(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板、
透明電極、及び、
前記透明電極を覆うように設けられた厚さ１．０〜１０μｍの保護層、をこの順で少なくとも有し、
前記保護層の少なくとも一部において、透明基板側から透明基板と反対側に向けて屈折率が連続的に漸次小さくなる層であり、
前記透明基板側から透明基板と反対側に向けて屈折率が連続的に漸次小さくなる層が、屈折率調整材の含有量が透明基板側から透明基板と反対側に向けて連続的に漸次小さくなる層であり、
前記透明基板側から透明基板と反対側に向けて屈折率が連続的に漸次小さくなる層が、前記保護層の厚さ方向において６０ｎｍ以上の厚さを有し、
前記屈折率調整材が、金属酸化物粒子、及び／又は、金属アルコキシド化合物の縮合物であり、
前記保護層が、下記式１及び式２を満たすことを特徴とする
タッチパネル部材。
｜ｎ（電極）−ｎ（保護電）｜≦０．２      （１）
０．２≦ｎ（保護電）−ｎ（保護表面）      （２）
式中、前記透明電極の屈折率をｎ（電極）とし、前記保護層の透明電極側界面の屈折率をｎ（保護電）とし、前記保護層の透明基板と反対側界面の屈折率をｎ（保護表面）とする。
【請求項２】
前記保護層が、下記式３を更に満たす、請求項１に記載のタッチパネル部材。
０≦Δｎ≦０．１５      （３）
式中、Δｎは前記保護層の任意の位置から前記透明基板の前記透明電極が設けられた面に対し垂直方向に沿って透明基板方向に２０ｎｍ移動したときの前記保護層の屈折率変化量を表す。
【請求項３】
前記透明基板の前記透明電極が設けられた面と前記透明電極の側面とが形成するテーパー角が、２〜８０°である、請求項１又は２に記載のタッチパネル部材。
【請求項４】
前記透明電極の屈折率が、１．７６以上２．３０以下である、請求項１〜３のいずれか１項に記載のタッチパネル部材。
【請求項５】
前記透明電極の屈折率が、１．８６以上２．２０以下である、請求項４に記載のタッチパネル部材。
【請求項６】
前記保護層の透明基板と反対側界面に接する隣接層を更に有し、
前記保護層及び前記隣接層が、下記式４を満たす、請求項１〜５のいずれか１項に記載のタッチパネル部材。
｜ｎ（保護表面）−ｎ（隣接）｜≦０．２      （４）
式中、前記隣接層の屈折率をｎ（隣接）とする。
【請求項７】
前記保護層が、無機材料及び有機材料を含有する層である、請求項１〜６のいずれか１項に記載のタッチパネル部材。
【請求項８】
前記保護層が、酸化チタン粒子、酸化ジルコニウム粒子、及び／又は、チタン−ジルコニウム複合酸化物粒子を含有する層である、請求項１〜７のいずれか１項に記載のタッチパネル部材。
【請求項９】
前記保護層が、感光性組成物の層又はその硬化層を含む請求項１〜８のいずれか１項に記載のタッチパネル部材。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか１項に記載のタッチパネル部材を有するタッチパネル。
【請求項１１】
請求項１〜９のいずれか１項に記載のタッチパネル部材を有するタッチパネル表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タッチパネル部材、タッチパネル及びタッチパネル表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置等のフラットパネルディスプレイが広く使用されている。また、近年、スマートフォンやタブレット端末の普及と共に静電容量式タッチパネルが注目を浴びている。静電容量式タッチパネルのセンサ基板は、ガラス上にＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）や金属（銀、モリブデン、アルミニウムなど）がパターニングされた配線を有し、その他、配線の交差部に絶縁膜、ＩＴＯ及び金属を保護する保護膜を有する構造が一般的である。
従来のタッチパネルとしては、特許文献１〜３に記載されたものが知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特表２０１３−５３２８６８号公報
【特許文献２】特開２０１０−１３７４４７号公報
【特許文献３】特開２０１４−８５６１２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明が解決しようとする課題は、透明電極の視認抑制性に優れ、可視光の全反射が少ないタッチパネル部材、並びに、上記タッチパネル部材を有するタッチパネル及びタッチパネル表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の上記課題は、以下の＜１＞、＜１１＞又は＜１２＞に記載の手段により解決された。好ましい実施態様である＜２＞〜＜１０＞と共に以下に記載する。
＜１＞透明基板、透明電極、及び、上記透明電極を覆うように設けられた厚さ０．０４〜１０μｍの保護層、をこの順で少なくとも有し、上記保護層の少なくとも一部において、透明基板側から透明基板と反対側に向けて屈折率が連続的に小さくなる層であり、
上記保護層が、下記式１及び式２を満たすことを特徴とするタッチパネル部材、
｜ｎ（電極）−ｎ（保護電）｜≦０．２      （１）
０．２≦ｎ（保護電）−ｎ（保護表面）      （２）
式中、上記透明電極の屈折率をｎ（電極）とし、上記保護層の透明電極側界面の屈折率をｎ（保護電）とし、上記保護層の透明基板と反対側界面の屈折率をｎ（保護表面）とする。
【０００６】
＜２＞上記保護層が、下記式３を更に満たす、＜１＞に記載のタッチパネル部材、
０≦Δｎ≦０．１５      （３）
式中、Δｎは上記保護層の任意の位置から上記透明基板の上記透明電極が設けられた面に対し垂直方向に沿って透明基板方向に２０ｎｍ移動したときの上記保護層の屈折率変化量を表す。
＜３＞上記透明基板の上記透明電極が設けられた面と上記透明電極の側面とが形成するテーパー角が、２〜８０°である、＜１＞又は＜２＞に記載のタッチパネル部材、
＜４＞上記透明電極の屈折率（ｎ（電極））が、１．７６以上２．３０以下である、＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載のタッチパネル部材、
＜５＞上記透明電極の屈折率（ｎ（電極））が、１．８６以上２．２０以下である、＜４＞に記載のタッチパネル部材、
＜６＞上記保護層の透明基板と反対側界面に接する隣接層を更に有し、上記保護層及び上記隣接層が、下記式４を満たす、＜１＞〜＜５＞のいずれか１つに記載のタッチパネル部材、
｜ｎ（保護表面）−ｎ（隣接）｜≦０．２      （４）
式中、上記隣接層の屈折率をｎ（隣接）とする。
＜７＞上記保護層が、無機材料及び有機材料を含有する層である、＜１＞〜＜６＞のいずれか１つに記載のタッチパネル部材、
＜８＞上記保護層が、チタノキサン、ジルコノキサン、チタノキサン−ジルコノキサン縮合物、酸化チタン、酸化ジルコニウム、及び、チタン−ジルコニウム複合酸化物よりなる群から選ばれた化合物を含有する層である、＜１＞〜＜７＞のいずれか１つに記載のタッチパネル部材、
＜９＞上記保護層が、透明基板側から透明基板と反対側に向けて、上記チタノキサン、ジルコノキサン、チタノキサン−ジルコノキサン縮合物、酸化チタン、酸化ジルコニウム、及び、チタン−ジルコニウム複合酸化物よりなる群から選ばれた化合物の含有量が減少する層である、＜８＞に記載のタッチパネル部材、
＜１０＞上記保護層が、酸化チタン粒子、酸化ジルコニウム粒子、及び／又は、チタン−ジルコニウム複合酸化物粒子を含有する層である、＜８＞又は＜９＞に記載のタッチパネル部材、
＜１１＞＜１＞〜＜１０＞のいずれか１つに記載のタッチパネル部材を有するタッチパネル、
＜１２＞＜１＞〜＜１０＞のいずれか１つに記載のタッチパネル部材を有するタッチパネル表示装置。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、透明電極の視認抑制性に優れ、可視光の全反射が少ないタッチパネル部材、並びに、上記タッチパネル部材を有するタッチパネル及びタッチパネル表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明のタッチパネル部材の一例を示す概念的断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下において、本発明の内容について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本願明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。また、本発明における有機ＥＬ素子とは、有機エレクトロルミネッセンス素子のことをいう。
本明細書における基（原子団）の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含するものである。
また、本明細書における化学構造式は、水素原子を省略した簡略構造式で記載する場合もある。
なお、本明細書中において、“（メタ）アクリレート”はアクリレート及びメタクリレートを表し、“（メタ）アクリル”はアクリル及びメタクリルを表し、“（メタ）アクリロイル”はアクリロイル及びメタクリロイルを表す。
本発明において、「ａ１〜ａ３よりなる群から選ばれた少なくとも１種」等を、単に「成分Ａ」等ともいう。
また、本発明において、「質量％」と「重量％」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
また、本発明において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
【００１０】
本発明における樹脂、チタノキサン、ジルコノキサン及びチタノキサン−ジルコノキサン縮合物における重量平均分子量及び数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ法（ＧＰＣ）法にて測定される。
【００１１】
（タッチパネル部材）
本発明のタッチパネル部材は、透明基板、透明電極、及び、上記透明電極を覆うように設けられた厚さ０．０４〜１０μｍの保護層、をこの順で少なくとも有し、上記保護層の少なくとも一部において、透明基板側から透明基板と反対側に向けて屈折率が連続的に小さくなる層であり、上記保護層が、下記式１及び式２を満たすことを特徴とする。
｜ｎ（電極）−ｎ（保護電）｜≦０．２      （１）
０．２≦ｎ（保護電）−ｎ（保護表面）      （２）
式中、上記透明電極の屈折率をｎ（電極）とし、上記保護層の透明電極側界面の屈折率をｎ（保護電）とし、上記保護層の透明基板と反対側界面の屈折率をｎ（保護表面）とする。
【００１２】
なお、本発明における屈折率は、特に断りのない場合、２５℃での波長５５０ｎｍの光における屈折率である。
屈折率の測定方法は、測定温度２５℃、測定波長５５０ｎｍの条件でエリプソメーターにより測定することができる。また、Ｘ線光電子分光分析や電子顕微鏡による断面観察に基づいて膜厚方向での屈折率変化を推定し、適する光学モデルを選択しフィッティングを行ってもよい。また、上記のフィッティングに基づき、分光エリプソメトリー法によって測定を行ってもよい。
【００１３】
タッチパネル電極の見え、及び、タッチパネルの反射率が問題になっている。
タッチパネルの反射率については、反射率が高いと外光をより反射するため、野外などで表示が見づらくなってしまう。
また、タッチパネル電極の見えは、２種類あり、１つは透明電極（例えば、ＩＴＯ：屈折率１．９０）と下地である透明基板（例えば、ガラス：屈折率１．５、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）：屈折率１．５）との屈折率が異なることに起因する電極見え（ホネ見え）であり、もう１つは透明電極の側面部分であるテーパー部での光反射に起因する電極見え（テーパー見え）である。
今回、本発明者らは鋭意検討した結果、透明電極の保護層が透明基板側から透明基板と反対側に向けて屈折率が連続的に小さくなる層であり、保護層各部の屈折率を特定の範囲とすることで、透明電極の視認抑制性（ホネ見え抑制性及びテーパー見え抑制性）に優れ、可視光の全反射が少ないタッチパネル部材が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１４】
＜保護層＞
本発明のタッチパネル部材は、透明電極を覆うように設けられた厚さ０．０４〜１０μｍの保護層を有し、上記保護層の少なくとも一部において、透明基板側から透明基板と反対側に向けて屈折率が連続的に小さくなる層であり、上記保護層が、下記式１及び式２を満たす。
｜ｎ（電極）−ｎ（保護電）｜≦０．２      （１）
０．２≦ｎ（保護電）−ｎ（保護表面）      （２）
式中、上記透明電極の屈折率をｎ（電極）とし、上記保護層の透明電極側界面の屈折率をｎ（保護電）とし、上記保護層の透明基板と反対側界面の屈折率をｎ（保護表面）とする。
【００１５】
本発明のタッチパネル部材における保護層は、透明電極を覆うように設けられた厚さ０．０４〜１０μｍの保護層であり、少なくとも一部において、透明基板側から透明基板と反対側に向けて屈折率が連続的に小さくなる層である。
透明電極は、透明基板上に、所望に応じ、任意の配線パターン形状で形成されていればよく、多くの場合、断面形状が、透明基板側に広い台形形状となっている場合が多い。
上記保護層は、上記配線パターン形状に形成された透明電極の少なくとも一部を覆うように設けられていればよい。
また、保護層の鉛筆硬度が、Ｂ以上の硬度であることが好ましい。
なお、鉛筆硬度は、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４に準じて、三菱鉛筆（株）製Ｕｎｉを用い、加重７５０ｇ重、角度４５°、早さ０．１ｃｍ／秒、温度２５℃の条件で測定するものとする。
【００１６】
保護層の厚さは、ホネ見え防止及び平坦化の観点から、０．０４〜１０μｍであり、０．５〜６．０μｍが好ましく、１．０〜５．０μｍがより好ましい。
保護層の層数は、少なくとも１層が、透明基板側から透明基板と反対側に向けて屈折率が連続的に小さくなる層であれば、１層であっても２層以上であってもよい。製造の容易さの観点から、１０層以下が好ましく、５層以下がより好ましい。
各層の厚さは、平坦性及び膜厚安定性の観点から、０．０２〜５μｍが好ましく、０．０４〜４．０μｍがより好ましく、０．０５〜３．０μｍが特に好ましい。
特に無機材料のみからなる層は、０．０２〜１．０μｍが好ましく、０．０３〜０．６μｍがより好ましく、０．０４〜０．５μｍが特に好ましい。
保護層は、透明であることが好ましい。
保護層全体の波長４００ｎｍの光の透過率は、８０％以上が好ましく、８５％以上がより好ましく、９０％以上が最も好ましい。
【００１７】
本発明のタッチパネル部材における保護層は、ホネ見え防止、テーパー見え防止、及び、全反射低減の観点から、少なくともその一部において、透明基板側から透明基板と反対側に向けて、屈折率が連続的に小さくなる領域を含む。
屈折率が連続的に小さくなるとは、屈折率の観点で明確な界面がなく、漸次小さくなることを意味する。本発明のタッチパネル部材における保護層は、このような領域を少なくとも一部に有する。
保護層において、上記屈折率が連続的に小さくなる領域は、保護層全体、又は、保護層が２層以上で形成されている場合における少なくとも１層であることが好ましい。
また、上記屈折率が連続的に小さくなる領域は、保護層の厚さ方向に２０ｎｍ以上の厚さを有することが好ましく、４０ｎｍ以上の厚さを有することがより好ましく、６０ｎｍ以上の厚さを有することが特に好ましい。厚さの上限は保護層の厚さである。
【００１８】
本発明のタッチパネル部材における保護層は、下記式１を満たす。
｜ｎ（電極）−ｎ（保護電）｜≦０．２      （１）
式中、上記透明電極の屈折率をｎ（電極）とし、上記保護層の透明電極側界面の屈折率をｎ（保護電）とする。
式１は、保護層における透明電極側界面と透明電極との屈折率差の絶対値を表す。
保護層における透明電極側界面と透明電極との屈折率差の絶対値は、全反射防止、ホネ見え防止及びテーパー見え防止の観点から、０．２以下であり、０．１５以下であることが好ましく０．１０以下であることがより好ましい。
また、製造適性の観点から、０≦ｎ（電極）−ｎ（保護電）≦０．２であることが好ましい。すなわち、保護層における透明電極側界面の屈折率は、透明電極の屈折率と同じであるか、又は、小さいことが好ましい。
本発明において、保護層の透明電極界面の屈折率とは、保護層の透明電極と接する面の屈折率を明確に測定できた場合はその値を、保護層の透明電極と接する面の屈折率を明確に測定できない場合は、保護層の最も透明電極近傍の膜厚３ｎｍの領域の平均屈折率の値のことをいう。
【００１９】
本発明のタッチパネル部材における保護層は、下記式２を満たす。
０．２≦ｎ（保護電）−ｎ（保護表面）      （２）
式中、上記保護層の透明電極側界面の屈折率をｎ（保護電）とし、上記保護層の透明基板と反対側界面の屈折率をｎ（保護表面）とする。
式２は、保護層における透明電極側界面と透明基板と反対側界面との屈折率差を表す。
保護層における透明電極側界面と透明基板と反対側界面との屈折率差は、全反射防止、ホネ見え防止及びテーパー見え防止の観点から、０．２以上であり、０．２５以上であることが好ましく、０．３以上であることがより好ましい。
式１及び式２を満たす限り、上限を定めるものではないが、全反射防止、ホネ見え防止及びテーパー見え防止の観点から、上限は｜ｎ（電極）−ｎ（隣接）｜であることが好ましい。また、製造の容易性の観点から、上記上限は、０．７０以下が好ましく、０．６０以下がより好ましい。
本発明において、保護層の透明電極と反対側界面の屈折率とは、保護層の透明電極と反対側の表面の屈折率を明確に測定できた場合はその値を、保護層の透明電極と反対側の表面の屈折率を明確に測定できない場合は、保護層の透明電極と反対側の最表面近傍膜厚３ｎｍの領域の平均屈折率の値のことをいう。
【００２０】
本発明のタッチパネル部材における保護層は、下記式３を更に満たすことが好ましい。
０≦Δｎ≦０．１５      （３）
式中、Δｎは上記保護層の任意の位置から上記透明基板の上記透明電極が設けられた面に対し垂直方向に沿って透明基板方向に２０ｎｍ移動したときの上記保護層の屈折率変化量を表す。
式３は、保護層中において、透明基板の上記透明電極が設けられた面に対し垂直方向における屈折率の変化Δｎがゆるやかであることを示す。
屈折率の変化Δｎは、０以上０．１５以下であることが好ましく、０より大きく０．１５未満であることがより好ましい。
なお、Δｎは、始点と終点とが属する層が、屈折率が漸次変化する層であるとして測定した各点での屈折率の差を表す。
【００２１】
また、本発明のタッチパネル部材において、保護層の透明基板と反対側界面に接する隣接層がある場合、下記式４を満たすことが好ましい。
｜ｎ（保護表面）−ｎ（隣接）｜≦０．２      （４）
式中、ｎ（隣接）は、隣接層の屈折率を表す。
式４は、保護層における透明基板と反対側界面とそれに接する隣接層との屈折率差の絶対値を表す。
保護層における透明基板と反対側界面とそれに接する隣接層との屈折率差の絶対値は、全反射防止の観点から、０．２以下であることが好ましく、０．１５以下であることがより好ましく０．１０以下であることが特に好ましい。
また、製造適性の観点から、０≦ｎ（保護表面）−ｎ（隣接）≦０．２であることが好ましい。
【００２２】
本発明のタッチパネル部材における保護層の材料、及び、形成方法は、特に限定されない。
保護層の材料としては、有機材料でも無機材料でも、有機無機混合材料でもよい。
また、保護層の形成方法としては、塗布法やスパッタリング法、蒸着法等により形成してもよいし、重層塗布法のように２層以上を同時に形成してもよいし、転写材料を使用し転写により形成してもよいが、後述する傾斜層の形成方法を少なくとも用いて形成することが好ましい。
【００２３】
保護層の材料は、特に限定されず、ポリマー、屈折率調整材、架橋剤、感光剤、及び／又は、その他添加剤などを含む組成物を用いて保護層を形成することができる。
保護層は、ポリマー、及び、屈折率調整材を含むことが好ましい。
保護層は、無機材料及び有機材料を含有する層であることが好ましく、無機材料及びポリマーを含有する層であることがより好ましく、無機材料及び／又は金属アルコキシド縮合物、並びに、ポリマーを含有する層であることが更に好ましく、無機粒子及び／又は金属アルコキシド縮合物、並びに、ポリマーを含有する層であることが特に好ましく、酸化チタン粒子、酸化ジルコニウム粒子、及び／又は、チタン−ジルコニウム複合酸化物粒子とポリマーとを含有する層であることが最も好ましい。上記態様であると、層形成が容易であり、膜物性に優れる。
上記無機材料及び／又は金属アルコキシド縮合物としては、金属酸化物及び／又は金属アルコキシド縮合物が好ましく、酸化チタン、酸化ジルコニウム、チタン−ジルコニウム複合酸化物、チタノキサン、ジルコノキサン、及び、チタノキサン−ジルコノキサン縮合物がより好ましい。
【００２４】
−ポリマー−
本発明に用いることができるポリマーとしては、特に制限はなく、レジスト又はその硬化物に使用される公知の樹脂を好ましく用いることができ、アクリル系ポリマー、シロキサン系ポリマー、ポリベンゾオキサゾール系ポリマー、ポリイミド系ポリマー、脂環オレフィン系ポリマーなどを好適に使用することができる。
ポリマーは、１種単独で含有していても、２種以上を含有していてもよい。
保護層におけるポリマーは、後述する保護層形成用組成物を硬化して得られた硬化物に含まれるポリマーであることが好ましい。
【００２５】
アクリル系ポリマーとしては、（メタ）アクリル化合物を使用する全モノマーの５０モル％以上使用して重合したポリマーであればよく、公知のアクリル系ポリマーを使用することができ、後述する酸基が酸分解性基で保護された基を有する構成単位を有する重合体、アルカリ可溶性樹脂、及び、これらを硬化した樹脂が好ましく挙げられる。
【００２６】
シロキサン系ポリマーとしては、公知のシロキサン系ポリマーを使用することができ、特に制限はない。
シロキサン系ポリマーとしては、例えば、下記式Ｓ−１で表されるオルガノシランの１種以上及び／又は下記式Ｓ−２で表されるオルガノシランの１種以上を加水分解し縮合させることによって合成されるポリシロキサンを含有することができる。
【００２７】
【化１】
0006639098.tif 000002
【００２８】
式Ｓ−１で表されるオルガノシランにおいて、ＲＳ１はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜１０のアルケニル基、又は、炭素数６〜１５のアリール基を表し、複数のＲＳ１はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。また、これらのアルキル基、アルケニル基、アリール基はいずれも無置換体、置換体のいずれでもよく、組成物の特性に応じて選択できる。
式Ｓ−１におけるＲＳ２はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数２〜６のアシル基、又は、炭素数６〜１５のアリール基を表し、複数のＲＳ２はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。また、これらのアルキル基、アシル基、アリール基はいずれも無置換体、置換体のどちらでもよく、組成物の特性に応じて選択できる。
式Ｓ−１におけるｐは、１〜３の整数を表す。
【００２９】
【化２】
0006639098.tif 000003
【００３０】
式Ｓ−２で表されるオルガノシランにおいて、ＲＳ３〜ＲＳ６はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数２〜６のアシル基、炭素数６〜１５のアリール基を表す。これらのアルキル基、アシル基、アリール基はいずれも無置換体、置換体のどちらでもよく、組成物の特性に応じて選択できる。アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基が挙げられる。アシル基の具体例としては、アセチル基が挙げられる。アリール基の具体例としては、フェニル基が挙げられる。
式Ｓ−２におけるｑは、１〜８の整数を表す。
【００３１】
また、シロキサン系ポリマーとしては、国際公開第２０１２／０２９７３４号の段落００４４〜００５８に記載のポリシロキサン、国際公開第２０１２／１２７９６４号の段落００２２〜００８２に記載のポリシロキサン、及び、特開２０１４−１１５４３８号公報の段落００４３〜０１１７に記載のポリシロキサンを用いることができる。
【００３２】
ポリベンゾオキサゾール系ポリマーとしては、特に制限はなく、公知のポリベンゾオキサゾール系ポリマーを使用することができる。
ポリベンゾオキサゾール系ポリマーとしては、下記式Ｚ−１で表される構成単位を含有するポリベンゾオキサゾール前駆体及びその閉環体を使用することができる。
【００３３】
【化３】
0006639098.tif 000004
【００３４】
Ｘｚは４価の有機基を表し、Ｙｚは２価の有機基を表し、Ｒｚはそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アセタール構造で保護する基又は−ＣＯＲｃで表される基を表す。Ｒｃは、アルキル基又はアリール基を表す。
Ｘｚにおける４価の有機基は、４価の脂肪族炭化水素基、４価の芳香族炭化水素基、又は、２価以上の脂肪族炭化水素基、２価以上の芳香族炭化水素基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、−ＣＯ−及び−ＮＨＣＯ−よりなる群から選ばれた２以上の構造を結合して組み合わせた基であることが好ましい。また、これらの基には、ハロゲン原子等の置換基を有していてもよい。
また、Ｘｚの炭素数は、６〜５０であることが好ましく、６〜３０であることがより好ましい。
また、Ｘｚは、芳香環を少なくとも有する４価の有機基であることが好ましい。
Ｙｚにおける２価の有機基は、２価の脂肪族炭化水素基、２価の芳香族炭化水素基、又は、２価の脂肪族炭化水素基、２価の芳香族炭化水素基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、−ＣＯ−及び−ＮＨＣＯ−よりなる群から選ばれた２以上の構造を結合して組み合わせた基であることが好ましい。また、これらの基には、ハロゲン原子等の置換基を有していてもよい。
また、Ｙｚの炭素数は、２〜５０であることが好ましく、３〜２０であることがより好ましい。
また、Ｙｚは、２価脂肪族炭化水素基であることが好ましい。
上記ポリベンゾオキサゾール系ポリマーとしては、特開２００８−２２４９７０号公報段落００１４〜００６４に記載のポリマーを使用することができる。
【００３５】
また、上記ポリベンゾオキサゾール前駆体は、下記式Ｚ−１−１で表される構成繰り返し単位及び下記式Ｚ−１−２で表される構成繰り返し単位を有する化合物であることが好ましく、下記式Ｚ−１−１で表される構成繰り返し単位及び下記式Ｚ−１−２で表される構成繰り返し単位を５０質量％以上有する化合物であることがより好ましい。
【００３６】
【化４】
0006639098.tif 000005
【００３７】
式Ｚ−１−１及び式Ｚ−１−２において、Ｘｚ１及びＸｚ２はそれぞれ独立に、４価の有機基を表し、Ｒｚ１〜Ｒｚ４はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、酸分解性基又は−ＣＯＲｃで表される基を表し、Ｒｚ１〜Ｒｚ４の少なくとも一つは、水素原子又は酸分解性基を表し、Ｒｃは、アルキル基又はアリール基を表し、Ｙ1は、炭素数３〜１５の直鎖又は分岐の２価の脂肪族炭化水素基を表し、Ｙ2は、炭素数４〜２０の環状の２価の脂肪族炭化水素基を表す。
式Ｚ−１−１及び式Ｚ−１−２におけるＸｚ１及びＸｚ２の好ましい態様はそれぞれ独立に、式Ｚ−１におけるＸｚの好ましい態様と同様である。
Ｙｚ１としては、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシレン基、又は、オクチレン基が好ましく挙げられる。
Ｙｚ２としては、シクロヘキシレン基、又は、アダマンチレン基が好ましく挙げられる。
また、Ｘｚ１及びＸｚ２はそれぞれ独立に、下記式Ｘ−１〜式Ｘ−４のいずれかで表される基であることが好ましい。
【００３８】
【化５】
0006639098.tif 000006
【００３９】
式Ｘ−１〜式Ｘ−４中、＊１及び＊２のいずれか一方は、−ＯＲｚ１又は−ＯＲｚ３との結合位置を表し、他方は、ポリマー主鎖との結合位置を表し、＊３及び＊４のいずれか一方は、−ＯＲｚ２又は−ＯＲｚ４との結合位置を表し、他方は、ポリマー主鎖との結合位置を表す。
【００４０】
上記ポリベンゾオキサゾール前駆体において、上記式Ｚ−１−１で表される構成繰り返し単位と、上記式Ｚ−１−２で表される構成繰り返し単位との比率は、モル比で、９：１〜３：７であることが好ましい。
【００４１】
上記ポリマーは、例えば、後述する保護層形成用組成物自体であっても、乾燥したものであっても、硬化及び熱処理したものであってもよいが、後述する保護層形成用組成物を硬化して形成した樹脂であることが好ましく、後述する保護層形成用組成物を硬化し更に熱処理して形成した樹脂であることがより好ましい。
【００４２】
上記保護層におけるポリマーの含有量は、２０〜８５質量％であることが好ましく、３０〜８０質量％であることがより好ましく、３５〜６０質量％であることが更に好ましい。上記範囲であると、透過性及び強度に優れる。
【００４３】
＜屈折率調整材＞
保護層は、屈折率調整材を含むことが好ましい。
また、上記保護層における透明基板側から透明基板と反対側に向けて屈折率が連続的に小さくなる層は、屈折率調整材の含有量が透明基板側から透明基板と反対側に向けて連続的に小さくなる層であることが好ましい。
屈折率調整材としては、特に制限はなく、無機化合物であっても、有機化合物であってもよいが、無機酸化物、及び／又は、金属アルコキシド化合物の縮合物であることが好ましく、金属酸化物、及び／又は、金属アルコキシド化合物の縮合物であることがより好ましく、金属酸化物粒子、及び／又は、金属アルコキシド化合物の縮合物であることが特に好ましい。
また、屈折率調整材としては、後述するフルオレン化合物も好ましく挙げられる。
上記無機酸化物、及び／又は、金属アルコキシド化合物の縮合物としては、チタノキサン、ジルコノキサン、チタノキサン−ジルコノキサン縮合物、酸化チタン、酸化ジルコニウム、並びに、チタン−ジルコニウム複合酸化物よりなる群から選ばれた化合物であることが好ましく、チタノキサン、ジルコノキサン、チタノキサン−ジルコノキサン縮合物、酸化チタン粒子、酸化ジルコニウム粒子、並びに、チタン−ジルコニウム複合酸化物粒子よりなる群から選ばれた化合物であることがより好ましい。
上記金属アルコキシド化合物の縮合物としては、下記ａ１及び／又はａ２を含む組成物より形成された縮合物であることが好ましい。
また、上記無機酸化物は、下記ａ３であることが好ましい。
ａ１：アルコキシ基を有する、チタン化合物及び／又はジルコニウム化合物、
ａ２：チタン原子若しくはジルコニウム原子に直結するアルコキシ基を少なくとも１つ有する、チタノキサン、ジルコノキサン及び／又はチタノキサン−ジルコノキサン縮合物、
ａ３：チタン原子及び／又はジルコニウム原子を含有する金属酸化物。
保護層は、屈折率調整材を１種単独で含有していても、２種以上を含有していてもよい。
上記保護層が、上記ａ１を含有する場合、同時に、上記ａ１を縮合したａ２に該当する成分を含有していることが好ましい。
中でも、上記保護層は、ａ３を含有することが好ましく、酸化チタン粒子、酸化ジルコニウム粒子、及び／又は、チタン原子及び／又はジルコニウム原子を含む複合酸化物粒子を含有することより好ましく、酸化チタン粒子を含有することが更に好ましい。上記態様であると、透過率がより高く、また、耐クラック性により優れる。
上記保護層における屈折率調整材、特にａ１〜ａ３の含有量（質量含有率）は、１０〜８０質量％であることが好ましく、１５〜７０質量％であることがより好ましく、２０〜６５質量％であることが更に好ましい。上記範囲であると、透過性及び強度に優れる。
また、上記保護層は、透明基板側から透明基板と反対側に向けて、ａ１〜ａ３の含有量が減少する層であることがより好ましく、透明基板側から透明基板と反対側に向けて、ａ３の含有量が減少することが特に好ましい。上記態様であると、各層の屈折率の調整及び層形成が容易である。
【００４４】
ａ１〜ａ３としては、コストや屈折率の観点から、チタン化合物、チタノキサン、及び、酸化チタンよりなる群から選択されることが好ましく、また、低温硬化性、硬化速度及び安定性の観点からは、ジルコニウム化合物、ジルコノキサン、及び、酸化ジルコニウムよりなる群から選択されることが好ましい。
【００４５】
ａ１：アルコキシ基を有する、チタン化合物及び／又はジルコニウム化合物
ａ１：アルコキシ基を有するチタン化合物及びアルコキシ基を有するジルコニウム化合物としては、チタンモノアルコキシド、チタンジアルコキシド、チタントリアルコキシド、チタンテトラアルコキシド、ジルコニウムモノアルコキシド、ジルコニウムジアルコキシド、ジルコニウムトリアルコキシド、及び、ジルコニウムテトラアルコキシドが挙げられる。これらの中でも、チタンテトラアルコキシド、及び、ジルコニウムテトラアルコキシドが好ましく挙げられる。
チタンテトラアルコキシドとしては、下記式ａ１−１で表されるチタンテトラアルコキシドであることが、膜物性の観点から好ましい。
また、ジルコニウムテトラアルコキシドとしては、下記式ａ１−２で表されるジルコニウムテトラアルコキシドであることが、膜物性の観点から好ましい。
【００４６】
【化６】
0006639098.tif 000007
【００４７】
式ａ１−１及び式ａ１−２中、Ｒ1〜Ｒ4はそれぞれ独立に、炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数６〜１８のアリール基、又は、炭素数７〜１８のアラルキル基を表す。
【００４８】
式ａ１−１で表されるチタンテトラアルコキシドとしては、例えば、チタンテトラメトキシド、チタンテトラエトキシド、チタンテトラｎ−プロポキシド、チタンテトライソプロポキシド、チタンテトラｎ−ブトキシド、チタンテトライソブトキシド、チタンジイソプロポキシジｎ−ブトキシド、チタンジｔ−ブトキシジイソプロポキシド、チタンテトラｔ−ブトキシド、チタンテトライソオクチロキシド、チタンテトラステアリルアルコキシド等が挙げられる。
式ａ１−２で表されるジルコニウムテトラアルコキシドとしては、以下の具体例に限定はされないが、例えば、ジルコニウムテトラメトキシド、ジルコニウムテトラエトキシド、ジルコニウムテトラｎ−プロポキシド、ジルコニウムテトライソプロポキシド、ジルコニウムテトラｎ−ブトキシド、ジルコニウムテトライソブトキシド、ジルコニウムジイソプロポキシジｎ−ブトキシド、ジルコニウムジｔ−ブトキシジイソプロポキシド、ジルコニウムテトラｔ−ブトキシド、ジルコニウムテトライソオクチロキシド、ジルコニウムテトラステアリルアルコキシド等が挙げられる。
【００４９】
ａ２：チタン原子若しくはジルコニウム原子に直結するアルコキシ基を少なくとも１つ有する、チタノキサン、ジルコノキサン及び／又はチタノキサン−ジルコノキサン縮合物
チタノキサンは、ポリチタノキサンとも称され、Ｔｉ−Ｏ−Ｔｉ結合を２以上有する化合物である。
ジルコノキサンは、ポリジルコノキサンとも称され、Ｚｒ−Ｏ−Ｚｒ結合を２以上有する化合物である。
上記チタノキサンは、下記式ａ２−１で表されるチタノキサンであることが膜物性の観点から好ましい。
また、上記ジルコノキサンは、下記式ａ２−２で表されるジルコノキサンであることが膜物性の観点から好ましい。
ＴｉαＯβ（ＯＲ）γ                （ａ２−１）
ＺｒαＯβ（ＯＲ）γ                （ａ２−２）
式ａ２−１及び式ａ２−２中、Ｒはそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数６〜１８のアリール基、又は、炭素数７〜１８のアラルキル基を表し、α、β及びγは、下記の条件ａ’〜ｃ’を満たし、αは正の整数を表し、β及びγは正の数を表す。
ａ’：２００≧α≧２、
ｂ’：１．９α≧β≧１．０α、
ｃ’：γ＝４α−２β
上記ａ２におけるチタノキサン、ジルコノキサン及びチタノキサン−ジルコノキサン縮合物は、単一の組成のものであっても、２種類以上の混合物であってもよい。
【００５０】
ａ３：チタン原子及び／又はジルコニウム原子を含有する金属酸化物
コストや層形成の容易性から、上記保護層は、上記ａ３を含むことが好ましい。
チタン原子及び／又はジルコニウム原子を含む複合酸化物としては、酸化チタン、チタン複合酸化物、酸化ジルコニウム、又は、ジルコニウム複合酸化物が好ましく、酸化チタン、チタン複合酸化物、又は、酸化ジルコニウムがより好ましく、酸化チタン、又は、酸化ジルコニウムが更に好ましく、酸化チタンが特に好ましい。
酸化チタンとしては、特に屈折率の高いルチル型が好ましい。
また、ａ３は、金属酸化物粒子であることが好ましい。
ａ３としては、市販されているものを使用してもよく、例えば、酸化チタン粒子として石原産業（株）製ＴＴＯシリーズ（ＴＴＯ−５１（Ａ）、ＴＴＯ−５１（Ｃ）など）、ＴＴＯ−Ｓ、Ｖシリーズ（ＴＴＯ−Ｓ−１、ＴＴＯ−Ｓ−２、ＴＴＯ−Ｖ−３など）、テイカ（株）製ＭＴシリーズ（ＭＴ−０１、ＭＴ−０５など）、酸化スズ−酸化チタン複合粒子としてオプトレイクＴＲ−５０２、オプトレイクＴＲ−５０４、酸化ケイ素−酸化チタン複合粒子としてオプトレイクＴＲ−５０３、オプトレイクＴＲ−５１３、オプトレイクＴＲ−５２０、オプトレイクＴＲ−５２１、オプトレイクＴＲ−５２７、酸化ジルコニウム粒子（（株）高純度化学研究所製）、酸化スズ−酸化ジルコニウム複合粒子（日揮触媒化成工業（株）製）などが挙げられる。
【００５１】
また、ａ３は、金属酸化物粒子であることが好ましい。
透明性の観点から、ａ３の平均一次粒子径は、１〜２００ｎｍが好ましく、３〜８０ｎｍがより好ましく、５〜５０ｎｍが特に好ましい。ここで粒子の平均一次粒子径は、電子顕微鏡により任意の粒子２００個の粒子径を測定し、その算術平均をいう。また、粒子の形状が球形でない場合には、最も長い辺を径とする。
また、ａ３は、適当な分散剤及び溶剤中でボールミル、ロッドミル等の混合装置を用いて混合・分散することにより調製された分散液として使用に供することもできる。
【００５２】
また、屈折率調整材としては、フルオレン化合物を含有することが好ましい。
また、上述したポリマーの作製時にフルオレン環を有するモノマーを共重合して、上記ポリマーにフルオレン環構造を導入してもよい。
例えば、上記ポリマーは、下記に示すような、フルオレン環構造を有していることが好ましい。フルオレン環構造を有することにより、屈折率がより高くなる。
【００５３】
【化７】
0006639098.tif 000008
【００５４】
上記フルオレン環構造は、芳香環上に置換基を有していてもよいし、また、上記置換基同士が結合して脂環又は芳香環を形成してもよい。
上記置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、及び、アリールチオ基が好ましく例示でき、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基がより好ましく例示でき、アルキル基が更に好ましく例示できる。
【００５５】
フルオレン環を有するモノマーとしては、下記反応性基を有するフルオレン化合物が好ましく挙げられる。
反応性基を有するフルオレン化合物としては、下記式Iで表される化合物が好ましく挙げられる。
【００５６】
【化８】
0006639098.tif 000009
【００５７】
式I中、Ａｒ1f及びＡｒ2fはそれぞれ独立に、アリーレン基を表し、Ｒ1f及びＲ2fはそれぞれ独立に、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルコキシ基、又は、ヒドロキシ基、カルボキシ基、エポキシ基及びオキセタニル基よりなる群から選ばれる少なくとも１種の基を有する一価の有機基を表し、Ｒ1f及びＲ2fの少なくとも１つは、ヒドロキシ基、カルボキシ基、又は、ヒドロキシ基、カルボキシ基、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基及びオキセタニル基よりなる群から選ばれる少なくとも１種の基を有する一価の有機基であり、Ｒ3f及びＲ4fはそれぞれ独立に、一価の置換基を表し、ｐ及びｑはそれぞれ独立に、０〜４の整数を表し、異なるＲ3f同士及び異なるＲ4f同士が結合して脂環又は芳香環を形成してもよい。
【００５８】
また、フルオレン化合物の具体例としては、特許第５１８６２００号公報の段落００１８に記載の化合物、特開平４−３２５５０８号公報の段落００１１に記載の化合物、国際公開第２０１４／１９９９６７号の段落００２５〜００４９に記載の化合物を挙げることができる。
【００５９】
フルオレン化合物は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
上記第１層〜第Ｎ−１層におけるフルオレン化合物の含有量は、０．１〜４０質量％であることが好ましく、０．５〜３０質量％であることがより好ましく、１〜２０質量％であることが更に好ましい。上記範囲であると、透過性及び強度に優れる。
【００６０】
保護層は、上記成分以外にも、その他の添加剤を含んでいてもよい。その他の添加剤としては、レジストや感光性組成物の添加剤として公知のものが挙げられる。
【００６１】
＜保護層における屈折率の傾斜の形成方法＞
透明基板側から透明基板と反対側に向けて屈折率が連続的に小さくなる層、すなわち、屈折率が傾斜した層の形成方法は、特に限定されず、公知の方法を用いることができる。
例えば、下記（１）〜（４）に記載の方法を好適に挙げることができる。
【００６２】
（１）界面で隣接する物質と反応させる方法
反応性の材料で膜を形成し、膜の界面（表面）で隣接する物質と反応を起こし、膜表面と膜内部とで組成を変化させる方法が好適に挙げられる。
具体例として、特許第４９３２９８６号公報に記載されているように、有機ポリマーとチタンアルコキシドの混合組成物で膜形成し、空気中の水分と反応させることで表面のチタンアルコキシド割合が多い膜を形成する方法、及び、特許第４１３０８３４号公報に記載されているように、ポリシランで膜形成し、空気中の酸素と反応させることで表面のシロキサン割合が多い膜を形成する方法などが挙げられる。
【００６３】
（２）膜の一部分から反応を開始させる方法
膜の一部分から硬化反応を起こすことで、組成が連続的に変化した膜を形成する方法が好適に挙げられる。
具体例として、特許第３４４４３５２号公報に記載されているように、屈折率の大きいモノマーと屈折率の小さいモノマーとの混合組成物において、屈折率の大きいモノマーのみを先に硬化させることで組成が連続的に変化した膜を形成する方法が挙げられる。
【００６４】
（３）含浸混合させる方法
形成した膜表面から別の材料を浸み込ませることで、組成が連続的に変化した膜を形成する方法が好適に挙げられる。
【００６５】
（４）層形成の供給材料を連続的に変化させる方法
層形成の供給材料を連続的に変化させることで、組成が連続的に変化した膜を形成する方法が好適に挙げられる。
具体例として、インクジェット塗布で膜形成する際に使用するインク組成を連続的に変化させる方法や、スパッタリングで膜形成する際に、ターゲットや酸素／窒素の流量を連続的に変化させる方法を挙げることができる。
また、例えば、屈折率の異なる後述の保護層形成用組成物を２種以上準備し、インクジェット塗布により、各組成物の混合割合を連続的に変化させる方法が好適に挙げられる。
【００６６】
また、保護層の形成、及び、上記屈折率が傾斜した層の形成には、無機材料を好適に使用することもできる。
無機材料としては、例えば、Ｍｇ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｃｅ、Ｔｉ及びＴａよりなる群から選ばれた少なくとも１元素、並びに、Ｏ、Ｎ、Ｃ及びＦよりなる群から選ばれた少なくとも１元素からなる無機薄膜層が挙げられる。
具体例としては、ＭｇＦ２、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＣｅＦ３、ＳｉＯ、Ｉｎ２Ｏ３、ＨｆＯ２、ＺｒＯ２、Ｐｂ５Ｏ１１、ＴｉＯ２、Ｔａ２Ｏ５、Ｎｂ２Ｏ５、ＴｉＯ２や、これら金属の窒化物等を挙げることができる。
無機材料の製膜方法は、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、スプレー法などの成膜方法で成膜することができる。必要とする膜厚に応じて、上記の方法を適宜用いることができるが、膜厚のバラツキを低減するという観点からスパッタリング法が好ましい。
例えば、スパッタリング法によりＳｉ、Ｏ及びＮの３元素からなる組成傾斜薄膜層を作製する場合は、シリコン（珪素）ターゲットを用いて窒素及び酸素の流量比を連続的に変化させながらスパッタリングを行う方法が挙げられる。この際、成膜雰囲気中の窒素、酸素の比をモニタリングしながら行うことが好ましい。窒素や酸素の流量などの条件を制御することで組成を漸次変化させ屈折率傾斜材料を形成することができる。
【００６７】
＜透明電極＞
本発明のタッチパネル部材における透明電極は、タッチを検出するための電極であり、透明基板上に形成される。
透明電極の波長４００ｎｍの光の透過率は、８０％以上が好ましく、８５％以上がより好ましく、９０％以上が特に好ましい。
透明電極の膜厚は、抵抗率及び透過率の観点から、５〜５００ｎｍが好ましく、１０〜４００ｎｍがより好ましく、２０〜３００ｎｍが特に好ましい。
透明電極の屈折率は、全反射防止、ホネ見え防止及びテーパー見え防止の観点から、２．４０以下が好ましく、２．３０以下がより好ましく、２．２０以下が更に好ましく、２．１０以下が特に好ましい。
また、透明電極の屈折率は、製造安定性や駆動効率の観点から、１．７６以上が好ましく、１．８６以上がより好ましく、１．９０以上が更に好ましい。
駆動効率の観点から、透明電極の表面抵抗は、０．１〜１，０００Ω／□が好ましく、１〜２００Ω／□がより好ましい。
製造安定性の観点から、透明電極の側面のテーパー角は、２〜８０°が好ましく、５〜７０°が好ましく、１０〜６５°が特に好ましい。
なお、本発明における透明電極の側面のテーパー角は、透明基板の透明電極が設けられた面と透明電極の側面とがなす角とする。例えば、上記テーパー角が９０°であるとは、透明電極の側面が、透明基板の透明電極が設けられた面に垂直であることを意味する。
透明電極の材質としては、透明電極としての性能を満たせば、特に材質に制限はなく、公知のものを用いることができる。
透明電極は、可視光領域において透過度を有し、かつ導電性を有する層である。透明導電層の形成方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などの従来公知の技術をいずれも使用できるが、膜の均一性や透明基材への薄膜の密着性の観点から、スパッタリング法での薄膜形成が好ましい。また、透明電極は、マスクやエッチング等、公知の方法により薄膜から所望の形状とすることができる。
また、用いる薄膜材料も特に制限されるものではなく、例えば、酸化錫を含有する酸化インジウム、アンチモンを含有する酸化錫などの金属酸化物のほか、金、銀、白金、パラジウム、銅、アルミニウム、ニッケル、クロム、チタン、コバルト、錫、亜鉛またはこれらの合金などが好ましく用いられる。
具体例として、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、ＧＺＯ（ＧａをドープしたＺｎＯ）、ＡＺＯ（ＡｌをドープしたＺｎＯ）、銀、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）、又は、ＩＺＯ（インジウム亜鉛酸化物）を挙げることができる。
中でも、ＩＴＯ、又は、ＩＺＯが好ましい。
【００６８】
＜透明基板＞
本発明のタッチパネル部材における透明基板は、透明な基板であれば特に制限はない。
基板としては、無機基板、樹脂、樹脂複合材料などが挙げられる。
無機基板としては、例えば、ガラス、石英、シリコーン、シリコンナイトライド、及び、それらのような基板上にモリブデン、チタン、アルミ、銅などを蒸着した複合基板が挙げられる。
樹脂基板としては、例えば、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレート、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、アリルジグリコールカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリベンズアゾール、ポリフェニレンサルファイド、ポリシクロオレフィン、ノルボルネン樹脂、ポリクロロトリフルオロエチレン等のフッ素樹脂、液晶ポリマー、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、アイオノマー樹脂、シアネート樹脂、架橋フマル酸ジエステル、環状ポリオレフィン、芳香族エーテル、マレイミドーオレフィン、セルロース、エピスルフィド化合物等の合成樹脂からなる基板が挙げられる。
これら透明基板は、最終製品の形態によって、例えば、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）素子のような多層積層構造が形成されていてもよい。
これらの中でも、ポリエステルフィルム又はガラス基板が好ましく挙げられ、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム又はガラス基板がより好ましく挙げられる。
透明基板の厚さは、特に制限はないが、０．５μｍ〜２ｍｍであることが好ましい。
【００６９】
＜隣接層＞
本発明のタッチパネル部材は、透明基板と反対側で保護層に隣接する隣接層を有していてもよい。
隣接層には、特に制限はなく、例えば、粘着層が好適に挙げられる。
また、本発明のタッチパネル部材は、隣接層を有していなくてもよく、その場合、第Ｎ層は空気と接する。
上記粘着層としては、例えば、保護層付きの透明電極基板（隣接層のない本発明のタッチパネル部材）を、偏光板、カバー基板、表示装置などと貼り合わせるための粘着性の層が好適に挙げられる。
上記粘着層の屈折率は、全反射低減の観点から、１．３５〜１．６５であることが好ましく、１．４０〜１．６０であることがより好ましい。
【００７０】
本発明のタッチパネル部材は、上記透明基板、透明電極、保護層、及び、隣接層の他に、公知の層を有していてもよい。例えば、上記隣接層以外の、保護層、絶縁層、接着層、粘着層等が挙げられる。
【００７１】
本発明のタッチパネル部材を、図面を用いて更に説明する。
図１は、本発明のタッチパネル部材の一例を示す概念的断面図である。
図１に示すタッチパネル部材１０は、透明基板１２上に複数の断面が台形形状の透明電極１４を有し、透明電極１４を覆うように保護層１６が設けられている。
保護層１６は、透明基板側から透明基板と反対側に向けて屈折率が連続的に小さくなる層である。
透明電極１４と保護層１６の透明電極側界面１６ａとの屈折率差の絶対値は、０．２０以下である。
また、保護層１６の透明電極側界面１６ａと保護層１６の透明基板と反対側界面１６ｂとの屈折率差は、０．２０以上である。
更に、保護層１６上には、更に隣接層（不図示）を有していてもよい。
【００７２】
〔保護層形成用組成物〕
本発明のタッチパネル部材における保護層の少なくとも１層は、保護層形成用組成物により形成されることが好ましい。また、上記屈折率が傾斜した層の形成にも好適に用いることができる。
保護層形成用組成物は、硬化性組成物であることが好ましい。
また、保護層形成用組成物は、感光性組成物であることが好ましく、ポジ型感光性組成物、又は、ネガ型感光性組成物であることがより好ましい。
【００７３】
成分Ａ：ａ１〜ａ３よりなる群から選ばれた少なくとも１種
保護層形成用組成物は、成分Ａとして、下記ａ１〜ａ３よりなる群から選ばれた少なくとも１種を含有する。
ａ１：アルコキシ基を有する、チタン化合物及び／又はジルコニウム化合物、
ａ２：チタン原子若しくはジルコニウム原子に直結するアルコキシ基を少なくとも１つ有する、チタノキサン、ジルコノキサン及び／又はチタノキサン−ジルコノキサン縮合物、
ａ３：チタン原子及び／又はジルコニウム原子を含有する金属酸化物。
成分Ａの好ましい態様は、上述したａ１〜ａ３よりなる群から選ばれた少なくとも１種と同様である。
成分Ａの含有量は、組成物の全固形分に対し、１５〜８０質量％であることが好ましく、２０〜７０質量％であることがより好ましく、４０〜６５質量％であることが更に好ましい。なお、感光性組成物における「固形分」とは、溶剤等の揮発性成分を除いた成分を表す。また、上記固形分は、固体でなく、液状のものであってもよいことはいうまでもない。
【００７４】
成分Ｂ：ポリマー
保護層形成用組成物は、ポリマーを含有することが好ましい。
ポリマーとしては、特に制限はなく、レジストに使用される公知の樹脂を好ましく用いることができる。
ポリマーは、１種単独で含有していても、２種以上を含有していてもよい。
保護層形成用組成物がポジ型感光性組成物である場合、ポリマーは、酸基が酸分解性基で保護された基を有する構成単位を有する重合体を含むことが好ましい。
なお、本発明において、「酸基が酸分解性基で保護された基を有する構成単位」を「構成単位ｂ１」ともいう。
また、保護層形成用組成物がネガ型感光性組成物である場合、ポリマーは、アルカリ可溶性樹脂を含むことが好ましい。
【００７５】
−酸基が酸分解性基で保護された基を有する構成単位を有する重合体−
保護層形成用組成物は、酸基が酸分解性基で保護された基を有する構成単位を有する重合体（以下、「成分Ｂ−１」ともいう。）を含むことが好ましい。
保護層形成用組成物は、更に、酸基が酸分解性基で保護された基を有する構成単位を有する重合体以外の重合体を含んでいてもよい。
成分Ｂ−１は、付加重合型の樹脂であることが好ましく、（メタ）アクリル酸及び／又はそのエステルに由来する構成単位を含む重合体（アクリル樹脂）であることがより好ましい。なお、（メタ）アクリル酸及び／又はそのエステルに由来する構成単位以外の構成単位、例えば、スチレンに由来する構成単位や、ビニル化合物に由来する構成単位等を有していてもよい。
【００７６】
成分Ｂ−１は、酸基が酸分解性基で保護された基を有する構成単位ｂ１を少なくとも有する重合体である。成分Ｂ−１が構成単位ｂ１を有する重合体を含むことにより、極めて高感度な感光性組成物とすることができる。
本発明における「酸基が酸分解性基で保護された基」は、酸基及び酸分解性基として公知のものを使用でき、特に限定されない。具体的な酸基としては、カルボキシル基、及び、フェノール性水酸基が好ましく挙げられる。また、酸分解性基としては、酸により比較的分解しやすい基（例えば、アセタール構造、ケタール構造、テトラヒドロピラニルエステル基、又は、テトラヒドロフラニルエステル基等のアセタール系官能基）や酸により比較的分解し難い基（例えば、ｔｅｒｔ−ブチルエステル基等の第三級アルキル基、ｔｅｒｔ−ブチルカーボネート基等の第三級アルキルカーボネート基）を用いることができる。
【００７７】
酸基が酸分解性基で保護された基を有する構成単位ｂ１は、カルボキシル基が酸分解性基で保護された保護カルボキシル基を有する構成単位（「酸分解性基で保護された保護カルボキシル基を有する構成単位」ともいう。）、又は、フェノール性水酸基が酸分解性基で保護された保護フェノール性水酸基を有する構成単位（「酸分解性基で保護された保護フェノール性水酸基を有する構成単位」ともいう。）であることが好ましい。
好ましい酸分解基としては、１−エトキシエチル基、１−ブトキシエチル基、１−ベンジルオキシエチル基、１−シクロヘキシルオキシエチル基、テトラヒドロフラニル基及びテトラヒドロピラニル基が挙げられる。
【００７８】
また、成分Ｂ−１としては、架橋性基を有することが好ましく、架橋性基を有する構成単位を含むことがより好ましい。
上記架橋性基は、加熱処理で硬化反応を起こす基であれば特に限定はされない。
架橋性基としては、エポキシ基、オキセタニル基、−ＮＨ−ＣＨ2−Ｏ−Ｒ（Ｒは水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基を表す。）で表される基又はエチレン性不飽和基が好ましく、エポキシ基又はオキセタニル基がより好ましい。
エポキシ基を有する構成単位を形成するために用いられるモノマーの具体例としては、例えば、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−プロピルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−ブチルアクリル酸グリシジル、アクリル酸−３，４−エポキシブチル、メタクリル酸−３，４−エポキシブチル、アクリル酸−３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、メタクリル酸−３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、α−エチルアクリル酸−３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、特許第４１６８４４３号公報の段落００３１〜００３５に記載の脂環式エポキシ骨格を含有する化合物などが挙げられる。
オキセタニル基を有する構成単位を形成するために用いられるモノマーの具体例としては、例えば、特開２００１−３３０９５３号公報の段落００１１〜００１６に記載のオキセタニル基を有する（メタ）アクリル酸エステルなどが挙げられる。
【００７９】
また、成分Ｂ−１としては、酸基を有することが好ましく、酸基を有する構成単位を含むことがより好ましい。
酸基としては、カルボン酸基、スルホンアミド基、ホスホン酸基、スルホン酸基、フェノール性水酸基、スルホンアミド基、スルホニルイミド基、並びに、これらの酸基の酸無水物基、及び、これらの酸基を中和し塩構造とした基等が例示され、カルボン酸基及び／又はフェノール性水酸基が好ましい。上記塩としては、特に制限はないが、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、及び、有機アンモニウム塩が好ましく例示できる。
酸基を有する構成単位としては、スチレン化合物に由来する構成単位や、ビニル化合物に由来する構成単位、（メタ）アクリル酸及び／又はそのエステルに由来する構成単位であることがより好ましい。
本発明では、特に、カルボキシル基を有する構成単位、又は、フェノール性水酸基を有する構成単位を含有することが、感度の観点で好ましい。
【００８０】
また、成分Ｂ−１の重合に用いるモノマーとして、具体的には、スチレン、ｔｅｒｔ−ブトキシスチレン、メチルスチレン、α−メチルスチレン、アセトキシスチレン、メトキシスチレン、エトキシスチレン、クロロスチレン、ビニル安息香酸メチル、ビニル安息香酸エチル、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、アクリロニトリル、エチレングリコールモノアセトアセテートモノ（メタ）アクリレートなどによる構成単位を挙げることができる。この他、特開２００４−２６４６２３号公報の段落００２１〜００２４に記載の化合物を挙げることができる。
【００８１】
また、成分Ｂ−１は、電気特性の観点から、スチレン類又は脂肪族環式骨格を有するモノマー由来の構成単位を含むことが好ましく、脂肪族環式骨格を有するモノマー由来の構成単位を含むことがより好ましい。これらモノマーとして、具体的には、スチレン、ｔｅｒｔ−ブトキシスチレン、メチルスチレン、α−メチルスチレン、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００８２】
更に、成分Ｂ−１は、（メタ）アクリル酸アルキルエステル由来の構成単位が、密着性の観点で好ましい。（メタ）アクリル酸アルキルエステルとして、具体的には、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル等が挙げられ、（メタ）アクリル酸メチルがより好ましい。
【００８３】
構成単位ｂ１は、成分Ｂ−１の全構成単位に対し、５〜１００モル％が好ましく、１０〜９０モル％がより好ましく、１０〜６０モル％が更に好ましく、２０〜５０モル％が特に好ましい。
架橋性基を有する構成単位は、成分Ｂ−１の全構成単位に対し、５〜９０モル％が好ましく、１０〜８０モル％がより好ましく、１０〜６０モル％が更に好ましい。
酸基を含む構成単位は、成分Ｂ−１の全構成単位に対し、１〜８０モル％が好ましく、１〜５０モル％がより好ましく、５〜４０モル％が更に好ましく、５〜３０モル％が特に好ましく、５〜２０モル％が最も好ましい。
上記以外の構成単位は、成分Ｂ−１の全構成単位に対し、６０モル％以下が好ましく、５０モル％以下がより好ましく、４０モル％以下が更に好ましい。下限値としては、０モル％でもよいが、例えば、１モル％以上とすることが好ましく、５モル％以上とすることがより好ましい。
なお、本発明において、「構成単位」の含有量をモル比で規定する場合、当該「構成単位」は「モノマー単位」と同義であるものとする。また、本発明において当該「モノマー単位」は、高分子反応等により重合後に修飾されていてもよい。
【００８４】
成分Ｂ−１の分子量は、ポリスチレン換算重量平均分子量で、１，０００〜２００，０００であることが好ましく、２，０００〜５０，０００であることがより好ましい。上記の数値の範囲内であると、諸特性が良好である。数平均分子量Ｍｎと重量平均分子量Ｍｗとの比（分散度、Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０〜５．０が好ましく、１．５〜３．５がより好ましい。
【００８５】
また、成分Ｂ−１としては、特開２０１４−１３２２９２号公報の段落００１６〜００８０に記載の樹脂を好適に用いることができる。
ポジ型感光性組成物中における成分Ｂ−１の含有量は、組成物の全固形分に対して、２０〜９９．９質量％であることが好ましく、５０〜９８質量％であることがより好ましく、７０〜９５質量％であることが更に好ましい。含有量がこの範囲であると、現像した際のパターン形成性が良好となり、また、より高屈折率の硬化物が得られる。
【００８６】
−アルカリ可溶性樹脂−
保護層形成用組成物は、解像性及び皮膜特性向上などの観点から、アルカリ可溶性樹脂（以下、「成分Ｂ−２」ともいう。）を含むことが好ましい。
成分Ｂ−２としては、特に制限はなく、公知のアルカリ可溶性樹脂を用いることができる。
アルカリ可溶性樹脂にアルカリ可溶性を付与する極性基としては、特に制限はなく、公知の極性基を有することができるが、カルボキシル基、ヒドロキシ基、リン酸基、スルホン酸基が好ましく挙げられ、カルボキシル基が特に好ましく挙げられる。
また、上記バインダーポリマーとしては、線状有機ポリマーを用いることが好ましい。このような線状有機ポリマーとしては、公知のものを任意に使用でき、アクリル樹脂であることが好ましい。線状有機ポリマーは、皮膜形成剤としてだけでなく、水、弱アルカリ水あるいは有機溶剤現像剤としての用途に応じて選択使用される。例えば、水可溶性有機ポリマーを用いると水現像が可能になる。このような線状有機ポリマーとしては、側鎖にカルボン酸基を有するラジカル重合体、例えば特開昭５９−４４６１５号公報、特公昭５４−３４３２７号公報、特公昭５８−１２５７７号公報、特公昭５４−２５９５７号公報、特開昭５４−９２７２３号公報公報、特開昭５９−５３８３６号公報、特開昭５９−７１０４８号公報に記載されているもの、すなわち、カルボキシル基を有するモノマーを単独あるいは共重合させた樹脂、酸無水物を有するモノマーを単独あるいは共重合させ酸無水物ユニットを加水分解若しくはハーフエステル化若しくはハーフアミド化させた樹脂、エポキシ樹脂を不飽和モノカルボン酸及び酸無水物で変性させたエポキシアクリレート等が挙げられる。
カルボキシル基を有するモノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、４−カルボキシルスチレン等が挙げられる。
酸無水物を有するモノマーとしては、無水マレイン酸等が挙げられる。
また、同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘導体が挙げられる。この他に水酸基を有する重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用である。
【００８７】
アルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量としては、５，０００以上であることが好ましく、１万以上３０万以下であることがより好ましく、数平均分子量については、１，０００以上であることが好ましく、２，０００以上２５万以下であることがより好ましい。多分散度（重量平均分子量／数平均分子量）は、１以上であることが好ましく、１．１以上１０以下であることがより好ましい。
本発明に用いることができる樹脂は、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等いずれでもよい。
【００８８】
ネガ型感光性組成物中における成分Ｂ−２の含有量は、ネガ型感光性組成物の全固形分に対して、１〜４０質量％であることが好ましく、３〜３０質量％であることがより好ましく、４〜２０質量％であることが更に好ましい。
【００８９】
成分Ｃ：フルオレン化合物
保護層形成用組成物は、フルオレン化合物を含有することが好ましく、反応性基を有するフルオレン化合物を含有することがより好ましい。フルオレン化合物を用いることにより、上記ポリマーにフルオレン環構造を容易に導入することができる。
また、上述するバインダーポリマー等のポリマーにフルオレン環を有するモノマーを共重合して、上記ポリマーにフルオレン環構造を導入してもよい。
成分Ｃの好ましい態様は、上述したフルオレン化合物の好ましい態様と同様である。
フルオレン化合物は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
保護層形成用組成物におけるフルオレン化合物の含有量は、成分Ｂの全含有量１００質量部に対し、１〜２００質量部であることが好ましく、５〜１５０質量部であることがより好ましく、１０〜１５０質量部であることが更に好ましく、５０〜１２０質量部であることが特に好ましい。上記態様であると、得られる硬化物の屈折率がより高く、比誘電率がより低く、透明性により優れる。
【００９０】
成分Ｄ：光酸発生剤
保護層形成用組成物は、成分Ｄとして、光酸発生剤を含有することが好ましく、特に保護層形成用組成物がポジ型感光性組成物である場合、光酸発生剤を含有することが特に好ましい。
「光」とは、その照射により光酸発生剤及び／又は後述する光重合開始剤より開始種を発生させることができるエネルギーを付与することができる活性エネルギー線であれば、特に制限はなく、広くα線、γ線、Ｘ線、紫外線（ＵＶ）、可視光線、電子線などを包含するものである。これらの中でも、紫外線を少なくとも含む光が好ましい。
また、保護層形成用組成物がポジ型感光性組成物である場合、化学増幅型のポジ型感光性組成物（化学増幅ポジ型感光性組成物）であることが好ましく、また、活性光線に感応する光酸発生剤として１，２−キノンジアジド化合物を使用する、非化学増幅型のポジ型感光性組成物であってもよい。高感度で透明性に優れる点で、化学増幅ポジ型感光性組成物であることが好ましい。
【００９１】
本発明で使用される光酸発生剤としては、波長３００ｎｍ以上、好ましくは波長３００〜４５０ｎｍの活性光線に感応し、酸を発生する化合物が好ましいが、その化学構造に制限されるものではない。また、波長３００ｎｍ以上の活性光線に直接感応しない光酸発生剤についても、増感剤と併用することによって波長３００ｎｍ以上の活性光線に感応し、酸を発生する化合物であれば、増感剤と組み合わせて好ましく用いることができる。本発明で使用される光酸発生剤としては、ｐＫａが４以下の酸を発生する光酸発生剤が好ましく、ｐＫａが３以下の酸を発生する光酸発生剤がより好ましく、ｐＫａが２以下の酸を発生する光酸発生剤が最も好ましい。
【００９２】
光酸発生剤の例として、トリクロロメチル−ｓ−トリアジン類、スルホニウム塩やヨードニウム塩、第四級アンモニウム塩類、ジアゾメタン化合物、イミドスルホネート化合物、及び、オキシムスルホネート化合物などを挙げることができる。これらの中でも、絶縁性、感度の観点から、オキシムスルホネート化合物を用いることが好ましい。これら光酸発生剤は、１種単独又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。トリクロロメチル−ｓ−トリアジン類、ジアリールヨードニウム塩類、トリアリールスルホニウム塩類、第四級アンモニウム塩類、及び、ジアゾメタン誘導体の具体例としては、特開２０１１−２２１４９４号公報の段落００８３〜００８８に記載の化合物が例示できる。
【００９３】
オキシムスルホネート化合物、すなわち、オキシムスルホネート構造を有する化合物としては、下記式Ｄ１で表されるオキシムスルホネート構造を含有する化合物が好ましく例示できる。
【００９４】
【化９】
0006639098.tif 000010
【００９５】
式Ｄ１中、Ｒ21は、アルキル基又はアリール基を表し、波線部分は他の基との結合箇所を表す。
【００９６】
いずれの基も置換されてもよく、Ｒ21におけるアルキル基は直鎖状でも分岐状でも環状でもよい。許容される置換基は以下に説明する。
Ｒ21のアルキル基としては、炭素数１〜１０の、直鎖状又は分岐状アルキル基が好ましい。Ｒ21のアルキル基は、炭素数６〜１１のアリール基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、又は、シクロアルキル基（７，７−ジメチル−２−オキソノルボルニル基などの有橋式脂環基を含む、好ましくはビシクロアルキル基等）で置換されてもよい。
Ｒ21のアリール基としては、炭素数６〜１１のアリール基が好ましく、フェニル基又はナフチル基がより好ましい。Ｒ21のアリール基は、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基又はハロゲン原子で置換されてもよい。
【００９７】
オキシムスルホネート化合物としては、特開２０１１−２２１４９４号公報の段落０１１４〜０１２０や特開２０１４−１３２２９２号公報の段落０１１６〜０１４５に記載の化合物が挙げられるが、本発明は、これらに限定されるものではない。
【００９８】
保護層形成用組成物において、光酸発生剤は、保護層形成用組成物中のポリマー１００質量部に対して、０．１〜３０質量部使用することが好ましく、０．１〜１０質量部使用することがより好ましく、０．５〜１０質量部使用することが特に好ましい。
また、光酸発生剤は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用することもできる。
【００９９】
成分Ｅ：エチレン性不飽和化合物
保護層形成用組成物は、成分Ｅとして、エチレン性不飽和化合物を含有することが好ましく、特に保護層形成用組成物がネガ型感光性組成物である場合、エチレン性不飽和化合物を含有することがより好ましく、３官能以上のエチレン性不飽和化合物を含有することが更に好ましい。
本発明におけるエチレン性不飽和化合物は、少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも１個、好ましくは２個以上有する化合物から選ばれることが好ましい。このような化合物は当該技術分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定なく用いることができる。
【０１００】
これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物並びにそれらの共重合体などの化学的形態をもつ。モノマー及びその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など）や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類あるいは不飽和カルボン酸アミド類と単官能若しくは多官能イソシアネート類あるいはエポキシ類との付加反応物、及び単官能若しくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいは不飽和カルボン酸アミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物；更にハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいは不飽和カルボン酸アミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
【０１０１】
脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリス（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリス（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー、イソシアヌール酸ＥＯ変性トリアクリレート等がある。
【０１０２】
メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔ｐ−（メタクリルオキシエトキシ）フェニル〕ジメチルメタン等がある。
【０１０３】
イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、１，４−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。
クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。
マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。
【０１０４】
その他のエステルの例として、例えば、特公昭５１−４７３３４号公報、特開昭５７−１９６２３１号公報記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭５９−５２４０号公報、特開昭５９−５２４１号公報、特開平２−２２６１４９号公報記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平１−１６５６１３号公報記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。更に、前述のエステルモノマーは混合物としても使用することができる。
【０１０５】
また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。
その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭５４−２１７２６号公報記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。
【０１０６】
また、特開昭５１−３７１９３号公報、特公平２−３２２９３号公報、特公平２−１６７６５号公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭５８−４９８６０号公報、特公昭５６−１７６５４号公報、特公昭６２−３９４１７号公報、特公昭６２−３９４１８号公報記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。更に、特開昭６３−２７７６５３号公報、特開昭６３−２６０９０９号公報、特開平１−１０５２３８号公報に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する重合性化合物類を用いることによっては、非常に感光スピードに優れた感光性組成物を得ることができる。
【０１０７】
その他の例としては、特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９０号、各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸を反応させて得られたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭４６−４３９４６号公報、特公平１−４０３３７号公報、特公平１−４０３３６号公報記載の特定の不飽和化合物や、特開平２−２５４９３号公報記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭６１−２２０４８号公報記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。更に、日本接着協会誌ｖｏｌ．２０、Ｎｏ．７、３００〜３０８ページ（１９８４年）に記載されている光硬化性モノマー及びオリゴマーも使用することができる。
【０１０８】
これらのエチレン性不飽和化合物について、その構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、感光性組成物の最終的な性能設計にあわせて任意に設定できる。例えば、次のような観点から選択される。
感度の点では１分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、２官能以上が好ましい。また、硬化膜の強度を高くするためには、３官能以上のものがよく、更に、異なる官能数・異なる重合性基（例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物）のものを併用することで、感度と強度の両方を調節する方法も有効である。
また、他の成分（例えば、光重合開始剤、無機粒子等）との相溶性、分散性に対しても、エチレン性不飽和化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、２種以上の他の成分の併用により相溶性を向上させうることがある。また、基板などの硬質表面との密着性を向上させる目的で特定の構造を選択することもありうる。
【０１０９】
エチレン性不飽和化合物の含有量は、保護層形成用組成物の全固形分に対し、５〜９０質量％であることが好ましく、１０〜８５質量％であることがより好ましく、２０〜８０質量％であることが更に好ましい。上記範囲であると、屈折率を低下させることなく、密着感度及び現像性が共に良好である。
【０１１０】
成分Ｆ：光重合開始剤
保護層形成用組成物は、成分Ｆとして、光重合開始剤を含有することが好ましく、特に保護層形成用組成物がネガ型感光性組成物である場合、光重合開始剤を含有することが特に好ましい。
また、光重合開始剤には、成分Ｄも含まれるが、光重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤であることが好ましい。
本発明に用いられる光重合開始剤は、光により分解し、エチレン性不飽和化合物等の重合性化合物の重合を開始、促進する化合物であり、波長３００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の領域に吸収を有するものであることが好ましい。また、光重合開始剤は、単独で、又は２種以上を併用して用いることができる。
【０１１１】
光重合開始剤としては、例えば、オキシムエステル化合物、有機ハロゲン化化合物、オキシジアゾール化合物、カルボニル化合物、ケタール化合物、ベンゾイン化合物、アクリジン化合物、有機過酸化化合物、アゾ化合物、クマリン化合物、アジド化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ酸化合物、ジスルホン酸化合物、オニウム塩化合物、アシルホスフィン（オキシド）化合物が挙げられる。これらの中でも、感度の点から、オキシムエステル化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物が好ましく、オキシムエステル化合物がより好ましい。
【０１１２】
オキシムエステル化合物としては、特開２０００−８００６８号公報、特開２００１−２３３８４２号公報、特表２００４−５３４７９７号公報、特開２００７−２３１０００号公報、特開２００９−１３４２８９号公報、及び、国際公開第２０１２／０５７１６５号公報の段落００４６〜００５９に記載の化合物を使用できる。
【０１１３】
有機ハロゲン化化合物の例としては、具体的には、若林等、「Bull Chem. Soc. Japan」４２、２９２４（１９６９）、米国特許第３，９０５，８１５号明細書、特公昭４６−４６０５号公報、特開昭４８−３６２８１号公報、特開昭５５−３２０７０号公報、特開昭６０−２３９７３６号公報、特開昭６１−１６９８３５号公報、特開昭６１−１６９８３７号公報、特開昭６２−５８２４１号公報、特開昭６２−２１２４０１号公報、特開昭６３−７０２４３号公報、特開昭６３−２９８３３９号公報、Ｍ．Ｐ．Ｈｕｔｔ“Journal of Heterocyclic Chemistry”１（Ｎｏ３），（１９７０）等に記載の化合物が挙げられる。
【０１１４】
ヘキサアリールビイミダゾール化合物の例としては、例えば、特公平６−２９２８５号公報、米国特許第３，４７９，１８５号、同第４，３１１，７８３号、同第４，６２２，２８６号等の各明細書に記載の種々の化合物が挙げられる。
【０１１５】
アシルホスフィン（オキサイド）化合物としては、モノアシルホスフィンオキサイド化合物、及び、ビスアシルホスフィンオキサイド化合物が例示でき、具体的には、例えば、ＢＡＳＦ社製のイルガキュア８１９、ダロキュア４２６５、ダロキュアＴＰＯなどが挙げられる。
【０１１６】
光重合開始剤は、１種又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
保護層形成用組成物における光重合開始剤の含有量は、組成物中の全固形分１００質量部に対して、０．５〜３０質量部であることが好ましく、１〜２０質量部であることがより好ましく、１〜１０質量部であることが更に好ましく、１．５〜５質量部であることが特に好ましい。
【０１１７】
成分Ｇ：溶剤
保護層形成用組成物は、成分Ｇとして、溶剤を含有してもよい。また、保護層形成用組成物は、上述した成分と、更に後述の任意の成分とを溶剤に溶解及び／又は分散した液として調製されることが好ましい。
保護層形成用組成物に使用される溶剤としては、公知の溶剤を用いることができ、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、エチレングリコールジアルキルエーテル類、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールジアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、エステル類、ケトン類、アミド類、ラクトン類等が例示できる。また、特開２０１１−２２１４９４号公報の段落０１７４〜０１７８に記載の溶剤も挙げられる。
【０１１８】
また、これらの溶剤に更に必要に応じて、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、１−ノナール、ベンジルアルコール、アニソール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、炭酸エチレン、炭酸プロピレン等の溶剤を添加することもできる。
これら溶剤は、１種単独で又は２種以上を混合して使用することができる。本発明に用いることができる溶剤は、１種単独、又は、２種を併用することが好ましい。
【０１１９】
また、成分Ｇとしては、沸点１３０℃以上１６０℃未満の溶剤、沸点１６０℃以上の溶剤、又は、これらの混合物であることが好ましい。
沸点１３０℃以上１６０℃未満の溶剤としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（沸点１４６℃）、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート（沸点１５８℃）、プロピレングリコールメチル−ｎ−ブチルエーテル（沸点１５５℃）、プロピレングリコールメチル−ｎ−プロピルエーテル（沸点１３１℃）が例示できる。
沸点１６０℃以上の溶剤としては、３−エトキシプロピオン酸エチル（沸点１７０℃）、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル（沸点１７６℃）、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート（沸点１６０℃）、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート（沸点２１３℃）、３−メトキシブチルエーテルアセテート（沸点１７１℃）、ジエチレングリコールジエチエルエーテル（沸点１８９℃）、ジエチレングリコールジメチルエーテル（沸点１６２℃）、プロピレングリコールジアセテート（沸点１９０℃）、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート（沸点２２０℃）、ジプロピレングリコールジメチルエーテル（沸点１７５℃）、１，３−ブチレングリコールジアセテート（沸点２３２℃）が例示できる。
これらの中でも、溶剤としては、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類が好ましく、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが特に好ましい。
【０１２０】
保護層形成用組成物における溶剤の含有量は、２０質量％以上９５質量％以下であることが好ましく、５０質量％以上９５質量％以下であることがより好ましく、６５質量％以上９５質量％以下であることが更に好ましい。溶剤の含有量が上記範囲であると、塗布性及び塗布時の平坦性が良好である。
【０１２１】
成分Ｈ：アルコキシシラン化合物
保護層形成用組成物は、成分Ｈとして、アルコキシシラン化合物を含有することが好ましい。アルコキシシラン化合物を用いると、保護層形成用組成物により形成された膜と支持体等との密着性を向上できる。
アルコキシシラン化合物としては、アルコキシ基がケイ素原子に直接結合した基を少なくとも１つ有する化合物であれば、特に制限はないが、ジアルコキシシリル基及び／又はトリアルコキシシリル基を有する化合物であることが好ましく、トリアルコキシシリル基を有する化合物であることがより好ましい。
本発明に用いることができるアルコキシシラン化合物は、基材、例えば、シリコン、酸化シリコン、窒化シリコン等のシリコン化合物、金、銅、モリブデン、チタン、アルミニウム等の金属と硬化膜との密着性を向上させる化合物であることが好ましい。具体的には、公知のシランカップリング剤等も有効である。エチレン性不飽和結合を有するシランカップリング剤が好ましい。
【０１２２】
シランカップリング剤としては、例えば、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−グリシドキシプロピルジアルコキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルジアルコキシシラン、γ−クロロプロピルトリアルコキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリアルコキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリアルコキシシラン、ビニルトリアルコキシシランが挙げられる。これらのうち、γ−メタクリロキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリアルコキシシラン、ビニルトリアルコキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリアコキシシランがより好ましい。これらは１種単独又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
市販品としては、信越化学工業（株）製、ＫＢＭ−４０３やＫＢＭ−５１０３が例示される。
【０１２３】
保護層形成用組成物におけるアルコキシシラン化合物の含有量は、組成物の全固形分対し、０．１〜３０質量％が好ましく、２〜２０質量％がより好ましく、３〜１０質量％が更に好ましい。アルコキシシラン化合物は、１種類のみ使用してもよいし、２種類以上含んでいてもよい。２種類以上含む場合、合計量が上記範囲となることが好ましい。
【０１２４】
成分Ｉ：塩基性化合物
保護層形成用組成物、特にポジ型感光性組成物は、液保存安定性の観点から、塩基性化合物を含有することが好ましい。
塩基性化合物としては、化学増幅レジストで用いられるものの中から任意に選択して使用することができる。例えば、脂肪族アミン、芳香族アミン、複素環式アミン、第四級アンモニウムヒドロキシド、及び、カルボン酸の第四級アンモニウム塩等が挙げられる。
塩基性化合物の具体例としては、特開２０１４−１０２００号公報の段落０１６９に記載の化合物を挙げることができる。
本発明に用いることができる塩基性化合物は、１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよいが、２種以上を併用することが好ましく、２種を併用することがより好ましく、複素環式アミンを２種併用することが更に好ましい。
保護層形成用組成物における塩基性化合物の含有量は、組成物の全有機固形分に対して、０．００１〜１重量％であることが好ましく、０．００２〜０．５重量％であることがより好ましい。
【０１２５】
成分Ｊ：界面活性剤
本発明の保護層形成用組成物は、界面活性剤を含有してもよい。
界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系、又は、両性のいずれでも使用することができるが、好ましい界面活性剤はノニオン系界面活性剤である。界面活性剤としては、ノニオン系界面活性剤が好ましく、フッ素系界面活性剤がより好ましい。
【０１２６】
また、界面活性剤としては、特開２０１４−２３８４３８号公報の段落０１１９〜０１２３に記載された化合物も好ましい例として挙げることができる。
保護層形成用組成物における界面活性剤の含有量は、配合する場合、組成物の全固形分に対して、０．００１〜５．０質量％が好ましく、０．０１〜２．０質量％がより好ましい。
界面活性剤は、１種類のみ含んでもよいし、２種類以上含んでもよい。２種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
【０１２７】
成分Ｋ：熱架橋剤
保護層形成用組成物は、必要に応じ、熱架橋剤を含有することが好ましい。熱架橋剤を添加することにより、保護層形成用組成物により得られる硬化膜をより強固な膜とすることができる。
熱架橋剤としては、熱によって架橋反応が起こるものであれば制限はない（ただし、成分Ａ〜成分Ｃ及び成分Ｅを除く。）。例えば、特開２０１１−２２１４９４号公報の段落０１８８〜０１９１に記載の分子内に２個以上のエポキシ基若しくはオキセタニル基を有する化合物、特開２０１１−２２１４９４号公報の段落０１９２〜０１９４に記載のアルコキシメチル基含有架橋剤、少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物、又は、特開２０１２−２０８２００号公報の段落０１４７〜０１４９に記載のブロックイソシアネート化合物等を添加することができる。
また、熱架橋剤は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用することもできる。
保護層形成用組成物中における熱架橋剤の添加量は、組成物の全固形分１００質量部に対し、０．０１〜５０質量部であることが好ましく、０．１〜３０質量部であることがより好ましく、０．５〜２０質量部であることが更に好ましい。この範囲で添加することにより、機械的強度及び耐溶剤性に優れた硬化膜が得られる。熱架橋剤は複数を併用することもでき、その場合は熱架橋剤を全て合算して含有量を計算する。
【０１２８】
成分Ｌ：２つ以上の窒素原子を有する複素環化合物
保護層形成用組成物は、成分Ａとしてａ３を使用する場合には、低ヘイズ化の観点から成分Ｌとして、２つ以上の窒素原子を有する複素環化合物を含有することが好ましい。
成分Ｌとしては、２つ以上の窒素原子を有する以外は特に制限はないが、複素環の環員として２つ以上の窒素原子を有する複素環化合物であることが好ましく、１，３位に窒素原子を少なくとも有する複素環構造を有する化合物であることがより好ましく、１，３位に窒素原子を少なくとも有する５員又は６員複素環構造を有する化合物であることが更に好ましい。
成分Ｌの具体例としては、特開２０１４−２３８４３８号公報の段落０１６８〜０１８２に記載の化合物が挙げられ、好ましい態様も参酌できる。
また、成分Ｌは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用することもできる。
保護層形成用組成物における成分Ｌの含有量は、組成物の全固形分に対して、０．１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜１５質量％であることがより好ましく、０．５〜１０質量％であることが更に好ましい。上記範囲であると、無機粒子の分散性により優れ、ヘイズがより小さい硬化物が得られる。
【０１２９】
−酸化防止剤−
保護層形成用組成物は、酸化防止剤を含有することが好ましい。
酸化防止剤としては、公知の酸化防止剤を含有することができる。酸化防止剤を添加することにより、硬化膜の着色を防止できる、又は、分解による膜厚減少を低減でき、また、耐熱透明性に優れるという利点がある。
このような酸化防止剤としては、例えば、リン系酸化防止剤、アミド類、ヒドラジド類、ヒンダードアミン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、フェノール系酸化防止剤、アスコルビン酸類、硫酸亜鉛、糖類、亜硝酸塩、亜硫酸塩、チオ硫酸塩、ヒドロキシルアミン誘導体等を挙げることができる。これらの中では、硬化膜の着色、膜厚減少の観点から特にフェノール系酸化防止剤、アミド系酸化防止剤、ヒドラジド系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤が好ましい。これらは１種単独で用いてもよいし、２種以上を混合してもよい。
酸化防止剤の具体例としては、特許第５３０６９０３号公報の段落００６６〜００９３に記載の化合物、及び、特開２０１４−１０２００号公報の段落０１７８に記載の化合物を挙げることができる。
【０１３０】
酸化防止剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．１〜１０質量％であることが好ましく、０．２〜５質量％であることがより好ましく、０．５〜４質量％であることが特に好ましい。この範囲にすることで、形成された膜の十分な透明性が得られ、かつ、パターン形成時の感度も良好となる。
また、酸化防止剤以外の添加剤として、“高分子添加剤の新展開（（株）日刊工業新聞社）”に記載の各種紫外線吸収剤や、金属不活性化剤等を保護層形成用組成物に添加してもよい。
【０１３１】
−分散剤−
保護層形成用組成物は、分散剤を含有することが好ましい。分散剤を含有することにより、成分Ａ、特にａ３の組成物中での分散性をより向上させることができる。
分散剤としては、公知の分散剤を用いることができ、例えば、公知の顔料分散剤を適宜選択して用いることができる。
分散剤としては、例えば、公知の顔料分散剤を適宜選択して用いることができる。
また、分散剤としては、高分子分散剤を好ましく用いることができる。なお、高分子分散剤とは、分子量（重量平均分子量）が１，０００以上の分散剤である。
分散剤の具体例としては、国際公開第２０１４／００３１１１号の段落０１９９〜０２１３に記載の化合物、及び、国際公開第２０１４／１９９９６７号の段落０１５４〜０２３３に記載の化合物を挙げることができる。
分散剤は、１種単独で使用しても、２種以上併用してもよい。
保護層形成用組成物における分散剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、５〜７０質量％の範囲が好ましく、１０〜５０質量％の範囲がより好ましい。
【０１３２】
−重合禁止剤−
保護層形成用組成物は、重合禁止剤を含有してもよい。重合禁止剤を含有することにより、漏れ光による重合反応が抑制され、現像性に優れる。
重合禁止剤とは、露光や熱により重合開始剤から発生した重合開始ラジカル成分に対して水素供与（又は、水素授与）、エネルギー供与（又は、エネルギー授与）、電子供与（又は、電子授与）などを実施し、重合開始ラジカルを失活させ、重合開始を禁止する役割を果たす物質である。例えば、特開２００７−３３４３２２号公報の段落０１５４〜０１７３に記載の化合物などを用いることができる。
保護層形成用組成物における重合禁止剤の含有量は、特に制限はないが、組成物の全固形分に対して、０．００５〜０．５質量％であることが好ましく、０．０１〜０．５質量％であることがより好ましい。重合禁止剤の配合量を調整することによって、感度を損なわずにパターニング性を向上させることができる。
【０１３３】
−その他の成分−
保護層形成用組成物には、上記成分に加えて、必要に応じて、増感剤、密着改良剤、酸増殖剤、現像促進剤、可塑剤、増粘剤、及び、有機又は無機の沈殿防止剤等のその他の成分を添加することができる。これらの成分については、例えば、特開２０１４−２３５２１６号公報、特開２００９−９８６１６号公報、特開２００９−２４４８０１号公報、特開２０１１−２２１４９４号公報に記載のもの、その他公知のものを用いることができる。
また、その他の添加剤としては特開２０１２−８２２３号公報の段落０１２０〜０１２１に記載の熱ラジカル発生剤、国際公開第２０１１／１３６０７４号に記載の窒素含有化合物及び熱酸発生剤も用いることができる。
【０１３４】
上記保護層形成用組成物を用いた保護層の各層の形成方法としては、特に制限はなく、公知の方法を用いることができるが、塗布、並びに、必要に応じて、露光、現像、及び／又は、熱処理を行う方法が好ましい。
上記保護層形成用組成物の塗布方法は特に限定されず、例えば、スリットコート法、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法、流延塗布法、スリットアンドスピン法、インクジェット法、印刷法（フレキソ、グラビア、スクリーン等）等の方法を用いることができる。インクジェット法、印刷法は必要な箇所に絞って組成物を設置することができ、組成物を省液化できるため、好ましい。
これらの中でも、上記保護層形成用組成物は、印刷法及びインクジェット法に好適に使用され、特に、スクリーン印刷法及びインクジェット法に好適である。
更に、支持体に上記保護層形成用組成物を塗布する前に、特開２００９−１４５３９５号公報に記載されているような、いわゆる、プリウェット法を適用することも可能である。
上記保護層形成用組成物が溶剤を含有する場合、乾燥を行うことが好ましい。乾燥方法としては、塗布された組成物膜から、減圧（バキューム）及び／又は加熱等により、溶剤を除去して基板上に乾燥塗膜を形成させる方法が好ましく挙げられる。乾燥時の加熱条件は、好ましくは７０〜１３０℃で３０〜３００秒間程度である。
なお、上記塗布と上記乾燥とは、この順に行っても、同時に行っても、交互に繰り返してもよい。例えば、インクジェット塗布が全て終了した後、乾燥を行ってもよいし、支持体を加熱しておき、インクジェット塗布方式による組成物の吐出を行いながら乾燥を行ってもよい。
【０１３５】
上記露光は、活性光線を用いて光酸発生剤及び／又は光重合開始剤より酸及び／又は重合開始種を発生させ、酸による酸分解性基の分解及び／又はエチレン性不飽和化合物等の重合を行う。
露光光源としては、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ケミカルランプ、ＬＥＤ光源、エキシマレーザー発生装置などを用いることができ、ｉ線（３６５ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）、ｇ線（４３６ｎｍ）などの波長３００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下の波長を有する活性光線が好ましく使用できる。また、必要に応じて長波長カットフィルター、短波長カットフィルター、バンドパスフィルターのような分光フィルターを通して照射光を調整することもできる。
露光装置としては、ミラープロジェクションアライナー、ステッパー、スキャナー、プロキシミティ、コンタクト、マイクロレンズアレイ、レンズスキャナ、レーザー露光など各種方式の露光装置を用いることができる。
また、上記露光工程における露光量としても、特に制限はないが、１〜３，０００ｍＪ／ｃｍ2であることが好ましく、１〜５００ｍＪ／ｃｍ2であることがより好ましい。
上記露光は、酸素遮断された状態で行うことが、硬化促進の観点から好ましい。酸素を遮断する手段としては、窒素雰囲気下で露光したり、酸素遮断膜を設けることが例示される。
また、上記露光は、組成物の少なくとも一部に行われればよく、例えば、全面露光であっても、パターン露光であってもよい。
また、上記露光後に、露光後加熱処理：Post Exposure Bake（以下、「ＰＥＢ」ともいう。）を行うことができる。ＰＥＢを行う場合の温度は、３０℃以上１３０℃以下であることが好ましく、４０℃以上１２０℃以下がより好ましく、５０℃以上１１０℃以下が特に好ましい。
加熱の方法は特に限定されず、公知の方法を用いることができる。例えば、ホットプレート、オーブン、赤外線ヒーターなどが挙げられる。
また、加熱時間としては、ホットプレートの場合は１分〜３０分程度が好ましく、それ以外の場合は２０分〜１２０分程度が好ましい。この範囲で基板、装置へのダメージなく加熱することができる。
【０１３６】
保護層の各層の形成では、必要に応じて露光された層を現像液により現像してもよい。
現像では、パターン状に露光された組成物を、溶剤やアルカリ性現像液で現像し、パターンを形成する。現像において使用する現像液には、塩基性化合物が含まれることが好ましい。塩基性化合物としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩類；重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムなどのアルカリ金属重炭酸塩類；テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、コリンヒドロキシド等のアンモニウムヒドロキシド類等のアンモニウムヒドロキシド類；ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムなどの水溶液を使用することができる。また、上記アルカリ類の水溶液にメタノールやエタノールなどの水溶性有機溶剤や界面活性剤を適当量添加した水溶液を現像液として使用することもできる。
好ましい現像液として、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドの０．４〜２．５質量％水溶液を挙げることができる。
現像液のｐＨは、好ましくは１０．０〜１４．０である。現像時間は、好ましくは３０〜５００秒間であり、また、現像の手法は液盛り法（パドル法）、シャワー法、ディップ法等のいずれでもよい。
現像の後に、リンス工程を行うこともできる。リンス工程では、現像後の基板を純水などで洗うことで、付着している現像液除去、現像残渣除去を行う。リンス方法は公知の方法を用いることができる。例えばシャワーリンスやディップリンスなどを挙げることができる。
パターン露光及び現像については、公知の方法や公知の現像液を用いることができる。例えば、特開２０１１−１８６３９８号公報、特開２０１３−８３９３７号公報に記載のパターン露光方法及び現像方法を好適に用いることができる。
【０１３７】
上記露光後、露光された層を熱処理してもよい。露光した後に熱処理を行うことにより、より強度に優れた硬化膜を得ることができる。
上記熱処理の温度としては、８０℃〜３００℃であることが好ましく、１００℃〜２８０℃であることがより好ましく、１２０℃〜２５０℃であることが特に好ましい。上記態様であると、成分Ａとしてａ１及び／又はａ２を用いた場合には、成分Ｃの縮合が適度に生じると推定され、硬化膜の物性により優れる。
また、上記熱処理の時間としては、特に制限はないが、１分〜３６０分が好ましく、５分〜２４０分がより好ましく、１０分〜１２０分が更に好ましい。
また、上記光及び／又は熱による硬化は、連続して行ってもよいし、逐次行ってもよい。
また、熱処理を行う際は窒素雰囲気下で行うことにより、透明性をより向上させることもできる。
熱処理工程（ポストベーク）の前に、比較的低温でベークを行った後に熱処理工程を行うこともできる（ミドルベーク工程の追加）。ミドルベークを行う場合は、９０〜１５０℃で１〜６０分加熱した後に、２００℃以上の高温でポストベークすることが好ましい。また、ミドルベーク、ポストベークを３段階以上の多段階に分けて加熱することもできる。このようなミドルベーク、ポストベークの工夫により、パターンのテーパー角を調整することができる。これらの加熱は、ホットプレート、オーブン、赤外線ヒーターなど、公知の加熱方法を使用することができる。
なお、ポストベークに先立ち、パターンを形成した基板に活性光線により全面再露光（ポスト露光）した後、ポストベークすることにより、各成分同士の縮合反応、及び／又は、露光部分に残存する光重合開始剤から熱分解により開始種を発生させ、架橋工程を促進する触媒として機能すると推定され、膜硬化を促進することができる。ポスト露光工程を含む場合の好ましい露光量としては、１００〜３，０００ｍＪ／ｃｍ2が好ましく、１００〜５００ｍＪ／ｃｍ2が特に好ましい。
【０１３８】
（転写材料）
本発明のタッチパネル部材は、上記保護層をフィルム転写により形成してもよく、下記に示す本発明の転写材料を用いて作製されたものであることが好ましい。
本発明の転写材料は、仮支持体上に、厚さ０．０４〜１０μｍの層を少なくとも有し、上記層の少なくとも一部において、仮支持体側から仮支持体と反対側に向けて屈折率が連続的に大きくなる層であり、上記保護層が、下記式２’を満たすことを特徴とする。
０．２≦ｎ（反対側）−ｎ（仮支持体側）      （２）
式中、上記層の仮支持体側界面の屈折率をｎ（仮支持体側）とし、上記層の仮支持体と反対側界面の屈折率をｎ（反対側）とする。
例えば、本発明のタッチパネル部材は、本発明の転写材料から上記屈折率が連続的に大きくなる層を、保護層として基材上に転写した後に上記仮支持体を取り除くことにより形成することが好ましい。
上記転写材料における屈折率が連続的に大きくなる層の好ましい態様は、上記保護層における好ましい態様と同様である。
また、式２’の好ましい態様は、上記式２の好ましい態様において、ｎ（保護電）及びｎ（保護表面）をｎ（反対側）及びｎ（仮支持体側）にそれぞれ置き換えた態様と同様である。
【０１３９】
−仮支持体−
上記転写材料は、仮支持体を有する。
上記仮支持体としては、可撓性を有し、加圧下においても著しい変形を生じないことが好ましい。そのような仮支持体の例としては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム等を挙げることができる。中でも、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。
仮支持体の厚みには特に限定はないが、５〜３００μｍが好ましく、２０〜２００μｍがより好ましい。
また、仮支持体は透明でもよいし、染料化ケイ素、アルミナゾル、クロム塩、ジルコニウム塩などの着色成分を含有していてもよい。
また、仮支持体には、特開２００５−２２１７２６号公報の段落００７９〜００９５に記載の方法などにより、導電性総又は疎水性重合体層を付与することができる。
【０１４０】
−熱可塑性樹脂層−
上記転写材料は、熱可塑性樹脂層を少なくとも１層有していてもよい。上記熱可塑性樹脂層は、上記仮支持体と上記屈折率が連続的に大きくなる層との間に設けられることが好ましい。すなわち、上記転写材料は、上記仮支持体、上記熱可塑性樹脂層及び上記屈折率が連続的に大きくなる層をこの順で含むことが好ましい。
上記熱可塑性樹脂層に用いる成分としては、Ｖｉｃａｔ法（具体的にはアメリカ材料試験法ＡＳＴＭＤ１２３５によるポリマー軟化点測定法）による軟化点が約８０℃以下の有機高分子より選ばれることが特に好ましい。
【０１４１】
具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレンと酢酸ビニル或いはそのケン化物のようなエチレン共重合体、エチレンとアクリル酸エステル或いはそのケン化物、ポリ塩化ビニル、塩化ビニルと酢酸ビニル及びそのケン化物のような塩化ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル或いはそのケン化物のようなスチレン共重合体、ポリビニルトルエン、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル或いはそのケン化物のようなビニルトルエン共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等の（メタ）アクリル酸エステル共重合体、酢酸ビニル共重合体ナイロン、共重合ナイロン、Ｎ−アルコキシメチル化ナイロン、Ｎ−ジメチルアミノ化ナイロンのようなポリアミド樹脂等の有機高分子が挙げられる。
【０１４２】
熱可塑性樹脂層の厚みは、６〜１００μｍが好ましく、６〜５０μｍがより好ましい。熱可塑性樹脂層の厚みが６〜１００μｍの範囲では、基材上に凹凸がある場合であっても上記凹凸の影響を吸収することができる。
【０１４３】
−中間層−
上記転写材料は、複数の塗布層の塗布する際、又は、塗布後に転写材料を保存する際の成分の混合を防止する目的から、中間層を有していてもよい。上記中間層は、上記仮支持体と上記屈折率が連続的に大きくなる層との間（上記熱可塑性樹脂層を有する場合には、上記熱可塑性樹脂層と上記屈折率が連続的に大きくなる層との間）に設けられることが好ましい。すなわち、上記転写材料は、上記仮支持体、上記熱可塑性樹脂層、中間層及び上記屈折率が連続的に大きくなる層をこの順で含むことが好ましい。
上記中間層としては、特開平５−７２７２４号公報に「分離層」として記載されている、酸素遮断機能のある酸素遮断膜を用いることが好ましく、この場合、露光時感度がアップし、露光機の時間負荷が減り、生産性が向上する。
上記酸素遮断膜としては、低い酸素透過性を示し、水又はアルカリ水溶液に分散又は溶解するものが好ましく、公知のものの中から適宜選択することができる。これらのうち、特に好ましいのは、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンとの組み合わせである。
【０１４４】
中間層の厚みは、０．１〜５．０μｍが好ましく、０．５〜２．０μｍがより好ましい。０．１〜５．０μｍの範囲では酸素遮断能が低下することもなく、現像時又は中間層除去時に時間がかかりすぎることもない。
【０１４５】
−保護剥離層−
上記転写材料には、転写材料を保存する際の汚染や損傷から保護する目的で、上記屈折率が連続的に大きくなる層を覆うようにして、保護剥離層（カバーフィルムともいう。）が設けられることが好ましい。上記保護剥離層の材料は、上記仮支持体で記載した材料からなっていてもよい。また、上記保護剥離層の材料としては、シリコーン紙、ポリオレフィン又はポリテトラフルオロエチレンシートが好ましい。
【０１４６】
上記保護剥離層のヘイズ度の最大値は３．０％以下であることが好ましく、上記屈折率の異なる３以上の層の現像後の欠陥の発生をより効果的に抑制する観点からは、２．５％以下が好ましく、２．０％以下がより好ましく、１．０％以下が特に好ましい。
【０１４７】
上記保護剥離層の厚みは、１〜１００μｍであることが好ましく、５〜５０μｍであることがより好ましく、１０〜３０μｍであることが特に好ましい。この厚みが１μｍ以上であれば上記保護剥離層の強度が十分であり、上記屈折率が連続的に大きくなる層に上記保護剥離層を張り合わせる際に、上記保護剥離層が破断しにくい。また、厚みが１００μｍ以下であると、上記保護剥離層をラミネートする際にシワが発生しにくい。
【０１４８】
このような保護剥離層は市販のものとして、例えば、王子製紙（株）製アルファンＭＡ−４１０、Ｅ−２００Ｃ、Ｅ−５０１、信越フィルム（株）製等のポリプロピレンフィルム、帝人（株）製ＰＳ−２５等のＰＳシリーズなどのポリエチレンテレフタレートフィルム等が挙げられるがこれに限られたものではない。また、市販のフィルムをサンドブラスト加工することにより、簡単に製造することが可能である。
【０１４９】
上記保護剥離層として、ポリエチレンフィルムなどのポリオレフィンフィルムを好適に用いることができる。また、上記保護剥離層として用いられるポリオレフィンフィルムは、原材料を熱溶融し、混練、押し出し、２軸延伸、キャスティング又はインフレーション法によって製造されたものであることが好ましい。
【０１５０】
−転写材料の製造方法−
上記転写材料を製造する方法としては、特に限定はなく、公知の方法を用いることができる。また、上記転写材料における上記屈折率が連続的に大きくなる層の形成方法は、上述した方法を好適に用いることができる。
【０１５１】
仮支持体上に、上記熱可塑性樹脂層形成用の塗布液、上記中間層形成用の塗布液を塗布する方法としては、公知の塗布方法を用いることができる。例えば、スピナー、ホワイラー、ローラーコーター、カーテンコーター、ナイフコーター、ワイヤーバーコーター、エクストルーダー等の塗布機を用いて、それらの塗液を塗布し、乾燥させることにより形成できる。
【０１５２】
−溶剤−
上記熱可塑性樹脂層形成用の塗布液、及び、上記中間層形成用の塗布液は、各成分と共に溶剤を用いて好適に調製することができる。
溶剤としては、エステル類、例えば酢酸エチル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸イソブチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、アルキルエステル類、乳酸メチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、並びに、３−オキシプロピオン酸メチル及び３−オキシプロピオン酸エチルなどの３−オキシプロピオン酸アルキルエステル類（例えば、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル）、並びに、２−オキシプロピオン酸メチル、２−オキシプロピオン酸エチル及び２−オキシプロピオン酸プロピルなどの２−オキシプロピオン酸アルキルエステル類（例えば、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−エトキシ−２−メチルプロピオン酸エチル）、並びに、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸メチル、２−オキソブタン酸エチル等；エーテル類、例えば、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート等；ケトン類、例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン等；芳香族炭化水素類、例えばトルエン、キシレン；等が挙げられる。
【０１５３】
これらのうち、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、キシレン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等が好適である。
溶剤は、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１５４】
上記保護剥離層で上記屈折率が連続的に大きくなる層を覆う方法としては、特に限定はないが、仮支持体上の屈折率が連続的に大きくなる層に上記保護剥離層を重ね、圧着する方法を用いることができる。
圧着には、ラミネーター、真空ラミネーター、及び、より生産性を高めることができるオートカットラミネーター等の公知のラミネーターを使用することができる。
上記圧着の条件としては、雰囲気温度２０〜４５℃、線圧１，０００〜１０，０００Ｎ／ｍが好ましい。
【０１５５】
−ラミネート方法−
上記屈折率が連続的に大きくなる層の基材表面への転写（貼り合わせ）は、上記屈折率が連続的に大きくなる層を基材表面に重ね、加圧、加熱することに行われる。貼り合わせには、ラミネーター、真空ラミネーター、及び、より生産性を高めることができるオートカットラミネーター等の公知のラミネーターを使用することができる。
ラミネート方法は、連続式又は枚葉式に行う方法のいずれでもよいが、枚葉式で行うほうが打ち抜いた転写材料を基材に転写する際に、転写材料と基材との間に気泡が入らない観点で好ましい。具体的には、真空ラミネーターを使用する方法が好ましい。
【０１５６】
ラミネート（連続式／枚葉式）に用いられる装置としては、例えば、クライムプロダクツ（株）製  Ｖ−ＳＥ３４０ａａＨなどを挙げることができる。
真空ラミネーター装置としては、例えば、高野精機有限会社製のものや、大成ラミネーター（株）製、ＦＶＪ−５４０Ｒ、ＦＶ７００などを挙げることができる。
【０１５７】
上記転写材料を基材に貼り付ける前に、上記仮支持体の上記屈折率が連続的に大きくなる層と反対側に、支持体を積層する工程を更に含むことがラミネート時に気泡が入りにくいため好ましい。このときに用いる支持体としては特に制限はないが、例えば、以下のものを挙げることができる。
ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース、シクロオレフィンポリマー。
また、上記支持体の膜厚は、５０〜２００μｍの範囲が好ましい。
【０１５８】
−仮支持体を取り除く工程−
上記転写材料の製造方法は、上記基材に貼り付けられた上記転写材料から上記仮支持体を取り除く工程を含むことが好ましい。
【０１５９】
−熱可塑性樹脂層を除去する工程、中間層を除去する工程−
更に、上記転写材料が熱可塑性樹脂層や中間層を含む場合は、熱可塑性樹脂層及び／又は中間層を除去する工程と有することが好ましい。
上記熱可塑性樹脂層及び／又は中間層を除去する工程は、一般にフォトリソ方式で使用されるアルカリ現像液を用いて行うことができる。上記アルカリ現像液としては、特に制約はなく、上記で述べた現像液、特開平５−７２７２４号公報に記載のものなど、公知の現像液を使用することができる。なお、現像液は現像される層が溶解する現像挙動を示すものが好ましく、例えば、ｐＫａ＝７〜１３の化合物を０．０５〜５ｍｏｌ／Ｌの濃度で含むものが好ましい。更に水と混和性を有する有機溶剤を少量添加してもよい。水と混和性を有する有機溶剤としては、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドン等を挙げることができる。上記有機溶剤の濃度は０．１質量％〜３０質量％が好ましい。
また、上記アルカリ現像液には、更に公知の界面活性剤を添加することができる。界面活性剤の濃度は０．０１質量％〜１０質量％が好ましい。
【０１６０】
上記熱可塑性樹脂層及び／又は中間層を除去する工程の方式としては、パドル方式、シャワー方式、シャワー＆スピン方式、ディップ方式等のいずれでもよい。ここで、上記シャワー方式について説明すると、熱可塑性樹脂層や中間層を、現像液をシャワーにより吹き付けることにより除去することができる。また、現像の後に、洗浄剤などをシャワーにより吹き付け、ブラシなどで擦りながら、残渣を除去することが好ましい。液温度は２０℃〜４０℃が好ましく、また、ｐＨは８〜１３が好ましい。
【０１６１】
−ポストベーク工程−
上記転写工程後にポストベーク工程を含むことが好ましい。上記熱可塑性樹脂層及び／又は中間層を除去工程後にポストベークを行う工程を含むことがより好ましい。
ポストベーク工程としては０．０８〜１．２ａｔｍの環境下で５０℃〜３００℃に加熱して行うことが、生産性の観点から好ましい。
【０１６２】
上記ポストベークの加熱は、０．５ａｔｍ以上の環境下で行うことがより好ましい。上限としては、１．１ａｔｍ以下の環境下で行うことがより好ましく、１．０ａｔｍ以下の環境下で行うことが特に好ましい。更に、１ａｔｍ（大気圧）環境下で行うことが特別な減圧装置を用いることなく製造コストを低減できる観点からより特に好ましい。
上記ポストベークの温度は、５０℃〜３００℃が好ましく、１００℃〜３００℃がより好ましく、１２０℃〜３００℃が更に好ましい。
また、上記ポストベークは２以上の異なる温度でそれぞれ所定の時間だけ行ってもよい。例えば、まず５０℃〜２００℃、好ましくは１００℃〜２００℃で加熱し、次いで、２００℃〜２８０℃、好ましくは２２０℃〜２６０℃で加熱することができる。
上記ポストベークの時間は、２０〜１５０分であることがより好ましく、３０〜１００分であることが特に好ましい。２段階以上の温度で行う場合には、各段階の温度の合計が２０〜１５０分となるように行うことが好ましい。
上記ポストベークは、空気環境下で行っても、窒素置換環境下で行ってもよいが、空気環境下で行うことが、特別な減圧装置を用いることなく製造コストを低減できる観点から特に好ましい。
【０１６３】
−その他の工程−
上記転写材料の製造方法は、ポスト露光工程等のその他の工程を有していてもよい。
なお、上記ポスト露光工程、現像工程、上記熱可塑性樹脂層及び／又は中間層を除去する工程、及び、その他の工程の例としては、特開２００６−２３６９６号公報の段落００３５〜００５１に記載の方法を本発明においても好適に用いることができる。
【０１６４】
（タッチパネル及びタッチパネル表示装置）
本発明のタッチパネルは、タッチパネル部材を有するタッチパネルである。
本発明のタッチパネル装置は、本発明のタッチパネル部材を有するタッチパネル装置である。検出方式としては、静電容量方式、抵抗膜方式、光学方式など各種公知の方式を採用できる。中でも、静電容量方式が好ましい。
タッチパネル型としては、いわゆる、インセル型（例えば、特表２０１２−５１７０５１号公報の図５、図６、図７、図８に記載のもの）、いわゆる、オンセル型（例えば、特開２０１３−１６８１２５号公報の図１９に記載のもの、特開２０１２−８９１０２号公報の図１や図５に記載のもの）、ＯＧＳ型、ＴＯＬ型（例えば、特開２０１３−５４７２７号公報の図２に記載のもの）、その他の構成（例えば、特開２０１３−１６４８７１号公報の図６に記載のもの）、各種アウトセル型（いわゆる、ＧＧ、Ｇ１・Ｇ２、ＧＦＦ、ＧＦ２、ＧＦ１、Ｇ１Ｆなど）を挙げることができる。
本発明のタッチパネル及びタッチパネル装置は、ホネ見え改良及びテーパー見え改良の効果が奏されやすいという観点から、オンセル型、ＯＧＳ型、ＴＯＬ型、その他の構成、各種アウトセル型が好ましい。
本発明のタッチパネル装置、及び、当該タッチパネル装置を構成要素として備えたタッチパネル表示装置は、「最新タッチパネル技術」（２００９年７月６日発行（株）テクノタイムズ）、三谷雄二監修、“タッチパネルの技術と開発”、シーエムシー出版（２００４，１２）、ＦＰＤ  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ  ２００９  Ｆｏｒｕｍ  Ｔ−１１講演テキストブック、Ｃｙｐｒｅｓｓ  Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ  アプリケーションノートＡＮ２２９２等に開示されている構成を適用することができる。
【実施例】
【０１６５】
以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」、「％」は質量基準である。
【０１６６】
（実施例１）
＜透明基板の準備＞
まず、透明基板としてのガラス板（無アルカリガラス、ＮＨテクノグラス（株）製、屈折率１．５３）５５０ｍｍ×６５０ｍｍを準備し、超純水を用いて界面活性剤処理し、引き続き超音波洗浄処理により洗浄した。
上記透明基板に、タッチパネル部材が５０面取りできるよう設計して以下のとおり作製し、そのうちの任意の１面を実施例１に使用した。
【０１６７】
＜取り出し配線の製版＞
外周配線部の抵抗を補助する金属配線として、Ａｇ−Ｐｄ−Ｃｕ合金（ＡＰＣ）を上記ガラス基板全面にスパッタにより３０ｎｍの厚さで製膜した。引き続き、ポジ感光性材料（ＡＺエレクトロニックマテリアルズ社製）を用い、フォトリソグラフィ法により、アクティブエリア外に取り出し配線のパターンを形成した。更にエッチャントとしてリン酸、硝酸、酢酸系混合溶液を用い、不要部分を除去し、引き続いて不要となったポジ感光性材料を苛性ソーダで剥離して金属配線パターンを形成した。
【０１６８】
＜透明電極層の製膜＞
次に取り出し配線が製版された透明基材面上に、透明電極層を形成するために、スパッタにより全面に８０ｎｍの厚さでＩＴＯを製膜した。そして、取り出し配線と同様のポジ感光性材料を用いてフォトリソグラフィ法により、所定のタッチセンサーパターンからなる透明電極層を形成した。ＩＴＯのエッチャントとしてはシュウ酸系溶液を用いた。
【０１６９】
＜保護層の製膜＞
＜＜傾斜層の形成＞＞
次に、この基板上に傾斜層として珪素（Ｓｉ）、酸素（Ｏ）及び窒素（Ｎ）の元素からなる膜を成膜した。このとき、スパッタリング前の圧力を０．０００１Ｐａとし、ターゲットとして珪素を用いて、直流（ＤＣ）電力を印加した。また、放電ガスとしてＡｒガスを導入した。Ｎ２、Ｏ２ガスの比率（Ｎ２／Ｏ２）を成膜時間とともに徐々に減少させながら、０．４Ｐａの雰囲気下でＤＣマグネトロンスパッタリング法を用いて製膜した。また、センターロール温度は２℃として、スパッタリングを行った。
【０１７０】
また、雰囲気の窒素、酸素分圧をスパッタプロセスモニター（ＬＥＹＢＯＬＤ  ＩＮＦＩＣＯＮ社製、ＸＰＲ２）にて常時観測しながら、薄膜中の窒素、酸素比が所定の比率になるように窒素、酸素ガスの流量計にフィートバックした。以上のようにして、厚さ７０ｎｍのＳｉ、Ｏ及びＮの元素からなる組成傾斜薄膜層を堆積させた。
組成傾斜薄膜層の鉛筆硬度は、Ｈ以上であった。
引き続き、取り出し配線と同様のポジ感光性材料を用いたフォトリソグラフィ法及びエッチング、剥離により、取り出し配線部分の傾斜層を除去した。
【０１７１】
＜＜平坦化層の形成＞＞
傾斜層を形成した基板に下記組成物１（ネガ型感光性組成物０）をスリット塗布し、９０℃２分乾燥させ、組成物層を形成した。
所定パターンに露光し、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）２．３８％水溶液で不要部分を除去した。その後、オーブンで１８０℃３０分加熱して平坦化層を形成した。
得られた平坦化層の鉛筆硬度は、Ｈ以上であった。
【０１７２】
−組成物１（ネガ型感光性組成物０）の組成−
アロニックスＴＯ−２３４９（東亞合成（株）製、カルボン酸含有モノマー）：１８部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）：７５部
イルガキュアＯＸＥ−０１（ラジカル重合開始剤、ＢＡＳＦ社製）：３部
ＫＢＭ−５１０３（シランカップリング剤、信越化学工業（株）製）：４部
メガファックＦ−５５４（界面活性剤、ＤＩＣ（株）製）：０．１部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート：４００部
【０１７３】
＜鉛筆硬度評価＞
下記条件にて、各層の鉛筆硬度を測定した。
方法：ＪＩＳ  Ｋ  ５６００−５−４に準じて測定した。
鉛筆種類：三菱鉛筆（株）製のＵｎｉ
加重：７５０ｇ重
角度：４５°
速さ：０．１ｃｍ／秒
温度：２５℃
【０１７４】
＜屈折率の測定＞
平坦化層まで形成した基板の断面の電子顕微鏡写真を撮り、各層の膜厚を測定した。
透明電極層の膜厚は０．０８０μｍ、傾斜層の膜厚は０．０７０μｍ、平坦化層の膜厚は１．５μｍであった。
透明電極のテーパー角は、２５°であることを確認した。
また、断面のＸ線光電子分光分析で元素分布を測定し、傾斜層は、Ｓｉ、Ｏ及びＮからなり、その組成が連続的に変化しており、その屈折率は透明電極側が高く、平坦化層側が低いことを確認した。更に、平坦化層は、有機系材料から成る均質な膜であること、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎｂといった高屈折率材料はないことを確認した。
すなわち、このタッチパネル部材の屈折率は、透明電極≒傾斜層の透明電極側＞傾斜層の平坦化層側（＞又は≒）平坦化層と推定した。
これらの情報をもとに分光エリプソメーターＶＡＳＥ（Ｊ．Ａ．ウーラム社製）によって各層の５５０ｎｍでの屈折率を測定した。なお、フィッティングはＣａｕｃｈｙモデルにより行った。
透明電極の屈折率は１．９０、傾斜層は透明電極側の界面屈折率が１．９０で略線形に屈折率が減少し、平坦化層側界面が１．５５、平坦化層の屈折率は１．５３であった。
【０１７５】
なお、本発明における屈折率測定は、下記のように行う。
Ａ．各層の単独膜が得られる場合には、各層の単独膜を分光エリプソメーターで測定する。
Ｂ．各層の単独膜が得られない場合（積層膜だけが得られる場合）には、積層膜を分光エリプソメーターで測定する。
本実施例では、Ｂの方法で測定した。
【０１７６】
＜ホネ見えの評価＞
保護層まで形成した基板（タッチパネル部材）を蛍光灯下、肉眼で観察した。
評価基準を以下に示す。なお、Ａ、Ｂ及びＣが実用範囲である。
Ａ：電極パターンが全く見えない。
Ｂ：基板から２０ｃｍ以内の距離で電極パターンが僅かに見え、２０ｃｍ以上では見えない。
Ｃ：基板から２０ｃｍ以上の距離で、電極パターンが僅かに見える。
Ｄ：基板から２０ｃｍ以上の距離で、電極パターンがはっきり見える。
【０１７７】
＜テーパー見えの評価＞
保護層まで形成した基板に懐中電灯で斜めから光を当てて肉眼で観察した。
評価基準を以下に示す。なお、Ａ、Ｂ及びＣが実用範囲である。
Ａ：テーパー部での反射光が全く見えない。
Ｂ：基板から２０ｃｍ以内の距離でテーパー部での反射光が僅かに見え、２０ｃｍ以上では見えない。
Ｃ：基板から２０ｃｍ以上の距離で、テーパー部での反射光が僅かに見える。
Ｄ：基板から２０ｃｍ以上の距離で、テーパー部での反射光がはっきり見える。
【０１７８】
＜全反射の評価＞
保護層まで形成した基板を黒色紙上に置いて、蛍光灯下、肉眼で観察した。
評価基準を以下に示す。なお、Ａ、Ｂ、及び、Ｃが実用範囲である。
Ａ：白っぽさやギラツキを全く感じない。
Ｂ：基板から２０ｃｍ以内の距離で白っぽさやギラツキを僅かに感じ、２０ｃｍ以上では感じない。
Ｃ：基板から２０ｃｍ以上の距離で、白っぽさやギラツキを僅かに感じる。
Ｄ：基板から２０ｃｍ以上の距離で、白っぽさやギラツキをはっきり感じる。
【０１７９】
（実施例２）
＜重合体Ｐ１の合成＞
メタクリル酸テトラヒドロフラン−２−イル（０．４０モル当量）、
メタクリル酸（０．１０モル当量）、
メタクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル（０．５０モル当量）
を合計で１００部、及び、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）（１２０部）の混合溶液を窒素気流下、７０℃に加熱した。この混合溶液を撹拌しながら、ラジカル重合開始剤Ｖ−６０１（ジメチル  ２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオネート））、和光純薬工業（株）製、１２．０部）及びＰＧＭＥＡ（８０部）の混合溶液を３．５時間かけて滴下した。滴下が終了してから、７０℃で２時間反応させることにより重合体Ｐ１のＰＧＭＥＡ溶液を得た。更にＰＧＭＥＡを添加して固形分濃度４０質量％に調整した。
得られた重合体Ｐ１のゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）により測定した重量平均分子量（Ｍｗ）は、１５，０００であった。
【０１８０】
＜分散液Ｉの調製＞
−分散液Ｉの組成−
ＴＴＯ−５１（Ｃ）：酸化チタン粒子（石原産業（株）製）：２５部
ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１１１（分散剤、ビックケミー・ジャパン（株）製）：７．５部
ＰＧＭＥＡ（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）：６２．５部
上記組成の分散液組成物を、寿技研工業（株）製ウルトラアペックスミルにて、０．０５ｍｍジルコニアビーズ充填率７５％、周速１２ｍ／ｓｅｃ、循環流量１８０ｇ／ｍｉｎで１５０ｍｉｎ循環させて分散し、分散液Ｉを得た。
【０１８１】
＜ポジ型感光性樹脂組成物Iの調製＞
下記組成にて、配合し混合して均一な溶液とした後、０．２μｍのポアサイズを有するポリエチレン製フィルターを用いてろ過して、ポジ型感光性樹脂組成物Iを調製した。
−組成−
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）：３２．４部
・重合体Ｐ１（固形分４０質量％ＰＧＭＥＡ溶液）：１２．０部
・イルガキュアＰＡＧ−１０３（光酸発生剤、ＢＡＳＦ社製）：３．０部
・ＫＢＭ−４０３（シランカップリング剤、信越化学工業（株）製）：２．０部
・ＣＭＴＵ（下記化合物、東洋化成工業（株）製）：０．３部
・フタージェントＦＴＸ−２１８（界面活性剤、（株）ネオス製）：０．３部
・下記環状チオウレア化合物：０．３部
・分散液Ｉ：５０．０部
【０１８２】
【化１０】
0006639098.tif 000011
【０１８３】
【化１１】
0006639098.tif 000012
【０１８４】
＜保護層の形成＞
＜＜平坦化層の形成＞＞
実施例１と同様にして透明電極層の製膜まで行った基板に、ポジ型感光性樹脂組成物Iをスリット塗布し、９０℃２分乾燥させた。この膜を超高圧水銀灯でパターン露光し、ＴＭＡＨ０．７％水溶液で現像し、純粋でリンスすることで、取り出し配線部分の組成物層を除去した。更にオーブンで２００℃３０分加熱することで、透明電極層上に硬化膜層（平坦化層）を得た。また、鉛筆硬度はＨ以上であった。
【０１８５】
＜＜傾斜層の形成＞＞
（１）無機成分液の調製
チタンテトライソプロポキシド１２ｇとエタノール１０ｇとの混合溶液に、エタノール５ｇと濃塩酸２．５ｇと水０．５ｇとの混合溶液を水浴中で滴下、撹拌したのち、室温（２５℃、以下同様）で５時間反応させて、無機成分液１を調製した。
【０１８６】
（２）有機成分溶液の調製
メチルメタクリレート１０．９ｇ及び３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン１．３６ｇの混合溶液に、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル０．１ｇを溶解させたのち、撹拌しながら７５℃で３時間反応させて、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）法によるポリスチレン換算の重量平均分子量が約６万の共重合体を得た。この共重合体０．１ｇをアセトン１０ミリリットルに溶解させ、１０ｇ／リットル濃度の有機成分溶液３を調製した。
【０１８７】
（３）塗工液の調製
アセトン：３．８部、
エタノール：３．０部、
無機成分液１：２．５部、及び、
有機成分溶液３：１部
を混合し、２５℃で１０分間撹拌して塗工液を調製した。
次に、厚み７５μｍのＰＥＴフィルム上に、上記塗工液をスリット塗布し、８０℃で一晩乾燥させることにより、傾斜層の転写材料を作製した。
【０１８８】
この転写材料を、平坦化層まで形成した基板にラミネートして、傾斜層を転写した。
ＰＥＴフィルム上を剥離後、傾斜層を有する基板に、レジストとして、ポジ感光性材料塗布し、フォトリソグラフィ法及びドライエッチング、レジスト剥離により、取り出し配線部分の傾斜層を除去した。オーブンで２００℃３０分加熱した。傾斜層の鉛筆硬度はＨ以上であった。
【０１８９】
＜屈折率の測定＞
傾斜層まで形成した基板の断面の電子顕微鏡写真を撮り、各層の膜厚を測定した。
透明電極層の膜厚は０．０８０μｍ、平坦化層の膜厚は１．２μｍ、傾斜層の膜厚は０．０８０μｍ、透明電極のテーパー角は２５°であることを確認した。
また、断面のＸ線光電子分光分析で元素分布を測定し、平坦化層は有機材料に高密度に酸化チタン粒子が分散されている膜であること、傾斜層は、有機樹脂とＳｉ、Ｔｉ及びＯからなる成分とが連続傾斜した層であり、平坦化層側ほどＴｉ割合が多く、表面側ほどＴｉ割合が少ないことを確認した。
すなわち、このタッチパネル部材の屈折率は、透明電極≒平坦化層≒傾斜層の平坦化層側＞傾斜層の表面側と推定した。
これらの情報をもとに分光エリプソメーターＶＡＳＥ（Ｊ．Ａ．ウーラム社製）によって各層の５５０ｎｍでの屈折率を測定した。なお、フィッティングはＣａｕｃｈｙモデルにより行った。
透明電極の屈折率は１．９０、平坦化層の屈折率は１．９０、傾斜層は平坦化層側の界面屈折率が１．９０で略線形に屈折率が減少し、表面側界面が１．５８であった。
得られたタッチパネル部材を、実施例１と同様に評価した。評価結果を表１に示す。
【０１９０】
（実施例３）
＜重合体Ｐ２の合成＞
重合体Ｐ１と同様にして、
メタクリル酸（０．４０モル当量）、
メタクリル酸グリシジル（０．４０モル当量）、
メタクリル酸ジシクロペンタニル（０．１０モル当量）、
スチレン（０．１０モル当量）
を共重合させて、４０質量％ＰＧＭＥＡ溶液を得た。
重合体Ｐ２のゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）により測定した重量平均分子量（Ｍｗ）は、１０，０００であった。
【０１９１】
＜ネガ型感光性樹脂組成物Iの調製：屈折率１．９０の層形成用＞
下記組成にて、配合し混合して均一な溶液とした後、０．２μｍのポアサイズを有するポリエチレン製フィルターを用いてろ過して、ネガ型感光性樹脂組成物Iを調製した。
−組成−
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）：２０部
・重合体Ｐ２（固形分４０質量％ＰＧＭＥＡ溶液）：１．０部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬（株）製）：５．０部
・アロニックスＴＯ−２３４９（東亞合成（株）製、カルボン酸含有モノマー）：０．８部
・イルガキュアＯＸＥ−０１（ラジカル重合開始剤、ＢＡＳＦ社製）：２．０部
・ＫＢＭ−５１０３（シランカップリング剤、信越化学工業（株）製）：１．０部
・フタージェントＦＴＸ−２１８（界面活性剤、（株）ネオス製）：０．３部
・ＣＭＴＵ（下記化合物、東洋化成工業（株）製）：０．３部
・上記環状チオウレア化合物：０．３部
・分散液Ｉ：５１．０部
【０１９２】
＜ネガ型感光性樹脂組成物IIの調製：屈折率１．５８の層形成用＞
下記組成にて、配合し混合して均一な溶液とした後、０．２μｍのポアサイズを有するポリエチレン製フィルターを用いてろ過して、ネガ型感光性樹脂組成物IIを調製した。
−組成−
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）：２０部
・重合体Ｐ２（固形分４０質量％ＰＧＭＥＡ溶液）：１．０部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬（株）製）：５．０部
・アロニックスＴＯ−２３４９（東亞合成（株）製、カルボン酸含有モノマー）：０．８部
・イルガキュアＯＸＥ−０１（ラジカル重合開始剤、ＢＡＳＦ社製）：２．０部
・ＫＢＭ−５１０３（シランカップリング剤、信越化学工業（株）製）：１．０部
・フタージェントＦＴＸ−２１８（界面活性剤、（株）ネオス製）：０．３部
・ナノユースＯＺ−Ｓ３０Ｋ（酸化ジルコニウム粒子分散液、日産化学工業（株）製）：１２．０部
【０１９３】
＜保護層の形成＞
実施例１と同様にして透明電極層の製膜まで行った基板に、インクジェット塗布装置：ダイマティックス・マテリアル・プリンターＤＭＰ−２８３１（ＦＵＪＩＦＩＬＭ  Ｄｉｍａｔｉｘ社製）を用いて、ネガ型感光性樹脂組成物I及びネガ型感光性樹脂組成物IIを塗布した。最初は、ネガ型感光性樹脂組成物Iのみを吐出し、次第にネガ型感光性樹脂組成物IIの割合を増やし、最後はネガ型感光性樹脂組成物IIのみを吐出し、９０℃２分乾燥させた。超高圧水銀灯でパターン露光し、ＴＭＡＨ０．４％水溶液で現像し、純粋でリンスすることで、取り出し配線部分の組成物層を除去した。更にオーブンで２００℃３０分加熱することで、透明電極層上に屈折率が傾斜した層を得た。なお、鉛筆硬度は、Ｈ以上であった。
【０１９４】
＜屈折率の測定＞
傾斜層を形成した基板の断面の電子顕微鏡写真を撮り、各層の膜厚を測定した。
透明電極層の膜厚は０．０８０μｍ、保護層（傾斜層）の膜厚は１．５μｍ、透明電極のテーパー角は２５°であることを確認した。
また、断面のＸ線光電子分光分析で元素分布を測定し、傾斜層は、有機材料とＴｉ及びＺｒからなる成分とが連続傾斜した層であり、透明電極側ほどＴｉ割合が多く、表面側ほどＺｒが多く、Ｚｒの割合はＴｉよりも低いことを確認した。
このタッチパネル部材の屈折率は、透明電極≒傾斜層の電極側＞傾斜層の表面側と推定した。
これらの情報をもとに分光エリプソメーターＶＡＳＥ（Ｊ．Ａ．ウーラム社製）によって各層の５５０ｎｍでの屈折率を測定した。なお、フィッティングはＣａｕｃｈｙモデルにより行った。
透明電極の屈折率は１．９０、傾斜層の透明電極側界面屈折率が１．９０で略線形に屈折率が減少し、表面側界面が１．５８であった。
【０１９５】
（実施例４）
実施例３において、透明電極製膜前に実施例１の「傾斜層の形成」と同様にして屈折率が傾斜した屈折率調整層を形成したこと以外は、実施例３と同様にしてタッチパネル部材を得た。また、得られたタッチパネル部材を、実施例１と同様に評価した。評価結果を表１に示す。
【０１９６】
＜屈折率の測定＞
基板の断面の電子顕微鏡写真を撮り、各層の膜厚を測定した。
屈折率調整層の膜厚は０．０８０μｍ、透明電極層の膜厚は０．０８０μｍ、傾斜層の膜厚は１．５μｍ、透明電極のテーパー角は２５°であることを確認した。
また、断面のＸ線光電子分光分析で元素分布を測定し、屈折率調整層はＳｉ、Ｏ及びＮからなり、その組成が連続的に変化しており、その屈折率は透明電極側が高く、基板側が低いことを確認した。
傾斜層は、有機材料とＴｉ及びＺｒからなる成分とが連続傾斜した層であり、透明電極側ほどＴｉ割合が多く、表面側ほどＺｒが多く、Ｚｒの割合はＴｉよりも低いことを確認した。
このタッチパネル部材の屈折率は、屈折率調整層の基板側＜屈折率調整層の透明電極側≒透明電極≒傾斜層の電極側＞傾斜層の表面側と推定した。
これらの情報をもとに分光エリプソメーターＶＡＳＥ（Ｊ．Ａ．ウーラム社製）によって各層の５５０ｎｍでの屈折率を測定した。なお、フィッティングはＣａｕｃｈｙモデルにより行った。
屈折率調整層の基板側界面の屈折率が１．５３で略線形に屈折率が増大し、透明電極側界面が１．９０、透明電極の屈折率は１．９０、傾斜層の透明電極側界面屈折率が１．９０で略線形に屈折率が減少し、表面側界面が１．５８であった。
【０１９７】
（実施例５）
実施例１において、透明電極の製膜時間を長くしたこと以外は実施例１と同様にしてタッチパネル部材を作製した。得られたタッチパネル部材を、実施例１と同様に、測定、及び、評価した。評価結果を表１に示す。
透明電極の厚みは１４０ｎｍ、屈折率１．９０、傾斜層の膜厚は８０ｎｍで、透明電極側の界面屈折率が１．９０で略線形に屈折率が減少し、平坦化層側界面が１．５５、平坦化層の膜厚は１．５μｍ、屈折率は１．５３であった。
【０１９８】
（実施例６）
実施例１において、透明電極材料をＩＺＯにしたこと、傾斜層の形成初期の屈折率が高くなるように条件を調整したこと以外は、実施例１と同様にしてタッチパネル部材を作製した。得られたタッチパネル部材を、実施例１と同様に、測定、及び、評価した。評価結果を表１に示す。
透明電極の厚みは８０ｎｍ、屈折率２．０４、傾斜層の膜厚は８０ｎｍで、透明電極側の界面屈折率が２．０４で略線形に屈折率が減少し、平坦化層側界面が１．５５、平坦化層の膜厚は１．５μｍ、屈折率は１．５３であった。
【０１９９】
（実施例７）
実施例３において、透明電極材料をＩＺＯにしたこと以外は、実施例３と同様にしてタッチパネル部材を作製した。得られたタッチパネル部材を、実施例１と同様に、測定、及び、評価した。評価結果を表１に示す。
透明電極の厚みは８０ｎｍ、屈折率２．０４、傾斜層の膜厚は１，５００ｎｍで、透明電極側の界面屈折率が１．９０で略線形に屈折率が減少し、表面側界面が１．５８であった。
【０２００】
（実施例８）
実施例７において、実施例４の屈折率調整層形成工程を追加したこと以外は実施例７と同様にしてタッチパネル部材を作製した。得られたタッチパネル部材を、実施例１と同様に、測定、及び、評価した。評価結果を表１に示す。
屈折率調整層の基板側界面の屈折率が１．５３で略線形に屈折率が増大し、透明電極側界面が２．００、透明電極の厚みは８０ｎｍ、屈折率２．０４、傾斜層の膜厚は１５００ｎｍで、透明電極側の界面屈折率が１．９０で略線形に屈折率が減少し、表面側界面が１．５８であった。
【０２０１】
（実施例９）
実施例７において、透明電極の製膜工程を調整したこと以外は実施例７と同様にしてタッチパネル部材を作製した。得られたタッチパネル部材を、実施例１と同様に、測定、及び、評価した。評価結果を表１に示す。
透明電極の厚みは８０ｎｍ、屈折率２．０７、傾斜層の膜厚は１，５００ｎｍで、透明電極側の界面屈折率が１．９０で略線形に屈折率が減少し、表面側界面が１．５８であった。
【０２０２】
（実施例１０）
＜ネガ型感光性樹脂組成物IIIの調製：屈折率１．９０の層形成用＞
下記組成にて、配合し混合して均一な溶液とした後、０．２μｍのポアサイズを有するポリエチレン製フィルターを用いてろ過して、ネガ型感光性樹脂組成物Iを調製した。
−組成−
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）：２０部
・重合体Ｐ２（固形分４０質量％ＰＧＭＥＡ溶液）：３．０部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬（株）製）：３．０部
・フルオレンアクリレート化合物（ＯＧＳＯＬ  ＥＡ−０２００、大阪ガスケミカル（株）製）：０．８部
・イルガキュアＯＸＥ−０１（ラジカル重合開始剤、ＢＡＳＦ社製）：２．０部
・ＫＢＭ−５１０３（シランカップリング剤、信越化学工業（株）製）：１．０部
・フタージェントＦＴＸ−２１８（界面活性剤、（株）ネオス製）：０．３部
・ＣＭＴＵ（下記化合物、東洋化成工業（株）製）：０．３部
・上記環状チオウレア化合物：０．３部
・分散液Ｉ：５０．０部
【０２０３】
＜＜平坦化層の形成＞＞
実施例１と同様にして透明電極層の製膜まで行った基板に、ネガ型感光性樹脂組成物IIIをスリット塗布し、９０℃２分乾燥させた。この膜を超高圧水銀灯でパターン露光し、ＴＭＡＨ０．７％水溶液で現像し、純粋でリンスすることで、取り出し配線部分の組成物層を除去した。更にオーブンで２００℃３０分加熱することで、透明電極層上に硬化膜層（平坦化層）を得た。なお、鉛筆硬度はＨ以上であった。
【０２０４】
＜＜傾斜層の形成＞＞
平坦化層まで形成した基板に、実施例１と同様にスパッタリング、エッチングを行い、平坦化層上に傾斜層を形成し、タッチパネル部材を作製した。得られたタッチパネル部材を、実施例１と同様に、測定、及び、評価した。評価結果を表１に示す。
透明電極の厚みは８０ｎｍ、屈折率１．９０、
平坦化層の膜厚は２．０μｍ、屈折率は１．９０、
傾斜層の膜厚は８０ｎｍで、平坦化層側の界面屈折率が１．９０で略線形に屈折率が減少し、表面側界面が１．５５であった。
【０２０５】
（比較例１）
実施例３において、保護層の形成を下記のようにしたこと以外は、実施例３と同様にしてタッチパネル部材を作製した。得られたタッチパネル部材を、実施例１と同様に、測定、及び、評価した。評価結果を表１に示す。
ネガ型感光性組成物Iを実施例３と同様にインクジェット塗布し、９０℃２分乾燥させた。超高圧水銀灯でパターン露光し、ＴＭＡＨ０．４％水溶液で現像し、純粋でリンスすることで、取り出し配線部分の組成物層を除去した。更にオーブンで２００℃３０分加熱した。
更に、ネガ型感光性樹脂組成物Iを３７質量部、ネガ型感光性樹脂組成物IIを６３質量部混合した液を実施例３と同様にインクジェット塗布し、９０℃２分乾燥させた。超高圧水銀灯でパターン露光し、ＴＭＡＨ０．４％水溶液で現像し、純粋でリンスすることで、取り出し配線部分の組成物層を除去した。更にオーブンで２００℃３０分加熱した。
このようにして、透明電極層上に異なる２層からなる保護層を得た。
透明電極の厚みは８０ｎｍ、屈折率１．９０、保護層の電極に近い層の厚み０．７０μｍ、屈折率１．９０、保護層の電極に遠い層の厚み０．７０μｍ、屈折率１．７０であった。
【０２０６】
（比較例２）
実施例３において、保護層の形成を下記のようにしたこと以外は実施例３と同様にしてタッチパネル部材を作製した。得られたタッチパネル部材を、実施例１と同様に、測定、及び、評価した。評価結果を表１に示す。
インクジェット塗布装置：ダイマティックス・マテリアル・プリンターＤＭＰ−２８３１（ＦＵＪＩＦＩＬＭ  Ｄｉｍａｔｉｘ社製）を用いて、ネガ型感光性樹脂組成物I及びネガ型感光性樹脂組成物IIを塗布した。
最初は、ネガ型感光性樹脂組成物Iのみを吐出し、次第にネガ型感光性樹脂組成物IIの割合を増やし、最後はネガ型感光性樹脂組成物IIが３割となるようにを吐出し、９０℃２分乾燥させた。超高圧水銀灯でパターン露光し、ＴＭＡＨ０．４％水溶液で現像し、純粋でリンスすることで、取り出し配線部分の組成物層を除去した。更にオーブンで２００℃３０分加熱することで、透明電極層上に屈折率が傾斜した層を得た。
透明電極の厚みは８０ｎｍ、屈折率１．９０、傾斜層の厚み１．０μｍ、透明電極側界面屈折率が１．９０で略線形に屈折率が減少し、表面側界面が１．８０であった。
【０２０７】
（比較例３）
実施例６において、保護層の形成を下記のようにしたこと以外は実施例６と同様にしてタッチパネル部材を作製した。得られたタッチパネル部材を、実施例１と同様に、測定、及び、評価した。評価結果を表１に示す。
インクジェット塗布装置：ダイマティックス・マテリアル・プリンターＤＭＰ−２８３１（ＦＵＪＩＦＩＬＭ  Ｄｉｍａｔｉｘ社製）を用いて、ネガ型感光性樹脂組成物I及びネガ型感光性樹脂組成物IIを塗布した。
最初は、ネガ型感光性樹脂組成物Iが７０質量部でネガ型感光性樹脂組成物IIが３０質量部の混合液を吐出し、次第にネガ型感光性樹脂組成物IIの割合を増やし、最後はネガ型感光性樹脂組成物IIがのみを吐出し、９０℃２分乾燥させた。超高圧水銀灯でパターン露光し、ＴＭＡＨ０．４％水溶液で現像し、純粋でリンスすることで、取り出し配線部分の組成物層を除去した。更にオーブンで２００℃３０分加熱することで、透明電極層上に屈折率が傾斜した層を得た。
透明電極の厚みは８０ｎｍ、屈折率２．０４、傾斜層の厚み１．５μｍ、透明電極側界面屈折率が１．８０で略線形に屈折率が減少し、表面側界面が１．５８であった。
【０２０８】
（比較例４）
実施例４において、保護層の形成を下記のようにしたこと以外は実施例４と同様にしてタッチパネル部材を作製した。得られたタッチパネル部材を、実施例１と同様に、測定、及び、評価した。評価結果を表１に示す。
ネガ型感光性組成物０をスリット塗布、９０℃２分乾燥させ、組成物層を形成した。
所定パターンに露光し、ＴＭＡＨ２．３８％水溶液で不要部分を除去した。その後、オーブンで１４０℃３０分加熱して平坦化層を形成した。
屈折率調整層の厚み８０ｎｍ、基板側界面の屈折率が１．５３で略線形に屈折率が増大し、透明電極側界面が１．９０、透明電極の厚みは８０ｎｍ、屈折率１．９０、保護層の厚み１．５μｍ、屈折率は１．５３で均一であった。
【０２０９】
【表１】
0006639098.tif 000013
【０２１０】
（実施例１１：タッチパネル表示装置の作製）
＜タッチパネルの作製＞
特開２０１４−７１３０６号公報に記載の実施例１８において、透明保護層として実施例１の保護層と同様にして形成した層を形成し、本発明のタッチパネル部材を備えるタッチパネル（前面板）を得た。
【０２１１】
＜タッチパネル表示装置の作製＞
特開２００９−４７９３６号公報に記載の方法で製造した液晶表示素子に、上記前面板を貼り合わせ、公知の方法で静電容量型入力装置を構成要素として備えたタッチパネル表示装置を作製した。
この結果、タッチパネルとして良好に駆動した。更に、透明電極パターンは視認されず、視認抑制性に優れた画像表示装置が得られた。
【０２１２】
（実施例１２〜２０）
実施例１１において、実施例１の保護層を実施例２〜１０のものに変更したこと以外は同様にしてタッチパネル表示装置を作製した。この結果、タッチパネルとして良好に駆動した。更に、透明電極パターンは視認されず、視認抑制性に優れた画像表示装置が得られた。
【符号の説明】
【０２１３】
１０：タッチパネル部材、１２：透明基板、１４：透明電極、１６：保護層、１６ａ：保護層１６の透明電極側界面、１６ｂ：保護層１６の透明基板と反対側界面
【図１】
0006639098.tif 000014