(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂フィルムの一方の表面上に、誘電体層及びインジウム錫複合酸化物層がこの順番に配置された透明導電性フィルムにおいて、
前記樹脂フィルムは、ポリエステル系樹脂フィルム、セルロース系樹脂フィルム及びイミド系樹脂フィルムからなる群から選ばれる一種であり、
前記誘電体層は、有機物又は有機物と無機物の混合物で構成され、且つ厚さが０．００５μｍ以上０．１００μｍ以下であり、
インジウム錫複合酸化物層の誘電体層が配置されている側の反対側の表面には、無水トリフルオロ酢酸により化学的に修飾されうる活性水素基が、２．１原子％以上４．０原子％以下存在することを特徴とする透明導電性フィルム。
【請求項２】
前記インジウム錫複合酸化物層の誘電体層が配置されている側と反対側の表面の周縁部に引出電極が配置されている請求項１に記載の透明導電性フィルム。
【請求項３】
前記引出電極は、銀を主成分とする導電性ペーストで構成されている請求項２に記載の透明導電フィルム。
【請求項４】
前記樹脂フィルムにおいて、前記誘電体層が配置される側の表面がコロナ処理されている請求項１〜３のいずれか１項に記載の透明導電性フィルム。
【請求項５】
ポリエステル系樹脂フィルム、セルロース系樹脂フィルム及びイミド系樹脂フィルムからなる群から選ばれる一種の樹脂フィルムの一方の表面上に有機物又は有機物と無機物の混合物で構成され、かつ厚さが０．００５μｍ以上０．１００μｍ以下の誘電体層を積層し、
前記誘電体層の樹脂フィルムが配置された側の反対側の表面上にインジウム錫複合酸化物層を積層して、
樹脂フィルム、誘電体層及びインジウム錫複合酸化物層を含み、インジウム錫複合酸化物層の誘電体層が配置されている側の反対側の表面には、無水トリフルオロ酢酸により化学的に修飾されうる活性水素基が、２．１原子％以上４．０原子％以下存在する透明導電性フィルムを得ることを特徴とする透明導電性フィルムの製造方法。
【請求項６】
前記樹脂フィルムは、前記誘電体層が配置される側の表面がコロナ処理されている請求項５に記載の透明導電性フィルムの製造方法。
【請求項７】
前記インジウム錫複合酸化物層をスパッタリング法で形成する請求項５又は６に記載の透明導電性フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、樹脂フィルムの片面にインジウム錫複合酸化物層が配置された透明導電性フィルム及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
透明基材上にインジウム錫複合酸化物層等の透明導電性薄膜が形成された透明導電性フィルムは、ディスプレイ及びタッチパネル等のデバイスに広く用いられる。これらのデバイスにおいて、透明導電性フィルムは、透明性と導電性の両方を要求される部品に使用される。【０００３】
一方、透明導電性薄膜は、通常、引出電極によって、ＩＣコントローラ等と電気的に接続する。近年、ディスプレイ及びタッチパネル等の狭額縁化により、引出電極と透明導電性薄膜とのコンタクト面積が減少する傾向にあり、透明導電性薄膜と引出電極との密着性を高めることが強く求められている。そこで、特許文献１では、透明導電性薄膜上に結晶化度が低い金属酸化物で構成された密着性改善層を設ける技術が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１３−２２８７８２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、一般的に結晶化度が低い金属酸化物で構成された金属酸化物層は透明性又は導電性が劣るため、特許文献１において、密着性改善層が透明導電性フィルムの導電性又は透明性を悪化させる恐れがある。【０００６】
本発明は、上記の問題点を解決するため、密着性改善層を設けることなく、高い導電性と透明性を有しつつ、引出電極との密着性が向上した透明導電性フィルム及びその製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、樹脂フィルムの一方の表面上に、誘電体層及びインジウム錫複合酸化物層がこの順番に配置された透明導電性フィルムにおいて、樹脂フィルムは、ポリエステル系樹脂フィルム、セルロース系樹脂フィルム及びイミド系樹脂フィルムからなる群から選ばれる一種であり、前記誘電体層は、有機物又は有機物と無機物の混合物で構成され、且つ厚さが０．００５μｍ以上０．１００μｍ以下であり、前記インジウム錫複合酸化物層の誘電体層が配置されている側の反対側の表面には、無水トリフルオロ酢酸により化学的に修飾されうる活性水素基が、２．１原子％以上４．０原子％以下存在することを特徴とする透明導電性フィルムに関する。【０００８】
本発明は、また、ポリエステル系樹脂フィルム、セルロース系樹脂フィルム及びイミド系樹脂フィルムからなる群から選ばれる一種の樹脂フィルムの一方の表面上に有機物又は有機物と無機物の混合物で構成され、且つ厚さが０．００５μｍ以上０．１００μｍ以下の誘電体層を積層し、前記誘電体層の樹脂フィルムが配置された側の反対側の表面上にインジウム錫複合酸化物層を積層して、樹脂フィルム、誘電体層及びインジウム錫複合酸化物層を含み、インジウム錫複合酸化物層の誘電体層が配置されている側の反対側の表面には、無水トリフルオロ酢酸により化学的に修飾されうる活性水素基が、２．１原子％以上４．０原子％以下存在する透明導電性フィルムを得ることを特徴とする透明導電性フィルムの製造方法に関する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明は、高い導電性と透明性を有し、引出電極との密着性が向上した透明導電性フィルムを提供する。また、本発明の製造方法によれば、高い導電性と透明性を有し、引出電極との密着性が向上した透明導電性フィルムを簡便に作製することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】図１は、本発明の一実施形態にかかる透明導電性フィルムの模式的断面図である。
【図２】図２は、本発明の他の一実施形態にかかる透明導電性フィルムの模式的断面図である。
【図３】図３は、インジウム錫複合酸化物層の表面に存在する無水トリフルオロ酢酸により化学的に修飾されうる活性水素基の量と、透明導電性フィルムと引出電極との剥離割合の関係を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明者らは、透明導電性フィルムの導電性及び透明性を高く保ちつつ、引出電極との密着性を向上させることにおいて、鋭意検討した。その結果、透明基材としてポリエステル系樹脂フィルム、セルロース系樹脂フィルム及びイミド系樹脂フィルムからなる群から選ばれる一種の樹脂フィルムを用い、透明導電性膜としてインジウム錫複合酸化物層を用い、樹脂フィルムとインジウム錫複合酸化物層の間に、厚さが０．００５μｍ〜０．１００μｍの有機物又は有機物と無機物の混合物で構成された誘電体層を配置して、インジウム錫複合酸化物層の表面に、無水トリフルオロ酢酸により化学的に修飾されうる活性水素基を、２．１原子％（ａｔｏｍｉｃ％）以上４．０原子％以下存在させることで、高い導電性及び透明性を有し、引出電極との密着性が向上した透明導電性フィルムが得られることを見出し、本発明に至った。
【００１２】
また、本発明の透明導電性フィルムは、引出電極との密着性が高いため、金属引出電極を使用するタッチパネルにおいて、透明導電性フィルムで構成されたタッチセンサーの信号を引出電極により確実に取得できるようになり、タッチセンサーの信頼性が向上する。特に、引出電極との密着性が高いため、加熱加湿試験後にも、透明導電性フィルムで構成されたタッチセンサーの機能が良好に保たれ、タッチセンサーの耐久性が向上する。
【００１３】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しつつ説明する。図１は、本発明の一実施形態にかかる透明導電性フィルムの模式的断面図である。図１に示されているように、透明導電性フィルム１０は、樹脂フィルム１と、樹脂フィルム１の一方の表面上に配置された誘電体層２と、誘電体層２の樹脂フィルム１が配置されている側の反対側の表面上に配置されたインジウム錫複合酸化物層３を有する。なお、本明細書において、インジウム錫複合酸化物はＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）と同義である。
【００１４】
（樹脂フィルム１）
樹脂フィルム１は、ポリエステル系樹脂フィルム、セルロース系樹脂フィルム及びイミド系樹脂フィルムからなる群から選ばれる一種である。ポリエステル系樹脂、セルロース系樹脂及びイミド系樹脂は、分子骨格中に、極性基を有することで、適度な含水率（水分率とも称される。）を示す。そのため、透明導電性フィルム１０において、これらの分子骨格中に極性基を有する樹脂で形成された樹脂フィルム１に含まれる水分が、インジウム錫複合酸化物層が製膜される際に、インジウム錫複合酸化物層３の表面に移動し、インジウム錫複合酸化物層３の表面に無水トリフルオロ酢酸により化学的に修飾されうる活性水素基が、２．１原子％〜４．０原子％存在することになり、透明導電性フィルムと引き出し電極との密着性が向上すると推測される。
【００１５】
上記ポリエステル系樹脂としては、特に限定されないが、ジカルボン酸成分とジオール成分の共重合体を用いることができる。このようなポリエステル系樹脂は、例えば、原料材料としてジカルボン酸成分とジオール成分とを用い、これらの成分をエステル化反応、重縮合反応させることにより得ることができる。
【００１６】
上記ジカルボン酸成分としては、特に限定されないが、例えば、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、スベリン酸、セバシン酸、ドデカンジオン酸、ダイマー酸、エイコサンジオン酸、ピメリン酸、アゼライン酸、メチルマロン酸、エチルマロン酸等の脂肪族ジカルボン酸類；アダマンタンジカルボン酸、ノルボルネンジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、デカリンジカルボン酸等の脂環族ジカルボン酸類；テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、１，８−ナフタレンジカルボン酸、４，４’−ジフェニルジカルボン酸、４，４’−ジフェニルエーテルジカルボン酸、５−ナトリウムスルホイソフタル酸、フェニルインダンジカルボン酸、アントラセンジカルボン酸、フェナントレンジカルボン酸、９，９’−ビス（４−カルボキシフェニル）フルオレン酸等の芳香族ジカルボン酸等のジカルボン酸、又は、そのエステル誘導体が挙げられる。これらのジカルボン酸成分は、1種で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００１７】
上記ジカルボン酸成分としては、芳香族ジカルボン酸の少なくとも１種が用いられる場合が好ましい。より好ましくは、ジカルボン酸成分のうち、芳香族ジカルボン酸を主成分として含有する。なお、「主成分」とは、ジカルボン酸成分に占める芳香族ジカルボン酸の割合が８０質量％以上であることをいう。
【００１８】
上記ジオール成分としては、特に限定されないが、例えば、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール等の脂肪族ジオール類；シクロヘキサンジメタノール、スピログリコール、イソソルビド等の脂環式ジオール類；ビスフェノールＡ、１，３―ベンゼンジメタノール，１，４−ベンセンジメタノール、９，９’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン等の芳香族ジオール類等が挙げられる。上記ジオール成分は、1種で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００１９】
上記ジオール成分としては、脂肪族ジオールの少なくとも１種が用いられる場合が好ましい。脂肪族ジオールとして、エチレングリコールを含むことができ、好ましくはエチレングリコールを主成分として含有する。なお、「主成分」とは、ジオール成分に占めるエチレングリコールの割合が８０質量％以上であることをいう。
【００２０】
上記のように、ジカルボン酸成分及びジオール成分を用いて得られるポリエステル樹脂としては、特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレン−２，６−ナフタレート（ＰＥＮ）及びポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）からなる群から選ばれる一種以上が好ましく、コストの観点からＰＥＴであることがより好ましい。
【００２１】
上記セルロース系樹脂としては、特に限定されないが、例えば、セルロース及び/又はその誘導体であるセルロースエステルが好ましい。セルロースエステルはセルロースと脂肪酸（芳香族脂肪酸を含む）とのエステルが好ましく、セルロースを構成するβ−１，４結合しているグルコース単位の２位、３位、６位にある水酸基を上記脂肪酸のアシル基で置換してアシル化されたセルロースアシレートが好ましい。例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステル、芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステル等が挙げられる。これらのセルロースアシレートは２種類以上の脂肪酸のアシル基が置換したものであっても好ましい。さらに、別の置換基を有していてもよい。
【００２２】
上記水酸基を置換するアシル基としては、炭素数２のアセチル基および炭素数３〜２２のアシル基を好ましく用いることができる。アシル基は求められる光学特性、熱特性、機械特性、樹脂の表面自由エネルギー、相溶性等に応じて適宜適宜決めてもよい。
【００２３】
本発明で用いられるセルロースエステルにおけるアシル基の置換度は特に限定されない。置換度は求められる光学特性、熱特性、機械特性、樹脂の表面自由エネルギー、相溶性等に応じて適宜決めてもよい。
【００２４】
上記アシル基は脂肪族でも芳香族でもよく、特に限定されない。例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ヘプタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基、ｉｓｏ−ブタノイル基、ｔ−ブタノイル基、シクロヘキサンカルボニル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基等を挙げることができる。これらの中でもアセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基等が好ましい。
【００２５】
上記アシル基で置換されたセルロースエステルとしては、例えば、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートナフタレート、セルロースベンゾエート等が挙げられる。
【００２６】
上記イミド系樹脂としては、特に限定されないが、イミド化された、ジアミン成分とカルボン酸二無水物成分の共重合体を用いることができる。原料材料としてジアミン成分とカルボン酸二無水物成分とを用い、これらの成分を重合、イミド化させることにより得られる樹脂を用いることができる。
【００２７】
上記ジアミン成分は、特に限定されないが、例えばｐ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、ｏ−フェニレンジアミン、３，３'−ジアミノジフェニルエーテル、３，４'−ジアミノジフェニルエーテル、４，４'−ジアミノジフェニルエーテル、３，３'−ジアミノジフェニルスルフィド、３，４'−ジアミノジフェニルスルフィド、４，４'−ジアミノジフェニルスルフィド、３，３'−ジアミノジフェニルスルホン、３，４'−ジアミノジフェニルスルホン、４，４'−ジアミノジフェニルスルホン、３，３'−ジアミノベンゾフェノン、４，４'−ジアミノベンゾフェノン、３，４'−ジアミノベンゾフェノン、３，３'−ジアミノジフェニルメタン、４，４'−ジアミノジフェニルメタン、３，４'−ジアミノジフェニルメタン、２，２−ジ（３−アミノフェニル）プロパン、２，２−ジ（４−アミノフェニル）プロパン、２−（３−アミノフェニル）−２−（４−アミノフェニル）プロパン、１，１−ジ（３−アミノフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−ジ（４−アミノフェニル）−１−フェニルエタン、１−（３−アミノフェニル）−１−（４−アミノフェニル）−１−フェニルエタン、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，４−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（３−アミノベンゾイル）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノベンゾイル）ベンゼン、１，４−ビス（３−アミノベンゾイル）ベンゼン、１，４−ビス（４−アミノベンゾイル）ベンゼン、１，３−ビス（３−アミノ−α，α−ジメチルベンジル）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノ−α，α−ジメチルベンジル）ベンゼン、１，４−ビス（３−アミノ−α，α−ジメチルベンジル）ベンゼン、１，４−ビス（４−アミノ−α，α−ジメチルベンジル）ベンゼン、２，６−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゾニトリル、２，６−ビス（３−アミノフェノキシ）ピリジン、４，４'−ビス（３−アミノフェノキシ）ビフェニル、４，４'−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル、ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］ケトン、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ケトン、ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］スルフィド、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルフィド、ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］エーテル、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］エーテル、２，２−ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、１，３−ビス［４−（３−アミノフェノキシ）ベンゾイル］ベンゼン、１，３−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）ベンゾイル］ベンゼン、１，４−ビス［４−（３−アミノフェノキシ）ベンゾイル］ベンゼン、１，４−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）ベンゾイル］ベンゼン、１，３−ビス［４−（３−アミノフェノキシ）−α，α−ジメチルベンジル］ベンゼン、１，３−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）−α，α−ジメチルベンジル］ベンゼン、１，４−ビス［４−（３−アミノフェノキシ）−α，α−ジメチルベンジル］ベンゼン、１，４−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）−α，α−ジメチルベンジル］ベンゼン、４，４'−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）ベンゾイル］ジフェニルエーテル、４，４'−ビス［４−（４−アミノ−α，α−ジメチルベンジル）フェノキシ］ベンゾフェノン、４，４'−ビス［４−（４−アミノ−α，α−ジメチルベンジル）フェノキシ］ジフェニルスルホン、４，４'−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェノキシ］ジフェニルスルホン、３，３'−ジアミノ−４，４'−ジフェノキシベンゾフェノン、３，３'−ジアミノ−４，４'−ジビフェノキシベンゾフェノン、３，３'−ジアミノ−４−フェノキシベンゾフェノン、３，３'−ジアミノ−４−ビフェノキシベンゾフェノン、６，６'−ビス（３−アミノフェノキシ）−３，３，３'，３'−テトラメチル−１，１'−スピロビインダン、６，６'−ビス（４−アミノフェノキシ）−３，３，３'，３'−テトラメチル−１，１'−スピロビインダン、１，３−ビス（３−アミノプロピル）テトラメチルジシロキサン、１，３−ビス（４−アミノブチル）テトラメチルジシロキサン、α，ω−ビス（３−アミノプロピル）ポリジメチルシロキサン、α，ω−ビス（３−アミノブチル）ポリジメチルシロキサン、ビス（アミノメチル）エーテル、ビス（２−アミノエチル）エーテル、ビス（３−アミノプロピル）エーテル、ビス（２−アミノメトキシ）エチル］エーテル、ビス［２−（２−アミノエトキシ）エチル］エーテル、ビス［２−（３−アミノプロトキシ）エチル］エーテル、１，２−ビス（アミノメトキシ）エタン、１，２−ビス（２−アミノエトキシ）エタン、１，２−ビス［２−（アミノメトキシ）エトキシ］エタン、１，２−ビス［２−（２−アミノエトキシ）エトキシ］エタン、エチレングリコールビス（３−アミノプロピル）エーテル、ジエチレングリコールビス（３−アミノプロピル）エーテル、トリエチレングリコールビス（３−アミノプロピル）エーテル、エチレンジアミン、１，３−ジアミノプロパン、１，４−ジアミノブタン、１，５−ジアミノペンタン、１，６−ジアミノヘキサン、１，７−ジアミノヘプタン、１，８−ジアミノオクタン、１，９−ジアミノノナン、１，１０−ジアミノデカン、１，１１−ジアミノウンデカン、１，１２−ジアミノドデカン、１，２−ジアミノシクロヘキサン、１，３−ジアミノシクロヘキサン、１，４−ジアミノシクロヘキサン、ｔｒａｎｓ−１，４−ジアミノシクロヘキサン、１，２−ジ（２−アミノエチル）シクロヘキサン、１，３−ジ（２−アミノエチル）シクロヘキサン、１，４−ジ（２−アミノエチル）シクロヘキサン、ビス（４−アミノシクロへキシル）メタン、２，６−ビス（アミノメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、２，５−ビス（アミノメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、１，４−ジアミノ−２−フルオロベンゼン、１，４−ジアミノ−２，３−ジフルオロベンゼン、１，４−ジアミノ−２，５−ジフルオロベンゼン、１、４−ジアミノ−２，６−ジフルオロベンゼン、１，４−ジアミノ−２，３，５−トリフルオロベンゼン、１、４−ジアミノ−２，３，���，６−テトラフルオロベンゼン、１，４−ジアミノ−２−（トリフルオロメチル）ヘンゼン、１，４−ジアミノ−２，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、１，４−ジアミノ−２，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、１、４−ジアミノ−２，６−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、１，４−ジアミノ−２，３，５−トリス（トリフルオロメチル）ベンゼン、１、４−ジアミノ−２，３，５，６−テトラキス（トリフルオロメチル）ベンゼン、２−フルオロベンジジン、３−フルオロベンジジン、２，３−ジフルオロベンジジン、２，５−ジフルオロベンジジン、２、６−ジフルオロベンジジン、２，３，５−トリフルオロベンジジン、２，３，６−トリフルオロベンジジン、２，３，５，６−テトラフルオロベンジジン、２，２’−ジフルオロベンジジン、３，３’−ジフルオロベンジジン、２，３’−ジフルオロベンジジン、２，２’，３−トリフルオロベンジジン、２，３，３’−トリフルオロベンジジン、２，２’，５−トリフルオロベンジジン、２，２’，６−トリフルオロベンジジン、２，３’，５−トリフルオロベンジジン、２，３’，６，−トリフルオロベンジジン、２，２’，３，３’−テトラフルオロベンジジン、２，２’，５，５’−テトラフルオロベンジジン、２，２’，６，６’−テトラフルオロベンジジン、２，２’，３，３’，６，６’−ヘキサフルオロベンジジン、２，２’，３，３’，５，５’、６，６’−オクタフルオロベンジジン、２−（トリフルオロメチル）ベンジジン、３−（トリフルオロメチル）ベンジジン、２，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンジジン、２，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンジジン、２、６−ビス（トリフルオロメチル）ベンジジン、２，３，５−トリス（トリフルオロメチル）ベンジジン、２，３，６−トリス（トリフルオロメチル）ベンジジン、２，３，５，６−テトラキス（トリフルオロメチル）ベンジジン、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）ベンジジン、３，３’−ビス（トリフルオロメチル）ベンジジン、２，３’−ビス（トリフルオロメチル）ベンジジン、２，２’，３−トリス（トリフルオロメチル）ベンジジン、２，３，３’−トリス（トリフルオロメチル）ベンジジン、２，２’，５−トリス（トリフルオロメチル）ベンジジン、２，２’，６−トリス（トリフルオロメチル）ベンジジン、２，３’，５−トリス（トリフルオロメチル）ベンジジン、２，３’，６，−トリス（トリフルオロメチル）ベンジジン、２，２’，３，３’−テトラキス（トリフルオロメチル）ベンジジン、２，２’，５，５’−テトラキス（トリフルオロメチル）ベンジジン、２，２’，６，６’−テトラキス（トリフルオロメチル）ベンジジン等が挙げられる。上記ジアミン成分は、1種で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００２８】
上記カルボン酸二無水物成分は、特に限定されないが、例えば、エチレンテトラカルボン酸二無水物、ブタンテトラカルボン酸二無水物、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、３，３'，４，４'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２'，３，３'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３'，４，４'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物、２，２−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホン二無水物、１，１−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン二無水物、２，２−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン二無水物、１，３−ビス［（３，４−ジカルボキシ）ベンゾイル］ベンゼン二無水物、１，４−ビス［（３，４−ジカルボキシ）ベンゾイル］ベンゼン二無水物、２，２−ビス｛４−［４−（１，２−ジカルボキシ）フェノキシ］フェニル｝プロパン二無水物、２，２−ビス｛４−［３−（１，２−ジカルボキシ）フェノキシ］フェニル｝プロパン二無水物、ビス｛４−［４−（１，２−ジカルボキシ）フェノキシ］フェニル｝ケトン二無水物、ビス｛４−［３−（１，２−ジカルボキシ）フェノキシ］フェニル｝ケトン二無水物、４，４'−ビス［４−（１，２−ジカルボキシ）フェノキシ］ビフェニル二無水物、４，４'−ビス［３−（１，２−ジカルボキシ）フェノキシ］ビフェニル二無水物、ビス｛４−［４−（１，２−ジカルボキシ）フェノキシ］フェニル｝ケトン二無水物、ビス｛４−［３−（１，２−ジカルボキシ）フェノキシ］フェニル｝ケトン二無水物、ビス｛４−［４−（１，２−ジカルボキシ）フェノキシ］フェニル｝スルホン二無水物、ビス｛４−［３−（１，２−ジカルボキシ）フェノキシ］フェニル｝スルホン二無水物、ビス｛４−［４−（１，２−ジカルボキシ）フェノキシ］フェニル｝スルフィド二無水物、ビス｛４−［３−（１，２−ジカルボキシ）フェノキシ］フェニル｝スルフィド二無水物、２，２−ビス｛４−［４−（１，２−ジカルボキシ）フェノキシ］フェニル｝−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン二無水物、２，２−ビス｛４−［３−（１，２−ジカルボキシ）フェノキシ］フェニル｝−１，１，１，３，３，３−プロパン二無水物、２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、１，２，５，６−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−ベンゼンテトラカルボン酸二無水物、３，４，９，１０−ペリレンテトラカルボン酸二無水物、２，３，６，７−アントラセンテトラカルボン酸二無水物、１，２，７，８−フェナントレンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。上記カルボン酸二無水物成分は、1種で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００２９】
樹脂フィルム１、すなわち、ポリエステル系樹脂フィルム、セルロース系樹脂フィルム及びイミド系樹脂フィルムからなる群から選ばれる一種の樹脂フィルムは、少なくとも可視光領域で無色透明であることが好ましい。樹脂フィルム１としては、特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）が好適に用いられる。
【００３０】
ＰＥＴフィルムは、特に限定されず、例えば、無延伸フィルム、一軸延伸フィルム、二軸延伸フィルム、斜め延伸フィルム等が挙げられる。機械的特性や耐熱性に優れる観点から、本発明においては、二軸延伸により分子を配向させた二軸延伸フィルムであることが好ましい。
【００３１】
樹脂フィルム１、例えばＰＥＴフィルム等の厚さは、１５μｍ〜２５０μｍが好ましく、２０μｍ〜１９０μｍがより好ましく、４５μｍ〜１３０μｍがさらに好ましく、４５μｍ〜５５μｍが特に好ましい。厚さが上記範囲内であれば、ＰＥＴフィルム等の樹脂フィルム１が耐久性と適度な柔軟性とを有するため、その上に誘電体層２やインジウム錫複合酸化物層３をロール・トゥー・ロール方式により生産性高く製膜することが可能となる。
【００３２】
樹脂フィルム１、例えばＰＥＴフィルム等は、特に限定されないが、透明導電性フィルムと引出電極の密着性を向上させる観点から、誘電体層２を配置する表面にコロナ処理やプラズマ処理等の表面処理が施されていることが好ましい。
【００３３】
樹脂フィルム１に適度な耐久性を持たせる観点から、樹脂フィルム１、例えばＰＥＴフィルム等は、誘電体層２やインジウム錫複合酸化物層３が配置されている側の反対側の表面にハードコート層（図示なし）が形成されたものが好適に用いられる。ハードコート層を有すると耐傷付性が向上し、タッチパネル加工時のハンドリング性が向上する。
【００３４】
ハードコート層は、例えば、熱硬化型樹脂組成物又は紫外線硬化型樹脂組成物を硬化させることで形成できる。ラジカル重合系の紫外線硬化型樹脂組成物を用いることが生産性の観点から好ましい。紫外線硬化型樹脂組成物は、通常、不飽和モノマー、オリゴマー、及び/又は樹脂と、光重合開始剤等を含む。好ましくは、多官能の紫外線硬化型のアクリル系化合物と、光重合開始剤とを含む紫外線硬化型樹脂組成物を用いることができる。多官能の紫外線硬化型のアクリル系化合物としては、例えば、２つ以上の官能基を有する多官能アクリレート、多官能ウレタンアクリレート、多官能ポリエステルアクリレート等が挙げられる。光重合開始剤としては、公知のものを用いることができる。
【００３５】
ハードコート層の厚さは、表面硬度と柔軟性の観点から、０．５μｍ〜５．０μｍが好ましく、０．６μｍ〜２．０μｍがより好ましい。
【００３６】
ハードコート層の形成法は特に限定されないが、ウェット法（塗工法）を用いて形成することができる。
【００３７】
（誘電体層２）
透明導電性フィルムでは、インジウム錫複合酸化物層（透明導電層又は透明導電膜とも称される。）のパターン形成後の非視認性を向上させる観点から、樹脂フィルム等の透明基材とインジウム錫複合酸化物層との間に光学調整機能を有する誘電体層を設ける場合がある。これに対し、本発明において、誘電体層２は、光学調整機能を有し、光学調整機能によりインジウム錫複合酸化物層のパターン形成後の非視認性を向上させるのに加えて、後述のとおり、インジウム錫複合酸化物層３の表面に存在する活性水素基の量を調整する機能を有すると思われる。本明細書において、「活性水素基」とは、特に指摘が無い場合、無水トリフルオロ酢酸により化学的に修飾されうる活性水素基を意味する。
【００３８】
樹脂フィルム１、例えばポリエステル系樹脂フィルムの一方の表面に、厚さが０．００５μｍ〜０．１００μｍであり、有機物又は有機物と無機物の混合物で構成された誘電体層２を配置し、誘電体層２の樹脂フィルム１が配置されている側の反対側の表面にインジウム錫複合酸化物層３を配置することにより、スパッタリング法等で誘電体層２の表面にインジウム錫複合酸化物層３を形成する際、ポリエステル系樹脂フィルム等の樹脂フィルム１からの水分がインジウム錫複合酸化物層３の表面に移動し、それゆえ、インジウム錫複合酸化物層３の表面に無水トリフルオロ酢酸により化学的に修飾されうる活性水素基が、２．１原子％〜４．０原子％存在することになると推測される。
【００３９】
透明導電性フィルム１０をタッチセンサーとして機能させる際にはインジウム錫複合酸化物層３にパターン形成する必要がある。インジウム錫複合酸化物層３にパターンが形成された透明導電性フィルム１０において、インジウム錫複合酸化物層３の存在する部分と存在しない部分の透過率、反射率及び色差が異なるため、電極パターンが視認されやすくなる問題があるが、光学調整機能を有する誘電体層２を有することにより、インジウム錫複合酸化物層３の存在する部分と存在しない部分の光学的な透過率差、反射率差及び色差を縮小させることでパターンが視認されにくくなる。
【００４０】
誘電体層２は、有機物、又は、有機物と無機物の混合物で構成される。誘電体層２に有機物を含ませることにより、インジウム錫複合酸化物層３の誘電体層２が配置されている側と反対側の表面に存在する活性水素基を所定の範囲に調整しやすくなる。有機物としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、シロキサン系ポリマー、有機シラン縮合物等が挙げられる。無機物としては、酸化ケイ素（シリカとも称される。）、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン等が、屈折率制御の容易性の観点から好ましく用いられる。この中でも、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム及び酸化チタンからなる群から選ばれる一種以上の無機物粒子とアクリル系樹脂の混合物、又は、シロキサン系ポリマーが好適に用いられる。無機物粒子は、粒子径が小さくなると分散性が低下することにより光線透過率が下がりやすくなる一方で、粒子径が大きくなると屈折率調整機能が低下しやすくなったり光線透過率が低下しやすくなったりする可能性があることから、平均粒子径が５ｎｍ〜１００ｎｍであることが好ましく、より好ましくは１０〜２０ｎｍである。アクリル系樹脂としては、例えば、多官能ウレタンアクリレートと光重合開始剤を含む樹脂組成物を硬化させたもの等が挙げられる。また、シロキサン系ポリマーとしては、アルコキシシラン加水分解物と有機シリカゾル粒子を縮合させたアルコキシシラン加水分解縮合物等が好適に用いられる。また、誘電体層２に、有機物に加えて無機物粒子を含ませることにより、インジウム錫複合酸化物層３の表面の活性水素基を所定の範囲に調整しやすくなる上、透明導電性フィルムの表面粗さを適切な範囲に調整して耐久性を向上させることもできる。本発明において、無機物粒子の平均粒子径は、透過型電子顕微鏡で得られる断面像における粒子直径を加重平均した値を意味する。
【００４１】
誘電体層２は、１層でもよく、２層以上の複数層でもよい。生産性の観点からは、１層が好ましい。透過率、反射率及び色差のバランスの観点からは、２層以上が好ましい。２層以上の複数層構造の場合は、透過率、反射率及び色差のバランスの観点から、樹脂フィルム１に近い側の誘電体層２の屈折率を高くし、樹脂フィルム１に遠い側の誘電体層２の屈折率を低くすることが好ましい。光学調整機能が良好という観点から、誘電体層２は、屈折率が１．３０〜１．８０であることが好ましく、１．４０〜１．６０であることがより好ましく、１．５０〜１．６０であることがさらに好ましい。
【００４２】
誘電体層２は、厚さが０．００５μｍ〜０．１００μｍの範囲であることで、インジウム錫複合酸化物層３の表面に存在する活性水素基の量を所定の範囲に調整しやすい。本発明において、誘電体層２が２層以上の複数層構造である場合は、全ての層の合計厚さを誘電体層２の厚さとする。また、誘電体層２の厚さが上述した範囲であると、光学調整機能及び引出電極との密着性も良好になる。誘電体層２の厚さが０．１００μｍを超えると、膜応力により、インジウム錫複合酸化物層３と引出電極の密着性が低下し、誘電体層２の厚さが０．００５μｍ未満であると、光学調整機能が低下する。インジウム錫複合酸化物層と引出電極の密着性及び光学調整機能のバランスから、誘電体層２の厚さは０．０１５μｍ〜０．０４０μｍであることが好ましく、０．０２０μｍ〜０．０３５μｍであることがより好ましく、０．０２５μｍ〜０．０３０μｍであることがさらに好ましい。
【００４３】
誘電体層２は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のドライプロセス又はウェット法（塗工法）により形成できる。この中でも生産性の観点からウェット法が好ましい。
【００４４】
（インジウム錫複合酸化物層３）
インジウム錫複合酸化物層３は、インジウム−スズ複合酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）で構成される金属酸化物薄膜である。インジウム錫複合酸化物層３は、透明性と低抵抗とを両立する観点から、酸化インジウムと酸化スズの全体重量を１００重量％とした場合、酸化インジウムを８８重量％〜９８重量％含有し、酸化錫を２重量％〜１２重量％含有することが好ましく、酸化インジウムを９０重量％〜９７重量％含有し、酸化錫を３重量％〜１０重量％含有することがより好ましく、酸化インジウムを９２重量％〜９５重量％含有し、酸化錫を５重量％〜８重量％含有することがさらに好ましい。酸化錫の含有量が上記範囲内であると透過率や色差等の光学特性と抵抗値等の電気特性が両立しやすい。
【００４５】
インジウム錫複合酸化物層３は、１４０℃で９０分加熱された際に、表面抵抗が１５０Ω／□以下であることが好ましく、１４０Ω／□以下であることがより好ましい。加熱後のインジウム錫複合酸化物層が低抵抗であれば、静電容量方式タッチパネルの応答速度向上や、各種光学デバイスの省消費電力化等に寄与し得る。なお、インジウム錫複合酸化物層３は、１４０℃で９０分加熱されることにより、結晶化されることになる。
【００４６】
インジウム錫複合酸化物層３において、誘電体層２が配置されている側と反対側の表面には、無水トリフルオロ酢酸により化学的に修飾されうる活性水素基が２．１原子％〜４．０原子％存在する。活性水素基が２．１原子％以上存在すると、活性水素基と引出電極材料との相互作用が強まり、インジウム錫複合酸化物層３と引出電極の密着性、すなわち透明導電性フィルム１０と引出電極の密着性が向上する。一方、活性水素基が４．０原子％より多く存在すると、インジウム錫複合酸化物層３の導電性や光学特性が悪化する場合がある。インジウム錫複合酸化物層３と引出電極の密着性及びインジウム錫複合酸化物層３の導電性や光学特性のバランスの観点から、無水トリフルオロ酢酸により化学的に修飾されうる活性水素基の存在量は、２．５原子％〜３．５原子％が好ましく、２．６原子％〜３．０原子％がより好ましい。
【００４７】
本発明において、無水トリフルオロ酢酸により化学的に修飾されうる活性水素基は次の方法により定量される。透明導電性フィルムを１４０℃で９０分加熱処理した直後に、無水トリフルオロ酢酸の蒸気に６０分間暴露して化学修飾処理する。修飾処理前後の透明導電性フィルム表面のフッ素原子数をＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）で定量し、修飾処理後に増加したフッ素原子数を３で除した値を無水トリフルオロ酢酸により化学的に修飾されうる活性水素基の量とする。
【００４８】
インジウム錫複合酸化物層３の厚さは、１５ｎｍ〜４０ｎｍが好ましく、１８ｎｍ〜３５ｎｍであることがより好ましく、２０ｎｍ〜３０ｎｍであることがさらに好ましい。厚さがこの範囲であることで結晶化後のインジウム錫複合酸化物層３を低抵抗かつ高透過率にすることができる。
【００４９】
インジウム錫複合酸化物層３の形成方法としては、特に限定されず、従来公知の方法を用いることができる。具体的には、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等が挙げられる。中でも膜厚制御と生産性の観点からスパッタリング法が好ましく、スパッタリング法の中でも生産性の観点からＤＣマグネトロンスパッタリング法が特に好ましい。
【００５０】
本発明において、透明導電性フィルムや透明導電性フィルムを構成する各層の厚さ（膜厚とも称される。）は、透明導電性フィルム積層体の断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）又は走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察することにより求めることができる。
【００５１】
図２は、本発明の他の一実施形態にかかる透明導電性フィルムの模式的断面図である。図２に示されているように、透明導電性フィルム２０は、樹脂フィルム１と、樹脂フィルム１の一方の表面上に配置された誘電体層２と、誘電体層２の樹脂フィルム１が配置されている側の反対側の表面上に配置されたインジウム錫複合酸化物層３と、インジウム錫複合酸化物層３の誘電体層２が配置されている側の反対側の表面の周縁部に配置されている引出電極１１を有する。図２では、図１と同一の部分には同一の符合を付けており、重複する説明は省略する。また、図２と図１において同一の部分は、同様の機能を有する。
【００５２】
（引出電極１１）
引出電極１１は、金属で形成することできる。具体的には、引出電極の材料としては、銀、銅、アルミニウム、ニッケル、パラジウム、クロム、鉄、モリブデン、チタン又はそれらを主成分とする合金等の金属、銀、銅、アルミニウム、ニッケル、パラジウム、クロム、鉄、モリブデン、チタン又はそれらを主成分とする合金等の金属を主成分とする導電性ペースト材料等が挙げられる。中でも、銀、銅等の導電性が高い金属が好ましく、銀、銅等の導電性が高い金属をエポキシ樹脂やアクリル系樹脂等の硬化性樹脂に分散させた導電性金属ペースト材料は印刷により容易に引出電極を形成できるためより好ましい。この中でも銀を主成分とする導電性銀ペースト材料が引出電極の導電性と、引出電極形成の容易性のバランスから特に好ましい。金属は、引出電極の電気抵抗および電極パターンの微細精度の観点から、平均粒子径が０．１〜１０μｍであることが好ましく、より好ましくは、０．１〜３.０μｍである。本発明において、「金属を主成分とする導電性ペースト材料」とは、金属を固形分濃度として５０重量％以上含むことを意味する。また、本発明において、金属粒子の平均粒子径は、透過型電子顕微鏡で得られる断面像における粒子直径を加重平均した値を意味する。
【００５３】
本発明の一実施形態において、透明導電性フィルムは、透明性に優れる観点から、全光線透過率が８０％以上であることが好ましく、８５％以上であることがより好ましく、８７％以上であることがさらに好ましい。透明導電性フィルムの全光線透過率は、後述のとおりに測定する。
【００５４】
本発明の一実施形態において、透明導電性フィルムは、電極パターン形成後の非視認性が良好である観点から、Ｌ*ａ*ｂ*表色系におけるｂ*値が２．５以下であることが好ましく、２．４以下であることがより好ましく、２．３以下であることがさらに好ましい。透明導電性フィルムのｂ*値は、後述のとおりに測定する。
【００５５】
本発明の一実施形態において、透明導電性フィルムは、引出電極との密着性に優れる観点から、密着性評価において、剥離面の面積が６０％以下であることが好ましく、５５％以下であることがより好ましい。透明導電性フィルムの密着性評価は、後述のとおりに行う。
【００５６】
本発明の一実施形態において、透明導電性フィルムは、耐傷付性を含む耐久性が良好という観点から、表面粗さＲａが１．８０ｎｍ〜３０．０ｎｍであることが好ましく、１．８５ｎｍ〜２０．０ｎｍであることがより好ましく、１．９０ｎｍ〜１０．０ｎｍであることがさらに好ましい。透明導電性フィルムの表面粗さＲａは、算術平均粗さを意味し、後述のとおりに測定する。
【００５７】
本発明の一実施形態において、透明導電性フィルムは、ディスプレイやタッチパネル等のデバイス、発光素子、光電変換素子等の半導体素子の透明電極として用いることができ、タッチパネル用の透明電極として好適に用いられ、特に静電容量方式タッチパネルに好ましく用いられる。
【００５８】
本発明の一実施形態において、透明導電性フィルムは、例えば、ポリエステル系樹脂フィルム、セルロース系樹脂フィルム及びイミド系樹脂フィルムからなる群から選ばれる一種である樹脂フィルム１の一方の表面上に誘電体層２を積層し、誘電体層２の樹脂フィルム１が配置された側の反対側の表面上にインジウム錫複合酸化物層３を積層することで作製することができる。樹脂フィルム１として、誘電体層２が配置される側の表面がコロナ処理又はプラズマ処理で表面処理されているものを用いてもよい。また、樹脂フィルム１として、誘電体層２が配置される側の反対側にハードコート層を有するものを用いてもよい。インジウム錫複合酸化物層３の形成方法としては、膜厚制御と生産性の観点からスパッタリング法が好ましく、スパッタリング法の中でも生産性の観点からＤＣマグネトロンスパッタリング法が特に好ましい。スパッタリング法は、特に限定されず、公知のインジウム錫複合酸化物層を形成する条件で行うことができる。
【００５９】
樹脂フィルム１の一方の表面上に、厚さが０．００５μｍ〜０．１００μｍであり、有機物又は有機物と無機物の混合物で構成された誘電体層２を形成した後、誘電体層２の樹脂フィルム１が配置された側の反対側の表面にスパッタリング法等でインジウム錫複合酸化物層３を形成することで、樹脂フィルム１からの水分が、インジウム錫複合酸化物層が製膜される際に、インジウム錫複合酸化物層３の表面に移動し、インジウム錫複合酸化物層３の表面に無水トリフルオロ酢酸により化学的に修飾されうる活性水素基が、２．１原子％〜４．０原子％存在することになると推測される。
【実施例】
【００６０】
以下に、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明する。なお、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。【００６１】
実施例及び比較例において、各種特性は下記のように評価又は測定した。【００６２】
＜密着性評価＞
１４０℃、９０分の加熱処理後の透明導電性フィルムのインジウムスズ酸化物層の表面に、平均粒子径２μｍの銀粒子を約７５重量％、エポキシ系樹脂を約２重量％、アクリル系樹脂を約０．５重量％含有する導電性銀ペーストをスクリーン印刷機により焼成後厚さ７μｍ、３ｃｍ角の面積で塗布した。塗布後１０分間静置した後に、１４０℃で６０分間加熱して導電性銀ペーストを焼成し、インジウムスズ酸化物層上に導電性銀ペーストからなる引出電極を形成した。引出電極を形成した透明導電性フィルムを温度６０℃相対湿度９０％の環境試験機に２４０時間投入し、取り出し後に引出電極側からナイフを用いて、深さ約３０μｍの１００マスの切れ込みを入れて、密着性評価用サンプルとした。評価サンプルの引出電極が形成されている側の表面に２５ｍｍ幅の透明粘着テープ（３Ｍ社製、＃６１０）を貼り付け、約１分後に透明導電性フィルムに対して９０度方向に約１秒間でテープを引き剥がし、透明導電性フィルムの引出電極が配置された側の表面の全体面積に対する引出電極が剥離した剥離面積の割合（％）を算出した。剥離面積の割合が小さいほど密着性が良好である。【００６３】
＜剥離面の導通評価＞
密着性評価で引出電極が剥離した部分にテスターをあて、導通の有無を確認した。導通が確認できた部分はインジウムスズ酸化物層と引出電極間が剥離したことを意味する。【００６４】
＜活性水素基の定量＞
１４０℃で９０分加熱処理した直後に、透明導電性フィルムを無水トリフルオロ酢酸の蒸気に６０分間暴露して化学修飾処理した。修飾処理前後の透明導電性フィルムにおけるインジウムスズ酸化物層の表面のフッ素原子数をＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）で定量し、修飾処理後に増加したフッ素原子数を３で除した値を無水トリフルオロ酢酸により化学的に修飾されうる活性水素基の量とした。【００６５】
＜全光線透過率の測定＞
光学式濁度計（日本電飾工業社製、ＮＤＨ７０００）を用いて測定した。光源はＤ光源とし、インジウムスズ酸化物層側から光を入射させて全光線透過率を測定した。【００６６】
＜ｂ*値の測定＞
色差計（日本電飾工業社製、ＳＥ２０００）を用いて測定した。光源はＤ光源とし、インジウムスズ酸化物層側から光を入射させてｂ*値を測定した。ｂ*値が２．５以下であればパターンの非視認性は良好である。【００６７】
＜表面抵抗の測定＞
１４０℃で９０分加熱処理した後の透明導電性フィルムを６０ｍｍ×６０ｍｍに切り出し、三菱化学社製ロレスタＧＰを用いて四探針法にてのインジウムスズ酸化物層の表面抵抗を測定した。【００６８】
＜表面粗さＲａの測定＞
１４０℃で９０分加熱処理した後の透明導電性フィルムを６０ｍｍ×６０ｍｍにカットし、得られたサンプルの両面について、表面形状測定機（キヤノン社製、Ｚｙｇｏ  ＮｅｗＶｉｅｗ７３００）を用いて０．１ｍｍ×０．１ｍｍの測定範囲における算術平均粗さＲａを算出し、表面粗さＲａとした。測定は温度２３℃、相対湿度５０％の恒温室にて行った。カットオフ値は０．５ｍｍとした。【００６９】
（実施例１）
樹脂フィルムとして、厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた。該ポリエチレンテレフタレートフィルムは、一方の表面に厚さ１．０μｍのハードコート層を有する。ハードコート層は、多官能ウレタンアクリレート、シリカ粒子（平均粒子径２００ｎｍ以下）及び光重合開始剤を含む樹脂組成物を紫外線で硬化させて形成したものである。該ポリエチレンテレフタレートフィルムの他方の表面に厚さ０．０３０μｍの誘電体層を形成した。誘電体層は、多官能ウレタンアクリレート、シリカ粒子及び光重合開始剤を含む樹脂組成物を紫外線で硬化させて形成しており、屈折率が１．５であった。このポリエチレンテレフタレートフィルムと誘電体層の積層体を、巻取式ＤＣマグネトロンスパッタ製膜装置内に導入し、９０℃で３０秒加熱した後に、スパッタリング法により誘電体層の表面に厚さ２３ｎｍのインジウム錫複合酸化物層を形成した。【００７０】
インジウム錫複合酸化物層の形成はターゲットとして、酸化錫を７．０重量％と、酸化インジウムを９３．０重量％含有した酸化インジウムスズを用いた。スパッタリングは酸素／アルゴン比率が５／１００の混合ガスを製膜室内に導入しながら、装置内圧力を０．４Ｐａとし、投入電力１８．５ｋＷの条件で３０秒間行った。その後、１４０℃で９０分間加熱処理し、インジウム錫複合酸化物層を結晶化させた。【００７１】
（実施例２）
誘電体層をアルコキシシラン加水分解物及び有機シリカゾルを縮合させたアルコキシシラン加水分解縮合物（シロキサン系ポリマー）で形成し、且つ厚さが０．０２５μｍ、屈折率が１．５になるように以外は、実施例１と同様の手法で透明導電性フィルムを得た。【００７２】
（実施例３）
ポリエチレンテレフタレートフィルムの誘電体層が形成される側の表面をコロナ処理した後に誘電体層を形成した以外は、実施例２と同様の手法で透明導電性フィルムを得た。【００７３】
（比較例１）
誘電体層の厚みが１．６００μｍ、屈折率が１．６になるようにした以外は、実施例１と同様の手法で透明導電性フィルムを得た。【００７４】
（比較例２）
誘電体層の厚みが１．６００μｍ、屈折率が１．６になるようにした以外は、実施例１と同様にして、ポリエチレンテレフタレートフィルムと誘電体層の積層体を得た。このポリエチレンテレフタレートフィルムと誘電体層の積層体を、巻取式ＲＦマグネトロンスパッタ製膜装置内に導入し９０℃で７５秒加熱した後に、スパッタリング法により誘電体層の表面に厚さ２０ｎｍのインジウム錫複合酸化物層を形成した。【００７５】
インジウム錫複合酸化物層の形成はターゲットとして、酸化錫を７．０重量％と、酸化インジウムを９３．０重量％含有した酸化インジウムスズを用いた。スパッタリングは酸素／アルゴン比率が５／１００の混合ガスを製膜室内に導入しながら、装置内圧力を０．４Ｐａとし、投入電力６ｋＷの条件で７５秒間行った。得られた透明導電性フィルムを１４０℃で９０分間加熱処理し、インジウム錫複合酸化物層を結晶化させた。【００７６】
実施例１〜３及び比較例１〜２において、透明導電性フィルムの密着性、剥離面の導電評価を上述したとおりに行った。また、実施例１〜３及び比較例１〜２において、活性水素基の定量、表面抵抗、全光線透過率、ｂ*値及び表面粗さの測定を行った。その結果を下記表１に示した。【００７７】
【表１】
0006717934.tif 000002
【００７８】
また、図３に、実施例１〜３及び比較例１〜２の透明導電性フィルムのインジウム錫複合酸化物層の表面に存在する無水トリフルオロ酢酸により化学的に修飾されうる活性水素基の量と、透明導電性フィルムと引出電極の剥離割合の関係を示した。【００７９】
表１及び図３から、インジウム錫複合酸化物層の表面に存在する活性水素基が２．１原子％以上である実施例１〜３の透明導電性フィルムは、密着性評価での剥離面積が６０％未満であり、剥離面の導通が認められないことから、インジウム錫複合酸化物層と引出電極との密着性が向上していることが分かった。さらに、全光線透過率、表面抵抗、ｂ＊値及び表面粗さＲａの評価のいずれも良好であり、透明性、非視認性、導電性及び耐久性に優れており、タッチパネルに好適に用いることができることが分かった。なかでも、実施例３の透明導電性フィルムは、密着性評価での剥離面積が１０％未満であり、特に密着性に優れていた。【００８０】
一方、インジウム錫複合酸化物層の表面に存在する活性水素基が２．１原子％未満と少ない比較例１及び２の透明導電性フィルムは、密着性評価での剥離面積が６０％を超えており、剥離面の導通が認められることから、透明導電層と引出電極との密着性が低いことが分かった。
【符号の説明】
【００８１】
１  樹脂フィルム
２  誘電体層
３  インジウム錫複合酸化物層
１０、２０  透明導電性フィルム
１１  引出電極
【図１】
0006717934.tif 000003
【図２】
0006717934.tif 000004
【図３】
0006717934.tif 000005