(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
巻線を装着した被処理品を軸線が水平となる状態で配置し、前記巻線にワニスを滴下しながら前記被処理品を回転してワニスを巻線に含浸するワニスの含浸方法であって、
基準となる含浸開始位置と、前記含浸開始位置よりも正転側に位置する第１の反転位置と、前記含浸開始位置よりも逆転側に位置する第２の反転位置と、を含む３箇所以上で前記被処理品を反転させながら前記被処理品を正逆双方向に回転させる反転位置の位置制御を行うことを特徴とするワニスの含浸方法。
【請求項２】
前記３箇所以上で前記被処理品を反転しながら前記被処理品を正逆双方向に回転した後、新たに前記被処理品を、新たな３箇所以上で反転しながら正逆双方向に回転することを特徴とする請求項１に記載のワニスの含浸方法。
【請求項３】
一方向への前記被処理品の回転が予め定めた時間経過した時に前記被処理品を反転することを特徴とする請求項１または２に記載のワニスの含浸方法。
【請求項４】
前記巻線は、前記被処理品の軸線方向における一方の端面から突出された第１コイルエンドと他方の端面から突出された第２コイルエンドとを有し、
前記第１コイルエンドの上方及び前記第２コイルエンドの上方の双方から前記ワニスが滴下される請求項１〜３のいずれか一項に記載のワニスの含浸方法。
【請求項５】
巻線を装着した被処理品における前記巻線に含浸させるワニスを前記巻線に滴下するノズルと、
前記ノズルからワニスを前記巻線に滴下しながら前記被処理品を回転させるための回転装置と、
前記回転装置を制御して、基準となる含浸開始位置と、前記含浸開始位置よりも正転側に位置する第１の反転位置と、前記含浸開始位置よりも逆転側に位置する第２の反転位置と、を含む３箇所以上で前記被処理品を反転させながら前記被処理品を正逆双方向に回転させる反転位置の位置制御を行うコントローラと、を備え、
前記回転装置には、軸線が水平となる状態で前記被処理品がセットされることを特徴とするワニスの含浸装置。
【請求項６】
前記コントローラは、前記３箇所以上で前記被処理品を反転させながら前記被処理品を正逆双方向に回転させた後、新たに前記被処理品を、新たな３箇所以上で反転させながら正逆双方向に回転させることを特徴とする請求項５に記載のワニスの含浸装置。
【請求項７】
前記コントローラは、一方向への前記被処理品の回転が予め定めた時間経過した時に前記被処理品を反転させるタイマを２つ以上有することを特徴とする請求項５または６に記載のワニスの含浸装置。
【請求項８】
前記巻線は、前記被処理品の軸線方向における一方の端面から突出された第１コイルエンドと他方の端面から突出された第２コイルエンドとを有し、
前記ノズルは、前記第１コイルエンドの上方に配置された第１ノズルと前記第２コイルエンドの上方に配置された第２ノズルとを有し、
前記第１ノズル及び前記第２ノズルの双方からワニスが滴下される請求項５〜７のいずれか一項に記載のワニスの含浸装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ワニスの含浸方法およびワニスの含浸装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、例えばモータのステータにおいてステータコアに巻線を装着した後、この被処理品であるステータの巻線にワニスを含浸させる技術が各種知られている（特許文献１等）。巻線へのワニス含浸には、タンク内のワニスに被処理品であるステータを浸漬するやり方、被処理品であるステータを回転させながら巻線にワニスを滴下するやり方等がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００１−２３１２２５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、タンク内のワニスに被処理品であるステータを浸漬するやり方においては、タンクに入れるワニスを用意する必要があり、歩留まりが悪く、また、ステータコアの表面にワニスが付着してしまうのでステータコアの表面に付着したワニスを除去する必要がある。それを改善すべく必要な量だけワニスを滴下すべく巻線を装着したステータコアを回転させながら巻線にワニスを滴下する場合、ワニスが入り難いためワニス含浸に必要な時間が長くなる。
【０００５】
本発明の目的は、容易に巻線にワニスを含浸することができるワニスの含浸方法およびワニスの含浸装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
請求項１に記載の発明では、巻線を装着した被処理品における前記巻線にワニスを滴下しながら前記被処理品を回転してワニスを巻線に含浸するワニスの含浸方法であって、３箇所以上で前記被処理品を反転しながら前記被処理品を正逆双方向に回転することを要旨とする。
【０００７】
請求項１に記載の発明によれば、巻線を装着した被処理品における巻線にワニスを滴下しながら被処理品を回転してワニスを巻線に含浸する。この際、３箇所以上で被処理品を反転しながら被処理品を正逆双方向に回転することにより、巻線にワニスが十分に含浸され、容易に巻線にワニスを含浸することができる。つまり、被処理品を回転しなければワニスが滴下されるだけであるが被処理品を回転することにより遠心力によりワニスを広がらせることができる。被処理品を反転させながら回転すると反転時に回転速度がゼロとなりワニスが溜まるが（偏析が発生するが）、３箇所以上で被処理品を反転しながら被処理品を正逆双方向に回転することにより、ワニスの溜まりを分散させることができる。よって、巻線にワニスが十分に含浸され、容易に巻線にワニスを含浸することができる。
【０００８】
請求項２に記載のように、請求項１に記載のワニスの含浸方法において、前記３箇所以上で前記被処理品を反転しながら前記被処理品を正逆双方向に回転した後、新たに前記被処理品を、新たな３箇所以上で反転しながら正逆双方向に回転するとよい。
【０００９】
請求項３に記載のように、請求項１または２に記載のワニスの含浸方法において、一方向への前記被処理品の回転が予め定めた時間経過した時に前記被処理品を反転するとよい。
【００１０】
請求項４に記載の発明では、巻線を装着した被処理品における前記巻線に含浸させるワニスを前記巻線に滴下するノズルと、前記ノズルからワニスを前記巻線に滴下しながら前記被処理品を回転させるための回転装置と、前記回転装置を制御して３箇所以上で前記被処理品を反転させながら前記被処理品を正逆双方向に回転させるコントローラと、を備えることを要旨とする。
【００１１】
請求項４に記載の発明によれば、ノズルから、巻線を装着した被処理品における巻線に含浸させるワニスが巻線に滴下され、回転装置を用いて、ノズルからワニスを巻線に滴下しながら被処理品を回転する。この際、コントローラにより、回転装置が制御されて３箇所以上で被処理品が反転されながら被処理品が正逆双方向に回転される。これにより、巻線にワニスが十分に含浸され、容易に巻線にワニスを含浸することができる。つまり、被処理品を回転しなければワニスが滴下されるだけであるが被処理品を回転することにより遠心力によりワニスを広がらせることができる。被処理品を反転させながら回転すると反転時に回転速度がゼロとなりワニスが溜まるが（偏析が発生するが）、３箇所以上で被処理品を反転しながら被処理品を正逆双方向に回転することにより、ワニスの溜まりを分散させることができる。よって、巻線にワニスが十分に含浸され、容易に巻線にワニスを含浸することができる。
【００１２】
請求項５に記載のように、請求項４に記載のワニスの含浸装置において、前記コントローラは、前記３箇所以上で前記被処理品を反転させながら前記被処理品を正逆双方向に回転させた後、新たに前記被処理品を、新たな３箇所以上で反転させながら正逆双方向に回転させるとよい。
【００１３】
請求項６に記載のように、請求項４または５に記載のワニスの含浸装置において、前記コントローラは、一方向への前記被処理品の回転が予め定めた時間経過した時に前記被処理品を反転させるタイマを２つ以上有するとよい。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、容易に巻線にワニスを含浸することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】実施形態におけるワニスの含浸装置の概略構成図。
【図２】（ａ）は図１のＡ矢視図、（ｂ）はステータの一部概略断面図。
【図３】ワニスの含浸装置の作用を説明するための説明図。
【図４】ワニスの含浸装置の作用を説明するためのタイムチャート。
【図５】ワニスの含浸装置の作用を説明するためのステータの一部展開模式図。
【図６】別例のワニスの含浸装置の作用を説明するための説明図。
【図７】別例のワニスの含浸装置の作用を説明するためのタイムチャート。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明を、三相モータのステータにおけるワニス含浸に具体化した一実施形態を図面に従って説明する。
図１に示すごとく、ワニス（絶縁ワニス）の含浸装置１０は、回転装置２０と、コントローラ３０を備える。回転装置２０は、ステータコア４１に巻線（コイル）４２を装着したステータ４０を回転させるためのものである。
【００１７】
被処理品としてのステータ４０は、図２（ａ），（ｂ）に示すように、円筒状のステータコア４１の内面側には、複数のスロット４３が周方向に形成されている。各スロット４３は内周面に開口している。各スロット４３はステータコア４１の軸方向に延びており、ステータコア４１の両端面において開口している。スロット４３に巻線４２が巻回された状態で挿入されている。巻線４２はステータコア４１に分布巻、即ち、スロットをいくつか跨いで巻線４２が巻かれている。図１に示すように、ステータコア４１の軸方向においてステータコア４１の両端面から巻線４２が突出しており、コイルエンド４２ａ，４２ｂを構成している。巻線４２は線材が重ねられて状態で巻かれている。ステータ４０（ステータコア４１）は軸線Ｌ１が水平となる状態でワニスの含浸装置１０にセットされる。
【００１８】
ワニスの含浸装置１０は、図１，２に示すように、ワニス（絶縁ワニス）Ｖｉを滴下させるためのノズル６０，６１，６２，６３を備えている。各ノズル６０〜６３にはチューブを介してタンクが接続され、タンクからチューブを介して液状のワニスがノズル６０〜６３に供給される。ノズル６０，６１，６２，６３は、ワニスＶｉをその自重により滴下させるために、巻線の上側に設けてある。ノズル６０は、ステータコア４１の一方の端面から突出する巻線４２（コイルエンド４２ａ）の外周側の上方に設置され、ノズル６０からステータコア４１の一方の端面から突出する巻線４２（コイルエンド４２ａ）の外周側の上方からワニスＶｉが滴下される。ノズル６１は、ステータコア４１の一方の端面から突出する巻線４２（コイルエンド４２ａ）の内周側の上方に設置され、ノズル６１からステータコア４１の一方の端面から突出する巻線４２（コイルエンド４２ａ）の内周側の上方からワニスＶｉが滴下される。ノズル６２は、ステータコア４１の他方の端面から突出する巻線４２（コイルエンド４２ｂ）の外周側の上方に設置され、ノズル６２からステータコア４１の他方の端面から突出する巻線４２（コイルエンド４２ｂ）の外周側の上方からワニスＶｉが滴下される。ノズル６３は、ステータコア４１の他方の端面から突出する巻線４２（コイルエンド４２ｂ）の内周側の上方に設置され、ノズル６３からステータコア４１の他方の端面から突出する巻線４２（コイルエンド４２ｂ）の内周側の上方からワニスＶｉが滴下される。各ノズル６０〜６３から常時一定のワニスが滴下される。
【００１９】
回転装置２０は、ワークであるステータ４０を回転可能に保持する内径チャック部２１と、水平方向に延びるシャフト２２と、シャフト２２を回転させるモータ２３を備えている。
【００２０】
内径チャック部２１は、ステータコア４１の内方に配置され、ステータコア４１の内面を保持（チャック）する。
内径チャック部２１からシャフト２２が延びている。シャフト２２はステータコア４１の軸線Ｌ１上に配置される。シャフト２２にはモータ２３が連結されている。そして、モータ２３によりシャフト２２が回転され、この回転により、内径チャック部２１に保持されたステータ４０が、ステータ４０の軸線Ｌ１を回転軸として回転する。回転装置２０を用いてステータ４０を正逆双方向に回転することができるようになっている。具体的には、例えばモータ２３をインバータ制御する場合においてインバータを制御することによりステータ４０を正逆双方向に回転することができる。また、ステータ４０は一定の速度で回転される。
【００２１】
このように、ノズル６０〜６３は、巻線４２を装着した被処理品としてのステータ４０における巻線４２に含浸させるワニスＶｉを巻線４２（コイルエンド４２ａ，４２ｂ）に滴下する。また、回転装置２０は、ノズル６０〜６３からワニスＶｉを巻線４２（コイルエンド４２ａ，４２ｂ）に滴下しながらステータ４０を回転させるためのものである。
【００２２】
コントローラ３０は回転装置２０（モータ２３）を制御してステータ４０を回転させる。この際、コントローラ３０は周期的に回転方向を切り替えて含浸しないスロットを無くす。つまり、図３に示すように、ステータ４０の１周３６０°において１２０°毎の所定位置で反転させながら双方向に回転させる。即ち、ステータ４０の全回転範囲内において３箇所（ＰＨ１，Ｐ１１，Ｐ１２等）以上でステータ４０を反転させながらステータ４０を正逆双方向に回転させる。
【００２３】
本実施形態においては、ノズル６０，６１，６２，６３から滴下するワニスＶｉとして、硬化する温度が低いワニスを用いている。つまり、炉などを用いた昇温工程を経ることなしに硬化するワニスが使用される。即ち、重合温度（硬化温度）で滴下・含浸させている。そのためワニスを巻線に早期に含浸させないと、ワニスが巻線に含浸する前に、硬化してしまうことになる。
【００２４】
次に、作用を、図３，４，５を用いて詳しく説明する。
図３は、図１のＡ矢視でのステータ４０の概略図であり、ステータ４０の回転動作を示している。図３は、真上での位置ＰＨ１からステータ４０の回転を開始して位置ＰＨ１→位置Ｐ１１→位置Ｐ１２→位置ＰＨ１→位置Ｐ１１→位置Ｐ１２→位置ＰＨ２→位置Ｐ２１→位置Ｐ２２→位置ＰＨ２→位置Ｐ２１→位置Ｐ２２→位置ＰＨ１に戻る様子を示している。
【００２５】
図４は、横軸に時間をとり、縦軸にステータ４０の回転速度をとっている。縦軸において回転速度が０（ゼロ）に対し上側が正転側、０（ゼロ）に対し下側が逆転側を示している。本実施形態では正転側が図３において時計回りであり、逆転側が図３において反時計回りである。図４では、図３の回転動作を実行する際の回転速度および回転方向を示している。
【００２６】
図５はステータコア４１の端部とコイルエンド４２ａ，４２ｂにおける展開図であり、ワニス滴下位置からのワニスの広がりを示す。
ワニスＶｉの含浸の対象となるステータ４０、即ち、ステータコア４１に巻線４２を装着したステータ４０をワニスＶｉの含浸装置１０にセットする。詳しくは、回転装置２０の内径チャック部２１によりステータコア４１の内径面を保持（チャック）する。また、ノズル６０，６１，６２，６３を所定のワニス滴下位置に配置する。
【００２７】
そして、ノズル６０〜６３からワニスＶｉを巻線４２（コイルエンド４２ａ，４２ｂ）に滴下しながらコントローラ３０は回転装置２０のモータ２３を制御してステータ４０を回転させる。これにより図５に示すようにワニス滴下位置からワニスＶｉを伝播（含浸）させてコイルエンド４２ａ，４２ｂでの含浸およびコイルエンド４２ａ，４２ｂからスロット４３内での含浸を行う。コントローラ３０は次のようにモータ２３を制御する。
【００２８】
コントローラ３０は、３箇所以上でステータ４０を反転させながらステータ４０を正逆双方向に回転させる。このとき、コントローラ３０は、一方向へのステータ４０の回転が予め定めた時間経過した時にステータ４０を反転させるタイマを３つ以上有する。
【００２９】
より詳しく説明する。
図３において時計の文字盤における１２時の位置ＰＨ１が、ステータ４０の基準となる含浸開始位置（ホームポジション）であるとともに反転位置であり、時計の文字盤における４時の位置が第１の反転位置Ｐ１１であり、時計の文字盤における８時の位置が第２の反転位置Ｐ１２である。
【００３０】
そして、図４に示すように、ＰＨ１で示す含浸開始位置（ホームポジション）からステータ４０の回転が開始され、時計回り（正転）でステータ４０を所定時間Ｔ１だけ回転する。所定時間Ｔ１はステータ４０を＋１２０°回転する時間である。
【００３１】
そして、＋１２０°回転した第１の反転位置Ｐ１１で、ステータ４０を反転して反時計回り（逆転）でステータ４０を所定時間Ｔ２だけ回転する。所定時間Ｔ２はステータ４０を−２４０°回転する時間である。
【００３２】
そして、−２４０°回転した第２の反転位置Ｐ１２でステータ４０を反転して時計回り（正転）でステータ４０を所定時間Ｔ３だけ回転する。所定時間Ｔ３はステータ４０を＋１２０°回転する時間である。
【００３３】
そして、＋１２０°回転した反転位置ＰＨ１でステータ４０を反転する。引き続き、反時計回り（逆転）でステータ４０を所定時間Ｔ４だけ回転する。所定時間Ｔ４はステータ４０を−２４０°回転する時間である。
【００３４】
−２４０°回転した第１の反転位置Ｐ１１でステータ４０を反転して時計回り（正転）でステータ４０を所定時間Ｔ５だけ回転する。所定時間Ｔ５はステータ４０を＋１２０°回転する時間である。そして、＋１２０°回転した第２の反転位置Ｐ１２でステータ４０を反転して反時計回り（逆転）でステータ４０を所定時間Ｔ６だけ回転する。所定時間Ｔ６はステータ４０を−１８０°回転する時間である。
【００３５】
ここまでが第１サイクルであり、第１タイマでステータ４０を１２０°回転させ、第２タイマでステータ４０を２４０°回転させ、第３タイマでステータ４０を１８０°回転させる。
【００３６】
第１サイクルにおいて、巻線４２を装着したステータ４０における巻線４２にワニスＶｉを滴下しながらステータ４０を回転してワニスＶｉを巻線４２に含浸する。この際、３箇所以上でステータ４０を反転しながらステータ４０を正逆双方向に回転する。一方向へのステータ４０の回転が予め定めた時間経過した時にステータ４０を反転する。
【００３７】
第１サイクルの後、第２サイクルでステータ４０が回転される。
コントローラ３０は、第１サイクル（モード１）において、３箇所以上でステータ４０を反転させながらステータ４０を正逆双方向に回転させた後、第２サイクル（モード２）において、新たにステータ４０を、新たな３箇所以上で反転させながら正逆双方向に回転させる。
【００３８】
第２サイクルにおいて、図３において時計の文字盤における２時の位置ＰＨ２が、ステータ４０の基準となる新たな含浸開始位置（ホームポジション）であるとともに反転位置であり、時計の文字盤における６時の位置が新たな第１の反転位置Ｐ２１であり、時計の文字盤における１０時の位置が新たな第２の反転位置Ｐ２２である。
【００３９】
そして、図４に示すように、含浸開始位置（ＰＨ２）からステータ４０の回転が開始され、時計回り（正転）でステータ４０を所定時間Ｔ７だけ回転する。所定時間Ｔ７はステータ４０を＋１２０°回転する時間である。そして、＋１２０°回転した第１の反転位置Ｐ２１で、ステータ４０を反転して反時計回り（逆転）でステータ４０を所定時間Ｔ８だけ回転する。所定時間Ｔ８はステータ４０を−２４０°回転する時間である。
【００４０】
そして、−２４０°回転した第２の反転位置Ｐ２２でステータ４０を反転して時計回り（正転）でステータ４０を所定時間Ｔ９だけ回転する。所定時間Ｔ９はステータ４０を＋１２０°回転する時間である。そして、＋１２０°回転した反転位置ＰＨ２でステータ４０を反転する。その後、反時計回り（逆転）でステータ４０を所定時間Ｔ１０だけ回転する。所定時間Ｔ１０はステータ４０を−２４０°回転する時間である。
【００４１】
そして、−２４０°回転した第１の反転位置Ｐ２１でステータ４０を反転して時計回り（正転）でステータ４０を所定時間Ｔ１１だけ回転する。所定時間Ｔ１１はステータ４０を＋１２０°回転する時間である。そして、＋１２０°回転した第２の反転位置Ｐ２２でステータ４０を反転して反時計回り（逆転）でステータ４０を所定時間Ｔ１２だけ回転する。所定時間Ｔ１２はステータ４０を−３００°回転する時間である。
【００４２】
ここまでが第２サイクルであり、第１タイマでステータ４０を１２０°回転させ、第２タイマでステータ４０を２４０°回転させ、第３タイマでステータ４０を３００°回転させる。
【００４３】
このように、第１サイクル（モード１）において３箇所以上でステータ４０を反転しながらステータ４０を正逆双方向に回転した後、第２サイクル（モード２）において新たにステータ４０を、新たな３箇所以上で反転しながら正逆双方向に回転する。
【００４４】
このようにして、図５に示すように、ワニス滴下位置に対し、ステータ４０を、反転する位置が３箇所（ＰＨ１，Ｐ１１，Ｐ１２等）以上ある状態で正逆双方向に回転する。こうすることで、滴下した後のワニスＶｉをコイルエンド４２ａ，４２ｂでの各部位に分散し含浸させることができるとともに、スロット４３内をステータコア４１の軸方向においてワニスＶｉを含浸させることができ、ワニスＶｉの伝播性（含浸性）を改善できる。
【００４５】
硬化する温度が低いワニスＶｉを滴下しつつ巻線へのワニスＶｉの含浸が行われる。そして、巻線４２をワニス（樹脂）Ｖｉで固めることができる。
比較例として、ワニスを滴下しつつワーク（被処理品）を回転させる。このようにして巻線にワニスを含浸した後にワーク（被処理品）を硬化炉に入れる。硬化炉をワーク（被処理品）が通過することによりワニスを硬化（重合）させる。
【００４６】
この場合においては、巻線を装着したステータを回転させながら巻線にワニスを滴下するので、ワニスが入り難いためワニス含浸に必要な時間が長い。そのため、短時間で硬化するのが難しい。特に、巻線の配置、即ち、スタータ（ワーク）の巻線方式によって巻線の状況が異なることによって入り易い難いが生じる。また、ワニス含浸装置は、機構が複雑でコスト高い。
【００４７】
これに対し本実施形態においては、巻線４２にワニスＶｉを十分に含浸させることができる。具体的には、図５に示すように、ステータ４０を正逆双方向に回転することで滴下した後のワニスＶｉの伝播性を改善することができる。また、設備を低減するとともに生産性を向上させることができる。さらに、含浸時間の短縮化が図られることにより低い温度で短時間で硬化するワニスＶｉを使用することができ、硬化のための加熱を行う必要がなく、硬化のための加熱炉が不要になる。
【００４８】
より詳しくは、ワニスＶｉを滴下中にステータ４０を正逆双方向に回転させ、ワニスＶｉの含浸時間を短縮する。具体的には、例えばインバータ等で回転数、回転方向を変えることとし、タイマを用いて反転までの時間を設定して反転する位置が３つ以上に分散されている。よって、設備の低減、生産性の向上、硬化する温度が低いワニスＶｉを用いて含浸するときに硬化させることにより、後工程で乾燥炉に入れることが不要となる。
【００４９】
上記実施形態によれば、以下のような効果を得ることができる。
（１）巻線４２を装着した被処理品としてのステータ４０における巻線４２にワニスＶｉを滴下しながらステータ４０を回転してワニスＶｉを巻線に含浸するワニスの含浸方法として、３箇所（ＰＨ１，Ｐ１１，Ｐ１２）以上でステータ４０を反転しながらステータ４０を正逆双方向に回転する。よって、滴下したワニスが溜まりやすい反転箇所を分散することにより巻線４２にワニスＶｉが十分に含浸され、容易に巻線４２にワニスＶｉを含浸することができる。
【００５０】
つまり、ステータ４０を回転しなければワニスが滴下されるだけであるが、ステータ４０を回転することにより遠心力によりワニスを広がらせることができる。ステータ４０を反転させながら回転すると反転時に回転速度がゼロとなり、ワニスが溜まる（偏析が発生する）。ここで、３箇所以上でステータ４０を反転しながらステータ４０を正逆双方向に回転することにより、ワニスの溜まりを分散させることができる。よって、巻線にワニスが十分に含浸され、容易に巻線にワニスを含浸することができる。
【００５１】
（２）３箇所（ＰＨ１，Ｐ１１，Ｐ１２）以上でステータ４０を反転しながらステータ４０を正逆双方向に回転した後、新たにステータ４０を、新たな３箇所（ＰＨ２，Ｐ２１，Ｐ２２）以上で反転しながら正逆双方向に回転する。よって、より反転箇所を増やしてワニスの溜まりを分散でき、巻線４２にワニスＶｉがより十分に含浸され、容易に巻線４２にワニスＶｉを含浸することができる。
【００５２】
（３）一方向へのステータ４０の回転が予め定めた時間経過した時にステータ４０を反転する。よって、ステータ４０の反転を容易に行うことができる。
（４）滴下されたワニスが巻線に十分に含浸されるため、硬化する温度が低いワニスに対してより効果的である。
【００５３】
（５）ワニスの含浸装置１０の構成として、巻線４２を装着した被処理品としてのステータ４０における巻線４２に含浸させるワニスＶｉを巻線４２に滴下するノズル６０〜６３と、ノズル６０〜６３からワニスＶｉを巻線４２に滴下しながらステータ４０を回転させるための回転装置２０を備える。さらに、ワニスの含浸装置１０は、回転装置２０を制御して３箇所（ＰＨ１，Ｐ１１，Ｐ１２）以上でステータ４０を反転させながらステータ４０を正逆双方向に回転させるコントローラ３０を備える。よって、コントローラ３０により、回転装置２０が制御されて３箇所（ＰＨ１，Ｐ１１，Ｐ１２）以上でステータ４０が反転されながらステータ４０が正逆双方向に回転され、巻線４２にワニスＶｉが十分に含浸され、容易に巻線４２にワニスＶｉを含浸することができる。つまり、ステータ４０を回転しなければワニスが滴下されるだけであるがステータ４０を回転することにより遠心力によりワニスを広がらせることができる。ステータ４０を反転させながら回転すると反転時に回転速度がゼロとなりワニスが溜まる（偏析が発生する）。ここで、３箇所以上でステータ４０を反転しながらステータ４０を正逆双方向に回転することにより、ワニスの溜まりを分散させることができる。よって、巻線にワニスが十分に含浸され、容易に巻線にワニスを含浸することができる。
【００５４】
（６）コントローラ３０は、３箇所（ＰＨ１，Ｐ１１，Ｐ１２）以上でステータ４０を反転させながらステータ４０を正逆双方向に回転させた後、新たにステータ４０を、新たな３箇所（ＰＨ２，Ｐ２１，Ｐ２２）以上で反転させながら正逆双方向に回転させる。よって、より反転箇所を増やしてワニスの溜まりを分散でき、巻線４２にワニスＶｉがより十分に含浸され、容易に巻線４２にワニスＶｉを含浸することができる。
【００５５】
（７）コントローラ３０は、一方向へのステータ４０の回転が予め定めた時間経過した時にステータ４０を反転させるタイマを３つ以上有する。よって、ステータ４０の反転を容易に行うことができる。
【００５６】
実施形態は前記に限定されるものではなく、例えば、次のように具体化してもよい。
・図３，４は一例であって、３箇所以上でステータ４０を反転しながらステータ４０を正逆双方向に回転すればよい。
【００５７】
つまり、図３，４においては、３箇所（ＰＨ１，Ｐ１１，Ｐ１２）でステータ４０を反転しながらステータ４０を正逆双方向に回転した後、新たにステータ４０を、新たな３箇所（ＰＨ２，Ｐ２１，Ｐ２２）で反転しながら正逆双方向に回転した。
【００５８】
これに代わり、例えば、図６，７に示すようにしてもよい。つまり、３箇所（ＰＨ１，Ｐ１１，Ｐ１２）でステータ４０を反転しながらステータ４０を正逆双方向に回転した後、前サイクルと同じ３箇所（ＰＨ１，Ｐ１１，Ｐ１２）でステータ４０を反転しながら正逆双方向に回転してもよい。このとき、第１タイマでステータ４０を１２０°回転させ、第２タイマでステータ４０を２４０°回転させる。このように、コントローラ（３０）は、一方向へのステータ４０の回転が予め定めた時間経過した時にステータ４０を反転させるタイマを２つ以上有する。よって、ステータ４０の反転を容易に行うことができる。
【００５９】
・ステータ４０を一定回転とし、タイマを用いてステータ４０を反転したが、これに限るものではない。例えば、ステータ４０を一定ではない回転としてもよい。
・巻線４２はステータコア４１に分布巻されていたが、巻き方としては、分布巻に限らず、集中巻などのすべてのモータに対して有効な技術である。
【００６０】
・被処理品は、ステータコア４１に巻線４２を装着したステータ４０であったが、アーマチャ（ロータ）でもよい。また、被処理品はモータに限らず、巻線を有するもの、例えば、リアクトルやトランス等でもよい。
【符号の説明】
【００６１】
１０…ワニスの含浸装置、２０…回転装置、３０…コントローラ、４０…ステータ、４２…巻線、ＰＨ１…反転位置、Ｐ１１…反転位置、Ｐ１２…反転位置、ＰＨ２…反転位置、Ｐ２１…反転位置、Ｐ２２…反転位置、Ｖｉ…ワニス。
【図１】
0006690342.tif 000002
【図２】
0006690342.tif 000003
【図３】
0006690342.tif 000004
【図４】
0006690342.tif 000005
【図５】
0006690342.tif 000006
【図６】
0006690342.tif 000007
【図７】
0006690342.tif 000008