(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
水系レジスト剥離液の原料から所定のアミン濃度の新しい水系レジスト剥離液が調製される調製槽と、
前記水系レジスト剥離液の原料を前記調製槽に供給する原料供給配管と、
前記調製槽内の水系レジスト剥離液について、水系レジスト剥離液のアミン濃度と相関関係を有する水系レジスト剥離液の物性値、および、水系レジスト剥離液のアミン濃度、の少なくとも一方を測定するアミンに関する測定手段と、
前記原料供給配管に設けられ、前記原料の供給量を制御する制御弁であって、前記原料の供給を開始する際に、調製される水系レジスト剥離液のアミン濃度が前記物性値と前記相関関係を有する濃度範囲内となるように、前記原料の流量が設定された制御弁と、
前記制御弁と接続され、前記アミンに関する測定手段により測定された測定値に基づいて、前記調製槽内の水系レジスト剥離液が前記所定のアミン濃度となるように、前記制御弁を制御するアミンに関する制御手段と、を備える水系レジスト剥離液の調製装置。
【請求項２】
水系レジスト剥離液の原料から所定のアミン濃度、および、所定の水分濃度を有する新しい水系レジスト剥離液が調製される調製槽と、
前記水系レジスト剥離液の原料を前記調製槽に供給する原料供給配管と、
前記調製槽内の水系レジスト剥離液について、水系レジスト剥離液のアミン濃度と相関関係を有する水系レジスト剥離液の物性値、および、水系レジスト剥離液のアミン濃度、の少なくとも一方を測定するアミンに関する測定手段と、
前記調製槽内の水系レジスト剥離液について、水系レジスト剥離液の水分濃度と相関関係を有する水系レジスト剥離液の物性値、および、水系レジスト剥離液の水分濃度、の少なくとも一方を測定する水分に関する測定手段と、
前記原料供給配管に設けられ、前記原料の供給量を制御する制御弁であって、前記原料の供給を開始する際に、調製される水系レジスト剥離液のアミン濃度および水分濃度が前記物性値と前記相関関係を有する濃度範囲内となるように、前記原料の流量が設定された制御弁と、
前記制御弁と接続され、前記アミンに関する測定手段により測定された測定値、および、前記水分に関する測定手段により測定された測定値、に基づいて、前記調製槽内の水系レジスト剥離液が、前記所定のアミン濃度および前記所定の水分濃度となるように、前記制御弁を制御する制御手段と、を備える水系レジスト剥離液の調製装置。
【請求項３】
前記アミンに関する測定手段が、吸光光度計、導電率計、密度計、超音波濃度計、および、粘度計のいずれか一つを備える請求項１または２に記載の水系レジスト剥離液の調製装置。
【請求項４】
前記アミンに関する測定手段が吸光光度計を備え、
前記アミンがモノエタノールアミンである場合、前記吸光光度計の測定波長が、１０００から１６００ｎｍの波長領域から選択される特定の波長であり、
前記アミンがヒドロキシルアミンである場合、前記吸光光度計の測定波長が、１０５０から１０９０ｎｍの波長領域から選択される特定の波長である請求項３に記載の水系レジスト剥離液の調製装置。
【請求項５】
前記水分に関する測定手段が、吸光光度計、導電率計、密度計、超音波濃度計、および
、粘度計のいずれか一つを備える請求項２に記載の水系レジスト剥離液の調製装置。
【請求項６】
前記水分に関する測定手段が吸光光度計を備え、
前記吸光光度計の測定波長が、９５０から２０００ｎｍの波長領域から選択される特定の波長である請求項５に記載の水系レジスト剥離液の調製装置。
【請求項７】
前記調製槽で調製された水系レジスト剥離液を貯留する貯留槽をさらに備える請求項１から６のいずれか一項に記載の水系レジスト剥離液の調製装置。
【請求項８】
前記調製槽を複数備える請求項７に記載の水系レジスト剥離液の調製装置。
【請求項９】
前記調製槽と前記貯留槽とが連通管により接続されている請求項７または８に記載の水系レジスト剥離液の調製装置。
【請求項１０】
前記調製槽に供給する前記原料を予め混合する予備混同手段をさらに備える請求項１から７、および９のいずれか一項に記載の水系レジスト剥離液の調製装置。
【請求項１１】
前記調製槽に供給する前記原料を予め混合する予備混合手段を、前記調製槽ごとに備える請求項８に記載の水系レジスト剥離液の調製装置。
【請求項１２】
非水系レジスト剥離液の原料から所定の成分濃度の新しい非水系レジスト剥離液が調製される調製槽と、
前記非水系レジスト剥離液の原料を前記調製槽に供給する原料供給配管と、
前記調製槽内の非水系レジスト剥離液について、非水系レジスト剥離液の成分濃度と相関関係を有する非水系レジスト剥離液の物性値、および、非水系レジスト剥離液の成分濃度、の少なくとも一方を測定する測定手段と、
前記原料供給配管に設けられ、前記原料の供給量を制御する制御弁であって、前記原料の供給を開始する際に、調製される非水系レジスト剥離液の成分濃度が前記物性値と前記相関関係を有する濃度範囲内となるように、前記原料の流量が設定された制御弁と、
前記制御弁と接続され、前記測定手段により測定された測定値に基づいて、前記調製槽内の非水系レジスト剥離液が前記所定の成分濃度となるように、前記制御弁を制御する制御手段と、を備える非水系レジスト剥離液の調製装置。
【請求項１３】
非水系レジスト剥離液の原料から所定のアミン濃度の新しい非水系レジスト剥離液が調製される調製槽と、
前記非水系レジスト剥離液の原料を前記調製槽に供給する原料供給配管と、
前記調製槽内の非水系レジスト剥離液について、非水系レジスト剥離液のアミン濃度と相関関係を有する非水系レジスト剥離液の物性値、および、非水系レジスト剥離液のアミン濃度、の少なくとも一方を測定するアミンに関する測定手段と、
前記原料供給配管に設けられ、前記原料の供給量を制御する制御弁であって、前記原料の供給を開始する際に、調製される非水系レジスト剥離液のアミン濃度が前記物性値と前記相関関係を有する濃度範囲内となるように、前記原料の流量が設定された制御弁と、
前記制御弁と接続され、前記アミンに関する測定手段により測定された測定値に基づいて、前記調製槽内の非水系レジスト剥離液が前記所定のアミン濃度となるように、前記制御弁を制御するアミンに関する制御手段と、を備える非水系レジスト剥離液の調製装置。
【請求項１４】
前記アミンに関する測定手段が、吸光光度計、導電率計、密度計、超音波濃度計、および、粘度計のいずれか一つを備える請求項１３に記載の非水系レジスト剥離液の調製装置
。
【請求項１５】
前記アミンに関する測定手段が吸光光度計を備え、
前記アミンがモノエタノールアミンである場合、前記吸光光度計の測定波長が、１０００から１６００ｎｍの波長領域から選択される特定の波長であり、
前記アミンがヒドロキシルアミンである場合、前記吸光光度計の測定波長が、１０５０から１０９０ｎｍの波長領域から選択される特定の波長である請求項１４に記載の非水系レジスト剥離液の調製装置。
【請求項１６】
前記調製槽で調製された非水系レジスト剥離液を貯留する貯留槽をさらに備える請求項１２から１５のいずれか一項に記載の非水系レジスト剥離液の調製装置。
【請求項１７】
前記調製槽を複数備える請求項１６に記載の非水系レジスト剥離液の調製装置。
【請求項１８】
前記調製槽と前記貯留槽とが連通管により接続されている請求項１６または１７に記載の非水系レジスト剥離液の調製装置。
【請求項１９】
前記調製槽に供給する前記原料を予め混合する予備混合手段をさらに備える請求項１２から１６、および１８のいずれか一項に記載の非水系レジスト剥離液の調製装置。
【請求項２０】
前記調製槽に供給する前記原料を予め混合する予備混合手段を、前記調製槽ごとに備える請求項１７に記載の非水系レジスト剥離液の調製装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体製造工程およびフラットパネルディスプレイ製造工程などにおいて、レジストの剥離に用いられる水系レジスト剥離液を調製する調製装置および非水系レジスト剥離液を調製する調製装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造工程やフラットパネルディスプレイ基板の製造工程におけるフォトリソグラフィ工程の最終段階では、レジストを基板から完全に剥離する工程が必要である。半導体やフラットパネルディスプレイ基板のレジスト剥離工程においては、酸素プラズマによるドライアッシング工程とレジスト剥離液による湿式剥離工程の併用が実施されている。酸素プラズマによるドライアッシング工程を経た基板にはシリコン酸化物やアルミ酸化物が生成しており、次の湿式剥離工程ではレジストを剥離するだけでなく、金属酸化物を完全に除去することが必要である。
【０００３】
半導体やフラットパネルディスプレイ基板のレジスト剥離工程においては、レジスト剥離液として、有機アルカリや有機溶剤を組み合わせた溶液（以下、「非水系レジスト剥離液」ともいう）が主に使用されている。また、この溶液に適量の水を添加した溶液（以下、「水系レジスト剥離液」ともいう）が使用されている。本明細書において、「水系レジスト剥離液」と「非水系レジスト剥離液」とを明確に区別する必要がない場合は、単に「レジスト剥離液」ということもある。
【０００４】
レジスト剥離液の濃度を管理するレジスト剥離液管理装置として、例えば、下記の特許文献１や特許文献２が知られている。
【０００５】
特許文献１には、レジスト剥離液の溶解レジスト濃度を吸光光度計により検出してレジスト剥離液を排出するレジスト剥離液排出手段と、レジスト剥離液の液面レベルを液面レベル計により検出して、有機溶媒とアルカノールアミンとを補給する、または、有機溶媒とアルカノールアミンとを予め調合したレジスト剥離新液を補給する、第一補給手段と、レジスト剥離液のアルカノールアミン濃度を吸光光度計により検出して有機溶媒およびアルカノールアミンの少なくとも一方を補給する第二補給手段と、を備えたレジスト剥離液管理装置が記載されている。
【０００６】
また、下記の特許文献２には、レジスト剥離液の溶解レジスト濃度を吸光光度計により検出してレジスト剥離液を排出するレジスト剥離液排出手段と、レジスト剥離液の液面レベルを液面レベル計により検出して、レジスト剥離液と純水とを補給する、または、レジスト剥離原液と純水とを予め調合したレジスト剥離新液を補給する、第一補給手段と、レジスト剥離液の水分濃度を吸光光度計により検出して、レジスト剥離原液および純水の少なくとも一方を補給する第二補給手段と、を備えたレジスト剥離液管理装置が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平７−２３５４８７号公報
【特許文献２】特開平１０−２２２６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
特許文献１、２に記載されているように、レジスト剥離液を所定の成分濃度に維持管理する管理装置は、すでに発明されている。しかし、所定の成分濃度のレジスト剥離液を成分濃度の測定値に基づいてその原料から自動的に調製する調製装置は、存在していなかった。これは、管理装置と調製装置との間に、次のような根本的な相違があるためである。
【０００９】
管理装置の場合、特許文献１や２のように、管理装置の適用される対象は、初めは管理すべき所定の成分濃度にあったレジスト剥離液である。レジスト剥離液が使用されることにより、レジスト剥離液の成分濃度が当初の成分濃度から徐々にずれてくる。これに対し、管理装置は、レジスト剥離液に補充液を補充する等の動作により、レジスト剥離液の成分濃度を当初の管理すべき所定の濃度に戻そうとする。つまり、管理装置は、成分濃度の復元メカニズムを導入することによって、管理すべき所定の成分濃度を中心とした成分濃度の安定制御系を構築しよう、との技術思想によるものである。
【００１０】
一方、調製装置は、各種の原料を混ぜ合わせることによって、所定の成分濃度のレジスト剥離液を調製する装置である。調製装置が適用される対象は、もともと、調製しようとする所定の成分濃度にはない。そのため、調製装置には、管理装置の技術思想をそのまま用いることができない。調製装置は、管理装置から直ちに着想できる技術的関係にはないのである。
【００１１】
このような根本的相違のため、特許文献１や２のような管理装置があっても、成分濃度を測定して所定の成分濃度となるようにレジスト剥離液を調製する調製装置は、今までなかった。従来のレジスト剥離液の調製装置は、原料を容量または重量により濃度を調整するものであった。そのため、従来の調製装置により調製されるレジスト剥離液は、その成分濃度の調整精度があまり良くなかった。レジスト剥離液が所定の濃度に調整されていないと、良好な剥離速度が得られず、剥離残渣および金属酸化物の残渣が生じ、歩留まりの低下の原因となりかねない。また、フォトリソグラフィ工程の最終段階であるレジスト剥離工程において不良品が発生すると損害額が大きくなるという問題があった。
【００１２】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものである。本発明は、所定の濃度のレジスト剥離液を精度良く、自動的かつ連続的に調製することができる水系レジスト剥離液の調製装置および非水系レジスト剥離液の調製装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明は、上記の目的を達成するために、所定の成分濃度の水系レジスト剥離液が調製される調製槽と、調製槽内の水系レジスト剥離液について、水系レジスト剥離液の成分濃度と相関関係を有する水系レジスト剥離液の物性値、および、水系レジスト剥離液の成分濃度、の少なくとも一方を測定する測定手段と、測定手段により測定された測定値に基づいて、調製槽内の水系レジスト剥離液が所定の成分濃度となるように、調製槽に供給される水系レジスト剥離液の原料の供給量を制御する制御手段と、を備える水系レジスト剥離液の調製装置を提供する。
【００１４】
本発明の水系レジスト剥離液の調製装置は、水系レジスト剥離液の成分濃度と相関のある物性値または成分濃度の少なくとも一方の測定を行い、水系レジスト剥離液を調製している。そのため、本発明の水系レジスト剥離液の調製装置によれば、容量や重量により調製していた従来の調製装置に比べ、より正確な成分濃度の水系レジスト剥離液を調製することができる。
【００１５】
本発明は、上記の目的を達成するために、所定のアミン濃度の水系レジスト剥離液が調製される調製槽と、調製槽内の水系レジスト剥離液について、水系レジスト剥離液のアミン濃度と相関関係を有する水系レジスト剥離液の物性値、および、水系レジスト剥離液のアミン濃度、の少なくとも一方を測定するアミンに関する測定手段と、アミンに関する測定手段により測定された測定値に基づいて、調製槽内の水系レジスト剥離液が所定のアミン濃度となるように、調製槽に供給される水系レジスト剥離液の原料の供給量を制御するアミンに関する制御手段と、を備える水系レジスト剥離液の調製装置を提供する。
【００１６】
本発明の水系レジスト剥離液の調製装置は、水系レジスト剥離液のアミン濃度と相関のある物性値またはアミン濃度の少なくとも一方の測定を行い、水系レジスト剥離液を調製している。そのため、本発明の水系レジスト剥離液の調製装置によれば、容量や重量により調製していた従来の調製装置に比べ、より正確なアミン濃度の水系レジスト剥離液を調製することができる。
【００１７】
本発明は、上記の目的を達成するために、所定の水分濃度の水系レジスト剥離液が調製される調製槽と、調製槽内の水系レジスト剥離液について、水系レジスト剥離液の水分濃度と相関関係を有する水系レジスト剥離液の物性値、および、水系レジスト剥離液の水分濃度、の少なくとも一方を測定する水分に関する測定手段と、水分に関する測定手段により測定された測定値に基づいて、調製槽内の水系レジスト剥離液が所定の水分濃度となるように、調製槽に供給される水系レジスト剥離液の原料の供給量を制御する水分に関する制御手段と、を備える水系レジスト剥離液の調製装置を提供する。
【００１８】
本発明の水系レジスト剥離液の調製装置は、水系レジスト剥離液の水分濃度と相関のある物性値または水分濃度の少なくとも一方の測定を行い、水系レジスト剥離液を調製している。そのため、本発明の水系レジスト剥離液の調製装置によれば、容量や重量により調製していた従来の調製装置に比べ、より正確な水分濃度の水系レジスト剥離液を調製することができる。
【００１９】
本発明は、上記の目的を達成するために、所定のアミン濃度、および、所定の水分濃度を有する水系レジスト剥離液が調製される調製槽と、調製槽内の水系レジスト剥離液について、水系レジスト剥離液のアミン濃度と相関関係を有する水系レジスト剥離液の物性値、および、水系レジスト剥離液のアミン濃度、の少なくとも一方を測定するアミンに関する測定手段と、調製槽内の水系レジスト剥離液について、水系レジスト剥離液の水分濃度と相関関係を有する水系レジスト剥離液の物性値、および、水系レジスト剥離液の水分濃度、の少なくとも一方を測定する水分に関する測定手段と、アミンに関する測定手段により測定された測定値、および、水分に関する測定手段により測定された測定値、に基づいて、調製槽内の水系レジスト剥離液が、所定のアミン濃度および所定の水分濃度となるように、調製槽に供給される水系レジスト剥離液の原料の供給量を制御する制御手段と、を備える水系レジスト剥離液の調製装置を提供する。
【００２０】
本発明の水系レジスト剥離液の調製装置は、水系レジスト剥離液のアミン濃度と相関のある物性値またはアミン濃度の少なくとも一方の測定を行い、水系レジスト剥離液を調製している。同時に、水系レジスト剥離液の水分濃度と相関のある物性値または水分濃度の少なくとも一方の測定を行い、水系レジスト剥離液を調製している。そのため、本発明の水系レジスト剥離液の調製装置によれば、容量や重量により調製していた従来の調製装置に比べ、より正確なアミン濃度、かつ、より正確な水分濃度の水系レジスト剥離液を調製することができる。
【００２１】
本発明の好ましい態様においては、アミンに関する測定手段が、吸光光度計、導電率計、密度計、超音波濃度計、および、粘度計のいずれか一つを備える。これらの測定装置により測定される水系レジスト剥離液の吸光度、導電率、密度、超音波伝播速度、粘度は、水系レジスト剥離液のアミン濃度と相関を有するので、アミン濃度を精度よく所定の濃度に合わせることができる。
【００２２】
本発明のより好ましい態様においては、アミンに関する測定手段が吸光光度計を備え、アミンがモノエタノールアミンである場合、吸光光度計の測定波長が、１０００から１６００ｎｍの波長領域から選択される特定の波長であり、アミンがヒドロキシルアミンである場合、吸光光度計の測定波長が、１０５０から１０９０ｎｍの波長領域から選択される特定の波長である。
【００２３】
これらの波長領域で測定された水系レジスト剥離液の吸光度は、そのアミン濃度との間に比較的良好な直線関係が得られる。このため、この波長領域で測定された吸光度、あるいは、この吸光度とこの直線関係により得られるアミン濃度は、アミン濃度を正確に所定の濃度とするために用いるのに好適である。アミンがモノエタノールアミンである場合には特に１０４８ｎｍを測定波長として測定される吸光度が、アミンがヒドロキシルアミンである場合には特に１０７４ｎｍを測定波長として測定される吸光度が、前述の波長領域の中でも特に感度がよくアミン濃度との間に良好な直線関係が得られるため、より一層好ましい。
【００２４】
本発明の好ましい態様においては、水分に関する測定手段が、吸光光度計、導電率計、密度計、超音波濃度計、および、粘度計のいずれか一つを備える。これらの測定装置により測定される水系レジスト剥離液の吸光度、導電率、密度、超音波伝播速度、粘度は、水系レジスト剥離液の水分濃度と相関を有するので、水分濃度を精度よく所定の濃度に合わせることができる。
【００２５】
本発明のより好ましい態様においては、水分に関する測定手段が吸光光度計であり、吸光光度計の測定波長が、９５０から２０００ｎｍの波長領域から選択される特定の波長である。
【００２６】
この近赤外線領域の測定波長で測定された水系レジスト剥離液の吸光度は、その水分濃度との間に比較的良好な直線関係が得られる。このため、この波長領域で測定された吸光度、あるいは、この測定された吸光度とこの直線関係とにより得られる水分濃度は、水分濃度を正確に所定の濃度とするために用いるのに好適である。特に１９４０ｎｍと９７６ｎｍを測定波長として測定される吸光度が、この波長領域の中でも特に感度がよく水分濃度との間に良好な直線関係が得られるため、より一層好ましい。
【００２７】
本発明の好ましい態様においては、調製槽で調製された水系レジスト剥離液を貯留する貯留槽をさらに備える。
【００２８】
この態様によれば、所定の成分濃度に調製された水系レジスト剥離液が貯留槽に常に貯留されているので、水系レジスト剥離液が必要となった時に随時、所定の成分濃度の水系レジスト剥離液を得ることができる。
【００２９】
本発明の好ましい態様においては、調製槽を複数備える。
【００３０】
この態様によれば、調製槽の一つが故障などにより動かなくなっても、他の調製槽により水系レジスト剥離液の調製を維持することができる。また、一つの調製槽が空になっても、他の調製槽から水系レジスト剥離液の供給を受けることができる。
【００３１】
本発明の好ましい態様においては、調製槽と貯留槽とが連通管により接続されている。
【００３２】
この態様によれば、水系レジスト剥離液を供給したことにより貯留槽内の水系レジスト剥離液が減少しても、調製槽から貯留槽に所定濃度に調製された水系レジスト剥離液が自動的に連続して移送される。この際、送液ポンプなどの設備を要さない。
【００３３】
本発明の好ましい態様においては、調製槽に供給する水系レジスト剥離液の原料を予め混合する予備混合手段を備える。
【００３４】
本発明の好ましい態様においては、調製槽に供給する水系レジスト剥離液の原料を予め混合する予備混合手段を、調製槽ごとに備える。
【００３５】
この態様によれば、水系レジスト剥離液の原料が予め混合されるので、調製槽内での混合や攪拌の負担が軽減され、より速やかに均一な濃度の水系レジスト剥離液が調製できる。また、測定される成分濃度や物性値によって比較的狭い濃度範囲でしか相関関係を得られない場合であっても、予備混合手段を用いることにより、正確に所定の成分濃度の水系レジスト剥離液を調製することができる。
【００３６】
本発明は、上記の目的を達成するために、所定の成分濃度の非水系レジスト剥離液が調製される調製槽と、調製槽内の非水系レジスト剥離液について、非水系レジスト剥離液の成分濃度と相関関係を有する非水系レジスト剥離液の物性値、および、非水系レジスト剥離液の成分濃度、の少なくとも一方を測定する測定手段と、測定手段により測定された測定値に基づいて、調製槽内の非水系レジスト剥離液が所定の成分濃度となるように、調製槽に供給される非水系レジスト剥離液の原料の供給量を制御する制御手段と、を備える非水系レジスト剥離液の調製装置を提供する。
【００３７】
本発明の非水系レジスト剥離液の調製装置は、非水系レジスト剥離液の成分濃度と相関のある物性値または成分濃度の少なくとも一方の測定を行い、非水系レジスト剥離液を調製している。そのため、本発明の非水系レジスト剥離液の調製装置によれば、容量や重量により調製していた従来の調製装置に比べ、より正確な成分濃度の非水系レジスト剥離液を調製することができる。
【００３８】
本発明は、上記の目的を達成するために、所定のアミン濃度の非水系レジスト剥離液が調製される調製槽と、調製槽内の非水系レジスト剥離液について、非水系レジスト剥離液のアミン濃度と相関関係を有する非水系レジスト剥離液の物性値、および、非水系レジスト剥離液のアミン濃度、の少なくとも一方を測定するアミンに関する測定手段と、アミンに関する測定手段により測定された測定値に基づいて、調製槽内の非水系レジスト剥離液が所定のアミン濃度となるように、調製槽に供給される非水系レジスト剥離液の原料の供給量を制御するアミンに関する制御手段と、を備える非水系レジスト剥離液の調製装置を提供する。
【００３９】
本発明の非水系レジスト剥離液の調製装置は、非水系レジスト剥離液のアミン濃度と相関関係を有する物性値および非水系レジスト剥離液のアミン濃度の少なくとも一方を測定し、この測定値に基づいて非水系レジスト剥離液を調製している。そのため、本発明の非水系レジスト剥離液の調製装置によれば、容量や重量により調製していた従来の調製装置に比べ、より正確なアミン濃度の非水系レジスト剥離液を調製することができる。
【００４０】
本発明の好ましい態様においては、アミンに関する測定手段が、吸光光度計、導電率計、密度計、超音波濃度計、および、粘度計のいずれか一つを備える。これらの測定装置により測定される非水系レジスト剥離液の吸光度、導電率、密度、超音波伝播速度、粘度は、非水系レジスト剥離液のアミン濃度と相関を有するので、アミン濃度を精度よく所定の濃度に合わせることができる。
【００４１】
本発明のより好ましい態様においては、アミンに関する測定手段が吸光光度計を備え、アミンがモノエタノールアミンである場合、吸光光度計の測定波長が、１０００から１６００ｎｍの波長領域から選択される特定の波長であり、アミンがヒドロキシルアミンである場合、吸光光度計の測定波長が、１０５０から１０９０ｎｍの波長領域から選択される特定の波長である。
【００４２】
これらの波長領域で測定された非水系レジスト剥離液の吸光度は、そのアミン濃度との間に比較的良好な直線関係が得られる。このため、この波長領域で測定された吸光度、あるいは、この吸光度とこの直線関係により得られるアミン濃度は、アミン濃度を正確に所定の濃度とするために用いるのに好適である。アミンがモノエタノールアミンである場合には特に１０４８ｎｍを測定波長として測定される吸光度が、アミンがヒドロキシルアミンである場合には特に１０７４ｎｍを測定波長として測定される吸光度が、前述の波長領域の中でも特に感度がよくアミン濃度との間に良好な直線関係が得られるため、より一層好ましい。
【００４３】
本発明の好ましい態様においては、調製槽で調製された非水系レジスト剥離液を貯留する貯留槽をさらに備える。
【００４４】
この態様によれば、所定の成分濃度に調製された非水系レジスト剥離液が貯留槽に常に貯留されているので、非水系レジスト剥離液が必要となった時に随時、所定の成分濃度の非水系レジスト剥離液を得ることができる。
【００４５】
本発明の好ましい態様においては、調製槽を複数備える。
【００４６】
この態様によれば、調製槽の一つが故障などにより動かなくなっても、他の調製槽により非水系レジスト剥離液の調製を維持することができる。また、一つの調製槽が空になっても、他の調製槽から非水系レジスト剥離液の供給を受けることができる。
【００４７】
本発明の好ましい態様においては、調製槽と貯留槽とが連通管により接続されている。
【００４８】
この態様によれば、非水系レジスト剥離液を供給したことにより貯留槽内の非水系レジスト剥離液が減少しても、調製槽から貯留槽に所定濃度に調製された非水系レジスト剥離液が自動的に連続して移送される。この際、送液ポンプなどの設備を要さない。
【００４９】
本発明の好ましい態様においては、調製槽に供給する非水系レジスト剥離液の原料を予め混合する予備混合手段を備える。
【００５０】
本発明の好ましい態様においては、調製槽に供給する非水系レジスト剥離液の原料を予め混合する予備混合手段を、調製槽ごとに備える。
【００５１】
この態様によれば、非水系レジスト剥離液の原料が予め混合されるので、調製槽内での混合や攪拌の負担が軽減され、より速やかに均一な濃度の非水系レジスト剥離液が調製できる。また、測定される成分濃度や物性値によって比較的狭い濃度範囲でしか相関関係を得られない場合であっても、予備混合手段を用いることにより、正確に所定の成分濃度の非水系レジスト剥離液を調製することができる。
【発明の効果】
【００５２】
本発明の水系レジスト剥離液の調製装置は、水系レジスト剥離液の成分濃度と相関関係を有する物性値、および、水系レジスト剥離液の成分濃度、の少なくとも一方を測定し、この測定値に基づいて、調製槽内の水系レジスト剥離液が所定の成分濃度となるように水系レジスト剥離液を調製している。そのため、本発明の水系レジスト剥離液の調製装置によれば、容量や重量で調製していた従来の調製装置に比べ、正確な成分濃度の水系レジスト剥離液を調製することができる。また、本発明の水系レジスト剥離液の調製装置によれば、同様に、より正確なアミン濃度や水分濃度の水系レジスト剥離液を調製することができる。さらに、本発明の水系レジスト剥離液の調製装置によれば、必要時にいつでも所定の成分濃度の水系レジスト剥離液を得ることができる。所定の成分濃度の水系レジスト剥離液を、自動的かつ連続的に調製することもできる。
【００５３】
本発明の非水系レジスト剥離液の調製装置は、非水系レジスト剥離液の成分濃度と相関関係を有する物性値、および、非水系レジスト剥離液の成分濃度の少なくとも一方を測定し、この測定値に基づいて、調製槽内の非水系レジスト剥離液が所定の成分濃度となるように非水系レジスト剥離液を調製している。そのため、本発明の非水系レジスト剥離液の調製装置によれば、容量や重量で調製していた従来の調製装置に比べ、正確な成分濃度の非水系レジスト剥離液を調製することができる。また、本発明の非水系レジスト剥離液の調製装置によれば、同様に、より正確なアミン濃度の非水系レジスト剥離液を調製することができる。さらに、本発明の非水系レジスト剥離液の調製装置によれば、必要時にいつでも所定の成分濃度の非水系レジスト剥離液を得ることができる。所定の成分濃度の非水系レジスト剥離液を、自動的かつ連続的に調製することもできる。
【００５４】
また、本発明の調製装置は、レジスト剥離液を使用する設備に組み込んで用いることができる。この場合、レジスト剥離液を使用する設備に常に正確な濃度のレジスト剥離液を供給することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】第１実施形態の水系レジスト剥離液の調製装置を説明するための模式図である。
【図２】第２実施形態の水系レジスト剥離液の調製装置を説明するための模式図である。
【図３】レジスト剥離液のモノエタノールアミン濃度と吸光度の関係を示すグラフ図である。
【図４】レジスト剥離液のヒドロキシルアミン濃度と吸光度の関係を示すグラフ図である。
【図５】第３実施形態の水系レジスト剥離液の調製装置を説明するための模式図である。
【図６】水系レジスト剥離液の水分濃度と吸光度の関係を示すグラフ図である。
【図７】第４実施形態の水系レジスト剥離液の調製装置を説明するための模式図である。
【図８】第５実施形態の水系レジスト剥離液の調製装置を説明するための模式図である。
【図９】第６実施形態の水系レジスト剥離液の調製装置を説明するための模式図である。
【図１０】第７実施形態の水系レジスト剥離液の調製装置を説明するための模式図である。
【図１１】第８実施形態の非水系レジスト剥離液の調製装置を説明するための模式図である。
【図１２】第９実施形態の非水系レジスト剥離液の調製装置を説明するための模式図である。
【図１３】第１０実施形態の非水系レジスト剥離液の調製装置を説明するための模式図である。
【図１４】第１１実施形態の非水系レジスト剥離液の調製装置を説明するための模式図である。
【図１５】第１２実施形態の非水系レジスト剥離液の調製装置を説明するための模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００５６】
以下、適宜図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。ただし、これらの実施の形態に記載されている構成機器の形状、大きさ、寸法比、その相対配置などは、特に特定的な記載がない限りは、本発明の範囲を図示されているもののみに限定するものではない。単なる説明例として、模式的に図示しているにすぎない。
【００５７】
〔水系レジスト剥離液の調製装置〕
［第１実施形態］
図１は、本実施形態の水系レジスト剥離液の調製装置を説明するための模式図である。本実施形態の水系レジスト剥離液の調製装置１０は、主に、調製槽３、測定手段２、制御手段１などからなる。
【００５８】
調製槽３は、配管などを介して供給を受けた水系レジスト剥離液の原料を調合して、所定の成分濃度の水系レジスト剥離液を調製するための調合容器である。調製槽３は、水系レジスト剥離液の原料の供給を受けるために、各原料供給配管４１、４２、４３などが接続されているほか、原料を均一に混合するための攪拌手段３６を備えている。また、調製した所定の成分濃度の水系レジスト剥離液を供給するための供給配管４を備えている。
【００５９】
測定手段２は、調製槽３内で調製される水系レジスト剥離液の物性値または成分濃度の少なくとも一方を測定する。測定手段２により測定される水系レジスト剥離液の物性値は、この水系レジスト剥離液の成分濃度との間に相関を有する物性値である。この相関関係を用いれば、測定された物性値から成分濃度を得ることができるし、水系レジスト剥離液を所定の成分濃度に調整することもできる。
【００６０】
制御手段１は、測定手段２の測定信号を受信できるように、測定手段２と信号線４７などにより接続されている。また、制御手段１は、原料を調製槽３に供給するための原料供給配管４１、４２、４３に設けられた制御弁１７、１８、１９と、接続されている。制御手段１がこれらの制御弁を制御することにより、調製槽３に供給される原料の供給量が、水系レジスト剥離液の成分濃度が所定の成分濃度となるように、調節される。
【００６１】
水系レジスト剥離液は、アミン、有機溶媒および純水を主成分とする。アミンは、アミン原料導入口５２からアミン原料供給配管４２を介して調製槽３に供給される。有機溶媒は、有機溶媒原料導入口５３から有機溶媒原料供給配管４３を介して調製槽３に供給される。同様に、純水は、純水導入口５１から純水供給配管４１を介して、調製槽３に供給される。これらのほかに、添加剤など他の原料がある場合には、その原料を供給するための導入口、供給配管、制御弁などを用意して、供給すればよい。添加剤など他の原料の供給ラインは、図１には図示していない。また、各原料は、調製槽３に直接供給される場合に限定されない。例えば、調製槽３内の水系レジスト剥離液を循環攪拌する場合には、各原料を、液が循環する循環管路３４に合流させるようにして、調製槽３に供給してもよい。
【００６２】
各原料供給配管４１、４２、４３には、制御手段１と信号線４６を介して接続された制御弁１７、１８、１９が設けられている。各制御弁は、制御手段１により発せられる制御信号を受けて、動作制御される。各制御弁は、例えば、単位時間当たりの流量を増減させるように、制御手段１により制御されるのが、望ましい。各制御弁は、流量のデフォルト値として、このデフォルト値の流量で供給された原料を調合して得られる水系レジスト剥離液の成分濃度が、測定手段２により測られる物性値が成分濃度と相関関係を有する濃度範囲に入るように、予め設定されているものとする。
【００６３】
原料導入口５１、５２、５３より導入された各原料は、原料供給配管４１、４２、４３、および、制御弁１７、１８、１９を介して、調製槽３に供給される。調製槽３内に供給された原料は、攪拌手段３６により攪拌され、均一な濃度の水系レジスト剥離液となる。
【００６４】
攪拌手段３６は、調製槽３内を均一な濃度に攪拌するものである。図１では、調製槽３の底部から側部にループ状に接続された循環管路３４を介して、調製槽３内の液の一部を抜き取り、これを循環攪拌ポンプ３３により調製槽３内に攪拌流が生じるように再度調製槽３内に戻す循環攪拌方式を描いているが、これに限定されない。攪拌翼をモーターで回転させる攪拌装置でもよいし、攪拌子を調製槽３内で回転させるものでもよい。
【００６５】
調製槽３内で調製された水系レジスト剥離液は、測定手段２により、測定される。測定されるのは、調製槽３内で調製された水系レジスト剥離液の物性値または成分濃度の少なくともいずれか一方である。両方でもよい。ここで測定される成分濃度は、所定の濃度に調節しようとしている水系レジスト剥離液の成分についての濃度である。同様に、測定される物性値は、所定の濃度に調節しようとしている水系レジスト剥離液の成分と相関のある水系レジスト剥離液の物性値である。測定手段２により測定される物性値や成分濃度に対応する水系レジスト剥離液の成分は、一つとは限らず、複数であってもよい。
【００６６】
成分濃度は直接測ることができないので、通常は、成分濃度は、これと相関を有する物性値を測定して、その測定値から相関関係を用いて算出される。そのため、測定手段２は、水系レジスト剥離液の物性値を測定する測定装置を備える。物性値のみしか測らない場合は、測定手段２は測定装置そのものであってもよい。測定した物性値から成分濃度を算出する場合は、測定した物性値を成分濃度に演算加工する必要があるので、測定手段２は、測定装置を備えるほか、測定値から成分濃度を演算する演算装置などをも備えている。
【００６７】
測定手段２が備える物性値の測定装置は、濃度を調節すべき水系レジスト剥離液の成分や測定される物性値に応じて、最適な装置が選択される。濃度を調節しようとしている水系レジスト剥離液の成分について、調節しようとしているその所定の成分濃度を含む濃度範囲において、その成分濃度と良好な相関関係を得ることができる物性値を測定する測定装置を採用すればよい。例えば、このような測定装置として、吸光光度計、導電率計、密度計、超音波濃度計、粘度計、などが好適である。
【００６８】
測定手段２は、調製槽３内で調製された水系レジスト剥離液をサンプリングして、その物性値を測定する。測定前にサンプリングした水系レジスト剥離液を温度調整するなど、常に同じ測定条件で測定がなされるようになっていることが、好ましい。そのため、測定手段２は、サンプリングチューブ、サンプリングポンプ（図示せず）、温度コントローラ（図示せず）などを、備えていることが好ましい。
【００６９】
しかし、測定の手法は、試料をサンプリングする方式に限定されない。センサー部を水系レジスト剥離液内に浸漬する方式や、循環管路３４などに測定装置を設置する方式など、採用した測定装置に応じて、最適な方式により測定すればよい。
【００７０】
測定手段２が成分濃度を測定する場合、測定手段２に備えられた測定装置により測定された物性値から、成分濃度が算出される。成分濃度の算出には、物性値と成分濃度との相関関係が用いられる。この相関関係は、物性値と成分濃度との対応関係であり、両者が一対一に対応していれば、この相関関係に基づいて、測定された物性値から対応する成分濃度を求めることができる。
【００７１】
相関関係は、所定の感度を得るために、ある程度の傾きを備えていることが好ましいが、必ずしも直線でなくてもよい。調節しようとする成分濃度を含む濃度範囲で、成分濃度が物性値と一対一に対応づけられた連続関数としての相関関係を有していれば、測定された物性値から対応する成分濃度を算出できる。
【００７２】
測定手段２は、測定した物性値または成分濃度を、制御手段１に送信する。制御手段１は、測定手段２から測定値を受信する。測定手段２と制御手段１とは、信号線４７で接続されている。測定値の送受信は、この信号線４７を介して行われる。しかし、これに限定されない。無線を介して測定値の送受信がなされてもよい。また、複数の成分について物性値や成分濃度が測定される場合には、成分ごとに測定装置と制御手段１とをつなぐ信号線を備えていてもよい。
【００７３】
制御手段１には、濃度制御において目標とする成分濃度の値が設定されている。制御手段１は、受信した成分濃度の測定値と設定されている成分濃度の目標値とを比較する。比較の結果、調節すべき成分の濃度が目標値より低い場合は、その成分の供給量がその他の成分の供給量に対して相対的に増加するように、対応する制御弁を制御する。逆に、調節すべき成分の濃度が目標値より高い場合は、その成分の供給量がその他の成分の供給量に対して相対的に減少するように、対応する制御弁を制御する。どの制御弁をどの程度制御するかは、成分濃度の目標値からのずれの程度、原料の構成、各原料の濃度などの諸条件に基づいて、制御手段１が制御プログラムにより適切に計算する。ただし、制御の方法は、これに限定されない。上記のような制御量の目標値と現在値とを比較して制御する比例制御（Ｐ制御）のほか、いわゆる積分制御（Ｉ制御）や微分制御（Ｄ制御）などを採用できる。これらの制御方法を適宜組み合わせたＰＩＤ制御により制御するのが、好ましい。
【００７４】
水系レジスト剥離液の原料供給配管に設けられた各制御弁１７、１８、１９は、信号線４６により、制御手段１と接続されている。図１では、各制御弁１７、１８、１９が信号線４６により直列に接続されているように描いたが、各制御弁がそれぞれ個別に制御手段１と信号線で接続されていてもよい。信号線によらずとも、無線により制御されるようになっていてもよい。
【００７５】
また、図１では、制御手段１が制御弁を制御することになっているが、制御手段１としてはコンピュータが好ましく採用される。コンピュータの代わりに、汎用のコントローラを用いて制御してもよい。濃度を調節する成分ごとに個別に用意されたコントローラの集合体として、制御手段１を構成してもよい。また、測定手段２と制御手段１の代わりに、測定手段２と制御手段１とが一つの装置として構成されたようないわゆる濃度管理装置、を用いるのでもよい。濃度管理装置を用いる場合には、調製槽３内の水系レジスト剥離液が常時所定の成分濃度となるように、濃度管理装置に制御弁を制御させればよい。
【００７６】
測定手段２により測定されるのが物性値である場合には、制御手段１は、物性値に基づいた制御を行う。すなわち、測定手段により測定される物性値は成分濃度と相関関係を有するので、この相関関係上に、調節すべき所定の成分濃度に対応した“所定の物性値”を見出すことができる。制御手段１は、測定手段２により測定された物性値がこの“所定の物性値”になるように、原料の供給量を増減させるよう、制御弁１７、１８、１９を制御すればよい。
【００７７】
本実施形態の調製装置１０は、上記の調合、測定、制御のサイクルを繰り返し連続して行うことにより、所定の成分濃度の水系レジスト剥離液を自動的かつ連続的に調製することができる。一度調製槽３内に所定の成分濃度の水系レジスト剥離液を調製してしまえば、あとは、供給により減量した分を補うように、所定の成分濃度を維持しながら、水系レジスト剥離液を追加調製すればよい。
【００７８】
調製槽３で調製された水系レジスト剥離液は、調製槽３の底部に接続された水系レジスト剥離液供給配管４から、調製槽３の外へ供給される。調製装置１０は、単独で使用することもできるが、水系レジスト剥離液を使用する他の剥離設備に接続して使用することもできる。この場合、水系レジスト剥離液供給配管４を他の剥離設備の水系レジスト剥離液供給口５４と接続する。こうすることで、他の剥離設備に新鮮な状態の所定の成分濃度の水系レジスト剥離液を必要な時にいつでも自動的に供給することも可能となる。
【００７９】
調製装置１０は、調製槽３内の水系レジスト剥離液の液面位置を検出するための液面計３２を備えていることが好ましい。調製装置１０の供給する水系レジスト剥離液の供給量が常時ほぼ一定であれば、液面計がなくても、調製量を供給量とバランスさせることで、調製槽３を空にすることなく、連続的な調製ができる。しかし、供給量が増減する場合には、液面計３２により調製槽３内の液面位置を検出し、調製槽３が空にならないように制御することが好ましい。
【００８０】
液面計３２は、調製槽３内の液面位置を検出できるように調製槽３に設置されているほか、信号線４８を介して制御手段１と接続される。例えば、液面計３２は、調製槽３内の液面が下限値を下回ったことを検出して、制御手段１に警報信号を発する。制御手段１は、液面位置が回復するように、制御弁１７、１８、１９を制御して原料の供給量を増加させ、水系レジスト剥離液の調製量を増やす。液面位置が下限値を上回ると警報信号が停止し、調製槽３内の水系レジスト剥離液の量が所定の量まで回復すると、制御手段１はこの液面位置を維持するように制御する。こうして、調製槽３内が空にならないようにすることができる。合わせて液面位置の上限を設定しておけば、調製槽３のオーバーフローを防止することもできる。
【００８１】
なお、図１では、水系レジスト剥離液の各原料を供給する原料供給配管４１、４２、４３が調製槽３の側部に接続されている態様を描いたが、これに限定されない。状況に応じて、調製槽３の上部や底部に接続されていてもよい。循環管路３４に接続されるのでもよい。また、原料供給配管４１、４２、４３は、調製槽３と一体的に接続されている必要はない。例えば、原料を調製槽内に上部から滴下して供給するようになっていてもよい。また、原料が液状物ではなく粉状物である場合は、配管ではなく、粉体供給装置が接続されているのでもよい。
【００８２】
＜水系レジスト剥離液の原料＞
水系レジスト剥離液の調製には、アミン、水、有機溶媒、その他の添加剤からなる原料を用いることができる。
【００８３】
≪アミン≫
水系レジスト剥離液の原料に用いられるアミンとしては、アルカノールアミンが好ましく用いられる。アルカノールアミンとしては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルエタノールアミン、アミノエチルエタノールアミン、Ｎ−メチル−Ｎ，Ｎ−ジエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチルエタノールアミン、Ｎ−メチルエタノールアミン、３−アミノ−１−プロパノールなどを挙げることができる。また、他のアミンとして、ヒドロキシルアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、ノーマルプロパノールアミン、モノイソプロパノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、アルキルベンゼンスルホン酸、ジグリコールアミン、メチルアミノエタノール、エチルアミノエタノール、２−（２−アミノエトキシ）エタノール、トリエチレンテトラミン、Ｎ，Ｎジメチルアセトアミド、モノメチルホルムアミドを用いることができる。
【００８４】
≪有機溶媒≫
有機溶媒としては、グライコールエーテル系の有機溶媒が好ましく用いられる。グライコールエーテル系の有機溶媒としては、ブチルジグリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテルなどを挙げることができる。他の有機溶媒として、ジメチルスルホキシド、アルキルヒドロキシベンゼン、ブチンジオール、ＳＡＡ、メチルメトキシブタノール、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｐｈｎ、オルトジクロロベンゼン、トリエチレンテトラミン、メチルジグリコールを用いることができる。
【００８５】
≪その他の添加剤≫
水系レジスト剥離液としては、アミン、有機溶媒、水（純水）の他に、添加剤として、カテコール、マルトール、シリコン系消泡剤、ｐ−ニトロ安息香酸、還元剤（ソルビ―トールなど）、金属防食剤、キレート剤などを添加することができる。その他の添加剤の濃度は、水系レジスト剥離液の調製時に、水系レジスト剥離液の容量に応じて添加することで、濃度を調節することができる。
【００８６】
［第２実施形態］
図２は、本実施形態の水系レジスト剥離液の調製装置を説明するための模式図である。本実施形態の水系レジスト剥離液の調製装置１１０は、第１実施形態の調製装置１０とほぼ同じであり、主に調製槽３、測定手段１０２、制御手段１０１などからなる。測定手段１０２がアミンに関する測定手段１２１を備え、制御手段１０１がアミンに関する制御手段１２３を備え、調製槽３で所定のアミン濃度の水系レジスト剥離液が調製される点で、特徴的である。
【００８７】
本実施形態では、測定手段１０２はアミンに関する測定手段１２１を備える。アミンに関する測定手段１２１は、調製槽３内の水系レジスト剥離液の物性値またはアミン濃度のうちの少なくとも一方を測定するためのものである。両方を測定してもよい。調製装置１１０がアミン濃度だけを測定してこれを所定の濃度値に調節する場合には、測定手段１０２はアミンに関する測定手段１２１と同じでよい。しかし、一般には、測定手段１０２は、アミンに関する測定手段１２１のほかに、他の成分に関する測定を行うための測定手段を別途備えていてもよい。
【００８８】
アミンに関する測定手段１２１が測定する物性値は、アミン濃度と相関関係を有する物性値である。アミン濃度と相関関係を有する物性値としては、吸光度、導電率、密度、超音波伝播速度、および、粘度から選択される物性値を用いることが好ましい。この場合、アミンに関する測定手段１２１は、それぞれ、吸光光度計、導電率計、密度計、超音波濃度計、粘度計などとなる。
【００８９】
アミンに関する測定手段１２１としては、なかでも吸光光度計が好ましい。適切な測定波長を用いれば、水系レジスト剥離液の吸光度値とアミン濃度との間に、比較的良好な直線関係を得ることができる。
【００９０】
アミン濃度と直線関係を有する物性値の一例として、図３および図４を示すことができる。図３は、モノエタノールアミン（ＭＥＡ：ｍｏｎｏｅｔｈａｎｏｌａｍｉｎｅ）濃度と吸光度（測定波長λ＝１０４８ｎｍ）の関係を示すグラフ図であり、図４は、ヒドロキシルアミン濃度と吸光度（測定波長λ＝１０７４ｎｍ）の関係を示すグラフ図である。
【００９１】
図３に示すように、水系レジスト剥離液に含まれるアミンがアルカノールアミンの一種であるモノエタノールアミンである場合、水系レジスト剥離液のモノエタノールアミンの濃度は、近赤外部の波長領域にある特定波長（例えば、１０４８ｎｍ）における水系レジスト剥離液の吸光度に対して高度な直線関係を有する。また、図４に示すように、水系レジスト剥離液のヒドロキシルアミンの濃度も、近赤外部の波長領域にある特定波長（例えば、１０７４ｎｍ）における水系レジスト剥離液の吸光度に対して高度な直線関係を有する。したがって、水系レジスト剥離液の吸光度を測定することで、アミン濃度を正確に測定することができる。測定する波長は、アミンがモノエタノールアミンである場合、１０００から１６００ｎｍの波長領域から選択される特定の波長であることが好ましい。他の成分の影響が小さい１０４８ｎｍ付近が、感度が大きく特に良好である。また、ヒドロキシルアミンである場合、１０５０から１０９０ｎｍの波長領域から選択される特定の波長であることが好ましい。他の成分の影響が小さい１０７４ｎｍ付近が、感度が大きく特に良好である。
【００９２】
本実施形態の調製装置１１０では、アミンに関する測定手段１２１が、例えば、測定波長１０４８ｎｍにおける水系レジスト剥離液の吸光度を測定する。この波長における吸光度は、アミン濃度（ＭＥＡ濃度）と図３のような直線関係があるので、この直線関係を用いて、吸光度の測定値から正確に水系レジスト剥離液のアミン濃度（ＭＥＡ濃度）を得ることができる。
【００９３】
本実施形態における制御手段１０１は、アミンに関する制御手段１２３を備える。本実施形態の調製装置１１０がアミン濃度だけを所定の濃度に調節する場合には、制御手段１０１はアミンに関する制御手段１２３と同じでよい。本実施形態の調製装置１１０がアミン以外の成分についても濃度を調節する場合には、制御手段１０１はアミンに関する制御手段１２３を備えるだけでなく、他の成分に関する制御手段も別途備えている。
【００９４】
アミンに関する制御手段１２３は、アミンに関する測定手段１２１と信号線１４７により接続されるなどしており、アミンに関する測定手段１２１が得た測定値をアミンに関する測定手段１２１から受信する。アミンに関する制御手段１２３は、調節すべき所定のアミン濃度が濃度制御における目標値のアミン濃度として設定されている。アミンに関する制御手段１２３は、受信したアミン濃度の測定値と目標値のアミン濃度とを比較する。アミンに関する制御手段１２３は、各原料供給配管４１、４２、４３に設けられた制御弁１７、１８、１９と、信号線４６により接続されるなどしており、濃度の比較の結果に応じて、制御弁１７、１８、１９を適切に動作制御する。
【００９５】
例えば、測定手段１０２のアミンに関する測定手段１２１により測定されたアミン濃度が目標値のアミン濃度より低い場合は、制御手段１０１のアミンに関する制御手段１２３は制御弁１８の流量を増やして、あるいは、制御弁１７や１９の流量を減らして、アミン原液の相対的な供給量を増やす。アミン濃度が目標値のアミン濃度より高い場合は、逆に、アミンに関する制御手段１２３は制御弁１８の流量を減らして、あるいは、制御弁１７や１９の流量を増やして、純水および有機溶媒の少なくともいずれかの供給量を相対的に増やし、アミン原液の相対的な供給量を減らして、アミン濃度を制御する。ただし、制御方法は、これに限定されない。ＰＩＤ制御など、各種の制御方法を適宜採用し得る。
【００９６】
なお、アミンに関する測定手段１２１が測定した物性値から、測定した物性値と相関関係上の目標値のアミン濃度に対応する物性値とを比較することよりアミン濃度を制御してもよい。
【００９７】
例えば、図３や図４に示すような直線関係が得られる場合のように、物性値とアミン濃度とが一対一に対応した相関関係を有する場合には、この相関関係に基づいて、アミン濃度に対応する物性値を得ることができる。したがって、調節すべき所定のアミン濃度に対応する“所定の物性値”が存在する。アミンに関する測定手段１２１が測定した物性値がこの“所定の物性値”になるように、アミンに関する制御手段１２３が原料の供給量を制御することで、調製槽３で調製される水系レジスト剥離液を所定のアミン濃度にすることができる。
【００９８】
本実施形態の第１実施形態と共通するその他の構成については、第１実施形態と同じであるので、その説明を省略する。
【００９９】
［第３実施形態］
図５は、本実施形態の水系レジスト剥離液の調製装置を説明するための模式図である。本実施形態の水系レジスト剥離液の調製装置２１０は、第１実施形態の調製装置１０とほぼ同じであり、主に調製槽３、測定手段２０２、制御手段２０１などからなる。測定手段２０２が水分に関する測定手段２２２を備え、制御手段２０１が水分に関する制御手段２２４を備え、調製槽３で所定の水分濃度の水系レジスト剥離液が調製される点で、特徴的である。
【０１００】
本実施形態では、測定手段２０２は水分に関する測定手段２２２を備える。水分に関する測定手段２２２は、調製槽３内の水系レジスト剥離液の物性値または水分濃度のうちの少なくとも一方を測定するためのものである。両方を測定してもよい。調製装置２１０が水分濃度だけを測定してこれを所定の濃度値に調節する場合には、測定手段２０２は水分に関する測定手段２２２と同じでよい。しかし、一般には、測定手段２０２は、水分に関する測定手段２２２のほかに、他の成分に関する測定を行うための測定手段を別途備えていてもよい。
【０１０１】
水分に関する測定手段２２２が測定する物性値は、水分濃度と相関関係を有する物性値である。水分濃度と相関関係を有する物性値についても、吸光度、導電率、密度、超音波伝播速度、および、粘度から選択され、水分濃度と直線関係が得られる物性値を用いることが好ましい。この場合、水分に関する測定手段２２２は、それぞれ、吸光光度計、導電率計、密度計、超音波濃度計、粘度計などとなる。
【０１０２】
水分に関する測定手段２２２としては、なかでも吸光光度計が好ましい。適切な測定波長を用いれば、水系レジスト剥離液の吸光度値とアミン濃度との間に、比較的良好な直線関係を得ることができる。
【０１０３】
水分濃度と直線関係を有する物性値の一例として、図６に、水系レジスト剥離液の水分濃度と吸光度の関係を示すグラフ図を示す。水分濃度との直線関係を示す吸光度の測定波長は、近赤外線領域の９５０ｎｍから２０００ｎｍの範囲から選択される特定の波長であることが好ましい。特に１９４０ｎｍ付近で感度が大きく、好ましい。また、９５０ｎｍから１０１０ｎｍの範囲、特に９７６ｎｍ付近において感度が大きく好ましい。図６は、測定波長λ＝１９４０ｎｍにおける水系レジスト剥離液の吸光度と水分濃度との関係を示すグラフ図である。なお、測定波長λ＝９７６ｎｍにおいても、図６に示すグラフと同様に高度な直線関係を有することが実験により確認されている。このように、水系レジスト剥離液の吸光度を検出することで、水分濃度を正確に測定することができる。
【０１０４】
本実施形態の調製装置２１０では、水分に関する測定手段２２２が、例えば、測定波長１９４０ｎｍにおける水系レジスト剥離液の吸光度を測定する。この波長における吸光度は、水分濃度と図６のような直線関係があるので、この直線関係を用いて、吸光度の測定値から正確に水系レジスト剥離液の水分濃度を得ることができる。
【０１０５】
本実施形態における制御手段２０１は、水分に関する制御手段２２４を備える。本実施形態の調製装置２１０が水分濃度だけを所定の濃度に調節する場合には、制御手段２０１は水分に関する制御手段２２４と同じでよい。本実施形態の調製装置２１０が水分以外の成分についても濃度を調節する場合には、制御手段２０１は水分に関する制御手段２２４を備えるだけでなく、他の成分に関する制御手段も別途備えている。
【０１０６】
水分に関する制御手段２２４は、水分に関する測定手段２２２と信号線２４７により接続されるなどしており、水分に関する測定手段２２２が得た測定値を水分に関する測定手段２２２から受信する。水分に関する制御手段２２４は、調節すべき所定の水分濃度が濃度制御における目標値の水分濃度として設定されている。水分に関する制御手段２２４は、受信した水分濃度の測定値と目標値の水分濃度とを比較する。水分に関する制御手段２２４は、各原料供給配管４１、４２、４３に設けられた制御弁１７、１８、１９と、信号線４６により接続されるなどしており、濃度の比較の結果に応じて、制御弁１７、１８、１９を適切に動作制御する。
【０１０７】
水分濃度についても、測定手段２０２の水分に関する測定手段２２２により測定された水分濃度が目標値の水分濃度より低い場合は、制御手段２０１は制御弁１７の流量を増やして、あるいは、制御弁１８や１９の流量を減らして、純水の相対的な供給量を増やす。水分濃度が目標値の水分濃度より高い場合は、逆に、水分に関する制御手段２２４は制御弁１７の流量を減らして、あるいは、制御弁１８や１９の流量を増やして、アミン原液および有機溶媒の少なくともいずれかの供給量を相対的に増やし、純水の相対的な供給量を減らして、水分濃度を制御する。ただし、制御方法は、これに限定されない。ＰＩＤ制御など、各種の制御方法を適宜採用し得る。
【０１０８】
なお、水分濃度の調節についても、水分に関する測定手段２２２が測定した物性値から、測定した物性値と相関関係上の目標値の水分濃度に対応する物性値とを比較することにより水分濃度を制御してもよい。
【０１０９】
例えば、図６に示すような直線関係が得られる場合のように、物性値と水分濃度とが一対一に対応した相関関係を有する場合には、この相関関係に基づいて、水分濃度に対応する物性値を得ることができる。したがって、調節すべき所定の水分濃度に対応する“所定の物性値”が存在する。水分に関する測定手段２２２が測定した物性値がこの“所定の物性値”になるように、水分に関する制御手段２２４が原料の供給量を制御することで、調製槽３で調製される水系レジスト剥離液を所定の水分濃度にすることができる。
【０１１０】
本実施形態の第１実施形態と共通するその他の構成については、第１実施形態と同じであるので、その説明を省略する。
【０１１１】
［第４実施形態］
図７は、本実施形態の水系レジスト剥離液の調製装置を説明するための模式図である。本実施形態の水系レジスト剥離液の調製装置３１０は、第１実施形態の調製装置１０とほぼ同じであり、主に調製槽３、測定手段３０２、制御手段３０１などからなる。しかし、測定手段３０２がアミンに関する測定手段３２１および水分に関する測定手段３２２を備える点、制御手段３０１が調製槽３内の水系レジスト剥離液のアミン濃度が所定のアミン濃度となるように、および、調製槽３内の水系レジスト剥離液の水分濃度が所定の水分濃度となるように、原料の供給量を制御する点、および、調製槽３で所定のアミン濃度および所定の水分濃度の水系レジスト剥離液が調製される点で、特徴的である。
【０１１２】
本実施形態では、測定手段３０２はアミンに関する測定手段３２１、および、水分に関する測定手段３２２を備える。アミンに関する測定手段３２１は、調製槽３内の水系レジスト剥離液の物性値またはアミン濃度のうちの少なくとも一方を測定するためのものである。両方を測定してもよい。水分に関する測定手段３２２は、調製槽３内の水系レジスト剥離液の物性値または水分濃度のうちの少なくとも一方を測定するためのものである。両方を測定してもよい。調製装置３１０がアミン濃度と水分濃度だけを測定してこれらを所定の濃度値に調節する場合には、測定手段３０２はアミンに関する測定手段３２１と水分に関する測定手段３２２だけでよい。しかし、一般には、測定手段３０２は、これらのほかに、他の成分に関する測定を行うための測定手段を別途備えていてもよい。
【０１１３】
本実施形態における制御手段３０１は、アミンに関する制御手段３２３、水分に関する制御手段３２４、その他の成分に関する制御手段などを備える。あるいは、これらの機能に相当する機能をひとまとめに備えた一つの制御手段であってもよい。本実施形態のアミン濃度の制御は、第２実施形態と同様である。本実施形態の水分濃度の制御は、第３実施形態と同様である。そのほか、第１〜３の実施形態と共通する構成については、それぞれの実施形態で説明した事項と同じであるから、本実施形態におけるその説明を省略する。
【０１１４】
なお、図７では、本実施形態の調製装置３１０が、原料貯留容器３２０と、水系レジスト剥離液を使用する剥離設備３９０と、に接続された態様を示した。このように、調製装置３１０は、原料貯留容器３２０や、剥離設備３９０と接続して、剥離工程が行われる工場におけるオンサイト運転をすることができる。
【０１１５】
原料貯留容器３２０は、水系レジスト剥離液の原料を一時的に貯留しておくための容器である。アミン貯留容器３１１ａ、３１１ｂや、有機溶媒貯留容器３１２ａ、３１２ｂなどからなる。アミン貯留容器３１１ａ、３１１ｂや有機溶媒貯留容器３１２ａ、３１２ｂは、それぞれ一つでもよいが、図７に示すようにそれぞれ二つ備えているとより好ましい。アミン貯留容器３１１ａ、３１１ｂは、アミン原料導入口５２からアミン原料補充配管３４２を介して、アミンが常時貯留されている。また、有機溶媒貯留容器３１２ａ、３１２ｂは、有機溶媒原料導入口５３から有機溶媒原料補充配管３４３を介して、有機溶媒が常時貯留されている。原料貯留容器３２０に常に必要な原料を用意しておくことで、調製装置３１０は、途切れることなく原料の供給を受けることができ、連続的に水系レジスト剥離液を調製することが可能となる。
【０１１６】
アミン貯留容器３１１ａ、３１１ｂおよび有機溶媒貯留容器３１２ａ、３１２ｂは、調製装置３１０とアミン供給配管３４４および有機溶媒供給配管３４５により接続され、原料貯留容器３２０から各種の原料が調製槽３へ供給される。供給の方式は、送液ポンプによる方式でも、容器の加圧圧送方式でもよい。必要があれば、図７に示すように、原料貯留容器３２０と調製槽３を接続するアミン供給配管３４４および有機溶媒供給配管３４５に制御弁３１３ａ〜３１６ｂを設けて、調製装置３１０がこれらを制御するようにしてもよい。
【０１１７】
一方、調製装置３１０は、剥離設備３９０と、調製槽３に接続された水系レジスト剥離液供給配管３０４を介して接続される。水系レジスト剥離液供給配管３０４には、送液ポンプ３２５および制御弁３２６などが設けられている。
【０１１８】
調製槽３で調製された水系レジスト剥離液は、送液ポンプ３２５により、水系レジスト剥離液供給配管３０４を通って、水系レジスト剥離液供給口３５４から剥離設備３９０に供給される。剥離設備３９０は、信号線３９２を介して制御手段３０１と接続されている。制御手段３０１は、剥離設備３９０から発せられる水系レジスト剥離液供給リクエスト信号を、信号線３９２を介して受信する。制御弁３２６は、信号線３４９を介して制御手段３０１と接続されている。制御手段３０１は、剥離設備３９０側の要求に応じて、制御弁３２６を開閉制御する。これにより、剥離設備３９０は、水系レジスト剥離液が必要な時に、必要な量だけ、自動的に水系レジスト剥離液の供給を受けることができる。
【０１１９】
［第５実施形態］
図８は、第５実施形態に係る水系レジスト剥離液の調製装置を説明するための模式図である。第１から第４までの実施形態の水系レジスト剥離液の調製装置１０、１１０、２１０、３１０とは、調製槽３で調製された水系レジスト剥離液を貯留する貯留槽４０２を備える点が異なっている。
【０１２０】
第５実施形態の水系レジスト剥離液の調製装置４１０においても、第１実施形態の水系レジスト剥離液の調製装置１０と同様に、調製槽３内の水系レジスト剥離液の物性値または成分濃度の少なくともいずれか一方を測定することで、調製槽３内のレジスト剥離液の成分濃度を所定の濃度に調節する。
【０１２１】
調製槽３で調製された水系レジスト剥離液は、調製槽３から貯留槽４０２へ送液され、貯留槽４０２に貯留される。送液の方法は、送液ポンプなどにより移送する方式などでよく、特に限定はしない。図８に示すように、連通管４３５により調製槽３と貯留槽４０２とを連結しておくと、送液ポンプなどを要さず自然送液されるため簡便で都合よく、好適である。
【０１２２】
連通管４３５は、水系レジスト剥離液が流通する管路である。図８に示すように、調製槽３は貯留槽４０２よりも高い位置に設置される。連通管４３５は、例えば図８のように、調製槽３の底部と貯留槽４０２の側部とを接続する。貯留槽４０２から剥離設備３９０に水系レジスト剥離液が供給されることで、貯留槽４０２内に貯留されている水系レジスト剥離液量が減少すると、調製槽３で調製された水系レジスト剥離液が連通管４３５を通って、貯留槽４０２に自然に移動する。連通管４３５は適度な長さと配管内径とを有し、調製槽３で生じる水系レジスト剥離液の濃度の変動が貯留槽４０２内に及ばないようにする濃度変動の緩衝作用を有する。
【０１２３】
貯留槽４０２も、調製槽３と同様、測定手段４３１および液面計４３２とを備えていることが好ましい。測定手段４３１としては、調製槽３に備えられているものと同じものを用いることができる。測定手段４３１は、さらに、アミンに関する測定手段、および、水分に関する測定手段のいずれか、あるいは両方を備えていてもよい。これらの装置により、貯留槽４０２に貯留された水系レジスト剥離液の物性値、または、成分濃度の測定をすることができる。
【０１２４】
また、測定手段４３１および液面計４３２も、信号線４４７、４４８を介して制御手段４０１と接続される。制御手段４０１は、測定手段４３１が測定する貯留槽４０２内の水系レジスト剥離液の物性値または成分濃度や液面計４３２が測定する貯留槽４０２内の水系レジスト剥離液の液面位置に応じて、調製槽３の場合と同様に、適宜制御弁１７、１８、１９を制御する。貯留槽４０２は、濃度変動が極めて小さいので、実際には、貯留槽４０２内部の水系レジスト剥離液の濃度の監視と液量管理が行われる。
【０１２５】
貯留槽４０２内の水系レジスト剥離液は、循環管路４３４に備えられた循環攪拌ポンプ４３３によって循環攪拌される。これにより、貯留槽４０２内の水系レジスト剥離液は、均一な濃度に維持される。
【０１２６】
［第６実施形態］
図９は、第６実施形態に係る水系レジスト剥離液の調製装置を説明するための模式図である。第６実施形態に係る水系レジスト剥離液の調製装置５１０は、調製槽を２つ備えている点がこれまでに説明した実施形態の水系レジスト剥離液の調製装置と異なっている。
【０１２７】
調製槽５０３も調製槽３と同様に、測定手段５３１および液面計５３２を備え、信号線５４７および信号線５４８を介して制御手段５０１と接続される。調製槽５０３内の水系レジスト剥離液の物性値または成分濃度、および、液面位置は制御手段５０１により監視され、信号線５４６を介して接続された制御弁５１７、５１８、５１９を制御し、調製槽３内の水系レジスト剥離液の成分濃度を調節する場合と同様の方法で、成分濃度や液面位置の調節を行う。調製槽５０３で調製された水系レジスト剥離液は、連通管５３５を通って、貯留槽４０２に貯留される。また、調製槽５０３は循環管路５３４を備え、調製槽５０３内の水系レジスト剥離液は、循環管路５３４に備えられた循環攪拌ポンプ５３３によって循環攪拌される。
【０１２８】
第６実施形態に係る水系レジスト剥離液の調製装置によれば、調製槽を２つ備えているので、例えば、調製槽３が故障などにより動かなくなっても、調製槽５０３から貯留槽４０２に水系レジスト剥離液を調製して供給することで、装置を止めることなく水系レジスト剥離液の調製と供給を続けることができる。また、調製槽３内が空になっていても、調製槽５０３から水系レジスト剥離液を供給することができる。
【０１２９】
なお、図９においては、調製槽を２つ備える構成を記載したが、調製槽の数は特に限定されず、３つ以上の複数の槽を備えてもよい。ただし、装置が大型化すること、故障時の予備であることを考慮すると、貯留槽１つに対して調製槽を２つ備えれば十分である。
【０１３０】
［第７実施形態］
図１０は、第７実施形態に係る水系レジスト剥離液の調製装置を説明するための模式図である。第７実施形態に係る水系レジスト剥離液の調製装置６１０は、水系レジスト剥離液の原料を予め混合する予備混合手段として混合準備槽６０５を備えている点がこれまでに説明してきた実施形態の水系レジスト剥離液の調製装置と異なっている。
【０１３１】
混合準備槽６０５は、純水供給配管４１、アミン供給配管３４４、および、有機溶媒供給配管３４５に接続されている。また、混合準備槽６０５は、配管６０６により調製槽３に接続されている。
【０１３２】
混合準備槽６０５を設け、調製槽３に供給される原料を混合準備槽６０５で混合して調製槽３に供給することで、調製槽３に水系レジスト剥離液の組成に近い濃度で供給することができる。したがって、調製槽３内の水系レジスト剥離液の濃度が急に変化することを防止することができるとともに、水系レジスト剥離液の調製を容易に行うことができる。また、水系レジスト剥離液の原料が予め混合されるので、調製槽３内での混合や攪拌の負担が軽減され、より速やかに均一な濃度の水系レジスト剥離液を調製することができる。
【０１３３】
混合準備槽６０５での混合は、制御手段６０１により、信号線６４６を介して接続された制御弁６１７、６１８、６１９を制御することで、純水、アミン原液、および、有機溶媒の流量を制御し、調製槽３で調製される水系レジスト剥離液の濃度とすることが好ましい。水系レジスト剥離液の最終的な濃度の調製は、調製槽３で行うため、混合準備槽６０５では、精度良く調製しなくてもよい。混合準備槽６０５で混合されたレジスト剥離液の濃度が、測定手段２で測定される物性値が成分濃度と相関関係を有する濃度範囲に入る程度に、各原料の混合がなされればよい。ただし、調製槽３と同様に、測定装置により、物性値または成分濃度を測定してもよい。
【０１３４】
本実施形態の調製装置６１０が備える予備混合手段は、簡易な混合槽としてふるまう混合準備槽６０５のような態様に限定されない。例えば、原料を供給する純水供給配管４１、アミン供給配管３４４、有機溶媒供給配管３４５等が調製槽３の手前で合流して、合流配管内で原料が混合されるような方式でもよい。その場合、さらに、インラインミキサーやスタティックミキサーなどの配管型混合装置を採用することもできる。循環管路３４に合流させてもよい。
【０１３５】
また、予備混合手段は、第６実施形態のように、調製槽を複数備える水系レジスト剥離液の調製装置においては、調製槽ごとに予備混合手段を備える構成としてもよい。
【０１３６】
〔非水系レジスト剥離液の調製装置〕
［第８実施形態］
図１１は、本実施形態の非水系レジスト剥離液の調製装置を説明するための模式図である。本実施形態の非水系レジスト剥離液の調製装置７１０は、主に、調製槽７０３、測定手段７０２、制御手段７０１などからなる。
【０１３７】
調製槽７０３は、配管などを介して供給を受けた非水系レジスト剥離液の原料を調合して、所定の成分濃度の非水系レジスト剥離液を調製するための調合容器である。調製槽７０３は、非水系レジスト剥離液の原料の供給を受けるために、各原料供給配管７４２、７４３などが接続されているほか、原料を均一に混合するための攪拌手段７３６を備えている。また、調製した所定の成分濃度の非水系レジスト剥離液を供給するための供給配管７０４を備えている。
【０１３８】
測定手段７０２は、調製槽７０３内で調製される非水系レジスト剥離液の物性値または成分濃度の少なくとも一方を測定する。測定手段７０２により測定される非水系レジスト剥離液の物性値は、この非水系レジスト剥離液の成分濃度との間に相関を有する物性値である。この相関関係を用いれば、測定された物性値から成分濃度を得ることができるし、非水系レジスト剥離液を所定の成分濃度に調整することもできる。
【０１３９】
制御手段７０１は、測定手段７０２の測定信号を受信できるように、測定手段７０２と信号線７４７などにより接続されている。また、制御手段７０１は、原料を調製槽７０３に供給するための原料供給配管７４２、７４３に設けられた制御弁７１８、７１９と、接続されている。制御手段７０１がこれらの制御弁を制御することにより、調製槽７０３に供給される原料の供給量が、水系レジスト剥離液の成分濃度が所定の成分濃度となるように、調節される。
【０１４０】
非水系レジスト剥離液は、アミンおよび有機溶媒を主成分とする。アミンは、アミン原料導入口７５２からアミン原料供給配管７４２を介して調製槽７０３に供給される。有機溶媒は、有機溶媒原料導入口７５３から有機溶媒原料供給配管７４３を介して調製槽７０３に供給される。これらのほかに、添加剤など他の原料がある場合には、その原料を供給するための導入口、供給配管、制御弁などを用意して、供給すればよい。添加剤など他の原料の供給ラインは、図１１には図示していない。また、各原料は、調製槽７０３に直接供給される場合に限定されない。例えば、調製槽７０３内の非水系レジスト剥離液を循環攪拌する場合には、各原料を、液が循環する循環管路７３４に合流させるようにして、調製槽７０３に供給してもよい。
【０１４１】
各原料供給配管７４２、７４３には、制御手段７０１と信号線７４６を介して接続された制御弁７１８、７１９が設けられている。各制御弁は、制御手段７０１により発せられる制御信号を受けて、動作制御される。各制御弁は、例えば、単位時間当たりの流量を増減させるように、制御手段７０１により制御されるのが、望ましい。各制御弁は、流量のデフォルト値として、このデフォルト値の流量で供給された原料を調合して得られる非水系レジスト剥離液の成分濃度が、測定手段７０２により測られる物性値が成分濃度と相関関係を有する濃度範囲に入るように、予め設定されているものとする。
【０１４２】
原料導入口７５２、７５３より導入された各原料は、原料供給配管７４２、７４３、および、制御弁７１８、７１９を介して、調製槽７０３に供給される。調製槽７０３内に供給された原料は、攪拌手段７３６により攪拌され、均一な濃度の非水系レジスト剥離液となる。
【０１４３】
攪拌手段７３６は、調製槽７０３内を均一な濃度に攪拌するものである。図１１では、調製槽７０３の底部から側部にループ状に接続された循環管路７３４を介して、調製槽７０３内の液の一部を抜き取り、これを循環攪拌ポンプ７３３により調製槽７０３内に攪拌流が生じるように再度調製槽７０３内に戻す循環攪拌方式を描いているが、これに限定されない。攪拌翼をモーターで回転させる攪拌装置でもよいし、攪拌子を調製槽７０３内で回転させるものでもよい。
【０１４４】
調製槽７０３内で調製された非水系レジスト剥離液は、測定手段７０２により、測定される。測定されるのは、調製槽７０３内で調製された非水系レジスト剥離液の物性値または成分濃度の少なくともいずれか一方である。両方でもよい。ここで測定される成分濃度は、所定の濃度に調節しようとしている非水系レジスト剥離液の成分についての濃度である。同様に、測定される物性値は、所定の濃度に調節しようとしている非水系レジスト剥離液の成分と相関のある非水系レジスト剥離液の物性値である。測定手段７０２により測定される物性値や成分濃度に対応する非水系レジスト剥離液の成分は、一つとは限らず、複数であってもよい。
【０１４５】
成分濃度は直接測ることができないので、通常は、成分濃度は、これと相関を有する物性値を測定して、その測定値から相関関係を用いて算出される。そのため、測定手段７０２は、非水系レジスト剥離液の物性値を測定する測定装置を備える。物性値のみしか測らない場合は、測定手段７０２は測定装置そのものであってもよい。測定した物性値から成分濃度を算出する場合は、測定した物性値を成分濃度に演算加工する必要があるので、測定手段７０２は、測定装置を備えるほか、測定値から成分濃度を演算する演算装置などをも備えている。
【０１４６】
測定手段７０２が備える物性値の測定装置は、濃度を調節すべき非水系レジスト剥離液の成分や測定される物性値に応じて、最適な装置が選択される。濃度を調節しようとしている非水系レジスト剥離液の成分について、調節しようとしているその所定の成分濃度を含む濃度範囲において、その成分濃度と良好な相関関係を得ることができる物性値を測定する測定装置を採用すればよい。例えば、このような測定装置として、吸光光度計、導電率計、密度計、超音波濃度計、粘度計、などが好適である。
【０１４７】
測定手段７０２は、調製槽７０３内で調製された非水系レジスト剥離液をサンプリングして、その物性値を測定する。測定前にサンプリングした非水系レジスト剥離液を温度調整するなど、常に同じ測定条件で測定がなされるようになっていることが、好ましい。そのため、測定手段７０２は、サンプリングチューブ、サンプリングポンプ（図示せず）、温度コントローラ（図示せず）などを、備えていることが好ましい。
【０１４８】
しかし、測定の手法は、試料をサンプリングする方式に限定されない。センサー部を非水系レジスト剥離液内に浸漬する方式や、循環管路７３４などに測定装置を設置する方式など、採用した測定装置に応じて、最適な方式により測定すればよい。
【０１４９】
測定手段７０２が成分濃度を測定する場合、測定手段７０２に備えられた測定装置により測定された物性値から、成分濃度が算出される。成分濃度の算出には、物性値と成分濃度との相関関係が用いられる。この相関関係は、物性値と成分濃度との対応関係であり、両者が一対一に対応していれば、この相関関係に基づいて、測定された物性値から対応する成分濃度を求めることができる。
【０１５０】
相関関係は、所定の感度を得るために、ある程度の傾きを備えていることが好ましいが、必ずしも直線でなくてもよい。調節しようとする成分濃度を含む濃度範囲で、成分濃度が物性値と一対一に対応づけられた連続関数としての相関関係を有していれば、測定された物性値から対応する成分濃度を算出できる。
【０１５１】
測定手段７０２は、測定した物性値または成分濃度を、制御手段７０１に送信する。制御手段７０１は、測定手段７０２から測定値を受信する。測定手段７０２と制御手段７０１とは、信号線７４７で接続されている。測定値の送受信は、この信号線７４７を介して行われる。しかし、これに限定されない。無線を介して測定値の送受信がなされてもよい。また、複数の成分について物性値や成分濃度が測定される場合には、成分ごとに測定装置と制御手段７０１とをつなぐ信号線を備えていてもよい。
【０１５２】
制御手段７０１には、濃度制御において目標とする成分濃度の値が設定されている。制御手段７０１は、受信した成分濃度の測定値と設定されている成分濃度の目標値とを比較する。比較の結果、調節すべき成分の濃度が目標値より低い場合は、その成分の供給量がその他の成分の供給量に対して相対的に増加するように、対応する制御弁を制御する。逆に、調節すべき成分の濃度が目標値より高い場合は、その成分の供給量がその他の成分の供給量に対して相対的に減少するように、対応する制御弁を制御する。どの制御弁をどの程度制御するかは、成分濃度の目標値からのずれの程度、原料の構成、各原料の濃度などの諸条件に基づいて、制御手段７０１が制御プログラムにより適切に計算する。ただし、制御の方法は、これに限定されない。上記のような制御量の目標値と現在値とを比較して制御する比例制御（Ｐ制御）のほか、いわゆる積分制御（Ｉ制御）や微分制御（Ｄ制御）などを採用できる。これらの制御方法を適宜組み合わせたＰＩＤ制御により制御するのが、好ましい。
【０１５３】
非水系レジスト剥離液の原料供給配管に設けられた各制御弁７１８、７１９は、信号線７４６により、制御手段７０１と接続されている。図１１では、各制御弁７１８、７１９が信号線７４６により直列に接続されているように描いたが、各制御弁がそれぞれ個別に制御手段７０１と信号線で接続されていてもよい。信号線によらずとも、無線により制御されるようになっていてもよい。
【０１５４】
また、図１１では、制御手段７０１が制御弁を制御することになっているが、制御手段７０１としてはコンピュータが好ましく採用される。コンピュータの代わりに、汎用のコントローラを用いて制御してもよい。濃度を調節する成分ごとに個別に用意されたコントローラの集合体として、制御手段７０１を構成してもよい。また、測定手段７０２と制御手段７０１の代わりに、測定手段７０２と制御手段７０１とが一つの装置として構成されたようないわゆる濃度管理装置、を用いるのでもよい。濃度管理装置を用いる場合には、調製槽７０３内の非水系レジスト剥離液が常時所定の成分濃度となるように、濃度管理装置に制御弁を制御させればよい。
【０１５５】
測定手段７０２により測定されるのが物性値である場合には、制御手段７０１は、物性値に基づいた制御を行う。すなわち、測定手段により測定される物性値は成分濃度と相関関係を有するので、この相関関係上に、調節すべき所定の成分濃度に対応した“所定の物性値”を見出すことができる。制御手段７０１は、測定手段７０２により測定された物性値がこの“所定の物性値”になるように、原料の供給量を増減させるよう、制御弁７１８、７１９を制御すればよい。
【０１５６】
本実施形態の調製装置７１０は、上記の調合、測定、制御のサイクルを繰り返し連続して行うことにより、所定の成分濃度の非水系レジスト剥離液を自動的かつ連続的に調製することができる。一度調製槽７０３内に所定の成分濃度の非水系レジスト剥離液を調製してしまえば、あとは、供給により減量した分を補うように、所定の成分濃度を維持しながら、非水系レジスト剥離液を追加調製すればよい。
【０１５７】
調製槽７０３で調製された非水系レジスト剥離液は、調製槽７０３の底部に接続された非水系レジスト剥離液供給配管７０４から、調製槽７０３の外へ供給される。調製装置７１０は、単独で使用することもできるが、非水系レジスト剥離液を使用する他の剥離設備に接続して使用することもできる。この場合、非水系レジスト剥離液供給配管７０４を他の剥離設備の非水系レジスト剥離液供給口７５４と接続する。こうすることで、他の剥離設備に新鮮な状態の所定の成分濃度の非水系レジスト剥離液を必要な時にいつでも自動的に供給することも可能となる。
【０１５８】
調製装置７１０は、調製槽７０３内の非水系レジスト剥離液の液面位置を検出するための液面計７３２を備えていることが好ましい。調製装置７１０の供給する非水系レジスト剥離液の供給量が常時ほぼ一定であれば、液面計がなくても、調製量を供給量とバランスさせることで、調製槽７０３を空にすることなく、連続的な調製ができる。しかし、供給量が増減する場合には、液面計７３２により調製槽７０３内の液面位置を検出し、調製槽７０３が空にならないように制御することが好ましい。
【０１５９】
液面計７３２は、調製槽７０３内の液面位置を検出できるように調製槽７０３に設置されているほか、信号線７４８を介して制御手段７０１と接続される。例えば、液面計７３２は、調製槽７０３内の液面が下限値を下回ったことを検出して、制御手段７０１に警報信号を発する。制御手段７０１は、液面位置が回復するように、制御弁７１８、７１９を制御して原料の供給量を増加させ、非水系レジスト剥離液の調製量を増やす。液面位置が下限値を上回ると警報信号が停止し、調製槽３内の非水系レジスト剥離液の量が所定の量まで回復すると、制御手段１はこの液面位置を維持するように制御する。こうして、調製槽７０３内が空にならないようにすることができる。合わせて液面位置の上限を設定しておけば、調製槽７０３のオーバーフローを防止することもできる。
【０１６０】
なお、図１１では、非水系レジスト剥離液の各原料を供給する原料供給配管７４２、７４３が調製槽７０３の側部に接続されている態様を描いたが、これに限定されない。状況に応じて、調製槽７０３の上部や底部に接続されていてもよい。循環管路３４に接続されるのでもよい。また、原料供給配管７４２、７４３は、調製槽７０３と一体的に接続されている必要はない。例えば、原料を調製槽内に上部から滴下して供給するようになっていてもよい。また、原料が液状物ではなく粉状物である場合は、配管ではなく、粉体供給装置が接続されているのでもよい。
【０１６１】
＜非水系レジスト剥離液の原料＞
本実施形態の非水系レジスト剥離液の調製装置に用いられる非水系レジスト剥離液は、アミン、有機溶媒、その他の添加剤からなる原料を用いることができる。
【０１６２】
≪アミン≫
非水系レジスト剥離液の原料に用いられるアミンとしては、アルカノールアミンが好ましく用いられる。アルカノールアミンとしては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルエタノールアミン、アミノエチルエタノールアミン、Ｎ−メチル−Ｎ，Ｎ−ジエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチルエタノールアミン、Ｎ−メチルエタノールアミン、３−アミノ−１−プロパノールなどを挙げることができる。また、他のアミンとして、ヒドロキシルアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、ノーマルプロパノールアミン、モノイソプロパノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、アルキルベンゼンスルホン酸、ジグリコールアミン、メチルアミノエタノール、エチルアミノエタノール、２−（２−アミノエトキシ）エタノール、トリエチレンテトラミン、Ｎ，Ｎジメチルアセトアミド、モノメチルホルムアミドを用いることができる。
【０１６３】
≪有機溶媒≫
有機溶媒としては、グライコールエーテル系の有機溶媒が好ましく用いられる。グライコールエーテル系の有機溶媒としては、ブチルジグリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテルなどを挙げることができる。他の有機溶媒として、ジメチルスルホキシド、アルキルヒドロキシベンゼン、ブチンジオール、ＳＡＡ、メチルメトキシブタノール、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｐｈｎ、オルトジクロロベンゼン、トリエチレンテトラミン、メチルジグリコールを用いることができる。
【０１６４】
≪その他の添加剤≫
非水系レジスト剥離液としては、アミンおよび有機溶媒の他に、添加剤として、カテコール、マルトール、シリコン系消泡剤、ｐ−ニトロ安息香酸、還元剤（ソルビ―トールなど）、金属防食剤、キレート剤などを添加することができる。その他の添加剤の濃度は、非水系レジスト剥離液の調製時に、非水系レジスト剥離液の容量に応じて添加することで、濃度を調節することができる。
【０１６５】
［第９実施形態］
図１２は、本実施形態の非水系レジスト剥離液の調製装置を説明するための模式図である。本実施形態の非水系レジスト剥離液の調製装置８１０は、第８実施形態の調製装置７１０とほぼ同じであり、主に調製槽７０３、測定手段８０２、制御手段８０１などからなる。しかし、測定手段８０２がアミンに関する測定手段８２１を備え、制御手段８０１がアミンに関する制御手段８２３を備え、調製槽７０３で所定のアミン濃度の非水系レジスト剥離液が調製される点で、特徴的である。
【０１６６】
本実施形態では、測定手段８０２はアミンに関する測定手段８２１を備える。アミンに関する測定手段８２１は、調製槽７０３内の非水系レジスト剥離液の物性値またはアミン濃度のうちの少なくとも一方を測定するためのものである。両方を測定してもよい。調製装置８１０がアミン濃度だけを測定してこれを所定の濃度値に調節する場合には、測定手段８０２はアミンに関する測定手段８２１と同じでよい。しかし、一般には、測定手段８０２は、アミンに関する測定手段８２１のほかに、他の成分に関する測定を行うための測定手段を別途備えていてもよい。
【０１６７】
アミンに関する測定手段８２１が測定する物性値は、アミン濃度と相関関係を有する物性値である。アミン濃度と相関関係を有する物性値としては、吸光度、導電率、密度、超音波伝播速度、および、粘度から選択される物性値を用いることが好ましい。この場合、アミンに関する測定手段８２１は、それぞれ、吸光光度計、導電率計、密度計、超音波濃度計、粘度計などとなる。
【０１６８】
アミンに関する測定手段８２１としては、なかでも吸光光度計が好ましい。適切な測定波長を用いれば、非水系レジスト剥離液の吸光度値とアミン濃度との間に、比較的良好な直線関係を得ることができる。
【０１６９】
アミン濃度と直線関係の得られる物性値として、例えば、図３および図４に示す吸光度を用いることができる。図３は、モノエタノールアミン（ＭＥＡ：ｍｏｎｏｅｔｈａｎｏｌａｍｉｎｅ）濃度と吸光度（測定波長λ＝１０４８ｎｍ）の関係を示すグラフ図であり、図４は、ヒドロキシルアミン濃度と吸光度（測定波長λ＝１０７４ｎｍ）の関係を示すグラフ図である。なお、図３および図４は、水系レジスト剥離液におけるアミン濃度と吸光度の関係を示すグラフ図であるが、非水系レジスト剥離液においても同様の直線関係が得られる。
【０１７０】
図３に示すように、非水系レジスト剥離液に含まれるアミンがアルカノールアミンの一種であるモノエタノールアミンである場合、非水系レジスト剥離液のモノエタノールアミンの濃度は、近赤外部の波長領域にある特定波長（例えば、１０４８ｎｍ）における非水系レジスト剥離液の吸光度に対して高度な直線関係を有する。また、図４に示すように、非水系レジスト剥離液のヒドロキシルアミンの濃度も、近赤外部の波長領域にある特定波長（例えば、１０７４ｎｍ）における非水系レジスト剥離液の吸光度に対して高度な直線関係を有する。したがって、非水系レジスト剥離液の吸光度を測定することで、アミン濃度を正確に測定することができる。測定する波長は、アミンがモノエタノールアミンである場合、１０００から１６００ｎｍの波長領域から選択される特定の波長であることが好ましい。他の成分の影響が小さい１０４８ｎｍ付近が、感度が大きく特に良好である。また、ヒドロキシルアミンである場合、１０５０から１０９０ｎｍの波長領域から選択される特定の波長であることが好ましい。他の成分の影響が小さい１０７４ｎｍ付近が、感度が大きく特に良好である。
【０１７１】
本実施形態の調製装置８１０では、アミンに関する測定手段８２１が、例えば、測定波長１０４８ｎｍにおける非水系レジスト剥離液の吸光度を測定する。この波長における吸光度は、アミン濃度（ＭＥＡ濃度）と図３のような直線関係があるので、この直線関係を用いて、吸光度の測定値から正確に非水系レジスト剥離液のアミン濃度（ＭＥＡ濃度）を得ることができる。
【０１７２】
本実施形態における制御手段８０１は、アミンに関する制御手段８２３を備える。本実施形態の調製装置８１０がアミン濃度だけを所定の濃度に調節する場合には、制御手段８０１はアミンに関する制御手段８２３と同じでよい。本実施形態の調製装置８１０がアミン以外の成分についても濃度を調節する場合には、制御手段８０１はアミンに関する制御手段８２３を備えるだけでなく、他の成分に関する制御手段も別途備えている。
【０１７３】
アミンに関する制御手段８２３は、アミンに関する測定手段８２１と信号線８４７により接続されるなどしており、アミンに関する測定手段８２１が得た測定値をアミンに関する測定手段８２１から受信する。アミンに関する制御手段８２３は、調節すべき所定のアミン濃度が濃度制御における目標値のアミン濃度として設定されている。アミンに関する制御手段８２３は、受信したアミン濃度の測定値と目標値のアミン濃度とを比較する。アミンに関する制御手段８２３は、各原料供給配管７４２、７４３に設けられた制御弁７１８、７１９と、信号線７４６により接続されるなどしており、濃度の比較の結果に応じて、制御弁７１８、７１９を適切に動作制御する。
【０１７４】
例えば、測定手段８０２のアミンに関する測定手段８２１により測定されたアミン濃度が目標値のアミン濃度より低い場合は、制御手段８０１のアミンに関する制御手段８２３は制御弁７１８の流量を増やして、あるいは、制御弁７１９の流量を減らして、アミン原液の相対的な供給量を増やす。アミン濃度が目標値のアミン濃度より高い場合は、逆に、アミンに関する制御手段８２３は制御弁７１８の流量を減らして、あるいは、制御弁７１９の流量を増やして、有機溶媒の供給量を相対的に増やし、アミン原液の相対的な供給量を減らして、アミン濃度を制御する。ただし、制御方法は、これに限定されない。ＰＩＤ制御など、各種の制御方法を適宜採用し得る。
【０１７５】
なお、アミンに関する測定手段８２１が測定した物性値から、測定した物性値と相関関係上の目標値のアミン濃度に対応する物性値とを比較することよりアミン濃度を制御してもよい。
【０１７６】
例えば、図３や図４に示すような直線関係が得られる場合のように、物性値とアミン濃度とが一対一に対応した相関関係を有する場合には、この相関関係に基づいて、アミン濃度に対応する物性値を得ることができる。したがって、調節すべき所定のアミン濃度に対応する“所定の物性値”が存在する。アミンに関する測定手段８２１が測定した物性値がこの“所定の物性値”になるように、アミンに関する制御手段８２３が原料の供給量を制御することで、調製槽７０３で調製される非水系レジスト剥離液を所定のアミン濃度にすることができる。
【０１７７】
本実施形態の第８実施形態と共通するその他の構成については、第８実施形態と同じであるので、その説明を省略する。
【０１７８】
なお、図１２では、本実施形態の調製装置８１０が、原料貯留容器８２０と、非水系レジスト剥離液を使用する剥離設備８９０と、に接続された態様を示した。このように、調製装置８１０は、原料貯留容器８２０や、剥離設備８９０と接続して、剥離工程が行われる工場におけるオンサイト運転をすることができる。
【０１７９】
原料貯留容器８２０は、非水系レジスト剥離液の原料を一時的に貯留しておくための容器である。アミン貯留容器８１１ａ、８１１ｂや、有機溶媒貯留容器８１２ａ、８１２ｂなどからなる。アミン貯留容器８１１ａ、８１１ｂや有機溶媒貯留容器８１２ａ、８１２ｂは、それぞれ一つでもよいが、図１２に示すようにそれぞれ二つ備えているとより好ましい。アミン貯留容器８１１ａ、８１１ｂは、アミン原料導入口７５２からアミン原料補充配管８４２を介して、アミンが常時貯留されている。また、有機溶媒貯留容器８１２ａ、８１２ｂは、有機溶媒原料導入口７５３から有機溶媒原料補充配管８４３を介して、有機溶媒が常時貯留されている。原料貯留容器８２０に常に必要な原料を用意しておくことで、調製装置８１０は、途切れることなく原料の供給を受けることができ、連続的に非水系レジスト剥離液を調製することが可能となる。
【０１８０】
アミン貯留容器８１１ａ、８１１ｂおよび有機溶媒貯留容器８１２ａ、８１２ｂは、調製装置８１０とアミン供給配管８４４および有機溶媒供給配管８４５により接続され、原料貯留容器８２０から各種の原料が調製槽７０３へ供給される。供給の方式は、送液ポンプによる方式でも、容器の加圧圧送方式でもよい。必要があれば、図１２に示すように、原料貯留容器８２０と調製槽７０３を接続するアミン供給配管８４４および有機溶媒供給配管８４５に制御弁８１３ａ〜８１６ｂを設けて、調製装置８１０がこれらを制御するようにしてもよい。
【０１８１】
一方、調製装置８１０は、剥離設備８９０とは、調製槽７０３に接続された非水系レジスト剥離液供給配管８０４を介して接続される。非水系レジスト剥離液供給配管８０４には、送液ポンプ８２５および制御弁８２６などが設けられている。
【０１８２】
調製槽７０３で調製された非水系レジスト剥離液は、送液ポンプ８２５により、非水系レジスト剥離液供給配管８０４を通って、非水系レジスト剥離液供給口８５４から剥離設備８９０に供給される。剥離設備８９０は、信号線８９２を介して制御手段８０１と接続されている。制御手段８０１は、剥離設備８９０から発せられる非水系レジスト剥離液供給リクエスト信号を、信号線８９２を介して受信する。制御弁８２６は、信号線８４９を介して制御手段８０１と接続されている。制御手段８０１は、剥離設備８９０側の要求に応じて、制御弁８２６を開閉制御する。これにより、剥離設備８９０は、非水系レジスト剥離液が必要な時に、必要な量だけ、自動的に非水系レジスト剥離液の供給を受けることができる。
【０１８３】
［第１０実施形態］
図１３は、第１０実施形態に係る非水系レジスト剥離液の調製装置を説明するための模式図である。第８、９実施形態の非水系レジスト剥離液の調製装置７１０、８１０とは、調製槽７０３で調製された非水系レジスト剥離液を貯留する貯留槽９０２を備える点が異なっている。
【０１８４】
第１０実施形態の非水系レジスト剥離液の調製装置９１０においても、第８実施形態の非水系レジスト剥離液の調製装置７１０と同様に、調製槽７０３内の非水系レジスト剥離液の物性値または成分濃度の少なくともいずれか一方を測定することで、調製槽７０３内の非水系レジスト剥離液の成分濃度を所定の濃度に調節する。
【０１８５】
調製槽７０３で調製された非水系レジスト剥離液は、調製槽７０３から貯留槽９０２へ送液され、貯留槽９０２に貯留される。送液の方法は、送液ポンプなどにより移送する方式などでよく、特に限定はしない。図１３に示すように、連通管９３５により調製槽７０３と貯留槽９０２とを連結しておくと、送液ポンプなどを要さず自然送液されるため簡便で都合よく、好適である。
【０１８６】
連通管９３５は、非水系レジスト剥離液が流通する管路である。図１３に示すように、調製槽７０３は貯留槽９０２よりも高い位置に設置される。連通管９３５は、例えば図１３のように、調製槽７０３の底部と貯留槽９０２の側部とを接続する。貯留槽９０２から剥離設備８９０に非水系レジスト剥離液が供給されることで、貯留槽９０２内に貯留されている非水系レジスト剥離液が減少すると、調製槽７０３で調製された非水系レジスト剥離液が連通管９３５を通って、貯留槽９０２に自然に移動する。連通管９３５は適度な長さと配管内径とを有し、調製槽７０３で生じる非水系レジスト剥離液の濃度の変動が貯留槽９０２内に及ばないようにする濃度変動の緩衝作用を有する。
【０１８７】
貯留槽９０２も、調製槽７０３と同様、測定手段９３１および液面計９３２とを備えていることが好ましい。測定手段９３１としては、調製槽７０３に備えられているものと同じものを用いることができる。測定手段９３１は、さらに、アミンに関する測定手段を備えていてもよい。これらの装置により、貯留槽９０２に貯留された非水系レジスト剥離液の物性値、または、成分濃度を測定することができる。
【０１８８】
また、測定手段９３１および液面計９３２も、信号線９４７、９４８を介して制御手段９０１と接続される。制御手段９０１は、測定手段９３１が測定する貯留槽９０２内の非水系レジスト剥離液の物性値または成分濃度や液面計９３２が測定する貯留槽９０２内の非水系レジスト剥離液の液面位置に応じて、調製槽７０３の場合と同様に、適宜制御弁７１８、７１９を制御する。貯留槽９０２は、濃度変動が極めて小さいので、実際には、貯留槽９０２内部の非水系レジスト剥離液の濃度の監視と液量管理が行われる。
【０１８９】
貯留槽９０２内の非水系レジスト剥離液は、循環管路９３４に備えられた循環攪拌ポンプ９３３によって循環攪拌される。これにより、貯留槽９０２内の非水系レジスト剥離液は、均一な濃度に維持される。
【０１９０】
［第１１実施形態］
図１４は、第１１実施形態に係る非水系レジスト剥離液の調製装置を説明するための模式図である。第１１実施形態に係る非水系レジスト剥離液の調製装置１０１０は、調製槽を２つ備えている点が第８から第１０までの実施形態の非水系レジスト剥離液の調製装置７１０、８１０、９１０と異なっている。
【０１９１】
調製槽１００３も調製槽７０３と同様に、測定手段１０３１および液面計１０３２を備え、信号線１０４７および信号線１０４８を介して制御手段１００１と接続される。調製槽１００３内の非水系レジスト剥離液の物性値または成分濃度、および、液面位置は制御手段１００１により監視され、信号線１０４６を介して接続された制御弁１０１８、１０１９を制御し、調製槽７０３内の非水系レジスト剥離液の成分濃度を調節する場合と同様の方法で成分濃度や液面位置の調節を行う。調製槽１００３で調製された非水系レジスト剥離液は、連通管１０３５を通って、貯留槽９０２に貯留される。また、調製槽１００３は循環管路１０３４を備え、調製槽１００３内の非水系レジスト剥離液は、循環管路１０３４に備えられた循環攪拌ポンプ１０３３によって循環攪拌される。
【０１９２】
第１１実施形態に係る非水系レジスト剥離液の調製装置１０１０によれば、調製槽を２つ備えているので、例えば、調製槽７０３が故障などにより動かなくなっても、調製槽１００３から貯留槽９０２に非水系レジスト剥離液を調製して供給することで、装置を止めることなく非水系レジスト剥離液の調製と供給を続けることができる。また、調製槽７０３内が空になっていても、調製槽１００３から非水系レジスト剥離液を供給することができる。
【０１９３】
なお、図１４においては、調製槽を２つ備える構成を記載したが、調製槽の数は特に限定されず、３つ以上の複数の槽を備えてもよい。ただし、装置が大型化すること、故障時の予備であることを考慮すると、貯留槽１つに対して調製槽を２つ備えれば十分である。
【０１９４】
［第１２実施形態］
図１５は、第１２実施形態に係る非水系レジスト剥離液の調製装置を説明するための模式図である。第１２実施形態に係る非水系レジスト剥離液の調製装置１１１０は、非水系レジスト剥離液の原料を予め混合する予備混合手段として混合準備槽１１０５を備えている点が第８から第１１までの実施形態の非水系レジスト剥離液の調製装置と異なっている。
【０１９５】
混合準備槽１１０５は、アミン供給配管８４４、および、有機溶媒供給配管８４５に接続されている。また、混合準備槽１１０５は、配管１１０６により調製槽７０３に接続されている。
【０１９６】
混合準備槽１１０５を設け、調製槽７０３に供給される原料を混合準備槽１１０５で混合して調製槽７０３に供給することで、調製槽７０３に非水系レジスト剥離液の組成に近い濃度で供給することができる。したがって、調製槽７０３内の非水系レジスト剥離液の濃度が急に変化することを防止することができるとともに、非水系レジスト剥離液の調製を容易に行うことができる。また、非水系レジスト剥離液の原料が予め混合されるので、調製槽７０３内での混合や攪拌の負担が軽減され、より速やかに均一な濃度の非水系レジスト剥離液を調製することができる。
【０１９７】
混合準備槽１１０５での混合は、制御手段１１０１により、信号線１１４６を介して接続された制御弁１１１８、１１１９を制御することで、アミン原液、および、有機溶媒の流量を制御し、調製槽７０３で調製される非水系レジスト剥離液の濃度とすることが好ましい。非水系レジスト剥離液の最終的な濃度の調節は、調製槽７０３で行うため、混合準備槽１１０５では、精度良く調製しなくてもよい。混合準備槽１１０５で混合されたレジスト剥離液の濃度が、測定手段７０２で測定される物性値が成分濃度と相関関係を有する濃度範囲に入る程度に、各原料の混合がなされればよい。ただし、調製槽７０３と同様に、測定装置により、物性値または成分濃度を測定してもよい。
【０１９８】
本実施形態の調製装置１１１０が備える予備混合手段は、簡易な混合槽としてふるまう混合準備槽１１０５のような態様に限定されない。例えば、原料を供給する原料供給配管７４２、７４３等が調製槽７０３の手前で合流して、合流配管内で原料が混合されるような方式でもよい。その場合、さらに、インラインミキサーやスタティックミキサーなどの配管型混合装置を採用することもできる。循環管路７３４に合流させてもよい。
【０１９９】
また、予備混合手段は、第１１実施形態のように、調製槽を２つ以上備える非水系レジスト剥離液の調製装置においては、調製槽ごとに予備混合手段を設ける構成としてもよい。
【符号の説明】
【０２００】
１、１０１、２０１、３０１、４０１、５０１、６０１、７０１、８０１、９０１、１００１、１１０１…制御手段、２、１０２、２０２、３０２、４３１、５３１、７０２、８０２、９３１、１０３１…測定手段、３、５０３、７０３、１００３…調製槽、４、３０４…水系レジスト剥離液供給配管（供給配管）、１０、１１０、２１０、３１０、４１０、５１０、６１０…水系レジスト剥離液の調製装置、１７、１８、１９、３１３ａ、３１３ｂ、３１４ａ、３１４ｂ、３１５ａ、３１５ｂ、３１６ａ、３１６ｂ、３２６、５１７、５１８、５１９、６１７、６１８、６１９、７１８、７１９、８１３ａ、８１３ｂ、８１４ａ、８１４ｂ、８１５ａ、８１５ｂ、８１６ａ、８１６ｂ、８２６、１０１８、１０１９、１１１８、１１１９…制御弁、３２、４３２、５３２、７３２、９３２、１０３２…液面計、３３、４３３、５３３、７３３、９３３、１０３３…循環攪拌ポンプ、３４、４３４、５３４、７３４、９３４、１０３４…循環管路、３６、７３６…撹拌手段、４１…純水供給配管（原料供給配管）、４２、７４２…アミン原料供給配管（原料供給配管）、４３、７４３…有機溶媒原料供給配管（原料供給配管）、４６、４７、４８、１４７、２４７、３４９、３９２、４４７、４４８、５４６、５４７、５４８、６４６、７４６、７４７、７４８、８４７、８４９、８９２、９４７、９４８、１０４６、１０４７、１０４８、１１４６…信号線、５１…純水導入口（原料導入口）、５２、７５２…アミン原料導入口（原料導入口）、５３、７５３…有機溶媒原料導入口（原料導入口）、５４、３５４…レジスト剥離液供給口、１２１、３２１、８２１…アミンに関する測定手段、１２３、３２３、８２３…アミンに関する制御手段、２２２、３２２…水分に関する測定手段、２２４、３２４…水分に関する制御手段、３１１ａ、３１１ｂ、８１１ａ、８１１ｂ…アミン貯留容器、３１２ａ、３１２ｂ、８１２ａ、８１２ｂ…有機溶媒貯留容器、３２０、８２０…原料貯留容器、３２５、８２５…送液ポンプ、３４２、８４２…アミン原料補充配管、３４３、８４３…有機溶媒原料補給配管、３４４、８４４…アミン供給配管、３４５、８４５…有機溶媒供給配管、４０２、９０２…貯留槽、４３５、５３５、９３５、１０３５…連通管、６０５、１１０５…混合準備槽、６０６、１１０６…配管、７０４、８０４…非水系レジスト剥離液供給配管（供給配管）、７１０、８１０、９１０、１０１０、１１１０…非水系レジスト剥離液の調製装置、７５４、８５４…非水系レジスト剥離液供給口
【図１】
0006681066.tif 000002
【図２】
0006681066.tif 000003
【図３】
0006681066.tif 000004
【図４】
0006681066.tif 000005
【図５】
0006681066.tif 000006
【図６】
0006681066.tif 000007
【図７】
0006681066.tif 000008
【図８】
0006681066.tif 000009
【図９】
0006681066.tif 000010
【図１０】
0006681066.tif 000011
【図１１】
0006681066.tif 000012
【図１２】
0006681066.tif 000013
【図１３】
0006681066.tif 000014
【図１４】
0006681066.tif 000015
【図１５】
0006681066.tif 000016