(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材の少なくとも一方の面に、基材側から順に高屈折率ハードコート層、高屈折率層、低屈折率層、透明導電層を備えた透明導電フィルムであって、
前記高屈折率ハードコート層の屈折率が１．５８以上１．７１以下であり、
前記高屈折率層の屈折率が１．６５以上１．７６以下、かつ、前記高屈折率層の膜厚が１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であり、
前記低屈折率層の屈折率が１．４５以上１．５５以下、かつ、前記低屈折率層の膜厚が３０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であり、
前記透明導電層の屈折率が１．８０以上２．００以下、かつ、前記透明導電層の膜厚が２５ｎｍ以上３５ｎｍ以下であり、
前記透明導電フィルムの透明導電層側での反射光の、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系における色座標ａ＊及びｂ＊を、それぞれａ＊１及びｂ＊１とし、前記透明導電フィルムの透過光のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における色座標ａ＊及びｂ＊を、それぞれａ＊２及びｂ＊２とし、５５０ｎｍにおける前記透明導電フィルムの透過率をＴとしたとき、下記式を満たす、透明導電フィルム。
０．５２＜ａ＊１＜１．７７
−０．７５＜ａ＊２＜−０．４７
−７．９５＜ｂ＊１＜−３．２６
２．０３＜ｂ＊２＜３．２８
８８％＜Ｔ
【請求項２】
基材の少なくとも一方の面に、基材側から順に高屈折率ハードコート層、高屈折率層、低屈折率層を備え、屈折率が１．８０以上２．００以下、かつ、膜厚が２５ｎｍ以上３５ｎｍ以下の透明導電層を有する透明導電フィルムに用いられる透明積層フィルムであって、
前記高屈折率ハードコート層の屈折率が１．５８以上１．７１以下であり、
前記高屈折率層の屈折率が１．６５以上１．７６以下、かつ、前記高屈折率層の膜厚が１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であり、
前記低屈折率層の屈折率が１．４５以上１．５５以下、かつ、前記低屈折率層の膜厚が３０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であり、
前記透明積層フィルムの低屈折率層側での反射光のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における色座標ａ＊及びｂ＊を、それぞれａ＊３及びｂ＊３とし、前記透明積層フィルムの透過光のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における色座標ａ＊及びｂ＊を、それぞれａ＊４及びｂ＊４とし、５５０ｎｍにおける前記透明積層フィルムの透過率をｔとしたとき、下記式を満たす、透明積層フィルム。
−０．２５＜ａ＊３＜０．２５
−０．０５＜ａ＊４＜０．０５
０＜ｂ＊３＜３
−０．５＜ｂ＊４＜０
８８％＜ｔ
【請求項３】
前記透明導電フィルムをアニール処理した後における透明導電層側の表面抵抗値が１００Ω/□以下であることを特徴とする、請求項１記載の透明導電フィルム。
【請求項４】
請求項１に記載の透明導電フィルムを含む、タッチパネル。
【請求項５】
請求項１に記載の透明導電フィルムを含む、表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タッチパネルに使用される透明積層フィルム及び透明導電フィルム、並びに当該透明積層フィルムを用いたタッチパネル及び表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、タッチパネルの大面積化を図るために、透明導電層（透明電極層）の低抵抗値化が進んでおり、透明導電層の膜厚を厚くする傾向がある。透明導電層の膜厚が厚くなると、透過率が低下すると共に、透過光及び反射光の着色が生じる。また、透明導電層を所定形状にパターニングした構成では、透明導電層の透過率が低下して反射率が上昇することにより、透明電極層が存在する領域と透明導電層が存在しない領域との反射率差が大きくなり、透明導電層のパターン形状が視認されやすくなるという問題もある。
【０００３】
特許文献１には、透明基材、透明層、高屈折率層、低屈折率層及び透明導電層を積層した積層体が開示されている。特許文献１では、パターニングされた透明導電層を不可視化するために必要な、高屈折率層及び低屈折率層の屈折率と膜厚、透明導電層存在領域及び非存在領域のそれぞれにおける反射光の色座標、色差について記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許第５５７４２５３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１では、透明導電層の厚膜化に伴う透過率低下や透過光の着色という課題に対しては何ら検討されていない。
【０００６】
それ故に、本発明は、透明導電層を厚膜化した場合でも、高透過率を有し、反射光及び透過光の着色を抑制できる透明積層フィルム及び透明導電フィルム、並びに、透明積層フィルムを用いたタッチパネル及び表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係る透明導電フィルムは、基材の少なくとも一方の面に、基材側から順に高屈折率ハードコート層、高屈折率層、低屈折率層、透明導電層を備え、高屈折率ハードコート層の屈折率が１．５８以上１．７１以下であり、高屈折率層の屈折率が１．６５以上１．７６以下、かつ、高屈折率層の膜厚が１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であり、低屈折率層の屈折率が１．４５以上１．５５以下、かつ、低屈折率層の膜厚が３０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であり、透明導電層の屈折率が１．８０以上２．００以下、かつ、透明導電層の膜厚が２５ｎｍ以上３５ｎｍ以下であり、透明導電フィルムの透明導電層側での反射光の、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系における色座標ａ＊及びｂ＊を、それぞれａ＊１及びｂ＊１とし、透明導電フィルムの透過光のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における色座標ａ＊及びｂ＊を、それぞれａ＊２及びｂ＊２とし、５５０ｎｍにおける透明導電フィルムの透過率をＴとしたとき、下記式を満たす。
０．５２＜ａ＊１＜１．７７
−０．７５＜ａ＊２＜−０．４７
−７．９５＜ｂ＊１＜−３．２６
２．０３＜ｂ＊２＜３．２８
８８％＜Ｔ
【０００８】
また、本発明に係る透明積層フィルムは、基材の少なくとも一方の面に、基材側から順に高屈折率ハードコート層、高屈折率層、低屈折率層を備え、屈折率が１．８０以上２．００以下、かつ、膜厚が２５ｎｍ以上３５ｎｍ以下の透明導電層を有する透明導電フィルムに用いられるものであって、高屈折率ハードコート層の屈折率が１．５８以上１．７１以下であり、高屈折率層の屈折率が１．６５以上１．７６以下、かつ、高屈折率層の膜厚が１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であり、低屈折率層の屈折率が１．４５以上１．５５以下、かつ、低屈折率層の膜厚が３０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であり、透明積層フィルムの低屈折率層側での反射光のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における色座標ａ＊及びｂ＊を、それぞれａ＊３及びｂ＊３とし、透明積層フィルムの透過光のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における色座標ａ＊及びｂ＊を、それぞれａ＊４及びｂ＊４とし、５５０ｎｍにおける透明積層フィルムの透過率をｔとしたとき、下記式を満たす。
−０．２５＜ａ＊３＜０．２５
−０．０５＜ａ＊４＜０．０５
０＜ｂ＊３＜３
−０．５＜ｂ＊４＜０
８８％＜ｔ
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、透明導電層を厚膜化した場合でも、高透過率を有し、反射光及び透過光の着色を抑制できる透明積層フィルム及び透明導電フィルム、並びに、透明積層フィルムを用いたタッチパネル及び表示装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】タッチパネルを備える画像表示装置の構成例を示す断面図
【図２】図１に示す透明導電フィルムに用いる積層フィルムの層構成の一例を示す断面図
【発明を実施するための形態】
【００１１】
図１は、タッチパネルを備える画像表示装置の構成例を示す断面図である。
【００１２】
画像表示装置１は、背面側（図１の下側）から観察側（図１の上側）へと順に、バックライト４、偏光板５、液晶パネル６、偏光板７、透明導電フィルム９ａ及び９ｂ、カバーガラス１２を備える。偏光板７、透明導電フィルム９ａ及び９ｂ、カバーガラス１２は、透明光学粘着フィルム等の接着層８、１０及び１１を介して貼り合わされている。図１は、偏光板７と透明導電フィルム９ａとが、周縁部のみに接着層８を設けて空気層を介在させる、いわゆる、エアギャップ方式により貼り合わされた構成例を示す。
【００１３】
図２は、図１に示す透明導電フィルムに用いる積層フィルムの層構成の一例を示す断面図である。
【００１４】
図２に示す透明導電フィルム９ａ及び９ｂは、透明積層フィルム２０と、透明積層フィルム２０上に積層される透明導電層２５とを備える。透明積層フィルム２０は、透明基材２１と、高屈折率ハードコート層２２と、高屈折率層２３と、低屈折率層２４とを備える。尚、図示を省略しているが、透明導電層２５を所定形状にパターニングすることによって、透明電極が形成されている。
【００１５】
以下、透明導電フィルムが備える各層の詳細を説明する。
【００１６】
（透明基材）
透明基材２１は、透明導電フィルムの基体となるフィルムであり、可視光線の透過性に優れた材料により形成される。透明基材２１の形成材料としては、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ナイロン６、ナイロン６６等のポリアミド、ポリイミド、ポリアリレート、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリエーテルサルフォン、ポリサルフォン、セルローストリアセテート等の透明樹脂や無機ガラスを利用できる。また、透明基材２１は、複数の材料が積層された複合フィルムであってもよい。透明基材２１の厚みは、特に限定されないが、１０〜２００μｍとすることが好ましい。
【００１７】
（高屈折率ハードコート層）
高屈折率ハードコート層２２は、ウェットコーティング法により形成できる。高屈折率ハードコート層２２は、アクリレートモノマー等の電離放射線硬化型樹脂と、高屈折率粒子と、重合開始剤とを含有する高屈折率ハードコート層形成用塗工液を透明基材に塗布し、硬化させることによって形成できる。アクリレートモノマーとしては、例えば、ペンタエリスリトールトリアクリレート（共栄社化学株式会社製、新中村化学工業株式会社製、サートマー製）を使用できる。高屈折粒子としては、ジルコニア微粒子、チタン微粒子等を使用できる。
【００１８】
高屈折率ハードコート層２２の屈折率は、１．５８〜１．７１とする。高屈折率ハードコート層２２の屈折率が１．５８未満の場合、透明導電層２５の成膜後の透過率が低下する。一方、高屈折率２２ハードコート層の屈折率が１．７１より大きくなると、透明導電層２５の成膜後に反射光及び透過光の着色を生じる。
【００１９】
高屈折率ハードコート層２２の膜厚は、透明積層フィルム２０に必要な機械強度を付与でき、かつ、透明積層フィルム２０のカールを抑制できる限り、特に限定されない。高屈折率ハードコート層の膜厚は、例えば、１〜１０μｍである。
【００２０】
（高屈折率層）
高屈折率層２３は、ウェットコーティング法で形成できる。高屈折率層２３は、アクリレートモノマー等の電離放射線硬化型樹脂と、高屈折率微粒子と、重合開始剤とを含有する高屈折率層形成用塗工液を透明基材２１に塗布し、塗膜を硬化させることによって形成できる。高屈折率微粒子としては、例えば、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化ニオブ、三酸化アンチモン、五酸化アンチモン、酸化スズ、ＡＴＯ（アンチモンドープ酸化スズ）、酸化インジウム、ＩＴＯ（スズドープ酸化インジウム）、酸化亜鉛等の高屈折率材料からなる微粒子を用いることができる。アクリレートモノマーとしては、高屈折率ハードコート層に例示したものを用いることができる。
【００２１】
高屈折率層２３の屈折率は、１．６５〜１．７６とする。高屈折率層２３の屈折率が１．６５未満になると、透明導電層２５の成膜後に着色が生じる。また、高屈折率微粒子を塗液化する都合上、得られる高屈折率層２３の屈折率は、１．７６程度が現実的な上限値となる。
【００２２】
高屈折率層２３の膜厚は、１０〜５０ｎｍとする。高屈折率層２３の膜厚がこの範囲から外れると、透明導電層の成膜後に着色が生じる。また、ウェットコーティング法で高屈折率層２３を形成する場合、膜厚は１０ｎｍ程度が現実的な下限値となる。
【００２３】
（低屈折率層）
低屈折率層２４は、ウェットコーティング法により形成できる。低屈折率層２４は、エーテル結合を有するアクリレートモノマー等の電離放射線硬化型樹脂と、重合開始剤とを含有する低屈折率層形成用塗工液を、高屈折率層２３に塗布し、塗膜を光重合により硬化させることによって形成できる。エーテル結合を有するアクリレート化合物としては、トリプロピレングリコールジアクリレート（商品名：ＡＰＧ−２００、新中村化学工業株式会社製）、プロポキシ化（３）トリメチロールプロパントリアクリレート（商品名：ＳＲ４９２、巴工業株式会社製）、プロポキシ化（６）トリメチロールプロパントリアクリレート（商品名：ＣＤ５０１、巴工業株式会社製）等を利用できる。
【００２４】
低屈折率層２４の屈折率は、１．４５〜１．５５とする。低屈折率層２４の屈折率が１．４５未満になると、透明導電層２５の成膜後に着色が生じる。また、低屈折率層２４の屈折率が１．５５を超えると、透明導電層２５の成膜後の透過率が低下する。
【００２５】
低屈折率層２４の膜厚は、３０〜５０ｎｍとする。低屈折率層２４の膜厚が３０ｎｍ未満になると、透明導電層２５の成膜後の透過率が低下する。また、低屈折率層２４の膜厚が５０ｎｍを超えると、透明導電層２５の成膜後に着色が生じる。
【００２６】
上述した高屈折率ハードコート層、高屈折率層、低屈折率層を形成するためのバインダー樹脂の例としては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、トリス２−ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリアクリレート、グリセリントリアクリレート等のトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジトリメチロールプロパントリアクリレート等の３官能のアクリレート化合物や、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサアクリレート等の３官能以上の多官能アクリレート化合物や、これらアクリレートの一部をアルキル基やε−カプロラクトンで置換した多官能アクリレート化合物等が挙げられる。
【００２７】
上述した重合開始剤の例としては、例えば、２，２−エトキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ジベンゾイル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ｐ−クロロベンゾフェノン、ｐ−メトキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、アセトフェノン、２−クロロチオキサントン等が挙げられる。これらを単独、もしくは２種類以上合わせて用いても良い。
【００２８】
尚、ウェットコーティング法で層形成を行う場合、フローコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、グラビアロールコーティング法、エアドクターコーティング法、プレードコーティング法、ワイヤードクターコーティング法、ナイフコーティング法、リバースコーティング法、トランスファロールコーティング法、マイクログラビアコーティング法、キスコーティング法、キャストコーティング法、スロットオリフィスコーティング法、カレンダーコーティング法、ダイコーティング法等の公知のウェットコーティング法により塗工液を塗布した後、塗膜を硬化させる。塗工液の塗膜を硬化させる方法としては、例えば、紫外線照射、加熱等を用いることができる。紫外線照射の場合、高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、フュージョンランプ等を使用することができる。紫外線照射量は、通常１００〜８００ｍＪ／ｃｍ２程度である。
【００２９】
（透明導電層）
透明導電層２５は、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍｕ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化チタン等の屈折率が１．８０〜２．００の透明導電材料を用いて形成される。透明導電層２５の形成方法は、特に限定されないが、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレート法、化学気相成長法（ＣＶＤ法）等により成膜できる。透明導電層２５の成膜後、アモルファスの材料を結晶化させるため、一般に、１００〜１７０℃の温度で５〜１２０分間のアニール処理が行われる。
【００３０】
透明導電フィルム９ａ及び９ｂを１００〜１７０℃で５〜１２０分間加熱した後における透明導電層２５の表面抵抗値は１００Ω／□以下とする。当該条件でアニール処理を行った後の透明電極層２５の表面抵抗値が１００Ω／□を超えて大きくなると、大型のタッチパネルへの適用が困難となる。
【００３１】
透明導電層２５の膜厚は、２５〜３５ｎｍとする。透明導電層２５の膜厚が２５ｎｍ未満になると、透明導電層２５の低抵抗値化を図ることができなくなるので、大面積のタッチパネルへの適用が困難となる。また、透明導電層２５の膜厚が３５ｎｍを超えると、透明導電層２５の透過率が低下する。
【００３２】
上述した透明積層フィルム２０は、ロール状に巻回された透明基材２１を引き出して搬送しながら、透明基材２１の一方面に対して順次層形成を行い、得られた透明積層フィルム２０を再度巻き取るロール・ツー・ロール法により形成することができる。その後、巻回した透明積層フィルム２０を引き出して搬送しながら、低屈折率層２４上に透明導電層２５を形成することによって、透明導電フィルム９ａ及び９ｂを得ることができる。
【００３３】
（透明導電フィルムの特性）
高屈折率ハードコート層２２、高屈折率層２３、低屈折率層２４及び透明導電層２５の屈折率及び膜厚を上記の範囲に設定することによって、得られた透明導電フィルム９ａ及び９ｂは、下記条件式（１）〜（５）を同時に満足する。
０．５２＜ａ＊１＜１．７７        ・・・（１）
−０．７５＜ａ＊２＜−０．４７  ・・・（２）
−７．９５＜ｂ＊１＜−３．２６      ・・・（３）
２．０３＜ｂ＊２＜３．２８        ・・・（４）
８８％＜Ｔ          ・・・（５）
ここで、
ａ＊１：透明導電層側での反射光のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における色座標ａ＊
ｂ＊１：透明導電層側での反射光のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における色座標ｂ＊
ａ＊２：透過光のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における色座標ａ＊
ｂ＊２：透過光のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における色座標ｂ＊
Ｔ：透明導電フィルムの、波長５５０ｎｍの光の透過率
である。
【００３４】
条件式（１）及び（３）を同時に満足しない場合、透明導電層２５が存在する領域の反射光が着色する。条件式（２）及び（４）を同時に満足しない場合、透明導電層２５が存在する領域を透過した光が着色する。また、条件式（５）を満足しない場合、透明導電層２５がある領域の反射光が相対的に増え、透明導電層２５が存在する領域と存在しない領域との反射率差が大きくなり、透明導電層２５のパターンが視認されやすくなる。
（透明積層フィルムの特性）
また、高屈折率ハードコート層２２、高屈折率層２３及び低屈折率層２４の屈折率及び膜厚を上記の範囲に設定することによって、得られた透明積層フィルム２０は、下記条件式（６）〜（１０）を同時に満足する。
−０．２５＜ａ＊３＜０．２５  ・・・（６）
−０．０５＜ａ＊４＜０．０５  ・・・（７）
０＜ｂ＊３＜３                ・・・（８）
−０．５＜ｂ＊４＜０          ・・・（９）
８８％＜ｔ                  ・・・（１０）
【００３５】
ここで、
ａ＊３：低屈折率層側での反射光のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における色座標ａ＊
ｂ＊３：低屈折率層側での反射光のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における色座標ｂ＊
ａ＊４：透過光のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における色座標ａ＊
ｂ＊４：透過光のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における色座標ｂ＊
ｔ：透明積層フィルムの、波長５５０ｎｍの光の透過率
である。
【００３６】
条件式（６）及び（８）を同時に満足しない場合、低屈折率層２４上に透明導電層２５を成膜した後に、透明導電層２５が存在する領域の反射光が着色する。条件式（７）及び（９）を同時に満足しない場合、低屈折率層２４上に透明導電層２５を成膜した後に、透明導電層２５が存在する領域を透過した光が着色する。また、条件式（１０）を満足しない場合、低屈折率層２４上に透明導電層２５を成膜した後に、透明導電層２５がある領域の反射光が相対的に増え、透明導電層２５が存在する領域と存在しない領域との反射率差が大きくなり、透明導電層２５のパターンが視認されやすくなる。
【００３７】
以上説明したように、高屈折率ハードコート層２２、高屈折率層２３、低屈折率層２４及び透明導電層２５の屈折率及び膜厚を上述した範囲内とすることによって、透明導電層２５を厚膜化した場合でも、高透過率を有し、反射光及び透過光の着色を抑制できる透明積層フィルム２０及び透明導電フィルム９ａ、９ｂを実現できる。
【実施例】
【００３８】
以下、本発明を具体的に実施した実施例を説明する。
【００３９】
実施例１〜１１及び比較例１〜１４で使用した材料は次の通りである。
【００４０】
［透明基材］
ポリエチレンテレフタレートフィルム  商品名：５０ＵＨ１３（東レ株式会社製）、厚み５０μｍ
【００４１】
［高屈折率ハードコート層形成用塗液］
ＵＶ硬化型機能性ハードコート剤  商品名：リオデュラス（登録商標）ＴＹＺシリーズ（東洋インキ株式会社製、高屈折粒子：ＺｒＯ２）
より具体的には、ＴＹＺ６５（実施例１、３〜９、比較例１〜１２）、ＴＹＺ６３（実施例２）、ＴＹＺ５８（実施例１０）、ＴＹＺ７１（実施例１１）、ＴＹＺ５７（比較例１３）、ＴＹＺ７２（比較例１４）を使用した。
【００４２】
［高屈折率層形成用塗液］
ＵＶ硬化型機能性ハードコート剤  商品名：リオデュラス（登録商標）ＴＹＺシリーズ（東洋インキ株式会社製、高屈折粒子：ＺｒＯ２）、または、ＴＹＴシリーズ（東洋インキ株式会社製、高屈折粒子：ＴｉＯ２）
より具体的には、ＴＹＺ７１（実施例１、４〜１０、比較例３〜１４）、ＴＹＺ６５（実施例２）、ＴＹＺ７６（実施例３）、ＴＹＺ７２（実施例１１）、ＴＹＺ６０（比較例１）、ＴＹＴ９０（比較例２）を使用した。
【００４３】
［低屈折率層形成用塗液（実施例１〜３、６〜１１、比較例１、２、５〜１４）］
・プロポキシ化（６）トリメチロールプロパントリアクリレート
商品名：ＣＤ５０１（巴工業株式会社製）                          １００質量部
・光重合開始剤：イルガキュア１８４（ＢＡＳＦ社製）                      ５質量部
・溶剤：メチルエチルケトン（東洋インキ株式会社性）                    ５０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル（東洋インキ株式会社性）５０質量部
【００４４】
［低屈折率層形成用塗液（実施例４）］
・１，２−ジアクリロキシメチル-パーフルオロシクロヘキサン
商品名：ＬＩＮＣ−１０２Ａ（共栄社化学株式会社製）              １００質量部
・光重合開始剤：イルガキュア１８４（ＢＡＳＦ社製）                  ５質量部
・溶剤：メチルエチルケトン（東洋インキ株式会社性）                    ５０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル（東洋インキ株式会社性）５０質量部
【００４５】
［低屈折率層形成用塗液（実施例５）］
・ビスフェノールＡＥＯ３．８モル付加物ジアクリレート
商品名：ビスコート＃７００ＨＶ（大阪有機化学工業株式会社製）    １００質量部
・光重合開始剤：イルガキュア１８４（ＢＡＳＦ社製）                  ５質量部
・溶剤：メチルエチルケトン（東洋インキ株式会社性）                    ５０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル（東洋インキ株式会社性）５０質量部
【００４６】
［低屈折率層形成用塗液（比較例３）］
・１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチルメタクリレート
商品名：ビスコート８ＦＭ（大阪有機化学工業株式会社製）          １００質量部
・光重合開始剤：イルガキュア１８４（ＢＡＳＦ社製）                      ５質量部
・溶剤：メチルエチルケトン（東洋インキ株式会社性）                    ５０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル（東洋インキ株式会社性）５０質量部
【００４７】
［低屈折率層形成用塗液（比較例４）］
・ＵＶ硬化型機能性ハードコート剤
商品名：リオデュラス（登録商標）ＴＹＺ６５（東洋インキ株式会社製、高屈折粒子：ＺｒＯ２）
【００４８】
（透明積層フィルムの作製）
透明基材の一方面に、高屈折率ハードコート層形成塗液を乾燥後の膜厚が１．５μｍとなるように塗布し、乾燥させた。その後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２で紫外線照射を行うことにより塗膜を硬化させて、高屈折率ハードコート層を形成した。
【００４９】
次に、高屈折率ハードコート層上に、高屈折率層形成用塗液を乾燥後の膜厚が表１に示す膜厚となるように塗布し、乾燥させた。その後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２で紫外線照射を行うことにより塗膜を硬化させて、高屈折率層を形成した。
【００５０】
次に、高屈折率層上に、低屈折率層形成用塗液を乾燥後の膜厚が表１に示す膜厚となるように塗布し、乾燥させた。その後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２で紫外線照射を行うことにより塗膜を硬化させて、低屈折率層を形成した。
【００５１】
（透明導電フィルムの作製）
次に、低屈折率層上にＩＴＯからなる透明導電層を形成した。透明導電層は、ＤＣマグネトロンスパッタリング装置を用いて真空中でスパッタリングを行うことにより、表１に示す膜厚に成膜した。尚、実施例１〜１１、比較例１〜１０、１３及び１４では、スパッタリングターゲットとして、スズ含有率が５質量％のＩＴＯを用い、比較例１１では、スズ含有率が３質量％のＩＴＯを用い、比較例１２では、スズ含有率が７質量％のＩＴＯを用いた。成膜後、１５０℃で１時間のアニール処理を施して、透明導電フィルムを得た。
【００５２】
また、実施例１〜１１、比較例１〜８及び１３〜１４については、透明導電層形成前の透明積層フィルムについて、反射光及び透過光の色座標（上述したａ＊３、ｂ＊３、ａ＊４、ｂ＊４）、５５０ｎｍの光の透過率を測定し、透明導電層形成後の透明導電フィルムについて、反射光及び透過光の色座標（ａ＊１、ｂ＊１、ａ＊２、ｂ＊２）、５５０ｎｍの光の透過率（ｔ、Ｔ）、表面抵抗値を測定した。残りの比較例９〜１２については、透明導電層形成後の透明導電フィルムについて、反射光及び透過光の色座標（ａ＊３、ｂ＊３、ａ＊４、ｂ＊４）、５５０ｎｍの光の透過率（Ｔ）、表面抵抗値を測定した。測定条件は次の通りである。
【００５３】
［光学特性（ａ＊、ｂ＊、ｔ、Ｔ）］
色座標ａ＊及びｂ＊の値は、透明導電層側から入射角５°で光を照射し、角度可変式絶対反射測定装置（Ｕ−４１００；株式会社日立製作所製）を用いて測定した。また、透過率ｔ及びＴは、波長５５０ｎｍの光を用いて測定した。
【００５４】
［表面抵抗値］
表面抵抗値は、抵抗率計（ロレスタＧＰ  ＭＣＰ−Ｔ６１０型；株式会社三菱化学アナリテック）を用いて、印可電圧１０Ｖで測定した。
【００５５】
表１に、実施例１〜１１及び比較例１〜１４の各層の屈折率、膜厚、透明導電層形成前後の各測定値を示す。
【００５６】
【表１】
0006803655.tif 000002
【００５７】
表１に示すように、実施例１〜１１では、高屈折率ハードコート層、高屈折率層、低屈折率層及び透明導電層の屈折率及び膜厚を上述した範囲内としたことによって、透明電極層形成前及び形成後のいずれにおいても、色座標の値と透過率とが好ましい範囲内となり、反射光及び透過光の着色が抑制されると共に、高い光透過率を有することが確認された。また、実施例１〜１１では、表面抵抗値の値も１００Ω／□未満であり、大型のタッチパネルに適していることが確認された。
【００５８】
これに対して、比較例１〜４、６〜８、１３及び１４では、高屈折率ハードコート層、高屈折率層、低屈折率層の屈折率及び膜厚のいずれかが上述した範囲から外れたことによって、透明導電層を形成した後の透明導電フィルムにおいて、色座標の値が好ましい範囲から外れて、反射光及び透過光の着色が認められるか、あるいは、透過率が低下した。
【００５９】
また、比較例５では、高屈折率層をウェットコーティング法により膜厚５ｎｍで成膜しようとしたが、膜が薄すぎるため、ウェットコーティング法で形成することはできず、サンプルを得ることができなかった。
【００６０】
また、比較例９〜１２は、高屈折率ハードコート層、高屈折率層、低屈折率層の屈折率及び膜厚が実施例１と同じであるが、透明導電層の屈折率または膜厚が上述した範囲から外れたものである。実施例１と比較例９〜１２との対比から、高屈折率ハードコート層、高屈折率層、低屈折率層の屈折率及び膜厚の全てが上述した範囲内にある透明積層フィルムは、屈折率が１．８０以上２．００以下、かつ、膜厚が２５ｎｍ以上３５ｎｍ以下である透明導電層を成膜した透明導電フィルムに好適であることが確認された。これに対して、比較例９では、透明導電層の膜厚が薄すぎることによって、表面抵抗値が１００Ω／□を越えた。比較例１０では、透明導電層の膜厚が厚すぎることによって、反射光及び透過光の着色が認められ、更に、透過率も低くなった。比較例１１では、実施例１〜１１と比べてスズ含有率が少ないＩＴＯを用いて透明導電層を形成したため、表面抵抗値が１００Ω／□を越えた。比較例１２では、透明導電層の屈折率が高すぎることによって、反射光及び透過光の着色が認められ、更に、透過率も低くなった。
【００６１】
以上より、本発明によれば、透明導電層を厚膜化した場合でも、高透過率を有し、反射光及び透過光の着色を抑制できる透明積層フィルム及び透明導電フィルムを実現できることが確認された。
【産業上の利用可能性】
【００６２】
本発明は、タッチパネルを備えた画像装置等に利用できる。
【符号の説明】
【００６３】
１  画像表示装置
４  バックライト
５  偏光板
６  液晶パネル
７  偏光板
８  接着層
９ａ、９ｂ  透明導電フィルム
１０  接着層
１１  接着層
１２  カバーガラス
２０  透明積層フィルム
２１  高屈折率ハードコート層
２２  高屈折率層
２４  低屈折率層
２５  透明導電層
【図１】
0006803655.tif 000003
【図２】
0006803655.tif 000004