(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ファイバ母材を吊るすためのタワーを備える光ファイバの製造装置であって、
前記タワーは、前記タワーより自立安定性が高くかつ固有振動数が異なる構造物と前記タワーの底面以外の部分で少なくともゴムを介して結合されている制振部を有する、光ファイバの製造装置。
【請求項２】
前記制振部は、前記ゴムのせん断方向に制振するように前記構造物と結合されている、請求項１に記載の光ファイバの製造装置。
【請求項３】
前記ゴムは、等価粘性減衰定数ｈｅｑが５％以上６０％以下の高減衰ゴムである、請求項１または請求項２に記載の光ファイバの製造装置。
【請求項４】
前記タワーは、前記光ファイバ母材の線引き用のタワーである、請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の光ファイバの製造装置。
【請求項５】
前記光ファイバ母材から線引きされた光ファイバを冷却する冷却装置を備え、
前記冷却装置は、前記タワーの鉛直方向に沿って配置されており、
前記制振部は、前記冷却装置よりも高い位置に設けられている、請求項４に記載の光ファイバの製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光ファイバの製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
光ファイバの製造装置には、光ファイバ母材を吊るすためのタワーを備えたものがある。このようなタワーが地震等によって振動した際に、タワーの振動を抑制する方法が知られている。例えば、特許文献１には、タワー上部に強磁性体を取り付け、建屋に電磁石と加速度センサと電磁石を制御する制御回路とを取り付け、タワーの揺れを戻す方向に電磁石の吸引力を制御して、タワー振動を抑えるタワーの制振装置が記載されている。特許文献２には、Ｘ方向センサおよびＹ方向センサを有し、各センサからのセンサ信号に基づきＸ方向あるいはＹ方向に負荷質量をスライド移動させて線引きタワーの振動を抑制する制振装置を線引きタワーの最上部に搭載することが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平６−２４１２７６号公報
【特許文献２】特開平１０−１３２４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
光ファイバの製造装置が、例えば線引き装置の場合は、地震等で線引きタワーが振動した際に、線引きした光ファイバが振れて冷却装置等に接触して断線するおそれがある。また、光ファイバの製造装置が、例えば反応容器内で火炎を用いてガラス微粒子を堆積して光ファイバ母材を製造する装置の場合や焼結炉で光ファイバ母材を焼結させる装置の場合は、光ファイバ母材のダミー棒を吊るして昇降させるタワー（昇降装置）を備えるものがある。地震等でタワー（昇降装置）が振動した際に、前者の場合は、光ファイバ母材が揺れて堆積面温度が変化し光ファイバ母材に脈理（屈折率の変動）が発生し、光ファイバの品質への影響が出るおそれがある。また、後者の場合は、光ファイバ母材が炉心管に接触して外傷が発生したり、光ファイバ母材の割れや落下が発生したりするおそれがある。
【０００５】
このため、タワーの振動を抑制することが求められている。しかしながら、タワーの振動を抑制する特許文献１の制振装置は、電磁石、加速度センサ、電磁石を制御する制御回路等が必要であり、このための費用がかかってしまう。特許文献２の制振装置は、さらに大掛かりでかつ機構が非常に複雑であり、さらに大きな費用がかかってしまう。また、特許文献１の制振装置および特許文献２の制振装置は、揺れたものを引き戻すフィードバック制御によって制振する装置であるため、最初の揺れは防ぐことができないおそれがある。
【０００６】
タワーをより頑丈な建屋等の構造物と底面以外の部分で強固に結合して揺れを抑えることも考えられるが、建屋等の構造物自体が振動した場合は、例え微小な振動であってもそのまま振動がタワーに伝わってしまう。そのため、微小な振動がタワーに伝わり線引した光ファイバが振れて冷却装置等に接触して断線する等の問題が生じるおそれがある。このような理由により、タワーは建屋等の構造物と底面以外の部分で結合しないで設置していた。また、隣接するタワー同士を底面以外の部分で結合する場合も、例えば他方のタワーで段取り作業を行う際の振動がもう一方のタワーに伝わり、同様の問題が発生するおそれがある。
【０００７】
そこで、本発明の目的は、大きな費用を掛けずに、地震等によるタワーの振動を抑制することができる光ファイバの製造装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一態様に係る光ファイバの製造装置は、光ファイバ母材を吊るすためのタワーを備える光ファイバの製造装置であって、
前記タワーは、前記タワーより自立安定性が高くかつ固有振動数が異なる構造物と前記タワーの底面以外の部分で少なくともゴムを介して結合されている制振部を有する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、大きな費用を掛けずに、地震等によるタワーの振動を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の第一実施形態に係る光ファイバの製造装置の概略構成図である。
【図２】図１の光ファイバの製造装置における制振部の取り付け箇所をタワー上方から見た平面図である。
【図３】制振部の鉛直方向の断面図である。
【図４】本発明の第二実施形態に係る光ファイバの製造装置の概略構成図である。
【図５】本発明の第三実施形態に係る光ファイバの製造装置の概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
［本発明の実施形態の説明］
最初に本発明の実施形態を列記して説明する。
本発明の実施形態に係る光ファイバの製造装置は、
（１）  光ファイバ母材を吊るすためのタワーを備える光ファイバの製造装置であって、
前記タワーは、前記タワーより自立安定性が高くかつ固有振動数が異なる構造物と前記タワーの底面以外の部分で少なくともゴムを介して結合されている制振部を有する。
【００１２】
制振部は、自立安定性が高くかつ固有振動数が異なる構造物とタワーとを底面以外の部分で結合するので、タワーに対する制振効果を得ることができる。また、少なくともゴムを介して構造物と結合する構成であるので、構造物の振動を直接受けることなく、かつ、大掛かりな制振装置を設けずとも制振効果を得ることができる。したがって、大きな費用を掛けずに、地震等によるタワーの振動を抑制することができる。また、タワーの固有振動数が変わり、光ファイバ母材の固有振動数と一致する機会が減るため、光ファイバ母材の共振を抑制できる。
【００１３】
（２）  前記制振部は、前記ゴムのせん断方向に制振するように前記構造物と結合されている。
制振部は、ゴムのせん断方向に制振するように構造物と結合されているので、ゴムの圧縮方向に制振するように結合するよりも制振効率を高くすることができる。また、せん断方向に制振するので、タワーと構造物とが近づく方向および離れる方向のどちらの方向に対しても同様の制振特性を得ることができる。
【００１４】
（３）  前記ゴムは、等価粘性減衰定数ｈｅｑが５％以上６０％以下の高減衰ゴムである。
構造物と結合されているゴムを、等価粘性減衰定数ｈｅｑが５％以上６０％以下の高減衰ゴムとすることで、良好な制振効果を得ることができる。
【００１５】
（４）  前記タワーは、前記光ファイバ母材の線引き用のタワーである。
地震等による光ファイバ母材の線引き用のタワーの振動を抑制することができるので、線引きした光ファイバが大きく振れて装置に接触して断線することを防止できる。
【００１６】
（５）  前記光ファイバ母材から線引きされた光ファイバを冷却する冷却装置を備え、
前記冷却装置は、前記タワーの鉛直方向に沿って配置されており、
前記制振部は、前記冷却装置よりも高い位置に設けられている。
制振部が、光ファイバを冷却する冷却装置よりも高い位置に設けられているので、線引きした光ファイバが冷却装置の入り口等に接触して断線することをより確実に防止できる。
【００１７】
［本発明の実施形態の詳細］
本発明の実施形態に係る光ファイバの製造装置の具体例を、以下に図面を参照しつつ説明する。
なお、本発明はこれらの例示に限定されるものではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【００１８】
（第一実施形態）
図１を参照して、第一実施形態の光ファイバの製造装置について説明する。第一実施形態の光ファイバの製造装置は、光ファイバ母材Ｇ１の線引きを行う製造装置１０である。
図１に示すように、製造装置１０は、光ファイバ母材Ｇ１を吊るすため、ほぼ鉛直方向に立設されたタワー１１を備えている。そして、タワー１１の上部に設けられ光ファイバ母材Ｇ１を加熱するヒーター１２ａを備える線引炉１２と、光ファイバ母材Ｇ１から線引きされた光ファイバＦを冷却する冷却装置１３と、を備えている。さらに、製造装置１０は、ガイドローラ１４と、巻取装置１５とを備えている。
【００１９】
光ファイバ母材Ｇ１は、把持部１６によってその上部が把持される。把持部１６は、線引炉１２の上方でタワー１１に連結されており、鉛直方向に移動可能である。光ファイバ母材Ｇ１は、把持部１６の下降により線引炉１２内に送られる。線引炉１２内に送られた光ファイバ母材Ｇ１は、その下端側が加熱されて溶融し、下方に引き伸ばされて細径化し、ガラス体の光ファイバＦが形成される。
【００２０】
線引炉１２の下方には、冷却装置１３が設けられている。冷却装置１３には、中央に、長手方向にわたって光ファイバＦが通される挿通孔が形成されている。この挿通孔には冷却ガスが送り込まれ、挿通孔に挿通された光ファイバＦが冷却される。冷却装置１３を光ファイバＦが通ることで、線引き後の光ファイバＦを適切な温度に冷却できる。なお、冷却装置１３の下に、被覆塗布装置８や紫外線照射装置９等を設けてもよい。そして、冷却された光ファイバＦは、ガイドローラ１４によりガイドされて巻取装置１５に送られ、巻取装置１５内の巻取ボビン１５ａに巻き取られる。
【００２１】
タワー１１は、その周囲および上方が建屋１７等の構造物で囲われている。建屋１７は、タワー１１より自立安定性が高く、かつ固有振動数がタワー１１とは異なる構造物である。そして、タワー１１は、タワー１１の底面１９以外の部分で少なくともゴム（ゴム板１８１）を介して建屋１７と結合されている制振部１８を有している。この制振部１８は、冷却装置１３よりも高い位置に設けられていることが望ましい。図１に示す例では、建屋１７は、上方から順にフロア（または梁など）１７１、１７２が設けられており、制振部１８は、冷却装置１３よりも高い位置のフロア１７１に設けられている。
【００２２】
次に、図２および図３を参照して、制振部１８の詳細な構成について説明する。
図２は、光ファイバの製造装置１０における制振部１８の取り付け箇所をタワー上方から見た平面図である。図３は、制振部１８の鉛直方向の断面図である。
【００２３】
図２に示すように、タワー１１は、把持部１６が設けられた方向以外の三方向に向かって四隅近傍に制振部１８が設けられている。そして、各制振部１８は、フロア１７１にそれぞれ結合されている。このように、タワー１１の四隅近傍に制振部１８が設けられているので、制振部１８を省スペースで設置でき、かつ東西南北いずれの方向に対しても同等の制振性能を得ることができる。
【００２４】
制振部１８は、図３に示すように、ゴム板１８１ａ，１８１ｂと、金属板１８２ａ，１８２ｂ，１８２ｃと、ボルト１８３ａ，１８３ｂとを備えている。
また、フロア１７１の上面には、制振部１８を支持する支持部１７１ａが設けられている。支持部１７１ａは、金属板１８２ａに対してボルト１８３ａで固定されて接続されている。また、タワー１１の側面にも、制振部１８を支持する支持部１１ａが設けられている。支持部１１ａは、上下二枚の金属板１８２ｂ，１８２ｃに対してボルト１８３ｂで固定されて接続されている。この上下二枚の金属板１８２ｂ，１８２ｃの間にそれぞれゴム板１８１ａ，１８１ｂを介して金属板１８２ａが挟みこまれている。そして、ゴム板１８１ａ，１８１ｂは、それぞれの両面で各金属板１８２ａ，１８２ｂ，１８２ｃと加硫接着されている。このように、タワー１１は、ゴム板１８１（１８１ａ，１８１ｂ）のゴムのせん断方向（図３の水平面方向）に制振するように、制振部１８を介して建屋１７のフロア１７１と結合されていることが好ましい。なお、ゴムのせん断方向に制振するように建屋１７と結合される構造は、図３の構造に限定されるものではなく、ゴム板および金属板の枚数が異なるものや積層構造が異なるものなどでもよい。
【００２５】
上記のように、ゴムのせん断方向に制振するように建屋１７と結合されている場合は、ゴムの圧縮方向に制振するように結合されている場合よりも制振効率を高くすることができる。また、ゴムのせん断方向に制振するので、タワー１１と建屋１７とが近づく方向および離れる方向のどちらの方向に対しても同様の制振特性を得ることができる。また、支持部１７１ａ，１１ａは、ボルト接合（ボルト１８３ａ，１８３ｂ）で制振部１８と接続されるので、クレビス等の自由端接続が不要となり機械的なガタも少ない。よって、小さな振動に対しても制振効果を得ることができる。
【００２６】
制振部１８のゴム板１８１（１８１ａ，１８１ｂ）のゴムは、等価粘性減衰定数ｈｅｑが５％以上６０％以下の高減衰ゴムとすることが好ましい。等価粘性減衰定数ｈｅｑが５％未満のゴムは、柔らかいゴムであり、振動に対して一般的なバネと同様に作用するので、制振効果が低い。一方、等価粘性減衰定数ｈｅｑが５％以上のゴムは、適度に硬く振動を減衰させる効果があり、一般的に高減衰ゴムと呼ばれるゴムに該当する。また、一般的に製造可能な高減衰ゴムの等価粘性減衰定数ｈｅｑの上限は６０％程度である。したがって、制振部１８のゴム板１８１（１８１ａ，１８１ｂ）のゴムを等価粘性減衰定数ｈｅｑが５％以上６０％以下の高減衰ゴムとすることで、良好な制振効果を得ることができる。
なお、上記の等価粘性減衰定数ｈｅｑとは、粘弾性体（高減衰ゴム）の非線形復元力特性を、等価な線型の復元力に置き換え、吸収エネルギーにより求めた減衰である。
【００２７】
上記のようなタワー１１は構造減衰が小さく、揺れの収束時間が長いため、建屋１７との接続により相対変位が得られ制振効果を発揮できる。震度１〜２程度の地震では、タワー１１および建屋１７は、それぞれが有する固有振動数で揺れるが、同じ高さでの水平変位は建屋１７の方が一般的に小さいため、両者の接続によりタワー１１側が制振されるように作用する。また、本実施形態のように制振部１８でタワー１１と建屋１７を接続することでタワー１１の固有振動数が変わり、光ファイバ母材Ｇ１の固有振動数と一致する機会が減るため、光ファイバ母材Ｇ１の共振を抑制できる。
【００２８】
（第二実施形態）
図４を参照して、第二実施形態の光ファイバの製造装置２０について説明する。なお、第一実施形態と同一の部分は同一符号を付けて適宜説明を省略する。
【００２９】
図４に示すように、製造装置２０は、反応容器２２内の出発ロッド２３にバーナ２４の火炎による加水分解反応で生成されるガラス微粒子を堆積させて、微粒子堆積体である光ファイバ母材Ｇ２を製造する装置である。製造装置２０は、ほぼ鉛直方向に立設されたタワー２１を備えている。タワー２１は、支持部２５が上下方向に移動可能に連結されており、昇降装置として機能する。支持部２５は、出発ロッド２３を把持してその軸周りに回転させることができる。
【００３０】
タワー２１は、その周囲および上方が、第一実施形態と同様に、建屋１７等の構造物で囲われている。建屋１７は、タワー２１より自立安定性が高く、かつ固有振動数がタワー２１とは異なる構造物である。タワー２１は、タワー２１の底面１９以外の部分で少なくともゴム（ゴム板１８１）介して建屋１７と結合されている制振部１８を有している。制振部１８は、第一実施形態と同様に、建屋１７のフロア１７１に設けられている。そして、制振部１８の構成および制振部１８とフロア１７１の接続構成等は、第一実施形態と同じでありその説明は省略する。
【００３１】
（第三実施形態）
図５を参照して、第三実施形態の光ファイバの製造装置３０について説明する。なお、第一実施形態と同一の部分は同一符号を付けて適宜説明を省略する。
【００３２】
図５に示すように、製造装置３０は、炉心管３２内に、支持棒３３によって吊り下げられた多孔質ガラス母材が挿入され、ヒーター３４を加熱させて、多孔質ガラス母材を焼結させて光ファイバ母材Ｇ３を製造する装置である。製造装置３０は、ほぼ鉛直方向に立設されたタワー３１を備えている。タワー３１は、支持部３５が上下方向に移動可能に連結されており、昇降装置として機能する。支持部３５は、支持棒３３を把持してその軸周りに回転させることができる。
【００３３】
タワー３１は、その周囲および上方が、第一実施形態と同様に、建屋１７等の構造物で囲われている。建屋１７は、タワー３１より自立安定性が高く、かつ固有振動数がタワー３１とは異なる構造物である。タワー３１は、タワー３１の底面１９以外の部分で少なくともゴム（ゴム板１８１）を介して結合されている制振部１８を有している。制振部１８は、第一実施形態と同様に、建屋１７のフロア１７１に設けられている。そして、制振部１８の構成および制振部１８とフロア１７１の接続構成等は、第一実施形態と同じでありその説明は省略する。
【００３４】
上記実施形態（第一実施形態、第二実施形態、第三実施形態）における制振部１８による、地震発生時のタワー１１，２１，３１を制振する効果について、具体的な実施例を挙げて以下説明する。
【００３５】
（実施例１）
実施例１は、振動対策手段として制振部１８を有する、第一実施形態の製造装置１０（線引き装置）を用いて光ファイバ母材Ｇ１の線引きを行い、光ファイバＦを製造した。実施例１では、各ゴム板１８１（１８１ａ，１８１ｂ）のゴムは、等価粘性減衰定数ｈｅｑが３０％の高減衰ゴムを使用した。
【００３６】
また、比較例１は、振動対策手段を備えていない線引き装置を用いて光ファイバ母材Ｇ１の線引きを行い、光ファイバＦを製造した。なお、比較例１の線引き装置は、第一実施形態の製造装置１０とは制振部１８を備えていない点以外は、同様の装置である。
【００３７】
そして、震度１〜２の地震が発生した際の影響を観測した。観測項目は、タワー１１の頂部変位と、線引きされた光ファイバＦの線振れ幅である。なお、上記地震発生時において、冷却装置１３は、実施例１および比較例１で通常状態を維持した（光ファイバ通過孔を開放しなかった）。また、上記地震発生時において、光ファイバＦの断線の有無を調べ、断線した場合の製造機会損失期間を計測した。
また、タワー１１、建屋１７、光ファイバ母材Ｇ１の固有振動数（地震の共振域の固有振動数）を計測した。
その結果を表１に示す。
【００３８】
【表１】
0006653201.tif 000002
【００３９】
表１に示すように、震度１〜２の地震が発生した際に、実施例１は、タワー１１の頂部変位は２ｍｍ以下であり、振動対策手段が無い比較例１の５ｍｍ以上に比べて、制振効果が顕著に表れている。また、線引きされた光ファイバＦの線振れ幅も実施例１では２ｍｍ以下であり、振動対策手段が無い比較例１の２ｍｍ以上に比べて小さくなっている。
【００４０】
また、比較例１では、震度１〜２の地震が発生した際に、光ファイバＦの断線が発生し、一旦装置を停止してから通常の線引きを行うまでの時間（製造機会損失期間）が１９０分かかった。これに対して、実施例１は、震度１〜２の地震が発生した際に、光ファイバＦの断線は発生しなかったので、製造機会の損失はなかった。
【００４１】
また、タワー１１の固有振動数は、振動対策手段が無い比較例１では、０．５Ｈｚ〜２Ｈｚであり、光ファイバ母材Ｇ１の固有振動数０．５Ｈｚ（線引き前半）〜１．５Ｈｚ（線引き後半）と重なる。これに対して、実施例１では、タワー１１が制振部１８を介して建屋１７と連結されているため、その固有振動数が２Ｈｚ以上に分散しており、光ファイバ母材Ｇ１の固有振動数と一致しなかった。これにより、実施例１では、光ファイバ母材Ｇ１とタワー１１の共振を抑制できる。
【００４２】
（実施例２、３）
実施例２は、振動対策手段として制振部１８を有する、第二実施形態の製造装置２０を用いて、光ファイバ母材Ｇ２を製造した。実施例２では、各ゴム板１８１（１８１ａ，１８１ｂ）のゴムは、等価粘性減衰定数ｈｅｑが３０％の高減衰ゴムを使用した。
【００４３】
比較例２は、振動対策手段を備えていない点以外は、第二実施形態の製造装置２０と同様の装置を用いて、上記実施例２と同じ方法により光ファイバ母材Ｇ２を製造した。
【００４４】
実施例３は、振動対策手段として制振部１８を有する、第三実施形態の製造装置３０を用いて、多孔質ガラス母材を焼結させて光ファイバ母材Ｇ３を製造した。実施例３では、各ゴム板１８１（１８１ａ，１８１ｂ）のゴムは、等価粘性減衰定数ｈｅｑが３０％の高減衰ゴムを使用した。
【００４５】
比較例３は、振動対策手段を備えていない点以外は、第三実施形態の製造装置３０と同様の装置を用いて、上記実施例３と同じ方法により光ファイバ母材Ｇ３を製造した。
【００４６】
そして、地震が発生した際の影響を観測した。観測項目は、タワー１１の頂部変位と、光ファイバ母材Ｇ２，Ｇ３の振れ幅である。
また、実施例２と比較例２において、光ファイバ母材Ｇ２に脈理（屈折率の変動）が発生するか否かを調べた。
また、実施例３と比較例３において、光ファイバ母材Ｇ３における外傷の有無を調べた。
また、実施例２、３と比較例２、３において、それぞれ光ファイバ母材Ｇ２，Ｇ３の割れや落下の発生の有無を調べた。
また、タワー１１、建屋１７、光ファイバ母材Ｇ２，Ｇ３の固有振動数（地震の共振域の固有振動数）を計測した。
その結果を表２に示す。
【００４７】
【表２】
0006653201.tif 000003
【００４８】
表２に示すように、地震が発生した際に、実施例２、３は、タワー１１の頂部変位は１ｍｍ以下であり、振動対策手段が無い比較例２、３の３ｍｍ以上に比べて、制振効果が顕著に表れている。また、光ファイバ母材Ｇ２，Ｇ３の振れ幅は、実施例２、３では２ｍｍ以下であり、振動対策手段が無い比較例２、３の５ｍｍ以上に比べて小さくなっている。
【００４９】
また、比較例２では、地震が発生した際に、光ファイバ母材Ｇ２に脈理が発生したが、実施例２では、発生しなかった。
また、比較例３では、地震が発生した際に、光ファイバ母材Ｇ３に外傷が発生したが、実施例３では発生しなかった。
また、比較例２、３では、光ファイバ母材Ｇ２，Ｇ３の割れや落下が発生したが、実施例２、３では発生しなかった。
【００５０】
また、タワー２１（３１）の固有振動数は、振動対策手段が無い比較例２、３では、０．５Ｈｚ〜２Ｈｚであり、光ファイバ母材Ｇ２，Ｇ３の固有振動数０．５Ｈｚ〜１．５Ｈｚと重なる。これに対して、実施例２、３では、タワー２１（３１）の固有振動数が２Ｈｚ以上に分散しており、光ファイバ母材Ｇ２，Ｇ３の固有振動数と重ならなかった。これにより、実施例２、３では、光ファイバ母材Ｇ２，Ｇ３とタワー２１（３１）の共振を抑制できる。
【００５１】
以上、詳述した第一実施形態〜第三実施形態に係る光ファイバの製造装置１０（２０、３０）は、制振部１８がタワー１１（２１、３１）より自立安定性が高く、かつタワー１１（２１、３１）とは固有振動数が異なる建屋１７（構造物）と、タワー１１（２１、３１）とを、底面１９以外の部分で結合する。これにより、タワー１１（２１、３１）に対する制振効果を得ることができる。また、少なくともゴム（ゴム板１８１）を介して建屋１７と結合する構成であるので、建屋１７の振動を直接受けることなく、かつ、大掛かりな制振装置を設けずとも制振効果を得ることができる。したがって、大きな費用を掛けずに、地震等によるタワー１１（２１、３１）の振動を抑制することができる。また、タワー１１（２１、３１）の固有振動数が変わり、光ファイバ母材Ｇ１，Ｇ２，Ｇ３の固有振動数と一致する機会が減るため、光ファイバ母材Ｇ１，Ｇ２，Ｇ３の共振を抑制できる。
【００５２】
また、第一実施形態〜第三実施形態に係る光ファイバの製造装置１０（２０、３０）において、制振部１８は、ゴム（ゴム板１８１）のせん断方向に制振するように建屋１７と結合されていることが好ましい。タワー１１（２１、３１）は、ゴム板１８１（１８１ａ，１８１ｂ）のゴムのせん断方向に制振するように、制振部１８を介して構造物１７のフロア１７１と結合されていることが好ましい。上記のように、ゴムのせん断方向に制振するように建屋１７と結合されている場合は、ゴムの圧縮方向に制振するように結合されている場合よりも制振効率を高くすることができる。また、ゴムのせん断方向に制振するので、タワー１１（２１、３１）と建屋１７とが近づく方向および離れる方向のどちらの方向に対しても同様の制振特性を得ることができる。
【００５３】
また、第一実施形態〜第三実施形態に係る光ファイバの製造装置１０（２０、３０）において、制振部１８のゴム（ゴム板１８１）は、等価粘性減衰定数ｈｅｑが５％以上６０％以下の高減衰ゴムとすることが好ましい。これにより、良好な制振効果を得ることができる。
【００５４】
また、第一実施形態に係る光ファイバの製造装置１０では、地震等による光ファイバ母材Ｇ１の線引き用のタワー１１の振動を抑制することができるので、線引きした光ファイバＦが大きく振れて装置に接触して断線することを防止できる。
【００５５】
さらに、第一実施形態に係る光ファイバの製造装置１０では、光ファイバ母材Ｇ１から線引きされた光ファイバＦを冷却する冷却装置１３を備え、冷却装置１３は、タワー１１の鉛直方向に沿って配置されている。制振部１８は、冷却装置１３よりも高い位置に設けられているので、線引きした光ファイバＦが冷却装置１３の入り口等に接触して断線することをより確実に防止できる。
【符号の説明】
【００５６】
８  被覆塗布装置
９  紫外線照射装置
１０、２０、３０  光ファイバの製造装置
１１、２１、３１  タワー
１１ａ  支持部
１２  線引炉
１２ａ  ヒーター
１３  冷却装置
１４  ガイドローラ
１５  巻取装置
１５ａ  巻取ボビン
１６  把持部
１７  建屋（構造物）
１８  制振部
１９  底面
２２  反応容器
２３  出発ロッド
２４  バーナ
２５  支持部
３２  炉心管
３３  支持棒
３４  ヒーター
３５  支持部
１７１、１７２  フロア
１７１ａ  支持部
１８１、１８１ａ、１８１ｂ  ゴム板
１８２ａ、１８２ｂ、１８２ｃ  金属板
１８３ａ，１８３ｂ  ボルト
Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３  光ファイバ母材
Ｆ  光ファイバ
【図１】
0006653201.tif 000004
【図２】
0006653201.tif 000005
【図３】
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【図４】
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【図５】
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