(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
フィルムの少なくとも一方の面にガスバリア層を有するガスバリア性フィルムの製造方法であって、
（１）ポリマーを溶媒に溶解したポリマー溶液を支持体上に塗布する工程、
（２）ガスバリア性物質前駆体をポリマー溶液に用いる溶媒に混合し、塗布されたポリマー溶液にガスバリア性物質前駆体を塗布する工程、
（３）上記（１）および（２）の溶媒を除去するとともに、ガスバリア性物質前駆体を硬化する工程、
を含み、
上記ポリマー溶液に用いるポリマーがポリイミドまたはポリアミック酸の少なくともいずれか１つを含み、
上記ガスバリア性物質前駆体が、ポリシラザン化合物、金属アルコキシドの少なくともいずれか１つを含み、
ガスバリア性フィルムの水蒸気透過度が、８．１７×１０−１ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることを特徴とする、ガスバリア性フィルムの製造方法。
【請求項２】
塗布されたポリマー溶液にガスバリア性物質前駆体を塗布する工程が、ポリマー溶液を支持体上に塗布する工程の直後であることを特徴とする、請求項１に記載のガスバリア性フィルムの製造方法。
【請求項３】
塗布されたポリマー溶液にガスバリア性物質前駆体を塗布する工程が、ポリマー溶液を支持体上に塗布し、その後加熱処理を行い、自己支持性フィルムとなった後であることを特徴とする、請求項１に記載のガスバリア性フィルムの製造方法。
【請求項４】
ポリマー溶液が硬化剤を含むことを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項に記載のガスバリア性フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガスバリアフィルムの製造方法に関し、良好なガスバリア性を有するとともに、高価な真空設備を用いるスパッタ工程などの工程が不要であり、簡便かつ低コストで製造できる製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
これまで、ディスプレイ用基板等の電子デバイスに用いられる基板は、優れたガスバリア性および耐熱性等を有するガラスが用いられてきた。しかし、近年は電子デバイスのフレキシブル化の検討がなされ、基板には、軽量、高強度、フレキシブル性等の特性が求められてきており、プラスチックフィルムが検討され始めている。しかし、プラスチックフィルムは、ガラスと比較して水蒸気等のガスを透過しやすく、また耐熱性が不十分である等、実用化には多くの課題がある。
【０００３】
このような課題を解決するため、特許文献１には、プラスチックフィルム上にプラズマ化学気相蒸着法によりガスバリア性が高く、高耐熱性である金属酸化物膜を形成したガスバリア性フィルムが開示されている。
【０００４】
特許文献２には、プラスチックフィルム上に無機前駆体化合物を塗布して塗膜を形成し、該塗膜に対し、エキシマランプを用いて真空紫外線を照射することにより無機化合物膜を形成したガスバリア性フィルムが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１１−１４４４３８号公報
【特許文献２】特開２０１２−１１６１０１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、特許文献１に開示されたプラズマ化学気相蒸着法は、無機化合物の膜形成に大型の真空設備が必要となり、加えて膜形成の生産速度が遅く、製造コストを低減することが難しい。特許文献２に開示された方法でも、プラスチックフィルムに塗布、乾燥する工程に加え、真空紫外線を照射する工程を要するため、工程や必要な設備が多くなることなどが課題である。
【０００７】
本発明の課題は、良好なガスバリア性を有するとともに、大型の真空設備や多くの工程が不要であり、簡便かつ低コストで製造できるガスバリア性フィルムの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
これらの課題を解決するため、本発明者はポリマーフィルムとガスバリア性層を同時に形成することにより、大型の真空設備や特別な処理を必要とせず、さらに簡便なプロセスで優れたガスバリア性フィルムを製造できる方法を見い出し、本発明を完成するに至った。
【０００９】
すなわち、本発明は、フィルムの少なくとも一方の面にガスバリア層を有するガスバリア性フィルムの製造方法であって、
（１）ポリマーを溶媒に溶解したポリマー溶液を支持体上に塗布する工程、
（２）塗布されたポリマー溶液にガスバリア性物質前駆体を塗布する工程、
（３）溶媒を除去するとともに、ガスバリア性物質前駆体を硬化する工程、
を含むことを特徴とする、ガスバリア性フィルムの製造方法に関する。
【００１０】
好ましい実施態様は、ガスバリア性物質前駆体をポリマー溶液に用いる溶媒に混合する工程を含むことを特徴とする、上記のガスバリア性フィルムの製造方法に関する。
【００１１】
好ましい実施態様は、塗布されたポリマー溶液にガスバリア性物質前駆体を塗布する工程が、ポリマー溶液を支持体上に塗布する工程の直後であることを特徴とする、上記のガスバリア性フィルムの製造方法に関する。
【００１２】
好ましい実施態様は、塗布されたポリマー溶液にガスバリア性物質前駆体を塗布する工程が、ポリマー溶液を支持体上に塗布し、その後加熱処理を行い、自己支持性フィルムとなった後であることを特徴とする、上記のガスバリア性フィルムの製造方法に関する。
【００１３】
好ましい実施態様は、ガスバリア性物質前駆体が、ポリシラザン化合物、金属アルコキシド、金属塩、または有機金属錯体の少なくともいずれか１つを含むことを特徴とする、上記のガスバリア性フィルムの製造方法に関する。
【００１４】
好ましい実施態様は、ポリマー溶液に用いるポリマーがポリイミドまたはポリアミック酸の少なくともいずれか１つを含むことを特徴とする、上記のガスバリア性フィルムの製造方法に関する。
【００１５】
好ましい実施態様は、ポリマー溶液が硬化剤を含むことを特徴とする、上記のガスバリア性フィルムの製造方法に関する。
【発明の効果】
【００１６】
本発明のガスバリア性フィルムの製造方法によると、ポリマーフィルムの形成と同時にガスバリア性層を形成することで工程を簡略化できる。加えて真空装置や紫外線照射する装置が不要となる。これらにより、簡便な製造プロセスで良好なガスバリア性、特に水蒸気バリア性を発現するガスバリア性フィルムが得られる。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
本発明の実施の形態について、以下に説明する。ただし、本発明はこれに限定されるものではなく、記述した範囲内で種々の変形を加えた態様で実施できる。
【００１８】
なお、本明細書において特記しない限り、数値範囲を表す「Ａ〜Ｂ」は、「Ａ以上（Ａを含みかつＡより大きい）、Ｂ以下（Ｂを含みかつＢより小さい）」を意味する。
【００１９】
本発明のガスバリア性フィルムの製造方法は、
（１）ポリマーを溶媒に溶解したポリマー溶液を支持体上に塗布する工程、
（２）塗布されたポリマー溶液にガスバリア性物質前駆体を塗布する工程、
（３）溶媒を除去するとともに、ガスバリア性物質前駆体を硬化する工程、
を含む製造方法により、ポリマーフィルムの少なくとも一方の面にガスバリア層を有するガスバリア性フィルム製造方法である。
【００２０】
＜ポリマー＞
本発明の製造方法において用いるポリマーは、特に限定されず、熱可塑性ポリマー、熱硬化性ポリマーや光硬化性ポリマーなどを例示できる。より具体的には、シクロオレフィン系ポリマー、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミド−イミド又はポリエステル−イミド等の各種ポリマーを挙げることができる。これらのポリマーは、いずれか一種類を単独で使用しても良いし、異なるポリマー２種類以上の混合物として使用してもよい。その中でも、高耐熱性、高強度を有するポリイミドが特に好ましい。
【００２１】
ポリイミドは、ポリアミック酸を前駆体として得られる。ポリアミック酸は、芳香族ジアミン（以下、ジアミンともいう）と芳香族酸二無水物（以下、酸二無水物ともいう）とを反応させて得られる。より具体的には、通常、芳香族ジアミンと芳香族酸二無水物とを、実質的に等モル量となるように有機溶媒中に溶解させて、得られた溶液を、制御された温度条件下で、酸二無水物とジアミンとの重合が完了するまで撹拌することによって製造される。このようにして得られたポリアミック酸を含む溶液は、通常５重量％〜３５重量％、より好ましくは１０重量％〜３０重量％の濃度で得られる。この範囲の濃度である場合に適切な分子量と溶液粘度となり、フィルム等へ成形することが容易なポリマー溶液を得ることが可能となる。
【００２２】
芳香族ジアミンは、特に限定されるものではないが、例えば、３，３’−ジアミノジフェニルエーテル、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、２，２−ビス｛４−（４−アミノフェノキシ）フェニル｝プロパン、２，２−ビス｛４−（４−アミノフェノキシ）フェニル｝ヘキサフルオロプロパン、ビス｛４−（３−アミノフェノキシ）フェニル｝スルホン、ビス｛４−（４−アミノフェノキシ）フェニル｝スルホン、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、３，３’−ジアミノベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、３，３’−ジクロロベンジジン、３，３’−ジメチルベンジジン、２，２’−ジメチルベンジジン、３，３’−ジメトキシベンジジン、２，２’−ジメトキシベンジジン、１，４−ジアミノベンゼン（ｐ−フェニレンジアミン）、１，３−ジアミノベンゼン（ｍ−フェニレンジアミン）、４、４’−ジアミノジフェニルスルホン、３、３’−ジアミノジフェニルスルホン、９、９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン、４、４’−（１，４−フェニレンビス（１−メチルエチリデン））ビスアニリン、４、４’−（１，３−フェニレンビス（１−メチルエチリデン））ビスアニリン、４、４’−ジアミノベンズアニリド等、またはこれらの２種類以上の組み合わせを挙げることができる。
【００２３】
芳香族酸二無水物も、特に限定されるものではないが、例えば、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、４，４’−オキシジフタル酸二無水物、３，４’−オキシフタル酸二無水物、エチレンビス（トリメリット酸モノエステル酸無水物）、ビスフェノールＡビス（トリメリット酸モノエステル酸無水物）、ピロメリット酸二無水物、２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジメチルジフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−テトラフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−フランテトラカルボン酸二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルプロパン二無水物、４，４’−ヘキサフルオロイソプロピリデンジフタル酸無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ｐ−フェニレンビス（トリメリット酸モノエステル無水物）、ｐ−フェニレンジフタル酸無水物等の芳香族テトラカルボン酸二無水物等、またはこれらの２種類以上の組み合わせを挙げることができる。
【００２４】
なお、これら芳香族ジアミンと芳香族酸二無水物とは、実質的に等モル量となるように反応させればよく、添加の順序、モノマーの組み合わせおよび組成は特に限定されるものではない。
【００２５】
ポリアミック酸を製造するための重合用溶媒として用いられる有機溶媒は、芳香族ジアミン成分、芳香族酸二無水物成分、および得られるポリアミック酸を溶解するものであれば、特に限定されるものではない。重合用溶媒として、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等を用いれば、得られるポリアミック酸の溶液をそのまま、フィルム化に用いるポリアミック酸溶液（ワニス）とすることができる。
【００２６】
ポリアミック酸を製造するための反応温度は特に制限されないが、−１０℃〜＋５０℃であることが好ましい。かかる範囲内であることにより、良好な反応速度で反応が進み、生産性に優れるため好ましい。また、反応時間も特に限定されるものではないが、通常数分〜数時間である。
【００２７】
ポリイミドは、ポリアミック酸を熱処理（熱キュア法ともいう）または硬化剤と混合して熱処理（化学キュア法ともいう）して、イミド化したポリマーである。硬化剤とは、脱水剤および触媒を含む趣旨である。ここで脱水剤とは、ポリアミド酸に対する脱水閉環剤であれば特に限定されるものではないが、例えば、脂肪族酸無水物、芳香族酸無水物、Ｎ，Ｎ’−ジアルキルカルボジイミド、低級脂肪族ハロゲン化物、ハロゲン化低級脂肪族酸無水物、アリールスルホン酸ジハロゲン化物、チオニルハロゲン化物等を挙げることができる。これらは単独で用いてもよいし、２種類以上を適宜組み合わせて用いてもよい。これらの中でも、脂肪族酸無水物または芳香族酸無水物を特に好適に用いることができる。
【００２８】
触媒としては、ポリアミド酸に対する脱水剤の脱水閉環作用を促進する効果を有する成分であれば特に限定されるものではないが、具体的には、例えば、脂肪族３級アミン、芳香族３級アミン、複素環式３級アミン等を挙げることができる。これらの中でも、例えば、イミダゾール、ベンズイミダゾール、イソキノリン、キノリン、ジエチルピリジンまたはβ−ピコリン等の含窒素複素環化合物が特に好ましく用いられる。
【００２９】
＜溶媒＞
本発明の製造方法において用いる溶媒は、ポリマーとガスバリア性物質前駆体を溶解できるものであればよく、使用するポリマー材料及びガスバリア性物質前駆体に応じて適宜選択することができる。具体的には、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、フェノール、ｐ−クロロフェノール等のフェノール類、メタノール、エタノール等のアルコール類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、１，２−ジメトキシベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、酢酸エチル、ｔ−ブチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、２−メチル−２，４−ペンタンジオール、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ピリジン、トリエチルアミン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、アセトニトリル、ブチロニトリル、メチルイソブチルケトン、メチルエーテルケトン、シクロヘキサン、シクロペンタノン、二硫化炭素、水等を用いることができる。これら溶媒は、１種又は２種以上を適宜に組み合わせて使用することができる。
【００３０】
＜ガスバリア性物質前駆体＞
本発明の製造方法において用いるガスバリア性物質前駆体は、熱、光等のエネルギーを与えることにより酸素や水等と反応し、ガスバリア性物質に変化するものであれば特に限定なく使用することでき、目的のバリア性に応じて適宜選択することができる。具体的には、例えば、ポリシラザン化合物、金属アルコキシド、金属塩、有機金属錯体等を用いることができる。これらガスバリア性物質前駆体は、１種又は２種以上を適宜に組み合わせて使用することもできる。
【００３１】
ポリシラザン化合物はケイ素（Ｓｉ）、窒素（Ｎ）、水素（Ｈ）のみから構成される化合物であり、ヒドロキシル基を有する物質と反応して二酸化ケイ素を生成する物質である。例えば、一般式（ＳｉＲ４Ｒ５ＮＲ６）（ただし、Ｒ４〜Ｒ６はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜８の有機基、炭素数１〜８の置換有機基）で表される構造であるが、中でも一般式（ＳｉＨ２ＮＨ）で表されるペルヒドロポリシラザンが好ましい。ポリシラザン化合物は有機溶媒に溶解した溶液状態で市販されているなど入手が容易であり、市販品等をそのままガスバリア性物質前駆体を含むガスバリアー層形成用塗布液として使用することができる。ポリシラザン溶液の市販品としては、ＡＺエレクトロニックマテリアルズ株式会社製のアクアミカ（登録商標）ＮＮ１２０−１０、ＮＮ１２０−２０、ＮＡＸ１２０−２０、ＮＮ１１０、ＮＮ３１０、ＮＮ３２０、ＮＬ１１０Ａ、ＮＬ１２０Ａ、ＮＬ１２０−２０、ＮＬ１５０Ａ、ＮＰ１１０、ＮＰ１４０、ＳＰ１４０等が挙げられる。
【００３２】
金属アルコキシドはアルコール（Ｒ−ＯＨ）の水素原子を金属で置換した化合物である。例えば、一般式（Ｒ１）ｎ−ｘ−Ｍ−（ＯＲ２）ｘ（ただし、Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ独立に、炭素数１〜８の有機基、Ｍは金属原子。ｘは２〜４であり、ｎは２〜４である）で表されるものである。金属原子としてはＳｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｚｒ等を挙げることができる。
【００３３】
金属ＭがＳｉである（Ｒ１）ｎ−ｘ−Ｓｉ−（ＯＲ２）ｘとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン等を挙げることができる。 
【００３４】
金属ＭがＺｒである（Ｒ１）ｎ−ｘ−Ｚｒ−（ＯＲ２）ｘとしては、テトラメトキシジルコニウム、テトラエトキシジルコニウム、テトライソプロポキシジルコニウム、テトラブトキシジルコニウム等を挙げることができる。  
【００３５】
金属ＭがＴｉである（Ｒ１）ｎ−ｘ−Ｔｉ−（ＯＲ２）ｘとしては、テトラメトキシチタニウム、テトラエトキシチタニウム、テトライソプロポキシチタニウム、テトラブトキシチタニウム等を挙げることができる。 
【００３６】
金属ＭがＡｌである（Ｒ１）ｎ−ｘ−Ａｌ−（ＯＲ２）ｘとしては、テトラメトキシアルミニウム、テトラエトキシアルミニウム、テトライソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシアルミニウム等を挙げることができる。 
【００３７】
これら金属アルコキシドは、１種又は２種以上を適宜に組み合わせて使用することができる。
【００３８】
金属塩は金属陽イオンと陰イオンがイオン結合した化合物である。例えば、金属の硝酸塩、硫酸塩、リン酸塩、炭酸塩、酢酸塩および蓚酸塩などが挙げられる。より具体的には、熱、光等のエネルギーを与えることで酸化物、窒化物または酸窒化物が形成できる金属塩であれば、特に制限なく本発明に使用できる。これらの金属塩を構成する金属元素としては、特に制限されないが、Ａｌ、Ｔｉ、Ｓｉからなる群から選択される少なくとも一種を含むことが好ましい。また、金属塩の中で、特に硝酸塩を用いることが好ましい。硝酸塩は分解温度が低く、水酸化物を経由せずに結晶水の脱離過程と同時に酸化物形成が進行する。
【００３９】
有機金属錯体は、例えば、アセチルアセトン錯体などのβ−ジケトン錯体類が挙げられる。これらのアセチルアセトン錯体は、末端メチル基の代わりにトリフルオロプロピル基が導入されていてもよい。これら各種有機金属錯体は、１種又は２種以上を適宜に組み合わせて使用することができる。
【００４０】
＜ガスバリア性フィルムの製造方法＞
本発明のガスバリア性フィルムの製造方法を説明する。ポリマーを溶媒に溶解したポリマー溶液を支持体（例えば、金属、セラミック、ポリマー製のロールまたはベルト）の表面上に流延してポリマー溶液膜を形成する。ポリマー溶液膜は特に制限されないが、好ましくは約１０μｍ〜２０００μｍ、特に好ましくは２０μｍ〜１０００μｍ程度の均一な厚みのポリマー溶液膜を形成する。次いで、塗布されたポリマー溶液膜にガスバリア性物質前駆体を塗布する。
【００４１】
ポリマー溶液膜にガスバリア性物質前駆体を塗布する工程は特に制限ない。ポリマー溶液を支持体上に塗布する工程の直後でも構わない。また、ポリマー溶液を支持体上に塗布し、その後加熱処理を行い、ポリマー溶液が自己支持性フィルムとなった後でも構わない。塗布時のハンドリング性が良好となるようにポリマー溶液膜が自己支持性フィルムを形成している状態で塗布する工程が好ましい。塗布方法としては、公知の塗布方法を適用でき、特に限定されるものではない。例えば、インクジェット法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、スピンコート法、スプレーコート法、ロールコート法、ダイコート法等が挙げられる。
【００４２】
次いで、ガスバリア性物質前駆体を硬化する工程を行う。塗布したポリマー溶液を熱風、赤外線等の熱源を利用して加熱し、溶媒の除去とガスバリア性前駆体の硬化を同時に行うことにより、ガスバリア性フィルムを形成する。なお、この際、加熱ではなく、紫外線などを照射して硬化しても良い。また、ガスバリア性フィルムは、長尺であることが望ましい。
【実施例】
【００４３】
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明は実施例によって限定されるものではない。
【００４４】
（水蒸気透過度測定）
フィルムのガスバリア性を評価するため、水蒸気透過度を測定した。測定には、ＤＥＬＴＡＰＥＲＭ（ＴＥＣＨＮＯＬＯＸ社製）を用い、雰囲気温度４０℃、湿度９０％の条件下で水蒸気透過度を測定した。本装置の測定上限は１０ｇ／ｍ２／ｄａｙであるため、それ以上の値の場合はＯＶＥＲと表記する。
【００４５】
（合成例１）
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）中で、ピロメリット酸二無水物、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、ｐ−フェニレンジアミンのモル比が４／３／１の割合になるように重合し、ポリアミド酸溶液を得た。
【００４６】
（製造例１）
合成例１で得られたポリアミド酸溶液に、無水酢酸、イソキノリンおよびＤＭＦからなる硬化剤を混合して混合樹脂溶液とし、コンマコーターを用いてアルミ箔上に塗布した。
【００４７】
（実施例１）
製造例１で得られたポリアミド酸溶液と硬化剤の混合樹脂溶液の塗布膜に対し、ガスバリア性物質前駆体としてポリシラザン溶液（ＮＮ１１０−２０：メルクパフォーマンスマテリアルズ合同会社製無触媒型キシレン溶媒２０％濃度品）をスプレーを用いて表面に塗布した。その後、１１０℃×７５秒で乾燥させ、自己支持性を有したゲルフィルムを得た。このゲルフィルムをアルミ箔から引き剥がした後、フィルム両端部をピンで把持し、炉内で熱処理を行なった。第一の熱処理は２７５℃×２５秒で乾燥させ、膜厚１２．５μｍのガスバリア性ポリイミドフィルムを得た。得られたフィルムの水蒸気透過度を測定した結果を表１に示す。
【００４８】
（実施例２）
ガスバリア性物質前駆体としてテトラエトキシシラン（和光純薬製）を塗布した以外は実施例１と同様の方法でガスバリア性ポリイミドフィルムを得た。得られたフィルムの水蒸気透過度を測定した結果を表１に示す。
【００４９】
（比較例１）
ガスバリア性物質前駆体を塗布しない以外は実施例１と同様の方法でポリイミドフィルムを得た。得られたフィルムの水蒸気透過度を測定した結果を表１に示す。
【００５０】
実施例１と比較例１、実施例２と比較例１の対比からわかるように、容易なプロセスによりガスバリア性が飛躍的に向上していることがわかる。
【００５１】
【表１】
0006744739.tif 000002