(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリコーンゴム成形品を製造する方法において、
前記シリコーンゴム成形品を１５０〜２６０℃に加熱しながら、その一部分ずつを１０ｋＰａ以上の押圧力で押圧して前記シリコーンゴム成形品の全体を少なくとも一度は前記押圧力で押圧する押圧処理工程を含む、
シリコーンゴム成形品の製造方法。
【請求項２】
前記押圧処理工程において、前記シリコーンゴム成形品の一部分ずつへの押圧を連続して行う、請求項１に記載のシリコーンゴム成形品の製造方法。
【請求項３】
前記押圧力は３００ｋＰａ以下である、請求項１または２に記載のシリコーンゴム成形品の製造方法。
【請求項４】
前記シリコーンゴム成形品は、電子写真方式の画像形成装置における、加熱加圧によってトナー画像を記録媒体に定着させるための定着部材である、請求項１〜３のいずれか一項に記載のシリコーンゴム成形品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、シリコーンゴム成形品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
プリンタ、複写機、ファクシミリ、およびこれらの複合機などの電子写真方式の画像形成装置の使用により、当該画像形成装置から粒子径が１００ｎｍ未満の超微粒子が排出されることが知られている。このような超微粒子の健康への影響が心配されることから、当該超微粒子の放散量は、例えば「ブルーエンジェル」（ＢＡＭ）で規格化されている。
【０００３】
このような超微粒子の放散を抑制する技術には、画像形成装置内において発生した微粒子粉塵を静電的に回収する静電的集塵装置またはサイクロン方式により捕集するサイクロン集塵装置、を備えた画像形成装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
また、上記超微粒子の放散を抑制する技術には、シリコーンゴムの成形中に真空条件下で遠赤外線にてシリコーンゴム成形品を加熱し、当該シリコーンゴム成形品中に残留する低分子シロキサンを低減させる方法（例えば、特許文献２参照）や、シリコーンゴム成形品の真空加熱処理前後の少なくともいずれかで溶剤抽出処理を行う方法（例えば、特許文献３参照）などが知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１０−００２８０３号公報
【特許文献２】特開２００４−００９３９１号公報
【特許文献３】特開平０６−０２５４３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、画像形成装置からそこで発生した上記超微粒子を除去する技術では、上記の集塵装置を画像形成装置に設置することが画像形成装置のスペース的な問題から困難であり、また当該画像形成装置の構造が複雑化するため、上記技術の実現は困難である。
【０００７】
また、真空加熱処理によって上記超微粒子を除去する技術では、残存する低分子シロキサンを完全に取り除くことは難しい。さらに、真空加熱処理に加えて溶剤抽出処理を行う技術は、低分子シロキサンのそれと近い溶解度パラメータを有する有機溶剤で浸漬処理することによって、シリコーンゴム成形品の表面およびその近傍の低分子シロキサンを除去するのに有効である。しかしながら、上記技術では、シリコーンゴム成形品の表面近傍よりも深い位置に残存している低分子シロキサンの除去が不十分となることがある。
【０００８】
たとえば、上記画像形成装置における定着部材としてのシリコーンゴム成形品の場合では、当該低分子シロキサンがシリコーンゴム成形品から十分に除去されない場合には、シリコーンゴム成形品がトナー画像の記録媒体への定着時に加熱されて、そこに残存する低分子シロキサンが経時的に発生り、その結果上記微粒子が上記定着部材から経時的に放散することがある。このように、当該低分子シロキサンのシリコーンゴム成形品からの除去が不十分である場合には、当該シリコーンゴム成形品がその長期的な使用によって新たな超微粒子の発生源となることがあり、このような問題は、シリコーンゴム成形品が上記定着ベルトである場合に特に顕著である。
【０００９】
本発明は、超微粒子の発生量を低減できるシリコーンゴム成形品を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、上記課題を解決するための一手段として、シリコーンゴム成形品を製造する方法において、上記シリコーンゴム成形品を１５０〜２６０℃に加熱しながら、その一部分ずつを１０ｋＰａ以上の押圧力で押圧して上記シリコーンゴム成形品の全体を少なくとも一度は上記押圧力で押圧する押圧処理工程を含むシリコーンゴム成形品の製造方法、を提供する。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、超微粒子の発生量を低減できるシリコーンゴム成形品を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本発明の実施の形態に係るシリコーンゴム成形品の製造方法は、当該シリコーンゴム成形品を１５０〜２６０℃に加熱しながら、その一部分ずつを１０ｋＰａ以上の押圧力で押圧して上記シリコーンゴム成形品の全体を少なくとも一度は上記押圧力で押圧する押圧処理工程を含む。
【００１３】
上記シリコーンゴム成形品は、シリコーンゴムの成形品である。シリコーンゴムの成形は、公知の技術で行うことができる。たとえば、シリコーンゴム成形品は、シリコーンゴムのプレス成形品であってもよいし、押し出し成形品であってもよいし、その他の方法による成形品であってもよい。シリコーンゴム成形品の例には、ジメチルシロキサン、メチルビニルシロキサン、メチルフェニルシロキサンおよびフロロシロキサンからなる群から選択される一以上のシロキサン化合物から製造される成形品が含まれる。
【００１４】
上記シリコーンゴム成形品の形態は、後に詳述する押圧処理工程によってシリコーンゴム部分を押圧可能な範囲において、適宜に決めることができる。たとえば、シリコーンゴム成形品のゴムの形態は、ソリッドゴムであってもよいし、発泡ゴムであってもよい。また、シリコーンゴム成形品の形状は、ローラ状であってもよいし、板状であってもよいし、棒状であってもよいし、ベルト状であってもよい。
【００１５】
また、上記シリコーンゴム成形品は、シリコーンゴムの成形が完了した形態であればよい。たとえば、シリコーンゴム成形品は、最終製品の形態であってもよいし、中間製品の形態であってもよい。シリコーンゴム成形品の使用時における後述の超微粒子の発生を抑制する観点から、シリコーンゴム成形品の形態は、最終製品であることが好ましい。
【００１６】
上記押圧処理工程では、上記シリコーンゴム成形品を一部分ずつ押圧していく。シリコーンゴム成形品の部分的な押圧は、シリコーンゴム成形品に対して相対的に接近離間する往復運動を繰り返す押圧動作によって断続的に行ってもよいし、所望の押圧力でシリコーンゴム成形品を押圧しながら回転駆動可能な少なくとも一つまたは一対のローラに当該シリコーンゴム成形品を押圧させながら当該シリコーンゴム成形品と上記ローラとを相対的に移動させることによって連続して行ってもよい。ここで、断続的な押圧とは、シリコーンゴム成形品のある一部分から次の一部分への押圧の間に上記シリコーン成形品への押圧力の印加が一時解除され、このようにシリコーン成形品に対する押圧とその解除とが繰り返される押圧を意味し、連続した押圧とは、シリコーンゴム成形品を押圧し続けながらシリコーンゴム成形品の押圧される部分を移動させる押圧を意味する。
【００１７】
シリコーンゴム成形品を押圧する回数は、全体で一回以上であればよく、複数回であることが、低分子シロキサンの除去効率を高める観点から好ましい。同様の観点から、シリコーンゴム成形品の押圧を連続して行うことが好ましい。
【００１８】
上記押圧処理工程における押圧力は、低すぎるとシリコーンゴム成形品中の低分子シロキサンの除去が不十分となることがある。このような観点から、上記押圧力は、１０ｋＰａ以上であることが好ましい。低分子シロキサンの除去効率を高める観点から、上記押圧力は、２０ｋＰａ以上であることがより好ましく、５０ｋＰａ以上であることがさらに好ましい。
【００１９】
一方、上記押圧力は、高すぎると、シリコーンゴム成形品が破損するおそれがある。このような観点から、上記押圧力は、３００ｋＰａ以下であることが好ましい。低分子シロキサンを十分に除去する観点、および、シリコーンゴム成形品の破損や機械的物性の低減を抑制する観点から、上記押圧力は、２５０ｋＰａ以下であることがより好ましく、２００ｋＰａ以下であることがさらに好ましい。
【００２０】
上記押圧処理工程における温度は、低すぎるとシリコーンゴム成形品中の低分子シロキサンの除去が不十分となることがあり、高すぎるとシリコーンゴム成形品のシリコーンゴムの劣化が進み、この劣化がシリコーンゴム成形品の硬化や亀裂などを発生する原因となる恐れがある。低分子シロキサンを十分に除去する観点、および、シリコーンゴムの劣化に起因するシリコーンゴム成形品の破損を防止する観点から、上記押圧処理工程における温度は、１０℃以上であることが好ましく、１００℃以上であることがより好ましく、１６０℃以上であることがさらに好ましく、そして、２６０℃以下であることが好ましく、２５０℃以下であることがより好ましい。
【００２１】
上記押圧処理工程における押圧処理時間は、短すぎるとシリコーンゴム成形品中の低分子シロキサンの除去が不十分となることがあり、長すぎるとシリコーンゴム成形品におけるシリコーンゴムの劣化によりシリコーンゴム成形品の所期の機能が発現されなくなることがある。なお、上記押圧処理時間は、押圧処理工程における押圧力を印加している時間の合計であり、たとえば、シリコーンゴム成形品を連続して押圧する場合では、上記の押圧力および温度における連続押圧の開始から終了までの時間である。
【００２２】
上記押圧処理時間は、シリコーンゴム成形品の部分的な押圧がその全体に及ぶ時間に応じて異なることがある。たとえば、シリコーンゴム成形品の部分的に押圧してその全体を一回押圧するまでの時間が１０分間以下である場合では、上記押圧処理時間は、シリコーンゴム成形品から低分子シロキサンを十分に除去する観点から、１時間以上であることが好ましく、２時間以上であることがより好ましい。また、上記押圧処理時間は、シリコーンゴム成形品から低分子シロキサンを十分に除去しつつシリコーンゴムの劣化を抑制する観点から、５時間以下であることが好ましい。
【００２３】
上記押圧処理時間は、例えばシリコーンゴム成形品の形態や押圧処理工程における上記温度などの他の条件もさらに考慮して、上記の範囲のように適宜に決めることが可能である。
【００２４】
上記押圧処理工程は、それ専用の装置を用いて行ってもよいし、前述の条件に基づいて手動で行ってもよいが、上記シリコーンゴム成形品が前述の押圧力および温度の範囲内の条件で使用される場合には、上記シリコーンゴム成形品が搭載される装置を利用して行うことが可能である。たとえば、シリコーンゴム成形品が電子写真方式の画像形成装置における定着部材である場合には、上記押圧処理工程は、例えば当該画像形成装置の定着装置またはその改造品にシリコーンゴム成形品を搭載して、少なくとも上記の押圧力および温度の条件下で定着装置を駆動させることにより行うことができる。
【００２５】
上記押圧処理工程による低分子シロキサンの除去は、「ＲＡＬ−ＵＺ１７１によるプリント機能付きの事務機器へのエコラベル、ブルーエンジェルの授与の枠内における  ハードコピー機器からのエミッションの決定のための試験法」に則り、押圧処理工程後のシリコーンゴム成形品から発生する超微粒子（ＵＦＰ）の発生量を測定し、評価することにより、確認することができる。
【００２６】
上記シリコーンゴム成形品は、前述の押圧処理工程を実施可能であり、かつ本実施の形態の効果を奏する範囲において、他の材料や部材などをさらに含んでいてもよい。
【００２７】
また、上記押圧処理工程における前述の処理条件は、本実施の形態の効果を奏する範囲において、さらに他の条件を含んでいてもよい。たとえば、上記押圧処理工程は、さらに減圧下で行われてもよい。
【００２８】
さらに、上記製造方法は、本実施の形態の効果を奏する範囲において、さらに他の工程を含んでいてもよい。たとえば、上記製造方法は、シリコーンゴム（シロキサン化合物）の重合反応によってシリコーンゴム成形品を作製する工程や、シリコーンゴム成形品の表面粗さを調整する工程などをさらに含んでもよい。
【００２９】
上記シリコーンゴム成形品は、その所期の用途に好適に用いることが可能である。たとえば、上記シリコーンゴム成形品は、電子写真方式の画像形成装置における、加熱加圧によってトナー画像を記録媒体に定着させるための定着部材に好適に用いられる。上記定着部材に上記シリコーンゴム成形品を用いることにより、上記画像形成装置の稼働に伴う定着装置からの超微粒子の発生を十分に抑制することが可能である。
【００３０】
上記製造方法によれば、ＢＡＭで規定されているＵＦＰの発生が大幅に抑制されるシリコーンゴム成形品を製造することができる。これは、上記押圧処理工程によって、加熱以外の因子として適切な押圧力をシリコーンゴム成形品に加えることで、シリコーンゴム成形品の内部から超微粒子の元となる（低分子）シロキサンが、当該シリコーンゴム成形品の製品としての使用に先立って除去されるためである。
【００３１】
上記製造方法（押圧処理工程）によって上記シロキサンがシリコーンゴム成形品から除去される理由は、以下のように考えられる。
【００３２】
上記押圧処理工程では、シリコーンゴム成形品の一部に押圧力を印加するとともに加熱することにより、シリコーンゴム成形品中に存在する加硫不足の低分子シロキサンに疲労（例えば、外力による分子鎖の切断など）と劣化（例えば熱による低分子シロキサンの強度の低下（脆性破壊）など）とが同時に引き起こされる。また、上記加熱により低分子シロキサンが揮発する。よって、低分子シロキサンがシリコーンゴム成形品から強制的に除去される。
【００３３】
たとえば、加熱処理のみの場合、シリコーンゴム成形品の表面およびその近傍の低分子シロキサンのみが除去される傾向にある。このため、上記加熱処理では、シリコーンゴム成形品の経時的な使用に伴うシリコーンゴム成形品の疲労により、シリコーンゴム成形品のより内部から生成する低分子シロキサンを除去することが困難である。
【００３４】
本実施形態における上記押圧処理工程では、シリコーンゴム成形品に上記の押圧力にて積極的にかつ適度に疲労を起こすことで、シリコーンゴム成形品の経時的な疲労により生成する低分子シロキサンを、当該シリコーンゴム成形品の使用に先立って発生させることができ、その結果、シリコーンゴム成形品の製品としての使用によるＵＦＰの発生が抑制される。
【００３５】
また、上記押圧処理工程は、押圧するローラによる連続した押圧が可能であることから、加熱と同時にローラによる押圧力をシリコーンゴム成形品に加えることにより、短時間かつ簡便に低分子シロキサンをシリコーンゴム成形品から適切に除去でき、当該シリコーンゴム成形品の使用時におけるＵＦＰの発生の低減を実現することができる。
【００３６】
以上の説明から明らかなように、上記シリコーンゴム成形品の製造方法は、上記シリコーンゴム成形品を１５０〜２６０℃に加熱しながら、その一部分ずつを１０ｋＰａ以上の押圧力で押圧して上記シリコーンゴム成形品の全体を少なくとも一度は上記押圧力で押圧する押圧処理工程を含む。よって、超微粒子の発生量を低減できるシリコーンゴム成形品を提供することができる。
【００３７】
上記押圧処理工程において、上記シリコーンゴム成形品の一部分ずつへの押圧を連続して行うことは、シリコーンゴム成形品から低分子シロキサンを容易にかつ十分に除去する観点からより一層効果的である。
【００３８】
また、上記押圧力が３００ｋＰａ以下であることは、上記押圧処理工程によるシリコーンゴム成形品の劣化を抑制する観点からより一層効果的である。
【００３９】
また、上記製造方法は、上記シリコーンゴム成形品は、電子写真方式の画像形成装置における加熱加圧によってトナー画像を記録媒体に定着させるための定着部材の製造に好適である。
【００４０】
なお、上記製造方法で製造されるシリコーンゴム成形品は、上記の定着部材に好適に用いられるだけなく、電子回路におけるシロキサンによる接点障害などの上記ＵＦＰの発生が問題とされるあらゆる分野におけるシリコーンゴム成形品（例えば半導体の近傍に配置されるシリコーンゴム成形品など）に好適に用いることが可能である。
【実施例】
【００４１】
［実施例１］
（１）シリコーンゴム成型体の準備
二液型室温硬化型シリコーンゴム（商品名：ＫＥ１６０２、信越化学工業株式会社製）１００質量部に、硬化剤（商品名：Ｃａｔ．１６０２、信越化学工業株式会社製）を１０質量部加え、これらを撹拌機で十分に混合し、シリコーンゴム混合物Ａを得た。
【００４２】
シリコーンゴム混合物Ａに、膨脹済みのエクスパンセル４６１（アクゾ  ノーベル  ケミカルズ  インターナショナル  ベスローテン  フェンノートシャップ社製、「エクスパンセル」は同社の登録商標）を１５質量部加え、これらを撹拌機で３０分間混合し、シリコーンゴム混合物Ｂを得た。
【００４３】
エクスパンセル４６１は、外殻が塩化ビニリデンとアクリロニトリルの共重合体であり、１１０℃で溶融するマイクロバルーンである。未膨脹時の平均粒径は、１０〜１６μｍである。本実施例では、１００℃で１０分間加熱して、平均粒径が４０〜６０μｍの膨脹したマイクロバルーンとして、上記シリコーンゴム混合物Ａに添加した。
【００４４】
一方で、アルミニウム製の芯金（長さ３７０ｍｍ、直径２５ｍｍ）に接着剤（シリコーン系プライマー、「プライマーＮｏ．１０１Ａ／Ｂ」、信越化学工業株式会社製）を塗布し、芯金よりも直径で１５ｍｍ太い紙管を、芯金が中心となるようにして被せ、底蓋を設置した。
【００４５】
その後、紙管と芯金との間にシリコーンゴム混合物Ａを注ぎ込み、室温で一昼夜放置し、硬化を完了させた。その後、紙管を外し、ソリッドゴム層を作製した。
【００４６】
その後、このソリッドゴム層に、シリコーンゴム混合物Ｂを１００μｍの厚みに塗布し、一昼夜放置させた。その後、シリコーンゴム混合物Ｂにより形成された層の表面を研磨機で研磨し、およそ４０〜６０μｍのマイクロバルーンが無数に埋設されたスポンジゴム層を作製した。こうして、外層がスポンジゴム層で、内層がソリッドゴム層である２層構造を有するシリコーンゴム成形品１を得た。シリコーンゴム成形品１は、電子写真方式の画像形成装置における定着ローラ用の部材であり、上記の両ゴム層の軸方向における長さは、３４０ｍｍである。また、シリコーンゴム成形品１の硬度は、アスカＣ型硬度計で５５度であった。
【００４７】
シリコーンゴム成形品１を、画像形成装置（コニカミノルタ株式会社製ｂｉｚｈｕｂ  Ｃ７５４、「ｂｉｚｈｕｂ」は同社の登録商標）の定着装置の定着ローラ（加圧ローラ）として組み込み、当該加圧ローラの軸方向に加える押圧力を２００ｋＰａ、押圧時のシリコーンゴム成形品１の温度を１５０℃、加熱加圧時間を１時間とする押圧処理条件１にてシリコーンゴム成形品１を連続して回転駆動させた。なお、当該回転駆動におけるシリコーンゴム成形品１の回転駆動速度は、２５０ｍｍ／秒である。
【００４８】
上記の押圧処理を施したシリコーンゴム成形品１を、上記画像形成装置の加圧ローラとして用い、プリント動作中に装置から排出される直径が０．１〜１．５μｍの粒子である超微粒子（ＵＦＰ）の発生量を測定した。
【００４９】
ＵＦＰの発生量の測定には、超微粒子測定器「ＦＭＰＳ  ３０９１」（東京ダイレック株式会社製）を使用した。ＵＦＰの発生量は、「ＲＡＬ−ＵＺ１７１によるプリント機能付きの事務機器へのエコラベル、ブルーエンジェルの授与の枠内におけるハードコピー機器からのエミッションの決定のための試験法」に則って、シリコーンゴム成形品１からのＵＦＰの発生量を上記測定器にて測定し、その測定値と上記試験法による計算方法とから求めた。そして、その結果を、後処理工程単位時間当たりの時間で割り、単位時間当たりのシロキサン除去効率（押圧処理１時間あたりに削減できるＵＦＰの量）を求めた。そして、当該除去効率の値が１．０×１０１１（ｐａｒｔｉｃｌｅｓ／１０ｍｉｎ．／時）以上である場合を合格とした。
【００５０】
押圧処理条件１におけるシリコーンゴム成形品１のシロキサン除去効率は、２．１０×１０１１（ｐａｒｔｉｃｌｅｓ／１０ｍｉｎ．／時）であった。
【００５１】
［実施例２〜４］
押圧処理条件１を押圧処理条件２〜４のそれぞれに変える以外は実施例１と同様にしてシリコーンゴム成形品２〜４をそれぞれ作製した。押圧処理条件２における上記押圧力は２００ｋＰａであり、押圧時の温度は２６０℃であり、加熱加圧時間は１時間である。押圧処理条件３における上記押圧力は１０ｋＰａであり、押圧時の温度は１５０℃であり、加熱加圧時間は１時間である。押圧処理条件４における上記押圧力は３００ｋＰａであり、押圧時の温度は１５０℃であり、加熱加圧時間は１時間である。シリコーンゴム成形品２のシロキサン除去効率は、３．５０×１０１１（ｐａｒｔｉｃｌｅｓ／１０ｍｉｎ．／時）であった。シリコーンゴム成形品３のシロキサン除去効率は、１．６５×１０１１（ｐａｒｔｉｃｌｅｓ／１０ｍｉｎ．／時）であった。シリコーンゴム成形品４のシロキサン除去効率は、２．７２×１０１１（ｐａｒｔｉｃｌｅｓ／１０ｍｉｎ．／時）であった。
【００５２】
［比較例１］
押圧処理を行わない以外は実施例１と同様にしてシリコーンゴム成形品Ｃ１を作製した。シリコーンゴム成形品Ｃ１は、押圧処理を行わなかったので、そのシロキサン除去効率は求められなかった。
【００５３】
［比較例２〜４］
押圧処理条件１に代えて、シリコーンゴム成形品１を２６０℃の温度で押圧せずに５時間回転駆動させる以外は実施例１と同様にして、シリコーンゴム成形品Ｃ２を作製した。また、押圧処理条件１に代えて、シリコーンゴム成形品１を１３０℃の温度で押圧せずに３時間回転駆動させる以外は実施例１と同様にして、シリコーンゴム成形品Ｃ３を作製した。さらに、押圧処理条件１に代えて、シリコーンゴム成形品１を２８０℃の温度で押圧せずに５時間回転駆動させる以外は実施例１と同様にして、シリコーンゴム成形品Ｃ３を作製した。シリコーンゴム成形品Ｃ２のシロキサン除去効率は、４．８０×１０１０（ｐａｒｔｉｃｌｅｓ／１０ｍｉｎ．／時）であった。シリコーンゴム成形品Ｃ３のシロキサン除去効率は、１．００×１０１０（ｐａｒｔｉｃｌｅｓ／１０ｍｉｎ．／時）であった。シリコーンゴム成形品Ｃ４のシロキサン除去効率は、５．００×１０１０（ｐａｒｔｉｃｌｅｓ／１０ｍｉｎ．／時）であった。
【００５４】
［比較例５、６］
押圧処理条件１を押圧処理条件Ｃ５、Ｃ６のそれぞれに変える以外は実施例１と同様にしてシリコーンゴム成形品Ｃ５、Ｃ６をそれぞれ作製した。押圧処理条件Ｃ５における上記押圧力は５ｋＰａであり、押圧時の温度は１５０℃であり、加熱加圧時間は１時間である。また、押圧処理条件Ｃ６における上記押圧力は３００ｋＰａであり、押圧時の温度は２８０℃であり、加熱加圧時間は１時間である。シリコーンゴム成形品Ｃ５のシロキサン除去効率は、８．２０×１０１０（ｐａｒｔｉｃｌｅｓ／１０ｍｉｎ．／時）であった。シリコーンゴム成形品Ｃ６のシロキサン除去効率は、６．００×１０１０（ｐａｒｔｉｃｌｅｓ／１０ｍｉｎ．／時）であった。
【００５５】
押圧処理条件とシロキサン除去効率とを表１に示す。
【００５６】
【表１】
0006683016.tif 000002
【００５７】
表１から明らかなように、シリコーンゴム成形品１〜４はいずれも、シリコーンゴム成形品Ｃ２〜Ｃ６のそれぞれに比べて、明らかに高いシロキサン除去効率を示している。よって、シリコーンゴム成形品を１５０〜２６０℃に加熱しながら、その一部分ずつを１０ｋＰａ以上の押圧力で押圧してシリコーンゴム成形品の全体を一度以上、上記押圧力で押圧することが、シリコーンゴム成形品中の低分子シロキサンを除去するのに有効であることがわかる。
【産業上の利用可能性】
【００５８】
本発明に係るシリコーンゴム成形品の製造方法によって得られるシリコーンゴム成形品は、超微粒子の発生を抑制できる。よって、本発明によれば、電子写真方式の画像形成などの、上記シリコーンゴム成形品を有し、かつ上記ＵＦＰの発生の抑制が求められるあらゆる分野のシリコーンゴム成形品の製造に有利であり、これらの分野のさらなる発展が期待される。