(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）芳香族含有量が低下した反応生成物を製造するために有効な芳香族水素化条件下で操作される反応段階において、水素含有処理気体の存在下、芳香族を含む炭化水素供給流を水素化触媒と接触させることを含み、前記水素化触媒が、
（ｉ）式［Ｚ１ＯＺ２ＯＳｉＣＨ２］３（Ｉ）
［式中、各Ｚ１およびＺ２は、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基またはケイ素原子への結合を表す］
のモノマーの独立単位を含むポリマーであるオルガノシリカ材料支持体と、
（ｉｉ）第８族金属、第９族金属、第１０族金属およびそれらの組合せからなる群から選択される少なくとも１種の触媒金属と
を含み、
アルミニウムが、オルガノシリカ材料支持体表面上にグラフト化されている、
炭化水素供給流のための芳香族水素化プロセス。
【請求項２】
各Ｚ１およびＺ２が、独立して、水素原子、エチル、またはケイ素原子への結合を表す、請求項１に記載のプロセス。
【請求項３】
（ｉ）前記オルガノシリカ材料支持体が、５００ｍ２／ｇ〜２０００ｍ２／ｇの全表面積を有すること、
（ｉｉ）前記オルガノシリカ材料支持体が、０．５ｃｍ３／ｇ〜３．０ｃｍ３／ｇの細孔体積を有すること、および
（ｉｉｉ）前記オルガノシリカ材料支持体が、２．５ｎｍ〜５ｎｍの平均細孔直径を有すること
の１つ以上が満たされる、請求項１又は２に記載のプロセス。
【請求項４】
前記少なくとも１種の触媒金属が、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｒｈ、Ｒｅ、Ｒｕ、Ｏｓおよびそれらの組合せからなる群から選択され、前記少なくとも１種の触媒金属が、０．１〜２．０重量％の範囲の量で存在する、請求項１〜３のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項５】
前記水素化触媒が、活性材料および不活性材料、無機材料、クレー、アルミナ、シリカ、シリカ−アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化イットリウム、酸化タンタル、酸化ニオブ、活性炭、セラミックス、軽石、シーライトおよびそれらの組合せからなる群から選択される結合剤材料をさらに含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項６】
（ｉ）前記炭化水素供給流が、炭化水素流体、ディーゼル沸騰範囲供給流、潤滑油沸騰範囲供給流、全石油原油もしくは減少石油原油、大気残留物、真空残留物、プロパン脱アスファルト化残留物、脱蝋油、スラックワックス、ラフィネートまたはそれらの混合物であること、
（ｉｉ）前記炭化水素供給流が、全て前記炭化水素供給流に基づき、０．２重量％までの窒素、３．０重量％までの硫黄および５０重量％までの芳香族を含有すること、および
（ｉｉｉ）前記炭化水素供給流が、１００ｗｐｐｍ未満の硫黄含有量を有すること
の１つ以上が満たされる、請求項１〜５のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項７】
前記有効な芳香族水素化条件が、３５０℃以下の温度を含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項８】
芳香族水素化のための水素化触媒を製造する方法であって、
（ａ）構造指向剤および／またはポロゲンを本質的に含有しない水性混合物を供給することと、
（ｂ）式［Ｚ１５Ｚ１６ＳｉＣＨ２］３（ＶＩＩ）
［式中、各Ｚ１５は、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基を表し、各Ｚ１６は、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ４アルキル基を表す］
の少なくとも１種の化合物を前記水性混合物に添加して、溶液を形成することと、
（ｃ）前記溶液をエイジングさせて、プリプロダクトを製造することと、
（ｄ）前記プリプロダクトを乾燥させて、式［Ｚ１ＯＺ２ＯＳｉＣＨ２］３（Ｉ）
［式中、各Ｚ１およびＺ２は、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、またはケイ素原子への結合を表す］
のモノマーの独立単位を含むポリマーである、オルガノシリカ材料支持体を得ることと、
（ｅ）第８族金属、第９族金属、第１０族金属およびそれらの組合せからなる群から選択される少なくとも１種の触媒金属で前記オルガノシリカ材料支持体を含浸させることと
を含み、
前記オルガノシリカ材料支持体を含浸する前に、前記オルガノシリカ材料支持体表面上でアルミニウムをグラフト化することをさらに含む、
方法。
【請求項９】
前記式（ＶＩＩ）の少なくとも１種の化合物が、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサンであり、前記式中、各Ｚ１およびＺ２が、独立して、水素原子、エチル、またはケイ素原子に結合した酸素を表す、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記水性混合物が、アンモニウムヒドロキシドまたは金属ヒドロキシドなどの塩基を含み、８〜１４のｐＨを有する、請求項８又は９に記載の方法。
【請求項１１】
前記水性混合物が、塩酸などの酸を含み、０．０１〜６．０のｐＨを有する、請求項８又は９に記載の方法。
【請求項１２】
前記工程（ｃ）において、前記溶液が、１４４時間までにわたり５０℃〜２００℃の温度でエイジングされる、請求項８〜１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
前記プリプロダクトが、７０℃〜２００℃の温度で乾燥される、請求項８〜１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
前記少なくとも１種の触媒金属が、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｒｈ、Ｒｅ、Ｒｕ、Ｏｓおよびそれらの組合せからなる群から選択される、請求項８〜１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
活性材料および不活性材料、無機材料、クレー、アルミナ、シリカ、シリカ−アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化イットリウム、酸化タンタル、酸化ニオブ、活性炭、セラミックス、軽石、シーライトおよびそれらの組合せからなる群から選択される結合剤材料を添加することをさらに含む、請求項８〜１４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１６】
前記結合剤材料が、シリカ−アルミナ、アルミナ、シリカ、チタニアおよびジルコニア 活性炭からなる群から選択される、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
（ｉ）式［Ｚ１ＯＺ２ＯＳｉＣＨ２］３（Ｉ）
［式中、各Ｚ１およびＺ２は、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、またはケイ素原子への結合を表す］
のモノマーの独立単位を含むポリマーである、オルガノシリカ材料支持体と、
（ｉｉ）第８族金属、第９族金属、第１０族金属およびそれらの組合せからなる群から選択される少なくとも１種の触媒金属と
を含み、
アルミニウムが、オルガノシリカ材料支持体表面上にグラフト化されている、
芳香族水素化のための水素化触媒。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
（発明の分野）
本発明は、芳香族を含有する炭化水素供給流の加工用の触媒およびその触媒の使用に関する。
【背景技術】
【０００２】
（発明の背景）
多孔性無機固体は、工業的応用のための触媒および分離媒体として大いに有益であることが見出されている。特に、メソ細孔の周期的配列を有するシリカおよびアルミナなどのメソポーラス材料は、それらの均一かつ調整可能な細孔、高い表面積および大きい細孔体積のため、触媒プロセスでの使用に魅力的な材料である。そのようなメソポーラス材料は、大きい比表面積（例えば、１０００ｍ２／ｇ）および大きい細孔体積（例えば、１ｃｍ３／ｇ）を有することが知られている。これらの理由のため、そのようなメソポーラス材料は、反応性触媒を可能にする。
【０００３】
例えば、水素化仕上技術では、メソポーラス支持体上に卑金属触媒および貴金属触媒の両方が使用されている。貴金属触媒により、卑金属触媒を使用する場合に必要とされるものよりも少ない反応器体積で、より低い圧力および温度において優れた色彩および酸化安定性を達成することができる。より高い加工温度において、色品質は、十分な酸化安定性を達成するために犠牲にされる。貴金属触媒により、優れた色彩安定性（ウォーターホワイト）、優れた酸化安定性およびほぼ完全な芳香族の除去を得ることができる。
【０００４】
しかしながら、触媒支持体として使用され得るメソポーラスオルガノシリカは、慣例的に、構造指向剤、ポロゲンおよび／またはフレームワーク要素の存在下でのシルセキオクサン（ｓｉｌｓｅｑｕｉｏｘａｎｅ）前駆体の自己集合によって形成される。この前駆体は、加水分解性であり、構造指向剤の周囲で凝縮する。これらの材料は、平行配列されたメソスケールチャネルの周期的配列の存在のため、周期的メソポーラスオルガノシリケート（ＰＭＯ）と呼ばれている。例えば、非特許文献１は、Ｒが架橋性有機基であるＳｉＯ３ＲまたはＳｉＯ２Ｒ２ビルディングブロックからなる周期的メソポーラスフレームワークを有する、架橋されたオルガノシリカであるＰＭＯを形成するための、塩基および構造指向剤、セチルトリメチルアンモニウムブロミドの存在下での１，３，５−トリス［ジエトキシシリカ］シクロヘキサン［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３の自己集合を報告する。ＰＭＯ中、有機基は、細孔壁中に均一に分配され得る。特許文献１は、ＮａＡｌＯ２および塩基の存在下、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシリルシクロヘキサンから形成された結晶質ハイブリッド有機−無機シリケートの調製を報告する。特許文献２は、プロピレングリコールモノメチルエーテルの存在下、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシリルシクロヘキサンから形成された組成物の調製を報告する。
【０００５】
しかしながら、オルガノシリカ材料の調製において、界面活性剤などの構造指向剤を使用することにより、調製プロセスの最後に構造指向剤を除去するための複雑でエネルギー集約的なプロセスが必要となる。例えば、構造指向剤を処分するため、焼成ならびに廃水処分ステップおよび関連費用が必要とされ得る。これにより、工業的応用のためにプロセスの規模を大きくする能力が限定される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】米国特許出願公開第２０１２／００５９１８１号明細書
【特許文献２】米国特許出願公開第２００７／００３４９２号明細書
【非特許文献】
【０００７】
【非特許文献１】Ｌａｎｄｓｋｒｏｎ，Ｋ．，ｅｔ．ａｌ．［Ｓｃｉｅｎｃｅ，３０２：２６６−２６９（２００３）］
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
したがって、構造指向剤、ポロゲンまたは界面活性剤の不在下で実行可能な方法によって調製することができるオルガノシリカ材料を使用する、炭化水素供給原料の芳香族飽和のための改善された触媒および／またはプロセスが必要とされている。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
（発明の要旨）
望ましい細孔直径（pore diameter）、細孔体積（pore volume）および表面積を有するオルガノシリカ材料を含む触媒支持体を達成し得ることが見出された。さらに、そのようなオルガノシリカ材料支持体は、構造指向剤（structure directing agent）、ポロゲン（porogen）または界面活性剤を必要とせずに問題なく調製することができる。
【００１０】
したがって、一態様において、本発明の実施形態は、（ｉ）式［Ｚ１ＯＺ２ＯＳｉＣＨ２］３（Ｉ）［式中、各Ｚ１およびＺ２は、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す］のモノマーの独立単位を含むポリマーであるオルガノシリカ材料支持体と、（ｉｉ）第８族金属、第９族金属、第１０族金属およびそれらの組合せからなる群から選択される少なくとも１種の触媒金属とを含む芳香族水素化のための水素化触媒を提供する。
【００１１】
別の態様において、本発明の実施形態は、芳香族水素化のための水素化触媒を製造する方法であって、（ａ）構造指向剤および／またはポロゲンを本質的に含有しない水性混合物を供給すること（又は工程もしくはステップ）と、（ｂ）式［Ｚ１５Ｚ１６ＳｉＣＨ２］３（ＶＩＩ）［式中、各Ｚ１５は、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基を表し、各Ｚ１６は、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ４アルキル基を表す］の少なくとも１種の化合物を水性混合物に添加して、溶液を形成すること（又は工程もしくはステップ）と、（ｃ）溶液をエイジング（又は老化）させて、ゲルを製造すること（又は工程もしくはステップ）と、（ｄ）ゲルを乾燥させて、式［Ｚ１ＯＺ２ＯＳｉＣＨ２］３（Ｉ）［式中、各Ｚ１およびＺ２は、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す］のモノマーの独立単位を含むポリマーであるオルガノシリカ材料支持体を得ること（又は工程もしくはステップ）と、（ｅ）第８族金属、第９族金属、第１０族金属およびそれらの組合せからなる群から選択される少なくとも１種の触媒金属でオルガノシリカ材料支持体を含浸させること（又は工程もしくはステップ）とを含む方法を提供する。
【００１２】
なお、別の態様において、本発明の実施形態は、（ａ）芳香族含有量（aromatics content）が低下した反応生成物を製造するために有効な芳香族水素化条件下（effective aromatics hydrogenation conditions）で操作される第１の反応段階（又は反応ステージ）において、水素含有処理気体（hydrogen-containing treat gas）の存在下、芳香族（aromatics）を含む炭化水素供給流（又は炭化水素フィードストリーム）を水素化触媒と接触させること（又は工程もしくはステップ）を含み、
水素化触媒が、
（ｉ）式［Ｚ１ＯＺ２ＯＳｉＣＨ２］３（Ｉ）
［式中、各Ｚ１およびＺ２は、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す］
のモノマーの独立単位を含むポリマーである、オルガノシリカ材料支持体と、
（ｉｉ）第８族金属、第９族金属、第１０族金属およびそれらの組合せからなる群から選択される少なくとも１種の触媒金属と
を含む、炭化水素供給流のための芳香族水素化プロセスを提供する。
【００１３】
上記で要約された実施形態の特定の態様を含む他の実施形態は、以下の詳細な説明から明白となるであろう。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
（発明の詳細な説明）
本発明の様々な態様において、水素化触媒、水素化触媒を調製する方法および芳香族水素化プロセスが提供される。
【００１５】
Ｉ．定義
本発明およびそれに対する特許請求の範囲の目的のため、周期表の命番方式は、ＩＵＰＡＣ元素周期表による。
【００１６】
本明細書中、「Ａおよび／またはＢ」などの句で使用される「および／または」という用語は、「ＡおよびＢ」、「ＡまたはＢ」、「Ａ」ならびに「Ｂ」を含むように意図される。
【００１７】
「置換基」、「ラジカル」、「基」および「部分（又は部位（moiety））」という用語は、互換的に使用され得る。
【００１８】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「Ｃｎ」という用語は、１分子あたりｎ個の炭素原子を有する炭化水素を意味し、ｎは正の整数である。
【００１９】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「炭化水素」という用語は、炭素に結合した水素を含有する化合物の種類を意味し、（ｉ）飽和炭化水素化合物、（ｉｉ）不飽和炭化水素化合物、および（ｉｉｉ）異なるｎ値を有する炭化水素化合物の混合物を含む、（飽和および／または不飽和の）炭化水素化合物の混合物が包括される。
【００２０】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「アルキル」という用語は、１〜１２個の炭素原子（すなわち、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル）、特に１〜８個の炭素原子（すなわち、Ｃ１〜Ｃ８アルキル）、特に１〜６個の炭素原子（すなわち、Ｃ１〜Ｃ６アルキル）、特に１〜４個の炭素原子（すなわち、Ｃ１〜Ｃ４アルキル）を有する飽和炭化水素基を意味する。アルキル基の例としては、限定されないが、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、デシルなどが含まれる。アルキル基は、直鎖、分岐鎖または環式であってよい。「アルキル」は、アルキル基の全ての構造異性体の形態を包含するように意図される。例えば、本明細書で使用される場合、プロピルは、ｎ−プロピルおよびイソプロプルの両方を含み、ブチルは、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、イソブチルおよびｔｅｒｔ−ブチルなどを含む。本明細書で使用される場合、「Ｃ１アルキル」はメチル（−ＣＨ３）を指し、「Ｃ２アルキル」はエチル（−ＣＨ２ＣＨ３）を指し、「Ｃ３アルキル」はプロピル（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）を指し、および「Ｃ４アルキル」はブチル（例えば、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、−（ＣＨ３）ＣＨＣＨ２ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）２など）を指す。さらに、本明細書で使用される場合、「Ｍｅ」はメチルを指し、および「Ｅｔ」はエチルを指し、「ｉ−Ｐｒ」は「イソプロプルを指し、「ｔ−Ｂｕ」はｔｅｒｔ−ブチルを指し、および「Ｎｐ」はネオペンチルを指す。
【００２１】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「アルキレン」という用語は、長さにおいて１〜１２個の炭素原子を含有する二価アルキル部分（すなわち、Ｃ１〜Ｃ１２アルキレン）を指し、アルキレン部分が、アルキル単位の両端において分子の残基に結合することを意味する。例えば、アルキレンとしては、限定されないが、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−などが含まれる。アルキレン基は、直鎖または分岐鎖であってよい。
【００２２】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「窒素含有アルキル」という用語は、アルキル基中の１個以上の炭素原子が、窒素原子、または２〜１０個の炭素原子を有する窒素含有環式炭化水素（すなわち、窒素含有環式Ｃ２〜Ｃ１０炭化水素）、特に２〜５個の炭素原子を有する窒素含有環式炭化水素（すなわち、窒素含有環式Ｃ２〜Ｃ５炭化水素）、特に２〜５個の炭素原子を有する窒素含有環式炭化水素（すなわち、窒素含有環式Ｃ２〜Ｃ５炭化水素）によって置換されている、本明細書に定義されたアルキル基を指す。窒素含有環式炭化水素は、１個以上の窒素原子を有していてもよい。窒素原子は、任意選択的に、１個または２個のＣ１〜Ｃ６アルキル基によって置換されていてもよい。窒素含有アルキルは、１〜１２個の炭素原子を有することができるか（すなわち、Ｃ１〜Ｃ１２窒素含有アルキル）、特に１〜１０個の炭素原子を有することができるか（すなわち、Ｃ１〜Ｃ１０窒素含有アルキル）、特に２〜１０個の炭素原子を有することができるか（すなわち、Ｃ２〜Ｃ１０窒素含有アルキル）、特に３〜１０個の炭素原子を有することができるか（すなわち、Ｃ３〜Ｃ１０窒素含有アルキル）、特に３〜８個の炭素原子を有することができる（すなわち、Ｃ３〜Ｃ８窒素含有アルキル）。窒素含有アルキルの例としては、限定されないが、
【化１】
0006755872.tif 000002
が含まれる。
【００２３】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「窒素含有アルキレン」という用語は、アルキル基中の１個以上の炭素原子が、窒素原子によって置換されている、本明細書に定義されたアルキレン基を指す。窒素原子は、任意選択的に、１個または２個のＣ１〜Ｃ６アルキル基によって置換されていてもよい。窒素含有アルキレンは、１〜１２個の炭素原子を有することができるか（すなわち、Ｃ１〜Ｃ１２窒素含有アルキレン）、特に２〜１０個の炭素原子を有することができるか（すなわち、Ｃ２〜Ｃ１０窒素含有アルキレン）、特に３〜１０個の炭素原子を有することができるか（すなわち、Ｃ３〜Ｃ１０窒素含有アルキレン）、特に４〜１０個の炭素原子を有することができるか（すなわち、Ｃ４〜Ｃ１０窒素含有アルキレン）、特に３〜８個の炭素原子を有することができる（すなわち、Ｃ３〜Ｃ８窒素含有アルキル）。窒素含有アルキレンの例としては、限定されないが、
【化２】
0006755872.tif 000003
が含まれる。
【００２４】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「アルケニル」という用語は、２〜１２個の炭素原子（すなわち、Ｃ２〜Ｃ１２アルケニル）、特に２〜８個の炭素原子（すなわち、Ｃ２〜Ｃ８アルケニル）、特に２〜６個の炭素原子（すなわち、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル）を有し、１個以上（例えば、２個、３個など）の炭素−炭素二重結合を有する不飽和炭化水素基を指す。アルケニル基は、直鎖、分岐鎖または環式であってよい。アルケニルの例としては、限定されないが、エテニル（ビニル）、２−プロペニル、３−プロペニル、１，４−ペンタジエニル、１，４−ブタジエニル、１−ブテニル、２−ブテニルおよび３−ブテニルが含まれる。「アルケニル」は、アルケニルの全ての構造異性体の形態を包含するように意図される。例えば、ブテニルには、１，４−ブタジエニル、１−ブテニル、２−ブテニルおよび３−ブテニルなどが含まれる。
【００２５】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「アルケニレン」という用語は、長さにおいて２〜約１２個の炭素原子を含有する二価アルケニル部分（すなわち、Ｃ２〜Ｃ１２アルケニレン）を指し、アルキレン部分が、アルキル単位の両端において分子の残基に結合することを意味する。例えば、アルケニレンとしては、限定されないが、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣＨ２−など、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−などが含まれる。アルケニレン基は、直鎖または分岐鎖であってよい。
【００２６】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「アルキニル」という用語は、２〜１２個の炭素原子（すなわち、Ｃ２〜Ｃ１２アルキニル）、特に２〜８個の炭素原子（すなわち、Ｃ２〜Ｃ８アルキニル）、特に２〜６個の炭素原子（すなわち、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル）を有し、１個以上（例えば、２個、３個など）の炭素−炭素三重結合を有する不飽和炭化水素基を指す。アルキニル基は、直鎖、分岐鎖または環式であってよい。アルキニルの例としては、限定されないが、エチニル、１−プロピニル、２−ブチニルおよび１，３−ブタジイニルが含まれる。「アルキニル」は、アルキニルの全ての構造異性体の形態を包含するように意図される。例えば、ブチニルは、２−ブチニルおよび１，３−ブタジイニルを包含し、プロピニルは、１−プロピニルおよび２−プロピニル（プロパルギル）を包含する。
【００２７】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「アルキニレン」という用語は、長さにおいて２〜約１２個の炭素原子を含有する二価アルキニル部分（すなわち、Ｃ１〜Ｃ１２アルキニレン）を指し、アルキレン部分が、アルキル単位の両端において分子の残基に結合することを意味する。例えば、アルケニレンとしては、限定されないが、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｃ≡ＣＣＨ２−、−Ｃ≡ＣＣＨ２Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２ＣＨ２Ｃ≡ＣＣＨ２−など、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−などが含まれる。アルキンレン基は、直鎖または分岐鎖であってよい。
【００２８】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「アルコキシ」という用語は、１〜約１０個の炭素原子を含有する−Ｏ−アルキルを指す。アルコキシは、直鎖または分枝鎖であってよい。非限定的な例としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペントキシおよびヘキソキシが含まれる。「Ｃ１アルコキシ」はメトキシを指し、「Ｃ２アルコキシ」はエトキシを指し、「Ｃ３アルコキシ」はプロポキシを指し、および「Ｃ４アルコキシ」はブトキシを指す。さらに、本明細書で使用される場合、「ＯＭｅ」はメトキシを指し、および「ＯＥｔ」はエトキシを指す。
【００２９】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「芳香族」という用語は、非局在化共役π系を有し、５〜２０個の炭素原子（芳香族Ｃ５〜Ｃ２０炭素原子）、特に５〜１２個の炭素原子（芳香族Ｃ５〜Ｃ１２炭化水素）、特に５〜１０個の炭素原子（芳香族Ｃ５〜Ｃ１２炭化水素）を有する、不飽和環式炭化水素を指す。代表的な芳香族としては、限定されないが、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、エチルベンゼン、クメン、ナフタレン、メチルナフタレン、ジメチルナフタレン、エチルナフタレン、アセナフタレン、アントラセン、フェナントレン、テトラフェン、ナフタセン、ベンズアントラセン、フルオラントレン、ピレン、クリセン、トリフェニレンなど、およびそれらの組合せが含まれる。加えて、芳香族は、１個以上のヘテロ原子を含む。ヘテロ原子の例としては、限定されないが、窒素、酸素および／または硫黄が含まれる。１個以上のヘテロ原子を有する芳香族としては、限定されないが、フラン、ベンゾフラン、チオフェン、ベンゾチオフェン、オキサゾール、チアゾールなど、およびそれらの組合せが含まれる。芳香族は、単環式、二環式、三環式および／または他環式環（いくつかの実施形態において、少なくとも単環式環、単環式および二環式環のみ、または単環式環のみ）を含んでいてもよく、縮合環であってもよい。
【００３０】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「アリール」という用語は、少なくとも１個の環が芳香族炭化水素である、６〜１４個の炭素環原子を含有する、いずれかの単環式または多環式環化炭素基を指す。アリールの例としては、限定されないが、フェニル、ナフチル、ピリジニルおよびインオリルが含まれる。
【００３１】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「アラルキル」という用語は、アリール基で置換されたアルキル基を指す。アルキル基は、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、特にＣ１〜Ｃ６、特にＣ１〜Ｃ４アルキル基、特にＣ１〜Ｃ３アルキル基であってよい。アラルキル基の例としては、限定されないが、フェニルメチル、フェニルエチルおよびナフチルメチルが含まれる。アラルキルは、１個以上のヘテロ原子を含んでいてもよく、「ヘテロアルキル」と呼ばれてもよい。ヘテロ原子の例としては、限定されないが、窒素（すなわち、窒素含有ヘテロアラルキル）、酸素（すなわち、酸素含有ヘテロアラルキル）および／または硫黄（すなわち、硫黄含有ヘテロアラルキル）が含まれる。ヘテロアラルキル基の例としては、限定されないが、ピリジニルエチル、インドリルメチル、フリルエチルおよびキノリニルプロピルが含まれる。
【００３２】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「ヘテロシクロ」という用語は、４〜２０個の炭素環原子を含有し、１個以上のヘテロ原子を含有する、完全飽和、部分的飽和もしくは不飽和、または多環式環化炭素基を指す。ヘテロ原子の例としては、限定されないが、窒素（すなわち、窒素含有ヘテロシクロ）、酸素（すなわち、酸素含有ヘテロシクロ）および／または硫黄（すなわち、硫黄含有ヘテロシクロ）が含まれる。ヘテロシクロの例としては、限定されないが、チエニル、フリル、ピロリル、ピペラジニル、ピリジル、ベンゾキサゾリル、キノリニル、イミダゾリル、ピロリジニルおよびピペリジニルが含まれる。
【００３３】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「ヘテロシクロアルキル」という用語は、ヘテロシクロ基で置換されたアルキル基を指す。アルキル基は、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、特にＣ１〜Ｃ６、特にＣ１〜Ｃ４アルキル基、特にＣ１〜Ｃ３アルキル基であってよい。ヘテロシクロアルキル基の例としては、限定されないが、チエニルメチル、フリルエチル、ピロリルメチル、ピペラジニルエチル、ピリジルメチル、ベンゾキサゾリルエチル、キノリニルプロピルおよびイミダゾリルプロピルが含まれる。
【００３４】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「ヒドロキシル」という用語は−ＯＨ基を指す。
【００３５】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「メソポーラス」という用語は、約２ｎｍ〜約５０ｎｍの範囲の直径を有する細孔を有する固体材料を指す。
【００３６】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「オルガノシリカ」という用語は、２個以上のケイ素原子に結合した１個以上の有機基を含むオルガノシロキサン化合物を指す。
【００３７】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「シラノール」という用語は、Ｓｉ−ＯＨ基を指す。
【００３８】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「シラノール含有量」という用語は、化合物中のＳｉ−ＯＨ基のパーセントを指し、およびＮＭＲなどの標準法によって算出することができる。
【００３９】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「構造指向剤」、「ＳＤＡ」および／または「ポロゲン」という用語は、オルガノシリカ材料のフレームワークを形成するビルディングブロックの重合および／または重縮合および／または組織化を補助および／または誘導するために合成媒体に添加される１種以上の化合物を指す。さらに、「ポロゲン」は、得られるオルガノシリカ材料フレームワーク中に空隙または細孔を形成することができる化合物であると理解される。本明細書で使用される場合、「構造指向剤に」は、「鋳型剤」および「テンプレート」という用語を包括し、それらと同意語であり、それらと交換可能である。
【００４０】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「吸着」という用語には、物理収着、化学吸着および固体材料への凝縮、ならびにそれらの組合せが含まれる。
【００４１】
ＩＩ．水素化触媒
本発明は、特に芳香族水素化のための水素化触媒に関する。第１の実施形態において、（ｉ）各Ｚ１およびＺ２が、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であり得る、式［Ｚ１ＯＺ２ＯＳｉＣＨ２］３（Ｉ）のモノマーの独立単位を含むポリマーである、オルガノシリカ材料支持体と、（ｉｉ）第８族金属、第９族金属、第１０族金属およびそれらの組合せからなる群から選択される少なくとも１種の触媒金属とを含む、水素化触媒が提供される。
【００４２】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「別のモノマーのケイ素原子への結合」は、結合が、存在する場合、別のモノマーのケイ素原子上の部分（特に、ヒドロキシル、アルコキシなどの酸素含有部分）に有利に置き換わることができ、別のモノマーのケイ素原子に直接結合が存在し得、それにより、例えば、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合によって２種のモノマーが連結することを意味する。明快さのために、この結合状態において、「別のモノマー」は、同一種類のモノマーまたは異なる種類のモノマーであり得る。
【００４３】
ＩＩ．Ａ．オルガノシリカ材料支持体
１．式（Ｉ）のモノマー
種々の実施形態において、オルガノシリカ材料支持体は、各Ｚ１および／またはＺ２が水素原子であり得る、式［Ｚ１ＯＺ２ＯＳｉＣＨ２］３（Ｉ）のモノマーの独立単位を含むポリマーであり得る。
【００４４】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ１および／またはＺ２は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであり得る。
【００４５】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ１および／またはＺ２は、別のシロキサンモノマーのケイ素原子に結合することができる。
【００４６】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ１および／またはＺ２は、独立して水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であり得る。
【００４７】
特定の実施形態において、各Ｚ１およびＺ２は、独立して、水素原子、エチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であり得る。
【００４８】
別の特定の実施形態において、各Ｚ１およびＺ２は、独立して、水素原子または別のモノマーのケイ素原子への結合であり得る。
【００４９】
２．式（ＩＩ）のモノマー
種々の実施形態において、オルガノシリカ材料支持体は、式（Ｉ）の独立単位と組み合わせて、各Ｚ３が、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合を表し、各Ｚ４が、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基を表すモノマーなどの別のモノマーをさらに含んでいてもよい。
【００５０】
種々の実施形態において、各Ｚ３は、水素原子であり得る。
【００５１】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ３は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであり得る。
【００５２】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ３は、水素原子またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であり得る。
【００５３】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ３は、別のモノマーのケイ素原子への結合であり得る。
【００５４】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ３は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であり得る。
【００５５】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ３は、水素原子、エチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であり得る。
【００５６】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ４は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであり得る。特に、Ｚ４はメチルであり得る。
【００５７】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ３は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であり得、各Ｚ４は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基であり得る。
【００５８】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ３は、水素原子、エチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であり得、各Ｚ４はメチルであり得る。
【００５９】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ３は、水素原子または別のモノマーのケイ素原子への結合であり得、各Ｚ４はメチルであり得る。
【００６０】
別の実施形態において、オルガノシリカ材料支持体は、本明細書に記載の式［Ｚ３ＯＺ４ＳｉＣＨ２］３（ＩＩ）の独立単位を含んでいてもよく、本明細書に記載の式（Ｉ）の独立単位を含んでいなくてもよい。特に、各Ｚ３は、水素原子、エチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であり得、各Ｚ４はメチルであり得る。追加的にまたは代わりに、各Ｚ３は、水素原子または別のモノマーのケイ素原子への結合であり得、各Ｚ４はメチルであり得る。
【００６１】
３．式（ＩＩＩ）のモノマー
種々の実施形態において、オルガノシリカ材料支持体は、式（Ｉ）の独立単位および任意選択的に式（ＩＩ）の独立単位と組み合わせて、各Ｚ５が、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合を表すことができ、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８が、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有ヘテロアラルキル基、および窒素を含有する任意選択的に置換されたヘテロシクロアルキル基、ならびに別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択され得る、少なくとも１種の式Ｚ５ＯＺ６Ｚ７Ｚ８Ｓｉ（ＩＩＩ）の独立単位を有するモノマーなどの別のモノマーをさらに含んでいてもよい。
【００６２】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子」は、酸素原子が、存在する場合、別のモノマーのケイ素原子上の部分（特に、ヒドロキシル、アルコキシなどの酸素含有部分）に有利に置き換わることができ、酸素原子が別のモノマーのケイ素原子に直接結合し得、それにより、例えば、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合によって２種のモノマーが連結することを意味する。明快さのために、この結合状態において、「別のモノマー」は、同一種類のモノマーまたは異なる種類のモノマーであり得る。
【００６３】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であり得、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択され得る。追加的にまたは代わりに、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、任意選択的に、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有ヘテロアラルキル基、および／または窒素を含有する任意選択的に置換されたヘテロシクロアルキル基であり得る。
【００６４】
種々の態様において、各Ｚ５は、水素原子であり得る。
【００６５】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ５は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであり得る。
【００６６】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ５は、水素原子またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であり得る。
【００６７】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ５は、別のモノマーのケイ素原子への結合であり得る。
【００６８】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であり得る。
【００６９】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ５は、水素原子、エチル、メチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であり得る。
【００７０】
追加的にまたは代わりに、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基であり得る。
【００７１】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であり得、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基であり得る。
【００７２】
追加的にまたは代わりに、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであり得る。
【００７３】
追加的にまたは代わりに、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であり得る。
【００７４】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であり得、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であり得る。
【００７５】
追加的にまたは代わりに、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはメトキシであり得る。
【００７６】
追加的にまたは代わりに、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基およびＣ１〜Ｃ２アルコキシ基からなる群から選択され得る。
【００７７】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であり得、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基およびＣ１〜Ｃ２アルコキシ基からなる群から選択され得る。
【００７８】
追加的にまたは代わりに、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、任意選択的に、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ９アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ８アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ７アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ５アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルアミンであり得る。特に、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、窒素含有Ｃ２〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ９アルキル基または窒素含有Ｃ３〜Ｃ８アルキル基であり得る。上記窒素含有アルキル基は、１個以上（例えば、２個、３個など）の窒素原子を有していてもよい。窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基の例としては、限定されないが、
【化３】
0006755872.tif 000004
が含まれる。
【００７９】
追加的にまたは代わりに、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基および窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基からなる群から選択され得る。
【００８０】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であり得、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基および窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基からなる群から選択され得る。
【００８１】
追加的にまたは代わりに、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、任意選択的に、窒素含有ヘテロアラルキル基であり得る。窒素含有ヘテロアラルキル基は、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１２ヘテロアラルキル基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０ヘテロアラルキル基または窒素含有Ｃ４〜Ｃ８ヘテロアラルキル基であり得る。窒素含有ヘテロアラルキル基の例としては、限定されないが、ピリジニルエチル、ピリジニルプロピル、ピリジニルメチル、インドリルメチル、ピラジニルエチルおよびピラジニルプロピルが含まれる。上記窒素含有ヘテロアラルキル基は、１個以上（例えば、２個、３個など）の窒素原子を有していてもよい。
【００８２】
追加的にまたは代わりに、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基および窒素含有ヘテロアラルキル基からなる群から選択され得る。
【００８３】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であり得、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基および窒素含有ヘテロアラルキル基からなる群から選択され得る。
【００８４】
追加的にまたは代わりに、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、任意選択的に、窒素含有ヘテロシクロアルキル基であり得、ヘテロシクロアルキル基は、任意選択的に、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、特にＣ１〜Ｃ４アルキル基で置換されていてもよい。窒素含有ヘテロシクロアルキル基は、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１２ヘテロシクロアルキル基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０ヘテロシクロアルキル基または窒素含有Ｃ４〜Ｃ８ヘテロシクロアルキル基であり得る。窒素含有ヘテロシクロアルキル基の例としては、限定されないが、ピペラジニルエチル、ピペラジニルプロピル、ピペリジニルエチル、ピペリジニルプロピルが含まれる。上記窒素含有ヘテロシクロアルキル基は、１個以上（例えば、２個、３個など）の窒素原子を有していてもよい。
【００８５】
追加的にまたは代わりに、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有ヘテロアラルキル基および窒素を含有する任意選択的に置換されたヘテロシクロアルキル基からなる群から選択され得る。
【００８６】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であり得、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有ヘテロアラルキル基および窒素を含有する任意選択的に置換されたヘテロシクロアルキル基からなる群から選択され得る。
【００８７】
追加的にまたは代わりに、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、任意選択的に、別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であり得る。
【００８８】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であり得、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有ヘテロアラルキル基、窒素を含有する任意選択的に置換されたヘテロシクロアルキル基および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択され得る。
【００８９】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ５は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であり得、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ８アルキル基、Ｃ４〜Ｃ１０ヘテロアラルキル基、窒素を含有する任意選択的に置換されたＣ４〜Ｃ１０ヘテロシクロアルキル基および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択され得る。
【００９０】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ５は、水素原子または別のモノマーのケイ素原子への結合であり得、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ８アルキル基、Ｃ４〜Ｃ１０ヘテロアラルキル基、窒素を含有する任意選択的に置換されたＣ４〜Ｃ１０ヘテロシクロアルキル基および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択され得る。
【００９１】
特定の実施形態において、各Ｚ５は、水素原子、エチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であり得、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシおよび別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択され得る。
【００９２】
別の特定の実施形態において、各Ｚ５は、水素原子、エチルまたは別のコモノマーのケイ素原子への結合であり得、Ｚ６およびＺ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシおよび別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択され得、Ｚ８は、メチルであり得る。
【００９３】
別の特定の実施形態において、各Ｚ５は、水素原子、メチルまたは別のコモノマーのケイ素原子への結合であり得、Ｚ６およびＺ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、メトキシおよび別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択され得、各Ｚ８は、
【化４】
0006755872.tif 000005
であり得る。
【００９４】
別の特定の実施形態において、各Ｚ５は、水素原子、エチルまたは別のコモノマーのケイ素原子への結合であり得、Ｚ６およびＺ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシおよび別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択され得、各Ｚ８は、
【化５】
0006755872.tif 000006
であり得る。
【００９５】
別の特定の実施形態において、各Ｚ５は、水素原子、エチルまたは別のコモノマーのケイ素原子への結合であり得、Ｚ６およびＺ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシおよび別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択され得、各Ｚ８は、
【化６】
0006755872.tif 000007
であり得る。
【００９６】
別の特定の実施形態において、各Ｚ５は、水素原子、エチルまたは別のコモノマーのケイ素原子への結合であり得、Ｚ６およびＺ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシおよび別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択され得、各Ｚ８は、
【化７】
0006755872.tif 000008
であり得る。
【００９７】
別の特定の実施形態において、各Ｚ５は、水素原子、エチルまたは別のコモノマーのケイ素原子への結合であり得、Ｚ６およびＺ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシおよび別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択され得、各Ｚ８は、
【化８】
0006755872.tif 000009
であり得る。
【００９８】
別の特定の実施形態において、各Ｚ５は、水素原子、エチルまたは別のコモノマーのケイ素原子への結合であり得、Ｚ６およびＺ７は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシおよび別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択され得、各Ｚ８は、
【化９】
0006755872.tif 000010
であり得る。
【００９９】
別の実施形態において、オルガノシリカ材料支持体は、本明細書に記載の式（ＩＩ）の独立単位および本明細書に記載の式（ＩＩＩ）の独立単位を含んでいてもよく、本明細書に記載の式（Ｉ）の独立単位を含んでいなくてもよい。特に、各Ｚ３は、水素原子、エチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であり得、各Ｚ４は、メチルであり得、各Ｚ５は、水素原子、エチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であり得、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシおよび別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択され得る。
【０１００】
４．式（ＩＶ）のモノマー
種々の実施形態において、オルガノシリカ材料支持体は、式（Ｉ）の独立単位および任意選択的に式（ＩＩ）および／または式（ＩＩＩ）の独立単位と組み合わせて、各Ｚ９が、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であり得、各Ｚ１０およびＺ１１が、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であり得、各Ｒが、Ｃ１〜Ｃ８アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルキニレン基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキレン基、任意選択的に置換されたＣ６〜Ｃ２０アラルキルおよび任意選択的に置換されたＣ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基からなる群から選択され得る、少なくとも１種の式Ｚ９Ｚ１０Ｚ１１Ｓｉ−Ｒ−ＳｉＺ９Ｚ１０Ｚ１１（ＩＶ）の独立単位を有するモノマーなどの別のモノマーをさらに含んでいてもよい。
【０１０１】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ９は、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であり得、各Ｚ１０およびＺ１１は、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であり得、各Ｒは、Ｃ１〜Ｃ８アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルケニレン基およびＣ２〜Ｃ８アルキニレン基からなる群から選択され得る。追加的にまたは代わりに、Ｒは、任意選択的に、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキレン基、任意選択的に置換されたＣ６〜Ｃ２０アラルキルおよび／または任意選択的に置換されたＣ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基であり得る。
【０１０２】
種々の実施形態において、各Ｚ９は、ヒドロキシル基であり得る。
【０１０３】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ９は、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはメトキシであり得る。
【０１０４】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ９は、ヒドロキシル基またはＣ１〜Ｃ２アルコキシ基であり得る。
【０１０５】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ９は、別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であり得る。
【０１０６】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であり得る。
【０１０７】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ９は、ヒドロキシル基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であり得る。
【０１０８】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ１０およびＺ１１は、独立して、ヒドロキシル基であり得る。
【０１０９】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ１０およびＺ１１は、独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはメトキシであり得る。
【０１１０】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ１０およびＺ１１は、独立して、ヒドロキシル基またはＣ１〜Ｃ２アルコキシ基であり得る。
【０１１１】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ１０およびＺ１１は、独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであり得る。
【０１１２】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ１０およびＺ１１は、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であり得る。
【０１１３】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ１０およびＺ１１は、独立して、別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であり得る。
【０１１４】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ１０およびＺ１１は、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であり得る。
【０１１５】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ１０およびＺ１１は、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であり得る。
【０１１６】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であり得、各Ｚ１０およびＺ１１は、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であり得る。
【０１１７】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、エトキシ、メトキシまたは別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であり得、各Ｚ１０およびＺ１１は、独立して、ヒドロキシル基、エトキシ、メチルまたは別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であり得る。
【０１１８】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ９は、ヒドロキシル基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であり得、各Ｚ１０およびＺ１１は、独立して、ヒドロキシル基、メチルまたは別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であり得る。
【０１１９】
追加的にまたは代わりに、各Ｒは、Ｃ１〜Ｃ８アルキレン基、Ｃ１〜Ｃ７アルキレン基、Ｃ１〜Ｃ６アルキレン基、Ｃ１〜Ｃ５アルキレン基、Ｃ１〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ１〜Ｃ３アルキレン基、Ｃ１〜Ｃ２アルキレン基または−ＣＨ２−であり得る。
【０１２０】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であり得、各Ｚ１０およびＺ１１は、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であり得、各Ｒは、Ｃ１〜Ｃ４アルキレン基であり得る。
【０１２１】
追加的にまたは代わりに、各Ｒは、Ｃ２〜Ｃ８アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ７アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ５アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ３アルケニレン基または−ＨＣ＝ＣＨ−であり得る。
【０１２２】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であり得、各Ｚ１０およびＺ１１は、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であり得、各Ｒは、Ｃ１〜Ｃ４アルキレン基およびＣ２〜Ｃ４アルケニレン基からなる群から選択され得る。
【０１２３】
追加的にまたは代わりに、各Ｒは、Ｃ２〜Ｃ８アルキニレン基、Ｃ２〜Ｃ７アルキニレン基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニレン基、Ｃ２〜Ｃ５アルキニレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルキニレン基、Ｃ２〜Ｃアルキニレン基または−Ｃ≡Ｃ−であり得る。
【０１２４】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であり得、Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であり得、各Ｒは、Ｃ１〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルケニレン基およびＣ２〜Ｃ４アルキニレン基からなる群から選択され得る。
【０１２５】
追加的にまたは代わりに、各Ｒは、窒素含有Ｃ２〜Ｃ１０アルキレン基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキレン基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０アルキレン基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ９アルキレン基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ８アルキレン基または窒素含有Ｃ３〜Ｃ８アルキレン基であり得る。上記窒素含有アルキレン基は、１個以上（例えば、２個、３個など）の窒素原子を有していてもよい。窒素含有アルキレン基の例としては、限定されないが、
【化１０】
0006755872.tif 000011
が含まれる。
【０１２６】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であり得、各Ｚ１０およびＺ１１は、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であり得、各Ｒは、Ｃ１〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルキニレン基および窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０アルキレン基からなる群から選択され得る。
【０１２７】
追加的にまたは代わりに、各Ｒは、任意選択的に置換されたＣ６〜Ｃ２０アラルキル、任意選択的に置換されたＣ６〜Ｃ１４アラルキルまたは任意選択的に置換されたＣ６〜Ｃ１０アラルキルであり得る。Ｃ６〜Ｃ２０アラルキルの例としては、限定されないが、フェニルメチル、フェニルエチルおよびナフチルメチルが含まれる。アラルキルは、任意選択的に、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、特にＣ１〜Ｃ４アルキル基で置換されていてもよい。
【０１２８】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であり得、各Ｚ１０およびＺ１１は、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であり得、Ｒは、Ｃ１〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルキニレン基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０アルキレン基および任意選択的に置換されたＣ６〜Ｃ１０アラルキルからなる群から選択され得る。
【０１２９】
追加的にまたは代わりに、各Ｒは、任意選択的に置換されたＣ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基、任意選択的に置換されたＣ４〜Ｃ１６ヘテロシクロアルキル基、任意選択的に置換されたＣ４〜Ｃ１２ヘテロシクロアルキル基または任意選択的に置換されたＣ４〜Ｃ１０ヘテロシクロアルキル基であり得る。Ｃ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基の例としては、限定されないが、チエニルメチル、フリルエチル、ピロリルメチル、ピペラジニルエチル、ピリジルメチル、ベンゾキサゾリルエチル、キノリニルプロピルおよびイミダゾリルプロピルが含まれる。ヘテロシクロアルキルは、任意選択的に、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、特にＣ１〜Ｃ４アルキル基で置換されていてもよい
【０１３０】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であり得、各Ｚ１０およびＺ１１は、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であり得、Ｒは、Ｃ１〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルキニレン基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０アルキレン基、任意選択的に置換されたＣ６〜Ｃ１０アラルキルおよび任意選択的に置換されたＣ４〜Ｃ１０ヘテロシクロアルキル基からなる群から選択され得る。
【０１３１】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、エトキシ、メトキシまたは別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であり得、各Ｚ１０およびＺ１１は、独立して、ヒドロキシル基、エトキシ、メトキシ、メチルまたは別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であり得、Ｒは、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＨＣ＝ＣＨ−、
【化１１】
0006755872.tif 000012
からなる群から選択され得る。
【０１３２】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ９は、ヒドロキシル基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であり得、各Ｚ１０およびＺ１１は、独立して、ヒドロキシル基、メチルまたは別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であり得、各Ｒは、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＨＣ＝ＣＨ−、
【化１２】
0006755872.tif 000013
からなる群から選択され得る。
【０１３３】
特定の実施形態において、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、エトキシまたは別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であり得、各Ｚ１０は、ヒドロキシル基、エトキシおよび別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であり得、各Ｚ１１は、メチルであり得、各Ｒは、−ＣＨ２ＣＨ２−であり得る。
【０１３４】
別の特定の実施形態において、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、エトキシまたは別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であり得、各Ｚ１０およびＺ１１は、独立して、ヒドロキシル基、エトキシおよび別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択され得、Ｒは、−ＣＨ２−であり得る。
【０１３５】
別の特定の実施形態において、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、エトキシまたは別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であり得、各Ｚ１０およびＺ１１は、独立して、ヒドロキシル基、エトキシおよび別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択され得、Ｒは、−ＨＣ＝ＣＨ−であり得る。
【０１３６】
別の特定の実施形態において、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、メトキシまたは別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であり得、各Ｚ１０およびＺ１１は、独立して、ヒドロキシル基、メトキシおよび別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択され得、各Ｒは、
【化１３】
0006755872.tif 000014
であり得る。
【０１３７】
別の特定の実施形態において、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、エトキシまたは別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であり得、各Ｚ１０は、ヒドロキシル基、エトキシおよび別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であり得、各Ｚ１１は、メチルであり得、各Ｒは、
【化１４】
0006755872.tif 000015
であり得る。
【０１３８】
別の特定の実施形態において、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、メトキシまたは別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であり得、各Ｚ１０は、ヒドロキシル基、メトキシおよび別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であり得、各Ｚ１１は、メチルであり得、各Ｒは、
【化１５】
0006755872.tif 000016
であり得る。
【０１３９】
別の実施形態において、オルガノシリカ材料支持体は、本明細書に記載の式（ＩＩＩ）の独立単位および本明細書に記載の式（ＩＶ）の独立単位を含んでいてもよく、本明細書に記載の式（Ｉ）の独立単位を含んでいなくてもよい。特に、各Ｚ５は、水素原子、エチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であり得、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシおよび別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択され得、各Ｚ９は、ヒドロキシル基、エトキシまたは別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であり得、各Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシおよび別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択され得、Ｒは、−ＣＨ２−であり得る。
【０１４０】
５．式（Ｖ）のモノマー
種々の実施形態において、オルガノシリカ材料は、式（Ｉ）の独立単位および任意選択的に式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）および／または（Ｖ）の独立単位と組み合わせて、Ｍ１が、第１３族金属を表し、各Ｚ１２が、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合を表す、少なくとも１種の式Ｍ１（ＯＺ１２）３（Ｖ）の独立単位を有するモノマーなどの別のモノマーをさらに含んでいてもよい。
【０１４１】
追加的にまたは代わりに、Ｍ１は、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、ＩＮ、ＴｌまたはＵｕｔであり得る。特に、Ｍ１は、ＡｌまたはＢであり得る。
【０１４２】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ１２は、水素原子であり得る。
【０１４３】
追加的にまたは代わりに、Ｍ１は、ＡｌまたはＢであり得、Ｚ１２は、水素原子であり得る。
【０１４４】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ１２は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであり得る。特に、Ｚ３は、メチル、エチル、プロピルまたはブチルであり得る。
【０１４５】
追加的にまたは代わりに、Ｍ１は、ＡｌまたはＢであり得、Ｚ１２は、水素原子、メチル、エチル、プロピルまたはブチルであり得る。
【０１４６】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ１２は、別のモノマーのケイ素原子への結合であり得る
【０１４７】
追加的にまたは代わりに、Ｍ１は、ＡｌまたはＢであり得、各Ｚ１２は、水素原子、メチル、エチル、プロピル、ブチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であり得る。
【０１４８】
追加的にまたは代わりに、Ｍ１は、ＡｌまたはＢであり得、各Ｚ１２は、水素原子または別のモノマーのケイ素原子への結合であり得る。
【０１４９】
追加的にまたは代わりに、Ｍ１は、Ａｌであり得、各Ｚ１２は、水素原子、メチル、エチル、プロピル、ブチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であり得る。
【０１５０】
特定の実施形態において、Ｍ１は、Ａｌであり得、各Ｚ１２は、水素原子、メチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であり得る。
【０１５１】
別の特定の実施形態において、Ｍ１は、Ａｌであり得、各Ｚ１２は、水素原子、エチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であり得る。
【０１５２】
別の特定の実施形態において、Ｍ１は、Ａｌであり得、各Ｚ１２は、水素原子、プロピルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であり得る。
【０１５３】
別の特定の実施形態において、Ｍ１は、Ａｌであり得、各Ｚ１２は、水素原子、ブチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であり得る。
【０１５４】
別の特定の実施形態において、Ｍ１は、ＡｌまたはＢであり得、各Ｚ１２は、水素原子または別のモノマーのケイ素原子への結合であり得る。
【０１５５】
６．式（ＶＩ）のモノマー
種々の実施形態において、オルガノシリカ材料は、式（Ｉ）の独立単位および任意選択的に式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）および／または（ＩＶ）の独立単位と組み合わせて、Ｍ２が、第１３族金属を表し、各Ｚ１３およびＺ１４が、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合を表す、少なくとも１種の式（Ｚ１３Ｏ）２Ｍ２−Ｏ−Ｓｉ（ＯＺ１４）３（ＶＩ）の独立単位を有するモノマーなどの別のモノマーをさらに含んでいてもよい。
【０１５６】
追加的にまたは代わりに、Ｍ２は、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、ＩＮ、ＴｌまたはＵｕｔであり得る。特に、Ｍ２は、ＡｌまたはＢであり得る。
【０１５７】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ１３および／またはＺ１４は、水素原子であり得る。
【０１５８】
追加的にまたは代わりに、Ｍ２は、ＡｌまたはＢであり得、各Ｚ１３および／またはＺ１４は、水素原子であり得る。
【０１５９】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ１３および／またはＺ１４は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであり得る。特に、各Ｚ１３および／またはＺ１４は、メチル、エチル、プロピルまたはブチルであり得る。
【０１６０】
追加的にまたは代わりに、Ｍ２は、ＡｌまたはＢであり得、各Ｚ１３および／またはＺ１４は、独立して、水素原子、メチル、エチル、プロピルまたはブチルであり得る。
【０１６１】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ１３および／またはＺ１４は、別のモノマーのケイ素原子への結合であり得る。
【０１６２】
追加的にまたは代わりに、Ｍ２は、ＡｌまたはＢであり得、各Ｚ１３およびＺ１４は、独立して、水素原子、メチル、エチル、プロピル、ブチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であり得る。
【０１６３】
追加的にまたは代わりに、Ｍ２は、ＡｌまたはＢであり得、各Ｚ１３およびＺ１４は、独立して、水素原子または別のモノマーのケイ素原子への結合であり得る。
【０１６４】
追加的にまたは代わりに、Ｍ２は、Ａｌであり得、各Ｚ１３およびＺ１４は、独立して、水素原子、メチル、エチル、プロピル、ブチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であり得る。
【０１６５】
特定の実施形態において、Ｍ２は、Ａｌであり得、各Ｚ１３およびＺ１４は、独立して、水素原子、メチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であり得る。
【０１６６】
別の特定の実施形態において、Ｍ２は、Ａｌであり得、各Ｚ１３およびＺ１４は、独立して、水素原子、エチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であり得る。
【０１６７】
別の特定の実施形態において、Ｍ２は、Ａｌであり得、各Ｚ１３およびＺ１４は、独立して、水素原子、プロピルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であり得る。
【０１６８】
別の特定の実施形態において、Ｍ２は、Ａｌであり得、各Ｚ１３およびＺ１４は、独立して、水素原子、ブチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であり得る。
【０１６９】
別の特定の実施形態において、Ｍ２は、ＡｌまたはＢであり得、各Ｚ１３およびＺ１４は、独立して、水素原子または別のモノマーのケイ素原子への結合であり得る。
【０１７０】
本明細書に記載のオルガノシリカ材料支持体は、以下の項目で記載されるように特徴決定することができる。
【０１７１】
７．Ｘ線回折ピーク
本明細書に記載のオルガノシリカ材料支持体は、約１〜約４度２θの１つのブロードピーク、特に約１〜約３度２θの１つのブロードピークを有する粉末Ｘ線回折パターンを示すことができる。追加的にまたは代わりに、オルガノシリカ材料は、約０．５〜約１０度２θ、約０．５〜約１２度２θ、約０．５〜約１５度２θ、約０．５〜約２０度２θ、約０．５〜約３０度２θ、約０．５〜約４０度２θ、約０．５〜約５０度２θ、約０．５〜約６０度２θ、約０．５〜約７０度２θ、約２〜約１０度２θ、約２〜約１２度２θ、約２〜約１５度２θ、約２〜約２０度２θ、約２〜約３０度２θ、約２〜約４０度２θ、約２〜約５０度２θ、約２〜約６０度２θ、約２〜約７０度２θ、約３〜約１０度２θ、約３〜約１２度２θ、約３〜約１５度２θ、約３〜約２０度２θ、約３〜約３０度２θ、約３〜約４０度２θ、約３〜約５０度２θ、約３〜約６０度２θまたは約３〜約７０度２θの範囲においてピークを実質的に示さないことができる。
【０１７２】
８．シラノール含有量
本明細書に記載のオルガノシリカ材料支持体は、合成溶液の組成次第で広範囲に変動するシラノール含有量を有することができる。シラノール含有量は、固体状態シリコンＮＭＲによって好都合に決定することができる。
【０１７３】
種々の実施形態において、オルガノシリカ材料支持体は、約５％より多い、約１０％より多い、約１５％より多い、約２０％より多い、約２５％より多い、約３０％より多い、約３３％より多い、３５％より多い、約４０％より多い、約４１％より多い、約４４％より多い、約４５％より多い、約５０％より多い、約５５％より多い、約６０％より多い、約６５％より多い、約７０％より多い、約７５％より多い、または約８０％より多いシラノール含有量を有することができる。特定の実施形態において、シラノール含有量は、約３０％より多いか、または約４１％より多いことができる。
【０１７４】
追加的にまたは代わりに、オルガノシリカ材料支持体は、約５％〜約８０％、約５％〜約７５％、約５％〜約７０％、約５％〜約６５％、約５％〜約６０％、約５％〜約５５％、約５％〜約５０％、約５％〜約４５％、約５％〜約４４％、約５％〜〜約４１％、約５％〜約４０％、約５％〜約３５％、約５％〜約３３％、約５％〜約３０％、約５％〜約２５％、約５％〜約２０％、約５％〜約１５％、約５％〜約１０％、約１０％〜約８０％、約１０％〜約７５％、約１０％〜約７０％、約１０％〜約６５％、約１０％〜約６０％、約１０％〜約５５％、約１０％〜約５０％、約１０％〜約４５％、約１０％〜約４４％、約１０％〜約４１％、約１０％〜約４０％、約１０％〜約３５％、約１０％〜約３３％、約１０％〜約３０％、約１０％〜約２５％、約１０％〜約２０％、約２０％〜約８０％、約２０％〜約７５％、約２０％〜約７０％、約２０％〜約６５％、約２０％〜約６０％、約２０％〜約５５％、約２０％〜約５０％、約２０％〜約４５％、約２０％〜約４４％、約２０％〜約４１％、約２０％〜約４０％、約２０％〜約３５％、約２０％〜約３３％、約２０％〜約３０％、約２０％〜約２５％、約３０％〜約８０％、約３０％〜約７５％、約３０％〜約７０％、約３０％〜約６５％、約３０％〜約６０％、約３０％〜約５５％、約３０％〜約５０％、約３０％〜約４５％、約３０％〜約４４％、約３０％〜約４１％、約３０％〜約４０％、約３０％〜約３５％、約３０％〜約３３％、約４０％〜約８０％、約４０％〜約７５％、約４０％〜約７０％、約４０％〜約６５％、約４０％〜約６０％、約４０％〜約５５％、約４０％〜約５０％、約４０％〜約４５％、約４０％〜約４４％または約４０％〜約４１％のシラノール含有量を有し得る。
【０１７５】
９．細孔径（又はポアサイズ）
本明細書に記載のオルガノシリカ材料支持体は、有利にメソポーラス形態である。上記の通り、メソポーラスという用語は、約２ｎｍ〜約５０ｎｍの範囲の直径を有する細孔を有する固体材料を指す。オルガノシリカ材料の平均細孔直径は、例えば、ＢＥＴ（ブルナウアー−エメット−テラー）法などの当業者の専門知識の範囲内の窒素吸着−脱着等温線技術を使用して決定することができる。
【０１７６】
オルガノシリカ材料支持体は、約０．２ｎｍ、約０．４ｎｍ、約０．５ｎｍ、約０．６ｎｍ、約０．８ｎｍ、約１．０ｎｍ、約１．５ｎｍ、約１．８ｎｍまたは約２．０ｎｍ未満の平均細孔直径を有することができる。
【０１７７】
追加的にまたは代わりに、オルガノシリカ材料支持体は、有利には、約２．０ｎｍ、約２．５ｎｍ、約３．０ｎｍ、約３．１ｎｍ、約３．２ｎｍ、約３．３ｎｍ、約３．４ｎｍ、約３．５ｎｍ、約３．６ｎｍ、約３．７ｎｍ、約３．８ｎｍ、約３．９ｎｍ、約４．０ｎｍ、約４．１ｎｍ、約４．５ｎｍ、約５．０ｎｍ、約６．０ｎｍ、約７．０ｎｍ、約７．３ｎｍ、約８ｎｍ、約８．４ｎｍ、約９ｎｍ、約１０ｎｍ、約１１ｎｍ、約１３ｎｍ、約１５ｎｍ、約１８ｎｍ、約２０ｎｍ、約２３ｎｍ、約２５ｎｍ、約３０ｎｍ、約４０ｎｍ、約４５ｎｍまたは約５０ｎｍのメソ細孔範囲内の平均細孔直径を有することができる。
【０１７８】
追加的にまたは代わりに、オルガノシリカ材料支持体は、０．２ｎｍ〜約５０ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約４０ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約３０ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約２５ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約２３ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約２０ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約１８ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約１５ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約１３ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約１１ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約１０ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約９ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約８．４ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約８ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約７．３ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約７．０ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約６．０ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約５．０ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約４．５ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約４．１ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約４．０ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約３．９ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約３．８ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約３．７ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約３．６ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約３．５ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約３．４ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約３．３ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約３．２ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約３．１ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約３．０ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約２．５ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約２．０ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約１．０ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約５０ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約４０ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約３０ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約２５ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約２３ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約２０ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約１８ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約１５ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約１３ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約１１ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約１０ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約９ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約８．４ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約８ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約７．３ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約７．０ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約６．０ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約５．０ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約４．５ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約４．１ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約４．０ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約３．９ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約３．８ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約３．７ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約３．６ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約３．５ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約３．４ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約３．３ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約３．２ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約３．１ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約３．０ｎｍまたは約１．０ｎｍ〜約２．５ｎｍの平均細孔直径を有することができる。
【０１７９】
特に、オルガノシリカ材料支持体は、有利には、約２．０ｎｍ〜約５０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約４０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約３０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約２５ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約２３ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約２０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約１８ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約１５ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約１３ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約１１ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約１０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約９ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約８．４ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約８ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約７．３ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約７．０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約６．０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約５．０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約４．５ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約４．１ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約４．０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約３．９ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約３．８ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約３．７ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約３．６ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約３．５ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約３．４ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約３．３ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約３．２ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約３．１ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約３．０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約２．５ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約５０ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約４０ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約３０ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約２５ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約２３ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約２０ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約１８ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約１５ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約１３ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約１１ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約１０ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約９ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約８．４ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約８ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約７．３ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約７．０ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約６．０ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約５．０ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約４．５ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約４．１ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約４．０ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約３．９ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約３．８ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約３．７ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約３．６ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約３．５ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約３．４ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約３．３ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約３．２ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約３．１ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約３．０ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約５０ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約４０ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約３０ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約２５ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約２３ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約２０ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約１８ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約１５ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約１３ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約１１ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約１０ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約９ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約８．４ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約８ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約７．３ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約７．０ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約６．０ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約５．０ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約４．５ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約４．１ｎｍまたは約３．０ｎｍ〜約４．０ｎｍのメソ細孔範囲内の平均細孔直径を有することができる。
【０１８０】
１つの特定の実施形態において、本明細書に記載のオルガノシリカ材料支持体は、約１．０ｎｍ〜約３０．０ｎｍ、特に約１．０ｎｍ〜約２５．０ｎｍ、特に約２．０ｎｍ〜約２５．０ｎｍ、特に約２．０ｎｍ〜約２０．０ｎｍ、特に約２．０ｎｍ〜約１５．０ｎｍ、特に約２．０ｎｍ〜約１０．０ｎｍまたは特に約３．０ｎｍ〜約１０．０ｎｍの平均細孔直径を有することができる。
【０１８１】
メソポーラス材料を合成するためのテンプレートとして界面活性剤を使用することにより、非常に規則的な構造、例えば、良好に画定された円柱状様細孔チャネルを作成することができる。いくつかの場合、Ｎ２吸着等温線から観察された履歴現象ループがなくてもよい。他の場合、例えばメソポーラス材料が、それほど規則的ではない細孔構造を有することができる場合、Ｎ２吸着等温線実験から履歴現象ループが観察されてもよい。そのような場合、理論によって拘束されないが、履歴現象は、細孔形状／径の規則性の欠如から、および／またはそのような不規則細孔におけるボトルネック狭窄からの結果として生じる可能性がある。
【０１８２】
１０．表面積
オルガノシリカ材料の表面積は、例えば、ＢＥＴ（ブルナウアー−エメット−テラー）法などの当業者の専門知識の範囲内の窒素吸着−脱着等温線技術を使用して決定することができる。この方法により、全表面積、外部表面積およびミクロポーラス表面積が決定され得る。本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「全表面積」は、ＢＥＴ法によって決定される全表面積を指す。本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「ミクロポーラス表面積」は、ＢＥＴ法によって決定されるミクロポーラス表面積を指す。
【０１８３】
種々の実施形態において、オルガノシリカ材料支持体は、約１００ｍ２／ｇ以上、約２００ｍ２／ｇ以上、約３００ｍ２／ｇ以上、約４００ｍ２／ｇ以上、約４５０ｍ２／ｇ以上、約５００ｍ２／ｇ以上、約５５０ｍ２／ｇ以上、約６００ｍ２／ｇ以上、約７００ｍ２／ｇ以上、約８００ｍ２／ｇ以上、約８５０ｍ２／ｇ以上、約９００ｍ２／ｇ以上、約１，０００ｍ２／ｇ以上、約１，０５０ｍ２／ｇ以上、約１，１００ｍ２／ｇ以上、約１，１５０ｍ２／ｇ以上、約１，２００ｍ２／ｇ以上、約１，２５０ｍ２／ｇ以上、約１，３００ｍ２／ｇ以上、約１，４００ｍ２／ｇ以上、約１，４５０ｍ２／ｇ、約１，５００ｍ２／ｇ以上、約１，５５０ｍ２／ｇ以上、約１，６００ｍ２／ｇ以上、約１，７００ｍ２／ｇ以上、約１，８００ｍ２／ｇ以上、約１，９００ｍ２／ｇ以上、約２，０００ｍ２／ｇ以上、約２，１００ｍ２／ｇ以上、約２，２００ｍ２／ｇ以上、約２，３００ｍ２／ｇまたは約２，５００ｍ２／ｇ以上の全表面積を有することができる。
【０１８４】
追加的にまたは代わりに、オルガノシリカ材料支持体は、約５０ｍ２／ｇ〜約２，５００ｍ２／ｇ、約５０ｍ２／ｇ〜約２，０００ｍ２／ｇ、約５０ｍ２／ｇ〜約１，５００ｍ２／ｇ、約５０ｍ２／ｇ〜約１，０００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約２，５００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約２，３００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約２，２００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約２，１００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約２，０００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，９００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，８００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，７００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，６００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，５５０ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，５００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，４５０ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，４００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，３００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，２５０ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，２００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，１５０ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，１００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，０５０ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，０００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約９００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約８５０ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約８００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約７００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約６００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約５５０ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約５００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約４５０ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約４００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約３００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約２００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約２，５００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約２，３００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約２，２００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約２，１００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約２，０００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約１，９００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約１，８００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約１，７００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約１，６００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約１，５５０ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約１，５００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約１，４５０ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約１，４００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約１，３００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約１，２５０ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約１，２００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約１，１５０ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約１，１００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約１，０５０ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約１，０００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約９００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約８５０ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約８００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約７００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約６００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約５５０ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約５００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約４５０ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約４００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約３００ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約２，５００ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約２，３００ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約２，２００ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約２，１００ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約２，０００ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約１，９００ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約１，８００ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約１，７００ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約１，６００ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約１，５５０ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約１，５００ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約１，４５０ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約１，４００ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約，３００ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約１，２５０ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約１，２００ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約１，１５０ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約１，１００ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約１，０５０ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約１，０００ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約９００ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約８５０ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約８００ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約７００ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約６００ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約５５０ｍ２／ｇ、約１，０００ｍ２／ｇ〜約２，５００ｍ２／ｇ、約１，０００ｍ２／ｇ〜約２，３００ｍ２／ｇ、約１，０００ｍ２／ｇ〜約２，２００ｍ２／ｇ、約１，０００ｍ２／ｇ〜約２，１００ｍ２／ｇ、約１，０００ｍ２／ｇ〜約２，０００ｍ２／ｇ、約１，０００ｍ２／ｇ〜約１，９００ｍ２／ｇ、約１，０００ｍ２／ｇ〜約１，８００ｍ２／ｇ、約１，０００ｍ２／ｇ〜約１，７００ｍ２／ｇ、約１，０００ｍ２／ｇ〜約１，６００ｍ２／ｇ、約１，０００ｍ２／ｇ〜約１，５５０ｍ２／ｇ、約１，０００ｍ２／ｇ〜約１，５００ｍ２／ｇ、約１，０００ｍ２／ｇ〜約１，４５０ｍ２／ｇ、約１，０００ｍ２／ｇ〜約１，４００ｍ２／ｇ、約１，０００ｍ２／ｇ〜約１，３００ｍ２／ｇ、約１，０００ｍ２／ｇ〜約１，２５０ｍ２／ｇ、約１，０００ｍ２／ｇ〜約１，２００ｍ２／ｇ、約１，０００ｍ２／ｇ〜約１，１５０ｍ２／ｇ、約１，０００ｍ２／ｇ〜約１，１００ｍ２／ｇまたは約１，０００ｍ２／ｇ〜約１，０５０ｍ２／ｇの全表面積を有し得る。
【０１８５】
１つの特定の実施形態において、本明細書に記載のオルガノシリカ材料支持体は、約２００ｍ２／ｇ〜約２，５００ｍ２ｇ、特に約４００ｍ２／ｇ〜約２，５００ｍ２ｇ、特に約４００ｍ２／ｇ〜約２，０００ｍ２／ｇ、特に約５００ｍ２／ｇ〜約２，０００ｍ２／ｇまたは特に約４００ｍ２／ｇ〜約１，５００ｍ２／ｇの全表面積を有し得る。
【０１８６】
１１．細孔体積（又はポアボリューム）
本明細書に記載の方法によって製造されたオルガノシリカ材料の細孔体積は、例えば、ＢＥＴ（ブルナウアー−エメット−テラー）法などの当業者の専門知識の範囲内の窒素吸着−脱着等温線技術を使用して決定することができる。
【０１８７】
種々の実施形態において、オルガノシリカ材料は、約０．１ｃｍ３／ｇ以上、約０．２ｃｍ３／ｇ以上、約０．３ｃｍ３／ｇ以上、約０．４ｃｍ３／ｇ以上、約０．５ｃｍ３／ｇ以上、約０．６ｃｍ３／ｇ以上、約０．７ｃｍ３／ｇ以上、約０．８ｃｍ３／ｇ以上、約０．９ｃｍ３／ｇ以上、約１．０ｃｍ３／ｇ以上、約１．１ｃｍ３／ｇ以上、約１．２ｃｍ３／ｇ以上、約１．３ｃｍ３／ｇ以上、約１．４ｃｍ３／ｇ以上、約１．５ｃｍ３／ｇ以上、約１．６ｃｍ３／ｇ以上、約１．７ｃｍ３／ｇ以上、約１．８ｃｍ３／ｇ以上、約１．９ｃｍ３／ｇ以上、約２．０ｃｍ３／ｇ以上、約２．５ｃｍ３／ｇ以上、約３．０ｃｍ３／ｇ以上、約３．５ｃｍ３／ｇ以上、約４．０ｃｍ３／ｇ以上、約５．０ｃｍ３／ｇ以上、約６．０ｃｍ３／ｇ以上、約７．０ｃｍ３／ｇまたは約１０．０ｃｍ３／ｇ以上の細孔体積を有することができる。
【０１８８】
追加的にまたは代わりに、オルガノシリカ材料支持体は、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約１０．０ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約７．０ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約６．０ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約５．０ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約４．０ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約３．５ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約３．０ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約２．５ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約２．０ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約１．９ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約１．８ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約１．７ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約１．６ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約１．５ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約１．４ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約１．３ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約１．２ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約１．１、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約１．０ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約０．９ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約０．８ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約０．７ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約０．６ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約０．５ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約０．４ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約０．３ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約０．２ｃｍ３／ｇ、０．２ｃｍ３／ｇ〜約１０．０ｃｍ３／ｇ、約０．２ｃｍ３／ｇ〜約７．０ｃｍ３／ｇ、約０．２ｃｍ３／ｇ〜約６．０ｃｍ３／ｇ、約０．２ｃｍ３／ｇ〜約５．０ｃｍ３／ｇ、約０．２ｃｍ３／ｇ〜約４．０ｃｍ３／ｇ、約０．２ｃｍ３／ｇ〜約３．５ｃｍ３／ｇ、約０．２ｃｍ３／ｇ〜約３．０ｃｍ３／ｇ、約０．２ｃｍ３／ｇ〜約２．５ｃｍ３／ｇ、約０．２ｃｍ３／ｇ〜約２．０ｃｍ３／ｇ、約０．２ｃｍ３／ｇ〜約１．９ｃｍ３／ｇ、約０．２ｃｍ３／ｇ〜約１．８ｃｍ３／ｇ、約０．２ｃｍ３／ｇ〜約１．７ｃｍ３／ｇ、約０．２ｃｍ３／ｇ〜約１．６ｃｍ３／ｇ、約０．２ｃｍ３／ｇ〜約１．５ｃｍ３／ｇ、約０．２ｃｍ３／ｇ〜約１．４ｃｍ３／ｇ、約０．２ｃｍ３／ｇ〜約１．３ｃｍ３／ｇ、約０．２ｃｍ３／ｇ〜約１．２ｃｍ３／ｇ、約０．２ｃｍ３／ｇ〜約１．１、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約１．０ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約０．９ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約０．８ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約０．７ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約０．６ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約０．５ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約０．４ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約０．３ｃｍ３／ｇ、０．５ｃｍ３／ｇ〜約１０．０ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約７．０ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約６．０ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約５．０ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約４．０ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約３．５ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約３．０ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約２．５ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約２．０ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約１．９ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約１．８ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約１．７ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約１．６ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約１．５ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約１．４ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約１．３ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約１．２ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約１．１、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約１．０ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約０．９ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約０．８ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約０．７ｃｍ３／ｇまたは約０．５ｃｍ３／ｇ〜約０．６ｃｍ３／ｇの細孔体積を有することができる。
【０１８９】
特定の実施形態において、オルガノシリカ材料支持体は、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約５．０ｃｍ３／ｇ、特に約０．１ｃｍ３／ｇ〜約３．０ｃｍ３／ｇ、特に約０．２ｃｍ３／ｇ〜約３．０ｃｍ３／ｇ、特に約０．２ｃｍ３／ｇ〜約２．５ｃｍ３／ｇまたは特に約０．２ｃｍ３／ｇ〜約１．５ｃｍ３／ｇの細孔体積を有することができる。
【０１９０】
ＩＩ．Ｂ．触媒金属
水素化触媒は、少なくとも１種の触媒金属をさらに含んでいてもよい。少なくとも１種の触媒金属は、オルガノシリカ材料の細孔内に組み込まれてもよい。代表的な触媒金属としては、限定されないが、第６族金属、第８族金属、第９族金属、第１０族金属またはそれらの組合せを含むことができる。代表的な第６族金属としては、限定されないが、クロム、モリブデンおよび／またはタングステンが含まれ、特にモリブデンおよび／またはタングステンを含むことができる。代表的な第８族金属としては、限定されないが、鉄、ルテニウムおよび／またはオスミウムを含むことができる。代表的な第９族金属としては、限定されないが、コバルト、ロジウムおよび／またはイリジウムが含まれ、特にコバルトを含むことができる。代表的な第１０族金属としては、限定されないが、ニッケル、パラジウムおよび／または白金を含むことができる。
【０１９１】
特定の実施形態において、触媒金属は、第８族金属、第９族金属、第１０族金属およびそれらの組合せからなる群から選択されてよい。追加的にまたは代わりに、少なくとも１種の触媒金属は、白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）、イリジウム（Ｉｒ）、ロジウム（Ｒｈ）またはそれらの組合せ、特に、白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）およびそれらの混合物からなる群から選択されてよい。
【０１９２】
追加的にまたは代わりに、触媒金属は、少なくとも約０．０１０重量％、少なくとも約０．０５０重量％、少なくとも約０．１０重量％、少なくとも約０．２０重量％、少なくとも約０．４０重量％、少なくとも約０．５０重量％、少なくとも約０．６０重量％、少なくとも約０．８０重量％、少なくとも約１．０重量％、少なくとも約１．２重量％、少なくとも約１．４重量％、少なくとも約１．５重量％、少なくとも約１．６重量％、少なくとも約１．８重量％、少なくとも約２．０重量％、少なくとも約２．２重量％、少なくとも約２．４重量％、少なくとも約２．６重量％、少なくとも約２．８重量％、少なくとも約３．０重量％、少なくとも約３．５重量％または少なくとも約４．０重量％の量で存在してよい。全ての金属の重量パーセントは、支持体上である。「支持体上」とは、パーセントが、支持体、すなわち、オルガノシリカ材料支持体および任意選択的に結合剤材料の重量に基づくことを意味する。例えば、支持体が１００グラムの重量を有する場合、２０重量％の触媒金属は、２０グラムの触媒金属が支持体上にあることを意味するであろう。
【０１９３】
追加的にまたは代わりに、触媒金属は、約０．０１０重量％〜約４．０重量％、約０．０１０重量％〜約３．５重量％、約０．０１０重量％〜約３．０重量％、約０．０１０重量％〜約２．８重量％、約０．０１０重量％〜約２．６重量％、約０．０１０重量％〜約２．４重量％、約０．０１０重量％〜約２．２重量％、約０．０１０重量％〜約２．０重量％、約０．０１０重量％〜約１．８重量％、約０．０１０重量％〜約１．６重量％、約０．０１０重量％〜約１．５重量％、約０．０１０重量％〜約１．４重量％、約０．０１０重量％〜少なくとも約１．２重量％、約０．０１０重量％〜約１．０重量％、約０．０１０重量％〜約０．８０重量％、約０．０１０重量％〜約０．６０重量％、約０．０１０重量％〜約０．５０重量％、約０．０１０重量％〜約０．４０重量％、約０．０１０重量％〜約０．２０重量％、約０．０１０重量％〜約０．１０重量％、約０．１０重量％〜約４．０重量％、約０．１０重量％〜約３．５重量％、約０．１０重量％〜約３．０重量％、約０．１０重量％〜約２．８重量％、約０．１０重量％〜約２．６重量％、約０．１０重量％〜約２．４重量％、約０．１０重量％〜約２．２重量％、約０．１０重量％〜約２．０重量％、約０．１０重量％〜約１．８重量％、約０．１０重量％〜約１．６重量％、約０．１０重量％〜約１．５重量％、約０．１０重量％〜約１．４重量％、約０．１０重量％〜少なくとも約１．２重量％、約０．１０重量％〜約１．０重量％、約０．１０重量％〜約０．８０重量％、約０．１０重量％〜約０．６０重量％、約０．１０重量％〜約０．５０重量％、約０．１０重量％〜約０．４０重量％、約０．１０重量％〜約０．２０重量％、約１．０重量％〜約４．０重量％、約１．０重量％〜約３．５重量％、約１．０重量％〜約３．０重量％、約１．０重量％〜約２．８重量％、約１．０重量％〜約２．６重量％、約１．０重量％〜約２．４重量％、約１．０重量％〜約２．２重量％、約１．０重量％〜約２．０重量％、約１．０重量％〜約１．８重量％、約１．０重量％〜約１．６重量％、約１．０重量％〜約１．５重量％、約１．０重量％〜約１．４重量％または約１．０重量％〜少なくとも約１．２重量％の量で存在してよい。
【０１９４】
特に、触媒金属は、約０．０１０重量％〜約４．０重量％、約０．０５重量％〜約３．５重量％、約０．１重量％〜約２．０重量％または約０．１重量％〜約１．４重量％の量で存在してよい。
【０１９５】
触媒金属は、含浸により、イオン交換により、表面部位への錯化により、またはオルガノシリカ材料支持体と物理的に混合されるなどのいずれかの好都合な方法により、オルガノシリカ材料支持体に組み込むことができる。触媒金属が、オルガノシリカ材料支持体および任意選択的に結合剤中に含浸されるか、またはその上にイオン交換される場合、それは、例えば、触媒金属を含有する適切なイオンで、オルガノシリカ材料支持体を処理することによって実行され得る。触媒金属が白金である場合、適切なプラチナ化合物としては、ヘキサクロロ白金酸、二塩化白金および白金アミン錯体を含有する種々の化合物が含まれる。触媒金属は、触媒金属が化合物のカチオンに存在するか、またはそれが化合物のアニオンに存在する化合物を利用することにより、複合化された支持体および結合剤材料中に、またはそれの上に、またはそれによって組み込まれてもよい。カチオン性およびアニオン性化合物の両方が使用可能であることに留意すべきである。金属が、カチオンまたはカチオン性錯体の形態である適切なパラジウムまたは白金化合物の非限定的な例は、Ｐｄ（ＮＨ３）４Ｃｌ２またはＰｔ（ＮＨ３）４Ｃｌ２が特に有用であり、バナジン酸およびメタタングステン酸イオンなどのアニオン性錯体も同様である。他の金属のカチオン性の形態も、それらが結晶質金属上に交換され得るか、またはその中に含浸され得るため、非常に有用である。
【０１９６】
そのようにして組み込まれた触媒金属は、一般に石油精製または石油化学製品製造で実行される多数の触媒変換のいずれか１つを促進するために利用され得る。そのような触媒プロセスの例としては、限定されないが、水素化、脱水素、芳香族化、芳香族飽和、水素化脱硫、オレフィンオリゴマー形成、重合、水素化脱窒素、水素化分解、ナフサ改質、パラフィン異性化、芳香族アルキル交換、二重／三重結合の飽和など、およびそれらの組合せを含むことができる。特に、触媒金属は、芳香族水素化および／または飽和のために利用されてよい。
【０１９７】
ＩＩ．Ｃ．結合剤（又はバインダー）
種々の態様において、水素化触媒は、結合剤をさらに含み得るか、または自己結合し得る。適切な結合剤としては、限定されないが、活性および不活性材料、合成または天然由来ゼオライト、ならびに無機材料、例えば、クレーおよび／または酸化物、例えば、シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタニア、シリカ−アルミナ、酸化セリウム、酸化マグネシウム、またはそれらの組合せが含まれる。特に、結合剤は、活性および不活性材料、無機材料、クレー、アルミナ、シリカ、シリカ−アルミナ、チタニア、ジルコニアまたはそれらの組合せから選択されてよい。特に、結合剤は、シリカ−アルミナ、アルミナおよび／またはジルコニア、特にアルミナであってよい。シリカ−アルミナは、天然由来であり得るか、またはシリカおよび酸化金属の混合物を含む、ゼラチン状沈殿物またはゲルの形態のいずれかであり得る。本明細書において、ゼオライト結合剤材料と関連する、すなわち、それと組み合わせて、またはその合成中に存在する、それ自体が触媒的に活性である材料の使用は、最終触媒の変換および／または選択性を変更し得ることが認識されることに留意すべきである。本明細書において、不活性材料は、本発明がアルキル化プロセスに利用され、および反応速度を制御するための他の手段を利用せずに経済的にかつ秩序的にアルキル化製品を得ることができる場合、変換の量を制御するための希釈剤として適切に役立ち得ることも認識される。これらの不活性材料は、商業的な作動条件下での触媒の粉砕強度を改善するため、および触媒のための結合剤またはマトリックスとして機能するために、天然由来のクレー、例えば、ベントナイトおよびカオリン中に組み込まれてよい。本明細書に記載される触媒は、複合化された形態で、約１００部の支持体材料対約０部の結合剤材料、約９９部の支持体材料対約１部の結合剤材料、約９５部の支持体材料対約５部の結合剤材料の支持体材料対結合剤材料の比率を含むことができる。追加的にまたは代わりに、本明細書に記載の触媒は、典型的に、複合化された形態で、約９０部の支持体材料対約１０部の結合剤材料〜約１０部の支持体材料対約９０部の結合剤材料、約８５部の支持体材料対約１５部の結合剤材料〜約１５部の支持体材料対約８５部の結合剤材料、約８０部の支持体材料対２０部の結合剤材料〜２０部の支持体材料対８０部の結合剤材料の支持体材料対結合剤材料の比率を含むことができる。全ての比率は重量によるものであり、典型的に、８０：２０〜５０：５０、好ましくは６５：３５〜３５：６５の支持体材料：結合剤材料である。複合化は、材料を一緒に混練することを含む従来の手段により、およびそれに続いて所望の最終触媒粒子へとペレット化する押出成形により実行され得る。
【０１９８】
ＩＩ．Ｄ．さらなる金属
いくつかの実施形態において、オルガノシリカ材料支持体は、網目構造に組み込まれたカチオン性金属部位をさらに含むことができる。そのようなカチオン性金属部位は、有機前駆体による表面への含浸もしくは錯化などのいずれかの好都合な方法により、またはいずれかの他の方法により組み込まれ得る。このようなオルガノ金属材料は、石油精製または石油化学製品製造において実行される多くの炭化水素分離において使用され得る。石油化学製品／燃料から望ましく分離される、そのような化合物の例としては、オレフィン、パラフィン、芳香族などを含むことができる。
【０１９９】
追加的にまたは代わりに、オルガノシリカ材料支持体は、オルガノシリカ材料の細孔内に組み込まれた表面金属をさらに含むことができる。表面金属は、第１族元素、第２族元素、第１３族元素およびそれらの組合せから選択され得る。第１族元素が存在する場合、それは、好ましくは、ナトリウムおよび／またはカリウムを含むことができるか、またはそれらであり得る。第２族元素が存在する場合、それは、限定されないが、マグネシウムおよび／またはカルシウムを含み得る。第１３族元素が存在する場合、それは、限定されないが、ホウ素および／またはアルミニウムを含み得る。
【０２００】
第１、２、６、８〜１０および／または１３族元素の１種以上は、オルガノシリカ材料支持体の外部および／または内部表面上に存在し得る。例えば、第１、２および／または１３族元素の１種以上は、オルガノシリカ材料上の第１の層に存在し得、第６、８、９および／または１０族元素の１種以上は、第２の層に、例えば、少なくとも部分的に、第１、２および／または１３族元素の上部に存在し得る。追加的にまたは代わりに、第６、８、９および／または１０族元素の１種以上のみがオルガノシリカ材料の外部および／または内部表面上に存在し得る。表面金属は、含浸、析出、グラフト化、共縮合、イオン交換などのいずれかの好都合な方法により、オルガノシリカ材料中／上に組み込まれることができる。特に、限定されないが、アルミニウムなどの第１３族金属は、オルガノシリカ材料支持体の表面上にグラフト化されてよい。追加的にまたは代わりに、限定されないが、チタン、ジルコニウムおよびハフニウムなどの第４族金属は、オルガノシリカ材料支持体の表面上にグラフト化されてよい。
【０２０１】
ＩＩＩ．水素化触媒を製造する方法
別の実施形態において、芳香族飽和のための本明細書中に記載の水素化触媒を製造する方法が提供される。この方法は、
（ａ）構造指向剤および／またはポロゲンを本質的に含有しない水性混合物を供給すること（又は工程もしくはステップ）と、
（ｂ）式［Ｚ１５Ｚ１６ＳｉＣＨ２］３（ＶＩＩ）
［式中、各Ｚ１５は、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基であってもよく、各Ｚ１６は、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ４アルキル基であってもよい］
の少なくとも１種の化合物を水性混合物に添加して、溶液を形成すること（又は工程もしくはステップと、
（ｃ）溶液をエイジング（又は老化）させて、プリプロダクト（又は半製品）を製造すること（又は工程もしくはステップ）と、
（ｄ）プリプロダクト（又は半製品）を乾燥させて、本明細書に記載の式［Ｚ１ＯＺ２ＯＳｉＣＨ２］３（Ｉ）のモノマーの独立単位を含むポリマーであるオルガノシリカ材料支持体を得ること（又は工程もしくはステップ）と、
（ｅ）第８族金属、第９族金属、第１０族金属およびそれらの組合せからなる群から選択される少なくとも１種の触媒金属でオルガノシリカ材料支持体を含浸させること（又は工程もしくはステップ）と
を含む。
【０２０２】
追加的にまたは代わりに、式［Ｚ１５Ｚ１６ＳｉＣＨ２］３（ＶＩＩ）の少なくとも１種の化合物は、各Ｚ１５および／またはＺ１６が、より広範囲に、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基または別のシロキサンのケイ素原子に結合した酸素原子を表すことができるように、工程（ｂ）において、少なくとも部分的にヒドロキシル化され、かつ／または少なくとも部分的に重合化／オリゴマー化されたものとして添加され得る。換言すると、エイジングされていない（又は未老化）のプリプロダクト（又は半製品）が、式［Ｚ１５Ｚ１６ＳｉＣＨ２］３（ＶＩＩ）のモノマーの（少なくとも１種の）化合物に加えてまたはその代わりに、工程（ｂ）において添加されていてもよく、なお、工程（ｄ）においてポリマーを形成してもよい。
【０２０３】
ＩＩＩ．Ａ．水性混合物
本明細書に記載のオルガノシリカ材料は、構造指向剤またはプロゲンを本質的に使用せずに製造され得る。したがって、水性混合物は、添加された構造指向剤および／または添加されたプロゲンを本質的に含有しない。
【０２０４】
本明細書で使用される場合、「構造指向剤が添加されない」および「プロゲンが添加されない」は、（ｉ）オルガノシリカ材料のフレームワークを形成するビルディングブロックの重合および／または重縮合および／または組織化を補助および／または誘導する成分がオルガノシリカ材料の合成において存在しないこと、または（ｉｉ）成分が、オルガノシリカ材料のフレームワークを形成するビルディングブロックの重合および／または重縮合および／または組織化を補助および／または誘導すると言うことが不可能であるように、少量または非実質的な量または無視できる量で、そのような成分がオルガノシリカ材料の合成において存在することのいずれかを意味する。さらに、「構造指向剤が添加されない」は、「追加テンプレートがない」および「鋳型剤が添加されない」と類語である。
【０２０５】
１．構造指向剤
構造指向剤の例としては、限定されないが、非イオン性界面活性剤、イオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、ケイ素界面活性剤、両性界面活性剤、ポリアルキレンオキシド界面活性剤、フルオロ界面活性剤、コロイド性結晶、ポリマー、ハイパー分枝状分子、星型分子、巨大分子、デンドリマーおよびそれらの組合せを含むことができる。追加的にまたは代わりに、表面指向剤は、ポロキサマー、トリブロックポリマー、テトラアルキルアンモニウム塩、非イオン性ポリオキシエチレンアルキル、ジェミニ界面活性剤、またはそれらの混合物を含むことができるか、またはそれらであり得る。テトラアルキルアンモニウム塩の例としては、限定されないが、セチルトリメチルアンモニウムクロリド（ＣＴＡＣ）、セチルトリメチルアンモニウムブロミド（ＣＴＡＢ）およびオクタデシルトリメチルアンモニウムクロリドなど、セチルトリメチルアンモニウムハライドを含むことができる。他の代表的な表面指向剤は、追加的にまたは代わりに、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロリドおよび／またはセチルピリジニウムブロミドを含むことができる。
【０２０６】
ポロキサマーは、エチレンオキシドとプロピレンオキシドとのブロックコポリマー、より特に、ポリオキシエチレン（ポリ（エチレンオキシド））の２個の親水性鎖によって挾まれた、ポリオキシプロピレン（ポリ（プロピレンオキシド））の中央疎水性鎖からなる非イオン性トリブロックコポリマーである。特に、「ポロキサマー」という用語は、「ａ」および「ｂ」が、それぞれ、ポリオキシエチレンおよびポリオキシプロピレン単位の数を意味する、式ＨＯ（Ｃ２Ｈ４））ａ（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｂ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ａＨを有するポリマーを指す。ポロキサマーは、商標名Ｐｌｕｒｏｎｉｃ（登録商標）、例えば、Ｐｌｕｒｏｎｉｃ（登録商標）１２３およびＰｌｕｒｏｎｉｃ（登録商標）Ｆ１２７によっても既知である。追加的なトリブロックポリマーは、Ｂ５０−６６００である。
【０２０７】
非イオン性ポリオキシエチレンアルキルエーテルは、商標名Ｂｒｉｊ（登録商標）、例えば、Ｂｒｉｊ（登録商標）５６、Ｂｒｉｊ（登録商標）５８、Ｂｒｉｊ（登録商標）７６、Ｂｒｉｊ（登録商標）７８によっても既知である。ジェミニ界面活性剤は、１分子あたり少なくとも２個の疎水基を有し、少なくとも１個または任意選択的に２個の親水基が導入された化合物である。
【０２０８】
２．ポロゲン
ポロゲン材料は、オルガノシリカ材料において、ドメイン、離散的領域、空隙および／または細孔を形成することができる。ポロゲンの例は、ブロックコポリマー（例えば、ジブロックポリマー）である。本明細書で使用される場合、ポロゲンとしては水を含まない。ポリマーポロゲンの例としては、限定されないが、ポリビニル芳香族、例えば、ポリスチレン、ポリビニルピリジン、水素化ポリビニル芳香族、ポリアクリロニトリル、ポリアルキレンオキシド、例えば、ポリエチレンオキシドおよびポリプロピレンオキシド、ポリエチレン、ポリ乳酸、ポリシロキサン、ポリカプロラクトン、ポリカプロラクタム、ポリウレタン、ポリメタクリレート、例えば、ポリメチルメタクリレートまたはポリメタクリルさん、ポリアクリレート、例えば、ポリメタクリレートおよびポリアクリル酸、ポリジエン、例えば、ポリブタジエンおよびポリイソプレン、ポリビニルクロリド、ポリアセタールおよびアミンキャップアルキレンオキシド、ならびにそれらの組合せを含むことができる。
【０２０９】
追加的にまたは代わりに、ポロゲンは、熱可塑性ホモポリマーおよびランダム（ブロックと対照的な）コポリマーであり得る。本明細書で使用される場合、「ホモポリマー」は、単一モノマーから繰返単位を含む化合物を意味する。適切な熱可塑性材料としては、限定されないが、ポリスチレン、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリフェニレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、ポリエチレンオキシド、ポリ（ジメチルシロキサン）、ポリテトラヒドロフラン、ポリエチレン、ポリシクロヘキシルエチレン、ポリエチルオキサゾリン、ポリビニルピリジン、ポリカプロラクトン、ポリ乳酸のホモポリマーまたはコポリマー、これらの材料のコポリマーおよびこれらの材料の混合物を含むことができる。ポリスチレンの例としては、限定されないが、アニオン重合ポリスチレン、シンジオタクチックポリスチレン、未置換および置換ポリスチレン（例えば、ポリ（α−メチルスチレン））が含まれる。熱可塑性材料は、天然で、線形、分岐状、超分岐状、樹状または星形であり得る。
【０２１０】
追加的にまたは代わりにポロゲンは、溶媒であり得る。溶媒の例としては、限定されないが、ケトン（例えば、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、２−ヘプタノン、シクロヘプタノン、シクロオクタノン、シクロヘキシルピロリジノン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、アセトン）、カーボネート化合物（例えば、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート）、複素環式化合物（例えば、３−メチル−２−オキサゾリジノン、ジメチルイミダゾリジノン、Ｎ−メチルピロリドン、ピリジン）、環式エーテル（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフラン）、鎖エーテル（例えば、ジエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ポリエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールフェニルエーテル、トリプロピレングリコールメチルエーテル）、アルコール（例えば、メタノール、エタノール）、多価アルコール（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、グリセリン、ジプロピレングリコール）、ニトリル化合物（例えば、アセトニトリル、グルタロジニトリル、メトキシアセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル）、エステル（例えば、エチルアセテート、ブチルアセテート、メチルラクテート、エチルラクテート、メチルメトキシプロピオネート、エチルエトキシプロピオネート、メチルピルベート、エチルピルベート、プロピルピルベート、２−メトキシエチルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、ブチロラクトン、リン酸エステル、ホスホン酸エステル）、非プロトン性極性物質（例えば、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド）、非極性溶媒（例えば、トルエン、キシレン、メシチレン）、塩素ベースの溶媒（例えば、メチレンジクロリド、エチレンジクロリド）、ベンゼン、ジクロロベンゼン、ナフタレン、ビフェニルエーテル、ジイソプロピルベンゼン、トリエチルアミン、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸ブチル、モノメチルエーテルアセテートヒドロキシエーテル、例えば、ジベンジルエーテル、ダイグライム、トリグライムおよびそれらの混合物を含むことができる。
【０２１１】
３．塩基／酸
種々の実施形態において、本明細書で提供される方法で使用される水性混合物は、塩基および／または酸を含むことができる。
【０２１２】
水性混合物が塩基を含む特定の実施形態において、水性混合物は、約８〜約１５、約８〜約１４．５、約８〜約１４、約８〜約１３．５、約８〜約１３、約８〜約１２．５、約８〜約１２、約８〜約１１．５、約８〜約１１、約８〜約１０．５、約８〜約１０、約８〜約９．５、約８〜約９、約８〜約８．５、約８．５〜約１５、約８．５〜約１４．５、約８．５〜約１４、約８．５〜約１３．５、約８．５〜約１３、約８．５〜約１２．５、約８．５〜約１２、約８．５〜約１１．５、約８．５〜約１１、約８．５〜約１０．５、約８．５〜約１０、約８．５〜約９．５、約８．５〜約９、約９〜約１５、約９〜約１４．５、約９〜約１４、約９〜約１３．５、約９〜約１３、約９〜約１２．５、約９〜約１２、約９〜約１１．５、約９〜約１１、約９〜約１０．５、約９〜約１０、約９〜約９．５、約９．５〜約１５、約９．５〜約１４．５、約９．５〜約１４、約９．５〜約１３．５、約９．５〜約１３、約９．５〜約１２．５、約９．５〜約１２、約９．５〜約１１．５、約９．５〜約１１、約９．５〜約１０．５、約９．５〜約１０、約１０〜約１５、約１０〜約１４．５、約１０〜約１４、約１０〜約１３．５、約１０〜約１３、約１０〜約１２．５、約１０〜約１２、約１０〜約１１．５、約１０〜約１１、約１０〜約１０．５、約１０．５〜約１５、約１０．５〜約１４．５、約１０．５〜約１４、約１０．５〜約１３．５、約１０．５〜約１３、約１０．５〜約１２．５、約１０．５〜約１２、約１０．５〜約１１．５、約１０．５〜約１１、約１１〜約１５、約１１〜約１４．５、約１１〜約１４、約１１〜約１３．５、約１１〜約１３、約１１〜約１２．５、約１１〜約１２、約１１〜約１１．５、約１１．５〜約１５、約１１．５〜約１４．５、約１１．５〜約１４、約１１．５〜約１３．５、約１１．５〜約１３、約１１．５〜約１２．５、約１１．５〜約１２、約１２〜約１５、約１２〜約１４．５、約１２〜約１４、約１２〜約１３．５、約１２〜約１３、約１２〜約１２．５、約１２．５〜約１５、約１２．５〜約１４．５、約１２．５〜約１４、約１２．５〜約１３．５、約１２．５〜約１３、約１２．５〜約１５、約１２．５〜約１４．５、約１２．５〜約１４、約１２．５〜約１３．５、約１２．５〜約１３、約１３〜約１５、約１３〜約１４．５、約１３〜約１４、約１３〜約１３．５、約１３．５〜約１５、約１３．５〜約１４．５、約１３．５〜約１４、約１４〜約１５、約１４〜約１４．５および約１４．５〜約１５のｐＨを有することができる。
【０２１３】
塩基を含む特定の実施形態において、ｐＨは、約９〜約１５、約９〜約１４または約８〜約１４であり得る。
【０２１４】
代表的な塩基としては、限定されないが、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、ピリジン、ピロール、ピペラジン、ピロリジン、ピペリジン、ピコリン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、ジメチルモノエタノールアミン、モノメチルジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジアザビシクロオクタン、ジアザビシクロノナン、ジアザビシクロウンデカン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、アンモニア、アンモニウムヒドロキシド、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミン、オクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、シクロヘキシルアミン、トリメチルイミジン、１−アミノ−３−メチルブタン、ジメチルグリシン、３−アミノ−３−メチルアミンなどを含むことができる。これらの塩基は、単一でまたは組み合わせてのいずれかで使用されてよい。特定の実施形態において、塩基は、水酸化ナトリウムおよび／または水酸化アンモニウムを含むことができるか、またはそれらであり得る。
【０２１５】
水性混合物が酸を含む特定の実施形態において、水性混合物は、約０．０１〜約６．０、約０．０１〜約５、約０．０１〜約４、約０．０１〜約３、約０．０１〜約２、約０．０１〜約１、０．１〜約６．０、約０．１〜約５．５、約０．１〜約５．０、約０．１〜約４．８、約０．１〜約４．５、約０．１〜約４．２、約０．１〜約４．０、約０．１〜約３．８、約０．１〜約３．５、約０．１〜約３．２、約０．１〜約３．０、約０．１〜約２．８、約０．１〜約２．５、約０．１〜約２．２、約０．１〜約２．０、約０．１〜約１．８、約０．１〜約１．５、約０．１〜約１．２、約０．１〜約１．０、約０．１〜約０．８、約０．１〜約０．５、約０．１〜約０．２、約０．２〜約６．０、約０．２〜約５．５、約０．２〜約５、約０．２〜約４．８、約０．２〜約４．５、約０．２〜約４．２、約０．２〜約４．０、約０．２〜約３．８、約０．２〜約３．５、約０．２〜約３．２、約０．２〜約３．０、約０．２〜約２．８、約０．２〜約２．５、約０．２〜約２．２、約０．２〜約２．０、約０．２〜約１．８、約０．２〜約１．５、約０．２〜約１．２、約０．２〜約１．０、約０．２〜約０．８、約０．２〜約０．５、約０．５〜約６．０、約０．５〜約５．５、約０．５〜約５、約０．５〜約４．８、約０．５〜約４．５、約０．５〜約４．２、約０．５〜約４．０、約０．５〜約３．８、約０．５〜約３．５、約０．５〜約３．２、約０．５〜約３．０、約０．５〜約２．８、約０．５〜約２．５、約０．５〜約２．２、約０．５〜約２．０、約０．５〜約１．８、約０．５〜約１．５、約０．５〜約１．２、約０．５〜約１．０、約０．５〜約０．８、約０．８〜約６．０、約０．８〜約５．５、約０．８〜約５、約０．８〜約４．８、約０．８〜約４．５、約０．８〜約４．２、約０．８〜約４．０、約０．８〜約３．８、約０．８〜約３．５、約０．８〜約３．２、約０．８〜約３．０、約０．８〜約２．８、約０．８〜約２．５、約０．８〜約２．２、約０．８〜約２．０、約０．８〜約１．８、約０．８〜約１．５、約０．８〜約１．２、約０．８〜約１．０、約１．０〜約６．０、約１．０〜約５．５、約１．０〜約５．０、約１．０〜約４．８、約１．０〜約４．５、約１．０〜約４．２、約１．０〜約４．０、約１．０〜約３．８、約１．０〜約３．５、約１．０〜約３．２、約１．０〜約３．０、約１．０〜約２．８、約１．０〜約２．５、約１．０〜約２．２、約１．０〜約２．０、約１．０〜約１．８、約１．０〜約１．５、約１．０〜約１．２、約１．２〜約６．０、約１．２〜約５．５、約１．２〜約５．０、約１．２〜約４．８、約１．２〜約４．５、約１．２〜約４．２、約１．２〜約４．０、約１．２〜約３．８、約１．２〜約３．５、約１．２〜約３．２、約１．２〜約３．０、約１．２〜約２．８、約１．２〜約２．５、約１．２〜約２．２、約１．２〜約２．０、約１．２〜約１．８、約１．２〜約１．５、約１．５〜約６．０、約１．５〜約５．５、約１．５〜約５．０、約１．５〜約４．８、約１．５〜約４．５、約１．５〜約４．２、約１．５〜約４．０、約１．５〜約３．８、約１．５〜約３．５、約１．５〜約３．２、約１．５〜約３．０、約１．５〜約２．８、約１．５〜約２．５、約１．５〜約２．２、約１．５〜約２．０、約１．５〜約１．８、約１．８〜約６．０、約１．８〜約５．５、約１．８〜約５．０、約１．８〜約４．８、約１．８〜約４．５、約１．８〜約４．２、約１．８〜約４．０、約１．８〜約３．８、約１．８〜約３．５、約１．８〜約３．２、約１．８〜約３．０、約１．８〜約２．８、約１．８〜約２．５、約１．８〜約２．２、約１．８〜約２．０、約２．０〜約６．０、約２．０〜約５．５、約２．０〜約５．０、約２．０〜約４．８、約２．０〜約４．５、約２．０〜約４．２、約２．０〜約４．０、約２．０〜約３．８、約２．０〜約３．５、約２．０〜約３．２、約２．０〜約３．０、約２．０〜約２．８、約２．０〜約２．５、約２．０〜約２．２、約２．２〜約６．０、約２．２〜約５．５、約２．２〜約５．０、約２．２〜約４．８、約２．２〜約４．５、約２．２〜約４．２、約２．２〜約４．０、約２．２〜約３．８、約２．２〜約３．５、約２．２〜約３．２、約２．２〜約３．０、約２．２〜約２．８、約２．２〜約２．５、約２．５〜約６．０、約２．５〜約５．５、約２．５〜約５．０、約２．５〜約４．８、約２．５〜約４．５、約２．５〜約４．２、約２．５〜約４．０、約２．５〜約３．８、約２．５〜約３．５、約２．５〜約３．２、約２．５〜約３．０、約２．５〜約２．８、約２．８〜約６．０、約２．８〜約５．５、約２．８〜約５．０、約２．８〜約４．８、約２．８〜約４．５、約２．８〜約４．２、約２．８〜約４．０、約２．８〜約３．８、約２．８〜約３．５、約２．８〜約３．２、約２．８〜約３．０、約３．０〜約６．０、約３．５〜約５．５、約３．０〜約５．０、約３．０〜約４．８、約３．０〜約４．５、約３．０〜約４．２、約３．０〜約４．０、約３．０〜約３．８、約３．０〜約３．５、約３．０〜約３．２、約３．２〜約６．０、約３．２〜約５．５、約３．２〜約５、約３．２〜約４．８、約３．２〜約４．５、約３．２〜約４．２、約３．２〜約４．０、約３．２〜約３．８、約３．２〜約３．５、約３．５〜約６．０、約３．５〜約５．５、約３．５〜約５、約３．５〜約４．８、約３．５〜約４．５、約３．５〜約４．２、約３．５〜約４．０、約３．５〜約３．８、約３．８〜約５、約３．８〜約４．８、約３．８〜約４．５、約３．８〜約４．２、約３．８〜約４．０、約４．０〜約６．０、約４．０〜約５．５、約４．０〜約５、約４．０〜約４．８、約４．０〜約４．５、約４．０〜約４．２、約４．２〜約５、約４．２〜約４．８、約４．２〜約４．５、約４．５〜約５、約４．５〜約４．８または約４．８〜約５のｐＨを有することができる。
【０２１６】
酸を含む特定の実施形態において、ｐＨは、約０．０１〜約６．０、０．２〜約６．０、約０．２〜約５．０または約０．２〜約４．５であり得る。
【０２１７】
代表的な酸としては、限定されないが、塩酸、硝酸、硫酸、フッ化水素酸、リン酸、ホウ酸およびシュウ酸などの無機酸；ならびに酢酸、プロピオン酸、酪酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸、デカン酸、シュウ酸、マレイン酸、メチルマロン酸、アジピン酸、セバシン酸、没食子酸、酪酸、メリト酸、アラキドン酸、シキミ酸、２−エチルヘキサン酸、オレイン酸、ステアリン酸、リノール酸、リノレン酸、サリチル酸、安息香酸、ｐ−アミノ−安息香酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、モノクロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、ギ酸、マロン酸、スルホン酸、フタル酸、フマル酸、クエン酸、酒石酸、コハク酸、イタコン酸、メサコン酸、シトラコン酸、リンゴ酸、グルタル酸の加水分解物、無水マレイン酸の加水分解物、無水フタル酸の加水分解物などの有機酸などを含むことができる。これらの酸は、単一でまたは組み合わせてのいずれかで使用されてよい。特定の実施形態において、酸は、塩酸を含むことができるか、またはそれらであり得る。
【０２１８】
ＩＩＩ．Ｂ．式（ＶＩＩ）の化合物
本明細書で提供される方法は、各Ｚ１５がＣ１〜Ｃ４アルコキシ基であり得、各Ｚ１６がＣ１〜Ｃ４アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ４アルキル基であり得る、式［Ｚ１５Ｚ１６ＳｉＣＨ２］３（ＶＩＩ）の少なくとも１種の化合物を水性混合物に添加して、溶液を形成するステップを含む。
【０２１９】
一実施形態において、各Ｚ１５は、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシまたはメトキシまたはエトキシであり得る。
【０２２０】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ１６は、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシまたはメトキシまたはエトキシであり得る。追加的にまたは代わりに、各Ｚ１６は、メチル、エチルまたはプロピル、例えば、メチルまたはエチルを含むことができる。
【０２２１】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ１５は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であり得、各Ｚ１６は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であり得る。
【０２２２】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ１５は、メトキシまたはエトキシであり得、各Ｚ１６は、メチルまたはエチルであり得る。
【０２２３】
特定の実施形態において、式（ＶＩＩ）に相当する化合物が、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であり得るように、各Ｚ１５およびＺ１６は、エトキシであり得る。
【０２２４】
特定の実施形態において、式（ＶＩＩ）に相当する化合物が、１，３，５−トリメチル−１，３，５−トリエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン、（［ＥｔＯＣＨ３ＳｉＣＨ２］３）であり得るように、各Ｚ１５は、エトキシであり得、各Ｚ１６は、メチルであり得る。
【０２２５】
上記の通り、式（ＶＩＩ）の少なくとも１種の化合物が水性混合物に添加され、溶液を形成する時に、追加的にまたは代わりに少なくとも部分的にヒドロキシル化され、かつ／または重合化／オリゴマー化され得る。
【０２２６】
追加的にまたは代わりに、この方法は、同一であっても、または異なっていてもよい式（ＶＩＩ）のさらなる化合物を水性混合物に添加すること（又は工程もしくはステップ）をさらに含むことができる。異なる式（ＶＩＩ）の化合物が添加される場合、本明細書に記載の式（Ｉ）の独立単位および本明細書に記載の式（ＩＩ）の少なくとも１種の独立単位を含むコポリマーである、オルガノシリカ材料支持体を得ることができる。例えば、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）および１，３，５−トリメチル−１，３，５−トリエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［ＥｔＯＣＨ３ＳｉＣＨ２］３）を水性混合物に添加してよい。
【０２２７】
２種以上の式（ＶＩＩ）の化合物が使用される場合、それぞれの化合物は、広範囲の種々のモル比で使用されてよい。例えば、式（ＶＩＩ）の２種の化合物が使用される場合、各化合物のモル比は、１：９９〜９９：１、例えば、１０：９０〜９０：１０で変動してよい。式（Ｉａ）の異なる化合物の使用により、本発明のプロセスによって製造されたオルガノシリカ材料の特性を調整することができる。これについては、実施例において、および本プロセスによって製造されたオルガノシリカの特性を記載する本明細書の項目においてさらに説明する。
【０２２８】
ＩＩＩ．Ｄ．式（ＶＩＩＩ）の化合物
追加的な実施形態において、本明細書で提供される方法は、水性溶液に、各Ｚ１７が、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基であり得、Ｚ１８、Ｚ１９およびＺ２０が、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有ヘテロアラルキル基、および窒素を含有する任意選択的に置換されたヘテロシクロアルキル基からなる群から選択され得る、式Ｚ１７ＯＺ１８Ｚ１９Ｚ２０Ｓｉ（ＶＩＩＩ）の化合物を添加して、本明細書に記載の式（Ｉ）の少なくとも１種の独立単位、本明細書に記載の式（ＩＩＩ）の少なくとも１種の独立単位および任意選択的に本明細書に記載の式（ＩＩ）の少なくとも１種の独立単位を含むコポリマーである、オルガノシリカ材料を得ること（又は工程もしくはステップ）をさらに含むことができる。
【０２２９】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ１７は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基であり得、Ｚ１８、Ｚ１９およびＺ２０は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基およびＣ１〜Ｃ６アルコキシ基からなる群から選択され得る。追加的にまたは代わりに、Ｚ１８、Ｚ１９およびＺ２０は、それぞれ独立して、任意選択的に、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有ヘテロアラルキル基、および窒素を含有する任意選択的に置換されたヘテロシクロアルキル基であり得る。
【０２３０】
種々の実施形態において、各Ｚ１７は、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであり得る。特に、Ｚ１７は、メチルまたはエチルであり得る。
【０２３１】
追加的にまたは代わりに、Ｚ１８、Ｚ１９およびＺ２０は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであり得る。
【０２３２】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ１７は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であり得、Ｚ１８、Ｚ１９およびＺ２０は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であり得る。
【０２３３】
追加的にまたは代わりに、Ｚ１８、Ｚ１９およびＺ２０は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ５アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはメトキシであり得る。
【０２３４】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ１７は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であり得、Ｚ１８、Ｚ１９およびＺ２０は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であり得る。
【０２３５】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ１７は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であり得、Ｚ１８、Ｚ１９およびＺ２０は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはＣ１〜Ｃ２アルコキシ基であり得る。
【０２３６】
追加的にまたは代わりに、Ｚ１８、Ｚ１９およびＺ２０は、それぞれ独立して、窒素含有Ｃ１〜Ｃ９アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ８アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ７アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ５アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、またはメチルアミンであり得る。特に、Ｚ１８、Ｚ１９およびＺ２０は、それぞれ独立して、窒素含有Ｃ２〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ９アルキル基または窒素含有Ｃ３〜Ｃ８アルキル基であり得る。上記窒素含有アルキル基は、１個以上（例えば、２個、３個など）の窒素原子を有していてもよい。窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基の例としては、限定されないが、
【化１６】
0006755872.tif 000017
が含まれる。
【０２３７】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ１７は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であり得、Ｚ１８、Ｚ１９およびＺ２０は、それぞれ独立して、窒素含有Ｃ３〜Ｃ８アルキル基であり得る。
【０２３８】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ１７は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であり得、Ｚ１８、Ｚ１９およびＺ２０は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基または窒素含有Ｃ３〜Ｃ８アルキル基であり得る。
【０２３９】
追加的にまたは代わりに、Ｚ１８、Ｚ１９およびＺ２０は、それぞれ独立して、窒素含有ヘテロアラルキル基であり得る。窒素含有ヘテロアラルキル基は、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１２ヘテロアラルキル基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０ヘテロアラルキル基または窒素含有Ｃ４〜Ｃ８ヘテロアラルキル基であり得る。窒素含有ヘテロアラルキル基の例としては、限定されないが、ピリジニルエチル、ピリジニルプロピル、ピリジニルメチル、インドリルメチル、ピラジニルエチルおよびピラジニルプロピルが含まれる。上記窒素含有ヘテロアラルキル基は、１個以上（例えば、２個、３個など）の窒素原子を有していてもよい。
【０２４０】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ１７は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であり得、Ｚ１８、Ｚ１９およびＺ２０は、それぞれ独立して、窒素含有ヘテロアラルキル基であり得る。
【０２４１】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ１７は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であり得、Ｚ１８、Ｚ１９およびＺ２０は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ８アルキル基または窒素含有ヘテロアラルキル基であり得る。
【０２４２】
追加的にまたは代わりに、Ｚ１８、Ｚ１９およびＺ２０は、それぞれ独立して、窒素含有ヘテロシクロアルキル基であり得、ヘテロシクロアルキル基は、任意選択的に、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、特にＣ１〜Ｃ４アルキル基で置換されていてもよい。窒素含有ヘテロシクロアルキル基は、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１２ヘテロシクロアルキル基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０ヘテロシクロアルキル基または窒素含有Ｃ４〜Ｃ８ヘテロシクロアルキル基であり得る。窒素含有ヘテロシクロアルキル基の例としては、限定されないが、ピペラジニルエチル、ピペラジニルプロピル、ピペリジニルエチル、ピペリジニルプロピルが含まれる。上記窒素含有ヘテロシクロアルキル基は、１個以上（例えば、２個、３個など）の窒素原子を有していてもよい。
【０２４３】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ１７は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であり得、Ｚ１８、Ｚ１９およびＺ２０は、それぞれ独立して、窒素を含有する任意選択的に置換されたヘテロシクロアルキル基であり得る。
【０２４４】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ１７は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であり得、Ｚ１８、Ｚ１９およびＺ２０は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ８アルキル基、窒素含有ヘテロアラルキル基または窒素を含有する任意選択的に置換されたヘテロシクロアルキル基であり得る。
【０２４５】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ１７は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であり得、Ｚ１８、Ｚ１９およびＺ２０は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０ヘテロアラルキル基または窒素を含有する任意選択的に置換されたＣ４〜Ｃ１０ヘテロシクロアルキル基であり得る。
【０２４６】
特定の実施形態において、式（ＶＩＩＩ）に相当する化合物が、テトラエチルオルトシリケート（ＴＥＯＳ）（（ＥｔＯ）４Ｓｉ）であり得るように、Ｚ１７は、エチルであり得、Ｚ１８、Ｚ１９およびＺ２０は、エトキシであり得る。
【０２４７】
別の特定の実施形態において、式（ＶＩＩ）の化合物は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であり得、式（ＶＩＩ）の化合物は、テトラエチルオルトシリケート（ＴＥＯＳ）（（ＥｔＯ）４Ｓｉ）であり得る。
【０２４８】
別の特定の実施形態において、式（ＶＩＩＩ）に相当する化合物が、メチルトリエトキシシラン（ＭＴＥＳ）（（ＥｔＯ）３ＣＨ３Ｓｉ）であり得るように、Ｚ１７は、エチルであり得、Ｚ１８は、メチルであり得、Ｚ１９およびＺ２０は、エトキシであり得る。
【０２４９】
別の特定の実施形態において、式（ＶＩＩ）の化合物は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であり得、式（ＶＩＩ）の化合物は、メチルトリエトキシシラン（ＭＴＥＳ）（（ＥｔＯ）３ＣＨ３Ｓｉ）であり得る。
【０２５０】
別の特定の実施形態において、式（ＶＩＩ）の化合物は、１，３，５−トリメチル−１，３，５−トリエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［ＥｔＯＣＨ３ＳｉＣＨ２］３であり得、式（ＶＩＩ）の化合物は、テトラエチルオルトシリケート（ＴＥＯＳ）（（ＥｔＯ）４Ｓｉ）であり得る。
【０２５１】
別の特定の実施形態において、式（ＶＩＩＩ）に相当する化合物が、（３−アミノプロピル）トリエトキシシラン（Ｈ２Ｎ（ＣＨ２）３（ＥｔＯ）３Ｓｉ）であり得るように、Ｚ１７は、エチルであり得、Ｚ１８およびＺ１９は、エトキシであり得、Ｚ２０は、
【化１７】
0006755872.tif 000018
であり得る。
【０２５２】
別の特定の実施形態において、式（ＶＩＩ）の化合物は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であり得、式（ＶＩＩ）の化合物は、（３−アミノプロピル）トリエトキシシラン（Ｈ２Ｎ（ＣＨ２）３（ＥｔＯ）３Ｓｉ）であり得る。
【０２５３】
別の特定の実施形態において、式（ＶＩＩＩ）に相当する化合物が、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル）トリメトキシシラン（（（ＣＨ３）２Ｎ（ＣＨ２）３）（ＭｅＯ）３Ｓｉ）であり得るように、Ｚ１７は、メチルであり得、Ｚ１８およびＺ１９は、メトキシであり得、Ｚ２０は、
【化１８】
0006755872.tif 000019
であり得る。
【０２５４】
別の特定の実施形態において、式（ＶＩＩ）の化合物は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であり得、式（ＶＩＩ）の化合物は、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル）トリメトキシシラン（（（ＣＨ３）２Ｎ（ＣＨ２）３）（ＭｅＯ）３Ｓｉ）であり得る。
【０２５５】
別の特定の実施形態において、式（ＶＩＩＩ）に相当する化合物が、（Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン（（Ｈ２Ｎ（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）３）（ＥｔＯ）２Ｓｉ）であり得るように、Ｚ１７は、エチルであり得、Ｚ１８およびＺ１９は、エトキシであり得、Ｚ２０は、
【化１９】
0006755872.tif 000020
であり得る。
【０２５６】
別の特定の実施形態において、式（ＶＩＩ）の化合物は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であり得、式（ＶＩＩ）の化合物は、（Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン（（Ｈ２Ｎ（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）３）（ＥｔＯ）２Ｓｉ）であり得る。
【０２５７】
別の特定の実施形態において、式（ＶＩＩＩ）に相当する化合物が、４−メチル−１−（３−トリエトキシシリルプロピル）−ピペラジンであり得るように、Ｚ１７は、エチルであり得、Ｚ１８およびＺ１９は、エトキシであり得、Ｚ２０は、
【化２０】
0006755872.tif 000021
であり得る。
【０２５８】
別の特定の実施形態において、式（ＶＩＩ）の化合物は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であり得、式（ＶＩＩ）の化合物は、４−メチル−１−（３−トリエトキシシリルプロピル）−ピペラジンであり得る。
【０２５９】
別の特定の実施形態において、式（ＶＩＩＩ）に相当する化合物が、４−（２−（トリエトキシシリル）エチル）ピリジンであり得るように、Ｚ１７は、エチルであり得、Ｚ１８およびＺ１９は、エトキシであり得、Ｚ２０は、
【化２１】
0006755872.tif 000022
であり得る。
【０２６０】
別の特定の実施形態において、式（ＶＩＩ）の化合物は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であり得、式（ＶＩＩ）の化合物は、４−（２−（トリエトキシシリル）エチル）ピリジンであり得る。
【０２６１】
別の特定の実施形態において、式（Ｖａ）に相当する化合物が、１−（３−（トリエトキシシリル）プロピル）−４，５−ジヒドロ−１Ｈ−イミダゾールであり得るように、Ｚ１７は、エチルであり得、Ｚ１８およびＺ１９は、エトキシであり得、Ｚ２０は、
【化２２】
0006755872.tif 000023
であり得る。
【０２６２】
別の特定の実施形態において、式（ＶＩＩ）の化合物は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であり得、式（ＶＩＩ）の化合物は、１−（３−（トリエトキシシリル）プロピル）−４，５−ジヒドロ−１Ｈ−イミダゾールであり得る。
【０２６３】
式（ＶＩＩ）の化合物対式（ＶＩＩＩ）の化合物のモル比は、広範囲、例えば、約９９：１〜約１：９９、約１：５〜約５：１、約４：１〜約１：４または約３：２〜約２：３に変動し得る。例えば、式（Ｉａ）の化合物対式（ＩＩ）の化合物のモル比は、約４：１〜１：４または約２．５：１〜約１：２．５、約２：１〜約１：２、例えば、約１．５：１〜約１．５：１であり得る。
【０２６４】
ＩＩＩ．Ｄ．式（ＩＸ）の化合物
追加的な実施形態において、本明細書で提供される方法は、水性溶液に、各Ｚ２１が、独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基であり得、各Ｚ２２およびＺ２３が、独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ４アルキル基であり得、各Ｒ１が、Ｃ１〜Ｃ８アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルキニレン基、窒素含有Ｃ２〜Ｃ１０アルキレン基、任意選択的に置換されたＣ６〜Ｃ２０アラルキル基、および任意選択的に置換されたＣ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基からなる群から選択され得る、式Ｚ２１Ｚ２２Ｚ２３Ｓｉ−Ｒ１−ＳｉＺ２１Ｚ２２Ｚ２３（ＩＸ）の化合物を添加して、本明細書に記載の式（Ｉ）の少なくとも１種の独立単位、本明細書に記載の式（ＩＶ）の少なくとも１種の独立単位および任意選択的に本明細書に記載の式（ＩＩ）および／または（ＩＩＩ）の少なくとも１種の独立単位を含むコポリマーである、オルガノシリカ材料を得ること（又は工程もしくはステップ）をさらに含むことができる。
【０２６５】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ２１は、独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基であり得、各Ｚ２２およびＺ２３は、独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ４アルキル基であり得、各Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ８アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルケニレン基およびＣ２〜Ｃ８アルキニレン基からなる群から選択され得る。追加的にまたは代わりに、Ｒ１は、任意選択的に、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキレン基、任意選択的に置換されたＣ６〜Ｃ２０アラルキル基、および／または任意選択的に置換されたＣ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基であり得る。
【０２６６】
種々の実施形態において、各Ｚ２１は、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはメトキシであり得る。
【０２６７】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ２２およびＺ２３は、独立して、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはメトキシであり得る。
【０２６８】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ２１は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であり得、各Ｚ２２およびＺ２３は、独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であり得る。
【０２６９】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ２２およびＺ２３は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであり得る。
【０２７０】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ２１は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であり得、各Ｚ２２およびＺ２３は、独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であり得る。
【０２７１】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ２１は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であり得、各Ｚ２２およびＺ２３は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であり得る。
【０２７２】
追加的にまたは代わりに、各Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ７アルキレン基、Ｃ１〜Ｃ６アルキレン基、Ｃ１〜Ｃ５アルキレン基、Ｃ１〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ１〜Ｃ３アルキレン基、Ｃ１〜Ｃ２アルキレン基または−ＣＨ２−であり得る。
【０２７３】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ２１は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であり得、各Ｚ２２およびＺ２３は、独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であり得、各Ｒ７は、Ｃ１〜Ｃ２アルキレン基であり得る。
【０２７４】
追加的にまたは代わりに、各Ｒ１は、Ｃ２〜Ｃ７アルケニレン基、Ｃ１〜Ｃ６アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ５アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ３アルケニレン基または−ＣＨ＝ＣＨ−であり得る。
【０２７５】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ２１は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であり得、各Ｚ２２およびＺ２３は、独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であり得、各Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ２アルケニレン基であり得る。
【０２７６】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ２１は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であり得、各Ｚ２２およびＺ２３は、独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であり得、各Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ２アルキレン基またはＣ１〜Ｃ２アルケニレン基であり得る。
【０２７７】
追加的にまたは代わりに、各Ｒ１は、Ｃ２〜Ｃ７アルキニレン基、Ｃ１〜Ｃ６アルキニレン基、Ｃ２〜Ｃ５アルキニレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルキニレン基、Ｃ２〜Ｃ３アルキニレン基または−Ｃ≡Ｃ−であり得る。
【０２７８】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ２１は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であり得、各Ｚ２２およびＺ２３は、独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であり得、Ｒ１は、Ｃ２〜Ｃ４アルキニレン基であり得る。
【０２７９】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ２１は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であり得、各Ｚ２２およびＺ２３は、独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であり得、各Ｒ１は、Ｃ２〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルケニレン基またはＣ２〜Ｃ４アルキニレン基であり得る。
【０２８０】
追加的にまたは代わりに、各Ｒ１は、窒素含有Ｃ２〜Ｃ１０アルキレン基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキレン基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０アルキレン基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ９アルキレン基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ８アルキレン基または窒素含有Ｃ３〜Ｃ８アルキレン基であり得る。上記窒素含有アルキレン基は、１個以上（例えば、２個、３個など）の窒素原子を有していてもよい。窒素含有アルキレン基の例としては、限定されないが、
【化２３】
0006755872.tif 000024
が含まれる。
【０２８１】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ２１は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であり得、各Ｚ２２およびＺ２３は、独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であり得、各Ｒ１は、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０アルキレン基であり得る。
【０２８２】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ２１は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であり得、各Ｚ２２およびＺ２３は、独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であり得、各Ｒ１は、Ｃ２〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルキニレン基または窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０アルキレン基であり得る。
【０２８３】
追加的にまたは代わりに、各Ｒ１は、任意選択的に置換されたＣ６〜Ｃ２０アラルキル、任意選択的に置換されたＣ６〜Ｃ１４アラルキルまたは任意選択的に置換されたＣ６〜Ｃ１０アラルキルであり得る。Ｃ６〜Ｃ２０アラルキルの例としては、限定されないが、フェニルメチル、フェニルエチルおよびナフチルメチルが含まれる。アラルキルは、任意選択的に、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、特にＣ１〜Ｃ４アルキル基で置換されていてもよい。
【０２８４】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ２１は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であり得、各Ｚ２２およびＺ２３は、独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であり得、各Ｒ１は、任意選択的に置換されたＣ６〜Ｃ１０アラルキルであり得る。
【０２８５】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ２１は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であり得、各Ｚ２２およびＺ２３は、独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であり得、各Ｒ１は、Ｃ２〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルキニレン基または任意選択的に置換されたＣ６〜Ｃ１０アラルキルであり得る。
【０２８６】
追加的にまたは代わりに、Ｒ１は、任意選択的に置換されたＣ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基、任意選択的に置換されたＣ４〜Ｃ１６ヘテロシクロアルキル基、任意選択的に置換されたＣ４〜Ｃ１２ヘテロシクロアルキル基または任意選択的に置換されたＣ４〜Ｃ１０ヘテロシクロアルキル基であり得る。Ｃ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基の例としては、限定されないが、チエニルメチル、フリルエチル、ピロリルメチル、ピペラジニルエチル、ピリジルメチル、ベンゾキサゾリルエチル、キノリニルプロピルおよびイミダゾリルプロピルが含まれる。ヘテロシクロアルキルは、任意選択的に、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、特にＣ１〜Ｃ４アルキル基で置換されていてもよい。
【０２８７】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ２１は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であり得、各Ｚ２２およびＺ２３は、独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であり得、Ｒ１は、任意選択的に置換されたＣ４〜Ｃ１２ヘテロシクロアルキル基であり得る。
【０２８８】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ２１は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であり得、各Ｚ２２およびＺ２３は、独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であり得、各Ｒ１は、Ｃ２〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルキニレン基、任意選択的に置換されたＣ６〜Ｃ１０アラルキルまたは任意選択的に置換されたＣ４〜Ｃ１２ヘテロシクロアルキル基であり得る。
【０２８９】
特定の実施形態において、式（ＩＸ）に相当する化合物が１，２−ビス（メチルジエトキシシリル）エタン（ＣＨ３（ＥｔＯ）２Ｓｉ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＥｔＯ）２ＣＨ３）であり得るように、各Ｚ２１およびＺ２２は、エトキシであり得、各Ｚ２３は、メチルであり得、Ｒ１は、−ＣＨ２ＣＨ２−であり得る。
【０２９０】
別の特定の実施形態において、式（ＶＩＩ）の化合物は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であり得、式（ＩＸ）の化合物は、１，２−ビス（メチルジエトキシシリル）エタン（ＣＨ３（ＥｔＯ）２Ｓｉ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＥｔＯ）２ＣＨ３）であり得る。
【０２９１】
別の特定の実施形態において、式（ＩＸ）に相当する化合物が、ビス（トリエトキシシリル）メタン（（ＥｔＯ）３Ｓｉ−ＣＨ２−Ｓｉ（ＥｔＯ）３）であり得るように、各Ｚ２１、Ｚ２２およびＺ２３は、エトキシであり得、Ｒ１は、−ＣＨ２−であり得る。
【０２９２】
別の特定の実施形態において、式（ＶＩＩ）の化合物は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であり得、式（ＩＸ）の化合物は、ビス（トリエトキシシリル）メタン（（ＥｔＯ）３Ｓｉ−ＣＨ２−Ｓｉ（ＥｔＯ）３）であり得る。
【０２９３】
別の特定の実施形態において、式（ＩＸ）に相当する化合物が、１，２−ビス（トリエトキシシリル）エチレン（（ＥｔＯ）３Ｓｉ−ＨＣ＝ＣＨ−Ｓｉ（ＥｔＯ）３）であり得るように、各Ｚ２１、Ｚ２２およびＺ２３は、エトキシであり得、Ｒ１は、−ＨＣ＝ＣＨ−であり得る。
【０２９４】
別の特定の実施形態において、式（ＶＩＩ）の化合物は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３））であり得、式（ＩＸ）の化合物は、１，２−ビス（トリエトキシシリル）エチレン（（ＥｔＯ）３Ｓｉ−ＨＣ＝ＣＨ−Ｓｉ（ＥｔＯ）３）であり得る。
【０２９５】
別の特定の実施形態において、式（ＩＸ）の化合物は、ビス（トリエトキシシリル）メタン（（ＥｔＯ）３Ｓｉ−ＣＨ２−Ｓｉ（ＥｔＯ）３）であり得、式（ＶＩＩ）の化合物は、テトラエチルオルトシリケート（ＴＥＯＳ）（（ＥｔＯ）４Ｓｉ）であり得る。
【０２９６】
特定の実施形態において、式（ＩＸ）に相当する化合物が、Ｎ，Ｎ’−ビス［（３−トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミンであり得るように、各Ｚ２１、Ｚ２２およびＺ２３は、メトキシであり得、Ｒ１は、
【化２４】
0006755872.tif 000025
であり得る。
【０２９７】
別の特定の実施形態において、式（ＶＩＩ）の化合物は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であり得、式（ＩＸ）の化合物は、Ｎ，Ｎ’−ビス［（３−トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミンであり得る。
【０２９８】
別の特定の実施形態において、式（ＩＸ）に相当する化合物が、ビス［（メチルジエトキシシリル）プロピル］アミンであり得るように、各Ｚ２１およびＺ２２は、エトキシであり得、各Ｚ２３は、メチルであり得、Ｒ１は、
【化２５】
0006755872.tif 000026
であり得る。
【０２９９】
別の特定の実施形態において、式（ＶＩＩ）は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であり得、式（ＩＸ）の化合物は、ビス［（メチルジエトキシシリル）プロピル］アミンであり得る。
【０３００】
別の特定の実施形態において、式（ＩＸ）に相当する化合物が、ビス［（メチルジメトキシシリル）プロピル］−Ｎ−メチルアミンであり得るように、各Ｚ２１およびＺ２２は、メトキシであり得、各Ｚ２３は、メチルであり得、Ｒ１は、
【化２６】
0006755872.tif 000027
であり得る。
【０３０１】
別の特定の実施形態において、式（ＶＩＩ）の化合物は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であり得、式（ＩＸ）の化合物は、ビス［（メチルジメトキシシリル）プロピル］−Ｎ−メチルアミンであり得、任意選択的に、他のいずれの化合物も水性混合物に添加されない。
【０３０２】
式（ＶＩＩ）の化合物対式（ＩＸ）の化合物のモル比は、広範囲、例えば、約９９：１〜約１：９９、約１：５〜約５：１、約４：１〜約１：４または約３：２〜約２：３に変動し得る。例えば、式（Ｉａ）の化合物対式（ＩＩＩ）の化合物のモル比は、約４：１〜１：４または約２．５：１〜１：２．５、約２：１〜約１：２、例えば、約１．５：１〜約１．５：１であり得る。
【０３０３】
ＩＩＩ．Ｅ．三価金属酸化物の供給源
追加的な実施形態において、本明細書で提供される方法は、水性溶液に三価金属酸化物の供給源を添加すること（又は工程もしくはステップ）を含むことができる。
【０３０４】
三価金属酸化物の供給源としては、限定されないが、三価金属の相当する塩、アルコキシド、オキシドおよび／またはヒドロキシド、例えば、硫酸アルミニウム、硝酸アルミニウム、コロイド性アルミナ、アルミニウムトリヒドロキシド、ヒドロキシル化アルミナ、Ａｌ２Ｏ３、ハロゲン化アルミニウム（例えば、ＡｌＣｌ３）、ＮａＡｌＯ２、窒化ホウ素、Ｂ２Ｏ３および／またはＨ３ＢＯ３を含むことができる。
【０３０５】
種々の実施形態において、三価金属酸化物の供給源は、本明細書に記載の式（Ｉ）の少なくとも１種の独立単位、本明細書に記載の式（Ｖ）の少なくとも１種の独立単位および任意選択的に本明細書に記載の式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）および／または（ＩＶ）の少なくとも１種の独立単位を含むコポリマーである、オルガノシリカ材料を得るための、Ｍ３が、第１３族金属であり得、各Ｚ２４が、独立して、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基であり得る、式Ｍ３（ＯＺ２４）３（Ｘ）の化合物であってよい。
【０３０６】
一実施形態において、Ｍ３は、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、ＩｌまたはＵｕｔであり得る。特に、Ｍ３は、ＡｌまたはＢであり得る。
【０３０７】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ２４は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであり得る。特に、Ｚ２４は、メチル、エチル、プロピルまたはブチルであり得る。
【０３０８】
追加的にまたは代わりに、Ｍ３は、ＡｌまたはＢであり得、各Ｚ２４は、メチル、エチル、プロピルまたはブチルであり得る。
【０３０９】
特定の実施形態において、式（Ｘ）に相当する化合物が、アルミニウムトリメトキシドであり得るように、Ｍ３は、Ａｌであり得、各Ｚ２４は、メチルであり得る。
【０３１０】
特定の実施形態において、式（Ｘ）に相当する化合物が、アルミニウムトリエトキシドであり得るように、Ｍ３は、Ａｌであり得、各Ｚ２４は、エチルであり得る。
【０３１１】
特定の実施形態において、式（Ｘ）に相当する化合物が、アルミニウムイソプロポキシドであり得るように、Ｍ３は、Ａｌであり得、各Ｚ２４は、プロピルであり得る。
【０３１２】
特定の実施形態において、式（Ｘ）に相当する化合物が、アルミニウムトリ−ｓｅｃ−ブトキシドであり得るように、Ｍ３は、Ａｌであり得、各Ｚ２４は、ブチルであり得る。
【０３１３】
別の特定の実施形態において、式（ＶＩＩ）の化合物は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であり得、式（Ｘ）の化合物は、アルミニウムトリメトキシド、アルミニウムトリエトキシド、アルミニウムイソプロポキシドおよびアルミニウムトリ−ｓｅｃ−ブトキシドからなる群から選択され得る。
【０３１４】
別の特定の実施形態において、式（ＶＩＩ）の化合物は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であり得、式（Ｘ）の化合物は、アルミニウムトリ−ｓｅｃ−ブトキシドであり得る。
【０３１５】
追加的にまたは代わりに、三価金属酸化物の供給源は、本明細書に記載の式（Ｉ）の少なくとも１種の独立単位、本明細書に記載の式（ＶＩ）の少なくとも１種の独立単位および任意選択的に本明細書に記載の式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）および／または（Ｖ）の少なくとも１種の独立単位を含むコポリマーである、オルガノシリカ材料を得るための、Ｍ４が、第１３族金属であり得、各Ｚ２５および各Ｚ２６が、独立して、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基であり得る、式（Ｚ２５Ｏ）２Ｍ４−Ｏ−Ｓｉ（ＯＺ２６）３（ＸＩ）の化合物であってよい。
【０３１６】
一実施形態において、Ｍ４は、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、ＩｌまたはＵｕｔであり得る。特に、Ｍ４は、ＡｌまたはＢであり得る。
【０３１７】
追加的にまたは代わりに、各Ｚ２５および各Ｚ２６は、独立して、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであり得る。特に、各Ｚ２５および各Ｚ２６は、独立して、メチル、エチル、プロピルまたはブチルであり得る。
【０３１８】
追加的にまたは代わりに、Ｍ４は、ＡｌまたはＢであり得、各Ｚ２５および各Ｚ２６は、独立して、メチル、エチル、プロピルまたはブチルであり得る。
【０３１９】
追加的にまたは代わりに、三価金属酸化物の供給源は、式（Ｘ）の化合物の供給源（例えば、ＡｌＣｌ３）および／または式（ＸＩ）の化合物の供給源であってよい。
【０３２０】
式（ＶＩＩ）の化合物対三価金属酸化物のモル比は、広範囲、例えば、約９９：１〜約１：９９、約３０：１〜約１：１、約２５：１〜約１：１、約２０：１〜約３：１または約２０：１〜約５：１に変動し得る。
【０３２１】
ＩＩＩ．Ｆ．金属キレート供給源
追加的な実施形態において、本明細書で提供される方法は、水性溶液に金属キレート化合物の供給源を添加すること（又は工程もしくはステップ）をさらに含むことができる。
【０３２２】
存在する場合、金属キレート化合物の例としては、チタンキレート化合物、例えば、トリエトキシ−モノ（アセチルアセトナト）チタン、トリ−ｎ−プロポキシ−モノ（アセチルアセトナト）チタン、トリ−ｉ−プロポキシ−モノ（アセチルアセトナト）チタン、トリ−ｎ−ブトキシ−モノ（アセチルアセトナト）チタン、トリ−ｓｅｃ−ブトキシ−モノ（アセチルアセトナト）チタン、トリ−ｔ−ブトキシ−モノ（アセチルアセトナト）チタン、ジエトキシ−ビス（アセチルアセトナト）チタン、ジ−ｎ−プロポキシ−ビス（アセチルアセトナト）チタン、ジ−ｉ−プロポキシ−ビス（アセチルアセトナト）チタン、ジ−ｎ−ブトキシ−ビス（アセチルアセトナト）チタン、ジ−ｓｅｃ−ブトキシ−ビス（アセチルアセトナト）チタン、ジ−ｔ−ブトキシ−ビス（アセチルアセトナト）チタン、モノエトキシ−トリス（アセチルアセトナト）チタン、モノ−ｎ−プロポキシ−トリス（アセチルアセトナト）チタン、モノ−ｉ−プロポキシ−トリス（アセチルアセトナト）チタン、モノ−ｎ−ブトキシ−トリス（アセチルアセトナト）チタン、モノ−ｓｅｃ−ブトキシ−トリス（アセチルアセトナト）チタン、モノ−ｔ−ブトキシ−トリス（アセチルアセトナト）チタン、テトラキス（アセチルアセトナト）チタン、トリエトキシ−モノ（エチルアセトアセテート）チタン、トリ−ｎ−プロポキシ−モノ（エチルアセトアセテート）チタン、トリ−ｉ−プロポキシ−モノ（エチルアセトアセテート）チタン、トリ−ｎ−ブトキシ−モノ（エチルアセトアセテート）チタン、トリ−ｓｅｃ−ブトキシ−モノ（エチルアセトアセテート）チタン、トリ−ｔ−ブトキシ−モノ（エチルアセトアセテート）チタン、ジエトキシ−ビス（エチルアセトアセテート）チタン、ジ−ｎ−プロポキシ−ビス（エチルアセトアセテート）チタン、ジ−ｉ−プロポキシ−ビス（エチルアセトアセテート）チタン、ジ−ｎ−ブトキシ−ビス（エチルアセトアセテート）チタン、ジ−ｓｅｃ−ブトキシ−ビス（エチルアセトアセテート）チタン、ジ−ｔ−ブトキシ−ビス（エチルアセトアセテート）チタン、モノエトキシ−トリス（エチルアセトアセテート）チタン、モノ−ｎ−プロポキシ−トリス（エチル汗とアセテート）チタン、モノ−ｉ−プロポキシ−トリス（エチルアセトアセテート）チタン、モノ−ｎ−ブトキシ−トリス（エチルアセトアセテート）チタン、モノ−ｓｅｃ−ブトキシ−トリス（エチルアセトアセテート）チタン、モノ−ｔ−ブトキシ−トリス（エチルアセトアセテート）チタン、テトラキス（エチルアセトアセテート）チタン、モノ（アセチルアセトナト）トリス（エチルアセトアセテート）チタン、ビス（アセチルアセトナト）ビス（エチルアセトアセテート）チタンおよびトリス（アセチルアセトナト）モノ（エチルアセトアセテート）チタン、ジルコニウムキレート化合物、例えば、トリエトキシ−モノ（アセチルアセトナト）ジルコニウム、トリ−ｎ−プロポキシ−モノ（アセチルアセトナト）ジルコニウム、トリ−ｉ−プロポキシ−モノ（アセチルアセトナト）ジルコニウム、トリ−ｎ−ブトキシ−モノ（アセチルアセトナト）ジルコニウム、トリ−ｓｅｃ−ブトキシ−モノ（アセチルアセトナト）ジルコニウム、トリ−ｔ−ブトキシ−モノ（アセチルアセトナト）ジルコニウム、ジエトキシ−ビス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、ジ−ｎ−プロポキシ−ビス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、ジ−ｉ−プロポキシ−ビス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、ジ−ｎ−ブトキシ−ビス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、ジ−ｓｅｃ−ブトキシ−ビス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、ジ−ｔ−ブトキシ−ビス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、モノエトキシ−トリス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、モノ−ｎ−プロポキシ−トリス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、モノ−ｉ−プロポキシ−トリス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、モノ−ｎ−ブトキシ−トリス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、モノ−ｓｅｃ−ブトキシ−トリス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、モノ−ｔ−ブトキシ−トリス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、テトラキス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、トリエトキシ−モノ（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、トリ−ｎ−プロポキシ−モノ（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、トリ−ｉ−プロポキシ−モノ（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、トリ−ｎ−ブトキシ−モノ（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、トリ−ｓｅｃ−ブトキシ−モノ（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、トリ−ｔ−ブトキシ−モノ（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ジエトキシ−ビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ジ−ｎ−プロポキシ−ビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ジ−ｉ−プロポキシ−ビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ジ−ｎ−ブトキシ−ビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ジ−ｓｅｃ−ブトキシ−ビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ジ−ｔ−ブトキシ−ビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、モノエトキシ−トリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、モノ−ｎ−プロポキシ−トリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、モノ−ｉ−プロポキシ−トリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、モノ−ｎ−ブトキシ−トリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、モノ−ｓｅｃ−ブトキシ−トリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、モノ−ｔ−ブトキシ−トリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、モノ（アセチルアセトナト）トリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ビス（アセチルアセトナト）ビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウムおよびトリス（アセチルアセトナト）モノ（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ならびにアルミニウムキレート化合物、例えば、トリス（アセチルアセトナト）アルミニウムおよびトリス（エチルアセトアセテート）アルミニウムを含むことができる。これらの中で、チタンまたはアルミニウムのキレート化合物は、注目に値するものであり得、特にチタンのキレート化合物は、注目に値するものであり得る。これらの金属キレート化合物は、単一でまたは組み合わせて使用されてよい。
【０３２３】
ＩＩＩ．Ｇ．モル比
本明細書に記載の方法において、約９９：１〜約１：９９、約７５：１〜約１：９９、約５０：１〜約１：９９、約２５：１〜約１：９９、約１５：１〜約１：９９、約５０：１〜約１：５０、約２５：１〜約１：２５または約１５：１〜約１：１５の式（ＶＩＩ）：式（ＶＩＩ）、式（ＶＩＩ）：式（ＶＩＩＩ）、式（ＶＩＩ）：式（ＩＸ）、式（ＩＸ）：式（ＶＩＩＩ）、式（ＶＩＩ）：式（Ｘ）および式（ＶＩＩ）：式（ＸＩ）のモル比が使用されてよい。例えば、約３：２、約４：１、約４：３、約５：１、約２：３、約１：１約５：２および約１５：１のモル比が使用されてよい。例えば、式（ＶＩＩ）：式（ＶＩＩ）のモル比は、約３：２であり得る。式（ＶＩＩ）：式（ＶＩＩＩ）のモル比は、約２：３、約４：３、約４：１または約３：２であり得る。式（ＶＩＩ）：式（ＩＸ）のモル比は、約２：３および約４：１であり得る。式（ＩＸ）：式（ＶＩＩＩ）のモル比は、約５：２、約１：１、約１：２または約２：３であり得る。式（ＶＩＩ）：式（Ｘ）および式（ＶＩＩ）：式（ＸＩ）のモル比は、約１５：１または約５：１であり得る。
【０３２４】
以下の考察のために、式（ＶＩＩ）、（ＶＩＩＩ）および（ＩＸ）の化合物は、集合的に出発シロキサンと呼ばれるであろう。出発材料の選択次第で、溶液は、様々な組成を有し得る。例えば、塩基が使用される場合、溶液は、１：５〜約１：２０、例えば、約１：５〜約１：１５もしくは約１：５〜１：１０、または約１：６〜１：２０の出発シロキサン対ＯＨ−のモル比を有し得る。酸が使用される場合、溶液は、０：１〜約５：１、例えば、約４５：１〜約１０：１の出発シロキサン：Ｈ＋のモル比を有し得る。酸または塩基が使用される両方の場合において、出発シロキサン対Ｈ２Ｏのモル比は、約１：５０〜約１：１０００、例えば、約１：１００〜約１：５００に変動し得る。
【０３２５】
ＩＩＩ．Ｈ．溶液のエイジング（又は老化）
本明細書に記載の方法において形成された溶液は、少なくとも約４時間、少なくとも約６時間、少なくとも約１２時間、少なくとも約１８時間、少なくとも約２４時間（１日）、少なくとも約３０時間、少なくとも約３６時間、少なくとも約４２時間、少なくとも約４８時間（２日）、少なくとも約５４時間、少なくとも約６０時間、少なくとも約６６時間、少なくとも約７２時間（３日）、少なくとも約９６時間（４日）、少なくとも約１２０時間（５日）または少なくとも約１４４時間（６日）にわたり老化され得る。
【０３２６】
追加的にまたは代わりに、本明細書に記載の方法において形成された溶液は、約４時間〜約１４４時間（６日）、約４時間〜約１２０時間（５日）、約４時間〜約９６時間（４日）、約４時間〜約７２時間（３日）、約４時間〜約６６時間、約４時間〜約６０時間、約４時間〜約５４時間、約４時間〜約４８時間（２日）、約４時間〜約４２時間、約４時間〜約３６時間、約４時間〜約３０時間、約４時間〜約２４時間（１日）、約４時間〜約１８時間、約４時間〜約１２時間、約４時間〜約６時間、約６時間〜約１４４時間（６日）、約６時間〜約１２０時間（５日）、約６時間〜約９６時間（４日）、約６時間〜約７２時間（３日）、約６時間〜約６６時間、約６時間〜約６０時間、約６時間〜約５４時間、約６時間〜約４８時間（２日）、約６時間〜約４２時間、約６時間〜約３６時間、約６時間〜約３０時間、約６時間〜約２４時間（１日）、約６時間〜約１８時間、約６時間〜約１２時間、約１２時間〜約１４４時間（６日）、約１２時間〜約１２０時間（５日）、約１２時間〜約９６時間（４日）、約１２時間〜約７２時間（３日）、約１２時間〜約６６時間、約１２時間〜約６０時間、約１２時間〜約５４時間、約１２時間〜約４８時間（２日）、約１２時間〜約４２時間、約１２時間〜約３６時間、約１２時間〜約３０時間、約１２時間〜約２４時間（１日）、約１２時間〜約１８時間、約１８時間〜約１４４時間（６日）、約１８時間〜約１２０時間（５日）、約１８時間〜約９６時間（４日）、約１８時間〜約７２時間（３日）、約１８時間〜約６６時間、約１８時間〜約６０時間、約１８時間〜約５４時間、約１８時間〜約４８時間（２日）、約１８時間〜約４２時間、約１８時間〜約３６時間、約１８時間〜約３０時間、約１８時間〜約２４時間（１日）、約２４時間（１日）〜約１４４時間（６日）、約２４（１日）時間（１日）〜約１２０時間（５日）、約２４時間（１日）〜約９６時間（４日）、約２４時間（１日）〜約７２時間（３日）、約２４時間（１日）〜約６６時間、約２４時間（１日）〜約６０時間、約２４時間（１日）〜約５４時間、約２４時間（１日）〜約４８時間（２日）、約２４時間（１日）〜約４２時間、約２４時間（１日）〜約３６時間、約２４時間（１日）〜約３０時間、約３０時間〜約１４４時間（６日）、約３０時間〜約１２０時間（５日）、約３０時間〜約９６時間（４日）、約３０時間〜約７２時間（３日）、約３０時間〜約６６時間、約３０時間〜約６０時間、約３０時間〜約５４時間、約３０時間〜約４８時間（２日）、約３０時間〜約４２時間、約３０時間〜約３６時間、約３６時間〜約１４４時間（６日）、約３６時間〜約１２０時間（５日）、約３６時間〜約９６時間（４日）、約３６時間〜約７２時間（３日）、約３６時間〜約６６時間、約３６時間〜約６０時間、約３６時間〜約５４時間、約３６時間〜約４８時間（２日）、約３６時間〜約４２時間、約４２時間〜約１４４時間（６日）、約４２時間〜約１２０時間（５日）、約４２時間〜約９６時間（４日）、約４２時間〜約７２時間（３日）、約４２時間〜約６６時間、約４２時間〜約６０時間、約４２時間〜約５４時間、約４２時間〜約４８時間（２日）、約４８時間（２日）〜約１４４時間（６日）、約４８時間（２日）〜約１２０時間（５日）、約４８時間（２日）〜約９６時間（４日）、約４８時間（２日）〜約７２時間（３日）、約４８時間（２日）〜約６６時間、約４８時間（２日）〜約６０時間、約４８時間（２日）〜約５４時間、約５４時間〜約１４４時間（６日）、約５４時間〜約１２０時間（５日）、約５４時間〜約９６時間（４日）、約５４時間〜約７２時間（３日）、約５４時間〜約６６時間、約５４時間〜約６０時間、約６０時間〜約１４４時間（６日）、約６０時間〜約１２０時間（５日）、約６０時間〜約９６時間（４日）、約６０時間〜約７２時間（３日）、約６０時間〜約６６時間、約６６時間〜約１４４時間（６日）、約６６時間〜約１２０時間（５日）、約６６時間〜約９６時間（４日）、約６６時間〜約７２時間（３日）、約７２時間（３日）〜約１４４時間（６日）、約７２時間（３日）〜約１２０時間（５日）、約７２時間（３日）〜約９６時間（４日）、約９６時間（４日）〜約１４４時間（６日）、約９６時間（４日）〜約１２０時間（５日）または約１２０時間（５日）〜約１４４時間（６日）にわたり老化され得る。
【０３２７】
追加的にまたは代わりに、本方法において形成された溶液は、少なくとも約１０℃、少なくとも約２０℃、少なくとも約３０℃、少なくとも約４０℃、少なくとも約５０℃、少なくとも約６０℃、少なくとも約７０℃、少なくとも約８０℃、少なくとも約９０℃、少なくとも約１００℃、少なくとも約１１０℃、少なくとも約１２０℃、少なくとも約１３０℃、少なくとも約１４０℃、少なくとも約１５０℃、少なくとも約１７５℃、少なくとも約２００℃、少なくとも約２５０℃または約３００℃の温度において老化され得る。
【０３２８】
追加的にまたは代わりに、本方法において形成された溶液は、約１０℃〜約３００℃、約１０℃〜約２５０℃、約１０℃〜約２００℃、約１０℃〜約１７５℃、約１０℃〜約１５０℃、約１０℃〜約１４０℃、約１０℃〜約１３０℃、約１０℃〜約１２０℃、約１０℃〜約１１０℃、約１０℃〜約１００℃、約１０℃〜約９０℃、約１０℃〜約８０℃、約１０℃〜約７０℃、約１０℃〜約６０℃、約１０℃〜約５０℃、約２０℃〜約３００℃、約２０℃〜約２５０℃、約２０℃〜約２００℃、約２０℃〜約１７５℃、約２０℃〜約１５０℃、約２０℃〜約１４０℃、約２０℃〜約１３０℃、約２０℃〜約１２０℃、約２０℃〜約１１０℃、約２０℃〜約１００℃、約２０℃〜約９０℃、約２０℃〜約８０℃、約２０℃〜約７０℃、約２０℃〜約６０℃、約２０℃〜約５０℃、約３０℃〜約３００℃、約３０℃〜約２５０℃、約３０℃〜約２００℃、約３０℃〜約１７５℃、約３０℃〜約１５０℃、約３０℃〜約１４０℃、約３０℃〜約１３０℃、約３０℃〜約１２０℃、約３０℃〜約１１０℃、約３０℃〜約１００℃、約３０℃〜約９０℃、約３０℃〜約８０℃、約３０℃〜約７０℃、約３０℃〜約６０℃、約３０℃〜約５０℃、約５０℃〜約３００℃、約５０℃〜約２５０℃、約５０℃〜約２００℃、約５０℃〜約１７５℃、約５０℃〜約１５０℃、約５０℃〜約１４０℃、約５０℃〜約１３０℃、約５０℃〜約１２０℃、約５０℃〜約１１０℃、約５０℃〜約１００℃、約５０℃〜約９０℃、約５０℃〜約８０℃、約５０℃〜約７０℃、約５０℃〜約６０℃、約７０℃〜約３００℃、約７０℃〜約２５０℃、約７０℃〜約２００℃、約７０℃〜約１７５℃、約７０℃〜約１５０℃、約７０℃〜約１４０℃、約７０℃〜約１３０℃、約７０℃〜約１２０℃、約７０℃〜約１１０℃、約７０℃〜約１００℃、約７０℃〜約９０℃、約７０℃〜約８０℃、約８０℃〜約３００℃、約８０℃〜約２５０℃、約８０℃〜約２００℃、約８０℃〜約１７５℃、約８０℃〜約１５０℃、約８０℃〜約１４０℃、約８０℃〜約１３０℃、約８０℃〜約１２０℃、約８０℃〜約１１０℃、約８０℃〜約１００℃、約８０℃〜約９０℃、約９０℃〜約３００℃、約９０℃〜約２５０℃、約９０℃〜約２００℃、約９０℃〜約１７５℃、約９０℃〜約１５０℃、約９０℃〜約１４０℃、約９０℃〜約１３０℃、約９０℃〜約１２０℃、約９０℃〜約１１０℃、約９０℃〜約１００℃、約１００℃〜約３００℃、約１００℃〜約２５０℃、約１００℃〜約２００℃、約１００℃〜約１７５℃、約１００℃〜約１５０℃、約１００℃〜約１４０℃、約１００℃〜約１３０℃、約１００℃〜約１２０℃、約１００℃〜約１１０℃、約１１０℃〜約３００℃、約１１０℃〜約２５０℃、約１１０℃〜約２００℃、約１１０℃〜約１７５℃、約１１０℃〜約１５０℃、約１１０℃〜約１４０℃、約１１０℃〜約１３０℃、約１１０℃〜約１２０℃、約１２０℃〜約３００℃、約１２０℃〜約２５０℃、約１２０℃〜約２００℃、約１２０℃〜約１７５℃、約１２０℃〜約１５０℃、約１２０℃〜約１４０℃、約１２０℃〜約１３０℃、約１３０℃〜約３００℃、約１３０℃〜約２５０℃、約１３０℃〜約２００℃、約１３０℃〜約１７５℃、約１３０℃〜約１５０℃または約１３０℃〜約１４０℃の温度において老化され得る。
【０３２９】
ＩＩＩ．Ｉ．プリプロダクト（又は半製品）の乾燥
本明細書に記載の方法は、プリプロダクト（又は半製品）（例えば、ゲル）を乾燥させて、オルガノシリカ材料支持体を製造すること（又は工程もしくはステップ）を含む。
【０３３０】
いくつかの実施形態において、本方法で製造された半製品（例えば、ゲル）は、約５０℃以上、約７０℃以上、約８０℃以上、約１００℃以上、約１１０℃以上、約１２０℃以上、約１５０℃以上、約２００℃以上、約２５０℃以上、約３００℃以上、約３５０℃以上、約４００℃以上、約４５０℃以上、約５００℃以上、約５５０℃以上または約６００℃以上の温度で乾燥させることができる。
【０３３１】
追加的にまたは代わりに、本方法で製造された半製品（例えば、ゲル）は、約５０℃〜約６００℃、約５０℃〜約５５０℃、約５０℃〜約５００℃、約５０℃〜約４５０℃、約５０℃〜約４００℃、約５０℃〜約３５０℃、約５０℃〜約３００℃、約５０℃〜約２５０℃、約５０℃〜約２００℃、約５０℃〜約１５０℃、約５０℃〜約１２０℃、約５０℃〜約１１０℃、約５０℃〜約１００℃、約５０℃〜約８０℃、約５０℃〜約７０℃、約７０℃〜約６００℃、約７０℃〜約５５０℃、約７０℃〜約５００℃、約７０℃〜約４５０℃、約７０℃〜約４００℃、約７０℃〜約３５０℃、約７０℃〜約３００℃、約７０℃〜約２５０℃、約７０℃〜約２００℃、約７０℃〜約１５０℃、約７０℃〜約１２０℃、約７０℃〜約１１０℃、約７０℃〜約１００℃、約７０℃〜約８０℃、約８０℃〜約６００℃、約７０℃〜約５５０℃、約８０℃〜約５００℃、約８０℃〜約４５０℃、約８０℃〜約４００℃、約８０℃〜約３５０℃、約８０℃〜約３００℃、約８０℃〜約２５０℃、約８０℃〜約２００℃、約８０℃〜約１５０℃、約８０℃〜約１２０℃、約８０℃〜約１１０℃または約８０℃〜約１００℃の温度で乾燥させることができる。
【０３３２】
特定の実施形態において、本方法で製造された半製品（例えば、ゲル）は、約７０℃〜約２００℃の温度で乾燥させることができる。
【０３３３】
追加的にまたは代わりに、本方法で製造された半製品（例えば、ゲル）は、Ｎ２および／または空気雰囲気中で乾燥させることができる。
【０３３４】
ＩＩＩ．Ｊ．媒金属含浸
追加的な実施形態において、本水素化触媒を製造する方法は、本明細書に記載される少なくとも１種の触媒金属でオルガノシリカ材料支持体を含浸させること（又は工程もしくはステップ）をさらに含むことができる。特に、少なくとも１種の触媒金属は、第６族元素、第８族元素、第９族元素、第１０族元素またはそれらの組合せ、特に第８、９および／または１０族金属（例えば、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｒｈ、Ｏｓまたはそれらの組合せ）からなる群から選択され得る。別の好ましい実施形態において、金属水素化成分は、非貴金属の第ＶＩＩＩ族金属と第ＶＩ族金属との組合せであり得る。適切な組合せとしては、Ｎｉ、ＣｏまたはＦｅとＭｏまたはＷとの組合せ、好ましくは、ＮｉとＭｏまたはＷとの組合せを含むことができる。オルガノシリカ材料支持体は、インシピエントウェットネスによって触媒金属で含浸されるか、またはイオン交換され得る。
【０３３５】
追加的にまたは代わりに、触媒金属は、表面部位への錯化によりまたは混練混合中に水素化触媒中に組み込まれ得る。
【０３３６】
ＩＩＩ．Ｋ．結合剤の添加
追加的な実施形態において、本水素化触媒を製造する方法は、本明細書に記載される結合剤材料を添加すること（又は工程もしくはステップ）をさらに含むことができる。特に、結合剤材料は、活性および不活性材料、無機材料、クレー、アルミナ、シリカ、シリカ−アルミナ、チタニア、ジルコニアまたはそれらの組合せからなる群から選択されてよい。特に、結合剤は、シリカ−アルミナ、アルミナおよび／またはジルコニアあってよい。
【０３３７】
ＩＩＩ．Ｌ．さらなる金属
追加的な実施形態において、本水素化触媒を製造する方法は、オルガノシリカ材料支持体の細孔内に組み込まれた、本明細書に記載される表面金属を添加すること（又は工程もしくはステップ）をさらに含むことができる。表面金属の添加は、触媒金属によるオルガノシリカ材料支持体の含浸より前に行うことができる。表面金属は、上記の通り、第１族元素、第２族元素、第１３族元素およびそれらの組合せからなる群から選択することができる。追加的にまたは代わりに、表面金属の供給源は、本明細書に記載の式（Ｘ）および／または（ＸＩ）の化合物であってよい。特に、本明細書に記載の方法は、オルガノシリカ材料支持体の含浸の前に、オルガノシリカ材料支持体の表面上でアルミニウムをグラフト化させること（又は工程もしくはステップ）をさらに含むことができる。
【０３３８】
ＩＩＩ．Ｍ．任意選択的なさらなるステップ
いくつかの実施形態において、本方法は、シリカ材料を得るために、オルガノシリカ材料支持体を焼成すること（又は工程もしくはステップ）をさらに含むことができる。焼成は、空気、または窒素もしくは窒素が豊富な空気などの不活性気体中で実行することができる。焼成は、少なくとも約３００℃、少なくとも約３５０℃、少なくとも約４００℃、少なくとも約４５０℃、少なくとも約５００℃、少なくとも約５５０℃、少なくとも約６００℃または少なくとも約６５０℃、例えば、少なくとも約４００℃の温度で実行可能である。追加的にまたは代わりに、焼成は、約３００℃〜約６５０℃、約３００℃〜約６００℃、約３００℃〜約５５０℃、約３００℃〜約４００℃、約３００℃〜約４５０℃、約３００℃〜約４００℃、約３００℃〜約３５０℃、約３５０℃〜約６５０℃、約３５０℃〜約６００℃、約３５０℃〜約５５０℃、約３５０℃〜約４００℃、約３５０℃〜約４５０℃、約３５０℃〜約４００℃、約４００℃〜約６５０℃、約４００℃〜約６００℃、約４００℃〜約５５０℃、約４００℃〜約５００℃、約４００℃〜約４５０℃、約４５０℃〜約６５０℃、約４５０℃〜約６００℃、約４５０℃〜約５５０℃、約４５０℃〜約５００℃、約５００℃〜約６５０℃、約５００℃〜約６００℃、約５００℃〜約５５０℃、約５５０℃〜約６５０℃、約５５０℃〜約６００℃または約６００℃〜約６５０℃の温度で実行可能である。
【０３３９】
ＩＶ．水素化触媒プロダクトバイプロセス
水素化触媒は、本明細書に記載の方法から製造することができる。別の特定の実施形態において、水素化触媒は、本明細書に記載のオルガノシリカ材料支持体を形成するために本明細書に記載の構造指向剤またはポロゲンを本質的に含有しない、本明細書に記載の水性混合物、および本明細書に記載の少なくとも１種の触媒金属から製造することができ、オルガノシリカ材料支持体は、
（ｉ）本明細書に記載の式（Ｉ）の単位を含むホモポリマー；または
（ｉｉ）本明細書に記載の式（Ｉ）の独立単位と、本明細書に記載の式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、（Ｖ）および／または（ＶＩ）の単位を含む少なくとも１種の他のモノマーとを含むコポリマー
であってよい。
【０３４０】
Ｖ．芳香族水素化プロセス
種々の実施形態において、炭化水素供給流の芳香族水素化プロセスが本明細書に提供される。芳香族水素化プロセスは、芳香族含有量の減少した反応生成物を製造するために有効な芳香族水素化条件下で操作される第１の反応段階において、水素含有処理気体の存在下、芳香族を含む炭化水素供給流と、本明細書に記載の水素化触媒とを接触させること（又は工程もしくはステップ）を含むことができる。本明細書で理解されるように、水素化触媒は、供給流の水素化および芳香族飽和の両方のために使用され得る。同様に、水素化プロセスは、供給流の水素化または芳香族飽和を示すことができる。
【０３４１】
種々の実施形態において、水素化プロセスは、芳香族含有量の減少した反応生成物を製造するために有効な芳香族水素化条件下で操作される第１の反応段階において、水素含有処理気体の存在下、炭化水素供給流と、本明細書に記載の水素化触媒とを接触させることによって達成することができる。
【０３４２】
水素化プロセスでの使用に適切な水素含有処理気体は、実質的に純粋な水素から構成され得るか、または典型的に精製所水素流で見出される他の成分の混合物であり得る。水素含有処理気体流が少量のみの硫化水素を含有し、より好ましくは、硫化水素を含有しないことが好ましい。水素含有処理気体流の純度は、最良の結果のために、少なくとも５０体積％の水素、好ましくは少なくとも７５体積％の水素、より好ましくは少なくとも９０体積％の水素であるべきである。水素含有流が、実質的に純粋な水素であることが最も好ましい。
【０３４３】
本明細書に記載の水素化触媒による水素化に適切な供給流は、水素化または芳香族飽和が望ましい、いずれの従来の炭化水素供給流も含む。典型的に、芳香族飽和プロセスのためのインプット供給物は、燃料または潤滑剤ベースストック製造のための水素化分解などの以前の種類の水素化処理からの生成物また副産物として製造可能である。広範囲の石油および化学工業原料が水素化処理可能である。そのような供給流としては、炭化水素流体、ディーゼル、灯油、潤滑油供給流、重コーカー軽油（ＨＫＧＯ）、脱アスファルト化油（ＤＡＯ）、ＦＣＣメインカラムボトム（ＭＣＢ）、蒸気クラッカータールを含むことができる。そのような供給流としては、他の凝縮物供給流、例えば、初期凝縮物を含む、軽質〜重質留分、ワックス含有供給流、例えば、粗製油、けつ岩油およびタールサンドから誘導された供給物を含むことができる。フィッシャー−トロプシュ法から誘導されたものなどの合成供給物も、本明細書に記載の水素化触媒を使用して、芳香族飽和が可能である。潤滑剤ベース油の調製のための典型的なワックス含有供給原料は、約３１５℃以上の初期沸点を有し、全石油原油および減少石油原油、水素化分解生成物、ラフィネート、水素化処理された油、軽油（大気気体油、真空気体油およびコーカー気体油など）、大気および真空残留物、脱アスファルト化油／残留物（例えば、プロパン脱アスファルト化残留物、ブライトストック、サイクルオイル）、脱蝋油、スラックワックスおよびフィッシャー−トロプシュワックス、ならびにそれらの材料の混合物などの供給物を含む。そのような供給物は、蒸留塔（大気および真空）、水素化分解装置、水素化処理装置および溶媒抽出ユニットから誘導されてよく、５０％以上までのワックス含有量を有してもよい。好ましい潤滑油沸騰範囲供給流は、６５０〜１１００°Ｆの範囲で沸騰する供給流を含む。ディーゼル沸騰範囲供給流は、４８０〜６６０°Ｆの範囲で沸騰する供給流を含む。灯油沸騰範囲供給流は、３５０〜６１７°Ｆの範囲で沸騰する供給流を含む。
【０３４４】
本明細書での使用に適切な炭化水素供給流は、芳香族ならびに窒素および硫黄汚染物質を含有する。供給流に基づき、０．２重量％までの窒素、３．０重量％までの硫黄および５０重量％までの芳香族を含有する供給流を本プロセスにおいて使用することができる。種々の実施形態において、供給流の硫黄含有量は、約５００ｗｐｐｍ未満、または約３００ｗｐｐｍ未満、または約２００ｗｐｐｍ未満、または約１００ｗｐｐｍ未満、または約５０ｗｐｐｍ未満、または約１５ｗｐｐｍ未満であり得る。芳香族水素化プロセス中に使用される圧力は、供給流の予想される硫黄含有量に基づいて変動可能である。高いワックス含有量を有する供給物は、典型的に、２００以上までの高い粘度指数を有する。硫黄および窒素含有量は、それぞれ、標準的なＡＳＴＭ法Ｄ２６２２（硫黄）ならびにＤ５４５３および／またはＤ４６２９（窒素）によって測定されてよい。
【０３４５】
有効水素化条件は、その条件下で、炭化水素供給流に存在する芳香族の少なくとも一部が飽和され、好ましくは芳香族の少なくとも約５０重量％が飽和され、より好ましくは約７５重量％が飽和される条件であると考えられてよい。有効水素化条件は、１５０℃〜４００℃の温度、７４０〜２０７８６ｋＰａ（１００〜３０００ｐｓｉｇ）の水素分圧、０．１〜１０液体毎時空間速度（ＬＨＳＶ）の空間速度および８９〜１７８０ｍ３／ｍ３（５００〜１００００ｓｃｆ／Ｂ）の水素対供給物比を含むことができる。
【０３４６】
追加的にまたは代わりに、有効水素化条件は、窒素および有機的に結合した硫黄の汚染物質の少なくとも一部を除去すること、および前記芳香族の少なくとも一部を水素化すること、したがって、潤滑油沸騰範囲供給流よりも低濃度の芳香族ならびに窒素および有機的に結合した硫黄の汚染物質を有する少なくとも液体潤滑油沸騰範囲生成物を製造することにおいて有効である条件であってもよい。
【０３４７】
追加的にまたは代わりに、有効水素化条件は、窒素および有機的に結合した硫黄の汚染物質の少なくとも一部を除去すること、および前記芳香族の少なくとも一部を水素化すること、したがって、ディーゼル沸騰範囲供給流よりも低濃度の芳香族ならびに窒素および有機的に結合した硫黄の汚染物質を有する少なくとも液体ディーゼル沸騰範囲生成物を製造することにおいて有効である条件であってもよい。
【０３４８】
上記の通り、いくつかの場合、炭化水素供給流（例えば、潤滑油沸騰範囲）は、硫黄汚染物質を約５００ｗｐｐｍ未満、特に約３００ｗｐｐｍ未満、特に約２００ｗｐｐｍ未満または特に約１００ｗｐｐｍ未満まで低下させるために水素化処理されてもよい。そのような実施形態において、プロセスは、少なくとも２つの反応段階を含んでいてもよく、有効水素化処理条件下で操作される水素化処理触媒を含有する第１の反応状態および水素化触媒を含有する第２の反応状態は、上記の有効水素化条件下で操作される。したがって、そのような実施形態において、炭化水素供給流を、最初に、供給流の硫黄含有量を上記範囲内まで低下させるために有効な水素化処理条件下で操作される第１の反応段階において、水素含有処理気体の存在下、水素化処理触媒と接触させることができる。したがって、「水素化処理」という用語は、本明細書で使用される場合、硫黄および窒素などのヘテロ原子の除去のために活性である適切な触媒の存在下で、水素含有処理気体が使用されるプロセスを示す。本発明での使用のために適切な水素化処理触媒は、いずれかの従来の水素化処理触媒であり、少なくとも１種の第８族金属、好ましくは、Ｆｅ、ＣｏおよびＮｉ、より好ましくは、Ｃｏおよび／またはＮｉ、最も好ましくは、Ｎｉ、ならびに少なくとも１種の第６族金属、好ましくは、ＭｏおよびＷ、より好ましくは、Ｍｏを高表面積支持体材料、好ましくはアルミナ上で含むものが含まれる。追加的にまたは代わりに、同反応容器中で２種以上の水素化処理触媒が使用され得る。第８族金属は、典型的に、約２〜２０重量％、好ましくは、約４〜１２重量％の範囲の量で存在してよい。第６族金属は、典型的に、約５〜５０重量％、好ましくは、約１０〜４０重量％、より好ましくは、約２０〜３０重量％の範囲の量で存在してよい。全ての金属の重量パーセントは、上記の通り「支持体上」である。
【０３４９】
有効水素化処理条件は、供給流の硫黄含有量（例えば、潤滑油沸騰範囲）を、上記の範囲内まで有効に低下させることができるそれらの条件であると考えられてよい。典型的な有効水素化処理条件としては、約１５０℃〜約４２５℃、好ましくは、約２００℃〜約３７０℃、より好ましくは、約２３０℃〜約３５０℃の範囲の温度を含むことができる。典型的な重量毎時空間速度（「ＷＨＳＶ」）は、約０．１〜約２０時間−１、好ましくは、約０．５〜約５時間−１の範囲であってよい。いずれかの有効圧力も利用可能であり、圧力は、典型的に、約４〜約７０気圧（４０５〜７０９３ｋＰａ）、好ましくは、１０〜４０気圧（１０１３〜４０５３ｋＰａ）の範囲であり得る。特定の実施形態において、前記有効水素化処理条件は、前記有機的に結合した硫黄の汚染物質の少なくとも一部を除去すること、および前記芳香族の少なくとも一部を水素化すること、したがって、潤滑油沸騰範囲供給流よりも低濃度の芳香族および有機的に結合した硫黄の汚染物質を有する少なくとも反応生成物（例えば、液体潤滑油沸騰範囲生成物）を製造することにおいて有効である条件であってもよい。
【０３５０】
炭化水素供給流を水素化処理触媒と接触させることにより、少なくとも１種の蒸気生成物および液体生成物を含む反応生成物が製造され得る。蒸気生成物は、典型的に、Ｈ２Ｓなどの気体状反応製品を含んでいてもよく、および液体反応生成物は、典型的に、窒素および硫黄汚染物質の減少した濃度を有する液体炭化水素を含んでいてもよい。完全反応生成物は、第２の反応段階へと直接通すことができるが、気体状および液体反応生成物が分離され、および液体反応生成物が第２の反応段階に導入されることが好ましくなり得る。したがって、一実施形態において、蒸気生成物および液体生成物は分離されてもよく、および液体生成物は第２の反応段階に導入されてよい。液体生成物から蒸気生成物を分離する方法は、気体状および液体反応生成物を分離することにおいて有効であることが既知であるいずれかの手段によって達成可能である。例えば、ストリッピングタワーまたは反応ゾーンを使用して、蒸気生成物を液体生成物（例えば、液体潤滑油沸騰範囲生成物）から分離することができる。そのようにして第２の反応段階に導入される液体生成物は、約５００ｗｐｐｍ範囲内、特に約３００ｗｐｐｍ未満、または特に約２００ｗｐｐｍ未満または特に約１００ｗｐｐｍ未満の硫黄濃度を有することができる。
【０３５１】
なお他の実施形態において、本明細書に記載の水素化触媒は、統合された水素化処理法において使用可能である。本明細書に記載の水素化触媒に関する水素化仕上および／または芳香族水素化／飽和プロセスに加えて、統合された水素化処理法は、水素化処理、水素化分解、触媒脱蝋（例えば、水素化脱蝋）および／または溶媒脱蝋の種々の組合せを含むことができる。上記の水素化処理と、それに続く水素化仕上のスキームは、総合プロセスフローの１種を表す。別の統合されたプロセス例は、触媒脱蝋または溶媒脱蝋のいずれかによる脱蝋ステップと、それに続く本明細書に記載の水素化触媒による水素化処理とを有するものである。なお別の例は、水素化処理、（触媒または溶媒）脱蝋、次いで、本明細書に記載の水素化触媒による水素化処理に関係するプロセススキームである。なお別の例は、本明細書に記載の水素化触媒による水素化処理と、それに続く（触媒または溶媒）脱蝋とである。代わりに、複数の水素化仕上および／または芳香族水素化ステップが、水素化処理、水素化分解または脱蝋ステップとともに利用され得る。そのようなプロセスフローの例は、水素化仕上、（触媒または溶媒）脱蝋、次いで再び水素化仕上であり、ここで、水素化仕上ステップの少なくとも１回は、本明細書に記載の水素化触媒を使用するものであってよい。触媒脱蝋が関係するプロセスに関して、有効触媒脱蝋条件は、１５０℃〜４００℃、好ましくは、２５０℃〜３５０℃の温度、７９１〜２０７８６ｋＰａ（１００〜３０００ｐｓｉｇ）、好ましくは、１４８０〜１７３３８ｋＰａ（２００〜２５００ｐｓｉｇ）の圧力、０．１〜１０時間−１、好ましくは、０．１〜５時間−１の液体毎時空間速度、および４５〜１７８０ｍ３／ｍ３（２５０〜１００００ｓｃｆ／Ｂ）、好ましくは、８９〜８９０ｍ３／ｍ３（５００〜５０００ｓｃｆ／Ｂ）の水素処理気体速度を含むことができる。いずれの適切な脱蝋触媒も使用されてよい。
【０３５２】
芳香族飽和プロセスの生成物が潤滑剤ベース油であろう実施形態において、インプット供給物も適切な潤滑剤ベース油特性を有するべきである。例えば、第Ｉ族または第ＩＩ族ベース油として使用するために意図されたインプット供給物は、少なくとも約８０、好ましくは少なくとも約９０または好ましくは少なくとも９５の粘度指数（ＶＩ）を有することができる。第Ｉ＋族ベース油として使用するために意図されたインプット供給物は、少なくとも約１００のＶＩを有することができるが、第ＩＩ＋族ベース油として使用するために意図されたインプット供給物は、少なくとも約１１０のＶＩを有することができる。インプット供給物の粘度は、１００℃において少なくとも２ｃＳｔ、または１００℃において少なくとも４ｃＳｔ、または１００℃において少なくとも６ｃＳｔであり得る。
【０３５３】
ＶＩ．さらなる実施形態
本発明は、追加的にまたは代わりに、以下の実施形態の１つ以上を含むことができる。
【０３５４】
実施形態１
（ａ）芳香族含有量が低下した反応生成物を製造するために有効な芳香族水素化条件下で操作される反応段階（又は反応ステージ）において、水素含有処理気体の存在下、芳香族を含む炭化水素供給流を水素化触媒と接触させること（又は工程もしくはステップ）を含み、前記水素化触媒が、
（ｉ）式［Ｚ１ＯＺ２ＯＳｉＣＨ２］３（Ｉ）
［式中、各Ｚ１およびＺ２は、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す］
のモノマーの独立単位を含むポリマーである、オルガノシリカ材料支持体と、
（ｉｉ）第８族金属、第９族金属、第１０族金属およびそれらの組合せからなる群から選択される少なくとも１種の触媒金属と
を含む、炭化水素供給流のための芳香族水素化プロセス（又は芳香族水素化工程もしくは芳香族水素化処理）。
【０３５５】
実施形態２
各Ｚ１およびＺ２が、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す、実施形態１のプロセス。
【０３５６】
実施形態３
各Ｚ１およびＺ２が、独立して、水素原子、エチル、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す、実施形態１または２のプロセス。
【０３５７】
実施形態４
前記オルガノシリカ材料支持体が、
（ｉ）式［Ｚ３ＯＺ４ＳｉＣＨ２］３（ＩＩ）
［式中、各Ｚ３は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合を表し、各Ｚ４は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基を表す］
の独立単位（independent unit）、
（ｉｉ）式Ｚ５ＯＺ６Ｚ７Ｚ８Ｓｉ（ＩＩＩ）
［式中、各Ｚ５は、水素原子またはＣ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表し、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有ヘテロアルキル基、窒素を含有する任意選択的に置換されたヘテロシクロアルキル基および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択される］
の独立単位、
（ｉｉｉ）式Ｚ９Ｚ１０Ｚ１１Ｓｉ−Ｒ−ＳｉＺ９Ｚ１０Ｚ１１（ＩＶ）
［式中、各Ｚ９は、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、または別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素を表し、各Ｚ１０およびＺ１１は、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素を表し、Ｒは、Ｃ１〜Ｃ８アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルキニレン基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキレン基、任意選択的に置換されたＣ６〜Ｃ２０アラルキルおよび任意選択的に置換されたＣ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基からなる群から選択される］
の独立単位、
（ｉｖ）式Ｍ１（ＯＺ１２）３（Ｖ）
［式中、Ｍ１は、第１３族金属を表し、各Ｚ１２は、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す］
の独立単位、
（ｖ）式（Ｚ１３Ｏ）２Ｍ２−Ｏ−Ｓｉ（ＯＺ１４）３（ＶＩ）
［式中、Ｍ２は、第１３族金属を表し、各Ｚ１３および各Ｚ１４は、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す］
の独立単位、および
（ｖｉ）それらの組合せ
からなる群から選択される少なくとも１種の他のモノマーをさらに含む、上記実施形態のいずれか１つのプロセス。
【０３５８】
実施形態５
式（ＩＩ）の少なくとも１種の独立単位が存在し、前記式中、各Ｚ３が、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、または別のシロキサンモノマーのケイ素原子への結合を表し、各Ｚ４が、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基を表す、実施形態４のプロセス。
【０３５９】
実施形態６
各Ｚ３が、水素原子、エチル、または別のシロキサンモノマーのケイ素原子への結合を表し、各Ｚ４が、メチルを表す、実施形態４または５のプロセス。
【０３６０】
実施形態７
式（ＩＩＩ）の少なくとも１種の独立単位が存在し、前記式中、各Ｚ５が、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、または別のコモノマーのケイ素原子への結合を表し、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８が、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０ヘテロアルキル基、窒素を含有する任意選択的に置換されたＣ４〜Ｃ１０ヘテロシクロアルキル基、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素からなる群から選択される、実施形態４〜６のいずれか１つのプロセス。
【０３６１】
実施形態８
Ｚ６、Ｚ７およびＺ８が、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素からなる群から選択される、実施形態７のプロセス。
【０３６２】
実施形態９
各Ｚ５が、水素原子、メチル、エチル、または別のコモノマーのケイ素原子への結合を表し、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８が、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、メチル、メトキシ、エトキシ、
【化２７】
0006755872.tif 000028
および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素からなる群から選択される、実施形態７のプロセス。
【０３６３】
実施形態１０
式（ＩＶ）の少なくとも１種の独立単位が存在し、前記式中、各Ｚ９が、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、または別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素を表し、各Ｚ１０およびＺ１１が、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素を表し、Ｒが、Ｃ１〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルキニレン基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０アルキレン基、任意選択的に置換されたＣ６〜Ｃ１０アラルキルおよび任意選択的に置換されたＣ４〜Ｃ１２ヘテロシクロアルキル基からなる群から選択される、実施形態４〜９のいずれか１つのプロセス。
【０３６４】
実施形態１１
各Ｚ９が、ヒドロキシル基、メトキシ、エトキシ、または別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素を表し、各Ｚ１０およびＺ１１が、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、メトキシ、エトキシ、メチル、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素を表し、Ｒが、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＨＣ＝ＣＨ−、
【化２８】
0006755872.tif 000029
からなる群から選択される、実施形態１０のプロセス。
【０３６５】
実施形態１２
式（Ｖ）の少なくとも１種の独立単位が存在し、前記式中、Ｍ１が、ＡｌまたはＢであり、各Ｚ１２が、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す、実施形態４〜１１のいずれか１つのプロセス。
【０３６６】
実施形態１３
式（ＶＩ）の少なくとも１種の単位が存在し、前記式中、Ｍ２が、ＡｌまたはＢであり、各Ｚ１３および各Ｚ１４が、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す、実施形態４〜１２のいずれか１つのプロセス。
【０３６７】
実施形態１４
前記オルガノシリカ材料支持体が、約５００ｍ２／ｇ〜約２０００ｍ２／ｇの全表面積を有する、上記実施形態のいずれか１つのプロセス。
【０３６８】
実施形態１５
前記オルガノシリカ材料支持体が、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約３．０ｃｍ３／ｇの細孔体積（又はポアボリューム）を有する、上記実施形態のいずれか１つのプロセス。
【０３６９】
実施形態１６
前記オルガノシリカ材料支持体が、２．５ｎｍ〜５ｎｍの平均細孔直径を有する、上記実施形態のいずれか１つのプロセス。
【０３７０】
実施形態１７
前記少なくとも１種の触媒金属が、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｒｈ、Ｒｅ、Ｒｕ、Ｏｓおよびそれらの組合せからなる群から選択される、上記実施形態のいずれか１つのプロセス。
【０３７１】
実施形態１８
前記少なくとも１種の触媒金属が、Ｐｔ、Ｐｄおよびそれらの混合物からなる群から選択される、実施形態１７のプロセス。
【０３７２】
実施形態１９
前記触媒金属が、約０．１〜約２．０重量％の範囲の量で存在する、上記実施形態のいずれか１つのプロセス。
【０３７３】
実施形態２０
前記水素化触媒が、活性材料および不活性材料、無機材料、クレー、アルミナ、シリカ、シリカ−アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化イットリウム、酸化タンタル、酸化ニオブ、活性炭、セラミックス、軽石、シーライトおよびそれらの組合せからなる群から選択される結合剤材料（又はバインダー材料）をさらに含む、上記実施形態のいずれか１つのプロセス。
【０３７４】
実施形態２１
前記結合剤材料が、シリカ−アルミナ、アルミナ、チタニア、ジルコニアおよび活性炭からなる群から選択される、実施形態２０のプロセス。
【０３７５】
実施形態２２
前記炭化水素供給流が、炭化水素流体、ディーゼル沸騰範囲供給流、潤滑油沸騰範囲供給流、全石油原油もしくは減少石油原油（whole or reduced petroleum crude）、大気残留物（atmospheric residua）、真空残留物（vacuum residua）、プロパン脱アスファルト化残留物（propane deasphalted residua）、脱蝋油、スラックワックス、ラフィネートまたはそれらの混合物である、上記実施形態のいずれか１つのプロセス。
【０３７６】
実施形態２３
前記炭化水素供給流が、全て前記炭化水素供給流に基づき、０．２重量％までの窒素、３．０重量％までの硫黄および約５０重量％までの芳香族を含有する、上記実施形態のいずれか１つのプロセス。
【０３７７】
実施形態２４
前記炭化水素供給流が、約１００ｗｐｐｍ未満の硫黄含有量を有する、上記実施形態のいずれか１つのプロセス。
【０３７８】
実施形態２５
前記有効な芳香族水素化条件が、約３５０℃以下の温度を含む、上記実施形態のいずれか１つのプロセス。
【０３７９】
実施形態２６
芳香族水素化のための水素化触媒を製造する方法であって、
（ａ）構造指向剤（structure directing agent）および／またはポロゲンを本質的に含有しない水性混合物（aqueous mixture）を供給すること（又は工程もしくはステップ）と、
（ｂ）式［Ｚ１５Ｚ１６ＳｉＣＨ２］３（ＶＩＩ）
［式中、各Ｚ１５は、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基を表し、各Ｚ１６は、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ４アルキル基を表す］
の少なくとも１種の化合物を前記水性混合物に添加して、溶液を形成すること（又は工程もしくはステップ）と、
（ｃ）前記溶液をエイジング（又は老化）させて、プリプロダクト（又は半製品）を製造すること（又は工程もしくはステップ）と、
（ｄ）前記プリプロダクトを乾燥させて、式［Ｚ１ＯＺ２ＯＳｉＣＨ２］３（Ｉ）［式中、各Ｚ１およびＺ２は、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す］のモノマーの独立単位を含むポリマーである、オルガノシリカ材料支持体を得ること（又は工程もしくはステップ）と、
（ｅ）第８族金属、第９族金属、第１０族金属およびそれらの組合せからなる群から選択される少なくとも１種の触媒金属で前記オルガノシリカ材料支持体を含浸させること（又は工程もしくはステップ）と
を含む方法。
【０３８０】
実施形態２７
各Ｚ１５が、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基を表す、実施形態２６の方法。
【０３８１】
実施形態２８
各Ｚ１６が、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基を表す、実施形態２６または２７の方法。
【０３８２】
実施形態２９
各Ｚ１６が、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基を表す、実施形態２６〜２８のいずれか１つの方法。
【０３８３】
実施形態３０
前記式（ＶＩＩ）の少なくとも１種の化合物が、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサンである、実施形態２６〜２９のいずれか１つの方法。
【０３８４】
実施形態３１
各Ｚ１およびＺ２が、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す、実施形態２６〜３０のいずれか１つの方法。
【０３８５】
実施形態３２
各Ｚ１およびＺ２が、独立して、水素原子、エチル、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素を表す、実施形態２６〜３１のいずれか１つの方法。
【０３８６】
実施形態３３
前記オルガノシリカ材料支持体を含浸する前に、前記オルガノシリカ材料支持体表面上でアルミニウムをグラフト化すること（又は工程もしくはステップ）をさらに含む、実施形態２６〜３２のいずれか１つの方法。
【０３８７】
実施形態３４
前記水性混合物に、
（ｉ）式（ＶＩＩ）のさらなる化合物、
（ｉｉ）式Ｚ１７ＯＺ１８Ｚ１９Ｚ２０Ｓｉ（ＶＩＩＩ）
［式中、各Ｚ１７は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基を表し、Ｚ１８、Ｚ１９およびＺ２０は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有ヘテロアラルキル基および窒素を含有する任意選択的に置換されたヘテロシクロアルキル基からなる群から選択される］
の化合物、
（ｉｉｉ）式Ｚ２１Ｚ２２Ｚ２３Ｓｉ−Ｒ１−ＳｉＺ２１Ｚ２２Ｚ２３（ＩＸ）
［式中、各Ｚ２１は、独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基を表し、各Ｚ２２およびＺ２３は、独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ４アルキル基を表し、Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ８アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルキニレン基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキレン基、任意選択的に置換されたＣ６〜Ｃ２０アラルキルおよび任意選択的に置換されたＣ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基からなる群から選択される］
の化合物、
（ｉｖ）三価金属酸化物の供給源、および
（ｖ）それらの組合せ
からなる群から選択される少なくとも１種の化合物を添加すること（又は工程もしくはステップ）をさらに含む、実施形態２６〜３３のいずれか１つの方法。
【０３８８】
実施形態３５
前記少なくとも１種の化合物が、式（ＶＩＩ）のさらなる化合物であり、式中、各Ｚ１５は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基を表し、各Ｚ１６は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基を表す、実施形態３４の方法。
【０３８９】
実施形態３６
前記式（ＶＩＩ）の化合物が、１，３，５−トリメチル−１，３，５−トリエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサンである、実施形態３５の方法。
【０３９０】
実施形態３７
前記少なくとも１種の化合物が、式（ＶＩＩ）の化合物であり、前記式中、各Ｚ１７は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基を表し、Ｚ１８、Ｚ１９およびＺ２０は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０ヘテロアラルキル基または窒素を含有する任意選択的に置換されたＣ４〜Ｃ１０ヘテロシクロアルキル基からなる群から選択される、実施形態３４〜３６のいずれか１つの方法。
【０３９１】
実施形態３８
前記式（ＶＩＩＩ）の化合物が、テトラエチルオルトシリケート、メチルトリエトキシシラン、（Ｎ，Ｎ−ジメチル−アミノプロピル）トリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、４−メチル−１−（３−トリエトキシシリルプロピル）−ピペラジン、４−（２−（トリエトキシシリル）エチル）ピリジン、１−（３−（トリエトキシシリル）プロピル）−４，５−ジヒドロ−１Ｈ−イミダゾールおよび（３−アミノプロピル）トリエトキシシランからなる群から選択される、実施形態３７の方法。
【０３９２】
実施形態３９
前記少なくとも１種の化合物が、式（ＩＸ）の化合物であり、前記式中、各Ｚ２１は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基を表し、各Ｚ２２およびＺ２３は、独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基を表し、Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルキニレン基および窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０アルキレン基からなる群から選択される、実施形態３４〜３８のいずれか１つの方法。
【０３９３】
実施形態４０
前記式（ＩＸ）の化合物が、１，２−ビス（メチルジエトキシシリル）エタン、ビス（トリエトキシシリル）メタン、１，２−ビス（トリエトキシシリル）エチレン、Ｎ，Ｎ’−ビス［（３−トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミン、ビス［（メチルジエトキシシリル）プロピル］アミンおよびビス［（メチルジメトキシシリル）プロピル］−Ｎ−メチルアミンからなる群から選択される、実施形態３９の方法。
【０３９４】
実施形態４１
前記少なくとも１種の化合物が、三価金属酸化物の供給源であり、三価金属酸化物の供給源が、
ａ．式Ｍ３（ＯＺ２４）３（Ｘ）
［式中、Ｍ３は、第１３族金属を表し、各Ｚ２４は、独立して、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基を表す］
の化合物、または
ｂ．式（Ｚ２５Ｏ）２Ｍ４−Ｏ−Ｓｉ（ＯＺ２６）３（ＸＩ）
［式中、Ｍ４は、第１３族金属を表し、各Ｚ２５および各Ｚ２６は、独立して、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基を表す］
の化合物
の少なくとも１種である、実施形態３４〜４０のいずれか１つの方法。
【０３９５】
実施形態４２
三価金属酸化物の供給源が、式（Ｘ）の化合物であり、前記式中、Ｍ３は、ＡｌまたはＢであり、各Ｚ２４は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基を表す、実施形態４１の方法。
【０３９６】
実施形態４３
三価金属酸化物の供給源が、式（ＸＩ）の化合物であり、前記式中、Ｍ４は、ＡｌまたはＢであり、各Ｚ２５および各Ｚ２６は、独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基を表す、実施形態４１または４２の方法。
【０３９７】
実施形態４４
前記三価金属酸化物の供給源が、アルミニウムトリメトキシド、アルミニウムトリエトキシド、アルミニウムイソプロポキシドおよびアルミニウム−トリ−ｓｅｃ−ブトキシドからなる群から選択される、実施形態３４〜４３のいずれか１つの方法。
【０３９８】
実施形態４５
前記水性混合物が塩基を含み、約８〜約１４のｐＨを有する、実施形態２６〜４４のいずれか１つの方法。
【０３９９】
実施形態４６
塩基が、アンモニウムヒドロキシド（又は水酸化アンモニウム）または金属ヒドロキシドである、実施形態４５の方法。
【０４００】
実施形態４７
水性混合物が酸を含み、約０．０１〜約６．０のｐＨを有する、実施形態２６〜４４のいずれか１つの方法。
【０４０１】
実施形態４８
酸が、無機酸である、実施形態４７の方法。
【０４０２】
実施形態４９
無機酸が、塩酸である、実施形態４８の方法。
【０４０３】
実施形態５０
前記工程（ｃ）において、前記溶液が、１４４時間までにわたり約５０℃〜約２００℃の温度でエイジング（又は老化）される、実施形態２６〜４９のいずれか１つの方法。
【０４０４】
実施形態５１
前記プリプロダクトが、約７０℃〜約２００℃の温度で乾燥される、実施形態２６〜５０のいずれか１つの方法。
【０４０５】
実施形態５２
前記少なくとも１種の触媒金属が、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｒｈ、Ｒｅ、Ｒｕ、Ｏｓおよびそれらの組合せからなる群から選択される、実施形態２６〜５１のいずれか１つの方法。
【０４０６】
実施形態５３
少なくとも１種の触媒金属が、Ｐｔ、Ｐｄおよびそれらの混合物からなる群から選択される、実施形態５２の方法。
【０４０７】
実施形態５４
活性材料および不活性材料、無機材料、クレー、アルミナ、シリカ、シリカ−アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化イットリウム、酸化タンタル、酸化ニオブ、活性炭、セラミックス、軽石、シーライトまたはそれらの組合せからなる群から選択される結合剤材料を添加すること（又は工程もしくはステップ）をさらに含む、実施形態２６〜５３のいずれか１つの方法。
【０４０８】
実施形態５５
前記結合剤材料が、シリカ−アルミナ、アルミナ、シリカ、チタニアおよびジルコニア 活性炭からなる群から選択される、実施形態５４の方法。
【０４０９】
実施形態５６
実施形態２６〜５５のいずれか１つの方法に従って製造された水素化触媒。
【０４１０】
実施形態５７
（ｉ）式［Ｚ１ＯＺ２ＯＳｉＣＨ２］３（Ｉ）
［式中、各Ｚ１およびＺ２は、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す］
のモノマーの独立単位を含むポリマーである、オルガノシリカ材料支持体と、
（ｉｉ）第８族金属、第９族金属、第１０族金属およびそれらの組合せからなる群から選択される少なくとも１種の触媒金属と
を含む、芳香族水素化のための水素化触媒。
【０４１１】
実施形態５８
前記オルガノシリカ材料支持体が、
（ｉ）式［Ｚ３ＯＺ４ＳｉＣＨ２］３（ＩＩ）
［式中、各Ｚ３は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表し、各Ｚ４は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基を表す］
の独立単位、
（ｉｉ）式Ｚ５ＯＺ６Ｚ７Ｚ８Ｓｉ（ＩＩＩ）
［式中、各Ｚ５は、水素原子またはＣ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表し、Ｚ６、Ｚ７およびＺ８は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有ヘテロアルキル基、窒素を含有する任意選択的に置換されたヘテロシクロアルキル基および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択される］
の独立単位、
（ｉｉｉ）式Ｚ９Ｚ１０Ｚ１１Ｓｉ−Ｒ−ＳｉＺ９Ｚ１０Ｚ１１（ＩＶ）
［式中、各Ｚ９は、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、または別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素を表し、各Ｚ１０およびＺ１１は、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素を表し、Ｒは、Ｃ１〜Ｃ８アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルキニレン基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキレン基、任意選択的に置換されたＣ６〜Ｃ２０アラルキルおよび任意選択的に置換されたＣ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基からなる群から選択される］
の独立単位、
（ｉｖ）式Ｍ１（ＯＺ１２）３（Ｖ）
［式中、Ｍ１は、第１３族金属を表し、各Ｚ１２は、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す］
の独立単位、
（ｖ）式（Ｚ１３Ｏ）２Ｍ２−Ｏ−Ｓｉ（ＯＺ１４）３（ＶＩ）
［式中、Ｍ２は、第１３族金属を表し、各Ｚ１３および各Ｚ１４は、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す］
の独立単位、および
（ｖｉ）それらの組合せ
からなる群から選択される少なくとも１種の他のモノマーをさらに含む、実施形態５７の水素化触媒。
【０４１２】
実施形態５９
アルミニウムが、オルガノシリカ材料支持体表面上にグラフト化されている、実施形態５７または５８の水素化触媒。
【実施例】
【０４１３】
一般的な方法
小角Ｘ線回折分析
エックス線粉末回折（ＸＲＤ）パターンは、低角度測定用アクセサリーを備えたＰＡＮａｌｙｔｉｃａｌ  Ｘ’ｐｅｒｔ回折計上で収集した。ＸＲＤ分析は、０．０１６７°のステップサイズおよび１．２秒の集計時間で、０．５〜１０°の２θ範囲内のＣｕＫａ（＝１．５４０５９８０Å）を使用して記録した。
【０４１４】
固体状態（ＳＳ）ＮＭＲ測定
２９Ｓｉ  ＭＡＳ  ＮＭＲスペクトルは、それぞれ、７９．４ＭＨｚおよび９９．２ＭＨｚの２９Ｓｉラーモア回転数に相当するＶａｒｉａｎ  ＩｎｆｉｎｉｔｙＰｌｕｓ−４００分光計（９．４Ｔで操作）およびＶａｒｉａｎ  ＩｎｆｉｎｉｔｙＰｌｕｓ−５００（１１．７４Ｔで操作）上で、５ｋＨｚのスピニング、４．０μｓの９０°パルスおよび少なくとも６０秒のリサイクル遅延を使用して、７．５ｍｍのＭＡＳプローブヘッドを用いて、プロトンがデータ取得中に非干渉化するという状態で記録された。２９Ｓｉ化学シフトは、外部テトラメチルシラン（δＳｉ＝０．０ｐｐｍ）に関して参照される。１３Ｃ  ＣＰＭＡＳ  ＮＭＲスペクトルは、１２５ＭＨｚの１３Ｃラーモア回転数に相当するＶａｒｉａｎ  ＩｎｆｉｎｉｔｙＰｌｕｓ−５００分光計上で、４０ｋＨｚのスピニング、少なくとも１ｍ秒の１Ｈ−１３Ｃ直交偏波（ＣＰ）接触時間、少なくとも１秒のリサイクル遅延を使用して、１．６ｍｍのＭＡＳプローブヘッドを用いて、プロトンがデータ取得中に非干渉化するという状態で記録された。１３Ｃ化学シフトは、外部テトラメチルシラン（δＣ＝０．０ｐｐｍ）に関して参照される。２７Ａｌ  ＭＡＳ  ＮＭＲスペクトルは、１３０．１ＭＨｚの２７Ａｌラーモア回転数に相当するＶａｒｉａｎ  ＩｎｆｉｎｉｔｙＰｌｕｓ−５００上で、１２ｋＨｚのスピニング、π／１２ラジアンパルス長さおよび０．３秒のリサイクル遅延を使用して、４ｍｍのＭＡＳプローブヘッドを用いて、プロトンがデータ取得中に非干渉化するという状態で記録された。化学シフトは、Ａｌ（Ｈ２Ｏ）６３＋（δＡｌ＝０．０ｐｐｍ）の外部溶液に関して参照される。全てのＮＭＲスペクトルは、スピニング用空気を使用して室温で記録された。
【０４１５】
熱重量分析（ＴＧＡ）
熱安定性結果は、Ｑ５０００  ＴＧＡ上で記録された。ランプレートは５℃／分であり、温度範囲は２５℃〜８００℃でであった。全ての試料は、空気および窒素の両方で試験された。
【０４１６】
ＣＯ２吸着
Ｑｕａｎｔｃｈｒｏｍ  ａｕｔｏｓｏｒｂ  ｉＱ２を用いて作業を行った。異なる温度におけるＣＯ２等温線を収集する前に、全ての試料を３時間、真空中で１２０℃において前処理した。
【０４１７】
窒素空孔率測定
窒素吸着／脱着分析は、種々の道具、例えば、ＴｒｉＳｔａｒ  ３０００、ＴｒｉＳｔａｒ  ＩＩ  ３０２０およびＡｕｔｏｓｏｒｂ−１で実行した。Ｎ２等温線を収集する前、全ての試料は、４時間、真空中で１２０℃において前処理した。分析プログラムによって実験データを計算し、およびＢＥＴ表面積（全表面積）、ミクロポーラス表面積（Ｓ）、全細孔体積、ミクロ細孔の細孔体積、平均細孔直径（または半径）などを報告する。
【０４１８】
実施例１  −  触媒合成
オルガノシリカ材料支持体
３１．５ｇの３０％  ＮＨ４ＯＨおよび３９．６ｇの脱イオン水（ＤＩ）の溶液を製造した。この溶液のｐＨは１２．５５であった。この溶液に、２０ｇの１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）を添加して、
１．０［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３：２１  ＯＨ：２７０  Ｈ２Ｏ
のモル組成を有する混合物を製造し、これを１日、室温（２０〜２５℃）で攪拌した。この溶液をオートクレーブに移し、８０〜９０℃で１日老化させ、ゲルを製造した。ゲルを真空中８０℃で乾燥させ、ほとんどの水を除去し、次いで、１２０℃で一晩（１６〜２４時間）完全に乾燥させた。これにより、透明固体としてオルガノシリカ材料支持体が得られ、およびそれは、粉砕後、白色粉末に変換された。この調製では、表面指向剤またはプロゲンは使用されなかった。
【０４１９】
アルミニウムグラフト化
０．１４１ｇのＡｌ（Ｏ−ｉ−Ｐｒ）３を３０ｍｌの無水トルエン中に溶解し、および６ｇのオルガノシリカ材料支持体を添加して溶液を形成した。溶液を１日（１６〜２４時間）、１１０℃で攪拌した。固体を遠心分離によって収集し、次いで、トルエンおよびメタノールで洗浄した。収集した固体を１２０℃で真空下、オーブン中で乾燥させ、Ａｌ−オルガノシリカ材料支持体を形成した。
【０４２０】
結合剤
Ａｌ−オルガノシリカ材料支持体を、アルミナ結合剤および水と混合し、押出成形した。押出成形は、湿潤しているか、または部分的に乾燥された材料上で実行可能である。適切な触媒は、４００〜２メッシュサイズ（Ｔｙｌｅｒスケール）に適合する粒径を有する、粉末、顆粒、または成形製品の形態であり得る。表面積の損失を防ぐため、押出物を不活性雰囲気（例えば、Ｎ２）下で約４００℃において焼成し、焼成された押出物を得た。
【０４２１】
触媒金属の含浸
焼成された押出物は、インシピエントウェットネスによってＰｄおよびＰｔ塩で含浸され、触媒１が製造された。金属塩分は、押出成形の前に、支持体＋結合剤＋水溶液中に添加することができる。金属は、混合および押出成形の前に、支持体に含浸することもできる。含浸された材料は、Ｎ２雰囲気下で焼成され、化学吸着によって定義される良好な金属分散をもたらす温度において、金属塩を分解することができる。例えば、分散助剤が使用される場合、焼成は必要ではない。
【０４２２】
窒素吸着／脱着分析
窒素吸着／脱着分析は触媒１において実行され、および結果を表１に示す。
【０４２３】
【表１】
0006755872.tif 000030
【０４２４】
実施例２  −  芳香族飽和分析
触媒１の芳香族飽和活性は、高スループット実験試験ユニットにおいて、以下の表２に記載される石油化学供給物において試験された。
【０４２５】
【表２】
0006755872.tif 000031
【０４２６】
本試験に関しては、５０／１７０メッシュにサイズ合わせされた０．０８ｇの触媒１をバッチ反応器に装填した。窒素による圧力試験後、触媒を窒素中１５０℃で２時間乾燥させ、続いて、２５０ｐｓｉｇのＨ２中、３００℃で２時間、還元した。次いで、反応器を室温まで冷却し、および窒素のブランケット下で、グローブボックスに移した。窒素のブランケット下で反応器を開放した後、約３ｃｃの脱蝋油をバッチ反応器に導入し、および反応器を再び密封した。９００ｐｓｉｇのＨ２を用いて、２５０℃で１２時間、芳香族飽和活性試験を行った。
【０４２７】
全芳香族は、ＵＶ−Ｖｉｓ吸着試験によって測定された（２２６ｎｍの吸光度を使用）。変換された全芳香族のパーセンテージを決定した。芳香族飽和実験は、変換における標準偏差を決定し、および統計的有意性を示すため、３回実行された。表２は、触媒１のバッチ試験からの結果を示す。利用可能な金属表面積（ＳＡ）に正常化される場合、触媒１は、ほぼ同等の芳香族飽和活性を示す。正常化は、１／分散計算から推定されたナノ粒子径を使用して実行された。
【０４２８】
ＵＶ−Ｖｉｓ実験は、ＦＴＧによるＳｃａｎｔｒａｑ（商標）ソフトウェアを備えた、Ｐｅｒｋｉｎ  Ｅｌｍｅｒ  Ｌａｍｂｄａ（商標）８５０がＰｅｒｋｉｎ上で実行された。試料を、約１ｍｍフローセル中、室温（約１５〜２５℃）において分析した。必要に応じて、定量ＵＶ−Ｖｉｓ分析を容易にするため、試料を溶液中でシクロヘキサンと組み合わせた。