(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
検出対象物の表面に装着可能なコロイド結晶膜と、
前記コロイド結晶膜の表面に設けられて予め設定された所定波長の反射光を透過させる偏光フィルタと、
を備えることを特徴とするひずみ検出器。
【請求項２】
前記所定波長は、予め設定されたひずみの大きさに対応した波長であることを特徴とする請求項１に記載のひずみ検出器。
【請求項３】
前記コロイド結晶膜は、孔部が設けられ、前記偏光フィルタは、前記孔部の周縁部に設けられることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のひずみ検出器。
【請求項４】
前記孔部は、複数設けられ、前記偏光フィルタは、複数の前記孔部の間に設けられることを特徴とする請求項３に記載のひずみ検出器。
【請求項５】
前記偏光フィルタは、前記孔部及び前記孔部の周縁部を被覆し、前記周縁部よりも外側で前記コロイド結晶膜に貼り付けられることを特徴とする請求項３または請求項４に記載のひずみ検出器。
【請求項６】
検出対象物の表面に装着可能な基板が設けられ、前記コロイド結晶膜は、前記基板に貼り付けられることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか一項に記載のひずみ検出器。
【請求項７】
検出対象物の表面にコロイド結晶膜を貼り付ける工程と、
前記検出対象物に応力が作用したときに予め設定された所定波長の反射光を視認させる工程と、
視認した反射光によりひずみの大きさを検出する工程と、
を有することを特徴とするひずみ検出方法。
【請求項８】
検出対象物に装着された請求項１から請求項６に記載のひずみ検出器と、
前記ひずみ検出器を撮影するカメラと、
前記カメラの撮影画像に基づいて反射光を検出する制御部と、
前記制御部の検出結果に基づいてひずみの発生を知らせる表示部と、
を備えることを特徴とするプラント機器のモニタリングシステム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば、地震発生時などに作用する応力により検出対象物に生じたひずみを検出するひずみ検出器及びひずみ検出方法、並びに、このひずみ検出器を用いたプラント機器のモニタリングシステムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般に、原子力発電プラントや化学プラントなどのプラントでは、プラント内に設置される配管やタンクなどの構造物に過大な応力荷重が作用した場合、構造物の各部位が損傷するおそれがある。そのため、例えば、地震などが発生したときには、地震発生後に、構造物に生じたひずみを把握する必要がある。プラントでは、対象となる構造物が多数に及ぶことから、このひずみを把握するための装置としては簡便なものが好ましく、電源を不要とするもの、配線を不要とするもの、目視で検査できるものが望まれている。
【０００３】
このようなひずみを検出するものとして、下記特許文献１にて、金属板でなり、少なくとも１つの尖鋭開口端を有するよう形成された開口部を備えた計測体を有する表面ひずみ検出計が記載されている。この表面ひずみ検出計は、被計測物（検出対象物）の表面に取付けられ、開口部の尖鋭開口端に生じた亀裂を計測することで、被計測物に生じたひずみを電源や配線を要することなく目視により検出することができる。
【０００４】
しかしながら、従来の表面ひずみ検出計は、尖鋭開口端に生じた亀裂によって被計測物に生じたひずみを検出するため、開口方向以外のひずみを検出することができない。このため、被計測物に取付けられる計測体（開口部）の周縁の全方向（３６０°）について、被計測物に生じるひずみを検出することはできない。
【０００５】
そこで、出願人は、下記特許文献２のひずみ検出板及びひずみ検出方法を出願した。このひずみ検出板及びひずみ検出方法は、検出対象物の表面に取付けられる金属製の板体に円形の孔部を形成し、この孔部の周縁における板体の表面に応力塗料を塗布して塗膜層を形成したものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１０−２５６２１２号公報
【特許文献２】特願２０１４−２２９０７９号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上述したひずみ検出板及びひずみ検出方法は、検出対象物の表面のいずれの方向のひずみについて検出することができる。しかし、塗膜層に生じた亀裂を目視により検出することは難しく、容易にひずみを検出することができる検出器が望まれている。
【０００８】
本発明は、上述した課題を解決するものであり、ひずみを容易に検出することで検出精度の向上を図るひずみ検出器及び方法並びにプラント機器のモニタリングシステムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記の目的を達成するための本発明のひずみ検出器は、検出対象物の表面に装着可能なコロイド結晶膜と、前記コロイド結晶膜の表面に設けられて予め設定された所定波長の反射光を透過させる偏光フィルタと、を備えることを特徴とするものである。
【００１０】
従って、コロイド結晶膜の表面に所定波長の反射光を透過させる偏光フィルタを設けたことで、偏光フィルタの感度を調整するだけで、所定波長だけを作業者に視認させることができ、検出対象物におけるひずみの発生を容易に検出することができる。その結果、ひずみを容易に検出することで検出精度の向上を図ることができる。
【００１１】
本発明のひずみ検出器では、前記所定波長は、予め設定されたひずみの大きさに対応した波長であることを特徴としている。
【００１２】
従って、偏光フィルタが透過する所定波長を検出したいひずみの大きさに対応した波長に設定することで、検出したいひずみを適正に検出することができる。
【００１３】
本発明のひずみ検出器では、前記コロイド結晶膜は、孔部が設けられ、前記偏光フィルタは、前記孔部の周縁部に設けられることを特徴としている。
【００１４】
従って、コロイド結晶膜に孔部を設けることで、コロイド結晶膜に脆弱部を設けて所定の位置に容易にひずみを発生させることができ、偏光フィルタをこの孔部の周縁部に設けることで、ひずみが発生しやすい位置にだけ偏光フィルタを設けることとなり、製造コストを低減することができる。
【００１５】
本発明のひずみ検出器では、前記孔部は、複数設けられ、前記偏光フィルタは、複数の前記孔部の間に設けられることを特徴としている。
【００１６】
従って、偏光フィルタを複数の孔部の間に設けることで、偏光フィルタをひずみが発生しやすい位置にだけ設けることで、製造コストを低減することができる。
【００１７】
本発明のひずみ検出器では、前記偏光フィルタは、前記孔部及び前記孔部の周縁部を被覆し、前記周縁部よりも外側で前記コロイド結晶膜に貼り付けられることを特徴としている。
【００１８】
従って、偏光フィルタにより孔部及び孔部の周縁部を被覆し、その外側でコロイド結晶膜に貼り付けることで、ひずみが発生しやすい領域に偏光フィルタ体の剛性が作用することはなく、ひずみを高精度に検出することができる。
【００１９】
本発明のひずみ検出器では、検出対象物の表面に装着可能な基板が設けられ、前記コロイド結晶膜は、前記基板に貼り付けられることを特徴としている。
【００２０】
従って、基板にコロイド結晶膜を貼り付け、コロイド結晶膜に偏光フィルタを貼り付けることで、ひずみ検出器自体の剛性を確保し、取扱性を向上することができる。
【００２１】
また、本発明のひずみ検出方法は、検出対象物の表面にコロイド結晶膜を貼り付ける工程と、前記検出対象物に応力が作用したときに予め設定された所定波長の反射光を視認させる工程と、視認した反射光によりひずみの大きさを検出する工程と、を有することを特徴とするものである。
【００２２】
従って、所定波長だけを作業者に視認させることができ、検出対象物におけるひずみの発生を容易に検出することができる。その結果、ひずみを容易に検出することで検出精度の向上を図ることができる。
【００２３】
また、本発明のプラント機器のモニタリングシステムは、検出対象物に装着された請求項１から請求項６に記載のひずみ検出器と、前記ひずみ検出器を撮影するカメラと、前記カメラの撮影画像に基づいて反射光を検出する制御部と、前記制御部の検出結果に基づいてひずみの発生を知らせる表示部と、を備えることを特徴とするものである。
【００２４】
従って、カメラが検出対象物に装着されたひずみ検出器を撮影し、制御部がカメラの撮影画像に基づいて反射光を検出すると、表示部がひずみの発生を知らせることとなり、プラント機器の健全性を確保することができる。
【発明の効果】
【００２５】
本発明のひずみ検出器及び方法並びにプラント機器のモニタリングシステムによれば、検出対象物の表面に装着可能なコロイド結晶膜と、コロイド結晶膜の表面に設けられて所定波長の反射光を透過させる偏光フィルタとを設けるので、ひずみを容易に検出することで検出精度の向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】図１は、第１実施形態のひずみ検出器が装着される検査対象物を表す概略図である。
【図２】図２は、ひずみ検出器を表す正面図である。
【図３】図３は、ひずみ検出器の構成を表す概略図である。
【図４】図４は、従来の人工オパール薄膜による波長に対する反射光強度を表すグラフである。
【図５】図５は、第１実施形態のひずみ検出器による波長に対する反射光強度を表すグラフである。
【図６】図６は、第１実施形態のひずみ検出器の使用例を表す概略図である。
【図７】図７は、第２実施形態のひずみ検出器の構成を表す概略図である。
【図８】図８は、第３実施形態のプラント機器のモニタリングシステムを表す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
以下に添付図面を参照して、本発明のひずみ検出器及び方法並びにプラント機器のモニタリングシステムの好適な実施形態を詳細に説明する。なお、この実施形態により本発明が限定されるものではなく、また、実施形態が複数ある場合には、各実施形態を組み合わせて構成するものも含むものである。
【００２８】
［第１実施形態］
図１は、第１実施形態のひずみ検出器が装着される検査対象物を表す概略図である。
【００２９】
原子力発電プラントや化学プラントなどのプラントにて、図１に示すように、貯蔵タンク１１は、建屋の床１２の上に複数の脚部１３により設置されている。この貯蔵タンク１１は、円筒形をなす胴部１４と、この胴部１４の上部に取付けられる上鏡板１５と、胴部１４の下部に取付けられる下鏡板１６とから構成されている。貯蔵タンク１１は、下鏡板１６に貯蔵タンク１１内の溶液を導出するための導出管１７が連結されており、この導出管１７は、床１２に立設された配管サポート１８により支持されている。
【００３０】
このような貯蔵タンク１１は、例えば、プラントで地震が発生した場合、矢印Ｘで表す水平方向に揺動することに伴い、各脚部１３に対して矢印Ｙ方向で表す鉛直方向に大きな荷重が作用し、この各脚部１３にひずみが生じるおそれがある。同様に、貯蔵タンク１１は、地震の発生時に、配管サポート１８に対して矢印Ｙ方向で表す鉛直方向に大きな荷重が作用し、この配管サポート１８にひずみが生じるおそれがある。そのため、地震が治まった後に、貯蔵タンク１１の脚部１３や配管サポート１８などに生じたひずみの有無を点検する必要がある。
【００３１】
第１実施形態のひずみ検出器２０は、検査対象物としての貯蔵タンク１１の脚部１３や配管サポート１８などに生じたひずみを目視によって検出するものである。そのため、このひずみ検出器２０は、貯蔵タンク１１の脚部１３と配管サポート１８に取付けられている。なお、ひずみ検出器２０は、検査対象物として貯蔵タンク１１の胴部１４や鏡板１５，１６、導出管１７に直接取付けてもよい。
【００３２】
図２は、ひずみ検出器を表す正面図、図３は、ひずみ検出器の構成を表す概略図である。
【００３３】
第１実施形態のひずみ検出器２０は、図２及び図３に示すように、人工オパール薄膜２１と、偏光フィルタ２２とから構成されている。
【００３４】
人工オパール薄膜２１は、コロイド粒子が規則的に配列しているコロイド結晶膜であって、ブラッグ（Ｂｒａｇｇ）回折によりその格子定数に対応した波長の光を反射することができる。そして、人工オパール薄膜２１は、その変形により容易にその特性を変化させることができる。即ち、コロイド結晶全体は、圧縮応力や引張応力により変形してコロイド粒子間隔や配列が変化し、応力の作用により光学特性が変化する。人工オパール薄膜２１は、特定の波長の光を反射するものであり、材質自体は無色であっても、ブラッグ反射のために着色して視認される。例えば、表面が赤色の人工オパール薄膜２１に対して応力が作用すると、緑色に変化する。この場合、予め赤色から緑色に変化する応力値を設定することができる。
【００３５】
また、人工オパール薄膜２１は、検出対象物の表面に装着可能であって、円形をなす複数の孔部３１が設けられている。本実施形態では、人工オパール薄膜２１は、正六角形のフィルム状をなし、中央部に４個の孔部３１が正四角形をなすように形成され、隣接する孔部３１同士が均等間隔となっている。人工オパール薄膜２１は、脆弱部として孔部３１を設けることで、応力が作用したときに変形しやすくなる。なお、人工オパール薄膜２１の形状は、正六角形に限定されるものではなく、円形、楕円形、多角形などであってもよく、孔部３１の数も４個に限らず、１個や５個以上であってもよく、また、孔部３１が無くてもよい。
【００３６】
偏光フィルタ２２は、予め設定された所定波長の反射光を透過させるものである。この所定波長とは、予め設定されたひずみに対応した所定の幅をもった波長領域である。ここで、所定の幅とは、例えば、５％の幅を持つ波長領域幅（所定波長）であり、中心波長値λ±５％の所定波長幅である。偏光フィルタ２２は、人工オパール薄膜２１と同様に、正六角形のフィルム状をなし、この人工オパール薄膜２１の表面に接着剤により貼り付けて設けられる。
【００３７】
なお、人工オパール薄膜２１と偏光フィルタ２２を同形状に設定したが、この構成に限定されるものではない。人工オパール薄膜２１は、中央部に複数の孔部３１が設けられていることから、この複数の孔部３１の隣接部（複数の孔部３１の間）が変形しやすい。このため、偏光フィルタ２２が複数の孔部３１を被覆し、この孔部３１の周縁部だけに接着されるようにしてもよい。
【００３８】
ここで、本実施形態のひずみ検出器２０の作用について説明する。図４は、従来の人工オパール薄膜による波長に対する反射光強度を表すグラフ、図５は、第１実施形態のひずみ検出器による波長に対する反射光強度を表すグラフである。
【００３９】
従来の人工オパール薄膜は、図４に示すように、応力が作用していないとき、所定の短い波長の領域で所定の反射光強度が確保され、例えば、赤色に表示される。ここで、人工オパール薄膜に所定の応力が作用すると、長い波長の領域にシフトして所定の反射光強度になり、例えば、緑色に表示される。しかし、人工オパール薄膜に応力が作用したときに、波長の変化、つまり、赤色から緑色への変化が連続的であって境界がないことから、どのくらいの大きさのひずみが発生しているかを視覚的に認識することが難しい。
【００４０】
一方、本実施形態のひずみ検出器２０は、人工オパール薄膜２１の表面に偏光フィルタ２２が設けられている。このひずみ検出器２０は、図５に示すように、応力が作用していないとき、人工オパール薄膜２１が所定の短い波長の領域で所定の反射光強度が確保されているものの、短い波長の反射光は、偏光フィルタ２２を透過しないことから、ひずみ検出器２０は、無色に表示される。ここで、ひずみ検出器２０の人工オパール薄膜２１に所定の応力が作用すると、長い波長の領域にシフトして所定の反射光強度になる。そして、この波長が予め設定された所定波長を超えると、所定波長の反射光が偏光フィルタ２２を透過する一方、所定波長から外れる反射光が偏光フィルタ２２によりカットされ、ひずみ検出器２０は、緑色（図２のＡ領域）に表示される。そのため、ひずみ検出器２０に応力が作用したとき、その波長が所定波長を超えると、緑色が表示されるため、所定応力と所定波長との関係を明確にしておくことで、どのくらいの大きさのひずみが発生しているかを視覚的に容易に認識することができる。
【００４１】
本実施形態のひずみ検出方法は、検出対象物の表面にひずみ検出器２０を貼り付ける工程と、検出対象物に応力が作用したときに予め設定された所定波長の反射光を視認させる工程と、視認した反射光によりひずみの大きさを検出する工程とを有している。
【００４２】
即ち、検出対象物の表面にひずみ検出器２０を貼り付ける。この場合、検出対象物に応じてひずみの値が規定されていることから、偏光フィルタ２２がひずみの値に対応した波長の色を透過するように構成しておく。即ち、ひずみ検出器２０は、応力が作用していないとき、所定波長より短い波長の反射光が偏光フィルタ２２により遮られることから、ひずみ検出器２０が初期の色となる。
【００４３】
そして、地震などの発生よりひずみ検出器２０に応力が作用すると、人工オパール薄膜２１が変色を開始し、検出対象物のひずみの上限値に対応した波長の反射光が発せられると、所定波長の反射光が偏光フィルタ２２を透過し、ひずみ検出器２０が変色する。作業者は、ひずみ検出器２０の変色を容易に視認することができ、検出対象物に規定値のひずみが発生したことを認識することができる。
【００４４】
この場合、検出対象物の表面にひずみ検出器２０を貼り付け、このひずみ検出器２０の変色により検出対象物におけるひずみの発生を視認することができることから、上述したような検査対象物としての既設の施設や構造物に対して用いる場合に限定されるものではない。例えば、車両や船舶などによる部品などを輸送する場合、輸送前にこの部品にひずみ検出器２０を装着し、輸送後にひずみ検出器２０の変色によりひずみの発生を視認するように構成することもできる。
【００４５】
また、上述の説明では、検出対象物に１個のひずみ検出器２０を貼り付けてひずみ検出を行ったが、この方法に限定されるものではない。図６は、第１実施形態のひずみ検出器の使用例を表す概略図である。
【００４６】
例えば、図６に示すように、人工オパール薄膜２１または偏光フィルタ２２の機能が異なる複数のひずみ検出器２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃを用意し、検出対象物としての導出管１７にこのひずみ検出器２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃを隣接して貼り付ける。この場合、各ひずみ検出器２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃは、異なる応力で変色するものである。例えば、各ひずみ検出器２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃの人工オパール薄膜２１を同じものとし、偏光フィルタ２２の透過する波長を異ならせるように構成したり、また、偏光フィルタ２２を同じものとし、人工オパール薄膜２１の変色する応力値を異ならせるように構成したりすればよい。この場合、ひずみ検出器２０Ａは、所定の第１応力で変色を視認でき、ひずみ検出器２０Ｂは、第１応力より高い第２応力で変色を視認でき、ひずみ検出器２０Ｃは、第２応力より高い第３応力で変色を視認できる。
【００４７】
そのため、地震の発生により導出管１７に応力が作用したとき、各ひずみ検出器２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃのうちの視認を確認したものに応じてひずみの大きさを高精度に検出することができる。例えば、ひずみ検出器２０Ａが検出するひずみの大きさは、まだ導出管１７を交換する必要のないものとし、ひずみ検出器２０Ｂが検出するひずみの大きさは、導出管１７を交換してもよいものとし、ひずみ検出器２０Ｃが検出するひずみの大きさは、導出管１７を交換すべきものとすることで、作業者に対して導出管１７の交換時期を知らせることができる。
【００４８】
このように第１実施形態のひずみ検出器にあっては、検出対象物の表面に装着可能な人工オパール薄膜（コロイド結晶膜）２１と、人工オパール薄膜２１の表面に設けられて予め設定された所定波長の反射光を透過させる偏光フィルタ２２とを設けている。
【００４９】
従って、人工オパール薄膜２１の表面に所定波長の反射光を透過させる偏光フィルタ２２を設けたことで、偏光フィルタ２２の感度を調整するだけで、所定波長だけを作業者に視認させることができ、検出対象物におけるひずみの発生を容易に検出することができる。その結果、ひずみを容易に検出することで検出精度の向上を図ることができる。
【００５０】
第１実施形態のひずみ検出器では、所定波長を予め設定されたひずみの大きさに対応した波長としている。従って、偏光フィルタ２２が透過する所定波長を検出したいひずみの大きさに対応した波長に設定することで、検出したいひずみを適正に検出することができる。
【００５１】
第１実施形態のひずみ検出器では、人工オパール薄膜２１に円形の孔部３１を設け、偏光フィルタ２２を孔部３１の周縁部に設けている。従って、人工オパール薄膜２１に円形の孔部３１を設けることで、人工オパール薄膜２１に脆弱部を設けて所定の位置に容易にひずみを発生させることができ、偏光フィルタ２２をこの孔部３１の周縁部に設けることで、ひずみが発生しやすい位置にだけ偏光フィルタ２２を設けることとなり、製造コストを低減することができる。
【００５２】
第１実施形態のひずみ検出器では、複数の孔部３１を設け、偏光フィルタ２２を複数の孔部３１の間に設けている。従って、偏光フィルタ２２をひずみが発生しやすい位置にだけ設けることで、製造コストを低減することができる。
【００５３】
第１実施形態のひずみ検出器では、偏光フィルタ２２により孔部３１及び孔部３１の周縁部を被覆し、周縁部よりも外側で人工オパール薄膜２１に貼り付けられている。従って、ひずみが発生しやすい領域に偏光フィルタ２２自体の剛性が作用することはなく、ひずみを高精度に検出することができる。
【００５４】
また、第１実施形態のひずみ検出方法にあっては、検出対象物の表面に人工オパール薄膜２１を貼り付ける工程と、検出対象物に応力が作用したときに予め設定された所定波長の反射光を視認させる工程と、視認した反射光によりひずみの大きさを検出する工程とを有している。従って、所定波長だけを作業者に視認させることができ、検出対象物におけるひずみの発生を容易に検出することができる。その結果、ひずみを容易に検出することで検出精度の向上を図ることができる。
【００５５】
［第２実施形態］
図７は、第２実施形態のひずみ検出器の構成を表す概略図である。なお、上述した第１実施形態と同様の機能を有する部材には、同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
【００５６】
第２実施形態において、図７に示すように、ひずみ検出器４０は、基板４１と、人工オパール薄膜２１と、偏光フィルタ２２とから構成されている。
【００５７】
基板４１は、検出対象物の表面に装着可能であって、正六角形のフィルム状をなす金属板または合成樹脂性板である。人工オパール薄膜２１と偏光フィルタ２２は、第１実施形態と同様であることから、説明は省略する。
【００５８】
人工オパール薄膜２１は、基板４１の表面に接着剤により貼り付けて設けられ、偏光フィルタ２２は、人工オパール薄膜２１の表面に接着剤により貼り付けて設けられる。即ち、ひずみ検出器４０は、基板４１と人工オパール薄膜２１と偏光フィルタ２２とからなる三層形状となる。
【００５９】
このように第２実施形態のひずみ検出器にあっては、検出対象物の表面に装着可能な基板４１を設け、基板４１に人工オパール薄膜２１を貼り付け、人工オパール薄膜２１に偏光フィルタ２２を貼り付けている。
【００６０】
従って、基板４１に対して人工オパール薄膜２１と偏光フィルタ２２を貼り付けることで、ひずみ検出器４０自体の剛性を確保し、取扱性を向上することができる。
【００６１】
［第３実施形態］
図８は、第３実施形態のプラント機器のモニタリングシステムを表す概略図である。なお、上述した各実施形態と同様の機能を有する部材には、同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
【００６２】
第３実施形態において、図８に示すように、プラント機器のモニタリングシステム５０は、ひずみ検出器２０（４０）と、カメラ５１と、制御部５２と、表示部としてのモニタ５３及び警報機５４とから構成されている。
【００６３】
ひずみ検出器２０（４０）は、第１実施形態または第２実施形態で説明したものであり、検査対象物としての胴部１４に貼り付けられている。カメラ５１は、架台６１上に設置され、胴部１４に貼り付けられたひずみ検出器２０（４０）を撮影することができる。このカメラ５１は、架台６１に設置された送信機５５が接続されている。制御部５２は、管理室６２に設置されており、送信機５５と無線通信が可能な受信機５６が接続されている。制御部５２は、送信機５５及び受信機５６を通してカメラ５１の撮影画像が入力され、このカメラ５１の撮影画像に基づいてひずみ検出器２０（４０）からの反射光（変色）を検出することができる。そして、制御部５２は、モニタ５３と警報機５４が接続され、検出結果に基づいてひずみの発生を知らせることができる。
【００６４】
そのため、カメラ５１は、常時、胴部１４に貼り付けられたひずみ検出器２０（４０）を撮影し、ひずみ検出器２０（４０）の撮影画像を送信機５５受信機５６により管理室６２の制御部５２に出力している。制御部５２は、カメラ５１の撮影画像に基づいてひずみ検出器２０（４０）の変色を検出することで、胴部１４のひずみが発生したかを判定する。そして、制御部５２は、ひずみ検出器２０（４０）の変色により胴部１４にひずみが発生したと判定すると、モニタ５３によりひずみ検出器２０（４０）の変色を表示すると共に、警報機５４により警報を発し、作業者に胴部１４のひずみの発生を知らせる。
【００６５】
第３実施形態のプラント機器のモニタリングシステムにあっては、検出対象物に装着されたひずみ検出器２０（４０）と、ひずみ検出器２０（４０）を撮影するカメラ５１と、カメラ５１の撮影画像に基づいて反射光を検出する制御部５２と、制御部の検出結果に基づいてひずみの発生を知らせる表示部としてのモニタ５３及び警報機５４とを設けている。
【００６６】
従って、カメラ５１が検出対象物に装着されたひずみ検出器２０（４０）を撮影し、制御部５２がカメラ５１の撮影画像に基づいて反射光を検出すると、モニタ５３がひずみ検出器２０（４０）の変色を表示すると共に、警報機５４が警報を発し、作業者に対して検出対象物におけるひずみの発生を知らせる。その結果、プラント機器の健全性を確保することができる。
【符号の説明】
【００６７】
１１  貯蔵タンク（検出対象物）
１２  床
１３  脚部
１４  胴部
１５  上鏡板
１６  下鏡板
１７  導出管
１８  配管サポート
２０，２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃ，４０  ひずみ検出器
２１  人工オパール薄膜（コロイド結晶膜）
２２  偏光フィルタ
３１  孔部
４１  基板
５０  モニタリングシステム
５１  カメラ
５２  制御部
５３  モニタ（表示部）
５４  警報機（表示部）
５５  送信機
５６  受信機
６１  架台
６２  管理室
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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