(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
式〔I〕で表される化合物およびその塩から選ばれる少なくとも１つを有効成分として含有する植物病害防除剤。
0006681274.tif 000074
（式〔I〕中、
Ｙは、ピペラジン残基またはピペリジン残基を示し、
Ｙの１位および４位のそれぞれにＸまたはＺが結合し、
ＸおよびＺは、それぞれ独立に、アルキレン基を示し、
Ｗは、−ＮＨ−を示し、
Ｒ1〜Ｒ3は、それぞれ独立に、水素原子またはｔ−ブトキシカルボニル基を示し、且つ
Ａは、式〔II〕で表される基を示し、
0006681274.tif 000075
式〔II〕中、
＊は、Ｘとの結合位置を示し、
Ｑ1は、−Ｃ≡Ｃ−または−Ｏ−を示し、
Ｒ11〜Ｒ13は、それぞれ独立に、水素原子またはｔ−ブトキシカルボニル基を示し、且つ
Ａｒは、二価の芳香族複素環基を示す。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アミジン化合物および殺菌剤に関する。より詳細に、本発明は、優れた殺菌活性を有し、安全性に優れ、且つ工業的に有利に合成できる新規なアミジン化合物、ならびに該アミジン化合物を有効成分として含有する殺菌剤または植物病害防除剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、２価のピペラジン残基などを有するアリールアミジン化合物が、ヒトおよび動物の真菌性疾患の予防や治療に有効であるとの記載がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００５−９７２９９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の課題は、殺菌活性に優れ、安全性に優れ、且つ工業的に有利に合成できる新規なアミジン化合物を提供すること、および該アミジン化合物を有効成分として含有する殺菌剤または植物病害防除剤を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記目的を達成するために検討した結果、以下の形態を包含する本発明を完成するに至った。
【０００６】
〔１〕  式〔I〕で表される化合物またはその塩。
0006681274.tif 000002
（式〔I〕中、
Ｙは、無置換の若しくは置換基を有する二価の環状アミン残基を示し、
ＸおよびＺは、それぞれ独立に、無置換の若しくは置換基を有するアルキレン基、無置換の若しくは置換基を有するアルケニレン基、無置換の若しくは置換基を有するアルキニレン基、−Ｔa−Ｏ−Ｔb−、または−Ｔa−Ｎ（Ｒ4）−Ｔb−を示す。ＴaおよびＴbは、それぞれ独立に、単結合、または無置換の若しくは置換基を有するアルキレン基を示し、Ｒ4は、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。
Ｗは、単結合、または−Ｎ（Ｒ5）−を示す。Ｒ5は、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。
Ｒ1〜Ｒ3は、それぞれ独立に、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。Ｒ1とＲ2とが結合してそれらが結合する一つの窒素原子と伴に４〜８員環を形成していてもよいし、またはＲ2とＲ3とが結合してそれらがそれぞれ結合する二つの窒素原子および該二つの窒素原子が結合する一つの炭素原子と伴に４〜８員環を形成していてもよい。
Ａは、式〔II〕または式〔III〕で表される基を示す。
0006681274.tif 000003
式〔II〕中、
＊は、Ｘとの結合位置を示す。
Ｑ1は、単結合、無置換の若しくは置換基を有するフェニレン基、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、または−Ｎ（Ｒ14）−を示す。Ｒ14は、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。
Ａｒは、無置換の若しくは置換基を有する二価の複素環式化合物残基を示す。
Ｒ11〜Ｒ13は、それぞれ独立に、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。Ｒ11とＲ12とが結合してそれらがそれぞれ結合する二つの窒素原子および該二つの窒素原子が結合する一つの炭素原子と伴に４〜８員環を形成していてもよいし、Ｒ12とＲ13とが結合してそれらが結合する一つの窒素原子と伴に４〜８員環を形成していてもよいし、またはＲ11〜Ｒ13のいずれかひとつとＡｒとが結合して環を形成していてもよい。
0006681274.tif 000004
式〔III〕中、
＊は、Ｘとの結合位置を示す。
Ｑ2は、単結合、無置換の若しくは置換基を有するフェニレン基、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、または−Ｎ（Ｒ25）−を示す。Ｒ25は、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。
Ｒ21〜Ｒ23は、それぞれ独立に、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。Ｒ21とＲ22とが結合してそれらがそれぞれ結合する二つの窒素原子および該二つの窒素原子が結合する一つの炭素原子と伴に４〜８員環を形成していてもよいし、またはＲ22とＲ23とが結合してそれらが結合する一つの窒素原子と伴に４〜８員環を形成していてもよい。
Ｒ24は、Ｃ１〜６アルキル基、Ｃ３〜８シクロアルキル基、Ｃ６〜１０アリール基、３〜６員ヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、Ｃ１〜６アルコキシ基、Ｃ６〜１０アリールオキシ基、カルボキシル基、ハロゲノ基、Ｃ１〜６ハロアルキル基、Ｃ６〜１０ハロアリール基、Ｃ１〜６ハロアルコキシ基、アミノ基（ＮＨ2で表される基）、Ｃ１〜６アルキル置換アミノ基、Ｃ６〜１０アリールアミノ基、Ｃ１〜７アシルアミノ基、Ｃ１〜６アルコキシカルボニルアミノ基、Ｃ１〜６アルキルチオ基、Ｃ６〜１０アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、Ｃ７〜１１アラルキルチオ基、Ｃ１〜６アルキルスルフィニル基、Ｃ６〜１０アリールスルフィニル基、ヘテロアリールスルフィニル基、Ｃ７〜１１アラルキルスルフィニル基、Ｃ１〜６アルキルスルホニル基、Ｃ６〜１０アリールスルホニル基、ヘテロシクリルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基を示す。Ｒ21〜Ｒ23のいずれかひとつとＲ24とが結合して環を形成していてもよい
ｎは、Ｒ24の個数を示し、０〜４のいずれかひとつの整数である。）
【０００７】
〔２〕  前記〔１〕に記載の化合物およびその塩から選ばれる少なくとも１つを有効成分として含有する殺菌剤。
〔３〕  前記〔１〕に記載の化合物およびその塩から選ばれる少なくとも１つを有効成分として含有する植物病害防除剤。
【発明の効果】
【０００８】
本発明に係るアミジン化合物（式〔I〕で表される化合物またはその塩）は、殺菌活性に優れ、安全性に優れ、且つ工業的に有利に合成することができる。当該アミジン化合物を有効成分として含有する殺菌剤若しくは植物病害防除剤は、リンゴ黒星病、キュウリ灰色かび病、コムギうどんこ病、トマト疫病、コムギ赤さび病などの植物病害の防除価に特に優れている。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
まず、本発明において、「無置換の」の用語は、母核となる基のみであることを意味する。「置換基を有する」との記載がなく母核となる基の名称のみで記載しているときは、別段の断りがない限り「無置換の」の意味である。
一方、「置換基を有する」の用語は、母核となる基のいずれかの水素原子が、母核と同一または異なる構造の基で置換されていることを意味する。従って、「置換基」は、母核となる基に結合した他の基である。置換基は１つであってもよいし、２つ以上であってもよい。２つ以上の置換基は同一であってもよいし、異なるものであってもよい。
「Ｃ１〜６」などの用語は、母核となる基の炭素原子数が１〜６個などであることを表している。この炭素原子数には、置換基の中にある炭素原子の数を含まない。例えば、置換基としてエトキシ基を有するブチル基は、Ｃ２アルコキシＣ４アルキル基に分類する。
【００１０】
「置換基」は化学的に許容され、本発明の効果を有する限りにおいて特に制限されない。以下に「置換基」となり得る基を例示する。
メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基などのＣ１〜６アルキル基；
ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基（アリル基）、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、１−メチル−２−プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基などのＣ２〜６アルケニル基；
エチニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、１−ブチニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、１−メチル−２−プロピニル基などのＣ２〜６アルキニル基；
シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などのＣ３〜８シクロアルキル基；
２−シクロペンテニル基、３−シクロヘキセニル基、４−シクロオクテニル基などのＣ４〜８シクロアルケニル基；
【００１１】
フェニル基、ナフチル基などのＣ６〜１０アリール基；
ベンジル基、フェネチル基などのＣ７〜１１アラルキル基；
３〜６員ヘテロシクリル基；
ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基、シクロヘキシルカルボニル基などのＣ１〜７アシル基；
【００１２】
ヒドロキシル基；
メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基などのＣ１〜６アルコキシ基；
ビニルオキシ基、アリルオキシ基、プロペニルオキシ基、ブテニルオキシ基などのＣ２〜６アルケニルオキシ基；
エチニルオキシ基、プロパルギルオキシ基などのＣ２〜６アルキニルオキシ基；
フェノキシ基、ナフトキシ基などのＣ６〜１０アリールオキシ基；
ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基などのＣ７〜１１アラルキルオキシ基；
【００１３】
ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基などのＣ１〜７アシルオキシ基；
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、ｉ−プロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基などのＣ１〜６アルコキシカルボニル基；
メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｎ−プロポキシカルボニルオキシ基、ｉ−プロポキシカルボニルオキシ基、ｎ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ基などのＣ１〜６アルコキシカルボニルオキシ基；
カルボキシル基；
【００１４】
フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、イオド基などのハロゲノ基；
クロロメチル基、クロロエチル基、トリフルオロメチル基、１，２−ジクロロ−ｎ−プロピル基、１−フルオロ−ｎ−ブチル基、パーフルオロ−ｎ−ペンチル基などのＣ１〜６ハロアルキル基；
２−クロロ−１−プロペニル基、２−フルオロ−１−ブテニル基などのＣ２〜６ハロアルケニル基；
４，４−ジクロロ−１−ブチニル基、４−フルオロ−１−ペンチニル基、５−ブロモ−２−ペンチニル基などのＣ２〜６ハロアルキニル基；
４−クロロフェニル基、４−フルオロフェニル基、２，４−ジクロロフェニル基などのＣ６〜１０ハロアリール基；
トリフルオロメトキシ基、２−クロロ−ｎ−プロポキシ基、２，３−ジクロロブトキシ基などのＣ１〜６ハロアルコキシ基；
２−クロロプロペニルオキシ基、３−ブロモブテニルオキシ基などのＣ２〜６ハロアルケニルオキシ基；
４−フルオロフェニルオキシ基、４−クロロ−１−ナフトキシ基などのＣ６〜１０ハロアリールオキシ基；
クロロアセチル基、トリフルオロアセチル基、トリクロロアセチル基、４−クロロベンゾイル基などのＣ１〜７ハロアシル基；
【００１５】
アミノ基（ＮＨ2で表される基）；
メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基などのＣ１〜６アルキル置換アミノ基；
アニリノ基、ナフチルアミノ基などのＣ６〜１０アリールアミノ基；
ベンジルアミノ基、フェネチルアミノ基などのＣ７〜１１アラルキルアミノ基；
ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、プロパノイルアミノ基、ブチリルアミノ基、ｉ−プロピルカルボニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などのＣ１〜７アシルアミノ基；
メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｎ−プロポキシカルボニルアミノ基、ｉ−プロポキシカルボニルアミノ基などのＣ１〜６アルコキシカルボニルアミノ基；
アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、Ｎ−フェニル−Ｎ−メチルアミノカルボニル基などの無置換若しくは置換基を有するアミノカルボニル基；
イミノメチル基、（１−イミノ）エチル基、（１−イミノ）−ｎ−プロピル基などのイミノＣ１〜６アルキル基；
Ｎ−ヒドロキシ−イミノメチル基、（１−（Ｎ−ヒドロキシ）−イミノ）エチル基、（１−（Ｎ−ヒドロキシ）−イミノ）プロピル基、Ｎ−メトキシ−イミノメチル基、（１−（Ｎ−メトキシ）−イミノ）エチル基などの無置換の若しくは置換基を有するＮ−ヒドロキシイミノＣ１〜６アルキル基；
【００１６】
メルカプト基；
メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｉ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｉ−ブチルチオ基、ｓ−ブチルチオ基、ｔ−ブチルチオ基などのＣ１〜６アルキルチオ基；
フェニルチオ基、ナフチルチオ基などのＣ６〜１０アリールチオ基；
チアゾリルチオ基、ピリジルチオ基などのヘテロアリールチオ基；
ベンジルチオ基、フェネチルチオ基などのＣ７〜１１アラルキルチオ基；
メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ｔ−ブチルスルフィニル基などのＣ１〜６アルキルスルフィニル基；
フェニルスルフィニル基などのＣ６〜１０アリールスルフィニル基；
チアゾリルスルフィニル基、ピリジルスルフィニル基などのヘテロアリールスルフィニル基；
ベンジルスルフィニル基、フェネチルスルフィニル基などのＣ７〜１１アラルキルスルフィニル基；
メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｔ−ブチルスルホニル基などのＣ１〜６アルキルスルホニル基；
フェニルスルホニル基などのＣ６〜１０アリールスルホニル基；
チアゾリルスルホニル基、ピリジルスルホニル基などのヘテロアリールスルホニル基；
ベンジルスルホニル基、フェネチルスルホニル基などのＣ７〜１１アラルキルスルホニル基；
アミノカルボニルオキシ基；
エチルアミノカルボニルオキシ基、ジメチルアミノカルボニルオキシ基などのＣ１〜６アルキル置換アミノカルボニルオキシ基；
【００１７】
トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基などのトリＣ１〜６アルキル置換シリル基；
トリフェニルシリル基などのトリアリール置換シリル基；
シアノ基；ニトロ基；オキソ基
また、これらの「置換基」は、当該置換基中のいずれかの水素原子が、異なる構造の基で置換されていてもよい。
【００１８】
また、上記の「３〜６員ヘテロシクリル基」とは、窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群から選ばれる１〜４個のヘテロ原子を環の構成原子として含むものである。ヘテロシクリル基は、単環および多環のいずれであってもよい。多環ヘテロシクリル基は、少なくとも一つの環がヘテロ環であれば、残りの環が飽和脂環、不飽和脂環または芳香環のいずれであってもよい。「３〜６員ヘテロシクリル基」としては、３〜６員飽和ヘテロシクリル基、５〜６員ヘテロアリール基、５〜６員部分不飽和ヘテロシクリル基などを挙げることができる。
【００１９】
３〜６員飽和ヘテロシクリル基としては、アジリジニル基、エポキシ基、ピロリジニル基、テトラヒドロフラニル基、チアゾリジニル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、モルホリニル基、ジオキソラニル基、ジオキサニル基などを挙げることができる。
【００２０】
５員ヘテロアリール基としては、ピロリル基、フリル基、チエニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、テトラゾリル基などを挙げることができる。
６員ヘテロアリール基としては、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダニジル基、トリアジニル基などを挙げることができる。
【００２１】
本発明のアミジン化合物は、式〔I〕で表される化合物（以下、化合物〔I〕と表記することがある。）または化合物〔I〕の塩である。
【００２２】
0006681274.tif 000005
【００２３】
式〔I〕中のＹは、無置換の若しくは置換基を有する二価の環状アミン残基を示す。
「二価の環状アミン残基」とは、環状アミン中の水素原子２個が抜けて形成される基である。環状アミンの具体例としては、アジリジン、アゼチジン、２−ピロリン、３−ピロリン、ピロリジン、インドリン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、キヌクリジン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、イミダゾリン、イミダゾリジンなどを挙げることができる。これらのうち、ピロリジン、ピペリジンが好ましい。
【００２４】
式〔I〕中、「二価の環状アミン残基」上の置換基としては、Ｃ１〜６アルキル基、Ｃ６〜１０アリール基、ヒドロキシル基、Ｃ１〜６アルコキシ基、Ｃ６〜１０アリールオキシ基、カルボキシル基、ハロゲノ基、Ｃ１〜６ハロアルキル基、Ｃ６〜１０ハロアリール基、Ｃ１〜６ハロアルコキシ基、アミノ基（ＮＨ2で表される基）、Ｃ１〜６アルキル置換アミノ基、Ｃ６〜１０アリールアミノ基、Ｃ１〜７アシルアミノ基、Ｃ１〜６アルキルチオ基、Ｃ６〜１０アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、Ｃ１〜６アルキルスルフィニル基、Ｃ１〜６アルキルスルホニル基、Ｃ６〜１０アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、シアノ基、オキソ基などが好ましい。
【００２５】
さらに、Ｙは、式〔IV〕で表される基がより好ましい。
0006681274.tif 000006
式〔IV〕中、Ｇ1およびＧ2は、それぞれ独立に、ＣＨまたは窒素原子を示す。但し、Ｇ1およびＧ2の両方が同時にＣＨであることはない。ｍは、メチレン基の繰り返し数を示し且つ０または１である。＊はＸまたはＺとの結合位置を示す。
【００２６】
式〔I〕中のＸおよびＺは、それぞれ独立に、無置換の若しくは置換基を有するアルキレン基、無置換の若しくは置換基を有するアルケニレン基、無置換の若しくは置換基を有するアルキニレン基、−Ｔa−Ｏ−Ｔb−、または−Ｔa−Ｎ（Ｒ4）−Ｔb−を示す。ＴaおよびＴbは、それぞれ独立に、単結合、無置換の若しくは置換基を有するアルキレン基を示す。Ｒ4は、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示し、より好ましくは水素原子を示す。
【００２７】
「無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基」、「無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基」、「無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基」、「無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基」、「無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基」、「無置換の若しくは置換基を有するアミノ基」、「無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基」、「無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基」、「無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基」、「無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基」、「無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基」、「無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基」としては、式〔I〕中のＲ1〜Ｒ3についての説明で例示するものと同じものをそれぞれ挙げることができる。
【００２８】
式〔I〕中のＸは、Ｃ２〜１０アルキレン基であるのが好ましく、Ｃ２〜６アルキレン基であるのがより好ましい。式〔I〕中のＺは、Ｃ２〜１２アルキレン基であるのが好ましく、Ｃ４〜１０アルキレン基であるのがより好ましい。
【００２９】
「アルキレン基」としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−１，３−ジイル基（別名：トリメチレン基）、プロパン−１，２−ジイル基（別名：プロピレン基）、ブタン−１，４−ジイル基、ブタン−１，３−ジイル基、ブタン−１，２−ジイル基、ペンタン−１，５−ジイル基、ヘキサン−１，６−ジイル基、ヘプタン−１，７−ジイル基、オクタン−１，８−ジイル基などを挙げることができる。
【００３０】
「アルケニレン基」としては、プロペニレン基、２−ブテニレン基などを挙げることができる。
【００３１】
「アルキニレン基」としては、エチニレン基、２−ブチニレン基などを挙げることができる。
【００３２】
「アルキレン基」、「アルケニレン基」、「アルキニレン基」上の置換基としては、Ｃ１〜６アルキル基、Ｃ６〜１０アリール基、ヒドロキシル基、Ｃ１〜６アルコキシ基、Ｃ６〜１０アリールオキシ基、カルボキシル基、ハロゲノ基、Ｃ１〜６ハロアルキル基、Ｃ６〜１０ハロアリール基、Ｃ１〜６ハロアルコキシ基、アミノ基（ＮＨ2で表される基）、Ｃ１〜６アルキル置換アミノ基、Ｃ６〜１０アリールアミノ基、Ｃ１〜７アシルアミノ基、Ｃ１〜６アルキルチオ基、Ｃ６〜１０アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、Ｃ１〜６アルキルスルフィニル基、Ｃ１〜６アルキルスルホニル基、Ｃ６〜１０アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、シアノ基、オキソ基などが好ましい。
【００３３】
式〔I〕中のＷは、単結合、または−Ｎ（Ｒ5）−を示す。Ｒ5は、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示し、より好ましくは水素原子を示す。
【００３４】
「無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基」、「無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基」、「無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基」、「無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基」、「無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基」、「無置換の若しくは置換基を有するアミノ基」、「無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基」、「無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基」、「無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基」、「無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基」、「無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基」、「無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基」としては、式〔I〕中のＲ1〜Ｒ3についての説明で例示するものと同じものをそれぞれ挙げることができる。
【００３５】
式〔I〕中のＲ1〜Ｒ3は、それぞれ独立に、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、または無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。
Ｒ1とＲ2とが結合してそれらが結合する一つの窒素原子と伴に４〜８員環を形成していてもよいし、またはＲ2とＲ3とが結合してそれらがそれぞれ結合する二つの窒素原子および該二つの窒素原子が結合する一つの炭素原子と伴に４〜８員環を形成していてもよい。
【００３６】
無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基は、炭化水素化合物中の水素原子１個が抜けて形成される基である。炭化水素化合物としては、メタン、エタン、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタンなどの飽和炭化水素化合物、エチレン、アセチレン、プロピレンなどの不飽和炭化水素化合物、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘキセンなどの脂環式炭化水素化合物、ベンゼン、ナフタレンなどの芳香族炭化水素化合物などを挙げることができる。
【００３７】
無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基は、複素環式化合物中の水素原子１個が抜けて形成される基である。ヘテロシクリル基としては、アジリジニル基、エポキシ基、ピロリジニル基、テトラヒドロフラニル基、チアゾリジニル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、モルホリニル基、ジオキソラニル基、ジオキサニル基；ピロリル基、フリル基、チエニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、テトラゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダニジル基、トリアジニル基などを挙げることができる。
【００３８】
無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基などを挙げることができる。
【００３９】
無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、ｉ−プロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｓ−ブトキシカルボニル基、ｉ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基などを挙げることができる。
【００４０】
無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基としては、フェノキシ基、ナフトキシ基などを挙げることができる。
【００４１】
無置換の若しくは置換基を有するアミノ基としては、アミノ基（ＮＨ2で表される基）、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基などのＣ１〜６アルキル置換アミノ基；アニリノ基、ナフチルアミノ基などのＣ６〜１０アリールアミノ基；ベンジルアミノ基、フェネチルアミノ基などのＣ７〜１１アラルキルアミノ基；ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、プロパノイルアミノ基、ブチリルアミノ基、ｉ−プロピルカルボニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などのＣ１〜７アシルアミノ基；メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｎ−プロポキシカルボニルアミノ基、ｉ−プロポキシカルボニルアミノ基などのＣ１〜６アルコキシカルボニルアミノ基などを挙げることができる。
【００４２】
無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基としては、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｎ−プロピルスルホニル基、ｉ−プロピルスルホニル基、ｎ−ブチルスルホニル基、ｓ−ブチルスルホニル基、ｉ−ブチルスルホニル基、ｔ−ブチルスルホニル基などを挙げることができる。
【００４３】
無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基としては、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基などを挙げることができる。
【００４４】
無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基としては、アジリジニルスルホニル基、エポキシスルホニル基、ピロリジニルスルホニル基、テトラヒドロフラニルスルホニル基、チアゾリジニルスルホニル基、ピペリジルスルホニル基、ピペラジニルスルホニル基、モルホリニルスルホニル基、ジオキソラニルスルホニル基、ジオキサニルスルホニル基；ピロリルスルホニル基、フリルスルホニル基、チエニルスルホニル基、イミダゾリルスルホニル基、ピラゾリルスルホニル基、オキサゾリルスルホニル基、イソオキサゾリルスルホニル基、チアゾリルスルホニル基、イソチアゾリルスルホニル基、トリアゾリルスルホニル基、オキサジアゾリルスルホニル基、チアジアゾリルスルホニル基、テトラゾリルスルホニル基、ピリジルスルホニル基、ピラジニルスルホニル基、ピリミジニルスルホニル基、ピリダニジルスルホニル基、トリアジニルスルホニル基などを挙げることができる。
【００４５】
無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基としては、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基、ｎ−プロピルカルボニル基、ｉ−プロピルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、ｓ−ブチルカルボニル基、ｉ−ブチルカルボニル基、ｔ−ブチルカルボニル基などを挙げることができる。
【００４６】
無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基としては、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基などを挙げることができる。
【００４７】
無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基としては、アジリジニルカルボニル基、エポキシカルボニル基、ピロリジニルカルボニル基、テトラヒドロフラニルカルボニル基、チアゾリジニルカルボニル基、ピペリジルカルボニル基、ピペラジニルカルボニル基、モルホリニルカルボニル基、ジオキソラニルカルボニル基、ジオキサニルカルボニル基；ピロリルカルボニル基、フリルカルボニル基、チエニルカルボニル基、イミダゾリルカルボニル基、ピラゾリルカルボニル基、オキサゾリルカルボニル基、イソオキサゾリルカルボニル基、チアゾリルカルボニル基、イソチアゾリルカルボニル基、トリアゾリルカルボニル基、オキサジアゾリルカルボニル基、チアジアゾリルカルボニル基、テトラゾリルカルボニル基、ピリジルカルボニル基、ピラジニルカルボニル基、ピリミジニルカルボニル基、ピリダニジルカルボニル基、トリアジニルカルボニル基などを挙げることができる。
【００４８】
式〔I〕中のＡは、式〔II〕または式〔III〕で表される基を示す。
0006681274.tif 000007
【００４９】
式〔II〕中、＊は、式〔I〕中のＸとの結合位置を示す。
【００５０】
式〔II〕中、Ｑ1は、単結合、無置換の若しくは置換基を有するフェニレン基、エテン−１，２−ジイル基（−ＣＨ＝ＣＨ−）、エチン−１，２−ジイル基（−Ｃ≡Ｃ−）、オキシ基（−Ｏ−）、チオ基（−Ｓ−）、スルフィニル基（−ＳＯ−）、スルホニル基（−ＳＯ2−）、または無置換若しくはＮ−置換イミノ基（−Ｎ（Ｒ14）−）を示す。これらの中でも、Ｑ1は、単結合、無置換の若しくは置換基を有するフェニレン基、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、または−Ｓ−であることが好ましい。
【００５１】
「フェニレン基」の置換基としては、Ｃ１〜６アルキル基、Ｃ３〜８シクロアルキル基、Ｃ６〜１０アリール基、３〜６員ヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、Ｃ１〜６アルコキシ基、Ｃ６〜１０アリールオキシ基、カルボキシル基、ハロゲノ基、Ｃ１〜６ハロアルキル基、Ｃ６〜１０ハロアリール基、Ｃ１〜６ハロアルコキシ基、アミノ基（ＮＨ2で表される基）、Ｃ１〜６アルキル置換アミノ基、Ｃ６〜１０アリールアミノ基、Ｃ１〜７アシルアミノ基、Ｃ１〜６アルコキシカルボニルアミノ基、Ｃ１〜６アルキルチオ基、Ｃ６〜１０アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、Ｃ７〜１１アラルキルチオ基、Ｃ１〜６アルキルスルフィニル基、Ｃ６〜１０アリールスルフィニル基、ヘテロアリールスルフィニル基、Ｃ７〜１１アラルキルスルフィニル基、Ｃ１〜６アルキルスルホニル基、Ｃ６〜１０アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、シアノ基、ニトロ基などが好ましい。
【００５２】
Ｒ14は、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。
【００５３】
「無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基」、「無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基」、「無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基」、「無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基」、「無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基」、「無置換の若しくは置換基を有するアミノ基」、「無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基」、「無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基」、「無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基」、「無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基」、「無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基」、「無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基」としては、式〔I〕中のＲ1〜Ｒ3の説明で例示したものと同じものをそれぞれ挙げることができる。
【００５４】
式〔II〕中のＡｒは、無置換の若しくは置換基を有する二価の複素環式化合物残基を示す。
【００５５】
「二価の複素環式化合物残基」は複素環式化合物中の水素原子２個が抜けて形成される基である。複素環式化合物は単環の複素環式化合物および多環の複素環式化合物のいずれであってもよい。単環の複素環式化合物としては、五員環の複素環式化合物、六員環の複素環式化合物などを挙げることができる。多環の複素環式化合物は、少なくとも一つの環が複素環であれば、残りの環が飽和脂環、不飽和脂環または芳香環のいずれであってもよい。
「複素環式化合物」は、窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群から選ばれる１〜４個のヘテロ原子を環の構成原子として含む環状化合物である。
「単環の複素環式化合物」としては、イミダゾール、ピラゾール、オキサゾール、チアゾール、トリアゾール、テトラゾール、ピロール、フラン、チオフェンなどの五員芳香族複素環式化合物や、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジンなどの六員芳香族複素環式化合物や、ピロリジン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロチオフェン、チアゾリンなどの五員飽和複素環式化合物や、ピペリジン、テトラヒドロピラン、テトラヒドロチオピランなどの六員飽和複素環式化合物や、ピロリン、イミダゾリン、ピラゾリン、オキサゾリン、イソオキサゾリンなどの五員部分不飽和複素環式化合物などを挙げることができる。
「多環の複素環式化合物」としては、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、ベンズイミダゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キノキサリン、シンノリン、プテリジン、クロメン、イソクロメンなどを挙げることができる。
これらの中でも、六員芳香族複素環式化合物又は多環の複素環式化合物が好ましく、ピリジンまたはベンゾフランがより好ましい。
【００５６】
「二価の複素環式化合物残基」上の置換基としては、Ｃ１〜６アルキル基、Ｃ３〜８シクロアルキル基、Ｃ６〜１０アリール基、３〜６員ヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、Ｃ１〜６アルコキシ基、Ｃ６〜１０アリールオキシ基、カルボキシル基、ハロゲノ基、Ｃ１〜６ハロアルキル基、Ｃ６〜１０ハロアリール基、Ｃ１〜６ハロアルコキシ基、アミノ基（ＮＨ2で表される基）、Ｃ１〜６アルキル置換アミノ基、Ｃ６〜１０アリールアミノ基、Ｃ１〜７アシルアミノ基、Ｃ１〜６アルコキシカルボニルアミノ基、Ｃ１〜６アルキルチオ基、Ｃ６〜１０アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、Ｃ７〜１１アラルキルチオ基、Ｃ１〜６アルキルスルフィニル基、Ｃ６〜１０アリールスルフィニル基、ヘテロアリールスルフィニル基、Ｃ７〜１１アラルキルスルフィニル基、Ｃ１〜６アルキルスルホニル基、Ｃ６〜１０アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、シアノ基、ニトロ基などが好ましい。これらの中でも、Ｃ１〜６アルキル基、Ｃ１〜６アルコキシ基、ハロゲノ基、又は、シアノ基がより好ましい。
【００５７】
式〔II〕中のＲ11〜Ｒ13は、それぞれ独立に、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、または無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。
Ｒ11とＲ12とが結合してそれらがそれぞれ結合する二つの窒素原子および該二つの窒素原子が結合する一つの炭素原子と伴に４〜８員環を形成していてもよいし、Ｒ12とＲ13とが結合してそれらが結合する一つの窒素原子と伴に４〜８員環を形成していてもよいし、またはＲ11〜Ｒ13のいずれかひとつとＡｒとが結合して環を形成していてもよい。
【００５８】
「無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基」、「無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基」、「無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基」、「無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基」、「無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基」、「無置換の若しくは置換基を有するアミノ基」、「無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基」、「無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基」、「無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基」、「無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基」、「無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基」、「無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基」としては、式〔I〕中のＲ1〜Ｒ3の説明で例示したものと同じものをそれぞれ挙げることができる。
【００５９】
0006681274.tif 000008
【００６０】
式〔III〕中、＊は、式〔I〕中のＸとの結合位置を示す。
【００６１】
式〔III〕中、Ｑ2は、単結合、無置換の若しくは置換基を有するフェニレン基、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、または−Ｎ（Ｒ25）−を示す。これらの中でも、Ｑ2は、単結合、無置換の若しくは置換基を有するフェニレン基、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、または−Ｓ−であることが好ましい。
【００６２】
「フェニレン基」の置換基としては、Ｃ１〜６アルキル基、Ｃ３〜８シクロアルキル基、Ｃ６〜１０アリール基、３〜６員ヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、Ｃ１〜６アルコキシ基、Ｃ６〜１０アリールオキシ基、カルボキシル基、ハロゲノ基、Ｃ１〜６ハロアルキル基、Ｃ６〜１０ハロアリール基、Ｃ１〜６ハロアルコキシ基、アミノ基（ＮＨ2で表される基）、Ｃ１〜６アルキル置換アミノ基、Ｃ６〜１０アリールアミノ基、Ｃ１〜７アシルアミノ基、Ｃ１〜６アルコキシカルボニルアミノ基、Ｃ１〜６アルキルチオ基、Ｃ６〜１０アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、Ｃ７〜１１アラルキルチオ基、Ｃ１〜６アルキルスルフィニル基、Ｃ６〜１０アリールスルフィニル基、ヘテロアリールスルフィニル基、Ｃ７〜１１アラルキルスルフィニル基、Ｃ１〜６アルキルスルホニル基、Ｃ６〜１０アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、シアノ基、ニトロ基などが好ましい。
【００６３】
Ｒ25は、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。
【００６４】
「無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基」、「無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基」、「無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基」、「無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基」、「無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基」、「無置換の若しくは置換基を有するアミノ基」、「無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基」、「無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基」、「無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基」、「無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基」、「無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基」、「無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基」としては、式〔I〕中のＲ1〜Ｒ3の説明で例示したものと同じものをそれぞれ挙げることができる。
【００６５】
式〔III〕中のＲ21〜Ｒ23は、それぞれ独立に、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、または無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。
Ｒ21とＲ22とが結合してそれらがそれぞれ結合する二つの窒素原子および該二つの窒素原子が結合する一つの炭素原子と伴に４〜８員環を形成していてもよいし、またはＲ22とＲ23とが結合してそれらが結合する一つの窒素原子と伴に４〜８員環を形成していてもよい。
【００６６】
「無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基」、「無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基」、「無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基」、「無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基」、「無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基」、「無置換の若しくは置換基を有するアミノ基」、「無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基」、「無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基」、「無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基」、「無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基」、「無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基」、「無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基」としては、式〔I〕中のＲ1〜Ｒ3の説明で例示したものと同じものをそれぞれ挙げることができる。
【００６７】
式〔III〕中のＲ24は、Ｃ１〜６アルキル基、Ｃ３〜８シクロアルキル基、Ｃ６〜１０アリール基、３〜６員ヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、Ｃ１〜６アルコキシ基、Ｃ６〜１０アリールオキシ基、カルボキシル基、ハロゲノ基、Ｃ１〜６ハロアルキル基、Ｃ６〜１０ハロアリール基、Ｃ１〜６ハロアルコキシ基、アミノ基（ＮＨ2で表される基）、Ｃ１〜６アルキル置換アミノ基、Ｃ６〜１０アリールアミノ基、Ｃ１〜７アシルアミノ基、Ｃ１〜６アルコキシカルボニルアミノ基、Ｃ１〜６アルキルチオ基、Ｃ６〜１０アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、Ｃ７〜１１アラルキルチオ基、Ｃ１〜６アルキルスルフィニル基、Ｃ６〜１０アリールスルフィニル基、ヘテロアリールスルフィニル基、Ｃ７〜１１アラルキルスルフィニル基、Ｃ１〜６アルキルスルホニル基、Ｃ６〜１０アリールスルホニル基、ヘテロシクリルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基を示す
Ｒ21〜Ｒ23のいずれかひとつとＲ24とが結合して環を形成していてもよい。
ｎは、Ｒ24の個数を示し、０〜４のいずれかひとつの整数である。ｎが２以上の場合、各Ｒ24は、同一でも相違してもよい。
【００６８】
本発明に係る化合物〔I〕には、水和物、各種溶媒和物や結晶多形などが含まれる。さらに、本発明に係る化合物〔I〕は、不斉炭素原子、二重結合などに基づく立体異性体、互変異性体およびそれらの混合物を包含する。
【００６９】
本発明に係る化合物〔I〕の塩は、農園芸学的に許容される塩であれば、特に制限されない。例えば、塩酸、硫酸などの無機酸の塩；酢酸、乳酸などの有機酸の塩；リチウム、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属の塩；カルシウム、マグネシウムなどのアルカリ土類金属の塩；鉄、銅などの遷移金属の塩；アンモニア、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、ヒドラジンなどの有機塩基の塩などを挙げることができる。化合物〔I〕の塩は、化合物〔I〕から公知の手法によって得ることができる。
【００７０】
本発明に係る化合物〔I〕の具体例を表１〜１２に示す。
表１〜２は式（A）で表される化合物中の置換基の組み合わせを示す。
0006681274.tif 000009
【００７１】
【表１】
0006681274.tif 000010
【００７２】
【表２】
0006681274.tif 000011
【００７３】
表３〜４は式（B）で表される化合物中の置換基の組み合わせを示す。
0006681274.tif 000012
【００７４】
【表３】
0006681274.tif 000013
【００７５】
【表４】
0006681274.tif 000014
【００７６】
表５〜１２は式（C）で表される化合物中の置換基の組み合わせを示す。
0006681274.tif 000015
【００７７】
【表５】
0006681274.tif 000016
【００７８】
【表６】
0006681274.tif 000017
【００７９】
【表７】
0006681274.tif 000018
【００８０】
【表８】
0006681274.tif 000019
【００８１】
【表９】
0006681274.tif 000020
【００８２】
【表１０】
0006681274.tif 000021
【００８３】
【表１１】
0006681274.tif 000022
【００８４】
【表１２】
0006681274.tif 000023
【００８５】
つぎに、本発明のアミジン化合物の製造例を示す。なお、以下に示す製造例は本発明を説明するためだけのものであって、本発明の範囲を制限するものではない。
【００８６】
製造例１
ピペラジン誘導体（１）と２−ハロ−５−シアノピリジン（２）とを反応させることにより化合物（３）を得ることができる。化合物（３）のシアノ基を常法にしたがってアミジノ基へ変換することにより、化合物（４）を得ることができる。化合物（４）のアミジノ基に保護基Ｐ’を導入した後、保護基Ｐを除去することにより、化合物（６）を得ることができる。化合物（６）の２級アミン部位と化合物（７）を反応させることにより、化合物（８）を得ることができる。最後に化合物（８）の保護基ＰおよびＰ’を除去することにより、本発明に係るアミジン化合物（９）を得ることができる。
【００８７】
0006681274.tif 000024
【００８８】
式中、ＸおよびＺは、前述のとおりのものである。Halはハロゲン原子を示し、ＰおよびＰ’は保護基を示す。
【００８９】
製造例２
フェニルアミジン誘導体（１０）と、化合物（１１）を反応させることにより、化合物（１２）を得ることができる。最後に化合物（１２）の保護基ＰおよびＰ’を除去することにより、本発明に係るアミジン化合物（１３）を得ることができる。
【００９０】
0006681274.tif 000025
【００９１】
式中、Ｒ24、ｎ、Ｑ2、Ｘ、Ｚは、前述のとおりのものである。Halはハロゲン原子を示し、ＰおよびＰ’は保護基を示す。
【００９２】
合成反応終了後は、有機合成化学における通常の後処理操作、および、必要により従来公知の分離精製手段を施すことによって、目的物を効率よく単離することができる。
目的物の構造は、1Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトル、マススペクトルの測定や、元素分析などにより、同定・確認することができる。
【００９３】
本発明に係る殺菌剤若しくは植物病害防除剤は、化合物〔I〕およびその塩からなる群から選ばれる少なくとも１つを有効成分として含有するものである。
本発明の殺菌剤若しくは植物病害防除剤に含有される前記有効成分の量は、製剤全体に対して、好ましくは０．０１〜９０重量％、より好ましくは０．０５〜８５重量％である。
【００９４】
本発明の殺菌剤若しくは植物病害防除剤は、農薬としてとり得る形態、即ち、水和剤、粒剤、粉剤、乳剤、水溶剤、懸濁剤、顆粒水和剤などの農薬製剤の形態で使用することができる。
固体の製剤に用いられる添加剤および担体としては、大豆粉、小麦粉などの植物性粉末、珪藻土、燐灰石、石こう、タルク、ベントナイト、パイロフィライト、クレーなどの鉱物性微粉末、安息香酸ソーダ、尿素、芒硝などの有機および無機化合物などを挙げることができる。
液体の製剤に用いられる溶剤としては、ケロシン、キシレンおよび石油系の芳香族炭化水素、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アルコール、アセトン、トリクロロエチレン、メチルイソブチルケトン、鉱物油、植物油、水などを挙げることができる。
【００９５】
さらに、これらの製剤において均一かつ安定な形態をとるために、必要に応じ界面活性剤を添加することができる。
添加することができる界面活性剤は特に限定されない。例えば、ポリオキシエチレンが付加したアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンが付加したアルキルエーテル、ポリオキシエチレンが付加した高級脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンが付加したソルビタン高級脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンが付加したトリスチリルフェニルエーテルなどの非イオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンが付加したアルキルフェニルエーテルの硫酸エステル塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、高級アルコールの硫酸エステル塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、ポリカルボン酸塩、リグニンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩のホルムアルデヒド縮合物、イソブチレン−無水マレイン酸共重合体などを挙げることができる。
【００９６】
このようにして得られる、水和剤、乳剤、フロアブル剤、水溶剤、若しくは顆粒水和剤は水で所定の濃度に希釈して、溶解液、懸濁液あるいは乳濁液として植物に散布する方法で使用される。また、粉剤・粒剤はそのまま植物に散布する方法で使用される。
【００９７】
本発明の殺菌剤若しくは植物病害防除剤は、花卉、芝、牧草を含む農園芸作物の栽培に際し発生する種々の病害の防除に、種子処理、茎葉散布、土壌施用または水面施用などにより使用することができる。
【００９８】
本発明の殺菌剤若しくは植物病害防除剤の施用量は、気象条件、製剤形態、施用時期、施用方法、施用場所、防除対象病害、対象作物などにより異なるが、通常１ヘクタール当たり有効成分量にして好ましくは１〜１，０００ｇ、より好ましくは１０〜１００ｇである。
水和剤、乳剤、懸濁剤、水溶剤、顆粒水和剤などを水で希釈して施用する場合、その施用濃度は好ましくは１〜１，０００ｐｐｍ、より好ましくは１０〜２５０ｐｐｍである。
【００９９】
本発明の殺菌剤若しくは植物病害防除剤は、広範囲の種類の糸状菌、例えば、藻菌類（Oomycetes）、子のう（嚢）菌類（Ascomycetes），不完全菌類（Deuteromycetes）、担子菌類（Basidiomycetes）、接合菌類（Zygomycetes）に属する菌に由来する植物病害の防除に使用できる。
【０１００】
防除の対象となる植物病害と病原菌の例を以下に示す。
テンサイ：褐斑病（Cercospora beticola）、黒根病（Aphanomyces cochlioides）、根腐病（Thanatephorus cucumeris）、葉腐病（Thanatephorus cucumeris）など
ラッカセイ：褐斑病（Mycosphaerella arachidis）、汚斑病（Ascochyta sp.）、さび病（Puccinia arachidis）、立枯病（Pythium debaryanum）、さび斑病（Alternaria alternata）、白絹病（Sclerotium rolfsii）黒渋病（Mycosphaerella berkeleyi）など
キュウリ：うどんこ病（Sphaerotheca fuliginea）、べと病（Pseudoperonospora cubensis）、つる枯病（Mycosphaerella melonis）、つる割病（Fusarium oxysporum）、菌核病（Sclerotinia sclerotiorum）、灰色かび病（Botrytis cinerea）、炭そ病（Colletotrichum orbiculare）、黒星病（Cladosporium cucumerinum）、褐斑病（Corynespora cassicola）、苗立枯病（Pythium debaryanam、Rhizoctonia solani Kuhn）、ホモプシス根腐病（Phomopsis sp.）斑点細菌病（Pseudomonas syringae pv. Lecrymans）など
トマト：灰色かび病（Botrytis cinerea）、葉かび病（Cladosporium fulvum）、疫病（Phytophthora infestans）、半身萎凋病（Verticillium albo-atrum）、うどんこ病（Oidium neolycopersici）、輪紋病（Alternaria solani）、すすかび病（Pseudocercospora fuligena）など
ナス：灰色かび病（Botrytis cinerea）、黒枯病（Corynespora melongenae）、うどんこ病（Erysiphe cichoracearum）、すすかび病（Mycovellosiella nattrassii）、菌核病（Sclerotinia sclerotiorum）など
イチゴ：灰色かび病（Botrytis cinerea）、うどんこ病（Sohaerotheca humuli）、炭そ病（Colletotrichum acutatum、Colletotrichum fragariae）、疫病（Phytophthora cactorum）、軟腐病（Rhizopus stolonifer）、萎黄病（Fusarium oxysporum）など
タマネギ：灰色腐敗病（Botrytis allii）、灰色かび病（Botrytis cinerea）、白斑葉枯病（Botrytis squamosa）、べと病（Peronospora destructor）、白色疫病（Phytophthora porri）など
キャベツ：根こぶ病（Plasmodiophora brassicae）、軟腐病（Erwinia carotovora）、黒腐病（Xanthomonas campesrtis pv. campestris）、黒斑細菌病（Pseudomonas syringae pv. maculicala、Pseudomonas syringae pv. alisalensis）、べと病（Peronospora parasitica）、菌核病（Sclerotinia sclerotiorum）、黒すす病（Alternaria brassicicola）、灰色かび病（Botrytis cinerea）など
インゲン：菌核病（Sclerotinia sclerotiorum）、灰色かび病（Botrytis cinerea）、炭疽病（Colletotrichum lindemuthianum）、角斑病（Phaeoisariopsis griseola）など
【０１０１】
リンゴ：うどんこ病（Podosphaera leucotricha）、黒星病（Venturia inaequalis）、モニリア病（Monilinia mali）、黒点病（Mycosphaerella pomi）、腐らん病（Valsa mali）、斑点落葉病（Alternaria mali）、赤星病（Gymnosporangium yamadae）、輪紋病（Botryosphaeria berengeriana）、炭そ病（Glomerella cingulata、Colletotrichum acutatum）、褐斑病（Diplocarpon mali）、すす点病（Zygophiala jamaicensis）、すす斑病（Gloeodes pomigena）、紫紋羽病（Helicobasidium mompa）、灰色かび病（Botrytis cinerea）など
ウメ：黒星病（Cladosporium carpophilum）、灰色かび病（Botrytis cinerea）、灰星病（Monilinia mumecola）など
カキ：うどんこ病（Phyllactinia kakicola）、炭そ病（Gloeosporium kaki）、角斑落葉病（Cercospora kaki）など
モモ：灰星病（Monilinia fructicola）、黒星病（Cladosporium carpophilum）、ホモプシス腐敗病（Phomopsis sp.）、穿孔細菌病（Xanthomonas campestris pv. pruni）など
アーモンド：灰星病（Monilinia laxa）、斑点病（Stigmina carpophila）、黒星病（Cladosporium carpophilum）、葉ぶくれ病（Polystigma rubrum）、斑点落葉病（Alternaria
alternata）、炭疽病（Colletotrichum gloeospoides）など
オウトウ：灰星病（Monilinia fructicola）、炭そ病（Colletotrichum acutatum）、黒斑病（Alternaria sp.）、幼果菌核病（Monilinia kusanoi）など
ブドウ：灰色かび病（Botrytis cinerea）、うどんこ病（Uncinula necator）、晩腐病（Glomerella cingulata、Colletotrichum acutatum）、べと病（Plasmopara viticola）、黒とう病（Elsinoe ampelina）、褐斑病（Pseudocercospora vitis）、黒腐病（Guignardia bidwellii）、白腐病（Coniella castaneicola）など
ナシ：黒星病（Venturia nashicola）、赤星病（Gymnosporangium asiaticum）、黒斑病（Alternaria kikuchiana）、輪紋病（Botryosphaeria berengeriana）、うどんこ病（Phyllactinia mali）、胴枯病（Phomopsis fukushii）、褐色斑点病（Stemphylium vesicarium）、炭そ病（Glomerella cingulata）など
チャ：輪斑病（Pestalotia theae）、炭そ病（Colletotrichum theae-sinensis）など
カンキツ：そうか病（Elsinoe fawcetti）、青かび病（Penicillium italicum）、緑かび病（Penicillium digitatum）、灰色かび病（Botrytis cinerea）、黒点病（Diaporthe citri）、かいよう病（Xanthomonas campestris pv.Citri）、うどんこ病（Oidium sp.）など
【０１０２】
コムギ：うどんこ病（Erysiphe graminis f.sｐ.Tritici）、赤かび病（Gibberella zeae）、赤さび病（Puccinia recondita）、褐色雪腐病（Pythium iwayamai）、紅色雪腐病（Monographella nivalis）、眼紋病（Pseudocercosporella herpotrichoides）、葉枯病（Septoria tritici）、ふ枯病（Leptosphaeria nodorum）、雪腐小粒菌核病（Typhula incarnata）、雪腐大粒菌核病（Myriosclerotinia borealis）、立枯病（Gaeumanomyces graminis）、麦角病（Claviceps purpurea）、なまぐさ黒穂病（Tilletia caries）、裸黒穂病（Ustilago nuda）など
オオムギ：斑葉病（Pyrenophora graminea）、網斑病（Pyrenophora teres）、雲形病（Rhynchosporium secalis）、裸黒穂病（Ustilago tritici、U.nuda）など
イネ：いもち病（Pyricularia oryzae）、紋枯病（Rhizoctonia solani）、馬鹿苗病（Gibberella fujikuroi）、ごま葉枯病（Cochliobolus miyabeanus）、苗立枯病（Pythium
graminicolum）、白葉枯病（Xanthomonas oryzae）、苗立枯細菌病（Burkholderia plantarii）、褐条病（Acidovorax avenae）、もみ枯細菌病（Burkholderia glumae）、すじ葉枯病（Cercospora oryzae）、稲こうじ病（Ustilaginoidea virens）、褐色米（Alternaria alternata、Curvularia intermedia）、腹黒米（Alternaria padwickii）、紅変米（Epicoccam purpurascenns）など
タバコ：菌核病（Sclerotinia sclerotiorum）、うどんこ病（Erysiphe cichoracearum）、疫病（Phytophthora nicotianae）、など
チューリップ：灰色かび病（Botrytis cinerea）など
ヒマワリ：べと病（Plasmopara halstedii）、菌核病（Sclerotinia sclerotiorum）など
ベントグラス：雪腐大粒菌核病（Sclerotinia borealis）、ラージパッチ（Rhizoctonia solani）、ダラースポット（Sclerotinia homoeocarpa）、いもち病（Pyricularia sp.）、赤焼病（Pythium aphanidermatum）、炭そ病(Colletotrichum graminicola)など
オーチャードグラス：うどんこ病（Erysiphe graminis）など
ダイズ：紫斑病（Cercospora kikuchii）、べと病（Peronospora manshurica）、茎疫病（Phytophthora sojae）、さび病（Phakopsora pachyrhizi）、菌核病（Sclerotinia sclerotiorum）、炭そ病（Colletotrichum truncatum）、灰色かび病（Botrytis cinerea）など
ジャガイモ：疫病（Phytophthora infestans）、夏疫病（Aleternaria solani）、黒あざ病（Thanatephorus cucumeris）など
バナナ：パナマ病（Fusarium oxysporum）、シガトカ病（Mycosphaerella fijiensis、Mycosphaerella musicola）など
ナタネ：菌核病（Sclerotinia sclerotiorum）、根朽病（Phoma lingam）、黒斑病（Alternaria brassicae）など
コーヒー：さび病（Hemileia vastatrix）、炭疽病（Colletotrichum coffeanum）、褐眼病（Cercospora coffeicola）など
サトウキビ：褐さび病（Puccinia melanocephala）など
トウモロコシ：ひょう紋病（Gloecercospora sorghi）、さび病（Puccinia sorghi）、南方さび病（Puccinia polysora）、黒穂病（Ustilago maydis）、ごま葉枯病（Cochliobolus heterostrophus）、すす紋病（Setophaeria turcica）など
ワタ：苗立枯病（Pythium sp）、さび病（Phakopsora  gossypii）、白かび病（Mycosphaerella areola）、炭疽病（Glomerella gossypii）など
本発明の殺菌剤若しくは植物病害防除剤は薬害が少なく、魚類や温血動物への毒性が低く、安全性の高い薬剤である。
【０１０３】
本発明の殺菌剤若しくは植物病害防除剤には、他の殺菌剤や殺虫・殺ダニ剤、殺線虫剤、殺土壌害虫剤、駆虫剤、植物生長調節剤、共力剤等と混合または併用してもよい。
以下にその一例を示す。
【０１０４】
殺菌剤：
（１）核酸生合成阻害剤：
（ａ）RNAポリメラーゼＩ阻害剤：  ベナラキシル、ベナラキシル-M、フララキシル、メタラキシル、メタラキシル-M；オキサジキシル；クロジラコン、オフレース；
（ｂ）アデノシンデアミナーゼ阻害剤：  ブピリメート、ジメチリモール、エチリモール；
（ｃ）DNA/RNA合成阻害剤：  ハイメキサゾール、オクチリノン；
（ｄ）DNAトポイソメラーゼII阻害剤：  オキソリン酸；
【０１０５】
（２）有糸核分裂阻害剤および細胞分裂阻害剤：
（ａ）β−チューブリン重合阻害剤：  ベノミル、カルベンダジム、クロルフェナゾール、フベリダゾール、チアベンダゾール；チオファネート、チオファネートメチル（thiophanate-methyl）；ジエトフェンカルブ；ゾキサミド；エタボキサム；
（ｂ）細胞分裂阻害剤：  ペンシクロン；
（ｃ）スペクトリン様タンパク質の非局在化阻害剤：  フルオピコリド；
【０１０６】
（３）呼吸阻害剤：
（ａ）複合体I NADH酸化還元酵素阻害剤：  ジフルメトリム；トルフェンピラド；
（ｂ）複合体IIコハク酸脱水素酵素阻害剤：  ベノダニル、フルトラニル、メプロニル；イソフェタミド；フルオピラム；フェンフラム、フルメシクロックス；カルボキシン、オキシカルボキシン；チフルザミド；ベンゾビンジフルピル、ビキサフェン、フルキサピロキサド、フラメトピル、イソピラザム、ペンフルフェン、ペンチオピラド、セダキサン；ボスカリド；
（ｃ）複合体IIIユビキノールオキシダーゼQo阻害剤：  アゾキシストロビン、クモキシストロビン、クメトキシストロビン、エノキサストロビン、フルフェノキシストロビン、ピクオキシストロビン、ピラオキシストロビン；ピラクロストロビン、ピラメトストロビン、トリクロピリカルブ；クレソキシム-メチル、トリフロキシストロビン；ジモキシストロビン、フェナミンストロビン、メトミノストロビン、オリサストロビン；ファモキサドン；フルオキサストロビン；フェンアミドン；ピリベンカルブ；
（ｄ）複合体IIIユビキノール還元酵素Qi阻害剤：  シアゾファミド；アミスルブロム；
（ｅ）酸化的リン酸化の脱共役剤：  ビナパクリル、メプチルジノカップ、ジノカップ；フルアジナム；フェリムゾン；
（ｆ）酸化的リン酸化阻害剤（ATP 合成酵素の阻害剤）：  フェンチンアセテート、塩化フェンチン、水酸化フェンチン；
（ｇ）ATP生産阻害剤：  シルチオファム；
（ｈ）複合体III：チロクロームbc1(ユビキノン還元酵素)のQx(未知)阻害剤：  アメトクトラジン；
【０１０７】
（４）アミノ酸およびタンパク質合成阻害剤
（ａ）メチオニン生合成阻害剤：  アンドプリム、シプロジニル、メパニピリム、ピリメタニル；
（ｂ）タンパク質合成阻害剤：  ブラストサイジン-Ｓ；カスガマイシン、カスガマイシン塩酸塩；ストレプトマイシン；オキシテトラサイクリン；
【０１０８】
（５）シグナル伝達阻害剤：
（ａ）シグナル伝達阻害剤：  キノキシフェン、プロキナジド；
（ｂ）浸透圧シグナル伝達におけるMAP・ヒスチジンキナーゼ阻害剤：  フェンピクロニル、フルジオキソニル；クロゾリメート、イプロジオン、プロシミドン、ビンクロゾリン；
【０１０９】
（６）脂質および細胞膜合成阻害剤：
（ａ）りん脂質生合成、メチルトランス-フェラーゼ阻害剤：  エジフェンホス、イプロベンホス、ピラゾホス；イソプロチオラン；
（ｂ）脂質の過酸化剤：  ビフェニル、クロロネブ、ジクロラン、キンドゼン、テクナゼン、トルクロホスメチル；エトリジアゾール；
（ｃ）細胞膜に作用する剤：  ヨードカルブ、プロパモカルブ、プロパモカルブ塩酸塩、プロパモカルブホセチレート、プロチオカルブ；
（ｄ）病原菌細胞膜を撹乱する微生物：  バチルスズブチリス菌、バチルス ズブチリスQST713 株、バチルス ズブチリスFZB24 株、バチルス ズブチリスMBI600 株、バチルス ズブチリスD747株；
（ｅ）細胞膜を撹乱する剤：  ゴセイカユプテ(ティーツリー)の抽出物；
【０１１０】
（７）細胞膜のステロール生合成阻害剤：
（ａ）ステロール生合成におけるC14位の脱メチル化阻害剤：  トリホリン；ピリフェノックス、ピリイソキサゾール；フェナリモル、フルルプリミドール、ヌアリモル；イマザリル、イマザリル硫酸塩、オキスポコナゾール、ペフラゾエート、プロクロラズ、トリフルミゾール、ビニコナゾール；
アザコナゾール、ビテルタノール、ブロムコナゾール、シプロコナゾール、ジクロブトラゾール、ジフェノコナゾール、ジニコナゾール、ジニコナゾール-M、エポキシコナゾール、エタコナゾール、フェンブコナゾール、フルキンコナゾール、フルシラゾール、フルトリアホール）、フルコナゾール、フルコナゾール−シス、ヘキサコナゾール、イミベンコナゾール、イプコナゾール、メトコナゾール、ミクロブタニル、ペンコナゾール、プロピコナゾール、キンコナゾール、シメコナゾール、テブコナゾール、テトラコナゾール、トリアジメホン、トリアジメノール、トリチコナゾール；プロチオコナゾール、ボリコナゾール；
（ｂ）ステロール生合成におけるΔ14還元酵素およびΔ8→Δ7−イソメラーゼの阻害剤：
アルジモルフ、ドデモルフ、ドデモルフ酢酸塩、フェンプロピモルフ、トリデモルフ；フェンプロピジン、ピペラリン；スピロキサミン；
（ｃ）ステロール生合成系のC4位脱メチル化における3-ケト還元酵素阻害剤：  フェンヘキサミド；フェンピラザミン；
（ｄ）ステロール生合成系のスクワレンエポキシダーゼ阻害剤：  ピリブチカルブ；ナフチフェン、テルビナフィン；
【０１１１】
（８）細胞壁合成阻害
（ａ）トレハラーゼ阻害剤：  バリダマイシン；
（ｂ）キチン合成酵素阻害剤：  ポリオキシン、ポリオクソリム；
（ｃ）セルロース合成酵素阻害剤：  ジメトモルフ、フルモルフ、ピリモルフ；ベンチアバリカルブ、イプロバリカルブ、トルプロカルブ、バリフェナレート；マンジプロパミド；
【０１１２】
（９）メラニン生合成阻害剤
（ａ）メラニン生合成の還元酵素阻害剤：  フサライド；ピロキロン；トリシクラゾール；
（ｂ）メラニン生合成の脱水酵素阻害剤：  カルプロパミド；ジクロシメット；フェノキサニル；
【０１１３】
（１０）宿主植物の抵抗性誘導剤：
（ａ）サリチル酸合成経路に作用する剤：  アシベンゾラル-S-メチル；
（ｂ）その他：  プロベナゾール；チアジニル；イソチアニル；ラミナリン；オオイタドリ抽出液；
【０１１４】
（１１）作用性が不明な剤：  シモキサニル、ホセチルアルミニウム、リン酸（リン酸塩）、テクロフタラム、トリアゾキシド、フルスルファミド、ジクロメジン、メタスルホカルブ、シフルフェナミド、メトラフェノン、ピリオフェノン、ドジン、ドジン遊離塩基、フルチアニル；
【０１１５】
（１２）多作用点を有する剤：  銅（銅塩）、ボルドー液、水酸化銅、銅ナフタレート、酸化銅、オキシ塩化銅、硫酸銅、硫黄、硫黄製品、多硫化カルシウム；ファーバム、マンコゼブ、マネブ、マンカッパー、メチラム、ポリカーバメート、プロピネブ、チラム、ジネブ、ジラム；キャプタン、カプタホール、フォルペット；クロロタロニル；ジクロフルアニド、トリルフルアニド；グアザチン、イミノクタジン酢酸塩、イミノクタジンアルベシル酸塩；アニラジン；ジチアノン；キノメチオネート；フルオルイミド；
【０１１６】
（１３）その他の剤：  DBEDC、フルオロフォルペット、グアザチンアセテート、ビス（8-キノリノラト）銅（II）、プロパミジン、クロロピクリン、シプロフラム、アグロバクテリウム、ベトキサジン、ジフェニルアミン、メチルイソチアネート（MITC）、ミルデオマイシン、カプサイシン、クフラネブ、シプロスルファミド、ダゾメット、デバカルブ、ジクロロフェン、ジフェンゾクワット、ジフェンゾクワットメチルスルホネート、フルメトベル、ホセチルカルシウム、ホセチルナトリウム、イルママイシン、ナタマイシン、ニトロタールイソプロピル、オキサモカルブ、プロパモシンナトリウム、ピロールニトリン、テブフロキン、トルニファニド、ザリラミド、アルゴフェーズ（Algophase）、アミカルチアゾール（Amicarthiazol）、オキサチアピプロリン（Oxathiapiprolin）、メチラム亜鉛、ベンチアゾール、トリクラミド、ユニコナゾール、ミルデオマイシン、オキシフェンチイン（Oxyfenthiin）、ピカルブトラゾクス（picarbutrazox）；
【０１１７】
殺虫・殺ダニ剤、殺線虫剤、殺土壌害虫剤：
（１）アセチルコリンエステラーゼ阻害剤：
（ａ）カーバメート系：  アラニカルブ、アルジカルブ、ベンジオカルブ、ベンフラカルブ、ブトカルボキシム、ブトキシカルボキシム、カルバリル、カルボフラン、カルボスルファン、エチオフェンカルブ、フェノブカルブ、ホルメタネート、フラチオカルブ、イソプロカルブ、メチオカルブ、メソミル、オキサミル、ピリミカルブ、プロポキサル、チオジカルブ、チオファノックス、トリアザメート、トリメタカルブ、XMC、キシリルカルブ；フェノチオカルブ、MIPC、MPMC、MTMC、アルドキシカルブ、アリキシカルブ、アミノカルブ、ブフェンカルブ、クロエトカルブ、メタム・ナトリウム、プロメカルブ；
【０１１８】
（ｂ）有機リン系：  アセフェート、アザメチホス、アジンホス-エチル、アジンホス-メチル、カズサホス、クロルエトキシホス、クロルフェンビンホス、クロルメホス、クロルピリホス、クロルピリホス-メチル、クマホス、シアノホス、ジメトン-S-メチル、ダイアジノン、ジクロルボス/DDVP、ジクロトホス、ジメトエート、ジメチルビンホス、ジスルホトン、EPN、エチオン、エトプロホス、ファムフール、フェナミホス、フェニトロチオン、フェンチオン、ホスチアゼート、ヘプテノホス、イミシアホス、イソフェンホス、イソカルボホス、イソキサチオン、マラチオン、メカルバム、メタミドホス、メチダチオン、メビンホス、モノクロトホス、ナレド、オメトエート、オキシジメトン-メチル、パラチオン、パラチオン-メチル、フェントエート、ホレート、ホサロン、ホスメット、ホスファミドン、ホキシム、ピリミホス-メチル、プロフェノホス、プロペタムホス、プロチオホス、ピラクロホス、ピリダフェンチオン、キナルホス、スルホテップ、テブピリンホス、テメホス、テルブホス、テトラクロルビンホス、チオメトン、トリアゾホス、トリクロルホン、バミドチオン；ブロモホス・エチル、BRP、カルボフェノチオン、シアノフェンホス、CYAP、ジメトン-Ｓ-メチルスルホン、ジアリホス、ジクロフェンチオン、ジオキサベンゾホス、エトリムホス、フェンスルホチオン、フルピラゾホス、ホノホス、ホルモチオン、ホスメチラン、イサゾホス、ヨードフェンホス、メタクリホス、ピリミホス−エチル、ホスホカルブ、プロパホス、プロトエート、スルプロホス；
【０１１９】
（２）GABA-作動性塩素イオンチャネルアンタゴニスト：  クロルデン、エンドスルファン、エチプロール、フィプロニル、ピラフルプロール、ピリプロール；カンフェクロル、ヘプタクロル、ジエノクロル；
（３）ナトリウムチャンネルモジュレーター：  アクリナトリン、d-シス-トランス アレスリン、d-トランスアレスリン、ビフェントリン、ビオアレスリン、ビオアレスリンS-シクロペンチル異性体、ビオレスメトリン、シクロプロトリン、シフルトリン、ベータ-シフルトリン、シハロトリン、ラムダ-シハロトリン、ガンマ-シハロトリン、シペルメトリン、アルファ-シペルメトリン、ベータ-シペルメトリン、シータ-シペルメトリン、ゼータ-シペルメトリン、シフェノトリン［(1R)-トランス異性体］、デルタメトリン、エンペントリン［（EZ）-(1R)-異性体］、エスフェンバレレート、エトフェンプロックス、フェンプロパトリン、フェンバレレート、フルシトリネート、フルメトリン、タウ-フルバリネート、ハルフェンプロックス、イミプリトリン、カデスリン、ペルメトリン、フェノトリン［（1R）-トランス異性体］、プラレトリン、ピレスラム、レスメトリン、シラフルオフェン、テフルスリン、テトラメスリン、テトラメトリン［（1R）-異性体］、トラロメトリン、トランスフルトリン；アレスリン、ピレトリン、ピレトリンI、ピレトリンII、プロフルトリン、ジメフルトリン、ビオエタノメトリン、ビオペルメトリン、トランスペルメトリン、フェンフルトリン、フェンピリトリン、フルブロシトリネート、フルフェンプロックス、メトフルトリン、プロトリフェンブト、ピレスメトリン、テラレトリン；
【０１２０】
（４）ニコチン性アセチルコリン受容体アゴニスト：  アセタミプリド、クロチアニジン、ジノテフラン、イミダクロプリド、ニテンピラム、ニチアジン、チアクロプリド、チアメトキサム、スルフォキサフロール、ニコチン；フルピラジフロン；
（５）ニコチン性アセチルコリン受容体アロステリックモジュレーター：  スピネトラム、スピノサド；
（６）クロライドチャンネル活性化剤：  アバメクチン、エマメクチン安息香酸塩、レピメクチン、ミルベメクチン；イベルメクチン、セラメクチン、ドラメクチン、エプリノメクチン、モキシデクチン、ミルベマイシン、ミルベマイシンオキシム；
（７）幼若ホルモン様物質：  ヒドロプレン、キノプレン、メソプレン、フェノキシカルブ、ピリプロキシフェン；ジオフェノラン、エポフェノナン、トリプレン；
（８）その他非特異的阻害剤：  臭化メチル、クロルピクリン、フッ化スルフリル、ホウ砂、吐酒石；
（９）同翅目選択的摂食阻害剤：  フロニカミド、ピメトロジン、ピリフルキナゾン；
【０１２１】
（１０）ダニ類生育阻害剤：  クロフェンテジン、ジフロビダジン、ヘキシチアゾクス、エトキサゾール；
（１１）微生物由来昆虫中腸内膜破壊剤：  バチルス・チューリンゲンシス亜種イスラエレンシ、バチルス・スファエリクス、バチルス・チューリンゲンシス亜種アイザワイ、バチルス・チューリンゲンシス亜種クルスタキ、バチルス・チューリンゲンシス亜種テネブリオニス、Ｂｔ作物タンパク質：Cry1Ab、Cry1Ac、Cry1Fa、Cry1A.105、Cry2Ab、Vip3A、mCry3A、Cry3Ab、Cry3Bb、Cry34Ab1/Cry35Ab1；
（１２）ミトコンドリアATP生合成酵素阻害剤：  ジアフェンチウロン、アゾシクロチン、シヘキサチン、酸化フェンブタスズ、プロパルギット、テトラジホン；
（１３）酸化的リン酸化脱共役剤：  クロルフェナピル、スルフラミド、DNOC；ビナパクリル、ジノブトン、ジノカップ；
（１４）ニコチン性アセチルコリン受容体チャンネルブロッカー：  ベンスルタップ、カルタップ塩酸塩；ネライストキシン；チオスルタップ一ナトリウム塩、チオシクラム；
（１５）キチン合成阻害剤：  ビストリフルロン、クロルフルアズロン、ジフルベンズロン、フルシクロクスロン、フルフェノクスロン、ヘキサフルムロン、ルフェヌロン、ノバルロン、ノビフルムロン、テフルベンズロン、トリフルムロン、ブプロフェジン、フルアズロン；
（１６）双翅目脱皮かく乱剤：  シロマジン；
（１７）脱皮ホルモン受容体アゴニスト：  クロマフェノジド、ハロフェノジド、メトキシフェノジド、テブフェノジド；
（１８）オクトパミン受容体アゴニスト：  アミトラズ、デミジトラズ、クロルジメホルム；
（１９）ミトコンドリア電子伝達系複合体III阻害剤：  アセキノシル、フルアクリピリム、ヒドラメチルノン；
（２０）ミトコンドリア電子伝達系複合体I阻害剤：  フェナザキン、フェンプロキシメート、ピリミジフェン、ピリダベン、テブフェンピラド、トルフェンピラド、ロテノン；
【０１２２】
（２１）電位依存性ナトリウムチャネルブロッカー：  インドキサカルブ、メタフルミゾン；
（２２）アセチルCoAカルボキシラーゼ阻害剤：  スピロジクロフェン、スピロメシフェン、スピロテトラマト；
（２３）ミトコンドリア電子伝達系複合体IV阻害剤：  リン化アルミニウム、リン化カルシウム、ホスフィン、リン化亜鉛、シアニド；
（２４）ミトコンドリア電子伝達系複合体II阻害剤：  シエノピラフェン、シフルメトフェン、ピフルブミド；
（２５）リアノジン受容体モジュレーター：  クロラントラニリプロール、シアントラニプロール、フルベンジアミド、シクラニリプロール、テトラニリプロール；
（２６）混合機能オキシダーゼ阻害剤化合物：  ピペロニルブトキシド；
（２７）ラトロフィリン受容体作用薬：  デプシペプチド、環状デプシペプチド、24員環状デプシペプチド、エモデプシド；
（２８）その他の剤（作用機構が未知）：  アザジラクチン、ベンゾキシメート、ビフェナゼート、ブロモプロピレート、キノメチオネート、クリオライト、ジコホル、ピリダリル、；ベンクロチアズ、硫黄、アミドフルメット、1,3−ジクロロプロペン、DCIP、フェニソブロモレート、ベンゾメート、メタアルデヒド、クロルベンジレート、クロチアゾベン、ジシクラニル、フェノキサクリム、フェントリファニル、フルベンジミン、フルフェナジン、ゴシップルア、ジャポニルア、メトキサジアゾン、石油、オレイン酸カリウム、テトラスル、トリアラセン；アフィドピロペン（afidopyropen）、フロメトキン、フルフィプロル（flufiprole）、フルエンスルフォン、メペルフルスリン、テトラメチルフルスリン、トラロピリル、ジメフルスリン、メチルネオデカンアミド；フルララネル、アフォキソラネル、フルキサメタミド、５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イル）ベンゾニトリル（CAS:943137-49-3）、ブロフラニリド、その他のメタジアミド類；
【０１２３】
以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明する。なお、本発明は以下の実施例によって制限を受けるものではなく、本発明の趣旨に適合し得る範囲で適宜に変更を加えて実施することが勿論可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。
【０１２４】
（参考例１）ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［（６−ブロモヘキシルアミノ）−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）メチレン］カルバメート＜N-[(6-Bromohexylamino)-(tert-butoxycarbonylamino)methylene]carbamate＞の合成
0006681274.tif 000026
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（３０ｍＬ）に、１，３−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）グアニジン（２．６０ｇ）及び１，６−ジブロモヘキサン（７．３２ｇ）を溶解させた。これに室温下で炭酸カリウム（１．３９ｇ）を添加した。それを５０℃で８時間撹拌した。その後、室温まで冷却した。得られた液を水に注ぎ入れた。次いで酢酸エチルで抽出した。有機層を合わせ、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。その後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで、表題化合物（２．５７ｇ、収率６１％）を得た。得られた化合物のＮＭＲ分析の結果は以下のとおりであった。
1HNMR(CDCl3)1.28-1.39(m,2H),1.41-1.67(m,22H),1.87(tt,2H),3.41(t,2H),3.89(t,2H).
【０１２５】
実施例１
（工程１）ベンジル  ４−（３−ヒドロキシプロピル）ピペラジン−１−カルボキシレート＜Benzyl 4-(3-hydroxypropyl)piperazine-1-carboxylate＞の合成
0006681274.tif 000027
ベンジル  ピペラジン−１−カルボキシレート（１０．５０ｇ）のテトラヒドロフラン（２２５ｍＬ）溶液に、トリエチルアミン（５．５１ｇ）、ヨウ化ナトリウム（０．６８ｇ）及び３−ブロモ−１−プロパノール（９．７７ｇ）を添加した。次いでこれを５０℃で一晩撹拌した。その後、室温まで冷却した。得られた液を水に注ぎ入れ、酢酸エチルで抽出した。有機層を合わせて、飽和食塩水で洗浄し、表題化合物（１１．６２ｇ、収率９２％）を得た。得られた化合物のＮＭＲ分析の結果は以下のとおりであった。
1HNMR(CDCl3)1.74(tt,2H),2.41-2.57(m,4H),2.62(t,2H),3.52(t,4H),3.81(t,2H),4.76(br.s,1H,OH),5.13(s,2H),7.27-7.41(m,5H).
【０１２６】
（工程２）ベンジル  ４−［３−［（５−シアノ−２−ピリジル）オキシ］プロピル］ピペラジン−１−カルボキシレート＜Benzyl 4-[3-[(5-cyano-2-pyridyl)oxy]propyl]piperazine-1-carboxylate＞の合成
0006681274.tif 000028
工程１で得られたベンジル  ４−（３−ヒドロキシプロピル）ピペラジン−１−カルボキシレート（２．００ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（３５ｍＬ）溶液に、０℃にて、水素化ナトリウム（０．３８ｇ，６０％鉱油分散）を加えた。室温まで昇温し、室温にて３０分間撹拌した。０℃に冷却し、次いで５−シアノ−２−クロロピリジン（１．００ｇ）を加えた。室温まで昇温し、次いで室温で一晩撹拌した。得られた液を水に注ぎ入れ、酢酸エチルで抽出した。有機層を合わせて、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。その後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮して得られた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで、表題化合物（１．７４ｇ、収率６４％）を得た。得られた化合物のＮＭＲ分析の結果は以下のとおりであった。
1HNMR(CDCl3)1.97(tt,2H),2.35-2.48(m,4H),2.51(t,2H),3.52(t,4H),4.42(t,2H),5.13(s,2H),6.79(d,1H),7.27-7.41(m,5H),7.76(dd,1H),8.46(d,1H).
【０１２７】
（工程３）ベンジル  ４−［３−［［５−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）−２−ピリジル］オキシ］プロピル］ピペラジン−１−カルボキシレート＜Benzyl 4-[3-[[5-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)-2-pyridyl]oxy]propyl]piperazine-1-carboxylate＞の合成
0006681274.tif 000029
工程２で得られたベンジル  ４−［３−［（５−シアノ−２−ピリジル）オキシ］プロピル］ピペラジン−１−カルボキシレート（１．７２ｇ）のテトラヒドロフラン（２０ｍＬ）溶液に、室温下、リチウム  ビス（トリメチルシリル）アミド（１２ｍＬ，１．３Ｍテトラヒドロフラン溶液）を添加した。室温にて一晩撹拌した。その後、水浴で冷却しながら塩化水素／１，４−ジオキサン溶液（６ｍＬ，４Ｍ）を加えた。次いで３時間撹拌した。その後、得られた液を減圧濃縮した。
【０１２８】
得られた残渣をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２０ｍＬ）に溶解させた。室温下、トリエチルアミン（２．２９ｇ）を添加した。次いでジ−ｔｅｒｔ−ブチル  ジカーボネート（２．１７ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１０ｍＬ）溶液を添加した。これを室温下１週間撹拌した。その後、水に注ぎ入れ、クロロホルムで抽出した。有機層を合わせ、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。次いでろ過した。ろ液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで、表題化合物（１．６９ｇ、収率７５％）を得た。得られた化合物のＮＭＲ分析の結果は以下のとおりであった。
1HNMR(CDCl3)1.54(s,9H),1.96(tt,2H),2.27-2.61(m,6H),3.44-3.61(m,4H),4.29-4.47(m,2H),5.13(s,2H),6.72(d,1H),7.28-7.40(m,5H),8.11(dd,1H),8.59(d,1H).
【０１２９】
（工程４）ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［６−（３−ピペラジン−１−イルプロポキシ）ピリジン−３−カルボキシイミドイル］カルバメート＜tert-Butyl N-[6-(3-piperazin-1-ylpropoxy)pyridine-3-carboximidoyl]carbamate＞の合成
0006681274.tif 000030
工程３で得られたベンジル  ４−［３−［［５−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）−２−ピリジル］オキシ］プロピル］ピペラジン−１−カルボキシレート（１．６９ｇ）のメタノール（５１ｍＬ）溶液に、パラジウム炭素（０．８５ｇ，１０％ｗｅｔ）を加え、水素雰囲気下、一晩反応させた。得られた液をセライトでろ過した。ろ液を減圧濃縮し、残渣をアミノシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで、表題化合物（１．１２ｇ、収率９１％）を得た。得られた化合物のＮＭＲ分析の結果は以下のとおりであった。
1HNMR(CDCl3)1.55(s,9H),1.97(tt,2H),2.33-2.56(m,6H),2.89(t,4H),4.38(t,2H),6.74(d,1H),8.11(dd,1H),8.58(d,1H).
【０１３０】
（工程５）ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［６−［３−［４−［６−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ヘキシル］ピペラジン−１−イル］プロポキシ］ピリジン−３−カルボキシイミドイル］カルバメート＜tert-Butyl N-[6-[3-[4-[6-[[N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)carbamimidoyl]amino]hexyl]piperazin-1-yl]propoxy]pyridine-3-carboximidoyl]carbamate＞の合成
0006681274.tif 000031
工程４で得られたｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［６−（３−ピペラジン−１−イルプロポキシ）ピリジン−３−カルボキシイミドイル］カルバメート（１．１２  ｇ）及び参考例１で得られたｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［（６−ブロモヘキシルアミノ）−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）メチレン］カルバメート（１．５６ｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１５ｍＬ）に溶解させた。これに、室温下、炭酸カリウム（０．５１ｇ）を添加した。その後、５０℃に昇温し、同温で一晩撹拌した。次いで、得られた液を水に注ぎ入れ、クロロホルムで抽出した。有機層を合わせ、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。その後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物（化合物番号１：０．８９ｇ、収率４１％）を得た。得られた化合物のＮＭＲ分析の結果は以下のとおりであった。
1HNMR(CDCl3)1.25-1.37(m,4H),1.44-1.62(m,31H),1.97(dt,2H),2.32(t,2H),2.38-2.61(m,10H),3.88(t,2H),4.38(t,2H),6.74(d,1H),8.12(dd,1H),8.59(d,1H).
【０１３１】
実施例２
６−［３−［４−（６−グアニジノヘキシル）ピペラジン−１−イル］プロポキシ］ピリジン−３−カルボキシアミジン  塩酸塩＜6-[3-[4-(6-Guanidinohexyl)piperazin-1-yl]propoxy]pyridine-3-carboxamidine hydrochloride＞の合成
0006681274.tif 000032
実施例１工程５で得られたｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［６−［３−［４−［６−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ヘキシル］ピペラジン−１−イル］プロポキシ］ピリジン−３−カルボキシイミドイル］カルバメート（０．８９ｇ）をジクロロメタン（１５ｍＬ）に溶解させた。これに、トリフルオロ酢酸（１５ｍＬ）を加え、一晩撹拌した。その後、得られた液を減圧濃縮した。残渣をメタノール（１０ｍＬ）に溶解させた。その後、塩化水素／１，４−ジオキサン溶液（１５ｍＬ，４Ｍ）を加えた。得られた液を５時間撹拌した。次いで減圧濃縮することで、表題化合物（化合物番号２：０．７２ｇ）を得た。得られた化合物の融点は１６５−１６８℃であった。
【０１３２】
実施例３
（工程１）ベンジル  ４−［３−［（５−シアノ−２−ピリジル）オキシ］プロピル］ピペリジン−１−カルボキシレート＜Benzyl 4-[3-[(5-cyano-2-pyridyl)oxy]propyl]piperidine-1-carboxylate＞の合成
0006681274.tif 000033
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１３ｍＬ）に、ベンジル  ４−（３−ヒドロキシプロピル）ピペリジン−１−カルボキシレート（０．９３ｇ）及び５−シアノ−２−クロロピリジン（０．５１ｇ）を溶解させた。これに、０℃にて、水素化ナトリウム（０．１５ｇ，６０％鉱油分散）を加え、室温で一晩撹拌した。その後、得られた液を水に注ぎ入れ、クロロホルムで抽出した。有機層を合わせ、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。その後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで、表題化合物（１．２５ｇ、収率９８％）を得た。得られた化合物のＮＭＲ分析の結果は以下のとおりであった。
1HNMR(CDCl3)1.03-1.23(m,2H),1.31-1.55(m,3H),1.62-1.87(m,4H),2.65-2.88(m,2H),4.07-4.29(m,2H),4.34(t,2H),5.12(s,2H),6.78(d,1H),7.28-7.42(m,5H),7.76(dd,1H),8.46(d,1H).
【０１３３】
（工程２）ベンジル  ４−［３−［［５−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）−２−ピリジル］オキシ］プロピル］ピペリジン−１−カルボキシレート＜Benzyl 4-[3-[[5-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)-2-pyridyl]oxy]propyl]piperidine-1-carboxylate＞の合成
0006681274.tif 000034
工程１で得られたベンジル  ４−［３−［（５−シアノ−２−ピリジル）オキシ］プロピル］ピペリジン−１−カルボキシレート（１．２５ｇ）のテトラヒドロフラン（１５ｍＬ）溶液に、室温下、リチウム  ビス（トリメチルシリル）アミド（６．６ｍＬ，１．３Ｍテトラヒドロフラン溶液）を添加し、室温にて一晩撹拌した。得られた液を水浴で冷却し、塩化水素／１，４−ジオキサン溶液（４ｍＬ，４Ｍ）を加え、３時間撹拌した。その後、減圧濃縮した。残渣をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（３３ｍＬ）に溶解させた。これに、トリエチルアミン（３．３３  ｇ）を添加し、次いでジ−ｔｅｒｔ−ブチル  ジカーボネート（２．１５ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２ｍＬ）溶液を加えた。室温で一晩撹拌した。次いで減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで、表題化合物（１．４１ｇ、定量的）を得た。得られた化合物のＮＭＲ分析の結果は以下のとおりであった。
1HNMR(CDCl3)1.04-1.23(m,2H),1.32-1.52(m,3H),1.55(s,9H),1.65-1.85(m,4H),2.67-2.87(m,2H),4.03-4.27(m,2H),4.32(t,2H),5.12(s,2H),6.73(s,1H),7.28-7.40(m,5H),8.12(dd,1H),8.59(d,1H).
【０１３４】
（工程３）ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［６−［３−（４−ピペリジル）プロポキシ］ピリジン−３−カルボキシイミドイル］カルバメート＜tert-Butyl N-[6-[3-(4-piperidyl)propoxy]pyridine-3-carboximidoyl]carbamate＞の合成
0006681274.tif 000035
工程２で得られたベンジル  ４−［３−［［５−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）−２−ピリジル］オキシ］プロピル］ピペリジン−１−カルボキシレート（１．４１ｇ）のメタノール（５０ｍＬ）溶液にパラジウム炭素（０．７０ｇ，１０％ｗｅｔ）を加え、水素雰囲気下で三日間反応させた。その後、得られた液をセライトでろ過した。ろ液を減圧濃縮した。次いで、残渣をアミノシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物（０．９６ｇ、収率９３％）を得た。
【０１３５】
（工程４）ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［６−［３−［１−［６−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ヘキシル］−４−ピペリジル］プロポキシ］ピリジン−３−カルボキシイミドイル］カルバメート＜tert-butyl N-[6-[3-[1-[6-[[N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)carbamimidoyl]amino]hexyl]-4-piperidyl]propoxy]pyridine-3-carboximidoyl]carbamate＞の合成
0006681274.tif 000036
工程３で得られたｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［６−［３−（４−ピペリジル）プロポキシ］ピリジン−３−カルボキシイミドイル］カルバメート（０．９４ｇ）及び参考例１で得られたｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［（６−ブロモヘキシルアミノ）−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）メチレン］カルバメート（１．３１ｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１８ｍＬ）に溶解させた。これに、室温にて、炭酸カリウム（０．４３ｇ）を添加した。次いで５０℃にて一晩撹拌した。得られた液を水に注ぎ入れ、クロロホルムで抽出した。有機層を合わせて、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、次いでろ過した。ろ液を減圧濃縮して、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで、表題化合物（化合物番号３：１．００ｇ、収率５５％）を得た。得られた化合物のＮＭＲ分析の結果は以下のとおりであった。
1HNMR(CDCl3)1.24-1.44(m,10H),1.44-1.62(m,29H),1.64-1.85(m,5H),1.85-2.03(m,2H),2.26-2.45(m,2H),2.90-3.06(m,2H),3.88(t,2H),4.31(t,2H),6.74(d,1H),8.12(dd,1H),8.59(d,1H).
【０１３６】
実施例４
６−［３−［１−（６−グアニジノヘキシル）−４−ピペリジル］プロポキシ］ピリジン−３−カルボキシアミジン  塩酸塩＜6-[3-[1-(6-Guanidinohexyl)-4-piperidyl]propoxy]pyridine-3-carboxamidine hydrochloride＞の合成
0006681274.tif 000037
実施例３工程４で得られたｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［６−［３−［１−［６−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ヘキシル］−４−ピペリジル］プロポキシ］ピリジン−３−カルボキシイミドイル］カルバメート（１．００ｇ）をジクロロメタン（１５ｍＬ）に溶解させた。これに、室温にて、トリフルオロ酢酸（１５ｍＬ）を加え、一晩撹拌した。その後、得られた液を減圧濃縮し、残渣をメタノール（１５ｍＬ）に溶解させた。これに塩化水素／１，４−ジオキサン溶液（１５ｍＬ，４Ｍ）を加え、５時間撹拌した。その後、減圧濃縮することで、表題化合物（化合物番号４：０．８０ｇ）を得た。得られた化合物のＮＭＲ分析の結果は以下のとおりであった。
1HNMR(CD3OD)1.36-1.72(m,11H),1.73-1.95(m,4H),1.95-2.07(m,2H),2.96(t,2H),3.04-3.15(m,2H),3.19(t,2H),3.52-3.63(m,2H),4.42(t,2H),6.98(d,1H),8.07(dd,1H),8.63(d,1H).
【０１３７】
実施例５
（工程１）ｔｅｒｔ−ブチル  ４−（ベンジルオキシカルボニルアミノ）ピペリジン−１−カルボキシレート＜tert-Butyl 4-(benzyloxycarbonylamino)piperidine-1-carboxylate＞の合成
0006681274.tif 000038
ｔｅｒｔ−ブチル  ４−アミノピペリジン−１−カルボキシレート（５．１９ｇ）のジクロロメタン（１５０ｍＬ）溶液にＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（１０．０４ｇ）を添加した。これに、０℃にて、クロロ蟻酸ベンジル（５．３０ｇ）を滴下した。室温にて一終夜撹拌した。得られた液を水に注ぎ入れ、クロロホルムで抽出した。有機層を合わせて、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。次いでろ過した。ろ液を減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで、表題化合物（６．３８ｇ、収率７４％）を得た。得られた化合物のＮＭＲ分析の結果は以下のとおりであった。
1HNMR(CDCl3)1.21-1.33(m,2H),1.45(s,9H),1.85-2.00(m,2H),2.86(dd,2H),3.57-3.76(m,1H),3.90-4.12(m,2H),4.58-4.74(m,1H,NH),5.09(s,2H),7.29-7.41(m,5H).
【０１３８】
（工程２）ベンジル  Ｎ−（４−ピペリジル）カルバメート  塩酸塩＜Benzyl N-(4-piperidyl)carbamate hydrochloride＞の合成
0006681274.tif 000039
工程１で得られたｔｅｒｔ−ブチル  ４−（ベンジルオキシカルボニルアミノ）ピペリジン−１−カルボキシレート（６．３８ｇ）を１，４−ジオキサン（２７ｍＬ）に溶解させた。これに室温にて塩化水素／１，４−ジオキサン溶液（５５ｍＬ，４Ｍ）を添加し、室温にて５時間撹拌した。その後、得られた液を減圧濃縮した。得られた残渣をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル（１５０ｍＬ）で洗浄することで、表題化合物（４．７６ｇ、収率９２％）を得た。得られた化合物のＮＭＲ分析の結果は以下のとおりであった。
1HNMR(CDCl3)1.80-1.99(m,2H),2.09-2.23(m,2H),2.81-3.06(m,2H),3.39-3.58(m,2H),3.68-3.88(m,1H),4.93-5.05(m,1H,NH),5.09(s,2H),7.28-7.41(m,5H).
【０１３９】
（工程３）ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［４−［３−［４−（ベンジルオキシカルボニルアミノ）−１−ピペリジル］プロポキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート＜tert-Butyl N-[4-[3-[4-(benzyloxycarbonylamino)-1-piperidyl]propoxy]benzenecarboximidoyl]carbamate＞の合成
0006681274.tif 000040
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１５ｍＬ）に、工程２で得られたベンジル  Ｎ−（４−ピペリジル）カルバメート  塩酸塩（０．８１ｇ）及びｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［４−（３−ブロモプロポキシ）ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート（１．２８ｇ）を溶解させた。これに炭酸カリウム（０．９９ｇ）を添加した。これを５０℃にて二日間撹拌した。次いで室温に冷却した。得られた液を水に注ぎ入れ、クロロホルムで抽出した。有機層を合わせて、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。次いでろ過した。ろ液を減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで、表題化合物（１．２４ｇ、収率８１％）で得た。得られた化合物のＮＭＲ分析の結果は以下のとおりであった。
1HNMR(CDCl3)1.37-1.52(m,2H),1.55(s,9H),1.88-2.03(m,4H),2.11(t,2H),2.50(t,2H),2.74-2.90(m,2H),3.46-3.66(m,1H),4.04(t,2H),4.66(br.d,1H),5.09(s,2H),6.91(d,2H),7.28-7.40(m,5H),7.82(d,2H).
【０１４０】
（工程４）ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［４−［３−（４−アミノ−１−ピペリジル）プロポキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート＜tert-Butyl N-[4-[3-(4-amino-1-piperidyl)propoxy]benzenecarboximidoyl]carbamate＞の合成
0006681274.tif 000041
工程３で得られたｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［４−［３−［４−（ベンジルオキシカルボニルアミノ）−１−ピペリジル］プロポキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート（１．１７ｇ）をメタノール（３５ｍＬ）に溶解させた。これにパラジウム炭素（０．５ｇ，１０％ｗｅｔ）を添加し、水素雰囲気下、一晩反応させた。その後、得られた液をセライトでろ過した。ろ液を減圧濃縮し、残渣をアミノシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで、表題化合物（０．８６ｇ、定量的）を得た。得られた化合物のＮＭＲ分析の結果は以下のとおりであった。
1HNMR(CDCl3)1.35-1.58(m,11H),1.78-1.91(m,2H),1.92-2.16(m,4H),2.47-2.60(m,2H),2.60-2.75(m,1H),2.89-3.03(m,2H),3.99-4.15(m,2H),6.98(d,2H),7.79(m,2H).
【０１４１】
（工程５）ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［４−［３−［４−［５−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ペンチルアミノ］−１−ピペリジル］プロポキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート＜tert-Butyl N-[4-[3-[4-[5-[[N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)carbamimidoyl]amino]pentylamino]-1-piperidyl]propoxy]benzenecarboximidoyl]carbamate＞の合成
0006681274.tif 000042
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１２ｍＬ）に、工程４で得られたｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［４−［３−（４−アミノ−１−ピペリジル）プロポキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート（０．８６ｇ）及びｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［（５−ブロモペンチルアミノ）−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）メチレン］カルバメート（１．２２ｇ）を溶解させた。これに炭酸カリウム（０．３８ｇ）を添加し、５０℃にて一晩撹拌した。その後、室温に冷却した。得られた液を水に注ぎ入れ、クロロホルムで抽出した。有機層を合わせて無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。次いでろ過した。ろ液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで、表題化合物（化合物番号５：０．１５ｇ、収率９．３％）を得た。得られた化合物のＮＭＲ分析の結果は以下のとおりであった。
1HNMR(CDCl3)1.28-1.40(m,2H),1.40-1.72(m,33H),1.93-2.14(m,6H),2.53(t,2H),2.58-2.77(m,3H),2.95(d,2H),3.88(t,2H),4.05(t,2H),6.91(d,2H),7.83(d,2H).
【０１４２】
実施例６
４−［３−［４−（５−グアニジノペンチルアミノ）−１−ピペリジル］プロポキシ］ベンズアミジン  塩酸塩＜4-[3-[4-(5-Guanidinopentylamino)-1-piperidyl]propoxy]benzamidine hydrochloride＞の合成
0006681274.tif 000043
実施例５工程５で得られたｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［４−［３−［４−［５−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ペンチルアミノ］−１−ピペリジル］プロポキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート（０．１５ｇ）をジクロロメタン（５ｍＬ）に溶解させた。これにトリフルオロ酢酸（５ｍＬ）を添加し、一晩撹拌した。その後、得られた液を減圧濃縮した。得られた残渣をメタノール（５ｍＬ）に溶解させた。これに塩化水素／１，４−ジオキサン溶液（１５ｍＬ，４Ｍ）を添加し、二時間撹拌した。得られた液を減圧濃縮することで、表題化合物（化合物番号６：０．１２ｇ）を得た。得られた化合物のＮＭＲ分析の結果は以下のとおりであった。
1HNMR(CD3OD)1.40-1.57(m,2H),1.57-1.72(m,2H),1.72-1.92(m,2H),1.98-2.21(m,2H),2.22-2.54(m,4H),3.01-3.26(m,4H),3.35-3.44(m,2H),3.43-3.70(m,3H),3.73-3.87(m,2H),4.24(t,2H),7.17(d,2H),7.80(d,2H).
【０１４３】
実施例７
（工程１）ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［［５−［４−（ベンジルオキシカルボニルアミノ）−１−ピペリジル］ペンチルアミノ］−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）メチレン］カルバメート＜tert-Butyl N-[[5-[4-(benzyloxycarbonylamino)-1-piperidyl]pentylamino]-(tert-butoxycarbonylamino)methylene]carbamate＞の合成
0006681274.tif 000044
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１５ｍＬ）に、ベンジル  Ｎ−（４−ピペリジル）カルバメート塩酸塩（０．８１ｇ）及びｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［（５−ブロモペンチルアミノ）−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）メチレン］カルバメート（１．４６ｇ）を溶解させた。これに炭酸カリウム（０．９９ｇ）を添加し、５０℃にて一晩撹拌した。その後、室温に冷却した。得られた液を水に注ぎ入れ、クロロホルムで抽出した。有機層を合わせて、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。次いでろ過した。ろ液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで、表題化合物（０．７２ｇ、収率４３％）を得た。得られた化合物のＮＭＲ分析の結果は以下のとおりであった。
1HNMR(CDCl3)1.21-1.36(m,2H),1.39-1.62(m,24H),1.86-1.99(m,2H),2.05(t,2H),2.31(t,2H),2.75-2.86(m,2H),3.45-3.62(m,1H),3.88(t,2H),4.59-4.73(br.d,1H,NH),5.09(s,2H),7.28-7.40(m,5H).
【０１４４】
（工程２）
ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［［５−（４−アミノ−１−ピペリジル）ペンチルアミノ］−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）メチレン］カルバメート＜tert-Butyl N-[[5-(4-amino-1-piperidyl)pentylamino]-(tert-butoxycarbonylamino)methylene]carbamate＞の合成
0006681274.tif 000045
工程１を２回実施して得られたｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［［５−［４−（ベンジルオキシカルボニルアミノ）−１−ピペリジル］ペンチルアミノ］−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）メチレン］カルバメート（１．４８ｇ）をメタノール（４０ｍＬ）に溶解させた。これにパラジウム炭素（０．７５ｇ，１０％ｗｅｔ）を加え、水素雰囲気下、一晩反応させた。その後、得られた液をセライトでろ過した。ろ液を減圧濃縮し、残渣をアミノシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで、表題化合物（０．７６ｇ、収率６８％）を得た。得られた化合物のＮＭＲ分析の結果は以下のとおりであった。
1HNMR(CDCl3)1.23-1.43(m,4H),1.49(s,9H),1.52(s,9H),1.54-1.74(m,6H),1.74-1.87(m,2H),1.96(t,2H),2.23-2.36(m,2H),2.55-2.71(m,2H),2.79-2.95(m,2H),3.89(t,2H).
【０１４５】
（工程３）ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［４−［３−［［１−［５−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ペンチル］−４−ピペリジル］アミノ］プロポキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート＜tert-Butyl N-[4-[3-[[1-[5-[[N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)carbamimidoyl]amino]pentyl]-4-piperidyl]amino]propoxy]benzenecarboximidoyl]carbamate＞の合成
0006681274.tif 000046
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１８ｍＬ）に、工程２で得られたｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［［５−（４−アミノ−１−ピペリジル）ペンチルアミノ］−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）メチレン］カルバメート（０．７６ｇ）を溶解させた。これに炭酸カリウム（０．２９ｇ）を添加し、５０℃にて一晩撹拌した。その後、室温に冷却し、得られた液を水に注ぎ入れ、クロロホルムで抽出した。有機層を合わせて無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。次いでろ過した。ろ液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで、表題化合物（化合物番号７：０．３４ｇ、収率２７％）を得た。得られた化合物のＮＭＲ分析の結果は以下のとおりであった。
1HNMR(CDCl3)1.15-1.34(m,2H),1.40-1.65(m,33H),1.90-2.11(m,4H),2.31-2.47(m,2H),2.55-2.75(m,1H),2.84(t,2H),2.89-3.04(m,2H),3.87(t,2H),4.10(t,2H),6.91(d,2H),7.88(m,2H).
【０１４６】
実施例８
（工程４）４−［３−［［１−（５−グアニジノペンチル）−４−ピペリジル］アミノ］プロポキシ］ベンズアミジン  塩酸塩＜4-[3-[[1-(5-Guanidinopentyl)-4-piperidyl]amino]propoxy]benzamidine hydrochloride＞の合成
0006681274.tif 000047
実施例７工程３で得られたｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［４−［３−［［１−［５−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ペンチル］−４−ピペリジル］アミノ］プロポキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート（０．３４ｇ）をジクロロメタン（１０ｍＬ）に溶解させた。これにトリフルオロ酢酸（１０ｍＬ）を添加し、３時間撹拌した。その後、得られた液を減圧濃縮した。得られた残渣をメタノール（１０ｍＬ）に溶解させ、塩化水素／１，４−ジオキサン溶液（１０ｍＬ，４Ｍ）を加え、一時間撹拌した。その後、減圧濃縮することで、表題化合物（化合物番号８：０．２６ｇ）を得た。得られた化合物のＮＭＲ分析の結果は以下のとおりであった。
1HNMR(CD3OD)1.40-1.56(m,2H),1.60-1.74(m,2H),1.78-1.92(m,2H),2.04-2.21(m,2H),2.21-2.38(m,3H),2.39-2.52(m,2H),3.04-3.27(m,6H),3.53-3.63(m,2H),3.70-3.82(m,2H),4.19-4.34(m,2H),7.18(d, 2H),7.81(m,2H).
【０１４７】
実施例９
（工程１）ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［４−（５−ピペラジン−１−イルペンタ−１−インイル）ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート＜tert-butyl N-[4-(5-piperazin-1-ylpent-1-ynyl)benzenecarboximidoyl]carbamate＞の合成
0006681274.tif 000048
ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［４−（５−ブロモペンタ−１−インイル）ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート（１．０９ｇ）をエタノール（１０ｍＬ）に溶解させた。これに、室温にて、炭酸カリウム（５３３ｍｇ）とピペラジン（５１１ｍｇ）を添加し、加熱還流下、一晩撹拌した。得られた液を室温まで冷却した。これに水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。次いでろ過した。ろ液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製する事で表題化合物（７５０ｍｇ、収率６８．１％）を得た。得られた化合物のＮＭＲ分析の結果は以下のとおりであった。
1HNMR(CDCl3)1.55(s,9H),1.80(tt,2H),2.43-2.53(m,8H),2.90(t,4H),7.43(d,2H),7.78(d,2H).
【０１４８】
（工程２）ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［４−［５−［４−［５−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ペンチル］ピペラジン−１−イル］ペンタ−１−インイル］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート＜tert-butyl N-[4-[5-[4-[5-[[N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)carbamimidoyl]amino]pentyl]piperazin-1-yl]pent-1-ynyl]benzenecarboximidoyl]carbamate＞の合成
0006681274.tif 000049
工程１で得られたｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［４−（５−ピペラジン−１−イルペンタ−１−インイル）ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート（３５０ｍｇ）をエタノール（５ｍＬ）に溶解させた。これに室温にて炭酸カリウム（２６１ｍｇ）およびｔｅｒｔ−ブチル−Ｎ−［（５−ブロモペンチルアミノ）−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）メチレン］カルバメート（５４０ｍｇ）を添加した。これを、５０℃にて、５時間撹拌した。得られた液を室温まで冷却した。これに水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。次いでろ過した。ろ液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製する事で表題化合物（化合物番号９：７９ｍｇ、収率１２．０％）を得た。得られた化合物のＮＭＲ分析の結果は以下のとおりであった。
1HNMR(CDCl3)1.28-1.35(m,2H),1.52-1.60(m,33H),1.75-1.85(m,2H),2.33(dd,2H),2.42-2.60(m,10H),3.89(dd,2H),7.43(d,2H),7.78(d,2H).
【０１４９】
実施例１０
４−［５−［４−（５−グアニジノペンチル）ピペラジン−１−イル］ペンタ−１−インイル］ベンズアミジン  塩酸塩＜4-[5-[4-(5-guanidinopentyl)piperazin-1-yl]pent-1-ynyl]benzamidine hydrochloride＞の合成
0006681274.tif 000050
実施例９で得られたｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［４−［５−［４−［５−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ペンチル］ピペラジン−１−イル］ペンタ−１−インイル］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート（７９ｍｇ）をジクロロメタン（１．５ｍＬ）に溶解させた。これに室温にてトリフルオロ酢酸（１．５ｍＬ）を加え、同温にて一晩撹拌した。得られた液を減圧濃縮した。得られた残渣をメタノール（１．５ｍＬ）に溶解させた。これに、室温にて、塩化水素（４Ｍジオキサン溶液）（１．５ｍＬ）を添加し、同温にて１時間撹拌した。得られた液を減圧濃縮することで表題化合物（化合物番号１０：５９ｍｇ）を得た。得られた化合物のＮＭＲ分析の結果は以下のとおりであった。
1HNMR(CD3OD)1.46-1.55(m,2H),1.65-1.68(m,2H),1.80-1.92(m,2H),2.03-2.20(m,2H),2.67-2.70(m,2H),3.18-3.30(m,4H),3.41-3.52(m,2H),3.52-3.80(m,4H),3.80-4.00(m,4H),7.64(d,2H),7.75(d,2H).
【０１５０】
実施例１１
ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［４−［５−［４−［６−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ヘキシル］ピペラジン−１−イル］ペンタ−１−インイル］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート＜tert-butyl N-[4-[5-[4-[6-[[N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)carbamimidoyl]amino]hexyl]piperazin-1-yl]pent-1-ynyl]benzenecarboximidoyl]carbamate＞の合成
0006681274.tif 000051
実施例９と同様の手法にて、表題化合物（化合物番号１１）を合成した。得られた化合物のＮＭＲ分析の結果は以下のとおりであった。
1HNMR(CDCl3)1.25-1.35(m,6H),1.49-1.60(m,31H),1.77-1.86(m,2H),2.32(tt,2H),2.43-2.64(m,10H),3.88(t,2H),7.43(d,2H),7.78(d,2H).
【０１５１】
実施例１２
４−［５−［４−（６−グアニジノヘキシル）ピペラジン−１−イル］ペンタ−１−インイル］ベンズアミジン  塩酸塩＜4-[5-[4-(6-guanidinohexyl)piperazin-1-yl]pent-1-ynyl]benzamidine hydrochloride＞の合成
0006681274.tif 000052
実施例１０と同様の手法にて、表題化合物（化合物番号１２）を合成した。得られた化合物のＮＭＲ分析の結果は以下のとおりであった。
1HNMR(CD3OD)1.45-1.56(m,4H),1.60-1.71(m,2H),1.81-1.92(m,2H),2.10-2.20(m,2H),2.64-2.69(m,2H),3.19(t,2H),3.25-3.36(m,2H),3.43-3.48(m,2H),3.60-3.75(m,4H),3.85-4.03(m,4H),7.64(d,2H),7.75(d,2H).
【０１５２】
実施例１３
（工程１）ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］−Ｎ−［６−［ｔｅｒｔ−ブチル（ジメチル）シリル］オキシヘキサ−３−インイル］カルバメート＜tert-butyl N-[N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)carbamimidoyl]-N-[6-[tert-butyl(dimethyl)silyl]oxyhex-3-ynyl]carbamate＞の合成
0006681274.tif 000053
６−［ｔｅｒｔ−ブチル（ジメチル）シリル］オキシヘキサ−３−イン−１−オール（３．６１ｇ）をテトラヒドロフラン（７０ｍＬ）に溶解させた。これに、氷冷下、トリフェニルホスフィン（４．１４ｇ）、ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）メチレン］カルバメート（８．５２ｇ）、及びジエチル  アゾジカルボキシレート（２．２Ｍトルエン溶液）（７．１８ｍＬ）を添加した。これを、室温下、５時間撹拌した。得られた液を減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製する事で表題化合物（３．６８ｇ、収率４０．１％）を得た。得られた化合物のＮＭＲ分析の結果は以下のとおりであった。
1HNMR(CDCl3)0.07(s,6H),0.89(s,9H),1.47-1.58(m,27H),2.30-2.39(m,2H),2.50-2.58(m,2H),3.67(t,2H),3.91(t,2H).
【０１５３】
（工程２）ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］−Ｎ−（６−ヒドロキシヘキサ−３−インイル）カルバメート＜tert-butyl N-[N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)carbamimidoyl]-N-(6-hydroxyhex-3-ynyl)carbamate＞の合成
0006681274.tif 000054
工程１で得られたＮ−［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］−Ｎ−［６−［ｔｅｒｔ−ブチル（ジメチル）シリル］オキシヘキサ−３−インイル］カルバメート（３．６８ｇ）をテトラヒドロフラン（３５ｍＬ）に溶解させた。これに、氷冷下、テトラブチルアンモニウムフルオリド（１Ｍテトラヒドロフラン溶液）（６．８ｍＬ）を添加した。これを室温にて４時間撹拌した。得られた液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。次いでろ過した。ろ液を減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製する事で表題化合物（２．２９ｇ、収率７８．２％）を得た。得られた化合物のＮＭＲ分析の結果は以下のとおりであった。
1HNMR(CDCl3)1.50-1.57(m,27H),2.34-2.43(m,2H),2.49-2.57(m,2H),3.64-3.72(m,2H),3.95(t,2H).
【０１５４】
（工程３）６−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−アミノ］ヘキサ−３−インイル  メタンスルホネート＜6-[[N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)carbamimidoyl]-tert-butoxycarbonyl-amino]hex-3-ynyl methanesulfonate＞の合成
0006681274.tif 000055
工程２で得られたｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］−Ｎ−（６−ヒドロキシヘキサ−３−インイル）カルバメート（２．２９ｇ）をジクロロメタン（２５ｍＬ）に溶解させた。これに、氷冷下、トリエチルアミン（１．５３ｇ）、塩化メタンスルホニル（８６３ｍｇ）、およびＮ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン（６１ｍｇ）を添加した。これを室温にて３時間撹拌した。得られた液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。次いでろ過した。ろ液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製する事で表題化合物（２．４５ｇ、収率９１．４％）を得た。得られた化合物のＮＭＲ分析の結果は以下のとおりであった。
1HNMR(CDCl3)1.49-1.52(m,27H),2.49-2.64(m,4H),3.06(s,3H),3.90(t,2H),4.25(t,2H).
【０１５５】
（工程４）ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］−Ｎ−（６−ブロモヘキサ−３−インイル）カルバメート＜tert-butyl N-[N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)carbamimidoyl]-N-(6-bromohex-3-ynyl)carbamate＞の合成
0006681274.tif 000056
工程３で得られた６−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−アミノ］ヘキサ−３−インイル  メタンスルホネート（２．４５ｇ）をアセトニトリル（２５ｍＬ）に溶解させた。これに、室温にて、リチウムブロマイド（７９７ｍｇ）を添加した。これを、５０℃にて、５時間撹拌した。得られた液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。次いでろ過した。ろ液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製する事で表題化合物（１．８９  ｇ、収率７９．７％）を得た。得られた化合物のＮＭＲ分析の結果は以下のとおりであった。
1HNMR(CDCl3)1.50-1.58(m,27H),2.49-2.57(m,2H),2.67-2.77(m,2H),3.38(t,2H),3.94(t,2H).
【０１５６】
（工程５）ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］−Ｎ−［６−［４−［４−［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェノキシ］ブチル］ピペラジン−１−イル］ヘキサ−３−インイル］カルバメート＜tert-butyl N-[N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)carbamimidoyl]-N-[6-[4-[4-[4-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)phenoxy]butyl]piperazin-1-yl]hex-3-ynyl]carbamate＞の合成
0006681274.tif 000057
工程４で得られたｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］−Ｎ−（６−ブロモヘキサ−３−インイル）カルバメート（１．３１ｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１０ｍＬ）に溶解させた。これに、室温にて、炭酸カリウム（７２６ｍｇ）、およびｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［４−（４−ピペラジン−１−イルブトキシ）ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート（７９０ｍｇ）を添加した。これを６０℃にて７時間撹拌した。得られた液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。次いでろ過した。ろ液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製する事で表題化合物（化合物番号１３：１９８ｍｇ、収率１１．６％）を得た。得られた化合物のＮＭＲ分析の結果は以下のとおりであった。
1HNMR(CDCl3)1.46-1.54(m,27H),1.63-1.70(m,2H),1.76-1.90(m,2H),2.24-2.63(m,16H),3.91(t,2H),4.01(t,2H),6.90(d,2H),7.82(d,2H).
【０１５７】
実施例１４
４−［４−［４−（６−グアニジノヘキサ−３−インイル）ピペラジン−１−イル］ブトキシ］ベンズアミジン  塩酸塩＜4-[4-[4-(6-guanidinohex-3-ynyl)piperazin-1-yl]butoxy]benzamidine hydrochloride＞の合成
0006681274.tif 000058
実施例１３工程５で得られたｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］−Ｎ−［６−［４−［４−［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェノキシ］ブチル］ピペラジン−１−イル］ヘキサ−３−インイル］カルバメートを用いて、実施例１０と同様の手法にて、表題化合物（化合物番号１４）を合成した。得られた化合物のＮＭＲ分析の結果は以下のとおりであった。
1HNMR(CD3OD)1.89-2.10(m,4H),2.49-2.55(m,2H),2.70-2.79(m,2H),3.40-3.94(m,14H),4.17(t,2H),7.16(d,2H),7.78(d,2H).
【０１５８】
参考例２
（工程１）ベンジル  ４−［６−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ヘキシル］ピペラジン−１−カルボキシレート＜Benzyl 4-[6-[[N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)carbamimidoyl]amino]hexyl]piperazine-1-carboxylate＞の合成
0006681274.tif 000059
ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［（６−ブロモヘキシルアミノ）−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）メチレン］カルバメート（４．２３ｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２１ｍＬ）に溶解させた。これにベンジルピペラジン−１−カルボキシレート（２．５５ｇ）及び炭酸カリウム（１．６６ｇ）を室温にて順次添加した。その後、５０℃で一晩撹拌した。室温に冷却した。得られた液を水に注ぎ入れ、酢酸エチルで抽出した。有機層を合わせて無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。次いでろ過した。ろ液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで、表題化合物（５．０４ｇ、収率９０％）を得た。得られた化合物のＮＭＲ分析の結果は以下のとおりであった。
1HNMR(CDCl3)1.26-1.37(m,4H),1.43-1.69(m,22H),2.28-2.45(m,6H),3.52(t,4H),3.88(t,2H),5.13(s,2H),7.28-7.40(m,5H).
【０１５９】
（工程２）ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）−（６−ピペラジン−１−イルヘキシルアミノ）メチレン］カルバメート＜tert-Butyl N-[(tert-butoxycarbonylamino)-(6-piperazin-1-ylhexylamino)methylene]carbamate＞の合成
0006681274.tif 000060
工程１で得られたベンジル  ４−［６−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ヘキシル］ピペラジン−１−カルボキシレートをメタノール（７５ｍＬ）に溶解させた。これにパラジウム炭素（１．００ｇ、１０％ｗｅｔ）を添加し、水素雰囲気下、一晩反応させた。その後、得られた液をセライトでろ過した。ろ液を減圧濃縮し、得られた残渣をアミノシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで、表題化合物（３．８９ｇ、定量的）を得た。得られた化合物のＮＭＲ分析の結果は以下のとおりであった。
1HNMR(CDCl3)1.26-1.38(m,4H),1.41-1.73(m,22H),2.25-2.50(m,6H),2.90(t,4H),3.89(t,2H).
【０１６０】
実施例１５
（工程１）エチル  ４−（４−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシブトキシ）−５−メチルチアゾール−２−カルボキシレート＜Ethyl 4-(4-tert-Butyldimethylsilyloxybutoxy)-5-methylthiazole-2-carboxylate＞の合成
0006681274.tif 000061
エチル  ４−ヒドロキシ−５−メチルチアゾール−２−カルボキシレート（４．５１ｇ）のテトラヒドロフラン（１２０ｍＬ）溶液に４−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシブタン−１−オール（５．９１ｇ）及びトリフェニルホスフィン（６．９５ｇ）を添加し、０℃で撹拌した。さらに、ジイソプロピル  アゾジカルボキシレート（１５．５ｍＬ，１．９Ｍトルエン溶液）を添加し、室温にて、一終夜撹拌した。その後、５時間還流させた。その後、室温まで冷却した。得られた液を減圧濃縮した。得られた残渣にヘキサンを加えた。次いでトリフェニルホスフィンオキシドをろ別した。ろ液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、表題化合物（６．９７ｇ、収率７７％）を得た。得られた化合物のＮＭＲ分析の結果は以下のとおりであった。
1HNMR(CDCl3)0.05(s,6H),0.89(s,9H),1.40(t,3H),1.62-1.73(m,2H),1.75-1.87(m,2H),2.33(s,3H),3.67(t,2H),4.37(t,2H),4.42(q,2H).
【０１６１】
（工程２）４−（４−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシブトキシ）−５−メチルチアゾール−２−カルボキサミド＜4-(4-tert-Butyldimethylsilyloxybutoxy)-5-methylthiazole-2-carboxamide＞の合成
0006681274.tif 000062
工程１で得られたエチル  ４−（４−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシブトキシ）−５−メチルチアゾール−２−カルボキシレート（６．９６ｇ）をエタノール（９０ｍＬ）に溶解させた。これに、室温にて、少量の水に溶解させた水酸化ナトリウム（０．９０ｇ）を添加し、同温で３時間撹拌した。その後、減圧下溶媒を留去した。残渣に水を加え、更に２Ｍ塩酸を加えて酸性にした。次いでクロロホルムで抽出した。有機層を合わせ、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。次いでろ過した。ろ液を減圧下濃縮した。得られた残渣をテトラヒドロフラン（９３ｍＬ）に溶解させた。これに、塩化アンモニウム（３．９８ｇ）、ジイソプロピルエチルアミン（４．８１ｇ）及びＯ −（７−アザベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロりん酸塩（７．７８ｇ）を室温で順次加え、同温で一晩撹拌した。得られた液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注ぎ入れ、酢酸エチルで抽出した。有機層を合わせ、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。その後、ろ過した。ろ液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで、表題化合物（６．０４ｇ、収率９４％）を得た。得られた化合物のＮＭＲ分析の結果は以下のとおりであった。
1HNMR(CDCl3)0.06(s,6H),0.89(s,9H),1.63-1.72(m,2H),1.75-1.87(m,2H),2.32(s,3H),3.68(t,2H),4.30(t,2H),5.46(br.s,1H,NH),6.90(br.s,1H,NH).
【０１６２】
（工程３）４−（４−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシブトキシ）−５−メチルチアゾール−２−カルボニトリル＜4-(4-tert-Butyldimethylsilyloxybutoxy)-5-methylthiazole-2-carbonitrile＞の合成
0006681274.tif 000063
工程２で得られた４−（４−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシブトキシ）−５−メチルチアゾール−２−カルボキサミド（６．０４ｇ）を１，４−ジオキサン（５０ｍＬ）に溶解させた。これに、室温にて、ピリジン（３．６０ｇ）を添加した。さらにトリフルオロ酢酸無水物（４．７９ｇ）の１，４−ジオキサン（７ｍＬ）溶液を添加し、室温にて一晩撹拌した。得られた液を減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで、表題化合物（４．６１ｇ、収率８１％）を得た。得られた化合物のＮＭＲ分析の結果は以下のとおりであった。
1HNMR(CDCl3)0.05(s,6H),0.80(s,9H),1.60-1.71(m,2H),1.75-1.87(m,2H),2.30(s,3H),3.67(t,2H),4.34(t,2H).
【０１６３】
（工程４）ｔｅｒｔ−ブチル  （（４−（４−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシブトキシ）−５−メチルチアゾール−２−イル）（イミノ）メチル）カルバメート＜tert-Butyl ((4-(4-tert-butyldimethylsilyloxybutoxy)-5-methylthiazol-2-yl)(imino)methyl)carbamate＞の合成
0006681274.tif 000064
工程３で得られた４−（４−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシブトキシ）−５−メチルチアゾール−２−カルボニトリル（４．６１ｇ）をテトラヒドロフラン（６２ｍＬ）に溶解させた。これに、室温にて、リチウム  ビス（トリメチルシリル）アミド（３８ｍＬ，１．３Ｍテトラヒドロフラン溶液）を添加し、一晩撹拌した。次いで水浴にて冷却しながら塩化水素／１，４−ジオキサン溶液（１７ｍＬ，４Ｍ）を加え、１．５時間撹拌した。得られた液を減圧濃縮した。残渣をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（６２ｍＬ）に溶解させた。次いで、これに、トリエチルアミン（７．１３ｇ）と、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル  ジカーボネート（６．７７ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１５  ｍＬ）溶液とを添加し、室温にて一晩撹拌した。得られた液を減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで、表題化合物（３．０５ｇ、収率４９％）を得た。得られた化合物のＮＭＲ分析の結果は以下のとおりであった。
1HNMR(CDCl3)0.05(s,6H),0.89(s,9H),1.55(s,9H),1.63-1.73(m,2H),1.75-1.87(m,2H),2.30(s,3H),3.68(t,2H),4.31(t,2H).
【０１６４】
（工程５）ｔｅｒｔ−ブチル  （（４−（４−ヒドロキシブトキシ）−５−メチルチアゾール−２−イル）（イミノ）メチル）カルバメート＜tert-Butyl ((4-(4-hydroxybutoxy)-5-methylthiazol-2-yl)(imino)methyl)carbamate＞の合成
0006681274.tif 000065
工程４で得られたｔｅｒｔ−ブチル  （（４−（４−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシブトキシ）−５−メチルチアゾール−２−イル）（イミノ）メチル）カルバメート（３．０５ｇ）をテトラヒドロフラン（３５ｍＬ）に溶解させた。これに、室温にて、テトラブチルアンモニウムフルオリド（３５ｍＬ，１Ｍテトラヒドロフラン溶液）を加え、同温で４日間撹拌した。得られた液を水に注ぎ入れ、クロロホルムで抽出した。有機層を合わせて無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。次いでろ過した。ろ液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで、表題化合物（１．７３ｇ、収率７６％）を得た。得られた化合物のＮＭＲ分析の結果は以下のとおりであった。
1HNMR(CDCl3)1.55(s,9H),1.69-1.80(m,2H),1.81-1.92(m,2H),2.30(s,3H),3.74(t,2H),4.33(t,2H).
【０１６５】
（工程６）ｔｅｒｔ−ブチル  （（４−（４−ブロモブトキシ）−５−メチルチアゾール−２−イル）（イミノ）メチル）カルバメート＜tert-Butyl ((4-(4-bromobutoxy)-5-methylthiazol-2-yl)(imino)methyl)carbamate＞の合成
0006681274.tif 000066
工程５で得られたｔｅｒｔ−ブチル  （（４−（４−ヒドロキシブトキシ）−５−メチルチアゾール−２−イル）（イミノ）メチル）カルバメート（１．７３ｇ）をジクロロメタン（５３ｍＬ）に溶解させた。これに、室温にて、トリエチルアミン（０．５８ｇ）及び塩化メタンスルホニル（０．６６ｇ）を添加し、室温にて一晩撹拌した。得られた液を水に注ぎ入れ、クロロホルムで抽出した。有機層を合わせて無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。次いでろ過した。ろ液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで、メシレート（２．１６ｇ）を得た。該メシレート（２．１６ｇ）をアセトニトリル（５３ｍＬ）に溶解させた。これに臭化リチウム（２．２８ｇ）を添加し、５０℃で６時間撹拌した。その後、室温に冷却し、得られた液をろ過した。ろ液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで、表題化合物（１．７６ｇ、収率８５％）を得た。得られた化合物のＮＭＲ分析の結果は以下のとおりであった。
1HNMR(CDCl3)1.54(s,9H),1.86-1.99(m,2H),1.99-2.13(m,2H),2.30(s,3H),3.50(t,2H),4.32(t,2H).
【０１６６】
（工程７）ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［４−［４−［４−［６−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ヘキシル］ピペラジン−１−イル］ブトキシ］−５−メチル−チアゾール−２−カルボキシイミドイル］カルバメート＜tert-Butyl N-[4-[4-[4-[6-[[N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)carbamimidoyl]amino]hexyl]piperazin-1-yl]butoxy]-5-methyl-thiazole-2-carboximidoyl]carbamate＞の合成
0006681274.tif 000067
参考例２工程２で得られたｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）−（６−ピペラジン−１−イルヘキシルアミノ）メチレン］カルバメート（０．４４ｇ）と、工程６で得られたｔｅｒｔ−ブチル  （（４−（４−ブロモブトキシ）−５−メチルチアゾール−２−イル）（イミノ）メチル）カルバメート（０．４０ｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１２ｍＬ）に溶解させた。これに、室温にて、炭酸カリウム（０．１７ｇ）を添加した。次いで５０℃で７時間撹拌した。得られた液を室温まで冷却し、水に注ぎ入れ、クロロホルムで抽出した。有機層を合わせて無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。次いでろ過した。ろ液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物（化合物番号１５：０．４６ｇ、収率６１％）を得た。得られた化合物のＮＭＲ分析の結果は以下のとおりであった。
1HNMR(CDCl3)1.24-1.38(m,6H),1.44-1.60(m,29H),1.60-1.72(m,2H),1.72-1.83(m,2H),2.20-2.69(m,15H),3.89(t,2H),4.30(t,2H).
【０１６７】
実施例１６
４−［４−［４−（６−グアニジノヘキシル）ピペラジン−１−イル］ブトキシ］−５−メチル−チアゾール−２−カルボキシアミジン  塩酸塩＜4-[4-[4-(6-Guanidinohexyl)piperazin-1-yl]butoxy]-5-methyl-thiazole-2-carboxamidine hydrochloride＞の合成
0006681274.tif 000068
実施例１５工程７で得られたｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［４−［４−［４−［６−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ヘキシル］ピペラジン−１−イル］ブトキシ］−５−メチル−チアゾール−２−カルボキシイミドイル］カルバメート（０．４６ｇ）をジクロロメタン  （５ｍＬ）に溶解させた。これにトリフルオロ酢酸（５ｍＬ）を添加し、一晩撹拌した。得られた液を減圧濃縮した。得られた残渣をメタノール（５ｍＬ）に溶解させた。これに塩化水素／１，４−ジオキサン溶液（１５ｍＬ，４Ｍ）を加え、一晩撹拌した。その後、減圧濃縮することで、表題化合物（化合物番号１６：０．３１ｇ）を得た。得られた化合物の融点は１７２−１７８℃であった。
【０１６８】
実施例１７
（工程１）５−（３−（（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ）プロポキシ）ピラジン−２−カルボニトリル＜5-(3-((tert-butyldimethylsilyl)oxy)propoxy)pyrazine-2-carbonitrile＞の合成
0006681274.tif 000069
３−（（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ）プロパン−１−オール（２．５ｇ）をテトラヒドロフラン（３６ｍＬ）に溶解させた。これに０℃で水素化ナトリウム（０．５８ｇ）を添加し、次いでメチル  ５−クロロピラジン−２−カルボキシレート（２．１ｇ）を添加した。その後、室温で２４時間撹拌した。これに飽和塩化アンモニウム水溶液を添加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を濃縮し、得られた粗生成物にアンモニア（７Ｍメタノール溶液、１０ｍＬ）を加え、室温で２４時間撹拌した。得られた液を濃縮し、析出した固形物をヘキサンで洗浄した。該固形物をジクロロメタン（１５ｍＬ）に溶解させた。これにピリジン（２．３ｇ）、およびトリフルオロ酢酸無水物（２．５ｇ）を添加し、室温で１８時間撹拌した。その後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和した。得られた液をジクロロメタンで抽出した。有機層を濃縮してシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することで表題化合物（０．５１ｇ）を得た。得られた化合物のＮＭＲ分析の結果は以下のとおりであった。
1HNMR(CDCl3)0.02(s,6H),0.89(s,9H),2.00 (m,2H),3.77(t,2H),4.49(t,2H),8.23(d,1H),8.44(d,1H).
【０１６９】
（工程２）５−（３−ブロモプロポキシ）ピラジン−２−カルボニトリル＜5-(3-bromopropoxy)pyrazine-2-carbonitrile＞
0006681274.tif 000070
５−（３−（（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ）プロポキシ）ピラジン−２−カルボニトリル（０．５１ｇ）をテトラヒドロフラン（６ｍＬ）に溶解させた。これに室温にてテトラブチルアンモニウムフルオリド（１Ｍテトラヒドロフラン溶液、３ｍＬ）を添加し、室温で１８時間撹拌した。その後、溶媒を留去した。得られた粗生成物をテトラヒドロフラン（５ｍＬ）に溶解させた。これに０℃にてトリフェニルホスフィン（０．６８ｇ）、四臭化炭素（０．８６ｇ）を添加し、２．５時間撹拌した。その後、溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することで表題化合物（０．２１ｇ）を得た。得られた化合物のＮＭＲ分析の結果は以下のとおりであった。
1HNMR(CDCl3)2.36(m,2H),3.55(t,2H),4.55 (t,2H),8.26(d,1H),8.45(d,1H)．
【０１７０】
（工程３）ｔｅｒｔ−ブチル（（５−（３−ブロモプロポキシ）ピラジン−２−イル）（イミノ）メチル）カルバメート＜tert-butyl ((5-(3-bromopropoxy)pyrazin-2-yl)(imino)methyl)carbamate＞の合成
0006681274.tif 000071
５−（３−ブロモプロポキシ）ピラジン−２−カルボニトリル（０．２１ｇ）をテトラヒドロフラン（３ｍＬ）に溶解させた。これに室温にてリチウム  ビス（トリメチルシリル）アミド（１．３Ｍテトラヒドロフラン溶液、１ｍＬ）を加えた。これを３０分間撹拌し、次いで４Ｍ塩酸ジオキサン溶液（１ｍＬ）を加えた。さらに２．５時間撹拌した。得られた液から溶媒を留去した。得られた残渣をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（３ｍＬ）に溶解させた。これにジ−ｔｅｒｔ−ブチル  ジカーボネート（０．２８ｇ）とトリエチルアミン（０．４４ｇ）を添加し、室温で２４時間撹拌した。これに水を加えて、酢酸エチルで抽出した。有機層を合わせて濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することで表題化合物（０．２０ｇ）を得た。得られた化合物のＮＭＲ分析の結果は以下のとおりであった。
1HNMR(CDCl3)1.54(s,9H),2.34(m,2H),3.56(t,2H),4.55(t,2H),8.12(d,1H),9.14(d,1H).
【０１７１】
（工程４）ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［５−［３−［４−［６−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ヘキシル］ピペラジン−１−イル］プロポキシ］ピラジン−２−カルボキシイミドイル］カルバメート＜tert-butyl N-[5-[3-[4-[6-[[N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)carbamimidoyl]amino]hexyl]piperazin-1-yl]propoxy]pyrazin-2-carboximidoyl]carbamate＞の合成
0006681274.tif 000072
実施例１５工程７と同様の手法で表題化合物（化合物番号１７）を得た。得られた化合物のＮＭＲ分析の結果は以下のとおりであった。
1HNMR(CDCl3)1.25-1.38(m,4H),1.48-1.63(m,33H),1.98(m,2H),2.25-2.42(m,10H),3.86(t,2H),4.42(t,2H),8.10(s,1H),9.12(s,1H).
【０１７２】
実施例１８
５−［３−［４−（６−グアニジノヘキシル）ピペラジン−１−イル］プロポキシ］ピラジン−２−カルボキシアミジン  塩酸塩＜5-[3-[4-(6-Guanidinohexyl)piperazin-1-yl]propoxy]pyrazin-2-pyrazin hydrochloride＞の合成
0006681274.tif 000073
実施例１６と同様の手法で表題化合物（化合物番号１８）を得た。得られた化合物のＮＭＲ分析の結果は以下のとおりであった。
1HNMR(CDCl3)1.47-1.50(m,4),1.63(m,2H),1.86(m,2H),2.42(m,2H),3.54-3.72(m,10H),3.91-3.99(m,4H),4.63(t,2H),8.47(s,1H),8.97(s,1H).
【０１７３】
製剤実施例（乳剤）
本発明化合物                  ５．６２  質量部
界面活性剤                    ４．４９  質量部
ジメチルホルムアミド        ８９．８９  質量部
以上を混合溶解して、有効成分５．６２％の乳剤を得た。
【０１７４】
（リンゴ黒星病防除試験）
前記製剤実施例の配合処方で調製された乳剤を有効成分１２５ｐｐｍになるように水で希釈した。素焼きポットで栽培したリンゴ幼苗（品種「王林」、３〜４葉期）に、前記希釈液を散布した。室温で自然乾燥させた。その後、リンゴ黒星病菌（Venturia inaequalis）の分生胞子を接種した。明暗を１２時間毎に繰り返す２０℃、高湿度の室内に２週間保持した。葉上の病斑出現状態を無処理と比較し防除効果を調べた。
【０１７５】
化合物番号２、４、６、８、１０、１２、１４、および１８の化合物について前記リンゴ黒星病防除試験を行った。いずれの化合物も７５％以上の防除価を示した。
【０１７６】
（キュウリ灰色かび病防除試験）
前記製剤実施例の配合処方で調製された乳剤を有効成分１２５ｐｐｍになるように水で希釈した。素焼きポットで栽培したキュウリ幼苗（品種「ときわ地這」、子葉期）に、前記希釈液を散布した。室温で自然乾燥させた。その後、キュウリ灰色かび病菌（Botrytis cinerea）の分生胞子懸濁液を滴下接種した。暗所、２０℃、高湿度の室内に４日間保持した。葉上の病斑出現状態を無処理と比較調査し、防除効果を求めた。
【０１７７】
化合物番号２、４、６、８、１０、１２、１４、および１８の化合物について前記キュウリ灰色かび病防除試験を行った。いずれの化合物も７５％以上の防除価を示した。
【０１７８】
（コムギうどんこ病防除試験）
前記製剤実施例の配合処方で調製された乳剤を有効成分１２５ｐｐｍになるように水で希釈した。素焼きポットで栽培したコムギ幼苗（品種「チホク」、１．０〜１．２葉期）に前記希釈液を散布した。葉を風乾させた。その後、コムギうどんこ病菌（Blumeria graminis f.sp.tritici）の分生胞子を振り払い接種した。２２〜２５℃の温室で７日間保持した。葉上の病斑出現状態を無処理と比較調査し、防除効果を求めた。
【０１７９】
化合物番号２、４、６、８、１０、１２、１４、および１８の化合物について前記コムギうどんこ病防除試験を行った。いずれの化合物も７５％以上の防除価を示した。
【０１８０】
（トマト疫病防除試験）
前記製剤実施例の配合処方で調製された乳剤を有効成分１２５ｐｐｍになるように水で希釈した。素焼きポットで栽培したトマト幼苗（品種「レジナ」、４〜５葉期）に、前記希釈液を散布した。葉を風乾させた。その後、トマト疫病菌（Phytophthora infestans）の遊走子嚢懸濁液を噴霧接種した。明暗を１２時間毎に繰り返す高湿度の恒温室（２０℃）に４日間保持した。葉上の病斑出現状態を無処理と比較調査し、防除価を求めた。
【０１８１】
化合物番号２および６の化合物について前記トマト疫病防除試験を行った。いずれの化合物も７５％以上の防除価を示した。
【０１８２】
（コムギ赤さび病防除試験）
前記製剤実施例の配合処方で調製された乳剤を有効成分１２５ｐｐｍになるように水で希釈した。素焼きポットで栽培したコムギ幼苗（品種「農林６１号」、１．０〜１．２葉期）に前記希釈液を散布した。葉を風乾させた。その後、コムギ赤さび病菌（Puccinia recondita）の夏胞子を振り払い接種した。２２〜２５℃の温室で１０日間保持した。葉上の病斑出現状態を無処理と比較調査し、防除効果を求めた。
【０１８３】
化合物番号４および６の化合物について前記コムギ赤さび病防除試験を行った。いずれの化合物も７５％以上の防除価を示した。