(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
細胞の移動制御に用いられる移動制御デバイス用の凸状構造体であって、
平坦な表面を有するデバイス本体と、
前記デバイス本体上に突設され、平面方向に間隔を空けて配置された複数の突起とを備え、
各突起のうち少なくとも一方向側に階段部が形成されていることを特徴とする凸状構造体。
【請求項２】
各突起のうち前記一方向側と反対側には、前記表面に垂直な垂直面又は前記階段部よりも急な傾斜をもつ傾斜面が形成されていることを特徴とする請求項１記載の凸状構造体。
【請求項３】
各突起のうち前記一方向側を含む三方向側に前記階段部が形成されていることを特徴とする請求項１又は２記載の凸状構造体。
【請求項４】
各突起の高さは、１μｍ〜１０μｍであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項記載の凸状構造体。
【請求項５】
前記階段部の各段の高さは、１０ｎｍ〜１μｍであることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項記載の凸状構造体。
【請求項６】
細胞の移動制御に用いられる移動制御デバイスであって、
請求項１乃至５のいずれか一項記載の凸状構造体と、
前記凸状構造体の前記突起側に対向して配置された対向板とを備え、
前記対向板と前記凸状構造体の前記突起との間には、空隙が形成されていることを特徴とする移動制御デバイス。
【請求項７】
細胞の移動制御に用いられる移動制御デバイス用の凸状構造体を作製するための凹状構造体であって、
平坦な表面を有する構造体本体と、
前記構造体本体に穿設され、平面方向に間隔を空けて配置された複数の孔部とを備え、
各孔部のうち少なくとも一方向側に階段部が形成されていることを特徴とする凹状構造体ことを特徴とする凹状構造体。
【請求項８】
請求項７記載の凹状構造体を用いて、請求項１乃至５のいずれか一項記載の凸状構造体を作製する、凸状構造体の製造方法であって、
前記凹状構造体を準備する工程と、
前記凹状構造体に対向する位置に、基材保持部を配置する工程と、
前記基材保持部上に、樹脂の液滴を供給する工程と、
前記凹状構造体と前記基材保持部とを近接させることにより、前記凹状構造体と前記基材保持部との間に前記液滴を展開し、前記凸状構造体を構成する樹脂層を形成する工程と、
前記樹脂層を硬化させることにより、前記樹脂層に前記凹状構造体の前記孔部が転写され、前記凸状構造体の前記突起が形成される工程とを備えたことを特徴とする凸状構造体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、凸状構造体、凹状構造体、及び凸状構造体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、細胞が移動する際、細胞の状態で移動の程度が変化することが分かっている。このため、細胞の移動の程度を調べることで、細胞の活性化を評価することができる。そして、例えば、特定の薬剤に関するがん細胞の活性化を調べることにより、創薬のスクリーニングを実現することができる。
【０００３】
このような細胞の移動に関して、細胞が特定の方向に向かって移動するように制御することで、基本的な細胞の移動性能、例えば、細胞がどの程度動いたかを測定し、これにより細胞の状態、例えば、細胞の活性度を評価することが可能となる。
【０００４】
このように細胞を特定の方向へ移動させるには、マイクロチャンネル内の試薬の濃度勾配を利用する方法が最も良く知られている。しかしながら、品質的に安定した濃度勾配を人工的に作製することは難しく、濃度勾配の再現性が乏しいという問題がある。また、細胞の種類によっては試薬の濃度勾配を作製できないおそれもある。
【０００５】
近年、試薬の濃度勾配を利用する方法に代えて、構造体を非対称に形成し、その中を細胞が移動することにより、特性の方向に細胞を移動させる技術が知られている（例えば特許文献１）。この場合、非対称の構造体が、逆止弁のような効果を発揮し、細胞が一度通過したら戻れなくなることを利用している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１４−５２６９０６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１の技術を用いた場合、非対称な構造体を作製する方法が複雑であり、再現性のある構造体を形成することは難しい。
【０００８】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、その目的は、生産性が良好で品質の安定した非対称な構造体を作製することが可能な、凸状構造体、凹状構造体、及び凸状構造体の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の一実施の形態による凸状構造体は、凸状構造体であって、平坦な表面を有するデバイス本体と、前記デバイス本体上に突設され、平面方向に間隔を空けて配置された複数の突起とを備え、各突起のうち少なくとも一方向側に階段部が形成されていることを特徴とするものである。
【００１０】
本発明の一実施の形態による凸状構造体において、各突起のうち前記一方向側と反対側には、前記表面に垂直な垂直面又は前記階段部よりも急な傾斜をもつ傾斜面が形成されていてもよい。
【００１１】
本発明の一実施の形態による凸状構造体において、各突起のうち前記一方向側を含む三方向側に前記階段部が形成されていてもよい。
【００１２】
本発明の一実施の形態による凸状構造体において、各突起の高さは、１μｍ〜１０μｍであってもよい。
【００１３】
本発明の一実施の形態による凸状構造体において、前記階段部の各段の高さは、１０ｎｍ〜１μｍであってもよい。
【００１４】
本発明の一実施の形態による凹状構造体は、凹状構造体であって、平坦な表面を有する構造体本体と、前記構造体本体に穿設され、平面方向に間隔を空けて配置された複数の孔部とを備え、各孔部のうち少なくとも一方向側に階段部が形成されていることを特徴とするものである。
【００１５】
本発明の一実施の形態による凸状構造体の製造方法は、前記凹状構造体を用いて、前記凸状構造体を作製する、凸状構造体の製造方法であって、前記凹状構造体を準備する工程と、前記凹状構造体に対向する位置に、基材保持部を配置する工程と、前記基材保持部上に、樹脂の液滴を供給する工程と、前記凹状構造体と前記基材保持部とを近接させることにより、前記凹状構造体と前記基材保持部との間に前記液滴を展開し、前記凸状構造体を構成する樹脂層を形成する工程と、前記樹脂層を硬化させることにより、前記樹脂層に前記凹状構造体の前記孔部が転写され、前記凸状構造体の前記突起が形成される工程とを備えたことを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、生産性が良好で品質の安定した非対称な構造体を作製することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】図１は、本発明の一実施の形態に係る凸状構造体を示す概略平面図である。
【図２】図２は、本発明の一実施の形態に係る凸状構造体を示す概略断面図（図１のII−II線断面図）である。
【図３】図３は、本発明の一実施の形態に係る凸状構造体の突起を示す概略拡大斜視図である。
【図４】図４は、本発明の一実施の形態に係る凹状構造体を示す概略平面図である。
【図５】図５は、本発明の一実施の形態に係る凹状構造体を示す概略断面図（図４のＶ−Ｖ線断面図）である。
【図６】図６（ａ）〜（ｇ）は、本発明の一実施の形態に係る凹状構造体の製造方法を示す概略断面図である。
【図７】図７（ａ）〜（ｄ）は、本発明の一実施の形態に係る凸状構造体の製造方法を示す概略断面図である。
【図８】図８は、本発明の一実施の形態に係る移動制御デバイスを示す概略断面図である。
【図９】図９は、突起の変形例を示す概略斜視図である。
【図１０】図１０は、突起の変形例を示す概略斜視図である。
【図１１】図１１（ａ）〜（ｂ）は、突起の変形例を示す概略断面図である。
【図１２】図１２（ａ）〜（ｂ）は、突起の変形例を示す概略斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、図面を参照しながら本発明の実施の形態について説明する。図面は例示であり、説明のために特徴部を誇張することがあり、実物とは異なる場合がある。また、技術思想を逸脱しない範囲において適宜変更して実施することが可能である。なお、以下の各図において、同一部分には同一の符号を付しており、一部詳細な説明を省略する場合がある。
【００１９】
（凸状構造体の構成）
まず本発明の一実施の形態に係る凸状構造体の構成について説明する。図１および図２は、本発明の一実施の形態に係る凸状構造体を示す概略図であり、図３は、突起を示す概略拡大斜視図である。なお、各図において、Ｘ方向とＹ方向とは互いに直交し、Ｙ方向とＺ方向とは互いに直交し、Ｚ方向とＸ方向とは互いに直交している。
【００２０】
図１および図２に示す凸状構造体１０は、デバイス本体１１と、デバイス本体１１上に突設され、ＸＹ平面方向に間隔を空けて配置された複数（多数）の突起２０とを備えている。
【００２１】
このうちデバイス本体１１は、平坦な表面１１ａを有するとともに略平板形状を有している。デバイス本体１１は、例えば一辺が０．１ｍｍ以上の矩形形状としても良い。
【００２２】
複数（多数）の突起２０は、デバイス本体１１上にＸ方向及びＹ方向に沿って配列されている。各突起２０のＸ方向に沿う間隔ｐｘおよびＹ方向に沿う間隔ｐｙは、それぞれ１μｍ〜１０μｍ（１μｍ以上１０μｍ以下をいう。以下同様）としても良い。この場合、間隔ｐｘと間隔ｐｙとは同一の距離となっているが、これに限らず、間隔ｐｘと間隔ｐｙとが異なる距離であっても良い。
【００２３】
なお、デバイス本体１１の大きさにもよるが、例えば突起２０はデバイス本体１１上に１２１個以上程度配置されている。各突起２０は、互いに略同一の形状を有しているが、一部の突起２０が他の突起２０と異なる形状を有していても良い。図１および図２においては、便宜上、互いに同一形状を有する９個の突起２０を示している。
【００２４】
図１において、矢印Ａは、後述する移動制御デバイス６０（図８参照）における細胞Ｃの移動方向を示している。この場合、細胞Ｃの移動方向Ａは、Ｘ方向マイナス側（一方向側）からＸ方向プラス側（一方向側と反対側）を向いている。すなわち、Ｘ方向マイナス側が、細胞Ｃの移動方向上流側に位置し、Ｘ方向プラス側が、細胞Ｃの移動方向下流側に位置している。
【００２５】
次に、図１乃至図３を参照して各突起２０の構成について説明する。
【００２６】
各突起２０は、デバイス本体１１上に配置されており、デバイス本体１１と一体化されている。すなわち、各突起２０はデバイス本体１１と同一の材料からなっている。
【００２７】
各突起２０は、平面視で略矩形状であり、当該矩形の各辺は、Ｘ方向又はＹ方向に対して平行に位置している。各突起２０には、複数の段部２２から構成された階段部２１が形成されている。この場合、階段部２１は、Ｘ方向マイナス側（一方向側）、Ｙ方向プラス側およびＹ方向マイナス側の三方向側に形成されている（図３参照）。一方、各突起２０のうち、Ｘ方向プラス側（一方向側と反対側）には、階段部２１は形成されておらず、デバイス本体１１の表面１１ａに垂直な垂直面２３が形成されている。
【００２８】
各突起２０は、上方（デバイス本体１１の表面１１ａから遠い側）に位置する頂面２４を有している。頂面２４は、デバイス本体１１の表面１１ａと平行な水平面からなる。頂面２４の幅ｗａは、例えば１００ｎｍ〜１０μｍとしても良い。頂面２４の幅ｗａをこの範囲とすることにより、移動制御デバイス６０（図８参照）において、細胞Ｃの移動を阻害することなく、細胞Ｃを移動方向Ａに沿って円滑に移動させることができる。
【００２９】
階段部２１の段部２２は、互いに略同一の形状を有している。各段部２２は、外側角部２２ａと、内側角部２２ｂと、外側角部２２ａと内側角部２２ｂとの間に位置する段部表面２２ｃとを有している。なお、段部２２の断面において（図２参照）、外側角部２２ａおよび内側角部２２ｂは、それぞれ直角状に形成されているが、これに限らず、外側角部２２ａおよび内側角部２２ｂが丸みを帯びていても良い。また、段部表面２２ｃの幅ｗｂは、例えば１０ｎｍ〜１μｍとしても良い。各段部２２の高さｈａは、例えば１０ｎｍ〜１μｍとしても良い。各段部２２の幅ｗｂおよび高さｈａを上記範囲とすることにより、移動制御デバイス６０（図８参照）において、細胞Ｃを移動方向Ａに沿って円滑に移動させることができる。また、後述するナノインプリント法によって階段部２１を容易に形成することができる。なお、段部表面２２ｃの幅ｗｂと各段部２２の高さｈａとが、互いに同一の距離であっても良く（ｗｂ＝ｈａ）、互いに異なる距離となっていても良い（ｗｂ＜ｈａ、又はｗｂ＞ｈａ）。また、段部表面２２ｃの幅ｗｂと上述した頂面２４の幅ｗａとが、互いに同一の距離であっても良く（ｗｂ＝ｗａ）、互いに異なる距離となっていても良い（ｗｂ＜ｗａ、又はｗｂ＞ｗａ）。
【００３０】
階段部２１には、例えば５段〜１００段の段部２２が形成されている。図１乃至図３においては、便宜上、５段の段部２２を示している。各突起２０の移動方向Ａ（Ｘ方向）に沿う全体の幅ｗｃは、例えば１μｍ〜１０μｍであり、好ましくは３μｍ〜５μｍである。各突起２０の移動方向Ａに垂直な方向（Ｙ方向）に沿う全体の幅ｗｄは、例えば１μｍ〜１００μｍである。各突起２０の全体の高さｈｂは、例えば１μｍ〜１０μｍであり、好ましくは３μｍ〜５μｍである。
【００３１】
階段部２１の傾斜角θａは、例えば３０°〜７０°とすることが好ましく、４０°〜６０°とすることが更に好ましい。階段部２１の傾斜角θａをこの範囲とすることにより、移動制御デバイス６０（図８参照）において、細胞Ｃの移動を阻害することなく、細胞Ｃを移動方向Ａに沿って円滑に移動させることができる。なお、傾斜角θａとは、各段部２２の外側角部２２ａを結んだ線分Ｌａと、デバイス本体１１の表面１１ａとがなす角をいう。
【００３２】
このような凸状構造体１０は、例えばポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）等の合成樹脂材料のほか、ガラス、シリコン等の無機材料から作製されても良い。なお、後述するように凸状構造体１０をナノインプリント法により作製する場合、凸状構造体１０は、合成樹脂材料からなることが好ましい。
【００３３】
（凹状構造体の構成）
次に本発明の一実施の形態に係る凹状構造体の構成について説明する。図４および図５は、本発明の一実施の形態に係る凹状構造体を示す図である。
【００３４】
図４および図５に示す凹状構造体４０は、平坦な表面４１ａを有するとともに略直方体形状の構造体本体４１と、構造体本体４１に穿設され、ＸＹ平面方向に間隔を空けて配置された複数（多数）の孔部５０とを備えている。
【００３５】
このうち複数（多数）の孔部５０は、構造体本体４１上にＸ方向及びＹ方向に沿って配列されている。各孔部５０は、構造体本体４１に形成された非貫通穴からなっている。
【００３６】
各孔部５０には、複数の段部５２から構成された階段部５１が形成されている。この場合、階段部５１は、Ｘ方向マイナス側（一方向側）、Ｙ方向プラス側およびＹ方向マイナス側の三方向側に形成されている。一方、各孔部５０のうち、Ｘ方向プラス側（一方向側と反対側）には、階段部５１は形成されておらず、構造体本体４１の表面４１ａに垂直な垂直面５３が形成されている。
【００３７】
なお、上述した凸状構造体１０の複数の突起２０は、凹状構造体４０の複数の孔部５０を転写することにより形成されたものである。したがって、各孔部５０の形状は、各突起２０を略反転させた三次元形状を有しており、ここでは詳細な説明を省略する。
【００３８】
このような凹状構造体４０は、例えば合成石英、サファイア、無アルカリガラス等の二酸化ケイ素を含む無機材料から作製されても良い。
【００３９】
（凹状構造体および凸状構造体の製造方法）
次に、上述した凹状構造体４０を製造する方法について、図６（ａ）〜（ｇ）を用いて説明する。
【００４０】
まず、凹状構造体４０を作製するための凹状構造体用材料４０ａを準備する（図６（ａ））。次に、凹状構造体用材料４０ａの表面にレジスト４４を塗布する（図６（ｂ））。
【００４１】
次いで、例えば電子線描画法によりマスク描画を行い、現像処理を行う。このとき、レジスト４４がポジ型レジストの場合、レジスト４４のうち、各段部５２の幅ｗｂに相当する領域が現像処理により除去される（図６（ｃ））。
【００４２】
次に、レジスト４４をマスクとして凹状構造体用材料４０ａに対してドライエッチングを行う。これにより、凹状構造体用材料４０ａのうちレジスト４４に覆われていない部分が、厚み方向に部分的に除去される。具体的には、凹状構造体用材料４０ａのうち、各段部５２の幅ｗｂ及び高さｈａに相当する領域が除去される。このようにして、凹状構造体用材料４０ａに１段の段部５２に相当する非貫通孔５０ａが形成される（図６（ｄ））。
【００４３】
続いて、レジスト４４のうち、非貫通孔５０ａに隣接する領域であって、各段部５２の幅ｗｂに相当する領域を、前述の通り、描画、現像処理により除去する（図６（ｅ））。
【００４４】
次に、レジスト４４をマスクとして凹状構造体用材料４０ａに対して再度ドライエッチングを行う。これにより、凹状構造体用材料４０ａのうちレジスト４４に覆われていない部分が、厚み方向に部分的に除去される。具体的には、凹状構造体用材料４０ａのうち、非貫通孔５０ａに隣接する領域および非貫通孔５０ａ内の領域であって、各段部５２の幅ｗｂ及び高さｈａに相当する領域が更に除去される。このようにして、凹状構造体用材料４０ａに２段分の段部５２に相当する非貫通孔５０ａが形成される（図６（ｆ））。
【００４５】
このようなドライエッチング作業を所望の段数分だけ繰り返すことにより、凹状構造体用材料４０ａに、所望の段数（図では５段）の段部５２を有する階段部５１が形成される。その後、レジスト４４を除去することにより、構造体本体４１と、構造体本体４１に穿設され、それぞれ階段部５１を有する複数（多数）の孔部５０を備えた凹状構造体４０が得られる（図６（ｇ））。
【００４６】
次に、上述した凹状構造体４０をモールドとして用いて、インプリント法により凸状構造体１０を作製する方法について、図７（ａ）〜（ｄ）を参照して説明する。
【００４７】
まず、凹状構造体４０を上方に保持するとともに凹状構造体４０の下方の対向する位置に基材保持部４５を配置する（図７（ａ））。
【００４８】
続いて、基材保持部４５上の所望の領域に、ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）等の光硬化性樹脂の液滴Ｄを吐出して供給する（図７（ｂ））。
【００４９】
続いて、凹状構造体４０を下降させ、凹状構造体４０と基材保持部４５とを近接させることにより、凹状構造体４０と基材保持部４５との間に液滴Ｄを展開し、凸状構造体１０を構成する光硬化性樹脂層４６を形成する。次いで、凹状構造体４０を介して光硬化性樹脂層４６に対して光照射を行い、光硬化性樹脂層４６を硬化させる。これにより、光硬化性樹脂層４６に凹状構造体４０の孔部５０が転写され、凸状構造体１０の突起２０が形成される（図７（ｃ））。
【００５０】
その後、凸状構造体１０と凹状構造体４０とを引き離すことにより、デバイス本体１１と、デバイス本体１１上に突設された複数（多数）の突起２０とを備えた凸状構造体１０が得られる（図７（ｄ））。この場合、１つの凹状構造体４０を用いて複数回インプリントを行うことにより、同一形状からなる多数の凸状構造体１０を容易に量産することができる。
【００５１】
（凸状構造体の作用）
次に、このような構成からなる本実施の形態について説明する。具体的には、凸状構造体１０を用いた移動制御デバイスの作用について説明する。図８は、本発明の一実施の形態に係る移動制御デバイスを示す図である。
【００５２】
図８に示すように、移動制御デバイス６０は、上述した凸状構造体１０と、凸状構造体１０の突起２０側に対向して配置された平坦な対向板６１とを有している。対向板６１と凸状構造体１０の突起２０との間には、細胞Ｃが通過可能な程度の空隙６２が形成されている。
【００５３】
移動制御デバイス６０の使用時には、まずＸ方向マイナス側（一方向側）から、凸状構造体１０と対向板６１との間に細胞Ｃを導入する。細胞Ｃは、Ｘ方向マイナス側からＸ方向プラス側に向けて一定の方向（移動方向Ａ）に沿って移動する。
【００５４】
このとき、細胞Ｃは、突起２０の一方向側に形成された階段部２１に沿って移動し、これにより空隙６２内を移動方向Ａに円滑に進む。一方、突起２０の一方向側と反対側（Ｘ方向プラス側）には垂直面２３が形成されている。このため、細胞Ｃが移動方向Ａの逆方向に移動しようとしても、垂直面２３が逆止弁のような役割を果たし、垂直面２３によって細胞Ｃの移動が阻害される。このため、細胞Ｃは、移動方向Ａのみに移動することができ、移動方向Ａの反対方向には移動することが困難である。
【００５５】
このように、本実施の形態によれば、凸状構造体１０の各突起２０のうち、少なくともＸ方向マイナス側（一方向側）に階段部２１が形成されている。これにより、凸状構造体１０を移動制御デバイス６０において用いる際、細胞Ｃが一定の方向（移動方向Ａ）のみに向かって移動するように制御することができる。この結果、移動制御デバイス６０を用いて細胞Ｃの移動の程度を測定し、細胞Ｃの活性化等の状態を評価することができる。
【００５６】
また、本実施の形態によれば、凹状構造体４０をモールドとして用いることにより、多数の凸状構造体１０を作製することが可能となる。このため、生産性が良好で品質の安定した非対称な凸状構造体１０を簡単な方法で作製することができ、凸状構造体１０の量産を容易に行うことができる。
【００５７】
また、本実施の形態によれば、突起２０のうちＸ方向プラス側（一方向側と反対側）には垂直面２３が形成されている。これにより、細胞Ｃが移動方向Ａの反対方向に向けて移動することを防止することができる。
【００５８】
また、本実施の形態によれば、各突起２０のうちＸ方向マイナス側（一方向側）を含む三方向側に階段部２１が形成されている。これにより、細胞Ｃが、Ｙ方向に互いに隣接する突起２０同士の間を通過しやすくすることができ、細胞Ｃを移動方向Ａにより円滑に移動させることができる。
【００５９】
（凸状構造体の突起の変形例）
上述の実施の形態では、凸状構造体１０の各突起２０のうち、Ｘ方向マイナス側（一方向側）を含む三方向側に階段部２１が形成されている場合を例にとって説明したが、これに限られるものではない。例えば、図９に示すように、各突起２０のうち、一方向側（Ｘ方向マイナス側）のみに階段部２１が形成され、当該一方向に直交する二方向側（Ｙ方向プラス側及びＹ方向マイナス側）には、デバイス本体１１の表面１１ａに垂直な側面２５が形成されていても良い。あるいは、図１０に示すように、各突起２０のうち、一方向側を含む二方向側（Ｘ方向マイナス側及びＹ方向プラス側）に階段部２１が形成され、当該一方向及び当該一方向に直交する側（Ｙ方向マイナス側）間には、デバイス本体１１の表面１１ａに垂直な側面２５が形成されていても良い。
【００６０】
また、上述の実施の形態では、各突起２０のうち、Ｘ方向プラス側（一方向側と反対側）に垂直面２３が形成されている場合を例にとって説明したが、これに限られるものではない。例えば、図１１（ａ）（ｂ）に示すように、各突起２０のうち、Ｘ方向プラス側（一方向側と反対側）に傾斜面２６が形成されていても良い。この場合、傾斜面２６は、階段部２１よりも急な傾斜をもつ。すなわち、傾斜面２６は、階段部２１の傾斜角θａよりも大きい傾斜角θｂをもつ。これにより、細胞Ｃが移動方向Ａの反対方向に向けて移動する不具合を防止することができる。なお、傾斜面２６の傾斜角θｂとは、傾斜面２６の上端２６ａと下端２６ｂとを結んだ線分Ｌｂと、デバイス本体１１の表面１１ａとがなす角をいう。また、傾斜面２６の下端２６ｂは、傾斜面２６の上端２６ａよりも階段部２１から遠い側（Ｘ方向プラス側）に位置している。これにより、ナノインプリント法によって凸状構造体１０を作製する際（図７（ａ）〜（ｄ））、凸状構造体１０と凹状構造体４０とを互いに容易に引き離すことができる。なお、傾斜面２６は、図１１（ａ）に示すように、断面が直線状であっても良く、図１１（ｂ）に示すように、断面がデバイス本体１１側に湾曲した曲線状であっても良い。また、傾斜面２６は、階段状に形成されていても良い。
【００６１】
さらに、上述の実施の形態では、各突起２０の外周が平面矩形形状である場合を例にとって説明したが、これに限られるものではない。例えば、各突起２０の外周が平面略半円形状又は半楕円形状であっても良く（図１２（ａ）参照）、あるいは、平面略三角形形状等の平面多角形形状であっても良い（図１２（ｂ）参照）。
【符号の説明】
【００６２】
１０        凸状構造体
１１        デバイス本体
１１ａ      表面
２０        突起
２１        階段部
２２        段部
２３        垂直面
２４        頂面
４０        凹状構造体
４１        構造体本体
５０        孔部
５１        階段部
５２        段部
６０        移動制御デバイス
６１        対向板
【図１】
0006646888.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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