(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂基材と該樹脂基材の片側に設けられた偏光膜とを有する光学積層体であって、
該樹脂基材を９０度剥離で該光学積層体から剥離する際の剥離力Ｐ１（Ｎ／１５ｍｍ）と該偏光膜を９０度剥離で該光学積層体から剥離する際の剥離力Ｐ２（Ｎ／１５ｍｍ）とが、下記関係式（１）を満たし、
式（１）：  ０．５＜Ｐ１／Ｐ２＜５
該偏光膜と該樹脂基材との間におよび／または該偏光膜の該樹脂基材側の一部として、ポリビニルアルコール系成分とポリオレフィン系成分とを含む中間領域を有する、光学積層体。
【請求項２】
前記ポリオレフィン系成分が、カルボキシル基および／またはその無水物基を有する、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項３】
前記中間領域における前記ポリビニルアルコール系成分と前記ポリオレフィン系成分との含有割合（前者：後者）が、２０：８０〜５０：５０である、請求項１または２に記載の光学積層体。
【請求項４】
前記ポリビニルアルコール系成分が、アセトアセチル変性ポリビニルアルコールを含む、請求項１から３のいずれかに記載の光学積層体。
【請求項５】
前記中間領域の厚みが、１００ｎｍ〜１０００ｎｍである、請求項１から４のいずれかに記載の光学積層体。
【請求項６】
前記樹脂基材の構成材料が、ポリエチレンテレフタレート系樹脂を含む、請求項１から５のいずれかに記載の光学積層体。
【請求項７】
樹脂基材の片側にポリビニルアルコール系成分とポリオレフィン系成分とを含む下塗り層形成用組成物を塗布して下塗り層を形成する工程と、
該下塗り層表面にポリビニルアルコール系樹脂を含む塗布液を塗布してポリビニルアルコール系樹脂層を形成する工程と、
該ポリビニルアルコール系樹脂層を延伸および染色して偏光膜を作製する工程と、
を含む、請求項１から６のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。
【請求項８】
前記ポリオレフィン系成分が、カルボキシル基および／またはその無水物基を有する、請求項７に記載の光学積層体の製造方法。
【請求項９】
前記ポリビニルアルコール系成分が、アセトアセチル変性ポリビニルアルコールを含む、請求項７または８に記載の光学積層体の製造方法。
【請求項１０】
前記下塗り層の厚みが、５００ｎｍ〜３０００ｎｍである、請求項７から９のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、樹脂基材と該樹脂基材の片側に設けられた偏光膜とを有する光学積層体に関する。
【背景技術】
【０００２】
樹脂基材上にポリビニルアルコール系樹脂層を形成し、この積層体を延伸、染色することにより偏光膜を得る方法が提案されている（例えば、特許文献１）。このような方法によれば、厚みの薄い偏光膜が得られるため、例えば、画像表示装置の薄型化に寄与し得るとして注目されている。【０００３】
上記偏光膜は、上記樹脂基材に積層された状態のままで用いられ得る。このような実施形態においては、偏光膜と樹脂基材とが十分な密着性を有することが求められる。具体的には、偏光膜の製造において（例えば、延伸、搬送において）ポリビニルアルコール系樹脂層が樹脂基材から剥離しないこと、リワーク時に偏光膜と樹脂基材とが剥離しないこと、加工（例えば、打ち抜き）時や使用中の衝撃に対して偏光膜または樹脂基材の浮きが発生しないこと等が求められる。【０００４】
上記密着性を向上させるため、樹脂基材とポリビニルアルコール系樹脂層との間にポリビニルアルコール系材料を含む下塗り層を設ける方法が提案されている（特許文献２）。しかし、このような下塗り層によれば上記密着性が偏って向上される結果、樹脂基材を積層体から剥離する際の剥離力と偏光膜を積層体から剥離する際の剥離力との間に大きな差（剥離異方性）が生じる。具体的には、偏光膜は、樹脂基材を積層体から剥離する際に要する剥離力に比べて顕著に小さい剥離力で積層体から剥離され得る。そのため、例えば、ロール状の積層体を所定のサイズの枚葉品に切断加工する際に、樹脂基材側から偏光膜側に向かって切断すると、偏光膜の剥離が生じるおそれがある。また、枚葉品を重ねて保管した後で一枚ずつ取り出す際に、ブロッキングの影響によって偏光膜の剥離が生じるおそれがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０００−３３８３２９号公報
【特許文献２】特許第４９５０３５７号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、その主たる目的は、樹脂基材と偏光膜との密着性に優れた光学積層体であって、該光学積層体から樹脂基材を剥離する際の剥離力と偏光膜を剥離する際の剥離力との差が低減された光学積層体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明によれば、樹脂基材と該樹脂基材の片側に設けられた偏光膜とを有する光学積層体が提供される。本発明の光学積層体は、該樹脂基材を９０度剥離で該光学積層体から剥離する際の剥離力Ｐ１（Ｎ／１５ｍｍ）と該偏光膜を９０度剥離で該光学積層体から剥離する際の剥離力Ｐ２（Ｎ／１５ｍｍ）とが、下記関係式（１）を満たす。
式（１）：  ０．５＜Ｐ１／Ｐ２＜５
１つの実施形態において、上記光学積層体は、上記偏光膜と上記樹脂基材との間におよび／または上記偏光膜の上記樹脂基材側の一部として、ポリオレフィン系成分およびポリエステル系成分から選択される少なくとも１つの成分を含む中間領域を有する。
１つの実施形態において、上記中間領域が、ポリビニルアルコール系成分をさらに含む。
１つの実施形態において、上記ポリビニルアルコール系成分が、アセトアセチル変性ポリビニルアルコールを含む。
１つの実施形態において、上記中間領域の厚みが、１００ｎｍ〜１０００ｎｍである。
１つの実施形態において、上記樹脂基材の構成材料が、ポリエチレンテレフタレート系樹脂を含む。
本発明の別の局面によれば、光学積層体の製造方法が提供される。本発明の製造方法は、樹脂基材の片側にポリオレフィン系成分およびポリエステル系成分から選択される少なくとも１つの成分を含む下塗り層形成用組成物を塗布して下塗り層を形成する工程と、該下塗り層表面にポリビニルアルコール系樹脂を含む塗布液を塗布してポリビニルアルコール系樹脂層を形成する工程と、該ポリビニルアルコール系樹脂層を延伸および染色して偏光膜を作製する工程と、を含む。
１つの実施形態において、上記下塗り層形成用組成物が、ポリビニルアルコール系成分をさらに含む。
１つの実施形態において、上記ポリビニルアルコール系成分が、アセトアセチル変性ポリビニルアルコールを含む。
１つの実施形態において、上記下塗り層の厚みが、５００ｎｍ〜３０００ｎｍである。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、樹脂基材と偏光膜との密着性に優れた光学積層体であって、光学積層体から樹脂基材を剥離する際の剥離力と偏光膜を剥離する際の剥離力との差が低減された光学積層体を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の１つの実施形態における光学積層体の概略断面図である。
【図２】本発明の別の実施形態における光学積層体の概略断面図である。
【図３】（ａ）および（ｂ）はそれぞれ、操作性の評価方法を説明する概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明の実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。
【００１１】
Ａ．光学積層体
本発明の光学積層体は、樹脂基材と該樹脂基材の片側に設けられた偏光膜とを有する。本発明の光学積層体において、樹脂基材を９０度剥離で光学積層体から剥離する際の剥離力Ｐ１（Ｎ／１５ｍｍ）と偏光膜を９０度剥離で光学積層体から剥離する際の剥離力Ｐ２（Ｎ／１５ｍｍ）とは、０．５＜Ｐ１／Ｐ２＜５の関係を満たす。このような関係を満たす光学積層体は、従来の光学積層体に比べて剥離異方性が低減されており、結果として、上記偏光膜の剥離の問題が解消され得る。Ｐ１／Ｐ２は、好ましくは０．７以上、より好ましくは０．８以上である。また、Ｐ１／Ｐ２は、好ましくは４．０以下であり、より好ましくは３．５以下、さらに好ましくは３．０以下である。
【００１２】
上記剥離力Ｐ１（Ｎ／１５ｍｍ）は、例えば０．８Ｎ以上、好ましくは１．２Ｎ以上、より好ましくは１．５Ｎ以上である。剥離力Ｐ１が該範囲であれば、リワーク時、加工（例えば、打ち抜き）時、使用中等における偏光膜または樹脂基材の剥離や浮きを防止し得る。剥離力Ｐ１の上限値は、特に制限されるものではなく、例えば５．０Ｎ程度にすることができる。
【００１３】
上記剥離力Ｐ２（Ｎ／１５ｍｍ）は、例えば０．４Ｎ以上、好ましくは０．６Ｎ以上、より好ましくは０．８Ｎ以上、さらに好ましくは１．０Ｎ以上である。剥離力Ｐ２が該範囲であれば、リワーク時、加工（例えば、打ち抜き）時、使用中等における偏光膜または樹脂基材の剥離や浮きを防止し得る。剥離力Ｐ２の上限値は、特に制限されるものではなく、例えば５．０Ｎ程度にすることができる。
【００１４】
なお、上記剥離力Ｐ１は、樹脂基材を偏光膜面に対して９０°の角度をなすように立ち上げ、剥離速度３０００ｍｍ/ｍｉｎで剥離する際に要する力（Ｎ／１５ｍｍ）を意味する。また、上記剥離力Ｐ２は、偏光膜を樹脂基材面に対して９０°の角度をなすように立ち上げ、剥離速度３０００ｍｍ/ｍｉｎで剥離する際に要する力（Ｎ／１５ｍｍ）を意味する。
【００１５】
本発明の光学積層体は、代表的には、偏光膜と樹脂基材との間におよび／または偏光膜の樹脂基材側の一部として、ポリオレフィン系成分およびポリエステル系成分から選択される少なくとも１つの成分を含む中間領域を有する。具体的には、中間領域は、偏光膜と異なる層として存在してもよく、偏光膜の樹脂基材側の一部として存在してもよく、その両方であってもよい。
【００１６】
図１は、本発明の１つの実施形態における光学積層体の概略断面図である。図１に図示される光学積層体１０ａは、樹脂基材１１と中間領域１３と偏光膜１２とをこの順に有する。当該実施形態においては、中間領域１３が、偏光膜１２と異なる層として存在している。当該実施形態においては、中間領域１３は、実質的に後述の下塗り層に相当し得る。図２は、本発明の別の実施形態における光学積層体の概略断面図である。図２に図示される光学積層体１０ｂは、樹脂基材１１と樹脂基材１１の片側に設けられた偏光膜１２とを有し、偏光膜１２の樹脂基材側表面から所定の厚みまでの部分が中間領域１３とされている。当該実施形態においては、中間領域１３は、後述のＰＶＡ系樹脂層と下塗り層との相溶領域であり得る。
【００１７】
Ａ−１．樹脂基材
上記樹脂基材の構成材料としては、任意の適切な材料が採用され得る。例えば、ポリエチレンテレフタレート系樹脂等のエステル系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリプロピレン等のオレフィン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、これらの共重合体樹脂が挙げられる。好ましくは、ポリエチレンテレフタレート系樹脂が用いられる。中でも、非晶質のポリエチレンテレフタレート系樹脂が好ましく用いられる。非晶質のポリエチレンテレフタレート系樹脂の具体例としては、ジカルボン酸としてイソフタル酸をさらに含む共重合体や、グリコールとしてシクロヘキサンジメタノールをさらに含む共重合体が挙げられる。
【００１８】
樹脂基材のガラス転移温度（Ｔｇ）は、好ましくは１７０℃以下である。このような樹脂基材を用いることにより、後述のポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系樹脂層の結晶化を抑制しながら、延伸性を十分に確保することができる。水による樹脂基材の可塑化と、水中延伸を良好に行うことを考慮すると、１２０℃以下であることがさらに好ましい。１つの実施形態においては、樹脂基材のガラス転移温度は、好ましくは６０℃以上である。このような樹脂基材を用いることにより、後述のＰＶＡ系樹脂を含む塗布液を塗布・乾燥する際に、樹脂基材が変形（例えば、凹凸やタルミ、シワ等の発生）する等の不具合を防止することができる。また、積層体の延伸を、好適な温度（例えば、６０℃〜７０℃程度）にて行うことができる。別の実施形態においては、ＰＶＡ系樹脂を含む塗布液を塗布・乾燥する際に、樹脂基材が変形しなければ、６０℃より低いガラス転移温度であってもよい。なお、ガラス転移温度（Ｔｇ）は、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２１に準じて求められる値である。
【００１９】
１つの実施形態においては、樹脂基材は、吸水率が０．２％以上であることが好ましく、さらに好ましくは０．３％以上である。このような樹脂基材は水を吸収し、水が可塑剤的な働きをして可塑化し得る。その結果、水中延伸において延伸応力を大幅に低下させることができ、延伸性に優れ得る。一方、樹脂基材の吸水率は、好ましくは３．０％以下、さらに好ましくは１．０％以下である。このような樹脂基材を用いることにより、製造時に樹脂基材の寸法安定性が著しく低下して、得られる積層体の外観が悪化するなどの不具合を防止することができる。また、水中延伸時に破断したり、樹脂基材からＰＶＡ系樹脂膜が剥離したりするのを防止することができる。なお、吸水率は、ＪＩＳ  Ｋ  ７２０９に準じて求められる値である。
【００２０】
樹脂基材の厚みは、好ましくは２０μｍ〜３００μｍ、さらに好ましくは３０μｍ〜２００μｍである。
【００２１】
樹脂基材表面には、予め、表面改質処理（例えば、コロナ処理等）が施されていてもよいし、易接着層が形成されていてもよい。このような処理によれば、密着性をさらに向上させ得る。
【００２２】
Ａ−２．偏光膜
上記偏光膜は、実質的に、二色性物質が吸着配向したＰＶＡ系樹脂層である。偏光膜は、好ましくは波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍのいずれかの波長で吸収二色性を示す。この場合、偏光膜の単体透過率は、好ましくは４０．０％以上、より好ましくは４１．０％以上、さらに好ましくは４２．０％以上、特に好ましくは４３．０％以上である。偏光膜の偏光度は、好ましくは９９．８％以上、より好ましくは９９．９％以上、さらに好ましくは９９．９５％以上である。
【００２３】
上記ＰＶＡ系樹脂層を形成するＰＶＡ系樹脂としては、任意の適切な樹脂が採用され得る。例えば、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体が挙げられる。ポリビニルアルコールは、ポリ酢酸ビニルをケン化することにより得られる。エチレン−ビニルアルコール共重合体は、エチレン−酢酸ビニル共重合体をケン化することにより得られる。ＰＶＡ系樹脂のケン化度は、通常８５モル％〜１００モル％であり、好ましくは９５．０モル％〜９９．９５モル％、さらに好ましくは９９．０モル％〜９９．９３モル％である。ケン化度は、ＪＩＳ  Ｋ  ６７２６−１９９４に準じて求めることができる。このようなケン化度のＰＶＡ系樹脂を用いることによって、耐久性に優れた偏光膜が得られ得る。ケン化度が高すぎる場合には、ゲル化してしまうおそれがある。
【００２４】
ＰＶＡ系樹脂の平均重合度は、目的に応じて適切に選択され得る。平均重合度は、通常１０００〜１００００であり、好ましくは１２００〜４５００、さらに好ましくは１５００〜４３００である。なお、平均重合度は、ＪＩＳ  Ｋ  ６７２６−１９９４に準じて求めることができる。
【００２５】
偏光膜の厚みは、好ましくは１０μｍ以下、より好ましくは８μｍ以下、さらに好ましくは７μｍ以下、特に好ましくは６μｍ以下である。一方、偏光膜の厚みは、好ましくは１．０μｍ以上、さらに好ましくは２．０μｍ以上である。
【００２６】
Ａ−３．中間領域
上記中間領域は、ポリオレフィン系成分およびポリエステル系成分から選択される少なくとも１つの成分を含む。偏光膜と樹脂基材との間におよび／または偏光膜の樹脂基材側の一部としてこのような中間領域が形成されていることにより、樹脂基材と偏光膜との密着性を、剥離異方性を抑えつつ向上させることができる。中間領域の厚みは、例えば１００ｎｍ〜１０００ｎｍである。中間領域は、例えば、光学積層体の断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察することにより確認することができる。また、ポリオレフィン系成分またはポリエステル系成分の有無は、例えば、飛行時間型２次イオン質量分析法（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）や赤外分光法（ＩＲ）により確認することができる。１つの実施形態においては、中間領域は、ポリビニルアルコール系成分をさらに含む。なお、ポリオレフィン系成分、ポリエステル系成分、ポリビニルアルコール系成分の詳細については、後述する。
【００２７】
Ｂ．製造方法
本発明の光学積層体は、上記構成が得られる限り、任意の適切な方法により製造され得る。１つの実施形態においては、樹脂基材の片側にポリオレフィン系成分およびポリエステル系成分から選択される少なくとも１つの成分を含む下塗り層形成用組成物を塗布して下塗り層を形成する工程と、この下塗り層表面にＰＶＡ系樹脂を含む塗布液を塗布してＰＶＡ系樹脂層を形成する工程と、このＰＶＡ系樹脂層を延伸および染色して偏光膜を作製する工程とを含む方法により製造される。
【００２８】
Ｂ−１．下塗り層の形成
上記下塗り層形成用組成物は、ポリオレフィン系成分およびポリエステル系成分から選択される少なくとも１つの成分を含み、好ましくはポリビニルアルコール系成分とポリオレフィン系成分およびポリエステル系成分から選択される少なくとも１つの成分とを含む。このような組成とすることにより、偏光膜と樹脂基材との密着性を剥離異方性を抑えつつ向上させることができる。ポリビニルアルコール系成分としては、任意の適切なＰＶＡ系樹脂が用いられ得る。具体的には、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコールが挙げられる。変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、アセトアセチル基、カルボン酸基、アクリル基および／またはウレタン基で変性されたポリビニルアルコールが挙げられる。これらの中でも、アセトアセチル変性ＰＶＡが好ましく用いられる。アセトアセチル変性ＰＶＡとしては、下記一般式（Ｉ）で表わされる繰り返し単位を少なくとも有する重合体が好ましく用いられる。
【００２９】
【化１】
0006774556.tif 000002
【００３０】
上記式（Ｉ）において、ｌ＋ｍ＋ｎに対するｎの割合は、好ましくは１％〜１０％である。
【００３１】
アセトアセチル変性ＰＶＡの平均重合度は、好ましくは１０００〜１００００であり、好ましくは１２００〜５０００である。アセトアセチル変性ＰＶＡのケン化度は、好ましくは９７モル％以上である。アセトアセチル変性ＰＶＡの４重量％水溶液のｐＨは、好ましくは３．５〜５．５である。なお、平均重合度およびケン化度は、ＪＩＳ  Ｋ  ６７２６−１９９４に準じて求めることができる。
【００３２】
上記ポリオレフィン系成分としては、任意の適切なポリオレフィン系樹脂が用いられ得る。ポリオレフィン系樹脂の主成分であるオレフィン成分としては、例えば、エチレン、プロピレン、イソブチレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン等の炭素数２〜６のオレフィン系炭化水素が挙げられる。これらは単独で、または、二種以上組み合わせて用いることができる。これらの中でも、エチレン、プロピレン、イソブチレン、１−ブテン等の炭素数２〜４のオレフィン系炭化水素が好ましく、さらに好ましくはエチレンが用いられる。
【００３３】
上記ポリオレフィン系樹脂を構成するモノマー成分のうち、オレフィン成分の占める割合は、好ましくは５０重量％〜９５重量％である。
【００３４】
上記ポリオレフィン系樹脂は、カルボキシル基および／またはその無水物基を有することが好ましい。このようなポリオレフィン系樹脂は水に分散し得、下塗り層が良好に形成され得る。このような官能基を有するモノマー成分としては、例えば、不飽和カルボン酸およびその無水物、不飽和ジカルボン酸のハーフエステル、ハーフアミドが挙げられる。これらの具体例としては、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、フマル酸、クロトン酸が挙げられる。
【００３５】
ポリオレフィン系樹脂の分子量は、例えば５０００〜８００００である。
【００３６】
上記ポリエステル系成分としては、任意の適切なポリエステル系樹脂が用いられ得る。ポリエステル系樹脂の具体例としては、ジカルボン酸成分とグリコール成分とが重縮合してなる共重合体が挙げられる。
【００３７】
上記ポリエステル系樹脂を構成するジカルボン酸成分としては、特に限定はされず、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、無水フタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、３−ｔｅｒｔ−ブチルイソフタル酸、シュウ酸、コハク酸、無水コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカン二酸、アイコサン二酸、フマル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸、ダイマー酸等の不飽和脂肪族ジカルボン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、１，３−シクロヘキサンジカルボン酸、１，２−シクロヘキサンジカルボン酸、テトラヒドロフタル酸およびその無水物等の脂環式ジカルボン酸が挙げられる。
【００３８】
上記ポリエステル系樹脂を構成するグリコール成分としては、特に限定はされず、例えば、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，５−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−エチル−２−ブチルプロパンジオール等の脂肪族グリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，３−シクロブタンジメタノール等の脂環族グリコールが挙げられる。 
【００３９】
ポリエステル系樹脂の分子量は、例えば５０００〜８００００である。
【００４０】
上記下塗り層形成用組成物において、ポリビニルアルコール系成分とポリオレフィン系成分およびポリエステル系成分から選択される少なくとも１つの成分との配合比（固形分、前者：後者）は、好ましくは５：９５〜６０：４０、さらに好ましくは２０：８０〜５０：５０である。ポリビニルアルコール系成分が多すぎると密着性が十分に得られないおそれがある。具体的には、ＰＶＡ系樹脂層を樹脂基材から剥離する際に要する剥離力が低下して、十分な密着性が得られないおそれがある。
【００４１】
下塗り層形成用組成物は、好ましくは水系である。下塗り層形成組成物は、有機溶剤を含み得る。有機溶剤としては、例えば、エタノール、イソプロパノール等が挙げられる。下塗り層形成用組成物の固形分濃度は、好ましくは１．０重量％〜１０重量％である。
【００４２】
下塗り層形成用組成物に添加剤を配合してもよい。添加剤としては、例えば、架橋剤等が挙げられる。架橋剤としては、例えば、オキサゾリン、ホウ酸、トリメチロールメラミン等のメチロール化合物、カルボジイミド、イソシアネート化合物、エポキシ化合物等が挙げられる。下塗り層形成用組成物における添加物の配合量は、目的等に応じて適切に設定され得る。例えば、架橋剤の配合量は、ポリビニルアルコール系成分とポリオレフィン系成分およびポリエステル系成分から選択される少なくとも１つの成分との合計１００重量部に対して、好ましくは１０重量部以下、より好ましくは０．０１重量部〜１０重量部、さらに好ましくは０．１重量部〜５重量部である。
【００４３】
下塗り層形成用組成物の塗布方法としては、任意の適切な方法を採用することができる。例えば、ロールコート法、スピンコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、ダイコート法、カーテンコート法、スプレーコート法、ナイフコート法（コンマコート法等）等が挙げられる。
【００４４】
下塗り層形成用組成物は、得られる（すなわち、乾燥後の）下塗り層の厚みが５００ｎｍ〜３０００ｎｍとなるように塗布することが好ましく、さらに好ましくは８００ｎｍ〜２０００ｎｍである。下塗り層の厚みが薄すぎると、十分な密着性が得られないおそれがある。一方、下塗り層の厚みが厚すぎると、後述のＰＶＡ系樹脂層の形成の際に、ハジキが発生する、得られる塗布膜にムラが生じる等の不具合が発生し得る。
【００４５】
下塗り層形成用組成物の塗布後、塗布膜は乾燥され得る。乾燥温度は、例えば５０℃以上である。
【００４６】
Ｂ−２．ＰＶＡ系樹脂層の形成
上記ＰＶＡ系樹脂を含む塗布液を塗布する下塗り層表面は、予め、表面改質処理（例えば、コロナ処理等）が施されていてもよい。このような処理によれば、密着性をさらに向上させ得る。
【００４７】
上記ＰＶＡ系樹脂を含む塗布液としては、代表的には、上記ＰＶＡ系樹脂を溶媒に溶解させた溶液が用いられる。溶媒としては、例えば、水、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、各種グリコール類、トリメチロールプロパン等の多価アルコール類、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン等のアミン類が挙げられる。これらは単独で、または、二種以上組み合わせて用いることができる。これらの中でも、好ましくは、水である。塗布液のＰＶＡ系樹脂濃度は、溶媒１００重量部に対して、好ましくは３重量部〜２０重量部である。このような樹脂濃度であれば、均一な塗布膜を形成することができる。
【００４８】
塗布液に、添加剤を配合してもよい。添加剤としては、例えば、可塑剤、界面活性剤等が挙げられる。可塑剤としては、例えば、エチレングリコールやグリセリン等の多価アルコールが挙げられる。界面活性剤としては、例えば、非イオン界面活性剤が挙げられる。これらは、得られるＰＶＡ系樹脂層の均一性や染色性、延伸性をより一層向上させる目的で使用され得る。また、添加剤としては、例えば、易接着成分が挙げられる。易接着成分を用いることにより、密着性をさらに向上させ得る。易接着成分としては、例えば、アセトアセチル変性ＰＶＡなどの変性ＰＶＡが用いられる。さらにまた、添加剤としては、ヨウ化カリウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化リチウム、塩化ナトリウム等のハロゲン化物、尿素等が挙げられる。これらを添加することにより、光学特性（例えば、単体透過率）を向上させ得る。添加剤の配合量は、目的等に応じて適切に設定され得る。
【００４９】
塗布液の塗布方法は、上記下塗り層形成用組成物の塗布方法と同様の方法が採用され得る。塗布後、塗布膜は乾燥され得る。乾燥温度は、例えば５０℃以上である。
【００５０】
ＰＶＡ系樹脂層の厚みは、代表的には２０μｍ以下、好ましくは３μｍ〜１５μｍである。
【００５１】
上記ＰＶＡ系樹脂層の形成（塗布液の塗布および乾燥）過程において、下塗り層の全部または一部がＰＶＡ系樹脂層に溶出することによって、ＰＶＡ系樹脂層の樹脂基材側に下塗り層との相溶領域としての中間領域が形成され得る。ここで、下塗り層の一部のみがＰＶＡ系樹脂層に溶出した場合には、偏光膜と異なる層としての中間領域と、偏光膜の樹脂基材側の一部としての中間領域とが併存し得る。
【００５２】
Ｂ−３．偏光膜の作製
偏光膜は、代表的には、上記下塗り層表面に形成されたＰＶＡ系樹脂層に延伸処理および染色処理を施すことによって作製される。ＰＶＡ系樹脂層には、延伸処理および染色処理以外に、ＰＶＡ系樹脂層を偏光膜とするための処理が、適宜施され得る。該偏光膜とするための処理としては、例えば、不溶化処理、架橋処理、洗浄処理等が挙げられる。これらの処理は、目的に応じて選択することができる。また、処理順序、処理のタイミング、処理回数等の処理条件を、適宜設定することができる。以下、各々の処理について説明する。
【００５３】
（染色処理）
上記染色処理は、代表的には、ＰＶＡ系樹脂層を二色性物質で染色することにより行う。好ましくは、ＰＶＡ系樹脂層に二色性物質を吸着させることにより行う。当該吸着方法としては、例えば、二色性物質を含む染色液にＰＶＡ系樹脂層を浸漬させる方法、ＰＶＡ系樹脂層に当該染色液を塗工する方法、当該染色液をＰＶＡ系樹脂層に噴霧する方法等が挙げられる。好ましくは、染色液にＰＶＡ系樹脂層を浸漬させる方法である。二色性物質が良好に吸着し得るからである。染色液へのＰＶＡ系樹脂層の浸漬は、好ましくは樹脂基材上に積層された状態のＰＶＡ系樹脂層（すなわち、樹脂基材の片側にＰＶＡ系樹脂層が積層された積層体）を染色液に浸漬させることによって行われる。
【００５４】
上記二色性物質としては、例えば、ヨウ素、有機染料が挙げられる。これらは単独で、または、二種以上組み合わせて用いることができる。二色性物質は、好ましくは、ヨウ素である。二色性物質としてヨウ素を用いる場合、上記染色液は、好ましくは、ヨウ素水溶液である。ヨウ素の配合量は、水１００重量部に対して、好ましくは０．１重量部〜０．５重量部である。ヨウ素の水に対する溶解度を高めるため、ヨウ素水溶液にヨウ化物を配合することが好ましい。ヨウ化物としては、例えば、ヨウ化カリウム、ヨウ化リチウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化亜鉛、ヨウ化アルミニウム、ヨウ化鉛、ヨウ化銅、ヨウ化バリウム、ヨウ化カルシウム、ヨウ化錫、ヨウ化チタン等が挙げられる。これらの中でも、好ましくは、ヨウ化カリウムである。ヨウ化物の配合量は、水１００重量部に対して、好ましくは０．０２重量部〜２０重量部、さらに好ましくは０．１重量部〜１０重量部である。
【００５５】
染色液の染色時の液温は、ＰＶＡ系樹脂の溶解を抑制するため、好ましくは２０℃〜５０℃である。染色液にＰＶＡ系樹脂層を浸漬させる場合、浸漬時間は、ＰＶＡ系樹脂層の透過率を確保するため、好ましくは５秒〜５分である。また、染色条件（濃度、液温、浸漬時間）は、最終的に得られる偏光膜の偏光度もしくは単体透過率が所定の範囲となるように、設定することができる。１つの実施形態においては、得られる偏光膜の偏光度が９９．９８％以上となるように、浸漬時間を設定する。別の実施形態においては、得られる偏光膜の単体透過率が４０％〜４４％となるように、浸漬時間を設定する。
【００５６】
（延伸処理）
ＰＶＡ系樹脂層（樹脂基材の片側にＰＶＡ系樹脂層が積層された積層体）の延伸方法としては、任意の適切な方法を採用することができる。具体的には、固定端延伸（例えば、テンター延伸機を用いる方法）でもよいし、自由端延伸（例えば、周速の異なるロール間に積層体を通して一軸延伸する方法）でもよい。また、同時二軸延伸（例えば、同時二軸延伸機を用いる方法）でもよいし、逐次二軸延伸でもよい。積層体の延伸は、一段階で行ってもよいし、多段階で行ってもよい。多段階で行う場合、後述の積層体の延伸倍率（最大延伸倍率）は、各段階の延伸倍率の積である。
【００５７】
延伸処理は、積層体を延伸浴に浸漬させながら行う水中延伸方式であってもよいし、空中延伸方式であってもよい。１つの実施形態においては、水中延伸処理を少なくとも１回施し、好ましくは、水中延伸処理と空中延伸処理を組み合わせる。水中延伸によれば、上記樹脂基材やＰＶＡ系樹脂層のガラス転移温度（代表的には、８０℃程度）よりも低い温度で延伸し得、ＰＶＡ系樹脂層を、その結晶化を抑えながら、高倍率に延伸することができる。その結果、優れた偏光特性を有する偏光膜を製造することができる。
【００５８】
積層体の延伸方向としては、任意の適切な方向を選択することができる。１つの実施形態においては、長尺状の積層体の長手方向に延伸する。具体的には、積層体を長手方向に搬送し、その搬送方向（ＭＤ）である。別の実施形態においては、長尺状の積層体の幅方向に延伸する。具体的には、積層体を長手方向に搬送し、その搬送方向（ＭＤ）と直交する方向（ＴＤ）である。
【００５９】
積層体の延伸温度は、樹脂基材の形成材料、延伸方式等に応じて、任意の適切な値に設定することができる。空中延伸方式を採用する場合、延伸温度は、好ましくは樹脂基材のガラス転移温度（Ｔｇ）以上であり、さらに好ましくは樹脂基材のガラス転移温度（Ｔｇ）＋１０℃以上、特に好ましくはＴｇ＋１５℃以上である。一方、積層体の延伸温度は、好ましくは１７０℃以下である。このような温度で延伸することで、ＰＶＡ系樹脂の結晶化が急速に進むのを抑制して、当該結晶化による不具合（例えば、延伸によるＰＶＡ系樹脂層の配向を妨げる）を抑制することができる。
【００６０】
延伸方式として水中延伸方式を採用する場合、延伸浴の液温は、好ましくは４０℃〜８５℃、さらに好ましくは５０℃〜８５℃である。このような温度であれば、ＰＶＡ系樹脂層の溶解を抑制しながら高倍率に延伸することができる。具体的には、上述のように、樹脂基材のガラス転移温度（Ｔｇ）は、ＰＶＡ系樹脂層の形成との関係で、好ましくは６０℃以上である。この場合、延伸温度が４０℃を下回ると、水による樹脂基材の可塑化を考慮しても、良好に延伸できないおそれがある。一方、延伸浴の温度が高温になるほど、ＰＶＡ系樹脂層の溶解性が高くなって、優れた偏光特性が得られないおそれがある。
【００６１】
水中延伸方式を採用する場合、積層体をホウ酸水溶液中に浸漬させて延伸することが好ましい（ホウ酸水中延伸）。延伸浴としてホウ酸水溶液を用いることで、ＰＶＡ系樹脂層に、延伸時にかかる張力に耐える剛性と、水に溶解しない耐水性とを付与することができる。具体的には、ホウ酸は、水溶液中でテトラヒドロキシホウ酸アニオンを生成してＰＶＡ系樹脂と水素結合により架橋し得る。その結果、ＰＶＡ系樹脂層に剛性と耐水性とを付与して、良好に延伸することができ、優れた偏光特性を有する偏光膜を作製することができる。
【００６２】
上記ホウ酸水溶液は、好ましくは、溶媒である水にホウ酸および／またはホウ酸塩を溶解させることにより得られる。ホウ酸濃度は、水１００重量部に対して、好ましくは１重量部〜１０重量部である。ホウ酸濃度を１重量部以上とすることにより、ＰＶＡ系樹脂層の溶解を効果的に抑制することができ、より高特性の偏光膜を作製することができる。なお、ホウ酸またはホウ酸塩以外に、ホウ砂等のホウ素化合物、グリオキザール、グルタルアルデヒド等を溶媒に溶解して得られた水溶液も用いることができる。
【００６３】
好ましくは、上記延伸浴（ホウ酸水溶液）にヨウ化物を配合する。ヨウ化物を配合することにより、ＰＶＡ系樹脂層に吸着させたヨウ素の溶出を抑制することができる。ヨウ化物の具体例は、上述のとおりである。ヨウ化物の濃度は、水１００重量部に対して、好ましくは０．０５重量部〜１５重量部、さらに好ましくは０．５重量部〜８重量部である。
【００６４】
積層体の延伸浴への浸漬時間は、好ましくは１５秒〜５分である。好ましくは、水中延伸処理は染色処理の後に行う。
【００６５】
積層体の延伸倍率（最大延伸倍率）は、積層体の元長に対して、好ましくは４．０倍以上、さらに好ましくは５．０倍以上である。このような高い延伸倍率は、例えば、水中延伸方式（ホウ酸水中延伸）を採用することにより、達成し得る。なお、本明細書において「最大延伸倍率」とは、積層体が破断する直前の延伸倍率をいい、別途、積層体が破断する延伸倍率を確認し、その値よりも０．２低い値をいう。
【００６６】
（不溶化処理）
上記不溶化処理は、代表的には、ホウ酸水溶液にＰＶＡ系樹脂層を浸漬させることにより行う。特に水中延伸方式を採用する場合、不溶化処理を施すことにより、ＰＶＡ系樹脂層に耐水性を付与することができる。当該ホウ酸水溶液の濃度は、水１００重量部に対して、好ましくは１重量部〜４重量部である。不溶化浴（ホウ酸水溶液）の液温は、好ましくは２０℃〜４０℃である。好ましくは、不溶化処理は、積層体作製後、染色処理や水中延伸処理の前に行う。
【００６７】
（架橋処理）
上記架橋処理は、代表的には、ホウ酸水溶液にＰＶＡ系樹脂層を浸漬させることにより行う。架橋処理を施すことにより、ＰＶＡ系樹脂層に耐水性を付与することができる。当該ホウ酸水溶液の濃度は、水１００重量部に対して、好ましくは１重量部〜４重量部である。また、上記染色処理後に架橋処理を行う場合、さらに、ヨウ化物を配合することが好ましい。ヨウ化物を配合することにより、ＰＶＡ系樹脂層に吸着させたヨウ素の溶出を抑制することができる。ヨウ化物の配合量は、水１００重量部に対して、好ましくは１重量部〜５重量部である。ヨウ化物の具体例は、上述のとおりである。架橋浴（ホウ酸水溶液）の液温は、好ましくは２０℃〜５０℃である。好ましくは、架橋処理は水中延伸処理の前に行う。好ましい実施形態においては、染色処理、架橋処理および水中延伸処理をこの順で行う。
【００６８】
（洗浄処理）
上記洗浄処理は、代表的には、ヨウ化カリウム水溶液にＰＶＡ系樹脂層を浸漬させることにより行う。
【００６９】
（乾燥処理）
乾燥処理における乾燥温度は、好ましくは３０℃〜１００℃である。
【００７０】
Ｂ−４．その他
上記光学積層体は、偏光膜の樹脂基材が配置されている側とは反対側に配置された保護フィルムを有していてもよい。保護フィルムの形成材料としては、例えば、（メタ）アクリル系樹脂、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリプロピレン等のオレフィン系樹脂、ポリエチレンテレフタレート系樹脂等のエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、これらの共重合体樹脂等が挙げられる。保護フィルムの厚みは、好ましくは１０μｍ〜１００μｍである。保護フィルムは、偏光膜に接着層を介して積層してもよいし、密着させて（接着層を介さずに）積層してもよい。接着層は、代表的には、接着剤または粘着剤で形成される。
【００７１】
光学積層体は、例えば、液晶表示装置に搭載され得る。この場合、偏光膜が樹脂基材よりも液晶セル側に配置されるように搭載されることが好ましい。このような構成によれば、樹脂基材が有し得る位相差が、得られる液晶表示装置の画像特性に及ぼす影響を排除することができる。
【実施例】
【００７２】
以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。なお、厚みの測定方法は以下の通りである。また、下記実施例および比較例における「部」および「％」は、それぞれ「重量部」および「重量％」を表す。
（厚み）
デジタルマイクロメーター（アンリツ社製、製品名「ＫＣ−３５１Ｃ」）を用いて測定した。【００７３】
［実施例１］
樹脂基材として、長尺状で、吸水率０．７５％、Ｔｇ７５℃の非晶質のイソフタル酸共重合ポリエチレンテレフタレート（ＩＰＡ共重合ＰＥＴ）フィルム（厚み：１００μｍ）を用いた。
樹脂基材の片面に、コロナ処理を施し、このコロナ処理面に、アセトアセチル変性ＰＶＡ（日本合成化学工社製、商品名「ゴーセファイマーＺ２００」、重合度１２００、ケン化度９９.０モル％以上、アセトアセチル変性度４．６％）の４．０％水溶液と変性ポリオレフィン樹脂水性分散体（ユニチカ社製、商品名「アローベースＳＥ１０３０Ｎ」、固形分濃度２２％）と純水を混合した混合液（固形分濃度４．０％）を、乾燥後の厚みが２０００ｎｍになるように塗布し、６０℃で３分間乾燥し、下塗り層を形成した。ここで、混合液におけるアセトアセチル変性ＰＶＡと変性ポリオレフィンとの固形分配合比は３０：７０であった。
次いで、下塗り層表面に、コロナ処理を施し、このコロナ処理面に、ポリビニルアルコール（重合度４２００、ケン化度９９．２モル％）およびアセトアセチル変性ＰＶＡ（重合度１２００、アセトアセチル変性度４．６％、ケン化度９９．０モル％以上、日本合成化学工業社製、商品名「ゴーセファイマーＺ２００」）を９：１の比で含む水溶液を２５℃で塗布および乾燥して、厚み１１μｍのＰＶＡ系樹脂層を形成した。こうして、積層体を作製した。【００７４】
得られた積層体を、１２０℃のオーブン内で周速の異なるロール間で縦方向（長手方向）に２．０倍に自由端一軸延伸した（空中補助延伸）。
次いで、積層体を、液温３０℃の不溶化浴（水１００重量部に対して、ホウ酸を４重量部配合して得られたホウ酸水溶液）に３０秒間浸漬させた（不溶化処理）。
次いで、液温３０℃の染色浴に、得られる偏光膜が所定の透過率となるようにヨウ素濃度、浸漬時間を調整しながら浸漬させた。本実施例では、水１００重量部に対して、ヨウ素を０．２重量部配合し、ヨウ化カリウムを１．０重量部配合して得られたヨウ素水溶液に６０秒間浸漬させた（染色処理）。
次いで、液温３０℃の架橋浴（水１００重量部に対して、ヨウ化カリウムを３重量部配合し、ホウ酸を３重量部配合して得られたホウ酸水溶液）に３０秒間浸漬させた（架橋処理）。
その後、積層体を、液温７０℃のホウ酸水溶液（水１００重量部に対して、ホウ酸を４重量部配合し、ヨウ化カリウムを５重量部配合して得られた水溶液）に浸漬させながら、周速の異なるロール間で縦方向（長手方向）に総延伸倍率が５．５倍となるように一軸延伸を行った（水中延伸）。
その後、積層体を液温３０℃の洗浄浴（水１００重量部に対して、ヨウ化カリウムを４重量部配合して得られた水溶液）に浸漬させた（洗浄処理）。
こうして、厚み３０μｍの樹脂基材の片側に厚み５μｍの偏光膜が形成された光学積層体（偏光板）を得た。【００７５】
［実施例２］
上記混合液を乾燥後の厚みが１０００ｎｍになるように塗布したこと以外は実施例１と同様にして、光学積層体を得た。【００７６】
［実施例３］
上記混合液を乾燥後の厚みが５００ｎｍになるように塗布したこと以外は実施例１と同様にして、光学積層体を得た。【００７７】
［実施例４］
混合液におけるアセトアセチル変性ＰＶＡと変性ポリオレフィンとの固形分配合比を５０：５０としたこと以外は実施例１と同様にして、光学積層体を得た。【００７８】
［実施例５］
下塗り層の形成に際し、アセトアセチル変性ＰＶＡ（ゴーセファイマーＺ２００）の４．０％水溶液と変性ポリオレフィン樹脂水性分散体（ユニチカ社製、商品名「アローベースＳＤ１０３０Ｎ」、固形分濃度２２％）と純水を混合した混合液（固形分濃度４．０％）を用いたこと以外は実施例１と同様にして、光学積層体を得た。【００７９】
［実施例６］
下塗り層の形成に際し、アセトアセチル変性ＰＶＡ（ゴーセファイマーＺ２００）の４．０％水溶液と変性ポリオレフィン樹脂水性分散体（ユニチカ社製、商品名「アローベースＳＥ１０３５ＮＪ２」、固形分濃度２２％）と純水を混合した混合液（固形分濃度４．０％）を用いたこと以外は実施例４と同様にして、光学積層体を得た。【００８０】
［実施例７］
下塗り層の形成に際し、アセトアセチル変性ＰＶＡ（日本合成化学工社製、商品名「ゴーセファイマーＺ４１０」、重合度２２００、ケン化度９７．５〜９８．５％、アセトアセチル変性度４．６％）の４．０％水溶液と変性ポリオレフィン樹脂水性分散体（ユニチカ株式会社製、商品名「アローベースＳＥ１０３０Ｎ」、固形分濃度２２％）と純水を混合した混合液（固形分濃度４．０％）を用いたこと以外は実施例１と同様にして、光学積層体を得た。【００８１】
［実施例８］
下塗り層の形成に際し、アセトアセチル変性ＰＶＡ（ゴーセファイマーＺ２００）の４．０％水溶液１０ｇとポリエステル水性エマルション樹脂（エリーテルＫＴ０５０７Ｅ６）６２．５ｇとを混合した混合液を用いたこと以外は実施例３と同様にして、光学積層体を得た。ここで、混合液におけるアセトアセチル変性ＰＶＡとポリエステルとの固形分配合比は５０：５０であった。【００８２】
［実施例９］
下塗り層の形成に際し、アセトアセチル変性ＰＶＡ（ゴーセファイマーＺ２００）の４．０％水溶液１０ｇとポリエステル水性エマルション樹脂（エリーテルＫＴ０５０７Ｅ６）６２．５ｇとを混合した混合液を用いたこと以外は実施例１と同様にして、光学積層体を得た。ここで、混合液におけるアセトアセチル変性ＰＶＡとポリエステルとの固形分配合比は５０：５０であった。【００８３】
［比較例１］
下塗り層を形成することなく、樹脂基材上に直接ＰＶＡ系樹脂層を形成したこと以外は実施例１と同様にして、光学積層体を得た。【００８４】
［比較例２］
下塗り層の形成に際し、アセトアセチル変性ＰＶＡ（ゴーセファイマーＺ２００）の４．０％水溶液を用いたこと以外は実施例３と同様にして、光学積層体を得た。【００８５】
［比較例３］
下塗り層の形成に際し、アセトアセチル変性ＰＶＡ（ゴーセファイマーＺ２００）の４．０％水溶液を用いたこと以外は実施例２と同様にして、光学積層体を得た。【００８６】
［比較例４］
下塗り層の形成に際し、アセトアセチル変性ＰＶＡ（ゴーセファイマーＺ２００）の４．０％水溶液を用いたこと以外は実施例１と同様にして、光学積層体を得た。【００８７】
［比較例５］
下塗り層の形成に際し、アセトアセチル変性ＰＶＡ（ゴーセファイマーＺ２００）の４．０％水溶液を用いたこと、および、空中補助延伸の延伸倍率を４．０倍とし、不溶化処理および水中延伸を行わなかったこと以外は実施例２と同様にして、厚み３７μｍの樹脂基材の片側に厚み６μｍの偏光膜が形成された光学積層体を得た。【００８８】
（評価）
上記実施例および比較例について、以下の評価を行った。評価結果を表１にまとめる。
１．９０度剥離力
光学積層体から樹脂基材を９０度剥離する際の剥離力（基材剥離力：Ｐ１）および光学積層体から偏光膜を９０度剥離する際の剥離力（ＰＶＡ剥離力：Ｐ２）を以下に記載する方法によって測定した。
（基材剥離力：Ｐ１）
ガラス板に、得られた光学積層体を偏光膜面側に粘着剤を塗布して貼り合わせて、測定用サンプルを作製した。この測定用サンプルの偏光膜と樹脂基材との間にカッターナイフで切込みを入れ、樹脂基材を偏光膜面に対して９０°の角度をなすように立ち上げ、剥離速度３０００ｍｍ/ｍｉｎで剥離する際に要する力（Ｎ／１５ｍｍ）を上記「ＶＰＡ−２」により測定した。
（ＰＶＡ剥離力：Ｐ２）
ガラス板に得られた光学積層体を樹脂基材面側に粘着剤を塗布して貼り合わせ、偏光膜面に補強用のポリイミドテープ（日東電工（株）製、ポリイミド粘着テープＮｏ．３６０Ａ）を貼り合わせて、測定用サンプルを作製した。この測定用サンプルの偏光膜と樹脂基材との間にカッターナイフで切込みを入れ、偏光膜および補強用のポリイミドテープを樹脂基材面に対して９０°の角度をなすように立ち上げ、剥離速度３０００ｍｍ/ｍｉｎで剥離する際に要する力（Ｎ／１５ｍｍ）を角度自在タイプ粘着・皮膜剥離解析装置「ＶＰＡ−２」（共和界面化学株式会社製）により測定した。
２．操作性
得られた光学積層体を切断して、１０ｃｍ×１０ｃｍのサイズの試験片を得た。次いで、得られた試験片１０’の樹脂基材１１面および偏光膜１２面の角部に、図３（ａ）および（ｂ）に示すように強制剥離用テープ５０(積水化学工業（株）製：セキスイセロテ−プ（Ｎｏ，２５２）２４ｍｍ幅）を貼付した。次いで、図３（ｂ）に示すように貼付したテープ５０を同時に逆方向に剥がれるまで引っ張り、その際に光学積層体に剥がれが発生するかどうかを評価した。評価基準は以下のとおりである。
良好：剥がれが発生しなかった。
不良：剥がれが発生した。【００８９】
【表１】
0006774556.tif 000003
【００９０】
表１に示すように、０．５＜Ｐ１／Ｐ２＜５の関係を満たす実施例の光学積層体は操作性に優れる。また、水中延伸を施しても十分な密着性が保持されている。一方、０．５＜Ｐ１／Ｐ２＜５の関係を満たさない比較例の光学積層体は操作性に問題がある。
【産業上の利用可能性】
【００９１】
本発明の光学積層体は、例えば、画像表示装置に好適に用いられる。具体的には、液晶テレビ、液晶ディスプレイ、携帯電話、デジタルカメラ、ビデオカメラ、携帯ゲーム機、カーナビゲーション、コピー機、プリンター、ファックス、時計、電子レンジ等の液晶パネル、有機ＥＬデバイスの反射防止板等として好適に用いられる。
【符号の説明】
【００９２】
１０    光学積層体
１１    樹脂基材
１２    偏光膜
１３    中間領域
【図１】
0006774556.tif 000004
【図２】
0006774556.tif 000005
【図３】
0006774556.tif 000006