(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＺｒＯ２、Ｔａ２Ｏ５およびＴｉＯ２からなり、
Ｔａ２Ｏ５／ＺｒＯ２の質量比が、０．８以上２．３３以下であり、
ＴｉＯ２／（ＺｒＯ２+Ｔａ２Ｏ５+ＴｉＯ２）の質量比が、０．０１以上０．０７以下であることを特徴とする蒸着材料。
【請求項２】
ペレット形状を有する請求項１に記載の蒸着材料。
【請求項３】
電子線加熱方式により蒸着材料を使って光学薄膜を成膜したとき、その光学薄膜における屈折率の最大値と最小値の差から求めた屈折率変動幅が、０．０３２未満である請求項１または２に記載の蒸着材料。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被蒸着物の上に光学薄膜を形成するための蒸着材料であって、特に酸化ジルコニウムを含む光学薄膜を形成するための蒸着材料に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学薄膜は、光の干渉現象を利用し、反射防止や特定の波長のみを透過させるバンドパスフィルター、ビームスプリッター、増反射膜などとして、従来から、眼鏡レンズやデジタルカメラレンズ、光ディスクのピックアップレンズといった光を利用する機器に設けられている。これらの機器に加え、最近では自動車に搭載された近赤外域フィルターや、近紫外域フィルターなど、最新のエレクトロニクスには不可欠の材料として広範に使われている。
【０００３】
このような光学薄膜を形成するためには、真空蒸着法やスパッタ法があるが、蒸着材料によって形成される薄膜の成膜速度が速いこと、比較的低コストであること、曲面を含む被蒸着物への比較的均一な成膜が可能といった点から、真空蒸着法が用いられることが多い。
【０００４】
この真空蒸着法における蒸着材料の加熱の方法として、抵抗加熱法や電子線加熱法があるが、低融点材料に限らず高融点材料にも適用でき、蒸着材料によって形成される薄膜の成膜速度を制御しやすいといった点から、電子線加熱法がよく用いられている。
【０００５】
電子線加熱法を用いた真空蒸着法において従来から用いられている蒸着材料として、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）をベースとする高屈折材料が一般的に利用されている（特許文献１）。また、ＺｒＯ２をベースとする薄膜を形成する蒸着材料としては、例えばＺｒＯ２単独の材料に加え、ＺｒＯ２に酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）を加えた材料（特許文献２）や、ＺｒＯ２に酸化チタン（ＴｉＯ２）を加えたものを混合焼結したもの（特許文献３、４）を用いることが多い。また、酸化ジルコニウムから蒸着中に発生するガスを低減するため、金属タンタル、金属ジルコニウムを加えたもの（特許文献５）も用いられることがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００２−２６７８０１号公報
【特許文献２】米国特許第３９３４９６１号公報
【特許文献３】特開平０５−２６４８０４号公報
【特許文献４】特開平０６−０４１７２９号公報
【特許文献５】特開平０６−６７００１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、ＺｒＯ２単独の材料やＺｒＯ２-ＴｉＯ２混合焼結物においては、室温から１００℃程度の温度で蒸着成膜すると、屈折率が変動するという現象が見受けられる。この現象は、真空蒸着室内に含まれる残留ガス量に依存し、蒸着時に雰囲気ガスを導入して真空蒸着室内の圧力を一定にしたとしても発生する。
【０００８】
屈折率の変動現象が発生すると、屈折率が意図せずに変わってしまうため、多層膜成膜後に、目的とする分光特性を得られないことがある。
【０００９】
被蒸着物となる材料を３００℃程度に加熱すると、屈折率の変動幅は小さくなるが、プラスチックレンズのような低融点の材料を被蒸着物とする場合、１００℃を超えるような高温で加熱するとプラスチックレンズの形状を維持できないため、必然的に加熱温度が通常１００℃未満となる。
【００１０】
加熱温度を１００℃未満としても、イオンアシストデポジション（ＩＡＤ）法により屈折率変動幅の小さい薄膜を成膜できるが、膜密度が上がってしまうため膜応力が引張り方向から圧縮方向に変わってしまう。多層膜の成膜では、交互に膜応力方向の異なる薄膜を成膜することで膜応力を緩和しているため、ＺｒＯ２系薄膜をＩＡＤにより蒸着すると膜剥がれが発生する懸念がある。
【００１１】
屈折率変動幅の小さな材料に置き換えることも可能であるが、例えば、Ａｌ２Ｏ３では屈折率がＺｒＯ２から低下し、高屈折材料として機能しないという問題も考えられる。
【００１２】
そこで、本発明は、屈折率を維持しつつ屈折率変動幅が小さい薄膜を成膜することができる蒸着材料を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
以上の目的を達成するために本発明の一形態は、ＺｒＯ２およびＴａ２Ｏ５を含み、Ｔａ２Ｏ５／ＺｒＯ２の質量比が２．５以下であることを特徴とする蒸着材料である。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の一形態における蒸着材料によれば、光学薄膜がＺｒＯ２を基本組成としながらも、真空蒸着室内に含まれる残留ガスに依存する屈折率変動幅を減少でき、屈折率がＺｒＯ２+ＴｉＯ２と同等である光学薄膜を形成することができる蒸着材料が提供される。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本発明を実施するための最良の形態を以下に説明する。ただし、以下に示す形態は、本発明の技術思想を具体化するための蒸着材料を例示するものであって、本発明は蒸着材料を以下に限定するものではない。
（蒸着材料）
【００１６】
本実施形態における蒸着材料は、組成がＺｒＯ２をベースとする蒸着材料であって、Ｔａ２Ｏ５／ＺｒＯ２の質量比が２．５以下である。屈折率を調整するために、ＴｉＯ２／（ＺｒＯ２+Ｔａ２Ｏ５+ＴｉＯ２）の質量比で０．００２以上０．１以下となるＴｉＯ２を添加することができる。
【００１７】
本実施形態における蒸着材料は、真空蒸着において、組成がＺｒＯ２をベースとする蒸着材料であっても、真空蒸着室内に含まれる残留ガスに依存する屈折率変動幅を縮小することができる。すなわち、Ｔａ２Ｏ５／ＺｒＯ２の質量比が２．５以下であることで、真空蒸着室内に含まれる残留ガスに依存する屈折率変動幅が縮小する。なおかつ、屈折率もＺｒＯ２+ＴｉＯ２と同等な光学薄膜を成膜することができる。すなわち、ＴｉＯ２をＴｉＯ２／（ＺｒＯ２+Ｔａ２Ｏ５+ＴｉＯ２）の質量比が０．００２以上０．１以下となるように加えることで、真空蒸着室内に含まれる残留ガスに依存する屈折率変動幅が減少するだけでなく、屈折率もＺｒＯ２+ＴｉＯ２と同等となる光学薄膜を得ることができる。
（蒸着材料の製造方法）
【００１８】
本実施形態における蒸着材料の製造方法は、蒸着材料の原料となる、ＺｒＯ２粉末、Ｔａ２Ｏ５粉末およびＴｉＯ２粉末を調整、混合し、プレス成型した。プレス成形した成形体を真空中で焼成し、蒸着材料を得た。Ｔａ２Ｏ５粉末は、Ｔａ２Ｏ５／ＺｒＯ２の質量比が２．５以下とする。Ｔａ２Ｏ５／ＺｒＯ２の質量比は、より好ましくは０．８以上２．５以下の範囲であり、さらに好ましくは１．０以上１.５以下の範囲である。質量比の下限は、真空蒸着室内に含まれる残留ガスの影響による屈折率変動幅減少の効果が得られる程度とし、一方、質量比の上限は、２．５より大きくすると、電子線加熱時に焼結体全体が溶融してしまうので、使用済み蒸着材料を安定して排出できなくなる虞がある。
【００１９】
ＴｉＯ２粉末は、ＴｉＯ２／（ＺｒＯ２+Ｔａ２Ｏ５+ＴｉＯ２）の質量比が０．００２以上０．１以下の範囲であることが好ましく、より好ましくは重量比が０．０１以上０．０７以下の範囲であることが望ましい。重量比が０．００２以下では、屈折率を調整するには不十分であり、重量比が０．１以上では屈折率が上がり過ぎるからである。
【００２０】
原料粉末を調製して混合する工程は、ＺｒＯ２粉末、Ｔａ２Ｏ５粉末およびＴｉＯ２粉末を、所定の比率となるように秤量し、粉体混合機などで混合する。ビニール袋等で凝集物をほぐしながら混合してもよい。粉末が混合したのち、プレス成型して成形体を得る。
【００２１】
この成形体を乾燥した後、真空中で、温度が１５００℃以上１８００℃以下のもと、１〜１０時間の焼成をすることにより蒸着材料を製造する。
【実施例】
【００２２】
以下、本発明に係る実施例について詳述する。なお、本発明は以下に示す実施例のみに限定されないことは言うまでもない。
（実施例１）
【００２３】
ＺｒＯ２粉末２９０．０ｇ、Ｔａ２Ｏ５粉末２１０．０ｇ（Ｔａ２Ｏ５／ＺｒＯ２＝０．７２）を、１Ｌナイロンポット内に投入し、ともに投入したナイロンボール（粒径２０μｍ）で凝集物をほぐしながら３０分混合し、ポットから取り出した混合物をプレス成形した。この成形体を乾燥した後、真空中１７００℃で２時間焼成することにより実施例１の焼結体を作製した。
（実施例２）
【００２４】
ＺｒＯ２粉末２７５．０ｇ、Ｔａ２Ｏ５粉末２２５．０ｇ（Ｔａ２Ｏ５／ＺｒＯ２＝０．８１）、に変更しこと、焼成温度を１８００℃に変更したこと以外は実施例１と同じ方法で焼結体を作製することにより実施例２の焼結体を作製した。
（実施例３）
【００２５】
ＺｒＯ２粉末２００．０ｇ、Ｔａ２Ｏ５粉末３００．０ｇ（Ｔａ２Ｏ５／ＺｒＯ２＝１．５）、に変更したこと以外は実施例１と同じ方法で焼結体を作製することにより実施例３の焼結体を作製した。
（実施例４）
【００２６】
ＺｒＯ２粉末１５０．０ｇ、Ｔａ２Ｏ５粉末３５０．０ｇ（Ｔａ２Ｏ５／ＺｒＯ２＝２．３３）に変更したこと以外は実施例１と同じ方法で焼結体を作製することにより実施例４の焼結体を作製した。
（実施例５）
【００２７】
ＺｒＯ２粉末２４９．５ｇ、Ｔａ２Ｏ５粉末２４９．５ｇ（Ｔａ２Ｏ５／ＺｒＯ２＝１．０）に変更したこと、ＴｉＯ２粉末１．０ｇ（ＴｉＯ２／（ＺｒＯ２+Ｔａ２Ｏ５+ＴｉＯ２）＝０．００２）を追加したこと以外は実施例１と同じ方法で焼結体を作製することにより実施例５の焼結体を作製した。
（実施例６）
【００２８】
ＺｒＯ２粉末２７２．３ｇ、Ｔａ２Ｏ５粉末２２２．７ｇ（Ｔａ２Ｏ５／ＺｒＯ２＝０．８２）に変更したこと、ＴｉＯ２粉末５．０ｇ（ＴｉＯ２／（ＺｒＯ２+Ｔａ２Ｏ５+ＴｉＯ２）＝０．０１）を追加したこと、焼成温度を１６５０℃に変更したこと以外は実施例１と同じ方法で焼結体を作製することにより実施例６の焼結体を作製した。
（実施例７）
【００２９】
ＺｒＯ２粉末２６４．０ｇ、Ｔａ２Ｏ５粉末２１６．０ｇ（Ｔａ２Ｏ５／ＺｒＯ２＝０．８２）に変更したこと、ＴｉＯ２粉末２０．０ｇ（ＴｉＯ２／（ＺｒＯ２+Ｔａ２Ｏ５+ＴｉＯ２）＝０．０４）を追加したこと、焼成温度を１６５０℃に変更したこと以外は実施例１と同じ方法で焼結体を作製することにより実施例７の焼結体を作製した。
（実施例８）
【００３０】
ＺｒＯ２粉末２４７．５ｇ、Ｔａ２Ｏ５粉末２０２．５ｇ（Ｔａ２Ｏ５／ＺｒＯ２＝０．８２）に変更したこと、ＴｉＯ２粉末５０．０ｇ（ＴｉＯ２／（ＺｒＯ２+Ｔａ２Ｏ５+ＴｉＯ２）＝０．１）を追加したこと、焼成温度を１５５０℃に変更したこと以外は実施例１と同じ方法で焼結体を作製することにより実施例８の焼結体を作製した。
（実施例９）
【００３１】
ＺｒＯ２粉末１９２．０ｇ、Ｔａ２Ｏ５粉末２８８．０ｇ（Ｔａ２Ｏ５／ＺｒＯ２＝１.５）に変更したこと、ＴｉＯ２粉末２０．０ｇ（ＴｉＯ２／（ＺｒＯ２+Ｔａ２Ｏ５+ＴｉＯ２）＝０．１）を追加したこと、焼成温度を１６００℃に変更したこと以外は実施例１と同じ方法で焼結体を作製することにより実施例９の焼結体を作製した。
（実施例１０）
【００３２】
ＺｒＯ２粉末１４４．０ｇ、Ｔａ２Ｏ５粉末３３６．０ｇ（Ｔａ２Ｏ５／ＺｒＯ２＝２．３）に変更したこと、ＴｉＯ２粉末２０．０ｇ（ＴｉＯ２／（ＺｒＯ２+Ｔａ２Ｏ５+ＴｉＯ２）＝０．１）に変更したこと、焼成温度を１６５０℃に変更したこと以外は実施例１と同じ方法で焼結体を作製することにより実施例１０の焼結体を作製した。
（比較例１）
【００３３】
ＺｒＯ２粉末２７０．０ｇ、ＴｉＯ２粉末３０．０ｇに変更したこと、焼成温度を１９００℃に変更したこと以外は実施例１と同じ方法で焼結体を作製することにより比較例１の焼結体を作製した。
（比較例２）
【００３４】
ＺｒＯ２粉末１２５．０ｇ、Ｔａ２Ｏ５粉末３７５．０ｇ（Ｔａ２Ｏ５／ＺｒＯ２＝３．０）に変更したこと、焼成温度を１５５０℃に変更したこと以外は実施例１と同じ方法で焼結体を作製することにより比較例２の焼結体を作製した。
（評価）
【００３５】
実施例１〜１０及び比較例１、２で作製した焼結体について、電子線加熱方式の蒸着装置を用いて、比較例及び比較例の蒸着評価を行った。被蒸着物の温度を８０℃、装置真空度２．０×１０−４Ｐａとし、同一材料を１/４λ（制御波長＝５５０ｎｍ）ずつ合計１０回蒸着し、その最小値を当該材料の屈折率とした。また、最大値と最小値の屈折率差から変動幅を求めた。電子線照射後に、ペレット形状を維持するものを○、溶融などで形状を維持できないものを×とした。
【００３６】
【表１】
0006645012.tif 000002
【００３７】
表１からわかるように、実施例１〜１０の蒸着材料はいずれも、屈折率変動幅が小さく、真空蒸着室内に含まれる残留ガスの影響を受けにくいことが判る。
【００３８】
屈折率は、実施例５〜１０のようにＴｉＯ２を添加することで容易に調整できる。比較例２のようにＴａ２Ｏ５を重量比Ｔａ２Ｏ５／ＺｒＯ２で３．００以上含むと、焼結体上部が溶融してしまい、使用済み蒸着材料を安定して排出できなくなるため、連続蒸着には不向きである。
【産業上の利用可能性】
【００３９】
本発明は、反射防止膜を有するレンズの製造に蒸着材料として好適に用いることができる。