(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検体を内部の撮像空間に導入可能な円筒形状の静磁場発生源を有する静磁場発生装置と、
前記撮像空間に傾斜磁場を重畳させる傾斜磁場発生源を有する傾斜磁場発生装置と、
前記撮像空間に高周波磁場を照射するための照射コイルと、
を備え、
前記照射コイルは少なくとも、
高周波磁場を発生させる電気回路と、
前記電気回路が固定された巻枠部材と、
を有し、
前記巻枠部材は少なくとも、
前記巻枠部材を前記円筒形状の周回方向に関し分割する分割部と、
前記分割部を押し広げる圧力を印加し、かつ前記巻枠部材を固定する分割部固定具と、
を備え、
前記照射コイルと前記傾斜磁場発生装置との間に複数の点状の中間部材を備え、
前記照射コイルは前記中間部材を介して前記傾斜磁場発生装置に取り付けられる
ことを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
【請求項２】
前記静磁場発生装置の円筒形状に関する中心軸方向において、
前記巻枠部材の大きさは、前記傾斜磁場発生装置の両端を含む大きさである
ことを特徴とする請求項１に記載の磁気共鳴イメージング装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、静磁場発生装置と傾斜磁場発生装置を備えた磁気共鳴イメージング(以下、ＭＲＩ；Magnetic Resonance Imagingと称す)装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＭＲＩ装置に対する傾斜磁場発生装置や照射コイルの取り付け方法に関する従来技術として、傾斜磁場発生装置と照射コイルの間隔を空け、更に音響信号の伝搬を妨げる音響バリアとして内部管状要素を備える技術がある（特許文献１参照）。また、傾斜磁場発生装置への照射コイルの固定方法に関する従来技術として、照射コイルを周方向に複数に分割して折りたたみ可能とし、傾斜磁場発生装置内部で組み立て可能とする技術がある（特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００１−１７８７０３号公報
【特許文献２】特開２００８−１１９２１４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、特許文献１のようにすると照射コイルは中心軸方向端部において傾斜磁場発生装置のスリーブに締結されるため、中央部においては振動が大きくなりやすいと考えられた。また、特許文献２のようにすると照射コイルの巻枠が周方向に分割されるため、振動が大きくなりやすいと考えられた。
【０００５】
そこで、本発明が解決しようとする課題は、傾斜磁場発生装置や照射コイルの肉厚の増加を抑制しつつ、振動の低減が可能なＭＲＩ（磁気共鳴イメージング）装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記課題を解決するために、本発明は様々な実施形態を含むが、その一例として「筒状の筐体を有する磁気共鳴イメージング装置であって、撮像領域に高周波磁場を照射する照射コイルと、前記照射コイルの内径側に配置され、かつ前記照射コイルを支持する筒状の巻枠部材と、を備え、前記巻枠部材は少なくともその一部に、前記巻枠部材の直径を広げる向きに圧力を発生させる圧力発生構造を備える」ことを特徴とする。
ことを特徴とする。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、傾斜磁場発生装置や照射コイルの肉厚を増やさず、振動の低減が可能なＭＲＩ（磁気共鳴イメージング）装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の第１の実施形態に係るＭＲＩ（磁気共鳴イメージング）装置の概略斜視図である。
【図２】本発明の第１の実施形態に係るＭＲＩ装置の概略縦断面図である。
【図３】本発明の第１の実施形態に係るＭＲＩ装置の傾斜磁場発生装置の概略縦断面図である。
【図４】本発明の第２の実施形態に係るＭＲＩ装置の傾斜磁場発生装置の概略縦断面図である。
【図５】本発明の第３の実施形態に係るＭＲＩ装置の傾斜磁場発生装置の概略縦断面図である。
【図６】本発明の第４の実施形態に係るＭＲＩ装置の傾斜磁場発生装置の概略正面図である。
【図７】本発明の第５の実施形態に係るＭＲＩ装置の傾斜磁場発生装置の概略正面図である。
【図８】本発明の第６の実施形態に係るＭＲＩ装置の傾斜磁場発生装置の概略正面図である。
【図９】本発明の第７の実施形態に係るＭＲＩ装置の傾斜磁場発生装置の概略正面図である。
【図１０】本発明の第８の実施形態に係るＭＲＩ装置の傾斜磁場発生装置の概略正面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本発明の実施形態の詳細を説明する前に、磁気共鳴イメージング装置の構造面に関する本発明者の考察を説明する。
【００１０】
傾斜磁場発生装置は、被験者の入る空間を最大限に確保して閉塞感を和らげるために、内径（ボア）を大きくすることが望まれている。一方で、静磁場発生装置は内径が小さいほど磁気エネルギーが小さくて済むため、傾斜磁場発生装置の外形を大きくすることは好ましくない。即ち、傾斜磁場発生装置には薄肉であることが望まれる。
【００１１】
また、傾斜磁場発生装置の内周側には、照射コイルが設置されることがあるが、上記のようにボアを大きくすることが望まれているため、傾斜磁場発生装置と同様に照射コイルも薄肉であることが望まれる。
【００１２】
静磁場発生装置、傾斜磁場発生装置および照射コイルには、振動が発生する場合がある。この振動は、ＭＲＩ装置周辺における騒音や断層画像の劣化の原因となる場合が考えられる。傾斜磁場発生装置や照射コイルが薄肉化されると、剛性が減少して振動が増加し、撮像時の騒音や画像劣化が増加する傾向となる。
【００１３】
次に、本発明の実施形態について、適宜図面を参照しながら詳細に説明する。なお、各図において、共通する部分には同一の符号を付し重複した説明を省略する。
【００１４】
（第１の実施形態）
図１に、本発明の第１の実施形態に係るＭＲＩ（磁気共鳴イメージング）装置１の概略斜視図を示す。図１に示すようにＭＲＩ装置１は筒状の筐体を有する。ＭＲＩ装置１は、被検体１０を内部の撮像空間８に導入可能な円筒形状の静磁場発生装置２と、導入された被検体１０の生体組織を構成する原子核に核磁気共鳴を起こさせるために高周波信号を照射する照射コイル４と、被検体１０から発せられる各々の信号に位置情報を与えるための傾斜磁場発生装置３と、静磁場発生装置２が作る磁場の均一度を調整する磁性体であるシム鉄を格納したシムトレイ１２（図示せず）と、シムトレイ１２を収納するために傾斜磁場発生装置３の内部に設けられるシムトレイ穴（図示せず）と、被検体１０から発せられる信号を受信するための受信コイル２２と、被検体１０を積載する寝台６等で構成されている。
【００１５】
静磁場発生装置２は、被検体１０の生体組織を構成する原子のスピンを配向させるために、撮像空間８に均一磁場７（図２参照）を生成する。なお、均一磁場とは、撮像を実施するために十分な均一性を有する磁場を意味する。均一磁場７の磁場を補正し、その均一度を高めるため、シム鉄を格納したシムトレイ１２（図示せず）の他にシムコイル（図示せず）が静磁場発生装置２の撮像空間８側に設けられている。なお、シム鉄またはシムコイルのいずれか一方のみが設置されていてもよい。
【００１６】
静磁場発生装置２は、真空容器支持脚２ｆで支えられている。静磁場発生装置２は、水平方向に平行なｚ軸を中心軸とする円筒形状の部材である。なお、ｚ軸は水平方向と平行であることが望ましいが、現実的な設計条件や設置条件によって水平面に対して傾きを有していてもよい。傾斜磁場発生装置３は、静磁場発生装置２の撮像空間８側に設けられた部材である。
【００１７】
傾斜磁場発生装置３は、静磁場発生装置２と中心軸を共通とする（ｚ軸を中心軸とする）円筒形状の部材であって、ｚ軸に垂直な平面に関する断面形状は円もしくは楕円となる。また、傾斜磁場発生装置３は、ｚ軸から発散する方向に関して複数のメインコイル（傾斜磁場発生源）３ａと複数のシールドコイル（傾斜磁場発生源）３ｂとが積層された構造を有する。また、メインコイル３ａとシールドコイル３ｂとは、ビーズやガラス繊維クロス等の積層構造を含んだレジン３ｃによって固定されている。
【００１８】
照射コイル４は、傾斜磁場発生装置３の撮像空間８側に設けられている。照射コイル４は、静磁場発生装置２と中心軸を共通とする（ｚ軸を中心軸とする）円筒形状の部材である。ｚ軸と垂直な平面に関する照射コイル４の断面形状は、円もしくは楕円となる。照射コイル４は、被検体１０の生体組織を構成する原子の原子核に核磁気共鳴を起こさせるために、高周波信号を照射する。また、受信コイル２２が、核磁気共鳴による磁気共鳴信号を受け取るために、寝台６に取り付けられている。
【００１９】
照射コイル４は、図３に示されるように、高周波信号を照射する電気回路４ａと、電気回路４ａを固定する筒状の巻枠部材４ｂとを有する。さらに巻枠部材４ｂは、巻枠部材４ｂを周回方向において不連続の構造とするような分割部４ｃを有する。分割部４ｃは、図３に示されるようにｚ軸に平行に形成され、ｚ軸を中心とした周回方向において巻枠部材４ｂを分割する。なお、ここで言う平行とはある程度の傾き、蛇行が許容される。また、図４は、半円状のカーブを有する板状部材を２枚組み合わせて巻枠部材４ｂが形成されている例を示すが、これには限られない。例えば巻枠部材４ｂは一つの分割部４ｃを有し、ｚ軸側から平面視した際の構造がＣ字形状となっていてもよい。またカーブを有する板状部材が３枚以上組み合わされて巻枠部材４ｂが形成されていてもよい。
【００２０】
また、図４に示す分割された巻枠部材４ｂの各部分は、分割部固定具４ｄによって互いに固定される。これは分割部４ｃの数が増加した際にも同様である。
【００２１】
図２は、第１の実施形態に係るＭＲＩ装置１の概略縦断面図を示す。静磁場発生装置２は、超電導コイルである複数のメインコイル（静磁場発生源）２ａと、超電導コイルである複数のシールドコイル（静磁場発生源）２ｂと、超電導コイルであるメインコイル２ａとシールドコイル２ｂを冷媒と共に収納し冷却する冷却容器２ｅと、冷却容器２ｅを内包する構造を有し、真空容器２ｃから放射される輻射熱からシールドする輻射シールド板２ｄと、冷却容器２ｅと輻射シールド板２ｄとを真空環境下に収納し断熱する真空容器２ｃと、真空容器２ｃを設置床面に支持する真空容器支持脚２ｆ（図１参照）と、冷却容器２ｅと輻射シールド板２ｄを真空容器２ｃ内に断熱支持する荷重支持体（図示せず）等を有している。
【００２２】
メインコイル（静磁場発生源）２ａはリング形状を有しており、その中心軸はｚ軸と一致する。本実施例においては、メインコイル２ａは、ｚ軸方向に沿って複数（図２の例では４個）配置されている。
【００２３】
メインコイル２ａは、撮像空間（空間）８に、均一磁場７である静磁場を生成する。なお、メインコイル２ａは、撮像空間８以外にも、静磁場を生成し、特に、撮像空間８を中心としてｚ軸方向において、メインコイル２ａよりも遠くの位置に漏れ磁場を生成させる。シールドコイル（静磁場発生源）２ｂは、この漏れ磁場の大きさを小さくすることができる。
【００２４】
シールドコイル２ｂは、リング形状を有しており、その中心軸はｚ軸と一致する。シールドコイル２ｂは、ｚ軸方向に複数（図２の例では２個（一対））配置されている。シールドコイル２ｂは、ｚ軸方向において複数個配列されているメインコイル２aのうち両端に配置された一対のメインコイル２ａの近傍に配置されている。シールドコイル２ｂは、撮像空間８を中心としたときに、ｚ軸方向において両端に配置された一対のメインコイル２ａよりも遠くに配置されている。
【００２５】
図２のうち傾斜磁場発生装置３および照射コイル４について示したのが図３である。
【００２６】
傾斜磁場発生装置３は、図２では記載を省略して１個記載したが実際には複数のメインコイル（傾斜磁場発生源）３ａを有している。また、傾斜磁場発生装置３は、図２では記載を省略して１個記載したが実際には複数のシールドコイル（傾斜磁場発生源）３ｂを有している。そして、傾斜磁場発生装置３は、メインコイル３ａとシールドコイル３ｂを互いに固定するレジン３ｃを有している。
【００２７】
メインコイル（傾斜磁場発生源）３ａは、ｚ軸を中心軸とする円筒状もしくは楕円状をした環状の領域に断面が配置される。メインコイル３ａは、撮像空間８に、均一磁場７に重畳する傾斜磁場９を生成する。メインコイル３ａは、撮像空間８以外には、漏れ磁場を生成させる。シールドコイル（傾斜磁場発生源）３ｂは、この漏れ磁場の大きさを小さくすることができる。シールドコイル３ｂは、ｚ軸を中心軸とする円筒状もしくは楕円状の領域に配置される。シールドコイル３ｂは、ｚ軸に対して、メインコイル３ａよりも遠くに配置されている。このように、メインコイル３ａとシールドコイル３ｂとはｚ軸を中心とする円形または楕円形をした環状の領域に断面が配置されるため、傾斜磁場発生装置３もこの配置を反映し、ｚ軸と垂直な断面が円形または楕円形をした円筒状の構造をしている。
【００２８】
シールドコイル３ｂは、メインコイル３ａに対して、静磁場発生装置２の側に配置されている。傾斜磁場発生装置３は、取付部材（図示せず）を介して真空容器２ｃに取り付けられている。
【００２９】
照射コイル４は、傾斜磁場発生装置３よりも径の小さい円筒状もしくは楕円状をした環状の領域に断面が配置され、その中心軸はｚ軸と一致する。照射コイル４は、高周波信号（高周波磁場）を発生させる電気回路４ａと、電気回路４ａが固定される巻枠部材４ｂとを構成に有する。巻枠部材４ｂは分割部４ｃを有し、分割部４ｃは分割部固定具４ｄにより連結される。また、分割部固定具４ｄは、巻枠部材４ｂが有する分割部４ｃの幅を押し広げる向きの圧力（張力）を印加する。換言すると分割部固定具４ｄは、分割部４ｃの幅を広げる向きの圧力を巻枠部材４ｂに対して印加する印加部材としてはたらく。したがって、照射コイル４は、照射コイル４の巻枠部材４ｂの直径を広げる向きに圧力を発生させる圧力発生部を有するといってもよい。
【００３０】
分割部固定具４ｄは、このような張力を印加するために適当な形状を有し、例えばｚ軸に垂直な平面に関する断面形状が楔状もしくはテーパを成しているか、または分割部４ｃの幅方向に作用するネジ等の可動部を有している。また、分割部固定具４ｄが楔状あるいはテーパを成す場合は、分割部４ｃに対して、巻枠部材４ｂの内径側から挿入されることが望ましい。なお、分割部固定具４ｄは、中心軸方向には離散的に配置されていても、連続的に配置されていても良い。また、照射コイル４の取付にあたっては、照射コイル４を傾斜磁場発生装置３に挿入した後で、分割部４ｃに分割部固定具４ｄを設置する。
【００３１】
次に、ＭＲＩ装置１における振動の抑制について説明する。
【００３２】
撮影時には、静磁場発生装置２によって、撮像空間８に、均一磁場７が生成されるが、同時に、傾斜磁場発生装置３が配置されている領域にも、静磁場が生成されている。このように静磁場の影響を受けた状況下で、傾斜磁場発生装置３が有するメインコイル３ａとシールドコイル３ｂにパルス状の電流が流れる。そうすると傾斜磁場発生装置３が配置された領域に生じている静磁場と、このパルス状の電流のカップリングによりパルス状のローレンツ力がメインコイル３ａとシールドコイル３ｂに作用して、傾斜磁場発生装置３が振動する。
【００３３】
そして、この傾斜磁場発生装置３の振動は、傾斜磁場発生装置３を静磁場発生装置２に対して取り付けている取付部材を介して真空容器２ｃに伝搬する。この振動は真空容器２ｃから荷重支持体を介して輻射シールド板２ｄや冷却容器２ｅに伝播することで、静磁場発生装置２の各部材の振動を引き起こす。なお、傾斜磁場発生装置３が静磁場発生装置２に取り付けられる例に限らず、例えば真空容器２ｃなど、ＭＲＩ装置１を構成する他の部材に傾斜磁場発生装置３が取り付けられる場合も、振動は同様に発生し連結された箇所を介して伝達される。
【００３４】
また、静磁場発生装置２を構成する真空容器２ｃ、輻射シールド板２ｄ、冷却容器２ｅなどでは、傾斜磁場発生装置３が発生させる傾斜磁場の一部（、漏れ磁場）が作用することによって渦電流が生じる。この傾斜磁場に由来する渦電流と静磁場発生装置２によって生成される静磁場とがカップリングすることで、静磁場発生装置２にパルス状のローレンツ力が作用する。このローレンツ力によって静磁場発生装置２の各部材が振動し、さらにこれらの振動が静磁場発生装置２に取り付けている取付部材を介して傾斜磁場発生装置３に伝播するため、傾斜磁場発生装置３の振動が増加する。
【００３５】
更に、照射コイル４に実装された電気回路４ａにおいても、傾斜磁場発生装置３が発生する傾斜磁場の一部が作用することによって渦電流が生じる。この傾斜磁場に由来する渦電流と静磁場発生装置２により生成される静磁場とがカップリングすることで、照射コイル４にパルス状のローレンツ力が作用する。このローレンツ力によって照射コイル４の各部が振動する。
【００３６】
一方、本実施例で説明するＭＲＩ装置１は、照射コイル４の分割部４ｃに分割部固定具４ｄが挿入され固定されることによって巻枠部材４ｂに張力が印加される。この張力が巻枠部材４ｂの見かけの剛性を上昇させるため、照射コイル４における振動は従来よりも低減される。
【００３７】
本効果を、数式を用いて説明する。多自由度系におけるフックの法則は、内力が存在しない場合、荷重ベクトル{F}、剛性マトリクス[K]、変位ベクトル{d}を用いて、式（１）のように表わされる。
{F} = [K]{d}                               （１）
剛性マトリクス[K]は、式（２）の体積積分として表わされる。
[K] = ∫[B]T [D] [B] dV                        （２）
[B]はひずみ-変位マトリクスを、[D]は応力-ひずみマトリクスを、添字Tはマトリクスの転置を表す。一方、張力のような内力が予め存在する場合、フックの法則は式（３）のように表わされる。
{F} = ([K]+[S]){d}                           （３）
ここで、[S]は応力剛性マトリクスと呼ばれ、式（４）の体積積分として表わされる。
[S] = ∫[G]T [σ] [G] dV                        （４）
[G]は変位勾配マトリクスを、[σ]は初期応力マトリクスを表す。線形性が成立する場合は、[G]は[B]の成分を並べ替えたものとなるため、初期応力による全体の剛性の増加分は、[D]に対して[σ]が上乗せされるものとして説明される。[D]の成分に相当するヤング率は、巻枠部材４ｂでは一般に数ＧＰａ〜数十ＧＰａオーダーで、[σ]の成分に相当する張力として数十ＭＰａ〜数百ＭＰａオーダーを印加できれば、剛性を％オーダーで上昇させられる。
【００３８】
また、張力を印加するためには、分割部固定具４ｄもしくは巻枠部材４ｂが変形しないよう、両方を同材質によって構成することが望ましい。
【００３９】
以上の原理によって、照射コイル４の肉厚を増やすことなく剛性が％オーダーで向上し、照射コイル４の振動が減少する。これにより、照射コイル４由来の騒音がサブｄＢオーダー低減できる。
【００４０】
（第２の実施形態）
図４に、本発明の第２の実施形態に係るＭＲＩ装置１の傾斜磁場発生装置３および照射コイル４の概略縦断面図・正面図を示す。第２の実施形態のＭＲＩ装置１が、第１の実施形態のＭＲＩ装置１と異なっている点は、照射コイル４が傾斜磁場発生装置３に対して固定される点である。このような構成によれば、特許文献１や特許文献２と異なり固定位置を中心軸方向両端に限らずとも良くなるため、照射コイル４の支持位置を増やすことで中心軸方向の剛性を高められる。
【００４１】
一例として、照射コイル４の中心軸方向の両端部に加え中央部を固定した場合、両端支持の円筒の曲げ変形における最大撓みは、長さの４乗に比例するため、中央部を固定すると長さが１／２倍となり、最大撓みは１／１６に減少する。このように、中心軸方向への固定部の追加は、変位の低減に有効であり、第１の実施例における％オーダーに加え、十％以上のオーダーで振動を低減する効果が得られる。
【００４２】
また、傾斜磁場発生装置３の支持点も増やせるため、傾斜磁場発生装置３の見かけの剛性を高める効果が得られる。照射コイル４の振動が減少することで、照射コイル４から傾斜磁場発生装置３への振動伝搬が減少する。これにより、照射コイル４だけでなく、傾斜磁場発生装置３の振動が減少する。また、傾斜磁場発生装置３を静磁場発生装置２に対して固定するＭＲＩ装置１であれば、傾斜磁場発生装置３の振動が減少することで、静磁場発生装置２への振動伝播も減少し、静磁場発生装置２の振動も抑制される。
【００４３】
これにより、傾斜磁場発生装置３の振動を抑制でき、撮像時に生じる騒音をｄＢオーダーで低減することができる。また、ＭＲＩ装置１の振動に起因する誤差磁場による画像劣化についても、抑制することができる。
【００４４】
（第３の実施形態）
図５に、本発明の第３の実施形態に係るＭＲＩ装置１の傾斜磁場発生装置３および照射コイル４の概略縦断面図・正面図を示す。第３の実施形態のＭＲＩ装置１が、第２の実施形態のＭＲＩ装置１と異なっている点は、照射コイル４と傾斜磁場発生装置３との間に中間部材１３が配置され、照射コイル４が中間部材１３を介して傾斜磁場発生装置３に取り付けられる点である。中間部材１３は、照射コイル４の外周側の表面を覆うシート状構造を有する。このような構成によれば、照射コイル４から傾斜磁場発生装置３に印加される面圧が均一化され、照射コイル４の傾斜磁場発生装置３に対する片当たりを防ぐことができる。中間部材１３は、例えば発泡材のような変形を許容する材質や、ゴムのような粘弾性体で形成される。なお、中間部材１３は、照射コイル４の外周側を完全に覆う必要はなく、面内に空隙や分割部を有していても良い。
【００４５】
（第４の実施形態）
図６に、本発明の第４の実施形態に係るＭＲＩ装置１の傾斜磁場発生装置３および照射コイル４の概略縦断面図・正面図を示す。第４の実施形態のＭＲＩ装置１が、第３の実施形態のＭＲＩ装置１と異なっている点は、中間部材１３が周方向に延びた線状構造である点である。中間部材１３は、周回方向に分割部を有していても良いし、あるいは周回方向ではなく中心軸方向に延びた線上構造であってもよい。
【００４６】
このような構成によれば、照射コイル４の傾斜磁場発生装置３に対する支持位置を限定でき、面圧を集中させることで傾斜磁場発生装置３を拘束し易くなり、傾斜磁場発生装置３の特定の振動モードを抑制し易くなる。
【００４７】
（第５の実施形態）
図７に、本発明の第５の実施形態に係るＭＲＩ装置１の傾斜磁場発生装置３および照射コイル４の概略縦断面図・正面図を示す。第５の実施形態のＭＲＩ装置１が、第３の実施形態のＭＲＩ装置１と異なっている点は、中間部材１３が照射コイル４の寸法に対し中心軸方向および周方向の両方に対して寸法が小さい点状構造とした点である。なお、点状構造とは厳密な点ではなく、ある程度の面積を有していてよいことは当然である。このような構成によれば、照射コイル４の傾斜磁場発生装置３に対する支持位置を実施例４よりも限定でき、面圧を集中させることで傾斜磁場発生装置３を拘束し易くなり、傾斜磁場発生装置３の特定の振動モードを抑制し易くなる。
【００４８】
（第６の実施形態）
図８に、本発明の第６の実施形態に係るＭＲＩ装置１の傾斜磁場発生装置３および照射コイル４の概略縦断面図・正面図を示す。第６の実施形態のＭＲＩ装置１が、第１から第５の実施形態のＭＲＩ装置１と異なっている点は、照射コイル４の中心軸方向長さが傾斜磁場発生装置３よりも長い、すなわち静磁場発生装置２の円筒形状に関する中心軸方向において、巻枠部材４ｂの大きさは、傾斜磁場発生装置３の両端を含む大きさを有する点である。一般に、照射コイル４の電気回路４ａの中心軸方向長さは、傾斜磁場発生装置３の中心軸方向長さよりも短いが、このような構成によれば、傾斜磁場発生装置３に対する照射コイル４の固定箇所を増やすことができ、照射コイル４および傾斜磁場発生装置３の剛性を十％オーダー以上に高める効果が得られる。照射コイル４や傾斜磁場発生装置３の振動が減少することで、照射コイル４から傾斜磁場発生装置３、傾斜磁場発生装置３から静磁場発生装置２への振動伝搬が減少し、ＭＲＩ装置１の振動が抑制できる。
【００４９】
また、撮像空間８と傾斜磁場発生装置３の間に巻枠部材４ｂが存在することで、傾斜磁場発生装置３から撮像空間８に直接届く放射音が遮蔽される。
【００５０】
これにより、撮像時に生じる騒音をｄＢオーダー以上で低減することができる。また、ＭＲＩ装置１の振動に起因する誤差磁場による画像劣化についても、抑制することができる。
【００５１】
（第７の実施形態）
図９に、本発明の第７の実施形態に係るＭＲＩ装置１の概略縦断面図を示す。第７の実施形態のＭＲＩ装置１が、第６の実施形態のＭＲＩ装置１と異なっている点は、照射コイル４の中心軸方向端部側が、照射コイル−静磁場発生装置の取付部材１４を介して静磁場発生装置２に固定されている点である。これにより、照射コイル４の振動を更に抑制でき、撮像時に生じる騒音を低減することができる。
【００５２】
（第８の実施形態）
図１０に、本発明の第８の実施形態に係るＭＲＩ装置１の概略縦断面図を示す。第８の実施形態のＭＲＩ装置１が、第１の実施形態のＭＲＩ装置１と異なっている点は、照射コイル４が支持部材１５によって、静磁場発生装置２および傾斜磁場発生装置３から独立に支持されている点である。このような構成によれば、照射コイル４が％オーダーで高剛性となることによって、傾斜磁場発生装置３や静磁場発生装置２からの音響的な加振に起因する振動を抑制でき、騒音がサブｄＢオーダーで減少する。
【００５３】
なお、本発明は上記した実施例に限定されるものではなく、様々な変形例が含まれている。例えば、上記した実施例は本発明を分かりやすく説明するために詳細に説明したものであり、必ずしも説明した全ての構成を備えるものに限定されるものではない。また、ある実施例の構成の一部を他の実施例の構成に置き換えることが可能であり、また、ある実施例の構成に他の実施例の構成を加えることも可能である。また、各実施例の構成の一部について、他の構成の追加・削除・置換をすることが可能である。例えば、第１から第８の実施形態では、静磁場発生源２ａと２ｂとして超電導コイルを取り上げたが、これに限らない。静磁場発生源２ａと２ｂとして常電導コイルや永久磁石を用いてもよい。
【符号の説明】
【００５４】
１      磁気共鳴イメージング装置
２      静磁場発生装置
２ａ    静磁場発生源（メインコイル）
２ｂ    静磁場発生源（シールドコイル）
２ｃ    真空容器（静磁場発生装置の外壁）
２ｄ    輻射シールド板
２ｅ    冷却容器
２ｆ    真空容器支持脚
３      傾斜磁場発生装置
３ａ    傾斜磁場発生源（メインコイル）
３ｂ    傾斜磁場発生源（シールドコイル）
３ｃ    レジン
４      照射コイル
４ａ    電気回路
４ｂ    巻枠部材
４ｃ    分割部
４ｄ    分割部固定具（印加部材）
６      寝台        
７      均一磁場
８      撮像空間
９      傾斜磁場
１０    被検体
１２    シムトレイ
１３    中間部材
１４    取付部材
１５    支持部材
２２    受信コイル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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