(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
トナー粒子、及び前記トナー粒子に外添され、圧縮凝集度が６０％以上９５％以下、粒子圧縮比が０．２０以上０．４０以下であるシリカ粒子を含む外添剤を有する静電荷像現像用トナーと、
芯材用結着樹脂中に磁性体を含有する芯材、並びに該芯材の表面を被覆し被覆層用樹脂を含有し、且つ表面粗さＲａが０．２５μｍ以上０．４μｍ以下である被覆層を有する静電荷像現像用キャリアと、
を含み、
前記シリカ粒子が、粘度１０００ｃＳｔ以上５００００ｃＳｔ以下のシロキサン化合物により表面処理され、前記シロキサン化合物の表面付着量が０．０１質量％以上５質量％以下のシリカ粒子である静電荷像現像剤。
【請求項２】
前記シリカ粒子の平均円相当径が４０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である請求項１に記載の静電荷像現像剤。
【請求項３】
前記シリカ粒子の粒子分散度が９０％以上１００％以下である請求項１又は請求項２に記載の静電荷像現像剤。
【請求項４】
前記シロキサン化合物が、シリコーンオイルである請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の静電荷像現像剤。
【請求項５】
請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の静電荷像現像剤を収容し、
画像形成装置に着脱される現像剤カートリッジ。
【請求項６】
請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の静電荷像現像剤を収容し、前記静電荷像現像剤により、像保持体の表面に形成された静電荷像をトナー画像として現像する現像手段を備え、
画像形成装置に着脱されるプロセスカートリッジ。
【請求項７】
像保持体と、
前記像保持体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記像保持体の表面に静電荷像を形成する静電荷像形成手段と、
請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の静電荷像現像剤を収容し、前記静電荷像現像剤により、前記像保持体の表面に形成された静電荷像をトナー画像として現像する現像手段と、
前記像保持体の表面に形成されたトナー画像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
前記記録媒体の表面に転写されたトナー画像を定着する定着手段と、
を備える画像形成装置。
【請求項８】
像保持体の表面を帯電する帯電工程と、
帯電した前記像保持体の表面に静電荷像を形成する静電荷像形成工程と、
請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の静電荷像現像剤により、前記像保持体の表面に形成された静電荷像をトナー画像として現像する現像工程と、
前記像保持体の表面に形成されたトナー画像を記録媒体の表面に転写する転写工程と、
前記記録媒体の表面に転写されたトナー画像を定着する定着工程と、
を有する画像形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、静電荷像現像剤、現像剤カートリッジ、プロセスカートリッジ、画像形成装置、及び、画像形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子写真法などにより、静電荷像を経て画像情報を可視化する方法は、現在様々な分野で利用されている。電子写真法においては、帯電および露光工程により像保持体（感光体）表面に画像情報を静電荷像として形成し、トナーを含む現像剤を用いて、感光体表面にトナー像を現像し、このトナー像を、用紙などの記録媒体に転写する転写工程、さらに、トナー像を記録媒体表面に定着させる定着工程を経て画像として可視化される。なお、トナーとしては、トナー粒子に対し種々の外添剤を外添したトナーが用いられている。
【０００３】
例えば、特許文献１には、「条件（ｉ）（室温で液体であり、誘電率が１から４０Ｆ／ｍである有機化合物とシリカ系粒子とを５対１の質量比で混合し振とうした際に、該シリカ系粒子が前記有機化合物中に分散する）、及び条件（ｉｉ）（該シリカ系粒子をメタノールに分散した分散液からメタノールをエバポレータで加熱下留去した後、１００℃の温度で２時間保持した際に、１次粒子として残存する１次粒子量の当初存在した１次粒子量に対する比率が２０％以上である、を満たす、１次粒子の平均の粒子径が０．０１から５μｍの球状の疎水性シリカ粒子からなる静電荷像現像用トナー外添剤」が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０００−３３０３２８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、従来、静電荷像現像剤（以下単に「現像剤」とも称する）におけるキャリアとして、芯材用結着樹脂（以下単に「芯材樹脂」とも称する）中に磁性体を含有する芯材（所謂磁性体分散型コア）の表面が、被覆層用樹脂（以下単に「被覆樹脂」とも称する）を含む被覆層（樹脂被覆層）で被覆されたキャリア（以下「磁性体分散型樹脂被覆キャリア」とも称す）が用いられている。磁性体分散型樹脂被覆キャリアの表面は、凹凸が少なくかつその起伏（高低差）も小さく、つまり滑らかに近い状態の表面を有するとの特性があり、例えばその表面粗さＲａは０．２５μｍ以上０．４μｍ以下である。この磁性体分散型樹脂被覆キャリアの表面にトナーから遊離したシリカ粒子が付着し、キャリアと他のキャリアとの間に介在した状態となると、キャリア抵抗の上昇を招くことがあり、その結果スタベーション（ＳＴＶ）と呼ばれる画像端における白抜けが生じることがある。
【０００６】
そこで、本発明の課題は、芯材樹脂及び前記芯材樹脂中に磁性体を含む芯材、並びに前記芯材を被覆し被覆樹脂を含む被覆層を有する磁性体分散型樹脂被覆キャリアと共に静電荷像現像剤に含ませる静電荷像現像用トナーとして、圧縮凝集度が６０％未満若しくは９５％超え、又は粒子圧縮比が０．２０未満若しくは０．４０超えのシリカ粒子のみを外添剤としてトナー粒子に外添したトナーのみを有する現像剤に比べ、画像における白抜けの発生を抑制する静電荷像現像剤を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題は、以下の手段により解決される。
【０００８】
＜１＞に係る発明は、
トナー粒子、及び前記トナー粒子に外添され、圧縮凝集度が６０％以上９５％以下、粒子圧縮比が０．２０以上０．４０以下であるシリカ粒子を含む外添剤を有する静電荷像現像用トナーと、
芯材用結着樹脂中に磁性体を含有する芯材、並びに該芯材の表面を被覆し被覆層用樹脂を含有し、且つ表面粗さＲａが０．２５μｍ以上０．４μｍ以下である被覆層を有する静電荷像現像用キャリアと、
を含む静電荷像現像剤。
【０００９】
＜２＞に係る発明は、
前記シリカ粒子の平均円相当径が４０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である＜１＞に記載の静電荷像現像剤。
【００１０】
＜３＞に係る発明は、
前記シリカ粒子の粒子分散度が９０％以上１００％以下である＜１＞又は＜２＞に記載の静電荷像現像剤。
【００１１】
＜４＞に係る発明は、
前記シリカ粒子が、粘度１０００ｃＳｔ以上５００００ｃＳｔ以下のシロキサン化合物により表面処理され、前記シロキサン化合物の表面付着量が０．０１質量％以上５質量％以下のシリカ粒子である＜１＞〜＜３＞のいずれか１項に記載の静電荷像現像剤。
【００１２】
＜５＞に係る発明は、
前記シロキサン化合物が、シリコーンオイルである＜４＞に記載の静電荷像現像剤。
【００１３】
＜６＞に係る発明は、
＜１＞〜＜５＞のいずれか１項に記載の静電荷像現像剤を収容し、
画像形成装置に着脱される現像剤カートリッジ。
【００１４】
＜７＞に係る発明は、
＜１＞〜＜５＞のいずれか１項に記載の静電荷像現像剤を収容し、前記静電荷像現像剤により、像保持体の表面に形成された静電荷像をトナー画像として現像する現像手段を備え、
画像形成装置に着脱されるプロセスカートリッジ。
【００１５】
＜８＞に係る発明は、
像保持体と、
前記像保持体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記像保持体の表面に静電荷像を形成する静電荷像形成手段と、
＜１＞〜＜５＞のいずれか１項に記載の静電荷像現像剤を収容し、前記静電荷像現像剤により、前記像保持体の表面に形成された静電荷像をトナー画像として現像する現像手段と、
前記像保持体の表面に形成されたトナー画像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
前記記録媒体の表面に転写されたトナー画像を定着する定着手段と、
を備える画像形成装置。
【００１６】
＜９＞に係る発明は、
像保持体の表面を帯電する帯電工程と、
帯電した前記像保持体の表面に静電荷像を形成する静電荷像形成工程と、
＜１＞〜＜５＞のいずれか１項に記載の静電荷像現像剤により、前記像保持体の表面に形成された静電荷像をトナー画像として現像する現像工程と、
前記像保持体の表面に形成されたトナー画像を記録媒体の表面に転写する転写工程と、
前記記録媒体の表面に転写されたトナー画像を定着する定着工程と、
を有する画像形成方法。
【発明の効果】
【００１７】
＜１＞、又は＜２＞に係る発明によれば、芯材樹脂及び前記芯材樹脂中に磁性体を含む芯材、並びに前記芯材を被覆し被覆樹脂を含む被覆層を有する磁性体分散型樹脂被覆キャリアと共に静電荷像現像剤に含ませる静電荷像現像用トナーとして、圧縮凝集度が６０％未満若しくは９５％超え、又は粒子圧縮比が０．２０未満若しくは０．４０超えのシリカ粒子のみを外添剤としてトナー粒子に外添したトナーのみを有する現像剤に比べ、画像における白抜けの発生を抑制する静電荷像現像剤が提供される。
＜３＞に係る発明によれば、シリカ粒子の粒子分散度が９０％未満の場合に比べ、画像における白抜けの発生を抑制する静電荷像現像剤が提供される。
＜４＞、又は＜５＞に係る発明によれば、芯材樹脂及び前記芯材樹脂中に磁性体を含む芯材、並びに前記芯材を被覆し被覆樹脂を含む被覆層を有する樹脂被覆キャリアと共に静電荷像現像剤に含ませる静電荷像現像用トナーとして、粘度１０００ｃＳｔ未満若しくは５００００ｃＳｔ超えのシロキサン化合物により表面処理されたシリカ粒子、又はシロキサン化合物の表面付着量が０．０１質量％未満若しくは５質量％超えのシリカ粒子のみを外添剤としてトナー粒子に外添したトナーのみを有する現像剤に比べ、画像における白抜けの発生を抑制する静電荷像現像剤が提供される。
【００１８】
＜６＞、＜７＞、＜８＞、又は＜９＞に係る発明によれば、芯材樹脂及び前記芯材樹脂中に磁性体を含む芯材、並びに前記芯材を被覆し被覆樹脂を含む被覆層を有する樹脂被覆キャリアと共に静電荷像現像剤に含ませる静電荷像現像用トナーとして、圧縮凝集度が６０％未満若しくは９５％超え、又は粒子圧縮比が０．２０未満若しくは０．４０超えのシリカ粒子のみを外添剤としてトナー粒子に外添したトナーのみを有する現像剤を適用した場合に比べ、画像における白抜けの発生を抑制する現像剤カートリッジ、プロセスカートリッジ、画像形成装置、又は画像形成方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】キャリアと他のキャリアとの間にシリカ粒子が介在した状態を示す模式図である。
【図２】本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
【図３】本実施形態に係るプロセスカートリッジの一例を示す概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明の一例である実施形態について説明する。
【００２１】
＜静電荷像現像剤＞
本実施形態に係る静電荷像現像剤は、トナー粒子、及び前記トナー粒子に外添される外添剤を有する静電荷像現像用トナー（以下単に「トナー」とも称する）と、静電荷像現像用キャリア（以下単に「キャリア」とも称する）と、を含む。
キャリアは、芯材樹脂（芯材用の結着樹脂）及び前記芯材樹脂中に磁性体を含む芯材、並びに前記芯材の表面を被覆し被覆樹脂（被覆層用の樹脂）を含有し、且つ表面粗さＲａが０．２５μｍ以上０．４μｍ以下である被覆層を有する。なお、芯材樹脂として用いられる結着樹脂と被覆樹脂として用いられる樹脂とは、同じ樹脂であっても異なる樹脂であってもよい。
外添剤は、圧縮凝集度が６０％以上９５％以下、粒子圧縮比が０．２０以上０．４０以下であるシリカ粒子（以下「特定シリカ粒子」とも称する）を含む。
【００２２】
本実施形態に係る現像剤では、前記の要件を満たすキャリアを用いる場合であっても、特定シリカ粒子をトナー粒子に外添することにより、画像における白抜け（スタベーション）の発生を抑制する。その理由は、次の通り推測される。
【００２３】
従来から、現像剤におけるキャリアとして、芯材樹脂中にマグネタイト等の磁性体が分散された芯材（所謂磁性体分散型コア）の表面が、被覆樹脂を含む被覆層（樹脂被覆層）で被覆されたキャリア（磁性体分散型樹脂被覆キャリア）が用いられている。なお、磁性体分散型樹脂被覆キャリアは、磁性体分散型コアが滑らかに近い状態の表面を備え、またその表面上に形成される樹脂被覆層も膜厚が均一に近い状態の膜となり、その結果表面において凹凸が少なくかつその起伏（高低差）も小さい、つまり滑らかに近い状態の表面を有するとの特性がある。具体的に本実施形態では、キャリア表面の表面粗さＲａが０．２５μｍ以上０．４μｍ以下である。
ここで、トナー粒子に外添されているシリカ粒子は、現像手段内での攪拌等による機械的負荷で、トナー粒子から遊離することがあり、トナーから遊離したシリカ粒子がキャリアの表面に付着することがある。磁性体分散型樹脂被覆キャリアは滑らかに近い状態の表面を有するとの特性から、遊離した外添剤が付着し難くかつ付着してもそのまま保持され難いという点で有利である。
一方で、図１に示すごとく、トナーから遊離したシリカ粒子５６がいったん磁性体分散型樹脂被覆キャリア５０Ａ、５０Ｂの表面に付着すると、このシリカ粒子５６が芯材５２の表面を被覆する樹脂被覆層５４に埋まり込み、キャリア５０Ａともう一方のキャリア５０Ｂとの間に介在した状態となることがある。磁性体分散型樹脂被覆キャリア５０Ａ及び５０Ｂは表面に凹凸が少なくかつその起伏（高低差）も小さいとの特性のため、両者の間にシリカ粒子５６が介在すると、このシリカ粒子５６を介した部分以外にキャリア５０Ａともう一方のキャリア５０Ｂとの間に他の接触点が形成され難い。そのため、キャリア５０Ａとキャリア５０Ｂとの接触による導電経路が形成されず、キャリア抵抗の上昇を招くことがあった。なお、キャリア抵抗が上昇すると、キャリアは帯電が過剰となり易い。その結果、濃度の高いベタ画像などを現像する際に、該ベタ画像の端部において現像されるべきトナーが、この過剰に帯電したキャリアを含む磁気ブラシによって静電的に掻き取られることがあり、スタベーション（ＳＴＶ）と呼ばれる画像端における白抜けが生じることがあった。
【００２４】
これに対し、圧縮凝集度及び粒子圧縮比が上記範囲を満たす特定シリカ粒子は、流動性及びトナー粒子への分散性が高く、かつ凝集性及びトナー粒子への付着性も高いという性質を有するシリカ粒子である。
【００２５】
ここで、シリカ粒子は、一般的に、流動性が良い半面、嵩密度が低いため、付着性が低く、凝集し難い性質を有する。
一方、シリカ粒子の流動性と共に、トナー粒子への分散性を高めることを目的として、疎水化処理剤を用いてシリカ粒子の表面を表面処理する技術が知られている。この技術によれば、シリカ粒子の流動性、及びトナー粒子への分散性は向上するが、凝集性は低いままである。
また、疎水化処理剤とシリコーンオイルとを併用してシリカ粒子の表面を表面処理する技術も知られている。この技術によれば、トナー粒子への付着性が向上すると共に、凝集性が向上する。しかし逆に、流動性及びトナー粒子への分散性は低下し易くなる。
つまり、シリカ粒子において、流動性及びトナー粒子への分散性と、凝集性及びトナー粒子への付着性は相反する関係にあると言える。
【００２６】
これに対し、特定シリカ粒子は、上述のように、圧縮凝集度及び粒子圧縮比を上記範囲とすることで、流動性、トナー粒子への分散性、凝集性及びトナー粒子への付着性の４つの特性が良好となる。
【００２７】
次に、特定シリカ粒子の圧縮凝集度及び粒子圧縮比を上記範囲とする意義について、順に説明する。
【００２８】
まず、特定シリカ粒子の圧縮凝集度を６０％以上９５％以下とする意義について説明する。
圧縮凝集度は、シリカ粒子の凝集性及びトナー粒子への付着性を示す指標となる。この指標は、シリカ粒子を圧縮することでシリカ粒子の成形体を得た後、このシリカ粒子の成形体を落下させた際の前記成形体のほぐれにくさの程度で示される。
よって、圧縮凝集度が高い程、シリカ粒子は、嵩密度が高まり易く、凝集力（分子間力）が強まる傾向があり、かつトナー粒子への付着力も強まる傾向があることを示す。なお、圧縮凝集度の算出方法の詳細については後述する。
このため、圧縮凝集度を６０％以上９５％以下と高く制御した特定シリカは、トナー粒子への付着性及び凝集性が良好となる。但し、トナー粒子への付着性及び凝集性を良好にしつつ、流動性及びトナー粒子への分散性を確保する観点から、圧縮凝集度の上限値は９５％としている。
【００２９】
次に、特定シリカ粒子の粒子圧縮比が０．２０以上０．４０以下であることの意義について説明する。
粒子圧縮比は、シリカ粒子の流動性を示す指標となる。具体的に、粒子圧縮比は、シリカ粒子の固め見掛け比重及びゆるみ見掛け比重の差と、固め見掛け比重との比（（固め見掛け比重−ゆるみ見掛け比重）／固め見掛け比重）で示される。
よって、粒子圧縮比が低い程、シリカ粒子は流動性が高いことを示す。また、流動性が高いと、トナー粒子への分散性も高まる傾向がある。なお、粒子圧縮比の算出方法の詳細については後述する。
このため、粒子圧縮比を０．２０以上０．４０以下と低く制御した特定シリカ粒子は、流動性及びトナー粒子への分散性が良好となる。但し、流動性及びトナー粒子への分散性を良好にしつつ、トナー粒子への付着性及び凝集性を向上させる観点から、粒子圧縮比の下限値を０．２０としている。
【００３０】
以上のことから、特定シリカ粒子は、流動、トナー粒子に分散しやすい上、さらに凝集力、トナー粒子への付着力が高いという特異な性質を有する。したがって、圧縮凝集度及び粒子圧縮比が上記範囲を満たす特定シリカ粒子は、流動性及びトナー粒子への分散性が高く、かつ凝集性及びトナー粒子への付着性も高いという性質を有するシリカ粒子となる。
【００３１】
次に、特定シリカ粒子をトナー粒子に外添したときの推定作用について説明する。
まず、特定シリカ粒子は、流動性及びトナー粒子への分散性が高いため、トナー粒子に外添すると、トナー粒子の表面に均一に近い状態で付着され易い。そして、一旦、トナー粒子に付着した特定シリカ粒子は、トナー粒子への付着性が高いため、現像手段内での攪拌等による機械的負荷では、トナー粒子からの遊離が生じ難くなる。その結果、磁性体分散型樹脂被覆キャリアへの遊離したシリカ粒子の付着も低減され、キャリアと他のキャリアとの間にシリカ粒子が介在した状態となることも低減される。その結果、キャリア間にシリカ粒子が介在することによるキャリア抵抗の上昇が抑制される。
【００３２】
また、特定シリカ粒子は、仮にトナー粒子から遊離し磁性体分散型樹脂被覆キャリアの表面に付着した場合でも、キャリアの表面では高い凝集性が発揮されて凝集し易く、そして凝集塊となることでキャリア表面から除去され易くなる。そのため、キャリア表面に付着したシリカ粒子はそのままキャリア表面に保持され難く、キャリアと他のキャリアとの間にシリカ粒子が介在した状態となることも低減される。その結果、キャリア間にシリカ粒子が介在することによるキャリア抵抗の上昇が抑制される。
【００３３】
以上から、本実施形態に係る現像剤は、画像における白抜け（スタベーション）の発生を抑制し得るものと推測される。
【００３４】
本実施形態に係る現像剤において、特定シリカ粒子は、さらに、粒子分散度が９０％以上１００％以下であることが好ましい。
【００３５】
ここで、特定シリカ粒子の粒子分散度が９０％以上１００％以下であることの意義について説明する。
粒子分散度は、シリカ粒子の分散性を示す指標となる。この指標は、一次粒子状態でのシリカ粒子のトナー粒子への分散のしやすさの程度で示される。具体的に、粒子分散度は、シリカ粒子によるトナー粒子表面への計算上の被覆率をＣ０とし、実測の被覆率をＣとしたとき、付着対象物への実測の被覆率Ｃと、計算上の被覆率Ｃ０との比（実測の被覆率Ｃ／計算上の被覆率Ｃ０）で示される。
よって、粒子分散度が高い程、シリカ粒子はトナー粒子表面で凝集しにくく、一次粒子の状態でトナー粒子に分散しやすいことを示す。なお、粒子分散度の算出方法の詳細については後述する。
【００３６】
特定シリカ粒子は、圧縮凝集度及び粒子圧縮比を上記範囲に制御しつつ、粒子分散度を９０％以上１００％以下と高く制御することで、トナー粒子への分散性がさらに良好となる。これにより、トナー粒子自体の流動性が高まり、かつ、その高い流動性が維持され易くなる。その結果、さらに、特定シリカ粒子は、トナー粒子の表面に均一に近い状態で付着され易くなり、トナー粒子からの遊離が生じ難くなり、磁性体分散型樹脂被覆キャリアへの遊離したシリカ粒子の付着も低減される。
【００３７】
本実施形態に係る現像剤において、上述のような、流動性及びトナー粒子への分散性が高く、かつ凝集性及びトナー粒子への付着性も高いという性質を有する特定シリカ粒子としては、比較的大きい重量平均分子量を持つシロキサン化合物が表面に付着したシリカ粒子が好適に挙げられる。具体的には、粘度が１０００ｃＳｔ以上５００００ｃＳｔ以下のシロキサン化合物が表面に付着（好ましくは表面付着量０．０１質量％以上５質量％以下で付着）したシリカ粒子が好適に挙げられる。この特定シリカ粒子は、例えば、粘度が１０００ｃＳｔ以上５００００ｃＳｔ以下のシロキサン化合物を用いて、表面付着量が０．０１質量％以上５質量％以下となるように、シリカ粒子の表面を表面処理する方法で得られる。
ここで、表面付着量は、シリカ粒子の表面を表面処理する前のシリカ粒子（未処理のシリカ粒子）に対する割合とする。以下、表面処理前のシリカ粒子（つまり未処理のシリカ粒子）を単に、「シリカ粒子」とも称する。
【００３８】
粘度が１０００ｃＳｔ以上５００００ｃＳｔ以下のシロキサン化合物を用いて、表面付着量が０．０１質量％以上５質量％以下となるように、シリカ粒子の表面を表面処理した特定シリカ粒子は、流動性及びトナー粒子への分散性と共に、凝集性及びトナー粒子への付着性も高まり、圧縮凝集度及び粒子圧縮比が上記要件を満たしやすくなる。そして、画像における白抜け（スタベーション）の発生が抑制され易くなる。この理由は定かではないが、以下に示す理由によるものと考えられる。
【００３９】
粘度が上記範囲である比較的高い粘性を有するシロキサン化合物を、シリカ粒子表面に上記範囲で少量付着させると、シリカ粒子表面のシロキサン化合物の特性に由来する機能が発現する。そのメカニズムは明確では無いが、シリカ粒子が流動しているときには、比較的高い粘性を有するシロキサン化合物が上記範囲で少量付着していることにより、シロキサン化合物に由来する離型性が発現し易くなるか、または、シロキサン化合物の立体障害による粒子間力の低減によりシリカ粒子同士の付着性が低減する。これにより、シリカ粒子の流動性及びトナー粒子への分散性がさらに高まる。
一方で、シリカ粒子が加圧されたときは、シリカ粒子表面のシロキサン化合物の長い分子鎖が絡み合い、シリカ粒子の最密充填性が高まり、シリカ粒子同士の凝集が強まる。そして、このシロキサン化合物の長い分子鎖が絡み合うことによるシリカ粒子の凝集力は、シリカ粒子を流動させると解除されると考えられる。これに加え、シリカ粒子表面のシロキサン化合物の長い分子鎖により、トナー粒子への付着力も高まる。
【００４０】
以上のことから、粘度が上記範囲のシロキサン化合物をシリカ粒子表面に上記範囲で少量付着させた特定シリカ粒子は、圧縮凝集度及び粒子圧縮比が上記要件を満たしやすくなり、粒子分散度も上記要件を満たしやすくなる。
【００４１】
以下、現像剤の構成について詳細に説明する。
【００４２】
（トナー）
・トナー粒子
トナー粒子は、例えば、結着樹脂と、必要に応じて、着色剤と、離型剤と、その他添加剤と、を含んで構成される。
【００４３】
−結着樹脂−
結着樹脂としては、例えば、スチレン類（例えばスチレン、パラクロロスチレン、α−メチルスチレン等）、（メタ）アクリル酸エステル類（例えばアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−プロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸ラウリル、アクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ｎ−プロピル、メタクリル酸ラウリル、メタクリル酸２−エチルヘキシル等）、エチレン性不飽和ニトリル類（例えばアクリロニトリル、メタクリロニトリル等）、ビニルエーテル類（例えばビニルメチルエーテル、ビニルイソブチルエーテル等）、ビニルケトン類（ビニルメチルケトン、ビニルエチルケトン、ビニルイソプロペニルケトン等）、オレフィン類（例えばエチレン、プロピレン、ブタジエン等）等の単量体の単独重合体、又はこれら単量体を２種以上組み合せた共重合体からなるビニル系樹脂が挙げられる。
結着樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、変性ロジン等の非ビニル系樹脂、これらと前記ビニル系樹脂との混合物、又は、これらの共存下でビニル系単量体を重合して得られるグラフト重合体等も挙げられる。
これらの結着樹脂は、１種類単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００４４】
結着樹脂としては、ポリエステル樹脂が好適である。
ポリエステル樹脂としては、例えば、公知のポリエステル樹脂が挙げられる。
【００４５】
ポリエステル樹脂としては、例えば、多価カルボン酸と多価アルコールとの縮重合体が挙げられる。なお、ポリエステル樹脂としては、市販品を使用してもよいし、合成したものを使用してもよい。
【００４６】
多価カルボン酸としては、例えば、脂肪族ジカルボン酸（例えばシュウ酸、マロン酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、イタコン酸、グルタコン酸、コハク酸、アルケニルコハク酸、アジピン酸、セバシン酸等）、脂環式ジカルボン酸（例えばシクロヘキサンジカルボン酸等）、芳香族ジカルボン酸（例えばテレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、ナフタレンジカルボン酸等）、これらの無水物、又はこれらの低級（例えば炭素数１以上５以下）アルキルエステルが挙げられる。これらの中でも、多価カルボン酸としては、例えば、芳香族ジカルボン酸が好ましい。
多価カルボン酸は、ジカルボン酸と共に、架橋構造又は分岐構造をとる３価以上のカルボン酸を併用してもよい。３価以上のカルボン酸としては、例えば、トリメリット酸、ピロメリット酸、これらの無水物、又はこれらの低級（例えば炭素数１以上５以下）アルキルエステル等が挙げられる。
多価カルボン酸は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００４７】
多価アルコールとしては、例えば、脂肪族ジオール（例えばエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等）、脂環式ジオール（例えばシクロヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタノール、水添ビスフェノールＡ等）、芳香族ジオール（例えばビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加物等）が挙げられる。これらの中でも、多価アルコールとしては、例えば、芳香族ジオール、脂環式ジオールが好ましく、より好ましくは芳香族ジオールである。
多価アルコールとしては、ジオールと共に、架橋構造又は分岐構造をとる３価以上の多価アルコールを併用してもよい。３価以上の多価アルコールとしては、例えば、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールが挙げられる。
多価アルコールは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００４８】
ポリエステル樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は、５０℃以上８０℃以下が好ましく、５０℃以上６５℃以下がより好ましい。
なお、ガラス転移温度は、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）により得られたＤＳＣ曲線より求め、より具体的にはＪＩＳ  Ｋ  ７１２１−１９８７「プラスチックの転移温度測定方法」のガラス転移温度の求め方に記載の「補外ガラス転移開始温度」により求められる。
【００４９】
ポリエステル樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、５０００以上１００００００以下が好ましく、７０００以上５０００００以下がより好ましい。
ポリエステル樹脂の数平均分子量（Ｍｎ）は、２０００以上１０００００以下が好ましい。
ポリエステル樹脂の分子量分布Ｍｗ／Ｍｎは、１．５以上１００以下が好ましく、２以上６０以下がより好ましい。
なお、重量平均分子量及び数平均分子量は、ゲルパーミュエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）により測定する。ＧＰＣによる分子量測定は、測定装置として東ソー製ＧＰＣ・ＨＬＣ−８１２０ＧＰＣを用い、東ソー製カラム・ＴＳＫｇｅｌ  ＳｕｐｅｒＨＭ−Ｍ（１５ｃｍ）を使用し、ＴＨＦ溶媒で行う。重量平均分子量及び数平均分子量は、この測定結果から単分散ポリスチレン標準試料により作成した分子量校正曲線を使用して算出する。
【００５０】
ポリエステル樹脂は、周知の製造方法により得られる。具体的には、例えば、重合温度を１８０℃以上２３０℃以下とし、必要に応じて反応系内を減圧にし、縮合の際に発生する水やアルコールを除去しながら反応させる方法により得られる。
なお、原料の単量体が、反応温度下で溶解又は相溶しない場合は、高沸点の溶剤を溶解補助剤として加え溶解させてもよい。この場合、重縮合反応は溶解補助剤を留去しながら行う。相溶性の悪い単量体が存在する場合は、あらかじめ相溶性の悪い単量体とその単量体と重縮合予定の酸又はアルコールとを縮合させておいてから主成分と共に重縮合させるとよい。
【００５１】
結着樹脂の含有量としては、例えば，トナー粒子全体に対して、４０質量％以上９５質量％以下が好ましく、５０質量％以上９０質量％以下がより好ましく、６０質量％以上８５質量％以下がさらに好ましい。
【００５２】
−着色剤−
着色剤としては、例えば、カーボンブラック、クロムイエロー、ハンザイエロー、ベンジジンイエロー、スレンイエロー、キノリンイエロー、ピグメントイエロー、パーマネントオレンジＧＴＲ、ピラゾロンオレンジ、バルカンオレンジ、ウオッチヤングレッド、パーマネントレッド、ブリリアントカーミン３Ｂ、ブリリアントカーミン６Ｂ、デュポンオイルレッド、ピラゾロンレッド、リソールレッド、ローダミンＢレーキ、レーキレッドＣ、ピグメントレッド、ローズベンガル、アニリンブルー、ウルトラマリンブルー、カルコオイルブルー、メチレンブルークロライド、フタロシアニンブルー、ピグメントブルー、フタロシアニングリーン、マラカイトグリーンオキサレートなどの種々の顔料、又は、アクリジン系、キサンテン系、アゾ系、ベンゾキノン系、アジン系、アントラキノン系、チオインジコ系、ジオキサジン系、チアジン系、アゾメチン系、インジコ系、フタロシアニン系、アニリンブラック系、ポリメチン系、トリフェニルメタン系、ジフェニルメタン系、チアゾール系などの各種染料等が挙げられる。
着色剤は、１種類単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００５３】
着色剤は、必要に応じて表面処理された着色剤を用いてもよく、分散剤と併用してもよい。また、着色剤は、複数種を併用してもよい。
【００５４】
着色剤の含有量としては、例えば、トナー粒子全体に対して、１質量％以上３０質量％以下が好ましく、３質量％以上１５質量％以下がより好ましい。
【００５５】
−離型剤−
離型剤としては、例えば、炭化水素系ワックス；カルナバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス等の天然ワックス；モンタンワックス等の合成又は鉱物・石油系ワックス；脂肪酸エステル、モンタン酸エステル等のエステル系ワックス；などが挙げられる。離型剤は、これに限定されるものではない。
【００５６】
離型剤の融解温度は、５０℃以上１１０℃以下が好ましく、６０℃以上１００℃以下がより好ましい。
なお、融解温度は、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）により得られたＤＳＣ曲線から、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２１−１９８７「プラスチックの転移温度測定方法」の融解温度の求め方に記載の「融解ピーク温度」により求める。
【００５７】
離型剤の含有量としては、例えば、トナー粒子全体に対して、１質量％以上２０質量％以下が好ましく、５質量％以上１５質量％以下がより好ましい。
【００５８】
−その他の添加剤−
その他の添加剤としては、例えば、磁性体、帯電制御剤、無機粉体等の周知の添加剤が挙げられる。これらの添加剤は、内添剤としてトナー粒子に含まれる。
【００５９】
−トナー粒子の特性等−
トナー粒子は、単層構造のトナー粒子であってもよいし、芯部（コア粒子）と芯部を被覆する被覆層（シェル層）とで構成された所謂コア・シェル構造のトナー粒子であってもよい。
ここで、コア・シェル構造のトナー粒子は、例えば、結着樹脂と必要に応じて着色剤及び離型剤等のその他添加剤とを含んで構成された芯部と、結着樹脂を含んで構成された被覆層と、で構成されていることがよい。
【００６０】
トナー粒子の体積平均粒径（Ｄ５０ｖ）としては、２μｍ以上１０μｍ以下が好ましく、４μｍ以上８μｍ以下がより好ましい。
【００６１】
なお、トナー粒子の各種平均粒径、及び各種粒度分布指標は、コールターマルチサイザーII（ベックマン・コールター社製）を用い、電解液はＩＳＯＴＯＮ−II（ベックマン・コールター社製）を使用して測定される。
測定に際しては、分散剤として、界面活性剤（アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウムが好ましい）の５％水溶液２ｍｌ中に測定試料を０．５ｍｇ以上５０ｍｇ以下加える。これを電解液１００ｍｌ以上１５０ｍｌ以下中に添加する。
試料を懸濁した電解液は超音波分散器で１分間分散処理を行い、コールターマルチサイザーIIにより、アパーチャー径として１００μｍのアパーチャーを用いて２μｍ以上６０μｍ以下の範囲の粒径の粒子の粒度分布を測定する。なお、サンプリングする粒子数は５００００個である。
測定される粒度分布を基にして分割された粒度範囲（チャンネル）に対して体積、数をそれぞれ小径側から累積分布を描いて、累積１６％となる粒径を体積粒径Ｄ１６ｖ、数粒径Ｄ１６ｐ、累積５０％となる粒径を体積平均粒径Ｄ５０ｖ、累積数平均粒径Ｄ５０ｐ、累積８４％となる粒径を体積粒径Ｄ８４ｖ、数粒径Ｄ８４ｐと定義する。
これらを用いて、体積平均粒度分布指標（ＧＳＤｖ）は（Ｄ８４ｖ／Ｄ１６ｖ）１／２、数平均粒度分布指標（ＧＳＤｐ）は（Ｄ８４ｐ／Ｄ１６ｐ）１／２として算出される。
【００６２】
トナー粒子の形状係数ＳＦ１としては、１１０以上１５０以下が好ましく、１２０以上１４０以下がより好ましい。
【００６３】
なお、形状係数ＳＦ１は、下記式により求められる。
式：ＳＦ１＝（ＭＬ２／Ａ）×（π／４）×１００
上記式中、ＭＬはトナーの絶対最大長、Ａはトナーの投影面積を各々示す。
具体的には、形状係数ＳＦ１は、主に顕微鏡画像又は走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）画像を画像解析装置を用いて解析することによって数値化され、以下のようにして算出される。すなわち、スライドガラス表面に散布した粒子の光学顕微鏡像をビデオカメラによりルーゼックス画像解析装置に取り込み、１００個の粒子の最大長と投影面積を求め、上記式によって計算し、その平均値を求めることにより得られる。
【００６４】
・外添剤
トナーにおける外添剤は、特定シリカ粒子を含む。外添剤は、特定シリカ粒子以外の他の外添剤を含んでもよい。つまり、トナー粒子は、特定シリカ粒子のみ外添されていてもよいし、特定シリカ粒子と他の外添剤とが外添されていてもよい。
【００６５】
［特定シリカ粒子］
−圧縮凝集度−
特定シリカ粒子の圧縮凝集度は、６０％以上９５％以下であるが、特定シリカ粒子における、凝集性及びトナー粒子への付着性を良好にしつつ、流動性及びトナー粒子への分散性を確保する観点（特に、画像における白抜け（スタベーション）の発生抑制の観点）から、好ましくは７０％以上９５％以下、より好ましくは８０％以上９５％以下である。
【００６６】
圧縮凝集度は、以下に示す方法により算出される。
直径６ｃｍ、円盤状（ディスク状）の金型に、特定シリカ粒子を６．０ｇ充填する。次いで、圧縮成型機（前川試験機製作所社製）を用いて圧力５．０ｔ／ｃｍ２で金型を６０秒圧縮し、圧縮された円盤状の特定シリカ粒子の成形体（以下、「落下前の成形体」と称する）を得る。その後、落下前の成形体の質量を測定する。
次いで、落下前の成形体を目開き６００μｍのふるい網上に配置し、振動ふるい機（筒井理化学器械社製：品番ＶＩＢＲＡＴＩＮＧ  ＭＶＢ−１）により、落下前の成形体を振幅１ｍｍ、振動時間１分の条件下で落下させる。これにより、落下前の成形体から前記ふるい網を介して特定シリカ粒子が落下し、前記ふるい網上に特定シリカ粒子の成形体が残存する。その後、残存した特定シリカ粒子の成形体（以下、「落下後の成形体」と称する）の質量を測定する。
そして、以下の式（１）を用いて、落下後の成形体の質量と落下前の成形体の質量との比から、圧縮凝集度を算出する。
・式（１）：圧縮凝集度＝（落下後の成形体の質量／落下前の成形体の質量）×１００
【００６７】
−粒子圧縮比−
特定シリカ粒子の粒子圧縮比は、０．２０以上０．４０以下であるが、特定シリカ粒子における、凝集性及びトナー粒子への付着性を良好にしつつ、流動性及びトナー粒子への分散性を確保する観点（特に、画像における白抜け（スタベーション）の発生抑制の観点）から、好ましくは０．２４以上０．３８以下、より好ましくは０．２８以上０．３６以下である。
【００６８】
粒子圧縮比は、以下に示す方法により算出される。
パウダーテスター（ホソカワミクロン社製、品番ＰＴ−Ｓ型）を用いて、シリカ粒子のゆるみ見掛け比重と固め見掛け比重とを測定する。そして、以下の式（２）を用いて、シリカ粒子の固め見掛け比重及びゆるみ見掛け比重の差と、固め見掛け比重との比から粒子圧縮比を算出する。
・式（２）：粒子圧縮比＝（固め見掛け比重−ゆるみ見掛け比重）／固め見掛け比重
【００６９】
なお、「ゆるみ見掛け比重」とは、容量が１００ｃｍ３の容器へシリカ粒子を充填し、秤量することで導き出される測定値であって、特定シリカ粒子を容器中に自然落下させた状態の充填比重をいう。「固め見掛け比重」とは、ゆるみ見掛け比重の状態から、ストローク長１８ｍｍ、タッピング速度５０回／分で、１８０回繰り返し容器底部に衝撃を与える（タッピング）ことにより、脱気され、特定シリカ粒子が再配列し、より密に充填された、見掛け比重をいう。
【００７０】
−粒子分散度−
特定シリカ粒子の粒子分散度は、トナー粒子への分散性をさらに良好にする観点（特に、画像における白抜け（スタベーション）の発生抑制の観点）から、好ましくは９０％以上１００％以下であり、より好ましくは９５％以上１００％以下であり、さらに好ましくは１００％である。
【００７１】
粒子分散度とは、トナー粒子への実測の被覆率Ｃと、計算上の被覆率Ｃ０との比であり、以下の式（３）を用いて算出される。
・式（３）：粒子分散度＝実測の被覆率Ｃ／計算上の被覆率Ｃ０
【００７２】
ここで、特定シリカ粒子によるトナー粒子表面への計算上の被覆率Ｃ０は、トナー粒子の体積平均粒径をｄｔ（ｍ）、特定シリカ粒子の平均円相当径をｄａ（ｍ）、トナー粒子の比重をρｔ、特定シリカ粒子の比重をρａ、トナー粒子の重量をＷｔ（ｋｇ）、特定シリカ粒子の添加量をＷａ（ｋｇ）としたとき、下記式（３−１）で算出することができる。
・式（３−１）：計算上の被覆率Ｃ０＝√３／（２π）×（ρｔ／ρａ）×（ｄｔ／ｄａ）×（Ｗａ／Ｗｔ）×１００（％）
【００７３】
特定シリカ粒子によるトナー粒子表面への実測の被覆率Ｃは、Ｘ線光電子分光装置（ＸＰＳ）（「ＪＰＳ−９０００ＭＸ」：日本電子（株）製）により、トナー粒子のみ、特定シリカ粒子のみ、及び特定シリカ粒子が被覆（付着）したトナー粒子について、それぞれ特定シリカ粒子に由来するケイ素原子のシグナル強度を測定し、下記式（３−２）で算出することができる。
【００７４】
・式（３−２）：実測の被覆率Ｃ＝（ｚ−ｘ）／（ｙ−ｘ）×１００（％）
（式（３−２）中、ｘは、トナー粒子のみの特定シリカ粒子に由来するケイ素原子のシグナル強度を示す。ｙは、特定シリカ粒子のみの特定シリカ粒子に由来するケイ素原子のシグナル強度を示す。ｚは、特定シリカ粒子が被覆（付着）したトナー粒子についての特定シリカ粒子に由来するケイ素原子のシグナル強度を示す。）
【００７５】
−平均円相当径−
特定シリカ粒子の平均円相当径は、特定シリカ粒子における、流動性、トナー粒子への分散性、凝集性、及びトナー粒子への付着性を良好にする観点（特に、画像における白抜け（スタベーション）の発生抑制の観点）から、４０ｎｍ以上２００ｎｍ以下が好ましく、５０ｎｍ以上１８０ｎｍ以下がより好ましく、６０ｎｍ以上１６０ｎｍ以下がさらに好ましい。
【００７６】
特定シリカ粒子の平均円相当径Ｄ５０は、トナー粒子に特定シリカ粒子を外添させた後の一次粒子を、走査型電子顕微鏡ＳＥＭ（Ｓｃａｎｎｉｎｇ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）装置（（株）日立製作所製：Ｓ−４１００）により観察して画像を撮影し、この画像を画像解析装置（ＬＵＺＥＸＩＩＩ、（株）ニレコ製）に取り込み、一次粒子の画像解析によって粒子ごとの面積を測定し、この面積値から円相当径を算出する。得られた円相当径の体積基準の累積頻度における５０％径（Ｄ５０）を特定シリカ粒子の平均円相当径Ｄ５０とする。なお、電子顕微鏡は１視野中に特定シリカ粒子が１０個以上５０個以下程度写るように倍率が調整され、複数視野の観察を合わせて一次粒子の円相当径が求められる。
【００７７】
−平均円形度−
特定シリカ粒子の形状は、球形状、異形状のいずれであってもよいが、特定シリカ粒子の平均円形度は、特定シリカ粒子における、流動性、トナー粒子への分散性、凝集性、及びトナー粒子への付着性を良好にする観点（特に、画像における白抜け（スタベーション）の発生抑制の観点）から、０．８５以上０．９８以下が好ましく、０．９０以上０．９８以下がより好ましく、０．９３以上０．９８以下がさらに好ましい。
【００７８】
特定シリカ粒子の平均円形度は、以下に示す方法により測定される。
まず、特定シリカ粒子の円形度は、トナー粒子にシリカ粒子を外添させた後の一次粒子を、ＳＥＭ装置により観察し、得られた一次粒子の平面画像解析から、下記式により算出される「１００／ＳＦ２」として得られる。
・式：円形度（１００／ＳＦ２）＝４π×（Ａ／Ｉ２）
〔式中、Ｉは画像上における一次粒子の周囲長を示し、Ａは一次粒子の投影面積を表す。〕
そして、特定シリカ粒子の平均円形度は、上記平面画像解析によって得られた一次粒子１００個の円形度の累積頻度における５０％円形度として得られる。
【００７９】
ここで、トナーから、特定シリカ粒子の各特性（圧縮凝集度、粒子圧縮比、粒子分散度、平均円形度）を測定する方法について説明する。
まず、トナーから外添剤（特定シリカ粒子）を次のように分離する。メタノール中にトナーを入れて分散させ、撹拌後、超音波バスにて処理することで、トナーから外添剤を分離することができる。その分離のしやすさは外添剤の粒径・比重により決まり、超音波処理条件を調整することで特定シリカ粒子を分離することができる。それらを、遠心分離によってトナー粒子を沈降させて外添剤を分散したメタノールのみを回収し、その後、メタノールを揮発させることで特定シリカ粒子を取り出すことができる。そして、分離した特定シリカ粒子を用いて、上記各特性を測定する。
【００８０】
以下、特定シリカ粒子の構成について詳細に説明する。
【００８１】
−特定シリカ粒子−
特定シリカ粒子は、シリカ（即ちＳｉＯ２）を主成分とする粒子であり、結晶性でも非晶性でもよい。特定シリカ粒子は、水ガラスやアルコキシシラン等のケイ素化合物を原料に製造された粒子であってもよいし、石英を粉砕して得られる粒子であってもよい。
特定シリカ粒子として、具体的には、ゾルゲル法で作製されるシリカ粒子（以下「ゾルゲルシリカ粒子」）、水性コロイダルシリカ粒子、アルコール性シリカ粒子、気相法により得られるフュームドシリカ粒子、溶融シリカ粒子等が挙げられ、これらの中でも、ゾルゲルシリカ粒子が好ましい。
【００８２】
−表面処理−
特定シリカ粒子は、圧縮凝集度、粒子圧縮比、及び粒子分散度を上記特定の範囲とするためには、シロキサン化合物により表面処理されていることが好ましい。
表面処理方法としては、超臨界二酸化炭素を利用し、超臨界二酸化炭素中でシリカ粒子の表面を表面処理することが好ましい。なお、表面処理方法については後述する。
【００８３】
−シロキサン化合物−
シロキサン化合物としては、分子構造中にシロキサン骨格を有するものであれば特に制限されない。
シロキサン化合物としては、例えば、シリコーンオイル、シリコーン樹脂が挙げられる。これらの中でも、シリカ粒子表面を均一に近い状態で表面処理する観点から、シリコーンオイルが好ましい。
【００８４】
シリコーンオイルとしては、例えば、ジメチルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、アミノ変性シリコーンオイル、エポキシ変性シリコーンオイル、カルボキシル変性シリコーンオイル、カルビノール変性シリコーンオイル、メタクリル変性シリコーンオイル、メルカプト変性シリコーンオイル、フェノール変性シリコーンオイル、ポリエーテル変性シリコーンオイル、メチルスチリル変性シリコーンオイル、アルキル変性シリコーンオイル、高級脂肪酸エステル変性シリコーンオイル、高級脂肪酸アミド変性シリコーンオイル、フッ素変性シリコーンオイル等が挙げられる。中でも、ジメチルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイル、アミノ変性シリコーンオイルが好ましい。
上記シロキサン化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種以上併用してもよい。
【００８５】
−粘度−
シロキサン化合物の粘度（動粘度）は、特定シリカ粒子における、流動性、トナー粒子への分散性、凝集性、及びトナー粒子への付着性を良好にする観点（特に、画像における白抜け（スタベーション）の発生抑制の観点）から、１０００ｃＳｔ以上５００００ｃＳｔ以下が好ましく、２０００ｃＳｔ以上３００００ｃＳｔ以下がより好ましく、３０００ｃＳｔ以上１００００ｃＳｔ以下がさらに好ましい。
シロキサン化合物の粘度は次の手順で求められる。特定シリカ粒子にトルエンを加え超音波分散機で３０分間分散させる。その後、上澄みを回収する。このとき１ｇ／１００ｍｌ濃度のシロキサン化合物のトルエン溶液とする。このときの比粘度〔ηｓｐ〕(２５℃)を下記式（Ａ）により求める。
【００８６】
・式（Ａ）：ηｓｐ＝（η/η０）−１
（η０：トルエンの粘度、η：溶液の粘度）
【００８７】
次に、比粘度〔ηｓｐ〕を下記式（Ｂ）に示すＨｕｇｇｉｎｓの関係式に代入し、固有粘度〔η〕を求める。
・式（Ｂ）：ηｓｐ＝〔η〕+Ｋ’〔η〕２
（Ｋ’：Ｈｕｇｇｉｎｓの定数  Ｋ’＝０．３(〔η〕＝１〜３の適応時)）
【００８８】
次に、固有粘度〔η〕を下記式（Ｃ）に示すＡ．Ｋｏｌｏｒｌｏｖの式に代入し、分子量Ｍを求める。
・式（Ｃ）：〔η〕＝０．２１５×１０−４Ｍ０．６５
【００８９】
分子量Ｍを下記式（Ｄ）に示すＡ.Ｊ.Ｂａｒｒｙの式に代入してシロキサン粘度〔η〕を求める。
・式（Ｄ）：ｌｏｇη＝１．００＋０．０１２３Ｍ０．５
【００９０】
−表面付着量−
シロキサン化合物の特定シリカ粒子表面への表面付着量は、特定シリカ粒子における、流動性、トナー粒子への分散性、凝集性、及びトナー粒子への付着性を良好にする観点（特に、画像における白抜け（スタベーション）の発生抑制の観点）から、シリカ粒子（表面処理前のシリカ粒子）に対して、０．０１質量％以上５質量％以下が好ましく、０．０５質量％以上３質量％以下がより好ましく、０．１０質量％以上２質量％以下がさらに好ましい。
表面付着量は、以下に示す方法により測定される。
特定シリカ粒子１００ｍｇを、クロロホルム１ｍＬ中に分散し、内部標準液としてＤＭＦ（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）を１μＬ加えた後、超音波洗浄機で３０分間超音波処理し、クロロホルム溶媒中へシロキサン化合物の抽出を行う。その後ＪＮＭ−ＡＬ４００型核磁気共鳴装置（日本電子株式会社製）で水素核スペクトル測定を行い、ＤＭＦ由来ピーク面積に対するシロキサン化合物由来ピーク面積の比からシロキサン化合物の量を得る。そして、このシロキサン化合物の量から表面付着量を得る。
【００９１】
ここで、特定シリカ粒子は、粘度１０００ｃＳｔ以上５００００ｃＳｔ以下のシロキサン化合物により表面処理され、かつ、シロキサン化合物のシリカ粒子表面への表面付着量が０．０１質量％以上５質量％以下であることが好ましい。
上記要件を満たすことで、流動性及びトナー粒子への分散性が良好であると共に、凝集性及びトナー粒子への付着性が向上した特定シリカ粒子が得られ易くなる。
【００９２】
−外添量−
特定シリカ粒子の外添量（含有量）は、画像における白抜け（スタベーション）の発生の抑制の観点から、トナー粒子に対して、０．１質量％以上６．０質量％以下が好ましく、０．３質量％以上４．０質量％以下がより好ましく、０．５質量％以上２．５質量％以下が更に好ましい。
【００９３】
［特定シリカ粒子の製造方法］
特定シリカ粒子は、シリカ粒子に対して、表面付着量が０．０１質量％以上５質量％以下となるように、粘度１０００ｃＳｔ以上５００００ｃＳｔ以下のシロキサン化合物により、シリカ粒子の表面を表面処理することで得られる。
特定シリカ粒子の製造方法によれば、流動性及びトナー粒子への分散性が良好であると共に、凝集性及びトナー粒子への付着性が向上したシリカ粒子が得られる。
【００９４】
前記表面処理方法としては、超臨界二酸化炭素中で、シロキサン化合物によりシリカ粒子の表面を表面処理する方法；大気中で、シロキサン化合物によりシリカ粒子の表面を表面処理する方法；が挙げられる。
【００９５】
前記表面処理方法としては、具体的に、例えば、超臨界二酸化炭素を利用して、超臨界二酸化炭素中にシロキサン化合物を溶解させて、シリカ粒子表面にシロキサン化合物を付着させる方法；大気中において、シロキサン化合物とシロキサン化合物を溶解する溶媒とを含む溶液をシリカ粒子表面に付与（例えば噴霧、塗布）して、シリカ粒子表面にシロキサン化合物を付着させる方法；大気中において、シリカ粒子分散液にシロキサン化合物とシロキサン化合物を溶解する溶媒とを含む溶液を添加して保持した後、シリカ粒子分散液及び前記溶液の混合溶液を乾燥させる方法；が挙げられる。
【００９６】
中でも、前記表面処理方法としては、超臨界二酸化炭素を利用して、シリカ粒子表面にシロキサン化合物を付着させる方法が好ましい。
前記表面処理を超臨界二酸化炭素中で行うと、超臨界二酸化炭素中にシロキサン化合物が溶解した状態となる。超臨界二酸化炭素は界面張力が低いという特性を持つことから、超臨界二酸化炭素中に溶解した状態のシロキサン化合物は、超臨界二酸化炭素と共に、シリカ粒子の表面の孔部の深くまで拡散して到達し易くなるものと考えられ、シリカ粒子の表面のみならず、孔部の奥深くまで、シロキサン化合物による表面処理がなされると考えられる。
このため、超臨界二酸化炭素中でシロキサン化合物により表面処理されたシリカ粒子は、シロキサン化合物により表面が均一に近い状態（例えば薄膜状に表面処理層が形成されている状態）に処理されたシリカ粒子になると考えられる。
【００９７】
また、特定シリカ粒子の製造方法では、超臨界二酸化炭素中でシロキサン化合物と共に疎水化処理剤を用いてシリカ粒子の表面に疎水性を付与する表面処理を行ってもよい。
この場合、超臨界二酸化炭素中にシロキサン化合物と共に疎水化処理剤が溶解した状態となり、超臨界二酸化炭素中に溶解した状態のシロキサン化合物及び疎水化処理剤は、超臨界二酸化炭素と共に、シリカ粒子の表面の孔部の深くまで拡散して到達し易くなるものと考えられ、シリカ粒子の表面のみならず、孔部の奥深くまで、シロキサン化合物及び疎水化処理剤による表面処理がなされると考えられる。
この結果、超臨界二酸化炭素中でシロキサン化合物及び疎水化処理剤により表面処理されたシリカ粒子は、シロキサン化合物及び疎水化処理剤により表面が均一に近い状態に処理されると共に、高い疎水性が付与され易くなる。
【００９８】
また、特定シリカ粒子の製造方法では、シリカ粒子の他の製造過程（例えば、溶媒除去工程等）において、超臨界二酸化炭素を利用してもよい。
他の製造過程において超臨界二酸化炭素を利用する特定シリカ粒子の製造方法としては、例えば、ゾルゲル法によって、シリカ粒子とアルコール及び水を含む溶媒とを含有するシリカ粒子分散液を準備する工程（以下、「分散液準備工程」と称する）と、超臨界二酸化炭素を流通させ、シリカ粒子分散液から溶媒を除去する工程（以下、「溶媒除去工程」と称する）と、超臨界二酸化炭素中で、溶媒を除去した後のシリカ粒子の表面をシロキサン化合物により表面処理する工程（以下、「表面処理工程」と称する）と、を有するシリカ粒子の製造方法が挙げられる。
【００９９】
シリカ粒子分散液からの溶媒除去を、超臨界二酸化炭素を利用して行うと、粗粉の発生が抑えられ易くなる。
この理由は定かではないが、１）シリカ粒子分散液の溶媒を除去する場合、超臨界二酸化炭素が「界面張力が働かない」という性質から、溶媒を除去する際の液架橋力による粒子同士の凝集もなく溶媒を除去できるものと考えられる点、２）超臨界二酸化炭素の「臨界点以上の温度・圧力下においた状態の二酸化炭素であり、気体の拡散性と液体の溶解性との双方を持つ」といった性質により、比較的低温（例えば２５０℃以下）で、超臨界二酸化炭素に効率良く接触し、溶媒を溶解することから、この溶媒を溶解した超臨界二酸化炭素を除去することで、シラノール基の縮合による２次凝集体等の粗粉を生じることなくシリカ粒子分散液中の溶媒を除去できるものと考えられる点、等が理由として考えられる。
【０１００】
ここで、溶媒除去工程、及び表面処理工程は、個別に行なってもよいが、連続（つまり大気圧下に開放しない状態で各工程を実施）して行うことが好ましい。これら各工程を連続して行うことと、溶媒除去工程後において、シリカ粒子が水分を吸着する機会を無くし、シリカ粒子への過剰な水分の吸着が抑えられた状態で、表面処理工程を行える。これにより、大量のシロキサン化合物を使用したり、過剰な加熱を行い高温で、溶媒除去工程及び表面処理工程を行う必要がなくなる。その結果、より効果的に、粗粉の発生が抑えられ易くなる。
【０１０１】
以下、特定シリカ粒子の製造方法の詳細について、各工程別に詳細に説明する。
なお、特定シリカ粒子の製造方法は、これに限られるわけではなく、例えば、１）表面処理工程のみ超臨界二酸化炭素を使用する態様、２）各工程を個別に行う態様等であってもよい。
【０１０２】
以下、各工程について詳細に説明する。
【０１０３】
−分散液準備工程−
分散液準備工程では、例えば、シリカ粒子とアルコール及び水を含む溶媒とを含有するシリカ粒子分散液を準備する。
具体的には、分散液準備工程は、例えば、湿式（例えば、ゾルゲル法等）によりシリカ粒子分散液を作製して、これを準備する。特に、シリカ粒子分散液は、湿式としてゾルゲル法、具体的には、テトラアルコキシシランを、アルコール及び水の溶媒にアルカリ触媒存在下で、反応（加水分解反応、縮合反応）を生じさせてシリカ粒子を生成し、シリカ粒子分散液を作製することがよい。
【０１０４】
なお、シリカ粒子の平均円相当径の好ましい範囲、及び平均円形度の好ましい範囲は既述のとおりである。
分散液準備工程において、例えば、シリカ粒子を湿式により得る場合、シリカ粒子が溶媒に分散された分散液（シリカ粒子分散液）の状態で得られる。
【０１０５】
ここで、溶媒除去工程に移行する際、準備するシリカ粒子分散液は、そのアルコールに対する水の質量比が例えば０．０５以上１．０以下であることがよく、好ましくは０．０７以上０．５以下、より好ましくは０．１以上０．３以下である。
シリカ粒子分散液において、そのアルコールに対する水の質量比を上記範囲とすると、表面処理後にシリカ粒子の粗粉の発生が少なく、良好な電気抵抗を有するシリカ粒子が得られ易くなる。
アルコールに対する水の質量比が０．０５を下回ると、溶媒除去工程において、溶媒を除去する際のシリカ粒子表面のシラノール基の縮合が少なくなることから、溶媒除去後のシリカ粒子表面への吸着水分が多くなることで、表面化処理後のシリカ粒子の電気抵抗が低くなり過ぎることがある。また、水の質量比が１．０を超えると、溶媒除去工程において、シリカ粒子分散液中の溶媒除去の終点付近で水が多く残留し、液架橋力によるシリカ粒子同士の凝集が生じ易く、表面処理後に粗粉として存在することがある。
【０１０６】
また、溶媒除去工程に移行する際、準備するシリカ粒子分散液は、そのシリカ粒子に対する水の質量比が例えば０．０２以上３以下であることがよく、好ましくは０．０５以上１以下、より好ましくは０．１以上０．５以下である。
シリカ粒子分散液において、そのシリカ粒子に対する水の質量比を上記範囲とすると、シリカ粒子の粗粉の発生が少なく、良好な電気抵抗を有するシリカ粒子が得られ易くなる。
シリカ粒子に対する水の質量比が０．０２を下回ると、溶媒除去工程において、溶媒を除去する際のシリカ粒子表面のシラノール基の縮合が極端に少なくなることから、溶媒除去後のシリカ粒子表面への吸着水分が多くなることで、シリカ粒子の電気抵抗が低くなり過ぎることがある。
また、水の質量比が３を超えると、溶媒除去工程において、シリカ粒子分散液中の溶媒除去の終点付近で水が多く残留し、液架橋力によるシリカ粒子同士の凝集が生じ易くなることがある。
【０１０７】
また、溶媒除去工程に移行する際、準備するシリカ粒子分散液は、当該シリカ粒子分散液に対するシリカ粒子の質量比が例えば０．０５以上０．７以下がよく、好ましくは０．２以上０．６５以下、より好ましくは０．３以上０．６以下である。
シリカ粒子分散液に対するシリカ粒子の質量比が０．０５を下回ると、溶媒除去工程において、使用する超臨界二酸化炭素の量が多くなり、生産性が悪くなってしまうことがある。
また、シリカ粒子分散液に対するシリカ粒子の質量比が０．７を超えると、シリカ粒子分散液中においてシリカ粒子間距離が近くなり、シリカ粒子の凝集やゲル化による粗粉が発生し易くなることがある。
【０１０８】
−溶媒除去工程−
溶媒除去工程は、例えば、超臨界二酸化炭素を流通させ、シリカ粒子分散液の溶媒を除去する工程である。
つまり、溶媒除去工程では、超臨界二酸化炭素を流通させることにより、超臨界二酸化炭素をシリカ粒子分散液に接触させて、溶媒を除去する工程である。
具体的には、溶媒除去工程では、例えば、密閉反応器内に、シリカ粒子分散液を投入する。その後、密閉反応器内に、液化二酸化炭素を加えて加熱し、高圧ポンプにより反応器内を昇圧させ、二酸化炭素を超臨界状態とする。そして、密閉反応器内に超臨界二酸化炭素を導入すると共に、排出し、密閉反応器内、つまりシリカ粒子分散液に流通させる。
これにより、超臨界二酸化炭素が溶媒（アルコール及び水）を溶解しつつ、これを同伴してシリカ粒子分散液の外部（密閉反応器内の外部）へと排出され、溶媒が除去される。
【０１０９】
ここで、超臨界二酸化炭素とは、臨界点以上の温度・圧力下においた状態の二酸化炭素であり、気体の拡散性と液体の溶解性との双方を持つものである。
【０１１０】
溶媒除去の温度条件、つまり超臨界二酸化炭素の温度は、例えば、３１℃以上３５０℃以下がよく、好ましくは６０℃以上３００℃以下、より好ましくは、８０℃以上２５０℃以下である。
この温度が上記範囲未満であると、溶媒が超臨界二酸化炭素に溶解し難くなるため、溶媒の除去がし難くなることがある。また溶媒や超臨界二酸化炭素の液架橋力により粗粉が生じ易くなることがあると考える。一方、この温度が上記範囲を超えると、シリカ粒子表面のシラノール基の縮合により２次凝集体等の粗粉が生じ易くなることがあると考えられる。
【０１１１】
溶媒除去の圧力条件、つまり超臨界二酸化炭素の圧力は、例えば、７．３８ＭＰａ以上４０ＭＰａ以下がよく、好ましくは１０ＭＰａ以上３５ＭＰａ以下、より好ましくは１５ＭＰａ以上２５ＭＰａ以下である。
この圧力が上記範囲未満であると、超臨界二酸化炭素に溶媒が溶解し難くなる傾向にあり、一方、圧力が上記範囲を超えると、設備が高額となる傾向となる。
【０１１２】
また、密閉反応器内への超臨界二酸化炭素の導入・排出量は、例えば、１５．４Ｌ／分／ｍ３以上１５４０Ｌ／分／ｍ３以下であることがよく、好ましくは７７Ｌ／分／ｍ３以上７７０Ｌ／分／ｍ３以下である。
導入・排出量が１５．４Ｌ／分／ｍ３未満であると、溶媒除去に時間がかかるため生産性が悪くなり易くなる傾向となる。
一方、導入・排出量が１５４０Ｌ／分／ｍ３以上であると、超臨界二酸化炭素がショートパスし、シリカ粒子分散液の接触時間が短くなってしまい、効率的に溶媒除去でき難くなる傾向となる。
【０１１３】
−表面処理工程−
表面処理工程は、例えば、溶媒除去工程と連続して、超臨界二酸化炭素中で、シロキサン化合物によりシリカ粒子の表面を表面処理する工程である。
つまり、表面処理工程では、例えば、溶媒除去工程から移行する前に、大気開放を行わず、超臨界二酸化炭素中で、シロキサン化合物によりシリカ粒子の表面を表面処理する。
具体的には、表面処理工程では、例えば、溶媒除去工程における密閉反応器内への超臨界二酸化炭素を導入・排出を停止した後、密閉反応器内の温度、圧力を調整し、密閉反応器内に、超臨界二酸化炭素が存在する状態で、シリカ粒子に対して一定の割合のシロキサン化合物を投入する。そして、この状態を維持した状態、つまり超臨界二酸化炭素中で、シロキサン化合物を反応させて、シリカ粒子の表面処理を行う。
【０１１４】
ここで、表面処理工程は、超臨界二酸化炭素中で（つまり超臨界二酸化炭素の雰囲気下で）、シロキサン化合物の反応を行えばよく、超臨界二酸化炭素を流通（つまり密閉反応器内への超臨界二酸化炭素を導入・排出）させながら表面処理を行ってよいし、非流通で表面処理を行ってもよい。
【０１１５】
表面処理工程において、反応器の容積に対するシリカ粒子の量（つまり仕込み量）は、例えば、３０ｇ／Ｌ以上６００ｇ／Ｌ以下がよく、好ましくは５０ｇ／Ｌ以上５００ｇ／Ｌ以下、より好ましくは８０ｇ／Ｌ以上４００ｇ／Ｌ以下である。
この量が上記範囲より少ないとシロキサン化合物の超臨界二酸化炭素に対する濃度が低くなりシリカ表面との接触確率が低下し、反応が進み難くなることがある。一方で、この量が上記範囲よりも多いと、シロキサン化合物の超臨界二酸化炭素に対する濃度が高くなり、シロキサン化合物が超臨界二酸化炭素へ溶解しきれず分散不良となり、粗大凝集物を発生させ易くなる。
【０１１６】
超臨界二酸化炭素の密度は、例えば、０．１０ｇ／ｍｌ以上０．８０ｇ／ｍｌ以下がよく、好ましくは０．１０ｇ／ｍｌ以上０．６０ｇ／ｍｌ以下、より好ましくは０．２ｇ／ｍｌ以上０．５０ｇ／ｍｌ以下である。
この密度が上記範囲より低いと、超臨界二酸化炭素に対するシロキサン化合物の溶解度が低下し、凝集物を発生させる傾向がある。一方で、密度が上記範囲よりも高いと、シリカ細孔への拡散性が低下するため、表面処理が不十分となる場合がある。特に、シラノール基を多く含有しているゾルゲルシリカ粒子に対しては上記密度範囲での表面処理を行うことがよい。
なお、超臨界二酸化炭素の密度は、温度及び圧力等により調整される。
【０１１７】
シロキサン化合物の具体例は前述のとおりである。また、シロキサン化合物の粘度の好ましい範囲も既述のとおりである。
シロキサン化合物の中でも、シリコーンオイルを適用すると、シリカ粒子表面にシリコーンオイルが均一に近い状態で付着され易くなり、シリカ粒子の流動性、分散性及び取り扱い性が向上し易くなる。
【０１１８】
シロキサン化合物の使用量は、シリカ粒子に対する表面付着量を０．０１質量％以上５質量％以下に制御し易くする観点から、例えば、シリカ粒子に対し、０．０５質量％以上３質量％以下がよく、好ましくは０．１質量％以上２質量％以下、より好ましくは０．１５質量％以上１．５質量％以下である。
【０１１９】
なお、シロキサン化合物は、単独で使用してもよいが、シロキサン化合物が溶解しやすい溶媒との混合液として使用してもよい。この溶媒としては、例えば、トルエン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が挙げられる。
【０１２０】
表面処理工程では、シロキサン化合物と共に疎水化処理剤を含む混合物によりシリカ粒子の表面処理を行ってもよい。
【０１２１】
疎水化処理剤としては、例えば、シラン系疎水化処理剤が挙げられる。シラン系疎水化処理剤としては、アルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等）を持つ公知の珪素化合物が挙げられ、具体例には、例えば、シラザン化合物（例えばメチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、トリメチルクロロシラン、トリメチルメトキシシランなどのシラン化合物、ヘキサメチルジシラザン、テトラメチルジシラザン等）等が挙げられる。疎水化処理剤は、１種で用いてもよいし、複数種用いてもよい。
シラン系疎水化処理剤の中でも、トリメチルメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ）などのトリメチル基を有する珪素化合物、特にヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ）が好適である。
【０１２２】
シラン系疎水化処理剤の使用量は、特に限定はされないが、例えば、シリカ粒子に対し、例えば、１量％以上１００質量％以下がよく、好ましくは３質量％以上８０質量％以下、より好ましくは５質量％以上５０質量％以下である。
【０１２３】
なお、シラン系疎水化処理剤は、単独で使用してもよいが、シラン系疎水化処理剤が溶解しやすい溶媒との混合液として使用してもよい。この溶媒としては、例えば、トルエン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が挙げられる。
【０１２４】
表面処理の温度条件、つまり超臨界二酸化炭素の温度は、例えば、８０℃以上３００℃以下がよく、好ましくは１００℃以上２５０℃以下、より好ましくは１２０℃以上２００℃以下である。
この温度が上記範囲未満であると、シロキサン化合物による表面処理能力が低下することがある。一方で、温度が上記範囲を超えると、シリカ粒子のシラノール基間による縮合反応が進み、粒子凝集が発生することがある。特に、シラノール基を多く含有しているゾルゲルシリカ粒子に対しては上記温度範囲での表面処理を行うことがよい。
【０１２５】
一方、表面処理の圧力条件、つまり超臨界二酸化炭素の圧力は、上記密度を満足する条件であればよいが、例えば、８ＭＰａ以上３０ＭＰａ以下がよく、好ましくは１０ＭＰａ以上２５ＭＰａ以下、より好ましくは１５ＭＰａ以上２０ＭＰａ以下である。
【０１２６】
以上説明した各工程を経て、特定シリカ粒子が得られる。
【０１２７】
［他の外添剤］
他の外添剤としては、例えば、無機粒子が挙げられる。該無機粒子として、ＳｉＯ２（ただし、特定シリカ粒子は除く）、ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＣｕＯ、ＺｎＯ、ＳｎＯ２、ＣｅＯ２、Ｆｅ２Ｏ３、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＣａＯ、Ｋ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ、ＺｒＯ２、ＣａＯ・ＳｉＯ２、Ｋ２Ｏ・（ＴｉＯ２）ｎ、Ａｌ２Ｏ３・２ＳｉＯ２、ＣａＣＯ３、ＭｇＣＯ３、ＢａＳＯ４、ＭｇＳＯ４等が挙げられる。
【０１２８】
他の外添剤としての無機粒子の表面は、疎水化処理が施されていることがよい。疎水化処理は、例えば疎水化処理剤に無機粒子を浸漬する等して行う。疎水化処理剤は特に制限されないが、例えば、シラン系カップリング剤、シリコーンオイル、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤等が挙げられる。これらは１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
疎水化処理剤の量としては、通常、例えば、無機粒子１００質量部に対して、１質量部以上１０質量部以下である。
【０１２９】
他の外添剤としては、樹脂粒子（ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、メラミン樹脂等の樹脂粒子）、クリーニング活剤（例えば、ステアリン酸亜鉛に代表される高級脂肪酸の金属塩、フッ素系高分子量体の粒子）等も挙げられる。
【０１３０】
他の外添剤の外添量としては、例えば、トナー粒子に対して、０．１質量％以上４．０質量％以下が好ましく、０．３質量％以上２．０質量％以下がより好ましい。
【０１３１】
（トナーの製造方法）
次に、本実施形態に用いられるトナーの製造方法について説明する。
本実施形態に用いられるトナーは、トナー粒子を製造後、トナー粒子に対して、外添剤を外添することで得られる。
【０１３２】
トナー粒子は、乾式製法（例えば、混練粉砕法等）、湿式製法（例えば凝集合一法、懸濁重合法、溶解懸濁法等）のいずれにより製造してもよい。トナー粒子の製法は、これらの製法に特に制限はなく、周知の製法が採用される。
これらの中でも、凝集合一法により、トナー粒子を得ることがよい。
【０１３３】
具体的には、例えば、トナー粒子を凝集合一法により製造する場合、
結着樹脂となる樹脂粒子が分散された樹脂粒子分散液を準備する工程（樹脂粒子分散液準備工程）と、樹脂粒子分散液中で（必要に応じて他の粒子分散液を混合した後の分散液中で）、樹脂粒子（必要に応じて他の粒子）を凝集させ、凝集粒子を形成する工程（凝集粒子形成工程）と、凝集粒子が分散された凝集粒子分散液に対して加熱し、凝集粒子を融合・合一して、トナー粒子を形成する工程（融合・合一工程）と、を経て、トナー粒子を製造する。
【０１３４】
以下、各工程の詳細について説明する。
なお、以下の説明では、着色剤、及び離型剤を含むトナー粒子を得る方法について説明するが、着色剤、離型剤は、必要に応じて用いられるものである。無論、着色剤、離型剤以外のその他添加剤を用いてもよい。
【０１３５】
−樹脂粒子分散液準備工程−
まず、結着樹脂となる樹脂粒子が分散された樹脂粒子分散液と共に、例えば、着色剤粒子が分散された着色剤粒子分散液、離型剤粒子が分散された離型剤粒子分散液を準備する。
【０１３６】
ここで、樹脂粒子分散液は、例えば、樹脂粒子を界面活性剤により分散媒中に分散させることにより調製する。
【０１３７】
樹脂粒子分散液に用いる分散媒としては、例えば水系媒体が挙げられる。
水系媒体としては、例えば、蒸留水、イオン交換水等の水、アルコール類等が挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１３８】
界面活性剤としては、例えば、硫酸エステル塩系、スルホン酸塩系、リン酸エステル系、せっけん系等のアニオン界面活性剤；アミン塩型、４級アンモニウム塩型等のカチオン界面活性剤；ポリエチレングリコール系、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加物系、多価アルコール系等の非イオン系界面活性剤等が挙げられる。これらの中でも特に、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤が挙げられる。非イオン系界面活性剤は、アニオン界面活性剤又はカチオン界面活性剤と併用してもよい。
界面活性剤は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１３９】
樹脂粒子分散液において、樹脂粒子を分散媒に分散する方法としては、例えば回転せん断型ホモジナイザーや、メディアを有するボールミル、サンドミル、ダイノミル等の一般的な分散方法が挙げられる。また、樹脂粒子の種類によっては、例えば転相乳化法を用いて樹脂粒子分散液中に樹脂粒子を分散させてもよい。
なお、転相乳化法とは、分散すべき樹脂を、その樹脂が可溶な疎水性有機溶剤中に溶解せしめ、有機連続相（Ｏ相）に塩基を加えて、中和したのち、水媒体（Ｗ相）を投入することによって、Ｗ／ＯからＯ／Ｗへの、樹脂の変換（いわゆる転相）が行われて不連続相化し、樹脂を、水媒体中に粒子状に分散する方法である。
【０１４０】
樹脂粒子分散液中に分散する樹脂粒子の体積平均粒径としては、例えば０．０１μｍ以上１μｍ以下が好ましく、０．０８μｍ以上０．８μｍ以下がより好ましく、０．１μｍ以上０．６μｍ以下がさらに好ましい。
なお、樹脂粒子の体積平均粒径は、レーザー回折式粒度分布測定装置（例えば、堀場製作所製、ＬＡ−７００）の測定によって得られた粒度分布を用い、分割された粒度範囲（チャンネル）に対し、体積について小粒径側から累積分布を引き、全粒子に対して累積５０％となる粒径を体積平均粒径Ｄ５０ｖとして測定される。なお、他の分散液中の粒子の体積平均粒径も同様に測定される。
【０１４１】
樹脂粒子分散液に含まれる樹脂粒子の含有量としては、例えば、５質量％以上５０質量％以下が好ましく、１０質量％以上４０質量％以下がより好ましい。
【０１４２】
なお、樹脂粒子分散液と同様にして、例えば、着色剤粒子分散液、離型剤粒子分散液も調製される。つまり、樹脂粒子分散液における粒子の体積平均粒径、分散媒、分散方法、及び粒子の含有量に関しては、着色剤粒子分散液中に分散する着色剤粒子、及び離型剤粒子分散液中に分散する離型剤粒子についても同様である。
【０１４３】
−凝集粒子形成工程−
次に、樹脂粒子分散液と共に、着色剤粒子分散液と、離型剤粒子分散液と、を混合する。
そして、混合分散液中で、樹脂粒子と着色剤粒子と離型剤粒子とをヘテロ凝集させ目的とするトナー粒子の径に近い径を持つ、樹脂粒子と着色剤粒子と離型剤粒子とを含む凝集粒子を形成する。
【０１４４】
具体的には、例えば、混合分散液に凝集剤を添加すると共に、混合分散液のｐＨを酸性（例えばｐＨが２以上５以下）に調整し、必要に応じて分散安定剤を添加した後、樹脂粒子のガラス転移温度（具体的には、例えば、樹脂粒子のガラス転移温度−３０℃以上ガラス転移温度−１０℃以下）の温度に加熱し、混合分散液に分散された粒子を凝集させて、凝集粒子を形成する。
凝集粒子形成工程においては、例えば、混合分散液を回転せん断型ホモジナイザーで攪拌下、室温（例えば２５℃）で上記凝集剤を添加し、混合分散液のｐＨを酸性（例えばｐＨが２以上５以下）に調整し、必要に応じて分散安定剤を添加した後に、上記加熱を行ってもよい。
【０１４５】
凝集剤としては、例えば、混合分散液に添加される分散剤として用いる界面活性剤と逆極性の界面活性剤、無機金属塩、２価以上の金属錯体が挙げられる。特に、凝集剤として金属錯体を用いた場合には、界面活性剤の使用量が低減され、帯電特性が向上する。
凝集剤の金属イオンと錯体もしくは類似の結合を形成する添加剤を必要に応じて用いてもよい。この添加剤としては、キレート剤が好適に用いられる。
【０１４６】
無機金属塩としては、例えば、塩化カルシウム、硝酸カルシウム、塩化バリウム、塩化マグネシウム、塩化亜鉛、塩化アルミニウム、硫酸アルミニウム等の金属塩、及び、ポリ塩化アルミニウム、ポリ水酸化アルミニウム、多硫化カルシウム等の無機金属塩重合体等が挙げられる。
キレート剤としては、水溶性のキレート剤を用いてもよい。キレート剤としては、例えば、酒石酸、クエン酸、グルコン酸等のオキシカルボン酸、イミノジ酸（ＩＤＡ）、ニトリロトリ酢酸（ＮＴＡ）、エチレンジアミンテトラ酢酸（ＥＤＴＡ）等が挙げられる。
キレート剤の添加量としては、例えば、樹脂粒子１００質量部に対して０．０１質量部以上５．０質量部以下が好ましく、０．１質量部以上３．０質量部未満がより好ましい。
【０１４７】
−融合・合一工程−
次に、凝集粒子が分散された凝集粒子分散液に対して、例えば、樹脂粒子のガラス転移温度以上（例えば樹脂粒子のガラス転移温度より１０から３０℃高い温度以上）に加熱して、凝集粒子を融合・合一し、トナー粒子を形成する。
【０１４８】
以上の工程を経て、トナー粒子が得られる。
なお、凝集粒子が分散された凝集粒子分散液を得た後、当該凝集粒子分散液と、樹脂粒子が分散された樹脂粒子分散液と、をさらに混合し、凝集粒子の表面にさらに樹脂粒子を付着するように凝集して、第２凝集粒子を形成する工程と、第２凝集粒子が分散された第２凝集粒子分散液に対して加熱をし、第２凝集粒子を融合・合一して、コア／シェル構造のトナー粒子を形成する工程と、を経て、トナー粒子を製造してもよい。
【０１４９】
ここで、融合・合一工程終了後は、溶液中に形成されたトナー粒子を、公知の洗浄工程、固液分離工程、乾燥工程を経て乾燥した状態のトナー粒子を得る。
洗浄工程は、帯電性の点から充分にイオン交換水による置換洗浄を施すことがよい。また、固液分離工程は、特に制限はないが、生産性の点から吸引濾過、加圧濾過等を施すことがよい。また、乾燥工程も特に方法に制限はないが、生産性の点から凍結乾燥、気流乾燥、流動乾燥、振動型流動乾燥等を施すことがよい。
【０１５０】
そして、本実施形態に用いられるトナーは、例えば、得られた乾燥状態のトナー粒子に、外添剤を添加し、混合することにより製造される。混合は、例えばＶブレンダー、ヘンシェルミキサー、レ−ディゲミキサー等によって行うことがよい。更に、必要に応じて、振動篩分機、風力篩分機等を使ってトナーの粗大粒子を取り除いてもよい。
【０１５１】
（キャリア）
本実施形態に用いられる静電荷像現像用キャリアは、芯材樹脂（芯材用の結着樹脂）中に磁性体が含有された芯材と、該芯材の表面を被覆し被覆樹脂（被覆層用の樹脂）を含有する被覆層と、を有し、該被覆層の表面粗さＲａが０．２５μｍ以上０．４μｍ以下である。
【０１５２】
−芯材−
・芯材の表面粗さＲａ
芯材は、その表面粗さＲａが０．３μｍ以上０．５μｍ以下であることが好ましく、さらに０．３５μｍ以上０．５μｍ以下がより好ましく、０．４μｍ以上０．５μｍ以下がさらに好ましい。
【０１５３】
尚、芯材の表面粗さＲａは、ＪＩＳ−Ｂ０６０１（１９９４年）に準拠して超深度カラー３Ｄ形状測定顕微鏡（ＶＫ−９５００、キーエンス）により測定される。
【０１５４】
芯材の表面粗さＲａを上記範囲に制御する方法としては、特に限定されるものではないが、芯材の個数平均粒子径をＤ（μｍ）としたとき、芯材の表面から１／８Ｄ（μｍ）までの領域（以下単に「最表層部」と称す）に特定の粒径の粒子を含有させることが好ましい。最表層部に上記の粒子を含有することで該粒子が芯材の表面から突出して凹凸が形成され、前記表面粗さＲａが達成される。なお、上記の特定の粒径の粒子は、磁性体粒子であっても非磁性体粒子であってもよい。
【０１５５】
なお、芯材の個数平均粒子径の測定は、以下の方法により行なわれる。
２液式接着剤クイック３０（コニシ株式会社製）の混合液７０質量部に、キャリア３０質量部を加えてさらに混合し、２５℃環境下で４８時間静置して硬化させる。硬化後の包埋物を剃刀で形を整えた後、ダイヤモンドナイフＳＫ２０３５（住友電気工業株式会社製）を取り付けたウルトラミクロトーム装置（ＬＥＩＣＡ社製、ＵＲＵＴＲＡＣＵＴ  ＵＣＴ）により切削する（面出し）。さらに光学顕微鏡で切断面の平滑性を確認しながら、平滑な切断面が形成されるまで切削を実施して試験片を作製する。得られた試験片を走査型電子顕微鏡にて観察することで、試験片の断面画像を得る。得られた画像を画像解析ソフトＷｉｎＲＯＯＦ（三谷商事(株)製）に取り込み、モノクロ画像化した後、解析することで、個数平均粒子径を測定する。測定は、キャリア１個に対して４箇所で測定し、かつ無作為に選択したキャリア５０個の算術平均とする。
【０１５６】
・芯材の最表層部に含有される粒子
具体的には、芯材の最表層部に、粒径が０．８μｍ以上５μｍ以下の粒子を含有させることが好ましく、１．５μｍ以上５μｍ以下の粒子がより好ましく、１．５μｍ以上４μｍ以下の粒子がさらに好ましい。
尚、最表層部に含有される上記粒子の粒径は、走査型顕微鏡により観察した芯材表面を画像解析ソフト（ＷｉｎＲＯＯＦ）に取り込み、モノクロ画像化した後、最大部分の粒径を測定することにより行なわれる。
【０１５７】
芯材の最表層部に粒径が上記範囲である粒子を含有することで、たとえ高温高湿下においても現像器内でトナーとキャリアとの混合攪拌が良好に行なわれ、キャリアの表面にトナーがムラなく存在し、粒状性に優れた画像が得られるものと考えられる。
【０１５８】
・磁性体の粒子
芯材に含有される磁性体の粒子の材質としては、例えば、鉄、鋼、ニッケル、コバルト等の磁性金属、これらとマンガン、クロム、希土類元素等との合金（例えば、ニッケル−鉄合金、コバルト−鉄合金、アルミニウム−鉄合金等）、フェライト、マグネタイト等の磁性酸化物等が適用され、これらの中でも特性が安定している点から、フェライト及びマグネタイトが好ましい。
【０１５９】
磁性体の粒子の粒径は、０．０１μｍ以上５μｍ以下であることが望ましく、０．１μｍ以上２ｍ以下であることがより望ましく、０．１μｍ以上１μｍ以下であることが更に望ましい。
【０１６０】
・粒子が含有される領域
芯材に含有される、粒径が前述の範囲の粒子は、極力芯材の最表層部に含有することが好ましい。
【０１６１】
・結着樹脂（芯材樹脂）
芯材を構成する結着樹脂としては、スチレン系樹脂、アクリル系樹脂、スチレン−アクリル系共重合樹脂、ポリオレフィン系樹脂、フェノール系樹脂等が挙げられる。
【０１６２】
また、芯材には更にその他の成分を含有してよく、該その他の成分としては例えば、帯電制御剤、フッ素含有粒子などが挙げられる。
【０１６３】
・芯材の製造方法
芯材の製造方法は、例えば以下の(1)〜(4)に示す方法等、公知のいずれの方法であっても構わない。
(1)磁性体と結着樹脂とを、バンバリーミキサー、ニーダーなどを用いて溶融混練し、冷却した後に粉砕し、分級する「溶融混練法」（例えば特公昭５９−２４４１６号公報、特公平８−３６７９号公報等に記載）
(2)結着樹脂のモノマー単位と磁性体とを溶媒中に分散して懸濁液を調製し、この懸濁液を重合させる「懸濁重合法」（例えば特開平５−１００４９３号公報等に記載）
(3)樹脂溶液中に磁性体を混合分散した後、噴霧乾燥する「スプレードライ法」
(4)結着樹脂の重合性モノマーと磁性体を混合した後、この組成物を造粒し重合する「重合法」（特許第３４９９８１号等に記載）
上記いずれの製法において、磁性体を何らかの手段により調製しておき、この磁性体の粒子と結着樹脂とを混合し、前記磁性体を結着樹脂中に含有させる工程を含む。
【０１６４】
尚、粒径が前述の範囲である粒子（磁性体粒子、非磁性体粒子の何れでもよく、また両方を含んでもよい）を、芯材の最表層部に含有させる方法としては、例えば、芯材の最表層部に含有される磁性体の粒子または非磁性体の粒子を芯材内部に含有される磁性体とは異なる処方で処理することに加えて、上記(1)「溶融混練法」であれば、前記溶融混練の際に温度を低くしておいて溶融混練の後半に粒子を添加して付着させる手段が挙げられる。また、上記(2)「懸濁重合法」および(4)「重合法」であれば重合が進行している途中であって重合が完了する前の状態において粒子を添加して付着させる手段が、上記(3)「スプレードライ法」であれば、前記噴霧の後半に粒子を添加して付着させる手段が、挙げられる。
尚、これらの方法によれば、最表層部に上記粒子が存在し且つ粒子が含有される部分と含有されていない部分とが一体的に成形された（界面が確認されない）芯材が得られる。
【０１６５】
−被覆層−
本実施形態に用いられるキャリアは、芯材の表面を被覆し、被覆樹脂（被覆層用の樹脂）を含有する被覆層を有する。
該被覆層を構成する樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂；ポリスチレン、アクリル樹脂、ポリアクリロニトリル、ポリビニルアセテート、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリ塩化ビニル、ポリビニルカルバゾール、ポリビニルエーテル及びポリビニルケトン等のポリビニル系樹脂及びポリビニリデン系樹脂；塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体；スチレン−アクリル酸共重合体；オルガノシロキサン結合からなるストレートシリコーン樹脂又はその変性品；ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ポリクロロトリフルオロエチレン等のフッ素系樹脂；シリコーン樹脂；ポリエステル；ポリウレタン；ポリカーボネート；フェノール樹脂；尿素−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ユリア樹脂、ポリアミド樹脂等のアミノ樹脂；エポキシ樹脂、等の樹脂が挙げられる。また、シクロアルキル基を含むモノマーの単独重合体、シクロアルキル基を含むモノマーを２種類以上重合した共重合体、シクロアルキル基を含むモノマーとシクロアルキル基を含まないモノマーとの共重合体も挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１６６】
被覆層は、前記被覆樹脂中に導電性粒子を含有していてもよい。ここで、導電性とは、体積抵抗率が１０７Ω・ｃｍ未満であることを意味する。
前記導電性粒子としては、金、銀、銅等の金属粒子、カーボンブラック粒子、酸化チタン、酸化亜鉛等の半導電性酸化物粒子、酸化チタン、酸化亜鉛、硫酸バリウム、ホウ酸アルミニウム、チタン酸カリウム粉末等の表面を酸化スズ、カーボンブラック、金属等で覆った粒子等が挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、カーボンブラック粒子が望ましい。
前記カーボンブラックの種類としては、特に制限はないが、ＤＢＰ吸油量が５０ｍｌ／１００ｇ以上２５０ｍｌ／１００ｇ以下であるカーボンブラックが望ましい。
【０１６７】
被覆層は、ワックスを含有してもよい。該ワックスとしては、特に制限はなく、例えば、低分子量ポリオレフィンワックス、カルナバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス、パラフィンワックス、マイクロクリスタルワックス、フィッシャー・トロプシュワックス、固体酸エステルワックス等が挙げられ、これらの中でも特に、パラフィンワックス、フィッシャー・トロプシュワックスが望ましい。
これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１６８】
また、被覆層には、樹脂粒子を含有してもよい。樹脂粒子を構成する樹脂としては、熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂が利用される。
熱可塑性樹脂の場合、ポリオレフィン系樹脂、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン；ポリビニル及びポリビニリデン系樹脂、例えば、ポリスチレン、アクリル樹脂、ポリアクリロニトリル、ポリビニルアセテート、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリ塩化ビニル、ポリビニルカルバゾール、ポリビニルエーテル及びポリビニルケトン；塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体；スチレン−アクリル酸共重合体；オルガノシロキサン結合からなるストレートシリコン樹脂又はその変性品；フッ素樹脂、例えば、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ポリクロロトリフルオロエチレン；ポリエステル；ポリカーボネート等が挙げられる。
熱硬化性樹脂の例としては、フェノール樹脂；アミノ樹脂、例えば尿素−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ユリア樹脂、ポリアミド樹脂；エポキシ樹脂などが挙げられる。
【０１６９】
・被覆層の形成
本実施形態に用いられるキャリアにおける被覆層の形成は、上記構成のキャリアを形成し得る方法であれば特に限定されるものではない。例えば、被覆用の樹脂を溶解させた溶液を、攪拌装置（例えばサンドミル等）を用いて攪拌・分散した被覆層形成用溶液を、芯材の表面に噴霧するスプレー法、上記被覆層形成用溶液と芯材とをニーダーコータ中で混合し、次いで溶剤を除去するニーダーコータ法などにより製造される。
【０１７０】
・被覆層の厚さ
被覆層の厚さは、特に限定されるものではないが、０．１μｍ以上３．０μｍ以下であることが好ましく、更に０．２μｍ以上２．０μｍ以下がより好ましく、０．２μｍ以上１．０μｍ以下が特に好ましい。
尚、被覆層の厚さは、以下の方法により測定される。
２液式接着剤クイック３０（コニシ株式会社製）の混合液７０質量部に、キャリア３０質量部を加えてさらに混合し、２５℃環境下で４８時間静置して硬化させる。硬化後の包埋物を剃刀で形を整えた後、ダイヤモンドナイフＳＫ２０３５（住友電気工業株式会社製）を取り付けたウルトラミクロトーム装置（ＬＥＩＣＡ社製、ＵＲＵＴＲＡＣＵＴ  ＵＣＴ）により切削する（面出し）。更に光学顕微鏡で切断面の平滑性を確認しながら、平滑な切断面が形成されるまで切削を実施して試験片を作製する。得られた試験片を走査型電子顕微鏡にて観察することで、試験片の断面画像を得る。得られた画像を画像解析ソフト  ＷｉｎＲＯＯＦ（三谷商事(株)製）に取り込み、モノクロ画像化した後、無作為に選択した１つの芯材について９０度間隔に４か所の被覆層の厚さを測定し、これを５０個について繰り返し行い、その平均値を算出して求める。
【０１７１】
本実施形態に用いられるキャリアは、その特性として滑らかに近い表面性を有しており、その表面凹凸は指標として表面粗さＲａを用いて表される。キャリアの表面粗さＲａ、即ち表面を構成する被覆層の表面粗さＲａは、特に画像における白抜け（スタベーション）抑制に関しては、原因となるキャリアに対するシリカの付着性及びシリカによるトナー―キャリア間の摩擦帯電阻害（シリカのスペーサー効果）抑制の観点から、０．２５μｍ以上０．４μｍ以下であり、更に０．３μｍ以上０．４μｍ以下がより好ましい。Ｒａが０．２５μｍ未満の場合、シリカのスペーサー効果が大きくなり、キャリアの抵抗上昇による白抜け（スタベーション）の悪化を招く。一方、Ｒａが０．４μｍよりも大きい場合、初期的なキャリアの抵抗上昇は抑制されるが、長期使用後のキャリアへのシリカ移行量が増加し、画像濃度低下などの画像欠陥を招く。
【０１７２】
キャリアの体積平均粒径は、１０μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましく、さらに２０μｍ以上５０μｍ以下がより好ましい。体積平均粒径が１０μｍ以上であることで、現像剤の現像装置からの飛び散りが抑制され、１００μｍ以下であることで形成される画像における画像濃度を高められる。
【０１７３】
ここで、体積平均粒径の測定手法は以下の通りである。
レーザー回折／散乱式粒度分布測定装置（ＬＳ  Ｐａｒｔｉｃｌｅ  Ｓｉｚｅ  Ａｎａｌｙｚｅｒ（ベックマン−コールター社製））を用いて、粒度分布を測定する。電解液としては、ＩＳＯＴＯＮ−ＩＩ（ベックマン−コールター社製）を使用する。測定する粒子数は５０，０００である。
そして、測定された粒度分布を、分割された粒度範囲（チャンネル）に対し、体積について小径側から累積分布を描き、累積５０％となる粒径（「Ｄ５０ｖ」と表現する）を「体積平均粒径」と定義する。
【０１７４】
本実施形態に係る現像剤における、トナーとキャリアとの混合比（質量比）は、トナー：キャリア＝１：１００乃至３０：１００が好ましく、３：１００乃至２０：１００がより好ましい。
【０１７５】
＜画像形成装置／画像形成方法＞
本実施形態に係る画像形成装置／画像形成方法について説明する。
本実施形態に係る画像形成装置は、像保持体と、像保持体の表面を帯電する帯電手段と、帯電した像保持体の表面に静電荷像を形成する静電荷像形成手段と、静電荷像現像剤を収容し、静電荷像現像剤により、像保持体の表面に形成された静電荷像をトナー画像として現像する現像手段と、像保持体の表面に形成されたトナー画像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、記録媒体の表面に転写されたトナー画像を定着する定着手段と、を備える。そして、静電荷像現像剤として、本実施形態に係る静電荷像現像剤が適用される。
【０１７６】
本実施形態に係る画像形成装置では、像保持体の表面を帯電する帯電工程と、帯電した像保持体の表面に静電荷像を形成する静電荷像形成工程と、本実施形態に係る静電荷像現像剤により、像保持体の表面に形成された静電荷像をトナー画像として現像する現像工程と、像保持体の表面に形成されたトナー画像を記録媒体の表面に転写する転写工程と、記録媒体の表面に転写されたトナー画像を定着する定着工程と、を有する画像形成方法（本実施形態に係る画像形成方法）が実施される。
【０１７７】
本実施形態に係る画像形成装置は、像保持体の表面に形成されたトナー画像を直接記録媒体に転写する直接転写方式の装置；像保持体の表面に形成されたトナー画像を中間転写体の表面に一次転写し、中間転写体の表面に転写されたトナー画像を記録媒体の表面に二次転写する中間転写方式の装置；トナー画像の転写後、帯電前の像保持体の表面をクリーニングするクリーニング手段を備えた装置；トナー画像の転写後、帯電前に像保持体の表面に除電光を照射して除電する除電手段を備える装置等の周知の画像形成装置が適用される。
中間転写方式の装置の場合、転写手段は、例えば、表面にトナー画像が転写される中間転写体と、像保持体の表面に形成されたトナー画像を中間転写体の表面に一次転写する一次転写手段と、中間転写体の表面に転写されたトナー画像を記録媒体の表面に二次転写する二次転写手段と、を有する構成が適用される。
【０１７８】
なお、本実施形態に係る画像形成装置において、例えば、現像手段を含む部分が、画像形成装置に対して脱着されるカートリッジ構造（プロセスカートリッジ）であってもよい。プロセスカートリッジとしては、例えば、本実施形態に係る静電荷像現像剤を収容した現像手段を備えるプロセスカートリッジが好適に用いられる。
【０１７９】
以下、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示すが、これに限定されるわけではない。なお、図に示す主要部を説明し、その他はその説明を省略する。
【０１８０】
図２は、本実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。
図２に示す画像形成装置は、色分解された画像データに基づくイエロー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）、ブラック（Ｋ）の各色の画像を出力する電子写真方式の第１乃至第４の画像形成ユニット１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｋ（画像形成手段）を備えている。これらの画像形成ユニット（以下、単に「ユニット」と称する場合がある）１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｋは、水平方向に互いに予め定められた距離離間して並設されている。なお、これらユニット１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｋは、画像形成装置に対して脱着するプロセスカートリッジであってもよい。
【０１８１】
各ユニット１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｋの図面における上方には、各ユニットを通して中間転写体としての中間転写ベルト２０が延設されている。中間転写ベルト２０は、図における左から右方向に互いに離間して配置された駆動ロール２２及び中間転写ベルト２０内面に接する支持ロール２４に巻きつけて設けられ、第１のユニット１０Ｙから第４のユニット１０Ｋに向う方向に走行されるようになっている。なお、支持ロール２４は、図示しないバネ等により駆動ロール２２から離れる方向に力が加えられており、両者に巻きつけられた中間転写ベルト２０に張力が与えられている。また、中間転写ベルト２０の像保持体側面には、駆動ロール２２と対向して中間転写体クリーニング装置３０が備えられている。
また、各ユニット１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｋの現像装置（現像手段）４Ｙ、４Ｍ、４Ｃ、４Ｋのそれぞれには、トナーカートリッジ８Ｙ、８Ｍ、８Ｃ、８Ｋに収められたイエロー、マゼンタ、シアン、ブラックの４色のトナーを含むトナーの供給がなされる。
【０１８２】
第１乃至第４のユニット１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｋは、同等の構成を有しているため、ここでは中間転写ベルト走行方向の上流側に配設されたイエロー画像を形成する第１のユニット１０Ｙについて代表して説明する。なお、第１のユニット１０Ｙと同等の部分に、イエロー（Ｙ）の代わりに、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）、ブラック（Ｋ）を付した参照符号を付すことにより、第２乃至第４のユニット１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｋの説明を省略する。
【０１８３】
第１のユニット１０Ｙは、像保持体として作用する感光体１Ｙを有している。感光体１Ｙの周囲には、感光体１Ｙの表面を予め定められた電位に帯電させる帯電ロール（帯電手段の一例）２Ｙ、帯電された表面を色分解された画像信号に基づくレーザ光線３Ｙによって露光して静電荷像を形成する露光装置（静電荷像形成手段の一例）３、静電荷像に帯電したトナーを供給して静電荷像を現像する現像装置（現像手段の一例）４Ｙ、現像したトナー画像を中間転写ベルト２０上に転写する一次転写ロール５Ｙ（一次転写手段の一例）、及び一次転写後に感光体１Ｙの表面に残存するトナーを除去する感光体クリーニング装置（クリーニング手段の一例）６Ｙが順に配置されている。
なお、一次転写ロール５Ｙは、中間転写ベルト２０の内側に配置され、感光体１Ｙに対向した位置に設けられている。更に、各一次転写ロール５Ｙ、５Ｍ、５Ｃ、５Ｋには、一次転写バイアスを印加するバイアス電源（図示せず）がそれぞれ接続されている。各バイアス電源は、図示しない制御部による制御によって、各一次転写ロールに印加する転写バイアスを可変する。
【０１８４】
以下、第１ユニット１０Ｙにおいてイエロー画像を形成する動作について説明する。
まず、動作に先立って、帯電ロール２Ｙによって感光体１Ｙの表面が−６００Ｖ乃至−８００Ｖの電位に帯電される。
感光体１Ｙは、導電性（例えば２０℃における体積抵抗率：１×１０−６Ωｃｍ以下）の基体上に感光層を積層して形成されている。この感光層は、通常は高抵抗（一般の樹脂の抵抗）であるが、レーザ光線３Ｙが照射されると、レーザ光線が照射された部分の比抵抗が変化する性質を持っている。そこで、帯電した感光体１Ｙの表面に、図示しない制御部から送られてくるイエロー用の画像データに従って、露光装置３を介してレーザ光線３Ｙを出力する。レーザ光線３Ｙは、感光体１Ｙの表面の感光層に照射され、それにより、イエロー画像パターンの静電荷像が感光体１Ｙの表面に形成される。
【０１８５】
静電荷像とは、帯電によって感光体１Ｙの表面に形成される像であり、レーザ光線３Ｙによって、感光層の被照射部分の比抵抗が低下し、感光体１Ｙの表面の帯電した電荷が流れ、一方、レーザ光線３Ｙが照射されなかった部分の電荷が残留することによって形成される、いわゆるネガ潜像である。
感光体１Ｙ上に形成された静電荷像は、感光体１Ｙの走行に従って予め定められた現像位置まで回転される。そして、この現像位置で、感光体１Ｙ上の静電荷像が、現像装置４Ｙによってトナー画像として可視像（現像像）化される。
【０１８６】
現像装置４Ｙ内には、例えば、少なくともイエロートナーとキャリアとを含む静電荷像現像剤が収容されている。イエロートナーは、現像装置４Ｙの内部で攪拌されることで摩擦帯電し、感光体１Ｙ上に帯電した帯電荷と同極性（負極性）の電荷を有して現像剤ロール（現像剤保持体の一例）上に保持されている。そして感光体１Ｙの表面が現像装置４Ｙを通過していくことにより、感光体１Ｙ表面上の除電された潜像部にイエロートナーが静電的に付着し、潜像がイエロートナーによって現像される。イエローのトナー画像が形成された感光体１Ｙは、引続き予め定められた速度で走行され、感光体１Ｙ上に現像されたトナー画像が予め定められた一次転写位置へ搬送される。
【０１８７】
ここで、現像装置４Ｙは、収容された現像剤のうちの一部のキャリアを入れ替え（排出及び補給）ながら現像するトリクル現像方式の現像装置であってもよい。なお、現像装置４Ｙがトリクル現像方式の現像装置である場合、トナーカートリッジ８Ｙの代わりに、イエロートナーとキャリアとを含む現像剤を収めた現像剤カートリッジと、現像剤供給管（不図示）で接続して、現像装置に補給用現像剤を補給する構成とすればよい。
なお、排出されるキャリアは、現像装置４Ｙ内で攪拌される等により劣化したキャリアを含む。
【０１８８】
感光体１Ｙ上のイエロートナー画像が一次転写へ搬送されると、一次転写ロール５Ｙに一次転写バイアスが印加され、感光体１Ｙから一次転写ロール５Ｙに向う静電気力がトナー画像に作用され、感光体１Ｙ上のトナー画像が中間転写ベルト２０上に転写される。このとき印加される転写バイアスは、トナーの極性（−）と逆極性の（＋）極性であり、例えば第１ユニット１０Ｙでは制御部に（図示せず）よって＋１０μＡに制御されている。
一方、感光体１Ｙ上に残留したトナーは感光体クリーニング装置６Ｙで除去されて回収される。
【０１８９】
また、第２のユニット１０Ｍ以降の一次転写ロール５Ｍ、５Ｃ、５Ｋに印加される一次転写バイアスも、第１のユニットに準じて制御されている。
こうして、第１のユニット１０Ｙにてイエロートナー画像の転写された中間転写ベルト２０は、第２乃至第４のユニット１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｋを通して順次搬送され、各色のトナー画像が重ねられて多重転写される。
【０１９０】
第１乃至第４のユニットを通して４色のトナー画像が多重転写された中間転写ベルト２０は、中間転写ベルト２０と中間転写ベルト内面に接する支持ロール２４と中間転写ベルト２０の像保持面側に配置された二次転写ロール（二次転写手段の一例）２６とから構成された二次転写部へと至る。一方、記録紙（記録媒体の一例）Ｐが供給機構を介して二次転写ロール２６と中間転写ベルト２０とが接触した隙間に予め定められたタイミングで給紙され、二次転写バイアスが支持ロール２４に印加される。このとき印加される転写バイアスは、トナーの極性（−）と同極性の（−）極性であり、中間転写ベルト２０から記録紙Ｐに向う静電気力がトナー画像に作用され、中間転写ベルト２０上のトナー画像が記録紙Ｐ上に転写される。なお、この際の二次転写バイアスは二次転写部の抵抗を検出する抵抗検出手段（図示せず）により検出された抵抗に応じて決定されるものであり、電圧制御されている。
【０１９１】
この後、記録紙Ｐは定着装置（定着手段の一例）２８における一対の定着ロールの圧接部（ニップ部）へと送り込まれトナー画像が記録紙Ｐ上へ定着され、定着画像が形成される。
【０１９２】
トナー画像を転写する記録紙Ｐとしては、例えば、電子写真方式の複写機、プリンター等に使用される普通紙が挙げられる。記録媒体は記録紙Ｐ以外にも、ＯＨＰシート等も挙げられる。
定着後における画像表面の平滑性をさらに向上させるには、記録紙Ｐの表面も平滑が好ましく、例えば、普通紙の表面を樹脂等でコーティングしたコート紙、印刷用のアート紙等が好適に使用される。
【０１９３】
カラー画像の定着が完了した記録紙Ｐは、排出部へ向けて搬出され、一連のカラー画像形成動作が終了される。
【０１９４】
＜プロセスカートリッジ／現像剤カートリッジ＞
本実施形態に係るプロセスカートリッジについて説明する。
本実施形態に係るプロセスカートリッジは、本実施形態に係る静電荷像現像剤を収容し、静電荷像現像剤により、像保持体の表面に形成された静電荷像をトナー画像として現像する現像手段を備え、画像形成装置に着脱されるプロセスカートリッジである。
【０１９５】
なお、本実施形態に係るプロセスカートリッジは、上記構成に限られず、現像装置と、その他、必要に応じて、例えば、像保持体、帯電手段、静電荷像形成手段、及び転写手段等のその他手段から選択される少なくとも一つと、を備える構成であってもよい。
【０１９６】
以下、本実施形態に係るプロセスカートリッジの一例を示すが、これに限定されるわけではない。なお、図に示す主要部を説明し、その他はその説明を省略する。
【０１９７】
図３は、本実施形態に係るプロセスカートリッジを示す概略構成図である。
図３に示すプロセスカートリッジ２００は、例えば、取り付けレール１１６及び露光のための開口部１１８が備えられた筐体１１７により、感光体１０７（像保持体の一例）と、感光体１０７の周囲に備えられた帯電ロール１０８（帯電手段の一例）、現像装置１１１（現像手段の一例）、及び感光体クリーニング装置１１３（クリーニング手段の一例）を一体的に組み合わせて保持して構成し、カートリッジ化されている。
なお、図３中、１０９は露光装置（静電荷像形成手段の一例）、１１２は転写装置（転写手段の一例）、１１５は定着装置（定着手段の一例）、３００は記録紙（記録媒体の一例）を示している。
【０１９８】
次に、本実施形態に係る現像剤カートリッジについて説明する。
本実施形態に係る現像剤カートリッジは、本実施形態に係る現像剤を収容し、画像形成装置に着脱される現像剤カートリッジである。現像剤カートリッジは、画像形成装置内に設けられた現像手段に供給するための補給用の現像剤を収容するものである。
【０１９９】
本実施形態に係る現像剤カートリッジは、トリクル方式の現像装置を備えた画像形成装置に好適に適用される。
例えば、図２に示す画像形成装置において、トナーカートリッジ８Ｙ、８Ｍ、８Ｃ、８Ｋを、本実施形態に係る現像剤カートリッジに代え、かかる現像剤カートリッジから現像剤を現像装置４Ｙ，４Ｍ，４Ｃ，４Ｋに補給し、現像装置４Ｙ、４Ｍ、４Ｃ、４Ｋに収容されているキャリアを入れ替えながら現像を行う画像形成装置としてもよい。
また、現像剤カートリッジ内に収容されている現像剤が少なくなった場合には、この現像剤カートリッジが交換される。
【実施例】
【０２００】
以下、本実施形態を実施例により具体的に説明するが、本実施形態はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。なお以下の説明において、特に断りがない限り、「部」「％」は全て「質量部」「質量％」を意味する。
【０２０１】
［トナー粒子の作製］
〔樹脂粒子分散液（１）の調製〕
加熱乾燥した二口フラスコに、ポリオキシエチレン（２，０）−２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン１０モル部と、ポリオキシプロピレン（２，２）−２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン９０モル部と、テレフタル酸１０モル部と、フマル酸６７モル部と、ｎ−ドデセニルコハク酸３モル部と、トリメリット酸２０モル部と、０．０５モル部のジブチル錫オキサイドと、を入れ、容器内に窒素ガスを導入して不活性雰囲気に保ち昇温した後、１５０℃以上２３０℃以下の温度を保ちながら１５時間共縮重合反応させ、その後、２１０℃以上２５０℃以下の温度を保ちながら徐々に減圧して、ポリエステル樹脂（１）を合成した。ポリエステル樹脂（１）の重量平均分子量Ｍｗは１３００００、ガラス転移温度Ｔｇは７３℃であった。
【０２０２】
高温・高圧乳化装置（キャビトロンＣＤ１０１０、スリット：０．４ｍｍ）の乳化タンクに、得られたポリエステル樹脂（１）３０００部、イオン交換水１００００部、界面活性剤ドデシルベンゼンスルフォン酸ナトリウム９０部を投入した後、１３０℃に加熱溶融後、１１０℃で流量３Ｌ／分にて１００００回転で３０分間分散させ、冷却タンクを通過させて樹脂粒子分散液を回収し、樹脂粒子分散液（１）を得た。
【０２０３】
〔樹脂粒子分散液（２）の調製〕
熱乾燥した３口フラスコに、１，９−ノナンジオール４４モル部と、ドデカンジカルボン酸５６モル部と、触媒としてジブチル錫オキサイド０.０５モル部とを入れた後、減圧操作により容器内の空気を窒素ガスにより不活性雰囲気下とし、機械攪拌にて１８０℃で２時間攪拌を行った。その後、減圧下にて２３０℃まで徐々に昇温を行い５時間攪拌し、粘稠な状態となったところで空冷し、反応を停止させ、ポリエステル樹脂（２）を合成した。ポリエステル樹脂（２）の重量平均分子量Ｍｗは２７０００、融解温度Ｔｍは７２℃であった。その後、ポリエステル樹脂（１）の代わりにポリエステル樹脂（２）を用いた以外は樹脂粒子分散液（１）の作製と同じ条件にて高温・高圧乳化装置（キャビトロンＣＤ１０１０、スリット：０．４ｍｍ）を用い、樹脂粒子分散液（２）を得た。
【０２０４】
〔着色剤分散液の調製〕
・カーボンブラック（キャボット社製 Ｒ３３０）：２５部
・アニオン界面活性剤（第一工業製薬社製、ネオゲンＲＫ）：２部
・イオン交換水：１２５部
以上の成分を混合し、溶解し、高圧衝撃式分散機アルティマイザー（（株）スギノマシン製、ＨＪＰ３０００６）を用いて１時間分散して着色剤（カーボンブラック）を分散させてなる着色剤分散液を調製した。着色剤分散液における着色剤（カーボンブラック）の体積平均粒径は０．１２μｍ、着色剤粒子濃度は２４質量％であった。 
【０２０５】
〔離型剤分散液の調製〕
・パラフィンワックス（日本精鑞ＨＮＰ０１９０）：１００部
・アニオン界面活性剤（日油社製、ニューレックスＲ）：２部
・イオン交換水：３００部
以上の成分を９５℃に加熱して、ホモジナイザー（ＩＫＡ社製、ウルトラタラックスＴ５０）を用いて分散した後、圧力吐出型ゴーリンホモジナイザー（ゴーリン社）で分散処理し、体積平均粒径が２００ｎｍである離型剤を分散させてなる離型剤分散液（離型剤濃度：２０質量％）を調製した。
【０２０６】
〔トナー粒子（１）の作製〕
・樹脂粒子分散液（１）：３２０部
・樹脂粒子分散液（２）：８０部
・着色剤分散液：５０部
・離型剤分散液：６０部
・硫酸アルミニウム（和光純薬工業社製）：１５部
・塩化錫（和光純薬工業社製）：５部 
・界面活性剤水溶液：１０部
・０．３Ｍ硝酸水溶液：５０部
・イオン交換水：５００部
上記成分を丸型ステンレス製フラスコ中に収容して、ホモジナイザー（ＩＫＡ社製、ウルトラタラックスＴ５０）を用いて分散した後、加熱用オイルバス中で４５℃まで攪拌しながら加熱した。４８℃で保持した後、平均粒径が５．２μｍである凝集粒子が形成されていることが確認した段階で、追加の樹脂粒子分散液（２）：１００部を添加後、更に３０分保持した。続いて、１０％のＥＤＴＡ（エチレンジアミン四酢酸）金属塩水溶液（キレストＭｇ・４０、キレスト株式会社製）：０．５部を加えた後、１Ｎの水酸化ナトリウム水溶液をｐＨ７．０に到達するまで穏やかに添加した。その後、攪拌を継続しながら９０℃まで加熱し、２時間保持した後、反応生成物をろ過し、イオン交換水で洗浄した後、真空乾燥機を用いて乾燥してトナー粒子（１）を得た。トナー粒子（１）の体積平均粒径Ｄ５０ｖを測定したところ６．２μｍであり、体積平均粒度分布指標ＧＳＤｖは１．２０であった。ルーゼックス社製のルーゼックス画像解析装置で形状観察を行ったところ、粒子の形状係数ＳＦ１は１３５で非球状であることが観察された。またトナー粒子（１）のガラス転移温度は５２℃であった。
【０２０７】
［外添剤の作製］
（シリカ粒子分散液（１）の調製）
攪拌機、滴下ノズル、温度計を具備した１．５Ｌのガラス製反応容器にメタノール３００部、１０％アンモニア水７０部を添加して混合し、アルカリ触媒溶液を得た。
このアルカリ触媒溶液を３０℃に調整した後、攪拌しながら、テトラメトキシシラン１８５部と８．０％アンモニア水５０部とを同時に滴下を行い、親水性のシリカ粒子分散液（固形分濃度１２．０質量％）を得た。ここで、滴下時間は３０分とした。
その後、得られたシリカ粒子分散液をロータリーフィルターＲ−ファイン(寿工業社製)で固形分濃度４０質量％まで濃縮した。この濃縮したものをシリカ粒子分散液（１）とした。
【０２０８】
（シリカ粒子分散液（２）〜（８）の調製）
シリカ粒子分散液（１）の調製において、表１に従って、アルカリ触媒溶液（メタノール量、及び１０％アンモニア水量）、シリカ粒子生成条件（アルカリ触媒溶液へのテトラメトキシシラン（ＴＭＯＳと表記）及び８％アンモニア水の総滴下量、並びに、滴下時間）を変更した以外は、シリカ粒子分散液（１）と同様にして、シリカ粒子分散液（２）〜（８）を調製した。
【０２０９】
以下、表１に、シリカ粒子分散液（１）〜（８）の詳細をまとめて示す。
【０２１０】
【表１】
0006645234.tif 000002
【０２１１】
（表面処理シリカ粒子（Ｓ１）の作製）
シリカ粒子分散液（１）を用いて、以下に示すようにして、シリカ粒子に対し超臨界二酸化炭素雰囲気下でシロキサン化合物による表面処理を行った。なお、表面処理には、二酸化炭素ボンベ、二酸化炭素ポンプ、エントレーナポンプ、撹拌機付きオートクレーブ（容量５００ｍｌ）、圧力弁を具備した装置を用いた。
【０２１２】
まず、撹拌機付きオートクレーブ（容量５００ｍｌ）へ、シリカ粒子分散液（１）を２５０部投入し、攪拌機を１００ｒｐｍで回転させた。その後、オートクレーブ内に液化二酸化炭素を注入し、ヒーターにより昇温しながら二酸化炭素ポンプにより昇圧し、オートクレーブ内を１５０℃、１５ＭＰａの超臨界状態とした。圧力弁でオートクレーブ内を１５ＭＰａに保ちながら二酸化炭素ポンプより超臨界二酸化炭素を流通させ、シリカ粒子分散液（１）からメタノールと水を除去し（溶媒除去工程）、シリカ粒子（未処理のシリカ粒子）を得た。
【０２１３】
次に、流通した超臨界二酸化炭素の流通量（積算量：標準状態の二酸化炭素の流通量として測定）が９００部となった時点で、超臨界二酸化炭素の流通を停止した。
その後、ヒーターにより温度１５０℃、二酸化炭素ポンプにより圧力１５ＭＰａを維持し、オートクレーブ内で二酸化炭素の超臨界状態を維持させた状態で、上記シリカ粒子（未処理のシリカ粒子）１００部に対して、予め疎水化処理剤としてヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ：有機合成薬品工業社製）２０部に、シロキサン化合物として、粘度１００００ｃＳｔであるジメチルシリコーンオイル（ＤＳＯ：商品名「ＫＦ-９６（信越化学工業社製）」）０．３部を溶解した処理剤溶液をエントレーナポンプにてオートクレーブ内に注入した後、撹拌しながら、１８０℃で２０分間反応させた。その後、再度超臨界二酸化炭素を流通させ、余剰の処理剤溶液を除去した。その後、撹拌を停止し、圧力弁を開けてオートクレーブ内の圧力を大気圧まで開放し温度を室温（２５℃）まで下げた。
このように、溶媒除去工程、シロキサン化合物による表面処理を順次行い、表面処理シリカ粒子（Ｓ１）を得た。
【０２１４】
（表面処理シリカ粒子（Ｓ２）〜（Ｓ５）、（Ｓ７）〜（Ｓ９）、（Ｓ１２）〜（Ｓ１７）の作製）
表面処理シリカ粒子（Ｓ１）の作製において、表２に従って、シリカ粒子分散液、表面処理条件（処理雰囲気、シロキサン化合物（種、粘度及びその添加量）、疎水化処理剤及びその添加量）を変更した以外は、表面処理シリカ粒子（Ｓ１）と同様にして、表面処理シリカ粒子（Ｓ２）〜（Ｓ５）、（Ｓ７）〜（Ｓ９）、（Ｓ１２）〜（Ｓ１７）を作製した。
【０２１５】
（表面処理シリカ粒子（Ｓ６）の作製）
表面処理シリカ粒子（Ｓ１）の作製で用いたシリカ粒子分散液（１）と同様の分散液を用いて、以下に示すようにして、シリカ粒子に対し大気雰囲気下でシロキサン化合物による表面処理を行った。
シリカ粒子分散液（１）の作製に用いた反応容器にエステルアダプターと冷却管を取り付け、シリカ粒子分散液（１）を６０〜７０℃に加熱しメタノールを留去したところで水を添加し、さらに７０〜９０℃に加熱しメタノールを留去しシリカ粒子の水性分散液を得た。この水性分散液中のシリカ固形分１００部に対し室温でメチルトリメトキシシラン（ＭＴＭＳ：信越化学工業社製）３部を添加し２時間反応させてシリカ粒子表面の処理を行った。この表面処理分散液にメチルイソブチルケトンを添加した後、８０℃〜１１０℃に加熱しメタノール水を留去し、得られた分散液中のシリカ固形分１００部に対し室温でヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ：有機合成薬品工業社製）８０部と、シロキサン化合物として粘度１００００ｃＳｔであるジメチルシリコーンオイル（ＤＳＯ：商品名「ＫＦ-９６（信越化学工業社製）」）１．０部を添加し、１２０℃で３時間反応させ、冷却した後、噴霧乾燥（スプレードライ）により乾燥し、表面処理シリカ粒子（Ｓ６）を得た。
【０２１６】
（表面処理シリカ粒子（Ｓ１０）の作製）
シリカ粒子分散液（１）の代わりにヒュームドシリカＯＸ５０（ＡＥＲＯＳＩＬ  ＯＸ５０、日本アエロジル社製）を用いた以外は、表面処理シリカ粒子（Ｓ１）に準じて、表面処理シリカ粒子（Ｓ１０）を作製した。すなわち、表面処理シリカ粒子（Ｓ１）の作製と同じ撹拌機付きオートクレーブへＯＸ５０を１００部投入し、攪拌機を１００ｒｐｍで回転させた。その後、オートクレーブ内に液化二酸化炭素を注入し、ヒーターにより昇温しながら二酸化炭素ポンプにより昇圧し、オートクレーブ内を１８０℃、１５ＭＰａの超臨界状態とした。圧力弁でオートクレーブ内を１５ＭＰａに保ちながら、予め疎水化処理剤としてヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ：有機合成薬品工業社製）２０部に、シロキサン化合物として粘度１００００ｃＳｔであるジメチルシリコーンオイル（ＤＳＯ：商品名「ＫＦ-９６（信越化学工業社製）」）０．３部を溶解した処理剤溶液をエントレーナポンプにてオートクレーブ内に注入した後、撹拌しながら、１８０℃で２０分間反応させ、その後、超臨界二酸化炭素を流通させ、余剰の処理剤溶液を除去し、表面処理シリカ粒子（Ｓ１０）を得た。
【０２１７】
（表面処理シリカ粒子（Ｓ１１）の作製）
シリカ粒子分散液（１）の代わりにヒュームドシリカＡ５０（ＡＥＲＯＳＩＬ  Ａ５０、日本アエロジル社製）を用いた以外は、表面処理シリカ粒子（Ｓ１）に準じて、表面処理シリカ粒子（Ｓ１１）を作製した。すなわち、表面処理シリカ粒子（Ｓ１）の作製と同じ撹拌機付きオートクレーブへＡ５０を１００部投入し、撹拌機を１００ｒｐｍで回転させた。その後、オートクレーブ内に液化二酸化炭素を注入し、ヒーターにより昇温しながら二酸化炭素ポンプにより昇圧し、オートクレーブ内を１８０℃、１５ＭＰａの超臨界状態とした。圧力弁でオートクレーブ内を１５ＭＰａに保ちながら、予め疎水化処理剤としてヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ：有機合成薬品工業社製）４０部に、シロキサン化合物として粘度１００００ｃＳｔであるジメチルシリコーンオイル（ＤＳＯ：商品名「ＫＦ-９６（信越化学工業社製）」）１．０部を溶解した処理剤溶液をエントレーナポンプにてオートクレーブ内に注入した後、撹拌しながら、１８０℃で２０分間反応させ、その後、超臨界二酸化炭素を流通させ、余剰の処理剤溶液を除去し、表面処理シリカ粒子（Ｓ１１）を得た。
【０２１８】
（表面処理シリカ粒子（ＳＣ１）の作製）
表面処理シリカ粒子（Ｓ１）の作製において、シロキサン化合物を添加しない以外は、表面処理シリカ粒子（Ｓ１）と同様にして表面処理シリカ粒子（ＳＣ１）を作製した。
【０２１９】
（表面処理シリカ粒子（ＳＣ２）〜（ＳＣ４）の作製）
表面処理シリカ粒子（Ｓ１）の作製において、表３に従って、シリカ粒子分散液、表面処理条件（処理雰囲気、シロキサン化合物（種、粘度及びその添加量）、疎水化処理剤及びその添加量）を変更した以外は、表面処理シリカ粒子（Ｓ１）と同様にして、表面処理シリカ粒子（ＳＣ２）〜（ＳＣ４）を作製した。
【０２２０】
（表面処理シリカ粒子（ＳＣ５）の作製）
表面処理シリカ粒子（Ｓ６）の作製において、シロキサン化合物を添加しない以外は、表面処理シリカ粒子（Ｓ６）と同様にして表面処理シリカ粒子（ＳＣ５）を作製した。
【０２２１】
（表面処理シリカ粒子（ＳＣ６）の作製）
シリカ粒子分散液（８）をろ過、１２０℃にて乾燥後、電気炉に入れ、４００℃にて６時間焼成し、その後ＨＭＤＳをシリカ粒子に対して１０部、スプレードライにて噴霧、乾燥して表面処理シリカ粒子（ＳＣ６）を作製した。
【０２２２】
（表面処理シリカ粒子の物性）
得られた表面処理シリカ粒子について、平均円相当径、平均円形度、未処理のシリカ粒子に対するシロキサン化合物の付着量（表中「表面付着量」と表記）、圧縮凝集度、粒子圧縮比、及び粒子分散度を既述の方法で測定した。
【０２２３】
以下、表２〜表３に、表面処理シリカ粒子の詳細を一覧にして示す。なお、表２〜表３中の略称については、次の通りである。
・ＤＳＯ  ：ジメチルシリコーンオイル
・ＨＭＤＳ：ヘキサメチルジシラザン
【０２２４】
【表２】
0006645234.tif 000003
【０２２５】
【表３】
0006645234.tif 000004
【０２２６】
［キャリアの作製］
（１）芯材の形成
以下の方法により、芯材を形成した。
［磁性体粒子Ａの作製］
ヘンシェルミキサーに平均粒子径０．２７μｍのマグネタイト粒子５００部を投入し、十分に攪拌した後、シランカップリング剤５．０部を添加し、１００℃まで昇温し３０分間よく攪拌混合することによりシランカップリング剤により被覆されたマグネタイトの磁性体粒子Ａを得た。
【０２２７】
［磁性体粒子Ｂの作製］
ヘンシェルミキサーに平均粒子径０．７μｍのマグネタイト粒子１００部を投入し、十分に攪拌した後、シランカップリング剤０．０３部を添加し、１００℃まで昇温し３０分間よく攪拌混合することによりシランカップリング剤により被覆されたマグネタイトの磁性体粒子Ｂを得た。
【０２２８】
［芯材粒子（１）の作製］
次に、１Ｌの四つ口フラスコにフェノール６０部、３７％ホルマリン９０部、親油化処理された上記磁性体粒子Ａ４２０部、２８％アンモニア水１６部、及び水４０部を攪拌混合した。次いで、攪拌しながら３０分間で４５℃に上昇させた後、フラスコ内の様子を見ながら攪拌翼の回転数を落とし、上記磁性体粒子Ｂ７部、水１０部を添加し、添加が終了した後に再び初期の回転数まで上げ、３０分間で８５℃まで上昇させ、同温度で１８０分間反応させた。その後、２５℃まで冷却し、５００ｍlの水を添加した後、上澄み液を除去、沈殿物を水洗した。これを減圧下で風乾し、芯材粒子（１）を得た。
【０２２９】
（２）樹脂層の形成
以下の方法により、芯材の表面に樹脂層を形成した。
［被覆層形成用原料溶液（ａ）の調製］
下記組成の成分を６０分間スターラーにて攪拌・分散し、被覆層形成用原料溶液（ａ）を調製した。
・トルエン  ：８５部
・スチレン−メタクリレート共重合体（質量比９０：１０）  ：１２部
・カーボンブラック（Ｒ３３０、キャボット製）  ：４部
【０２３０】
［キャリアＣＡ１の作製］
芯材粒子（１）１００部と被覆層形成用原料溶液（ａ）１２部とを真空脱気型ニーダに入れ、攪拌しながら、６０℃にて−２００ｍｍＨｇまで減圧し１５分混合した後、昇温・減圧させ９４℃、−７２０ｍｍＨｇで３０分間攪拌乾燥させ、樹脂被覆粒子を得た。次に７５μｍメッシュの篩分網で篩分を行い、キャリアＣＡ１を得た。
【０２３１】
［キャリアＣＡ２の作製］
芯材粒子（１）の作製において、磁性体粒子Ｂの添加量を１０部に変更した以外は、同様の方法により芯材粒子（２）を作製した。
また、キャリアＣＡ１の作製において、芯材粒子として上記芯材粒子（２）を用い、且つ被覆層形成用原料溶液（ａ）の添加量を１４部に変更した以外は、同様の方法によりキャリアＣＡ２を得た。
【０２３２】
［キャリアＣＡ３の作製］
磁性体粒子Ｂの作製において、平均粒子径０．７μｍのマグネタイト粒子を平均粒子径０．８μｍに変更し、且つ芯材粒子（１）の作製において、磁性体粒子Ｂの添加量を１３部に変更した以外は、同様の方法により芯材粒子（３）を作製した。
また、キャリアＣＡ２の作製において、芯材粒子として上記芯材粒子（３）を用いた以外は、同様の方法によりキャリアＣＡ３を得た。
【０２３３】
［キャリアＣＡ４の作製］
磁性体粒子Ｂの作製において、平均粒子径０．７μｍのマグネタイト粒子を平均粒子径４μｍに変更し、且つ芯材粒子（１）の作製において、磁性体粒子Ｂの添加量を１５部に変更した以外は、同様の方法により芯材粒子（４）を作製した。
また、キャリアＣＡ２の作製において、芯材粒子として上記芯材粒子（４）を用いた以外は、同様の方法により行いキャリアＣＡ４を得た。
【０２３４】
［キャリアＣＡ５の作製］
磁性体粒子Ｂの作製において、平均粒子径０．７μｍのマグネタイト粒子を平均粒子径４．８μｍに変更し、且つ芯材粒子（１）の作製において、磁性体粒子Ｂの添加量を１５部に変更した以外は、同様の方法により芯材粒子（５）を作製した。
また、キャリアＣＡ１の作製において、芯材粒子として上記芯材粒子（５）を用いた以外は、同様の方法によりキャリアＣＡ５を得た。
【０２３５】
［キャリアＣＡ６の作製］
磁性体粒子Ｂの作製において、平均粒子径０．７μｍのマグネタイト粒子を平均粒子径０．３μｍに変更し、且つ芯材粒子（１）の作製において、磁性体粒子Ｂの添加量を１０部に変更した以外は、同様の方法により芯材粒子（６）を作製した。
また、キャリアＣＡ１の作製において、芯材粒子として上記芯材粒子（６）を用いた以外は、同様の方法によりキャリアＣＡ６を得た。
【０２３６】
［キャリアＣＡ７の作製］
磁性体粒子Ｂの作製において、平均粒子径０．７μｍのマグネタイト粒子を平均粒子径５．２μｍに変更し、且つ芯材粒子（１）の作製において、磁性体粒子Ｂの添加量を１５部に変更した以外は、同様の方法により芯材粒子（７）を作製した。
また、キャリアＣＡ１の作製において、芯材粒子として上記芯材粒子（７）を用いた以外は、同様の方法によりキャリアＣＡ７を得た。
【０２３７】
上記キャリアＣＡ１〜５の芯材表面粗さＲａ（「Ｒａ１」と称す）、芯材表層部の粒径範囲、及び樹脂層の表面粗さＲａ（「Ｒａ２」と称す）の測定結果を表に示す。
【０２３８】
【表４】
0006645234.tif 000005
【０２３９】
［実施例１〜２３、比較例１〜８］
表５に示すトナー粒子１００部に、表５に示すシリカ粒子を表５に示す部数で添加し、ヘンシェルミキサーにて２０００ｒｐｍで３分間混合し、各例のトナーを得た。
【０２４０】
そして、得られた各トナーと表５に示すキャリアとを、トナー：キャリア＝５：９５（質量比）の割合でＶブレンダーに入れ、２０分間撹拌し、各現像剤を得た。
【０２４１】
［評価］
各例で得られた現像剤について、トナーの画像端における白抜け（スタベーション）及び色筋を評価した。また、トナーから遊離したシリカ粒子のキャリアへの付着度を評価した。その結果を表５に示す。
【０２４２】
（画像端における白抜け（スタベーション））
下記方法により、画像端における白抜け（スタベーション）の初期における発生度合い及び長期ランニング後の色筋発生状態を評価した。
【０２４３】
[白抜け(スタベーション)]
得られた現像剤を備えた富士ゼロックス社製ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅＩＶ５５７０改造機を、１０℃／ＲＨ１０％の環境下３日間放置し、画像密度１％の画像をＡ４用紙に１００枚出力した後、ハーフトーン画像にベタ画像を組み合わせた評価チャートを１０枚出力し、ベタ画像後端部の白抜け度合いを目視にて確認した。
評価基準は以下の通りである。
Ａ（◎）：白抜けはほぼ見られない
Ｂ（○）：軽微な白抜けが見られる（後端部が白く靄がかって見える）
Ｃ（△）：白抜けが確認できる（白抜け幅≦１ｍｍ）
Ｄ（×）：顕著な白抜けが確認できる（白抜け幅＞１ｍｍ）
【０２４４】
[画像濃度低下評価]
得られた現像剤を備えた富士ゼロックス社製ＡｐｅｏｒｐｏｒｔＩＶ  Ｃ５５７０改造機を用いてソリッド画像を出力し、エックスライト社製反射濃度計（Ｘ−Ｒｉｔｅ９３８）を用いて初期画像濃度（ＳＡＤ）を確認後、３０℃／ＲＨ８０％の環境下で画像密度１％で１万５０００枚出力し、その後１５℃／ＲＨ２０％の環境下で画像密度１００％の画像を１０枚出力し、１枚当たり５点の画像濃度を測定した。平均ＳＡＤを算出し、初期ＳＡＤからの低下度合いを測定した。
評価基準は以下の通りである。
Ａ（◎）：濃度低下はほぼ見られない（ΔＳＡＤ≦０．０５）
Ｂ（○）：軽微な濃度低下が見られるが、実使用上問題は無い（０．０５＜ΔＳＡＤ≦０．１０）
Ｃ（△）：濃度低下が見られるが、実使用上問題は無い（０．１０＜ΔＳＡＤ≦０．２０）
Ｄ（×）：顕著な濃度低下が見られる（ΔＳＡＤ＞０．２０）
【０２４５】
（トナーから遊離したシリカ粒子のキャリアへの付着度）
また、上記評価試験において、トナーから遊離したシリカ粒子のキャリアへの初期における付着度を以下の評価手法で評価した。
テスト後の現像剤を、目開き２０μｍのメッシュを付けたゲージ内に入れ、エアブローによりトナーとキャリアを分離する。得られたキャリアのＳｉ元素量について、（株）島津製作所製の蛍光Ｘ線測定装置であるＸＲＦ１５００を用いて測定し、Ｓｉ元素のＮｅｔ強度を求める。得られたＮｅｔ強度から、キャリアのみのＳｉ元素量について測定して得られたＮｅｔ強度を引いた値を、キャリアへのシリカの移行量とし、以下の基準により評価した
評価基準は以下の通りである。
Ａ（◎）：キャリアへの移行量≦０．５
Ｂ（○）：０．５＜キャリアへの移行量≦０．８
Ｃ（△）：０．８＜キャリアへの移行量≦１．０
Ｄ（×）：キャリアへの移行量＞１．０
【０２４６】
【表５】
0006645234.tif 000006
【０２４７】
上記結果から、本実施例は、比較例に比べ、画像端における白抜け（スタベーション）の発生が抑制されていることがわかる。
特に、圧縮凝集度が７０％以上９５％以下、粒子圧縮比が０．２８以上０．３６以下であるシリカ粒子を外添剤として適用した実施例１〜５、１４、１８〜２３は、他の実施例に比べ、画像端における白抜け（スタベーション）及び色筋の発生が抑制されていることがわかる。
【符号の説明】
【０２４８】
１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｋ  感光体（像保持体の一例）
２Ｙ、２Ｍ、２Ｃ、２Ｋ  帯電ロール（帯電手段の一例）
３  露光装置（静電荷像形成手段の一例）
３Ｙ、３Ｍ、３Ｃ、３Ｋ  レーザ光線
４Ｙ、４Ｍ、４Ｃ、４Ｋ  現像装置（現像手段の一例）
５Ｙ、５Ｍ、５Ｃ、５Ｋ  一次転写ロール（一次転写手段の一例）
６Ｙ、６Ｍ、６Ｃ、６Ｋ  感光体クリーニング装置（クリーニング手段の一例）
８Ｙ、８Ｍ、８Ｃ、８Ｋ  トナーカートリッジ
１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｋ  画像形成ユニット
２０  中間転写ベルト（中間転写体の一例）
２２  駆動ロール
２４  支持ロール
２６  二次転写ロール（二次転写手段の一例）
３０  中間転写体クリーニング装置
５０Ａ、５０Ｂ  磁性体分散型樹脂被覆キャリア
５２  芯材
５４  樹脂被覆層
５６  シリカ粒子
１０７  感光体（像保持体の一例）
１０８  帯電ロール（帯電手段の一例）
１０９  露光装置（静電荷像形成手段の一例）
１１１  現像装置（現像手段の一例）
１１２  転写装置（転写手段の一例）
１１３  感光体クリーニング装置（クリーニング手段の一例）
１１５  定着装置（定着手段の一例）
１１６  取り付けレール
１１８  露光のための開口部
１１７  筐体
２００  プロセスカートリッジ
３００  記録紙（記録媒体の一例）
Ｐ  記録紙（記録媒体の一例）
【図１】
0006645234.tif 000007
【図２】
0006645234.tif 000008
【図３】
0006645234.tif 000009