(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ニッケルとコバルトを含有する硫酸酸性溶液に、下記（１）から（５）に示す処理を施すことを特徴とするニッケル粉の製造方法。
（記）
（１）ニッケルとコバルトを含有する硫酸酸性溶液に、水酸化アルカリを添加し、ｐＨ調整後液を得るｐＨ調整工程。
（２）前記ｐＨ調整工程で得たｐＨ調整後液を抽出剤と接触させて、抽残液と抽出後有機相に分離し、次いで前記抽出後有機相に下記固液分離工程で得た主としてＮａイオン、Ｍｇイオン、硫酸イオン、アンモニウムイオンの不純物を含む還元後液を接触させて、ニッケルを含有する交換後水相とコバルトと前記不純物を含む交換後有機相とに分離する溶媒抽出工程。
（３）前記溶媒抽出工程で得た交換後水相に、硫酸アンモニウム、もしくは下記固液分離工程で得た還元後液と硫酸アンモニウムを添加し、硫酸ニッケルアンミン錯体溶液を得る錯化工程。
（４）前記錯化工程で得た硫酸ニッケルアンミン錯体溶液に、種晶を添加して作製した混合スラリー中に水素ガスを吹き込み、前記種晶の表面上にニッケルを析出させて形成したニッケル粉を含む還元スラリーを得る還元工程。
（５）前記還元工程で得た還元スラリーを固液分離してニッケル粉と主としてＮａイオン、Ｍｇイオン、硫酸イオン、アンモニウムイオンの不純物を含む還元後液を得た後、一方の得られた還元後液を前記溶媒抽出工程での使用、或いは前記溶媒抽出工程と錯化工程の両者での使用を繰り返し、
他方の得られたニッケル粉を粒径により篩別し、予め設定した粒径より小さなニッケル粉を、前記錯化工程、還元工程のいずれか又は両者に種晶としての添加を繰り返すことで、粗大なニッケル粉を得る固液分離工程。
【請求項２】
前記溶媒抽出工程が、得られた交換後有機相に、水を接触させてコバルト回収液と逆抽出後有機相とに分離し、次いで前記逆抽出後有機相を抽出剤に繰り返し用いることを特徴とする請求項１記載のニッケル粉の製造方法。
【請求項３】
前記篩別された予め設定した粒径より小さなニッケル粉の平均粒径が、０．１〜１００μｍの大きさであることを特徴とする請求項１に記載のニッケル粉の製造方法。
【請求項４】
前記還元工程が、混合スラリーを作製する際、ポリアクリル酸、アクリル酸塩、スルホン酸塩のうち、１種類以上を含む分散剤をさらに添加することを特徴とする請求項１記載のニッケル粉の製造方法。
【請求項５】
前記還元工程における添加する種晶の添加量が、硫酸ニッケルアンミン錯体溶液中のニッケル重量に対し、１〜１００％となる量であることを特徴とする請求項１記載のニッケル粉の製造方法。
【請求項６】
前記ニッケルとコバルトを含有する硫酸酸性溶液が、ニッケルおよびコバルトの混合硫化物、粗硫酸ニッケル、酸化ニッケル、水酸化ニッケル、炭酸ニッケル、金属ニッケルの粉末の少なくとも１種を含むことを特徴とする請求項１記載のニッケル粉の製造方法。
【請求項７】
前記抽出剤が、２−エチルヘキシルホスホン酸モノ２−エチルヘキシルエステルまたはジ−（２，４，４−トリメチルペンチル）ホスフィン酸であることを特徴とする請求項１記載のニッケル粉の製造方法。
【請求項８】
前記硫酸ニッケルアンミン錯体溶液中の硫酸アンモニウム濃度が、１００〜５００ｇ／Ｌの範囲で、かつアンモニウム濃度が、前記錯体溶液中のニッケル濃度に対してモル比で２．０以上であることを特徴とする請求項１記載のニッケル粉の製造方法。
【請求項９】
前記還元工程が、温度を１５０〜２００℃、及び圧力を１．０〜４．０ＭＰａの範囲に維持して行うことを特徴とする請求項１記載のニッケル粉の製造方法。
【請求項１０】
前記還元工程ならびに固液分離工程を経て得られたニッケル粉を、団鉱機を用いて塊状のニッケルブリケットに加工するニッケル粉団鉱工程と、
得られた塊状のニッケルブリケットを、水素雰囲気中で温度５００〜１２００℃での保持条件により、焼結処理を行い、焼結体のニッケルブリケットを形成するブリケット焼結工程を含むことを特徴とする請求項１記載のニッケル粉の製造方法。
【請求項１１】
前記固液分離工程で得た還元終液を濃縮し、硫酸アンモニウムを晶析させて硫安結晶を回収する硫安回収工程を含むことを特徴とする請求項１記載のニッケル粉の製造方法。
【請求項１２】
前記固液分離工程で得た還元終液にアルカリを加えて加熱し、アンモニアガスを揮発させ回収するアンモニア回収工程を含むことを特徴とする請求項１に記載のニッケル粉の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、硫酸ニッケルアンミン錯体溶液から高純度なニッケル粉、及びそのニッケル粉を固めたブリケットを得る方法に関するものである。
特に湿式ニッケル製錬プロセスで発生した工程内の中間生成溶液の処理に適用できる。
【背景技術】
【０００２】
湿式製錬プロセスを用いてニッケル粉を工業的に製造する方法として、原料を硫酸溶液に溶解後、不純物を除去する工程を経て、得た硫酸ニッケル溶液にアンモニアを添加し、ニッケルのアンミン錯体を形成させ、生成した硫酸ニッケルアンミン錯体溶液に水素ガスを供給しニッケルを還元することによりニッケル粉を製造する方法が知られている。
例えば、非特許文献１には還元反応時に鉄化合物を種晶として添加し、鉄化合物上にニッケルを析出させるニッケル粉の製造プロセスが記載されているが、製品中への種晶由来の鉄混入がある点が課題である。
【０００３】
さらに、水素ガス以外の還元剤を用いてニッケル粉を得る方法もこれまでに提案されてきている。
例えば、特許文献１には安価で、かつ耐侯性に優れ、樹脂と混練した状態で電気抵抗が低く、初期電気抵抗および使用中の電気抵抗を低減し、長期間にわたり安定して使用でき、導電ペーストおよび導電樹脂用の導電性粒子として好適なニッケル粉、およびその製造方法が開示されている。
【０００４】
この特許文献１に開示されるニッケル粉は、コバルトを１〜２０質量％含有し、残部がニッケルおよび不可避不純物からなり、一次粒子が凝集した二次粒子で構成されるニッケル粉であって、酸素含有量が０．８質量％以下である。二次粒子の表層部にのみコバルトを含有し、その表層部におけるコバルト含有量が１〜４０質量％とすることが好ましい、とされている。
しかしながら、開示される製造方法に沿って、ニッケル粉を得ようとする場合、コバルトが共存することになり、例えばニッケル酸化鉱石のようにニッケルとコバルトが共存して存在し、これらを分離してそれぞれを高純度かつ経済的に回収しようとする用途には適していない。
【０００５】
さらに特許文献２には、粒子凝集物を生じにくいように改善された、液相還元法による金属粉末の製造方法が提供されている。
この製造方法は、金属化合物、還元剤、錯化剤、分散剤を溶解することにより、金属化合物に由来する金属イオンを含有する水溶液を作製する第１工程と、水溶液のｐＨ調整をすることにより金属イオンを還元剤により還元させ、金属粉末を析出させる第２工程とを備える金属粉末の製造方法である。
しかし、この製造方法は高価な薬剤を用いて高コストであり、上記ニッケル製錬として大規模に操業するプロセスに適用するには経済面で有利とはいえない。
【０００６】
以上のように様々なニッケル粉を製造するプロセスが提案されているが、工業的に安価な水素ガスを用いて高純度のニッケル粉を製造する方法は提唱されていなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００５−２４０１６４号公報
【特許文献２】特開２０１０−２４２１４３号公報
【非特許文献】
【０００８】
【非特許文献１】ＰＯＷＤＥＲ  ＭＥＴＡＬＬＵＲＧＹ、１９５８、Ｎｏ．１／２、Ｐ.４０−５２
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
このような状況の中で、本発明は工業的に安価な水素ガスを使用し、微小なニッケル粉を用いて硫酸ニッケルアンミン錯体溶液からの高純度のニッケル粉の粗大な粒を生成する製造方法の提供を目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
このような課題を解決する本発明の第１の発明は、ニッケルとコバルトを含有する硫酸酸性溶液に、下記（１）から（５）に示す処理を施すことを特徴とするニッケル粉の製造方法である。
（記）
（１）ニッケルとコバルトを含有する硫酸酸性溶液に、水酸化アルカリを添加し、ｐＨ調整後液を得るｐＨ調整工程。
（２）前記ｐＨ調整工程で得たｐＨ調整後液を抽出剤と接触させて、抽残液と抽出後有機相に分離し、次いで前記抽出後有機相に下記固液分離工程で得た主としてＮａイオン、Ｍｇイオン、硫酸イオン、アンモニウムイオンの不純物を含む還元後液を接触させて、ニッケルを含有する交換後水相とコバルトと前記不純物を含む交換後有機相とに分離する溶媒抽出工程。
（３）前記溶媒抽出工程で得た交換後水相に、硫酸アンモニウム、もしくは下記固液分離工程で得た還元後液と硫酸アンモニウムを添加し、硫酸ニッケルアンミン錯体溶液を得る錯化工程。
（４）前記錯化工程で得た硫酸ニッケルアンミン錯体溶液に、種晶を添加して作製した混合スラリー中に水素ガスを吹き込み、前記種晶の表面上にニッケルを析出させて形成したニッケル粉を含む還元スラリーを得る還元工程。
（５）前記還元工程で得た還元スラリーを固液分離してニッケル粉と主としてＮａイオン、Ｍｇイオン、硫酸イオン、アンモニウムイオンの不純物を含む還元後液を得た後、一方の得られた還元後液を前記溶媒抽出工程での使用、或いは前記溶媒抽出工程と錯化工程の両者での使用を繰り返し、
他方の得られたニッケル粉を粒径により篩別し、予め設定した粒径より小さなニッケル粉を、前記錯化工程、還元工程のいずれか又は両者に種晶としての添加を繰り返すことで、粗大なニッケル粉を得る固液分離工程。
【００１１】
本発明の第２の発明は、第１の発明における溶媒抽出工程が、得られた交換後有機相に、水を接触させてコバルト回収液と逆抽出後有機相とに分離し、次いで前記逆抽出後有機相を抽出剤に繰り返し用いることを特徴とするニッケル粉の製造方法である。
【００１２】
本発明の第３の発明は、第１の発明における篩別された予め設定された粒径より小さいニッケル粉の平均粒径が、０．１〜１００μｍの大きさであることを特徴とするニッケル粉の製造方法である。
【００１３】
本発明の第４の発明は、第１の発明における還元工程が、混合スラリーを作製する際、ポリアクリル酸、アクリル酸塩、スルホン酸塩のうち、１種類以上を含む分散剤をさらに添加することを特徴とするニッケル粉の製造方法である。
【００１４】
本発明の第５の発明は、第１の発明における還元工程の添加する種晶の添加量が、硫酸ニッケルアンミン錯体溶液中のニッケル重量に対し、１〜１００％となる量であることを特徴とするニッケル粉の製造方法である。
【００１５】
本発明の第６の発明は、第１の発明におけるニッケルとコバルトを含有する硫酸酸性溶液が、ニッケルおよびコバルトの混合硫化物、粗硫酸ニッケル、酸化ニッケル、水酸化ニッケル、炭酸ニッケル、金属ニッケルの粉末の少なくとも１種を含むことを特徴とするニッケル粉の製造方法である。
【００１６】
本発明の第７の発明は、第１の発明における抽出剤が、２−エチルヘキシルホスホン酸モノ２−エチルヘキシルエステルまたはジ−（２，４，４−トリメチルペンチル）ホスフィン酸であることを特徴とするニッケル粉の製造方法である。
【００１７】
本発明の第８の発明は、第１の発明における硫酸ニッケルアンミン錯体溶液中の硫酸アンモニウム濃度が、１００〜５００ｇ／Ｌの範囲で、かつアンモニウム濃度が、前記錯体溶液中のニッケル濃度に対してモル比で２．０以上であることを特徴とするニッケル粉の製造方法である。
【００１８】
本発明の第９の発明は、第１の発明における還元工程が、温度を１５０〜２００℃、及び圧力を１．０〜４．０ＭＰａの範囲に維持して行うことを特徴とするニッケル粉の製造方法である。
【００１９】
本発明の第１０の発明は、第１の発明における還元工程並びに固液分離工程を経て得られたニッケル粉を、団鉱機を用いて塊状のニッケルブリケットに加工するニッケル粉団鉱工程と、その得られた塊状のニッケルブリケットを、水素雰囲気中で温度５００〜１２００℃での保持条件により、焼結処理を行い、焼結体のニッケルブリケットを形成するブリケット焼結工程を含むことを特徴とするニッケル粉の製造方法である。
【００２０】
本発明の第１１の発明は、第１の発明における固液分離工程で得られた還元終液を濃縮し、硫酸アンモニウムを晶析させて硫安結晶を回収する硫安回収工程を含むことを特徴とするニッケル粉の製造方法である。
【００２１】
本発明の第１２の発明は、第１の発明における固液分離工程で得られた還元終液に、アルカリを加えて加熱し、アンモニアガスを揮発させ回収するアンモニア回収工程を含むことを特徴とするニッケル粉の製造方法である。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、硫酸ニッケルアンミン錯体溶液から、水素ガスを用いてニッケル粉を生成する製造方法において、その製品を汚染しない種晶を用いることにより、高純度な、ニッケル粉を容易に得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明のニッケル粉の製造フロー図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
本発明は、硫酸ニッケルアンミン錯体溶液からニッケル粉を得る製造方法であって、湿式製錬プロセスの中間生成物である工程液に、下記（１）〜（５）に示す工程を施すことによって、硫酸ニッケルアンミン錯体溶液から、より不純物の少ない高純度ニッケル粉を製造することを特徴とするものである。
以下、図１に示す本発明の高純度ニッケル粉の製造フロー図を参照して、本発明の高純度ニッケル粉の製造方法を説明する。
【００２５】
［浸出工程］及び「（１）ｐＨ調整工程」
先ず、「浸出工程」は、出発原料となる、ニッケルおよびコバルト混合硫化物、粗硫酸ニッケル、酸化ニッケル、水酸化ニッケル、炭酸ニッケル、ニッケル粉などから選ばれる一種、または複数の混合物から成る工業中間物などのニッケル含有物を、硫酸により溶解して、ニッケルを浸出させて浸出液（ニッケルを含む溶液）を生成する工程で、特開２００５−３５０７６６号公報などに開示された公知の方法を用いて行われる。
次に、「（１）ｐＨ調整工程」により、この浸出液に水酸化アルカリを用いたｐＨ調整を行い、「（２）溶媒抽出工程」に供する。
【００２６】
［（２）溶媒抽出工程］
この「（２）溶媒抽出工程」は、浸出工程で得られた後、ｐＨ調整された浸出液と有機相を接触させ、ニッケル、コバルトなどの成分を有機相に分配させ、ニッケル、コバルトなどを抽出した有機相を、製造初期には水相に硫酸又は硫酸アンモニウムを用い、製造中には「（４）還元工程」から繰り返し戻される還元後液を水相に用い、その水相と接触させることにより、ニッケルを水相へ分配させ、水相中のニッケル濃度を高め、他の異なる成分の濃度を低くするものである。
【００２７】
本発明では有機相に２−エチルヘキシルホスホン酸モノ２−エチルヘキシルエステルまたはジ−（２，４，４−トリメチルペンチル）ホスフィン酸を用いて浸出液中の不純物元素、特にコバルトを選択的に抽出し、高純度の硫酸ニッケルアンミン錯体溶液を形成する効果が高いものである。
【００２８】
［（３）錯化工程］
「（２）溶媒抽出工程」で得られた高純度の硫酸ニッケルアンミン錯体溶液に、硫酸アンモニウム添加し、錯体溶液中のニッケルのすべてをアンミン錯体の形態とする工程である。
このときの硫酸アンモニウムは、その濃度を溶液中のニッケル濃度に対しモル比で２．０以上になるようにアンモニアを調整する。添加する硫酸アンモニアのアンモニウム濃度が２．０未満ではニッケルがアンミン錯体を形成せず、水酸化ニッケルの沈殿が生成してしまう。
また、「（２）溶媒抽出工程」において、繰り返し戻される還元後液中には、すでに硫酸アンモニウムが含まれており、この「（３）錯化工程」で、添加する硫酸アンモニウムは、溶液中のニッケル濃度に対しモル比で２．０以上とするための不足分を補加するだけでよい。
【００２９】
さらに本工程における硫酸アンモニウム濃度は、１００〜５００ｇ／Ｌが好ましく、５００ｇ／Ｌを超えると溶解度を超えてしまい、結晶が析出して、プロセスのメタルバランス上、１００ｇ／Ｌ未満を達成するのは困難である。
【００３０】
［硫酸ニッケルアンミン錯体溶液からのニッケル粉製造工程］
硫酸ニッケルアンミン錯体溶液からニッケル粉を製造する工程を以下に説明する。
【００３１】
＜（ａ）種晶添加工程＞
上記錯化工程で得られた硫酸ニッケルアンミン錯体溶液に、平均粒径が１〜２０μｍのニッケル粉を種晶としてニッケル粉スラリーの形態で添加して種晶を含む混合スラリーを形成する。
【００３２】
このときに添加する種晶の重量は、硫酸ニッケルアンミン錯体溶液中のニッケル重量に対し１〜１００％が好ましい。１％未満では次工程の還元時の反応効率が著しく低下する。また１００％を超えると使用量が多く、種晶製造にコストが掛かり、経済的ではない。
【００３３】
さらに、同時に分散剤を添加しても良い。この分散剤を添加することにより種晶が分散するため、次工程の還元工程の効率を上昇させることができる。
使用する分散剤としては、アクリル酸塩又はスルホン酸塩を有するものであれば特に限定されないが、工業的に安価に入手できるものとしてリグニンスルホン酸塩、ポリアクリル酸塩が好ましい。
【００３４】
［（４）還元工程］
「（ａ）種晶添加工程」で得られた混合スラリーに水素ガスを吹き込み、溶液中のニッケルを種晶上に析出させた還元スラリーを生成する。このとき、反応温度は１００〜２００℃が好ましい。１００℃未満では還元効率が低下し、２００℃を超えても反応への影響はなく熱エネルギー等のロスが増加する。
【００３５】
また、反応時の圧力は１．０〜４．０ＭＰａが好ましい。１．０ＭＰａ未満では反応効率が低下し、４．０ＭＰａを超えても反応への影響はなく水素ガスのロスが増加する。
【００３６】
「（ａ）種晶添加工程」で得られた混合スラリーの液中には、不純物として主にマグネシウムイオン、ナトリウムイオン、硫酸イオン、アンモニウムイオンが存在するが、いずれも溶液中に残留するため、高純度のニッケル粉を生成することができる。
【００３７】
［（５）固液分離工程］
次に、「（４）還元工程」で得られた還元スラリーを、固液分離して高純度ニッケル粉を固相成分として、また、液相成分として還元後液を回収する。
【００３８】
［（ｂ）ニッケル交換工程］
「（５）固液分離工程」で得られた還元後液を、「（２）溶媒抽出工程」に繰り返し戻し、ニッケル濃度を高めた硫酸ニッケルアンミン錯体溶液を得る。
【００３９】
＜（ｃ）成長工程＞
「（５）固液分離工程」で回収した高純度のニッケル粉に、「（ｂ）ニッケル交換工程」で得られたニッケル濃度を高めた硫酸ニッケルアンミン錯体溶液を加え、「（４）還元工程」と同様の方法により水素ガスを供給する。これにより高純度のニッケル粉上にニッケルが還元析出するため、粒子を成長させることができる。
【００４０】
また、本成長工程を複数回繰り返して行なうこと、即ち、得られた高純度ニッケル粉を「（５）固液分離工程」からの高純度のニッケル粉の代りに用いることにより、より嵩密度が高く、より粒径が大きな高純度のニッケル粉を生成することができる。
さらに、得られたニッケル粉に対して、以下のニッケル粉団鉱工程やブリケット焼成工程を経てより粗大で酸化し難く取り扱いしやすいブリケットの形状に仕上げても良い。
【００４１】
［ニッケル粉団鉱工程］
本発明により製造される高純度のニッケル粉は、製品形態として、乾燥後に団鉱機等により成形加工を行ない塊状のニッケルブリケットを得る。
また、このブリケットへの成形性を向上させるために、場合によってはニッケル粉に水等の製品品質を汚染しない物質をバインダーとして添加する。
【００４２】
［ブリケット焼結工程］
団鉱工程で作製したニッケルブリケットは、水素雰囲気中で焙焼、焼結を行ないブリケット焼結体を作製する。この処理では強度を高めると共に、微量残留するアンモニア、硫黄成分の除去を行なうもので、その焙焼・焼結温度は、５００〜１２００℃が好ましく、５００℃未満では焼結が不十分となり、１２００℃を超えても効率がほとんど変わらずエネルギーのロスが大きくなる。
【実施例】
【００４３】
以下、実施例を用いて本発明を、より詳細に説明する。
【実施例１】
【００４４】
［（ａ）種晶添加工程］
ニッケル７５ｇが含まれる硫酸ニッケル溶液と硫酸アンモニウム３３０ｇを含む溶液に、２５％アンモニア水を１９１ｍｌ添加し、合計の液量が１０００ｍｌになるように調整した硫酸ニッケルアンミン錯体溶液を作製した。この作製した溶液に平均粒径２μｍのニッケル粉を種晶として７．５ｇを添加して混合スラリーを作製した。
【００４５】
［（４）還元工程］
「（ａ）種晶添加工程」で作製した混合スラリーを、オートクレーブにて撹拌しながら１８５℃に昇温し、オートクレーブ内の圧力が３．５ＭＰａになるように水素ガスを吹き込み、供給して還元処理であるニッケル粉生成処理を行った。
水素ガスの供給後、１時間が経過した後に水素ガスの供給を停止し、オートクレーブを冷却した。
【００４６】
［（５）固液分離工程］
冷却後に得られた還元スラリーを濾過による固液分離処理し、高純度の小径ニッケル粉と還元後液を回収した。このときの回収したニッケル粉は７０ｇであった。また、還元後液中のニッケル濃度は５ｇ／Ｌであった。
【００４７】
［（ｂ）ニッケル交換工程］
「（５）固液分離工程」で回収した還元後液に、ニッケルを１０ｇ／Ｌ含む有機溶媒を有機相／水相比が１０／Ｌとなるように混合した。その後、静置させ得られた水相中のニッケル濃度は１００ｇ／Ｌであった。
【００４８】
［（ｃ）成長工程］
次に、上記「（ｂ）ニッケル交換工程」で得られたニッケル濃度を高めた硫酸ニッケルアンミン錯体溶液に、上記「（５）固液分離工程」で得られた高純度の小径ニッケル粉を全量添加してスラリーを作製した。
このスラリーをオートクレーブにて撹拌しながら１８５℃に昇温し、オートクレーブ内の圧力が３．５ＭＰａになるように水素ガスを吹き込み、供給した。
水素ガスの供給後、１時間が経過した後に水素ガスの供給を停止し、オートクレーブを冷却した。冷却後に得られたスラリーを濾過による固液分離処理し、高純度の粒成長したニッケル粉を回収した。
【実施例２】
【００４９】
実施例１と同じ硫酸ニッケルアンミン錯体溶液１０００ｍｌに、種晶として平均粒径１μｍのニッケル粉を７５ｇ添加した後、オートクレーブにて撹拌しながら１８５℃に昇温し、オートクレーブ内の圧力が３．５ＭＰａになるように水素ガスを吹き込み、供給した。
水素ガスの供給後、１時間が経過した後に水素ガスの供給を停止し、オートクレーブを冷却した。冷却後に得られたスラリーを濾過による固液分離処理を施し、回収したニッケル粉を純水で洗浄した後、ニッケル粉の不純物品位を分析した。ＭｇやＮａはニッケル粉への混入はなく、高純度のＮｉ粉を生成することができた。
【実施例３】
【００５０】
実施例１で使用した種晶２２．５ｇとリグニンスルホン酸ナトリウム１．５ｇ、硫酸ニッケル３３６ｇ、硫酸アンモニウム３３０ｇを含む溶液に、２５％アンモニア水を１９１ｍｌ添加し、合計の液量が１０００ｍｌになるように調整した混合スラリーを作製した。
【００５１】
次に、その混合スラリーをオートクレーブにて撹拌しながら１８５℃に昇温し、オートクレーブ内の圧力が３．５ＭＰａになるように水素ガスを吹き込み、供給した。水素ガスの供給後、１時間が経過した後に水素ガスの供給を停止した。オートクレーブの冷却後、得られたスラリーを濾過による固液分離処理し、ニッケル粉を回収した。
このとき、反応後液中のニッケル濃度は０．４ｇ／Ｌであり、９９％以上の還元率が得られた。
【実施例４】
【００５２】
硫酸ニッケル３３６ｇ、硫酸アンモニウム濃度３３０ｇを含む溶液に２５％アンモニア水を１９１ｍｌ添加し、合計の液量が１０００ｍｌになるように調整し、１μｍに粒径を調整したニッケル粉を７５ｇ添加した混合スラリーを作製した。
オートクレーブにて撹拌しながら１８５℃に昇温し、オートクレーブ内の圧力が３．５ＭＰａになるように水素ガスを吹き込み、供給して、還元処理であるニッケル粉成長処理を行った。
【００５３】
水素ガスの供給後、１時間が経過した後に水素ガスの供給を停止した。オートクレーブを冷却後、得られた還元スラリーを濾過による固液分離処理し、小径ニッケル粉を回収した。
回収した小径ニッケル粉と硫酸ニッケル３３６ｇ、硫酸アンモニウム３３０ｇを含む溶液に、２５％アンモニア水を１９１ｍｌ添加し、合計の液量が１０００ｍｌになるように調整した。再びオートクレーブにて撹拌しながら１８５℃に昇温し、オートクレーブ内の圧力が３．５ＭＰａになるように水素ガスを吹き込み、供給して粒成長処理を施した後、濾過による固液分離処理を経て、粒成長したニッケル粉を回収した。
この操作を１０回繰り返し、ニッケル粉をより成長させた。
【００５４】
これにより得られたニッケル粉中の硫黄品位は０．０４％であった。
このニッケル粉を、２％水素雰囲気中にて１０００℃に加熱し６０分間保持した。保持後に得られたニッケル粉中の硫黄品位は０．００８％であり、焙焼により硫黄品位を低減させることができた。
【００５５】
（比較例１）
種晶を添加せずに、純水４５ｍｌ、硫酸ニッケル六水和物２０ｇ、硫酸アンモニウム１５ｇ、２８％アンモニア水１０ｍｌを混合した溶液をオートクレーブに入れ、撹拌しながら水素ガスを３．５ＭＰａまで供給し、１８５℃に昇温後、６時間保持した。冷却後、オートクレーブ内を確認すると、析出物は容器と撹拌羽根上にスケールとして付着しており、粉状のニッケルを生成することはできなかった。
【００５６】
（比較例２）
リグニンスルホン酸ナトリウムを添加せずに、その他は実施例３の条件と同様にして還元工程を実施した。その結果、回収できたニッケル粉は３３ｇであり、１４％の回収率に留まった。
【図１】
0006726396.tif 000002