(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明な基板と、
前記基板の上に形成された、ブラックマトリクス膜、第１の色材膜、第２の色材膜、第３の色材膜およびリペア色材膜を備え、
表示領域において、前記ブラックマトリクス膜は、前記第１の色材膜と前記第２の色材膜の間に配置される第１の部分と、前記第１の色材膜と前記第２の色材膜のどちらか一方と前記第３の色材膜間に配置される第２の部分とを含み、
前記第１の色材膜は、第１の画素開口部を覆い、
前記第２の色材膜は、第２の画素開口部を覆い、
前記第３の色材膜は、第３の画素開口部と、前記ブラックマトリクス膜の前記第２の部分を覆っており、
前記リペア色材膜は、平面視で前記ブラックマトリクス膜の前記第１の部分を覆っていること特徴とするカラーフィルタ基板。
【請求項２】
前記リペア色材膜は、前記第３の色材膜と同一色材膜であることを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタ基板。
【請求項３】
透明な基板と、
前記基板の上に形成された、ブラックマトリクス膜、色材膜およびリペア色材膜を備え、
表示領域において、少なくとも平面視で前記ブラックマトリクス膜と重なる部分で、前記ブラックマトリクス膜の下に、前記リペア色材膜が直接形成されている、カラーフィルタ基板。
【請求項４】
透明な基板の上にブラックマトリクス膜を形成する工程と、
色材膜を形成する工程と、
表示領域において、少なくとも平面視で前記ブラックマトリクス膜と重なる部分で、リペア色材膜を形成する工程と、を備え、
前記ブラックマトリクス膜を形成する工程の後に、前記ブラックマトリクス膜の上面に接触するように前記リペア色材膜を形成する工程を実施し、
前記リペア色材膜を形成する工程の後に、前記色材膜を形成する工程を実施することを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項５】
透明な基板の上にブラックマトリクス膜を形成する工程と、
色材膜を形成する工程と、
表示領域において、少なくとも平面視で前記ブラックマトリクス膜と重なる部分で、リペア色材膜を形成する工程と、を備え、
前記リペア色材膜を形成する工程の後に、前記ブラックマトリクス膜の下面に前記リペア色材膜が接触するように前記ブラックマトリクス膜を形成する工程を実施し、
前記ブラックマトリクス膜を形成する工程の後に、前記色材膜を形成する工程を実施することを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、輝点欠陥画素の黒点化リペアを実現する、カラーフィルター基板およびその製造方法ならびに表示パネル、その製造方法およびその輝点欠陥修正方法ならびに表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的な液晶表示装置の液晶表示パネルは、液晶と、薄膜トランジスタ（Tｈｉｎ  Fｉｌｍ  Tｒａｎｓｉｓｔｏｒ、以下「ＴＦＴ」という）アレイ基板と、ＴＦＴアレイ基板との間に液晶を挟む、カラーフィルタ（Cｏｌｏｒ  Fｉｌｔｅｒ、以下「ＣＦ」という）基板と、を備えている。そして、ＣＦ基板には、ブラックマトリクスが形成され、ＴＦＴアレイ基板には、ブラックマトリクスに覆われる領域に信号配線や走査配線が形成されている。
【０００３】
この液晶表示パネルでは、製造工程における異物混入などによって、輝点欠陥と呼ばれる欠陥が発生することがある。輝点欠陥は、ＴＦＴに与えられる信号の如何に関わらず光が透過するため、画面を黒く表示しようとしても、1つまたは少数の画素が常に点灯する欠陥であり、人間の目に視認され易く、表示品質を著しく低下させる。このため、輝点欠陥が発生した液晶表示パネルは不良品として廃棄されることが多く、液晶表示パネル製造における歩留り低下の原因となっている。
【０００４】
これに対して例えば特許文献１には、液晶表示パネルにおける輝点欠陥を修正する、いわゆる「黒点化リペア」する技術が開示されている。具体的には、輝点欠陥が発生した画素（以下、「輝点欠陥画素」という）にレーザ照射を行うことによって、カラーフィルタの色材とガラス基板との間にギャップを形成する。そして、ギャップが形成された輝点欠陥画素に隣接するブラックマトリクス（樹脂）をレーザ照射によって分解して、ブラックマトリクスをギャップ内に拡散させる。このような技術によれば、輝点欠陥画素を黒点化して目立たなくすることが可能である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特表２０１１−５０４５９９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上述の輝点欠陥画素の黒点化リペアにおいては、分解したブラックマトリクスの大部分が輝点欠陥画素のギャップに流れ込むと、ブラックマトリクスが本来形成されていた位置においてブラックマトリクスの量が減り過ぎてしまうことがある。これにより、ブラックマトリクスが部分的に薄くなり過ぎたり、部分的に存在しなくなったりすることがある。
【０００７】
この結果、ＴＦＴアレイ基板の信号配線や走査配線の隙間を通過した光が、ブラックマトリクスが薄くなり過ぎた箇所または存在しない箇所を透過して、液晶表示パネルの表示面側に漏れる、いわゆる「光漏れ」を起こしてしまい、表示品位を劣化させることがあった。
【０００８】
そこで、本発明は、上記のような問題点を鑑みてなされたものであり、輝点欠陥画素部を黒点化リペアした場合に発生する光漏れを低減することができる、カラーフィルター基板およびその製造方法ならびに表示パネル、その製造方法およびその輝点欠陥修正方法ならびに表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に係るカラーフィルター基板は、透明な基板と、その基板の上に形成された、ブラックマトリクス膜、第１の色材膜、第２の色材膜、第３の色材膜およびリペア色材膜を備え、表示領域において、前記ブラックマトリクス膜は、前記第１の色材膜と前記第２の色材膜の間に配置される第１の部分と、前記第１の色材膜と前記第２の色材膜のどちらか一方と前記第３の色材膜間に配置される第２の部分とを含み、前記第１の色材膜は、第１の画素開口部を覆い、前記第２の色材膜は、第２の画素開口部を覆い、前記第３の色材膜は、第３の画素開口部と、前記ブラックマトリクス膜の前記第２の部分を覆っており、前記リペア色材膜は、平面視で前記ブラックマトリクス膜の前記第１の部分を覆っていること特徴とする。
また、本発明に係る他の局面におけるカラーフィルター基板は、透明な基板と、その基板の上に形成された、ブラックマトリクス膜、色材膜およびリペア色材膜を備え、表示領域において、少なくとも平面視で前記ブラックマトリクス膜と重なる部分で、前記ブラックマトリクス膜の下に、前記リペア色材膜が直接形成されている、ものである。
【００１０】
また、本発明に係るカラーフィルター基板の製造方法は、透明な基板の上にブラックマトリクス膜を形成する工程と、色材膜を形成する工程と、表示領域において、少なくとも平面視で前記ブラックマトリクス膜と重なる部分で、リペア色材膜を形成する工程と、を備え、前記ブラックマトリクス膜を形成する工程の後に、前記ブラックマトリクス膜の上面に接触するように前記リペア色材膜を形成する工程を実施し、前記リペア色材膜を形成する工程の後に、前記色材膜を形成する工程を実施することを特徴とするものである。
また、本発明に係る他の局面におけるカラーフィルター基板の製造方法は、透明な基板の上にブラックマトリクス膜を形成する工程と、色材膜を形成する工程と、表示領域において、少なくとも平面視で前記ブラックマトリクス膜と重なる部分で、リペア色材膜を形成する工程と、を備え、前記リペア色材膜を形成する工程の後に、前記ブラックマトリクス膜の下面に前記リペア色材膜が接触するように前記ブラックマトリクス膜を形成する工程を実施し、前記ブラックマトリクス膜を形成する工程の後に、前記色材膜を形成する工程を実施することを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１３】
本発明に係る、カラーフィルター基板によれば、輝点欠陥画素部が生じたとしても、輝点欠陥画素部を黒点化リペアする際の光漏れを低減することができる。
【００１４】
また、本発明に係るカラーフィルター基板の製造方法によれば、輝点欠陥画素部が生じたとしても、輝点欠陥画素部を黒点化リペアする際の光漏れを低減する表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の実施の形態１のＣＦ基板を示す上面図である。
【図２】本発明の実施の形態１のＣＦ基板を示す断面図である。
【図３】本発明の実施の形態１のＣＦ基板の製造工程の一部を示す断面図である。
【図４】本発明の実施の形態１のＣＦ基板の製造工程の一部を示す断面図である。
【図５】本発明の実施の形態１のＣＦ基板の製造工程の一部を示す断面図である。
【図６】本発明の実施の形態１のＣＦ基板の製造工程の一部を示す断面図である。
【図７】本発明の実施の形態１のＣＦ基板の製造工程の一部を示す断面図である。
【図８】本発明の実施の形態１の液晶表示パネルを示す断面図である。
【図９】本発明の実施の形態１の液晶表示パネルのＣＦ基板を示す断面図である。
【図１０】本発明の実施の形態１の液晶表示パネルのＣＦ基板の輝点欠陥修正方法の一部を示す断面図である。
【図１１】本発明の実施の形態１の液晶表示パネルのＣＦ基板の輝点欠陥修正方法の一部を示す断面図である。
【図１２】本発明の実施の形態１の液晶表示パネルのＣＦ基板の輝点欠陥修正方法の一部を示す断面図である。
【図１３】本発明の実施の形態１の液晶表示パネルのＣＦ基板の輝点欠陥修正方法の一部を示す断面図である。
【図１４】本発明の実施の形態１の液晶表示パネルのＣＦ基板を示す断面図である。
【図１５】本発明の実施の形態２のＣＦ基板を示す上面図である。
【図１６】本発明の実施の形態２のＣＦ基板を示す断面図である。
【図１７】本発明の実施の形態２のＣＦ基板の製造工程の一部を示す断面図である。
【図１８】本発明の実施の形態２のＣＦ基板の製造工程の一部を示す断面図である。
【図１９】本発明の実施の形態２のＣＦ基板の製造工程の一部を示す断面図である。
【図２０】本発明の実施の形態２のＣＦ基板の製造工程の一部を示す断面図である。
【図２１】本発明の実施の形態２のＣＦ基板の製造工程の一部を示す断面図である。
【図２２】本発明の実施の形態２の液晶表示パネルを示す断面図である。
【図２３】本発明の実施の形態２の液晶表示パネルのＣＦ基板を示す断面図である。
【図２４】本発明の実施の形態２の液晶表示パネルのＣＦ基板の輝点欠陥修正方法の一部を示す断面図である。
【図２５】本発明の実施の形態２の液晶表示パネルのＣＦ基板の輝点欠陥修正方法の一部を示す断面図である。
【図２６】本発明の実施の形態２の液晶表示パネルのＣＦ基板を示す断面図である。
【図２７】本発明の実施の形態２の変形例のＣＦ基板を示す断面図である。
【００１７】
実施の形態１．
第１に、本発明の実施の形態１のカラーフィルタ基板であるＣＦ基板１００ａの構成を説明する。図１は、本発明の実施の形態１のＣＦ基板１００ａを示す上面図である。また、図２は、本発明の実施の形態１のＣＦ基板１００ａを示す断面図である。図２は、図１における断面Ａ-Ａを示す。
【００１８】
図１および図２を用いて、ＣＦ基板１００ａの表示領域を説明する。図１および図２において、ＣＦ基板１００ａの表示領域には、透明な基板であるガラス基板１の上に、各画素間の境界部にブラックマトリクス膜４が設けられている。
【００１９】
ブラックマトリクス膜４は遮光性に優れた膜で、例えば、樹脂にカーボンを加えて黒くした樹脂性膜である。また、例えば、ブラックマトリクス膜４の膜厚は１μｍ以上、３μｍ以下である。遮光性を有する膜を形成できてブラックマトリクス膜４としての機能を発揮するという観点では、膜厚が１μｍ以上が好ましい。一方、生産性の観点では、３μｍ以下が好ましい。
【００２０】
図１および図２おいて、ＣＦ基板１００ａは、画素開口部１４を有している。画素開口部１４は、ブラックマトリクス膜４が開口して、光が透過する部分である。画素開口部１４を隙間なく埋めるように、それぞれ、赤色材膜２Ｒ、青色材膜２Ｂおよびリペア色材膜３が設けられている。リペア色材膜３は、表示領域において、少なくとも平面視でブラックマトリクス膜４と重なる部分で、ブラックマトリクス膜４の上面に、直接形成されている。
【００２１】
尚、本発明の明細書において、表示領域とは、画素が形成されている領域を指す。また、本発明の明細書において、上面、下面とは、例えば図２において、ガラス基板１に近い面を下面、その反対側の面を上面という。
【００２２】
リペア色材膜３は、例えば、ハロゲン化銅フタロシアニン顔料または臭素化亜鉛フタロシアニン顔料に、分散剤などを加えたカラーフィルター用色材で形成された、緑（Ｇｒｅｅｎ：Ｇ）リペア色材膜３Ｇであり、相当する特定の波長域の光を透過する。これらのリペア色材膜３（３Ｇ）は、黒点化リペアをする際には、他の色の色材膜２に比べて、レーザ光の照射による熱変性が容易に進み、効率的に可視光の透過率が低下して、黒色化しやすい性質を有する。
【００２３】
リペア色材膜３の膜厚は、例えば、１μｍ以上、３μｍ以下である。リペア色材膜３として色再現性に優れた膜を形成できて、また、黒点化リペア時に黒色化した際に遮光性を有する膜を形成できて、リペア色材膜３としての機能を発揮するという観点では、膜厚が１μｍ以上が好ましい。一方、生産性の観点、および、色再現性に優れた膜を形成できてリペア色材膜３としての機能を発揮するという観点では、３μｍ以下が好ましい。
【００２４】
色材膜２は、例えば赤（Ｒｅｄ：Ｒ）色材で形成され、相当する特定の波長域の光を透過する赤色材膜２Ｒである。例えばポリイミドやアクリル系、エポキシ系の樹脂に着色したもの等が用いられる。
【００２５】
赤色材膜２Ｒの膜厚は、例えば、１μｍ以上、３μｍ以下である。色材膜２として色再現性に優れた膜を形成できて、色材膜２としての機能を発揮するという観点では、膜厚が１μｍ以上が好ましい。一方、生産性の観点、および、色再現性に優れた膜を形成できて色材膜２としての機能を発揮するという観点では、３μｍ以下が好ましい。
【００２６】
もう１つの色材膜２は、例えば青（Ｂｌｕｅ：Ｂ）色材で形成され、相当する特定の波長域の光を透過する青色材膜２Ｂである。例えばポリイミドやアクリル系、エポキシ系の樹脂に着色したもの等が用いられる。
【００２７】
青色材膜２Ｂの膜厚は、例えば、１μｍ以上、３μｍ以下である。色材膜２として色再現性に優れた膜を形成できて、色材膜２としての機能を発揮するという観点では、膜厚が１μｍ以上が好ましい。一方、生産性の観点、および、色再現性に優れた膜を形成できて色材膜２としての機能を発揮するという観点では、３μｍ以下が好ましい。
【００２８】
赤色材膜２Ｒ、青色材膜２Ｂ、および緑リペア色材膜３Ｇは、それぞれブラックマトリクス膜４によって画素ごとに区分されて、順に繰り返し配設されている。
【００２９】
さらに、図２において、ＣＦ基板１００ａの、赤色材膜２Ｒ、青色材膜２Ｂ、および緑リペア色材膜３Ｇの上にオーバーコート膜５が設けられている。オーバーコート膜５は、透明な膜である。オーバーコート膜５は、ブラックマトリクス膜４、赤色材膜２Ｒ、青色材膜２Ｂおよび緑リペア色材膜３Ｇで形成された凹凸を平坦化して、平坦面を形成するとともに、ブラックマトリクス膜４、赤色材膜２Ｒ、青色材膜２Ｂおよび緑リペア色材膜３Ｇなどから不純物が発生した場合でも、不純物の発生部を被覆しているので、カラーフィルタの不純物が液晶１１中へ拡散することを低減することが可能である。
【００３０】
オーバーコート膜５は、例えばポリイミド系、エポキシ系、アクリル系等の樹脂であって、熱硬化タイプまたは光硬化タイプの樹脂が用いられる。
【００３１】
オーバーコート膜５の膜厚は、例えば、１μｍ以上、３μｍ以下である。下層の凹凸を平坦化して平坦面を形成するとともに、色材膜２、リペア色材膜３などの下層膜から発生した不純物の発生部を被覆して、不純物の液晶１１中への拡散を低減する膜を形成できて、オーバーコート膜５としての機能を発揮するという観点では、膜厚が１μｍ以上が好ましい。一方、生産性の観点では、３μｍ以下が好ましい。
【００３２】
さらに、ＣＦ基板１００ａには、オーバーコート膜５の上に、液晶１１に電圧を印加するための対向電極６が設けられている。対向電極６は、例えばインジウム錫酸化物（ＩＴＯ：Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）のような透明導電膜で形成される。
【００３３】
対向電極６の膜厚は、例えば、５０ｎｍ以上、１５０ｎｍ以下である。十分な電気的導通を確保できて、対向電極６としての機能を発揮するという観点では、膜厚が５０ｎｍ以上が好ましい。一方、生産性の観点では、１５０ｎｍ以下が好ましい。８０ｎｍ以上、１２０ｎｍ以下が、より好ましい。
【００３４】
また、ＣＦ基板１００ａには、オーバーコート膜５の上に、ＴＦＴアレイ基板１３とＣＦ基板１００ａとの間の液晶１１層の幅を規定するための、柱状スペーサ（図示せず）が設けられている。
【００３５】
第２に、本発明の実施の形態１のＣＦ基板１００ａの製造方法を説明する。図３から図７は、それぞれ本発明の実施の形態１のＣＦ基板１００ａの製造工程の一部を示す断面図である。
【００３６】
まず、写真製版塗布露光現像装置を用いて、透明な基板であるガラス基板１の上にブラックマトリクス樹脂を塗布し、所定のマスクパターンで露光し、現像、ベーキングを順次おこなって、膜厚約２μｍのブラックマトリクス膜４を形成する（図３）。
【００３７】
次に、写真製版塗布露光現像装置を用いて、リペア色材である緑リペア色材を塗布し、所定のマスクパターンで露光し、現像、ベーキングを順次おこなって、表示領域において、少なくとも平面視でブラックマトリクス膜４と重なる部分で、ブラックマトリクス膜４の上面に接触するように、膜厚約２μｍの緑リペア色材膜３Ｇを形成する。また、同時に、緑色画素開口部１４Ｇにも緑リペア色材膜３Ｇを形成する（図４）。
【００３８】
次に、写真製版塗布露光現像装置を用いて、赤色材を塗布し、所定のマスクパターンで露光し、現像、ベーキングを順次おこなって、膜厚約２μｍの赤色材膜２Ｒを赤色画素開口部１４Ｒに形成する（図５）。
【００３９】
次に、写真製版塗布露光現像装置を用いて、青色材を塗布し、所定のマスクパターンで露光し、現像、ベーキングを順次おこなって、膜厚約２μｍの青色材膜２Ｂを青色画素開口部１４Ｂに形成する（図６）。
【００４０】
次に、写真製版塗布露光現像装置を用いて、オーバーコート樹脂を塗布し、所定のマスクパターンで露光し、現像、ベーキングを順次おこなって、膜厚約２μｍのオーバーコート膜５を形成する（図７）。
【００４１】
次に、スパッタリング装置を用いて、ＩＴＯを膜厚約１００ｎｍ成膜し、オーバーコート膜５の上に、対向電極６を形成する。その後、写真製版塗布露光現像装置を用いて、スペーサー樹脂を塗布し、所定のマスクパターンで露光し、現像、ベーキングを順次おこなって、ＣＦ基板１００ａの対向電極６の上に、柱状スペーサ（図示せず）を形成すると、図１および図２に示すＣＦ基板１００ａとなる。
【００４２】
図８は、本発明の実施の形態１の液晶表示パネル１００ｂを示す断面図である。ＴＦＴアレイ基板１３、およびＣＦ基板１００ａにそれぞれ配向膜（図示せず）等が形成された後、図８に示すように、ＴＦＴアレイ基板１３とＣＦ基板１００ａとがシール材１２によって貼り合わせられ、ＴＦＴアレイ基板１３、ＣＦ基板１００ａおよびシール材１２で形成される領域内に液晶１１が封入され、さらに偏光板（図示せず）等がＴＦＴアレイ基板１３、およびＣＦ基板１００ａにそれぞれ形成された後、表示パネルである液晶表示パネル１００ｂとなる。
【００４３】
さらに、液晶表示パネル１００ｂは、実装工程で駆動回路と接続され、バックライトユニットや筐体などと、組み立てられた後、液晶表示装置となる。
【００４４】
第３に、本発明の実施の形態１の液晶表示パネル１００ｂのＣＦ基板１００ａが、輝点欠陥画素部１６を有する場合の構成を説明する。図９は、本発明の実施の形態１の液晶表示パネルのＣＦ基板２００ａを示す断面図である。
【００４５】
図９は、図２の画素の一部に、輝点欠陥が生じた状態に対応する図である。図９において、ＣＦ基板２００ａの製造時等に異物１０が混入して、青色材膜２Ｂの１つの画素に輝点欠陥が発生し、輝点欠陥画素部１６となっている。図９に示すＣＦ基板２００ａは、青色材膜２Ｂの１つの画素に輝点欠陥が発生し、輝点欠陥画素部１６を有していること以外は、図２と同様の構成であるので説明を省略する。
【００４６】
ここで、ＣＦ基板に輝点欠陥が生じるメカニズムの一例を説明する。ＣＦ基板製造工程では基板面上などに異物１０が混入した場合、様々な欠陥が生じる。このため、写真製版工程をはじめとするＣＦ基板製造工程では、異物１０をできる限り排除した、いわゆる「クリーンルーム」において製造されている。しかし、例えば、製造装置から発生する微小な異物１０がＣＦ基板面上などに混入することがある。
【００４７】
図９に示すように、異物１０が色材膜２やオーバーコート膜５の膜中などに混入すると、ＴＦＴアレイ基板１３とＣＦ基板２００ａとが貼り合わせられて液晶表示パネルとなった時に、ＴＦＴアレイ基板１３の電極と、ＣＦ基板２００ａの対向電極６との間に、異物１０を通じて電気的導通経路ができて、常時輝く輝点欠陥が生じる場合が多い。
【００４８】
第４に、本発明の実施の形態１の液晶表示パネル１００ｂのＣＦ基板１００ａに輝点欠陥が生じた場合において、黒点化リペアを実施した構成について説明する。
【００４９】
図１４は、本発明の実施の形態１の液晶表示パネルのＣＦ基板３００ａを示す断面図である。図１４は、図９の、輝点欠陥画素部１６を黒点化リペアして黒点化リペア画素部１６１とした状態に対応する図である。
【００５０】
図１４において、黒点化リペア画素部１６１の黒点化リペア遮光部１５ａにおいては、ブラックマトリクス膜４が青色材膜２Ｂの下部のギャップ１７の中まで拡散して延在して遮光している。また、黒点化リペア遮光部１５ｂにおいては、ブラックマトリクス膜４が流出したあとに空洞１８ができているものの、緑リペア色材膜３Ｇが黒色化されてリペア色材膜３１となって遮光しており、黒点化リペア画素部１６１全体が遮光されている。その他の構成は、図９に示す構成と同様であるため、説明を省略する。
【００５１】
第５に、本発明の実施の形態１の液晶表示パネルのＣＦ基板２００ａを黒点化リペアして、液晶表示パネルのＣＦ基板３００ａを製造する輝点欠陥修正方法について説明する。図１０から図１３は、本発明の実施の形態１の液晶表示パネルのＣＦ基板２００ａの輝点欠陥修正方法の一部を示す断面図である。
【００５２】
図１０は、輝点欠陥画素部１６の青色材膜２Ｂとガラス基板１との間にギャップ１７を形成することを説明する断面図である。図１０において、ガラス基板１側からガラス基板１を通過して青色材膜２Ｂに向かう方向に、スリット等を使用して青色材膜２Ｂの幅よりも小さいサイズに成型された第１のレーザ光７１が、輝点欠陥画素部１６の青色材膜２Ｂの全面にスキャン走査されて照射される。この第１のレーザ光７１により、図１０に示すように、青色材膜２Ｂとガラス基板１との間にギャップ１７が形成される。
【００５３】
第１のレーザ光７１としては、例えば可視光線レーザであるＹＡＧ（Ｙｔｔｒｉｕｍ  Ａｌｕｍｉｎｉｕｍ  Ｇａｒｎｅｔ）レーザを使用して照射した。第１のレーザ光７１の波長は、色材膜２に吸収されやすい波長を用いると、リペア色材膜２のギャップ１７の形成の効率が高く、生産性が向上する効果を有する。青色材膜２Ｂである場合には、５００ｎｍ〜７５０ｎｍが好適で、例えば、ＹＡＧ第２高調波の波長５３２ｎｍを用いる。
【００５４】
図１１は、輝点欠陥画素部１６のブラックマトリクス膜４に第２のレーザ光（ブラックマトリクス膜流動化レーザ光）７２を照射して、流動化したブラックマトリクス膜４を、ギャップ１７に向けて拡散することを説明する断面図である。図１１において、ガラス基板１側からガラス基板１を通過してブラックマトリクス膜４に向かう方向に、スリット等を使用してブラックマトリクス膜４の幅よりも小さいサイズに成型された第２のレーザ光７２が、輝点欠陥画素部１６のブラックマトリクス膜４にスキャン走査されて照射される。第２のレーザ光７２が照射されたブラックマトリクス膜４が拡散されてギャップ１７に移動する。
【００５５】
第２のレーザ光７２としては、例えば可視光線レーザであるＹＡＧ（Ｙｔｔｒｉｕｍ  Ａｌｕｍｉｎｉｕｍ  Ｇａｒｎｅｔ）レーザを使用して照射した。なお、第２のレーザ光７２の波長は、例えば、ＹＡＧ第２高調波の波長５３２ｎｍを用いる。
【００５６】
図１２は、ギャップ１７の内部にブラックマトリクス膜４が拡散されたことを説明するための断面図である。図１２において、輝点欠陥画素部１６の青色材膜２Ｂとガラス基板１との間のギャップ１７に、流動化したブラックマトリクス膜４を拡散した結果、移動したブラックマトリクス膜４が、黒点化リペア遮光部１５ａにおいて輝点欠陥画素部１６を遮光している。
【００５７】
また、図１２に示すように、第２のレーザ光７２の照射前にブラックマトリクス膜４が本来形成されていた箇所において、ブラックマトリクス膜４が部分的に薄くなり過ぎたり、部分的に存在しなくなったりして、空洞１８が生じることがある。
【００５８】
図１３は、緑リペア色材膜３Ｇに第３のレーザ光（リペア色材膜黒化レーザ光）７３を照射して、緑リペア色材膜３Ｇを黒色化することを説明するための断面図である。図１３において、ガラス基板１側からガラス基板１を通過して緑リペア色材膜３Ｇに向かう方向に、スリット等を使用して緑リペア色材膜３Ｇの幅よりも小さいサイズに成型された第３のレーザ光７３が、ブラックマトリクス膜４が移動した結果生じた空洞１８の上部の緑リペア色材膜３Ｇにスキャン走査されて照射される。
【００５９】
第３のレーザ光７３としては、例えば可視光線レーザを使用して照射した。第３のレーザ光７３の波長は、リペア色材膜３に吸収されやすい波長を用いると、リペア色材膜３の黒色化の効率が高く、生産性が向上する効果を有する。本発明の実施の形態１のリペア色材膜３は、緑リペア色材膜３Gであるので、例えば、第３のレーザ光７３の波長は、４００ｎｍ〜４８０ｎｍまたは６００ｎｍ〜７５０ｎｍを用いる。
【００６０】
第３のレーザ光７３が、緑リペア色材膜３Ｇにスキャン走査されて照射された結果、緑リペア色材膜３Ｇが、黒色化されてリペア色材膜３１となって、黒点化リペア遮光部１５ｂにおいて遮光しており、図１４に示す、液晶表示パネルのＣＦ基板３００ａとなる。
【００６１】
図１４において、液晶表示パネルのＣＦ基板３００ａは、黒点化リペア遮光部１５ａおよび黒点化リペア遮光部１５ｂによって、黒点化リペア画素部１６１全体が遮光されており、このようにして輝点欠陥画素部１６が黒点化リペアされて黒点化リペア画素部１６１となる。
【００６２】
尚、図１１の工程において、拡散されたブラックマトリクス膜４が、十分に輝点欠陥画素部１６の全体を覆って遮光できている場合は、図１３の工程における第３のレーザ光７３の照射は、行わない場合もある。
【００６３】
本発明の実施の形態１のカラーフィルター基板、表示パネルおよび表示装置は、透明なガラス基板１と、ガラス基板１の上に形成された、ブラックマトリクス膜４、色材膜２およびリペア色材膜３を備え、表示領域において、少なくとも平面視でブラックマトリクス膜４と重なる部分で、ブラックマトリクス膜４の上面に、リペア色材膜３が形成されているので、輝点欠陥画素部１６が生じたとしても、輝点欠陥画素部１６を黒点化リペアする際の光漏れを低減することができる。
【００６４】
本発明の実施の形態１のカラーフィルター基板、表示パネルおよび表示装置は、リペア色材膜３は、ブラックマトリクス膜４の上に直接形成されているので、輝点欠陥画素部１６が生じたとしても、輝点欠陥画素部１６を黒点化リペアする際の光漏れを低減することができる。
【００６５】
本発明の実施の形態１のカラーフィルター基板、表示パネルおよび表示装置は、ブラックマトリクス膜４は、ガラス基板１の上に直接形成されているので、輝点欠陥画素部１６が生じたとしても、輝点欠陥画素部１６を黒点化リペアする際の光漏れを低減することができる。
【００６６】
本発明の実施の形態１のカラーフィルター基板、表示パネルおよび表示装置は、リペア色材膜３は、緑リペア色材膜３Ｇであるので、輝点欠陥画素部１６が生じたとしても、輝点欠陥画素部１６を黒点化リペアする際の光漏れを低減することができる。
【００６７】
本発明の実施の形態１のカラーフィルター基板、表示パネルおよび表示装置は、正常画素部のリペア色材膜３よりも、輝点欠陥を有する輝点欠陥画素部１６の少なくとも一部のリペア色材膜３の、可視光の透過率が低下しており、ブラックマトリクス膜４、および、透過率が低下したリペア色材膜３１、のいずれか一方、または、両方により、黒点化リペア画素部１６１が遮光されているので、輝点欠陥画素部１６を黒点化リペアする際の光漏れを低減することができる。
【００６８】
本発明の実施の形態１のカラーフィルター基板の製造方法および表示パネルの製造方法は、透明なガラス基板１の上にブラックマトリクス膜４を形成する工程と、色材膜２を形成する工程と、表示領域において、少なくとも平面視でブラックマトリクス膜４と重なる部分で、リペア色材膜３を形成する工程と、を備えるので、輝点欠陥画素部１６が生じたとしても、輝点欠陥画素部１６を黒点化リペアする際の光漏れを低減する表示装置を提供することができる。
【００６９】
本発明の実施の形態１のカラーフィルター基板の製造方法および表示パネルの製造方法は、ブラックマトリクス膜４を形成する工程の後に、ブラックマトリクス膜４の上面に接触するようにリペア色材膜３を形成する工程を実施し、リペア色材膜３を形成する工程の後に、色材膜２を形成する工程を実施するので、輝点欠陥画素部１６が生じたとしても、輝点欠陥画素部１６を黒点化リペアする際の光漏れを低減する表示装置を提供することができる。
【００７０】
本発明の実施の形態１のカラーフィルター基板の製造方法および表示パネルの製造方法は、ブラックマトリクス膜４を形成する工程は、ガラス基板１の上にブラックマトリクス膜４を直接形成するので、輝点欠陥画素部１６が生じたとしても、輝点欠陥画素部１６を黒点化リペアする際の光漏れを低減する表示装置を提供することができる。
【００７１】
本発明の実施の形態１のカラーフィルター基板の製造方法および表示パネルの製造方法は、リペア色材膜３は、緑リペア色材膜３Ｇであるので、輝点欠陥画素部１６が生じたとしても、輝点欠陥画素部１６を黒点化リペアする際の光漏れを低減する表示装置を提供することができる。
【００７２】
本発明の実施の形態１の表示パネルの輝点欠陥修正方法によれば、輝点欠陥を有する輝点欠陥画素部１６に対応するブラックマトリクス膜４に向けて第２のレーザ光（ブラックマトリクス膜流動化レーザ光）７２を照射することによって、ブラックマトリクス膜４を輝点欠陥画素部１６の領域に拡散させ、さらに、輝点欠陥画素部１６に対応するリペア色材膜３に向けて第３のレーザ光（リペア色材膜黒化レーザ光）７３を照射することによって、リペア色材膜３を黒色化して透過率を低下させるので、輝点欠陥画素部１６を黒点化リペアする際の光漏れを低減することができる。
【００７３】
本発明の実施の形態１の表示パネルの輝点欠陥修正方法によれば、リペア色材膜３は、緑リペア色材膜３Ｇであるので、輝点欠陥画素部１６が生じたとしても、輝点欠陥画素部１６を黒点化リペアする際の光漏れを低減する表示装置を提供することができる。
【００７４】
本発明の実施の形態１では、リペア色材膜３として緑リペア色材膜３Ｇの例を示したが、レーザ光の照射で黒色化し易ければ他の色のリペア色材膜３が用いられてもよい。これらの黒色化しやすい他の色のリペア色材膜３が用いられた場合でも、本発明の実施の形態１における緑リペア色材膜３Ｇが用いられた場合と同様の効果を発揮することができる。
【００７５】
本発明の実施の形態１では、リペア色材膜３として緑リペア色材膜３Ｇ、色材膜２として赤色材膜２Ｒおよび青色材膜２Ｂの、計３色の例を示したが、リペア色材膜３を含んで計２色以上でもよく、同様の効果を発揮する。
【００７６】
本発明の実施の形態１では、画素開口部１４にもリペア色材膜３を形成する例を示したが、リペア色材膜３を画素開口部１４には形成せず、平面視でブラックマトリクス膜４と
重なる部分のみに、ブラックマトリクス膜４の上面に接触するように、リペア色材膜３を形成してもよく、同様の効果を発揮する。
【００７７】
本発明の実施の形態１では、透明な基板の例として、ガラス基板１を用いたが、プラスティックなどの樹脂基板などでもよく、同様の効果を発揮する。特に、レーザ光の波長領域における透過率が高いものは、レーザ光による、色材膜２と基板間のギャップ１７の形成、および、ブラックマトリクス膜４の流動化とギャップ１７への拡散、および、リペア色材膜３の黒色化の効率が高いので、より好ましい。
【００７８】
本発明の実施の形態１では、対向電極６の例としてＩＴＯを示したが、透明導電性材料であればこれに限られるものではなく、例えばＩＺＯ、ＩＴＺＯ、および酸化物半導体（ＩｎＧａＺｎＯなど）を導体化したものが用いられてもよい。これらが用いられた場合でも、本発明の実施の形態１におけるＩＴＯが用いられた場合と同様の効果を発揮することができる。
【００７９】
本発明の実施の形態１では、液晶表示パネルおよび液晶表示装置の例を示したが、カラーフィルターを使用する、他の表示パネルおよび表示装置であってもよく、同様の効果を発揮する。
【００８０】
実施の形態２．
本発明の実施の形態２のＣＦ基板１０１ａは、リペア色材膜３は、ブラックマトリクス膜４の下に直接形成されている点が、本発明の実施の形態１と異なる。
【００８１】
第１に、本発明の実施の形態２のカラーフィルタ基板であるＣＦ基板１０１ａの構成を説明する。図１５は、本発明の実施の形態２のＣＦ基板１０１ａを示す上面図である。
【００８２】
また、図１６は、本発明の実施の形態２のＣＦ基板１０１ａを示す断面図である。図１６は、図１５における断面Ｂ-Ｂを示す。図１５においては図１と、図１６においては図２と、同一または相当する部分には同一符号を付し、説明を省略する。
【００８３】
図１６おいて、緑リペア色材膜３Ｇは、表示領域において、少なくとも平面視でブラックマトリクス膜４と重なる部分で、ブラックマトリクス膜４の下面に、直接形成されている。
【００８４】
第２に、本発明の実施の形態２のＣＦ基板１０１ａの製造方法を説明する。図１７から図２１は、それぞれ本発明の実施の形態２のＣＦ基板１０１ａの製造工程の一部を示す断面図である。
【００８５】
まず、透明な基板であるガラス基板１の上に、表示領域において、少なくとも平面視でブラックマトリクス膜４と重なる予定の部分で、緑リペア色材膜３Ｇを形成する。また、同時に、緑色画素開口部１４Ｇにも緑リペア色材膜３Ｇを形成する（図１７）。
【００８６】
緑リペア色材膜３Ｇを形成する工程の後に、ブラックマトリクス膜４の下面に緑リペア色材膜３Ｇが接触するようにブラックマトリクス膜４を形成し、表示領域において、少なくとも平面視でブラックマトリクス膜４と重なる部分で、ブラックマトリクス膜４の下面と緑リペア色材膜３Ｇを接触させる（図１８）。次に、色材膜２である赤色材膜２Ｒを赤色画素開口部１４Ｒに形成する（図１９）。次に、色材膜２である青色材膜２Ｂを青色画素開口部１４Ｂに形成する（図２０）。以下、実施の形態１と同様なので説明を省略する。このようにして、図１５および図１６に示すＣＦ基板１０１ａとなる。
【００８７】
図２２は、本発明の実施の形態２の液晶表示パネル１０１ｂを示す断面図である。図２２に示すように、ＴＦＴアレイ基板１３とＣＦ基板１０１ａとが貼り合わせられ、表示パネルである液晶表示パネル１０１ｂとなる。さらに、液晶表示パネル１０１ｂは、実装工程で組み立てられた後、液晶表示装置となる。
【００８８】
第３に、本発明の実施の形態２の液晶表示パネル１０１ｂのＣＦ基板１０１ａが、輝点欠陥画素部１６を有する場合の構成を説明する。図２３は、本発明の実施の形態２の液晶表示パネルのＣＦ基板２０１ａを示す断面図である。
【００８９】
図２３は、図１６の画素の一部に、輝点欠陥が生じた状態に対応する図である。図２３において、ＣＦ基板２０１ａの製造時等に異物１０が混入して、青色材膜２Ｂの１つの画素に輝点欠陥が発生し、輝点欠陥画素部１６となっている。図２３に示すＣＦ基板２０１ａは、青色材膜２Ｂの１つの画素に輝点欠陥が発生し、輝点欠陥画素部１６を有していること以外は、図１６と同様の構成であるので説明を省略する。
【００９０】
ここで、ＣＦ基板に輝点欠陥が生じるメカニズムの一例を説明する。ＣＦ基板製造工程では基板面上などに異物１０が混入した場合、様々な欠陥が生じる。しかし、例えば、製造装置から発生する微小な異物１０がＣＦ基板面上などに混入することがある。
【００９１】
図２３に示すように、異物１０が色材膜２やオーバーコート膜５の膜中などに混入すると、ＴＦＴアレイ基板１３とＣＦ基板２０１ａとが貼り合わせられて液晶表示パネルとなった時に、ＴＦＴアレイ基板１３の電極と、ＣＦ基板２０１ａの対向電極６との間に、異物１０を通じて電気的導通経路ができて、常時輝く輝点欠陥が生じる場合が多い。
【００９２】
第４に、本発明の実施の形態２の液晶表示パネル１０１ｂのＣＦ基板１０１ａに輝点欠陥が生じた場合において、黒点化リペアを実施した構成について説明する。
【００９３】
図２６は、本発明の実施の形態２の液晶表示パネルのＣＦ基板３０１ａを示す断面図である。図２６は、図２３の、輝点欠陥画素部１６を黒点化リペアして黒点化リペア画素部１６１とした状態に対応する図である。図２６において、黒点化リペア画素部１６１の黒点化リペア遮光部１５ｃにおいては、黒色化されたリペア色材膜３１が青色材膜２Ｂの下部のギャップ１７の中まで拡散して延在して遮光している。また、遮光部１５ｄにおいては、ブラックマトリクス膜４が遮光しており、黒点化リペア画素部１６１全体が遮光されている。その他の構成は、図２３に示す構成と同様であるため、説明を省略する。
【００９４】
第５に、本発明の実施の形態２の液晶表示パネルのＣＦ基板２０１ａを黒点化リペアして、液晶表示パネルのＣＦ基板３０１ａを製造する輝点欠陥修正方法について説明する。図２４および図２５は、本発明の実施の形態２の液晶表示パネルのＣＦ基板２０１ａの輝点欠陥修正方法の一部を示す断面図である。
【００９５】
図２４は、輝点欠陥画素部１６の青色材膜２Ｂとガラス基板１との間にギャップ１７を形成することを説明する断面図である。図２４において、ガラス基板１側からガラス基板１を通過して青色材膜２Ｂに向かう方向に、スリット等を使用して青色材膜２Ｂの幅よりも小さいサイズに成型された第１のレーザ光７１が、輝点欠陥画素部１６の青色材膜２Ｂの全面にスキャン走査されて照射される。この第１のレーザ光７１により、図２４に示すように、青色材膜２Ｂとガラス基板１との間にギャップ１７が形成される。尚、第１のレーザ光７１照射条件は、本発明の実施の形態１で説明したので省略する。
【００９６】
図２５は、輝点欠陥画素部１６の緑リペア色材膜３Ｇに第３のレーザ光（リペア色材膜黒化レーザ光）７３を照射して、黒色化してリペア色材膜３１とし、さらに流動化させて、リペア色材膜３１をギャップ１７に向けて拡散することを説明する断面図である。
【００９７】
図２５において、ガラス基板１側からガラス基板１を通過して緑リペア色材膜３Ｇに向かう方向に、スリット等を使用して緑リペア色材膜３Ｇのパターン幅よりも小さいサイズに成型された第３のレーザ光７３が、輝点欠陥画素部１６の緑リペア色材膜３Ｇにスキャン走査されて照射される。
【００９８】
第３のレーザ光７３が照射されて、緑リペア色材膜３Ｇが黒色化してリペア色材膜３１となり、さらに拡散されてギャップ１７に移動する。輝点欠陥画素部１６の青色材膜２Ｂとガラス基板１との間のギャップ１７に、流動化したリペア色材膜３１が拡散された結果、図２６に示すように、移動したリペア色材膜３１が、黒点化リペア遮光部１５ｃにおいて黒点化リペア画素部１６１を遮光する。この結果、液晶表示パネルのＣＦ基板３０１ａとなる。尚、第３のレーザ光７３の照射条件は、本発明の実施の形態１で説明したので省略する。
【００９９】
図２６に示すように、第３のレーザ光７３の照射前に緑リペア色材膜３Ｇが本来形成されていた箇所において、黒色化したリペア色材膜３１が部分的に薄くなり過ぎたり、部分的に存在しなくなったりして空洞１８が生じることがある。
【０１００】
このような空洞１８が生じたとしても、本発明の実施の形態２の構成においては、空洞１８の上部にブラックマトリクス膜４があるので、遮光部１５ｄにおいて遮光されている。液晶表示パネルのＣＦ基板３０１ａは、黒点化リペア遮光部１５ｃおよび遮光部１５ｄによって、黒点化リペア画素部１６１全体が遮光されており、このようにして輝点欠陥画素部１６が黒点化リペアされて黒点化リペア画素部１６１となる。
【０１０１】
本発明の実施の形態２のカラーフィルター基板、表示パネルおよび表示装置は、透明なガラス基板１と、ガラス基板１の上に形成された、ブラックマトリクス膜４、色材膜２およびリペア色材膜３を備え、表示領域において、少なくとも平面視でブラックマトリクス膜４と重なる部分で、ブラックマトリクス膜４の下面に、リペア色材膜３が形成されているので、輝点欠陥画素部１６が生じたとしても、輝点欠陥画素部１６を黒点化リペアする際の光漏れを低減することができる。
【０１０２】
本発明の実施の形態２のカラーフィルター基板、表示パネルおよび表示装置は、リペア色材膜３は、ブラックマトリクス膜４の下に直接形成されているので、輝点欠陥画素部１６が生じたとしても、輝点欠陥画素部１６を黒点化リペアする際の光漏れを低減することができる。
【０１０３】
本発明の実施の形態２のカラーフィルター基板、表示パネルおよび表示装置は、リペア色材膜３は、ガラス基板１の上に直接形成されているので、輝点欠陥画素部１６が生じたとしても、輝点欠陥画素部１６を黒点化リペアする際の光漏れを低減することができる。
【０１０４】
本発明の実施の形態２のカラーフィルター基板の製造方法および表示パネルの製造方法は、リペア色材膜３を形成する工程の後に、ブラックマトリクス膜４の下面にリペア色材膜３が接触するようにブラックマトリクス膜４を形成する工程を実施し、ブラックマトリクス膜４を形成する工程の後に、色材膜２を形成する工程を実施するので、輝点欠陥画素部１６が生じたとしても、輝点欠陥画素部１６を黒点化リペアする際の光漏れを低減する表示装置を提供することができる。
【０１０５】
本発明の実施の形態２のカラーフィルター基板の製造方法および表示パネルの製造方法は、リペア色材膜３を形成する工程は、ガラス基板１の上にリペア色材膜３を直接形成するので、輝点欠陥画素部１６が生じたとしても、輝点欠陥画素部１６を黒点化リペアする際の光漏れを低減する表示装置を提供することができる。
【０１０６】
本発明の実施の形態２の表示パネルの輝点欠陥修正方法によれば、輝点欠陥を有する輝点欠陥画素部１６に対応するリペア色材膜３に向けて第３のレーザ光７３を照射することによって、リペア色材膜３を黒色化して透過率を低下させるとともに、黒色化したリペア色材膜３１を輝点欠陥画素部１６の領域に拡散させるので、輝点欠陥画素部１６を黒点化リペアする際の光漏れを低減する表示装置を提供することができる。
【０１０７】
発明の実施の形態２の変形例のＣＦ基板１０２ａについて説明する。図２７は、本発明の実施の形態２の変形例のＣＦ基板１０２ａを示す断面図である。
【０１０８】
図２７は、本発明の実施の形態２の図１６に対応する図である。ＣＦ基板１０２ａの構成を説明する。本発明の実施の形態２の変形例のＣＦ基板１０２ａは、色材膜２が、ブラックマトリクス膜４の上を覆うように形成された点が、本発明の実施の形態２のＣＦ基板１０１ａと異なる。その他は、本発明の実施の形態２と同様なので説明を省略する。
【０１０９】
本発明の実施の形態２の変形例のカラーフィルター基板、表示パネルおよび表示装置は、色材膜２が、ブラックマトリクス膜４の上を覆うように形成されるので、輝点欠陥画素部１６が生じたとしても、輝点欠陥画素部１６を黒点化リペアする際の光漏れをさらに低減することができる。
【０１１０】
なお、本発明は、その発明の範囲内において、各実施の形態を自由に組み合わせたり、各実施の形態を適宜、変形、省略したりすることが可能である。また、「黒点化リペア」とは、輝点欠陥画素部を完全に遮光することだけでなく、輝点欠陥画素部の光透過率をある程度低下させて画素の輝度を暗くすることによって目立ちにくくすることも含むものとする。
【符号の説明】
【０１１１】
１００ａ、２００ａ、３００ａ、１０１ａ、２０１ａ、３０１ａ、１０２ａ  ＣＦ基板
１００ｂ、１０１ｂ  液晶表示パネル
１  ガラス基板
２  色材膜
２Ｒ  赤色材膜
２Ｂ  青色材膜
３  リペア色材膜
３Ｇ  緑リペア色材膜
３１  黒色化したリペア色材膜
４  ブラックマトリクス膜
５  オーバーコート膜
６  対向電極
７  レーザ光
７１  第１のレーザ光
７２  第２のレーザ光（ブラックマトリクス膜流動化レーザ光）
７３  第３のレーザ光（リペア色材膜黒化レーザ光）
１０  異物
１１  液晶
１２  シール材
１３  ＴＦＴアレイ基板
１４  画素開口部
１４Ｇ  緑色画素開口部
１４Ｒ  赤色画素開口部
１４Ｂ  青色画素開口部
１５ａ、１５ｂ、１５ｃ  黒点化リペア遮光部
１５ｄ  遮光部
１６  輝点欠陥画素部
１６１  黒点化リペア画素部
１７  ギャップ
１８  空洞
【図１】
0006714898.tif 000002
【図２】
0006714898.tif 000003
【図３】
0006714898.tif 000004
【図４】
0006714898.tif 000005
【図５】
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【図６】
0006714898.tif 000007
【図７】
0006714898.tif 000008
【図８】
0006714898.tif 000009
【図９】
0006714898.tif 000010
【図１０】
0006714898.tif 000011
【図１１】
0006714898.tif 000012
【図１２】
0006714898.tif 000013
【図１３】
0006714898.tif 000014
【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
0006714898.tif 000017
【図１７】
0006714898.tif 000018
【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
0006714898.tif 000027
【図２７】
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