(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、
該基材の一方の側に該基材側から順に設けられた、ＺｎＯ、ＡｌおよびＳｉＯ２を含む第１の酸化物層、および、粘着剤層および樹脂フィルムを備える表面保護層と、
該基材のもう一方の側に設けられた導電層と
を有する、導電性積層フィルム。
【請求項２】
前記第１の酸化物層と前記表面保護層との間に、ＳｉＯ２で構成された第２の酸化物層をさらに有する、請求項１に記載の導電性積層フィルム。
【請求項３】
前記基材と前記樹脂フィルムの１５０℃で９０分加熱後の熱収縮率の差が０．４％以下である、請求項１または２に記載の導電性積層フィルム。
【請求項４】
前記第１の酸化物層と前記表面保護層との１５０℃、９０分の加熱試験後の剥離力が、１．５Ｎ／２５ｍｍ以下である、請求項１または３に記載の導電性積層フィルム。
【請求項５】
前記第２の酸化物層と前記表面保護層との１５０℃、９０分の加熱試験後の剥離力が、１．５Ｎ／２５ｍｍ以下である、請求項２または３に記載の導電性積層フィルム。
【請求項６】
前記導電層がパターン化されている、請求項１から５のいずれかに記載の導電性積層フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、導電性積層フィルムに関する。より詳細には、本発明は、基材の一方の側に少なくとも１つの酸化物層を有し、反対側に導電層を有する積層フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、画像表示装置（例えば、液晶表示装置、有機エレクトロルミネセンス（ＥＬ）表示装置）や太陽電池（例えば、フィルム型太陽電池、薄膜太陽電池）には、バリアフィルムが用いられている。このようなバリアフィルムの開発において、製膜速度が速く、屈折率が低く、良好なガスバリア性を有するバリアフィルムとして、Ａｌ−Ｚｎ−Ｏ（アルミニウム添加酸化亜鉛）膜にＳｉＯ２を添加した透明酸化物膜（フィルム）が提案されている（特許文献１）。ところで、近年、スマートフォンに代表されるように、画像表示装置がタッチパネル型入力装置を兼ねるタッチパネル型入力表示装置が急増している。上記バリアフィルムをタッチパネル用導電性フィルムとして使用できれば、装置の薄型化が実現され、非常に望ましい。しかし、上記透明酸化物膜は、耐薬品性（例えば、耐酸性、耐アルカリ性）がきわめて不十分であり、導電性フィルムの導電層のパターニング（代表的には、エッチング）には適用することができない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１３−１８９６５７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、優れたバリア性と耐薬品性とを同時に満足する導電性積層フィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の導電性積層フィルムは、基材と、該基材の一方の側に該基材側から順に設けられた、ＺｎＯ、ＡｌおよびＳｉＯ２を含む第１の酸化物層、および表面保護層と、該基材のもう一方の側に設けられた導電層と、を有する。
１つの実施形態においては、上記導電性積層フィルムは、上記第１の酸化物層と上記表面保護層との間に、ＳｉＯ２で構成された第２の酸化物層をさらに有する。
１つの実施形態においては、上記基材と上記表面保護層を構成する樹脂フィルムの１５０℃で９０分加熱後の熱収縮率の差は０．４％以下である。
１つの実施形態においては、上記第１の酸化物層と上記表面保護層との１５０℃、９０分の加熱試験後の剥離力は、１．５Ｎ／２５ｍｍ以下である。
１つの実施形態においては、上記第２の酸化物層と上記表面保護層との１５０℃、９０分の加熱試験後の剥離力は、１．５Ｎ／２５ｍｍ以下である。
１つの実施形態においては、上記導電層はパターン化されている。
【発明の効果】
【０００６】
本発明の実施形態によれば、バリア層として機能する少なくとも１つの酸化物層と導電層とを有する導電性積層フィルムにおいて、酸化物層の表面に表面保護層を設けることにより、バリアフィルムとしての優れたバリア性と導電層のパターニング（代表的には、エッチング）に適用可能な耐薬品性とを実現することができる。１つの実施形態においては、酸化物層としてＺｎＯ、ＡｌおよびＳｉＯ２を含む第１の酸化物層とＳｉＯ２で構成された第２の酸化物層との積層構造を採用し、かつ、第２の酸化物層の表面に表面保護層を設けることにより、きわめて優れたバリア性を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】本発明の１つの実施形態による導電性積層フィルムの概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、本発明の代表的な実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。
【０００９】
Ａ．導電性積層フィルムの全体構成
図１は、本発明の１つの実施形態による導電性積層フィルムの概略断面図である。本実施形態の導電性積層フィルム１００は、基材１０と、基材１０の一方の側に基材１０側から順に設けられた第１の酸化物層２０および表面保護層４０と、基材１０のもう一方の側に設けられた導電層５０と、を有する。このような構成を有することにより、本発明の実施形態による導電性積層フィルムは、画像表示装置用のバリアフィルムおよびタッチパネル用導電性フィルムの両方として機能し得る。酸化物層の表面に表面保護層を設けることにより、導電層のパターニング（代表的には、エッチング）に適用可能な耐薬品性が実現され得る。加えて、このような構成であれば、製造プロセスにおける搬送時に酸化物層にキズが生じるのを防止することができるので、製造プロセスに起因するバリア性の低下を防止することができる。表面保護層は、最終的な使用時に導電性積層フィルムの構成層として残されていてもよく、剥離除去されてもよい。代表的には図示例のように、導電性積層フィルム１００は、第１の酸化物層２０と表面保護層４０との間に、第２の酸化物層３０をさらに有する。酸化物層として第１の酸化物層と第２の酸化物層との積層構造を採用することにより、バリア性を顕著に改善することができる。
【００１０】
第１の酸化物層２０は、ＺｎＯ、ＡｌおよびＳｉＯ２を含む。第２の酸化物層３０は、ＳｉＯ２で構成されている。第１の酸化物層および必要に応じて第２の酸化物層をこのような構成とすることにより、きわめて優れたバリア性を実現することができる。第１の酸化物層２０の厚みは、好ましくは１０ｎｍ〜１００ｎｍである。第２の酸化物層３０の厚みは、好ましくは１０ｎｍ〜１００ｎｍである。
【００１１】
基材１０の少なくとも一方の面（すなわち、基材１０と第１の酸化物層との間、および／または、基材１０と導電層５０との間）には、目的に応じてインデックスマッチング（ＩＭ）層および／またはハードコート（ＨＣ）層が形成されてもよい（いずれも図示せず）。なお、ＩＭ層およびＨＣ層の材料、構成等は当業界で周知であるので、詳細な説明は省略する。
【００１２】
導電性積層フィルムは、水分およびガス（例えば酸素）に対するバリア性を有する。積層フィルムの４０℃、９０％ＲＨ条件下での水蒸気透過率（透湿度）は、好ましくは１．０×１０−１ｇ／ｍ２／２４ｈｒ未満である。バリア性の観点からは、透湿度の下限は低いほど好ましい。透湿度の測定限界は、例えば０．１×１０−６ｇ／ｍ２／２４ｈｒ程度である。１つの実施形態においては、デバイス構成物から経時的に発生するアウトガス（例えば、太陽電池封止樹脂（ＥＶＡ）の加水分解によって生じる酢酸）を放出するという観点から、透湿度の下限は、例えば０．１×１０−４ｇ／ｍ２／２４ｈｒである。透湿度の好ましい上限は、用途によって変動し得る。透湿度の上限は、例えば室内の画像表示装置（例えば、ＰＣディスプレー）用途では５．０×１０−２ｇ／ｍ２／２４ｈｒであり、屋外の画像表示装置（デジタルサイネージ）用途では３．０×１０−２ｇ／ｍ２／２４ｈｒであり、車載ディスプレー等の室内過酷環境用途では１．０×１０−２ｇ／ｍ２／２４ｈｒである。導電性積層フィルムの６０℃、９０％ＲＨ条件下でのガスバリア性は、好ましくは１．０×１０−７ｇ／ｍ２／２４ｈｒ〜０．５ｇ／ｍ２／２４ｈｒであり、より好ましくは１．０×１０−７ｇ／ｍ２／２４ｈｒ〜０．１ｇ／ｍ２／２４ｈｒである。透湿度およびガスバリア性がこのような範囲であれば、導電性積層フィルムを対象物（例えば、画像表示装置、太陽電池）に貼り合わせた場合に、当該対象物を空気中の水分および酸素から良好に保護し得る。なお、透湿度およびガスバリア性はいずれも、ＪＩＳ  Ｋ７１２６−１に準じて測定され得る。
【００１３】
導電性積層フィルムは、可視光（例えば、波長５５０ｎｍの光）の全光線透過率が好ましくは８４％以上であり、より好ましくは８７％以上であり、さらに好ましくは９０％以上である。このような範囲であれば、導電性積層フィルムは視認性を損なわないので、画像表示装置のバリアフィルムとして非常に好適に用いることができる。例えば、ＺｎＯ、ＡｌおよびＳｉＯ２を含む第１の酸化物層（以下、ＡＺＯ膜と称する場合がある）とＳｉＯ２で構成された第２の酸化物層との積層構造を採用する場合には、ＡＺＯ膜単独よりも厚みが厚くなるにもかかわらずＡＺＯ膜単独の構成よりも透明性を増大させることができる。
【００１４】
導電性積層フィルムは、導電層のパターニング（代表的には、エッチング）に適用可能な耐薬品性を有する。より詳細には、導電性積層フィルムは、好ましくは耐酸性および耐アルカリ性を有する。本明細書において「耐酸性」とは、４０℃、７％の希硝酸溶液中に導電性積層フィルムを浸漬し、１０分後に取り出した後で測定した透湿度が１．０×１０−１ｇ／ｍ２／２４ｈｒ未満であることをいう。また、「耐アルカリ性」とは、４０℃、７％の水酸化ナトリウム溶液中にサンプルを浸漬し、１０分後に取り出した後で測定した透湿度が１．０×１０−１ｇ／ｍ２／２４ｈ未満であることをいう。
【００１５】
導電性積層フィルムは、好ましくは曲率半径７ｍｍ、より好ましくは曲率半径５ｍｍで屈曲しても割れおよびクラックが生じないような屈曲性を有する。上記所定の第１の酸化物層と第２の酸化物層との積層構造を採用することにより、耐薬品性と優れた屈曲性および耐熱性（後述）とを両立することができ、さらに、表面保護層を設けることにより耐薬品性を顕著に向上させることができる。
【００１６】
導電性積層フィルムは、９５℃で好ましくは５００時間、より好ましくは６００時間、さらに好ましくは７００時間加熱しても変色せず、かつ、寸法変化による第一の酸化物層のクラックが発生しないような耐熱性を有する。上記所定の第１の酸化物層と第２の酸化物層との積層構造を採用することにより、優れた耐薬品性と優れた屈曲性および耐熱性とを両立することができる。
【００１７】
導電性積層フィルムにおける基材１０と表面保護層５０を構成する樹脂フィルムの１５０℃で９０分加熱後の熱収縮率の差は、好ましくは０．４％以下であり、より好ましくは０．３％以下であり、さらに好ましくは０．１％以下である。基材と表面保護層の熱収縮率の差がこのような範囲であれば、カールを顕著に抑制することができ、導電性積層フィルムを平坦な形状に保つことができるという利点を有する。なお、熱収縮率は、ＪＩＳ  Ｋ７１３３に準じて測定され得る。
【００１８】
導電性積層フィルムにおける酸化物層（第１の酸化物層２０、または存在する場合には第２の酸化物層３０）と表面保護層４０との１５０℃、９０分の加熱試験後の剥離力は、好ましくは１．５Ｎ／２５ｍｍ以下であり、より好ましくは１．２Ｎ／２５ｍｍ以下であり、さらに好ましくは１．０Ｎ／２５ｍｍ以下であり、特に好ましくは０．８Ｎ／２５ｍｍ以下である。上記のとおり、導電性積層フィルムは最終使用時に表面保護層が剥離される場合があるところ、剥離の際に第１の酸化物層および／または第２の酸化物層（存在する場合）にクラックが生じる場合があり、結果として、バリア性が損なわれる場合がある。酸化物層と表面保護層との加熱試験後の剥離力がこのような範囲であれば、上記のようなクラックの発生が良好に防止され得る。酸化物層と表面保護層との加熱試験前の剥離力は、例えば０．３Ｎ／２５ｍｍ以上である。加熱試験前の剥離力がこのような範囲であれば、製造プロセス（例えば、搬送時）における表面保護層の浮き、剥がれ、剥離等が防止され得る。
【００１９】
１つの実施形態においては、本発明の導電性積層フィルムは長尺状である。長尺状の導電性積層フィルムは、例えば、ロール状に巻回されて保管および／または運搬され得る。導電性積層フィルムは屈曲性に優れるので、ロール状に巻回されても不具合は生じない。
【００２０】
以下、導電性積層フィルムの構成要素について説明する。
【００２１】
Ｂ．基材
基材１０は、好ましくは透明である。基材は、可視光（例えば、波長５５０ｎｍの光）の全光線透過率が、好ましくは８５％以上であり、より好ましくは９０％以上であり、さらに好ましくは９５％以上である。
【００２２】
基材１０は、１つの実施形態においては、光学的に等方性である。このような構成であれば、積層フィルムを画像表示装置に適用した場合に当該画像表示装置の表示特性に対する悪影響を防止できる。本明細書において「光学的に等方性」とは、面内位相差Ｒｅ（５５０）が０ｎｍ〜１０ｎｍであり、厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）が−１０ｎｍ〜＋１０ｎｍであることをいう。基材の面内位相差Ｒｅ（５５０）は好ましくは０ｎｍ〜５ｎｍであり、厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）は好ましくは−５ｎｍ〜＋５ｎｍである。なお、「Ｒｅ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定したフィルムの面内位相差であり、フィルムの厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄによって求められる。「Ｒｔｈ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定したフィルムの厚み方向の位相差であり、フィルムの厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｚ）×ｄによって求められる。ここで、「ｎｘ」は面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、「ｎｙ」は面内で遅相軸と直交する方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率であり、「ｎｚ」は厚み方向の屈折率である。
【００２３】
基材の平均屈折率は、好ましくは１．７未満であり、より好ましくは１．５９以下であり、さらに好ましくは１．４〜１．５５である。平均屈折率がこのような範囲であれば、裏面反射を抑制でき、高い光透過率を達成できるという利点を有する。
【００２４】
基材の１５０℃で９０分加熱後の熱収縮率は、好ましくは０．０１％〜１％であり、より好ましくは０．２％〜０．５％である。このような範囲であれば、表面保護層の熱収縮率との差の調整が容易である。
【００２５】
基材を構成する材料としては、上記特性を満足し得る任意の適切な材料を用いることができる。基材を構成する材料としては、例えば、ノルボルネン系樹脂やオレフィン系樹脂などの共役系を有さない樹脂、ラクトン環やグルタルイミド環などの環状構造をアクリル系主鎖中に有する樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂が挙げられる。このような材料であれば、基材を形成した際に、分子鎖の配向に伴う位相差の発現を小さく抑えることができる。
【００２６】
基材は、別の実施形態においては、所定の位相差を有していてもよい。例えば、基材がいわゆるλ／４板として機能し得るような面内位相差を有していてもよい。このような構成であれば、位相差層を別途配置することなく、積層フィルムに良好な円偏光機能が付与されるので、積層フィルムが画像表示装置のバリアフィルムとしてのみならず反射防止フィルムとしても良好に機能し得る。この場合、基材の遅相軸と画像表示装置に用いられる偏光子の吸収軸とのなす角度は、代表的には約４５°である。このような基材は、例えば、ノルボルネン系樹脂やポリカーボネート系樹脂のフィルムを適切な条件で延伸することにより形成され得る。
【００２７】
基材の厚みは、好ましくは１０μｍ〜５０μｍ以下であり、より好ましくは２０μｍ〜３５μｍ以下である。
【００２８】
Ｃ．第１の酸化物層
第１の酸化物層２０は、上記のとおり、ＺｎＯ、ＡｌおよびＳｉＯ２を含む。第１の酸化物層は、全重量に対して、Ａｌを好ましくは２．５重量％〜３．５重量％、ＳｉＯ２を好ましくは２０．０重量％〜６２．４重量％の割合で含む。ＺｎＯは、好ましくは残量である。ＺｎＯをこのような範囲で含有することにより、非晶性、バリア性、屈曲性および耐熱性に優れた層を形成することができる。Ａｌをこのような範囲で含有することにより、第１の酸化物層は代表的にはスパッタリングで形成されるところ、ターゲットの導電率を増大させることができる。ＳｉＯ２をこのような範囲で含有することにより、異常放電を発生させることなく、かつ、バリア性を損なうことなく、第１の酸化物層の屈折率を小さくすることができる。
【００２９】
第１の酸化物層の厚みは、上記のとおり好ましくは１０ｎｍ〜１００ｎｍであり、より好ましくは１０ｎｍ〜６０ｎｍであり、さらに好ましくは２０ｎｍ〜４０ｎｍである。厚みがこのような範囲であれば、高い光透過性と優れたバリア性とを両立できるという利点を有する。
【００３０】
第１の酸化物層の平均屈折率は、好ましくは１．５９〜１．８０である。平均屈折率がこのような範囲であれば、高い光透過性を達成できるという利点を有する。
【００３１】
第１の酸化物層は、好ましくは透明である。第１の酸化物層は、可視光（例えば、波長５５０ｎｍの光）の全光線透過率が、好ましくは８５％以上であり、より好ましくは９０％以上であり、さらに好ましくは９５％以上である。
【００３２】
第１の酸化物層は、代表的にはスパッタリングにより基材上に形成され得る。第１の酸化物層は、例えば、Ａｌ、ＳｉＯ２およびＺｎＯを含むスパッタリングターゲットを用い、酸素を含有させた不活性ガス雰囲気下において、スパッタリング法により形成され得る。スパッタリングの方法としては、マグネトロンスパッタリング法、ＲＦスパッタリング法、ＲＦ重畳ＤＣスパッタリング法、パルススパッタ法、デュアルマグネトロンスパッタリング法などを採用することができる。基板の加熱温度は例えば―８℃〜２００℃である。酸素と不活性ガスとの雰囲気ガス全体に対する酸素のガス分圧は、例えば０．０５以上である。
【００３３】
第１の酸化物層を構成するＡＺＯ膜およびその製造方法の詳細については、例えば特開２０１３−１８９６５７号公報に記載されている。当該公報の記載は、本明細書に参考として援用される。
【００３４】
Ｄ．第２の酸化物層
第２の酸化物層３０は、上記のとおり、ＳｉＯ２で構成される（不可避の不純物も含まれ得る）。このような第２の酸化物層を第１の酸化物層の表面に形成することにより、第１の酸化物層による良好な特性を維持しつつ、積層フィルムの耐薬品性および透明性を格段に向上させることができる。さらに、第２の酸化物層は低屈折率層として機能し得るので、積層フィルムに良好な反射防止特性を付与し得る。
【００３５】
第２の酸化物層の厚みは、上記のとおり好ましくは１０ｎｍ〜１００ｎｍであり、より好ましくは５０ｎｍ〜１００ｎｍであり、さらに好ましくは６０ｎｍ〜１００ｎｍである。厚みがこのような範囲であれば、高い光透過性と優れたバリア性と優れた耐薬品性とを両立できるという利点を有する。
【００３６】
第２の酸化物層の平均屈折率は、好ましくは１．４４〜１．５０である。その結果、第２の酸化物層は、低屈折率層（反射防止層）として良好に機能し得る。
【００３７】
第２の酸化物層は、好ましくは透明である。第２の酸化物層は、可視光（例えば、波長５５０ｎｍの光）の全光線透過率が、好ましくは８５％以上であり、より好ましくは９０％以上であり、さらに好ましくは９５％以上である。
【００３８】
第２の酸化物層は、代表的にはスパッタリングにより第１の酸化物層上に形成され得る。第２の酸化物層は、例えば、Ｓｉ、ＳｉＣ、ＳｉＮまたはＳｉＯをターゲットとし、酸素を含有した不活性ガス（例えば、アルゴン、窒素、ＣＯ、ＣＯ２、およびこれらの混合ガス）を用いてスパッタを行うことにより形成され得る。第１の酸化物層および第２の酸化物層はいずれもＳｉＯ２を含むので、第１の酸化物層と第２の酸化物層との密着性は非常に優れたものとなる。このことから、第１の酸化物層と第２の酸化物層との界面で十分なバリア機能を発現させるためには、第１の酸化物層の厚みは、上記のとおり１０ｎｍ以上であることが好ましい。その理由としては、成長初期膜である、いわゆるインキュベーションレイヤーの割合を十分小さくでき、目的の物性を有する酸化物層を形成できるからである。また、第１の酸化物層と第２の酸化物層とのトータル厚みは、好ましくは２００ｎｍ以下であり、より好ましくは１４０ｎｍ以下である。
【００３９】
Ｅ．表面保護層
表面保護層４０は、導電層のパターニング（代表的には、エッチング）において酸化物層を適切に保護し得る耐薬品性を有する。より詳細には、表面保護層は、好ましくは耐酸性および耐アルカリ性を有する。本明細書において「耐酸性」とは、１０％の希硝酸に３０℃で１０日間浸漬させた後の引っ張り強度の保持率が９０％であることをいう。また、「耐アルカリ性」とは、１０％の水酸化ナトリウム水溶液に３０℃で１０日間浸漬させた後の引っ張り強度の保持率が９０％であることをいう。このような耐薬品性を有する表面保護層を設けることにより、酸化物層による優れたバリア性を維持しつつ、導電性積層フィルムの導電層のパターニング（代表的には、エッチング）を行うことができる。
【００４０】
表面保護層の１５０℃で９０分加熱後の熱収縮率は、好ましくは０．０１％〜１％であり、より好ましくは０．２％〜０．５％である。このような範囲であれば、基材の熱収縮率との差の調整が容易である。
【００４１】
表面保護層は、上記のような特性を満足し得る任意の適切な樹脂フィルムで構成される。樹脂フィルムは、導電性積層フィルムを画像表示装置に用いた場合の視認性を考慮すると、好ましくは透明である。樹脂フィルムを構成する材料の具体例としては、ポリエステル系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂が挙げられる。好ましくは、ポリエステル系樹脂、シクロオレフィン系樹脂またはポリカーボネート系樹脂である。これらの樹脂は、優れた透明性に加えて、吸水性が低く、水分遮断性、熱安定性、等方性、およびロールによる巻き取り等における取扱い性に優れる。特に好ましくは、非晶性樹脂であるシクロオレフィン系樹脂またはポリカーボネート系樹脂である。これらの樹脂で構成されたフィルムを表面保護層に用いることにより、導電層の結晶化がより良好に行われるので、導電性積層フィルムの抵抗値異常を防止するとともに、導電層と基材との密着性をより高めて膜剥がれを防止することが可能となる。
【００４２】
表面保護層の厚みは、好ましくは２０μｍ〜２００μｍであり、より好ましくは５０μｍ〜１００μｍである。厚みがこのような範囲であれば、屈曲性と機械的特性（例えば、耐衝撃性、耐スクラッチ性）とを両立できるという利点を有する。
【００４３】
表面保護層は、任意の適切な粘着剤層を介して酸化物層（第１の酸化物層、または、存在する場合には第２の酸化物層）に貼り合わせられる。上記粘着剤は、好ましくは低透湿性の粘着剤である。低透湿性の粘着剤を形成する材料としては、例えば、アクリル系ポリマー、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエーテル、フッ素系ポリマー、ゴム系ポリマー、イソシアネート系ポリマー、ポリビニルアルコール系ポリマー、ゼラチン系ポリマー、ビニル系ポリマー、ラテックス系ポリマー、水系ポリエステルなどのポリマーをベースポリマーとする材料が挙げられる。好ましくは、アクリルポリマー／またはゴム系ポリマーをベースポリマーとする材料であり、より好ましくはゴム系ポリマーをベースポリマーとする材料である。これらの材料は、さらに低い透湿性を有し得る。粘着剤層は、表面保護層の剥離時に酸化物層側に残存するよう構成してもよい。このような構成であれば、粘着剤を新たに塗布することなく導電性積層フィルムを画像表示装置等に貼り合わせることができる。このような構成は、例えば、表面保護層の粘着剤層側の面に剥離処理を施すことにより（すなわち、表面保護層をセパレーターとして用いることにより）実現され得る。
【００４４】
表面保護層の酸化物層側の表面には、易接着処理が施されていてもよい。このような構成であれば、粘着剤層との密着性が向上し得る。易接着処理としては、表面処理、下塗り層（易接着層、アンカー層）の形成が挙げられる。表面処理の具体例としては、スパッタリング、コロナ放電、火炎放射、紫外線照射、電子線照射、化成処理、酸化処理などのエッチング処理が挙げられる。さらに、必要に応じて、表面保護層表面を除塵、清浄化してもよい。このような処理の具体例としては、溶剤洗浄、超音波洗浄が挙げられる。易接着効果と表面清浄効果の両方を有する点で、コロナ放電処理が好ましい。さらに、コロナ放電処理は、溶液等を用いないドライプロセスであり、および、表面保護層上に少なからず残存する有機成分や微小なダストを、表面保護層を損傷することなく分解処理できるので表面清浄効果が大きい、という点でも好ましい。なお、コロナ放電処理の具体的な方法は、大気圧または排気処理された真空チェンバー内の環境下において、アルゴン、窒素、ＣＯおよびＣＯ２などの不活性ガスを導入し、一般的なスパッタリング法にも用いられるＤＣやＲＦ等の電力を印可することを含む。微小ダストの再付着を防止するためには真空チェンバー内での処理が好ましい。この場合、処理対象物である表面保護層と対向電極との距離に応じて、電極間距離１ｍｍ〜１０ｍｍ、処理圧力０．１Ｐａ〜１Ｐａ、投入電力密度１ｋＷ／ｍ２〜１０ｋＷ／ｍ２にて処理することが好ましい。
【００４５】
表面保護層の酸化物層と反対側（導電性積層フィルムの最表面）には、帯電防止処理が施されていてもよい。帯電防止処理の具体例としては、導電性ポリマーの塗布、スパッタリングによる導電層の形成が挙げられる。このような構成であれば、ロールトゥロールでのフィルム搬送時に、フィルムが帯電することによって起こり得る火花放電によるフィルムへのキズを防止することができる。
【００４６】
Ｆ．導電層
導電層５０は、代表的には透明である（すなわち、導電層は透明導電層である）。導電層を形成することにより、導電性積層フィルムは、タッチパネル型入力表示装置におけるタッチパネル用導電性フィルムとして機能し得る。
【００４７】
導電層は、必要に応じてパターン化され得る。パターン化によって、導通部と絶縁部とが形成され得る。結果として、電極が形成され得る。電極は、タッチパネルへの接触を感知するタッチセンサ電極として機能し得る。パターンの形状はタッチパネル（例えば、静電容量方式タッチパネル）として良好に動作するパターンが好ましい。具体例としては、特表２０１１−５１１３５７号公報、特開２０１０−１６４９３８号公報、特開２００８−３１０５５０号公報、特表２００３−５１１７９９号公報、特表２０１０−５４１１０９号公報に記載のパターンが挙げられる。パターン化（パターニング）は、代表的にはエッチングにより行われ得る。上記のとおり、本発明の実施形態においては、酸化物層上に表面保護層を設けることにより、酸化物層によるバリア性を損なうことなくエッチングすることが可能となる。
【００４８】
導電層の全光線透過率は、好ましくは８０％以上であり、より好ましくは８５％以上であり、さらに好ましくは９０％以上である。
【００４９】
導電層の密度は、好ましくは１．０ｇ／ｃｍ３〜１０．５ｇ／ｃｍ３であり、より好ましくは１．３ｇ／ｃｍ３〜３．０ｇ／ｃｍ３である。
【００５０】
導電層の表面抵抗値は、好ましくは０．１Ω／□〜１０００Ω／□であり、より好ましくは０．５Ω／□〜５００Ω／□であり、さらに好ましくは１Ω／□〜２５０Ω／□である。
【００５１】
導電層の代表例としては、金属酸化物を含む導電層が挙げられる。金属酸化物としては、例えば、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、インジウム−スズ複合酸化物、スズ−アンチモン複合酸化物、亜鉛−アルミニウム複合酸化物、インジウム−亜鉛複合酸化物が挙げられる。なかでも好ましくは、インジウム−スズ複合酸化物（ＩＴＯ）である。
【００５２】
導電層の厚みは、好ましくは０．０１μｍ〜０．０５μｍであり、より好ましくは０．０１μｍ〜０．０３μｍである。このような範囲であれば、導電性および光透過性に優れる導電層を得ることができる。
【００５３】
Ｇ．導電性積層フィルムの用途
本発明の導電性積層フィルムは、例えば、画像表示装置、電子ペーパー、太陽電池のバリア層（バリアフィルム）として好適に用いられ得る。より詳細には、本発明の導電性積層フィルムは、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置、有機発光表示素子、電気泳動方式表示素子、トナー表示素子、フィルム型太陽電池、薄膜太陽電池等のバリア層（バリアフィルム）として好適に用いられ得る。さらに、本発明の導電性積層フィルムは、タッチパネル型入力表示装置のタッチパネル用導電性フィルムとしても好適に用いられ得る。
【実施例】
【００５４】
以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。なお、各特性の測定方法は以下の通りである。
【００５５】
（１）厚み
透過型電子顕微鏡（日立製作所製Ｈ−７６５０）を用いて断面を観察し、測定を行なった。基材および表面保護層の厚みは膜厚計（Ｐｅａｃｏｃｋ社製デジタルダイアルゲージＤＧ−２０５）を用いて測定した。
（２）熱収縮率
実施例および比較例に用いた基材および表面保護層をそれぞれ、流れ方向(ＭＤ :  Ｍａｃｈｉｎｅ  Ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ)に１０ｃｍ、ＭＤに直交する方向 (ＴＤ : Ｔｒａｎｓｖｅｒｓｅ  Ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ)に１０ｃｍの正方形に切り出し、ＭＤ方向とＴＤ方向の寸法を、株式会社Ｍｉｔｕｔｏｙｏ製  ＣＮＣ画像測定器で測定した。それぞれの寸法をＬ１ＭＤ、Ｌ１ＴＤとした。測定後、各サンプルを１５０℃、９０分の条件で加熱し、加熱後の寸法を同様にして測定した。加熱後の寸法をそれぞれＬ２ＭＤ、Ｌ２ＴＤとした。ＭＤ方向の熱収縮率は、（Ｌ１ＭＤ−Ｌ２ＭＤ）／Ｌ１ＭＤ×１００で求めた。ＴＤ方向の熱収縮率は、（Ｌ１ＴＤ−Ｌ２ＴＤ）／Ｌ１ＴＤ×１００で求めた。基材と表面保護層のＭＤ方向の熱収縮率差と、ＴＤ方向の熱収縮率差について、熱収縮率差の大きい方を、最大熱収縮率差と定義した。
（３）剥離力
実施例および比較例で得られた導電性積層フィルムについて、引張速度０．３ｍ／分および引張速度１０ｍ／分の条件で、１８０°（剥離角）における粘着力（Ｎ／２５ｍｍ）を測定した。
（４）カール
実施例および比較例で得られた導電性積層フィルムを１００ｍｍ×１００ｍｍサイズに切り出し、測定試料とした。この測定試料を水平な台の上に静置し、測定試料の４隅の台からの浮き上がり高さ（ｍｍ）を測定した。４隅の測定値の平均値をカール値とした。なお、試料が丸まってしまう場合は「測定不可」とした。
（５）耐薬品性（溶媒浸漬後のバリア性）
実施例および比較例で得られた導電性積層フィルムを１００ｍｍ×１００ｍｍサイズに切り出し、測定試料とした。この測定試料を１０％の水酸化ナトリウム溶液に１０分間浸漬した後の透湿度を計測し、以下の基準で評価した。なお、透湿度は、テクノロックス社製「ＤＥＬＴＡＰＥＲＭ」を用いて、４０℃、９０％ＲＨの試験条件で透湿度を測定した。
○：透湿度が１．０×１０−２ｇ／ｍ２／２４ｈｒ以下
×：透湿度が１．０×１０−２ｇ／ｍ２／２４ｈｒを超える
（６）外観
実施例および比較例で得られた導電性積層フィルムから表面保護層を剥離し、剥離後の外観を目視により確認し、以下の基準で評価した。
○：クラックが認められない
×：クラックが認められる
（７）表面保護層剥離後のバリア性
実施例および比較例で得られた積層フィルムを１００ｍｍ×１００ｍｍサイズに切り出し、次いで、表面保護層を剥離し、測定試料とした。この測定試料の透湿度を計測し、以下の基準で評価した。
○：透湿度が１．０×１０−２ｇ／ｍ２／２４ｈｒ以下
×：透湿度が１．０×１０−２ｇ／ｍ２／２４ｈｒを超える
【００５６】
＜実施例１＞
市販のＣＯＰフィルム（日本ゼオン株式会社製、商品名「ゼオノア」、厚み４０μｍ）を基材として、Ａｌ、ＳｉＯ２およびＺｎＯを含むスパッタリングターゲットを用いて、ＤＣマグネトロンスパッタリング法により基材上に第１の酸化物層（厚み３０ｎｍ）を形成した。次に、Ｓｉターゲットを用いて、基材／第１の酸化物層の積層体の第１の酸化物層上に第２の酸化物層（５０ｎｍ）を形成した。このようにして、基材／第１の酸化物層（ＡＺＯ）／第２の酸化物層（ＳｉＯ２）の積層体を作製した。
【００５７】
次に、上記積層体の酸化物層と反対側の基材表面にインジウム−スズ複合酸化物からなる透明導電層（厚み２０ｎｍ）をスパッタリングにより形成した。具体的な手順は以下のとおりである：ＡｒおよびＯ２（流量比はＡｒ：Ｏ２＝９９．９：０．１）を導入した真空雰囲気下（０．４０Ｐａ）で、１０重量％の酸化スズと９０重量％の酸化インジウムとの焼結体をターゲットとして用いて、フィルム温度を−８℃とし、水平磁場を１００ｍＴとするＤＣマグネトロンスパッタリング法を用いた。
【００５８】
次に、上記で得られた導電層／基材／第１の酸化物層／第２の酸化物層の積層体の第２の酸化物層表面に、アクリル系粘着剤（厚み２５μｍ）を介して表面保護層を貼り合わせた。なお、表面保護層としてシクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）フィルム（日本ゼオン社製、商品名「ＺＥＯＮＯＲ」（登録商標）、厚さ１００μｍ、面内位相差１０ｎｍ）を用いた。また、当該ＣＯＰフィルムは、あらかじめ真空チェンバー内でコロナ処理を行うことによって、易接着処理を施した。コロナ処理条件は、電極間距離１０ｍｍ、処理圧力０．１Ｐａ、投入電力密度５ｋＷ／ｍ２とし、処理ガスにはアルゴンを用いた。
【００５９】
以上のようにして、導電層／基材／第１の酸化物層／第２の酸化物層／表面保護層の構成を有する導電性積層フィルムを作製した。最後に、導電層をエッチングによりパターン化した。得られた導電性積層フィルムを上記（２）〜（７）の評価に供した。結果を表１に示す。
【００６０】
＜実施例２＞
表面保護層としてポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）ポリマー長尺フィルム（三菱レイヨン社製、商品名「アクリプレン」（登録商標）、厚さ１００μｍ）を用いたこと以外は実施例１と同様にして、導電層／基材／第１の酸化物層／第２の酸化物層／表面保護層の構成を有する導電性積層フィルムを作製し、導電層をエッチングによりパターン化した。なお、ＰＭＭＡフィルムには実施例１と同様のコロナ処理をあらかじめ施した。得られた導電性積層フィルムを上記（２）〜（７）の評価に供した。結果を表１に示す。
【００６１】
＜実施例３＞
ＰＭＭＡフィルムにコロナ処理を施さなかったこと以外は実施例２と同様にして、導電層／基材／第１の酸化物層／第２の酸化物層／表面保護層の構成を有する導電性積層フィルムを作製し、導電層をエッチングによりパターン化した。得られた導電性積層フィルムを上記（２）〜（７）の評価に供した。結果を表１に示す。
【００６２】
＜実施例４＞
表面保護層として「日東電工株式会社製  Ｅ−Ｍａｓｋ  ＲＰ２０７」を用いたこと以外は実施例１と同様にして、導電層／基材／第１の酸化物層／第２の酸化物層／表面保護層の構成を有する導電性積層フィルムを作製し、導電層をエッチングによりパターン化した。得られた導電性積層フィルムを上記（２）〜（７）の評価に供した。結果を表１に示す。
【００６３】
＜実施例５＞
表面保護層として「日東電工株式会社製  Ｅ−Ｍａｓｋ  ＲＰ３０１」を用いたこと以外は実施例１と同様にして、導電層／基材／第１の酸化物層／第２の酸化物層／表面保護層の構成を有する導電性積層フィルムを作製し、導電層をエッチングによりパターン化した。得られた導電性積層フィルムを上記（２）〜（７）の評価に供した。結果を表１に示す。
【００６４】
＜比較例１＞
表面保護層を形成しなかったこと以外は実施例１と同様にして、導電層／基材／第１の酸化物層／第２の酸化物層の構成を有する導電性積層フィルムを作製し、導電層をエッチングによりパターン化した。得られた導電性積層フィルムを上記（２）〜（７）の評価に供した。結果を表１に示す。
【００６５】
【表１】
0006650770.tif 000002
【００６６】
＜評価＞
表１から明らかなように、本発明の実施例の導電性積層フィルムは、導電層パターニングのためのエッチング工程を経ても、優れたバリア性と耐薬品性とを同時に満足することがわかる。表面保護層を設けない比較例２は、エッチング後の耐薬品性、外観（クラック）およびバリア性のいずれもが劣悪である。さらに、実施例１〜３と実施例４〜５とを比較すると明らかなように、基材と表面保護層との熱収縮率の差を所定値以内することにより、カールを顕著に抑制できることがわかる。
【産業上の利用可能性】
【００６７】
本発明の導電性積層フィルムは、例えば、画像表示装置、電子ペーパー、太陽電池のバリア層（バリアフィルム）として好適に用いられ得る。より詳細には、本発明の導電性積層フィルムは、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置、有機発光表示素子、電気泳動方式表示素子、トナー表示素子、フィルム型太陽電池、薄膜太陽電池等のバリア層（バリアフィルム）として好適に用いられ得る。さらに、本発明の導電性積層フィルムは、タッチパネル型入力表示装置のタッチパネル用導電性フィルムとしても好適に用いられ得る。
【符号の説明】
【００６８】
１０      基材
２０      第１の酸化物層
３０      第２の酸化物層
４０      表面保護層
５０      導電層
１００      積層フィルム
【図１】
0006650770.tif 000003