(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光硬化性モノマー及び光重合開始剤を含むディスプレイ密封材用組成物であって、
前記光硬化性モノマーは、芳香族炭化水素基を有さないモノマー；及び
下記の化学式１の置換又は非置換の２個以上のフェニル基を有するモノマー；を含み、
前記光硬化性モノマー中に、前記置換又は非置換の２個以上のフェニル基を有するモノマーを約５重量％〜約４５重量％含み、
前記光硬化性モノマー中に、前記芳香族炭化水素基を有さないモノマーを約５５重量％〜約９５重量％含み、
前記芳香族炭化水素基を有さないモノマーは、アミン基を有するモノ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド基を有するジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、及びエチレンオキシド基を有するトリ（メタ）アクリレートのうちの１種以上であり、
前記置換又は非置換の２個以上のフェニル基を有するモノマーは、モノ（メタ）アクリレート及びジ（メタ）アクリレートのうちの一つ以上であり、
前記ジ（メタ）アクリレートは、下記の化学式４で表示される、ディスプレイ密封材用組成物：
【化１】
0006670833.tif 000019
（前記式において、Ａは、置換又は非置換の２個以上のフェニル基を含む炭化水素、又は置換又は非置換の２個以上のフェニル基を含むヘテロ原子含有炭化水素で、
Ｚ１、Ｚ２は、それぞれ独立的に下記の化学式２で、
ａ、ｂは、それぞれ０〜２の整数で、ａ＋ｂは、１〜４の整数である。）
【化２】
0006670833.tif 000020
（前記式において、＊は、Ａの炭素に対する連結部で、
Ｘは、単一結合、Ｏ、又はＳで、
Ｙは、置換又は非置換の炭素数１〜１０の直鎖状アルキレン基、又は置換又は非置換の炭素数１〜２０のアルコキシ基で、
Ｒ１は、水素又は炭素数１〜５のアルキル基で、ｃは、０又は１である。）
【化３】
0006670833.tif 000021
（前記化学式４において、Ｒ５、Ｒ９は、それぞれ独立的に水素又はメチル基で、Ｒ６、Ｒ８は、それぞれ独立的に置換又は非置換の炭素数１〜１０の直鎖状アルキレン基、又は置換又は非置換の炭素数１〜２０のアルコキシ基で、Ｒ７は、置換又は非置換の２個以上のフェニル基を含む炭化水素、又は置換又は非置換の２個以上のフェニル基を含むヘテロ原子含有炭化水素である。）
【請求項２】
前記モノ（メタ）アクリレートは、下記の化学式３で表示される、請求項１に記載のディスプレイ密封材用組成物：
【化４】
0006670833.tif 000022
（前記化学式３において、Ｒ２は、水素又はメチル基で、Ｒ３は、置換又は非置換の炭素数１〜１０の直鎖状アルキレン基、又は置換又は非置換の炭素数１〜２０のアルコキシ基で、Ｒ４は、置換又は非置換の２個以上のフェニル基を含む炭化水素、又は置換又は非置換の２個以上のフェニル基を含むヘテロ原子含有炭化水素である。）
【請求項３】
前記置換又は非置換の２個以上のフェニル基を有するモノマーは、４−（メタ）アクリルオキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、エチル−３，３−ジフェニル（メタ）アクリレート、ベンゾイルオキシフェニル（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、２−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２，２’−フェニルフェノキシエチルジ（メタ）アクリレート、２−フェニルフェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２，２’−フェニルフェノキシプロピルジ（メタ）アクリレート、２−フェニルフェノキシブチル（メタ）アクリレート、２，２’−フェニルフェノキシブチルジ（メタ）アクリレート、２−（３−フェニルフェニル）エチル（メタ）アクリレート、２−（４−ベンジルフェニル）エチル（メタ）アクリレート、２−フェニル−２−（フェニルチオ）エチル（メタ）アクリレート、２−（トリフェニルメチルオキシ）エチル（メタ）アクリレート、４−（トリフェニルメチルオキシ）ブチル（メタ）アクリレート、３−（ビフェニル−２−イルオキシ）ブチル（メタ）アクリレート、２−（ビフェニル−２−イルオキシ）ブチル（メタ）アクリレート、４−（ビフェニル−２−イルオキシ）プロピル（メタ）アクリレート、３−（ビフェニル−２−イルオキシ）プロピル（メタ）アクリレート、２−（ビフェニル−２−イルオキシ）プロピル（メタ）アクリレート、４−（ビフェニル−２−イルオキシ）エチル（メタ）アクリレート、３−（ビフェニル−２−イルオキシ）エチル（メタ）アクリレート、２−（４−ベンジルフェニル）エチル（メタ）アクリレート、４，４’−ジ（アクリロイルオキシメチル）ビフェニル、２，２’−ジ（２−アクリロイルオキシエトキシ）ビフェニル、これらの構造異性質体又はこれらの混合物のうちの一つである、請求項１に記載のディスプレイ密封材用組成物。
【請求項４】
前記２個以上のフェニル基を含む炭化水素又は２個以上のフェニル基を含むヘテロ原子含有炭化水素は、置換又は非置換のビフェニル基、置換又は非置換のトリフェニルメチル基、置換又は非置換のターフェニル基、置換又は非置換のビフェニレン基、置換又は非置換のターフェニレン基、置換又は非置換のクォーターフェニレン基、置換又は非置換の２−フェニル−２−（フェニルチオ）エチル基、置換又は非置換の２，２−ジフェニルプロパン基、置換又は非置換のジフェニルメタン基、置換又は非置換のクミルフェニル基、置換又は非置換のビスフェノールＦ基、置換又は非置換のビスフェノールＡ基、置換又は非置換のビフェニルオキシ基、置換又は非置換のターフェニルオキシ基、置換又は非置換のクォーターフェニルオキシ基、置換又は非置換のキンキフェニルオキシ基である、請求項１に記載のディスプレイ密封材用組成物。
【請求項５】
前記置換又は非置換の２個以上のフェニル基を有するモノマーは、重量平均分子量が約１００ｇ／ｍｏｌ〜約１０００ｇ／ｍｏｌである、請求項１に記載のディスプレイ密封材用組成物。
【請求項６】
前記光硬化性モノマー中に、前記置換又は非置換の２個以上のフェニル基を有するモノマーを約１０重量％〜約４０重量％含み、前記光硬化性モノマー中に、前記芳香族炭化水素基を有さないモノマーを約６０重量％〜約９０重量％含む、請求項１に記載のディスプレイ密封材用組成物。
【請求項７】
前記光硬化性モノマーは、Ｃ、Ｈ、Ｏ、Ｎ又はＳから選ばれる元素のみからなる、請求項１に記載のディスプレイ密封材用組成物。
【請求項８】
前記光重合開始剤は、トリアジン系、アセトフェノン系、ベンゾフェノン系、チオキサントン系、ベンゾイン系、リン系、オキシム系から選ばれる１種以上である、請求項１に記載のディスプレイ密封材用組成物。
【請求項９】
熱安定剤をさらに含む、請求項１に記載のディスプレイ密封材用組成物。
【請求項１０】
前記熱安定剤は、前記ディスプレイ密封材用組成物中に、固形分を基準にして約１００ｐｐｍ〜約１０００ｐｐｍ含む、請求項９に記載のディスプレイ密封材用組成物。
【請求項１１】
ディスプレイ部材、及び前記ディスプレイ部材上に形成された複合保護層を含み、
前記複合保護層は、無機保護層及び有機保護層を含み、
前記有機保護層は、請求項１から８のうちのいずれか１項のディスプレイ密封材用組成物の硬化物を含むディスプレイ装置。
【請求項１２】
前記無機保護層は、金属、金属酸化物、金属フッ化物、金属窒化物、金属酸窒化物、金属ホウ素化物、金属酸ホウ素化物、金属シリサイドから選ばれる１種以上を含み、
前記金属は、シリコン（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、セレニウム（Ｓｅ）、亜鉛（Ｚｎ）、アンチモン（Ｓｂ）、インジウム（Ｉｎ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、スズ（Ｓｎ）、ビスマス（Ｂｉ）、転移金属、ランタン族金属から選ばれる１種以上を含む、請求項１１に記載のディスプレイ装置。
【請求項１３】
前記ディスプレイ部材は、ＬＥＤ（ｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｄｉｏｄｅ）、ＯＬＥＤ（Ｏｒｇａｎｉｃ  ｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｄｉｏｄｅ）、ＯＬＥＤ照明又はＬＥＤ照明である、請求項１２に記載のディスプレイ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ディスプレイ密封材用組成物、これを含む有機保護層、及びこれを含むディスプレイ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学表示装置に使用される有機電界発光素子は、水分又は気体などの環境の影響を受け、特性の劣化又は変質の問題が発生しやすい。具体的に、水分の影響を受け、金属電界と有機発光層の界面が剥離し得る。また、金属の酸化によって高抵抗化され、有機物自体が水分又は酸素によって変質し得る。また、外部又は内部で発生するアウトガスによって有機材料、電極材料の酸化が発生し、有機電界発光素子の発光特性が低下し得る。したがって、有機電界発光素子は、水分又は酸素から保護する封止用組成物によって封止されなければならない。
【０００３】
有機電界発光素子は、無機保護層及び有機保護層が形成された多層構造で封止化されている。無機保護層は、プラズマによる蒸着で形成されるが、このとき、プラズマによって有機保護層のエッチングが起こり得る。このようなエッチングは、有機保護層の封止機能に損傷を与え得る。その結果、有機発光素子は、発光特性が低下し、信頼性が低下し得る。
【０００４】
本発明の背景技術は、韓国公開特許公報第２０１１−００７１０３９号（ＬＧディスプレイ株式会社）に開示されている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明が解決しようとする課題は、耐プラズマ性が高い有機保護層を具現できるディスプレイ密封材用組成物を提供することにある。
【０００６】
本発明が解決しようとする他の課題は、水分透湿率及び酸素透過度が著しく低い有機保護層を具現できるディスプレイ密封材用組成物を提供することにある。
【０００７】
本発明が解決しようとする更に他の課題は、透明性に優れた有機保護層を具現できるディスプレイ密封材用組成物を提供することにある。
【０００８】
本発明が解決しようとする更に他の課題は、表面粗度が低いので、表面平坦性に優れた有機保護層を具現できるディスプレイ密封材用組成物を提供することにある。
【０００９】
本発明が解決しようとする更に他の課題は、装置を水分及びガスを含む環境の影響から保護し、装置に経時的な信頼性を与え得る有機保護層を具現できるディスプレイ密封材用組成物を提供することにある。
【００１０】
本発明が解決しようとする更に他の課題は、本発明のディスプレイ密封材用組成物の硬化物を含むディスプレイ装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の一観点であるディスプレイ密封材用組成物は、光硬化性モノマー及び光重合開始剤を含むディスプレイ密封材用組成物であって、前記光硬化性モノマーは、芳香族炭化水素基を有さないモノマー；及び下記の化学式１の置換又は非置換の２個以上のフェニル基を有するモノマー；を含み、前記光硬化性モノマー中に、前記置換又は非置換の２個以上のフェニル基を有するモノマーを約５重量％〜約４５重量％含み、前記光硬化性モノマー中に、前記芳香族炭化水素基を有さないモノマーを約５５重量％〜約９５重量％含むディスプレイ密封材用組成物であってもよい。
【００１２】
【化１】
0006670833.tif 000002
【００１３】
（前記式において、Ａは、置換又は非置換の２個以上のフェニル基を含む炭化水素、又は置換又は非置換の２個以上のフェニル基を含むヘテロ原子含有炭化水素で、
Ｚ１、Ｚ２は、それぞれ独立的に下記の化学式２で、
ａ、ｂは、それぞれ０〜２の整数で、ａ＋ｂは、１〜４の整数である。）。
【００１４】
【化２】
0006670833.tif 000003
【００１５】
（前記式において、＊は、Ａの炭素に対する連結部で、
Ｘは、単一結合、Ｏ、又はＳで、
Ｙは、置換又は非置換の炭素数１〜１０の直鎖状アルキレン基、又は置換又は非置換の炭素数１〜２０のアルコキシ基で、
Ｒ１は、水素又は炭素数１〜５のアルキル基で、ｃは、０又は１である。）。
【００１６】
本発明の他の観点であるディスプレイ装置は、装置用部材、及び前記装置用部材上に形成された保護層を含み、前記保護層は、無機保護層及び有機保護層を含み、前記有機保護層は、前記ディスプレイ密封材用組成物の硬化物を含んでもよい。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の組成物は、耐プラズマ性が高い有機保護層を具現するという効果を有する。
【００１８】
本発明の組成物は、水分透湿率及び酸素透過度が著しく低い有機保護層を具現するという効果を有する。
【００１９】
本発明の組成物は、透明性に優れた有機保護層を具現するという効果を有する。
【００２０】
本発明の組成物は、表面粗度が低いので、表面平坦性に優れた有機保護層を具現するという効果を有する。
【００２１】
本発明の組成物は、ディスプレイ装置を水分及びガスを含む環境の影響から保護し、装置に経時的な信頼性を与え得る有機保護層を具現するという効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の一実施例に係るディスプレイ装置の断面図である。
【図２】本発明の他の実施例に係るディスプレイ装置の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、添付の図面を参照して、本出願の具体例をより詳細に説明する。しかし、本出願に開示された技術は、ここで説明する具体例に限定されなく、他の形態に具体化されてもよい。但し、ここで紹介する具体例は、開示した内容が徹底的且つ完全になるように、そして、当業者に本出願の思想が十分に伝達されるようにするために提供されるものである。図面において、各構成要素を明確に表現するために構成要素の幅や厚さなどのサイズを多少拡大して示した。また、説明の便宜上、構成要素の一部のみを示した場合もあるが、当業者であれば、構成要素の残りの部分に対しても容易に把握できるだろう。また、該当分野で通常の知識を有する者であれば、本出願の技術的思想を逸脱しない範囲内で本出願の思想を多様な他の形態に具現できるだろう。
【００２４】
本明細書において、「上部」と「下部」は、図面を基準にして定義したものであって、視観点によって「上部」が「下部」に、「下部」が「上部」に変更されてもよく、「上」と称されるものは、直上のみならず、中間に他の構造を介在した場合も含み得る。その一方で、「直接上」又は「真上」と称されるものは、中間に他の構造を介在しないものを示す。
【００２５】
本明細書において、「（メタ）アクリル」は、アクリル及び／又はメタクリルを意味し得る。
【００２６】
本明細書において、「置換された」は、別の定義がない限り、本発明の官能基のうち一つ以上の水素原子が、ヒドロキシ基、ニトロ基、イミノ基（＝ＮＨ、＝ＮＲ、Ｒは、炭素数１〜１０のアルキル基である。）、アミジノ基、ヒドラジン又はヒドラゾン基、カルボキシ基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜３０のアリール基、炭素数３〜３０のヘテロアリール基、炭素数２〜３０のヘテロシクロアルキル基に置換されることを意味し得る。
【００２７】
本明細書において、「ヘテロ原子」は、Ｎ、Ｏ、Ｓ及びＰからなる群から選ばれるいずれか一つの原子を意味し、「ヘテロ」は、炭素原子がＮ、Ｏ、Ｓ及びＰからなる群から選ばれるいずれか一つの原子に置換されたことを意味する。
【００２８】
本明細書において、「耐プラズマ性」は、密封材用組成物の硬化物がプラズマ処理されたとき、エッチングされるエッチング率によって判断することができ、エッチング率が低いほど耐プラズマ性に優れると定義する。
【００２９】
本明細書において、「アルキレン基」は、両側末端の（メタ）アクリレート間において二重結合無しで飽和された炭化水素で連結されたアルカンジイル基を意味する。また、アルキレン基の炭素数は、ジ（メタ）アクリレート基にある炭素を除いたアルキレン基自体にある炭素数のみを意味する。
【００３０】
本発明の一実施例に係るディスプレイ密封材用組成物は、光硬化性モノマー及び光重合開始剤を含んでもよい。
【００３１】
前記光硬化性モノマーは、光重合開始剤によって硬化反応を行える光硬化性モノマーを意味する。前記光硬化性モノマーとしては、シリコン（Ｓｉ）を含まない非−シリコン系モノマーを使用してもよく、例えば、Ｃ、Ｈ、Ｏ、Ｎ又はＳから選ばれる元素のみからなるモノマーであってもよいが、これに限定されない。光硬化性モノマーは、通常の合成方法で合成して使用してもよく、商業的に販売する製品を購入して使用してもよい。
【００３２】
具体的に、本発明の一実施例に係るディスプレイ密封材用組成物は、光硬化性モノマー及び光重合開始剤を含み、前記光硬化性モノマーは、芳香族炭化水素基を有さないモノマー；及び下記の化学式１の置換又は非置換の２個以上のフェニル基を有するモノマー；を含み、前記光硬化性モノマー中に、前記置換又は非置換の２個以上のフェニル基を有するモノマーを約５重量％〜約４５重量％含み、前記光硬化性モノマー中に、前記芳香族炭化水素基を有さないモノマーを約５５重量％〜約９５重量％含むディスプレイ密封材用組成物であってもよい。
【００３３】
【化３】
0006670833.tif 000004
【００３４】
前記式において、Ａは、置換又は非置換の２個以上のフェニル基を含む炭化水素、又は置換又は非置換の２個以上のフェニル基を含むヘテロ原子含有炭化水素で、
Ｚ１、Ｚ２は、それぞれ独立的に下記の化学式２で、
ａ、ｂは、それぞれ０〜２の整数で、ａ＋ｂは、１〜４の整数である。
【００３５】
【化４】
0006670833.tif 000005
【００３６】
前記式において、＊は、Ａの炭素に対する連結部で、
Ｘは、単一結合、Ｏ、又はＳで、
Ｙは、置換又は非置換の炭素数１〜１０の直鎖状アルキレン基、又は置換又は非置換の炭素数１〜２０のアルコキシ基で、
Ｒ１は、水素又は炭素数１〜５のアルキル基で、ｃは、０又は１である。
【００３７】
前記式において、Ａは、置換又は非置換の２個以上のフェニル基を含む炭化水素、又は置換又は非置換の２個以上のフェニル基を含むヘテロ原子含有炭化水素である。前記置換又は非置換の２個以上のフェニル基を含む炭化水素、又は置換又は非置換の２個以上のフェニル基を含むヘテロ原子含有炭化水素は、置換又は非置換の２個以上のフェニル基が縮合されず、単一結合、酸素原子、硫黄原子、置換又は非置換の炭素数１〜５のアルキル基、ヘテロ原子に置換又は非置換された炭素数３〜６のアルキレン基、エテニレン基、エチニレン基又はカルボニル基によって連結されたものを意味する。例えば、前記２個以上のフェニル基を含む炭化水素又は２個以上のフェニル基を含むヘテロ原子含有炭化水素は、置換又は非置換のビフェニル基、置換又は非置換のトリフェニルメチル基、置換又は非置換のターフェニル基、置換又は非置換のビフェニレン基、置換又は非置換のターフェニレン基、置換又は非置換のクォーターフェニレン基、置換又は非置換の２−フェニル−２−（フェニルチオ）エチル基、置換又は非置換の２，２−ジフェニルプロパン基、置換又は非置換のジフェニルメタン基、置換又は非置換のクミルフェニル基、置換又は非置換のビスフェノールＦ基、置換又は非置換のビスフェノールＡ基、置換又は非置換のビフェニルオキシ基、置換又は非置換のターフェニルオキシ基、置換又は非置換のクォーターフェニルオキシ基、置換又は非置換のキンキフェニルオキシ基及びこれらの構造異性質体などを含んでもよいが、これに限定されない。
【００３８】
前記置換又は非置換の２個以上のフェニル基を有するモノマーは、モノ（メタ）アクリレート、ジ（メタ）アクリレート又はこれらの混合物であってもよく、その例としては、４−（メタ）アクリルオキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、エチル−３，３−ジフェニル（メタ）アクリレート、ベンゾイルオキシフェニル（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、４−クミルフェノキシエチルアクリレート、エトキシ化ビスフェニルフルオレンジアクリレート、２−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２，２’−フェニルフェノキシエチルジ（メタ）アクリレート、２−フェニルフェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２，２’−フェニルフェノキシプロピルジ（メタ）アクリレート、２−フェニルフェノキシブチル（メタ）アクリレート、２，２’−フェニルフェノキシブチルジ（メタ）アクリレート、２−（３−フェニルフェニル）エチル（メタ）アクリレート、２−（４−ベンジルフェニル）エチル（メタ）アクリレート、２−フェニル−２−（フェニルチオ）エチル（メタ）アクリレート、２−（トリフェニルメチルオキシ）エチル（メタ）アクリレート、４−（トリフェニルメチルオキシ）ブチル（メタ）アクリレート、３−（ビフェニル−２−イルオキシ）ブチル（メタ）アクリレート、２−（ビフェニル−２−イルオキシ）ブチル（メタ）アクリレート、４−（ビフェニル−２−イルオキシ）プロピル（メタ）アクリレート、３−（ビフェニル−２−イルオキシ）プロピル（メタ）アクリレート、２−（ビフェニル−２−イルオキシ）プロピル（メタ）アクリレート、４−（ビフェニル−２−イルオキシ）エチル（メタ）アクリレート、３−（ビフェニル−２−イルオキシ）エチル（メタ）アクリレート、２−（４−ベンジルフェニル）エチル（メタ）アクリレート、４，４’−ジ（アクリロイルオキシメチル）ビフェニル、２，２’−ジ（２−アクリロイルオキシエトキシ）ビフェニル、これらの構造異性質体又はこれらの混合物を含んでもよいが、これに制限されるものではない。また、本発明で言及した（メタ）アクリレートは一例に過ぎなく、これに限定されるものではない。さらに、本発明は、構造異性質体関係にあるアクリレートを全て含む。例えば、本発明の一例として、２，２’−フェニルフェノキシエチルジ（メタ）アクリレートのみが言及されているとしても、本発明は、この構造異性質体に該当する３，２’−フェニルフェノキシエチルジ（メタ）アクリレート、３，３’−フェニルフェノキシエチルジ（メタ）アクリレートなどを全て含む。
【００３９】
本発明の一例において、２個以上のフェニル基を有するモノマーは、下記の化学式３のモノ（メタ）アクリレートであってもよい。
【００４０】
【化５】
0006670833.tif 000006
【００４１】
前記化学式３において、Ｒ２は、水素又はメチル基で、Ｒ３は、置換又は非置換の炭素数１〜１０の直鎖状アルキレン基、又は置換又は非置換の炭素数１〜２０のアルコキシ基で、Ｒ４は、置換又は非置換の２個以上のフェニル基を含む炭化水素、又は置換又は非置換の２個以上のフェニル基を含むヘテロ原子含有炭化水素である。
【００４２】
例えば、前記置換又は非置換の２個以上のフェニル基を含む炭化水素、又は置換又は非置換の２個以上のフェニル基を含むヘテロ原子含有炭化水素は、置換又は非置換の２個以上のフェニル基が縮合されず、単一結合、酸素原子、硫黄原子、置換又は非置換の炭素数１〜３のアルキル基、ヘテロ原子に置換又は非置換された炭素数３〜６のアルキレン基、エテニレン基、エチニレン基又はカルボニル基によって連結されたものを意味する。例えば、前記置換又は非置換の２個以上のフェニル基を含む炭化水素、又は置換又は非置換の２個以上のフェニル基を含むヘテロ原子含有炭化水素は、置換又は非置換のビフェニル基、置換又は非置換のトリフェニルメチル基、置換又は非置換のターフェニル基、置換又は非置換のビフェニレン基、置換又は非置換のターフェニレン基、置換又は非置換のクォーターフェニレン基、置換又は非置換の２−フェニル−２−（フェニルチオ）エチル基、置換又は非置換の２，２−ジフェニルプロパン基、置換又は非置換のジフェニルメタン基、置換又は非置換のクミルフェニル基、置換又は非置換のビスフェノールＦ基、置換又は非置換のビスフェノールＡ基、置換又は非置換のビフェニルオキシ基、置換又は非置換のターフェニルオキシ基、置換又は非置換のクォーターフェニルオキシ基、置換又は非置換のキンキフェニルオキシ基などを含んでもよいが、これに限定されない。
【００４３】
本発明の一例において、２個以上のフェニル基を有するモノマーは、下記の化学式４のジ（メタ）アクリレートであってもよい。
【００４４】
【化６】
0006670833.tif 000007
【００４５】
前記化学式４において、Ｒ５、Ｒ９は、それぞれ独立的に水素又はメチル基で、Ｒ６、Ｒ８は、それぞれ独立的に置換又は非置換の炭素数１〜１０の直鎖状アルキレン基、又は置換又は非置換の炭素数１〜２０のアルコキシ基で、Ｒ７は、置換又は非置換の２個以上のフェニル基を含む炭化水素、又は置換又は非置換の２個以上のフェニル基を含むヘテロ原子含有炭化水素である。
【００４６】
例えば、前記置換又は非置換の２個以上のフェニル基を含む炭化水素、又は置換又は非置換の２個以上のフェニル基を含むヘテロ原子含有炭化水素は、置換又は非置換の２個以上のフェニル基が縮合されず、単一結合、酸素原子、硫黄原子、置換又は非置換の炭素数１〜４のアルキル基、ヘテロ原子に置換又は非置換された炭素数３〜６のアルキレン基、エテニレン基、エチニレン基又はカルボニル基によって連結されたものを意味する。例えば、前記炭化水素は、置換又は非置換のビフェニレン基、置換又は非置換のトリフェニルメチレン基、置換又は非置換のターフェニレン基、置換又は非置換のクォーターフェニレン基、２−フェニル−２−（フェニルチオ）エチレン基、２，２−ジフェニルプロピレン基、ジフェニルメチレン基などを含んでもよいが、これに限定されない。
【００４７】
前記化学式１において、ａ、ｂは、それぞれ０〜２の整数で、ａ＋ｂは、１〜４の整数であり、一例において、ａ＋ｂは、１又は２の整数である。
【００４８】
前記置換又は非置換の２個以上のフェニル基を有するモノマーの重量平均分子量は、約１００ｇ／ｍｏｌ以上約１０００ｇ／ｍｏｌ以下であってもよく、約１３０ｇ／ｍｏｌ以上約７００ｇ／ｍｏｌ以下であってもよく、約１５０ｇ／ｍｏｌ以上約６００ｇ／ｍｏｌ以下であってもよい。
【００４９】
前記範囲内で、耐プラズマ性に優れ、表面粗度が低く、透過率により優れた密封材を提供することができる。
【００５０】
前記芳香族炭化水素基を有するモノマーは、光硬化性モノマーの総重量に対して約５重量％〜約４５重量％、より具体的に、約１０重量％〜約４０重量％含まれてもよい。前記範囲内で、粘度が密封材の形成に適切であると同時に、耐プラズマ性が優秀になり得る。
【００５１】
前記光硬化性モノマーは、芳香族炭化水素基を有さないモノマーを含んでもよい。
【００５２】
前記芳香族炭化水素基を有さないモノマーは、芳香族炭化水素基を含んでおらず、光硬化官能基として、ビニル基、アクリル基、及びメタクリル基のうちの一つ以上を１〜２０個、具体的に１〜６個有するモノマーを含んでもよく、例えば、１〜３個、１〜２個、１個、又は２個含んでもよい。
【００５３】
本発明において、芳香族炭化水素基を有さないモノマーの重量平均分子量は、約１００ｇ／ｍｏｌ以上約５００ｇ／ｍｏｌ以下であってもよく、約１３０ｇ／ｍｏｌ以上約４００ｇ／ｍｏｌ以下であってもよく、約２００ｇ／ｍｏｌ以上約３００ｇ／ｍｏｌ以下であってもよい。前記モノマーの重量平均分子量の範囲内で、工程的により有利な効果を示すことができる。
【００５４】
前記芳香族炭化水素基を有さないモノマーは、光硬化官能基を有する単官能モノマー、多官能モノマー、又はこれらの混合物を含んでもよい。
【００５５】
具体的に、前記芳香族炭化水素基を有さないモノマーは、（メタ）アクリレートモノマーであってもよく、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数３〜２０のシクロアルキル基、ヒドロキシ基及び炭素数１〜２０のアルキル基を有する不飽和カルボン酸エステル；炭素数１〜２０のアミノアルキル基を有する不飽和カルボン酸エステル；炭素数１〜２０の飽和又は不飽和カルボン酸のビニルエステル；シアン化ビニル化合物；不飽和アミド化合物；モノアルコール又は多価アルコールの単官能又は多官能（メタ）アクリレートなどになってもよい。前記「多価アルコール」は、水酸基を２個以上有するアルコールであって、水酸基を２個〜２０個、好ましくは２個〜１０個、より好ましくは２個〜６個有するアルコールを意味し得る。
【００５６】
一例において、芳香族炭化水素基を有さないモノマーのうち、芳香族炭化水素基を有さない（メタ）アクリレートモノマーは、置換又は非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、置換又は非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキルシリル基、置換又は非置換のＣ３〜Ｃ２０のシクロアルキル基、置換又は非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、アミン基、エチレンオキシド基などを有するモノ（メタ）アクリレート、ジ（メタ）アクリレート、トリ（メタ）アクリレート、テトラ（メタ）アクリレートなどであってもよい。
【００５７】
具体的に、芳香族炭化水素基を有さない（メタ）アクリレートモノマーは、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デカニル（メタ）アクリレート、ウンデカニル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリル酸エステルを含む不飽和カルボン酸エステル；２−アミノエチル（メタ）アクリレート、２−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレートなどの不飽和カルボン酸アミノアルキルエステル；ビニルアセテートなどの飽和又は不飽和カルボン酸ビニルエステル；（メタ）アクリロニトリルなどのシアン化ビニル化合物；（メタ）アクリルアミドなどの不飽和アミド化合物；エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、オクタンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、デカンジオールジ（メタ）アクリレート、ウンデカンジオールジ（メタ）アクリレート、ドデカンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート又はこれらの混合物を含んでもよいが、これに限定されない。
【００５８】
本発明の一例において、芳香族炭化水素基を有さないモノマーは、芳香族基を含まない非−芳香族系であって、炭素数１〜２０のアルキル基を有するモノ（メタ）アクリレート、アミン基を有するモノ（メタ）アクリレート、置換又は非置換の炭素数１〜２０のアルキレン基を有するジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド基を有するジ（メタ）アクリレート及びエチレンオキシド基を有するトリ（メタ）アクリレートのうちの１種以上を含んでもよい。
【００５９】
置換又は非置換の炭素数１〜２０のアルキル基を有するモノ（メタ）アクリレートは、具体的に、デシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、テトラデシル（メタ）アクリレート、ペンタデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、ヘプタデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート、ノナデシル（メタ）アクリレート、アラキジル（メタ）アクリレート又はこれらの混合物であってもよいが、これに限定されない。
【００６０】
アミン基を有するモノ（メタ）アクリレートは、２−アミノエチル（メタ）アクリレート、２−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート又はこれらの混合物であってもよいが、これに限定されない。
【００６１】
置換又は非置換の炭素数１〜２０のアルキレン基を有するジ（メタ）アクリレートは、例えば、炭素数１〜２０のアルキレン基を有するジ（メタ）アクリレートであってもよく、置換又は非置換の長鎖のアルキレン基を含む非−シリコン系ジ（メタ）アクリレートであってもよい。このような長鎖のアルキレン基を含む非−シリコン系ジ（メタ）アクリレートを含む場合、封止用組成物は、蒸着などの方法で、有機発光素子又は有機発光素子を封止する無機層上に有機障壁層を形成するのに容易である。置換又は非置換の炭素数１〜２０のアルキレン基を有するジ（メタ）アクリレートは、例えば、オクタンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、デカンジオールジ（メタ）アクリレート、ウンデカンジオールジ（メタ）アクリレート、ドデカンジオールジ（メタ）アクリレート又はこれらの混合物であってもよいが、これに限定されない。前記置換又は非置換の炭素数１〜２０のアルキレン基を有する（メタ）アクリレートを含む場合、封止用組成物は、光硬化率がさらに向上し、粘度が低くなり得る。
【００６２】
エチレンオキシド基を有するジ（メタ）アクリレート又はトリ（メタ）アクリレートは、具体的に、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート又はこれらの混合物であってもよいが、これに限定されない。
【００６３】
前記芳香族炭化水素基を有さないモノマーは、光硬化性モノマーの総重量に対して約５５重量％〜約９５重量％、具体的に約６０重量％〜約９０重量％含まれてもよい。前記範囲内で、ディスプレイ密封材用組成物の粘度が有機電界発光素子の密封材形成に適切であり得る。
【００６４】
前記光重合開始剤は、光硬化性反応を行える通常の光重合開始剤を制限なく含む。例えば、光重合開始剤は、トリアジン系、アセトフェノン系、ベンゾフェノン系、チオキサントン系、ベンゾイン系、リン系、オキシム系又はこれらの混合物を含んでもよい。
【００６５】
トリアジン系開始剤は、２，４，６−トリクロロ−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３’，４’−ジメトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４’−メトキシナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−トリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ビフェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、ビス（トリクロロメチル）−６−スチリル−ｓ−トリアジン、２−（ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４−トリクロロメチル（ピペロニル）−６−トリアジン、２，４−（トリクロロメチル（４’−メトキシスチリル）−６−トリアジン又はこれらの混合物であってもよい。
【００６６】
アセトフェノン系開始剤は、２，２’−ジエトキシアセトフェノン、２，２’−ジブトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔ−ブチルトリクロロアセトフェノン、ｐ−ｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、４−クロロアセトフェノン、２，２’−ジクロロ−４−フェノキシアセトフェノン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタン−１−オン、及びこれらの混合物であってもよい。
【００６７】
ベンゾフェノン系開始剤は、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、３，３’−ジメチル−２−メトキシベンゾフェノン又はこれらの混合物であってもよい。
【００６８】
チオキサントン系開始剤は、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン又はこれらの混合物であってもよい。
【００６９】
ベンゾイン系開始剤は、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタール又はこれらの混合物であってもよい。
【００７０】
リン系開始剤は、ビスベンゾイルフェニルホスフィンオキシド、ベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド又はこれらの混合物であってもよい。
【００７１】
オキシム系は、２−（ｏ−ベンゾイルオキシム）−１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−１，２−オクタンジオン及び１−（ｏ−アセチルオキシム）−１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］エタノン、又はこれらの混合物であってもよい。
【００７２】
前記光重合開始剤は、ディスプレイ密封材用組成物中に、光硬化性モノマーと光重合開始剤の合計１００重量部に対して約０．１重量部〜約２０重量部含まれてもよい。前記範囲内で、露光時に光重合が十分に起こり、光重合後、残った未反応開始剤によって透過率が低下することを防止することができる。具体的に、前記光重合開始剤は、約０．５重量部〜約１０重量部、より具体的に約１重量部〜約８重量部含まれてもよい。また、前記光重合開始剤は、前記ディスプレイ密封材用組成物中に、固形分を基準にして約０．１重量％〜約１０重量％、具体的に約０．１重量％〜約８重量％含まれてもよい。前記範囲で、光重合が十分に起こり、残った未反応開始剤によって透過率が低下することを防止することができる。
【００７３】
また、前記光重合開始剤の代わりに、カルバゾール系、ジケトン類、スルホニウム系、ヨードニウム系、ジアゾ系、ビイミダゾール系などの光酸発生剤又は光重合開始剤を使用してもよい。
【００７４】
本発明の他の実施例に係るディスプレイ密封材用組成物は、酸化防止剤をさらに含んでもよい。
【００７５】
酸化防止剤は、封止層の熱的安定性を向上させることができる。酸化防止剤は、フェノール系、キノン系、アミン系及びホスファイト系からなる群から選ばれる１種以上を含んでもよいが、これらに制限されるものではない。例えば、酸化防止剤としては、テトラキス［メチレン（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）］メタン、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイトなどを挙げることができる。
【００７６】
酸化防止剤は、前記ディスプレイ密封材用組成物中に、光硬化性モノマーと光重合開始剤の合計１００重量部に対して約０．０１重量部〜約３重量部、具体的には約０．０１重量部〜約１重量部含まれてもよい。前記範囲で、優れた熱安定性を示すことができる。
【００７７】
本発明の他の実施例に係るディスプレイ密封材用組成物は、熱安定剤をさらに含んでもよい。その結果、本発明の他の実施例に係るディスプレイ密封材用組成物は、密封材用組成物の常温での粘度変化を抑制することができる。さらに、熱安定剤を含まない密封材用組成物に比べて光透過率と光硬化率をさらに高め、プラズマエッチング率をさらに低下させることができる。本発明の他の実施例に係るディスプレイ密封材用組成物は、熱安定剤をさらに含むという点を除いては、本発明の一実施例に係るディスプレイ密封材用組成物と同一である。そのため、以下では、熱安定剤に対してのみ説明する。
【００７８】
熱安定剤は、密封材用組成物に含まれ、組成物の常温での粘度変化を抑制するものであって、通常の熱安定剤を制限なく使用可能である。例えば、熱安定剤としては、立体障害のある（ｓｔｅｒｉｃａｌｌｙ  ｈｉｎｄｅｒｅｄ）フェノール性熱安定剤を使用してもよく、具体的に、ポリ（ジ−シクロペンタジエン−ｃｏ−ｐ−クレゾール）、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，２’−メタノ−ビ（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチル−フェノール）、６，６’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２’−チオジ−ｐ−クレゾール、トリス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、トリエチレングリコール−ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）、４，４’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−ｍ−クレゾール）、３，３’−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ジプロピオンアミド、ペンタエリスリトールテトラキス（３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート）、ステアリル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキス１，３，５−トリス（２，６−ジ−メチル−３−ヒドロキシ−４−ｔｅｒｔ−ブチル−ベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキシフェニルプロピオネート）のうちの一つ以上を含んでもよいが、これに制限されない。
【００７９】
熱安定剤は、前記ディスプレイ密封材用組成物中に、固形分を基準にして光硬化性モノマーと光重合開始剤の合計に対して約２０００ｐｐｍ以下、例えば、約０．０１ｐｐｍ〜約２０００ｐｐｍ、例えば、約１００ｐｐｍ〜約１０００ｐｐｍ含まれてもよい。前記範囲で、熱安定剤は、密封材用組成物の液状状態の貯蔵安定性と工程性をさらに良好にすることができる。
【００８０】
前記ディスプレイ密封材用組成物は、紫外線を約１０ｍＷ／ｃｍ２〜約５００ｍＷ／ｃｍ２で約１秒〜約１００秒間照射して硬化してもよいが、これに限定されない。
【００８１】
前記ディスプレイ密封材用組成物は、下記の式１で表示されるプラズマエッチング率が約４００ｎｍ／ｍｉｎ以下で、表面粗度が約２ｎｍ以下であってもよい。
【００８２】
【数１】
0006670833.tif 000008
【００８３】
前記式において、Ｔ０は、基材上に前記ディスプレイ密封材用組成物をスプレーで塗布し、紫外線を約１００ｍＷ／ｃｍ２で約１０秒間照射して硬化させることによって製造されたサンプルの厚さ（ｎｍ）で、Ｔ１は、前記製造されたサンプルを２５００Ｗ  ＩＣＰ電源、３００Ｗ  ＲＦ電源、ＤＣバイアス２００Ｖ、アルゴン（Ａｒ）流量５０ｓｃｃｍ、１０ｍｔｏｒｒの圧力条件で約１分間プラズマ処理した後の厚さ（ｎｍ）で、前記Ｔ０及びＴ１は、基材の厚さを除いた厚さを示したもので、Ｍは、プラズマ処理時間（ｍｉｎ）である。
【００８４】
前記硬化後のプラズマエッチング率を有する光硬化性モノマーを使用することによって、有機電界発光素子又は有機電界発光素子上に形成された無機保護層上に有機保護層を形成するとき、プラズマ処理によって有機保護層が損傷するプラズマエッチング率が著しく低いので、耐プラズマ性が高い有機保護層を提供することができる。具体的に、前記プラズマエッチング率は、約４００ｎｍ／ｍｉｎ以下、具体的に約１０ｎｍ／ｍｉｎ〜３９０ｎｍ／ｍｉｎであってもよく、約１０ｎｍ／ｍｉｎ〜３８５ｎｍ／ｍｉｎであってもよい。前記式１で表示されるプラズマエッチング率が約４００ｎｍ／ｍｉｎを超える場合、有機膜の損傷が増加し、素子の信頼性が低下する。
【００８５】
前記表面粗度は、前記ディスプレイ密封材用組成物を基材に蒸着したときの表面屈曲を測定した蒸着表面粗度であって、表面粗度が低いほどディスプレイの平坦性に寄与することができる。
【００８６】
本発明における粗度は、当業者に知られた一般的な方法による粗度測定法による方法、例えば、原子力顕微鏡（Ａｔｏｍｉｃ  Ｆｏｒｃｅ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ；ＡＦＭ）を用いて測定してもよい。本発明において、原子力顕微鏡で測定するとき、表面粗度（蒸着表面粗度）は、約２ｎｍ以下であることが好ましく、約０ｎｍ〜約２ｎｍ、約０ｎｍ〜約１．９ｎｍ、約０ｎｍ〜約１．８５ｎｍであってもよい。本発明に係る表面粗度が約２ｎｍ以下である場合、表面が平坦な有機保護層を提供することができ、有機保護層の蒸着後に形成される無機保護層を平坦に蒸着することができる。表面粗度が約２ｎｍを超える場合、有機保護層が平坦化されず、硬化物の表面に無機保護層が蒸着される場合、無機保護層が割れる原因になり得る。
【００８７】
前記ディスプレイ密封材用組成物で形成された有機保護層を含むディスプレイ装置は、アウトガス発生量が約２０００ｐｐｍ以下であってもよい。前記範囲内で、装置用部材の寿命が長くなり、信頼性が高くなり得る。具体的には、アウトガス発生量が約１０ｐｐｍ〜約１０００ｐｐｍであってもよい。
【００８８】
前記アウトガス発生量は、通常の方法で測定してもよい。例えば、ガラス基板上にディスプレイ密封材用組成物を塗布し、紫外線を約１００ｍＷ／ｃｍ２で約１０秒間照射して硬化させることによって、塗膜の厚さが約５μｍである硬化された試片を形成する。塗膜の厚さ約５μｍに対してＴＤ−ＧＣ／ＭＳ（ＴＤ：ＪＴＤ５０５ＩＩＩ、ＧＣ／ＭＳ：Ｃｌａｒｕｓ  ６００、株式会社パーキンエルマー）装備で一定面積（１ｘ５ｃｍ２）に対して約４０℃から約３２０℃まで約１０℃／ｍｉｎの昇温速度で加熱・捕集されたアウトガス発生量を測定する。
【００８９】
前記ディスプレイ密封材用組成物は、硬化後に測定した色座標値ＹＩ（ＡＳＴＭ  Ｄ１９２５）が約０．５以下、具体的に約０．１〜約０．５であってもよい。前記範囲内で、ディスプレイ密封材が透明であり、白色光に近い光を透過してディスプレイに適用することができる。
【００９０】
前記色座標値は、通常の方法で測定してもよい。例えば、ガラス基板上にディスプレイ密封材用組成物を塗布し、紫外線を約１００ｍＷ／ｃｍ２で約１０秒間照射して硬化させることによって、塗膜の厚さが５μｍである硬化された試片を形成する。塗膜の厚さ５μｍに対して紫外可視分光光度計（ＵＶ−ｖｉｓｉｂｌｅ  ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）（ＵＶ−２４５０、株式会社島津製作所）分析装備を用いて波長３００ｎｍ〜８００ｎｍに対する透過率を測定した後、色座標値ＹＩ（ＡＳＴＭ  Ｄ１９２５）を計算する。
【００９１】
前記ディスプレイ密封材用組成物は、硬化後に測定した電光線透過率が約９０％以上約１００％以下、具体的に約９５％以上約１００％以下であって、透過率が高いので透明な有機保護層を提供することができる。
【００９２】
前記電光線透過率及びヘーズは、ＡＳＴＭ  Ｄ１００３−９５  ５によって波長約４００ｎｍ〜約７００ｎｍでヘーズメーター（ＮＤＨ−５０００、日本電色工業株式会社）を使用して測定した。
【００９３】
前記ディスプレイ密封材用組成物は、発光前面部に塗布されて使用される用途で色相を示さず、透明でなければならない。ディスプレイ密封材が色相を示す場合、ディスプレイ光源で具現された光が前面部に位置した密封材を透過した後で色座標が食い違い、具現しようとする色相が歪曲するという問題が発生し得る。また、透明度が低くなるほど、前面部に発光された光の効率が低下し、ディスプレイが鮮明に見えなくなるおそれがある。
【００９４】
本発明の各実施例に係るディスプレイ密封材用組成物は、有機電界発光素子の密封材として使用されてもよい。具体的に、有機電界発光素子が周辺環境、例えば、液体又は気体、具体的に水分又は酸素によって損傷したり、有機電界発光素子を含む装置の製造工程で使用される化学物質によって損傷し得る。また、本発明の各実施例に係るディスプレイ密封材用組成物は、特性の劣化を防止するために、有機電界発光素子を周辺環境から遮断させる有機保護層を形成する密封材として使用されてもよい。
【００９５】
本発明の各実施例に係るディスプレイ密封材用組成物は、装置用部材の密封材として使用されてもよい。具体的に、装置用部材が周辺環境、例えば、液体又は気体、具体的に水分又は酸素によって損傷したり、有機電界発光素子を含む装置の製造工程で使用される化学物質によって損傷し得る。また、本発明の各実施例に係るディスプレイ密封材用組成物は、特性の劣化を防止するために、装置用部材を周辺環境から遮断させる有機保護層を形成する密封材として使用されてもよい。前記装置用部材は、例えば、フレキシブル有機電界発光素子、有機電界発光素子などであってもよい。
【００９６】
本発明の各実施例に係るディスプレイ密封材用組成物は、有機電界発光素子上に形成される有機保護層、又は有機電界発光素子上に形成された無機保護層上に形成される有機保護層を形成する用途で使用されてもよい。前記有機保護層は、蒸着、インクジェットなどの方法を使用して形成されてもよいが、これに限定されない。
【００９７】
本発明の一実施例に係るディスプレイ装置は、装置用部材、及び前記装置用部材上に形成された複合保護層を含み、前記複合保護層は、無機保護層及び有機保護層を含み、前記有機保護層は、本発明の各実施例に係るディスプレイ密封材用組成物で形成されてもよい。
【００９８】
以下、図１を参照して本発明の一実施例に係るディスプレイ装置を説明する。
【００９９】
図１は、本発明の一実施例に係るディスプレイ装置の断面図である。本実施例のディスプレイ装置１００は、基板１０、基板１０上に形成された装置用部材２０、及び装置用部材２０上に形成され、無機保護層３１及び有機保護層３２を含む複合保護層３０を含み、無機保護層３１は、装置用部材２０と接触する状態で形成され、有機保護層３２は、本発明の各実施例に係るディスプレイ密封材用組成物で形成されてもよい。
【０１００】
本発明において、ディスプレイは、ＬＥＤ（ｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｄｉｏｄｅ）、ＯＬＥＤ（Ｏｒｇａｎｉｃ  ｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｄｉｏｄｅ）、照明（ｌｉｇｈｔ  ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ）を意味し、前記照明は、ＯＬＥＤ照明及びＬＥＤ照明を全て含むが、それ以外の当業界で一般的に使用されるディスプレイ装置も全て含む。
【０１０１】
前記装置用部材は、フレキシブル有機電界発光素子、有機電界発光素子などであってもよいが、これに限定されない。
【０１０２】
基板１０としては、特別に制限されなく、例えば、透明ガラス、プラスチックフィルム、シリコン又は金属基板などを使用してもよい。
【０１０３】
装置用部材２０は、例えば、有機電界発光素子であってもよく、第１電極、第２電極、及び第１電極と第２電極との間に形成された有機発光層を含み、有機発光層は、ホール注入層、ホール輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層が順次積層されたものであってもよいが、これに制限されない。
【０１０４】
複合保護層３０は、無機保護層３１及び有機保護層３２を含み、無機保護層３１及び有機保護層３２は、層を構成する成分が異なり、それぞれが装置用部材の密封材として作用し得る。
【０１０５】
無機保護層３１は、有機保護層３２と成分が異なり、有機保護層３２の効果を補完することができる。無機保護層３１は、光透過性に優れ、水分及び／又は酸素遮断性に優れた無機素材で形成されてもよい。例えば、無機保護層３１は、金属、非金属、金属間化合物又は合金、非金属間化合物又は合金、金属又は非金属の酸化物、金属又は非金属のフッ化物、金属又は非金属の窒化物、金属又は非金属の炭化物、金属又は非金属の酸素窒化物、金属又は非金属のホウ素化物、金属又は非金属の酸素ホウ素化物、金属又は非金属のシリサイド、又はこれらの混合物であってもよい。金属又は非金属は、シリコン（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、セレニウム（Ｓｅ）、亜鉛（Ｚｎ）、アンチモン（Ｓｂ）、インジウム（Ｉｎ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、スズ（Ｓｎ）、ビスマス（Ｂｉ）、転移金属、ランタン族金属などになってもよいが、これに制限されない。具体的に、無機保護層は、シリコン酸化物（ＳｉＯｘ）、シリコン窒化物（ＳｉＮｘ）、シリコン酸素窒化物（ＳｉＯｘＮｙ）、ＺｎＳｅ、ＺｎＯ、Ｓｂ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３などを含むＡｌＯｘ、Ｉｎ２Ｏ３、ＳｎＯ２であってもよい。ここで、ｘ、ｙはそれぞれ１〜５である。
【０１０６】
無機保護層３１は、プラズマ工程、真空工程、例えば、スパッタリング、化学気相蒸着、プラズマ化学気相蒸着、蒸発、昇華、電子サイクロトロン共鳴−プラズマ蒸気蒸着及びこれらの組み合わせを通じて蒸着されてもよい。
【０１０７】
無機保護層３１の厚さは、特別に限定されないが、１００Å〜２０００Åであってもよい。前記範囲内で封止効果が優秀になり得る。
【０１０８】
有機保護層３２は、本発明の各実施例に係るディスプレイ密封材用組成物の蒸着、インクジェット、スクリーン印刷、スピンコーティング、ブレードコーティング、硬化単独又はこれらの組み合わせによって形成されてもよい。例えば、ディスプレイ密封材用組成物を約１μｍ〜約５０μｍの厚さでコートし、紫外線を約１０ｍＷ／ｃｍ２〜約５００ｍＷ／ｃｍ２で約１秒〜約１００秒間照射して硬化させてもよい。
【０１０９】
図１に示していないが、有機保護層及び無機保護層は、３層以上に交互に蒸着されてもよい。有機保護層が２以上の無機保護層間に蒸着される場合、無機保護層の平滑化特性を確保し、無機保護層の欠陥が他の無機保護層に伝播されることを防止することができる。また、２以上の有機保護層間に蒸着される無機保護層は、装置に対する封止効果を補完又は強化することができる。
【０１１０】
複合保護層３０は、無機保護層３１及び有機保護層３２を交互に含み、無機保護層３１及び有機保護層３２の総個数は制限されない。無機保護層３１及び有機保護層３２の総個数は、酸素及び／又は水分及び／又は水蒸気及び／又は化学物質に対する透過抵抗性の水準によって変更してもよい。例えば、無機保護層３１及び有機保護層３２の総個数は、１０層以下、例えば、２層〜７層になってもよい。具体的に、無機保護層３１及び有機保護層３２は、無機保護層／有機保護層／無機保護層／有機保護層／無機保護層／有機保護層／無機保護層の順に７層で形成されてもよい。
【０１１１】
前記ディスプレイ装置は、アウトガス発生量が約２０００ｐｐｍ以下であってもよい。前記範囲内で、装置用部材の寿命が長くなり、信頼性が高くなり得る。具体的には、アウトガス発生量が約１０ｐｐｍ〜約１０００ｐｐｍであってもよい。
【０１１２】
以下、図２を参照して本発明の他の実施例に係るディスプレイ装置を説明する。図２は、本発明の他の実施例に係るディスプレイ装置の断面図である。
【０１１３】
図２を参照すると、本発明の他の実施例に係るディスプレイ装置２００は、基板１０、基板１０上に形成された装置用部材２０、及び装置用部材２０上に形成され、無機保護層３１及び有機保護層３２を含む複合保護層３０を含み、無機保護層３１は、装置用部材２０が収容された内部空間４０を封止し、有機保護層３２は、本発明の各実施例に係るディスプレイ密封材用組成物で形成されてもよい。本発明の他の実施例に係るディスプレイ装置２００は、無機保護層３１が装置用部材２０と接触しない点を除いては、上述した本発明の一実施例に係る有機発光素子表示装置と実質的に同一であるので、それについての記述を省略する。
【実施例】
【０１１４】
以下、実施例、比較例及び実験例を挙げて本発明の構成及び効果をより具体的に説明する。しかし、これらの実施例、比較例及び実験例は、本発明に対する理解を促進するために例示の目的で提供されたものに過ぎなく、本発明の範疇及び範囲が下記の実施例、比較例及び試験例によって制限されるわけではない。
【０１１５】
製造例１
冷却管及び撹拌機を備えた３０００ｍｌの反応器にジクロロメタン（ｄｉｃｈｌｏｒｏｍｅｔｈａｎｅ、シグマアルドリッチ株式会社）３００ｍｌを入れ、４−ヒドロキシブチルアクリレート（４−ｈｙｄｒｏｘｉｂｕｔｙｌ  ａｃｒｙｌａｔｅ、新中村化学工業株式会社）２００ｇ及びトリエチルアミン１６８ｇを入れ、フラスコ内の温度を０℃に下げた後、ｐ−トルエンスルホニルクロリド（ｐ−ｔｏｌｕｅｎｅ  ｓｕｌｆｏｎｙｌ  ｃｈｌｏｒｉｄｅ、シグマアルドリッチ株式会社）２７８ｇをジクロロメタン５００ｍｌに溶かした溶液を２時間にわたって滴下しながら撹拌した。さらに、５時間撹拌した後、残留溶媒を蒸留で除去した。得られた化合物３００ｇをアセトニトリル（ａｃｅｔｏｎｉｔｒｉｌｅ、シグマアルドリッチ株式会社）１０００ｍｌに入れ、ポタシウムカーボネート（ｐｏｔａｓｓｉｕｍ  ｃａｒｂｏｎａｔｅ、シグマアルドリッチ株式会社）２２０ｇ及び２−フェニルフェノール（２−ｐｈｅｎｙｌｐｈｏｎｏｌ、シグマアルドリッチ株式会社）１４１ｇを追加して８０℃で撹拌した。残留溶媒と反応残留物を除去し、下記の化学式５の化合物（分子量２９６．３６）をＨＰＬＣ純度９３％で得た。
【０１１６】
【化７】
0006670833.tif 000009
【０１１７】
製造例２
冷却管及び撹拌機を備えた２０００ｍｌのフラスコにジクロロメタン（ｄｉｃｈｌｏｒｏｍｅｔｈａｎｅ、シグマアルドリッチ株式会社）６００ｍｌを充填し、ヒドロキシエチルメタクリレート（ｈｙｄｒｏｘｙｅｔｈｙｌ  ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ、シグマアルドリッチ株式会社）５８．８ｇ及びトリエチルアミン（ｔｒｉｅｔｈｙｌａｍｉｎｅ、シグマアルドリッチ株式会社）５２．２ｇを０℃で撹拌しながらトリフェニルクロロメタン（ｔｒｉｐｈｅｎｙｌ  ｃｈｌｏｒｏｍｅｔｈａｎｅ、シグマアルドリッチ株式会社）１００ｇをゆっくり添加した。温度を２５℃に上げた後、４時間撹拌した。ジクロロメタンを減圧蒸留して除去した後、シリカゲルカラムを通じて下記の化学式６の化合物１２４ｇをＨＰＬＣ純度９７％で得た。
【０１１８】
【化８】
0006670833.tif 000010
【０１１９】
製造例３
冷却管及び撹拌機を備えた２０００ｍｌのフラスコにアセトニトリル（ａｃｅｔｏｎｉｔｒｉｌｅ、フィッシャー株式会社）８００ｍｌを充填し、ポタシウムカーボネート（ｐｏｔａｓｓｉｕｍ  ｃａｒｂｏｎａｔｅ、シグマアルドリッチ株式会社）１８０ｇ及びアクリル酸１０８ｇを０℃で撹拌しながら４，４’−ビス（クロロメチル）ビフェニル（４，４’−ｂｉｓ（ｃｈｌｏｒｏｍｅｔｈｙｌ）ｂｉｐｈｅｎｙｌ、東京化成工業株式会社）１５０ｇをゆっくり添加した。温度を７０℃に上げた後、１２時間撹拌した。アセトニトリルを減圧蒸留して除去した後、シリカゲルカラムを通じて下記の化学式７の化合物１７７ｇをＨＰＬＣ純度９７％で得た。
【０１２０】
【化９】
0006670833.tif 000011
【０１２１】
製造例４
冷却管及び撹拌機を備えた３０００ｍｌの反応器にジクロロメタン（ｄｉｃｈｌｏｒｏｍｅｔｈａｎｅ、シグマアルドリッチ株式会社）３００ｍｌを入れ、ヒドロキシエチルアクリレート（ｈｙｄｒｏｘｉｅｔｈｙｌ  ａｃｒｙｌａｔｅ、新中村化学工業株式会社）２００ｇ及びトリエチルアミン１６８ｇを入れ、フラスコ内の温度を０℃に下げた後、ｐ−トルエンスルホニルクロリド（ｐ−ｔｏｌｕｅｎｅ  ｓｕｌｆｏｎｙｌ  ｃｈｌｏｒｉｄｅ、シグマアルドリッチ株式会社）２７８ｇをジクロロメタン５００ｍｌに溶かした溶液を２時間にわたって滴下しながら撹拌した。さらに、５時間撹拌した後、残留溶媒を蒸留で除去した。得られた化合物３００ｇをアセトニトリル（ａｃｅｔｏｎｉｔｒｉｌｅ、シグマアルドリッチ株式会社）１０００ｍｌに入れ、ポタシウムカーボネート（ｐｏｔａｓｓｉｕｍ  ｃａｒｂｏｎａｔｅ、シグマアルドリッチ株式会社）２２０ｇ及び２−フェニルフェノール（２−ｐｈｅｎｙｌｐｈｏｎｏｌ、シグマアルドリッチ株式会社）１４１ｇを追加して８０℃で撹拌した。残留溶媒及び反応残留物を除去し、下記の化学式８の化合物（分子量２９６．３６）をＨＰＬＣ純度９３％で得た。
【０１２２】
【化１０】
0006670833.tif 000012
【０１２３】
製造例５
冷却管及び撹拌機を備えた３０００ｍｌの反応器にジクロロメタン（ｄｉｃｈｌｏｒｏｍｅｔｈａｎｅ、シグマアルドリッチ株式会社）３００ｍｌを入れ、ヒドロキシエチルアクリレート（ｈｙｄｒｏｘｙｅｔｈｙｌ  ａｃｒｙｌａｔｅ、シグマアルドリッチ株式会社）４００ｇ及びトリエチルアミン１６８ｇを入れ、フラスコ内の温度を０℃に下げた後、ｐ−トルエンスルホニルクロリド（ｐ−ｔｏｌｕｅｎｅ  ｓｕｌｆｏｎｙｌ  ｃｈｌｏｒｉｄｅ、シグマアルドリッチ株式会社）２７８ｇをジクロロメタン５００ｍｌに溶かした溶液を２時間にわたって滴下しながら撹拌した。さらに、５時間撹拌した後、残留溶媒を蒸留で除去した。得られた化合物３００ｇをアセトニトリル（ａｃｅｔｏｎｉｔｒｉｌｅ、シグマアルドリッチ株式会社）１０００ｍｌに入れ、ポタシウムカーボネート（ｐｏｔａｓｓｉｕｍ  ｃａｒｂｏｎａｔｅ、シグマアルドリッチ株式会社）２２０ｇ及び２，２’−ビスフェノール（２，２’−ｂｉｓｐｈｏｎｏｌ、シグマアルドリッチ株式会社）１４１ｇを追加して８０℃で撹拌した。残留溶媒及び反応残留物を除去し、下記の化学式９の化合物（分子量３８２．４１）をＨＰＬＣ純度９１％で得た。
【０１２４】
【化１１】
0006670833.tif 000013
【０１２５】
製造例６
冷却管及び撹拌機を備えた１０００ｍｌの反応器にベンゼンチオール（ｂｅｎｚｅｎｅ  ｔｈｉｏｌ）１００ｇ、ジクロロメタン（ｄｉｃｈｌｏｒｏｍｅｔｈａｎｅ、シグマアルドリッチ株式会社）２００ｍｌ及びジンクパークロレート（ｚｉｎｃ  ｐｅｒｃｈｌｏｒａｔｅ、シグマアルドリッチ株式会社）８．２ｇを入れて撹拌しながらスチレンオキシド（ｓｔｒｅｎｅ  ｏｘｉｄｅ、シグマアルドリッチ株式会社）１０９．０５ｇをゆっくり滴下し、常温で反応を進める。４時間後、水及びジクロロメタンを用いて無機物を除去した後、残留溶媒を蒸留することによって１９２ｇの１次生成物を得た。２０００ｍｌの反応器に得られた１次生成物１５０ｇ、トリエチルアミン（ｔｒｉｅｔｈｙｌａｍｉｎｅ、シグマアルドリッチ株式会社）７０．３１ｇ、及びジクロロメタン５００ｍｌを入れて０℃で撹拌した後、アクリロイルクロリド（ａｃｒｙｌｏｙｌ  ｃｈｌｏｒｉｄｅ、シグマアルドリッチ株式会社）６４．８４ｇをゆっくり滴下しながら反応を進める。滴下が完了した後、温度をゆっくり常温に上げた後、さらに４時間撹拌する。反応の終了後、ノルマルヘキサン（ｎ−ｈｅｘａｎｅ、大井化金株式会社）で精製して塩及び不純物を除去し、残留溶剤を減圧蒸留することによって、下記の化学式１０の化合物（分子量２８４．３７）をＨＰＬＣ純度８５％で得た。
【０１２６】
【化１２】
0006670833.tif 000014
【０１２７】
下記の実施例及び比較例で使用された成分は、次の通りである。
【０１２８】
（Ａ）芳香族炭化水素基を有さないモノマー：
（ａ１）ドデカンジオールジメタクリレート（ｄｏｄｅｃａｎｄｉｏｌ  ｄｉｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ、サートマー株式会社）
（ａ２）トリエチレングリコールジメタクリレート（ｔｒｉｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｇｌｙｃｏｌ  ｄｉｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ、ＢＡＳＦ株式会社）
（ａ３）トリメチロールプロパントリアクリレート（ｔｒｉｍｅｔｈｙｌｏｌｐｒｏｐａｎｅ  ｔｒｉａｃｒｙｌａｔｅ、ＢＡＳＦ株式会社）
（ａ４）２−ジメチルアミノエチルアクリレート（２−ｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｏｅｔｈｙｌ  ａｃｒｙｌａｔｅ、アクロス株式会社）
（Ｂ）置換又は非置換の２個以上のフェニル基を有するモノマー：
（ｂ１）製造例１のモノマー
（ｂ２）製造例２のモノマー
（ｂ３）製造例３のモノマー
（ｂ４）製造例４のモノマー
（ｂ５）製造例５のモノマー
（ｂ６）製造例６のモノマー
（ｂ７）ＣＰ−０１１（４−クミルフェノキシエチルアクリレート、韓農化成株式会社）
（ｂ８）ビスフェノールＡジメタクリレート（ｂｉｓｐｈｅｎｏｌ  Ａ  ｄｉｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ、アルドリッチ株式会社）
（ｂ９）ＢＰＭ−１０２（ビスフェノールＡエトキシ化（１０）ジメタクリレート、韓農化成株式会社）
（ｂ１０）ビスフェノールＦエトキシレート（２）ジアクリレート（ｂｉｓｐｈｅｎｏｌ  Ｆ  ｅｔｈｏｘｙｌａｔｅ（２）  ｄｉａｃｒｙｌａｔｅ、アルドリッチ株式会社）
（Ｃ）光開始剤：リン系開始剤（Ｄａｒｏｃｕｒ  ＴＰＯ、ＢＡＳＦ株式会社）
実施例１
（ａ１）９０重量部、（ｂ１）１０重量部及び（Ｃ）５重量部を１２５ｍｌの褐色のポリプロピレン瓶に入れ、シェーカーを用いて３時間撹拌することによって実施例１のディスプレイ密封材用組成物を製造した。
【０１２９】
実施例２〜２５及び比較例１〜１５
各成分の種類及び含量を下記の表１〜表３に記載した通りに使用したことを除いては、実施例１と同一の方法でディスプレイ密封材用組成物を製造した。
【０１３０】
物性評価
（１）プラズマエッチング率（％）：厚さ５２５±２５μｍのシリコンウェハー上に前記実施例及び比較例のディスプレイ密封材用組成物をスプレーで塗布し、紫外線を１００ｍＷ／ｃｍ２で１０秒間照射して硬化させることによって形成した有機保護層の厚さが５μｍである試片を製造した。製造された試片をＩＣＰドライエッチャー（プラズマラボシステム１３３、オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社）を使用してＩＣＰ電力２５００Ｗ、ＲＥ電力３００Ｗ、ＤＣバイアス２００Ｖ、Ａｒフロー５０ｓｃｃｍ、圧力１０ｍｔｏｒｒの条件でアルゴンガスを１分間プラズマ処理した。プラズマエッチング率は、プラズマ処理前の有機保護層の厚さＴ０及びプラズマ処理後の有機保護層の厚さＴ１を測定することによって下記の式１によって計算し、下記の表１〜表３に結果を示した。前記Ｔ０及びＴ１は、基材の厚さを除いた厚さを示し、Ｍは、プラズマ処理時間（ｍｉｎ）である。
【０１３１】
【数２】
0006670833.tif 000015
【０１３２】
（２）表面粗度（ｒｏｕｇｈｎｅｓｓ、ｎｍ）：前記（１）のような試片を製造し、原子力顕微鏡（ＸＥ−１００、パークシステムズ株式会社）に試片を置いた後、ヘッドモードをコンタクトモードに、ＰＳＰＤディスプレイウィンドウ：Ａ＋Ｂ→１Ｖ、Ａ−Ｂ→−５００ｍＶ〜＋５００ｍＶに設定して測定した。
【０１３３】
（３）色座標値ＹＩ（ＡＳＴＭ  Ｄ１９２５）：前記（１）の方式で製造した試片に対して紫外可視分光光度計（ＵＶ−ｖｉｓｉｂｌｅ  ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）（ＵＶ−２４５０、株式会社島津製作所）分析装備を用いて波長３００ｎｍ〜８００ｎｍに対する透過率を測定した後、色座標値ＹＩ（ＡＳＴＭ  Ｄ１９２５）を計算する。
【０１３４】
（４）光透過率（％）：前記（１）の方式で製造した試片に対して、ＡＳＴＭ  Ｄ１００３−９５  ５によって波長４００ｎｍ〜７００ｎｍでヘーズメーター（ＮＤＨ−５０００、日本電色工業株式会社）を使用して電光線透過率を測定した。
【０１３５】
【表１】
0006670833.tif 000016
【０１３６】
【表２】
0006670833.tif 000017
【０１３７】
【表３】
0006670833.tif 000018
【０１３８】
前記表１〜表３の結果で、実施例の場合、プラズマエッチング率が低いので、耐プラズマ性に著しく優れると同時に、表面粗度値が２ｎｍ以下で、平坦性に優れる。また、色座標値ＹＩ（ＡＳＴＭ  Ｄ１９２５）が０．５０以下で、光透過率が高いので、透明な有機保護層を提供することができる。その一方で、比較例の場合、実施例に比べてエッチング率が高く表れたり、表面粗度が高く表れるという問題がある。
【０１３９】
以上、本発明の各実施例を説明したが、本発明は、前記各実施例に限定されるものではなく、互いに異なる多様な形態に製造可能である。また、本発明の属する技術分野で通常の知識を有する者であれば、本発明の技術的思想や必須な特徴を変更しなくても他の具体的な形態で実施可能であることを理解できるだろう。そのため、以上で記述した各実施例は、全ての面で例示的なものであって、限定的なものでないことを理解しなければならない。
【図１】
0006670833.tif 000023
【図２】
0006670833.tif 000024