(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射放出プラズマを生成するよう構成される放射システムであって、
プラズマ形成領域に燃料ターゲットを供給するよう構成される燃料放出器と、
前記プラズマ形成領域にて前記燃料ターゲットに入射する第１レーザビームを提供して放射放出プラズマを生成させるよう構成される第１レーザと、
前記プラズマ形成領域における放射放出プラズマの第１画像であって、放射放出プラズマの画像特性を示す第１画像を取得するよう構成される撮像装置と、
前記第１画像を受信するよう構成され、デブリの悪影響を低減するために放射システムの構成要素の動作を変更させる命令を放射放出プラズマの画像特性に基づいて生成するよう構成される制御部と、を備え、
前記画像特性は、放射放出プラズマの強度プロファイルから決定される放射放出プラズマの生成に起因するデブリの量、および／または、放射放出プラズマの角度および楕円率から決定される放射放出プラズマの生成に起因するデブリの方向を含むことを特徴とする放射システム。
【請求項２】
放射放出プラズマを生成するよう構成される放射システムであって、
プラズマ形成領域に燃料ターゲットを供給するよう構成される燃料放出器と、
前記プラズマ形成領域にて前記燃料ターゲットに入射する第１レーザビームを提供して放射放出プラズマを生成させるよう構成される第１レーザと、
前記プラズマ形成領域における放射放出プラズマの第１画像であって、放射放出プラズマの画像特性を示す第１画像を取得するよう構成される撮像装置と、
前記第１画像を受信するよう構成され、デブリの悪影響を低減するために放射システムの構成要素の動作を変更させる命令を放射放出プラズマの画像特性に基づいて生成するよう構成される制御部と、を備え、
前記画像特性は、放射放出プラズマの生成に起因するデブリの量および／または方向を含むことを特徴とする放射システム。
【請求項３】
前記命令は、前記第１レーザビームと燃料ターゲットの間の相互作用を変化させるのに適することを特徴とする請求項１または２に記載の放射システム。
【請求項４】
前記命令は、前記第１レーザビームの第１レーザ特性を変更させるのに適した命令を含むことを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の放射システム。
【請求項５】
放射放出プラズマを生成するよう構成される放射システムであって、
プラズマ形成領域に燃料ターゲットを供給するよう構成される燃料放出器と、
前記プラズマ形成領域にて前記燃料ターゲットに入射する第１レーザビームを提供して放射放出プラズマを生成させるよう構成される第１レーザと、
前記プラズマ形成領域における放射放出プラズマの第１画像であって、放射放出プラズマの画像特性を示す第１画像を取得するよう構成される撮像装置と、
前記第１画像を受信するよう構成され、デブリの悪影響を低減するために放射システムの構成要素の動作を変更させる命令を放射放出プラズマの画像特性に基づいて生成するよう構成される制御部と、
前記第１レーザビームが前記燃料ターゲットに入射する前に前記燃料ターゲットに入射する第２レーザビームを提供して前記燃料ターゲットの燃料特性を変化させるよう構成される第２レーザと、を備え、
前記命令は、前記第２レーザビームの第２レーザ特性を変更させるのに適した命令を含むことを特徴とする放射システム。
【請求項６】
プラズマ形成位置における放射放出プラズマの第２画像を取得するよう構成される第２撮像装置をさらに備え、
前記制御部は、前記第２画像を受信するよう構成され、前記第１画像および前記第２画像から放射放出プラズマの画像特性を決定するよう構成されることを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の放射システム。
【請求項７】
第１撮像装置は、第１平面の画像を取得するよう構成され、第２撮像装置は、前記第１平面と実質的に直交する第２平面の画像を取得するよう構成される請求項６に記載の放射システム。
【請求項８】
前記命令は、放射放出プラズマの生成により生成されるデブリの量の最小化させるのに適することを特徴とする請求項１から７のいずれか一項に記載の放射システム。
【請求項９】
放射放出プラズマを生成するよう構成される放射システムであって、
プラズマ形成領域に燃料ターゲットを供給するよう構成される燃料放出器と、
前記プラズマ形成領域にて前記燃料ターゲットに入射する第１レーザビームを提供して放射放出プラズマを生成させるよう構成される第１レーザと、
前記プラズマ形成領域における放射放出プラズマの第１画像であって、放射放出プラズマの画像特性を示す第１画像を取得するよう構成される撮像装置と、
前記第１画像を受信するよう構成され、デブリの悪影響を低減するために放射システムの構成要素の動作を変更させる命令を放射放出プラズマの画像特性に基づいて生成するよう構成される制御部と、
前記撮像装置が第１画像を取得するときに前記プラズマ形成領域を照明する第１照明放射を提供するよう構成される照明源と、を備え、
前記撮像装置は、前記第１画像の取得から所定時間後に前記放射放出プラズマの第２画像を取得するよう構成され、前記照明源は、前記撮像装置が前記第２画像を取得するときに第２照明放射を提供するよう構成され、
前記制御部は、放射生成プラズマから放出されるパーティクルのサイズ、速度および／または方向から選択される少なくとも一つを決定するために前記第１画像および前記第２画像を処理するよう構成され、
前記命令の生成は、放射生成プラズマから放出されるパーティクルの決定されたサイズ、速度および／または方向に基づくことを特徴とする放射システム。
【請求項１０】
前記照明源は、照明レーザビームパルスを放出するよう構成されるレーザと、前記レーザビームパルスを調整して前記第１および第２照明放射を提供するよう構成される調整光学系とを備えることを特徴とする請求項９に記載の放射システム。
【請求項１１】
前記第１画像と前記第２画像を取得する間の前記所定時間は、約１０ｍｓ以下であり、前記制御部は、前記パーティクルにより散乱される光子の特性を前記第１画像および／または前記第２画像から決定することにより放射生成プラズマから放出されるパーティクルのサイズを決定するよう構成されることを特徴とする請求項９または１０に記載の放射システム。
【請求項１２】
放射システムにて放射放出プラズマを生成する方法であって、当該放射システムは、
プラズマ形成領域に燃料ターゲットを供給するよう構成される燃料放出器と、
前記プラズマ形成領域にて前記燃料ターゲットに入射する第１レーザビームを提供して放射放出プラズマを生成するよう構成される第１レーザと、
前記プラズマ形成領域における放射放出プラズマの画像であって、放射放出プラズマの画像特性を示す画像を取得するよう構成される撮像装置と、
制御部と、を備え、
当該方法は、前記制御部にて、
放射放出プラズマの第１画像を受信することと、
デブリの悪影響を低減するために放射システムの構成要素の動作を変更させる命令を放射放出プラズマの画像特性に基づいて生成することと、を備え、
前記画像特性は、放射放出プラズマの生成に起因するデブリの量および／または方向を含むことを特徴とする方法。
【請求項１３】
請求項１から１１のいずれか一項に記載の放射システムを備えることを特徴とするリソグラフィツール。
【請求項１４】
放射放出プラズマを生成するよう構成される放射源であって、当該放射源はプラズマ形成領域にてレーザビームを受けるよう構成されており、
プラズマ形成領域に燃料ターゲットを供給するよう構成される燃料放出器と、
プラズマ形成領域における放射放出プラズマの第１画像であって、放射放出プラズマの画像特性を示す第１画像を取得するよう構成される撮像装置と、
前記第１画像を受信するよう構成され、デブリの悪影響を低減するために放射システムの構成要素の動作を変更させる命令を放射放出プラズマの画像特性に基づいて生成するよう構成される制御部と、を備え、
前記画像特性は、放射放出プラズマの生成に起因するデブリの量および／または方向を含むことを特徴とする放射源。
【請求項１５】
放射放出プラズマの画像特性を示す放射放出プラズマの第１画像を受信することと、
デブリの悪影響を低減するために放射システムの構成要素の動作を変更させる命令を放射放出プラズマの画像特性に基づいて生成することと、をコンピュータに実行させるのに適したコンピュータに読取可能な命令を保持し、
前記画像特性は、放射放出プラズマの生成に起因するデブリの量および／または方向を含むことを特徴とする非一時的なコンピュータ可読媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
［関連出願へのクロスリファレンス］
本出願は、２０１３年１１月１５日に出願された米国仮出願第６１／９０４，８７２号、２０１４年５月２２日に出願された米国仮出願第６２／００２，０５１号の利益を主張し、その全体が参照により本書に援用される。
【０００２】
本発明は、放射を生成する方法およびシステムに関する。
【背景技術】
【０００３】
リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板上に与えるよう構成される機械である。リソグラフィ装置は、例えば、集積回路（ＩＣ）の製造に用いることができる。リソグラフィ装置は、例えば、パターニングデバイス（例えばマスク）からのパターンを基板上に設けられた放射感応性材料（レジスト）層に投影させうる。
【０００４】
リソグラフィ装置により用いられるパターンを基板上に投影するための放射の波長は、その基板に形成されることのできるフィーチャの最小サイズを決定する。ＥＵＶ放射（５−２０ｎｍの範囲内の波長を有する電磁放射である）を用いるリソグラフィ装置は、従来のリソグラフィ装置（例えば波長１９３ｎｍの電磁放射を用いるかもしれない）より小さなフィーチャを基板上に形成するために用いられうる。
【０００５】
ＥＵＶ放射は、ＥＵＶ生成プラズマを生成するよう構成される放射源を用いて生成されうる。ＥＵＶ生成プラズマは、例えば、放射源に含まれる燃料を励起することにより生成されうる。プラズマの生成に加えて、燃料の励起が燃料からの不必要な粒子状デブリの生成を生じさせるかもしれない。例えば、錫などの液体金属が燃料として用いられる場合、液体金属燃料の一部がＥＵＶ生成プラズマに変換されるであろう。しかしながら、液体金属燃料のデブリ粒子がプラズマ形成領域から高速で放出されるかもしれない。デブリは放射源に含まれる他の構成要素に入射するかもしれず、ＥＵＶ生成プラズマを生成するための、または、プラズマからのＥＵＶ放射ビームをリソグラフィ装置の他の構成要素に提供するための放射源の能力に影響を及ぼしうる。デブリは放射源を越えて進み、リソグラフィ装置の他の構成要素にも入射するかもしれない。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本書に記載される実施の形態の目的は、上述した課題の一以上を除去または軽減させることである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本書に記載される第１態様によれば、放射放出プラズマを生成するための放射システムが提供される。放射システムは、プラズマ形成領域に燃料ターゲットを供給するための燃料放出器と、プラズマ形成領域に第１レーザビームを提供し、使用中に第１レーザビームが燃料ターゲットに入射して放射放出プラズマを生成するように構成される第１レーザとを備える。放射システムはさらに、プラズマ形成領域における放射放出プラズマの第１画像であって放射放出プラズマの少なくとも一つの画像特性を示す第１画像を取得するよう構成される撮像装置と、制御部とを備える。制御部は、第１画像を取得し、少なくとも一つの画像特性に基づいて少なくとも一つの命令を生成するよう構成され、少なくとも一つの命令は、放射放出プラズマの生成に起因するデブリの悪影響を低減するために放射システムの少なくとも一つの構成要素の動作を変更させるのに適する。少なくとも一つの命令は、別の構成要素（少なくとも一つの構成要素など）に送信されてもよく、および／または、少なくとも一つの構成要素の動作変更を生じさせるために実行されてもよい。
【０００８】
このようにして、放射放出プラズマの生成に起因するデブリの悪影響が、燃料ターゲットおよび／またはデブリ自体の追跡および画像化ではなく、むしろプラズマの画像に基づいて低減されてもよい。このようにして、燃料ターゲットおよびデブリを追跡する複雑なシャドウグラフ技術の使用を避けることができる。このようなシャドウグラフ技術は、燃料ターゲットを背後から照明するための強力なレーザと、撮像装置、バックライトレーザおよび燃料ターゲットの同期を確実にする複雑なタイミング機構とを必要とする。少なくとも一つの画像特性は、放射放出プラズマの生成に基づくデブリの量および／または方向を含んでもよい。プラズマの画像から迅速かつ効果的に決定されうるプラズマの特性が、そのプラズマの生成中に放出されるデブリの特性の決定に用いられうることが分かっている。
【０００９】
少なくとも一つの命令は、第１レーザビームと燃料ターゲットの間の相互作用を変化させるのに適してもよい。第１レーザと燃料ターゲットの間の相互作用を制御することで、生成されたプラズマの特性がデブリの悪影響を低減させるために制御されてもよい。例えば、燃料ターゲットの大部分を第１レーザビームのビームウエスト内に位置させるようにレーザビームと燃料ターゲットの間の相互作用を変化させ、その結果、生成されるデブリの量を低減させてもよい。
【００１０】
少なくとも一つの命令は、燃料放出器が燃料ターゲットの燃料特性を変化させることとなる命令を含んでよい。例えば、この命令は、燃料放出器が燃料ターゲットの速度、進行方向、サイズおよび形状の一以上を変化させるようにしてもよい。燃料ターゲットの燃料特性およびプラズマのプラズマ特性が制御され、その結果、プラズマ生成中に放出されるデブリが制御され、所望の効果が実現されてもよい。
【００１１】
少なくとも一つの命令は、第１レーザビームの第１レーザ特性の制御に適した命令を含んでもよい。例えば、第１レーザはパルスレーザであってよく、第１レーザビームの第１レーザ特性は、パルスレーザの繰り返しレート、パルス長およびパルス形状（つまり、パルスの時間での強度プロファイル）を含んでもよい。追加的または代替的に、第１レーザビームの第１レーザ特性は、第１レーザビームのパワー、強度プロファイル、伝搬方向および／または位置を含んでもよい。
【００１２】
放射システムは、第１レーザビームが燃料ターゲットに入射する前に燃料ターゲットに入射する第２レーザビームを提供して燃料ターゲットの燃料特性を変化させるよう構成される第２レーザをさらに備えてもよい。第２レーザビームは、プリパルスと称されてもよい。少なくとも一つの命令は、第２レーザビームの第２レーザ特性の制御に適した命令を含んでもよい。
【００１３】
放射放出プラズマの少なくとも一つの画像特性は、放射放出プラズマの角度、強度および／または楕円率の少なくとも一つを含んでもよい。これらの特定の画像特性が第１撮像装置により生成される画像から容易かつ効果的に決定されうることが分かっている。特に、これら画像特性のそれぞれは、放射システムの構成要素を連続的に調整してデブリの悪影響の望ましい低減を実現するためのフィードバック制御ループに用いるのに十分なスピードで生成されうる。
【００１４】
放射システムは汚染トラップをさらに備えてもよく、少なくとも一つの命令は、汚染トラップに実質的に向かう方向にデブリを放出させるのに適した命令を含んでもよい。このようにして、汚染トラップは、デブリにより生じる悪影響の低減に最も効果的に用いられてもよい。追加的または代替的に、少なくとも一つの命令は、放射されたデブリの大部分を捕らえるよう汚染トラップの動作を変化させるのに適した命令を含んでもよい。例えば、汚染トラップが回転するフォイルトラップを備える場合、回転するフォイルトラップの回転速度が命令により調整されてもよい。
【００１５】
放射システムはさらに、プラズマ形成領域での放射放出プラズマの第２画像を取得するよう構成される第２撮像装置を備えてもよい。コンピュータ可読命令は、第２画像を受信すること、および、第１画像および第２画像から放射放出プラズマの少なくとも一つの特性を決定することに適した命令を含んでもよい。このようにして、プラズマ特性の決定がより正確になされてよく、その結果、より多く生成される命令がデブリの悪影響の低減に対してより効果的となってよい。
【００１６】
第１撮像装置は、第１平面の画像を取得するよう構成されてよく、第２撮像装置は、第１平面と実質的に直交する第２平面の画像を取得するよう構成されてもよい。第１撮像装置は、第１レーザビームの伝搬方向と実質的に平行であって燃料ターゲットの進行方向に対して４５度または２２５度の平面の画像を取得するよう構成されてもよい。第２撮像装置は、第１レーザビームの伝搬方向と実質的に平行であって燃料ターゲットの進行方向に対して−４５度または−２２５度の平面の画像を取得するよう構成されてもよい。
【００１７】
少なくとも一つの命令は、放射放出プラズマの生成により生成されるデブリの量を最小化させるのに適してもよい。
【００１８】
放射源はさらに、少なくとも一つの可動光学要素を有する集光アセンブリを備えてよい。命令は、少なくとも一つの可動光学要素の移動を生じさせるのに適してもよい。
【００１９】
第１撮像装置はＣＭＯＳであってよいが、いかなる適切な撮像装置が用いられてもよい。他の実施の形態において、撮像装置はアナログ撮像装置であってもよい。第１画像を受信することは、第１撮像装置から一以上のアナログ信号を受信することを含んでもよい。
【００２０】
制御部は、一以上の制御部を備えてもよい。制御部は、一以上の処理装置を用いて実装されてもよい。制御部は、第１画像を処理して第１画像に示される少なくとも一つの画像特定を決定するよう構成されるデジタルプロセッサを含んでもよい。代替的に、制御部（または複数の制御部）は、第１画像に応じたアナログ信号を生成するよう構成される一以上のアナログ構成要素を含んでもよい。
【００２１】
放射源はさらに、撮像装置が第１画像を取得するときに第１照明放射を提供してプラズマ形成領域を照明するよう構成される照明源を含んでもよい。撮像装置は、第１画像の取得から所定時間後に放射放出プラズマの第２画像を取得するよう構成されてもよいく、照明源は、撮像装置が第２画像を取得するときに第２照明放射を提供するよう構成されてもよい。制御部は、放射生成プラズマから放出されるパーティクルのサイズ、速度および方向の少なくとも一つを決定するために第１画像および第２画像を処理するよう構成されてもよい。前記少なくとも一つの命令を生成することは、放射生成プラズマから放出される前記パーティクルの前記決定されたサイズ、速度および方向の少なくとも一つに基づいてもよい。
【００２２】
照明源は、照明レーザビームパルスを放出するよう構成されるレーザと、レーザビームパルスを調整して第１および第２照明放射を提供するよう構成される調整光学系とを備えてもよい。レーザは、第１レーザビームおよび第２レーザビームの双方と異なる波長を有してもよい。
【００２３】
調整光学系は、前記第１および第２照明放射を平坦化して実質的に平面型の放射を提供するよう構成されてもよい。
調整光学系は、複数の平面を通じて第１および第２放射を回転させるよう構成されてもよい。例えば調整光学系は、単一の回転可能シリンドリカルレンズを含んでもよい。代替的に調整光学系は、複数の回転可能シリンドリカルレンズを含んでもよい。
【００２４】
照明源は、第１および第２照明放射のそれぞれが照明の体積（ボリューム）を備えるように構成されてもよい。
【００２５】
第１画像と第２画像を取得する間の所定時間は、約１０ｍｓ以下であってもよい。
【００２６】
制御部は、パーティクルにより散乱される光子の特性を第１画像および／または第２画像から決定することにより、放射生成プラズマから放出されるパーティクルのサイズを決定するよう構成されてもよい。
【００２７】
制御部は、前記決定された光子特性を球による電磁放射の散乱用のミー（Ｍｉｅ）の解を用いて処理することにより前記パーティクルのサイズを決定するよう構成されてもよい。
【００２８】
前記パーティクルの距離および速度の少なくとも一つを決定することは、第１画像および第２画像の相互相関をとって画像間でパーティクルが移動した距離を決定することを備えてもよい。パーティクルの速度を決定することは、決定された距離とともに第１画像と第２画像を取得する間の既知の時間に基づいて速度を決定することを備えてもよい。
【００２９】
距離および速度の少なくとも一つを決定することは、前記パーティクルの速度を決定するための速度測定技術を用いて第１画像および第２画像を処理することを備えてもよい。
【００３０】
本書に記載される第２態様によれば、放射システムにて放射放出プラズマを生成する方法が提供される。放射システムは、プラズマ形成領域に燃料ターゲットを供給するよう構成される燃料放出器と、プラズマ形成領域にて燃料ターゲットに入射する第１レーザビームを提供して放射放出プラズマを生成するよう構成される第１レーザと、プラズマ形成領域における放射放出プラズマの画像を取得するよう構成される画像装置とを備える。この方法は、放射放出プラズマの第１画像を受信し、画像から放射放出プラズマの少なくとも一つの画像特定を決定し、少なくとも一つの画像特性に基づいて少なくとも一つの命令を生成するためにコンピュータに読取可能な命令を制御部にて実行することを備え、少なくとも一つの命令は、デブリの悪影響を低減するために放射システムの少なくとも一つの構成要素を変更させるのに適する。
【００３１】
第３態様によれば、第１態様に係る放射システムを備えるリソグラフィツールが提供される。
【００３２】
第４態様によれば、放射放出プラズマを生成するための放射源が提供される。この放射源は、プラズマ形成領域にてレーザビームを受けるよう構成されており；プラズマ形成領域にて燃料ターゲットを供給するための燃料放出器と；プラズマ形成領域における放射放出プラズマの第１画像を取得するよう構成される撮像装置と；制御システムとを備える。制御システムは、第１画像を受信し；第１画像から放射放出プラズマの少なくとも一つの画像特性を決定し；デブリの悪影響を低減させるよう放射システムの少なくとも一つの構成要素の動作を変更させるための少なくとも一つの命令を放射放出プラズマの少なくとも一つの画像特性に基づいて生成し；少なくとも一つの命令を実行するよう構成される。
【００３３】
放射システムは、放射源が用いられる放射システムであってよい。例えば放射システムは、放射源と、プラズマ形成領域にレーザビームを提供するよう構成されるレーザとを備えてもよい。
【００３４】
第５態様によれば、放射放出プラズマの第１画像を受信することと；画像から放射放出プラズマの少なくとも一つの画像特性を決定することと；デブリの悪影響を低減させるよう放射システムの少なくとも一つの構成要素の動作を変更させるための少なくとも一つの命令を放射放出プラズマの少なくとも一つの画像特性に基づいて生成することと；少なくとも一つの命令を実行することと；をコンピュータに実行させるのに適したコンピュータに読取可能な命令を保持する非一時的なコンピュータ可読媒体が提供される。
【００３５】
本発明の態様は、適切なハードウェアおよび／またはソフトウェアによる方法を含む任意の都合のよい方法にて実装されることができることが理解されよう。代替的に、本発明の実施の形態を実現するためにプログラム可能な装置がプログラムされてもよい。したがって本発明はまた、本発明の態様を実現するのに適したコンピュータプログラムを提供する。このようなコンピュータプログラムは、非一時的な保持媒体（例えばハードディスク、ＣＤＲＯＭなど）および無形の保持媒体（通信信号など）を含む適切な保持媒体に保持されることができる。
【００３６】
本発明の一以上の態様は、本書に記載される任意の一以上の他の態様および／または本書に記載される一以上の任意の特徴と組み合わせられてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
本発明の実施の形態は、例示のみを目的として、以下の模式的な添付図面を参照しながら説明される。
【図１】本発明のある実施形態に係るリソグラフィ装置および放射源を備えるリソグラフィシステムを模式的に示す図である。
【図２】本発明のある実施形態に係る放射源の例を模式的に示す図である。
【図３】図２の制御部により処理されるプラズマの画像を示す図である。
【図４】本発明のある実施形態に係る代替的な放射源を模式的に示す図である。
【図５】本発明のある実施形態に係る代替的な放射源を模式的に示す図である。
【図６】本発明のある実施形態に係る代替的な放射源を模式的に示す図である。
【図７】本発明のある実施形態に係る代替的な放射源を模式的に示す図である。
【図８】図７の放射源の撮像システムを模式的に示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００３８】
図１は、本発明の一実施形態に係る放射源ＳＯを含むリソグラフィシステムを示す。リソグラフィシステムは、放射源ＳＯおよびリソグラフィ装置ＬＡを備える。放射源ＳＯは、極短紫外（ＥＵＶ）放射ビームＢを生成するよう構成される。リソグラフィ装置ＬＡは、照明システムＩＬ、パターニングデバイスＭＡ（例えばマスク）を支持するよう構成されるサポート構造ＭＴ、投影システムＰＳ及び基板を支持するよう構成される基板テーブルＷＴを備える。投影システムは、（マスクＭＡによりパターン化される）放射ビームＢを基板Ｗに投影するよう構成される。基板Ｗは、あらかじめ形成されたパターンを含んでもよい。この場合、リソグラフィ装置は、基板Ｗ上にあらかじめ形成されたパターンにパターン放射ビームＢを位置合わせする。
【００３９】
放射源ＳＯ、照明システムＩＬ及び投影システムＰＳのすべては、外部環境から分離されることができるように構築および構成されてもよい。大気圧より低い圧力のガス（例えば水素）が放射源ＳＯ内に設けられてよい。照明システムＩＬおよび／または投影システムＰＳに真空が設けられてもよい。大気圧よりも十分に低い圧力の少量のガス（例えば水素）が照明システムＩＬおよび／または投影システムＰＳに設けられてもよい。
【００４０】
照明システムＩＬは、ファセットフィールドミラー装置１０およびファセット瞳ミラー装置１１を含んでもよい。ファセットフィールドミラー装置１０およびファセット瞳ミラー装置１１は共に、所望の断面形状および所望の角度分布を持つ放射ビームを提供する。放射ビームＢは、照明システムＩＬを通過し、サポート構造ＭＴにより保持されるパターニングデバイスＭＡに入射する。パターニングデバイスＭＡは、放射ビームＢを反射してパターンを付与する。照明システムＩＬは、ファセットフィールドミラー装置１０およびファセット瞳ミラー装置１１に加えて又は代えて、他のミラーまたは装置を含んでもよい。
【００４１】
パターニングデバイスＭＡからの反射に続いて、パターン放射ビームＢは投影システムＰＳに入射する。投影システムは、放射ビームＢを基板テーブルＷＴにより保持される基板Ｗに投影するよう構成される複数のミラーを備える。投影システムＰＳは、放射ビームに縮小係数を適用してもよく、パターニングデバイスＭＡ上の対応するフィーチャよりも小さなフィーチャを持つ像を形成してもよい。例えば、４の縮小係数が適用されてもよい。図１では投影システムＰＳが二つのミラーを有するが、投影システムが任意の数のミラー（例えば六つのミラー）を含んでもよい。
【００４２】
図２には、放射源ＳＯの例が示される。図２に示す放射源ＳＯは、レーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）源とも称される種類のものである。例えばＣＯ２レーザでありうるレーザ１は、燃料放出器３から供給されるスズ（Ｓｎ）などの燃料にエネルギーをレーザビーム２を介して蓄積させるよう構成される。レーザは、パルス、連続波もしくは擬似連続波レーザであってもよく、または、これらのレーザとなる態様で動作してもよい。燃料放出器から放出される燃料の軌道は、図３に付されるｘ軸に平行である。レーザビーム２は、ｘ軸に直交するｙ軸と平行な方向に進行する。ｘ軸及びｙ軸の双方に直交するｚ軸は、おおよそ紙面に入る（または出る）方向に延びる。
【００４３】
スズ燃料が以下の記載にて示されるが、任意の適切な燃料が用いられてよい。燃料は、例えば液状であってもよく、例えば金属または合金であってもよい。燃料放出器３は、液滴３’の形態で示されるスズをプラズマ形成領域４に向かう軌道に沿って案内するノズルを備えてもよい。レーザビーム２はプラズマ形成領域４にてスズに入射する。スズへのレーザエネルギーの蓄積は、プラズマ形成領域４にプラズマ７を形成する。ＥＵＶ放射を含む放射は、プラズマのイオンの脱励起および再結合の間、プラズマ７から放出される。
【００４４】
ＥＵＶ放射は、近法線入射放射コレクタ６（より一般的に法線入射放射コレクタと称されることもある）により収集および集光される。コレクタ５は、ＥＵＶ放射（例えば１３．５ｎｍなどの所望の波長を有するＥＵＶ放射）を反射させるよう構成される多層構造を有してもよい。コレクタ５は、二つの楕円焦点を有する楕円形の構造を有してもよい。以下に説明されるように、第１焦点はプラズマ形成領域４に位置してもよく、第２焦点は中間焦点６に位置してもよい。
【００４５】
レーザ１は、放射源ＳＯから分離されてもよい。この場合、レーザビーム２は、例えば適切な方向付けミラーおよび／またはビームエキスパンダおよび／または他の光学系を備えるビーム搬送システム（不図示）の助けにより、レーザ１から放射源ＳＯに向けて通過してもよい。レーザ１および放射源ＳＯは、ともに放射システムであるとみなされてもよい。
【００４６】
コレクタ５により反射される放射は、放射ビームＢを形成する。放射ビームＢは、点６に集光してプラズマ形成領域４の像を形成し、照明システムＩＬのための仮想放射源として機能する。放射ビームＢが集光する点６は、中間焦点と称されてもよい。放射源ＳＯは、中間焦点６が放射源の包囲構造９の開口８またはその近傍に位置するように構成される。
【００４７】
放射源ＳＯ（または放射システム）はさらに、プラズマ７の画像を取得するよう構成されるカメラ１０の形態の撮像装置を備える。カメラ１０は、ＣＣＤアレイまたはＣＭＯＳセンサを含んでもよいが、プラズマ７の画像の取得に適切ないかなる撮像装置が用いられてもよいことが理解されよう。カメラ１０がフォトディテクタに加えて他の光学素子を備えてもよいことが理解されるであろう。光学素子は、カメラ１０が近接画像および／または遠方画像を取得するために選択されてもよい。カメラ１０は、カメラがプラズマ７への視線を有することとなる放射源ＳＯの内部の任意の適切な場所に配置されてもよい。しかしながら、レーザビーム２および燃料放出器３から放出される燃料の双方の伝搬経路から離してカメラを配置することはカメラ１０の損傷を防ぐために必須かもしれない。カメラ１０は、プラズマ７の画像を接続部１２を介して制御部１１に提供するよう構成される。接続部１２は有線接続として図示されるが、接続部１２（および本書に記載される他のデータ接続）が有線または無線接続のいずれかとして実現されてもよいことが理解されよう。
【００４８】
制御部１１は、プラズマ７の受信画像を処理してプラズマ７の画像特性を示す少なくとも一つのパラメータを自動的に決定するよう構成される。図３は、ｘｙ平面内（基準として図２に軸が示される）におけるプラズマ７の画像７’を表し、これは制御部１１により処理されうる。カメラ１０は、ｘｙ平面とは異なる面内のプラズマ７を画像化するよう構成されてもよいことが理解されよう。例えば、プラズマ７の画像から制御部１１により生成されうる画像特性は、プラズマの（定義した座標系の軸に対する）角度、プラズマ７の強度プロファイルおよび／または楕円率を含んでもよい。例えば、燃料の進行方向（つまりｘ軸）に対する角度が図３に示されるが、他の軸に対する角度が同様に決定されてもよいことが直ちに理解されるであろう。画像７’は、極半径１５ａおよび赤道半径１５ｂを決定してプラズマ７の楕円率（または扁平度）を決定するように処理されてもよい。プラズマ７の強度プロファイルは、プラズマ７の対応する部分の強度を決定するために処理されうる画像７’を構成するピクセルの分析を通じて生成されてもよい。
【００４９】
一般に、制御部１１が任意の適切な方法により実現されてもよいことが理解されよう。例えば、制御部１１が一以上のデジタルプロセッサを備え、ＦＰＧＡ、ＡＳＩＣまたは適切にプログラムされた一般用途のコンピュータとして実現されてもよい。さらに、制御部１１におけるプラズマ画像の処理は、当業者であればすでに明らかであろう任意の画像処理技術を用いた任意の適切な方法により実行されてもよい。例えば、エッジ検出などの画像処理技術がプラズマ７の形状の検出に用いられてもよく、一方でノイズ低減のために画像平滑化技術が用いられてもよい。
【００５０】
画像特性は、放射システムの構成要素（例えば放射源ＳＯおよびレーザ１）に提供されるべき命令を生成するために用いられる。例えば画像特性は、プラズマ形成領域４から生じるデブリの特性を決定するために制御部１１に用いられてもよい。命令はその後、決定される特性に応じて放射システムの一以上の構成要素に提供されてもよい。例えば、プラズマ形成領域４から生じるデブリの量、方向および／または質（例えばパーティクルのサイズ、パーティクルの分布など）を決定するために画像特性が用いられてもよい。
【００５１】
つまり、カメラ１０により取得されるプラズマ画像から決定されうるように、プラズマ７の画像特性がプラズマ７から生じるデブリの画像特性の決定に適していることが分かっている。例えば、プラズマ７の強度プロファイルがプラズマ７により放出されるデブリの量を示すこと、及び、プラズマ７の楕円率および角度がデブリの進行方向を示すことが確立している。プラズマ形成領域４から生じるデブリの決定された画像特性に基づいて制御部１１により生成され、かつ、放射システムの構成要素に提供される命令は、デブリの一以上の悪影響を低減させるようにそれら構成要素を調整し、または、それら構成要素の動作を調整するために選択される命令であってもよい。悪影響は、例えば、放射源ＳＯ（例えばレンズ、ミラー、窓など）または放射源ＳＯより「下流」の装置の構成要素のいずれかにおける機械的、電気的または光学的にアクティブな構成要素にデブリが入射することを含む。
【００５２】
複数の例が本書に記載されるが、デブリの悪影響が任意の複数の方法を用いて低減されうること、および、本発明がいかなる特定の方法による低減に限定されないことが本書の教示から理解されよう。例えば、悪影響を低減することは、放出されるデブリの量を低減すること、放出されるデブリの方向を変えること、又は、パーティクルのサイズやパーティクルの分布といった放出されるデブリの別の属性を変えることを含んでよい。デブリの方向を変えることにより、例えばデブリ軽減装置（図２に不図示）の方向に進行する放出デブリの一部が増加してもよい。同様に、用いるデブリ軽減機構が最も効果的となる範囲内に実質的に留まるようにデブリ粒子のサイズおよび／または分布が制御されてもよい。
【００５３】
図２には、接続部１３によりレーザ１に接続される制御部１１が示される。制御部１１は、したがって、プラズマ７および／またはプラズマ形成領域４から生じるデブリについて決定される画像特性に応じてレーザビーム２のレーザ特性を調整するために接続部１３を通じてレーザ１に命令を提供してもよい。レーザ１を制御してレーザビーム２を調整することにより、レーザビーム２と燃料ターゲットの間の相互作用を変化させてもよい。例えば、燃料ターゲットにレーザビーム２が入射する方向および／または角度が調整されてもよい。このようにして、例えばレーザビーム２は、燃料ターゲットの表面上の異なる場所または異なる角度で燃料ターゲットに当たってもよい。制御されうるレーザビーム２のレーザ特性の別の例は、レーザビーム２のトータルパワーの変化、レーザビーム２の強度分布の変化（特にプラズマ形成領域４における）及びプラズマ形成領域４におけるレーザビーム２のサイズ／形状を含む。レーザビーム２がレーザパルスとなるようレーザ１がパルスレーザである場合、パルスの繰り返しレート、パルス長およびレーザパルスの時間に対する強度分布（パルス形状）を変化させるようにレーザ１が制御されてもよい。一方で、本書の教示に基づくレーザビーム２に対する他の変形は、当業者であれば明らかであろう。
【００５４】
レーザビーム２と燃料ターゲットの間の相互作用を制御することにより、結果として生成されるプラズマの特性が変わってよく、したがって、デブリの特性もまた変化する。例えば、レーザビーム２のビームウエストの範囲内となる燃料ターゲットの一部を増加させるために上述のようなレーザビーム２に対する調整が用いられてもよく、その結果、プラズマ７に変換される燃料ターゲットの部分が増大し、デブリとして生じる燃料ターゲットの部分が減少してもよい。
【００５５】
制御部１１はさらに、接続部１４を介して燃料放出器３に接続される。制御部１１はこのようにして、放射源ＳＯ内でのプラズマの生成したがってデブリを制御する追加の手段を備える。特に制御部１１は、形状、速度、サイズといった放出される燃料３’の特性を変えるために、燃料放出器３に命令を出力するよう構成されてもよい。燃料放出器３したがって燃料放出器のノズル（不図示）は、燃料放出器３に機械的に連結される少なくとも一つのアクチュエータ（不図示）により、放射源の他の構成要素に対して（特に放射コレクタに対して）可動であってもよい。例えば燃料放出器３は、制御部１１から受信する命令に応じて少なくとも一つのアクチュエータによりｙｚ平面内で可動であってもよい。一方で、本発明の他の実施の形態において、燃料放出器３が追加的または代替的にｘ軸に平行な方向に可動であってもよいことが理解されよう。さらに、本発明の他の実施の形態において、燃料放出器３がｘ軸に対して傾けられてもよい。燃料放出器３により供給される燃料に対するさらなる調整は、ノズルの伸長、収縮または形状変化といった燃料放出器３のノズル（不図示）に対する調整によりなされてもよい。実際、プラズマ７の所望の特性を得るのに適切となるように燃料放出器３の任意の適切な特性が調整されてもよいことが理解されよう。
【００５６】
プラズマ７の特性を調整する際、その調整の効果は、カメラ１０により撮像され、それに基づいて追加の調整を実行しうる制御部１１に与えられる。したがって制御部１１は、カメラ１０からのプラズマ７の条件の変化を示すフィードバックに応じてプラズマ７の特性が繰り返し制御されうる制御ループを確立する。
【００５７】
図４は、別の実施の形態に係るレーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）放射源ＳＯを含む放射システムを模式的に示し、図２に示す放射源に対する代替的な構成を有する。図４の放射源ＳＯの構成要素が図２の放射源ＳＯと同等の構成要素を有する場合、同様の符号が用いられる。図４の放射源ＳＯは、プラズマ形成領域４に燃料を届けるよう構成される燃料放出器３を含む。上述のように、燃料はスズ液滴の形態で提供されてもよいが、任意の適切な材料または形態の燃料が用いられてもよい。プリパルスレーザ１６は、燃料に入射するプリパルスレーザビーム１７を出力する。プリパルスレーザビーム１７は、燃料を予熱するよう機能し、その結果、サイズ、形状および／または軌道といった燃料特性を変化させる。メインレーザ１８は、プリパルスレーザビーム１７の後に燃料に入射するメインレーザビーム１９を出力する。メインレーザビーム１８は、燃料にエネルギーを届け、その結果、燃料をＥＵＶ放射放出プラズマ７に変換させる。
【００５８】
いわゆる斜入射型（かすり入射型）コレクタでありうる放射コレクタ２０は、ＥＵＶ放射を収集してＥＵＶ放射を中間焦点と称されうる点６に集光させるよう構成される。したがって、放射放出プラズマ７の像は、中間焦点６に形成される。放射源ＳＯの筐体構造２１は、中間焦点６またはその近傍に位置する開口２２を含む。ＥＵＶ放射は、開口２２を通過して（例えば図１に模式的に示す形態の）リソグラフィ装置の照明システムに向かう。
【００５９】
放射コレクタ２０は、（例えば模式的に図示されるような）複数の斜入射型反射器２３，２４および２５を持つ入れ子型（ネスト型）コレクタであってもよい。斜入射型反射器２３，２４および２５は、光軸Ｏの周りに軸対称に設けられてもよい。図示する放射コレクタ２０は単なる例示であり、他の放射コレクタが用いられてもよい。
【００６０】
汚染トラップ２６は、プラズマ形成領域４と放射コレクタ２０の間に位置する。汚染トラップ２６は、例えば回転フォイルトラップまたは任意の他の適切な形態の汚染トラップであってもよい。いくつかの実施の形態において、汚染トラップ２６が省略されてもよい。
【００６１】
放射源ＳＯの筐体２１は、プラズマ形成領域４に向かうプリパルスレーザビーム１７が通過可能な窓２７と、プラズマ形成領域に向かうメインレーザビーム１９が通過可能な窓２８とを含む。ミラー２９は、汚染トラップ２６の開口を通じてプラズマ形成領域４にメインレーザビーム１９を向けるために用いられる。
【００６２】
図２の実施の形態のように、図４の放射源ＳＯはさらにプラズマ７の画像を取得するよう構成されるカメラ１０を備える。カメラ１０は、プラズマ７の画像を接続部１２を通じて制御部１１に伝送するよう構成される。制御部１１は、受信した画像を処理してプラズマ７の一以上の画像特性を自動的に決定し、放射システムの一以上の構成要素に命令を提供するよう構成される。具体的に制御部１１は、図２のレーザ１および燃料放出器３を参照して上述したように、メインレーザ１８および燃料放出器３に命令が提供されるようメインレーザ１８および燃料放出器３と接続される。
【００６３】
カメラ１０から受信したプラズマ７の画像に応じて制御部１１が放射源ＳＯの任意の適切な構成要素に命令を提供してもよいことが理解されよう。図４において、例えば制御部１１は、接続部３０を介してプリパルスレーザ１６に接続され、接続部３１を介して汚染トラップ２６と接続される。このようにして、例えば、メインレーザ１８の点火前に燃料の所望の変化が実現されるようにプリパルスレーザ１６が制御されることができる。このようにして、生成されるプラズマ７の特性、したがって、プラズマ７により放出されるデブリが調整されてもよい。同様に、制御部１１は汚染トラップ２６に命令を提供してもよい。例えば、汚染トラップ２６が複数の羽根を含む回転フォイルトラップを備える場合、回転速度および／または回転フォイルトラップ内の羽根の角度を調整するために命令が提供されてもよい。このようにして、制御部１１により動作する制御ループの一部として汚染トラップ２６が調整されデブリの悪影響を低減してもよい。
【００６４】
図５は、放射源ＳＯを含む放射システムのさらなる例を模式的に示す。図５の放射システムは、図１の放射源と同様に構成され、同様の構成要素には同様の符号が設けられる。具体的にレーザ１は、燃料放出器３から供給される燃料にレーザビーム２を介してエネルギーを蓄積させるよう構成される。レーザビーム２はプラズマ形成領域４にて燃料に入射する。燃料へのレーザエネルギーの蓄積はプラズマ形成領域４にプラズマ７を形成する。
【００６５】
図５の放射源ＳＯにおいて、集光アセンブリの構成要素がレーザ１とプラズマ形成領域４の間に模式的に示されている。具体的に、二つの固定式反射素子４０，４１および一つの可動式反射素子４２は全体として、レーザビーム２をプラズマ形成領域４に向けて方向付けて集光させる。図５の実施の形態において反射素子４０，４１は固定されているが、反射素子４０，４１もまた可動式であってよいことが理解されよう。実際、レーザビーム２をプラズマ形成領域４に向けて方向付けて集光させるために任意の適切な数の固定式反射素子および／または可動式反射素子が用いられてもよいことが理解されるべきである。さらに本発明の他の実施の形態では、レーザビーム２の集光に任意の適切な集光素子（つまり反射素子とは異なる）が用いられてもよい。
【００６６】
可動式反射素子４３は、放射を方向付ける装置（放射案内装置）の一部を形成する。放射案内装置の反射素子４３は、レーザビーム２の経路に位置する。放射案内装置はまた、反射素子４３に機械的に連結される少なくとも一つの反射器アクチュエータを備える。この場合、放射案内装置は、反射器４３に機械的に連結される二つの反射アクチュエータ４４，４５を備える。少なくとも一つの反射器アクチュエータ４４，４５の動きは、反射器４３の向きおよび／または位置をレーザビーム２の経路に対して変化させる。このようにして、各反射器アクチュエータ４４，４５は、レーザビーム２の集光位置が変化するようレーザビーム２に対して反射器４３の向きおよび／または位置を調整するために、駆動されることができる。
【００６７】
図４には二つの反射器アクチュエータ４４，４５が示されているが、他の実施の形態において任意の適切な数の反射器アクチュエータがあってもよい。さらにアクチュエータは、放射ビームの集光位置を変化させるであろう反射器の任意の適切な特性を変化させてもよいことが理解されよう。例えば、アクチュエータが反射器の形状を変化させてもよい。本実施の形態に係る放射案内装置は反射器４３を備えるが、他の実施の形態において、放射案内装置はレーザビーム２の集光位置を変えることのできる任意の適切な案内素子を備えてもよい。例えば、放射案内装置は、複数のレンズ素子を備えてもよく、各レンズ素子の特性が調整可能であってもよい。
【００６８】
図２および図４に模式的に示される実施の形態と同様に、図５の実施の形態において、カメラ１０はプラズマ７の画像を取得するよう構成される。カメラ１０は、接続部１２を介して制御部１１に接続される。制御部１１は、カメラ１０から受信したプラズマ７の画像を処理してプラズマ７に関する画像特性を決定するよう構成される。制御部１１は、決定した画像特性を用いて放射システムの構成要素に対する命令を生成する。具体的に制御部１１は、接続部１３を介してレーザ１と接続され、接続部１４により燃料放出器３と接続される。図５の実施の形態において、制御部１１はさらに接続部４６を介してアクチュエータ４４，４５に接続される。このようにして、制御部１１は、カメラ１０からのプラズマ７の画像特性の変化を示すフィードバックに応じて、レーザビーム２の伝搬を調整するための命令をアクチュエータ４４，４５に送信することができる。
【００６９】
図２、５および５に模式的に示される構成は単なる例示であり、図２、４または５の一つに示される特徴が図２、４および５の別の図に示される特徴と組み合わされてもよいことが理解されよう。例えば、図４の実施の形態が斜入射型コレクタ２０の代わりに近法線入射コレクタを用いてもよい。同様に、図２および図５の実施の形態が図４に示される汚染トラップ２６のような汚染トラップを備えてもよい。さらに、図２、４および５に示される各放射源ＳＯが図示されない構成要素を含んでもよい。例えば、スペクトルフィルタが放射源ＳＯに設けられてもよい。スペクトルフィルタは、実質的にＥＵＶ放射を透過する一方で赤外放射などの他の波長の放射を実質的に遮蔽してもよい。
【００７０】
図６は、本発明のある実施の形態に係る放射源ＳＯの別の例を模式的に示し、プラズマ７を撮像するために二つのカメラが用いられる。明確化のため、放射源ＳＯの多くの構成要素が図６の模式図から省略されている。一以上のレーザ、燃料放出器および集光アセンブリの構成要素といった放射源ＳＯ（及びそれが一部を担う放射システム）の図示されない特徴が任意の適切な態様で実現されてもよいことが理解されよう。例えば、図６の放射源ＳＯの不図示の構成要素は、図２、４または５に模式的に示される例の一つまたは組み合わせにしたがって構成されてもよい。
【００７１】
図６において、第１カメラ１０および第２カメラ５０は、放射源ＳＯの内部に設けられ、放射放出プラズマ７の画像を取得する。第１カメラ１０は第１平面のプラズマの画像を取得するよう構成される一方、第２カメラ５０は第２平面のプラズマの画像を取得するよう構成される。第２平面は実質的に第１平面に垂直であってもよい。図６に軸の例が示されており、この例から、第１カメラ１０がプラズマ７のｘｙ平面の画像を取得するよう構成される一方、第２カメラ５０がプラズマ７のｘｚ平面の画像を取得するよう構成されることが分かる。
【００７２】
第１カメラ１０は接続部１３を介して制御部１１に接続される一方、第２カメラ５０は接続部５１を介して制御部１１と接続される。第１カメラ１０と第２カメラ５０の双方は、プラズマ７の画像を制御部１１に送信するよう構成される。制御部１１は、第１カメラ１０および第２カメラ５０のそれぞれから受信した画像に基づいて、一以上の画像特性を計算するよう構成される。二つの平面でのプラズマ７の画像を提供することにより、プラズマ７の画像特性のより正確な指標を決定することが可能であり、その結果、プラズマ７の生成結果として放出されるデブリの画像特性のより正確な指標を決定することができる。例えば、実質的に直交する二つの平面での画像を提供することにより、デブリの方向が三つの空間次元で提供されてもよい。
【００７３】
制御部１１は、デブリの悪影響を緩和するために放射システムの一以上の他の構成要素（図６には不図示）に対する命令を提供するよう構成される。
【００７４】
上述の実施の形態において、制御部１１はデジタル制御器である。しかしながら、撮像装置および／または制御部がアナログの構成要素として実現されてもよいことが理解されよう。例えば、撮像装置は、アナログの区分されたフォトディテクタ（例えば、格子状および／または同心円状に分割されうる）を備えてもよい。区分されたフォトディテクタの各セグメントは、個別のアナログ信号を制御部に提供してもよい。一実施形態において、例えば撮像装置は、クワッドセル（四分割セル）フォトディテクタとして実装されてもよく、フォトディテクタの各セルごとに生成される信号に基づいてプラズマ７の楕円率が決定されてもよい。つまり、撮像装置から制御部１１に送信される信号の中にプラズマ７の楕円率といった特性が本来的に示されてもよい。
【００７５】
制御部は、撮像装置から受信するアナログ信号を処理するよう構成されるアナログ信号プロセッサを備えてもよい。この場合、制御部により生成される命令は、一以上の構成要素の制御に適したアナログ制御信号の形態を取ってもよい。したがって、実施の形態がデブリの悪影響を低減するために全体としてアナログの制御ループを備えてもよいことが理解されよう。
【００７６】
図７は、代替的な実施の形態を模式的に示す。具体的に図７の実施の形態は、粒子画像速度測定法（ＰＩＶ）および粒子追跡速度測定法（ＰＴＶ）といった速度測定方法に用いられるのと同様の技術を用いる。一般に速度測定技術は、観測下の流体に追跡粒子を散布することによって流体の流れに関する情報を得るために用いられる。追跡粒子はその後に追跡され、粒子が漂う流体の流れの特性を決定するために粒子の動きが用いられる。一方で本発明者らは、放射源ＳＯのプラズマ形成領域から生じるデブリについての情報を得るために同様の技術を用いることができ、（図２、４、５および６を参照しながら上述した実施の形態のように）デブリの低減および／またはデブリの悪影響の緩和のためにその情報を放射源ＳＯの構成要素のリアルタイムでの制御に用いることができることを理解している。
【００７７】
速度測定技術を用いて得られるデブリ粒子の方向および速度についての情報は、例えば各パーティクルからの光子のミー散乱に基づくパーティクルのサイズ情報により補われてもよい。
【００７８】
図７には放射源ＳＯが示される。図６と同様、明確化のため、放射源ＳＯの多くの構成要素は図示していない。一以上のレーザ、燃料放出器および集光アセンブリの構成要素といった放射源ＳＯ（及びそれが一部を担う放射システム）の図示されない特徴が任意の適切な態様で実現されてもよいことが理解されよう。例えば、図７の放射源ＳＯの不図示の構成要素は、図２、４または５に模式的に示される例の一つまたは組み合わせにしたがって構成されてもよい。
【００７９】
図７には照明源が設けられる。照明源６０は、プラズマ形成領域４を含みかつ囲む領域を照明するよう構成され、したがって、カメラ１０による撮像のためにプラズマ領域４から放出されるデブリ粒子を照明するよう構成される。図７の実施例において、照明源６０は、レーザ６１とともに調整光学系６２を備える。レーザ６１は、コヒーレントで低発散でパルスのレーザ放射を提供するよう構成される。プラズマ形成領域４から生じるパーティクルは高速で進行しうるため、レーザ６１により提供される各レーザパルスは短い時間だけ持続する。いくつかの実施の形態において、レーザパルスの幅は１０ｎｓより短くてもよい。
【００８０】
レーザ６１は、各燃料ターゲットにレーザビームパルスのペアを提供するよう動作可能であり、ペアの各パルスは立て続けに提供される。例えば、レーザ６１は、各パルス間の遅延が１０ｍｓ以下となるパルスのペアを提供するよう構成されてもよい。レーザ６１により提供される各レーザパルスは、同じ偏光を有してもよく、メイン（点火）レーザビームと、もしあれば（上述のような）プリパルスレーザビームの双方と異なる波長を有してもよい。このようにして、レーザ６１により提供されるレーザパルスと、メインまたはプリパルスレーザにより提供されるレーザビームとの間の有害な干渉が軽減されてもよい。
【００８１】
調整光学系６２は、レーザビームを調整して所望のパワー分布を持つレーザ照明を提供するよう構成される。いくつかの実施の形態において、調整光学系６２は、レーザビームを拡大するように構成される一式のレンズ（不図示）を備えてもよい。一式のレンズは球面レンズを備えてもよい。拡大されたレーザビームはその後、拡大されたレーザビームを圧縮してレーザ放射６３のシート状の照明放射を提供するよう構成されるシリンドリカルレンズ（不図示）に提供されてもよい。照明源６０は、１ｍＪから２００ｍＪのオーダのパワーを持つレーザビームパルスを提供してもよい。
【００８２】
他の実施の形態において、照明源が他の形態を取ってもよいことが理解されよう。例えば、レーザ放射が好ましいかもしれないが、他の実施の形態では、代替的な照明源が用いられてもよい。
【００８３】
カメラ１０は、プラズマが生成される間、プラズマ形成領域４の周辺の領域の画像を取得するよう構成される。しかしながら、いくつかの実施の形態において、レーザ放射のプリパルスが与えられる場合（図４を参照しながら説明した実施の形態のような場合）、カメラ１０が追加的または代替的に燃料液滴（および周辺領域）の画像をプリパルスが燃料ターゲットに入射する間に取得するよう構成されてもよい。このようにして、燃料ターゲットから排出されるデブリの測定がプリパルスとの相互作用の結果として決定されてもよい。カメラ１０は、レーザ６１により生成される放射の波長を有する放射に対して実質的に透明であり、かつ、プリパルスまたはメインレーザにより生成される放射の波長を有する放射に対して実質的に不透明である光ファイバ（不図示）を備えてもよい。このフィルタはまた、メインレーザにより形成されるプラズマからの放射を実質的に遮蔽してもよい。例えば、いくつかの実施の形態において、レーザ６１が波長５３２ｎｍのレーザビームを生成するよう構成され、５３２ｎｍのバンドバスフィルタが設けられてもよい。
【００８４】
図７の実施の形態において、カメラ１０は、それぞれが異なるフレームである二つの画像を取得するよう構成される。具体的にカメラ１０は、レーザ６１のパルスのペアの第１に対応する第１画像フレームを取得し、かつ、レーザ６１のパルスのペアの第２に対応する第２画像フレームを取得するよう構成される。したがって、図７の実施の形態において、カメラ１０がレーザ６１のパルス間の間隔と整合するよう立て続けに各画像フレームを取得できることが理解されよう。カメラ１０は、画像フレームのペアを取得するのに適した任意の形態を取ってもよく、いくつかの実施の形態においてＣＣＤカメラであってもよい。
【００８５】
照明源６０は、カメラ１０により各画像フレームが取得される時点にプラズマ形成領域４のｘｚ平面を照明するよう構成される。ｘｚ平面内のプラズマ形成領域から放出されるパーティクルは、カメラ１０により取得される各画像フレーム内で照明される。したがって、カメラ１０により取得される二つの画像フレームのそれぞれは、ｘｚ平面内で異なる時点にプラズマ形成領域４から放出されるデブリのスナップショットを提供する。
【００８６】
照明シート６３がｘｚ平面内にあるように記載される一方で、他の平面のデブリ粒子を撮像するように照明シート６３が任意の向きを取ってもよいことが理解されよう。いくつかの実施の形態において、調整光学系６２は、単一フレームの露光に含まれる複数の異なる平面にわたって照明シート６３が回転するのを可能にしてもよい。例えば、レーザ６１により提供される放射ビームを平坦化するためにシリンドリカルレンズが設けられる場合、シリンドリカルレンズが回転可能であってもよい。このような平面的な照明シートの回転は、スキャニングＰＩＶと称されてもよく、プラズマ形成領域の立体的表示を提供するために用いられてもよい。
【００８７】
例として、図８は、照明源６０およびカメラ１０のある実施の形態を模式的に示し、調整光学系６２が複数の角度にわたって放射シート６３を回転させるよう構成される。上述のように、レーザ６１はレーザ放射を調整光学系６２に提供する。調整光学系は、レーザ照射を直線上に集光させるよう構成される一以上のシリンドリカルレンズを備えてもよく、これにより照明シート６３を形成する。調整光学系６２はさらに、放射シート６３の光軸周りに一以上のシリンドリカルレンズを回転させるよう構成される回転手段を備える。
【００８８】
調整光学系６２の内部でのシリンドリカルレンズの回転は、その光軸周りでの放射シート６３の回転を生じさせ、これによりプラズマ形成領域４に含まれる複数の平面を照明する。カメラ１０は、調整光学系６２が放射シート６３を回転させる際に複数の二次元画像を取得するよう構成される。プラズマ形成領域４の三次元体積を全体でカバーする複数の二次元画像をカメラが取得できるよう、放射シート６３が１８０度にわたって回転されてもよいことが理解されよう。代替的に、放射シート６３が１８０度ではない所定の角度にわたって回転されてもよい。ある実施の形態において、放射シート６３が連続的回転であってもよく、したがって、３６０度にわたって回転してもよい。
【００８９】
プラズマ形成領域４の内側でパーティクルを追跡するために二つの画像フレームが比較されることがより詳細に以下に記載される。調整光学系６２が複数の角度にわたって放射シート６３を回転させるよう構成される場合、比較されるのは、異なるレーザパルス期間のそれぞれに対応する時点に取得される画像フレームであり、単一レーザパルス（または同じ回転）の期間中に取得される画像フレームではない。例えば、第１レーザパルスの回転中に第１画像、第２画像および第３画像がカメラ１０により取得され、第２レーザパルスの間に第１画像、第２画像および第３画像が取得されうる場合、二つの第１画像が比較され、二つの第２画像が比較され、二つの第３画像が比較されうる。
【００９０】
ある実施の形態において、調整光学系６２は、燃料ターゲットの上流（つまり照明源６０の近く）のプラズマ形成領域４を貫通する直線上に放射ビームを集光させるよう構成される単一のシリンドリカルレンズを備える。このようにして、プラズマ形成領域４を貫通する放射シートが提供される。例えば、単一のシリンドリカルレンズが設けられる場合、照明放射は、概して円筒形状で放射源ＳＯの筐体構造に入射し、プラズマ形成領域の近傍の直線に向かって拡がる。
【００９１】
代替的な実施の形態において、二つのシリンドリカルレンズが調整光学系６２に設けられてもよく、二つのシリンドリカルレンズが同期して回転してもよい。シリンドリカルレンズは、レーザ６１に対する二つのシリンドリカルレンズの相対的な向きが回転中に変化しないように、ステージに実装されてもよいし、又は、一緒に連結されてもよい。二つのシリンドリカルレンズを設けることは、ソースＳＯの包囲構造に入射する前にレーザ放射をシート（またはカーテン）状に形成することを可能にする。このようにして、焦点深度が改善されてもよい。しかしながら、二つのシリンドリカルレンズが設けられる場合、ビューポートなどの光学要素が存在するソースの位置で放射シート６３の強度がより大きくなるかもしれない。これは、このような要素への光学的なダメージを生じさせるかもしれない。
【００９２】
任意の適切な機構を用いて一以上のレンズが回転されてもよいことが理解されよう。例えば、一以上のシリンドリカルレンズが調整光学系６２に含まれる回転ステージに実装されてもよい。回転運動を与えるために回転ステージにモータが接続されてもよい。
【００９３】
回転する放射シート６３を提供することにより、単一カメラを用いて三次元体積が撮像されうる。これは有利であるかもしれない。特に、体積を撮像するための複数カメラの使用は、設けることが困難であるかもしれない追加のビューポートを必要とする。さらに、多重カメラ撮像システムに存在しうる干渉効果が観測されており、プラズマ形成領域に存在しないパーティクルの記録を生じさせるかもしれない。さらに、複数のカメラを用いて画像が取得される場合、三次元体積を生成するための各画像の処理に大幅な処理リソースが必要とされるかもしれない。図８に示されるような実施の形態は、これらの欠点を被ることのない三次元体積の画像化を提供する。
【００９４】
カメラ１０と照明源６０の間のタイミングが正確であることを確実にするため、照明源６０およびカメラ１０は共通のトリガ機構（不図示）に接続されてもよい。このような共通のトリガ機構は、任意の都合のよい方法で実現されてもよい。例えば、適切なトリガは、点火（メイン）レーザまたはプリパルスレーザに基づいてもよく、および／または、プラズマ形成領域４への燃料ターゲットの進行を追跡するセンサから受信する信号に基づいてもよい。
【００９５】
図７のソースＳＯはさらに、照明シートの伝搬方向に実質的に一致する放射ダンプ６４を備える。放射ダンプ６４は、照明シート６３の放射を吸収して放射源ＳＯの内部の他の表面からの反射を防ぐように機能する。放射ダンプ６４は、したがって、カメラ１０により取得される画像に対する実質的に暗黒の背景の提供を助ける。
【００９６】
カメラ１０により取得される二つの画像フレームは、接続部１３を介して処理のために制御部１１に移動される。制御部１１は、二つの画像を処理してプラズマ形成領域４から生じるデブリに関する情報を提供する。例えば、ＰＩＶを用いて取得される画像が処理されるのと同様の方法で画像が処理されてもよい。このような処理は、当業者にとって周知の技術であり、本書では詳述しない。
【００９７】
一方で、たいていの場合、第１および第２画像フレームのそれぞれは複数のセクションに分割され、各セクションの変位ベクトルを計算するために相関が取られる（例えば二つのフレームの相互相関を用いる）。二つの画像間の時間遅延は、位置の変化とともにプラズマ形成領域４から生じるデブリ粒子の速度の決定に用いることができる。デブリ粒子のサイズは、ミー散乱に基づいて決定されてもよい。つまり、カメラ１０により画像化されるデブリ粒子の画像の強度（粒子によりカメラ１０の方向に散乱される光子数を示す）を測定することにより、制御部１１はデブリ粒子のサイズの指標を決定できる。
【００９８】
図７の実施の形態においてカメラ１０により取得される画像の処理は、０．１μｍより大きいデブリ粒子の検出を可能にする。対照的に、拡散フィルタが施されたレーザ放射でターゲットを照明するシャドウグラフ技術に基づく画像化といった従来の技術では、たいていの場合、５μｍ以上の解像度でのみ特徴を画像化できる。また、図７の構成を用いて取得される画像では、シャドウグラフに基づく方法を用いて取得されうる場合と比べて、より広い視野およびより大きい焦点深度を実現できる。
【００９９】
図７では単一カメラのみ示しているが、二以上のカメラが用いられてもよいことが理解されよう。例えば、カメラ１０とは異なる角度からプラズマ形成領域を撮像するために一以上の追加のカメラが配置されてもよい（図６を参照しながら上述したものと同様である）。複数のカメラが設けられる場合、各カメラは異なる角度でプラズマ形成領域を撮像するよう配置されてもよい。二以上のカメラを設けることは、プラズマ形成領域の三次元表示を取得するのに用いることができる。
【０１００】
また、調整光学系が各画像用の単一の照明シートを提供するよう構成される場合について上述したが、他の実施の形態では、調整光学系６２が異なる形態、寸法および方向のレーザビームを提供するよう構成される光学系を備えてもよい。例えば、いくつかの実施の形態において、照明源６０が複数の平面型の放射シートを提供するよう構成されてもよく、各シートが異なる偏光を有してもよい。複数のカメラが設けられてもよく、各カメラが一つのシートのみからの反射に向けられる偏光フィルタを備えてもよい。他の実施の形態において（シートではなく）照明の体積（ボリューム）が提供されてもよい。
【０１０１】
上記では、ＰＩＶに用いられるのと同様の技術がプラズマから放出されるデブリ粒子の速度の決定に用いられてもよいことを述べた。他の実施の形態では、ＰＩＶ技術に加えて又は代えて、他の速度測定技術が用いられてもよいことが理解されよう。例えば、いくつかの実施の形態において、カメラ１０（もしあれば複数のカメラ）により取得される複数フレームにわたって個々の粒子の場所を追跡することによる粒子追跡速度測定法（ＰＴＶ）が用いられてもよい。
【０１０２】
上記では、図７を参照しながら、カメラ１０が二つの画像フレームを取得するよう動作可能であり、各フレームが照明源６０により提供されるレーザパルスのペアの一つと同期する場合について述べた。しかしながら、いくつかの実施の形態において、カメラ１０が単一のフレームにて二つの画像を取得するよう構成されてもよい。つまり、単一フレームが取得される場合に、単一フレームは、レーザパルスのペアの第１に関するプラズマ形成領域の第１画像と、レーザパルスのペアの第２に関するプラズマ形成領域の第２画像とを含むであろう。このような実施の形態において、フレーム中のどのフィーチャが第１レーザパルスにより画像化され、どのフィーチャが第２レーザパルスにより画像化されているかを決定するために追加の処理が必要とされてもよい。プラズマ形成領域の異なる時間における二つの画像を含む単一フレームは、撮像されたデブリ粒子の速度および方向を決定するために自己相関が取られてもよい。
【０１０３】
ある実施の形態において、本発明の放射源ＳＯは、マスク検査装置の一部を形成してもよい。マスク検査装置は、マスクを照明するＥＵＶ放射を用いてもよく、マスクから反射される放射をモニタする画像センサを用いてもよい。画像センサにより受信した画像は、マスクに欠陥が存在するか否かを決定するために用いられる。マスク検査装置は、ＥＵＶ放射源からのＥＵＶ放射を受け、それをマスクに向かう放射ビームに整形するよう構成される光学系（例えばミラー）を含んでもよい。マスク検査装置はさらに、マスクから反射されるＥＵＶ放射を集め、画像センサにマスクの像を形成するよう構成される光学系（例えばミラー）を含んでもよい。マスク検査装置は、画像センサにおけるマスクの像を分析し、その分析結果からマスクに何らかの欠陥が存在するか否かを決定するよう構成されるプロセッサを含んでもよい。プロセッサはさらに、マスクをリソグラフィ装置で用いるときに、検出されたマスクの欠陥が基板上に投影される像に許容できない欠陥を生じさせるか否かを決定するよう構成されてもよい。
【０１０４】
ある実施の形態において、放射源ＳＯは、計測（メトロロジ）装置の一部を形成してもよい。計測装置は、基板上にすでに存在するパターンに対して基板上のレジストに形成される投影パターンのアライメントを測定するために用いられてもよい。この相対的なアライメント測定は、オーバーレイと称されてもよい。計測装置は、例えばリソグラフィ装置のすぐ隣に位置してもよいし、基板（およびレジスト）が処理される前にオーバレイを測定するために用いられてもよい。
【０１０５】
本書ではリソグラフィ装置の文脈にて本発明の実施の形態に対する具体的な説明がなされたが、発明の実施の形態は他の装置に用いられてもよい。本発明の実施の形態は、マスク検査装置、計測装置、または、ウェハ（または他の基板）もしくはマスク（または他のパターニングデバイス）などの対象物を測定もしくは処理するいかなる装置の一部を形成してもよい。これらの装置は一般にリソグラフィツールと称されてもよい。このようなリソグラフィツールは、真空状態または大気（非真空）状態を用いてもよい。
【０１０６】
「ＥＵＶ放射」の用語は、５−２０ｎｍの範囲内、例えば１３−１４ｎｍの範囲内の波長を有する電磁放射を含むものとみなされてもよい。ＥＵＶ放射は、１０ｎｍより短い波長、例えば６．７ｎｍや６．８ｎｍといった５−１０ｎｍの範囲内の波長を有してもよい。
【０１０７】
本書ではＩＣの製造におけるリソグラフィ装置の使用を例として説明しているが、本書に説明したリソグラフィ装置は他の用途にも適用することが可能であるものと理解されよう。とりうる他の用途には、集積光学システム、磁気ドメインメモリ用案内パターンおよび検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッドなどの製造が含まれる。
【０１０８】
本発明の実施の形態は、ハードウェア、ファームウェア、ソフトウェアまたはこれらの任意の組み合わせにより実現されてもよい。本発明の実施の形態は、機械可読媒体に記憶された命令として実現され、一以上のプロセッサにより読み出しおよび実行されてもよい。機械可読媒体は、機械（例えばコンピュータ装置）により読み出し可能な形態の情報を記憶または伝送するための任意の機構を含んでもよい。例えば、機械可読媒体は、読出専用メモリ（ＲＯＭ）；ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）；磁気ディスク記憶媒体；光学記憶媒体；フラッシュメモリ装置；電気的、光学的、音響的または他の形態の伝搬信号（例えば、搬送波、赤外信号、デジタル信号など）およびその他を含んでもよい。さらに、ファームウェア、ソフトウェア、ルーティン、命令は、特定のアクションを実行するものとして本書に記載されうる。しかしながら、このような記載は単なる便宜のためであり、このようなアクションは、ファームウェア、ソフトウェア、ルーティン、命令などを実行するコンピュータ装置、プロセッサ、制御部または他の装置から実際には生じることが理解されよう。
【０１０９】
（条項）
ａ．放射放出プラズマを生成するよう構成される放射システムであって、
プラズマ形成領域に燃料ターゲットを供給するよう構成される燃料放出器と；
プラズマ形成領域にて燃料ターゲットに入射する第１レーザビームを提供して放射放出プラズマを生成するよう構成される第１レーザと；
プラズマ形成領域における放射放出プラズマの第１画像であって、放射放出プラズマの画像特性を示す第１画像を取得するよう構成される撮像装置と；
第１画像を受信するよう構成され、デブリの悪影響を低減するために放射システムの構成要素の動作を変更させる命令を放射放出プラズマの画像特性に基づいて生成するよう構成される制御部と、を備えることを特徴とする放射システム。
【０１１０】
ｂ．画像特性は、放射放出プラズマの生成に起因するデブリの量および／または方向を含むことを特徴とする条項ｂに記載の放射システム。
【０１１１】
ｃ．命令は、第１レーザビームと燃料ターゲットの間の相互作用を変化させるのに適することを特徴とする条項ａまたは条項ｂに記載の放射システム。
【０１１２】
ｄ．命令は、燃料放出器がプラズマ形成領域に供給される燃料ターゲットの特性を変化させることとなる命令を含むことを特徴とする条項ａからｃのいずれかに記載の放射システム。
【０１１３】
ｅ．燃料ターゲットの画像特性は、燃料ターゲットの速度、進行方向、サイズおよび／または形状から選択される少なくとも一つを含むことを特徴とする条項ｄに記載の放射システム。
【０１１４】
ｆ．命令は、第１レーザビームの第１レーザ特性を変更させるのに適した命令を含むことを特徴とする条項ａからｅのいずれかに記載の放射システム。
【０１１５】
ｇ．第１レーザビームの第１レーザ特性は、第１レーザビームの繰り返しレート、パワー、強度プロファイル、伝搬方向および／または位置から選択される少なくとも一つを含むことを特徴とする条項ｆに記載の放射システム。
【０１１６】
ｈ．第１レーザビームが燃料ターゲットに入射する前に燃料ターゲットに入射する第２レーザビームを提供して燃料ターゲットの燃料特性を変化させるよう構成される第２レーザをさらに備え、
命令は、第２レーザビームの第２レーザ特性を変更させるのに適した命令を含むことを特徴とする条項ａからｇのいずれかに記載の放射システム。
【０１１７】
ｉ．放射放出プラズマの画像特性は、放射放出プラズマの角度、強度プロファイルおよび／または楕円率から選択される少なくとも一つを含むことを特徴とする条項ａからｈのいずれかに記載の放射システム。
【０１１８】
ｊ．命令は、放射放出プラズマの角度、強度プロファイルおよび／または楕円率から選択される少なくとも一つを変化させるのに適することを特徴とする条項ｉに記載の放射システム。
【０１１９】
ｋ．汚染トラップをさらに備え、命令は、デブリを実質的に汚染トラップの方向に放出させるのに適した命令を含むことを特徴とする条項ａからｊのいずれかに記載の放射システム。
【０１２０】
ｌ．汚染トラップをさらに備え、命令は、放出されるデブリのより多くの部分が捕捉されるよう汚染トラップの動作を変化させるのに適した命令を含むことを特徴とする条項ａからｋのいずれかに記載の放射システム。
【０１２１】
ｍ．プラズマ形成位置にて放射放出プラズマの第２画像を取得するよう構成される第２撮像装置をさらに備え、
制御部は、第２画像を取得するよう構成され、第１画像および第２画像から放射放出プラズマの画像特性を決定するよう構成されることを特徴とする条項ａからｌのいずれかに記載の放射システム。
【０１２２】
ｎ．第１撮像装置は、第１平面の画像を取得するよう構成され、第２撮像装置は、第１平面と実質的に直交する第２平面の画像を取得するよう構成されることを特徴とする条項ｍに記載の放射システム。
【０１２３】
ｏ．第１撮像装置は、第１レーザビームの伝搬方向と実質的に平行であって燃料ターゲットの進行方向に対して約４５度または約２２５度の平面の画像を取得するよう構成され、第２撮像装置は、第１レーザビームの伝搬方向と実質的に平行であって燃料ターゲットの進行方向に対して約−４５度または−２２５度の平面の画像を取得するよう構成されることを特徴とする条項ｍまたは条項ｍに記載の放射システム。
【０１２４】
ｐ．命令は、放射放出プラズマの生成により生成されるデブリの量を最小化するのに適することを特徴とする条項ａからｏのいずれかに記載の放射システム。
【０１２５】
ｑ．可動の光学要素を有する集光アセンブリをさらに備え、命令は、可動の光学要素に動きを生じさせるのに適することを特徴とする条項ａからｐのいずれかに記載の放射システム。
【０１２６】
ｒ．撮像装置が第１画像を取得するときに第１照明放射を提供してプラズマ形成領域を照明するよう構成される照明源をさらに備え、
撮像装置は、第１画像を取得してから所定時間後に放射放出プラズマの第２画像を取得するよう構成され、照明源は、撮像装置が第２画像を取得するときに第２照明放射を提供するよう構成され、
制御部は、第１画像および第２画像を処理して、放射生成プラズマから放出される粒子のサイズ、速度および／または方向から選択される少なくとも一つを決定するよう構成され、
命令の生成は、放射生成プラズマから放出される粒子の決定されたサイズ、速度および／または方向に基づくことを特徴とする条項ａからｑのいずれかに記載の放射システム。
【０１２７】
ｓ．照明源は、照明レーザビームパルスを出力するよう構成されるレーザと、レーザビームパルスを調整して第１および第２照明放射を提供するよう構成される調整光学系とを備えることを特徴とする条項ｒに記載の放射システム。
【０１２８】
ｔ．調整光学系は、第１および第２照明放射を平坦化して実質的に平面型の放射を提供するよう構成されることを特徴とする条項ｓに記載の放射システム。
【０１２９】
ｕ．調整光学系は、第１および第２放射を複数の平面にわたって回転させるよう構成されることを特徴とする条項ｔに記載の放射システム。
【０１３０】
ｖ．調整光学系は、単一の回転可能シリンドリカルレンズまたは複数の回転可能シリンドリカルレンズを備えることを特徴とする条項ｕに記載の放射システム。
【０１３１】
ｗ．照明源は、第１および第２照明放射のそれぞれが照明の体積を備えるように構成されることを特徴とする条項ｒからｖのいずれかに記載の放射システム。
【０１３２】
ｘ．第１画像および第２画像を取得する間の所定時間は、約１０ｍｓ以下であることを特徴とする条項ｒからｗのいずれかに記載の放射システム。
【０１３３】
ｙ．制御部は、粒子によって散乱される光子の特性を第１画像および／または第２画像から決定することにより放射放出プラズマから放出される粒子のサイズを決定するよう構成される条項ｒからｘのいずれかに記載の放射システム。
【０１３４】
ｚ．制御部は、決定された光子の特性を球による電磁放射の散乱に対するミー（Ｍｉｅ）の解を用いて処理することにより粒子のサイズを決定するよう構成されることを特徴とする条項ｙに記載の放射システム。
【０１３５】
α．粒子の距離および／または速度を決定することは、第１画像および第２画像の相互相関を取ることを備えることを特徴とする条項ｒからｚのいずれかに記載の放射システム。
【０１３６】
β．距離および／または速度を決定することは、粒子の速度を決定するために速度測定技術を用いて第１画像および第２画像を処理することを備えることを特徴とする条項ｒからαに記載の放射システム。
【０１３７】
γ．放射システムにて放射放出プラズマを生成する方法であって、当該放射システムは、
プラズマ形成領域に燃料ターゲットを供給するよう構成される燃料放出器と；
プラズマ形成領域にて燃料ターゲットに入射する第１レーザビームを提供して放射放出プラズマを生成するよう構成される第１レーザと；
プラズマ形成領域における放射放出プラズマの画像であって、放射放出プラズマの画像特性を示す画像を取得するよう構成される撮像装置と；
制御部と；を備え、
当該方法は、制御部にて、
放射放出プラズマの第１画像を受信することと；
デブリの悪影響を低減するために放射システムの構成要素の動作を変更させる命令を放射放出プラズマの画像特性に基づいて生成することと；を備えることを特徴とする方法。
【０１３８】
δ．条項ａからβのいずれかに係る放射システムを備えることを特徴とするリソグラフィツール。
【０１３９】
ε．放射放出プラズマを生成するよう構成される放射源であって、当該放射源はプラズマ形成領域にてレーザビームを受けるよう構成されており、
プラズマ形成領域に燃料ターゲットを供給するよう構成される燃料放出器と；
プラズマ形成領域における放射放出プラズマの第１画像であって、放射放出プラズマの画像特性を示す第１画像を取得するよう構成される撮像装置と；
第１画像を取得するよう構成され、デブリの悪影響を低減するために放射システムの構成要素の動作を変更させる命令を放射放出プラズマの画像特性に基づいて生成するよう構成される制御部と；を備えることを特徴とする放射源。
【０１４０】
ζ．放射放出プラズマの画像特性を示す放射放出プラズマの第１画像を受信することと、
デブリの悪影響を低減するために放射システムの構成要素の動作を変更させる命令を放射放出プラズマの画像特性に基づいて生成することと、をコンピュータに実行させるのに適したコンピュータに読取可能な命令を保持することを特徴とする非一時的なコンピュータ可読媒体。
【０１４１】
本発明の特定の実施の形態を上述してきたが、本発明は記載と異なる態様で実施されてもよいことが理解されよう。上述の記載は例示を意図しており、限定を意図していない。したがって、当業者であれば、以下に記述される請求項の範囲を逸脱しない範囲で、上述した発明に対する変形がなされてもよいことが理解されよう。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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