(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１方向に間隔を空けて並ぶ第１、第２、および第３カラーフィルタと、
前記第１方向で前記第１カラーフィルタと隣り合う第４カラーフィルタと、
前記第１方向で前記第２カラーフィルタと隣り合う第５カラーフィルタと、
前記第１方向で前記第３カラーフィルタと隣り合う第６カラーフィルタと、
前記第１カラーフィルタと前記第４カラーフィルタとの第１境界部と、
前記第２カラーフィルタと前記第５カラーフィルタとの第２境界部と、
前記第３カラーフィルタと前記第６カラーフィルタとの第３境界部と、
前記第１乃至第６カラーフィルタと対向する第１絶縁層と、
前記第１絶縁層の前記第１カラーフィルタと対向する側に位置する第１共通電極と、
前記第１境界部に沿った第１スリットと、
前記第１絶縁層の前記第２乃至第６カラーフィルタと対向する側に位置し、前記第１スリットを介して前記第１共通電極と隣り合う第２共通電極と、
前記第１乃至第２共通電極の前記第１乃至第６カラーフィルタと対向する側に位置する第２絶縁層と、
前記第２境界部に沿って配置され前記第２共通電極と接触する第１金属配線と、を備え、
前記第１境界部に対応する位置では、前記第１絶縁層と前記第２絶縁層とが互いに接触し、
前記第２境界部に対応する位置では、前記第２共通電極が、前記第１および第２絶縁層のいずれか一方と接触し、
前記第３境界部に対応する位置では、前記第２共通電極は、前記第１および第２絶縁層の両方と接触し、
前記第１乃至第３カラーフィルタは、第１色のカラーフィルタであり、
前記第４乃至第６カラーフィルタは、前記第１色とは異なる第２色のカラーフィルタである、表示装置。
【請求項２】
さらに、前記第１カラーフィルタの端部に沿って配置された第２金属配線と、
前記第４カラーフィルタの端部に沿って配置され、且つ第１間隔で前記第２金属配線と隣り合う第３金属配線と、
前記第２カラーフィルタの端部に沿って配置され、且つ前記第１間隔よりも小さい第２間隔で前記第１金属配線と隣り合う第４金属配線と、
前記第５カラーフィルタの端部に沿って配置され、且つ前記第１間隔よりも小さい第３間隔で前記第１金属配線と隣り合う第５金属配線と、
前記第３カラーフィルタの端部に沿って配置された第６金属配線と、
前記第６カラーフィルタの端部に沿って配置され、且つ前記第１間隔と同等の大きさの第４間隔で前記第６金属配線と隣り合う第７金属配線と、を備えている請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
さらに、前記第１境界部に沿って配置され、且つ前記第１共通電極と接触し前記第２共通電極から離間した第２金属配線と、
前記第３境界部に沿って配置された第３金属配線と、
前記第３カラーフィルタの端部に沿って配置され、且つ第１間隔で前記第３金属配線と隣り合う第４金属配線と、
前記第６カラーフィルタの端部に沿って配置され、且つ前記第１間隔とは異なる大きさの第２間隔で前記第３金属配線と隣り合う第５金属配線と、を備えている、請求項１に記載の表示装置。
【請求項４】
前記第２間隔は、前記第１間隔よりも大きい、請求項３に記載の表示装置。
【請求項５】
前記第２間隔は、前記第１間隔よりも小さい、請求項３に記載の表示装置。
【請求項６】
前記第２共通電極は、前記第１スリットとは反対側で第２スリットに隣接し、
前記第１カラーフィルタおよび前記第２カラーフィルタは、複数の第１色のカラーフィルタのうちの前記第１方向で隣り合う２つであり、
前記第４カラーフィルタおよび前記第５カラーフィルタは、複数の前記第１色とは異なる第２色のカラーフィルタのうちの前記第１方向で隣り合う２つであり、
前記第１方向における前記第１スリットと前記第２スリットとの間隔は、前記第１方向における前記第１境界部と前記第３境界部との間隔の整数倍である、請求項１乃至５のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項７】
前記第１色は、青色であり、
前記第２色は、赤色である、請求項１乃至６のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項８】
前記第１境界部と前記第３境界部との距離は、４０μｍ以上かつ１６０μｍ以下である、請求項１乃至７のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項９】
第１方向に間隔を空けて並ぶ第１、第２、および第３カラーフィルタと、
前記第１方向で前記第１カラーフィルタと隣り合う第４カラーフィルタと、
前記第１方向で前記第２カラーフィルタと隣り合う第５カラーフィルタと、
前記第１方向で前記第３カラーフィルタと隣り合う第６カラーフィルタと、
前記第１カラーフィルタと前記第４カラーフィルタとの第１境界部と、
前記第２カラーフィルタと前記第５カラーフィルタとの第２境界部と、
前記第３カラーフィルタと前記第６カラーフィルタとの第３境界部と、
前記第１乃至第６カラーフィルタと対向する第１絶縁層と、
前記第１絶縁層の前記第１カラーフィルタと対向する側に位置する第１共通電極と、
前記第１境界部に沿った第１スリットと、
前記第１絶縁層の前記第２乃至第６カラーフィルタと対向する側に位置し、前記第１スリットを介して前記第１共通電極と隣り合う第２共通電極と、
前記第１乃至第２共通電極の前記第１乃至第６カラーフィルタと対向する側に位置する第２絶縁層と、
前記第２境界部に沿って配置され前記第２共通電極と接触する第１金属配線と、
前記第１絶縁層、前記第１共通電極、前記第２共通電極、前記第２絶縁層、及び前記第１金属配線が設けられた第１基板と、
前記第１基板と対向し、前記第１乃至第６カラーフィルタが設けられた第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に配置され前記第２境界部に沿って配置されたスペーサと、
前記第１金属配線を構成する互いに離間した第１および第２部分配線と、を備え、
前記第１境界部に対応する位置では、前記第１絶縁層と前記第２絶縁層とが互いに接触し、
前記第２境界部に対応する位置では、前記第２共通電極が、前記第１および第２絶縁層のいずれか一方と接触し、
前記第３境界部に対応する位置では、前記第２共通電極は、前記第１および第２絶縁層の両方と接触し、
前記スペーサは、平面視で前記第１部分配線と前記第２部分配線との間に位置している、表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、例えば、スリットによって互いに離間した複数の共通電極を備え、上記共通電極は複数の主画素に亘って配置されている。上記スリットは、例えば、画素電極に接続されたスイッチング素子に映像信号を供給する映像信号線（ソース配線）に沿って形成される。
【０００３】
ところで、液晶表示装置の構成要素の１つとして、共通電極と電気的に接続された金属配線が開示されている。上記金属配線は、映像信号線に沿って配置され、スリットには配置されていない。このとき、金属配線の有無によって、副画素の開口率や混色の程度に違いが生じ、スリットの周期が色むらとして視認される恐れがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１５−７５６０５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本実施形態の目的は、表示品位の改善が可能な表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本実施形態によれば、
第１方向に間隔を空けて並ぶ第１、第２、および第３カラーフィルタと、前記第１方向で前記第１カラーフィルタと隣り合う第４カラーフィルタと、前記第１方向で前記第２カラーフィルタと隣り合う第５カラーフィルタと、前記第１方向で前記第３カラーフィルタと隣り合う第６カラーフィルタと、前記第１カラーフィルタと前記第４カラーフィルタとの第１境界部と、前記第２カラーフィルタと前記第５カラーフィルタとの第２境界部と、前記第３カラーフィルタと前記第６カラーフィルタとの第３境界部と、前記第１乃至第６カラーフィルタと対向する第１絶縁層と、前記第１絶縁層の前記第１カラーフィルタと対向する側に位置する第１共通電極と、前記第１境界部に沿った第１スリットと、前記第１絶縁層の前記第２乃至第６カラーフィルタと対向する側に位置し、前記第１スリットを介して前記第１共通電極と隣り合う第２共通電極と、前記第１乃至第２共通電極の前記第１乃至第６カラーフィルタと対向する側に位置する第２絶縁層と、前記第２境界部に沿って配置され前記第２共通電極と接触する第１金属配線と、を備え、前記第１境界部に対応する位置では、前記第１絶縁層と前記第２絶縁層とが互いに接触し、前記第２境界部に対応する位置では、前記第２共通電極が、前記第１および第２絶縁層のいずれか一方と接触し、前記第３境界部に対応する位置では、前記第２共通電極は、前記第１および第２絶縁層の両方と接触している、表示装置、が提供される。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】図１は、本実施形態に係る表示装置１の概略的な構成を示す平面図である。
【図２】図２は、画像表示に関わる概略的な等価回路を示す図である。
【図３】図３は、カラーフィルタ層ＣＦと副画素ＳＰＸとの関係を概略的に示す平面図である。
【図４】図４は、副画素ＳＰＸに適用し得る構造の一例を概略的に示す平面図である。
【図５】図５は、第１構成例における金属配線ＭＬおよび共通電極ＣＥのレイアウトを概略的に示す平面図である。
【図６】図６は、第１構成例における表示パネル２を概略的に示す断面図である。
【図７】図７は、第１構成例における金属配線ＭＬに関する各種の寸法を説明するための平面図である。
【図８Ａ】図８Ａは、スジムラの視認性の評価方法を模式的に示した図である。
【図８Ｂ】図８Ｂは、スジムラの視認性の評価結果を示したグラフである。
【図９】図９は、第２構成例における表示パネル２を概略的に示す断面図である。
【図１０】図１０は、第２構成例における金属配線ＭＬ、ＭＬａ、およびＭＬｂに関する各種の寸法を説明するための平面図である。
【図１１】図１１は、第２構成例の第１変形例における金属配線ＭＬ、ＭＬａ、およびＭＬｂの位置関係を説明するための平面図である。
【図１２】図１２は、第２構成例の第２変形例における金属配線ＭＬ、ＭＬａ、およびＭＬｂの位置関係を説明するための平面図である。
【図１３】図１３は、金属配線ＭＬとスペーサＳＰとの位置関係の一例を示す平面図である。
【図１４】図１４は、相互容量方式のセンシング方法の原理を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、本実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、開示はあくまで一例に過ぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べて、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同一又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する詳細な説明を適宜省略することがある。
【０００９】
本実施形態においては、表示装置の一例として、タッチ検出機能を有した液晶表示装置を開示する。また、本実施形態において開示する液晶表示装置は、表示パネルの主面に平行な方向の電界を利用して表示を行う横電界方式であるが、これは一例に過ぎず、表示パネルの主面の法線方向の電界を利用して表示を行う縦電界方式などの他の方式であってもよい。ただし、各実施形態は、他種の表示装置に対する、各実施形態にて開示される個々の技術的思想の適用を妨げるものではない。他種の表示装置としては、有機エレクトロルミネッセンス表示装置などの自発光型の表示装置、或いは電気泳動素子等を有する電子ペーパ型の表示装置などが想定される。
【００１０】
図１は、本実施形態に係る表示装置１の概略的な構成を示す平面図である。  
表示装置１は、例えば、スマートフォン、タブレット端末、携帯電話端末、パーソナルコンピュータ、テレビ受像装置、車載装置、ゲーム機器、ウェアラブル端末等の種々の装置に用いることができる。
【００１１】
表示装置１は、表示パネル２と、複数の共通電極ＣＥ（駆動電極ＴＸ１乃至ＴＸｎ）と、各共通電極ＣＥと対向する複数の検出電極ＲＸ（ＲＸ１乃至ＲＸｍ）と、ドライバモジュールとして機能するドライバＩＣチップ３と、検出モジュールとして機能するタッチ検出ＩＣチップ４とを備えている。なお、ｎおよびｍは、２以上の整数である。
【００１２】
表示パネル２は、矩形状のアレイ基板ＡＲ（第１基板）と、このアレイ基板ＡＲよりも外形が小さい矩形状でありアレイ基板ＡＲと対向する様に配置された対向基板ＣＴ（第２基板）とを備えている。図１の例において、アレイ基板ＡＲおよび対向基板ＣＴは、３辺を重ねて貼り合わされている。アレイ基板ＡＲは、対向基板ＣＴと対向しない端子領域ＮＡを有している。
【００１３】
アレイ基板ＡＲおよび対向基板ＣＴが対向する領域において、表示パネル２は、画像を表示する表示領域ＤＡと、表示領域ＤＡと対向基板ＣＴの端部との間に位置する周辺領域ＦＡとを有している。図１の例において、表示領域ＤＡは、第１方向Ｘに沿う短辺と、第２方向Ｙに沿う長辺と、を有する長方形状である。また、周辺領域ＦＡは、表示領域ＤＡを囲む額縁状である。本実施形態においては、第１方向Ｘおよび第２方向Ｙが垂直に交わるが、第１方向Ｘおよび第２方向Ｙは他の角度で交わってもよい。
【００１４】
各々の共通電極ＣＥ（センサ駆動電極ＴＸ）は、表示領域ＤＡにおいて、第２方向Ｙに延びるとともに第１方向Ｘに並んでいる。共通電極ＣＥは、表示装置の構成要素として捉えた場合には画素の共通電極に相当し、センサ装置の構成要素として捉えた場合にはセンサ駆動電極に相当する。共通電極ＣＥは、例えば、インジウム・ティン・オキサイド（ＩＴＯ）やインジウム・ジンク・オキサイド（ＩＺＯ）などの透明導電材料で形成することができる。共通電極ＣＥは、例えば、表示パネル２が横電界方式の表示パネルである場合にはアレイ基板ＡＲに形成される。共通電極ＣＥは、対向基板ＣＴに形成されていてもよい。
【００１５】
各々の検出電極ＲＸは、表示領域ＤＡにおいて、第１方向Ｘに延びるとともに第２方向Ｙに並んでいる。つまり、共通電極ＣＥ（センサ駆動電極ＴＸ）と検出電極ＲＸとは、平面視で交差している。検出電極ＲＸは、ＩＴＯやＩＺＯ等の透明導電材料や金属線によって形成することができる。検出電極ＲＸは、例えば対向基板ＣＴの外面（アレイ基板ＡＲと対向する面とは反対側の表面）に形成されている。
【００１６】
ドライバＩＣチップ３は、画像表示に関する制御を実行するものであり、例えば端子領域ＮＡに実装されている。実装端子５には、画像データを表示パネル２に供給する第１フレキシブル配線基板６が接続されている。
【００１７】
端子領域ＮＡに沿う対向基板ＣＴの端部には、実装端子７が形成されている。実装端子７には、検出電極ＲＸからの検出信号を出力する第２フレキシブル配線基板８が接続されている。図１の例において、タッチ検出ＩＣチップ４は、第２フレキシブル配線基板８に実装されている。各検出電極ＲＸは、例えば周辺領域ＦＡにおいて対向基板ＣＴの表面に形成された検出配線ＤＬを介して実装端子７と接続されている。
【００１８】
次に、表示装置１における画像の表示方法について説明する。
【００１９】
図２は、画像表示に関わる概略的な等価回路を示す図である。  
表示装置１は、複数の走査信号線（ゲート配線）Ｇと、これら走査信号線Ｇに交差する複数の映像信号線（ソース配線）Ｓと、から成る複数の信号線を備えている。また、表示装置１は、第１ゲートドライバＧＤ１と、第２ゲートドライバＧＤ２と、ソースドライバＳＤとを備えている。ソースドライバＳＤは、複数のビデオ線ＶＬを介してドライバＩＣチップ３と接続されている。
【００２０】
各々の走査信号線Ｇは、表示領域ＤＡにおいて第１方向Ｘに延びるとともに第２方向Ｙに並んでいる。各々の映像信号線Ｓは、表示領域ＤＡにおいて第２方向Ｙに延びるとともに第１方向Ｘに並んでいる。各々の映像信号線Ｓは、直線状に延びてもよいし、屈曲しながら延びてもよい。また、各々の走査信号線Ｇも、直線状に延びてもよいし、屈曲しながら延びてもよい。
【００２１】
各走査信号線Ｇおよび各映像信号線Ｓは、アレイ基板ＡＲに形成されている。各々の走査信号線Ｇは、第１ゲートドライバＧＤ１および第２ゲートドライバＧＤ２に接続されている。各々の映像信号線Ｓは、ソースドライバＳＤに接続されている。
【００２２】
図２の例においては、隣り合う２本の走査信号線Ｇ、および、隣り合う２本の映像信号線Ｓによって区画された領域が、１つの副画素ＳＰＸに相当する。例えば、本構成例においては、赤色に対応する副画素ＳＰＸＲと、緑色に対応する副画素ＳＰＸＧと、青色に対応する副画素ＳＰＸＢとで１つの主画素ＰＸが構成される。主画素ＰＸは、表示領域ＤＡに表示される画像の最小単位に相当する。主画素ＰＸは、白色や黄色に対応する副画素を更に備えてもよい。主画素ＰＸを構成する副画素ＳＰＸの数は、一例では３つであるが、２つ以下でもよく、４つ以上であってもよい。なお、本開示においては、副画素ＳＰＸを単に画素と呼ぶことがある。
【００２３】
各副画素ＳＰＸは、アレイ基板ＡＲに形成されたスイッチング素子ＳＷを備えている。スイッチング素子ＳＷは、例えば薄膜トランジスタである。スイッチング素子ＳＷは、走査信号線Ｇ、映像信号線Ｓおよび画素電極ＰＥと電気的に接続されている。画像表示に際して、共通電極ＣＥには共通電圧（Ｖｃｏｍ）が印加される。
【００２４】
第１ゲートドライバＧＤ１および第２ゲートドライバＧＤ２は、各走査信号線Ｇに対して走査信号を順次供給する。ソースドライバＳＤは、ドライバＩＣチップ３に制御されて、各映像信号線Ｓに対して映像信号を選択的に供給する。あるスイッチング素子ＳＷに接続された走査信号線Ｇに走査信号が供給され、かつこのスイッチング素子ＳＷに接続された映像信号線Ｓに映像信号が供給されると、この映像信号に応じた電圧が画素電極ＰＥに印加される。このとき、画素電極ＰＥと共通電極ＣＥとの間に生じる電界によって、アレイ基板ＡＲと対向基板ＣＴとの間に封入された液晶層ＬＣの液晶分子の配向が、電圧の印加されていない初期配向状態から変化する。このような動作により、表示領域ＤＡに画像が表示される。
【００２５】
共通電極ＣＥは、画像表示のための電極として機能するとともに、表示領域ＤＡに近接するユーザの指などの物体（導体）を検出するための駆動電極としても機能する。ドライバＩＣチップ３は、検出に際して、各共通電極ＣＥに駆動信号を順次供給する。各検出電極ＲＸは各共通電極ＣＥと容量結合しており、各検出電極ＲＸからは共通電極ＣＥに供給された駆動信号に応じた検出信号が出力される。物体が近接していない検出電極ＲＸからの検出信号と、物体が近接している検出電極ＲＸからの検出信号とは、波形が異なる。タッチ検出ＩＣチップ４は、このような検出信号に基づいて、表示領域ＤＡに近接する物体の有無、更にはこの物体の第１方向Ｘおよび第２方向Ｙにおける位置を検出することができる。
【００２６】
なお、ここで説明した検出方式は一例であり、他の検出方式を適用することも可能である。例えば、検出電極ＲＸ或いは共通電極ＣＥ自体が有する容量（自己容量）を利用して表示領域ＤＡに近接する物体を検出する方式を採用することもできる。本構成例における物体の検出方法については、後述する。
【００２７】
上述の副画素ＳＰＸの色は、表示パネル２が備えるカラーフィルタ層ＣＦによって定められる。次に、カラーフィルタ層ＣＦのレイアウトの一例を説明する。なお、図中において、第２方向Ｙに対して反時計回りに鋭角に交差する方向を方向Ｄ１と定義し、第２方向Ｙに対して時計回りに鋭角に交差する方向を方向Ｄ２と定義する。第２方向Ｙと方向Ｄ１とのなす角度θ１は、図示した例では第２方向Ｙと方向Ｄ２とのなす角度θ２と略同一であるが、角度θ２と相違していてもよい。
【００２８】
図３は、カラーフィルタ層ＣＦと副画素ＳＰＸとの関係を概略的に示す平面図である。
【００２９】
なお、本構成例の説明において、平面視とは、第１方向Ｘおよび第２方向Ｙによって規定されるＸ−Ｙ平面の法線方向からの観察を意味する。
【００３０】
本構成例において、副画素ＳＰＸＲ，ＳＰＸＧ，ＳＰＸＢは、いずれも第２方向Ｙに連続して配置されている。
【００３１】
カラーフィルタ層ＣＦは、カラーフィルタＣＦＲと、カラーフィルタＣＦＧと、カラーフィルタＣＦＢとを含む。各カラーフィルタＣＦＲ，ＣＦＧ，ＣＦＢは、それぞれ赤色（第１色）、緑色（第２色）、青色（第３色）に着色された樹脂材料により形成されている。例えば、カラーフィルタＣＦＲは、帯状に形成されており、平面視において、第２方向Ｙに並ぶ複数の副画素ＳＰＸＲと重畳している。また、カラーフィルタＣＦＧ、およびカラーフィルタＣＦＢも、それぞれ帯状に形成されており、平面視において、第２方向Ｙに並ぶ複数の副画素ＳＰＸＧ、および複数の副画素ＳＰＸＢとそれぞれ重畳している。図示した例において、各カラーフィルタＣＦＲ，ＣＦＧ，ＣＦＢは、それぞれ、方向Ｄ１および方向Ｄ２に交互に延在し、第２方向Ｙにジグザグに連続して配置されている。各カラーフィルタＣＦＲ，ＣＦＧ，ＣＦＢは、個々の副画素ＳＰＸＲ，ＳＰＸＧ，ＳＰＸＢごとに形成されてもよい。
【００３２】
なお、副画素ＳＰＸのレイアウトは、図３に示したものに限られない。例えば、副画素ＳＰＸＲ，ＳＰＸＧ，ＳＰＸＢの少なくとも１つが第２方向Ｙに不連続となるように、隣り合う主画素ＰＸの副画素ＳＰＸのレイアウトを異ならせてもよい。また、１つの主画素ＰＸに副画素ＳＰＸＲ，ＳＰＸＧ，ＳＰＸＢの少なくとも１つが複数含まれてもよいし、上述した白色や黄色の副画素ＳＰＸが含まれてもよい。
【００３３】
続いて、副画素ＳＰＸの構造について説明する。  
図４は、副画素ＳＰＸに適用し得る構造の一例を概略的に示す平面図である。  
副画素ＳＰＸは、隣り合う２本の走査信号線Ｇと、隣り合う２本の映像信号線Ｓとで区画された画素である。この図の例においては、隣り合う２本の走査信号線Ｇの間で、映像信号線Ｓは、方向Ｄ２に延びている。
【００３４】
副画素ＳＰＸには、方向Ｄ２に長尺なスリットＰＳＬを２つ有した画素電極ＰＥが配置されている。画素電極ＰＥも、方向Ｄ２に長尺な形状を有している。画素電極ＰＥおよびスリットＰＳＬの長手方向は、副画素ＳＰＸを区画する映像信号線Ｓの延在方向と平行であり、方向Ｄ２に限定されず方向Ｄ１であってもよい。また、副画素ＳＰＸには、画素電極ＰＥに対向する共通電極ＣＥが配置されている。共通電極ＣＥは、第１方向Ｘおよび第２方向Ｙに隣り合う複数の副画素ＳＰＸに亘って配置されている。画素電極ＰＥおよび共通電極ＣＥは、例えばＩＴＯやＩＺＯ等の透明導電材料にて形成されている。画素電極ＰＥの形状はここに示したものに限定されず、より多くのスリットＰＳＬを有してもよいし、スリットＰＳＬを１つだけ有していてもよい。また、画素電極ＰＥは、スリットＰＳＬを有さなくてもよい。スリットＰＳＬの本数を増やした場合、副画素ＳＰＸの輝度を向上させることが可能である。本実施形態によれば、副画素ＳＰＸの輝度が向上した際に顕著になる色ムラ等の表示品位の劣化を抑制することができるため、スリットＰＳＬの本数を増やすことができ、副画素ＳＰＸの輝度を向上させることができる。
【００３５】
走査信号線Ｇ、映像信号線Ｓ、画素電極ＰＥ、共通電極ＣＥ、および金属配線ＭＬは、例えばアレイ基板ＡＲに配置されている。一方で、対向基板ＣＴには、遮光層（ブラックマトリクス）ＢＭが配置されている。図４においては、遮光層ＢＭの輪郭を１点鎖線にて示している。平面視において、遮光層ＢＭは、走査信号線Ｇおよび映像信号線Ｓと重畳し、後述する金属配線ＭＬとも重畳するとともに、副画素ＳＰＸ内で開口している。遮光層ＢＭは、画素電極ＰＥおよび構成電極ＳＥの一部や、図２に示したスイッチング素子ＳＷとも重畳する。
【００３６】
続いて、走査信号線Ｇ、映像信号線Ｓ、共通電極ＣＥ、および金属配線ＭＬの詳細な配置例について説明する。  
図５は、第１構成例における金属配線ＭＬおよび共通電極ＣＥのレイアウトを概略的に示す平面図である。
【００３７】
本図は、表示領域ＤＡを拡大したものであり、８本の映像信号線Ｓ（Ｓ１乃至Ｓ８）と、３本の走査信号線Ｇ（Ｇ１乃至Ｇ３）とを点線によって示している。また、互いにスリットＳＬ（ＳＬ１、ＳＬ２）によって第１方向Ｘに離間した複数の共通電極ＣＥ（ＣＥ１、ＣＥ２、等）と、５本の金属配線ＭＬ（ＭＬ１乃至ＭＬ５）とを実線によって示している。
【００３８】
走査信号線Ｇ１乃至Ｇ３は、第１方向Ｘに延在しており、第２方向Ｙに沿って間隔を空けて並んでいる。映像信号線Ｓ１乃至Ｓ８は、第１方向Ｘに沿って間隔を空けて並んでいる。図示を省略しているが、映像信号線Ｓ７と映像信号線Ｓ８との間には、別の映像信号線Ｓが並んでいる。また、映像信号線Ｓ１乃至Ｓ８は、走査信号線Ｇ１と走査信号線Ｇ２との間においては方向Ｄ２に延在し、走査信号線Ｇ２と走査信号線Ｇ３との間においては方向Ｄ１に延在している。つまり、映像信号線Ｓ１乃至Ｓ８は、方向Ｄ１と方向Ｄ２とに交互に延在し、第２方向Ｙに沿ってジグザグに配置されている。
【００３９】
走査信号線Ｇと映像信号線Ｓとは、平面視において交差している。図示が省略されたスイッチング素子ＳＷは、走査信号線Ｇと映像信号線Ｓとの交差部に形成されており、走査信号線Ｇによって制御される。走査信号線Ｇ１と走査信号線Ｇ２との間の各副画素ＳＰＸは、例えば走査信号線Ｇ２によって制御されるスイッチング素子ＳＷを有する画素である。また、走査信号線Ｇ２と走査信号線Ｇ３との間の各副画素ＳＰＸは、例えば走査信号線Ｇ３によって制御されるスイッチング素子ＳＷを有する画素である。
【００４０】
走査信号線Ｇ１と走査信号線Ｇ２との間において、主画素ＰＸ１、ＰＸ２、およびＰＸ３が、第１方向Ｘに並んでいる。主画素ＰＸ２は、映像信号線Ｓ１と映像信号線Ｓ２との間の副画素ＳＰＸＲ、映像信号線Ｓ２と映像信号線Ｓ３との間の副画素ＳＰＸＧ、映像信号線Ｓ３と映像信号線Ｓ５との間の副画素ＳＰＸＢによって構成されている。つまり、主画素ＰＸ２は、走査信号線Ｇ１およびＧ２、並びに、映像信号線Ｓ１およびＳ４、によって区画された領域に相当する。主画素ＰＸ１は、映像信号線Ｓ１（後述するスリットＳＬ１）を介して、主画素ＰＸ２と隣り合っている。主画素ＰＸ３は、映像信号線Ｓ４（後述する金属配線ＭＬ３）を介して、主画素ＰＸ２と隣り合っている。つまり、主画素ＰＸ３は、走査信号線Ｇ１およびＧ２、並びに、映像信号線Ｓ４およびＳ７、によって区画された領域に相当する。また、主画素ＰＸ４は、映像信号線Ｓ７を介して、主画素ＰＸ３と隣り合っている。
【００４１】
共通電極ＣＥ１は、走査信号線Ｇ１乃至Ｇ３と対向し、例えば平面視で映像信号線Ｓ１から離間している。共通電極ＣＥ２は、走査信号線Ｇ１乃至Ｇ３、および映像信号線Ｓ２乃至Ｓ７と対向し、例えば平面視で映像信号線Ｓ１から離間している。共通電極ＣＥ１およびＣＥ２は、映像信号線Ｓ１に沿ったスリットＳＬ１に隣接しており、互いにスリットＳＬ１を介して隣り合っている。なお、共通電極ＣＥ１およびＣＥ２は、それぞれの一部が映像信号線Ｓ１と対向していてもよい。  
共通電極ＣＥ２は、スリットＳＬ１とは反対側で、映像信号線Ｓ８に沿ったスリットＳＬ２と隣り合っている。共通電極ＣＥ２は、スリットＳＬ２を介して、別の共通電極ＣＥと隣り合っている。共通電極ＣＥ２は、例えば平面視で映像信号線Ｓ８から離間しているが、その一部が映像信号線Ｓ８と対向していてもよい。例えば、スリットＳＬ１とスリットＳＬ２との第１方向Ｘにおける間隔は、金属配線ＭＬと対向していない映像信号線Ｓのうち互いに隣り合う２本の映像信号線である映像信号線Ｓ１と映像信号線Ｓ７との、第１方向Ｘにおける間隔の整数倍である。つまり、スリットＳＬ１とスリットＳＬ２との間隔は、境界部ＢＲ１と境界部ＢＲ７との間隔の整数倍である。
【００４２】
金属配線ＭＬは、走査信号線Ｇが形成された層および映像信号線Ｓが形成された層とは異なる層に形成されている。金属配線ＭＬ１乃至ＭＬ５は、共通電極ＣＥと対向し、接触している。金属配線ＭＬ１は、映像信号線Ｓ２に沿って配置され、映像信号線Ｓ１Ｓ２と平面視で完全に重なっている。金属配線ＭＬ２乃至ＭＬ５は、それぞれ、映像信号線Ｓ３乃至Ｓ６に沿って配置され、且つ映像信号線Ｓ３乃至Ｓ６と平面視で完全に重なっている。但し、金属配線ＭＬ１乃至ＭＬ５は、それぞれ、映像信号線Ｓ２乃至Ｓ６と平面視で部分的に重なっていてもよい。一例として、金属配線ＭＬ１乃至ＭＬ５が、それぞれ、映像信号線Ｓ２乃至Ｓ６の一方の側辺と重なり、他方の側辺と重ならない構成を採用することもできる。
【００４３】
図示した例において、金属配線ＭＬは、映像信号線Ｓ１、Ｓ７、およびＳ８に沿って配置されていない。言い換えると、主画素ＰＸ１と主画素ＰＸ２との間の、スリットＳＬ１と対向する位置には、金属配線ＭＬが配置されていない。また、主画素ＰＸ２と主画素ＰＸ３との間の、共通電極ＣＥ２と対向する位置には、金属配線ＭＬが配置されている。また、主画素ＰＸ３と主画素ＰＸ４との間の、共通電極ＣＥ２と対向する位置には、金属配線ＭＬが配置されていない。つまり、共通電極ＣＥと対向する領域において、一部の主画素ＰＸ間には金属配線ＭＬが配置され、一部の主画素ＰＸ間には金属配線ＭＬが配置されていない。
【００４４】
図示した例では、金属配線ＭＬと対向していない２本の映像信号線Ｓの間には、２つの主画素ＰＸが形成されており、５本の金属配線ＭＬおよび５本の映像信号線Ｓが配置されている。但し、金属配線ＭＬと対向していない２本の映像信号線Ｓの間には、３つ以上の主画素ＰＸが形成されていてもよく、３ｋ−１本（ｋは３以上の整数）の金属配線ＭＬ（映像信号線Ｓ）が配置されていてもよい。
【００４５】
金属配線ＭＬは、例えば、モリブデン、タングステン、アルミニウム、チタン、銅などの金属材料或いはこれらの金属材料を含む合金等によって形成することができる。金属配線ＭＬは、単層構造であってもよいし、異なる材料の層を重ねた多層構造であってもよい。金属配線ＭＬは、光反射によるギラツキを抑制する観点から、光吸収特性を有する黒色金属材料を含んでいることが望ましい。
【００４６】
スリットＳＬ１は、ダミースリットでもよく、通常のスリットでもよい。スリットＳＬ１が通常のスリットである場合、共通電極ＣＥ１およびＣＥ２は、それぞれ周辺領域ＦＡにおいて、互いに異なる検出配線ＤＬに電気的に接続される。スリットＳＬ１がダミースリットである場合、共通電極ＣＥ１およびＣＥ２は、周辺領域ＦＡにおいて、互いに電気的に接続され、同一の検出配線ＤＬに電気的に接続される。
【００４７】
続いて、表示パネル２の断面構造について説明する。なお、以下に説明においては、表示パネル２を第１方向Ｘに沿って切断した断面を用いて表示パネル２の構造について説明する。
【００４８】
図６は、第１構成例における表示パネル２を概略的に示す断面図である。  
図示した例において、カラーフィルタ層ＣＦは、主画素ＰＸ１に配置されたカラーフィルタＣＦＢ１、主画素ＰＸ２に配置されたカラーフィルタＣＦＲ２、ＣＦＧ２、およびＣＦＢ２、主画素ＰＸ３に配置されたカラーフィルタＣＦＲ３、ＣＦＧ３、およびＣＦＢ３、並びに、主画素ＰＸ４に配置されたカラーフィルタＣＦＲ４を含んでいる。なお、カラーフィルタＣＦＲ２、ＣＦＲ３、およびＣＦＲ４は、図３で図示したカラーフィルタＣＦＲに相当し、カラーフィルタＣＦＧ２、ＣＦＧ３は、図３で図示したカラーフィルタＣＦＧに相当し、カラーフィルタＣＦＢ１、ＣＦＢ２、およびＣＦＢ３は、図３で図示したカラーフィルタＣＦＢに相当する。
【００４９】
アレイ基板ＡＲは、ガラス基板などによって形成された第１絶縁基板１０を備えている。第１絶縁基板１０の対向基板ＣＴと対向する側に第１絶縁層１１が形成され、この第１絶縁層１１の対向基板ＣＴと対向する側に映像信号線Ｓが形成されている。第１絶縁層１１および映像信号線Ｓは、第２絶縁層１２で覆われている。  
共通電極ＣＥ１およびＣＥ２は、第２絶縁層１２の対向基板ＣＴと対向する側に形成されている。共通電極ＣＥ１は、第２絶縁層１２のカラーフィルタＣＦＢ１と対向する側に位置している。また、共通電極ＣＥ２は、第２絶縁層１２のカラーフィルタＣＦＲ２乃至ＣＦＲ４、ＣＦＧ２、ＣＦＧ３、ＣＦＢ２、およびＣＦＢ３と対向する側に位置している。  
金属配線ＭＬ１乃至ＭＬ５は、共通電極ＣＥ２の対向基板ＣＴと対向する側に形成されている。第３絶縁層１３は、共通電極ＣＥ１およびＣＥ２の対向基板ＣＴと対向する側に形成され、金属配線ＭＬ１乃至ＭＬ５、および共通電極ＣＥ１、ＣＥ２を覆っている。画素電極ＰＥは、第３絶縁層１３の対向基板ＣＴと対向する側に形成されている。第１配向膜１４は、画素電極ＰＥの対向基板ＣＴと対向する側に形成され、画素電極ＰＥおよび第３絶縁層１３を覆っている。
【００５０】
対向基板ＣＴは、ガラス基板などによって形成された第２絶縁基板２０を備えている。第２絶縁基板２０のアレイ基板ＡＲに対向する側に、遮光層ＢＭおよびカラーフィルタ層ＣＦ（各カラーフィルタＣＦＲ，ＣＦＧ，ＣＦＢ）が形成されている。各カラーフィルタＣＦＲ，ＣＦＧ，およびＣＦＢの境界部ＢＲ（ＢＲ１乃至ＢＲ８）は、遮光層ＢＭと対向している。
【００５１】
境界部ＢＲ１（第１境界部）では、カラーフィルタＣＦＢ１とカラーフィルタＣＦＲ２とが隣り合っており、主画素ＰＸ１と主画素ＰＸ２とが隣り合っている。境界部ＢＲ２では、主画素ＰＸ２に配置されたカラーフィルタＣＦＲ２とカラーフィルタＣＦＧ２とが隣り合い、境界部ＢＲ３では、主画素ＰＸ２に配置されたカラーフィルタＣＦＧ２とカラーフィルタＣＦＢ２とが隣り合っている。境界部ＢＲ４（第２境界部）では、カラーフィルタＣＦＢ２とカラーフィルタＣＦＲ３とが隣り合っており、主画素ＰＸ２と主画素ＰＸ３とが隣り合っている。境界ＢＲ５では、主画素ＰＸ３に配置されたカラーフィルタＣＦＲ３とカラーフィルタＣＦＧ３とが隣り合い、境界部ＢＲ６では、主画素ＰＸ３に配置されたカラーフィルタＣＦＧ３とカラーフィルタＣＦＢ３とが隣り合っている。境界部ＢＲ７（第３境界部）では、カラーフィルタＣＦＢ３とカラーフィルタＣＦＲ４とが隣り合っており、主画素ＰＸ３と主画素ＰＸ４とが隣り合っている。境界部ＢＲ８では、カラーフィルタＣＦＢとカラーフィルタＣＦＲとが隣り合っており、主画素ＰＸ同士が隣り合っている。
【００５２】
カラーフィルタ層ＣＦは平坦化層２１で覆われ、平坦化層２１は第２配向膜２２で覆われている。第２絶縁基板２０の外面（アレイ基板ＡＲと対向する側とは反対側）に、検出電極ＲＸが形成されている。検出電極ＲＸの形成位置はこれに限定されず、第２絶縁基板２０のアレイ基板ＡＲと対向する側などに形成されてもよい。第１配向膜１４および第２配向膜２２の間に液晶層ＬＣが封入されている。
【００５３】
映像信号線Ｓ１乃至Ｓ８は、それぞれ平面視で境界部ＢＲ１乃至ＢＲ８に沿って配置されており、図示した例ではそれぞれ境界部ＢＲ１乃至ＢＲ８と対向している。また、スリットＳＬ１は、平面視で境界部ＢＲ１に沿って位置しており、図示した例では境界部ＢＲ１と対向している。同様にスリットＳＬ２は、平面視で境界部ＢＲ８に沿って位置しており、図示した例では境界部ＢＲ８と対向している。金属配線ＭＬ１乃至ＭＬ６は、それぞれ平面視で境界部ＢＲ２乃至ＭＬ７に沿って配置されており、図示した例では、それぞれ境界部ＢＲ２乃至ＢＲ７と対向している。
【００５４】
境界部ＢＲ１およびＢＲ８に対応する位置では、第２絶縁層１２と第３絶縁層１３とが互いに接触している。図示した例では、スリットＳＬ１およびＳＬ２の内側において、第２絶縁層１２は、全面的に第３絶縁層１３に覆われている。境界部ＢＲ２乃至ＢＲ６に対応する位置では、共通電極ＣＥ２は、第２絶縁層１２および第３絶縁層１３の少なくとも一方と接触しており、金属配線ＭＬ１乃至ＭＬ５と接触している。図示した例では、共通電極ＣＥ２は、第２絶縁層１２と接触し、金属配線ＭＬ１乃至ＭＬ５と接触している。境界部ＢＲ７に対応する位置では、共通電極ＣＥ２は、第２絶縁層１２および第３絶縁層１３の両方と接触している。このように、共通電極ＣＥ２に金属配線ＭＬ１乃至ＭＬ５が電気的に接続されることで、共通電圧Ｖｃｏｍやセンサ駆動信号Ｖｗの伝送速度を向上させることが可能となり、表示品位や検出能力を向上させることができる。
【００５５】
金属配線ＭＬは、第２絶縁層１２と共通電極ＣＥとの間に配置されてもよい。このような場合であっても、共通電極ＣＥと金属配線ＭＬとを互いに電気的に接続させることができる。また、このような場合には、共通電極は、境界部ＢＲに対応する位置において、金属配線ＭＬおよび第３絶縁層１３と接触する。
【００５６】
図示した例において、カラーフィルタＣＦＧと他のカラーフィルタとの境界部ＢＲに対応する位置の全てに金属配線ＭＬが配置され、カラーフィルタＣＦＢとカラーフィルタＣＦＲとの境界部ＢＲに対応する位置の幾つかで金属配線ＭＬが省略されている。金属配線ＭＬが省略される位置の境界部ＢＲは、青色カラーフィルタと赤色カラーフィルタとの境界部に限定されず、緑色カラーフィルタと他のカラーフィルタとの境界部であってもよい。但し、赤色、緑色、および青色のカラーフィルタのうち最も視認性の高い緑色カラーフィルタの境界部に対応する位置に金属配線ＭＬを配置し、赤色カラーフィルタと青色カラーフィルタとの境界部に対応する位置の幾つかで金属配線ＭＬを省略することが望ましい。この様な構成によれば、ある副画素の透過光又は反射光が隣接する他の副画素のカラーフィルタを透過することで生じる混色や、金属配線ＭＬに隣接する副画素の開口率と隣接しない副画素の開口率との差によって生じる色シフトを低減可能であり、表示品位の劣化を抑制することができる。
【００５７】
また、図示した例において、スリットＳＬ１と対向し金属配線ＭＬと対向しない境界部ＢＲ１と、共通電極ＣＥ２と対向し金属配線ＭＬと対向しない境界部ＢＲ７との間には、２つの主画素ＰＸが形成されている。つまり、金属配線ＭＬと対向せずに互いに隣り合う２本の金属配線ＭＬの間には、６つのカラーフィルタと、金属配線ＭＬと対向する５つの境界部ＢＲが位置している。但し、本実施形態は、これに限定されるものではなく、金属配線ＭＬと対向せずに互いに隣り合う２つの境界部ＢＲの間に、３つ以上の主画素ＰＸが形成されていてもよい。つまり、金属配線ＭＬと対向せずに互いに隣り合う２つの境界部ＢＲの間に、３ｋ（ｋは３以上の整数）個のカラーフィルタと、金属配線ＭＬと対向する３ｋ−１個の境界部ＢＲと、が配置されていてもよい。
【００５８】
本構成例によれば、カラーフィルタの境界部ＢＲ１に対応する位置では、金属配線ＭＬが省略されており、カラーフィルタの境界部ＢＲ４に対応する位置では、金属配線ＭＬ３が配置され、カラーフィルタの境界部ＢＲ７に対応する位置では、金属配線ＭＬが省略されている。つまり、カラーフィルタＣＦＲとカラーフィルタＣＦＢとの境界部ＢＲに対応する位置の幾つかには金属配線ＭＬが配置され、幾つかには金属配線ＭＬが配置されていない。金属配線ＭＬに隣接する副画素ＳＰＸの斜め方向における開口率は、金属配線ＭＬの遮光性によって低下する恐れがあるため、本構成例によれば、カラーフィルタＣＦＲとカラーフィルタＣＦＢとの境界部ＢＲに対応する位置の全てに金属配線ＭＬを配置する構成と比べて、斜め方向の輝度を向上させることができる。また、カラーフィルタＣＦＲとカラーフィルタＣＦＢとの境界部ＢＲに対応する位置の全てに金属配線ＭＬを配置しない構成と比べて、金属配線ＭＬに隣接する副画素ＳＰＸの斜め方向の開口率と、金属配線ＭＬに隣接しない副画素ＳＰＸの斜め方向の開口率との差異に起因して発生する視野角に応じた主画素ＰＸの発色の変化（色シフト）を低減することができる。また、カラーフィルタＣＦＲとカラーフィルタＣＦＢとの境界部ＢＲに対応する位置の全てに金属配線ＭＬを配置しない構成と比べて、金属配線ＭＬが隣接する副画素ＳＰＸ間を透過する光を遮光することができるため、ある副画素ＳＰＸの光が隣接する別の副画素ＳＰＸに配置されたカラーフィルタを透過することで生じる主画素ＰＸの発色の変化（混色）を低減することができる。
【００５９】
次に、各部材の寸法や間隔といった観点から、第１構成例を説明する。
図７は、第１構成例における金属配線ＭＬに関する各種の寸法を説明するための平面図である。  
なお、本図においては、さらに、主画素ＰＸ１に配置されたカラーフィルタＣＦＢの端部に沿って配置された金属配線ＭＬ６と、主画素ＰＸ４に配置されたカラーフィルタＣＦＲの端部に沿って配置された金属配線ＭＬ７と、を図示している。
【００６０】
金属配線ＭＬの第１方向Ｘにおける幅はＷ１であり、スリットＳＬ１の第１方向Ｘにおける幅はＷ０である。隣り合う金属配線ＭＬ６と金属配線ＭＬ１との間隔はＰＴ１であり、隣り合う金属配線ＭＬ１と金属配線ＭＬ２との間隔はＰＴ２であり、隣り合う金属配線ＭＬ２と金属配線ＭＬ３との間隔はＰＴ３であり、隣り合う金属配線ＭＬ３と金属配線ＭＬ４との間隔はＰＴ４であり、隣り合う金属配線ＭＬ４と金属配線ＭＬ５との間隔はＰＴ５であり、隣り合う金属配線ＭＬ５と金属配線ＭＬ７との間隔はＰＴ６である。なお、間隔ＰＴは、隣り合う金属配線ＭＬの、それぞれの互いに対向する側の端辺同士の距離に相当する。
【００６１】
境界部ＢＲ１と境界部ＢＲ７との第１方向Ｘにおける距離はｄ１０であり、境界部ＢＲ１と境界部ＢＲ４との第１方向Ｘにおける距離はｄ２０である。距離ｄ１０は、主画素ＰＸ２およびＰＸ３の第１方向Ｘにおける幅の和に相当し、距離ｄ２０は、主画素ＰＸ２の第１方向Ｘにおける幅に相当する。つまり、距離ｄ１０は、距離ｄ２０の２倍である。距離ｄ１０は、映像信号線Ｓに対向しない境界部ＢＲ同士の間隔であり、境界部ＢＲ１と境界部ＢＲ７との間に３つ以上の主画素ＰＸが配置されているとすると、距離ｄ２０の３以上の整数倍であってもよい。
【００６２】
例えば、間隔ＰＴ２乃至ＰＴ５は、互いに等しく、間隔ＰＴ１およびＰＴ６よりも小さい。例えば、間隔ＰＴ１およびＰＴ６は、互いに等しく、間隔ＰＴ３とＰＴ４と幅Ｗ１との合計と等しい。また、上記の距離ｄおよび幅Ｗは、ｄ１０＝０．５×（ＰＴ１＋ＰＴ６）＋ＰＴ２＋ＰＴ３＋ＰＴ４＋５×Ｗ１、および、ｄ２０＝０．５×ＰＴ１＋ＰＴ２＋ＰＴ３＋２．５×Ｗ１の関係を満たす。
【００６３】
金属配線ＭＬ６と金属配線ＭＬ１との間にあってスリットＳＬ１を介して隣り合う２つの副画素ＳＰＸは、金属配線ＭＬ２と金属配線ＭＬ４との間にあって金属配線ＭＬ３を介して隣り合う２つの副画素ＳＰＸに比べて、色シフトおよび混色の程度が強い。また、金属配線ＭＬ５と金属配線ＭＬ７との間にあって隣り合う２つの副画素ＳＰＸも、金属配線ＭＬ２と金属配線ＭＬ４との間の金属配線ＭＬ３を介して隣り合う２つの副画素ＳＰＸに比べて、色シフトおよび混色の程度が強い。このため、境界部ＢＲ１と境界部ＢＲ７との間の距離ｄ１０の大きさによっては、主画素ＰＸの色味や輝度の差異が、周期的な筋状のスジムラとして視認される恐れがある。そこで、発明者らは、スジムラの視認性について評価を行った。次に、発明者らが実施したスジムラの視認性の評価について説明する。
【００６４】
図８Ａは、スジムラの視認性の評価方法を模式的に示した図である。  
本評価試験機では、リファレンス領域Ｒｅｆおよび試験領域Ｅｘｐを交互に並べた。また、試験領域Ｅｘｐは、ピッチＰｓの間隔を空けて並んでいる。リファレンス領域Ｒｅｆおよび試験領域Ｅｘｐは、それぞれ、視感度の高い緑色を筋状に表示させた領域であり、リファレンス領域Ｒｅｆでは中間階調Ｉｍｉｄ（１２７階調）で表示し、試験領域Ｅｘｐでは階調Ｉで表示した。リファレンス領域Ｒｅｆと試験領域Ｅｘｐとの間の領域は、黒表示（０階調）とした。ピッチＰｓは、図７で図示した距離ｄ１０に相当する。試験機のガンマ値は２．２である。
【００６５】
上記の条件のもと、ピッチＰｓおよび階調Ｉを変数として、リファレンス領域Ｒｅｆおよび試験領域Ｅｘｐの輝度の相違がスジとして視認されるか否かを評価した。  
図８Ｂは、スジムラの視認性の評価結果を示したグラフである。  
縦軸はリファレンス領域Ｒｅｆと試験領域Ｅｘｐとの階調差Ｉ−Ｉｍｉｄを示し、横軸はピッチＰｓを示している。ＮＧは、スジが視認される条件範囲を示し、ＯＫは、スジが視認されない条件範囲を示している。
【００６６】
全体的な傾向として、試験領域Ｅｘｐは、ピッチＰｓが大きくなると視認されやすくなり、ピッチＰｓが小さくなると視認されにくくなる。例えば、ピッチＰｓが３１０μｍの場合、階調差Ｉ−Ｉｍｉｄが１であっても、試験領域Ｅｘｐはスジとして視認された。ピッチＰｓが１６０μｍよりも大きく２５０μｍ以下の場合、階調差Ｉ−Ｉｍｉｄが充分に小さければ試験領域Ｅｘｐはスジとして視認されず、階調差Ｉ−Ｉｍｉｄが大きいと試験領域Ｅｘｐはスジとして視認された。ピッチＰｓが１６０μｍ以下である場合、少なくとも階調差Ｉ−Ｉｍｉｄが６以下の範囲では、試験領域Ｅｘｐはスジとして視認されなかった。例えば、輝度比の観点から見ると、ピッチＰｓが１６０μｍである試験領域Ｅｘｐが視認されるのは、試験領域Ｅｘｐの輝度が、リファレンス領域Ｒｅｆの輝度の１１０％よりも大きかった場合に相当する。本構成例において、境界部ＢＲ１や境界部ＢＲ７に隣接する副画素ＳＰＸと境界部ＢＲ４に隣接する副画素ＳＰＸとの輝度の差分は、境界部ＢＲ４に隣接する副画素ＳＰＸの輝度に対して、１０％以下の範囲で１０％よりも充分に小さい。このため、ピッチＰｓが１６０μｍ以下であれば、スジムラを抑制することができ、表示品位の劣化を抑制可能である。また、本構成例において、試験領域Ｅｘｐまたはリファレンス領域Ｒｅｆに相当する副画素ＳＰＸは、緑色画素よりも視感度の低い赤色画素または青色画素であるため、ピッチＰｓが１６０μｍよりも大きく２５０μｍ以下の範囲であっても、表示装置１はスジムラを抑制することができる。なお、主画素ＰＸの第１方向Ｘにおける幅が、高精細な表示装置を想定すれば約２０μｍであるため、ピッチＰｓは、４０μｍ以上となる。
【００６７】
以上のことから、境界部ＢＲ１（第１境界部）と境界部ＢＲ７（第３境界部）との距離ｄ１０は、望ましくは４０μｍ以上かつ２５０μｍ以下であり、さらに望ましくは４０μｍ以上かつ１６０μｍ以下である。
【００６８】
次に、本実施形態の第２構成例について説明する。  
図９は、第２構成例における表示パネル２を概略的に示す断面図である。  
本図で図示した第２構成例は、金属配線ＭＬａ（ＭＬａ１、ＭＬａ２）、および金属配線ＭＬｂを備えている点で、図６で図示した第１構成例と相違している。
【００６９】
金属配線ＭＬａ１は、境界部ＢＲ１に沿って配置され、映像信号線Ｓ１の一部と対向し、スリットＳＬ１内部の一部を占めている。境界部ＢＲ１に対応する位置において、第２絶縁層１２は、金属配線ＭＬａ１と接触し、また第３絶縁層１３とも接触している。図示した例では、金属配線ＭＬａ１は、共通電極ＣＥ１と接触し、共通電極ＣＥ２から離間している。金属配線ＭＬａ２は、境界部ＢＲ８に沿って配置され、映像信号線Ｓ８の一部と対向し、スリットＳＬ２内部の一部を占めている。境界部ＢＲ８に対応する位置において、第２絶縁層１２は、金属配線ＭＬａ２と接触し、また第３絶縁層１３とも接触している。図示した例では、金属配線ＭＬａ２は、共通電極ＣＥ２と接触している。金属配線ＭＬｂは、境界部ＢＲ７に沿って配置され、映像信号線Ｓ７の一部と対向している。境界部ＢＲ７に対応する位置において、共通電極ＣＥ２は、第２絶縁層１２および第３絶縁層１３の両方と接触し、金属配線ＭＬｂとも接触している。
【００７０】
図示した例において、金属配線ＭＬａ１、ＭＬａ２、およびＭＬｂの中心は、それぞれ映像信号線Ｓ１、Ｓ７、およびＳ８の中心に対して、同じ方向にずれている。また、金属配線ＭＬａ１、ＭＬａ２、およびＭＬｂの第１方向Ｘにおける幅は、金属配線ＭＬの第１方向Ｘにおける幅と異なっている。この様な金属配線ＭＬａ１、ＭＬａ２、およびＭＬｂの寸法や位置関係について、次に平面図を用いて説明する。
【００７１】
図１０は、第２構成例における金属配線ＭＬ、ＭＬａ、およびＭＬｂに関する各種の寸法を説明するための平面図である。  
金属配線ＭＬａ１の幅Ｗ２は、隣り合う共通電極ＣＥ１およびＣＥ２の短絡を防ぐ必要性に制約される。一方で、共通電極ＣＥ２と重畳する金属配線ＭＬの幅Ｗ１は、このような短絡を考慮する必要がないために、大きくすることができる。そこで、幅Ｗ２は、幅Ｗ１よりも狭くてもよい。また、金属配線ＭＬｂの幅は、幅Ｗ１よりも小さいＷ３であり、幅Ｗ３は、図示した例では幅Ｗ２と同等である（Ｗ１＞Ｗ２＝Ｗ３）。
【００７２】
金属配線ＭＬａ１がスリットＳＬ１と平面視で重畳する幅は、Ｗａ１である。一方、金属配線ＭＬａ１と平面視で重畳しないスリットＳＬ１の幅は、幅Ｗａ１よりも小さいＷａ２である（Ｗａ１＞Ｗａ２）。すなわち、図示した例において、金属配線ＭＬａ１は、スリットＳＬ１の半分超過の面積を覆っている。
【００７３】
金属配線ＭＬａ１と共通電極ＣＥ１との間の距離は、ｄ１である。一方、金属配線ＭＬａ１と共通電極ＣＥ２との間の距離は、距離ｄ１よりも大きいｄ２である（ｄ１＜ｄ２）。なお、本構成例においては、金属配線ＭＬａ１が共通電極ＣＥ１の端部を覆っているため、ｄ１≧０である。
【００７４】
図示した例において、金属配線ＭＬ６と金属配線ＭＬａ１との間隔は、間隔ＰＴ２乃至ＰＴ５のいずれよりも小さいＰＴ１１である。また、金属配線ＭＬａ１と金属配線ＭＬ１との間隔は、間隔ＰＴ２乃至ＰＴ５のいずれよりも広く、間隔ＰＴ１１よりも大きいＰＴ１２である。同様に、金属配線ＭＬ５と金属配線ＭＬｂとの間隔は、間隔ＰＴ２乃至ＰＴ５のいずれよりも小さいＰＴ６１である。また、金属配線ＭＬｂと金属配線ＭＬ７との間隔は、間隔ＰＴ２乃至ＰＴ５のいずれよりも広く、間隔ＰＴ６１よりも大きいＰＴ６２である。間隔ＰＴ６１は、間隔ＰＴ１１と同等であり、間隔ＰＴ６２は、間隔ＰＴ１２と同等である。但し、間隔ＰＴ１１、ＰＴ１２、ＰＴ６１、およびＰＴ６２は、互いに等しく、間隔ＰＴ２乃至ＰＴ５と同等であってもよい。
【００７５】
本構成例によれば、上記した第１構成例と同様の効果を得ることができる。さらに、金属層ＭＬａおよびＭＬｂが遮光層として機能するため、色シフトや混色の発生をさらに低減することができる。
【００７６】
図１１は、第２構成例の第１変形例における金属配線ＭＬ、ＭＬａ、およびＭＬｂの位置関係を説明するための平面図である。  
図示した構成例は、金属配線ＭＬｂが金属配線ＭＬａ１とは逆方向にずれている点で、図１０に図示した構成例と相違している。金属配線ＭＬｂの中心は、図示を省略した映像信号線Ｓ７の中心から、第１方向Ｘの矢印が位置する側へずれている。例えば、間隔ＰＴ６１は、間隔ＰＴ６２よりも大きい。また、間隔ＰＴ６１は間隔ＰＴ１２と同等であり、間隔ＰＴ６２は間隔ＰＴ１１と同等である。
【００７７】
本変形例によれば、上述した第２構成例と同様の効果を得ることができる。また、金属配線ＭＬａ１は、カラーフィルタＣＦＲ２よりもカラーフィルタＣＦＢ１との重畳面積が大きいため、副画素ＳＰＸＲよりも副画素ＳＰＸＢの混色を強く低減することができ、副画素ＳＰＸＲの開口率の視野角依存性を抑制することができる。金属配線ＭＬｂは、カラーフィルタＣＦＲ４よりもカラーフィルタＣＦＢ３との重畳面積が大きいため、副画素ＳＰＸＢよりも副画素ＳＰＸＲの混色を強く低減することができ、副画素ＳＰＸＢの視野角の角度依存性を抑制することができる。従って、金属配線ＭＬａ１およびＭＬｂは、混色や色シフトを相殺し、表示品位の劣化を抑制可能である。
【００７８】
図１２は、第２構成例の第２変形例における金属配線ＭＬ、ＭＬａ、およびＭＬｂの位置関係を説明するための平面図である。  
図示した構成例は、金属配線ＭＬａ１が第２方向Ｙに離間した部分配線ＭＬａ１１およびＭＬａ１２で構成され、金属配線ＭＬｂが第２方向Ｙに離間した部分配線ＭＬｂ１およびＭＬｂ２で構成されている点で、図１０に示した構成例と相違している。
【００７９】
部分配線ＭＬａ１１は、共通電極ＣＥ１と接触し、共通電極ＣＥ２から離間している。反対に、部分配線ＭＬａ１２は、共通電極ＣＥ１から離間し、共通電極ＣＥ２と接触している。つまり、部分配線ＭＬａ１１の中心は、図示を省略した映像信号線Ｓ１の中心から、第１方向Ｘの矢印が位置する側とは反対方向にずれており、部分配線ＭＬａ１２の中心は、図示を省略した映像信号線Ｓ１の中心から、第１方向Ｘの矢印が位置する方向にずれている。言い換えると、部分配線ＭＬａ１１のカラーフィルタＣＦＢ１との重畳面積は、部分配線ＭＬａ１１のカラーフィルタＣＦＲ２との重畳面積よりも大きい。また、部分配線ＭＬａ１２のカラーフィルタＣＦＢ１との重畳面積は、部分配線ＭＬａ１２のカラーフィルタＣＦＲ２との重畳面積よりも小さい。
【００８０】
部分配線ＭＬｂ１は、部分配線ＭＬａ１１と第１方向Ｘで並んでおり、部分配線ＭＬｂ２は、部分配線ＭＬａ１２と第１方向Ｘで並んでいる。部分配線ＭＬｂ１は、部分配線ＭＬａ１１とは反対方向にずれており、部分配線ＭＬｂ２は、部分配線ＭＬａ１２とは反対方向にずれている。つまり、部分配線ＭＬｂ１の中心は、図示を省略した映像信号線Ｓ７の中心から、第１方向Ｘの矢印が位置する方向へずれている。反対に、部分配線ＭＬｂ２の中心は、図示を省略した映像信号線Ｓ７の中心から、第１方向Ｘの矢印が位置する側とは反対方向にずれている。言い換えると、部分配線ＭＬｂ１のカラーフィルタＣＦＢ３との重畳面積は、部分配線ＭＬｂ１のカラーフィルタＣＦＲ４との重畳面積よりも小さい。また、部分配線ＭＬｂのカラーフィルタＣＦＢ３との重畳面積は、部分配線ＭＬｂ２のカラーフィルタＣＦＲ４との重畳面積よりも大きい。
【００８１】
例えば、金属配線ＭＬ６と部分配線ＭＬａ１１との間隔ＰＴ１１は、部分配線ＭＬａ１１と金属配線ＭＬ１との間隔ＰＴ１２よりも小さい。金属配線ＭＬ６と部分配線ＭＬａ１２との間隔ＰＴ１３は、部分配線ＭＬａ１２と金属配線ＭＬ１との間隔ＰＴ１４よりも大きい。
【００８２】
本変形例によれば、上記したのと同様の効果を得ることができる。また、部分配線ＭＬａ１１およびＭＬａ１２は、混色や色シフトを相殺することができる。部分配線ＭＬｂ１およびＭＬｂ２も、混色や色シフトを相殺することができる。
【００８３】
次に、スペーサＳＰの配置例について、金属配線ＭＬ３近傍を拡大した図を用いて説明する。なお、次に説明するスペーサＳＰの配置例は、本実施形態のいずれの構成例にも適用可能である。
【００８４】
図１３は、金属配線ＭＬとスペーサＳＰとの位置関係の一例を示す平面図である。  
スペーサＳＰは、アレイ基板ＡＲおよび対向基板ＣＴの一方の基板から他方の基板へ突出している。スペーサＳＰは、アレイ基板ＡＲから延出してもよく、対向基板ＣＴから延出してもよい。スペーサＳＰは、第１配向膜１４と第２配向膜２２との間にセルギャップを形成する。スペーサＳＰの形成位置は、例えば、走査信号線Ｇ、および遮光層ＢＭと平面視において重畳する位置である。図中の点線は、２つの対向配置された基板（ＡＲ、ＣＴ）のうち金属配線ＭＬが配置された側の基板における、スペーサＳＰの接地領域を示している。
【００８５】
金属配線ＭＬ３は、部分配線ＭＬ３１およびＭＬ３２で構成されている。部分配線ＭＬ３１および３２は、境界部ＢＲ４に沿って並んでおり、互いに第２方向Ｙに離間している。部分配線ＭＬ３１は、方向Ｄ２に延在し、部分配線ＭＬ３２は、方向Ｄ１に延在している。スペーサＳＰは、境界部ＢＲ４に沿って配置され、部分配線ＭＬ３１と部分配線ＭＬ３２との間に位置している。スペーサＳＰの接地領域は、平面視で、部分配線ＭＬ３１およびＭＬ３２から離間している。スペーサＳＰの第１方向Ｘにおける幅は、金属配線ＭＬ３の第１方向Ｘにおける幅よりも大きい。
【００８６】
本配置例によれば、スペーサＳＰの接地領域に金属配線ＭＬが形成されていないため、金属配線ＭＬの有無により、金属配線ＭＬの厚さ分だけセルギャップにばらつきが生じることを抑止することができる。これにより、液晶層ＬＣ中の液晶量の不足による気泡発生や、液晶層ＬＣの厚みの相違に起因した表示ムラを抑制することができる。
【００８７】
次に、表示装置１における被検出物の接近あるいは接触を検出するためのセンサ装置としてのセンシング駆動について説明する。なお、ここで説明するセンサ装置は、いわゆる相互容量（Ｍｕｔｕａｌ−Ｃａｐａｃｉｔｉｖｅ  Ｓｅｎｓｉｎｇ）方式のセンサ装置である。相互容量方式は、駆動電極ＴＸと検出電極ＲＸとの間の電極間容量の変化に基づいて、被検出物を検出する。
【００８８】
図１４は、相互容量方式のセンシング方法の原理を説明するための図である。
ここでは、導電性を有する被検出物としての指Ｆｇが表示装置１に入力する場合について説明する。
【００８９】
センサ駆動電極ＴＸおよび検出電極ＲＸは、静電容量結合されており、センサ駆動電極ＴＸと検出電極ＲＸとの間には、電極間容量Ｃｃが形成される。指Ｆｇは、検出電極ＲＸのセンサ駆動電極ＴＸと対向する側とは反対側から検出電極ＲＸへ接近する。ここで、指ＦｇのＸ−Ｙ平面における位置を位置ＤＰとする。位置ＤＰにおいて、指Ｆｇと検出電極ＲＸとの間には、カップリング容量Ｃｘが形成される。
【００９０】
センシングが行われる際、まず、センサ駆動電極ＴＸにパルス状のセンサ駆動信号Ｖｗが書込まれ、上記に示したようなセンサ駆動電極ＴＸと検出電極ＲＸとの間の電極間容量Ｃｃの変化に応じてセンサ信号が発生する。次に、タッチ検出ＩＣチップ４は、検出電極ＲＸからセンサ信号の変化を示すパルス状の検出信号Ｖｒを読取る。センサ駆動信号Ｖｗがセンサ駆動電極ＴＸに供給されるタイミングと、検出電極ＲＸからの検出信号Ｖｒに基づいて、指Ｆｇの位置を検出することができる。
【００９１】
表示装置１の表示駆動およびセンシング駆動は、例えば１フレーム期間内に行われる。一例では、１フレーム期間は、画像を表示するための第１期間と、被検出物を検出する第２期間とに分けられる。第１期間では、表示領域ＤＡの全ての主画素ＰＸに映像信号を書き込む表示駆動が時分割的に行われる（表示期間）。また、第１期間に続く第２期間では、表示領域ＤＡの全域において被検出物を検出するセンシング駆動が時分割的に行われる（検出期間、或いはセンシング期間）。センサ駆動電極ＴＸには、第１期間においてコモン駆動信号が供給され、第２期間においてセンサ駆動信号が供給される。
【００９２】
なお、ここでは、相互容量方式によるセンシングについて説明したが、センサ装置は、自己容量方式によるセンシングが可能な構成を有していてもよい。
【００９３】
以上説明したように、本実施形態によれば、表示品位の改善が可能な表示装置を提供することができる。
【００９４】
なお、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これらの新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これらの実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
【符号の説明】
【００９５】
１…表示装置  ２…表示パネル  ＡＲ…アレイ基板  ＣＴ…対向基板  
ＲＸ…検出電極  ＴＸ…センサ駆動電極  ＰＥ…画素電極  ＰＳＬ…スリット  
Ｓ…映像信号線  Ｇ…走査信号線  ＣＦ…カラーフィルタ層  
ＣＦＲ，ＣＦＧ，ＣＦＢ…カラーフィルタ  ＢＲ…境界部  ＢＭ…遮光層  
ＣＥ…共通電極  ＳＬ…スリット  ＭＬ，ＭＬａ，ＭＬｂ…金属配線  
ＰＸ…主画素  ＳＰＸ，ＳＰＸＲ，ＳＰＸＧ，ＳＰＸＢ…副画素
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８Ａ】
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【図８Ｂ】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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