(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体が充填された容器を搬送する搬送手段、
前記搬送手段による前記容器の搬送方向に沿って配設された複数の散水部及び
前記各散水部の下方に配設され前記各散水部から散水された水を貯水する複数の貯水部を備え、
前記搬送手段により搬送される前記容器に向けて前記散水部ごとに異なる温度の水を散水することによって、前記容器の搬送方向に沿って、上流側から、搬送された前記容器を昇温する昇温領域、昇温された前記容器を保温する保温領域及び保温された前記容器を降温する降温領域が構成されたパストライザであって、
前記昇温領域は、前記容器を段階的に加熱する予熱領域及び前記予熱領域により加熱された前記容器をさらに加熱する加熱領域を有し、
前記降温領域は、前記容器を段階的に冷却する徐冷領域及び前記徐冷領域により冷却された前記容器をさらに冷却する冷却領域を有し、
前記予熱領域の貯水部に貯水された水を前記徐冷領域の散水部に送水する低温経路及び前記徐冷領域の貯水部に貯水された水を前記予熱領域の散水部に送水する高温経路を有する相互循環手段、
前記加熱領域、前記保温領域及び前記冷却領域のそれぞれの貯水部に貯水された水をそれぞれの散水部に送水する経路を有する自己循環手段、
少なくとも前記予熱領域、前記加熱領域、前記保温領域、前記徐冷領域及び前記冷却領域において散水される水に加熱蒸気を供給する加熱手段、
少なくとも前記予熱領域、前記加熱領域、前記保温領域、前記徐冷領域及び前記冷却領域において散水される水に系外から冷却水を供給する冷却手段、
前記冷却領域の貯水部に系外から補給水を供給する、前記冷却手段とは別の供給手段並びに
前記冷却領域の貯水部に貯水された水の一部をその他の貯水部に供給する再供給手段を備えているパストライザ。
【請求項２】
前記各貯水部に設けられた水位計及び
少なくとも前記供給手段及び前記再供給手段による水の供給及び停止を制御する制御手段を備え、
前記制御手段は、前記冷却領域の貯水部に設けられた前記水位計により検出された水位が所定の基準水位以下に設定された所定の渇水水位未満であるときは、前記供給手段により処理水を供給し、
前記冷却領域の貯水部以外の貯水部に設けられた前記各水位計により検出された水位が前記渇水水位未満であるときは、前記再供給手段により水を供給する請求項１に記載のパストライザ。
【請求項３】
前記制御手段は、さらに前記冷却手段による前記各貯水部への冷却水の供給及び停止を制御し、
前記供給手段及び前記再供給手段による水の供給によっても、前記貯水部の水位が前記所定の基準水位に満たないときは、前記冷却手段により系外から冷却水を前記貯水部に供給する請求項２に記載のパストライザ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液体が充填された容器を搬送する搬送手段、前記搬送手段による前記容器の搬送方向に沿って配設された複数の散水部及び前記各散水部の下方に配設され前記各散水部から散水された水を貯水する複数の貯水部を備え、前記搬送手段により搬送される前記容器に向けて前記散水部ごとに異なる温度の水を散水することによって、前記容器の搬送方向に沿って、上流側から、搬送された前記容器を昇温する昇温領域、昇温された前記容器を保温する保温領域及び保温された前記容器を降温する降温領域が構成されたパストライザに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液体が充填された容器を熱処理するための装置であるパストライザは、一般に、容器を搬送する搬送コンベヤの上方に散水ノズルが、そして下方に貯水タンクが設置され、この貯水タンク内の水をポンプにより散水ノズルに送って容器に散水し、散水された水を貯水タンクに環流させるようになっている。
【０００３】
パストライザでは、それぞれ散水温度が異なる複数の散水領域を有している。これら各散水領域において容器に水を散水して貯水タンクに環流させると、散水された水は容器と熱交換されるため、各散水領域の貯水タンク内の水が時間の経過とともに温度が上昇し、又は下降してしまう。
そこで、各貯水タンクに加熱蒸気と冷却水の供給配管を接続し、貯水タンク内の水の温度が下降したら加熱蒸気を供給し、温度が上昇した場合には冷却水を供給することにより、各散水領域の水の温度を設定温度に維持するように制御している。
【０００４】
このような水の温度制御をするにあたり、特許文献１に示すパストライザは、それぞれ散水温度が異なる複数の散水領域を有し、第１貯水部３Ｇに貯水された水を第７散水ノズル４Ａに送水し、第７貯水部３Ａに貯水された水を第１領域の散水ノズル４Ｇに送水するような循環手段を有することによって、加熱蒸気や冷却水の使用量の低減を達成している。なお、当該説明における符号は特許文献１におけるものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１１−１３６７４０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
パストライザにおいては使用する水の量が膨大であり、その使用及び排水処理に費用がかかるため、系外から供給される水の使用量を極力抑えることが要望されていた。
【０００７】
本発明の目的は、各散水領域において散水される水の温度調節及び貯水量の調節のために、系外から供給される冷却水量を低減できるパストライザを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上述の目的を達成するための、本発明によるパストライザの特徴構成は、液体が充填された容器を搬送する搬送手段、前記搬送手段による前記容器の搬送方向に沿って配設された複数の散水部及び前記各散水部の下方に配設され前記各散水部から散水された水を貯水する複数の貯水部を備え、前記搬送手段により搬送される前記容器に向けて前記散水部ごとに異なる温度の水を散水することによって、前記容器の搬送方向に沿って、上流側から、搬送された前記容器を昇温する昇温領域、昇温された前記容器を保温する保温領域及び保温された前記容器を降温する降温領域が構成されたパストライザであって、前記昇温領域は、前記容器を段階的に加熱する予熱領域及び前記予熱領域により加熱された前記容器をさらに加熱する加熱領域を有し、前記降温領域は、前記容器を段階的に冷却する徐冷領域及び前記徐冷領域により冷却された前記容器をさらに冷却する冷却領域を有し、前記予熱領域の貯水部に貯水された水を前記徐冷領域の散水部に送水する低温経路及び前記徐冷領域の貯水部に貯水された水を前記予熱領域の散水部に送水する高温経路を有する相互循環手段、前記加熱領域、前記保温領域及び前記冷却領域のそれぞれの貯水部に貯水された水をそれぞれの散水部に送水する経路を有する自己循環手段、少なくとも前記予熱領域、前記加熱領域、前記保温領域、前記徐冷領域及び前記冷却領域において散水される水に加熱蒸気を供給する加熱手段、少なくとも前記予熱領域、前記加熱領域、前記保温領域、前記徐冷領域及び前記冷却領域において散水される水に系外から冷却水を供給する冷却手段、前記冷却領域の貯水部に系外から補給水を供給する供給手段並びに前記冷却領域の貯水部に貯水された水の一部をその他の貯水部に供給する再供給手段を備えている点にある。
【０００９】
相互循環手段により散水される水が相互に循環するような予熱領域や徐冷領域においては、散水の温度調節が必須である。仮にこのような領域に系外の補給水を供給すると、所定の設定値まで水の温度を上げるために加熱蒸気を大量に供給する必要が生じる虞がある。
これに対して、冷却領域においては、基本的に貯水部に貯水された水を加熱する必要はなく、さらに己循環手段により散水される水の循環が自己で完結するため、補給水を供給して、この領域の貯水部の水の温度が下がったとしても、加熱蒸気により温度を上昇させる必要がないため上述のような加熱蒸気の供給が不要である点において、省エネを達成できる。
【００１０】
さらに、冷却領域の貯水部に供給した補給水を、再供給する構成とすることにより、その他の貯水部に直接補給水を供給する場合に比べて、補給水量を低減できる。
冷却手段の貯水部に供給された補給水は、当該貯水部に貯水された水と混ざり温められる。再供給手段により当該貯水部からその他の貯水部へ供給される水は、供給手段により前記貯水部に供給される補給水の温度よりも高い。
したがって、その他の貯水部に補給水を直接供給する場合に比べて、各貯水部に貯水された水の温度の急激な低下を防止できる。そのため、各貯水部に貯水された水を加熱する際の加熱蒸気の量も低減できる。
【００１１】
本発明においては前記各貯水部に設けられた水位計及び少なくとも前記供給手段及び前記再供給手段による水の供給及び停止を制御する制御手段を備え、前記制御手段は、前記冷却領域の貯水部に設けられた前記水位計により検出された水位が所定の基準水位以下に設定された所定の渇水水位未満であるときは、前記供給手段により処理水を供給し、前記冷却領域の貯水部以外の貯水部に設けられた前記各水位計により検出された水位が前記渇水水位未満であるときは、前記再供給手段により水を供給すると好適である。
【００１２】
制御手段により、各貯水部の水位に基づいて、冷却領域の貯水部に供給した補給水を、自動的に再供給できる。
【００１３】
本発明においては、前記制御手段は、さらに前記冷却手段による前記各貯水部への冷却水の供給及び停止を制御し、前記供給手段及び前記再供給手段による水の供給によっても、前記貯水部の水位が前記所定の基準水位に満たないときは、前記冷却手段により系外から冷却水を前記貯水部に供給すると好適である。
【００１４】
各貯水部に貯水された水の量が減ったときには、冷却手段による冷却水、例えば上水の供給に先立って、供給手段による補給水の供給、及び再供給手段による水の供給を行う。
冷却手段は、供給手段及び再供給手段による水の供給によっても、各貯水部の水位が前記所定の基準水位に満たないときに、系外から冷却水を各貯水部に供給するように構成されているため、上水の使用量の低減が図られる。
なお、各貯水部に貯水された水の量が各貯水部における所定の貯水量を上回った場合は、当該水を廃棄するだけでなく当該パストライザ以外の別の工場設備において再利用することもできる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】パストライザの概略図
【図２】パストライザの要部説明図
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下に、パストライザの実施形態について、図面を参照して説明する。
図１に示すように、パストライザ１００は、液体が充填された容器１に熱処理を行う装置であり、容器１を搬送する搬送手段２、搬送手段２による容器１の搬送方向に沿って容器１の搬送経路の上方に配設された八つの散水部３（３Ａ―３Ｈ）及び各散水部３（３Ａ―３Ｈ）の下方に配設され各散水部３（３Ａ―３Ｈ）から散水された水を貯水する八つの貯水部４（４Ａ―４Ｈ）等を備えている。
【００１７】
搬送手段２は、搬送コンベアから構成され、各散水部３（３Ａ―３Ｈ）はそれぞれ複数の散水ノズルから構成され、各貯水部４（４Ａ―４Ｈ）はそれぞれ貯水タンクから構成されている。なお、容器１は単一の容器１を指すこともあるし、熱処理が行われる１ロットの容器群を指すこともある。
【００１８】
パストライザ１００には、搬送手段２により搬送される容器１に向けて散水部３（３Ａ―３Ｈ）ごとに異なる温度の水を散水して、水と容器１とを熱交換させることにより、容器１の搬送方向に沿って、上流側から、搬送された容器１を昇温する昇温領域１０、昇温された容器を保温する保温領域２０及び保温された容器１を降温する降温領域３０が構成されている。なお、図示はしていないが、降温領域３０の下流側に、降温領域３０の散水温度より低い温度の水により容器１を洗浄する洗浄領域を備えてもよい。
【００１９】
本実施形態においては、散水部３Ａ及び貯水部４Ａ、散水部３Ｂ及び貯水部４Ｂ並びに散水部３Ｃ及び貯水部４Ｃが昇温領域１０を構成し、散水部３Ｄ及び貯水部４Ｄ並びに散水部３Ｅ及び貯水部４Ｃが保温領域２０を構成し、散水部３Ｆ及び貯水部４Ｆ、散水部３Ｇ及び貯水部４Ｇ並びに散水部３Ｈ及び貯水部４Ｈが降温領域３０を構成する。
【００２０】
昇温領域１０は、搬送された容器１よりも高温の水を散水して容器１を昇温する散水領域である。
昇温領域１０は、容器１の搬送方向に沿って、上流側から、第一予熱領域１１、第二予熱領域１２、及び加熱領域１３とを有している。
【００２１】
第一予熱領域１１及び第二予熱領域１２は、下流側の加熱領域１３において比較的高温の水を容器１に散水して加熱を行うために、徐々に容器１の温度を上昇させるために設けられている。
加熱領域１３は、第二予熱領域１２により加熱された容器１をさらに加熱するために設けられている。
本実施形態においては、散水部３Ａ及び貯水部４Ａが第一予熱領域１１を構成し、散水部３Ｂ及び貯水部４Ｂが第二予熱領域１２を構成し、散水部３Ｃ及び貯水部４Ｃが加熱領域１３を構成する。
【００２２】
第一予熱領域１１においては、常温のまま搬送されてきた容器１に約３５℃の水を散水する。この散水により常温の容器１は約２５℃まで昇温され、散水された水の温度は数度低下する。
第二予熱領域１２においては、第一予熱領域１１から搬送されてきた容器１に約４５℃の水を散水する。この散水により約２５℃の容器１は約３６℃まで昇温され、散水された水の温度は数度低下する。
加熱領域１３においては、第二予熱領域１２から搬送されてきた容器１に約７０℃の水を散水する。この散水により約３６℃の容器１は約７０℃まで昇温され、散水された水の温度は数度低下する。
【００２３】
保温領域２０は、昇温領域１０において散水された水よりも低温の水を散水することによって昇温された容器１の温度を所定の殺菌温度に維持する散水領域である。
保温領域２０は、容器１の搬送方向に沿って、上流側から、第一保温領域２１及び第二保温領域２２を有している。
【００２４】
第一保温領域２１及び第二保温領域２２は、昇温領域１０において昇温された容器１に段階に異なる温度の水を散水することによって、容器１の温度を所定の殺菌温度に維持するために設けられている。
本実施形態においては、散水部３Ｄ及び貯水部４Ｄが第一保温領域２１を構成し、散水部３Ｅ及び貯水部４Ｅが第二保温領域２２を構成する。
【００２５】
第一保温領域２１においては、加熱領域１３から搬送されてきた容器１に約６３℃の水を散水する。この散水により約６５℃の容器１は約６３℃程度に維持され、散水された水の温度は数度低下する。
第二保温領域２２においては、第一保温領域２１から搬送されてきた容器１に約６３℃の水を散水する。この散水により約６３℃の容器１は約６０℃程度に維持され、散水された水の温度は数度低下する。
【００２６】
降温領域３０は、保温領域２０において散水された水よりもさらに低温の水を散水することによって容器１を降温する散水領域である。
降温領域３０は、容器１の搬送方向に沿って、上流側から、第一徐冷領域３１、第二徐冷領域３２及び冷却領域３３とを有している。
【００２７】
第一徐冷領域３１及び第二徐冷領域３２は、下流側の冷却領域３３から系外へと搬送される容器１を常温に近い温度まで冷却できるように、徐々に容器１の温度を降下させるように構成されている。
冷却領域３３は、第二徐冷領域３２により冷却された容器１をさらに冷却するために設けれている。
本実施形態においては、散水部３Ｆ及び貯水部４Ｆが第一徐冷領域３１を構成し、散水部３Ｇ及び貯水部４Ｇが第二徐冷領域３２を構成し、散水部３Ｈ及び貯水部４Ｈが冷却領域３３を構成する。
【００２８】
第一徐冷領域３１においては、保温領域２０において保温された容器１に約４３℃の水を散水する。この散水により約６０℃の容器１は約５３℃程度に降温され、散水された水の温度は数度上昇する。
第二徐冷領域３２においては、第一徐冷領域３１から搬送されてきた容器１に約３３℃の水を散水する。この散水により約５３℃の容器１は約４２℃程度に降温され、散水された水の温度は数度上昇する。
冷却領域３３においては、第二徐冷領域３２から搬送されてきた容器１に約３０℃の水を散水する。この散水により約４２℃の容器１は約３９℃程度に降温され、散水された水の温度は数度上昇する。
【００２９】
さらに、パストライザ１００は、各貯水部４（４Ａ―４Ｈ）に貯水された水を所定の散水部３（３Ａ―３Ｈ）に循環させるための相互循環手段及び自己循環手段を備えている。
前記相互循環手段及び前記自己循環手段は、各貯水部４（４Ａ―４Ｈ）と所定の各散水部３（３Ａ―３Ｈ）とを接続する配管、前記配管中に配設されたポンプ及びバルブ等から構成されている。
【００３０】
前記相互循環手段は、低温経路４０及び高温経路５０を有している。
低温経路４０は、昇温領域１０の貯水部４Ａ，４Ｂに貯水された水を降温領域３０の散水部３Ｇ，３Ｆに送水する経路であり、第一予熱領域１１の貯水部４Ａに貯水された水を第二徐冷領域３２の散水部３Ｇに送水する第一低温経路４１及び第二予熱領域１２の貯水部４Ｂに貯水された水を第一徐冷領域３１の散水部３Ｆに送水する第二低温経路４２を有している。
高温経路５０は、降温領域３０の貯水部４Ｇ，４Ｆに貯水された水を昇温領域１０の散水部３Ａ，３Ｂに送水する経路であり、第二徐冷領域３２の貯水部４Ｇに貯水された水を第一予熱領域１１の散水部３Ａに送水する第一高温経路５１及び第一徐冷領域３１の貯水部４Ｆに貯水された水を第二予熱領域１２の散水部３Ｂに送水する第二高温経路５２を有している。
【００３１】
前記自己循環手段は、加熱経路６０、第一保温経路６１、第二保温経路６２及び冷却経路６３を有している。
加熱経路６０は、加熱領域１３の貯水部４Ｃに貯水された水を加熱領域１３の散水部３Ｃに送水する経路である。
第一保温経路６１は、第一保温領域２１の貯水部４Ｄに貯水された水を第一保温領域２１の散水部３Ｄに送水する経路である。
第二保温経路６２は、第二保温領域２２の貯水部４Ｅに貯水された水を第二保温領域２２の散水部３Ｅに送水する経路である。
冷却経路６３は、冷却領域３３の貯水部４Ｈに貯水された水を冷却領域３３の散水部３Ｈに送水する経路である。
【００３２】
各貯水部４（４Ａ―４Ｈ）には、各貯水部４（４Ａ―４Ｈ）に貯水された水に加熱蒸気を供給する加熱手段７（７Ａ―７Ｈ）及び各貯水部４（４Ａ―４Ｈ）に貯水された水に系外から冷却水を供給する冷却手段８（８Ａ―８Ｈ）が接続されている。
さらに、貯水部４Ｈには、系外から補給水を供給する供給手段９Ｈが接続されている。
また、各貯水部４Ａ―４Ｇと貯水部４Ｈとは、貯水部４Ｈに貯水された水の一部を各貯水部４Ａ―４Ｇにそれぞれ供給する再供給手段９Ａ−９Ｇにより接続されている。
加熱手段７（７Ａ―７Ｈ）は、各貯水部４（４Ａ―４Ｈ）に接続された蒸気管及び前記蒸気管に接続された蒸気発生装置から構成されている。
冷却手段８（８Ａ―８Ｈ）は、各貯水部４（４Ａ―４Ｈ）と図示しない冷却水源とを接続する配管及び前記配管中に配設されたポンプから構成されている。なお、冷却水源には水道事業者が提供する上水が例示できる。
供給手段９Ｈは、貯水部４Ｈと図示しない補給水源とを接続する配管、前記配管中に配設されたポンプ及びバルブ等から構成されている。なお、補給水源には当該パストライザ１００が配設されている工場設備のその他の装置から回収された排水、好ましくは容器の製造装置から排水されたリンス水が例示できる。
再供給手段９Ａ−９Ｇは、各貯水部４Ａ―４Ｇと貯水部４Ｈとをそれぞれ接続する配管、前記配管中に配設されたポンプ及びバルブ等から構成されている。
【００３３】
各貯水部４（４Ａ―４Ｈ）には、温度計（図示せず）、水位計ＬＳ及びオーバーフロー用のドレン配管（図示せず）がそれぞれ設けられている。
【００３４】
さらに、パストライザ１００は、加熱手段７（７Ａ―７Ｈ）による加熱蒸気の供給及び停止の制御、並びに冷却手段８（８Ａ―８Ｈ）による冷却水の供給及び停止、供給手段９Ｈによる補給水の供給及び停止の制御、並びに再供給手段９Ａ−９Ｇによる水の供給及び停止の制御をする制御手段を備えている。前記制御手段は、ＣＰＵやＲＯＭを備え、複数のプログラムを所定の順序に沿って呼び出して実行する処理装置から構成されている。
【００３５】
前記制御手段には、各貯水部４（４Ａ―４Ｈ）に貯水される水の好ましい温度や水位の設定値が予め記憶されている。
【００３６】
前記制御手段は、各貯水部４（４Ａ―４Ｈ）に貯水されている水の温度及び水位が所定の設定値となるように、加熱手段７（７Ａ―７Ｈ）、冷却手段８（８Ａ―８Ｈ）、供給手段９Ｈ及び再供給手段９Ａ−９Ｇを制御する。例えば、水の温度が設定温度よりも低下したときには加熱手段７（７Ａ―７Ｈ）により加熱蒸気を供給して水の温度を上昇させ、設定温度よりも高くなったときには冷却手段８（８Ａ―８Ｈ）、供給手段９Ｈ及び再供給手段９Ａ−９Ｇにより水を供給して水の温度を低下させるようになっている。
【００３７】
冷却手段８（８Ａ―８Ｈ）は、供給手段９Ｈ及び再供給手段９Ａ−９Ｇによる水の供給によっても、各貯水部４（４Ａ―４Ｈ）の水位が前記所定の基準水位に満たないときに、系外から冷却水を各貯水部４（４Ａ―４Ｈ）に供給するように構成されている。このようにして上水の使用量の低減が図られる。
水の温度が設定温度より所定の閾値以上乖離したときには異常温度警報を報知するようになっている。また、水の水位が基準水位以下に設定された所定の渇水水位未満であるときは、水を供給して水の水位を上昇させ、基準水位より所定の閾値以上乖離したときには異常水位警報を報知するようになっている。
【００３８】
上述したように、第一予熱領域１１における散水温度は約３５℃である。第一予熱領域１１の散水部３Ａから散水される水は、第二徐冷領域３２の貯水部４Ｇに貯水された水が、第一高温経路５１を介して送水されるものある。したがって、前記制御手段は、第二徐冷領域３２の貯水部４Ｇに貯水された水の温度が約３５℃となるように加熱手段７Ｇ、冷却手段８Ｇ及び再供給手段９Ｇを制御する。
【００３９】
第二予熱領域１２における散水温度は約４５℃である。第二予熱領域１２の散水部３Ｂから散水される水は、第一徐冷領域３１の貯水部４Ｆに貯水された水が、第二高温経路５２を介して送水されるものある。したがって、前記制御手段は、第一徐冷領域３１の貯水部４Ｆに貯水された水の温度が約４５℃となるように加熱手段７Ｆ、冷却手段８Ｆ及び再供給手段９Ｆを制御する。
【００４０】
加熱領域１３における散水温度は約７０℃である。加熱領域１３の散水部３Ｃから散水される水は、加熱領域１３の貯水部４Ｃに貯水された水が、加熱経路６０を介して送水されるものである。したがって、前記制御手段は、加熱領域１３の貯水部４Ｃに貯水された水の温度が約７０℃となるように加熱手段７Ｃ、冷却手段８Ｃ及び再供給手段９Ｃを制御する。
【００４１】
第一保温領域２１における散水温度は約６３℃である。第一保温領域２１の散水部３Ｄから散水される水は、第一保温領域２１の貯水部４Ｄに貯水された水が、第一保温経路６１を介して送水されるものである。したがって、前記制御手段は、第一保温領域２１の貯水部４Ｄに貯水された水の温度が約６３℃となるように加熱手段７Ｄ、冷却手段８Ｄ及び再供給手段９Ｄを制御する。
【００４２】
第二保温領域２２における散水温度は約６３℃である。第二保温領域２２の散水部３Ｅから散水される水は、第二保温領域２２の貯水部４Ｅに貯水された水が、第二保温経路６２を介して送水されるものである。したがって、前記制御手段は、第二保温領域２２の貯水部４Ｅに貯水された水の温度が約６３℃となるように加熱手段７Ｅ、冷却手段８Ｅ及び再供給手段９Ｅを制御する。
【００４３】
第一徐冷領域３１における散水温度は約４３℃である。第一徐冷領域３１の散水部３Ｆから散水される水は、第二予熱領域１２の貯水部４Ｂに貯水された水が、第二低温経路４２を介して送水されるものある。したがって、前記制御手段は、第二予熱領域１２の貯水部４Ｂに貯水された水の温度が約４３℃となるように加熱手段７Ｂ、冷却手段８Ｂ及び再供給手段９Ｂを制御する。
【００４４】
第二徐冷領域３２における散水温度は約３３℃である。第二徐冷領域３２の散水部３Ｇから散水される水は、第一予熱領域１１の貯水部４Ａに貯水された水が、第一低温経路４１を介して送水されるものある。したがって、前記制御手段は、第一予熱領域１１の貯水部４Ａに貯水された水の温度が約３３℃となるように加熱手段７Ａ、冷却手段８Ａ及び再供給手段９Ａを制御する。
【００４５】
冷却領域３３における散水温度は約３０℃である。冷却領域３３の散水部３Ｈから散水される水は、冷却領域３３の貯水部４Ｈに貯水された水が、冷却経路６３を介して送水すいされるものである。したがって、前記制御手段は、冷却領域３３の貯水部４Ｈに貯水された水の温度が約３０℃となるように加熱手段７Ｈ、冷却手段８Ｈ及び供給手段９Ｈを制御する。
【００４６】
パストライザ１００は容器１の熱処理を行うにあたり、上述のように昇温領域１０、保温領域２０及び降温領域３０において散水する水の温度を細分化することによって散水する水の温度の制御性を向上させている。これにより、殺菌温度の精度の向上が達成される。
また、容器１の熱処理を行うにあたり、上述のように昇温領域１０及び降温領域３０の一部において、散水される水を相互に循環させることにより、散水する水の温度を制御するための加熱蒸気及び冷却水の供給量を低減できるため、省エネを達成できる。
さらに、各貯水部４（４Ａ−４Ｈ）に貯水された水の量が減ったときには、冷却手段８（８Ａ−８Ｈ）による冷却水、例えば上水の供給に先立って、供給手段９Ｈによる補給水の供給、及び再供給手段９Ａ−９Ｇによる水の供給を行うため、上水の使用量は少なくて済む。なお、各貯水部４（４Ａ―４Ｈ）に貯水された水の量が各貯水部４（４Ａ―４Ｈ）における所定の貯水量を上回った場合は、当該水を廃棄するだけでなく当該パストライザ以外の別の工場設備において再利用することもできる。
【００４７】
上述のように、貯水部４Ｈに供給した補給水を、再供給する構成とすることにより、各貯水部４Ａ―４Ｇに直接補給水を供給する場合に比べて、補給水量を低減できる。
また、貯水部４Ｈに供給された補給水は、貯水部４Ｈに貯水された水と混ざり温められる。再供給手段９Ａ−９Ｇにより、貯水部４Ｈから各貯水部４Ａ−４Ｇへ供給される水は、供給手段９Ｈにより貯水部４Ｈに供給される補給水の温度よりも高い。
したがって、各貯水部４Ａ―４Ｇに補給水を直接供給する場合に比べて、各貯水部４Ａ−４Ｇに貯水された水の温度の急激な低下を防止できる。そのため、各貯水部４Ａ−４Ｇに貯水された水を加熱する際の加熱蒸気の量も低減できる。
【００４８】
なお、上述の実施形態においては、各貯水部４Ａ―４Ｇと貯水部４Ｈとが、貯水部４Ｈに貯水された水の一部を各貯水部４Ａ―４Ｇにそれぞれ供給する再供給手段９Ａ−９Ｇにより接続された構成について説明したがこれに限らない。一部の貯水部４と貯水部４Ｈのみが、貯水部４Ｈに貯水された水の一部を一部の貯水部４に供給する再供給手段を備えた構成であってもよい。
例えば、昇温領域１０においては、基本的には、降温領域３０の水を加熱したものが散水されている。したがって、この昇温領域１０に対して散水する水を冷却する必要性は少ない。したがって、降温領域３０のうち第一徐冷領域３１の貯水部４Ｆ及び第二徐冷領域３２の貯水部４Ｇ並びに昇温領域１０のうち加熱領域１３の貯水部４Ｃには、再供給手段を接続しないことも考えられる。
【００４９】
その他の構成に関しても、本明細書において開示された実施形態はすべての点において例示であって、本発明の範囲はそれらによって限定されることはないと理解されるべきである。当業者であれば、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、適宜改変が可能であることを容易に理解できるであろう。したがって、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において改変された別の実施形態も、当然、本発明の範囲に含まれる。
【符号の説明】
【００５０】
１                ：容器
２                ：搬送手段
３（３Ａ−３Ｈ）  ：散水部
４（４Ａ−４Ｈ）  ：貯水部
７（７Ａ−７Ｈ）  ：加熱手段
８（８Ａ−８Ｈ）  ：冷却手段
９Ａ−９Ｇ        ：再供給手段
９Ｈ              ：供給手段
１０              ：昇温領域
１３              ：加熱領域
２０              ：保温領域
３０              ：降温領域
３３              ：冷却領域
４０              ：低温経路
５０              ：高温経路
１００            ：パストライザ
ＬＳ              ：水位計
【図１】
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【図２】
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