(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
蒸着マスクと、
上記蒸着マスクに向けて蒸着粒子を射出する蒸着源と、
被蒸着基板が載置され、当該被蒸着基板を上記蒸着マスクに対して相対移動させる基板トレイとを備え、
上記被蒸着基板の被蒸着面には、上記蒸着粒子が蒸着される画素形成領域がマトリクス状に形成された表示領域が、上記相対移動方向と平行方向に離間して並んで形成されており、
上記基板トレイは、上記表示領域に対し上記相対移動方向と平行方向に隣接する領域を、上記蒸着粒子から遮蔽する遮蔽部を有することを特徴とする蒸着装置。
【請求項２】
上記遮蔽部は、上記被蒸着面のうち、上記表示領域に対し上記相対移動方向と平行方向に隣接する領域を覆うことを特徴とする請求項１に記載の蒸着装置。
【請求項３】
上記遮蔽部は、上記被蒸着基板の上記相対移動方向と平行方向に、複数並んで配置されており、
上記基板トレイは、さらに、上記複数の遮蔽部同士を接続する棒状部材を備えていることを特徴とする請求項１又は２に記載の蒸着装置。
【請求項４】
上記棒状部材は、上記被蒸着面のうち、上記表示領域に対し上記相対移動方向と直交方向に隣接する領域を覆うことを特徴とする請求項３に記載の蒸着装置。
【請求項５】
上記蒸着マスクには、上記被蒸着基板を上記相対移動させたときに上記棒状部材が進入する凹部が形成されていることを特徴とする請求項３又は４に記載の蒸着装置。
【請求項６】
上記蒸着マスクの凹部の底面には、上記被蒸着基板を上記相対移動させているときに上記棒状部材と接触することで回転するコロ部材が配置されていることを特徴とする請求項４に記載の蒸着装置。
【請求項７】
上記蒸着マスクの凹部の底面には、上記被蒸着基板を上記相対移動させているときに上記棒状部材と、上記蒸着マスクの凹部の底面との距離を計測するセンサが配置されていることを特徴とする請求項４に記載の蒸着装置。
【請求項８】
上記棒状部材は、分極している分極領域を含むことを特徴とする請求項３〜７の何れか１項に記載の蒸着装置。
【請求項９】
上記棒状部材は、上記蒸着マスクの凹部に進入した後、上記分極領域が形成されることを特徴とする請求項８に記載の蒸着装置。
【請求項１０】
被蒸着基板が載置された基板トレイを、蒸着マスクに対して相対移動させる第１ステップと、
蒸着源から上記蒸着マスクに向けて蒸着粒子を射出する第２ステップとを含み、
上記被蒸着基板の被蒸着面には、上記蒸着粒子が蒸着される画素形成領域がマトリクス状に形成された表示領域が、上記相対移動方向と平行方向に離間して並んで形成されており、
上記第１ステップ及び上記第２ステップにおいて、上記表示領域に対し上記相対移動方向と平行方向に隣接する領域を、上記蒸着粒子から遮蔽して、上記画素形成領域に上記蒸着粒子を蒸着することで、有機ＥＬ層を形成することを特徴とする有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ表示装置を製造するための蒸着装置および当該蒸着装置を用いて有機ＥＬ表示装置を製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示装置は、表示領域にマトリクス状に設けられた各画素に有機ＥＬ層が形成され、当該有機ＥＬ層を発光させることで画像を表示する。
【０００３】
フルカラー表示を行う有機ＥＬ表示装置では、一般的に、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の色の光を発光する有機ＥＬ層が各画素に形成されている。このため、有機ＥＬ層は、蒸着マスクを使った蒸着により、各発光色毎に所定画素にパターン形成される（以下、塗り分け蒸着と称する場合がある）。
【０００４】
この有機ＥＬ層を被蒸着基板に蒸着させる方法として、特許文献１のような蒸着マスクと被蒸着基板との相対位置を固定して蒸着を行う方法と、被蒸着基板を蒸着マスクに対して相対移動させて蒸着を行うスキャン蒸着法とに大別される。
【０００５】
前者の蒸着マスクと被蒸着基板との相対位置を固定して蒸着する方法では、被蒸着基板と同等か、または、被蒸着基板と同等ではないまでも、ある程度の面積を有する蒸着マスクが必要となる。このため、被蒸着基板が大型化すると、蒸着マスクも大型化する。蒸着マスクが大型化すると、自重での撓みや熱による伸びなどが大きくなり、蒸着位置のズレや混色が発生し易くなる。このため、高精細化を実現することが困難となる。
【０００６】
そこで、被蒸着基板に有機ＥＬ層を蒸着する方法として、スキャン蒸着が注目されている。
【０００７】
図１７は従来の蒸着装置の構成を表す斜視図である。図１７に示すように、蒸着装置１０１は、蒸着源１０２と、蒸着源１０２の上方に配置された蒸着マスク１１０と、レール１０３に沿って移動可能な基板トレイ１２０とを備えている。レール１０３が延伸している方向をＸ軸方向と称する。
【０００８】
蒸着マスク１１０は、マスクフレーム部１１０ａと、縁がマスクフレーム部１１０ａによって保持されたマスク本体部１１０ｃとを有する。マスク本体部１１０ｃには、蒸着領域１１１が、Ｘ軸方向と直交する方向であるＹ軸方向に並んで設けられている。各蒸着領域１１１には、被蒸着基板における赤、緑、または、青の何れかの画素形成領域の幅に対応する複数のスリット１１１ａが形成されている。
【０００９】
蒸着源１０２には、内部に充填された蒸着粒子を射出するための射出口１０２ａが形成されている。
【００１０】
図１８は従来の蒸着装置にて蒸着を開始するときの様子を表す図である。図１８に示すように、被蒸着基板１３０は、表示領域１３１がマトリクス状に形成されている被蒸着面１３０ａを蒸着源１０２が配置されている側に向けて、反対側の裏面１３０ｂが上方を向くように、基板トレイ１２０に載置される。
【００１１】
被蒸着基板１３０が載置された基板トレイ１２０がレール１０３に沿って、矢印Ｘ１に示す方向（走査方向）に走査される。また、蒸着源１０２の射出口１０２ａからＺ軸方向（ＸＹ平面に垂直な軸）に蒸着粒子が射出され、当該蒸着粒子は、スリット１１１ａを通過して被蒸着基板１３０の被蒸着面１３０ａに蒸着される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１２】
【特許文献１】日本国公開特許公報「特開２００５−１４６３３８号」
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
図１９は、従来の蒸着装置１０１によって蒸着粒子が蒸着された被蒸着基板１３０の被蒸着面１３０ａの様子を表す図である。
【００１４】
被蒸着基板１３０の各表示領域１３１には、赤色に発光する有機ＥＬ層が形成されて画素が構成される赤色の画素形成領域が一列に並ぶ赤色の画素形成領域列１３３Ｒと、赤色の画素形成領域列１３３Ｒの横に隣接し、緑色に発光する有機ＥＬ層が形成されて画素が構成される緑色の画素形成領域が一列に並ぶ緑色の画素形成領域列１３３Ｇと、緑色の画素形成領域列１３３Ｇの横に隣接し、青色に発光する有機ＥＬ層が形成されて画素が構成される青色の画素形成領域が一列に並ぶ青色の画素形成領域列１３３Ｂとが形成されている。
【００１５】
各色の画素形成領域列１３３Ｒ・１３３Ｇ・１３３Ｂのうち、赤色の画素形成領域列１３３Ｒに、赤色光を発光する有機ＥＬ層１４０Ｒを一列に蒸着したとする。
【００１６】
すると、蒸着装置１０１によると、有機ＥＬ層１４０Ｒは、表示領域１３１内の赤色の画素形成領域列１３３Ｒだけでなく、表示領域１３１とＸ軸方向に隣接する領域１３１ｃを含む、被蒸着基板１３０の一方の端から他方の端に至る全ての領域が蒸着されてしまう。
【００１７】
よって、表示領域１３１とＸ軸方向に隣接する領域１３１ｃには、端子など蒸着粒子が付着すると不良となる回路部品を配置することができず、設計上、制約を受けていた。
【００１８】
本発明は、上記従来の問題点に鑑みなされたものであって、その目的は、スキャン蒸着を行っても、被蒸着基板の設計上の自由度が制限されることを防止する蒸着装置および有機ＥＬ表示装置の製造方法を得ることである。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
上記の課題を解決するために、本発明の一態様に係る蒸着装置は、蒸着マスクと、上記蒸着マスクに向けて蒸着粒子を射出する蒸着源と、被蒸着基板が載置され、当該被蒸着基板を上記蒸着マスクに対して相対移動させる基板トレイとを備え、上記被蒸着基板の被蒸着面には、上記蒸着粒子が蒸着される画素形成領域がマトリクス状に形成された表示領域が、上記相対移動方向と平行方向に離間して並んで形成されており、上記基板トレイは、上記表示領域に対し上記相対移動方向と平行方向に隣接する領域を、上記蒸着粒子から遮蔽する遮蔽部を有することを特徴とする。
【００２０】
上記の課題を解決するために、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法は、被蒸着基板が載置された基板トレイを、蒸着マスクに対して相対移動させる第１ステップと、蒸着源から上記蒸着マスクに向けて蒸着粒子を射出する第２ステップとを含み、上記被蒸着基板の被蒸着面には、上記蒸着粒子が蒸着される画素形成領域がマトリクス状に形成された表示領域が、上記相対移動方向と平行方向に離間して並んで形成されており、上記第１ステップ及び上記第２ステップにおいて、上記表示領域に対し上記相対移動方向と平行方向に隣接する領域を、上記蒸着粒子から遮蔽して、上記画素形成領域に上記蒸着粒子を蒸着することで、有機ＥＬ層を形成することを特徴とする。
【発明の効果】
【００２１】
本発明の一態様によれば、被蒸着基板の設計上の自由度が制限されることを防止するという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の実施形態１に係る蒸着装置の概略構成を表す斜視図である。
【図２】本発明の実施形態１に係る蒸着装置の基板トレイに載置される被蒸着基板の被蒸着面を表す図である。
【図３】上記被蒸着面に形成された表示領域を拡大して概略を表す図である。
【図４】本発明の実施形態１に係る蒸着装置の基板トレイに被蒸着基板が載置された様子を表す斜視図である。
【図５】本発明の実施形態１に係る蒸着装置に載置した被蒸着基板に蒸着をしている様子を表す斜視図である。
【図６】図５の蒸着装置をＹ軸方向に切った断面を表す図である。
【図７】図５の蒸着装置をＸ軸方向に切った断面を表す図である。
【図８】図５に示す蒸着装置の蒸着マスクおよび基板トレイを、Ｚ軸マイナス方向からプラス方向へ見た平面図である。
【図９】本発明の実施形態１に係る蒸着装置によって蒸着された被蒸着基板の被蒸着面を表す平面図である。
【図１０】本発明の実施形態１に係る蒸着装置によって蒸着された被蒸着基板を用いて製造された有機ＥＬ表示装置の構成を表す断面図である。
【図１１】本発明の実施形態２に係る蒸着装置が備える蒸着マスクの構成を表す斜視図である。
【図１２】本発明の実施形態２に係る蒸着装置において被蒸着基板が蒸着マスク上を通過しているときのＸ軸方向に切った要部断面図である。
【図１３】本発明の実施形態２に係る蒸着装置において被蒸着基板が蒸着マスク上を通過しているときのＹ軸方向に切った要部断面図である。
【図１４】本発明の実施形態３に係る蒸着装置が備える蒸着マスクの構成を表す斜視図である。
【図１５】本発明の実施形態３に係る蒸着装置において被蒸着基板が蒸着マスク上を通過しているときのＸ軸方向に切った要部断面図である。
【図１６】本発明の実施形態３に係る蒸着装置において被蒸着基板が蒸着マスク上を通過しているときのＹ軸方向に切った要部断面図である。
【図１７】従来の蒸着装置の構成を表す斜視図である。
【図１８】従来の蒸着装置にて蒸着を開始するときの様子を表す図である。
【図１９】従来の蒸着装置によって蒸着粒子が蒸着された被蒸着基板の被蒸着面の様子を表す図である。
【図２０】本発明の実施形態１に係る桟をＹ軸方向に切った断面を表し、（ａ）は当該断面が四角形である場合を表す図であり、（ｂ）は当該断面がマスク側端部の幅が広くなった形状である場合を表す図である。
【図２１】本発明の実施形態４に係る桟の様子を表す側面図であり、（ａ）は桟の両端部が分極している様子を表し、（ｂ）は両端部より内側が分極している様子を表し、（ｃ）は両端部間がＳ極とＮ極とに交互に分極している様子を表し、（ｄ）は両端部より内側がＳ極とＮ極とに交互に分極している様子を表す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
〔実施形態１〕
図１は、本発明の実施形態１に係る蒸着装置１の概略構成を表す斜視図である。
【００２４】
図１に示すように、蒸着装置１は、蒸着源２と、レール３と、蒸着マスク１０と、基板トレイ２０とを備えている。
【００２５】
なお、図示しないが、蒸着装置１は、基板トレイ２０の移動制御、および、蒸着源２の蒸着制御を含め、蒸着装置１の駆動を制御する制御部を備えている。また、蒸着装置１は、蒸着源２と、蒸着マスク１０との間に、蒸着源２から射出された蒸着粒子を所定時間間隔で遮るシャッターおよび蒸着源２から射出された蒸着粒子のＹ軸方向への広がりを制限する制限板などを有していてもよい。このシャッターおよび制限板は公知のものを使用することができる。
【００２６】
蒸着源２と、蒸着マスク１０と、レール３とは、Ｚ軸方向に一定の間隔をもって配置されている。
【００２７】
レール３はＸ軸方向（相対移動方向と平行方向）に延伸している。レール３は、基板トレイ２０をＸ軸方向へ移動させるガイドである。レール３は蒸着装置１に固定されている。
【００２８】
蒸着源２は、内部に蒸着材料を収容する容器である。蒸着源２はレール３の下方（Ｚ軸マイナス方向）に配置されている。蒸着源２は、一例として、矩形状を有する。蒸着源２の上面（蒸着マスク１０との対向面）には、蒸着粒子を射出させる複数の射出口２ａ（貫通口、ノズル）が形成されている。射出口２ａは、Ｙ軸方向に一定ピッチで並んで配されている。
【００２９】
蒸着源２は、蒸着材料を加熱して蒸発（蒸着材料が液体材料である場合）または昇華（蒸着材料が固体材料である場合）させることで気体状の蒸着粒子を発生させる。蒸着源２は、このように気体にした蒸着材料を、蒸着粒子として、射出口２ａから蒸着マスク１０に向かって射出する。
【００３０】
なお、図１では、蒸着源２が複数の射出口２ａを有している場合を例に挙げて図示しているが、射出口２ａの数は特に限定されるものではなく、少なくとも１つ形成されていればよい。
【００３１】
また、射出口２ａは、図１に示すようにＹ軸方向に一次元状（すなわち、ライン状）に配列されていてもよく、二次元状（すなわち、面状（タイル状））に配列されていても構わない。
【００３２】
蒸着マスク１０は、蒸着源２と、レール３との間に配置されている。蒸着マスク１０は、取り外し可能なように蒸着装置１に固定されている。
【００３３】
蒸着マスク１０は、マスク端フレーム部１０ａ・１０ａと、マスク中央フレーム部１０ｂと、マスク本体部１０ｃ・１０ｃとを備えている。マスク端フレーム部１０ａ・１０ａはそれぞれ蒸着マスク１０のＹ軸方向に並ぶ両端であり、それぞれ、レール３の近傍に配置されている。マスク中央フレーム部１０ｂは蒸着マスク１０の中央部であり、マスク端フレーム部１０ａ・１０ａの間に配置されている。
【００３４】
一方のマスク本体部１０ｃの互いにＹ軸方向に対向する辺がマスク端フレーム部１０ａおよびマスク中央フレーム部１０ｂに接続され、他方のマスク本体部１０ｃのＹ軸方向に互いに対向する辺がマスク中央フレーム部１０ｂおよびマスク端フレーム部１０ａに接続されている。
【００３５】
マスク端フレーム部１０ａ・１０ａと、マスク中央フレーム部１０ｂと、マスク本体部１０ｃ・１０ｃとは一体として同じ材料によって形成されていてもよいし、それぞれ別の材料によって形成されていてもよい。例えば、マスク端フレーム部１０ａ・１０ａと、マスク中央フレーム部１０ｂと、マスク本体部１０ｃ・１０ｃとは、インバー材など、高温の熱を加えても変形し難い材料によって形成することができる。
【００３６】
マスク端フレーム部１０ａ・１０ａと、マスク中央フレーム部１０ｂとは、マスク本体部１０ｃ・１０ｃよりも厚く、蒸着マスク１０として剛性を高めている。
【００３７】
マスク中央フレーム部１０ｂの上面の中央部には、Ｘ軸方向に延伸する凹部１２が形成されている。凹部１２は、基板トレイ２０の桟２３を通過させるための凹部である。具体的な説明は後述する。
【００３８】
マスク本体部１０ｃ・１０ｃは、マスク端フレーム部１０ａ・１０ａおよびマスク中央フレーム部１０ｂよりも薄い。そして、マスク本体部１０ｃ・１０ｃには、被蒸着基板に蒸着するためのスリット１１ａが形成されており、高精度な蒸着膜の形成を可能としている。一例として、マスク本体部１０ｃ・１０ｃの厚みは３０μｍ程度である。
【００３９】
マスク本体部１０ｃ・１０ｃには、被成膜基板に形成された表示領域と対応する面積の蒸着領域１１が形成されている。蒸着領域１１には、被成膜基板における画素形成領域と同じ幅のスリット１１ａが形成されている。スリット１１ａは、蒸着時に蒸着粒子を通過させるためのマスク開口である。スリット１１ａは被成膜基板における目的とする蒸着領域以外の領域に蒸着粒子が付着しないように、被成膜基板における蒸着領域の一部のパターンに対応して設けられている。すなわち、スリット１１ａの位置は、赤色光を発光する有機ＥＬ層を蒸着する場合、赤色の画素形成領域の位置に対応しており、緑色光を発光する有機ＥＬ層を蒸着する場合、緑色の画素形成領域の位置に対応しており、青色光を発光する有機ＥＬ層を蒸着する場合、青色の画素形成領域の位置に対応している。
【００４０】
蒸着マスク１０として、例えば、ファインメタルマスク（Fine Metal Mask）などを用いることができる。
【００４１】
基板トレイ２０は、載置された被蒸着基板を、レール３に沿ってＸ軸方向に走査する。これにより、被蒸着基板を、蒸着マスク１０の上方を通過させる。すなわち、基板トレイ２０は、載置された被蒸着基板を、蒸着マスク１０に対して相対移動させる。これにより、蒸着装置１は、スキャン蒸着を行う。なお、蒸着装置１は、基板トレイ２０を固定し、蒸着マスク１０および蒸着源２をＸ軸方向に走査してもよい。
【００４２】
基板トレイ２０は、被蒸着基板が載置されることで接触する載置部２１・２１と、載置部２１・２１間に設けられた複数の遮蔽部２２と、遮蔽部２２間を接続する桟（棒状部材）２３とを備えている。
【００４３】
載置部２１・２１はそれぞれレール３上に配置されており、レール３上をレール３に沿ってスライドする。載置部２１・２１はＹ軸方向に並んで設けられており、被蒸着基板の対向する両辺近傍の縁と接触して、当該被蒸着基板を支持する。載置部２１・２１は、一例として、Ｙ軸方向に切った断面はＬ字型をしているが、この形状に限定されるものではない。
【００４４】
遮蔽部２２は、基板トレイ２０に載置された被蒸着基板における、表示領域と走査方向に平行方向に隣接する領域が蒸着されないように遮蔽する。遮蔽部２２の材料としては、例えば、インバー材、ニッケル、ポリイミド、ＳＵＳ、アルミニウム等を用いることができる。
【００４５】
遮蔽部２２は、Ｙ軸方向に並ぶ載置部２１・２１間を接続するように配置されている。すなわち、遮蔽部２２は、Ｙ軸方向に延伸しており、Ｙ軸方向に並ぶ載置部２１・２１間に張られている。遮蔽部２２は、Ｘ軸方向に並んで複数配置されている。
【００４６】
遮蔽部２２は、基板トレイ２０に被蒸着基板が載置された際、当該被蒸着基板の表示領域と重ならないように、すなわち、被蒸着基板における、表示領域と走査方向に平行方向に隣接する領域と重なる位置に配置されている。
【００４７】
桟２３は、複数の遮蔽部２２が弛まないように支持する棒状部材である。桟２３の材料としては、例えば、インバー材、ＳＵＳ、アルミニウム等を用いることができる。
【００４８】
桟２３は、Ｘ軸方向に並ぶ遮蔽部２２間を接続するように配置されている。
すなわち、桟２３は、Ｘ軸方向に延伸しており、Ｘ軸方向に並ぶ複数の遮蔽部２２における蒸着源２が配置されている側の面上および当該面間に跨って延伸している。桟２３は、載置部２１・２１間の中央部に配置されている。
【００４９】
桟２３は、基板トレイ２０に被蒸着基板が載置された際、当該被蒸着基板の表示領域と重ならないように、すなわち、当該被蒸着基板の表示領域に対し走査方向と直交方向に隣接する領域と重なる位置に配置されている。
【００５０】
なお、桟２３は、本実施の形態では１本だけ配置する構成を記載しているが、桟２３は複数本配置されていてもよい。桟２３を複数本配置する場合も、各桟２３を、被蒸着基板の表示領域に対し走査方向と直交方向に隣接する領域と重なる位置に配置する。
【００５１】
また、桟２３を複数本配置する場合は、蒸着マスク１０にも、各桟２３に対応する位置に凹部１２を複数設けた方がよい。
【００５２】
図２は、基板トレイ２０に載置される被蒸着基板３０の被蒸着面３０ａを表す図である。
【００５３】
被蒸着基板３０のうち、被蒸着面３０ａは、ガラス基板上に、各画素を駆動させるためのＴＦＴ素子、層間絶縁膜、エッジカバーなどが形成された側の面であり、裏面３０ｂは、上記ガラス基板の反対側面（ＴＦＴ素子などが形成されていない側の面）である。
【００５４】
表示領域３１は、被蒸着基板３０の被蒸着面３０ａにマトリクス状に形成されている。すなわち、表示領域３１は、Ｘ軸方向（相対移動方向に対する平行方向）、および、Ｙ軸方向に（相対移動方向に対する直交方向）に離間して並んで形成されている。
【００５５】
表示領域３１に対しＸ軸方向（相対移動方向と平行方向）に隣接する領域３０ｃには、図示しないが、各画素の駆動を制御するための各種配線および端子などの蒸着粒子が付着すると不良となる回路部品が配置されていてもよい。各表示領域３１は、必要な膜などが成膜されたあと、個片化されて有機ＥＬ表示装置となる。
【００５６】
図３は、被蒸着基板３０の表示領域３１を拡大して概略を表す図である。表示領域３１には、画素形成領域３２Ｒ・３２Ｇ・３２Ｂがマトリクス状に形成されている。画素形成領域３２Ｒ・３２Ｇ・３２Ｂは、エッジカバー３５で周囲を囲まれた凹部である。当該凹部である、画素形成領域３２Ｒには赤色光を発光する有機ＥＬ層が蒸着され、画素形成領域３２Ｇには緑色光を発光する有機ＥＬ層が蒸着され、画素形成領域３２Ｂには青色光を発光する有機ＥＬ層が蒸着されることで、それぞれ、赤色を発光する画素、緑色を発光する画素、および青色を発光する画素が構成される。
【００５７】
被蒸着基板３０によって形成される有機ＥＬ表示装置の画素配列は、同じ発光色の画素が走査方向に一列に並ぶ、いわゆるストライプ配列である。
【００５８】
複数の画素形成領域３２Ｒが走査方向（図３の紙面上から下へ向かう方向）に並んで列をなす画素形成領域列３３Ｒと、複数の画素形成領域３２Ｇが走査方向に並んで列をなす画素形成領域列３３Ｇと、複数の画素形成領域３２Ｂが走査方向に並んで列をなす画素形成領域列３３Ｂとが形成されている。
【００５９】
なお、赤色光、緑色光、および青色光を発光する有機ＥＬ層を含む画素以外に、他の色の光を発光する有機ＥＬ層を含む画素を設けてもよい。また、カラーフィルタを用いてフルカラー画像を表示する場合は、画素形成領域３２Ｒ・３２Ｇ・３２Ｂのそれぞれに、白色光を発光する有機ＥＬ層を蒸着してもよい。
【００６０】
図４は、蒸着装置１に被蒸着基板３０を載置した様子を表す斜視図である。
【００６１】
図４に示すように、作業者またはロボットが、被蒸着基板３０を基板トレイ２０に、被蒸着面３０ａを蒸着源２側（Ｚ軸マイナス方向）に向けて載置する。
【００６２】
このとき、基板トレイ２０の載置部２１・２１は、被蒸着基板３０の対向する両辺近傍の被蒸着面３０ａの縁と接触して被蒸着基板３０を支持する。
【００６３】
基板トレイ２０の遮蔽部２２は、被蒸着面３０ａにおける、表示領域３１を覆わず、表示領域３１に対しＸ軸方向に隣接する領域３０ｃ（図２参照）を覆っている。
【００６４】
桟２３は、被蒸着面３０ａにおける、表示領域３１を覆わず、表示領域３１に対しＹ軸方向に隣接する領域３０ｄ（図２参照）を覆っている。
【００６５】
図２０は、本発明の実施形態１に係る桟をＹ軸方向に切った断面を表し、（ａ）は当該断面が四角形である場合を表す図であり、（ｂ）は当該断面においてマスク側面の幅が広くなった形状である場合を表す図である。桟２３は、Ｙ軸方向に切った断面は、図２０の（ａ）に示すように長方形状であってもよいし、正方形であってよい。さらに、桟２３は、図２０の（ｂ）に示す桟２３Ａのような形状であってもよい。桟２３Ａは、遮蔽部側面２３Ａａ（遮蔽部２２と接触する側の面、上面）と、マスク側面２３Ａｂ（蒸着マスク１０に近い側の面、下面）とのうち、マスク側面２３Ａｂの方が幅（Ｙ軸方向の距離）が広い形状である。
【００６６】
図５は、蒸着装置１に載置した被蒸着基板３０に蒸着をしている様子を表す斜視図である。図６は、図５の蒸着装置１をＹ軸方向に切った断面を表す図である。図７は、図５の蒸着装置１をＸ軸方向に切った断面を表す図である。図８は、図５に示す蒸着装置１の蒸着マスクおよび基板トレイ２０を、Ｚ軸マイナス方向からプラス方向へ見た平面図である。
【００６７】
図５〜図８に示すように、基板トレイ２０を走査方向（矢印Ｘ１に示す方向）に走査することで、被蒸着基板３０を、蒸着マスク１０の上方を走査させる（第１ステップ）。また、蒸着源２の射出口２ａから蒸着粒子４０を射出する（第２ステップ）。この蒸着粒子４０は、蒸着マスク１０のスリット１１ａを通過する。
【００６８】
そして、基板トレイ２０が走査されて、遮蔽部２２間の領域が蒸着マスク１０のスリット１１ａ（図４参照）の上方に来ると、蒸着マスク１０のスリット１１ａを通過した蒸着粒子４０は、被蒸着基板３０の被蒸着面３０ａにおける所定の領域（図３に示した、画素形成領域列３３Ｒの領域、画素形成領域列３３Ｇの領域、または、画素形成領域列３３Ｂの領域）に蒸着される。
【００６９】
また、遮蔽部２２が蒸着マスク１０のスリット１１ａの上方に来ると、蒸着マスク１０のスリット１１ａを通過した蒸着粒子４０は、遮蔽部２２に付着する。すなわち、遮蔽部２２は、被蒸着面３０ａにおける、表示領域３１に対しＸ軸方向に隣接する領域３０ｃを、蒸着粒子４０から遮蔽する。
【００７０】
これにより、スキャン蒸着をしても、被蒸着面３０ａにおける、表示領域３１に対しＸ軸方向に隣接する領域３０ｃにまで蒸着粒子４０が蒸着されてしまうことを防止している。
【００７１】
桟２３は、被蒸着面３０ａのうち、表示領域３１を覆わず、表示領域３１に対しＹ軸方向に隣接する領域を覆っている。このため、表示領域３１に蒸着すべき蒸着粒子４０が、桟２３によって遮蔽されてしまうことはない。
【００７２】
また、桟２３は、被蒸着面３０ａのうち、表示領域３１に対しＹ軸方向に隣接する領域を覆っているため、蒸着マスク１０で遮蔽していることに加え、当該領域に蒸着粒子４０が蒸着されてしまうことを、より確実に防止することができる。
【００７３】
桟２３は凹部１２の底面から所定の距離を保って、凹部１２内に進入し、凹部１２内を通過する。これにより、スキャン蒸着をしている際に、桟２３と蒸着マスク１０とが接触してしまうことを防止することができる。
【００７４】
よって、基板トレイ２０に桟２３を設けたとしても、被蒸着基板３０と蒸着マスク１０との距離を短くすることができる。これにより、精度良く、蒸着粒子４０を被蒸着面３０ａに蒸着することができる。
【００７５】
図９は、蒸着装置１によって蒸着された被蒸着基板３０の被蒸着面３０ａを表す平面図である。図９に示すように、一例として、蒸着粒子４０（図５等参照）として、赤色光を発光する有機ＥＬ層４０Ｒが、各表示領域３１における画素形成領域列３３Ｒに蒸着されている。そして、表示領域３１に対しＸ軸方向に隣接する領域３０ｃは、遮蔽部２２で覆われていたため有機ＥＬ層４０Ｒが蒸着されていない。
【００７６】
このため、被蒸着基板３０の被蒸着面３０ａにおいて、表示領域３１に対しＸ軸方向に隣接する領域３０ｃにも、端子など有機ＥＬ層が付着すると不良となる回路部品を配置することができる。
【００７７】
したがって、従来のスキャン蒸着方式を採用する蒸着装置を用いて蒸着する場合と比べて、蒸着装置１を用いて蒸着した方が、被蒸着基板３０における、設計上の自由度を向上させることができる。換言すると、蒸着装置１によると、スキャン蒸着をしても設計上の自由度が制限されることを防止することができる。
【００７８】
また、被蒸着面３０ａのうち、表示領域３１に対しＹ軸方向に隣接する領域は、桟２３が覆っていたため、当該領域に蒸着粒子４０が蒸着されてしまうこともない。
【００７９】
図１０は、被蒸着基板３０を用いて製造された有機ＥＬ表示装置５０の構成を表す断面図である。
【００８０】
被蒸着基板３０は、ガラス基板３６と、ＴＦＴ素子３７と、層間絶縁膜３８と、下部電極３９と、エッジカバー３５とを少なくとも有する。
【００８１】
ＴＦＴ素子３７は、ガラス基板３６上に各種の機能膜を積層したあと、ガラス基板３６上に当該機能膜を介在させて各画素毎に形成されている。ＴＦＴ素子３７は各画素を駆動させる。
【００８２】
層間絶縁膜３８は、ＴＦＴ素子３７を覆いガラス基板３６の全面に積層されている。層間絶縁膜３８におけるＴＦＴ素子３７上にコンタクトホールが形成されている。層間絶縁膜３８は、アクリルやポリイミドなどの感光性樹脂などからなる有機材料を塗布し、フォトリソグラフィなどによってパターン形成することができる。
【００８３】
下部電極３９は層間絶縁膜３８上であって画素形成領域３２Ｒ・３２Ｇ・３２Ｂ内に形成されている。下部電極３９は、層間絶縁膜３８に形成された上記コンタクトホールを通じて、ＴＦＴ素子３７と接続されている。
【００８４】
エッジカバー３５は、層間絶縁膜３８上に形成されており、下部電極３９の縁を囲っている。エッジカバー３５が囲む領域が、画素形成領域３２Ｒ・３２Ｇ・３２Ｂである。すなわち、エッジカバー３５は、画素形成領域３２Ｒ・３２Ｇ・３２Ｂの周囲を囲っている。さらに換言すると、画素形成領域３２Ｒ・３２Ｇ・３２Ｂはエッジカバー３５に形成された凹部である。
【００８５】
エッジカバー３５は、下部電極３９の縁が、電極集中や有機ＥＬ層が薄くなって上部電極と短絡することを防止する。また、エッジカバー３５を設けることによって、下部電極３９の縁における電界集中を防ぐ。これにより、有機ＥＬ層の劣化を防止する。
【００８６】
このような被蒸着基板３０に、蒸着装置１を用いて、赤色光を発光する有機ＥＬ層４０Ｒを画素形成領域３２Ｒに蒸着することで形成し、緑色光を発光する有機ＥＬ層４０Ｇを画素形成領域３２Ｇに蒸着することで形成し、青色光を発光する有機ＥＬ層４０Ｂを画素形成領域３２Ｂに蒸着することで形成する。
【００８７】
なお、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層等を、有機ＥＬ層４０Ｒ・４０Ｇ・４０Ｂの上層または下層に、適宜形成してもよい。また、一つの層が複数の機能を有していてもよい。例えば、正孔注入層および正孔輸送層に代えて、これら両層の機能を有する正孔注入層兼正孔輸送層を形成してもよい。また、電子注入層および電子輸送層に代えて、これら両層の機能を有する電子注入層兼電子輸送層を形成してもよい。また、各層の間に、適宜、キャリアブロッキング層が設けられていてもよい。
【００８８】
次に、有機ＥＬ層４０Ｒ・４０Ｇ・４０Ｂおよびエッジカバー３５を覆う全面に、上部電極５１を形成する。
【００８９】
これにより、有機ＥＬ層４０Ｒ・４０Ｇ・４０Ｂを含む各画素が構成される。なお、上部電極５１は画素毎に島状に形成してもよい。
【００９０】
そして、上部電極５１の全面を覆い封止層５２を形成する。封止層５２は、例えば、無機膜と、有機膜と、無機膜とを順に積層した３層構造であってもよいし、無機層と有機層とを４層以上積層して形成してもよい。
【００９１】
封止層５２によって、平坦化されると共に、有機ＥＬ層４０Ｒ・４０Ｇ・４０Ｂが封止されることで、外部から浸入した水分や酸素によって有機ＥＬ層４０Ｒ・４０Ｇ・４０Ｂが劣化するのを防止することができる。
【００９２】
次に、封止層５２上に接着層５３を形成し、当該接着層５３を介在させて、封止層５２上に透明フィルム５４を貼り付ける。これにより、有機ＥＬ表示装置５０が完成する。なお、透明フィルム５４に換えて、または、透明フィルム５４上にタッチパネルを貼り合せてもよい。
【００９３】
このように有機ＥＬ表示装置５０の製造方法は、蒸着装置１によって、画素形成領域３２Ｒ・３２Ｇ・３２Ｂに蒸着粒子４０を蒸着することで有機ＥＬ層４０Ｒ・４０Ｇ・４０Ｂを含む画素を形成する工程を含んでいる。このため、スキャン蒸着を行っても設計上の自由度が制限されてしまうことが防止された被蒸着基板３０から有機ＥＬ表示装置５０を製造することができる。
【００９４】
〔実施形態２〕
本発明の実施形態２について、図１１〜図１３に基づいて説明すれば、以下のとおりである。なお、説明の便宜上、実施形態１にて説明した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付記し、その説明を省略する。
【００９５】
図１１は、本発明の実施形態２に係る蒸着装置が備える蒸着マスクの構成を表す斜視図である。図１２は本発明の実施形態２に係る蒸着装置において被蒸着基板が蒸着マスク上を通過しているときのＸ軸方向に切った要部断面図である。図１３は、本発明の実施形態２に係る蒸着装置において被蒸着基板が蒸着マスク上を通過しているときのＹ軸方向に切った要部断面図である。
【００９６】
図１１に示すように、蒸着装置１（図４等参照）は、蒸着マスク１０に換えて、蒸着マスク１０Ａを備えていてもよい。
【００９７】
蒸着マスク１０Ａは、蒸着マスク１０（図４等参照）から、マスク中央フレーム部１０ｂに換えて、コロ部材１５が配置されたマスク中央フレーム部１０ｂＡを備えている点で相違する。蒸着マスク１０Ａの他の構成は蒸着マスク１０と同様である。
【００９８】
図１１に示すように、マスク中央フレーム部１０ｂＡの凹部１２の底面には、Ｘ軸方向に延伸する溝１２ａが形成されている。コロ部材１５は、溝１２ａに一部が挿入されて、Ｘ軸方向に間隔をあけて並んで配置されている。
【００９９】
図１２および図１３に示すように、溝１２ａ内には、溝１２ａの側面同士を繋ぐ軸１６がＸ軸方向に間隔をあけて並んで配置されている。コロ部材１５は、軸１６を回転軸として一部が溝１２ａ内、他の部分が溝１２ａから露出して（凹部１２の底面から露出して）配置されている。
【０１００】
基板トレイ２０（図４等参照）に載置された被蒸着基板３０をＸ軸方向に走査させると、コロ部材１５は桟２３の下面と接触することで、図１３の矢印θＸに示すように、軸１６を回転軸として回転する。
【０１０１】
このように、スキャン蒸着をしている際、桟２３とコロ部材１５とが接触し、コロ部材１５が回転するため、スムーズに、桟２３を、凹部１２内を通過させることができる。
【０１０２】
また、コロ部材１５は、凹部１２の延伸方向（Ｘ軸方向）に沿って複数配置されているため、スキャン蒸着をしている際に、桟２３と、凹部１２の底面との距離ＤＡを一定に保つことできる。このため、桟２３と、凹部１２の底面とが接触してしまうことを防止することができる。
【０１０３】
なお、コロ部材１５は、複数個配置されていなくてもよく、凹部１２の底面に１つだけ配置されていてもよい。また、図１１〜図１３に示したコロ部材１５の形状は一例であり、コロ部材１５が桟２３と接触した時に、桟２３の進行方向に伴い回転する形状であればよい。例えば、コロ部材１５を円板状ではなく球形状にするなど別の形状にしてもよい。
【０１０４】
〔実施形態３〕
本発明の実施形態３について、図１４〜図１６に基づいて説明すれば、以下のとおりである。なお、説明の便宜上、実施形態１、２にて説明した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付記し、その説明を省略する。
【０１０５】
図１４は、本発明の実施形態３に係る蒸着装置が備える蒸着マスクの構成を表す斜視図である。図１５は本発明の実施形態３に係る蒸着装置において被蒸着基板が蒸着マスク上を通過しているときのＸ軸方向に切った要部断面図である。図１６は、本発明の実施形態３に係る蒸着装置において被蒸着基板が蒸着マスク上を通過しているときのＹ軸方向に切った要部断面図である。
【０１０６】
図１４に示すように、蒸着装置１（図５等参照）は、蒸着マスク１０に換えて、蒸着マスク１０Ｂを備えていてもよい。
【０１０７】
蒸着マスク１０Ｂは、蒸着マスク１０（図４等参照）から、マスク中央フレーム部１０ｂに換えて、距離を計測するセンサ１７が配置されたマスク中央フレーム部１０ｂＢを備えている点で相違する。蒸着マスク１０Ｂの他の構成は蒸着マスク１０と同様である。
【０１０８】
図１４に示すように、マスク中央フレーム部１０ｂＢの凹部１２の底面には、距離を計測するセンサがＸ軸方向に所定間隔をあけて並んで配置されている。
【０１０９】
図１５および図１６に示すように、基板トレイ２０（図４等参照）に載置された被蒸着基板３０をＸ軸方向に走査させて、桟２３が凹部１２に進入すると、センサ１７は、センサ１７から桟２３の下面までの距離を計測する。そして、センサ１７は、センサ１７の厚み分を加えて、凹部１２の底面から桟２３までの距離ＤＢを計測する。
【０１１０】
このように、センサ１７によって、凹部１２内を通過する桟２３と、凹部１２の底面との距離ＤＢを把握することができる。これにより、桟２３と、凹部１２の底面とが接触してしまうことを防止することができる。
【０１１１】
このセンサ１７が計測した、桟２３と凹部１２の底面との距離ＤＢは、例えば、図示しない表示装置に表示させてもよい。また、センサ１７が計測した、桟２３と凹部１２の底面との距離ＤＢが所定値未満であれば、図示しない制御部は被蒸着基板３０の走査を停止するようにしてもよい。
【０１１２】
なお、センサ１７の個数は特に限定されるものではなく、１つ、または３個以上であってもよい。
【０１１３】
〔実施形態４〕
本発明の実施形態４について、主に、図２１に基づいて説明すれば、以下のとおりである。なお、説明の便宜上、実施形態１〜３にて説明した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付記し、その説明を省略する。
【０１１４】
図２１は、本発明の実施形態４に係る桟の様子を表す側面図であり、（ａ）は桟の両端部が分極している様子を表し、（ｂ）は両端部より内側が分極している様子を表し、（ｃ）は両端部間がＳ極とＮ極とに交互に分極している様子を表し、（ｄ）は両端部より内側がＳ極とＮ極とに交互に分極している様子を表す図である。
【０１１５】
桟２３（図４等参照）は、図２１の桟２３Ｂ〜２３Ｅに示すように、磁性体又は磁石からなる部分を含むことで、Ｓ極及びＮ極に、部分的に、又は、全体的に分極していてもよい。
【０１１６】
桟２３Ｂ〜２３Ｅそれぞれにおいて、延伸方向に対向する両端を、第１端２３ａ及び第２端２３ｂと称する。
【０１１７】
図２１の（ａ）に示す桟２３Ｂは、第１端２３ａを含む領域がＮ極に分極した第１領域（分極領域）６０Ｎとなっており、第２端２３ｂを含む領域がＳ極に分極した第２領域（分極領域）６０Ｓとなっており、Ｎ極領域６０ＮとＳ極領域６０Ｓとの間は分極していない第３領域６１となっている。これにより、蒸着マスク１０のうち、特にマスク中央フレーム部１０ｂがインバー材から形成されている場合、マスク中央フレーム部１０ｂと、第１領域６０Ｎ及び第２領域６０Ｓとが、磁力により引かれあう。これにより、蒸着マスク１０と、桟２３との距離を小さくすることができ、蒸着ボケを防止することができる。すなわち、精度よく蒸着することができる。
【０１１８】
分極している第１領域６０Ｎ及び第２領域６０Ｓは、磁性体又は磁石で形成してもよいし、磁石を内部に配置して当該磁石の外側をインバー材等で覆う構成であってもよい。
【０１１９】
また、図２１の（ｂ）に示す桟２３Ｃのように、第１領域６０Ｎを第１端２３ａから所定距離内側に配置することで第１領域６０Ｎから第１端２３ａまでを第３領域６１とし、第２領域６０Ｓを第２端２３ｂから所定距離内側に配置することで第２領域６０Ｓから第２端２３ｂまでを第３領域６１とし、第１領域６０Ｎから第２領域６０Ｓまでを第３領域６１とする構成であってもよい。
【０１２０】
また、図２１の（ｃ）に示す桟２３Ｄのように、第１端２３ａから第２端２３ｂにかけて、第１領域６０Ｎと第２領域６０Ｓとが交互に配置されており、第３領域６１が配置されていない構成であってもよい。
【０１２１】
また、図２１の（ｄ）に示す桟２３Ｅのように、第１領域６０Ｎと第２領域６０Ｓとが交互に配置されており、一番外側の第１領域６０Ｎと第１端２３ａとの間が第３領域６１となっており、一番外側の第２領域６０Ｓと第２端２３ｂとの間が第３領域６１となっている構成であってもよい。
【０１２２】
さらに、蒸着装置１（図４等参照）は、桟２３を、図２１に示した桟２３Ｂ〜２３Ｅの何れかに変更し、さらに、蒸着マスク１０を、図１１〜図１３に示した蒸着マスク１０Ａ又は、図１４〜図１６に示した蒸着マスク１０Ｂに変更してもよい。
【０１２３】
また、第１領域６０Ｎ及び第２領域６０Ｓを電磁石で形成する場合、蒸着マスク１０の凹部１２内に、桟２３が進入したか否かを検出する進入検出センサを設けておいてもよい。これにより、例えば、桟２３Ｃが凹部１２に進入する前は桟２３Ｃを分極させず、進入検出センサが凹部１２に桟２３Ｃが進入したことを検出した後、すなわち、桟２３Ｃが凹部１２に進入した後、桟２３Ｃに第１領域６０Ｎ及び第２領域６０Ｓを形成することができる。この結果、桟２３Ｃが凹部１２に進入する際の磁力により、桟２３Ｃと蒸着マスク１０とが衝突してしまうことを防止することができる。
【０１２４】
〔まとめ〕
本発明は以上のように、蒸着装置１は、蒸着マスク１０と、上記蒸着マスク１０に向けて蒸着粒子４０を射出する蒸着源２と、被蒸着基板３０が載置され、当該被蒸着基板３０を上記蒸着マスク１０に対して相対移動させる基板トレイ２０とを備え、上記被蒸着基板３０の被蒸着面３０ａには、上記蒸着粒子４０が蒸着される画素形成領域３２Ｒ・３２Ｇ・３２Ｂがマトリクス状に形成された表示領域３１が、上記相対移動方向と平行方向（Ｘ軸方向）に離間して並んで形成されており、上記基板トレイ２０は、上記表示領域３１に対し上記相対移動方向と平行方向（Ｘ軸方向）に隣接する領域３０ｃを、上記蒸着粒子４０から遮蔽する遮蔽部２２を有することを特徴とする。
【０１２５】
上記構成によると、上記基板トレイは、載置された上記被蒸着基板を上記蒸着マスクに対して相対移動させるため、スキャン蒸着を行うことができる。
【０１２６】
そして、上記基板トレイは、上記被蒸着基板の被蒸着面における、上記表示領域に対し上記相対移動方向と平行方向（Ｘ軸方向）に隣接する領域３０ｃを、上記蒸着粒子４０から遮蔽する遮蔽部２２を有する。
【０１２７】
これにより、スキャン蒸着をしても、上記被蒸着基板の被蒸着面における、上記表示領域に対し上記相対移動方向と平行方向（Ｘ軸方向）に隣接する領域にまで蒸着粒子が蒸着されてしまうことを防止することができる。
【０１２８】
このため、上記被蒸着基板の被蒸着面における、上記表示領域に対し上記相対移動方向と平行方向（Ｘ軸方向）に隣接する領域にも、蒸着粒子が付着すると不良となる回路部品を配置することができる。
【０１２９】
したがって、スキャン蒸着を行っても、被蒸着基板の設計上の自由度が制限されてしまうことを防止することができる。
【０１３０】
本発明の態様２に係る蒸着装置１は、上記態様１において、上記遮蔽部２２は、上記被蒸着面３０ａのうち、上記表示領域３１に対し上記相対移動方向と平行方向（Ｘ軸方向）に隣接する領域３０ｃを覆うことが好ましい。
【０１３１】
上記構成により、上記遮蔽部は、上記被蒸着基板のうち、上記表示領域に対し上記相対移動方向と平行方向に隣接する領域を上記蒸着粒子から遮蔽することができる。
【０１３２】
本発明の態様３に係る蒸着装置１は、上記態様１又は２において、上記遮蔽部２２は、上記被蒸着基板３０の上記相対移動方向と平行方向（Ｘ軸方向）に、複数並んで配置されており、上記基板トレイ２０は、さらに、上記複数の遮蔽部２２同士を接続する棒状部材（桟２３）を備えていてもよい。
【０１３３】
上記構成によると、上記複数の遮蔽部が撓むことを防止することができる。これにより、上記複数の遮蔽部と、上記蒸着マスクとが接触してしまうことを防止することができる。
【０１３４】
本発明の態様４に係る蒸着装置１は、上記態様３において、上記棒状部材（桟２３）は、上記被蒸着面３０ａのうち、上記表示領域３１に対し上記相対移動方向と直交方向（Ｙ軸方向）に隣接する領域を覆ってもよい。
【０１３５】
上記構成によると、上記表示領域に蒸着すべき蒸着粒子が、上記棒状部材によって遮蔽されてしまうことを防止することができる。また、上記被蒸着面のうち、上記表示領域に対し上記相対移動方向と直交方向に隣接する領域は、上記棒状部材が覆っているため、当該領域に上記蒸着粒子が蒸着されてしまうことをより確実に防止することができる。
【０１３６】
本発明の態様５に係る蒸着装置１は、上記態様３又は４において、上記蒸着マスク１０には、上記被蒸着基板３０を上記相対移動させたときに上記棒状部材（桟２３）が進入して通過する凹部１２が形成されていてもよい。
【０１３７】
上記構成によると、スキャン蒸着をしている際に、上記棒状部材と上記蒸着マスクとが接触してしまうことを防止することができる。よって、上記基板トレイに上記棒状部材を設けたとしても、上記被蒸着基板と上記蒸着マスクとの距離を短くすることができる。これにより、精度良く、蒸着粒子を上記被蒸着面に蒸着することができる。
【０１３８】
本発明の態様６に係る蒸着装置１は、上記態様４において、上記蒸着マスク１０Ａの上記凹部１２の底面には、上記被蒸着基板３０を上記相対移動させているときに上記棒状部材（桟２３）と接触することで回転するコロ部材１５が配置されていてもよい。
【０１３９】
上記構成によると、スキャン蒸着をしている際、上記棒状部材と上記コロ部材とが接触し、当該コロ部材が回転するため、スムーズに、上記棒状部材を、上記凹部内を通過させることができる。また、上記コロ部材によって、上記棒状部材と、上記凹部の底面との距離を一定に保つことできるため、上記棒状部材と、上記凹部の底面とが接触してしまうことを防止することができる。
【０１４０】
本発明の態様７に係る蒸着装置１は、上記態様４において、上記蒸着マスク１０の凹部１２の底面には、上記被蒸着基板３０を上記相対移動させているときに上記棒状部材（桟２３）と、上記蒸着マスク１０の凹部１２の底面との距離を計測するセンサ１７が配置されていてもよい。
【０１４１】
上記構成によると、上記センサによって、上記凹部内を通過する上記棒状部材と、当該凹部の底面との距離を把握することができる。これにより、上記棒状部材と、上記凹部の底面とが接触してしまうことを防止することができる。
【０１４２】
本発明の態様８に係る蒸着装置１は、上記態様３〜６において、上記棒状部材（桟２３Ｂ〜２３Ｅ）は、分極している分極領域（第１領域６０Ｎ・第２領域６０Ｓ）を含んでもよい。上記構成によると、上記棒状部材と、上記蒸着マスクとが磁力により引かれあう。これにより、上記蒸着マスクと、上記棒状部材との距離を小さくすることができ、蒸着ボケを防止することができる。すなわち、精度よく蒸着することができる。
【０１４３】
本発明の態様９に係る蒸着装置１は、上記態様８において、上記棒状部材は、上記蒸着マスクの凹部に進入した後、上記分極領域が形成されてもよい。上記構成によると、上記蒸着マスクが上記凹部に進入する際、磁力によって上記蒸着マスクと上記棒状部材とが衝突してしまうことを防止することができる。
【０１４４】
本発明の態様１０に係る有機ＥＬ表示装置５０の製造方法は、被蒸着基板３０が載置された基板トレイ２０を、蒸着マスク１０に対して相対移動させる第１ステップと、蒸着源２から上記蒸着マスク１０に向けて蒸着粒子４０を射出する第２ステップとを含み、上記被蒸着基板３０の被蒸着面３０ａには、上記蒸着粒子４０が蒸着される画素形成領域３２Ｒ・３２Ｇ・３２Ｂがマトリクス状に形成された表示領域３１が、上記相対移動方向と平行方向（Ｘ軸方向）に離間して並んで形成されており、上記第１ステップ及び上記第２ステップにおいて、上記表示領域に対し上記相対移動方向と平行方向に隣接する領域３０ｃを、上記蒸着粒子４０から遮蔽して、上記画素形成領域３２Ｒ・３２Ｇ・３２Ｂに上記蒸着粒子４０を蒸着することで、有機ＥＬ層４０Ｒ・４０Ｇ・４０Ｂを形成することを特徴とする。
【０１４５】
上記構成により、スキャン蒸着を行っても設計上の自由度が制限されてしまうことが防止された被蒸着基板から有機ＥＬ表示装置を製造することができる。
【０１４６】
本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。さらに、各実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を組み合わせることにより、新しい技術的特徴を形成することができる。
【符号の説明】
【０１４７】
１  蒸着装置
２  蒸着源
３  レール
１０・１０Ａ・１０Ｂ  蒸着マスク
１０ａ  マスク端フレーム部
１０ｂ・１０ｂＡ・１０ｂＢ  マスク中央フレーム部
１０ｃ  マスク本体部
１１ａ  スリット
１１  蒸着領域
１２  凹部
１５  コロ部材
１７  センサ
２０  基板トレイ
２２  遮蔽部
２３  桟（棒状部材）
３０  被蒸着基板
３０ａ  被蒸着面
３０ｃ  表示領域に隣接する領域
３１  表示領域
３２Ｒ・３２Ｇ・３２Ｂ  画素形成領域
３３Ｂ・３３Ｇ・３３Ｒ  画素形成領域列
３５  エッジカバー
４０  蒸着粒子
４０Ｒ・４０Ｇ・４０Ｂ  有機ＥＬ層
５０  有機ＥＬ表示装置
【図１】
0006653025.tif 000002
【図２】
0006653025.tif 000003
【図３】
0006653025.tif 000004
【図４】
0006653025.tif 000005
【図５】
0006653025.tif 000006
【図６】
0006653025.tif 000007
【図７】
0006653025.tif 000008
【図８】
0006653025.tif 000009
【図９】
0006653025.tif 000010
【図１０】
0006653025.tif 000011
【図１１】
0006653025.tif 000012
【図１２】
0006653025.tif 000013
【図１３】
0006653025.tif 000014
【図１４】
0006653025.tif 000015
【図１５】
0006653025.tif 000016
【図１６】
0006653025.tif 000017
【図１７】
0006653025.tif 000018
【図１８】
0006653025.tif 000019
【図１９】
0006653025.tif 000020
【図２０】
0006653025.tif 000021
【図２１】
0006653025.tif 000022