(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
多孔質ガラス母材を収容して焼結を行うために炉体内に配置された炉心管と、
前記炉心管内にガスを供給する供給口と、
前記炉心管内からガスを排気するために排気管を介して排ガス処理装置に接続された排気口と、
前記排気口から前記排ガス処理装置への引き圧を発生させるように前記排気管の途中に設けられたエジェクターと、
当該エジェクターに接続され前記引き圧を発生させるための気体の流量を調整する流量調整器と、
前記炉心管内の圧力を測定する圧力測定部と、
前記圧力測定部の測定結果に基づいて、前記流量調整器によって前記気体の流量を調整して、前記排気口から前記排ガス処理装置への所定の引き圧を発生させて前記炉心管内の圧力を所定の圧力に維持する制御部と、
を備え、
前記排気管に引き圧を調整するための調節弁が設けられておらず、
前記炉心管は、
第一炉心管と、
前記第一炉心管内に配置された第二炉心管と、を備え、
前記第一炉心管と前記第二炉心管との間には、中間室が画成されており、
前記排気口は、前記中間室に設けられており、
前記圧力測定部は、前記中間室の圧力を測定し、
前記制御部は、前記圧力測定部によって測定された前記中間室の圧力の測定結果に基づいて、前記流量調整器によって前記気体の流量を調整して、前記中間室内の圧力を所定の圧力に維持する、
多孔質ガラス母材の焼結装置。
【請求項２】
炉体内に配置された炉心管と、前記炉心管内にガスを供給する供給口と、前記炉心管内からガスを排気するために排気管を介して排ガス処理装置に接続された排気口と、を備え、前記炉心管が第一炉心管と前記第一炉心管内に配置された第二炉心管とによって構成され、前記第一炉心管と前記第二炉心管との間に中間室が画成されており、前記排気口が前記中間室に設けられている焼結装置を用いて、前記炉心管内に多孔質母材を収容して焼結を行う多孔質ガラス母材の焼結方法であって、
前記排気管に引き圧を調整するための調整弁を設けることなく、前記排気口から前記排ガス処理装置への引き圧を発生させるように前記排気管の途中にエジェクターを配置し、
前記中間室の圧力を測定して、測定された前記中間室の圧力の測定結果に基づいて、前記エジェクターに前記引き圧を発生させるための気体の流量を調節して前記中間室内の圧力を所定圧力に維持しながら、前記多孔質ガラス母材を焼結する、多孔質ガラス母材の焼結方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、多孔質ガラス母材の焼結装置および焼結方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
多孔質ガラス母材を焼結するための焼結装置が知られている（例えば、特許文献１、２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開昭６３−１５９２３２号公報
【特許文献２】特開２００２−０６８７７０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記特許文献１、２などの多孔質ガラス母材の焼結装置は、排気管を介して排ガスを排出させている。この排気管はスクラバーなどの排ガス処理装置に接続されている。通常、排ガス処理装置は、誘引用のファンを備えており、誘引用のファンによって排気の引き圧を発生させて排気管を介して排ガスを排出させている。ところが、誘引用のファンを用いると圧力変動が生じるため、引き圧を一定にすることが困難であった。このため、焼結装置における炉心管内外の圧力差が変動し、炉心管の隙間からガス漏れが生じるおそれがあった。
【０００５】
本発明は、排気管における排気の引き圧の変動を低減できる多孔質ガラス母材の焼結装置および焼結方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一態様に係る多孔質ガラス母材の焼結装置は、
多孔質ガラス母材を収容して焼結を行うために炉体内に配置された炉心管と、
前記炉心管内にガスを供給する供給口と、
前記炉心管内からガスを排気する排気口と、を備え、
前記排気口は、排気管を介して排ガス処理装置に接続されており、
前記排気口から前記排ガス処理装置への引き圧を発生させるように前記排気管の途中に設けられたエジェクターと、当該エジェクターに接続され前記引き圧を発生させるための気体の流量を調整する流量調整器と、を備える。
【０００７】
また、本発明の一態様に係る多孔質ガラス母材の焼結方法は、
炉体内に配置された炉心管と、前記炉心管内にガスを供給する供給口と、前記炉心管内からガスを排気する排気口と、を備え、前記炉心管内からガスを排気する排気口が排気管を介して排ガス処理装置に接続されている焼結装置を用いて、前記炉心管内に多孔質母材を収容して焼結を行う多孔質ガラス母材の焼結方法であって、
前記排気口から前記排ガス処理装置への引き圧を発生させるように前記排気管の途中にエジェクターを配置し、前記エジェクターに前記引き圧を発生させるための気体の流量を調節して前記炉心管内部の圧力を所定圧力に維持しながら、前記多孔質ガラス母材を焼結する。
【発明の効果】
【０００８】
上記発明によれば、排気管における排気の引き圧の変動を低減できる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本実施形態に係る多孔質ガラス母材の焼結装置の一例を示す概略図である。
【図２】焼結装置の焼結炉を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
（本発明の実施形態の説明）
最初に本発明の実施態様を列記して説明する。
本発明の一態様に係る多孔質ガラス母材の焼結装置は、
（１）多孔質ガラス母材を収容して焼結を行うために炉体内に配置された炉心管と、
前記炉心管内にガスを供給する供給口と、
前記炉心管内からガスを排気する排気口と、を備え、
前記排気口は、排気管を介して排ガス処理装置に接続されており、
前記排気口から前記排ガス処理装置への引き圧を発生させるように前記排気管の途中に設けられたエジェクターと、当該エジェクターに接続され前記引き圧を発生させるための気体の流量を調整する流量調整器と、を備える。
上記構成によれば、排気口から排ガス処理装置への引き圧を発生させるように、排気管の途中にエジェクターが設けられているので、排気管における排気の引き圧の変動を低減できる。これにより、焼結装置における炉心管内外の圧力差が安定するので炉心管の隙間からのガス漏れを抑制することができる。また、排気管に引き圧を調整するための調整弁を設ける必要がないので、調整弁に排ガス中に含まれている固形物が詰まるという問題は生じない。
【００１１】
（２）前記炉心管内の圧力を測定する圧力測定部と、
前記圧力測定部の測定結果に基づいて、前記流量調整器によって前記気体の流量を調整して、前記排気口から前記排ガス処理装置への所定の引き圧を発生させて前記炉心管内の圧力を所定の圧力に維持する制御部と、
を備えることが好ましい。
圧力測定部の測定結果に基づいて流量調整器によって気体の流量を調整することで、排気口から排ガス処理装置への所定の引き圧を発生させることができ、炉心管内の圧力を所定の圧力に維持することができる。
【００１２】
（３）前記炉心管は、
第一炉心管と、
前記第一炉心管内に配置された第二炉心管と、を備え、
前記第一炉心管と前記第二炉心管との間には、中間室が画成されており、
前記排気口は、前記中間室に設けられており、
前記圧力測定部は、前記中間室の圧力を測定し、
前記制御部は、前記圧力測定部によって測定された前記中間室の圧力の測定結果に基づいて、前記流量調整器によって前記気体の流量を調整して、前記中間室内の圧力を所定の圧力に維持することが好ましい。
炉心管が第一炉心管と第一炉心管内に配置された第二炉心管とを備え、第一炉心管と第二炉心管との間には中間室が画成されており、排気口は中間室に設けられている焼結装置において、中間室の圧力の測定結果に基づいてエジェクターに引き圧を発生させるための気体の流量を調整して、中間室内の圧力を所定の圧力に維持しながら多孔質ガラス母材を焼結することで、排気管における排気の引き圧の変動を低減できる。
【００１３】
また、本発明の一態様に係る多孔質ガラス母材の焼結方法は、
（４）炉体内に配置された炉心管と、前記炉心管内にガスを供給する供給口と、前記炉心管内からガスを排気する排気口と、を備え、前記炉心管内からガスを排気する排気口が排気管を介して排ガス処理装置に接続されている焼結装置を用いて、前記炉心管内に多孔質母材を収容して焼結を行う多孔質ガラス母材の焼結方法であって、
前記排気口から前記排ガス処理装置への引き圧を発生させるように前記排気管の途中にエジェクターを配置し、前記エジェクターに前記引き圧を発生させるための気体の流量を調節して前記炉心管内部の圧力を所定圧力に維持しながら、前記多孔質ガラス母材を焼結する。
上記方法によれば、炉体内に配置された炉心管と、炉心管内にガスを供給する供給口と、炉心管内からガスを排気する排気口と、を備え、炉心管内からガスを排気する排気口が排気管を介して排ガス処理装置に接続されている焼結装置を用いて、炉心管内に多孔質母材を収容して焼結を行う際に、排気管の途中にエジェクターを配置して、排気口から排ガス処理装置への引き圧を発生させるようにすることで、排気管における排気の引き圧の変動を低減できる。これにより、焼結装置における炉心管内外の圧力差が安定するので炉心管の隙間からのガス漏れを抑制することができる。また、排気管に引き圧を調整するための調整弁を設ける必要がないので、調整弁に排ガス中に含まれている固形物が詰まるという問題は生じない。
【００１４】
（５）前記炉心管が第一炉心管と前記第一炉心管内に配置された第二炉心管とによって構成され、前記第一炉心管と前記第二炉心管との間に中間室が画成されており、前記排気口が前記中間室に設けられている前記焼結装置を用いて、
前記中間室の圧力を測定して、測定された前記中間室の圧力の測定結果に基づいて、前記気体の流量を調整して前記中間室内の圧力を所定の圧力に維持しながら、前記多孔質ガラス母材を焼結することが好ましい。
炉心管が第一炉心管と第一炉心管内に配置された第二炉心管とを備え、第一炉心管と第二炉心管との間には中間室が画成されており、排気口は中間室に設けられている焼結装置において、中間室の圧力の測定結果に基づいてエジェクターに引き圧を発生させるための気体の流量を調整して、中間室内の圧力を所定の圧力に維持しながら多孔質ガラス母材を焼結することで、排気管における排気の引き圧の変動を低減できる。
【００１５】
（本発明の実施形態の詳細）
本発明の実施形態に係る多孔質ガラス母材の焼結装置および焼結方法の具体例を、以下に図面を参照しつつ説明する。
なお、本発明はこれらの例示に限定されるものではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【００１６】
図１は、多孔質ガラス母材の焼結装置の一例を示す図である。
図１に示すように、焼結装置１００は、焼結炉３０と、排ガス処理装置７０と、焼結炉３０から排ガス処理装置７０へと配管されているガス排気管１４の途中に設けられたエジェクター５０とを備えている。
焼結炉３０は、ガラス微粒子が堆積されたガラス微粒子堆積体（多孔質ガラス母材）１を脱水および焼結させる炉である。排ガス処理装置７０は、焼結炉３０からの排ガスを処理する、例えばスクラバーなどの排ガス処理機能を有する装置である。エジェクター５０は、焼結炉３０から排ガス処理装置７０への引き圧を発生させる装置である。
【００１７】
図２は、焼結炉３０の詳しい構成を示す図である。
図２に示すように、焼結炉３０は、炉体７内に、第一炉心管３が配置され、第一炉心管３内に第二炉心管４が第一炉心管３と同軸状に配置されて構成されている。第一炉心管３と第二炉心管４との間には空間（以下、中間室と称する）１０が画成されている。
【００１８】
ＳｉＯ２粒子からなる多孔質ガラス母材１は、出発棒である支持棒２を、第二炉心管４の貫通部４ａ、第一炉心管３の貫通部３ａおよび炉体７の貫通部７ａに通して、第二炉心管４の中心部に吊り下げ支持される。第一炉心管３および第二炉心管４は、ともに高純度のカーボンで作られた円筒状の側壁部材が複数個に分割して多段に積重ねられて、その上下が円板状の蓋と底部材で封止されて構成されている。第一炉心管３における側壁部材同士の接合箇所を接合部３ｂ、第二炉心管４における側壁部材同士の接合箇所を接合部４ｂとする。なお、第一炉心管３および第二炉心管４は、例えば石英の分割構造で構成してもよい。
【００１９】
第一炉心管３の外側には、加熱ヒータ５が配置されている。加熱ヒータ５の外側には断熱材６が配置され、加熱ヒータ５の熱が外部へ熱放散されるのが遮蔽されている。炉体７は、ステンレス等の耐食性に優れた金属で形成され、第一炉心管３および第二炉心管４を含む構成部材の全体を囲い、外囲気から完全に封止する。
【００２０】
第二炉心管４には、多孔質ガラス母材１の脱水処理用および焼結処理用のガス（以下、脱水焼結用ガスと称する）を供給するガス供給管１１と、第二炉心管４内のガスを排気するガス排気管１２とがそれぞれ独立して連結されている。中間室１０の供給口１０ａには、不活性ガスが供給されるガス供給管１３が連結されている。中間室１０の排気口１０ｂには、中間室１０内のガスを排気するガス排気管１４が連結されている。炉体７には、不活性ガスを供給するガス供給管１５と、炉体内のガスを排気するガス排気管１６がそれぞれ独立して連結されている。
【００２１】
第二炉心管４内の空間（以下、炉心室と称する）８には、ガス供給管１１から、多孔質ガラス母材１の脱水焼結用ガスとして、例えばガラスの透明化に有利なヘリウムガスと脱水処理に有利な塩素ガスの混合ガスが供給される。また、脱水焼結用ガスには、例えばＳｉＣｌ４またはＳｉＦ４などの腐食性ガスが含まれる。なお、多孔質ガラス母材１の屈折率調整のために高温で分解するフッ素化合物ガスが供給されてもよい。供給ガスとしては、特に本例に限定されるものではなく、多孔質ガラス母材１の製造プロセスによって異なる種類のガスが使用される。
【００２２】
多孔質ガラス母材１から放出された水分は、供給ガスの一部と加水分解して塩化水素またはフッ化水素等の腐食性のガスを生成する。また、生成されたガスには、シリカ微粒子等の粉塵粒子が含まれている。これらのガスは、ガス排気管１２へ排気され、排ガス処理装置７０で処理される。
【００２３】
炉体７と第一炉心管３との間の空間（以下、炉体室と称する）９には、加熱ヒータ５および断熱材６が酸化による劣化を起こさないように、窒素またはアルゴンガス等の不活性ガスがガス供給管１５から供給される。これらのガスは、ガス排気管１６へ排気され、排ガス処理装置７０で処理される。
【００２４】
第一炉心管３と第二炉心管４との間の中間室１０には、ヘリウムガス等の不活性ガスがガス供給管１３から供給される。これらのガスは、ガス排気管１４へ排気され、排ガス処理装置７０で処理される。中間室１０は、第二炉心管４の炉心室８と炉体７の空間である炉体室９とを遮断する。
【００２５】
図１に示すように、焼結炉３０のガス供給管１３には、中間室１０内の圧力を測定するための圧力計２１（圧力測定部の一例）が接続されている。圧力計２１は、ガス圧制御部２９（制御部の一例）に接続されており、圧力計２１で測定された中間室１０内の圧力値はガス圧制御部２９へ送られる。
【００２６】
排ガス処理装置７０は、各ガス排気管１２、１４、１６に対して、排ガスを排ガス処理装置７０内に誘引する気流を発生させる例えば誘引用ファンを備えている。ところが、誘引用ファンは、例えば回転羽根の回転などによって誘引する気流を発生させているので、誘引する引き圧に圧力変動が生じ、引き圧を一定にすることが困難である。上記のように、各ガス排気管１２、１４、１６に対する引き圧の圧力変動が生じると、焼結装置１００における炉心管内外の圧力差が変動し、炉心管の隙間からガス漏れが生じるおそれがあった。
【００２７】
このため、本発明者らは、特に圧力の細かい調整を必要とする中間室内の圧力を制御するため、中間室のガス排気管に真空ポンプを接続し、排気管に真空ポンプの引き圧を調整する調整弁を設けることを考えた。ところが、調整弁の箇所で排気管内のガス流路が狭くなるため、排ガス中に含まれている固形物が詰まりやすく、調整弁が閉塞して引き圧が弱くなる等の虞があることがわかった。
【００２８】
以上のことを考慮して、本実施形態の焼結装置１００は、ガス排気管１４に、気体を利用してベンチュリ効果により減圧状態を作り出すエジェクター５０が設けられている。エジェクター５０の供給ポート５１には、供給管５４が連結されており、この供給管５４を介して窒素、空気等のガスが供給ポート５１、すなわちエジェクター５０内に供給される。供給管５４には、供給ポート５１に供給されるガスの流量を調整するマスフローコントローラ（mass flow controller：ＭＦＣ、流量調整器の一例）５５が設けられている。ＭＦＣ５５は、ガス圧制御部２９と接続されている。
【００２９】
ガス圧制御部２９は、圧力計２１で測定された中間室１０内の実測圧力値を、中間室１０の圧力として予め設定されている設定圧力値と比較し、その比較結果に基づいてエジェクター５０を制御する。例えば、実測圧力値が設定圧力値より低い場合、ガス圧制御部２９は、供給ポート５１に供給するガスの流量を少なくさせるための流量制御信号をＭＦＣ５５へ送る。また、実測圧力値が設定圧力値より高い場合、ガス圧制御部２９は、供給ポート５１に供給するガスの流量を多くさせるための流量制御信号をＭＦＣ５５へ送る。ＭＦＣ５５は、ガス圧制御部２９から送られてくる制御信号に基づいてガスの流量を調整する。
【００３０】
供給ポート５１に供給されたガスは、高速のガスの流れとなってエジェクター５０内に噴射されエジェクター５０の排気ポート５２に向かって進む。このガスの流れによって負の静圧が生じエジェクター５０内は減圧状態となる。エジェクター５０内が減圧されることにより、エジェクター５０の引込ポート５３に連結されているガス排気管１４内に中間室１０から排ガス処理装置７０へ向く引き圧が発生し、中間室１０から排気された排気ガスがガス排気管１４を介して引込ポート５３に引き込まれる。
【００３１】
供給ポート５１から噴射された高速のガスと引込ポート５３から吸い込まれた排気ガスとは、排気ポート５２からエジェクター５０の外部に排出される。エジェクター５０から排出された排ガスは、排気ポート５２に連結されているガス排気管１４を通って排ガス処理装置７０へ排出される。
【００３２】
エジェクター５０内に供給されるガスの流量が少なくなると、エジェクター５０内に噴射されるガスの流れが弱くなり、エジェクター５０内の減圧量が小さくなる。減圧量が小さくなると、中間室１０のガス排気管１４からエジェクター５０の引込ポート５３に排気ガスを引き込む引込力が弱くなり、中間室１０から排ガス処理装置７０への引き圧が小さくなる。この結果、中間室１０内の圧力が上昇する。これとは反対に、エジェクター５０内に供給されるガスの流量が大きくなると、エジェクター５０内に噴射されるガスの流れが強くなり、エジェクター５０内の減圧量が大きくなる。減圧量が大きくなると、中間室１０のガス排気管１４からエジェクター５０の引込ポート５３に排気ガスを引き込む引込力が強くなり、中間室１０から排ガス処理装置７０への引き圧が大きくなる。このため、中間室１０内の圧力が下降する。このように、ガスの流量をＭＦＣ５５により調整することで、中間室１０から排ガス処理装置７０への引き圧が制御され、中間室１０の圧力が所定の範囲に維持される。
【００３３】
また、ガス供給管１３には、中間室１０へのガスの供給を遮断しうる開閉可能な供給用バルブ２２が設けられている。ガス排気管１４には、中間室１０からのガスの排出を遮断しうる排気用バルブ２３，２４が設けられている。供給用バルブ２２および排気用バルブ２３は、図示を省略するがガス圧制御部２９にそれぞれ接続されており、ガス圧制御部２９の制御によって、焼結装置１００の稼働時にはガスを通過させる開状態に、稼働していないときはガスを遮断する閉状態に調節される。
【００３４】
焼結炉３０のガス供給管１１には、炉心室８内の圧力を測定するための圧力計３１が接続されている。また、ガス供給管１１には炉心室８へのガスの供給を遮断しうる開閉可能な供給用バルブ３２が設けられ、ガス排気管１２には炉心室８からのガスの排出を遮断しうる排気用バルブ３３が設けられている。圧力計３１、供給用バルブ３２および排気用バルブ３３は、図示を省略するがガス圧制御部２９に接続されている。圧力計３１で測定された炉心室８内の圧力値はガス圧制御部２９へ送られる。供給用バルブ３２および排気用バルブ３３は、上記供給用バルブ２２および排気用バルブ２３と同様に制御される。
【００３５】
焼結炉３０のガス供給管１５には、炉体室９内の圧力を測定するための圧力計３４が接続されている。また、ガス供給管１５には炉体室９へのガスの供給を遮断しうる開閉可能な供給用バルブ３５が設けられ、ガス排気管１６には炉体室９からのガスの排出を遮断しうる排気用バルブ３６が設けられている。圧力計３４、供給用バルブ３５および排気用バルブ３６は、図示を省略するがガス圧制御部２９に接続されている。圧力計３４で測定された炉体室９内の圧力値はガス圧制御部２９へ送られる。供給用バルブ３５および排気用バルブ３６は、上記供給用バルブ２２および排気用バルブ２３と同様に制御される。
【００３６】
中間室１０内の圧力は、炉心室８および炉体室９の圧力よりも多少低い圧力になるように、エジェクター５０に連結されたＭＦＣ５５により調整される。
中間室１０の圧力を炉心室８の圧力より多少低くなるように設定すると、炉心室８内のガスは、気密性が不十分な貫通部４ａや接合部４ｂから、中間室１０内に多少漏れる場合がある。しかし、中間室１０内に漏れたガスは、ガス排気管１４を介して焼結炉３０の外部へ排出され、圧力が高い側の炉心室８に漏れることはない。また、中間室１０の圧力を炉体室９の圧力より多少低くなるように設定すると、炉体室９内のガスは、第一炉心管３の貫通部３ａや接合部３ｂから、中間室１０内に多少漏れる場合がある。しかし、中間室１０に漏れたガスは、ガス排気管１４を介して焼結炉３０の外部へ排出され、圧力が高い側の炉体室９に漏れることはない。
【００３７】
すなわち、第二炉心管４内で発生する腐食性のガスは、中間室１０内に漏れることはあっても、炉体７の炉体室９に漏れることはない。また、同様に、断熱材６や炉体７本体の金属から発生する不純物を含んだガスは、中間室１０内に漏れることはあっても、第二炉心管４の炉心室８に漏れることはない。このように、炉心室８内のガスと炉体室９内のガスとを離隔するための隔壁となる第一炉心管３および第二炉心管４に、気密性の不十分な接合部３ｂ，４ｂや貫通部３ａ，４ａが存在したとしても、離隔された各々のガスは互いの室に漏れることが防止されている。
【００３８】
中間室１０と炉心室８および炉体室９との圧力差は、中間室１０から炉心室８、および中間室１０から炉体室９にガスが流入するのを阻止できる程度の僅かな圧力差が存在していればよい。具体的には、中間室１０の圧力Ｐは、１０１．３〜１０２．３ＫＰａ（大気圧は、１０１．３２５ＫＰａ）とされ、炉心室８の圧力はＰ＋（０．０１〜０．２）ＫＰａ、炉体室９の圧力はＰ＋（０．１〜１．０）ＫＰａの範囲とされる。
【００３９】
なお、上記形態では炉体７内に炉心管（第一炉心管３と第二炉心管４）を二重に備える二重炉心管の焼結装置について説明したが、例えば炉体７内に一重の炉心管（上記形態の第二炉心管）のみを備える一重炉心管の焼結装置であっても良い。この場合、エジェクター５０は、その一重の炉心管の排出経路、すなわちその炉心管から排ガス処理装置の間に連結された排気管の途中に取り付けられる。
【００４０】
以上説明したように、本実施形態の構成によれば、中間室１０と排ガス処理装置７０との間に連結されるガス排気管１４の途中にエジェクター５０が設けられるとともに、エジェクター５０に供給されるガスの流量を調整するＭＦＣ５５が設けられている。このため、中間室１０から排ガス処理装置７０へ向けて引き圧を発生させることができるとともに、発生させる引き圧をＭＦＣ５５により制御することでガス排気管１４における排気の引き圧の変動を低減することができる。これにより、焼結装置１００における炉心管内外の圧力差が安定する。
【００４１】
なお、ガス排気管に排気圧調整のための調整弁が設けられている場合、調整弁に排気ガスに含まれる粉塵粒子が付着して詰まりやすく、炉心室および炉体室内の圧力よりも中間室内の圧力が高い圧力逆転現象が起きる場合がある。しかし、本実施形態の構成によれば、ガス排気管１４には調整弁等が設けられていないので、ガス排気管１４の詰まりによる中間室１０と炉心室８および炉体室９との圧力逆転現象の発生は起き得ない。このため、炉心室８から中間室１０内に漏れたガスが炉体室９に漏れることはなく、炉体室９から中間室１０内に漏れたガスが炉心室８に漏れることはないので、製品不良等や設備トラブル等の不具合が発生することはない。
【００４２】
また、ＭＦＣ５５によるガスの流量の調整は、圧力計２１の測定結果に基づいたガス圧制御部２９の制御によって行われている。このため、中間室１０から排ガス処理装置７０への引き圧を精度良く発生させることができるとともに、引き圧の変動をさらに低減することができ、中間室１０内の圧力を所定の圧力に維持することができる。
【００４３】
以上、本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは当業者にとって明らかである。また、上記説明した構成部材の数、位置、形状等は上記実施の形態に限定されず、本発明を実施する上で好適な数、位置、形状等に変更することができる。
【符号の説明】
【００４４】
１  多孔質ガラス母材
２  支持棒
３  第一炉心管
４  第二炉心管
５  加熱ヒータ
６  断熱材
７  炉体
８  炉心室
９  炉体室
１０  中間室
１０ａ  供給口
１０ｂ  排気口
１１、１３、１５  ガス供給管
１２、１４、１６  ガス排気管
２１  圧力計（圧力測定部の一例）
２９  ガス圧制御部（制御部の一例）
３０  焼結炉
５０  エジェクター
５１  供給ポート
５２  排気ポート
５３  引込ポート
５４  供給管
５５  マスフローコントローラ（流量調整器の一例）
７０  排ガス処理装置
１００  焼結装置
【図１】
0006714849.tif 000002
【図２】
0006714849.tif 000003