(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗布液が供給される供給口と、
一方向に長く形成され塗布液を吐出するスリットと、
前記供給口と繋がる上流側マニホールド、及び、前記スリットと繋がる下流側マニホールドを少なくとも含み、前記一方向に長く形成されている複数のマニホールドと、
隣り合う前記マニホールド間を繋ぐ前記一方向に長い絞り流路と、
を有し、
前記供給口は前記上流側マニホールドと前記一方向の中央において繋がっており、
前記上流側マニホールドの前記一方向に直交する断面における断面積は、当該一方向の中央部よりも前記一方向の端部の方で小さくなっており、
前記上流側マニホールドと当該上流側マニホールドの隣りの前記マニホールドとの間を繋ぐ前記絞り流路では、前記端部における流路長が、前記中央部における流路長以上となっている、塗布器。
【請求項２】
前記絞り流路の前記端部における流路長は、前記中央部における流路長と同じである、請求項１に記載の塗布器。
【請求項３】
前記上流側マニホールドの上端の高さは前記一方向に沿って一定であり、かつ、当該上流側マニホールドの高さ方向の寸法は、前記一方向の全長にわたって一定である、請求項２に記載の塗布器。
【請求項４】
前記複数のマニホールドそれぞれにおいて、前記一方向に直交する断面における断面積は、前記一方向の中央部よりも前記一方向の端部の方で小さくなっている、請求項１〜３のいずれか一項に記載の塗布器。
【請求項５】
前記マニホールドは三つ以上設けられており、前記絞り流路が当該マニホールドの数よりも一つ少ない数について設けられている場合、当該絞り流路それぞれにおいて、前記端部における流路長は、前記中央部における流路長以上となっている請求項１〜４のいずれか一項に記載の塗布器。
【請求項６】
被塗布部材に対して塗布液を吐出する塗布器と、前記塗布器に塗布液を送る送液手段と、前記塗布器と前記被塗布部材とを相対的に移動させる移動手段と、を備え、
前記塗布器が、請求項１〜５のいずれか一項に記載の塗布器である、塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
塗布液を吐出する塗布器、及び、この塗布器を備えている塗布装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ガラス基板やフィルム等の被塗布部材に塗布液を塗布するための装置として、例えば、特許文献１に記載の塗布装置が知られており、この塗布装置は、塗布液を吐出するスリットが形成されている塗布器を備えている。この塗布装置は、前記塗布器の他に、この塗布器に塗布液を送る送液手段と、塗布器と被塗布部材とを相対的に移動させる移動手段とを備えている。
【０００３】
塗布器は一方向（以下、Ｙ軸方向という）に長く構成されており、スリットもＹ軸方向に沿って長く形成されている。この塗布器には、更に、前記送液手段から塗布液が供給される供給口と、この供給口と繋がっているＹ軸方向に長いマニホールド（キャビティ）とが設けられおり、スリットの一端側（下流側）が被塗布部材と対向する吐出口となっており、スリットの他端側（上流側）がマニホールドと繋がっている。
【０００４】
前記供給口はマニホールドとＹ軸方向の中央部で繋がっており、この供給口からマニホールドに供給された塗布液は、Ｙ軸方向の両側に向かって拡幅（分散）され、マニホールド内で一旦溜められてから（充満状態となってから）スリットを通過し、吐出口から被塗布部材に対して吐出される。この吐出の動作は、前記移動手段によって塗布器と被塗布部材とを相対的に移動させながら行われ、これにより、被塗布部材に塗膜を形成することが可能となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−２４６４６４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
前記のとおり供給口はマニホールドとＹ軸方向の中央部と繋がっている。このため、特にマニホールドがＹ軸方向に長くなると、供給口からマニホールドに流入した塗布液は、Ｙ軸方向の両端部まで充分に拡幅されない場合がある。この場合、マニホールドのＹ軸方向の両端部では塗布液が滞留しがちとなり、マニホールド端部における液置換性が悪くなる。塗布器内において液置換性が悪いと、粘性が高くなったり劣化したりする等、塗布液が変性するおそれがあり、これが原因となって被塗布部材に形成される塗膜に悪影響を及ぼすことがある。
【０００７】
そこで、マニホールドの形状を変えることによって液置換性を向上させることが考えられる。しかし、マニホールドの形状を変えると、それに起因してマニホールドにおける塗布液の流れの様子が変化することが予想される。マニホールドにおける塗布液の流れの様子が変化すると、この変化がスリットにおける塗布液の流れに影響を与え、被塗布部材に形成される塗膜の膜厚精度を低下させるおそれがある。例えば、マニホールドのＹ軸方向の両端部における液置換性を良化させるために、その両端部における流速を高めるための構成にすると、マニホールド内の流速が変化することにより、スリットから吐出される塗布液の流量に影響し、形成される膜厚の均一性が損なわれるという問題が生じる。
【０００８】
そこで、本発明の目的は、塗布器のマニホールドの端部における液置換性を良化させると共に、被塗布部材に形成される塗膜の膜厚精度が低下するのを防ぐことにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の塗布器は、塗布液が供給される供給口と、一方向に長く形成され塗布液を吐出するスリットと、前記供給口と繋がる上流側マニホールド、及び、前記スリットと繋がる下流側マニホールドを少なくとも含み、前記一方向に長く形成されている複数のマニホールドと、隣り合う前記マニホールド間を繋ぐ前記一方向に長い絞り流路と、を有し、前記供給口は前記上流側マニホールドと前記一方向の中央において繋がっており、前記上流側マニホールドの前記一方向に直交する断面における断面積は、当該一方向の中央部よりも前記一方向の端部の方で小さくなっており、前記上流側マニホールドと当該上流側マニホールドの隣りの前記マニホールドとの間を繋ぐ前記絞り流路では、前記端部における流路長が、前記中央部における流路長以上となっている。
【００１０】
この塗布器によれば、上流側マニホールドの断面積が端部で小さくなっていることから、マニホールド内での塗液の拡幅性が低下してしまうが、マニホールド端部においては断面積が小さいため、流れる塗布液が少量の流量でも流速は確保される、すなわち塗液置換性を良化させることが可能である。一般のマニホールドが１段の塗布器では、マニホールド内での塗布液の拡幅性が低下すると、スリットから吐出される塗布液の流量が中央と端部で異なり、被塗布部材に形成される膜厚の均一性が損なわれるという問題が生じるが、この塗布器によれば、マニホールドが多段となることから、供給口から上流側マニホールドに供給された塗布液は、上流側マニホールドにおいて拡幅（分散）され、絞り流路を通過して更に、その隣りのマニホールドにおいて拡幅（分散）され、このマニホールドに一旦溜められる。そして、塗布液は最終的にスリットより吐出される。このため、スリットから吐出される塗布液の吐出状態（流量）を一方向全長にわたって可及的に一様とすることができ、被塗布部材に形成される膜厚を均一にすることが可能となる。
【００１１】
なお、絞り流路では、端部における流路長が中央部における流路長以上となっているので、通過する塗布液にとって端部と中央部とで流れやすさは同じ又は端部では中央部と比べて流れにくくなる。このため、この絞り流路を通過した塗布液はマニホールドにおいて拡幅を阻害する方向に流れ難くなる。つまり、マニホールドにおける拡幅の作用を維持することができる。
なお、前記流路長は、上流側マニホールドからその隣りのマニホールドへ向かう方向の長さであり、例えば、上流側マニホールドを上、その隣りのマニホールドを下に配置した塗布器の場合、前記方向は上下方向となる。
【００１２】
また、前記絞り流路の前記端部における流路長が、前記中央部における流路長と同じである場合、絞り流路では、通過する塗布液にとって端部と中央部とで流れやすさは同じになる。このため、マニホールドにおける拡幅の作用を維持することができる。
【００１３】
また、この場合において、前記上流側マニホールドの上端の高さは前記一方向に沿って一定であり、かつ、当該上流側マニホールドの高さ方向の寸法は、前記一方向の全長にわたって一定であるのが好ましい。
この場合、上流側マニホールド及びその隣りのマニホールドにおいて塗布液が両側へ広がる作用（拡幅作用）によって、これらマニホールドに混入するおそれのある気泡を両端部に集め易くなる。このため、これらマニホールドそれぞれの両端部にエアを排出するためのエア抜き孔を設けることで、エアを塗布器外へ排出し易くなる。
【００１４】
また、前記複数のマニホールドそれぞれにおいて、前記一方向に直交する断面における断面積は、前記一方向の中央部よりも前記一方向の端部の方で小さくなっているのが好ましい。
この場合、複数のマニホールドそれぞれにおいて端部における液置換性を良化させることが可能となる。
【００１５】
また、前記マニホールドは三つ以上設けられており、前記絞り流路が当該マニホールドの数よりも一つ少ない数について設けられている場合、当該絞り流路それぞれにおいて、前記端部における流路長は、前記中央部における流路長以上となっているのが好ましい。
この場合、複数の絞り流路それぞれを通過した塗布液は、マニホールドにおいて拡幅を阻害する方向に流れ難くなる。なお、絞り流路を通過する塗布液にとって端部と中央部とで流れやすさを同じとするためには、前記端部における流路長を、前記中央部における流路長と同じとすればよい。
【００１６】
また、本発明の塗布装置は、被塗布部材に対して塗布液を吐出する前記塗布器と、前記塗布器に塗布液を送る送液手段と、前記塗布器と前記被塗布部材とを相対的に移動させる移動手段とを備えている。
この塗布装置によれば、塗布器のマニホールドにおける液置換性を良化させると共に、被塗布部材に形成される塗膜の膜厚精度が低下するのを防ぐことが可能となる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、塗布器が有するマニホールドの端部における液置換性を良化させると共に、被塗布部材に形成される塗膜の膜厚精度が低下するのを防ぐことができ、この被塗布部材を用いて高品質な製品を得ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】塗布装置の実施の一形態を示す概略構成図である。
【図２】塗布器を正面から見た場合の断面図である。
【図３】図２に示す塗布器のＡ３矢視の断面図である。
【図４】図２に示す塗布器のＡ４矢視の断面図である。
【図５】塗布器の変形例を示す図であり、中央部の断面図である。
【図６】塗布器の変形例を示す図であり、端部の断面図である。
【図７】他の形態の塗布器を正面から見た場合の断面図である。
【図８】図７に示す塗布器のＡ８矢視の断面図である。
【図９】図７に示す塗布器のＡ９矢視の断面図である。
【図１０】塗布器の変形例を示す図であり、中央部の断面図である。
【図１１】塗布器の変形例を示す図であり、端部の断面図である。
【図１２】塗布器を正面から見た場合の断面図である。
【図１３】図１２に示す塗布器のＡ１２矢視の断面図である。
【図１４】図１２に示す塗布器のＡ１４矢視の断面図である。
【図１５】塗布装置の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
〔塗布装置の全体構成について〕
本発明の塗布装置は、例えばガラス製の基板やフィルム等の被塗布部材に塗布液を塗布するための装置である。図１に示す形態では、被塗布部材は矩形の基板Ｗであり、塗布装置１は、その上面（被塗布面）に塗布液を塗布する。このために、塗布装置１は、基板Ｗに対して塗布液を吐出する塗布器１０と、この塗布器１０に塗布液を送る送液手段３０と、塗布器１０と基板Ｗとを相対的に移動させる移動手段４０とを備えている。
【００２０】
塗布装置１は、更に、基板Ｗを載せて保持するステージ５を備えている。塗布器１０は一方向に長く構成されており、この一方向と基板Ｗの幅方向とが平行となるようにして、基板Ｗはステージ５上に載せられる。なお、以下において、塗布器１０の長手方向（前記一方向）を「Ｙ軸方向」と定義する。塗布器１０の長さは、基板ＷのＹ軸方向の寸法よりも大きく、基板Ｗのサイズに応じて様々なものがある。なお、本発明は、塗布器１０（後述するスリット１５）のＹ軸方向の長さが１０００ミリメートルを超えるような長いものに特に好適である。
【００２１】
図１に示す形態では、移動手段４０は固定状態にあるステージ５に対して塗布器１０を直線的に往復移動させる。この往復移動の方向は、Ｙ軸方向に直交する方向であって、かつ、基板Ｗの上面（被塗布面）に平行な方向である。この方向を「Ｘ軸方向」と定義する。本実施形態では、Ｘ軸方向及びＹ軸方向は、それぞれ水平方向である。
【００２２】
塗布器１０のＸ軸方向の移動を実現するために、移動手段４０は、ステージ５に対してＸ軸方向に移動可能であるガントリ４１を有しており、このガントリ４１に塗布器１０が搭載されている。移動手段４０は、図示しないが、塗布器１０を上下方向に移動させるアクチュエータも備えており、このアクチュエータにより基板Ｗに対する塗布器１０（後述する吐出口１６）の高さ位置を変更することができる。この高さの方向は、前記Ｘ軸方向及び前記Ｙ軸方向と直交する方向であり、この方向を「Ｚ軸方向」と定義する。
【００２３】
送液手段３０は、塗布液を溜めるタンク３１と、このタンク３１の塗布液を塗布器１０に送るポンプ３２とを備えている。また、塗布装置１は、送液手段３０及び移動手段４０の各動作を制御する制御装置７を備えている。この制御装置７の制御によって塗布器１０から基板Ｗへ塗布液を吐出させる塗布動作が行われる。
【００２４】
図２は、塗布器１０を正面から（Ｘ軸方向に沿って）見た場合の断面図である。図３は、図２に示す塗布器１０のＡ３矢視の断面図である。この塗布器１０は、送液手段３０（図１参照）から塗布液が供給される供給口１１と、Ｙ軸方向に長く形成され基板Ｗに対して塗布液を吐出するスリット１５と、供給口１１と繋がる第一マニホールド（上流側マニホールド）１２と、スリット１５と繋がる第二マニホールド（下流側マニホールド）１４と、これら隣り合うマニホールド１２，１４間を繋ぐＹ軸方向に長い絞り流路１３とを有している。スリット１５の下端が基板Ｗと対向しておりＹ軸方向に細長い吐出口１６となる。
【００２５】
この塗布器１０において、供給口１１は第一マニホールド１２とＹ軸方向の中央において繋がっており（図２参照）、この供給口１１から第一マニホールド１２に供給された塗布液は、Ｙ軸方向の両端に向かって拡幅（分散）され、第一マニホールド１２内で一旦溜められてから（充満状態となってから）絞り流路１３を通過する。そして、絞り流路１３から第二マニホールド１４に供給された塗布液は、更にＹ軸方向の両側に向かって拡幅（分散）され、第二マニホールド１４内で一旦溜められてから（充満状態となってから）スリット１５を通過し、吐出口１６から基板Ｗに対して吐出される。送液手段３０（図１参照）が塗布器１０へ塗布液を供給することにより、塗布液が吐出口１６から吐出される。送液手段３０による塗布液の供給は、移動手段４０によって塗布器１０と基板Ｗとを相対的に移動させながら行われ、これにより、基板Ｗに塗布液による塗膜を形成することが可能となる。
【００２６】
〔塗布器１０の構成（その１）〕
図２に示すように、前記のとおり、塗布器１０はＹ軸方向に長く構成されており、第一マニホールド１２及び第二マニホールド１４それぞれについても、Ｙ軸方向に長く形成されている。そして、供給口１１は、第一マニホールド１２とＹ軸方向の中央において開口することで、供給口１１と第一マニホールド１２とは繋がっている。
【００２７】
塗布器１０（図３参照）は、二つの分割体１０ａ，１０ｂを合わせることで構成されている。一方の分割体１０ａにＹ軸方向に長い凹部１０ｃ−１が形成され、他方の分割体１０ｂにＹ軸方向に長い凹部１０ｄ−１が形成されており、これら凹部１０ｃ−１，１０ｄ−１によって一つの第一マニホールド１２が構成されている。また、一方の分割体１０ａにＹ軸方向に長い凹部１０ｃ−２が形成され、他方の分割体１０ｂにＹ軸方向に長い凹部１０ｄ−２が形成されており、これら凹部１０ｃ−２，１０ｄ−２によって一つの第二マニホールド１４が構成されている。
【００２８】
絞り流路１３は、隣り合う第一マニホールド１２と第二マニホールド１４との間を繋ぐ流路であり、Ｙ軸方向に長く、かつ、Ｘ軸方向についてはマニホールド１２，１４よりも狭い形状を有している。塗布液を吐出するスリット１５についても、Ｙ軸方向に長く、かつ、Ｘ軸方向についてはマニホールド１２，１４よりも狭い形状を有している。本実施形態では、第一マニホールド１２、絞り流路１３、第二マニホールド１４及びスリット１５は、Ｙ軸方向に同じ長さとなっている（図２参照）。
【００２９】
図３は、塗布器１０のＹ軸方向の中央部Ｃにおける断面図であるのに対して、図４は、図２に示す塗布器１０のＡ４矢視の断面図である。つまり、図４は塗布器１０のＹ軸方向の端部Ｅにおける断面図である。図３及び図４に示すように、第一マニホールド１２のＹ軸方向に直交する断面における断面積は、Ｙ軸方向の中央部Ｃ（図３参照）よりもＹ軸方向の端部Ｅ（図４参照）の方が小さくなっている。つまり、第一マニホールド１２に関して、図４に示すＹ軸方向両端それぞれに位置する端部Ｅの断面積Ｓ１ｅは、図３に示す中央部Ｃの断面積Ｓ１ｃよりも小さくなっている（Ｓ１ｅ＜Ｓ１ｃ）。
【００３０】
図２に示すように、第一マニホールド１２の高さ方向の寸法Ｈ１（つまり、Ｚ軸方向の寸法Ｈ１）は、Ｙ軸方向の全長にわたって一定となっている。なお、第一マニホールド１２の上端５０の高さはＹ軸方向に沿って一定（水平）であり、下端５１の高さもＹ軸方向に沿って一定（水平）である。下端５１は、第一マニホールド１２と第一絞り流路１３との境界線（稜線）である。そして、第一マニホールド１２の上端５０を構成する直線と、下端５１を構成する直線（前記境界線）とは平行となっている。そこで、第一マニホールド１２の断面積に関して前記Ｓ１ｅ＜Ｓ１ｃを満たすために、図３及び図４に示すように、第一マニホールド１２の端部ＥにおけるＸ軸方向の寸法（奥行き寸法）Ｄ１ｅは、第一マニホールド１２の中央部ＣにおけるＸ軸方向の寸法（奥行き寸法）Ｄ１ｃよりも小さくなっている（Ｄ１ｅ＜Ｄ１ｃ）。本実施形態では、中央部Ｃから両側の端部Ｅそれぞれに向かって徐々に第一マニホールド１２のＸ軸方向の寸法が小さくなるように変化している。これにより、第一マニホールド１２の断面積は、中央部Ｃから両側の端部Ｅそれぞれに向かって徐々に小さくなるように変化する構成となっている。
【００３１】
本実施形態では、第二マニホールド１４についても第一マニホールド１２と同様の形状となっている。すなわち、第二マニホールド１４のＹ軸方向に直交する断面における断面積は、Ｙ軸方向の中央部Ｃ（図３参照）よりもＹ軸方向の端部Ｅ（図４参照）の方が小さくなっている。つまり、第二マニホールド１４に関して、図４に示すＹ軸方向両側それぞれに位置する端部Ｅの断面積Ｓ２ｅは、中央部Ｃの断面積Ｓ２ｃよりも小さくなっている（Ｓ２ｅ＜Ｓ２ｃ）。
【００３２】
図２に示すように、第二マニホールド１４の高さ方向の寸法Ｈ２（つまり、Ｚ軸方向の寸法Ｈ２）は、Ｙ軸方向の全長にわたって一定となっている。そこで、第二マニホールド１４の断面積に関して前記Ｓ２ｅ＜Ｓ２ｃを満たすために、図３及び図４に示すように、第二マニホールド１４の端部ＥにおけるＸ軸方向の寸法（奥行き寸法）Ｄ２ｅは、第二マニホールド１４の中央部ＣにおけるＸ軸方向の寸法（奥行き寸法）Ｄ２ｃよりも小さくなっている（Ｄ２ｅ＜Ｄ２ｃ）。本実施形態では、中央部Ｃから両側の端部Ｅそれぞれに向かって徐々に第二マニホールド１４のＸ軸方向の寸法が小さくなるように変化している。これにより、第二マニホールド１４の断面積は、中央部Ｃから両側の端部Ｅそれぞれに向かって徐々に小さくなるように変化する構成となっている。
【００３３】
絞り流路１３は、第一マニホールド１２と、その隣りの第二マニホールドと１４との間を繋ぐ流路であり、図２において、この絞り流路１３では、端部Ｅにおける流路長Ｌ１ｅと、中央部Ｃにおける流路長Ｌ１ｃとが同じとなっている（Ｌ１ｅ＝Ｌ１ｃ）。本実施形態では、Ｙ軸方向の全長にわたって絞り流路１３の流路長は一定となっている。なお、前記流路長（Ｌ１ｅ、Ｌ１ｃ）は、上流側の第一マニホールド１２から第二マニホールド１４へ向かう方向、つまり、Ｚ軸方向の長さである。本実施形態の場合、第一マニホールド１２を上、第二マニホールド１４を下に配置していることから、このＺ軸方向は上下方向となる。また、図３及び図４に示すように、絞り流路１３のＸ軸方向の寸法（絞り流路１３の流路幅）は、Ｙ軸方向に沿って一定である。
【００３４】
図２において、スリット１５では、端部Ｅにおける流路長Ｍｅと、中央部Ｃにおける流路長Ｍｃとが同じとなっている（Ｍｅ＝Ｍｃ）。本実施形態では、Ｙ軸方向の全長にわたってスリット１５の流路長は一定となっている。また、図３及び図４に示すように、スリット１５のＸ軸方向の寸法（スリット１５の流路幅）は、Ｙ軸方向に沿って一定である。
【００３５】
第二マニホールド１４の上端５２の高さはＹ軸方向に沿って一定（水平）であり、下端５３の高さもＹ軸方向に沿って一定（水平）である。なお、上端５２は、第一絞り流路１３と第二マニホールド１４との境界線となり、下端５３は、第二マニホールド１４とスリット１５との境界線（稜線）となる。そして、上端５２となる境界線と下端５３となる境界線とは平行である。
【００３６】
以上のように、図２〜図４に示す塗布器１０では、第一マニホールド１２のＹ軸方向に直交する断面における断面積は、Ｙ軸方向の中央部ＣよりもＹ軸方向の端部Ｅの方で小さくなっている（Ｓ１ｅ＜Ｓ１ｃ）。この塗布器１０によれば、第一マニホールド１２の両側の端部Ｅそれぞれで断面積が小さいため、流れる塗布液が少量でも流速が確保され、両側の端部Ｅそれぞれにおける液置換性を良化させることが可能となる。
第一マニホールド１２において、中央部Ｃと端部Ｅとで断面積（流路断面）が異なっていると、マニホールド内での塗布液の拡幅性が低下して、スリットから吐出される塗布液の流量が中央と端部で異なり、被塗布部材に形成される膜厚の均一性が損なわれる場合があるが、二段のマニホールド１２，１４を有する構成となっていることから、供給口１１から第一マニホールド１２に供給された塗布液は、図２の矢印ｆ１に示すように、第一マニホールド１２においてＹ軸方向の両端に拡幅（分散）され、この第一マニホールド１２に一旦溜められてから絞り流路１３を通過して更に、その隣りの第二マニホールド１４において、図２の矢印ｆ２に示すように、Ｙ軸方向の両側に拡幅（分散）され、塗布液はこの第二マニホールド１４に一旦溜められてからスリット１５より吐出される。このため、スリット１５から吐出される塗布液の吐出状態（流量）を、図２の矢印ｆ３に示すように、Ｙ軸方向全長にわたって可及的に一様とすることができ、基板Ｗに形成される塗膜の膜厚精度が低下するのを防ぐことが可能となる。
【００３７】
また、この塗布器１０の絞り流路１３では、端部Ｅにおける流路長Ｌ１ｅが、中央部Ｃにおける流路長Ｌ１ｃと同じになっている（Ｌ１ｅ＝Ｌ１ｃ）。特に、絞り流路１３の流路長はＹ軸方向に沿って一定であり、絞り流路１３のＸ軸方向の寸法はＹ軸方向に沿って一定である。このため、絞り流路１３では、Ｚ軸方向に通過する塗布液にとって端部Ｅと中央部Ｃとで流れやすさは同じになる。このため、この絞り流路１３を通過した塗布液は第二マニホールド１４において拡幅を阻害する方向に流れ難くなり、第二マニホールド１４における拡幅の作用（図２の矢印ｆ２に示すようなＹ軸方向両側に塗布液が向かうように流す作用）を維持することができる。この結果、スリット１５から吐出される塗布液の吐出状態（流量）を、図２の矢印ｆ３に示すように、Ｙ軸方向全長にわたって可及的に一様とする機能を高めることができる。
【００３８】
なお、図示しないが、絞り流路１３では、端部Ｅにおける流路長Ｌ１ｅが、中央部Ｃにおける流路長Ｌ１ｃ以上となっていればよく（Ｌ１ｅ≧Ｌ１ｃ）、これにより、前記のような、絞り流路１３を通過した塗布液が第二マニホールド１４において拡幅を阻害する方向に流れ難くなる。そのメカニズムは次のとおりである。
【００３９】
すなわち、Ｌ１ｅ≧Ｌ１ｃの関係とは反対に、図１５に示すように、絞り流路１３において、中央部Ｃにおける流路長Ｌ１ｃが、端部Ｅにおける流路長Ｌ１ｅよりも大きくなっている場合（Ｌ１ｃ＞Ｌ１ｅ）、絞り流路１３内をＺ軸方向に流れる際の塗布液の抵抗は、端部Ｅと比較して中央部Ｃの方が大きくなる。このため、この絞り流路１３では、Ｚ軸方向に通過する塗布液にとって中央部Ｃよりも端部Ｅの方が流れ易くなる。すると、絞り流路１３から第二マニホールド１４に流出する塗布液は、中央部Ｃよりも端部Ｅにおいて多くなり、第二マニホールド１４において、端部Ｅに流れこんだ塗布液が、矢印ｆ１２に示すように、中央部Ｃに向かって流れる成分が強くなり、塗布液の拡幅の作用を低下させてしまう。この場合、スリット１５を通過する塗布液は、中央部Ｃと比べて端部Ｅにおいて減少し、基板Ｗに形成される塗膜がＹ軸方向に一定とならないおそれがある。
しかし、前記のとおり絞り流路１３の流路長をＬ１ｅ≧Ｌ１ｃの関係とすれば、第二マニホールド１４における拡幅の作用を維持することができる。この結果、スリット１５から吐出される塗布液の吐出状態（流量）を、Ｙ軸方向全長にわたって可及的に一様として、Ｙ軸方向に均一の塗膜を形成することが可能となる。
【００４０】
〔塗布器１０（その１）の変形例〕
図３及び図４に示す形態では、塗布器１０を構成する分割体１０ａ，１０ｂの双方に凹部（１０ｃ−１，１０ｃ−２及び１０ｄ−１，１０ｄ−２）が形成されているが、図５及び図６に示すように、分割体１０ａ，１０ｂのいずれか一方のみに凹部１０ｄ−１，１０ｄ−２が形成され、この凹部１０ｄ−１，１０ｄ−２によって第一マニホールド１２及び第二マニホールド１４が構成されていてもよい。その他の構成については、図２〜図４に示す形態の構成と同じであり、ここでは説明を省略する。
【００４１】
〔塗布器１１０の構成（その２）〕
図７は、他の形態の塗布器１１０を正面から（Ｘ軸方向に沿って）見た場合の断面図である。図８は、図７に示す塗布器１１０のＡ８矢視の断面図である。図９は、図７に示す塗布器１１０のＡ９矢視の断面図である。つまり、図８は塗布器１１０のＹ軸方向の中央部Ｃにおける断面図であり、図９は塗布器１１０のＹ軸方向の端部Ｅにおける断面図である。この塗布器１１０は、送液手段３０（図１参照）から塗布液が供給される供給口１１１と、Ｙ軸方向に長く形成され基板Ｗに対して塗布液を吐出するスリット１１７と、三つのマニホールド１１２，１１４，１１６を有している。供給口１１１と繋がるマニホールドが第一マニホールド１１２であり、その下流側に隣りのマニホールドが第二マニホールド１１４であり、その下流側に隣りであってスリット１１７と繋がるマニホールドが第三マニホールド１１６である。第一マニホールド１１２と第二マニホールド１１４との間に第一絞り流路１１３が設けられており、第二マニホールド１１４と第三マニホールド１１６との間に第二絞り流路１１５が設けられている。この塗布器１１０は、三段のマニホールド１１２，１１４，１１６と、二段の絞り流路１１３，１１５とを有する。
【００４２】
塗布器１１０はＹ軸方向に長く構成されており、マニホールド１１２，１１４，１１６それぞれについても、Ｙ軸方向に長く形成されている。供給口１１１は、第一マニホールド１１２とＹ軸方向の中央において開口することで、供給口１１１と第一マニホールド１１２とは繋がっている。
【００４３】
第一絞り流路１１３は、隣り合う第一マニホールド１１２と第二マニホールド１１４との間を繋ぐ流路であり、Ｙ軸方向に長く、かつ、Ｘ軸方向についてはマニホールド１１２，１１４よりも狭い形状を有している。
第二絞り流路１１５は、隣り合う第二マニホールド１１４と第三マニホールド１１６との間を繋ぐ流路であり、Ｙ軸方向に長く、かつ、Ｘ軸方向についてはマニホールド１１４，１１６よりも狭い形状を有している。
塗布液を吐出するスリット１１７についても、Ｙ軸方向に長く、かつ、Ｘ軸方向についてはマニホールド１１２，１１４，１１６よりも狭い形状を有している。本実施形態では、マニホールド１１２，１１４，１１６、絞り流路１１３，１１５及びスリット１１７は、Ｙ軸方向に同じ長さとなっている（図７参照）。
【００４４】
図８及び図９に示すように、第一マニホールド１１２のＹ軸方向に直交する断面における断面積は、Ｙ軸方向の中央部Ｃ（図８参照）よりもＹ軸方向の端部Ｅ（図９参照）の方が小さくなっている。つまり、第一マニホールド１１２に関して、Ｙ軸方向両側それぞれに位置する端部Ｅの断面積Ｓ１ｅは、中央部Ｃの断面積Ｓ１ｃよりも小さくなっている（Ｓ１ｅ＜Ｓ１ｃ）。
【００４５】
図７に示すように、第一マニホールド１１２の高さ方向の寸法Ｈ１（つまり、Ｚ軸方向の寸法Ｈ１）は、Ｙ軸方向の全長にわたって一定となっている。なお、第一マニホールド１１２の上端１５０の高さはＹ軸方向に沿って一定（水平）であり、下端１５１の高さもＹ軸方向に沿って一定（水平）である。下端１５１は、第一マニホールド１１２と第一絞り流路１１３との境界線（稜線）となる。そして、第一マニホールド１１２の上端１５０を構成する直線と、下端１５１を構成する直線（前記境界線）とは平行となっている。そこで、断面積に関して前記のＳ１ｅ＜Ｓ１ｃを満たすために、図８及び図９に示すように、第一マニホールド１１２の端部ＥにおけるＸ軸方向の寸法（奥行き寸法）Ｄ１ｅは、第一マニホールド１１２の中央部ＣにおけるＸ軸方向の寸法（奥行き寸法）Ｄ１ｃよりも小さくなっている（Ｄ１ｅ＜Ｄ１ｃ）。本実施形態では、中央部Ｃから両側の端部Ｅそれぞれに向かって徐々に第一マニホールド１１２のＸ軸方向の寸法が小さくなるように変化している。これにより、第一マニホールド１１２の断面積は、中央部Ｃから両側の端部Ｅそれぞれに向かって徐々に小さくなるように変化する構成となっている。
【００４６】
本実施形態では、第二マニホールド１１４及び第三マニホールド１１６それぞれについても第一マニホールド１１２と同様の形状となっている。すなわち、第二マニホールド１１４（第三マニホールド１１６）のＹ軸方向に直交する断面における断面積は、Ｙ軸方向の中央部Ｃ（図８参照）よりもＹ軸方向の端部Ｅ（図９参照）の方が小さくなっている。つまり、第二マニホールド１１４（第三マニホールド１１６）に関して、Ｙ軸方向両側それぞれに位置する端部Ｅの断面積Ｓ２ｅ（Ｓ３ｅ）は、中央部Ｃの断面積Ｓ２ｃ（Ｓ３ｃ）よりも小さくなっている（Ｓ２ｅ＜Ｓ２ｃ、Ｓ３ｅ＜Ｓ３ｃ）。
【００４７】
図７に示すように、第二マニホールド１１４の高さ方向の寸法Ｈ２（つまり、Ｚ軸方向の寸法Ｈ２）は、Ｙ軸方向の全長にわたって一定となっている。そこで、第二マニホールド１１４の断面積に関して前記Ｓ２ｅ＜Ｓ２ｃを満たすために、図８及び図９に示すように、第二マニホールド１１４の端部ＥにおけるＸ軸方向の寸法（奥行き寸法）Ｄ２ｅは、第二マニホールド１１４の中央部ＣにおけるＸ軸方向の寸法（奥行き寸法）Ｄ２ｃよりも小さくなっている（Ｄ２ｅ＜Ｄ２ｃ）。本実施形態では、中央部Ｃから両側の端部Ｅそれぞれに向かって徐々に第二マニホールド１１４のＸ軸方向の寸法が小さくなるように変化している。これにより、第二マニホールド１１４の断面積は、中央部Ｃから両側の端部Ｅそれぞれに向かって徐々に小さくなるように変化する構成となっている。
【００４８】
また、図７に示すように、第二マニホールド１１４と同様に、第三マニホールド１１６の高さ方向の寸法Ｈ３（つまり、Ｚ軸方向の寸法Ｈ３）は、Ｙ軸方向の全長にわたって一定となっている。そこで、第三マニホールド１１６の断面積に関して前記Ｓ３ｅ＜Ｓ３ｃを満たすために、図８及び図９に示すように、第三マニホールド１１６の端部ＥにおけるＸ軸方向の寸法（奥行き寸法）Ｄ３ｅは、第三マニホールド１１６の中央部ＣにおけるＸ軸方向の寸法（奥行き寸法）Ｄ３ｃよりも小さくなっている（Ｄ３ｅ＜Ｄ３ｃ）。本実施形態では、中央部Ｃから両側の端部Ｅそれぞれに向かって徐々に第三マニホールド１１６のＸ軸方向の寸法が小さくなるように変化している。これにより、第三マニホールド１１６の断面積は、中央部Ｃから両側の端部Ｅそれぞれに向かって徐々に小さくなるように変化する構成となっている。
【００４９】
図７において、第一絞り流路１１３では、端部Ｅにおける流路長Ｌ１ｅと、中央部Ｃにおける流路長Ｌ１ｃとが同じとなっている（Ｌ１ｅ＝Ｌ１ｃ）。本実施形態では、Ｙ軸方向の全長にわたって第一絞り流路１１３の流路長は一定となっている。なお、前記流路長（Ｌ１ｅ、Ｌ１ｃ）は、上流側の第一マニホールド１１２から、その隣りの第二マニホールド１１４へ向かう方向、つまり、Ｚ軸方向の長さである。また、第一絞り流路１１３のＸ軸方向の寸法（絞り流路１３の流路幅）は、Ｙ軸方向に沿って一定である。
【００５０】
また、第二絞り流路１１５では、端部Ｅにおける流路長Ｌ２ｅと、中央部Ｃにおける流路長Ｌ２ｃとが同じとなっている（Ｌ２ｅ＝Ｌ２ｃ）。本実施形態では、Ｙ軸方向の全長にわたって第二絞り流路１１５の流路長は一定となっている。なお、前記流路長（Ｌ２ｅ、Ｌ２ｃ）は、第二マニホールド１１４から、その隣りの第三マニホールド１１６へ向かう方向、つまり、Ｚ軸方向の長さである。また、第二絞り流路１１５のＸ軸方向の寸法（絞り流路１３の流路幅）は、Ｙ軸方向に沿って一定である。
【００５１】
スリット１１７では、端部Ｅにおける流路長Ｍｅと、中央部Ｃにおける流路長Ｍｃとが同じとなっている（Ｍｅ＝Ｍｃ）。本実施形態では、Ｙ軸方向の全長にわたってスリット１１７の流路長は一定となっている。また、スリット１１７のＸ軸方向の寸法（スリット１５の流路幅）は、Ｙ軸方向に沿って一定である。
【００５２】
第二マニホールド１１４の上端１５２の高さはＹ軸方向に沿って一定（水平）であり、下端１５３の高さもＹ軸方向に沿って一定（水平）である。上端１５２は、第一絞り流路１１３と第二マニホールド１１４との境界線（稜線）となり、下端１５３は、第二マニホールド１１４と第二絞り流路１１５との境界線（稜線）となる。上端１５２となる境界線と、下端１５３となる境界線とは平行である。
また、第三マニホールド１１６の上端１５４の高さはＹ軸方向に沿って一定（水平）であり、下端１５５の高さもＹ軸方向に沿って一定（水平）である。上端１５４は、第二絞り流路１１５と第三マニホールド１１６との境界線となり、下端１５５は、第三マニホールド１１６とスリット１１７との境界線（稜線）となる。上端１５４となる境界線と、下端１５５となる境界線とは平行である。
【００５３】
以上のように、図７〜図９に示す塗布器１１０では、第一マニホールド１１２のＹ軸方向に直交する断面における断面積は、Ｙ軸方向の中央部ＣよりもＹ軸方向の端部Ｅの方で小さくなっている（Ｓ１ｅ＜Ｓ１ｃ）。この塗布器１１０によれば、第一マニホールド１１２の両側の端部Ｅそれぞれで断面積が小さいため、流れる塗布液が少量でも流速が確保され、両側の端部Ｅそれぞれにおける液置換性を良化させることが可能となる。
第一マニホールド１１２において、中央部Ｃと端部Ｅとで断面積（流路断面）が異なっていると、マニホールド内での塗布液の拡幅性が低下して、スリットから吐出される塗布液の流量が中央と端部で異なり、被塗布部材に形成される膜厚の均一性が損なわれる場合があるが、三段のマニホールド１１２，１１４，１１６を有する構成となっていることから、供給口１１１から第一マニホールド１１２に供給された塗布液は、図７の矢印ｆ１に示すように、第一マニホールド１１２においてＹ軸方向の両側に拡幅（分散）され、この第一マニホールド１２に一旦溜められてから第一絞り流路１１３を通過して更に、その隣りの第二マニホールド１１４において、図７の矢印ｆ２に示すように、Ｙ軸方向の両側に拡幅（分散）され、塗布液はこの第二マニホールド１１４に一旦溜められる。そして、この第二マニホールド１１４から塗布液は、第二絞り流路１１５を通過して更に、その隣りの第三マニホールド１１６において、図７の矢印ｆ３に示すように、Ｙ軸方向の両側に拡幅（分散）され、塗布液はこの第三マニホールド１１６に一旦溜められてからスリット１１７より吐出される。このため、スリット１１７から吐出される塗布液の吐出状態（流量）を、図７の矢印ｆ４に示すように、Ｙ軸方向全長にわたって可及的に一様とすることができ、基板Ｗに形成される塗膜の膜厚精度が低下するのを防ぐことが可能となる。
【００５４】
また、この塗布器１０の第一絞り流路１１３では、端部Ｅにおける流路長Ｌ１ｅが、中央部Ｃにおける流路長Ｌ１ｃと同じになっている（Ｌ１ｅ＝Ｌ１ｃ）。特に、第一絞り流路１１３の流路長はＹ軸方向に沿って一定であり、第一絞り流路１１３のＸ軸方向の寸法はＹ軸方向に沿って一定である。このため、第一絞り流路１１３では、Ｚ軸方向に通過する塗布液にとって端部Ｅと中央部Ｃとで流れやすさは同じになる。このため、この絞り流路１１３を通過した塗布液は第二マニホールド１１４において拡幅を阻害する方向に流れ難くなり、第二マニホールド１１４における拡幅の作用（図７の矢印ｆ２に示すようなＹ軸方向両側に塗布液が向かうように流す作用）を維持することができる。更に、第二マニホールド１１４の下流側に第三マニホールド１１６が設けられていることから、図７の矢印ｆ３に示すように、この第三マニホールド１１６においても塗布液の拡幅が行われ、この結果、スリット１１７から吐出される塗布液の吐出状態（流量）を、図７の矢印ｆ４に示すように、Ｙ軸方向全長にわたって可及的に一様とする機能を高めることができる。
【００５５】
また、第二絞り流路１１５では、端部Ｅにおける流路長Ｌ２ｅが、中央部Ｃにおける流路長Ｌ２ｃと同じになっている（Ｌ２ｅ＝Ｌ２ｃ）。特に、第二絞り流路１１５の流路長はＹ軸方向に沿って一定であり、第二絞り流路１１５のＸ軸方向の寸法はＹ軸方向に沿って一定である。このため、第二絞り流路１１５では、Ｚ軸方向に通過する塗布液にとって端部Ｅと中央部Ｃとで流れやすさは同じになる。
【００５６】
なお、図２に示す前記塗布器１０（その１）の場合と同様に、この図７に示す塗布器１０（その２）の形態において、図示しないが、第一絞り流路１１３では、端部Ｅにおける流路長Ｌ１ｅが、中央部Ｃにおける流路長Ｌ１ｃ以上となっていればよく（Ｌ１ｅ≧Ｌ１ｃ）、これにより、前記のような、第一絞り流路１１３を通過した塗布液が第二マニホールド１１４において拡幅を阻害する方向に流れ難くなる。そのメカニズムは、前記の塗布器１０（その１）の場合において説明したメカニズムと同じであり、ここでは省略する。また、第二絞り流路１１５では、端部Ｅにおける流路長Ｌ２ｅが、中央部Ｃにおける流路長Ｌ２ｃ以上となっていてもよい（Ｌ２ｅ≧Ｌ２ｃ）。
【００５７】
〔塗布器１１０（その２）の変形例１〕
図８及び図９に示す形態では、塗布器１１０を構成する分割体１１０ａ，１１０ｂの双方に凹部が形成されているが、図１０及び図１１に示すように、分割体１１０ａ，１１０ｂのいずれか一方のみに凹部１１０ｄ−１，１１０ｄ−２，１１０ｄ−３が形成され、この凹部１１０ｄ−１，１１０ｄ−２，１１０ｄ−３によって第一マニホールド１１２、第二マニホールド１１４及び第三マニホールド１１６が構成されていてもよい。その他の構成については、図７〜図９に示す形態の構成と同じであり、ここでは説明を省略する。
【００５８】
〔塗布器１１０（その２）の変形例２〕
図１２は、塗布器１１０を正面から（Ｘ軸方向に沿って）見た場合の断面図である。図１３は、図１２に示す塗布器１１０のＡ１３矢視の断面図である。図１４は、図１２に示す塗布器１１０のＡ１４矢視の断面図である。つまり、図１３は塗布器１１０のＹ軸方向の中央部Ｃにおける断面図であり、図１４は塗布器１１０のＹ軸方向の端部Ｅにおける断面図である。この塗布器１１０は、図７から図９に示す塗布器１１０と同様に、三段のマニホールド１１２，１１４，１１６と、二段の絞り流路１１３，１１５とを有している。
【００５９】
図１２に示す塗布器１１０においても、図７に示す塗布器１１０と同様に、第一マニホールド１１２のＹ軸方向に直交する断面における断面積は、Ｙ軸方向の中央部Ｃ（図１３参照）よりもＹ軸方向の端部Ｅ（図１４参照）の方が小さくなっている。つまり、第一マニホールド１１２に関して、Ｙ軸方向両側それぞれに位置する端部Ｅの断面積Ｓ１ｅは、中央部Ｃの断面積Ｓ１ｃよりも小さくなっている（Ｓ１ｅ＜Ｓ１ｃ）。
【００６０】
図１２に示す形態では、第一マニホールド１１２の高さ方向の寸法Ｈ（つまり、Ｚ軸方向の寸法Ｈ）は、Ｙ軸方向の位置に応じて変化している。具体的には、中央部ＣからＹ軸方向の両側の端部Ｅそれぞれに向かうにしたがって、高さ方向の寸法Ｈが大きくなっている。第一マニホールド１１２の上端１５０の高さはＹ軸方向に沿って一定（水平）であるが、下端１５１の高さが中央部Ｃから両側の端部Ｅそれぞれに向かって低くなっている。下端１５１は、第一マニホールド１１２と第一絞り流路１１３との境界線（稜線）となる。そこで、第一マニホールド１１２の断面積に関して前記Ｓ１ｅ＜Ｓ１ｃを満たすために、図１３及び図１４に示すように、第一マニホールド１１２の端部ＥにおけるＸ軸方向の寸法（奥行き寸法）Ｄ１ｅは、第一マニホールド１１２の中央部ＣにおけるＸ軸方向の寸法（奥行き寸法）Ｄ１ｃよりも、高さ方向の寸法Ｈ（図１２参照）の変化の割合よりも大きな変化の割合で、小さくなっている。本実施形態では、中央部Ｃから両側の端部Ｅそれぞれに向かって徐々に第一マニホールド１１２のＸ軸方向及びＺ軸方向それぞれの寸法が変化しており、これにより、第一マニホールド１１２の断面積は、中央部Ｃから両側の端部Ｅそれぞれに向かって徐々に小さくなるように変化する構成となっている。
【００６１】
そして、第二マニホールド１１４（第三マニホールド１１６）のＹ軸方向に直交する断面における断面積についても、Ｙ軸方向の中央部Ｃ（図１３参照）よりもＹ軸方向の端部Ｅ（図１４参照）の方が小さくなっている。つまり、第二マニホールド１１４（第三マニホールド１１６）に関して、Ｙ軸方向両側それぞれに位置する端部Ｅの断面積Ｓ２ｅ（Ｓ３ｅ）は、中央部Ｃの断面積Ｓ２ｃ（Ｓ３ｃ）よりも小さくなっている（Ｓ２ｅ＜Ｓ２ｃ、Ｓ３ｅ＜Ｓ３ｃ）。
【００６２】
図１２に示すように、第一絞り流路１１３では、端部Ｅにおける流路長Ｌ１ｅと、中央部Ｃにおける流路長Ｌ１ｃとが同じとなっている（Ｌ１ｅ＝Ｌ１ｃ）。本実施形態では、第一マニホールド１１２の下端１５１は、中央部Ｃから端部Ｅに向かうにしたがって低くなるように傾斜していることから、前記Ｌ１ｅ＝Ｌ１ｃを確保するために、第二マニホールド１１４の上端（第一絞り流路１１３との境界線）１５２についても、中央部Ｃから端部Ｅに向かうにしたがって低くなるように傾斜している。これにより、Ｙ軸方向の全長にわたって第一絞り流路１１３の流路長は一定となっている。前記流路長（Ｌ１ｅ、Ｌ１ｃ）は、Ｚ軸方向の長さである。
【００６３】
また、第二絞り流路１１５では、端部Ｅにおける流路長Ｌ２ｅと、中央部Ｃにおける流路長Ｌ２ｃとが同じとなっている（Ｌ２ｅ＝Ｌ２ｃ）。本実施形態では、第二マニホールド１１４の下端（第二絞り流路１１５との境界線）１５３は、中央部Ｃから端部Ｅに向かうにしたがって低くなるように傾斜していることから、前記Ｌ２ｅ＝Ｌ２ｃを確保するために、第三マニホールド１１６の上端（第二絞り流路１１５との境界線）１５４についても、中央部Ｃから端部Ｅに向かうにしたがって低くなるように傾斜している。これにより、Ｙ軸方向の全長にわたって第二絞り流路１１５の流路長は一定となっている。前記流路長（Ｌ２ｅ、Ｌ２ｃ）は、Ｚ軸方向の長さである。
【００６４】
スリット１１７では、端部Ｅにおける流路長Ｍｅと、中央部Ｃにおける流路長Ｍｃとが同じとなっている（Ｍｅ＝Ｍｃ）。本実施形態では、Ｙ軸方向の全長にわたってスリット１１７の流路長は一定となっている。また、スリット１１７のＸ軸方向の寸法（スリット１５の流路幅）は、Ｙ軸方向に沿って一定である。
【００６５】
〔各形態の塗布器１０に関して〕
以上のように、前記各形態の塗布器１０（１１０）では、供給口１１と繋がる最も上流側に位置する第一マニホールド１２（１１２）の断面積が、中央部Ｃから端部Ｅに向かって小さくなっている。つまり、第一マニホールド１２（１１２）は中央部Ｃから両側の端部Ｅそれぞれに向かって絞られた形状を有している。これにより、第一マニホールド１２（１１２）の端部Ｅにおける液置換性を良化させることが可能となる。
第一マニホールド１２（１１２）において中央部Ｃと端部Ｅとで断面積（流路断面）が異なっていると、それぞれにおいて塗布液の流れの様子が異なる場合があるが、マニホールドが多段となっていることから、スリット１５（１１７）から吐出される塗布液の吐出状態（流量）をＹ軸方向全長にわたって可及的に一様とすることができ、基板Ｗに形成される塗膜の膜厚精度が低下するのを防ぐことが可能となる。
【００６６】
更に、絞り流路１３（第一絞り流路１１３）では、端部Ｅにおける流路長Ｌ１ｅが中央部における流路長Ｌ１ｃ以上（Ｌ１ｅ≧Ｌ１ｃ）となっているので、通過する塗布液にとって端部Ｅと中央部Ｃとで流れやすさは同じ、又は、端部Ｅでは中央部Ｃと比べて流れにくくなる。このため、この絞り流路１３を通過した塗布液は第二マニホールド１４（１１４）において拡幅を阻害する方向に流れ難くなる。つまり、第二マニホールド１４（１１４）における拡幅の作用を維持することができる。この結果、スリット１５（１１７）から吐出される塗布液の吐出状態（流量）をＹ軸方向全長にわたって可及的に一様とする機能を高めることができる。
【００６７】
また、前記各形態において、第一マニホールド１２（１１２）のみならず、他のマニホールド１４（１１４，１１６）それぞれにおいて（つまり、すべてのマニホールドにおいて）Ｙ軸方向に直交する断面における断面積が、Ｙ軸方向の中央部ＣよりもＹ軸方向の端部Ｅの方で小さくなっている。このため、複数のマニホールドそれぞれにおいて端部Ｅにおける液置換性を良化させることが可能となる。
【００６８】
更に、図７及び図１２に示す形態の場合、三つのマニホールド１１２，１１４，１１６が設けられており、これらマニホールド１１２，１１４，１１６の数よりも一つ少ない二つの絞り流路１１３，１１５が設けられている。そして、これら絞り流路１１３，１１５それぞれにおいて、端部Ｅにおける流路長が、中央部Ｃにおける流路長以上となっている。このため、第一絞り流路１１３を通過した塗布液は、第二マニホールド１１４において拡幅を阻害する方向に流れ難くなり、また、第二絞り流路１１５を通過した塗布液は、第三マニホールド１１６において拡幅を阻害する方向に流れ難くなる。つまり、第二マニホールド１１４及び第三マニホールド１１６それぞれにおける拡幅の作用を維持することができる。この結果、スリット１１７から吐出される塗布液の吐出状態（流量）をＹ軸方向全長にわたって可及的に一様とする機能を高めることができる。
【００６９】
また、図２及び図７に示す形態では、第一マニホールド１２（１１２）の上端５０の高さがＹ軸方向に沿って一定（水平）であり、かつ、この第一マニホールド１２（１１２）の高さ方向の寸法Ｈ１は、Ｙ軸方向の全長にわたって一定となっている。そして、絞り流路１３（１１３）の端部Ｅにおける流路長Ｌ１ｅが、中央部Ｃにおける流路長Ｌ１ｃと同じである（Ｙ軸方向の全長にわたって同じである）。この構成によれば、第一マニホールド１２（１１２）において塗布液が両側へ広がる作用（拡幅作用）によって、このマニホールド１２（１１２）に混入している気泡を両端部Ｅに集め易くなる。そして、前記のとおり、絞り流路１３（１１３）の端部Ｅにおける流路長Ｌ１ｅが、中央部Ｃにおける流路長Ｌ１ｃと同じであることから、第二マニホールド１４（１１４）の上端５２（１５２）の高さがＹ軸方向に沿って一定（水平）となる。したがって、第二マニホールド１４（１１４）において塗布液が両側へ広がる作用（拡幅作用）によって、このマニホールド１４（１１４）に混入している気泡を両端部Ｅに集め易くなる。
このため、これらマニホールド１２，１４（１１２，１１４）それぞれの両端部Ｅにエアを排出するためのエア抜き孔を設けることで、エアを塗布器１０（１１０）の外へ排出し易くなる。
【００７０】
〔付記〕
以上のとおり開示した実施形態はすべての点で例示であって制限的なものではない。つまり、本発明の塗布器及び塗布装置は、図示する形態に限らず本発明の範囲内において他の形態のものであってもよい。
例えば、前記各形態では、すべてのマニホールドにおいて、Ｙ軸方向の端部Ｅ側で断面が絞られる形状としたが、この形状は少なくとも第一マニホールド１２（１１２）において採用されていればよく、第二マニホールド（第三マニホールド）では、Ｙ軸方向に沿って断面が同じ（変化しない）ようにしてもよい。
【００７１】
また、前記実施形態では、移動手段４０が、基板Ｗに対して塗布器１０を移動させる場合について説明したが、移動手段４０は、塗布器１０と基板Ｗとを、基板Ｗの被塗布面に平行な方向に相対移動させる構成であればよく、図示しないが、固定状態にある塗布器１０に対してステージ５（基板Ｗ）を移動させる構成であってもよい。
また、前記実施形態では、被塗布部材を枚葉状の基板Ｗとしたが、枚葉状ではなく連続した部材（ロールｔｏロールで送られる被塗布部材）としてもよい。この場合、ステージ５は省略される。また、塗布装置１が行う塗布は、被塗布部材に対して複数の塗膜を形成する間欠塗布であってもよい。
【符号の説明】
【００７２】
１０：塗布器                                      １１：供給口
１２：第一マニホールド（上流側マニホールド）      １３：絞り流路
１４：第二マニホールド（上流側マニホールド）      １５：スリット
１６：吐出口                                      ３０：送液手段
４０：移動手段                                    ５０：上端
５１：下端                                        ５２：上端
５３：下端                                        １１１：供給口
１１２：第一マニホールド（上流側マニホールド）    １１３：絞り流路
１１４：第二マニホールド                          １１５：絞り流路
１１６：第三マニホールド（下流側マニホールド）    １１７：スリット
１５０：上端                                      １５１：下端
１５２：上端                                      １５３：下端
１５４：上端                                      １５５：下端
Ｃ：中央部                                        Ｅ：端部
Ｌ１ｃ：流路長                                    Ｌ２ｃ：流路長
Ｌ１ｅ：流路長                                    Ｌ２ｅ：流路長
Ｈ１，Ｈ２，Ｈ３：高さ寸法                        Ｗ：基板（被塗布部材）
【図１】
0006655479.tif 000002
【図２】
0006655479.tif 000003
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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