(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、
前記基材の表面上に配置される、複数の凸部が可視光の波長以下のピッチで設けられる凹凸構造を表面に有する重合体層とを備える防汚性フィルムの製造方法であって、
前記重合体層は、重合性組成物の硬化物であり、
前記重合性組成物は、有効成分換算で、エチレンオキサイド基を１官能基当たり３〜９個有する多官能アクリレートを２５〜５５重量％、離型剤を０．５〜１０重量％、アクリル酸２−（２−ビニロキシエトキシ）エチルを１０〜６０重量％含有することを特徴とする防汚性フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記離型剤は、フッ素含有化合物を有効成分として含むことを特徴とする請求項１に記載の防汚性フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記フッ素含有化合物は、パーフルオロポリエーテル基を有することを特徴とする請求項２に記載の防汚性フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記重合性組成物は、更に、単官能アミドモノマーを含有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の防汚性フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記単官能アミドモノマーは、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミドを含むことを特徴とする請求項４に記載の防汚性フィルムの製造方法。
【請求項６】
前記重合体層の表面に対して、水の接触角は１３０°以上であり、ヘキサデカンの接触角は３０°以上であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の防汚性フィルムの製造方法。
【請求項７】
前記重合体層の厚みは、５．０〜２０．０μｍであることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の防汚性フィルムの製造方法。
【請求項８】
前記複数の凸部の平均ピッチは、１００〜４００ｎｍであることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の防汚性フィルムの製造方法。
【請求項９】
前記複数の凸部の平均高さは、５０〜６００ｎｍであることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の防汚性フィルムの製造方法。
【請求項１０】
前記複数の凸部の平均アスペクト比は、０．８〜１．５であることを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の防汚性フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、防汚性フィルムに関する。より詳しくは、ナノメートルサイズの凹凸構造を有する防汚性フィルムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
反射防止性を有する光学フィルムは、種々検討されている（例えば、特許文献１〜３参照）。特に、ナノメートルサイズの凹凸構造（ナノ構造）を有する光学フィルムは、優れた反射防止性を有することが知られている。このような凹凸構造によれば、空気層から基材にかけて屈折率が連続的に変化するために、反射光を劇的に減少させることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１２−５２１２５号公報
【特許文献２】国際公開第２００７／０４０１５９号
【特許文献３】特開２０１２−１４１３５５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、このような光学フィルムにおいては、優れた反射防止性を有する一方で、その表面の凹凸構造のために、指紋（皮脂）等の汚れが付着すると、付着した汚れが広がりやすく、更に、凸部間に入り込んだ汚れを拭き取ることが困難となることがあった。また、付着した汚れは、その反射率が光学フィルムの反射率と大きく異なるため、視認されやすかった。そのため、ナノメートルサイズの凹凸構造を表面に有し、汚れに対する拭き取り性（例えば、指紋拭き取り性）、すなわち、防汚性に優れた機能性フィルム（防汚性フィルム）が求められていた。【０００５】
これに対して、本発明者らが検討したところ、光学フィルムの凹凸構造を構成する重合体層において、その構成材料を工夫することによって、防汚性に加えて種々の特性も高まった防汚性フィルムを実現することができることが分かった。具体的には、重合体層の構成材料として、離型剤を配合すれば防汚性が高まり、多官能アクリレートを配合すれば耐擦性が高まることが分かった。更に、重合体層の架橋密度を高め、ガラス転移温度を下げれば、耐擦性を顕著に高められることが分かった。【０００６】
しかしながら、本発明者らが更に検討したところ、多官能アクリレートによれば、架橋密度は高まるが、同時にガラス転移温度も高くなりやすいため、耐擦性の向上には限界があることが分かった。また、多官能アクリレートにおいては、官能基数が多いほど架橋密度は高まる傾向にあるが、同時に分子量も多くなり粘度が高くなりやすいため、多官能アクリレートと離型剤との相溶性が低く、所望の防汚性及び耐擦性が得られにくいことが分かった。更に、離型剤及び多官能アクリレートを併用する構成においては、防汚性フィルムの重合体層と基材との密着性が不充分であることが分かった。【０００７】
以上のように、従来の防汚性フィルムに対しては、防汚性、耐擦性、及び、密着性をともに高めるという課題があった。しかしながら、上記課題を解決する手段は見出されていなかった。例えば、上記特許文献１〜３に記載の発明では、防汚性、耐擦性、及び、密着性をともに高めることができず、改善の余地があった。【０００８】
本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、防汚性、耐擦性、及び、密着性がともに優れた防汚性フィルムを提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは、防汚性、耐擦性、及び、密着性がともに優れた防汚性フィルムについて種々検討したところ、重合体層の構成材料として、エチレンオキサイド基を所定の個数有する多官能アクリレートと、離型剤と、アクリル酸２−（２−ビニロキシエトキシ）エチルとを所定の割合で配合することを見出した。これにより、上記課題をみごとに解決することができることに想到し、本発明に到達したものである。【００１０】
すなわち、本発明の一態様は、基材と、上記基材の表面上に配置される、複数の凸部が可視光の波長以下のピッチで設けられる凹凸構造を表面に有する重合体層とを備える防汚性フィルムであって、上記重合体層は、重合性組成物の硬化物であり、上記重合性組成物は、有効成分換算で、エチレンオキサイド基を１官能基当たり３〜９個有する多官能アクリレートを２５〜５５重量％、離型剤を０．５〜１０重量％、アクリル酸２−（２−ビニロキシエトキシ）エチルを１０〜６０重量％含有する防汚性フィルムであってもよい。【００１１】
上記離型剤は、フッ素含有化合物を有効成分として含んでいてもよい。【００１２】
上記フッ素含有化合物は、パーフルオロポリエーテル基を有していてもよい。【００１３】
上記重合性組成物は、更に、単官能アミドモノマーを含有していてもよい。【００１４】
上記単官能アミドモノマーは、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミドを含んでいてもよい。【００１５】
上記重合体層の表面に対して、水の接触角は１３０°以上であり、ヘキサデカンの接触角は３０°以上であってもよい。【００１６】
上記重合体層の厚みは、５．０〜２０．０μｍであってもよい。【００１７】
上記複数の凸部の平均ピッチは、１００〜４００ｎｍであってもよい。【００１８】
上記複数の凸部の平均高さは、５０〜６００ｎｍであってもよい。【００１９】
上記複数の凸部の平均アスペクト比は、０．８〜１．５であってもよい。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、防汚性、耐擦性、及び、密着性がともに優れた防汚性フィルムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】実施形態の防汚性フィルムを示す断面模式図である。
【図２】図１中の重合体層を示す平面模式図である。
【図３】実施形態の防汚性フィルムの製造方法例を説明するための断面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下に実施形態を掲げ、本発明について図面を参照して更に詳細に説明するが、本発明はこの実施形態のみに限定されるものではない。また、実施形態の各構成は、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜組み合わされてもよいし、変更されてもよい。
【００２３】
本明細書中、「Ｘ〜Ｙ」は、「Ｘ以上、Ｙ以下」を意味する。
【００２４】
［実施形態］
実施形態の防汚性フィルムについて、図１及び図２を参照して以下に説明する。図１は、実施形態の防汚性フィルムを示す断面模式図である。図２は、図１中の重合体層を示す平面模式図である。
【００２５】
防汚性フィルム１は、基材２と、基材２の表面上に配置される重合体層３とを備えている。
【００２６】
基材２の材料としては、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）等の樹脂が挙げられる。基材２は、上記材料に加えて、可塑剤等の添加剤を適宜含んでいてもよい。基材２の表面（重合体層３側の表面）には易接着処理（例えば、プライマー処理）が施されていてもよく、例えば、易接着処理が施されたトリアセチルセルロースフィルムを用いることができる。また、基材２の表面（重合体層３側の表面）にはケン化処理が施されていてもよく、例えば、ケン化処理が施されたトリアセチルセルロースフィルムを用いることができる。防汚性フィルム１が液晶表示装置等の偏光板を備える表示装置に取り付けられるものである場合、基材２は、偏光板の一部を構成するものであってもよい。
【００２７】
基材２の厚みは、透明性及び加工性を確保する観点から、好ましくは５０〜１００μｍである。
【００２８】
重合体層３は、複数の凸部（突起）４が可視光の波長（７８０ｎｍ）以下のピッチ（隣接する凸部４の頂点間の距離）Ｐで設けられる凹凸構造、すなわち、モスアイ構造（蛾の目状の構造）を表面に有している。よって、防汚性フィルム１は、モスアイ構造による優れた反射防止性（低反射性）を示すことができる。
【００２９】
重合体層３の厚みＴは、後述する離型剤中の有効成分を重合体層３の表面（基材２とは反対側の表面）に高濃度で配向させる観点から、薄いことが好ましい。具体的には、重合体層３の厚みＴは、好ましくは５．０〜２０．０μｍ、より好ましくは８．０〜１２．０μｍである。重合体層３の厚みＴは、図１に示すように、基材２側の表面から凸部４の頂点までの距離を指す。
【００３０】
凸部４の形状としては、例えば、柱状の下部と半球状の上部とによって構成される形状（釣鐘状）、錐体状（コーン状、円錐状）等の、先端に向かって細くなる形状（テーパー形状）が挙げられる。図１中、隣接する凸部４の間隙の底辺は傾斜した形状となっているが、傾斜せずに水平な形状であってもよい。
【００３１】
複数の凸部４の平均ピッチは、モアレ、虹ムラ等の光学現象の発生を充分に防止する観点から、好ましくは１００〜４００ｎｍ、より好ましくは１００〜２００ｎｍである。複数の凸部４の平均ピッチは、具体的には、走査型電子顕微鏡で撮影された平面写真の１μｍ角の領域内における、すべての隣接する凸部のピッチ（図１中のＰ）の平均値を指す。
【００３２】
複数の凸部４の平均高さは、後述する複数の凸部４の好ましい平均アスペクト比と両立させる観点から、好ましくは５０〜６００ｎｍ、より好ましくは１００〜３００ｎｍである。複数の凸部４の平均高さは、具体的には、走査型電子顕微鏡で撮影された断面写真における、連続して並んだ１０個の凸部の高さ（図１中のＨ）の平均値を指す。ただし、１０個の凸部を選択する際は、欠損や変形した部分（測定用試料を準備する際に変形させてしまった部分等）がある凸部を除く。
【００３３】
複数の凸部４の平均アスペクト比は、好ましくは０．８〜１．５、より好ましくは１．０〜１．３である。複数の凸部４の平均アスペクト比が０．８未満である場合、モアレ、虹ムラ等の光学現象の発生を充分に防止することができず、優れた反射防止性が得られないことがある。複数の凸部４の平均アスペクト比が１．５よりも大きい場合、凹凸構造の加工性が低下し、スティッキングが発生したり、凹凸構造を形成する際の転写具合が悪化したりする（後述する金型６が詰まったり、巻き付いてしまう、等）ことがある。複数の凸部４の平均アスペクト比は、上述した複数の凸部４の平均高さと平均ピッチとの比（高さ／ピッチ）を指す。
【００３４】
凸部４は、ランダムに配置されていても、規則的（周期的）に配置されていてもよい。凸部４の配置には周期性があってもよいが、その周期性に起因する不要な回折光が発生しない等の利点から、図２に示すように、凸部４の配置には周期性がない（ランダムである）ことが好ましい。
【００３５】
重合体層３は、重合性組成物の硬化物である。重合体層３としては、例えば、活性エネルギー線硬化性の重合性組成物の硬化物、熱硬化性の重合性組成物の硬化物等が挙げられる。ここで、活性エネルギー線は、紫外線、可視光線、赤外線、プラズマ等を指す。重合体層３は、活性エネルギー線硬化性の重合性組成物の硬化物であることが好ましく、中でも、紫外線硬化性の重合性組成物の硬化物であることがより好ましい。
【００３６】
重合性組成物は、有効成分換算で、エチレンオキサイド基を１官能基当たり３〜９個有する多官能アクリレート（以下、成分Ａとも言う。）を２５〜５５重量％、離型剤（以下、成分Ｂとも言う。）を０．５〜１０重量％、アクリル酸２−（２−ビニロキシエトキシ）エチル（以下、成分Ｃとも言う。）を１０〜６０重量％含有する。
【００３７】
重合性組成物の有効成分（成分Ａ〜Ｃの有効成分）は、硬化後に重合体層３の構成成分となるものを指し、硬化反応（重合反応）に寄与しない成分（例えば、溶剤）を除く。
【００３８】
重合性組成物は、成分Ａ〜Ｃを上述した割合で含有するものであれば、その他の成分を含有していてもよい。
【００３９】
成分Ａ〜Ｃについて、以下に説明する。
【００４０】
＜成分Ａ＞
成分Ａによれば、重合体層３の架橋密度が高まり、適度な硬度（弾性）が付与されるため、耐擦性が高まる。更に、エチレンオキサイド基の高い極性によって基材２との相互作用が高まるため、密着性が高まる。耐擦性は、重合体層３の架橋密度及びガラス転移温度と相関すると考えられ、架橋密度を高め、かつ、ガラス転移温度を下げれば、耐擦性を顕著に高めることができる。例えば、重合性組成物がプロピレンオキサイド基を有する多官能アクリレートを含有すれば、エチレンオキサイド基を有する多官能アクリレートを含有する場合と比較して、ガラス転移温度が高くなってしまう。これは、プロピレンオキサイド基が有する分岐状の−ＣＨ３によって、分子運動が束縛されるためである。また、プロピレンオキサイド基（炭化水素基も同様）はエチレンオキサイド基よりも極性が低く、基材２との相互作用が低下するため、密着性が低下してしまう。そのため、本実施形態では、耐擦性及び密着性の観点から、エチレンオキサイド基を選定している。ここで、多官能アクリレートは、アクリロイル基を１分子当たり２個以上有するアクリレートを指す。
【００４１】
成分Ａの官能基数は、２以上である。成分Ａの官能基数が多過ぎると、分子量が多くなるために成分Ｂとの相溶性が低下し、重合性組成物及び防汚性フィルム１の透明性が低下することがある。また、重合性組成物の硬化収縮等によって密着性も低下することがある。このような観点から、成分Ａの官能基数の好ましい上限値は９である。ここで、成分Ａの官能基数は、１分子当たりのアクリロイル基の個数を指す。
【００４２】
成分Ａのエチレンオキサイド基の個数は、１官能基当たり、３〜９個であり、好ましくは３〜７個、より好ましくは４〜５個である。エチレンオキサイド基の個数が１官能基当たり３個未満である場合、重合体層３の弾性が不足するため（硬度が高くなり過ぎてしまうため）、耐擦性が低下する。エチレンオキサイド基の個数が１官能基当たり９個よりも多い場合、重合体層３の架橋密度が低くなり過ぎてしまうため、耐擦性が低下する。ここで、１官能基当たりのエチレンオキサイド基の個数は、（１分子当たりのエチレンオキサイド基の個数）／（１分子当たりのアクリロイル基の個数）を指す。
【００４３】
重合性組成物中の成分Ａの含有率は、有効成分換算で、２５〜５５重量％であり、好ましくは３０〜５０重量％、より好ましくは３５〜４５重量％である。重合性組成物中の成分Ａの含有率が有効成分換算で２５重量％未満である場合、重合体層３の弾性が不足するため（硬度が高くなり過ぎてしまうため）、耐擦性が低下する。また、エチレンオキサイド基による基材２との相互作用が不充分となるため、密着性が低下する。重合性組成物中の成分Ａの含有率が有効成分換算で５５重量％よりも高い場合、重合体層３の架橋密度が低くなり過ぎてしまうため、耐擦性が低下する。重合性組成物が成分Ａを複数種類含有する場合、複数の成分Ａの含有率の合計が有効成分換算で上記範囲内であればよい。
【００４４】
成分Ａとしては、例えば、ポリエチレングリコール（３００）ジアクリレート、ポリエチレングリコール（４００）ジアクリレート、ポリエチレングリコール（６００）ジアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、エトキシ化ポリグリセリンポリアクリレート等が挙げられる。ポリエチレングリコール（３００）ジアクリレートの公知例としては、第一工業製薬社製の「ニューフロンティア（登録商標）ＰＥ−３００」（官能基数：２、エチレンオキサイド基の個数：１官能基当たり３個）等が挙げられる。ポリエチレングリコール（４００）ジアクリレートの公知例としては、新中村化学工業社製の「ＮＫエステルＡ−４００」（官能基数：２、エチレンオキサイド基の個数：１官能基当たり４．５個）等が挙げられる。ポリエチレングリコール（６００）ジアクリレートの公知例としては、新中村化学工業社製の「ＮＫエステルＡ−６００」（官能基数：２、エチレンオキサイド基の個数：１官能基当たり７個）等が挙げられる。エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレートの公知例としては、新中村化学工業社製の「ＮＫエステルＡＴＭ−３５Ｅ」（官能基数：４、エチレンオキサイド基の個数：１官能基当たり８．７５個）等が挙げられる。エトキシ化ポリグリセリンポリアクリレートの公知例としては、新中村化学工業社製の「ＮＫエコノマー（登録商標）Ａ−ＰＧ５０５４Ｅ」（官能基数：９、エチレンオキサイド基の個数：１官能基当たり６個）等が挙げられる。
【００４５】
＜成分Ｂ＞
成分Ｂによれば、成分Ｂ中の有効成分が重合体層３の表面（基材２とは反対側の表面）に配向し、重合体層３の表面自由エネルギーが低くなるため、防汚性が高まる。更に、滑り性が高まり、その結果、耐擦性が高まる。
【００４６】
重合性組成物中の成分Ｂの含有率は、有効成分換算で、０．５〜１０重量％であり、好ましくは１〜５重量％、より好ましくは１．５〜３重量％である。重合性組成物中の成分Ｂの含有率が有効成分換算で０．５重量％未満である場合、重合体層３の表面（基材２とは反対側の表面）に配向する有効成分の量が少なくなり過ぎてしまうため、防汚性が低下する。また、滑り性が低下し、その結果、耐擦性が低下する。重合性組成物中の成分Ｂの含有率が有効成分換算で１０重量％よりも高い場合、成分Ａ、Ｃとの相溶性が低くなり過ぎてしまい、成分Ｂ中の有効成分が重合体層３の表面（基材２とは反対側の表面）に均一に配向しないため、防汚性及び耐擦性が低下する。また、これに伴って、成分Ｂ中の有効成分が重合体層３の基材２側に分布しやすくなるため、密着性が低下する。更に、高温／高湿の環境下においてブリードアウトしやすくなり、光学特性が低下する。重合性組成物が成分Ｂを複数種類含有する場合、複数の成分Ｂの含有率の合計が有効成分換算で上記範囲内であればよい。
【００４７】
成分Ｂは、フッ素含有化合物（フッ素原子を分子内に含有する化合物）を有効成分として含むことが好ましい。すなわち、成分Ｂは、フッ素系離型剤を含むことが好ましい。成分Ｂとしては、フッ素系離型剤の他に、例えば、シリコン系離型剤、リン酸エステル系離型剤等が挙げられるが、フッ素系離型剤によれば、他の種類の離型剤と比較して、防汚性及び耐擦性がより高まる。
【００４８】
フッ素含有化合物（フッ素系離型剤中の有効成分）は、パーフルオロポリエーテル基を有していても、パーフルオロアルキル基を有していてもよいが、パーフルオロポリエーテル基を有することが好ましい。パーフルオロポリエーテル基を有する離型剤によれば、パーフルオロポリエーテル基を有さない離型剤（例えば、パーフルオロアルキル基を有する離型剤、シリコン系離型剤、リン酸エステル系離型剤等）と比較して、防汚性及び耐擦性がより高まる。
【００４９】
フッ素系離型剤の公知例としては、ソルベイ社製の「フォンブリン（登録商標）ＭＴ７０」、「フォンブリンＡＤ１７００」、ダイキン工業社製の「オプツール（登録商標）ＤＡＣ」、「オプツールＤＡＣ−ＨＰ」、ＤＩＣ社製の「メガファック（登録商標）ＲＳ−７６−ＮＳ」、ユニマテック社製の「ＣＨＥＭＩＮＯＸ（登録商標）  ＦＡＡＣ−４」、「ＣＨＥＭＩＮＯＸ  ＦＡＡＣ−６」等が挙げられる。
【００５０】
シリコン系離型剤の公知例としては、ビックケミー・ジャパン社製の「ＢＹＫ（登録商標）−ＵＶ３５００」、「ＢＹＫ−ＵＶ３５７０」、「ＢＹＫ−ＵＶ３５７５」、「ＢＹＫ−ＵＶ３５７６」、ダイセル・オルネクス社製の「ＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標）３５０」等が挙げられる。
【００５１】
リン酸エステル系離型剤の公知例としては、日光ケミカルズ社製の「ＮＩＫＫＯＬ（登録商標）  ＴＤＰ−２」等が挙げられる。
【００５２】
＜成分Ｃ＞
成分Ｃは、ビニルエーテル基とアクリロイル基とが分子内に共存する異種重合性モノマーであり、その官能基数は２、エチレンオキサイド基の個数は１官能基当たり１個である。成分Ｃは、通常のモノマー（例えば、多官能アクリレート）と比較して、分子量が少なく、ガラス転移温度が低いため、重合性組成物に成分Ｃを配合することにより、重合体層３の架橋密度及びガラス転移温度を広範囲に制御しやすくなる。しかしながら、本発明者らが検討したところ、重合性組成物に通常の多官能アクリレート及び成分Ｃを配合するだけでは、重合体層３のガラス転移温度が充分に低くならず、耐擦性を高める効果が得られにくいことが分かった。これに対して、本実施形態では、多官能アクリレートの中でもガラス転移温度が比較的低い成分Ａと、成分Ｃとを併用することにより、重合体層３の架橋密度を高めつつ、ガラス転移温度を下げることができるため、耐擦性が顕著に高まる。一方、成分Ｃは、粘度が低いために成分Ａ、Ｂ（特に、成分Ｂ）との相溶性が高く、相溶化剤としても機能する。また、成分Ｃは、粘度が低いために基材２への浸透力が高く、アンカー効果によって密着性が顕著に高まる。よって、本実施形態のように、重合性組成物に成分Ａ、Ｂ、Ｃを配合すれば、耐擦性だけではなく、防汚性及び密着性も顕著に優れた防汚性フィルム１を実現することができる。特に、密着性においては、基材２として、表面処理（例えば、易接着処理）が施されていないトリアセチルセルロースフィルムを用いる場合であっても、顕著な効果が得られる。
【００５３】
重合性組成物中の成分Ｃの含有率は、有効成分換算で、１０〜６０重量％であり、好ましくは１５〜５５重量％、より好ましくは２０〜５０重量％である。重合性組成物中の成分Ｃの含有率が有効成分換算で１０重量％未満である場合、成分Ａ、Ｂ（特に、成分Ｂ）との相溶性が低くなり過ぎてしまい、成分Ｂ中の有効成分が重合体層３の表面（基材２とは反対側の表面）に均一に配向しないため、防汚性及び耐擦性が低下する。更に、成分Ｂが不溶化しやすくなり、重合体層３が白濁するため、重合体層３のヘイズが上昇し、透明性が低下する。重合性組成物中の成分Ｃの含有率が有効成分換算で６０重量％よりも高い場合、重合性組成物中の成分Ａの含有率が相対的に低下するため、耐擦性が低下する。
【００５４】
成分Ｃの公知例としては、日本触媒社製の「ＶＥＥＡ」（分子量：１８６、ガラス転移温度：３９℃、粘度：３．６５ｃＰ）等が挙げられる。
【００５５】
重合性組成物は、更に、単官能アミドモノマーを含有していてもよい。単官能アミドモノマーは、成分Ｃと同様に、成分Ａ、Ｂとの相溶性が高いため、相溶化剤として好ましく用いられる。また、単官能アミドモノマーによれば、重合性組成物の硬化収縮が抑制され、基材２との凝集力が高まるため、密着性がより高まる。しかしながら、重合性組成物が単官能アミドモノマーを含有する場合、重合体層３の架橋密度が低くなり、ガラス転移温度が高くなりやすいため、耐擦性が低下しやすい。これに対して、本実施形態では、重合性組成物に成分Ｃを配合することにより、成分Ａ、Ｂとの相溶性を確保しつつ、重合体層３の架橋密度を高め、ガラス転移温度を下げることができる。そのため、重合性組成物が単官能アミドモノマーを含有する場合であっても、耐擦性を損なうことなく、防汚性及び密着性に優れた防汚性フィルム１を実現することができる。ここで、単官能アミドモノマーは、アミド基を有し、かつ、アクリロイル基を１分子当たり１個有するモノマーを指す。
【００５６】
単官能アミドモノマーとしては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−アクリロイルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アクリルアミド、ダイアセトンアクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブトキシメチルアクリルアミド等が挙げられる。Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミドの公知例としては、ＫＪケミカルズ社製の「ＤＭＡＡ（登録商標）」等が挙げられる。Ｎ−アクリロイルモルホリンの公知例としては、ＫＪケミカルズ社製の「ＡＣＭＯ（登録商標）」等が挙げられる。Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミドの公知例としては、ＫＪケミカルズ社製の「ＤＥＡＡ（登録商標）」等が挙げられる。Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アクリルアミドの公知例としては、ＫＪケミカルズ社製の「ＨＥＡＡ（登録商標）」等が挙げられる。ダイアセトンアクリルアミドの公知例としては、日本化成社製の「ＤＡＡＭ（登録商標）」等が挙げられる。Ｎ−ｎ−ブトキシメチルアクリルアミドの公知例としては、ＭＲＣユニテック社製の「ＮＢＭＡ」等が挙げられる。
【００５７】
重合性組成物が単官能アミドモノマーを含有する場合、単官能アミドモノマーは、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミドを含むことが好ましい。このような構成によれば、単官能アミドモノマーの粘度が低くなり、成分Ａ、Ｂとの相溶性がより高まる。
【００５８】
重合性組成物は、更に、重合開始剤を含有していてもよい。これにより、重合性組成物の硬化性が高まる。
【００５９】
重合開始剤としては、例えば、光重合開始剤、熱重合開始剤等が挙げられ、中でも、光重合開始剤が好ましい。光重合開始剤は、活性エネルギー線に対して活性であり、モノマーを重合する重合反応を開始させるために添加されるものである。
【００６０】
光重合開始剤としては、例えば、ラジカル重合開始剤、アニオン重合開始剤、カチオン重合開始剤等が挙げられる。このような光重合開始剤としては、例えば、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルトリクロロアセトフェノン、２，２’−ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン等のアセトフェノン類；ベンゾフェノン、４，４’−ビスジメチルアミノベンゾフェノン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン等のケトン類；ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエーテル類；ベンジルジメチルケタール、ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等のベンジルケタール類；２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド等のアシルフォスフィンオキサイド類；１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン等のアルキルフェノン類、等が挙げられる。２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイドの公知例としては、ＩＧＭ  Ｒｅｓｉｎｓ社製の「ＬＵＣＩＲＩＮ（登録商標）  ＴＰＯ」、「ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）  ＴＰＯ」等が挙げられる。ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイドの公知例としては、ＩＧＭ  Ｒｅｓｉｎｓ社製の「ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ８１９」等が挙げられる。１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンの公知例としては、ＩＧＭ  Ｒｅｓｉｎｓ社製の「ＩＲＧＡＣＵＲＥ  １８４」等が挙げられる。
【００６１】
重合性組成物は、更に、溶剤（有効成分以外の成分）を含有していてもよい。この場合、溶剤は、成分Ａ〜Ｃ中に有効成分とともに含有されていてもよく、成分Ａ〜Ｃとは別に含有されていてもよい。
【００６２】
溶剤としては、例えば、アルコール（炭素数１〜１０：例えば、メタノール、エタノール、ｎ−又はｉ−プロパノール、ｎ−、ｓｅｃ−、又は、ｔ−ブタノール、ベンジルアルコール、オクタノール等）、ケトン（炭素数３〜８：例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、ジブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エステル又はエーテルエステル（炭素数４〜１０：例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル等）、γ−ブチロラクトン、エチレングリコールモノメチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルアセテート、エーテル（炭素数４〜１０：例えば、ＥＧモノメチルエーテル（メチルセロソロブ）、ＥＧモノエチルエーテル（エチルセロソロブ）、ジエチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルセロソロブ）、プロピレングリコールモノメチルエーテル等）、芳香族炭化水素（炭素数６〜１０：例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等）、アミド（炭素数３〜１０：例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等）、ハロゲン化炭化水素（炭素数１〜２：例えば、メチレンジクロライド、エチレンジクロライド等）、石油系溶剤（例えば、石油エーテル、石油ナフサ等）等が挙げられる。
【００６３】
防汚性の観点から、重合体層３の表面（基材２とは反対側の表面）に対して、水の接触角は１３０°以上であり、ヘキサデカンの接触角は３０°以上であることが好ましい。
【００６４】
防汚性フィルム１の用途は、その優れた防汚性を活用するものであれば特に限定されず、例えば、反射防止フィルム等の光学フィルム用途であってもよい。このような反射防止フィルムは、表示装置の内部又は外部に取り付けることで、視認性の向上に寄与する。
【００６５】
防汚性フィルム１の防汚性は、重合体層３の表面（基材２とは反対側の表面）に付着した汚れが容易に除去可能なことを意味していてもよく、重合体層３の表面（基材２とは反対側の表面）に汚れが付着しにくいことを意味していてもよい。また、防汚性フィルム１によれば、モスアイ構造による効果で、平坦面等の通常の表面を有する従来の防汚性フィルム（例えば、フッ素含有フィルム）よりも高い防汚性が得られる。
【００６６】
防汚性フィルム１は、例えば、以下の製造方法によって製造される。図３は、実施形態の防汚性フィルムの製造方法例を説明するための断面模式図である。
【００６７】
（プロセス１）
図３（ａ）に示すように、重合性組成物５を基材２の表面上に塗布する。
【００６８】
重合性組成物５の塗布方法としては、例えば、スプレー方式、グラビア方式、スロットダイ方式、バーコート方式等で塗布する方法が挙げられる。重合性組成物５の塗布方法としては、膜厚を均一にし、生産性を向上する観点から、グラビア方式又はスロットダイ方式で塗布する方法が好ましい。
【００６９】
重合性組成物５は、少なくとも成分Ａ〜Ｃを上述した割合で含有するものである。ここで、重合性組成物５が溶剤（有効成分以外の成分）を更に含有する場合、重合性組成物５の塗布後に、溶剤を除去する加熱処理（乾燥処理）を行ってもよい。加熱処理は、溶剤の沸点以上の温度で行われることが好ましい。
【００７０】
（プロセス２）
図３（ｂ）に示すように、重合性組成物５を間に挟んだ状態で、基材２を金型６に押し当てる。その結果、凹凸構造が重合性組成物５の表面（基材２とは反対側の表面）に形成される。
【００７１】
（プロセス３）
凹凸構造を表面に有する重合性組成物５を硬化させる。その結果、図３（ｃ）に示すように、重合体層３が形成される。
【００７２】
重合性組成物５の硬化方法としては、例えば、活性エネルギー線の照射、加熱等による方法が挙げられる。重合性組成物５の硬化は、活性エネルギー線の照射によって行われることが好ましく、中でも、紫外線の照射によって行われることがより好ましい。活性エネルギー線の照射は、重合性組成物５の基材２側から行ってもよく、重合性組成物５の金型６側から行ってもよい。また、重合性組成物５に対する活性エネルギー線の照射回数は、１回のみであってもよいし、複数回であってもよい。重合性組成物５の硬化（上記プロセス３）は、重合性組成物５への凹凸構造の形成（上記プロセス２）と同じタイミングで行ってもよい。
【００７３】
（プロセス４）
図３（ｄ）に示すように、金型６を重合体層３から剥離する。その結果、防汚性フィルム１が完成する。
【００７４】
本製造方法例において、例えば、基材２をロール状にすれば、上記プロセス１〜４を連続的かつ効率的に行うことができる。
【００７５】
上記プロセス１、２について、本製造方法例では、重合性組成物５を基材２の表面上に塗布した後、重合性組成物５を間に挟んだ状態で、基材２を金型６に押し当てるプロセスを示したが、重合性組成物５を金型６の表面上に塗布した後、重合性組成物５を間に挟んだ状態で、基材２を金型６に押し当てるプロセスであってもよい。
【００７６】
金型６としては、例えば、下記の方法で作製されるものを用いることができる。まず、金型６の材料となるアルミニウムを、支持基材の表面上にスパッタリング法によって成膜する。次に、成膜されたアルミニウムの層に対して、陽極酸化及びエッチングを交互に繰り返すことによって、モスアイ構造の雌型（金型６）を作製することができる。この際、陽極酸化を行う時間、及び、エッチングを行う時間を調整することによって、金型６の凹凸構造を変化させることができる。
【００７７】
支持基材の材料としては、例えば、ガラス；ステンレス、ニッケル等の金属；ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、環状オレフィン系高分子（代表的には、ノルボルネン系樹脂等である、日本ゼオン社製の「ゼオノア（登録商標）」、ＪＳＲ社製の「アートン（登録商標）」）等のポリオレフィン系樹脂；ポリカーボネート樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、トリアセチルセルロース等の樹脂、等が挙げられる。また、支持基材の表面上にアルミニウムを成膜したものの代わりに、アルミニウム製の基材を用いてもよい。
【００７８】
金型６の形状としては、例えば、平板状、ロール状等が挙げられる。
【００７９】
金型６の表面は、離型処理が施されていることが好ましい。これにより、金型６を重合体層３から容易に剥離することができる。また、金型６の表面自由エネルギーが低くなるため、上記プロセス２において、基材２を金型６に押し当てる際に、成分Ｂ中の有効成分を重合性組成物５の表面（基材２とは反対側の表面）に均一に配向させることができる。更に、重合性組成物５を硬化させる前に、成分Ｂ中の有効成分が重合性組成物５の表面（基材２とは反対側の表面）から離れてしまうことを防止することができる。その結果、防汚性フィルム１において、成分Ｂ中の有効成分を重合体層３の表面（基材２とは反対側の表面）に均一に配向させることができる。
【００８０】
金型６の離型処理に用いられる材料としては、例えば、フッ素系材料、シリコン系材料、リン酸エステル系材料等が挙げられる。フッ素系材料の公知例としては、ダイキン工業社製の「オプツールＤＳＸ」、「オプツールＡＥＳ４」等が挙げられる。
【００８１】
［実施例及び比較例］
以下に、実施例及び比較例を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。
【００８２】
実施例及び比較例において、防汚性フィルムを製造するために用いた材料は以下の通りである。
【００８３】
＜基材＞
２種類の基材を用いた。各基材の略称は、下記の通りである。
・「ＴＡＣ１」
富士フイルム社製の「ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ」
厚み：８０μｍ
・「ＴＡＣ２」
富士フイルム社製の「ＴＡＣ−ＴＦ８０ＵＬ」（プライマー処理が表面に施されたトリアセチルセルロースフィルム）
厚み：８０μｍ
【００８４】
＜金型＞
下記の方法で作製したものを用いた。まず、金型の材料となるアルミニウムを、１０ｃｍ角のガラス基板上にスパッタリング法によって成膜した。成膜されたアルミニウムの層の厚みは、１．０μｍであった。次に、成膜されたアルミニウムの層に対して、陽極酸化及びエッチングを交互に繰り返すことによって、多数の微小な穴（隣り合う穴（凹部）の底点間の距離が可視光の波長以下）が設けられた陽極酸化層を形成した。具体的には、陽極酸化、エッチング、陽極酸化、エッチング、陽極酸化、エッチング、陽極酸化、エッチング、及び、陽極酸化を順に行う（陽極酸化：５回、エッチング：４回）ことによって、アルミニウムの層の内部に向かって細くなる形状（テーパー形状）を有する微小な穴（凹部）を多数形成し、その結果、凹凸構造を有する金型が得られた。陽極酸化は、シュウ酸（濃度：０．０３重量％）を用いて、液温５℃、印加電圧８０Ｖの条件下で行った。１回の陽極酸化を行う時間は、２５秒とした。エッチングは、リン酸（濃度：１ｍｏｌ／ｌ）を用いて、液温３０℃の条件下で行った。１回のエッチングを行う時間は、２５分とした。金型を走査型電子顕微鏡で観察したところ、凹部の深さは２９０ｎｍであった。なお、金型の表面には、ダイキン工業社製の「オプツールＡＥＳ４」によって事前に離型処理を施した。
【００８５】
＜重合性組成物＞
表１〜８に示すような組成の重合性組成物Ｒ１〜Ｒ１８、及び、ｒ１〜ｒ１９を用いた。表１〜８中の数値は、各成分の配合量（単位：重量部）を示す。各成分の略称は、以下の通りである。
【００８６】
（多官能アクリレート）
・「ＰＥ−３００」
第一工業製薬社製の「ニューフロンティアＰＥ−３００」
官能基数：２
エチレンオキサイド基の個数：１官能基当たり３個
有効成分：１００重量％
・「Ａ−４００」
新中村化学工業社製の「ＮＫエステルＡ−４００」
官能基数：２
エチレンオキサイド基の個数：１官能基当たり４．５個
有効成分：１００重量％
・「Ａ−６００」
新中村化学工業社製の「ＮＫエステルＡ−６００」
官能基数：２
エチレンオキサイド基の個数：１官能基当たり７個
有効成分：１００重量％
・「ＡＴＭ−３５Ｅ」
新中村化学工業社製の「ＮＫエステルＡＴＭ−３５Ｅ」
官能基数：４
エチレンオキサイド基の個数：１官能基当たり８．７５個
有効成分：１００重量％
・「Ａ−ＰＧ５０５４Ｅ」
新中村化学工業社製の「ＮＫエコノマーＡ−ＰＧ５０５４Ｅ」
官能基数：９
エチレンオキサイド基の個数：１官能基当たり６個
有効成分：１００重量％
・「Ａ−２００」
新中村化学工業社製の「ＮＫエステルＡ−２００」
官能基数：２
エチレンオキサイド基の個数：１官能基当たり２個
有効成分：１００重量％
・「ＳＲ４９９」
サートマー社製の「ＳＲ４９９」
官能基数：３
エチレンオキサイド基の個数：１官能基当たり２個
有効成分：１００重量％
・「ＤＰＥＡ−１２」
日本化薬社製の「ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）  ＤＰＥＡ−１２」
官能基数：６
エチレンオキサイド基の個数：１官能基当たり２個
有効成分：１００重量％
・「Ａ−１０００」
新中村化学工業社製の「ＮＫエステルＡ−１０００」
官能基数：２
エチレンオキサイド基の個数：１官能基当たり１１．５個
有効成分：１００重量％
・「Ａ−ＤＰＨ」
新中村化学工業社製の「ＮＫエステルＡ−ＤＰＨ」
官能基数：６
エチレンオキサイド基の個数：０個（有さない）
有効成分：１００重量％
・「Ｕ−１０」
新中村化学工業社製の「Ｕ−１０ＨＡ」
官能基数：１０
エチレンオキサイド基の個数：０個（有さない）
有効成分：１００重量％
・「Ｕ−１５」
新中村化学工業社製の「Ｕ−１５ＨＡ」
官能基数：１５
エチレンオキサイド基の個数：０個（有さない）
有効成分：１００重量％
・「ＡＰＧ−１００」
新中村化学工業社製の「ＮＫエステルＡＰＧ−１００」
官能基数：２
エチレンオキサイド基の個数：０個（有さない）
有効成分：１００重量％
・「Ａ−ＮＯＤ−Ｎ」
新中村化学工業社製の「ＮＫエステルＡ−ＮＯＤ−Ｎ」
官能基数：２
エチレンオキサイド基の個数：０個（有さない）
有効成分：１００重量％
・「ＳＲ４４４」
サートマー社製の「ＳＲ４４４」
官能基数：３
エチレンオキサイド基の個数：０個（有さない）
有効成分：１００重量％
【００８７】
（離型剤）
・「ＭＴ７０」
ソルベイ社製の「フォンブリンＭＴ７０」（フッ素系離型剤）
パーフルオロポリエーテル基：有する
有効成分：８０重量％（パーフルオロポリエーテル誘導体）
溶剤：２０重量％（メチルエチルケトン）
・「ＤＡＣ」
ダイキン工業社製の「オプツールＤＡＣ−ＨＰ」（フッ素系離型剤）
パーフルオロポリエーテル基：有する
有効成分：２０重量％（パーフルオロポリエーテル誘導体）
溶剤：８０重量％（１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン、及び、プロピレングリコールモノメチルエーテル）
・「ＦＡＡＣ−６」
ユニマテック社製の「ＣＨＥＭＩＮＯＸ  ＦＡＡＣ−６」（フッ素系離型剤）
パーフルオロポリエーテル基：有さない（パーフルオロアルキル基を有する）
有効成分：１００重量％
・「ＵＶ３５００」
ビックケミー・ジャパン社製の「ＢＹＫ−ＵＶ３５００」（シリコン系離型剤）
有効成分：１００重量％
【００８８】
（アクリル酸２−（２−ビニロキシエトキシ）エチル）
・「ＶＥ」
日本触媒社製の「ＶＥＥＡ」
有効成分：１００重量％
【００８９】
（単官能アミドモノマー）
・「ＤＭ」
ＫＪケミカルズ社製の「ＤＭＡＡ」
有効成分：１００重量％
・「ＡＣ」
ＫＪケミカルズ社製の「ＡＣＭＯ」
有効成分：１００重量％
【００９０】
（重合開始剤）
・「ＴＰＯ」
ＩＧＭ  Ｒｅｓｉｎｓ社製の「ＬＵＣＩＲＩＮ  ＴＰＯ」
有効成分：１００重量％
【００９１】
【表１】
0006778768.tif 000002
【００９２】
【表２】
0006778768.tif 000003
【００９３】
【表３】
0006778768.tif 000004
【００９４】
【表４】
0006778768.tif 000005
【００９５】
【表５】
0006778768.tif 000006
【００９６】
【表６】
0006778768.tif 000007
【００９７】
【表７】
0006778768.tif 000008
【００９８】
【表８】
0006778768.tif 000009
【００９９】
重合性組成物中の成分Ａ〜Ｃの含有率を有効成分換算したもの（表中、「成分Ａの含有率」、「成分Ｂの含有率」、及び、「成分Ｃの含有率」）を、表９〜１６に示す。
【０１００】
【表９】
0006778768.tif 000010
【０１０１】
【表１０】
0006778768.tif 000011
【０１０２】
【表１１】
0006778768.tif 000012
【０１０３】
【表１２】
0006778768.tif 000013
【０１０４】
【表１３】
0006778768.tif 000014
【０１０５】
【表１４】
0006778768.tif 000015
【０１０６】
【表１５】
0006778768.tif 000016
【０１０７】
【表１６】
0006778768.tif 000017
【０１０８】
（実施例１）
実施例１の防汚性フィルムを、上述した製造方法例に記載の方法によって製造した。
【０１０９】
（プロセス１）
重合性組成物Ｒ１を、基材２（「ＴＡＣ２」）の表面上に帯状に塗布した。そして、バーコーターを用いて、重合性組成物Ｒ１を基材２の表面全体に広げた。その後、基材２の表面上に重合性組成物Ｒ１が塗布された状態のものをオーブンに入れて、温度８０℃で１分間加熱処理し、重合性組成物Ｒ１から溶剤を揮発させた。
【０１１０】
（プロセス２）
重合性組成物Ｒ１（溶剤揮発後）を間に挟んだ状態で、基材２を金型６にハンドローラーで押し当てた。その結果、凹凸構造が重合性組成物Ｒ１の表面（基材２とは反対側の表面）に形成された。
【０１１１】
（プロセス３）
凹凸構造を表面に有する重合性組成物Ｒ１に、基材２側から紫外線（照射量：１Ｊ／ｃｍ２）を照射して硬化させた。その結果、重合体層３が形成された。
【０１１２】
（プロセス４）
金型６を重合体層３から剥離した。その結果、防汚性フィルム１が完成した。重合体層３の厚みＴは、９．０μｍであった。
【０１１３】
防汚性フィルム１の表面仕様は、下記の通りであった。
凸部４の形状：釣鐘状
凸部４の平均ピッチ：２００ｎｍ
凸部４の平均高さ：２００ｎｍ
凸部４の平均アスペクト比：１．０
【０１１４】
防汚性フィルム１の表面仕様の評価は、日立ハイテクノロジーズ社製の走査型電子顕微鏡「Ｓ−４７００」を用いて行われた。なお、評価時には、メイワフォーシス社製のオスミウムコーター「Ｎｅｏｃ−ＳＴ」を用いて、重合体層３の表面（基材２とは反対側の表面）上に和光純薬工業社製の酸化オスミウムＶＩＩＩ（厚み：５ｎｍ）が塗布されていた。
【０１１５】
（実施例２〜１８、及び、比較例１〜１９）
表１７〜２４に示すような材料に変更したこと以外、実施例１と同様にして、各例の防汚性フィルムを製造した。
【０１１６】
［評価］
各例の防汚性フィルムについて、以下の評価を行った。結果を表１７〜２４に示す。
【０１１７】
＜透明性＞
透明性としては、重合性組成物の透明性、及び、防汚性フィルムの透明性を評価した。
【０１１８】
（重合性組成物の透明性）
各例で用いた重合性組成物（加熱処理前の状態）を透明な試験管に入れ、その状態を照度１００ｌｘ（蛍光灯）の環境下で目視観察した。判定基準は、下記の通りとした。
○：透明又はごくわずかに白濁していた。
△：わずかに白濁しているが、１日間放置した後であっても沈降物は見られなかった。
×：白濁しているが、１日間放置した後であっても沈降物は見られなかった。
××：白濁しており、１日間放置した後に沈降物が見られた。
ここで、重合性組成物の透明性が高いほど、重合性組成物中の各成分（特に、成分Ｂ）の相溶性が高いと判断した。
【０１１９】
（防汚性フィルムの透明性）
各例の防汚性フィルムのヘイズ「Ｚ」（単位：％）を、日本電色工業社製のヘイズメーター「ＮＤＨ７０００」を用いて測定した。判定基準は、下記の通りとした。
◎：Ｚ≦０．５
○：０．５＜Ｚ≦０．８
△：０．８＜Ｚ＜１．０
×：Ｚ≧１．０
ここで、判定が◎、○、又は、△である場合を、許容可能なレベル（防汚性フィルムの透明性が優れている）と判断した。
【０１２０】
＜防汚性＞
防汚性としては、撥水性、撥油性、及び、指紋拭き取り性を評価した。
【０１２１】
（撥水性）
各例の防汚性フィルムの重合体層の表面（基材とは反対側の表面）に対して水を滴下し、滴下から１０秒後の接触角を測定した。
【０１２２】
（撥油性）
各例の防汚性フィルムの重合体層の表面（基材とは反対側の表面）に対してヘキサデカンを滴下し、滴下から１０秒後の接触角を測定した。
【０１２３】
接触角としては、協和界面科学社製のポータブル接触角計「ＰＣＡ−１」を用いて、θ／２法（θ／２＝ａｒｃｔａｎ（ｈ／ｒ）、θ：接触角、ｒ：液滴の半径、ｈ：液滴の高さ）で測定された、３箇所の接触角の平均値を示した。ここで、１箇所目の測定点としては、各例の防汚性フィルムの中央部分を選択し、２箇所目及び３箇所目の測定点としては、１箇所目の測定点から２０ｍｍ以上離れ、かつ、１箇所目の測定点に対して互いに点対称な位置にある２点を選択した。
【０１２４】
（指紋拭き取り性）
まず、各例の防汚性フィルムに対して、基材の重合体層とは反対側の表面に、光学粘着層を介して、黒アクリル板を貼り付けた。そして、各例の防汚性フィルムの重合体層の表面（基材とは反対側の表面）に指紋を付着させた後、旭化成せんい社製の「ベンコット（登録商標）Ｓ−２」で１０往復擦り、指紋が拭き取れるかどうかを、照度１００ｌｘ（蛍光灯）の環境下で目視観察した。判定基準は、下記の通りとした。
○：指紋が完全に拭き取れ、拭き残りが見えなかった。
△：指紋は目立たないが、蛍光灯を映り込ませると拭き残りがわずかに見えた。
×：指紋が全く拭き取れなかった。
ここで、判定が○又は△である場合を、許容可能なレベル（指紋拭き取り性が優れている）と判断した。
【０１２５】
＜耐擦性＞
耐擦性としては、スチールウール耐性を評価した。
【０１２６】
（スチールウール耐性）
まず、各例の防汚性フィルムの重合体層の表面（基材とは反対側の表面）を、日本スチールウール社製のスチールウール「＃００００」に荷重４００ｇを加えた状態で擦った。そして、照度１００ｌｘ（蛍光灯）の環境下で目視観察しながら、各例の防汚性フィルムの重合体層の表面（基材とは反対側の表面）に付いた傷の本数「Ｎ」（単位：本）を数えた。なお、スチールウールで擦る際、試験機として新東科学社製の表面性測定機「ＨＥＩＤＯＮ−１４ＦＷ」を用い、ストローク幅を３０ｍｍ、速度を１００ｍｍ／ｓ、擦る回数を１０往復とした。判定基準は、下記の通りとした。
◎：Ｎ＝０
○：Ｎ＝１〜３
△：Ｎ＝４〜１０
×：Ｎ＝１１〜２０
××：Ｎ≧２１
ここで、判定が◎、○、又は、△である場合を、許容可能なレベル（スチールウール耐性が優れている）と判断した。
【０１２７】
＜密着性＞
まず、各例の防汚性フィルムの重合体層の表面（基材とは反対側の表面）に対して、カッターナイフで、碁盤目状に縦１１本、横１１本の切り込みを１ｍｍ間隔で入れて、１００個の正方形状の升目（１ｍｍ角）を刻んだ。そして、日東電工社製のポリエステル粘着テープ「Ｎｏ．３１Ｂ」を升目部分に圧着した後、粘着テープを升目部分の表面に対して９０°の方向に、１００ｍｍ／ｓの速度で剥がした。その後、基材上の重合体層の剥離状態を目視観察し、基材上の重合体層が剥がれずに残った升目の個数「Ｍ」（単位：個）を数えた。判定基準は、下記の通りとした。
○：Ｍ＝１００
△：Ｍ＝９５〜９９
×：Ｍ＝０〜９４
ここで、判定が○又は△である場合を、許容可能なレベル（密着性が優れている）と判断した。
【０１２８】
【表１７】
0006778768.tif 000018
【０１２９】
【表１８】
0006778768.tif 000019
【０１３０】
【表１９】
0006778768.tif 000020
【０１３１】
【表２０】
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【０１３２】
【表２１】
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【０１３３】
【表２２】
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【０１３４】
【表２３】
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【０１３５】
【表２４】
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【０１３６】
表１７〜２０に示すように、実施例１〜１８では、防汚性、耐擦性、及び、密着性がともに優れた防汚性フィルムが実現されていた。特に、実施例３〜１８では、プライマー処理等の易接着処理が施されていない基材（「ＴＡＣ１」）を用いた場合であっても、密着性が優れていた。また、実施例１〜１８では、透明性も優れていた。
【０１３７】
一方、表２１〜２４に示すように、比較例１〜１９では、防汚性、耐擦性、及び、密着性がともに優れた防汚性フィルムが実現されていなかった。
【０１３８】
比較例１〜１０では、重合性組成物に成分Ｃが配合されていないため、防汚性、耐擦性、及び、密着性のうちの少なくとも１つが低かった。なお、比較例２、４〜１０では、重合性組成物に、単官能アミドモノマーが成分Ｃの代わりに配合されているものの、防汚性、耐擦性、及び、密着性をともに優れたものとすることができなかった。
【０１３９】
比較例１１〜１５では、重合性組成物に成分Ａが配合されていないため、耐擦性及び密着性のうちの少なくとも一方が低かった。なお、比較例１１では、重合性組成物に成分Ｂも配合されていないため、防汚性も低かった。
【０１４０】
比較例１６、１７では、重合性組成物中の成分Ｃの含有率が有効成分換算で１０〜６０重量％の範囲外であるため、耐擦性が低かった。
【０１４１】
比較例１８では、重合性組成物中の成分Ｂの含有率が有効成分換算で０．５重量％未満であるため、防汚性が低かった。
【０１４２】
比較例１９では、重合性組成物中の成分Ｂの含有率が有効成分換算で１０重量％よりも高いため、耐擦性及び密着性が低かった。更に、成分Ｂが不溶化したため、透明性が低かった。
【０１４３】
［付記］
本発明の一態様は、基材と、上記基材の表面上に配置される、複数の凸部が可視光の波長以下のピッチで設けられる凹凸構造を表面に有する重合体層とを備える防汚性フィルムであって、上記重合体層は、重合性組成物の硬化物であり、上記重合性組成物は、有効成分換算で、エチレンオキサイド基を１官能基当たり３〜９個有する多官能アクリレートを２５〜５５重量％、離型剤を０．５〜１０重量％、アクリル酸２−（２−ビニロキシエトキシ）エチルを１０〜６０重量％含有する防汚性フィルムであってもよい。この態様によれば、防汚性、耐擦性、及び、密着性がともに優れた防汚性フィルムを実現することができる。
【０１４４】
上記離型剤は、フッ素含有化合物を有効成分として含んでいてもよい。このような構成によれば、防汚性及び耐擦性がより高まる。
【０１４５】
上記フッ素含有化合物は、パーフルオロポリエーテル基を有していてもよい。このような構成によれば、パーフルオロポリエーテル基を有さない離型剤（例えば、パーフルオロアルキル基を有する離型剤、シリコン系離型剤、リン酸エステル系離型剤等）と比較して、防汚性及び耐擦性がより高まる。
【０１４６】
上記重合性組成物は、更に、単官能アミドモノマーを含有していてもよい。このような構成によれば、上記多官能アクリレート及び上記離型剤との相溶性がより高まる。更に、上記重合性組成物の硬化収縮が抑制され、上記基材との凝集力が高まるため、密着性がより高まる。
【０１４７】
上記単官能アミドモノマーは、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミドを含んでいてもよい。このような構成によれば、上記単官能アミドモノマーの粘度が低くなり、上記多官能アクリレート及び上記離型剤との相溶性がより高まる。
【０１４８】
上記重合体層の表面に対して、水の接触角は１３０°以上であり、ヘキサデカンの接触角は３０°以上であってもよい。このような構成によれば、防汚性がより高まる。
【０１４９】
上記重合体層の厚みは、５．０〜２０．０μｍであってもよい。このような構成によれば、上記離型剤中の有効成分が、上記重合体層の表面（上記基材とは反対側の表面）により高濃度で配向する。
【０１５０】
上記複数の凸部の平均ピッチは、１００〜４００ｎｍであってもよい。このような構成によれば、モアレ、虹ムラ等の光学現象の発生が充分に防止される。
【０１５１】
上記複数の凸部の平均高さは、５０〜６００ｎｍであってもよい。このような構成によれば、上記複数の凸部の好ましい平均アスペクト比と両立させることができる。
【０１５２】
上記複数の凸部の平均アスペクト比は、０．８〜１．５であってもよい。このような構成によれば、モアレ、虹ムラ等の光学現象の発生が充分に防止され、優れた反射防止性を実現することができる。更に、上記凹凸構造の加工性の低下による、スティッキングの発生、及び、上記凹凸構造を形成する際の転写具合の悪化が充分に防止される。
【符号の説明】
【０１５３】
１：防汚性フィルム
２：基材
３：重合体層
４：凸部
５：重合性組成物
６：金型
Ｐ：凸部のピッチ
Ｈ：凸部の高さ
Ｔ：重合体層の厚み
【図１】
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【図２】
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【図３】
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