(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
メソゲン基を有する重合性液晶化合物を含む組成物を用いて形成される位相差膜であって、
前記位相差膜中における、前記メソゲン基の前記位相差膜の面内遅相軸方向のオーダーパラメータをＳｘ、前記メソゲン基の前記面内遅相軸方向と面内で直交する方向のオーダーパラメータをＳｙ、前記メソゲン基の前記位相差膜の厚み方向のオーダーパラメータをＳｚとしたときに、
前記メソゲン基が棒状の場合は、式（１）〜（３）の要件を満たし、
前記メソゲン基が円盤状の場合は、式（４）〜（６）の要件を満たす、位相差膜。
式（１）    Ｓｘ＞Ｓｚ＞Ｓｙ
式（２）    −０．３００＜Ｓｚ＜０．２００
式（３）    Ｓｘ＞０．０５０
式（４）    Ｓｙ＞Ｓｚ＞Ｓｘ
式（５）    −０．２００＜Ｓｚ＜０．３００
式（６）    Ｓｙ＞０．０５０
なお、前記メソゲン基が棒状の場合、前記オーダーパラメータは前記メソゲン基の長軸を基準として算出され、前記メソゲン基が円盤状の場合は、前記オーダーパラメータは前記メソゲン基の円盤面に直交する軸を基準として算出される。
なお、前記位相差膜の面内遅相軸方向をｘ軸、面内で遅相軸方向と直交する方向をｙ軸、前記位相差膜の厚み方向をｚ軸とし、前記メソゲン基の平均配向方向Ｍと、ｘ軸、ｙ軸、ｚ軸との角度をそれぞれθＸ、θＹ、θＺとして、前記オーダーパラメータＳｘ、前記オーダーパラメータＳｙ、前記オーダーパラメータＳｚはそれぞれ下記式で表される。
【数１】
0006684526.tif 000021
【請求項２】
前記メソゲン基が棒状の場合、式（１）、式（３）および式（７）の要件を満たし、
前記メソゲン基が円盤状の場合、式（４）、式（６）および式（８）の要件を満たす、請求項１に記載の位相差膜。
式（１）    Ｓｘ＞Ｓｚ＞Ｓｙ
式（７）    −０．０４０＜Ｓｚ＜０．０４０
式（３）    Ｓｘ＞０．０５０
式（４）    Ｓｙ＞Ｓｚ＞Ｓｘ
式（８）    −０．０４０＜Ｓｚ＜０．０４０
式（６）    Ｓｙ＞０．０５０
【請求項３】
膜厚が２０．０μｍ以下である、請求項１または２に記載の位相差膜。
【請求項４】
単層構造である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の位相差膜。
【請求項５】
波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションＲｅ（５５０）が１１０〜１６０ｎｍである、請求項１〜４のいずれか１項に記載の位相差膜。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の位相差膜を含む、光学フィルム。
【請求項７】
さらに、偏光子を含む、請求項６に記載の光学フィルム。
【請求項８】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の位相差膜、または、請求項６もしくは７に記載の光学フィルムを含む、表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、位相差膜、光学フィルム、および、表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
屈折率異方性を持つ位相差膜は、表示装置の反射防止膜、および、液晶表示装置の光学補償フィルムなど種々の用途に適用されている。
近年、位相差膜に要求される特性の一層の向上が求められており、Ｎｚファクターで定義される３次元の屈折率分布の制御が非常に重要になっている。なかでも、０＜Ｎｚ＜１を満たす位相差膜は、種々の用途に好適に適用できる。例えば、Ｎｚ＝０．５を満たす位相差膜は、位相差値が視野角によらずほぼ一定であり、このような位相差膜を用いることによって液晶表示装置の視野角特性が大幅に改善される。【０００３】
上記のような０＜Ｎｚ＜１を満たす位相差膜としては、例えば、特許文献１において、ポリカーボネートなどの樹脂フィルムに熱収縮性フィルムを貼り付けて積層体とし、この積層体を延伸し、その後、熱収縮性フィルムを剥がすことによって得られるフィルム（位相差膜）が提案されている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平５−１５７９１１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
一方で、特許文献１で開示される位相差膜はポリマーを使用して形成されるため、得られる位相差膜の厚みが厚いという問題がある。
それに対して、液晶化合物を用いて得られる位相差膜は厚みを薄くできるが、従来技術においては、液晶化合物を用いて、所定の範囲のＮｚファクターを示す位相差膜は未だ開発されていない。【０００６】
本発明は、上記実情に鑑みて、液晶化合物を用いて形成され、Ｎｚファクターが０超１未満を示す位相差膜を提供することを課題とする。
または、本発明は、上記位相差膜を含む光学フィルム、および、表示装置を提供することも課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者は、従来技術の問題点について鋭意検討した結果、液晶化合物に含まれるメソゲン基のオーダーパラメータを所定の範囲に調整することにより、上記課題を解決できることを見出した。
すなわち、以下の構成により上記目的を達成することができることを見出した。【０００８】
（１）  メソゲン基を有する重合性液晶化合物を含む組成物を用いて形成される位相差膜であって、
位相差膜中における、メソゲン基の位相差膜の面内遅相軸方向のオーダーパラメータをＳｘ、メソゲン基の面内遅相軸方向と面内で直交する方向のオーダーパラメータをＳｙ、メソゲン基の位相差膜の厚み方向のオーダーパラメータをＳｚとしたときに、
メソゲン基が棒状の場合は、後述する式（１）〜（３）の要件を満たし、
メソゲン基が円盤状の場合は、後述する式（４）〜（６）の要件を満たす、位相差膜。
（２）  メソゲン基が棒状の場合、後述する式（１）、式（３）および式（７）の要件を満たし、
メソゲン基が円盤状の場合、後述する式（４）、式（６）および式（８）の要件を満たす、（１）に記載の位相差膜。
（３）  膜厚が２０．０μｍ以下である、（１）または（２）に記載の位相差膜。
（４）  単層構造である、（１）〜（３）のいずれかに記載の位相差膜。
（５）  （１）〜（４）のいずれかに記載の位相差膜を含む、光学フィルム。
（６）  さらに、偏光子を含む、（５）に記載の光学フィルム。
（７）  （１）〜（４）のいずれかに記載の位相差膜、または、（５）もしくは（６）に記載の光学フィルムを含む、表示装置。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、液晶化合物を用いて形成され、Ｎｚファクターが０超１未満を示す位相差膜を提供することができる。
または、本発明によれば、上記位相差膜を含む光学フィルム、および、表示装置を提供することもできる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】各軸方向のオーダーパラメータを説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。まず、本明細書で用いられる用語について説明する。
【００１２】
本発明において、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のレターデーションおよび厚み方向のレターデーションを表す。特に記載がないときは、波長λは、５５０ｎｍとする。
本発明において、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）はＡｘｏＳｃａｎ  ＯＰＭＦ−１（オプトサイエンス社製）において、波長λで測定した値である。ＡｘｏＳｃａｎにて平均屈折率（（Ｎｘ＋Ｎｙ＋Ｎｚ）／３）と膜厚（ｄ（μｍ））を入力することにより、
遅相軸方向（°）
Ｒｅ（λ）＝Ｒ０（λ）
Ｒｔｈ（λ）＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ
が算出される。
なお、Ｒ０（λ）は、ＡｘｏＳｃａｎ  ＯＰＭＦ−１で算出される数値として表示されるものであるが、Ｒｅ（λ）を意味している。
【００１３】
本明細書において、屈折率ｎｘ、ｎｙ、ｎｚは、アッベ屈折率（ＮＡＲ−４Ｔ、アタゴ（株）製）を使用し、光源にナトリウムランプ（λ＝５８９ｎｍ）を用いて測定する。また、波長依存性を測定する場合は、多波長アッベ屈折計ＤＲ−Ｍ２（アタゴ（株）製）にて、干渉フィルタとの組み合わせで測定できる。
また、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用できる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。
また、本明細書において、Ｎｚファクターとは、Ｎｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）で与えられる値である。
【００１４】
なお、本明細書では、「可視光」とは、波長が３８０〜７８０ｎｍの光のことをいう。
また、本明細書において、角度（例えば「９０°」等の角度）、およびその関係（例えば「直交」、「平行」、および「４５°で交差」等）については、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。例えば、厳密な角度±１０°の範囲内であることなどを意味し、厳密な角度との誤差は、５°以下であることが好ましく、３°以下であることがより好ましい。
【００１５】
本明細書において、偏光子の「吸収軸」は、吸光度の最も高い方向を意味する。「透過軸」は、「吸収軸」と９０°の角度をなす方向を意味する。
本明細書において、位相差膜の「面内遅相軸」は、面内において屈折率が最大となる方向を意味する。
【００１６】
本発明の位相差膜の特徴点の一つとしては、位相差膜中のメソゲン基の各方向のオーダーパラメータを所定の範囲に調整している点が挙げられる。後段で詳述するように、本発明で規定する所定のオーダーパラメータは、メソゲン基の各方向の配向の程度を表すパラメータであり、本発明者らは、これらを所定の範囲に所定することにより、所望のＮｚファクターを示す位相差膜が得られることを見出している。
【００１７】
本発明の位相差膜は、メソゲン基を有する重合性液晶化合物を含む組成物を用いて形成される位相差膜であって、
位相差膜中における、メソゲン基の位相差膜の面内遅相軸方向のオーダーパラメータをＳｘ、メソゲン基の面内遅相軸方向と面内で直交する方向のオーダーパラメータをＳｙ、メソゲン基の位相差膜の厚み方向のオーダーパラメータをＳｚとしたときに、
メソゲン基が棒状の場合は、後述する式（１）〜（３）の要件を満たし、
メソゲン基が円盤状の場合は、後述する式（４）〜（６）の要件を満たす、位相差膜である。
【００１８】
以下では、まず、位相差膜の特徴点であるオーダーパラメータの点について詳述し、その後、位相差膜を構成する材料および製造方法について詳述する。
【００１９】
＜オーダーパラメータ＞
一般的に、液晶化合物の配向の程度を表すパラメータとして、オーダーパラメータが知られている。オーダーパラメータは、結晶のように分布がない場合に１、液体状態のように完全にランダムな場合に０となる。例えば、ネマチック液晶では、通常０．６程度の値をとるといわれている。オーダーパラメータについては、例えば、ＤＥ  ＪＥＵ，Ｗ．Ｈ．（著）  「液晶の物性」（共立出版、１９９１年、１１頁）に詳しく記載があり、次の式で表される。
【００２０】
【数１】
0006684526.tif 000002
ここでθは、配向要素（例えば、液晶化合物）の平均的な配向軸方向と、各配向要素の軸とのなす角である。
【００２１】
本明細書においては、図１に示すように、位相差膜の面内遅相軸方向をｘ軸、面内で遅相軸方向と直交する方向をｙ軸、位相差膜の厚み方向をｚ軸とし、配向解析により得られたメソゲン基の平均配向方向Ｍと、ｘ軸、ｙ軸、ｚ軸との角度をそれぞれθＸ、θＹ、θＺとしたとき、メソゲン基のｘ方向のオーダーパラメータＳｘ、ｙ方向のオーダーパラメータＳｙ、ｚ方向のオーダーパラメータＳｚはそれぞれ下記式で表される。
【００２２】
【数２】
0006684526.tif 000003
【００２３】
位相差膜中のメソゲン基の各方向におけるオーダーパラメータの測定方法としては、偏光ラマンスペクトル測定が挙げられる。
より具体的には、測定装置としては、偏光ラマンスペクトル測定にはｎａｎｏｆｉｄｅｒ（東京インスツルメンツ社製）を用いる。まず、ＡｘｏＳｃａｎ  ＯＰＭＦ−１（オプトサイエンス社製）を用いて、位相差膜の面内遅相軸（ｘ軸）方向を特定する。次に、位相差膜の主面（ｘｙ面）、位相差膜の第１断面（ｘｚ面）、および、位相差膜の第２断面（ｙｚ面）を測定面として、偏光ラマンスペクトル測定を行う。なお、上記第１断面および第２断面は、位相差膜を所定の方向で切断して露出される断面である。第１断面はｘ軸に平行で、かつ、主面に対して垂直な方向で位相差膜を切断して形成される断面である。第２断面は、ｙ軸に平行で、かつ、主面に対して垂直な方向で位相差膜を切断して形成される断面である。
偏光ラマンスペクトル測定の具体的な方法としては、所定の励起波長（例えば、７８５ｎｍ）で偏光をいくつかの角度で回転させ、それに対して平行な方向と垂直な方向との偏光ラマンスペクトルを測定する。次に、Naoki Hayashi, Tatsuhisa Kato, Phys. Rev. E, 63, 021706 (2001)に記載の方法に従って、層中に含まれるメソゲン基の骨格に由来するピークをもつバンドに対し、理論的に導いた式により最小二乗法に基づくフィッティング解析を行い、測定面内の２次オーダーパラメータＳｘｙ、Ｓｙｘ、Ｓｙｚ、Ｓｚｙ、Ｓｘｚ、および、Ｓｚｘを算出する。さらに以下の式に基づき各軸方向のオーダーパラメータＳｘ、Ｓｙ、および、Ｓｚを算出する。
Ｓｘ＝（Ｓｘｙ＋Ｓｘｚ）／２
Ｓｙ＝（Ｓｙｘ＋Ｓｙｚ）／２
Ｓｚ＝（Ｓｚｘ＋Ｓｚｙ）／２
なお、位相差膜中におけるメソゲン基の構造は、熱分解ＧＣ−ＭＳ（Gas chromatography-mass spectrometry）、ＩＲ（infrared）スペクトル測定、および、ＮＭＲ（nuclear magnetic resonance）測定により決定できる。使用される重合性液晶化合物の構造が予めわかっている場合は、その構造より位相差膜中におけるメソゲン基の構造を決定できる。
【００２４】
なお、メソゲン基の配向解析に用いる構造部位がメソゲン基の基準軸に平行である場合、解析結果をそのまま用いることができる。また、メソゲン基の配向解析に用いる構造部位がメソゲン基の基準軸に直交している場合、解析結果をメソゲン基の基準軸に方向に変換する。例えば、メソゲン基の配向解析に用いる構造部位がメソゲン基の基準軸に直交している液晶化合物がネマチック液晶性を示す場合は、液晶化合物は一軸性で配向しているため、上記測定により得られた測定値（ＳＸ⊥、ＳＹ⊥、ＳＺ⊥）を以下の式（Ｘ）〜式（Ｚ）により変換することにより、各軸に沿ったメソゲン基のオーダーパラメータを算出できる。
なお、上記基準軸はオーダーパラメータを算出する際の軸であり、メソゲン基の種類によって異なる。詳細は、後段で詳述する。
【００２５】
【数３】
0006684526.tif 000004
【００２６】
上記オーダーパラメータを算出する際には、メソゲン基の種類によって基準軸が変わる。具体的には、メソゲン基が棒状である場合、メソゲン基の長軸を基準としてオーダーパラメータが算出される。つまり、メソゲン基の長軸が基準軸となり、メソゲン基の長軸の平均配向方向と、上述したｘ軸、ｙ軸、および、ｚ軸とのなす角をそれぞれθＸ、θＹ、および、θＺとして、オーダーパラメータを算出する。
また、メソゲン基が円盤状である場合、メソゲン基の円盤面に直交する軸を基準としてオーダーパラメータが算出される。つまり、メソゲン基の円盤面に直交する軸が基準軸となり、メソゲン基の円盤面に直交する軸の平均配向方向と、上述したｘ軸、ｙ軸、および、ｚ軸とのなす角をそれぞれθＸ、θＹ、および、θＺとして、オーダーパラメータを算出する。
【００２７】
メソゲン基が棒状の場合は、式（１）〜（３）の要件を満たす。
式（１）    Ｓｘ＞Ｓｚ＞Ｓｙ
式（２）    −０．３００＜Ｓｚ＜０．２００（好ましくは、−０．１００＜Ｓｚ＜０．１００）
式（３）    Ｓｘ＞０．０５０
なかでも、位相差膜のＮｚファクターが０．５０により近くなる点で、式（１）、式（３）、および、式（７）の要件を満たすことが好ましい。
式（１）    Ｓｘ＞Ｓｚ＞Ｓｙ
式（７）    −０．０４０＜Ｓｚ＜０．０４０
式（３）    Ｓｘ＞０．０５０
【００２８】
上記Ｓｘは、０．１００以上であることが好ましく、０．２００以上であることがより好ましい。上限は特に制限されないが、０．４００以下の場合が多い。
また、Ｓｙは、−０．１００以下であることが好ましく、−０．２００以下であることがより好ましい。下限は特に制限されないが、−０．４００以上の場合が多い。
また、Ｓｘの絶対値とＳｙの絶対値との差は、０．１００以下であることが好ましく、０．０４０以下であることがより好ましい。下限は特に制限されないが、０が好ましい。
【００２９】
メソゲン基が円盤状の場合、式（４）〜（６）の要件を満たす。
式（４）    Ｓｙ＞Ｓｚ＞Ｓｘ
式（５）    −０．２００＜Ｓｚ＜０．３００（好ましくは、−０．１００＜Ｓｚ＜０．１００）
式（６）    Ｓｙ＞０．０５０
なかでも、位相差膜のＮｚファクターが０．５０により近くなる点で、式（４）、式（６）および式（８）の要件を満たすことが好ましい。
式（４）    Ｓｙ＞Ｓｚ＞Ｓｘ
式（８）    −０．０４０＜Ｓｚ＜０．０４０
式（６）    Ｓｙ＞０．０５０
【００３０】
上記Ｓｘは、−０．１００以下であることが好ましく、−０．２００以下であることがより好ましい。下限は特に制限されないが、−０．４００以上の場合が多い。
また、Ｓｙは、０．１００以上であることが好ましく、０．２００以上であることがより好ましい。上限は特に制限されないが、０．４００以下の場合が多い。
また、Ｓｘの絶対値とＳｙの絶対値との差は、０．１００以下であることが好ましく、０．０４０以下であることがより好ましい。下限は特に制限されないが、０が好ましい。
【００３１】
＜位相差膜の材料＞
位相差膜は、メソゲン基を有する重合性液晶化合物を含む組成物を用いて形成される。
メソゲン基を有する重合性液晶化合物の種類は特に制限されず、公知の重合性液晶化合物が挙げられる。なお、メソゲン基とは、剛直かつ配向性を有する官能基である。メソゲン基の構造としては、例えば、芳香環基および脂環基からなる群から選択される基が、複数個、直接または連結基（例えば、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは、水素原子、または、アルキル基を表す）、または、これらを組み合わせた基）を介して連なった構造が挙げられる。
【００３２】
重合性液晶化合物とは、重合性基を有する液晶化合物である。
重合性基の種類は特に制限されないが、ラジカル重合またはカチオン重合が可能な重合性基が好ましい。
ラジカル重合性基としては、公知のラジカル重合性基を用いることができ、アクリロイル基またはメタアクリロイル基が好ましい。
カチオン重合性基としては、公知のカチオン重合性基を用いることができ、具体的には、脂環式エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル基、および、ビニルオキシ基などが挙げられる。なかでも、脂環式エーテル基またはビニルオキシ基が好ましく、エポキシ基、オキセタニル基、または、ビニルオキシ基がより好ましい。
特に、好ましい重合性基の例としては下記が挙げられる。
【００３３】
【化１】
0006684526.tif 000005
【００３４】
重合性液晶化合物中における重合性基の数は特に制限されないが、３個以下が好ましい。
また、重合性液晶化合物が、ラジカル重合性基とカチオン重合性基との両方を有することも好ましい。
【００３５】
重合性液晶化合物の種類は特に制限されないが、メソゲン基の形状が棒状である棒状液晶化合物、および、メソゲン基の形状が円盤状である円盤状液晶化合物が挙げられる。
なお、棒状のメソゲン基とは主骨格部が直線的である構造のメソゲン基を意図し、円盤状のメソゲン基とは主骨格部が放射状に広がった構造のメソゲン基を意図する。
重合性液晶化合物としては、さらにそれぞれ低分子タイプと高分子タイプとがある。高分子タイプとは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。本発明では、いずれの重合性液晶化合物を用いることもできる。
【００３６】
なかでも、後述する延伸処理および／または収縮処理によりオーダーパラメータの制御がよりしやすい点で、以下の一般式（Ｉ）で表される化合物が好ましく挙げられる。
一般式（Ｉ）    Ｌ1−Ｇ1−Ｄ1−Ａｒ−Ｄ2−Ｇ2−Ｌ2
【００３７】
Ｄ1およびＤ2は、それぞれ独立に、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｃ（＝Ｓ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、−ＣＲ1Ｒ2−、−ＣＲ1Ｒ2−ＣＲ3Ｒ4−、−Ｏ−ＣＲ1Ｒ2−、−ＣＲ1Ｒ2−Ｏ−、−ＣＲ1Ｒ2−Ｏ−ＣＲ3Ｒ4−、−ＣＲ1Ｒ2−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ1Ｒ2−、−ＣＲ1Ｒ2−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ3Ｒ4−、−ＣＲ1Ｒ2−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ3Ｒ4−、−ＮＲ1−ＣＲ2Ｒ3−、−ＣＲ1Ｒ2−ＮＲ3−、−ＣＯ−ＮＲ1−、または、−ＮＲ1−ＣＯ−を表し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、およびＲ4は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、または、炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｇ1およびＧ2は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表し、脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、−Ｏ−、−Ｓ−、または、−ＮＲ6−で置換されていてもよく、Ｒ6は水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｌ1およびＬ2は、それぞれ独立に、１価の有機基を表し、Ｌ1およびＬ2からなる群から選ばれる少なくとも一種が、重合性基を有する１価の基を表す。なかでも、Ｌ1およびＬ2の一方が重合性基を有する１価の基を表し、他方が重合性基を含まない１価の有機基を表すか、または、Ｌ1およびＬ2の一方がラジカル重合性基を、他方がカチオン重合性基を表すことが好ましい。
Ａｒは、一般式（ＩＩ−１）、一般式（ＩＩ−２）、一般式（ＩＩ−３）、または、一般式（ＩＩ−４）で表される２価の芳香環基を表す。
【００３８】
【化２】
0006684526.tif 000006
【００３９】
Ｑ1は、−Ｓ−、−Ｏ−、または−ＮＲ11−を表し、Ｒ11は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。Ｙ1は、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、または、炭素数３〜１２の芳香族複素環基を表す。Ｚ1、Ｚ2、および、Ｚ3は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の脂環式炭化水素基、１価の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＮＲ12Ｒ13または−ＳＲ12を表す。Ｚ1およびＺ2は、互いに結合して芳香族炭化水素環または芳香族複素環を形成してもよく、Ｒ12およびＲ13は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。Ａ1およびＡ2は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−ＮＲ21−（Ｒ21は水素原子または置換基を表す。）、−Ｓ−および−ＣＯ−からなる群から選ばれる基を表す。Ｘは水素原子または置換基が結合していてもよい第１４〜１６族の非金属原子を表す。Ａｘは、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、または、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。ＡｘおよびＡｙが有する芳香環は置換基を有していてもよく、ＡｘとＡｙとは結合して、環を形成していてもよい。Ｑ2は、水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。
【００４０】
一般式（Ｉ）で表される化合物の各置換基の定義および好ましい範囲については、特開２０１２−２１０６８号公報に記載の化合物（Ａ）のＤ1、Ｄ2、Ｇ1、Ｇ2、Ｌ1、Ｌ2、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｘ1、Ｙ1、Ｑ1、および、Ｑ2に関する記載をそれぞれ上記一般式（Ｉ）のＤ1、Ｄ2、Ｇ1、Ｇ2、Ｌ1、Ｌ2、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｑ１、Ｙ1、Ｚ1、および、Ｚ2について参照でき、特開２００８−１０７７６７号公報に記載の一般式（Ｉ）で表される化合物のＡ1、Ａ2、および、Ｘに関する記載をそれぞれ上記一般式（Ｉ）のＡ1、Ａ2、および、Ｘについて参照でき、ＷＯ２０１３／０１８５２６に記載の一般式（Ｉ）で表される化合物のＡｘ、Ａｙ、および、Ｑ1に関する記載をそれぞれ上記一般式（Ｉ）に関するＡｘ、Ａｙ、および、Ｑ2について参照できる。Ｚ3については、特開２０１２−２１０６８号公報に記載の化合物（Ａ）のＱ1に関する記載を参照できる。
【００４１】
Ｌ1およびＬ2の一方は、−Ｄ3−Ｇ3−Ｓｐ−Ｐ3で表される基であることが好ましい。
Ｄ3は、Ｄ1と同義である。
Ｇ3は、単結合、炭素数６〜１２の２価の芳香環基もしくは複素環基、または、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表し、上記脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、−Ｏ−、−Ｓ−、または、−ＮＲ7−で置換されていてもよく、ここでＲ7は水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｓｐは、単結合、アルキレン基、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ8−、または、これらを組み合わせた基を表す。上記組み合わせた基としては、例えば、−（ＣＨ2）n−、−（ＣＨ2）n−Ｏ−、−（ＣＨ2−Ｏ−）n−、−（ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−）m、−Ｏ−（ＣＨ2）n−、−Ｏ−（ＣＨ2）n−Ｏ−、−Ｏ−（ＣＨ2−Ｏ−）n−、−Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−）m、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ2）n−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ2）n−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ2−Ｏ−）n−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−）m、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ8−（ＣＨ2）n−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ8−（ＣＨ2）n−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ8−（ＣＨ2−Ｏ−）n−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ8−（ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−）m、および、−（ＣＨ2）n−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−（ＣＨ2）n−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ2）n−が挙げられる。ここで、ｎは２〜１２の整数を表し、ｍは２〜６の整数を表し、Ｒ8は水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｐ3は重合性基を示す。重合性基の定義は、上述した通りである。
【００４２】
Ｌ1およびＬ2の他方は、重合性基を含まない１価の有機基か、または、Ｐ3とは異なる重合性基であることが好ましく、例えば、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の脂環式炭化水素基、および、１価の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基が挙げられる。なお、上記脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素基、および、芳香族炭化水素基には、置換基が置換していてもよく、置換基としては、例えば、アルキル基が挙げられる。
【００４３】
円盤状液晶化合物としては、例えば、特開２００７−１０８７３２号、または、特開２０１０−２４４０３８号に記載の化合物が好ましい。
【００４４】
組成物中におけるメソゲン基を有する重合性液晶化合物の含有量は特に制限されないが、オーダーパラメータの調整がより容易である点から、組成物中の全固形分に対して、５０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましく、９０質量％以上がさらに好ましい。上限は特に制限されないが、９９質量％以下の場合が多い。
なお、組成物中の全固形分には、溶媒は含まれない。
【００４５】
上記組成物には、メソゲン基を有する重合性液晶化合物以外の成分が含まれていてもよい。
例えば、組成物には、重合開始剤が含まれていてもよい。使用される重合開始剤は、重合反応の形式に応じて選択され、例えば、熱重合開始剤、および、光重合開始剤が挙げられる。例えば、光重合開始剤としては、α−カルボニル化合物、アシロインエーテル、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物、多核キノン化合物、および、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせなどが挙げられる。
重合開始剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがより好ましい。
【００４６】
また、組成物には、塗膜の均一性、膜の強度の点から、上記重合性液晶化合物以外の重合性化合物（重合性モノマー）が含まれていてもよい。
重合性化合物としては、ラジカル重合性またはカチオン重合性の化合物が挙げられる。なかでも、上記の重合性液晶化合物と共重合性のものが好ましく、多官能性ラジカル重合性モノマーがより好ましい。例えば、特開２００２−２９６４２３号公報中の段落［００１８］〜［００２０］に記載のものが挙げられる。
重合性化合物の含有量は、重合性液晶化合物全質量に対して、１〜５０質量％であることが好ましく、２〜３０質量％であることがより好ましい。
【００４７】
また、組成物には、塗膜の均一性、膜の強度の点から、界面活性剤が含まれていてもよい。
界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、フッ素系化合物が好ましい。具体的には、例えば、特開２００１−３３０７２５号公報中の段落［００２８］〜［００５６］に記載の化合物が挙げられる。
【００４８】
また、組成物には溶媒が含まれていてもよく、有機溶媒が好ましい。有機溶媒の例としては、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、および、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が挙げられる。なかでも、アルキルハライドまたはケトンが好ましい。２種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
【００４９】
また、組成物には、垂直配向剤、および、水平配向剤などの各種配向制御剤が含まれていてもよい。これらの配向制御剤は、界面側において液晶化合物を水平または垂直に配向制御可能な化合物である。
【００５０】
さらに、組成物には、上記成分以外に、密着改良剤、可塑剤、および、ポリマーなどが含まれていてもよい。
【００５１】
＜位相差膜の製造方法＞
位相差膜の製造方法は、上述した特徴を示す位相差膜が得られれば特に制限されない。位相差膜の製造方法は、後述する工程１〜工程３を有することが好ましい。
以下、上記工程１〜工程３の手順について詳述する。
【００５２】
（工程１）
工程１は、支持体上に、メソゲン基を有する重合性液晶化合物を含む組成物を塗布して塗膜を形成し、塗膜に配向処理を施して重合性液晶化合物を配向させる工程である。
工程１で使用される支持体は、組成物を塗布するための基材として機能を有する部材である。支持体は、組成物を塗布および硬化させた後に剥離される仮支持体、または、延伸した後に剥離される仮支持体であってもよい。
なお、後述する光学フィルムは支持体を含んでいなくてもよい。
【００５３】
支持体（仮支持体）としては、プラスチックフィルムの他、ガラス基板を用いてもよい。プラスチックフィルムを構成する材料としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などのポリエステル、ポリカーボネート、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、ポリアミド、ポリオレフィン、セルロース誘導体、シリコーン、および、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）などが挙げられる。
支持体の厚みとしては、５〜１０００μｍ程度であればよく、１０〜２５０μｍが好ましく、１５〜９０μｍがより好ましい。
【００５４】
なお、必要に応じて、支持体上には、配向層を配置してもよい。
配向層は、一般的には、ポリマーを主成分とする。配向層用ポリマーとしては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。利用されるポリマーは、ポリビニルアルコール、ポリイミド、または、その誘導体が好ましい。
なお、配向層には、公知のラビング処理が施されることが好ましい。
配向層の厚みは、０．０１〜１０μｍであることが好ましく、０．０１〜１μｍであることがより好ましい。
【００５５】
組成物の塗布方法としては、カーテンコーティング法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、印刷コーティング法、スプレーコーティング法、スロットコーティング法、ロールコーティング法、スライドコーティング法、ブレードコーティング法、グラビアコーティング法、および、ワイヤーバー法等の公知の方法が挙げられる。いずれの方法で塗布する場合においても、単層塗布が好ましい。
【００５６】
支持体上に形成された塗膜に、配向処理を施して、塗膜中の重合性液晶化合物を配向させる。
配向処理は、室温により塗膜を乾燥させる、または、塗膜を加熱することにより行うことができる。配向処理で形成される液晶相は、サーモトロピック性液晶化合物の場合、一般に温度または圧力の変化により転移させることができる。リオトロピック性をもつ液晶化合物の場合には、溶媒量等の組成比によっても転移させることができる。
なお、塗膜を加熱する場合の条件は特に制限されないが、加熱温度としては５０〜１５０℃が好ましく、加熱時間としては１０秒間〜５分間が好ましい。
【００５７】
（工程２）
工程２は、重合性液晶化合物が配向された塗膜に対して硬化処理を施す工程である。
重合性液晶化合物が配向された塗膜に対して実施される硬化処理の方法は特に制限されず、例えば、光照射処理および加熱処理が挙げられる。なかでも、製造適性の点から、光照射処理が好ましく、紫外線照射処理がより好ましい。
光照射処理の照射条件は特に制限されないが、５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ2の照射量が好ましい。
【００５８】
（工程３）
工程３は、工程２で得られた硬化膜に対して、延伸処理および収縮処理の少なくとも一方を施して、位相差膜を得る工程である。本工程では、延伸処理および収縮処理の両方を実施してもよく、例えば、一方向では延伸処理、他方向では収縮処理などのように方向に応じて処理の種類を変更してもよい。
延伸処理の方法としては、一軸延伸および二軸延伸などの公知の延伸処理の方法が挙げられる。
収縮処理（特に、熱収縮処理）の方法としては、例えば、特開２００６−２１５１４２号公報、特開２００７−２６１１８９号公報、および、特許４２２８７０３号公報などに記載の方法を参照できる。
また、上述した支持体としては、延伸時の加熱処理の際に特定の方向に収縮する支持体（熱収縮性支持体）なども挙げられる。例えば、このような支持体を用いることにより、特定の方向に延伸させつつ、支持体の収縮方向においては硬化膜を収縮させることもできる。
【００５９】
硬化膜に対して延伸処理および／または収縮処理（以後、これらをまとめて単に「特定処理」とも称する）を施す方向は、使用される重合性液晶化合物の種類およびその配向方向によって、適宜最適な方向が選択される。
例えば、重合性液晶化合物として棒状液晶化合物を用い、かつ、工程１において塗膜表面に対して垂直方向に重合性液晶化合物が配向している場合は、硬化膜の表面（主面）に平行な一方向に硬化膜を延伸させ、かつ、面内において上記一方向に直交する方向に硬化膜を収縮させることにより、所定のオーダーパラメータを示す位相差膜を得ることができる。
なお、特定処理前後のメソゲン基のオーダーパラメータの変化を表記すると、硬化膜を延伸させる方向をｘ軸とした場合、上記特定処理を施す前の硬化膜はＳｚ＞Ｓｘ≒Ｓｙの関係を満たす場合が多い。また、上記特定処理によってｘ軸方向の延伸とｙ軸方向の収縮とが行われるため、特定処理が施された硬化膜（位相差膜に該当）はＳｘ＞Ｓｚ＞Ｓｙの関係を満たす。
【００６０】
また、重合性液晶化合物として棒状液晶化合物を用い、かつ、工程１において塗膜表面に対して水平方向に重合性液晶化合物が配向している場合は、面内において硬化膜の面内遅相軸方向に直交する方向に硬化膜を収縮させることにより、所定のオーダーパラメータを示す位相差膜を得ることができる。
なお、特定処理前後のメソゲン基のオーダーパラメータの変化を表記すると、収縮させる方向をｙ軸とした場合、上記特定処理を施す前の硬化膜はＳｘ＞Ｓｙ≒Ｓｚの関係を満たす場合が多い。また、上記特定処理によってｙ軸方向の収縮が行われるため、特定処理が施された硬化膜（位相差膜に該当）はＳｘ＞Ｓｚ＞Ｓｙの関係を満たす。
【００６１】
また、重合性液晶化合物として円盤状液晶化合物を用い、かつ、工程１において塗膜表面に対して垂直方向に重合性液晶化合物が配向している場合は、硬化膜の面内遅相軸方向、および、面内において硬化膜の面内遅相軸方向に直交する方向に硬化膜を延伸させることにより、所定のオーダーパラメータを示す位相差膜を得ることができる。
なお、特定処理前後のメソゲン基のオーダーパラメータの変化を表記すると、上記特定処理を施す前の硬化膜においてはＳｙ＞Ｓｘ≒Ｓｚの関係を満たす場合が多い。また、上記特定処理によってｘ軸方向およびｙ軸方向の延伸が行われるため、特定処理が施された硬化膜（位相差膜に該当）はＳｙ＞Ｓｚ＞Ｓｘの関係を満たす。
【００６２】
また、重合性液晶化合物として円盤状液晶化合物を用い、かつ、工程１において塗膜表面に対して水平方向に重合性液晶化合物が配向している場合は、硬化膜の面内遅相軸方向に硬化膜を延伸させ、かつ、面内において硬化膜の面内遅相軸方向に直交する方向に硬化膜を収縮させることにより、所定のオーダーパラメータを示す位相差膜を得ることができる。
なお、特定処理前後のメソゲン基のオーダーパラメータの変化を表記すると、上記特定処理を施す前の硬化膜においてはＳｚ＞Ｓｘ≒Ｓｙの関係を満たす場合が多い。また、上記特定処理によってｘ軸方向の延伸およびｙ軸方向の収縮が行われるため、特定処理が施された硬化膜（位相差膜に該当）はＳｙ＞Ｓｚ＞Ｓｘの関係を満たす。
【００６３】
上記では、延伸処理および収縮処理の方法を示したが、本発明は上記に制限されず、使用される液晶化合物の種類に応じて適宜最適な処理が実施される。
また、延伸および収縮の程度は、上述した式（１）〜（３）、または、式（４）〜（６）が得られるように、適宜調整される。
【００６４】
位相差膜の膜厚は特に制限されないが、薄型化の点から、２０．０μｍ以下が好ましく、１０．０μｍ以下がより好ましい。なお、下限は特に制限されないが、取り扱い性の点から、１．０μｍ以上が好ましい。
位相差膜は、薄型化の点から、単層構造であることが好ましい。
【００６５】
（用途）
上述した位相差膜は、種々の用途に適用でき、例えば、位相差膜の面内レターデーションを調整して、いわゆるλ／４板またはλ／２板として用いることもできる。
なお、λ／４板とは、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または、円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板である。より具体的には、所定の波長λｎｍにおける面内レターデーションＲｅがλ／４（または、この奇数倍）を示す板である。
λ／４板の波長５５０ｎｍでの面内レターデーション（Ｒｅ（５５０））は、理想値（１３７．５ｎｍ）を中心として、２５ｎｍ程度の誤差があってもよく、例えば、１１０〜１６０ｎｍであることが好ましく、１２０〜１５０ｎｍであることがより好ましい。
また、λ／２板とは、特定の波長λｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（λ）がＲｅ（λ）≒λ／２を満たす光学異方性層のことをいう。この式は、可視光域のいずれかの波長（例えば、５５０ｎｍ）において達成されていればよい。なかでも、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）が、以下の関係を満たすことが好ましい。
２１０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦３００ｎｍ
【００６６】
位相差膜、および、この位相差膜を含む光学フィルムは、表示装置中に含まれていてもよい。つまり、位相差膜のより具体的な用途としては、例えば、液晶セルを光学補償するためのλ／２光学補償フィルム、および、有機ＥＬ（electro-luminescence）表示装置などの表示装置に用いられるλ／４反射防止膜が挙げられる。
特に、本発明の位相差膜は、ＩＰＳ（In Plane Switching）型液晶表示装置の光学補償フィルムに好適に用いられ、斜め方向から視認した時の色味変化および黒表示時の光漏れを改善できる。
【００６７】
＜光学フィルム＞
上述した位相差膜を含む光学フィルムとしては、例えば、偏光子と位相差膜とを含む光学フィルムが挙げられる。
偏光子は、光を特定の直線偏光に変換する機能を有する部材（直線偏光子）であればよく、主に、吸収型偏光子を利用することができる。
吸収型偏光子としては、ヨウ素系偏光子、二色性染料を利用した染料系偏光子、およびポリエン系偏光子などが用いられる。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子には、塗布型偏光子と延伸型偏光子とがあり、いずれも適用できるが、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料を吸着させ、延伸して作製される偏光子が好ましい。
偏光子の吸収軸と位相差膜の面内遅相軸との関係は特に制限されないが、位相差膜がλ／４板であり、光学フィルムが円偏光フィルムとして用いられる場合は、偏光子の吸収軸と位相差膜の面内遅相軸とのなす角は、４５°±１０°が好ましい。
【実施例】
【００６８】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、および、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に制限されるものではない。【００６９】
［実施例１］
＜仮支持体の作製＞
下記一般式（ＩＩ）で表されるラクトン環構造を有するアクリル系樹脂｛共重合モノマー質量比＝メタクリル酸メチル／２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル＝８／２、ラクトン環化率約１００％、ラクトン環構造の含有割合１９．４％、重量平均分子量１３３０００、メルトフローレート６．５ｇ／１０分（２４０℃、１０ｋｇｆ）、Ｔｇ１３１℃｝９０質量部と、アクリロニトリル−スチレン（ＡＳ）樹脂｛トーヨーＡＳ  ＡＳ２０、東洋スチレン社製｝１０質量部との混合物（Ｔｇ１２７℃）のペレットを二軸押出機に供給し、約２８０℃でシート状に溶融押出しした。その後、溶融押出しされたシートを、縦一軸延伸機において、給気温度１３０℃、シート面温度１２０℃、延伸速度３０％／分、延伸倍率３５％で縦延伸した。その後、縦延伸されたシートを、テンター式延伸機において、給気温度１３０℃、シート面温度１２０℃、延伸速度３０％／分、延伸倍率３５％で横延伸した。その後、横延伸されたシートを、巻取り部前で両端部を切り落とし、長さ４０００ｍのロールフィルムとして巻き取りして、厚み４０μｍの長尺状の仮支持体を得た。【００７０】
【化３】
0006684526.tif 000007
【００７１】
上記一般式（ＩＩ）中、Ｒ1は水素原子であり、Ｒ2およびＲ3はメチル基である。【００７２】
＜配向層の形成＞
上記仮支持体に、下記組成の配向層塗布液（Ａ）を＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。配向層塗布液が塗布された仮支持体を、６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥し、仮支持体上に配向層を形成した。
使用した変性ポリビニルアルコールの鹸化度は９６．８％であった。【００７３】
−配向層塗布液（Ａ）の組成−
下記の変性ポリビニルアルコール                    １０質量部
水                                              ３０８質量部
メタノール                                        ７０質量部
イソプロパノール                                  ２９質量部
光重合開始剤（ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）２９５９、ＢＡＳＦ社製）
０．８質量部【００７４】
【化４】
0006684526.tif 000008
変性ポリビニルアルコールの組成割合は、モル分率である。【００７５】
＜液晶層の形成＞
次に、棒状液晶化合物がネマチック相で垂直配向されて固定化された液晶層の形成について説明する。
下記の組成物１を、ＭＥＫ（メチルエチルケトン）に溶解して、固形分濃度が１０質量％となるよう調製し、塗布液を得た。得られた塗布液を上記配向層上にバー塗布して、１２０℃で２分間加熱熟成を行って、塗布膜中において棒状液晶化合物の均一な配向状態を得た。その後、この塗布膜を１２０℃に保持し、これにメタルハライドランプを用いて１２０℃、１００ｍＪ／ｃｍ2にて紫外線照射して、液晶層（膜厚：８μｍ）を形成した。【００７６】
−組成物１−
棒状液晶化合物（１）                            ７０質量部
棒状液晶化合物（２）                            ３０質量部
重合開始剤１                                  １．５質量部
重合開始剤２（Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４  ＢＡＳＦ社製）
１．５質量部
垂直配向剤１                                  ０．５質量部
重合性化合物                                  ０．５質量部
界面活性剤１                                  ０．２質量部
界面活性剤２                                  ０．４質量部【００７７】
【化５】
0006684526.tif 000009
【００７８】
【化６】
0006684526.tif 000010
【００７９】
【化７】
0006684526.tif 000011
【００８０】
【化８】
0006684526.tif 000012
【００８１】
【化９】
0006684526.tif 000013
【００８２】
【化１０】
0006684526.tif 000014
【００８３】
【化１１】
0006684526.tif 000015
【００８４】
＜変形＞
上記のように作製した仮支持体および液晶層を含むフィルムを、４辺をテンターで固定したバッチ延伸機において、給気温度１４０℃、フィルム面温度１３０℃、変形速度３０％／分で表１記載の変形倍率（Ｘ方向８０％延伸、Ｙ方向１０％収縮）になるよう変形した。その後、得られたフィルムの４辺の端部を切り落とし、延伸された仮支持体と位相差膜とを含むフィルム１を得た。
なお、上記Ｘ方向とは面内遅相軸方向を意図し、Ｙ方向は面内においてＸ方向に直交する方向である。なお、後述する実施例２〜４でも同様である。【００８５】
［実施例２］
組成物１の代わりに、以下の組成物２を用い、配向層に対してＸ方向にラビング処理を行った以外は、実施例１と同様の手順にて、仮支持体および液晶層を含むフィルムを得た。
得られたフィルムを、４辺をテンターで固定したバッチ延伸機において、給気温度１４０℃、フィルム面温度１３０℃、変形速度３０％／分で表１記載の変形倍率（Ｘ方向０％延伸、Ｙ方向４０％収縮）になるよう変形した。その後、得られたフィルムの４辺の端部を切り落とし、延伸された仮支持体と位相差膜とを含むフィルム２を得た。【００８６】
−組成物２−
棒状液晶化合物（１）                              ７０質量部
棒状液晶化合物（２）                              ３０質量部
重合開始剤１                                    １．５質量部
重合開始剤２（Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４  ＢＡＳＦ社製）
１．５質量部
ハイソルブＭＴＥＭ                              ２．０質量部
ＮＫエステルＡ−２００                          １．０質量部
界面活性剤３（以下、構造式）                    ０．２質量部【００８７】
【化１２】
0006684526.tif 000016
【００８８】
［実施例３］
組成物１の代わりに、以下の組成物３を用い、Ｙ方向にラビング処理を行った以外は、実施例１と同様の手順にて、仮支持体および液晶層を含むフィルムを得た。
得られたフィルムを、４辺をテンターで固定したバッチ延伸機において、給気温度１４０℃、フィルム面温度１３０℃、変形速度３０％／分で表１記載の変形倍率（Ｘ方向５０％延伸、Ｙ方向１０％延伸）になるよう変形した。その後、得られたフィルムの４辺の端部を切り落とし、延伸された仮支持体と位相差膜とを含むフィルム３を得た。【００８９】
−組成物３−
組成物３は、組成物１中の棒状液晶化合物（１）の代わりに以下の化合物１０１、棒状液晶化合物（２）の代わりに化合物１０２、垂直配向剤１（０．５質量部）の代わりに垂直配向剤２（２．０質量部）を用いた組成物に該当する。【００９０】
【化１３】
0006684526.tif 000017
【００９１】
【化１４】
0006684526.tif 000018
【００９２】
［実施例４］
組成物１の代わりに、以下の組成物４を用いた以外は、実施例１と同様の手順にて、仮支持体および液晶層を含むフィルムを得た。
得られたフィルムを、４辺をテンターで固定したバッチ延伸機において、給気温度１４０℃、フィルム面温度１３０℃、変形速度３０％／分で表１記載の変形倍率（Ｘ方向２０％延伸、Ｙ方向５０％収縮）になるよう変形した。その後、得られたフィルムの４辺の端部を切り落とし、延伸された仮支持体と位相差膜とを含むフィルム４を得た。【００９３】
−組成物４−
組成物４は、組成物２中の棒状液晶化合物（１）の代わりに上記化合物１０１、棒状液晶化合物（２）の代わりに化合物１０２、界面活性剤３（０．２質量部）の代わりに界面活性剤４（０．８質量部）を用いた組成物に該当する。【００９４】
【化１５】
0006684526.tif 000019
【００９５】
［比較例１〜４］
実施例１〜４で製造された延伸処理を施す前の仮支持体および液晶層を含むフィルムを、それぞれ比較例１〜４のフィルムとして用いた。【００９６】
上述した方法により、上記実施例および比較例にて製造されたフィルムから延伸された仮支持体を剥離して、得られた位相差膜中のメソゲン基のオーダーパラメータおよびＮｚファクターを算出した。結果を表１にまとめて示す。
なお、表１中、「初期配向」とは、延伸処理が施される前の硬化膜（液晶層）中での膜表面に対するメソゲン基の配向方向を表す。
また、表１中、「膜厚」とは、実施例１〜４においては得られた位相差膜の膜厚を表し、比較例１〜４においては液晶層の膜厚を表す。【００９７】
【表１】
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【００９８】
上記表１に示すように、所定のオーダーパラメータを満たす位相差膜は、所望のＮｚファクターを示すことが確認された。
【図１】
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