(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
固体製品を液体中に溶解することによって溶液を作製するためのディスペンサーシステムであって、
前記ディスペンサーシステムは：
ハウジングと；
前記ディスペンサーシステム内に前記液体を導入するための入口部分と；
少なくとも部分的に前記ハウジング内にある溶液形成組立体と；
前記溶液を分配するための出口部分とを含み、
前記溶液形成組立体は：
前記固体製品を支持するよう構成された支持構造と；
前記支持構造に操作可能に連結されたリザーバであって、前記液体を保持し、前記入口部分を介して前記液体を前記リザーバ内に流し、前記リザーバから前記溶液を出すことを可能にするよう構成された、リザーバとを含み、
前記リザーバは：
ベース部分と；
前記ベース部分から離れて延在し、前記リザーバ内に前記液体を保持する、一つ又は複数の側壁部分と；
前記一つ又は複数の側壁部分に位置し、前記入口部分を介して前記リザーバ内に前記液体を導入するよう構成された、一つ又は複数の液体入口とを含み、
前記リザーバは、前記液体を前記リザーバ内に保持したときに前記液体が前記固体製品に接触して前記溶液を作製するように、前記支持構造の下方に配置されており、
（ｉ）前記一つ又は複数の液体入口の少なくとも１つは、それぞれの前記側壁部分に対して非直交な、又はそれぞれの前記液体入口におけるそれぞれの前記側壁部分に接する平面に対して非直交な角度で、前記リザーバ内に前記液体を導入して、前記リザーバ内に前記液体の環状の流動パターンを生じるよう構成され；あるいは
（ｉｉ）前記液体入口の少なくとも２つが、それぞれの前記側壁部分に対して実質的に直交する、又はそれぞれの前記液体入口におけるそれぞれの前記側壁部分に接する平面に対して実質的に直交する角度で前記リザーバ内に前記液体を導入し、かつ、前記液体入口の少なくとも１つは、対向する前記側壁部分に位置する他の液体入口の少なくとも１つからずれて配置されて、前記リザーバ内に液体の環状の流動パターンを生じるよう構成され、
前記環状の流動パターンの流路内に少なくとも一つの乱流生成反応表面が位置し、前記少なくとも一つの乱流生成反応表面は、前記環状の流動パターンの流路とは異なる方向に前記液体を動かすよう構成され、
前記少なくとも一つの乱流生成反応表面は前記ベース部分に取り付けられ、前記ベース部分から上方に延在しており、
前記一つ又は複数の液体入口の少なくとも一つは、前記液体の少なくとも一部が、前記少なくとも一つの乱流生成反応表面に対して実質的に直交するか、又は前記少なくとも一つの乱流生成反応表面に接する平面に対して実質的に直交するように、前記少なくとも一つの乱流生成反応表面に前記液体を提供する、ディスペンサーシステム。
【請求項２】
前記支持構造は、前記リザーバ内で前記固体製品を支持し、前記リザーバの前記ベース部分と前記固体製品との間の隙間を維持しつつ、前記液体が前記支持構造の少なくとも一つの開口部を通過することを可能にするよう構成された、請求項１に記載のディスペンサーシステム。
【請求項３】
前記溶液形成組立体は、前記溶液を前記リザーバから出て前記出口部分へと流すことができるよう構成されたオーバフローポートを含む、請求項１に記載のディスペンサーシステム。
【請求項４】
前記一つ又は複数の側壁部分は、０度より大きい角度で前記ベース部分から離れて上方へ延在する、請求項１に記載のディスペンサーシステム。
【請求項５】
固体製品を液体中に溶解することによって溶液を作製する方法であって、方法は：
請求項１〜４のいずれか一項に記載のディスペンサーシステムを提供することと；
前記液体を前記リザーバに導入し、前記固体製品を前記液体中に溶解して前記溶液を作製することと；
前記出口部分を介して前記溶液を分配することと
を含む、方法。
【発明の詳細な説明】
【背景技術】
【０００１】
固体製品を液体中に溶解することによって形成される溶液は公知であり、様々な用途に利用されてきた。したがって、手動で作製する必要なく所望の溶液を作製するために、溶液形成装置が開発された。液体が装置に供給され、固体製品を浸食又は溶解し、そこで溶液が成形され、次に装置から流出する。そのような装置を用いて、洗浄溶液及び殺菌溶液、又はその他の所望の溶液を作製してもよい。
【０００２】
溶液、例えば洗浄及び殺菌のために使用される液体洗剤を作製するための液体中への固体製品の溶解パラメータは、液体が固体製品と接触するときの液体の流動特性に基づいて変化する。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明の実施形態は、固体製品（例えば、化学物質の固体ブロック）と、固体製品に接触する液体（例えば、流体）との間で、溶液を形成するための方法及び装置に関する。より詳細には、限定されないが、本発明は、液体乱流を含む液流を提供し、一つ又は複数の固体製品を浸食又は溶解する方法及び装置に関する。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
固体製品を液体中に溶解することによって溶液を作製するためのディスペンサーシステムの例示的な実施形態は、ハウジングと、ディスペンサーシステム内に液体を導入するための入口部分と、少なくとも部分的にハウジング内にあってもよい溶液形成組立体と、溶液を分配するための出口部分とを含んでもよい。溶液形成組立体は、固体製品を支持するよう構成された支持構造と、支持構造に操作可能に連結されたリザーバとを含んでもよい。リザーバは、液体を保持し、液体をリザーバ内に流すことを可能にするよう構成されていてもよい。液体は入口部分を介してリザーバ内に流れてもよく、得られた溶液はリザーバから流出してもよい。リザーバは、ベース部分と、ベース部分から離れて延在し、リザーバ内に液体を保持する一つ又は複数の側壁部分と、一つ又は複数の側壁部分に位置し、入口部分を介してリザーバ内に液体を導入するよう構成された一つ又は複数の液体入口とを含んでもよい。液体がリザーバ内に保持されたときに、液体が固体製品に接触し、出口部分を介して分配される溶液を作製するように、リザーバは、支持構造の付近に配置されていてもよい。
【０００５】
固体製品を液体中に溶解することによって溶液を作製する方法の例示的な実施形態は、ディスペンサーシステムを提供することを含んでもよく、ディスペンサーシステムは、ハウジングと、ディスペンサーシステム内に液体を導入するための入口部分と、少なくとも部分的にハウジング内にある溶液形成組立体と、成形された溶液を分配するための出口部分とを含む。溶液形成組立体は、固体製品を支持するよう構成された支持構造と、支持構造に操作可能に連結されたリザーバであって、液体を保持し、入口部分を介して液体をリザーバ内に流し、次に溶液がリザーバから流出することを可能にするよう構成された、リザーバとを含んでもよい。リザーバは、ベース部分と、ベース部分から離れて延在し、リザーバ内に液体を保持する、一つ又は複数の側壁部分と、入口部分を介してリザーバ内に液体を導入するよう構成され、一つ又は複数の側壁部分に位置する、一つ又は複数の液体入口とを含んでもよい。液体がリザーバ内に保持されたとき、液体が固体製品に接触して溶液を作製するように、リザーバは支持構造の付近に配置されていてもよい。方法は、液体をリザーバ内に導入し、固体製品を液体中に溶解して溶液を作製し、次に出口部分を介して溶液を分配することを更に含む。
【０００６】
固体製品を液流内に溶解することから形成される溶液を分配するための装置及び方法は、本発明の範囲内に含まれる。本発明の一つ又は複数の例及び実施形態の詳細を、添付の図面及び以下の記載で説明する。他の構成、目的、及び利点は、本発明の詳細な説明及び図面、並びに請求項から明らかとなる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１ａ】図１ａは、本明細書に記載されているディスペンサーシステムの一つの実施例の斜視図を示す。
【０００８】
【図１ｂ】図１ｂは、図１ａのディスペンサーシステムの溶液形成組立体の一つの実施例の分解組立図を示す。
【０００９】
【図１ｃ】図１ｃは、組み立てたときの、溶液形成組立体及び図１ａのディスペンサーシステムの一部の斜視図を示す。
【００１０】
【図１ｄ】図１ｄは、図１ａの実施形態の線Ａ−Ａでとった断面図を示す。
【００１１】
【図１ｅ】図１ｅは、液流パターンの一実施形態を含む、図１ａのディスペンサーシステムの溶液形成組立体のリザーバの一つの実施形態の上面図を示す。
【００１２】
【図２】図２は、図１ａのディスペンサーシステムに使用することができる、液流パターンの一実施形態を含む、リザーバの他の実施形態の斜視図を示す。
【００１３】
【図３】図３は、図１ａのディスペンサーシステムに使用することができる、液流パターンの一実施形態を含む、リザーバの他の実施形態の斜視図を示す。
【００１４】
【図４】図４は、図１ａのディスペンサーシステムに使用することができる、リザーバと支持構造との間に維持される隙間を含む、リザーバ及び支持構造の一部の実施形態を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本発明は、使いやすく、費用効果的で、再現可能な溶液を作製することを目的とする。本発明の実施形態は、固体製品と、入射液体、例えば水とから形成される溶液を分配するよう設計されている。本発明の多くの用途は洗浄プロセスのための溶液を作製することを含むことがあるので、固体製品は、限定されないが、殺菌剤、洗剤、又はフロアケア製品を含む多くの異なる製品を含んでもよい。多くの場合、コスト、性能、又は更には規制的理由のため、固体製品を均一に一貫して浸食して、特定濃度の溶液を達成及び維持することが望ましい。
【００１６】
図１ａは、本発明に使用するためのディスペンサーシステム１０の例示的な実施形態を示す。しかしながら、ディスペンサーの他の種類及び形態を本発明に使用してもよく、ディスペンサーシステム１０の説明及び図面は限定的でないことに留意されたい。ディスペンサーシステム１０は、液体、例えば水と組み合わせられて溶液を作製する固体製品を保持するよう構成されている。例えば、固体製品は、液体（例えば、流体）と混合されて、洗浄洗剤を作製してもよい。ディスペンサーシステムは、液体を固体製品と相互作用させ、その最終用途のための所望の濃度を有する溶液を形成することによって働く。後述するように、液体は、固体製品の底面、側面、又は他の適切な表面に導入されてもよい。
【００１７】
本開示のディスペンサーシステム１０は、液体の新規な流動方式（例えば、パターン）につながる構成を含む。新規な流動方式は、ディスペンサーシステム１０内で、特にディスペンサーシステム１０の溶液形成組立体３０のリザーバ６０内で、液体の乱流パターンを生じることを含む（リザーバ６０及び溶液形成組立体３０はハウジング１２内にあり、図１ａでは見ることができず、図１ｂ及び１ｄを参照されたい）。液体乱流は、ディスペンサーシステム１０のリザーバ６０内で固体製品と相互作用して、溶液を作製する。本開示の構成は、固体製品の液体中への溶解の仕方に関する更なる制御を提供する。本明細書に記載されている液流パターンは、固体製品の液体中への溶解の仕方に影響を及ぼす。本開示を用いて、より一貫した、より反復可能な浸食パターン及び溶液を提供しつつ、ディスペンサーシステムの幾何構造及び分配される溶液濃度に関して増大した自在性を提供してもよい。更に、スプレーノズルを用いた従来のディスペンサーシステムとは異なり、ディスペンサーシステム１０は、入手可能なスプレーノズル技術及びパターンに制限されない。
【００１８】
例示的な実施形態によれば、図１のディスペンサーシステム１０は、その上にハンドル１６を有するフロントドア１４を含むハウジング１２を含む。フロントドア１４は、フロントフェイシア（front fascia）１１に、これらの間のヒンジ２０を介してヒンジ可能に接続されていてもよい。これは、フロントドア１４がヒンジ２０の周りに回転することができ、ディスペンサーシステム１０のハウジング１２内にアクセスすることを可能にする。例えば、フロントドア１４はその中に窓１８を含み、操作員がハウジング１２内に収容された固体製品を見ることを可能にする。収容された製品がある程度浸食されたことが見えたら、ハンドル１６を介してフロントドア１４を開けることができ、操作員が固体製品を新しい浸食されていない製品に置き換えることを可能にする。
【００１９】
ディスペンサーシステム１０を起動させるためのボタン２６がフロントフェイシア１１に取り付けられている。ボタン２６を押すこと又は押し下げることでディスペンサーシステム１０が起動し、固体製品及び液体によって作製されたある量の溶液を放出するように、ボタン２６はスプリング式ボタンでもよい。したがって、ボタン２６は、ボタンを押すごとに所望の量を分配するか、又はボタン２６が押されている間にある量の溶液を放出し続けてもよいように、予めプログラムされていてもよい。
【００２０】
ディスペンサーシステム１０の上面、側面、及び背面をほぼ覆うリアエンクロージャ２８が、フロントフェイシア１１に接続されている。リアエンクロージャ２８を除去して、ディスペンサーシステム１０の内部にアクセスしてもよい。取付プレート２９は、ディスペンサーシステム１０の背部に配置され、ディスペンサーシステム１０を壁又は他の構造に取り付けるための構成を所望により含んでもよい。例えば、ディスペンサーシステム１０は、スクリュー、フック、又はあらゆる他の適切な取付装置を介して壁に取り付けられてもよい。ディスペンサーシステム１０のハウジング１２の部品は、成形プラスチック、金属、材料の組合せ、又はあらゆる他の適切な材料であってよい。
【００２１】
図１ｂに示すように、ディスペンサーシステム１０は溶液形成組立体３０を含む。図１ｂは、溶液形成組立体３０の分解組立図を示し、溶液形成組立体３０は、溶解される固体製品を保持するための固体製品ガイド４０と、固体製品を支持しつつ、溶液を形成する液体を保持するリザーバ６０内で固体製品が液体と相互作用することを可能にする、固体製品支持構造５０（本明細書において、支持構造５０と称する）とを含む。
【００２２】
図１ｃは、図１ａ〜ｂの溶液形成組立体３０の支持構造５０及びリザーバ６０の、それらが互いに相対的に配置された、それらの組立状態における斜視図である。図１ｂ〜１ｄに関して、溶解される固体製品は、溶解される固体製品の全体又は一部をハウジング１２内の場所に導く、及び／又は囲んでもよい壁４４を含む、固体製品ガイド４０のキャビティ４２内に置かれてもよい。固体製品は、示すように、格子５２でもよい支持構造５０上に置かれる。支持構造５０は、成型されたプラスチック部材の形態でもよいが、連結ワイヤ、スタンプ又はキャストされた金属部材、セラミックス、これらの材料の組合せ、又は液体と接触して溶液を形成する固体製品を支持するよう構成されたあらゆる他の適切な支持構造を含んでもよい。支持構造５０は、固体製品ガイド４０及びリザーバ６０とは別の部品でもよく、又はこの特徴は、ディスペンサーシステム１０の一つ又は複数の隣接する部品と一体化されていてもよい。
【００２３】
液体、例えば水、又はあらゆる他の適切な流体は、入口部分８４を介してディスペンサーシステム１０に接続される。図１ａに示すように、ボタン２６を押すことでディスペンサーシステム１０内に液体を通過させて固体製品と接触させるように、入口部分８４（図１ａ）はボタン２６に接続されている。例えば、液体は、入口部分８４から、リザーバ６０の一つ又は複数の側壁部分６４に形成された一つ又は複数の液体入口６２を介して、リザーバ６０（図１ｂ〜ｅ）内へと通過してもよい。液体は、入口部分８４から、一つ又は複数の管を介して、一つ又は複数の液体入口６２まで送られてもよい。入口部分８４と液体入口６２とを接続している管は示されていないが、しかしながら、本技術分野で慣習的であり、当業者に公知である。
【００２４】
図１ｂ〜１ｅは、溶液を形成するためのリザーバ６０の例示的な実施形態を示す。リザーバ６０が液体を含むよう構成されるように、リザーバ６０は側壁部分６４とベース部分６６とによって形成されている。側壁部分６４は、ベース部分６６からある角度（例えば、０度より大きい、一般的に約９０度で上方へ延在する角度）で上方に離れて延在してもよい。側壁部分６４は、リザーバ６０の内側に面する内面と、リザーバ６０から外側に面する反対側の外面とを有する。側壁部分６４は、リザーバ６０の外周を画定してもよい。リザーバ６０の内周は、リザーバ６０の側壁部分６４（例えば、内部キャビティ７０に面する表面）の内面として更に画定されてもよい。リザーバ６０の内部キャビティ７０は、ベース部分６６の第一の表面７２と、側壁部分６４の内周によって画定されてもよい。
【００２５】
支持構造５０に隣接する（例えば、支持されている）固体製品の一つ又は複数の部分が、リザーバ６０内の液体（例えば、流体の流れ）と接触したとき、溶液が形成される。例えば、支持構造５０とリザーバ６０との幾何学的な関係は、支持構造５０がリザーバ６０の内部キャビティ７０内に延在しつつ、リザーバ６０のベース部分６６と支持構造５０との間に隙間、空間、又は体積が維持されるようなものでもよい。液体及び固体製品を混合することで固体製品が浸食され、それは固体製品の一部を液体中に溶解し、リザーバ６０内に溶液を形成する。側壁部分６４の高さによって画定されることのある一つ又は複数のオーバフローポート５８のレベルに到達するまで、溶液はリザーバ６０内を上昇し続ける。しかしながら、オーバフローポート５８は、リザーバ６０の幾何構造によって画定される必要はなく、ディスペンサーシステム１０の他の部品に取り入れてもよい。例えば、オーバフローポート５８は、更なる部品、例えば支持構造５０と組み合わせられたリザーバ６０によって形成されてもよい。溶液は、一つ又は複数のオーバフローポート５８を通って収集ゾーン８０内へと通過し、これは図１ｄにおいて漏斗として示されているが、しかしながら任意の適切な収集ゾーン８０であってよい。溶液は、収集ゾーン８０から、出口部分８２でディスペンサーシステム１０を出る。この時点で、溶液は、所望の用途に用いてもよい。
【００２６】
図１ｂ〜１ｅに図示するように、一つ又は複数の側壁部分６４に位置する一つ又は複数の液体入口６２は、液体入口６２が位置するそれぞれの側壁部分６４に対して角度が付けられ又は非直交な、一つ又は複数の液体入口６２を含んでもよい。言い換えれば、液体入口６２は、それぞれの側壁部分６４に対して非直交な（例えば、それぞれの側壁部分６４に対して、ほぼ非直交である、実質的に非直交である、又は最初に非直交である、あるいは、非直交で導入される）液流又は液流の一部を提供するよう構成されていてもよい。図１ｂ〜１ｅにおいて、側壁部分６４のいくつかは、液体入口においてほぼ平面として示されているが、しかしながら、側壁部分６４が平面でなく、むしろ側壁部分６４の表面がいくらかの曲率又は不規則性を有する場合、液体入口６２は、特定の液体入口６２の流れがそれぞれの液体入口６２におけるそれぞれの側壁部分６４に接する平面に対して非直交であるように、側壁部分に配置されるものとして画定されてもよい。
【００２７】
図１ｂ〜１ｅの例示的な実施形態の潜在的な液流パターンを図１ｅに示す。示すように、リザーバは、液体が一つ又は複数の液体入口６２を通してリザーバ内に導入されたとき、リザーバ内に環状の液体の流動パターンを生じるよう構成されていてもよい。例えば、示すように、角度の付いた（例えば非直交な）液体入口６２は、環状の流動パターン（例えば、ほぼ環状の、実質的に環状の、環状の部分を有する流動パターンを含む）に寄与する。この環状の液流パターンは、リザーバ６０の乱流のレベル、及び固体製品の溶解又は浸食特性に影響を及ぼす。溶液形成組立体３０の液流パターンに影響を受ける特徴としては：浸食パターン、溶解速度、及び最終溶液の濃度等が挙げられる。
【００２８】
一つ又は複数の実施形態において、また、図１ｅの例示的な実施形態に示すように、液体がリザーバ６０内に導入されたときに、リザーバ６０内の液流の乱流を増大させるよう構成された、少なくとも一つの乱流生成反応表面６８を含んでもよい。一つ又は複数の乱流生成反応表面６８は、リザーバ６０の内周又は内部キャビティ７０内に位置し、また、リザーバ６０の外周に対してリザーバ６０内の中央に位置してもよい。環状の流動パターンは、一つ又は複数の乱流生成反応表面６８と組み合わせて使用する必要はないが、しかしながら、リザーバ６０は、液体が一つ又は複数の液体入口６２を通してリザーバ６０内に導入されたとき、リザーバ６０内に液体の環状の流動パターンを生じるよう構成されてもよく、リザーバ６０は、少なくとも一つの乱流生成反応表面６８を更に含んで、液流（例えば、環状の液流、直線状の液流）が少なくとも一つの乱流生成反応表面６８と接触したときに更なる乱流を生じてもよい。
【００２９】
いくつかの実施形態において、少なくとも一つの乱流生成反応表面６８は、ベース部分６６に成形されていてもよい（例えば、ベース部分６６に共成型され、取り付けられ、連結され、又は接着されていてもよい）。一つ又は複数の乱流生成反応表面６８は、ベース部分６６に対して近位の第一の端部９２から、ベース部分６６に対して遠位の第二の端部９４まで、上方に延在してもよい。
【００３０】
一つ又は複数の乱流生成反応表面６８は、液体入口６２を介してリザーバ６０内に導入される液体の流路内に直接又は間接的に置かれてもよい。それぞれの液体入口６２の流路（例えば、液体入口のすぐ側（immediate）、液体入口の近く、液体入口の反対（opposite）又は対向（opposing）の流路）内に乱流生成反応表面６８を直接置くことは、液流の増大した乱流又は撹拌を提供する。この増大した乱流は、リザーバ６０内で液流を横に（例えば、ベース部分６６に対して平行に）変えてもよいが、しかしながら、格子５２及び固体製品に向かう上方への動きを誘起してもよい。流れの一部は、ベース部分６６の下方へ進んでもよい。一つ又は複数の乱流生成反応表面６８は液流を偏向及び攪拌して、それぞれの液体入口６２からの最初の液流とは異なる方向に動かすあらゆる方向の乱流を一般に生じてもよい。一つ又は複数の乱流生成反応表面６８の異なる幾何学的及び場所的特徴は、固体製品の異なる浸食及び溶解特性につながる。乱流の変形は、作製される溶液の濃度特性に影響を及ぼしてもよい。
【００３１】
リザーバ６０は、様々な他の配置の一つ又は複数の乱流生成反応表面６８を更に含んでもよい。リザーバ６０は、乱流生成反応表面６８を含まなくてもよい。固体製品、固体製品を溶解するのに用いる液体、及び作製すべき所望の溶液の特徴に応じて、乱流生成反応表面６８の様々な実施形態をリザーバ６０に取り入れてもよい。いくつかの実施形態において、所望の乱流特性及び作製すべき最終溶液に応じて、少なくとも一つの乱流生成反応表面６８対して実質的に直交又は非直交な少なくとも一部の液流が提供されるように、一つ又は複数の液体入口６２のうち少なくとも１つは、少なくとも一つの乱流生成表面６８に液流を提供してもよい。反応表面が非平面の場合は、所望の乱流特性及び作製すべき最終溶液に応じて、少なくとも一部の液流が、少なくとも一つの乱流生成反応表面６８に接する平面に対して実質的に直交又は非直交でもよいと説明してもよい。
【００３２】
一つ又は複数の乱流生成反応表面６８のいずれかと支持構造５０（例えば、格子５２）との間に、組立体８６の軸（図１ｂ〜１ｄに示す軸）に沿って、（図４に示す部品の一部に示すような）隙間９６が維持されるように、一つ又は複数の乱流生成反応表面６８及び支持構造５０（例えば、格子５２）は、組立体８６の軸に沿って間隔を置いて離れていてもよい。隙間９６を維持することは、格子５２に面する乱流生成反応表面６８の上側表面と、乱流生成反応表面６８に面する格子５２の表面との間に、液体が流れることを可能にする。いくつかの実施形態において、しかしながら、乱流生成反応表面６８の少なくとも一つは、隙間９６を含まず、格子５２を含む支持構造５０と接触していてもよい。
【００３３】
いくつかの代替の実施形態において、一つ又は複数の乱流生成反応表面６８は、ベース部分６６以外の他の部品に形成又は取り入れられていてもよい。例えば、乱流生成反応表面６８は、支持構造５０に成型されて、支持構造５０（例えば、格子５２）の下に、リザーバ６０のベース部分６６へ向かって、下方へ延在していることができる。そのような乱流生成反応表面６８はベース部分６６に接触することができ、又は（図４に示すような）隙間９６が、一つ又は複数の乱流生成反応表面６８のいずれかの全体又は一部とベース部分６６との間に維持されてもよい（図４を参照）。
【００３４】
リザーバ６０のいくつかの実施形態は、特定の固体製品、溶解する液体、及び分配すべき溶液の所望の特性に応じて調整される可能性のある異なる程度の乱流及び浸食を提供する、液体入口６２及び乱流生成反応表面６８の様々な配置を含む。図１ｂ〜ｅは、リザーバ６０の単なる一実施形態を示す。本明細書の範囲内に含まれる、液体入口６２と乱流生成反応表面６８との他の関係の例を示す他の実施形態を、図２及び３に示し説明する。
【００３５】
図２及び３は、環流及び／又は乱流を提供してもよいリザーバ６０の他の実施形態を示す。リザーバ６０’を図２に示し、リザーバ６０”を図３に示し、以下更に詳細に説明する。別途記載又は述べない限り、同様の符号等を有する部品は、図１ａ〜１ｅの実施形態について記載したものと同様の特徴を有することを理解すべきである。例えば、限定されないが、側壁部分６４は、側壁部分６４’及び６４”と実質的に同様であり；ベース部分６６は、ベース部分６６’及び６６”と実質的に同様である。本明細書に記載されているリザーバ（６０、６０’、６０”）の実施形態のいずれか、又はそのような実施形態の変形を、図１ａ〜ｅのディスペンサーシステム１０内で使用してもよい。
【００３６】
一つ又は複数の実施形態において、また、図２に図示するように、一つ又は複数の液体入口６２’の少なくとも一つを介したリザーバ６０’への液流は、それぞれの側壁部分６４’に対して直交して配置されてもよい。言い換えれば、液体入口６２’は、側壁部分６４’に対して直交な（例えば、それぞれの側壁部分６４’に対して、ほぼ直交、実質的に直交、又は最初に直交、あるいは、直交して導入される）液流又は液流の一部を提供するよう構成されていてもよい。図２において、いくつかの側壁部分６４’は、液体入口においてほぼ平面として示されているが、しかしながら、側壁部分６４’が平面でなく、むしろ側壁部分６４’の表面がいくらかの曲率又は不規則性を有する場合、液体入口６２’は、特定の液体入口６２’の流れがそれぞれの液体入口６２’におけるそれぞれの側壁部分６４’に接する平面に対して直交するように、側壁部分６４’に配置されるものとして画定されてもよい。液体入口６２’のこの対向する配置は、液体の乱流を支援する。
【００３７】
増大した乱流は、液体入口６２’によってリザーバ６０’に導入されている液流の経路に含まれる乱流生成反応表面６８’によって提供されることがある。乱流生成反応表面６８’で生じる流路の乱流又は乱流変化は、全ての方向であってもよく、例えばベース部分６６’に対して横、平行であってよいが、しかしながら、格子５２及び浸食される固体製品に向かって上方、及びベース部分６６’に向かって下方、又はあらゆる他の方向であってよい。乱流生成反応表面６８’によって少なくとも部分的に誘起される、上方への及び／又は乱流の液流は、固体製品のより激しい、より速い、一貫した、及び均一に分布した浸食につながることがある。図２に記載されている乱流の構成は、本明細書において述べる他の実施形態にも存在してよい。
【００３８】
一つ又は複数の実施形態において、また、図３に図示するように、第一の側壁部分６４”内の一つ又は複数の液体入口６２”の少なくとも一つを介したリザーバ６０”内への液体は、リザーバ６０の反対の又は対向する側壁部分６４”に位置する一つ又は複数の液体入口６２”の少なくとも一つからずれて（offset）配置されていてもよい。言い換えれば、第一の側壁部分６４ａ”に位置する第一の液体入口６２ａ”からの液流は、第二の側壁部分６４ｂ”に位置する第二の液体入口６２ｂ”からの液流に直接対向してもよい。図３の実施形態に示すように、また、図２の実施形態とは対照的に、環流及び／又は乱流は、あらゆる乱流生成反応表面６８の非存在下で提供されてもよい。また、図２の実施形態とは対照的に、第一の液体入口６２ａ”の第一の中心軸６１ａ”は、第二の液体入口６２ｂ”の第二の中心軸６１ｂ”と同一でなくてもよく、又は一致しなくてもよい。いくつかの実施形態において、第一の液体入口６２ａ”の第一の中心軸６１ａ”は、第二の液体入口６２ｂ”の第二の中心軸６１ｂ”から平行に間隔を置いて離れていてもよい。
【００３９】
図３のリザーバ６０”は、したがって、ずれた（offset）液体入口６２を示す。１ｅ及び２に関して述べたリザーバ６０及び６０’の実施形態において、液体入口６２及び６２’のいずれかの中心軸は、それぞれの液体入口６２及び６２’を画定してもよい。しかしながら、図１ｅ及び２の実施形態において、そのような中心軸は、対向する側壁６４上の他の液体入口６２及び６２’の中心軸に一致してもよい。言い換えれば、対向する側壁部分６４上の液体入口６２及び６２’は整列していてもよい。
【００４０】
必ずしも図に示していないが本明細書の範囲に含まれる実施形態は、対向する液体入口６２、６２’、６２”のずれた形態又は整列した形態のいずれかを考慮した液体入口６２、６２’、６２”の様々な幾何学的配置、又はそのような配置の組合せを含んでもよいと考えられる。液体入口６２、６２’、６２”は、水平面又はリザーバ平面８８上で互いにずれていてもよく、又は整列していてもよいが、しかしながら、組立体８６の軸（組立体軸）に対して平行な垂直面８９上で互いにずれていてもよく、又は整列していてもよい。本明細書に記載の軸及び平面を含む座標系は、少なくとも図１ｂに示されている。リザーバ６０、６０”内の液流が、本願明細書に記載の特徴を含む液体入口６２、６２’、６２”の配置によって環状パターンで動くか又は乱流を増大させるよう構成されるような、液体入口６２、６２’、６２”のあらゆる配置は、本明細書の範囲内であると考えられる。
【００４１】
リザーバ６０、６０”に記載されている液体の環状パターン、及びその実施形態の変形は、ほぼ環状、実質的に環状、大部分が環状、主に環状、環状として開始する、又は少なくとも一部が環状である。液流の環状パターンは、ディスペンサーシステム１０の長手方向又は組立軸８６に対して垂直又は実質的に垂直であるリザーバ平面８８（少なくとも図１ｂに示す座標系）にあってもよい。
【００４２】
リザーバ６０、６０’、６０”の液流パターンは、支持構造５０に向かって上方に向かう、又はベース部分６６、６６’、６６”に向かって下方に向かう液流の成分を含んでもよい。本明細書に記載されているが図には具体的に示されていない変形、及び記載された変形の組合せは、本明細書の範囲及び趣旨の中であると考えられる。
【００４３】
（例えば、図１ａ〜ｅ、２及び３に示すような）ディスペンサーシステム１０を使用して固体製品を液体中に溶解することによって溶液を作製する例示的な方法は：ハウジング１２と、溶液形成組立体３０と、溶液を分配するための出口部分８２とを含むディスペンサーシステム１０を提供することを含む。リザーバ６０、６０’、又は６０”（以下、本願明細書において６０という）内で固体製品が液体と接触して、液体がリザーバ６０内に、及びリザーバ６０外に流れることを可能にしてもよいように、図１ｂに示す提供される溶液形成組立体３０は、固体製品ガイド４０と、ハウジング内で固体製品を支持するよう構成された支持構造５０と、固体製品ガイド４０及び支持構造５０に連結され、液体を保持するよう構成されたリザーバ６０とを含む。リザーバ６０は、固体製品ガイド４０に向かって上方に面する第一の表面７２を有するベース部分６６と、ベース部分６６から離れて延在し、リザーバ６０内に液体を保持する一つ又は複数の側壁部分６４と、一つ又は複数の側壁部分６４に位置し、液体をリザーバ６０内に導入して固体製品に接触させ、溶液を作製するよう構成された、一つ又は複数の液体入口６２とを含む。
【００４４】
例示的な方法は、液体をリザーバ６０内に導入して、固体製品を液体中に溶解して溶液を作製し、出口部分８２を介して溶液を分配することを更に含む。
【００４５】
いくつかの実施形態において、方法は、液体の環状の流動パターンが作製されるようにリザーバ６０内に液体を導入することを含む、リザーバ６０内に液体を導入する工程を更に含む。
【００４６】
いくつかの実施形態において、方法は、リザーバ６０内に位置する少なくとも一つの乱流生成反応表面６８を含むリザーバ６０を提供することと、リザーバ６０内に位置する少なくとも一つの乱流生成反応表面６８と液体とが接触するようリザーバ６０に液体を導入することを含む、リザーバ６０に液体を導入することとを更に含む。
【００４７】
上記の方法は、リザーバ６０内に乱流パターンを誘起してもよく、本明細書に記載されているディスペンサーシステム１０について記載されている液流のすべての側面を含んでもよい。ディスペンサーシステム１０装置について記載されている全ての構成は、ディスペンサーシステム１０を使用して溶液を作製する方法に取り入れてもよい。本明細書に記載されている方法は、本明細書に記載のリザーバ６０、６０’、６０”の実施形態、及び本明細書に記載のリザーバ６０、６０’、６０”の範囲内であるあらゆる変形のいずれにも適用することができる。
【００４８】
本発明の様々な実施形態を記載した。本明細書に記載の実施形態は本来例示的なものであり、いかなる場合も本発明の範囲を制限するものではないことを認識すべきである。むしろ、それらは様々な構成及びその実施形態を説明する例として役立つ。これら及び他の実施形態は、以下の請求項の範囲内である。
以下の項目［１］〜［１９］に、本発明の実施形態の例を列記する。
［１］
固体製品を液体中に溶解することによって溶液を作製するためのディスペンサーシステムであって、
前記ディスペンサーシステムは：
ハウジングと；
前記ディスペンサーシステム内に前記液体を導入するための入口部分と；
少なくとも部分的に前記ハウジング内にある溶液形成組立体と；
前記溶液を分配するための出口部分とを含み、
前記溶液形成組立体は：
前記固体製品を支持するよう構成された支持構造と；
前記支持構造に操作可能に連結されたリザーバであって、前記液体を保持し、前記入口部分を介して前記液体を前記リザーバ内に流し、前記リザーバから前記溶液を出すことを可能にするよう構成された、リザーバとを含み、
前記リザーバは：
ベース部分と；
前記ベース部分から離れて延在し、前記リザーバ内に前記液体を保持する、一つ又は複数の側壁部分と；
前記一つ又は複数の側壁部分に位置し、前記入口部分を介して前記リザーバ内に前記液体を導入するよう構成された、一つ又は複数の液体入口とを含み、
前記リザーバは、前記液体を前記リザーバ内に保持したときに前記液体が前記固体製品に接触して前記溶液を作製するように、前記支持構造の付近に配置されている、
ディスペンサーシステム。
［２］
前記一つ又は複数の液体入口は、前記リザーバに前記液体を導入して、前記リザーバ内に前記液体の環状の流動パターンを生じるよう構成された、項目１に記載のディスペンサーシステム。
［３］
前記一つ又は複数の液体入口の少なくとも１つは、それぞれの前記側壁部分に対して非直交な、又はそれぞれの前記液体入口におけるそれぞれの前記側壁部分に接する平面に対して非直交な角度で、前記液体を前記リザーバ内に導入する、項目１に記載のディスペンサーシステム。
［４］
前記側壁部分は前記リザーバの内周を画定し、前記リザーバの内周の中に少なくとも一つの乱流生成反応表面が位置し、前記少なくとも一つの乱流生成反応表面は、前記液体が前記リザーバに導入されたときに、前記リザーバ内の前記液流の乱流を増大させるよう構成された、項目１に記載のディスペンサーシステム。
［５］
前記少なくとも一つの乱流生成反応表面は、ベースに対して近位の第一の端部から、ベースに対して遠位の第二の端部まで延在する、項目４に記載のディスペンサーシステム。
［６］
前記少なくとも一つの乱流生成反応表面の前記第一の末端はベースに取り付けられている、項目５に記載のディスペンサーシステム。
［７］
前記一つ又は複数の液体入口の少なくとも一つは、前記液流の少なくとも一部が、前記少なくとも一つの乱流生成反応表面に対して実質的に直交するか、又は前記少なくとも一つの乱流生成反応表面に接する平面に対して実質的に直交するように、前記少なくとも一つの乱流生成反応表面に前記液流を提供する、項目４に記載のディスペンサーシステム。
［８］
前記リザーバは、前記液体が前記一つ又は複数の液体入口を通して前記リザーバに導入されたとき、前記リザーバ内に前記液体の環状の流動パターンを生じるよう構成された、項目１に記載のディスペンサーシステム。
［９］
前記リザーバは、前記液体が前記一つ又は複数の液体入口を通して前記リザーバに導入されたとき、前記リザーバ内に前記液体の環状の流動パターンを生じるよう構成され、前記リザーバは、少なくとも一つの乱流生成反応表面を更に含み、環状の前記液流が前記少なくとも一つの乱流生成反応表面と接触したときに更なる乱流を生じる、項目１に記載のディスペンサーシステム。
［１０］
前記一つ又は複数の側壁部分に位置する、前記一つ又は複数の液体入口の少なくとも１つは、それぞれの前記液体入口におけるそれぞれの前記側壁部分に対して実質的に直交する、又はそれぞれの前記液体入口におけるそれぞれの前記側壁部分に接する平面に対して実質的に直交する角度で、前記リザーバに前記液体を注入する、項目１に記載のディスペンサーシステム。
［１１］
前記側壁部分は前記リザーバの内周を画定し、前記リザーバの内周の中に少なくとも一つの乱流生成反応表面が位置し、前記少なくとも一つの乱流生成表面は、前記液体が前記リザーバに導入されたときに、前記リザーバ内の前記液流の乱流を増大させるよう構成された、項目１０に記載のディスペンサーシステム。
［１２］
前記少なくとも一つの乱流生成反応表面は、ベースに対して近位の第一の端部から、ベースに対して遠位の第二の端部まで延在する、項目１１に記載のディスペンサーシステム。
［１３］
前記少なくとも一つの乱流生成反応表面の前記第一の端部はベースに取り付けられている、項目１２に記載のディスペンサーシステム。
［１４］
前記支持構造は、前記リザーバ内で前記固体製品を支持し、前記リザーバのベースと前記固体製品との間の隙間を維持しつつ、前記液体が前記支持構造の少なくとも一つの開口部を通過することを可能にするよう構成された、項目１に記載のディスペンサーシステム。
［１５］
前記溶液形成組立体は、前記溶液を前記リザーバから出て前記出口部分へと流すことができるよう構成されたオーバフローポートを含む、項目１に記載のディスペンサーシステム。
［１６］
前記一つ又は複数の側壁部分は、０度より大きい角度でベースから離れて上方へ延在する、項目１に記載のディスペンサーシステム。
［１７］
固体製品を液体中に溶解することによって溶液を作製する方法であって、方法は：
ディスペンサーシステムを提供することであって、
前記ディスペンサーシステムは、
ハウジングと、
前記ディスペンサーシステム内に前記液体を導入するための入口部分と、
少なくとも部分的に前記ハウジング内にある溶液形成組立体と、
前記溶液を分配するための出口部分と
を含み、
前記溶液形成組立体は、
前記固体製品を支持するよう構成された支持構造と、
前記支持構造に操作可能に連結されたリザーバであって、前記液体を保持し、前記入口部分を介して前記液体を前記リザーバ内に流し、前記リザーバから前記溶液を出すことを可能にするよう構成された、リザーバと
を含み、
前記リザーバは、
ベース部分と、
前記ベース部分から離れて延在し、前記リザーバ内に前記液体を保持する、一つ又は複数の側壁部分と、
前記一つ又は複数の側壁部分に位置し、前記入口部分を介して前記リザーバ内に前記液体を導入するよう構成された、一つ又は複数の液体入口と
を含み、
前記リザーバは、前記液体を前記リザーバ内に保持したときに前記液体が前記固体製品に接触して前記溶液を作製するように、前記支持構造の付近に配置された、
ディスペンサーシステムを提供することと；
前記液体を前記リザーバに導入し、前記固体製品を前記液体中に溶解して前記溶液を作製することと；
前記出口部分を介して前記溶液を分配することと
を含む、方法。
［１８］
前記リザーバに前記液体を導入することは、前記液体の環状の流動パターンが生じるように、前記リザーバに前記液体を導入することを含む、項目１７に記載の方法。
［１９］
前記リザーバに前記液体を導入することは、前記リザーバ内に位置する乱流生成壁に前記液体が接触するように、前記リザーバに前記液体を導入することを含む、項目１７に記載の方法。
【図１ａ】
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【図１ｂ】
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【図１ｃ】
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【図１ｄ】
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【図１ｅ】
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【図２】
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【図３】
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