(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
耐水性と耐電気的破壊性を有するコーティングの製造方法であって、
基材をプラズマ室の反応チャンバー内に入れて、反応チャンバー内の真空度が１０−２００ｍＴｏｒｒになるまで反応チャンバーに対して真空引きを連続的に行い、不活性ガス又は窒素ガスを導入するステップ（１）と、
少なくとも１種の単官能性不飽フッ化炭素樹脂と少なくとも１種の多官能性不飽和炭化水素系誘導体との混合物を成分とし、多官能性不飽和炭化水素系誘導体が占める質量分率が３０−５０％である単量体蒸気を、真空度３０−３００ｍＴｏｒｒになるまで導入して、プラズマ放電を起動させ、化学気相成長を行って、基材の表面に耐水性と耐電気的破壊性を有するコーティングを製造するステップ（２）と、
プラズマ放電を停止して、単量体蒸気の導入を停止し、真空引きを持続させて、反応チャンバーの真空度を１０−２００ｍＴｏｒｒで１−５ｍｉｎ保持した後、大気を１気圧になるまで導入し、次に基材を取り出すステップ（３）と、を含むことを特徴とする製造方法。
【請求項２】
前記ステップ（１）において、基材は、電子部品又は電気部品である固体材料であり、且つ、前記基材の表面に耐水性と耐電気的破壊性を有するコーティングが製造されると、そのいずれの界面も国際工業防水等級規格ＩＰＸ１−ＩＰＸ８に記載されている環境に晒されて使用できることを特徴とする請求項１に記載の耐水性と耐電気的破壊性を有するコーティングの製造方法。
【請求項３】
前記ステップ（１）において、プラズマ室の容積が５０−１０００Ｌであり、プラズマ室の温度が３０〜６０℃に制御され、不活性ガス又は窒素ガスの導入流量が５〜３００ｓｃｃｍであり、前記不活性ガスはアルゴンガス又はヘリウムガスのうちの１種、又はアルゴンガスとヘリウムガスとの混合物であることを特徴とする請求項１に記載の耐水性と耐電気的破壊性を有するコーティングの製造方法。
【請求項４】
前記ステップ（２）において、単量体蒸気の導入には、供給ポンプによって単量体を霧化して揮発させ、低圧１０−２００ｍＴｏｒｒで反応チャンバーに導入し、前記単量体蒸気の導入流量を１０−１０００μＬ／ｍｉｎとすることを特徴とする請求項１に記載の耐水性と耐電気的破壊性を有するコーティングの製造方法。
【請求項５】
前記単量体は少なくとも１種の単官能性不飽フッ化炭素樹脂と少なくとも１種の多官能性不飽和炭化水素系誘導体との混合物であり、前記単量体蒸気において多官能性不飽和炭化水素系誘導体が占める質量分率が３０−５０％であることを特徴とする請求項４に記載の耐水性と耐電気的破壊性を有するコーティングの製造方法。
【請求項６】
前記単官能性不飽フッ化炭素樹脂は、
３−（ペルフルオロ−５−メチルヘキシル）−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−（ペルフルオロデシル）エチルメタクリレート、２−（ペルフルオロヘキシル）エチルメタクリレート、２−（ペルフルオロドデシル）エチルアクリレート、２−ペルフルオロオクチルエチルアクリレート、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ペルフルオロオクチルアクリレート、２−（ペルフルオロブチル）エチルアクリレート、（２Ｈ−ペルフルオロプロピル）−２−アクリレート、（ペルフルオロシクロヘキシル）メタクリレート、３，３，３−トリフルオロ−１−プロピン、１−エチニル−３，５−ジフルオロベンゼン又は４−エチニルトリフルオロトルエンを含み、
前記多官能性不飽和炭化水素系誘導体は、
エトキシル化トリメチロールプロパントリアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ジビニルベンゼン、ポリエチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジビニルエーテル又はネオペンチルグリコールジアクリレートを含むことを特徴とする請求項１又は５に記載の耐水性と耐電気的破壊性を有するコーティングの製造方法。
【請求項７】
前記ステップ（２）において、第一単量体蒸気を導入する前に、グロー放電を行うことで基材に衝撃前処理を行うことを特徴とする請求項１に記載の耐水性と耐電気的破壊性を有するコーティングの製造方法。
【請求項８】
前記ステップ（２）において、プラズマ放電を起動させるパワーが２−５００Ｗ、放電持続時間が６００−７２００秒、前記プラズマ放電方式がＲＦ放電、マイクロ波放電、中間周波数放電又は電気スパーク放電であることを特徴とする請求項１に記載の耐水性と耐電気的破壊性を有するコーティングの製造方法。
【請求項９】
前記プラズマＲＦ放電過程において、プラズマＲＦのエネルギー出力方式がパルス又は連続出力とされ、プラズマＲＦのエネルギー出力方式がパルス出力である場合、パルス幅が２μｓ−１ｍｓ、繰り返し周波数が２０Ｈｚ−１０ｋＨｚであることを特徴とする請求項８に記載の耐水性と耐電気的破壊性を有するコーティングの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマ化学気相成長の技術分野に属し、具体的には、耐電気的破壊性コーティングの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
湿気は、ＰＣＢ（プリント回路基板）回路基板にとって最も一般的で破壊的な要因である。湿気が多すぎると、導体間の絶縁抵抗が大幅に低下し、高速分解が促進され、Ｑ値が低下し、導体が腐食される。電子電気機器は、水の飛散、被水、浸水や水中環境で使用される場合、短絡や腐食短絡が発生して故障を招きやすい。
【０００３】
ポリマーコーティングは、経済的で、塗布しやすく、適用範囲が広いなどの特徴を有するため、材料の表面保護によく使用されており、材料に優れた物理的及び化学的耐久性を与えることができる。ポリマーコーティングは、バリア性を有することから、それを用いて電子電気機器、回路基板の表面に形成された保護膜は、回路基板を効果的にバリアし、水環境において浸食や損傷から回路を保護し、それによって回路基板の信頼性を向上させ、その安全性を高め、その耐用年数を確保することができ、防水コーティングとして使用されている。
【０００４】
コンフォーマルコーティング（Ｃｏｎｆｏｒｍａｌ  ｃｏａｔｉｎｇ）は、ＰＣＢに特定の材料を塗布して、被塗物の形状に合わせた絶縁保護層を形成するプロセスであり、一般的な回路基板の防水方法であり、回路基板を効果的にバリアし、過酷な環境による浸食や損傷から回路を保護することができる。しかしながら、コンフォーマルコーティングの製造過程には、液相法では溶媒が回路基板デバイスに損傷を与え易いこと、熱硬化コーティングの場合は、高温がデバイスを破壊しやすいこと、光硬化性コーティングの場合、密閉型デバイスの内部まで形成するのが難しいことが存在する。米国のユニオンカーバイド社は、新規コンフォーマルコーティング材料であるパリレンコーティング（特許）を開発し、それは、低い水透過性、低いガス透過性及び高いバリア効果を有するパラキシレンポリマーであり、耐湿、防水、防錆、耐酸腐食及び耐アルカリ腐食の役割を果たす。研究した結果、パリレンは、真空下で堆積されて生成され、液体塗料が適用できない高周波回路、及び極弱電流システムの保護などの分野に適用され得ることが見出された。ポリマー薄膜コーティングの厚さは、パリレン気相成長によるコンフォーマル保護の失敗を引き起こす要因であり、プリント回路基板のポリマー薄膜コーティングの厚さが３〜７ミクロンであると、局所が錆びて機能できなくなりやすく、コーティングの厚さは、高周波誘電損失に影響を与えずに３０ミクロン以上にする必要がある。ピレンコーティングは、原材料が高コストで、コーティング製造条件（高温、高真空要件）が厳しく、成膜速度が低いため、広く使用することは困難である。加えて、厚いコーティングは、放熱性が劣化し、信号が遮断され、コーティング欠陥が増加するなどの問題を起こしやすい。
【０００５】
プラズマ化学気相成長（ｐｌａｓｍａ  ｃｈｅｍｉｃａｌ  ｖａｐｏｒ  ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ，ＰＣＶＤ）は、反応性ガスをプラズマによって活性化させて、マトリックスの表面または表面近くで化学反応を促進させて、固体膜を形成する技術である。プラズマ化学気相成長法によるコーティングは、下記の利点を有する。
【０００６】
（１）乾式法であるため、ピンホールのない均一な薄膜を製造する。
（２）プラズマ重合膜は、耐溶剤性、耐薬品性、耐熱性、耐摩耗性などの化学的、物理的特性が安定している。
（３）プラズマ重合膜はマトリックスとの密着性が良い。
（４）不規則な凹凸を有する基材の表面にも均一な膜を形成することができる。
（５）コーティングの製造温度が低く、常温条件下で実施できるため、感温デバイスへの損傷を効果的に回避する。
（６）プラズマプロセスは、ミクロンオーダーの厚さを有するコーティングを製造できるだけでなく、ナノスケールの極薄コーティングを製造することができる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記技術的課題を解決するために、耐水性と耐電気的破壊性を有するコーティングの製造方法を提供し、多官能基架橋構造を有するほかの単量体成分を導入することで、追加した架橋点を導入して架橋構造を形成する。プラズマグロー放電時に、低温プラズマにより単量体成分における高エネルギーの活性基が破断されて活性点を形成し、導入された追加の活性点がプラズマの環境で互いに架橋重合し、緻密な網目構造が形成される。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明に使用されている技術案は以下のとおりである。
耐水性と耐電気的破壊性を有するコーティングの製造方法であって、
基材をプラズマ室の反応チャンバー内に入れて、反応チャンバー内の真空度が１０−２００ｍＴｏｒｒになるまで反応チャンバーに対して真空引きを連続的に行い、不活性ガス又は窒素ガスを導入するステップ（１）と、
少なくとも１種の単官能性不飽フッ化炭素樹脂と少なくとも１種の多官能性不飽和炭化水素系誘導体との混合物を成分とし、多官能性不飽和炭化水素系誘導体が占める質量分率が３０−５０％である単量体蒸気を、真空度３０−３００ｍＴｏｒｒになるまで導入して、プラズマ放電を起動させ、化学気相成長を行って、基材の表面に耐水性と耐電気的破壊性を有するコーティングを製造するステップ（２）と、
プラズマ放電を停止して、単量体蒸気の導入を停止し、真空引きを持続させて、反応チャンバーの真空度を１０−２００ｍＴｏｒｒで１−５ｍｉｎ保持した後、大気を１気圧になるまで導入し、次に基材を取り出すステップ（３）と、を含むことを特徴とする。
【０００９】
前記ステップ（１）において、基材は、電子部品又は電気部品である固体材料であり、且つ、前記基材の表面に耐水性と耐電気的破壊性を有するコーティングが製造されると、そのいずれの界面も国際工業防水等級規格ＩＰＸ１−ＩＰＸ８に記載されている環境に晒されて使用できる。
【００１０】
国際工業防水等級規格ＩＰＸ１−ＩＰＸ８に記載されている環境は以下のとおりである。
ＩＰＸ１等級：鉛直に落下する水滴による有害な影響がない。
ＩＰＸ２等級：鉛直方向から１５度以下の範囲で落下する水滴に対して保護作用を有する。
ＩＰＸ３等級：鉛直方向から６０度の範囲の霧状水滴による有害な影響がない。
ＩＰＸ４等級：様々な方向から飛散する水滴による有害な影響がない。
ＩＰＸ５等級：各方向のスプレーノズルから噴射する水流による有害な影響がない。
ＩＰＸ６等級：各方向のスプレーノズルから強く噴射する水流による有害な影響がない。
ＩＰＸ７等級：最上部が水面から０．１５−１メートル離れて３０分間保持しても、性能への悪影響、水漏れがない。
ＩＰＸ８等級：最上部が水面から１．５−３０メートル離れて３０分間保持しても、性能への悪影響、水漏れがない。
【００１１】
前記ステップ（１）において、プラズマ室の容積が５０−１０００Ｌであり、プラズマ室の温度が３０〜６０℃に制御され、プラズマはこのような温度で放電すると、単量体の重合に寄与する。不活性ガス又は窒素ガスの導入流量が５〜３００ｓｃｃｍであり、前記不活性ガスはアルゴンガス又はヘリウムガスのうちの１種、又はアルゴンガスとヘリウムガスとの混合物である。不活性ガス又は窒素ガスは安定したプラズマ環境を作るために使用される。
【００１２】
前記ステップ（２）において、単量体蒸気の導入には、供給ポンプによって単量体を霧化して揮発させ、低圧１０−２００ｍＴｏｒｒで反応チャンバーに導入し、前記単量体蒸気の導入流量を１０−１０００μＬ／ｍｉｎとする。
【００１３】
前記単量体は少なくとも１種の単官能性不飽フッ化炭素樹脂と少なくとも１種の多官能性不飽和炭化水素系誘導体との混合物であり、前記単量体蒸気において多官能性不飽和炭化水素系誘導体が占める質量分率が３０−５０％である。
【００１４】
前記単官能性不飽フッ化炭素樹脂は、
３−（ペルフルオロ−５−メチルヘキシル）−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−（ペルフルオロデシル）エチルメタクリレート、２−（ペルフルオロヘキシル）エチルメタクリレート、２−（ペルフルオロドデシル）エチルアクリレート、２−ペルフルオロオクチルエチルアクリレート、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ペルフルオロオクチルアクリレート、２−（ペルフルオロブチル）エチルアクリレート、（２Ｈ−ペルフルオロプロピル）−２−アクリレート、（ペルフルオロシクロヘキシル）メタクリレート、３，３，３−トリフルオロ−１−プロピン、１−エチニル−３，５−ジフルオロベンゼン又は４−エチニルトリフルオロトルエンを含む。
【００１５】
該単官能性不飽フッ化炭素樹脂は以下の利点を有する。フッ化炭素樹脂は、骨格として強いＣ−Ｆ結合を有しており、耐熱性、耐薬品性、耐寒性、低温柔軟性、耐候性、電気特性が他の樹脂よりも優れているに加えて、非粘着性、非濡れ性を有している。したがって、フッ化炭素樹脂コーティングは、材料の表面保護に特に適しており、材料に良好な物理的及び化学的耐久性を与えることができるだけでなく、材料に優れた防水機能、及び耐油機能を付与することができ、分離、光学、医療、電子、精密機器、高級衣料などの分野に幅広く使用できる。前記多官能性不飽和炭化水素系誘導体は、エトキシル化トリメチロールプロパントリアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ジビニルベンゼン、ポリエチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジビニルエーテル又はネオペンチルグリコールジアクリレートを含む。該多官能性不飽和炭化水素系誘導体は、複数の架橋点を有するため、添加するとコーティング網目による保護性能を高める。
【００１６】
前記ステップ（２）において、第一単量体蒸気を導入する前に、パワー２〜５００Ｗでグロー放電を３００〜６００ｓ行うことで基材に衝撃前処理を行う。該衝撃前処理は、基材の表面上の異物を取り除き、同時に、基材の表面を活性化し、コーティングの堆積を促進し、そしてコーティングの基材への結合力を改善することができる。
【００１７】
前記ステップ（２）において、プラズマ放電を起動させるパワーが２−５００Ｗ、放電持続時間が６００−７２００秒、前記プラズマ放電方式がＲＦ放電、マイクロ波放電、中間周波数放電又は電気スパーク放電である。ＲＦプラズマは、電極周囲の空気を高周波高電圧でイオン化して発生させたプラズマである。マイクロ波法は、マイクロ波のエネルギーを利用してプラズマを励起するものであり、エネルギー利用効率が高いという利点を有し、また、電極放電がないため、プラズマが純粋であり、今まで、高品質、高速度、大面積で製造できる優れた方法と言える。
【００１８】
前記プラズマＲＦ放電過程において、プラズマＲＦのエネルギー出力方式がパルス又は連続出力とされ、プラズマＲＦのエネルギー出力方式がパルス出力である場合、パルス幅が２μｓ−１ｍｓ、繰り返し周波数が２０Ｈｚ−１０ｋＨｚである。連続式プラズマＲＦ放電による堆積過程において、プラズマは堆積膜をある程度エッチングし、連続式に対して、パルスＲＦ放電は一定の堆積時間を与えるため、コーティングの肉厚化及び緻密化にとって有益である。
【発明の効果】
【００１９】
従来技術に比べて、本発明の上記技術案は以下の利点を有する。
１、多官能基架橋構造を導入することにより、コーティングを緻密な網目構造にし、このように、疎水性を確保するとともに、コーティング薄膜の耐水中導電時間及び耐電気的破壊性が向上する。
【００２０】
一般に、プラズマ重合は、単官能単量体を使用して、特定の架橋構造を有するコーティングが得られる。架橋構造は、プラズマグロー放電中に単量体がランダムに破断されて形成された複数の活性点が相互接続されてなる架橋構造である。しかしながら、この架橋構造は比較的疎であり、より多くの線形成分を含み、溶液の浸透及び溶解に対する耐性が不十分である。本発明は、多官能基架橋構造を有するほかの単量体成分を導入して、追加した架橋点を導入することで架橋構造を形成する。プラズマグロー放電時に、低温プラズマにより単量体成分における高エネルギーの活性基が破断されて活性点を形成し、導入された追加の活性点がプラズマ環境中で互いに架橋重合して、緻密な網状構造が形成される。
【００２１】
疎な線形成分を多く含むコーティング構造と比較して、網目構造はより良好な緻密性を有し、薄膜の耐水中導電時間及び耐電気的破壊性を効果的に改善できる。プラズマ環境では、被覆されたマトリックス材料は、表面が活性化されて、複数の活性点が得られ、これらの活性点は、強力な化学結合で、プラズマにより励起された単量体材料の活性ラジカルと互いに結合し、形態と種類が様々な素反応を発生させ、それによって、マトリックス材料のナノ薄膜は優れた結合力と機械的強度を有するようになる。異なる単量体の配合方式を制御するとともに異なるプロセス条件を調整することによって、材料表面の疎水性、撥水性及び長期耐水中導電性を効果的に制御することができ、特殊な微細構造を有する緻密な薄膜が得られ、耐水中導電時間及び耐電気的破壊性はそれぞれ３０−５５％向上する。
【００２２】
２、架橋構造の他の単量体を導入することによって、単量体の配合比及びプロセスパラメータを制御して、複合、グラデーション構造を有するポリマーナノコーティングを得ることにより、薄膜の疎水性を確保するとともに、電子製品の耐食性、耐水中導電性を向上させる。
【００２３】
日常生活における電子機器は、液体浸食により破壊されやすく、そして使用中に液体環境に晒されやすく、例えば、液体に落下したり飛散した液体が付着したりすると、電子部品の短絡を招いて、電子機器に回復不能な損傷を与える。本発明における特許のコーティング方法は、溶媒及び腐食性環境に使用されるナノコーティングの耐用年数を大幅に延ばし、そして製品の保護効果を改善する。主に以下の製品に使用される。
【００２４】
１、携帯機器用キーボード：携帯式キーボードは、小型軽量であるという特徴を有しており、コンピュータ、携帯電話などによく使用されている。ユーザーが旅行中に仕事をする場合に利便性を与える。しかしながら、水を入れたティーカップの転倒、雨や汗の浸透などの一般的な液体汚染の場合、キーボードの内部は短絡して損傷を受けやすい。このようなナノコーティングを塗布すると、キーボードの表面のクリーニングしやすさ、水に晒された場合の機能保持が確保され、それでキーボードはより厳しい環境に適用できる。
【００２５】
２、ＬＥＤディスプレイ：ＬＥＤディスプレイには、商品プロモーション、店舗装飾、照明、警告などの用途がある。一部の用途では、雨の日のショッピングモールの屋外ＬＥＤ広告スクリーン、道路警告灯、ワークショップのＬＥＤディスプレイ制御パネルなどの、雨またはほこりの多い過酷な環境で使用され、このような過酷な環境によりＬＥＤスクリーンが故障したり、ほこりが付着して洗浄しにくくなったりすることがある。該ナノコーティングを使用すると、上記問題が効果的に解決できる。
【００２６】
３、スマート指紋ロック：指紋ロックはスマートロックであり、コンピュータ情報技術、電子技術、機械技術、そして現代の金具技術を統合したもので、公安犯罪捜査や司法の分野で広く使用されている。しかし、水と接触すると、内部回路が短絡しやすく、修理が難しく、ロック解除のためにそれを破壊しなければならない。該コーティングを使用すると、このような問題が解決できる。
【００２７】
４、補聴器、ブルートゥースヘッドセット：補聴器もブルートゥースヘッドセットも通信線がなく、該コーティングを使用すると、シャワーを浴びたり雨が降ったりしても、雨水などで機器を損傷することなく、所定時間水環境で使用できる。
【００２８】
５、一部のセンサー：水圧センサー、油圧センサーや水中作業装置に使用されるセンサー、及び作業環境で水との接触が多いセンサーなどの、液体環境で作業する必要とされるセンサーには、このコーティングを使用すると、機械装置の内部構造への液体の侵入によるセンサーの故障を避けることができる。
【００２９】
６、ほとんどの３Ｃ製品：携帯電話、ノートパソコン、ＰＳＰなどが挙げられる。
【００３０】
７、防水が必要なその他の機器：湿気の多い環境で作業する必要がある機器、または液漏れなどの予期しない状況に遭遇して、機器内部の弱電線の正常な動作に影響を与える機器を含む。
【発明を実施するための形態】
【００３１】
以下、具体的な実施例にて本発明を詳細に説明するが、本発明は具体的な実施例に制限されない。
〔実施例１〕
耐水性と耐電気的破壊性を有するコーティングの製造方法は、以下のステップを含むことを特徴とする。
【００３２】
＜ステップ（１）＞
基材をプラズマ室の反応チャンバー内に入れて、反応チャンバー内の真空度が１０ｍＴｏｒｒになるまで反応チャンバーに対して真空引きを連続的に行い、不活性ガスを導入する。
【００３３】
ステップ（１）において、基材は、電子部品−電路板である固体材料である。
且つ前記基材の表面に耐水性と耐電気的破壊性を有するコーティングが製造されると、そのいずれの界面が国際工業防水等級ＩＰＸ１に記載されている環境に晒されて使用できる。
【００３４】
ステップ（１）において、プラズマ室の容積が５０Ｌであり、プラズマ室の温度が３０℃に制御され、不活性ガスの導入流量が５ｓｃｃｍであり、前記不活性ガスはアルゴンガスである。
【００３５】
＜ステップ（２）＞
単量体蒸気を真空度３０ｍＴｏｒｒになるまで導入して、プラズマ放電を起動させ、化学気相成長を行って、基材の表面に耐水性と耐電気的破壊性を有するコーティングを製造する。
【００３６】
ステップ（２）において、
単量体蒸気の導入には、供給ポンプによって単量体を霧化して揮発させ、低圧１０ｍＴｏｒｒで反応チャンバーに導入し、前記単量体蒸気の導入流量を１０μＬ／ｍｉｎとし、
単量体蒸気は、１種の単官能性不飽フッ化炭素樹脂と１種の多官能性不飽和炭化水素系誘導体との混合物を成分とし、多官能性不飽和炭化水素系誘導体が占める質量分率が３０％であり、
前記単官能性不飽フッ化炭素樹脂は、２−ペルフルオロオクチルエチルアクリレート、前記多官能性不飽和炭化水素系誘導体は、エチレングリコールジアクリレートである。
【００３７】
ステップ（２）において、第一単量体蒸気を導入する前に、グロー放電を行うことで基材に衝撃前処理を行う。
【００３８】
ステップ（２）において、プラズマ放電を起動させるパワーが２Ｗ、放電持続時間が７２００秒、前記プラズマ放電方式がＲＦ放電であり、プラズマＲＦ放電過程において、プラズマＲＦのエネルギー出力方式がパルス出力とされ、プラズマＲＦのエネルギー出力方式がパルス出力である場合、パルス幅が２μｓ、繰り返し周波数が２０Ｈｚである。
【００３９】
＜ステップ（３）＞
プラズマ放電を停止して、単量体蒸気の導入を停止し、真空引きを持続させて、反応チャンバーの真空度を１０ｍＴｏｒｒで１ｍｉｎ保持した後、大気を１大気圧になるまで導入し、次に基材を取り出す。
【００４０】
耐水中導電性について、水中浸漬実験の結果は以下の通りである。
下記の表は、本実施例で製造されたコーティングについて各電圧下で電流が１ｍＡに達するのにかかる時間のテストである。
【表１】
0006771108.tif 000002
ＩＰＸ１  鉛直水滴落下試験を１０ｍｉｎ行っても、電子部品は正常に作動する。
【００４１】
〔実施例２〕
以下のプロセスのパラメータ以外、本実施例の基本的なプロセスのステップは実施例１と同じである。
【００４２】
１、ステップ（１）において、反応チャンバー内の真空度を４０ｍＴｏｒｒになるまで真空引きして、不活性ガスを導入する。
【００４３】
基材は、電気部品−テレビ筐体である固体材料であり、且つ前記基材の表面に耐水性と耐電気的破壊性を有するコーティングを製造すると、そのいずれの界面も国際工業防水等級ＩＰＸ３に記載されている環境に晒されて使用できる。
【００４４】
プラズマ室の容積が２６０Ｌであり、プラズマ室の温度が４０℃に制御され、不活性ガスの導入流量が６０ｓｃｃｍであり、前記不活性ガスはヘリウムガスである。
【００４５】
２、ステップ（２）において、単量体蒸気を真空度８０ｍＴｏｒｒになるまで導入し、プラズマ放電を起動させる。
【００４６】
単量体蒸気の導入には、供給ポンプによって単量体を霧化して揮発させ、低圧４０ｍＴｏｒｒで反応チャンバーに導入し、前記単量体蒸気の導入流量を９０μＬ／ｍｉｎとし、
単量体蒸気は、１種の単官能性不飽フッ化炭素樹脂と２種の多官能性不飽和炭化水素系誘導体との混合物を成分とし、多官能性不飽和炭化水素系誘導体が占める質量分率が３５％であり、
前記単官能性不飽フッ化炭素樹脂は、２−（ペルフルオロデシル）エチルメタクリレート、前記多官能性不飽和炭化水素系誘導体は、トリプロピレングリコールジアクリレート及びジビニルベンゼンである。
【００４７】
ステップ（２）において、プラズマ放電を起動させるパワーが２５Ｗ、放電持続時間が５８００秒、前記プラズマ放電方式がＲＦ放電であり、プラズマＲＦ放電過程において、プラズマＲＦのエネルギー出力方式がパルス出力とされ、プラズマＲＦのエネルギー出力方式がパルス出力である場合、パルス幅が０．１ｍｓ、繰り返し周波数が４００Ｈｚである。
【００４８】
３、ステップ（３）において、反応チャンバーを真空度７０ｍＴｏｒｒで２ｍｉｎ保持した後、大気を１大気圧になるまで導入する。
【００４９】
耐水中導電性について、水中浸漬実験の結果は以下の通りである。
下記の表は、本実施例で製造されたコーティングについて各電圧下で電流が１ｍＡに達するのにかかる時間のテストである。
【表２】
0006771108.tif 000003
ＩＰＸ３  スプレーノズル式散水試験を１０ｍｉｎ行っても、電気機器は正常に作動する。
【００５０】
〔実施例３〕
以下のプロセスのパラメータ以外、本実施例の基本的なプロセスのステップは実施例１と同じである。
【００５１】
１、ステップ（１）において、反応チャンバー内の真空度を１００ｍＴｏｒｒになるまで真空引きして、不活性ガスを導入する。
【００５２】
基材は、電子部品−携帯電話である固体材料であり、且つ前記基材の表面に耐水性と耐電気的破壊性を有するコーティングを製造すると、そのいずれの界面も国際工業防水等級規格ＩＰＸ４に記載されている環境に晒されて使用できる。
【００５３】
プラズマ室の容積が３８０Ｌであり、プラズマ室の温度が４５℃に制御され、不活性ガスの導入流量が１３０ｓｃｃｍであり、前記不活性ガスはヘリウムガスとアルゴンガスとの混合物である。
【００５４】
２、ステップ（２）において、単量体蒸気を真空度１３０ｍＴｏｒｒになるまで導入し、プラズマ放電を起動させる。
【００５５】
単量体蒸気の導入には、供給ポンプによって単量体を霧化して揮発させ、低圧１００ｍＴｏｒｒで反応チャンバーに導入し、前記単量体蒸気の導入流量を１８０μＬ／ｍｉｎとし、
単量体蒸気は、２種の単官能性不飽フッ化炭素樹脂と３種類の多官能性不飽和炭化水素系誘導体との混合物を成分とし、多官能性不飽和炭化水素系誘導体が占める質量分率が４０％であり、
前記単官能性不飽フッ化炭素樹脂は、（ペルフルオロシクロヘキシル）メタクリレート及び１−エチニル−３，５−ジフルオロベンゼンであり、
前記多官能性不飽和炭化水素系誘導体は、エトキシル化トリメチロールプロパントリアクリレート、ジビニルベンゼン及び１，６−ヘキサンジオールジアクリレートである。
【００５６】
ステップ（２）において、プラズマ放電を起動させるパワーが１００Ｗ、放電持続時間が４５００秒、前記プラズマ放電方式がＲＦ放電であり、プラズマＲＦ放電過程において、プラズマＲＦのエネルギー出力方式がパルス出力とされ、プラズマＲＦのエネルギー出力方式がパルス出力である場合、パルス幅が１ｍｓ、繰り返し周波数が１０ｋＨｚである。
【００５７】
３、ステップ（３）において、反応チャンバーの真空度を１３０ｍＴｏｒｒで３ｍｉｎ保持した後、大気を１大気圧になるまで導入する。
【００５８】
耐水中導電性について、水中浸漬実験の結果は以下の通りである。
下記の表は、本実施例で製造されたコーティングについて各電圧下で電流が１ｍＡに達するのにかかる時間のテストである。
【表３】
0006771108.tif 000004
ＩＰＸ４  スプレーノズル式飛散水試験を１０ｍｉｎ行っても、電子部品は正常に作動する。
【００５９】
〔実施例４〕
以下のプロセスのパラメータ以外、本実施例の基本的なプロセスのステップは実施例１と同じである。
【００６０】
１、ステップ（１）において、反応チャンバー内の真空度を１５０ｍＴｏｒｒになるまで真空引きして、窒素ガスを導入する。
【００６１】
基材は、電気部品である固体材料であり、且つ前記基材の表面に耐水性と耐電気的破壊性を有するコーティングを製造すると、そのいずれの界面も国際工業防水等級規格ＩＰＸ６に記載されている環境に晒されて使用できる。
【００６２】
プラズマ室の容積が５６０Ｌであり、プラズマ室の温度が５０℃に制御され、窒素ガスの導入流量が２２０ｓｃｃｍである。
【００６３】
２、ステップ（２）において、単量体蒸気を真空度２２０ｍＴｏｒｒになるまで導入し、プラズマ放電を起動させる。
【００６４】
単量体蒸気の導入には、供給ポンプによって単量体を霧化して揮発させ、低圧１５０ｍＴｏｒｒで反応チャンバーに導入し、前記単量体蒸気の導入流量を３２０μＬ／ｍｉｎとし、
単量体蒸気は、３種類の単官能性不飽フッ化炭素樹脂と１種の多官能性不飽和炭化水素系誘導体との混合物を成分とし、多官能性不飽和炭化水素系誘導体が占める質量分率が４５％であり、
前記単官能性不飽フッ化炭素樹脂は、３−（ペルフルオロ−５−メチルヘキシル）−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−ペルフルオロオクチルエチルアクリレート及び４−エチニルトリフルオロトルエンであり、
前記多官能性不飽和炭化水素系誘導体は、エチレングリコールジアクリレートである。
【００６５】
ステップ（２）において、プラズマ放電を起動させるパワーが２４０Ｗ、放電持続時間が３２００秒、前記プラズマ放電方式がマイクロ波放電である。
【００６６】
３、ステップ（３）において、反応チャンバーの真空度を１６０ｍＴｏｒｒで４ｍｉｎ保持した後、大気を１大気圧になるまで導入する。
【００６７】
耐水中導電性について、水中浸漬実験の結果は以下の通りである。
下記の表は、本実施例で製造されたコーティングについて各電圧下で電流が１ｍＡに達するのにかかる時間のテストである。
【表４】
0006771108.tif 000005
ＩＰＸ６  暴噴流試験１０ｍｉｎを行っても、電気部品は正常に作動する。
【００６８】
〔実施例５〕
以下のプロセスのパラメータ以外、本実施例の基本的なプロセスのステップは実施例１と同じである。
【００６９】
１、ステップ（１）において、反応チャンバー内の真空度を２００ｍＴｏｒｒになるまで真空引きして、不活性ガスを導入する。
【００７０】
基材は、電気部品である固体材料であり、且つ前記基材の表面に耐水性と耐電気的破壊性を有するコーティングを製造すると、そのいずれの界面も国際工業防水等級規格ＩＰＸ７に記載されている環境に晒されて使用できる。
【００７１】
プラズマ室の容積が７８０Ｌであり、プラズマ室の温度が５５℃に制御され、不活性ガスの導入流量が２５０ｓｃｃｍであり、不活性ガスはヘリウムガスである。
【００７２】
２、ステップ（２）において、単量体蒸気を真空度２６０ｍＴｏｒｒになるまで導入し、プラズマ放電を起動させる。
【００７３】
単量体蒸気の導入には、供給ポンプによって単量体を霧化して揮発させ、低圧２００ｍＴｏｒｒで反応チャンバーに導入し、前記単量体蒸気の導入流量を５８０μＬ／ｍｉｎとし、
単量体蒸気は、４種類の単官能性不飽フッ化炭素樹脂と２種の多官能性不飽和炭化水素系誘導体との混合物を成分とし、多官能性不飽和炭化水素系誘導体が占める質量分率が４８％であり、
前記単官能性不飽フッ化炭素樹脂は、２−（ペルフルオロデシル）エチルメタクリレート、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ペルフルオロオクチルアクリレート、３，３，３−トリフルオロ−１−プロピン及び１−エチニル−３，５−ジフルオロベンゼンであり、
前記多官能性不飽和炭化水素系誘導体は、トリプロピレングリコールジアクリレート及びジビニルベンゼンである。
【００７４】
ステップ（２）において、プラズマ放電を起動させるパワーが３８０Ｗ、放電持続時間が１６００秒、前記プラズマ放電方式が中間周波数放電である。
【００７５】
３、ステップ（３）において、反応チャンバーの真空度を２００ｍＴｏｒｒで５ｍｉｎ保持した後、大気を１大気圧になるまで導入する。
【００７６】
耐水中導電性について、水中浸漬実験の結果は以下の通りである。
下記の表は、本実施例で製造されたコーティングについて各電圧下で電流が１ｍＡに達するのにかかる時間のテストである。
【表５】
0006771108.tif 000006
ＩＰＸ７  水面から１ｍで水中浸漬試験を３０ｍｉｎ行っても、電気部品は正常に作動する。
【００７７】
〔実施例６〕
以下のプロセスのパラメータ以外、本実施例の基本的なプロセスのステップは実施例１と同じである。
【００７８】
１、ステップ（１）において、反応チャンバー内の真空度を２００ｍＴｏｒｒになるまで真空引きして、不活性ガスを導入する。
【００７９】
基材は、電子部品−センサーである固体材料であり、且つ前記基材の表面に耐水性と耐電気的破壊性を有するコーティングを製造すると、そのいずれの界面も国際工業防水等級規格ＩＰＸ８に記載されている環境に晒されて使用できる。
【００８０】
プラズマ室の容積が１０００Ｌであり、プラズマ室の温度が６０℃に制御され、不活性ガスの導入流量が３００ｓｃｃｍであり、不活性ガスはアルゴンガスである。
【００８１】
２、ステップ（２）において、単量体蒸気を真空度３００ｍＴｏｒｒになるまで導入し、プラズマ放電を起動させる。
【００８２】
単量体蒸気の導入には、供給ポンプによって単量体を霧化して揮発させ、低圧２００ｍＴｏｒｒで反応チャンバーに導入し、前記単量体蒸気の導入流量を１０００μＬ／ｍｉｎとし、
単量体蒸気は、５種類の単官能性不飽フッ化炭素樹脂と３種類の多官能性不飽和炭化水素系誘導体との混合物を成分とし、多官能性不飽和炭化水素系誘導体が占める質量分率が５０％であり、
前記単官能性不飽フッ化炭素樹脂は、３−（ペルフルオロ−５−メチルヘキシル）−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ペルフルオロオクチルアクリレート、２−（ペルフルオロブチル）エチルアクリレート、３，３，３−トリフルオロ−１−プロピン及び１−エチニル−３，５−ジフルオロベンゼンであり、
前記多官能性不飽和炭化水素系誘導体は、エトキシル化トリメチロールプロパントリアクリレート、ジビニルベンゼン及びネオペンチルグリコールジアクリレートである。
【００８３】
ステップ（２）において、プラズマ放電を起動させるパワーが５００Ｗ、放電持続時間が６００秒、前記プラズマ放電方式が電気スパーク放電である。
【００８４】
３、ステップ（３）において、反応チャンバーの真空度を２００ｍＴｏｒｒで５ｍｉｎ保持した後、大気を１大気圧になるまで導入する。
【００８５】
耐水中導電性について、水中浸漬実験の結果は以下の通りである。
下記の表は、本実施例で製造されたコーティングについて各電圧下で電流が１ｍＡに達するのにかかる時間のテストである。
【表６】
0006771108.tif 000007
ＩＰＸ８  水面から２ｍで２ｈ潜水しても、電気部品は正常に作動する。