(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材に接するように配置された張力測定ロールにて基材の張力を測定する張力測定工程と、
前記基材に接するように配置された張力調節ロールの一方の端部を動かすことによって前記張力を調節する張力調節工程と、
前記基材を巻き出す巻き出し工程と、
前記基材上に塗工層を形成する塗工層形成工程と、
前記塗工層が形成された前記基材を巻き取る巻き取り工程と、を含む積層体の製造方法。
【請求項２】
前記基材は原反を長さ方向に沿って複数の基材に分割したうちのひとつである、請求項１に記載の積層体の製造方法。
【請求項３】
前記基材は一軸延伸処理又は二軸延伸処理を施されている、請求項１又は請求項２に記載の積層体の製造方法。
【請求項４】
前記塗工層形成工程はオフロール方式で行われる、請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の積層体の製造方法。
【請求項５】
前記張力調節工程は、前記張力測定工程において前記基材とは異なる基準基材について測定した張力に基づいて行われる、請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の積層体の製造方法。
【請求項６】
前記塗工層形成工程と前記巻き取り工程との間に、前記基材上に形成された前記塗工層の上に別の基材を配置する工程をさらに含む、請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の積層体の製造方法。
【請求項７】
前記基材が第一の樹脂基材であり、前記塗工層が調光材料を含む調光層であり、前記塗工層形成工程と前記巻き取り工程との間に、前記基材上に形成された塗工層の上に第二の樹脂基材を配置する工程を含む、請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の積層体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、積層体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
基材上に塗工層を有する積層体の大量製造に適した方法として、ロール状に巻かれた基材を巻き出し、基材を走行させた状態でその表面に塗工層を形成し、塗工層が形成された基材をさらにロール状に巻き取るロール・ツー・ロール（Ｒｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌ）方式が知られている。
【０００３】
ロール・ツー・ロール方式では一般に、位置を固定したダイス等の供給装置から塗工層用の材料を走行している基材の表面に供給して塗工層を形成する。この際、供給装置と対向する位置にロールを配置して、供給装置とロールとの間に基材が挟まれた状態で塗工層を形成している。
【０００４】
上記のように供給装置と対向する位置にロールが配置された状態で塗工層を形成する場合、ロール又は基材の裏面に異物が付着していると、異物の付着している部分の塗工層が他の部分よりも薄くなり、塗工層の厚みにムラが発生するという問題が生じる場合がある。この問題を解決する手段として、供給装置と対向する位置にロールを配置せずに塗工層を形成する方式（オフロール方式という）が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平６−２５４４６６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
オフロール方式では、ロール又は基材の裏面に異物が付着していてもその影響を受けずに厚みムラの抑制された塗工層を基材上に形成できるという利点がある。反面で、基材上に形成される塗工層の厚みが一定に保たれにくい場合があることが本発明者らの検討により明らかになった。
【０００７】
本発明は上記事情に鑑み、厚みムラの抑制された塗工層を基材上に形成可能な積層体の製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するための手段には、以下の実施態様が含まれる。
＜１＞基材に接するように配置された張力測定ロールにて基材の張力を測定する張力測定工程と、前記基材に接するように配置された前記張力調節ロールの位置を調節する張力調節工程と、前記基材を巻き出す巻き出し工程と、前記基材上に塗工層を形成する塗工層形成工程と、前記塗工層が形成された前記基材を巻き取る巻き取り工程と、を含む積層体の製造方法。
＜２＞前記基材は原反を長さ方向に沿って複数の基材に分割したうちのひとつである、＜１＞に記載の積層体の製造方法。
＜３＞前記基材は一軸延伸処理又は二軸延伸処理を施されている、＜１＞又は＜２＞に記載の積層体の製造方法。
＜４＞前記塗工層形成工程はオフロール方式で行われる、＜１＞〜＜３＞のいずれか１項に記載の積層体の製造方法。
＜５＞前記張力調節工程は、前記張力測定工程において前記基材とは異なる基準基材について測定した張力に基づいて行われる、＜１＞〜＜４＞のいずれか１項に記載の積層体の製造方法。
＜６＞前記塗工層形成工程と前記巻き取り工程との間に、前記基材上に形成された前記塗工層の上に別の基材を配置する工程をさらに含む、＜１＞〜＜５＞のいずれか１項に記載の積層体の製造方法。
＜７＞前記基材が第一の樹脂基材であり、前記塗工層が調光材料を含む調光層であり、前記塗工層形成工程と前記巻き取り工程との間に、前記基材上に形成された塗工層の上に第二の樹脂基材を配置する工程を含む、＜１＞〜＜６＞のいずれか１項に記載の積層体の製造方法。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、厚みムラの抑制された塗工層を基材上に形成可能な積層体の製造方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】積層体の製造方法に使用される装置の一部を概略的に示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。以下の実施形態において、その構成要素（要素ステップ等も含む）は、特に明示した場合、必須ではない。数値及びその範囲についても同様であり、本発明を制限するものではない。
本明細書において「工程」との語には、他の工程から独立した工程に加え、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の目的が達成されれば、当該工程も含まれる。
本明細書において「〜」を用いて示された数値範囲には、「〜」の前後に記載される数値がそれぞれ最小値及び最大値として含まれる。
本明細書において組成物中の各成分の含有率は、組成物中に各成分に該当する物質が複数種存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の物質の合計の含有率を意味する。
本明細書において組成物中の各成分の粒子径は、組成物中に各成分に該当する粒子が複数種存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の粒子の混合物についての値を意味する。
本明細書において「層」又は「膜」との語には、当該層又は膜が存在する領域を観察したときに、当該領域の全体に形成されている場合に加え、当該領域の一部にのみ形成されている場合も含まれる。
【００１２】
本実施の形態の積層体の製造方法は、基材に接するように配置された張力測定ロールにて基材の張力を測定する張力測定工程と、前記基材に接するように配置された前記張力調節ロールの位置を調節する張力調節工程と、前記基材を巻き出す巻き出し工程と、前記基材上に塗工層を形成する塗工層形成工程と、前記塗工層が形成された基材を巻き取る巻き取り工程と、を含む。
【００１３】
本発明者らの検討の結果、ロール・ツー・ロール方式の積層体の製造方法においてオフロール方式を採用した場合に生じる塗工層の厚みムラは、張力測定ロールにて測定された基材の張力に基づき、張力調節ロールの位置を調節し、基材の張力を調節することで抑制できることが明らかとなった。その理由は明らかではないが、張力調節ロールの位置を調節することで、基材の張力の大きさ、基材の幅方向における張力のバランス等が調節される結果、塗工層形成工程において塗工層の材料を供給する位置における基材のタルミが抑えられ、塗工層の材料を供給する供給装置と基材との間の距離が一定に保たれて塗工層の厚みムラが小さくなるためと推測される。
【００１４】
(張力測定工程)
張力測定工程では、基材に接するように配置された張力測定ロールにて基材の張力を測定する。後述の張力調節工程において、基材の任意の場所で測定した張力の値に基づいて張力を調節することで精度よく張力の調節を行うことができる。基材の幅方向（走行方向に直交する方向）における張力のバランスを調節する観点からは、張力の測定は、基材の幅方向に沿った線上の位置が異なる２箇所以上で行うことが好ましい。
張力の値の測定は、例えば、張力測定器を設けた張力測定ロールを基材に接するように配置し、張力測定ロールが基材により押される力を基材の張力に変換して得ることができる。張力測定ロールは、張力調節ロールであっても、張力調節ロールとは異なるロールであってもよい。
【００１５】
（張力調節工程）
張力調節工程では、基材に接するように配置された張力調節ロールの位置を調節する。張力調節ロールは、基材の走行方向において基材上に塗工層を形成する位置よりも上流側に位置していることが好ましい。張力調節ロールは、走行している基材の支持、移送等の他の役割を有していてもよい。張力調節ロールの数は１つでも、２つ以上であってもよい。
【００１６】
張力調節ロールの位置を調節する方法は、基材の張力の大きさ、幅方向における張力のバランス等を変更可能な方法であれば、特に制限されない。例えば、張力調節ロールの少なくとも一方の端部を動かすことによって行うことができる。張力調節ロールを動かす方向は、基材に向かう方向であっても、基材から離れる方向であってもよく、所望の張力に応じて選択できる。
【００１７】
ある実施の態様では、張力調節ロールの位置の調節は、一方の端部が固定された張力調節ロールの他方の端部を動かすことによって行ってもよい。この場合、例えば、動かす前の張力調節ロールの軸方向に沿った線が基材の面に平行であるときを０°とし、このときの軸方向に沿った線と動かした後の張力調節ロールの軸方向に沿った線とがなす角度が５°までの範囲内となるように、張力調節ロールの他方の端部を動かすことによって行ってもよい。
【００１８】
張力の調節を効率よく行う観点からは、張力調節工程は、張力測定工程において塗工層を形成する対象の基材（対象基材）とは異なる基材（基準基材）について測定した張力に基づいて行うことが好ましい。例えば、塗工層の厚みムラの発生が少ないことが予めわかっている基材を基準基材とし、対象基材について測定した張力の値が基準基材について測定した張力の値又はそれに近い値となるように、張力調節工程を行うことが好ましい。
【００１９】
張力調節工程は、巻き出し工程、塗工層形成工程及び巻き取り工程の前に実施しても、巻き出し工程、塗工層形成工程及び巻き取り工程と並行して実施してもよい。張力調節工程を巻き出し工程、塗工層形成工程及び巻き取り工程と並行して実施する場合は、基材の走行中の張力の測定値等の情報に応じて張力調節ロールを随時動かすように制御する制御装置を、製造装置の張力調節ロール又はその他の部位に設けてもよい。
【００２０】
（巻き出し工程）
巻き出し工程では、基材を原反ロール等から巻き出す。巻き出し工程において基材を巻き出す方法は、特に制限されない。積層体の製造効率の観点からは、巻き出し工程と、塗工層形成工程と、巻き取り工程とを並行して行うことが好ましい。基材の巻き出し速度は特に制限されない。例えば、１ｍ／分〜１００ｍ／分とすることができる。後述する調光材料を製造する場合の巻き出し速度は、例えば、１ｍ／分〜１０ｍ／分とすることができる。
【００２１】
（塗工層形成工程）
塗工層形成工程では、基材上に塗工層を形成する。塗工層を形成する方法は、特に制限されない。また、塗工層は基材上に一様に塗工層の材料を供給して形成しても、パターン状に塗工層の材料を供給して形成してもよい。
【００２２】
積層体の製造効率の観点からは、巻き出し工程と、塗工層形成工程と、巻き取り工程とを連続して行うことが好ましい。なお、各工程の間に別の工程を含んでもよい。塗工層の形成速度は特に制限されない。例えば、１ｍ／分〜１００ｍ／分とすることができる。後述する調光材料を製造する場合の塗工層の形成速度、例えば、１ｍ／分〜１０ｍ／分とすることができる。
【００２３】
基材又はロールに付着した異物による塗工層の厚みムラを抑制する観点からは、塗工層形成工程はオフロール方式で行うことが好ましい。しかしながら、上述のようにオフロール方式においては、基材又はロールに付着した異物による塗工層の厚みムラを抑制できる反面、基材上に形成される塗工層の厚みが一定に保たれにくいという新たな課題が生じることがわかった。本実施の形態では、上述した張力調節工程を実施するため、オフロール方式を採用した場合であっても、塗工層の厚みムラが抑制された積層体を製造することができる。
【００２４】
本明細書においてオフロール方式とは、塗工層の材料を供給する供給装置と基材を介して対向する位置にロール等の物体が配置されていない状態で、供給装置から塗工層の材料を供給して塗工層を形成する方式を意味する。例えば、供給装置が基材に塗工層の材料を供給する位置を、供給装置と対向するロールが基材に接する位置よりも、基材の走行方向において下流側にずらした状態で基材上に塗工層を形成する方法が挙げられる。供給装置の位置をずらす距離は特に制限されないが、異物による塗工層の厚みムラを効果的に抑制する観点からは５ｍｍ以上であることが好ましく、基材のタルミによる塗工層の厚みムラを効果的に抑制する観点からは１００ｍｍ以下であることが好ましい。
【００２５】
（巻き取り工程）
巻き取り工程では、塗工層が形成された基材を巻き取る。基材を巻き取る方法は、特に制限されない。積層体の製造効率の観点からは、巻き出し工程と、塗工層形成工程と、巻き取り工程とを並行して行うことが好ましい。基材の巻き取り速度は特に制限されない。例えば、１ｍ／分〜１００ｍ／分とすることができる。後述する調光材料を製造する場合の巻き取り速度は、例えば、１ｍ／分〜１０ｍ／分とすることができる。
【００２６】
（その他の工程）
積層体の製造方法は、必要に応じて上述した工程以外の工程を含んでいてもよい。例えば、基材上に形成した塗工層を乾燥又は硬化する工程、基材上に形成した塗工層の上に別の層を配置する工程等が挙げられる。
【００２７】
（基材）
積層体に用いられる基材の材質は、特に制限されない。例えば、樹脂、紙、布及び金属が挙げられる。特に、塗工層の厚みムラが生じやすい基材を用いる場合に本実施の形態を適用すると、その効果が顕著である。例えば、原反を長さ方向（基材の走行方向）に沿って分割して複数の基材として使用するにあたり、原反における位置によって塗工層の厚みムラが生じやすい基材と、塗工層の厚みムラが生じにくい基材とがある場合において、塗工層の厚みムラが生じやすい基材の上に塗工層を形成する際に張力調節工程を実施することで、塗工層の厚みムラが生じやすい基材を用いても厚みムラの抑制された塗工層を形成することができる。この際、塗工層の厚みムラが生じにくいことが予めわかっている基材を基準基材とし、基準基材について測定した張力の値に基づいて張力調節工程を実施することで、より効率的に厚みムラの抑制された塗工層を形成することができる。
【００２８】
ある実施の態様では、基材は一軸延伸処理又は二軸延伸処理を施されていてもよい。一軸延伸処理又は二軸延伸処理を施されている基材は、原反における位置によって、基材を塗工機に配置又は走行させた際の基材にかかる張力が異なる傾向にある。本実施の形態によれば、一軸延伸処理又は二軸延伸処理を施されている基材であってもその上に形成される塗工層の厚みムラを効果的に抑制することができる。
【００２９】
（塗工層）
積層体に用いられる塗工層の材料は、特に制限されない。特に、塗工層の厚みが小さく厚みムラの影響が生じやすい場合に本実施の形態を適用すると、その効果が顕著である。塗工層の厚みは特に制限されないが、例えば、平均厚みを２００μｍ以下とすることができ、１５０μｍ以下であることが好ましく、１００μｍ以下であることがより好ましい。塗工層の平均厚みは、塗工層の任意の場所における幅方向の長さの線分を５等分し、得られた５つの線分上で１箇所ずつ測定した値の算術平均値とする。塗工層の厚みは、マイクロメーター、顕微鏡観察等の公知の手段により測定することができる。
【００３０】
以下、本実施の形態の一態様について、図面を参照しながら説明する。ただし、本実施の形態はこれに限定されるものではない。また、図中の部材の大きさは概念的なものであり、部材間の大きさの相対的な関係はこれに限定されない。
【００３１】
図１は積層体の製造方法に使用される製造装置の一部を概略的に示す断面図である。図１において、符号１は張力調節ロールを、符号２は張力測定ロールを、符号３は塗工層の材料を供給する供給装置を、符号４は基材をそれぞれ表す。塗工層を形成した後の基材４は、必要に応じて塗工層を乾燥又は硬化する工程、別の層を塗工層上に配置する工程等を経てから巻き取られる（図示せず）。
【００３２】
張力調節ロール１及び張力測定ロール２は、それぞれ基材４と接するように配置されている。巻き出された基材４は、図１の矢印Ａで示す方向（走行方向）に移送され、供給装置３より塗工層の材料が供給されて塗工層が形成される。供給装置３は、対向するロールの位置からずらして配置され、オフロール方式で塗工層を形成するようになっている。張力調節ロール１及び張力測定ロール２は、図１に示すように基材４に対して供給装置３と同じ側に配置されていても、いずれか一方又は両方が基材４に対して供給装置３とは逆側に配置されていてもよい。
【００３３】
張力調節ロール１は、一端が固定され、もう一端が移動可能となっている。張力調節ロール１の移動可能な端部を基材４に向かう側に動かすと基材４の張力が上昇し、基材４から離れる側に動かすと基材４の張力が低下する。
【００３４】
張力測定ロール２は、両端に張力測定器が設けられている。それぞれの張力測定器は、張力測定ロール２が基材４により押される力を測定し、その値を張力（Ｎ）に変換して得た値を表示する。
【００３５】
まず、塗工層の厚みムラが小さいことが予めわかっている基材４’（基準基材）を走行させ、張力測定ロール２の張力測定器に表示された張力を基準値Ｔ１及びＴ２とする。次に、塗工層を形成するための基材４を走行させ、張力測定ロール２の張力測定器に表示された張力を測定値Ｔ’１及びＴ’２とする。次に、Ｔ１とＴ’１、Ｔ２とＴ’２をそれぞれ比較し、測定値を基準値と同じ又はそれに近い値となるように、張力調節ロール１の移動可能な一端を動かす。
【００３６】
基材４を走行させたときの張力測定ロール２の張力測定器に表示された測定値が基準値と同じ又はそれに近い値となっていることが確認できたら、基材４を巻き出す巻き出し工程と、基材４の一方の面に塗工層を形成する塗工層形成工程と、塗工層が形成された基材４を巻き取る巻き取り工程と、を並行して実施する。
【００３７】
（調光フィルム）
本実施の形態の積層体の製造方法の適用例として、調光フィルムが挙げられる。調光フィルムは、１対の樹脂基材と、前記一対の樹脂基材の間に配置された調光層と、を有し、調光層に電圧を印加することで遮光状態から透光状態へと切り替えることができるフィルム状の部材である。
【００３８】
すなわち、本実施の形態の積層体の製造方法の一実施態様は、基材が第一の樹脂基材であり、塗工層が調光材料を含む調光層であり、塗工層形成工程と巻き取り工程との間に、基材上に形成された塗工層上に第二の樹脂基材を配置する工程を含む調光フィルムの製造方法である。前記方法は、調光層の少なくとも一部を硬化させる工程をさらに含んでもよい。
【００３９】
調光フィルムは、本実施の形態における塗工層に相当する調光層の状態変化によって遮光状態と透光状態とを切り替えるため、調光層の厚みムラによる視覚的な影響が大きい。また、窓ガラス等に貼り付けて使用する場合は、比較的大面積であることが求められる。本実施の形態によれば、調光層の厚みムラが抑制され、かつ大面積の調光フィルムを効率よく製造することができる。さらに、樹脂基材の原反を複数枚の基材に分割して使用する場合に、調光層の厚みムラが生じやすい部分の基材も無駄なく調光フィルムに利用できる。
【００４０】
樹脂基材の材質としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のポリエステル、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、アクリル樹脂などが挙げられる。透明性、成形性、接着性、加工性等の観点からは、ポリエチレンテレフタレートが好ましい。樹脂基材は、導電性を付与するために導電膜を有していることが好ましい。導電膜の材質としては、インジウム錫オキサイド（ＩＴＯ）、酸化錫（ＳｎＯ２）、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）等が挙げられる。樹脂基材及び導電膜は、調光フィルムの遮光状態と透光状態の違いが視覚的に認識できる程度に透明であることが好ましい。
【００４１】
調光層としては、樹脂マトリックスの硬化物中に光調整粒子及び分散媒を含む分散体が液滴状に分散したものが挙げられる。このような調光層は、硬化していない樹脂マトリックス中に分散体が液滴状に分散した状態の調光材料を樹脂基材上に塗布し、次いで樹脂マトリックスを硬化させることによって作製することができる。調光層の樹脂マトリックスが硬化していることで、樹脂マトリックス中に液滴状に存在する分散体の沈降等が抑制される。一方、液滴状に存在する分散体自体は流動性を有しているため、電圧の印加に応じて分散体中の光調整粒子の配向状態が変化する。この変化を利用して、調光層の遮光状態（非配向状態）と透光状態（配向状態）とを切り替えることができる。
【００４２】
光調整粒子は、電圧の印加に応じて配向状態が変化し、調光層の遮光状態と透光状態を切り替え可能なものであれば特に制限されない。例えば、ポリ過ヨウ化物、カーボン、金属及び金属酸化物の粒子が挙げられる。中でも、ポリ過ヨウ化物が好ましい。光調整粒子は形状異方性（長軸と短軸の比が１以上である）を有していることが好ましい。
【００４３】
分散媒は、光調整粒子を流動可能な状態で分散しうること、樹脂マトリックスと相分離して光調整粒子とともに液滴を形成しうること、電気伝導性を有しないこと、樹脂マトリックスとの屈折率が近似していること等の条件を満たす物質から選択することが好ましい。例えば、フルオロ基及び水酸基の少なくともいずれか一方を有する（メタ）アクリル酸エステルオリゴマーが挙げられる。（メタ）アクリル酸とは、アクリル酸又はメタクリル酸のいずれか又は両方を意味する。
【００４４】
樹脂マトリックスとしては、紫外線、可視光線、電子線等のエネルギー線により硬化するものであれば特に制限されない。例えば、シリコーン樹脂、アクリル樹脂及びポリエステル樹脂から選択される樹脂であって、エネルギー線により硬化するものが挙げられる。樹脂マトリックスは、調光フィルムの遮光状態と透光状態の違いが視覚的に認識できる程度に透明であることが好ましい。
【００４５】
調光フィルムの厚みは特に制限されない。例えば、調光フィルムの全体の平均厚みを１０μｍ〜６００μｍとすることができ、そのうち調光層の平均厚みを１０μｍ〜２００μｍとすることができる。調光フィルム及び調光層の平均厚みは、調光フィルム及び調光層の任意の場所において幅方向の長さの線分を５等分し、得られた５つの線分上で１箇所ずつ測定した値の算術平均値とする。調光フィルム及び調光層の厚みは、マイクロメーター、顕微鏡観察等の公知の手段により測定することができる。
【００４６】
調光フィルムのその他の詳細については、例えば、国際公開第２００９／１１０５６３号等の記載を参照することができる。
【実施例】
【００４７】
以下、本発明を実施例（調光フィルムにおける基材上への調光層の形成）により具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００４８】
（１）約５０００ｍｍ幅の基材原反（材質：ＰＥＴ、平均厚み：１２５μｍ）を長さ方向に沿って４分割して得られた１１００ｍｍ幅の基材４枚を用いて、以下の要領で基材上に塗工層を形成した。以下、原反における場所が基材の走行方向に向かってみたときに左側に位置するものから順に基材＋２、基材＋１、基材−１、基材−２と称する。
【００４９】
（２）図１に示すような構造を有するロール・ツー・ロール方式の装置（塗工機）に基材をセットし、張力調節ロールの軸方向に沿った線が基材の面と平行である状態で、基材上に塗工層を形成（平均厚み：１００μｍ）し、厚みムラの状態を下記の基準により目視で評価した。また、張力測定ロールの両端に設けられた張力測定装置に表示される張力Ｔ１及びＴ２（単位：Ｎ）を調べた。結果を表１に示す。Ｔ１は基材の走行方向に向かってみたときの基材の左側で測定した張力を、Ｔ２は基材の走行方向に向かってみたときの基材の右側で測定した張力を、それぞれ表す。なお、塗工層の形成は、供給装置から基材上に塗工層の材料を供給する位置を、供給装置と対向するロールが基材と接する位置から３０ｍｍ下流側にずらして行った。
【００５０】
Ａ：厚みムラがほとんど見られない。
Ｂ：実用上問題ない厚みムラが見られる。
Ｃ：実用上問題がある厚みムラが見られる。
【００５１】
【表１】
0006657806.tif 000002
【００５２】
塗工層の材料は、エネルギー線硬化型シリコーン樹脂１０質量部と、光重合開始剤０．２質量部と、光調整懸濁液２．５質量部とを１分間機械的に混合することによって作製した。光調整懸濁液としては、アクリル樹脂５０質量部中に、平均粒子径が０．３６μｍの針状のポリ過ヨウ化物４５．５質量部を分散させて作製したものを使用した。
【００５３】
（３）塗工層の厚みムラがほとんど見られなかった基材＋２について測定した張力Ｔ１及びＴ２を基準値とし、実用上問題がある厚みムラが見られた基材−２の張力Ｔ１及びＴ２がそれぞれ基準値に近い値となるように張力調節ロールを動かし、張力Ｔ１及びＴ２がそれぞれ８０Ｎ、７０Ｎとなるように調節した。具体的には、一方の端部が固定された張力調節ロールの固定されていない側の端部を、動かす前の張力調節ロールの軸方向に沿った線と動かした後の張力調節ロールの軸方向に沿った線とがなす角度が０．１°となるように基材に向けて動かした。その後、再度塗工層を形成して厚みムラの状態を目視で評価した。その結果、塗工層の厚みムラはほとんど見られなかった。
【００５４】
以上の結果より、本実施の形態によれば、厚みムラの抑制された塗工層を基材上に形成できることがわかった。また、従来の方法では利用が困難であった基材であっても、本実施の形態によれば問題なく積層体の製造に利用できることがわかった。
【符号の説明】
【００５５】
１：張力調節ロール
２：張力測定ロール
３：供給装置
４：基材
【図１】
0006657806.tif 000003