(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
水中に配置されて用いる希土類磁石であって、
水に接触する面にグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジル型エポキシ樹脂、及び脂環族エポキシ樹脂から選択される少なくとも１種のエポキシ樹脂と、アルキルフェノール、脂肪酸、及び脂肪族アミン類から選択される少なくとも１種の変性樹脂とを用いた変性エポキシ樹脂被膜を備えたことを特徴とする希土類磁石。
【請求項２】
前記変性エポキシ樹脂被膜は、溶剤として反応性希釈剤を用いた弱溶剤型ハイソリッド変性エポキシ樹脂塗料を用いて得られたものである請求項１に記載の希土類磁石。
【請求項３】
前記変性エポキシ樹脂被膜の厚みが１００μｍ〜１０００μｍである請求項１又は請求項２に記載の希土類磁石。
【請求項４】
成膜材料からなるターゲットの背面側に配置した希土類磁石を冷却水により直接冷却して用いるマグネトロンスパッタリング装置において、
当該希土類磁石として請求項１〜請求項３のいずれかに記載の希土類磁石を用いることを特徴とするマグネトロンスパッタリング装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本件発明は、希土類磁石及びそれを用いたマグネトロンスパッタ装置に関し、特に水中に配置して用いられる希土類磁石及びそれを用いたマグネトロンスパッタ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、例えば、マグネトロンスパッタリング装置のカソードには、優れた磁気特性を有するＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系やＳｍ−Ｃｏ系等の希土類磁石が、温度上昇に伴う磁気特性の低下を防ぐために常に冷却水に曝された状態で用いられる。しかし、焼結体からなる希土類磁石は、その表面に被膜を備えずに用いた場合には、電解腐食により腐食が促進され、焼結粒子が溶出して磁力の低下を招いてしまう。そのため、希土類磁石は、水中に配置されて用いる場合には通常その表面に耐食性のある金属や樹脂からなる被膜が備えられる。
【０００３】
例えば、特許文献１には、マグネトロンスパッタリング装置のカソードにおいて、水中に配置された状態で用いられる永久磁石が、その表面に耐食性材料としてフッ素樹脂、ニッケルめっき、銀めっきからなる被覆を備える旨開示がされている。また、特許文献２には、マグネトロンスパッタリング装置のカソードにおいて、水中に配置された状態で用いられる永久磁石が、その表面にエポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、けい素樹脂、ふッ素樹脂、シリコンゴムからなる被覆を備える旨開示がされている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】実開昭６２−１８２９７２号公報
【特許文献２】特許２５７５０６９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１及び特許文献２に開示の永久磁石では、確かに耐食性の向上は図れるものの、長期間に亘り十分な防錆効果を得ることが出来なかった。特に、永久磁石にニッケルめっきや銀めっきを施した場合には、膜厚を厚くしてもピンホールの発生に伴う耐食性の低下や、バイポーラ現象により被膜の溶解が誘起されやすい等の問題がある。そのため、希土類磁石（永久磁石）を上述したマグネトロンスパッタリング装置に水中に配置された状態で用いたとしても、長期間にわたり安定したスパッタ処理を実現できず、ランニングコストの高騰を招いていた。
【０００６】
従って、本件発明は、従来よりも耐食性に優れた希土類磁石及びそれを用いたマグネトロンスパッタ装置の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
そこで、本件発明者等は、鋭意研究を行った結果、上述した課題を解決するに到った。以下、本件発明に関して説明する。
【０００８】
本件発明に係る希土類磁石：  本件発明に係る希土類磁石は、水中に配置されて用いる希土類磁石であって、水に接触する面にグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジル型エポキシ樹脂、及び脂環族エポキシ樹脂から選択される少なくとも１種のエポキシ樹脂と、アルキルフェノール、脂肪酸、及び脂肪族アミン類から選択される少なくとも１種の変性樹脂とを用いた変性エポキシ樹脂被膜を備えたことを特徴とする。
【０００９】
また、本件発明に係る希土類磁石の変性エポキシ樹脂被膜は、溶剤として反応性希釈剤を用いた弱溶剤型ハイソリッド変性エポキシ樹脂塗料を用いて得られたものであることが好ましい。
【００１０】
また、本件発明に係る希土類磁石は、前記変性エポキシ樹脂被膜の厚みが１００μｍ〜１０００μｍであることが好ましい。
【００１１】
本件発明に係るマグネトロンスパッタリング装置：  本件発明に係るマグネトロンスパッタリング装置は、成膜材料からなるターゲットの背面側に配置した希土類磁石を冷却水により直接冷却して用いるマグネトロンスパッタリング装置において、当該希土類磁石として上述した希土類磁石を用いることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本件発明に係る希土類磁石によれば、実用上十分な耐食性を得ることができ、磁力の低下を長期間抑制することが出来る。従って、本件発明に係る希土類磁石を、冷却水により直接冷却して用いるマグネトロンスパッタリング装置に用いることで、長期間に亘りスパッタリング効果の低下を抑止して被覆物の品質を安定させることが出来る。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本件発明の一実施形態に係るマグネトロンスパッタ装置を説明するための断面図である。
【図２】図１のＡ―Ａ矢視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下に、本件発明に係る希土類磁石及びマグネトロンスパッタリング装置の一実施の形態について説明する。
【００１５】
１．希土類磁石
本件発明に係る希土類磁石は、水中に配置されて用いられるものである。この希土類磁石としては、例えばネオジム磁石（Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石）やコバルト・サマリウム磁石（Ｃｏ−Ｓｍ系磁石）等を用いることが出来る。希土類磁石の中でも特にネオジム磁石は、優れた磁気特性を有し様々な分野で使用されるが、鉄が主成分であることから僅かな水分の存在によって表面から電気化学的に腐食が進行し、磁石性能の劣化を招きやすい。更に、ネオジム磁石は、焼結体であることから、粒界腐食により磁石体から選択的に鉄が溶出して腐食が進行しやく、また、錆に起因して鉄分等が下方に沈殿して、用いられる装置の性能等に悪影響を及ぼす恐れがある。
【００１６】
上述した問題の対策として、本件発明に係る希土類磁石は、水に接触する面に変性エポキシ樹脂被膜を備えたことを特徴とする。ここで、変性エポキシ樹脂とは、エポキシ樹脂塗料に、塗布面への濡れ性の改善、塗膜の内部応力の緩和等を目的とした改質目的でエポキシ樹脂以外の変性樹脂（石油系樹脂、石炭系樹脂等）を配合したものである。具体的な変性エポキシ樹脂塗料として、アルキルフェノール変性エポキシ樹脂塗料、脂肪酸変性エポキシ樹脂塗料、脂肪族１級アミン類及び／又は脂肪族２級アミン類で変性した変性エポキシ樹脂塗料等が挙げられる。中でも、弱溶剤型ハイソリッド変性エポキシ樹脂塗料に該当するものが好ましい。塗装作業を行う者の人体に対する影響を最小限に抑制でき、環境に対する影響も小さくできるからである。これらの変性エポキシ樹脂塗料で形成した被膜は耐熱性・耐腐食性能に優れるため、当該被膜を備える希土類磁石の製品寿命が飛躍的に高まると同時に、防食性能が低下したときのメンテナンス作業が容易になる。
【００１７】
上述の弱溶剤型ハイソリッド変性エポキシ樹脂塗料の場合、防食性、耐水性、耐薬品性等の塗膜性能を考慮して、少なくとも変性エポキシ樹脂、アミン系樹脂、溶剤を含むことが好ましい。以下、各成分に関して述べる。
【００１８】
（１）変性エポキシ樹脂被膜の形成に用いる変性エポキシ樹脂の構成成分
ここで言う変性エポキシ樹脂は、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジル型エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂と変性樹脂とから得られるものである。
【００１９】
ａ）エポキシ樹脂
ここで、当該変性エポキシ樹脂を得るために使用可能なエポキシ樹脂に関して述べる。グリシジルエーテル型エポキシ樹脂としては、多価アルコール又は多価フェノール等と、エピハロヒドリン又はアルキレンオキシドとを反応させて得られるものを用いることができる。多価アルコールとは、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサンジオール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジグリセリン、ソルビトール等である。また、多価フェノールとは、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン［ビスフェノールＡ］、２，２−ビス（２−ヒドロキシフェニル）プロパン、２−（２−ヒドロキシフェニル）−２−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、ハロゲン化ビスフェノールＡ、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン［ビスフェノールＦ］、トリス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、レゾルシン、テトラヒドロキシフェニルエタン、１，２，３−トリス（２，３−エポキシプロポキシ）プロパン、ノボラック型多価フェノール、クレゾール型多価フェノール等である。
【００２０】
グリシジルエステル型エポキシ樹脂としては、フタル酸ジグリシジルエステル、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、テトラヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、ダイマー酸ジグリシジルエステル等を用いることができる。
【００２１】
グリシジル型エポキシ樹脂としては、テトラグリシジルアミノジフェニルメタン、トリグリシジルイソシアヌレート等を用いることができる。
【００２２】
脂環族エポキシ樹脂として、（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシル）メチル−３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル）アジペート等を用いることができる。
【００２３】
ｂ）変性樹脂
変性樹脂としては、アルキルフェノール、脂肪酸、脂肪族アミン類を使用することが可能である。以下、これらの具体例を例示する。アルキルフェノールとして、ｐ−ｔ−ブチルフェノール、ｐ−オクチルフェノール、ドデシルフェノール等を用いることができる。また、脂肪酸として、アマニ・サフラワー・ゴマ等の植物系油脂肪酸、その他半乾性油脂肪酸の１種又は２種以上を併用しても構わない。
【００２４】
次に、脂肪族アミン類として、脂肪族１級アミン類又は脂肪族２級アミン類を用いることが好ましい。脂肪族１級アミン類として、プロピルアミン、ブチルアミン、オクチルアミン、ドデシルアミン、オクタデシルアミン等を用いることができるが、オレイルアミン、２−エチルヘキシルアミンを１種又は併用することが好ましい。変性エポキシ樹脂としたときの弱溶剤性能が向上するからである。脂肪族２級アミン類としては、ジエタノールアミン、ジイソプロパノールアミン等を用いることができる。好ましくは、ジエタノールアミンである。塗膜の高い耐食性が得られるからである。
【００２５】
ｃ）アミン系樹脂
本件出願における弱溶剤型ハイソリッド変性エポキシ樹脂塗料を構成するアミン系樹脂には、エポキシ樹脂硬化剤として使用できるアミン系化合物であれば特段の限定無く使用が可能である。このアミン系化合物は、脂肪族ポリアミン樹脂、脂肪族ポリアミド樹脂、芳香族ポリアミン樹脂等である。ここで言う脂肪族ポリアミンとは、アルキレンジアミン、ポリアルキレンポリアミン、脂環式ポリアミン、複素環式ポリアミン等である。これらの具体例を挙げるとエチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、１，３−ビス（アミノメチル）シクロヘキサン、１，４−ジアミノ３，６−ジエチルシクロヘキサン、１，４−ビス（３−アミノプロピル）ピペラジン等である。
【００２６】
脂肪族ポリアミド樹脂としては、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン等の脂肪族ポリアミンと、１価脂肪族カルボン酸（パルミチン酸、ステアリン酸、不飽和脂肪酸であるリノレイン酸、オレイン酸、リノール酸等）又は多価カルボン酸（エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ノルボルナンジアミン、１，３−ビス（アミノメチル）シクロヘキサン）とを反応させたものを用いることが好ましい。
【００２７】
ｄ）溶剤
本件出願における弱溶剤型ハイソリッド変性エポキシ樹脂塗料を構成する溶剤として、公知の種々の反応性希釈剤を用いることができる。具体的には、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリ（２−ヒドロキシプロピレン）グリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、１，４−シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル、１，３−ビス（３−グリシドキシプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、ブタンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ジグリシジルアニリン、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルまたはグリセリントリグリシジルエーテル等のグリシジル型反応性希釈剤又はグリシジルエーテル型反応性希釈剤を用いることができる。
【００２８】
ｅ）その他の成分
本件出願における弱溶剤型ハイソリッド変性エポキシ樹脂塗料には、必要に応じてバインダー樹脂としてキシレン樹脂、スチレン化フェノール樹脂、テルペン樹脂、テルペン化フェノール樹脂、アルキルフェノール樹脂等を含ませることが可能である。
【００２９】
また、本件出願における弱溶剤型ハイソリッド変性エポキシ樹脂塗料には、顔料を含有させることもできる。その含有量に限定は無く、塗膜の隠蔽性、塗料の粘性等を考慮して定めれば良い。顔料としては、公知のもの炭酸カルシウム、タルク、ホワイトカーボン、酸化チタン、黄鉛、ベンジジンエロー、赤口黄鉛、クロムバーミリオン、弁柄、パーマネントレッド、その他である。
【００３０】
２．マグネトロンスパッタリング装置に用いる希土類磁石
変性エポキシ樹脂被膜を備えた希土類磁石は、優れた耐食性を有するため、長期間にわたり磁石特性の低下を抑止することが出来る。希土類磁石の表面に備わる変性エポキシ樹脂被膜は、腐食の原因となる水や酸素等の侵入を阻止すると共に、高い電気抵抗により腐食反応を抑制することが出来る。また、希土類磁石をマグネトロンスパッタリング装置のカソードに用いる場合には、当該希土類磁石の磁石性能の低下を抑止すべく当該希土類磁石に直接接触させる冷却水の温度を上限５０℃程度に設定される。このときに、マグネトロンスパッタリング装置に用いる希土類磁石が変成エポキシ樹脂被膜を備えた場合には、当該希土類磁石に熱硬化性樹脂からなるエポキシ樹脂被膜を備えた場合に比べて耐食性に優れる。その理由として、熱硬化性樹脂からなるエポキシ樹脂被膜の場合、当該エポキシ樹脂の高分子化が進むことによりエポキシ樹脂被膜の硬化が進行して内部応力が高くなり、クラックの発生原因となることが挙げられる。更に、従来のように、マグネトロンスパッタリング装置に熱硬化性樹脂からなるエポキシ樹脂被膜を備えた希土類磁石を用いた場合には、エポキシ樹脂を硬化させるために高温で処理する必要がある。しかし、熱硬化性樹脂からなるエポキシ樹脂被膜を備えた希土類磁石を高温で処理すると、磁石特性が低下してしまうため、着磁前に被膜を形成しなければならず、製造工程上制約を受けることとなる。そして、変性エポキシ樹脂は、電気絶縁特性に優れることから、マグネトロンスパッタリング装置のカソードに用いる希土類磁石に変性エポキシ樹脂被膜を備えた場合にはスパッタ処理時に当該希土類磁石に直接高電圧が印加されることがなく、この点からも好適である。
【００３１】
また、本件発明に係る希土類磁石は、変性エポキシ樹脂被膜の厚みが１００μｍ〜１０００μｍであることが好ましい。ここで、変性エポキシ樹脂被膜の厚みが１００μｍ未満の場合には、被膜にピンホールやクラック等が生じると希土類磁石の耐食性が低下する傾向が現れる。従って、この場合には、形成した被膜によって得られる磁石の耐食性を長期間維持することができず、磁気特性が低下し、厳しい寸法精度が求められる精密部品に適用することは難しい。また、変性エポキシ樹脂被膜の厚みが１０００μｍを超えると、一定の希土類磁石の大きさに対する磁石体の大きさが相対的に小さくなり、十分な磁気特性が得られなくなるため好ましくない。以上を考慮すると、変性エポキシ樹脂被膜の厚みは２００μｍ以上１０００μｍ以下とすることがより好ましい。また、平面以外の凹凸部分に関しては、液のたまり等があり厚みが１０００μｍ以上になるが、性能上問題がないものと考える。以上に、変性エポキシ樹脂被膜の厚みに関して述べたが、上述した厚さの変性エポキシ樹脂被膜を形成する方法に関しては、特に限定されず、刷毛塗り法、浸漬法、スプレー法等を適宜採用することが出来る。
【００３２】
３．マグネトロンスパッタリング装置の構成概要
本件発明に係るマグネトロンスパッタリング装置は、成膜材料からなるターゲットの背面側に配置した希土類磁石を冷却水により直接冷却して用いるマグネトロンスパッタリング装置であり、当該希土類磁石として上述した変性エポキシ樹脂被膜を備えた希土類磁石を用いることを特徴とする。
【００３３】
ここで、マグネトロンスパッタリング装置とは、永久磁石（希土類磁石）を使用したマグネトロンによりターゲット表面側の空間に漏洩磁場を発生させ、この磁場と電場とを直交させてターゲット近傍に高密度プラズマを生成してターゲットに収束させるマグネトロンスパッタリングを行い、被処理板に成膜するものである。また、本件発明におけるターゲットは、成膜材料である銅、ニッケル、クロム等からなり、被処理板に対向するように配置がされることで、被処理板の表面に均一に被膜を形成することが出来る。以下に、マグネトロンスパッタリング装置の構成を示しつつ、本実施形態に係るマグネトロンスパッタリング装置について、図１及び図２を参照して説明する。
【００３４】
図１に示すマグネトロンスパッタリング装置１は、不活性ガスの雰囲気を有する真空容器２と、真空容器２内にワーク保持部（アノード）１２と、ワーク保持部１２に固定されるガラス、樹脂、金属等からなる被処理板１１に対向するように配置されて成膜材料からなるターゲット５と、ターゲット５の背面側に磁石特性の低下を招かない透磁性材料からなるベース体（ヨーク）１０に固着して配置された希土類磁石７，８と、希土類磁石７，８及びターゲット５を冷却するための冷却水（純水、水道水等）１７が収容される枠体（カソード）６と、枠体（カソード）６とワーク保持部（アノード）１２の間に所定の電力を印加する電源１８とを構成に含んでいる。図１に示すマグネトロンスパッタリング装置１では、希土類磁石７，８のみならず、ターゲット５も冷却水１７に直接接触して配置されるが、これは温度上昇に伴うターゲット５の変形や割れが生じるのを防ぐ等の理由によるものである。そして、枠体（カソード）６内の冷却水１７は、給水管１６を介して導入されると共に、排水管１５を介して温められた水が排出される。
【００３５】
そして、希土類磁石７，８は、ベース体（ヨーク）１０の中央付近に配置した第１希土類磁石７と第１希土類磁石７を取り囲んでベース体（ヨーク）１０の外周付近に配置する第２希土類磁石８とを収容した導電性材料からなる枠体（カソード）６とを有する。ここで、第１希土類磁石７と第２希土類磁石８とは、異なる磁極がターゲット５に向けられることによって磁気回路を形成し、ターゲット５の表面に磁界が形成される。なお、図２には、本実施形態に係る希土類磁石７，８の配置パターンを示すが、本件発明における希土類磁石７，８の配置パターンはこれに限定されない。例えば、第２希土類磁石８を環状としてベース体（ヨーク）１０の外周に配置すると共に、第１希土類磁石７をベース体（ヨーク）１０の中央付近に単一で配置することも出来る。
【００３６】
また、本件発明に係るマグネトロンスパッタリング装置は、ベース体（ヨーク）１０の略中心に接続された回転軸１４を軸として希土類磁石７，８を回転させるモータ１３を備えても良い。このときに、希土類磁石７，８の配置パターンを、図２に示すものとは異なり、ベース体（ヨーク）１０の回転軸１４を通る線に対して非対象とすることで、ターゲット５上におけるエロージョン拡大効果が得られ、ターゲット５の使用効率を高めることが可能となる。
【００３７】
そして、本実施形態に係るマグネトロンスパッタリング装置は、電源１８により枠体（カソード）６とワーク保持部（アノード）１２の間に所定の電力が印加されることにより、枠体（カソード）６とワーク保持部（アノード）１２との間にグロー放電が生じ、真空容器２内にプラズマが発生する。発生したプラズマは、第１希土類磁石７と第２希土類磁石８とによって形成される磁気回路からの磁界によってターゲット５の表面上に収束して高密度領域を形成する。そして、このプラズマ中の正イオンは陰極である枠体（カソード）６側に引き寄せられ、枠体（カソード）６上に配置されたターゲット５の表面に衝突する。この衝突によりターゲット５の原子がはじき出され、ワーク保持部（アノード）１２に保持されている被処理板１１の表面に堆積させることで、被処理板１１の表面に所定の薄膜が成膜される。
【００３８】
上述したように、本件発明の一実施形態におけるマグネトロンスパッタリング装置１は、成膜材料からなるターゲット５の背面側に配置した希土類磁石７，８を冷却水１７により直接冷却するものである。これは、マグネトロンスパッタリング装置１では、スパッタリング中にマグネトロンにおける希土類磁石７，８が好適な動作温度の上限である５０℃を超える高温となり、これを放置すると熱振動による磁気モーメントの揺らぎや反転により磁力低下を来し、スパッタ処理速度が低下するためである。このように、希土類磁石７，８は、常時環流する冷却水と直接接触しているので、経時的に希土類磁石７，８の表面が腐食し、更にこれが進行する傾向を呈する。特に、希土類磁石７，８として焼結体であるネオジム磁石を用いると、粒界腐食により磁石体から錆に起因する鉄分等の腐食残渣が冷却水環流用の管体の内壁面に付着して、冷却水１７の環流を阻害する。その結果、冷却水の供給量低下による磁力低下を来すと共に、スパッタリング効果の低下を派生させてしまう。しかし、本件発明に係るマグネトロンスパッタ装置１では、変性エポキシ樹脂被膜を備えた希土類磁石を用いることで、従来よりも上述した問題が生じ難くなる。
【００３９】
以上に、本件発明に係るマグネトロンスパッタ装置について説明したが、以下に本件発明の実施例を示し、本件発明をより詳細に説明する。なお、本件発明はこれらの例により何ら限定されるものではない。
【実施例１】
【００４０】
実施例１では、変性エポキシ樹脂被膜を備えた希土類磁石（ネオジム磁石１８Ｎｄ−７６Ｆｅ−６Ｂ）の耐食特性について確認を行った。
【００４１】
実施例１で用いる希土類磁石は、３０ｍｍ×４０ｍｍ×５ｍｍの立方体形状とし、イソプロピルアルコールにて脱脂洗浄を行った後に、冷却水を接触させる面に弱溶剤型ハイソリッド変性エポキシ樹脂塗料（大日本塗料（株）製、商品名「エポオール＃６５」）を被覆した。実施例１の希土類磁石が備える変性エポキシ樹脂被膜は、スプレー２回塗りで形成し、被膜厚さ２００μｍとした。
【００４２】
そして、実施例１で用いる希土類磁石の耐食性評価については、当該希土類磁石を、５％塩酸、５％水酸化ナトリウム、飽和食塩水、水道水のそれぞれに浸漬し、１５０ｈｒ、２５０ｈｒ、７５０ｈｒ、１５００ｈｒ経過毎の腐食の状態を外観目視にて確認して行った。ここで、評価方法としては、表面全体の面積に対して錆の発生面積が５％未満を「○」、表面全体の面積に対して錆の発生面積が５％以上又は被覆に膨れや消失等の外観上の不具合が生じた場合を「×」とした。実施例１で行った評価結果を表１に示す。表１に示す結果から、実施例１の希土類磁石では、どの条件においても発錆せず、被覆に外観上の不具合も見られず、優れた耐食性を示すことが確認された。
【比較例】
【００４３】
［比較例１］
比較例１では、常温亜鉛めっき被膜を備えた希土類磁石（ネオジム磁石１８Ｎｄ−７６Ｆｅ−６Ｂ）の耐食特性について確認を行った。比較例１で用いる希土類磁石は、実施例１で用いた希土類磁石と同じ大きさとし、実施例１と同様の前処理を行った後に、冷却水を接触させる面に、常温亜鉛めっき塗料（ローバル社製、製品名「エポローバル」）を被覆した。比較例１の希土類磁石が備える常温亜鉛めっき被膜の形成方法としては、スプレー２回塗りで被膜厚さ２００μｍとした。
【００４４】
そして、比較例１で用いる希土類磁石の耐食性評価は、実施例１と同じ基準で評価を行った。比較例１で行った評価結果を表１に示す。表１に示す結果から、比較例１の希土類磁石は、５％塩酸を用いた場合には２５０時間経過後に被膜に膨れが生じ、７５０時間経過後に発錆が確認された。また、５％水酸化ナトリウムを用いた場合には１５０時間経過後に発錆が確認され、２５０時間経過後に著しい腐食が確認された。
【００４５】
［比較例２］
比較例２では、プロペラ用防汚被膜を備えた希土類磁石（ネオジム磁石１８Ｎｄ−７６Ｆｅ−６Ｂ）の耐食特性について確認を行った。比較例２で用いる希土類磁石は、実施例１で用いた希土類磁石と同じ大きさとし、実施例１と同様の前処理を行った後に、冷却水を接触させる面に、防汚塗料（中国塗料（株）製、製品名「ペラクリン」）を被覆した。比較例２の希土類磁石が備えるプロペラ用防汚被膜の形成方法としては、スプレー２回塗りで被膜厚さ２００μｍとした。
【００４６】
そして、比較例２で用いる希土類磁石の耐食性評価は、実施例１と同じ基準で評価を行った。比較例２で行った評価結果を表１に示す。表１に示す結果から、比較例２の希土類磁石は、５％塩酸を用いた場合には１５０時間経過後に溶出が確認された。また、５％水酸化ナトリウムを用いた場合には７５０時間経過後に塗料の消失が確認された。また、飽和食塩水を用いた場合には７５０時間経過後に発錆が確認された。
【００４７】
［比較例３］
比較例３では、エポキシ樹脂被膜を備えた希土類磁石（ネオジム磁石１８Ｎｄ−７６Ｆｅ−６Ｂ）の耐食特性について確認を行った。比較例３で用いる希土類磁石は、実施例１で用いた希土類磁石と同じ大きさとし、実施例１と同様の前処理を行った後に、冷却水を接触させる面に、エポキシ樹脂塗料（中国塗料（株）製、製品名「バンノー５００」）を被覆した。比較例３の希土類磁石が備えるエポキシ樹脂被膜の形成方法としては、スプレー２回塗りで被膜厚さ２００μｍとした。
【００４８】
そして、比較例３で用いる希土類磁石の耐食性評価は、実施例１と同じ基準で評価を行った。比較例３で行った評価結果を表１に示す。表１に示す結果から、比較例３の希土類磁石は、５％塩酸を用いた場合には７５０時間経過後に発錆が確認された。また、飽和食塩水を用いた場合には７５０時間経過後に発錆が確認された。
【００４９】
【表１】
0006639197.tif 000002
【００５０】
以上の結果より、変性エポキシ樹脂の被膜を備えた希土類磁石は、従来用いられている被膜を備えた希土類磁石と比較して優れた耐食性を示すことが確認された。
【産業上の利用可能性】
【００５１】
本件発明に係る希土類磁石は、実用上十分な程度に耐食性に優れているため、水中に配置されて使用される、例えばマグネトロンスパッタリング装置に好適に用いることが可能である。
【符号の説明】
【００５２】
１……マグネトロンスパッタリング装置
２……真空容器
３……ガス注入口
４……排気口
５……ターゲット
６……枠体（カソード）
７……第１希土類磁石
８……第２希土類磁石
９……変性エポキシ樹脂被膜
１０……ベース体（ヨーク）
１１……被処理板
１２……ワーク保持部（アノード）
１３……モータ
１４……回転軸
１５……排水管
１６……給水管
１７……冷却水
１８……電源
【図１】
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【図２】
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