがって上述した光学的不活性領域及び部分体積内に、光学収差の低減手段を容易に配置することができる。
【００３９】
更に、上述したミラー又は投影システムを備えるリソグラフィ装置が提供される。
【００４０】
本発明によって実現可能な更なる実施形態には、明示的に言及しないが、例示的な実施形態に関して上述又は後述する特徴又は実施形態の組み合わせも含まれる。この場合、当業者であれば、本発明の各基本形態に、個々の態様を改良又は付加として加えることもあるだろう。
【００４１】
本発明の他の有利な構成及び態様は、従属請求項及び後述の本発明の例示的な実施形態に記載したとおりである。以下、添付図面を参照しながら、本発明を好適な実施形態に基づいてより詳述する。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】ＥＵＶリソグラフィ装置の略図である。
【図２】例示的な一実施形態に係る最後から二番目のミラーを、投影光学ユニットの一部にて示す略図である。
【図３】投影光学ユニットにおける瞳孔部の説明図である。
【図４】図２における最後から二番目のミラーの平面図である。
【図５】最後から二番目のミラーの更なる例示的な実施形態を示す説明図である。
【図６】最後から二番目のミラーの更なる例示的な実施形態を示す説明図である。
【図７】最後から二番目のミラーの更なる例示的な実施形態を示す説明図である。
【図８】最後から二番目のミラーの更なる例示的な実施形態を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００４３】
特に明記しない限り、図面における同一参照符号は、構成または機能において同一の素子（要素）を示す。図中における各素子は、必ずしも実寸を反映するものではない点にも言及しておく。
【００４４】
図１は、ビーム整形システム102と、照明システム104と、投影システム106とを備えるＥＵＶリソグラフィ装置100の概要を示す。ビーム整形システム102、照明システム104及び投影システム106は、それぞれ、真空ハウジング内に設けられており、各真空ハウジングは、排気装置（詳細に図示せず）によって排気される。各真空ハウジングは、光学素子を機械的に移動又は調整するための駆動手段が設けられた機械空間（詳細に図示せず）に包囲されている。機械空間内には、電気的な制御装置等を更に設けてもよい。
【００４５】
ビーム整形システム102は、ＥＵＶ光源108と、コリメータ110と、モノクロメータ112を有する。ＥＵＶ光源108としては、例えば、ＥＵＶ範囲（極端紫外線範囲）、即ち5nm〜20nmの波長範囲における放射波を放出するプラズマ源又はシンクロトロンを設けてよい。ＥＵＶ光源108から放出された放射波は、まずコリメータ110によって集束され、その後に所望の動作波長がモノクロメータ112によってフィルタリングされる。このように、ビーム整形システム102により、ＥＵＶ光源108によって放出された光の波長及び空間分布が適合される。ＥＵＶ光源108によって生成されるＥＵＶ放射波114は、空気を通過する透過率が比較的小さく、したがってビーム整形システム102内、照明システム104内及び投影システム106内におけるビームガイドスペースは排気されていることを意味する。
【００４６】
図示の実施形態において、照明システム104は、第１ミラー116及び第２ミラー118を備える。これらミラー116，118は、例えば、瞳孔部を構成するためのファセットミラーとして形成してよく、ＥＵＶ放射波114をフォトマスク120に伝達する。
【００４７】
フォトマスク120も、やはり反射光学素子として形成され、システム102，104，106の外部に配置してよい。フォトマスク120は、投影システム106により、ウェハ122上等に縮小結像される構造を有する。このため、投影システム106は、ビームガイドスペースにて、例えば第３ミラー124及び第４ミラー126を有する。ＥＵＶリソグラフィ装置100におけるミラーの個数は、図示の個数に限定されているわけではなく、より多くのミラー又はより少ないミラーを設けてもよい点に言及しておく。更に、各ミラーは、ビーム整形を可能とするためにその前側全体が湾曲している。
【００４８】
投影システム106内における投影光学ユニットは、２個のミラー124，126と共に極めて概略的に表されている。投影光学ユニットは、好適には、複数のミラーを備える。図２は、複数のミラーを備える投影光学ユニットの一部200を示す。
【００４９】
より厳密に述べれば、図２は、投影光学ユニット内の最後部における２個のミラー202，204を示す。同図には、投影光学ユニット内における最後のミラー202と、投影光学ユニット内における最後から二番目のミラー204が明示されている。投影光学ユニット内における最後から二番目のミラー204は、楕円状に形成してよい。投影光学ユニット内における最後のミラー202は、放射波を最後部における２個のミラー202，204に到達可能とするアパーチャ206を備える。図２に示すビーム経路は、第１光線208及び第２光線210が最後のミラー202における開口206を通過した後の進路（図２における矢印212参照）に基づいて描かれる。第１光線208は、最後から二番目のミラー204の左側214における光学的活性領域220に入射し、光学的活性領域220から最後のミラー202に向けて反射する。その後、第１光線208は、最後のミラー202にてウェハ122に向けて反射する。第２光線210は、最後から二番目のミラー204の右側216における光学的活性領域220に入射し、光学的活性領域220から最後のミラー202に向けて反射する。その後、第２光線210は、最後のミラー202にてウェハ122に向けて反射する。フォトマスク120のマスクパターンは、ウェハ122上に結像する。
【００５０】
最後から二番目のミラー204は、投影光学ユニットにおける瞳孔部300（図３参照）近傍に配置してよい。投影光学ユニットは、瞳孔部平面内の中央部に配置された遮蔽絞り302を備える。これにより、最後のミラー202のアパーチャ206に割り当てられた投影ビーム経路における中央部の光線は、遮蔽される、すなわちマスクされる。第１光線208及び第２光線210は、光学的使用面304領域に割り当てられた光線である。
【００５１】
最後から二番目のミラー204が投影光学ユニットにおける瞳孔部300近傍に配置されることにより、遮蔽絞り302を介して投影光学ユニットにおける瞳孔部300の遮蔽効果が最後から二番目のミラー204にも生じる。最後から二番目のミラー204は、ミラー本体224と、表面226を備える。最後から二番目のミラー204の表面226上には、遮蔽に起因して光学的不活性領域222が生じている。光学的活性領域220及び光学的不活性領域222の上方には、エアスペース、即ち体積228が位置している。遮蔽に起因して、光学的に使用されない部分体積230が生じている。光学的に使用されない部分体積230は、好適には、光学的不活性領域222の上方に位置している。ただし、光学的に使用されない部分体積230は、その一部を光学的活性領域220の上方に配置してもよい。
【００５２】
光学的不活性領域222と、光学的に使用されない部分体積230は、最後から二番目のミラー204を安定化するために使用してよい。即ち、光学収差の低減手段218（図２参照）を光学的不活性領域222に配置してよい。この場合、光学収差の低減手段218は、光学的に使用されない部分体積230内に突入している。
【００５３】
光学的に使用されない部分体積230は、最後のミラー202に向けてテーパ状となることができる。更に、光学的に使用されない部分体積230と光学収差の低減手段218は、円錐形状としてよい。光学的に使用されない部分体積230及び光学的不活性領域222におけるベース面の両者は、楕円形状であってよい。
【００５４】
最後から二番目のミラー204は、投影光学ユニット内での位置に起因し、僅かな厚さしか有しない場合がある。これにより、最後から二番目のミラー204は、機械的に不安定であると共に振動の影響を受け易い。それ故、光学収差の低減手段218は、機械的安定化手段232を備える。即ち、最後から二番目のミラー204が、ビーム経路内における位置に起因して僅かな厚さしか有しない場合でも、光学収差を回避することができる。光学収差の低減手段218及び機械的安定化手段232は、光学的不活性領域内に配置されるため、投影光学ユニット内におけるビーム経路に干渉することはない。
【００５５】
機械的安定化手段232は、同調質量ダンパーを備えてよい。このような同調質量ダンパーは、重り及びばねを備える。重り及びばねは、組み合わされることにより振り子を構成する。振り子の固有振動数は、最後から二番目のミラー204において除去すべき振動周波数に調整される。これにより、同調質量ダンパーによって、最後から二番目のミラー204における固有振動運動を生じさせ得る振動エネルギーが消失する。同調質量ダンパーは、１個以上を使用することができる。同調質量ダンパーは、特定振動周波数で使用するのが好適である。除去すべき振動周波数が複数あれば、複数の同調質量ダンパーを使用するのが好適である。
【００５６】
代案として、機械的安定化手段232は、同調質量ダンパーの代替として又は付加として他の任意の振動ダンパーを備えてよい。このような振動ダンパーは、ミラーに生じ得る振動を能動的又は受動的に減衰することができる。
【００５７】
図４は、図２における投影光学ユニットの最後から二番目のミラー204の平面図を示す。図４には、光学的活性領域220及び光学的不活性領域222が表されている。この場合、光学的不活性領域222は、光学的活性領域220の内側に位置している。光学収差の低減手段218は、機械的安定化手段232を備えると共に、光学的不活性領域222内に配置されている。光学的活性領域220の外側には、最後から二番目のミラー204のミラー本体224におけるエッジ400が配置されている。また、最後から二番目のミラー204に隣接するようウェハ122が配置されている。
【００５８】
最後から二番目のミラー204の光学的活性領域220は、研磨面を有してよい。光学的活性領域220は、代替的又は付加的に、ミラーコーティングを有してよい。何れにせよ、光学的活性領域220は、放射波をその波長に応じて反射するのに適している。
【００５９】
図４に示すように、光学的不活性領域222は、光学的活性領域220の中央部に設けてよい。ただし、光学的不活性領域222は、光学的活性領域220内で偏心させて設けてもよい。光学的不活性領域222の少なくとも一部は、光学的活性領域220の内側に位置している。
【００６０】
図２に示す最後から二番目のミラー204のミラー本体224は、光学的活性領域220にて凸状に形成されている。代案として、最後から二番目のミラー204は、代替的な投影光学ユニット内における光学的活性領域220にて凹状に形成してもよい。
【００６１】
図５は、投影光学ユニット内における最後から二番目のミラー204の他の例示的な実施形態を示す。図示の実施形態において、機械的安定化手段232を含む光学収差の低減手段218は、ミラー本体224の表面226の光学的不活性領域222内に配置されている。機械的安定化手段232は、光学的に使用されない部分体積230内に突入している。
【００６２】
更に、図５は、ブレース500を示す。各ブレース500の第１端部502は、機械的安定化手段232の先端部506に接続されている。この場合に先端部506とは、機械的安定化手段232において、ミラー本体224から最も離れた箇所を指す。各ブレース500の第２端部504は、ミラー本体224のエッジ400に接続されている。
【００６３】
最後から二番目のミラー204の剛性は、機械的安定化手段232及びブレース500によって高めることができる。これにより、最後から二番目のミラー204の変形及び／又は振動が低減可能である。ブレース500は、引張り及び圧縮に関して負荷することができる。ブレース500に対して圧縮負荷が加わる場合、大きな剛性を有する曲げ不可能な要素が必要とされる。このような要素が使用される場合に限り、圧縮負荷が加わってもよい。ただしブレース500は、一種のロープ、ワイヤ又はケーブルとして構成してもよい。この場合、ブレース500は、引張りに関してのみ負荷することができる。
【００６４】
図５に示すように、ブレース500は、光学的に使用されない部分体積230から突出している。この場合、ブレース500は、リソグラフィ装置100内におけるビーム経路又は投影光学ユニット内における光学結像に干渉しないよう構成及び／又は配置されている。
【００６５】
図５の実施形態において、機械的安定化手段232は、中央部における物体、即ちブレース500が固定される要素のみとして構成されてよい。代替的に、機械的安定化手段232は、振動ダンパー及び／又は同調質量ダンパーを付加的に備えてよい。
【００６６】
図６は、投影光学ユニット内における最後から二番目のミラー204の他の例示的な実施形態を示す。以下においては、図５に示す最後から二番目のミラー204との相違点のみについて言及する。図示の実施形態において、ブレース500は、光学収差を能動的に補償するために作動させてよい。即ち、光学収差を補償するために、個々のブレースに対する引張り負荷及び／又は圧縮負荷によってミラーを変形してよい。
【００６７】
図６に示すように、各ブレース500は、第２端部504にて、アクチュエータ600を介して最後から二番目のミラー204のエッジ400に接続されている。各ブレース500は、アクチュエータ600によって作動させてよい。ブレース500の構成に応じて、引張り力及び／又は圧縮力が作用可能である。
【００６８】
図６に示すように、この場合もブレース500は、光学的に使用されない部分体積230から突出している。図示のブレース500は、やはりリソグラフィ装置100内におけるビーム経路又は投影光学ユニット内における光学結像に干渉しないよう構成及び／又は配置されている。
【００６９】
図６に示すように、最後から二番目のミラー204の代替的な構成において、ミラー本体224は、光学的不活性領域222の下方に、ミラー本体224の他の部分とは異なる材料を有する領域602を備えてよい。その材料が適切に選択されるのであれば、最後から二番目のミラー204の安定性を高めることが可能である。
【００７０】
最後から二番目のミラー204の他の代替的な構成において、ミラー204は支持カラム（図示せず）を備える。支持カラムは、機械的安定化手段232及び最後から二番目のミラー204の安定性を高めるために別箇に設けられる付加的な要素である。この場合、支持カラムの一端は、機械的安定化手段232に固定され、他端は、ミラー本体224に固定されてよい。ミラー本体224への支持カラムの固定は、光学的活性領域220内又は光学的不活性領域222内にて行われる。
【００７１】
支持カラムも、光学的に使用されない部分体積230から突出してよい。この場合、支持カラムは、リソグラフィ装置100内におけるビーム経路又は投影光学ユニット内における光学結像に干渉しないよう構成及び／又は配置される。
【００７２】
図７は、最後から二番目のミラー204の他の例示的な実施形態を示す。図示の実施形態における最後から二番目のミラー204は、ミラー本体224の温度制御手段700を更に備える点においてのみ、図５の実施形態における最後から二番目のミラー204と異なっている。ミラー本体224の温度制御手段700は、放射ヒーターとして、ミラー本体224の表面226に対して放射が生じるよう構成してよい。
【００７３】
代替的に、ミラー本体224の温度制御手段700は、ミラー本体224内に配置してもよい。ミラー本体224の温度制御手段700は、特に、光学収差の低減手段218の下方に位置するようミラー本体224内に配置してよい。更に、ミラー本体224の温度制御手段700は、複数の加熱素子を備えてよい。この場合、加熱素子は、ミラー本体224上及び／又は光学収差の低減手段218上に分布させてよい。
【００７４】
ミラー本体224の温度制御手段700により、熱によって引き起こされる変形又は不安定化を回避又は低減することが可能となる。この場合、ミラー本体224の温度制御手段700により、最後から二番目のミラー204の温度を一定又はほぼ一定に維持することができる。
【００７５】
図８は、最後から二番目のミラー204の他の例示的な実施形態を示す。この実施形態における最後から二番目のミラー204は、ブレース500を有さない点においてのみ、図５の実施形態における最後から二番目のミラー204と異なっている。機械的安定化手段232は、特に、振動ダンパー及び／又は同調質量ダンパーを備えてよい。
【００７６】
上述した例示的な実施形態は、投影光学ユニット内における最後から二番目のミラー204について記載している。しかしながら、上述した構成は、原理的には、投影光学ユニット内及びリソグラフィ装置100内における他の任意のミラーが光学的不活性領域を有する場合、そのミラーにも同様に適用してよい。
【００７７】
更に、上述した例示的実施形態は、ＥＵＶリソグラフィ装置100内における最後から二番目のミラー204について記載している。しかしながら、本発明は、ＥＵＶリソグラフィ装置100に限定されるものでなく、他のリソグラフィ装置に適用してもよい。
【００７８】
本発明を種々の例示的な実施形態に基づいて記載してきたが、本発明はそれら実施形態に限定されるものでなく、種々の修正を施してもよい。
【符号の説明】
【００７９】
100  ＥＵＶリソグラフィ装置
102  ビーム整形システム
104  照明システム
106  投影システム
108  ＥＵＶ光源
110  コリメータ
112  モノクロメータ
114  ＥＵＶ放射波
116  第１ミラー
118  第２ミラー
120  フォトマスク
122  ウェハ
124  第３ミラー
126  第４ミラー
200  投影光学ユニットの一部
202  投影光学ユニットの最後のミラー
204  投影光学ユニットの最後から二番目のミラー
206  最後のミラーにおけるアパーチャ
208  第１光線
210  第２光線
212  矢印
214  最後から二番目のミラーの左側
216  最後から二番目のミラーの右側
218  光学収差の低減手段
220  光学的活性領域
222  光学的不活性領域
224  ミラー本体
226  表面
228  体積
230  光学的に不使用の部分体積
232  機械的安定化手段
300  投影光学ユニットにおける瞳孔部
302  遮蔽絞り
304  光学的使用面
400  ミラーエッジ
500  ブレース
502  ブレースの第１端部
504  ブレースの第２端部
506  機械的安定化手段の先端部
600  アクチュエータ
602  光学的不活性領域の下方におけるミラー本体の領域
700  ミラー本体の温度制御手段
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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