(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と防汚層とを有する多層フィルムを備えたタッチパネルであって、
前記防汚層が、（Ａ）パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと、（Ｂ）トリアルコキシシリル基及び重合性基を有する化合物、又は（Ｃ）少なくとも１つのアルコキシ基及び重合性基を有する前記（Ｂ）成分の誘導体との縮重合物を含む硬化物である、タッチパネル。
【請求項２】
前記防汚層が、前記縮重合物と電離放射線硬化性樹脂とを用いてなる硬化物である、請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項３】
防汚層の基材側の面にハードコート層を有する、請求項１又は２に記載のタッチパネル。
【請求項４】
前記パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランが、パーフルオロポリエーテル構造を有するトリメトキシシランである、請求項１〜３のいずれか一項に記載のタッチパネル。
【請求項５】
防汚層表面の純水の接触角が９５°以上、且つ、滑落角が３０°以下である、請求項１〜４のいずれか一項に記載のタッチパネル。
【請求項６】
防汚層表面のアルコール系溶剤による拭き取り前後における該防汚層表面の純水の接触角の減少率が０〜１５％である、請求項１〜５のいずれか一項に記載のタッチパネル。
【請求項７】
少なくとも基材と防汚層とを有する多層フィルムの製造方法であって、
基材上に、（Ａ）パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと、（Ｂ）トリアルコキシシリル基及び重合性基を有する化合物、又は（Ｃ）少なくとも１つのアルコキシ基及び重合性基を有する前記（Ｂ）成分の誘導体とを、有機溶媒、水、及び酸を含む混合溶媒中で加水分解、縮重合して得られた縮重合物を配合してなる防汚層形成用組成物の未硬化層を形成し、硬化させて防汚層を形成する、多層フィルムの製造方法。
【請求項８】
前記未硬化層を電離放射線の照射により硬化させて防汚層を形成する、請求項７に記載の多層フィルムの製造方法。
【請求項９】
前記防汚層形成用組成物が、さらに電離放射線硬化性樹脂を配合したものである、請求項７又は８に記載の多層フィルムの製造方法。
【請求項１０】
未硬化層の形成前に、基材上に電離放射線硬化性樹脂を含むハードコート層形成用組成物の塗膜を形成し、電離放射線を照射して半硬化層を形成し、次いで、該半硬化層の基材とは反対側の面に接するように前記未硬化層を形成し、該半硬化層と、該未硬化層とに同時に電離放射線を照射し硬化させて、各々ハードコート層と防汚層とを形成する、請求項８又は９に記載の多層フィルムの製造方法。
【請求項１１】
前記半硬化層を形成する際に照射する電離放射線の照射量Ｘα（ｍＪ／ｃｍ２）、及び前記半硬化層と、前記未硬化層とに同時に照射する電離放射線の照射量Ｘβ（ｍＪ／ｃｍ２）が下記式（Ｉ）の関係を満たす、請求項１０に記載の多層フィルムの製造方法。
０．０１≦Ｘα／（Ｘα＋Ｘβ）≦０．８０          （Ｉ）
（但し、Ｘαは３以上１００以下である）
【請求項１２】
基材と防汚層とを有する多層フィルムであって、
前記防汚層が、（Ａ）パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと、（Ｂ）トリアルコキシシリル基及び重合性基を有する化合物、又は（Ｃ）少なくとも１つのアルコキシ基及び重合性基を有する前記（Ｂ）成分の誘導体との縮重合物を含む硬化物である、多層フィルム。
【請求項１３】
前記防汚層が、前記縮重合物と電離放射線硬化性樹脂とを用いてなる硬化物である、請求項１２に記載の多層フィルム。
【請求項１４】
防汚層の基材側の面にハードコート層を有する、請求項１２又は１３に記載の多層フィルム。
【請求項１５】
前記パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランが、パーフルオロポリエーテル構造を有するトリメトキシシランである、請求項１２〜１４のいずれか一項に記載の多層フィルム。
【請求項１６】
防汚層表面の純水の接触角が９５°以上、且つ、滑落角が３０°以下である、請求項１２〜１５のいずれか一項に記載の多層フィルム。
【請求項１７】
防汚層表面のアルコール系溶剤による拭き取り前後における該防汚層表面の純水の接触角の減少率が０〜１５％である、請求項１２〜１６のいずれか一項に記載の多層フィルム。
【請求項１８】
基材と防汚層とを有する多層フィルムであって、
前記防汚層が、（Ａ）パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと、（Ｂ）トリアルコキシシリル基及び重合性基を有する化合物、又は（Ｃ）少なくとも１つのアルコキシ基及び重合性基を有する前記（Ｂ）成分の誘導体との縮重合物を含み、（Ａ）成分と、（Ｂ）成分又は（Ｃ）成分との重量比が１：０．１〜１０．０である硬化物であ請求項１２記載の多層フィルム。
【請求項１９】
前記（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分が有する重合性基が、ビニルエーテル基、オキシラニル基、オキセタニル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリルアミド基、ビニル基、スチリル基又はアリル基である請求項１２記載の多層フィルム。
【請求項２０】
前記（Ｃ）成分が、（Ｂ）成分と、（Ｄ）下記一般式（６）で表されるアルコキシシランとの縮合物である請求項１２記載の多層フィルム。
【化１】
0006702022.tif 000011
（式中、Ｒ１０は、それぞれ独立に水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基、環形成原子数３〜１０のシクロアルキル基、環形成原子数６〜２０のアリール基である。Ｒ１１は、それぞれ独立に炭素数１〜６のアルキル基である。Ｒ１０及びＲ１１が複数ある場合、複数のＲ１０及びＲ１１は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。ｘは１〜４の整数である。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基材と防汚層とを有する多層フィルム、該多層フィルムの製造方法、及び該多層フィルムを備えたタッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）ディスプレイ（ＥＬＤ）や液晶ディスプレイ（ＬＤ）などの表示体の表面に、指やペンなどで押圧することによって情報を入力するタッチパネルが、普及している。タッチパネルは、電子手帳、携帯電話等の携帯端末や発券機など、種々多様に使用されている。
【０００３】
タッチパネルの表面には、操作時に指紋や皮脂などの汚れが付着したり、傷が付いたりする場合があり、このような汚れや傷は、視認性の低下や操作性に悪影響を及ぼすことがある。そのため、タッチパネルの表面には、汚れの付着防止性や汚れの拭き取りやすさといった特性（防汚性）、及び耐擦傷性（硬度）を付与することが求められる。
【０００４】
これに対して、基材上に防汚層やハードコート層を設けた光学フィルムを利用することにより、タッチパネル表面に防汚性や耐擦傷性（硬度）を付与することが一般になされている。
例えば、特許文献１には、透明支持体上に、ハードコート層、高屈折率層、低屈折率層が順に設けられ、さらに、該低屈折率層上にパーフルオロアルキルポリエーテル側鎖を有する重合体を含むオーバーコート層が積層された反射防止膜が開示されている。
また、特許文献２には、基材表面に光重合開始剤とアクリレート及び／又はメタクリレートとを含有する中間層を形成し、光照射して硬化させ、該中間層上にフッ素含有単量体及び溶剤の混合溶液を塗布し、活性エネルギー線を照射してフッ素含有重合体含被膜を設けてなる防汚性表面材料が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０００−２８４１０２号公報
【特許文献２】特開２００５−２３１１２８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１では、パーフルオロアルキルポリエーテル化合物の優れた滑り性を利用し、反射防止膜の表面側の層を汚れから保護し、耐擦傷性を向上させている。しかしながら、パーフルオロアルキルポリエーテル化合物は単に表面に塗布形成されているだけであるため繰り返しのこすりにより剥がれやすく、オーバーコート層（防汚層）の耐久性に劣るという問題があった。
また、特許文献２では、非フッ素溶媒に溶解可能なフッ素含有単量体を用いているため、硬化膜（フッ素含有重合体含被膜）の防汚性は十分なものではなかった。
【０００７】
本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであり、高硬度、かつ防汚性に優れると共に、耐久性に優れた防汚層を有する多層フィルム、該多層フィルムの製造方法、及び該多層フィルムを備えたタッチパネルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、上記の課題を解決するべく鋭意検討した結果、後述する（Ａ）成分と（Ｂ）成分、又は（Ｃ）成分とを組み合わせて用いることにより、上記課題を解決することを見出した。
本発明は、かかる知見に基づいて完成したものである。
【０００９】
すなわち、本発明は、以下の［１］〜［１７］を提供する。
［１］基材と防汚層とを有する多層フィルムを備えたタッチパネルであって、前記防汚層が、（Ａ）パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと、（Ｂ）トリアルコキシシリル基及び重合性基を有する化合物、又は（Ｃ）少なくとも１つのアルコキシ基及び重合性基を有する前記（Ｂ）成分の誘導体との縮重合物を含む硬化物である、タッチパネル。
［２］前記防汚層が、前記縮重合物と電離放射線硬化性樹脂とを用いてなる硬化物である、上記［１］に記載のタッチパネル。
［３］防汚層の基材側の面にハードコート層を有する、上記［１］又は［２］に記載のタッチパネル。
［４］前記パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランが、パーフルオロポリエーテル構造を有するトリメトキシシランである、上記［１］〜［３］のいずれか一項に記載のタッチパネル。
［５］防汚層表面の純水の接触角が９５°以上、且つ、滑落角が３０°以下である、上記［１］〜［４］のいずれか一項に記載のタッチパネル。
［６］防汚層表面のアルコール系溶剤による拭き取り前後における該防汚層表面の純水の接触角の減少率が０〜１５％である、上記［１］〜［５］のいずれか一項に記載のタッチパネル。
［７］少なくとも基材と防汚層とを有する多層フィルムの製造方法であって、
基材上に、（Ａ）パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと、（Ｂ）トリアルコキシシリル基及び重合性基を有する化合物、又は（Ｃ）少なくとも１つのアルコキシ基及び重合性基を有する前記（Ｂ）成分の誘導体とを、有機溶媒、水、及び酸を含む混合溶媒中で加水分解、縮重合して得られた縮重合物を配合してなる防汚層形成用組成物の未硬化層を形成し、硬化させて防汚層を形成する、多層フィルムの製造方法。
［８］前記未硬化層を電離放射線の照射により硬化させて防汚層を形成する、上記［７］に記載の多層フィルムの製造方法。
［９］前記防汚層形成用組成物が、さらに電離放射線硬化性樹脂を配合したものである、上記［７］又は［８］に記載の多層フィルムの製造方法。
［１０］未硬化層の形成前に、基材上に電離放射線硬化性樹脂を含むハードコート層形成用組成物の塗膜を形成し、電離放射線を照射して半硬化層を形成し、次いで、該半硬化層の基材とは反対側の面に接するように前記未硬化層を形成し、該半硬化層と、該未硬化層とに同時に電離放射線を照射し硬化させて、各々ハードコート層と防汚層とを形成する、上記［８］又は［９］に記載の多層フィルムの製造方法。
［１１］前記半硬化層を形成する際に照射する電離放射線の照射量Ｘα（ｍＪ／ｃｍ２）、及び前記半硬化層と、前記未硬化層とに同時に照射する電離放射線の照射量Ｘβ（ｍＪ／ｃｍ２）が下記式（Ｉ）の関係を満たす、上記［１０］に記載の多層フィルムの製造方法。
０．０１≦Ｘα／（Ｘα＋Ｘβ）≦０．８０          （Ｉ）
（但し、Ｘαは３以上１００以下である）
［１２］基材と防汚層とを有する多層フィルムであって、
前記防汚層が、（Ａ）パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと、（Ｂ）トリアルコキシシリル基及び重合性基を有する化合物、又は（Ｃ）少なくとも１つのアルコキシ基及び重合性基を有する前記（Ｂ）成分の誘導体との縮重合物を含む硬化物である、多層フィルム。
［１３］前記防汚層が、前記縮重合物と電離放射線硬化性樹脂とを用いてなる硬化物である、上記［１２］に記載の多層フィルム。
［１４］防汚層の基材側の面にハードコート層を有する、上記［１２］又は［１３］に記載の多層フィルム。
［１５］前記パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランが、パーフルオロポリエーテル構造を有するトリメトキシシランである、上記［１２］〜［１４］のいずれか一項に記載の多層フィルム。
［１６］防汚層表面の純水の接触角が９５°以上、且つ、滑落角が３０°以下である、上記［１２］〜［１５］のいずれか一項に記載の多層フィルム。
［１７］防汚層表面のアルコール系溶剤による拭き取り前後における該防汚層表面の純水の接触角の減少率が０〜１５％である、上記［１２］〜［１６］のいずれか一項に記載の多層フィルム。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、高硬度、かつ防汚性に優れると共に、耐久性に優れた防汚層を有する多層フィルム、該多層フィルムの製造方法、及び該多層フィルムを備えたタッチパネルを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の抵抗膜式タッチパネルの一実施形態を示す断面図である。
【図２】本発明の静電容量式タッチパネルの一実施形態を示す断面図である。
【図３】本発明の多層フィルムの断面の一形態を示す模式図である。
【図４】本発明の多層フィルムの断面の一形態を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明の実施形態を説明する。
［タッチパネル］
本発明のタッチパネルは、基材と防汚層とを有する多層フィルムを備え、該防汚層が、（Ａ）パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと、（Ｂ）トリアルコキシシリル基及び重合性基を有する化合物、又は（Ｃ）少なくとも１つのアルコキシ基及び重合性基を有する上記（Ｂ）成分の誘導体との縮重合物を含む硬化物であることを特徴とする。
ここで、本発明において「パーフルオロポリエーテル構造を有する」とは、パーフルオロポリエーテル結合を含む基を有することを意味する。
【００１３】
タッチパネルとしては、静電容量式タッチパネル、抵抗膜式タッチパネル、光学式タッチパネル、超音波式タッチパネル及び電磁誘導式タッチパネル等が挙げられる。これらタッチパネルは、ガラス基材、プラスチックフィルム基材等の基材を有し、該基材上の表面には、防汚性、耐擦傷性等の諸特性を有する層が形成される場合がある。
本発明のタッチパネルは、該タッチパネルの表面部材として後述する多層フィルムを用い、かつ該多層フィルムの防汚層側の面が表面側を向くように設置することが好ましい。
【００１４】
抵抗膜式タッチパネル１は、図１に示すように、導電膜１２を有する上下一対の透明基板１１ａ、１１ｂの導電膜１２同士が対向するようにスペーサー１３を介して配置されてなる基本構成に、図示しない回路が接続されてなるものである。抵抗膜式タッチパネルの場合、上部透明基板１１ａとして、後述する多層フィルムを用いることが好ましい。なお、上部透明基板１１ａ及び下部透明基板１１ｂは、２以上の基材からなる多層構造として、上部透明基板１１ａのうちの最表面の基材として後述する多層フィルムを用いてもよい。
【００１５】
静電容量式タッチパネルは、表面型及び投影型等が挙げられ、投影型が多く用いられている。投影型の静電容量式タッチパネルは、Ｘ軸電極と、該Ｘ電極と直交するＹ軸電極とを絶縁体を介して配置した基本構成に、回路が接続されてなるものである。該基本構成をより具体的に説明すると、１枚の透明基板上の別々の面にＸ電極及びＹ電極を形成する態様、透明基板上にＸ電極、絶縁体層、Ｙ電極をこの順で形成する態様、図２に示すように、上部透明基板２１ａ上にＸ電極２２を形成し、下部透明基板２１ｂ上にＹ電極２３を形成し、接着剤層２４等を介して積層する態様等が挙げられる。
静電容量式タッチパネルの場合、上部透明基板２１ａとして、後述する多層フィルムを用いることが好ましい。なお、上部透明基板２１ａ及び下部透明基板２１ｂは、２以上の基材からなる多層構造として、上部透明基板２１ａのうちの最表面の基材として後述する多層フィルムを用いてもよい。
【００１６】
［多層フィルム］
図３は本発明の多層フィルムの断面の一形態を示す模式図である。なお、図３に示す模式図において、説明の容易化のために、厚み方向（図の上下方向）の縮尺を幅方向（図の左右方向）の縮尺よりも大幅に拡大誇張して図示してある。多層フィルム３は、基材３１上に、防汚層３２が設けられている。また、図４に示すように、防汚層４２の基材側の面にハードコート層４３を有していてもよい。
【００１７】
以下、本発明の多層フィルムを構成する各層の実施の形態について説明する。
＜基材＞
本発明の多層フィルムに用いる基材としては、例えば、ガラス板、酸化アルミ板、スピン−オン−グラス（ＳＯＧ）材料などの各種無機系材料、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂などの各種有機系樹脂材料、有機−無機複合材料などが挙げられる。
上記基材としては、光透過性、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度に優れたものが好ましく、有機系樹脂材料からなることが好ましい。有機樹脂系材料としては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）；ニトロセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース等のセルロース系樹脂；ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ブチル共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−スチレン共重合体等のアクリル樹脂；ポリカーボネート樹脂；ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル樹脂；ポリスチレン、環状ポリオレフィン、ポリエチレン、ポリプロピレン等のオレフィン系樹脂；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂；ナイロン−６、ナイロン−６，６等のポリアミド系樹脂等が例示される。
これらの中でも、光学特性や強度の観点から、ＴＡＣ、ＰＥＴ、アクリル樹脂、ＰＥＮが好ましく、ＴＡＣ、ＰＥＴ、ＰＥＮがより好ましく、ＴＡＣおよびＰＥＴが更に好ましい。
なお、上記基材の形状は、平面構造であってもよいし、立体構造であってもよい。
【００１８】
基材の厚みは特に限定されないが、光学特性や強度の観点から、好ましくは１〜５００μｍであり、より好ましくは３〜３００μｍであり、更に好ましくは５〜２００μｍである。
基材の表面には、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理の他、アンカー剤又はプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行ってもよい。
【００１９】
また、ディスプレイ等として用いる観点から、上記基材の全光線透過率は８５％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。基材の透過率は、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１（プラスチック−透明材料の全光線透過率の試験方法）に準拠する方法により測定することができる。
【００２０】
＜防汚層＞
本発明の多層フィルムに用いる防汚層は、防汚性を有する層であり、（Ａ）パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと、（Ｂ）トリアルコキシシリル基及び重合性基を有する化合物、又は（Ｃ）少なくとも１つのアルコキシ基及び重合性基を有する上記（Ｂ）成分の誘導体との縮重合物（以下、単に「縮重合物」ともいう）を含む硬化物である。上記縮重合物が、パーフルオロポリエーテル構造を有することにより、防汚層の表面自由エネルギーを低下させ、汚れを付き難くすることができる。また、上記縮重合物が、上記（Ａ）成分と、上記（Ｂ）成分又は上記（Ｃ）成分とが縮重合した構造であるため、隣接するパーフルオロポリエーテル構造部位の間隔が広く疎になり、該パーフルオロポリエーテル構造部位が動きやすく柔軟性を有することにより、滑落性が向上し、更に汚れを付き難くし、かつ、付いた汚れの拭き取りを容易にすることができる。
また、上記（Ｂ）成分及び上記（Ｃ）成分が重合性基を有することから、防汚層と隣接する層（基材又はハードコート層）との密着性が高まり、防汚層の耐久性を優れたものとすることができる。
【００２１】
上記防汚層を占める上記縮重合物の割合は、６０〜１００質量％であることが好ましく、７０〜１００質量％であることがより好ましく、８０〜１００質量％であることが更に好ましい。また、上記防汚層が、上記縮重合物と後述する電離放射線硬化性樹脂とを用いてなる硬化物である場合、該防汚層を占める上記縮重合物の割合は、０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．０２〜２０質量％であることがより好ましく、０．０２〜１０質量％であることが更に好ましい。
【００２２】
〔（Ａ）パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシラン〕
上記縮重合物の原料として用いられる（Ａ）成分のパーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランは、パーフルオロポリエーテル構造を有することにより、防汚層の表面自由エネルギーを低下させ、汚れを付き難くする。更に、隣接するパーフルオロポリエーテル構造部位の間隔が広く疎になり、該パーフルオロポリエーテル構造部位が動きやすく柔軟性を有することにより、更に汚れを付き難くし、かつ、付いた汚れの拭き取りを容易にすると考えられる。
上記（Ａ）成分のパーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランとしては、例えば、下記一般式（１）乃至（４）で表される化合物が挙げられ、防汚性の観点から、下記一般式（１）で表される化合物が好ましい。
【００２３】
【化２】
0006702022.tif 000002
（式中、Ｒ１は、炭素数１〜６のアルキル基である。但し、複数のＲ１は同一でも異なっていてもよい。Ｒ２〜Ｒ９は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２の２価の有機基を示す。Ｚ１はシロキサン結合を有する１〜１０価のオルガノポリシロキサン基であり、Ｚ２はシロキサン結合を有する２〜１０価のオルガノポリシロキサン基である。Ｑはパーフルオロポリエーテル結合を含む基である。Ｒｆは、直鎖または分岐鎖構造のフッ化アルキル基である。ｎは１〜２００の整数、ｍは１〜１０の整数である。）
【００２４】
上記Ｒ１の炭素数１〜６のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基等が挙げられ、防汚性及び反応性の観点からメチル基、エチル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
上記Ｒ２〜Ｒ９は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２、好ましくは炭素数３〜８の２価の有機基であり、具体的には、メチレン基、エチレン基、プロピレン基（トリメチレン基、メチルエチレン基）、ブチレン基（テトラメチレン基、メチルプロピレン基）、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基等のアルキレン基、フェニレン基等のアリーレン基、又はこれらの基の２種以上の組み合わせ等が挙げられる。また、これらの基は、エーテル結合、アミド結合、エステル結合、及びビニル結合を含んでいてもよく、更に、酸素原子、窒素原子及びフッ素原子を含んでいてもよい。
【００２５】
上記Ｚ２のシロキサン結合を有する２〜１０価のオルガノポリシロキサン基としては、例えば、以下の一般式（５−１）〜（５−１２）で表される基が挙げられる。
【００２６】
【化３】
0006702022.tif 000003
【００２７】
上記一般式（５−１）〜（５−１２）で表される基の中でも、本発明の効果である防汚性を得る観点から、一般式（５−１）、（５−２）、（５−３）、（５−４）、（５−７）で表される基が好ましい。
【００２８】
上記Ｑのパーフルオロポリエーテル結合を含む基としては、例えば、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−、−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−、−ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ−、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−、−Ｃ（ＣＦ３）２Ｏ−などが挙げられる。
中でも、防汚性の観点から、−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−、−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ−が好ましい。これらは、１種類のみでも２種類以上を含んでもよい。
【００２９】
上記Ｒｆは、直鎖または分岐鎖構造のフッ化アルキル基であり、本発明の効果を得る観点から、直鎖のフッ化アルキル基が好ましい。
直鎖のフッ化アルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基、ウンデカフルオロペンチル基、トリデカフルオロヘキシル基等が挙げられ、分岐鎖構造のフッ化アルキル基としては、１−（トリフルオロメチル）−１，２，２，２−テトラフルオロエチル基、１，１−ジ（トリフルオロメチル）−２，２，２−トリフルオロエチル基、２−（トリフルオロメチル）−１，１，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基などが挙げられる。
【００３０】
上記ｎは、１〜２００の整数であり、防汚性の観点から、好ましくは２〜１００、より好ましくは、３〜６０である。ｎを１以上とすることで基材表面を十分に被覆することができ、防汚層表面の表面自由エネルギーが低下し、防汚性を向上させることができる。ｎを２００以下とすることで、アルコキシシリル基（−Ｓｉ（ＯＲ１）３）の反応性を高めることができる。
【００３１】
上記ｍは、１〜１０の整数であり、防汚性の観点から、好ましくは１〜７、より好ましくは、１〜５である。ｍを１以上とすることで滑り性が向上し、より高い防汚性が得られる。ｍを１０以下とすることで、表面自由エネルギーの増大を抑制し、防汚性の低下を抑制できる。
【００３２】
上記（Ａ）成分のパーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランは、防汚性及び反応性の観点から、パーフルオロポリエーテル構造を有するトリメトキシシランであることが好ましい。
また、上記（Ａ）成分のパーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランとしては、信越化学（株）製「Ｘ−７１−１９５」、「ＫＹ−１７８」、「ＫＹ−１６４」、「ＫＹ−１０８」、「ＫＰ−９１１」、ダイキン工業（株）製「オプツールＤＳＸ」、「オプツールＤＳＸ−Ｅ」、「オプツールＵＦ５０３」等が商業的に入手可能であり、生産性及び防汚性の観点から、「Ｘ−７１−１９５」が好ましい。
【００３３】
〔（Ｂ）トリアルコキシシリル基及び重合性基を有する化合物〕
前記縮重合物の原料として用いられる（Ｂ）成分のトリアルコキシシリル基及び重合性基を有する化合物は、少なくとも１つのトリアルコキシシリル基と、少なくとも１つの重合性基とを有する化合物であれば特に限定されず、複数のトリアルコキシシリル基や、複数の重合性基を有する化合物であってもよい。中でも、反応性及び入手容易性の観点から、１つのトリアルコキシシリル基と、１つの重合性基とを有する化合物であることが好ましい。
【００３４】
（Ｂ）成分が有する重合性基は、ラジカル重合性基、カチオン重合性基のいずれでもよく、特に限定されない。カチオン重合性基としては、ビニルエーテル基、オキシラニル基、オキセタニル基等が例示され、ラジカル重合性基としては、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリルアミド基、ビニル基、スチリル基、アリル基等が例示される。
（Ｂ）成分が有する重合性基としては、反応性の観点から、ラジカル重合性基であることが好ましく、特に、（メタ）アクリロイルオキシ基を有することが好ましい。
【００３５】
（Ｂ）成分が有するトリアルコキシシリル基中のアルコキシ基としては、炭素数１〜６のアルコキシ基が好ましく、炭素数１〜３のアルコキシ基がより好ましく、炭素数１又は２のアルコキシ基が更に好ましく、メトキシ基が特に好ましい。
なお、複数存在するアルコキシ基は、同一でも異なっていてもよいが、合成上の観点からは、同一であることが好ましい。
【００３６】
（Ｂ）成分の具体例としては、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。中でも、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリエトキシシランが好ましく、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシランがより好ましい。
【００３７】
〔（Ｃ）少なくとも１つのアルコキシ基及び重合性基を有する前記（Ｂ）成分の誘導体〕
前記縮重合物の原料として用いられる（Ｃ）成分は、少なくとも１つのアルコキシ基及び重合性基を有する上記（Ｂ）成分の誘導体であり、例えば、上記（Ｂ）成分と、（Ｄ）下記一般式（６）で表されるアルコキシシランとの縮合物が挙げられる。
【００３８】
【化４】
0006702022.tif 000004
（式中、Ｒ１０は、それぞれ独立に水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基、環形成原子数３〜１０のシクロアルキル基、環形成原子数６〜２０のアリール基である。Ｒ１１は、それぞれ独立に炭素数１〜６のアルキル基である。Ｒ１０及びＲ１１が複数ある場合、複数のＲ１０及びＲ１１は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。ｘは１〜４の整数である。）
【００３９】
上記Ｒ１０は、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基、環形成原子数３〜１０のシクロアルキル基、環形成原子数６〜２０のアリール基である。中でも、反応性の観点から、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基が好ましく、炭素数１〜１０のアルキル基がより好ましい。
【００４０】
上記Ｒ１０の炭素数１〜１０、好ましくは１〜６のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等が挙げられる。中でも、防汚性及び反応性の観点から、好ましくはメチル基、エチル基であり、より好ましくはメチル基である。
【００４１】
上記Ｒ１０の炭素数２〜８、好ましくは２〜４のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基などが挙げられる。
【００４２】
上記Ｒ１０の環形成原子数３〜１０のシクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基等が挙げられる。
上記Ｒ１０の環形成原子数６〜２０、好ましくは６〜１２のアリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ビフェニル基等が挙げられる。
【００４３】
上記アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、及びアリール基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子が好ましい。
【００４４】
Ｒ１１の炭素数１〜６のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基等が挙げられる。中でも、防汚性及び反応性の観点から、メチル基、エチル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
【００４５】
ｘは１〜４の整数であり、防汚性及び反応性の観点から、好ましくは２、３、又は４であり、より好ましくは３又は４である。
【００４６】
前記（Ｄ）成分の一般式（６）で表されるアルコキシシランとしては、反応性や防汚性の観点から、アルキル基を有するトリアルコキシシランもしくはテトラアルコキシシランが好ましい。具体例としては、トリメトキシ（メチル）シラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等が挙げられる。中でも、トリメトキシ（メチル）シラン、エチルトリメトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランが好ましく、トリメトキシ（メチル）シラン、テトラメトキシシランがより好ましい。
【００４７】
上記（Ｃ）成分は、上記（Ｂ）成分が有するアルコキシ基の一部と、上記（Ｄ）成分が有するアルコキシ基の一部とが縮合反応した縮合物であることが好ましい。具体例としては、（Ｂ）成分として、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシランの有するメトキシ基の一部と、（Ｄ）成分として、トリメトキシ（メチル）シランの有するメトキシ基の一部とが縮合反応した縮合物が挙げられる。
【００４８】
上記（Ｂ）成分と上記（Ｄ）成分との重量比は、防汚性や密着性の観点から、好ましくは１：０．０５〜１０、より好ましくは１：０．０７〜８、更に好ましくは１：０．１〜５である。
【００４９】
上記（Ｃ）成分中に含まれるアルコキシ基とシラノール基との合計含有量は、（Ａ）成分との反応性の観点から、好ましくは１〜３０ｍｍｏｌ／ｇ、より好ましくは２〜２５ｍｍｏｌ／ｇ、更に好ましくは３〜１５ｍｍｏｌ／ｇである。
【００５０】
また、上記（Ｃ）成分中に含まれる重合性基の含有量は、密着性向上の観点から、好ましくは０．１〜４０ｍｍｏｌ／ｇ、より好ましくは０．５〜３０ｍｍｏｌ／ｇ、更に好ましくは１〜２０ｍｍｏｌ／ｇである。
【００５１】
前記防汚層は、前記縮重合物と電離放射線硬化性樹脂とを用いてなる硬化物であることが、高硬度化及び密着性向上の観点から好ましい。
電離放射線硬化性樹脂としては、アルコキシ基を有さず、電離放射線（紫外線または電子線）の照射によって架橋硬化することができるラジカル重合性樹脂を用いることができる。ラジカル重合性樹脂は、分子中にラジカル重合性基を有する。ラジカル重合性基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合含有基が挙げられる。なかでも、得られる防汚層の強度及び硬化性の観点から、ラジカル重合性樹脂としては、分子中にエチレン性不飽和結合含有基を２つ以上有する化合物が好ましく、分子中に（メタ）アクリロイル基を２つ以上有する多官能（メタ）アクリレート化合物がより好ましい。多官能（メタ）アクリレート化合物としては、モノマー、オリゴマー、及びポリマーのいずれも用いることができるが、防汚層の強度及び硬化性の観点から、少なくとも多官能（メタ）アクリレートモノマーを含むことが好ましい。
ここで、本発明において「（メタ）アクリレート」とは、アクリレート又はメタクリレートを意味する。
【００５２】
多官能（メタ）アクリレート化合物のうち、好ましい２官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸変性トリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
また、上記（メタ）アクリレートモノマーは、分子骨格の一部を変性しているものでもよく、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、カプロラクトン、イソシアヌル酸、アルキル、環状アルキル、芳香族、ビスフェノール等による変性がなされたものも使用することができる。
【００５３】
また、多官能（メタ）アクリレートオリゴマーとしては、２官能以上の（メタ）アクリレート系オリゴマーであれば特に制限はなく、例えば、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー、エポキシ（メタ）アクリレートオリゴマー、ポリエステル（メタ）アクリレートオリゴマー、ポリエーテル（メタ）アクリレートオリゴマー等の各種（メタ）アクリレート系オリゴマー等が挙げられる。
ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーは、例えば、多価アルコール及び有機ジイソシアネートとヒドロキシ（メタ）アクリレートとの反応によって得られる。
また、好ましいエポキシ（メタ）アクリレートオリゴマーは、３官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレート、２官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と多塩基酸と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレート、及び２官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等とフェノール類と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレートである。
【００５４】
多官能（メタ）アクリレートオリゴマーは、重量平均分子量（ＧＰＣ法で測定したポリスチレン換算の重量平均分子量）が４，０００未満のものが好ましく、より好ましくは１，０００超、３，０００未満である。
また、多官能（メタ）アクリレートオリゴマーは、より好ましくは３〜１２官能、さらに好ましくは３〜１０官能である。官能基数が上記範囲内であると、優れた強度の硬化層が得られる。
【００５５】
多官能（メタ）アクリレートポリマーとしては、２官能以上の（メタ）アクリレート系ポリマーであれば特に制限はなく、例えば、ウレタン（メタ）アクリレートポリマー、エポキシ（メタ）アクリレートポリマー、ポリエステル（メタ）アクリレートポリマー、ポリエーテル（メタ）アクリレートポリマー等の各種（メタ）アクリレート系ポリマーを用いることができる。
【００５６】
多官能（メタ）アクリレートポリマーは、屈折率の観点から、重量平均分子量（ＧＰＣ法で測定したポリスチレン換算の重量平均分子量）が４，０００以上のものが好ましく、好ましくは１０，０００〜１００，０００、より好ましくは１０，０００〜５０，０００である。重量平均分子量が１００，０００以下であれば、硬化性及び塗工性が良好である。
また、多官能（メタ）アクリレートポリマーの官能基数には特に制限はないが、硬化性の観点から、１分子あたりの官能基数が多い（すなわち、官能基当量が低い）ことが好ましい。多官能（メタ）アクリレートポリマーの官能基当量は、好ましくは４００ｇ／当量以下、より好ましくは３００ｇ／当量以下、さらに好ましくは２５０ｇ／当量以下である。
【００５７】
以上の電離放射線硬化性樹脂は１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００５８】
（防汚層形成用組成物）
前記防汚層を形成する防汚層形成用組成物は、上記縮重合物を含む。該縮重合物は、有機溶媒と水と酸との混合溶媒中で、前記（Ａ）パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと、前記（Ｂ）トリアルコキシシリル基及び重合性基を有する化合物、又は前記（Ｃ）少なくとも１つのアルコキシ基及び重合性基を有する前記（Ｂ）成分の誘導体とを加水分解、縮重合して得られる態様が好ましい。
具体的には、上記縮重合物は、上記（Ａ）成分が有するアルコキシ基と、上記（Ｂ）成分又は上記（Ｃ）成分が有するアルコキシ基とが、それぞれ加水分解してシラノール基を形成した後、それぞれのシラノール基が縮重合することにより得られる。
【００５９】
有機溶媒としては、上記（Ａ）成分のパーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランを溶解させる観点から、好ましくはフッ素系溶媒が用いられる。また、水との溶解性の観点から、フッ素系溶媒と両親媒性溶媒との混合有機溶媒であることが好ましい。
両親媒性溶媒としては、例えば、アルコール類、ケトン類等の水溶性の有機溶媒が好適に用いられる。上記アルコール類としては、例えば、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、２−メチル−１−プロパノール、ターシャリーブチルアルコール等が挙げられる。上記ケトン類としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が挙げられる。その他の水溶性の有機溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アセトニトリル、酢酸エチル等が用いられる。これらは単独又は２種以上混合して使用することができる。
【００６０】
防汚層形成用組成物中の有機溶媒の配合量は、好ましくは９０．０００〜９９．９９９質量％、より好ましくは９２．００〜９９．９９質量％、更に好ましくは９５．０〜９９．９質量％である。９０．０００質量％以上とすることで、混合溶媒中での反応を均一に進めると共に、該防汚層形成用組成物から形成された防汚層を均一透明なものとすることができ、９９．９９９質量％以下とすることで、基材表面に十分な防汚層を形成することができる。
【００６１】
水としては、イオン交換水、蒸留水等が挙げられる。また、上記混合溶媒中に含有される水の配合量は、０．００１質量％以上であれば、特に限定されないが、好ましくは０．００１〜１．０００質量％、より好ましくは０．００５〜０．５００質量％の割合で配合する。０．００１質量％以上とすることで、上記加水分解が促進され、１．０００質量％以下とすることで、パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランの沈殿を抑制することができる。
【００６２】
酸としては、上記加水分解を促進する作用を有するものであれば特に限定されず、塩酸、硫酸、硝酸、ホウ酸、リン酸、コハク酸、酢酸、蟻酸、シュウ酸、クエン酸、安息香酸等が挙げられ、反応性や乾燥時の防汚層からの除去の観点から、塩酸が好ましい。また、上記混合溶媒中に含有される酸の配合量は、上記加水分解を促進させる観点から、好ましくは０．０００００１〜１０．００００００質量％、より好ましくは０．００００１〜５．０００００質量％、更に好ましくは０．０００１〜１．００００質量％である。
【００６３】
上記防汚層形成用組成物は、さらに、上述の電離放射線硬化性樹脂を含有してもよい。
上記防汚層形成用組成物の固形分全量に対する電離放射線硬化性樹脂の含有量は、硬化性の観点から、好ましくは１０〜９９質量％、より好ましくは２０〜９８質量％である。
【００６４】
上記防汚層形成用組成物は、光重合開始剤を配合することができる。
光重合開始剤としては、アセトフェノン系、ケトン系、ベンゾフェノン系、ベンゾイン系、ケタール系、アントラキノン系、ジスルフィド系、チオキサントン系、チウラム系、フルオロアミン系などの光重合開始剤が挙げられる。なかでも、アセトフェノン系、ケトン系、ベンゾフェノン系が好ましく挙げられる。これらの光重合開始剤は、それぞれ単独で使用することができ、また複数を組み合わせて使用することもできる。
上記防汚層形成用組成物の固形分全量に対する光重合開始剤の含有量は、硬化性の観点から、好ましくは１．０〜１５質量％、より好ましくは１．５〜１０質量％である。
【００６５】
上記防汚層形成用組成物には、以上の各成分の他に、本発明の効果を阻害しない範囲で、酸発生剤、光塩基発生剤、光重合促進剤、レベリング剤等の添加剤をさらに含有させることもできる。
光酸発生剤もしくは光塩基発生剤を配合することにより、より強固な防汚層を形成することができる。
光重合促進剤は、硬化時の空気による重合阻害を軽減させ硬化性を速めることができるものであり、例えば、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル等から選ばれる１種以上が挙げられる。
【００６６】
レベリング剤としては、特に限定されないが、防汚性を高める観点から、光重合性基を有さない非重合性フッ素含有化合物が好ましい。非重合性フッ素含有化合物の中でも、重量平均分子量が３０，０００〜４０，０００の化合物が好ましい。このような非重合性フッ素含有化合物の市販品としては、例えば、ＤＩＣ（株）製のＦ５６８やＦ４７７が挙げられる。
【００６７】
さらに、上記防汚層形成用組成物は、溶剤を含有することができる。溶剤としては、防汚層形成用組成物に含まれる各成分を溶解する溶剤であれば特に制限なく用いることができるが、アルコール類、エーテル類、ケトン類、エステル類が好ましく、アルコール類、エーテル類がより好ましい。アルコール類としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等が挙げられ、中でもイソプロピルアルコールが好ましい。エーテル類としては、例えば、含フッ素エーテル化合物であるハイドロフルオロエーテルや、ｎ−プロピルエーテル等が挙げられる。
上記溶剤は、単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
上記防汚層形成用組成物中の溶剤の含有量は、好ましくは４０〜９９質量％、より好ましくは５０〜９５質量％である。溶剤の含有量が上記範囲内であると、塗布適性に優れる。
【００６８】
また、上記防汚層形成用組成物の固形分濃度は、好ましくは０．１〜６０．０質量％であり、より好ましくは０．５〜５０．０質量％であり、更に好ましくは１．０〜４５．０質量％である。０．１質量％以上とすることで、防汚層の硬化を促進することができ、６０．０質量％以下とすることで、防汚層の着色や防汚性の低下を抑制することができる。
【００６９】
本発明の多層フィルムが、後述するハードコート層を有する場合、防汚層の厚みは、防汚性及び耐久性の観点から、好ましくは１〜５０ｎｍ、より好ましくは１〜３０ｎｍである。また、多層フィルムが、後述するハードコート層を有さない場合、防汚層の厚みは、好ましくは１〜３０μｍ（推定値）、より好ましくは２〜２０μｍ（推定値）である。
【００７０】
防汚層は、従来、汚れを付き難くするために、水と油脂との接触角を大きくすることが検討されてきた。これに対して、本発明では、水と油脂との接触角を大きくするとともに、両者の滑落角を小さくすることで、高い滑落性が得られることにより、汚れを付き難く、かつ付いた汚れをふき取りやすくしている。
滑落性は、純水及びｎ−ヘキサデカンの滑落角を測定することで評価でき、該滑落角が小さいほど滑落性が良好である。滑落角は、測定対象物である多層フィルムの防汚層表面に、水平な状態で１０μＬの純水及び３μＬのｎ−ヘキサデカンを滴下し、多層フィルムを徐々に傾斜させて、液滴が滑り始める傾斜角度（滑落角）を測定することにより求められる。測定装置としては、例えば、協和界面科学（株）製の接触角計「ＤＭ  ５００」を用いることができる。滑落角は、具体的には実施例に記載の方法により測定できる。
【００７１】
本発明の多層フィルムは、防汚層表面の純水の接触角が好ましくは９５°以上であり、より好ましくは１１２°以上であり、更に好ましくは１１４°以上である。また、防汚層表面の純水の滑落角が好ましくは３０°以下であり、より好ましくは１５°以下であり、更に好ましくは８°未満である。
上記接触角が９５°以上であると、防汚層が低い表面自由エネルギーを有していることを示しており、汚れを付き難くすることができる。また、上記滑落角が３０°以下であると、防汚層表面の滑落性が向上し、さらに汚れを付き難くし、かつ、付いた汚れを拭き取りやすくすることができる。
本発明において、上記接触角を９５°以上とすることができるのは、上記縮重合物が、パーフルオロポリエーテル構造部位を有することに起因すると考えられる。また、上記滑落角を３０°以下とすることができるのは、上記縮重合物が、前記（Ａ）成分のパーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと、前記（Ｂ）成分のトリアルコキシシリル基及び重合性基を有する化合物、又は前記（Ｃ）成分の少なくとも１つのアルコキシ基及び重合性基を有する前記（Ｂ）成分の誘導体とが縮重合した構造であるため、隣接するパーフルオロポリエーテル構造部位の間隔が広く疎になり、該パーフルオロポリエーテル構造部位が動きやすく柔軟性を有することに起因すると考えられる。
なお、接触角は、接触角測定装置（例えば、協和界面科学（株）製の接触角計「ＤＭ  ５００」）を用いて、純水及びｎ−ヘキサデカンに対する接触角をθ／２法により測定することで求められる。接触角は、具体的には実施例に記載の方法により測定できる。
【００７２】
本発明の多層フィルムは、防汚層表面のｎ−ヘキサデカンの接触角が好ましくは５０°以上であり、より好ましくは５５°以上であり、更に好ましくは６０°以上である。また、防汚層表面のｎ−ヘキサデカンの滑落角が好ましくは１５°以下であり、より好ましくは１０°以下であり、更に好ましくは６°以下である。
【００７３】
また、本発明の多層フィルムは、防汚層表面のアルコール系溶剤による拭き取り前後における該防汚層表面の純水の接触角の減少率が好ましくは０〜１５％、より好ましくは０〜１３％、さらに好ましくは０〜１０％である。
本発明によれば、防汚層表面の純水の接触角の減少率を上記範囲内とすることができ、防汚層と隣接する層（基材又はハードコート層）との密着性を高め、防汚層の耐久性を優れたものとすることができる。
【００７４】
本発明者らは、防汚層が前記（Ａ）成分と、前記（Ｂ）成分又は前記（Ｃ）成分との縮重合物を含む硬化物であることにより、防汚層表面と、指や拭き取りに用いる布等との摩擦係数を小さくし、滑り性を向上させることを見出した。本発明の多層フィルムは、水と油脂との接触角を大きくすることにより防汚層の表面自由エネルギーを低下させ、水と油脂との滑落角を小さくすることにより、高い滑落性が得られることに加え、高い滑り性が得られることにより、上記防汚層表面に対し、更に汚れを付き難くし（指紋付着量が少ない）、かつ付いた汚れをふき取りやすくすること（指紋拭取性が良好）ができる。
このように、本発明の多層フィルムが、従来の防汚部材では得られなかった極めて優れた防汚性を有するのは、上記縮重合物が有する隣接するパーフルオロポリエーテル構造部位の間隔が広く疎になり、該パーフルオロポリエーテル構造部位が動きやすく柔軟性を有することに起因すると考えられる。
特に、タッチパネル等のような指でスライドさせて用いる表面の防汚性を得るには、上記滑り性の向上は重要である。
なお、本発明において「滑り性」とは、多層フィルムの防汚層表面の滑らかさを表す指標である。滑り性は、具体的には実施例に記載の方法により評価することができる。
【００７５】
＜ハードコート層＞
本発明の多層フィルムは、防汚層の基材側の面にハードコート層を有することが高硬度化の観点から、好ましい。
ハードコート層は、多層フィルムの表面硬度を高くし、多層フィルムに傷つき防止性を付与する役割を有するものである。
なお、本発明においてハードコート層とは、鉛筆硬度試験で「２Ｈ」以上の硬度を示すものをいう。本発明におけるハードコート層は、耐擦傷性と割れ防止とのバランスの観点から、鉛筆硬度試験で２Ｈ〜６Ｈであることが好ましく、３Ｈ〜６Ｈであることがより好ましい。
【００７６】
上記ハードコート層は、表面硬度を高くする観点から、電離放射線硬化性樹脂組成物から形成されてなるものが好ましい。
電離放射線硬化性樹脂組成物は、電離放射線硬化性樹脂と共に、好ましくは光重合開始剤を含む。さらに、必要に応じて、溶剤、及び光重合促進剤、レベリング剤等の添加剤を含有してもよい。
上記電離放射線硬化性樹脂、光重合開始剤、溶剤、及び添加剤は、前記防汚層の項で説明したものを用いることができる。
【００７７】
上記ハードコート層の厚み（硬化時）は、前記基材の強度や要求性能に応じて適宜選択することができ、通常０．１〜１００μｍ、好ましくは０．８〜３０μｍである。また、十分な硬度を発現させ、反りやクラックの発生を抑制する観点から、より好ましくは３〜２０μｍである。
【００７８】
上記ハードコート層の厚みは、例えば、走査型透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて撮影した断面の画像から２０箇所の厚みを測定し、２０箇所の値の平均値から算出できる。ＳＴＥＭの加速電圧は１０ｋＶ〜３０ｋＶとすることが好ましい。ＳＴＥＭの倍率は、１０００〜７０００倍とすることが好ましい。
【００７９】
［多層フィルムの製造方法］
次に、前述する多層フィルムの製造方法を説明する。
本発明の多層フィルムの第１の態様の製造方法は、少なくとも基材と防汚層とを有する多層フィルムの製造方法であって、基材上に、（Ａ）パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと、（Ｂ）トリアルコキシシリル基及び重合性基を有する化合物、又は（Ｃ）少なくとも１つのアルコキシ基及び重合性基を有する上記（Ｂ）成分の誘導体とを、有機溶媒、水、及び酸を含む混合溶媒中で加水分解、縮重合して得られた縮重合物を配合してなる防汚層形成用組成物の未硬化層を形成し、硬化させて防汚層を形成することを特徴とする。
【００８０】
まず、有機溶媒と水と酸との混合溶媒中に、上記（Ａ）成分と、上記（Ｂ）成分又は上記（Ｃ）成分とを混合、攪拌し、上記（Ａ）成分と、上記（Ｂ）成分又は上記（Ｃ）成分とを加水分解し、次いで縮重合することにより縮重合物を得る。
（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分、有機溶媒、水、及び酸としては、それぞれ上記多層フィルムの項で説明したものを用いることができ、有機溶媒、水、及び酸の配合量は、それぞれ上記多層フィルムの項で説明した範囲内で適宜調整する。
また、上記パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランの重量平均分子量は、ＧＰＣ測定により求めることができる。
【００８１】
上記（Ａ）成分と、上記（Ｂ）成分又は上記（Ｃ）成分との重量比は、好ましくは１：０．１〜１０．０、より好ましくは１：０．１５〜８．０、更に好ましくは１：０．２〜６．０である。上記範囲内とすることにより、本発明の効果を発揮することができる。
【００８２】
加水分解および縮重合反応は、これらの反応が適切に起こる一定の雰囲気下で行うことが好ましい。具体的には、−２５〜１２０℃の範囲で、０．１〜２００時間程度行うことが好ましく、−１０〜１００℃で、０．５〜１５０時間程度行うことがより好ましく、０〜７０℃で、１〜１２０時間程度行うことが更に好ましい。
【００８３】
次に、基材上に上記で得られた縮重合物を配合してなる防汚層形成用組成物を塗布して未硬化層を形成し、硬化させることにより防汚層を形成する。
上記組成物を塗布する方法は、所望の厚みに均一に塗布できる方法であればよく、従来公知の方法の中から適宜選択すればよい。例えば、グラビアコート法、ナイフコート法、ディップコート法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、ロールコート法、カーテンコート法、ダイコート法、キャスティング法、バーコート法、エクストルージョンコート法等が挙げられる。
【００８４】
上記未硬化層は、乾燥処理、電離放射線の照射などにより硬化させることができ、電離放射線の照射により硬化させることが好ましい。また、上記未硬化層に電離放射線を照射する前に、乾燥処理を行ってもよい。
乾燥処理の設定条件は、原料、溶媒や、雰囲気の温度や湿度によって変わるが、本発明の効果が得られるのに適した一定の雰囲気下にコントロールした状況で行うことが好ましい。例えば、通常、室温（２５℃）〜３００℃で、０．１〜４８時間程度行うことが好ましく、２５〜２５０℃で、０．２〜２４時間程度行うことがより好ましい。これらの処理は１種類の雰囲気下で完結させてもよく、２種類以上の雰囲気下で段階的に処理してもよい。
【００８５】
電離放射線としては、紫外線（ＵＶ）を好ましく用いることができる。紫外線としては、通常、波長１９０〜３８０ｎｍの紫外線を含むものを放射する。紫外線源としては特に制限はなく、例えば高圧水銀燈、低圧水銀燈、メタルハライドランプ、カーボンアーク燈等が用いられる。紫外線照射は、酸素濃度１０００ｐｐｍ以下の窒素雰囲気下で行うことが好ましい。
紫外線の照射量は、好ましくは５０〜３００ｍＪｃｍ−２、より好ましくは５０〜２５０ｍＪｃｍ−２である。
【００８６】
上記防汚層形成用組成物は、さらに電離放射線硬化性樹脂を配合したものであることが、硬化物の高硬度化及び密着性向上の観点から好ましい。
防汚層形成用組成物中に含まれる上記縮重合物の含有量は、電離放射線硬化性樹脂１００質量部に対して、好ましくは０．１〜１．０質量部、より好ましくは０．２〜０．６質量部である。上記範囲内とすることにより、本発明の効果を発揮することができる。
【００８７】
本発明の多層フィルムの第２の態様の製造方法として、未硬化層の形成前に、基材上に電離放射線硬化性樹脂を含むハードコート層形成用組成物の塗膜を形成し、電離放射線を照射して半硬化層を形成し、次いで、該半硬化層の基材とは反対側の面に接するように上述の未硬化層を形成し、該半硬化層と、該未硬化層とに同時に電離放射線を照射し硬化させて、各々ハードコート層と防汚層とを形成してもよい。
【００８８】
まず、上述の電離放射線硬化性樹脂と共に、好ましくは上述の光重合開始剤を含有することにより、ハードコート層形成用組成物を調製する。該ハードコート層形成用組成物は、さらに上述の溶剤や光重合促進剤、レベリング剤等の添加剤を含有してもよい。
【００８９】
ハードコート層形成用組成物全量に対する、電離放射線硬化性樹脂の含有量は、ハードコート性や密着性の観点から、好ましくは１０〜９９質量％、より好ましくは１５〜９８質量％である。
また、ハードコート層形成用組成物中の光重合開始剤の含有量は、硬化性の観点から、電離放射線硬化性樹脂１００質量部に対して、好ましくは１〜１０質量部、より好ましくは１〜８質量部である。
【００９０】
次に、基材上に、上記で調製したハードコート層形成用組成物を塗布して塗膜を形成する。
上記組成物を塗布する方法は、所望の厚みに均一に塗布できる方法であればよく、従来公知の方法の中から適宜選択すればよい。具体的には、上記第１の態様で説明した方法が挙げられる。
【００９１】
次に、上記塗膜に電離放射線を照射して、半硬化層を形成する。電離放射線は、上記第１の態様で説明した紫外線を好ましく用いることができる。
紫外線の照射量は、好ましくは３〜１００ｍＪｃｍ−２、より好ましくは５〜８０ｍＪｃｍ−２である。上記範囲内とすることで、電離放射線硬化性樹脂が適度に硬化し、半硬化層を形成することができる。紫外線照射は、紫外線照射量の選択により半硬化層を形成できる条件であれば窒素雰囲気下でも空気雰囲気下で行っても良いが、空気雰囲気下で行うのがより好ましい。
【００９２】
次に、上記半硬化層の基材とは反対側の面に接するように第１の態様の製造方法で説明した未硬化層を形成し、該半硬化層と、該未硬化層とに同時に電離放射線を照射し硬化させて、各々ハードコート層と防汚層とを形成する。半硬化層及び未硬化層を同時に硬化させることにより、ハードコート層（半硬化層）と防汚層（未硬化層）との密着性を向上させることができる。
電離放射線は、紫外線を用いることが好ましい。紫外線の照射量は、好ましくは３０〜３００ｍＪｃｍ−２、より好ましくは５０〜２００ｍＪｃｍ−２である。上記範囲内とすることで、各層の硬化を十分に行うことができ、ハードコート層と防汚層との密着性を優れたものとすることができる。
【００９３】
また、第２の態様の製造方法では、上記半硬化層を形成する際に照射する電離放射線の照射量Ｘα（ｍＪ／ｃｍ２）、及び上記半硬化層と、上記未硬化層とに同時に照射する電離放射線の照射量Ｘβ（ｍＪ／ｃｍ２）が下記式（Ｉ）の関係を満たすことが好ましい。
０．０１≦Ｘα／（Ｘα＋Ｘβ）≦０．８０          （Ｉ）
（但し、Ｘαは３以上１００以下である）
【００９４】
上記Ｘαは、好ましくは３以上１００以下であり、より好ましくは３以上９５以下、さらに好ましくは４以上９０以下、よりさらに好ましくは５以上８０以下である。３以上とすることで、半硬化層を適度に硬化させることができ、該半硬化層上に防汚層形成用組成物を塗布した際に半硬化層の溶解や、傷やゆがみの発生を抑え、最終的なフィルムの接触角や滑落性を良好にすることができる。また、１００以下とすることで、半硬化層の硬化が進行し過ぎるのを抑制することができ、次いで、半硬化層及び未硬化層を同時に硬化させて、ハードコート層（半硬化層）と防汚層（未硬化層）との密着性を向上させることができる。
【００９５】
また、上記Ｘα／（Ｘα＋Ｘβ）は、好ましくは０．０１以上０．８０以下、より好ましくは０．０１１以上０．６０以下、さらに好ましくは０．０１２以上０．５０以下、よりさらに好ましくは０．０１４以上０．３５以下である。０．０１以上とすることで、半硬化層を適度に硬化させることができ、該半硬化層上に防汚層形成用組成物を塗布した際に半硬化層の溶解や、傷やゆがみの発生を抑え、最終的なフィルムの接触角や滑落性を良好にすることができる。また、０．８０以下とすることで、半硬化層の硬化が進行し過ぎるのを抑制することができ、次いで、半硬化層及び未硬化層を同時に硬化させて、ハードコート層（半硬化層）と防汚層（未硬化層）との密着性を向上させることができる。
【００９６】
このようにして得られる本発明の多層フィルムは、全光線透過率（ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１：１９９７）が９０％以上であることが好ましく、９２％以上であることがより好ましい。また、本発明の多層フィルムは、ヘイズ（ＪＩＳ  Ｋ７１３６：２０００）が１．０％以下であることが好ましく、０．５％以下であることがより好ましく、０．３％以下であることがさらに好ましい。
全光線透過率及びヘイズを測定する際の光入射面は防汚層側である。
【００９７】
本発明の多層フィルムの表面（ハードコート層側の表面）の算術平均粗さＲａ（ＪＩＳ  Ｂ０６０１：１９９４）は、１０ｎｍ以下であることが好ましく、１〜８ｎｍであることがより好ましい。
【００９８】
本発明の多層フィルムは、高硬度、かつ防汚性に優れると共に、耐久性に優れた防汚層を有するため、特にタッチパネルディスプレイを有する携帯用電子機器に好適に使用することができる。
【実施例】
【００９９】
以下、実施例及び比較例を挙げて本発明を具体的に説明する。なお、本発明は、実施例に記載の形態に限定されるものではない。
実施例及び比較例の多層フィルムの評価は以下のようにして行った。なお、評価結果を表５及び６に示す。
【０１００】
１．測定
１−１．接触角の測定
（イソプロピルアルコールによる拭き取り前の接触角）
協和界面科学（株）製の接触角計「ＤＭ  ５００」を用いて、純水及びｎ−ヘキサデカンの接触角を測定した。多層フィルムの防汚層表面に１．５μＬの純水を滴下し、着滴１秒後に、θ／２法に従って、滴下した液滴の左右端点と頂点を結ぶ直線の、固体表面に対する角度から接触角を算出した。５回測定した平均値を、接触角の値とした。
（イソプロピルアルコールによる拭き取り後の接触角）
イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）を含浸させた不織布（旭化成（株）製、商品名：ベンコットン）を用いて、多層フィルムの防汚層表面を、５００ｇ荷重をかけた状態で拭き取る操作を５往復行った。その後、ＩＰＡによる拭き取り前の接触角と同様にして、ＩＰＡによる拭き取り後の接触角を求めた。
【０１０１】
１−２．表面自由エネルギー
上記１−１で測定したＩＰＡによる拭き取り前の接触角から、以下の基準で表面自由エネルギーを評価した。接触角が大きいほど、表面自由エネルギーが低く優れることを示す。
◎：純水１１０°以上、かつｎ−ヘキサデカン６０°以上
○：純水１１０°未満９５°以上、かつｎ−ヘキサデカン６０°未満５０°以上
×：純水９５°未満もしくはｎ−ヘキサデカン５０°未満
【０１０２】
１−３．滑落角の測定
協和界面科学（株）製の接触角計「ＤＭ  ５００」を用いて、純水及びｎ−ヘキサデカンの滑落角を測定した。多層フィルムを水平に配置し、該多層フィルムの防汚層表面に１０μＬの純水、及び３μＬのｎ−ヘキサデカンをそれぞれ滴下し、多層フィルムを徐々に傾斜させて、液滴が滑り始める傾斜角度（滑落角）を測定した。５回測定した平均値を、滑落角の値とした。
【０１０３】
１−４．滑落性
上記１−３で測定した滑落角から、以下の基準で滑落性を評価した。純水とｎ−ヘキサデカンとで評価結果が異なる場合には、より低い結果を採用した。なお、滑落角が小さいほど、滑落性に優れることを示す。
［純水］
◎:１５°未満
○:１５°以上３０°以下
×:３０°超
［ｎ−ヘキサデカン］
◎:１０°未満
○:１０°以上１５°以下
×:１５°超
【０１０４】
１−５．滑り性の評価
被験者１０名が、実施例１〜２３、及び比較例１〜２で作製した各多層フィルムの防汚層表面に指を接触させて、その指を防汚層表面と平行に横方向に往復移動させた（スマートフォンでスライド操作をする様な動き）。その際の指と防汚層表面との摩擦による触感を下記評価基準により判定し、被験者１０名の平均値を求めた。この平均値を下記判定基準に従って判定した。
＜評価基準＞
５点：常に滑らか
３点：滑らか
０点：悪い
＜判定基準＞
○：４．４点以上
△：２．１点以上４．４点未満
×：２．１点未満
【０１０５】
１−６．指紋付着
シリコーン樹脂版（１０ｍｍφ×３０ｍｍの円柱状）に人工指紋液（伊勢久（株）製、ＪＩＳ  Ｃ９６０６の付属書４に準拠）を付着させたものを多層フィルムの防汚層表面に押し付けて指紋を付着させた。指紋の付着状態を目視観察し、以下の基準で評価した。
◎：指紋を強く弾いており、付着量が非常に少ない
○：指紋を弾いており、付着量が少ない
△：指紋を弾くが、付着する
×：指紋が広く付着する
【０１０６】
１−７．指紋拭取性
シリコーン樹脂版（１０ｍｍφ×３０ｍｍの円柱状）に人工指紋液（伊勢久（株）製、ＪＩＳ  Ｃ９６０６の付属書４に準拠）を付着させたものを多層フィルムの防汚層表面に押し付けて指紋を付着させた。付着させた指紋を不織布（旭化成（株）製、商品名：ベンコットン）で拭取り、指紋の残り跡を目視観察し、以下の基準で評価した。
◎：３回までの拭取りで、指紋の付着跡が完全に見えない
○：４回〜７回の拭取りで、指紋の付着跡が完全に見えない
△：８回〜１０回の拭取りで、指紋の付着跡が完全に見えない
×：１０回の拭取り後に指紋の拭き取り跡がはっきりと視認できる
【０１０７】
１−８．鉛筆硬度試験
多層フィルムの防汚層表面について、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４に準じて鉛筆硬度を測定した。
【０１０８】
１−９．ＳＷ試験
多層フィルムの基材面をガラス板にしわが生じないように貼りつけ、防汚層表面に＃００００のスチールウールを９．８Ｎ荷重で接触させた状態で片道１０ｃｍの移動距離を１０往復した。その後の防汚層表面の傷の有無を目視により確認した。
【０１０９】
２．多層フィルム（ハードコート層なし）の製造
２−１．（Ａ）成分と（Ｂ）成分との縮重合物の製造
表１に示す成分の各配合量を混合した（Ａ）成分、（Ｂ）成分、及び溶剤の混合溶液中に、表１に示す配合量の水と、１Ｍ  塩酸とを添加し、２５℃で３時間攪拌し、（Ａ）成分と（Ｂ）成分との縮重合物を含む組成物を得た（製造例１〜４）。
なお、上記縮重合物の製造に使用した表１に記載の各成分の詳細は以下のとおりである。
【０１１０】
〔（Ａ）成分〕
・Ｘ−７１−１９５（パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシラン溶液）：信越化学工業（株）製、商品名、固形分２０％
〔（Ｂ）成分〕
・ＫＢＭ−５１０３（３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン）：信越化学工業（株）製、商品名
〔溶剤〕
・Ｎｏｖｅｃ  ７３００（フッ素系有機溶媒）：３Ｍ製、商品名
・２−プロパノール（両親媒性溶媒）：関東化学（株）製、商品名
【０１１１】
【表１】
0006702022.tif 000005
【０１１２】
２−２．防汚層形成用組成物の調製
表２に示す成分の各配合量を混合して、防汚層形成用組成物を調製した。なお、表２中、空欄は配合なしを表す。
防汚層形成用組成物の調製に使用した表２に記載の各成分の詳細は以下のとおりである。
【０１１３】
・Ｘ−７１−１９５（パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシラン溶液）：信越化学工業（株）製、商品名、固形分２０％
・ＫＡＹＡＲＡＤ−ＰＥＴ−３０（ペンタエリスリトールトリアクリレート）：日本化薬（株）製、商品名
・イルガキュア１８４（光重合開始剤）：チバ・ジャパン（株）製、商品名
・イソプロピルアルコール：関東化学（株）製
・Ｎｏｖｅｃ  ７３００（フッ素系有機溶媒）：３Ｍ製、商品名
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：昭和インク工業（株）製、商品名 
【０１１４】
【表２】
0006702022.tif 000006
【０１１５】
２−３．実施例１〜４、及び比較例１の多層フィルムの完成
基材：ＰＥＴフィルム（東洋紡（株）製、商品名：Ａ４１００、厚さ１００μｍ）上にバーコーターを用いて、表２に示す防汚層形成用組成物を、塗布速度６ｍ／ｍｉｎにて塗布し、塗膜を形成した。その塗膜を７０℃で１分間乾燥し、溶剤を除去した。次いで、その塗膜に紫外線照射装置を用いて、照射量１００ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射を行い、塗膜を硬化させて、硬化後膜厚５μｍの防汚層を有する多層フィルムを得た。得られた多層フィルムを温度８０℃、相対湿度９５％の恒温恒湿装置に入れ、１時間処理を行った。
【０１１６】
３．多層フィルム（ハードコート層あり）の製造
（実施例５）
３−１．ハードコート層形成用組成物の調製
以下の各成分を混合して、ハードコート層形成用組成物を調製した。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＰＥＴ−３０）１００質量部
・光重合開始剤（チバ・ジャパン（株）製、イルガキュア１８４）４質量部
・レベリング剤（ＤＩＣ（株）製、Ｆ５６８）０．１質量部
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）（昭和インク工業（株）製、商品名）１８７質量部
【０１１７】
３−２．半硬化層の形成
基材：ＰＥＴフィルム（東洋紡（株）製、商品名：Ａ４１００、厚さ１００μｍ）上にバーコーターを用いて、上記３−１で調製したハードコート層形成用組成物を、塗布速度６ｍ／ｍｉｎにて塗布し、塗膜を形成した。その塗膜を７０℃で１分間乾燥し、溶剤を除去した。次いで、その塗膜に紫外線照射装置を用いて、照射量１０ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射を行い、半硬化層を形成した。
【０１１８】
３−３．防汚層形成用組成物の調製（製造例５）
フッ素系有機溶媒（３Ｍ製、商品名：Ｎｏｖｅｃ  ７３００）１２．１ｇと、両親媒性溶媒（関東化学（株）製、商品名：２−プロパノール）２．１ｇと、パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシラン溶液（信越化学工業（株）製、商品名「Ｘ−７１−１９５」、固形分２０％）０．３０ｇと、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製、商品名「ＫＢＭ−５１０３」）０．０４７ｇとを混合した混合溶液中に、水２．３ｍｇと、１Ｍ  塩酸１３ｍｇとを添加し、２５℃で３時間攪拌し、パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシランと３−アクリロキシプロピルトリメトキシシランとの縮重合物を含む組成物を得た。
【０１１９】
次いで、以下の各成分を混合して、防汚層形成用組成物を調製した。
・上記３−３で得た組成物（固形分：０．７質量％）２９１質量部（上記３−１のハードコート層形成用組成中のペンタエリスリトールトリアクリレート１００質量部に対する割合）
・光重合開始剤（チバ・ジャパン（株）製、イルガキュア１８４）０．０８５質量部
【０１２０】
３−４．実施例５の多層フィルムの完成
上記３−２で形成した半硬化層上にバーコーターを用いて、上記３−３で調製した防汚層形成用組成物を、塗布速度６ｍ／ｍｉｎにて塗布し、未硬化層を形成した。次いで、半硬化層及び未硬化層に紫外線照射装置を用いて、照射量１００ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射を行い、基材上にハードコート層（硬化後膜厚５μｍ）及び防汚層（硬化後膜厚３０ｎｍ）を有する多層フィルムを得た。
【０１２１】
３−５．実施例６〜２３、及び比較例２の多層フィルムの製造
表３に示す成分の各配合量を混合し、縮重合物を含む組成物（製造例５〜１７）、及び（Ａ）成分を含む組成物（比較製造例１）を得た。また、表４に記載の種類及び配合量の各成分を用い、表４に示す紫外線照射量で、実施例５と同様にして多層フィルムを得た。なお、表３及び表４中、空欄は配合なしを表す。
【０１２２】
【表３】
0006702022.tif 000007
【０１２３】
表３に記載の各成分の詳細は以下のとおりである。
〔（Ａ）成分〕
・Ｘ−７１−１９５（パーフルオロポリエーテル構造を有するアルコキシシラン溶液）：信越化学工業（株）製、商品名、固形分２０％
〔（Ｂ）成分〕
・ＫＢＭ−５１０３（３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン）：信越化学工業（株）製、商品名
・ＫＢＭ−１００３（ビニルトリメトキシシラン）：信越化学工業（株）製、商品名
〔（Ｃ）成分〕
・ＫＰ−５１３（３−アクリロキシプロピルトリメトキシシランとトリメトキシ（メチル）シランとの重合物）：信越化学工業（株）製、商品名
〔その他の成分〕
・Ｎｏｖｅｃ  ７３００（フッ素系有機溶媒）：３Ｍ製、商品名
・２−プロパノール（両親媒性溶媒）：関東化学（株）製、商品名
【０１２４】
【表４】
0006702022.tif 000008
【０１２５】
【表５】
0006702022.tif 000009
【０１２６】
【表６】
0006702022.tif 000010
【０１２７】
（結果のまとめ）
（Ａ）成分と（Ｂ）成分、又は（Ｃ）成分とを組み合わせて用いた実施例１〜２３では、防汚層表面に指紋が付着しにくく、指紋が付着しても容易に拭取ることができ、また、ＳＷ試験では防汚層表面に傷が確認されなかった。
【産業上の利用可能性】
【０１２８】
本発明の多層フィルムは、高硬度、かつ防汚性に優れると共に、耐久性に優れた防汚層を有するため、特にタッチパネルディスプレイを有する携帯用電子機器に好適に使用することができる。
【符号の説明】
【０１２９】
１  抵抗膜式タッチパネル
１１ａ  上部透明基板
１１ｂ  下部透明基板
１２  透明導電膜
１３  スペーサー
２  静電容量式タッチパネル
２１ａ  上部透明基板
２１ｂ  下部透明基板
２２  透明導電膜（Ｘ電極）
２３  透明導電膜（Ｙ電極）
２４  接着剤層
３，４  多層フィルム
３１，４１  基材
３２，４２  防汚層
４３  ハードコート層
【図１】
0006702022.tif 000012
【図２】
0006702022.tif 000013
【図３】
0006702022.tif 000014
【図４】
0006702022.tif 000015