(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワイヤレス流量制限器において、
第１の端部と第２の端部とを有し、前記第１の端部が前記第２の端部より大きい直径を有している細長いテーパ状円筒体と、
前記細長いテーパ状円筒体の前記第１の端部から所定の距離突出した第１の組の複数の突出部と、
前記細長いテーパ状円筒体の前記第２の端部から所定の距離突出した第２の組の複数の突出部とを具備し、
前記第１の組の複数の突出部、前記第２の組の複数の突出部、及び前記細長いテーパ状円筒体は、単一部品として機械加工されており、
前記第１と第２の組の複数の突出部は、該ワイヤレス流量制限器がテーパ状ボアに対して適切に中心合わせされるのを可能にするように構成されているワイヤレス流量制限器。
【請求項２】
前記第１と第２の組の複数の突出部は同じ数の突出部を含む請求項１に記載のワイヤレス流量制限器。
【請求項３】
前記第１と第２の組の複数の突出部は少なくとも３つの突出部を含む請求項１に記載のワイヤレス流量制限器。
【請求項４】
前記第１と第２の組の複数の突出部は嵌合するテーパ状ボア内で押潰し可能であり、前記突出部を押し潰すことにより、前記ワイヤレス流量制限器をその最終位置に保持する保持力が与えられる請求項１に記載のワイヤレス流量制限器。
【請求項５】
前記ワイヤレス流量制限器と前記嵌合するテーパ状ボアとの間に環状流間隙をもたらす請求項４に記載のワイヤレス流量制限器。
【請求項６】
前記ワイヤレス流量制限器は質量流量制御器の流路内に配置されている請求項５に記載のワイヤレス流量制限器。
【請求項７】
前記質量流量制御器は、前記ワイヤレス流量制限器の上流の圧力を測定する第１の圧力変換器と、該ワイヤレス流量制限器の下流の圧力を測定する第２の圧力変換器とを含む請求項６に記載のワイヤレス流量制限器。
【発明の詳細な説明】
【背景技術】
【０００１】
熱または圧力ベースの質量流量計は、通常、流路内に制限（「バイパス」と呼ぶ場合もある）を用いて圧力差をもたらすことにより、流れを二次流量センサ経路に分流させる（熱タイプ）か、または圧力変換器が流量に比例する圧力差を測定するのを可能にする（圧力ベース）。質量流量計は、質量流量制御器（ＭＦＣ）の一体型サブシステムである。ＭＦＣは、質量流量計からの流量測定値を制御システムへのフィードバックとして使用し、制御システムは、質量流量制御器における流量調節弁を制御する。
【０００２】
圧力ベースのＭＦＣでは、圧力差を発生させるために流路内に制限器が必要である（制限器の下流の圧力に対して制限器の上流の圧力が高い）。そして、圧力センサが、上流圧力および下流圧力を測定するために使用されるか、または、差を直接測定する。そして、好適な制御アルゴリズムが弁を制御して、質量流量を所望の設定値の許容可能な範囲内に留まるように調節することができる。制御の成功に対する１つの鍵は、この種のＭＦＣが必要とする層流特性を有する費用効率の高い非汚染制限器を設計することである。通常、これには、非常に小さい流路面積（ｄ）、および流路面積に対する非常に長い流路（Ｌ）（すなわち、大きいＬ／ｄ比）とともに、乱流効果を導入しないように非常に平滑な流路を備えた制限器を構築することが必要である。制限器の使用は、熱ベースの質量流量制御器にも適用可能である。
【発明の概要】
【０００３】
開示する実施形態は、第１の端部および第２の端部を有する細長いテーパ状円筒体であって、第１の端部は第２の端部より大きい径を有する、細長いテーパ状円筒体を含むワイヤレス流量制限器を含む。ワイヤレス流量制限器はまた、細長いテーパ状円筒体の第１の端部に位置する突出部の第１の組と、細長いテーパ状円筒体の第２の端部に位置する突出部の第２の組とを備え、突出部の第１の組、突出部の第２の組、および細長いテーパ状円筒体は、単一部品として機械加工されている。
【０００４】
別の開示する実施形態は質量流量制御器を含む。一実施形態では、質量流量制御器は、層流要素として作用するワイヤレス制限器を含む。質量流量制御器は、また、層流要素の上流圧力と下流圧力との間の流体流の差圧を測定する少なくとも１つの圧力検知要素と、少なくとも差圧、流体特性の知識、および層流要素の特性を用いて、質量流量を求めるように構成された処理要素と、弁駆動信号に応じて層流要素を通る流体流を制御するように構成された比例制御弁とを含む。幾つかの実施形態では、流体特性の知識には上流圧力が含まれる。
【０００５】
別の開示する実施形態は、質量流量計を含む。一実施形態では、質量流量計は、層流要素として作用するワイヤレス制限器を含む。質量流量計はまた、層流要素の上流圧力と下流圧力との間の流体流の差圧を測定する少なくとも１つの圧力検知要素と、少なくとも差圧、流体特性の知識、および層流要素の特性を用いて、質量流量を求めるように構成された処理要素とを含む。
【０００６】
上記の概要は、単に、本明細書において開示される特定の実施形態の例を提供するだけであり、特許請求の範囲を網羅することも、制限することも意図していない。開示される実施形態の他の実施形態および利点は、詳細な説明において更に説明されることになる。
【０００７】
本発明の例示の実施形態は、添付図面の図を参照して以下で詳細に説明される。これらの図は、引用することによって本明細書の一部をなす。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】ワイヤ式制限器であって、非常に小さい流路面積（ｄ）と流路面積に対して非常に長い流路（Ｌ）とを有する層流要素を生成するように制限器の正確な位置決めを達成するために使用される、ワイヤ式制限器を示す図である。
【図２】開示する実施形態による、非常に小さい流路面積（ｄ）と流路面積に対して非常に長い流路（Ｌ）とを有する層流要素を生成するためのワイヤレス制限器を示す図である。
【図２Ａ】開示する実施形態による、非常に小さい流路面積（ｄ）と流路面積に対して非常に長い流路（Ｌ）とを有する層流要素を生成するためのワイヤレス制限器を示す図である。
【図２Ｂ】開示する実施形態による、非常に小さい流路面積（ｄ）と流路面積に対して非常に長い流路（Ｌ）とを有する層流要素を生成するためのワイヤレス制限器を示す図である。
【図３】開示する実施形態による、環状間隙を確立するように、嵌合するテーパ状ボア内に設置されたワイヤレス制限器を示す図である。
【図４】ワイヤレス制限器の実施形態を組み込むことができる質量流量制御器１００におけるサーマル質量流量計１４０の一例を示す図である。
【図５Ａ】開示するワイヤレス制限器の一実施形態を組み込むことができる、圧力ベース質量流量制御器の例を示す図である。
【図５Ｂ】開示するワイヤレス制限器の一実施形態を組み込むことができる、圧力ベース質量流量制御器の例を示す図である。
【図６】本明細書に開示するようなワイヤレス制限器を用いる、流量に対する差圧（ｄＰ）の一例を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
示した図は、例示にすぎず、種々の実施形態を実施することができる環境、アーキテクチャ、設計、またはプロセスに関する限定を主張することも意味することも何ら意図していない。
【００１０】
好適なＬ／ｄ比の高層流要素を生成する多数の方法があり、そのうちの１つは、テーパ状制限器を、制限器の周囲に幅の狭い環状流路を生成するように、テーパ状ボア内で位置決めするというものである。例えば、図１は、極めて小さい径のワイヤ１１３を用いることによって制限器１０３の正確な位置決めを達成するように使用される１つの方法を示し、ワイヤ１１３は、制限器の外側に軸方向に配置され、次いで、制限器の両端部に溶接される。ワイヤ１１３は、環状間隙内の均一な間隔を確保するために使用される。その後、制限器１０３およびワイヤ集成体１１０は、正確な値が示されるまで制限器にわたってｄＰをモニタリングしながら、同じテーパ角度のボア内に押し込まれる。押込み動作は、正確な位置、したがって正確な環状流路面積を確立しながらワイヤを部分的に押し潰すのに十分な力を用いて行われる。この押潰しにより、制限器をその最終位置で維持するための保持力が与えられる。
【００１１】
本発明者は、以下を含む上記ワイヤ式制限器の幾つかの問題および限界を認めた。
１）およそ0.009から0.002程度まで小さい極めて小さいワイヤを扱わなければならない。
２）ワイヤの扱いの実際的な態様により、使用することができるワイヤのサイズが限られ、これにより、環状流間隙（制限器とボアとの間の半径方向空間）に対するサイズ下限に対して制限が課せられる。
３）ワイヤを、方向付け、ぴんと張って引っ張り、適所に溶接しなければならない。これには、手作業、特別なツーリング、並びに、ワイヤおよび／または溶接部に損傷を与えるリスクのある、精密なアセンブリの溶接後不動態化および洗浄が必要である。
４）ワイヤは、操作のために流路と非平行になり、したがって、収束するかまたは発散する流路をもたらす可能性がある。
５）これらの製品に対して典型的な半導体業界の応用において、溶接部は、汚染および金属腐食発生の原因として見られることが多い。
【００１２】
上記の問題のうちの１または複数の問題を克服するために、本明細書に開示する本発明の実施形態は、非常に小さい流路面積（ｄ）と流路面積に対する非常に長い流路（Ｌ）とを有する層流要素を生成する、ワイヤレス（すなわち、ワイヤ１１３を使用しない）制限器を含む。例えば、図２Ａ、２Ａ、２Ｂは、テーパ状制限器２１０および押潰し可能な位置決め突出部２２０の両方の特徴を含む単一機械加工部品２００を示す。単一機械加工部品２００は、十分な可鍛性を有する任意の流体適合性材料から作製することができる。ワイヤ式制限器と同様に、突出部の押潰しにより、ボア内でテーパ状制限器を中心に配置することが可能になる一方で、ワイヤレス流量制限器をその最終位置で維持するための保持力も与えられる。テーパ状制限器２１０は、制限器の一端に大径２０２を含み、制限器の他方の一端に小径２０４（大径に対して）を含む。
【００１３】
図示する実施形態では、制限器２１０の各端部に３つの突出部２２０が位置しているが、突出部により制限器２１０がテーパ状ボア内で適切に中心にあり得る限り、任意の数の突出部を使用することができる。幾つかの実施形態では、突出部２２０の数は、制限器２１０の広い方の端部では、制限器２１０の小さい方の端部とは異なる場合がある。
【００１４】
開示する実施形態によれば、突出部のサイズに対して最小または最大の限界はなく、したがって、環状流間隙（制限器とボアとの間の半径方向空間）に対してサイズの下限または上限に対する制限はない。例えば、窒素の数標準リットル毎分までの流れに対する環状間隙は、通常、0.001インチ未満から0.006インチを超える範囲である。必要な間隙を超える突出部高さは、材料、材料条件および調整可能性の所望の範囲を含む複数の要素によって決まる。突出部高さに対する典型的であるが限定しない値は、0.0005インチ〜0.003インチである。さらに、幾つかの実施形態では、突出部のサイズは、制限器２１０の幅の広い方の端部において、制限器２１０の小さい方の端部のサイズから変化するかまたはそれとは異なる場合がある。
【００１５】
両端部に示す平坦部は、最初に制限器２１０に機械加工された円形の形状から突出部を提供するために使用することができる任意の数の形状のうちの１つである。例えば、図に示すような直線状の三角形の辺の代わりに、幾つかの実施形態では、三角形の辺を曲線状とすることができる。代替的に、幾つかの実施形態では、三角形状の代わりに、端部および突出部は、限定されないが、環状間隙に対する開口部を提供するように一方の側に凸状または直線状の縁部を有する半円形等、円形形態とすることができる。他の形状としては、円錐形状、および八角形または五角形を挙げることができる。さらに、幾つかの実施形態では、突出部の形状または設計は、制限器２１０の２つの端部で異なる場合もある。
【００１６】
突出部は制限器２１０に直接機械加工されるため、開示する実施形態の利点には以下が挙げられる。
１）小さいサイズのワイヤの取扱いがない。
２）環状流間隙のサイズに対する制限がない。
３）特別なツーリングが不要である。例えば、ライブツーリングを備える従来のスイス型自動旋盤で部品を直接作製することができる。
４）溶接が不要であり、したがって、汚染および金属腐食発生の原因がなくなる。
５）均一な環状間隙（ｄ）を有する直線状流路を生成する。
６）最終的な頑強な部品は工作機械から直接取り外され、機械加工後の不動態化および洗浄のために容易に取り扱われる。
【００１７】
図３は、開示する実施形態による、狭い環状流間隙３３０を確立するために、嵌合するテーパ状ボア３２０に設置された、ワイヤレス制限器２１０を示す。図示するように、ワイヤレス制限器２１０は、長いガス流路３４０（Ｌ）を有し、ガス流路長３４０に対して非常に小さい環状流間隙３３０（ｄ）（すなわち、大きいＬ／ｄ比）をもたらす。図示するように、環状流間隙３３０は、流れに乱流効果をもたらさないように非常に平滑である。
【００１８】
図４は、ワイヤレス制限器の一実施形態を組み込むことができる質量流量制御器１００のサーマル質量流量計１４０の一例を示す。質量流量制御器１００はブロック１１０を含み、ブロック１１０はＭＦＣの構成要素が取り付けられるプラットフォームである。サーマル質量流量計１４０と弁１７０を含む弁組立体１５０とが、流体入口１２０と流体出口１３０との間でブロック１１０に取り付けられている。
【００１９】
サーマル質量流量計１４０は、通常、流体の大部分が流れるバイパス１４２と、流体のより少ない部分が流れるサーマル流量センサ１４６とを含む。バイパス１４２は、様々な既知の流量で質量流量センサを流れる流体とバイパス１４２を流れる流体との間の適切な関係を求めるように、既知の流体で調整され、それにより、センサ出力信号から、フローメーターを通る総流量を求めることができる。開示する実施形態によれば、本明細書に開示するワイヤレス制限器の一実施形態を用いて、質量流量制御器１００内にバイパス１４２を生成することができる。
【００２０】
そして、質量流量センサ部分およびバイパス１４２を制御弁１７０および制御電子回路１６０に接続し、その後、再び、既知の条件下で調整することができる。制御電子回路１６０は、限定されないがプロセッサ等、少なくとも１つの処理要素を含む。そして、制御電子回路１６０および制御弁１７０の応答は、設定値または入力圧力の変化に対するシステムの全体的な応答が既知であり、その応答を用いて所望の応答を提供するようにシステムを制御することができるように、特徴付けられる。
【００２１】
サーマル流量センサ１４６は、取付プレートまたはベース１０８に取り付けられたセンサハウジング１０２（センサ１４６を示すために取り除かれて示されている部分）内に収容される。センサ１４６は、通常キャピラリーチューブと呼ばれる小径チューブであり、センサ入口部分１４６Ａ、センサ出口部分１４６Ｂ、および周囲に２つの抵抗コイルまたは巻線１４７、１４８が配置されているセンサ測定部分１４６Ｃを備える。動作時、センサ測定部分１４６Ｃと熱接触している２つの抵抗巻線１４７、１４８に電流が与えられる。抵抗巻線１４７、１４８における電流は、測定３０部分１４６を流れる流体を、バイパス１４２を流れる流体の温度より高い温度まで加熱する。巻線１４７、１４８の抵抗は、温度によって変化する。流体がセンサ導管を流れる際、熱が上流の抵抗器１４７から下流の抵抗器１４８に向かって伝達され、温度差はセンサを通る質量流量に比例する。
【００２２】
２つの抵抗巻線１４７、１４８から、センサを通る流量に関連する電気信号が導出される。電気信号は、抵抗巻線の抵抗の差から、または各巻線を特定の温度で維持するために各抵抗巻線に与えられるエネルギーの量の差から等、多数の異なる方法で導出することができる。サーマル質量流量計における流体の流量と相関する電気信号を求めることができる様々な方法の例については、例えば、引用することにより本明細書の一部をなす、所有者が共通の米国特許第6,845,659号に記載されている。信号処理の後に抵抗巻線１４７、１４８から導出される電気信号は、センサ出力信号を含む。
【００２３】
センサ出力信号を質量流量計における質量流量と相関させて、電気信号が測定されるときに流体流量を求めることができる。センサ出力信号を、通常、最初にセンサ１４６における流量と相関させ、次いで、バイパス１４２における質量流量と相関させることにより、フローメーターを通る総流量を求めることができ、それに従って制御弁１７０を制御することができる。センサ出力信号と流体流との間の相関は、複雑であり、流体種、流量、入口および／または出口圧力、温度等を含む多数の動作条件によって決まる。
【００２４】
流体流量に対して生のセンサ出力を相関させるプロセスは、質量流量制御器の調整および／または較正を必要とし、費用がかかる、労働力を必要とする手続きであり、１人または複数の熟練したオペレーターと専用機器とを必要とすることが多い。例えば、センサ部分に既知の量の既知の流体を流し、流体流量を正確に表す応答を提供するように幾つかの信号処理パラメーターを調整することにより、質量流量センサを調整することができる。例えば、センサ出力の０Ｖ〜５Ｖ等、指定された電圧範囲が、ゼロからセンサに対する範囲の最上値までの流量範囲に対応するように、出力を正規化することができる。センサ出力の変化が流量の変化に線形に対応するように、出力もまた線形にすることができる。例えば、出力が線形にされる場合、流体出力を２倍にすることにより、電気出力が２倍になる。センサの動的応答、すなわち、流量または圧力変化が求められるときに発生する圧力または流量の変化の不正確な影響が求められ、それによりこうした影響を補償することができる。
【００２５】
エンドユーザーによって使用される流体のタイプが、調整および／または較正で使用される流体のタイプと異なる場合、またはエンドユーザーによって使用される、入口および出口圧力、温度、流量の範囲等の動作条件が、調整および／または較正で使用されるものと異なる場合、質量流量制御器の動作は一般に質が低下する。この理由で、フローメーターは、追加の流体（「代用流体」と呼ぶ）および／または動作条件を用いて調整または較正することができ、十分な応答を提供するために必要ないかなる変化も、ルックアップテーブルに格納される。本発明の譲受人によって所有されかつ引用することにより本明細書の一部をなす、「Flow Sensor Signal Conversion」と題するWang他の米国特許第7,272,512号は、使用される各異なるプロセス流体に対して装置を較正するために代用流体を必要とするのではなく、異なるガスの特性を用いて応答を調整するシステムを記載している。
【００２６】
開示するワイヤレス制限器の実施形態を使用する１つの利点は、較正ガス以外のプロセスガスに対する性能を予測してプロセスガスに対する精度の向上を可能にするプロセスを大幅に簡略化するということである。ワイヤレス制限器の主な利点は、非常に均一かつ小さい環状間隙を維持するようにテーパ状シリンダーを位置決めすることができるということである。これにより、マルチガス質量流量制御器またはメーターのモデルが可能になり、プロセスガスに対する性能の予測が向上する。
【００２７】
さらに、質量流量制御器１００は、限定されないが通常はバイパス１４２の上流のいずれかの箇所において、流路内の圧力を測定するために流路に結合された圧力変換器１１２を含むことができる。圧力変換器１１２は、圧力を示す圧力信号を提供する。開示する実施形態によれば、圧力変換器１１２を用いて、減衰率測定中に圧力が測定される。幾つかの実施形態では、圧力変換器１１２は、ガス濃度を得るように、上流圧力センサを備えた差圧変換器とすることができる。
【００２８】
制御電子回路１６０は、所望の質量流量を示す設定値と、センサ導管内を流れる流体の実際の質量流量を示す質量流量センサからの電気流量信号とに従って、制御弁１７０の位置を制御する。そして、比例制御、積分制御、比例−積分（ＰＩ）制御、微分制御、比例−微分（ＰＤ）制御、積分−微分（ＩＤ）制御および比例−積分−微分(PID)制御等、従来のフィードバック制御方法を用いて、マススローコントローラーにおける流体の流量が制御される。流体の所望の質量流量を示す設定値信号と質量流量センサによって検知される実際の質量流量に関連するフィードバック信号との差である誤差信号に基づいて、制御信号（例えば、制御弁駆動信号）が生成される。制御弁は、主流体流路（通常、バイパスおよび質量流量センサの下流）内に配置され、主流体流路を通って流れる流体の質量流量を変化させるように調整する（例えば、開閉する）ことができ、この制御は、質量流量制御器によって与えられる。
【００２９】
図示する例では、流量は、導体１５８によって電圧信号として閉ループシステムコントローラー１６０に供給される。信号は、増幅され、処理され、流量を変更するように制御弁組立体１５０に供給される。この目的で、コントローラー１６０は、質量流量センサ１４０からの信号を所定値と比較し、それに従って、所望の流量を達成するように比例弁１７０を調節する。
【００３０】
図５Ａ、５Ｂは、開示するワイヤレス制限器の一実施形態を組み込むことができる、圧力ベース質量流量制御器５００Ａ、５００Ｂの例を示す。
【００３１】
図示する実施形態では、圧力ベース質量流量制御器５００Ａは、他にもあるが特に、電源コネクター５０２、ディスプレイインターフェース５０４、通信インターフェース５０６（例えば、ＲＳ４８５通信インターフェースコネクター）、制御電子回路５０８（例えば、ＣＰＵ）、流体経路５１２、１または複数の温度センサ５１４および圧力センサ５２０、流量制御弁組立体５２２、並びに層流制限器５１０を含む。層流制限器５１０は、小さい流路内において層流を確保し、流体内のせん断力による圧力低下をもたらすように構成されている。開示する実施形態によれば、質量流量制御器５００Ａは、層流制限器５１０として本明細書に開示するようなワイヤレス制限器の一実施形態を使用する。
【００３２】
圧力ベース質量流量制御器５００Ａと同様に、圧力ベース質量流量制御器５００Ｂは、流量制御弁５３０と、第１の圧力変換器５３２および第２の圧力変換器５３４とを含む。図に示すように、第１の圧力変換器５３２は層流制限器５１０の上流の圧力を測定するように構成され、第２の圧力変換器５３４は層流制限器５１０の下流の圧力を測定するように構成されている。
【００３３】
圧力ベース質量流量制御器５００Ａ、５００Ｂは、流体流量の変化により、流体流量を計算することができる層流制限器５１０の上流および／または下流の流体圧力の変化がもたらされる、という原理に基づいて動作する。例えば、図５Ａに示すように、圧力ベース質量流量制御器５００Ａは、第１の圧力センサ５２０を用いて層流制限器５１０の上流の流体経路５１２における流体圧力を測定し、第２の圧力センサ５２０を用いて層流制限器５１０の下流の流体経路５１２における流体圧力を測定する。層流制限器５１０の上流の圧力測定値と層流制限器５１０の下流の圧力測定値との間の圧力の変化に基づいて、圧力ベース質量流量制御器５００Ａは、質量流量を計算し、制御電子回路５０８および流量制御弁組立体５２２を用いて流量を制御するように構成されている。
【００３４】
上記の図は、質量流量制御器における開示する実施形態の使用を示すが、開示する実施形態はまた、質量流量計において流量を厳密に求めるためにのみ使用することもできる。例えば、当業者は、図５Ｂに示す圧力ベース質量流量制御器を、比例入口弁および任意の不要な制御電子回路を取り除くことによって、質量流量計を生成するように変更することができることを理解するであろう。
【００３５】
図６は、本明細書に開示するようなワイヤレス制限器を用いる、流量に対する差圧（ｄＰ）の例を示すグラフを示す。図示する例では、５０：１ターンダウンフローメーターが、10scmmワイヤレス制限器とともに使用されている。ターンダウンレシオは、フローメーターが許容可能な精度で測定することができる流量の範囲を示す。SCCMは、標準立方センチメートル毎分（Standard Cubic Centimeters per Minute）、すなわち、標準温度および圧力でのｃｃ／分を示す流量測定用語である。
【００３６】
本発明の説明を、例示および説明の目的で提示したが、それは、網羅的であるようにも本発明を開示する形態に限定するようにも意図されていない。
【００３７】
本発明の範囲および趣旨から逸脱することなく、多くの変更形態および変形形態が当業者に明らかであろう。実施形態は、本発明の原理および実用的な用途を説明するとともに、他の当業者が、考慮されている特定の使用に適するように様々な変更を有する様々な実施形態について本発明を理解することを可能にするために選ばれて記載されている。請求項の範囲は、開示した実施形態および任意のそのような変更を広く包含するように意図されている。
【００３８】
数量が特定されていないもの（the singular forms "a", "an" and "the"）は、本明細書において用いられるとき、文脈が複数形を含まないことを明確に示していない限り、複数形も同様に含むように意図されている。「具備する」（"comprise" and/or "comprising"）という用語は、この明細書および／または特許請求の範囲において用いられるとき、明記した特徴、完全体、ステップ、動作、要素、および／または構成要素が存在することを明示しているが、１または複数の他の特徴、完全体、ステップ、動作、要素、構成要素、および／またはそれらの群が存在することまたは追加されることを排除していないことが更に理解されるであろう。添付の特許請求の範囲における全ての手段またはステップに機能を加えた要素の対応する構造、材料、動作、および均等物は、その機能を、具体的に請求項に記載されている他の請求項に記載の要素と組み合わせて実行するための任意の構造、材料、または動作を含むように意図されている。
【符号の説明】
【００３９】
１００    質量流量制御器
１０２    センサハウジング
１０３    制限器
１０８    ベース
１１０    ワイヤ集成体
１１２    圧力変換器
１１３    ワイヤ
１２０    流体入口
１３０    流体出口
１４０    サーマル質量流量計
１４２    バイパス
１４６    センサ
１４６Ａ    センサ入口部分
１４６Ｂ    センサ出口部分
１４６Ｃ    センサ測定部分
１４７    抵抗巻線
１４８    抵抗巻線
１５０    制御弁組立体
１５８    導体
１６０    制御電子回路
１７０    比例弁
２００    単一機械加工部品
２０２    大径
２０４    小径
２１０    ワイヤレス制限器
２２０    突出部
３２０    テーパ状ボア
３３０    環状流間隙
３４０    ガス流路長
５００Ａ    質量流量制御器
５０２    電源コネクター
５０４    ディスプレイインターフェース
５０６    通信インターフェース
５０８    制御電子回路
５１０    層流制限器
５１２    流体経路
５１４    温度センサ
５２０    圧力センサ
５２２    流量制御弁組立体
５３０    流量制御弁
５３２    第１の圧力変換器
５３４    第２の圧力変換器
【図１】
0006659692.tif 000002
【図２】
0006659692.tif 000003
【図２Ａ】
0006659692.tif 000004
【図２Ｂ】
0006659692.tif 000005
【図３】
0006659692.tif 000006
【図４】
0006659692.tif 000007
【図５Ａ】
0006659692.tif 000008
【図５Ｂ】
0006659692.tif 000009
【図６】
0006659692.tif 000010