(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被洗浄物を洗浄する洗浄装置であって，先端に被洗浄物を保持する保持ユニットを有するロボットアームと，被洗浄物を洗浄及び乾燥する洗浄部とを備え，
前記洗浄部は，被洗浄物を洗浄及び乾燥を行う洗浄機構と，前記洗浄機構を囲い，洗浄室を構成するケーシングとを有し，
前記洗浄機構は，被洗浄物を洗浄する洗浄ステージと，被洗浄物を乾燥する乾燥ステージとを含み，前記洗浄ステージと前記乾燥ステージが隔壁によって区画されていて，
更に，前記洗浄機構は回転軸を有し，前記隔壁は該回転軸を中心に放射状に伸びていて，前記洗浄機構が該回転軸を中心に水平方向に回転することを特徴とする，洗浄装置。
【請求項２】
前記洗浄機構は，
底板及び天板を更に有し，
前記底板，前記天板，前記隔壁に囲まれた領域が，各ステージを構成する，
請求項１に記載の洗浄装置。
【請求項３】
前記底板及び前記天板が一部切り欠かれた円板であり，
更に，前記洗浄部は，被洗浄物を液中で洗浄する浸漬洗浄機構を備え，該浸漬洗浄機構が前記洗浄機構の下方に配されている，
請求項２に記載の洗浄装置。
【請求項４】
前記洗浄機構は，
複数の洗浄ステージを有し，
前記複数の洗浄ステージが隔壁によって区画されている，
請求項１乃至３のいずれか１項に記載の洗浄装置。
【請求項５】
被洗浄物を洗浄する洗浄装置であって，先端に被洗浄物を保持する保持ユニットを有するロボットアームと，被洗浄物を洗浄及び乾燥する洗浄部とを備え，
前記洗浄部は，被洗浄物を洗浄及び乾燥を行う洗浄機構と，前記洗浄機構を囲い，洗浄室を構成するケーシングとを有し，
前記洗浄機構は，被洗浄物を洗浄する複数の洗浄ステージと，被洗浄物を乾燥する乾燥ステージとを含み，該複数の洗浄ステージと該乾燥ステージとが並び配されており，これら各洗浄ステージ，該乾燥ステージがそれぞれ隔壁によって区画されていて，
前記洗浄機構が，各ステージの並び方向に移動可能である，洗浄装置。
【請求項６】
前記洗浄機構は，
底板及び天板を更に有し，
前記底板，前記天板，前記隔壁で囲まれた領域が，各ステージを構成する，
請求項５に記載の洗浄装置。
【請求項７】
前記隔壁は，
前記ロボットアームのアーム部が通過可能に構成されている，
請求項１乃至請求項６のいずれか１項に記載の洗浄装置。
【請求項８】
前記ケーシングに配された開閉可能なゲートを更に備え，
前記ゲートが閉じた状態において，前記ロボットアームのアームが通過可能な開口部を有する，
請求項１乃至請求項７のいずれか１項に記載の洗浄装置。
【請求項９】
前記ゲートは，
中央の開口部と，
前記開口部の上下左右に配された蛇腹状の扉と，
を有する，
請求項８に記載の洗浄装置。
【請求項１０】
被洗浄物の洗浄度を判定するカメラを更に備える，
請求項１乃至請求項９のいずれか１項に記載の洗浄装置。
【請求項１１】
被洗浄物を搬送する搬送装置を更に備える，
請求項１乃至請求項１０のいずれか１項に記載の洗浄装置。
【請求項１２】
前記ロボットアームを複数備え，
複数のロボットアームが前記洗浄部を介して対向配置されている，
請求項１乃至請求項１１のいずれか１項に記載の洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は，被洗浄物を洗浄する洗浄装置に関し，主として機械加工部品や機械加工製品に付着した金属屑片，樹脂屑片，ガラス粉，有機性油脂分などの残留付着物を洗い流して洗浄する洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来，機械加工部品や機械加工製品などは，加工後に１つ１つ洗浄装置に設置して洗浄流体を噴射して残留付着物を洗い流していた。機械加工部品には，孔が回路状に形成されているような，複雑な内部構造のものがある。このような被洗浄物を洗浄する場合，内部の残留付着物を確実に除去するために，孔の入口に向けて洗浄ノズルの位置や角度を調整して洗浄を行っていた（例えば，特許文献１参照）。
【０００３】
また，被洗浄物を傾斜させて複数の面から洗浄する洗浄装置もある。この洗浄装置は，ワークＷを支持するテ−ブル３０が駆動用モータ３０ｅを支点として水平軸を中心に垂直方向に９０度傾斜し，これによりワ−クＷの洗浄面を多関節形ロボットの正面に向け，多関節形ロボットに設けられた洗浄ノズルがワ−クの各面を洗浄する（例えば，特許文献２参照）。
【０００４】
また，被洗浄物をロボットアームがクランプして洗浄する洗浄装置もある。この洗浄装置は，ロボットアームと，洗浄液の循環清浄化機能を備えた複数の洗浄槽とを備え，ロボットアームが複数の洗浄槽に対し，選択的に被洗浄物を洗浄する洗浄装置である（例えば，特許文献３）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−２７５２６５号公報
【特許文献２】特開平１１−１０４５７８号公報
【特許文献３】特許第４５８９２１６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記した従来の洗浄装置や特許文献１の洗浄装置では，加工後の被洗浄物を洗浄室内の固定具にセットする必要があるため，セット作業に時間がかかると共に，セット作業が猥雑であるという問題があった。また，洗浄室内の固定具を設置するためのスペースが必須であった。また，特許文献２の洗浄装置では，洗浄室内に多関節形ロボットを収容するスペースも確保しなければならないため，洗浄装置全体が大型化するという問題もあった。
【０００７】
また，特許文献３の洗浄装置では，複数の洗浄層を有するなど，洗浄装置が非常に大型となるため，広大な設置スペースが必要となる。また，この洗浄装置では１つの洗浄層で洗浄するため，被洗浄物の十分な洗浄度が得られないおそれがある。また，洗浄後の被洗浄物を乾燥する装置が別途必要となる。
【０００８】
本発明は，上記した課題に鑑みなされたもので，被洗浄物のセット作業を不要とし，効率よく十分な洗浄が可能で，省スペース化を図る洗浄装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に係る一の態様の洗浄装置は，被洗浄物を洗浄する洗浄装置であって，先端に被洗浄物を保持する保持ユニットを有するロボットアームと，被洗浄物を洗浄及び乾燥する洗浄部と，を備え，前記洗浄部は，被洗浄物を洗浄及び乾燥を行う洗浄機構と，前記洗浄機構を囲い，洗浄室を構成するケーシングと，を有し，前記洗浄機構は，被洗浄物を洗浄する洗浄ステージと，被洗浄物を乾燥する乾燥ステージと，を含み，前記洗浄ステージと前記乾燥ステージが隔壁によって区画されていることを特徴とする。
【００１０】
この構成によれば，洗浄機構が洗浄ステージと乾燥ステージを有するので，省スペース化を図ることができる。また，ロボットアームが被洗浄物を保持しながら洗浄ができるので，洗浄部に載置台や固定具を設ける必要がなく，被洗浄物のセット作業が不要となり，効率化が図れる。なお，洗浄ステージにおいては，例えば洗浄ノズルにより洗浄流体を噴射して被洗浄物を洗浄する。また，乾燥ステージにおいては，例えばエアブローにより被洗浄物を水切り乾燥する。
【００１１】
好ましくは，この洗浄装置は，前記洗浄機構が，複数の洗浄ステージを有し，前記複数の洗浄ステージが隔壁によって区画されている。この構成によれば，被洗浄物を複数の洗浄ステージで洗浄することができ，被洗浄物の洗浄度が向上する。
【００１２】
好ましくは，この洗浄装置は，洗浄部に被洗浄物を液中で洗浄する浸漬洗浄機構を更に備え，前記浸漬洗浄機構は，前記洗浄機構の下方に配されている。この構成によれば，浸漬洗浄機構による洗浄を行うことで，被洗浄物が内部管路などを有する複雑な構造の場合でも，内部管路内の残留付着物を効果的に除去でき，洗浄度が向上する。
【００１３】
また，この洗浄装置は，前記洗浄機構が回転軸を有し，前記隔壁が前記回転軸を中心に放射状に伸びていて，前記洗浄機構が前記回転軸を中心に水平方向に回転する。この構成によれば，洗浄機構が回転することで，洗浄ステージや乾燥ステージを回転移動でき，被洗浄物の位置を大きく変更することなく洗浄が可能となる。これにより，ロボットアームの可動域を小さくすることができる。
【００１４】
この態様において好ましくは，前記洗浄機構が，底板及び天板を更に有し，前記底板，前記天板，前記隔壁に囲まれた領域が，各ステージを構成する。この構成によれば，被洗浄物が小さく囲われた空間で洗浄できる。なお，底板，天板，隔壁により囲われた領域であり，周面が開放されているので，ここから被洗浄物をこの領域に容易に出し入れができる。
【００１５】
この態様において好ましくは，前記底板及び前記天板が一部切り欠かれた円板である。この切り欠きにより，被洗浄物を浸漬洗浄機構に容易に出し入れできる。
【００１６】
また，この洗浄装置は，前記洗浄機構において，前記複数の洗浄ステージと前記乾燥ステージとが並び配されており，前記洗浄装置又は前記洗浄部が，各ステージの並び方向に移動可能とする構成でもよい。この構成によれば，洗浄部が並び方向に移動することで，洗浄ステージや乾燥ステージが移動し，被洗浄物の位置を大きく変更することなく洗浄が可能となる。これにより，ロボットアームの可動域を小さくすることができる。ここで，並び方向とは，例えば直線方向や円周方向である。円周方向は，一例としてロボットアームが移動する軌道と略平行とする。
【００１７】
この態様において好ましくは，前記洗浄部は，底板及び天板を更に有し，前記底板，前記天板，前記隔壁で囲まれた領域が，各ステージを構成する。この構成によれば，被洗浄物が小さく囲われた空間で洗浄できる。なお，底板，天板，隔壁により囲われた領域であり，側面が開放されているので，ここから被洗浄物をこの領域に容易に出し入れができる。
【００１８】
また，この洗浄装置は，前記隔壁が，前記ロボットアームのアーム部が通過可能に構成されてもよい。この構成によれば，ロボットアームが被洗浄物の位置を変えることなく，被洗浄物を別の洗浄ステージに移動できる。すなわち，ロボットアームが被洗浄物の出し入れが不要となり，ロボットアームの可動域を小さくできる。
【００１９】
好ましくは，この洗浄装置は，前記ケーシングに配された開閉可能なゲートを更に備え，前記ゲートが閉じた状態において，前記ロボットアームのアームが通過できる開口部を有する。この構成によれば，ゲートを閉じた状態で被洗浄物を洗浄できるので，効果的な洗浄が可能となり，かつ，洗浄流体の外部への飛び散りを抑制できる。また，洗浄及び乾燥を終えた被洗浄物を洗浄室から出す際に，ゲートを開いて取り出すことで，被洗浄物がゲートに飛び散った洗浄流体などに触れず，被洗浄物の不用意な濡れを抑制する。
【００２０】
また，この洗浄装置は，前記ゲートが，中央の開口部と，前記開口部の上下左右４方に配された蛇腹状の扉と，を有する構成としてもよい。
【００２１】
好ましくは，この洗浄装置は，被洗浄物の洗浄度を判定するカメラを更に備える。この構成によれば，被洗浄物が十分に洗浄されたか否かを判定できる。洗浄が不十分であれば，再度洗浄を行うこととすればよい。
【００２２】
また，被洗浄物を搬送する搬送装置を更に備えてもよい。この構成によれば，被洗浄物が搬送装置により搬送され，ロボットアームが被洗浄物をつかみ，被洗浄物を洗浄できる。これにより，洗浄をオートメーション化することも可能となる。
【００２３】
また，この洗浄装置は，前記ロボットアームを複数備え，複数のロボットアームが前記洗浄部を介して対向配置された構成としてもよい。この構成によれば，１つの洗浄部で，２つの被洗浄物を洗浄することも可能となる。これにより，洗浄部を２つ用意することなく，洗浄の効率化が図れる。
【発明の効果】
【００２４】
本発明に係る洗浄装置によれば，被洗浄物を効率よく洗浄できると共に，省スペース化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明の一実施形態に係る洗浄装置の概念図である。
【図２】同洗浄装置の概略構成を示す平面図である。
【図３】同洗浄装置の概略構成を示す正面図である。
【図４】同洗浄装置の概略構成を示す側面図である。
【図５】同洗浄装置のロボットアームの載置台を示す斜視図である。
【図６】同洗浄装置の洗浄部を示す斜視図である。
【図７】同洗浄装置のゲートを示す斜視図である。
【図８】同洗浄装置の洗浄流体の流れを示す回路図である。
【図９】別の実施形態に係る洗浄装置の概念図である。
【図１０】同洗浄装置の洗浄部を示す斜視図である。
【図１１】別の実施形態に係る洗浄装置の隔壁の変形例を示す斜視図である。
【図１２】別の実施形態に係る洗浄装置の概念図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下，本発明に係る実施形態を図面に基づき説明するが，本発明はこの実施形態に限定されるものではない。
【００２７】
＜１．洗浄装置の全体構成＞
図１は，本発明に係る一実施形態の洗浄装置Ａの概念図である。図２は洗浄装置Ａの概略構成を示す平面図であり，図３は同正面図であり，図４は同側面図である。図１〜図４に示すように，洗浄装置Ａは，洗浄部４と，ロボットアーム５と，コンベア６と，を主要な構成として備える。洗浄部４は，洗浄機構１と浸漬洗浄機構２と，これらを覆うケーシング３と，を主要な構成として備える。
【００２８】
洗浄機構１は，水平回転可能に構成されている。浸漬洗浄機構２は，洗浄機構１の下方に配されている（図３参照）。洗浄機構１と浸漬洗浄機構２は，ケーシング３に囲われている。ロボットアーム５は，一対のコンベア６の間に配されていて，一方のコンベア６により搬送された被洗浄物Ｗをつかみ，洗浄機構１に運び入れ，洗浄・乾燥後に他方のコンベア６に運ぶ。
【００２９】
なお，コンベア６の端部には，被洗浄物を検知するセンサ６１が配されている。センサ６１が被洗浄物Ｗを検知すると，ロボットアーム５が被洗浄物Ｗをつかむ。なお，コンベア６は，一対のコンベアにかえて，１つのコンベアを用いてもよい。この場合，ロボットアームは，コンベアの前，すなわちコンベアと洗浄部の間に配する。
【００３０】
ロボットアーム５は，任意の方向に動作するアーム機構５２と，アーム機構５２の先端に設けられ被洗浄物Ｗを保持する保持部５１と，アーム機構５２の載置台５３とを備える。アーム機構５２は，載置台５３に水平回転可能に載置されている。また，載置台５３にはガイドレール５４と，スライド機構５５が設けられている。これにより，載置台５３がスライド可能に構成されており，ロボットアーム５の位置を調整可能になっている（図５参照）。なお，ロボットアーム５の構成は一例であり，アーム機構を備える公知のロボットアームを用いてもよい。
【００３１】
＜２．洗浄部の構成＞
図６は，洗浄部４を構成する洗浄機構１と浸漬洗浄機構２を示す斜視図である。図６に示すように，洗浄機構１は，回転軸１１と，回転軸１１に固定された天板１２と，底板１３と，天板１２と底板１３とを繋ぐ角筒状の構造体１４と，４つの隔壁１５とを備える。天板１２と底板１３は円形の一部が切り欠かれた金属板である。切り欠きは，略９０度の扇形状である。
【００３２】
また，洗浄機構１は，洗浄流体を低圧で噴射して被洗浄物Ｗを洗浄する第１洗浄ステージ１Ａと，洗浄流体を高圧で噴射して被洗浄物Ｗを洗浄する第２洗浄ステージ１Ｂと，エアブローで被洗浄物Ｗを水切り乾燥する乾燥ステージ１Ｃとを備える。各ステージは，天板１２と底板１３と両側の隔壁１５とに囲われていて，周面側が開放された領域である。
【００３３】
第１洗浄ステージ１Ａは，洗浄流体が噴射される複数の噴射ノズルを具備する噴射ノズル群１６が，天板１２と底板１３とに固定されている。噴射ノズル群１６の複数の噴射ノズルから洗浄流体が噴射され，被洗浄物Ｗの表面全体を洗浄する。
【００３４】
第２洗浄ステージ１Ｂは，洗浄流体が噴射される複数の噴射ノズル１７が，天板１２と底板１３とに固定されている。なお，噴射ノズル１７の数は，第１洗浄ステージ１Ａの噴射ノズル１６群のノズル数よりも少なく，噴射ノズル１７からは高圧の洗浄流体が噴射され，噴射ノズル群１６のノズルからは低圧の洗浄流体が噴射される。噴射ノズル１７は，洗浄流体を噴射して，被洗浄物Ｗの孔など局所的な洗浄を行う。
【００３５】
乾燥ステージ１Ｃは，エアブローにより被洗浄物Ｗを水切り乾燥するステージである。エアブローは，例えばエアブローノズルを配して，エアを被洗浄物Ｗに向けて噴射することにより行う。
【００３６】
そして，回転軸１１は回転機構１８に接続されていて，洗浄機構１が水平方向に回転する。洗浄機構１が回転して，第１洗浄ステージ１Ａ，第２洗浄ステージ１Ｂ，乾燥ステージ１Ｃ，の位置を変更する。被洗浄物Ｗに行う工程に対し，これに対応するステージが手前側にくるように移動させる。これにより，ロボットアーム５の位置を大きく変更することなく，様々な工程を行うことができる。
【００３７】
一方，洗浄機構１の下方には，浸漬洗浄機構２が配されている。浸漬洗浄機構２の位置は，洗浄機構１のゲート側のステージの下方である。図６の位置においては，第１洗浄ステージ１Ａの下方となる。浸漬洗浄機構２により，被洗浄物Ｗを洗浄する場合，洗浄機構１の切り欠き部分がゲート側の位置（図６の第１洗浄ステージ１Ａの位置）にある状態とする。これにより，ロボットアーム５の位置を大きく変更することなく，ロボットアーム５の先端を下方に移動させて，被洗浄物Ｗの浸漬洗浄ができる。浸漬洗浄機構２は，洗浄流体が満たされる槽２１と，槽２１の側面に固定された複数の噴射ノズル２２とを備える。噴射ノズル２２は，洗浄流体やエアを噴射する。
【００３８】
洗浄機構１及び浸漬洗浄機構２は，ケーシング３によって囲われていて，ケーシング３により囲われた空間が洗浄室を構成する。また，ケーシング３には，被洗浄物Ｗの出入り口となるゲート３１が取り付けられている。図７に示すように，ゲート３１は，上下一対のゲート部３２，３３と，左右一対のゲート部３４，３５からなる。上下のゲート部３２，３３は，上下方向に伸縮可能な蛇腹状に形成されている。左右一対のゲート部３４，３５は，左右方向に伸縮可能な蛇腹状に形成されている。
【００３９】
ゲート３１は，洗浄室の出入り口を構成し，被洗浄物Ｗを洗浄室に出入りする際にゲート３１を開く。被洗浄物Ｗが洗浄室内に入った状態で，ゲート３１を閉じる。なお，ゲート３１を閉じた状態においても，中央にはロボットアーム５のアームが通過可能な開口が存する状態となっている。また，ゲート３１が蛇腹状に形成されているので，アームが動いた際にも蛇腹が伸縮するため，ゲート３１がアームに干渉せず，アームの動作が妨げられない。
【００４０】
また，ケーシング３には，被洗浄物Ｗの洗浄度を監視するカメラ３６が取り付けられている（図３，図４参照）。これにより，被洗浄物Ｗの洗浄度を測定し，洗浄度が十分でない場合は，再度洗浄，乾燥の工程を行う。また，ケーシング３には，排風機３９が設けられている（図３，図８参照）。これにより，洗浄室内の汚れた空気を吸い出すと共に，洗浄室内の湿度を下げる。
【００４１】
図８は，洗浄装置Ａの洗浄流体の流れを示す回路図である。なお，図中の符号Ｐはポンプを表す。図８に示すように，洗浄部４は，洗浄流体が貯留されるタンク３７を備えていて，洗浄流体を循環させて利用している。タンク３７は，洗浄に利用する洗浄流体を貯留する第１タンク３７Ａと，洗浄後の廃液を一旦貯留する第２タンク３７Ｂを有する。更に，洗浄後の廃液から残留付着物を濾過する第１濾過器３７Ｃと，タンク３７Ｂからタンク３７Ａを更に濾過して，洗浄に利用する洗浄液とする第２濾過器３７Ｄとを有する。
【００４２】
第１タンク３７Ａと，第１洗浄ステージ１Ａの噴射ノズル群１６とがパイプによって接続され，噴射ノズル群１６に洗浄流体が供給される。また，第１タンク３７Ａと，第２洗浄ステージ１Ｂの噴射ノズル１７とがパイプによって接続され，噴射ノズル１７に洗浄流体が供給される。また，第１タンク３７Ａと浸漬洗浄機構２の槽２１，第１タンク３７Ａと噴射ノズル２２，がそれぞれパイプによって接続され，これらに洗浄流体が供給される。
【００４３】
一方，ケーシング３には，洗浄後の洗浄流体を排出する排出口３８が設けられていて，この排出口３８と第２タンク３７Ｂとが第１濾過器３７Ｃを介してパイプによって接続されている。これにより，洗浄後の洗浄流体が，第１濾過器３７Ｃで残留付着物が濾過されて，第２タンク３７Ｂに供給される。
【００４４】
また，第２タンク３７Ｂと第１タンク３７Ａとは，第２濾過器３７Ｄを介して接続されていて，洗浄後の洗浄流体を更に濾過して，第１タンク３７Ａに洗浄流体が戻る。以上により，洗浄流体が循環して利用される。また，第１タンク３７Ａには図示しないヒータが設置されていて，洗浄流体を加温する。
【００４５】
＜３．洗浄装置の動作＞
次に，洗浄装置の動作について説明する。まず，コンベア６によって搬送される被洗浄物Ｗをセンサ６１が検知すると，ロボットアーム５が被洗浄物Ｗをつかむ。そして，ゲート３１が開かれ，ロボットアーム５が被洗浄物Ｗを洗浄室内に運び入れる。
【００４６】
ロボットアーム５は，被洗浄物Ｗを保持したまま，被洗浄物Ｗを浸漬洗浄機構２の槽２１に差し入れる。そして，噴射ノズル２２から洗浄流体やエアが噴射され，被洗浄物Ｗを洗浄する。この時，槽２１が洗浄流体で満たされて，被洗浄物Ｗが液中に浸漬された状態で洗浄される。これにより，被洗浄物Ｗの内部管などに残留した残留付着物を効果的に洗い流すことができる。この時，ロボットアーム５は，必要に応じて被洗浄物Ｗの姿勢を適宜変更しながら洗浄を行う。
【００４７】
なお，浸漬洗浄工程は，洗浄機構１の切り欠きの空間が手前側に位置する状態で行う。これにより，洗浄機構２の上に空間ができ，洗浄機構１が干渉しないため，ロボットアーム５の動きが妨げられない。
【００４８】
浸漬洗浄機構２での洗浄後，ロボットアーム５は被洗浄物Ｗを浸漬洗浄機構２の槽２１から引き抜く。そして，被洗浄物Ｗが引き抜かれた状態のまま，洗浄機構１が略９０度回転して，第２洗浄ステージ１Ｂが手前側にくる。
【００４９】
次に，ロボットアーム５は，被洗浄物Ｗを保持したまま，被洗浄物Ｗを第２洗浄ステージ１Ｂに，開放された周面側から差し入れる。そして，噴射ノズル１７から洗浄流体が噴射され，被洗浄物Ｗを洗浄する。この時，噴射ノズル１７からは洗浄流体が高圧で噴射され，被洗浄物Ｗの孔などを狙い洗浄を行う。同時に，ロボットアーム５は，必要に応じて被洗浄物Ｗの姿勢を適宜変更しながら，被洗浄物Ｗの洗浄を行う。
【００５０】
第２洗浄ステージ１Ｂでの洗浄後，ロボットアーム５は被洗浄物Ｗを第２洗浄ステージ１Ｂから引き抜く。そして，被洗浄物Ｗが引き抜かれた状態のまま，洗浄機構１が略９０度回転して，第１洗浄ステージ１Ａが手前側にくる。
【００５１】
次に，ロボットアーム５は被洗浄物Ｗを保持したまま，被洗浄物Ｗを洗浄機構１の第１洗浄ステージ１Ａに，開放された周面側から差し入れる。そして，噴射ノズル群１６から洗浄流体が噴射され，被洗浄物Ｗの外面全体を洗浄する。この時，ロボットアーム５は，必要に応じて被洗浄物Ｗの姿勢を適宜変更しながら洗浄を行う。
【００５２】
第１洗浄ステージ１Ａでの洗浄後，ロボットアーム５は被洗浄物Ｗを第１洗浄ステージ１Ａから引き抜く。なお，引き抜きは第１洗浄ステージ１Ａの領域から抜ける程度の短い距離でよく，洗浄室内からは出さなくてもよい。そして，被洗浄物Ｗが引き抜かれた状態のまま，洗浄機構１が略９０度回転して，乾燥ステージ１Ｃが手前側にくる。
【００５３】
次に，ロボットアーム５は，被洗浄物Ｗを保持したまま，被洗浄物Ｗを乾燥ステージ１Ｃに，開放された周面側からステージ内に差し入れる。そして，エアブローにより被洗浄物Ｗを乾燥する。この時，ロボットアーム５は，必要に応じて被洗浄物Ｗの姿勢を適宜変更しながら，被洗浄物Ｗの乾燥を行う。
【００５４】
以上，浸漬洗浄→第２洗浄→第１洗浄→乾燥の工程により，被洗浄物Ｗの洗浄，乾燥が完了する。そして，カメラ３６が被洗浄物Ｗの洗浄度を測定する。この測定は，一例として，画像解析により被洗浄物Ｗに残留した残留付着物の有無を測定するなどして行う。洗浄度が不十分であると再度洗浄，乾燥工程を行う。洗浄度が十分な場合は，ゲート３１が開かれ，ロボットアーム５が被洗浄物Ｗを洗浄室から出して，コンベア６に運ぶ。
【００５５】
一方，洗浄，乾燥工程を終えると，洗浄機構１は略９０度回転して，切り欠きの空間を手前側に戻し，次の被洗浄物Ｗの洗浄，乾燥に備える。また，噴射ノズル群１６，噴射ノズル１７，噴射ノズル２２で使用された洗浄流体，及び槽２１からオーバーフローした洗浄流体は排出口３８から排出されて，第１濾過器３７Ｃを通過して第２タンク３７Ｂに貯留される。なお，本実施形態における洗浄から乾燥までの工程は，数秒から１０秒程度で行われるため非常に効率が良い。
【００５６】
＜４．本実施形態の効果＞
上記した構成を備える本実施形態によれば，次の効果を奏する。洗浄機構１が複数の洗浄ステージと乾燥ステージを備えていて，これらが回転して各ステージを変更できるので，被洗浄物Ｗの洗浄を効率よく行えると共に，省スペース化を図ることができる。更に，各ステージの周面が開放されているので，ここからロボットアーム５が被洗浄物Ｗを容易に出し入れすることができ効率がよい。これにより，ロボットアーム５の可動域も小さくできる。
【００５７】
洗浄機構１の一部が切り欠かれているので，ロボットアーム５が当該領域からアームを下にふるだけで，被洗浄物Ｗを浸漬洗浄機構２に容易に運ぶことができる。また，ロボットアームが被洗浄物を保持しながら洗浄ができるので，洗浄部に載置台や固定具を設ける必要がなく，被洗浄物のセット作業が不要となり効率化が図れる。
【００５８】
また，ゲート３１が開閉可能に構成されているので，洗浄，乾燥がゲート３１を閉じた状態で行え，外部への洗浄流体等の飛散を抑えることができる。また，ゲート３１が伸縮自在の蛇腹状に形成されているので，洗浄，乾燥時にロボットアーム５の動作への干渉を抑えることができる。また，被洗浄物Ｗを取り出す際には，ゲート３１を開いた状態で取り出すことができるので，ゲート３１に付着した洗浄流体に触れることなく，被洗浄物Ｗを取り出すことができる。
【００５９】
また，従前から使用されている機械加工部品等の加工ラインに，ロボットアームと洗浄部を設置すれば，当該ラインに機械加工部品等の洗浄，乾燥工程を容易に追加することができる。
【００６０】
＜５．洗浄装置の変形例＞
（５−１．洗浄部の変形例）
次に，上記の洗浄装置Ａの変形例について説明する。洗浄装置Ｂは，主として洗浄装置Ａの洗浄部４を変更したものである。図９は，別の実施形態に係る洗浄装置Ｂの概念図である。図１０は，洗浄装置Ｂの洗浄部を示す斜視図である。図９，図１０に示すように，洗浄装置Ｂの洗浄部１４０は，洗浄機構１１０と浸漬洗浄機構１２０と，これらを囲うケーシング１３０とを備える。洗浄機構１１０は，天板１１２と，底板１１３と，天板１１２と底板１１３と，５つの隔壁１１５とを備える。天板１１２と底板１１３は横長矩形の金属板であり，５つの隔壁１１５により，横並びの４つのステージに区画されている。
【００６１】
また，洗浄機構１１０は，洗浄流体を低圧で噴射して被洗浄物Ｗを洗浄する第１洗浄ステージ１１０Ａと，洗浄流体を高圧で噴射して被洗浄物Ｗを洗浄する第２洗浄ステージ１１０Ｂと，エアブローで被洗浄物Ｗを水切り乾燥する乾燥ステージ１１０Ｃと，底板１１３が無い又は切り欠かれたステージ１１０Ｄとを備える。なお，ステージ１１０Ｄでは洗浄や乾燥は行われず，別途設けられた浸漬洗浄機構１２０での浸漬洗浄工程を行う。
【００６２】
第１洗浄ステージ１１０Ａは，洗浄流体が噴射される複数の噴射ノズルを具備する噴射ノズル群１１６が，天板１１２と底板１１３とに固定されている。噴射ノズル群１１６の複数の噴射ノズルから洗浄流体が噴射され，被洗浄物Ｗの表面全体を洗浄する。
【００６３】
第２洗浄ステージ１１０Ｂは，洗浄流体が噴射される複数の噴射ノズル１１７が，天板１１２と底板１１３とに固定されている。なお，噴射ノズル１７の数は，第１洗浄ステージ１１０Ａの噴射ノズル１１６の数よりも少なく，噴射ノズル１１７からは高圧の洗浄流体が噴射され，噴射ノズル１１６からは低圧の洗浄流体が噴射される。噴射ノズル１１７は，洗浄流体を噴射して被洗浄物Ｗの孔など局所的な洗浄を行う。
【００６４】
乾燥ステージ１１０Ｃは，エアブローにより被洗浄物Ｗを水切り乾燥するステージである。エアブローは，例えばエアブローノズルを配して，エアを被洗浄物Ｗに向けて噴射することにより行う。
【００６５】
そして，洗浄機構１１０は，下方にはガイドレール１１１が設けられている。ガイドレール１１１は，上記した各ステージの並び方向と同様，横方向にのびるレールである。これにより，洗浄機構１１０は横方向に移動可能な構成となっている。なお，ガイドレール１１１は，次段の「洗浄位置」に対応する部分が省かれている。
【００６６】
洗浄機構１１０が移動することにより，第１洗浄ステージ１１０Ａ，第２洗浄ステージ１１０Ｂ，乾燥ステージ１１０Ｃ，ステージＤの位置を変更する。被洗浄物Ｗに行う工程に対し，対応するステージが洗浄等を行う所定位置（以下「洗浄位置」と称する）にくるよう移動することにより，ロボットアーム５の位置を大きく変更することなく，様々な工程を行うことができる。
【００６７】
一方，洗浄機構１１０の下方には，浸漬洗浄機構１２０が配されている。浸漬洗浄機構１２０の位置は，上記した洗浄機構１１０の洗浄位置の下方に配される。図１０の位置においては，第２洗浄ステージ１１０Ｂの下方となる。
【００６８】
浸漬洗浄機構１２０により，被洗浄物Ｗを洗浄する場合，洗浄機構１１０のステージ１１０Ｄが洗浄位置にある状態で行われる。これにより，ロボットアーム５の位置を大きく変更することなく，ロボットアーム５の先端を下方に移動させるだけで，被洗浄物Ｗの浸漬洗浄ができる。浸漬洗浄機構１２０は，上面が開放した槽１２１と，槽１２１の側面に固定された複数の噴射ノズル１２２とを備える。その他の構成については，洗浄装置Ａと略同一の構成であるため，説明を省略する。
【００６９】
（５−２．隔壁の変形例）
また別の洗浄装置の変形例について説明する。この洗浄装置は，主として洗浄装置Ａの洗浄部４を変更したものであり，詳しくは，洗浄機構１０の隔壁１５を変更したもので，開閉自在の隔壁２１５である。開閉機構は，例えば，図１１（ａ）に示すように蛇腹状の隔壁が上下に伸縮する構成としてもよく，図１１（ｂ）に示すように端部を支点に扉のように開閉する構成としてもよく，または，図１１（ｃ）に示すように上下２枚のゴム板の一部を重ね合わせた構成としてもよい。
【００７０】
隔壁２１５を上記した構成とすることにより，各ステージへの移動の際，隔壁２１５を開けば，ロボットアーム５が被洗浄物Ｗを出し入れすることなく，そのままの状態で被洗浄物Ｗを次のステージへ移動できる。なお，次のステージへの移動後は，隔壁２１５を閉じればよい。また，隔壁２１５が上下２枚のゴム板の一部を重ね合わせた構成とした場合，隔壁２１５の開閉が不要で，そのまま被洗浄物Ｗ及びロボットアーム５のアームを次のステージへ移動できる。
【００７１】
（５−３．その他の変形例）
また別の洗浄装置の変形例について説明する。この洗浄装置は，主として洗浄装置Ａの浸漬洗浄機構２，ケーシング３，ロボットアーム５，コンベア６，の構成や数を変更したものである。詳しくは，図１２に示すように，ケーシング３のゲート３１が両側に２つ設けられていて，２つのロボットアーム５及びコンベア６が，洗浄部１を介して対向して配置されたものである。
【００７２】
すなわち，１つの洗浄部１に対してロボットアーム５及びコンベア６が２組配され，また，洗浄部１には２つの浸漬洗浄機構２が洗浄機構１の下方に対向して配置されている。この構成により，１つの洗浄部１を用いて，同時に２つの被洗浄物Ｗの洗浄を行い得る。
【００７３】
つまり，一方の被洗浄物Ｗ１が第１洗浄→第２洗浄→浸漬洗浄→乾燥工程が行われるに際し，他方の被洗浄物Ｗ２が，Ｗ１の浸漬洗浄工程と同時に，第１洗浄工程が行われ，第２洗浄→浸漬洗浄→乾燥工程の順に，Ｗ１と工程をずらして行われることとなる。これらの工程を連続して行うことで，１つの洗浄部，１つのロボットアーム５及びコンベア６の場合と比べて，１つの洗浄部，２つのロボットアーム５及びコンベア６の場合，略２倍の処理能力を得ることができる。
【００７４】
（５−４．変形例の実施形態の効果）
上記した構成を備える本実施形態によれば，次の効果を奏する。洗浄機構１１０が複数の洗浄ステージと乾燥ステージを備えていて，これらが移動して各ステージを変更できるので，被洗浄物Ｗの洗浄を効率よく行えると共に，省スペース化を図ることができる。更に，各ステージの側面が開放されているので，ここからロボットアーム５が被洗浄物Ｗを容易に出し入れすることができ効率がよい。これにより，ロボットアーム５の可動域を小さくできる。
【００７５】
また，隔壁２１５が開閉自在に構成されているので，ロボットアーム５が被洗浄物Ｗを出し入れすることなく，そのままの状態で被洗浄物Ｗを次のステージへ移動できる。これにより，ロボットアーム５の可動域を小さくすることができる。
【００７６】
また，１つの洗浄部１に対して２つのロボットアーム５及びコンベア６とすることで，１つの洗浄部１を用いて，同時に２つの被洗浄物の洗浄を行うことができ，洗浄効率を向上することができる。
【００７７】
＜６．その他の実施形態＞
以上のとおり，図面を参照しながら本発明の好適な実施形態を説明したが，本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で，種々の追加，変更または削除が可能である。例えば，上記の実施形態では，洗浄機構が２つの洗浄ステージと１つの乾燥ステージとで構成されているが，洗浄する被洗浄物に応じて，洗浄ステージや乾燥ステージの数を増減させてもよい。また，回転機構を備えた洗浄機構を円筒形で構成しているが，矩形筒状などとしてもよい。また，第１洗浄，第２洗浄，浸漬洗浄等の洗浄工程の順序は，上記の実施形態に限られず，異なる順序としてもよい。したがって，これらのものも本発明の範囲内に含まれる。
【符号の説明】
【００７８】
１  洗浄機構
１Ａ  第１洗浄ステージ
１Ｂ  第２洗浄ステージ
１Ｃ  乾燥ステージ
１１  回転軸
１２  天板
１３  底板
１４  構造体
１５  隔壁
１６  噴射ノズル
１７  噴射ノズル
１８  回転機構
２  浸漬洗浄機構
２１  槽
２２  噴射ノズル
３  ケーシング
３１  ゲート
３２，３３，３４，３５  ゲート部
３６  カメラ
３７  タンク
３７Ａ  第１タンク
３７Ｂ  第２タンク
３７Ｃ  第１濾過器
３７Ｄ  第２濾過器
３８  排出口
３９  排風機
４  洗浄部
５  ロボットアーム
５１  保持部
５２  アーム機構
５３  載置台
５４  ガイドレール
５５  スライド機構
６  コンベア
１１０  洗浄機構（変形例）
１１０Ａ  第１洗浄ステージ
１１０Ｂ  第２洗浄ステージ
１１０Ｃ  乾燥ステージ
１１１  ガイドレール
１１２  天板
１１３  底板
１１５  隔壁
１１６  噴射ノズル
１１７  噴射ノズル
１２０  浸漬洗浄機構（変形例）
１２１  槽
１２２  噴射ノズル
１３０  ケーシング（変形例）
１４０  洗浄部（変形例）
２１５  隔壁
Ａ，Ｂ  洗浄装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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