(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材の少なくとも一方の面に潜像が形成され、クロスニコル配置された一対の偏光板の間に配置されることにより前記潜像が可視化される潜像形成体であって、
光配向性基を有する重合体［Ｐ］を含む重合体組成物を用いて前記基材上に形成された配向層と、前記配向層上に重合性液晶を塗布及び硬化して形成された液晶層とを備え、
前記重合体［Ｐ］は、前記光配向性基を有するポリオルガノシロキサンであり、
前記重合体組成物は、さらに、重合性炭素−炭素不飽和結合を有する単量体を重合して得られる重合体であってかつ光配向性基を有さない重合体［Ｑ］を含む、潜像形成体。
【請求項２】
前記重合体［Ｐ］は、重合性炭素−炭素不飽和結合を含む基と前記光配向性基とを有するポリオルガノシロキサンである、請求項１に記載の潜像形成体。
【請求項３】
前記重合体［Ｑ］は、アクリロイル基を有する重合体である、請求項１又は２に記載の潜像形成体。
【請求項４】
前記光配向性基が桂皮酸構造を含む基である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の潜像形成体。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の潜像形成体と、一対の偏光板と、を備える潜像形成体セット。
【請求項６】
基材の少なくとも一方の面に潜像が形成され、クロスニコル配置された一対の偏光板の間に配置されることにより前記潜像が可視化される潜像形成体の製造方法であって、
光配向性基を有する重合体［Ｐ］を含む重合体組成物を前記基材上に塗布して塗膜を形成する工程と、所定の図柄を有するマスクを介して前記塗膜に偏光放射線を照射する工程と、前記偏光放射線の照射後の塗膜上に重合性液晶を塗布及び硬化して液晶層を形成する工程と、を含み、
前記マスクは、透過部と遮光部とを有し、前記透過部及び前記遮光部のうち一方が前記図柄の部分であり、他方が前記図柄以外の部分であり、
前記重合体［Ｐ］は、重合性炭素−炭素不飽和結合を含む基と前記光配向性基とを有するポリオルガノシロキサンである、潜像形成体の製造方法。
【請求項７】
基材の少なくとも一方の面に潜像が形成され、クロスニコル配置された一対の偏光板の間に配置されることにより前記潜像が可視化される潜像形成体の製造方法であって、
光配向性基を有する重合体［Ｐ］を含む重合体組成物を前記基材上に塗布して塗膜を形成する工程と、所定の図柄を有するマスクを介して前記塗膜に偏光放射線を照射する工程と、前記偏光放射線の照射後の塗膜上に重合性液晶を塗布及び硬化して液晶層を形成する工程と、を含み、
前記マスクは、透過部と遮光部とを有し、前記透過部及び前記遮光部のうち一方が前記図柄の部分であり、他方が前記図柄以外の部分であり、
前記重合体［Ｐ］は、前記光配向性基を有するポリオルガノシロキサンであり、
前記重合体組成物は、さらに、重合性炭素−炭素不飽和結合を有する単量体を重合して得られる重合体であってかつ光配向性基を有さない重合体［Ｑ］を含む、潜像形成体の製造方法。
【請求項８】
前記マスクを介して前記塗膜に偏光放射線を照射する前に、該偏光放射線とは異なる偏光方向の偏光放射線を前記塗膜に照射する工程をさらに含む、請求項６又は７に記載の潜像形成体の製造方法。
【請求項９】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の潜像形成体を、クロスニコル配置された一対の偏光板の間に配置して潜像を可視化する工程を含む画像表示方法。
【請求項１０】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の潜像形成体を用いた装飾用積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、潜像形成体、潜像形成体セット、潜像形成体の製造方法、画像表示方法及び装飾用積層体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、偏光板が持つ特性を利用して、基材上の画像や色彩などを変化させることが行われている（例えば特許文献１〜３参照）。特許文献１には、蛇腹状組み立て体を構成する複数の矩形状の部材の側面に偏光プレート及び帯状偏光シートを配置し、該組み立て体を折りたたんだ状態から展開した状態に移行させることにより色彩を変化させることが開示されている。また、特許文献２には、偏光フィルム上に高分子液晶層を設け、更に偏光フィルムを積層したシートを加熱することで、高分子液晶層に画像を形成することが開示されている。
【０００３】
特許文献３には、偽造防止に有用なフィルムとして、反射層と、該反射層の上に積層され、ねじれネマチック配向構造となるように固定化された液晶分子を含有する偏光変換回転層と、を備える潜像形成フィルムが開示されている。特許文献３の偏光変換回転層は、液晶材料を含有する溶液を配向基板上に塗布して、液晶状態においてねじれネマチック配向させた後に、液晶分子の配向構造を固定化することにより作製される。この潜像形成フィルムは、自然光の下で観察した場合には潜像の存在を確認することができないが、潜像形成フィルム上に複数枚の偏光板を配置することにより画像が識別される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許第４１８７３８８号公報
【特許文献２】特開平５−８８６３３号公報
【特許文献３】特開２００８−１１６８３９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
文字や絵などの図柄の潜像を基材に多彩に形成することができれば、例えば、窓ガラスやカーテン、玩具、文房具等の各種物品に意匠性を持たせるための装飾用積層体として有用である。しかしながら、特許文献２のように、熱により高分子液晶層に画像を形成する場合、複雑な図柄を形成しようとすると鮮明な画像が得られず、表現できる図柄が制限されてしまう。
【０００６】
本発明は上記課題に鑑みなされたものであり、多彩な図柄を簡便に表現することができる潜像形成体を提供することを一つの目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、上記課題を解決するために以下の手段を採用した。
【０００８】
第１の構成は、基材の少なくとも一面に潜像が形成された潜像形成体に関し、重合性炭素−炭素不飽和結合を有する単量体の重合体及びポリオルガノシロキサンよりなる群から選ばれる少なくとも一種であってかつ光配向性基を有する重合体［Ｐ］を含む重合体組成物を用いて基材上に形成された配向層と、前記配向層上に重合性液晶を塗布及び硬化して形成された液晶層とを備えることを特徴とする。
【０００９】
第２の構成は、基材の少なくとも一面に潜像が形成された潜像形成体の製造方法に関し、重合性炭素−炭素不飽和結合を有する単量体の重合体及びポリオルガノシロキサンよりなる群から選ばれる少なくとも一種であってかつ光配向性基を有する重合体［Ｐ］を含む重合体組成物を基材上に塗布して塗膜を形成する工程と、所定の図柄を有するマスクを介して前記塗膜に偏光放射線を照射する工程と、前記偏光放射線の照射後の塗膜上に重合性液晶を塗布及び硬化して液晶層を形成する工程と、を含むことを特徴とする。
【００１０】
配向層と液晶層とを備える潜像形成体によれば、基材面の各領域における液晶分子の配向方位に応じた図柄を表現することができる。特に、上記第１の構成及び第２の構成では、配向層が特定の重合体［Ｐ］を含む重合体組成物により形成されていることから、放射線に対する感度が高く、基材面の各領域における液晶分子の配向方位を放射線照射により精密に制御することができる。したがって、識別性の高い潜像を形成することができる。また、重合体［Ｐ］を含む重合体組成物を用いて形成された塗膜は放射線に対する感度が高いことから、例えば透明性を有する樹脂板に所望の図柄を印刷したものをマスクとして用いることができる。つまり、透明の基材に所望の図柄を印刷するだけでマスクを作製でき、ひいては、多彩な図柄の潜像を簡便に表現することができる。
【００１１】
なお、本明細書において「放射線」は、可視光線、紫外線、遠紫外線、Ｘ線及び荷電粒子線等を含む意味である。「潜像」とは、目視するだけでは見えないか又は見えにくいように形成した画像を意味し、何等かの条件（ここではクロスニコル配置）によって可視化される。「画像」は、人や物等の物体だけでなく、図形や模様、文字等を含む意味である。
【００１２】
上記構成において、光配向性基は桂皮酸構造を含む基であることが好ましい。この場合、重合体［Ｐ］を含む重合体組成物を用いて形成された塗膜の放射線に対する感度を更に良好にすることができ、識別性の高い潜像を簡便に表現できる点で好適である。
【００１３】
第３の構成は、潜像形成体セットに関し、上記第１の構成〜第４の構成のいずれか一項に記載の潜像形成体と、一対の偏光板とを備えることを特徴とする。
第４の構成は、重合性炭素−炭素不飽和結合を有する単量体の重合体及びポリオルガノシロキサンよりなる群から選ばれる少なくとも一種であってかつ光配向性基を有する重合体［Ｐ］を含む、潜像形成用重合体組成物である。
第５の構成は、上記第１の構成の潜像形成体を、クロスニコル配置された一対の偏光板の間に配置して潜像を可視化する工程を含む画像表示方法である。
第６の構成は、装飾用積層体に関し、重合性炭素−炭素不飽和結合を有する単量体の重合体及びポリオルガノシロキサンよりなる群から選ばれる少なくとも一種であってかつ光配向性基を有する重合体［Ｐ］を含む重合体組成物を用いて基材上に形成された配向層と、該配向層上に重合性液晶を塗布及び硬化して形成された液晶層とを備えることを特徴とする。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】潜像形成体の概略構成を模式的に示す断面図。
【図２】潜像形成体の製造方法を示す模式図。
【図３】潜像形成体セットの概略構成を模式的に示す図。
【図４】装飾用積層体の応用例を模式的に示す図。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
≪潜像形成体≫
以下、実施形態について詳細に説明する。図１に示すように、本実施形態の潜像形成体１０は、基材１１と、基材１１上に形成された配向層１２と、配向層１２上に形成され液晶分子を含む液晶層１３とを備える。
【００１６】
配向層１２は、重合体を含有してなる有機薄膜であり、液晶層１３中の液晶分子の配向方位を制御する機能を有する。本実施形態の配向層１２は、重合性炭素−炭素不飽和結合を有する化合物の重合体及びポリオルガノシロキサンよりなる群から選ばれる少なくとも一種であって光配向性基を有する重合体［Ｐ］を含有する重合体組成物を用いて形成されている。液晶層１３は、重合体液晶を用いて形成されている。ここで使用される重合性液晶は、加熱及び光照射のうちの少なくとも１種の処理によって重合する液晶化合物又は液晶組成物であることが好ましい。
【００１７】
≪潜像形成用重合体組成物≫
次に、配向層１２の形成に用いる重合体組成物について詳しく説明する。
＜重合体［Ｐ］＞
重合体［Ｐ］が有する光配向性基は、光照射による光異性化反応、光二量化反応又は光分解反応によって膜に異方性を付与する官能基である。光配向性基の具体例としては、例えばアゾベンゼン又はその誘導体を基本骨格として含むアゾベンゼン含有基、桂皮酸又はその誘導体（桂皮酸構造）を基本骨格として含む桂皮酸構造含有基、カルコン又はその誘導体を基本骨格として含むカルコン含有基、ベンゾフェノン又はその誘導体を基本骨格として含むベンゾフェノン含有基、クマリン又はその誘導体を基本骨格として含むクマリン含有基、ポリイミド又はその誘導体を基本骨格として含むポリイミド含有構造等が挙げられる。これらの中でも、重合体［Ｐ］が有する光配向性基は、高い配向能を有する点及び重合体への導入が容易である点で、桂皮酸構造を含む基であることが好ましい。
【００１８】
桂皮酸構造を含む基としては、例えば、桂皮酸が有するカルボキシル基の水素原子を除去して得られる１価の基、又は当該１価の基が有するベンゼン環に置換基が導入された基（以下、これらを「順シンナメート基」ともいう。）や、桂皮酸が有するカルボキシル基がエステル化され、かつベンゼン環に２価の有機基が結合してなる１価の基、又は当該１価の基が有するベンゼン環に置換基が導入された基（以下、これらを「逆シンナメート基」ともいう。）などが挙げられる。順シンナメート基は例えば下記式（ｃｎ−１）で表すことができ、逆シンナメート基は例えば下記式（ｃｎ−２）で表すことができる。
【化１】
0006672608.tif 000002
（式（ｃｎ−１）中、Ｒ１は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基又はシアノ基である。Ｒ２は、フェニレン基、ビフェニレン基、ターフェニレン基若しくはシクロヘキシレン基、又はこれらの基が有する水素原子の少なくとも一部が、ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、当該アルコキシ基の水素原子の少なくとも一部がハロゲン原子で置換された１価の基によって置換された基又はシアノ基である。Ａ１は、単結合、酸素原子、硫黄原子、炭素数１〜３のアルカンジイル基、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＮＨ−、＊１−ＣＯＯ−、＊１−ＯＣＯ−、＊１−ＮＨ−ＣＯ−、＊１−ＣＯ−ＮＨ−、＊１−ＣＨ２−Ｏ−又は＊１−Ｏ−ＣＨ２−（「＊１」はＲ２との結合手を示す。）である。Ｒ３は、ハロゲン原子、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基又はシアノ基である。ａは０または１であり、ｂは０〜４の整数である。但し、ｂが２以上の場合、複数のＲ３は同じでも異なっていてもよい。「＊」は結合手であることを示す。
式（ｃｎ−２）中、Ｒ４は、炭素数１〜３のアルキル基である。Ｒ５は、ハロゲン原子、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基又はシアノ基である。Ａ２は、酸素原子、＊１−ＣＯＯ−、＊１−ＯＣＯ−、＊１−ＮＨ−ＣＯ−又は＊１−ＣＯ−ＮＨ−（「＊１」はＲ６との結合手を示す。）である。Ｒ６は、炭素数１〜６のアルカンジイル基である。ｃは０又は１であり、ｄは０〜４の整数である。但し、ｄが２以上の場合、複数のＲ５は同一であっても異なっていてもよい。「＊」は結合手であることを示す。）
【００１９】
上記式（ｃｎ−１）で表される基の具体例としては、例えば下記式
【化２】
0006672608.tif 000003
（上記式中、「＊」は結合手であることを示す。）
のそれぞれで表される基などを；
上記式（ｃｎ−２）で表される基の具体例としては、例えば下記式
【化３】
0006672608.tif 000004
（上記式中、「＊」は結合手であることを示す。）
のそれぞれで表される基などを；挙げることができる。
【００２０】
（光配向性ポリオルガノシロキサン）
重合体［Ｐ］がポリオルガノシロキサンである場合、当該ポリオルガノシロキサン（以下、「光配向性ポリオルガノシロキサン」ともいう。）は、例えば、加水分解性のシラン化合物を加水分解・縮合することにより得ることができる。具体的には、下記［１ａ］又は［２ａ］などが挙げられる。
［１ａ］エポキシ基を有する加水分解性のシラン化合物（ｍｓ−１）、又は当該シラン化合物（ｍｓ−１）とその他のシラン化合物との混合物を加水分解縮合してエポキシ基含有ポリオルガノシロキサンを合成し、次いで、得られたエポキシ基含有ポリオルガノシロキサンと、光配向性基を有するカルボン酸（以下「特定カルボン酸」ともいう。）と、を反応させる方法。
［２ａ］光配向性基を有する加水分解性のシラン化合物（ｍｓ−２）、又は当該シラン化合物（ｍｓ−２）とその他のシラン化合物との混合物を加水分解縮合させる方法。
これらのうち、［１ａ］の方法は簡便であって、しかも重合体［Ｐ］における光配向性基の導入率を高くすることができる点で好ましい。
【００２１】
シラン化合物（ｍｓ−１）の具体例としては、例えば３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、３−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリメトキシシランなどを挙げることができる。シラン化合物（ｍｓ−１）としては、これらのうちの１種を単独で又は２種以上を混合して使用することができる。
【００２２】
その他のシラン化合物は、加水分解性を示すシラン化合物である限り特に制限されないが、例えばテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン等のアルコキシシラン；
３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（３−シクロヘキシルアミノ）プロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン等の窒素・硫黄含有のアルコキシシラン；
３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、６−（メタ）アクリロイルオキシヘキシルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ｐ−スチリルトリメトキシシラン等の不飽和結合含有のアルコキシシラン；のほか、トリメトキシシリルプロピルコハク酸無水物などを挙げることができる。その他のシラン化合物は、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用できる。
【００２３】
シラン化合物の加水分解・縮合反応は、上記の如きシラン化合物の１種又は２種以上と水とを、好ましくは適当な触媒及び有機溶媒の存在下で反応させることにより行う。
上記［１ａ］の方法において、上記部分構造（ｂ）を重合体に十分に導入することを可能にしつつ、エポキシ基が過剰量であることに起因する副反応を抑制する観点から、エポキシ基含有ポリシロキサンのエポキシ当量は、１００〜１０，０００ｇ／モルであることが好ましく、１５０〜１，０００ｇ／モルであることがより好ましい。したがって、エポキシ基含有ポリシロキサンを合成するにあたっては、シラン化合物（ｍｓ−１）の使用割合を、得られるポリシロキサンのエポキシ当量が上記範囲となるように調整することが好ましい。加水分解・縮合反応に際し、水の使用割合は、シラン化合物（合計量）１モルに対して、好ましくは０．５〜１００モルであり、より好ましくは１〜３０モルである。
【００２４】
加水分解・縮合反応の際に使用する触媒としては、例えば酸、アルカリ金属化合物、有機塩基、チタン化合物、ジルコニウム化合物などを挙げることができる。触媒の使用量は、触媒の種類、温度などの反応条件などにより異なり、適宜に設定されるべきであるが、例えばシラン化合物の合計量に対して、好ましくは０．０１〜３倍モルであり、より好ましくは０．０５〜１倍モルである。
上記の加水分解・縮合反応の際に使用する有機溶媒としては、例えば炭化水素、ケトン、エステル、エーテル、アルコールなどを挙げることができる。これらのうち、非水溶性又は難水溶性の有機溶媒を用いることが好ましい。有機溶媒の使用割合は、反応に使用するシラン化合物の合計１００重量部に対して、好ましくは１０〜１０，０００重量部であり、より好ましくは５０〜１，０００重量部である。
【００２５】
上記の加水分解・縮合反応は、例えば油浴などにより加熱して実施することが好ましい。加水分解・縮合反応時には、加熱温度を１３０℃以下とすることが好ましく、４０〜１００℃とすることがより好ましい。加熱時間は、０．５〜１２時間とすることが好ましく、１〜８時間とすることがより好ましい。加熱中は、混合液を撹拌してもよいし、還流下に置いてもよい。また、反応終了後において、反応液から分取した有機溶媒層を水で洗浄することが好ましい。この洗浄に際しては、少量の塩を含む水（例えば、０．２重量％程度の硝酸アンモニウム水溶液など）を用いて洗浄することにより、洗浄操作が容易になる点で好ましい。洗浄は、洗浄後の水層が中性になるまで行い、その後、有機溶媒層を、必要に応じて無水硫酸カルシウム、モレキュラーシーブなどの乾燥剤で乾燥した後、溶媒を除去することにより、目的とするポリシロキサンを得ることができる。なお、ポリオルガノシロキサンの合成方法は上記の加水分解・縮合反応に限らず、例えば加水分解性シラン化合物をシュウ酸及びアルコールの存在下で反応させる方法などにより行ってもよい。
【００２６】
［１ａ］の方法では、上記反応により得られたエポキシ基含有ポリオルガノシロキサンを、次いで特定カルボン酸と反応させる。これにより、エポキシ基含有ポリオルガノシロキサンが有するエポキシ基とカルボン酸とが反応して、光配向性基を有するポリオルガノシロキサンを得ることができる。特定カルボン酸は、光反応性基を有していれば特に限定されないが、光配向性基として桂皮酸構造を含む基を有するカルボン酸であることが好ましい。このような特定カルボン酸としては、例えば上記式（ｃｎ−１）及び上記式（ｃｎ−２）のそれぞれで表される基における結合手の部分に水素原子が結合したカルボン酸などを挙げることができる。より具体的には、例えば上記式（ｃｎ−１）で表される基の具体例として挙げたそれぞれの基、及び上記式（ｃｎ−２）で表される基の具体例として挙げたそれぞれの基における結合手に水素原子が結合したカルボン酸などを挙げることができる。特定カルボン酸は、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００２７】
なお、上記式（ｃｎ−１）及び上記式（ｃｎ−２）のそれぞれで表される基の結合手に水素原子が結合した化合物について、その合成方法は特に限定されず、従来公知の方法を組み合わせて合成することができる。代表的な合成方法としては、例えば塩基性条件下、ハロゲン原子で置換されたベンゼン環骨格を有する化合物と、（メタ）アクリル酸又はその誘導体とを遷移金属触媒の存在下で反応させる方法；塩基性条件下、ベンゼン環の水素原子がハロゲン原子で置換された桂皮酸と、ハロゲン原子で置換されたベンゼン環骨格を有する化合物とを遷移金属触媒の存在下で反応させる方法；等が挙げられる。
【００２８】
エポキシ基含有ポリオルガノシロキサンと特定カルボン酸との反応に際しては、光配向性基を有さないカルボン酸（その他のカルボン酸）を使用してもよい。使用するその他のカルボン酸は特に制限されないが、重合性炭素−炭素不飽和結合を含む基を有するカルボン酸（以下、「不飽和結合含有カルボン酸」ともいう。）を好ましく用いることができる。不飽和結合含有カルボン酸を併用することにより、重合性炭素−炭素不飽和結合を含む基と光配向性基とを有するポリオルガノシロキサンが得られる。また、こうしたポリオルガノシロキサンを重合体組成物の重合体成分の少なくとも一部に用いることにより、基材に対する膜の密着性及び、膜の経時的安定性を向上できる点で好ましい。
【００２９】
不飽和結合含有カルボン酸の具体例としては、例えば（メタ）アクリル酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、フタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等の不飽和カルボン酸；無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸、シス−１，２，３，４−テトラヒドロフタル酸無水物などの不飽和多価カルボン酸無水物；などが挙げられる。重合性炭素−炭素不飽和結合を有するカルボン酸は、これらのうちから選択される１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００３０】
光配向性ポリオルガノシロキサンの合成に際しては、その他のカルボン酸として、不飽和結合含有カルボン酸以外の化合物を必要に応じて使用することができる。このようなその他のカルボン酸としては、例えばプロピオン酸、安息香酸、メチル安息香酸、光照射によらずに塗膜に液晶配向能を付与可能な基（液晶配向性基）を有するカルボン酸等が挙げられる。ここで、液晶配向性基としては、例えば炭素数４〜２０のアルキル基、炭素数４〜２０のフルオロアルキル基、炭素数４〜２０のアルコキシ基、炭素数１７〜５１のステロイド骨格を有する基、２個以上の環が直接又は連結基を介して連結した構造（多環構造）を有する基などが挙げられる。なお、その他のカルボン酸は、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００３１】
エポキシ基含有ポリオルガノシロキサンと特定カルボン酸との反応に際し、特定カルボン酸の使用割合（２種以上使用する場合にはその合計量）は、塗膜に対して適度なプレチルト角付与特性を発現させる観点から、ポリオルガノシロキサンが有するエポキシ基の合計１モルに対して、０．００１〜１．５モルとすることが好ましく、０．０１〜１．０モルとすることがより好ましく、０．１〜０．８モルとすることが更に好ましい。また、不飽和結合含有カルボン酸の使用割合は、ポリオルガノシロキサンが有するエポキシ基の合計１モルに対して、０．００１〜１．０モルとすることが好ましく、０．０１〜０．８モルとすることがより好ましく、０．０５〜０．５モルとすることが更に好ましい。
【００３２】
エポキシ基含有ポリオルガノシロキサンとカルボン酸との反応は、好ましくは触媒及び有機溶媒の存在下で行うことができる。上記触媒としては、例えば有機塩基、エポキシ化合物の反応を促進するいわゆる硬化促進剤として公知の化合物などを用いることができる。中でも、３級有機アミン又は４級有機アミンが好ましい。触媒の使用割合は、エポキシ基含有ポリオルガノシロキサン１００重量部に対して、好ましくは１００重量部以下、より好ましくは０．０１〜１００重量部、さらに好ましくは０．１〜２０重量部である。
【００３３】
上記反応で使用する有機溶媒としては、例えば炭化水素、エーテル、エステル、ケトン、アミド、アルコール等を挙げることができる。これらのうち、原料及び生成物の溶解性、並びに生成物の精製のしやすさの観点から、エーテル、エステル及びケトンよりなる群から選ばれる少なくとも一種とすることが好ましく、特に好ましい溶媒の具体例として、２−ブタノン、２−ヘキサノン、メチルイソブチルケトン及び酢酸ブチル等を挙げることができる。当該有機溶媒は、固形分濃度（反応溶液中の溶媒以外の成分の合計重量が、溶液の全重量に対して占める割合）が、０．１重量％以上となる割合で使用することが好ましく、５〜５０重量％となる割合で使用することがより好ましい。
【００３４】
上記反応における反応温度は、好ましくは０〜２００℃であり、より好ましくは５０〜１５０℃である。反応時間は、好ましくは０．１〜５０時間であり、より好ましくは０．５〜２０時間である。反応終了後は、反応液から分取した有機溶媒層を水で洗浄することが好ましい。
こうして重合体［Ｐ］としての光配向性ポリオルガノシロキサンを含有する溶液を得ることができる。この反応溶液は、そのまま重合体組成物の調製に供してもよく、反応溶液中に含まれる光配向性ポリオルガノシロキサンを単離したうえで重合体組成物の調製に供してもよく、又は単離した光配向性ポリオルガノシロキサンを精製した上で重合体組成物の調製に供してもよい。光配向性基ポリオルガノシロキサンの単離及び精製は公知の方法に従って行うことができる。
【００３５】
光配向性ポリオルガノシロキサンにつき、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定したポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００〜５０，０００の範囲にあることが好ましく、２００〜１０，０００の範囲にあることがより好ましい。光配向性ポリオルガノシロキサンの重量平均分子量が上記範囲にあると、潜像形成体を製造する際に取り扱いやすく、また得られた潜像形成体は十分な材料強度及び特性を有するものとなる。重合体［Ｐ］として光配向性ポリオルガノシロキサンを用いることにより、配向層１２を形成する際の加熱温度を比較的低温（例えば１５０℃以下）に設定することができ、使用できる基材の制限が少ない点及びエネルギー節減の点で好適である。
【００３６】
（光配向性不飽和重合体）
重合体［Ｐ］が、重合性炭素−炭素不飽和結合を有する単量体の重合体（以下、「光配向性不飽和重合体」ともいう。）である場合において、重合性炭素−炭素不飽和結合を有する単量体としては、例えば（メタ）アクリル系化合物、芳香族ビニル化合物、共役ジエン化合物、マレイミド基含有化合物等が挙げられる。光配向性不飽和重合体は、透明性や材料強度などの観点から、（メタ）アクリル系化合物を含む単量体の重合体であることが好ましい。
【００３７】
光配向性不飽和重合体は、例えば、エポキシ基を有する（メタ）アクリル系化合物（ｍａ−１）、又は当該（メタ）アクリル系化合物（ｍａ−１）と、エポキシ基を有さないその他の単量体（ｍａ−２）との混合物を重合開始剤の存在下で重合した後、得られた重合体（以下、「エポキシ基含有不飽和重合体」ともいう。）と、特定カルボン酸とを反応させる方法によって得ることができる。
【００３８】
（メタ）アクリル系単量体（ｍａ−１）としては、例えばエポキシ基を有する不飽和カルボン酸エステルを挙げることができる。その具体例としては、例えば（メタ）アクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−プロピルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−ブチルアクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸３，４−エポキシブチル、α−エチルアクリル酸３，４−エポキシブチル、（メタ）アクリル酸３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、（メタ）アクリル酸６，７−エポキシヘプチル、α−エチルアクリル酸６，７−エポキシヘプチル、アクリル酸４−ヒドロキシブチルグリシジルエーテル、（メタ）アクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル等が挙げられる。なお、（メタ）アクリル系単量体（ｍａ−１）は、上記のうちの一種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００３９】
その他の単量体としては、重合性炭素−炭素不飽和結合を有していれば特に制限されない。それらの具体例としては、例えば、（メタ）アクリル酸、α−エチルアクリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、ビニル安息香酸等の不飽和カルボン酸：（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸アリル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸−２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ラウリル、（メタ）アクリル酸トリメトキシシリルプロピル、（メタ）アクリル酸メトキシエチル、（メタ）アクリル酸−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸メトキシポリエチレングリコール、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル等の（メタ）アクリル系化合物；
スチレン、メチルスチレン、ジビニルベンゼン等の芳香族ビニル化合物；
１，３−ブタジエン、２−メチル−１，３−ブタジエン等の共役ジエン化合物；
Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド等のマレイミド基含有化合物、などが挙げられる。その他の単量体は、これらの１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００４０】
エポキシ基含有不飽和重合体の合成に際し、重合体１ｇあたりのエポキシ基の合計量（モル数）は、５．０×１０−５以上であることが好ましく、１．０×１０−４〜１．０×１０−２モル／ｇであることがより好ましく、５．０×１０−４〜５．０×１０−３モル／ｇであることが更に好ましい。したがって、（メタ）アクリル系単量体（ｍａ−１）の使用割合は、エポキシ基含有不飽和重合体の１ｇあたりのエポキシ基の合計のモル数が上記範囲となるように調整することが好ましい。
上記合成に際し、（メタ）アクリル系化合物以外の単量体（芳香族ビニル化合物等）の使用割合は、エポキシ基含有不飽和重合体の合成に使用する単量体の合計に対して、３０モル％以下とすることが好ましく、２０モル％以下とすることがより好ましい。
【００４１】
重合性炭素−炭素不飽和結合を有する単量体の重合反応はラジカル重合により行うことが好ましい。該反応に使用する重合開始剤としては、ラジカル重合に際して通常使用する開始剤を挙げることができ、例えば２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）等のアゾ化合物；ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、ｔ−ブチルペルオキシピバレート、１，１’−ビス（ｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサン等の有機過酸化物；過酸化水素；これらの過酸化物と還元剤とからなるレドックス型開始剤等が挙げられる。これらの中でも、アゾ化合物を好ましく使用することができる。重合開始剤としては、これらのものを１種単独で、又は２種以上を組み合わせて使用することができる。重合開始剤の使用割合は、反応に使用する単量体の合計１００重量部に対して、０．０１〜５０重量部とすることが好ましく、０．１〜４０重量部とすることがより好ましい。
【００４２】
上記重合反応は、好ましくは有機溶媒中において行われる。反応に使用する有機溶媒としては、例えばアルコール、エーテル、ケトン、アミド、エステル、炭化水素化合物などが挙げられる。これらの中でもアルコール及びエーテルよりなる群から選ばれる少なくとも一種を使用することが好ましく、多価アルコールの部分エーテルを使用することがより好ましい。その好ましい具体例としては、例えばジエチレングリコールメチルエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどを挙げることができる。なお、有機溶媒としてはこれらの１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００４３】
上記重合反応における反応温度は、３０〜１２０℃とすることが好ましく、６０〜１１０℃とすることがより好ましい。反応時間は、１〜３６時間とすることが好ましく、２〜２４時間とすることがより好ましい。また、有機溶媒の使用量（ａ）は、反応に使用する単量体の合計量（ｙ）が、反応溶液の全体量（ｘ＋ｙ）に対して、０．１〜５０重量％になるような量にすることが好ましい。
【００４４】
上記反応により得られたエポキシ基含有不飽和重合体に対し、次いで特定カルボン酸を反応させる。使用する特定カルボン酸としては、光配向性ポリオルガノシロキサンの合成で使用する特定カルボン酸の例示を適用することができる。また、反応に際しては、特定カルボン酸を単独で使用してもよいし、あるいは特定カルボン酸以外のその他のカルボン酸を併用してもよい。使用してもよいその他のカルボン酸の具体例及び好ましい例示の説明は、光配向性ポリオルガノシロキサンの説明を適用することができる。
【００４５】
エポキシ基含有不飽和重合体と特定カルボン酸との反応に際し、特定カルボン酸の使用割合（２種以上使用する場合にはその合計量）は、塗膜に対して適度なプレチルト角付与特性を発現させる観点から、不飽和重合体が有するエポキシ基の合計１モルに対して、０．００１〜１．５モルとすることが好ましく、０．０１〜１．０モルとすることがより好ましく、０．１〜０．８モルとすることが更に好ましい。また、不飽和結合含有カルボン酸の使用割合は、不飽和重合体が有するエポキシ基の合計１モルに対して、０．００１〜１．０モルとすることが好ましく、０．０１〜０．８モルとすることがより好ましく、０．０５〜０．５モルとすることが更に好ましい。
【００４６】
エポキシ基含有不飽和重合体とカルボン酸との反応は、好ましくは触媒及び有機溶媒の存在下で行うことができる。ここで、反応に使用する触媒としては、光配向性ポリオルガノシロキサンの合成の説明で例示した触媒などが挙げられる。中でも、４級アンモニウム塩を好ましく使用することができる。触媒の使用量は、エポキシ基含有不飽和重合体１００重量部に対して、好ましくは１００重量部以下、より好ましくは０．０１〜８０重量部以下、更に好ましくは０．１〜２０重量部である。
【００４７】
反応に使用する有機溶媒としては、（メタ）アクリル系単量体の重合に際して使用できる有機溶媒の例示を適用することができ、中でもエステルであることが好ましい。当該有機溶媒は、固形分濃度（反応溶液中の溶媒以外の成分の合計重量が、溶液の全重量に対して占める割合）が、０．１重量％以上となる割合で使用することが好ましく、５〜５０重量％となる割合で使用することがより好ましい。反応温度は、０〜２００℃とすることが好ましく、５０〜１５０℃とすることがより好ましい。反応時間は、０．１〜５０時間とすることが好ましく、０．５〜２０時間とすることがより好ましい。
【００４８】
こうして重合体［Ｐ］としての光配向性不飽和重合体を含有する溶液を得ることができる。この反応溶液は、そのまま重合体組成物の調製に供してもよく、反応溶液中に含まれる光配向性不飽和重合体を単離したうえで重合体組成物の調製に供してもよく、又は単離した光配向性不飽和重合体を精製した上で重合体組成物の調製に供してもよい。光配向性不飽和重合体の単離及び精製は公知の方法に従って行うことができる。
【００４９】
なお、光配向性不飽和重合体の合成方法は、上記の方法に限定されない。例えば、光配向性基及び重合性炭素−炭素不飽和結合を有する単量体、又は光配向性基及び重合性炭素−炭素不飽和結合を有する単量体と、その他の単量体との混合物を重合開始剤の存在下で重合する方法などによっても得ることができる。
【００５０】
光配向性不飽和重合体につき、ＧＰＣで測定したポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）は、形成される膜の液晶配向性を良好にするとともに、その液晶配向性の経時的安定性を確保するといった観点から、２５０〜５００，０００であることが好ましく、５００〜１００，０００であることがより好ましく、１，０００〜５０，０００であることが更に好ましい。
【００５１】
＜その他の成分＞
重合体組成物は、重合体［Ｐ］を含有するが、必要に応じてその他の成分を含有していてもよい。当該その他の成分としては、例えば重合体［Ｐ］以外のその他の重合体、金属キレート化合物、硬化促進剤、界面活性剤等が挙げられる。
【００５２】
［その他の重合体］
その他の重合体は、特に制限されず、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、重合性炭素−炭素不飽和結合を有する単量体の重合体であってかつ光配向性基を有さない重合体（以下、「重合体［Ｑ］」ともいう。）、光配向性基を有さないポリオルガノシロキサン、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル、ポリイミド、セルロース誘導体、ポリアセタール、ポリスチレン誘導体、ポリ（スチレン−フェニルマレイミド）誘導体などが挙られる。
【００５３】
重合体組成物中に含まれる重合体［Ｐ］が光配向性ポリオルガノシロキサンである場合、該組成物は、重合体［Ｑ］をさらに含むことが好ましい。重合体［Ｑ］を併用することで、重合体［Ｐ］の使用量を少なくしても潜像形成能や基材に対する密着性が十分に高い塗膜を得ることができる。また、重合体[Ｑ]による新たな機能を付加できる。具体的には、密着耐久性の向上や、製造時における焼成温度の低温化、焼成時間の短縮が可能となり、プロセス負荷の低減が可能となる。
【００５４】
重合体［Ｑ］は、光配向性基を有さず、かつ重合性炭素−炭素不飽和結合を有する単量体を用いて重合を行うことにより得ることができる。当該単量体としては、例えば（メタ）アクリル系化合物、芳香族ビニル化合物、共役ジエン化合物、マレイミド基含有化合物等が挙げられ、その具体例としては、光配向性不飽和重合体の合成に使用してもよい単量体の例示を適用することができる。透明性や材料強度などの観点からすると、重合体［Ｑ］は、（メタ）アクリル系化合物を含む単量体の重合体であることが好ましい。
【００５５】
重合体［Ｑ］の合成に際しては、基材に対する膜の密着性を向上させる観点から、エポキシ基を有する（メタ）アクリル系化合物（ｍａ−１）を使用することが好ましい。この場合の化合物（ｍａ−１）の使用割合は、重合体［Ｑ］の合成に使用する単量体の合計に対して、１〜９５モル％とすることが好ましく、３〜８５モル％とすることがより好ましく、５〜７０モル％とすることが更に好ましい。なお、重合体［Ｑ］を得る際の反応条件等については、光配向性不飽和重合体の説明を適用することができる。
【００５６】
その他の重合体を重合体組成物に配合する場合、その配合割合（２種以上配合する場合にはその合計量）は、重合体組成物中に含まれる重合体の合計１００重量部に対して、６０重量部以下とすることが好ましく、０．１〜５０重量部とすることがより好ましく、０．１〜４０重量部とすることが更に好ましい。
また、光配向性ポリオルガノシロキサンと重合体［Ｑ］とを含む重合体組成物において、重合体［Ｑ］の配合割合は、光配向性ポリオルガノシロキサンと重合体［Ｑ］との合計に対して、９８重量％以下とすることが好ましく、１〜９５重量％とすることがより好ましく、５〜９０重量％とすることが更に好ましい。
【００５７】
［金属キレート化合物］
金属キレート化合物は、エポキシ構造間の架橋反応に対する触媒作用を有する成分であり、当該架橋反応を促進することを目的として重合体組成物中に含有される。
金属キレート化合物としては、アルミニウム、チタニウム及びジルコニウムから選択される金属のアセチルアセトン錯体又はアセト酢酸錯体が好ましい。具体的には、アルミニウムのキレート化合物として、例えばジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、ジイソプロポキシアセチルアセトネートアルミニウム、イソプロポキシビス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、イソプロポキシビス（アセチルアセトネート）アルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、トリス（アセチルアセトネート）アルミニウム、モノアセチルアセトネートビス（エチルアセトアセテート）アルミニウムなどを；チタニウムのキレート化合物として、例えばジイソプロポキシビス（エチルアセトアセテート）チタニウム、ジイソプロポキシビス（アセチルアセトネート）チタニウムなどを；ジルコニウムのキレート化合物として、例えばトリ−ｎ−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジ−ｎ−ブトキシビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ｎ−ブトキシトリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（ｎ−プロピルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（アセチルアセトネート）ジルコニウム、テトラキス（エチルアセトアセテート）ジルコニウムなどを、それぞれ挙げることができる。金属キレート化合物としては、これらのうちから選択される１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００５８】
金属キレート化合物としては、これらのうち、アルミニウムのキレート化合物を使用することが好ましく、ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、トリス（アセチルアセトネート）アルミニウム及びトリス（エチルアセトアセテート）アルミニウムよりなる群から選択される１種以上を使用することがより好ましい。
金属キレート化合物の使用割合は、重合体組成物中の重合体成分の合計１００重量に対して、好ましくは６０重量部以下であり、より好ましくは０．１〜５０重量部であり、更に好ましくは１〜４０重量部である。
【００５９】
［硬化促進剤］
硬化促進剤は、硬化触媒の触媒作用を強化し、エポキシ構造間の架橋反応を促進することを目的として重合体組成物中に含有される。
硬化促進剤としては、例えばフェノール基、シラノール基、チオール基、リン酸基、スルホン酸基、カルボキシル基、カルボン酸無水物基などを有する化合物を使用することができる。これらのうち、フェノール基、シラノール基又はカルボキシル基を有する化合物が好ましく、フェノール基又はシラノール基を有する化合物がより好ましい。
それらの具体例としては、フェノール基を有する硬化促進剤として、例えばシアノフェノール、ニトロフェノール、メトキシフェノキシフェノール、チオフェノキシフェノール、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（ヒドロキシナフチル）スルホン、（３−ヒドロキシフェニル）（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、フェニル（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、（メトキシフェニル）（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、４−ベンジルフェノール、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンなどを；
シラノール基を有する硬化促進剤として、例えばトリメチルシラノール、トリエチルシラノール、１，１，３，３−テトラフェニル−１，３−ジシロキサンジオール、１，４−ビス（ヒドロキシジメチルシリル）ベンゼン、トリフェニルシラノール、トリ（ｐ−トリル）シラノール、トリ（ｍ−トリフルオロメチルフェニル）シラノール、トリ（ｏ−トリフルオロメチルフェニル）シラノール、トリ（ｍ−フルオロフェニル）シラノール、トリ（ｏ−フルオロフェニル）シラノール、ジフェニルシランジオール、ジ（ｏ−トリル）シランジオールなどを、それぞれ挙げることができる。なお、硬化促進剤としては、これらのうちから選択される１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００６０】
硬化促進剤としては、シラノール基を有する化合物を使用することが特に好ましい。硬化促進剤の使用割合は、重合体組成物中の重合体成分の合計１００重量に対して、好ましくは４０重量部以下であり、より好ましくは０．１〜３０重量部であり、０．５〜２０重量部とすることが更に好ましい。
【００６１】
［界面活性剤］
界面活性剤は、重合体組成物の基材に対する塗布性を向上させることを目的として重合体組成物中に含有させることができる。このような界面活性剤としては、例えばノニオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、シリコーン界面活性剤、ポリアルキレンオキシド界面活性剤、含フッ素界面活性剤などを挙げることができる。なお、界面活性剤としては、これらのうちから選択される１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
界面活性剤の使用割合は、重合体組成物中の重合体成分の合計１００重量部に対して、１０重量部以下とすることが好ましく、５重量部以下とすることがより好ましい。
【００６２】
なお、重合体組成物は、本発明の目的及び効果を妨げない範囲内において、上記以外の成分を含有していてもよい。かかる成分としては、例えば、分子内に少なくとも一つのエポキシ基を有する化合物、官能性シラン化合物、シリカ粒子、充填剤、消泡剤、光増感剤、分散剤、酸化防止剤、密着助剤、帯電防止剤、抗菌剤、紫外線吸収剤等が挙げられる。なお、これらの配合割合は、配合する各化合物に応じて、本発明の効果を妨げない範囲で適宜設定することができる。
【００６３】
［溶剤］
重合体組成物は、上記の重合体［Ｐ］、及び任意に使用されるその他の成分が、好ましくは適当な溶媒中に分散又は溶解してなる液状の組成物として調製される。
使用する溶媒は有機溶媒とすることが好ましく、例えばアルコール、エーテル、ケトン、アミド、エステル、炭化水素などを好適に使用することができる。中でも、多価アルコールの部分エステル、エーテル、ケトン及びエステルから選択される１種以上を使用することが好ましい。具体的には、多価アルコールの部分エステルとしては、プロピレングリコールモノメチルエーテルを；エーテルとしては、ジエチレングリコールエチルメチルエーテルを；ケトンとしては、メチルエチルケトン、シクロペンタノン及びシクロヘキサノンから選択される１種以上を；エステルとしては、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、酢酸ｔ−ブチル、アセト酢酸エチル及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートから選択される１種以上を、それぞれ好ましく使用することができる。
【００６４】
溶剤の使用割合は、重合体組成物の塗布性、及び形成される塗膜の膜厚を適度にする観点から、重合体組成物の固形分濃度（重合体組成物中の溶媒以外の全成分の合計重量が、重合体組成物の全重量に占める割合）が０．２〜１０重量％となる割合とすることが好ましく、３〜１０重量％となる割合とすることがより好ましい。
【００６５】
≪潜像形成体の製造方法≫
次に、上記の重合体組成物を用いて潜像形成体１０を製造する方法について説明する。潜像形成体１０は、以下の工程［１］〜［３］を含む方法により製造することができる。
工程［１］；重合体［Ｐ］を含有する重合体組成物を基材上に塗布して塗膜（配向層１２）を形成する工程。
工程［２］；工程［１］で得られた塗膜に対し、所定の図柄を有するマスクを介して偏光放射線を照射する工程。
工程［３］；偏光放射線を照射後の塗膜上に重合性液晶を塗布及び硬化して液晶層１３を形成する工程。
潜像形成体の製造方法について、図２を参照しつつ説明する。
【００６６】
＜工程［１］；塗膜の形成＞
先ず、上記の重合体組成物を、基材１１の少なくとも一部に塗布して塗膜を形成する（図２（ａ））。基材１１としては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリアミド、ポリイミド、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネートなどの合成樹脂；フロートガラス、ソーダガラスなどのガラス、からなる透明基板を好ましく使用することができる。これらのうち、ＴＡＣは、例えば偏光フィルムの保護層として一般的に使用されている。また、ポリメチルメタクリレートは、溶媒の吸湿性が低い点、光学特性が良好である点及び低コストである点で好ましい。なお、使用する基材１１に対しては、基材面と塗膜との密着性を更に良好にするために、塗膜を形成する面に従来公知の前処理が施されていてもよい。基材１１に重合体組成物を塗布する領域は、潜像を形成する領域に応じて適宜設定すればよく、基材面の一部に塗布してもよいし、あるいは基材面の全面に塗布してもよい。また、基材１１の一面のみに重合体組成物を塗布してもよいし、複数の面（例えば基材１１の両面）に重合体組成物を塗布してもよい。
【００６７】
基材１１上への重合体組成物の塗布は、適宜の塗布方法によることができる。例えば、ロールコーター法、スピンナー法、印刷法、インクジェット法、バーコーター法、エクストリューションダイ法、ダイレクトグラビアコーター法、チャンバードクターコーター法、オフセットグラビアコーター法、一本ロールキスコーター法、小径のグラビアロールを使ったリバースキスコーター法、３本リバースロールコーター法、４本リバースロールコーター法、スロットダイ法、エアードクターコーター法、正回転ロールコーター法、ブレードコーター法、ナイフコーター法、含浸コーター法、ＭＢコーター法、ＭＢリバースコーター法などを採用することができる。
【００６８】
塗布後、塗布面を加熱（ベーク）して塗膜を形成する。この時の加熱温度は、４０〜１５０℃とすることが好ましく、８０〜１４０℃とすることがより好ましい。加熱時間は、０．１〜１５分とすることが好ましく、１〜１０分とすることがより好ましい。基材１１上に形成される塗膜（配向層１２）の膜厚は、好ましくは０．００１〜１μｍであり、より好ましくは０．０５〜０．５μｍである。
【００６９】
＜工程［２］；偏光放射線の照射＞
次いで、上記のようにして基材１１上に形成された塗膜に対して、偏光放射線を照射する（図２（ｃ））。照射する偏光放射線としては、例えば１５０〜８００ｎｍの波長の光を含む紫外線又は可視光線などを挙げることができる。これらのうち、３００〜４００ｎｍの波長の光を含む紫外線が好ましい。偏光としては、直線偏光を含む光を使用することが好ましい。光の照射は、基材面に垂直の方向から行っても斜め方向から行ってもよく、あるいはこれらを組み合わせて行ってもよい。
使用する光源としては、例えば低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、重水素ランプ、メタルハライドランプ、アルゴン共鳴ランプ、キセノンランプ、水銀−キセノンランプ（Ｈｇ−Ｘｅランプ）などを挙げることができる。偏光は、これらの光源を、例えばフィルター、回折格子などと併用する手段などにより得ることができる。光の照射量は、０．１〜１，０００ｍＪ／ｃｍ２とすることが好ましく、１〜５００ｍＪ／ｃｍ２とすることがより好ましく、２〜２００ｍＪ／ｃｍ２とすることがさらに好ましい。
【００７０】
偏光放射線の照射は、所望の図柄が形成されたマスク１４を介して行う。マスク１４の材質は特に制限されず、種々の材料を適用できる。具体的には、例えばステンレス、ニッケル、ニッケル−鉄合金、ニッケル−コバルト合金等のメタルマスク；ポリテトラフロロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリフェニレンエーテル（ＰＰＥ）、ポリエステル、ポリエチレンテレフタラート等の樹脂マスク；石英等のガラスマスク、などが挙げられる。特に、重合体［Ｐ］を含む重合体組成物を用いて形成した塗膜は、放射線に対する感度が高く、例えばＯＨＦフィルム等の透明板に任意の図柄を印刷したものをマスクとして用いた場合にも、識別可能な潜像を形成することができる。また、ＯＨＦフィルム等に印刷するだけでマスクを作製でき、多彩な図柄の潜像を簡便に形成することができる。透明板に対する図柄の印刷方法としては、例えばインクジェット方式、レーザー方式等が挙げられる。
【００７１】
マスク１４の図柄は、潜像形成体の用途に応じて適宜選択することができ、例えば人、物、図形、模様、文字など種々のものを採用できる。なお、マスク１４は、図柄部分が遮光部となっていてもよいし、図柄部分が透過部で図柄以外の部分が遮光部となっていてもよい。マスク１４の厚みは特に制限されないが、０．００１〜２ｍｍであることが好ましく、０．０１〜１ｍｍであることがより好ましい。
【００７２】
塗膜に対する偏光放射線の照射は、マスク１４を介して所定の偏光方向から１回のみ行ってもよいが、偏光方向（入射方向）が異なる放射線を塗膜に対して複数回照射してもよい。偏光方向が異なる放射線を複数回照射する態様によれば、液晶の配向方位を書き替えることができ、塗膜の光照射面に配向方位が異なる複数の領域を形成することができる。具体的には、下記（２−１）の工程を含む製造方法とすることが好ましい。
（２−１）マスク１４を介して塗膜に偏光放射線を照射する前に、マスク１４を介した放射線照射時とは異なる偏光方向の偏光放射線を塗膜に照射する工程。
【００７３】
工程（２−１）で照射する偏光放射線の種類、波長、光源及び照射量等の説明は、上記工程［２］の説明を適用することができる。配向方位の書き替えに際しては、先ず工程（２−１）でマスクを介さずに塗膜全面に放射線照射を行い（図２（ｂ）参照）、続いて工程［２］でマスク１４を介して放射線照射を行う（図２（ｃ）参照）。すなわち、潜像形成体１０は、放射線照射工程として下記の（２−Ａ）及び（２−Ｂ）の工程を含む方法により製造されることが好ましい。
（２−Ａ）第１の偏光方向Ｌ１の偏光放射線を塗膜に照射して、第１の配向方位Ｃ１の液晶配向能を付与する工程。
（２−Ｂ）第１の偏光方向Ｌ１とは異なる第２の偏光方向Ｌ２の偏光放射線を、マスク１４を介して塗膜に照射して、塗膜の一部の配向方位を第２の配向方位Ｃ２に書き替える工程。
こうした放射線照射によれば、非マスク領域の配向方位を簡易に書き換えることが可能である。また、１回目の放射線照射を塗膜全面に対して行うことで配向方位を揃えておき、その状態で２回目の放射線照射を塗膜の一部に対してのみ行うことで、マスク領域と非マスク領域との配向方位の違いが明確になるものと考えられる。
【００７４】
工程（２−Ｂ）における第２の偏光方向Ｌ２は、工程（２−Ａ）にて照射した偏光放射線の第１の偏光方向Ｌ１と異なっていれば特に制限されないが、第１の偏光方向Ｌ１からの回転方向が７０〜１１０°であることが好ましい。こうして、配向方位が異なる複数の領域１２ａ，１２ｂを有する配向層１２が得られる（図２（ｄ））。
【００７５】
＜工程［３］；液晶層１３の形成＞
次いで、配向層１２の上に重合性液晶を塗布し、重合性液晶を含む塗膜を形成する。重合性液晶としては、従来公知のものを使用することができる。具体的には、例えば非特許文献１（「ＵＶキュアラブル液晶とその応用」、液晶、第３巻第１号（１９９９年）、ｐｐ３４〜４２）に記載されているネマチック液晶化合物を挙げることができる。また、コレステリック液晶；ディスコティック液晶；カイラル剤を添加されたツイストネマティック配向型液晶などであってもよい。重合性液晶は、複数の液晶化合物の混合物であってもよく、さらに、公知の重合開始剤、適当な溶媒などを含有する組成物であってもよい。形成された配向層１２の上に重合性液晶を塗布するには、例えばバーコーター法、ロールコーター法、スピンナー法、印刷法、インクジェット法などの適宜の塗布方法を採用することができる。
【００７６】
次いで、上記のように形成された重合性液晶の塗膜に対して、加熱及び光照射から選択される１種以上の処理を施すことにより、該塗膜を硬化し液晶層１３を形成する（図２（ｅ）参照）。これらの処理を重畳的に行うことが、良好な配向が得られることから好ましい。塗膜の加熱温度は、使用する重合性液晶の種類によって適宜に選択されるべきである。例えばメルク社製のＲＭＳ０３−０１３Ｃを使用する場合、４０〜８０℃の範囲の温度で加熱することが好ましい。加熱時間は、好ましくは０．５〜５分である。
【００７７】
照射光としては、２００〜５００ｎｍの範囲の波長を有する非偏光の紫外線を好ましく使用することができる。光の照射量としては、５０〜１０，０００ｍＪ／ｃｍ２とすることが好ましく、１００〜５，０００ｍＪ／ｃｍ２とすることがより好ましい。形成される液晶層１３の厚さは、所望の光学特性や、使用する重合性液晶の光学特性などによって適宜に設定されるが、例えば０．１〜１．５μｍの範囲に設定される。
【００７８】
≪潜像形成体セット及び画像表示方法≫
こうして得られる潜像形成体１０は、一対の偏光板（偏光フィルム）と組み合わせて使用されることで潜像が可視化される。本実施形態の潜像形成体セット２０は、図３に示すように、上記の潜像形成体１０と、一対の偏光板としての第１偏光板１４及び第２偏光板１５と、を備える。
【００７９】
第１偏光板１４及び第２偏光板１５は、偏光子としての機能を有していれば特に制限されないが、例えば、ポリビニルアルコールを延伸配向させながらヨウ素を吸収させた「Ｈ膜」と称される偏光フィルムを酢酸セルロース保護膜で挟んだ偏光板、又はＨ膜そのものからなる偏光板を挙げることができる。第１偏光板１４及び第２偏光板１５の透過軸の方位は、これら偏光板１４，１５を対向配置した時に透過軸の方位が互いに異なるように配置可能であれば特に制限されない。
【００８０】
潜像形成体１０に形成した潜像を可視化するには、潜像形成体１０を、クロスニコル配置した第１偏光板１４及び第２偏光板１５の間に配置する方法により行う。すなわち、本実施形態の潜像形成体１０は、そのままの状態では、放射線照射の際に使用したマスクの図柄に対応する潜像は観察されない。これに対し、潜像形成体１０をクロスニコル下に置くと、マスクに対応する図柄が潜像形成体１０の少なくとも一面に現れる。潜像の可視化は、必要に応じて、観察側とは逆の側方に光源が配置された状態で行われる。配置される光源は特に制限されず、例えば太陽などの天然光源、白熱電球や蛍光灯などの人工光源が挙げられる。
【００８１】
潜像形成体セット２０において、一対の偏光板１４，１５は、潜像形成体１０に対して、例えば接着層を介して接着されて一体化されていてもよいし、あるいは潜像形成体１０とは別部品として構成されていてもよい。一対の偏光板１４，１５と潜像形成体１０とを一体化する際の接着層は、例えばポリビニルアルコールを水に溶解させた水系接着剤、極性基を有する接着剤等を用いて形成することができる。
【００８２】
≪装飾用積層体≫
潜像形成体１０は、玩具、文房具、生活用品等の各種物品、建築物、車両等のデザインのための装飾用積層体に有効に適用することができる。中でも特に、装飾性及び耐候性が高い点で、例えば窓ガラス、カーテン、窓用シャッター、ロールスクリーン、ブラインド等の窓装飾用途に有用である。
【００８３】
潜像形成体１０を窓装飾用積層体として使用する場合の使用態様は特に制限されない。例えば図４に示すように、潜像形成体１０と第１偏光板１４とが一体化された偏光板一体型潜像形成体１６を、窓ガラス１７（図４では複層ガラス）に対して屋内側に配置し、第２偏光板１５を、屋内側において潜像形成体１０を挟んで第１偏光板１４に対向する位置に配置する。第２偏光板１５は、例えば窓ガラス１７の屋内側の面に貼り付ける。こうした態様において、偏光板一体型潜像形成体１６を、カーテンやロールスクリーン、あるいはブラインドとして用いることで、カーテン等の開け閉めに応じて潜像を可視化させることができる。また、一対の偏光板がクロスニコル配置されることにより遮光効果を発現させることもでき、意匠性を付与しつつプライバシー確保を図ることができる。
【００８４】
なお、偏光板一体型潜像形成体１６につき、カーテン等とする構成に代えて、窓ガラス１０に貼り付けて使用する構成としてもよい。この場合、偏光板１４，１５間に潜像形成体１０が配置されればよく、例えば第２偏光板１５が貼り付けられた面と同じ面に偏光板一体型潜像形成体１６を貼り付ける。また、第２偏光板１５につき、窓ガラス１７の屋内側に配置する構成に代えて、複層ガラスにおける２枚のガラスの間に配置してもよいし、あるいは窓ガラス１７の屋外側の面に貼り付けてもよい。
【００８５】
≪他の実施形態≫
本発明は上記実施形態に限定されず、例えば次のような構成であってもよい。
【００８６】
上記実施形態では、基材１１と偏光板（第１偏光板１４）とを別部品としたが、基材１１として偏光板を用いてもよい。潜像形成体１０と偏光板とを貼り合わせる場合、所期する光学特性を発揮できるように、偏光板の偏光軸に対する角度を特定の方向に精密に制御する必要がある。こうした点を考慮し、偏光板としての基材上に上記重合体組成物を用いて塗膜を形成し、その後、光配向法を利用して、所定角度の方向に液晶配向能を有する配向層１２とすることにより、潜像形成体１０を偏光板上にその角度を制御しつつ貼り合わせる工程を省略することができる。
【００８７】
基材１１としてのガラス基板上に配向層１２及び液晶層１３を形成し、これを潜像形成体１０としてもよい。こうした潜像形成体１０は、そのまま窓ガラスに適用することも可能である。また、この構成では、窓ガラスの屋外側及び屋内側にそれぞれ偏光板を配置することで、窓ガラスの潜像を可視化することができる。例えば、屋内側の偏光板をロールアップカーテンやブラインドとすることで、居住者の操作に応じて潜像化／顕像化を切り替えることも可能である。
【００８８】
潜像形成体１０は、耐久性や機械的特性を保つために、液晶層１３上に保護層が配置されていてもよい。保護層は透明基材とすることが好ましく、例えばトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、環状オレフィン系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、アクリル樹脂、アクリル／スチレン共重合樹脂、ポリオレフィン樹脂などからなるフィルムが挙げられる。潜像形成体１０において、保護層に染料を含有させ、色彩感を付与してもよい。
【００８９】
潜像形成体１０の用途は装飾用に限定されない。例えば、セキュリティ用途に適用してもよい。具体的には、カード、身分証明書、パスポート、受験票、紙幣、商品券、株券、証券、金券、通行券、切符、入場券、公共競技投票券等の対象物の偽造防止用途や、それら対象物の本人確認用途などに適用することができる。本発明の潜像形成体によれば、クロスニコル下に配置するだけで潜像を可視化することができ、対象物の真正／不真正を目視で容易に判断することができる。また、重合体［Ｐ］を含む重合体組成物により形成した塗膜は放射線に対する感度が高く、よって認識される画像も鮮明である。
【００９０】
本発明の潜像形成体を、店頭広告や、列車・バス等の車内広告等の各種広告用に適用することもできる。本発明の潜像形成体によれば、偏光板１４，１５の配置に応じて図柄の潜像化／顕像化を切り替えることができ、広告用途に適用した場合に優れた美観及び意匠性を奏するものとすることができる。
【００９１】
潜像形成体１０の潜像を可視化する際に使用する偏光板の数は２枚（一対）に限定されず、３枚以上であってもよい。また、潜像形成体セットにおける偏光板は、少なくとも一対であればよく、３枚以上の偏光板を備えていてもよい。
【実施例】
【００９２】
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に制限されるものではない。
【００９３】
以下の例において、重合体の重量平均分子量Ｍｗ、数平均分子量Ｍｎ及びエポキシ当量、並びに重合体溶液の溶液粘度は以下の方法により測定した。以下の実施例で用いた原料化合物及び重合体の必要量は、下記の合成例に示す合成スケールでの合成を必要に応じて繰り返すことにより確保した。
【００９４】
［重合体の重量平均分子量Ｍｗ及び数平均分子量Ｍｎ］
Ｍｗ及びＭｎは、以下の条件におけるＧＰＣにより測定したポリスチレン換算値である。
カラム：東ソー（株）製、ＴＳＫｇｅｌＧＲＣＸＬＩＩ
溶剤：テトラヒドロフラン
温度：４０℃
圧力：６８ｋｇｆ／ｃｍ２
［エポキシ当量］
エポキシ当量は、JIS C 2105に記載の塩酸−メチルエチルケトン法により測定した。
［重合体溶液の溶液粘度］
重合体溶液の溶液粘度（ｍＰａ・ｓ）は、Ｅ型回転粘度計を用いて２５℃で測定した。
【００９５】
＜エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンの合成＞
［合成例１］
撹拌機、温度計、滴下漏斗及び還流冷却管を備えた反応容器に、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン７０．５ｇ、テトラエトキシシラン１４．９ｇ、エタノール８５．４ｇ及びトリエチルアミン８．８ｇを仕込み、室温で混合した。次いで、脱イオン水７０．５ｇを滴下漏斗より３０分かけて滴下した後、還流下で攪拌しつつ、８０℃で２時間反応させた。反応溶液を濃縮し、酢酸ブチルで希釈する操作を２ 回繰り返すことにより、トリエチルアミン及び水を留去し、ポリオルガノシロキサン（ＳＥｐ−１）を含む重合体溶液を得た。１Ｈ−ＮＭＲ分析を行ったところ、反応中にエポキシ基の副反応が起こっていないことが確認された。このポリオルガノシロキサン（ＳＥｐ−１）のＭｗは１１，０００、エポキシ当量は１８２ｇ／モルであった。
【００９６】
＜桂皮酸誘導体の合成＞
桂皮酸誘導体の合成反応は不活性雰囲気中で行った。
［合成例２］
冷却管を備えた５００ｍＬの三口フラスコに、１−ブロモ−４−シクロヘキシルベンゼン１９．２ｇ、酢酸パラジウム０．１８ｇ、トリス（２−トリル）ホスフィン０．９８ｇ、トリエチルアミン３２．４ｇ、ジメチルアセトアミド１３５ｍＬを混合した。この混合溶液に、シリンジでアクリル酸を７ｇ加えて撹拌した。さらに、混合溶液を１２０℃で３時間、加熱しながら撹拌した。ＴＬＣ（薄層クロマトグラフィー）で反応の終了を確認した後、反応溶液を室温まで冷却した。沈殿物をろ別した後、ろ液を１Ｎ塩酸水溶液３００ｍＬに注ぎ、沈殿物を回収した。回収した沈殿物を、酢酸エチルとヘキサンの１：１（重量比）溶液で再結晶することにより、下記式（Ｍ−１）で表される化合物（桂皮酸誘導体（Ｍ−１））を１０．２ｇ得た。
【化４】
0006672608.tif 000005
【００９７】
＜光配向性ポリオルガノシロキサンの合成＞
［合成例３］
１００ｍＬの三口フラスコに、合成例１で得たエポキシ基を有するポリオルガノシロキサン（ＳＥｐ−１）１１．３ｇ、酢酸ブチル１３．３ｇ、合成例２で得た桂皮酸誘導体（Ｍ−１）１．７ｇ、アクリロイル基含有カルボン酸（アロニックスＭ−５３００、東亜合成（株）製）０．５４ｇ及び４級アミン塩（サンアプロ社、ＵＣＡＴ１８Ｘ）０．１０ｇを仕込み、８０℃で１２時間撹拌した。反応終了後、酢酸ブチルをさらに２０ｇ追加し、この溶液を３回水洗した後、酢酸ブチルをさらに２０ｇ追加し、固形分濃度１０重量％となるように溶媒を留去した。これにより、光配向性ポリオルガノシロキサンである重合体（Ｓ−１）を含有する固形分濃度１０重量％の酢酸ブチル溶液を得た。重合体（Ｓ−１）の重量平均分子量Ｍｗは１８，０００であった。
【００９８】
［合成例４］
１００ｍＬの三口フラスコに、合成例１で得たエポキシ基を有するポリオルガノシロキサン（ＳＥｐ−１）１１．３ｇ、酢酸ブチル１３．３ｇ、合成例２で得た桂皮酸誘導体（Ｍ−１）１．７ｇ及び４級アミン塩（サンアプロ社、ＵＣＡＴ１８Ｘ）０．１０ｇを仕込み、８０℃で１２時間撹拌した。反応終了後、酢酸ブチルをさらに２０ｇ追加し、この溶液を３回水洗した後、酢酸ブチルをさらに２０ｇ追加し、固形分濃度１０重量％となるように溶媒を留去した。これにより、光配向性ポリオルガノシロキサンである重合体（Ｓ−２）を含有する固形分濃度１０重量％の酢酸ブチル溶液を得た。重合体（Ｓ−２）の重量平均分子量Ｍｗは１７，０００であった。
【００９９】
＜その他の重合体の合成＞
［合成例５］
冷却管及び攪拌機を備えたフラスコに、重合開始剤として２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）１重量部、及び溶媒としてジエチレングリコールメチルエチルエーテル１８０重量部を仕込んだ。続いて、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタアクリレート７０重量部及び３−メチル−３−オキセタニルメチルメタクリレート３０重量部を加え、窒素置換した後、緩やかに攪拌を始めた。溶液温度を８０℃に上昇させ、この温度を５時間保持し、エポキシ基含有ポリ（メタ）アクリレートである重合体（ＰＡｃ−１）を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は３２．８重量％であった。得られた重合体のＭｎは１６，０００であった。
［合成例６］
合成例５で得られたエポキシ基含有ポリ（メタ）アクリレート（ＰＡｃ−１）１００重量部、アクリロイル基含有カルボン酸（アロニックスＭ−５３００、東亜合成（株）製）２０重量部、触媒としてテトラブチルアンモニウムブロマイド１０重量部、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１５０重量部を仕込み、窒素雰囲気下９０℃で１２時間撹拌した。反応終了後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１００重量部で希釈し、３回水洗した。この溶液を濃縮し、酢酸ブチルで希釈する操作を２回繰り返し、アクリロイル基含有ポリ（メタ）アクリレートである重合体（ＰＡｃ−２）を含む重合体溶液を得た。得られた重合体のＭｎは２０，０００であった。なお、得られた重合体溶液のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート含有量は２０重量％であった。
【０１００】
［実施例１］
＜潜像形成用重合体組成物の調製＞
重合体成分として、合成例３で得た重合体（Ｓ−１）を含有する酢酸ブチル溶液を、重合体（Ｓ−１）に換算して７０重量部に相当する量、及び合成例６で得た重合体（ＰＡｃ−２）を含有する溶液を、重合体（ＰＡｃ−２）に換算して３０重量部に相当する量、触媒としてトリス（アセチルアセトネート）アルミニウム（アルミキレートＡ（Ｗ）、川研ファインケミカル社製）１０重量部、並びに硬化促進剤としてトリ（ｐ−トリル）シラノール４０重量部を混合し、これに溶媒として、酢酸ｎ−ブチル（ＢＡ）、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）を加え、固形分濃度が５重量％、各溶媒の重量比がＢＡ：ＭＥＫ：ＰＧＭＥＡ＝５０：４０：１０となるように調製した。次いで、この得られた溶液を孔径１μｍのフィルターでろ過することにより重合体組成物（Ａ−１）を調製した。
【０１０１】
＜潜像形成体（装飾用フィルム）の製造＞
基材としてのＴＡＣフィルムの一面に、上記で調製した重合体組成物（Ａ−１）を、バーコーターを用いて塗布し、オーブン内にて１２０℃で２分間ベークして膜厚０．１μｍの塗膜を形成した。次いで、この塗膜表面に、Ｈｇ−Ｘｅランプ及びグランテーラープリズムを用いて、３１３ｎｍの輝線を含む偏光紫外線１０ｍＪ／ｃｍ２を基材面の法線から垂直に照射（以下、この偏光紫外線照射を「偏光紫外線照射Ａ」ともいう。）して塗膜を形成した。次に、この塗膜に、市販のＯＨＰシートにレーザープリンターを用いて図柄を印刷したものをマスクとして用い、先に照射した「偏光紫外線照射Ａ」から４５°水平方向に回転した偏光方向で、Ｈｇ−Ｘｅランプ及びグランテーラープリズムを用いて３１３ｎｍの輝線を含む偏光紫外線１５ｍＪ／ｃｍ２を照射（以下、この偏光紫外線照射を「偏光紫外線照射Ｂ」ともいう。）することで配向方位を書き換えた。
次いで、重合性液晶（ＲＭＳ０３−０１３Ｃ、メルク製）を用い、これを孔径０．２μｍのフィルターでろ過した後、バーコーターを用いてフィルム上に重合性液晶を塗布し、５０℃に設定したオーブンで１分間ベークを行った後、Ｈｇ−Ｘｅランプを用いて、３６５ｎｍの輝線を含む非偏光の紫外線１，０００ｍＪ／ｃｍ２を重合性液晶に照射することで硬化させ、潜像形成体（装飾用フィルム）を製造した。
【０１０２】
＜装飾用フィルムの評価＞
［装飾性能］
上記で得られた装飾用フィルムをクロスニコル配置した偏光板の間に置き、観察側と逆方向から透過光を照射して目視により観察した。装飾用フィルムに潜像が形成されていれば、装飾用フィルムを偏光板の間に配置したときに、「偏光紫外線照射Ｂ」の露光時にマスクされていた部分（ＯＨＰシートに印刷された図柄の部分）が白く観察され、その他の部分が黒く観察される。また、装飾用フィルムの装飾性能が良好であるほど、マスク部分とその他の部分とのコントラスト比が大きくなる。マスク部分とその他の部分とのコントラスト比が５００以上であった場合に装飾性能「良好（Ａ）」、コントラスト比５０以上５００未満であった場合に装飾性能「可（Ｂ）」、コントラスト比５０未満であった場合に装飾性能「不良（Ｃ）」と評価したところ、この装飾用フィルムの装飾性能は「良好（Ａ）」であった。なお、コントラスト比は、コニカ・ミノルタ社製の分光放射輝度計「ＣＳ−２０００Ａ」を用いて測定した。
【０１０３】
［密着性］
ガイドのある等間隔スペーサーを用い、上記で得られた装飾用フィルムにカッターナイフで１ｍｍ間隔に切り込みを入れ、１０個×１０個の格子パターンを形成した。次いで、格子パターン上にセロハンテープを密着させた後、このセロハンテープを格子パターンから引き剥がした。セロハンテープを引き剥がした後の格子パターンの切り込み部を観察し、基材に対する密着性を評価した。切り込み線に沿って又は格子パターンの交差部で剥離が確認されなかった場合に密着性「良好（Ａ）」、剥離が観察されたものの、剥離が生じている格子の目の個数が格子パターン全体の個数に対して１０％未満であった場合に密着性「可（Ｂ）」、剥離が生じている格子の目の個数が格子パターン全体の個数に対して１０％以上であった場合に密着性「不良（Ｃ）」と評価したところ、この装飾用フィルムの密着性は「良好（Ａ）」の結果であった。
【０１０４】
［耐湿熱安定性の評価］
上記で得られた装飾用フィルムにつき、６０℃、４５％ＲＨの環境下に２４時間曝した。その後、上記の「密着性」と同様に、装飾用フィルムに格子パターンを形成してセロハンテープを引き剥がした後の格子パターンの切り込み部を観察することにより耐湿熱安定性を評価した。このとき、剥離が確認されなかった場合に耐湿熱安定性「良好（Ａ）」、剥離が生じている格子の目の個数が格子パターン全体の個数に対して１０％未満であった場合に耐熱安定性「可（Ｂ）」、１０％以上であった場合に耐熱安定性「不良（Ｃ）」と評価したところ、この装飾用フィルムの耐湿熱安定性は「良好（Ａ）」であった。
【０１０５】
［実施例２〜５及び比較例１］
＜潜像形成用重合体組成物の調製＞
下記表１に示す種類及び配合量の各成分を用いた以外は、重合体組成物（Ａ−１）の調製と同様に操作し、各重合体組成物（Ａ−２）〜（Ａ−５）を調製した。
【０１０６】
【表１】
0006672608.tif 000006
【０１０７】
なお、表１中の配合量の数値は、重合体組成物の調製に使用した重合体成分の合計１００重量部に対する各化合物の配合割合（重量部）を示す。重合体組成物（Ａ−１）〜（Ａ−３）及び（Ａ−５）では、重合体成分として２種の重合体を使用した。表１中、略号は以下の通りである。
Ｂ−１：トリス（アセチルアセトネート）アルミニウム（アルミキレートＡ（Ｗ）、川研ファインケミカル製）
Ｋ−１：トリ（ｐ−トリル）シラノール
ＢＡ：酢酸ｎ−ブチル
ＩＢＡ：酢酸イソブチル
ＭＥＫ：メチルエチルケトン
ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
ＥＡ：酢酸エチル
ＥＡＡ：アセト酢酸エチル
ＥＤＭ：ジエチレングリコールエチルメチルエーテル
ＣＨＮ：シクロヘキサノン
ＣＰＮ：シクロペンタノン
ＰＧＭＥ：プロピレングリコールモノメチルエーテル
【０１０８】
＜装飾用フィルムの製造及び評価＞
下記表２に示す潜像形成用重合体組成物を用いて実施例１と同様に操作して装飾用フィルムを製造し、実施例１と同様にして装飾用フィルムの評価を行った。その結果を表２に示す。なお、実施例５では、実施例１と同じ重合体組成物を使用し、基材としてはポリメチルメタクリレートフィルムを用いた。
【０１０９】
【表２】
0006672608.tif 000007
【０１１０】
表２に示すように、実施例１〜５では、装飾性能、基材に対する密着性及び耐湿熱安定性の評価がいずれも「Ａ」又は「Ｂ」の評価であった。これに対し、比較例のものは装飾性能及び耐湿熱安定性の評価が「Ｃ」であり、実施例のものよりも劣っていた。
【符号の説明】
【０１１１】
１０…潜像形成体、１１…基材、１２…配向層、１３…液晶層、１４…第１偏光板、１５…第２偏光板、１６…偏光板一体型潜像形成体、１７…窓ガラス、２０…潜像形成体セット
【図１】
0006672608.tif 000008
【図２】
0006672608.tif 000009
【図３】
0006672608.tif 000010
【図４】
0006672608.tif 000011