(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ミラーを検査するための検査装置であって、該検査装置は計算機合成ホログラム（ＣＧＨ）を備え、参照波と前記計算機合成ホログラムにより前記ミラーに指向されるテスト波との干渉重畳によって、前記ミラーの少なくとも一部分で検査を実行し、
前記計算機合成ホログラム（ＣＧＨ）（１２０，３２０）は、前記装置の作動中に、前記ミラー（１０１，３０１）の第１の位置において、参照波との干渉重畳により前記ミラー（１０１，３０１）の第１の部分を検査するための第１のテスト波を与え、かつ、前記ミラー（１０１，３０１）の第２の位置において、参照波との干渉重畳により前記ミラー（１０１，３０１）の前記第１の部分と異なる第２の部分を検査するための前記第１のテスト波と異なる少なくとも第２のテスト波を与えるように設計され、
前記計算機合成ホログラム（ＣＧＨ）（１２０，３２０）は、第１の複素エンコード計算機合成ホログラム（ＣＧＨ）構造および第２の複素エンコード計算機合成ホログラム（ＣＧＨ）構造を有し、前記第１の複素エンコード計算機合成ホログラム（ＣＧＨ）構造は、前記第１のテスト波を与え、前記第２の複素エンコード計算機合成ホログラム（ＣＧＨ）構造は、前記第２のテスト波を与えることを特徴とする、検査装置。
【請求項２】
前記計算機合成ホログラム（ＣＧＨ）（１２０，３２０）は、前記第１のテスト波および前記第２のテスト波の各強度が２０％以下しか互いに異ならないようにさらに設計されることを特徴とする、請求項１に記載の検査装置。
【請求項３】
前記計算機合成ホログラム（ＣＧＨ）（１２０，３２０）は、較正ミラー（３０２，３０３，３０４）で反射した後に参照波と干渉重畳させるための少なくとも１つの較正波を前記装置の作動中に与えるようにさらに設計されることを特徴とする、請求項１または２に記載の検査装置。
【請求項４】
前記計算機合成ホログラム（ＣＧＨ）（１２０，３２０）は、互いに異なる較正ミラー（３０２，３０３，３０４）で反射した後に参照波と干渉重畳させるための少なくとも２つの較正波を前記装置の作動中に与えるようにさらに設計されることを特徴とする、請求項３に記載の検査装置。
【請求項５】
ミラーを検査するための方法であって、前記方法は、
参照波と前記ミラー（１０１，３０１）にて反射する第１のテスト波との間の第１のインターフェログラムを記録するステップと、
前記第１のテスト波と異なり、参照波と前記ミラー（１０１，３０１）にて反射する第２のテスト波との間の第２のインターフェログラムを記録するステップと、
を有し、
前記第１のテスト波および前記第２のテスト波は、同じ計算機合成ホログラム（ＣＧＨ）（１２０，３２０）によって前記ミラー（１０１，３０１）に指向され、
前記ミラー（１０１，３０１）の位置が、前記第１のインターフェログラムを記録するステップと前記第２のインターフェログラムを記録するステップとの間に修正される、方法であって、
前記第１のテスト波は、前記ミラーの第１の部分にて反射され、前記第２のテスト波は、前記ミラーのうち前記第１の部分とは異なる第２の部分にて反射され、
前記計算機合成ホログラム（ＣＧＨ）（１２０，３２０）は、第１の複素エンコード計算機合成ホログラム（ＣＧＨ）構造および第２の複素エンコード計算機合成ホログラム（ＣＧＨ）構造を有し、前記第１の複素エンコード計算機合成ホログラム（ＣＧＨ）構造は、前記第１のテスト波を与え、前記第２の複素エンコード計算機合成ホログラム（ＣＧＨ）構造は、前記第２のテスト波を与えることを特徴とする、方法。
【請求項６】
前記ミラーの前記位置の修正は、異なるミラー領域を検査するために、前記第１のインターフェログラムを記録するステップと前記第２のインターフェログラムを記録するステップとの間に、前記ミラーを変位させる、及び／又は前記ミラーを所定の軸の周りに回転させることを含むことを特徴とする、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記計算機合成ホログラム（ＣＧＨ）（１２０，３２０）は、前記第１のインターフェログラムを記録するステップ中に、及び前記第２のインターフェログラムを記録するステップ中に、同じ位置に留まることを特徴とする、請求項５または６に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【関連出願の相互参照】
【０００１】
本願は、２０１５年２月１３日出願の独国特許出願ＤＥ  １０  ２０１５  ２０２  ６９５．７の優先権の利益を主張する。参照により、この独国特許出願の内容を本願に援用する。
【技術分野】
【０００２】
本発明は、ミラー、特にマイクロリソグラフィ投影露光装置のミラーを検査するための検査装置および検査方法に関する。
【背景技術】
【０００３】
マイクロリソグラフィは、例えば集積回路又はＬＣＤ等の微細構造コンポーネントの製造に用いられる。マイクロリソグラフィプロセスは、照明デバイス及び投影レンズを有するいわゆる投影露光装置内で実行される。この場合、投影レンズによって、感光層（フォトレジスト）で被覆され、かつ投影レンズの像平面に配置された基板（例えば、シリコンウェーハ）に、照明デバイスにより照明されたマスク（レチクル）の像を投影することで、マスク構造を基板の感光コーティングに転写する。
【０００４】
ＥＵＶ領域用に、すなわち、例えば、約１３ｎｍ又は約７ｎｍの波長にて設計された投影レンズでは、適当な透光性の屈折材料を利用することができないので、結像プロセス用の光学コンポーネントとしてミラーを用いる。米国特許第７，５３８，８５６号明細書にて既知のようにＥＵＶ用に設計された典型的な投影レンズは、例えば、０．２〜０．３の像側開口数（ＮＡ）を有し、（例えば、リングセグメント形状の）物体視野を像平面またはウェーハ平面に結像することができる。
【０００５】
ここで、特に、斜入射で動作するミラーも既知である。（例えば、８０％以上の）比較的高い達成可能反射率を考慮して主に使用することが望まれる、斜入射で動作するこのようなミラーは、例えば、ＥＵＶ放射線の反射中に生じ、各面法線に対する反射角が少なくとも６５°であるミラーを意味すると理解されたい。このようなミラーは、ＧＩ（Ｇrazing Incidence）ミラーとも称される。
【０００６】
像側開口数（ＮＡ）の増大やＧＩミラーを用いた配置の実現により、典型的には、投影露光装置内で使用するミラーのうち所要のミラー領域が拡大してしまう。
【０００７】
特に、計算機合成ホログラム（ＣＧＨ：computer-generated holograms）は、ミラーの高精度な検査用として知られている。
【０００８】
まず、図５は、ミラー５０１を検査するための従来の干渉検査装置の可能な機能原理を説明する概略図を示す。
【０００９】
図５によれば、参照面５１０（「フィゾー板」）で反射される参照光（参照波）とミラー５０１で反射される測定光（テスト波）との間のインターフェログラムがフィゾー配置で生成される。ここで、測定光から、計算機合成ホログラム（ＣＧＨ）５２０によって、所期の距離における「検査対象物形態」（すなわち、関連ミラー５０１の形態）に数学的に厳密に対応する非球面波形が形成される。第１に、参照面５１０によって反射され、第２に関連ミラー５０１または検査対象物によって反射された波面は、コリメータ５０９、ビームスプリッタ板５０８、絞り５０７、接眼レンズ５０６、及びＣＣＤカメラ５０４、並びに図６に示す干渉計５０５用の光源５０３を有する干渉計５０５（図６では、その全体な設計に関して概略的に示す）にて互いに干渉する。各ミラーのインターフェログラムは、ＣＣＤカメラ５０４によって記録される。
【００１０】
ミラー、特にＧＩミラーまたは凹面ミラーの寸法を大きくすることで生じる問題は、 典型的なＣＧＨの寸法は、例えば６インチ（＝１５．２４ｃｍ）又は９インチ（＝２２．８６ｃｍ）であり、これよりはるかに大きなＣＧＨの実現には限界があるということである。この点に関して、必要となるＣＧＨの寸法を減少するために、異なり、連続するセットのミラー位置に対して複数のＣＧＨを使用することが可能であるが、この場合、さらなる実施上の問題が生じ、特に、全体の検査に必要となる時間が長くなるという問題や上記異なるミラー領域に対して得られた測定結果を正確に結合する必要もあるという問題が生じる。
【００１１】
さらに、同一のミラーを検査するために複数のＣＧＨを使用する場合、ＣＧＨに典型的に存在する製造誤差と検査の範囲内で探知されるミラー誤差とを確実に区別することがますます困難になり、その結果、検査の精度が減じることがわかった。複数のＣＧＨを使用する場合、ＣＧＨとミラーとの調整（すなわち、距離と相対配向）に関する相対的な自由度から、さらなる困難が生じる。
【００１２】
さらに、いわゆる複素エンコードＣＧＨによるミラー検査において、ＣＧＨの較正が行われることが知られており、そこでは、実際の検査に必要となる「使用機能（use functionality）」（すなわち、検査対象物形態に数学的に対応する波面を形成するためにミラー形態に応じて設計されるＣＧＨ構造）に加えて、較正または誤差補正用の参照波面を与えるために、少なくとも１つのさらなる「較正機能（calibration functionality）」が、同一のＣＧＨにて、同じ位置でエンコードされる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１３】
【特許文献１】米国特許第７，９３６，５２１号明細書
【特許文献２】米国特許第８，０８９，６３４号明細書
【非特許文献】
【００１４】
【非特許文献１】Beyerlein, M.; Lindlein, N.; Schwider, J.: “Dual-wave-front computer-generated holograms for quasi-absolute testing of aspherics”, Appl. Opt. (USA) 41, page 2440 (2002)
【発明の概要】
【００１５】
上述した背景技術に対して、本発明では、比較的大きなミラー表面を確実に検査することを容易にするとともに、上述した問題を少なくとも部分的に回避するミラー検査用の検査装置および検査方法を提供することを目的とする。
【００１６】
この目的は、独立項の特徴により達成される。
【００１７】
ミラー、特にマイクロリソグラフィ投影露光装置のミラーを検査するための本発明による検査装置では、検査装置は計算機合成ホログラム（ＣＧＨ）を備え、参照波と計算機合成ホログラムによりミラーの上に指向されるテスト波との干渉重畳によって、ミラーの少なくとも一部分で検査を実行し、 計算機合成ホログラム（ＣＧＨ）（１２０，３２０）は、装置の作動中に、ミラーの第１の位置において、参照波との干渉重畳によりミラーの第１の部分を検査するための第１のテスト波を与え、かつ、ミラーの第２の位置において、参照波との干渉重畳によりミラーの第２の部分を検査するための少なくとも第２のテスト波を与えるように設計される。
【００１８】
特に、本発明は、ミラー検査用に使用される同一のＣＧＨ内で、複数の「使用機能」を結合させるという概念に基づいており、上記使用機能は、それぞれ測定対象のミラー上の異なる形状領域（すなわち、各検査配置にあるミラー又は検査対象物の異なる測定位置）に割り当てられる。その際、「使用機能」という用語は、本段落および以下では、それぞれ、特定の領域における「検査対象物形態」または検査対象のミラーの特定の部分に対応し、それ故、ミラーのこの領域の干渉検査に適する各波面を形成する（例えば、空間的に変化するライン格子の形態での）ＣＧＨ構造を意味すると理解されたい。
【００１９】
ここで、同一のＣＧＨにおいて上述した使用機能を結合することは、複素エンコードの概念を用いて実現することができ、これ自体は既知であるが、導入部分にて既述した従来の複素エンコードＣＧＨに対して、本発明によれば、複数の異なる使用機能が、（同一のミラー領域を検査する際の較正目的だけではなく）異なるミラー領域のために使用される。
【００２０】
換言すれば、本発明によれば、検査対象のミラーのＣＧＨに対する位置に応じて、テスト波は、ミラー表面の第１の領域（例えば、「ミラーの左部分」）のために使用され、あるいは、テスト波は、ミラー表面の第２の領域（例えば、「ミラーの右部分」）のために使用され、これら２つのテスト波は、適切な方法で複素エンコードされたＣＧＨによって正確に与えられる。
【００２１】
本発明によれば、検査対象のミラーのうち異なる形状領域に割り当てられる複数の使用機能を同一のＣＧＨにて結合するので、 大きな凹面ミラー又は大きなＧＩミラーの場合でも、ＣＧＨを交換することなく、関連ミラー又は検査対象物を移動させるだけで、ＣＧＨの位置を変化させないままで検査を実現することができ、その結果、重複領域において、異なるミラー領域に対して得られ、各使用機能に割り当てられる測定結果は、検査対象物の調整に関する自由度だけしか相違しない。
【００２２】
特に、本発明は、比較的大きなミラー表面を検査する場合でも、たった１つのＣＧＨしか必要とせず、さらにこのＣＧＨは同じ位置に留まるという利点を有し、その結果、検査配置の範囲内で異なるミラー位置に対して繰り返してＣＧＨを調整することが省略される。
【００２３】
さらなる利点は、比較的大きなミラー表面を検査するのに必要となる時間をかなり減少させることができることであり、この利点は、ＣＧＨの交換、調整ステップなど、これに付随する従来のプロセスを省略することができることから直接生じるものである。
【００２４】
本発明の実施形態では、第２のテスト波は、第１のテスト波とは異なる。さらに、ミラーは、ミラーの第２の部分が対称操作によって（例えば、ミラーに回転対称性が存在する場合）ミラーの第１の部分から生じないように構成することができる。従って、計算機合成ホログラム（ＣＧＨ）によって、異なるテスト波が互いに異なる表面領域またはミラー表面に与えられ、この表面領域またはミラー表面には、これらのテスト波のうちの１つがそれぞれ割り当てられるので、本発明によれば、固有の対称性を有しない自由形状のミラー表面を検査することが容易になる。
【００２５】
一実施形態によれば、第１のテスト波および第２のテスト波を与えるための計算機合成ホログラム（ＣＧＨ）は、互いに異なる複素エンコードＣＧＨ構造を有する。
【００２６】
一実施形態によれば、計算機合成ホログラム（ＣＧＨ）は、第１のテスト波および第２のテスト波の各強度が２０％以下、特に１０％以下しか互いに異ならないようにさらに設計される。
【００２７】
一実施形態によれば、計算機合成ホログラム（ＣＧＨ）は、較正ミラーで反射した後に参照波と干渉重畳させるための少なくとも１つの較正波を装置の作動中に与えるようにさらに設計される。
【００２８】
一実施形態では、計算機合成ホログラム（ＣＧＨ）は、互いに異なる較正ミラーで反射した後に参照波と干渉重畳させるための少なくとも２つの較正波、特に少なくとも３つの較正波を装置の作動中に与えるようにさらに設計される。
【００２９】
本発明は、さらに、ミラー、特にマイクロリソグラフィ投影露光装置のミラーを検査するための方法に関し、この方法は、
参照波とミラーにて反射する第１のテスト波との間の第１のインターフェログラムを記録するステップと、
参照波とミラーにて反射する第２のテスト波との間の第２のインターフェログラムを記録するステップと、
を有し、
第１のテスト波および第２のテスト波は、同じ計算機合成ホログラム（ＣＧＨ）によってミラーに指向され、
ミラーの位置が、第１のインターフェログラムを記録するステップと第２のインターフェログラムを記録するステップとの間に修正される。
【００３０】
一実施形態によれば、第１のテスト波は、ミラーの第１の部分にて反射され、第２のテスト波は、ミラーのうち第１の部分とは異なる第２の部分にて反射される。
【００３１】
一実施形態によれば、ミラーが、第１のインターフェログラムを記録するステップと第２のインターフェログラムを記録するステップとの間に、所定の軸（例えば、用途に応じて、重力軸）の周りに変位する、及び／又はねじれる。
【００３２】
一実施形態では、計算機合成ホログラム（ＣＧＨ）は、第１のインターフェログラムを記録するステップ中に、及び第２のインターフェログラムを記録するステップ中に、同じ位置に留まる。
【００３３】
本発明のさらなる構成は、詳細な説明および従属項から寄せ集めることができる。
【００３４】
以下、添付の図面に示される例示的な実施形態に基づいて、本発明を詳細に説明する。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】本発明の例示的な実施形態を説明する概略図である。
【図２】本発明の例示的な実施形態を説明する概略図である。
【図３】本発明の例示的な実施形態を説明する概略図である。
【図４】本発明の例示的な実施形態を説明する概略図である。
【図５】ミラーの検査用の干渉検査装置の従来の機能原理を説明する概略図である。
【図６】ミラーの検査用の干渉検査装置の従来の機能原理を説明する概略図である。
【図７】ＥＵＶでの動作用に設計された投影露光装置の概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００３６】
最初に、図７は、ＥＵＶでの動作用に設計された、本発明による方法によって検査可能なミラーを備える例示的な投影露光装置の概略図を示す。
【００３７】
図７に示すように、ＥＵＶ用に設計された投影露光装置１０の照明デバイスは、視野ファセットミラー３及び瞳ファセットミラー４を備える。プラズマ光源１とコレクタミラー２を含む光源ユニットからの光は、視野ファセットミラー３へ指向される。第１の望遠鏡ミラー５及び第２の望遠鏡ミラー６が、瞳ファセットミラー４の下流の光路に配置される。偏向ミラー７が光路の下流に配置され、上記偏向ミラーは、これに入射する放射線を６個のミラー２１〜２６を含む投影レンズの物体平面の物体視野に指向させる。反射構造担持マスク３１がマスクステージ３０上の物体視野の位置に配置され、上記マスクは、投影レンズを用いて像平面に結像され、像平面には、感光層（フォトレジスト）で被覆された基板４１がウェーハステージ４０上に位置する。
【００３８】
本発明の範囲内で検査されるミラーは、例えば、投影露光装置１０における任意のミラーとすることができ、例として投影レンズのミラー２１，２２、あるいは照明デバイスのミラー７とすることができる。
【００３９】
まず、図１及び図２の概略図を参照して、本発明の基礎をなす原理を以下では詳細に説明する。
【００４０】
図５に基づいて既述したフィゾー配置に続き、図１は、最初に、参照面１１０（「フィゾー板」）で反射される参照光と検査対象物のミラー１０１で反射される測定光とを用いたミラー１０１の検査を説明する概略図である。ここで、測定光は、所期の距離における「検査形態」（すなわち、関連ミラー１０１の形態）に数学的に厳密に対応する波面を作るように、計算機合成ホログラム（ＣＧＨ）１２０によって形成される。第１に、参照面１１０で反射される波面は、第２に、対応するミラー１０１、すなわち検査対象物によって、干渉計１０５にて互いに干渉し、図６に基づいて既述のように、例えば全体構造を有することができる。
【００４１】
本発明によれば、ミラー１０１は、検査対象のミラー１０１のミラー表面全体に対して同一のＣＧＨ１２０を用いて検査され、そのためミラー１０１は（図１の二重矢印で示すように）検査装置内の異なる位置を移動する。図１では、単に概略的に、２つの異なる位置を「Ａ」及び「Ｂ」として示してある。
【００４２】
各場合において、（想定する大きなミラー表面の観点から）ミラー表面全体のうちの一部分のみが、これらの異なるミラー位置「Ａ」及び「Ｂ」にて検査装置内で検査され、ＣＧＨ１２０は、図２に示す概略図に準拠して、この検査用に複数の異なるＣＧＨ構造または使用機能を備える。図２に示すように、これらのＣＧＨ構造または使用機能は、典型的には、異なる方向または格子周期を有する（局所的に変化する）ライン格子とすることができる。
【００４３】
換言すれば、ＣＧＨ１２０は、第１のミラー領域（ミラー１０１が位置「Ａ」にある場合）を検査するために適切な第１のＣＧＨ構造または使用機能、及び第２のミラー領域（ミラー１０１の位置「Ｂ」に対応）を検査するために適切なＣＧＨ構造または使用機能の両方を有する。
【００４４】
これらのＣＧＨ構造または使用機能は、既知の複素エンコード法によってＣＧＨ１２０にて実現される。ここで、各ＣＧＨ構造またはライン格子は、（振幅および位相を有する）位相関数によってそれぞれ記述することができ、関連項を任意の異なる重みで追加することができる。このようにして、同様に二値化される複素関数が生じ、これによって例えば図２の右部分のＣＧＨ上の特定の点に対して単に概略的に記述されるＣＧＨ１２０の構造が結果として得られる。
【００４５】
ここで、特に、図２の右部分に概略的に示す関連する結果として生じるＣＧＨ１２０の全体構造は、既述の複素エンコードの結果として、同一の検査対象物、すなわちミラーに対して与えられた多数のテスト波によって区別され、これらのテスト波は、ミラーのうち互いに異なる部分に割り当てられる。すなわち、同一のＣＧＨ１２０を用いる場合でも、ＣＧＨ１２０に対してミラー１０１を変位させることによって、それぞれの部分から結合される比較的大きなミラー表面さえも干渉検査することが容易になる。
【００４６】
以下の表１ａ及び表１ｂでは、上述した個々のＣＧＨ構造の考えられる重みに対する例示的な実施形態を明示する。
【００４７】
表１ａ及び表１ｂのそれぞれの場合からわかるように、使用機能（すなわち、ミラー１０１の異なる部分を検査するためのＣＧＨ構造）のうち（「格子１」及び「格子２」と称する）ライン格子は、ここでは（「格子３」〜「格子５」と称する）較正機能に比べて比較的強く重み付けられ、さらに、２つの使用機能、すなわち「格子１」と「格子２」の互いに対する重みは一致している（あるいは、さらなる実施形態において、それぞれをより強く重み付ける点では、互いにほんのわずか、例えば２０％未満、特に１０％未満だけしかずれない）。例示的な実施形態（表１ａ及び表１ｂにおける格子３、格子４、及び格子５）では、上述した２つの使用機能またはＣＧＨ構造に加えて、さらなる（使用あるいは較正）機能がＣＧＨ１２０上でエンコードされる。
【００４８】
【表１ａ】
0006742322.tif 000002
【００４９】
【表１ｂ】
0006742322.tif 000003
【００５０】
図２の例示的な実施形態では、ＣＧＨ１２０は、複素エンコードの結果、全部で５つの異なる機能、すなわちＣＧＨ構造を有しており、単に例示的な方法で、これらのＣＧＨ構造のうち２つは、（ミラー１０１を、図１に基づいて説明したミラー位置「Ａ」及び「Ｂ」に位置付けする際）異なるミラー領域を検査するために用いられ、残りの３つのＣＧＨ構造は、較正機能として用いることができる。
【００５１】
図３は、これを示す概略図であり、図１に対して類似するか、又は実質的に同じ機能を有する構成要素は、「２００」を足した参照符号で示す。図３による検査装置は、全部で３つの較正ミラー３０２、３０３、３０４を有しており、これらのそれぞれには、ＣＧＨ３２０のうち上述した較正機能の１つが割り当てられる。既述のように、ミラー３０１は、異なるミラー領域を検査するために、（図３の二重矢印によって示すように）検査装置内の異なる位置を移動し、それぞれのミラー領域に応じて設計され、又はそれぞれのミラー領域に割り当てられるＣＧＨ３２０のうち使用機能は、検査のために使用される。
【００５２】
本発明のさらなる態様によれば、同一のＣＧＨを用いて（そして、このＣＧＨに対してミラー位置を移動させるか、あるいは変位させて）ミラーを検査することにより、検査結果から望まれない外乱反射（disturbing reflections）の影響を減らす、又はかなり取り除くこともできる。このような外乱反射は、典型的には、各ＣＧＨ構造での回折によってミラー表面に衝突し、当該ミラー表面によって反射される所望のテスト波に加えて、検査中に望まれない高次回折も、ランダムに、あるいはＣＧＨ構造内の不可避的誤差に起因して、ミラー表面での反射後に所望のテスト波と同様に同じ経路を戻り、当該高次回折も同様に生成するインターフェログラムに寄与し得るという事実の結果生じる。
【００５３】
ここで、この問題を克服するために、又は減らすために、本発明によれば、例えば、互いに対して回転した又はわずかに変位した２つのミラー位置に対して、同一のＣＧＨを用いて干渉測定を実行することが可能であり、図４に示すように、２つの得られたインターフェログラム４５０、４６０の「ＯＲ演算」が続いて実行され、その結果、このＯＲ演算によって生じる分布４７０には、外乱反射（「まだら模様」）の影響が少なくとも大部分で存在しない。
【００５４】
従って、上述した例示的な実施形態では、ＣＧＨに対する２つの異なるミラー位置と併せて同一のＣＧＨを応用として有利に使用することもでき、そこでは、サイズや設計がどのようなものであっても、たった１つのステップで（すなわち、ミラーの異なる部分に対して部分的なステップなしで）ＣＧＨによってミラー表面全体を直接検査することが容易になる。
【００５５】
複数の使用機能を有するＣＧＨを複素エンコードする本発明によるさらなる有利な面は、ＣＧＨ上の同一の位置に異なる使用機能をエンコードすることができ、又は異なるライン格子を書き込むことができることを利用して、（例えば、図２に示すような）ＣＧＨにより（固有の対称性を有しない）自由形状のミラー表面を検査することが容易になるということである。
【００５６】
本発明によって与えられる、ＣＧＨの同一の位置上の少なくとも２つの使用機能は、ミラーの異なる部分を測定する替わりに、異なるミラー形状の測定にもさらに使用することができ、この場合、個々の使用機能またはＣＧＨ構造は、この場合における同一のミラーの異なる部分に割り当てられるのではなく、異なるミラーに割り当てられる。
【００５７】
さらに、少なくとも２つの使用機能をＣＧＨの表面全体に与える必要はなく、従って、使用機能がそれぞれの場合においてＣＧＨの一部分に書き込まれるだけの場合もある。この場合、任意に存在してよい較正機能は、使用機能のそれぞれの部分を含まなければならない。
【００５８】
さらに、本発明は、上述の実施形態に対応する特定数の使用機能または特定数の較正機能に制限されず、従って、特に、それぞれの場合においてミラーの複数の部分の１つに割り当てることができる３つ以上の使用機能またはＣＧＨ構造も可能である。
【００５９】
本発明を特定の実施形態に基づいて説明してきたが、例えば、個々の実施形態の特徴の組合せ及び／又は交換によって、多くの変形形態および代替実施形態が可能であることは当業者に明らかである。従って、そのような変形形態および代替実施形態が本発明に付随して包含されるのは当業者には言うまでもなく、本発明の範囲は、添付の特許請求の範囲およびその等価物の意味の範囲内でのみ制限される。
【図１】
0006742322.tif 000004
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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