(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ダイヤモンド基板と、
前記ダイヤモンド基板の上に設けられた第１のグラフェン層と、
前記第１のグラフェン層の上に設けられた第２のグラフェン層と、
前記第２のグラフェン層の上に設けられた窒化物半導体層と、
前記窒化物半導体層上に設けられた電極を有する窒化物半導体素子と、を備え、
前記第１および第２のグラフェン層は、
前記ダイヤモンド基板と前記窒化物半導体層との界面層として設けられ、
前記界面層は、
前記第１のグラフェン層と前記第２のグラフェン層とが互いに接合されて形成される、窒化物半導体装置。
【請求項２】
前記ダイヤモンド基板は、
単結晶ダイヤモンド基板、多結晶ダイヤモンド基板および単結晶ダイヤモンドと多結晶ダイヤモンドとを含む基板の何れかで構成される、請求項１記載の窒化物半導体装置。
【請求項３】
前記第１および第２のグラフェン層は、
２原子層以上の厚みを有する、請求項１記載の窒化物半導体装置。
【請求項４】
前記第１のグラフェン層は、
前記ダイヤモンド基板を熱処理して形成される、請求項１記載の窒化物半導体装置。
【請求項５】
前記窒化物半導体層は、
前記第２のグラフェン層上に設けられた第１の窒化物半導体層と、
前記第１の窒化物半導体層上に設けられた第２の窒化物半導体層と、
前記第２の窒化物半導体層上に設けられた第３の窒化物半導体層と、を有する、請求項１記載の窒化物半導体装置。
【請求項６】
（ａ）ダイヤモンド基板上に第１のグラフェン層を形成する工程と、
（ｂ）炭化珪素基板上に第２のグラフェン層を形成する工程と、
（ｃ）前記第２のグラフェン層上に窒化物半導体層をエピタキシャル成長させる工程と、
（ｄ）前記工程（ｃ）の後、前記炭化珪素基板と前記窒化物半導体層を分離する工程と、
（ｅ）前記工程（ｄ）の後、前記第１のグラフェン層を前記窒化物半導体層側として前記ダイヤモンド基板と前記窒化物半導体層とを、前記第１のグラフェン層と前記第２のグラフェン層とを介して接合する工程と、
（ｆ）前記窒化物半導体層上に電極を形成し窒化物半導体素子を形成する工程と、を備える窒化物半導体装置の製造方法。
【請求項７】
前記工程（ａ）は、
前記ダイヤモンド基板を熱処理して前記第１のグラフェン層を形成する工程を含む、請求項６記載の窒化物半導体装置の製造方法。
【請求項８】
前記工程（ｂ）は、
前記炭化珪素基板を熱処理して前記第２のグラフェン層を形成する工程を含む、請求項６記載の窒化物半導体装置の製造方法。
【請求項９】
前記工程（ｄ）は、
前記窒化物半導体層上に前記第２のグラフェン層を残して前記炭化珪素基板を分離し、
前記工程（ｅ）は、前記第１のグラフェン層と前記第２のグラフェン層とをファンデルワールス力で接合する工程と、を含む、請求項６記載の窒化物半導体装置の製造方法。
【請求項１０】
前記工程（ｆ）は、前記工程（ｄ）の前に実行され、
前記工程（ｄ）は、
前記窒化物半導体層上に前記窒化物半導体素子を覆うように接着層を形成し、前記接着層を介して支持基板を前記窒化物半導体層上に接着する工程と、
前記支持基板と前記炭化珪素基板とを介して前記炭化珪素基板と前記窒化物半導体層とが分離する力を加える工程と、を有し、
前記工程（ｅ）の後に、前記窒化物半導体層上から、前記接着層と共に前記支持基板を除去する工程を備える、請求項６記載の窒化物半導体装置の製造方法。
【請求項１１】
前記工程（ｄ）は、
前記窒化物半導体層上を覆うように接着層を形成し、前記接着層を介して支持基板を前記窒化物半導体層上に接着する工程と、
前記支持基板と前記炭化珪素基板とを介して前記炭化珪素基板と前記窒化物半導体層とが分離する力を加える工程と、を有し、
前記工程（ｆ）は、
前記工程（ｅ）の後であって、前記窒化物半導体層上から、前記接着層と共に前記支持基板を除去した後に実行される、請求項６記載の窒化物半導体装置の製造方法。
【請求項１２】
前記工程（ｂ）は、
前記炭化珪素基板を熱処理して前記第２のグラフェン層を形成する工程を含む、請求項７記載の窒化物半導体装置の製造方法。
【請求項１３】
前記工程（ｄ）は、
前記窒化物半導体層上に前記第２のグラフェン層を残して前記炭化珪素基板を分離し、
前記工程（ｅ）は、前記第１のグラフェン層と前記第２のグラフェン層とをファンデルワールス力で接合する工程と、を含む、請求項１２記載の窒化物半導体装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は窒化物半導体装置に関し、特に、放熱性の高い窒化物半導体装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
高出力領域で動作する半導体装置として、ＧａＮ（窒化ガリウム）、ＡｌＮ（窒化アルミニウム）、ＩｎＮ（窒化インジウム）または、これらを組み合わせた窒化物半導体を用いた電界効果型トランジスタとして、例えば、高電子移動度トランジスタ（ＨＥＭＴ：High Electron Mobility Transistor）が知られている。このような窒化物半導体素子は、高出力電力増幅器、大電力スイッチングデバイス等に用いられる。【０００３】
このような窒化物半導体素子は、高出力動作の際、温度上昇によって特性および信頼性低下が著しい。そこで、この窒化物半導体素子の温度上昇を抑制するために、放熱性が高い材料を発熱部近傍に設けることが必要とされている。例えば、窒化物半導体層を加工して放熱材料と接合することにより、放熱性を向上させることができる。特に、ダイヤモンドは固体物質中で最大の熱伝導率を有する材料であり、放熱材料として好適な性質を有する。このため、例えば、特許文献１で開示されるように、ダイヤモンド基板と窒化物半導体層とをアモルファスカーボン層を介して接合することにより、半導体素子の放熱性向上を図る技術が知られている。【０００４】
このような構成を有する窒化物半導体装置に用いられる窒化物半導体層は、珪素（Ｓｉ）、炭化珪素（ＳｉＣ）、サファイア（Ａｌ２Ｏ３）等の基板上に、ヘテロエピタキシャル成長技術により形成することが可能であるが、ダイヤモンド基板上への窒化物半導体層のヘテロエピタキシャル成長技術は未だ確立されていない。従って、ダイヤモンド基板上に窒化物半導体層を形成するためには、ヘテロエピタキシャル成長基板上に窒化物半導体層を形成した後、窒化物半導体層のみを取り出してダイヤモンド基板上に移し替える必要がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１８−２０６９５５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１に記載されている半導体装置の場合、その製造工程において窒化物半導体層のヘテロエピタキシャル成長基板を研削および化学機械研磨（ＣＭＰ：Chemical Mechanical Polishing）により除去する工程を含んでいる。そのため、製造コストが増加してしまうといった問題があった。【０００７】
本開示は、上記のような問題点を解決するためになされたものであり、低コストで放熱性の高い窒化物半導体装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本開示に係る窒化物半導体装置は、ダイヤモンド基板と、前記ダイヤモンド基板の上に設けられた第１のグラフェン層と、前記第１のグラフェン層の上に設けられた第２のグラフェン層と、前記第２のグラフェン層の上に設けられた窒化物半導体層と、前記窒化物半導体層上に設けられた電極を有する窒化物半導体素子と、を備え、前記第１および第２のグラフェン層は、前記ダイヤモンド基板と前記窒化物半導体層との界面層として設けられ、前記界面層は、前記第１のグラフェン層と前記第２のグラフェン層とが互いに接合されて形成される。
【発明の効果】
【０００９】
上記窒化物半導体装置によれば、放熱性が極めて高いダイヤモンド基板上に窒化物半導体素子が設けられた窒化物半導体装置を低コストに実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】実施の形態１に係る窒化物半導体装置構成を模式的に示す断面図である。
【図２】実施の形態１に係る窒化物半導体装置の製造方法を説明する断面図である。
【図３】実施の形態１に係る窒化物半導体装置の製造方法を説明する断面図である。
【図４】実施の形態１に係る窒化物半導体装置の製造方法を説明する断面図である。
【図５】実施の形態１に係る窒化物半導体装置の製造方法を説明する断面図である。
【図６】実施の形態１に係る窒化物半導体装置の製造方法を説明する断面図である。
【図７】実施の形態１に係る窒化物半導体装置の製造方法を説明する断面図である。
【図８】実施の形態１に係る窒化物半導体装置の製造方法を説明する断面図である。
【図９】実施の形態１に係る窒化物半導体装置の製造方法を説明する断面図である。
【図１０】実施の形態２に係る窒化物半導体装置の製造方法を説明する断面図である。
【図１１】実施の形態２に係る窒化物半導体装置の製造方法を説明する断面図である。
【図１２】実施の形態２に係る窒化物半導体装置の製造方法を説明する断面図である。
【図１３】実施の形態２に係る窒化物半導体装置の製造方法を説明する断面図である。
【図１４】実施の形態２に係る窒化物半導体装置の製造方法を説明する断面図である。
【図１５】実施の形態２に係る窒化物半導体装置の製造方法を説明する断面図である。
【図１６】実施の形態２に係る窒化物半導体装置の製造方法を説明する断面図である。
【図１７】実施の形態２に係る窒化物半導体装置の製造方法を説明する断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
＜はじめに＞
以下、図面を参照しながら実施の形態について説明する。なお、図面は模式的に示されたものであり、図中の各構成要素の水平方向、垂直方向の寸法は、実際の寸法を正確に表したものではなく、寸法比は正確ではない。また、以下の説明では、同様の構成要素には同じ符号を付して図示し、それらの名称および機能も同様のものとする。よって、それらについての詳細な説明を省略する場合がある。
【００１２】
また、以下の説明では、「上」、「下」および「側」などの特定の位置および方向を意味する用語が用いられる場合があるが、これらの用語は、実施の形態の内容を理解することを容易にするため便宜上用いられているものであり、実際に実施される際の方向とは関係しない。
【００１３】
また、以下の説明では、「窒化物系半導体」とは、ＧａＮ、ＡｌＮ、ＩｎＮおよびそれらの中間組成を備える半導体の総称とする。
【００１４】
また、不純物の導電型に関して、ｎ型を「第１導電型」、ｐ型を「第２導電型」として一般的に定義するが、その逆の定義でも構わない。
【００１５】
＜実施の形態１＞
図１は、実施の形態１の窒化物半導体装置１００の構成を模式的に示す断面図である。実施の形態１に係る半導体装置は、ダイヤモンド基板１０と、ダイヤモンド基板１０の上に設けられたグラフェン層２０（第１のグラフェン層）と、グラフェン層２０の上に設けられたグラフェン層４０（第２のグラフェン層）と、グラフェン層４０の上に設けられた窒化物半導体層５０と、窒化物半導体層５０の上に選択的に設けられたソース電極６０と、ソース電極６０と離間して選択的に設けられたドレイン電極６１と、ソース電極６０とドレイン電極６１の間に設けられたゲート電極６２と、を備えている。窒化物半導体層５０と、窒化物半導体層５０上に設けられたソース電極６０、ドレイン電極６１およびゲート電極６２とで構成される窒化物半導体素子はＨＥＭＴとなる。
【００１６】
次に、窒化物半導体装置１００の製造方法について説明する。実施の形態１に係る製造方法は大きく分けて、次の４工程を有している。すなわち、ダイヤモンド基板上にグラフェン層を形成する工程、炭化珪素基板上に窒化物半導体層を形成する工程、炭化珪素基板と窒化物半導体層とを分離し、窒化物半導体層を支持基板に固定する工程およびダイヤモンド基板上に窒化物半導体層を固定して窒化物半導体装置を形成する工程を有している。
【００１７】
＜ダイヤモンド基板上にグラフェン層を形成する工程＞
まず、ダイヤモンド基板上にグラフェン層を形成する工程について、図２を用いて説明する。まず、図２に示すように、ダイヤモンド基板１０を準備する。ダイヤモンド基板１０は、単結晶ダイヤモンド基板、多結晶ダイヤモンド基板、単結晶ダイヤモンドと多結晶ダイヤモンドとを含む基板等を用いることができ、熱伝導率が１０００Ｗ・ｍ−１・Ｋ−１以上のものが好適である。ダイヤモンド基板１０の上面は、機械研磨（Mechanical Polishing）、化学機械研磨（Chemical Mechanical Polishing）、ドライエッチング、ウェットエッチング等の公知の手法を用いて原子層レベルで平坦化されており、表面の凹凸の高低差は１．０ｎｍ未満、より好適には０．５ｎｍ未満となっている。
【００１８】
次に、図２に示すようにダイヤモンド基板１０の上に、グラフェン層２０を形成する。グラフェン層２０の形成方法としては、１．３３３×１０１Ｐａ（１×１０−１Ｔｏｒｒ）以下の真空下または不活性ガス雰囲気下で、８００〜１４００℃の温度範囲で加熱処理することで形成する。加熱温度は、１０００〜１３００℃の温度範囲がより望ましい。このような熱処理により、ダイヤモンド基板１０の表面の炭素原子が変性し、ダイヤモンド基板１０の結晶構造を引き継いだグラフェン層２０が形成される。このような方法でダイヤモンド基板１０上にグラフェン層２０を形成することで、ダイヤモンド基板１０の全面に、層数が制御されていて表面平坦性が高く、格子欠陥の極めて少ないグラフェン層２０を設けることができる。なお、グラフェン層２０の厚みは、例えば、０．６〜０．７ｎｍ（６〜７オングストローム）となる。
【００１９】
グラフェン層２０の形成方法としては、メタンガスを原料に用いた化学気相成長（Chemical Vapor Deposition）なども挙げられる。しかし、上記のような熱処理を用いた方法を用いることで、化学気相成長を用いるよりも簡易にグラフェン層２０を形成することができる。
【００２０】
なお、単結晶ダイヤモンド基板に形成したグラフェン層は、多結晶ダイヤモンド基板に形成したグラフェン層よりも格子欠陥が少ない特性を有している。単結晶ダイヤモンドと多結晶ダイヤモンドとを含む基板としては、複数の単結晶ダイヤモンド基板を平面的に並べ、基板間に多結晶ダイヤモンドを化学気相成長で形成して単結晶ダイヤモンド基板をつなぎ合わせた基板を挙げることができる。
【００２１】
＜炭化珪素基板上に窒化物半導体層を形成する工程＞
次に、炭化珪素基板上に窒化物半導体層を形成する工程について、図３および図４を用いて説明する。まず、図３に示すように、炭化珪素基板３０を準備する。炭化珪素基板３０は、立方晶系または六方晶系の結晶構造を有している。炭化珪素基板３０の上面は、機械研磨、化学機械研磨、ドライエッチング、ウェットエッチング等、公知の手法を用いて原子層レベルで平坦化されており、表面の凹凸の高低差は１．０ｎｍ未満、より好適には０．５ｎｍ未満となっている。
【００２２】
次に、図３に示すように、炭化珪素基板３０上にグラフェン層４０を形成する。グラフェン層４０は、炭化珪素基板３０を、水素雰囲気下での熱処理と、真空下での熱処理を施すことによって形成される。熱処理温度は、１４００〜１６００℃の範囲であり、好ましくは１５５０〜１６００℃である。水素雰囲気下での熱処理は、グラフェン層４０の形成のための準備工程であり、続く真空下での熱処理によってグラフェン層が形成される。なお、水素雰囲気中の水素の圧力は、例えば、３．９９９×１０３Ｐａ（３０Ｔｏｒｒ）程度である。また、真空下での熱処理の代わりに、不活性ガスの雰囲気下での熱処理を用いてグラフェン層４０を形成しても良い。この場合の熱処理温度も、１４００〜１６００℃の範囲であり、好ましくは１５５０〜１６００℃である。
【００２３】
このような熱処理により、炭化珪素基板３０表面の珪素原子が炭化珪素基板３０から脱離し、残留した炭素原子が、炭化珪素基板３０の結晶構造を引き継いだグラフェン層４０を形成する。このような方法で炭化珪素基板３０上にグラフェン層を形成することで、炭化珪素基板３０の全面に、層数が制御されていて表面平坦性が高く、格子欠陥の極めて少ないグラフェン層４０を設けることができる。なお、グラフェン層４０の厚みは、例えば、０．６〜０．７ｎｍ（６〜７オングストローム）となる。
【００２４】
グラフェン層４０の形成方法としては、メタンガスを原料に用いた化学気相成長なども挙げられる。しかし、上記のような熱処理を用いた方法を用いることで、化学気相成長を用いるより簡易にグラフェン層４０を形成することができる。
【００２５】
次に、図４に示す工程において、グラフェン層４０上に、ヘテロエピタキシャル成長により窒化物半導体層５０を形成する。窒化物半導体層５０の形成方法は、例えば、金属ガリウムと活性窒素を原料とした分子線エピタキシー、トリメチルガリウムとアンモニアを原料とした有機金属気相成長を用いることができる。なお、窒化物半導体層５０は、例えば、ＡｌＮまたはＡｌＧａＮで構成されるバッファ層５３（第１の窒化物半導体層）、例えば、ＧａＮで構成されるチャネル層５２（第２の窒化物半導体層）およびＡｌＧａＮ（窒化アルミニウムガリウム）で構成されるバリア層５１（第３の窒化物半導体層）がグラフェン層４０上にこの順に積層された構成を有している。これらの層の厚みの一例は、バリア層５１が２５ｎｍ、チャネル層５２が１μｍ、バッファ層５３が５００ｎｍとなっている。
【００２６】
チャネル層５２は、高抵抗化を目的として、Ｆｅ（鉄）またはＣ（炭素）などの不純物を含んでいてもよい。チャネル層５２とバリア層５１の界面には、ヘテロ接合が形成され、バリア層５１がこの界面に電子を供給することで、この界面に２次元電子ガス（２ＤＥＧ：two dimensional electron gas）が形成される。この２ＤＥＧが、本実施の形態の窒化物半導体装置のキャリアとなる。バッファ層５３は、炭化珪素基板３０およびグラフェン層４０と、窒化物半導体との格子定数差による結晶欠陥を抑制する。
【００２７】
次に、図５に示す工程において、窒化物半導体層５０上に、ソース電極６０、ドレイン電極６１およびゲート電極６２をそれぞれ選択的に形成する。ソース電極６０とドレイン電極６１は、例えば金属電極であり、例えばアルミニウムで構成される。ソース電極６０およびドレイン電極６１と窒化物半導体層５０との間には、オーミックコンタクトが形成されていることが望ましい。なお、ソース電極６０およびドレイン電極６１の厚みは、例えば１μｍであり、ゲート電極６２の厚みは、例えば２００ｎｍとし、何れも、真空蒸着、スパッタリングおよび化学気相成長で形成する。
【００２８】
ソース電極６０下の半導体領域（以下、ソース電極領域と呼称）と、ドレイン電極下の半導体領域（ドレイン電極領域）は、ｎ型の導電型を持つようにイオン注入を行ってもよい。ｎ型の導電性を持たせるために、ｎ型不純物として、例えば、珪素がイオン注入される。ｎ型不純物のドーズ量は、例えば、１×１０１５ｃｍ−２とする。注入後は、熱処理を行うことで不純物が活性化される。ゲート電極６２は、例えば、Ｎｉ（ニッケル）、Ｐｔ（白金）などの金属、またはボロンをドーピングしたｐ型ポリシリコン、リンをドーピングしたｎ型ポリシリコンなどで構成しても良い。
【００２９】
＜炭化珪素基板と窒化物半導体層とを分離する工程＞
次に、炭化珪素基板と窒化物半導体層とを分離する工程を、図６および図７を用いて説明する。まず、図６に示す工程において、炭化珪素基板３０上の窒化物半導体層５０上に、支持基板接着層７０を用いて支持基板７１を接着させる。
【００３０】
支持基板接着層７０は、剥離液等で除去可能な有機接着剤、加熱または紫外線照射等で剥離可能な接着剤を、ソース電極６０、ドレイン電極６１およびゲート電極６２を覆うように塗布して形成することが好適である。また、複数の接着層を２層以上重ねても良い。支持基板７１は、例えば、Ｓｉ、サファイア、ガラスで構成される。
【００３１】
次に、図７に示す工程において、支持基板７１が接着された状態の窒化物半導体層５０を、炭化珪素基板３０を固定した状態で支持基板７１を上方または下方に引っ張ることで、炭化珪素基板３０と窒化物半導体層５０とを分離する。
【００３２】
支持基板７１を引っ張る力は、炭化珪素基板３０とグラフェン層４０との界面で分離する大きさ、グラフェン層４０が層間分離する大きさの何れかに設定すれば良い。炭化珪素基板３０は、真空吸着または接着剤等を用いて図示されない支持体に固定する。なお、支持基板７１を引っ張る力としては、例えば、１０Ｎ・ｍｍ−２〜１００００Ｎ・ｍｍ−２の範囲の力を適宜に加える。すなわち、窒化物半導体層５０と炭化珪素基板３０を分離するために引っ張り力を加えるが、その際、引っ張り力は、小さい値から徐々に大きくし、窒化物半導体層５０と炭化珪素基板３０とが分離した段階で引っ張りを止める。このように、引っ張り力は、炭化珪素基板３０とグラフェン層４０との界面で分離する大きさ、またはグラフェン層４０が層間分離する大きさの力を適宜に加えればよい。
【００３３】
なお、支持基板７１を固定した状態で炭化珪素基板３０を上方または下方に引っ張ることで炭化珪素基板３０と窒化物半導体層５０とを分離しても良い。
【００３４】
また、炭化珪素基板３０と窒化物半導体層５０との分離方法としては、グラフェンと炭化珪素の熱膨張係数差を利用し、加熱または冷却による体積変化がもたらす応力を用いることも可能である。
【００３５】
なお、図７では、グラフェン層４０が層間分離した状態を示しているが、炭化珪素基板３０とグラフェン層４０との界面で分離し、グラフェン層４０がすべて窒化物半導体層５０に付いた状態となることが最も好ましい。このように分離することで、分離後の窒化物半導体層５０側のグラフェン層４０の表面が平坦となり、この後の工程で、ダイヤモンド基板１０上のグラフェン層２０と接合する場合に好適な状態となる。
【００３６】
以上説明した方法で窒化物半導体層５０と炭化珪素基板３０とを分離することで、炭化珪素基板３０を残したまま窒化物半導体層５０を孤立化させることができる。すなわち、炭化珪素基板３０が機械的または化学的に除去されないために、窒化物半導体層５０のヘテロエピタキシャル基板である炭化珪素基板３０を再利用することができ、窒化物半導体装置１００の製造コストを低減することができる。
【００３７】
＜ダイヤモンド基板上に窒化物半導体層を固定して窒化物半導体装置を形成する工程＞
次に、ダイヤモンド基板上に窒化物半導体層を固定して窒化物半導体装置を形成する工程を、図８および図９を用いて説明する。まず、図８に示す工程において、炭化珪素基板３０から分離した窒化物半導体層５０に、図２に示したダイヤモンド基板１０を接合する。
【００３８】
図２に示したダイヤモンド基板１０上のグラフェン層２０は、窒化物半導体層５０の下に残るグラフェン層４０と同様の原子配列を持っている。従って、グラフェン層２０とグラフェン層４０とを接触させることで、グラフェン層２０とグラフェン層４０との間でファンデルワールス力による物理結合が発生し、接合が形成される。接合の際には、接合界面への異物混入を抑制するため、雰囲気中に異物の少ないクリーンルームまたはクリーンブースを用いることが好ましい。また、大気圧で接合することも可能であるが、真空中で接合を行うことで、接合界面の大気の残留を抑制することができる。グラフェン層２０およびグラフェン層４０は、どちらも層数が制御されて表面の平坦性が高いグラフェン層であるため、接合界面における未接合領域の発生を抑制することが可能である。
【００３９】
また、グラフェンは高熱伝導材料であり、グラフェン層２０とグラフェン層４０は格子欠陥が少ない。従って、窒化物半導体層５０とダイヤモンド基板１０とを、極めて小さい熱抵抗を持つ界面層、すなわち、グラフェン層２０とグラフェン層４０とで構成される接合層を介して接合することができる。なお、グラフェン層の熱伝導率は、室温で、面内方向が２０００〜５０００Ｗ・ｍ−１・Ｋ−１程度、面内に垂直な方向が例えば１０Ｗ・ｍ−１・Ｋ−１程度である。
【００４０】
次に、図９に示す工程において、ダイヤモンド基板１０上の窒化物半導体層５０から支持基板７１を分離する。窒化物半導体層５０が接合されたダイヤモンド基板１０を加熱、または支持基板接着層７０に紫外光を照射することで、支持基板接着層７０に剥離性を持たせ、支持基板接着層７０を剥離することで、支持基板接着層７０と共に支持基板７１をダイヤモンド基板１０上の窒化物半導体層５０から分離する。この工程により、窒化物半導体層５０と、ソース電極６０、ドレイン電極６１およびゲート電極６２とで構成される窒化物半導体素子（ＨＥＭＴ）を有する窒化物半導体装置１００（図１）を得ることができる。
【００４１】
以上説明したように、実施の形態１に係る窒化物半導体装置１００は、熱伝導率が高いダイヤモンド基板１０を有している。また、格子欠陥が極めて少なく熱伝導性の高いグラフェン層２０および４０で構成される接合層は、窒化物半導体層５０とダイヤモンド基板１０との間に２原子層以上（数原子層）から数十原子層分の厚さを有している。このため、例えば特開２０１８−２０６９５５号公報に開示される、窒化物半導体層とダイヤモンド基板との間に、１０ｎｍの厚さのアモルファスカーボン層を有した構成よりも、窒化物半導体層５０とダイヤモンド基板１０との間の熱伝導が良好であり、より高い放熱性を有する窒化物半導体装置となる。
【００４２】
すなわち、２原子層以上（数原子層）から数十原子層分の厚さのグラフェン層は１０ｎｍの厚さのアモルファスカーボン層よりも薄く、また、アモルファスカーボンは、一般に熱伝導率が５Ｗ・ｍ−１・Ｋ−１未満であり、グラフェンよりも熱伝導率が低い。また、上述したように、グラフェンは面内方向の熱伝導率が高く、熱を面内方向に分散することができるため、アモルファスカーボンと比較すると、放熱性が非常に高くなるためである。
【００４３】
＜実施の形態２＞
以上説明した実施の形態１に係る窒化物半導体装置１００の製造方法においては、窒化物半導体層５０上にソース電極６０、ドレイン電極６１およびゲート電極６２を形成した後に、支持基板接着層７０を介して支持基板７１を接着する工程を有していたが、以下、実施の形態２において説明するように、窒化物半導体層５０をダイヤモンド基板１０上に接合した後に、ソース電極６０、ドレイン電極６１およびゲート電極６２を形成しても良い。
【００４４】
以下、実施の形態２に係る窒化物半導体装置２００の製造方法について、図１０〜図１５を用いて説明する。なお、実施の形態２に係る窒化物半導体装置２００の断面構成は図１と同じであるので、図１の構成を窒化物半導体装置２００としても利用する。また、図２〜図９を用いて説明した実施の形態１の製造方法と重複する構成および工程については、重複する説明は省略する。
【００４５】
実施の形態２に係る製造方法は大きく分けて、次の４工程を有している。すなわち、ダイヤモンド基板上にグラフェン層を形成する工程、炭化珪素基板上に窒化物半導体層を形成する工程、炭化珪素基板と窒化物半導体層とを分離し、窒化物半導体層を支持基板に固定する工程およびダイヤモンド基板上に窒化物半導体層を固定して窒化物半導体装置を形成する工程を有している。
【００４６】
＜ダイヤモンド基板上にグラフェン層を形成する工程＞
まず、ダイヤモンド基板上にグラフェン層を形成する工程について、図１０を用いて説明する。まず、図１０に示すように、ダイヤモンド基板１０を準備する。ダイヤモンド基板１０は、単結晶ダイヤモンド基板、多結晶ダイヤモンド基板および単結晶ダイヤモンドと多結晶ダイヤモンドと含む基板等を用いることができ、ダイヤモンド基板１０の上面は、機械研磨、化学機械研磨、ドライエッチング、ウェットエッチング等の公知の手法を用いて原子層レベルで平坦化されている。
【００４７】
次に、図１０に示すように、ダイヤモンド基板１０の上に、グラフェン層２０を形成する。グラフェン層２０の形成方法は実施の形態１と同じであり、グラフェン層２０の厚みは、例えば、０．６〜０．７ｎｍ（６〜７オングストローム）となる。
【００４８】
＜炭化珪素基板上に窒化物半導体層を形成する工程＞
次に、炭化珪素基板上に窒化物半導体層を形成する工程について、図１１および図１２を用いて説明する。まず、図１１に示すように、炭化珪素基板３０を準備する。炭化珪素基板３０は、立方晶系または六方晶系の結晶構造を有している。炭化珪素基板３０の上面は、機械研磨、化学機械研磨、ドライエッチング、ウェットエッチング等、公知の手法を用いて原子層レベルで平坦化されている。
【００４９】
次に、図１１に示すように、炭化珪素基板３０上にグラフェン層４０を形成する。グラフェン層４０の形成方法は実施の形態１と同じであり、グラフェン層２０の厚みは、例えば、０．６〜０．７ｎｍ（６〜７オングストローム）となる。
【００５０】
次に、図１２に示す工程において、グラフェン層４０上に、ヘテロエピタキシャル成長により窒化物半導体層５０を形成する。窒化物半導体層５０の形成方法は実施の形態１と同じであり、バッファ層５３、チャネル層５２およびバリア層５１がグラフェン層４０上にこの順に積層されて構成されている。これらの層の厚みの一例は、バリア層５１が２５ｎｍ、チャネル層５２が１μｍ、バッファ層５３が５００ｎｍとなっている。
【００５１】
＜炭化珪素基板と窒化物半導体層とを分離する工程＞
次に、炭化珪素基板と窒化物半導体層とを分離する工程を、図１３および図１４を用いて説明する。まず、図１３に示す工程において、炭化珪素基板３０上の窒化物半導体層５０上に、支持基板接着層７０を用いて支持基板７１を接着させる。
【００５２】
支持基板接着層７０は、剥離液等で除去可能な有機接着剤、加熱または紫外線照射等で剥離可能な接着剤を窒化物半導体層５０上を覆うように塗布して形成することが好適である。また、複数の接着層を２層以上重ねても良い。
【００５３】
実施の形態１に係る半導体装置の製造方法では、支持基板接着層７０は、ソース電極６０、ドレイン電極６１およびゲート電極６２を覆う必要がある。一方、実施の形態２に係る半導体装置の製造方法では、平坦な窒化物半導体層５０上に支持基板接着層７０を形成する。従って、支持基板接着層７０の厚みは、ソース電極６０、ドレイン電極６１およびゲート電極６２の厚みよりも薄くてよい。また、ソース電極６０とゲート電極６２との間、およびドレイン電極６１とゲート電極６２の間に充填するために、粘性の低い接着剤を使用する必要がなくなる。
【００５４】
次に、図１４に示す工程において、支持基板７１が接着された状態の窒化物半導体層５０を、炭化珪素基板３０を固定した状態で支持基板７１を上方または下方に引っ張ることで、炭化珪素基板３０と窒化物半導体層５０とを分離する。支持基板７１を引っ張る力は、炭化珪素基板３０とグラフェン層４０との界面で分離する大きさ、グラフェン層４０が層間分離する大きさの何れかに設定すれば良い。
【００５５】
また、炭化珪素基板３０と窒化物半導体層５０との分離方法としては、グラフェンと炭化珪素の熱膨張係数差を利用し、加熱または冷却による体積変化がもたらす応力を用いることも可能である。
【００５６】
なお、図１４では、グラフェン層４０が層間分離した状態を示しているが、炭化珪素基板３０とグラフェン層４０との界面で分離し、グラフェン層４０がすべて窒化物半導体層５０に付いた状態となることが最も好ましい。このように分離することで、分離後の窒化物半導体層５０側のグラフェン層４０の表面が平坦となり、この後の工程で、ダイヤモンド基板１０上のグラフェン層２０と接合する場合に好適な状態となる。
【００５７】
以上説明した方法で窒化物半導体層５０と炭化珪素基板３０とを分離することで、炭化珪素基板３０を残したまま窒化物半導体層５０を孤立化させることができる。すなわち、炭化珪素基板３０が機械的または化学的に除去されないために、窒化物半導体層５０のヘテロエピタキシャル基板である炭化珪素基板３０を再利用することができ、窒化物半導体装置２００の製造コストを低減することができる。
【００５８】
＜ダイヤモンド基板上に窒化物半導体層を固定して窒化物半導体装置を形成する工程＞
次に、ダイヤモンド基板上に窒化物半導体層を固定して窒化物半導体装置を形成する工程を、図１５〜図１７を用いて説明する。まず、図１５に示す工程において、炭化珪素基板３０から分離した窒化物半導体層５０に、図１０に示したダイヤモンド基板１０を接合する。
【００５９】
図１０に示したダイヤモンド基板１０上のグラフェン層２０は、窒化物半導体層５０の下に残るグラフェン層４０と同様の原子配列を持っており、グラフェン層２０とグラフェン層４０とを接触させることで、グラフェン層２０とグラフェン層４０との間でファンデルワールス力による物理結合が発生し、接合が形成される。接合の際の条件は実施の形態１と同じである。
【００６０】
また、グラフェンは高熱伝導材料であり、グラフェン層２０とグラフェン層４０は格子欠陥が少ない。従って、窒化物半導体層５０とダイヤモンド基板１０とを、極めて小さい熱抵抗を持つ界面層、すなわち、グラフェン層２０とグラフェン層４０とで構成される接合層を介して接合することができる。なお、グラフェン層の熱伝導率は、室温で、面内方向が２０００〜５０００Ｗ・ｍ−１・Ｋ−１程度、面内に垂直な方向が例えば１０Ｗ・ｍ−１・Ｋ−１程度である。
【００６１】
次に、図１６に示す工程において、ダイヤモンド基板１０上の窒化物半導体層５０から支持基板７１を分離する。窒化物半導体層５０が接合されたダイヤモンド基板１０を加熱、または支持基板接着層７０に紫外光を照射することで、支持基板接着層７０に剥離性を持たせ、支持基板接着層７０を剥離することで、支持基板接着層７０と共に支持基板７１をダイヤモンド基板１０上の窒化物半導体層５０から分離する。
【００６２】
次に、図１７に示す工程において、窒化物半導体層５０上に、ソース電極６０、ドレイン電極６１およびゲート電極６２をそれぞれ選択的に形成することで、窒化物半導体装置２００を得る。これらの電極の形成方法、厚みは実施の形態１と同じである。
【００６３】
ソース電極６０下のソース電極領域と、ドレイン電極下のドレイン電極領域は、ｎ型の導電型を持つようにイオン注入を行ってもよい。ｎ型不純物として、例えば、珪素がイオン注入される。ｎ型不純物のドーズ量は、例えば、１×１０１５ｃｍ−２とする。注入後は、熱処理を行うことで不純物が活性化される。ゲート電極６２は、例えば、Ｎｉ、Ｐｔなどの金属、またはボロンをドーピングしたｐ型ポリシリコン、リンをドーピングしたｎ型ポリシリコンなどで構成しても良い。
【００６４】
この工程により、窒化物半導体層５０と、ソース電極６０、ドレイン電極６１およびゲート電極６２とで構成される窒化物半導体素子（ＨＥＭＴ）を有する窒化物半導体装置２００（図１）を得ることができる。
【００６５】
以上説明したように、実施の形態２に係る窒化物半導体装置２００は、熱伝導率が高いダイヤモンド基板１０を有している。また、格子欠陥が極めて少なく熱伝導性の高いグラフェン層２０および４０で構成される接合層は、窒化物半導体層５０とダイヤモンド基板１０との間に２原子層以上（数原子層）から数十原子層分の厚さを有している。このため、例えば特開２０１８−２０６９５５号公報に開示される、窒化物半導体層とダイヤモンド基板との間に、１０ｎｍの厚さのアモルファスカーボン層を有した構成よりも、窒化物半導体層５０とダイヤモンド基板１０との間の熱伝導が良好であり、より高い放熱性を有する窒化物半導体装置となる。
【００６６】
この開示は詳細に説明されたが、上記した説明は、すべての局面において、例示であって、限定的なものではない。例示されていない無数の変形例が想定され得るものと解される。
【００６７】
なお、本開示は、その開示の範囲内において、各実施の形態を自由に組み合わせたり、各実施の形態を適宜、変形、省略したりすることが可能である。
【要約】
窒化物半導体装置に関し、ダイヤモンド基板と、ダイヤモンド基板の上に設けられた第１のグラフェン層と、第１のグラフェン層の上に設けられた第２のグラフェン層と、前記第２のグラフェン層の上に設けられた窒化物半導体層と、前記窒化物半導体層上に設けられた電極を有する窒化物半導体素子と、を備え、前記第１および第２のグラフェン層は、ダイヤモンド基板と窒化物半導体層との界面層として設けられる。【図１】
0006771706.tif 000002
【図２】
0006771706.tif 000003
【図３】
0006771706.tif 000004
【図４】
0006771706.tif 000005
【図５】
0006771706.tif 000006
【図６】
0006771706.tif 000007
【図７】
0006771706.tif 000008
【図８】
0006771706.tif 000009
【図９】
0006771706.tif 000010
【図１０】
0006771706.tif 000011
【図１１】
0006771706.tif 000012
【図１２】
0006771706.tif 000013
【図１３】
0006771706.tif 000014
【図１４】
0006771706.tif 000015
【図１５】
0006771706.tif 000016
【図１６】
0006771706.tif 000017
【図１７】
0006771706.tif 000018