(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１種の式［Ｚ１ＯＺ２ＯＳｉＣＨ２］３（Ｉ）
［式中、各Ｚ１およびＺ２は、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す］
の独立モノマーおよび少なくとも１種の他の三価金属酸化物モノマーのポリマーである、オルガノシリカ材料であって、Ｃｕ Ｋα線を使用して測定したＸ線回折パターンが、３〜１０°の２θの範囲内においてピークが存在せず、
前記少なくとも１種の他の三価金属酸化物モノマーが、
（ｉ）式Ｍ１（ＯＺ３）３（ＩＩ）
［式中、Ｍ１は、第１３族金属を表し、各Ｚ３は、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す］
の独立単位であり、
少なくとも１種の式Ｍ１（ＯＺ３）３（ＩＩ）
［式中、Ｍ１は、ＡｌまたはＢであり、各Ｚ３は、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、またはケイ素原子もしくは別のモノマーへの結合を表す］
の単位が存在する、
オルガノシリカ材料。
【請求項２】
各Ｚ１およびＺ２が、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す、請求項１に記載のオルガノシリカ材料。
【請求項３】
各Ｚ１およびＺ２が、独立して、水素原子、エチル、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す、請求項１または２に記載のオルガノシリカ材料。
【請求項４】
（ｉ）式［Ｚ６ＯＺ７ＳｉＣＨ２］３（ＩＶ）
［式中、各Ｚ６は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表し、各Ｚ７は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表す］
の独立単位、
（ｉｉ）式Ｚ８ＯＺ９Ｚ１０Ｚ１１Ｓｉ（Ｖ）
［式中、各Ｚ８は、水素原子またはＣ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表し、Ｚ９、Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有ヘテロアラルキル基、窒素を含有していて任意に置換されたヘテロシクロアルキル基、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択される］
の独立単位、
（ｉｉｉ）式Ｚ１２Ｚ１３Ｚ１４Ｓｉ−Ｒ−ＳｉＺ１２Ｚ１３Ｚ１４（ＶＩ）
［式中、各Ｚ１２は、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、または別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表し、各Ｚ１３およびＺ１４は、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素を表し、Ｒは、Ｃ１〜Ｃ８アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルキニレン基、窒素含有Ｃ２〜Ｃ１０アルキレン基、任意に置換されたＣ６〜Ｃ２０アラルキル、および任意に置換されたＣ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基からなる群から選択される］
の独立単位、および
（ｉｖ）それらの組合せ
からなる群から選択されるモノマーをさらに含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載のオルガノシリカ材料。
【請求項５】
約１．５ｎｍ〜約２０．０ｎｍの平均細孔径を有する、請求項１〜４のいずれか１項に記載のオルガノシリカ材料。
【請求項６】
約２００ｍ２／ｇ〜約２５００ｍ２／ｇの全表面積を有する、請求項１〜５のいずれか１項に記載のオルガノシリカ材料。
【請求項７】
約０．１ｃｍ３／ｇ〜約５．０ｃｍ３／ｇの細孔体積を有する、請求項１〜６のいずれか１項に記載のオルガノシリカ材料。
【請求項８】
前記材料の前記細孔内に組み込まれた少なくとも１種の触媒金属をさらに含む、請求項１〜７のいずれか１項に記載のオルガノシリカ材料。
【請求項９】
前記触媒金属が、第６族元素、第８族元素、第９族元素、第１０族元素およびそれらの組合せからなる群から選択される、請求項８に記載のオルガノシリカ材料。
【請求項１０】
構造指向剤またはポロゲンを本質的に使用せずに製造される、請求項１〜９のいずれか１項に記載のオルガノシリカ材料。
【請求項１１】
ａ）芳香族含有量が低下した反応生成物を製造するために有効な芳香族水素化条件下で操作される反応段階において、水素含有処理気体の存在下、芳香族を含む炭化水素供給流を水素化触媒と接触させることを含み、
前記水素化触媒が、請求項９に記載のオルガノシリカ材料を含む、炭化水素供給流の芳香族水素化方法。
【請求項１２】
式（ＩＩ）のＭ１がＡｌである、請求項１１に記載の芳香族水素化方法。
【請求項１３】
前記オルガノシリカ材料が、約１００ｍ２／ｇ〜約１３００ｍ２／ｇの全表面積を有する、請求項１１に記載の芳香族水素化方法。
【請求項１４】
前記少なくとも１種の触媒金属が、白金、パラジウム、ニッケルおよびそれらの組合せからなる群から選択される、請求項１３に記載の芳香族水素化方法。
【請求項１５】
前記少なくとも１種の触媒材料が、活性材料および不活性材料、合成または天然由来ゼオライト、無機材料からなる群から選択される結合剤材料をさらに含む、請求項１４に記載の芳香族水素化方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
（発明の分野）
本発明は、オルガノシリカ材料、その製造方法、およびその使用に関する。
【背景技術】
【０００２】
（発明の背景）
多孔性無機固体は、工業的応用のための触媒および分離媒体として大いに有益であることが見出されている。特に、メソ細孔の周期的配列を有するシリカおよびアルミナなどのメソポーラス材料は、それらの均一かつ調整可能な細孔、高い表面積および大きい細孔体積のため、吸着、分離および触媒プロセスでの使用に魅力的な材料である。そのようなメソポーラス材料の細孔構造は、大きい分子を吸着するために十分大きく、かつその細孔壁構造は、約１ｎｍ程度の薄さであることが可能である。さらに、そのようなメソポーラス材料は、大きい比表面積（例えば、１０００ｍ２／ｇ）および大きい細孔体積（例えば、１ｃｍ３／ｇ）を有することが知られている。これらの理由のため、そのようなメソポーラス材料は、反応性触媒、官能性有機化合物から構成される吸着剤および他の分子が、細孔中に迅速に拡散することを可能にして、したがって、より小さい細孔径を有するゼオライト以上に有利となることが可能である。したがって、そのようなメソポーラス材料は、高速触媒反応の触媒作用のみならず、大容量吸着剤としても有用となることが可能である。
【０００３】
メソポーラスフレーム構造中のいくつかの有機基が含まれることによって、調節可能な反応性表面を提供することが可能であり、これは、材料の細孔径の均一性、より高い機械的強度および水熱安定性にも寄与する。したがって、メソポーラスオルガノシリカ材料は、水熱安定性、化学的安定性および機械的特性の強化など、メソポーラスシリカと比較して、ユニークな特性を示すことが可能である。有機基は、式Ｓｉ−Ｒ−Ｓｉの形態の架橋シルセスキオキサン前駆体を使用して、メソポーラスオルガノシリカを形成するために組み込むことができる。
【０００４】
メソポーラスオルガノシリカは、慣例的に、構造指向剤、ポロゲンおよび／またはフレームワーク要素の存在下でのシルセキオクサン（ｓｉｌｓｅｑｕｉｏｘａｎｅ）前駆体の自己集合によって形成される。この前駆体は、加水分解性であり、かつ構造指向剤の周囲で凝縮する。これらの材料は、平行配列されたメソスケールチャネルの周期的配列の存在のため、周期的メソポーラスオルガノシリケート（Ｐｅｒｉｏｄｉｃ  Ｍｅｓｏｐｏｒｏｕｓ  Ｏｒｇａｎｏｓｉｌｉｃａｔｅ）（ＰＭＯ）と呼ばれている。例えば、非特許文献１は、Ｒが架橋性有機基であるＳｉＯ３ＲまたはＳｉＯ２Ｒ２ビルディングブロックからなる周期的メソポーラスフレームワークを有する、架橋されたオルガノシリカであるＰＭＯを形成するための、塩基および構造指向剤、セチルトリメチルアンモニウムブロミドの存在下での１，３，５−トリス［ジエトキシシリカ］シクロヘキサン［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３の自己集合を報告する。ＰＭＯ中、有機基は、細孔壁中に均一に分配されることが可能である。特許文献１は、ＮａＡｌＯ２および塩基の存在下、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシリルシクロヘキサンから形成された結晶質ハイブリッド有機−無機シリケートの調製を報告する。特許文献２は、プロピレングリコールモノメチルエーテルの存在下、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシリルシクロヘキサンから形成された組成物の調製を報告する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】米国特許出願公開第２０１２／００５９１８１号明細書
【特許文献２】米国特許出願公開第２００７／００３４９２号明細書
【非特許文献】
【０００６】
【非特許文献１】Ｌａｎｄｓｋｒｏｎ，Ｋ．ら［Ｓｃｉｅｎｃｅ，３０２：２６６−２６９（２００３）］
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、ＰＭＯなどのオルガノシリカ材料の調製において、界面活性剤などの構造指向剤を使用することによって、調製プロセスの最後に構造指向剤を除去するための複雑で、エネルギー集約的プロセスが必要となる。このことによって、工業的応用のためにプロセスの規模を大きくする能力が限定される。したがって、所望の細孔径、細孔体積および表面積を有する追加的なオルガノシリカ材料を提供することが必要とされている。さらに、構造指向剤、ポロゲンまたは界面活性剤の不在下で実行可能な方法によって調製することが可能である、そのようなオルガノシリカ材料を提供することが必要とされている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
（発明の要旨）
望ましい細孔直径、細孔体積および表面積を有するオルガノシリカ材料を達成することが可能であることが見出された。さらに、そのようなオルガノシリカ材料は、構造指向剤、ポロゲンまたは界面活性剤を必要とすることなく首尾よく調製することが可能である。
【０００９】
したがって、一態様において、本発明の実施形態は、少なくとも１種の式［Ｚ１ＯＺ２ＯＳｉＣＨ２］３（Ｉ）［式中、各Ｚ１およびＺ２は、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す］のモノマーおよび少なくとも１種の他の三価金属酸化物モノマーのポリマーである、オルガノシリカ材料を提供する。
【００１０】
上記で要約された実施形態の特定の態様を含む他の実施形態は、以下の詳細な説明から明白となるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】試料１Ａおよび比較試料２のＸ線回折（ＸＲＤ）スペクトルを示す。
【図２ａ】Ｎ２中の試料１Ａの熱重量分析（ＴＧＡ）データを示す。
【図２ｂ】空気中の試料１ＡのＴＧＡデータを示す。
【図３】試料１Ａ、比較試料２および試料５のＢＥＴ  Ｎ２吸着を示す。
【図４】試料１Ａ、比較試料２および試料５のＢＥＴ細孔径分布を示す。
【図５】試料１Ａ、試料３、試料５Ａおよび試料６のＢＥＴ表面積およびミクロポーラス表面積を示す。
【図６】試料１Ａ、試料５Ａ、試料６および試料３の細孔体積および細孔径の比較を示す。
【図７ａ】試料１Ａの２９Ｓｉ  ＭＡＳ  ＮＭＲスペクトルを示す。
【図７ｂ】比較試料２の２９Ｓｉ  ＭＡＳ  ＮＭＲスペクトルを示す。
【図８ａ】Ｎ２中の比較試料２のＴＧＡデータを示す。
【図８ｂ】空気中の比較試料２のＴＧＡデータを示す。
【図９】試料１Ａおよび試料３のＸＲＤスペクトルを示す。
【図１０】試料４Ａ、試料４Ｂ、試料４Ｃおよび試料４Ｄの２９Ｓｉ  ＭＡＳ  ＮＭＲスペクトルを示す。
【図１１】試料５および試料６のＸＲＤスペクトルを示す。
【図１２】空気およびＮ２中の試料５のＴＧＡデータを示す。
【図１３】試料１Ａおよび試料５の２９Ｓｉ  ＭＡＳ  ＮＭＲスペクトルを示す。
【図１４】試料７Ａおよび試料７Ｂの２９Ｓｉ  ＭＡＳ  ＮＭＲスペクトルを示す。
【図１５】試料９、試料１０、試料１１Ａおよび試料１２のＸＲＤスペクトルを示す。
【図１６】試料１３および試料２１のＸＲＤスペクトルを示す。
【図１７】試料１３、試料１４および試料１５のＮ２吸着等温線を示す。
【図１８】試料１３、試料１４および試料１５の細孔径分布を示す。
【図１９】試料２２Ａおよび試料２２ＢのＸＲＤスペクトルを示す。
【図２０】試料２２Ａおよび２２Ｂの２９Ｓｉ  ＭＡＳ  ＮＭＲスペクトルを示す。
【図２１】試料２２Ａおよび２２Ｂの２９Ａｌ  ＭＡＳ  ＮＭＲスペクトルを示す。
【図２２】試料１Ａ、試料５および比較試料２のＣＯ２吸着等温線を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
（発明の詳細な説明）
本発明の様々な態様において、オルガノシリカ材料、オルガノシリカ材料の調製方法、ならびにオルガノシリカ材料を使用する気体および液体分離プロセスが提供される。
【００１３】
Ｉ．定義
本発明およびそれに対する請求の範囲の目的のため、周期表の命番方式は、ＩＵＰＡＣ元素周期表による。
【００１４】
本明細書中、「Ａおよび／またはＢ」などの句で使用される「および／または」という用語は、「ＡおよびＢ」、「ＡまたはＢ」、「Ａ」ならびに「Ｂ」を含むように意図される。
【００１５】
「置換基」、「ラジカル」、「基」および「部分（又は部位（moiety））」という用語は、互換的に使用され得る。
【００１６】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「Ｃｎ」という用語は、１分子あたりｎ個の炭素原子を有する炭化水素を意味し、ｎは正整数である。
【００１７】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「炭化水素」という用語は、炭素に結合した水素を含有する化合物の種類を意味して、かつ（ｉ）飽和炭化水素化合物、（ｉｉ）不飽和炭化水素化合物、ならびに（ｉｉｉ）異なるｎ値を有する炭化水素化合物の混合物を含む、（飽和および／または不飽和の）炭化水素化合物の混合物が包括される。
【００１８】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「アルキル」という用語は、１〜１２個の炭素原子（すなわち、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル）、特に１〜８個の炭素原子（すなわち、Ｃ１〜Ｃ８アルキル）、特に１〜６個の炭素原子（すなわち、Ｃ１〜Ｃ６アルキル）、特に１〜４個の炭素原子（すなわち、Ｃ１〜Ｃ４アルキル）を有する飽和炭化水素基を意味する。アルキル基の例としては、限定されないが、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、デシルなどが含まれる。アルキル基は、直鎖、分岐鎖または環式であってよい。「アルキル」は、アルキル基の全ての構造異性体の形態を包含するように意図される。例えば、本明細書で使用される場合、プロピルは、ｎ−プロピルおよびイソプロプルの両方を含み、ブチルは、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、イソブチルおよびｔｅｒｔ−ブチルなどを含む。本明細書で使用される場合、「Ｃ１アルキル」はメチル（−ＣＨ３）を指し、「Ｃ２アルキル」はエチル（−ＣＨ２ＣＨ３）を指し、「Ｃ３アルキル」はプロピル（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）を指し、そして「Ｃ４アルキル」はブチル（例えば、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、−（ＣＨ３）ＣＨＣＨ２ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）２など）を指す。さらに、本明細書で使用される場合、「Ｍｅ」はメチルを指し、そして「Ｅｔ」はエチルを指し、「ｉ−Ｐｒ」は「イソプロプルを指し、「ｔ−Ｂｕ」はｔｅｒｔ−ブチルを指し、そして「Ｎｐ」はネオペンチルを指す。
【００１９】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「アルキレン」という用語は、長さにおいて１〜１２個の炭素原子を含有する二価アルキル部分（すなわち、Ｃ１〜Ｃ１２アルキレン）を指し、かつアルキレン部分が、アルキル単位の両端において分子の残基に結合することを意味する。例えば、アルキレンとしては、限定されないが、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−などが含まれる。アルキレン基は、直鎖または分岐鎖であってよい。
【００２０】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「窒素含有アルキル」という用語は、アルキル基中の１個またはそれ以上の炭素原子が、窒素原子、または２〜１０個の炭素原子を有する窒素含有環式炭化水素（すなわち、窒素含有環式Ｃ２〜Ｃ１０炭化水素）、特に２〜５個の炭素原子を有する窒素含有環式炭化水素（すなわち、窒素含有環式Ｃ２〜Ｃ５炭化水素）、特に２〜５個の炭素原子を有する窒素含有環式炭化水素（すなわち、窒素含有環式Ｃ２〜Ｃ５炭化水素）によって置換されている、本明細書に定義されたアルキル基を指す。窒素含有環式炭化水素は、１個またはそれ以上の窒素原子を有していてもよい。窒素原子は、任意に、１個または２個のＣ１〜Ｃ６アルキル基によって置換されていてもよい。窒素含有アルキルは、１〜１２個の炭素原子を有することが可能であるか（すなわち、Ｃ１〜Ｃ１２窒素含有アルキル）、特に１〜１０個の炭素原子を有することが可能であるか（すなわち、Ｃ１〜Ｃ１０窒素含有アルキル）、特に２〜１０個の炭素原子を有することが可能であるか（すなわち、Ｃ２〜Ｃ１０窒素含有アルキル）、特に３〜１０個の炭素原子を有することが可能であるか（すなわち、Ｃ３〜Ｃ１０窒素含有アルキル）、特に３〜８個の炭素原子を有することが可能である（すなわち、Ｃ１〜Ｃ１０窒素含有アルキル）。窒素含有アルキルの例としては、限定されないが、
【化１】
0006661636.tif 000002
が含まれる。
【００２１】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「窒素含有アルキレン」という用語は、アルキル基中の１個またはそれ以上の炭素原子が、窒素原子によって置換されている、本明細書に定義されたアルキレン基を指す。窒素原子は、任意に、１個または２個のＣ１〜Ｃ６アルキル基によって置換されていてもよい。窒素含有アルキレンは、１〜１２個の炭素原子を有することが可能であるか（すなわち、Ｃ１〜Ｃ１２窒素含有アルキレン）、特に２〜１０個の炭素原子を有することが可能であるか（すなわち、Ｃ２〜Ｃ１０窒素含有アルキレン）、特に３〜１０個の炭素原子を有することが可能であるか（すなわち、Ｃ３〜Ｃ１０窒素含有アルキレン）、特に４〜１０個の炭素原子を有することが可能であるか（すなわち、Ｃ４〜Ｃ１０窒素含有アルキレン）、特に３〜８個の炭素原子を有することが可能である（すなわち、Ｃ３〜Ｃ８窒素含有アルキル）。窒素含有アルキレンの例としては、限定されないが、
【化２】
0006661636.tif 000003
が含まれる。
【００２２】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「アルケニル」という用語は、２〜１２個の炭素原子（すなわち、Ｃ２〜Ｃ１２アルケニル）、特に２〜８個の炭素原子（すなわち、Ｃ２〜Ｃ８アルケニル）、特に２〜６個の炭素原子（すなわち、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル）を有し、かつ１個またはそれ以上（例えば、２個、３個など）の炭素−炭素二重結合を有する不飽和炭化水素基を指す。アルケニル基は、直鎖、分岐鎖または環式であってよい。アルケニルの例としては、限定されないが、エテニル（ビニル）、２−プロペニル、３−プロペニル、１，４−ペンタジエニル、１，４−ブタジエニル、１−ブテニル、２−ブテニルおよび３−ブテニルが含まれる。「アルケニル」は、アルケニルの全ての構造異性体の形態を包含するように意図される。例えば、ブテニルには、１，４−ブタジエニル、１−ブテニル、２−ブテニルおよび３−ブテニルなどが含まれる。
【００２３】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「アルケニレン」という用語は、長さにおいて２〜約１２個の炭素原子を含有する二価アルケニル部分（すなわち、Ｃ２〜Ｃ１２アルケニレン）を指し、かつアルキレン部分が、アルキル単位の両端において分子の残基に結合することを意味する。例えば、アルケニレンとしては、限定されないが、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣＨ２−など、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−などが含まれる。アルケニレン基は、直鎖または分岐鎖であってよい。
【００２４】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「アルキニル」という用語は、２〜１２個の炭素原子（すなわち、Ｃ２〜Ｃ１２アルキニル）、特に２〜８個の炭素原子（すなわち、Ｃ２〜Ｃ８アルキニル）、特に２〜６個の炭素原子（すなわち、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル）を有し、かつ１個またはそれ以上（例えば、２個、３個など）の炭素−炭素三重結合を有する不飽和炭化水素基を指す。アルキニル基は、直鎖、分岐鎖または環式であってよい。アルキニルの例としては、限定されないが、エチニル、１−プロピニル、２−ブチニルおよび１，３−ブタジイニルが含まれる。「アルキニル」は、アルキニルの全ての構造異性体の形態を包含するように意図される。例えば、ブチニルは、２−ブチニルおよび１，３−ブタジイニルを包含し、かつプロピニルは、１−プロピニルおよび２−プロピニル（プロパルギル）を包含する。
【００２５】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「アルキニレン」という用語は、長さにおいて２〜約１２個の炭素原子を含有する二価アルキニル部分（すなわち、Ｃ２〜Ｃ１２アルキニレン）を指し、かつアルキレン部分が、アルキル単位の両端において分子の残基に結合することを意味する。例えば、アルケニレンとしては、限定されないが、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｃ≡ＣＣＨ２−、−Ｃ≡ＣＣＨ２Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２ＣＨ２Ｃ≡ＣＣＨ２−など、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−などが含まれる。アルキニレン基は、直鎖または分岐鎖であってよい。
【００２６】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「アルコキシ」という用語は、１〜約１０個の炭素原子を含有する−Ｏ−アルキルを指す。アルコキシは、直鎖または分枝鎖であってよい。非限定的な例としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペントキシおよびヘキソキシが含まれる。「Ｃ１アルコキシ」はメトキシを指し、「Ｃ２アルコキシ」はエトキシを指し、「Ｃ３アルコキシ」はプロポキシを指し、そして「Ｃ４アルコキシ」はブトキシを指す。さらに、本明細書で使用される場合、「ＯＭｅ」はメトキシを指し、そして「ＯＥｔ」はエトキシを指す。
【００２７】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「芳香族」という用語は、非局在化共役π系を有し、かつ５〜２０個の炭素原子（芳香族Ｃ５〜Ｃ２０炭素原子）、特に５〜１２個の炭素原子（芳香族Ｃ５〜Ｃ１２炭化水素）、特に５〜１０個の炭素原子（芳香族Ｃ５〜Ｃ１２炭化水素）を有する、不飽和環式炭化水素を指す。代表的な芳香族としては、限定されないが、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、エチルベンゼン、クメン、ナフタレン、メチルナフタレン、ジメチルナフタレン、エチルナフタレン、アセナフタレン、アントラセン、フェナントレン、テトラフェン、ナフタセン、ベンズアントラセン、フルオラントレン、ピレン、クリセン、トリフェニレンなど、およびそれらの組合せが含まれる。加えて、芳香族は、１個またはそれ以上のヘテロ原子を含んでなってもよい。ヘテロ原子の例としては、限定されないが、窒素、酸素および／または硫黄が含まれる。１個またはそれ以上のヘテロ原子を有する芳香族としては、限定されないが、フラン、ベンゾフラン、チオフェン、ベンゾチオフェン、オキサゾール、チアゾールなど、およびそれらの組合せが含まれる。芳香族は、単環式、二環式、三環式および／または他環式環（いくつかの実施形態において、少なくとも単環式環、単環式および二環式環のみ、または単環式環のみ）を含んでなり得、かつ縮合環であってもよい。
【００２８】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「アリール」という用語は、少なくとも１個の環が芳香族炭化水素である、６〜１４個の炭素環原子を含有する、いずれかの単環式または多環式環化炭素基を指す。アリールの例としては、限定されないが、フェニル、ナフチル、ピリジニルおよびインオリルが含まれる。
【００２９】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「アラルキル」という用語は、アリール基で置換されたアルキル基を指す。アルキル基は、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、特にＣ１〜Ｃ６、特にＣ１〜Ｃ４アルキル基、特にＣ１〜Ｃ３アルキル基であってよい。アラルキル基の例としては、限定されないが、フェニルメチル、フェニルエチルおよびナフチルメチルが含まれる。アラルキルは、１個またはそれ以上のヘテロ原子を含んでいてもよく、かつ「ヘテロアルキル」と呼ばれてもよい。ヘテロ原子の例としては、限定されないが、窒素（すなわち、窒素含有ヘテロアラルキル）、酸素（すなわち、酸素含有ヘテロアラルキル）および／または硫黄（すなわち、硫黄含有ヘテロアラルキル）が含まれる。ヘテロアラルキル基の例としては、限定されないが、ピリジニルエチル、インドリルメチル、フリルエチルおよびキノリニルプロピルが含まれる。
【００３０】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「ヘテロシクロ」という用語は、４〜２０個の炭素環原子を含有し、かつ１個またはそれ以上のヘテロ原子を含有する、完全飽和、部分的飽和または不飽和、あるいは多環式環化炭素基を指す。ヘテロ原子の例としては、限定されないが、窒素（すなわち、窒素含有ヘテロシクロ）、酸素（すなわち、酸素含有ヘテロシクロ）および／または硫黄（すなわち、硫黄含有ヘテロシクロ）が含まれる。ヘテロシクロの例としては、限定されないが、チエニル、フリル、ピロリル、ピペラジニル、ピリジル、ベンゾキサゾリル、キノリニル、イミダゾリル、ピロリジニルおよびピペリジニルが含まれる。
【００３１】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「ヘテロシクロアルキル」という用語は、ヘテロシクロ基で置換されたアルキル基を指す。アルキル基は、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、特にＣ１〜Ｃ６、特にＣ１〜Ｃ４アルキル基、特にＣ１〜Ｃ３アルキル基であってよい。ヘテロシクロアルキル基の例としては、限定されないが、チエニルメチル、フリルエチル、ピロリルメチル、ピペラジニルエチル、ピリジルメチル、ベンゾキサゾリルエチル、キノリニルプロピルおよびイミダゾリルプロピルが含まれる。
【００３２】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「ヒドロキシル」という用語は−ＯＨ基を指す。
【００３３】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「メソポーラス（mesoporous）」という用語は、約２ｎｍ〜約５０ｎｍの範囲の直径を有する細孔を有する固体材料を指す。
【００３４】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「オルガノシリカ」という用語は、２個以上のケイ素原子に結合した１個またはそれ以上の有機基を含んでなるオルガノシロキサン化合物を指す。
【００３５】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「シラノール」という用語は、Ｓｉ−ＯＨ基を指す。
【００３６】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「シラノール含有量」という用語は、化合物中のＳｉ−ＯＨ基のパーセントを指し、そしてＮＭＲなどの標準法によって算出することが可能である。
【００３７】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「構造指向剤」、「ＳＤＡ」および／または「ポロゲン」という用語は、オルガノシリカ材料のフレームワークを形成するビルディングブロックの重合および／または重縮合および／または組織化を補助および／または誘導するために合成媒体に添加される１種またはそれ以上の化合物を指す。さらに、「ポロゲン」は、得られるオルガノシリカ材料フレームワーク中に空隙または細孔を形成することが可能な化合物であると理解される。本明細書で使用される場合、「構造指向剤に」は、「鋳型剤」および「テンプレート」という用語を包括し、かつそれらと同意語であり、かつそれらと交換可能である。
【００３８】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「吸着」という用語には、物理収着、化学吸着および固体材料への凝縮、ならびにそれらの組合せが含まれる。
【００３９】
ＩＩ．オルガノシリカ材料
本発明は、オルガノシリカ材料に関する。第１の態様において、オルガノシリカ材料は、各Ｚ１およびＺ２が、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である、少なくとも１種の式［Ｚ１ＯＺ２ＯＳｉＣＨ２］３（Ｉ）の独立モノマーおよび少なくとも１種の他の独立三価金属酸化物モノマーのポリマーであり得る。
【００４０】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「別のモノマーのケイ素原子への結合」は、結合が、存在する場合、別のモノマーのケイ素原子上の部分（特に、ヒドロキシル、アルコキシなどの酸素含有部分）に有利に置き換わることが可能であって、別のモノマーのケイ素原子に直接結合が存在し得、それによって、例えば、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合によって、２種のモノマーが連結することを意味する。明快さのために、この結合状態において、「別のモノマー」は、同一種類のモノマーまたは異なる種類のモノマーであることが可能である。
【００４１】
ＩＩ．Ａ．式（Ｉ）のモノマー
種々の実施形態において、各Ｚ１および／またはＺ２は、水素原子であることが可能である。
【００４２】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１および／またはＺ２は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであることが可能である。
【００４３】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１および／またはＺ２は、別のモノマーのケイ素原子に結合することが可能である。
【００４４】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１および／またはＺ２は、独立して水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【００４５】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１およびＺ２は、独立して、水素原子、エチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【００４６】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１およびＺ２は、独立して、水素原子または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【００４７】
ＩＩ．Ｂ．三価金属酸化物モノマー
様々な実施形態において、少なくとも１種の他の三価金属酸化物モノマーは、Ｍ１が第１３族金属であることが可能であり、かつ各Ｚ３が、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である、式Ｍ１（ＯＺ３）３（ＩＩ）の独立単位であり得る。
【００４８】
追加的に、または代わりに、Ｍ１は、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、ＴｌまたはＵｕｔであることが可能である。特に、Ｍ１は、ＡｌまたはＢであることが可能である。
【００４９】
追加的に、または代わりに、各Ｚ３は、水素原子であることが可能である。
【００５０】
追加的に、または代わりに、Ｍ１は、ＡｌまたはＢであることが可能であり、かつ各Ｚ３は、水素原子であることが可能である。
【００５１】
追加的に、または代わりに、各Ｚ３は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであることが可能である。特に、各Ｚ３は、メチル、エチル、プロピルまたはブチルであることが可能である。
【００５２】
追加的に、または代わりに、Ｍ１は、ＡｌまたはＢであることが可能であり、かつ各Ｚ３は、水素原子、メチル、エチル、プロピルまたはブチルであることが可能である。
【００５３】
追加的に、または代わりに、各Ｚ３は、別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【００５４】
追加的に、または代わりに、Ｍ１は、ＡｌまたはＢであることが可能であり、かつ各Ｚ３は、水素原子、メチル、エチル、プロピル、ブチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【００５５】
追加的に、または代わりに、Ｍ１は、ＡｌまたはＢであることが可能であり、かつ各Ｚ３は、水素原子または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【００５６】
追加的に、または代わりに、Ｍ１は、Ａｌであることが可能であり、かつ各Ｚ３は、水素原子、メチル、エチル、プロピル、ブチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【００５７】
特定の実施形態において、Ｍ１は、Ａｌであることが可能であり、かつ各Ｚ３は、水素原子、メチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【００５８】
別の特定の実施形態において、Ｍ１は、Ａｌであることが可能であり、かつ各Ｚ３は、水素原子、エチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【００５９】
別の特定の実施形態において、Ｍ１は、Ａｌであることが可能であり、かつ各Ｚ３は、水素原子、プロピルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【００６０】
別の特定の実施形態において、Ｍ１は、Ａｌであることが可能であり、かつ各Ｚ３は、水素原子、ブチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【００６１】
追加的に、または代わりに、式（Ｉ）と一緒に存在する場合、各Ｚ１およびＺ２は、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；Ｍ１は、ＡｌまたはＢであることが可能であり；かつ各Ｚ３は、水素原子、メチル、エチル、プロピル、ブチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【００６２】
別の特定の実施形態において、式（Ｉ）と一緒に存在する場合、各Ｚ１およびＺ２は、独立して、水素原子、エチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；Ｍ１は、ＡｌまたはＢであることが可能であり；かつ各Ｚ３は、水素原子、メチル、エチル、プロピル、ブチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【００６３】
別の特定の実施形態において、式（Ｉ）と一緒に存在する場合、各Ｚ１およびＺ２は、独立して、水素原子または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；Ｍ１は、ＡｌまたはＢであることが可能であり；かつ各Ｚ３は、水素原子または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【００６４】
様々な実施形態において、少なくとも１種の他の三価金属酸化物モノマーは、Ｍ２が第１３族金属であることが可能であり、かつ各Ｚ４および各Ｚ５が、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である、式（Ｚ４Ｏ）２Ｍ２−Ｏ−Ｓｉ（ＯＺ５）３（ＩＩＩ）の独立単位であり得る。
【００６５】
追加的に、または代わりに、Ｍ２は、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、ＴｌまたはＵｕｔであることが可能である。特に、Ｍ２は、ＡｌまたはＢであることが可能である。
【００６６】
追加的に、または代わりに、各Ｚ４および／または各Ｚ５は、水素原子であることが可能である。
【００６７】
追加的に、または代わりに、Ｍ２は、ＡｌまたはＢであることが可能であり、かつ各Ｚ４および／または各Ｚ５は、水素原子であることが可能である。
【００６８】
追加的に、または代わりに、各Ｚ４および／または各Ｚ５は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであることが可能である。特に、Ｚ４および／またはＺ５は、メチル、エチル、プロピルまたはブチルであることが可能である。
【００６９】
追加的に、または代わりに、Ｍ２は、ＡｌまたはＢであることが可能であり；かつ各Ｚ４および各Ｚ５は、独立して、水素原子、メチル、エチル、プロピルまたはブチルであることが可能である。
【００７０】
追加的に、または代わりに、各Ｚ４および／または各Ｚ５は、別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【００７１】
追加的に、または代わりに、Ｍ２は、ＡｌまたはＢであることが可能であり；かつ各Ｚ４および各Ｚ５は、独立して、水素原子、メチル、エチル、プロピル、ブチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【００７２】
追加的に、または代わりに、Ｍ２は、ＡｌまたはＢであることが可能であり；かつ各Ｚ４および各Ｚ５は、独立して、水素原子または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【００７３】
追加的に、または代わりに、Ｍ２は、Ａｌであることが可能であり；かつ各Ｚ４および各Ｚ５は、独立して、水素原子、メチル、エチル、プロピル、ブチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【００７４】
特定の実施形態において、Ｍ２は、Ａｌであることが可能であり；かつ各Ｚ４および各Ｚ５は、独立して、水素原子、メチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【００７５】
別の特定の実施形態において、Ｍ２は、Ａｌであることが可能であり；かつ各Ｚ４および各Ｚ５は、独立して、水素原子、エチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【００７６】
別の特定の実施形態において、Ｍ２は、Ａｌであることが可能であり；かつ各Ｚ４および各Ｚ５は、独立して、水素原子、プロピルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【００７７】
別の特定の実施形態において、Ｍ２は、Ａｌであることが可能であり；かつ各Ｚ４および各Ｚ５は、独立して、水素原子、ブチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【００７８】
追加的に、または代わりに、式（Ｉ）と一緒に存在する場合、各Ｚ１およびＺ２は、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；Ｍ２は、ＡｌまたはＢであることが可能であり；かつ各Ｚ４および各Ｚ５は、独立して、水素原子、メチル、エチル、プロピル、ブチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【００７９】
追加的に、または代わりに、式（Ｉ）と一緒に存在する場合、各Ｚ１およびＺ２は、独立して、水素原子、エチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；Ｍ２は、ＡｌまたはＢであることが可能であり；かつ各Ｚ４および各Ｚ５は、独立して、水素原子、メチル、エチル、プロピル、ブチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【００８０】
追加的に、または代わりに、式（Ｉ）と一緒に存在する場合、各Ｚ１およびＺ２は、独立して、水素原子または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；Ｍ２は、ＡｌまたはＢであることが可能であり；かつ各Ｚ４および各Ｚ５は、独立して、水素原子または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【００８１】
ＩＩ．Ｃ．追加的な任意のモノマー
１．式（ＩＶ）
様々な実施形態において、オルガノシリカ材料は、各Ｚ６が、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり、かつ各Ｚ７が、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である、少なくとも１種の式［Ｚ６ＯＺ７ＳｉＣＨ２］３（ＩＶ）の独立単位を有するモノマーをさらに含んでなり得る。
【００８２】
本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子」は、酸素原子が、存在する場合、別のモノマーのケイ素原子上の部分（特に、ヒドロキシルなどの酸素含有部分）に有利に置き換わることが可能であって、酸素原子が別のモノマーのケイ素原子に直接結合し得、それによって、例えば、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合によって、２種のモノマーが連結することを意味する。明快さのために、この結合状態において、「別のモノマー」は、同一種類のモノマーまたは異なる種類のモノマーであることが可能である。
【００８３】
様々な実施形態において、各Ｚ６は、水素原子であることが可能である。
【００８４】
追加的に、または代わりに、各Ｚ６は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであることが可能である。
【００８５】
追加的に、または代わりに、各Ｚ６は、水素原子またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能である。
【００８６】
追加的に、または代わりに、各Ｚ６は、別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【００８７】
追加的に、または代わりに、各Ｚ６は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【００８８】
追加的に、または代わりに、各Ｚ６は、水素原子、エチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【００８９】
追加的に、または代わりに、各Ｚ７は、ヒドロキシル基であることが可能である。
【００９０】
追加的に、または代わりに、各Ｚ７は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであることが可能である。
【００９１】
追加的に、または代わりに、各Ｚ７は、ヒドロキシル基またはＣ１〜Ｃ４アルキル基であることが可能である。
【００９２】
追加的に、または代わりに、各Ｚ７は、別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【００９３】
追加的に、または代わりに、各Ｚ７は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【００９４】
追加的に、または代わりに、各Ｚ７は、ヒドロキシル基、メチルまたは別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【００９５】
追加的に、または代わりに、各Ｚ６は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり、かつ各Ｚ７は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【００９６】
追加的に、または代わりに、各Ｚ６は、水素原子、エチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり、かつ各Ｚ７は、ヒドロキシル基、メチルまたは別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【００９７】
追加的に、または代わりに、各Ｚ６は、水素原子または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり、かつ各Ｚ７は、ヒドロキシル基、メチルまたは別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【００９８】
２．式（Ｖ）
様々な実施形態において、オルガノシリカ材料は、各Ｚ８が、水素原子またはＣ１〜Ｃ４アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；かつＺ９、Ｚ１０およびＺ１１が、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有ヘテロアラルキル基および窒素を含有し、任意に置換されたヘテロシクロアルキル基ならびに別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能である、少なくとも１種の式Ｚ８ＯＺ９Ｚ１０Ｚ１１Ｓｉ（Ｖ）の独立単位を有するモノマーをさらに含んでなり得る。
【００９９】
種々の態様において、各Ｚ８は、水素原子であることが可能である。
【０１００】
追加的に、または代わりに、各Ｚ８は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであることが可能である。
【０１０１】
追加的に、または代わりに、各Ｚ８は、水素原子またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能である。
【０１０２】
追加的に、または代わりに、各Ｚ８は、別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【０１０３】
追加的に、または代わりに、各Ｚ８は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【０１０４】
追加的に、または代わりに、各Ｚ８は、水素原子、エチル、メチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能である。
【０１０５】
追加的に、または代わりに、Ｚ９、Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基であることが可能である。
【０１０６】
追加的に、または代わりに、各Ｚ８は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；かつＺ９、Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基であることが可能である。
【０１０７】
追加的に、または代わりに、Ｚ９、Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであることが可能である。
【０１０８】
追加的に、または代わりに、Ｚ９、Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能である。
【０１０９】
追加的に、または代わりに、各Ｚ８は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；かつＺ９、Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能である。
【０１１０】
追加的に、または代わりに、Ｚ９、Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはメトキシであることが可能である。
【０１１１】
追加的に、または代わりに、Ｚ９、Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基およびＣ１〜Ｃ２アルコキシ基からなる群から選択されることが可能である。
【０１１２】
追加的に、または代わりに、各Ｚ８は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；かつＺ９、Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基およびＣ１〜Ｃ２アルコキシ基からなる群から選択されることが可能である。
【０１１３】
追加的に、または代わりに、Ｚ９、Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ９アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ８アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ７アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ５アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、またはメチルアミンであることが可能である。特に、Ｚ９、Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、窒素含有Ｃ２〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ９アルキル基または窒素含有Ｃ３〜Ｃ８アルキル基であることが可能である。上記窒素含有アルキル基は、１個またはそれ以上の窒素原子（例えば、２個、３個など）を有し得る。窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基の例としては、限定されないが、
【化３】
0006661636.tif 000004
が含まれる。
【０１１４】
追加的に、または代わりに、Ｚ９、Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基および窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基からなる群から選択されることが可能である。
【０１１５】
追加的に、または代わりに、各Ｚ８は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；かつＺ９、Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基および窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基からなる群から選択されることが可能である。
【０１１６】
追加的に、または代わりに、Ｚ９、Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、窒素含有ヘテロアラルキル基であることが可能である。窒素含有ヘテロアラルキル基は、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１２ヘテロアラルキル基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０ヘテロアラルキル基または窒素含有Ｃ４〜Ｃ８ヘテロアラルキル基であることが可能である。窒素含有ヘテロアラルキル基の例としては、限定されないが、ピリジニルエチル、ピリジニルプロピル、ピリジニルメチル、インドリルメチル、ピラジニルエチルおよびピラジニルプロピルが含まれる。上記窒素含有ヘテロアラルキル基は、１個またはそれ以上の窒素原子（例えば、２個、３個など）を有し得る。
【０１１７】
追加的に、または代わりに、Ｚ９、Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基および窒素含有ヘテロアラルキル基からなる群から選択されることが可能である。
【０１１８】
追加的に、または代わりに、各Ｚ８は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；かつＺ９、Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基および窒素含有ヘテロアラルキル基からなる群から選択されることが可能である。
【０１１９】
追加的に、または代わりに、Ｚ９、Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、特にＣ１〜Ｃ４アルキル基によって任意に置換され得る、窒素含有ヘテロシクロアルキル基であることが可能である。窒素含有ヘテロシクロアルキル基は、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１２ヘテロシクロアルキル基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０ヘテロシクロアルキル基または窒素含有Ｃ４〜Ｃ８ヘテロシクロアルキル基であることが可能である。窒素含有ヘテロシクロアルキル基の例としては、限定されないが、ピペラジニルエチル、ピペラジニルプロピル、ピペリジニルエチル、ピペリジニルプロピルが含まれる。上記窒素含有ヘテロシクロアルキル基は、１個またはそれ以上の窒素原子（例えば、２個、３個など）を有し得る。
【０１２０】
追加的に、または代わりに、Ｚ９、Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有ヘテロアラルキル基、および窒素を含有していて任意に置換されたヘテロシクロアルキル基からなる群から選択されることが可能である。
【０１２１】
追加的に、または代わりに、各Ｚ８は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；かつＺ９、Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有ヘテロアラルキル基、および窒素を含有していて任意に置換されたヘテロシクロアルキル基からなる群から選択されることが可能である。
【０１２２】
追加的に、または代わりに、Ｚ９、Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【０１２３】
追加的に、または代わりに、各Ｚ８は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；かつＺ９、Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有ヘテロアラルキル基、窒素を含有していて任意に置換されたヘテロシクロアルキル基および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能である。
【０１２４】
追加的に、または代わりに、各Ｚ８は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；かつＺ９、Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ８アルキル基、Ｃ４〜Ｃ１０ヘテロアラルキル基、窒素を含有していて任意に置換されたＣ４〜Ｃ１０ヘテロシクロアルキル基および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能である。
【０１２５】
追加的に、または代わりに、各Ｚ８は、水素原子または別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；かつＺ９、Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ８アルキル基、Ｃ４〜Ｃ１０ヘテロアラルキル基、窒素を含有し、任意に置換されたＣ４〜Ｃ１０ヘテロシクロアルキル基および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能である。
【０１２６】
特定の実施形態において、各Ｚ８は、水素原子、エチルまたは別のモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；かつＺ９、Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシおよび別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能である。
【０１２７】
別の特定の実施形態において、各Ｚ８は、水素原子、エチルまたは別のコモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；Ｚ９およびＺ１０は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシおよび別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能であり；かつＺ１１はメチルであることが可能である。
【０１２８】
別の特定の実施形態において、各Ｚ８は、水素原子、メチルまたは別のコモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；Ｚ９およびＺ１０は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、メトキシおよび別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能であり；かつ各Ｚ１１は、
【化４】
0006661636.tif 000005
であることが可能である。
【０１２９】
別の特定の実施形態において、各Ｚ８は、水素原子、エチルまたは別のコモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；Ｚ９およびＺ１０は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシおよび別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能であり；かつ各Ｚ１１は、
【化５】
0006661636.tif 000006
であることが可能である。
【０１３０】
別の特定の実施形態において、各Ｚ８は、水素原子、エチルまたは別のコモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；Ｚ９およびＺ１０は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシおよび別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能であり；かつ各Ｚ１１は、
【化６】
0006661636.tif 000007
であることが可能である。
【０１３１】
別の特定の実施形態において、各Ｚ８は、水素原子、エチルまたは別のコモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；Ｚ９およびＺ１０は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシおよび別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能であり；かつ各Ｚ１１は、
【化７】
0006661636.tif 000008
であることが可能である。
【０１３２】
別の特定の実施形態において、Ｚ８は、水素原子、エチルまたは別のコモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；Ｚ９およびＺ１０は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシおよび別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能であり；かつＺ１１は、
【化８】
0006661636.tif 000009
であることが可能である。
【０１３３】
別の特定の実施形態において、各Ｚ８は、水素原子、エチルまたは別のコモノマーのケイ素原子への結合であることが可能であり；Ｚ９およびＺ１０は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、エトキシおよび別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能であり；かつ各Ｚ１１は、
【化９】
0006661636.tif 000010
であることが可能である。
【０１３４】
３．式（ＶＩ）
様々な実施形態において、オルガノシリカ材料は、各Ｚ１２が、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基または別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；各Ｚ１３およびＺ１４が、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつ各Ｒが、Ｃ１〜Ｃ８アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルキニレン基、窒素含有Ｃ２〜Ｃ１０アルキレン基、任意に置換されたＣ６〜Ｃ２０アラルキルおよび任意に置換されたＣ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基からなる群から選択される、少なくとも１種の式Ｚ１２Ｚ１３Ｚ１４Ｓｉ−Ｒ−ＳｉＺ１２Ｚ１３Ｚ１４（ＶＩ）の単位を有するモノマーをさらに含んでなり得る。
【０１３５】
種々の態様において、各Ｚ１２は、ヒドロキシル基であることが可能である。
【０１３６】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１２は、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはメトキシであることが可能である。
【０１３７】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１２は、ヒドロキシル基またはＣ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能である。
【０１３８】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１２は、別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【０１３９】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１２は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基または別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【０１４０】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１２は、ヒドロキシル基または別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【０１４１】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１３およびＺ１４は、独立して、ヒドロキシル基であることが可能である。
【０１４２】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１３およびＺ１４は、独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはメトキシであることが可能である。
【０１４３】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１３およびＺ１４は、独立して、ヒドロキシル基またはＣ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能である。
【０１４４】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１３およびＺ１４は、独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであることが可能である。
【０１４５】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１３およびＺ１４は、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能である。
【０１４６】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１３およびＺ１４は、独立して、別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【０１４７】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１３およびＺ１４は、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【０１４８】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１３およびＺ１４は、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【０１４９】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１２は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基または別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつ各Ｚ１３およびＺ１４は、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【０１５０】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１２は、ヒドロキシル基、エトキシ、メトキシまたは別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつ各Ｚ１３およびＺ１４は、独立して、ヒドロキシル基、エトキシ、メチルまたは別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【０１５１】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１２は、ヒドロキシル基または別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつ各Ｚ１３およびＺ１４は、独立して、ヒドロキシル基、メチルまたは別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能である。
【０１５２】
追加的に、または代わりに、各Ｒは、Ｃ１〜Ｃ８アルキレン基、Ｃ１〜Ｃ７アルキレン基、Ｃ１〜Ｃ６アルキレン基、Ｃ１〜Ｃ５アルキレン基、Ｃ１〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ１〜Ｃ３アルキレン基、Ｃ１〜Ｃ２アルキレン基または−ＣＨ２−であることが可能である。
【０１５３】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１２は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基または別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；各Ｚ１３およびＺ１４は、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつ各Ｒは、Ｃ１〜Ｃ４アルキレン基であることが可能である。
【０１５４】
追加的に、または代わりに、各Ｒは、Ｃ２〜Ｃ８アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ７アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ５アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ３アルケニレン基または−ＨＣ＝ＣＨ−であることが可能である。
【０１５５】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１２は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基または別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；各Ｚ１３およびＺ１４は、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつ各Ｒは、Ｃ１〜Ｃ４アルキレン基およびＣ２〜Ｃ４アルケニレン基からなる群から選択されることが可能である。
【０１５６】
追加的に、または代わりに、各Ｒは、Ｃ２〜Ｃ８アルキニレン基、Ｃ２〜Ｃ７アルキニレン基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニレン基、Ｃ２〜Ｃ５アルキニレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルキニレン基、Ｃ２〜Ｃ３アルキニレン基または−Ｃ≡Ｃ−であることが可能である。
【０１５７】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１２は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基または別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；各Ｚ１３およびＺ１４は、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつ各Ｒは、Ｃ１〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルケニレン基およびＣ２〜Ｃ４アルキニレン基からなる群から選択されることが可能である。
【０１５８】
追加的に、または代わりに、各Ｒは、窒素含有Ｃ２〜Ｃ１０アルキレン基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキレン基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０アルキレン基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ９アルキレン基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ８アルキレン基または窒素含有Ｃ３〜Ｃ８アルキレン基であることが可能である。上記窒素含有アルキレン基は、１個またはそれ以上の窒素原子（例えば、２個、３個など）を有し得る。窒素含有アルキレン基の例としては、限定されないが、
【化１０】
0006661636.tif 000011
が含まれる。
【０１５９】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１２は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基または別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；各Ｚ１３およびＺ１４は、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつ各Ｒは、Ｃ１〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルキニレン基および窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０アルキレン基からなる群から選択されることが可能である。
【０１６０】
追加的に、または代わりに、各Ｒは、任意に置換されたＣ６〜Ｃ２０アラルキル、任意に置換されたＣ６〜Ｃ１４アラルキルまたは任意に置換されたＣ６〜Ｃ１０アラルキルであることが可能である。Ｃ６〜Ｃ２０アラルキルの例としては、限定されないが、フェニルメチル、フェニルエチおよびナフチルメチルが含まれる。アラルキルは、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、特にＣ１〜Ｃ４アルキル基で任意に置換され得る。
【０１６１】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１２は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基または別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；各Ｚ１３およびＺ１４は、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつＲは、Ｃ１〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルキニレン基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０アルキレン基および任意に置換されたＣ６〜Ｃ１０アラルキルからなる群から選択されることが可能である。
【０１６２】
追加的に、または代わりに、各Ｒは、任意に置換されたＣ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基、任意に置換されたＣ４〜Ｃ１６ヘテロシクロアルキル基、任意に置換されたＣ４〜Ｃ１２ヘテロシクロアルキル基または任意に置換されたＣ４〜Ｃ１０ヘテロシクロアルキル基であることが可能である。Ｃ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基の例としては、限定されないが、チエニルメチル、フリルエチル、ピロリルメチル、ピペラジニルエチル、ピリジルメチル、ベンゾキサゾリルエチル、キノリニルプロピルおよびイミダゾリルプロピルが含まれる。ヘテロシクロアルキルは、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、特にＣ１〜Ｃ４アルキル基で任意に置換され得る。
【０１６３】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１２は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基または別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；各Ｚ１３およびＺ１４は、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基または別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつＲは、Ｃ１〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルキニレン基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０アルキレン基、任意に置換されたＣ６〜Ｃ１０アラルキルおよび任意に置換されたＣ４〜Ｃ１０ヘテロシクロアルキル基からなる群から選択されることが可能である。
【０１６４】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１２は、ヒドロキシル基、エトキシ、メトキシまたは別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；各Ｚ１３およびＺ１４は、独立して、ヒドロキシル基、エトキシ、メトキシ、メチル、または別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつＲは、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＨＣ＝ＣＨ−、
【化１１】
0006661636.tif 000012
からなる群から選択されることが可能である。
【０１６５】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１２は、ヒドロキシル基または別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；各Ｚ１３およびＺ１４は、独立して、ヒドロキシル基、メチルまたは別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；かつ各Ｒは、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＨＣ＝ＣＨ−、
【化１２】
0006661636.tif 000013
からなる群から選択されることが可能である。
【０１６６】
特定の実施形態において、各Ｚ１２は、ヒドロキシル基、エトキシまたは別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；各Ｚ１３は、ヒドロキシル基、エトキシおよび別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；各Ｚ１４はメチルであることが可能であり；かつ各Ｒは−ＣＨ２ＣＨ２−であることが可能である。
【０１６７】
別の特定の実施形態において、各Ｚ１２は、ヒドロキシル基、エトキシまたは別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；各Ｚ１３およびＺ１４は、独立して、ヒドロキシル基、エトキシおよび別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能であり；かつＲは、−ＣＨ２−であることが可能である。
【０１６８】
別の特定の実施形態において、各Ｚ１２は、ヒドロキシル基、エトキシまたは別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；各Ｚ１３およびＺ１４は、独立して、ヒドロキシル基、エトキシおよび別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能であり；かつＲは、−ＨＣ＝ＣＨ−であることが可能である。
【０１６９】
別の特定の実施形態において、各Ｚ１２は、ヒドロキシル基、メトキシまたは別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；各Ｚ１３およびＺ１４は、独立して、ヒドロキシル基、メトキシおよび別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択されることが可能であり；かつ各Ｒは、
【化１３】
0006661636.tif 000014
であることが可能である。
【０１７０】
別の特定の実施形態において、各Ｚ１２は、ヒドロキシル基、エトキシまたは別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；各Ｚ１３は、ヒドロキシル基、エトキシおよび別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；各Ｚ１４はメチルであることが可能であり；かつ各Ｒは、
【化１４】
0006661636.tif 000015
であることが可能である。
【０１７１】
別の特定の実施形態において、各Ｚ１２は、ヒドロキシル基、メトキシまたは別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；各Ｚ１３は、ヒドロキシル基、メトキシおよび別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子であることが可能であり；各Ｚ１４はメチルであることが可能であり；かつ各Ｒは、
【化１５】
0006661636.tif 000016
であることが可能である。
【０１７２】
本明細書に記載の方法によって製造されたオルガノシリカ材料は、以下の項目で記載されるように特徴決定することが可能である。
【０１７３】
ＩＩ．Ａ．Ｘ線回折ピーク
本明細書に記載のオルガノシリカ材料は、約１〜約４度２θの１つのピーク、特に約１〜約３度２θまたは約１〜約２度２θの１つのピークを有する粉末Ｘ線回折パターンを示すことが可能である。追加的に、または代わりに、オルガノシリカ材料は、約０．５〜約１０度２θ、約０．５〜約１２度２θの範囲、約０．５〜約１５度２θ、約０．５〜約２０度２θ、約０．５〜約３０度２θ、約０．５〜約４０度２θ、約０．５〜約５０度２θ、約０．５〜約６０度２θ、約０．５〜約７０度２θ、約２〜約１０度２θ、約２〜約１２度２θの範囲、約２〜約１５度２θ、約２〜約２０度２θ、約２〜約３０度２θ、約２〜約４０度２θ、約２〜約５０度２θ、約２〜約６０度２θ、約２〜約７０度２θ、約３〜約１０度２θ、約３〜約１２度２θの範囲、約３〜約１５度２θ、約３〜約２０度２θ、約３〜約３０度２θ、約３〜約４０度２θ、約３〜約５０度２θ、約３〜約６０度２θまたは約３〜約７０度２θの範囲においてピークを実質的に示さないことが可能である。
【０１７４】
ＩＩ．Ｂ．シラノール含有量
オルガノシリカ材料は、合成溶液の組成次第で、広範囲で変動するシラノール含有量を有することが可能である。シラノール含有量は、固体状態ケイ素ＮＭＲによって都合よく決定することが可能である。
【０１７５】
様々な態様において、オルガノシリカ材料は、約５％より高い、約１０％より高い、約１５％より高い、約２０％より高い、約２５％より高い、約３０％より高い、約３３％より高い、３５％より高い、約４０％より高い、約４１％より高い、約４４％より高い、約４５％より高い、約５０％より高い、約５５％より高い、約６０％より高い、約６５％より高い、約７０％より高い、約７５％より高い、または約８０％より高いシラノール含有量を有することが可能である。特定の実施形態において、シラノール含有量は、約３０％より高いか、または約４１％より高いことが可能である。
【０１７６】
追加的に、または代わりに、オルガノシリカ材料は、約５％〜約８０％、約５％〜約７５％、約５％〜約７０％、約５％〜約６５％、約５％〜約６０％、約５％〜約５５％、約５％〜約５０％、約５％〜約４５％、約５％〜約４４％、約５％〜約４１％、約５％〜約４０％、約５％〜約３５％、約５％〜約３３％、約５％〜約３０％、約５％〜約２５％、約５％〜約２０％、約５％〜約１５％、約５％〜約１０％、約１０％〜約８０％、約１０％〜約７５％、約１０％〜約７０％、約１０％〜約６５％、約１０％〜約６０％、約１０％〜約５５％、約１０％〜約５０％、約１０％〜約４５％、約１０％〜約４４％、約１０％〜約４１％、約１０％〜約４０％、約１０％〜約３５％、約１０％〜約３３％、約１０％〜約３０％、約１０％〜約２５％、約１０％〜約２０％、約２０％〜約８０％、約２０％〜約７５％、約２０％〜約７０％、約２０％〜約６５％、約２０％〜約６０％、約２０％〜約５５％、約２０％〜約５０％、約２０％〜約４５％、約２０％〜約４４％、約２０％〜約４１％、約２０％〜約４０％、約２０％〜約３５％、約２０％〜約３３％、約２０％〜約３０％、約２０％〜約２５％、約３０％〜約８０％、約３０％〜約７５％、約３０％〜約７０％、約３０％〜約６５％、約３０％〜約６０％、約３０％〜約５５％、約３０％〜約５０％、約３０％〜約４５％、約３０％〜約４４％、約３０％〜約４１％、約３０％〜約４０％、約３０％〜約３５％、約３０％〜約３３％、約４０％〜約８０％、約４０％〜約７５％、約４０％〜約７０％、約４０％〜約６５％、約４０％〜約６０％、約４０％〜約５５％、約４０％〜約５０％、約４０％〜約４５％、約４０％〜約４４％または約４０％〜約４１％のシラノール含有量を有し得る。
【０１７７】
ＩＩ．Ｃ．細孔径
本明細書に記載のオルガノシリカ材料は、有利にメソポーラス形態である。上記の通り、メソポーラスという用語は、約２ｎｍ〜約５０ｎｍの範囲の直径を有する細孔を有する固体材料を指す。オルガノシリカ材料の平均細孔直径は、例えば、ＢＥＴ（Ｂｒｕｎａｕｅｒ  Ｅｍｍｅｔ  Ｔｅｌｌｅｒ）法などの当業者の専門知識の範囲内の窒素吸着−脱着等温線技術を使用して決定することが可能である。
【０１７８】
オルガノシリカ材料は、約０．２ｎｍ、約０．４ｎｍ、約０．５ｎｍ、約０．６ｎｍ、約０．８ｎｍ、約１．０ｎｍ、約１．５ｎｍ、約１．８ｎｍまたは約２．０ｎｍ未満の平均細孔直径を有することが可能である。
【０１７９】
追加的に、または代わりに、オルガノシリカ材料は、有利に、約２．０ｎｍ、約２．５ｎｍ、約３．０ｎｍ、約３．１ｎｍ、約３．２ｎｍ、約３．３ｎｍ、約３．４ｎｍ、約３．５ｎｍ、約３．６ｎｍ、約３．７ｎｍ、約３．８ｎｍ、約３．９ｎｍ、約４．０ｎｍ、約４．１ｎｍ、約４．５ｎｍ、約５．０ｎｍ、約６．０ｎｍ、約７．０ｎｍ、約７．３ｎｍ、約８ｎｍ、約８．４ｎｍ、約９ｎｍ、約１０ｎｍ、約１１ｎｍ、約１３ｎｍ、約１５ｎｍ、約１８ｎｍ、約２０ｎｍ、約２３ｎｍ、約２５ｎｍ、約３０ｎｍ、約４０ｎｍ、約４５ｎｍまたは約５０ｎｍのメソ細孔範囲内の平均細孔直径を有することが可能である。
【０１８０】
追加的に、または代わりに、オルガノシリカ材料は、０．２ｎｍ〜約５０ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約４０ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約３０ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約２５ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約２３ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約２０ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約１８ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約１５ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約１３ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約１１ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約１０ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約９ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約８．４ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約８ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約７．３ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約７．０ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約６．０ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約５．０ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約４．５ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約４．１ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約４．０ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約３．９ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約３．８ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約３．７ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約３．６ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約３．５ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約３．４ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約３．３ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約３．２ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約３．１ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約３．０ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約２．５ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約２．０ｎｍ、約０．２ｎｍ〜約１．０ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約５０ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約４０ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約３０ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約２５ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約２３ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約２０ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約１８ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約１５ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約１３ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約１１ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約１０ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約９ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約８．４ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約８ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約７．３ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約７．０ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約６．０ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約５．０ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約４．５ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約４．１ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約４．０ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約３．９ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約３．８ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約３．７ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約３．６ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約３．５ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約３．４ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約３．３ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約３．２ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約３．１ｎｍ、約１．０ｎｍ〜約３．０ｎｍまたは約１．０ｎｍ〜約２．５ｎｍの平均細孔直径を有することが可能である。
【０１８１】
特に、オルガノシリカ材料は、有利に、約２．０ｎｍ〜約５０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約４０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約３０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約２５ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約２３ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約２０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約１８ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約１５ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約１３ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約１１ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約１０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約９ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約８．４ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約８ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約７．３ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約７．０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約６．０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約５．０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約４．５ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約４．１ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約４．０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約３．９ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約３．８ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約３．７ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約３．６ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約３．５ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約３．４ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約３．３ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約３．２ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約３．１ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約３．０ｎｍ、約２．０ｎｍ〜約２．５ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約５０ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約４０ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約３０ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約２５ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約２３ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約２０ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約１８ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約１５ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約１３ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約１１ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約１０ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約９ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約８．４ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約８ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約７．３ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約７．０ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約６．０ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約５．０ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約４．５ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約４．１ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約４．０ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約３．９ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約３．８ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約３．７ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約３．６ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約３．５ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約３．４ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約３．３ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約３．２ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約３．１ｎｍ、約２．５ｎｍ〜約３．０ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約５０ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約４０ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約３０ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約２５ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約２３ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約２０ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約１８ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約１５ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約１３ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約１１ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約１０ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約９ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約８．４ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約８ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約７．３ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約７．０ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約６．０ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約５．０ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約４．５ｎｍ、約３．０ｎｍ〜約４．１ｎｍまたは約３．０ｎｍ〜約４．０ｎｍのメソ細孔範囲内の平均細孔直径を有することが可能である。
【０１８２】
１つの特定の実施形態において、本明細書に記載のオルガノシリカ材料は、約１．０ｎｍ〜約３０．０ｎｍ、特に約１．０ｎｍ〜約２５．０ｎｍ、特に約１．５ｎｍ〜約２５．０ｎｍ、特に約２．０ｎｍ〜約２５．０ｎｍ、特に約２．０ｎｍ〜約２０．０ｎｍ、特に約２．０ｎｍ〜約１５．０ｎｍまたは特に約２．０ｎｍ〜約１０．０ｎｍの平均細孔直径を有することが可能である。
【０１８３】
メソポーラス材料を合成するためのテンプレートとして界面活性剤を使用することによって、非常に規則的な構造、例えば、良好に画定された円柱状様細孔チャネルを作成することができる。いくつかの場合、Ｎ２吸着等温線から観察された履歴現象ループがなくてもよい。他の場合、例えばメソポーラス材料が、それほど規則的ではない細孔構造を有することが可能である場合、Ｎ２吸着等温線実験から履歴現象ループが観察されてもよい。そのような場合、理論によって拘束されないが、履歴現象は、細孔形状／径の規則性の欠如から、および／またはそのような不規則細孔におけるボトルネック狭窄からの結果として生じる可能性がある。
【０１８４】
ＩＩ．Ｄ．表面積
オルガノシリカ材料の表面積は、例えば、ＢＥＴ（Ｂｒｕｎａｕｅｒ  Ｅｍｍｅｔ  Ｔｅｌｌｅｒ）法などの当業者の専門知識の範囲内の窒素吸着−脱着等温線技術を使用して決定することが可能である。この方法によって、全表面積、外部表面積およびミクロポーラス表面積が決定され得る。本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「全表面積」は、ＢＥＴ法によって決定される全表面積を指す。本明細書で使用される場合、および他に明示されない限り、「ミクロポーラス表面積」は、ＢＥＴ法によって決定されるミクロポーラス表面積を指す。
【０１８５】
様々な実施形態において、オルガノシリカ材料は、約１００ｍ２／ｇ以上、約２００ｍ２／ｇ以上、約３００ｍ２／ｇ以上、約４００ｍ２／ｇ以上、約４５０ｍ２／ｇ以上、約５００ｍ２／ｇ以上、約５５０ｍ２／ｇ以上、約６００ｍ２／ｇ以上、約７００ｍ２／ｇ以上、約８００ｍ２／ｇ以上、約８５０ｍ２／ｇ以上、約９００ｍ２／ｇ以上、約１，０００ｍ２／ｇ以上、約１，０５０ｍ２／ｇ以上、約１，１００ｍ２／ｇ以上、約１，１５０ｍ２／ｇ以上、約１，２００ｍ２／ｇ以上、約１，２５０ｍ２／ｇ以上、約１，３００ｍ２／ｇ以上、約１，４００ｍ２／ｇ以上、約１，４５０ｍ２／ｇ以上、約１，５００ｍ２／ｇ以上、約１，５５０ｍ２／ｇ以上、約１，６００ｍ２／ｇ以上、約１，７００ｍ２／ｇ以上、約１，８００ｍ２／ｇ以上、約１，９００ｍ２／ｇ以上、約２，０００ｍ２／ｇ以上、約２，１００ｍ２／ｇ以上、約２，２００ｍ２／ｇ以上、約２，３００ｍ２／ｇ以上または約２，５００ｍ２／ｇ以上の全表面積を有することが可能である。
【０１８６】
追加的に、または代わりに、オルガノシリカ材料は、約５０ｍ２／ｇ〜約２，５００ｍ２／ｇ、約５０ｍ２／ｇ〜約２，０００ｍ２／ｇ、約５０ｍ２／ｇ〜約１，５００ｍ２／ｇ、約５０ｍ２／ｇ〜約１，０００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約２，５００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約２，３００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約２，２００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約２，１００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約２，０００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，９００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，８００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，７００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，６００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，５５０ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，５００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，４５０ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，４００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，３００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，２５０ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，２００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，１５０ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，１００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，０５０ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約１，０００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約９００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約８５０ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約８００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約７００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約６００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約５５０ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約５００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約４５０ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約４００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約３００ｍ２／ｇ、約１００ｍ２／ｇ〜約２００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約２，５００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約２，３００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約２，２００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約２，１００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約２，０００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約１，９００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約１，８００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約１，７００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約１，６００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約１，５５０ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約１，５００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約１，４５０ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約１，４００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約１，３００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約１，２５０ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約１，２００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約１，１５０ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約１，１００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約１，０５０ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約１，０００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約９００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約８５０ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約８００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約７００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約６００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約５５０ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約５００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約４５０ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約４００ｍ２／ｇ、約２００ｍ２／ｇ〜約３００ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約２，５００ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約２，３００ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約２，２００ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約２，１００ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約２，０００ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約１，９００ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約１，８００ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約１，７００ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約１，６００ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約１，５５０ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約１，５００ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約１，４５０ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約１，４００ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約１，３００ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約１，２５０ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約１，２００ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約１，１５０ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約１，１００ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約１，０５０ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約１，０００ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約９００ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約８５０ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約８００ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約７００ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約６００ｍ２／ｇ、約５００ｍ２／ｇ〜約５５０ｍ２／ｇ、約１，０００ｍ２／ｇ〜約２，５００ｍ２／ｇ、約１，０００ｍ２／ｇ〜約２，３００ｍ２／ｇ、約１，０００ｍ２／ｇ〜約２，２００ｍ２／ｇ、約１，０００ｍ２／ｇ〜約２，１００ｍ２／ｇ、約１，０００ｍ２／ｇ〜約２，０００ｍ２／ｇ、約１，０００ｍ２／ｇ〜約１，９００ｍ２／ｇ、約１，０００ｍ２／ｇ〜約１，８００ｍ２／ｇ、約１，０００ｍ２／ｇ〜約１，７００ｍ２／ｇ、約１，０００ｍ２／ｇ〜約１，６００ｍ２／ｇ、約１，０００ｍ２／ｇ〜約１，５５０ｍ２／ｇ、約１，０００ｍ２／ｇ〜約１，５００ｍ２／ｇ、約１，０００ｍ２／ｇ〜約１，４５０ｍ２／ｇ、約１，０００ｍ２／ｇ〜約１，４００ｍ２／ｇ、約１，０００ｍ２／ｇ〜約１，３００ｍ２／ｇ、約１，０００ｍ２／ｇ〜約１，２５０ｍ２／ｇ、約１，０００ｍ２／ｇ〜約１，２００ｍ２／ｇ、約１，０００ｍ２／ｇ〜約１，１５０ｍ２／ｇ、約１，０００ｍ２／ｇ〜約１，１００ｍ２／ｇまたは約１，０００ｍ２／ｇ〜約１，０５０ｍ２／ｇの全表面積を有し得る。
【０１８７】
１つの特定の実施形態において、本明細書に記載のオルガノシリカ材料は、約２００ｍ２／ｇ〜約２，５００ｍ２ｇ、特に約４００ｍ２／ｇ〜約２，５００ｍ２／ｇ、特に約４００ｍ２／ｇ〜約２，０００ｍ２／ｇまたは特に約４００ｍ２／ｇ〜約１，５００ｍ２／ｇの全表面積を有し得る。
【０１８８】
ＩＩＩ．Ｅ．細孔体積
本明細書に記載の方法によって製造されたオルガノシリカ材料の細孔体積は、例えば、ＢＥＴ（Ｂｒｕｎａｕｅｒ  Ｅｍｍｅｔ  Ｔｅｌｌｅｒ）法などの当業者の専門知識の範囲内の窒素吸着−脱着等温線技術を使用して、決定することが可能である。
【０１８９】
様々な実施形態において、オルガノシリカ材料は、約０．１ｃｍ３／ｇ以上、約０．２ｃｍ３／ｇ以上、約０．３ｃｍ３／ｇ以上、約０．４ｃｍ３／ｇ以上、約０．５ｃｍ３／ｇ以上、約０．６ｃｍ３／ｇ以上、約０．７ｃｍ３／ｇ以上、約０．８ｃｍ３／ｇ以上、約０．９ｃｍ３／ｇ以上、約１．０ｃｍ３／ｇ以上、約１．１ｃｍ３／ｇ以上、約１．２ｃｍ３／ｇ以上、約１．３ｃｍ３／ｇ以上、約１．４ｃｍ３／ｇ以上、約１．５ｃｍ３／ｇ以上、約１．６ｃｍ３／ｇ以上、約１．７ｃｍ３／ｇ以上、約１．８ｃｍ３／ｇ以上、約１．９ｃｍ３／ｇ以上、約２．０ｃｍ３／ｇ以上、約２．５ｃｍ３／ｇ以上、約３．０ｃｍ３／ｇ以上、約３．５ｃｍ３／ｇ以上、約４．０ｃｍ３／ｇ以上、約５．０ｃｍ３／ｇ以上、約６．０ｃｍ３／ｇ以上、約７．０ｃｍ３／ｇ以上または約１０．０ｃｍ３／ｇ以上の細孔体積を有することが可能である。
【０１９０】
追加的に、または代わりに、オルガノシリカ材料は、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約１０．０ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約７．０ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約６．０ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約５．０ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約４．０ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約３．５ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約３．０ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約２．５ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約２．０ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約１．９ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約１．８ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約１．７ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約１．６ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約１．５ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約１．４ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約１．３ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約１．２ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約１．１、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約１．０ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約０．９ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約０．８ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約０．７ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約０．６ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約０．５ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約０．４ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約０．３ｃｍ３／ｇ、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約０．２ｃｍ３／ｇ、０．２ｃｍ３／ｇ〜約１０．０ｃｍ３／ｇ、約０．２ｃｍ３／ｇ〜約７．０ｃｍ３／ｇ、約０．２ｃｍ３／ｇ〜約６．０ｃｍ３／ｇ、約０．２ｃｍ３／ｇ〜約５．０ｃｍ３／ｇ、約０．２ｃｍ３／ｇ〜約４．０ｃｍ３／ｇ、約０．２ｃｍ３／ｇ〜約３．５ｃｍ３／ｇ、約０．２ｃｍ３／ｇ〜約３．０ｃｍ３／ｇ、約０．２ｃｍ３／ｇ〜約２．５ｃｍ３／ｇ、約０．２ｃｍ３／ｇ〜約２．０ｃｍ３／ｇ、約０．２ｃｍ３／ｇ〜約１．９ｃｍ３／ｇ、約０．２ｃｍ３／ｇ〜約１．８ｃｍ３／ｇ、約０．２ｃｍ３／ｇ〜約１．７ｃｍ３／ｇ、約０．２ｃｍ３／ｇ〜約１．６ｃｍ３／ｇ、約０．２ｃｍ３／ｇ〜約１．５ｃｍ３／ｇ、約０．２ｃｍ３／ｇ〜約１．４ｃｍ３／ｇ、約０．２ｃｍ３／ｇ〜約１．３ｃｍ３／ｇ、約０．２ｃｍ３／ｇ〜約１．２ｃｍ３／ｇ、約０．２ｃｍ３／ｇ〜約１．１、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約１．０ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約０．９ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約０．８ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約０．７ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約０．６ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約０．５ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約０．４ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約０．３ｃｍ３／ｇ、０．５ｃｍ３／ｇ〜約１０．０ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約７．０ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約６．０ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約５．０ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約４．０ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約３．５ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約３．０ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約２．５ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約２．０ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約１．９ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約１．８ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約１．７ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約１．６ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約１．５ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約１．４ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約１．３ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約１．２ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約１．１、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約１．０ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約０．９ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約０．８ｃｍ３／ｇ、約０．５ｃｍ３／ｇ〜約０．７ｃｍ３／ｇまたは約０．５ｃｍ３／ｇ〜約０．６ｃｍ３／ｇの細孔体積を有することが可能である。
【０１９１】
特定の実施形態において、オルガノシリカ材料は、約０．１ｃｍ３／ｇ〜約５．０ｃｍ３／ｇ、特に約０．１ｃｍ３／ｇ〜約３．０ｃｍ３／ｇ、特に約０．２ｃｍ３／ｇ〜約２．５ｃｍ３／ｇ、または特に約０．２ｃｍ３／ｇ〜約１．５ｃｍ３／ｇの細孔体積を有することが可能である。
【０１９２】
ＩＩＩ．Ｆ．追加金属
いくつかの実施形態において、オルガノシリカ材料は、オルガノシリカ材料の細孔内に組み込まれた少なくとも１種の触媒金属をさらに含んでなることが可能である。代表的な触媒金属としては、限定されないが、第６族元素、第８族元素、第９族元素、第１０族元素またはそれらの組合せを含むことが可能である。代表的な第６族元素としては、限定されないが、クロム、モリブデンおよび／またはタングステンが含まれ、特にモリブデンおよび／またはタングステンを含むことが可能である。代表的な第８族元素としては、限定されないが、鉄、ルテニウムおよび／またはオスミウムを含むことが可能である。代表的な第９族元素としては、限定されないが、コバルト、ロジウムおよび／またはイリジウムが含まれ、特にコバルトを含むことが可能である。代表的な第１０族元素としては、限定されないが、ニッケル、パラジウムおよび／または白金を含むことが可能である。
【０１９３】
触媒金属は、含浸によって、イオン交換によって、または表面部位への錯化によってなどのいずれかの慣例的な方法によって、オルガノシリカ材料中に組み込むことが可能である。そのようにして組み込まれた触媒金属は、一般に石油精製または石油化学製品製造で実行される多数の触媒変換のいずれか１つを促進するために利用され得る。そのような触媒プロセスの例としては、限定されないが、水素化、脱水素、芳香族化、芳香族飽和、水素化脱硫、オレフィンオリゴマー形成、重合、水素化脱窒素、水素化分解、ナフサ改質、パラフィン異性化、芳香族アルキル交換、二重／三重結合の飽和など、ならびにそれらの組合せを含むことが可能である。
【０１９４】
したがって、別の実施形態において、本明細書に記載されるオルガノシリカ材料を含んでなる触媒材料が提供される。触媒材料は、任意に、結合剤を含んでなり得るか、または自己結合し得る。適切な結合剤としては、限定されないが、活性材料および不活性材料、合成または天然由来ゼオライト、ならびに無機材料、例えば、クレーおよび／または酸化物、例えば、シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタニア、シリカ−アルミナ、酸化セリウム、酸化マグネシウム、あるいはそれらの組合せが含まれる。特に、結合剤は、シリカ−アルミナ、アルミナおよび／またはゼオライト、特にアルミナであってよい。シリカ−アルミナは、天然由来であり得るか、あるいはシリカおよび酸化金属の混合物を含む、ゼラチン状沈殿物またはゲルの形態のいずれかであり得る。本明細書において、ゼオライト結合剤材料と関連する、すなわち、それと組み合わせて、またはその合成の間に存在する、それ自体が触媒的に活性である材料の使用は、最終触媒の変換および／または選択性を変更し得ることが認識されることは留意すべきである。本明細書において、不活性材料は、本発明がアルキル化プロセスに利用され、そして反応速度を制御するための他の手段を利用せずに経済的に、かつ秩序的にアルキル化製品を得ることができる場合、変換の量を制御するための希釈剤として適切に役立つことが可能であることも認識される。これらの不活性材料は、商業的な作動条件下での触媒の粉砕強度を改善するため、そして触媒のための結合剤またはマトリックスとして機能するために、天然由来のクレー、例えば、ベントナイトおよびカオリン中に組み込まれてよい。本明細書に記載される触媒は、複合化された形態で、約１００部の支持体材料対約０部の結合剤材料（又はバインダー材料）；約９９部の支持体材料対約１部の結合剤材料；約９５部の支持体材料対約５部の結合剤材料の支持体材料対結合剤材料の比率を含んでなることが可能である。追加的に、または代わりに、本明細書に記載される触媒は、複合化された形態で、約９０部の支持体材料対１０部の結合剤材料〜１０部の支持体材料対９０部の結合剤材料；約８５部の支持体材料対１５部の結合剤材料〜１５部の支持体材料対８５部の結合剤材料；約８０部の支持体材料対２０部の結合剤材料〜２０部の支持体材料対８０部の結合剤材料の範囲の支持体材料対結合剤材料の比率を含んでなることが可能である。全ての比率は重量によるものであり、典型的に、８０：２０〜５０：５０、好ましくは６５：３５〜３５：６５の支持体材料：結合剤材料である。複合化は、材料を一緒に混練することを含む従来の手段によって、そしてそれに続いて、所望の最終触媒粒子へとペレット化する押出成形によって実行され得る。
【０１９５】
いくつかの実施形態において、オルガノシリカ材料は、網目構造に組み込まれたカチオン性金属部位をさらに含んでなることが可能である。そのようなカチオン性金属部位は、含浸または有機前駆体による表面への錯化などのいずれかの都合のよい方法によって、あるいはいずれかの他の方法によって、組み込むことが可能である。このようなオルガノ金属材料は、石油精製または石油化学製品製造において実行される多くの炭化水素分離において使用され得る。石油化学製品／燃料から望ましく分離される、そのような化合物の例としては、オレフィン、パラフィン、芳香族などを含むことができる。
【０１９６】
追加的に、または代わりに、オルガノシリカ材料は、オルガノシリカ材料の細孔内に組み込まれた表面金属をさらに含んでなることが可能である。表面金属は、第１族元素、第２族元素、第１３族元素およびそれらの組合せから選択されることが可能である。第１族元素が存在維する場合、それは、好ましくは、ナトリウムおよび／またはカリウムを含んでなることが可能であるか、あるいはそれらであることが可能である。第２族元素が存在維する場合、それは、限定されないが、マグネシウムおよび／またはカルシウムを含み得る。第１３族元素が存在維する場合、それは、限定されないが、ホウ素および／またはアルミニウムを含み得る。
【０１９７】
第１、２、６、８〜１０および／または１３族元素の１種またはそれ以上は、オルガノシリカ材料の外部および／または内部表面上に存在し得る。例えば、第１、２および／または１３族元素の１種またはそれ以上は、オルガノシリカ材料上の第１の層に存在し得、かつ第６、８、９および／または１０族元素の１種またはそれ以上は、第２の層に、例えば、少なくとも部分的に、第１、２および／または１３族元素の上部に存在し得る。追加的に、または代わりに、第６、８、９および／または１０族元素の１種またはそれ以上のみが、オルガノシリカ材料の外部および／または内部表面上に存在し得る。表面金属は、含浸、析出、グラフト化、共縮合、イオン交換などの、いずれかの都合のよい方法によって、オルガノシリカ材料中／上に組み込まれることが可能である。
【０１９８】
ＩＩＩ．オルガノシリカ材料の製造法
別の実施形態において、本明細書に記載のオルガノシリカ材料の製造法が提供される。この方法は、
（ａ）構造指向剤および／またはポロゲンを本質的に含有しない水性混合物を供給すること（又は工程もしくはステップ）と、
（ｂ）各Ｒ１がＣ１〜Ｃ４アルコキシ基であることが可能であり、かつ各Ｒ２がＣ１〜Ｃ４アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ４アルキル基であることが可能である、式［Ｒ１Ｒ２ＳｉＣＨ２］３（Ｉａ）の少なくとも１種の化合物を、上記水性混合物に添加し、溶液を形成すること（又は工程もしくはステップ）と、
（ｃ）少なくとも１種の三価金属酸化物の供給源を、上記水溶液に添加すること（又は工程もしくはステップ）と、
（ｄ）上記溶液を老化し、半製品を製造すること（又は工程もしくはステップ）と、
（ｅ）上記半製品を乾燥させ、本明細書に記載の少なくとも１種の式（Ｉ）の独立モノマーを含んでなるポリマーである、オルガノシリカ材料を得ること（又は工程もしくはステップ）と
を含んでなる。
【０１９９】
ＩＩＩ．Ａ．水性混合物
本明細書に記載のオルガノシリカ材料は、構造指向を本質的に使用せずに製造され得る。追加的に、または代わりに、少なくとも１種の式［Ｒ１Ｒ２ＳｉＣＨ２］３（Ｉａ）の化合物は、各Ｒ１が、より広範囲に、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基または別のシロキサンのケイ素に結合した酸素原子を表すことが可能であり、かつ各Ｒ２が、より広範囲に、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基または別のシロキサンのケイ素に結合した酸素原子を表すことが可能となるように、ステップ（ｂ）において、少なくとも部分的にヒドロキシル化され、かつ／または少なくとも部分的に重合化／オリゴマー化されたものとして添加されることが可能である。言い換えると、未老化の半製品が、（少なくとも１種の）式［Ｒ１Ｒ２ＳｉＣＨ２］３（Ｉａ）のモノマーの化合物に加えて、またはその代わりに、ステップ（ｂ）において添加されることが可能である。
【０２００】
薬剤またはポロゲン。したがって、水性混合物は、添加された構造指向剤および／または添加されたポロゲンを本質的に含有しない。
【０２０１】
本明細書で使用される場合、「構造指向剤が添加されない」および「プロゲンが添加されない」は、（ｉ）オルガノシリカ材料のフレームワークを形成するビルディングブロックの重合および／または重縮合および／または組織化を補助および／または誘導する成分がオルガノシリカ材料の合成において存在しないこと、あるいは（ｉｉ）、成分が、オルガノシリカ材料のフレームワークを形成するビルディングブロックの重合および／または重縮合および／または組織化を補助および／または誘導するとは言うことが不可能であるように、少量または非実質的な量または無視できる量で、そのような成分がオルガノシリカ材料の合成において存在することのいずれかを意味する。さらに、「構造指向剤が添加されない」は、「追加テンプレートがない」および「鋳型剤が添加されない」と類語である。
【０２０２】
１．構造指向剤
構造指向剤の例としては、限定されないが、非イオン性界面活性剤、イオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、ケイ素界面活性剤、両性界面活性剤、ポリアルキレンオキシド界面活性剤、フルオロ界面活性剤、コロイド性結晶、ポリマー、ハイパー分枝状分子、星型分子、巨大分子、デンドリマーおよびそれらの組合せを含むことが可能である。追加的に、または代わりに、表面指向剤は、ポロキサマー、トリブロックポリマー、テトラアルキルアンモニウム塩、非イオン性ポリオキシエチレンアルキル、ジェミニ界面活性剤、またはそれらの混合物を含んでなることが可能であるか、あるいはそれらであることが可能である。テトラアルキルアンモニウム塩の例としては、限定されないが、セチルトリメチルアンモニウムクロリド（ＣＴＡＣ）、セチルトリメチルアンモニウムブロミド（ＣＴＡＢ）およびオクタデシルトリメチルアンモニウムクロリドなどの、セチルトリメチルアンモニウムハライドを含むことが可能である。他の代表的な表面指向剤は、追加的に、または代わりに、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロリドおよび／またはセチルピリジニウムブロミドを含むことが可能である。
【０２０３】
ポロキサマーは、エチレンオキシドとプロピレンオキシドとのブロックコポリマー、より特に、ポリオキシエチレン（ポリ（エチレンオキシド））の２個の親水性鎖によって挾まれた、ポリオキシプロピレン（ポリ（プロピレンオキシド））の中央疎水性鎖からなる非イオン性トリブロックコポリマーである。特に、「ポロキサマー」という用語は、「ａ」および「ｂ」が、それぞれ、ポリオキシエチレンおよびポリオキシプロピレン単位の数を意味する、式ＨＯ（Ｃ２Ｈ４））ａ（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｂ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ａＨを有するポリマーを指す。ポロキサマーは、商標名Ｐｌｕｒｏｎｉｃ（登録商標）、例えば、Ｐｌｕｒｏｎｉｃ（登録商標）１２３およびＰｌｕｒｏｎｉｃ（登録商標）Ｆ１２７によっても既知である。追加的なトリブロックポリマーは、Ｂ５０−６６００である。
【０２０４】
非イオン性ポリオキシエチレンアルキルエーテルは、商標名Ｂｒｉｊ（登録商標）、例えば、Ｂｒｉｊ（登録商標）５６、Ｂｒｉｊ（登録商標）５８、Ｂｒｉｊ（登録商標）７６、Ｂｒｉｊ（登録商標）７８によっても既知である。ジェミニ界面活性剤は、１分子あたり、少なくとも２個の疎水基を有し、かつ少なくとも１個、または任意に２個の親水基が導入された化合物である。
【０２０５】
２．ポロゲン
ポロゲン材料は、オルガノシリカ材料において、ドメイン、離散的領域、空隙および／または細孔を形成することが可能である。ポロゲンの例は、ブロックコポリマー（例えば、ジブロックポリマー）である。本明細書で使用される場合、ポロゲンとしては水を含まない。ポリマーポロゲンの例としては、限定されないが、ポリビニル芳香族、例えば、ポリスチレン、ポリビニルピリジン、水素化ポリビニル芳香族、ポリアクリロニトリル、ポリアルキレンオキシド、例えば、ポリエチレンオキシドおよびポリプロピレンオキシド、ポリエチレン、ポリ乳酸、ポリシロキサン、ポリカプロラクトン、ポリカプロラクタム、ポリウレタン、ポリメタクリレート、例えば、ポリメチルメタクリレートまたはポリメタクリルさん、ポリアクリレート、例えば、ポリメタクリレートおよびポリアクリル酸、ポリジエン、例えば、ポリブタジエンおよびポリイソプレン、ポリビニルクロリド、ポリアセタールおよびアミンキャップアルキレンオキシド、ならびにそれらの組合せを含むことができる。
【０２０６】
追加的に、または代わりに、ポロゲンは、熱可塑性ホモポリマーおよびランダム（ブロックとは対照的な）コポリマーであることが可能である。本明細書で使用される場合、「ホモポリマー」は、単一モノマーから繰返単位を含んでなる化合物を意味する。適切な熱可塑性材料としては、限定されないが、ポリスチレン、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリフェニレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、ポリエチレンオキシド、ポリ（ジメチルシロキサン）、ポリテトラヒドロフラン、ポリエチレン、ポリシクロヘキシルエチレン、ポリエチルオキサゾリン、ポリビニルピリジン、ポリカプロラクトン、ポリ乳酸のホモポリマーまたはコポリマー、これらの材料のコポリマーおよびこれらの材料の混合物を含むことが可能である。ポリスチレンの例としては、限定されないが、アニオン重合ポリスチレン、シンジオタクチックポリスチレン、未置換および置換ポリスチレン（例えば、ポリ（α−メチルスチレン））が含まれる。熱可塑性材料は、天然で、線形、分岐状、超分岐状、樹状または星形であり得る。
【０２０７】
追加的に、または代わりにポロゲンは、溶媒であることが可能である。溶媒の例としては、限定されないが、ケトン（例えば、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、２−ヘプタノン、シクロヘプタノン、シクロオクタノン、シクロヘキシルピロリジノン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、アセトン）、カーボネート化合物（例えば、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート）、複素環式化合物（例えば、３−メチル−２−オキサゾリジノン、ジメチルイミダゾリジノン、Ｎ−メチルピロリドン、ピリジン）、環式エーテル（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフラン）、鎖エーテル（例えば、ジエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ポリエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールフェニルエーテル、トリプロピレングリコールメチルエーテル）、アルコール（例えば、メタノール、エタノール）、多価アルコール（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、グリセリン、ジプロピレングリコール）、ニトリル化合物（例えば、アセトニトリル、グルタロジニトリル、メトキシアセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル）、エステル（例えば、エチルアセテート、ブチルアセテート、メチルラクテート、エチルラクテート、メチルメトキシプロピオネート、エチルエトキシプロピオネート、メチルピルベート、エチルピルベート、プロピルピルベート、２−メトキシエチルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、ブチロラクトン、リン酸エステル、ホスホン酸エステル）、非プロトン性極性物質（例えば、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド）、非極性溶媒（例えば、トルエン、キシレン、メシチレン）、塩素ベースの溶媒（例えば、メチレンジクロリド、エチレンジクロリド）、ベンゼン、ジクロロベンゼン、ナフタレン、ビフェニルエーテル、ジイソプロピルベンゼン、トリエチルアミン、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸ブチル、モノメチルエーテルアセテートヒドロキシエーテル、例えば、ジベンジルエーテル、ダイグライム、トリグライムおよびそれらの混合物を含むことが可能である。
【０２０８】
３．塩基／酸
種々の実施形態において、本明細書で提供される方法で使用される水性混合物は、塩基および／または酸を含んでなることが可能である。
【０２０９】
水性混合物が塩基を含んでなる特定の実施形態において、水性混合物は、約８〜約１５、約８〜約１４．５、約８〜約１４、約８〜約１３．５、約８〜約１３、約８〜約１２．５、約８〜約１２、約８〜約１１．５、約８〜約１１、約８〜約１０．５、約８〜約１０、約８〜約９．５、約８〜約９、約８〜約８．５、約８．５〜約１５、約８．５〜約１４．５、約８．５〜約１４、約８．５〜約１３．５、約８．５〜約１３、約８．５〜約１２．５、約８．５〜約１２、約８．５〜約１１．５、約８．５〜約１１、約８．５〜約１０．５、約８．５〜約１０、約８．５〜約９．５、約８．５〜約９、約９〜約１５、約９〜約１４．５、約９〜約１４、約９〜約１３．５、約９〜約１３、約９〜約１２．５、約９〜約１２、約９〜約１１．５、約９〜約１１、約９〜約１０．５、約９〜約１０、約９〜約９．５、約９．５〜約１５、約９．５〜約１４．５、約９．５〜約１４、約９．５〜約１３．５、約９．５〜約１３、約９．５〜約１２．５、約９．５〜約１２、約９．５〜約１１．５、約９．５〜約１１、約９．５〜約１０．５、約９．５〜約１０、約１０〜約１５、約１０〜約１４．５、約１０〜約１４、約１０〜約１３．５、約１０〜約１３、約１０〜約１２．５、約１０〜約１２、約１０〜約１１．５、約１０〜約１１、約１０〜約１０．５、約１０．５〜約１５、約１０．５〜約１４．５、約１０．５〜約１４、約１０．５〜約１３．５、約１０．５〜約１３、約１０．５〜約１２．５、約１０．５〜約１２、約１０．５〜約１１．５、約１０．５〜約１１、約１１〜約１５、約１１〜約１４．５、約１１〜約１４、約１１〜約１３．５、約１１〜約１３、約１１〜約１２．５、約１１〜約１２、約１１〜約１１．５、約１１．５〜約１５、約１１．５〜約１４．５、約１１．５〜約１４、約１１．５〜約１３．５、約１１．５〜約１３、約１１．５〜約１２．５、約１１．５〜約１２、約１２〜約１５、約１２〜約１４．５、約１２〜約１４、約１２〜約１３．５、約１２〜約１３、約１２〜約１２．５、約１２．５〜約１５、約１２．５〜約１４．５、約１２．５〜約１４、約１２．５〜約１３．５、約１２．５〜約１３、約１２．５〜約１５、約１２．５〜約１４．５、約１２．５〜約１４、約１２．５〜約１３．５、約１２．５〜約１３、約１３〜約１５、約１３〜約１４．５、約１３〜約１４、約１３〜約１３．５、約１３．５〜約１５、約１３．５〜約１４．５、約１３．５〜約１４、約１４〜約１５、約１４〜約１４．５および約１４．５〜約１５のｐＨを有することが可能である。
【０２１０】
塩基を含んでなる特定の実施形態において、ｐＨは、約９〜約１５、約９〜約１４または約８〜約１４であることが可能である。
【０２１１】
代表的な塩基としては、限定されないが、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、ピリジン、ピロール、ピペラジン、ピロリジン、ピペリジン、ピコリン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、ジメチルモノエタノールアミン、モノメチルジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジアザビシクロオクタン、ジアザビシクロノナン、ジアザビシクロウンデカン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、アンモニア、アンモニウムヒドロキシド、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミン、オクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、シクロヘキシルアミン、トリメチルイミジン、１−アミノ−３−メチルブタン、ジメチルグリシン、３−アミノ−３−メチルアミンなどを含むことができる。これらの塩基は、単一で、または組み合わせてのいずれかで使用されてよい。特定の実施形態において、塩基は、水酸化ナトリウムおよび／または水酸化アンモニウムを含んでなることが可能であるか、またはそれらであることが可能である。
【０２１２】
水性混合物が酸を含んでなる特定の実施形態において、水性混合物は、約０．０１〜約６．０、約０．０１〜約５、約０．０１〜約４、約０．０１〜約３、約０．０１〜約２、約０．０１〜約１、約０．１〜約６．０、約０．１〜約５．５、約０．１〜約５．０、約０．１〜約４．８、約０．１〜約４．５、約０．１〜約４．２、約０．１〜約４．０、約０．１〜約３．８、約０．１〜約３．５、約０．１〜約３．２、約０．１〜約３．０、約０．１〜約２．８、約０．１〜約２．５、約０．１〜約２．２、約０．１〜約２．０、約０．１〜約１．８、約０．１〜約１．５、約０．１〜約１．２、約０．１〜約１．０、約０．１〜約０．８、約０．１〜約０．５、約０．１〜約０．２、約０．２〜約６．０、約０．２〜約５．５、約０．２〜約５、約０．２〜約４．８、約０．２〜約４．５、約０．２〜約４．２、約０．２〜約４．０、約０．２〜約３．８、約０．２〜約３．５、約０．２〜約３．２、約０．２〜約３．０、約０．２〜約２．８、約０．２〜約２．５、約０．２〜約２．２、約０．２〜約２．０、約０．２〜約１．８、約０．２〜約１．５、約０．２〜約１．２、約０．２〜約１．０、約０．２〜約０．８、約０．２〜約０．５、約０．５〜約６．０、約０．５〜約５．５、約０．５〜約５、約０．５〜約４．８、約０．５〜約４．５、約０．５〜約４．２、約０．５〜約４．０、約０．５〜約３．８、約０．５〜約３．５、約０．５〜約３．２、約０．５〜約３．０、約０．５〜約２．８、約０．５〜約２．５、約０．５〜約２．２、約０．５〜約２．０、約０．５〜約１．８、約０．５〜約１．５、約０．５〜約１．２、約０．５〜約１．０、約０．５〜約０．８、約０．８〜約６．０、約０．８〜約５．５、約０．８〜約５、約０．８〜約４．８、約０．８〜約４．５、約０．８〜約４．２、約０．８〜約４．０、約０．８〜約３．８、約０．８〜約３．５、約０．８〜約３．２、約０．８〜約３．０、約０．８〜約２．８、約０．８〜約２．５、約０．８〜約２．２、約０．８〜約２．０、約０．８〜約１．８、約０．８〜約１．５、約０．８〜約１．２、約０．８〜約１．０、約１．０〜約６．０、約１．０〜約５．５、約１．０〜約５．０、約１．０〜約４．８、約１．０〜約４．５、約１．０〜約４．２、約１．０〜約４．０、約１．０〜約３．８、約１．０〜約３．５、約１．０〜約３．２、約１．０〜約３．０、約１．０〜約２．８、約１．０〜約２．５、約１．０〜約２．２、約１．０〜約２．０、約１．０〜約１．８、約１．０〜約１．５、約１．０〜約１．２、約１．２〜約６．０、約１．２〜約５．５、約１．２〜約５．０、約１．２〜約４．８、約１．２〜約４．５、約１．２〜約４．２、約１．２〜約４．０、約１．２〜約３．８、約１．２〜約３．５、約１．２〜約３．２、約１．２〜約３．０、約１．２〜約２．８、約１．２〜約２．５、約１．２〜約２．２、約１．２〜約２．０、約１．２〜約１．８、約１．２〜約１．５、約１．５〜約６．０、約１．５〜約５．５、約１．５〜約５．０、約１．５〜約４．８、約１．５〜約４．５、約１．５〜約４．２、約１．５〜約４．０、約１．５〜約３．８、約１．５〜約３．５、約１．５〜約３．２、約１．５〜約３．０、約１．５〜約２．８、約１．５〜約２．５、約１．５〜約２．２、約１．５〜約２．０、約１．５〜約１．８、約１．８〜約６．０、約１．８〜約５．５、約１．８〜約５．０、約１．８〜約４．８、約１．８〜約４．５、約１．８〜約４．２、約１．８〜約４．０、約１．８〜約３．８、約１．８〜約３．５、約１．８〜約３．２、約１．８〜約３．０、約１．８〜約２．８、約１．８〜約２．５、約１．８〜約２．２、約１．８〜約２．０、約２．０〜約６．０、約２．０〜約５．５、約２．０〜約５．０、約２．０〜約４．８、約２．０〜約４．５、約２．０〜約４．２、約２．０〜約４．０、約２．０〜約３．８、約２．０〜約３．５、約２．０〜約３．２、約２．０〜約３．０、約２．０〜約２．８、約２．０〜約２．５、約２．０〜約２．２、約２．２〜約６．０、約２．２〜約５．５、約２．２〜約５．０、約２．２〜約４．８、約２．２〜約４．５、約２．２〜約４．２、約２．２〜約４．０、約２．２〜約３．８、約２．２〜約３．５、約２．２〜約３．２、約２．２〜約３．０、約２．２〜約２．８、約２．２〜約２．５、約２．５〜約６．０、約２．５〜約５．５、約２．５〜約５．０、約２．５〜約４．８、約２．５〜約４．５、約２．５〜約４．２、約２．５〜約４．０、約２．５〜約３．８、約２．５〜約３．５、約２．５〜約３．２、約２．５〜約３．０、約２．５〜約２．８、約２．８〜約６．０、約２．８〜約５．５、約２．８〜約５．０、約２．８〜約４．８、約２．８〜約４．５、約２．８〜約４．２、約２．８〜約４．０、約２．８〜約３．８、約２．８〜約３．５、約２．８〜約３．２、約２．８〜約３．０、約３．０〜約６．０、約３．５〜約５．５、約３．０〜約５．０、約３．０〜約４．８、約３．０〜約４．５、約３．０〜約４．２、約３．０〜約４．０、約３．０〜約３．８、約３．０〜約３．５、約３．０〜約３．２、約３．２〜約６．０、約３．２〜約５．５、約３．２〜約５、約３．２〜約４．８、約３．２〜約４．５、約３．２〜約４．２、約３．２〜約４．０、約３．２〜約３．８、約３．２〜約３．５、約３．５〜約６．０、約３．５〜約５．５、約３．５〜約５、約３．５〜約４．８、約３．５〜約４．５、約３．５〜約４．２、約３．５〜約４．０、約３．５〜約３．８、約３．８〜約５、約３．８〜約４．８、約３．８〜約４．５、約３．８〜約４．２、約３．８〜約４．０、約４．０〜約６．０、約４．０〜約５．５、約４．０〜約５、約４．０〜約４．８、約４．０〜約４．５、約４．０〜約４．２、約４．２〜約５、約４．２〜約４．８、約４．２〜約４．５、約４．５〜約５、約４．５〜約４．８または約４．８〜約５のｐＨを有することが可能である。
【０２１３】
酸を含んでなる特定の実施形態において、ｐＨは、約０．０１〜約６．０、約０．２〜約６．０、約０．２〜約５．０または約０．２〜約４．５であることが可能である。
【０２１４】
代表的な酸としては、限定されないが、塩酸、硝酸、硫酸、フッ化水素酸、リン酸、ホウ酸およびシュウ酸などの無機酸；ならびに酢酸、プロピオン酸、酪酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸、デカン酸、シュウ酸、マレイン酸、メチルマロン酸、アジピン酸、セバシン酸、没食子酸、酪酸、メリト酸、アラキドン酸、シキミ酸、２−エチルヘキサン酸、オレイン酸、ステアリン酸、リノール酸、リノレン酸、サリチル酸、安息香酸、ｐ−アミノ−安息香酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、モノクロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、ギ酸、マロン酸、スルホン酸、フタル酸、フマル酸、クエン酸、酒石酸、コハク酸、イタコン酸、メサコン酸、シトラコン酸、リンゴ酸、グルタル酸の加水分解物、無水マレイン酸の加水分解物、無水フタル酸の加水分解物などの有機酸などを含んでなることが可能である。これらの酸は、単一で、または組み合わせてのいずれかで使用されてよい。特定の実施形態において、酸は、塩酸を含んでなることが可能であるか、またはそれらであることが可能である。
【０２１５】
ＩＩＩ．Ｂ．式（Ｉａ）の化合物
本明細書で提供される方法は、各Ｒ１がＣ１〜Ｃ４アルコキシ基あることが可能であり、かつ各Ｒ２がＣ１〜Ｃ４アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ４アルキル基であることが可能である、少なくとも１種の式［Ｒ１Ｒ２ＳｉＣＨ２］３（Ｉａ）の化合物を、水性混合物に添加し、溶液を形成するステップを含んでなる。
【０２１６】
一実施形態において、各Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシまたはメトキシまたはエトキシを含んでなることが可能である。
【０２１７】
追加的に、または代わりに、各Ｒ２は、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシまたはメトキシまたはエトキシを含んでなることが可能である。追加的に、または代わりに、各Ｒ２は、メチル、エチルまたはプロピル、例えば、メチルまたはエチルを含んでなることが可能である。
【０２１８】
追加的に、または代わりに、各Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基あることが可能であり、かつＲ２は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能である。
【０２１９】
追加的に、または代わりに、各Ｒ１は、メトキシまたはエトキシであることが可能であり、かつ各Ｒ２は、メチルまたはエチルであることが可能である。
【０２２０】
特定の実施形態において、式（Ｉａ）に相当する化合物が、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であることが可能であるように、各Ｒ１および各Ｒ２は、エトキシであることが可能である。
【０２２１】
特定の実施形態において、式（Ｉａ）に相当する化合物が、１，３，５−トリメチル−１，３，５−トリエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［ＥｔＯＣＨ３ＳｉＣＨ２］３）であることが可能であるように、各Ｒ１は、エトキシであることが可能であり、かつ各Ｒ２は、メチルであることが可能である。
【０２２２】
様々な態様において、２種以上の式（Ｉａ）の化合物（例えば、同一または異なる化合物）が水性混合物に添加されて、溶液が形成されてもよい。例えば、［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３および［ＥｔＯＣＨ３ＳｉＣＨ２］３の両方が水性混合物に添加されて、溶液が形成されてもよい。
【０２２３】
上記の通り、少なくとも１種の式（Ｉａ）の化合物が、水性混合物に添加され、溶液を形成する時に、追加的に、または代わりに、少なくとも部分的にヒドロキシル化され、かつ／または重合化／オリゴマー化されていることが可能である。
【０２２４】
２種以上の式（Ｉａ）の化合物が使用される場合、それぞれの化合物は、広範囲の種々のモル比で使用されてよい。例えば、２種の式（Ｉａ）の化合物が使用される場合、各化合物のモル比は、１：９９〜９９：１、例えば、１０：９０〜９０：１０で変動してよい。式（Ｉａ）の異なる化合物の使用によって、本発明のプロセスによって製造されたオルガノシリカ材料の特性を調整することが可能となる。これについては、実施例において、および本プロセスによって製造されたオルガノシリカの特性を記載する本明細書の項目において、さらに説明する。
【０２２５】
ＩＩＩ．Ｃ．三価金属酸化物の供給源
追加的な実施形態において、本明細書で提供される方法は、水性溶液に、三価金属酸化物の供給源を添加すること（又は工程もしくはステップ）を含んでなることが可能である。
【０２２６】
三価金属酸化物の供給源としては、限定されないが、三価金属の相当する塩、アルコキシド、オキシドおよび／またはヒドロキシド、例えば、硫酸アルミニウム、硝酸アルミニウム、コロイド性アルミナ、アルミニウムトリヒドロキシド、ヒドロキシル化アルミナ、Ａｌ２Ｏ３、ハロゲン化アルミニウム（例えば、ＡｌＣｌ３）、ＮａＡｌＯ２、窒化ホウ素、Ｂ２Ｏ３および／またはＨ３ＢＯ３を含むことが可能である。
【０２２７】
種々の実施形態において、三価金属酸化物の供給源は、Ｍ３が、第１３族金属であることが可能であり、かつ各Ｚ１５が、独立して、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基であることが可能である式Ｍ３（ＯＺ１５）３（ＩＩａ）の化合物であってよい。
【０２２８】
一実施形態において、Ｍ３は、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、ＴｌまたはＵｕｔであることが可能である。特に、Ｍ３は、ＡｌまたはＢであることが可能である。
【０２２９】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１５は、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであることが可能である。特に、Ｚ１５は、メチル、エチル、プロピルまたはブチルであることが可能である。
【０２３０】
追加的に、または代わりに、Ｍ３は、ＡｌまたはＢであることが可能であり、かつ各Ｚ１５は、メチル、エチル、プロピルまたはブチルであることが可能である。
【０２３１】
特定の実施形態において、式（ＩＩａ）に相当する化合物が、アルミニウムトリメトキシドであることが可能であるように、Ｍ３は、Ａｌであることが可能であり、かつ各Ｚ１５は、メチルであることが可能である。
【０２３２】
特定の実施形態において、式（ＩＩａ）に相当する化合物が、アルミニウムトリエトキシドであることが可能であるように、Ｍ３は、Ａｌであることが可能であり、かつ各Ｚ１５は、エチルであることが可能である。
【０２３３】
特定の実施形態において、式（ＩＩａ）に相当する化合物が、アルミニウムイソプロポキシドであることが可能であるように、Ｍ３は、Ａｌであることが可能であり、かつ各Ｚ１５は、プロピルであることが可能である。
【０２３４】
特定の実施形態において、式（ＩＩａ）に相当する化合物が、アルミニウムトリ−ｓｅｃ−ブトキシドであることが可能であるように、Ｍ３は、Ａｌであることが可能であり、かつ各Ｚ１５は、ブチルであることが可能である。
【０２３５】
別の特定の実施形態において、式（Ｉａ）の化合物は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であることが可能であり、かつ式（ＩＩａ）の化合物は、アルミニウムトリメトキシド、アルミニウムトリエトキシド、アルミニウムイソプロポキシドおよびアルミニウムトリ−ｓｅｃ−ブトキシドからなる群から選択されることが可能である。
【０２３６】
別の特定の実施形態において、式（Ｉａ）の化合物は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であることが可能であり、かつ式（ＩＩａ）の化合物は、アルミニウムトリ−ｓｅｃ−ブトキシドであることが可能である。
【０２３７】
追加的に、または代わりに、三価金属酸化物の供給源は、Ｍ４が、第１３族金属であることが可能であり、かつＺ１６および各Ｚ１７が、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基であることが可能である、式（Ｚ１６Ｏ）２Ｍ４−Ｏ−Ｓｉ（ＯＺ１７）３（ＩＩＩａ）の化合物であってよい。
【０２３８】
一実施形態において、Ｍ４は、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、ＴｌまたはＵｕｔであることが可能である。特に、Ｍ４は、ＡｌまたはＢであることが可能である。
【０２３９】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１６および各Ｚ１７は、独立して、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであることが可能である。特に、各Ｚ１６および各Ｚ１７は、独立して、メチル、エチル、プロピルまたはブチルであることが可能である。
【０２４０】
追加的に、または代わりに、Ｍ４は、ＡｌまたはＢであることが可能であり、かつ各Ｚ１６および各Ｚ１７は、独立して、メチル、エチル、プロピルまたはブチルであることが可能である。
【０２４１】
追加的に、または代わりに、三価金属酸化物の供給源は、式（ＩＩａ）の化合物の供給源（例えば、ＡｌＣｌ３）および／または式（ＩＩＩａ）の化合物の供給源であってよい。
【０２４２】
式（Ｉａ）の化合物対三価金属酸化物のモル比は、広範囲、例えば、約９９：１〜約１：９９、約３０：１〜約１：１、約２５：１〜約１：１、約２０：１〜約３：１または約２０：１〜約５：１に変動し得る。
【０２４３】
ＩＩＩ．Ｄ．式（Ｖａ）の化合物
追加的な実施形態において、本明細書で提供される方法は、水性溶液に、各Ｒ３が、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基であることが可能であり、かつＲ４、Ｒ５およびＲ６が、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有ヘテロアラルキル基、および窒素を含有し、任意に置換されたヘテロシクロアルキル基からなる群から選択されることが可能である式Ｒ３ＯＲ４Ｒ５Ｒ６Ｓｉ（Ｖａ）の化合物を添加し、本明細書に記載の少なくとも１種の式（Ｉ）の独立単位、本明細書に記載の少なくとも１種の他の三価金属酸化物モノマー（例えば、少なくとも１種の式（ＩＩ）および／または式（ＩＩＩ）の独立単位）、任意に本明細書に記載の少なくとも１種の式（ＩＶ）の独立単位および本明細書に記載の少なくとも１種の式（Ｖ）の独立単位を含んでなるコポリマーであるオルガノシリカ材料を得ること（又は工程もしくはステップ）をさらに含んでなることが可能である。
【０２４４】
一実施形態において、各Ｒ３は、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであることが可能である。特に、Ｒ３は、メチルまたはエチルであることが可能である。
【０２４５】
追加的に、または代わりに、各Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであることが可能である。
【０２４６】
追加的に、または代わりに、各Ｒ３は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり、かつＲ４、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能である。
【０２４７】
追加的に、または代わりに、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ５アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはメトキシであることが可能である。
【０２４８】
追加的に、または代わりに、各Ｒ３は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり、かつＲ４、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能である。
【０２４９】
追加的に、または代わりに、各Ｒ３は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり、かつＲ４、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはＣ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能である。
【０２５０】
追加的に、または代わりに、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立して、窒素含有Ｃ１〜Ｃ９アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ８アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ７アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ５アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、またはメチルアミンであることが可能である。特に、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立して、窒素含有Ｃ２〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ９アルキル基または窒素含有Ｃ３〜Ｃ８アルキル基であることが可能である。上記窒素含有アルキル基は、１個またはそれ以上（例えば、２個、３個など）の窒素原子を有していてもよい。窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基の例としては、限定されないが、
【化１６】
0006661636.tif 000017
が含まれる。
【０２５１】
追加的に、または代わりに、各Ｒ３は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり、かつＲ４、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立して、窒素含有Ｃ３〜Ｃ８アルキル基であることが可能である。
【０２５２】
追加的に、または代わりに、各Ｒ３は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり、かつＲ４、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基または窒素含有Ｃ３〜Ｃ８アルキル基であることが可能である。
【０２５３】
追加的に、または代わりに、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立して、窒素含有ヘテロアラルキル基であることが可能である。窒素含有ヘテロアラルキル基は、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１２ヘテロアラルキル基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０ヘテロアラルキル基または窒素含有Ｃ４〜Ｃ８ヘテロアラルキル基であることが可能である。窒素含有ヘテロアラルキル基の例としては、限定されないが、ピリジニルエチル、ピリジニルプロピル、ピリジニルメチル、インドリルメチル、ピラジニルエチルおよびピラジニルプロピルが含まれる。上記窒素含有ヘテロアラルキル基は、１個またはそれ以上（例えば、２個、３個など）の窒素原子を有していてもよい。
【０２５４】
追加的に、または代わりに、各Ｒ３は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり、かつＲ４、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立して、窒素含有ヘテロアラルキル基であることが可能である。
【０２５５】
追加的に、または代わりに、各Ｒ３は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり、かつＲ４、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ８アルキル基または窒素含有ヘテロアラルキル基であることが可能である。
【０２５６】
追加的に、または代わりに、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立して、窒素含有ヘテロシクロアルキル基であることが可能であり、上記ヘテロシクロアルキル基は、任意に、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、特にＣ１〜Ｃ４アルキル基で置換されていてもよい。窒素含有ヘテロシクロアルキル基は、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１２ヘテロシクロアルキル基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０ヘテロシクロアルキル基または窒素含有Ｃ４〜Ｃ８ヘテロシクロアルキル基であることが可能である。窒素含有ヘテロシクロアルキル基の例としては、限定されないが、ピペラジニルエチル、ピペラジニルプロピル、ピペリジニルエチル、ピペリジニルプロピルが含まれる。上記窒素含有ヘテロシクロアルキル基は、１個またはそれ以上（例えば、２個、３個など）の窒素原子を有していてもよい。
【０２５７】
追加的に、または代わりに、各Ｒ３は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり、かつＲ４、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立して、窒素を含有し、任意に置換されたヘテロシクロアルキル基であることが可能である。
【０２５８】
追加的に、または代わりに、各Ｒ３は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり、かつＲ４、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ８アルキル基、窒素含有ヘテロアラルキル基または窒素を含有し、任意に置換されたヘテロシクロアルキル基であることが可能である。
【０２５９】
追加的に、または代わりに、各Ｒ３は、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり、かつＲ４、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０ヘテロアラルキル基または窒素を含有し、任意に置換されたＣ４〜Ｃ１０ヘテロシクロアルキル基であることが可能である。
【０２６０】
特定の実施形態において、式（Ｖａ）に相当する化合物が、テトラエチルオルトシリケート（ＴＥＯＳ）（（ＥｔＯ）４Ｓｉ）であることが可能であるように、Ｒ３は、エチルであることが可能であり、かつＲ４、Ｒ５およびＲ６は、エトキシであることが可能である。
【０２６１】
別の特定の実施形態において、式（Ｉａ）の化合物は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であることが可能であり、かつ式（Ｖａ）の化合物は、テトラエチルオルトシリケート（ＴＥＯＳ）（（ＥｔＯ）４Ｓｉ）であることが可能である。
【０２６２】
別の特定の実施形態において、式（Ｖａ）に相当する化合物が、メチルトリエトキシシラン（ＭＴＥＳ）（（ＥｔＯ）３ＣＨ３-Ｓｉ）であることが可能であるように、Ｒ３は、エチルであることが可能であり、Ｒ４は、メチルであることが可能であり、かつＲ５およびＲ６は、エトキシであることが可能である。
【０２６３】
別の特定の実施形態において、式（Ｉａ）の化合物は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であることが可能であり、三価金属酸化物供給源は、アルミニウムトリ−ｓｅｃ−ブトキシドであることが可能であり、かつ式（Ｖａ）の化合物は、メチルトリエトキシシラン（ＭＴＥＳ）（（ＥｔＯ）３ＣＨ３-Ｓｉ）であることが可能である。
【０２６４】
別の特定の実施形態において、式（Ｉａ）の化合物は、１，３，５−トリメチル−１，３，５−トリエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［ＥｔＯＣＨ３ＳｉＣＨ２］３であることが可能であり、三価金属酸化物供給源は、アルミニウムトリ−ｓｅｃ−ブトキシドであることが可能であり、かつ式（Ｖａ）の化合物は、テトラエチルオルトシリケート（ＴＥＯＳ）（（ＥｔＯ）４Ｓｉ）であることが可能である。
【０２６５】
別の特定の実施形態において、式（Ｖａ）に相当する化合物が、（３−アミノプロピル）トリエトキシシラン（Ｈ２Ｎ（ＣＨ２）３（ＥｔＯ）３Ｓｉ）であることが可能であるように、Ｒ３は、エチルであることが可能であり、Ｒ４およびＲ５は、エトキシであることが可能であり、かつＲ６は、
【化１７】
0006661636.tif 000018
であることが可能である。
【０２６６】
別の特定の実施形態において、式（Ｉａ）の化合物は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であることが可能であり、三価金属酸化物供給源は、アルミニウムトリ−ｓｅｃ−ブトキシドであることが可能であり、かつ式（Ｖａ）の化合物は、（３−アミノプロピル）トリエトキシシラン（Ｈ２Ｎ（ＣＨ２）３（ＥｔＯ）３Ｓｉ）であることが可能である。
【０２６７】
別の特定の実施形態において、式（Ｖａ）に相当する化合物が、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル）トリメトキシシラン（（（ＣＨ３）２Ｎ（ＣＨ２）３）（ＭｅＯ）３Ｓｉ）であることが可能であるように、Ｒ３は、メチルであることが可能であり、Ｒ４およびＲ５は、メトキシであることが可能であり、かつＲ４は、
【化１８】
0006661636.tif 000019
であることが可能である。
【０２６８】
別の特定の実施形態において、式（Ｉａ）の化合物は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であることが可能であり、三価金属酸化物供給源は、アルミニウムトリ−ｓｅｃ−ブトキシドであることが可能であり、かつ式（Ｖａ）の化合物は、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル）トリメトキシシラン（（（ＣＨ３）２Ｎ（ＣＨ２）３）（ＭｅＯ）３Ｓｉ）であることが可能である。
【０２６９】
別の特定の実施形態において、式（Ｖａ）に相当する化合物が、（Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン（（Ｈ２Ｎ（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）３）（ＥｔＯ）２-Ｓｉ）であることが可能であるように、Ｒ３は、エチルであることが可能であり、Ｒ４およびＲ５は、エトキシであることが可能であり、かつＲ６は、
【化１９】
0006661636.tif 000020
であることが可能である。
【０２７０】
別の特定の実施形態において、式（Ｉａ）の化合物は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であることが可能であり、三価金属酸化物供給源は、アルミニウムトリ−ｓｅｃ−ブトキシドであることが可能であり、かつ式（Ｖａ）の化合物は、（Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン（（Ｈ２Ｎ（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）３）（ＥｔＯ）２-Ｓｉ）であることが可能である。
【０２７１】
別の特定の実施形態において、式（Ｖａ）に相当する化合物が、４−メチル−１−（３−トリエトキシシリルプロピル）−ピペラジンであることが可能であるように、Ｒ３は、エチルであることが可能であり、Ｒ４およびＲ５は、エトキシであることが可能であり、かつＲ６は、
【化２０】
0006661636.tif 000021
であることが可能である。
【０２７２】
別の特定の実施形態において、式（Ｉａ）の化合物は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であることが可能であり、三価金属酸化物供給源は、アルミニウムトリ−ｓｅｃ−ブトキシドであることが可能であり、かつ式（Ｖａ）の化合物は、４−メチル−１−（３−トリエトキシシリルプロピル）−ピペラジンであることが可能である。
【０２７３】
別の特定の実施形態において、式（Ｖａ）に相当する化合物が、４−（２−（トリエトキシシリル）エチル）ピリジンであることが可能であるように、Ｒ３は、エチルであることが可能であり、Ｒ４およびＲ５は、エトキシであることが可能であり、かつＲ６は、
【化２１】
0006661636.tif 000022
であることが可能である。
【０２７４】
別の特定の実施形態において、式（Ｉａ）の化合物は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であることが可能であり、三価金属酸化物供給源は、アルミニウムトリ−ｓｅｃ−ブトキシドであることが可能であり、かつ式（Ｖａ）の化合物は、４−（２−（トリエトキシシリル）エチル）ピリジンであることが可能である。
【０２７５】
別の特定の実施形態において、式（Ｖａ）に相当する化合物が、１−（３−（トリエトキシシリル）プロピル）−４，５−ジヒドロ−１Ｈ−イミダゾールであることが可能であるように、Ｒ３は、エチルであることが可能であり、Ｒ４およびＲ５は、エトキシであることが可能であり、かつＲ５は、
【化２２】
0006661636.tif 000023
であることが可能である。
【０２７６】
別の特定の実施形態において、式（Ｉａ）の化合物は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であることが可能であり、三価金属酸化物供給源は、アルミニウムトリ−ｓｅｃ−ブトキシドであることが可能であり、かつ式（Ｖａ）の化合物は、１−（３−（トリエトキシシリル）プロピル）−４，５−ジヒドロ−１Ｈ−イミダゾールであることが可能である。
【０２７７】
式（Ｉａ）の化合物対式（Ｖａ）の化合物のモル比は、広範囲、例えば、約９９：１〜約１：９９、約１：５〜約５：１、約４：１〜約１：４または約３：２〜約２：３に変動し得る。例えば、式（Ｉａ）の化合物対式（Ｖａ）の化合物のモル比は、約４：１〜１：４または約２．５：１〜約１：２．５、約２：１〜約１：２、例えば、約１．５：１〜約１．５：１であることが可能である。
【０２７８】
ＩＩＩ．Ｄ．式（ＶＩａ）の化合物
追加的な実施形態において、本明細書で提供される方法は、水性溶液に、各Ｚ１８が、独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基であることが可能であり、各Ｚ１９およびＺ２０が、独立して、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ４アルキル基であることが可能であり、かつ各Ｒ７が、Ｃ１〜Ｃ８アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルキニレン基、窒素含有Ｃ２-〜Ｃ１０アルキレン基、任意に置換されたＣ６〜Ｃ２０アラルキル基、および任意に置換されたＣ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基からなる群から選択されることが可能である、式Ｚ１８Ｚ１９Ｚ２０Ｓｉ−Ｒ７−ＳｉＺ１８Ｚ１９Ｚ２０（ＶＩａ）の化合物を添加し、本明細書に記載の少なくとも１種の式（Ｉ）の独立単位、本明細書に記載の少なくとも１種の他の三価金属酸化物モノマー（例えば、少なくとも１種の式（ＩＩ）および／または式（ＩＩＩ）の独立単位）、任意に本明細書に記載の少なくとも１種の式（ＩＶ）の独立単位、任意に本明細書に記載の少なくとも１種の式（Ｖ）の独立単位および任意に本明細書に記載の少なくとも１種の式（ＩＩＩ）の独立単位を含んでなるコポリマーであるオルガノシリカ材料を得ること（又は工程もしくはステップ）をさらに含んでなることが可能である。
【０２７９】
一実施形態において、各Ｚ１８は、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはメトキシであることが可能である。
【０２８０】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１９およびＺ２０は、独立して、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはメトキシであることが可能である。
【０２８１】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１８は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能であり、かつ各Ｚ１９およびＺ２０は、独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能である。
【０２８２】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１９およびＺ２０は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基またはメチルであることが可能である。
【０２８３】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１８は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能であり、かつ各Ｚ１９およびＺ２０は、独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能である。
【０２８４】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１８は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能であり、かつ各Ｚ１９およびＺ２０は、それぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能である。
【０２８５】
追加的に、または代わりに、各Ｒ７は、Ｃ１-〜Ｃ７アルキレン基、Ｃ１-〜Ｃ６アルキレン基、Ｃ１-〜Ｃ５アルキレン基、Ｃ１-〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ１-〜Ｃ３アルキレン基、Ｃ１-〜Ｃ２アルキレン基または−ＣＨ２−であることが可能である。
【０２８６】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１８は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能であり、各Ｚ１９およびＺ２０は、独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり、かつ各Ｒ７は、Ｃ１〜Ｃ２アルキレン基であることが可能である。
【０２８７】
追加的に、または代わりに、各Ｒ７は、Ｃ２-〜Ｃ７アルケニレン基、Ｃ１〜Ｃ６アルケニレン基、Ｃ２-〜Ｃ５アルケニレン基、Ｃ２-〜Ｃ４アルケニレン基、Ｃ２-〜Ｃ３アルケニレン基または−ＣＨ＝ＣＨ−であることが可能である。
【０２８８】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１８は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能であり、各Ｚ１９およびＺ２０は、独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり、かつ各Ｒ７は、Ｃ１〜Ｃ２アルケニレン基であることが可能である。
【０２８９】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１８は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能であり、各Ｚ１９およびＺ２０は、独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり、かつ各Ｒ７は、Ｃ１〜Ｃ２アルキレン基またはＣ１〜Ｃ２アルケニレン基であることが可能である。
【０２９０】
追加的に、または代わりに、各Ｒ７は、Ｃ２-〜Ｃ７アルキニレン基、Ｃ１〜Ｃ６アルキニレン基、Ｃ２-〜Ｃ５アルキニレン基、Ｃ２-〜Ｃ４アルキニレン基、Ｃ２-〜Ｃ３アルキニレン基または−Ｃ≡Ｃ−であることが可能である。
【０２９１】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１８は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能であり、各Ｚ１９およびＺ２０は、独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり、かつ各Ｒ７は、Ｃ２〜Ｃ４アルキニレン基であることが可能である。
【０２９２】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１８は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能であり、各Ｚ１９およびＺ２０は、独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり、かつ各Ｒ７は、Ｃ２〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルケニレン基またはＣ２〜Ｃ４アルキニレン基であることが可能である。
【０２９３】
追加的に、または代わりに、各Ｒ７は、窒素含有Ｃ２-〜Ｃ１０アルキレン基、窒素含有Ｃ３〜Ｃ１０アルキレン基、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０アルキレン基、窒素含有Ｃ４-〜Ｃ９アルキレン基、窒素含有Ｃ４-〜Ｃ８アルキレン基または窒素含有Ｃ３-〜Ｃ８アルキレン基であることが可能である。上記窒素含有アルキレン基は、１個またはそれ以上（例えば、２個、３個など）の窒素原子を有していてもよい。窒素含有アルキレン基の例としては、限定されないが、
【化２３】
0006661636.tif 000024
が含まれる。
【０２９４】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１８は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能であり、各Ｚ１９およびＺ２０は、独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり、かつ各Ｒ７は、窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０アルキレン基であることが可能である。
【０２９５】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１８は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能であり、各Ｚ１９およびＺ２０は、独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり、かつ各Ｒ７は、Ｃ２〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルキニレン基または窒素含有Ｃ４〜Ｃ１０アルキレン基であることが可能である。
【０２９６】
追加的に、または代わりに、各Ｒ７は、任意に置換されたＣ６〜Ｃ２０アラルキル、任意に置換されたＣ６〜Ｃ１４アラルキルまたは任意に置換されたＣ６〜Ｃ１０アラルキルであることが可能である。Ｃ６〜Ｃ２０アラルキルの例としては、限定されないが、フェニルメチル、フェニルエチルおよびナフチルメチルが含まれる。アラルキルは、任意に、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、特にＣ１〜Ｃ４アルキル基で置換されていてもよい。
【０２９７】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１８は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能であり、各Ｚ１９およびＺ２０は、独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり、かつ各Ｒ７は、任意に置換されたＣ６〜Ｃ１０アラルキルであることが可能である。
【０２９８】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１８は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能であり、各Ｚ１９およびＺ２０は、独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり、かつ各Ｒ７は、Ｃ２〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルキニレン基または任意に置換されたＣ６〜Ｃ１０アラルキルであることが可能である。
【０２９９】
追加的に、または代わりに、各Ｒ７は、任意に置換されたＣ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基、任意に置換されたＣ４〜Ｃ１６ヘテロシクロアルキル基、任意に置換されたＣ４〜Ｃ１２ヘテロシクロアルキル基または任意に置換されたＣ４〜Ｃ１０ヘテロシクロアルキル基であることが可能である。Ｃ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基の例としては、限定されないが、チエニルメチル、フリルエチル、ピロリルメチル、ピペラジニルエチル、ピリジルメチル、ベンゾキサゾリルエチル、キノリニルプロピルおよびイミダゾリルプロピルが含まれる。ヘテロシクロアルキルは、任意に、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、特にＣ１〜Ｃ４アルキル基で置換されていてもよい。
【０３００】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１８は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能であり、各Ｚ１９およびＺ２０は、独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり、かつ各Ｒ７は、任意に置換されたＣ４〜Ｃ１２ヘテロシクロアルキル基であることが可能である。
【０３０１】
追加的に、または代わりに、各Ｚ１８は、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基であることが可能であり、各Ｚ１９およびＺ２０は、独立して、Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ基またはＣ１〜Ｃ２アルキル基であることが可能であり、かつ各Ｒ７は、Ｃ２〜Ｃ４アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ４アルキニレン基、任意に置換されたＣ６〜Ｃ１０アラルキルまたは任意に置換されたＣ４〜Ｃ１２ヘテロシクロアルキル基であることが可能である。
【０３０２】
特定の実施形態において、式（ＶＩａ）に相当する化合物が１，２−ビス（メチルジエトキシシリル）エタン（ＣＨ３（ＥｔＯ）２Ｓｉ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＥｔＯ）２ＣＨ３）であることが可能であるように、各Ｚ１８およびＺ１９は、エトキシであることが可能であり、各Ｚ２０は、メチルであることが可能であり、かつＲ７は、−ＣＨ２ＣＨ２−であることが可能である-。
【０３０３】
別の特定の実施形態において、式（Ｉａ）は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であることが可能であり、三価金属酸化物供給源は、アルミニウムトリ−ｓｅｃ−ブトキシドであることが可能であり、かつ式（ＶＩａ）は、１，２−ビス（メチルジエトキシシリル）エタン（ＣＨ３（ＥｔＯ）２Ｓｉ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＥｔＯ）２ＣＨ３）であることが可能である。
【０３０４】
別の特定の実施形態において、式（ＶＩａ）に相当する化合物が、ビス（トリエトキシシリル）メタン（（ＥｔＯ）３Ｓｉ−ＣＨ２−Ｓｉ（ＥｔＯ）３）であることが可能であるように、各Ｚ１８、Ｚ１９およびＺ２０は、エトキシであることが可能であり、かつＲ７は、−ＣＨ２−であることが可能である。
【０３０５】
別の特定の実施形態において、式（Ｉａ）の化合物は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であることが可能であり、三価金属酸化物供給源は、アルミニウムトリ−ｓｅｃ−ブトキシドであることが可能であり、かつ式（ＶＩａ）の化合物は、ビス（トリエトキシシリル）メタン（（ＥｔＯ）３Ｓｉ−ＣＨ２−Ｓｉ（ＥｔＯ）３）であることが可能である。
【０３０６】
別の特定の実施形態において、式（ＶＩａ）に相当する化合物が、１，２−ビス（トリエトキシシリル）エチレン（（ＥｔＯ）３Ｓｉ−ＨＣ＝ＣＨ−Ｓｉ（ＥｔＯ）３）であることが可能であるように、各Ｚ１８、Ｚ１９およびＺ２０は、エトキシであることが可能であり、かつＲ７は、−ＨＣ＝ＣＨ−であることが可能である。
【０３０７】
別の特定の実施形態において、式（Ｉａ）の化合物は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３））であることが可能であり、三価金属酸化物供給源は、アルミニウムトリ−ｓｅｃ−ブトキシドであることが可能であり、かつ式（ＶＩａ）の化合物は、１，２−ビス（トリエトキシシリル）エチレン（（ＥｔＯ）３Ｓｉ−ＨＣ＝ＣＨ−Ｓｉ（ＥｔＯ）３）であることが可能である。
【０３０８】
別の特定の実施形態において、式（ＶＩａ）の化合物は、ビス（トリエトキシシリル）メタン（（ＥｔＯ）３Ｓｉ−ＣＨ２−Ｓｉ（ＥｔＯ）３）であることが可能であり、三価金属酸化物供給源は、アルミニウムトリ−ｓｅｃ−ブトキシドであることが可能であり、かつ式（Ｖａ）の化合物は、テトラエチルオルトシリケート（ＴＥＯＳ）（（ＥｔＯ）４Ｓｉ）であることが可能である。
【０３０９】
特定の実施形態において、式（ＶＩａ）に相当する化合物が、Ｎ，Ｎ’−ビス［（３−トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミンであることが可能であるように、各Ｚ１８、Ｚ１９およびＺ２０は、メトキシであることが可能であり、かつＲ７は、
【化２４】
0006661636.tif 000025
であることが可能である。
【０３１０】
別の特定の実施形態において、式（Ｉａ）の化合物は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であることが可能であり、三価金属酸化物供給源は、アルミニウムトリ−ｓｅｃ−ブトキシドであることが可能であり、かつ式（ＶＩａ）の化合物は、Ｎ，Ｎ’−ビス［（３−トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミンであることが可能である。
【０３１１】
別の特定の実施形態において、式（ＶＩａ）に相当する化合物が、ビス［（メチルジエトキシシリル）プロピル］アミンであることが可能であるように、各Ｚ１８およびＺ１９は、エトキシであることが可能であり、各Ｚ２０は、メチルであることが可能であり、かつＲ７は、
【化２５】
0006661636.tif 000026
であることが可能である。
【０３１２】
別の特定の実施形態において、式（Ｉａ）の化合物は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であることが可能であり、三価金属酸化物供給源は、アルミニウムトリ−ｓｅｃ−ブトキシドであることが可能であり、かつ式（ＶＩａ）の化合物は、ビス［（メチルジエトキシシリル）プロピル］アミンであることが可能である。
【０３１３】
別の特定の実施形態において、式（ＶＩａ）に相当する化合物が、ビス［（メチルジメトキシシリル）プロピル］−Ｎ−メチルアミンであることが可能であるように、各Ｚ１８およびＺ１９は、メトキシであることが可能であり、各Ｚ２０は、メチルであることが可能であり、かつＲ７は、
【化２６】
0006661636.tif 000027
であることが可能である。
【０３１４】
別の特定の実施形態において、式（Ｉａ）の化合物は、１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）であることが可能であり、三価金属酸化物供給源は、アルミニウムトリ−ｓｅｃ−ブトキシドであることが可能であり、かつ式（ＶＩａ）の化合物は、ビス［（メチルジメトキシシリル）プロピル］−Ｎ−メチルアミンであることが可能である。
【０３１５】
式（Ｉａ）の化合物対式（ＶＩａ）の化合物のモル比は、広範囲、例えば、約９９：１〜約１：９９、約１：５〜約５：１、約４：１〜約１：４または約３：２〜約２：３に変動し得る。例えば、式（Ｉａ）の化合物対式（ＶＩａ）の化合物のモル比は、約４：１〜１：４または約２．５：１〜１：２．５、約２：１〜約１：２、例えば、約１．５：１〜約１．５：１であることが可能である。
【０３１６】
ＩＩＩ．Ｃ．金属キレート供給源
追加的な実施形態において、本明細書で提供される方法は、水性溶液に、金属キレート化合物の供給源を添加すること（又は工程もしくはステップ）をさらに含んでなることが可能である。
【０３１７】
存在する場合、金属キレート化合物の例としては、チタンキレート化合物、例えば、トリエトキシ−モノ（アセチルアセトナト）チタン、トリ−ｎ−プロポキシ−モノ（アセチルアセトナト）チタン、トリ−ｉ−プロポキシ−モノ（アセチルアセトナト）チタン、トリ−ｎ−ブトキシ−モノ（アセチルアセトナト）チタン、トリ−ｓｅｃ−ブトキシ−モノ（アセチルアセトナト）チタン、トリ−ｔ−ブトキシ−モノ（アセチルアセトナト）チタン、ジエトキシ−ビス（アセチルアセトナト）チタン、ジ−ｎ−プロポキシ−ビス（アセチルアセトナト）チタン、ジ−ｉ−プロポキシ−ビス（アセチルアセトナト）チタン、ジ−ｎ−ブトキシ−ビス（アセチルアセトナト）チタン、ジ−ｓｅｃ−ブトキシ−ビス（アセチルアセトナト）チタン、ジ−ｔ−ブトキシ−ビス（アセチルアセトナト）チタン、モノエトキシ−トリス（アセチルアセトナト）チタン、モノ−ｎ−プロポキシ−トリス（アセチルアセトナト）チタン、モノ−ｉ−プロポキシ−トリス（アセチルアセトナト）チタン、モノ−ｎ−ブトキシ−トリス（アセチルアセトナト）チタン、モノ−ｓｅｃ−ブトキシ−トリス（アセチルアセトナト）チタン、モノ−ｔ−ブトキシ−トリス（アセチルアセトナト）チタン、テトラキス（アセチルアセトナト）チタン、トリエトキシ−モノ（エチルアセトアセテート）チタン、トリ−ｎ−プロポキシ−モノ（エチルアセトアセテート）チタン、トリ−ｉ−プロポキシ−モノ（エチルアセトアセテート）チタン、トリ−ｎ−ブトキシ−モノ（エチルアセトアセテート）チタン、トリ−ｓｅｃ−ブトキシ−モノ（エチルアセトアセテート）チタン、トリ−ｔ−ブトキシ−モノ（エチルアセトアセテート）チタン、ジエトキシ−ビス（エチルアセトアセテート）チタン、ジ−ｎ−プロポキシ−ビス（エチルアセトアセテート）チタン、ジ−ｉ−プロポキシ−ビス（エチルアセトアセテート）チタン、ジ−ｎ−ブトキシ−ビス（エチルアセトアセテート）チタン、ジ−ｓｅｃ−ブトキシ−ビス（エチルアセトアセテート）チタン、ジ−ｔ−ブトキシ−ビス（エチルアセトアセテート）チタン、モノエトキシ−トリス（エチルアセトアセテート）チタン、モノ−ｎ−プロポキシ−トリス（エチル汗とアセテート）チタン、モノ−ｉ−プロポキシ−トリス（エチルアセトアセテート）チタン、モノ−ｎ−ブトキシ−トリス（エチルアセトアセテート）チタン、モノ−ｓｅｃ−ブトキシ−トリス（エチルアセトアセテート）チタン、モノ−ｔ−ブトキシ−トリス（エチルアセトアセテート）チタン、テトラキス（エチルアセトアセテート）チタン、モノ（アセチルアセトナト）トリス（エチルアセトアセテート）チタン、ビス（アセチルアセトナト）ビス（エチルアセトアセテート）チタンおよびトリス（アセチルアセトナト）モノ（エチルアセトアセテート）チタン、ジルコニウムキレート化合物、例えば、トリエトキシ−モノ（アセチルアセトナト）ジルコニウム、トリ−ｎ−プロポキシ−モノ（アセチルアセトナト）ジルコニウム、トリ−ｉ−プロポキシ−モノ（アセチルアセトナト）ジルコニウム、トリ−ｎ−ブトキシ−モノ（アセチルアセトナト）ジルコニウム、トリ−ｓｅｃ−ブトキシ−モノ（アセチルアセトナト）ジルコニウム、トリ−ｔ−ブトキシ−モノ（アセチルアセトナト）ジルコニウム、ジエトキシ−ビス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、ジ−ｎ−プロポキシ−ビス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、ジ−ｉ−プロポキシ−ビス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、ジ−ｎ−ブトキシ−ビス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、ジ−ｓｅｃ−ブトキシ−ビス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、ジ−ｔ−ブトキシ−ビス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、モノエトキシ−トリス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、モノ−ｎ−プロポキシ−トリス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、モノ−ｉ−プロポキシ−トリス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、モノ−ｎ−ブトキシ−トリス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、モノ−ｓｅｃ−ブトキシ−トリス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、モノ−ｔ−ブトキシ−トリス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、テトラキス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、トリエトキシ−モノ（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、トリ−ｎ−プロポキシ−モノ（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、トリ−ｉ−プロポキシ−モノ（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、トリ−ｎ−ブトキシ−モノ（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、トリ−ｓｅｃ−ブトキシ−モノ（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、トリ−ｔ−ブトキシ−モノ（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ジエトキシ−ビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ジ−ｎ−プロポキシ−ビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ジ−ｉ−プロポキシ−ビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ジ−ｎ−ブトキシ−ビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ジ−ｓｅｃ−ブトキシ−ビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ジ−ｔ−ブトキシ−ビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、モノエトキシ−トリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、モノ−ｎ−プロポキシ−トリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、モノ−ｉ−プロポキシ−トリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、モノ−ｎ−ブトキシ−トリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、モノ−ｓｅｃ−ブトキシ−トリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、モノ−ｔ−ブトキシ−トリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、モノ（アセチルアセトナト）トリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ビス（アセチルアセトナト）ビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウムおよびトリス（アセチルアセトナト）モノ（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ならびにアルミニウムキレート化合物、例えば、トリス（アセチルアセトナト）アルミニウムおよびトリス（エチルアセトアセテート）アルミニウムを含むことができる。これらの中で、チタンまたはアルミニウムのキレート化合物は、注目に値するものであることが可能であり、特にチタンのキレート化合物は、注目に値するものであることが可能である。これらの金属キレート化合物は、単一で、または組み合わせて使用されてよい。
【０３１８】
ＩＩＩ．Ｄ．モル比
上記の方法において、約９９：１〜約１：９９、約７５：１〜約１：９９、約５０：１〜約１：９９、約２５：１〜約１：９９、約１５：１〜約１：９９、約５０：１〜約１：５０、約２５：１〜約１：２５または約１５：１〜約１：１５の式（Ｉａ）：式（ＩＩａ）、式（Ｉａ）：式（ＩＩＩａ）のモル比が使用されてよい。例えば、約３：２、約４：１、約４：３、約５：１、約２：３、約１：１約５：２および約１５：１のモル比が使用されてよい。例えば、約１５：１および約５：１の式（Ｉａ）：式（ＩＩａ）、式（Ｉａ）：式（ＩＩＩａ）のモル比を使用することが可能である。
【０３１９】
以下の考察のために、式（Ｉａ）、（Ｖａ）および（ＶＩａ）の化合物は、集合的に出発シロキサンと呼ばれるであろう。出発材料の選択次第で、溶液は、様々な組成を有し得る。例えば、塩基が使用される場合、溶液は、１：５〜約１：２０、例えば、約１：５〜約１：１５もしくは約１：５〜１：１０、または約１：６〜１：２０の出発シロキサン対ＯＨ−のモル比を有し得る。酸が使用される場合、溶液は、５０：１〜約５：１、例えば、約４５：１〜約１０：１の出発シロキサン：Ｈ＋のモル比を有し得る。酸または塩基が使用される両ケースにおいて、出発シロキサン対Ｈ２Ｏのモル比は、約１：５０〜約１：１０００、例えば、約１：１００〜約１：５００に変動し得る。
【０３２０】
ＩＩＩ．Ｅ．溶液の老化
本明細書に記載の方法で形成された溶液は、少なくとも約４時間、少なくとも約６時間、少なくとも約１２時間、少なくとも約１８時間、少なくとも約２４時間（１日）、少なくとも約３０時間、少なくとも約３６時間、少なくとも約４２時間、少なくとも約４８時間（２日）、少なくとも約５４時間、少なくとも約６０時間、少なくとも約６６時間、少なくとも約７２時間（３日）、少なくとも約９６時間（４日）、少なくとも約１２０時間（５日）または少なくとも約１４４時間（６日）老化することが可能である。
【０３２１】
追加的に、または代わりに、本明細書に記載の方法で形成された溶液は、約４時間〜約１４４時間（６日）、約４時間〜約１２０時間（５日）、約４時間〜約９６時間（４日）、約４時間〜約７２時間（３日）、約４時間〜約６６時間、約４時間〜約６０時間、約４時間〜約５４時間、約４時間〜約４８時間（２日）、約４時間〜約４２時間、約４時間〜約３６時間、約４時間〜約３０時間、約４時間〜約２４時間（１日）、約４時間〜約１８時間、約４時間〜約１２時間、約４時間〜約６時間、約６時間〜約１４４時間（６日）、約６時間〜約１２０時間（５日）、約６時間〜約９６時間（４日）、約６時間〜約７２時間（３日）、約６時間〜約６６時間、約６時間〜約６０時間、約６時間〜約５４時間、約６時間〜約４８時間（２日）、約６時間〜約４２時間、約６時間〜約３６時間、約６時間〜約３０時間、約６時間〜約２４時間（１日）、約６時間〜約１８時間、約６時間〜約１２時間、約１２時間〜約１４４時間（６日）、約１２時間〜約１２０時間（５日）、約１２時間〜約９６時間（４日）、約１２時間〜約７２時間（３日）、約１２時間〜約６６時間、約１２時間〜約６０時間、約１２時間〜約５４時間、約１２時間〜約４８時間（２日）、約１２時間〜約４２時間、約１２時間〜約３６時間、約１２時間〜約３０時間、約１２時間〜約２４時間（１日）、約１２時間〜約１８時間、約１８時間〜約１４４時間（６日）、約１８時間〜約１２０時間（５日）、約１８時間〜約９６時間（４日）、約１８時間〜約７２時間（３日）、約１８時間〜約６６時間、約１８時間〜約６０時間、約１８時間〜約５４時間、約１８時間〜約４８時間（２日）、約１８時間〜約４２時間、約１８時間〜約３６時間、約１８時間〜約３０時間、約１８時間〜約２４時間（１日）、約２４時間（１日）〜約１４４時間（６日）、約２４（１日）時間（１日）〜約１２０時間（５日）、約２４時間（１日）〜約９６時間（４日）、約２４時間（１日）〜約７２時間（３日）、約２４時間（１日）〜約６６時間、約２４時間（１日）〜約６０時間、約２４時間（１日）〜約５４時間、約２４時間（１日）〜約４８時間（２日）、約２４時間（１日）〜約４２時間、約２４時間（１日）〜約３６時間、約２４時間（１日）〜約３０時間、約３０時間〜約１４４時間（６日）、約３０時間〜約１２０時間（５日）、約３０時間〜約９６時間（４日）、約３０時間〜約７２時間（３日）、約３０時間〜約６６時間、約３０時間〜約６０時間、約３０時間〜約５４時間、約３０時間〜約４８時間（２日）、約３０時間〜約４２時間、約３０時間〜約３６時間、約３６時間〜約１４４時間（６日）、約３６時間〜約１２０時間（５日）、約３６時間〜約９６時間（４日）、約３６時間〜約７２時間（３日）、約３６時間〜約６６時間、約３６時間〜約６０時間、約３６時間〜約５４時間、約３６時間〜約４８時間（２日）、約３６時間〜約４２時間、約４２時間〜約１４４時間（６日）、約４２時間〜約１２０時間（５日）、約４２時間〜約９６時間（４日）、約４２時間〜約７２時間（３日）、約４２時間〜約６６時間、約４２時間〜約６０時間、約４２時間〜約５４時間、約４２時間〜約４８時間（２日）、約４８時間（２日）〜約１４４時間（６日）、約４８時間（２日）〜約１２０時間（５日）、約４８時間（２日）〜約９６時間（４日）、約４８時間（２日）〜約７２時間（３日）、約４８時間（２日）〜約６６時間、約４８時間（２日）〜約６０時間、約４８時間（２日）〜約５４時間、約５４時間〜約１４４時間（６日）、約５４時間〜約１２０時間（５日）、約５４時間〜約９６時間（４日）、約５４時間〜約７２時間（３日）、約５４時間〜約６６時間、約５４時間〜約６０時間、約６０時間〜約１４４時間（６日）、約６０時間〜約１２０時間（５日）、約６０時間〜約９６時間（４日）、約６０時間〜約７２時間（３日）、約６０時間〜約６６時間、約６６時間〜約１４４時間（６日）、約６６時間〜約１２０時間（５日）、約６６時間〜約９６時間（４日）、約６６時間〜約７２時間（３日）、約７２時間（３日）〜約１４４時間（６日）、約７２時間（３日）〜約１２０時間（５日）、約７２時間（３日）〜約９６時間（４日）、約９６時間（４日）〜約１４４時間（６日）、約９６時間（４日）〜約１２０時間（５日）または約１２０時間（５日）〜約１４４時間（６日）老化することが可能である。
【０３２２】
追加的に、または代わりに、本方法で形成された溶液は、少なくとも約１０℃、少なくとも約２０℃、少なくとも約３０℃、少なくとも約４０℃、少なくとも約５０℃、少なくとも約６０℃、少なくとも約７０℃、少なくとも約８０℃、少なくとも約９０℃、少なくとも約１００℃、少なくとも約１１０℃、少なくとも約１２０℃、少なくとも約１３０℃、少なくとも約１４０℃、少なくとも約１５０℃、少なくとも約１７５℃、少なくとも約２００℃、少なくとも約２５０℃または約３００℃の温度で老化することが可能である。
【０３２３】
追加的に、または代わりに、本方法で形成された溶液は、約１０℃〜約３００℃、約１０℃〜約２５０℃、約１０℃〜約２００℃、約１０℃〜約１７５℃、約１０℃〜約１５０℃、約１０℃〜約１４０℃、約１０℃〜約１３０℃、約１０℃〜約１２０℃、約１０℃〜約１１０℃、約１０℃〜約１００℃、約１０℃〜約９０℃、約１０℃〜約８０℃、約１０℃〜約７０℃、約１０℃〜約６０℃、約１０℃〜約５０℃、約２０℃〜約３００℃、約２０℃〜約２５０℃、約２０℃〜約２００℃、約２０℃〜約１７５℃、約２０℃〜約１５０℃、約２０℃〜約１４０℃、約２０℃〜約１３０℃、約２０℃〜約１２０℃、約２０℃〜約１１０℃、約２０℃〜約１００℃、約２０℃〜約９０℃、約２０℃〜約８０℃、約２０℃〜約７０℃、約２０℃〜約６０℃、約２０℃〜約５０℃、約３０℃〜約３００℃、約３０℃〜約２５０℃、約３０℃〜約２００℃、約３０℃〜約１７５℃、約３０℃〜約１５０℃、約３０℃〜約１４０℃、約３０℃〜約１３０℃、約３０℃〜約１２０℃、約３０℃〜約１１０℃、約３０℃〜約１００℃、約３０℃〜約９０℃、約３０℃〜約８０℃、約３０℃〜約７０℃、約３０℃〜約６０℃、約３０℃〜約５０℃、約５０℃〜約３００℃、約５０℃〜約２５０℃、約５０℃〜約２００℃、約５０℃〜約１７５℃、約５０℃〜約１５０℃、約５０℃〜約１４０℃、約５０℃〜約１３０℃、約５０℃〜約１２０℃、約５０℃〜約１１０℃、約５０℃〜約１００℃、約５０℃〜約９０℃、約５０℃〜約８０℃、約５０℃〜約７０℃、約５０℃〜約６０℃、約７０℃〜約３００℃、約７０℃〜約２５０℃、約７０℃〜約２００℃、約７０℃〜約１７５℃、約７０℃〜約１５０℃、約７０℃〜約１４０℃、約７０℃〜約１３０℃、約７０℃〜約１２０℃、約７０℃〜約１１０℃、約７０℃〜約１００℃、約７０℃〜約９０℃、約７０℃〜約８０℃、約８０℃〜約３００℃、約８０℃〜約２５０℃、約８０℃〜約２００℃、約８０℃〜約１７５℃、約８０℃〜約１５０℃、約８０℃〜約１４０℃、約８０℃〜約１３０℃、約８０℃〜約１２０℃、約８０℃〜約１１０℃、約８０℃〜約１００℃、約８０℃〜約９０℃、約９０℃〜約３００℃、約９０℃〜約２５０℃、約９０℃〜約２００℃、約９０℃〜約１７５℃、約９０℃〜約１５０℃、約９０℃〜約１４０℃、約９０℃〜約１３０℃、約９０℃〜約１２０℃、約９０℃〜約１１０℃、約９０℃〜約１００℃、約１００℃〜約３００℃、約１００℃〜約２５０℃、約１００℃〜約２００℃、約１００℃〜約１７５℃、約１００℃〜約１５０℃、約１００℃〜約１４０℃、約１００℃〜約１３０℃、約１００℃〜約１２０℃、約１００℃〜約１１０℃、約１１０℃〜約３００℃、約１１０℃〜約２５０℃、約１１０℃〜約２００℃、約１１０℃〜約１７５℃、約１１０℃〜約１５０℃、約１１０℃〜約１４０℃、約１１０℃〜約１３０℃、約１１０℃〜約１２０℃、約１２０℃〜約３００℃、約１２０℃〜約２５０℃、約１２０℃〜約２００℃、約１２０℃〜約１７５℃、約１２０℃〜約１５０℃、約１２０℃〜約１４０℃、約１２０℃〜約１３０℃、約１３０℃〜約３００℃、約１３０℃〜約２５０℃、約１３０℃〜約２００℃、約１３０℃〜約１７５℃、約１３０℃〜約１５０℃または約１３０℃〜約１４０℃の温度で老化することが可能である。
【０３２４】
ＩＩＩ．Ｉ．半製品の乾燥
本明細書に記載の方法は、半製品（例えば、ゲル）を乾燥させ、オルガノシリカ材料を製造すること（又は工程もしくはステップ）を含んでなる。
【０３２５】
いくつかの実施形態において、本方法で製造された半製品（例えば、ゲル）は、約５０℃以上、約７０℃以上、約８０℃以上、約１００℃以上、約１１０℃以上、約１２０℃以上、約１５０℃以上、約２００℃以上、約２５０℃以上、約３００℃以上、約３５０℃以上、約４００℃以上、約４５０℃以上、約５００℃以上、約５５０℃以上または約６００℃以上の温度で乾燥させることが可能である。
【０３２６】
追加的に、または代わりに、本方法で製造された半製品（例えば、ゲル）は、約５０℃〜約６００℃、約５０℃〜約５５０℃、約５０℃〜約５００℃、約５０℃〜約４５０℃、約５０℃〜約４００℃、約５０℃〜約３５０℃、約５０℃〜約３００℃、約５０℃〜約２５０℃、約５０℃〜約２００℃、約５０℃〜約１５０℃、約５０℃〜約１２０℃、約５０℃〜約１１０℃、約５０℃〜約１００℃、約５０℃〜約８０℃、約５０℃〜約７０℃、約７０℃〜約６００℃、約７０℃〜約５５０℃、約７０℃〜約５００℃、約７０℃〜約４５０℃、約７０℃〜約４００℃、約７０℃〜約３５０℃、約７０℃〜約３００℃、約７０℃〜約２５０℃、約７０℃〜約２００℃、約７０℃〜約１５０℃、約７０℃〜約１２０℃、約７０℃〜約１１０℃、約７０℃〜約１００℃、約７０℃〜約８０℃、約８０℃〜約６００℃、約７０℃〜約５５０℃、約８０℃〜約５００℃、約８０℃〜約４５０℃、約８０℃〜約４００℃、約８０℃〜約３５０℃、約８０℃〜約３００℃、約８０℃〜約２５０℃、約８０℃〜約２００℃、約８０℃〜約１５０℃、約８０℃〜約１２０℃、約８０℃〜約１１０℃または約８０℃〜約１００℃の温度で乾燥させることが可能である。
【０３２７】
特定の実施形態において、本方法で製造された半製品（例えば、ゲル）は、約７０℃〜約２００℃の温度で乾燥させることが可能である。
【０３２８】
追加的に、または代わりに、本方法で製造された半製品（例えば、ゲル）は、Ｎ２および／または空気雰囲気中で乾燥させることが可能である。
【０３２９】
ＩＩＩ．Ｋ．任意のさらなるステップ
いくつかの実施形態において、本方法は、オルガノシリカ材料を焼成して、シリカ材料を得ること（又は工程もしくはステップ）をさらに含んでなることが可能である。焼成は、空気、または窒素もしくは窒素が豊富な空気などの不活性気体中で実行することが可能である。焼成は、少なくとも約３００℃、少なくとも約３５０℃、少なくとも約４００℃、少なくとも約４５０℃、少なくとも約５００℃、少なくとも約５５０℃、少なくとも約６００℃または少なくとも約６５０℃、例えば、少なくとも約４００℃の温度で実行することが可能である。追加的に、または代わりに、焼成は、約３００℃〜約６５０℃、約３００℃〜約６００℃、約３００℃〜約５５０℃、約３００℃〜約４００℃、約３００℃〜約４５０℃、約３００℃〜約４００℃、約３００℃〜約３５０℃、約３５０℃〜約６５０℃、約３５０℃〜約６００℃、約３５０℃〜約５５０℃、約３５０℃〜約４００℃、約３５０℃〜約４５０℃、約３５０℃〜約４００℃、約４００℃〜約６５０℃、約４００℃〜約６００℃、約４００℃〜約５５０℃、約４００℃〜約５００℃、約４００℃〜約４５０℃、約４５０℃〜約６５０℃、約４５０℃〜約６００℃、約４５０℃〜約５５０℃、約４５０℃〜約５００℃、約５００℃〜約６５０℃、約５００℃〜約６００℃、約５００℃〜約５５０℃、約５５０℃〜約６５０℃、約５５０℃〜約６００℃または約６００℃〜約６５０℃の温度で実行することが可能である。
【０３３０】
ＩＶ．オルガノシリカ材料プロダクトバイプロセス
オルガノシリカ材料は、本明細書に記載の方法から製造することが可能である。別の特定の実施形態において、オルガノシリカ材料は、本明細書に記載の構造指向剤またはポロゲンを本質的に含有しない、本明細書に記載の水性混合物から製造され、オルガノシリカ材料は、
（ｉ）
（ａ）本明細書に記載の少なくとも１種の式（Ｉ）の独立単位、
（ｂ）本明細書に記載の少なくとも１種の式（ＩＩ）の独立単位および／または本明細書に記載の少なくとも１種の式（ＩＩＩ）の独立単位、ならびに
（ｃ）任意に、本明細書に記載の少なくとも１種の式（ＩＶ）の独立単位、本明細書に記載の少なくとも１種の式（Ｖ）の独立単位、および／または本明細書に記載の少なくとも１種の式（ＶＩ）の独立単位
のコポリマーであり得る。
【０３３１】
本明細書に記載の方法から製造されたオルガノシリカ材料は、特に約１〜約３度２θの１つのピークを有する、本明細書に記載のＸＲＤパターンを示し得る。追加的に、または代わりに、本明細書に記載の方法から製造されたオルガノシリカ材料は、約０．５〜約１０度２θ、約０．５〜約１２度２θの範囲、約０．５〜約１５度２θ、約０．５〜約２０度２θ、約０．５〜約３０度２θ、約０．５〜約４０度２θ、約０．５〜約５０度２θ、約０．５〜約６０度２θ、約０．５〜約７０度２θ、約２〜約１０度２θ、約２〜約１２度２θの範囲、約２〜約１５度２θ、約２〜約２０度２θ、約２〜約３０度２θ、約２〜約４０度２θ、約２〜約５０度２θ、約２〜約６０度２θ、約２〜約７０度２θ、約３〜約１０度２θ、約３〜約１２度２θの範囲、約３〜約１５度２θ、約３〜約２０度２θ、約３〜約３０度２θ、約３〜約４０度２θ、約３〜約５０度２θ、約３〜約６０度２θまたは約３〜約７０度２θの範囲においてピークを実質的に示さないことが可能である。
【０３３２】
追加的に、または代わりに、オルガノシリカ材料は、特に約１．５ｎｍ〜約２０．０ｎｍの、本明細書に記載の平均細孔径を有し得る。
【０３３３】
Ｖ．オルガノシリカ材料の使用
本発明に記載のオルガノシリカ材料は、いくつかの分野において使用が見出される。
【０３３４】
特定の実施形態において、本明細書に記載のオルガノシリカ材料は、分離および触媒プロセス用の吸着剤または支持材料として使用することが可能である。
【０３３５】
Ｖ．Ａ．気体分離プロセス
いくつかの場合、オルガノシリカ材料は、本明細書に提供される気体分離プロセスにおいて使用されることが可能である。気体分離プロセスは、少なくとも１種の汚染物質を含有する気体混合物を、本明細書に記載の方法に従って調製された、本明細書に記載のオルガノシリカ材料と接触させること（又は工程もしくはステップ）を含んでなることが可能である。
【０３３６】
様々な実施形態において、気体分離プロセスは、圧力スイングプロセス（ＰＳＡ）および温度スイングプロセス（ＴＳＡ）などのスイング吸着プロセスによって達成することが可能である。全てのスイング吸着プロセスは、典型的に、（典型的に気相中の）供給混合物が吸着剤上に流されて、容易に吸着されない成分と比較して、より容易に吸着される成分が優先的に吸着する。成分は、吸着剤の動態学的または平衡的特性のために、より容易に吸着され得る。吸着剤は、典型的に、スイング吸着ユニットの一部であるコンタクタに含まれることが可能である。コンタクタは、典型的に、設計された構造化吸着剤床または微粒状吸着剤床を含有することが可能である。床は、吸着剤ならびに吸着および脱着の熱からの温度逸脱を緩和するために使用される他の吸着剤、メソ細孔充てん剤材料および／または不活性材料などの他の材料を含有することが可能である。スイング吸着ユニット中の他の成分は、限定されないが、バルブ、パイプ、タンクおよび他のコンタクタを含むことが可能である。スイング吸着プロセスは、それぞれ参照によって本明細書に組み込まれる米国特許第号８，７８４，５３３号明細書、同第８，７８４，５３４号明細書、同第８，８５８，６８３号明細書および同第８，７８４，５３５明細書に詳細に記載される。別々に、または組み合わせて本明細書において使用することが可能であるプロセスの例は、ＰＳＡ、ＴＳＡ、圧力温度スイング吸着（ＰＴＳＡ）、部分パージ置換スイング吸着（ＰＰＳＡ）、ＰＰＴＳＡ、急速サイクルＰＳＡ（ＲＣＰＳＡ）、ＲＣＴＳＡ、ＲＣＰＰＳＡおよびＲＣＰＴＳＡである。
【０３３７】
スイング吸着プロセスは、広範囲の気体混合物から、「汚染気体」とも呼ばれる様々な標的気体を除去するために適用されることが可能である。典型的に、２進分離システムにおいて、「軽質成分」は、本明細書で利用される場合、プロセスの吸着ステップで吸着剤によって優先的に取り込まれない種または分子成分であるとみなされる。逆に、このような２進システムにおいて、「重質成分」は、本明細書で利用される場合、プロセスの吸着ステップで吸着剤によって優先的に取り込まれる種または分子成分であるとみなされる。しかしながら、優先的に吸着された成分が、優先的に吸着されない成分よりも低い分子量を有する２進分離システムにおいて、それらの記載は、必ずしも上記で開示されるように相互関係しなくてもよい。
【０３３８】
本明細書に記載の方法において分離することが可能である気体混合物の例は、天然ガス流などのＣＨ４を含んでなる気体混合物である。ＣＨ４を含んでなる気体混合物は、有意な量のＨ２Ｏ、Ｈ２Ｓ、ＣＯ２、Ｎ２、メルカプタンおよび／または重質炭化水素などの汚染物質を含有する可能性がある。追加的に、または代わりに、気体混合物は、廃棄気体流、送気管気流および湿潤気流など、汚染物質としてＮＯｘおよび／またはＳＯｘ種を含んでなる可能性がある。本明細書で使用される場合、「ＮＯｘ」および「ＮＯｘ」種という用語は、燃焼プロセスからの廃棄気体などの廃棄気体中に存在し得る窒素の種々の酸化物を意味する。この用語は、限定されないが、酸化窒素（ＮＯ）、二酸化窒素（ＮＯ２）、二酸化窒素（Ｎ２Ｏ）、五酸化窒素（Ｎ２Ｏ５）およびそれらの混合物を含む窒素の種々の酸化物の全てを意味する。本明細書で使用される場合、「ＳＯｘ」および「ＳＯｘ種」という用語は、燃焼プロセスからの廃棄気体などの廃棄気体中に存在し得る硫黄の種々の酸化物を意味する。この用語は、限定されないが、ＳＯ、ＳＯ２、ＳＯ３、ＳＯ４、Ｓ７Ｏ２およびＳ６Ｏ２を含む硫黄の種々の酸化物の全てを意味する。したがって、汚染物質の例としては、限定されないが、Ｈ２Ｏ、Ｈ２Ｓ、ＣＯ２、Ｎ２、メルカプタン、重質炭化水素、ＮＯｘおよび／またはＳＯｘ種が含まれる。
【０３３９】
Ｖ．Ｂ．芳香族水素化方法（又は芳香族水素化プロセス）
水素化触媒は、限定されないが、活性材料および不活性材料、無機材料、クレー、セラミックス、活性炭、アルミナ、シリカ、シリカ−アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化ニオブ、酸化タンタルまたはそれらの組合せ、特に、シリカ−アルミナ、アルミナ、チタニアまたはジルコニアなどの結合剤をさらに含んでなることが可能である。水素化触媒は、供給流の水素化または芳香族飽和の両方に使用することが可能である。
【０３４０】
種々の実施形態において、水素化方法（又は水素化プロセス）は、芳香族含有量の減少した反応生成物を製造するために有効な芳香族水素化条件下で操作される第１の反応段階において、水素含有処理気体の存在下、炭化水素供給流と、本明細書に記載の水素化触媒とを接触させること（又は工程もしくはステップ）によって達成することが可能である。
【０３４１】
水素化プロセスでの使用に適切な水素含有処理気体は、実質的に純粋な水素から構成されることが可能であるか、または典型的に精製所水素流で見出される他の成分の混合物であることが可能である。水素含有処理気体流が、少量のみの硫化水素を含有する、より好ましくは、硫化水素を含有しないことが好ましい。水素含有処理気体流の純度は、最良の結果のために、少なくとも５０体積％の水素、好ましくは少なくとも７５体積％の水素、より好ましくは少なくとも９０体積％の水素であるべきである。水素含有流が、実質的に純粋な水素であることが最も好ましい。
【０３４２】
本明細書に記載の水素化触媒による水素化に適切な供給流は、水素化または芳香族飽和が望ましい、いずれの従来の炭化水素供給流も含む。典型的に、芳香族飽和プロセスのためのインプット供給物は、燃料または潤滑剤ベースストック製造のための水素化分解などの以前の種類の水素化処理からの生成物また副産物として製造可能である。広範囲の石油および化学工業原料が水素化処理可能である。そのような供給流としては、炭化水素流体、ディーゼル、灯油、潤滑油供給流、重コーカ軽油（ＨＫＧＯ）、脱アスファルト化油（ＤＡＯ）、ＦＣＣメインカラムボトム（ＭＣＢ）、蒸気クラッカータールを含むことができる。そのような供給流としては、他の凝縮物供給流、例えば、初期凝縮物を含む、軽質〜重質留分、ワックス含有供給流、例えば、粗製油、けつ岩油およびタールサンドから誘導された供給物を含むことが可能である。フィッシャー−トロプシュ法から誘導されたものなどの合成供給物も、本明細書に記載の水素化触媒を使用して、芳香族飽和が可能である。潤滑剤ベース油の調製のための典型的なワックス含有供給原料は、約３１５℃以上の初期沸点を有し、かつ全石油原油および減少石油原油、水素化分解生成物、ラフィネート、水素化処理された油、軽油（大気気体油、減圧気体油およびコーカ気体油など）、大気および減圧残留物、脱アスファルト化油／残留物（例えば、プロパン脱アスファルト化残留物、ブライトストック、サイクルオイル）、脱蝋油、スラックワックスおよびフィッシャー−トロプシュワックス、ならびにそれらの材料の混合物などの供給物を含む。そのような供給物は、蒸留塔（大気および減圧）、水素化分解装置、水素化処理装置および溶媒抽出ユニットから誘導されてよく、かつ５０％以上までのワックス含有量を有してもよい。好ましい潤滑油沸騰範囲供給流は、６５０〜１１００°Ｆの範囲で沸騰する供給流を含む。ディーゼル沸騰範囲供給流は、４８０〜６６０°Ｆの範囲で沸騰する供給流を含む。灯油沸騰範囲供給流は、３５０〜６１７°Ｆの範囲で沸騰する供給流を含む。
【０３４３】
本明細書での使用に適切な炭化水素供給流は、芳香族ならびに窒素および硫黄汚染物質を含有する。供給流に基づき、０．２重量％までの窒素、３．０重量％までの硫黄および５０重量％までの芳香族を含有する供給流を本プロセスにおいて使用することができる。種々の実施形態において、供給流の硫黄含有量は、約５００ｗｐｐｍ未満、または約３００ｗｐｐｍ未満、または約２００ｗｐｐｍ未満、または約１００ｗｐｐｍ未満、または約５０ｗｐｐｍ未満、または約１５ｗｐｐｍ未満であることが可能である。芳香族水素化プロセスの間に使用される圧力は、供給流の予想される硫黄含有量に基づいて変動可能である。高いワックス含有量を有する供給物は、典型的に、２００以上までの高い粘度指数を有する。硫黄および窒素含有量は、それぞれ、標準的なＡＳＴＭ法Ｄ２６２２（硫黄）ならびにＤ５４５３および／またはＤ４６２９（窒素）によって測定されてよい。
【０３４４】
有効水素化条件は、その条件下で、炭化水素供給流に存在する芳香族の少なくとも一部が飽和され、好ましくは芳香族の少なくとも約５０重量％が飽和され、より好ましくは約７５重量％が飽和される条件であると考えられてよい。有効水素化条件は、１５０℃〜４００℃の温度、７４０〜２０７８６ｋＰａ（１００〜３０００ｐｓｉｇ）の水素分圧、０．１〜１０液体毎時空間速度（ＬＨＳＶ）の空間速度および８９〜１７８０ｍ３／ｍ３（５００〜１００００ｓｃｆ／Ｂ）の水素対供給物比を含むことが可能である。
【０３４５】
追加的に、または代わりとして、有効水素化条件は、窒素および有機的に結合した硫黄の汚染物質の少なくとも一部を除去すること、ならびに上記芳香族の少なくとも一部を水素化すること、したがって、潤滑油沸騰範囲供給流よりも低濃度の芳香族および窒素および有機的に結合した硫黄の汚染物質を有する少なくとも液体潤滑油沸騰範囲生成物を製造することにおいて有効である条件であってもよい。
【０３４６】
追加的に、または代わりとして、有効水素化条件は、窒素および有機的に結合した硫黄の汚染物質の少なくとも一部を除去すること、ならびに上記芳香族の少なくとも一部を水素化すること、したがって、ディーゼル沸騰範囲供給流よりも低濃度の芳香族および窒素および有機的に結合した硫黄の汚染物質を有する少なくとも液体ディーゼル沸騰範囲生成物を製造することにおいて有効である条件であってもよい。
【０３４７】
上記の通り、いくつかの場合、炭化水素供給流（例えば、潤滑油沸騰範囲）は、硫黄汚染物質を約５００ｗｐｐｍ未満、特に約３００ｗｐｐｍ未満、特に約２００ｗｐｐｍ未満または特に約１００ｗｐｐｍ未満まで低下させるために水素化処理されてもよい。そのような実施形態において、プロセスは、少なくとも２つの反応段階を含んでよく、有効水素化処理条件下で操作される水素化処理触媒を含有する第１の反応状態および水素化触媒を含有する第２は、上記の有効水素化条件下で操作される。したがって、そのような実施形態において、炭化水素供給流を、最初に、供給流の硫黄含有量を上記範囲内まで低下させるために有効な水素化処理条件下で操作される第１の反応段階において、水素含有処理気体の存在下、水素化処理触媒と接触させることができる。したがって、「水素化処理」という用語は、本明細書で使用される場合、硫黄および窒素などのヘテロ原子の除去のために活性である適切な触媒の存在下で、水素含有処理気体が使用されるプロセスを示す。本発明での使用のために適切な水素化処理触媒は、いずれかの従来の水素化処理触媒であり、かつ少なくとも１種の第８族金属、好ましくは、Ｆｅ、ＣｏおよびＮｉ、より好ましくは、Ｃｏおよび／またはＮｉ、最も好ましくは、Ｎｉ、ならびに少なくとも１種の第６族金属、好ましくは、ＭｏおよびＷ、より好ましくは、Ｍｏを高表面積支持体材料、好ましくはアルミナ上で含んでなるものが含まれる。追加的に、または代わりとして、同反応容器中で２種以上の水素化処理触媒が使用されることが可能である。第８族金属は、典型的に、約２〜２０重量％、好ましくは、約４〜１２重量％の範囲の量で存在してよい。第６族金属は、典型的に、約５〜５０重量％、好ましくは、約１０〜４０重量％、より好ましくは、約２０〜３０重量％の範囲の量で存在してよい。全ての金属の重量パーセントは、上記の通り、「支持体上」である。
【０３４８】
有効水素化処理条件は、供給流の硫黄含有量（例えば、潤滑油沸騰範囲）を、上記された範囲内まで有効に低下させることが可能であるそれらの条件であると考えられてよい。典型的な有効水素化処理条件としては、約１５０℃〜約４２５℃、好ましくは、約２００℃〜約３７０℃、より好ましくは、約２３０℃〜約３５０℃の範囲の温度を含むことが可能である。典型的な重量毎時空間速度（「ＷＨＳＶ」）は、約０．１〜約２０時間−１、好ましくは、約０．５〜約５時間−１の範囲であってよい。いずれかの有効圧力も利用可能であり、かつ圧力は、典型的に、約４〜約７０気圧（４０５〜７０９３ｋＰａ）、好ましくは、１０〜４０気圧（１０１３〜４０５３ｋＰａ）の範囲であることが可能である。特定の実施形態において、上記有効水素化処理条件は、上記有機的に結合した硫黄の汚染物質の少なくとも一部を除去すること、および上記芳香族の少なくとも一部を水素化すること、したがって、潤滑油沸騰範囲供給流よりも低濃度の芳香族および有機的に結合した硫黄の汚染物質を有する少なくとも反応生成物（例えば、液体潤滑油沸騰範囲生成物）を製造することにおいて有効である条件であってもよい。
【０３４９】
炭化水素供給流を水素化処理触媒と接触させることによって、少なくとも１種の蒸気生成物および液体生成物を含んでなる反応生成物が製造され得る。蒸気生成物は、典型的に、Ｈ２Ｓなどの気体状反応製品を含んでよく、そして液体反応生成物は、典型的に、窒素および硫黄汚染物質の減少した濃度を有する液体炭化水素を含んでよい。完全反応生成物は、第２の反応段階へと直接通すことが可能であるが、気体状および液体反応生成物が分離され、そして液体反応生成物が第２の反応段階に導入されることが好ましくなり得る。したがって、一実施形態において、蒸気生成物および液体生成物は、分離されてもよく、そして液体生成物は、第２の反応段階に導入されてよい。液体生成物から蒸気生成物を分離する方法は、気体状および液体反応生成物を分離することにおいて有効であることが既知であるいずれかの手段によって達成可能である。例えば、ストリッピングタワーまたは反応ゾーンを強いようして、蒸気生成物を液体生成物（例えば、液体潤滑油沸騰範囲生成物）から分離することができる。そのようにして第２の反応段階に導入される液体生成物は、約５００ｗｐｐｍ範囲内、特に約３００ｗｐｐｍ未満、または特に約２００ｗｐｐｍ未満または特に約１００ｗｐｐｍ未満の硫黄濃度を有することができる。
【０３５０】
なお他の実施形態において、本明細書に記載の水素化触媒は、統合された水素化処理法において使用可能である。本明細書に記載の水素化触媒に関する水素化仕上げおよび／または芳香族水素化／飽和プロセスに加えて、統合された水素化処理法は、水素化処理、水素化分解、触媒脱蝋（例えば、水素化脱蝋）および／または溶媒脱蝋の種々の組合せを含むことができる。上記の水素化処理と、それに続く水素化仕上げのスキームは、総合プロセスフローの１種を表す。別の統合されたプロセス例は、触媒脱蝋または溶媒脱蝋のいずれかによる脱蝋ステップと、それに続く本明細書に記載の水素化触媒による水素化処理を有するものである。なお別の例は、水素化処理、（触媒または溶媒）脱蝋、次いで、本明細書に記載の水素化触媒による水素化処理に関係するプロセススキームである。なお別の例は、本明細書に記載の水素化触媒による水素化処理と、それに続く（触媒または溶媒）脱蝋である。代わりに、複数の水素化仕上げおよび／または芳香族水素化ステップが、水素化処理、水素化分解または脱蝋ステップとともに利用されることが可能である。そのようなプロセスフローの例は、水素化仕上げ、（触媒または溶媒）脱蝋、次いで再び水素化仕上げであり、そしてそこで、水素化仕上げステップの少なくとも１回は、本明細書に記載の水素化触媒を使用するものであってよい。触媒脱蝋が関係するプロセスに関して、有効触媒脱蝋条件は、１５０℃〜４００℃、好ましくは、２５０℃〜３５０℃の温度、７９１〜２０７８６ｋＰａ（１００〜３０００ｐｓｉｇ）、好ましくは、１４８０〜１７３３８ｋＰａ（２００〜２５００ｐｓｉｇ）の圧力、０．１〜１０時間−１、好ましくは、０．１〜５時間−１の液体毎時空間速度、および４５〜１７８０ｍ３／ｍ３（２５０〜１００００ｓｃｆ／Ｂ）、好ましくは、８９〜８９０ｍ３／ｍ３（５００〜５０００ｓｃｆ／Ｂ）の水素処理気体速度を含むことができる。いずれの適切な脱蝋触媒も使用されてよい。
【０３５１】
芳香族飽和プロセスの生成物が潤滑剤ベース油であろう実施形態において、インプット供給物も適切な潤滑剤ベース油特性を有するべきである。例えば、第Ｉ族または第ＩＩ族ベース油として使用するために意図されたインプット供給物は、少なくとも約８０、好ましくは少なくとも約９０または好ましくは少なくとも９５の粘度指数（ＶＩ）を有することが可能である。第Ｉ＋族ベース油として使用するために意図されたインプット供給物は、少なくとも約１００のＶＩを有することが可能であるが、第ＩＩ＋族ベース油として使用するために意図されたインプット供給物は、少なくとも約１１０のＶＩを有することが可能である。インプット供給物の粘度は、１００℃において少なくとも２ｃＳｔ、または１００℃において少なくとも４ｃＳｔ、または１００℃において少なくとも６ｃＳｔであることが可能である。
【０３５２】
ＶＩ．さらなる実施形態
本発明は、追加的に、または代わりとして、以下の実施形態の１つまたはそれ以上を含むことができる。
【０３５３】
実施形態１
少なくとも１種の式［Ｚ１ＯＺ２ＯＳｉＣＨ２］３（Ｉ）
［式中、各Ｚ１およびＺ２は、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す］
の独立モノマーおよび少なくとも１種の他の三価金属酸化物モノマーのポリマーである、オルガノシリカ材料。
【０３５４】
実施形態２
各Ｚ１およびＺ２が、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す、実施形態１のオルガノシリカ材料。
【０３５５】
実施形態３
各Ｚ１およびＺ２が、独立して、水素原子、エチル、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す、実施形態１または２のオルガノシリカ材料。
【０３５６】
実施形態４
上記少なくとも１種の他の三価金属酸化物モノマーが、
（ｉ）式Ｍ１（ＯＺ３）３（ＩＩ）
［式中、Ｍ１は、第１３族金属を表し、各Ｚ３は、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す］
の独立単位、または
（ｉｉ）式（Ｚ４Ｏ）２Ｍ２−Ｏ−Ｓｉ（ＯＺ５）３（ＩＩＩ）
［式中、Ｍ２は、第１３族金属を表し、各Ｚ４および各Ｚ５は、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す］
の独立単位
である、上記実施形態のいずれか１つのメソポーラスオルガノシリカ材料。
【０３５７】
実施形態５
少なくとも１種の式（ＩＩ）
［式中、Ｍ１は、ＡｌまたはＢであり、各Ｚ３は、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、またはケイ素原子もしくは別のモノマーへの結合を表す］
の単位が存在する、実施形態４のオルガノシリカ材料。
【０３５８】
実施形態６
少なくとも１種の式（ＩＩＩ）
［式中、Ｍ２は、ＡｌまたはＢであり、各Ｚ４および各Ｚ５は、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す］
の単位が存在する、実施形態４または５のオルガノシリカ材料。
【０３５９】
実施形態７
（ｉ）式［Ｚ６ＯＺ７ＳｉＣＨ２］３（ＩＶ）
［式中、各Ｚ６は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表し、各Ｚ７は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表す］
の独立単位、
（ｉｉ）式Ｚ８ＯＺ９Ｚ１０Ｚ１１Ｓｉ（Ｖ）
［式中、各Ｚ８は、水素原子またはＣ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表し、Ｚ９、Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有ヘテロアラルキル基、窒素を含有していて任意に置換されたヘテロシクロアルキル基、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択される］
の独立単位、および
（ｉｉｉ）式Ｚ１２Ｚ１３Ｚ１４Ｓｉ−Ｒ−ＳｉＺ１２Ｚ１３Ｚ１４（ＶＩ）
［式中、各Ｚ１２は、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、または別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表し、各Ｚ１３およびＺ１４は、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素を表し、Ｒは、Ｃ１〜Ｃ８アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルキニレン基、窒素含有Ｃ２〜Ｃ１０アルキレン基、任意に置換されたＣ６〜Ｃ２０アラルキル、および任意に置換されたＣ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基からなる群から選択される］
の独立単位、および
（ｉｖ）それらの組合せ
からなる群から選択されるモノマーをさらに含む、上記実施形態のいずれか１つのオルガノシリカ材料。
【０３６０】
実施形態８
約１．５ｎｍ〜約２０．０ｎｍの平均細孔径（average pore diameter）を有する、上記実施形態のいずれか１つのオルガノシリカ材料。
【０３６１】
実施形態９
約２００ｍ２／ｇ〜約２５００ｍ２／ｇの全表面積（total surface area）を有する、上記実施形態のいずれか１つのオルガノシリカ材料。
【０３６２】
実施形態１０
約０．１ｃｍ３／ｇ〜約５．０ｃｍ３／ｇの細孔体積（pore volume）を有する、上記実施形態のいずれか１つのオルガノシリカ材料。
【０３６３】
実施形態１１
上記材料の上記細孔内に組み込まれた少なくとも１種の触媒金属をさらに含む、上記実施形態のいずれか１つのオルガノシリカ材料。
【０３６４】
実施形態１２
上記触媒金属が、第６族元素、第８族元素、第９族元素、第１０族元素およびそれらの組合せからなる群から選択される、実施形態１１のオルガノシリカ材料。
【０３６５】
実施形態１３
構造指向剤（structure directing agent）またはポロゲン（porogen）を本質的に使用せずに製造される、上記実施形態のいずれか１つのオルガノシリカ材料。
【実施例】
【０３６６】
一般的な方法
小角Ｘ線回折分析
エックス線粉末回折（ＸＲＤ）パターンは、低角度測定用アクセサリーを備えたＰＡＮａｌｙｔｉｃａｌ  Ｘ’ｐｅｒｔ回折計上で収集した。ＸＲＤ分析は、０．０１６７°のステップサイズおよび１．２秒の集計時間で、０．５〜１０°の２θ範囲内のＣｕＫａ（＝１．５４０５９８０Å）を使用して記録した。
【０３６７】
固体状態（ＳＳ）ＮＭＲ測定
２９Ｓｉ  ＭＡＳ  ＮＭＲスペクトルは、それぞれ、７９．４ＭＨｚおよび９９．２ＭＨｚの２９Ｓｉラーモア回転数に相当するＶａｒｉａｎ  ＩｎｆｉｎｉｔｙＰｌｕｓ−４００分光計（９．４Ｔで操作）およびＶａｒｉａｎ  ＩｎｆｉｎｉｔｙＰｌｕｓ−５００（１１．７４Ｔで操作）上で、５ｋＨｚのスピニング、４．０μｓの９０°パルスおよび少なくとも６０秒のリサイクル遅延を使用して、７．５ｍｍのＭＡＳプローブヘッドを用いて、プロトンがデータ取得の間に非干渉化するという状態で記録された。２９Ｓｉ化学シフトは、外部テトラメチルシラン（δＳｉ＝０．０ｐｐｍ）に関して参照される。１３Ｃ  ＣＰＭＡＳ  ＮＭＲスペクトルは、１２５ＭＨｚの１３Ｃラーモア回転数に相当するＶａｒｉａｎ  ＩｎｆｉｎｉｔｙＰｌｕｓ−５００分光計上で、４０ｋＨｚのスピニング、少なくとも１ｍ秒の１Ｈ−１３Ｃ直交偏波（ＣＰ）接触時間、少なくとも１秒のリサイクル遅延を使用して、１．６ｍｍのＭＡＳプローブヘッドを用いて、プロトンがデータ取得の間に非干渉化するという状態で記録された。１３Ｃ化学シフトは、外部テトラメチルシラン（δＣ＝０．０ｐｐｍ）に関して参照される。２７Ａｌ  ＭＡＳ  ＮＭＲスペクトルは、１３０．１ＭＨｚの２７Ａｌラーモア回転数に相当するＶａｒｉａｎ  ＩｎｆｉｎｉｔｙＰｌｕｓ−５００上で、１２ｋＨｚのスピニング、π／１２ラジアンパルス長さおよび０．３秒のリサイクル遅延を使用して、４ｍｍのＭＡＳプローブヘッドを用いて、プロトンがデータ取得の間に非干渉化するという状態で記録された。化学シフトは、Ａｌ（Ｈ２Ｏ）６３＋（δＡｌ＝０．０ｐｐｍ）の外部溶液に関して参照される。全てのＮＭＲスペクトルは、スピニング用空気を使用して室温で記録された。
【０３６８】
熱重量分析（ＴＧＡ）
熱安定性結果は、Ｑ５０００  ＴＧＡ上で記録された。ランプレートは５℃／分であり、温度範囲は２５℃〜８００℃であった。全ての試料は、空気および窒素の両方で試験された。
【０３６９】
ＣＯ２吸着
Ｑｕａｎｔｃｈｒｏｍ  ａｕｔｏｓｏｒｂ  ｉＱ２を用いて作業を行った。異なる温度におけるＣＯ２等温線を収集する前に、全ての試料を３時間、減圧下で１２０℃において前処理した。
【０３７０】
窒素空孔率測定
窒素吸着／脱着分析は、種々の道具、例えば、ＴｒｉＳｔａｒ  ３０００、ＴｒｉＳｔａｒ  ＩＩ  ３０２０およびＡｕｔｏｓｏｒｂ−１で実行した。Ｎ２等温線を収集する前、全ての試料は、４時間、減圧下で１２０℃において前処理した。分析プログラムによって実験データを計算し、そしてＢＥＴ表面積（全表面積）、ミクロポーラス表面積（Ｓ）、全細孔体積、ミクロ細孔の細孔体積、平均細孔直径（または半径）などを報告する。
【０３７１】
表面酸性度分析
アルファ試験
アルファ活性試験用に、約７０ｍｇの試料を、１４〜２５メッシュサイズにサイズ設定し、そしてプラグ流反応器中に装填した。約４０°Ｆ（４．４℃）／分の上昇速度で、１００ｍｌ／分のＨｅ流中、試料を１０００°Ｆ（約５３８℃）まで加熱した。次いで、試料を、大気圧においてＨｅ中約１００トールのヘキサンの流れに暴露した。気体流速は、５〜２５％のヘキサン変換を維持するように調整した。４分、１１分、１８分および２５分において、測定を実行した。生成物分析は、ＧＣ／ＦＩＤによって実行された。報告されたアルファ値は、１８分の流れ時間において活性である。
【０３７２】
アルファは、触媒または試料のｎ−ヘキサン亀裂活性の尺度である。それは、シリカ−アルミナ標準に対するｎ−ヘキサン亀裂の一次速度定数の比率として定義され、次式を使用して決定される。
α＝Ａ＊ｌｎ（１−Ｘ）／τ
（式中、
αは、相対的な一次速度定数であり；
Ａは、−１．０４３に等しく、かつ参照速度定数＆単位変換を含み；
Ｘは、変換分率であり；
τは、式τ＝ｗｔ／（ρ＊Ｆ）を使用して定義された滞留時間であり；
ρは、仮定された充填密度であり、かつ０．５５ｇ／ｃｍ３に等しく；
Ｆは、気体流速（ヘリウム＋ヘキサン＋１／２亀裂生成物）ｃｍ３／分であり；かつ
ｗｔは、グラム単位の触媒重量である。）
【０３７３】
ＴＰＡＡ／ＴＰＡＤ法
アンモニア吸着および昇温脱着は、Ｍｅｔｔｌｅｒ  ＳＤＴＡ８５１  ＴＧＡ機器を使用して、重量測定によって測定された。アンモニア吸着の前に、いずれの吸着した湿分または揮発性化合物を除去するために、空気中、５００℃で１時間（上昇速度２０℃／分）、試料を焼成した。その後、試料をヘリウム中、２５０℃まで冷却し、そして２５０℃において５分および２０秒、ヘリウムの流れに暴露した。次いで、微量化学天びんを使用して、その場で試料重量を監視しながら、２５０℃において、１％  ＮＨ３／Ｈｅの再発性パルスをこの系に添加した。ＮＨ３による酸部位の飽和の後、物理的に吸着したアンモニアを除去するために、２５０℃において５分および２０秒、この系にヘリウムをパージした。その後、昇温アンモニア脱着を実行するため、５℃／分の速度において、１％ＮＨ３／Ｈｅ中、２５０℃から７００℃まで触媒温度を上昇させた。
【０３７４】
コリジン吸収
コリジン吸収は、ＴＡ  Ｑ５０００  ＴＧＡミクロバランス上で重量測定によって測定された。物理的に吸着した水を除去するために、触媒試料を６０分間、２００℃において、窒素流中で乾燥させた。その後、試料を、３トールのコリジン蒸気圧力において６０分間、Ｎ２中で、コリジンの流れに暴露した。コリジン吸着後、コリジンの重量取込みの測定前に、試料を２００℃において６０分間、窒素流中で処理した。乾燥触媒重量ならびにコリジンの暴露およびその後のストリッピング後の最終重量を使用して、コリジン吸収を計算した。
【０３７５】
ＩＲ−ピリジン試験プロトコル
吸着されたピリジンのＩＲ測定のために、試料を、めのう乳ばち中で粉砕し、そして薄型自立ウエハへとプレスした。特定のウエハの重量は、１０〜２２ｍｇ／ｃｍ２の範囲であった。７ｍｍ×７ｍｍの径の４つの正方形ウエハを、ＣａＦ２窓を備えた多試料−ＩＲ−透過セル（ＭＳＴＩＲ）中に配置した。試料は、６×１０−７トールの圧力において、３００℃で２時間、減圧排気によってその場で前処理された。その後、試料を、１５０℃において約１６トール平衡蒸気圧力のピリジンに３０分間暴露し、続いて、約１０−６トールの圧力において１５０℃で３０分間、減圧排気を行った。ＩＲスペクトルの収集のため、ＭＳＴＩＲキュベットをＮｉｃｏｌｅｔ  ６７０  ＦＴＩＲ分光計中に移した。スペクトルを２ｃｍ−１分解において採取し、５１２スキャンを蓄積した。１５４５ｃｍ−１および１４５０ｃｍ−１におけるバンドは、それぞれ、ブレンステッドおよびルイス酸部位の存在を評価するために選択された。
【０３７６】
実施例１−塩基性または酸性媒体中、式［Ｒ１Ｒ２ＳｉＣＨ２］３（Ｉａ）を使用する、オルガノシリカ材料合成
１Ａ．塩基性水性媒体中、［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３を使用する合成−界面活性剤なし
１８．６ｇの３０％  ＮＨ４ＯＨおよび２３．７６ｇの脱イオン水（ＤＩ）の溶液を製造した。この溶液のｐＨは１２．５５であった。この溶液に、３．０ｇの１，１，３，３，５，５−ヘキサエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３）を添加し、
１．０  ［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３：２１  ＯＨ：２７０  Ｈ２Ｏ
のモル組成を有する混合物を製造し、これを１日、室温（２０〜２５℃）で攪拌した。この溶液をオートクレーブに移し、８０〜９０℃で１日老化させ、ゲルを製造した。ゲルを減圧下８０℃で乾燥させ、ほとんどの水を除去し、次いで、１１０℃において３時間で完全に乾燥させた。これによって、透明固体として試料１Ａが得られ、そしてそれは、粉砕後、白色粉末に変換された。この調製においては、表面指向剤またはプロゲンは使用されなかった。
【０３７７】
試料１Ｂを製造するために、次のモル組成
４．０  ［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３：２１  ＯＨ：２７０  Ｈ２Ｏ
を用いて、手順を繰り返した。
【０３７８】
ＸＲＤ分析
試料１Ａにおいて、ＸＲＤを実行した。試料１ＡのＸＲＤパターンを図１に示す。
【０３７９】
ＴＧＡ分析
ＴＧＡ重量損失の研究は、窒素および空気中、試料１Ａにおいて実行された。図２ａおよび２ｂは、それぞれ、窒素および空気中の試料１ＡのＴＧＡデータを示す。
【０３８０】
窒素吸着／脱着分析
窒素吸着／脱着分析を試料１Ａにおいて実行し、そして結果を以下の表１および図３〜６に提供する。
【０３８１】
ＳＳ−ＮＭＲ−分析
試料１Ａを、２９Ｓｉ  ＭＡＳ  ＮＭＲによって特徴決定し、結果を図７ａに示した。
【０３８２】
１Ｂ．比較−基性水性媒体中、［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３を使用する合成−界面活性剤あり
本実施例において、オルガノシリカ材料は、Ｌａｎｄｓｋｒｏｎ，Ｋ．ら，Ｓｃｉｅｎｃｅ  ３０２：２６６−２６９（２００３）に従って調製した。臭化セチルトリメチルアンモニウム（ＣＴＭＡＢｒ、０．９ｍｍｏｌ、０．３２ｇ、Ａｌｄｒｉｃｈ）を、２０℃において、２．１６ｇのＮＨ４ＯＨ（３５重量％）および３．９６ｇの脱イオン水の混合物に溶解し、そして溶液を形成した。
【０３８３】
この溶液に、［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３（１．２６ｍｍｏｌ、０．５ｇ）を添加し、
１．０  ［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３：１７  ＯＨ：２３６  Ｈ２Ｏ：０．７  ＣＴＭＡＢｒ
のモル組成を有する混合物を製造し、これを１日、２０で攪拌し、白色沈殿が形成した。その後、溶液を８０℃において１日、老化させた。次いで、沈殿をろ去し、水で洗浄した。次いで、試料を、１２ｇのＨＣｌ（３６重量％）および８０ｇのメタノールの溶液中、４８時間攪拌した。次いで、試料を再びろ去し、ＭｅＯＨで洗浄し、比較試料２が得られた。
【０３８４】
ＸＲＤ分析
比較試料２においてＸＲＤを実行した。試料Ａ１および比較試料２のＸＲＤパターンの比較を図１に示す。試料１ＡのＸＲＤパターンと比較して、比較試料２のＸＲＤパターンは、約３度２θにおいて肩部を示す。
【０３８５】
ＴＧＡ分析
ＴＧＡ重量損失の研究は、窒素および空気中、比較試料２において実行された。図８ａおよび８ｂは、それぞれ、窒素および空気中の比較試料２のＴＧＡデータを示す。
【０３８６】
窒素吸着／脱着分析
窒素吸着／脱着分析を比較試料２において実行した。試料１Ａおよび比較試料２に関して、窒素吸着／脱着によって得られた表面積、平均細孔径および細孔体積を以下の表１ならびに図３および４に示す。
【０３８７】
【表１】
0006661636.tif 000028
【０３８８】
ＳＳ−ＮＭＲ−分析
比較試料２を、２９Ｓｉ  ＭＡＳ  ＮＭＲによって特徴決定し、結果を図７ｂに示した。以下の表２に示すように、試料１Ａは、比較試料２（すなわち、４１％）と比較して、より高いシラノール含有量（すなわち、４７％）を有した。
【０３８９】
【表２】
0006661636.tif 000029
【化２７】
0006661636.tif 000030
【０３９０】
１Ｃ．酸性水性媒体中、［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３を使用する合成−界面活性剤なし
０．７７８ｍｏｌの水および０．１４ｍｍｏｌのＨＣｌを添加することによって、ｐＨ２を有する１４ｇのＨＣｌ溶液を製造した。この溶液に、１．０ｇ（２．５２ｍｍｏｌ）の［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３を添加し、
１８  ［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３：１  ＨＣｌ：５５５６  Ｈ２Ｏ
のモル組成を有する溶液を製造し、これを１日、室温（２０〜２５℃）で攪拌した。この溶液をオートクレーブに移し、９４℃で１日老化させ、ゲルを製造した。ゲルを減圧下１２０℃で一晩（１６〜２４時間）乾燥させ、試料３を製造した。表面指向剤またはプロゲンは使用されなかった。
【０３９１】
ＸＲＤ分析
試料３においてＸＲＤを実行した。試料Ａ１および試料３のＸＲＤパターンの比較を図９に示す。
【０３９２】
窒素吸着／脱着分析
窒素吸着／脱着分析を試料３において実行した。試料３に関して、窒素吸着／脱着によって得られた表面積、ミクロポーラス表面積、平均細孔径および細孔体積を図５および６に示す。
【０３９３】
１Ｄ．［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３および［ＣＨ３ＥｔＯＳｉＣＨ２］３を使用する合成
６．２１ｇの３０％  ＮＨ４ＯＨおよび７．９２ｇのＤＩ水による溶液を製造した。この溶液に、０．６ｇの［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３および０．３０６ｇの１，３，５−トリメチル−１，３，５−トリエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［ＣＨ３ＥｔＯＳｉＣＨ２］３）を添加し、
１．５  ［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３：１．０  ［ＣＨ３ＥｔＯＳｉＣＨ２］３：５３  ＯＨ：６８２  Ｈ２Ｏ
のモル組成を有する溶液を製造し、これを１日、室温（２０〜２５℃）で攪拌した。この溶液をオートクレーブに移し、９０℃で１日老化させ、ゲルを製造した。ゲルを減圧下１２０℃で一晩（１６〜２４時間）乾燥させ、試料４Ａを製造した。表面指向剤またはプロゲンは使用されなかった。
【０３９４】
窒素吸着／脱着分析
［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３（試薬１）対［ＣＨ３ＥｔＯＳｉＣＨ２］３（試薬２）の相対比を変化させたことを除き、上記調製法を繰り返した。窒素吸着／脱着分析を各材料において実行し、そして各材料に対する結果を以下の表３に示す。
【０３９５】
【表３】
0006661636.tif 000031
【０３９６】
試薬２が増加すると、平均細孔径が増加することが観察され、これは、理論によって拘束されないが、試薬２が、試薬１と比較して、より少ない反応性ＯＲ基を含有するためであり得る。試薬２が６０％（モル比）より高くなると、材料の気孔率は減少した。
【０３９７】
ＳＳ−ＮＭＲ−分析
図１０に示す通り、表３の材料を、２９Ｓｉ  ＭＡＳ  ＮＭＲによって特徴決定した。
【０３９８】
実施例２−塩基性または酸性媒体中、式［Ｒ１Ｒ２ＳｉＣＨ２］３（Ｉａ）および式Ｒ３ＯＲ４Ｒ５Ｒ６Ｓｉ（Ｖａ）を使用する、オルガノシリカ材料合成
２Ａ．塩基性水性媒体中、［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３およびテトラエチルオルトシリケート（ＴＥＯＳ）（（ＥｔＯ）４Ｓｉ）を使用する合成
６．２１ｇの３０％  ＮＨ４ＯＨ（５３ｍｍｏｌ  ＮＨ４ＯＨ）および７．９２ｇのＤＩ水の溶液を製造した。この溶液に、０．８ｇ（２ｍｍｏｌ）の［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３および０．６２５ｇ（３ｍｍｏｌ）のＴＥＯＳを添加し、
２．０  ［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３：３．０  ＴＥＯＳ：５３  ＯＨ：６８２  Ｈ２Ｏ
のモル組成を有する混合物を製造し、これを３日間、室温（２０〜２５℃）で攪拌した。この溶液をオートクレーブに移し、８０〜９０℃で２日間老化させ、ゲルを製造した。ゲルを減圧下１１０℃で一晩（１６〜２４時間）乾燥させ、試料５が得られた。表面指向剤またはプロゲンは使用されなかった。
【０３９９】
６．２１ｇの３０％  ＮＨ４ＯＨ（５３ｍｍｏｌ  ＮＨ４ＯＨ）および７．９２ｇのＤＩ水の溶液を製造した。この溶液に、３．２ｇ（８ｍｍｏｌ）の［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３および２．５ｇ（１２ｍｍｏｌ）のＴＥＯＳを添加し、
８．０  ［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３：１２．０  ＴＥＯＳ：５３  ＯＨ：６８２  Ｈ２Ｏ
のモル組成を有する混合物を製造し、これを３日間、室温（２０〜２５℃）で攪拌した。この溶液をオートクレーブに移し、８０〜９０℃で２日間老化させ、ゲルを製造した。ゲルを減圧下１１０℃で一晩（１６〜２４時間）乾燥させ、試料５Ａが得られた。表面指向剤またはプロゲンは使用されなかった。
【０４００】
ＸＲＤ分析
試料５において、ＸＲＤを実行した。試料５のＸＲＤパターンを図１１に示す。
【０４０１】
ＴＧＡ分析
ＴＧＡ重量損失の研究は、窒素および空気中、試料５において実行された。図１２は、それぞれ、窒素および空気中の試料５のＴＧＡデータを示す。
【０４０２】
ＳＳ−ＮＭＲ−分析
試料５を、２９Ｓｉ  ＭＡＳ  ＮＭＲによって特徴決定し、図１３に示す通り、試料１Ａと比較した。図１３に示す通り、試料５は４４％のシラノール含有量を有した。
【０４０３】
窒素吸着／脱着分析
窒素吸着／脱着分析を試料５および試料５Ａにおいて実行し、そして結果を表４ならびに図５および６に提供する。
【０４０４】
【表４】
0006661636.tif 000032
【０４０５】
２Ｂ．酸性水性媒体中、［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３およびＴＥＯＳを使用する合成
０．７７８ｍｏｌの水および０．１４ｍｍｏｌのＨＣｌを添加することによって、ｐＨ２を有する１４ｇのＨＣｌ溶液を製造した。この溶液に、０．８ｇ（２ｍｍｏｌ）の［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３および０．６２５ｇ（３ｍｍｏｌ）のＴＥＯＳを添加し、
２．０  ［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３：３．０  ＴＥＯＳ：０．１４  Ｈ：７７８  Ｈ２Ｏ
のモル組成を有する溶液を製造し、これを１日、室温（２０〜２５℃）で攪拌した。この溶液をオートクレーブに移し、９４℃で１日老化させ、ゲルを製造した。ゲルを減圧下１２０℃で一晩（１６〜２４時間）乾燥させ、試料６を製造した。表面指向剤またはプロゲンは使用されなかった。
【０４０６】
ＸＲＤ分析
試料６においてＸＲＤを実行した。試料６のＸＲＤパターンを図１１に示す。
【０４０７】
窒素吸着／脱着分析
窒素吸着／脱着分析を試料６において実行し、結果を図５および６に提供する。
【０４０８】
２Ｃ．［ＣＨ３ＥｔＯＳｉＣＨ２］３およびＴＥＯＳを使用する合成
６．２１ｇの３０％  ＮＨ４ＯＨおよび７．９２ｇのＤＩ水による溶液を製造した。この溶液に、０．６１２ｇ（２ｍｍｏｌ）の１，３，５−トリメチル−１，３，５−トリエトキシ−１，３，５−トリシラシクロヘキサン（［ＣＨ３ＥｔＯＳｉＣＨ２］３）および０．６２５ｇ（３ｍｍｏｌ）のＴＥＯＳを添加し、
２．０  ［ＣＨ３ＥｔＯＳｉＣＨ２］３：３．０  ＴＥＯＳ：５３  ＯＨ：６８２  Ｈ２Ｏ
のモル組成を有する溶液を製造し、これを１日、室温（２０〜２５℃）で攪拌した。この溶液をオートクレーブに移し、９０℃で１日老化させ、ゲルを製造した。ゲルを減圧下１２０℃で一晩（１６〜２４時間）乾燥させ、試料７Ａを製造した。表面指向剤またはプロゲンは使用されなかった。
【０４０９】
窒素吸着／脱着分析
ＴＥＯＳ（試薬３）対［ＣＨ３ＥｔＯＳｉＣＨ２］３（試薬２）の相対比を変化させたことを除き、上記調製法を繰り返した。以下の表５は、様々な試薬比によって得られた材料のＮ２吸着分析のまとめである。
【０４１０】
【表５】
0006661636.tif 000033
【０４１１】
ＳＳ−ＮＭＲ−分析
図１４に示す通り、この方法によって製造された材料を、２９Ｓｉ  ＭＡＳ  ＮＭＲによって特徴決定した。
【０４１２】
２Ｄ．［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３およびメチルトリエトキシシラン（ＭＴＥＳ）（（ＥｔＯ）３ＣＨ３Ｓｉ）を使用する合成
６．２１ｇの３０％  ＮＨ４ＯＨ（５３ｍｍｏｌ  ＮＨ４ＯＨ）および７．９２ｇのＤＩ水による溶液を製造した。この溶液に、０．４ｇ（１ｍｍｏｌ）の［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３および０．２６７ｇ（１．５ｍｍｏｌ）のＭＴＥＳを添加し、
１．０  ［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３：１．５  ＭＴＥＳ：５３  ＯＨ：６８２  Ｈ２Ｏ
のモル組成を有する溶液を製造し、これを１日、室温（２０〜２５℃）で攪拌した。この溶液をオートクレーブに移し、９０℃で１日老化させ、ゲルを製造した。ゲルを減圧下１２０℃で一晩（１６〜２４時間）乾燥させ、試料８Ａを製造した。表面指向剤またはプロゲンは使用されなかった。
【０４１３】
窒素吸着／脱着分析
［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３（試薬１）対ＭＴＥＳ（試薬２）の相対比を変化させたことを除き、上記調製法を繰り返した。以下の表６は、様々な試薬比によって得られた材料のＮ２吸着分析のまとめである。
【０４１４】
【表６】
0006661636.tif 000034
【０４１５】
実施例３−式［Ｒ１Ｒ２ＳｉＣＨ２］３（Ｉａ）、式Ｒ３ＯＲ４Ｒ５Ｒ６Ｓｉ（Ｖａ）および／または式Ｚ１８Ｚ１９Ｚ２０Ｓｉ−Ｒ−ＳｉＺ１８Ｚ１９Ｚ２０（ＶＩａ）を使用する、オルガノシリカ材料合成
３Ａ．［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３およびＣＨ３（ＥｔＯ）２Ｓｉ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＥｔＯ）２ＣＨ３を使用する合成
６．２１ｇの３０％  ＮＨ４ＯＨ（５３ｍｍｏｌ  ＮＨ４ＯＨ）および７．９ｇのＤＩ水の溶液を製造した。この溶液に、０．８ｇ（２ｍｍｏｌ）の［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３および０．８８ｇ（３ｍｍｏｌ）の１，２−ビス（メチルジエトキシシリル）エタン（ＣＨ３（ＥｔＯ）２Ｓｉ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＥｔＯ）２ＣＨ３）を添加し、
２．０  ［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３：３．０  ＣＨ３（ＥｔＯ）２Ｓｉ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＥｔＯ）２ＣＨ３：５３  ＯＨ：６８２  Ｈ２Ｏ
のモル組成を有する混合物を製造し、これを１日、室温（２０〜２５℃）で攪拌した。この溶液をオートクレーブに移し、８０〜９０℃で１日間老化させ、ゲルを製造した。ゲルを減圧下１１０℃で一晩（１６〜２４時間）乾燥させ、試料９が得られた。表面指向剤またはプロゲンは使用されなかった。
【０４１６】
ＸＲＤ分析
試料９において、ＸＲＤを実行した。試料９のＸＲＤパターンを図１５に示す。
【０４１７】
窒素吸着／脱着分析
窒素吸着／脱着分析を試料９において実行し、そして結果を表７に提供する。
【０４１８】
３Ｂ．［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３および（ＥｔＯ）３Ｓｉ−ＣＨ２−Ｓｉ（ＥｔＯ）３を使用する合成
６．２１ｇの３０％  ＮＨ４ＯＨ（５３ｍｍｏｌ  ＮＨ４ＯＨ）および７．９ｇのＤＩ水の溶液を製造した。この溶液に、０．８ｇ（２ｍｍｏｌ）の［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３および１．０２ｇ（３ｍｍｏｌ）のビス（トリエトキシシリル）メタン（（ＥｔＯ）３Ｓｉ−ＣＨ２−Ｓｉ（ＥｔＯ）３）を添加し、
２．０  ［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３：３．０  （ＥｔＯ）３Ｓｉ−ＣＨ２−Ｓｉ（ＥｔＯ）３：５３  ＯＨ：６８２  Ｈ２Ｏ
のモル組成を有する混合物を製造し、これを１日、室温（２０〜２５℃）で攪拌した。この溶液をオートクレーブに移し、８０〜９０℃で１日老化させ、ゲルを製造した。ゲルを減圧下１１０℃で一晩（１６〜２４時間）乾燥させ、試料１０が得られた。表面指向剤またはプロゲンは使用されなかった。
【０４１９】
ＸＲＤ分析
試料１０において、ＸＲＤを実行した。試料１０のＸＲＤパターンを図１５に示す。
【０４２０】
窒素吸着／脱着分析
窒素吸着／脱着分析を試料１０において実行し、そして結果を表７に提供する。
【０４２１】
３Ｃ．ＴＥＯＳおよび（ＥｔＯ）３Ｓｉ−ＣＨ２−Ｓｉ（ＥｔＯ）３を使用する合成
６．２１ｇの３０％  ＮＨ４ＯＨ（５３ｍｍｏｌ  ＮＨ４ＯＨ）および７．９２ｇのＤＩ水の溶液を製造した。この溶液に、１．７ｇ（５ｍｍｏｌ）のビス（トリエトキシシリル）メタン（（ＥｔＯ）３Ｓｉ−ＣＨ２−Ｓｉ（ＥｔＯ）３）および０．４１６ｇ（２ｍｍｏｌ）のＴＥＯＳを添加し、
５．０  （ＥｔＯ）３Ｓｉ−ＣＨ２−Ｓｉ（ＥｔＯ）３：２．０  ＴＥＯＳ：５３  ＯＨ：６８２  Ｈ２Ｏ
のモル組成を有する混合物を製造し、これを１日、室温（２０〜２５℃）で攪拌した。この溶液をオートクレーブに移し、８０〜９０℃で１日老化させ、ゲルを製造した。ゲルを減圧下１１０℃で一晩（８〜１６時間）乾燥させ、試料１１Ａが得られた。表面指向剤またはプロゲンは使用されなかった。
【０４２２】
異なる比率の試薬で、さらに２つの調製も行い、１つは、４：４の（ＥｔＯ）３Ｓｉ−ＣＨ２−Ｓｉ（ＥｔＯ）３：ＴＥＯＳモル比で、試料１１Ｂが得られ、別のものは、３：６の（ＥｔＯ）３Ｓｉ−ＣＨ２−Ｓｉ（ＥｔＯ）３：ＴＥＯＳモル比で、試料１１Ｃが得られた。
【０４２３】
ＸＲＤ分析
試料１１Ａにおいて、ＸＲＤを実行した。試料１１ＡのＸＲＤパターンを図１５に示す。
【０４２４】
窒素吸着／脱着分析
窒素吸着／脱着分析を試料１１Ａにおいて実行し、そして結果を表７に提供する。
【０４２５】
３Ｄ．［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３および（ＥｔＯ）３Ｓｉ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｓｉ（ＥｔＯ）３を使用する合成
１２．４２ｇの３０％  ＮＨ４ＯＨ（１０６ｍｍｏｌ  ＮＨ４ＯＨ）および１５．８ｇのＤＩ水の溶液を製造した。この溶液に、１．６ｇ（４ｍｍｏｌ）の［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３および０．３５２ｇ（１ｍｍｏｌ）の１，２−ビス（トリエトキシシリル）エチレン（（ＥｔＯ）３Ｓｉ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｓｉ（ＥｔＯ）３）を添加し、
４．０  ［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３：１．０  （ＥｔＯ）３Ｓｉ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｓｉ（ＥｔＯ）３：１０６  ＯＨ：１３６４  Ｈ２Ｏ
のモル組成を有する混合物を製造し、これを１日、室温（２０〜２５℃）で攪拌した。この溶液をオートクレーブに移し、８０〜９０℃で１日老化させ、ゲルを製造した。ゲルを減圧下１１０℃で一晩（８〜１６時間）乾燥させ、試料１２が得られた。表面指向剤またはプロゲンは使用されなかった。
【０４２６】
ＸＲＤ分析
試料１２において、ＸＲＤを実行した。試料１２のＸＲＤパターンを図１５に示す。
【０４２７】
窒素吸着／脱着分析
窒素吸着／脱着分析を試料１２において実行し、そして結果を表７に提供する。
【０４２８】
【表７】
0006661636.tif 000035
【０４２９】
実施例４−式［Ｒ１Ｒ２ＳｉＣＨ２］３（Ｉａ）および窒素含有モノマーを使用する、オルガノシリカ材料合成
６．２１ｇの３０％  ＮＨ４ＯＨ（５３ｍｍｏｌ  ＮＨ４ＯＨ）および７．９ｇのＤＩ水の溶液を製造した。この溶液に、０．８ｇ（２ｍｍｏｌ）の［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３および一定量の試薬２を添加し、
２．０  ［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３：ｘ  試薬２：５３  ＯＨ：６８２  Ｈ２Ｏ
のモル組成を有する混合物を製造し、これを１日、室温（２０〜２５℃）で攪拌した。この溶液をオートクレーブに移し、８０〜９０℃で１日間老化させ、ゲルを製造した。ゲルを減圧下１１０℃で一晩（８〜１６時間）乾燥させ、試料１２が得られた。表面指向剤またはプロゲンは使用されなかった。
【０４３０】
上記の合成を、表８中のそれ以下の試薬を用いて実行し、試料１３、１４、１５および２１を得た。
【０４３１】
調製のために、１．６ｇの［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３、１２．４ｇの３０％  ＮＨ４ＯＨおよび１５．８ｇのＤＩ水を使用したことを除き、上記の合成を、表８中のそれ以下の試薬を用いて実行し、試料１６、１７、１８および１９を得た。
【０４３２】
調製のために、３．２ｇの［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３、２４．８ｇの３０％  ＮＨ４ＯＨおよび３１．６ｇのＤＩ水を使用したことを除き、上記の合成を、表８中のそれ以下の試薬を用いて実行し、試料２０を得た。
【０４３３】
【表８】
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【０４３４】
ＸＲＤ分析
試料１３および２１において、ＸＲＤを実行した。試料１３および２１のＸＲＤパターンを図１６に示す。
【０４３５】
窒素吸着／脱着分析
窒素吸着／脱着分析を試料１３、１４および１５において実行し、そして結果を表９ならびに図１７および１８に提供する。
【０４３６】
【表９】
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【０４３７】
実施例５−式［Ｒ１Ｒ２ＳｉＣＨ２］３（Ｉａ）および三価金属酸化物を使用する、オルガノシリカ材料合成
５Ａ．［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３およびアルミニウム−トリ−Ｓｅｃ−ブトキシドを使用する合成
３９．６ｇのＤＩ水（３４１０ｍｍｏｌ  Ｈ２Ｏ）および３１．１５ｇの３０重量％のＮＨ４ＯＨ（２６５ｍｍｏｌ  ＮＨ４ＯＨ）の溶液を製造した。この溶液に、１０ｇ（２５ｍｍｏｌ）の［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３（試薬１）および０．３７ｇ（１．５ｍｍｏｌ）のアルミニウム−トリ−ｓｅｃ−ブトキシド（試薬２）を添加し、
２５．０  ［（ＥｔＯ）２ＳｉＣＨ２］３：１．５  アルミニウム−トリ−ｓｅｃ−ブトキシド：２６５  ＯＨ：３４１０  Ｈ２Ｏ
のモル組成を有する混合物を製造し、これを１日、２３〜２５℃で攪拌した。試薬１および試薬２の間のＳｉ／Ａｌ比は、５０：１であった。この溶液をオートクレーブに移し、９０℃で１日間老化させ、ゲルを製造した。ゲルを減圧下１２０℃で１日乾燥させ、試料２２Ａが得られた。表面指向剤またはプロゲンは使用されなかった。
【０４３８】
０．３７ｇ（１．５ｍｍｏｌ）のアルミニウム−トリ−ｓｅｃ−ブトキシドの代わりに、１．８４５ｇ（７．５ｍｍｏｌ）のアルミニウム−トリ−ｓｅｃ−ブトキシドを添加したことを除き、手順を繰り返した。試薬１および試薬２の間のＳｉ／Ａｌ比は、１０：１であった。
【０４３９】
ＸＲＤ分析
試料２２Ａおよび２２Ｂにおいて、ＸＲＤを実行した。試料２２Ａおよび２２ＢのＸＲＤパターンを図１９に示す。
【０４４０】
窒素吸着／脱着分析
窒素吸着／脱着分析を試料２２Ａおよび２２Ｂにおいて実行し、そして結果を表１０に提供する。
【０４４１】
【表１０】
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【０４４２】
Ｓｉ／Ａｌ比が１０から５０まで増加すると、より多くのメソポーラス構造を有する高度に多孔性の材料が得られた。
【０４４３】
ＳＳ−ＮＭＲ−分析
図２０および２１にそれぞれ示す通り、試料２２Ａおよび２２Ｂを、２９Ｓｉ  ＭＡＳ  ＮＭＲおよび２７Ａｌ  ＭＡＳ  ＮＲＭによって特徴決定した。
【０４４４】
５Ｂ．表面酸性度分析
表面酸性度分析を使用して、試料２２Ａおよび試料２２Ｂの四面体アルミニウムの酸強度を決定した。表１１に、アルファ測定、コリジン吸着およびＴＰＡＤの結果を示す。
【０４４５】
【表１１】
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【０４４６】
表１１中のデータからわかるように、この材料は、ヘキサン亀裂反応においていくらかの活性を示す。アルファ値は、同一条件下で試験された非晶質シリカ−アルミナと比較した、材料の亀裂活性を測定する。亀裂活性は、酸部位の数、ならびにそれらの強度によって増加する。コリジン容量ならびにＴＰＡＤ実験において脱着したアンモニアのｍｅｑ／ｇの大きい差にもかかわらず、２種の材料のアルファ値は極めて類似している。
【０４４７】
このデータは、ゼオライトに関して観察されるものと比較して、コリジンおよびアンモニアが接近できる部位の数が非常に高いことを示す。
【０４４８】
実施例８−ＣＯ２等温線
図２１に示される通り、ＣＯ２吸着等温線は、試料１Ａ、比較試料２および試料５において測定した。試料１Ａは、比較試料２と比較して、同様のＣＯ２吸収を有した。
本明細書の開示内容は、以下の態様を含み得る。
（態様１）
少なくとも１種の式［Ｚ１ＯＺ２ＯＳｉＣＨ２］３（Ｉ）
［式中、各Ｚ１およびＺ２は、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す］
の独立モノマーおよび少なくとも１種の他の三価金属酸化物モノマーのポリマーである、オルガノシリカ材料。
（態様２）
各Ｚ１およびＺ２が、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ２アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す、態様１に記載のオルガノシリカ材料。
（態様３）
各Ｚ１およびＺ２が、独立して、水素原子、エチル、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す、態様１または２に記載のオルガノシリカ材料。
（態様４）
前記少なくとも１種の他の三価金属酸化物モノマーが、
（ｉ）式Ｍ１（ＯＺ３）３（ＩＩ）
［式中、Ｍ１は、第１３族金属を表し、各Ｚ３は、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す］
の独立単位、または
（ｉｉ）式（Ｚ４Ｏ）２Ｍ２−Ｏ−Ｓｉ（ＯＺ５）３（ＩＩＩ）
［式中、Ｍ２は、第１３族金属を表し、各Ｚ４および各Ｚ５は、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す］
の独立単位
である、態様１〜３のいずれか１項に記載のメソポーラスオルガノシリカ材料。
（態様５）
少なくとも１種の式（ＩＩ）
［式中、Ｍ１は、ＡｌまたはＢであり、各Ｚ３は、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、またはケイ素原子もしくは別のモノマーへの結合を表す］
の単位が存在する、態様４に記載のオルガノシリカ材料。
（態様６）
少なくとも１種の式（ＩＩＩ）
［式中、Ｍ２は、ＡｌまたはＢであり、各Ｚ４および各Ｚ５は、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表す］
の単位が存在する、態様４または５に記載のオルガノシリカ材料。
（態様７）
（ｉ）式［Ｚ６ＯＺ７ＳｉＣＨ２］３（ＩＶ）
［式中、各Ｚ６は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表し、各Ｚ７は、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表す］
の独立単位、
（ｉｉ）式Ｚ８ＯＺ９Ｚ１０Ｚ１１Ｓｉ（Ｖ）
［式中、各Ｚ８は、水素原子またはＣ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子への結合を表し、Ｚ９、Ｚ１０およびＺ１１は、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、窒素含有Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、窒素含有ヘテロアラルキル基、窒素を含有していて任意に置換されたヘテロシクロアルキル基、および別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子からなる群から選択される］
の独立単位、
（ｉｉｉ）式Ｚ１２Ｚ１３Ｚ１４Ｓｉ−Ｒ−ＳｉＺ１２Ｚ１３Ｚ１４（ＶＩ）
［式中、各Ｚ１２は、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、または別のコモノマーのケイ素原子に結合した酸素原子を表し、各Ｚ１３およびＺ１４は、独立して、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、または別のモノマーのケイ素原子に結合した酸素を表し、Ｒは、Ｃ１〜Ｃ８アルキレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルケニレン基、Ｃ２〜Ｃ８アルキニレン基、窒素含有Ｃ２〜Ｃ１０アルキレン基、任意に置換されたＣ６〜Ｃ２０アラルキル、および任意に置換されたＣ４〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基からなる群から選択される］
の独立単位、および
（ｉｖ）それらの組合せ
からなる群から選択されるモノマーをさらに含む、態様１〜６のいずれか１項に記載のオルガノシリカ材料。
（態様８）
約１．５ｎｍ〜約２０．０ｎｍの平均細孔径を有する、態様１〜７のいずれか１項に記載のオルガノシリカ材料。
（態様９）
約２００ｍ２／ｇ〜約２５００ｍ２／ｇの全表面積を有する、態様１〜８のいずれか１項に記載のオルガノシリカ材料。
（態様１０）
約０．１ｃｍ３／ｇ〜約５．０ｃｍ３／ｇの細孔体積を有する、態様１〜９のいずれか１項に記載のオルガノシリカ材料。
（態様１１）
前記材料の前記細孔内に組み込まれた少なくとも１種の触媒金属をさらに含む、態様１〜１０のいずれか１項に記載のオルガノシリカ材料。
（態様１２）
前記触媒金属が、第６族元素、第８族元素、第９族元素、第１０族元素およびそれらの組合せからなる群から選択される、態様１１に記載のオルガノシリカ材料。
（態様１３）
構造指向剤またはポロゲンを本質的に使用せずに製造される、態様１〜１２のいずれか１項に記載のオルガノシリカ材料。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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