(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
カラーフィルタ用透明基板上に、格子状に形成されたブラックマトリックスの開口部に矩形の色画素から成る色画素列をＮ色分形成する製造工程で用いるフォトマスクのセット
であって、
第１のフォトマスクが
フォトマスク用基板の第１面側に少なくとも、
遮光部と、
光透過部が前記露光工程時に前記ブラックマトリックスの開口部に位置合わせした際に、前記ブラックマトリックスの開口部に近い側のブラックマトリックスに重なる矩形形状の光透過部を有する第１のフォトマスクと、
第２のフォトマスクが、
フォトマスク用基板の第１面側に少なくとも
遮光部と、
光透過部が前記露光工程時に前記ブラックマトリックスの開口部に位置合わせした際に、前記ブラックマトリックスの開口部に近い側のブラックマトリックスに重なる矩形の光透過部と、
前記光透過部の四辺のうち、１つ前の色画素形成工程で形成した色画素と隣接する側の辺の１辺に沿って、かつ、前記ブラックマトリックスの開口部まで至る領域に、前記ブラックマトリックスから前記ブラックマトリックスの開口部に向かって透過光量が段階的に高くなる様にグラデーションパターンを設けたグラデーションパターン部を有する第２のフォトマスクと、
から成るフォトマスクセット。
【請求項２】
請求項１に記載のフォトマスクセットを用いるカラーフィルタの製造方法であって、ブラックマトリックスを形成したカラーフィルタ用透明基板上に露光工程を含むフォトリソグラフィ法によりＮ色分の色画素列を形成する際、２色目以降の色画素列は１つ前の色画素列の隣に形成し、
１色目の色画素形成の露光工程に前記第１のフォトマスクを用い、
２色目からＮ−１色目の色画素形成の露光工程に前記第２のフォトマスクを用い、
Ｎ色目の色画素形成の露光工程に前記第１のフォトマスクを用いることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラー液晶表示装置に用いるカラーフィルタの製造方法に係わり、特に、４色以上の色画素を形成したカラーフィルタにおいて、色画素の上面をフラットに揃えるカラーフィルタの製造方法及び、その製造に用いるフォトマスクセットに関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、液晶表示装置は、大型テレビはもちろんコンピュータ端末やモバイル端末向けにテレビ画像の配信や、高解像度の地上デジタル放送開始などにより画像の高解像度化が急速に進んでいる。
【０００３】
また、高解像度化に伴い、微妙な色あいの再現に対する要求が高まり、広い色再現範囲を表示可能とするため、人間の視感度特性にあわせた色を用いる表示装置が考案されている。こうした広い色再現範囲を得るため、特許文献１のように、従来の表示装置用のカラーフィルタの色数よりも多い、４色以上の画素で構成されるカラーフィルタを使用する表示装置が製造されている。
【０００４】
図８に、従来技術で製造する５色のカラーフィルタの構成を示す。図８のカラーフィルタの製造方法は、まず、図３（ａ）のように、カラーフィルタ用透明基板（以下カラーフィルタ用基板と記す）の片面上に、開口部を有する格子パターン状にブラックマトリックスを形成する。
【０００５】
次いで、カラーフィルタの赤色（Ｒ）の顔料分散型感光性樹脂を均一に塗布し、プリベークを行い、赤色（Ｒ）の顔料分散樹脂層を形成する。次に、緑色画素（３Ｇ）、青色画素（３Ｂ）、第４の色画素Ｃ１、第５の色画素Ｃ２を形成する。
【０００６】
次いで、カラーフィルタ用基板上の画素領域上に、公知の方法、例えば、スパッタ法により透明電極の膜付けを行い、所定のパターン形状を備えた透明電極層を形成する。以上で、カラー液晶表示装置に用いるカラーフィルタが完成する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００１―２０９０４７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
従来の、液晶表示装置用に代表されるＲＧＢの３色のカラーフィルタは、赤、緑、青の３色の色画素を１色ずつ、工程を繰り返して作成していた。
【０００９】
本発明者は、４色以上の色画素で構成されるカラーフィルタを鋭意研究した結果、４色以上の色画素で構成されるカラーフィルタを従来の３色のカラーフィルタのように、色画素を１色ずつ、工程を繰り返して作成すると、以下の問題を生じる知見を得た。
【００１０】
すなわち、従来の製造方法で５色のカラーフィルタを製造してその色画素を観察すると、図８のように、色画素の上面（ガラス基板と接している面と対向した面）がガラス基板と平行ではなく、傾いた形となっているものが多く発生するという知見を得た。
【００１１】
この様に色画素の上面が傾く変形をしたカラーフィルタを表示装置に組み込み画像を表
示させると、色特性が違う表示をするという問題が起きる。この違っている色特性は色画素内で起きているので、動作が画素単位の表示装置の信号操作では修正することができない不具合である知見を得た。
【００１２】
本発明者が、５色のカラーフィルタの各色画素の上面の傾きについて詳しく解析した結果、１色目と５色目には上記の様な傾きはなく、２色目から４色目に傾きがあるという知見を得た。
【００１３】
さらに、その色画素の上面は、前の工程で形成された色画素側の色画素の辺の部分の高さが高く、前の工程で形成された色素が無い側の色画素の辺の部分の高さが低いように色画素の上面が傾く知見を得た。
【００１４】
本発明の課題は、このように３色を超える多数色の色画素を形成したカラーフィルタの製造方法において、カラーフィルタ層の色画素の上面がカラーフィルタ用基板の面から傾かないように色画素の上面をフラットに揃えることを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明は、上記課題を解決するために、カラーフィルタ用透明基板上に、格子状に形成されたブラックマトリックスの開口部に矩形の色画素から成る色画素列をＮ色分形成する製造工程で用いるフォトマスクのセットであって、第１のフォトマスクがフォトマスク用基板の第１面側に少なくとも、遮光部と、光透過部が前記露光工程時に前記ブラックマトリックスの開口部に位置合わせした際に、前記ブラックマトリックスの開口部に近い側のブラックマトリックスに重なる矩形形状の光透過部を有する第１のフォトマスクと、第２のフォトマスクが、フォトマスク用基板の第１面側に少なくとも遮光部と、光透過部が前記露光工程時に前記ブラックマトリックスの開口部に位置合わせした際に、前記ブラックマトリックスの開口部に近い側のブラックマトリックスに重なる矩形の光透過部と、前記光透過部の四辺のうち、１つ前の色画素形成工程で形成した色画素と隣接する側の辺の１辺に沿って、かつ、前記ブラックマトリックスの開口部まで至る領域に、前記ブラックマトリックスから前記ブラックマトリックスの開口部に向かって透過光量が段階的に高くなる様にグラデーションパターンを設けたグラデーションパターン部を有する第２のフォトマスクと、から成るフォトマスクセットである。
【００１６】
本発明は、この構成によって、カラーフィルタ層の２色目からＮ−１色目の色画素の表面の傾きを無くすことができる効果がある。
【００１７】
また、本発明は、請求項１に記載のフォトマスクセットを用いるカラーフィルタの製造方法であって、ブラックマトリックスを形成したカラーフィルタ用透明基板上に露光工程を含むフォトリソグラフィ法によりＮ色分の色画素列を形成する際、２色目以降の色画素列は１つ前の色画素列の隣に形成し、１色目の色画素形成の露光工程に前記第１のフォトマスクを用い、２色目からＮ−１色目の色画素形成の露光工程に前記第２のフォトマスクを用い、Ｎ色目の色画素形成の露光工程に前記第１のフォトマスクを用いることを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
【発明の効果】
【００１９】
本発明の製造方法によれば、着色感光性樹脂に露光して２色目からＮ−１色目の色画素形成用のフォトマスクは、その色画素を形成する光透過部が、その色画素より先に形成した他の色画素に隣接する光透過部の辺から中央部に向かって光透過量が段階的に高くなるフォトマスクを用いて着色感光性樹脂に露光し２色目からＮ−１色目の色画素を形成する
。
【００２０】
それによって、カラーフィルタ層の２色目からＮ−１色目の色画素の表面の傾きを無くすことができるので、色画素の高くなった部分を研磨して調整しなければならない余分な工程が不要になるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の実施形態による、５色の色画素を持つカラーフィルタを説明する平面図である。
【図２】本発明の実施形態による、５色の色画素を持つカラーフィルタを説明する側断面図である。
【図３】本発明の実施形態のカラーフィルタの製造方法を説明する部分拡大した側断面図（その１）である。
【図４】本発明の実施形態のカラーフィルタの製造方法を説明する部分拡大した側断面図（その２）である。
【図５】（ａ）本発明の実施形態で１色目の色画素を形成するために用いる第１のフォトマスクを部分拡大した平面図である。（ｂ）本発明の実施形態で第１のフォトマスクを使用して１色目の色画素を露光する状態を表す側断面図である。
【図６】（ａ）本発明の実施形態で２色目から４色目の色画素を形成するために用いる、第２のフォトマスクを部分拡大した平面図である。（ｂ）本発明の実施形態で第２のフォトマスクを使用して２色目から４色目の色画素を露光する状態を表す側断面図である。
【図７】（ａ）本発明の実施形態で５色目の色画素を形成するために用いる第１のフォトマスクを部分拡大した平面図である。（ｂ）本発明の実施形態で第１のフォトマスクを使用して５色目の色画素を露光する状態を表す側断面図である。
【図８】従来技術による、５色の色画素を持つカラーフィルタの製造方法を説明する部分拡大した側断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
＜第１の実施形態＞
図１の平面図と図２の側断面図に、本実施形態で製造する５色の色画素を有するカラーフィルタ１００の構成を示す。すなわち、第１の色画素Ｒ（赤色画素）と第２の色画素Ｇ（緑色画素）と第３の色画素Ｂ（青色画素）と第４の色画素Ｃ１（例えば黄色画素）と第５の色画素Ｃ２（例えば白色画素）を用いたカラーフィルタ１００の構成を示す。
【００２３】
以下で、図３と図４を参照して、本発明の第１の実施形態のカラーフィルタ１００の製造方法を説明し、図５から図７を参照して、その製造に用いる第１のフォトマスク１０と第２のフォトマスク２０と、第１のフォトマスク１０ａを説明する。
【００２４】
（フォトマスク）
本実施形態で用いるフォトマスクは、図５に示す第１のフォトマスク１０を用いて１色目を露光し、図６に示す第２のフォトマスク２０を用いて２色目から４色目を露光する。最後の５色目を図７に示す第１のフォトマスク１０ａを用いて露光する。
【００２５】
第１のフォトマスクおよび第２のフォトマスクは、最初に石英ガラスの透明なマスク用基板１１の片面上に真空中に微少量のガスを混入させた雰囲気で真空蒸着法等を用いて形成した金属薄膜層から遮光膜パターン１２を形成する。
【００２６】
その遮光膜パターン１２は、例えばＣｒ（金属クロム）を用い、１層目はＣｒ、その上の２層目はＣｒＯ（酸化金属クロム）の２層膜から形成してもよい。
【００２７】
（第１のフォトマスク）
第１のフォトマスク１０と１０ａは、図５と図７のように、マスク用基板１１の片面上に成膜した金属薄膜層をエッチングすることにより遮光膜パターン１２と窓部透過部１３とアライメントマーク（図示せず）を形成した。
【００２８】
（第２のフォトマスク）
第２のフォトマスク２０には、図６のように、マスク用基板１１の片面上に成膜した金属薄膜層をエッチングすることにより遮光膜パターン１２と窓部透過部１３とアライメントマーク（図示せず）を形成し、マスク用基板１１を全透過する透明な窓部透過部１３の片端側に遮光膜パターン１２との間にグラデーションパターン１４の領域を形成した。
【００２９】
（グラデーションパターン）
グラデーションパターン１４は、金属薄膜又は酸化金属薄膜からなる遮光膜を微小な網点図形の集合のパターンに形成した濃度分布マスク（グレートーンマスク）で形成することができる。グラデーションパターン１４の窓部透過部１３側では微小な網点図形の濃度を小さくして透明性を高め、遮光膜パターン１２側では微小な網点図形の濃度を大きくして遮光性を高める。
【００３０】
すなわち、グラデーションパターン１４の微小な網点図形の濃度を、遮光膜パターン１２側から窓部透過部１３側に向かって光透過度が段階的に高くなるようにしたパターンに形成する。
【００３１】
このグラデーションパターン１４の微小な網点図形の配置の間隔は、色画素のパターンの形成に用いる露光装置（図示せず）による色画素用の顔料分散樹脂層３への露光パターンの解像幅より小さく設定する。
【００３２】
グラデーションパターン１４を遮光膜パターン１２の遮光膜と同じ材料で形成する濃度分布マスク（グレートーンマスク）を用いる場合は、グラデーションパターン１４と遮光膜パターン１２を同時に、成膜した金属薄膜層をエッチングすることにより形成する。
【００３３】
また、グラデーションパターン１４は、孤立した微小な網点図形の集合のパターンで形成する代りに、スリット状のパターンの開口密度を変えることでグラデーションパターン１４を形成することもできる。
【００３４】
（変形例１）
あるいは、グラデーションパターン１４の変形例１として、半透明の金属酸化物や無機物の膜を段階的に透過率が変わる様に層形成することでグラデーションパターン１４を形成することもできる。
【００３５】
（カラーフィルタの製造方法）
以下で、本発明の第１の実施形態のカラーフィルタ１００の製造方法を、図３（ａ）から図４（ｇ）の側断面図と、図５から図７を参照して説明する。
【００３６】
（工程１）
図３（ａ）は、ブラックマトリックス２の形成工程であり、まず、ガラス等の透明なカラーフィルタ用基板１上に、例えば１００ｎｍの厚さの金属、又は金属及び金属酸化膜の複合膜のブラックマトリックス２を形成する。
【００３７】
例えば、カラーフィルタ用基板１上に金属クロム膜等からなる金属薄膜を、スパッタリ
ング法等にて形成する。
【００３８】
次に、金属薄膜上にフォトリソグラフィ法にて、金属薄膜をエッチングして、透明基板上に、表示領域を画定する額縁状の外周金属遮光部と、その外周金属遮光部に連設した格子状の金属遮光部とで囲まれた開口を有するブラックマトリックス２のパターンを形成する。
【００３９】
また、このブラックマトリックス２のパターンには、フォトマスクのアライメントマークと位置合わせをするアライメントマークを形成する。
【００４０】
（工程２）第１の色画素の形成
次に、図５（ｂ）のように、カラーフィルタ用基板１上に、赤色の顔料を分散した感光性樹脂組成物の顔料分散樹脂層３を塗布する。
【００４１】
（工程３）
次に、カラーフィルタ用基板１上に第１のフォトマスク１０を設置し、露光装置のアライメント手段を用いて、カラーフィルタ用基板１のブラックマトリックス２のアライメントマークと第１のフォトマスク１０のアライメントマークを合わせることで、第１のフォトマスク１０をカラーフィルタ用基板１に位置合わせする。
【００４２】
（第１のフォトマスク）
第１の色画素Ｒを形成するために用いる第１のフォトマスク１０は、図５のように、透明基板部１の面に、全波長域を遮光する遮光膜パターン１２と、露光光Ｌが全透過する窓部透過部１３を形成した構成の第１のフォトマスク１０を用いる。
【００４３】
図５（ｂ）に示すカラーフィルタ１００の顔料分散樹脂層３は現像処理前である。第１のフォトマスク１０の窓部透過部１３は、露光光Ｌを完全に透過する区域であって、カラーフィルタ上の窓部透過部１３の区域に相当する顔料分散樹脂層３の表面には、十分な露光光Ｌが当たり、顔料分散樹脂層３は、１００％の不溶解の顔料分散樹脂層３に変質する。
【００４４】
（工程４）
そうして位置合わせした第１のフォトマスク１０のパターンを顔料分散樹脂層３に露光する。
【００４５】
第１のフォトマスク１０のパターンのカラーフィルタ用基板１上の顔料分散樹脂層３への露光方法は、カラーフィルタ用基板１に平行に第１のフォトマスク１０を装着するマスク装着手段を用い、露光部から第１のフォトマスク１０に平行な露光光Ｌを照射するプロキシミティ露光装置を用いる。露光光Ｌは、例えば、３１２ｎｍと、３６５ｎｍ近傍の波長帯の紫外線を照射する。
【００４６】
第１のフォトマスク１０の遮光膜パターン１２が露光光Ｌを完全に遮光するため、図５（ｂ）の断面図に示すカラーフィルタ上の遮光膜パターン１２の区域に相当する顔料分散樹脂層３の表面には、全く露光光Ｌが当たらず、顔料分散樹脂層３は、１００％溶解する顔料分散樹脂層３が維持できる。
【００４７】
一方、窓部透過部１３の区域に相当する顔料分散樹脂層３の表面には、十分な露光光Ｌが当たり、顔料分散樹脂層３は、１００％の不溶解の顔料分散樹脂層３に変質する。
【００４８】
（工程５）
次に、露光した顔料分散樹脂層３を現像することで、図３（ｂ）のように、カラーフィルタ用基板１上に、ブラックマトリックス２の開口部に、第１の色画素Ｒ（赤色画素）のパターンを形成する。
【００４９】
（工程６）第２色目の色画素の形成
次に、図６（ｂ）の側断面図のように、カラーフィルタ用基板１上のブラックマトリックス２の所定の開口部に第１の色画素Ｒ（赤色画素）のパターンが形成されたカラーフィルタ１００に、緑色の顔料を分散した感光性樹脂組成物の顔料分散樹脂層３を塗布する。
【００５０】
この緑色の顔料を分散した感光性樹脂組成物の顔料分散樹脂層３は、図６（ｂ）の側断面図のように、先に形成した第１の色画素Ｒの上に乗り上げ、第２の色画素Ｇの上面がカラーフィルタ用基板１の面から傾いた形の感光性樹脂組成物の顔料分散樹脂層３が形成される。
【００５１】
（工程７）
図６（ｂ）のように、緑色の顔料を分散した感光性樹脂組成物の顔料分散樹脂層３を形成したカラーフィルタ用基板１上に第２のフォトマスク２０を設置する。そして、露光装置のアライメント手段を用いて、カラーフィルタ用基板１のブラックマトリックス２のアライメントマークと第２のフォトマスク２０のアライメントマークを合わせることで、第２のフォトマスク２０をカラーフィルタ用基板１に位置合わせする。
【００５２】
（第２のフォトマスク）
第２のフォトマスク２０は、図６のように、窓部透過部１３を有する遮光膜パターン１２とアライメントマーク（図示せず）を形成し、特に、その窓部透過部１３の中ほどから片端の遮光膜パターン１２との間にグラデーションパターン１４を形成して構成する。
【００５３】
第２のフォトマスク２０の遮光膜パターン１２は露光光Ｌを完全に遮光し、一方、窓部透過部１３は露光光Ｌを完全に透過する。
【００５４】
そして、グラデーションパターン１４の区域では、遮光膜パターン１２側から窓部透過部１３側に向かって露光光Ｌの光透過度が段階的に高くなっている。
【００５５】
（工程８）
そうして図６（ｂ）の断面図に示すようにカラーフィルタ用基板１に位置合わせした第２のフォトマスク２０のパターンを顔料分散樹脂層３に露光する。
【００５６】
第２のフォトマスク２０の遮光膜パターン１２は露光光Ｌを完全に遮光する。そのため、遮光膜パターン１２の区域の顔料分散樹脂層３の表面には、全く露光光Ｌが当たらず、１００％溶解する顔料分散樹脂層３が維持できる。
【００５７】
一方、グラデーションパターン１４の区域の顔料分散樹脂層３の表面には、遮光膜パターン１２側から窓部透過部１３側に向かって、露光光Ｌが完全に遮光された状態から露光光Ｌが完全に透過された状態まで段階的に推移した強度の露光光Ｌが照射される。
【００５８】
すなわち、グラデーションパターン１４の区域の顔料分散樹脂層３は、遮光膜パターン１２側から窓部透過部１３側に向かって露光光Ｌの光透過度が段階的に高くなり、段階的に顔料分散樹脂層３の現像時の溶解量が変化する状態になる。
【００５９】
それにより、顔料分散樹脂層３が、遮光膜パターン１２側から窓部透過部１３側に向かって、１００％溶解する状態から１００％不溶解の状態に変質する状態まで、段階的に状態が変化する。
【００６０】
（工程９）
次に、露光した顔料分散樹脂層３を現像することで、図３（ｃ）のように、カラーフィルタ用基板１上に、ブラックマトリックス２の開口部に、第２の色画素Ｇ（緑色画素）を形成する。
【００６１】
図３（ｃ）のように、第１の色画素Ｒ（赤色画素）のパターンの上に、端部側断面がなだらかな山型の形状、すなわち順テーパーの断面形状を有する第２の色画素Ｇ（緑色画素）が形成される。
【００６２】
すなわち、グラデーションパターン１４を形成した第２のフォトマスク２０を用いることで、第２の色画素Ｇの現像時の溶解度をグラデーションパターン１４の区域で段階的に変化させることで、第２の色画素Ｇの表面をカラーフィルタ用基板１の面に対して傾かないように形成することができる効果がある。
【００６３】
（工程１０）第３色目の色画素の形成
次に、第３色目の色画素Ｂ（青色画素）を、第２色目の色画素Ｇを形成する場合と同様にして、図６（ｂ）と同様にして、カラーフィルタ用基板１上のブラックマトリックス２の所定の開口部に第２の色画素Ｇ（緑色画素）のパターンが形成されたカラーフィルタ１００に、緑色の顔料を分散した感光性樹脂組成物の顔料分散樹脂層３を塗布する。
【００６４】
この青色の顔料を分散した感光性樹脂組成物の顔料分散樹脂層３も、先に形成した第２の色画素Ｇの上に乗り上げ、第３の色画素Ｂの上面がカラーフィルタ用基板１の面から傾いた形の感光性樹脂組成物の顔料分散樹脂層３が形成される。
【００６５】
（工程１１）
そして、青色の顔料を分散した感光性樹脂組成物の顔料分散樹脂層３を形成したカラーフィルタ用基板１上に第２のフォトマスク２０を設置し、カラーフィルタ用基板１のブラックマトリックス２のアライメントマークと第２のフォトマスク２０のアライメントマークを合わせることで、第２のフォトマスク２０をカラーフィルタ用基板１に位置合わせする。
【００６６】
（工程１２）
そうして位置合わせした第２のフォトマスク２０のパターンを顔料分散樹脂層３に露光する。
【００６７】
次に、露光した顔料分散樹脂層３を現像することで、図３（ｄ）のように、カラーフィルタ用基板１上に、ブラックマトリックス２の開口部に、第３の色画素Ｂ（青色画素）を形成する。
【００６８】
図３（ｄ）のように、第２の色画素Ｇ（緑色画素）のパターンの上に、端部側断面がなだらかな山型の形状、すなわち順テーパーの断面形状を有する第３の色画素Ｂ（青色画素）が形成される。
【００６９】
すなわち、グラデーションパターン１４を形成した第２のフォトマスク２０を用いることで、第３の色画素Ｂの現像時の溶解度をグラデーションパターン１４の区域で段階的に変化させることで、第３の色画素Ｇの表面をカラーフィルタ用基板１の面に対して傾かないフラットな面に形成できる効果がある。
【００７０】
（工程１３）第４色目の色画素の形成
次に、第４色の色画素Ｃ１（黄色画素）を、第２色目の色画素Ｇを形成する場合と同様にして、図６（ｂ）と同様にして、カラーフィルタ用基板１上のブラックマトリックス２の所定の開口部に第３の色画素Ｂ（青色画素）のパターンが形成されたカラーフィルタ１００に、第４の色画素Ｃ１用の色の顔料を分散した感光性樹脂組成物の顔料分散樹脂層３を塗布する。
【００７１】
この第４の色画素Ｃ１用の色の顔料を分散した感光性樹脂組成物の顔料分散樹脂層３も、先に形成した第３の色画素Ｂの上に乗り上げ、第４の色画素Ｃ１の上面がカラーフィルタ用基板１の面から傾いた形の感光性樹脂組成物の顔料分散樹脂層３が形成される。
【００７２】
（工程１４）
そして、第４の色画素Ｃ１用の色の顔料を分散した感光性樹脂組成物の顔料分散樹脂層３を形成したカラーフィルタ用基板１上に第２のフォトマスク２０を設置し、カラーフィルタ用基板１のブラックマトリックス２のアライメントマークと第２のフォトマスク２０のアライメントマークを合わせることで、第２のフォトマスク２０をカラーフィルタ用基板１に位置合わせする。
【００７３】
（工程１５）
そうして位置合わせした第２のフォトマスク２０のパターンを顔料分散樹脂層３に露光する。
【００７４】
（工程１６）
次に、露光した顔料分散樹脂層３を現像することで、図４（ｅ）のように、カラーフィルタ用基板１上に、ブラックマトリックス２の開口部に、第４の色画素Ｃ１（黄色画素）を形成する。
【００７５】
図４（ｅ）のように、第３の色画素Ｂ（青色画素）のパターンの上に、端部側断面がなだらかな山型の形状、すなわち順テーパーの断面形状を有する第４の色画素Ｃ１（黄色画素）が形成される。
【００７６】
すなわち、グラデーションパターン１４を形成した第２のフォトマスク２０を用いることで、第４の色画素Ｃ１の現像時の溶解度をグラデーションパターン１４の区域で段階的に変化させることで、第４の色画素Ｃ１の表面の中央部分をカラーフィルタ用基板１の面に対して傾かないフラットな面に形成することができる効果がある。
【００７７】
（工程１７）第５色目の色画素の形成
次に、図４（ｂ）のように、カラーフィルタ用基板１上のブラックマトリックス２の所定の開口部で、先に形成された第４の色画素Ｃ１（黄色画素）と第１の色画素Ｒ（赤色画素）のパターンの間に囲まれた開口部に、第５色の色画素Ｃ２（白色画素）用の色の顔料を分散した感光性樹脂組成物の顔料分散樹脂層３を塗布する。
【００７８】
図７（ｂ）のように、第５の色画素Ｃ２用の顔料（白色）を分散した感光性樹脂組成物の顔料分散樹脂層３は、先に形成した第４の色画素Ｃ１の上と、第１の色画素Ｒ（赤色画素）との両方の画素に乗り上げる。そのため、第５の色画素Ｃ２の中央部分の上面がカラーフィルタ用基板１の面に平行な形の感光性樹脂組成物の顔料分散樹脂層３が形成される。
【００７９】
（工程１８）
図７（ｂ）のように、第５の色画素Ｃ２用の色の顔料を分散した感光性樹脂組成物の顔料分散樹脂層３を形成したカラーフィルタ用基板１上に第１のフォトマスク１０ａを設置し、カラーフィルタ用基板１のブラックマトリックス２のアライメントマークと第１のフォトマスク１０ａのアライメントマークを合わせることで、第１のフォトマスク１０aをカラーフィルタ用基板１に位置合わせする。
【００８０】
（工程１９）
そうして位置合わせした第１のフォトマスク１０ａのパターンを顔料分散樹脂層３に露光する。
【００８１】
（工程２０）
次に、露光した顔料分散樹脂層３を現像することで、図４（ｆ）のように、カラーフィルタ用基板１上に、ブラックマトリックス２の開口部に、第５の色画素Ｃ２（白色画素）を形成する。
【００８２】
図４（ｆ）のように、第５の色画素Ｃ２の左側は、第４の色画素Ｃ１（黄色画素）のパターンの上に、端部側断面がなだらかな山型の順テーパーの断面形状の端部が形成され、第５の色画素Ｃ２の右側は、第１の色画素Ｒ（赤色画素）のパターンの上に、端部側断面がなだらかな山型の順テーパーの断面形状の端部が形成される。
【００８３】
そして、第５の色画素Ｃ２の上面の中央部分がカラーフィルタ用基板１の面に平行な形の感光性樹脂組成物の顔料分散樹脂層３が形成される。
【００８４】
（工程２１）
次に、図４（ｇ）の様に、各色画素で形成したカラーフィルタ層の表面全面に、例えば真空蒸着法により、導電性の透明電極、具体的には金属酸化物、例えば通常、ＩＴＯの透明電極パターン４を形成することで、本発明のカラーフィルタ１００を完成させる。
【００８５】
なお、本発明のカラーフィルタの製造方法は、上記の実施形態に限定されず、各色画素で形成したカラーフィルタ層の表面全面に平坦化層を形成した後に、その平坦化層の表面に透明電極パターン４を形成することもできる。
【００８６】
また、本発明のカラーフィルタの製造方法は、５色の色画素を有するカラーフィルタの製造方法に限定されず、Ｎが４以上のＮ色の色画素のカラーフルタの製造方法に適用することができる。
【符号の説明】
【００８７】
１・・・カラーフィルタ用基板
２・・・ブラックマトリックス
３・・・顔料分散樹脂層
４・・・透明電極パターン
１０、１０ａ・・・第１のフォトマスク
１１・・・マスク用基板
１２・・・遮光膜パターン
１３・・・窓部透過部
１４・・・グラデーションパターン
２０・・・第２のフォトマスク
１００・・・カラーフィルタ
Ｌ・・・露光光
Ｒ・・・カラーフィルタ層の第１の色画素（赤色画素）
Ｇ・・・カラーフィルタ層の第２の色画素（緑色画素）
Ｂ・・・カラーフィルタ層の第３の色画素（青色画素）
Ｃ１・・・カラーフィルタ層の第４の色画素（例えば黄色画素）
Ｃ２・・・カラーフィルタ層の第５の色画素（例えば白色画素）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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