(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
エレベーターの昇降路およびかごの一方に設けられ、スリット状の開口を有する磁性体で形成された被検出体と、
前記エレベーターの昇降路およびかごの他方に設けられ、前記被検出体に対向した際に前記スリット状の開口に応じた磁束密度の変化を検出する磁気式検出装置と、
を備え、
前記磁気式検出装置は、
前記被検出体の側に開口し、前記被検出体に対向した際に両端部が前記スリット状の開口の両側に配置されるように設けられた第１磁性体部と、
前記第１磁性体部の内側に設けられ、前記被検出体の側に開口し、前記被検出体に対向した際に両端部が前記スリット状の開口の両側に配置されるように設けられた第２磁性体部と、
前記第１磁性体部および前記第２磁性体部の一方に接続された磁石部と、
前記第１磁性体部および前記第２磁性体部の他方を貫く磁束を検出する磁気センサ部と、
を備えたエレベーターのかご位置検出装置。
【請求項２】
エレベーターの昇降路およびかごの一方に設けられ、スリット状の開口を有する磁性体で形成された被検出体と、
前記エレベーターの昇降路およびかごの他方に設けられ、前記被検出体に対向した際に前記スリット状の開口に応じた磁束密度の変化を検出する磁気式検出装置と、
を備え、
前記被検出体は、前記スリット状の開口として互いに幅の異なる複数のスリット部を備え、
前複数のスリット部は、
予め設定された幅を有した第１スリット部と、
前記第１スリット部の上方に形成され、前記第１スリット部よりも広い幅を有した第２スリット部と、
前記第１スリット部の下方に形成され、前記第１スリット部よりも広い幅を有した第３スリット部と、
を備えたエレベーターのかご位置検出装置。
【請求項３】
前記第３スリット部は、前記第２スリット部の幅と同じ幅を有した請求項２に記載のエレベーターのかご位置検出装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、エレベーターのかご位置検出装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、特許文献１は、エレベーターのかご位置検出装置を開示する。当該かご位置検出装置によれば、磁気式検出装置が被検出体に対向した際に当該被検出体を検出することでかごの位置が検出される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】日本特開２００９−２６３１０８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１に記載のかご位置検出装置において、磁気式検出装置が被検出体以外の金属物に対向した場合に当該金属物が被検出体として誤検出され得る。このため、被検出体以外の金属物が磁気式検出装置と対向しないように、他の装置の設置個所が制限される。【０００５】
この発明は、上述の課題を解決するためになされた。この発明の目的は、被検出体以外の金属物の誤検出を抑制することができるエレベーターのかご位置検出装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
この発明に係るエレベーターのかご位置検出装置は、エレベーターの昇降路およびかごの一方に設けられ、スリット状の開口を有する磁性体で形成された被検出体と、前記エレベーターの昇降路およびかごの他方に設けられ、前記被検出体に対向した際に前記スリット状の開口に応じた磁束密度の変化を検出する磁気式検出装置と、を備え、前記磁気式検出装置は、前記被検出体の側に開口し、前記被検出体に対向した際に両端部が前記スリット状の開口の両側に配置されるように設けられた第１磁性体部と、前記第１磁性体部の内側に設けられ、前記被検出体の側に開口し、前記被検出体に対向した際に両端部が前記スリット状の開口の両側に配置されるように設けられた第２磁性体部と、前記第１磁性体部および前記第２磁性体部の一方に接続された磁石部と、前記第１磁性体部および前記第２磁性体部の他方を貫く磁束を検出する磁気センサ部と、を備えた。
この発明に係るエレベーターのかご位置検出装置は、エレベーターの昇降路およびかごの一方に設けられ、スリット状の開口を有する磁性体で形成された被検出体と、前記エレベーターの昇降路およびかごの他方に設けられ、前記被検出体に対向した際に前記スリット状の開口に応じた磁束密度の変化を検出する磁気式検出装置と、を備え、前記被検出体は、前記スリット状の開口として互いに幅の異なる複数のスリット部を備え、前複数のスリット部は、予め設定された幅を有した第１スリット部と、前記第１スリット部の上方に形成され、前記第１スリット部よりも広い幅を有した第２スリット部と、前記第１スリット部の下方に形成され、前記第１スリット部よりも広い幅を有した第３スリット部と、を備えた。
【発明の効果】
【０００７】
この発明によれば、磁気式検出装置は、被検出体のスリット状の開口に応じた磁束密度の変化を検出する。このため、被検出体以外の金属物の誤検出を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】この発明の実態の形態１におけるエレベーターのかご位置検出装置が適用されるエレベーターの要部の構成図である。
【図２】この発明の実態の形態１におけるエレベーターのかご位置検出装置の被検出体の斜視図である。
【図３】この発明の実態の形態１におけるエレベーターのかご位置検出装置の磁気式検出装置の平面図である。
【図４】この発明の実態の形態１におけるエレベーターのかご位置検出装置の被検出体の検出原理を説明するための図である。
【図５】この発明の実態の形態２におけるエレベーターのかご位置検出装置の被検出体の斜視図である。
【図６】この発明の実態の形態２におけるエレベーターのかご位置検出装置による被検出体の検出状態を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
この発明を実施するための形態について添付の図面に従って説明する。なお、各図中、同一または相当する部分には同一の符号が付される。当該部分の重複説明は適宜に簡略化または省略する。
【００１０】
実施の形態１．
図１はこの発明の実態の形態１におけるエレベーターのかご位置検出装置が適用されるエレベーターの要部の構成図である。
【００１１】
図１のエレベーターにおいて、昇降路１は、建築物の各階を貫く。図示されない巻上機は、昇降路１の上部に設けられる。図示されない駆動シーブは、巻上機の回転軸に取り付けられる。主索２は、駆動シーブに巻き掛けられる。
【００１２】
かご３は、昇降路１の内部に設けられる。かご３は、主索２の一側に吊下げられる。図示されないオモリは、昇降路１の内部に設けられる。オモリは、主索２の他側に吊り下げられる。
【００１３】
かご位置検出装置４は、複数の被検出体５と磁気式検出装置６とを備える。
【００１４】
複数の被検出体５の各々は、建築物の各階に対応して設けられる。例えば、複数の被検出体５は、支持部材７を介して昇降路１の壁面に固定される。例えば、複数の被検出体５は、昇降路１の壁面に固定された構造物に固定される。
【００１５】
磁気式検出装置６は、かご３の天井に設けられる。
【００１６】
エレベーターにおいて、巻上機が駆動されると、駆動シーブが回転する。駆動シーブが回転すると、主索２が移動する。主索２が移動すると、かご３とオモリとが互いに反対方向に昇降する。
【００１７】
この際、磁気式検出装置６が被検出体５に対向すると、磁気式検出装置６は、被検出体５に応じた磁束密度の変化を検出する。
【００１８】
次に、図２を用いて、被検出体５を説明する。
図２はこの発明の実態の形態１におけるエレベーターのかご位置検出装置の被検出体の斜視図である。
【００１９】
図２において、被検出体５は、磁性材料で形成される。例えば、被検出体５は、金属平板で形成される。例えば、被検出体５は、鉄で形成される。例えば、被検出体５は、鉄系合金で形成される。例えば、被検出体５は、ニッケルで形成される。例えば、被検出体５は、パーマロイで形成される。例えば、被検出体５は、ケイ素鋼板で形成される。
【００２０】
被検出体５は、ｙ方向の幅が狭いスリット状の開口５ａを有する。被検出体５は、支持部材７を介して固定された個所との間にｘ方向の空隙を形成して配置される。
【００２１】
次に、図３を用いて、磁気式検出装置６を説明する。
図３はこの発明の実態の形態１におけるエレベーターのかご位置検出装置の磁気式検出装置の平面図である。
【００２２】
図３に示されるように、磁気式検出装置６の回路基板は、第１磁性体部８と第２磁性体部９と磁石部１０と磁気センサ部１１とを備える。
【００２３】
例えば、第１磁性体部８は、磁性材料で形成される。例えば、第１磁性体部８は、金属平板で形成される。例えば、第１磁性体部８は、鉄で形成される。例えば、第１磁性体部８は、鉄系合金で形成される。例えば、第１磁性体部８は、ニッケルで形成される。例えば、第１磁性体部８は、パーマロイで形成される。例えば、第１磁性体部８は、ケイ素鋼板で形成される。
【００２４】
例えば、第１磁性体部８は、Ｕ字状に形成される。第１磁性体部８は、被検出体５の側に開口する。第１磁性体部８の両端部は、被検出体５に対向した際に被検出体５のスリット状の開口５ａの両側に配置されるように設けられる。
【００２５】
例えば、第１磁性体部８は、第１アーム８ａと第２アーム８ｂとを備える。第１アーム８ａの端部Ａは、ｘ方向に向けられる。第２アーム８ｂの端部Ｂは、ｘ方向に向けられる。
【００２６】
例えば、第２磁性体部９は、磁性材料で形成される。例えば、第２磁性体部９は、金属平板で形成される。例えば、第２磁性体部９は、鉄で形成される。例えば、第２磁性体部９は、鉄系合金で形成される。例えば、第２磁性体部９は、ニッケルで形成される。例えば、第２磁性体部９は、パーマロイで形成される。例えば、第２磁性体部９は、ケイ素鋼板で形成される。
【００２７】
例えば、第２磁性体部９は、Ｕ字状に形成される。第２磁性体部９は、被検出体５の側に開口する。第２磁性体部９は、第１磁性体部８の内側に設けられる。第２磁性体部９の両端部は、被検出体５に対向した際に被検出体５のスリット状の開口５ａの両側に配置されるように設けられる。
【００２８】
例えば、第２磁性体部９は、第１アーム９ａと第２アーム９ｂとを備える。第１アーム９ａの端部Ａ´は、ｘ方向に向けられる。第２アーム９ｂの端部Ｂ´は、ｘ方向に向けられる。第１アーム９ａの端部Ａ´と第２アーム９ｂの端部Ｂ´との間の幅Ｗは、被検出体５のスリット状の開口５ａの幅Ｗｓ以上に設定される。
【００２９】
例えば、磁石部１０は、永久磁石で形成される。例えば、磁石部１０は、フェライト磁石で形成される。例えば、磁石部１０は、ネオジム磁石で形成される。例えば、磁石部１０は、サマリウムコバルト磁石で形成される。例えば、磁石部１０は、フェライト磁石とネオジム磁石とサマリウムコバルト磁石とのうちの少なくもと１つを含むプラスチック磁石で形成される。
【００３０】
磁石部１０のＳ極は、第１磁性体部８の第１アーム８ａの端部Ａとは反対側の端部に接続される。磁石部１０のＮ極は、第１磁性体部８の第２アーム８ｂの端部Ｂとは反対側の端部に接続される。
【００３１】
例えば、磁気センサ部１１は、磁束密度の変化を検出し得るように設けられる。例えば、磁気センサ部１１は、ホール素子で形成される。例えば、磁気センサ部１１は、異方性磁気抵抗センサで形成される。例えば、磁気センサ部１１は、巨大磁気抵抗センサで形成される。例えば、磁気センサ部１１は、トンネル磁気抵抗センサで形成される。例えば、磁気センサ部１１は、フラックスゲートセンサで形成される。例えば、磁気センサ部１１は、磁気インピーダンスセンサで形成される。
【００３２】
磁気センサ部１１は、第２磁性体部９の第１アーム９ａの端部Ａ´とは反対側と第２磁性体部９の第２アーム９ｂの端部Ｂ´とは反対側の端部との間に設けられる。
【００３３】
次に、図４を用いて、被検出体５の検出原理を説明する。
図４はこの発明の実態の形態１におけるエレベーターのかご位置検出装置の被検出体の検出原理を説明するための図である。
【００３４】
磁気センサ部１１は、第１磁性体部８の端部Ａと第２磁性体部９の端部Ａ´との間を通って第１磁性体部８の端部Ｂと第２磁性体部９の端部Ｂ´との間を通るように形成される第１磁気回路の磁束密度Ｂ１を検出する。
【００３５】
この際、磁束密度Ｂ１は、第１磁性体部８の端部Ａと第２磁性体部９の端部Ａ´との間の磁気抵抗ＲＡＡ´と第１磁性体部８の端部Ｂと第２磁性体部９の端部Ｂ´との間の磁気抵抗ＲＢＢ´が小さいほど増える。
【００３６】
例えば、図４の（１）に示されるように磁気式検出装置６が被検出体５に対向していない場合、第１磁性体部８の端部Ａと第２磁性体部９の端部Ａ´との間および第１磁性体部８の端部Ｂと第２磁性体部９の端部Ｂ´との間は、空気となる。このため、磁気抵抗ＲＡＡ´と磁気抵抗ＲＢＢ´とは大きくなる。その結果、第１磁気回路の磁束密度Ｂ１は低い。
【００３７】
例えば、図４の（２）に示されるように磁気式検出装置６が被検出体５に対向しておりスリット状の開口５ａに到達していない場合、第１磁性体部８の端部Ａと第１磁性体部８の端部Ｂとの間の磁気抵抗が小さくなる。このため、第２磁性体部９を介さない第２磁気回路の磁束密度Ｂ２が高くなる。その結果、第１磁気回路の磁束密度Ｂ１は、相対的に低くなる。
【００３８】
この際の第１磁気回路の磁束密度Ｂ１が（１）の場合における第１磁気回路の磁束密度Ｂ１に対して低くなるように、第１磁性体部８の形状と第２磁性体部９の形状と被検出体５の形状と被検出体５の通過位置とが調整される。
【００３９】
例えば、図４の（３）に示されるように磁気式検出装置６が被検出体５に対向しておりスリット状の開口５ａに到達している場合、第１磁性体部８の端部Ａと第２磁性体部９の端部Ａ´との間および第１磁性体部８の端部Ｂと第２磁性体部９の端部Ｂ´との間は、被検出体５により磁気的に接続される。このため、磁気抵抗ＲＡＡ´と磁気抵抗ＲＢＢ´とは小さくなる。
【００４０】
この際、第１磁性体部８の端部Ａと第１磁性体部８の端部Ｂとの間には、被検出体５のスリット状の開口５ａによる空気が存在する。このため、第１磁性体部８の端部Ａと第１磁性体部８の端部Ｂとの間において、磁気抵抗が大きくなる。その結果、第２磁気回路は遮断される。
【００４１】
例えば、図４の下側かつ右側に示されるようにかご３の位置が変化すると、磁束密度Ｂ１も変化する。磁気センサ部１１は、磁束密度Ｂ１の変化を検出する。その結果、かご３の検出が正確に行われる。
【００４２】
以上で説明した実施の形態１によれば、磁気式検出装置６は、被検出体５のスリット状の開口５ａに応じた磁束密度の変化を検出する。このため、磁気式検出装置６が対向する位置にスリット状の開口５ａに類似した開口を有する金属物が存在しなければ、被検出体５以外の金属物の誤検出を抑制することができる。その結果、他の装置の設置個所の自由度を高く確保することができる。
【００４３】
具体的には、磁気式検出装置６は、第１磁性体部８と第２磁性体部９と磁石部１０と磁気センサ部１１とで実現される。このため、簡単な構成で、被検出体５以外の金属物の誤検出を抑制することができる。
【００４４】
実施の形態２．
図５はこの発明の実態の形態２におけるエレベーターのかご位置検出装置の被検出体の斜視図である。なお、実施の形態１と同一または相当部分には、同一符号が付される。当該部分の説明は省略される。
【００４５】
実施の形態２の被検出体５は、複数のスリット部を備える。例えば、被検出体５は、第１スリット部１２ａと第２スリット部１２ｂと第３スリット部１２ｃとを備える。
【００４６】
第１スリット部１２ａは、予め設定された幅Ｗｓ１を有する。
【００４７】
第２スリット部１２ｂは、第１スリット部１２ａの上方に連続的に形成される。第２スリット部１２ｂは、幅Ｗｓ１よりも広い幅Ｗｓ２を有する。
【００４８】
第３スリット部１２ｃは、第１スリット部１２ａの下方に連続的に形成される。第２スリット部１２ｂは、幅Ｗｓ１よりも広い幅Ｗｓ３を有する。例えば、幅Ｗｓ３は、幅Ｗｓ２と同じである。
【００４９】
次に、図６を用いて、被検出体５の検出状態を説明する。
図６はこの発明の実態の形態２におけるエレベーターのかご位置検出装置による被検出体の検出状態を示す図である。
【００５０】
図６に示されるように、磁気式検出装置６は、磁気センサ部１１の出力信号が第１閾値よりも大きい場合に第１スリット部１２ａを検出する。磁気式検出装置６は、磁気センサ部１１の出力信号が第２閾値よりも大きくて第１閾値よりも小さい場合に第２スリット部１２ｂまたは第３スリット部１２ｃを検出する。
【００５１】
例えば、第１スリット部１２ａの検出範囲は、かご３の床面を乗場の床面に合わせる調整が必要であるか否かを判定する際の基準となるリレベルゾーンに設定される。例えば、第２スリット部１２ｂと第３スリット部１２ｃとの検出範囲は、かご３のドアを開いてよいか否かを判定する際の基準となるドアゾーンに設定される。
【００５２】
以上で説明した実施の形態２によれば、被検出体５は、スリット状の開口５ａとして互いに幅の異なる複数のスリット部を備える。具体的には、複数のスリット部は、第１スリット部１２ａと第２スリット部１２ｂと第３スリット部１２ｃとで実現される。このため、かご３の位置をより正確に検出することができる。
【００５３】
また、第３スリット部１２ｃは、第２スリット部１２ｂの幅と同じ幅を有する。このため、エレベーターの制御に必要なリレベルゾーンとドアゾーンとを容易に設定することができる。
【００５４】
なお、被検出体５と磁気式検出装置６との配置を入れ替えてもよい。この場合、被検出体５は、かご３に設けられる。磁気式検出装置６は、昇降路１に設けられる。この場合も、被検出体５以外の金属物の誤検出を抑制することができる。
【００５５】
また、磁石部１０と磁気センサ部１１との配置を入れ替えてもよい。この場合、磁石部１０は、第２磁性体部９に設けられる。磁気センサ部１１は、第１磁性体部８を貫く磁束を検出する。この場合も、被検出体５以外の金属物の誤検出を抑制することができる。
【産業上の利用可能性】
【００５６】
以上のように、この発明に係るエレベーターのかご位置検出装置は、被検出体以外の金属物の誤検出を抑制するシステムに利用できる。
【符号の説明】
【００５７】
１  昇降路、  ２  主索、  ３  かご、  ４  かご位置検出装置、  ５  被検出体、  ５ａ  開口、  ６  磁気式検出装置、  ７  支持部材、  ８  第１磁性体部、  ８ａ  第１アーム、  ８ｂ  第２アーム、  ９  第２磁性体部、  ９ａ  第１アーム、  ９ｂ  第２アーム、  １０  磁石部、１１  磁気センサ部、  １２ａ  第１スリット部、  １２ｂ  第２スリット部、  １２ｃ  第３スリット部
【図１】
0006743974.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
0006743974.tif 000007