(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
逆波長分散性の重合性液晶化合物と、下記式（１）で表される紫外線吸収剤とを含有し、
前記重合性液晶化合物の極大吸収波長Ａと、前記紫外線吸収剤の極大吸収波長Ｂとが、下記式（２）を満たし、
前記紫外線吸収剤の含有量が、前記重合性液晶化合物の含有量に対して１〜２０質量％である、重合性液晶組成物。
【化１】
0006754845.tif 000043
０ｎｍ≦Ａ−Ｂ＜２４ｎｍ  ・・・（２）
前記式（１）中、Ａｒは、置換基を有していてもよい、芳香族炭化水素環または芳香族複素環を表し、Ｘは、炭素原子または窒素原子を表し、Ｙは、酸素原子または窒素原子を表し、Ｚは、酸素原子または窒素原子を表し、Ｘ、ＹおよびＺは、それぞれ置換基を有していてもよく、Ｘが有する置換基とＹが有する置換基とが互いに結合してＸおよびＹを含む環を形成していてもよい。ただし、ＸとＹとの結合形式は、Ｙの置換基の有無により、二重結合であっても三重結合であってもよい。
【請求項２】
前記重合性液晶化合物が、下記式（Ｉ）で表される液晶化合物である、請求項１に記載の重合性液晶組成物。
Ｌ1−ＳＰ1−Ａ1−Ｄ3−Ｇ1−Ｄ1−Ａｒ−Ｄ2−Ｇ2−Ｄ4−Ａ2−ＳＰ2−Ｌ2    ・・・（Ｉ）
前記式（Ｉ）中、Ｄ1、Ｄ2、Ｄ3およびＤ4は、それぞれ独立に、単結合、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）Ｏ−、−ＣＲ1Ｒ2−、−ＣＲ1Ｒ2−ＣＲ3Ｒ4−、−Ｏ−ＣＲ1Ｒ2−、−ＣＲ1Ｒ2−Ｏ−ＣＲ3Ｒ4−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ1Ｒ2−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ1Ｒ2−、−ＣＲ1Ｒ2−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ3Ｒ4−、−ＣＲ1Ｒ2−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ3Ｒ4−、−ＮＲ1−ＣＲ2Ｒ3−、または、−ＣＯ−ＮＲ1−を表す。Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、または、炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｇ1およびＧ2は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表し、前記脂環式炭化水素基を構成する−ＣＨ2−の１個以上が−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＨ−で置換されていてもよい。
Ａ1およびＡ2は、それぞれ独立に、炭素数６以上の芳香環、または、炭素数６以上のシクロアルキレン環を表す。
ＳＰ1およびＳＰ2は、それぞれ独立に、単結合、炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、または、炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基を構成する−ＣＨ2−の１個以上が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（Ｑ）−、もしくは、−ＣＯ−に置換された２価の連結基を表し、Ｑは、置換基を表す。
Ｌ1およびＬ2は、それぞれ独立に１価の有機基を表し、Ｌ1およびＬ2の少なくとも一方は重合性基を表す。ただし、Ａｒが、下記式（Ａｒ−３）で表される芳香環である場合は、Ｌ1およびＬ2ならびに下記式（Ａｒ−３）中のＬ3およびＬ4の少なくとも１つが重合性基を表す。
Ａｒは、下記式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−５）で表される基からなる群から選択されるいずれかの芳香環を表す。
【化２】
0006754845.tif 000044
ここで、前記式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−５）中、＊１は、Ｄ1との結合位置を表し、＊２は、Ｄ2との結合位置を表す。
また、Ｑ1は、ＮまたはＣＨを表す。
また、Ｑ2は、−Ｓ−、−Ｏ−、または、−Ｎ（Ｒ5）−を表し、Ｒ5は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
また、Ｙ1は、置換基を有してもよい、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、または、炭素数３〜１２の芳香族複素環基を表す。
また、Ｚ1、Ｚ2およびＺ3は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の１価の脂環式炭化水素基、炭素数６〜２０の１価の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＮＲ6Ｒ7、または、−ＳＲ8を表し、Ｒ6〜Ｒ8は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｚ1およびＺ2は、互いに結合して芳香環を形成してもよい。
また、Ａ3およびＡ4は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−Ｎ（Ｒ9）−、−Ｓ−、および、−ＣＯ−からなる群から選択される基を表し、Ｒ9は、水素原子または置換基を表す。
また、Ｘは、第１４〜１６族の非金属原子を表す。ただし、前記非金属原子には、水素原子または置換基が結合していてもよい。
また、Ｄ5およびＤ6は、それぞれ独立に、単結合、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）Ｏ−、−ＣＲ1Ｒ2−、−ＣＲ1Ｒ2−ＣＲ3Ｒ4−、−Ｏ−ＣＲ1Ｒ2−、−ＣＲ1Ｒ2−Ｏ−ＣＲ3Ｒ4−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ1Ｒ2−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ1Ｒ2−、−ＣＲ1Ｒ2−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ3Ｒ4−、−ＣＲ1Ｒ2−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ3Ｒ4−、−ＮＲ1−ＣＲ2Ｒ3−、または、−ＣＯ−ＮＲ1−を表す。Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、または、炭素数１〜４のアルキル基を表す。
また、ＳＰ3およびＳＰ4は、それぞれ独立に、単結合、炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、または、炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基を構成する−ＣＨ2−の１個以上が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（Ｑ）−、もしくは、−ＣＯ−に置換された２価の連結基を表し、Ｑは、置換基を表す。
また、Ｌ3およびＬ4は、それぞれ独立に１価の有機基を表し、Ｌ3およびＬ4ならびに前記式（Ｉ）中のＬ1およびＬ2の少なくとも１つが重合性基を表す。
また、Ａｘは、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。
また、Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、または、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選択される少なくとも１つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。
また、ＡｘおよびＡｙにおける芳香環は、置換基を有していてもよく、ＡｘとＡｙとが結合して環を形成していてもよい。
また、Ｑ3は、水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。
【請求項３】
前記紫外線吸収剤が、下記式（１−１）または下記式（１−２）で表される化合物である、請求項１または２に記載の重合性液晶組成物。
【化３】
0006754845.tif 000045
前記式（１−１）および前記式（１−２）中、Ｒ11は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、スルホ基、アルキル基、アルケニル基、芳香族炭化水素環、芳香族複素環、−Ｏ−Ｒ、−Ｓ−Ｒ、−ＣＯ−Ｒ、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ、−ＳＯ−Ｒ、−ＳＯ2−Ｒ、−ＮＲ2、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ、−ＮＨ−ＳＯ2−Ｒ、−ＣＯ−ＮＲ2、−ＳＯ2−ＮＲ2、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−Ｒ、または、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＲ2を表し、Ｒは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、芳香族炭化水素環または芳香族複素環を表し、Ｒは、さらに置換基を有していてもよい。また、ｍは、０〜４の整数を表し、Ｒ11が複数ある場合、複数のＲ11は、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、また、互いに結合して環を形成していてもよい。
前記式（１−１）中、Ｒ12およびＲ13は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい、芳香族炭化水素環または芳香族複素環を表す。
前記式（１−２）中、Ｒ14は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシル基、水酸基、アミノ基またはアミド基を表す。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の重合性液晶組成物を重合して得られる光学異方性膜。
【請求項５】
請求項４に記載の光学異方性膜を有する光学フィルム。
【請求項６】
前記光学異方性膜が、ポジティブＡプレートまたはポジティブＣプレートである、請求項５に記載の光学フィルム。
【請求項７】
前記光学異方性膜を２層以上有し、少なくとも１層がポジティブＡプレートであり、少なくとも他の１層がポジティブＣプレートである、請求項５または６に記載の光学フィルム。
【請求項８】
請求項５〜７のいずれか１項に記載の光学フィルムと、偏光子とを有する、偏光板。
【請求項９】
請求項５〜７のいずれか１項に記載の光学フィルム、または、請求項８に記載の偏光板を有する、画像表示装置。
【請求項１０】
有機エレクトロルミネッセンス表示パネルと、前記有機エレクトロルミネッセンス表示パネル上に配置された円偏光板と、を含む有機エレクトロルミネッセンス表示装置であって、
前記円偏光板が、偏光子と、請求項７に記載の光学フィルムとを含む、有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、重合性液晶組成物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板、画像表示装置および有機エレクトロルミネッセンス表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
逆波長分散性を示す重合性化合物は、広い波長範囲での正確な光線波長の変換が可能になること、および、高い屈折率を有するために位相差フィルムを薄膜化できること、などの特徴を有しているため、盛んに研究されている。
また、逆波長分散性を示す重合性化合物としては、一般にＴ型の分子設計指針が取られており、分子長軸の波長を短波長化し、分子中央に位置する短軸の波長を長波長化することが要求されている。
そのため、分子中央に位置する短軸の骨格（以下、「逆波長分散発現部」ともいう。）と、分子長軸との連結には、吸収波長のないシクロアルキレン骨格を利用することが知られている（例えば、特許文献１〜５参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００８−２７３９２５号公報
【特許文献２】特開２０１０−０３１２２３号公報
【特許文献３】国際公開第２０１４／０１０３２５号
【特許文献４】特開２０１６−０８１０３５号公報
【特許文献５】国際公開第２０１６／１１４３４６号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明者らは、特許文献１〜５に記載された重合性化合物を含有する重合性液晶組成物について検討したところ、重合性化合物の種類および添加剤（例えば、紫外線吸収剤など）の配合条件によっては、形成される光学異方性膜の耐光性が劣ることを明らかとした。【０００５】
そこで、本発明は、耐光性に優れた光学異方性膜を作製することができる重合性液晶組成物、ならびに、それを用いた光学異方性膜、光学フィルム、偏光板、画像表示装置および有機エレクトロルミネッセンス表示装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、逆波長分散性を示す重合性液晶化合物とともに、所定の構造を有し、かつ、重合性液晶化合物の極大吸収波長との関係が所定の関係を満たす紫外線吸収剤を所定量用いることにより、形成される光学異方性膜の耐光性が良好となることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。【０００７】
［１］  逆波長分散性の重合性液晶化合物と、下記式（１）で表される紫外線吸収剤とを含有し、
重合性液晶化合物の極大吸収波長Ａと、紫外線吸収剤の極大吸収波長Ｂとが、下記式（２）を満たし、
紫外線吸収剤の含有量が、重合性液晶化合物の含有量に対して１〜２０質量％である、重合性液晶組成物。
【化１】
0006754845.tif 000002
０ｎｍ≦Ａ−Ｂ＜２４ｎｍ  ・・・（２）
式（１）中、Ａｒは、置換基を有していてもよい、芳香族炭化水素環または芳香族複素環を表し、Ｘは、炭素原子または窒素原子を表し、Ｙは、酸素原子または窒素原子を表し、Ｚは、酸素原子または窒素原子を表し、Ｘ、ＹおよびＺは、それぞれ置換基を有していてもよく、Ｘが有する置換基とＹが有する置換基とが互いに結合してＸおよびＹを含む環を形成していてもよい。ただし、ＸとＹとの結合形式は、Ｙの置換基の有無により、二重結合であっても三重結合であってもよい。【０００８】
［２］  重合性液晶化合物が、後述する式（Ｉ）で表される液晶化合物である、［１］に記載の重合性液晶組成物。
［３］  紫外線吸収剤が、後述する式（１−１）または後述する式（１−２）で表される化合物である、［１］または［２］に記載の重合性液晶組成物。【０００９】
［４］  ［１］〜［３］のいずれかに記載の重合性液晶組成物を重合して得られる光学異方性膜。
［５］  ［４］に記載の光学異方性膜を有する光学フィルム。
［６］  光学異方性膜が、ポジティブＡプレートまたはポジティブＣプレートである、［５］に記載の光学フィルム。
［７］  光学異方性膜を２層以上有し、少なくとも１層がポジティブＡプレートであり、少なくとも他の１層がポジティブＣプレートである、［５］または［６］に記載の光学フィルム。
［８］  ［５］〜［７］のいずれかに記載の光学フィルムと、偏光子とを有する、偏光板。
［９］  ［５］〜［７］のいずれかに記載の光学フィルム、または、［８］に記載の偏光板を有する、画像表示装置。
［１０］  有機エレクトロルミネッセンス表示パネルと、有機エレクトロルミネッセンス表示パネル上に配置された円偏光板と、を含む有機エレクトロルミネッセンス表示装置であって、
円偏光板が、偏光子と、［７］に記載の光学フィルムとを含む、有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、耐光性に優れた光学異方性膜を作製することができる重合性液晶組成物、ならびに、それを用いた光学異方性膜、光学フィルム、偏光板、画像表示装置および有機エレクトロルミネッセンス表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１Ａ】図１Ａは、極大吸収波長の定義を説明するためのスペクトルの一例である。
【図１Ｂ】図１Ｂは、極大吸収波長の定義を説明するためのスペクトルの他の一例である。
【図２Ａ】図２Ａは、本発明の光学フィルムの一例を示す模式的な断面図である。
【図２Ｂ】図２Ｂは、本発明の光学フィルムの一例を示す模式的な断面図である。
【図２Ｃ】図２Ｃは、本発明の光学フィルムの一例を示す模式的な断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、表記される２価の基（例えば、−ＣＯ−Ｏ−）の結合方向は特に制限されず、例えば、後述する式（Ｉ）中のＤ1が−ＣＯ−Ｏ−である場合、Ａｒ側に結合している位置を＊１、Ｇ1側に結合している位置を＊２とすると、Ｄ1は、＊１−ＣＯ−Ｏ−＊２であってもよく、＊１−Ｏ−ＣＯ−＊２であってもよい。
【００１３】
［重合性液晶組成物］
本発明の重合性液晶組成物は、逆波長分散性（以下、「逆分散」と略す場合がある。）の重合性液晶化合物と、下記式（１）で表される紫外線吸収剤とを含有する。
本発明においては、重合性液晶化合物の極大吸収波長Ａと、紫外線吸収剤の極大吸収波長Ｂとが、下記式（２）を満たす。なお、本明細書においては、極大吸収波長は、３００〜４００ｎｍの波長領域に存在するピークの最も長波長側の吸収波長をいい、例えば、図１Ａおよび図１Ｂに示すように、吸収スペクトルが双峰性のピークを示す場合には、長波長側の吸収を極大吸収波長とする。
また、本発明においては、紫外線吸収剤の含有量は、重合性液晶化合物の含有量に対して１〜２０質量％である。
【００１４】
【化２】
0006754845.tif 000003
０ｎｍ≦Ａ−Ｂ＜２４ｎｍ  ・・・（２）
ここで、上記式（１）中、Ａｒは、置換基を有していてもよい、芳香族炭化水素環または芳香族複素環を表し、Ｘは、炭素原子または窒素原子を表し、Ｙは、酸素原子または窒素原子を表し、Ｚは、酸素原子または窒素原子を表し、Ｘ、ＹおよびＺは、それぞれ置換基を有していてもよく、Ｘが有する置換基とＹが有する置換基とが互いに結合してＸおよびＹを含む環を形成していてもよい。ただし、ＸとＹとの結合形式は、Ｙの置換基の有無により、二重結合であっても三重結合であってもよい。
【００１５】
本発明においては、上述した通り、逆波長分散性の重合性液晶化合物と、上記式（１）で表され、上記式（２）の関係式を満たす紫外線吸収剤とを用いることにより、形成される光学異方性膜の耐光性が良好となる。
これは、詳細には明らかではないが、本発明者らは以下のように推測している。
すなわち、重合性液晶化合物の極大吸収波長Ａと、紫外線吸収剤の極大吸収波長Ｂとが、上記式（２）を満たすことにより、重合性液晶化合物および紫外線吸収剤の吸収波長が重なる領域が多くなり、重合性液晶化合物から紫外線吸収剤へのエネルギー移動が起こりやすくなったと推測される。その結果、重合性液晶化合物の分解が抑制されて、光学異方性膜の耐光性が向上すると推測される。
以下、本発明の重合性液晶組成物の各成分について詳細に説明する。
【００１６】
〔重合性液晶化合物〕
本発明の重合性液晶組成物は、逆波長分散性の重合性液晶化合物を含有する。
ここで、本明細書において「逆波長分散性」の重合性液晶化合物とは、これを用いて作製された位相差フィルムの特定波長（可視光範囲）における面内のレターデーション（Ｒｅ）値を測定した際に、測定波長が大きくなるにつれてＲｅ値が同等または高くなるものをいう。
また、本明細書において「重合性液晶化合物」とは、重合性基を有する液晶化合物のことをいう。なお、重合性液晶化合物が有する重合性基の種類は特に制限されず、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、スチリル基、および、アリル基などが挙げられる。
【００１７】
上記重合性液晶化合物の種類は特に制限されないが、その形状から、棒状タイプ（棒状液晶化合物）と円盤状タイプ（円盤状液晶化合物）に分類できる。さらにそれぞれ低分子タイプと高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。本発明では、いずれの液晶化合物を用いることもできる。２種以上の棒状液晶化合物、２種以上の円盤状液晶化合物、または、棒状液晶化合物と円盤状液晶化合物との混合物を用いてもよい。
これらの中でも、棒状液晶化合物を用いることが好ましい。棒状液晶化合物をホモジニアス（水平）配向させることで、形成される位相差フィルムをポジティブＡプレートとして機能させることが容易になるという利点があるためである。
【００１８】
上記重合性液晶化合物は、上記のように逆波長分散性のフィルムを形成できるものであれば特に限定されず、例えば、特開２００８−２９７２１０号公報に記載の一般式（Ｉ）で表される化合物（特に、段落番号［００３４］〜［００３９］に記載の化合物）、特開２０１０−８４０３２号公報に記載の一般式（１）で表される化合物（特に、段落番号［００６７］〜［００７３］に記載の化合物）、および、後述する式（Ｉ）で表される液晶化合物等を用いることができる。
【００１９】
本発明においては、上記重合性液晶化合物は、逆波長分散性により優れるという観点から、下記式（Ｉ）で表される液晶化合物であることが好ましい。
Ｌ1−ＳＰ1−Ａ1−Ｄ3−Ｇ1−Ｄ1−Ａｒ−Ｄ2−Ｇ2−Ｄ4−Ａ2−ＳＰ2−Ｌ2    ・・・（Ｉ）
【００２０】
上記式（Ｉ）中、Ｄ1、Ｄ2、Ｄ3およびＤ4は、それぞれ独立に、単結合、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）Ｏ−、−ＣＲ1Ｒ2−、−ＣＲ1Ｒ2−ＣＲ3Ｒ4−、−Ｏ−ＣＲ1Ｒ2−、−ＣＲ1Ｒ2−Ｏ−ＣＲ3Ｒ4−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ1Ｒ2−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ1Ｒ2−、−ＣＲ1Ｒ2−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ3Ｒ4−、−ＣＲ1Ｒ2−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ3Ｒ4−、−ＮＲ1−ＣＲ2Ｒ3−、または、−ＣＯ−ＮＲ1−を表す。Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、または、炭素数１〜４のアルキル基を表す。
また、上記式（Ｉ）中、Ｇ1およびＧ2は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表し、脂環式炭化水素基を構成する−ＣＨ2−の１個以上が−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＨ−で置換されていてもよい。
また、上記式（Ｉ）中、Ａ1およびＡ2は、それぞれ独立に、炭素数６以上の芳香環、または、炭素数６以上のシクロアルキレン環を表す。
また、上記式（Ｉ）中、ＳＰ1およびＳＰ2は、それぞれ独立に、単結合、炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、または、炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基を構成する−ＣＨ2−の１個以上が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（Ｑ）−、もしくは、−ＣＯ−に置換された２価の連結基を表し、Ｑは、置換基を表す。
また、上記式（Ｉ）中、Ｌ1およびＬ2は、それぞれ独立に１価の有機基を表し、Ｌ1およびＬ2の少なくとも一方は重合性基を表す。ただし、Ａｒが、下記式（Ａｒ−３）で表される芳香環である場合は、Ｌ1およびＬ2ならびに下記式（Ａｒ−３）中のＬ3およびＬ4の少なくとも１つが重合性基を表す。
【００２１】
上記式（Ｉ）中、Ｇ1およびＧ2が示す炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基としては、５員環又は６員環であることが好ましい。また、脂環式炭化水素基は、飽和でも不飽和でもよいが飽和脂環式炭化水素基が好ましい。Ｇ1およびＧ2で表される２価の脂環式炭化水素基としては、例えば、特開２０１２−２１０６８号公報の段落００７８の記載を参酌でき、この内容は本願明細書に組み込まれる。
【００２２】
上記式（Ｉ）中、Ａ1およびＡ2が示す炭素数６以上の芳香環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナンスロリン環等などの芳香族炭化水素環；フラン環、ピロール環、チオフェン環、ピリジン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環等の芳香族複素環；が挙げられる。なかでも、ベンゼン環（例えば、１，４−フェニル基など）が好ましい。
また、上記式（Ｉ）中、Ａ1およびＡ2が示す炭素数６以上のシクロアルキレン環としては、例えば、シクロヘキサン環、シクロヘキセン環などが挙げられ、なかでも、シクロヘキサン環（例えば、シクロヘキサン−１，４−ジイル基など）が好ましい。
【００２３】
上記式（Ｉ）中、ＳＰ1およびＳＰ2が示す炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基等が好適に挙げられる。
【００２４】
上記式（Ｉ）中、Ｌ1およびＬ2の少なくとも一方が示す重合性基は、特に限定されないが、ラジカル重合またはカチオン重合可能な重合性基が好ましい。
ラジカル重合性基としては、一般に知られているラジカル重合性基を用いることができ、好適なものとして、アクリロイル基またはメタクリロイル基を挙げることができる。この場合、重合速度はアクリロイル基が一般的に速いことが知られており、生産性向上の観点からアクリロイル基が好ましいが、メタクリロイル基も高複屈折性液晶の重合性基として同様に使用することができる。
カチオン重合性基としては、一般に知られているカチオン重合性を用いることができ、具体的には、脂環式エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル基、および、ビニルオキシ基などを挙げることができる。中でも、脂環式エーテル基、または、ビニルオキシ基が好適であり、エポキシ基、オキセタニル基、または、ビニルオキシ基が特に好ましい。
特に好ましい重合性基の例としては下記が挙げられる。
【００２５】
【化３】
0006754845.tif 000004
【００２６】
一方、上記式（Ｉ）中、Ａｒは、下記式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−５）で表される基からなる群から選択されるいずれかの芳香環を表す。なお、下記式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−５）中、＊１はＤ1との結合位置を表し、＊２はＤ2との結合位置を表す。
【００２７】
【化４】
0006754845.tif 000005
【００２８】
ここで、上記式（Ａｒ−１）中、Ｑ1は、ＮまたはＣＨを表し、Ｑ2は、−Ｓ−、−Ｏ−、または、−Ｎ（Ｒ5）−を表し、Ｒ5は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｙ1は、置換基を有してもよい、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、または、炭素数３〜１２の芳香族複素環基を表す。
Ｒ5が示す炭素数１〜６のアルキル基としては、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、および、ｎ−ヘキシル基などが挙げられる。
Ｙ1が示す炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、２，６−ジエチルフェニル基、ナフチル基などのアリール基が挙げられる。
Ｙ1が示す炭素数３〜１２の芳香族複素環基としては、例えば、チエニル基、チアゾリル基、フリル基、ピリジル基などのヘテロアリール基が挙げられる。
また、Ｙ1が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子などが挙げられる。
アルキル基としては、例えば、炭素数１〜１８の直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキル基が好ましく、炭素数１〜８のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、シクロヘキシル基等）がより好ましく、炭素数１〜４のアルキル基であることが更に好ましく、メチル基またはエチル基であるのが特に好ましい。
アルコキシ基としては、例えば、炭素数１〜１８のアルコキシ基が好ましく、炭素数１〜８のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−ブトキシ基、メトキシエトキシ基等）がより好ましく、炭素数１〜４のアルコキシ基であることが更に好ましく、メトキシ基またはエトキシ基であるのが特に好ましい。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、中でも、フッ素原子、塩素原子であるのが好ましい。
【００２９】
また、上記式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−５）中、Ｚ1、Ｚ2およびＺ3は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の１価の脂環式炭化水素基、炭素数６〜２０の１価の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＮＲ6Ｒ7、または、−ＳＲ8を表し、Ｒ6〜Ｒ8は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｚ1およびＺ2は、互いに結合して芳香環を形成してもよい。
炭素数１〜２０の１価の脂肪族炭化水素基としては、炭素数１〜１５のアルキル基が好ましく、炭素数１〜８のアルキル基がより好ましく、具体的には、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基（１，１−ジメチルプロピル基）、ｔｅｒｔ−ブチル基、１，１−ジメチル−３，３−ジメチル−ブチル基が更に好ましく、メチル基、エチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基が特に好ましい。
炭素数３〜２０の１価の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基、メチルシクロヘキシル基、エチルシクロヘキシル基等の単環式飽和炭化水素基；シクロブテニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロヘプテニル基、シクロオクテニル基、シクロデセニル基、シクロペンタジエニル基、シクロヘキサジエニル基、シクロオクタジエニル基、シクロデカジエン等の単環式不飽和炭化水素基；ビシクロ［２．２．１］ヘプチル基、ビシクロ［２．２．２］オクチル基、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デシル基、トリシクロ［３．３．１．１３，７］デシル基、テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデシル基、アダマンチル基等の多環式飽和炭化水素基；等が挙げられる。
炭素数６〜２０の１価の芳香族炭化水素基としては、具体的には、例えば、フェニル基、２，６−ジエチルフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基などが挙げられ、炭素数６〜１２のアリール基（特にフェニル基）が好ましい。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、中でも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子であるのが好ましい。
一方、Ｒ6〜Ｒ8が示す炭素数１〜６のアルキル基としては、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、および、ｎ−ヘキシル基などが挙げられる。
【００３０】
また、上記式（Ａｒ−２）および（Ａｒ−３）中、Ａ3およびＡ4は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−Ｎ（Ｒ9）−、−Ｓ−、および、−ＣＯ−からなる群から選択される基を表し、Ｒ9は、水素原子または置換基を表す。
Ｒ9が示す置換基としては、上記式（Ａｒ−１）中のＹ1が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
【００３１】
また、上記式（Ａｒ−２）中、Ｘは、水素原子または置換基が結合していてもよい第１４〜１６族の非金属原子を表す。
また、Ｘが示す第１４〜１６族の非金属原子としては、例えば、酸素原子、硫黄原子、置換基を有する窒素原子、置換基を有する炭素原子が挙げられ、置換基としては、具体的には、例えば、アルキル基、アルコキシ基、アルキル置換アルコキシ基、環状アルキル基、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基など）、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、アルキルカルボニル基、スルホ基、水酸基等が挙げられる。
【００３２】
また、上記式（Ａｒ−３）中、Ｄ5およびＤ6は、それぞれ独立に、単結合、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）Ｏ−、−ＣＲ1Ｒ2−、−ＣＲ1Ｒ2−ＣＲ3Ｒ4−、−Ｏ−ＣＲ1Ｒ2−、−ＣＲ1Ｒ2−Ｏ−ＣＲ3Ｒ4−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ1Ｒ2−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ1Ｒ2−、−ＣＲ1Ｒ2−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ3Ｒ4−、−ＣＲ1Ｒ2−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ3Ｒ4−、−ＮＲ1−ＣＲ2Ｒ3−、または、−ＣＯ−ＮＲ1−を表す。Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、または、炭素数１〜４のアルキル基を表す。
【００３３】
また、上記式（Ａｒ−３）中、ＳＰ3およびＳＰ4は、それぞれ独立に、単結合、炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、または、炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基を構成する−ＣＨ2−の１個以上が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（Ｑ）−、もしくは、−ＣＯ−に置換された２価の連結基を表し、Ｑは、置換基を表す。置換基としては、上記式（Ａｒ−１）中のＹ１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
【００３４】
また、上記式（Ａｒ−３）中、Ｌ3およびＬ4は、それぞれ独立に１価の有機基を表し、Ｌ3およびＬ4ならびに上記式（Ｉ）中のＬ1およびＬ2の少なくとも１つが重合性基を表す。
【００３５】
また、上記式（Ａｒ−４）〜（Ａｒ−５）中、Ａｘは、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。
また、上記式（Ａｒ−４）〜（Ａｒ−５）中、Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、または、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選択される少なくとも１つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。
ここで、ＡｘおよびＡｙにおける芳香環は、置換基を有していてもよく、ＡｘとＡｙとが結合して環を形成していてもよい。
また、Ｑ3は、水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。
ＡｘおよびＡｙとしては、特許文献３（国際公開第２０１４／０１０３２５号）の［００３９］〜［００９５］段落に記載されたものが挙げられる。
また、Ｑ3が示す炭素数１〜６のアルキル基としては、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、および、ｎ−ヘキシル基などが挙げられ、置換基としては、上記式（Ａｒ−１）中のＹ1が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
【００３６】
上記式（Ｉ）で表される液晶化合物の好ましい例を以下に示すが、これらの液晶化合物に限定されるものではない。なお、下記式中の１，４−シクロヘキシレン基は、いずれもトランス−１，４−シクロヘキシレン基である。
【００３７】
【化５】
0006754845.tif 000006
【００３８】
【化６】
0006754845.tif 000007
【００３９】
【化７】
0006754845.tif 000008
なお、上記式中、「＊」は結合位置を表す。
【００４０】
【化８】
0006754845.tif 000009
なお、上記式ＩＩ−２−８およびＩＩ−２−９中のアクリロイルオキシ基に隣接する基は、プロピレン基（メチル基がエチレン基に置換した基）を表し、メチル基の位置が異なる位置異性体の混合物を表す。
【００４１】
【化９】
0006754845.tif 000010
【００４２】
【化１０】
0006754845.tif 000011
【００４３】
【化１１】
0006754845.tif 000012
【００４４】
【化１２】
0006754845.tif 000013
【００４５】
【化１３】
0006754845.tif 000014
【００４６】
【化１４】
0006754845.tif 000015
【００４７】
本発明の重合性液晶組成物は、上述した逆波長分散性の重合性液晶化合物以外に、順波長分散性（以下、「順分散」と略す場合がある。）の液晶性化合物を含有していてもよい。
ここで、本明細書において「順波長分散性」の液晶性化合物とは、これを用いて作製された位相差フィルムの特定波長（可視光範囲）における面内のレターデーション（Ｒｅ）値を測定した際に、測定波長が大きくなるにつれてＲｅ値が小さくなるものをいう。
本発明においては、上記順波長分散性を示す液晶性化合物を含有する場合の含有量は特に限定されないが、上述した逆波長分散性の重合性液晶化合物および上記順波長分散性を示す液晶性化合物の合計１００質量部において、１〜４０質量部であるのが好ましく、１０〜３０質量部であるのがより好ましい。
【００４８】
〔紫外線吸収剤〕
本発明の重合性液晶組成物は、下記式（１）で表される紫外線吸収剤を含有する。
【化１５】
0006754845.tif 000016
【００４９】
上記式（１）中、Ａｒは、置換基を有していてもよい、芳香族炭化水素環または芳香族複素環を表す。
ここで、芳香族炭化水素環としては、例えば、フェニル基、２，６−ジエチルフェニル基、ナフチル基などのアリール基が挙げられる。
また、芳香族複素環としては、例えば、チエニル基、チアゾリル基、フリル基、ピリジル基などのヘテロアリール基が挙げられる。
また、Ａｒが有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子などが挙げられる。
アルキル基としては、例えば、炭素数１〜１８の直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキル基が好ましく、炭素数１〜８のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、シクロヘキシル基等）がより好ましく、炭素数１〜４のアルキル基であることが更に好ましく、メチル基またはエチル基であるのが特に好ましい。
アルコキシ基としては、例えば、炭素数１〜１８のアルコキシ基が好ましく、炭素数１〜８のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−ブトキシ基、メトキシエトキシ基等）がより好ましく、炭素数１〜４のアルコキシ基であることが更に好ましく、メトキシ基またはエトキシ基であるのが特に好ましい。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、中でも、フッ素原子、塩素原子であるのが好ましい。
【００５０】
また、上記式（１）中、Ｘは、炭素原子または窒素原子を表し、Ｙは、酸素原子または窒素原子を表し、Ｚは、酸素原子または窒素原子を表し、Ｘ、ＹおよびＺは、それぞれ置換基を有していてもよく、Ｘが有する置換基とＹが有する置換基とが互いに結合してＸおよびＹを含む環を形成していてもよい。ただし、ＸとＹとの結合形式は、Ｙの置換基の有無により、二重結合であっても三重結合であってもよい。
Ｘ、ＹおよびＺが有していてもよい置換基としては、Ａｒが有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
【００５１】
上記式（１）で表される紫外線吸収剤としては、例えば、特開２００７−７２１６３号公報の［００１８］〜［００３１］段落に記載された化合物が挙げられ、具体的には、同公報の［００５５］〜［０１０５］段落に記載された化合物が挙げられる。
その他、上記式（１）で表される紫外線吸収剤としては、例えば、特開２０１３−８２７０７号公報の［００１１］〜［００４１］段落に記載されたトリアジン系化合物も挙げられる。
また、上記式（１）で表される紫外線吸収剤としては、市販品として、Ｔｉｎｕｖｉｎ４００、Ｔｉｎｕｖｉｎ４０５、Ｔｉｎｕｖｉｎ４６０、Ｔｉｎｕｖｉｎ４７７、Ｔｉｎｕｖｉｎ４７９、および、Ｔｉｎｕｖｉｎ１５７７（いずれもＢＡＳＦ社製）等を用いることができる。
【００５２】
本発明においては、長波長に吸収を有し、耐光性がより良好となる理由から、上記式（１）で表される紫外線吸収剤が、下記式（１−１）または下記式（１−２）で表される化合物であることが好ましい。
【化１６】
0006754845.tif 000017
【００５３】
上記式（１−１）および上記式（１−２）中、Ｒ11は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、スルホ基、アルキル基、アルケニル基、芳香族炭化水素環、芳香族複素環、−Ｏ−Ｒ、−Ｓ−Ｒ、−ＣＯ−Ｒ、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ、−ＳＯ−Ｒ、−ＳＯ2−Ｒ、−ＮＲ2、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ、−ＮＨ−ＳＯ2−Ｒ、−ＣＯ−ＮＲ2、−ＳＯ2−ＮＲ2、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−Ｒ、または、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＲ2を表し、Ｒは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、芳香族炭化水素環または芳香族複素環を表し、Ｒは、さらに置換基を有していてもよい。また、ｍは、０〜４の整数を表し、Ｒ11が複数ある場合、複数のＲ11は、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、また、互いに結合して環を形成していてもよい。
ここで、Ｒ11が示す芳香族炭化水素環および芳香族複素環、ならびに、有していてもよい置換基としては、いずれも、上記式（１）中のＡｒと同様のものが挙げられる。
【００５４】
また、上記式（１−１）中、Ｒ12およびＲ13は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい、芳香族炭化水素環または芳香族複素環を表す。
ここで、Ｒ12およびＲ13が示す芳香族炭化水素環および芳香族複素環、ならびに、有していてもよい置換基としては、いずれも、上記式（１）中のＡｒと同様のものが挙げられる。
【００５５】
また、上記式（１−２）中、Ｒ14は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシル基、水酸基、アミノ基またはアミド基を表す。
【００５６】
上記式（１−１）で表される化合物としては、例えば、特開２００７−７２１６３号公報の［００３０］〜［００３１］段落に記載された化合物が挙げられ、具体的には、同公報の［００６５］〜［０１０５］段落に記載された化合物が挙げられる。
また、上記式（１−２）で表される化合物としては、具体的には、例えば、特開２０１４−０３２３８６号公報の［００２４］〜［００３４］段落に記載された化合物が挙げられる。
【００５７】
本発明においては、上述した重合性液晶化合物の極大吸収波長Ａと、上述した紫外線吸収剤の極大吸収波長Ｂとが、下記式（２）を満たすものを適宜選択して用い、下記式（２−１）を満たすものを適宜選択して用いることが好ましく、下記式（２−２）を満たすものを適宜選択して用いることがより好ましい。
０ｎｍ≦Ａ−Ｂ＜２４ｎｍ  ・・・（２）
０ｎｍ≦Ａ−Ｂ＜２０ｎｍ  ・・・（２−１）
０ｎｍ≦Ａ−Ｂ≦１８ｎｍ  ・・・（２−２）
【００５８】
また、本発明においては、上記式（１）で表される紫外線吸収剤の含有量は、上述した重合性液晶化合物の含有量に対して１〜２０質量％であり、５〜２０質量％であることが好ましく、５〜１５質量％であることがより好ましい。
【００５９】
〔重合開始剤〕
本発明の重合性液晶組成物は、重合開始剤を含有していることが好ましい。
使用する重合開始剤は、紫外線照射によって重合反応を開始可能な光重合開始剤であるのが好ましい。
光重合開始剤としては、例えば、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３−４０７９９号公報、特公平５−２９２３４号公報、特開平１０−９５７８８号公報、特開平１０−２９９９７号公報記載）等が挙げられる。
【００６０】
〔溶媒〕
本発明の重合性液晶組成物は、光学異方性膜を形成する作業性等の観点から、溶媒を含有するのが好ましい。
溶媒としては、具体的には、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなど）、エーテル類（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフランなど）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（例えば、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼンなど）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、クロロトルエンなど）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなど）、水、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノールなど）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブなど）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシドなど）、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなど）等が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００６１】
［光学異方性膜］
本発明の光学異方性膜は、上述した本発明の重合性液晶組成物を重合して得られる光学異方性膜である。
光学異方性膜の形成方法としては、例えば、上述した本発明の重合性液晶組成物を用いて、所望の配向状態とした後に、重合により固定化する方法などが挙げられる。
ここで、重合条件は特に限定されないが、光照射による重合においては、紫外線を用いることが好ましい。照射量は、１０ｍＪ／ｃｍ2〜５０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、２０ｍＪ／ｃｍ2〜５Ｊ／ｃｍ2であることがより好ましく、３０ｍＪ／ｃｍ2〜３Ｊ／ｃｍ2であることが更に好ましく、５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ2であることが特に好ましい。また、重合反応を促進するため、加熱条件下で実施してもよい。
なお、本発明においては、光学異方性膜は、後述する本発明の光学フィルムにおける任意の支持体上や、後述する本発明の偏光板における偏光子上に形成することができる。
【００６２】
［光学フィルム］
本発明の光学フィルムは、本発明の光学異方性膜を有する光学フィルムである。
図２Ａ、図２Ｂおよび図２Ｃ（以下、これらの図面を特に区別を要しない場合は「図２」と略す。）は、それぞれ本発明の光学フィルムの一例を示す模式的な断面図である。
なお、図２は模式図であり、各層の厚みの関係や位置関係などは必ずしも実際のものとは一致せず、図２に示す支持体、配向膜およびハードコート層は、いずれも任意の構成部材である。
図２に示す光学フィルム１０は、支持体１６と、配向膜１４と、光学異方性膜１２とをこの順で有する。
また、光学フィルム１０は、図２Ｂに示すように、支持体１６の配向膜１４が設けられた側とは反対側にハードコート層１８を有していてもよく、図２Ｃに示すように、光学異方性膜１２の配向膜１４が設けられた側とは反対側にハードコート層１８を有していてもよい。
以下、本発明の光学フィルムに用いられる種々の部材について詳細に説明する。
【００６３】
〔光学異方性膜〕
本発明の光学フィルムが有する光学異方性膜は、上述した本発明の光学異方性膜である。
本発明の光学フィルムにおいては、上記光学異方性膜の厚みについては特に限定されないが、０．１〜１０μｍであるのが好ましく、０．５〜５μｍであるのがより好ましい。
【００６４】
本発明の光学フィルムにおいては、光学設計上の観点から、上述した本発明の光学異方性膜が、ポジティブＡプレートまたはポジティブＣプレートであることが好ましい。
【００６５】
ここで、Ａプレートは、ポジティブＡプレート（正のＡプレート）とネガティブＡプレート（負のＡプレート）との２種があり、フィルム面内の遅相軸方向（面内での屈折率が最大となる方向）の屈折率をｎｘ、面内の遅相軸と面内で直交する方向の屈折率をｎｙ、厚み方向の屈折率をｎｚとしたとき、ポジティブＡプレートは式（Ａ１）の関係を満たすものであり、ネガティブＡプレートは式（Ａ２）の関係を満たすものである。なお、ポジティブＡプレートはＲｔｈが正の値を示し、ネガティブＡプレートはＲｔｈが負の値を示す。
式（Ａ１）    ｎｘ＞ｎｙ≒ｎｚ
式（Ａ２）    ｎｙ＜ｎｘ≒ｎｚ
なお、上記「≒」とは、両者が完全に同一である場合だけでなく、両者が実質的に同一である場合も包含する。「実質的に同一」とは、例えば、（ｎｙ−ｎｚ）×ｄ（ただし、ｄはフィルムの厚みである）が、−１０〜１０ｎｍ、好ましくは−５〜５ｎｍの場合も「ｎｙ≒ｎｚ」に含まれ、（ｎｘ−ｎｚ）×ｄが、−１０〜１０ｎｍ、好ましくは−５〜５ｎｍの場合も「ｎｘ≒ｎｚ」に含まれる。
また、Ｃプレートは、ポジティブＣプレート（正のＣプレート）とネガティブＣプレート（負のＣプレート）との２種があり、ポジティブＣプレートは式（Ｃ１）の関係を満たすものであり、ネガティブＣプレートは式（Ｃ２）の関係を満たすものである。なお、ポジティブＣプレートはＲｔｈが負の値を示し、ネガティブＣプレートはＲｔｈが正の値を示す。
式（Ｃ１）    ｎｚ＞ｎｘ≒ｎｙ
式（Ｃ２）    ｎｚ＜ｎｘ≒ｎｙ
なお、上記「≒」とは、両者が完全に同一である場合だけでなく、両者が実質的に同一である場合も包含する。「実質的に同一」とは、例えば、（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（ただし、ｄはフィルムの厚みである）が、０〜１０ｎｍ、好ましくは０〜５ｎｍの場合も「ｎｘ≒ｎｙ」に含まれる。
【００６６】
本発明の光学フィルムにおいては、光学設計上の観点から、上述した本発明の光学異方性膜を２層以上有し、少なくとも１層がポジティブＡプレートであり、少なくとも他の１層がポジティブＣプレートであることが好ましい。
【００６７】
〔支持体〕
本発明の光学フィルムは、上述したように、光学異方性膜を形成するための基材として支持体を有していてもよい。
このような支持体は、透明であるのが好ましく、具体的には、光透過率が８０％以上であるのが好ましい。
【００６８】
このような支持体としては、例えば、ガラス基板やポリマーフィルムが挙げられ、ポリマーフィルムの材料としては、セルロース系ポリマー；ポリメチルメタクリレート、ラクトン環含有重合体等のアクリル酸エステル重合体を有するアクリル系ポリマー；熱可塑性ノルボルネン系ポリマー；ポリカーボネート系ポリマー；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー；ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー；ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン系ポリマー；、塩化ビニル系ポリマー；ナイロン、芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー；イミド系ポリマー；スルホン系ポリマー；ポリエーテルスルホン系ポリマー；ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー；ポリフェニレンスルフィド系ポリマー；塩化ビニリデン系ポリマー；ビニルアルコール系ポリマー；ビニルブチラール系ポリマー；アリレート系ポリマー；ポリオキシメチレン系ポリマー；エポキシ系ポリマー；またはこれらのポリマーを混合したポリマーが挙げられる。
また、後述する偏光子がこのような支持体を兼ねる態様であってもよい。
【００６９】
本発明においては、上記支持体の厚みについては特に限定されないが、５〜６０μｍであるのが好ましく、５〜３０μｍであるのがより好ましい。
【００７０】
〔配向膜〕
本発明の光学フィルムは、上述した任意の支持体を有する場合、支持体と光学異方性膜との間に、配向膜を有しているのが好ましい。なお、上述した支持体が配向膜を兼ねる態様であってもよい。
【００７１】
配向膜は、一般的にはポリマーを主成分とする。配向膜用ポリマー材料としては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。
本発明において利用されるポリマー材料は、ポリビニルアルコール又はポリイミド、及びその誘導体が好ましい。特に変性又は未変性のポリビニルアルコールが好ましい。
本発明に使用可能な配向膜については、例えば、国際公開第０１／８８５７４号の４３頁２４行〜４９頁８行に記載された配向膜；特許第３９０７７３５号公報の段落［００７１］〜［００９５］に記載の変性ポリビニルアルコール；特開２０１２−１５５３０８号公報に記載された液晶配向剤により形成される液晶配向膜;等が挙げられる。
【００７２】
本発明においては、配向膜の形成時に配向膜表面に接触しないことで面状悪化を防ぐことが可能となる理由から、配向膜としては光配向膜を利用することも好ましい。
光配向膜としては特に限定はされないが、国際公開第２００５／０９６０４１号の段落［００２４］〜［００４３］に記載されたポリアミド化合物やポリイミド化合物などのポリマー材料；特開２０１２−１５５３０８号公報に記載された光配向性基を有する液晶配向剤により形成される液晶配向膜；Ｒｏｌｉｃ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製の商品名ＬＰＰ−ＪＰ２６５ＣＰなどを用いることができる。
【００７３】
また、本発明においては、上記配向膜の厚さは特に限定されないが、支持体に存在しうる表面凹凸を緩和して均一な膜厚の光学異方性膜を形成するという観点から、０．０１〜１０μｍであることが好ましく、０．０１〜１μｍであることがより好ましく、０．０１〜０．５μｍであることがさらに好ましい。
【００７４】
〔ハードコート層〕
本発明の光学フィルムは、フィルムの物理的強度を付与するために、ハードコート層を有しているのが好ましい。具体的には、支持体の配向膜が設けられた側とは反対側にハードコート層を有していてもよく（図２Ｂ参照）、光学異方性膜の配向膜が設けられた側とは反対側にハードコート層を有していてもよい（図２Ｃ参照）。
ハードコート層としては特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１９０］〜［０１９６］に記載のものを使用することができる。
【００７５】
〔他の光学異方性膜〕
本発明の光学フィルムは、本発明の光学異方性膜とは別に、他の光学異方性膜を有していてもよい。
すなわち、本発明の光学フィルムは、本発明の光学異方性膜と他の光学異方性膜との積層構造を有していてもよい。
このような他の光学異方性膜は、上述した重合性液晶化合物および紫外線吸収剤を上記式（２）を満たさない関係で配合した組成物を用いて得られる光学異方性膜や、上述した他の重合性化合物（特に、液晶化合物）を用いて得られる光学異方性膜であれば特に限定されない。
ここで、一般的に、液晶化合物はその形状から、棒状タイプと円盤状タイプに分類できる。さらにそれぞれ低分子と高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。本発明では、いずれの液晶化合物を用いることもできるが、棒状液晶化合物またはディスコティック液晶化合物（円盤状液晶化合物）を用いるのが好ましい。２種以上の棒状液晶化合物、２種以上の円盤状液晶化合物、または棒状液晶化合物と円盤状液晶化合物との混合物を用いてもよい。上述の液晶化合物の固定化のために、重合性基を有する棒状液晶化合物または円盤状液晶化合物を用いて形成することがより好ましく、液晶化合物が１分子中に重合性基を２以上有することがさらに好ましい。液晶化合物が二種類以上の混合物の場合には、少なくとも１種類の液晶化合物が１分子中に２以上の重合性基を有していることが好ましい。
棒状液晶化合物としては、例えば、特表平１１−５１３０１９号公報の請求項１や特開２００５−２８９９８０号公報の段落［００２６］〜［００９８］に記載のものを好ましく用いることができ、ディスコティック液晶化合物としては、例えば、特開２００７−１０８７３２号公報の段落［００２０］〜［００６７］や特開２０１０−２４４０３８号公報の段落［００１３］〜［０１０８］に記載のものを好ましく用いることができるが、これらに限定されない。
【００７６】
［偏光板］
本発明の偏光板は、上述した本発明の光学フィルムと、偏光子とを有するものである。
【００７７】
〔偏光子〕
本発明の偏光板が有する偏光子は、光を特定の直線偏光に変換する機能を有する部材であれば特に限定されず、従来公知の吸収型偏光子および反射型偏光子を利用することができる。
吸収型偏光子としては、ヨウ素系偏光子、二色性染料を利用した染料系偏光子、およびポリエン系偏光子などが用いられる。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子には、塗布型偏光子と延伸型偏光子があり、いずれも適用できるが、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料を吸着させ、延伸して作製される偏光子が好ましい。
また、基材上にポリビニルアルコール層を形成した積層フィルムの状態で延伸および染色を施すことで偏光子を得る方法として、特許第５０４８１２０号公報、特許第５１４３９１８号公報、特許第４６９１２０５号公報、特許第４７５１４８１号公報、特許第４７５１４８６号公報を挙げることができ、これらの偏光子に関する公知の技術も好ましく利用することができる。
反射型偏光子としては、複屈折の異なる薄膜を積層した偏光子、ワイヤーグリッド型偏光子、選択反射域を有するコレステリック液晶と１／４波長板とを組み合わせた偏光子などが用いられる。
なかでも、密着性がより優れる点で、ポリビニルアルコール系樹脂（−ＣＨ２−ＣＨＯＨ−を繰り返し単位として含むポリマー。特に、ポリビニルアルコールおよびエチレン−ビニルアルコール共重合体からなる群から選択される少なくとも１つ）を含む偏光子であることが好ましい。
【００７８】
本発明においては、偏光子の厚みは特に限定されないが、３μｍ〜６０μｍであるのが好ましく、５μｍ〜３０μｍであるのがより好ましく、５μｍ〜１５μｍであるのが更に好ましい。
【００７９】
〔粘着剤層〕
本発明の偏光板は、本発明の光学フィルムにおける光学異方性膜と、偏光子との間に、粘着剤層が配置されていてもよい。
光学異方性膜と偏光子との積層のために用いられる粘着剤層としては、例えば、動的粘弾性測定装置で測定した貯蔵弾性率Ｇ’と損失弾性率Ｇ”との比（ｔａｎδ＝Ｇ”／Ｇ’）が０．００１〜１．５である物質のことを表し、いわゆる、粘着剤やクリープしやすい物質等が含まれる。本発明に用いることのできる粘着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール系粘着剤が挙げられるが、これに限定されない。
【００８０】
［画像表示装置］
本発明の画像表示装置は、本発明の光学フィルムまたは本発明の偏光板を有する、画像表示装置である。
本発明の画像表示装置に用いられる表示素子は特に限定されず、例えば、液晶セル、有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」と略す。）表示パネル、プラズマディスプレイパネル等が挙げられる。
これらのうち、液晶セル、有機ＥＬ表示パネルであるのが好ましく、液晶セルであるのがより好ましい。すなわち、本発明の画像表示装置としては、表示素子として液晶セルを用いた液晶表示装置、表示素子として有機ＥＬ表示パネルを用いた有機ＥＬ表示装置であるのが好ましく、液晶表示装置であるのがより好ましい。
【００８１】
〔液晶表示装置〕
本発明の画像表示装置の一例である液晶表示装置は、上述した本発明の偏光板と、液晶セルとを有する液晶表示装置である。
なお、本発明においては、液晶セルの両側に設けられる偏光板のうち、フロント側の偏光板として本発明の偏光板を用いるのが好ましく、フロント側およびリア側の偏光板として本発明の偏光板を用いるのがより好ましい。
以下に、液晶表示装置を構成する液晶セルについて詳述する。
【００８２】
＜液晶セル＞
液晶表示装置に利用される液晶セルは、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ−Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、又はＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）であることが好ましいが、これらに限定されるものではない。
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、更に６０〜１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）及び（４）ＳＵＲＶＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。また、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、光配向型（Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、及びＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ−Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）のいずれであってもよい。これらのモードの詳細については、特開２００６−２１５３２６号公報、及び特表２００８−５３８８１９号公報に詳細な記載がある。
ＩＰＳモードの液晶セルは、棒状液晶分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶分子が平面的に応答する。ＩＰＳモードは電界無印加状態で黒表示となり、上下一対の偏光板の吸収軸は直交している。光学補償シートを用いて、斜め方向での黒表示時の漏れ光を低減させ、視野角を改良する方法が、特開平１０−５４９８２号公報、特開平１１−２０２３２３号公報、特開平９−２９２５２２号公報、特開平１１−１３３４０８号公報、特開平１１−３０５２１７号公報、特開平１０−３０７２９１号公報などに開示されている。
【００８３】
〔有機ＥＬ表示装置〕
本発明の画像表示装置の一例である有機ＥＬ表示装置としては、例えば、視認側から、本発明の偏光板と、λ／４機能を有する板（以下、「λ／４板」ともいう。）と、有機ＥＬ表示パネルとをこの順で有する態様が好適に挙げられる。
ここで、「λ／４機能を有する板」とは、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板をいい、例えば、λ／４板が単層構造である態様としては、具体的には、延伸ポリマーフィルムや、支持体上にλ／４機能を有する光学異方性膜を設けた位相差フィルム等が挙げられ、また、λ／４板が複層構造である態様としては、具体的には、λ／４板とλ／２板とを積層してなる広帯域λ／４板が挙げられる。
また、有機ＥＬ表示パネルは、電極間（陰極および陽極間）に有機発光層（有機エレクトロルミネッセンス層）を挟持してなる有機ＥＬ素子を用いて構成された表示パネルである。有機ＥＬ表示パネルの構成は特に制限されず、公知の構成が採用される。
【００８４】
本発明の画像表示装置は、有機ＥＬ表示パネルと、有機ＥＬ表示パネル上に配置された円偏光板と、を含む有機ＥＬ表示装置であることが好ましい。
特に、本発明においては、円偏光板が、偏光子と、上述した本発明の光学フィルムとを含む態様であることがより好ましく、偏光子と、上述した本発明の光学異方性膜を２層以上有し、少なくとも１層がポジティブＡプレートであり、少なくとも他の１層がポジティブＣプレートである光学フィルムとを含む態様であることが更に好ましい。
【実施例】
【００８５】
以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。【００８６】
〔重合性液晶化合物〕
重合性液晶組成物の調製にあたって、以下の重合性液晶化合物１〜６を準備した。【００８７】
＜重合性液晶化合物１（逆分散液晶１）の合成＞
以下のスキームに従い、下記式Ａ〜Ｃで表される化合物（以下、それぞれ化合物Ａ〜Ｃと略す。）を合成した。
【化１７】
0006754845.tif 000018
【００８８】
（化合物Ａの合成）
化合物Ａの合成は、“Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ”（２００４）；６９（６）；ｐ．２１６４−２１７７．に記載の方法で行った。【００８９】
（化合物Ｂの合成）
化合物Ａ３０．０ｇ（０．０９１６ｍｏｌ）、メルドラム酸１９．８ｇ（０．１３７ｍｏｌ）、および、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）２００ｍＬを混合し、５５℃で２時間撹拌した。
その後、室温まで冷却し、混合物に水２００ｍＬを加え、析出した結晶をろ過した。
得られた結晶を、水とＮＭＰとを１対１で混合した混合溶液で洗浄することで、化合物Ｂを２８．４ｇ（０．０８７０ｍｏｌ）得た（収率９５％）。【００９０】
（化合物Ｃ）
化合物Ｂ５１．５ｇ（０．１５８ｍｏｌ）、および、ＴＨＦ３１５ｍＬを混合し、氷冷下で２Ｍの水酸化ナトリウム水溶液３９５ｍＬ（０．７８９ｍｏｌ）を滴下した。
次いで、室温まで昇温し、２時間攪拌した後、３Ｎ塩酸水２６３ｍＬ（０．７８９ｍｏｌ）を氷冷下で滴下した。
次いで、水３００ｍＬ、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）１８０ｍＬを加え、析出した固体をろ過した。
得られた固体をアセトニトリルで攪拌し、懸濁した後、ろ過することで、化合物Ｃを２５ｇ（０．０８６８ｍｏｌ）得た（収率５５％）。【００９１】
次いで、下記スキームに従い、下記式Ｄで表される化合物Ｄを合成した。
【化１８】
0006754845.tif 000019
（化合物Ｄの合成）
化合物Ｃ５０ｇ（０．１７５ｍｏｌ）、ＢＨＴ（１．９ｇ，８．７４ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ３００ｍＬ、および、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）１５０ｍＬを混合し、氷冷下で塩化チオニル８７．３ｇ（０．７３４ｍｏｌ）を滴下した。
次いで、氷冷下で２時間攪拌した後、４−ヒドロキシブチルアクリル酸エステル１２６ｇ（０．８７４ｍｏｌ）を滴下した。
次いで、室温まで昇温し、２時間攪拌した後、５％食塩水４００ｍＬ、酢酸エチル１００ｍＬ、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）２００ｍＬを加えて抽出した。
有機層を１０％食塩水２００ｍＬで２回洗浄した後、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた粗体をアセトニトリルで攪拌し、懸濁し、濾過することで、化合物Ｄを５７ｇ（０．１０７ｍｏｌ）得た（収率６１％）。【００９２】
（逆分散液晶１の合成）
下記スキームに従い、下記式Ｅで表される化合物Ｅ２２．１ｇ（０．０９２８ｍｏｌ）のトルエン４０ｍｌ溶液に塩化チオニル１２．７ｇ（０．１０７ｍｍｏｌ）を加え、触媒量のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを加えた。そのまま６５℃まで昇温し、２時間攪拌後、溶媒を留去した。
次いで、化合物Ｄ２５ｇ（０．０４６４ｍｏｌ）、ＢＨＴ（０．５１ｇ、２．３２ｍｍｏｌ）、および、ＴＨＦ（１２５ｍＬ）を添加し、氷冷下でトリエチルアミン１０．３ｇ（０．１０２ｍｏｌ）を滴下した。
次いで、室温まで昇温し、２時間攪拌した後、１Ｍ塩酸水１００ｍｌ、酢酸エチル４０ｍｌを加え抽出した。
有機層を１０％食塩水で洗浄した後、有機層にメタノール４００ｍｌを加え、析出した固体をろ過することで、下記式１で表される逆分散液晶１を３８ｇ（０．０３８９ｍｏｌ）得た（収率８４％）。
【化１９】
0006754845.tif 000020
【００９３】
＜重合性液晶化合物２（逆分散液晶２）の合成＞
特開２０１１−２０７７６５号公報の［０４６２］〜［０４７７］段落に記載された方法に従い、下記式２で表される逆分散液晶２を合成した。
【化２０】
0006754845.tif 000021
【００９４】
＜重合性液晶化合物３（逆分散液晶３）の合成＞
国際公開第２０１４／０１０３２５号の［０２０５］〜［０２１７］段落に記載された方法に従い、下記式３で表される逆分散液晶３を合成した。
【化２１】
0006754845.tif 000022
【００９５】
＜重合性液晶化合物４（逆分散液晶４）の合成＞
下記式Ｆで表される側鎖カルボン酸Ｆと、下記式Ｇで表されるフェノールＧとを合成し、以下のルートで、下記式４で表される逆分散液晶４を合成した。
【化２２】
0006754845.tif 000023
【００９６】
（側鎖カルボン酸Ｆの合成）
特開２０１６−８１０３５号公報に記載された化合物（Ｉ−４Ｃ）に倣って、逆分散液晶４の側鎖カルボン酸Ｆを合成した。
得られた側鎖カルボン酸Ｆの１Ｈ−ＮＭＲ（Nuclear Magnetic Resonance）を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：
［Ｍａｊｏｒ Ｉｓｏｍｅｒ］
１．２７（ｄ，３Ｈ），１．４５−１．７３（ｍ，４Ｈ），２．１０−２．３２（ｍ，４Ｈ），２．３２−２．４５（ｍ，１Ｈ），２．４８−２．７０（ｍ，１Ｈ），２．６２（ｓ，４Ｈ），２．９３（ｔ，２Ｈ），４．１５（ｄｄ，１Ｈ），４．２５（ｄｄ，１Ｈ），４．２９（ｔ，２Ｈ），５．２０（ｍ，１Ｈ），５．８５（ｄｄ，１Ｈ），６．１３（ｄｄ，１Ｈ），６．４２（ｄｄ，１Ｈ），６．９５−７．０６（ｍ，２Ｈ），７．１６−７．２５（ｍ，２Ｈ）
［Ｍｉｎｏｒ Ｉｓｏｍｅｒ］
１．２９（ｄ，３Ｈ），１．４５−１．７３（ｍ，４Ｈ），２．１０−２．３２（ｍ，４Ｈ），２．３２−２．４５（ｍ，１Ｈ），２．４８−２．７０（ｍ，１Ｈ），２．６２（ｓ，４Ｈ），２．９３（ｔ，２Ｈ），４．１３（ｄｄ，１Ｈ），４．２２（ｄｄ，１Ｈ），４．２９（ｔ，２Ｈ），５．２０（ｍ，１Ｈ），５．８４（ｄｄ，１Ｈ），６．１１（ｄｄ，１Ｈ），６．４１（ｄｄ，１Ｈ），６．９５−７．０６（ｍ，２Ｈ），７．１６−７．２５（ｍ，２Ｈ）【００９７】
（フェノールＧの合成）
フェノールＧの合成は、Justus Liebigs Annalen der Chemie, 726, 103-109 (1969) に記載の方法を参考に行うことができる。
窒素気流下、８６％含率の水酸化カリウム２１．７９ｇ（３３４ｍｍｏｌ）をイソプロピルアルコール７０ｍｌおよび水８５ｍｌに溶解した。この溶液に、氷冷攪拌下、内温５℃以下で、マロノニトリル１１．０３ｇ（１６７ｍｍｏｌ）をイソプロピルアルコール１２ｍｌに溶解した溶液を添加した。
次いで、内温１０℃以下で二硫化炭素１３．３５ｇ（１７５ｍｍｏｌ）を滴下した後、氷冷下で３０分間攪拌を行った。この反応液に、１，４−ベンゾキノン３６．４６ｇ（３３８ｍｍｏｌ）、酢酸２１．９６ｍｌ（３８４ｍｍｏｌ）およびアセトン２００ｍｌの混合溶液を、内温を２℃以下に保ちながらゆっくりと滴下した。同温度で３０分攪拌した後、２５℃に昇温し、水３６５ｍｌを添加した。
次いで、析出した結晶をろ取し、水８３５ｍｌ、続いて、水／アセトン（９０ｍｌ／９０ｍｌ）混合溶液で洗浄して、粗体を得た。
次いで、窒素気流下、粗体とＴＨＦ１００ｍｌとを混合撹拌し、４０℃に昇温した後に、水１５０ｍｌを４０℃で滴下した。
その後、５℃まで冷却して結晶を析出させ、５℃で１時間撹拌した。析出した結晶をろ取し、ＴＨＦ／水（４０ｍｌ／１２０ｍｌ）の混合溶液で掛け洗いした後に、６０℃で減圧乾燥することで、淡黄色固体としてフェノールＧを３１．３ｇ（収率７５％）得た。
得られたフェノールＧの１Ｈ−ＮＭＲを以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：６．８０（ｓ，２Ｈ），１０．５１（ｓ，２Ｈ）【００９８】
（逆分散液晶４の合成）
特開２０１６−８１０３５号公報に記載された化合物（Ｉ−４）に倣って、逆分散液晶４を合成した。
得られた逆分散液晶４の１Ｈ−ＮＭＲを以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：
［Ｍａｊｏｒ Ｉｓｏｍｅｒ］
１．２７（ｄ，６Ｈ），１．５６−１．７９（ｍ，８Ｈ），２．２２−２．４０（ｍ，８Ｈ），２．５５−２．７５（ｍ，４Ｈ），２．６２（ｓ，８Ｈ），２．９４（ｔ，４Ｈ），４．１５（ｄｄ，２Ｈ），４．２５（ｄｄ，２Ｈ），４．２８（ｔ，４Ｈ），５．２０（ｍ，２Ｈ），５．８６（ｄｄ，２Ｈ），６．１３（ｄｄ，２Ｈ），６．４３（ｄｄ，２Ｈ），６．９９−７．０６（ｍ，４Ｈ），７．２０−７．２５（ｍ，４Ｈ），７．３２（ｓ，２Ｈ）
［Ｍｉｎｏｒ Ｉｓｏｍｅｒ］
１．２９（ｄ，６Ｈ），１．５６−１．７９（ｍ，８Ｈ），２．２２−２．４０（ｍ，８Ｈ），２．５５−２．７５（ｍ，４Ｈ），２．６２（ｓ，８Ｈ），２．９４（ｔ，４Ｈ），４．１２（ｄｄ，２Ｈ），４．２２（ｄｄ，２Ｈ），４．２８（ｔ，４Ｈ），５．２０（ｍ，２Ｈ），５．８４（ｄｄ，２Ｈ），６．１１（ｄｄ，２Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），６．９９−７．０６（ｍ，４Ｈ），７．２０−７．２５（ｍ，４Ｈ），７．３２（ｓ，２Ｈ）【００９９】
＜重合性液晶化合物５（逆分散液晶５）の合成＞
下記式Ｆで表される側鎖カルボン酸Ｆと、下記式Ｈで表されるフェノールＨとを合成し、以下のルートで、下記式５で表される逆分散液晶５を合成した。
【化２３】
0006754845.tif 000024
【０１００】
（フェノールＨの合成）
窒素気流下、８６％含率の水酸化カリウム１９．５７ｇ（３００ｍｍｏｌ）をイソプロピルアルコール６０ｍｌおよび水７５ｍｌに溶解した。この溶液に、氷冷攪拌下、内温５℃以下でマロノニトリル９．９１ｇ（１５０ｍｍｏｌ）をイソプロピルアルコール１０．５ｍｌに溶解した溶液を添加した。
次いで、内温１０℃以下で二硫化炭素１１．４２ｇ（１５０ｍｍｏｌ）を滴下した後、氷冷下で３０分間攪拌を行った。続いて、酢酸２．５７ｍｌ（４５ｍｍｏｌ）を添加して反応液ｐＨを６に調整した。この反応液に、ｐ−トルキノン３６．２６ｇ（２９８ｍｍｏｌ）、酢酸１６．９８ｍｌ（２９８ｍｍｏｌ）およびアセトン１５０ｍｌの混合溶液を、内温を５℃以下に保ちながらゆっくりと滴下した。同温度で３０分攪拌した後、５０℃に昇温し、水３９５ｍｌを添加した。
３０分撹拌した後に、１５℃に降温し、析出した結晶をろ取し、水７９０ｍｌで洗浄して、粗体を得た。
次いで、窒素気流下、粗体とアセトニトリル１５５ｍｌ、水１５５ｍｌを混合し、室温にて１時間撹拌した後に、５℃まで冷却してさらに３０分撹拌した。析出した結晶をろ取し、氷冷しておいたアセトニトリル／水（５０ｍｌ／６０ｍｌ）の混合溶液で掛け洗いした後に、６０℃で減圧乾燥することで、黄色固体としてフェノールＨを３２．６ｇ（収率８３％）得た。
得られたフェノールＨの１Ｈ−ＮＭＲを以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：２．１９（ｓ，３Ｈ），６．７１（ｓ，１Ｈ），９．６０（ｂｒ  ｓ，１Ｈ），１０．５５（ｂｒ  ｓ，１Ｈ）【０１０１】
（逆分散液晶５の合成）
特開２０１６−８１０３５号公報に記載された化合物（ＩＶ−４）に倣って、逆分散液晶５を合成した。
得られた逆分散液晶５の１Ｈ−ＮＭＲを以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：
［Ｍａｊｏｒ Ｉｓｏｍｅｒ］
１．２７（ｄ，６Ｈ），１．５６−１．７９（ｍ，８Ｈ），２．２２（ｓ，３Ｈ），２．２２−２．４０（ｍ，８Ｈ），２．５５−２．７５（ｍ，４Ｈ），２．６２（ｓ，８Ｈ），２．９４（ｔ，４Ｈ），４．１５（ｄｄ，２Ｈ），４．２５（ｄｄ，２Ｈ），４．２８（ｔ，４Ｈ），５．２０（ｍ，２Ｈ），５．８６（ｄｄ，２Ｈ），６．１３（ｄｄ，２Ｈ），６．４３（ｄｄ，２Ｈ），６．９９−７．０６（ｍ，４Ｈ），７．２０−７．２５（ｍ，４Ｈ），７．２５（ｓ，１Ｈ）
［Ｍｉｎｏｒ Ｉｓｏｍｅｒ］
１．２９（ｄ，６Ｈ），１．５６−１．７９（ｍ，８Ｈ），２．２２（ｓ，３Ｈ），２．２２−２．４０（ｍ，８Ｈ），２．５５−２．７５（ｍ，４Ｈ），２．６２（ｓ，８Ｈ），２．９４（ｔ，４Ｈ），４．１２（ｄｄ，２Ｈ），４．２２（ｄｄ，２Ｈ），４．２８（ｔ，４Ｈ），５．２０（ｍ，２Ｈ），５．８４（ｄｄ，２Ｈ），６．１１（ｄｄ，２Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），６．９９−７．０６（ｍ，４Ｈ），７．２０−７．２５（ｍ，４Ｈ），７．２５（ｓ，１Ｈ）【０１０２】
＜重合性液晶化合物６（順分散液晶１）の合成＞
特許第６０８６８８４号に記載された方法に従って、下記式で表される順分散液晶１を合成した。
【化２４】
0006754845.tif 000025
【０１０３】
〔紫外線吸収剤〕
重合性液晶組成物の調製にあたって、以下の紫外線吸収剤を準備した。
【化２５】
0006754845.tif 000026
0006754845.tif 000027
0006754845.tif 000028
0006754845.tif 000029
【０１０４】
〔重合開始剤〕
重合開始剤として、下記式で表される化合物（特開２０１１−１５８６５５号公報に記載の例示化合物（Ａ−１））を準備した。【０１０５】
【化２６】
0006754845.tif 000030
【０１０６】
〔空気界面配向剤（レベリング剤）〕
空気界面配向剤として、下記式で表される化合物（特開２０１６−５３７０９号公報に記載のレベリング剤Ｔ−１）を準備した。【０１０７】
【化２７】
0006754845.tif 000031
【０１０８】
〔溶媒〕
溶媒として、クロロホルムを準備した。【０１０９】
［実施例１〜１９および比較例１〜５］
〔重合性液晶組成物の調製〕
重合性液晶化合物、紫外線吸収剤、重合開始剤および空気界面配向剤を溶媒（クロロホルム）に溶解させて、実施例および比較例の各重合性液晶組成物を調製した。なお、実施例１９は、下記表１に示す通り、重合性液晶化合物として、逆分散液晶４、逆分散液晶５および順分散液晶１を併用しているが、これらの添加量は、質量比で４２：４２：１６である。
また、実施例および比較例の各重合性液晶組成物の組成から、添加剤のみを除いた基準用の各重合性液晶組成物を準備した。
なお、各成分の配合量について、紫外線吸収剤の添加量（重合性液晶化合物の含有量に対する質量％）ごとに、以下の配合量で組成物を調製した。
＜紫外線吸収剤の添加量：１質量％＞
逆分散性の重合性液晶化合物０．１０ｇ、重合開始剤０．０００５ｇ、空気界面配向剤０．０００２ｇ、および、紫外線吸収剤０．００１ｇをクロロホルム３．１８ｇに溶解させ、重合性液晶組成物を調製した。
＜紫外線吸収剤の添加量：５質量％＞
逆分散性の重合性液晶化合物０．１０ｇ、重合開始剤０．０００５ｇ、空気界面配向剤０．０００２ｇ、および、紫外線吸収剤０．００５ｇをクロロホルム３．３０ｇに溶解させ、重合性液晶組成物を調製した。
＜紫外線吸収剤の添加量：１０質量％＞
逆分散性の重合性液晶化合物０．１０ｇ、重合開始剤０．０００５ｇ、空気界面配向剤０．０００２ｇ、および、紫外線吸収剤０．０１０ｇをクロロホルム３．４６ｇに溶解させ、重合性液晶組成物を調製した。
＜紫外線吸収剤の添加量：２０質量％＞
逆分散性の重合性液晶化合物０．１０ｇ、重合開始剤０．０００５ｇ、空気界面配向剤０．０００２ｇ、および、紫外線吸収剤０．０２０ｇをクロロホルム３．７７ｇに溶解させ、重合性液晶組成物を調製した。【０１１０】
〔耐光性試験〕
＜サンプルの作製＞
スピンコート法（重合性液晶組成物の塗布量：８０μＬ、回転数：１５００ｒｐｍ）によって、２．５×３．０ｃｍにカットしたガラス基板（コーニング社製  イーグルＸＧ）上に重合性液晶組成物を塗布して、乾燥させることで、ガラス基板上に塗布膜を作製した。
次いで、塗布膜をホットプレート上で１６０℃に加温しながら、紫外線照射装置（日本文化精工株式会社社製）によって照射量５００ｍＪにて硬化膜を作製した。【０１１１】
＜耐光性試験前の硬化膜の吸光度測定＞
紫外可視測定機（商品名「ＵＶ−３１５０」、島津社製）を用いて、硬化膜の吸収極大波長における吸光度Ａ（耐光性試験前の硬化膜の吸光度）を測定した。具体的には、重合性液晶組成物の塗布を行っていない上記ガラス基板を用いてベースライン補正を行った後、硬化膜の吸収極大波長における吸光度Ａを測定した。【０１１２】
＜耐光性試験後の硬化膜の吸光度測定＞
まず、重合性液晶組成物の硬化膜が照射面となるように、ガラス基板をキセノン照射機（スガ試験機株式会社製  ＳＸ７５）にセットして、＃２７５フィルターを用いて、光源からサンプルを２９０ｍｍ離して１５０Ｗ／ｍ２の条件にて２時間照射した。このようにして、耐光性試験後の硬化膜を得た。
次いで、紫外可視測定機（商品名「ＵＶ−３１５０」、島津社製）を用いて、耐光性試験後の硬化膜の吸収極大波長における吸光度Ｂ（耐光性試験後の塗布膜の吸光度）を測定した。【０１１３】
＜耐光性の評価＞
基準用の各重合性液晶組成物（添加剤を含有しないもの）の硬化膜を用いて、上述した吸光度Ａおよび吸光度Ｂを測定し、下記式により耐光性残存率Ｘ（％）を算出した。
同様に、実施例および比較例の各重合性液晶組成物の塗布膜を用いて、上述した吸光度Ａおよび吸光度Ｂを測定し、下記式により耐光性残存率Ｙ（％）を算出した。
耐光性残存率（％）＝（吸光度Ｂ／吸光度Ａ）×１００
このようにして得られた耐光性残存率Ｘおよび耐光性残存率Ｙの値から、下記式により耐光性改善率を算出し、以下の評価基準により耐光性の評価を行った。
耐光性改善率（％）＝耐光性残存率Ｙ−耐光性残存率Ｘ
Ａ：  耐光性改善率が１０％以上
Ｂ：  耐光性残存率が５％超１０％未満
Ｃ：  耐光性改善率が０％超５％以下
Ｄ：  耐光性改善率が０％以下【０１１４】
＜評価結果＞
以上の評価試験の結果を下記表１に示す。【０１１５】
【表１】
0006754845.tif 000032
【０１１６】
表１に示す結果から、逆波長分散性の重合性液晶化合物の極大吸収波長Ａと、紫外線吸収剤の極大吸収波長Ｂとの差が２４ｎｍ以上であると、紫外線吸収剤を含有しない重合性液晶組成物と比べても、耐光性の改善効果が殆ど見られないことが分かった（比較例１〜５）。
これに対し、逆波長分散性の重合性液晶化合物の極大吸収波長Ａと、紫外線吸収剤の極大吸収波長Ｂとの差が０ｎｍ以上２４ｎｍ未満の範囲であると、耐光性に優れた光学異方性膜を作製することができることが分かった（実施例１〜１９）。【０１１７】
〔光配向膜用組成物の調製〕
後述する方法により、重合体、低分子化合物、架橋剤および架橋触媒を合成または準備した。【０１１８】
＜重合体の合成＞
撹拌機、温度計、滴下漏斗および還流冷却管を備えた反応容器に、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン１００．０質量部、メチルイソブチルケトン５００質量部、および、トリエチルアミン１０．０質量部を仕込み、室温で混合した。次いで、脱イオン水１００質量部を滴下漏斗より３０分かけて滴下した後、還流下で混合しつつ、８０℃で６時間反応させた。反応終了後、有機相を取り出し、０．２質量％硝酸アンモニウム水溶液により洗浄後の水が中性になるまで洗浄した後、減圧下で溶媒および水を留去することにより、エポキシ含有ポリオルガノシロキサンを粘調な透明液体として得た。
このエポキシ含有ポリオルガノシロキサンについて、１Ｈ−ＮＭＲ分析を行ったところ、化学シフト（δ）＝３．２ｐｐｍ付近にオキシラニル基に基づくピークが理論強度どおりに得られ、反応中にエポキシ基の副反応が起こっていないことが確認された。このエポキシ含有ポリオルガノシロキサンの重量平均分子量Ｍｗは２，２００、エポキシ当量は１８６ｇ／モルであった。
次に、１００ｍＬの三口フラスコに、上記で得たエポキシ含有ポリオルガノシロキサン１０．５質量部、アクリル基含有カルボン酸（東亞合成株式会社製、商品名「アロニックスＭ−５３００」、アクリル酸ω−カルボキシポリカプロラクトン（重合度ｎ≒２））０．４質量部、酢酸ブチル２０質量部、特開２０１５−２６０５０号公報の合成例１の方法で得られた桂皮酸誘導体０．５質量部、テトラヒドロ焦性粘液酸（和光純薬工業株式会社製）０．５質量部、および、テトラブチルアンモニウムブロミド０．３質量部を仕込み、９０℃で１２時間撹拌した。反応終了後、反応溶液と等量（質量）の酢酸ブチルで希釈し、３回水洗した。この溶液を濃縮し、酢酸ブチルで希釈する操作を２回繰り返し、最終的に、光配向性基を有するポリオルガノシロキサン（重合体）を含む溶液を得た。この重合体の重量平均分子量Ｍｗは１０，０００であった。【０１１９】
＜低分子化合物＞
下記式Ｂで表される低分子化合物（ノムコートＴＡＢ，日清オリイオ社製）を用いた。
【化２８】
0006754845.tif 000033
【０１２０】
＜架橋剤＞
架橋剤として、多官能エポキシ化合物（エポリードＧＴ４０１，ダイセル社製）を用いた。【０１２１】
＜架橋触媒＞
架橋促進を目的とし、架橋触媒として熱酸発生剤（サンエイドＳＩ−６０、三新化学工業株式会社）を用いた。【０１２２】
＜光配向膜用組成物の調製＞
酢酸ブチル１００質量部に対して、上述した重合体４．６質量部、上述した低分子化合物０．８質量部、上述した架橋剤０．８質量部、および、上述した架橋触媒０．８質量部を添加し、攪拌した後、孔径１μｍのフィルターでろ過することにより、固形分濃度７．５重量％の液晶配向剤を調製した。なお、得られた液晶配向剤では、重合体などの成分は添加した量どおりに溶媒に十分に溶解していた。【０１２３】
［実施例２０〜２３および比較例６］
〔光学異方性膜形成用塗布液の調製〕
下記組成の光学異方性膜形成用塗布液１〜５を調製した。【０１２４】
――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性膜形成用塗布液１
――――――――――――――――――――――――――――――――
・逆分散液晶１                                  ９５．００質量部
・Ｔｉｎｕｖｉｎ−４７７                          ５．００質量部
・下記重合開始剤Ａ−１                            ０．０５質量部
・下記レベリング剤Ｔ−１                          ０．２０質量部
・シクロペンタノン                              ４２４．８質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――【０１２５】
重合開始剤Ａ−１
【化２９】
0006754845.tif 000034
【０１２６】
レベリング剤Ｔ−１
【化３０】
0006754845.tif 000035
【０１２７】
――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性膜形成用塗布液２
――――――――――――――――――――――――――――――――
・逆分散液晶２                                  ９５．００質量部
・Ｔｉｎｕｖｉｎ−４７７                          ５．００質量部
・上記重合開始剤Ａ−１                            ０．０５質量部
・上記レベリング剤Ｔ−１                          ０．２０質量部
・シクロペンタノン                              ４２４．８質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――【０１２８】
――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性膜形成用塗布液３
――――――――――――――――――――――――――――――――
・逆分散液晶３                                  ９５．００質量部
・Ｔｉｎｕｖｉｎ−４７７                          ５．００質量部
・上記重合開始剤Ａ−１                            ０．０５質量部
・上記レベリング剤Ｔ−１                          ０．２０質量部
・シクロペンタノン                              ４２４．８質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――【０１２９】
――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性膜形成用塗布液４
――――――――――――――――――――――――――――――――
・逆分散液晶４                                  ４０．００質量部
・逆分散液晶５                                  ４０．００質量部
・順分散液晶１                                  １５．００質量部
・Ｔｉｎｕｖｉｎ−４７７                          ５．００質量部
・上記重合開始剤Ａ−１                            ０．５０質量部
・上記レベリング剤Ｔ−１                          ０．２０質量部
・ハイソルブＭＴＥＭ（東邦化学工業社製）          ２．００質量部
・ＮＫエステルＡ−２００（新中村化学工業社製）    １．００質量部
・メチルエチルケトン                            ４２４．８質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――【０１３０】
――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性膜形成用塗布液５
――――――――――――――――――――――――――――――――
・逆分散液晶１                                  ９５．００質量部
・Ｔｉｎｕｖｉｎ−４００                          ５．００質量部
・上記重合開始剤Ａ−１                            ０．５０質量部
・上記レベリング剤Ｔ−１                          ０．２０質量部
・ハイソルブＭＴＥＭ（東邦化学工業社製）          ２．００質量部
・ＮＫエステルＡ−２００（新中村化学工業社製）    １．００質量部
・メチルエチルケトン                            ４２４．８質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――【０１３１】
〔セルロースアシレートフィルム１の作製〕
＜コア層セルロースアシレートドープの作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して、各成分を溶解し、コア層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
コア層セルロースアシレートドープ
――――――――――――――――――――――――――――――――
アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート        １００質量部
特開２０１５−２２７９５５号公報の実施例に
記載されたポリエステル化合物Ｂ                        １２質量部
下記の化合物Ｆ                                          ２質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                      ４３０質量部
メタノール（第２溶剤）                                ６４質量部
────────────────────────────────【０１３２】
化合物Ｆ
【化３１】
0006754845.tif 000036
【０１３３】
＜外層セルロースアシレートドープの作製＞
上記のコア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤溶液
――――――――――――――――――――――――――――――――
平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）     ２質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                        ７６質量部
メタノール（第２溶剤）                                １１質量部
上記のコア層セルロースアシレートドープ                  １質量部
────────────────────────────────【０１３４】
＜セルロースアシレートフィルム１の作製＞
上記コア層セルロースアシレートドープと上記外層セルロースアシレートドープを平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した後、上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した（バンド流延機）。
溶剤含有率略２０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、横方向に延伸倍率１．１倍で延伸しつつ乾燥した。
その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚み４０μｍのセルロースアシレートフィルム１を作製した。
得られたセルロースアシレートフィルム１のコア層は厚みが３６μｍであり、コア層の両側に配置された外層はそれぞれ厚みが２μｍであった。
また、得られたセルロースアシレートフィルム１の面内レターデーションは０ｎｍであった。【０１３５】
〔光学フィルムの作製〕
作製したセルロースアシレートフィルム１の片側の面に、先に調製した光配向膜用組成物をバーコーターで塗布した。
塗布後、１２０℃のホットプレート上で１分間乾燥して溶剤を除去し、厚さ０．３μｍの光異性化組成物層を形成した。
得られた光異性化組成物層を偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向膜を形成した。
次いで、光配向膜上に、先に調製した光学異方性膜形成用塗布液１〜５をバーコーターで塗布し、組成物層を形成した。
形成した組成物層をホットプレート上でいったん１１０℃まで加熱した後、６０℃に冷却させて配向を安定化させた。
その後、６０℃に保ち、窒素雰囲気下（酸素濃度１００ｐｐｍ）で紫外線照射（５００ｍＪ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ使用）によって配向を固定化し、厚さ２．３μｍの光学異方性膜（ポジティブＡプレート１〜５）を形成し、光学フィルム１〜５を作製した。
得られた光学フィルムの面内レターデーションは１４０ｎｍであった。【０１３６】
〔耐光性の評価〕
光学異方性膜（ポジティブＡプレート）の硬化膜が照射面となるように、ガラス基板をキセノン照射機（スガ試験機株式会社製 ＳＸ７５）にセットして、＃２７５フィルターを用いて、光源からサンプルを２９０ｍｍ離して１５０Ｗ／ｍ２の条件にて２時間照射した。このようにして、耐光性試験後の硬化膜を得、残存レターデーションを測定した。
上述の試験前の初期レターデーション（１４０ｎｍ）および残存レターデーションから、下記式により耐光性残存率Ｘ（％）を算出した。
同様に、実施例および比較例の各重合性液晶組成物の硬化膜を用いて、下記式により耐光性残存率Ｙ（％）を算出した。
耐光性残存率（％）＝（残存レターデーション／初期レターデーション）×１００
このようにして得られた耐光性残存率Ｘおよび耐光性残存率Ｙの値から、下記式により耐光性改善率を算出し、以下の評価基準により耐光性の評価を行った。結果を下記表２に示す。
耐光性改善率（％）＝耐光性残存率Ｙ−耐光性残存率Ｘ
Ａ：  耐光性改善率が１０％以上
Ｂ：  耐光性残存率が５％超１０％未満
Ｃ：  耐光性改善率が０％超５％以下
Ｄ：  耐光性改善率が０％以下【０１３７】
【表２】
0006754845.tif 000037
【０１３８】
［実施例２４］
〔ポジティブＣプレート１の作製〕
仮支持体として、市販されているトリアセチルセルロースフィルム「Ｚ−ＴＡＣ」（富士フイルム社製）〔以下、「セルロースアシレートフィルム２」と略す。〕を用いた。
セルロースアシレートフィルム２を温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムの片面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ２で塗布し、１１０℃に加熱し、（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。続いて、同じくバーコーターを用いて、純水を３ｍｌ／ｍ２塗布した。
次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアシレートフィルム２を作製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
アルカリ溶液
――――――――――――――――――――――――――――――――
水酸化カリウム                                      ４．７質量部
水                                                １５．８質量部
イソプロパノール                                  ６３．７質量部
含フッ素界面活性剤ＳＦ−１
（Ｃ１４Ｈ２９Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）２０Ｈ）              １．０質量部
プロピレングリコール                              １４．８質量部
─────────────────────────────────【０１３９】
上記アルカリ鹸化処理されたセルロースアシレートフィルム２を用い、下記の組成の配向膜形成用塗布液を＃８のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥し、配向膜を形成した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
配向膜形成用塗布液
――――――――――――――――――――――――――――――――
ポリビニルアルコール（クラレ製、ＰＶＡ１０３）      ２．４質量部
イソプロピルアルコール                              １．６質量部
メタノール                                            ３６質量部
水                                                    ６０質量部
────────────────────────────────【０１４０】
上記で作成した配向膜を有するセルロースアシレートフィルム２上に、下記光学異方性膜形成用塗布液Ｎを塗布し、６０℃６０秒間熟成させた後に、空気下にて７０ｍＷ／ｃｍ２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて１０００ｍJ／ｃｍ２の紫外線を照射して、その配向状態を固定化することにより、重合性棒状液晶化合物を垂直配向させ、ポジティブＣプレート１を作製した。波長５５０ｎｍにおいてＲｔｈが−６０ｎｍであった。【０１４１】
――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性膜形成用塗布液Ｎ
――――――――――――――――――――――――――――――――
逆分散液晶１                                        １００質量部
Ｔｉｎｕｖｉｎ−４７７                                  ５質量部
下記垂直配向剤（Ｓ０１）                                １質量部
下記垂直配向剤（Ｓ０２）                            ０．５質量部
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                  ８質量部
イルガキュアー９０７（ＢＡＳＦ製）                      ３質量部
カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製）                １質量部
下記化合物Ｂ０３                                    ０．４質量部
メチルエチルケトン                                  １７０質量部
シクロヘキサノン                                      ３０質量部
────────────────────────────────【０１４２】
【化３２】
0006754845.tif 000038
0006754845.tif 000039
0006754845.tif 000040
（上記化合物Ｂ０３の式中、ａ＝９０であり、ｂ＝１０である。）【０１４３】
［実施例２５］
光学異方性膜形成用塗布液Ｎに代えて、下記光学異方性膜形成用塗布液Ｍを用いた以外は、実施例２４と同様の方法で、ポジティブＣプレート２を作製した。波長５５０ｎｍにおいてＲｔｈが−６０ｎｍであった。
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光学異方性膜形成用塗布液Ｍ
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逆分散液晶２                                        １００質量部
Ｔｉｎｕｖｉｎ−４７７                                  ５質量部
垂直配向剤（Ｓ０１）                                    １質量部
垂直配向剤（Ｓ０２）                                ０．５質量部
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                  ８質量部
イルガキュアー９０７（ＢＡＳＦ製）                      ３質量部
カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製）                １質量部
化合物Ｂ０３                                        ０．４質量部
メチルエチルケトン                                  １７０質量部
シクロヘキサノン                                      ３０質量部
────────────────────────────────【０１４４】
［実施例２６］
光学異方性膜形成用塗布液Ｎに代えて、下記光学異方性膜形成用塗布液Ｌを用いた以外は、実施例２４と同様の方法で、ポジティブＣプレート３を作製した。波長５５０ｎｍにおいてＲｔｈが−６０ｎｍであった。
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光学異方性膜形成用塗布液Ｌ
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逆分散液晶３                                        １００質量部
Ｔｉｎｕｖｉｎ−４７７                                  ５質量部
垂直配向剤（Ｓ０１）                                    １質量部
垂直配向剤（Ｓ０２）                                ０．５質量部
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                  ８質量部
イルガキュアー９０７（ＢＡＳＦ製）                      ３質量部
カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製）                １質量部
化合物Ｂ０３                                        ０．４質量部
メチルエチルケトン                                  １７０質量部
シクロヘキサノン                                      ３０質量部
────────────────────────────────【０１４５】
［実施例２７］
光学異方性膜形成用塗布液Ｎに代えて、下記光学異方性膜形成用塗布液Ｏを用いた以外は、実施例２４と同様の方法で、ポジティブＣプレート４を作製した。波長５５０ｎｍにおいてＲｔｈが−６０ｎｍであった。
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光学異方性膜形成用塗布液Ｏ
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逆分散液晶４                                          ８０質量部
逆分散液晶５                                          ２０質量部
Ｔｉｎｕｖｉｎ−４７７                                  ５質量部
垂直配向剤（Ｓ０１）                                    １質量部
垂直配向剤（Ｓ０２）                                ０．５質量部
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                  ８質量部
イルガキュアー９０７（ＢＡＳＦ製）                      ３質量部
カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製）                １質量部
化合物Ｂ０３                                        ０．４質量部
メチルエチルケトン                                  １７０質量部
シクロヘキサノン                                      ３０質量部
────────────────────────────────【０１４６】
［比較例７］
光学異方性膜形成用塗布液Ｎに代えて、下記光学異方性膜形成用塗布液Ｐを用いた以外は、実施例２４と同様の方法で、ポジティブＣプレート５を作製した。波長５５０ｎｍにおいてＲｔｈが−６０ｎｍであった。
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光学異方性膜形成用塗布液Ｐ
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逆分散液晶１                                        １００質量部
Ｔｉｎｕｖｉｎ−４００                                  ５質量部
垂直配向剤（Ｓ０１）                                    １質量部
垂直配向剤（Ｓ０２）                                ０．５質量部
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                  ８質量部
イルガキュアー９０７（ＢＡＳＦ製）                      ３質量部
カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製）                １質量部
化合物Ｂ０３                                        ０．４質量部
メチルエチルケトン                                  １７０質量部
シクロヘキサノン                                      ３０質量部
────────────────────────────────【０１４７】
〔耐光性の評価〕
ポジティブＣプレートの硬化膜が照射面となるように、ガラス基板をキセノン照射機（スガ試験機株式会社製  ＳＸ７５）にセットして、＃２７５フィルターを用いて、光源からサンプルを２９０ｍｍ離して１５０Ｗ／ｍ２の条件にて２時間照射した。このようにして、耐光性試験後の硬化膜を得、残存Ｒｔｈを測定した。
上述の試験前の初期Ｒｔｈ（６０ｎｍ）および残存Ｒｔｈから、下記式により耐光性残存率Ｘ（％）を算出した。
同様に、実施例および比較例の各重合性液晶組成物の硬化膜を用いて、下記式により耐光性残存率Ｙ（％）を算出した。
耐光性残存率（％）＝（残存Ｒｔｈ／初期Ｒｔｈ）×１００
このようにして得られた耐光性残存率Ｘおよび耐光性残存率Ｙの値から、下記式により耐光性改善率を算出し、以下の評価基準により耐光性の評価を行った。結果を下記表３に示す。
耐光性改善率（％）＝耐光性残存率Ｙ−耐光性残存率Ｘ
Ａ：  耐光性改善率が１０％以上
Ｂ：  耐光性残存率が５％超１０％未満
Ｃ：  耐光性改善率が０％超５％以下
Ｄ：  耐光性改善率が０％以下【０１４８】
【表３】
0006754845.tif 000041
【０１４９】
［実施例２８］
〔有機ＥＬ表示装置用反射防止板（円偏光板）の作製〕
＜円偏光板の作製＞
実施例２０の光学フィルム１の光学異方性膜（ポジティブＡプレート１）側に、粘着剤を介して実施例２４のポジティブＣプレート１を転写し、セルロースアシレートフィルム２は除去した。また、光学フィルム１のセルロースアシレートフィルム１側に粘着剤を介して偏光子を貼り合わせて円偏光板を作製した。
なお、円偏光板の作製に用いた実施例２０の光学フィルム１（ポジティブＡプレート１）、および、実施例２４のポジティブＣプレート１は、いずれも上述した耐光性の評価を行った後のサンプルを用いた。【０１５０】
［実施例２９］
実施例２０の光学フィルム１に代えて、実施例２１の光学フィルム２を用い、ポジティブＣプレート１に代えて、実施例２５のポジティブＣプレート２を用いた以外は、実施例２８と同様の方法で、円偏光板を作製した。【０１５１】
［実施例３０］
実施例２０の光学フィルム１に代えて、実施例２２の光学フィルム３を用い、ポジティブＣプレート１に代えて、実施例２６のポジティブＣプレート３を用いた以外は、実施例２８と同様の方法で、円偏光板を作製した。【０１５２】
［実施例３１］
実施例２０の光学フィルム１に代えて、実施例２３の光学フィルム４を用い、ポジティブＣプレート１に代えて、実施例２７のポジティブＣプレート４を用いた以外は、実施例２８と同様の方法で、円偏光板を作製した。【０１５３】
［比較例８］
実施例２０の光学フィルム１に代えて、比較例６の光学フィルム５を用い、ポジティブＣプレート１に代えて、比較例７のポジティブＣプレート５を用いた以外は、実施例２８と同様の方法で、円偏光板を作製した。【０１５４】
〔有機ＥＬパネルへの実装および評価〕
有機ＥＬパネル搭載のＳＡＭＳＵＮＧ社製ＧＡＬＡＸＹ ＳＩＩを分解し、円偏光板を剥離して、上記で作製した円偏光板のポジティブＣプレート側がパネル側となるよう粘着剤を介して貼合し、表示装置を作製した。
表示装置に白表示、黒表示、画像表示をして、極角６０度から蛍光灯を映し込んだときの反射光を観察して、表示品位を下記の基準で評価した。
Ａ：黒浮きが全く視認されない（優良）。
Ｂ：黒浮きがごくわずかに視認されるが許容できる（許容）。
Ｃ：黒浮きが明確に視認できる。【０１５５】
【表４】
0006754845.tif 000042
【０１５６】
表４に示す結果から、本発明の光学フィルム、特に、本発明の光学異方性膜を２層以上有し、少なくとも１層がポジティブＡプレートであり、少なくとも他の１層がポジティブＣプレートである光学フィルムを円偏光板に用いると、有機ＥＬ表示装置の表示機能が良好となることが分かった。
【符号の説明】
【０１５７】
１０  光学フィルム
１２  光学異方性膜
１４  配向膜
１６  支持体
１８  ハードコート層
【図１Ａ】
0006754845.tif 000046
【図１Ｂ】
0006754845.tif 000047
【図２Ａ】
0006754845.tif 000048
【図２Ｂ】
0006754845.tif 000049
【図２Ｃ】
0006754845.tif 000050