(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
式１から選択される少なくとも１つの分子遷移金属錯体の存在下で、エチレン、及び少なくとも１つのα−オレフィンを重合することを含む、エチレン／α−オレフィンコポリマーを形成する方法であって、
【化１】
0006805125.tif 000029
式中、Ｍが、チタン、ジルコニウム、またはハフニウムであり、各々独立して、＋２、＋３、または＋４の形式的酸化状態であり、
ｎが、２であり、
各Ｘが独立して、中性、モノアニオン性、もしくはジアニオン性の単座配位子であるか、または２つのＸが一緒になって、中性、モノアニオン性、もしくはジアニオン性の二座配位子を形成し、
Ｘ及びｎが、前記金属−配位子錯体が中性になるように選択され、
各Ｚ部分が−Ｏ−であり、
Ｒxが、以下、置換もしくは非置換（Ｃ1〜Ｃ40）ヒドロカルビル、または水素から選択され、
Ｒyが、以下、置換もしくは非置換（Ｃ1〜Ｃ40）ヒドロカルビル、または水素から選択され、
Ｒｘが水素である場合、Ｒｙが水素ではなく、Ｒｙが水素である場合、Ｒｘが水素ではなく、
Ｒｘ及びＲｙが、環構造を随意に形成してもよく、
Ｒ1a、Ｒ2a、Ｒ3a、Ｒ4a、Ｒ1b、Ｒ2b、Ｒ3b、Ｒ4b、Ｒ6c、Ｒ7c、Ｒ8c、Ｒ6d、Ｒ7d、及びＲ8dが各々独立して、以下、置換もしくは非置換（Ｃ1〜Ｃ40）−ヒドロカルビル、置換もしくは非置換（Ｃ1〜Ｃ40）ヘテロヒドロカルビル、−Ｓｉ（ＲC）3、−ＯＳｉ（ＲC）3、−Ｇｅ（ＲC）3、−Ｐ（ＲC）2、−Ｎ（ＲC）2、−ＯＲC、−ＳＲC、−ＮＯ2、−ＣＮ、−ＣＦ3、−ＯＣＦ3、−Ｓ（Ｏ）ＲC、−Ｓ（Ｏ）2ＲC、−Ｎ＝Ｃ（ＲC）2、−ＯＣ（Ｏ）ＲC、−Ｃ（Ｏ）ＯＲC、−Ｎ（Ｒ）Ｃ（Ｏ）ＲC、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（ＲC）2、ハロゲン、または水素から選択され、式中、各ＲCが独立して、置換もしくは非置換（Ｃ1〜Ｃ30）ヒドロカルビル、または置換もしくは非置換（Ｃ1〜Ｃ30）ヘテロヒドロカルビルであり、
Ｒ5c及びＲ5dが各々独立して、１，２，３，４−テトラヒドロナフチル、アントラセニル、１，２，３，４−テトラヒドロアントラセニル、１，２，３，４，５，６，７，８−オクタヒドロアントラセニル、フェナントレニル、１，２，３，４，５，６，７，８−オクタヒドロフェナントレニル、２，６−ジメチルフェニル、２，６−ジイソプロピルフェニル、３，５−ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）フェニル、３，５−ジフェニルフェニル、１−ナフチル、２−メチル−１−ナフチル、２−ナフチル、１，２，３，４−テトラ−ヒドロナフト−５−イル、１，２，３，４−テトラヒドロナフト−６−イル、アントラセン−９−イル、１，２，３，４−テトラヒドロ−アントラセン−９−イル、１，２，３，４，５，６，７，８−オクタヒドロアントラセン−９−イル、１，２，３，４，５，６，７，８−オクタヒドロフェナントレン−９−イル、インドリル、インドリニル、キノリニル、１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル、イソキノリニル、１，２，３，４−テトラヒドロ−イソキノリニル、カルバゾリル、１，２，３，４−テトラヒドロカルバゾリル、１，２，３，４，５，６，７，８−オクタヒドロカルバゾリル、３，６−ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）−カルバゾール−９−イル、３，６−ジ（ｔｅｒｔ−オクチル）−カルバゾール−９−イル、３，６−ジフェニルカルバゾール−９−イル、３，６−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）−カルバゾール−９−イル、２，７−ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）−カルバゾール−９−イル、２，７−ジ（ｔｅｒｔ−オクチル）−カルバゾール−９−イル、２，７−ジフェニルカルバゾール−９−イル、または２，７−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）−カルバゾール−９−イルから選択され、
式１について、１つ以上の水素原子が、重水素で随意に置換されてもよく、
式１について、Ｒ1a、Ｒ2a、Ｒ3a、Ｒ4a、Ｒ1b、Ｒ2b、Ｒ3b、Ｒ4b、Ｒ5c、Ｒ6c、Ｒ7c、Ｒ8c、Ｒ5d、Ｒ6d、Ｒ7d、及びＲ8dのうちの２つ以上が、１つ以上の環構造を随意に形成してもよい、前記方法。
【請求項２】
Ｒ3aまたはＲ3bのうちの少なくとも一方がハロゲンである、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
ｎが２であり、各Ｘが独立して、アルキルである、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
Ｒ7c及びＲ7dが各々独立して、アルキルである、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
Ｒ1a、Ｒ2a、Ｒ4a、Ｒ1b、Ｒ2b、Ｒ4b、Ｒ6c、Ｒ8c、Ｒ6d、及びＲ8dが各々、水素である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記方法が１７０℃以上の重合温度で実行される、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記エチレン／α−オレフィンコポリマーが１７７℃で５０，０００ｃＰ以下の溶融粘度を有する、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
式１が、以下の構造ａ）〜ｄｄ）、
【化２−１】
0006805125.tif 000030
【化２−２】
0006805125.tif 000031
から選択される、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【背景技術】
【０００１】
関連出願の参照
本出願は、参照により本明細書に組み込まれる、２０１４年７月２４日に出願された米国仮出願第６２／０２８，６３７号の利益を主張する。
【０００２】
ホットメルト接着剤、及び他の種類の接着剤を作製するために、低分子量エチレン系ポリマーが製剤中で使用される。多くのかかるポリマーは、低温（＜１３５℃）で、拘束幾何型触媒系で生成される。それらの低分子量ポリマーを高温で作製して、反応器処理能力の増加、溶媒液化時の入熱の低減、及び反応器汚染の低減を可能にすることができる新たな重合及び触媒系を見出すことが望ましい。かかる高温重合及び触媒系を用いて、現行の拘束幾何触媒系と比較して、等価またはより低いレベルの水素を使用して、反応器、反応器供給物、または反応器後加熱器（複数可）のいずれかで生じるガス流出を低減または阻止することが望ましい。
【０００３】
いくつかの従来の重合及び触媒系については、以下の参考文献、国際公開第２００７／１３６，４９４号、米国特許第２０１１／０２８，２０１８号、同第６，８６９，９０４号、同第７，０６０，８４８号、同第６，８０６，３２６号、同第５，４５３，４１０号、及び同第５，１８９，１９２に記載されている。しかしながら、当該技術分野の遷移金属触媒によるエチレンの重合、及びエチレンと１つ以上のアルファ−オレフィンとの重合により、一般に、高い重合温度及び低い水素レベルで比較的高い分子量のホモポリマー及びコポリマーが生成されることが知られている。多くの場合、かかるポリマー及びコポリマーは、１００，０００ｇ／モルを超える、いくつかの実施形態では、５００，０００ｇ／モルを超える分子量（例えば、Ｍｗ）を呈する。ポリマーが所望通りには流動せず、重合溶液から結晶化し得るため、これらの分子量レベルでは、ポリマーのレオロジー挙動は望ましくない。述べられるように、高温及び低い水素レベルで低分子量ホモポリマー及びコポリマーを作製することができる新たな重合及び触媒系の必要性が依然として存在する。この必要性は、以下の発明によって満たされた。
【発明の概要】
【０００４】
本発明は、式１から選択される少なくとも１つの分子遷移金属錯体の存在下で、エチレン、及び随意に少なくとも１つのコモノマーを重合することを含む、エチレン系ポリマーを形成する方法であって、
【０００５】
【化１】
0006805125.tif 000002
【０００６】
式中、Ｍが、チタン、ジルコニウム、またはハフニウムであり、各々独立して、＋２、＋３、または＋４の形式的酸化状態であり、
ｎが、０〜３の整数であり、ｎが０である場合、Ｘが不在であり、
各Ｘが独立して、中性、モノアニオン性、もしくはジアニオン性の単座配位子であるか、または２つのＸが一緒になって、中性、モノアニオン性、もしくはジアニオン性の二座配位子を形成し、
Ｘ及びｎが、前記金属−配位子錯体が中性になるように選択され、
各Ｚ部分が独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ［（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビル］−、または−Ｐ［（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビル］−であり、
Ｒｘが、以下、置換もしくは非置換（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビル、置換もしくは非置換（Ｃ１−Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビル、−Ｓｉ（ＲＣ）３、−ＯＳｉ（ＲＣ）３−Ｇｅ（ＲＣ）３、−Ｐ（ＲＣ）２、−Ｎ（ＲＣ）２、−ＯＲＣ、−ＳＲＣ、−ＮＯ２、−ＣＮ、−ＣＦ３、−ＯＣＦ３、−Ｓ（Ｏ）ＲＣ、−Ｓ（Ｏ）２ＲＣ、−Ｎ＝Ｃ（ＲＣ）２、−ＯＣ（Ｏ）ＲＣ、−Ｃ（Ｏ）ＯＲＣ、−Ｎ（Ｒ）Ｃ（Ｏ）ＲＣ、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（ＲＣ）２、ハロゲン、または水素から選択され、式中、各ＲＣが独立して、置換もしくは非置換（Ｃ１−Ｃ３０）ヒドロカルビル、または置換もしくは非置換（Ｃ１−Ｃ３０）ヘテロヒドロカルビルであり、
Ｒｙが、以下、置換もしくは非置換（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビル、置換もしくは非置換（Ｃ１−Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビル、−Ｓｉ（ＲＣ）３、−ＯＳｉ（ＲＣ）３、−Ｇｅ（ＲＣ）３、−Ｐ（ＲＣ）２、−Ｎ（ＲＣ）２、−ＯＲＣ、−ＳＲＣ、−ＮＯ２、−ＣＮ、−ＣＦ３、−ＯＣＦ３、−Ｓ（Ｏ）ＲＣ、−Ｓ（Ｏ）２ＲＣ、−Ｎ＝Ｃ（ＲＣ）２、−ＯＣ（Ｏ）ＲＣ、−Ｃ（Ｏ）ＯＲＣ、−Ｎ（Ｒ）Ｃ（Ｏ）ＲＣ、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（ＲＣ）２、ハロゲン、または水素から選択され、式中、各ＲＣが独立して、置換もしくは非置換（Ｃ１−Ｃ３０）ヒドロカルビル、または置換もしくは非置換（Ｃ１−Ｃ３０）ヘテロヒドロカルビルであり、
Ｒｘが水素である場合、Ｒｙが水素ではなく、Ｒｙが水素である場合、Ｒｘが水素ではなく、
Ｒｘ及びＲｙが、環構造を随意に形成してもよく、
Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３ａ、Ｒ４ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ２ｂ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ｂ、Ｒ５ｃ、Ｒ６ｃ、Ｒ７ｃ、Ｒ８ｃ、Ｒ５ｄ、Ｒ６ｄ、Ｒ７ｄ、及びＲ８ｄが各々独立して、以下、置換もしくは非置換（Ｃ１−Ｃ４０）−ヒドロカルビル、置換もしくは非置換（Ｃ１−Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビル、−Ｓｉ（ＲＣ）３、−ＯＳｉ（ＲＣ）３、−Ｇｅ（ＲＣ）３、−Ｐ（ＲＣ）２、−Ｎ（ＲＣ）２、−ＯＲＣ、−ＳＲＣ、−ＮＯ２、−ＣＮ、−ＣＦ３、−ＯＣＦ３、−Ｓ（Ｏ）ＲＣ、−Ｓ（Ｏ）２ＲＣ、−Ｎ＝Ｃ（ＲＣ）２、−ＯＣ（Ｏ）ＲＣ、−Ｃ（Ｏ）ＯＲＣ、−Ｎ（Ｒ）Ｃ（Ｏ）ＲＣ、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（ＲＣ）２、ハロゲン、または水素から選択され、式中、各ＲＣが独立して、置換もしくは非置換（Ｃ１−Ｃ３０）ヒドロカルビル、または置換もしくは非置換（Ｃ１−Ｃ３０）ヘテロヒドロカルビルであり、
式１について、１つ以上の水素原子が、重水素で随意に置換されてもよく、
式１について、Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３ａ、Ｒ４ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ２ｂ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ｂ、Ｒ５ｃ、Ｒ６ｃ、Ｒ７ｃ、Ｒ８ｃ、Ｒ５ｄ、Ｒ６ｄ、Ｒ７ｄ、及びＲ８ｄのうちの２つ以上が、１つ以上の環構造を随意に形成してもよい、方法を提供する。
【０００７】
本発明は、式１の遷移金属錯体も提供する。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
≦５０，０００ｃＰ（１７７℃で）の溶融粘度を有する低分子量エチレン系ポリマーを生成するための、高い重合温度（例えば、≧１７０℃）及び低い水素レベルで動作することができる新規のビス−ビフェニル−フェノキシ系遷移金属錯体群が発見された。好ましくは、かかるポリマーは、低密度（≦０．９０ｇ／ｃｃ）も有する。単一のアルキル基をＣ３架橋型遷移金属系ビス−ビフェニル−フェノキシ触媒の中心炭素に付加することにより、コモノマー組み込み能力または高温性能を損なうことなく、ポリマー生成物の分子量が大幅に低減され得る。本発明方法は、驚くべきことに、単独重合または共重合の性質を別様に著しく改質することなく、所与のエチレン系ポリマーの分子量を大いに低減させるという利点を提供する。次いで、この分子量の低減は、流動挙動の著しい増加を提供することができ、それに対応して、それらの生成物を使用するための用途の数及び種類が増加し得る。
【０００９】
上述のように、本発明は、式１から選択される少なくとも１つの分子遷移金属錯体の存在下で、エチレン、及び随意に少なくとも１つのコモノマーを重合することを含む、エチレン系ポリマーを形成する方法であって、
【００１０】
【化２】
0006805125.tif 000003
【００１１】
式中、式１、Ｍ、ｎ、各Ｘ、各Ｚ、Ｒｘ、Ｒｙ、及びＲ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３ａ、Ｒ４ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ２ｂ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ｂ、Ｒ５ｃ、Ｒ６ｃ、Ｒ７ｃ、Ｒ８ｃ、Ｒ５ｄ、Ｒ６ｄ、Ｒ７ｄ、及びＲ８ｄが上述されている、方法を提供する。
【００１２】
本発明は、上述の式１の遷移金属錯体も提供する。
【００１３】
発明方法は、本明細書に記載の２つ以上の実施形態の組み合わせを含み得る。
【００１４】
式１の分子遷移金属錯体は、本明細書に記載の２つ以上の実施形態の組み合わせを含み得る。
【００１５】
以下の実施形態は、上述の本発明方法及び遷移金属錯体に適用される。
【００１６】
本明細書で使用される場合、Ｒ１ａ＝Ｒ１ａであり、Ｒ１ｂ＝Ｒ１ｂであり、Ｒ５ｃ＝Ｒ５ｃであり、Ｒ５ｄ＝Ｒ５ｄであるといった具合である。本明細書で使用される場合、Ｒｘ＝Ｒｘであり、Ｒｙ＝Ｒｙである。
【００１７】
一実施形態では、Ｒ３ａまたはＲ３ｂのうちの少なくとも一方がハロゲンであり、さらに、Ｒ３ａ及びＲ３ｂの両方が各々独立して、ハロゲン、さらにフッ素、塩素、またはヨウ素である。
【００１８】
一実施形態では、Ｒ３ａまたはＲ３ｂのうちの少なくとも一方が水素またはＣ１−Ｃ１０アルキル、さらに水素またはＣ１−Ｃ５アルキルである。
【００１９】
一実施形態では、Ｒ３ａまたはＲ３ｂのうちの少なくとも一方が水素である。
【００２０】
一実施形態では、ＲｘまたはＲｙが水素であり、他方が置換もしくは非置換（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビル、さらに非置換（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビルである。
【００２１】
一実施形態では、ＲｘまたはＲｙが水素であり、他方が非置換（Ｃ１−Ｃ２０）ヒドロカルビル、さらに非置換（Ｃ１−Ｃ１０）ヒドロカルビルである。
【００２２】
一実施形態では、各Ｚは−Ｏ−である。
【００２３】
一実施形態では、ｎは２であり、各Ｘは独立して、アルキルである。さらなる実施形態では、各Ｘは独立して、（Ｃ１−Ｃ７）アルキル、さらに（Ｃ１−Ｃ５）アルキル、さらに（Ｃ１−Ｃ３）アルキルであり、さらに、各Ｘはメチルである。
【００２４】
一実施形態では、Ｒ５ｃ及びＲ５ｄは各々独立して、以下、１，２，３，４−テトラヒドロナフチル、アントラセニル、１，２，３，４−テトラヒドロアントラセニル、１，２，３，４，５，６，７，８−オクタ−ヒドロアントラセニル、フェナントレニル、１，２，３，４，５，６，７，８−オクタヒドロフェナントレニル、２，６−ジメチルフェニル、２，６−ジイソプロピルフェニル、３，５−ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）フェニル、３，５−ジフェニル、１−ナフチル、２−メチル−１−ナフチル、２−ナフチル、１，２，３，４−テトラ−ヒドロナフト−５−イル、１，２，３，４−テトラヒドロナフト−６−イル、アントラセン−９−イル、１，２，３，４−テトラヒドロ−アントラセン−９−イル、１，２，３，４，５，６，７，８−オクタヒドロアントラセン−９−イル、１，２，３，４，５，６，７，８−オクタヒドロフェナントレン−９−イル、インドリル、インドリニル、キノリニル、１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル、イソキノリニル、１，２，３，４−テトラヒドロ−イソキノリニル、カルバゾリル、１，２，３，４−テトラヒドロカルバゾリル、１，２，３，４，５，６，７，８−オクタヒドロカルバゾリル、３，６−ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）−カルバゾール−９−イル、３，６−ジ（ｔｅｒｔ−オクチル）−カルバゾール−９−イル、３，６−ジフェニルカルバゾール−９−イル、３，６−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）−カルバゾール−９−イル、２，７−ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）−カルバゾール−９−イル、２，７−ジ（ｔｅｒｔ−オクチル）−カルバゾール−９−イル、２，７−ジフェニルカルバゾール−９−イル、または２，７−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）−カルバゾール−９−イルから選択される。
【００２５】
一実施形態では、Ｒ７ｃ及びＲ７ｄは各々独立して、アルキル、さらに（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、さらに（Ｃ１−Ｃ１０）アルキルである。
【００２６】
一実施形態では、Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ４ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ｂ、Ｒ６ｃ、Ｒ８ｃ、Ｒ６ｄ、及びＲ８ｄは各々、水素である。
【００２７】
一実施形態では、式１は、重水素原子を含有しない。
【００２８】
一実施形態では、Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３ａ、Ｒ４ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ２ｂ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ｂ、Ｒ５ｃ、Ｒ６ｃ、Ｒ７ｃ、Ｒ８ｃ、Ｒ５ｄ、Ｒ６ｄ、Ｒ７ｄ、及びＲ８ｄのうちの２つ以上が１つ以上の環構造を形成しない。
【００２９】
一実施形態では、式１は、以下の構造ａ）〜ｄｄ）、
【００３０】
【化３−１】
0006805125.tif 000004
【００３１】
【化３−２】
0006805125.tif 000005
【００３２】
から選択される。
【００３３】
一実施形態では、式１は、以下の構造ａ）、ｂ）、ｃ）、ｊ）、ｋ）、ｌ）、ｍ）、ｎ）、ｏ）、ｐ）、ｑ）、ｒ）、ｓ）、ｔ）、ｕ）、ｙ）、ｚ）、ａａ）、ｂｂ）、ｃｃ）、またはｄｄ）から選択され、各々、上に示される通りである。
【００３４】
一実施形態では、式１は、以下の構造ａ）、ｂ）、ｃ）、ｊ）、ｋ）、ｌ）、ｍ）、ｎ）、ｏ）、ｚ）、ａａ）、ｂｂ）、ｃｃ）、またはｄｄ）から選択され、各々、上に示される通りである。
【００３５】
一実施形態では、式１は、以下の構造ａ）、ｂ）  ｃ）、ｊ）、ｋ）、またはｌ）から選択され、各々、上に示される通りである。
【００３６】
一実施形態では、式１は、以下の構造ａ）、ｂ）、またはｃ）から選択され、各々、上に示される通りである。
【００３７】
一実施形態では、本発明方法は、５０〜２５０℃、さらに１００〜２３０℃、さらに１５０〜２００℃、さらに１７０〜２００℃の重合温度で実行される。
【００３８】
一実施形態では、本発明方法は、１５０℃以上、さらに１６０℃以上、さらに１７０℃以上、さらに１８０℃以上の重合温度で実行される。
【００３９】
一実施形態では、本発明方法は、２５０℃以下、さらに２４０℃以下、さらに２３０℃以下、さらに２２０℃以下の重合温度で実行される。
【００４０】
一実施形態では、本発明方法は、溶液重合、さらに連続溶液重合で実行される。
【００４１】
一実施形態では、本発明方法は、２．０〜３．０ｋｇ／時のエチレンと、１００ｍＬ／分以下、さらに９０ｍＬ／分以下、さらに８０ｍＬ／分以下の水素とを使用して実行される。
【００４２】
一実施形態では、本発明方法は、２．０〜３．０ｋｇ／時のエチレンと、７０ｍＬ／分以下、さらに６０ｍＬ／分以下、さらに５０ｍＬ／分以下の水素とを使用して実行される。
【００４３】
一実施形態では、本発明方法は、１ｋｇのエチレン（Ｃ２）当たり２．４０リットル以下の水素（Ｈ２）、または１ｋｇのＣ２当たり２．３０リットル以下のＨ２、または１ｋｇのＣ２当たり２．２０リットル以下のＨ２の、Ｈ２／Ｃ２比を使用して実行される。さらなる実施形態では、本発明方法は、１５０℃以上、または１６０℃以上、または１７０℃以上、または１８０℃以上の重合温度で実行される。さらなる実施形態では、本発明方法は、２５０℃以下、または２４０℃以下、または２３０℃以下、または２２０℃以下の重合温度で実行される。
【００４４】
一実施形態では、本発明方法は、１ｋｇのエチレン（Ｃ２）当たり０．２０〜２．４０リットルの水素（Ｈ２）、または１ｋｇのＣ２当たり０．２０〜２．３０リットルのＨ２、または１ｋｇのＣ２当たり０．２０〜２．２０リットルのＨ２の、Ｈ２／Ｃ２比を使用して実行される。さらなる実施形態では、本発明方法は、１５０℃以上、または１６０℃以上、または１７０℃以上、または１８０℃以上の重合温度で実行される。さらなる実施形態では、本発明方法は、２５０℃以下、または２４０℃以下、または２３０℃以下、または２２０℃以下の重合温度で実行される。
【００４５】
一実施形態では、重合は、並列、直列、またはそれらの組み合わせで接続された１つ以上の重合反応器内で、少なくとも１つの発明遷移金属錯体、及び随意に１つ以上の他の触媒系の存在下で起こる。
【００４６】
一実施形態では、本エチレン系ポリマーは、１７７℃で、５０，０００ｃＰ以下、さらに４０，０００ｃＰ以下、さらに３０，０００ｃＰ以下、さらに２０，０００ｃＰ以下の溶融粘度を有する。
【００４７】
一実施形態では、本エチレン系ポリマーは、エチレン／α−オレフィンインターポリマー、さらにエチレン／α−オレフィンコポリマーである。好ましいα−オレフィンとしては、Ｃ３−Ｃ２０α−オレフィン、さらにＣ３−Ｃ１０α−オレフィンが挙げられるが、これらに限定されない。より好ましいα−オレフィンとしては、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−ヘプテン、及び１−オクテンが挙げられ、よりさらに、プロピレン、１−ブテン、１−ヘキセン、及び１−オクテンが挙げられ、さらに、１−ブテン、１−ヘキセン、及び１−オクテンが挙げられ、さらに、１−ブテン及び１−オクテンが挙げられる。
【００４８】
本発明は、本明細書に記載の１つ以上の実施形態の方法から形成されるエチレン系ポリマーも提供する。
【００４９】
一実施形態では、本ポリマーは、１７７℃で、５０，０００ｃＰ以下、さらに４０，０００ｃＰ以下、さらに３０，０００ｃＰ以下、さらに２０，０００ｃＰ以下の溶融粘度を有する。
【００５０】
一実施形態では、本エチレン系ポリマーは、エチレン／α−オレフィンインターポリマー、さらにエチレン／α−オレフィンコポリマーである。好ましいα−オレフィンとしては、Ｃ３−Ｃ２０α−オレフィン、さらにＣ３−Ｃ１０α−オレフィンが挙げられるが、これらに限定されない。より好ましいα−オレフィンとしては、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−ヘプテン、及び１−オクテンが挙げられ、よりさらに、プロピレン、１−ブテン、１−ヘキセン、及び１−オクテンが挙げられ、さらに、１−ブテン、１−ヘキセン、及び１−オクテンが挙げられ、さらに、１−ブテン及び１−オクテンが挙げられる。
【００５１】
一実施形態では、本エチレン系ポリマーは、２，０００〜５０，０００ｇ／モル、さらに３，０００〜４０，０００、さらに４，０００〜３０，０００ｇ／モルの数平均分子量（Ｍｎ）を有する。
【００５２】
一実施形態では、本エチレン系ポリマーは、２，０００〜２５，０００ｇ／モル、さらに２，０００〜２０，０００、さらに２，０００〜１５，０００ｇ／モル、さらに２，０００〜１０，０００ｇ／モルの数平均分子量（Ｍｎ）を有する。
【００５３】
一実施形態では、本エチレン系ポリマーは、１．７〜３．０、さらに１．８〜２．８、さらに１．９〜２．７の分子量分布（ＭＷＤ）を有する。
【００５４】
本発明は、発明エチレン系ポリマーを含む組成物も提供する。さらなる実施形態では、この組成物は、１つ以上の添加物をさらに含む。
【００５５】
本発明は、発明組成物から形成される少なくとも１つの成分を含む物品も提供する。
【００５６】
発明エチレン系ポリマーは、本明細書に記載の２つ以上の実施形態の組み合わせを含み得る。
【００５７】
発明組成物は、本明細書に記載の２つ以上の実施形態の組み合わせを含み得る。
【００５８】
発明物品は、本明細書に記載の２つ以上の実施形態の組み合わせを含み得る。
【００５９】
発明方法は、本明細書に記載の２つ以上の実施形態の組み合わせを含み得る。
【００６０】
式１の分子遷移金属錯体は、本明細書に記載の２つ以上の実施形態の組み合わせを含み得る。
【００６１】
本発明は、従来の化学基用語を使用して本明細書に記載される式（Ｉ）の１つ以上の金属−配位子錯体を用いる。ある特定の炭素原子含有化学基（例えば、（Ｃ１−Ｃ４０）アルキル）を説明するために使用される場合、括弧付きの表現（Ｃ１−Ｃ４０）は、「（Ｃｖ−Ｃｗ）」という形態で表すことができ、これは、その化学基の非置換バージョンがｘ個の炭素原子〜ｙ個の炭素原子を含むことを意味し、式中、各ｖ及びｗは独立して、その化学基について説明される整数である。
【００６２】
「置換」という用語は、化学化合物に関して本明細書で使用される場合、少なくとも１つのヘテロ原子（例えば、Ｏ、Ｓ、Ｎ、Ｐ等）を含む置換基を指す。置換基としては、以下、ハロゲン原子、ポリフルオロ置換基、ペルフルオロ置換基、Ｆ３Ｃ−、ＦＣＨ２Ｏ−、Ｆ２ＨＣＯ−、Ｆ３ＣＯ−、（ＲＣ）３Ｓｉ−、（ＲＣ）３Ｇｅ−、（ＲＣ）Ｏ−、（ＲＣ）Ｓ−、（ＲＣ）Ｓ（Ｏ）−、（ＲＣ）Ｓ（Ｏ）２−、（ＲＣ）２Ｐ−、（ＲＣ）２Ｎ−、（ＲＣ）２Ｃ＝Ｎ−、ＮＣ−、（ＲＣ）Ｃ（Ｏ）Ｏ−、（ＲＣ）ＯＣ（Ｏ）−、（ＲＣ）Ｃ（Ｏ）Ｎ（ＲＣ）−、及び（ＲＣ）２ＮＣ（Ｏ）−等のＲＳ置換基が挙げられるが、これらに限定されず、式中、各ＲＣは独立して、置換もしくは非置換（Ｃ１−Ｃ３０）ヒドロカルビル、または置換もしくは非置換（Ｃ１−Ｃ３０）ヘテロヒドロカルビルである。
【００６３】
「非置換」という用語は、化学化合物に関して本明細書で使用される場合、少なくとも１つのヘテロ原子（例えば、Ｏ、Ｓ、Ｎ、Ｐ等）を含む置換基の欠失を指す。
【００６４】
「ヒドロカルビル」という用語は、本明細書で使用される場合、水素及び炭素原子のみを含有する一価（モノラジカルまたはラジカル）化学基を指す。
【００６５】
「置換ヒドロカルビル」という用語は、本明細書で使用される場合、少なくとも１つの水素原子が少なくとも１つのヘテロ原子を含む置換基で置換される、ヒドロカルビルを指す。
【００６６】
「ヘテロヒドロカルビル」という用語は、本明細書で使用される場合、少なくとも１つの炭素原子またはＣＨ基またはＣＨ２基が、ヘテロ原子、または少なくとも１つのヘテロ原子を含有する化学基で置換される、ヒドロカルビルを指す。ヘテロ原子としては、Ｏ、Ｎ、Ｐ、及びＳが挙げられるが、これらに限定されない。
【００６７】
「置換ヘテロヒドロカルビル」という用語は、本明細書で使用される場合、少なくとも１つの水素原子が少なくとも１つのヘテロ原子を含む置換基で置換される、ヘテロヒドロカルビルを指す。
【００６８】
「ヒドロカルビレン」という用語は、本明細書で使用される場合、水素及び炭素原子のみを含有する二価（ジラジカル）化学基を指す。
【００６９】
「置換ヒドロカルビレン」という用語は、本明細書で使用される場合、少なくとも１つの水素原子が少なくとも１つのヘテロ原子を含む置換基で置換される、ヒドロカルビレンを指す。
【００７０】
「ヘテロヒドロカルビレン」という用語は、本明細書で使用される場合、少なくとも１つの炭素原子またはＣＨ基またはＣＨ２基が、ヘテロ原子、または少なくとも１つのヘテロ原子を含有する化学基で置換される、ヒドロカルビレンを指す。ヘテロ原子としては、Ｏ、Ｎ、Ｐ、及びＳが挙げられるが、これらに限定されない。
【００７１】
「置換ヘテロヒドロカルビレン」という用語は、本明細書で使用される場合、少なくとも１つの水素原子が少なくとも１つのヘテロ原子を含む置換基で置換される、ヘテロヒドロカルビレンを指す。
【００７２】
本明細書で使用される場合、「（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビル」という用語は、１〜４０個の炭素原子の炭化水素ラジカルを指す。この炭化水素ラジカルは独立して、芳香族（６個以上の炭素原子）、または非芳香族、置換もしくは非置換、直鎖もしくは分岐鎖、環式（単環式及び多環式、二環式を含む縮合及び非縮合多環式等、３個以上の炭素原子）、または非環式、またはそれらの２つ以上の組み合わせであってもよく、各炭化水素ラジカルは独立して、それぞれ別の炭化水素ラジカルと同じであるか、または異なる。この炭化水素ラジカルは、上で定義される１つ以上のＲＳ置換基（例えば、置換ヒドロカルビル）で随意に置換されてもよい。
【００７３】
好ましくは、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビルは独立して、（Ｃ１−Ｃ４０）アルキル、または（Ｃ３−Ｃ４０）シクロアルキルである。より好ましくは、前述の（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビル基は各々独立して、最大２０個の炭素原子（すなわち、（Ｃ１−Ｃ２０）ヒドロカルビル）、さらにより好ましくは最大１２個の炭素原子を有する。さらに、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビルは、上で定義される１つ以上のＲＳ置換基（例えば、置換ヒドロカルビル）で随意に置換される。
【００７４】
本明細書で使用される場合、「（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビレン」という用語は、１〜４０個の炭素原子の炭化水素ジラジカルを指す。この炭化水素ジラジカルは独立して、芳香族（６個以上の炭素原子）、または非芳香族、飽和もしくは不飽和、直鎖もしくは分岐鎖、環式（単環式及び多環式、二環式を含む縮合及び非縮合多環式等、３個以上の炭素原子）、または非環式、またはそれらの２つ以上の組み合わせであってもよく、各炭化水素ジラジカルは独立して、それぞれ別の炭化水素ジラジカルと同じであるか、または異なる。さらに、炭化水素ジラジカルは、上で定義される１つ以上のＲＳ置換基（例えば、置換ヒドロカルビレン）で随意に置換されてもよい。
【００７５】
好ましくは、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビレンは独立して、（Ｃ３−Ｃ２０）シクロアルキル−（Ｃ１−Ｃ２０）アルキレン、（Ｃ６−Ｃ４０）アリール、または（Ｃ６−Ｃ２０）アリール−（Ｃ１−Ｃ２０）アルキレンである。より好ましくは、前述の（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビレン基は各々独立して、最大２０個の炭素原子（すなわち、（Ｃ１−Ｃ２０）ヒドロカルビル）、さらにより好ましくは最大１２個の炭素原子を有する。この（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビレンは、上で定義される１つ以上のＲＳ置換基（例えば、置換ヒドロカルビレン）で随意に置換されてもよい。
【００７６】
「（Ｃ１−Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビル」という用語は、１〜４０個の炭素原子のヘテロ炭化水素ジラジカルを指す。このヘテロヒドロカルビルは独立して、１つ以上のヘテロ原子、例えば、Ｏ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ）２、Ｓｉ（ＲＣ）２、Ｇｅ（ＲＣ）２、Ｐ（ＲＰ）、及びＮ（ＲＮ）を有し、式中、独立して、各ＲＣが非置換（Ｃ１−Ｃ１８）ヒドロカルビルであり、各ＲＰが非置換（Ｃ１−Ｃ１８）ヒドロカルビルであり、各ＲＮが非置換（Ｃ１−Ｃ１８）ヒドロカルビルであるか、または不在である（例えば、Ｎが−Ｎ＝または三炭素置換Ｎを含む場合、不在である）。このヘテロ炭化水素ラジカルは、それらの炭素原子またはヘテロ原子上に存在するが、好ましくは、式（Ｉ）のヘテロ原子または別のヘテロヒドロカルビルのヘテロ原子に結合している場合、炭素原子上に存在する。（Ｃ１−Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビルは独立して、置換もしくは非置換、直鎖もしくは分岐鎖、環式（単環式及び多環式、縮合及び非縮合多環式等）、または非環式、またはそれらの２つ以上の組み合わせであってもよく、各々、それぞれ互いに同じであるか、または異なる。置換ヘテロヒドロカルビルについては、上述されている。
【００７７】
「（Ｃ１−Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレン」という用語は、１〜４０個の炭素原子のヘテロ炭化水素ジラジカルを指す。このヘテロヒドロカルビレンは独立して、１つ以上のヘテロ原子、例えば、Ｏ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ）２、Ｓｉ（ＲＣ）２、Ｇｅ（ＲＣ）２、Ｐ（ＲＰ）、及びＮ（ＲＮ）を有し、式中、独立して、各ＲＣが非置換（Ｃ１−Ｃ１８）ヒドロカルビルであり、各ＲＰが非置換（Ｃ１−Ｃ１８）ヒドロカルビルであり、各ＲＮが非置換（Ｃ１−Ｃ１８）ヒドロカルビルであるか、または不在である（例えば、Ｎが−Ｎ＝または三炭素置換Ｎを含む場合、不在である）。このヘテロ炭化水素ラジカル及びこのヘテロ炭化水素ジラジカルの各々は独立して、それらの炭素原子またはヘテロ原子上に存在するが、好ましくは、式（Ｉ）のヘテロ原子または別のヘテロヒドロカルビルもしくはヘテロヒドロカルビレンヘテロ原子に結合している場合、炭素原子上に存在する。この（Ｃ１−Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンは独立して、非置換もしくは置換（例えば、１つ以上のＲＳによる）、芳香族もしくは非芳香族、置換もしくは非置換、直鎖もしくは分岐鎖、環式（単環式及び多環式、縮合及び非縮合多環式等）、または非環式、またはそれらの２つ以上の組み合わせであり、各々、それぞれ互いに同じであるか、または異なる。置換ヘテロヒドロカルビレンについては、上述されている。
【００７８】
好ましくは、（Ｃ１−Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビルは独立して、（Ｃ１−Ｃ４０）ヘテロアルキル、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビル−Ｏ−、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビル−Ｓ−、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビル−Ｓ（Ｏ）−、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビル−Ｓ（Ｏ）２−、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビル−Ｓｉ（ＲＣ）２−、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビル−Ｇｅ（ＲＣ）２−、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビル−Ｎ（ＲＮ）−、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビル−Ｐ（ＲＰ）−、（Ｃ２−Ｃ４０）ヘテロシクロアルキルである。
【００７９】
好ましくは、（Ｃ１−Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンは独立して、（Ｃ２−Ｃ１９）ヘテロシクロアルキル−（Ｃ１−Ｃ２０）アルキレン、（Ｃ３−Ｃ２０）シクロアルキル−（Ｃ１−Ｃ１９）ヘテロアルキレン、（Ｃ２−Ｃ１９）ヘテロシクロアルキル−（Ｃ１−Ｃ２０）ヘテロアルキレン、（Ｃ１−Ｃ４０）ヘテロアリーレン、（Ｃ１−Ｃ１９）ヘテロアリール−（Ｃ１−Ｃ２０）アルキレン、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール−（Ｃ１−Ｃ１９）ヘテロアルキレン、または（Ｃ１−Ｃ１９）ヘテロアリール−（Ｃ１−Ｃ２０）ヘテロアルキレンである。
【００８０】
「ハロゲン原子」という用語は、フッ素原子ラジカル（Ｆ）、塩素原子ラジカル（Ｃｌ）、臭素原子ラジカル（Ｂｒ）、またはヨウ素原子ラジカル（Ｉ）を指す。好ましくは、各ハロゲン原子は独立して、Ｂｒ、Ｆ、またはＣｌラジカル、より好ましくは、ＦまたはＣｌラジカル、より好ましくは、Ｆラジカルである。
【００８１】
好ましくは、式１の遷移金属錯体におけるＳ（Ｏ）またはＳ（Ｏ）２ジラジカル官能基には、Ｏ−Ｓ結合以外に、Ｏ−Ｏ、Ｓ−Ｓ、またはＯ−Ｓ結合は存在しない。より好ましくは、式１の遷移金属錯体におけるＳ（Ｏ）またはＳ（Ｏ）２ジラジカル官能基には、Ｏ−Ｓ結合以外に、Ｏ−Ｏ、Ｎ−Ｎ、Ｐ−Ｐ、Ｎ−Ｐ、Ｓ−Ｓ、またはＯ−Ｓ結合は存在しない。
【００８２】
「飽和」という用語は、炭素−炭素二重結合、炭素−炭素三重結合、及び（ヘテロ原子含有基に）炭素−窒素、炭素−リン、炭素−酸素、及び炭素−ケイ素多重結合を欠くことを意味する。
【００８３】
「不飽和」という用語は、１つ以上の炭素−炭素二重結合、炭素−炭素三重結合、及び（ヘテロ原子含有基に）炭素−窒素、炭素−リン、炭素−酸素、及び／または炭素−ケイ素多重結合を含有することを意味する。
【００８４】
式１の金属Ｍは、好ましくは、ジルコニウム（Ｚｒ）、ハフニウム（Ｈｆ）、及びチタン（Ｔｉ）、好ましくは、ＺｒまたはＨｆ、より好ましくは、Ｚｒから選択される。いくつかの実施形態では、Ｍは、＋２、＋３、または＋４の形式的酸化状態である。いくつかの実施形態では、ｎは、０、１、２、または３である。各Ｘは独立して、中性、モノアニオン性、もしくはジアニオン性の単座配位子であるか、または２つのＸが一緒になって、中性、モノアニオン性、もしくはジアニオン性の二座配位子を形成する。Ｘ及びｎは、式１の金属−配位子錯体が全体的に中性になるように選択される。いくつかの実施形態では、各Ｘは独立して、単座配位子である。一実施形態では、２つ以上のＸ単座配位子が存在する場合、各Ｘは同じである。いくつかの実施形態では、単座配位子は、モノアニオン性配位子である。モノアニオン性配位子は、−１の正味形式的酸化状態を有する。各モノアニオン性配位子は独立して、水素化物、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビルカルバニオン、（Ｃ１−Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビルカルバニオン、ハロゲン化物、硝酸塩、炭酸塩、リン酸塩、硫酸塩、ＨＣ（Ｏ）Ｏ−、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビルＣ（Ｏ）Ｏ−、ＨＣ（Ｏ）Ｎ（Ｈ）−、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビルＣ（Ｏ）Ｎ（Ｈ）−、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビルＣ（Ｏ）Ｎ（（Ｃ１−Ｃ２０）ヒドロカルビル）−、ＲＫＲＬＢ−、ＲＫＲＬＮ−、ＲＫＯ−、ＲＫＳ−、ＲＫＲＬＰ−、またはＲＭＲＫＲＬＳｉ−であってもよく、式中、各ＲＫ、ＲＬ、及びＲＭは独立して、水素、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビル、もしくは（Ｃ１−Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビルであるか、またはＲＫ及びＲＬが一緒になって、（Ｃ２−Ｃ４０）ヒドロカルビレンもしくは（Ｃ１−Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンを形成し、ＲＭは上で定義されている。
【００８５】
いくつかの実施形態では、少なくとも１つの単座配位子Ｘは独立して、中性配位子である。一実施形態では、中性配位子は、ＲＸＮＲＫＲＬ、ＲＫＯＲＬ、ＲＫＳＲＬ、またはＲＸＰＲＫＲＬである中性ルイス塩基であり、式中、各ＲＸは独立して、水素、（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロ−カルビル、［（Ｃ１−Ｃ１０）ヒドロカルビル］３Ｓｉ、［（Ｃ１−Ｃ１０）ヒドロカルビル］３Ｓｉ（Ｃ１−Ｃ１０）ヒドロカルビル、または（Ｃ１−Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビルであり、各ＲＫ及びＲＬは独立して、上で定義されている。
【００８６】
いくつかの実施形態では、各Ｘは、独立して、ハロゲン原子、非置換（Ｃ１−Ｃ２０）ヒドロカルビル、非置換（Ｃ１−Ｃ２０）ヒドロカルビルＣ（Ｏ）Ｏ−、またはＲＫＲＬＮ−である単座配位子であり、式中、ＲＫ及びＲＬは各々独立して、非置換（Ｃ１−Ｃ２０）ヒドロカルビルである。いくつかの実施形態では、各単座配位子Ｘは、塩素原子、（Ｃ１−Ｃ１０）ヒドロカルビル（例えば、（Ｃ１−Ｃ６）アルキルまたはベンジル）、非置換（Ｃ１−Ｃ１０）ヒドロカルビルＣ（Ｏ）Ｏ−、またはＲＫＲＬＮ−であり、式中、ＲＫ及びＲＬは各々独立して、非置換（Ｃ１−Ｃ１０）ヒドロカルビルである。
【００８７】
いくつかの実施形態では、少なくとも２つのＸが存在し、これらの２つのＸが一緒になって、二座配位子を形成する。いくつかの実施形態では、二座配位子は、中性二座配位子である。一実施形態では、中性二座配位子は、式（ＲＤ）２Ｃ＝Ｃ（ＲＤ）−Ｃ（ＲＤ）＝Ｃ（ＲＤ）２のジエンであり、式中、各ＲＤは独立して、Ｈ、非置換（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、フェニル、またはナフチルである。いくつかの実施形態では、二座配位子は、モノアニオン性単座（ルイス塩基）配位子である。このモノアニオン性単座（ルイス塩基）配位子は、式（Ｄ）：ＲＥ−Ｃ（Ｏ−）＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）−ＲＥ（Ｄ）の１，３−ジオネートであってもよく、式中、各ＲＥは独立して、Ｈ、非置換（Ｃ１−Ｃ６）アルキル、フェニル、またはナフチルである。いくつかの実施形態では、二座配位子は、ジアニオン性配位子である。ジアニオン性配位子は、−２の正味形式的酸化状態を有する。一実施形態では、各ジアニオン性配位子は独立して、炭酸塩、シュウ酸塩（すなわち、−Ｏ２ＣＣ（Ｏ）Ｏ−）、（Ｃ２−Ｃ４０）ヒドロカルビレンジカルバニオン、（Ｃ１−Ｃ４０）ヘテロヒドロカルビレンジカルバニオン、リン酸塩、または硫酸塩である。
【００８８】
前述のように、Ｘの数及び電荷（中性、モノアニオン性、ジアニオン性）は、式１の遷移金属錯体が全体的に中性になるように、Ｍの形式的酸化状態に応じて選択される。
【００８９】
いくつかの実施形態では、各Ｘは同じであり、式中、各Ｘは、メチル、エチル、１−プロピル、２−プロピル、１−ブチル、２，２−ジメチルプロピル、トリメチルシリルメチル、フェニル、ベンジル、またはクロロである。いくつかの実施形態では、ｎは２であり、各Ｘは同じであり、さらに各Ｘは、メチル、エチル、１−プロピル、２−プロピル、１−ブチル、２，２，−ジメチルプロピル、トリメチルシリルメチル、フェニル、ベンジル、またはクロロである。
【００９０】
いくつかの実施形態では、少なくとも２つのＸは異なる。いくつかの実施形態では、ｎは２であり、各Ｘは、メチル、エチル、１−プロピル、２−プロピル、１−ブチル、２，２，−ジメチルプロピル、トリメチルシリルメチル、フェニル、ベンジル、またはクロロのうちの異なるものである。
【００９１】
整数ｎは、Ｘ基の数を示す。一実施形態では、ｎは２または３であり、少なくとも２つのＸは独立して、モノアニオン性単座配位子であり、第３のＸは、存在する場合、中性単座配位子である。いくつかの実施形態では、ｎは２であり、２つのＸが一緒になって、二座配位子を形成する。いくつかの実施形態では、二座配位子は、２，２−ジメチル−２−シラプロパン−１，３−ジイルまたは１，３−ブタジエンである。
【００９２】
一実施形態では、各Ｚは独立して、Ｏ、Ｓ、−Ｎ［（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビル］−、または−Ｐ［（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビル］−である。いくつかの実施形態では、各Ｚは異なる。いくつかの実施形態では、１つのＺがＯであり、１つのＺが−Ｎ［（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビル］−（例えば、−Ｎ（ＣＨ３）−）である。いくつかの実施形態では、１つのＺがＯであり、１つのＺがＳである。いくつかの実施形態では、１つのＺがＳであり、１つのＺが−Ｎ［（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロ−カルビル］−（例えば、−Ｎ（ＣＨ３）−）である。いくつかの実施形態では、各Ｚは同じである。いくつかの実施形態では、各ＺはＯである。いくつかの実施形態では、各ＺはＳである。いくつかの実施形態では、各Ｚは−Ｎ［（Ｃ１−Ｃ４０）−ヒドロカルビル］−（例えば、−Ｎ（ＣＨ３）−）である。いくつかの実施形態では、少なくとも１つのＺ、いくつかの実施形態では、各Ｚは、−Ｐ［（Ｃ１−Ｃ４０）ヒドロカルビル］−（例えば、−Ｐ（ＣＨ３）−）である。
【００９３】
重合
本発明のホモポリマー、インターポリマー、またはコポリマーを調製するために、エチレン及び／または選択されるアルファ−オレフィンモノマー（複数可）が、バッチ生産、半連続生産、または連続生産に好適な反応器に供給され、そこで、かかるモノマー（複数可）が触媒と接触する。コポリマーの調製の場合、エチレン／アルファ−オレフィン反応性比がいずれの所与の触媒によってはっきりと異なり、目標とするコポリマー組成物を達成するのに必要なアルファ−オレフィンの量を決定するための方法を提供することに留意する。反応性比は、周知の理論的手法を使用して決定することができるか、または実際の重合データから経験的に導出することができる。好適な理論的手法は、例えば、Ｂ．Ｇ．Ｋｙｌｅ，Ｃｈｅｍｉｃａｌ  ａｎｄ  Ｐｒｏｃｅｓｓ  Ｔｈｅｒｍｏｄｙｎａｍｉｃｓ，３ｒｄ  ｅｄ．，Ｐｒｅｎｔｉｃｅ−Ｈａｌｌ（Ｅｎｇｌｅｗｏｏｄ  Ｃｌｉｆｆｓ，ＮＪ  １９９９）、及びＧ．Ｓｏａｖｅ，“Ｒｅｄｌｉｃｈ−Ｋｗｏｎｇ−Ｓｏａｖｅ（ＲＫＳ）Ｅｑｕａｔｉｏｎ  ｏｆ  Ｓｔａｔｅ，”Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ  Ｓｃｉｅｎｃｅ，１９７２，ｖｏｌ．２７，ｐｐ  １１９７−１２０３に記載されている。市販のソフトウェアプログラムを使用して、実験的に導出されたデータからの反応性比の導出を支援することができる。かかるソフトウェアの一例は、Ａｓｐｅｎ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，Ｉｎｃ．（Ｔｅｎ  Ｃａｎａｌ  Ｐａｒｋ，Ｃａｍｂｒｉｄｇｅ，Ｍａｓｓａｃｈｕｓｅｔｔｓ  ０２１４１−２２０１，ＵＳＡ）のＡｓｐｅｎ  Ｐｌｕｓである。一実施形態では、コポリマー中のアルファ−オレフィンの目標量は、重合モノマーの総モルに基づいて、１〜３０モルパーセント（ｍｏｌ％）、より好ましくは、１〜２５ｍｏｌ％、さらにより好ましくは、１〜２０ｍｏｌ％の範囲である。
【００９４】
式１の遷移金属錯体は、それを活性化共触媒と接触させるか、またはそれを活性化共触媒と組み合わせることによって、あるいは活性化技法、例えば、金属系オレフィン重合反応物と共に使用するための当該技術分野で既知の技法を使用することによって触媒活性にされる。多くの活性化共触媒及び活性化技法が、異なる金属−配位子錯体に関して、以下の特許参考文献、米国特許第５，０６４，８０２号、同第５，１５３，１５７号、同第５，２９６，４３３号、同第５，３２１，１０６号、同第５，３５０，７２３号、同第５，４２５，８７２号、同第５，６２５，０８７号、同第５，７２１，１８５号、同第５，７８３，５１２号、同第５，８８３，２０４号、同第５，９１９，９８３号、同第６，６９６，３７９号、及び同第７，１６３，９０７号で以前に教示されている。好適なヒドロカルビルオキシドの例は、同第５，２９６，４３３号に記載されている。付加重合触媒に好適なブレンステッド酸塩の例は、同第５，０６４，８０２号、同第５，９１９，９８３号、同第５，７８３，５１２号に記載されている。活性化共触媒として付加重合触媒に好適なカチオン性酸化剤及び非配位相溶性アニオンの塩の例は、同第５，３２１，１０６号に記載されている。活性化共触媒として付加重合触媒に好適なカルベニウム塩の例は、同第５，３５０，７２３号に記載されている。活性化共触媒として付加重合触媒好適なシリリウム塩の例は、同第５，６２５，０８７号に記載されている。アルコール、メルカプタン、シラノール、及びオキシムのトリス（ペンタフルオロフェニル）ボランとの好適な錯体の例は、同第５，２９６，４３３号に記載されている。これらの触媒のうちのいくつかは、同第６，５１５，１５５号Ｂ１の一部（第５０欄の３９行目から始まり第５６欄の５５行目まで）にも記載されており、その一部のみが参照により本明細書に組み込まれる。
【００９５】
いくつかの実施形態では、式１の遷移金属錯体は、カチオン形成共触媒、強ルイス酸、またはそれらの組み合わせ等の１つ以上の共触媒と組み合わせることによって活性化されて、活性触媒組成物を形成することができる。好適な共触媒としては、ポリマーまたはオリゴマーアルミノキサン、特にメチルアルミノキサン、ならびに不活性、相溶性、非配位性のイオン形成化合物が挙げられる。例示の好適な共触媒としては、修飾メチルアルミノキサン（ＭＭＡＯ）、トリエチルアルミニウム（ＴＥＡ）、トリス−ペンタフルオロフェニルボラン、ビス−水素化獣脂アルキルメチルアンモニウムテトラキス−ペンタフルオロ−フェニルボレート、及びそれらの任意の組み合わせが挙げられるが、これらに限定されない。一実施形態では、共触媒は、トリス−ペンタフルオロフェニルボラン、修飾メタルミノキサン、ビス−水素化獣脂アルキル−メチルアンモニウムテトラキス−ペンタフルオロフェニルボレート、及びそれらの組み合わせから選択される。
【００９６】
いくつかの実施形態では、前述の活性化共触媒のうちの１つ以上が、互いに組み合わせて使用される。特に好ましい組み合わせは、トリ（（Ｃ１−Ｃ４）ヒドロカルビル）アルミニウム、トリ（（Ｃ１−Ｃ４）ヒドロカルビル）ボラン、またはホウ酸アンモニウムと、オリゴマーまたはポリマーアルモキサン化合物との混合物である。
【００９７】
式１の１つ以上の遷移金属錯体の総モル数と活性化共触媒のうちの１つ以上の総モル数の比率は、１：１０，０００〜１００：１である。いくつかの実施形態では、この比率は、少なくとも１：５０００、いくつかの他の実施形態では、少なくとも１：１０００または１：１００及び１０：１以下、いくつかの他の実施形態では、１：１以下である。アルモキサンが単独で活性化共触媒として使用される場合、好ましくは、用いられるアルモキサンのモル数は、式１の遷移金属錯体のモル数の少なくとも１０倍、さらに少なくとも４０倍、さらに少なくとも１００倍である。トリス（ペンタフルオロフェニル）−ボランが単独で活性化共触媒として使用される場合、いくつかの他の実施形態では、用いられるトリス（ペンタフルオロ−フェニル）ボランのモル数と式１の１つ以上の遷移金属錯体の総モル数は、０．５：１〜１０：１であり、いくつかの他の実施形態では、１：１〜６：１であり、いくつかの他の実施形態では、１：１〜５：１である。残りの活性化共触媒は、概して、式１の１つ以上の遷移金属錯体の総モル量に等しいおよそのモル量で用いられる。
【００９８】
出発物質、反応の性質（バッチ、半連続、または連続）、装置の設定、所望の生成物等に従って、様々な単独重合または共重合条件、及びそれらの組み合わせを用いることができる。しかしながら、概して、本発明の好適なポリマー、インターポリマー、またはコポリマーは、好ましくは、１５０℃〜２５０℃、さらに１６０℃〜２４０℃、さらに１７０℃〜２３０℃の温度で、式１の特定の遷移金属錯体のうちの１つ以上を使用して生成され得る。反応時間は、１０分間〜３００分間の範囲であり得る。圧力等の他のパラメータは、実践者の要望及び要求に応じて制御され得、かつ変動し得る。通常、このプロセスを、少なくとも１つの連続撹拌槽反応器（ＣＳＴＲ）または他の好適な容器（複数可）をさらに使用する連続プロセスとして、好ましくは、少なくとも１つの連続撹拌槽反応器（ＣＳＴＲ）または他の好適な容器（複数可）をさらに使用する連続溶液プロセスとして行うことが好ましい。
【００９９】
エチレン系ポリマー
本エチレン系ポリマーは、エチレンホモポリマー、エチレン系インターポリマー、またはエチレン系コポリマーであり得る。
【０１００】
一実施形態では、本エチレン系ポリマーは、エチレン／α−オレフィンインターポリマー、さらにエチレン／α−オレフィンコポリマーである。好ましいα−オレフィンとしては、Ｃ３−Ｃ２０α−オレフィン、さらにＣ３−Ｃ１２α−オレフィン、さらにＣ３−Ｃ１０α−オレフィンが挙げられるが、これらに限定されない。より好ましいα−オレフィンとしては、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−ヘプテン、及び１−オクテンが挙げられ、よりさらに、プロピレン、１−ブテン、１−ヘキセン、及び１−オクテンが挙げられ、さらに、１−ブテン、１−ヘキセン、及び１−オクテンが挙げられ、さらに、１−ブテン及び１−オクテンが挙げられる。
【０１０１】
非限定的な例のみでは、α−オレフィンは、３〜１２個の炭素を有する直鎖状のアルファ−オレフィン、例えば、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−ヘプテン、１−オクテン、１−ノネン、１−デセン、ウンデセン、１−ドデセン、及びそれらの組み合わせから選択され得る。３〜８個の炭素を有するより小さい直鎖状のアルファ−オレフィンは、それらが最終生成物オリゴマーのより高い分岐密度を可能にするため、好ましい。分岐アルファ−オレフィンは、プロセス供給に用いることもでき、非限定的な実施形態では、５〜１６個の炭素を有する一重及び多重分岐アルファ−オレフィンモノマー（そこで、ビニルに関して、第１の置換炭素が「３」以上の位置においてである）、及びそれらの組み合わせを含んでもよい。概して、第１の置換が「４」以上の位置においてであることが好ましい。
【０１０２】
一実施形態では、本エチレン系ポリマーは、３５０°Ｆ（１７７℃）で、５０，０００ｃＰ以下、さらに４０，０００ｃＰ以下、さらに３０，０００ｃＰ以下、さらに２０，０００ｃＰ以下の溶融粘度を有する。さらなる実施形態では、本エチレン系ポリマーは、エチレン／α−オレフィンインターポリマー、さらにエチレン／α−オレフィンコポリマーである。好適なα−オレフィンについては、上述されている。
【０１０３】
一実施形態では、本エチレン系ポリマーは、３５０°Ｆ（１７７℃）で、２，０００ｃＰ以上、さらに４，０００ｃＰ以上、よりさらに５，０００ｃＰ以上の溶融粘度を有する。さらなる実施形態では、本エチレン系ポリマーは、エチレン／α−オレフィンインターポリマー、さらにエチレン／α−オレフィンコポリマーである。好適なα−オレフィンについては、上述されている。
【０１０４】
一実施形態では、本エチレン系ポリマーは、３５０°Ｆ（１７７℃）で、２，０００ｃＰ〜２５，０００ｃＰ、さらに４，０００ｃＰ〜２０，０００ｃＰ、さらに５，０００ｃＰ〜１８，０００ｃＰの溶融粘度を有する。さらなる実施形態では、本エチレン系ポリマーは、エチレン／α−オレフィンインターポリマー、さらにエチレン／α−オレフィンコポリマーである。好適なα−オレフィンについては、上述されている。
【０１０５】
一実施形態では、本エチレン系ポリマーは、５．０以下、さらに４．０以下、よりさらに３．５以下の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）を有する。さらに、エチレン／α−オレフィンインターポリマーは、１．５〜４．０、さらに２．０〜３．８、よりさらに２．２〜３．５の分子量分布を有する。さらなる実施形態では、本エチレン系ポリマーは、エチレン／α−オレフィンインターポリマー、さらにエチレン／α−オレフィンコポリマーである。好適なα−オレフィンについては、上述されている。
【０１０６】
一実施形態では、本エチレン系ポリマーは、５００ｇ／１０分以上、さらに８００ｇ／１０分以上、よりさらに１０００ｇ／１０分以上のメルトインデックス（Ｉ２もしくはＭＩ）、または計算されたメルトインデックス（Ｉ２）を有する。さらなる実施形態では、本エチレン系ポリマーは、エチレン／α−オレフィンインターポリマー、さらにエチレン／α−オレフィンコポリマーである。好適なα−オレフィンについては、上述されている。
【０１０７】
一実施形態では、本エチレン系ポリマーは、ＤＳＣにより決定される、４０パーセント以下、さらに３０パーセント以下、よりさらに２０パーセント以下の結晶化度パーセントを有する。さらなる実施形態では、本エチレン系ポリマーは、エチレン／α−オレフィンインターポリマー、さらにエチレン／α−オレフィンコポリマーである。好適なα−オレフィンについては、上述されている。
【０１０８】
一実施形態では、本エチレン系ポリマーは、ＤＳＣにより決定される、２パーセント以上、さらに５パーセント以上、よりさらに１０パーセント以上の結晶化度パーセントを有する。さらなる実施形態では、本エチレン系ポリマーは、エチレン／α−オレフィンインターポリマー、さらにエチレン／α−オレフィンコポリマーである。好適なα−オレフィンについては、上述されている。
【０１０９】
一実施形態では、本エチレン系ポリマーは、ＤＳＣにより決定される、２〜３０パーセント、さらに５〜２５パーセント、よりさらに１０〜２０パーセントの結晶化度パーセントを有する。さらなる実施形態では、本エチレン系ポリマーは、エチレン／α−オレフィンインターポリマー、さらにエチレン／α−オレフィンコポリマーである。好適なα−オレフィンについては、上述されている。
【０１１０】
一実施形態では、本エチレン系ポリマーは、０．８５５ｇ／ｃｃ以上、さらに０．８６０ｇ／ｃｃ以上、よりさらに０．８６５ｇ／ｃｃ以上の密度を有する。さらなる実施形態では、本エチレン系ポリマーは、エチレン／α−オレフィンインターポリマー、さらにエチレン／α−オレフィンコポリマー（１ｃｃ＝１ｃｍ３）である。好適なα−オレフィンについては、上述されている。
【０１１１】
一実施形態では、本エチレン系ポリマーは、０．９００ｇ／ｃｃ以下、さらに０．８９５ｇ／ｃｃ以下、よりさらに０．８９０ｇ／ｃｃ以下の密度を有する。さらなる実施形態では、本エチレン系ポリマーは、エチレン／α−オレフィンインターポリマー、さらにエチレン／α−オレフィンコポリマーである。好適なα−オレフィンについては、上述されている。
【０１１２】
一実施形態では、本エチレン系ポリマーは、０．８５５ｇ／ｃｃ〜０．９００ｇ／ｃｃ、さらに０．８６０ｇ／ｃｃ〜０．８９５ｇ／ｃｃ、よりさらに０．８６５ｇ／ｃｃ〜０．８９０ｇ／ｃｃの密度を有する。さらなる実施形態では、本エチレン系ポリマーは、エチレン／α−オレフィンインターポリマー、さらにエチレン／α−オレフィンコポリマーである。好適なα−オレフィンについては、上述されている。
【０１１３】
一実施形態では、本エチレン系ポリマーは、０．８６２ｇ／ｃｃ〜０．８８５ｇ／ｃｃ、さらに０．８６５ｇ／ｃｃ〜０．８８２ｇ／ｃｃ、よりさらに０．８６８ｇ／ｃｃ〜０．８８０ｇ／ｃｃの密度を有する。さらなる実施形態では、本エチレン系ポリマーは、エチレン／α−オレフィンインターポリマー、さらにエチレン／α−オレフィンコポリマーである。好適なα−オレフィンについては、上述されている。
【０１１４】
一実施形態では、本エチレン／α−オレフィンインターポリマーは、均一に分岐した
直鎖状のインターポリマー、さらにコポリマー、または均一に分岐した実質的に直鎖状のインターポリマー、さらにコポリマーである。好適なα−オレフィンについては、上述されている。
【０１１５】
一実施形態では、本エチレン／α−オレフィンインターポリマーは、均一に分岐した直鎖状のインターポリマー、さらにコポリマーである。好適なα−オレフィンについては、上述されている。
【０１１６】
一実施形態では、本エチレン／α−オレフィンインターポリマーは、均一に分岐した実質的に直鎖状のインターポリマー、さらにコポリマーである。好適なα−オレフィンについては、上述されている。
【０１１７】
「均一に」及び「均一に分岐した」という用語は、α−オレフィンコモノマーが所与のポリマー分子内にランダムに分布しており、これらのポリマー分子のすべてが同じまたは実質的に同じコモノマー／エチレン比を有する、エチレン／α−オレフィンインターポリマーに関して使用される。
【０１１８】
均一に分岐した直鎖状のエチレンインターポリマーとは、長鎖分岐を欠くが、そのインターポリマーに重合されたコモノマー由来の短鎖分岐を有し、かつ同じポリマー鎖内及び異なるポリマー鎖間の両方に均一に分布しているエチレンポリマーである。これらのエチレンインターポリマー（例えば、均一に分岐した直鎖状のエチレン／α−オレフィンインターポリマー）は、直鎖状のポリマー骨格を有し、測定可能な長鎖分岐を有さず、狭い分子量分布を有する。このクラスのポリマーは、例えば、Ｅｌｓｔｏｎの米国特許第３，６４５，９９２号に開示されており、ビス−メタロセン触媒を使用してかかるポリマーを生成するためのその後のプロセスは、例えば、欧州特許第０，１２９，３６８号、欧州特許第０，２６０，９９９号、米国特許第４，７０１，４３２号、米国特許第４，９３７，３０１号、米国特許第４，９３５，３９７号、米国特許第５，０５５，４３８号、及び国際公開第９０／０７５２６号に示されるように開発されており、各々、参照により本明細書に組み込まれる。述べられるように、均一に分岐した直鎖状のエチレンインターポリマーは、直鎖状の低密度ポリエチレンポリマーまたは直鎖状の高密度ポリエチレンポリマーの場合と同様に、長鎖分岐を欠く。均一に分岐した直鎖状のエチレン／α−オレフィンインターポリマーの商業的な例としては、Ｍｉｔｓｕｉ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  ＣｏｍｐａｎｙのＴＡＦＭＥＲポリマー、ならびにＥｘｘｏｎＭｏｂｉｌ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  ＣｏｍｐａｎｙのＥＸＡＣＴ及びＥＸＣＥＥＤポリマーが挙げられる。
【０１１９】
均一に分岐した実質的に直鎖状のエチレン／α−オレフィンインターポリマーは、米国特許第５，２７２，２３６号、同第５，２７８，２７２号、同第６，０５４，５４４号、同第６，３３５，４１０号、及び同第６，７２３，８１０に記載されており、各々、参照により本明細書に組み込まれる。実質的に直鎖状のエチレン／α−オレフィンインターポリマーは、長鎖分岐を有する。長鎖分岐は、ポリマー骨格と同じコモノマー分布を有し、ポリマー骨格の長さとほぼ同じ長さを有し得る。「実質的に直鎖状」とは、典型的には、平均して「全炭素１０００個当たり０．０１個の長鎖分岐」〜「全炭素１０００個当たり３個の長鎖分岐」で置換されるポリマーに関するものである。長鎖分岐の長さは、１つのコモノマーのポリマー骨格への組み込みにより形成された短鎖分岐の炭素の長さよりも長い。
【０１２０】
いくつかのポリマーは、全炭素１０００個当たり０．０１個の長鎖分岐〜全炭素１０００個当たり３個の長鎖分岐、さらに全炭素１０００個当たり０．０１個の長鎖分岐〜全炭素１０００個当たり２個の長鎖分岐、さらに全炭素１０００個当たり０．０１個の長鎖分岐〜全炭素１０００個当たり１個の長鎖分岐で置換されてもよい。
【０１２１】
実質的に直鎖状のエチレン／α−オレフィンインターポリマーは、特有のクラスの均一に分岐したエチレンポリマーを形成する。それらは、上述の周知のクラスの従来の均一に分岐した直鎖状のエチレン／α−オレフィンインターポリマーとは実質的に異なり、さらに、それらは、従来の不均一の「チーグラー・ナッタ触媒で重合された」直鎖状のエチレンポリマー（例えば、例えば、Ａｎｄｅｒｓｏｎ等によって米国特許第４，０７６，６９８号に開示される技法を使用して作製された、超低密度ポリエチレン（ＵＬＤＰＥ）、直鎖状の低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、または高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）と同じクラスではなく、それらは、例えば、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、エチレン−アクリル酸（ＥＡＡ）コポリマー、及びエチレン酢酸ビニル（ＥＶＡ）コポリマー等の高圧フリーラジカル開始高度分岐ポリエチレンとも同じクラスではない。
【０１２２】
本発明において有用な均一に分岐した実質的に直鎖状のエチレン／α−オレフィンインターポリマーは、それらが比較的狭い分子量分布を有するにもかかわらず、優れた加工可能性を有する。驚くべきことに、ＡＳＴＭ  Ｄ  １２３８に従う実質的に直鎖状のエチレンインターポリマーのメルトフロー比（Ｉ１０／Ｉ２）は、幅広く変動し得、分子量分布（Ｍｗ／ＭｎまたはＭＷＤ）とは本質的に無関係であり得る。この驚くべき挙動は、例えばＥｌｓｔｏｎの米国第３，６４５，９９２号に記載されるもの等の従来の均一に分岐した直鎖状のエチレンインターポリマー、及び例えばＡｎｄｅｒｓｏｎ等の米国第４，０７６，６９８号に記載されるもの等の不均一に分岐した従来の「チーグラー・ナッタで重合された」直鎖状のポリエチレンインターポリマーとは対照的である。実質的に直鎖状のエチレンインターポリマーとは異なり、直鎖状のエチレンインターポリマー（均一に分岐しているか不均一に分岐しているかにかかわらず）は、分子量分布が増大するにつれてＩ１０／Ｉ２値も増大するようなレオロジー特性を有する。
【０１２３】
長鎖分岐は、１３Ｃ核磁気共鳴（ＮＭＲ）分光法を使用することによって決定することができ、Ｒａｎｄａｌｌ（Ｒｅｖ．Ｍａｃｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．Ｐｈｙｓ．，Ｃ２９（２  ＆  ３），１９８９，ｐ．２８５−２９７）の方法を使用して定量することができ、この開示は、参照により本明細書に組み込まれる。２つの他の方法は、低角レーザー光散乱検出器（ＧＰＣＬＡＬＬＳ）を伴うゲル透過クロマトグラフィー、及び示差粘度計検出器（ＧＰＣ−ＤＶ）を伴うゲル透過クロマトグラフィーである。長鎖分岐を検出するためのこれらの技法の使用及びその根底にある理論は、文献で十分に立証されている。例えば、Ｚｉｍｍ，Ｂ．Ｈ．ａｎｄ  Ｓｔｏｃｋｍａｙｅｒ，Ｗ．Ｈ．，Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｐｈｙｓ．，１７，１３０１（１９４９）、及びＲｕｄｉｎ，Ａ．，Ｍｏｄｅｒｎ  Ｍｅｔｈｏｄｓ  ｏｆ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｚａｔｉｏｎ，Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ，Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ（１９９１）ｐｐ．１０３−１１２を参照されたい。
【０１２４】
「実質的に直鎖状のエチレンポリマー」とは対照的に、「直鎖状のエチレンポリマー」とは、ポリマーが測定可能または実証可能な長鎖分岐を欠く、すなわち、ポリマーが全炭素１０００個当たり平均０．０１個未満の長鎖分岐で置換されることを意味する。
【０１２５】
本エチレン系ポリマーは、本明細書に記載の２つ以上の実施形態の組み合わせを含み得る。
【０１２６】
本エチレン／α−オレフィンインターポリマーは、本明細書に記載の２つ以上の実施形態の組み合わせを含み得る。
【０１２７】
本エチレン／α−オレフィンコポリマーは、本明細書に記載の２つ以上の実施形態の組み合わせを含み得る。
【０１２８】
添加物及び用途
発明組成物は、１つ以上の添加物をさらに含み得る。典型的には、ポリマー及び樹脂は、１つ以上の安定剤、例えば、酸化防止剤、例えば、各々ＢＡＳＦにより供給される、ＩＲＧＡＮＯＸ  １０１０、ＩＲＧＡＮＯＸ  １０７６、及びＩＲＧＡＦＯＳ  １６８で処理される。ポリマーは、典型的には、押出または他の溶融プロセスの前に１つ以上の安定剤で処理される。他の添加物としては、紫外線吸収剤、帯電防止剤、色素及び染料、核化剤、充填剤、スリップ剤、難燃剤、可塑剤、加工助剤、潤滑剤、安定剤、煙抑制剤、粘度制御剤、ならびにブロッキング防止剤が挙げられるが、これらに限定されない。発明組成物は、１つ以上の熱可塑性ポリマーも含有し得る。
【０１２９】
本発明組成物は、油をさらに含み得る。油は、典型的には、接着剤の粘度を低減するために用いられる。用いられる場合、油は、典型的には、本組成物の重量に基づいて、５０重量パーセント未満、好ましくは４０重量パーセント未満、より好ましくは３５重量パーセント未満の量で存在する。例示のクラスの油としては、白色鉱油（Ｗｉｔｃｏから入手可能なＫＡＹＤＯＬ油等）、ならびにＳＨＥＬＬＦＬＥＸ  ３７１ナフテン油（Ｓｈｅｌｌ  Ｏｉｌ  Ｃｏｍｐａｎｙから入手可能）及びＣＡＬＳＯＬ  ５５５０（Ｃａｌｕｍｅｔ  Ｌｕｂｒｉｃａｎｔｓのナプテン油）が挙げられるが、これらに限定されない。
【０１３０】
発明組成物は、本組成物の重量に基づいて、２０〜６０重量パーセント、さらに３０〜５０重量パーセントの粘着付与剤を含み得る。発明組成物は、本組成物の重量に基づいて、１０〜４０重量パーセント、さらに１０〜３０重量パーセントの油を含み得る。
【０１３１】
発明組成物は、本組成物の重量に基づいて、２０〜６０重量パーセント、さらに３０〜５０重量パーセントの粘着付与剤を含み得る。発明組成物は、本組成物の重量に基づいて、１０〜４０重量パーセント、さらに１０〜３０重量パーセントのワックスを含み得る。
【０１３２】
本発明組成物は、標準の溶融ブレンド手段によって調製され得る。具体的には、本エチレン系ポリマー、粘着付与剤、油及び／もしくはワックス、ならびに／または他の成分は、均質な混合物が得られるまで溶融ブレンドされる。撹拌器を装備した容器及び随意の加熱機構等の接着剤成分を分解することなく均質なブレンドを生成する任意の混合方法が満足のいくものである。接着剤は、ペレット、ピロー、チクレット、ドラジェ等の形態、または任意の他の所望の形状で提供され得る。
【０１３３】
本発明組成物は、ケース及びカートン封止、自動車、グラフィックアート、不織物、パネル組み立て、高性能テープ、接触ホットメルト接着剤、板紙塗装、インク、パーソナルケア製品及び化粧品、封止剤、色及び添加物濃縮物、カーペット用テープ接着剤、木工用接着剤、ならびにプロファイルラップ（ｐｒｏｆｉｌｅ  ｗｒａｐ）接着剤を含むが、これらに限定されない様々な用途においても使用され得る。
【０１３４】
定義
反対のことが述べられない限り、すべての試験方法は、本開示の出願日の時点で最新のものである。
【０１３５】
「組成物」という用語は、本明細書で使用される場合、その組成物を含む材料の混合物、ならびに組成物の材料から形成された反応生成物及び分解生成物を含む。
【０１３６】
「ポリマー」という用語は、本明細書で使用される場合、同じ種類か異なる種類かにかかわらず、モノマーを重合することによって調製されたポリマー化合物を指す。したがって、ポリマーという一般的な用語は、（微量の不純物がポリマー構造に組み込まれ得るという了解の下で１種類のみのモノマーから調製されたポリマーを指すために用いられる）ホモポリマーという用語及び本明細書の以下に定義されるインターポリマーという用語を包含する。微量の不純物、例えば、触媒残渣は、ポリマー中及び／またはポリマー内に組み込まれ得る。
【０１３７】
「インターポリマー」という用語は、本明細書で使用される場合、少なくとも２つの異なる種類のモノマーの重合により調製されるポリマーを指す。したがって、インターポリマーという一般的な用語は、（２つの異なる種類のモノマーから調製されたポリマーを指すために用いられる）コポリマー、及び３つ以上の異なる種類のモノマーから調製されるポリマーを包含する。
【０１３８】
「エチレン系ポリマー」という用語は、本明細書で使用される場合、多量のエチレンモノマー（ポリマーの重量に基づいて）を重合形態で含み、随意に１つ以上のコモノマーを含み得るポリマーを指す。
【０１３９】
「エチレン系インターポリマー」という用語は、本明細書で使用される場合、多量のエチレンモノマー（インターポリマーの重量に基づいて）及び少なくとも１つのコモノマーを重合形態で含むインターポリマーを指す。
【０１４０】
「エチレン系コポリマー」という用語は、本明細書で使用される場合、２種類のみのモノマーとして、多量のエチレンモノマー（コポリマーの重量に基づいて）及び１つのコモノマーを重合形態で含むコポリマーを指す。
【０１４１】
「エチレン／α−オレフィンインターポリマー」という用語は、本明細書で使用される場合、多量のエチレンモノマー（インターポリマーの重量に基づいて）及び少なくとも１つのα−オレフィンを重合形態で含むインターポリマーを指す。
【０１４２】
「エチレン／α−オレフィンコポリマー」という用語は、２種類のみのモノマーとして、本明細書で使用される場合、多量のエチレンモノマー（コポリマーの重量に基づいて）及びα−オレフィンを重合形態で含むコポリマーを指す。
【０１４３】
「プロピレン系ポリマー」という用語は、本明細書で使用される場合、多量のプロピレンモノマー（ポリマーの重量に基づいて）を重合形態で含み、かつ随意に１つ以上のコモノマーを含み得るポリマーを指す。
【０１４４】
「備える」、「含む」、「有する」、及びそれらの派生語は、いずれのさらなる成分、ステップ、または手順の存在を除外するように具体的に開示されるか開示されないかにかかわらず、いずれのさらなる成分、ステップ、または手順の存在も除外するようには意図されていない。いかなる誤解も避けるために、「備える」という用語の使用によって特許請求されるすべての組成物は、反対のことが述べられない限り、ポリマーのものであるか別様のものであるかにかかわらず、任意のさらなる添加物、補助剤、または化合物を含み得る。対照的に、「から本質的になる」という用語は、実施可能性に必須ではないものを除いて、いずれの後続の列挙範囲から、いずれの他の成分、ステップ、または手順も除外する。「からなる」という用語は、具体的に描写または列記されていないいずれの成分、ステップ、または手順も除外する。
【０１４５】
試験方法
溶融粘度
Ｂｒｏｏｋｆｉｅｌｄデジタル粘度計（モデルＤＶ−ＩＩＩ、バージョン３）及び使い捨てアルミニウム試料チャンバを使用して、溶融粘度をＡＳＴＭ  Ｄ  ３２３６（１７７℃、３５０°Ｆ）に従って測定する。スピンドルは、１０〜１００，０００センチポアズ（ｃＰ）の範囲の粘度の測定に好適なＳＣ−３１ホットメルトスピンドルである。試料をチャンバ内に注ぎ、次いで、Ｂｒｏｏｋｆｉｅｌｄ  Ｔｈｅｒｍｏｓｅｌ内に挿入し、所定の位置に固定する。試料チャンバは、Ｂｒｏｏｋｆｉｅｌｄ  Ｔｈｅｒｍｏｓｅｌの底部に適合する刻み目を底部に有し、スピンドルが挿入されて回転するときにチャンバの向きを変えさせないことを確実にする。溶融された試料が試料チャンバの上部の約１インチ下になるまで、試料（およそ８〜１０グラムの樹脂）を要求温度まで加熱する。粘度計装置を下げ、スピンドルを試料チャンバ内に沈める。粘度計上のブラケットがＴｈｅｒｍｏｓｅｌ上に整列するまで下げ続ける。粘度計をオンにし、ある剪断速度で動作するように設定し、粘度計の出力ｒｐｍに基づいて全トルク容量の４０〜６０パーセントの範囲のトルク読み取り値をもたらす。毎分約１５分間、または値が安定するまで読み取り値を取り、その時点で最終読み取り値を記録する。
【０１４６】
メルトインデックス
エチレン系ポリマーのメルトインデックス（Ｉ２、またはＭＩ）を、ＡＳＴＭ  Ｄ−１２３８、条件１９０℃／２．１６ｋｇに従って測定する。高Ｉ２ポリマー（２００ｇ／モル以上のＩ２）の場合、メルトインデックスを、好ましくは、米国特許第６，３３５，４１０号、同第６，０５４，５４４号、同第６，７２３，８１０号に記載されるように、Ｂｒｏｏｋｆｉｅｌｄ粘度から計算する。Ｉ２（１９０℃／２．１６ｋｇ）＝３．６１２６［１０（ｌｏｇ−（η）６．６９２８）／−１．１３６３］−９．３１８５ｌ（式中、ηは、溶融粘度（ｃＰ単位、３５０°Ｆ）である。）
【０１４７】
ゲル透過クロマトグラフィー（ＧＰＣ）
Ｐｏｌｙｍｅｒ  ＬａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓのモデルＰＬ−２１０またはＰｏｌｙｍｅｒ  ＬａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓのモデルＰＬ−２２０のいずれかからなるクロマトグラフシステムを用いて、エチレン系ポリマーの平均分子量及び分子量分布を決定する。エチレン系ポリマーの場合、カラム及びカルーセルコンパートメントを１４０℃で動作させる。カラムは、Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓの１０ミクロンのＭｉｘｅｄ−Ｂカラムである。溶媒は、１，２，４−トリクロロ−ベンゼンである。試料を「５０ミリリットル」の溶媒中「０．１グラムのポリマー」の濃度で調製する。試料を調製するために使用される溶媒は、「２００ｐｐｍのブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）」を含有する。１６０℃で２時間軽く撹拌することにより、試料を調製する。注入体積は「１００マイクロリットル」であり、流速は「１．０ミリリットル／分」である。Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ（ＵＫ）から購入される「狭い分子量分布」のポリスチレン標準物を用いて、ＧＰＣカラムセットの較正を行う。以下の等式（Ｗｉｌｌｉａｍｓ  ａｎｄ  Ｗａｒｄ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍ．Ｌｅｔ．，６，６２１（１９６８）に記載される）を使用して、ポリスチレン標準物ピーク分子量をポリエチレン分子量に変換する。
Ｍポリエチレン＝Ａ×（Ｍポリスチレン）Ｂ
式中、Ｍは分子量であり、Ａは０．４３１５の値を有し、Ｂは１．０に等しい。
【０１４８】
ＶＩＳＣＯＴＥＫ  ＴｒｉＳＥＣソフトウェアバージョン３．０を使用して、ポリエチレン当量分子量の計算を行った。ＡＳＴＭ  Ｄ６４７４．９７１４−１に従うＭａｒｋ−Ｈｏｕｗｉｎｋ比を使用して、プロピレン系ポリマーの分子量を決定することができ、式中、ポリスチレンの場合、ａ＝０．７０２であり、ｌｏｇ  Ｋ＝−３．９であり、ポリプロピレンの場合、ａ＝０．７２５であり、ｌｏｇ  Ｋ＝−３．７２１である。プロピレン系ポリマー試料の場合、カラム及びカルーセルコンパートメントを１６０℃で動作させる。
【０１４９】
示差走査熱量測定（ＤＳＣ）
示差走査熱量測定（ＤＳＣ）を使用して、エチレン（ＰＥ）系ポリマー試料及びプロピレン（ＰＰ）系ポリマー試料の結晶化度を測定する。約５〜８ミリグラムの試料を秤量し、ＤＳＣパン内に設置する。蓋をパン上に圧着して、閉鎖雰囲気を確実にする。試料パンをＤＳＣセル内に設置し、その後、およそ１０℃／分の速度で、ＰＥの場合１８０℃（ＰＰの場合２３０℃）の温度まで加熱する。試料をこの温度で３分間保持する。その後、試料を１０℃／分の速度で、ＰＥの場合−６０℃（ＰＰの場合−４０℃）まで冷却し、この温度で３分間等温保持する。次に、完全に溶融するまで試料を１０℃／分の速度で加熱する（第２の加熱）。第２の加熱曲線から決定される融解熱（Ｈｆ）をＰＥの場合２９２Ｊ／ｇ（ＰＰの場合１６５Ｊ／ｇ）の理論的融解熱で除して、この量に１００を乗じることにより、結晶化度パーセントを計算する（例えば、ＰＥの場合、結晶化度％＝（Ｈｆ／２９２Ｊ／ｇ）×１００、ＰＰの場合、結晶化度％＝（Ｈｆ／１６５Ｊ／ｇ）×１００）。
【０１５０】
別途述べられない限り、各ポリマーの融点（複数可）（Ｔｍ）を上述のようにＤＳＣから得られる第２の加熱曲線から決定する。結晶化温度（Ｔｃ）を第１の冷却曲線から測定する。
【０１５１】
密度
密度について測定されるポリマー試料をＡＳＴＭ  Ｄ−１９２８に従って調製する。ＡＳＴＭ  Ｄ−７９２、方法Ｂを使用して、試料加圧の１時間以内に測定を行う。
【実施例】
【０１５２】
【化４】
0006805125.tif 000006
【０１５３】
２−メチルプロパン−１，３−ジイルビス（４−メチルベンゼンスルホネートの調製：０℃の無水ピリジン（１００ｍＬ）中４−メチルベンゼン−１−スルホニルクロリド（１３．３３ｇ、６９．９１ｍｍｏｌ）溶液に、無水ピリジン（２５ｍＬ）中２−メチルプロパン−１，３−ジオール（３．００ｇ、３３．２９ｍｍｏｌ）を２時間にわたって滴加した。反応混合物をさらに４時間撹拌し、その後、氷（２００ｍＬ）と水（５０ｍＬ）の混合物中に注いだ。水層を酢酸エチル（１００ｍＬ）で３回抽出した。有機相を合わせ、１Ｍ塩酸水溶液（２００ｍＬ）、水（２００ｍＬ）、及びブライン（２００ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。ヘキサンからの再結晶化を試みた。白色の沈殿物が溶媒の下位部分に生じ、ヘキサンの大部分をデカント除去し、試料を高真空下に置いた。生成物が固化し、白色の結晶として６．２６ｇ（６２．４％）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．７５−７．７０（ｍ，４Ｈ）、７．３６−７．３０（ｍ，４Ｈ）、３．９３−３．８４（ｍ，４Ｈ）、２．４４（ｓ，６Ｈ）、２．２０−２．１０（ｍ，１Ｈ）、０．９０（ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，３Ｈ）。１３Ｃ  ＮＭＲ（１０１ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ１４５．００、１３２．５０、１２９．９２、１２７．８４、７７．３２、７７．００、７６．６８、７０．３０、３３．００、２１．６３、１２．９４。
【０１５４】
【化５】
0006805125.tif 000007
【０１５５】
４．４’−（（２−メチルプロパン−１，３−ジイル）ビス（オキシ））ビス（１−フルオロ−３−ヨードベンゼン）の調製：丸底フラスコに、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２００ｍＬ）、４−フルオロ−２−ヨードフェノール（４．００ｇ、１６．８１ｍｍｏｌ）、２−メチルプロパン−１，３−ジイルビス（４−メチルベンゼンスルホネート）（３．１９ｇ、８．００ｍｍｏｌ）、及び炭酸カリウム（５．５３ｇ、４０．０２ｍｍｏｌ）を添加した。その後、反応混合物を１２０℃まで一晩加熱し、次いで、濃縮した。残渣を塩化メチレン（１００ｍＬ）と水（１００ｍＬ）の混合物中に溶解した。この溶液を塩化メチレン（１００ｍＬ）でさらに２回抽出した。有機相を合わせ、２Ｎ水酸化ナトリウム水溶液（２００ｍＬ）、水（２００ｍＬ）、及びブライン（２００ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥させ、シリカパッドを通して濾過し、濃縮した。粗生成物をヘキサン中で再結晶させ、Ｂｕｃｈｎｅｒ漏斗上に収集し、白色の粉末として３．６４ｇ（８５．８％）の生成物を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．４８（ｄｄ，Ｊ＝７．６，３．０Ｈｚ，２Ｈ）、７．０１（ｄｄｄ，Ｊ＝９．０，７．８，３．０Ｈｚ，２Ｈ）、６．７９（ｄｄ，Ｊ＝９．０，４．６Ｈｚ，２Ｈ）、４．１０（ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ，４Ｈ）、２．６１−２．４５（ｍ，１Ｈ）、１．２８（ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，３Ｈ）。１３Ｃ  ＮＭＲ（１０１ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ１５７．９６、１５５．５４、１５３．９７、１５３．９４、１２６．０７、１２５．８２、１１５．７２、１１５．５０、１１２．２１、１１２．１３、８５．９３、８５．８４、７１．１４、３３．７７、１４．１６（炭素−フッ素結合の割り当てなしによる多重度）。
【０１５６】
【化６】
0006805125.tif 000008
【０１５７】
６’，６’”−（（２−メチルプロパン−１，３−ジイルビス（オキシ））ビス（３−（３，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−９Ｈ−カルバゾール−９−イル）−３’−フルオロ−５−（２，４，４−トリメチルペンタン−２−イル）−［１，１’−ビフェニル］−２−オール）の調製：Ｎ２雰囲気下の丸底フラスコに、３，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−９−（２−（（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）オキシ）−３−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）−５−（２，４，４−トリメチルペンタン−２−イル）フェニル）−９Ｈ−カルバゾール（５．３５ｇ、７．７１ｍｍｏｌ）、１，２−ジメトキシエタン（２００ｍＬ）、水（６０ｍＬ）中水酸化ナトリウム（０．８６ｇ、２１．６２ｍｍｏｌ）溶液、テトラヒドロフラン（６０ｍＬ）、及び４，４’−（（２−メチルプロパン−１，３−ジイル）ビス（オキシ））ビス（１−フルオロ−３−ヨードベンゼン）（１．９４ｇ、３．６６ｍｍｏｌ）を添加した。この系をＮ２でおよそ１５分間スパージし、テトラキス（トリフェニルホスフィン）−パラジウム（０）（０．１８ｇ、０．１５ｍｍｏｌ）を添加した。この混合物を８５℃で４８時間還流加熱し、その後、冷却させ、濃縮した。残渣を塩化メチレン（２００ｍＬ）中に取り込み、ブライン（２００ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥させ、シリカパッドを通して濾過し、濃縮した。粗保護配位子をテトラヒドロフラン（１００ｍＬ）とメタノール（１００ｍＬ）の混合物中に溶解し、６０℃まで加熱した。この溶液がｐＨ紙により酸性になるまで、溶液にｐ−トルエンスルホン酸一水和物を添加した。その後、混合物を６０℃で８時間撹拌し、次いで、周囲温度まで冷却させ、濃縮した。残渣を塩化メチレン（２００ｍＬ）中に溶解し、ブライン（２００ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥させ、シリカパッドを通して濾過し、濃縮して、粗脱保護配位子を得た。粗配位子を、ヘキサン中４０％塩化メチレンで溶出する３３０ｇのカラムを通すＩＳＣＯ上でのフラッシュクロマトグラフィーにより精製した。生成物を含有する画分を濃縮して、白色の粉末として１．８２ｇ（４０．３％）の配位子を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ８．２５（ｄｄ，Ｊ＝２．０，０．６Ｈｚ，４Ｈ）、７．４５（ｄｔ，Ｊ＝８．６，１．９Ｈｚ，４Ｈ）、７．３９（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，２Ｈ）、７．２４（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，２Ｈ）、７．０３（ｄｄｄ，Ｊ＝８．６，６．６，０．７Ｈｚ，４Ｈ）、６．９２（ｄｄ，Ｊ＝８．７，３．２Ｈｚ，２Ｈ）、６．４０（ｄｄｄ，Ｊ＝８．９，８．０，３．２Ｈｚ，２Ｈ）、５．７２（ｄｄ，Ｊ＝９．０，４．４Ｈｚ，２Ｈ）、５．２２（ｓ，２Ｈ）、３．６６（ｄｄ，Ｊ＝８．９，４．０Ｈｚ，２Ｈ）、３．５６（ｄｄ，Ｊ＝８．９，６．３Ｈｚ，２Ｈ）、２．１０（ｄｔｄ，Ｊ＝１０．８，６．８，４．０Ｈｚ，１Ｈ）、１．７１（ｓ，４Ｈ）、１．５０（ｓ，１８Ｈ）、１．５０（ｓ，１８Ｈ）、１．３７（ｓ，６Ｈ）、１．３６（ｓ，６Ｈ）、０．８５（ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，３Ｈ）、０．８０（ｓ，１８Ｈ）。１３Ｃ  ＮＭＲ（１０１ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ１５８．１３、１５５．７���、１５１．２２、１５１．２０、１４７．９７、１４２．８０、１４２．７４、１４０．０５、１４０．０２、１２９．２２、１２７．８２、１２７．７５、１２７．３８、１２６．１７、１２６．１５、１２４．１３、１２３．６７、１２３．６０、１２３．４１、１２３．３６、１１８．１０、１１７．８６、１１６．３３、１１５．４４、１１５．２１、１１２．４８、１１２．４０、１０９．３７、１０９．３５、６９．５６、５７．１８、３８．２１、３４．８３、３２．５０、３２．１７、３１．９３、３１．７２、３１．６３、１３．６７（炭素−フッ素結合の割り当てなしによる多重度）。１９Ｆ  ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ−１２２．９５−−１２３．３５４（ｍ）。ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，Ｍ＋ＮＨ４＋）：（ｍ／ｚ）Ｃ８４Ｈ１０６Ｆ２Ｎ３Ｏ４の計算値１２５８．８１５、実測値１２５８．８１３。
【０１５８】
【化７】
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【０１５９】
触媒１の調製：５ｍＬのトルエン中に懸濁した配位子（０．４２７３ｇ、０．３４ｍｍｏｌ）とＺｒＣｌ４（０．０７７ｇ、０．３４ｍｍｏｌ）の混合物に、周囲温度で、臭化メチルマグネシウム（０．４８ｍＬ、１．４５ｍｍｏｌ）の３Ｍジエチルエーテル溶液を添加した。添加中、ガス発生が観察された。１時間撹拌した後（黒色の懸濁液）、ヘキサン（１０ｍＬ）を添加し、懸濁液を濾過して、無色の溶液を得た。溶媒を減圧下で除去して、０．４９１０ｇの生成物を得た。この生成物に、７ｍＬのトルエン及び８ｍＬのヘキサンを添加した。この溶液を濾過した。溶媒を減圧下で除去し、白色の固体を得た。この固体に、３ｍＬのヘキサンを添加し、懸濁液を周囲温度で１時間撹拌した。懸濁液を冷凍庫に２時間置いた。白色の固体をフリット上に収集し、２ｍＬの冷ヘキサンで洗浄し、減圧下で乾燥させて、２５０ｍｇ（５４％）の最終生成物を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｃ６Ｄ６）δ８．６２−８．５６（ｍ，２Ｈ）、８．３９（ｄｄｄ，Ｊ＝２．０，１．４，０．７Ｈｚ，２Ｈ）、７．６８−７．６６（ｍ，４Ｈ）、７．６５−７．６０（ｍ，４Ｈ）、７．４４（ｄｄｄ，Ｊ＝８．９，７．１，１．９Ｈｚ，２Ｈ）、７．２３（ｄｄ，Ｊ＝１３．６，２．５Ｈｚ，２Ｈ）、６．９６（ｄｄｄ，Ｊ＝８．９，４．９，３．１Ｈｚ，２Ｈ）、６．５７（ｄｄｔ，Ｊ＝８．９，７．４、３．１Ｈｚ，２Ｈ）、５．１０（ｄｄ，Ｊ＝８．９，４．９Ｈｚ，１Ｈ）、５．０３（ｄｄ，Ｊ＝８．９，４．９Ｈｚ，１Ｈ）、３．８７−３．７８（ｍ，１Ｈ）、３．６９（ｄｄｄ，Ｊ＝９．６，４．８，０．７Ｈｚ，１Ｈ）、３．０１（ｄｄ，Ｊ＝１１．３，３．４Ｈｚ，１Ｈ）、２．９６（ｄｄ，Ｊ＝９．５，８．１Ｈｚ，１Ｈ）、１．６９−１．５４（ｍ，５Ｈ）、１．５０（ｓ，９Ｈ）、１．４９（ｓ，９Ｈ）、１．３０（ｓ，９Ｈ）、１．２９（ｓ，９Ｈ）、１．２６（ｓ，３Ｈ）、１．２４（ｓ，３Ｈ）、１．２１（ｓ，３Ｈ）、１．１９（ｓ，３Ｈ）、０．８５（ｓ，９Ｈ）、０．８２（ｓ，９Ｈ）、０．００（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，３Ｈ）、−０．７４（ｄ，Ｊ＝０．４Ｈｚ，３Ｈ）、−０．８２（ｄ，Ｊ＝０．５Ｈｚ，３Ｈ）。１９Ｆ  ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，Ｃ６Ｄ６）δ−１１４．７６−−１１４．９１（ｍ）、−１１５．１０−−１１５．２３（ｍ）。
【０１６０】
【化８】
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【０１６１】
２−ベンジル−１，３−プロパンジオールの調製：三つ口丸底フラスコに、磁気撹拌棒、隔膜、及び窒素ガス入口を装備した。フラスコに、乾燥ジエチルエーテル（７５ｍＬ）中２−ベンジルマロン酸ジエチル（５．００ｇ、２０．０ｍｍｏｌ）溶液を充填した。氷水浴を使用してこの溶液を０℃まで冷却し、ＴＨＦ（８０ｍＬ、８０．０ｍｍｏｌ）中１Ｍ水素化アルミニウムリチウム溶液を緩徐に添加した。結果として生じた溶液を室温で２０時間撹拌した。撹拌中、反応物を、３時間後及び２０時間後の完了について、ＧＣ／ＭＳによりサンプリング（０．１ｍＬの試料、１滴の水、酢酸エチルで希釈、濾過）した。出発物質のみがＧＣスペクトル及びＭＳスペクトルの両方で見られた。２０時間後、氷水浴を使用して反応物を０℃まで冷却し、添加漏斗を通して水（７．５ｍＬ）を緩徐に添加した。生じた白色の塩を、セライトパッドを通して真空濾過により濾去した。セライトをジエチルエーテル（３×５０ｍＬ）で洗浄した。濾液を硫酸マグネシウム上で乾燥させ、真空濾過により濾過し、回転蒸発により濃縮し、黄色の油として粗生成物（２．０９ｇ）を得た。セライトパッドをジエチルエーテル（３×５０ｍＬ）で再度洗浄して、捕捉されたかもしれないいかなる粗生成物も除去した。濾液をこの油に添加し、溶液を回転蒸発により濃縮して、黄色の油として粗物（２．３１ｇ）を得た。この油を１Ｈ  ＮＭＲで分析した。この油を酢酸エチル中少量のヘキサン中に溶解し、ヘキサン中７０％酢酸エチルの勾配を使用して、生成物が溶出するまでカラムクロマトグラフィーにより精製した。これらの画分をＴＬＣで分析した。純画分を合わせ、回転蒸発により濃縮して、白色の固体として生成物を得た。微量の酢酸エチル及びヘキサンを除去するために、この固体をジクロロメタン中に溶解し、回転蒸発により濃縮して、白色の固体を得た（２回繰り返した）。この固体を高真空下で乾燥させて、１．２５ｇ（３７．８％）の生成物を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３、δ７．２８−７．２２（ｍ，２Ｈ）、７．２０−７．１２（ｍ，３Ｈ）、３．６９（ｄｔ，Ｊ＝１０．７，４．３Ｈｚ，２Ｈ）、３．５７（ｄｔ，Ｊ＝１０．９，６．９，４．４Ｈｚ，２Ｈ）、３．５１（ｔ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，２Ｈ）、２．５５（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ）、１．９８（ｄｄｐ，Ｊ＝１０．５，７．２，３．７Ｈｚ，１Ｈ）。１３Ｃ  ＮＭＲ（１０１ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３  δ１３９．９５、１２９．０４、１２８．４８、１２６．１６、７７．４８、７７．１６、７６．８４、６４．７３、４３．９６、３４．３１。
【０１６２】
【化９】
0006805125.tif 000011
【０１６３】
２−ベンジルプロパン−１，３−ジイルビス（４−メチルベンゼンスルホネート）の調製：三つ口丸底フラスコに、磁気撹拌棒、隔膜、及び窒素ガス入口を装備した。フラスコに、乾燥ピリジン（５ｍＬ）中２−ベンジル−１，３−プロパンジオール（１．１７００ｇ、７．０３９ｍｍｏｌ）溶液を充填した。氷水浴を使用してこの溶液を０℃まで冷却し、乾燥ピリジン（７ｍＬ）中パラ−トルエンスルホニルクロリド（２．９６ｇ、１５．５ｍｍｏｌ）溶液を緩徐に添加した。沈殿物を有する黄色の溶液を０℃で４時間撹拌し、冷蔵庫に一晩放置した。０℃で４時間の撹拌中、反応物を、１．５時間及び４時間後の完了について、ＧＣ／ＭＳによりサンプリング（０．１ｍＬの試料、酢酸エチルで希釈、濾過）した。反応物を冷蔵庫から取り出し、氷冷３Ｎ塩酸水溶液（１００ｍＬ）中に注いだ。撹拌中に生成物が白色の固体として溶液からクラッシュした。混合物を室温まで加温させた。固体を真空濾過により収集し、水（２×２５ｍＬ）で洗浄した。この固体をジクロロメタン中に溶解し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥させ、真空濾過により濾過し、回転蒸発により濃縮して、粗生成物として濁った黄色の油を得て、卓上に１〜２時間静置している間に最終的に固体になった。この固体を無水エタノールから再結晶させ、真空濾過により収集し、高真空下で乾燥させて、２．０７ｇ（６２．３％）の生成物を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．７３（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，４Ｈ）、７．３４（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，４Ｈ）、７．２２−７．１５（ｍ，３Ｈ）、６．９８−６．９１（ｍ，２Ｈ）、３．９８（ｄｄ，Ｊ＝９．９，４．７Ｈｚ，２Ｈ）、３．８９（ｄｄ，Ｊ＝９．９，５．８Ｈｚ，２Ｈ）、２．５８（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ）、２．４７（ｓ，６Ｈ）、２．３０−２．２０（ｍ，１Ｈ）。１３Ｃ  ＮＭＲ（１０１ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ１４４．９７、１３７．１８、１３２．２３、１２９．８６、１２８．７５、１２８．４７、１２７．７７、１２６．５１、６８．１２、３９．８６、３３．０３、２１．５４。
【０１６４】
【化１０】
0006805125.tif 000012
【０１６５】
４，４’−（（２−ベンジルプロパン−１，３−ジイル）ビス（オキシ））ビス（１−フルオロ−３−ヨードベンゼン）の調製：三つ口丸底フラスコに、磁気撹拌棒、隔膜、凝縮器、及び窒素ガス入口を装備した。フラスコを窒素雰囲気下に置き、それに、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（３４ｍＬ）、４−フルオロ−２−ヨードフェノール（２．００ｇ、８．４１ｍｍｏｌ）、２−ベンジル−プロパン−１，３−ジイルビス（４−メチルベンゼンスルホネート）（１．９９５ｇ、４．２０３ｍｍｏｌ）、及び炭酸カリウム（２．３２５６ｇ、１６．８２７ｍｍｏｌ）を充填した。この撹拌混合物を１００℃で加熱し、１時間及び３時間後の完了について、ＧＣ／ＭＳ分析によりサンプリング（０．１ｍＬの試料、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中に希釈）した。３時間後、反応物を室温まで冷却させ、室温で一晩撹拌した。この混合物を回転蒸発により濃縮して乾燥させ、ジクロロメタン：水（８．５ｍＬ：８．５ｍＬ）の５０：５０混合物中に取り込み、３分割量の１７ｍＬのジクロロメタンで抽出した。有機相を合わせ、２Ｎ水酸化ナトリウム水溶液（６７ｍＬ）、水（６７ｍＬ）、その後、ブライン（６７ｍＬ）で洗浄した。有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥させ、シリカゲルパッドを通して真空濾過により濾過し、回転蒸発により濃縮して、橙色の油として粗生成物（２．２２６０ｇ）を得た。この油をいくらかの酢酸エチルを有する少量のヘキサン中に溶解し、ヘキサン中５〜１０％ジクロロメタン（２つのカラム体積）、その後、ヘキサン中１０％ジクロロメタンの勾配を使用して、生成物が溶出するまでカラムクロマトグラフィーにより精製した。純画分を合わせ、回転蒸発により濃縮して、透明な油として生成物を得た。微量のヘキサンを除去するために、この油をジクロロメタン中に溶解し、回転蒸発により濃縮して、透明な油になった（２回繰り返した）。この油を高真空下で乾燥させて、１．６０ｇ（６２．９％）の生成物を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３、δ７．４８（ｄｄ，Ｊ＝７．６，３．０Ｈｚ，２Ｈ）、７．３２−７．１９（ｍ，５Ｈ）、６．９８（ｄｄｄｄ，Ｊ＝９．０，７．９，３．０，０．３Ｈｚ，２Ｈ）、６．７１（ｄｄ，Ｊ＝９．０，４．６Ｈｚ，２Ｈ）、４．１５（ｄｄ，Ｊ＝９．０，４．７Ｈｚ，２Ｈ）、４．０７（ｄｄ，Ｊ＝９．０，５．９Ｈｚ，２Ｈ）、３．０４（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ）、２．６１（ｔｔｔ，Ｊ＝７．６，５．８，４．６Ｈｚ，１Ｈ）。１３Ｃ  ＮＭＲ（１０１ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ１５７．９５、１５５．５２、１５３．７７、１５３．７５、１３９．１４、１２９．１８、１２８．５４、１２６．３６、１２６．０３、１２５．７８、１１５．７１、１１５．５０、１１５．４９、１１２．１２、１１２．０４、８５．８９、８５．８１、６８．６６、４０．９９、３４．２３。１９Ｆ  ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ−１２２．１６−−１２２．２４（ｍ）。
【０１６６】
【化１１】
0006805125.tif 000013
【０１６７】
６’，６’’’−（（２−ベンジルプロパン−１，３−ジイル）ビス（オキシ））ビス（３−（３，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−９Ｈ−カルバゾール−９−イル）−３’−フルオロ−５−（２，４，４−トリメチルペンタン−２−イル）−［１，１’−ビフェニル］−２−オール）の調製：三つ口丸底フラスコに、磁気撹拌棒、隔膜、凝縮器、及び窒素ガス入口を装備した。フラスコを窒素雰囲気下に置き、それに、３，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−９−（２−（（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）オキシ）−３−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）−５−（２，４，４−トリメチルペンタン−２−イル）フェニル）−９Ｈ−カルバゾール（３．６９６ｇ、５．３２８ｍｍｏｌ）、１，２−ジメトキシ−エタン（６６ｍＬ）、水（１９ｍＬ）中水酸化ナトリウム（０．７１２２ｇ、１７．８１ｍｍｏｌ）溶液、テトラヒドロフラン（２２ｍＬ）、及び４，４’−（（２−ベンジルプロパン−１，３−ジイル）ビス（オキシ））ビス（１−フルオロ−３−ヨードベンゼン）（１．５３６ｇ、２．５３４ｍｍｏｌ）を充填した。この溶液を撹拌し、窒素でおよそ１５分間パージし、その後、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（０．２１５７ｇ、０．１８６６ｍｍｏｌ）を添加した。この混合物を８５℃で２４時間還流加熱した。２４時間の間に、沈殿物が生じた。反応物を室温まで冷却させた。沈殿物を真空濾過により単離し、高真空下で約１時間乾燥させて、オフホワイトの固体として粗保護配位子を得た。この配位子をテトラヒドロフラン（１００ｍＬ）とメタノール（１００ｍＬ）の混合物中に溶解し、その後、６０℃まで加熱した。この時点で、配位子は完全には溶解しなかった。この混合物がｐＨ紙により酸性になるまで、混合物にＰＴＳＡ（０．６６７９ｇ、３．５１１ｍｍｏｌ）を添加した。この反応物にクロロホルム（３０ｍＬ）を添加して、配位子を溶解させた。この時点で、配位子は依然として完全には溶解しなかった。一晩撹拌している間に、配位子は最終的には完全に溶解した。一晩撹拌した後、配位子を完了についてＴＬＣにより分析した。ＴＬＣ分析は、配位子の位置の変化を示し、これは、脱保護が完了したことを意味した。配位子を回転蒸発により濃縮して、オフホワイトの固体を得て、１Ｈ  ＮＭＲにより分析した。配位子をクロロホルム中に溶解し、シリカゲルを添加した。スラリーを回転蒸発により濃縮して、乾燥粉末状の混合物を得た。この粉末状の混合物をＩＳＣＯ  ＣＯＭＢＩＦＬＡＳＨシステムに装填し、これを、生成物が溶出するまで「３３０ｇのＧｒａｃｅカラム」及びヘキサン中２〜５％酢酸エチルの勾配を使用して実行した。これらの画分をＴＬＣで分析した。純画分を合わせ、回転蒸発により濃縮して、オフホワイトの固体として生成物を得た。微量の酢酸エチルを除去するために、この固体をジクロロメタン中に溶解し、回転蒸発により濃縮して、オフホワイトの固体を得た（２回繰り返した）。この固体を高真空下で乾燥させて、２．４８ｇ（７４．４％）の生成物を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ８．２１（ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，２Ｈ）、８．２０（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，���Ｈ）、７．３７−７．３５（ｍ，４Ｈ）、７．３１（ｄｄ，Ｊ＝８．６，１．９Ｈｚ，２Ｈ）、７．２３（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，２Ｈ）、７．１９−７．１７（ｍ，３Ｈ）、７．００（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ）、６．９７（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ）、６．９４−６．９１（ｍ，２Ｈ）、６．８８（ｄｄ，Ｊ＝８．７，３．１Ｈｚ，２Ｈ）、６．３１（ｔｄ，Ｊ＝８．５，３．１Ｈｚ，２Ｈ）、５．５８−５．４４（ｍ，２Ｈ）、５．１１（ｓ，２Ｈ）、３．６８−３．５８（ｍ，２Ｈ）、３．５７−３．４６（ｍ，２Ｈ）、２．４７（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ）、２．２５−２．１６（広範ｍ，１Ｈ）、１．６９（ｓ，４Ｈ）、１．４５（ｓ，１８Ｈ）、１．４２（ｓ，１８Ｈ）、１．３５（ｓ，６Ｈ）、１．３３（ｓ，６Ｈ）、０．７６（ｓ，１８Ｈ）。１９Ｆ  ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ−１２３．５８−−１２３．６３（広範ｍ）。ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，Ｍ＋ＮＨ４＋）：（ｍ／ｚ）Ｃ９０Ｈ１１０Ｆ２Ｎ３Ｏ４の計算値１３３５．８４６、実測値１３３５．８４８。
【０１６８】
【化１２】
0006805125.tif 000014
【０１６９】
触媒２の調製：トルエン（８ｍＬ）中に懸濁した配位子（０．４１６ｇ、０．３２ｍｍｏｌ）とＺｒＣｌ４（０．０７０ｇ、０．３２ｍｍｏｌ）の混合物に、ＭｅＭｇＢｒ（０．４４ｍＬ、１．３２ｍｍｏｌ）の３Ｍジエチルエーテル溶液を添加した。懸濁液が５分以内に黒色になった。周囲温度で１．５時間撹拌した後、溶媒を減圧下で除去した。残渣にヘキサン（２０ｍＬ）を添加し、結果として生じた懸濁液を１０分間撹拌し、その後、濾過して、無色の溶液を得た。溶媒を減圧下で除去して、０．３６３ｍｇ（７９．８％）の生成物を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ベンゼン−ｄ６）δ８．５９（ｔ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，１Ｈ）、８．５６−８．５０（ｍ，１Ｈ）、８．３８（ｄｄ，Ｊ＝２．０，０．７Ｈｚ，１Ｈ）、８．３６（ｄｄ，Ｊ＝２．０，０．７Ｈｚ，１Ｈ）、７．７０（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１Ｈ）、７．６８−７．６２（ｍ，３Ｈ）、７．６２（ｄｄ，Ｊ＝５．７，０．６Ｈｚ，１Ｈ）、７．６０（ｄｄ，Ｊ＝５．７，０．６Ｈｚ，１Ｈ）、７．４５（ｄｄ，Ｊ＝４．２，１．９Ｈｚ，１Ｈ）、７．４３（ｄｄ，Ｊ＝４．２，１．９Ｈｚ，１Ｈ）、７．３９−７．３５（ｍ，２Ｈ）、７．３３（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，２Ｈ）、７．１０−７．０４（ｍ，２Ｈ）、７．０４−６．９９（ｍ，３Ｈ）、６．６６−６．６１（ｍ，２Ｈ）、６．６１−６．５２（ｍ，２Ｈ）、５．０２（ｄｄｄ，Ｊ＝１０．５，８．９，４．８Ｈｚ，２Ｈ）、４．０６（ｄｄ，Ｊ＝１１．１，９．３Ｈｚ，１Ｈ）、３．９６（ｄｄ，Ｊ＝１０．０，４．１Ｈｚ，１Ｈ）、３．２８−３．１６（ｍ，２Ｈ）、１．９２−１．７９（ｍ，２Ｈ）、１．７１−１．６１（ｍ，１Ｈ）、１．６１−１．５７（ｍ，４Ｈ）、１．５１（ｓ，９Ｈ）、１．４６（ｓ，９Ｈ）、１．３１（ｓ，６Ｈ）、１．２９（ｓ，１８Ｈ）、１．２６（ｓ，３Ｈ）、１．２３（ｓ，３Ｈ）、０．８２（ｓ，９Ｈ）、０．８０（ｓ，９Ｈ）、−０．７５（ｓ，３Ｈ）、−０．８３（ｓ，３Ｈ）。１３Ｃ  ＮＭＲ（１０１ＭＨｚ，ベンゼン−ｄ６）δ１６０．０８（ｄ，Ｊ＝２４６．１Ｈｚ）、１５９．９７（ｄ，Ｊ＝２４５．７Ｈｚ）、１５４．１０、１５４．０７、１５１．３２（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ）、１５０．８０（ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ）、１４２．７７、１４２．６６、１４２．４２、１４２．２８、１４１．２３、１４０．９７、１４０．０６、１４０．０３、１３９．６７、１３９．５９、１３７．３４、１３４．３９（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）、１３４．０２（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、１２９．３９（ｄ，Ｊ＝１．３Ｈｚ）、１２９．２４（ｄ，Ｊ＝１．１Ｈｚ）、１２８．５８、１２８．４６、１２８．０８、１２６．９９、１２６．９２、１２６．７８、１２４．８６、１２４．７８、１２４．６８、１２４．５８、１２３．７３（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）、１２３．４７（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、１２２．９９、１２２．８７、１２２．５３、１２２．４４、１１７．９７（ｄ，Ｊ＝２３．３Ｈｚ）、１１７．７９（ｄ，Ｊ＝２３．３Ｈｚ）、１１６．６９、１１６．５４、１１５．９２（ｄ，Ｊ＝５．２Ｈｚ）、１１５．８２−１１５．４９（ｍ）、１１２．２０、１１１．９９、１０８．７７、１０８．６０、７９．４８、７８．６３、５６���９１、５６．６５、４２．８４、４２．７４、４０．１８、３７．９５、３４．８９、３４．６１、３４．５４、３４．３８、３２．１９、３２．００、３１．９６、３１．８６、３１．７５、３１．６８、３１．６６、３１．１３、３１．０５。１９Ｆ  ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ベンゼン−ｄ６）δ−１１４．９１−−１１５．１０（ｍ）、−１１５．２８−−１１５．４３（ｍ）。
【０１７０】
【化１３】
0006805125.tif 000015
【０１７１】
２−（ｔｅｒｔ−ブチル）プロパン−１，３−ジイルビス（４−メチルベンゼンスルホネート）の調製：窒素雰囲気下の丸底フラスコ中で、無水ピリジン（１２ｍＬ）中２−（ｔｅｒｔ−ブチル）プロパン−１，３−ジオール（５．０００ｇ、３７．８２１ｍｍｏｌ）溶液を、無水ピリジン（５０ｍＬ）中ｐ−トルエンスルホニルクロリド（１７．３２３ｇ、９０．７７２ｍｍｏｌ）溶液に２時間にわたって滴加し、これを０℃まで冷却した。反応物をさらに４時間撹拌し、冷凍庫に一晩置き、その後、５００ｍＬの氷水中に注いだ。固体生成物を濾過により収集し、水、希硫酸（１０％）、希炭酸ナトリウム（１Ｍ）で洗浄し、水で再度洗浄した。この湿潤生成物をエーテルから再結晶させ、乾燥させて、１１．１５ｇ（６６．９％）の生成物を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．６７（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，４Ｈ）、７．２８（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，４Ｈ）、４．０７（ｄｄ，Ｊ＝１０．１，３．９Ｈｚ，２Ｈ）、３．９８（ｄｄ，Ｊ＝１０．１，６．３Ｈｚ，２Ｈ）、２．３７（ｓ，６Ｈ）、１．６２（ｔｔ，Ｊ＝６．３，３．９Ｈｚ，１Ｈ）、０．７９（ｓ，９Ｈ）。１３Ｃ  ＮＭＲ（１０１ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ１４４．８２、１３２．２６、１２９．７５、１２７．６１、６６．９７、４６．７１、３１．７４、２７．９４、２１．４１。
【０１７２】
【化１４】
0006805125.tif 000016
【０１７３】
４，４’−（（２−（ｔｅｒｔ−ブチル）プロパン−１，３−ジイル）ビス（オキシ））ビス（１−フルオロ−３−ヨードベンゼンの調製：窒素雰囲気下の丸底フラスコに、４−フルオロ−２−ヨードフェノール（６．０００ｇ、２５．２１ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（６．９６８ｇ、５０．４２ｍｍｏｌ）、２−（ｔｅｒｔ−ブチル）プロパン−１，３−ジイルビス（４−メチルベンゼンスルホネート）（５．５５２ｇ、１２．６０５ｍｍｏｌ）、及びＮ，Ｎ−ジメチルホルアミド（１００ｍＬ）を添加した。反応物を１００℃で６０分間加熱し、その後、室温まで冷却させた。この混合物を濃縮して乾燥させ、残渣を５０／５０塩化メチレン／水混合物中に取り込み、塩化メチレンに抽出した。有機相を２Ｎ水酸化ナトリウム、ブライン、水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、淡黄色の高粘性の油として４．７３ｇ（６５．６％）の生成物を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３、δ７．４５（ｄｄ，Ｊ＝７．６，３．０Ｈｚ，２Ｈ）、７．０１（ｄｄｄ，Ｊ＝９．０，７．８，３．０Ｈｚ，２Ｈ）、６．８３（ｄｄ，Ｊ＝９．０，４．６Ｈｚ，２Ｈ）、４．３５−４．２６（ｍ，４Ｈ）、２．０８（ｔｔ，Ｊ＝５．８，４．４Ｈｚ，１Ｈ）、１．１６（ｓ，９Ｈ）。１３Ｃ  ＮＭＲ（１０１ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ１５７．８６、１５５．４４、１５４．２４、１５４．２２、１２６．０４、１２５．７９、１１５．６３、１１５．３９、１１２．３０、１１２．２２、８５．８０、８５．７１、６７．４０、４７．６９、３１．９２、２９．０９。１９Ｆ  ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ−１２２．５１（ｔｄ，Ｊ＝７．７，４．８Ｈｚ）。
【０１７４】
【化１５】
0006805125.tif 000017
【０１７５】
６’，６’’’−（（２−（ｔｅｒｔ−ブチル）プロパン−１，３−ジイル）ビス（オキシ））ビス（３−（３，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−９Ｈ−カルバゾール−９−イル）−３’−フルオロ−５−（２，４，４−トリメチルペンタン−２−イル）−［１，１’−ビフェニル］−２−オール）の調製：１，２−ジメトキシエタン（６９ｍＬ）に、３，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−９−（２−（（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）オキシ）−３−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）−５−（２，４，４−トリメチルペンタン−２−イル）フェニル）−９Ｈ−カルバゾール（４．００ｇ、５．６５０ｍｍｏｌ）、４，４’−（（２−（ｔｅｒｔ−ブチル）プロパン−１，３−ジイル）ビス（オキシ））ビス（１−フルオロ−３−ヨードベンゼン）（１．５８３ｇ、２．６８４ｍｍｏｌ）、１６ｍＬの水中水酸化ナトリウム（０．６７８ｇ、１６．９５０）溶液、及びテトラヒドロフラン（４０ｍＬ）を添加した。反応混合物を窒素で約１５分間スパージした。その後、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（０．１３０ｇ、０．１１３０ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を８５℃まで一晩加熱した。１９Ｆ  ＮＭＲを使用して、反応完了を決定した。反応物を室温まで冷却させた。反応物を濃縮し、残渣を塩化メチレン（２００ｍＬ）中に取り込み、ブライン（２００ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥させ、シリカゲルパッドを通して濾過し、濃縮して、粗保護配位子を得た。この粗配位子に、テトラヒドロ−フラン（５０ｍＬ）、メタノール（５０ｍＬ）、及びおよそ１００ｍｇのｐ−トルエンスルホン酸一水和物を添加した。この溶液を６０℃まで一晩加熱し、その後、室温まで冷却させ、濃縮した。この粗配位子を塩化メチレン（１００ｍＬ）中に取り込み、ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥させ、シリカゲルパッドを通して濾過し、その後、濃縮して、茶色の結晶性粉末として配位子を得た。この固体を、３３０ｇのＧｒａｃｅ  Ｒｅｖｅｌｅｒｉｓカートリッジを使用し、「ヘキサン中２０〜３０％塩化メチレンの勾配」で溶出するＩＳＣＯ  ＣｏｍｂｉＦｌａｓｈ機器上でのカラムクロマトグラフィーにより精製して、白色の結晶性固体として２．０２ｇ（５８．６％）の生成物を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ８．３６（ｔ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，４Ｈ）、７．５４（ｄｄｄ，Ｊ＝１３．５，８．６，１．９Ｈｚ，４Ｈ）、７．４７（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，２Ｈ）、７．２８（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，２Ｈ）、７．１５（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ）、７．０８（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ）、６．９４（ｄｄ，Ｊ＝８．７，３．２Ｈｚ，２Ｈ）、６．４０−６．３０（ｍ，２Ｈ）、５．６８−５．５５（ｍ，２Ｈ）、５．２１（ｓ，２Ｈ）、３．８９−３．７６（ｍ，４Ｈ）、１．７８（ｓ，４Ｈ）、１．７６−１．６８（ｍ，１Ｈ）、１．５８（ｓ，１８Ｈ）、１．５８（ｓ，１８Ｈ）、１．４４（ｓ，６Ｈ）、１．４１（ｓ，６Ｈ）、０．８８（ｓ，９Ｈ）、０．８７（ｓ，１８Ｈ）。１３Ｃ  ＮＭＲ（１０１ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ１５７．９１、１５５．５３、１５１．１４、１５���．１２、１４７．８４、１４２．７９、１４２．７７、１３９．９８、１３９．９４、１２９．１０、１２７．５７、１２７．４９、１２７．２６、１２６．３１、１２３．９６、１２３．５９、１２３．５０、１２３．３６、１２３．２８、１１７．９７、１１７．７３、１１６．２９、１１６．２１、１１５．３２、１１５．０９、１１２．００、１１１．９１、１０９．３９、１０９．２４、６５．７７、５６．９８、４７．４７、３８．１５、３４．７９、３４．７７、３２．４２、３２．１０、３１．９１、３１．７７、３１．６５、３１．５５、２８．７９。１９Ｆ  ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ−１２３．７７（広範ｓ）。ＨＲＭＳ（ＥＳＩ，Ｍ＋ＮＨ４＋）：（ｍ／ｚ）Ｃ８７Ｈ１１２Ｆ２Ｎ３Ｏ４の計算値１３００．８６２、実測値１３００．８６１．
【０１７６】
【化１６】
0006805125.tif 000018
【０１７７】
触媒３の調製：グローブボックス内に、０．２１ｍＬのＭｅＭｇＢｒ（エーテル中３．０Ｍ、０．６４ｍｍｏｌ）を１０ｍＬのトルエンと合わせ、−３０℃まで冷却した。これにＺｒＣｌ４（０．０３５ｇ、０．１５ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を５分間撹拌させ、この５分間の間に灰色／黒色になった。この時点で、配位子（０．２０ｇ、０．１５ｍｍｏｌ）を固体として緩徐に添加した。冷却を取り除き、混合物を室温まで加温させた。一晩撹拌した後、混合物を、０．４５ミクロンのＰＴＦＥシリンジフィルタを通して濾過した。濾液を真空内で乾燥させた。残渣を５ｍＬの５０／５０トルエン／ヘキサン組み合わせ中に溶解し、０．４５ミクロンのＰＴＦＥシリンジフィルタを通して濾過し、揮発物を真空内で除去した。収率：０．１１ｇ（５０％）。ＮＭＲ試料をＣ６Ｄ６で調製した。１Ｈ  ＮＭＲ（Ｃ６Ｄ６、４００ＭＨｚ，ＲＴ）：８．６０ｐｐｍ（ｍ，２Ｈ）、８．３８（ｄｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，１．９Ｈｚ，２Ｈ）、７．６４（ｍ，８Ｈ）、７．４５（ｄｄｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，５．５Ｈｚ，１．９Ｈｚ，２Ｈ）、７．２５（ｄｄ，Ｊ＝１０．４Ｈｚ，２．５Ｈｚ，２Ｈ）、６．９９（ｄｄｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，５．２Ｈｚ，３．１Ｈｚ）、６．５８（ｄｄｄｄ，Ｊ＝３０．８Ｈｚ，８．９Ｈｚ，７．３Ｈｚ，３．２Ｈｚ，２Ｈ）、５．２３（ｄｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，４．８Ｈｚ，１Ｈ）、５．０２（ｄｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，４．９Ｈｚ，１Ｈ）、４．２４（ｄｄ，Ｊ＝１１．５Ｈｚ，１０．０Ｈｚ，１Ｈ）、４．０４（ｄｄ，Ｊ＝９．４Ｈｚ，５．９Ｈｚ，１Ｈ）、３．４７（ｄｄ，Ｊ＝１１．５Ｈｚ，３．０Ｈｚ，１Ｈ）、３．３１（ｄｄ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，７．７Ｈｚ，１Ｈ）、１．６０（ｍ，５Ｈ）、１．５０（ｓ，９Ｈ）、１．４６（ｓ，９Ｈ）、１．３０（ｓ，１８Ｈ）、０．９０（ｓ，３Ｈ）、０．８８（ｓ，６Ｈ）、０．８６（ｓ，３Ｈ）、０．８５（ｓ，９Ｈ）、０．８２（ｓ，９Ｈ）、０．２９（ｓ，９Ｈ）、−０．６８（ｓ，３Ｈ）、−０．８６（ｓ，３Ｈ）。１３Ｃ−｛１Ｈ｝ＮＭＲ（Ｃ６Ｄ６，１００ＭＨｚ，ＲＴ）：１６０．５ｐｐｍ（ｄ，Ｊ＝２４６Ｈｚ）、１６０．４（ｄ，Ｊ＝２４６Ｈｚ）、１５４．４、１５４．１、１５１．９（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、１５０．８（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、１４３．０、１４２．８、１４２．８、１４１．６、１４１．４、１４０．５、１４０．３、１４０．０、１３５．２（ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ）、１３４．７（ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ）、１３０．０、１２９．５、１２９．３、１２８．５、１２７．６、１２７．５、１２７．０、１２５．４、１２５．１（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、１２５．１、１２５．０、１２５．０、１２４．０（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、１２３．２、１２２．９、１２２．７、１１８．４（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）、１１８．２（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）、１１７．２、１１７．０、１１６．３（ｄ，Ｊ＝２３．０Ｈｚ）、１１５．９（ｄ，Ｊ＝２３．０Ｈｚ）、１１５．９、１１５．９、１１２．７、１１２．５、１０８．９、１０８．８、７９．２、７７．９、５６．７、５６．７、４７．９、４３．３、４２．６、３８．３、３８．２、３５．０、３４．９、３４．７、３２．５、３２．５、３２．３、３２．３���３２．２、３２．１、３２．０、３１．９、３１．５、３１．２、２７．０、２３．０、１４．３。１９Ｆ−｛１Ｈ｝ＮＭＲ（Ｃ６Ｄ６，３７６ＭＨｚ，ＲＴ）：−１１４．５−１１５．３ｐｐｍ（ｍ）。
【０１７８】
遷移金属錯体構造
【０１７９】
【化１７】
0006805125.tif 000019
【０１８０】
共触媒
共触媒１：（トリス−ペンタフルオロフェニルボラン）−Ｂｏｕｌｄｅｒ  Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃにより供給されたもの
共触媒２：（修飾メタルミノキサン）（ＭＭＡＯ−３Ａ）−Ａｋｚｏ−Ｎｏｂｅｌにより供給されたもの
共触媒３：（ビス−水素化獣脂アルキルメチルアンモニウムテトラキス−ペンタフルオロフェニルボレート）−Ｂｏｕｌｄｅｒ  Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃにより供給されたもの
【０１８１】
エチレン／１−オクテンバッチ重合手順
２ガロンのバッチ反応器に、１３００ｇのＩＳＯＰＡＲ−Ｅ溶媒ならびに一定量の１−オクテン及び水素を装填した。その後、反応器を所望の圧力までエチレンで加圧した。触媒成分をドライボックス内で一緒に混合し、その後、ポンプを通して反応器に添加した。反応の終わりに、反応器の内容物を収集容器に流し込み、真空オーブン内で乾燥させ、さらなる分析のために収集した。結果を表１及び２に示す。
【０１８２】
現行の遷移金属錯体（触媒Ａ）は、３０〜５０ｍｍｏｌの水素添加を使用して、かつ比較的低い重合温度（１２０〜１３０℃）で、所望の分子量範囲（１８，０００〜２２，０００ｇ／ｍｏｌのＭＷ）の材料を生成した。非置換Ｃ３架橋ビス−フェニル−フェノキシ触媒（触媒Ｂ）は、高温で同じ分子量範囲にするのに２００〜３００ｍｍｏｌの水素を必要とした。
【０１８３】
４つの発明遷移金属錯体（触媒１、触媒２、触媒３、及び触媒４）について、所望の低分子量及び低密度を、０〜８０ｍｍｏｌの水素添加を使用して、かつ著しくより高い温度（１７５〜１７９℃）で達成した。
【０１８４】
【表１】
0006805125.tif 000020
【０１８５】
【表２】
0006805125.tif 000021
【０１８６】
連続重合
すべての連続実験を液体で満たされた５リットルのジャケット付き撹拌槽反応器内で行い、５０バール及び２５０℃で評価した。エチレン、溶媒、水素、及びオクテンを供給ライン内で混合し、表３Ａ及び４Ａに列記される量で反応器の底部に連続様式で供給した。別個のラインを通して触媒成分及び共触媒成分を反応器に流し込んだ。添加する触媒成分の量を制御して、反応器出口ライン上でＦＴＩＲによって測定される、反応器に供給されたエチレンの９２％を変換した。熱油で加熱した外部ジャケットにより反応器温度を所望の設定点に制御した。反応器を出た時点で、溶媒／ポリマー混合物を予熱し、その後、それが脱揮発器に入り、そこで溶媒及び非変換モノマーが除去される。最終乾燥ポリマーをパンに収集し、ポリマー密度、粘度、及び分子量について分析した。ポリマー特性については、表３Ｂ及び４Ｂを参照されたい。
【０１８７】
【表３Ａ】
0006805125.tif 000022
【０１８８】
【表３Ｂ】
0006805125.tif 000023
【０１８９】
【表４Ａ】
0006805125.tif 000024
【０１９０】
【表４Ｂ】
0006805125.tif 000025
【０１９１】
触媒Ａを使用した比較重合は、妥当なレベルの水素及びコモノマーを低反応器温度（＜１５０℃）でのみ使用して、低分子量（例えば、１７７℃で≦２０，０００ｃＰ）及び低密度（例えば、＜０．９０ｇ／ｃｃ）のエチレン系ポリマーを生成することができた。高温では、触媒効率が下がりすぎて、商業的に実現不能になる。Ｃ３架橋上にアルキル置換基を含有しない触媒Ｂを使用した比較重合は、高温で良好な触媒効率を有する所望の低分子量エチレン系ポリマーを生成することができたが、本発明重合と比較して著しくより高いレベルの水素が必要であった。いくつかの場合では、必要な水素のレベルは、対応する発明重合に必要なレベルの５倍を超えた。
【０１９２】
触媒１または触媒３を使用した本発明重合は、高反応器温度で優れた触媒効率を有する所望の低分子量エチレン系ポリマーを生成することができた。触媒Ａを使用した比較重合に必要なレベルと同様の極めて妥当なレベルの水素及びオクテンのみを必要とした。
なお、本発明には、以下の実施形態が包含されるものとする。
［１］式１から選択される少なくとも１つの分子遷移金属錯体の存在下で、エチレン、及び随意に少なくとも１つのコモノマーを重合することを含む、エチレン系ポリマーを形成する方法であって、
【化３】
0006805125.tif 000026
式中、Ｍが、チタン、ジルコニウム、またはハフニウムであり、各々独立して、＋２、＋３、または＋４の形式的酸化状態であり、
ｎが、０〜３の整数であり、ｎが０である場合、Ｘが不在であり、
各Ｘが独立して、中性、モノアニオン性、もしくはジアニオン性の単座配位子であるか、または２つのＸが一緒になって、中性、モノアニオン性、もしくはジアニオン性の二座配位子を形成し、
Ｘ及びｎが、前記金属−配位子錯体が中性になるように選択され、
各Ｚ部分が独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ［（Ｃ1〜Ｃ40）ヒドロカルビル］−、または−Ｐ［（Ｃ1〜Ｃ40）ヒドロカルビル］−であり、
Ｒxが、以下、置換もしくは非置換（Ｃ1〜Ｃ40）ヒドロカルビル、置換もしくは非置換（Ｃ1〜Ｃ40）ヘテロヒドロカルビル、−Ｓｉ（ＲC）3、−ＯＳｉ（ＲC）3−Ｇｅ（ＲC）3、−Ｐ（ＲC）2、−Ｎ（ＲC）2、−ＯＲC、−ＳＲC、−ＮＯ2、−ＣＮ、−ＣＦ3、−ＯＣＦ3、−Ｓ（Ｏ）ＲC、−Ｓ（Ｏ）2ＲC、−Ｎ＝Ｃ（ＲC）2、−ＯＣ（Ｏ）ＲC、−Ｃ（Ｏ）ＯＲC、−Ｎ（Ｒ）Ｃ（Ｏ）ＲC、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（ＲC）2、ハロゲン、または水素から選択され、式中、各ＲCが独立して、置換もしくは非置換（Ｃ1〜Ｃ30）ヒドロカルビル、または置換もしくは非置換（Ｃ1〜Ｃ30）ヘテロヒドロカルビルであり、
Ｒyが、以下、置換もしくは非置換（Ｃ1〜Ｃ40）ヒドロカルビル、置換もしくは非置換（Ｃ1〜Ｃ40）ヘテロヒドロカルビル、−Ｓｉ（ＲC）3、−ＯＳｉ（ＲC）3、−Ｇｅ（ＲC）3、−Ｐ（ＲC）2、−Ｎ（ＲC）2、−ＯＲC、−ＳＲC、−ＮＯ2、−ＣＮ、−ＣＦ3、−ＯＣＦ3、−Ｓ（Ｏ）ＲC、−Ｓ（Ｏ）2ＲC、−Ｎ＝Ｃ（ＲC）2、−ＯＣ（Ｏ）ＲC、−Ｃ（Ｏ）ＯＲC、−Ｎ（Ｒ）Ｃ（Ｏ）ＲC、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（ＲC）2、ハロゲン、または水素から選択され、式中、各ＲCが独立して、置換もしくは非置換（Ｃ1〜Ｃ30）ヒドロカルビル、または置換もしくは非置換（Ｃ1〜Ｃ30）ヘテロヒドロカルビルであり、
Ｒｘが水素である場合、Ｒｙが水素ではなく、Ｒｙが水素である場合、Ｒｘが水素ではなく、
Ｒｘ及びＲｙが、環構造を随意に形成してもよく、
Ｒ1a、Ｒ2a、Ｒ3a、Ｒ4a、Ｒ1b、Ｒ2b、Ｒ3b、Ｒ4b、Ｒ5c、Ｒ6c、Ｒ7c、Ｒ8c、Ｒ5d、Ｒ6d、Ｒ7d、及びＲ8dが各々独立して、以下、置換もしくは非置換（Ｃ1〜Ｃ40）−ヒドロカルビル、置換もしくは非置換（Ｃ1〜Ｃ40）ヘテロヒドロカルビル、−Ｓｉ（ＲC）3、−ＯＳｉ（ＲC）3、−Ｇｅ（ＲC）3、−Ｐ（ＲC）2、−Ｎ（ＲC）2、−ＯＲC、−ＳＲC、−ＮＯ2、−ＣＮ、−ＣＦ3、−ＯＣＦ3、−Ｓ（Ｏ）ＲC、−Ｓ（Ｏ）2ＲC、−Ｎ＝Ｃ（ＲC）2、−ＯＣ（Ｏ）ＲC、−Ｃ（Ｏ）ＯＲC、−Ｎ（Ｒ）Ｃ（Ｏ）ＲC、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（ＲC）2、ハロゲン、または水素から選択され、式中、各ＲCが独立して、置換もしくは非置換（Ｃ1〜Ｃ30）ヒドロカルビル、または置換もしくは非置換（Ｃ1〜Ｃ30）ヘテロヒドロカルビルであり、
式１について、１つ以上の水素原子が、重水素で随意に置換されてもよく、
式１について、Ｒ1a、Ｒ2a、Ｒ3a、Ｒ4a、Ｒ1b、Ｒ2b、Ｒ3b、Ｒ4b、Ｒ5c、Ｒ6c、Ｒ7c、Ｒ8c、Ｒ5d、Ｒ6d、Ｒ7d、及びＲ8dのうちの２つ以上が、１つ以上の環構造を随意に形成してもよい、前記方法。
［２］Ｒ3aまたはＲ3bのうちの少なくとも一方がハロゲンである、前記［１］に記載の方法。
［３］ＲｘまたはＲｙが水素であり、他方が置換もしくは非置換（Ｃ１〜Ｃ４０）ヒドロカルビルである、前記［１］または［２］に記載の方法。
［４］ＲｘまたはＲｙが水素であり、他方が非置換（Ｃ１〜Ｃ２０）ヒドロカルビルである、前記［３］に記載の方法。
［５］各Ｚが−Ｏ−（酸素原子）である、前記［１］〜［４］のいずれか一項に記載の方法。
［６］ｎが２であり、各Ｘが独立して、アルキルである、前記［１］〜［５］のいずれか一項に記載の方法。
［７］Ｒ5c及びＲ5dが各々独立して、以下、１，２，３，４−テトラヒドロナフチル、アントラセニル、１，２，３，４−テトラヒドロアントラセニル、１，２，３，４，５，６，７，８−オクタヒドロアントラセニル、フェナントレニル、１，２，３，４，５，６，７，８−オクタヒドロフェナントレニル、２，６−ジメチルフェニル、２，６−ジイソプロピルフェニル、３，５−ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）フェニル、３，５−ジフェニルフェニル、１−ナフチル、２−メチル−１−ナフチル、２−ナフチル、１，２，３，４−テトラ−ヒドロナフト−５−イル、１，２，３，４−テトラヒドロナフト−６−イル、アントラセン−９−イル、１，２，３，４−テトラヒドロ−アントラセン−９−イル、１，２，３，４，５，６，７，８−オクタヒドロアントラセン−９−イル、１，２，３，４，５，６，７，８−オクタヒドロフェナントレン−９−イル、インドリル、インドリニル、キノリニル、１，２，３，４−テトラヒドロキノリニル、イソキノリニル、１，２，３，４−テトラヒドロ−イソキノリニル、カルバゾリル、１，２，３，４−テトラヒドロカルバゾリル、１，２，３，４，５，６，７，８−オクタヒドロカルバゾリル、３，６−ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）−カルバゾール−９−イル、３，６−ジ（ｔｅｒｔ−オクチル）−カルバゾール−９−イル、３，６−ジフェニルカルバゾール−９−イル、３，６−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）−カルバゾール−９−イル、２，７−ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）−カルバゾール−９−イル、２，７−ジ（ｔｅｒｔ−オクチル）−カルバゾール−９−イル、２，７−ジフェニルカルバゾール−９−イル、または２，７−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）−カルバゾール−９−イルから選択される、前記［１］〜［６］のいずれか一項に記載の方法。
［８］Ｒ7c及びＲ7dが各々独立して、アルキルである、前記［１］〜［７］のいずれか一項に記載の方法。
［９］Ｒ1a、Ｒ2a、Ｒ4a、Ｒ1b、Ｒ2b、Ｒ4b、Ｒ6c、Ｒ8c、Ｒ6d、及びＲ8dが各々、水素である、前記［１］〜［８］のいずれか一項に記載の方法。
［１０］前記方法が１７０℃以上の重合温度で実行される、前記［１］〜［９］のいずれか一項に記載の方法。
［１１］前記エチレン系ポリマーが１７７℃で５０，０００ｃＰ以下の溶融粘度を有する、前記［１］〜［１０］のいずれか一項に記載の方法。
［１２］前記エチレン系ポリマーがエチレン／α−オレフィンコポリマーである、前記［１］〜［１１］のいずれか一項に記載の方法。
［１３］式１が、以下の構造ａ）〜ｄｄ）、
【化４−１】
0006805125.tif 000027
【化４−２】
0006805125.tif 000028
から選択される、前記［１］〜［１２］のいずれか一項に記載の方法。
［１４］前記［１］〜［１３］のいずれか一項に記載の方法から形成されるエチレン系ポリマー。
［１５］前記［１４］に記載のエチレン系ポリマーを含む組成物。