(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガスポンプによって供給されるガス流の脈動軽減機能を有するガス流路構造であって、
可撓性隔膜によって区画された第１室および第２室と、当該第１室と当該第２室とを連通させる連通路とによって構成された、当該第１室および当該第２室の各々に順次にガスが流通される一の連続したガス流路を有し、
前記第１室および前記第２室の一方または両方が、前記可撓性隔膜の面方向に並ぶ複数のガス流過室に区画されており、各々のガス流過室は、順次にガスが流通されるよう連通状態とされていることを特徴とするガス流路構造。
【請求項２】
ガスポンプによって供給されるガス流の脈動軽減機能を有する流量センサであって、
ガス導入部およびガス排出部を有する筐体を備えており、当該筐体の内部に、前記ガス導入部から前記ガス排出部に至るガス流路を形成するガス流路形成部材と、当該ガス流路に流通されるガスの流量検出手段とが配置されており、
前記ガス流路形成部材は、可撓性隔膜によって区画された第１室および第２室と、当該第１室および当該第２室の両者を連通させる連通路とによって構成された、当該第１室および当該第２室の各々に順次にガスが流通される一の連続したガス流路を形成するものであり、
前記第１室および前記第２室の一方または両方が、前記可撓性隔膜の面方向に並ぶ複数のガス流過室に区画されており、各々のガス流過室は、順次にガスが流通されるよう連通状態とされていることを特徴とする流量センサ。
【請求項３】
前記流量検出手段が、ＭＥＭＳ式フローセンサ素子を備えていることを特徴とする請求項２に記載の流量センサ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガス流路構造および流量センサに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体製造プロセス技術を利用して、これに機械加工技術や材料技術などを組み合わせることによって、基板上に三次元的な微細構造を有するシステムを実現するＭＥＭＳ（Ｍｉｃｒｏ  Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  Ｓｙｓｔｅｍｓ）技術が、各種センサやポンプなどのデバイスの小型化、軽量化のために広く用いられている。例えば、特許文献１には、ＭＥＭＳセンサーチップを表面実装型のパッケージに収納し、気体や液体の流量を検出することができる流量センサが記載されている。
【０００３】
而して、例えばダイヤフラムポンプなどのガスポンプにより供給されるガス流は、脈動を伴ういわゆる脈動流であって、供給されるガスの流量は、一定ではなく、例えば連続したサインカーブに従った流量変動を生ずる。従って、ガスポンプにより供給されるガス流の流量測定にあっては、ガス流の脈動を軽減させて安定した流量のガスが流量センサ素子に供給されることが必要とされる。
【０００４】
一般に、ガス流等における脈動を低減させる方法としては、例えばガス流路をオリフィスで絞ることにより脈動を低減させる方法や、例えばガス流路にバッファ（緩衝部）を形成することにより脈動を低減させる方法などが知られている。
【０００５】
しかしながら、流量センサ内に形成されるガス流路構造において、ガス流の脈動を軽減させるための手段としてオリフィスを用いた場合には、流量負荷が大きくなり、使用用途が限られてしまう、といった問題がある。
一方、ガス流の脈動を軽減させるための手段としてガス流路にバッファを形成した場合には、ガス流路が大きくなり、流量センサを小型のものとして構成することが困難となる、という問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１１−２０９１３０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであって、流量負荷を増加させることなく、ガス流の脈動を軽減することのできるガス流路構造、および、ガス流の脈動による影響を受けることなく、高い精度で流量測定を行うことのできる小型の流量センサを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明のガス流路構造は、ガスポンプによって供給されるガス流の脈動軽減機能を有するガス流路構造であって、
可撓性隔膜によって区画された第１室および第２室と、当該第１室と当該第２室とを連通させる連通路とによって構成された、当該第１室および当該第２室の各々に順次にガスが流通される一の連続したガス流路を有し、
前記第１室および前記第２室の一方または両方が、前記可撓性隔膜の面方向に並ぶ複数のガス流過室に区画されており、各々のガス流過室は、順次にガスが流通されるよう連通状態とされていることを特徴とする。
【００１０】
本発明の流量センサは、ガスポンプによって供給されるガス流の脈動軽減機能を有する流量センサであって、
ガス導入部およびガス排出部を有する筐体を備えており、当該筐体の内部に、前記ガス導入部から前記ガス排出部に至るガス流路を形成するガス流路形成部材と、当該ガス流路に流通されるガスの流量検出手段とが配置されており、
前記ガス流路形成部材は、可撓性隔膜によって区画された第１室および第２室と、当該第１室および当該第２室の両者を連通させる連通路とによって構成された、当該第１室および当該第２室の各々に順次にガスが流通される一の連続したガス流路を形成するものであり、
前記第１室および前記第２室の一方または両方が、前記可撓性隔膜の面方向に並ぶ複数のガス流過室に区画されており、各々のガス流過室は、順次にガスが流通されるよう連通状態とされていることを特徴とする。
【００１２】
また、本発明の流量センサにおいては、前記流量検出手段が、ＭＥＭＳ式フローセンサ素子を備えた構成とされていることが好ましい。
【発明の効果】
【００１３】
本発明のガス流路構造によれば、ガス流の脈動に起因する第１室内を流通されるガスの圧力と、第２室内を流通されるガスの圧力との圧力差に応じて可撓性隔膜が弾性的に変形することにより、第１室および第２室の両者の圧力が均等化されるため、流量負荷を増大させることなく、ガスポンプによって供給されるガスのガス流における脈動を軽減することができる。
【００１４】
従って、このようなガス流路構造を具えた本発明の流量センサによれば、ガス流の脈動による影響を受けることなく、高い精度で流量測定を行うことができる。また、流量センサ内に形成されるガス流路を大きくする必要がないので、流量センサ自体を小型のものとして構成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明のガス流路構造を具備するガス流路構造体の一例を概略的に示す断面図である。
【図２】図１に示すガス流路構造体にガスが供給された状態の一例を示す図である。
【図３】本発明のガス流路構造を具備する流量センサの一例における構成を示す外観図である。
【図４】図３におけるＡ−Ａ線断面図である。
【図５】図３におけるＢ−Ｂ線断面図である。
【図６】図３におけるＣ−Ｃ線断面図である。
【図７】図３に示す流量センサにおけるガス流路形成部材の構成を示す図であって、（ａ）下面図、（ｂ）上面図である。
【図８】実験例１に係る脈動測定システムの構成を概略的に示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
【００１７】
〔ガス流路構造〕
本発明のガス流路構造は、ガスポンプによって供給されるガスの脈動軽減機能を有するものでであって、可撓性隔膜によって区画された第１室および第２室と、当該第１室と当該第２室とを連通させる連通路とによって構成された、当該第１室および当該第２室の各々に順次にガスが流通される一の連続したガス流路を有する。
【００１８】
本発明のガス流路構造においては、少なくとも第１室および第２室を区画する可撓性隔膜がガス圧力によって弾性的に変形するよう構成されていればよいが、第１室および第２室を画成する壁も可撓性材料により構成されていることが好ましい。
【００１９】
可撓性隔膜は、例えば、ＪＩＳ−Ｋ６２５３に準じて測定したデュロメータＡ硬度が４０以下であるゴム材料により構成されていることが好ましい。このようなゴム材料の具体例としては、例えばＥＰＤＭやシリコーンゴムなどを挙げることができる。
また、可撓性隔膜の厚みは、例えば０．３ｍｍ以下であることが好ましい。
可撓性隔膜がこのような構成とされていることにより、可撓性隔膜を流通されるガス流の脈動（圧力変動）に追従させて弾性的に変形させることができるため、所期の脈動軽減機能を確実に得ることができる。
【００２０】
ガス流路を構成する第１室および第２室は、容積が互いに同一の大きさとされていても、異なる大きさとされていても、いずれであってもよいが、第１室の容積と第２室の容積の和（ガス流路の全容積）が、使用されるガスポンプの１周期あたりの引き込み量（押込み量）以上の大きさとされていることが望ましい。これにより、所期の脈動軽減効果を確実に得ることができる。
【００２１】
本発明のガス流路構造においては、可撓性隔膜によって区画された第１室および第２室のいわば２つのガス流過室を有していれば、ガスポンプによって供給されるガス流の脈動軽減効果を得ることができるが、第１室および第２室の一方または両方が、例えば、可撓性隔膜の面方向に並ぶ複数のガス流過室に区画されており、各々のガス流過室は、順次にガスが流通されるよう連通状態とされていることが好ましい。このような構成のものにおいて、各々のガス流過室の大きさは、特に限定されるものではなく、また、ガス流過室の配置も目的に応じて適宜に変更することができる。
【００２２】
本発明のガス流路構造において、第１室および第２室を連通させる連通路は、第１室および第２室の各々に順次にガスが流通される一の連続したガス流路が形成されるよう構成されていればよい。具体的には、連通路は、可撓性隔膜に当該可撓性隔膜の厚み方向に貫通して延びる連通孔を形成することにより、あるいは、第１室および第２室を画成する壁に貫通孔を形成して第１室および第２室を配管接続することにより形成することができる。
【００２３】
また、本発明のガス流路構造においては、各々可撓性隔膜により区画された３つ以上のガス流過室が可撓性隔膜の厚み方向に積層された多層構造とされていてもよい。
【００２４】
さらにまた、本発明のガス流路構造においては、ガスポンプは、ガス流路の入口を構成するガス導入部およびガス流路の出口を構成するガス排出部のいずれに接続されていてもよい。
【００２５】
図１は、本発明のガス流路構造を具備するガス流路構造体の一例を概略的に示す断面図である。
このガス流路構造体１０は、筐体１１の内部空間が可撓性隔膜１５によって区画されて形成された例えば互いに同一の大きさの容積を有する第１室Ｓ１および第２室Ｓ２の２つのガス流過室を有している。図１における１２はガス導入部、１３はガス排出部である。第１室Ｓ１および第２室Ｓ２は、可撓性隔膜１５に形成された連通孔１６により連通されており、これにより、第１室Ｓ１および第２室Ｓ２の各々に順次にガスが流通される一の連続したガス流路が形成されている（図１における白抜きの矢印はガスの流通方向を示す）。連通孔１６は、第１室Ｓ１内のガス流通方向下流側の位置に形成されている。
【００２６】
而して、例えばダイヤフラム式ポンプなどのガスポンプにより供給されるガス流は脈動を伴ういわば脈動流であるところ、このガス流路構造体１０においては、ガス流の脈動に起因する、第１室Ｓ１内を流通されるガスのガス圧力Ｐ１と、第２室Ｓ２内を流通されるガスのガス圧力Ｐ２（＜Ｐ１）との圧力差に応じて、図２に示すように、可撓性隔膜１５が弾性的に変形して第１室Ｓ１および第２室Ｓ２の容積が相互に経時的に変化する。この第１室Ｓ１の容積および第２室Ｓ２の容積の相互の経時的な変化によって、第１室Ｓ１および第２室Ｓ２の両者の圧力Ｐが均等化されるため、ガスポンプによって供給されるガス流の脈動が軽減される。
【００２７】
図３は、本発明のガス流路構造を備えた流量センサの一例における構成を示す外観図である。図４は、図３におけるＡ−Ａ線断面図、図５は、図３におけるＢ−Ｂ線断面図、図６は、図３におけるＣ−Ｃ線断面図である。以下においては、便宜上、図３における上下方向を「高さ方向」、図３における左右方向を「横方向」、図５における上下方向を「縦方向」というものとする。
この流量センサ２０は、ガス流路形成部材３０および当該ガス流路形成部材３０を介して供給されるガスの流量検出手段４０が筐体２１内に配置されて構成されている。
【００２８】
筐体２１は、上方が開口する矩形箱状のケーシング本体２２と、ケーシング本体２２に係合されて装着されることにより内部に密閉空間を形成するカバー部材２５とにより構成されている。
ケーシング本体２２には、管状のガス導入用ニップル部２３ａおよび管状のガス排出用ニップル部２４ａが互いに近接した位置において同方向（下方向）に延びるよう並んで形成されており、これにより、ガス導入部２３およびガス排出部２４が形成されている。
カバー部材２５における上壁の内面には、後述するガス流路形成部材３０におけるガス流過室形成空間部に対応する所定領域を囲んで凹部を形成する突条２６が形成されている。
【００２９】
流量検出手段４０は、例えばＭＥＭＳ式フローセンサ素子（熱式センサ素子）を備えた構成とされている。具体的には、流量検出手段４０は、例えば、チップ状のセンサ素子４１がケーシング本体２２内に配置されたセンサ基板４２上に実装されて構成されている。
【００３０】
センサ基板４２上には、シート状パッキン４５が配置されており、このシート状パッキン４５を介して、ガス導入用開口５１およびガス排出用開口５２を有する中板５０がセンサ基板４２に沿って延びるよう配置されている。
【００３１】
シート状パッキン４５には、センサ素子４１に対応する位置に貫通孔が形成されていると共に、下面側にセンサ素子４１の周囲を囲むリブ部４６が形成されている。
また、シート状パッキン４５の下面には、ケーシング本体２２におけるガス導入用ニップル部２３ａおよび管状のガス排出用ニップル部２４ａと、中板５０に形成されたガス導入用開口５１およびガス排出用開口５２とを気密に接続する筒状部（図示せず）が形成されている。
【００３２】
中板５０は、シート状パッキン４５と対接される下面が例えば平坦面とされており、上面には、後述するガス流路形成部材３０におけるガス流過室形成空間部に対応する所定領域を囲んで凹部を形成する突条５４が形成されている。ガス導入用開口５１およびガス排出用開口５２は、互いに異なる凹部に位置されている。
また、中板５０には、ガス流路形成部材３０によって形成されるガス導入部２３からガス排出部２４に至るガス流路に流れるガスの一部をセンサ素子４１に供給するためのバイパス流路５５が形成されている。バイパス流路５５のガス入口５６およびガス出口５７は、互いに異なる凹部に形成されている。この例では、中板５０におけるガス排出用開口５２が形成された凹部と連通する凹部にバイパス流路５５のガス出口５７が形成されており、当該ガス出口５７が形成された凹部と連通する凹部にバイパス流路５５のガス入口５６が形成されている。
【００３３】
この例のガス流路形成部材３０は、図７に示すように、角筒状の基体３１の内部空間が可撓性隔膜３２によって上下に区画されており、さらに可撓性隔膜３２の下方側の空間部（第１室形成用空間部Ｓ１´）および可撓性隔膜３２の上方側の空間部（第２室形成用空間部Ｓ２´）の各々が区画壁３５によって複数のガス流過室形成用空間部Ｓａ〜Ｓｉに区画されている。
ガス流路形成部材３０の構成について具体的に説明すると、第１室形成用空間部Ｓ１´は、図７（ａ）に示すように、４つのガス流過室形成用空間部Ｓａ，Ｓｇ，Ｓｈ，Ｓｉに区画されている。中板５０におけるガス導入用開口５１が形成された凹部に対応する第１ガス流過室形成用空間部Ｓａは、四周が囲まれて他の３つのガス流過室形成用空間部Ｓｇ，Ｓｈ，Ｓｉとは隔離された状態とされている。他の３つのガス流路室形成用空間部Ｓｇ，Ｓｈ，Ｓｉは連通状態とされている。一方、第２室形成用空間部Ｓ２´は、図７（ｂ）に示すように、第１室形成用空間部Ｓ１´における複数のガス流過室形成用空間部の配置パターンに対応した５つのガス流過室形成用空間部Ｓｂ〜Ｓｆに区画されており、各々のガス流過室形成用空間部Ｓｂ〜Ｓｆは連通状態とされている。そして、可撓性隔膜３２における、第１ガス流過室形成用空間部Ｓａを画成する部分、および、第１ガス流過室形成用空間部Ｓａに縦方向に隣接するガス流過室形成用空間部Ｓｇを画成する部分には、可撓性隔膜３２の厚み方向に貫通して延びる連通孔３６ａ，３６ｂが形成されており、これにより、第１室形成用空間部Ｓ１´と第２室形成用空間部Ｓ２´とを連通させる連通路が形成されている。
【００３４】
ガス流路形成部材３０は、基体３１における下方側開口縁部および区画壁３５の下端縁部が中板５０における突条５４間に形成された溝に嵌合されると共に、基体３１における上方側開口縁部および区画壁３５の上端縁部がカバー部材２５における突条２６間に形成された溝に嵌合された状態で、カバー部材２５と中板５０とによって挟圧されて保持されている。これにより、ガス流路形成部材３０の下方側開口および上方側開口が中板５０およびカバー部材２５の上壁によって気密に閉塞されて複数のガス流過室Ｃ１〜Ｃ９が形成されると共に、ガス導入部２３から各々のガス流過室Ｃ１〜Ｃ９に順次にガスが流通されてガス排出部２４に至る一の連続したガス流路が形成される。この例においては、各々のガス流過室Ｃ１〜Ｃ９の容積は、例えば互いに異なる大きさとされている。
【００３５】
２つのガス流過室を連通させるための連通用開口は、その開口面積の、当該２つのガス流過室が互いに対向する領域の面積に対する比（開口比）が例えば１０％〜３０％となる大きさの範囲内とされていることが好ましい。このような構成とされていることにより、流量センサ内での流量負荷を軽減することができる。
【００３６】
このガス流路形成部材３０は、デュロメータＡ硬度が４０以下であるゴム材料により構成されており、基体３１、可撓性隔膜３２および区画壁３５が一体的に形成されている。
可撓性隔膜３２の厚みは、上述したように、例えば０．３ｍｍ以下であることが好ましい。また、区画壁３５の厚みは、例えば０．６ｍｍ以下とされていることが好ましい。
【００３７】
上記の流量センサ２０は、例えば、縦方向の寸法が約１５ｍｍ、横方向の寸法が約１４ｍｍ、高さ方向の寸法が約１０ｍｍ程度の小型のものとして構成することができる。
【００３８】
上記の流量センサ２０は、ガスポンプがガス導入部２３に配管接続されて用いられても、ガス排出部２４に配管接続されて用いられても、いずれであってもよい。
【００３９】
而して、上記の流量センサ２０においては、ガスポンプによって供給されるガスは、ガス導入部２３から第１ガス流過室Ｃ１に流入する。第１ガス流過室Ｃ１に流入したガスは、可撓性隔膜３２に形成された連通孔３６ａを介して第２ガス流過室Ｃ２に流入し、可撓性隔膜３２の上方側に位置される第２室Ｓ２における第２ガス流過室Ｃ２、第３ガス流過室Ｃ３、第４ガス流過室Ｃ４、第５ガス流過室Ｃ５および第６ガス流過室Ｃ６を順次に流通する。第６ガス流過室Ｃ６に流入したガスは、可撓性隔膜３２に形成された連通孔３６ｂを介して、可撓性隔膜３２の下方側に位置される第１室Ｓ１における第７ガス流過室Ｃ７に流入する。第７ガス流過室Ｃ７に流入したガスは、連通口を介して第８ガス流過室Ｃ８に流入すると共に一部のガスがバイパス流路５５のガス入口５６に流入し、センサ素子４１によってガス流量が検出される。バイパス流路５５に流入したガスは、センサ素子４１の表面に沿って流通し、バイパス流路５５のガス出口５７から第８ガス流過室Ｃ８に流入する。第８ガス流過室Ｃ８に流入したガスは、第９ガス流過室Ｃ９に形成されたガス排出用開口５２を介してガス排出部１３より排出される。
【００４０】
而して、ガスポンプから供給されるガス流は脈動を伴ういわば脈動流であるところ、上記の流量センサ２０においては、各々のガス流過室Ｃ１〜Ｃ９内を流通されるガスのガス圧力差に応じて、隣接するガス流過室を区画する可撓性隔膜３２および区画壁３５が弾性的に変形して各々のガス流過室Ｃ１〜Ｃ９の容積が相互に経時的に変化する。従って、上記の流量センサ２０によれば、複数のガス流過室Ｃ１〜Ｃ９の各々の容積の相互の経時的変化によって、すべてのガス流過室Ｃ１〜Ｃ９の圧力が均等化されるため、流量負荷を増大させることなく、ガスポンプによって供給されるガス流の脈動を軽減することができ、ガス流量を安定して、しかも高い精度で測定することができる。また、流量センサ２０内に形成されるガス流路を大きくする必要がないので、流量センサ２０自体を小型のものとして構成することができる。
【００４１】
また、上記の流量センサ２０においては、センサ素子４１が中板５０の下面側に位置されており、ガスがバイパス流路５５を介して供給される構成とされている。このため、センサ素子４１がガス流路を流通される主となるガス流に直接的に曝されないので、センサ素子４１の信頼性を向上させることができる。
【００４２】
以下、本発明の効果を確認するために行った実験例について説明する。
【００４３】
〔ガス流路構造体の作製例１〕
図３に示す流量センサにおけるガス流路形成部材（３０）が、当該ガス流路形成部材（３０）の上方側開口および下方側開口が気密に閉塞されるよう、筐体内に収容されてなるガス流路構造体（以下、「ガス流路構造体Ａ」という。）を作製した。ガス流路構造体６０におけるガス流路形成部材（３０）の構成を以下に示す。なお、ガス流路構造体６０における筐体には、ガス導入用ニップル部を第１ガス流過室に連通するよう設け、ガス排出用ニップル部を第９ガス流過室に連通するよう設けた。
〔ガス流路形成部材（３０）〕
材質：シリコーンゴム、デュロメータＡ硬度：３０
寸法：５．７ｍｍ×１１．４ｍｍ×１０．２ｍｍ（縦方向×横方向×高さ方向）
２層構造、形成されるガス流過室の数：９つ
可撓性隔膜（３２）の厚み：０．３ｍｍ
区画壁（３５）の厚み：０．６ｍｍ
連通孔（３６ａ，３６ｂ）の開口径：φ２ｍｍ
ガス流過室を連通させる連通用開口の開口比：１９〜２６％の範囲内
形成されるガス流過室（ガス流路）の総容積：約０．４ｃｃ（ガスポンプの１周期あたりのガスの引き込み量との差：０．２ｃｃ（最大））
各ガス流過室の容積：０．０３〜０．０６ｃｃの範囲内
【００４４】
〔ガス流路構造体の作製例２〕
図１に示す構成に従って、筐体の内部空間が可撓性隔膜によって第１室および第２室の２つのガス流過室に区画され、可撓性隔膜に第１室と第２室を連通させる連通孔が形成されてなるガス流路構造体（以下、「ガス流路構造体Ｂ」という。）を作製した。可撓性隔膜の材質は、シリコーンゴム（デュロメータＡ硬度：３０）であり、厚みは０．３ｍｍである。第１室と第２室は、容積が互いに同一の大きさであって、第１室と第２室の総容積は、約０．４ｃｃである。
【００４５】
＜実験例１＞
上記において作製したガス流路構造体Ａを用い、図８に示すようなガス流の脈動測定システムを構築した。図８において、６１は流量調整用のニードルバルブ、６２はガスポンプ、６０はガス流路構造体Ａ、６３は圧力計、６４はオシロスコープである。ガスポンプ６２としては、１周期あたりのガスの引き込み量（押込み量）が約０．２ｃｃであるダイヤフラム式モータポンプを用いた。
この脈動測定システムにおいて、常温常圧環境下にて空気を５００ｃｃ／ｍｉｎの流量で流通させたときの、ガス流量構造体Ａから排出されるガス流の脈動の程度を調べたところ、上記の脈動測定システムにおいて、ガス流路構造体Ａを設けない場合におけるオシロスコープ（６４）に出力された電圧波形における電圧値のＰｅａｋ−Ｐｅａｋ（最大値と最小値との差）の大きさに対して、電圧値のＰｅａｋ−Ｐｅａｋ（最大値と最小値との差）の大きさを約３０〜３５％程度低減することができることが確認された。
【００４６】
＜実験例２＞
ガス流路構造体Ａに代えて、ガス流路構造体Ｂを用いたことの他は実験例１と同様にして、ガス流量構造体Ｂから排出されるガス流の脈動の程度を調べたところ、ガス流路構造体Ａを設けない場合における電圧値のＰｅａｋ−Ｐｅａｋ（最大値と最小値との差）の大きさに対して、電圧値のＰｅａｋ−Ｐｅａｋ（最大値と最小値との差）の大きさを約２０〜６０％程度低減することができることが確認された。
【００４７】
＜参考実験例１＞
ガス流路構造体Ａに代えて、容積が１０ｃｃであるバッファをガス流路に設けたことの他は、実験例１と同様にして、ガス流の脈動の程度を調べたところ、ガス流路構造体Ａを設けない場合における電圧値のＰｅａｋ−Ｐｅａｋ（最大値と最小値との差）の大きさに対して、電圧値のＰｅａｋ−Ｐｅａｋ（最大値と最小値との差）の大きさを約３０％程度低減することができることが確認された。
【００４８】
以上の結果に示されるように、実験例１に係るガス流路構造体Ａによれば、小型のものでありながら、参考実験例１に係る容積比が１０倍のバッファを用いた場合と同等以上の脈動軽減効果を安定して得ることができることが確認された。
また、実験例２の結果から明らかなように、少なくとも２つのガス流過室を備えたガス流路構造体であれば、ガス流の脈動軽減効果が得られることが確認された。
【符号の説明】
【００４９】
１０    ガス流路構造体
１１    筐体
１２    ガス導入部
１３    ガス排出部
１５    可撓性隔膜
１６    連通孔
２０    流量センサ
２１    筐体
２２    ケーシング本体
２３ａ  ガス導入用ニップル部
２３    ガス導入部
２４ａ  ガス排出用ニップル部
２４    ガス排出部
２５    カバー部材
２６    突条
３０    ガス流路形成部材
３１    基体
３２    隔膜
３５    区画壁
３６ａ  連通孔
３６ｂ  連通孔
４０    流量検出手段
４１    センサ素子
４２    センサ基板
４５    シート状パッキン
４６    リブ部
５０    中板
５１    ガス導入用開口
５２    ガス排出用開口
５４    突条
５５    バイパス流路
５６    ガス入口
５７    ガス出口
６０    ガス流路構造体
６１    ニードルバルブ
６２    ガスポンプ
６３    圧力計
６４    オシロスコープ
Ｃ１〜Ｃ９  ガス流過室
Ｓ１    第１室
Ｓ１´  第１室形成用空間部
Ｓ２    第２室
Ｓ２´  第２室形成用空間部
Ｓａ〜Ｓｉ  ガス流過室形成用空間部
【図１】
0006650831.tif 000002
【図２】
0006650831.tif 000003
【図３】
0006650831.tif 000004
【図４】
0006650831.tif 000005
【図５】
0006650831.tif 000006
【図６】
0006650831.tif 000007
【図７】
0006650831.tif 000008
【図８】
0006650831.tif 000009