(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
偏光子と、λ／４板として機能する位相差層と、バリア層と、バリア機能を有する粘着剤層と、をこの順に備え、
該バリア層が、厚み５μｍ〜１００μｍの薄ガラスであり、
該粘着剤層の厚み１００μｍにおける４０℃、９０％ＲＨ条件下での水蒸気透過率（透湿度）が、２００ｇ／ｍ２／２４ｈｒ以下であり、
該バリア層と該粘着剤層との間に、導電層または導電層付等方性基材をさらに備える、
有機ＥＬ表示装置用円偏光板。
【請求項２】
前記位相差層と前記バリア層との間に、導電層または導電層付等方性基材を備える、請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置用円偏光板。
【請求項３】
請求項１または２に記載の有機ＥＬ表示装置用円偏光板を備える、有機ＥＬ表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ表示装置用円偏光板および有機ＥＬ表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、薄型ディスプレイの普及と共に、有機ＥＬパネルを搭載したディスプレイ（有機ＥＬ表示装置）が提案されている。有機ＥＬパネルは反射性の高い金属層を有するため、外光反射や背景の映り込み等の問題を生じやすい。そこで、円偏光板を視認側に設けることにより、これらの問題を防ぐことが知られている（例えば、特許文献１〜３）。
【０００３】
有機ＥＬパネルは大気中の水分・酸素に非常に弱い。このため、通常、有機ＥＬパネル表面にはバリア層（バリアフィルム）が設けられる。最近は特に、円偏光板に高いバリア機能を付与する要望が強まっている。一方で、円偏光板のさらなる薄型化も継続的に要望されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−３１１２３９号公報
【特許文献２】特開２００２−３７２６２２号公報
【特許文献３】特許第３３２５５６０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その主たる目的は、高いバリア機能を有し、非常に薄く、優れた反射防止機能を有する、有機ＥＬ表示装置用円偏光板を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の有機ＥＬ表示装置用円偏光板は、偏光子と、λ／４板として機能する位相差層と、バリア層と、バリア機能を有する粘着剤層と、をこの順に備え、該バリア層が、厚み５μｍ〜１００μｍの薄ガラスである。
１つの実施形態においては、上記バリア層と上記粘着剤層との間に、導電層または導電層付等方性基材を備える。
１つの実施形態においては、上記位相差層と上記バリア層との間に、導電層または導電層付等方性基材を備える。
本発明の別の局面によれば、有機ＥＬ表示装置が提供される。この有機表示装置は、上記の有機ＥＬ表示装置用円偏光板を備える。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、有機ＥＬ表示装置用円偏光板において、バリア層として、厚みの薄い薄ガラスを採用することにより、高いバリア機能を発現できるとともに、該有機ＥＬ表示装置用円偏光板の厚みを非常に薄くすることができ、さらに、良好な屈曲性を発現させることもできる。また、本発明によれば、位相差フィルム（位相差層）の光学特性および機械的特性を所望の範囲に維持しつつバリア層を形成することができるので、上記効果に加えて、優れた反射防止機能をも発現できる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の１つの実施形態による円偏光板の概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明の好ましい実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。
【００１０】
（用語および記号の定義）
本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである。
（１）屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）
「ｎｘ」は面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、「ｎｙ」は面内で遅相軸と直交する方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率であり、「ｎｚ」は厚み方向の屈折率である。
（２）面内位相差（Ｒｅ）
「Ｒｅ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した面内位相差である。例えば、「Ｒｅ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した面内位相差である。Ｒｅ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄによって求められる。
（３）厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）
「Ｒｔｈ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。例えば、「Ｒｔｈ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。Ｒｔｈ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｔｈ＝（ｎｘ−ｎｚ）×ｄによって求められる。
（４）Ｎｚ係数
Ｎｚ係数は、Ｎｚ＝Ｒｔｈ／Ｒｅによって求められる。
【００１１】
Ａ．有機ＥＬ表示装置用円偏光板
Ａ−１．有機ＥＬ表示装置用円偏光板の全体構成
本発明の実施形態による有機ＥＬ表示装置用円偏光板は、有機ＥＬ表示装置に用いられる。本発明の実施形態による有機ＥＬ表示装置用円偏光板は、偏光子と、λ／４板として機能する位相差層と、バリア層と、バリア機能を有する粘着剤層と、をこの順に備える。以下、有機ＥＬ表示装置用円偏光板の全体的な構成を具体的に説明し、その後で、有機ＥＬ表示装置用円偏光板を構成する各層および光学フィルムを詳細に説明する。
【００１２】
図１は、本発明の１つの実施形態による有機ＥＬ表示装置用円偏光板の概略断面図である。本実施形態の有機ＥＬ表示装置用円偏光板１００は、偏光子１０と位相差層２０とバリア層３０と粘着剤層４０とをこの順に備える。上記のとおり、位相差層２０はλ／４板として機能し、粘着剤層４０はバリア機能を有する。図１においては、有機ＥＬ表示装置用円偏光板１００は、偏光子１０の位相差層２０と反対側に保護フィルム５０を備える。有機ＥＬ表示装置用円偏光板１００は、偏光子１０と位相差層２０との間に別の保護フィルム（内側保護フィルムとも称する：図示せず）を備えてもよい。図１においては、内側保護フィルムは省略されている。この場合、位相差層２０が内側保護フィルムとしても機能し得る。このような構成であれば、有機ＥＬ表示装置用円偏光板のさらなる薄型化が実現され得る。
【００１３】
図１には示していないが、本発明の有機ＥＬ表示装置用円偏光板は、偏光子１０と位相差層２０の間に、λ／２板を有していてもよい。
【００１４】
本発明の１つの実施形態においては、有機ＥＬ表示装置用円偏光板１００は、バリア層３０と粘着剤層４０との間に、導電層または導電層付等方性基材を備えていてもよい。
【００１５】
本発明の１つの実施形態においては、有機ＥＬ表示装置用円偏光板１００は、位相差層２０とバリア層３０との間に、導電層または導電層付等方性基材を備えていてもよい。
【００１６】
本発明においては、偏光子１０の吸収軸と位相差層２０の遅相軸とがなす角度（角度α）は、好ましくは３５°〜５５°であり、より好ましくは３８°〜５２°であり、さらに好ましくは４０°〜５０°であり、特に好ましくは４２°〜４８°であり、最も好ましくは４４°〜４６°である。角度αがこのような範囲であれば、所望の円偏光機能が実現され得る。なお、本明細書において角度に言及するときは、特に明記しない限り、当該角度は時計回りおよび反時計回りの両方の方向の角度を包含する。
【００１７】
本発明の有機ＥＬ表示装置用円偏光板１００は、水分およびガス（例えば酸素）に対する高いバリア性を有する。本発明の有機ＥＬ表示装置用円偏光板の６０℃、９０％ＲＨ条件下での水蒸気バリア性（ＷＶＴＲ）は、好ましくは１．０×１０−４ｇ／ｍ２／２４ｈｒ以下であり、より好ましくは１．０×１０−５ｇ／ｍ２／２４ｈｒ以下であり、さらに好ましくは１．０×１０−６ｇ／ｍ２／２４ｈｒ以下である。本発明の有機ＥＬ表示装置用円偏光板の６０℃、９０％ＲＨ条件下でのガスバリア性がこのような範囲であれば、本発明の有機ＥＬ表示装置用円偏光板を有機ＥＬパネルに貼り合わせた場合に、有機ＥＬパネルを空気中の水分および酸素から良好に保護し得る。
【００１８】
Ａ−２．バリア層
本発明において、バリア層３０は、厚み５μｍ〜１００μｍの薄ガラスである。バリア層３０としてこのような厚みの薄い薄ガラスを採用することにより、本発明の有機ＥＬ表示装置用円偏光板は、高いバリア機能を発現できるとともに、該有機ＥＬ表示装置用円偏光板の厚みを非常に薄くすることができ、さらに、良好な屈曲性を発現させることもできる。また、本発明によれば、位相差フィルム（位相差層）の光学特性および機械的特性を所望の範囲に維持しつつバリア層を形成することができるので、上記効果に加えて、優れた反射防止機能をも発現できる。
【００１９】
薄ガラスとしては、任意の適切な薄ガラスが採用され得る。このような薄ガラスは、組成による分類によれば、例えば、ソーダ石灰ガラス、ホウ酸ガラス、アルミノ珪酸ガラス、石英ガラスが挙げられる。また、アルカリ成分による分類によれば、例えば、無アルカリガラス、低アルカリガラスが挙げられる。薄ガラスのアルカリ金属成分（例えば、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏ、Ｌｉ２Ｏ）の含有量は、好ましくは１５重量％以下であり、さらに好ましくは１０重量％以下である。
【００２０】
薄ガラスの厚みは、本発明の効果をより発現し得る点で、好ましくは１０μｍ〜１００μｍであり、より好ましくは１０μｍ〜８０μｍであり、さらに好ましくは１０μｍ〜６０μｍであり、さらに好ましくは１５μｍ〜５０μｍであり、特に好ましくは１５μｍ〜４０μｍであり、最も好ましくは１５μｍ〜３０μｍである。このような厚みの薄い薄ガラスを採用することにより、本発明の有機ＥＬ表示装置用円偏光板は、高いバリア機能を発現できるとともに、該有機ＥＬ表示装置用円偏光板の厚みを非常に薄くすることができ、さらに、良好な屈曲性を発現させることもできる。また、本発明によれば、位相差フィルム（位相差層）の光学特性および機械的特性を所望の範囲に維持しつつバリア層を形成することができるので、上記効果に加えて、優れた反射防止機能をも発現できる。
【００２１】
薄ガラスの波長５５０ｎｍにおける光透過率は、好ましくは８５％以上である。薄ガラスの波長５５０ｎｍにおける屈折率ｎｇは、好ましくは１．４〜１．６５である。このような薄ガラスであれば、光学特性により優れた有機ＥＬ表示装置用円偏光板が得られ得る。
【００２２】
薄ガラスの密度は、好ましくは２．３ｇ／ｃｍ３〜３．０ｇ／ｃｍ３であり、より好ましくは２．３ｇ／ｃｍ３〜２．７ｇ／ｃｍ３である。このような薄ガラスであれば、軽量の有機ＥＬ表示装置用円偏光板が得られ得る。
【００２３】
薄ガラスの成形方法は、任意の適切な方法が採用され得る。代表的には、薄ガラスは、シリカやアルミナ等の主原料と、芒硝や酸化アンチモン等の消泡剤と、カーボン等の還元剤とを含む混合物を、１４００℃〜１６００℃の温度で溶融し、薄板状に成形した後、冷却して作製される。薄ガラスの薄板成形方法としては、例えば、スロットダウンドロー法、フュージョン法、フロート法が挙げられる。これらの方法によって板状に成形された薄ガラスは、薄板化したり、平滑性を高めたりするために、必要に応じて、フッ酸等の溶剤により化学研磨されてもよい。
【００２４】
薄ガラスは、市販のものをそのまま用いてもよく、あるいは、市販のガラスを所望の厚みになるように研磨して用いてもよい。市販のガラスとしては、例えば、コーニング社製「７０５９」、「１７３７」または「ＥＡＧＬＥ２０００」、旭硝子社製「ＡＮ１００」、ＮＨテクノグラス社製「ＮＡ−３５」、日本電気硝子社製「ＯＡ−１０」、ショット社製「Ｄ２６３」または「ＡＦ４５」等が挙げられる。
【００２５】
薄ガラスは、その表面がカップリング処理されていてもよい。
【００２６】
カップリング処理の方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。このような方法としては、具体的には、例えば、カップリング剤の溶液を薄ガラスの表面に塗工した後、熱処理する方法が挙げられる。
【００２７】
カップリング剤の溶液を調製する際に使用する溶媒としては、カップリング剤と反応しない溶媒であれば、任意の適切な溶媒を使用できる。このような溶媒としては、具体的には、ヘキサン、ヘキサデカン等の脂肪族炭化水素系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒；塩化メチレン、１，１，２−トリクロロエタン等のハロゲン炭化水素系溶媒；テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル系溶媒；メタノール、プロパノール等のアルコール系溶媒；アセトン、２−ブタノン等のケトン系溶媒；水；などが挙げられる。
【００２８】
上記カップリング処理の際の熱処理方法は、任意の適切な熱処理方法が採用され得る。代表的には、熱処理温度は５０℃〜１５０℃であり、熱処理時間は１分〜１０分である。
【００２９】
バリア層３０は、単一層であってもよく複数層で構成されてもよい。
【００３０】
バリア層３０は、水分およびガス（例えば酸素）に対する高いバリア性を有する。バリア層３０の６０℃、９０％ＲＨ条件下での水蒸気バリア性（ＷＶＴＲ）は、好ましくは１．０×１０−６ｇ／ｍ２／２４ｈｒ以下であり、より好ましくは１．０×１０−４ｇ／ｍ２／２４ｈｒ以下であり、さらに好ましくは１．０×１０−５ｇ／ｍ２／２４ｈｒ以下であり、特に好ましくは１．０×１０−６ｇ／ｍ２／２４ｈｒ以下である。バリア層３０の６０℃、９０％ＲＨ条件下でのガスバリア性がこのような範囲であれば、本発明の有機ＥＬ表示装置用円偏光板を有機ＥＬパネルに貼り合わせた場合に、有機ＥＬパネルを空気中の水分および酸素から良好に保護し得る。
【００３１】
Ａ−３．偏光子
偏光子１０としては、任意の適切な偏光子が採用され得る。例えば、偏光子を形成する樹脂フィルムは、単層の樹脂フィルムであってもよく、二層以上の積層体であってもよい。
【００３２】
単層の樹脂フィルムから構成される偏光子の具体例としては、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系フィルム、部分ホルマール化ＰＶＡ系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質による染色処理および延伸処理が施されたもの、ＰＶＡの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向フィルム等が挙げられる。好ましくは、光学特性に優れることから、ＰＶＡ系フィルムをヨウ素で染色し一軸延伸して得られた偏光子が用いられる。
【００３３】
上記ヨウ素による染色は、例えば、ＰＶＡ系フィルムをヨウ素水溶液に浸漬することにより行われる。上記一軸延伸の延伸倍率は、好ましくは３〜７倍である。延伸は、染色処理後に行ってもよいし、染色しながら行ってもよい。また、延伸してから染色してもよい。必要に応じて、ＰＶＡ系フィルムに、膨潤処理、架橋処理、洗浄処理、乾燥処理等が施される。例えば、染色の前にＰＶＡ系フィルムを水に浸漬して水洗することで、ＰＶＡ系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるだけでなく、ＰＶＡ系フィルムを膨潤させて染色ムラなどを防止することができる。
【００３４】
積層体を用いて得られる偏光子の具体例としては、例えば、樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたＰＶＡ系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光子、樹脂基材上にＰＶＡ系樹脂フィルムを積層して形成された積層体を用いて得られる偏光子が挙げられる。樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたＰＶＡ系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光子は、例えば、ＰＶＡ系樹脂溶液を樹脂基材に塗布し、乾燥させて樹脂基材上にＰＶＡ系樹脂層を形成して、樹脂基材とＰＶＡ系樹脂層との積層体を得ること；当該積層体を延伸および染色してＰＶＡ系樹脂層を偏光子とすること；により作製され得る。本実施形態においては、延伸は、代表的には積層体をホウ酸水溶液中に浸漬させて延伸することを含む。さらに、延伸は、必要に応じて、ホウ酸水溶液中での延伸の前に積層体を高温（例えば、９５℃以上）で空中延伸することをさらに含み得る。得られた樹脂基材／偏光子の積層体はそのまま用いてもよく（すなわち、樹脂基材を偏光子の保護層としてもよく）、樹脂基材／偏光子の積層体から樹脂基材を剥離し、当該剥離面に目的に応じた任意の適切な保護層を積層して用いてもよい。このような偏光子の製造方法の詳細は、例えば特開２０１２−７３５８０号公報に記載されている。当該公報は、その全体の記載が本明細書に参考として援用される。なお、上記ではＰＶＡ系樹脂層が塗布形成される場合について説明したが、ＰＶＡ系樹脂フィルムを積層する場合についても同様である。
【００３５】
偏光子の厚みは、代表的には、１μｍ〜８０μｍ程度である。
【００３６】
Ａ−４．位相差層
位相差層２０は、上記のとおりλ／４板として機能し得る。このような位相差層の面内位相差Ｒｅ（５５０）は、１００ｎｍ〜１８０ｎｍであり、好ましくは１１０ｎｍ〜１７０ｎｍであり、さらに好ましくは１２０ｎｍ〜１６０ｎｍである。位相差層２０は、代表的にはｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚまたはｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの屈折率楕円体を有する。なお、本明細書において、例えば、「ｎｙ＝ｎｚ」は、厳密に等しいのみならず、実質的に等しいものを包含する。したがって、位相差層２０のＮｚ係数は、例えば、０．９〜１．３である。
【００３７】
位相差層の厚みは、λ／４板として最も適切に機能し得るように設定され得る。言い換えれば、位相差層の厚みは、所望の面内位相差が得られるように設定され得る。具体的には、位相差層の厚みは、好ましくは１μｍ〜８０μｍであり、さらに好ましくは１０μｍ〜６０μｍであり、最も好ましくは３０μｍ〜５０μｍである。
【００３８】
位相差層は、光弾性係数が好ましくは−２０×１０−１２Ｐａ−１以上、より好ましくは−１０×１０−１２Ｐａ−１以上であり、一方、好ましくは４０×１０−１２Ｐａ−１以下、より好ましくは３０×１０−１２Ｐａ−１以下の樹脂を含む。位相差層の光弾性係数がこのような範囲であれば、加熱時の収縮応力が発生した場合に位相差変化が生じにくい。したがって、このような光弾性係数を有する樹脂を用いて位相差層を形成することにより、得られる有機ＥＬ表示装置の熱ムラが良好に防止され得る。
【００３９】
位相差層は、位相差値が測定光の波長に応じて大きくなる逆分散波長特性を示してもよく、位相差値が測定光の波長に応じて小さくなる正の波長分散特性を示してもよく、位相差値が測定光の波長によってもほとんど変化しないフラットな波長分散特性を示してもよい。本発明においては、位相差層は、逆分散波長特性またはフラットな波長分散特性が好ましく、逆分散波長特性がより好ましい。位相差層として逆分散波長特性を有するλ／４板またはフラットな波長分散特性を有するλ／４板を採用することにより、優れた反射防止特性および斜め方向の反射色相を実現することができる。
【００４０】
位相差層として逆分散波長特性を有するλ／４板を採用する場合、位相差層のＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は、好ましくは０．８以上１未満であり、より好ましくは０．８以上０．９５以下である。
【００４１】
位相差層としてフラットな波長分散特性を有するλ／４板を採用する場合、位相差層のＲｅ（４５０）/Ｒｅ（５５０）は、好ましくは０.９９〜１.０３であり、Ｒｅ（６５０）/Ｒｅ（５５０）は好ましくは０.９８〜１.０２である。
【００４２】
位相差層は、上記のような光学的特性および機械的特性を満足し得る任意の適切な樹脂フィルムで構成され得る。このような樹脂の代表例としては、セルロース系樹脂、ポリエステル系、ポリビニルアルコール系、ポリビニルアセタール系、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリエーテル系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリノルボルネン系、ポリオレフィン系、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、アセテート系等の透明樹脂等の樹脂が挙げられる。
【００４３】
Ａ−３−１．逆分散波長特性を有するλ／４板
位相差層として逆分散波長特性を有するλ／４板を採用する場合、位相差層を構成する樹脂としては、好ましくは、ポリカーボネート樹脂である。
【００４４】
本発明の１つの実施形態において、上記ポリカーボネート樹脂は、一般式（１）で表されるジヒドロキシ化合物に由来する構造単位と、一般式（２）で表されるジヒドロキシ化合物に由来する構造単位と、一般式（３）で表されるジヒドロキシ化合物、一般式（４）で表されるジヒドロキシ化合物、一般式（５）で表されるジヒドロキシ化合物、および一般式（６）で表されるジヒドロキシ化合物から選ばれる少なくとも１種のジヒドロキシ化合物に由来する構造単位を含む。
【００４５】
【化１】
0006784481.tif 000002
（一般式（１）中、Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれ独立に、水素原子、置換若しくは無置換の炭素数１〜炭素数２０のアルキル基、置換若しくは無置換の炭素数６〜炭素数２０のシクロアルキル基、または、置換若しくは無置換の炭素数６〜炭素数２０のアリール基を表し、Ｘは、置換若しくは無置換の炭素数２〜炭素数１０のアルキレン基、置換若しくは無置換の炭素数６〜炭素数２０のシクロアルキレン基、または、置換若しくは無置換の炭素数６〜炭素数２０のアリーレン基を表し、ｍおよびｎは、それぞれ独立に０〜５の整数である。）
【００４６】
【化２】
0006784481.tif 000003
【００４７】
【化３】
0006784481.tif 000004
（一般式（３）中、Ｒ５は炭素数４から炭素数２０の置換若しくは無置換の単環構造のシクロアルキレン基を示す。）
【００４８】
【化４】
0006784481.tif 000005
（一般式（４）中、Ｒ６は炭素数４から炭素数２０の置換若しくは無置換の単環構造のシクロアルキレン基を示す。）
【００４９】
【化５】
0006784481.tif 000006
（一般式（５）中、Ｒ７は置換若しくは無置換の炭素数２〜炭素数１０のアルキレン基を示し、ｐは２から１００の整数である。）
【００５０】
【化６】
0006784481.tif 000007
（一般式（６）中、Ｒ８は炭素数２から炭素数２０のアルキル基または式（７）に示す基を表す。）
【化７】
0006784481.tif 000008
【００５１】
一般式（１）で表されるジヒドロキシ化合物としては、具体的には、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−エチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−ｎ−プロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−イソプロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−ｎ−ブチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−ｓｅｃ−ブチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−プロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−シクロヘキシルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−フェニルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−イソプロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−イソブチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−シクロヘキシルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−フェニルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジメチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（３−ヒドロキシ−２，２−ジメチルプロポキシ）フェニル）フルオレン等が例示され、好ましくは、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−メチルフェニル）フルオレンであり、特に好ましくは、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレンである。一般式（１）で表されるジヒドロキシ化合物は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。
【００５２】
一般式（２）で表されるジヒドロキシ化合物としては、例えば、立体異性体の関係にあるイソソルビド、イソマンニド、イソイデットが挙げられる。一般式（２）で表されるジヒドロキシ化合物は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。これらの中でも、一般式（２）で表されるジヒドロキシ化合物としては、入手および製造のし易さ、光学特性、成形性の面から、好ましくは、資源として豊富に存在して容易に入手可能な種々のデンプンから製造されるソルビトールを脱水縮合して得られるイソソルビドである。
【００５３】
一般式（３）で表されるジヒドロキシ化合物としては、例えば、単環構造のシクロアルキレン基を含む化合物（脂環式ジヒドロキシ化合物）が挙げられる。単環構造とすることにより、得られるポリカーボネート樹脂をフィルムとしたときの靭性を改良し得る。脂環式ジヒドロキシ化合物の代表例としては、５員環構造または６員環構造を含む化合物が挙げられる。５員環構造または６員環構造であることにより、得られるポリカーボネート樹脂の耐熱性を高くすることができる。６員環構造は共有結合によって椅子形もしくは舟形に固定されていてもよい。一般式（３）で表されるジヒドロキシ化合物としては、具体的には、例えば、１，２−シクロペンタンジオール、１，３−シクロペンタンジオール、１，２−シクロヘキサンジオール、１，３−シクロヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジオール、２−メチル−１，４−シクロヘキサンジオールが挙げられる。一般式（３）で表されるジヒドロキシ化合物は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。
【００５４】
一般式（４）で表されるジヒドロキシ化合物としては、例えば、単環構造のシクロアルキレン基を含む化合物（脂環式ジヒドロキシ化合物）が挙げられる。単環構造とすることにより、得られるポリカーボネート樹脂をフィルムとしたときの靭性を改良し得る。脂環式ジヒドロキシ化合物の代表例としては、一般式（４）におけるＲ６が一般式（Ｉａ）（式中、Ｒ９は、水素原子、または、置換若しくは無置換の炭素数１〜炭素数１２のアルキル基を表す。）で示される種々の異性体が挙げられる。このような異性体の好ましい具体例としては、例えば、１，２−シクロヘキサンジメタノール、１，３−シクロヘキサンジメタノール、１，４−シクロヘキサンジメタノールが挙げられる。これらは、入手が容易で、かつ、取扱い性に優れる。一般式（４）で表されるジヒドロキシ化合物は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。
【００５５】
【化８】
0006784481.tif 000009
【００５６】
なお、一般式（３）および一般式（４）で表されるジヒドロキシ化合物に関して上記で例示した化合物は、使用し得る脂環式ジヒドロキシ化合物の一例であって、何らこれらに限定されるものではない。
【００５７】
一般式（５）で表されるジヒドロキシ化合物としては、具体的には、例えば、ジエチレングルコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール（分子量１５０〜２０００）が挙げられる。
【００５８】
一般式（６）で表されるジヒドロキシ化合物としては、具体的には、例えば、エチレングルコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、式（８）で表されるスピログリコールが挙げられ、これらの中でも、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、スピログリコールが好ましい。
【００５９】
【化９】
0006784481.tif 000010
【００６０】
一般式（３）で表されるジヒドロキシ化合物に由来する構造単位、一般式（４）で表されるジヒドロキシ化合物に由来する構造単位、一般式（５）で表されるジヒドロキシ化合物に由来する構造単位、および一般式（６）で表されるジヒドロキシ化合物に由来する構造単位の中でも、一般式（４）で表されるジヒドロキシ化合物に由来する構造単位および／または一般式（５）で表されるジヒドロキシ化合物に由来する構造単位を含んでいることが好ましく、一般式（５）で表されるジヒドロキシ化合物に由来する構造単位を含んでいることがより好ましい。一般式（５）で表されるジヒドロキシ化合物に由来する構造単位を含んでいることにより、延伸性の向上を図り得る。
【００６１】
上記ポリカーボネート樹脂は、さらにその他のジヒドロキシ化合物に由来する構造単位を含んでいてもよい。その他のジヒドロキシ化合物としては、例えば、ビスフェノール類等が挙げられる。ビスフェノール類としては、例えば、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン［＝ビスフェノールＡ］、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジエチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−（３，５−ジフェニル）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジブロモフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン、２，４’−ジヒドロキシ−ジフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシ−５−ニトロフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、３，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、２，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、４，４’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジクロロジフェニルエーテル、４，４’−ジヒドロキシ−２，５−ジエトキシジフェニルエーテルが挙げられる。
【００６２】
一般式（１）で表されるジヒドロキシ化合物に由来する構造単位の含有割合は、上記ポリカーボネート樹脂中、好ましくは１８モル％以上であり、より好ましくは２０モル％以上であり、さらに好ましくは２５モル％以上である。上記含有割合が上記範囲内に収まることにより、良好な逆分散の波長依存性が得られ得る。上記含有割合が過度に小さいと、逆分散の波長依存性が得られないおそれがある。
【００６３】
一般式（３）で表されるジヒドロキシ化合物、一般式（４）で表されるジヒドロキシ化合物、一般式（５）で表されるジヒドロキシ化合物、および一般式（６）で表されるジヒドロキシ化合物から選ばれる少なくとも１種のジヒドロキシ化合物に由来する構造単位の含有割合は、上記ポリカーボネート樹脂中、好ましくは２５モル％以上であり、より好ましくは３０モル％以上であり、さらに好ましくは３５モル％以上である。上記含有割合が上記範囲内に収まることにより、得られるポリカーボネート樹脂をフィルムとしたときの靭性をより発現させ得る。上記含有割合が過度に小さいと、得られるポリカーボネート樹脂をフィルムとしたときの靭性が乏しくなるおそれがある。
【００６４】
上記ポリカーボネート樹脂のガラス転移温度は、好ましくは１１０℃〜１５０℃であり、より好ましくは１２０℃〜１４０℃以下である。上記ガラス転移温度が上記範囲内に収まることにより、上記ポリカーボネート樹脂の耐熱性を十分に確保し得、上記ポリカーボネート樹脂のフィルム成型後の寸法変化を抑制し得、得られる有機ＥＬパネルの画像品質を向上し得、上記ポリカーボネート樹脂をフィルムとする成型時の成形安定性を高くし得、上記ポリカーボネート樹脂をフィルムとしたときの透明性が向上し得る。上記ガラス転移温度が過度に低いと、上記ポリカーボネート樹脂の耐熱性が悪くなるおそれがあり、フィルム成形後に寸法変化を起こすおそれがあり、得られる有機ＥＬパネルの画像品質を下げるおそれがある。上記ガラス転移温度が過度に高いと、フィルム成形時の成形安定性が悪くなるおそれがあり、フィルムの透明性を損なうおそれがある。なお、ガラス転移温度は、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２１（１９８７）に準じて求められる。
【００６５】
上記ポリカーボネート樹脂の分子量は、還元粘度で表すことができる。還元粘度は、溶媒として塩化メチレンを用い、ポリカーボネート濃度を０．６ｇ／ｄＬに精密に調製し、温度２０．０℃±０．１℃でウベローデ粘度管を用いて測定される。還元粘度の下限値は、好ましくは０．３０ｄＬ／ｇであり、より好ましは０．３５ｄＬ／ｇ以上である。還元粘度の上限値は、好ましくは１．２０ｄＬ／ｇであり、より好ましくは１．００ｄＬ／ｇであり、さらに好ましくは０．８０ｄＬ／ｇである。還元粘度の上限値および下限値が上記範囲内に収まることにより、成形品の機械的強度を十分に確保し得るとともに、成形する際の流動性を確保できて生産性や成形性が向上し得る。還元粘度が上記下限値より小さいと成形品の機械的強度が小さくなるという問題が生じるおそれがある。還元粘度が上記上限値より大きいと、成形する際の流動性が低下し、生産性や成形性が低下するという問題が生じるおそれがある。
【００６６】
位相差層は、代表的には、樹脂フィルムを少なくとも一方向に延伸することにより作製される。
【００６７】
上記樹脂フィルムの形成方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。例えば、溶融押出し法（例えば、Ｔダイ成形法）、キャスト塗工法（例えば、流延法）、カレンダー成形法、熱プレス法、共押出し法、共溶融法、多層押出し、インフレーション成形法が挙げられる。これらの中でも、好ましくは、Ｔダイ成形法、流延法、インフレーション成形法が挙げられる。
【００６８】
上記樹脂フィルム（未延伸フィルム）の厚みは、所望の光学特性、後述の延伸条件などに応じて、任意の適切な値に設定され得る。このような樹脂フィルム（未延伸フィルム）の厚みは、好ましくは５０μｍ〜３００μｍである。
【００６９】
上記延伸は、任意の適切な延伸方法、延伸条件（例えば、延伸温度、延伸倍率、延伸方向）が採用され得る。具体的には、自由端延伸、固定端延伸、自由端収縮、固定端収縮などの様々な延伸方法を、単独で用いることも、同時もしくは逐次で用いることもできる。延伸方向に関しても、水平方向、垂直方向、厚さ方向、対角方向等、様々な方向や次元に行なうことができる。延伸の温度は、樹脂フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）に対し、好ましくはＴｇ−３０℃〜Ｔｇ＋６０℃であり、より好ましくはＴｇ−１０℃〜Ｔｇ＋５０℃である。
【００７０】
上記延伸方法、上記延伸条件を適宜選択することにより、上記所望の光学特性（例えば、屈折率特性、面内位相差、Ｎｚ係数）を有する位相差層を得ることができる。
【００７１】
１つの実施形態においては、位相差層は、樹脂フィルムを一軸延伸もしくは固定端一軸延伸することにより作製される。固定端一軸延伸の具体例としては、樹脂フィルムを長手方向に走行させながら、幅方向（横方向）に延伸する方法が挙げられる。延伸倍率は、好ましくは１．１倍〜３．５倍である。
【００７２】
１つの実施形態においては、位相差層は、長尺状の樹脂フィルムを長手方向に対して角度θの方向に連続的に斜め延伸することにより作製される。斜め延伸を採用することにより、フィルムの長手方向に対して角度θの配向角（角度θの方向に遅相軸）を有する長尺状の延伸フィルムが得られ、例えば、偏光子との積層に際してロールツーロールが可能となり、製造工程を簡略化することができる。
【００７３】
斜め延伸に用いる延伸機としては、例えば、横および／または縦方向に、左右異なる速度の送り力もしくは引張り力または引き取り力を付加し得るテンター式延伸機が挙げられる。テンター式延伸機には、横一軸延伸機、同時二軸延伸機等があるが、長尺状の樹脂フィルムを連続的に斜め延伸し得る限り、任意の適切な延伸機が用いられ得る。
【００７４】
位相差層（延伸フィルム）の厚みは、好ましくは２０μｍ〜１００μｍであり、より好ましくは３０μｍ〜８０μｍであり、さらに好ましくは３０μｍ〜６５μｍである。
【００７５】
Ａ−３−２．フラットな波長分散特性を有するλ／４板
位相差層２０としてフラットな波長分散特性を有するλ／４板を採用する場合、位相差層２０を構成する樹脂としては、好ましくは、ポリカーボネート樹脂である。
【００７６】
本発明の１つの実施形態において、上記ポリカーボネート樹脂は、構造式（９）で表される結合構造を有するジヒドロキシ化合物に由来する構成単位を少なくとも含むものであり、分子内に少なくとも一つの結合構造「−ＣＨ２−Ｏ−」を有するジヒドロキシ化合物を少なくとも含むジヒドロキシ化合物と、炭酸ジエステルとを、重合触媒の存在下反応させることにより製造される。
【００７７】
【化１０】
0006784481.tif 000011
【００７８】
構造式（９）で表される結合構造を有するジヒドロキシ化合物としては、２個のアルコール性水酸基をもち、分子内に連結基「−ＣＨ２−Ｏ−」を有する構造を含み、重合触媒の存在下、炭酸ジエステルと反応してポリカーボネートを生成し得る化合物であれば如何なる構造の化合物であっても使用することが可能であり、複数種併用しても構わない。また、上記ポリカーボネート樹脂に用いるジヒドロキシ化合物として、構造式（９）で表される結合構造を有さないジヒドロキシ化合物を併用してもよい。以下、構造式（９）で表される結合構造を有するジヒドロキシ化合物をジヒドロキシ化合物（Ａ）、構造式（９）で表される結合構造を有さないジヒドロキシ化合物をジヒドロキシ化合物（Ｂ）と略記することがある。
【００７９】
＜ジヒドロキシ化合物（Ａ）＞
ジヒドロキシ化合物（Ａ）における連結基「−ＣＨ２−Ｏ−」とは、水素原子以外の原子と互いに結合して分子を構成する構造を意味する。この連結基において、少なくとも酸素原子が結合し得る原子又は炭素原子と酸素原子が同時に結合し得る原子としては、炭素原子が好ましい。ジヒドロキシ化合物（Ａ）中の連結基「−ＣＨ２−Ｏ−」の数は１以上であり、好ましくは２〜４である。
【００８０】
さらに具体的には、ジヒドロキシ化合物（Ａ）としては、例えば、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−イソプロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−イソブチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−シクロヘキシルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（
４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−フェニルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジメチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（３−ヒドロキシ−２，２−ジメチルプロポキシ）フェニル）フルオレンで例示されるような、側鎖に芳香族基を有し、主鎖に芳香族基に結合したエーテル基を有する化合物；例えば、ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］メタン、ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］ジフェニルメタン、１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］エタン、１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−１−フェニルエタン、２，２−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−メチルフェニル］プロパン、２，２−ビス［３，５−ジメチル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］プロパン、１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］シクロヘキサン、１，４−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］シクロヘキサン、１，３−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］シクロヘキサン、２，２−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−フェニルフェニル］プロパン、２，２−ビス［（２−ヒドロキシエトキシ）−３−イソプロピルフェニル］プロパン、２，２−ビス［３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］ブタン、２，２−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−４−メチルペンタン、２，２−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］オクタン、１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］デカン、２，２−ビス［３−ブロモ−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［３−シクロヘキシル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］プロパン等で例示されるような、ビス（ヒドロキシアルコキシアリール）アルカン類、１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］シクロヘキサン、１，１−ビス［３−シクロヘキシル−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］シクロヘキサン、１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］シクロペンタンで例示されるような、ビス（ヒドロキシアルコキシアリール）シクロアルカン類；例えば、４，４’−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）ジフェニルエ−テル、４，４’−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）−３，３’−ジメチルジフェニルエ−テルで例示されるような、ジヒドロキシアルコキシジアリールエーテル類；例えば、４，４’−ビス（２−ヒドロキエトキシフェニル）スルフィド、４，４’−ビス［４−（２−ジヒドロキシエトキシ）−３−メチルフェニル］スルフィドで例示されるような、ビスヒドロキシアルコキシアリールスルフィド類；例えば、４，４’−ビス（２−ヒドロキエトキシフェニル）スルホキシド、４，４’−ビス［４−（２−ジヒドロキシエトキシ）−３−メチルフェニル］スルホキシドで例示されるような、ビスヒドロキシアルコキシアリールスルホキシド類；例えば、４，４’−ビス（２−ヒドロキエトキシフェニル）スルホン、４，４’−ビス［４−（２−ジヒドロキシエトキシ）−３−メチルフェニル］スルホンで例示されるような、ビスヒドロキシアルコキシアリールスルホン類；例えば、１，４−ビスヒドロキシエトキシベンゼン、１，３−ビスヒドロキシエトキシベンゼン、１，２−ビスヒドロキシエトキシベンゼン、１，３−ビス［２−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］プロピル］ベンゼン、１，４−ビス［２−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］プロピル］ベンゼン、４，４’−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）ビフェニル、１，３−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−５，７−ジメチルアダマンタン、一般式（２）で表されるジヒドロキシ化合物に代表される無水糖アルコール；式（８）で表されるスピログリコール等の環状エーテル構造を有する化合物；などが挙げられる。ジヒドロキシ化合物（Ａ）は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。
【００８１】
一般式（２）で表されるジヒドロキシ化合物としては、例えば、立体異性体の関係にあるイソソルビド、イソマンニド、イソイデットが挙げられる。一般一般式（２）で表されるジヒドロキシ化合物は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。これらの中でも、一般一般式（２）で表されるジヒドロキシ化合物としては、入手および製造のし易さ、光学特性、成形性の面から、好ましくは、資源として豊富に存在して容易に入手可能な種々のデンプンから製造されるソルビトールを脱水縮合して得られるイソソルビドである。
【００８２】
イソソルビドは酸素によって徐々に酸化されやすいので、保管や、製造時の取り扱いの際には、酸素による分解を防ぐため、脱酸素剤を用いたり、窒素雰囲気下にしたりすることが肝要である。また、水分が混入しないようにすることも必要である。イソソルビドが酸化されると、蟻酸をはじめとする分解物が発生する。例えば、これら分解物を含むイソソルビドを用いてポリカーボネートを製造すると、得られるポリカーボネートに着色が発生したり、物性を著しく劣化させたりする原因となる。また、重合反応に影響を与え、高分子量の重合体が得られないこともある。
【００８３】
さらに、蟻酸の発生を防止するような安定剤を添加してあるような場合、安定剤の種類によっては、得られるポリカーボネートに着色が発生したり、物性を著しく劣化させたりする場合がある。安定剤としては還元剤や制酸剤が用いられ、このうち還元剤としては、ナトリウムボロハイドライド、リチウムボロハイドライドなどが挙げられ、制酸剤としては水酸化ナトリウム等が挙げられるが、このようなアルカリ金属塩の添加は、アルカリ金属が重合触媒ともなるので、過剰に添加し過ぎると重合反応を制御できなくなることもある。
【００８４】
酸化分解物を含まないイソソルビドを得るために、必要に応じてイソソルビドを蒸留しても良い。また、イソソルビドの酸化や、分解を防止するために安定剤が配合されている場合も、これらを除去するため、必要に応じて、イソソルビドを蒸留しても良い。この場合、イソソルビドの蒸留は単蒸留であっても、連続蒸留であっても良く、特に限定されない。雰囲気はアルゴンや窒素などの不活性ガス雰囲気にした後、減圧下で蒸留を実施する。
【００８５】
例えば、イソソルビドについて、このような蒸留を行うことにより、蟻酸含有量が２０ｐｐｍ未満、好ましくは１０ｐｐｍ以下、より好ましくは５ｐｐｍ以下、さらに好ましくは３ｐｐｍ以下、特に好ましくは蟻酸を全く含まないような高純度とすることができる。同時に、アルカリ及び／又はアルカリ土類金属化合物の含有量が、イソソルビド１モルに対して、金属換算量として１０μモル以下、好ましくは５μモル以下、より好ましくは３μモル以下、さらに好ましくは１μモル以下、特に好ましくはアルカリ及び／又はアルカリ土類金属化合物を全く含まないような高純度とすることができる。
【００８６】
上記ポリカーボネート樹脂では、蟻酸含有量が２０ｐｐｍ未満のジヒドロキシ化合物（Ａ）、例えば、一般式（２）で表されるジヒドロキシ化合物を用いることが好ましい。さらに、蟻酸含有量は、好ましくは１０ｐｐｍ以下であり、より好ましくは５ｐｐｍ以下であり、さらに好ましくは３ｐｐｍ以下であり、特に好ましくはジヒドロキシ化合物（Ａ）の分解等により発生する蟻酸を全く含まないものである。かかる高純度のジヒドロキシ化合物（Ａ）、例えば、一般式（２）で表されるジヒドロキシ化合物を原料として用いることにより、後述する重合反応における問題点が解決され、より着色等が少ない高品質のポリカーボネート樹脂を安定的かつ効率的に製造することができる。
【００８７】
このように、蟻酸やアルカリおよび／またはアルカリ土類金属化合物の含有量の少ないジヒドロキシ化合物（Ａ）、例えば、一般式（２）で表されるジヒドロキシ化合物を、炭酸ジエステルとの反応に供するための具体的な手段としては、例えば、次のような方法を採用することができる。すなわち、高純度のジヒドロキシ化合物（Ａ）、例えば、一般式（２）で表されるジヒドロキシ化合物を、炭酸ジエステルとの反応直前まで、好ましくは不活性ガス雰囲気または減圧ないし真空雰囲気といった、酸素の存在しない雰囲気下に保管する。この保管状態から取り出した後、４０℃、８０％ＲＨの環境の保管の場合、好ましくは２週間以内に、より好ましくは１週間以内に、炭酸ジエステルとの反応系に供給する。４０℃、８０％ＲＨの環境の保管であれば、好ましくは２週間以内、より好ましくは１週間以内の間、一般式（２）で表されるジヒドロキシ化合物を、大気中に放置しておいても重合を阻害することがない。４０℃、８０％ＲＨより温度、湿度が低い場合には、保管期間をより長くすることができる。
【００８８】
ここで、不活性ガス雰囲気下とは、窒素、アルゴン等の１種以上の酸素含有量が１０００ｐｐｍ以下、特に、全く酸素を含まない雰囲気下が挙げられ、また、減圧雰囲気下とは、１３．３ｋＰａ以下で酸素含有量１００ｐｐｍ以下の雰囲気下が挙げられる。この保管系内には、必要に応じて、鉄の粉を主成分とした脱酸素剤、具体的には、エージレス（三菱瓦斯化学株式会社製）、オキシータ（上野製薬株式会社製）等の脱酸素剤や、シリカゲル、モレキュラーシーブ、酸化アルミニウム等の乾燥剤を共存させてもよい。
【００８９】
ジヒドロキシ化合物（Ａ）、例えば、イソソルビドが酸化されると、蟻酸をはじめとする分解物が発生するため、このような分解物を発生させないように、低温で保管することが有効である。保管温度が４０℃以下である場合、脱酸素剤を共存させ、不活性ガス雰囲気下で酸素濃度１０００ｐｐｍ以下の環境を保つと、１ヶ月は重合に供することができる。保管温度は、好ましくは４０℃以下であり、より好ましくは２５℃以下であり、さらに好ましくは１０℃以下であり、特に好ましくは５℃以下である。
【００９０】
粉体や、フレーク状のイソソルビドは、湿度は８０％ＲＨといった高湿度下でも保管は可能であるが、吸湿による質量変化があるので、水分を吸湿しないよう、アルミ防湿袋などでの密封保管や、不活性ガス雰囲気下での保管が好ましい。
【００９１】
これらの条件は、適宜組合せて用いることができる。
【００９２】
なお、ジヒドロキシ化合物（Ａ）、例えば、一般式（２）で表されるジヒドロキシ化合物を、後述する炭酸ジエステルとの反応に供する場合、その形態は特に限定されず、粉末状、フレーク状であっても、溶融状態や水溶液などの液状であってもよい。
【００９３】
＜ジヒドロキシ化合物（Ｂ）＞
上記ポリカーボネート樹脂においては、ジヒドロキシ化合物としてジヒドロキシ化合物（Ａ）以外のジヒドロキシ化合物である、ジヒドロキシ化合物（Ｂ）を用いてもよい。ジヒドロキシ化合物（Ｂ）としては、例えば、脂環式ジヒドロキシ化合物、脂肪族ジヒドロキシ化合物、オキシアルキレングリコール類、芳香族ジヒドロキシ化合物、環状エーテル構造を有するジオール類等を、ポリカーボネートの構成単位となるジヒドロキシ化合物として、ジヒドロキシ化合物（Ａ）、例えば、一般式（２）で表されるジヒドロキシ化合物とともに用いることができる。
【００９４】
上記ポリカーボネート樹脂に使用できる、脂環式ジヒドロキシ化合物としては、特に限定されないが、好ましくは、５員環構造または６員環構造を含む脂環式ジヒドロキシ化合物を用いる。６員環構造は共有結合によって椅子形もしくは舟形に固定されていてもよい。脂環式ジヒドロキシ化合物が５員環構造または６員環構造であることにより、得られるポリカーボネート樹脂の耐熱性を高くすることができる。脂環式ジヒドロキシ化合物に含まれる炭素原子数は、好ましくは７０以下であり、より好ましくは５０以下であり、さらに好ましくは３０以下である。脂環式ジヒドロキシ化合物に含まれる炭素原子数が大きくなるほど、耐熱性が高くなるが、合成が困難になったり、精製が困難になったり、コストが高くなったりするおそれがある。脂環式ジヒドロキシ化合物に含まれる炭素原子数が小さくなるほど、精製しやすく、入手しやすくなる。
【００９５】
５員環構造または６員環構造を含む脂環式ジヒドロキシ化合物としては、具体的には、一般式（Ｉ）または（ＩＩ）で表される脂環式ジヒドロキシ化合物が挙げられる。
ＨＯＣＨ２−Ｒ１０−ＣＨ２ＯＨ      （Ｉ）
ＨＯ−Ｒ１１−ＯＨ          （ＩＩ）
（一般式（Ｉ）および一般式（ＩＩ）中、Ｒ１０、Ｒ１１はそれぞれ、炭素数４〜２０のシクロアルキレン基を示す。）
【００９６】
一般式（Ｉ）で表される脂環式ジヒドロキシ化合物であるシクロヘキサンジメタノールとしては、一般式（Ｉ）において、Ｒ１０が一般式（Ｉａ）（式中、Ｒ９は、水素原子、または、置換若しくは無置換の炭素数１〜炭素数１２のアルキル基を表す。）で表される種々の異性体を包含する。このようなものとしては、具体的には、１，２−シクロヘキサンジメタノール、１，３−シクロヘキサンジメタノール、１，４−シクロヘキサンジメタノールなどが挙げられる。
【００９７】
一般式（Ｉ）で表される脂環式ジヒドロキシ化合物であるトリシクロデカンジメタノール、ペンタシクロペンタデカンジメタノールとしては、一般式（Ｉ）において、Ｒ１０が一般式(Ｉｂ)（式中、ｎは０または１を示す。）で表される種々の異性体を包含する。
【００９８】
【化１１】
0006784481.tif 000012
【００９９】
一般式（Ｉ）で表される脂環式ジヒドロキシ化合物であるデカリンジメタノール、トリシクロテトラデカンジメタノールとしては、一般式（Ｉ）において、Ｒ１０が一般式(Ｉｃ)（式中、ｍは０または１を示す。）で表される種々の異性体を包含する。このようなものとしては、具体的には、２，６−デカリンジメタノール、１，５−デカリンジメタノール、２，３−デカリンジメタノールなどが挙げられる。
【０１００】
【化１２】
0006784481.tif 000013
【０１０１】
一般式（Ｉ）で表される脂環式ジヒドロキシ化合物であるノルボルナンジメタノールとしては、一般式（Ｉ）において、Ｒ１０が一般式(Ｉｄ)で表される種々の異性体を包含する。このようなものとしては、具体的には、２，３−ノルボルナンジメタノール、２，５−ノルボルナンジメタノールなどが挙げられる。
【０１０２】
【化１３】
0006784481.tif 000014
【０１０３】
一般式（Ｉ）で表される脂環式ジヒドロキシ化合物であるアダマンタンジメタノールとしては、一般式（Ｉ）において、Ｒ１０が一般式(Ｉｅ)で表される種々の異性体を包含する。このようなものとしては、具体的には、１，３−アダマンタンジメタノールなどが挙げられる。
【０１０４】
【化１４】
0006784481.tif 000015
【０１０５】
一般式（ＩＩ）で表される脂環式ジヒドロキシ化合物であるシクロヘキサンジオールは、一般式（ＩＩ）において、Ｒ１１が一般式(Ｉａ)（式中、Ｒ９は、水素原子、または、置換若しくは無置換の炭素数１〜炭素数１２のアルキル基を表す。）で表される種々の異性体を包含する。このようなものとしては、具体的には、１，２−シクロヘキサンジオール、１，３−シクロヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジオール、２−メチル−１，４−シクロヘキサンジオールなどが挙げられる。
【０１０６】
上記一般式（ＩＩ）で表される脂環式ジヒドロキシ化合物であるトリシクロデカンジオール、ペンタシクロペンタデカンジオールとしては、一般式（ＩＩ）において、Ｒ１１が一般式(Ｉｂ)（式中、ｎは０または１を示す。）で表される種々の異性体を包含する。
【０１０７】
上記一般式（ＩＩ）で表される脂環式ジヒドロキシ化合物であるデカリンジオール、トリシクロテトラデカンジオールとしては、一般式（ＩＩ）において、Ｒ１１が一般式(Ｉｃ)（式中、ｍは０または１を示す。）で表される種々の異性体を包含する。このようなものとしては、具体的には、２，６−デカリンジオール、１，５−デカリンジオール、２，３−デカリンジオールなどが用いられる。
【０１０８】
一般式（ＩＩ）で表される脂環式ジヒドロキシ化合物であるノルボルナンジオールとしては、一般式（ＩＩ）において、Ｒ１１が一般式（Ｉｄ）で表される種々の異性体を包含する。このようなものとしては、具体的には、２，３−ノルボルナンジオール、２，５−ノルボルナンジオールなどが用いられる。
【０１０９】
上記一般式（ＩＩ）で表される脂環式ジヒドロキシ化合物であるアダマンタンジオールとしては、一般式（ＩＩ）において、Ｒ１１が一般式（Ｉｅ）で表される種々の異性体を包含する。このようなものとしては具体的には、１，３−アダマンタンジオールなどが用いられる。
【０１１０】
脂環式ジヒドロキシ化合物の具体例のうち、特に、シクロヘキサンジメタノール類、トリシクロデカンジメタノール類、アダマンタンジオール類、ペンタシクロペンタデカンジメタノール類が好ましく、入手のしやすさ、取り扱いのしやすさという観点から、１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，３−シクロヘキサンジメタノール、１，２−シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジメタノールがより好ましい。
【０１１１】
使用可能な脂肪族ジヒドロキシ化合物としては、例えば、エチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，２−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，２−ブタンジオール、１，５−ヘプタンジオール、１，６−ヘキサンジオールが挙げられる。
【０１１２】
使用可能なオキシアルキレングリコール類としては、例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコールが挙げられる。
【０１１３】
使用可能な芳香族ジヒドロキシ化合物としては、例えば、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン［＝ビスフェノールＡ］、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジエチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−（３，５−ジフェニル）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジブロモフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン、２，４’−ジヒドロキシ−ジフェ
ニルメタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシ−５−ニトロフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、３，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、２，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、４，４’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジクロロジフェニルエーテル、４，４’−ジヒドロキシ−２，５−ジエトキシジフェニルエーテル、９，９−ビス［４−（２
−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ−２−メチル）フェニル］フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）フルオレンが挙げられる。
【０１１４】
使用可能な環状エーテル構造を有するジオール類としては、例えば、スピログリコール類、ジオキサングルコール類が挙げられる。
【０１１５】
なお、上記例示化合物は、本発明に使用し得る脂環式ジヒドロキシ化合物、脂肪族ジヒドロキシ化合物、オキシアルキレングリコール類、芳香族ジヒドロキシ化合物、環状エーテル構造を有するジオール類の一例であって、何らこれらに限定されるものではない。これらの化合物は、１種以上を一般式（２）で表されるジヒドロキシ化合物とともに用いることができる。
【０１１６】
これらのジヒドロキシ化合物（Ｂ）を用いることにより、用途に応じた柔軟性の改善、耐熱性の向上、成形性の改善などの効果を得ることができる。ポリカーボネート樹脂を構成する全ジヒドロキシ化合物に対するジヒドロキシ化合物（Ａ）、例えば一般式（２）で表されるジヒドロキシ化合物の割合は特に限定されないが、好ましくは１０モル％以上であり、より好ましくは４０モル％以上であり、さらに好ましくは６０モル%以上である。また、好ましくは９０モル％以下であり、より好ましくは８０モル％以下であり、さらに好ましくは７０モル％以下である。他のジヒドロキシ化合物に由来する構成単位の含有割合が多過ぎると、光学特性等の性能が低下するおそれがある。
【０１１７】
上記他のジヒドロキシ化合物の中で、脂環式ジヒドロキシ化合物を用いる場合、ポリカーボネートを構成する全ジヒドロキシ化合物に対するジヒドロキシ化合物（Ａ）、例えば、一般式（２）で表されるジヒドロキシ化合物と脂環式ジヒドロキシ化合物の合計の割合は、特に限定されないが、好ましくは８０モル％以上であり、より好ましくは９０モル％以上であり、さらに好ましくは９５モル％以上である。
【０１１８】
ポリカーボネート樹脂における、ジヒドロキシ化合物（Ａ）、例えば、一般式（２）で表されるジヒドロキシ化合物に由来する構成単位と脂環式ジヒドロキシ化合物に由来する構成単位との含有割合については、任意の割合で選択できるが、一般式（２）で表されるジヒドロキシ化合物に由来する構成単位：脂環式ジヒドロキシ化合物に由来する構成単位＝１：９９〜９９：１（モル％）が好ましく、一般式（２）で表されるジヒドロキシ化合物に由来する構成単位：脂環式ジヒドロキシ化合物に由来する構成単位＝１０：９０〜９０：１０（モル％）であることがより好ましい。上記範囲よりも一般式（２）で表されるジヒドロキシ化合物に由来する構成単位が多くて脂環式ジヒドロキシ化合物に由来する構成単位が少ないと、着色しやすくなるおそれがあり、逆に、一般式（２）で表されるジヒドロキシ化合物に由来する構成単位が少なくて脂環式ジヒドロキシ化合物に由来する構成単位が多いと、分子量が上がりにくくなるおそれがある。
【０１１９】
脂肪族ジヒドロキシ化合物、オキシアルキレングリコール類、芳香族ジヒドロキシ化合物、環状エーテル構造を有するジオール類を用いる場合、ポリカーボネートを構成する全ジヒドロキシ化合物に対するジヒドロキシ化合物（Ａ）、例えば、一般式（２）で表されるジヒドロキシ化合物とこれらの各ジヒドロキシ化合物の合計の割合は特に限定されず、任意の割合で選択できる。また、ジヒドロキシ化合物（Ａ）、例えば、一般式（２）で表されるジヒドロキシ化合物に由来する構成単位とこれらの各ジヒドロキシ化合物に由来する構成単位との含有割合も特に限定されず、任意の割合で選択できる。
【０１２０】
ジヒドロキシ化合物に由来する構成単位を有するポリカーボネート樹脂（以下これを「ポリカーボネート共重合体」と称することがある）の重合度は、溶媒としてフェノールと１，１，２，２−テトラクロロエタンの質量比１：１の混合溶液を用い、ポリカーボネート濃度を１．００ｇ／ｄｌに精密に調製し、温度３０．０℃±０．１℃で測定した還元粘度（以下、単に「ポリカーボネート還元粘度」と称す。）として、好ましくは０．４０ｄｌ／ｇ以上であり、より好ましくは０．４３ｄｌ／ｇ以上であり、また、好ましくは２．００ｄｌ／ｇ以下であり、より好ましくは１．６０ｄｌ／ｇ以下である。ポリカーボネート還元粘度が極端に低い場合、成形した時の機械的強度が弱くなるおそれがある。ポリカーボネート還元粘度が大きく過ぎると、成形する際の流動性が低下してサイクル特性を低下させ、成形サイクルが長くなるおそれがあり、また、得られる成形品の複屈折が大きくなるおそれがある。
【０１２１】
ポリカーボネート樹脂のアッベ数は、好ましくは２０以上であり、より好ましくは５０以上であり、さらに好ましくは５５以上である。ポリカーボネート樹脂のアッベ数が大きくなるほど、屈折率の波長分散が小さくなり、収差が小さくなり、光学用フィルムとして好適となる。ポリカーボネート樹脂のアッベ数が小さくなるほど屈折率の波長分散が大きくなり、色収差が大きくなる。従って、ポリカーボネート樹脂のアッベ数が大きいほど好ましく、その上限は特に限定されない。
【０１２２】
ポリカーボネート樹脂の５％熱減量温度は、好ましくは３４０℃以上であり、より好ましくは３４５℃以上である。５％熱減量温度が高いほど、熱安定性が高くなり、より高温での使用に耐えるものとなる。また、５％熱減量温度が高いほど、製造温度を高くすることができ、製造時の制御幅を広くできるため、製造がし易くなる。５％熱減量温度が低くなるほど、熱安定性が低くなって高温での使用がしにくくなるおそれがある。また、５％熱減量温度が低くなるほど、製造時の制御許容幅が狭くなって製造がし難くなるおそれがある。従って、５％熱減量温度の上限は特に限定されず、高ければ高いほど良く、共重合体の分解温度が上限となる。
【０１２３】
ポリカーボネート樹脂のアイゾット衝撃強度は、好ましくは３０Ｊ／ｍ２以上である。アイゾット衝撃強度が大きい程、成形体の強度が高くなり、こわれにくくなるので、上限は特に限定されない。
【０１２４】
ポリカーボネート樹脂は、１１０℃での単位面積あたりのフェノール成分以外の発生ガス量（以下、単に「発生ガス量」と称す場合がある。）が５ｎｇ／ｃｍ２以下であることが好ましく、また、一般式（２）で表されるジヒドロキシ化合物以外のジヒドロキシ化合物由来の発生ガス量が０．５ｎｇ／ｃｍ２以下であることがより好ましい。
【０１２５】
ポリカーボネート樹脂は、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）を行ったとき、単一のガラス転移温度を与えるが、一般式（２）で表されるジヒドロキシ化合物と脂環式ジヒドロキシ化合物の種類や配合比を調整することで、そのガラス転移温度を、用途に応じて、例えば、４５℃程度から１５５℃程度まで任意のガラス転移温度を持つ重合体として得ることができる。
【０１２６】
フィルム用途では、通常、柔軟性が必要とされるため、ポリカーボネート樹脂のガラス転移温度を４５℃以上に調整することが好ましく、４５℃〜１３０℃に調整することがより好ましい。
【０１２７】
ポリカーボネート樹脂において、上記物性は、少なくとも二つを同時に有するものが好ましく、さらに他の物性を併せもつものがより好ましい。
【０１２８】
ポリカーボネート樹脂は、ジヒドロキシ化合物（Ａ）を含むジヒドロキシ化合物を、重合触媒の存在下、炭酸ジエステルと反応させる溶融重合法により製造することができる。
＜炭酸ジエステル＞
ポリカーボネート樹脂の製造方法で用いられる炭酸ジエステルとしては、具体的には、ジフェニルカーボネート、ジトリルカーボネートに代表される置換ジフェニルカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジ−ｔ−ブチルカーボネート等が例示され、好ましくは、ジフェニルカーボネート、置換ジフェニルカーボネートが挙げられる。これらの炭酸ジエステルは、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。
【０１２９】
炭酸ジエステルは、反応に用いる全ジヒドロキシ化合物に対して、０．９０〜１．１０のモル比率で用いることが好ましく、０．９６〜１．０４のモル比率で用いることがより好ましい。このモル比が０．９０より小さくなると、製造されたポリカーボネート樹脂の末端ＯＨ基が増加して、ポリマーの熱安定性が悪化したり、所望する高分子量体が得られなかったりするおそれがある。このモル比が１．１０より大きくなると、同一条件下ではエステル交換反応の速度が低下したり、所望とする分子量のポリカーボネート樹脂の製造が困難となったりするおそれがあり、また、製造されたポリカーボネート共重合体中の残存炭酸ジエステル量が増加し、この残存炭酸ジエステルが、成形時、又は成形品の臭気の原因となるおそれがある。
【０１３０】
位相差層は、例えば、上記ポリカーボネート樹脂から形成されたフィルムを延伸することにより得られる。ポリカーボネート樹脂からフィルムを形成する方法としては、任意の適切な成形加工法が採用され得る。具体例としては、圧縮成形法、トランスファー成形法、射出成形法、押出成形法、ブロー成形法、粉末成形法、ＦＲＰ成形法、キャスト塗工法（例えば、流延法）、カレンダー成形法、熱プレス法等が挙げられる。押出成形法またはキャスト塗工法が好ましい。得られるフィルムの平滑性を高め、良好な光学的均一性を得ることができるからである。成形条件は、使用される樹脂の組成や種類、位相差層に所望される特性等に応じて適宜設定され得る。なお、上記ポリカーボネート樹脂は、多くのフィルム製品が市販されているので、当該市販フィルムをそのまま延伸処理に供してもよい。
【０１３１】
上記フィルムの延伸倍率は、位相差層に所望される面内位相差値および厚み、使用される樹脂の種類、使用されるフィルムの厚み、延伸温度等に応じて変化し得る。具体的には、延伸倍率は、好ましくは１．７５倍〜３．００倍であり、より好ましくは１．８０倍〜２．８０倍であり、さらに好ましくは１．８５倍〜２．６０倍である。このような倍率で延伸することにより、本発明の効果を適切に発揮し得る面内位相差を有する位相差層が得られ得る。
【０１３２】
上記フィルムの延伸温度は、位相差層に所望される面内位相差値および厚み、使用される樹脂の種類、使用されるフィルムの厚み、延伸倍率等に応じて変化し得る。具体的には、延伸温度は、好ましくは１２５℃〜１５０℃であり、より好ましくは１３０℃〜１４０℃であり、さらに好ましくは１３０℃〜１３５℃である。このような温度で延伸することにより、本発明の効果を適切に発揮し得る面内位相差を有する位相差層が得られ得る。
【０１３３】
上記フィルムの延伸方法としては、任意の適切な延伸方法が採用され得る。具体的には、自由端延伸、固定端延伸、自由端収縮、固定端収縮などの様々な延伸方法を、単独で用いることも、同時もしくは逐次で用いることもできる。延伸方向に関しても、水平方向、垂直方向、厚さ方向、対角方向等、様々な方向や次元に行なうことができる。
【０１３４】
１つの実施形態においては、位相差層は、樹脂フィルムを自由端一軸延伸もしくは固定端一軸延伸することにより形成される。自由端一軸延伸の具体例としては、樹脂フィルムを長手方向に走行させながら、周速の異なるロール間で延伸する方法が挙げられる。固定端一軸延伸の具体例としては、樹脂フィルムを長手方向に走行させながら、幅方向（横方向）に延伸する方法が挙げられる。
【０１３５】
１つの実施形態においては、位相差層は、長尺状の樹脂フィルムを長手方向に対して角度αの方向に連続的に斜め延伸することにより作製される。斜め延伸を採用することにより、フィルムの長手方向に対して角度αの配向角（角度αの方向に遅相軸）を有する長尺状の延伸フィルムが得られ、例えば、偏光子との積層に際してロールトゥロールが可能となり、製造工程を簡略化することができる。なお、ロールトゥロールとは、フィルムをロール搬送しながら長尺方向を揃えて積層する方式をいう。
【０１３６】
斜め延伸に用いる延伸機としては、例えば、横および／または縦方向に、左右異なる速度の送り力もしくは引張り力または引き取り力を付加し得るテンター式延伸機が挙げられる。テンター式延伸機には、横一軸延伸機、同時二軸延伸機等があるが、長尺状の樹脂フィルムを連続的に斜め延伸し得る限り、任意の適切な延伸機が用いられ得る。
【０１３７】
Ａ−５．λ／２板
本発明の有機ＥＬ表示装置用円偏光板は、偏光子１０と位相差層２０の間に、λ／２板を有していてもよい。
【０１３８】
偏光子１０の吸収軸Ａとλ／２板の遅相軸Ｂとがなす角度をα（°）、λ／２板の遅相軸Ｂと位相差層２０の遅相軸Ｃとがなす角度をβ（°）としたとき、好ましくは、角度αおよびβは式（１ａ）または式（１ｂ）を満足する。
α＋３５°＜β＜α＋５５°（０°≦α≦９０°）        ・・・（１ａ）
α−３５°＜β＜α−５５°（９０°＜α＜１８０°）    ・・・（１ｂ）
式（１ａ）において、角度αと角度βとの関係は、好ましくはα＋３８°＜β＜α＋５２°であり、より好ましくはα＋４０°＜β＜α＋５０°であり、さらに好ましくはα＋４２°＜β＜α＋４８°であり、特に好ましくはα＋４４°＜β＜α＋４６°である。式（１ｂ）において、角度αと角度βとの関係は、好ましくはα−３８°＜β＜α−５２°であり、より好ましくはα−４０°＜β＜α−５０°であり、さらに好ましくはα−４２°＜β＜α−４８°であり、特に好ましくはα−４４°＜β＜α−４６°である。角度αおよびβが式（１ａ）または式（１ｂ）を満足することにより、λ／２板と位相差層２０（λ／４板）とで、理想的な逆波長分散特性に近い特性を得ることができる。より具体的には、角度αの値に応じて場合分けして角度αと角度βとの関係を最適化することにより、ＲＧＢそれぞれの波長ごとに理想に近い状態で偏光状態を変換することができる。結果として、非常に優れた反射防止特性を実現することができる。
【０１３９】
角度αは、好ましくは、式（２）を満足する。
５°≦α≦８５°または９５°≦α≦１７５°    ・・・（２）
角度αは、好ましくは２５°≦α≦６５°または１１５°≦α≦１５５°であり、より好ましくは３５°≦α≦５５°または１２５°≦α≦１４５°であり、さらに好ましくは４０°≦α≦５０°または１３０°≦α≦１４０°である。角度αが式（２）を満足することにより、λ／２板と位相差層２０（λ／４板）を同じ波長分散特性を有する材料（例えば、同一の樹脂）で構成することができる。その結果、それぞれの位相差層の位相差値の制御が容易となり、最終的には、正面方向および斜め方向のいずれにおいても非常に優れた反射色相を有する円偏光板を得ることができる。なお、λ／２板と位相差層２０（λ／４板）をそれぞれ異なる波長分散特性を有する材料で構成する場合には、角度αは任意の適切な値に設定することができる。
【０１４０】
偏光子１０と位相差層２０の間にλ／２板を有する場合、λ／４板として機能する位相差層２０の波長分散特性（特に、位相差がλ／４を外れる波長範囲）について、位相差が適切に調節され得る。このようなλ／２板の面内位相差Ｒｅ（５５０）は、好ましくは２２０ｎｍ〜３２０ｎｍであり、より好ましくは２４０ｎｍ〜３００ｎｍであり、さらに好ましくは２５０ｎｍ〜２８０ｎｍである。λ／２板は、代表的にはｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚまたはｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの屈折率楕円体を有する。λ／２板のＮｚ係数は、例えば０．９〜１．３である。
【０１４１】
λ／２板の厚みは、λ／２板として最も適切に機能し得るように設定され得る。言い換えれば、厚みは、所望の面内位相差が得られるように設定され得る。具体的には、厚みは、好ましくは１μｍ〜８０μｍであり、より好ましくは１０μｍ〜６０μｍであり、さらに好ましくは３０μｍ〜５０μｍである。
【０１４２】
λ／２板は、光弾性係数の絶対値が、好ましくは２×１０−１１ｍ２／Ｎ以下、より好ましくは２．０×１０−１３ｍ２／Ｎ〜１．５×１０−１１ｍ２／Ｎ、さらに好ましくは１．０×１０−１２ｍ２／Ｎ〜１．２×１０−１１ｍ２／Ｎの樹脂を含む。光弾性係数の絶対値がこのような範囲であれば、加熱時の収縮応力が発生した場合に位相差変化が生じにくい。したがって、このような光弾性係数の絶対値を有する樹脂を用いてλ／２板を形成することにより、得られる有機ＥＬ表示装置の熱ムラが良好に防止され得る。
【０１４３】
λ／２板は、位相差値が測定光の波長に応じて大きくなる逆分散波長特性を示してもよく、位相差値が測定光の波長に応じて小さくなる正の波長分散特性を示してもよく、位相差値が測定光の波長によってもほとんど変化しないフラットな波長分散特性を示してもよい。λ／２板のＲｅ（４５０）/Ｒｅ（５５０）は、好ましくは０.９９〜１.０３であり、Ｒｅ（６５０）/Ｒｅ（５５０）は、好ましくは０.９８〜１.０２である。
【０１４４】
λ／２板は、上記のような光学的特性および機械的特性を満足し得る任意の適切な樹脂フィルムで構成され得る。そのような樹脂の代表例としては、環状オレフィン系樹脂またはセルロース系樹脂が挙げられる。環状オレフィン系樹脂が好ましい。より所望の波長分散特性を示すからである。環状オレフィン系樹脂は、環状オレフィンを重合単位として重合される樹脂の総称であり、例えば、特開平１−２４０５１７号公報、特開平３−１４８８２号公報、特開平３−１２２１３７号公報等に記載されている樹脂が挙げられる。具体例としては、環状オレフィンの開環（共）重合体、環状オレフィンの付加重合体、環状オレフィンとエチレン、プロピレン等のα−オレフィンとの共重合体（代表的には、ランダム共重合体）、および、これらを不飽和カルボン酸やその誘導体で変性したグラフト変性体、ならびに、それらの水素化物が挙げられる。環状オレフィンの具体例としては、ノルボルネン系モノマーが挙げられる。
【０１４５】
上記ノルボルネン系モノマーとしては、例えば、ノルボルネン、およびそのアルキルおよび／またはアルキリデン置換体、例えば、５−メチル−２−ノルボルネン、５−ジメチル−２−ノルボルネン、５−エチル−２−ノルボルネン、５−ブチル−２−ノルボルネン、５−エチリデン−２−ノルボルネン等、これらのハロゲン等の極性基置換体；ジシクロペンタジエン、２，３−ジヒドロジシクロペンタジエン等；ジメタノオクタヒドロナフタレン、そのアルキルおよび／またはアルキリデン置換体、およびハロゲン等の極性基置換体、例えば、６−メチル−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、６−エチル−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、６−エチリデン−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、６−クロロ−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、６−シアノ−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、６−ピリジル−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、６−メトキシカルボニル−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン等；シクロペンタジエンの３〜４量体、例えば、４，９：５，８−ジメタノ−３ａ，４，４ａ，５，８，８ａ，９，９ａ−オクタヒドロ−１Ｈ−ベンゾインデン、４，１１：５，１０：６，９−トリメタノ−３ａ，４，４ａ，５，５ａ，６，９，９ａ，１０，１０ａ，１１，１１ａ−ドデカヒドロ−１Ｈ−シクロペンタアントラセン等が挙げられる。
【０１４６】
λ／２板には、本発明の目的を損なわない範囲内において、開環重合可能な他のシクロオレフィン類を併用することができる。このようなシクロオレフィンの具体例としては、例えば、シクロペンテン、シクロオクテン、５，６−ジヒドロジシクロペンタジエン等の反応性の二重結合を１個有する化合物が挙げられる。
【０１４７】
上記環状オレフィン系樹脂は、トルエン溶媒によるゲル・パーミエーション・クロマトグラフ（ＧＰＣ）法で測定した数平均分子量（Ｍｎ）が好ましくは２５，０００〜２００，０００、さらに好ましくは３０，０００〜１００，０００、最も好ましくは４０，０００〜８０，０００である。数平均分子量が上記の範囲であれば、機械的強度に優れ、溶解性、成形性、流延の操作性が良いものができる。
【０１４８】
上記環状オレフィン系樹脂がノルボルネン系モノマーの開環重合体を水素添加して得られるものである場合には、水素添加率は、好ましくは９０％以上であり、さらに好ましくは９５％以上であり、最も好ましくは９９％以上である。このような範囲であれば、耐熱劣化性および耐光劣化性などに優れる。
【０１４９】
上記環状オレフィン系樹脂は、種々の製品が市販されている。具体例としては、日本ゼオン社製の商品名「ゼオネックス」、「ゼオノア」、ＪＳＲ社製の商品名「アートン（Ａｒｔｏｎ）」、ＴＩＣＯＮＡ社製の商品名「トーパス」、三井化学社製の商品名「ＡＰＥＬ」が挙げられる。
【０１５０】
上記セルロース系樹脂としては、任意の適切なセルロース系樹脂（代表的には、セルロースと酸とのエステル）が採用され得る。好ましくは、セルロースと脂肪酸とのエステルである。このようなセルロース系樹脂の具体例としては、セルローストリアセテート（トリアセチルセルロース：ＴＡＣ）、セルロースジアセテート、セルローストリプロピオネート、セルロースジプロピオネート等が挙げられる。セルローストリアセテート（トリアセチルセルロース：ＴＡＣ）が特に好ましい。低複屈折性であり、かつ、高透過率だからである。ＴＡＣは、多くの製品が市販されており、入手容易性やコストの点でも有利である。
【０１５１】
ＴＡＣの市販品の具体例としては、富士写真フィルム社製の商品名「ＵＶ−５０」、「ＵＶ−８０」、「ＳＨ−５０」、「ＳＨ−８０」、「ＴＤ−８０Ｕ」、「ＴＤ−ＴＡＣ」、「ＵＺ−ＴＡＣ」、コニカ社製の商品名「ＫＣシリーズ」、ロンザジャパン社製の商品名「三酢酸セルロース８０μｍシリーズ」等が挙げられる。
【０１５２】
λ／２板は、例えば、上記環状オレフィン系樹脂または上記セルロース系樹脂から形成されたフィルムを延伸することにより得られる。環状オレフィン系樹脂またはセルロース系樹脂からフィルムを形成する方法としては、任意の適切な成形加工法が採用され得る。具体例としては、圧縮成形法、トランスファー成形法、射出成形法、押出成形法、ブロー成形法、粉末成形法、ＦＲＰ成形法、キャスト塗工法（例えば、流延法）、カレンダー成形法、熱プレス法等が挙げられる。押出成形法またはキャスト塗工法が好ましい。得られるフィルムの平滑性を高め、良好な光学的均一性を得ることができるからである。成形条件は、使用される樹脂の組成や種類、λ／２板に所望される特性等に応じて適宜設定され得る。なお、上記環状オレフィン系樹脂および上記セルロース系樹脂は、多くのフィルム製品が市販されているので、当該市販フィルムをそのまま延伸処理に供してもよい。
【０１５３】
上記フィルムの延伸倍率は、λ／２板に所望される面内位相差値、厚み、使用される樹脂の種類、使用されるフィルムの厚み、延伸温度等に応じて変化し得る。具体的には、延伸倍率は、好ましくは１．７５倍〜３．００倍であり、より好ましくは１．８０倍〜２．８０倍であり、さらに好ましくは１．８５倍〜２．６０倍である。このような倍率で延伸することにより、本発明の効果を適切に発揮し得る面内位相差を有するλ／２板が得られ得る。
【０１５４】
上記フィルムの延伸温度は、λ／２板に所望される面内位相差値、厚み、使用される樹脂の種類、使用されるフィルムの厚み、延伸倍率等に応じて変化し得る。具体的には、延伸温度は、好ましくは１２５℃〜１５０℃であり、より好ましくは１３０℃〜１４０℃であり、さらに好ましくは１３０℃〜１３５℃である。このような温度で延伸することにより、本発明の効果を適切に発揮し得る面内位相差を有するλ／２板が得られ得る。
【０１５５】
上記フィルムの延伸方法としては、任意の適切な延伸方法が採用され得る。具体的には、自由端延伸、固定端延伸、自由端収縮、固定端収縮などの様々な延伸方法を、単独で用いることも、同時もしくは逐次で用いることもできる。延伸方向に関しても、水平方向、垂直方向、厚さ方向、対角方向等、様々な方向や次元に行なうことができる。
【０１５６】
１つの実施形態においては、λ／２板は、樹脂フィルムを自由端一軸延伸もしくは固定端一軸延伸することにより形成される。自由端一軸延伸の具体例としては、樹脂フィルムを長手方向に走行させながら、周速の異なるロール間で延伸する方法が挙げられる。固定端一軸延伸の具体例としては、樹脂フィルムを長手方向に走行させながら、幅方向（横方向）に延伸する方法が挙げられる。
【０１５７】
別の実施形態においては、λ／２板は、長尺状の樹脂フィルムを長手方向に対して角度αの方向に連続的に斜め延伸することにより作製される。斜め延伸を採用することにより、フィルムの長手方向に対して角度αの配向角（角度αの方向に遅相軸）を有する長尺状の延伸フィルムが得られ、例えば、偏光子との積層に際してロールトゥロールが可能となり、製造工程を簡略化することができる。
【０１５８】
斜め延伸に用いる延伸機としては、例えば、横および／または縦方向に、左右異なる速度の送り力もしくは引張り力または引き取り力を付加し得るテンター式延伸機が挙げられる。テンター式延伸機には、横一軸延伸機、同時二軸延伸機等があるが、長尺状の樹脂フィルムを連続的に斜め延伸し得る限り、任意の適切な延伸機が用いられ得る。
【０１５９】
Ａ−６．導電層および導電層付等方性基材
有機ＥＬ表示装置用円偏光板１００は、バリア層３０と粘着剤層４０との間に、導電層または導電層付等方性基材を備えていてもよい。また、有機ＥＬ表示装置用円偏光板１００は、位相差層２０とバリア層３０との間に、導電層または導電層付等方性基材を備えていてもよい。
【０１６０】
導電層は、任意の適切な成膜方法（例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、スプレー法等）により、任意の適切な基材上に、金属酸化物膜を成膜して形成され得る。金属酸化物を含む導電層は、エッチング法等によりパターン化され得る。
【０１６１】
金属酸化物としては、例えば、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、インジウム−スズ複合酸化物、スズ−アンチモン複合酸化物、亜鉛−アルミニウム複合酸化物、インジウム−亜鉛複合酸化物などが挙げられる。なかでも好ましくは、インジウム−スズ複合酸化物（ＩＴＯ）である。
【０１６２】
導電層が金属酸化物を含む場合、該導電層の厚みは、好ましくは５０ｎｍ以下であり、より好ましくは３５ｎｍ以下である。導電層の厚みの下限は、好ましくは１０ｎｍである。導電層の厚みがこのような範囲であれば、本発明の効果をより発現し得る有機ＥＬ表示装置用円偏光板を提供し得る。
【０１６３】
導電層付等方性基材は、等方性基材の少なくとも片面に導電層を備える。導電層付等方性基材は、好ましくは、等方性基材の片面に導電層を備える。導電層付等方性基材は、例えば、任意の適切な成膜方法（例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、スプレー法等）により、等方性基材上に、金属酸化物膜を成膜して形成され得る。
【０１６４】
等方性基材としては、任意の適切な等方性基材を採用し得る。ここで、「等方性」とは、面内位相差Ｒｅ（５５０）が０ｎｍ〜１０ｎｍであり、厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）が−１０ｎｍ〜＋１０ｎｍであることをいう。このような等方性基材としては、例えば、ノルボルネン系樹脂やオレフィン系樹脂などの共役系を有さない樹脂を主骨格としている材料、ラクトン環やグルタルイミド環などの環状構造をアクリル系樹脂の主鎖中に有する材料などが挙げられる。このような材料を用いると、等方性基材を形成した際に、分子鎖の配向に伴う位相差の発現を小さく抑えることができる。
【０１６５】
等方性基材の厚みは、好ましくは５０μｍ以下であり、より好ましくは３５ｎｍ以下である。導電層の厚みの下限は、好ましくは１０ｎｍである。導電層の厚みがこのような範囲であれば、本発明の効果をより発現し得る有機ＥＬ表示装置用円偏光板を提供し得る。
【０１６６】
上記導電層や上記導電層付等方性基材の導電層は、エッチング法や印刷等によりパターン化され得る。パターン化によって、導通部と絶縁部とが形成され得る。このようなパターン化のためのパターニング方法としては、本発明の効果を損なわない範囲で任意の適切な方法を採用し得る。このようなパターニング方法としては、例えば、ウエットエッチング法、スクリーン印刷法が挙げられる。
【０１６７】
ウエットエッチング法としては、任意の適切な方法が採用され得る。ウエットエッチング法の具体的な操作としては、例えば、ＵＳ２０１１／０２５３６６８Ａ号公報に記載の操作が挙げられる。この公報は、本明細書に参考として援用される。
【０１６８】
ウエットエッチング法に用いるマスクは、所望とする導電パターンに応じて、任意の適切な形状にて形成され得る。エッチング処理後、マスクが形成されている領域が導通部となり、マスクが形成されていない領域が絶縁部となる。該マスクは、例えば、感光性樹脂等から構成される。該マスクを形成する方法としては、例えば、スクリーン印刷法等が挙げられる。
【０１６９】
マスクを形成した後、例えば、導電層付等方性基材をエッチング液に浸漬させて、エッチング処理を行う。エッチング液の具体例としては、例えば、硝酸、リン酸、酢酸、塩酸、およびこれらの混合液等が挙げられる。エッチング処理の後、常法にてマスクを除去する。
【０１７０】
スクリーン印刷法においては、例えば、所望の導電パターンに応じて、選択的に、導通部形成用材料を塗工して導通部が形成される。一方、絶縁部は、導通部が形成される以外の領域に、絶縁部形成用材料を塗工して形成される。好ましくは、絶縁部形成用材料は、非導電性の光散乱体を含む。この実施形態においては、導通部と絶縁部とが、同じ樹脂から構成された樹脂マトリクスを含んでいてもよく、互いに異なる樹脂から構成された樹脂マトリクスを含んでいてもよい。
【０１７１】
Ａ−７．粘着剤層
粘着剤層４０は、上記のとおりバリア機能を有する。本発明の有機ＥＬ表示装置用円偏光板の粘着剤層にバリア機能を付与することにより、バリア層との相乗的な効果により、優れた有機ＥＬパネル保護機能を有する円偏光板を得ることができる。さらに、有機ＥＬパネルにバリア層を形成する場合に比べて、優れた製造効率で有機ＥＬ表示装置を作製することができる。バリア機能を有する粘着剤としては、例えば、ゴム系ポリマーをベースポリマーとするゴム系粘着剤組成物が挙げられる。
【０１７２】
ゴム系ポリマーとしては、例えば、１種の共役ジエン化合物を重合することによって得られる共役ジエン系重合体、２種以上の共役ジエン化合物を重合することによって得られる共役ジエン系共重合体、共役ジエン化合物と芳香族ビニル化合物とを共重合することによって得られる共役ジエン系共重合体、および、これらの水添物が挙げられる。
【０１７３】
共役ジエン化合物としては、重合可能な共役ジエンを有する単量体であれば特に限定されない。共役ジエン化合物の具体例としては、１，３−ブタジエン、イソプレン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、１，３−ペンタジエン、３−メチル−１，３−ペンタジエン、１，３−ヘプタジエン、１，３−ヘキサジエンが挙げられる。これらの中でも、工業的入手の容易さの観点から、１，３−ブタジエン、イソプレンが好ましい。共役ジエン化合物は、単独で用いてもよく、組み合わせて用いてもよい。
【０１７４】
芳香族ビニル化合物としては、共役ジエン化合物と共重合可能な芳香族ビニル構造を有する単量体であれば特に限定されない。芳香族ビニル化合物の具体例としては、スチレン、ｐ−メチルスチレン、α−メチルスチレン、ビニルエチルベンゼン、ビニルキシレン、ビニルナフタレン、ジフェニルエチレン等が挙げられる。これらの中でも、工業的入手の容易さの観点から、スチレンが好ましい。芳香族ビニル化合物は、単独で用いてもよく、組み合わせて用いてもよい。
【０１７５】
ジエン系共重合体は、ランダム共重合体であってもブロック共重合体であってもよい。また、共役ジエン化合物、芳香族ビニル化合物以外の化合物を共重合して、ジエン系共重合体を得てもよい。
【０１７６】
共役ジエン化合物と芳香族ビニル化合物とを共重合することによって得られる共役ジエン系共重合体は、共役ジエン化合物と芳香族ビニル化合物のモル比が、共役ジエン化合物／芳香族ビニル化合＝１０／９０〜９０／１０（モル％）であることが好ましい。
【０１７７】
このような共役ジエン系（共）重合体の具体例としては、ブタジエンゴム（ＢＲ）、イソプレンゴム（ＩＲ）、スチレン−ブタジエン共重合体（ＳＢＲ）、ブタジエン−イソプレン−スチレンランダム共重合体、イソプレン−スチレンランダム共重合体、スチレン−イソプレンブロック共重合体（ＳＩＳ）、ブタジエン−スチレン共重合体、スチレン−エチレン−ブタジエンブロック共重合体（ＳＥＢＳ）、アクリロニトリル−ブタジエンゴム（ＮＢＲ）が挙げられる。これらは、単独で用いてもよく、組み合わせて用いてもよい。これらの中でも、イソプレン−スチレン共重合体が好ましい。また、これらの水添物も好適に用いることができる。
【０１７８】
ゴム系ポリマーとして、共役ジエン系（共）重合体の他にも、イソブチレン（ＩＢ）、スチレン−イソブチレン−スチレンブロック共重合体（ＳＩＢＳ）等も用いることができる。ゴム系ポリマーは、単独で用いてもよく、組み合わせて用いてもよい。
【０１７９】
本発明に用いられ得るゴム系ポリマーは、ゴム系ポリマー全体中に、上記共役ジエン系（共）重合体を、好ましくは５０重量％以上、より好ましくは７０重量％以上、さらに好ましくは８０重量％以上、特に好ましくは９０重量％以上含む。共役ジエン系（共）重合体の含有量の上限は特に限定されるものではなく、１００重量％（すなわち、共役ジエン系（共）重合体のみからなるゴム系ポリマー）であってもよい。
【０１８０】
上記のとおり、粘着剤組成物は、ゴム系ポリマーをベースポリマーとして含む。粘着剤組成物におけるゴム系ポリマーの含有量は、好ましくは４０重量％以上、より好ましくは５０重量％以上、さらに好ましくは６０重量％以上である。ゴム系ポリマーの含有量の上限は特に限定されず、例えば９０重量％以下である。
【０１８１】
粘着剤組成物は、ゴム系ポリマーに加えて、任意の適切な添加剤をさらに含んでいてもよい。添加剤の具体例としては、架橋剤（例えば、ポリイソシアネート、エポキシ化合物、アルキルエーテル化メラミン化合物など）、粘着付与剤（例えば、ロジン誘導体樹脂、ポリテルペン樹脂、石油樹脂、油溶性フェノール樹脂、ビニルトルエン樹脂など）、可塑剤、充填剤、老化防止剤が挙げられる。粘着剤組成物に添加される添加剤の種類、組み合わせ、添加量等は、目的に応じて適切に設定され得る。粘着剤組成物における添加剤の含有量（総量）は、好ましくは６０重量％以下、より好ましくは５０重量％以下、さらに好ましくは４０重量％以下である。
【０１８２】
粘着剤層４０の厚さは、例えば１μｍ〜３００μｍ程度であり、好ましくは１μｍ〜２００μｍであり、より好ましくは２μｍ〜１００μｍであり、さらに好ましくは２５μｍ〜１００μｍである。
【０１８３】
粘着剤層４０は、上記のとおりバリア性を有し、代表的には、水分およびガス（例えば酸素）に対するバリア性を有する。粘着剤層の厚み１００μｍにおける４０℃、９０％ＲＨ条件下での水蒸気透過率（透湿度）は、好ましくは２００ｇ／ｍ２／２４ｈｒ以下であり、より好ましくは１５０ｇ／ｍ２／２４ｈｒ以下であり、さらに好ましくは１００ｇ／ｍ２／２４ｈｒ以下であり、特に好ましくは５０ｇ／ｍ２／２４ｈｒ以下であり、最も好ましくは２０ｇ／ｍ２／２４ｈｒ以下である。上記水蒸気透過率（透湿度）の下限値は、低ければ低いほど良いが、現実的には、好ましくは１ｇ／ｍ２／２４ｈｒである。粘着剤層の上記水蒸気透過率（透湿度）がこのような範囲であれば、上記のバリア層のバリア性との相乗的な効果により、円偏光板を有機ＥＬパネルに貼り合わせた場合に、有機ＥＬパネルを空気中の水分および酸素から良好に保護し得る。
【０１８４】
粘着剤層の表面には、使用に供されるまで、剥離フィルムが貼り合わされていることが好ましい。なお、剥離フィルムの一方の面には、後に説明する補強フィルムを、工程削減のために事前に貼り合せておいてもよい。
【０１８５】
Ａ−８．保護フィルム
保護フィルム５０は、偏光子の保護層として使用できる任意の適切なフィルムで形成される。当該フィルムの主成分となる材料の具体例としては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂や、ポリエステル系、ポリビニルアルコール系、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリノルボルネン系、ポリオレフィン系、（メタ）アクリル系、アセテート系等の透明樹脂等が挙げられる。また、（メタ）アクリル系、ウレタン系、（メタ）アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂等も挙げられる。この他にも、例えば、シロキサン系ポリマー等のガラス質系ポリマーも挙げられる。また、特開２００１−３４３５２９号公報（ＷＯ０１／３７００７）に記載のポリマーフィルムも使用できる。このフィルムの材料としては、例えば、側鎖に置換または非置換のイミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換または非置換のフェニル基ならびにニトリル基を有する熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物が使用でき、例えば、イソブテンとＮ−メチルマレイミドからなる交互共重合体と、アクリロニトリル・スチレン共重合体とを有する樹脂組成物が挙げられる。このようなポリマーフィルムは、例えば、上記樹脂組成物の押出成形物であり得る。
【０１８６】
上記（メタ）アクリル系樹脂としては、Ｔｇ（ガラス転移温度）が、好ましくは１１５℃以上、より好ましくは１２０℃以上、さらに好ましくは１２５℃以上、特に好ましくは１３０℃以上である。耐久性に優れ得るからである。上記（メタ）アクリル系樹脂のＴｇの上限値は特に限定されないが、成形性等の観点から、好ましくは１７０℃以下である。
【０１８７】
上記（メタ）アクリル系樹脂としては、本発明の効果を損なわない範囲内で、任意の適切な（メタ）アクリル系樹脂を採用し得る。例えば、ポリメタクリル酸メチルなどのポリ（メタ）アクリル酸エステル、メタクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸共重合体、メタクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸エステル共重合体、メタクリル酸メチル−アクリル酸エステル−（メタ）アクリル酸共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−スチレン共重合体（ＭＳ樹脂など）、脂環族炭化水素基を有する重合体（例えば、メタクリル酸メチル−メタクリル酸シクロヘキシル共重合体、メタクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ノルボルニル共重合体など）が挙げられる。好ましくは、ポリ（メタ）アクリル酸メチルなどのポリ（メタ）アクリル酸Ｃ１−６アルキルが挙げられる。より好ましくは、メタクリル酸メチルを主成分（５０〜１００重量％、好ましくは７０〜１００重量％）とするメタクリル酸メチル系樹脂が挙げられる。
【０１８８】
上記（メタ）アクリル系樹脂の具体例としては、例えば、三菱レイヨン社製のアクリペットＶＨやアクリペットＶＲＬ２０Ａ、特開２００４−７０２９６号公報に記載の分子内に環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂、分子内架橋や分子内環化反応により得られる高Ｔｇ（メタ）アクリル系樹脂が挙げられる。
【０１８９】
上記（メタ）アクリル系樹脂として、高い耐熱性、高い透明性、高い機械的強度を有する点で、ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂が特に好ましい。
【０１９０】
上記ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂としては、特開２０００−２３００１６号公報、特開２００１−１５１８１４号公報、特開２００２−１２０３２６号公報、特開２００２−２５４５４４号公報、特開２００５−１４６０８４号公報などに記載の、ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂が挙げられる。
【０１９１】
上記ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂は、質量平均分子量（重量平均分子量と称することもある）が、好ましくは１０００〜２００００００、より好ましくは５０００〜１００００００、さらに好ましくは１００００〜５０００００、特に好ましくは５００００〜５０００００である。
【０１９２】
上記ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂は、Ｔｇ（ガラス転移温度）が、好ましくは１１５℃以上、より好ましくは１２５℃以上、さらに好ましくは１３０℃以上、特に好ましくは１３５℃、最も好ましくは１４０℃以上である。耐久性に優れ得るからである。上記ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂のＴｇの上限値は特に限定されないが、成形性等の観点から、好ましくは１７０℃以下である。
【０１９３】
なお、本明細書において「（メタ）アクリル系」とは、アクリル系および／またはメタクリル系をいう。
【０１９４】
保護フィルムには、必要に応じて、ハードコート処理、反射防止処理、スティッキング防止処理、アンチグレア処理等の表面処理が施されていてもよい。保護フィルムの厚みは、好ましくは５ｍｍ以下であり、より好ましくは１ｍｍ以下であり、さらに好ましくは１μｍ〜５００μｍであり、特に好ましくは５μｍ〜１５０μｍである。
【０１９５】
内側保護フィルムを採用する場合、該内側保護フィルムは光学的に等方性であることが好ましい。本明細書において「光学的に等方性である」とは、面内位相差Ｒｅ（５５０）が０ｎｍ〜１０ｎｍであり、厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）が−１０ｎｍ〜＋１０ｎｍであることをいう。
【０１９６】
Ａ−８．有機ＥＬ表示装置用円偏光板の製造方法
以下、本発明の有機ＥＬ表示装置用円偏光板の製造方法の代表的な実施形態について説明する。以下に説明する実施形態は、本発明の有機ＥＬ表示装置用円偏光板の製造方法の代表的な実施形態であり、本発明の有機ＥＬ表示装置用円偏光板の製造方法はこれに限定されない。本実施形態は、偏光子と位相差層とをロールトゥロールにより連続的に積層する方式であり、非常に優れた製造効率で有機ＥＬ表示装置用円偏光板を製造することができる。
【０１９７】
まず、位相差層２０を構成する位相差フィルムを準備する。この位相差フィルムは、長尺状であり、かつ、長尺方向に対して所定の角度αの方向に遅相軸を有する。このような位相差フィルムの材料、特性および製造方法等は、上記Ａ−４項で説明したとおりである。
【０１９８】
次に、必要に応じ、位相差フィルムの一方の面に補強フィルムを、粘着剤を介してロールトゥロールにより貼り合わせ、位相差フィルム／補強フィルムの積層体を得る。代表的には、粘着剤を付与した補強フィルムと位相差フィルムとをロールトゥロールにより貼り合わせる。
【０１９９】
補強フィルムの材料としては、任意の適切な材料を採用し得る。例えば、プラスチック、紙、金属フィルム、不織布などが挙げられる。好ましくは、プラスチックである。補強フィルムは、１種の材料から構成されていても良いし、２種以上の材料から構成されていても良い。例えば、２種以上のプラスチックから構成されていても良い。
【０２００】
上記プラスチックとしては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂などが挙げられる。ポリエステル系樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどが挙げられる。ポリオレフィン系樹脂としては、例えば、オレフィンモノマーの単独重合体、オレフィンモノマーの共重合体などが挙げられる。ポリオレフィン系樹脂としては、具体的には、例えば、ホモポリプロピレン；エチレン成分を共重合成分とするブロック系、ランダム系、グラフト系等のプロピレン系共重合体；リアクターＴＰＯ；低密度、高密度、リニア低密度、超低密度等のエチレン系重合体；エチレン・プロピレン共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン・アクリル酸メチル共重合体、エチレン・アクリル酸エチル共重合体、エチレン・アクリル酸ブチル共重合体、エチレン・メタクリル酸共重合体、エチレン・メタクリル酸メチル共重合体等のエチレン系共重合体；などが挙げられる。好ましくはポリエステル系樹脂であり、より好ましくはポリエチレンテレフタレートである。このような樹脂は高い寸法安定性・強靭性・耐熱性を有し、かつ、副資材と成りうる観点からも汎用性に優れるという利点がある。
【０２０１】
補強フィルムは、必要に応じて、任意の適切な添加剤を含有し得る。添加剤としては、例えば、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、帯電防止剤、充填剤、顔料などが挙げられる。添加剤の種類、数、量は、目的に応じて適切に設定され得る。特に、補強フィルムの材料がプラスチックの場合は、劣化防止等を目的として、上記の添加剤の複数を含有することが好ましい。
【０２０２】
酸化防止剤としては、任意の適切な酸化防止剤を採用し得る。このような酸化防止剤としては、例えば、フェノール系酸化防止剤、リン系加工熱安定剤、ラクトン系加工熱安定剤、イオウ系耐熱安定剤、フェノール・リン系酸化防止剤などが挙げられる。酸化防止剤の含有割合は、補強フィルムのベース樹脂（補強フィルムがブレンド物の場合にはそのブレンド物がベース樹脂である）１００重量部に対して、好ましくは１重量部以下であり、より好ましくは０．５重量部以下であり、さらに好ましくは０．０１〜０．２重量部である。
【０２０３】
紫外線吸収剤としては、任意の適切な紫外線吸収剤を採用し得る。このような紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤などが挙げられる。紫外線吸収剤の含有割合は、補強フィルムのベース樹脂１００重量部に対して、好ましくは２重量部以下であり、より好ましくは１重量部以下であり、さらに好ましくは０．０１重量部〜０．５重量部である。
【０２０４】
光安定剤としては、任意の適切な光安定剤を採用し得る。このような光安定剤としては、例えば、ヒンダードアミン系光安定剤、ベンゾエート系光安定剤などが挙げられる。光安定剤の含有割合は、補強フィルムのベース樹脂１００重量部に対して、好ましくは２重量部以下であり、より好ましくは１重量部以下であり、さらに好ましくは０．０１重量部〜０．５重量部である。
【０２０５】
充填剤としては、任意の適切な充填剤を採用し得る。このような充填剤としては、例えば、無機系充填剤などが挙げられる。無機系充填剤としては、具体的には、例えば、カーボンブラック、酸化チタン、酸化亜鉛などが挙げられる。充填剤の含有割合は、補強フィルムを形成するベース樹脂（補強フィルムがブレンド物の場合にはそのブレンド物がベース樹脂である）１００重量部に対して、好ましくは２０重量部以下であり、より好ましくは１０重量部以下であり、さらに好ましくは０．０１重量部〜１０重量部である。
【０２０６】
さらに、添加剤としては、帯電防止性付与を目的として、界面活性剤、無機塩、多価アルコール、金属化合物、カーボン等の無機系、低分子量系および高分子量系帯電防止剤も好ましく挙げられる。特に、汚染、粘着性維持の観点から、高分子量系帯電防止剤やカーボンが好ましい。
【０２０７】
補強フィルムの厚みとしては、任意の適切な厚みを採用し得る。補強フィルムの厚みは、好ましくは５μｍ〜３００μｍであり、より好ましくは１０μｍ〜２５０μｍであり、さらに好ましくは１５μｍ〜２００μｍであり、特に好ましくは２０μｍ〜１５０μｍである。さらに、補強フィルムおよび後述の粘着剤の総厚みは、好ましくは位相差フィルムの厚みの１倍〜４倍である。
【０２０８】
補強フィルムは、単層でも良いし、２層以上の積層体であっても良い。
【０２０９】
補強フィルムは、２３℃における引張り弾性率（ＧＰａ）と厚み（μｍ）の積（ＧＰａ・μｍ）が、好ましくは２０〜５００であり、より好ましくは３０〜３００である。この値は、補強フィルムの形成材料、添加剤の種類および量、ならびに、補強フィルムが積層体である場合には各層の厚みの比を調整することにより制御することができる。上記積が２０（ＧＰａ・μｍ）未満である場合には、補強フィルムの腰が不十分であり、位相差フィルムとの積層時に皺が入って外観を損なう場合がある。上記積が５００（ＧＰａ・μｍ）を超える場合には、補強フィルムの腰が強すぎて、位相差フィルムから剥離する際のハンドリング性が不十分となる場合がある。
【０２１０】
補強フィルムの線膨張係数はできるだけ小さいことが好ましい。線膨張係数は、好ましくは５ｐｐｍ／℃〜５０ｐｐｍ／℃であり、より好ましくは１０ｐｐｍ／℃〜３０ｐｐｍ／℃である。補強フィルムの加熱による寸法変化率もまた、できるだけ小さいことが好ましい。例えば１８０℃で５分間加熱後の寸法変化率は、好ましくは０．１％〜５．０％であり、より好ましくは０．５％〜３．０％である。線膨張係数および／または加熱による寸法変化率が小さい補強フィルムを用いることにより、バリア層形成過程の高温環境下においても、位相差フィルムの寸法変化を抑制することができ、分子の配向変化を軽減することができる。その結果、位相差フィルムの光学特性（遅相軸方向、位相差値等）を良好に維持することができる。
【０２１１】
補強フィルムは、１つの実施形態においては延伸されている。延伸条件は、目的、所望の線膨張係数等に応じて変化し得る。延伸倍率は、好ましくは１．５倍〜１０倍であり、より好ましくは３．０倍〜５．０倍である。延伸温度は、好ましくは補強フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）〜（Ｔｇ＋５０℃）である。延伸は、好ましくは二軸延伸である。熱的性質および機械的性質の面内における異方性を軽減することができるからである。二軸延伸方法としては、テンター同時二軸延伸法、ロールとテンターによる逐次二軸延伸法のいずれでもよい。また、チューブラー法を用いてもよい。
【０２１２】
補強フィルム用粘着剤としては、任意の適切な粘着剤を用いることができる。粘着剤のベースポリマーの具体例としては、(メタ)アクリル系ポリマー、ゴム系ポリマー、シリコーン系ポリマー、ポリウレタン系ポリマー、ポリエステル系ポリマーが挙げられる。粘着剤は、好ましくは、炭素数１〜２０であるアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルを主成分（モノマー単位）として有する（メタ）アクリル系ポリマーを含有する。なお、「主成分」とは、(メタ)アクリル系ポリマーを構成するモノマー単位(成分)の内、最も構成割合の高いモノマーを意味する。このような粘着剤の詳細は、例えば特開２０１４−１４１６４９号公報に記載されており、該当する記載は本明細書に参考として援用される。
【０２１３】
位相差フィルムとバリア層が直接に積層される実施形態（以下、実施形態（Ａ）と称する）においては、次に、位相差フィルム表面（補強フィルムを備える場合は、位相差フィルム／補強フィルムの積層体の位相差フィルム表面）にバリア層を形成する。具体的には、位相差フィルム表面（補強フィルムを備える場合は、位相差フィルム／補強フィルムの積層体の位相差フィルム表面）にバリア層を、接着剤を用いて貼り合わせる。接着剤としては、例えば、ＵＶ硬化型の接着剤、熱硬化型の接着剤を用いることができ、生産性や特性の面から、ＵＶ硬化型の接着剤が好ましい。接着剤の種類としては、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な接着剤を採用し得る。このような接着剤としては、例えば、エポキシ系接着剤、アクリル系接着剤、チオール系接着剤が挙げられる。接着剤により形成される接着剤層の厚みは、本発明の効果を損なわない範囲で任意の適切な厚みを採用し得る。このような厚みは、好ましくは０．０１μｍ〜１０μｍである。
【０２１４】
次に、本発明の有機ＥＬ表示装置用円偏光板がバリア層と粘着剤層との間に導電層または導電層付等方性基材を備える場合、実施形態（Ａ）においてバリア層表面に導電層または導電層付等方性基材を設ける。具体的には、例えば、任意の適切な成膜方法（例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、スプレー法等）により、バリア層表面上に、金属酸化物膜を成膜して形成され得る。
【０２１５】
本発明の有機ＥＬ表示装置用円偏光板が位相差フィルムとバリア層との間に導電層または導電層付等方性基材を備える場合は、位相差フィルム表面（補強フィルムを備える場合は、位相差フィルム／補強フィルムの積層体の位相差フィルム表面）に導電層または導電層付等方性基材を設ける。具体的には、例えば、任意の適切な成膜方法（例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、スプレー法等）により、位相差フィルム上に、金属酸化物膜を成膜して形成され得る。その後、導電層または導電層付等方性基材の表面にバリア層を、接着剤を用いて貼り合わせる。接着剤としては、例えば、ＵＶ硬化型の接着剤、熱硬化型の接着剤を用いることができ、生産性や特性の面から、ＵＶ硬化型の接着剤が好ましい。接着剤の種類としては、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な接着剤を採用し得る。このような接着剤としては、例えば、エポキシ系接着剤、アクリル系接着剤、チオール系接着剤が挙げられる。接着剤により形成される接着剤層の厚みは、本発明の効果を損なわない範囲で任意の適切な厚みを採用し得る。このような厚みは、好ましくは０．０１μｍ〜１０μｍである。
【０２１６】
このようにして、位相差層とバリア層を備える光学積層体（円偏光板用中間体）が作製される。これまでの記載から明らかなように、本実施形態における光学積層体は長尺状（記載例ではロール状）である。上記のとおり、特定の位相差フィルムと、必要に応じて特定の補強フィルムとを組み合わせて用いることにより、斜め延伸により得られた位相差フィルムの光学特性および機械的特性を維持しつつ、その表面にバリア層を形成することができる。したがって、バリア層が形成された位相差フィルムをロールトゥロールに供することができる。すなわち、このようにして得られた光学積層体は、本発明において実際に得られた成果の１つであり、かつ、本発明の円偏光板およびその優れた効果を実現する手段の１つである。
【０２１７】
次に、必要に応じて上記光学積層体から補強フィルムを剥離し、剥離面に偏光子をロールトゥロールにより貼り合わせる。１つの実施形態においては、補強フィルムを剥離して得られたバリア層／位相差フィルムの積層体と偏光板（偏光子／保護フィルムの積層体）とを、偏光子が位相差フィルムに隣接するようにしてロールトゥロールにより貼り合わせる。別の実施形態においては、バリア層／位相差フィルムの積層体と偏光子と保護フィルムとを一括してロールトゥロールにより貼り合わせる。さらに別の実施形態においては、バリア層／位相差フィルムの積層体と偏光子とをロールトゥロールにより貼り合わせ、次いで保護フィルムをロールトゥロールにより貼り合わせる。偏光板または偏光子は長尺状（記載例ではロール状）であり、かつ、長尺方向に吸収軸を有する。本発明の実施形態においては、上記のとおり、斜め方向（長尺方向に対して角度αの方向）に遅相軸を有する位相差フィルムにバリア層を形成することができるので、通常の縦一軸延伸で得られる偏光子を用いてロールトゥロールによる積層を行うことができる。
【０２１８】
最後に、バリア層表面に粘着剤層を形成する。粘着剤層を構成する粘着剤は、上記Ａ−６項で説明したとおりである。
【０２１９】
以上のようにして、本発明の有機ＥＬ表示装置用円偏光板が得られる。
【０２２０】
本発明の有機ＥＬ表示装置用円偏光板は、いわゆるバッチ式により製造してもよい。すなわち、バリア層が形成された位相差フィルムおよび偏光板（偏光子／保護フィルムの積層体）を所定サイズに裁断して貼り合わせてもよい。あるいは、バリア層が形成された位相差フィルム、偏光子および保護フィルムをそれぞれ所定サイズに裁断して貼り合わせてもよい。バッチ式であれば、ロール状態において偏光子の吸収軸と位相差フィルムの遅相軸との角度を制御する必要がないので、縦延伸または横延伸により得られた位相差フィルムを用いることができる。
【０２２１】
Ｂ．有機ＥＬ表示装置
本発明の有機ＥＬ表示装置は、その視認側に上記Ａ項に記載の有機ＥＬ表示装置用円偏光板を備える。有機ＥＬ表示装置用円偏光板は、粘着剤層が有機ＥＬパネル側となるように（偏光子が視認側となるように）積層されている。
【実施例】
【０２２２】
以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。
【０２２３】
≪評価項目≫
＜発光劣化評価＞
ガラス基板上に有機ＥＬ素子（発光面２ｍｍ□）を作成した後、実施例、比較例で得られた有機ＥＬ表示装置用円偏光板を積層させ、素子の発光劣化を観察した。発光劣化は輝度の半減期を基準とし、６０℃、９０％ＲＨ環境下にて保管し、半減時間が５００時間以上を有するか否かで判断した。半減時間が５００時間以上の場合を○、半減時間が５００時間未満の場合を×とした。
【０２２４】
［製造例１］
（偏光子の作製）
長尺状のポリビニルアルコールフィルムを、ヨウ素を含む水溶液中で染色した後、ホウ酸を含む水溶液中で速比の異なるロール間にて６倍に一軸延伸し、長手方向に吸収軸を有する長尺状の偏光子を得た。この長尺状の偏光子は延伸後、巻き取って巻回体とした。
【０２２５】
［製造例２］
（保護フィルムの準備）
保護フィルムとして、長尺状のトリアセチルセルロースフィルム（厚み４０μｍ、コニカミノルタ社製、商品名：ＫＣ４ＵＹＷ）を用いた。この保護フィルムは巻回体として用意した。なお、この保護フィルムの面内位相差Ｒｅ（５５０）は５ｎｍであり、厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）は４５ｎｍであった。
【０２２６】
［製造例３］
（位相差フィルムの準備）
逆分散の波長依存性を示す市販の位相差フィルム（帝人社製、商品名「ピュアエースＷＲ」）を用いた。この位相差フィルムの面内位相差Ｒｅ（５５０）は１４７ｎｍであり、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は０．８９であり、光弾性係数は６５×１０−１２Ｐａ−１（ｍ２／Ｎ）であった。
【０２２７】
［製造例４］
（薄ガラスの準備）
厚み５０μｍの薄ガラス（日本電気硝子社製、商品名：ＯＡ−１０）を採用した。
【０２２８】
［製造例５］
（導電層付等方性基材の作製）
両面に硬化性樹脂層が形成されたポリシクロオレフィンフィルムを巻き取り式スパッタ装置に投入し、片方の硬化樹脂層の表面に、厚みが２７ｎｍの非晶質のインジウム・スズ酸化物層（透明電極膜）を形成した。
その後、上記のインジウム・スズ酸化物層（透明電極膜）が形成されたポリシクロオレフィンフィルムを、ロールｔｏロール方式で空気循環式オーブンに投入し、１３０℃で９０分間の加熱処理を行い、透明電極膜を非晶質から結晶質に転化させ、透明電極膜の表面抵抗値が１００Ω／□の透明導電性フィルム（導電層付等方性基材）を得た。
【０２２９】
［製造例６］
（粘着剤層の準備）
粘着剤層の材料としては、厚みを１００μｍとしアクリル系の粘着剤（水蒸気透過率：１０００ｇ／ｍ２／ｄａｙ）と２種類のゴム系の粘着剤（５０ｇ／ｍ２／ｄａｙ）を準備した。これらの粘着剤はセパレータの間に挟み込まれた状態であり、５０ｍｍ×８０ｍｍのサイズにトリミングした。
【０２３０】
［実施例１］
製造例１で得られた偏光子、製造例２で得られた保護フィルム、および、製造例３で得られた位相差フィルムを、それぞれ２００ｍｍ×３００ｍｍに切り出した。偏光子と保護フィルムとをポリビニルアルコール系接着剤を介して貼り合わせた。偏光子／保護フィルムの積層体と位相差フィルムとを、アクリル系粘着剤層を介して偏光子と位相差フィルムとが隣接するようにして貼り合わせ、保護フィルム／偏光子／位相差フィルム（第１の位相差フィルム）の構成を有する円偏光板を作製した。その後、作製した円偏光板を５０ｍｍ×８０ｍｍのサイズにトリミングした。なお、位相差フィルムは、貼り合わせた際に、その遅相軸と偏光子の吸収軸とが４５°の角度をなすように切り出した。また、偏光子の吸収軸は長手方向に平行となるように配置した。
次に、製造例４で準備した薄ガラス（４０ｍｍ×７０ｍｍ）の両面に上記円偏光板と製造例５で得られた導電層付等方性基材を、アクリル系接着剤からなる接着剤層（厚み５μｍ）を介して貼り合せ、紫外線を照射して接着剤を硬化させた。その際、積層構成は、薄ガラスに対して偏光子と透明導電膜を外面とした。
続いて、導電層付等方性基材の表面に、製造例６で準備した水蒸気透過率が５０ｇ／ｍ２／ｄａｙのゴム系の粘着剤層を積層した。具体的には、粘着剤層のセパレータの一方を剥離し、剥離面と導電層付等方性基材を貼合せた。
以上のようにして、偏光子／保護フィルム／位相差フィルム／薄ガラス／導電層付等方性基材／粘着剤層の構成からなる有機ＥＬ表示装置用円偏光板（１）を得た。
結果を表１に示した。
【０２３１】
［実施例２］
製造例１で得られた偏光子、製造例２で得られた保護フィルム、および、製造例３で得られた位相差フィルムを、それぞれ２００ｍｍ×３００ｍｍに切り出した。偏光子と保護フィルムとをポリビニルアルコール系接着剤を介して貼り合わせた。偏光子／保護フィルムの積層体と位相差フィルムとを、アクリル系粘着剤層を介して偏光子と位相差フィルムとが隣接するようにして貼り合わせ、保護フィルム／偏光子／位相差フィルム（第１の位相差フィルム）の構成を有する円偏光板を作製した。その後、作製した円偏光板を５０ｍｍ×８０ｍｍのサイズにトリミングした。なお、位相差フィルムは、貼り合わせた際に、その遅相軸と偏光子の吸収軸とが４５°の角度をなすように切り出した。また、偏光子の吸収軸は長手方向に平行となるように配置した。
次に、製造例５で得られた導電層付等方性基材の導電層とは逆面に上記円偏光板を、アクリル系接着剤からなる接着剤層（厚み５μｍ）を介して貼り合せて、積層体とした。
次に、製造例４で準備した薄ガラスと上記積層体の導電層付等方性基材側を、アクリル系接着剤からなる接着剤層（厚み５μｍ）を介して貼り合せ、紫外線を照射して接着剤を硬化させた。
続いて、薄ガラスの表面に、製造例６で準備した水蒸気透過率が５０ｇ／ｍ２／ｄａｙのゴム系の粘着剤層を積層した。具体的には、粘着剤層のセパレータの一方を剥離し、剥離面と導電層付等方性基材を貼合せた。
以上のようにして、偏光子／保護フィルム／位相差フィルム／導電層付等方性基材／薄ガラス／粘着剤層の構成からなる有機ＥＬ表示装置用円偏光板（２）を得た。
結果を表１に示した。
【０２３２】
［比較例１］
薄ガラスに代えて同様の厚みのＰＥＴ基材を用いた以外は実施例１と同様に行い、有機ＥＬ表示装置用円偏光板（１Ｃ）を得た。
結果を表１に示した。
【０２３３】
［比較例２］
水蒸気透過率が５０ｇ／ｍ２／ｄａｙのゴム系の粘着剤層に代えて、水蒸気透過率が１０００ｇ／ｍ２／ｄａｙのアクリル系粘着剤を用いた以外は実施例２と同様に行い、有機ＥＬ表示装置用円偏光板（２Ｃ）を得た。
結果を表１に示した。
【０２３４】
【表１】
0006784481.tif 000016
【産業上の利用可能性】
【０２３５】
本発明の有機ＥＬ表示装置用円偏光板は、有機ＥＬ表示装置に好適に用いられる。
【符号の説明】
【０２３６】
１０      偏光子
２０      位相差層
３０      バリア層
４０      粘着剤層
５０      保護フィルム
１００      有機ＥＬ表示装置用円偏光板
【図１】
0006784481.tif 000017