(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
部品の製造方法であって、
第１の組成物を供給する工程と、
パターンを有する樹脂モールドを供給する工程と、
前記第１の組成物を硬化し、前記パターンが前記樹脂モールドから転写される膜を形成する工程と、
前記樹脂モールドから前記膜を剥離する工程と、を含み、
前記樹脂モールドが一般式（１）及び一般式（２）により表される化合物のうち少なくとも１つを含むモールド用樹脂組成物を硬化することで得られたモールドであり、
0006774826.tif 000025
0006774826.tif 000026
（前記式（１）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４の各々は、水素原子、炭素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群のうち少なくとも一つを含む置換基を表し、ｎは、１〜１０の整数を意味し、前記式（２）において、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８の各々は、水素原子、炭素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群のうち少なくとも一つを含む置換基を表し、ｍ及びｒの各々は、１〜３０の整数を意味する。）
前記樹脂モールドのショアＤ硬度が１〜５０の範囲であるとき、前記膜のショアＤ硬度が１〜１００の範囲であり、
前記樹脂モールドのショアＤ硬度が５１〜６０の範囲であるとき、前記膜のショアＤ硬度が１〜６０の範囲である、部品の製造方法。
【請求項２】
前記第１の組成物が、分子量が４００〜３５０００である複数の重合性基を有するウレタンアクリレート又はウレタンメタクリレートのうち少なくとも１つを含有する、請求項１に記載の部品の製造方法。
【請求項３】
前記第１の組成物に含まれる前記ウレタンアクリレート又は前記ウレタンメタクリレートのうち少なくとも１つの含有量が２０質量％〜９９．９質量％の範囲である請求項１または２のいずれかに記載の部品の製造方法。
【請求項４】
前記パターンのサイズが５０μｍ以上である請求項１〜３のいずれか一項に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願の相互参照
本出願の請求項の範囲は、米国特許法３５Ｕ．Ｓ．Ｃ．Ｓ１１９（ｅ）に基づいて２０１５年９月１１日に出願された米国仮出願第６２／２１７，６２１号の利益を主張するものであり、その内容がここに援用される。
【０００２】
本発明のいくつかの態様は、化合物及び部品の製造の分野に関連する。
【背景技術】
【０００３】
組成物を硬化することによって形成した膜の樹脂モールドからの離型性の改善は、ナノインプリンティング技術に対し重要な技術的課題の一つである。離型性の改善のための手段は、特開２０１４−０７６５５７中に開示される（公開日：２０１４年５月１日）。
【発明の概要】
【０００４】
樹脂モールドに中に予め形成したパターンを前記膜へ転写することによって、パターンを有する膜が製造されるとき、前記樹脂モールド又は前記パターンが前記樹脂モールドから転写される前記膜における破損が、しばしば発生する。特に、より大きなパターンに対してはそのような傾向が顕著になる。
【０００５】
本発明者等は、パターンを有する樹脂モールドの形成用の組成物と、前記パターンが前記樹脂モールドから転写される膜の形成用の組成物との組み合わせが、前記樹脂モールドからの前記膜の離型性を改善することを見出した。
【０００６】
本発明の一つの態様に関する部品の製造方法は、
第１の組成物を供給する工程と、
パターンを有する樹脂モールドを供給する工程と、
前記第１の組成物を硬化し、前記パターンが前記樹脂モールドから転写される膜を形成する工程と、
前記樹脂モールドから前記膜を剥離する工程と、を含む。
【０００７】
当該部品の例として、レンズ、導波路及び拡散板が挙げられる。
【０００８】
前記方法に関して、前記第１の組成物から形成した前記膜のショア硬度の範囲が１〜１００であるとき、前記樹脂モールドのショア硬度は、１〜５０の範囲であることが好ましい。
【０００９】
前記方法に関して、前記パターンのサイズが、５０μｍ、１００μｍ、２００μｍ又は６００μｍ以上であること、が好ましい。「前記パターンのサイズ」は、一般的に前記パターンを構成する凹部の幅を意味する。ショア硬度は、前記パターンサイズがより大きくなるにつれて、パターンを転写する樹脂モールドからの硬化体の離型性のために重要となる。
【００１０】
前記方法に関して、前記第１の組成物から形成した前記膜のショア硬度が、１〜６０の範囲である場合、前記樹脂モールドのショア硬度が５１〜６０の範囲であることが好ましい。
【００１１】
組成物を硬化することにより形成した樹脂モールド表面上に形成した前記パターンのサイズが、６００μｍである場合、前記樹脂モールドのショア硬度が５１〜６０の範囲であるとき、前記第１の組成物から形成される前記膜のショア硬度が１〜５０であることが好ましい。
【００１２】
前記方法に関して、前記樹脂モールドの形成用の組成物を硬化することにより形成した樹脂モールドのショア硬度が１〜５０の範囲であるとき、他方の組成物より形成され前記樹脂モールドから剥離される樹脂のショア硬度が１〜１００の範囲であることが好ましい。
【００１３】
前記方法に関して、前記樹脂モールドの形成用の組成物を硬化することにより形成した樹脂モールドのショア硬度が５１〜６０の範囲であるとき、他方の組成物より形成され前記樹脂モールドから剥離される樹脂のショア硬度が１〜５０の範囲であることが好ましい。
【００１４】
前記方法に関して、前記樹脂モールド形成用の組成物を硬化することにより形成した樹脂モールドのショア硬度が７６〜１００の範囲である場合、他方の組成物より形成され前記樹脂モールドから剥離される樹脂のショア硬度が１〜４０の範囲であることが好ましい。
【００１５】
前記方法に関して、前記樹脂モールドの形成用の組成物を硬化することにより形成した樹脂モールドのショア硬度が６１〜７５の範囲である場合、他方の組成物より形成され前記樹脂モールドから剥離される樹脂のショア硬度が１〜４５の範囲であることが好ましい。
【００１６】
前記樹脂モールド用の組成物を硬化することにより形成した樹脂モールド表面上に形成したパターンのサイズが２００μｍである場合、前記樹脂モールドの形成用の組成物を硬化することにより形成される樹脂モールドのショア硬度が１〜５０の範囲であるとき、他方の組成物より形成され前記樹脂モールドから剥離される樹脂のショア硬度が１〜１００の範囲であることが好ましい。
【００１７】
前記樹脂モールド用の組成物を硬化することにより形成した樹脂モールド表面上に形成したパターンのサイズが２００μｍである場合、前記樹脂モールドの形成用の組成物を硬化することにより形成した樹脂モールドのショア硬度が５１〜６０の範囲であるとき、他方の組成物より形成され前記樹脂モールドから剥離される樹脂のショア硬度が１〜６０の範囲であることが好ましい。
【００１８】
前記樹脂モールド用の組成物を硬化することにより形成した樹脂モールド表面上に形成したパターンのサイズが２００μｍである場合、前記樹脂モールドの形成用の組成物を硬化することにより形成した樹脂モールドのショア硬度が６１〜７５の範囲であるとき、他方の組成物より形成され前記樹脂モールドから剥離される樹脂のショア硬度が１〜５５の範囲であることが好ましい。
【００１９】
前記樹脂モールド用の組成物を硬化することにより形成した樹脂モールド表面上に形成したパターンのサイズが２００μｍである場合、前記樹脂モールドの形成用の組成物を硬化することにより形成した樹脂モールドのショア硬度が７６〜１００の範囲であるとき、他方の組成物より形成され前記樹脂モールドから剥離される樹脂のショア硬度が１〜４５の範囲であることが好ましい。
【００２０】
前記樹脂モールド用の組成物を硬化することにより形成した樹脂モールド表面上に形成したパターンのサイズが６００μｍである場合、前記樹脂モールドの形成用の組成物を硬化することにより形成した樹脂モールドのショア硬度が１〜５０の範囲であるとき、他方の組成物より形成され前記樹脂モールドから剥離される樹脂のショア硬度が１〜１００の範囲であることが好ましい。
【００２１】
前記樹脂モールド用の組成物を硬化することにより形成した樹脂モールド表面上に形成したパターンのサイズが６００μｍである場合、前記樹脂モールドの形成用の組成物を硬化することにより形成した樹脂モールドのショア硬度が５１〜６０の範囲であるとき、他方の組成物より形成され前記樹脂モールドから剥離される樹脂のショア硬度が１〜５０の範囲であることが好ましい。
【００２２】
前記樹脂モールド用の組成物を硬化することにより形成した樹脂モールド表面上に形成したパターンのサイズが６００μｍである場合、前記樹脂モールドの形成用の組成物を硬化することにより形成した樹脂モールドのショア硬度が６１〜７５の範囲であるとき、他方の組成物より形成され前記樹脂モールドから剥離される樹脂のショア硬度が１〜４５の範囲であることが好ましい。
【００２３】
前記樹脂モールド用の組成物を硬化することにより形成した樹脂モールド表面上に形成したパターンのサイズが６００μｍである場合、前記樹脂モールドの形成用の組成物を硬化することにより形成した樹脂モールドのショア硬度が７６〜１００の範囲であるとき、他方の組成物より形成され前記樹脂モールドから剥離される樹脂のショア硬度が１〜４０の範囲であることが好ましい。
【００２４】
前記樹脂モールド形成用の組成物（「モールド組成物」）を硬化する前の前記モールド組成物中に含んだモノマーの量に対する前記樹脂モールド中に残存している未反応のモノマーの量の比に基づいて見積もった樹脂モールドの反応率が、前記樹脂モールド上で硬化することにより形成した膜の前記樹脂モールドからの離型性を十分に確保するために、５０％以上であることが好ましい。反応率が５０％より低い樹脂モールドが使用される場合、前記樹脂モールド中に残存している未反応のモノマーは、前記樹脂モールド上に置かれ、前記樹脂モールドに接触する状態での光照射により硬化されるときに膜になる組成物（「膜組成物」）中に含まれるモノマーと容易に反応する。ゆえに、前記膜組成物から形成した前記膜が前記樹脂モールドから剥離されるとき、前記樹脂モールドからの前記膜の離型性が減少し、破損が容易に生じる。
【００２５】
前記膜組成物を硬化する前の前記膜組成物中に含まれるモノマーの量に対する前記膜中に残存している未反応のモノマーの量の比に基づいて見積もった膜組成物から形成した膜の反応率が、樹脂モールド膜からの前記膜の離型性を十分に確保するために、５０％以上であることが好ましい。前記膜に対する反応率が５０％より低い場合、前記膜は十分な機械強度を有さない。ゆえに、前記膜組成物から形成した前記膜が前記樹脂モールドから剥離されるとき、破損又は欠損が容易に生じる。
【００２６】
前記樹脂モールドの形成用のモールド組成物を硬化することにより形成した樹脂モールドのショア硬度が１〜５０の範囲である場合、膜組成物が前記樹脂モールド上に置かれて接触する状態で前記膜組成物を固化又は硬化することにより形成されるパターン化樹脂のショア硬度が１〜１００の範囲であることが好ましい。
【００２７】
前記樹脂モールドの形成用のモールド組成物を硬化することにより形成した樹脂モールドのショア硬度が５１〜６０の範囲である場合、膜組成物が前記樹脂モールド上に置かれて接触する状態で前記膜組成物を固化又は硬化することにより形成されるパターン化樹脂のショア硬度が１〜５０の範囲であることが好ましい。
【００２８】
前記樹脂モールドの形成用のモールド組成物を硬化することにより形成した樹脂モールドのショア硬度が６１〜７５の範囲である場合、膜組成物が前記樹脂モールド上に置かれて接触する状態で前記膜組成物を固化又は硬化することにより形成されるパターン化樹脂のショア硬度が１〜４５の範囲であることが好ましい。
【００２９】
前記樹脂モールドの形成用のモールド組成物を硬化することにより形成した樹脂モールドのショア硬度が７６〜１００の範囲である場合、膜組成物が前記樹脂モールド上に置かれて接触する状態で前記膜組成物を固化又は硬化することにより形成されるパターン化樹脂のショア硬度が１〜４０の範囲であることが好ましい。
【００３０】
＜樹脂モールドの形成用の組成物＞
【００３１】
樹脂モールドの形成用の組成物は、化学式（１）により表される化合物（化合物Ａ）及び化学式（ＩＩ）により表される化合物（化合物Ｂ）のうち少なくとも一つを含むことが好ましい。化合物Ａ及びＢは、フッ素原子及び少なくとも一つの重合性基を有する。フッ素原子は、前記膜組成物が前記樹脂モールドのパターンを有する表面に接触する状態で、前記膜組成物を硬化することにより形成される膜の前記モールド樹脂からの離型性を改善し得る。前記膜は、化合物Ａ及びＢは、重合化を促進するために、少なくとも二つの重合性基を有することがより好ましい。
【００３２】
【化１】
0006774826.tif 000002
【００３３】
上記の化学式において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４の各々は、水素原子、炭素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群のうち少なくとも一つを含む置換基を表す。“ｎ”は、１〜１０の整数を意味する。
【００３４】
化合物Ａに関して、Ｒ１及びＲ２の各々は水素原子又はメチル基であることが好ましい。
【化２】
0006774826.tif 000003
【００３５】
上記の化学式において、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８の各々は、水素原子、炭素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群のうち少なくとも一つを含む置換基を表す。“ｍ”及び“ｒ”の各々は、１〜３０の整数を意味する。
【００３６】
化合物Ｂに関して、Ｒ５及びＲ６の各々は水素原子又はメチル基であることが好ましい。
【００３７】
上記の組成物の何れか一つにおいて、Ｒ１及びＲ２の各々は水素原子及びメチル基の何れか一つを表すことが好ましい。
【００３８】
上記の組成物の何れか一つにおいて、Ｒ５及びＲ６の各々は水素原子及びメチル基の何れか一つを表すことが好ましい。
【００３９】
化学式１により表される前記化合物は、式３及び４で表される部分のうち少なくとも一つを有することが好ましい。前記部分の各々は、化学式５、６及び７により表される化学構造のうち何れか一つを有してもよい。
【００４０】
【化３】
0006774826.tif 000004
【００４１】
【化４】
0006774826.tif 000005
【００４２】
【化５】
0006774826.tif 000006
【００４３】
【化６】
0006774826.tif 000007
【００４４】
【化７】
0006774826.tif 000008
【００４５】
化学式５により表される化学構造の“ｊ”は、１又は２を意味する。化学式６のＲ９，Ｒ１０，Ｒ１１及びＲ１２の各々は、水素原子及びメチル基、並びに化学式８により表される部分のうちの何れか一つを表す。
【００４６】
【化８】
0006774826.tif 000009
【００４７】
上記の化学式において、Ｒ１３は水素原子又はメチル基を意味する。
【００４８】
Ｒ９が化学式８により表される置換基である場合、Ｒ１１は水素原子及びメチル基のうちの何れか一つであり、Ｒ１０及びＲ１２の各々は水素原子であることが好ましい。
【００４９】
Ｒ１０が化学式８により表される置換基である場合、Ｒ１２は水素原子及びメチル基のうちの一つであり、Ｒ９及びＲ１１の各々は水素原子であることが好ましい。
【００５０】
Ｒ１１が化学式８により表される置換基である場合、Ｒ９は水素原子及びメチル基のうちの一つであり、Ｒ１０及びＲ１２の各々は水素原子であることが好ましい。
【００５１】
Ｒ１２が化学式８により表される置換基である場合、Ｒ１０は水素原子及びメチル基のうちの一つであり、Ｒ９及びＲ１１の各々は水素原子であることが好ましい。
【００５２】
また或いは、Ｒ９，Ｒ１０，Ｒ１１及びＲ１２は水素原子でもよい。
【００５３】
化学式２により表される前記化合物は、式９及び１０により表される部分のうち少なくとも一つを有することが好ましい。前記部分の各々は、化学式１１、１２及び１３により表される化学式のうちの何れか一つを有してもよい。
【００５４】
【化９】
0006774826.tif 000010
【００５５】
【化１０】
0006774826.tif 000011
【００５６】
【化１１】
0006774826.tif 000012
【００５７】
【化１２】
0006774826.tif 000013
【００５８】
【化１３】
0006774826.tif 000014
【００５９】
化学式１１の“ｋ”は、１又は２である。Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６及びＲ１７の各々は、水素原子、メチル基及び化学式１４により表される部分のうちの何れか一つである。
【００６０】
【化１４】
0006774826.tif 000015
【００６１】
化学式１４のＲ１８は、水素原子又はメチル基を意味する。
【００６２】
Ｒ１４が化学式１４により表される前記部位を含む場合、Ｒ１６は水素原子又はメチル基であり、Ｒ１５及びＲ１７の各々は水素原子であることが好ましい。
【００６３】
Ｒ１５が化学式１４により表される前記部位を含む場合、Ｒ１７は水素原子又はメチル基であり、Ｒ１４及びＲ１６の各々は水素原子であることが好ましい。
【００６４】
Ｒ１６が化学式１４により表される前記部位を含む場合、Ｒ１４は水素原子、メチル基のうちの一つであり、Ｒ１５及びＲ１７の各々は水素原子であることが好ましい。
【００６５】
Ｒ１７が化学式１４により表される前記部位を含む場合、Ｒ１５は水素原子、メチル基のうちの一つであり、Ｒ１４及びＲ１６の各々は水素原子であることが好ましい。
【００６６】
また或いは、Ｒ１４，Ｒ１５，Ｒ１６及びＲ１７の各々は水素原子でもよい。
【００６７】
樹脂モールドの形成用の前記組成物中の化合物Ａの含有量は、０質量％〜９９．９質量％の範囲であってもよい。
【００６８】
樹脂モールドの形成用の前記組成物中の化合物Ａの含有量は、１０質量％〜９９．９質量％の範囲であることが好ましい。
【００６９】
樹脂モールドの形成用の前記組成物中の化合物Ａの含有量は、３５質量％〜９９．９質量％の範囲であることがより好ましい。
【００７０】
樹脂モールドの形成用の前記組成物中の化合物Ｂの含有量は、０質量％〜８０質量％の範囲であってもよい。
【００７１】
樹脂モールドの形成用の前記組成物中の化合物Ｂの含有量は、０質量％〜６５質量％の範囲であることが好ましい。
【００７２】
樹脂モールドの形成用の当該組成物は、アクリロイル基及びメタクリロイル基等の重合性基を一つだけ有するモノマーを更に含んでもよい。
【００７３】
当該モノマーの分子量は８０〜６００の範囲であってもよい。
【００７４】
当該モノマーの分子量は、前記組成物中のより高い溶解性のために、８６〜４５０の範囲であることが好ましい。
【００７５】
当該モノマーの含有量は、０質量％〜７０質量％の範囲であってもよい。当該モノマーの含有量は、０質量％〜５０質量％の範囲であることが好ましい。
【００７６】
当該モノマーは、モールド離型性の改善のために、少なくとも一つのフッ素原子を含んでもよい。
【００７７】
樹脂モールドの形成用の当該組成物は、アクリロイル基及びメタクリロイル基等の複数の重合性基を有するモノマーを更に含んでもよい。
【００７８】
当該モノマーの分子量は１７０〜５００の範囲であってもよい。
【００７９】
当該モノマーの分子量は、前記組成物中のより高い溶解性のために、１７０〜４００の範囲であることが好ましい。
【００８０】
当該モノマーの含有量は、０質量％〜５０質量％の範囲であってもよい。当該モノマーの含有量は、０質量％〜４０質量％の範囲であることが好ましい。
【００８１】
樹脂モールドの形成用の当該組成物は、光開始剤を更に含むことが好ましい。
【００８２】
当該光開始剤の含有量は、０．００５質量％〜２０質量％の範囲であってもよい。当該モノマーの含有量は、０．０１質量％〜１５質量％の範囲であることが好ましい。
【００８３】
樹脂モールドの形成用の当該組成物は、酸化防止剤、光安定剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、増感剤、着色剤、フィラー、ポリマー及び溶媒を更に含んでもよい。
【００８４】
＜ショア硬度が１〜５０の範囲であるパターン化樹脂の形成用の組成物＞
【００８５】
前記パターン化樹脂は、前記組成物が前記樹脂モールドのパターンを有する表面に接触する状態での前記組成物への光照射によって形成される。更に、前記パターン化樹脂は前記樹脂モールドから剥離される。
【００８６】
パターン化樹脂の形成用の当該組成物は、少なくとも一種類のモノマーを含むことが好ましい。当該モノマーは、以下のモノマーのうちの少なくとも一つである。
【００８７】
（ｉ）分子量の範囲が４００〜３５０００である複数の重合性基を有するウレタンアクリレート又はウレタンメタクリレート、
【００８８】
（ｉｉ）分子量の範囲が３００〜４０００であるエーテル基を含む主鎖を有するアクリレート又はメタクリレート、及び
【００８９】
（ｉｉｉ）分子量の範囲が５００〜３０００であるエステル基を含む主鎖を有するアクリレート又はメタクリレート。
【００９０】
当該モノマーの含有量が、２０質量％〜９９．９質量％の範囲であってもよい。当該モノマーの含有量が、３０質量％〜９９．９質量％の範囲であることが好ましい。
【００９１】
当該ウレタンアクリレート及び当該ウレタンメタクリレートが、ポリオール化合物を含んでいてもよい。当該ウレタンアクリレート及び当該ウレタンメタクリレートが、ポリエステル骨格、ポリカーボネート骨格又はアルキルカーボネートを有してもよい。
【００９２】
当該ウレタンアクリレート又は当該ウレタンメタクリレートの典型例としては、ＵＮ−３３３、ＵＮ−３５０、ＵＮ−１２５５、ＵＮ−２６００、ＵＮ−２７００、ＵＮ−５５９０、ＵＮ−６２００，ＵＮ−６２０２、ＵＮ−６３００、ＵＮ−６３０１、ＵＮ−７６００、ＵＮ−７７００、ＵＮ−９０００ＰＥＰ，ＵＮ−９２００Ａ（根上工業株式会社製）、Ｕ−２００ＰＡ、ＵＡ−１６０ＴＭ，ＵＡ−２９０ＴＭ、ＵＡ−４２００、ＵＡ−４４００（新中村化学工業株式会社製）、ＵＸ−３２０４，ＵＸ−４１０１，ＵＸ−７１０１、ＵＸ−０９３７，ＵＸＦ−４００１−Ｍ３５、ＵＸＦ−４００２（日本化薬株式会社製）、ＵＶ−２０００Ｂ、ＵＶ−２７５０Ｂ，ＵＶ−３０００Ｂ、ＵＶ−３２００Ｂ、ＵＶ−３３００Ｂ、ＵＶ−３３１０Ｂ、ＵＶ−３７００Ｂ及びＵＶ−６６４０Ｂ（日本合成化学工業株式会社製）等が挙げられる。
【００９３】
エーテル基を含んでいる主鎖を有するアクリレート又はメタクリレート（ｉｉ）の典型例としては、Ａ−２００、Ａ−４００、Ａ−６００、Ａ−１０００、ＡＰＧ−１００、ＡＰＧ−２００、ＡＰＧ−４００、ＡＰＧ−７００、Ａ−ＰＴＭＧ−６５、Ａ−１２０６ＰＥ、Ａ−０６１２ＰＥ、Ａ−０４１２ＰＥ、Ａ−１０００ＰＥＲ、Ａ−３０００ＰＥＲ、Ａ−ＴＭＰＴ−３ＥＯ、Ａ−ＴＭＰＴ−９ＥＯ、ＡＴ−２０Ｅ，ＡＴ−３０Ｅ、Ａ−ＴＭＰＴ−３ＰＯ、Ａ−ＴＭＰＴ−６ＰＯ、Ａ−ＧＬＹ−３Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−６Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−９Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−２０Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−３Ｐ、Ａ−ＧＬＹ−６Ｐ、Ａ−ＧＬＹ−９Ｐ、ＡＴＭ−４ＥＬ，ＡＴＭ−８ＥＬ、ＡＴＭ−４ＰＬ，ＡＴＭ−４Ｅ、ＡＴＭ−３５Ｅ，ＡＴＭ−４Ｐ、ＡＴＭ−１０Ｐ、ＡＤ−ＴＭＰ−４Ｅ、ＡＤ−ＴＭＰ−４Ｐ、Ａ−ＤＰＨ−６Ｅ、Ａ−ＤＰＨ−１２Ｅ、Ａ−ＤＰＨ−６ＥＬ、Ａ−ＤＰＨ−１２ＥＬ、Ａ−ＤＰＨ−６Ｐ、Ａ−ＰＧ５０２７Ｅ、Ａ−ＰＧ５０５４Ｅ、４Ｇ、９Ｇ，１４Ｇ、３ＰＧ、９ＰＧ、１２０６ＰＥ、１０００ＰＥＲ、ＴＭＰＴ−３ＥＯ、ＴＭＰＴ−９ＥＯ、ＴＭＰＴ−３ＰＯ、ＧＬＹ−３Ｅ、ＧＬＹ−６Ｅ、ＧＬＹ−９Ｅ、ＧＬＹ−２０Ｅ、ＴＭ−４ＥＬ、ＴＭ−４ＰＬ、ＴＭ−４Ｅ、ＴＭ−３５Ｅ、ＴＭ−４Ｐ、ＴＭ−１０Ｐ、Ｄ−ＴＭＰ−４Ｅ、Ｄ−ＴＭＰ−４Ｐ、Ｍ−ＤＰＨ−６Ｅ、Ｍ−ＤＰＨ−１２Ｅ、Ｍ−ＤＰＨ−６Ｐ、Ｍ−ＰＧ５０２７Ｅ及びＭ−ＰＧ−５０５４Ｅ（新中村化学工業株式会社製）等が挙げられる。
【００９４】
エステル基を含んでいる主鎖を有するアクリレート又はメタクリレート（ｉｉｉ）の典型例としては、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＨＸ−２２０、ＫＡＹＡＲＡＤＨＸ−６２０、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＣＡ−２０、ＫＡＹＡＲＡＤＤＰＣＡ−３０、ＫＡＹＡＲＡＤＤＰＣＡ−６０及びＫＡＹＡＲＡＤＤＰＣＡ−１２０（日本化薬株式会社製）等が挙げられる。
【００９５】
樹脂から剥離される樹脂の形成用の当該組成物が、重合性基を一つのみ有しているアクリレート又はメタクリレートを更に含んでもよい。当該アクリレート又は当該メタクリレートが、自身のより高い柔軟性のためエーテル基を有することが好ましい。当該エーテル基を有する当該アクリレート又は当該メタクリレートの分子量が、１３０〜７００の範囲であること、が好ましい。また或いは、当該組成物中に含んだ重合性基を一つのみ有しているアクリレート又はメタクリレートが、アルキル基を有してもよい。当該アクリレート又は当該メタクリレートの分子量は、８６〜４００の範囲でもよい。
【００９６】
前記エーテル基を有する当該アクリレート又は当該メタクリレートの典型例として、ＡＭ−３０Ｇ、ＡＭ−９０Ｇ、ＡＭ−１３０Ｇ、ＡＭ３０ＰＧ、Ｍ−２０Ｇ、Ｍ−３０Ｇ、Ｍ−４０Ｇ、Ｍ−９０Ｇ、Ｍ−１３０Ｇ、Ｍ−３０ＰＧ及びＥＨ−４Ｅ、Ｂ−２０Ｇ（新中村化学工業株式会社製）等が挙げられる。
【００９７】
前記アルキル基を有する当該アクリレート又は当該メタクリレートの典型例として、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ｎ−ラウリル（メタ）アクリレート、イソアミルアクリレート、イソテトラデシル（メタ）アクリレート、ｎ−ステアリル（メタ）アクリレート、ベヘニル（メタ）アクリレート及びイソステアリル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００９８】
前記エーテル基又はアルキル基を有する当該アクリレート又は当該メタクリレートの含有量が、０質量％〜７９．９質量％の範囲であることが好ましい。前記エーテル基又はアルキル基を有する当該アクリレート又は当該メタクリレートの含有量が０質量％〜６９．９質量％の範囲であることがより好ましい。
【００９９】
前記パターンが前記樹脂モールドから転写される前記パターン化樹脂の形成用の当該組成物が、光開始剤を更に含むことが好ましい。当該光開始剤の含有量が０．００５質量％〜２０質量％であってもよい。当該光開始剤の含有量が０．０１質量％〜１５質量％の範囲であることが好ましい。
【０１００】
当該組成物が、酸化防止剤、光安定剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、増感剤、着色剤、フィラー、ポリマー又は溶媒を更に含んでもよい
【０１０１】
＜ショア硬度が５１〜１００の範囲であるパターン化樹脂の形成用の組成物＞
【０１０２】
前記パターン化樹脂は、前記組成物が前記樹脂モールドのパターン化表面に接触する状態での前記組成物への光照射によって形成される。更に、前記パターン化樹脂は前記樹脂モールドから剥離される。
【０１０３】
当該組成物は、複数の重合性基及び脂環式基を有するアクリレート又はメタクリレート、並びに複数の重合性基及び脂環式基を有するウレタンアクリレート又はウレタンメタクリレートのうち少なくとも一つを含むことが好ましい。
【０１０４】
当該組成物は、分子量が１７０〜７００である（ａ）重合性基を一つのみ有するアクリレート又はメタクリレート、（ｂ）複数の重合性基を有し、脂環式基を有さないアクリレート又はメタクリレート、並びに分子量が４００〜２５０００である（ｃ）複数の重合性基を有し、脂環式基を有さないウレタンアクリレート又はウレタンメタクリレートのうち少なくとも一つを更に含んでもよい。
【０１０５】
樹脂から剥離される樹脂の形成用の当該組成物は、光開始剤を更に含むことが好ましい。当該光開始剤の含有量が、０．００５質量％〜２０質量％であってもよい。当該光開始剤の含有量が、０．０１質量％〜６質量％の範囲であることが好ましい。
【０１０６】
当該組成物は、酸化防止剤、光安定剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、増感剤、着色剤、フィラー、ポリマー又は溶媒を更に含んでもよい。
【０１０７】
詳細な説明
【０１０８】
実験手順：
表１は、２００μｍのサイズのパターンを有する樹脂モールドの形成用及び前記パターンが樹脂モールドから転写される樹脂の形成用の組成物、並びにショア硬度を示す。表２は、６００μｍのサイズのパターンを有する樹脂モールドの形成用の組成物及び前記パターンが樹脂モールドから転写される樹脂の形成用の組成物、並びにショア硬度を示す。前記語句“２００μｍのサイズのパターン”は、パターンが凹部及び凸部により形成したとき、凹部の各々が２００μｍの幅を有することを典型的に意味し、一方で前記語句“６００μｍのサイズのパターン”は、凹部の各々が６００μｍの幅を有することを典型的に意味する。
【０１０９】
樹脂モールドの形成用の組成物は、成分Ａ〜Ｅを含み、一方で、前記樹脂モールドの前記パターンが前記樹脂モールドから転写される樹脂（“パターン転写樹脂”）の形成用の組成物はＦ〜Ｍ及びＥを含む。
【０１１０】
成分Ａ〜Ｍは以下の化合物である。
【０１１１】
【化１５−１】
0006774826.tif 000016
【化１５−２】
0006774826.tif 000017
【０１１２】
【表１】
0006774826.tif 000018
【０１１３】
【表２】
0006774826.tif 000019
【０１１４】
パターン転写樹脂が樹脂モールドから剥離されるときに、破損若しくは欠損が樹脂モールド若しくはパターン転写樹脂に対して見られる場合、又はパターン転写樹脂が樹脂モールドから剥離され得ない場合、組成物の組み合わせは表１及び２に示されるように“Ｐ”として明示される。パターン転写樹脂が樹脂モールドから剥離されるときに、破損若しくは欠損が前記樹脂モールド及びパターン転写樹脂のどちらにも見られない場合、組成物の組み合わせは１及び２に示されるように“Ａ”として明示される。
【０１１５】
樹脂モールドのショア硬度及びパターン転写樹脂のショア硬度の組み合わせを観察した。表１及び２に示されるように、前記パターンを有する樹脂モールドの形成用の組成物から形成した樹脂モールドのショア硬度が１〜５０の範囲であり、且つパターン転写樹脂のショア硬度が１〜１００の範囲である場合、前記パターン転写樹脂が前記樹脂モールドから剥離されるときに、破損は前記樹脂モールド又は前記パターン転写樹脂に対しても見られない。
【０１１６】
前記サイズが２００μｍである場合、表１に示されるように、前記パターンを有する樹脂モールドの形成用の前記組成物から形成した樹脂モールドのショア硬度が５１〜６０の範囲であり、且つパターン転写樹脂のショア硬度が１〜６０の範囲である場合、前記パターン転写樹脂が前記樹脂モールドから剥離されるときに、破損は前記樹脂モールド又は前記パターン転写樹脂に対しても見られない。
【０１１７】
前記サイズが２００μｍである場合、表１に示されるように、前記パターンを有する樹脂モールドの形成用の前記組成物から形成した樹脂モールドのショア硬度が６１〜７５の範囲であり、且つパターン転写樹脂のショア硬度が１〜５５の範囲である場合、前記パターン転写樹脂が前記樹脂モールドから剥離されるときに、破損は前記樹脂モールド又は前記パターン転写樹脂に対しても見られない。
【０１１８】
前記サイズが２００μｍである場合、表１に示されるように、前記パターンを有する樹脂モールドの形成用の前記組成物から形成した樹脂モールドのショア硬度が７６〜１００の範囲であり、且つパターン転写樹脂のショア硬度が１〜４５の範囲である場合、前記パターン転写樹脂が前記樹脂モールドから剥離されるときに、破損は前記樹脂モールド又は前記パターン転写樹脂に対しても見られない。
【０１１９】
前記サイズが６００μｍである場合、表２に示されるように、前記パターンを有する樹脂モールドの形成用の前記組成物から形成した樹脂モールドのショア硬度が１〜５０の範囲であり、且つパターン転写樹脂のショア硬度が１〜１００の範囲である場合、前記パターン転写樹脂が前記樹脂モールドから剥離されるときに、破損は前記樹脂モールド又は前記パターン転写樹脂に対しても見られない。
【０１２０】
前記サイズが６００μｍである場合、表２に示されるように、前記パターンを有する樹脂モールドの形成用の前記組成物から形成した樹脂モールドのショア硬度が５１〜６０の範囲であり、且つパターン転写樹脂のショア硬度が１〜５０の範囲である場合、前記パターン転写樹脂が前記樹脂モールドから剥離されるときに、破損は前記樹脂モールド又は前記パターン転写樹脂に対しても見られない。
【０１２１】
前記サイズが６００μｍである場合、表２に示されるように、前記パターンを有する樹脂モールドの形成用の前記組成物から形成した樹脂モールドのショア硬度が６１〜７５の範囲であり、且つパターン転写樹脂のショア硬度が１〜４５の範囲である場合、前記パターン転写樹脂が前記樹脂モールドから剥離されるときに、破損は前記樹脂モールド又は前記パターン転写樹脂に対しても見られない。
【０１２２】
前記サイズが６００μｍである場合、表２に示されるように、前記パターンを有する樹脂モールドの形成用の前記組成物から形成した樹脂モールドのショア硬度が７６〜１００の範囲であり、且つパターン転写樹脂のショア硬度が１〜４０の範囲である場合、前記パターン転写樹脂が前記樹脂モールドから剥離されるときに、破損は前記樹脂モールド又は前記パターン転写樹脂に対しても見られない。
【０１２３】
【表３】
0006774826.tif 000020
【０１２４】
エントリー３７、３９、４１、４３及び４５に示されるように、樹脂モールドの反応率が５０％より低い場合、樹脂モールド又はパターン転写樹脂に破損が生じる。
【０１２５】
エントリー３８、４０及び４４に示されるように、樹脂モールドの反応率が５０％より高い場合、樹脂モールド又はパターン転写樹脂中の破損の有無は、上記の通り樹脂モールドのショア硬度及びパターン転写樹脂のショア硬度の組み合わせに依存する。
【０１２６】
【表４】
0006774826.tif 000021
【０１２７】
エントリー４７、４９、５１、５３、５５、５７及び５９に示されるように、樹脂モールドの反応率が５０％より低い場合、樹脂モールド又はパターン転写樹脂に破損が生じる。
【０１２８】
エントリー５０、５４及び５８に示されるように、樹脂モールドの反応率が５０％より高い場合、樹脂モールド又はパターン転写樹脂中の破損の有無は、上記の通り樹脂モールドのショア硬度及びパターン転写樹脂のショア硬度の組み合わせに依存する。
【０１２９】
【表５】
0006774826.tif 000022
【０１３０】
エントリー６１、６３、６５、６７、６９、７１、７３、７５、７７、７９及び８１に示されるように、樹脂モールドの反応率が５０％より低い場合、樹脂モールド又はパターン転写樹脂に破損が生じる。
【０１３１】
エントリー６８、７４及び８０に示されるように、樹脂モールドの反応率が５０％より高い場合、樹脂モールド又はパターン転写樹脂中の破損の有無は、上記の通り樹脂モールドのショア硬度及びパターン転写樹脂のショア硬度の組み合わせに依存する。
【０１３２】
【表６】
0006774826.tif 000023
【０１３３】
エントリー８３、８５、８７、８９、９１、９３、９５、９７及び９９に示されるように、樹脂モールドの反応率が５０％より低い場合、樹脂モールド又はパターン転写樹脂に破損が生じる。
【０１３４】
エントリー８８、９４及び９８に示されるように、樹脂モールドの反応率が５０％より高い場合、樹脂モールド又はパターン転写樹脂中の破損の有無は、上記の通り樹脂モールドのショア硬度及びパターン転写樹脂のショア硬度の組み合わせに依存する。
【０１３５】
【表７】
0006774826.tif 000024
【０１３６】
当該ショア硬度の組み合わせが、エントリー１００に示されるように１μｍパターンのようなより細いパターンに対しては観察されないが、一方で当該ショア硬度の組み合わせがエントリー１０１及び１０２に示されるように、サイズが５０μｍ以上であるパターンに対しては観察される。
【０１３７】
＜２００μｍのパターン寸法に対する樹脂の破損の有無＞
【０１３８】
モールドの離型性の改善のために、フッ素化合物を含んでいる処理剤（ＤＵＲＡＳＵＲＦ  ＨＤ−２１０１Ｚ、ダイキン工業株式会社製）によって処理を施したＮｉモールドを準備する。前記Ｎｉモールドの厚さ及び面積は、それぞれ０．１ｍｍ及び５０ｍｍ２である。前記Ｎｉモールドは、パターンが凹部及び凸部によって形成される表面を有する。各々の前記凹部の幅及び深さは共に２００μｍであり、一方で、各々の前記凸部の幅は４００μｍである。樹脂モールドの形成用の組成物を前記Ｎｉモールドの前記パターンを有する表面に置く。更に、厚さ１．１ｍｍ及び面積１００ｍｍ２である無アルカリガラスを、前記組成物の塗膜の厚さが約１ｍｍになるように、前記塗膜の上に配置する。前記塗膜を、波長及び強度がそれぞれ３６５ｎｍ及び５０ｍＷ／ｃｍ２であるＵＶ−ＬＥＤランプからの光により、窒素雰囲気下で、１２００秒又は１０秒間照射する。
【０１３９】
前記光照射により形成した前記樹脂モールドを、前記Ｎｉモールドから剥離する。前記パターンが前記樹脂モールドから転写される樹脂の形成用の組成物を、前記Ｎｉモールドから転写した前記パターンを有する前記樹脂モールドの前記表面に置く。更に、厚さ及び面積がそれぞれ１．１ｍｍ及び１００ｍｍ２である無アルカリガラスを、前記組成物の塗膜の厚さが約１ｍｍになるように、前記塗膜の上に配置する。前記塗膜を、波長及び強度がそれぞれ３６５ｎｍ及び２０ｍＷ／ｃｍ２であるＵＶ−ＬＥＤランプからの光により、前記塗膜が前記樹脂モールドの前記パターンを有する表面に接触する状態で４００秒又は１０秒間照射する。前記光照射により形成したパターン化樹脂を前記樹脂モールドから剥離する。
【０１４０】
前記樹脂モールドから剥離した前記パターン化樹脂及び前記樹脂モールドの破損の有無を、共焦点レーザー顕微鏡（ＯＬＳ３１００、オリンパス株式会社製）により確認する。破損が前記樹脂モールドから剥離した前記パターン化樹脂若しくは前記樹脂モールドのどちらかに対して見られた場合、又は前記パターン化樹脂の前記樹脂モールドからの剥離が不可能である場合、組成物の組み合わせは、表に示されるように“Ｐ”として明示する。破損が前記樹脂のどちらにも見られない場合、組成物の組み合わせは、表に示されるように“Ａ”として明示する。
【０１４１】
＜６００μｍのパターン寸法に対する樹脂の破損の有無＞
【０１４２】
モールドの離型性の改善のために、フッ素化合物を含んでいる処理剤（ＤＵＲＡＳＵＲＦ  ＨＤ−２１０１Ｚ、ダイキン工業株式会社製）によって処理を施したＮｉモールドを準備する。前記Ｎｉモールドの厚さ及び面積は、それぞれ０．２ｍｍ及び５０ｍｍ２である。前記Ｎｉモールドはパターンが凹部及び凸部によって形成した表面を有する。各々の前記凹部の幅及び深さは共に６００μｍであり、一方で、各々の前記凸部の幅は９００μｍである。樹脂モールドの形成用の組成物を、前記Ｎｉモールドの前記パターンを有する表面に置く。更に、厚さ及び面積がそれぞれ１．１ｍｍ及び１００ｍｍ２である無アルカリガラスを、前記組成物の塗膜の厚さが約１ｍｍになるように前記塗膜の上に配置する。前記塗膜を、波長及び強度がそれぞれ３６５ｎｍ及び５０ｍＷ／ｃｍ２であるＵＶ−ＬＥＤランプからの光により、窒素雰囲気下で１２００秒又は１０秒間照射する。前記光照射により形成した前記樹脂モールドを前記Ｎｉモールドから剥離する。
【０１４３】
前記樹脂モールドから剥離される樹脂の形成用の組成物を、前記Ｎｉモールドから転写した前記パターンを有する前記樹脂モールドの前記表面に置く。更に、厚さ及び面積がそれぞれ１．１ｍｍ及び１００ｍｍ２である無アルカリガラスを、前記組成物の塗膜の厚さが約１ｍｍになるように前記塗膜の上に配置する。前記塗膜を、波長及び強度がそれぞれ３６５ｎｍ及び２０ｍＷ／ｃｍ２であるＵＶ−ＬＥＤランプからの光により、前記塗膜が前記樹脂モールドの前記パターンを有する表面に接触する状態で、４００秒又は１０秒間照射する。前記光照射により形成したパターン化樹脂を前記樹脂モールドから剥離する。
【０１４４】
前記樹脂モールドから剥離した前記パターン化樹脂及び前記樹脂モールドの破損の有無を、共焦点レーザー顕微鏡（ＯＬＳ３１００、オリンパス株式会社製）により確認する。破損が前記樹脂モールドから剥離した前記パターン化樹脂及び前記樹脂モールドのどちらかに対して見られた場合、又は前記パターン化樹脂の前記樹脂モールドからの剥離が不可能である場合、組成物の組み合わせは、表に示されるように“Ｐ”として明示する。破損が前記樹脂モールドからの剥離後に前記樹脂のどちらにも見られない場合、組成物の組み合わせは、表に示されるように“Ａ”として明示する。
【０１４５】
（ショア硬度の測定）
【０１４６】
モールドの離型性の改善のために、フッ素化化合物を含んでいる処理剤（ＯＰＴＯＯＬ  ＨＤ−１１０１Ｚ、ダイキン工業株式会社製）によって処理を施した無アルカリガラスを調製する。前記無アルカリガラスの厚さ及び面積は、それぞれ１．１ｍｍ及び１００ｍｍ２である。樹脂モールドの形成用の組成物を前記無アルカリガラス上に置く。更に、厚さ及び面積がそれぞれ１．１ｍｍ及び１００ｍｍ２である無アルカリガラスを、前記組成物の塗膜の厚さが約１ｍｍになるように前記塗膜の上に配置する。前記塗膜を、波長及び強度がそれぞれ３６５ｎｍ及び５０ｍＷ／ｃｍ２であるＵＶ−ＬＥＤランプからの光により、窒素雰囲気下で１２００秒間照射する。前記光照射により形成した樹脂モールドを前記無アルカリガラスから剥離する。上記の工程により得た６枚の樹脂モールドを積み重ねて、ショア硬度を材料硬度デュロメーターＴｙｐｅＤ（ＧＳ−７２０Ｇ、株式会社テクロック製）によって測定する。
【０１４７】
モールドの離型性の改善のために、フッ素化化合物を含んでいる処理剤（ＯＰＴＯＯＬ  ＨＤ−１１０１Ｚ、ダイキン工業株式会社製）によって処理を施した無アルカリガラスを準備する。前記無アルカリガラスの厚さ及び面積は、それぞれ１．１ｍｍ及び１００ｍｍ２である。前記樹脂モールドのパターンが前記樹脂モールドより転写される樹脂の形成用の組成物を前記無アルカリガラス上に置く。更に、厚さ及び面積がそれぞれ１．１ｍｍ及び１００ｍｍ２である無アルカリガラスを、前記組成物の塗膜の厚さが約３ｍｍになるように前記塗膜の上に配置する。前記塗膜を、波長及び強度がそれぞれ３６５ｎｍ及び２０ｍＷ／ｃｍ２であるＵＶ−ＬＥＤランプからの光により、窒素雰囲気下で４００秒間照射する。前記光照射によって形成した前記樹脂を、前記無アルカリガラスから剥離する。上記の工程により得た２枚の樹脂を積み重ねて、ショア硬度を材料硬度デュロメーターＴｙｐｅＤ（ＧＳ−７２０Ｇ、株式会社テクロック製）によって測定する。
【０１４８】
＜１μｍのパターン寸法に対する樹脂の破損の有無＞
【０１４９】
モールドの離型性の改善のために、フッ素化合物を含んでいる処理剤（ＤＵＲＡＳＵＲＦ  ＨＤ−２１０１Ｚ、ダイキン工業株式会社製）によって処理を施されたＮｉモールドを準備する。前記Ｎｉモールドの厚さ及び面積は、それぞれ１ｍｍ及び５０ｍｍ２である。前記Ｎｉモールドは、パターンが凹部及び凸部によって形成した表面を有する。各々の前記凹部の幅及び深さは共に１μｍであり、一方で、各々の前記凸部の幅は２μｍである。樹脂モールドの形成用の組成物を、前記Ｎｉモールドの前記パターンを有する表面に置く。更に、厚さ及び面積がそれぞれ１．１ｍｍ及び１００ｍｍ２である無アルカリガラスを、前記組成物の塗膜の厚さが約１ｍｍになるように前記塗膜の上に配置する。前記塗膜を、波長及び強度がそれぞれ３６５ｎｍ及び５０ｍＷ／ｃｍ２である、ＵＶ−ＬＥＤランプからの光により、窒素雰囲気下で１２００秒間照射する。前記光照射により形成した前記樹脂モールドを前記Ｎｉモールドから剥離する。
【０１５０】
前記樹脂モールドの前記パターンが前記樹脂モールドから転写される樹脂の形成用の組成物を、前記Ｎｉモールドから転写した前記パターンを有する樹脂モールドの前記表面に置く。更に、厚さ及び面積がそれぞれ１．１ｍｍ及び１００ｍｍ２である無アルカリガラスを、前記組成物の塗膜の厚さが約１ｍｍになるように前記塗膜の上に配置する。前記塗膜を、波長及び強度がそれぞれ３６５ｎｍ及び２０ｍＷ／ｃｍ２である、ＵＶ−ＬＥＤランプからの光により、前記塗膜が前記樹脂モールドの前記パターンを有する表面に接触する状態で４００秒間照射する。前記光照射により形成した樹脂を前記樹脂モールドから剥離する。
【０１５１】
前記樹脂モールドから剥離した前記樹脂及び前記樹脂モールドの破損の有無を、共焦点レーザー顕微鏡（ＯＬＳ３１００、オリンパス株式会社製）により確認する。破損が前記樹脂モールドから剥離した前記パターン化樹脂及び前記樹脂モールドのどちらかに対して見られた場合、又は被前記パターン化樹脂の前記樹脂モールドからの剥離が不可能である場合、組成物の組み合わせは、表７に示されるように“Ｐ”として明示する。破損が、前記樹脂モールドからの剥離後に前記樹脂のどちらにも見られない場合、組成物の組み合わせは、表７に示されるように“Ａ”として明示する。
【０１５２】
＜５０μｍのパターン寸法に対する樹脂の破損の有無＞
【０１５３】
モールドの離型性の改善のために、フッ素化合物を含んでいる処理剤（ＤＵＲＡＳＵＲＦ  ＨＤ−２１０１Ｚ、ダイキン工業株式会社製）によって処理を施されたＮｉモールドを準備する。前記Ｎｉモールドの厚さ及び面積は、それぞれ１ｍｍ及び５０ｍｍ２である。前記Ｎｉモールドは、パターンが凹部及び凸部によって形成した表面を有する。各々の前記凹部の幅及び深さは共に５０μｍであり、一方で、各々の前記凸部の幅は１００μｍである。樹脂モールドの形成用の組成物を、前記Ｎｉモールドの前記パターンを有する表面に置く。更に、厚さ及び面積がそれぞれ１．１ｍｍ及び１００ｍｍ２である無アルカリガラスを、前記組成物の塗膜の厚さが約１ｍｍになるように前記塗膜の上に配置する。前記塗膜を波長及び強度がそれぞれ３６５ｎｍ及び５０ｍＷ／ｃｍ２であるＵＶ−ＬＥＤランプからの光により、窒素雰囲気下で１２００秒間照射する。前記光照射により形成した前記樹脂モールドを前記Ｎｉモールドから剥離する。
【０１５４】
前記樹脂モールドの前記パターンが前記樹脂モールドから転写される樹脂の形成用の組成物を、前記Ｎｉモールドから転写した前記パターンを有する樹脂モールドの前記表面に置く。更に、厚さ及び面積がそれぞれ１．１ｍｍ及び１００ｍｍ２である無アルカリガラスを、前記組成物の塗膜の厚さが約１ｍｍになるように前記塗膜の上に配置する。前記塗膜を、波長及び強度がそれぞれ３６５ｎｍ及び２０ｍＷ／ｃｍ２であるＵＶ−ＬＥＤランプからの光により、前記塗膜が前記樹脂モールドの前記パターンを有する表面に接触する状態で４００秒間照射する。前記光照射により形成した樹脂を前記樹脂モールドから剥離する。
【０１５５】
前記樹脂モールドから剥離した前記樹脂及び前記樹脂モールドの破損の有無を、共焦点レーザー顕微鏡（ＯＬＳ３１００、オリンパス株式会社製）により確認する。
【０１５６】
前記樹脂モールドから剥離した前記パターン化樹脂及び前記樹脂モールドのどちらかに対して破損が見られた場合、又は前記パターン化樹脂の前記樹脂モールドからの剥離が不可能である場合、組成物の組み合わせは、表７に示されるように“Ｐ”として明示する。前記樹脂モールドからの剥離後に前記樹脂のどちらにも破損が見られない場合、組成物の組み合わせは、表７に示されるように“Ａ”として明示する。
【０１５７】
＜樹脂モールド及びパターン化樹脂に対する反応率の推定＞
【０１５８】
ＦＴ−ＩＲ分光法により測定したＣ＝ＣＨ変角振動に帰属する８１０ｃｍ−１のピークに注目する。前記樹脂モールドに対する反応率を、Ｃ＝Ｏ伸縮に帰属し樹脂モールド用の組成物の塗膜又は前記樹脂モールドのパターンが前記樹脂モールドから転写される樹脂の塗膜への光照でさえも変化しない１７００ｃｍ−１のピーク強度に基づき、前記塗膜への光照射による８１０ｃｍ−１におけるピーク強度の減少率の計算により見積もる。具体的には、前記反応率は、以下の式より算出する：
反応率（％）＝（１−（Ａ１ＵＶ／Ａ２ＵＶ）／（Ａ１０／Ａ２０））×１００
ここで、Ａ１０，Ａ２０、Ａ１ＵＶ及びＡ２ＵＶは、前記塗膜のＣ＝Ｏ伸縮のピーク面積、前記塗膜のＣ＝ＣＨ変角振動のピーク面積、前記樹脂モールドのＣ＝Ｏ伸縮のピーク面積及び前記樹脂モールドのＣ＝ＣＨ変角振動のピーク面積である。前記被剥離モールドに対する反応率を上述の方法と同じ方法で見積もる。
【０１５９】
＜樹脂モールドのＦＴ−ＩＲ分光法測定＞
モールドの離型性の改善のために、フッ素化化合物を含んでいる処理剤（ＯＰＴＯＯＬ  ＨＤ−１１０１Ｚ、ダイキン工業株式会社製）によって処理を施した無アルカリガラスを準備する。前記無アルカリガラスの厚さ及び面積は、それぞれ１．１ｍｍ及び１００ｍｍ２である。樹脂モールドの形成用の組成物を、前記無アルカリガラス上に置く。更に、厚さ及び面積がそれぞれ１．１ｍｍ及び１００ｍｍ２である無アルカリガラスを、前記組成物の塗膜の厚さが約１ｍｍになるように前記塗膜の上に配置する。記塗膜を、波長及び強度がそれぞれ３６５ｎｍ及び５０ｍＷ／ｃｍ２である、ＵＶ−ＬＥＤランプからの光により、窒素雰囲気下で１０秒間照射する。前記光照射により形成した前記樹脂モールドを前記無アルカリガラスから剥離する。前記樹脂モールドのＦＴ−ＩＲ測定は全反射減衰（ＡＴＲ）法を用いる。
【０１６０】
＜パターン化樹脂のＦＴ−ＩＲ測定＞
【０１６１】
モールドの離型性の改善のために、フッ素化化合物を含んでいる処理剤（ＯＰＴＯＯＬ  ＨＤ−１１０１Ｚ、ダイキン工業株式会社製）によって処理を施した無アルカリガラスを準備する。前記無アルカリガラスの厚さ及び面積は、それぞれ１．１ｍｍ及び１００ｍｍ２である。前記樹脂モールドのパターンが前記樹脂モールドから転写される樹脂の形成用の組成物を前記無アルカリガラス上に置く。更に、厚さ及び面積がそれぞれ１．１ｍｍ及び１００ｍｍ２である無アルカリガラスを前記組成物の塗膜の厚さが約３ｍｍになるように前記塗膜の上に配置する。前記塗膜を波長及び強度がそれぞれ３６５ｎｍ及び２０ｍＷ／ｃｍ２であるＵＶ−ＬＥＤランプからの光により、窒素雰囲気下で１０秒間照射する。前記光照射により形成した前記樹脂を前記無アルカリガラスから剥離する。前記樹脂モールドのＦＴ−ＩＲ測定は全反射（ＡＴＲ）法を用いる。