(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被印刷材を加工するためのツールプレート（１）を製造する方法であって、
表面構造（３）を備えるプレート又はフィルムである原型（２）と、硬化層（４）で被覆された、前記ツールプレート（１）のブランク（５）との先端部を突き合わせた状態において、前記原型（２）と前記ブランク（５）との間の先端部に硬化可能な層（６）を形成する材料を導入する工程と、
前記材料を挟み込んだ状態で、前記原型（２）と前記ブランク（５）とをプレスギャップ（７）内で互いに押し合わせて、前記硬化可能な層（６）を、前記ブランク（５）の前記硬化層（４）の上に被着させる工程と、
前記表面構造（３）の型取りによって、前記硬化可能な層（６）に前記表面構造（３）のネガ（８）を設ける工程と、
前記ネガ（８）を設ける工程の後、前記硬化可能な層（６）を硬化させる工程と、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記ツールプレート（１）は、印刷版又は押し型である、
請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記ネガ（８）は、視認のみ可能なマイクロレリーフ、又は、触覚も可能な触知レリーフである、
請求項１又は２項記載の方法。
【請求項４】
前記プレスギャップ（７）は、ローラ（９）と、プレート状又は円筒状に形成されている対向部材（１０）とによって形成される、
請求項１から３のいずれか１項記載の方法。
【請求項５】
前記ツールプレート（１）は、エンボスプレートであり、
前記ブランク（５）は、湿し剤無し又は水無しのオフセット印刷用の印刷版ブランクである、
請求項１から４のいずれか１項記載の方法。
【請求項６】
前記原型（２）は、ニッケル原版である、
請求項１から５のいずれか１項記載の方法。
【請求項７】
前記硬化層（４）と前記硬化可能な層（６）とは、同じ種類の材料からなる、
請求項１から６のいずれか１項記載の方法。
【請求項８】
前記同じ種類の材料は、シリコーンである
請求項７記載の方法。
【請求項９】
印刷機におけるマイクロエンボス加工のための押し型であり、かつ請求項１から８のいずれか１項記載の方法に基づいて製造されている、
ことを特徴とする印刷機ツールプレート。
【請求項１０】
ホログラムをエンボス加工するための請求項１から８のいずれか１項記載の方法に基づいて製造されている押し型であって、
前記押し型は、複数の硬化層を含み、
前記複数の硬化層のうち最も上にある層は、シリコーン層であり、前記ホログラムをエンボス加工するためのマイクロレリーフを有する、
ことを特徴とする押し型。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被印刷材を加工するためのツールプレート、例えばホログラムをエンボス加工するための押し型を製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
旧東独国特許出願公開第２３９７５８号明細書には、エンボスローラを製造する方法が記載されている。この方法では、エンボス原型の表面上に、均一な厚さの層として合成樹脂が注がれるか又は塗布され、その後、この合成樹脂は、硬化させられて雌押し型を形成し、エンボス原型から取り外される。合成樹脂として、シリコーンゴムが使用される。
【０００３】
独国特許出願公開第１０２００４０１９１８７号明細書には、回折光学的なレリーフ構造をエンボス加工するための押し型が記載されており、まずこのレリーフ構造の仕上げ層が、蒸着方法によって原型の上に形成される。その上には電気メッキ方法によって金属層が被着され、次いで、仕上げ層と共に原型から取り外される。
【０００４】
独国特許出願公開第１０２００７０６２１２３号明細書には、マイクロ構造を形成するための押し型と、この押し型を製造するための原版フィルムとが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】旧東独特許出願公開第２３９７５８号明細書
【特許文献２】独国特許出願公開第１０２００４０１９１８７号明細書
【特許文献３】独国特許出願公開第１０２００７０６２１２３号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の基礎となる課題は、被印刷材を加工するためのツールプレートを製造するためのさらなる方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
この課題は、請求項１に記載の特徴を有する方法によって解決される。本発明によれば、被印刷材を加工するためのツールプレートを製造する方法であって、表面構造を備える原型と、硬化層で被覆された、前記ツールプレートのブランクとを、これらの間に硬化可能な層を挟み込んだ状態で、プレスギャップ内で押し合わせ、これによって前記硬化可能な層を、前記ブランクの前記硬化層の上に被着させ、前記表面構造の型取りによって、前記硬化可能な層に前記表面構造のネガを設け、その後、前記硬化可能な層を硬化する。
【発明の効果】
【０００８】
本発明に係る方法によれば、ツールプレートを比較的小さいコストで製造することが可能となる。
【０００９】
従属請求項には、発展形態が記載されている。
【００１０】
１つの発展形態では、前記原型は、プレート又はフィルムである。
【００１１】
さらなる１つの発展形態では、前記ツールプレートは、印刷版又は押し型である。
【００１２】
さらなる１つの発展形態では、前記ネガは、視認のみ可能なマイクロレリーフ、又は、触覚も可能な触知（ハプティック）レリーフである。
【００１３】
さらなる１つの発展形態では、前記プレスギャップは、ローラと、プレート形又は円筒形に形成されている対向部材とによって形成される。
【００１４】
さらなる１つの発展形態では、前記ツールプレートは、エンボスプレートであり、前記ブランクは、湿し剤無し又は水無しのオフセット印刷用の印刷版ブランクである。
【００１５】
さらなる１つの発展形態では、前記原型は、ニッケル原版である。
【００１６】
さらなる１つの発展形態では、前記硬化層と前記硬化可能な層とは、同じ種類の材料、例えばシリコーンからなる。
【００１７】
印刷機におけるマイクロエンボス加工のための押し型であり、かつ本発明に係る方法、又は本発明に係る方法の発展形態に基づいて製造されている印刷機ツールプレートも、本発明に含まれる。
【００１８】
さらには、ホログラムをエンボス加工するための押し型であって、前記押し型は、複数の硬化層を含み、前記複数の硬化層のうち最も上にある層は、シリコーン層であり、前記ホログラムをエンボス加工するためのマイクロレリーフを有する、押し型も、本発明に含まれる。本発明に係る押し型は、本発明に係る方法又は本発明に係る方法の１つの発展形態によって製造することができる。本発明に係る押し型は、印刷機におけるマイクロエンボス加工のために使用することができる。本発明に係る押し型は、型押し機におけるマイクロエンボス加工のためにも使用することができる。
【００１９】
本発明の構造的及び機能的に有利な発展形態は、実施例に関する以下の説明及び添付図面から明らかになる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】ツールプレートのブランクの上にシリコーン層を被着させると同時に、このシリコーン層の中にマイクロレリーフを成形する際の圧延機を示す図である。
【図２】これに次いでシリコーン層が硬化させられる際の、圧延機において製造されたツールプレートを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
図１は、ローラ９と対向部材１０とによって形成されるプレスギャップ７を備える圧延機を示す。対向部材１０は、ローラであるか、又は円筒状に形成されている。プレスギャップ７のギャップ幅Ａは、ローラ９を対向部材１０に対して相対的に移動調整するか、又は対向部材１０をローラ９に対して相対的に移動調整することによって調節可能である。
【００２２】
原型２と、製造すべきツールプレート１のブランク５とが、プレスギャップ７のくさび形投入口に一緒に差し込まれる。原型２としては、ニッケル製のプレートを使用することができる。原型２の、ブランク５に面した側には表面構造３を有する。ブランク５としては、湿し剤無し又は水無しのオフセット印刷用の印刷版ブランクを使用することができる。ブランク５は、支持層を有し、この支持層には、硬化層４が被着されている。上述した支持層は、ポリエステル層とすることができる。原型２及びブランク５は、それぞれ４００ｍｍ×５００ｍｍの寸法の長方形のプレート又はフィルムである。
【００２３】
原型２とブランク５との間の漏斗形の内部空間の先端部には、硬化可能な層６の５０ｍｌの液体容量が導入される。硬化可能な層６は、シリコーンからなるか、又は、二成分系である場合にはシリコーンと硬化剤とからなる。この方法段階では、硬化可能な層６はまだ液状又はペースト状である。ブランク５の、原型２に面した側は、同じくシリコーンからなる既に硬化層４を有する。
【００２４】
原型２と、ブランク５と、硬化可能な層６とは共に最大４０ｍ／秒の速度で、ローラによって駆動されて、図１の下方へとプレスギャップ７を通って搬送される。原型２とブランク５とは、その全長に亘って平坦に互いに上下に重ね合わせられ、原型２とブランク５との間に存在する流体が押し出されることによって、硬化可能な層６が引き延ばされて１つの薄いフィルムが形成される。表面構造３は、硬化可能な層６から形成されるフィルムを型押しするためのレリーフである。フィルムを型押しすることによって、このフィルムに表面構造３のネガ８（図２を参照）が形成される。
【００２５】
原型２と、ブランク５と、硬化可能な層６とからなるサンドイッチ構造がプレスギャップ７を通過した後、このサンドイッチ構造は、例えば２〜３分の所定の硬化時間に亘って放置される。この硬化時間の経過後には、ブランク５の上にあるフィルム状に延伸された硬化可能な層６が硬化する。
【００２６】
その後、ブランク５から原型２が取り外され、その間にある硬化させられた硬化可能な層６は、ブランク５の上に留まったまま原型２から取り外される。この方法段階では既に充分に硬化させられて固体になっている硬化可能な層６と、ブランク５との間の接着力は、硬化可能な層６と原型２との間の接着力よりも大きい。なぜなら、硬化可能な層６と、ブランク５の外側面を形成している硬化層４とは、同じ種類の材料からなるからである。
【００２７】
図２は、ブランク５から原型２を取り外した後、このブランク５の表面の上に硬化可能な６の形態のフィルムが設けられている状態を図示しており、このフィルムには、表面構造３（図１を参照）の型押しされたネガ８が設けられている。硬化可能な層６によって形成されるフィルムの完全な硬化は、ラジエータ１１によって支援することができる。ラジエータ１１は、例えば温風ラジエータとすることができる。
【００２８】
これに代わる実施形態によれば、ラジエータ１１によって、又は別の乾燥機、例えばオーブンによって支援されるフィルムの硬化を、ブランク５から原型２を取り外す前に実施することができ、このようにすると、原型２がブランクから取り外される時には既にフィルムは完全に硬化させられた状態になっている。
【００２９】
完成したツールプレート１の上にあるネガ８は、印刷機におけるホログラムの回転式エンボス加工のためのマイクロレリーフを形成する。ツールプレート１は、印刷機においてシリンダ上に張設され、搬送される被印刷材シート上にあるＵＶコーティングの中にこのマイクロレリーフが入り込むようにエンボス加工され、次いで、印刷機においてこのＵＶコーティングが硬化させられる。このようにして、被印刷材シート上にホログラムが形成される。
【００３０】
ツールプレート１を、独国特許出願公開第１０２０１３０１６１１７号明細書に記載の方法及び装置に即してホログラムを製造するために使用することも可能であり、この文献は、参照によって本明細書に取り込まれる（incorporation by reference）。
【００３１】
図面に詳細には図示されない変形形態によれば、原型２の、表面構造３が設けられている方の側に、接着ストリップの形態の２つのガイドストリップ又はガイド線を接着させることができる。ガイド線は、原型２の側縁部の近傍において原型２に対して平行に延在しており、この場合には、一方のガイド線は一方の側縁部の近傍に配置されており、他方のガイド線は他方の側縁部の近傍に配置されている。側縁部とは、プレスギャップ７を通過するときにローラ９の幾何形状的な回転軸線に対して垂直に延在する、原型２の縁部であると理解される。原型２の全長に亘って側縁部の近傍に延在するガイド線は、プレスギャップ７における硬化可能な層６のフィルム厚さの調整を支援するスペーサを形成する。
【００３２】
ガイド線は、原型２とブランク５の両方ともが比較的剛性である場合、例えばプレートである場合に効果的である。ブランク５が、例えば充分な剛性を有さない０．６ｍｍ未満の全体厚さを有する比較的薄いフィルムである場合には、ガイド線の使用は推奨されない。
【符号の説明】
【００３３】
１  ツールプレート
２  原型
３  表面構造
４  硬化層
５  ブランク
６  硬化可能な層
７  プレスギャップ
８  ネガ
９  ローラ
１０  対向部材
１１  ラジエータ
Ａ  ギャップ幅
【図１】
0006719917.tif 000002
【図２】
0006719917.tif 000003