(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
チャンバ内において、投影光学系を介して基板を露光する露光装置であって、
前記基板を保持して移動可能なステージと、
前記チャンバ内に気体を吹き出す吹出部と、
前記ステージと前記吹出部との間に配置され、第１方向に光を射出し、前記ステージで反射された光に基づいて前記第１方向における前記ステージの位置を検出する検出部と、
前記吹出部から吹き出された気体を、前記投影光学系と前記基板との間の第１空間、および前記検出部からの光が通る第２空間に導く導風部と、
を含み、
前記導風部は、
前記基板に沿う方向の気体の流れが前記第１空間に形成されるように、前記吹出部から吹き出された気体を前記第１空間に導く第１導風部分と、
前記第１方向と異なる第２方向に沿った気体の流れが前記第２空間に形成されるように、前記吹出部から吹き出された気体を前記第２空間に導く第２導風部分とを含み、
前記吹出部と前記導風部とは、前記第１方向に間隔をあけて配置され、前記導風部は、前記第１方向において前記検出部と前記投影光学系との間に配置されている、ことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記第２導風部分は、前記吹出部から吹き出された気体を前記第２空間の上方から前記第２空間に導く、ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記第２空間は、前記投影光学系および前記吹出部よりも下方に位置する空間である、ことを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記第１導風部分および前記第２導風部分は、前記第２空間よりも上方に設けられている、ことを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項５】
前記吹出部は、前記気体を吹き出す吹出口を含む、ことを特徴とする請求項１乃至４のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項６】
前記導風部は、前記吹出口と前記投影光学系との間に配置され、
前記導風部および前記吹出口は、間隔を隔てて配置されている、ことを特徴とする請求項５に記載の露光装置。
【請求項７】
前記ステージが載置される第１定盤と、前記第１定盤に対向し且つ前記投影光学系を支持する第２定盤とを更に含み、
前記導風部は、前記第２定盤によって支持され、且つ前記第１定盤と前記第２定盤との間に配置されている、ことを特徴とする請求項１乃至６のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項８】
前記導風部は、前記吹出部から吹き出された気体を、前記第２定盤と前記第１導風部分との間に流すための第３導風部分を更に含む、ことを特徴とする請求項７に記載の露光装置。
【請求項９】
前記検出部は、前記吹出部と前記導風部との間に配置された支柱を介して前記第２定盤によって支持され、
前記露光装置は、前記吹出部から吹き出された気体が前記支柱を回り込んで前記導風部に導かれるように前記支柱を挟み込む複数の整流板を含む、ことを特徴とする請求項７又は８に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記吹出部と前記導風部との間に配置され、前記吹出部から吹き出された気体を前記導風部に導く第２導風部を更に備える、
ことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１１】
前記第２導風部分は、前記第２空間において前記第１方向の位置が互いに異なる複数の領域に気体を導くように離隔して配置された複数の板部材を含む、ことを特徴とする請求項１乃至１０のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１２】
前記第２方向と前記検出部から光が射出される方向との間の角度は、０度より大きく且つ３０度以下の角度である、ことを特徴とする請求項１乃至１１のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１３】
前記第２導風部分は、前記第１導風部分の下において、前記第１導風部分に固定されている、ことを特徴とする請求項１乃至１２のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１４】
前記第１導風部分は、前記吹出部から吹き出された気体を取り込む第１開口と、前記第１開口から取り込んだ気体を吹き出す第２開口とを含み、
前記第２開口は前記第１開口より小さい、ことを特徴とする請求項１乃至１３のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１５】
前記第２開口は、前記第１開口の大きさの１／５倍以上の大きさを有する、ことを特徴とする請求項１４に記載の露光装置。
【請求項１６】
前記導風部は、前記第１空間の外側の空間において前記第１方向に沿った気体の流れが形成されるように、前記吹出部から吹き出された気体を前記第１空間の外側の空間に導く第４導風部分を含む、ことを特徴とする請求項１乃至１５のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１７】
前記第１導風部分から吹き出され且つ前記第１空間を流れた気体を排出する排気部を更に含む、ことを特徴とする請求項１乃至１６のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１８】
前記チャンバは、前記投影光学系、前記ステージおよび前記検出部を収容する、ことを特徴とする請求項１乃至１７のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１９】
前記第１方向とは異なる第３方向に光を射出し、前記ステージで反射された光に基づいて前記第３方向における前記ステージの位置を検出する第２検出部と、
前記第２検出部からの光が通る空間に気体を吹き出す第２吹出部と、
を更に含むことを特徴とする請求項１乃至１８のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項２０】
投影光学系を介して基板を露光する露光装置であって、
前記基板を保持して移動可能なステージと、
第１方向に光を射出し、前記ステージで反射された光に基づいて前記第１方向における前記ステージの位置を検出する検出部と、
気体を吹き出す吹出部と、
前記第１方向において前記検出部と前記投影光学系との間に配置され、前記吹出部から吹き出された気体を、前記投影光学系と前記基板との間の第１空間、および前記検出部からの光が通る第２空間に導く導風部と、
前記ステージが載置される第１定盤と、
前記第１定盤に対向し且つ前記投影光学系を支持する第２定盤と、
を含み、
前記導風部は、前記第２定盤によって支持され且つ前記第１定盤と前記第２定盤との間に配置されているとともに、
前記基板に沿う方向の気体の流れが前記第１空間に形成されるように、前記吹出部から吹き出された気体を前記第１空間に導く第１導風部分と、
前記第１方向と異なる第２方向に沿った気体の流れが前記第２空間に形成されるように、前記吹出部から吹き出された気体を前記第２空間に導く第２導風部分と、
前記吹出部から吹き出された気体を、前記第２定盤と前記第１導風部分との間に流すための第３導風部分とを含む、ことを特徴とする露光装置。
【請求項２１】
投影光学系を介して基板を露光する露光装置であって、
前記基板を保持して移動可能なステージと、
第１方向に光を射出し、前記ステージで反射された光に基づいて前記第１方向における前記ステージの位置を検出する検出部と、
気体を吹き出す吹出部と、
前記吹出部から吹き出された気体を、前記投影光学系と前記基板との間の第１空間、および前記検出部からの光が通る第２空間に導く導風部と、
前記ステージが載置される第１定盤と、
前記第１定盤に対向し且つ前記投影光学系を支持する第２定盤と、
を含み、
前記導風部は、前記第２定盤によって支持され且つ前記第１定盤と前記第２定盤との間に配置されているとともに、
前記基板に沿う方向の気体の流れが前記第１空間に形成されるように、前記吹出部から吹き出された気体を前記第１空間に導く第１導風部分と、
前記第１方向と異なる第２方向に沿った気体の流れが前記第２空間に形成されるように、前記吹出部から吹き出された気体を前記第２空間に導く第２導風部分とを含み、
前記検出部は、前記吹出部と前記導風部との間に配置された支柱を介して前記第２定盤によって支持され、
前記露光装置は、前記吹出部から吹き出された気体が前記支柱を回り込んで前記導風部に導かれるように前記支柱を挟み込む複数の整流板を含む、ことを特徴とする露光装置。
【請求項２２】
投影光学系を介して基板を露光する露光装置であって、
前記基板を保持して移動可能なステージと、
第１方向に光を射出し、前記ステージで反射された光に基づいて前記第１方向における前記ステージの位置を検出する検出部と、
気体を吹き出す吹出部と、
前記吹出部から吹き出された気体を、前記投影光学系と前記基板との間の第１空間、および前記検出部からの光が通る第２空間に導く導風部と、
を含み、
前記導風部は、
前記基板に沿う方向の気体の流れが前記第１空間に形成されるように、前記吹出部から吹き出された気体を前記第１空間に導く第１導風部分と、
前記第１方向において前記検出部と前記投影光学系との間に配置され、前記第１方向と異なる第２方向に沿った気体の流れが前記第２空間に形成されるように、前記吹出部から吹き出された気体を前記第２空間に導く第２導風部分と、
前記第１空間の外側の空間において前記第１方向に沿った気体の流れが形成されるように、前記吹出部から吹き出された気体を前記第１空間の外側の空間に導く第４導風部分とを含む、ことを特徴とする露光装置。
【請求項２３】
請求項１乃至２２のうちいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された前記基板を現像する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置、および物品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスなどの製造工程（リソグラフィ工程）で用いられる装置の１つとして、基板を露光する露光装置がある。露光装置は、マスクに形成されたパターンの像を投影光学系を介して基板上の感光材（レジスト）に投影することにより、マスクのパターンを基板上の感光材に転写することができる。
【０００３】
露光装置では、基板上の感光材が露光されると、感光材からガスが発生しうる。そして、感光材から発生したガスに、投影光学系の光学素子（例えばレンズ）が曝されると、投影光学系における光の透過率が低下したり、フレアが発生したりといった露光性能の低下が生じうる。また、感光材から発生したガスが、基板ステージの位置を検出する検出部（例えばレーザ干渉計）から射出された光の光路に流入すると、光路上の屈折率が変化し、基板ステージの位置の検出結果に誤差が生じうる。その結果、基板ステージを高精度に制御することが困難になりうる。特許文献１には、感光材から発生したガスによる影響を低減するため、投影光学系と基板との間の空間において不活性ガスの給気および排気を行う給排気部を設けた露光装置が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−２２８４９７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
露光装置には、例えば、投影光学系や基板ステージを収容する収容室（例えばチャンバ）の内部のクリーン度を保つため、清浄化された気体を収容室に吹き出す吹出部（吹出口）が設けられうる。この場合において、特許文献１に記載された給排気部を吹出部とは別に設けると、装置構成が複雑化するとともに装置コストも増加しうる。
【０００６】
そこで、本発明は、基板上の感光材から発生したガスの影響を低減させるために有利な露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての露光装置は、チャンバ内において、投影光学系を介して基板を露光する露光装置であって、前記基板を保持して移動可能なステージと、前記チャンバ内に気体を吹き出す吹出部と、前記ステージと前記吹出部との間に配置され、第１方向に光を射出し、前記ステージで反射された光に基づいて前記第１方向における前記ステージの位置を検出する検出部と、前記吹出部から吹き出された気体を、前記投影光学系と前記基板との間の第１空間、および前記検出部からの光が通る第２空間に導く導風部と、を含み、前記導風部は、前記基板に沿う方向の気体の流れが前記第１空間に形成されるように、前記吹出部から吹き出された気体を前記第１空間に導く第１導風部分と、前記第１方向と異なる第２方向に沿った気体の流れが前記第２空間に形成されるように、前記吹出部から吹き出された気体を前記第２空間に導く第２導風部分とを含み、前記吹出部と前記導風部とは、前記第１方向に間隔をあけて配置され、前記導風部は、前記第１方向において前記検出部と前記投影光学系との間に配置されている、ことを特徴とする。
【０００８】
本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施形態によって明らかにされるであろう。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、例えば、基板上の感光材から発生したガスの影響を低減させるために有利な露光装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】第１実施形態の露光装置をＸ方向から見た側面図である。
【図２】第１実施形態の露光装置をＺ方向から見た俯瞰図である。
【図３】導風部の構成を示す図である。
【図４】導風部における第２導風部分の構成を説明するための図である。
【図５】導風部および第２導風部の構成を示す斜視図である。
【図６】第２導風部をＺ方向から見た図である。
【図７】第２実施形態の露光装置を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施の形態について説明する。なお、各図において、同一の部材ないし要素については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。
【００１２】
＜第１実施形態＞
本発明に係る第１実施形態の露光装置１００について、図１および図２を参照しながら説明する。図１は、第１実施形態の露光装置１００をＸ方向から見た側面図であり、図２は、第１実施形態の露光装置１００をＺ方向から見た俯瞰図である。露光装置１００は、基板Ｗを露光し、例えば、マスクＭを照明する照明光学系１、マスクＭを保持して移動可能なマスクステージ２、マスクＭのパターンを基板Ｗに投影する投影光学系３、基板Ｗを保持して移動可能な基板ステージ４、および制御部５を含みうる。基板ステージ４は、第１定盤２１の上に載置され、投影光学系３は、第１定盤２１と対向する第２定盤２２によって支持されうる。制御部５は、例えばＣＰＵやメモリなどを含むコンピュータによって構成され、露光装置１００の各部を制御する。
【００１３】
また、露光装置１００は、基板ステージ４の位置を検出する検出部６と、基板Ｗのアライメント計測を行う計測部７とを含みうる。検出部６は、例えば、図２に示すように、Ｙ検出部６ｙおよびＸ検出部６ｘを含みうる。Ｙ検出部６ｙは、第２定盤２２により支柱２３を介して支持されており、−Ｙ方向（本実施形態では第１方向）に光を射出し、基板ステージ４（Ｙ方向側の側面）で反射された光によってＹ方向における基板ステージ４の位置を検出する。Ｘ検出部６ｘは、第２定盤２２により支柱（不図示）を介して支持されており、−Ｘ方向に光を射出し、基板ステージ４（Ｘ方向側の側面）で反射された光によってＸ方向における基板ステージ４の位置を検出する。Ｙ検出部６ｙおよびＸ検出部６ｘは、例えばレーザ干渉計によって構成されうる。ここで、検出部６（Ｙ検出部６ｙ、Ｘ検出部６ｘ）からの光を反射するミラーを基板ステージ４の側面（Ｙ方向側の側面、Ｘ方向側の側面）に設けてもよい。また、基板ステージ４の高さを不図示のＺ検出部によって検出する場合には、ミラーを基板ステージ４の基板保持面に設けてもよい。
【００１４】
さらに、露光装置１００は、少なくとも投影光学系３、基板ステージ４および検出部６を収容する収容室８（例えばチャンバ）と、気体（例えば空気）を収容室８の内部に吹き出す吹出口９ａを有する吹出部９とを含みうる。吹出部９は、吹出口９ａの他に、例えば、収容室８の内部の気体を回収する回収口９ｂと、ファン９ｃと、フィルタ９ｄと、温調ヒータ９ｅとを含みうる。回収口９ｂから回収された気体は、ファン９ｃによってフィルタ９ｄへと送られる。フィルタ９ｄは、回収口９ｂから回収された気体中の有機成分や無機成分を除去するためのケミカルフィルタである。フィルタ９ｄを通過した気体は、温調ヒータ９ｅによって温調された後、吹出口９ａから収容室８の内部に吹き出される。本実施形態の吹出部９では、図２に示すように、２箇所において吹出口９ａ（第１吹出口９ａ１、第２吹出口９ａ２）が設けられ、各吹出口９ａからは、ほぼ水平方向に気体が吹き出されうる。各吹出口９ａには、例えば、ＵＬＰＡフィルタなどが設けられてもよい。このように吹出部９を構成することにより、清浄な気体を吹出口９ａから収容室８の内部に供給することができる。
【００１５】
露光装置１００では、基板上の感光材（レジスト）が露光されると、感光材からガスが発生することがある。そして、感光材から発生したガスに、投影光学系３の光学素子３ａ（例えば対物レンズ）が曝されると、投影光学系３における光の透過率が低下したり、フレアが発生したりといった露光性能の低下が生じうる。また、感光材から発生したガスが、検出部６から射出された光の光路に流入すると、光路上の屈折率が変化し、基板ステージ４の位置の検出結果に誤差が生じうる。その結果、基板ステージ４を高精度に制御することが困難になりうる。そこで、第１実施形態の露光装置１００では、吹出部９の吹出口９ａ（第１吹出口９ａ１）から吹き出された気体を、投影光学系３と基板Ｗとの間の第１空間３１、および検出部６（Ｙ検出部６ｙ）からの光が通る第２空間３２に導く導風部１０を有する。
【００１６】
以下に、導風部１０の構成について、図３を参照しながら説明する。図３は、導風部１０の構成を示す図であり、図１に示す導風部１０の拡大図である。導風部１０は、図３に示すように、第１吹出口９ａ１から吹き出された気体を第１空間３１に導く第１導風部分１１と、第１吹出口９ａ１から吹き出された気体を第２空間３２に導く第２導風部分１２とを含む。また、導風部１０は、第２定盤２２によって支持され、且つ第１定盤２１と第２定盤２２との間に配置される。
【００１７】
第１導風部分１１は、基板Ｗに沿った方向（例えば、第１方向（−Ｙ方向））の気体の流れが第１空間３１に形成されるように、吹出部９の第１吹出口９ａ１から吹き出された気体を第１空間３１に導く構成となっている。第１空間３１は、上述したように、投影光学系３と基板Ｗとの間の空間のことである。第１導風部分１１は、第１吹出口９ａ１から吹き出された気体を取り込む第１開口１１ａと、第１開口１１ａから取り込んだ気体を吹き出す第２開口１１ｂとを有する筒状に形成されうる。そして、第１導風部分１１は、第２開口１１ｂの大きさが第１開口１１ａの大きさより小さくなるように構成されうる。これにより、第１導風部分１１の第２開口１１ｂから吹き出される気体の流速を、吹出部９の第１吹出口９ａ１から吹き出される気体の流速より大きくし、感光材から発生したガスを第１空間３１から効率よく除去することができる。ここで、第２開口１１ｂは、第１開口１１ａの大きさの１／５倍以上の大きさに設定されるとよい。好ましくは、第２開口１１ｂは、第１開口１１ａの大きさの１／３倍から１／２倍の範囲内に設定されるとよい。これは、第１開口１１ａに対する第２開口１１ｂの大きさの比率を小さくしていくと、第２開口１１ｂから吹き出される気体の流速を増加させることができるが、当該比率が所定の値よりも小さくなると圧力損失の影響で気体の流速が飽和するからである。
【００１８】
第２導風部分１２は、第１方向と異なる第２方向に沿った気体の流れが第２空間３２に形成されるように、吹出部９の第１吹出口９ａ１から吹き出された気体を第２空間３２に導く構成となっている。具体的には、第２導風部分は、吹出し部９の第１吹出口９ａ１から吹き出された気体の流れの方向を変えて、当該気体を第２空間３２の上方（検出部６が射出した光の光路に対して投影光学系３側）から第２空間３２に導く構成となっている。第２空間３２は、上述したように、検出部６（Ｙ検出部６ｙ）からの光が通る空間のことである。第２導風部分１２は、第１導風部分１１の下（検出部６が射出した光の光路側）において第１導風部分１１に固定される（取り付けられる）。
【００１９】
そして、第２導風部分１２は、第２空間３２において第１方向の位置が互いに異なる複数の領域に、吹出部９の第１吹出口９ａ１から吹き出された気体を導くように離隔して配置された複数の板部材１２ａを含みうる。このように複数の板部材１２ａを含むように第２導風部分１２を構成することにより、第２空間３２（検出部６の光路）に対して均一に気体を供給することができる。ここで、第２導風部分１２には、第１吹出口９ａ１から吹き出された気体が第２空間３２に効率よく導かれるように、複数の板部材１２ａを±Ｘ方向から挟み込む側壁（不図示）が設けられてもよい。
【００２０】
また、第２導風部分１２は、第２方向とＹ検出部６ｙから光が射出される方向との間の角度が０度より大きく且つ３０度以下の角度になるように構成されるとよい。例えば、計測部７により基板Ｗのアライメント計測を行うときなど、基板ステージ４の＋Ｙ方向側の側面が第１導風部分１１の第２開口１１ｂの位置より−Ｙ方向側に配置されるように基板ステージ４が移動する場合がある。この場合、第１導風部分１１からの気体が第２空間３２に流れると、第２空間３２において気体の揺らぎが生じてしまい、その揺らぎによってＹ検出部６ｙの検出結果に誤差が生じうる。そのため、第２方向を上記のように設定すると、図４（Ａ）に示すように、第２導風部分１２から基板ステージ４の＋Ｙ方向側の側面に吹き付けられた気体の一部を上方向に向かって流すことができる。これにより、第１導風部分１１から吹き出された気体が第２空間３２に流れることを、当該上方向に向かう気体によって抑制することができる。
【００２１】
ここで、上述のように構成されたとしても、第１導風部分１１からの気体が検出部６（Ｙ検出部６ｙ）からの光の光路（第２空間３２）に侵入することがある。この場合においても、第１導風部分１１からの気体と第２導風部分１２からの気体は共通の吹出部９から吹き出された気体であるため、第２空間３２では、異なる温度や圧力の気体が混在することによる屈折率の変化を低減することができる。即ち、光路における屈折率の変化による検出部６での検出誤差を低減することができる。これは、基板ステージ４が投影光学系３の真下の位置から他の位置に移動した場合において、特に効果がある。
【００２２】
一方、基板ステージ４の＋Ｙ方向側の側面が第１導風部分１１の第２開口１１ｂの位置より＋Ｙ方向側に配置される場合がある。この場合、第２導風部分１２から基板ステージ４の上面に吹き付けられた気体により、第１空間３１において乱流が生じることがある。そのため、第２方向を上記のように設定すると、図４（Ｂ）に示すように、第２導風部分１２から基板ステージ４の上面に吹き付けられた気体を、第１導風部分１１からの気体とともに第１方向に沿って第１空間３１に流すことができる。これにより、第１空間３１における乱流を防止することができる。
【００２３】
ここで、導風部１０を支持する第２定盤２２には僅かながら熱源が存在することがあり、第２定盤２２からの熱が第１導風部分１１および第２導風部分１２に熱が伝わると、第１空間３１および第２空間３２において温度分布が形成されうる。そのため、導風部１０は、吹出部９の第１吹出口９ａ１から吹き出された気体を第２定盤２２と第１導風部分１１との間に第１導風部分１１に沿って流すための第３導風部分１３を有してもよい。第３導風部分１３は、例えば、第２定盤２２と第１導風部分１１との間に配置され、第１導風部分１１を覆うように構成されうる。これにより、第２定盤２２から第１導風部分１１に熱が伝わることを低減し、第１空間３１および第２空間３２を、第１吹出口９ａ１から吹き出された気体の温度によって制御すること（即ち、温調ヒータ９ｅによって制御すること）が容易となる。
【００２４】
また、第３導風部分１３は、気体を吹き出す第３導風部分１３の開口の位置が、第１導風部分１１の第２開口１１ｂの位置より第１吹出口９ａ１側に配置されるように構成されうる。これにより、第３導風部分１３から吹き出された気体を、第１導風部分１１から吹き出された気体と干渉させずに、投影光学系３を回り込むように流すことができる。
【００２５】
このように導風部１０を構成することにより、第１空間３１および第２空間３２のそれぞれに気体を供給する装置を新たに設けることなく、感光材から発生したガスによる露光性能の低下や基板ステージ４の位置の検出誤差を防止することができる。また、第１空間３１を流れる気体および第２空間３２を流れる気体は、同じ温度制御を経て同じ第１吹出口９ａ１から吹き出された気体である。そのため、Ｙ検出部６ｙからの光の光路において温度が異なる気体が混ざり合うことによるＹ検出部６ｙの検出誤差も防止することができる。
【００２６】
ここで、Ｙ検出部６ｙは、吹出部９の第１吹出口９ａ１と導風部１０との間に配置された支柱２３を介して第２定盤２２によって支持されている。そのため、第１吹出口９ａ１から吹き出された気体の流れる方向が支柱２３によって変えられ、第１吹出口９ａ１から吹き出された気体を導風部１０に効率よく取り込ませることが困難になりうる。そのため、露光装置１００では、図５および図６に示すように、第１吹出口９ａ１から吹き出された気体が支柱２３を回り込んで導風部１０に導かれるように支柱２３を挟み込む複数の整流板４１を有する第２導風部４０が設けられるとよい。本実施形態では、第２導風部４０は、２枚の整流板４１ａ、４１ｂを含みうる。図５（Ａ）は、導風部１０および第２導風部４０の構成を示す斜視図であり、図５（Ｂ）は、導風部１０および第２導風部４０の構成を示す透過図である。また、図６は、第２導風部４０をＺ方向から見た図である。
【００２７】
第２導風部４０における２枚の整流板４１ａ、４１ｂは、図６に示すように、Ｘ方向における距離が導風部１０に近づくにつれて短くなるように配置されるとよい。即ち、２枚の整流板４１ａ、４１ｂは、第１吹出口９ａ１側の端部のＸ方向における距離より、導風部１０側の端部のＸ方向における距離の方が短くなるように配置されるとよい。そして、２枚の整流板４１ａ、４１ｂの導風部１０側の端部におけるＸ方向の距離は、導風部１０のＸ方向の幅と同程度であることが好ましい。また、第２導風部４０は、図６に示すように、支柱２３を取り囲み且つＺ方向から見てしずく型に形成された整流板４２を有するとよい。
【００２８】
さらに、露光装置１００では、導風部１０の第１導風部分１１から吹き出され且つ第１空間３１を流れた気体が収容室８の内部で拡散してしまうと、収容室８の内部を清浄に保つことが困難になりうる。そのため、露光装置１００は、第１導風部分１１から吹き出され且つ第１空間３１を流れた気体を排出する排気部２５を更に含むように構成されるとよい。排気部２５は、第１空間３１を挟んで第１導風部分１１の反対側に配置された排気口２５ａと、排気口２５ａから気体を取り込むためのファン２５ｂと、排気口２５ａから取り込まれた気体の有機成分や無機成分を除去するためのフィルタ２５ｃとを含みうる。このように排気部２５を設けた場合、露光装置１００は、排気部２５によって排気した気体の量に応じて、露光装置１００の外部から気体（例えばクリーンドライエア（ＣＤＡ））を吹出部９の取込口９ｆから取り込んでもよい。取込口９ｆには、例えばフィルタ９ｇが設けられうる。
【００２９】
上述したように、第１実施形態の露光装置１００は、吹出部９の吹出口９ａから吹き出された気体を、第１空間３１および第２空間にそれぞれ導く導風部１０を有する。これにより、露光装置１００は、基板上の感光材から発生したガスの影響を低減させることができる。
【００３０】
＜第２実施形態＞
本発明に係る第２実施形態の露光装置２００について、図７を参照しながら説明する。図７（Ａ）は、第２実施形態の露光装置２００を示す斜視図であり、図７（Ｂ）は、第２実施形態の露光装置２００をＺ方向から見た俯瞰図である。第２実施形態の露光装置２００は、第１実施形態の露光装置１００に対して導風部１０の構成が異なる。第２実施形態の露光装置２００における導風部１０は、Ｚ方向から見て、第２導風部分を±Ｘ方向から挟み込むように配置された２つの第１導風部分１１を有する。そして、２つの第１導風部分１１は、第１空間３１側の端部において接続するように構成されうる。ここで、図７（Ａ）および（Ｂ）では、２つの第１導風部分１１は、互いに独立した構造となるように第１空間３１側の端部において仕切られているが、それに限られるものではなく、例えば、仕切部分を含まないように一体に構成されてもよい。
【００３１】
また、導風部１０は、第１空間３１の外側の空間（以下では、外側空間と称する）において第１方向（−Ｙ方向）に沿った気体の流れが形成されるように、吹出部９の第１吹出口９ａ１から吹き出された気体を外側空間に導く第４導風部分１４を含みうる。外側空間とは、第１導風部分１１から吹き出された気体が流れる第１空間３１のＸ方向側に位置する第１空間３１の外側の空間のことである。第４導風部分１４は、外側空間における気体の流速が、第１空間３１における気体の流速より大きくなるように構成されうる。例えば、第４導風部分１４は、第１吹出口９ａ１側の開口に対する投影光学系３側の開口の大きさの比率が、第１導風部分１１における第１開口１１ａに対する第２開口１１ｂの大きさの比率より小さくなるように構成されうる。これにより、外側空間を流れる気体はエアカーテンとして機能する。そのため、第１導風部分１１から吹き出され且つ第１空間３１を流れた気体を排気部２５の排気口２５ａから効率よく排気し、第１導風部分１１から吹き出された気体が第１空間３１の外部に拡散することを防止することができる。
【００３２】
＜物品の製造方法の実施形態＞
本発明の実施形態に係る物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等の電子デバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、基板上の感光材に上記の露光装置を用いて潜像パターンを形成する工程（基板を露光する工程）と、かかる工程で潜像パターンが形成された基板を現像する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも１つにおいて有利である。
【００３３】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。
【符号の説明】
【００３４】
３：投影光学系、４：基板ステージ、６：検出部、９：吹出部、１０：導風部、１１：第１導風部分、１２：第２導風部分、１００：露光装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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