(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
斜角マルチビームスポット走査ウェハ検査システムにおいて複数のビームラインを生成するシステムであって、
照射ビームを走査するように構成されたビーム走査装置と、
前記ビームが第１の方向に走査されるように、前記ビームをサンプルの表面に向かわせるように位置決めされた対物レンズであり、前記対物レンズの光軸が前記第１の方向と垂直に配向するとともに、前記サンプルの表面に対して斜め入射角でさらに配向した、対物レンズと、
前記対物レンズと前記ビーム走査装置との間に位置決めされ、
前記第１の方向と垂直な少なくとも第２の方向に分離された２本以上のオフセットビームへと前記ビームを分割することと、
走査中に前記サンプル上で同時に焦点が合うように、前記２本以上のオフセットビームの位相特性を修正することと、
を行うように構成された１つ以上の光学素子と、
を備えたことを特徴とするシステム。
【請求項２】
請求項１に記載のシステムであって、前記２本以上のオフセットビームが、２本以上の交互行を伴うオフセットビームの２次元アレイを含んでおり、前記２本以上の交互行が、前記第１の方向に配向したことを特徴とするシステム。
【請求項３】
請求項１に記載のシステムであって、前記１つ以上の光学素子が、１つ以上の回折光学素子を含むことを特徴とするシステム。
【請求項４】
請求項３に記載のシステムであって、前記１つ以上の光学素子が、周期Ｔの格子を含むとともに、振幅Ａのデフォーカス波面変形をさらに含む回折光学素子を含んでおり、
前記回折光学素子が、前記第２の方向に分離された２つ以上の回折次数Ｋへと入射ビームを分割し、
前記２つ以上の回折次数Ｋが、走査中に前記サンプル上で同時に焦点が合い、
前記回折光学素子が、Ｋ＝０、±１、±２・・・であり、ｙが前記第１の方向に対応し、ｘが前記第２の方向に対応するものとして、Ｋ＊［２＊π＊ｘ／Ｔ＋Ａ（ｘ＾２＋ｙ＾２）］の位相遅延を導入することを特徴とするシステム。
【請求項５】
請求項３に記載のシステムであって、前記１つ以上の回折光学素子のうちの少なくとも１つが、反射モードおよび透過モードの少なくとも一方で動作することを特徴とするシステム。
【請求項６】
請求項３に記載のシステムであって、前記１つ以上の回折光学素子のうちの少なくとも１つが、ホログラフィック格子を備えたことを特徴とするシステム。
【請求項７】
請求項１に記載のシステムであって、前記１つ以上の回折光学素子が、１つ以上の屈折光学素子を含むことを特徴とするシステム。
【請求項８】
請求項７に記載のシステムであって、前記１つ以上の屈折光学素子のうちの少なくとも１つが、マイクロレンズアセンブリを備えたことを特徴とするシステム。
【請求項９】
請求項１に記載のシステムであって、前記１つ以上の光学素子が、前記第１の方向に分離された２本以上のオフセットビームへと入射ビームを分割するとともに前記走査中に前記サンプル上で同時に焦点が合うように、前記２本以上のオフセットビームの位相特性を修正するように構成された第１の光学素子と、前記第２の方向に分離された２本以上のオフセットビームへと入射ビームを分割するように構成された第２の光学素子とを含むことを特徴とするシステム。
【請求項１０】
請求項１に記載のシステムであって、前記サンプルからの光を受光するように位置決めされた１つ以上の検出器をさらに備えたことを特徴とするシステム。
【請求項１１】
請求項１に記載のシステムであって、前記２本以上のオフセットビームが、前記サンプル上の位置と無関係の一定のスポットサイズを有することを特徴とするシステム。
【請求項１２】
請求項１に記載のシステムであって、検出感度が前記サンプル上の前記ビームの位置と無関係であることを特徴とするシステム。
【請求項１３】
請求項１に記載のシステムであって、前記ビーム走査装置が、音響光学偏向器、電気光学ビーム偏向器、多角形走査子、共鳴走査子、および検流計走査子のうちの少なくとも１つを具備したことを特徴とするシステム。
【請求項１４】
請求項１に記載のシステムであって、前記ビーム走査装置が、音響光学偏向器であり、当該音響光学偏向器に結合されたトランスデューサが、当該音響光学偏向器の固体媒質を伝搬する線形変動周波数の超音波の１つ以上のチャープパケットを生成し、前記１つ以上のチャープパケットが、ラインに沿って伝搬するスポットに対して、当該音響光学偏向器に入射する照射ビームの少なくとも一部を集束させる、音響光学偏向器を備えたことを特徴とするシステム。
【請求項１５】
請求項１４に記載のシステムであって、前記音響光学偏向器に入射する前記ビームが、前記１つ以上のチャープパケットを同時に照射するように、前記固体媒質を完全に照射することを特徴とするシステム。
【請求項１６】
請求項１４に記載のシステムであって、前記ビーム走査装置が、前記音響光学偏向器中を伝搬するチャープパケットへと前記ビームを向かわせるように位置決めされたビーム偏向器であり、前記ビームのサイズが前記チャープパケットのサイズに対応する、ビーム偏向器をさらに備えたことを特徴とするシステム。
【請求項１７】
傾斜面上にスポットを生成する装置であって、表面に対して斜角で配向した対物レンズの前のビーム走査システム中に位置決め可能な１つ以上の光学素子であり、前記レンズの光軸が前記表面により規定された平面上の第１の方向と垂直であり、
前記第１の方向と垂直な少なくとも第２の方向に分離された２本以上のオフセットビームへとビームを分割することと、
走査中に前記表面上で同時に焦点が合うように、前記２本以上のオフセットビームの位相特性を修正することと、
を行うように構成された、１つ以上の光学素子を備えたことを特徴とする装置。
【請求項１８】
請求項１７に記載の装置であって、前記２本以上のオフセットビームが、２本以上の交互行を伴うオフセットビームの２次元アレイを含んでおり、前記２本以上の交互行が、前記第１の方向に配向したことを特徴とする装置。
【請求項１９】
請求項１７に記載の装置であって、前記１つ以上の光学素子が、１つ以上の回折光学素子を含むことを特徴とする装置。
【請求項２０】
請求項１９に記載の装置であって、前記１つ以上の光学素子が、周期Ｔの格子を含むとともに、振幅Ａのデフォーカス波面変形をさらに含む回折光学素子を含んでおり、
前記回折光学素子が、前記第２の方向に分離された２つ以上の回折次数Ｋへと入射ビームを分割し、
前記２つ以上の回折次数Ｋが、前記表面上で同時に焦点が合い、
前記回折光学素子が、Ｋ＝０、±１、±２・・・であり、ｙが前記第１の方向に対応し、ｘが前記第２の方向に対応するものとして、Ｋ＊［２＊π＊ｘ／Ｔ＋Ａ（ｘ＾２＋ｙ＾２）］の位相遅延を導入することを特徴とする装置。
【請求項２１】
請求項１９に記載の装置であって、前記１つ以上の回折光学素子のうちの少なくとも１つが、反射モードおよび透過モードの少なくとも一方で動作することを特徴とする装置。
【請求項２２】
請求項１９に記載の装置であって、前記１つ以上の回折光学素子のうちの少なくとも１つが、ホログラフィック格子を備えたことを特徴とする装置。
【請求項２３】
請求項１７に記載の装置であって、前記１つ以上の回折光学素子が、１つ以上の屈折光学素子を含むことを特徴とする装置。
【請求項２４】
請求項２３に記載の装置であって、前記１つ以上の屈折光学素子のうちの少なくとも１つが、マイクロレンズアセンブリを備えたことを特徴とする装置。
【請求項２５】
請求項１７に記載の装置であって、前記１つ以上の光学素子が、前記第１の方向に分離された２本以上のオフセットビームへと入射ビームを分割するとともに前記２本以上のオフセットビームが前記走査中に前記サンプル上で同時に焦点が合うように、前記２本以上のオフセットビームの位相特性を修正するように構成された第１の光学素子と、前記第２の方向に分離された２本以上のオフセットビームへと入射ビームを分割するように構成された第２の光学素子とを含むことを特徴とする装置。
【請求項２６】
請求項１７に記載の装置であって、前記２本以上のオフセットビームが、前記サンプル上の前記ビームの位置と無関係の一定のスポットサイズを有することを特徴とする装置。
【請求項２７】
斜角マルチビームスポット走査ウェハ検査システムにおいて複数のビームを生成する方法であって、
照射ビームを生成するステップと、
前記ビームを斜角で表面に向かわせるステップであり、前記ビームが前記表面により規定された平面上の第１の方向と実質的に垂直である、ステップと、
前記ビームを向かわせるステップの前に、
前記第１の方向と垂直な少なくとも第２の方向に分離された２本以上のオフセットビームへと前記ビームを分割するステップと、
前記表面上で同時に焦点が合うように、前記２本以上のオフセットビームの位相特性を修正するステップと、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２８】
請求項２７に記載の方法であって、前記２本以上のオフセットビームが、交互行を伴うオフセットビームの２次元アレイを含んでおり、前記２本以上の交互行が、前記第１の方向に配向したことを特徴とする方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は一般的に、斜め入射スポット走査ウェハ検査システムの分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
本願は、米国特許法第１１９条（ｅ）の下、ジェイミー  サリバン（Ｊａｍｉｅ  Ｓｕｌｌｉｖａｎ）およびエフゲニー  チューリン（Ｙｅｖｇｅｎｉｙ  Ｃｈｕｒｉｎ）を発明者として２０１５年５月８日に出願された「ＯＢＬＩＱＵＥ  ＩＮＣＩＤＥＮＣＥ  ＳＣＡＮＮＩＮＧ  ＷＩＴＨ  ２Ｄ  ＡＲＲＡＹ  ＯＦ  ＳＰＯＴＳ」という名称の米国仮特許出願第６２／１５９，１７３号の利益を主張するものであり、そのすべての内容を本願に引用して援用する。
【０００３】
ウェハ（または、「ダイ」）を分析して潜在的な欠陥の有無を判定するのにウェハ検査システムが用いられることが多い。通常のウェハ検査システムでは、分析対象のダイの画像を生成し、データベースから取得可能な基準画像またはシリーズ内の別のダイの画像に対して、この画像を比較する。スポット走査構成では、サンプルを横切るように集束照射ビームを走査し、サンプルで散乱および／または反射した光を検出することによって、画素ごとにウェハの画像を生成する。このように、スポット走査システムでは、高い空間分解能でウェハの形体を検出することができる。
【０００４】
一般的に、斜めスポット走査ウェハ検査システムは、照射ビームが垂直な入射角ではなく斜角でウェハと相互作用するように構成されている。ウェハ検査システムの分野において、斜角入射は、サンプル上の分極誘起効果の検出を可能とする。また、集積回路等の多くの表面形体は、回折格子に近いため、斜めサンプリングビームを使用すれば、ウェハ形体の精密な回折ベースのモニタリングが可能となる。ただし、従来のウェハ検査システムにおいて斜角サンプリングビームを使用すると、ウェハ検査システムのスループットあるいは効率が低下する可能性がある。これは、所与の時間にサンプリング可能な線形領域が１つだけであることに起因する。線形領域は、通常は対物レンズの光軸に垂直な対物レンズの焦点面とウェハの平面との交差によって表される。通常の斜角走査ウェハ検査システムでは、この線形領域に沿って照射ビームを走査し、１つ以上の検出器でサンプルからの散乱および反射光を検出する。連続ライン走査の取得によって２次元画像が生成されるが、サンプルは、連続ライン走査間で並進ステージを介して移動する。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
以上から、斜め走査ウェハ検査システムのスループットを向上させるシステムおよび方法の開発が強く求められている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本開示の１つ以上の例示的な実施形態によれば、斜角マルチビームスポット走査ウェハ検査システムにおいて複数のビームラインを生成するシステムが開示される。例示的な一実施形態において、このシステムは、照射ビームを走査するように構成されたビーム走査装置を備える。別の例示的な実施形態において、このシステムは、ビームが第１の方向に走査されるように、ビームをサンプルの表面に向かわせるように位置決めされた対物レンズであり、対物レンズの光軸が第１の方向と垂直に配向するとともに、サンプルの表面に対して斜め入射角でさらに配向した、対物レンズを備える。別の例示的な実施形態において、このシステムは、対物レンズとビーム走査装置との間に位置決めされた１つ以上の光学素子を備える。例示的な一実施形態において、１つ以上の光学素子は、第１の方向と垂直な少なくとも第２の方向に分離された２本以上のオフセットビームへと上記ビームを分割するように構成されている。別の例示的な実施形態において、１つ以上の光学素子は、走査中にサンプル上で同時に焦点が合うように、２本以上のオフセットビームの位相特性を修正するように構成されている。
【０００７】
本開示の１つ以上の例示的な実施形態によれば、傾斜面上にスポットを生成する装置が開示される。例示的な一実施形態において、この装置は、表面に対して斜角で配向した対物レンズの前のビーム走査システム中に位置決め可能な１つ以上の光学素子であり、レンズの光軸が上記表面により規定された平面上の第１の方向と垂直である、１つ以上の光学素子を備える。例示的な一実施形態において、１つ以上の光学素子は、第１の方向と垂直な少なくとも第２の方向に分離された２本以上のオフセットビームへと上記ビームを分割するように構成されている。別の例示的な実施形態において、１つ以上の光学素子は、走査中に表面上で同時に焦点が合うように、２本以上のオフセットビームの位相特性を修正するように構成されている。
【０００８】
本開示の１つ以上の例示的な実施形態によれば、斜めマルチビームスポット走査ウェハ検査システムにおいて複数のビームを生成する方法が開示される。例示的な一実施形態において、この方法は、照射ビームを生成するステップを含む。別の例示的な実施形態において、この方法は、ビームを斜角で表面に向かわせるステップであり、ビームが上記表面により規定された平面上の第１の方向と実質的に垂直である、ステップを含む。別の例示的な実施形態において、この方法は、ビームを向かわせるステップの前に、第１の方向と垂直な少なくとも第２の方向に分離された２本以上のオフセットビームへと上記ビームを分割するステップを含む。別の例示的な実施形態において、この方法は、ビームを向かわせるステップの前に、上記表面上で同時に焦点が合うように、２本以上のオフセットビームの位相特性を修正するステップを含む。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本開示の一実施形態に係る、斜め入射マルチビームスポット走査ウェハ検査システムの模式図である。
【図２】本開示の一実施形態に係る、音響光学偏向器の使用によるビームの線形走査および光学素子の使用によるビームの焦点特性の修正を示した、斜め入射マルチビームスポット走査ウェハ検査システムの一部の模式図である。
【図３Ａ】本開示の一実施形態に係る、ウェハ上で適正には焦点が合っていない−１、０、および＋１の回折次数で構成された３本のビームを生成する回折格子の簡易模式図である。
【図３Ｂ】本開示の一実施形態に係る、ウェハ上で適正に焦点が合っている−１、０、および＋１の回折次数で構成された３本のビームを生成するデフォーカス回折格子の模式図である。
【図３Ｃ】本開示の一実施形態に係る、ウェハ上で適正に焦点が合っている０および＋１の回折次数で構成された２本のビームを生成するデフォーカス回折格子の模式図である。
【図３Ｄ】本開示の一実施形態に係る、ウェハ上で適正に焦点が合っている−１および＋１の回折次数で構成された２本のビームを生成するデフォーカス回折格子の模式図である。
【図４Ａ】本開示の一実施形態に係る、２本の走査ラインに沿って配向した二組４本のビームがウェハ上で同時に焦点が合った走査パターンの簡易模式図である。
【図４Ｂ】本開示の一実施形態に係る、３本の走査ラインに沿って配向した３組３本のビームがウェハ上で同時に焦点が合った走査パターンの簡易模式図である。
【図５】本開示の一実施形態に係る、斜めマルチビームスポット走査ウェハ検査システムにおいて複数のビームを生成する方法を示したフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、添付の図面に示す開示の主題について、詳しく言及する。本開示は、特に、特定の実施形態およびその具体的な特徴に関して図示および説明している。本明細書に記載の実施形態は、限定的なものではなく例示的なものと捉えられる。当業者であれば、本開示の主旨および範囲から逸脱することなく、形態および詳細の種々変更および変形が可能であることが容易に明らかとなるはずである。
【００１１】
広く図１〜図５を参照して、本開示の１つ以上の実施形態に係る、複数の平行ビームにより斜め入射角でウェハを走査するシステムおよび方法を説明する。本開示の実施形態は、斜め入射スポット走査ウェハ検査システムにおいて、ウェハ上で同時に焦点が合う複数のビームの生成を対象とする。一実施形態において、１つ以上の光学素子１０９（たとえば、１つ以上の回折光学素子（ＤＯＥ））は、２本以上の走査ライン１２２に沿って位置付けられた２本以上のオフセットビーム１１１へとビームを分離する。１つ以上の光学素子１０９は、２本以上の走査ライン１２２に沿って位置付けられた２本以上のオフセットビーム１１１が対物レンズ１１０による集束の後、ウェハ上で同時に焦点が合うように、２本以上のオフセットビーム１１１の位相を修正するようにさらに構成されている。これに関して、１つ以上の光学素子１０９は、２本以上のオフセットビーム１１１の焦点面３０６を回転させて、サンプル配向と一致させる。スポット走査ウェハ検査システムについては、２００２年５月３日に出願された米国特許第６，７５５，０５１  Ｂ２号および２０１３年５月２１日に出願された米国特許第８，９９５，７４６  Ｂ２号に大略記載されており、そのすべての内容を本願に引用して援用する。マルチスポット走査ウェハ検査については、１９９７年１２月１５日に出願された米国特許第６，２３６，４５４  Ｂ１号および２００８年３月４日に出願された米国特許第８，１９４，３０１  Ｂ２号に大略記載されており、そのすべての内容を本願に引用して援用する。
【００１２】
なお、所与のウェハ検査システムは、ウェハの画像を取得し、この画像を基準画像と比較することによって、ウェハ上の欠陥を検出するようにしてもよい。スポット走査撮像システムでは、ウェハを横切るように照射源からの照射（たとえば、レーザ）を走査し、ウェハ上の離散位置からのウェハからの照射を収集することによって、画素ごとにウェハの画像を生成する。なお、本明細書においては、１つ以上の検出器を用いてウェハから照射が収集されるようになっていてもよい。さらに、サンプリング点の物理的位置は、サンプリング点の格子（すなわち、サンプリング格子）を規定し、さらに画像の画素を規定する。点ごとの検出と１つ以上の検出器の使用による各サンプリング点からの情報収集との組み合わせにより、高分解能かつ高感度の画像を生成可能である。
【００１３】
図１〜図３は、本開示の１つ以上の実施形態に係る、対物レンズ１１０に対して斜角で配向したウェハ１１２上の２本以上の走査ライン１２２に沿って２本以上のオフセットビーム１１１が走査されるウェハ検査システム１００を示している。なお、複数の平行走査ライン１２２を伴う斜角走査検査システムの速度およびスループットは、すべてのビームが単一の走査ライン上にあるシステムよりも高い。一実施形態においては、照射源１０１が照射ビーム１０２を生成する。別の実施形態においては、ビーム走査子１０６がビーム１０２を走査ビーム１０８に変換する。別の実施形態においては、対物レンズ１１０が走査ビーム１０８を収集する。別の実施形態においては、対物レンズ１１０の前に１つ以上の光学素子１０９（たとえば、回折光学素子）が位置決めされている。別の実施形態において、１つ以上の光学素子１０９は、少なくともｘ方向に分離された２本以上のオフセットビーム１１１へと走査ビーム１０８を分割する。さらに、１つ以上の光学素子１０９は、対物レンズ１１０により集束された２本以上のオフセットビーム１１１の焦点面３０６を回転させて、ウェハ１１２の表面と一致させるようにしてもよい。なお、本明細書においては、対物レンズ１１０により集束された２本以上のオフセットビーム１１１の焦点面３０６の回転によって、２本以上の走査ライン１２２上に位置付けられた２本以上のオフセットビーム１１１の焦点を走査中にすべての点で合わせることができる。２本以上のオフセットビーム１１１の焦点面３０６の回転がなければ、２本以上のオフセットビーム１１１の焦点面３０６は、対物レンズ１１０の光軸と垂直に配向するとともに、単一の線形交差領域に沿ってウェハ１１２と交差する。
【００１４】
一実施形態においては、ビーム偏向器１０６の前に、１つ以上のビーム調節素子１０４が位置決めされている。１つ以上のビーム調節素子１０４は、ビーム１０２の調節に適した当技術分野において既知の任意の光学素子を含んでいてもよい。たとえば、１つ以上のビーム調節素子１０４としては、１つ以上のレンズ、１つ以上の偏光子、１つ以上のフィルタ、１つ以上の波長板、または１つ以上のビーム整形器が挙げられるが、これらに限定されない。一実施形態において、１つ以上のビーム調節素子１０４は、ビーム１０２を拡大して、ビーム走査子１０６の入力開口を満たす。別の実施形態において、１つ以上のビーム調節素子１０４は、ビーム１０２の偏光を調整する。別の実施形態において、１つ以上のビーム調節素子１０４は、ビーム１０２の空間プロファイルを修正する。たとえば、１つ以上のビーム調節素子１０４は、２つ以上のオフセットビーム１１１それぞれのスポットサイズが一定かつウェハ１１２の位置と無関係になるように構成されていてもよい。
【００１５】
別の実施形態において、システム１００は、ビーム偏向器１０６の後に位置決めされてビーム１０８を収集するリレーレンズ１０７を具備する。たとえば、リレーレンズ１０７は、ビーム走査子１０６からの集束走査ビーム１０８を平行にして、平行走査ビーム１０８を１つ以上の光学素子１０９に向かわせるようにしてもよい。一実施形態においては、対物レンズ１１０の前に、１つ以上のビーム調節素子１０５が位置決めされている。１つ以上のビーム調節素子１０５は、ビーム１０８の調節に適した当技術分野において既知の任意の光学素子を含んでいてもよい。たとえば、１つ以上のビーム調節素子１０５としては、１つ以上のレンズ、１つ以上の倍率制御器、１つ以上の偏光子、１つ以上のフィルタ、１つ以上の波長板、または１つ以上のビーム整形器が挙げられるが、これらに限定されない。一実施形態において、１つ以上のビーム調節素子１０５は、ウェハ１１２上の２本以上のオフセットビーム１１１の集束サイズを調整するのに適した倍率制御器を具備する。なお、本明細書においては、１つ以上の光学素子１０９の前または後に、１つ以上のビーム調節素子１０５が位置決めされていてもよい。さらに、１つ以上の光学素子１０９は、２つのビーム調節素子１０５の間に位置決めされていてもよい。
【００１６】
別の実施形態において、システム１００は、ウェハ１１２の固定および位置決めに適したステージアセンブリ１２０を具備する。ステージアセンブリ１２０は、当技術分野において既知の如何なるサンプルステージ構成を具備していてもよい。非限定的な一例として、ステージアセンブリ１２０は、線形ステージを具備していてもよい。別の例として、ステージアセンブリ１２０は、回転ステージを具備していてもよい。ウェハ１１２としては、未パターン化半導体ウェハ等のウェハが挙げられるが、これに限定されない。なお、本明細書においては、２本以上の走査ライン１２２に沿った連続走査間でのウェハ１１２の並進によって、ウェハ１１２の２次元画像が生成されるようになっていてもよい。さらに、１つ以上のビーム偏向器１０６は、当技術分野において既知の任意の種類の偏向器として、音響光学ビーム偏向器、電気光学ビーム偏向器、多角形走査子、共鳴走査子、または検流計走査子を具備し得るが、これらに限定されない。
【００１７】
なお、本明細書において、照射源１０１としては、当技術分野において既知の任意の照射源が挙げられる。たとえば、照射源１０１としては、一組の波長または波長範囲を生成するように構成された１つ以上のレーザ源等の任意のレーザシステムが挙げられるが、これに限定されない。レーザシステムは、赤外線放射、可視光線放射、および／または紫外線（ＵＶ）放射等、任意の種類のレーザ放射を生成するように構成されていてもよいが、これらに限定されない。一実施形態において、照射源１０１は、連続波（ＣＷ）レーザ放射を発するように構成されたレーザシステムである。別の実施形態において、照射源１０１は、パルスレーザ源である。別の実施形態において、照射源１０１は、変調出力を生成するように構成されている。たとえば、照射源１０１は、音響光学または電気光学変調器により変調され、時間的に整形された照射を生成するようになっていてもよい。
【００１８】
別の実施形態において、照射源１０１は、１つ以上のエキシマレーザシステムを具備する。たとえば、照射源としては、活性ガスとして分子状フッ素を含み、１５７ｎｍのレーザ光を発するエキシマレーザが挙げられるが、これに限定されない。別の実施形態において、照射源１０１は、１つ以上のダイオードレーザシステム（たとえば、４４５ｎｍの光を発する１つ以上のダイオード）を具備する。
【００１９】
一実施形態において、照射源は、１つ以上のダイオードレーザを具備する。別の実施形態において、照射源は、１つ以上のダイオード励起固体レーザを具備する。たとえば、照射源は、波長２６６ｎｍのダイオード励起固体レーザを具備していてもよいが、波長はこれに限定されない。別の実施形態において、照射源１０１は、１つ以上の周波数変換レーザシステムを具備する。たとえば、照射源１０１としては、公称中心照射波長が５３２ｎｍの光を発するのに適し、中心波長２６６ｎｍの照射を生成する周波数倍増システムと結合された周波数変換レーザが挙げられるが、これに限定されない。
【００２０】
一実施形態においては、ウェハ１１２上の２本以上の走査ライン１２２からの反射および／または散乱光を同時に収集するように、１つ以上のマルチチャンネル検出器が位置決めされている。一実施形態においては、ウェハで反射されたレーザ光を受光するように、検出器１１８が位置決めされている。検出器１１８は、「反射性センサ」または「明視野センサ」として動作するようになっていてもよい。たとえば、検出器１１８は、サンプルの反射性マップの生成に用いられるようになっていてもよい。別の例として、検出器１１８は、構造高さ、膜厚、または誘電率等のウェハ特性のモニタリングに用いられるようになっていてもよいが、これらに限定されない。別の実施形態においては、ウェハの表面と垂直に検出器１１６が位置決めされ、ウェハ表面と垂直な方向に散乱した光を検出するようになっていてもよい。また、ウェハ表面の構造から直接反射した光を検出器１１６が検出するようにしてもよい。一実施形態においては、２本以上の走査ライン１２２から散乱した光を検出器１１４ａおよび１１４ｂが検出する。これに関しては、サンプリング点に対する検出器位置に従って、１つ以上の検出器１１４が前方散乱光、側方散乱光、または後方散乱光を収集するようにしてもよい。なお、本明細書において、１つ以上の検出器１１４ａ、１１４ｂ、１１６、または１１８としては、当技術分野において既知の任意の検出器が挙げられる。たとえば、検出器１１４ａ、１１４ｂ、１１６、または１１８としては、ＣＣＤ検出器、フォトダイオード、アバランシェフォトダイオード（ＡＰＤ）、および／または光電子増倍管（ＰＭＴ）が挙げられるが、これらに限定されない。さらに、１つ以上の検出器１１４ａ、１１４ｂ、１１６、または１１８は、ウェハ１１２上の複数の検出領域（たとえば、１本以上の走査ライン１２２の１つ以上の領域）からの信号を同時に検出するように構成されたマルチチャンネル検出器であってもよい。本明細書においては、所与の検出領域からの照射（たとえば、散乱光）が単一のチャンネルのみで検出されるように、ウェハ１１２上の検出領域を分離することによって、検出器（たとえば、１１４ａ、１１４ｂ、１１６、または１１８）のチャンネル間のクロストークが最小限に抑制され得るものと考えられる。
【００２１】
一実施形態において、システム１００は、ステージアセンブリ１２０、１つ以上のビーム偏向器１０６、ならびに検出器１１４ａ、１１４ｂ、１１６、および１１８に駆動信号を送信して、ウェハ１１２を横切るビーム１０８の線形掃引、ウェハ１１２で散乱および／もしくは反射した照射のサンプリング、ならびにステージアセンブリ１２０によるウェハ１１２の移動を開始するように構成された制御装置１３０を具備する。ウェハ１１２を横切るように２本以上のオフセットビーム１１１が掃引された場合に、サンプル上の１つ以上の位置で１つ以上の検出器１１４ａ、１１４ｂ、１１６、および／または１１８を起動することにより、ウェハ１１２の線形領域の画像が生成される。一実施形態においては、ウェハ１１２の新しい位置で各線形走査が実行可能となるように、ビーム走査方向と直交する方向にステージアセンブリ１２０で並進させることによって、ウェハ１１２の２次元画像が生成されるようになっていてもよい。なお、本明細書において、ウェハのサンプリング格子は、検出器のサンプリング速度およびステージアセンブリ１２０の並進の両者により規定されるようになっていてもよい。別の実施形態においては、新しい位置への並進前にウェハ１１２の単一の位置で１回以上の線形走査が実行されるようになっていてもよい。たとえば、システムノイズを低減するには、複数のビーム走査が望ましいと考えられる。
【００２２】
スポット走査ウェハ検査システムの精度は、基準画像のサンプリング格子または過去の走査データに対するウェハ１１２のサンプリング格子の実行時位置合わせによってさらに向上可能である。たとえば、過去の走査（たとえば、過去２００本の走査行）と関連付けられたデータに基づくウェハ１１２のサンプリング格子の実行時位置合わせによって、走査精度が向上し得る。ウェハ１１２のサンプリング格子は、複数の要因の結果として、基準画像のサンプリング格子に対して位置ずれが生じる可能性があり、ステージアセンブリ１２０によりウェハ１１２を位置決めする場合の元の位置合わせ誤差、機械的振動、空気揺らぎ、空気流、および／または２つ以上のオフセットビーム１１１のドリフト等が挙げられるが、これらに限定されない。
【００２３】
ここで図２を参照して、本開示の１つ以上の実施形態によれば、ビーム走査子１０６は、ビーム偏向器２０２および音響光学偏向器２１０を具備する。なお、本明細書においては、本開示の目的として、用語「ビーム走査子」および「ビーム偏向器」を区別なく使用している。一実施形態においては、照射源１０１によってビーム１０２が生成され、制御装置１３０に対して通信可能に結合されたビーム偏向器２０２に入射する。ビーム偏向器２０２は、角度拡がりを規定する角度範囲にわたって、当該ビーム偏向器２０２から出るビーム２０４を掃引する。たとえば、ビーム偏向器２０２は、第１の位置２０４ａのビームを第２の位置２０４ｂへと偏向させる。ビーム偏向器２０２としては、当技術分野において既知の任意のビーム偏向器が挙げられる。たとえば、ビーム偏向器２０２は、音響光学偏向器、電気光学偏向器、多角形偏向器、共鳴偏向器、または検流計偏向器で構成されていてもよいが、これらに限定されない。一実施形態において、ビーム偏向器２０２は、固体媒質２０２ｂを伝搬する超音波を生成するように構成されたトランスデューサ２０２ａと結合された固体媒質２０２ｂから成る音響光学偏向器である。屈折率等の固体媒質２０２ｂの特性は、超音波の波長に従って、固体媒質２０２ｂとの相互作用時にビーム１０２が偏向するように、伝搬する超音波によって修正されるが、特性はこれに限定されない。さらに、超音波は、媒質中の音速で固体媒質２０２ｂを伝搬するとともに、駆動信号の周波数および固体媒質２０２ｂ中の音速に関連する波長を有する。一実施形態において、トランスデューサ２０２ａは、制御装置１３０により生成された駆動信号に応答して超音波を生成する。
【００２４】
一実施形態において、レンズアセンブリ２０６は、ビーム２０４の角度掃引を当該レンズアセンブリ２０６から出るビーム２０８の線形掃引へと変換する。別の実施形態においては、レンズ２０６がビームを平行にする。別の実施形態において、１つ以上のレンズ２０６は、ビーム２０４の空間プロファイルを修正する。別の実施形態において、レンズアセンブリ２０６は、ビーム２０４の直径を拡げる。
【００２５】
一実施形態において、ビーム２０４は、移動レンズとして構成された音響光学偏向器２１０へと向かう。制御装置１３０に対して通信可能に結合されたトランスデューサ２０２ａは、線形経路２１４に沿って固体媒質２０２ｂを伝搬する線形変動周波数の超音波のチャープパケット２１２を生成する。チャープパケット２１２は、移動円柱レンズとして動作するため、チャープパケット２１２に入射するビーム２０８がライン２１６上の位置に集束される。また、チャープパケット２１２の比較的低い周波数部分に入射する光線２０８の部分は、チャープパケット２１２の比較的高い周波数部分に入射する光線２０８の部分よりも偏向が少なくなる。一実施形態においては、チャープパケット２１２によりもたらされる集束の方向と直交する平面において、円柱レンズ２０９が走査ビーム１０８を集束させる。これに関して、円柱レンズ２０９の軸は、走査方向２１４と平行に配向している。円柱レンズ２０９は、（たとえば、図２に示すように）音響光学偏向器２１０の前に置かれていてもよいし、音響光学偏向器２１０の直後に置かれていてもよい。一実施形態において、ビーム２０８の線形掃引の位置および速度は、チャープパケット２１２の伝搬と同期する。このようにして、ビーム２０８ａが移動チャープパケット２１２ａに入射し得る。チャープパケット２１２が位置２１２ａから２１２ｂまで伝搬すると、これに対応して、ビーム２０８ａが位置２０８ａから位置２０８ｂまで伝搬する。結果として、チャープパケット２１２からの走査ビーム１０８は、ライン２１６に沿って焦点が合うとともに線形走査される。なお、本明細書において、チャープパケット２１２の幅は、固体媒質２１０ｂの長さ未満であってもよい。さらには、複数のチャープパケット２１２が同時に、固体媒質２１０ｂを順次伝搬するようになっていてもよい。
【００２６】
別の実施形態において、ビーム走査子１０６は、レンズおよび「フラッドモード」で動作する単一の音響光学偏向器２１０で構成されている。これに関して、レンズ２０６は、ビーム１０２を拡大して、音響光学偏向器２１０の全長を固定ビーム２０８で照射する。その後、固定ビーム２０８の一部によって、伝搬する１つ以上のチャープパケット２１２が持続的に照射されるようになっていてもよい。伝搬する１つ以上のチャープパケット２１２に入射しないビーム２０８の部分は、音響光学偏向器２１０による集束が行われることはない。
【００２７】
一実施形態においては、レンズ１０７が走査ビーム１０８を平行にし、対物レンズ１１０が走査ビーム１０８をウェハ１１２上に集束させる。一実施形態において、リレーレンズ１０７および対物レンズ１１０は、テレセントリック構成で位置決めされる。別の実施形態において、リレーレンズ１０７および対物レンズ１１０は、共通の光軸を共有する。別の実施形態においては、対物レンズ１１０の光軸２２２がリレーレンズ１０７の光軸２２０からシフトしているものの、リレーレンズ１０７の光軸２２０に平行である。このようにして、対物レンズ１１０の光軸２２２は、ウェハ１１２上において、集束走査ビーム１０８の走査ライン１２２上で中心に位置していてもよい。なお、図２においては、すべての光線がｙ−ｚ面上に存在しており、２本以上の走査ライン１２２がｙ方向に配向するとともにｘ方向に分離されている。さらに、対物レンズ１１０の前に位置決めされた１つ以上の光学素子１０９は、ｘ方向に分離された２本以上のオフセットビーム１１１へと走査ビーム１０８を分割して、ｙ−ｚ面にない別の走査ライン１２２を生成するようにしてもよい。
【００２８】
ここで図３Ａ〜図３Ｄを参照して、本開示の１つ以上の実施形態によれば、対物レンズ１１０の前に位置決めされた１つ以上の光学素子１０９は、ビーム１０８を２本以上のオフセットビーム１１１に分割するのと同時に、２本以上のオフセットビーム１１１の焦点面３０６を回転させて、サンプル１１２の表面に重ね合わせる。１つ以上の光学素子１０９は、ビーム１０８の分割および焦点面３０６の回転に適した当技術分野における任意の種類で構成されていてもよい。たとえば、１つ以上の光学素子１０９としては、１つ以上の回折光学素子、１つ以上の屈折光学素子、または１つ以上のビームスプリッタが挙げられるが、これらに限定されない。さらに、１つ以上の光学素子１０９は、透過モードまたは反射モードで動作するようになっていてもよい。一実施形態において、１つ以上の光学素子１０９としては、１つ以上のホログラフィックＤＯＥが挙げられる。別の実施形態において、１つ以上の光学素子１０９としては、１つ以上のマイクロレンズアセンブリが挙げられる。
【００２９】
一実施形態において、光学素子１０９は、１つ以上の回折次数がｘ方向に生成されるとともに当該回折次数の焦点面３０６がウェハ１１２上で同時に焦点が合うように、フォーカス補正（たとえば、デフォーカス）回折格子として構成されたＤＯＥで構成されている。図３Ａを参照して、フォーカス無補正回折格子３０２から成る光学素子１０９は、ウェハ１１２の平面ではなく光軸２２２と垂直に配向した焦点面３０６へと対物レンズ１１０を通じて集束されるｘ方向に分離された３本のオフセットビーム１１１ａ、１１１ｂ、および１１１ｃ（すなわち、回折次数）を生成することになる。このため、ウェハ１１２上では、３本のオフセットビーム１１１のうちの１本だけ焦点が合う可能性がある。ここで図３Ｂを参照して、フォーカス補正回折格子３０４から成る光学素子１０９は、３本のオフセットビーム１１１ａ、１１１ｂ、および１１１ｃの焦点面３０６がウェハ１１２の表面と重なるように、対物レンズ１１０を通じて、焦点面３０６を効果的にチルトさせることになる。このようにして、３本のオフセットビーム１１１ａ、１１１ｂ、および１１１ｃは、ウェハ１１２上で同時に焦点が合う。なお、３本のオフセットビーム１１１ａ、１１１ｂ、および１１１ｃはそれぞれ、ｙ方向に別個の走査ライン１２２に沿って走査され、走査中は焦点が合ったままの状態を維持するようになっていてもよい。
【００３０】
なお、本明細書において、デフォーカスは２次収差であり、波面収差関数Ｗ０２０ｒ２あるいはＷ０２０（ｘ２＋ｙ２）によって表される。一実施形態において、光学素子１０９は、入射ビーム１０８の光学位相遅延が以下の式に従って修正されるように、デフォーカス回折格子として構成されている。
【００３１】
【数１】
0006678233.tif 000002
【００３２】
ここで、Ｋ＝０、±１、±２・・・は回折次数、Ｔは格子の周期、Ａはデフォーカスの程度を表す振幅項である。このように、ＤＯＥは、走査ビーム１０８を２本以上のオフセットビーム１１１に分割するのと同時に、対物レンズ１１０を通じてすべてのオフセットビーム１１１がウェハ１１２上で同時に焦点が合うように、２本以上のオフセットビーム１１１の位相特性を修正する位相マスクとして動作する。さらに、Ａの値は、焦点面３０６の回転の調整によってウェハ１１２の表面に重なり合うように選定されるようになっていてもよい。
【００３３】
なお、本明細書において、２本以上のオフセットビーム１１１としては、任意数のビームが挙げられる。さらに、オフセットビーム１１１は、光学素子１０９からの回折次数の任意の組み合わせで生成されるようになっていてもよい。本開示の１つ以上の実施形態によれば、図３Ｃは、光学素子１０９の０次（非回折）で構成された第１のオフセットビーム１１１ｂおよび光学素子１０９の＋１の回折次数で構成された第２のオフセットビーム１１１ｃの構成を示している。本開示の１つ以上の実施形態によれば、図３Ｄは、光学素子１０９の−１次で構成された第１のオフセットビーム１１１ａおよび光学素子１０９の＋１の回折次数で構成された第２のオフセットビーム１１１ｃの構成を示している。さらに、走査ライン間の分離を大きくすると、マルチチャンネル検出器（たとえば、１１４ａ、１１４ｂ、１１６、または１１８）における隣接チャンネル間のクロストークが抑えられる場合もある。別の実施形態において、光学素子１０９により生成された回折次数と関連付けられた２本以上のオフセットビーム１１１は、システム１００の１つ以上のアイリスによって選択される。
【００３４】
なお、本明細書において、１つ以上の光学素子１０９は、ｙ方向に分離された複数のオフセットビームへとビーム１０８をさらに分割するようにしてもよい。このようにして、走査中に、オフセットビーム１１１の２次元アレイがウェハ１１２上で焦点が合うようになっていてもよい。一実施形態において、１つ以上の光学素子１０９は、２本以上の交互行を伴うオフセットビーム１１１の２次元アレイへとビーム１０８を分割するが、これらの行は、ｙ方向（たとえば、走査方向）に配向している。なお、本明細書においては、交互行の構成によって、隣接行のビーム間の分離が大きくなるため、マルチチャンネル検出器（たとえば、１１４ａ、１１４ｂ、１１６、または１１８）における隣接チャンネル間のクロストークが抑えられる。
【００３５】
図４Ａおよび図４Ｂは、本開示の２つ以上の実施形態に係る、ウェハ１１２の表面上の走査パターンの２つの非限定的な例を示している。図４Ａは、本開示の１つ以上の実施形態に係る、交互行を伴う２×４アレイにオフセットビーム１１１が配置されたウェハ１１２上の走査パターンを示している。このように、第１の行のオフセットビーム１１１ｄは、一組４本のビーム１１１ｄ−１、１１１ｄ−２、１１１ｄ−３、および１１１ｄ−４を含み、第２の行のオフセットビーム１１１ｅは、一組４本のビーム１１１ｅ−１、１１１ｅ−２、１１１ｅ−３、および１１１ｅ−４を含む。矢印は、オフセットビーム１１１の走査ライン１２２（たとえば、１２２ｄおよび１２２ｅ）を表す。なお、本明細書において、オフセットビーム１１１はそれぞれ、サンプル上でｙ方向およびｙ方向と垂直な方向に分離されることにより、クロストークが最小限に抑えられている。さらに、各走査経路の長さにおいては、すべてのオフセットビーム１１１がウェハ１１２の表面上で同時に焦点が合っている。一実施形態において、走査ライン１２２ｄに位置付けられたオフセットビーム１１１ｄは、光学素子１０９の０次（非回折）で構成されており、走査ライン１２２ｅに位置付けられたオフセットビーム１１１ｅは、光学素子１０９の＋１の回折次数で構成されている。別の実施形態において、走査ライン１２２ｄに位置付けられたオフセットビーム１１１ｄは、光学素子１０９の−１の回折次数で構成されており、走査ライン１２２ｅに位置付けられたオフセットビーム１１１ｅは、光学素子１０９の＋１の回折次数で構成されている。
【００３６】
図４Ｂは、本開示の１つ以上の実施形態に係る、交互行を伴う３×３アレイにオフセットビーム１１１が配置されたウェハ１１２上の走査パターンを示している。このように、第１の行のオフセットビーム１１１ｆは、一組３本のビーム１１１ｆ−１、１１１ｆ−２、および１１１ｆ−３を含み、第２の行のオフセットビーム１１１ｇは、一組３本のビーム１１１ｇ−１、１１１ｇ−２、および１１１ｇ−３を含み、第３の行のオフセットビーム１１１ｈは、一組３本のビーム１１１ｈ−１、１１１ｈ−２、および１１１ｈ−３を含む。矢印は、オフセットビーム１１１の走査ライン１２２（たとえば、１２２ｆ、１２２ｇ、および１２２ｈ）を表す。なお、本明細書において、オフセットビーム１１１はそれぞれ、サンプル上でｙ方向およびｙ方向と垂直な方向に分離されることにより、クロストークが最小限に抑えられている。さらに、各走査経路の長さにおいては、すべてのオフセットビーム１１１がウェハ１１２の表面上で同時に焦点が合っている。一実施形態において、走査ライン１２２ｆに位置付けられたオフセットビーム１１１ｆは、光学素子１０９の−１の回折次数で構成されており、走査ライン１２２ｇに位置付けられたオフセットビーム１１１ｇは、光学素子１０９の０次（非回折）で構成されており、走査ライン１２２ｈに位置付けられたオフセットビーム１１１ｈは、光学素子１０９の＋１の回折次数で構成されている。
【００３７】
なお、本明細書において、図４Ａおよび図４Ｂならびに上記の対応する説明は、例示を目的として提供しているに過ぎず、本開示を制限するものと解釈されるべきではない。このため、走査パターンには、走査ビームがサンプル上で同時に焦点が合うように、任意の向きで配置された任意数のビームを含んでいてもよい。さらに、オフセットビームは、当技術分野において既知の任意の方法により生成されるようになっていてもよく、光学素子の任意の回折次数が挙げられるが、これに限定されない。
【００３８】
なお、本明細書において、１つ以上の光学素子１０９は、任意数の適当な配列で配置されて、ビーム１０８を２本以上のオフセットビーム１１１に分割するのと同時に、焦点面３０６を回転させてウェハ１１２の面に重ね合わせるようにしてもよい。一実施形態において、１つ以上の光学素子１０９は、単一のＤＯＥを具備することにより、ビーム１０８を２本以上のオフセットビーム１１１に分割し、焦点面３０６を回転させてウェハ１１２の面に重ね合わせるとともに、さらに、２本以上のオフセットビームそれぞれを一組２本以上のビームに分割する。別の実施形態において、１つ以上の光学素子１０９は、第１のＤＯＥを具備することにより、ビーム１０８を２本以上のオフセットビーム１１１に分割し、焦点面３０６を回転させてウェハ１１２の面に重ね合わせるとともに、第２のＤＯＥを具備することにより、２本以上のオフセットビームそれぞれを一組２本以上のビームにさらに分割する。別の実施形態において、１つ以上の光学素子１０９は、マイクロレンズアセンブリを具備することにより、ビーム１０８を２本以上のオフセットビーム１１１に分割し、ＤＯＥを具備することにより、焦点面３０６を回転させてウェハ１１２の面に重ね合わせるとともに、さらに、２本以上のオフセットビームそれぞれを一組２本以上のビームに分割する。なお、本明細書において、１つ以上の光学素子１０９は、任意の順序で配置されていてもよい。たとえば、１つ以上の光学素子１０９は、第１のＤＯＥを具備することにより、焦点面３０６を回転させてウェハ１１２の面に重ね合わせるとともに、第２のＤＯＥを具備することにより、ビーム１０８を２本以上のオフセットビーム１１１に分割するようにしてもよい。さらに、１つ以上の光学素子１０９に関する上記説明は、例示を目的として提供しているに過ぎず、何ら限定的に解釈されるべきものではない。
【００３９】
一実施形態において、１つ以上の光学素子１０９は、オフセットビーム１１１の数とオフセットビーム１１１それぞれのパワーとのトレードオフを調整できるように構成可能である。このようにして、システム１００の感度とスループットとのトレードオフが調整されるようになっていてもよい。たとえば、システム１００は、少なくともｘ方向に分離された２本のオフセットビーム１１１へとビーム１０８を分割して焦点面３０６を回転させる第１の１×２ＤＯＥと、ｙ方向に分離された７本のオフセットビーム１１１へと２本のオフセットビーム１１１それぞれを分割する第２の７×１ＤＯＥとを具備する２つの設定可能な光学素子１０９を具備していてもよい。このようにして、オフセットビーム１１１の７×２アレイは、サンプル１１２上で同時に焦点が合う。一構成において、各オフセットビームのパワーは、オフセットビーム１１１の７×１アレイがサンプル１１２上で同時に焦点が合うように第１のＤＯＥを除去することによって倍増され得る。別の構成において、各ビームのパワーは、オフセットビーム１１１の３×２アレイがサンプル上で同時に焦点が合うように第２の７×１ＤＯＥを３×１ＤＯＥで置き換えることによって、７／３の比率で大きくなり得る。付加的な構成においては、オフセットビーム１１１の数が増えてもよい。
【００４０】
さらに、本明細書において、上述するとともに図１〜図３に示したシステム１００の一連の光学素子は、例示を目的として提供しているに過ぎず、何ら限定的に解釈されるべきものではない。本開示の範囲内において、多くの同等または付加的な光学構成が利用可能になることが見込まれる。また、システム１００には、１つ以上の光学素子が配置可能になることが見込まれ、円対称レンズ、円柱レンズ、ビーム整形器、ミラー、波長板、偏光子、またはフィルタが挙げられるが、これらに限定されない。たとえば、ビーム偏向器１０６の前あるいはビーム偏向器の後に円柱レンズが配置されて、ウェハ１１２上のビーム１０８の空間プロファイルを修正するようになっていてもよい。
【００４１】
なお、本明細書において、システム１００の素子はいずれも、１つ以上の被膜を含むように構成されていてもよく、反射防止被膜またはスペクトル選択被膜が挙げられるが、これらに限定されない。たとえば、音響光学偏向器２０２および／もしくは２１０、レンズアセンブリ２０６に含まれる１つ以上のレンズ、および／またはシステム１００全体にわたる１つ以上のレンズの表面にスペクトル選択被膜が設けられて、ビーム１０２および／または１０８のスペクトル成分を増強するようになっていてもよい。別の実施形態においては、システム１００全体にわたる迷光の抑制を目的として、密閉室を含むシステム１００の非光学素子に反射防止被膜が設けられていてもよい。
【００４２】
図５は、本開示の１つ以上の実施形態に係る、斜めマルチビームスポット走査ウェハ検査システムにおいて複数のビームを生成する方法５００を示したフローチャートである。ステップ５０２においては、照射ビームを生成する。ステップ５０４においては、ビームを斜角で表面に向かわせるが、ビームは、当該表面により規定された平面上の第１の方向と実質的に垂直である。ステップ５０６においては、ビームを向かわせる前に、少なくとも第２の方向に分離された２本以上のオフセットビームへとビームを分割するが、この第２の方向は、第１の方向と垂直である。ステップ５０８においては、ビームを向かわせる前に、上記表面上で同時に焦点が合うように、２本以上のオフセットビームの位相特性を修正する。
【００４３】
本明細書に記載の主題では、他の構成要素に包含または接続された異なる構成要素を示す場合がある。このように示される構成は、ほんの一例に過ぎず、実際には、その他多くの構成が実施でき、それによって、同じ機能を実現可能であることが了解されるものとする。概念的な意味では、同じ機能を実現する構成要素の如何なる配置も、所望の機能が実現されるように効果的に「関連付け」されている。このため、本明細書においては、特定の機能を実現するように組み合わされた如何なる２つの構成要素も、構成または媒介構成要素に関わらず、所望の機能が実現されるように互いに「関連付け」されていると見なすことができる。同様に、このように関連付けられた如何なる２つの構成要素も、所望の機能を実現するように互いに「接続」または「結合」されたものと考えることができ、また、このように関連付け可能な如何なる２つの構成要素も、所望の機能を実現するように互いに「結合可能」と考えることができる。結合可能であることの具体例としては、物理的に相互作用可能な構成要素および／もしくは物理的に相互作用する構成要素、無線で相互作用可能な構成要素および／もしくは無線で相互作用する構成要素、ならびに／または論理的に相互作用可能な構成要素および／もしくは論理的に相互作用する構成要素が挙げられるが、これらに限定されない。
【００４４】
本開示およびそれに伴う利点の多くは上記説明によって了解され、また、開示の主題から逸脱することも、その重要な利点のすべてを犠牲にすることもなく、構成要素の形態、構成、および配置を種々変更可能であることが明らかになるものと考えられる。上記形態は説明を目的としているに過ぎず、以下の特許請求の範囲は、このような変更を網羅して含むことを意図している。さらに、本開示は、添付の特許請求の範囲によって規定されることが了解されるものとする。
【図１】
0006678233.tif 000003
【図２】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図３Ｃ】
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【図３Ｄ】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図５】
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