(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
離散的に配置された１つまたは複数の凹部が形成された樹脂層、および、前記樹脂層に形成された凹部に配置され、光吸収体を含む複数の光吸収領域、を有する光吸収体含有層と、
前記光吸収体含有層の一方の主面に積層される第１の基材フィルムと、
前記光吸収体含有層の他方の主面に積層される第２の基材フィルムと、を有し、
前記光吸収領域は、前記光吸収体としての少なくとも１種の蛍光体、および、バインダを含み、
前記樹脂層は、弾性率が０．５〜１０ＧＰａであり、
前記光吸収領域と、前記光吸収領域を囲む前記樹脂層との合計面積に対する、前記光吸収領域の面積が、面方向の中央よりも、周辺部の方が大きく、
前記光吸収体含有フィルムの、面内の色味分布が下記式（１）を満たすことを特徴とする光吸収体含有フィルム。
式（１）  ０．００２＜ｙmax−ｙmin＜０．２
ここで、ｙmaxおよびｙminは、前記光吸収体含有フィルム面内の色味を測定した際のＣＩＥ  ｙ値の最大値、および最小値を示す。
【請求項２】
前記光吸収領域の厚さが面内分布を持つ請求項１に記載の光吸収体含有フィルム。
【請求項３】
前記光吸収領域の厚さが、面方向の中央よりも、周辺部の方が厚い請求項２に記載の光吸収体含有フィルム。
【請求項４】
前記光吸収体含有層が、前記光吸収体として、異なる二種以上の蛍光体または色素を含む請求項１〜３のいずれか１項に記載の光吸収体含有フィルム。
【請求項５】
前記樹脂層の酸素透過度が１０cc/(m2・day・atm)以下である請求項１〜４のいずれか1項に記載の光吸収体含有フィルム。
【請求項６】
主面を対面して、離間して配置される、第１の基材フィルム、および、第２の基材フィルムと、
前記第１の基材フィルムおよび前記第２の基材フィルムの間に設けられる、第１の光吸収体を含む光吸収領域と、
前記第１の基材フィルムおよび前記第２の基材フィルムの間で、前記光吸収領域を囲んで設けられる、前記第１の光吸収体とは異なる第２の光吸収体を含む枠体と、を有し、
前記枠体の酸素透過係数が２０cc/（m2・day・atm）以下である光吸収体含有フィルム。
【請求項７】
前記光吸収体含有フィルムの厚み方向の断面を観察した際に、前記枠体と前記光吸収領域とが接触する位置において、前記光吸収領域の厚みが連続的に変化する領域を有する請求項６に記載の光吸収体含有フィルム。
【請求項８】
前記第２の光吸収体が、紫外光および青色光の少なくとも一方を吸収して、黄色光を発光するものである請求項６または７に記載の光吸収体含有フィルム。
【請求項９】
前記第１の光吸収体が、量子ドットである請求項６〜８のいずれか一項に記載の光吸収体含有フィルム。
【請求項１０】
大きさの異なる前記枠体を複数有し、大きい前記枠体が小さい前記枠体を内包するように、前記枠体が多重に設けられる請求項６〜９のいずれか一項に記載の光吸収体含有フィルム。
【請求項１１】
多重に設けられた複数の前記枠体間にも前記光吸収領域が設けられる請求項１０に記載の光吸収体含有フィルム。
【請求項１２】
前記枠体が含有する前記第２の光吸収体の吸光度および発光量の少なくとも一方が、大きい前記枠体から小さい前記枠体に向かって、順次、小さくなる請求項１０または１１に記載の光吸収体含有フィルム。
【請求項１３】
前記枠体の幅が、０．１〜５ｍｍである請求項６〜１２のいずれか一項に記載の光吸収体含有フィルム。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか一項に記載の光吸収体含有フィルムを含む波長変換部材と、青色発光ダイオードおよび紫外線発光ダイオードの少なくとも一方を含むバックライトユニット。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、励起光照射により蛍光を発する光吸収体（蛍光体）を含む光吸収体含有フィルムおよび光吸収体含有フィルムを波長変換部材として備えたバックライトユニットに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置（ＬＣＤ（Liquid Crystal Display））などのフラットパネルディスプレイは、消費電力が小さく、省スペースの画像表示装置として年々その用途が広がっている。近年の液晶表示装置において、ＬＣＤ性能改善としてさらなる省電力化や色再現性向上等が求められている。【０００３】
ＬＣＤのバックライトの省電力化に伴って、光利用効率を高め、また、色再現性を向上するために、入射光の波長を変換して出射する量子ドット（ＱＤ（Quantum Dot）、量子点とも呼ばれる）を発光材料（蛍光体）として含んだ波長変換層を利用することが提案されている。【０００４】
量子ドットとは、三次元全方向において移動方向が制限された電子の状態のことであり、半導体のナノ粒子が、高いポテンシャル障壁で三次元的に囲まれている場合に、このナノ粒子は量子ドットとなる。量子ドットは種々の量子効果を発現する。例えば、電子の状態密度（エネルギー準位）が離散化される「量子サイズ効果」が発現する。この量子サイズ効果によれば、量子ドットの大きさを変化させることで、光の吸収波長や発光波長を制御できる。【０００５】
一般に、このような量子ドットは、樹脂等の中に分散されて、例えば、波長変換を行う量子ドットフィルムとして、バックライトと液晶パネルとの間に配置されて用いられる。
バックライトから量子ドットを含むフィルムに励起光が入射すると、量子ドットが励起され蛍光を発光する。ここで異なる発光特性を有する量子ドットを用い、各量子ドットに赤色光、緑色光もしくは青色光の半値幅の狭い光を発光させることにより白色光を具現化することができる。量子ドットによる蛍光は半値幅が狭いため、波長を適切に選択することで得られる白色光を高輝度にすること、および色再現性に優れる設計にすることが可能である。【０００６】
ところで、量子ドットフィルムが、バックライトと液晶パネルとの間に配置されて用いられた場合に、量子ドットフィルムを使用しない従来構成にはなかった面内の輝度ムラや色度ムラが生じ問題になっている。
そのため、量子ドットフィルムに起因するムラを低減する方法が提案されている。【０００７】
例えば、特許文献１には、励起光を波長変換して波長変換光を発生させる量子点および量子点を含む光変換シートで、光変換シートの４辺に沿った周囲の光変換層の厚さを中央部より厚くすることを特徴とする量子ドットフィルムを使用して、バックライトの額縁周辺部に発生するブルーの色ムラを改善することが記載されている。【０００８】
また、特許文献２には、量子ドットシートの入光面側および出光面側の少なくともいずれか一方に、量子ドットシートの周縁部の少なくとも一部に沿って配置され、かつ少なくとも光源からの光を吸収する光吸収体とを備えるバックライト装置が記載されている。また、これによりバックライト装置の発狂領域の周縁部の青味が強くなることを抑制することが記載されている。【０００９】
また、特許文献３には、外周側部分の少なくとも一部が中央側部分よりも単位面積当たりの蛍光体の含有量が多くなる多蛍光体部を有する波長変換部材を備える照明装置が記載されている。また、これにより外周側と中央側とで出射光の色昧に差が生じることを抑制することが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】ＫＲ２０１６００４７０４２Ａ
【特許文献２】特開２０１６−１９４９８９号公報
【特許文献３】国際公開第２０１６／１４８０５３号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
ＬＣＤに用いられる、光吸収体を含む波長変換部材は５０〜３５０μｍ程度の薄型のフィルムである。そのような非常に薄型のフィルムにおいて、４辺に沿った周囲の光変換層の厚さを、バックライトのブルーの色ムラに応じて制御することは困難であり、生産性が悪かった。特に、端部の厚みを厚くするため長尺で巻くことが出来ず、ロール・トゥ・ロールで作製出来ず、生産性が悪かった。【００１２】
また、特許文献２のように、量子ドットシートの周縁部に光吸収体を配置する構成では、バックライトに組み込んだ際に周縁部が暗くなってしまうという問題があった。また、長時間の光照射により端部の量子ドットが劣化してしまうので、経時に伴ってバックライト周辺からブルーの光漏れが発生し、色ムラが発生してしまうという問題があった。【００１３】
また、特許文献３のように、波長変換部材の外周側部分の量子ドットの濃度を高くする構成でも、長時間の光照射により端部の量子ドットが劣化してしまうので、経時に伴ってバックライト周辺からブルーの光漏れが発生し、色ムラが発生してしまうという問題があった。【００１４】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、量子ドットなどを含有する光吸収体含有フィルムにおいて、面内の輝度ムラや色度ムラを抑制することができる光吸収体含有フィルム、ならびに、この光吸収体含有フィルムを波長変換部材として備えたバックライトユニットを提供することを課題とする。
さらに好適な態様において、初期及び経時後の面内の色味ムラ、特に周辺からのブルーの光漏れを抑制することが出来る光吸収体含有フィルム、ならびに、バックライトユニットを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、離散的に配置された１つまたは複数の凹部が形成された樹脂層、および、樹脂層に形成された凹部に配置され、光吸収体を含む複数の光吸収領域、を有する光吸収体含有層と、光吸収体含有層の一方の主面に積層される第１の基材フィルムと、光吸収体含有層の他方の主面に積層される第２の基材フィルムと、を有し、光吸収領域は、光吸収体としての少なくとも１種の蛍光体、および、バインダを含み、樹脂層は、弾性率が０．５〜１０ＧＰａである光吸収体含有フィルムであって、光吸収領域の大きさや厚さに面内分布を持たせることにより、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。
また、主面を対面して、離間して配置される、第１の基材フィルム、および、第２の基材フィルムと、第１の基材フィルムおよび第２の基材フィルムの間に設けられる、第１の光吸収体を含む光吸収領域と、第１の基材フィルムおよび第２の基材フィルムの間で、光吸収領域を囲んで設けられる、第１の光吸収体とは異なる第２の光吸収体を含む枠体と、を有し、枠体の酸素透過係数が２０cc/（m2・day・atm）以下であることにより、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。【００１６】
［１］  離散的に配置された１つまたは複数の凹部が形成された樹脂層、および、樹脂層に形成された凹部に配置され、光吸収体を含む複数の光吸収領域、を有する光吸収体含有層と、
光吸収体含有層の一方の主面に積層される第１の基材フィルムと、
光吸収体含有層の他方の主面に積層される第２の基材フィルムと、を有し、
光吸収領域は、光吸収体としての少なくとも１種の蛍光体、および、バインダを含み、
樹脂層は、弾性率が０．５〜１０ＧＰａであり、
光吸収体含有フィルムの、面内の色味分布が下記式（１）を満たすことを特徴とする光吸収体含有フィルム。
式（１）  ０．００２＜ｙmax−ｙmin＜０．２
ここで、ｙmaxおよびｙminは、光吸収体含有フィルム面内の色味を測定した際のＣＩＥ  ｙ値の最大値、および最小値を示す。
［２］  光吸収領域の厚さが面内分布を持つ［１］に記載の光吸収体含有フィルム。
［３］  光吸収領域の厚さが、面方向の中央よりも、周辺部の方が厚い［２］に記載の光吸収体含有フィルム。
［４］  光吸収領域と、光吸収領域を囲む樹脂層との合計面積に対する、光吸収領域の面積が、面内分布を持つ［１］〜［３］のいずれかに記載の光吸収体含有フィルム。
［５］  光吸収領域と、光吸収領域を囲む樹脂層との合計面積に対する、光吸収領域の面積が、面方向の中央よりも、周辺部の方が大きい［４］に記載の光吸収体含有フィルム。
［６］  光吸収体含有層が、光吸収体として、異なる二種以上の蛍光体または色素を含む［１］〜［５］のいずれかに記載の光吸収体含有フィルム。
［７］  樹脂層の酸素透過度が１０cc/(m2・day・atm)以下である［１］〜［６］のいずれか記載の光吸収体含有フィルム。
[８]  主面を対面して、離間して配置される、第１の基材フィルム、および、第２の基材フィルムと、
第１の基材フィルムおよび第２の基材フィルムの間に設けられる、第１の光吸収体を含む光吸収領域と、
第１の基材フィルムおよび第２の基材フィルムの間で、光吸収領域を囲んで設けられる、第１の光吸収体とは異なる第２の光吸収体を含む枠体と、を有し、
枠体の酸素透過係数が２０cc/（m2・day・atm）以下である光吸収体含有フィルム。
[９]  光吸収体含有フィルムの厚み方向の断面を観察した際に、枠体と光吸収領域とが接触する位置において、光吸収領域の厚みが連続的に変化する領域を有する［８］に記載の光吸収体含有フィルム。
[１０]  第２の光吸収体が、紫外光および青色光の少なくとも一方を吸収して、黄色光を発光するものである［８］または［９］に記載の光吸収体含有フィルム。
[１１]  第１の光吸収体が、量子ドットである［８］〜［１０］のいずれかに記載の光吸収体含有フィルム。
[１２]  大きさの異なる枠体を複数有し、大きい枠体が小さい枠体を内包するように、枠体が多重に設けられる［８］〜［１１］のいずれかに記載の光吸収体含有フィルム。
[１３]  多重に設けられた複数の枠体間にも光吸収領域が設けられる［１２］に記載の光吸収体含有フィルム。
[１４]  枠体が含有する第２の光吸収体の吸光度および発光量の少なくとも一方が、大きい枠体から小さい枠体に向かって、順次、小さくなる［１２］または［１３］に記載の光吸収体含有フィルム。
[１５]  枠体の幅が、０．１〜５ｍｍである［８］〜［１４］いずれかに記載の光吸収体含有フィルム。
[１６]  ［１］〜［１５］のいずれかに記載の光吸収体含有フィルムを含む波長変換部材と、青色発光ダイオードおよび紫外線発光ダイオードの少なくとも一方を含むバックライトユニット。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、量子ドットなどを含有する光吸収体含有フィルムにおいて、面内の輝度ムラや色度ムラを抑制することができる光吸収体含有フィルム、ならびに、この光吸収体含有フィルムを波長変換部材として備えたバックライトユニットを提供することができる。
さらに好適な態様において、初期及び経時後の面内の色味ムラ、特に周辺からのブルーの光漏れを抑制することが出来る光吸収体含有フィルム、ならびに、バックライトユニットを提供することを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の第一の態様の光吸収体含有フィルムの一例を模式的に示す斜視図である。
【図２】図１の光吸収体含有フィルムの平面図である。
【図３】図１の光吸収体含有フィルムの断面図である。
【図４】本発明の光吸収体含有フィルムの一例を説明するための断面図である。
【図５】本発明の光吸収体含有フィルムの別の例を説明するための平面図である。
【図６】光吸収領域の平面視パターンの別の例を示す平面図である。
【図７】樹脂層の幅ｔ１、深さｈ１、光吸収体含有層の幅ｔ２、深さｈ２を説明するための図である。
【図８】光吸収領域の平面視パターンの別の例を示す平面図である。
【図９】光吸収体含有フィルムの別の例を示す平面図である。
【図１０】本発明の光吸収体含有フィルムの一例を模式的に示す平面図である。
【図１１】図１０の光吸収体含有フィルムの断面図である。
【図１２】枠体の断面形状の一例を模式的に示す断面図である。
【図１３】枠体の断面形状の他の一例を模式的に示す断面図である。
【図１４】枠体と光吸収領域との接触位置の形状を説明するための断面図である。
【図１５】本発明の光吸収体含有フィルムの他の一例を模式的に示す平面図である。
【図１６】本発明の光吸収体含有フィルムの他の一例を模式的に示す平面図である。
【図１７】本発明の光吸収体含有フィルムの作製方法一例を説明するための模式図である。
【図１８】本発明の光吸収体含有フィルムの作製方法の一例を説明するための模式図である。
【図１９】本発明の光吸収体含有フィルムの作製方法一例を説明するための模式図である。
【図２０】本発明の光吸収体含有フィルムの作製方法の一例を説明するための模式図である。
【図２１】光吸収体含有フィルムを波長変換部材として備えたバックライトユニットの概略構成断面図である。
【図２２】バックライトユニットを備えた液晶表示装置の概略構成断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、図面を参照して、本発明に係る光吸収体含有フィルム、および、光吸収体含有フィルムを備えたバックライトユニットの実施の形態について説明する。本明細書の図面において、視認しやすくするために各部の縮尺を適宜変更して示している。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、『（メタ）アクリレート』とは、アクリレートとメタクリレートとの少なくとも一方、または、いずれかの意味で用いるものとする。『（メタ）アクリロイル』等も同様である。
【００２０】
＜光吸収体含有フィルム（第一の態様）＞
本発明の第一の態様の光吸収体含有フィルムは、
離散的に配置された１つまたは複数の凹部が形成された樹脂層、および、樹脂層に形成された凹部に配置され、光吸収体を含む複数の光吸収領域、を有する光吸収体含有層と、
光吸収体含有層の一方の主面に積層される第１の基材フィルムと
光吸収体含有層の他方の主面に積層される第２の基材フィルムと、を有し、
光吸収領域は、光吸収体としての少なくとも１種の蛍光体、および、バインダを含み、
樹脂層は、弾性率が０．５〜１０ＧＰａである光吸収体含有フィルムであって、
光吸収体含有フィルムの、面内の色味分布が下記式（１）を満たすことを特徴とする光吸収体含有フィルムである。
式（１）  ０．００２＜ｙmax−ｙmin＜０．２
ここで、ｙmaxおよびｙminは、光吸収体含有フィルム面内の色味を測定した際のＣＩＥ  ｙ値の最大値、および最小値を示す。
【００２１】
ｙmaxおよびｙminは、一例として、以下の方法で測定すればよい。
まず、作製した光吸収体含有フィルムのフィルム中央部を含むように、３０ｍｍ×３０ｍｍサイズに４０ｍｍ間隔で裁断する。
次に、バックライトユニットに青色光源を備える市販のタブレット端末（例えば、商品名「Ｋｉｎｄｌｅ（登録商標）Ｆｉｒｅ  ＨＤＸ  ７」、Ａｍａｚｏｎ社製、以下、単に「Ｋｉｎｄｌｅ  Ｆｉｒｅ  ＨＤＸ  ７」と記載する場合がある）を分解し、バックライトユニットを取り出す。バックライトユニットに組み込まれていた波長変換フィルムＱＤＥＦ（Quantum Dot Enhancement Film）を取り出し、画面中央部に裁断した３０ｍｍ×３０ｍｍサイズの光吸収体含有フィルムを組み込む。
バックライトユニットを点灯させ、導光板の面に対して垂直方向５２０ｍｍの位置に設置した輝度計（例えば、商品名「ＳＲ３」、ＴＯＰＣＯＮ社製）で、光吸収体含有フィルムの発光の色味（ＣＩＥ  ｘ、ＣＩＥ  ｙ）を測定する。
測定した色味のうち、ＣＩＥ  ｙ値が最大のものをｙmax、最少のものをｙminとして、ｙmax−ｙminを算出する。
【００２２】
光吸収体含有フィルムは、バックライトに組み込んだ際の色ムラを補償するように、色味分布を付与することができる。
たとえば、量子ドットフィルムを用いたサイドエッジ型のバックライトユニットにおいて、４辺（面方向の端部）から青光が漏れて、色ムラとなる現象が観察される。この場合、フィルム４辺の色味をフィルムの中央部に対し黄色くすることで、バックライトの色味ムラを低減できる。一例として、フィルム周辺部において、フィルム中央部と比べ、光吸収領域の厚さ（凹部の深さ）、隣接する光吸収領域の間の樹脂層の幅、および、光吸収領域における光吸収体の濃度（含有量）の少なくとも１つを調節して、単位面積当たりの量子ドットの量を増やすことにより、色味分布を付与して、バックライトの色味ムラを低減できる。
【００２３】
量子ドットフィルムを使用し、周囲から青光が漏れるバックライトに用いる場合には、光吸収体含有フィルムは中央部の色味が青く、周辺の色味が黄色いことが好ましい。すなわち、フィルム中央部のＣＩＥ  ｙ値をｙ＿CT、周辺部のＣＩＥ  ｙ値をｙ＿edgeとした際、ｙ＿edge＞ｙ＿CTであることが好ましい。
【００２４】
また、量子ドットフィルムを用いた直下型のバックライトユニットにおいて、青色ＬＥＤの配置に応じた照度分布に起因するムラが観察されることがある。この場合、照度分布を補償するように光吸収体含有フィルムに色味分布を付与することで均一な色味のバックライトを得ることができる。
【００２５】
図１は、本発明の第一の態様に係る光吸収体含有フィルム１の一例を模式的に示す斜視図であり、図２は図１の平面図であり、図３は図１の断面図である。なお、図１においては説明のため、第２の基材フィルム２０を破線で示し、光吸収体含有層３０を実線で示す。
本実施形態の光吸収体含有フィルム１は、第１の基材フィルム１０と、第１の基材フィルム１０上において光吸収体３１を含む領域３５が複数、離散的に配置され、光吸収体３１を含む領域３５間に、樹脂層３８Ａが配置されてなる光吸収体含有層３０と、光吸収体含有層３０上に配置される第２の基材フィルム２０とを備えている。以下において、光吸収体３１を含む領域３５を光吸収領域３５と称する場合がある。
光吸収領域３５は、樹脂層３８Ａに形成された凹部に設けられる。
【００２６】
樹脂層３８Ａは、好ましい態様として、酸素に対する不透過性を有するものである。
本明細書において「酸素に対する不透過性を有する」とは、酸素透過度が２０cc/(m2・day・atm)以下であることを意味する。なお、本明細書において「不透過性を有する」と「バリア性を有する」とは同義で用いている。すなわち、本明細書において、ガスバリアとは、ガス（気体）に対して不透過性を有することを意味し、水蒸気バリアとは、水蒸気に対して不透過性を有することを意味する。また、酸素および水蒸気の両者に対して不透過性を有する層については、「バリア層」と称する。
【００２７】
ここで、第一の態様の光吸収体含有フィルムにおいては、光吸収体領域３５の幅は１０〜１０００μｍであり、深さは１〜１５０μｍであり、樹脂層３８Ａの幅は５〜１０００μｍであり、深さは１〜１５０μｍである。
【００２８】
前述のとおり、量子ドットなどの光吸収体を含有する光吸収体含有フィルムを高い生産効率で製造するためには、ロール・トゥ・ロール方式により長尺なフィルム上に塗布工程や硬化工程を順次施して、積層構造を形成した後に、所望のサイズに裁断する方法が好ましい。
【００２９】
本発明の光吸収体含有フィルムは、樹脂層３８Ａの凹部の深さ、隣接する光吸収領域３５の間の樹脂層３８Ａの幅、および、複数の光吸収領域３５に含まれる光吸収体の濃度の、少なくとも１つに、面内分布がある。
例えば、離散的に配置された複数の凹部が形成された樹脂層３８Ａを設け、面内で凹部の深さ、および／または、凹部間の樹脂層３８Ａの幅を調節することにより、所望の面内分布を持つフィルムを精度良く作製することができる。その結果、ＬＣＤに波長変換部材を使用した際の面内ムラを効果的に低減できる。特に樹脂層、および光吸収体層の厚みを均一にし、幅に面内分布を設けることで、ロール・トゥ・ロールで巻きずれを発生させることなく、所望の光吸収体フィルムを作製することが可能となる。
【００３０】
以上のとおり、本発明の光吸収体含有フィルムは、離散的に配置された１つまたは複数の凹部が形成された樹脂層３８Ａを含み、樹脂層３８Ａの凹部の深さ、隣接する光吸収領域３５の間の樹脂層３８Ａの幅、および、光吸収領域３５に含まれる光吸収体の濃度の、少なくとも１つに、面内分布がある。
【００３１】
例えば、前述のように、４辺（面方向の端部）から青光が漏れて、色ムラが生じる場合には、図４に概念的に示すように、周辺部における光吸収領域３０の厚さを、中央部に比して厚くする。すなわち、光吸収領域３０となる樹脂層３８Ａの凹部の深さを、中央部によりも、周辺部を深くする。
これにより、周辺部における光吸収体３１の量を、中央部に比して多くして、発光量を増加して、周辺部と中央部とで色味が異なる色味分布を持たせることができる。例えば、光吸収体３１として、青光の入射によって、赤光および緑光を発光する量子ドットを用いる場合であれば、中央部に比して周辺部の黄色味が強くなり、その結果、青光の漏れに起因する色ムラを相殺して、色ムラの無い均一な発光を行うことができる。
中央部と周辺部とにおける深さ（厚さ）の差は、周辺部の色ムラに応じて、色ムラを相殺できる深さの差を、適宜、設定すればよい。
【００３２】
なお、本発明において、光吸収体含有フィルムの周辺部とは、端部から０．０５〜１０ｍｍまでの領域を示し、好ましくは、端部から０．１〜５ｍｍまでの領域を示す。
【００３３】
別の方法として、図５に概念的に示すように、光吸収領域３５と、光吸収領域３５を囲む樹脂層３８Ａとの合計面積に対する、光吸収領域３５の面積を、中央部よりも周辺部を大きくする。すなわち、光吸収領域３５の相対的な面積を、中央部よりも周辺部を大きくする。
これにより、先と同様に、周辺部における光吸収体３１の量を、中央部に比して多くして、発光量を増加して、周辺部と中央部とで色味が異なる色味分布を持たせて、色ムラの無い均一な発光を行うことができる。
中央部と周辺部とにおける、隣接する光吸収領域３５の間の樹脂層３８Ａの幅の差は、周辺部の色ムラに応じて、色ムラを相殺できる樹脂層３８Ａの幅の差を、適宜、設定すればよい。
【００３４】
なお、光吸収領域３５を囲む樹脂層３８Ａとは、光吸収領域３５と中心を一致して、隣接する光吸収領域に接する、光吸収領域３５と同形状の最小の領域を示す。
例えば、図５に示すように、光吸収領域３５が円形である場合には、該当する光吸収領域３５と中心を一致する、隣接する光吸収領域３５に接する最小の円形の領域における樹脂層３８Ａを、光吸収領域３５を囲む樹脂層３８Ａとする。
あるいは、図６に示すように、光吸収領域３５が四角形である場合には、該当する光吸収領域３５と中心を一致する、隣接する光吸収領域３５に接する最小の同形状の四角形の領域における樹脂層３８Ａを、光吸収領域３５を囲む樹脂層３８Ａとする。
【００３５】
さらに、別の方法として、光吸収領域３５における光吸収体３１の濃度を、中央部よりも周辺部を高くする。すなわち、光吸収領域３５における、光吸収体３１とバインダ３３との合計量（質量または体積）に対する、光吸収体３１の量を、中央部よりも周辺部を多くする。
これにより、先と同様に、周辺部における光吸収体３１の量を、中央部に比して多くして、発光量を増加して、周辺部と中央部とで色味が異なる色味分布を持たせて、均一な発光を行うことができる。
なお、中央部と周辺部とにおける、光吸収領域３５における光吸収体３１の濃度の差は、周辺部の色ムラに応じて、色ムラを相殺できる濃度の差を、適宜、設定すればよい。
【００３６】
以上の例は、いずれも、周辺部からの青光の漏れに対応して、周辺部の光吸収領域３５において、光吸収体３１の量を、中央部に比して多くしたが、本発明は、これに限定はされず、本発明の光吸収体含有フィルムを用いるバックライトユニット等で生じる色ムラに対応して、各種の構成が利用可能である。
例えば、バックライトユニットにおいて、部分的にスポット状の色ムラおよび／または輝度ムラが生じる場合には、このスポット状の色ムラおよび／または輝度ムラが生じる領域において、光吸収領域３１の厚さの増加または減少、光吸収領域３５の相対的な面積の幅の増加または減少、および、光吸収領域３５における光吸収体の濃度の増加または減少を行って、色ムラおよび／または輝度ムラを相殺してもよい。
【００３７】
光吸収体３１の量を調節するための、光吸収領域３１の厚さの調節、光吸収領域３５の相対的な面積の調節、および、光吸収領域３５における光吸収体の濃度の調節は、個々に行ってもよく、２つの方法、あるいは、３つの方法を併用してもよい。
【００３８】
ここで、光吸収領域３５の高さ（膜厚）ｈ２（図７参照）は１μｍ以上で目標色度に到達できるが、膜厚ムラの影響が大きくなるため、一定以上の膜厚を有するのが好ましい。一方、光吸収領域３５の膜厚が大きすぎると、光の吸収量が増大し、初期の輝度が低下する場合がある。これらの観点から、光吸収領域３５の高さｈ２は、１〜１５０μｍであり、５〜８０μｍが好ましく、１０〜５０μｍがより好ましい。
【００３９】
また、樹脂層３８Ａ部分の幅ｔ１（図７参照）は、樹脂層３８Ａを視認できないようにするため薄くするのが好ましい。一方、強度および耐久性の観点から一定以上の幅が必要となる。これらの観点から、樹脂層３８Ａの幅ｔ１は、５〜１０００μｍであり、１０〜５００μｍが好ましく、１５〜３００μｍがより好ましい。
【００４０】
なお、光吸収体層の深さｈ１、および、樹脂層の深さｈ２等は、光吸収体含有フィルムをミクロトームで切断して断面を形成し、励起光を光吸収体含有層に照射して光吸収体を発光させた状態で、この断面を共焦点レーザー顕微鏡を用いて観察し、１０箇所抽出して深さを測定して平均値として求める。
【００４１】
また、樹脂層３８Ａの厚みｔ１は、隣接する光吸収領域３５間の最短距離であり、励起光を光吸収体含有層に照射して光吸収体含有層中の蛍光体を発光させた状態で、光吸収体含有フィルムの一方の面から、共焦点レーザー顕微鏡を用いて表面を観察し、隣接する光吸収領域３５の間の樹脂層３８Ａ部分を少なくとも２０個抽出し、その幅を読み取って、これらの平均値を幅ｔ１として算出する。
【００４２】
また、第１の基材フィルム１０および第２の基材フィルム２０は、酸素に対して不透過性を有するものであることが好ましく、図３に示すように支持フィルム（１１、２１）と酸素に対する不透過性を有するバリア層（１２、２２）との積層構造を有するものであってもよい。
【００４３】
また、光吸収領域３５の大きさや配置パターンは特に限定されず、所望の条件によって適宜設計すればよい。また、例えば、後述する光吸収領域の形成方法の１つとして印刷法を用いる場合、個々の占有面積（平面視において）がある程度の大きさ以上でないと印刷ができないという制約もある。これらを鑑みて所望の形状、大きさおよび配置パターンを設計すればよい。
【００４４】
上記実施形態においては、光吸収領域３５は円柱状であり、平面視において円形であるが、光吸収領域３５の形状は特に制限はない。図６に示すように平面視において四角形、あるいは図８に示すように平面視において六角形などのように光吸収領域３５は多角柱であってもよく、正多角柱であってもよい。あるいは、図９に示すように樹脂層３８Ａが円柱や多角柱形状であってもよい。また、上述の例においては円柱あるいは多角柱の底面が基材フィルム面に平行に配置されているが、必ずしも底面が基材フィルム面に平行に配置されていなくても構わない。また、光吸収領域３５の形状は不定形であっても構わない。
【００４５】
光吸収領域３５中の光吸収体３１は１種であってもよいし、複数種であってもよい。また、１つの光吸収領域３５中の光吸収体３１は１種として、複数の光吸収領域３５のうち、第１の光吸収体を含む領域と第１の光吸収体とは異なる第２の光吸収体を含む領域とが周期的にあるいは非周期的に配置されていてもよい。光吸収体の種類は３種以上であっても構わない。
【００４６】
＜光吸収体含有フィルム（第二の態様）＞
本発明の第二の態様の光吸収体含有フィルムは、
主面を対面して、離間して配置される、第１の基材フィルム、および、第２の基材フィルムと、
第１の基材フィルムおよび第２の基材フィルムの間に設けられる、第１の光吸収体を含む光吸収領域と、
第１の基材フィルムおよび第２の基材フィルムの間で、光吸収領域を囲んで設けられる、第１の光吸収体とは異なる第２の光吸収体を含む枠体と、を有し、
枠体の酸素透過係数が２０cc/（m2・day・atm）以下である光吸収体含有フィルムである。
【００４７】
本発明の光吸収体含有フィルムは、フィルム周辺部に枠型に樹脂層（以下、枠体という）を配置し、枠体が光吸収領域が含有する第１の光吸収体とは異なる蛍光体（第２の光吸収体）を含有する。この第２の光吸収体は、フィルム面内の色味分布の調整のために用いられる。すなわち、フィルム周辺部の枠体に黄色蛍光体を含有させることにより、バックライト４辺からのブルー光漏れを改善することができる。また、枠体の酸素透過係数が２０cc/（m2・day・atm）以下である。そのため、長時間の光照射による端部の光吸収体の劣化を抑制することができ、経時に伴うバックライト周辺からブルーの光漏れの増大、および、色ムラの発生を抑制することができる。
第２の光吸収体を含む枠体において、バックライトの色ムラを低減するように、枠体の幅、深さ、光吸収体の濃度などを調整すればよい。
【００４８】
ここで、前述のとおり、色ムラは、光吸収体含有フィルム面内の色味を測定した際のＣＩＥ  ｙ値の最大値ｙmax、および最小値ｙminを測定して評価することができる。ｙmaxおよびｙminは、０．００２＜ｙmax−ｙmin＜０．２を満たすのが好ましい。
【００４９】
光吸収領域が含有する第１の光吸収体として量子ドットを使用し、周囲から青光が漏れるバックライトに用いる場合には、光吸収体含有フィルムは中央部の色味が青く、周辺の色味が黄色いことが好ましい。すなわち、フィルム中央部のＣＩＥ  ｙ値をｙ＿CT、周辺部のＣＩＥ  ｙ値をｙ＿edgeとした際、ｙ＿edge＞ｙ＿CTであることが好ましい。
【００５０】
図１０は、本発明に係る光吸収体含有フィルム１の一例を模式的に示す平面図であり、図１１は図１０の断面図である。なお、図１０においては説明のため、第２の基材フィルム２０の図示を省略している。
図１０および図１１に示す光吸収体含有フィルム１は、第１の基材フィルム１０と、第１の基材フィルム１０上において略中央に配置される第１の光吸収体３１を含む領域３５、および、第１の光吸収体３１を含む領域３５を囲むように配置される枠体３８Ｂとを有する光吸収体含有層３０と、光吸収体含有層３０上に配置される第２の基材フィルム２０とを備えている。枠体３８Ｂは、第１の光吸収体３１とは異なる第２の光吸収体３２を含有している。
以下において、第１の光吸収体３１を含む領域３５を光吸収領域３５と称する場合がある。また、枠体３８Ｂを樹脂層３８Ｂと称する場合がある。
【００５１】
また、本発明の光吸収体含有フィルムにおいては、枠体３８Ｂの酸素透過係数が２０cc/（m2・day・atm）以下である。すなわち、枠体３８Ｂはガスバリア性を有する。
【００５２】
ここで、枠体３８Ｂのフレーム部の断面形状には限定はない。例えば、図１２に示すように矩形状であってもよく、図１３に示すように三角形状であってもよく、台形状、あるいは、波形形状等であってもよい。
また、枠体３８Ｂの幅は、強度の点、色ムラを低減する点、第１の光吸収体および第２の光吸収体の劣化を抑制する点等から、０．１ｍｍ〜５ｍｍであるのが好ましく、０．１ｍｍ〜４ｍｍであるのがより好ましく、０．１ｍｍ〜３ｍｍであるのがさらに好ましい。なお、枠体３８Ｂの幅は、枠体３８Ｂの断面における厚み方向の中央点における幅である。例えば、枠体の断面形状が図１３に示すような三角形状の場合には、厚み方向の中央点における幅が枠体の幅である。
また、枠体３８Ｂの高さ（深さ）は、光吸収領域３５の厚さに応じて設定すればよい。後述するとおり、光吸収領域３５の厚さは１〜１５０ｍｍが好ましいため、枠体の高さは、１〜１５０μｍであるのが好ましい。
【００５３】
また、枠体３８Ｂの断面形状において、角部の少なくとも１つが曲面に形成されているのが好ましい。例えば、図１３に示す例のように、三角形の頂点部３８ａおよび裾野部３８ｂが曲面に形成されるのが好ましい。なお、曲面の曲率半径は、枠体３８Ｂの幅および高さ等に応じて設定すればよく、５μｍ〜２００μｍが好ましい。
【００５４】
ここで、本発明の光吸収体含有フィルムにおいては、光吸収体含有フィルムの厚み方向の断面を観察した際に、枠体と光吸収領域とが接触する位置において、光吸収領域の厚みが連続的に変化する領域を有することが好ましい。
図１４に、光吸収体含有フィルムの他の一例における、枠体と光吸収領域との接触位置の断面図を示す。
【００５５】
図１４に示す例では、枠体３８Ｂが三角形状であり、枠体３８Ｂの、光吸収領域３５と接触する面（枠体３８Ｂと光吸収領域３５との界面）は、基材フィルム１０、２０の主面に対して傾斜している。また、枠体３８Ｂの光吸収領域３５と接する面に隣接する角部は、曲面に形成されている。従って、図１４に示すように、枠体３８Ｂと光吸収領域３５とが接触する位置において、光吸収領域３５の厚みは、光吸収体含有フィルムの中心側から端面側に向かって、漸次減少している。
【００５６】
前述のとおり、枠体は、光吸収領域中の第１の光吸収体とは異なる、第２の光吸収体を含有している。すなわち、枠体中の第２の光吸収体は、光吸収領域中の第１の光吸収体とは異なる波長（色）の蛍光を発する。そのため、枠体と光吸収領域とが接触する位置で光吸収領域の厚みが連続的に変化する領域を有さない場合には、すなわち、枠体と光吸収領域との界面が基材フィルム１０、２０の主面に対して垂直な場合には、光吸収体含有フィルムの主面から見た際に、光吸収領域と枠体との境界が視認されやすくなってしまう。
これに対して、枠体と光吸収領域とが接触する位置において、光吸収領域の厚みが連続的に変化する領域を有する構成とすることによって、光吸収領域中の第１の光吸収体による蛍光と、枠体中の第２の光吸収体による蛍光とが混じり、かつ、その割合が連続的に変化するため、光吸収領域と枠体との境界が視認されにくくなる。
【００５７】
また、図１０においては、枠体３８Ｂを光吸収体含有フィルムの主面に垂直な方向から見た際（以下、「平面視」という）の枠体３８Ｂの外形は矩形状としたがこれに限定はされず、枠体の外形の大きさ及び形状は、光吸収体含有フィルムに求められる大きさ及び形状に応じて設定すればよい。
【００５８】
また、図１０においては、光吸収領域３５の平面視の形状は矩形状としたがこれに限定はされず、光吸収領域３５の形状および大きさは、光吸収体含有フィルムに求められる大きさ及び形状に応じて設定すればよい。
【００５９】
ここで、光吸収領域３５の高さ（膜厚）は１μｍ以上で目標色度に到達できるが、膜厚ムラの影響が大きくなるため、一定以上の膜厚を有するのが好ましい。一方、光吸収領域３５の膜厚が大きすぎると、光の吸収量が増大し、初期の輝度が低下する場合がある。これらの観点から、光吸収領域３５の高さは、１〜１５０μｍであり、５〜１２０μｍが好ましく、１０〜１００μｍがより好ましい。
【００６０】
なお、光吸収領域の高さ、および枠体の高さは、光吸収体含有フィルムをミクロトームで切断して断面を形成し、励起光を光吸収体含有層に照射して光吸収体を発光させた状態で、この断面を共焦点レーザー顕微鏡を用いて観察し、１０箇所抽出して深さを測定して平均値として求める。
【００６１】
また、枠体３８Ｂの幅は、励起光を光吸収体含有層に照射して光吸収体含有層中の光吸収体を発光させた状態で、光吸収体含有フィルムの一方の面から、共焦点レーザー顕微鏡を用いて表面を観察し、枠体３８Ｂのフレーム部分を少なくとも２０箇所抽出し、その幅を読み取って、これらの平均値を幅として算出する。
【００６２】
また、光吸収領域３５中の第１の光吸収体３１は１種であってもよいし、複数種であってもよい。同様に、枠体３８Ｂ中の第２の光吸収体３２は、１種であってもよいし、複数種であってもよい。光吸収体の種類は３種以上であっても構わない。
【００６３】
また、前述のとおり、第１の基材フィルム１０および第２の基材フィルム２０は、酸素に対して不透過性を有するものであることが好ましく、図１１に示すように支持フィルム（１１、２１）と酸素に対する不透過性を有するバリア層（１２、２２）との積層構造を有するものであってもよい。
【００６４】
図１０に示す例では、１つの枠体３８Ｂを有する構成としたがこれに限定はされない。
例えば、図１５に示すように、枠体３８Ｂが複数の額縁状であっても構わない。さらに、図１６のように光吸収体含有フィルムの中央部に円柱あるいは多角柱の樹脂層３９を有していてもよい。
【００６５】
図１５に示す例は、大きさの異なる２つの枠体３８Ｂを有し、大きい枠体３８Ｂが小さい枠体３８Ｂを内包するように、多重に設けられている。また、大きい枠体３８Ｂと小さい枠体３８Ｂとの間には、光吸収領域３５が充填されている。このように枠体を多重に設けることで、端部の光吸収体の劣化をより好適に抑制することができる。
なお、図１５に示す例では、大きさの異なる２つの枠体３８Ｂを有する構成としたが、これに限定はされず、大きさの異なる３以上の枠体を多重に設ける構成としてもよい。また、各枠体間には光吸収領域を光吸収領域が設けらているのが好ましい。
【００６６】
ここで、複数の枠体３８Ｂを多重に設ける場合には、各枠体３８Ｂが含む第２の光吸収体３２の種類は同じであっても異なっていてもよい。また、各枠体３８Ｂ中に含まれる第２の光吸収体３２の含有率は同じであっても異なっていてもよい。
【００６７】
ここで、各枠体３８Ｂが含有する第２の光吸収体３２の吸光度および発光量の少なくとも一方が、大きい枠体３８Ｂから小さい枠体３８Ｂに向かって、順次、小さくなることが好ましい。これにより、ブルー光漏れを好適に改善することができる。また、光吸収領域３５と枠体３８Ｂとの境界が視認されにくくなる。
ここで、吸光度、および発光量は以下のようにして測定した。
各枠体を、枠体の最大幅、長さ３０ｍｍとなるように裁断し、分解したKindle Fire HDX 7に組み込んだ。バックライトユニットを点灯させ、導光板の面に対して垂直方向５２０ｍｍの位置に設置した輝度計（商品名「ＳＲ３」、ＴＯＰＣＯＮ社製）を用いて、光の強度（ｃｄ／ｍ2）を波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ（波長１ｎｍ刻み）において測定した。
吸光度を、波長４５０ｎｍにおける、フィルムを組み込んで測定した強度の、フィルムを入れずに測定した強度と定義した。
発光量は、波長５３０ｎｍ〜波長６５０ｎｍにおける、フィルムを組み込んで測定した強度の積分値と定義した。
【００６８】
図１６に示す例は、光吸収体含有フィルムの中央部（枠体３８Ｂの内側の領域）に円柱状の樹脂層３９を複数有する。このように、枠体３８Ｂの内側の領域に円柱状の樹脂層３９を適宜配置する構成とすることで、面内の色味をより好適に調整することができる、光吸収体領域の厚みを均一にできる点で好ましい。
なお、樹脂層３９の形成材料は、枠体３８Ｂの形成材料と同様の材料とすればよく、樹脂層３９は第２の光吸収体を含有していてもよい。
【００６９】
図１６に示す例においては、樹脂層３９は円柱状としたが、樹脂層３９は多角柱形状であってもよいし、不定形であってもよい。また、円柱あるいは多角柱の底面が基材フィルム面に平行に配置されていてもよいが、必ずしも底面が基材フィルム面に平行に配置されていなくても構わない。
【００７０】
量子ドットなどの光吸収体を含有する光吸収体含有フィルムを高い生産効率で製造するためには、ロール・トゥ・ロール方式により長尺なフィルム上に塗布工程や硬化工程を順次施して、積層構造を形成した後に、所望のサイズに裁断する方法が好ましい。光吸収体含有フィルムの製造方法については後に詳述する。
【００７１】
以下に、本発明の光吸収体含有フィルムの各構成要素について説明する。
【００７２】
光吸収体含有フィルム１は、光吸収体含有層３０の一方の面に第１の基材フィルム１０を積層し、光吸収体含有層３０の他方の面に第２の基材フィルム２０を積層し構成を有するものである。
言い換えれば、光吸収体含有フィルム１は、第１の基材フィルム１０の一方のフィルム面に光吸収体含有層３０が積層され、さらに、光吸収体含有層３０の上に第２の基材フィルム２０が積層されて、光吸収体含有層３０が２枚の基材フィルム１０、２０で挟持された構成である。
【００７３】
−光吸収体含有層−
第一の態様において、光吸収体含有層３０は、複数の光吸収体３１を含む光吸収領域３５と、樹脂層３８Ａとを備える。
第二の態様において、光吸収体含有層３０は、複数の第１の光吸収体３１を含む光吸収領域３５と、複数の第２の光吸収体３２を含む枠体３８Ｂ（樹脂層３８Ｂ）とを備える。
第一の態様の光吸収領域３５と第二の態様の光吸収領域３５とは、基本的に同様のものである。また、第一の態様の光吸収体３１と第二の態様の第１の光吸収体３１とは、基本的に同様のものである。従って、以下の説明において、光吸収領域３５および光吸収体３１（第１の光吸収体３１）についてはまとめて説明を行う。
【００７４】
＜＜光吸収体を含む領域（光吸収領域）＞＞
光吸収領域３５は、光吸収体３１と光吸収体３１が分散されてなるバインダ３３とから構成されるものである。光吸収領域３５は、光吸収体３１およびバインダ３３となる硬化性組成物を含む光吸収領域形成用塗布液を塗布、硬化して形成される。
【００７５】
＜光吸収体＞
本発明の光吸収領域は光吸収体として、少なくとも１種の蛍光体を含有する。蛍光体としては、公知の各種蛍光体を用いることができる。例えば、希土類ドーピングガーネット、ケイ酸塩、アルミン酸塩、リン酸塩、セラミックス蛍光体、硫化物蛍光体、窒化物蛍光体等の無機蛍光体、および、有機蛍光染料および有機蛍光顔料を始めとする有機蛍光物質などである。また、半導体微粒子に希土類をドープした蛍光体、および、半導体のナノ微粒子（量子ドット、量子ロッド）も好適に用いられる。光吸収体は１種単独で用いることもできるが、所望のスペクトルが得られるように、異なる波長のものを複数混ぜて使用してもよいし、異なる素材構成の蛍光体同士の組み合わせ（例えば、希土類ドーピングガーネットと量子ドットとの組み合わせ）として用いてもよい。
【００７６】
（色素）
光吸収体としては、色素も用いることができる。色素としては、ベンゾトリアゾール（benzotriazole）、トリアジン（triazine）、ピロールメチン（pyrrole methine、ＰＭ）、ローダミン（rhodamine、ＲＨ）、およびボロンジピロメテン（boron dipyrromethene、ＢＯＤＩＰＹ）系の吸収染料があげられる。
【００７７】
（量子ドット）
量子ドットは、数ｎｍ〜数十ｎｍの大きさをもつ化合物半導体の微粒子であり、少なくとも、入射する励起光により励起され蛍光を発光する。
【００７８】
蛍光体（光吸収体）としては、少なくとも一種の量子ドットを含み、発光特性の異なる二種以上の量子ドットを含むこともできる。公知の量子ドットには、６００〜６８０ｎｍの範囲の波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ａ）、５００ｎｍ以上６００ｎｍ未満の範囲の波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ｂ）、４００ｎｍ以上５００ｎｍ未満の波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ｃ）があり、量子ドット（Ａ）は、励起光により励起され赤色光を発光し、量子ドット（Ｂ）は緑色光を、量子ドット（Ｃ）は青色光を発光する。例えば、量子ドット（Ａ）と量子ドット（Ｂ）を含む光吸収体含有層へ励起光として青色光を入射させると、量子ドット（Ａ）により発光される赤色光、量子ドット（Ｂ）により発光される緑色光と、光吸収体含有層を透過した青色光により、白色光を具現化することができる。または、量子ドット（Ａ）、（Ｂ）、および（Ｃ）を含む光吸収体含有層に励起光として紫外光を入射させることにより、量子ドット（Ａ）により発光される赤色光、量子ドット（Ｂ）により発光される緑色光、および量子ドット（Ｃ）により発光される青色光により、白色光を具現化することができる。
【００７９】
量子ドットについては、例えば特開２０１２−１６９２７１号公報の段落００６０〜００６６を参照することができるが、ここに記載のものに限定されるものではない。量子ドットとしては、市販品を何ら制限なく用いることができる。量子ドットの発光波長は、通常、粒子の組成、サイズにより調整することができる。
【００８０】
量子ドットは、塗布液の全量１００質量部に対して、例えば０．１〜１０質量部程度添加することができる。
なお、第一の態様において、前述のように、周辺部と中央部とで、光吸収領域３５における光吸収体３１の濃度を調節する場合には、周辺部と中央部とで、この塗布液における量子ドットの濃度を変更すればよい。
【００８１】
量子ドットは、塗布液中に粒子の状態で添加してもよく、有機溶媒に分散した分散液の状態で添加してもよい。分散液の状態で添加することが、量子ドットの粒子の凝集を抑制する観点から好ましい。量子ドットの分散のために使用される有機溶媒は、特に限定されるものではない。
【００８２】
量子ドットとしては、例えば、コアーシェル型の半導体ナノ粒子が、耐久性を向上する観点から好ましい。コアとしては、II−VI族半導体ナノ粒子、III−Ｖ族半導体ナノ粒子、および多元系半導体ナノ粒子等を用いることができる。具体的には、ＣｄＳｅ、ＣｄＴｅ、ＣｄＳ、ＺｎＳ、ＺｎＳｅ、ＺｎＴｅ、ＩｎＰ、ＩｎＡｓ、ＩｎＧａＰ等が挙げられるが、これらに限定されない。中でも、ＣｄＳｅ、ＣｄＴｅ、ＩｎＰ、ＩｎＧａＰが、高効率で可視光を発光する観点から、好ましい。シェルとしては、ＣｄＳ、ＺｎＳ、ＺｎＯ、ＧａＡｓ、およびこれらの複合体を用いることができるが、これらに限定されない。量子ドットの発光波長は、通常、粒子の組成およびサイズにより調整することができる。
【００８３】
量子ドットは、球形の粒子であってもよく、また、量子ロッドとも呼ばれる、棒状の粒子であってもよく、さらに、テトラポッド型の粒子であってもよい。発光半値幅（ＦＷＨＭ（full width at half maximum））を狭くし、液晶表示装置の色再現域を拡大する観点からは、球形の量子ドット、または棒状の量子ドット（すなわち、量子ロッド）が好ましい。
【００８４】
量子ドットの表面には、ルイス塩基性の配位性基を有する配位子が配位していても良い。また、すでにこのような配位子が配位した量子ドットを用いることも可能である。ルイス塩基性の配位性基としては、アミノ基、カルボキシ基、メルカプト基、ホスフィン基、およびホスフィンオキシド基、等を挙げることができる。具体的には、ヘキシルアミン、デシルアミン、ヘキサデシルアミン、オクタデシルアミン、オレイルアミン、ミリスチルアミン、ラウリルアミン、オレイン酸、メルカプトプロピオン酸、トリオクチルホスフィン、およびトリオクチルホスフィンオキシド等を上げることができる。なかでも、ヘキサデシルアミン、トリオクチルホスフィン、およびトリオクチルホスフィンオキシドが好ましく、トリオクチルホスフィンオキシドが特に好ましい。
【００８５】
これらの配位子が配位した量子ドットは、公知の合成方法によって作製することができる。例えば、C.B.Murray,D.J.Norris、M.G.Bawendi,Journal Amarican Chemical Society,1993,115(19),pp8706-8715、または、The Journal Physical Chemistry,101,pp9463-9475,1997に記載された方法によって合成することができる。また、配位子が配位した量子ドットは、市販のものを何ら制限無く用いることができる。例えば、Ｌｕｍｉｄｏｔ（シグマアルドリッチ社製）を挙げることができる。
【００８６】
本発明において、配位子が配位した量子ドットの含有量は、光吸収領域となる量子ドット含有組成物に含まれる重合性化合物の全質量に対し０．０１〜１０質量％が好ましく、０．０５〜５質量％がより好ましい。光吸収体含有フィルムの厚さにより、濃度を調整することが望ましい。
【００８７】
また、量子ドットは、上記量子ドット含有組成物に粒子の状態で添加してもよく、溶媒に分散した分散液の状態で添加してもよい。分散液の状態で添加することが量子ドットの粒子の凝集を抑制する観点から好ましい。ここで使用される溶媒は、特に限定されるものではない。
【００８８】
（配位子の合成方法）
量子ドット含有組成物における配位子は、公知の合成法によって合成できる。例えば、特開２００７−２７７５１４号公報に記載の方法によって合成できる。
【００８９】
＜光吸収領域のバインダを形成する硬化性組成物＞
本発明においては、光吸収領域のバインダを形成する硬化性組成物は、高分子分散剤を含む。また、重合性化合物を含むのが好ましい。
【００９０】
（重合性化合物）
重合性化合物は、アクリル化合物であることが好ましい。単官能または多官能（メタ）アクリレートモノマーが好ましく、重合性を有していれば、モノマーのプレポリマーやポリマーであってもよい。なお、本明細書において、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレートおよびメタクリレートの一方、または両方を意味する。『（メタ）アクリロイル』等も同様である。
【００９１】
−−単官能のもの−−
単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、アクリル酸およびメタクリル酸、それらの誘導体、より詳しくは、（メタ）アクリル酸の重合性不飽和結合（（メタ）アクリロイル基）を分子内に１個有するモノマーを挙げることができる。それらの具体例として以下に化合物を挙げるが、本実施形態はこれに限定されるものではない。
【００９２】
メチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート等のアルキル基の炭素数が１〜３０であるアルキル（メタ）アクリレート；ベンジル（メタ）アクリレート等のアラルキル基の炭素数が７〜２０であるアラルキル（メタ）アクリレート；ブトキシエチル（メタ）アクリレート等のアルコキシアルキル基の炭素数が２〜３０であるアルコキシアルキル（メタ）アクリレート；Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート等の（モノアルキルまたはジアルキル）アミノアルキル基の総炭素数が１〜２０であるアミノアルキル（メタ）アクリレート；ジエチレングリコールエチルエーテルの（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールブチルエーテルの（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノメチルエーテルの（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノメチルエーテルの（メタ）アクリレート、オクタエチレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ノナエチレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ヘプタプロピレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールのモノエチルエーテル（メタ）アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が１〜１０で末端アルキルエーテルの炭素数が１〜１０のポリアルキレングリコールアルキルエーテルの（メタ）アクリレート；ヘキサエチレングリコールフェニルエーテルの（メタ）アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が１〜３０で末端アリールエーテルの炭素数が６〜２０のポリアルキレングリコールアリールエーテルの（メタ）アクリレート；シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、メチレンオキシド付加シクロデカトリエン（メタ）アクリレート等の脂環構造を有する総炭素数４〜３０の（メタ）アクリレート；ヘプタデカフロロデシル（メタ）アクリレート等の総炭素数４〜３０のフッ素化アルキル（メタ）アクリレート；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールのモノ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、オクタプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、グリセロールのモノまたはジ（メタ）アクリレート等の水酸基を有する（メタ）アクリレート；グリシジル（メタ）アクリレート等のグリシジル基を有する（メタ）アクリレート；テトラエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、オクタプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が１〜３０のポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート；(メタ)アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル(メタ)ア��リルアミド、N−イソプロピル(メタ)アクリルアミド、２−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、アクリロイルモルホリン等の(メタ)アクリルアミドなどが挙げられる。
【００９３】
単官能（メタ）アクリレートモノマーの使用量は、塗布液に含まれる硬化性化合物の全量１００質量部に対して、塗布液の粘度を好ましい範囲に調整する観点からは、１０質量部以上とするのが好ましく、１０〜８０質量部とするのがより好ましい。
【００９４】
−−２官能のもの−−
重合性基を２つ有する重合性単量体として、エチレン性不飽和結合含有基を２個有する２官能重合性不飽和単量体を挙げることができる。２官能の重合性不飽和単量体は組成物を低粘度にするのに適している。本実施形態では、反応性に優れ、残存触媒などの問題の無い（メタ）アクリレート系化合物が好ましい。
【００９５】
特に、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート等が本発明に好適に用いられる。
【００９６】
２官能（メタ）アクリレートモノマーの使用量は、塗布液に含まれる硬化性化合物の全量１００質量部に対して、塗布液の粘度を好ましい範囲に調整する観点からは、５質量部以上とするのが好ましく、１０〜８０質量部とするのがより好ましい。
【００９７】
−−３官能以上のもの−−
重合性基を３つ以上有する重合性単量体として、エチレン性不飽和結合含有基を３個以上有する多官能重合性不飽和単量体を挙げることができる。これら多官能の重合性不飽和単量体は機械的強度付与の点で優れる。本実施形態では、反応性に優れ、残存触媒などの問題の無い（メタ）アクリレート系化合物が好ましい。
【００９８】
具体的には、ＥＣＨ（Epichlorohydrin）変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ＥＯ（ethylene oxide）変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ＰＯ（Propylene Oxide）変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ＥＯ変性リン酸トリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等が好適である。
【００９９】
これらの中で特に、ＥＯ変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレートが本発明に好適に用いられる。
【０１００】
多官能（メタ）アクリレートモノマーの使用量は、塗布液に含まれる硬化性化合物の全量１００質量部に対して、硬化後の蛍光含有層の塗膜強度の観点からは、５質量部以上とするのが好ましく、塗布液のゲル化抑制の観点からは、９５質量部以下とするのが好ましい。
【０１０１】
また、光吸収領域（バインダ）の耐熱性をより向上させる観点から、（メタ）アクリレートモノマーは脂環式アクリレートであることが好ましい。そのような単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、たとえばジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレ−トが挙げられる。また、２官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、たとえばトリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレートが挙げられる。
【０１０２】
また、バインダを形成する硬化性組成物中の重合性化合物の総量は、組成物の取扱いおよび硬化性の観点から硬化性組成物１００質量部に対して、７０〜９９質量部が好ましく、８５〜９７質量部がより好ましい。
【０１０３】
−エポキシ系化合物他−
重合性単量体として、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合可能な環状エーテル基等の環状基を有する化合物を挙げることができる。そのような化合物としてより好ましくは、エポキシ基を有する化合物（エポキシ化合物）を有する化合物を挙げることができる。エポキシ基やオキセタニル基を有する化合物を、（メタ）アクリレート系化合物と組み合わせて使用することにより、バリア層との密着性が向上する傾向にある。
【０１０４】
エポキシ基を有する化合物としては、例えば、多塩基酸のポリグリシジルエステル類、多価アルコールのポリグリシジルエーテル類、ポリオキシアルキレングリコールのポリグリシジルエーテル類、芳香族ポリオールのポリグリシジルエテーテル類、芳香族ポリオールのポリグリシジルエーテル類の水素添加化合物類、ウレタンポリエポキシ化合物およびエポキシ化ポリブタジエン類等を挙げることができる。これらの化合物は、その一種を単独で使用することもできるし、また、その二種以上を混合して使用することもできる。
【０１０５】
その他に好ましく使用することのできるエポキシ基を有する化合物としては、例えば、脂肪族環状エポキシ化合物、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、１,４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１,６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル類；エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリンなどの脂肪族多価アルコールに１種または２種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル類；脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル類；脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテル類；フェノール、クレゾール、ブチルフェノールまたはこれらにアルキレンオキサイドを付加して得られるポリエーテルアルコールのモノグリシジルエーテル類；高級脂肪酸のグリシジルエステル類などを例示することができる。
【０１０６】
これらの成分の中、脂肪族環状エポキシ化合物、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、１,４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１,６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテルが好ましい。
【０１０７】
エポキシ基やオキセタニル基を有する化合物として好適に使用できる市販品としては、ＵＶＲ−６２１６（ユニオンカーバイド社製）、グリシドール、ＡＯＥＸ２４、サイクロマーＡ２００、セロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド８０００（以上、ダイセル化学工業社製）、シグマアルドリッチ社製の４−ビニルシクロヘキセンジオキシド、エピコート８２８、エピコート８１２、エピコート１０３１、エピコート８７２、エピコートＣＴ５０８（以上、油化シェル社製）、ＫＲＭ−２４００、ＫＲＭ−２４１０、ＫＲＭ−２４０８、ＫＲＭ−２４９０、ＫＲＭ−２７２０、ＫＲＭ−２７５０（以上、旭電化工業社製）などを挙げることができる。これらは、１種単独で、または２種以上組み合わせて用いることができる。
【０１０８】
また、これらのエポキシ基やオキセタニル基を有する化合物はその製法は問わないが、例えば、丸善ＫＫ出版、第四版実験化学講座２０有機合成ＩＩ、２１３〜、平成４年、Ed.by Alfred Hasfner,The chemistry OF heterocyclic compounds-Small Ring Heterocycles part3 Oxiranes,John & Wiley and Sons, An Interscience Publication, New York,1985、吉村、接着、２９巻１２号、３２、１９８５、吉村、接着、３０巻５号、４２、１９８６、吉村、接着、３０巻７号、４２、１９８６、特開平１１−１００３７８号公報、特許第２９０６２４５号公報、特許第２９２６２６２号公報などの文献を参考にして合成できる。
【０１０９】
硬化性化合物として、ビニルエーテル化合物を用いてもよい。
ビニルエーテル化合物は公知のものを適宜選択することができ、例えば、特開２００９−７３０７８号公報の段落番号００５７に記載のものを好ましく採用することができる。
【０１１０】
これらのビニルエーテル化合物は、例えば、Stephen.C.Lapin,Polymers Paint Colour Journal.179(4237)、321(1988)に記載されている方法、即ち多価アルコールもしくは多価フェノールとアセチレンとの反応、または多価アルコールもしくは多価フェノールとハロゲン化アルキルビニルエーテルとの反応により合成することができ、これらは１種単独あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１１１】
塗布液には、低粘度化、高硬度化の観点から特開２００９−７３０７８号公報に記載の反応性基を有するシルセスキオキサン化合物を用いることも可能である。
【０１１２】
＜重合開始剤＞
上記塗布液は、重合開始剤としては、公知の重合開始剤を含むことができる。重合開始剤については、例えば、特開２０１３−０４３３８２号公報の段落００３７を参照できる。重合開始剤は、塗布液に含まれる硬化性化合物の全量の０．１モル％以上が好ましく、０．５〜２モル％がより好ましい。また、揮発性有機溶媒を除いた全硬化性組成物中に質量％として、０．１〜１０質量％含むのが好ましく、さらに好ましくは０．２〜８質量％である。
【０１１３】
―光重合開始剤―
硬化性化合物は、光重合開始剤を含むことが好ましい。光重合開始剤としては、光照射により上述の重合性化合物を重合する活性種を発生する化合物であればいずれのものでも用いることができる。光重合開始剤としては、カチオン重合開始剤、ラジカル重合開始剤が挙げられ、ラジカル重合開始剤が好ましい。また、本発明において、光重合開始剤は複数種を併用してもよい。
【０１１４】
光重合開始剤の含有量は、溶剤を除く全組成物中、例えば、０．０１〜１５質量％であり、好ましくは０．１〜１２質量％であり、さらに好ましくは０．２〜７質量％である。２種類以上の光重合開始剤を用いる場合は、その合計量が上記範囲となる。
光重合開始剤の含有量が０．０１質量％以上であると、感度(速硬化性)、塗膜強度が向上する傾向にあり好ましい。一方、光重合開始剤の含有量を１５質量％以下とすると、光透過性、着色性、取り扱い性などが向上する傾向にあり、好ましい。染料および／または顔料を含む系では、これらがラジカルトラップ剤として働くことがあり、光重合性、感度に影響を及ぼす。その点を考慮して、これらの用途では、光重合開始剤の添加量が最適化される。一方で、本発明に用いられる組成物では、染料および／または顔料は必須成分でなく、光重合開始剤の最適範囲が液晶ディスプレイカラーフィルタ用硬化性組成物等の分野のものとは異なる場合がある。
【０１１５】
ラジカル光重合開始剤としては、例えば、市販されている開始剤を用いることができる。これらの例としては、例えば、特開平２００８−１０５４１４号公報の段落番号００９１に記載のものを好ましく採用することができる。この中でもアセトフェノン系化合物、アシルホスフィンオキサイド系化合物、オキシムエステル系化合物が硬化感度、吸収特性の観点から好ましい。
【０１１６】
アセトフェノン系化合物として好ましくはヒドロキシアセトフェノン系化合物、ジアルコキシアセトフェノン系化合物、アミノアセトフェノン系化合物が挙げられる。ヒドロキシアセトフェノン系化合物として好ましくはＢＡＳＦ社から入手可能なＩｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）２９５９(1−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）１８４（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）５００（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾフェノン）、Ｄａｒｏｃｕｒ（登録商標）１１７３（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−１−プロパン−１−オン）が挙げられる。ジアルコキシアセトフェノン系化合物として好ましくはＢＡＳＦ社から入手可能なＩｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）６５１（２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン）が挙げられる。
【０１１７】
アミノアセトフェノン系化合物として好ましくはＢＡＳＦ社から入手可能なＩｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）３６９（２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）３７９（ＥＧ）（２−ジメチルアミノー２ー（４メチルベンジル）−１−（４−モルフォリン−４−イルフェニル）ブタン−１−オン、Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）９０７（２−メチル−１［４−メチルチオフェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オンが挙げられる。
【０１１８】
アシルホスフィンオキサイド系化合物として好ましくはＢＡＳＦ社から入手可能なＩｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）８１９（ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）１８００（ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、ＢＡＳＦ社から入手可能なＬｕｃｉｒｉｎＴＰＯ（２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド）、ＬｕｃｉｒｉｎＴＰＯ−Ｌ（２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルエトキシホスフィンオキサイド）が挙げられる。
【０１１９】
オキシムエステル系化合物として好ましくはＢＡＳＦ社から入手可能なＩｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）ＯＸＥ０１（１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）ＯＸＥ０２（エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）が挙げられる。
【０１２０】
カチオン光重合開始剤としては、スルホニウム塩化合物、ヨードニウム塩化合物、オキシムスルホネート化合物などが好ましく、４−メチルフェニル［４−（１−メチルエチル）フェニルヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（ローデア社製ＰＩ２０７４）、４−メチルフェニル［４−（２−メチルプロピル）フェニルヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート（ＢＡＳＦ社製ＩＲＧＡＣＵＲＥ２５０）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＰＡＧ１０３、１０８、１２１、２０３（ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。
【０１２１】
光重合開始剤は、使用する光源の波長に対して適時に選択する必要があるが、モールド加圧・露光中にガスを発生させないものが好ましい。ガスが発生すると、モールドが汚染されるため、頻繁にモールドを洗浄しなければならなくなったり、光硬化性組成物がモールド内で変形し、転写パターン精度を劣化させるなどの問題を生じたりする。
【０１２２】
（ポリマー）
バインダを形成する硬化性組成物は、ポリマーを含んでもよい。ポリマーとしては、例えば、ポリ（メタ）アクリレート、ポリ（メタ）アクリルアミド、ポリエステル、ポリウレタン、ポリウレア、ポリアミド、ポリエーテル、およびポリスチレンを挙げることができる。
【０１２３】
（その他の添加剤）
光吸収領域形成用塗布液は、粘度調整剤、シランカップリング剤、界面活性剤、酸化防止剤、酸素ゲッター剤、重合禁止剤、無機粒子等を含有してもよい。
【０１２４】
−粘度調整剤−
光吸収領域形成用塗布液は、必要に応じて粘度調整剤を含んでもよい。粘度調整剤を添加することによって、それらを所望の粘度に調整することが可能である。粘度調整剤は、粒径が５ｎｍ〜３００ｎｍであるフィラーであることが好ましい。また、粘度調整剤はチキソトロピー剤であってもよい。なお、本発明および本明細書中、チキソトロピー性とは、液状組成物において、せん断速度の増加に対して粘性を減じる性質を指し、チキソトロピー剤とは、それを液状組成物に含ませることによって、組成物にチキソトロピー性を付与する機能を有する素材のことを指す。チキソトロピー剤の具体例としては、ヒュームドシリカ、アルミナ、窒化珪素、二酸化チタン、炭酸カルシウム、酸化亜鉛、タルク、雲母、長石、カオリナイト（カオリンクレー）、パイロフィライト（ろう石クレー）、セリサイト（絹雲母）、ベントナイト、スメクタイト・バーミキュライト類（モンモリロナイト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイトなど）、有機ベントナイト、有機スメクタイト等が挙げられる。
【０１２５】
＜シランカップリング剤＞
シランカップリング剤を含む塗布液から形成される光吸収体含有層（光吸収領域および樹脂層（枠体））は、シランカップリング剤により隣接する層との密着性が強固なものとなるため、優れた耐久性を示すことができる。また、シランカップリング剤を含む塗布液から形成される光吸収体含有層は、密着力条件の「支持フィルムとバリア層の密着力Ａ＜光吸収体含有層とバリア層との密着力Ｂ」の関係を形成する上でも好ましい。これは主に、光吸収体含有層に含まれるシランカップリング剤が、加水分解反応や縮合反応により、隣接する層の表面やこの光吸収体含有層の構成成分と共有結合を形成することによるものである。また、シランカップリング剤がラジカル重合性基等の反応性官能基を有する場合、光吸収体含有層を構成するモノマー成分と架橋構造を形成することも、光吸収体含有層と隣接する層との密着性向上に寄与し得る。
【０１２６】
シランカップリング剤としては、公知のシランカップリング剤を、何ら制限なく使用することができる。密着性の観点から好ましいシランカップリング剤としては、特開２０１３−４３３８２号公報に記載の下記一般式（１）で表されるシランカップリング剤を挙げることができる。
【化１】
0006715946.tif 000002
（一般式（１）中、Ｒ1〜Ｒ6は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換のアルキル基またはアリール基である。但し、Ｒ1〜Ｒ6のうち少なくとも１つは、ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基である。）
【０１２７】
Ｒ1〜Ｒ6は、ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基である場合を除き、無置換のアルキル基または無置換のアリール基が好ましい。アルキル基としては炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。アリール基としては、フェニル基が好ましい。Ｒ1〜Ｒ6は、メチル基が特に好ましい。
【０１２８】
Ｒ1〜Ｒ6のうち少なくとも１つは、ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基を有し、Ｒ1〜Ｒ6の２つがラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基であることが好ましい。さらに、Ｒ1〜Ｒ3の中で、ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基を有するものの数が１であって、Ｒ4〜Ｒ6のなかでラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基を有するものの数が１であることが特に好ましい。
一般式（１）で表されるシランカップリング剤が２つ以上のラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基は、それぞれの置換基は同じであってもよいし、異なっていてもよく、同じであることが好ましい。
【０１２９】
ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基は、−Ｘ−Ｙで表されることが好ましい。ここで、Ｘは、単結合、炭素数１〜６のアルキレン基、アリーレン基であり、好ましくは、単結合、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、フェニレン基である。Ｙは、ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合基であり、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、アクリロイルアミノ基、メタクリロイルアミノ基、ビニル基、プロペニル基、ビニルオキシ基、ビニルスルホニル基が好ましく、（メタ）アクリロイルオキシ基がより好ましい。
【０１３０】
また、Ｒ1〜Ｒ6はラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基以外の置換基を有してもよい。置換基の例としては、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）、ハロゲン原子（例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、アシル基（例えば、アセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェニルオキシカルボニル基等）、スルホニル基（例えば、メタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基等）、等が挙げられる。
【０１３１】
シランカップリング剤は、隣接層との密着性をより一層向上する観点からは、塗布液中に、１〜３０質量％の範囲で含まれることが好ましく、より好ましくは３〜３０質量％であり、さらに好ましくは５〜２５質量％である。
【０１３２】
−界面活性剤−
光吸収領域形成用塗布液は、フッ素原子を２０質量％以上含有する少なくとも１種の界面活性剤を含んでいても良い。
【０１３３】
界面活性剤は、フッ素原子を２５質量％以上含有するのが好ましく、２８質量％以上含有するのがより好ましい。上限値としては、特に定めるものではないが、例えば８０質量％以下であり、好ましくは７０質量％以下である。
【０１３４】
本発明で用いる界面活性剤としては、フッ素原子を有するアルキル基、フッ素原子を有するシクロアルキル基またはフッ素原子を有するアリール基を有する化合物であることが好ましい。
【０１３５】
フッ素原子を含んだアルキル基は、少なくとも１つの水素原子がフッ素原子で置換された直鎖または分岐鎖アルキル基である。このアルキル基は、炭素数が１〜１０であることが好ましく、炭素数が１〜４であることがより好ましい。このフッ素原子を含んだアルキル基は、フッ素原子以外の置換基を更に有していてもよい。
【０１３６】
フッ素原子を含んだシクロアルキル基は、少なくとも１つの水素原子がフッ素原子で置換された単環式または多環式のシクロアルキル基である。このフッ素原子を含んだシクロアルキル基は、フッ素原子以外の置換基を更に有していてもよい。
【０１３７】
フッ素原子を含んだアリール基は、少なくとも１つの水素原子がフッ素原子で置換されたアリール基である。このアリール基としては、例えば、フェニル基およびナフチル基が挙げられる。このフッ素原子を含んだアリール基は、フッ素原子以外の置換基を更に有していてもよい。
このような構造を有することによって表面偏在能が良好となり、また重合体との部分的な相溶が生じて相分離が抑制されると考えられる。
【０１３８】
界面活性剤の分子量は、３００〜１００００が好ましく、５００〜５０００がより好ましい。
【０１３９】
界面活性剤の含有量は、溶剤を除く全組成物中、例えば、０．０１〜１０質量％であり、好ましくは０．１〜７質量％であり、さらに好ましくは０．５〜４質量％である。２種類以上の界面活性剤を用いる場合は、その合計量が上記範囲となる。
【０１４０】
界面活性剤の例としては、商品名フロラードＦＣ−４３０、ＦＣ−４３１（住友スリーエム社製）、商品名サーフロン「Ｓ−３８２」（旭硝子社製）、ＥＦＴＯＰ「ＥＦ−１２２Ａ、１２２Ｂ、１２２Ｃ、ＥＦ−１２１、ＥＦ−１２６、ＥＦ−１２７、ＭＦ−１００」(トーケムプロダクツ社製)、商品名ＰＦ−６３６、ＰＦ−６３２０、ＰＦ−６５６、ＰＦ−６５２０(いずれもＯＭＮＯＶＡ社社)、商品名フタージェントＦＴ２５０、ＦＴ２５１、ＤＦＸ１８(いずれもネオス社製)、商品名ユニダインＤＳ−４０１、ＤＳ−４０３、ＤＳ−４５１(いずれもダイキン工業社製)、商品名メガファック１７１、１７２、１７３、１７８Ｋ、１７８Ａ、（いずれもＤＩＣ社製）、商品名Ｘ−７０−０９０、Ｘ−７０−０９１、Ｘ−７０−０９２、Ｘ−７０−０９３、（いずれも信越化学工業社製）、商品名メガファックＲ−０８、ＸＲＢ−４（いずれもＤＩＣ社製）が挙げられる。
【０１４１】
（その他成分）
硬化性化合物は、上述の成分の他に種々の目的に応じて、本発明の効果を損なわない範囲で、酸化防止剤等その他の成分を含んでいてもよい。
【０１４２】
−酸化防止剤−
硬化性化合物には、公知の酸化防止剤を含有することが好ましい。酸化防止剤は、熱や光照射による退色およびオゾン、活性酸素、ＮＯx、ＳＯx（Ｘは整数）などの各種の酸化性ガスによる退色を抑制するものである。特に本発明では、酸化防止剤を添加することにより、硬化膜の着色防止や、分解による膜厚減少を低減できるという利点がある。
また、酸化防止剤として２種類以上の酸化防止剤を用いてもよい。
【０１４３】
硬化性化合物において、酸化防止剤は、硬化性化合物の全質量に対し、０．２質量％以上が好ましく、１質量％以上がより好ましく、２質量％以上がさらに好ましい。一方、酸化防止剤は酸素との間での相互作用により変質することがある。変質した酸化防止剤は量子ドット含有重合性組成物の分解を誘引することがあり、密着性低下、脆性悪化、量子ドット発光効率低下をもたらす。これらを防止する観点から、酸化防止剤は、硬化性化合物の全質量に対し、２０質量％以下が好ましく、１５質量％以下がより好ましく、１０質量％以下がさらに好ましい。
【０１４４】
酸化防止剤としては、ラジカル阻害剤、金属不活性化剤、一重項酸素消去剤、スーパーオキシド消去剤、またはヒドロキシラジカル消去剤のうち少なくとも1種であることが好ましい。かかる酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、ヒンダードアミン系酸化防止剤、キノン系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤等が例示される。
【０１４５】
フェノール系酸化防止剤としては、例えば、２，６−ジ第三ブチル−ｐ−クレゾール、２，６−ジフェニル−４−オクタデシロキシフェノール、ジステアリル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ホスホネート、１，６−ヘキサメチレンビス［（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸アミド］、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−ｍ−クレゾール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−第三ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−第三ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（６−第三ブチル−ｍ−クレゾール）、２，２’−エチリデンビス（４，６―ジ第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（４−第二ブチル−６−第三ブチルフェノール）、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリス（２，６−ジメチル−３−ヒドロキシ−４−第三ブチルベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、２−第三ブチル−４−メチル−６−（２−アクリロイルオキシ−３−第三ブチル−５−メチルベンジル）フェノール、ステアリル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、テトラキス［３−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸メチル］メタン（（アデカスタブＡＯ−６０、ＡＤＥＫＡ社製））、チオジエチレングリコールビス［（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，６−ヘキサメチレンビス［（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ビス［３，３−ビス（４−ヒドロキシ−３−第三ブチルフェニル）ブチリックアシッド］グリコールエステル、ビス［２−第三ブチル−４−メチル−６−（２−ヒドロキシ−３−第三ブチル−５−メチルベンジル）フェニル］テレフタレート、１，３，５−トリス［（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシエチル］イソシアヌレート、３，９−ビス［１，１−ジメチル−２−｛（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝エチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン、トリエチレングリコールビス［（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート］等が挙げられる。
【０１４６】
リン系酸化防止剤としては、例えば、トリスノニルフェニルホスファイト、トリス［２−第三ブチル−４−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニルチオ）−５−メチルフェニル］ホスファイト、トリデシルホスファイト、オクチルジフェニルホスファイト、ジ（デシル）モノフェニルホスファイト、ジ（トリデシル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジ（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４，６−トリ第三ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジクミルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、テトラ（トリデシル）イソプロピリデンジフェノールジホスファイト、テトラ（トリデシル）−４，４’−ｎ−ブチリデンビス（２−第三ブチル−５−メチルフェノール）ジホスファイト、ヘキサ（トリデシル）−１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタントリホスファイト、テトラキス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ビフェニレンジホスホナイト、９，１０−ジハイドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナンスレン−１０−オキサイド、２，２’−メチレンビス（４，６−第三ブチルフェニル）−２−エチルヘキシルホスファイト、２，２’−メチレンビス（４，６−第三ブチルフェニル）−オクタデシルホスファイト、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ第三ブチルフェニル）フルオロホスファイト；トリス（２−［（２，４，８，１０−テトラキス第三ブチルジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン−６−イル）オキシ］エチル）アミン、２−エチル−２−ブチルプロピレングリコールおよび２，４，６−トリ第三ブチルフェノールのホスファイト等が挙げられる。これらのリン系酸化防止剤の添加量は、ポリオレフィン系樹脂１００質量部に対して０．００１〜１０質量部であるのが好ましく、０．０５〜５質量部であるのがより好ましい。
【０１４７】
チオール系酸化防止剤としては、例えば、チオジプロピオン酸ジラウリル、チオジプロピオン酸ジミリスチル、チオジプロピオン酸ジステアリル等のジアルキルチオジプロピオネート類；およびペンタエリスリトールテトラ（β−アルキルメルカプトプロピオン酸）エステル類等が挙げられる。
【０１４８】
ヒンダードアミン系酸化防止剤は、ＨＡＬＳ（Hidered amine lightstabilizers）とも称され、ピペリジンの２位および６位の炭素上の全ての水素原子がメチル基で置換された構造、好ましくは下記式１で表わされる基を有する。ただし、式１中Ｘは水素原子またはアルキル基を表す。下記式１で表わされる基のなかでも、Ｘが水素原子である２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル基、またはＸがメチル基である１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル基を有するＨＡＬＳが特に好ましく採用される。なお、式１で表わされる基が−ＣＯＯ−基に結合している構造、すなわち下記式２で表わされる基を有するＨＡＬＳが数多く市販されているがこれらは好ましく使用できる。
【０１４９】
【化２】
0006715946.tif 000003
【０１５０】
具体的に本発明で好ましく使用できるＨＡＬＳを挙げると、例えば以下の式で表わされるものが挙げられる。なお、ここで２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル基をＲ、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル基をＲ’で表す。
ＲＯＣ（＝Ｏ）（ＣＨ2）8Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ、ＲＯＣ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ3）＝ＣＨ2、Ｒ’ＯＣ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ3）＝ＣＨ2、ＣＨ2（ＣＯＯＲ）ＣＨ（ＣＯＯＲ）ＣＨ（ＣＯＯＲ）ＣＨ2ＣＯＯＲ、ＣＨ２（ＣＯＯＲ’）ＣＨ（ＣＯＯＲ’）ＣＨ（ＣＯＯＲ’）ＣＨ2ＣＯＯＲ’、式３で表わされる化合物等。
【０１５１】
【化３】
0006715946.tif 000004
【０１５２】
具体的には、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルステアレート、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルステアレート、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルベンゾエート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１−オクトキシ−２，２，６，６−テトラメチル−4−ピペリジル）セバケート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）・ジ（トリデシル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）・ジ（トリデシル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、ビス（１，２，２，４，４−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−ブチル−２−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノ−ル／コハク酸ジエチル重縮合物、１，６−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミノ）ヘキサン／２，４−ジクロロ−６−モルホリノ−ｓ−トリアジン重縮合物、１，６−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミノ）ヘキサン／２，４−ジクロロ−６−第三オクチルアミノ−ｓ−トリアジン重縮合物、１，５，８，１２−テトラキス［２，４−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ）−ｓ−トリアジン−６−イル］−１，５，８，１２−テトラアザドデカン、１，５，８，１２−テトラキス［２，４−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミノ）−ｓ−トリアジン−６−イル］−１，５，８−１２−テトラアザドデカン、１，６，１１−トリス［２，４−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ）−ｓ−トリアジン−６−イル］アミノウンデカン、１，６，１１−トリス［２，４−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミノ）−ｓ−トリアジン−６−イル］アミノウンデカン等のヒンダードアミン化合物が挙げられる。
【０１５３】
また、具体的な商品としては、チヌビン１２３、チヌビン１４４、チヌビン７６５、チヌビン７７０、チヌビン６２２、チマソーブ９４４、チマソーブ１１９（以上は、いずれもチバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製、商品名）、アデカスタブＬＡ５２、アデカスタブＬＡ５７、アデカスタブＬＡ６２、アデカスタブＬＡ６７、アデカスタブＬＡ８２、アデカスタプＬＡ８７、アデカスタブＬＸ３３５（以上は、いずれも旭電化工業社製、商品名）等を挙げることができるが、これらに限定されない。
【０１５４】
ＨＡＬＳのなかでも分子が比較的小さいものは樹脂層から光吸収領域へと拡散しやすく好ましい。この観点で好ましいＨＡＬＳとしては、ＲＯＣ（＝Ｏ）（ＣＨ2）8Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ、Ｒ’ＯＣ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ3）＝ＣＨ2で表わされる化合物等である。
【０１５５】
上記した酸化防止剤のうち、ヒンダードフェノール化合物，ヒンダードアミン化合物，キノン化合物，ヒドロキノン化合物，トリフェロール化合物，アスパラギン酸化合物，または，チオール化合物のうち少なくとも１種であることがより好ましく、クエン酸化合物，アスコルビン酸化合物，または，トコフェロール化合物のうち少なくとも１種であることが更に好ましい。これらの化合物としては特に制限されないが、ヒンダードフェノール，ヒンダードアミン，キノン，ヒドロキノン，トリフェロール，アスパラギン酸，チオール，クエン酸，トコフェリル酢酸，および，トコフェリルリン酸それ自体、またはそれらの塩やエステル化合物等が好ましく挙げられる。
【０１５６】
以下に、酸化防止剤の一例を示す。
【０１５７】
【化４】
0006715946.tif 000005
【０１５８】
【化５】
0006715946.tif 000006
【０１５９】
【化６】
0006715946.tif 000007
【０１６０】
【化７】
0006715946.tif 000008
【０１６１】
【化８】
0006715946.tif 000009
【０１６２】
【化９】
0006715946.tif 000010
【０１６３】
【化１０】
0006715946.tif 000011
【０１６４】
【化１１】
0006715946.tif 000012
【０１６５】
【化１２】
0006715946.tif 000013
【０１６６】
−酸素ゲッター剤−
酸素ゲッター剤としては、有機ＥＬ素子のゲッター剤として用いられる公知の物質を用いることができ、無機系ゲッター剤または有機系ゲッター剤のいずれでもよく、金属酸化物、金属ハロゲン化物、金属硫酸塩、金属過塩素酸塩、金属炭酸塩、金属アルコキシド、金属カルボキシレート、金属キレート、またはゼオライト（アルミノケイ酸塩）の中から選ばれた少なくとも1種の化合物を含むことが好ましい。
かかる酸素ゲッター剤としては、酸化カルシウム（ＣａＯ）、酸化バリウム（ＢａＯ）、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、酸化ストロンチウム（ＳｒＯ）、硫酸リチウム（Ｌｉ2ＳＯ4）、硫酸ナトリウム（Ｎａ2ＳＯ4）、硫酸カルシウム（ＣａＳＯ4）、硫酸マグネシウム（ＭｇＳＯ4）、硫酸コバルト（ＣｏＳＯ4）、硫酸ガリウム（Ｇａ2（ＳＯ4）3）、硫酸チタン（Ｔｉ（ＳＯ4）2）、硫酸ニッケル（ＮｉＳＯ4）等が挙げられる。
有機系ゲッター剤としては、化学反応により水を取り込み、その反応前後で不透明化しない材料であれば特に制限されない。ここで、有機金属化合物とは、金属−炭素結合や金属−酸素結合、金属−窒素結合等を有する化合物を意味する。水と有機金属化合物とが反応すると加水分解反応により、前述の結合が切れて金属水酸化物になる。金属によっては金属水酸化物に反応後に加水分解重縮合を行い高分子量化してもよい。
金属アルコキシド、金属カルボキシレート、および金属キレートの金属としては、有機金属化合物として水との反応性が良いもの、すなわち、水により各種結合と切れやすい金属原子を用いることが好ましい。具体的には、アルミニウム、ケイ素、チタン、ジルコニウム、ケイ素、ビスマス、ストロンチウム、カルシウム、銅、ナトリウム、リチウムが挙げられる。また、セシウム、マグネシウム、バリウム、バナジウム、ニオブ、クロム、タンタル、タングステン、クロム、インジウム、鉄などが挙げられる。特にアルミニウムを中心金属として持つ有機金属化合物の乾燥剤が樹脂中への分散性や水との反応性の点で好適である。有機基は、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、２−エチルヘキシル基、オクチル基、デシル基、ヘキシル基、オクタデシル基、ステアリル基などの不飽和炭化水素、飽和炭化水素、分岐不飽和炭化水素、分岐飽和炭化水素、環状炭化水素を含有したアルコキシ基やカルボキシル基、アセエチルアセトナト基、ジピバロイルメタナト基などのβ−ジケトナト基が挙げられる。
中でも、下記化学式に示す、炭素数が１〜８のアルミニウムエチルアセトアセテート類が、透明性に優れた封止組成物を形成できる点から好適に用いられる。
【０１６７】
【化１３】
0006715946.tif 000014
（式中、Ｒ5〜Ｒ8は炭素数１個以上８個以下のアルキル基，アリール基，アルコキシ基，シクロアルキル基，アシル基を含む有機基を示し、Ｍは３価の金属原子を示す。なお、Ｒ5〜Ｒ8はそれぞれ同じ有機基でも異なる有機基でもよい。）
上記炭素数が１〜８のアルミニウムエチルアセトアセテート類は、例えば、川研ファインケミカル株式会社、ホープ製薬株式会社から上市されており、入手可能である。
酸素ゲッター剤は粒子状または粉末状である。酸素ゲッター剤の平均粒子径は通常２０μｍ未満の範囲とすれば良く、好ましくは１０μｍ以下、より好ましくは２μｍ以下、更に好ましくは１μｍ以下である。散乱性の観点から、酸素ゲッター剤の平均粒子径は、０．３〜２μｍであることが好ましく、０．５〜１．０μｍであることがより好ましい。ここでいう平均粒径とは、動的光散乱法によって測定した粒度分布から算出した、粒子径の平均値をいう。
【０１６８】
−重合禁止剤−
バインダを形成する硬化性組成物には、重合禁止剤を含有してもよい。重合禁止剤の含有量としては、全重合性単量体に対し、０．００１〜１質量％であり、より好ましくは０．００５〜０．５質量％、さらに好ましくは０．００８〜０．０５質量％である、重合禁止剤を適切な量配合することで高い硬化感度を維持しつつ経時による粘度変化が抑制できる。一方、重合禁止剤の添加量が過剰となる場合、重合阻害による硬化不良や硬化物の着色が発生するため適量が存在する。重合禁止剤は重合性単量体の製造時に添加してもよいし、硬化組成物に後から添加してもよい。好ましい重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩、フェノチアジン、フェノキサジン、４−メトキシナフトール、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−１−オキシルフリーラジカル、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−１−オキシルフリーラジカル、ニトロベンゼン、ジメチルアニリン等が挙げられ、好ましくはｐ−ベンゾキノン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−１−オキシルフリーラジカル、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−１−オキシルフリーラジカル、フェノチアジンである。これら重合禁止剤は重合性単量体の製造時だけでなく、硬化組成物の保存時においてもポリマー不純物の生成を抑制し、インプリント時のパターン形成性の劣化を抑制する。
【０１６９】
−無機粒子−
さらに、光吸収領域形成用塗布液には、無機粒子を含有することが好ましい。無機粒子を含有することで酸素に対する不透過性を高めることができる。無機粒子の一例として、シリカ粒子、アルミナ粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化亜鉛粒子、酸化チタン粒子、マイカやタルク等の無機層状化合物が挙げられる。また無機粒子は平板状であることが酸素に対する不透過性を高める観点から好ましく、無機粒子のアスペクト比（ｒ＝ａ／ｂ、ただしａ＞ｂ）は、２〜１０００が好ましく、１０〜８００がより好ましく、２０〜５００がさらに好ましい、アスペクトト比が大きい方が酸素に対する不透過性を高める効果に優れるため好ましいが、大きすぎると膜の物理強度や硬化用組成物中の粒子分散性に劣る。
【０１７０】
−光散乱粒子−
一態様では、光吸収体含有層（光吸収領域および樹脂層（枠体））は、光散乱粒子を含んでいてもよい。したがって、上記光硬化性組成物に光散乱粒子を添加してもよい。
【０１７１】
光散乱粒子の粒子サイズは０．１０μｍ以上であるのが好ましい。光散乱粒子が光吸収体含有層に含まれることは、輝度の更なる向上の観点から好ましい。光散乱効果の観点から、光散乱粒子の粒子サイズは０．１０〜１５．０μｍが好ましく、０．１０〜１０．０μｍがより好ましく、０．２０〜４．０μｍがさらに好ましい。また、より一層の輝度の向上や、視野角に対する輝度の分布を調整するために、粒子サイズの異なる二種以上の光散乱粒子を混合して用いてもよい。
【０１７２】
光散乱粒子は、有機粒子であってもよく、無機粒子であってもよく、有機無機複合粒子であってもよい。例えば有機粒子としては、合成樹脂粒子を挙げることができる。具体例としては、シリコーン樹脂粒子、アクリル樹脂粒子（ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ））、ナイロン樹脂粒子、スチレン樹脂粒子、ポリエチレン粒子、ウレタン樹脂粒子、ベンゾグアナミン粒子等が挙げられる。光散乱効果の観点からは、光吸収体含有層において光散乱粒子と他の部分との屈折率は異なることが好ましく、この点から好適な屈折率を有する粒子の入手容易性の観点からはシリコーン樹脂粒子、アクリル樹脂粒子が好ましい。また中空構造を有する粒子も使用できる。また、無機粒子としては、ダイヤモンド、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化鉛、炭酸鉛、酸化亜鉛、硫化亜鉛、酸化アンチモン、酸化ケイ素、酸化アルミニウム等の粒子を用いることができ、好適な屈折率を有する粒子の入手容易性の観点からは酸化チタン、酸化アルミニウムが好ましい。
【０１７３】
光吸収領域形成用塗布液には、上述の成分の他に必要に応じて離型剤、シランカップリング剤、紫外線吸収剤、光安定剤、老化防止剤、可塑剤、密着促進剤、熱重合開始剤、着色剤、エラストマー粒子、光酸増殖剤、光塩基発生剤、塩基性化合物、流動調製剤、消泡剤、分散剤等を添加してもよい。
【０１７４】
バインダを形成する硬化性組成物の調製方法は特に制限されず、一般的な硬化性組成物の調製手順により実施すればよい。
【０１７５】
＜＜樹脂層＞＞
樹脂層３８Ａは、上述のバインダを形成する硬化性組成物と同様の硬化性組成物を含む樹脂形成用塗布液を塗布し、硬化して形成される。
【０１７６】
樹脂層３８Ａは、弾性率が０．５〜１０ＧＰａであるのが好ましく、１〜７ＧＰａであるのがより好ましく、３〜６ＧＰａであるのがさらに好ましい。樹脂層の弾性率をこの範囲にすることで、樹脂層を形成する際の欠損を防ぐことができ、好ましい。
樹脂層の弾性率は、ＪＩＳ  Ｋ７１６１等に例示される方法で測定される。
【０１７７】
樹脂層３８Ａは、樹脂層３８Ａを挟んで隣接する蛍光領域３５間の最短距離における酸素透過度が５００cc/(m2・day・atm)以下を満たすのが好ましい。樹脂層３８Ａの、隣接する蛍光領域３５間の最短距離における酸素透過度は５０cc/(m2・day・atm)以下がより好ましく、５cc/(m2・day・atm)以下がさらに好ましい。
【０１７８】
酸素透過度は、ＳＩ単位として、ｆｍ／（ｓ・Ｐａ）を用いることができる。１ｆｍ／（ｓ・Ｐａ）＝８．７５２ｃｃ／（ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍ）で換算することが可能である。ｆｍはフェムトメートルと読み、１ｆｍ＝１０-15ｍを表わす。
【０１７９】
低い酸素透過度の樹脂層を用いることにより、光吸収体含有フィルムの端部から侵入する酸素を低減することが出来、光吸収体の劣化を抑制できる。その結果、初期だけではなく経時後の表示ムラも抑制することができる。
【０１８０】
樹脂層３８Ａの形成材料として、２官能以上の光重合性架橋基を有する化合物が好ましく、例えば、ウレタン（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート等の脂環式（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート等のヒドロキシル基を有する（メタ）アクリレート、変性ビスフェノールａジ（メタ）アクリレート等の芳香族（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、３’，４’−エポキシシクロヘキシルメチル３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビスフェノールａ型エポキシ等が挙げられる。中でも酸素に対する不透過性を高める観点からウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ化合物を少なくとも含むことが好ましい。ウレタン結合やヒドロキシル基、カルボキシル基などの極性官能基有する化合物を用いることで分子間の相互作用を高め、酸素に対する不透過性が高い樹脂層が得られる。また、光吸収領域と同一の重合性架橋基を有する化合物を含むことが、樹脂層と光吸収領域との密着に優れる観点から好ましい。例えば、光吸収領域の素材にジシクロペンタニル（メタ）アクリレート等が含まれる場合、樹脂層は（メタ）アクリレート化合物を少なくとも含むことが好適である。
【０１８１】
（添加剤）
樹脂形成材料には必要に応じて、光重合開始剤、無機層状化合物、光散乱粒子、酸化防止剤、剥離促進剤、溶剤等、光吸収体含有層に用いる光吸収体と異なる蛍光体が含まれていても良い。前述の蛍光体としては、公知の各種蛍光体を用いることができる。例えば、希土類ドーピングガーネット、ケイ酸塩、アルミン酸塩、リン酸塩、セラミックス蛍光体、硫化物蛍光体、窒化物蛍光体等の無機蛍光体、および、有機蛍光染料および有機蛍光顔料を始めとする有機蛍光物質などである。また、半導体微粒子に希土類をドープした蛍光体、および、半導体のナノ微粒子（量子ドット、量子ロッド）も好適に用いられる。光吸収体は１種単独で用いることもできるが、所望のスペクトルが得られるように、異なる波長のものを複数混ぜて使用してもよいし、異なる素材構成の蛍光体同士の組み合わせ（例えば、希土類ドーピングガーネットと量子ドットとの組み合わせ）として用いてもよい。
【０１８２】
（光重合開始剤）
樹脂層３８Ａを形成する硬化性化合物は、光重合開始剤を含むことが好ましい。光重合開始剤としては、光照射により上述の重合性化合物を重合する活性種を発生する化合物であればいずれのものでも用いることができる。光重合開始剤としては、カチオン重合開始剤、ラジカル重合開始剤が挙げられ、樹脂層形成材料に応じて適切に選ばれる。
【０１８３】
（無機層状化合物）
樹脂層３８Ａを形成する硬化性化合物は無機層状化合物等の、樹脂層中で気体分子の拡散長を伸ばし、ガスバリア性を向上させる、いわゆる迷路効果を付与する化合物を含んでいても良い。そのような無機層状化合物としては例えば、タルク、雲母、長石、カオリナイト（カオリンクレー）、パイロフィライト（ろう石クレー）、セリサイト（絹雲母）、ベントナイト、スメクタイト・バーミキュライト類（モンモリロナイト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイトなど）、有機ベントナイト、有機スメクタイト、平板アルミナなどの平板無機酸化物などが挙げられる。また、無機層状化合物は樹脂形成材料への分散性を高めるために表面処理が施されていても良い。さらに上述の迷路効果に優れる観点から、無機層状化合物のアスペクト比が１０〜１０００であるものが好ましい。アスペクト比が１０以下であると迷路効果によるガスバリア性向上効果が低く、アスペクト比が１０００以上であると脆いため作製プロセス中に粉砕される可能性がある。
【０１８４】
これらを単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。市販されている層状化合物としては、例えば、無機化合物としては、白石カルシウム社製のＳＴ−５０１、ＳＴ−５０９、片倉コープアグリ社製のソマシフシリーズ、ミクロマイカシリーズ、キンセイマティック社製のセラフシリーズが挙げられる。中でも、本発明の光吸収体含有フィルムにおいては透明性の高いセラフシリーズが好適に用いることができる。
【０１８５】
＜＜枠体＞＞
枠体３８Ｂは、第２の光吸収体３２と第２の光吸収体３２が分散されてなるバインダ３４とから構成されるものである。枠体３８Ｂは、バインダ３４となる、上述のバインダ３３を形成する硬化性組成物と同様の硬化性組成物、および、第２の光吸収体を含む枠体形成用塗布液を塗布し、硬化して形成される。
前述のとおり、枠体３８Ｂが第２の光吸収体３２を含有することで、フィルム端部からのブルー光漏れ等を改善でき、色ムラの発生を抑制することができる。
【０１８６】
枠体３８Ｂは、弾性率が０．５〜１０ＧＰａであるのが好ましく、１〜７ＧＰａであるのがより好ましく、３〜６ＧＰａであるのがさらに好ましい。枠体の弾性率をこの範囲にすることで、枠体を形成する際の欠損を防ぐことができ、好ましい。
枠体の弾性率は、ＪＩＳ  Ｋ７１６１等に例示される方法で測定される。
【０１８７】
前述のとおり、枠体３８Ｂは、外部と光吸収領域３５との間の最短距離における酸素透過度が２０ｃｃ／（ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍ）以下である。枠体３８Ｂの酸素透過度は１５ｃｃ／（ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍ）以下がより好ましく、１０ｃｃ／（ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍ）以下がさらに好ましい。
【０１８８】
低い酸素透過度の枠体を用いることにより、光吸収体含有フィルムの端部から侵入する酸素を低減することが出来、光吸収体の劣化を抑制できる。その結果、初期だけではなく経時後の表示ムラも抑制することができる。その際、光吸収領域３５に含まれる第１の光吸収体３１の劣化を抑制するのみでなく、枠体３８Ｂに含まれる第２の光吸収体３２の劣化も抑制することができる。従って、経時後においても、ブルー光漏れ等を改善でき、色ムラの発生を抑制することができる。
【０１８９】
＜第２の光吸収体＞
枠体は、第２の光吸収体として、第１の光吸収体とは異なる少なくとも１種の光吸収体（蛍光体）を含有する。
第２の光吸収体（蛍光体）としては、公知の各種蛍光体を用いることができる。例えば、希土類ドーピングガーネット、ケイ酸塩、アルミン酸塩、リン酸塩、セラミックス蛍光体、硫化物蛍光体、窒化物蛍光体等の無機蛍光体、および、有機蛍光染料および有機蛍光顔料を始めとする有機蛍光物質などである。また、半導体微粒子に希土類をドープした蛍光体、および、半導体のナノ微粒子（量子ドット、量子ロッド）も好適に用いられる。第２の光吸収体は１種単独で用いることもできるが、所望のスペクトルが得られるように、異なる波長のものを複数混ぜて使用してもよいし、異なる素材構成の蛍光体同士の組み合わせ（例えば、希土類ドーピングガーネットと量子ドットとの組み合わせ）として用いてもよい。
具体的には、例えば、励起光として、青色光または紫外光を用いる場合には、ブルーの光漏れに対して補色となる黄色の蛍光を発する蛍光体が用いられる。黄色の蛍光を発する蛍光体は、例えば、イットリウム・アルミニウム・ガーネット蛍光体（ＹＡＧ）、サイアロン（ＳｉＡｌＯＮ）等が用いられる。
【０１９０】
第２の光吸収体は、枠体形成用塗布液の全量１００質量部に対して、例えば０．１〜３０質量部程度添加することができる。
【０１９１】
また、第２の光吸収体は、上記枠体形成用塗布液に粒子の状態で添加してもよく、溶媒に分散した分散液の状態で添加してもよい。分散液の状態で添加することが第２の光吸収体の粒子の凝集を抑制する観点から好ましい。ここで使用される溶媒は、特に限定されるものではない。
【０１９２】
＜枠体のバインダを形成する硬化性組成物＞
枠体３８Ｂのバインダ３４を形成する硬化性組成物としては、上述の樹脂層３８Ａを形成する硬化性組成物を用いることができる。すなわち、バインダ３４を形成する硬化性組成物として、上述の光吸収領域３５のバインダ３３を形成する硬化性組成物と同様の硬化性組成物を用いることができる。
枠体３８Ｂのバインダとして、２官能以上の光重合性架橋基を有する化合物が好ましく、例えば、ウレタン（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート等の脂環式（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート等のヒドロキシル基を有する（メタ）アクリレート、変性ビスフェノールａジ（メタ）アクリレート等の芳香族（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、3',4'-エポキシシクロヘキシルメチル3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビスフェノールa型エポキシ等が挙げられる。中でも酸素に対する不透過性を高める観点からウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ化合物を少なくとも含むことが好ましい。ウレタン結合やヒドロキシル基、カルボキシル基などの極性官能基有する化合物を用いることで分子間の相互作用を高め、酸素に対する不透過性が高い枠体が得られる。また、光吸収領域と同一の重合性架橋基を有する化合物を含むことが、枠体と光吸収領域との密着に優れる観点から好ましい。例えば、光吸収領域の素材にジシクロペンタニル（メタ）アクリレート等が含まれる場合、枠体は（メタ）アクリレート化合物を少なくとも含むことが好適である。
【０１９３】
（添加剤）
枠体の形成材料（枠体形成用塗布液）には必要に応じて、光重合開始剤、無機層状化合物、光散乱粒子、酸化防止剤、剥離促進剤、溶剤等、が含まれていても良い。
【０１９４】
−基材フィルム−
第１の基材フィルム１０および第２の基材フィルム２０は、酸素の透過を抑制する機能を有するフィルムであることが好ましい。上記の実施形態では、支持フィルム１１，２１の一面にバリア層１２，２２をそれぞれ備えた構成を有している。かかる態様では、支持フィルム１１，２１の存在により、光吸収体含有フィルムの強度が向上され、且つ、容易に製膜を実施することが可能となる。なお、本実施形態では支持フィルム１１，２１の一面にバリア層１２，２２を備える構成であるが、バリア性を充分有する支持体のみにより基材フィルムが構成されていてもよい。
【０１９５】
第１の基材フィルム１０および第２の基材フィルム２０は、可視光領域における全光線透過率が８０％以上であるのが好ましく、８５％以上であるのがより好ましい。可視光領域とは、３８０〜７８０ｎｍの波長領域をいうものとし、全光線透過率とは、可視光領域にわたる光透過率の平均値を示す。
【０１９６】
第１の基材フィルム１０および第２の基材フィルム２０の酸素透過度が１．００ｃｃ／（ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であるのが好ましい。酸素透過度は、より好ましくは０．１ｃｃ／（ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍ）以下、さらに、好ましくは０．０１ｃｃ／（ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であり、特に好ましいのは０．００１ｃｃ／（ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍ）以下である。ここで、酸素透過度は、測定温度２３℃、相対湿度９０％の条件下で、酸素ガス透過率測定装置（ＭＯＣＯＮ社製、ＯＸ−ＴＲＡＮ  ２／２０：商品名）を用いて測定した値である。
【０１９７】
第１の基材フィルム１０および第２の基材フィルム２０は、酸素を遮断するガスバリア機能に加え、水分（水蒸気）を遮断する機能を有しているのが好ましい。第１の基材フィルム１０および第２の基材フィルム２０の透湿度（水蒸気透過度）は０．１０ｇ／（ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であるのが好ましく、０．０１ｇ／（ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であるのがより好ましい。
【０１９８】
（支持フィルム）
支持フィルム１１，２１としては、可視光に対して透明である可撓性を有する帯状の支持体が好ましい。ここで可視光に対して透明とは、可視光領域における全光線透過率が、８０％以上、好ましくは８５％以上であることをいう。透明の尺度として用いられる光線透過率は、ＪＩＳ−Ｋ７１０５に記載された方法、すなわち積分球式光線透過率測定装置を用いて全光線透過率および散乱光量を測定し、全光線透過率から拡散透過率を引いて算出することができる。可撓性を有する支持体については、特開２００７−２９０３６９号公報段落００４６〜００５２、特開２００５−０９６１０８号公報段落００４０〜００５５を参照できる。
【０１９９】
支持フィルムは、酸素および水分に対するバリア性を有することが好ましい。かかる支持フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、環状オレフィン構造を有するポリマーからなるフィルム、およびポリスチレンフィルム等が、好ましい例として挙げられる。
【０２００】
支持フィルム１１，２１の平均膜厚は、光吸収体含有フィルムの耐衝撃性等の観点から、１０〜５００μｍが好ましく、２０〜４００μｍがより好ましく、３０〜３００μｍがさらに好ましい。光吸収体含有層３０に含まれる量子ドットの濃度を低減した場合や、光吸収体含有層３０の厚みを低減した場合のように、光の再帰反射を増加させる態様では、波長４５０ｎｍの光の吸収率がより低いことが好ましいため、輝度低下を抑制する観点から、支持フィルム１１，２１の平均膜厚は、４０μｍ以下が好ましく、２５μｍ以下がより好ましい。
【０２０１】
また、支持フィルム１１，２１は、波長５８９ｎｍにおける面内リターデーションＲｅ（５８９）が１０００ｎｍ以下であるのが好ましい。５００ｎｍ以下であるのがより好ましく、２００ｎｍ以下であるのがさらに好ましい。
光吸収体含有フィルムを作製した後、異物や欠陥の有無を検査する際、２枚の偏光板を消光位に配置し、その間に光吸収体含有フィルムを差し込んで観察することで、異物や欠陥を見つけやすい。支持体のＲｅ（５８９）が上記範囲であると、偏光板を用いた検査の際に、異物や欠陥をより見つけやすくなるため、好ましい。
ここで、Ｒｅ（５８９）は、ＡｘｏＳｃａｎ  ＯＰＭＦ−１（オプトサイエンス社製）を用いて、入力波長５８９ｎｍの光をフィルム法線方向に入射させることにより測定することができる。
【０２０２】
（バリア層）
第１の基材フィルム１０および第２の基材フィルム２０は、支持フィルム１１、２１の光吸収体含有層３０側の面に接して形成されてなる少なくとも一層の無機層を含むバリア層１２、２２を備えているのが好ましい。バリア層１２、２２としては、少なくとも無機層１層と少なくとも１層の有機層を含むものであってもよい。このように複数の層を積層することは、より一層バリア性を高めることができるため、耐光性向上の観点からは好ましい。他方、積層する層の数が増えるほど、基材フィルムの光透過率は低下する傾向があるため、良好な光透過率を維持し得る範囲で、積層数を増やすのが望ましい。
【０２０３】
バリア層１２、２２は、可視光領域における全光線透過率が好ましくは８０％以上であり、かつ、酸素透過度が１．００ｃｃ／（ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であるのが好ましい。
【０２０４】
バリア層１２、２２の酸素透過度は、より好ましくは０．１ｃｃ／（ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍ）以下、さらに好ましくは０．０１ｃｃ／（ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であり、特に好ましくは０．００１ｃｃ／（ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍ）以下である。
酸素透過度は低いほど好ましく、可視光領域における全光線透過率は高いほど好ましい。
【０２０５】
−無機層−
無機層とは、無機材料を主成分とする層であり、無機材料が５０質量％以上、さらには８０質量％以上、特に９０質量％以上を占める層が好ましく、好ましくは無機材料のみから形成される層である。
【０２０６】
無機層は酸素を遮断するガスバリア機能を有する層であることが好ましい。具体的には、無機層の酸素透過度は、１．００ｃｃ／（ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であることが好ましい。無機層の酸素透過度はオービスフェアラボラトリー社製型酸素濃度計の検出部に無機層を、シリコングリスを介して貼付し、平衡酸素濃度値から酸素透過度を換算して求めることができる。無機層は、水蒸気を遮断する機能を有することも好ましい。
【０２０７】
無機層は、バリア層中に２つまたは３つ以上含まれていてもよい。
【０２０８】
無機層の厚さは、１〜５００ｎｍであればよく、５〜３００ｎｍであるのが好ましく、１０〜１５０ｎｍのであるのがより好ましい。無機層の膜厚が、上述した範囲内であることにより、良好なバリア性を実現しつつ、無機層における反射を抑制することができ、光透過率がより高い積層フィルムを提供できるからである。
【０２０９】
無機層を構成する無機材料としては、特に限定されるものではなく、例えば、金属、または無機酸化物、窒化物、酸化窒化物等の各種無機化合物を用いることができる。無機材料を構成する元素としては、ケイ素、アルミニウム、マグネシウム、チタン、スズ、インジウムおよびセリウムが好ましく、これらを一種または二種以上含んでいてもよい。無機化合物の具体例としては、酸化ケイ素、酸化窒化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化インジウム合金、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、および窒化チタンを挙げることができる。また、無機層として、金属膜、例えば、アルミニウム膜、銀膜、錫膜、クロム膜、ニッケル膜あるいはチタン膜を設けてもよい。
【０２１０】
上記の材料の中でも、上記バリア性を有する無機層が窒化ケイ素、酸化窒化ケイ素、酸化ケイ素および酸化アルミニウムから選ばれる少なくとも一種の化合物を含む無機層であることが特に好ましい。これらの材料からなる無機層は、有機層との密着性が良好であることから、無機層にピンホールがある場合でも、有機層がピンホールを効果的に埋めることができ、破断を抑制できるとともに、さらに無機層を積層したケースにおいても極めて良好な無機層膜形成ができ、バリア性をより一層高くすることができるからである。また、バリア層における光の吸収を抑制する観点からは、窒化ケイ素がもっとも好ましい。
【０２１１】
無機層の形成方法としては、特に限定されず、例えば製膜材料を蒸発ないし飛散させ被蒸着面に堆積させることができる各種製膜方法を用いることができる。
【０２１２】
無機層の形成方法の例としては、無機酸化物、無機窒化物、無機酸化窒化物、金属等の無機材料を、加熱して蒸着させる真空蒸着法；無機材料を原料として用い、酸素ガスを導入することにより酸化させて蒸着させる酸化反応蒸着法；無機材料をターゲット原料として用い、アルゴンガス、酸素ガスを導入して、スパッタリングすることにより蒸着させるスパッタリング法；無機材料にプラズマガンで発生させたプラズマビームにより加熱させて蒸着させるイオンプレーティング法等の物理気相成長法（ＰＶＤ法（Physical VaporDeposition法））、酸化ケイ素の蒸着膜を製膜させる場合は、有機ケイ素化合物を原料とするプラズマ化学気相成長法（ＣＶＤ法（Chemical Vapor Deposition法））等が挙げられる。
【０２１３】
−有機層−
有機層とは、有機材料を主成分とする層であって、好ましくは有機材料が５０質量％以上、さらには８０質量％以上、特に９０質量％以上を占める層を言うものとする。
【０２１４】
有機層としては、特開２００７−２９０３６９号公報段落００２０〜００４２、特開２００５−０９６１０８号公報段落００７４〜０１０５を参照できる。なお有機層は、上記の密着力条件を満足する範囲内でカルドポリマーを含むことが好ましい。これにより、有機層と隣接する層との密着性、特に、無機層とも密着性が良好になり、より一層優れたガスバリア性を実現することができるからである。カルドポリマーの詳細については、上述の特開２００５−０９６１０８号公報段落００８５〜００９５を参照できる。
有機層の膜厚は、０．０５〜１０μｍが好ましく、０．５〜１０μｍがより好ましい。有機層がウェットコーティング法により形成される場合には、有機層の膜厚は、０．５〜１０μｍが好ましく、１〜５μｍがより好ましい。また、ドライコーティング法により形成される場合には、０．０５〜５μｍが好ましく、０．０５〜１μｍがより好ましい。ウェットコーティング法またはドライコーティング法により形成される有機層の膜厚が上述した範囲内であることにより、無機層との密着性をより良好なものとすることができるからである。
【０２１５】
無機層、有機層のその他詳細については、上述の特開２００７−２９０３６９号公報、特開２００５−０９６１０８号公報、さらにＵＳ２０１２／０１１３６７２Ａ１の記載を参照できる。
【０２１６】
光吸収体含有フィルムにおいて、有機層は、無機層の下地層として支持フィルムと無機層との間に積層されていてもよく、無機層の保護層として無機層と光吸収体含有層との間に積層されていてもよい。また、２層以上の無機層を有する場合には、有機層は無機層の間に積層されていてもよい。
【０２１７】
（凹凸付与層）
基材フィルム１０、２０は、光吸収体含有層３０側の面と反対側の面に、凹凸構造を付与する凹凸付与層を備えていてもよい。基材フィルム１０、２０が凹凸付与層を有していると、基材フィルムのブロッキング性、滑り性を改良することができるため、好ましい。凹凸付与層は粒子を含有する層であることが好ましい。粒子としては、シリカ、アルミナ、酸化金属等の無機粒子、あるいは架橋高分子粒子等の有機粒子等が挙げられる。また、凹凸付与層は、基材フィルムの光吸収体含有層とは反対側の表面に設けられることが好ましいが、両面に設けられていてもよい。
【０２１８】
光吸収体含有フィルムは、量子ドットの蛍光を効率よく外部に取り出すために光散乱機能を有することができる。光散乱機能は、光吸収体含有層３０内部に設けてもよいし、光散乱層として光散乱機能を有する層を別途設けてもよい。光散乱層は、基材フィルム１０、２０の光吸収体含有層３０側の面に設けられていてもよいし、基材フィルム１０、２０の光吸収体含有層３０とは反対側の面に設けられていてもよい。上記凹凸付与層を設ける場合は、凹凸付与層を光散乱層と兼用できる層とするのが好ましい。
【０２１９】
＜光吸収体含有フィルムの製造方法＞
次に、上記の如く構成された本発明の光吸収体含有フィルムの製造工程の一例について説明する。
まず、第一の態様の光吸収体含有フィルムの製造工程の一例について説明する。
【０２２０】
（塗布液調製工程）
第１の塗布液調製工程では、光吸収体として量子ドット（または量子ロッド）を含む光吸収領域形成用塗布液を調製する。具体的には、有機溶媒中に分散された量子ドット、硬化性化合物、重合開始剤、および、シランカップリング剤などの各成分をタンクなどにより混合し、光吸収領域形成用塗布液を調製する。なお、光吸収領域形成用塗布液には有機溶媒を含んでいなくても構わない。
【０２２１】
第２の塗布液調製工程では光吸収領域間に充填する樹脂層用塗布液を調製する。
【０２２２】
（樹脂層形成工程）
次に、第１の基材フィルム１０上に樹脂層用塗布液を塗布し、塗布した樹脂層用塗布液に凹凸パターンを有する型（モールド）を圧接して凹部を有する所定パターンを形成して、樹脂層用塗布液を硬化させて、図１７に示すような、第１の基材フィルム１０上に、複数の凹部を有する樹脂層３８Ａが積層された積層フィルム４０を形成する。
【０２２３】
（光吸収領域形成工程、および、第２の基材フィルム貼合工程）
次に、積層フィルム４０の樹脂層３８Ａの凹部内に光吸収領域形成用塗布液を塗布し、光吸収領域形成用塗布液を硬化させる前に、第２の基材フィルム２０を貼り合せた後、光吸収領域形成用塗布液を硬化させて光吸収領域３５を形成して、図１８に示すような、第１の基材フィルム１０、光吸収体含有層３０、および、第２の基材フィルム２０が積層された光吸収体含有フィルムを作製する。
【０２２４】
光吸収領域形成工程および樹脂層形成工程における硬化処理は、塗布液に応じて熱硬化あるいは紫外線による光硬化など適宜選択すればよい。
紫外線による光硬化により樹脂層３８Ａを硬化させる場合には、紫外線の照射量は、１００〜１００００ｍＪ／ｃｍ2とするのが好ましい。
熱硬化により樹脂層３８Ａを硬化させる場合には、２０〜１００℃に加熱するのが好ましい。
【０２２５】
（裁断処理）
得られた光吸収体含有フィルムは、切断機により所望のサイズに裁断（切断）される。
【０２２６】
次に、第二の態様の光吸収体含有フィルムの製造工程の一例について説明する。
【０２２７】
（塗布液調製工程）
光吸収領域形成用塗布液を調製する第１の塗布液調製工程は、第一の態様の場合と同様である。
【０２２８】
第２の塗布液調製工程では光吸収領域を囲む枠体形成用塗布液を調製する。具体的には、第２の光吸収体、硬化性化合物、および、重合開始剤などの各成分をタンクなどにより混合し、枠体形成用塗布液を調製する。なお、枠体形成用塗布液には有機溶媒を含んでいても含んでいなくても構わない。
【０２２９】
（枠体形成工程）
次に、凹凸パターンを有する型（モールド）に枠体形成用塗布液を流し込み、その表面に第１の基材フィルム１０を貼り合せて、枠体形成用塗布液を硬化させて、図１９に示すような、第１の基材フィルム１０上に、枠体３８Ｂが積層された積層フィルム４０を形成する。
【０２３０】
（光吸収領域形成工程、および、第２の基材フィルム貼合工程）
次に、積層フィルム４０の枠体３８Ｂの内側に光吸収領域形成用塗布液を充填し、光吸収領域形成用塗布液を硬化させる前に、第２の基材フィルム２０を貼り合せた後、光吸収領域形成用塗布液を硬化させて光吸収領域３５を形成して、図２０に示すような、第１の基材フィルム１０、光吸収体含有層３０、および、第２の基材フィルム２０が積層された光吸収体含有フィルムを作製する。
【０２３１】
光吸収領域形成工程および枠体形成工程における硬化処理は、塗布液に応じて熱硬化あるいは紫外線による光硬化など適宜選択すればよい。
紫外線による光硬化により枠体３８Ｂを硬化させる場合には、紫外線の照射量は、１００〜１００００ｍＪ／ｃｍ2とするのが好ましい。
熱硬化により枠体３８Ｂを硬化させる場合には、２０〜１００℃に加熱するのが好ましい。
【０２３２】
（裁断処理）
得られた光吸収体含有フィルムは、切断機により所望のサイズに裁断（切断）される。
【０２３３】
なお、第一の態様および第二の態様いずれの場合にも、光吸収体含有フィルムの作製方法は、いわゆるロール・トゥ・ロール（ＲｔｏＲ（Roll to Roll））により上述の各工程を連続的に行ってもよいし、カットシート状の基材フィルムを用いて、いわゆる枚葉式で各工程の処理を施すものであってもよい。生産性の観点で、ロール・トゥ・ロール方式で作製するのが好ましい。
【０２３４】
また、複数の凹部（凹凸パターン）を有する樹脂層の形成、および、枠体の形成としては、上述のとおり、樹脂層あるいは枠体の形状に対応する凹部を有する型（モールド）に塗布液を流し込んで形成することができるが、これに限定はされない。例えば、基材フィルム上に塗布した塗布液に凹凸パターンを有する型（モールド）を圧接して枠体を形成する方法を用いることもできる。また、インクジェット法、ディスペンサー法や印刷法で樹脂層および枠体の形成をすることもできる。
【０２３５】
ここで、モールドとしては、転写されるべき凹凸パターンを有するモールドが使われる。モールド上のパターンは、例えば、フォトリソグラフィや電子線描画法等によって、所望する加工精度に応じて形成できるが、モールドパターン形成方法は特に制限されない。
光透過性のモールド材は、特に限定されないが、所定の強度、耐久性を有するものであればよい。具体的には、ガラス、石英、ＰＭＭＡ、ポリカーボネート樹脂などの光透明性樹脂、透明金属蒸着膜、ポリジメチルシロキサンなどの柔軟膜、光硬化膜、ＳＵＳ等の金属膜が例示される。
【０２３６】
一方、非光透過型モールド材としては、特に限定されないが、所定の強度を有するものであればよい。具体的には、セラミック材料、蒸着膜、磁性膜、反射膜、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｆｅなどの金属基板、ＳｉＣ、シリコン、窒化シリコン、ポリシリコン、酸化シリコン、アモルファスシリコンなどの基板などが例示される。また、モールドの形状も特に制約されるものではなく、板状モールド、ロール状モールドのどちらでもよい。ロール状モールドは、特に転写の連続生産性が必要な場合に適用される。
【０２３７】
モールドは、硬化性化合物とモールド表面との剥離性を向上させるために離型処理を行ったものを用いてもよい。このようなモールドとしては、撥水撥油性に優れた素材をコーティングすることが挙げられ、具体的にはポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ（polytetrafluoroethylene））、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ（Diamond-like Carbon））を物理蒸着（ＰＶＤ）または化学蒸着（ＣＶＤ）したもの、および、シリコン系、フッ素系などのシランカップリング剤による処理を行ったもの、例えば、ダイキン工業社製のオプツールＤＳＸや、住友スリーエム社製のＮｏｖｅｃ  ＥＧＣ−１７２０等、市販の離型剤も好適に用いることができる。
【０２３８】
上記モールドを用いた凹凸パターンを形成する方法として具体的に、基材フィルム上に塗布・硬化した樹脂層（枠体）にモールドを樹脂層（枠体）またはモールドを加熱した状態で圧接して凹凸パターンを形成する熱インプリント法や、基材フィルム上に塗布した塗布液に凹凸パターンを有する型（モールド）を圧接した後、樹脂層（枠体）を光で硬化し、凹凸パターンを形成する光インプリント法や、凹凸パターンを形成する溶融成型法等が挙げられる。中でも、生産速度に優れ、設備投資が少ない観点から光インプリント法が好ましい。
【０２３９】
光インプリントリソグラフィを行なう場合、通常、モールド圧力を１０気圧以下で行なうのが好ましい。モールド圧力を１０気圧以下とすることにより、モールドや基板が変形しにくくパターン精度が向上する傾向にある。また、加圧が低いため装置を縮小できる傾向にある点からも好ましい。モールド圧力は、モールド凸部の硬化性化合物の残膜が少なくなる範囲で、モールド転写の均一性が確保できる領域を選択するのが好ましい。
【０２４０】
硬化処理の際における光照射の照射量は、硬化に必要な照射量よりも十分大きければよい。硬化に必要な照射量は、硬化性組成物の不飽和結合の消費量や硬化膜のタッキネスを調べて適宜決定される。
また、光インプリントリソグラフィにおいては、光照射の際の基板温度は、通常、室温で行われるが、反応性を高めるために加熱をしながら光照射してもよい。光照射の前段階として、真空状態にしておくと、気泡混入防止、酸素混入による反応性低下の抑制、モールドと硬化性組成物との密着性向上に効果があるため、真空状態で光照射してもよい。また、パターン形成方法中、光照射時における好ましい真空度は、１０-1Ｐａから１気圧の範囲である。
【０２４１】
硬化性化合物を硬化させるために用いられる光は特に限定されず、例えば、高エネルギー電離放射線、近紫外、遠紫外、可視、赤外等の領域の波長の光または放射線が挙げられる。高エネルギー電離放射線源としては、例えば、コッククロフト型加速器、ハンデグラーフ型加速器、リニヤーアクセレーター、ベータトロン、サイクロトロン等の加速器によって加速された電子線が工業的に最も便利且つ経済的に使用されるが、その他に放射性同位元素や原子炉等から放射されるγ線、Ｘ線、α線、中性子線、陽子線等の放射線も使用できる。紫外線源としては、例えば、紫外線螢光灯、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノン灯、炭素アーク灯、太陽灯、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）等が挙げられる。放射線には、例えばマイクロ波、ＥＵＶ（Extreme Ultraviolet）が含まれる。また、ＬＥＤ、半導体レーザー光、あるいは２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザー光や１９３ｎｍＡｒＦエキシマレーザーなどの半導体の微細加工で用いられているレーザー光も本発明に好適に用いることができる。これらの光は、モノクロ光を用いてもよいし、複数の波長の異なる光(ミックス光)でもよい。
【０２４２】
露光に際しては、露光照度を１〜１０００ｍＷ／ｃｍ2にするのが好ましい。露光照度を１ｍＷ／ｃｍ2以上とすることにより、露光時間を短縮することができるため生産性が向上し、１０００ｍＷ／ｃｍ2以下とすることにより、副反応が生じることによる永久膜の特性の劣化を抑止できる傾向にあり好ましい。
露光量は５〜１００００ｍＪ／ｃｍ2にするのが望ましい。露光量が５ｍＪ／ｃｍ2未満では、露光マージンが狭くなり、光硬化が不十分となりモールドへの未反応物の付着などの問題が発生しやすくなる。一方、露光量が１００００ｍＪ／ｃｍ2を超えると組成物の分解による永久膜の劣化の恐れが生じる。
さらに、露光に際しては、酸素によるラジカル重合の阻害を防ぐため、窒素やアルゴンなどの不活性ガスを流して、酸素濃度を１００ｍｇ／Ｌ未満に制御してもよい。
【０２４３】
硬化処理の際においては、光照射により硬化性化合物を硬化させた後、必要に応じて熱を加えてさらに硬化させる工程を含んでいてもよい。光照射後に加熱硬化させる熱としては、８０〜２８０℃が好ましく、１００〜２００℃がより好ましい。また、熱を付与する時間としては、５〜６０分間が好ましく、１５〜４５分間がさらに好ましい。
【０２４４】
第一の態様において、樹脂層に形成される凹凸パターンは任意の形態をとり得ることができ、例えば一例として凹部の開口形状または凸部の形状が正四角形または長方形である格子状メッシュパターンや、凹部または凸部が正六角形であるハニカムパターンや、凹部または凸部が円形である海島パターン、凹部または凸部が正五角形／正六角形の組合せ、直径の異なる円形の組合せ等の複合パターン、六角形の大きさに面内分布があるパターン等が挙げられる。
中でも、光インプリント法で、樹脂層を形成する場合はモールドから樹脂層を剥離する際の隔壁の欠損を抑制できる、正方形、正六角形等の正多角形、および、円形パターンが好ましい。
【０２４５】
また、上記例においては、樹脂層（枠体）を硬化させる工程は、モールドを付着させた状態で行う構成としたが、モールド剥離後に行ってもよい。モールドを密着させた状態で行なうのが好ましい。
【０２４６】
熱インプリント法を行う場合、通常、モールド圧力を０．１〜１００ＭＰａの範囲で行うことが好ましい。また、モールドおよび樹脂層（枠体）の温度を所定の範囲にすることが好ましく、一般的には、モールド温度は樹脂層（枠体）のガラス転移温度（Ｔｇ）以上に設定すること、基材温度はモールド温度より低く設定することが多い。
【０２４７】
溶融成型法を行う場合、成型する樹脂を融点以上の温度に加熱した後、ただちにモールドと基材フィルムの間に溶融状態の樹脂（メルト）を流しこんだ後に圧接・冷却して作製する。溶融成型法を行う場合の、樹脂層（枠体）に適した材料として、酸素透過係数が低い高分子が好ましく、具体的にはポリビニアルコール（ＰＶＡ）や、ポリエチレンービニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ポリ塩化ビニリデン（ＰＶＤＣ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のポリエステル系樹脂が挙げられる。中でも透明性、耐熱耐光性に優れる観点から（変性）ポリビニルアルコールが好ましく、ポリエチレンービニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）が特に好ましい。
【０２４８】
樹脂層（枠体）と基材フィルムとの密着性を確保するために、基材フィルムにアンカーコート層を設けても良い。アンカーコート層の素材としては樹脂層（枠体）および基材フィルムの材質等に応じて適切に選ばれるが、例えば樹脂層（枠体）がＥＶＯＨ、基材フィルムがＰＥＴの場合、アンカーコート層の素材として、ウレタン系、ポリエチレンイミン系、ポリブタジエン系、（変性）ポリオレフィン系化合物が挙げられ、耐水性および密着力に優れる観点からウレタン系、（変性）ポリオレフィン系化合物のアンカーコート素材が最も好ましい。具体的な商品として東洋モートン社製ＥＬ−５３０Ａ／Ｂ、三井化学社製タケラックＡ／タケネートＡシリーズ、アドマーシリーズ、ユニストールシリーズが例示される。
【０２４９】
「バックライトユニット」
図面を参照して、本発明の光吸収体含有フィルムの一実施形態としての波長変換部材を備えたバックライトユニットについて説明する。図２１は、バックライトユニットの概略構成の一例としてサイドエッジ型のバックライトを示す模式図である。
【０２５０】
図２１に示されるように、バックライトユニット１０２は、一次光（青色光ＬＢ）を出射する光源１０１Ａと光源１０１Ａから出射された一次光を導光して出射する導光板１０１Ｂとからなる面状光源１０１Ｃと、面状光源１０１Ｃ上に備えられてなる光吸収体含有フィルムからなる波長変換部材１００と、面状光源１０１Ｃを挟んで波長変換部材１００と対向配置される反射板１０２Ａと、再帰反射性部材１０２Ｂとを備えている。なお、図２１においては、反射板１０２Ａ、導光板１０１Ｂ、波長変換部材１００および再帰反射性部材１０２Ｂは離間した図を示しているが、これは光学的に密着していないことを表し、実際には積層されていても良い。
【０２５１】
波長変換部材１００は、面状光源１０１Ｃから出射された一次光ＬＢの少なくとも一部を励起光として、蛍光を発光し、この蛍光からなる二次光（緑色光ＬＧ，赤色光ＬＲ）および波長変換部材１００を透過した一次光ＬＢを出射するものである。例えば、波長変換部材１００は、青色光ＬＢの照射により緑色光ＬＧを発光する量子ドットと赤色光ＬＲを発光する量子ドットとを含む光吸収体含有層が第１の基材フィルムおよび第２の基材フィルムで挟持されて構成されてなる光吸収体含有フィルムである。
【０２５２】
図２１において、波長変換部材１００から出射されたＬＢ，ＬＧ，ＬＲは、再帰反射性部材１０２Ｂに入射し、入射した各光は、再帰反射性部材１０２Ｂと反射板１０２Ａとの間で反射を繰り返し、何度も波長変換部材１００を通過する。その結果、波長変換部材１００では十分な量の励起光（青色光ＬＢ）が光吸収体含有層３０内の光吸収体３１（ここでは、量子ドット）によって吸収され、必要な量の蛍光（ＬＧ，ＬＲ）が発光し、再帰反射性部材１０２Ｂから白色光ＬＷが具現化されて出射される。
【０２５３】
高輝度かつ高い色再現性の実現の観点からは、バックライトユニットとして、多波長光源化されたものを用いることが好ましい。例えば、４３０〜４８０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有し、半値幅が１００ｎｍ以下である発光強度のピークを有する青色光と、５００〜６００ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有し、半値幅が１００ｎｍ以下である発光強度のピークを有する緑色光と、６００〜６８０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有し、半値幅が１００ｎｍ以下である発光強度のピークを有する赤色光と、を発光するのが好ましい。
【０２５４】
より一層の輝度および色再現性の向上の観点から、バックライトユニットが発光する青色光の波長帯域は、４４０〜４６０ｎｍがより好ましい。
同様の観点から、バックライトユニットが発光する緑色光の波長帯域は、５２０〜５６０ｎｍが好ましく、５２０〜５４５ｎｍがより好ましい。
また、同様の観点から、バックライトユニットが発光する赤色光の波長帯域は、６１０〜６５０ｎｍがより好ましい。
【０２５５】
また同様の観点から、バックライトユニットが発光する青色光、緑色光および赤色光の各発光強度の半値幅は、いずれも８０ｎｍ以下であるのが好ましく、５０ｎｍ以下であるのがより好ましく、４０ｎｍ以下であるのがさらに好ましく、３０ｎｍ以下であるのが特に好ましい。これらの中でも、青色光の各発光強度の半値幅が２５ｎｍ以下であるのが、より特に好ましい。
【０２５６】
上記において光源１０１Ａとしては、例えば４３０〜４８０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する青色光を発光する青色発光ダイオードであるが、紫外光を発光する紫外線発光ダイオードを用いてもよい。光源１０１Ａとしては、発光ダイオードの他レーザー光源等を使用することができる。紫外光を発光する光源を備えた場合には、波長変換部材の波長変換層（光吸収体含有層）において、紫外光の照射により青色光を発光する蛍光体（光吸収体）、緑色光を発光する蛍光体（光吸収体）、および赤色光を発光する蛍光体（光吸収体）を含むものとすればよい。
【０２５７】
（バックライトユニットの構成）
バックライトユニットの構成としては、図２１では、導光板や反射板などを構成部材とするエッジライト方式について説明したが、光源を反射板上に複数配置し、拡散板を備えた直下型方式であっても構わない。導光板としては、公知のものを何ら制限なく使用することができる。
【０２５８】
また、反射板１０２Ａとしては、特に制限は無く、公知のものを用いることができ、特許３４１６３０２号公報、特許３３６３５６５号公報、特許４０９１９７８号公報、特許３４４８６２６号公報などに記載されており、これらの公報の内容は本発明に組み込まれる。
【０２５９】
再帰反射性部材１０２Ｂは、公知の拡散板や拡散シート、プリズムシート（例えば、住友スリーエム株式会社製ＢＥＦシリーズなど）、導光器等から構成されていてもよい。再帰反射性部材１０２Ｂの構成については、特許３４１６３０２号公報、特許３３６３５６５号公報、特許４０９１９７８号公報、特許３４４８６２６号公報などに記載されており、これらの公報の内容は本発明に組み込まれる。
【０２６０】
なお、バックライト光の均一性を高めるために、光吸収体フィルムの上に光拡散性を持つ光学シートを配置することができる。このような光拡散性を持つ光学シートは、光拡散性が均一であっても、面内に分布を有していても良い。
【０２６１】
「液晶表示装置」
上述のバックライトユニット１０２は液晶表示装置に応用することができる。図２２は、液晶表示装置の概略構成を示す模式図である。
図２２に示されるように、液晶表示装置１０４は上記実施形態のバックライトユニット１０２とバックライトユニットの再帰反射性部材側に対向配置された液晶セルユニット１０３とを備えてなる。
【０２６２】
液晶セルユニット１０３は、図２２に示されるように、液晶セル１１０を偏光板１２０と１３０とで挟持した構成としており、偏光板１２０，１３０は、それぞれ、偏光子１２２、１３２の両主面を偏光板保護フィルム１２１と１２３、１３１と１３３で保護された構成としている。
【０２６３】
液晶表示装置１０４を構成する液晶セル１１０、偏光板１２０、１３０およびその構成要素については特に限定はなく、公知の方法で作製されるものや市販品を、何ら制限なく用いることができる。また、各層の間に、接着層等の公知の中間層を設けることも、もちろん可能である。
【０２６４】
液晶セル１１０の駆動モードについては特に制限はなく、ツイステットネマチック（ＴＮ）、スーパーツイステットネマチック（ＳＴＮ）、バーティカルアライメント（ＶＡ）、インプレインスイッチング（ＩＰＳ）、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル（ＯＣＢ）等の種々のモードを利用することができる。液晶セルは、ＶＡモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモード、またはＴＮモードであることが好ましいが、これらに限定されるものではない。ＶＡモードの液晶表示装置の構成としては、特開２００８−２６２１６１号公報の図２に示す構成が一例として挙げられる。ただし、液晶表示装置の具体的構成には特に制限はなく、公知の構成を採用することができる。
【０２６５】
液晶表示装置１０４には、さらに必要に応じて光学補償を行う光学補償部材、接着層などの付随する機能層を有する。また、カラーフィルター基板、薄層トランジスタ基板、レンズフィルム、拡散シート、ハードコート層、反射防止層、低反射層、アンチグレア層等とともに（またはそれに替えて）、前方散乱層、プライマー層、帯電防止層、下塗り層等の表面層が配置されていてもよい。
【０２６６】
バックライト側偏光板１２０は、液晶セル１１０側の偏光板保護フィルム１２３として、位相差フィルムを有していてもよい。このような位相差フィルムとしては、公知のセルロースアシレートフィルム等を用いることができる。
【０２６７】
バックライトユニット１０２および液晶表示装置１０４は、上記本発明の光吸収体含有フィルムからなる波長変換部材を備えてなる。従って、上記本発明の光吸収体含有フィルムと同様の効果を奏し、量子ドットを含む波長変換層の発光強度が低下しにくい、高輝度なバックライトユニットおよび液晶表示装置となる。
【実施例】
【０２６８】
以下に実施例に基づき本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。【０２６９】
[実施例１]
＜光吸収体含有フィルムの作製＞
第一の態様の光吸収体含有フィルムとして、光吸収体として量子ドットを含有する塗布液を用いて光吸収体含有層を有する光吸収体含有フィルムを作製した。【０２７０】
（バリアフィルムの作製）
第１の基材フィルムおよび第２の基材フィルムとして、ＰＥＴからなる支持フィルム上に無機層からなるバリア層およびそのバリア層上に下記組成物を塗工した有機層が形成されてなるバリアフィルムを以下のようにして作製した。【０２７１】
支持体としてＰＥＴフィルム（東洋紡社製、商品名「コスモシャイン（登録商標）Ａ４３００」、厚さ２３μｍ）を用いて、支持体の片面側に以下の手順で有機層および無機層を順次形成した。【０２７２】
−有機層の形成−
トリメチロールプロパントリアクリレート（製品名「ＴＭＰＴＡ」、ダイセル・オルネクス社製）および光重合開始剤（商品名「ＥＳＡＣＵＲＥ（登録商標）  ＫＴＯ４６」、ランベルティ社製）を用意し、質量比率として９５：５となるように秤量し、これらをメチルエチルケトンに溶解させ、固形分濃度１５％の塗布液とした。この塗布液を、ダイコーターを用いてロールトゥロールにてＰＥＴフィルム上に塗布し、５０℃の乾燥ゾーンを３分間通過させた。その後、窒素雰囲気下で紫外線を照射（積算照射量約６００ｍＪ／ｃｍ2）し、紫外線硬化にて硬化させ、巻き取った。支持体上に形成された有機層の厚さは、１μｍであった。【０２７３】
−無機層の形成−
次に、ロール・トゥ・ロールのＣＶＤ装置を用いて、有機層の表面に無機層（窒化ケイ素層）を形成した。原料ガスとして、シランガス（流量１６０ｓｃｃｍ）、アンモニアガス（流量３７０ｓｃｃｍ）、水素ガス（流量５９０ｓｃｃｍ）、および窒素ガス（流量２４０ｓｃｃｍ）を用いた。電源として、周波数１３．５６ＭＨｚの高周波電源を用いた。製膜圧力は４０Ｐａ、到達膜厚は５０ｎｍであった。このようにして支持体上に形成された有機層の表面に無機層が積層されたバリアフィルムを作製した。【０２７４】
さらに、無機層の表面に、第二の有機層を積層した。第二の有機層には、ウレタン骨格アクリレートポリマー（商品名「アクリット８ＢＲ９３０」、大成ファインケミカル社製）９５．０質量部に対して、光重合開始剤（商品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４」、ＢＡＳＦ社製）５．０質量部を秤量し、これらをメチルエチルケトンに溶解させ、固形分濃度１５％の塗布液とした。【０２７５】
この塗布液を、ダイコーターを用いてロールトゥロールにより上記無機層表面に直接に塗布し、１００℃の乾燥ゾーンを３分間通過させた。その後、６０℃に加熱したヒートロールに抱かせながら、紫外線を照射（積算照射量約６００ｍＪ／ｃｍ2）して硬化させ、巻き取った。支持体上に形成された第二の有機層の厚さは、１μｍであった。このようにして第二の有機層付きのバリアフィルムを作製した。
このバリアフィルムの酸素透過度をＭＯＣＯＮ社製、ＯＸ−ＴＲＡＮ  ２／２０を用いて測定したところ、４．０×１０-3ｃｃ／（ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍ）以下の値を示した。【０２７６】
（樹脂層の形成）
樹脂層形成用の塗布液１として、硬化性化合物、重合開始剤、および、シランカップリング剤などの各成分をタンクなどにより混合し、塗布液を調製した。【０２７７】
−樹脂層の塗布液１の組成−
下記の組成の樹脂層用塗布液を調製し、塗布液１とした。
・トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（Ａ−ＤＣＰ、新中村化学工業社製）
８４質量部
・合成板状アルミナ  平均粒径２．０μｍ（セラフ、キンセイマテック社製）
１５質量部
・光重合開始剤（イルガキュア８１９、ＢＡＳＦ社製）          １質量部【０２７８】
【化１４】
0006715946.tif 000015
【０２７９】
−樹脂層の形成−
第１の基材フィルム上に樹脂層用塗布液１を塗布し、凹部を転写した後に光硬化させて、複数の凹部を有する樹脂層３８Ａを形成した。なお、転写に用いる金型には、凹部の角部に曲率半径１０μｍの丸みが付いたものを使用した。
凹部は、２５０×２５０μｍの正方形状で、格子状パターンとした（光吸収領域の幅２５０μｍ）。
ここで、任意の１５５×９８ｍｍの領域において、四辺の端を含む１ｃｍ内側までの領域における凹部の深さを１００μｍ、隣接する凹部の間の樹脂層３８Ａの幅を５０μｍとし、それ以外の領域の凹部は、深さを５０μｍ、隣接する凹部の間の樹脂層３８Ａの幅を５０μｍとした。すなわち、本例では、深さが５０μｍの中央部の凹部（光吸収領域）を、深さが１００μｍの周辺部の凹部（光吸収領域）が囲む構成となっている。
また、光硬化には、２００Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス社製）を用いて、紫外線を第1の基材フィルム側より５００ｍＪ／ｃｍ2照射して樹脂層を硬化させた。
また、硬化後の樹脂層の弾性率を、ＪＩＳ  Ｋ７１６１の基準に従って計測した結果、３．１ＧＰａであった。【０２８０】
（光吸収領域の形成および基材フィルムの貼着）
光吸収領域を形成する塗布液２として、量子ドット、硬化性化合物、および、重合開始剤などの各成分をタンクなどにより混合し、塗布液を調製した。【０２８１】
−光吸収領域用の塗布液２の組成−
下記の組成の量子ドット分散液を調製し、塗布液２とした。
・量子ドット１のトルエン分散液（発光極大：５２０ｎｍ）    ２０質量％
・量子ドット２のトルエン分散液（発光極大：６３０ｎｍ）      ２質量％
・ジシクロペンタニルアクリレート（ＤＣＰ：ＦＡ−５１３ＡＳ、日立化成社）                                                   ７８．８質量％
・トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（Ａ−ＤＣＰ、新中村化学工業社製））                                              ２０質量％
・光重合開始剤（イルガキュアＴＰＯ、ＢＡＳＦ社製）      ０．２質量％【０２８２】
上記量子ドット１、２としては、下記のコアーシェル構造（ＩｎＰ／ＺｎＳ）を有するナノ結晶を用いた。
・量子ドット１：ＩＮＰ５３０−１０（ＮＮ−ｌａｂｓ社製）
・量子ドット２：ＩＮＰ６２０−１０（ＮＮ−ｌａｂｓ社製）【０２８３】
−光吸収領域形成用塗布液の塗布および基材フィルムの貼着−
複数の凹部を有する樹脂層と第１の基材フィルム上に光吸収領域形成用塗布液２を塗布し凹部内に塗布液２を充填し、第２の基材フィルムを貼着した後に光硬化させて、樹脂層の複数の凹部内に光吸収領域が形成された光吸収領域含有層を形成して光吸収体含有フィルムを作製した。
また、光硬化には、２００Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス社製）を用いて、紫外線を第1の基材フィルム側より５００ｍＪ／ｃｍ2照射して光吸収領域を硬化させた。次いで、凹部を形成した先の１５５×９８ｍｍの領域を切り出した。
以上のようにして、光吸収体含有フィルム１を得た。【０２８４】
[実施例２]
全ての凹部（光吸収領域）の深さを５０μｍとし、かつ、四辺の端を含む１ｃｍ内側までの領域において、凹部を５００×５００μｍ（樹脂層の幅５０μｍ）とした以外は、実施例１と同様にして、樹脂層を形成し、光吸収体含有フィルム２を得た。すなわち、本例では、２５０×２５０μｍの中央部の凹部（幅２５０μｍの光吸収領域）を、５００×５００μｍの周辺部の凹部（幅５００μｍの光吸収領域）が囲む構成になっている。【０２８５】
［比較例１]
周辺部の樹脂層の深さを全て５０μｍとする以外は、実施例１と同様にして、樹脂層を形成し、光吸収体含有フィルム３を得た。【０２８６】
[実施例３]
第二の態様の光吸収体含有フィルムとして、樹脂層に代えて下記のようにして枠体を形成し枠体内に光吸収領域を有する構成とした以外は、実施例１と同様にして光吸収体含有フィルム４を得た。【０２８７】
（枠体の形成）
枠体形成用の塗布液３として、硬化性化合物、重合開始剤、第２の光吸収体、および、散乱粒子などの各成分をタンクなどにより混合し、塗布液を調製した。【０２８８】
−枠体形成用の塗布液３の組成−
下記の組成の枠体用塗布液を調製し、塗布液３とした。
・トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（Ａ−ＤＣＰ、新中村化学工業社製）
７５質量部
・ＹＡＧ蛍光体（ＺＹＰ５５０Ｇ３（ＹＵＪＩ  ＬＥＤ（Ｙｕｊi Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ社製）                                  １０質量部
・合成板状アルミナ  平均粒径２．０μｍ（セラフ、キンセイマテック社製）                                                        １４質量部
・光重合開始剤（イルガキュア８１９、ＢＡＳＦ社製）          １質量部【０２８９】
−枠体の形成−
枠体形成用塗布液３を金型に流し込んだ後、第１の基材フィルムを貼り合せて、光硬化させて、第１の基材フィルム上に枠体３８Ｂを形成した。なお、枠体の形成に用いる金型には、凹部の角部に曲率半径１０μｍの丸みが付いたものを使用した。
また、枠体は外周が１５５ｍｍ×９８ｍｍの矩形状とし、枠体の断面形状は三角形状、幅は１ｍｍ、高さは７０μｍとした。また、枠体の頂点部および裾野部の曲率半径は１０μｍであった。
また、光硬化には、２００Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス社製）を用いて、紫外線を第１の基材フィルム側より５００ｍＪ／ｃｍ2照射して枠体を硬化させた。
また、枠体の酸素透過係数を上述した方法により測定したところ、枠体の酸素透過係数は３cc/（m2・day・atm）であった。【０２９０】
−光吸収領域形成用塗布液の塗布および基材フィルムの貼着−
第１の基材フィルム上の枠体の内側に、光吸収領域形成用塗布液２を塗布し、枠体の内側に塗布液２を充填し、第２の基材フィルムを貼着した後に光硬化させて、光吸収領域および光吸収層を囲む枠体を有する光吸収領域含有層を形成して光吸収体含有フィルムを作製した。【０２９１】
また、光硬化には、２００Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス社製）を用いて、紫外線を第１の基材フィルム側より５００ｍＪ／ｃｍ2照射して光吸収領域を硬化させた。
次いで、枠体外周部である１５５ｍｍ×９８ｍｍの領域を切り出した。
以上のようにして、光吸収体含有フィルム４を得た。【０２９２】
[実施例４]
３個の枠体を有する構成とした以外は、実施例３と同様にして光吸収体含有フィルム５を作製した。【０２９３】
３個の枠体は、それぞれ異なる大きさで、大きい枠体が小さい枠体を内包するように多重に設けた。
また、最も外側に位置する（最も大きい）枠体は外周が１５５ｍｍ×９８ｍｍの矩形状とし、３個の枠体は、それぞれ０．３ｍｍ幅となるようにした。また、枠体間の距離は３ｍｍとした。
また、いずれの枠体も、頂点部および裾野部の曲率半径は１０μｍとした。【０２９４】
また、最も外側の枠体と中間に位置する枠体の間、中間に位置する枠体と最も内側に位置する枠体の間、ならびに、最も内側に位置する枠体の内側に、光吸収領域が充填される構成とした。【０２９５】
最も大きい枠体の酸素透過係数を上述した方法により測定したところ、酸素透過係数は１０cc/（m2・day・atm）であった。
また、大きい枠体の外周部である１５５ｍｍ×９８ｍｍの領域を切り出して、光吸収体含有フィルム５とした。【０２９６】
[実施例５]
３個の枠体を有する構成とした以外は、実施例３と同様にして光吸収体含有フィルム６を作製した。【０２９７】
３個の枠体は、それぞれ異なる大きさで、大きい枠体が小さい枠体を内包するように多重に設けた。
また、最も外側に位置する（最も大きい）枠体は外周が１５５ｍｍ×９８ｍｍの矩形状とし、枠体の幅は０．６ｍｍとした。また、最も外側に位置する枠体の内周と中間に位置する枠体の外周の距離を３ｍｍ、中間に位置する枠体の幅を０．３ｍｍとした。また、中間に位置する枠体の内周と、最も内側に位置する（最も小さい）枠体の外周の距離が３ｍｍ、最も小さい枠体の幅を０．２ｍｍとした。
また、いずれの枠体も、頂点部および裾野部の曲率半径は１０μｍとした。【０２９８】
また、最も外側の枠体と中間に位置する枠体の間、中間に位置する枠体と最も内側に位置する枠体の間、ならびに、最も内側に位置する枠体の内側に、光吸収領域が充填される構成とした。【０２９９】
また、最も大きい枠体の酸素透過係数を上述した方法により測定したところ、酸素透過係数は５cc/（m2・day・atm）であった。
また、大きい枠体の外周部である１５５ｍｍ×９８ｍｍの領域を切り出して、光吸収体含有フィルム６とした。【０３００】
[実施例６]
枠体の断面形状を以下の形状とした以外は実施例３と同様にして光吸収体含有フィルム７を作製した。
枠体の断面形状は矩形で、頂点部および裾野部に曲率半径を付与されないものとした。すなわち、枠体の形成に用いる金型には、凹部の角部に曲率半径が付いていないものを使用した。
枠体の酸素透過係数は３cc/（m2・day・atm）であった。
また、枠体外周部である１５５ｍｍ×９８ｍｍの領域を切り出して、光吸収体含有フィルム７とした。【０３０１】
［比較例２]
枠体を有さず、光吸収領域が第１の基材フィルムおよび第２の基材フィルムの間に形成された構成とした以外は実施例３と同様にして光吸収体含有フィルムを作製した。
得られた光吸収体含有フィルムを、１５５×９８ｍｍの領域を切り出して、光吸収体含有フィルム８を得た。【０３０２】
［比較例３]
枠体形成用塗布液３に代えて、下記の枠体形成用塗布液４を用いて、枠体がガスバリア性を有さない構成とした以外は実施例１と同様にして光吸収体含有フィルムを作製した。
得られた光吸収体含有フィルムを、１５５×９８ｍｍの領域を切り出して、光吸収体含有フィルム９を得た。【０３０３】
−枠体形成用の塗布液４の組成−
下記の組成の枠体用塗布液を調製し、塗布液４とした。
・ジシクロペンタニルアクリレート（ＤＣＰ：ＦＡ−５１３ＡＳ、日立化成社）                                                      ８９質量部
・ＹＡＧ蛍光体（ＺＹＰ５５０Ｇ３（ＹＵＪＩ  ＬＥＤ（Ｙｕｊi Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ社製）                                  １０質量部
・光重合開始剤（イルガキュア８１９、ＢＡＳＦ社製）          １質量部【０３０４】
枠体の酸素透過係数を上述した方法により測定したところ、枠体の酸素透過係数は５０cc/（m2・day・atm）であった。【０３０５】
［評価]
(バックライトユニットへの実装)
バックライトユニットに青色光源を備える市販のタブレット端末（商品名「Ｋｉｎｄｌｅ（登録商標）Ｆｉｒｅ  ＨＤＸ  ７」、Ａｍａｚｏｎ社製、以下、単に「Ｋｉｎｄｌｅ  Ｆｉｒｅ  ＨＤＸ  ７」と記載する場合がある）を分解し、バックライトユニットを取り出した。バックライトユニットに組み込まれていた波長変換フィルムＱＤＥＦ（Quantum Dot Enhancement Film）に代えて矩形に切り出した各実施例または比較例の光吸収体含有フィルムを波長変換部材として組み込んだ。このようにしてバックライトユニットを作製した。
作製したバックライトユニットを点灯させ、導光板の面に対して垂直方向５２０ｍｍの位置に設置した輝度計（商品名「ＳＲ３」、ＴＯＰＣＯＮ社製）にて輝度、および色度を測定した。【０３０６】
（面内色度ムラの評価）
上記輝度測定と同一の評価装置によりＣＩＥｘ，ｙ色度を測定し、面内２５点の平均値からの色度変動値Δｘｙを算出した。色度変動値Δｘｙを下記評価基準に基づいて評価した。なお、面内２５点はバックライト中央部、および４辺から５ｃｍ内側となる点を含むように測定した。
−評価基準−
Ａ：Δｘｙ≦０．００５
Ｂ：０．００５＜Δｘｙ≦０．０１０
Ｃ：０．０１０＜Δｘｙ≦０．０１５
Ｄ：０．０１５＜Δｘｙ
Ａ〜Ｃであれば、実用上問題ない。【０３０７】
上記で作製したバックライトユニットの点灯直後、および、６０℃、Ｄｒｙ５００時間点灯後、または、１０００時間点灯後に面内色度ムラを測定した。結果を表１および表２に示す。
【０３０８】
【表１】
0006715946.tif 000016
【０３０９】
【表２】
0006715946.tif 000017
【０３１０】
実施例１の光吸収体含有フィルム１は面内に光吸収領域の厚さ（凹部の深さ）に分布がある。
実施例２の光吸収体含有フィルム２は面内に光吸収領域の大きさ（凹部の大きさ（光吸収領域の幅））に分布がある。
比較例１の光吸収体含有フィルム３は光吸収領域の厚さ、および、光吸収領域の大きさが、面内で均一である。
実施例１および２はフィルム面内に色味分布を付与することで、バックライトに組み込んだ際に面内ムラが低減している。【０３１１】
実施例３〜６の光吸収体含有フィルム４〜７は、第２の光吸収体を含有する枠体を有し、枠体の酸素透過係数が２０cc/（m2・day・atm）以下である。
実施例３〜５は、枠体の頂点部及び裾野部の曲率半径が５〜２００μｍの範囲にある。
比較例２の光吸収体含有フィルム８は枠体を有さない。
比較例３の光吸収体含有フィルム９は、枠体の酸素透過係数が５０cc/（m2・day・atm）である。
実施例３〜６はバックライトに組み込んだ初期、及び６０℃、Ｄｒｙ１０００時間点灯後の表示ムラが比較例２および３に比べて低減されている。特に、３重の枠体を有し、外側の枠体と比べ内側の枠体の幅が狭く、枠体の頂点部及び裾野部に曲率半径を有する光吸収体含有フィルム６は面内の表示ムラが少なく良好である。
以上から本発明の効果は明らかである。
【符号の説明】
【０３１２】
１  光吸収体含有フィルム
１０，２０  基材フィルム
１１，２１  支持フィルム
１２，２２  バリア層
３０  光吸収体含有層
３１  光吸収体（第１の光吸収体）
３２  第２の光吸収体
３３  バインダ
３４  バインダ
３５  光吸収体を含む領域（光吸収領域）
３８Ａ  樹脂層
３８Ｂ  枠体（樹脂層）
３９  樹脂層
４０  積層フィルム
１００  波長変換部材
１０１Ａ  光源
１０１Ｂ  導光板
１０１Ｃ  面状光源
１０２  バックライトユニット
１０２Ａ  反射板
１０２Ｂ  再帰反射性部材
１０３  液晶セルユニット
１０４  液晶表示装置
１１０  液晶セル
１２０，１３０  偏光板
１２１，１２３，１３１，１３３  偏光板保護フィルム
１２２，１３２  偏光子
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
0006715946.tif 000030
【図１４】
0006715946.tif 000031
【図１５】
0006715946.tif 000032
【図１６】
0006715946.tif 000033
【図１７】
0006715946.tif 000034
【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
0006715946.tif 000037
【図２１】
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【図２２】
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