(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
内燃機関から排出された排ガスをサンプリングして、該サンプリング排ガスを希釈せずに又は該サンプリング排ガスに所定割合以下の希釈ガスを混合させて出力する第１動作モードと、前記サンプリング排ガスに前記所定割合を超える希釈ガスを混合させて出力する第２動作モードとの２状態のいずれかをとり得るサンプリング機構と、
前記サンプリング機構に接続されて、導入されたガスに含まれる所定成分の濃度を測定する測定装置本体と、
前記サンプリング機構が前記第２動作モードで動作している状況において、該測定装置本体で測定された濃度が所定の第２閾値を下回ったときに、該サンプリング機構を制御して、その動作モードを前記第１動作モードに変更する制御機構とを備え、
前記第２閾値が、前記測定装置本体の測定可能下限値に基づいて設定されていることを特徴とする排ガス測定装置。
【請求項２】
前記制御機構は、前記サンプリング機構が前記第１動作モードで動作している状況において、該測定装置本体で測定された濃度が所定の第１閾値を上回ったときに、該サンプリング機構を制御して、その動作モードを前記第２動作モードに変更するものであることを特徴とする請求項１記載の排ガス測定装置。
【請求項３】
第１動作モードと第２動作モードとにおいて、測定装置本体に導入されるサンプリング排ガスの流量が互いに異なり、第１動作モード時でのサンプリング排ガスの流量が、第２動作モード時でのサンプリング排ガスの流量よりも多くなるように設定されている請求項１記載の排ガス測定装置。
【請求項４】
内燃機関から排出された排ガスをサンプリングして、該サンプリング排ガスを希釈せずに又は該サンプリング排ガスに所定割合以下の希釈ガスを混合させて出力する第１動作モードと、前記サンプリング排ガスに前記所定割合を超える希釈ガスを混合させて出力する第２動作モードとの２状態のいずれかをとり得るサンプリング機構と、
前記サンプリング機構に接続されて、導入されたガスに含まれる所定成分の濃度を測定する測定装置本体と、
前記サンプリング機構を制御する制御機構とを具備した排ガス測定装置に搭載されるプログラムであって、
前記制御機構に、前記サンプリング機構が前記第２動作モードで動作している状況において、該測定装置本体で測定された濃度が、前記測定装置本体の測定可能下限値に基づいて設定された第２閾値を下回ったときに、該サンプリング機構を制御して、その動作モードを前記第１動作モードに変更する機能を発揮させることを特徴とするプログラム。
【請求項５】
内燃機関から排出された排ガスをサンプリングして、該サンプリング排ガスを希釈せずに又は該サンプリング排ガスに所定割合以下の希釈ガスを混合させて出力する第１動作モードと、前記サンプリング排ガスに前記所定割合を超える希釈ガスを混合させて出力する第２動作モードとの２状態のいずれかをとり得るサンプリング機構と、
前記サンプリング機構に接続されて、導入されたガスに含まれる所定成分の濃度を測定する測定装置本体とを具備した排ガス測定装置の制御方法であって、
前記サンプリング機構が前記第２動作モードで動作している状況において、該測定装置本体で測定された濃度が、前記測定装置本体の測定可能下限値に基づいて設定された第２閾値を下回ったときに、該サンプリング機構を制御して、その動作モードを前記第１動作モードに変更することを特徴とする排ガス測定装置の制御方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、内燃機関等から排出される排ガスに含まれるＣＯなどの濃度を測定する排ガス測定装置等に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
この種の排ガス測定装置では、特許文献１に示されているように、内燃機関から排出される排ガスに含まれる種々の成分濃度が測定される。
その中でも、ＣＯ濃度は、エンジンの運転状態や触媒の暖気状態によって数ｐｐｍオーダーから％オーダーにまで短時間で大きく変動する。
【０００３】
例えばエンジン初動時など、燃料が大量に供給され、かつ、触媒が十分に暖まっていない状態では、不完全燃焼が生じるうえ、触媒機能が十分発揮されないので、不完全燃焼等によって生じたＣＯが、触媒でＣＯ２に酸化されないまま、車両のテールパイプから排出される。したがって、このときのＣＯ濃度は極めて高い。一方、暖気されれば、前記ＣＯは触媒によってほとんどＣＯ２となるので、前述したように、排ガス中のＣＯ濃度は数ｐｐｍのオーダーとなる。
このようにＣＯは、濃淡の差が大きいので、従来、例えば測定レンジの異なる２種類のＣＯ濃度計を設けてこれを測定するようにしている。
【０００４】
しかしながら、２種類のＣＯ濃度計を使わなければならないことから、メンテナンスコストや初期投資費用の増大を招くという不具合がある。また、測定精度においても２つのＣＯ濃度計が切り替わるタイミングでの相関性が問題となる場合がある。
同様の不具合は、排ガス中の他の成分（例えばＴＨＣ）の濃度測定においても生じ得る。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１４−１７４０５５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、前記不具合に鑑みてなされたものであって、その主たる所期課題は、より簡単な構成で、測定精度を犠牲にすることなく、種々の状況下での排ガスに含まれる所定成分の濃度を測定することができる排ガス測定装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
すなわち、本発明に係る排ガス測定装置は、以下の構成要件を具備することを特徴とする。
（１）内燃機関から排出された排ガスをサンプリングして、該サンプリング排ガスを希釈せずに又は該サンプリング排ガスに所定割合以下の希釈ガスを混合して出力する第１動作モードと、前記サンプリング排ガスに前記所定割合を超える希釈ガスを混合して出力する第２動作モードとの２状態のいずれかをとり得るサンプリング機構。
（２）前記サンプリング機構から出力されたガスを導入して該ガスに含まれる所定成分の濃度を測定する測定装置本体。
（３）前記サンプリング機構が前記第１動作モードで動作している状況において、該測定装置本体で測定された濃度が所定の第１閾値を上回ったときに、該サンプリング機構を制御して、その動作モードを前記第２動作モードに変更する制御機構。
【０００８】
このようなものであれば、内燃機関の状態の変化等によって、サンプリング排ガス中の所定成分濃度が高くなり、例えばそのままでは、測定装置本体の測定レンジを越えてしまい測定不可能な場合であっても、サンプリング機構の動作モードを第２動作モードに切り替えることにより、サンプリング排ガスが希釈されて所定成分の濃度を、測定装置本体において測定可能な濃度レンジまで下げることができるので、単一の測定装置本体での所定成分濃度の測定ができる。もちろん、希釈した場合は、測定装置本体での測定濃度に希釈率を考慮して、排ガス中にの所定成分の濃度を算出する必要はあるが、従来のように、レンジの異なる複数種類の測定装置本体（例えばＣＯ濃度計）を設ける必要がないので、その構成を簡素化できる。さらには、従来のように複数の測定装置本体を切り替えるがゆえに生じるような相関性の問題もなく、測定精度を担保できるどころか、測定精度の向上にすら寄与し得る。
【０００９】
サンプリング排ガス中の所定成分濃度が高い状態から低くなったときにも対応できるようにするには、前記制御機構が以下の構成であることが好ましい。
【００１０】
すなわち、前記制御機構が、前記サンプリング機構が前記第２動作モードで動作している状況において、該測定装置本体で測定された濃度が所定の第２閾値を下回ったときに、該サンプリング機構を制御して、その動作モードを前記第１動作モードに変更するものとしておくことが好ましい。
【００１１】
具体的な実施態様としては、第２モード時には、第１モード時に流れるサンプリング排ガスに希釈ガスを加算混入させるようにすればよい。ただし、この構成では、第２動作モード時に測定装置本体に導かれるガスの流量が、第１モード時に比べ希釈ガス分だけ多くなり、各動作モードでの測定装置本体へのガス導入流量に大きな差ができて、それに起因した測定誤差が出る恐れがある。
【００１２】
そこで、第１動作モード時と第２動作モード時での測定装置本体に対するガス導入流量の差を減少させて、前記問題を軽減するには、第１動作モードと第２動作モードとにおいて、測定装置本体に導入されるサンプリング排ガスの流量を互いに異ならせ、第１動作モード時でのサンプリング排ガスの流量が、第２動作モード時でのサンプリング排ガスの流量よりも多くなるように設定されているものが好適である。
【発明の効果】
【００１３】
このように本発明に係る排ガス測定装置によれば、排ガス中の所定成分濃度が大きく変動しても、１つの測定装置本体で該所定成分濃度の測定ができるので、その構成を簡素化でき、さらには、測定精度をも担保することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の第１実施形態における排ガス測定装置の全体を示す流体回路図。
【図２】同実施形態における排ガス測定装置の第１動作モードでのガスの流れを示す流体回路図。
【図３】同実施形態における排ガス測定装置の第２動作モードでのガスの流れを示す流体回路図。
【図４】同実施形態における排ガス測定装置の第１校正モードでのガスの流れを示す流体回路図。
【図５】同実施形態における排ガス測定装置の第２校正モードでのガスの流れを示す流体回路図。
【図６】本発明の第２実施形態における排ガス測定装置の全体を示す流体回路図。
【図７】本発明のその他の実施形態における排ガス測定装置の全体を示す流体回路図。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下に、本発明の種々の実施形態を、図面を参照して説明する。
＜第１実施形態＞
【００１６】
本実施形態に係る排ガス測定装置１００は、図１に示すように、内燃機関（図示しない）から排出された排ガスの一部をサンプリングするサンプリング機構１と、該サンプリング機構１に接続されて、該サンプリング機構１から出力されるガスの所定成分（ここではＣＯ）の濃度を測定する測定装置本体２と、前記サンプリング機構１を制御する制御機構３とを具備するものである。
各部を説明する。
【００１７】
前記サンプリング機構１は、その内部流路を切り換えて、サンプリングした排ガス（以下、サンプリング排ガスともいう。）をそのまま出力する第１動作モードと、前記サンプリング排ガスに一定割合の希釈ガスを混合して出力する第２動作モードとのいずれかをとり得るものである。なお、ここでいうサンプリング排ガスとは、内燃機関から出力される生の排ガスでもよいし、希釈トンネル・ＣＶＳなどで希釈された希釈排ガスであってもよい。
より具体的に説明する。
【００１８】
このサンプリング機構１は、前記第１動作モード時にサンプリング排ガスが流れる第１流路系１１と、前記第２動作モード時にサンプリング排ガスが流れる第２流路系１２とを具備している。
【００１９】
第１流路系１１は、前記サンプリング排ガスが導入される第１排ガス流路１１ａを備えたものである。この第１排ガス流路１１ａは、その始端に、例えば外部ポンプＰに接続された第１排ガス導入ポート１１ｂが設けられていて、同図に示すように、前記外部ポンプＰによって吸引された排ガスをサンプリングするとともに、該サンプリング排ガスを、その終端に接続された測定装置本体２にそのまま導くものである。なお、同図中、第１排ガス流路１１ａの始端部に設けられている符号Ｖ１は、該第１排ガス流路１１ａを開閉するための第１バルブである。
【００２０】
第２流路系１２は、前記サンプリング排ガスが導入される第２排ガス流路１２ａと、希釈ガス(例えばＮ２）が導入される希釈ガス流路１２ｂと、これら第２排ガス流路１２ａ及び希釈ガス流路１２ｂを流れてきたサンプリング排ガス及び希釈ガスを予め定めた一定比で混合させ、該混合ガスを前記測定装置本体２に導く希釈部１２ｃを備えたものである。
【００２１】
前記第２排ガス流路１２ａは、その始端に、前記外部ポンプに接続された第２排ガス導入ポート１２ｄが設けられていて、同図に示すように、該外部ポンプＰによって吸引された排ガスをサンプリングするものである。なお、同図中、第２排ガス流路１２ａの始端部に設けられている符号は、該第２排ガス流路１２ａを開閉するための第２バルブである。
【００２２】
前記希釈ガス流路１２ｂは、その始端に、例えばボンベなどの図示しない希釈ガス源に接続された希釈ガス導入ポート１２ｅが設けられていて、該希釈ガス源から供給される希釈ガスを導入するものである。なお、同図中、希釈ガス流路１２ｂの始端部に設けられている符号Ｖ３は、該希釈ガス流路１２ｂを開閉するための第３バルブである。
【００２３】
前記希釈部１２ｃは、前記第２排ガス流路１２ａを流れてきた排ガス及び希釈ガス流路１２ｂを流れてきた希釈ガスを、前記一定比となるように、それぞれ取得する排ガス取得部１２１及び希釈ガス取得部１２２と、これら排ガス取得部１２１及び希釈ガス取得部１２２から出力される排ガス及び希釈ガスを混合する混合部１２３とを備えたものである。
【００２４】
前記排ガス取得部１２１は、前記第２排ガス流路１２ａに接続された第１調圧弁Ｒ１と、該第２排ガス流路１２ａにおける前記第１調圧弁Ｒ１よりも下流側に接続されたキャピラリーなどの第１流体抵抗素子Ｃ１とを備えたものである。前記第１調圧弁Ｒ１は、その逃がしポートからサンプリング排ガスの一部を排出することによって、第２排ガス流路１２ａ内を予め定めた一定圧に保つものである。前記第１流体抵抗素子Ｃ１は、一定圧に保たれた第２排ガス流路１２ａに接続されることによって、この第１流体抵抗素子Ｃ１を流れる排ガスの流量、すなわち当該排ガス取得部１２１から出力されるサンプリング排ガスの流量を予め定めた一定値に保つものである。
【００２５】
前記希釈ガス取得部１２２は、前記希釈ガス流路１２ｂの終端に入力ポートが接続された第２調圧弁Ｒ２と、この第２調圧弁Ｒ２の出力ポートに接続されたキャピラリーなどの第２流体抵抗素子Ｃ２とを備えたものである。前記第２調圧弁Ｒ２は、その逃がしポートから希釈ガスの一部を排出することによって、その出力ポートを予め定めた一定圧に保つものである。前記第２流体抵抗素子Ｃ２は、一定圧に保たれた前記出力ポートに接続されることによって、この第２流体抵抗素子Ｃ２を流れる希釈ガスの流量、すなわち当該希釈ガス取得部１２２から出力される希釈ガスの流量を一定に保つものである。
【００２６】
前記混合部１２３は、前記排ガス取得部１２１及び前記希釈ガス取得部１２２から一定比、一定流量でそれぞれ出力されるサンプリング排ガス及び希釈ガスを導入してこれらを混合し、その混合ガスを前記測定装置本体２に導くものであり、ここでは、排ガス取得部１２１及び前記希釈ガス取得部１２２の出力ポートに共通して接続された配管部材がその機能を担う。
【００２７】
なお、この実施形態では、この第２流路系１２から出力される混合ガスにおけるサンプリング排ガス及び希釈ガスの比は、約１：１９である。この希釈比（約２０倍）は、測定装置本体２の測定ダイナミックレンジ（測定下限値に対する測定上限値の比）と分解能によって定められるが、具体的には、希釈比がダイナミックレンジの１／５〜１／５００、好ましくは１／１０〜１／１００程度に設定される。一方、該混合ガスの流量は、前記第１流路系１１から出力されるサンプリング排ガスの流量と概略一致するように設定される。
【００２８】
前記測定装置本体２は、例えば吸光度式のものであり、図示しないが、光源から射出された光を、測定対象ガスを充満させた透光セルに導き、そのときの光の所定波長成分の吸光度から測定対象ガスに含まれるＣＯの濃度を算出するものである。この測定装置本体２の測定レンジは、前記セルの光路長で定まり、近時の触媒性能の向上に伴ってＣＯ濃度が低いことから、ここでは、セル長の長い低濃度測定レンジのものが用いられている。なお、この測定装置本体２は、吸光度式のものには限られない。
【００２９】
前記制御機構３は、図示しないＣＰＵ、メモリ、Ａ／Ｄコンバータ、Ｄ／Ａコンバータ、増幅器などから構成された電気回路であり、前記メモリに格納されたプログラムにしたがってＣＰＵやその周辺機器が協働することにより、前記サンプリング機構１を制御して、その動作モードを切り替える動作を営む。
【００３０】
具体的にこの制御機構３は、前記サンプリング機構１を第１動作モードとする場合には、開閉信号を送信して第１バルブＶ１を開けるとともに第２バルブＶ２及び第３バルブＶ３を閉じる（第２バルブＶ２及び第３バルブＶ３を閉じる代わりに、混合部１２３と測定装置本体２を接続する配管上に設けられた第４バルブＶ４を閉じてもよい。）。このことによって、図２に示すように、サンプリング排ガスが、第１流路系１１を介して希釈されることなく測定装置本体２に導かれる。
【００３１】
一方、第２動作モードとする場合には、この制御機構３は開閉信号を送信して第２バルブＶ２及び第３バルブＶ３（及び第４バルブＶ４）を開けるとともに第１バルブＶ１を閉じる。このことによって、図３に示すように、サンプリング排ガスは、第２流路系１２に導かれて希釈され、この希釈された排ガスが測定装置本体２に導かれる。
次に、動作モードの切り替えタイミングについて述べる。
【００３２】
初期状態において、前記サンプリング機構１は第１動作モードにある。この状態では、図２に示すように、希釈されないサンプリング排ガスが測定装置本体２に導かれてＣＯ濃度が測定されている。
前記制御機構３は、この測定装置本体２から送信されてくるＣＯ濃度測定データを受信してその値を監視する。
【００３３】
そして、例えば、暖気終了前で触媒が十分に暖まっていない状態など、サンプリング排ガス中のＣＯ濃度が所定の第１閾値を超えた場合は、この制御機構３は、サンプリング機構１を第２動作モードに切り替える。この結果、図３に示すように、希釈されたサンプリング排ガス（混合ガス）が前記測定装置本体２に導かれて、その混合ガス中のＣＯ濃度が測定される。なお、前記第１閾値は、前記測定装置本体２の測定可能上限値又はそれよりもやや小さい値に設定されている。
【００３４】
一方、前記第２動作モードの状態において、触媒が暖まるなどして、その機能が発揮され、サンプリング排ガス中のＣＯ濃度が低くなって、混合ガス中のＣＯ濃度が所定の第２閾値を下回った場合は、この制御機構３は、サンプリング機構１を第１動作モードに切り替える。この結果、希釈されないサンプリング排ガスが前記測定装置本体２に導かれて、そのサンプリング排ガス中のＣＯ濃度が測定される。この第２閾値は、前記測定装置本体２の測定可能下限値又はそれよりもやや大きい値に設定される。
【００３５】
付言しておくと、この実施形態では、サンプリング機構１が、前記第１動作モード及び第２動作モードの他に、第１校正モード及び第２校正モードを取り得るように構成してある。
【００３６】
第１校正モードでは、第１動作モードでの測定濃度を校正することが可能である。そのために、ここではＣＯ濃度が低くて既知の低濃度校正ガスが導かれる第１校正ガス流路４１が、前記第１排ガス流路１１ａの途中に接続してあって、この第１校正ガス流路４１の途中には第５バルブＶ５が設けられている。
【００３７】
そして、この第１校正モードでは、前記制御機構３からの指令によって、前記第１バルブＶ１が閉じられる一方、前記第５バルブＶ５が開けられることにより、前記第１排ガス流路１１ａに、サンプリング排ガスに代わって前記低濃度校正ガスが導かれるようにしてある。その他は、第１動作モードと同じである。
このことにより、測定装置本体２に低濃度校正ガスが導入され、測定装置本体２を校正することができるようにしてある。
【００３８】
第２校正モードでは、第２動作モードでの測定濃度を校正することが可能である。そのために、ここではＣＯ濃度が高くて既知の高濃度校正ガスが導かれる第２校正ガス流路４２が、前記第２排ガス流路１２ａの途中に接続してあって、この第２校正ガス流路４２の途中には第６バルブＶ６が設けられている。
【００３９】
そして、この第２校正モードでは、前記制御機構３からの指令によって、前記第２バルブＶ２が閉じられる一方、前記第６バルブＶ６が開けられることにより、図５に示すように、前記第２排ガス流路１２ａに、前記サンプリング排ガスに代わって前記高濃度校正ガスが供給されるようにしてある。その他は、第２動作モードと同じである。
このことにより、測定装置本体２に高濃度校正ガスが導入され、測定装置本体２を校正できるようにしてある。
＜第２実施形態＞
【００４０】
前記第１実施形態では、第１動作モード時と第２動作モード時において、それぞれサンプリング排ガスが通る流路系が分けられていたが、第２モード時には、第１モード時に流れるサンプリング排ガスに希釈ガスを加算混入させるようにしてもよい。
【００４１】
すなわち、この第２実施形態では、図６に示すように、サンプリング排ガスを測定装置本体２に導入する第１排ガス流路５１と、この第１排ガス流路５１の途中に接続された希釈ガス流路５２とが設けられている。そして、第１動作モード時には、制御機構３によって、第１排ガス流路５１上に設けられたバルブＶ１１を開ける一方、希釈ガス流路５２上に設けられたバルブＶ１２は閉じて、サンプリング排ガスのみが測定装置本体２に導かれるようにする。一方で、第２動作モード時には、希釈ガス流路５２上に設けられたバルブＶ１２が開けられてサンプリング排ガスと希釈ガスとが混合した混合ガスが、測定装置本体２に導かれるようにしてある。
【００４２】
ただし、この場合は、第２動作モード時において測定装置本体２に導かれるガスの流量が、第１モード時に比べ希釈ガス分だけ多くなり、各動作モードでの測定装置本体２に導入されるガス流量に大きな差が生じる。そのため、セル内圧力やそれ以降の背圧に差が生じるなどして、それに起因した測定誤差が出る恐れがある。逆に言えば、前記第１実施形態では、第１動作モードでも第２動作モードでも、測定装置本体２に導かれるガス流量に大差はないため、それに起因した測定誤差等の不具合が生じにくいというメリットがある。
【００４３】
また、前記第１及び第２実施形態において、排ガス測定装置は、第１動作モードと第２動作モードとで、測定装置本体２に導かれるガスの流量が異なっていたり、測定装置本体２までの流量長が異なるために、第１動作モードと第２動作モードとを切替えた時に、測定装置本体２の応答時間に違いがでる可能性がある。この応答時間を合せる方法として、排ガス測定装置は、第１動作モードと第２動作モードとを切替えた時に、応答時間が遅い方のモードに対して、測定濃度を算出するために用いる移動平均時間を短くして応答時間を早めたり、動作モードに応じて異なる待ち時間を設定するようにしてもよい。
なお、本発明は、前記実施形態に限られない。
【００４４】
前記第１モードでは、希釈されない排ガスが測定装置本体に導かれるようにしていたが、第２動作モードよりも低い希釈率で希釈された排ガスが測定装置本体に導かれるようにしてもよい。
【００４５】
前記第１実施形態では、第１流路系１１と第２流路系１２とのいずれか一方のみに選択的にガスが流れるようにしていたが、図７に示すように、第１流路系１１（より具体的には第１排ガス流路１１ａ）及び第２流路系１２（より具体的には、混合部１２３）に同時にガスが流れるようにしておき、測定装置本体２の直前でいずれか一方が測定装置本体２に導かれ、他方が外部に排出されるようにしても構わない。
そのために、この図７における排ガス測定装置１００では、第１排ガス流路１１ａにおける前記混合部１２３との合流点の直前に設けられた第１導出路１３１と、前記混合部１２３における第４バルブＶ４の直前に設けられた第２導出路１３２とをさらに具備するようにしている。なお、この図７において、前記第１実施形態と対応する部材には同一の符号を付している。
前記第１排ガス流路１１ａ上（より具体的には、第１排ガス流路１１ａにおける第１導出路１３１よりも下流側）には開閉バルブ４が設けられており、前記第１導出路１３１上には開閉バルブ５が設けられている。そして、これら開閉バルブ４、５のいずれか一方を開け、他方を閉じることによって、第１排ガス流路１１ａを流れてきたガスが、第１導出路１３１を介して外部に導出されるか、前記測定装置本体２に導かれるかを切り替えられるようにしてある。
一方、前記第２導出路１３２上には開閉バルブ６が設けられている。そして、この開閉バルブ６又は第４バルブＶ４のいずれか一方を開け、他方を閉じることによって、前記混合部１２３を流れてきたガスが、前記第２導出路１３２を介して外部に導出されるか、前記測定装置本体２に導かれるかを切り替えられるようにしてある。
この図７では、前記制御機構３からの指令により、前記第１バルブＶ１〜第３バルブＶ３は動作時において常時開状態となる。
そして、前記第１動作モード時には、前記制御機構３が、前記第４バルブＶ４を閉じ、前記開閉バルブ６を開けて前記第２導出路１３２から混合ガスを逃がす一方で、前記開閉バルブ５を閉じ、前記開閉バルブ４を開けることにより、前記測定装置本体２に前記第１流路系１１を流れるガス（排ガス）が導かれるようにしてある。
前記第２動作モード時には、前記制御機構３が、前記開閉バルブ４を閉じ、前記開閉バルブ５を開けて前記第１導出路１３１から排ガスを逃がす一方で、前記第４バルブＶ４を開け、前記開閉バルブ６を閉じることにより、前記測定装置本体２に前記第２流路系１２を流れるガス（混合ガス）が導かれるようにしてある。
このような構成により、前記第１動作モード及び第２動作モードのどちらの場合にも、前記第１流路系１１及び第２流路系１２のうちガスの流れが止まっている部分を短くすることができるので、前記第１動作モードと第２動作モードとを切り替えたときに、前記第１流路系１１又は第２流路系１２からのガスの流れが安定するまでの時間を短くすることができる。
特に、前記第２流路系１２では、排ガスと希釈ガスとの希釈比を切り替え前後で安定して保つことができるので有利である。
【００４６】
前記各実施形態では調圧弁と流体抵抗素子とを用いてガス流量を一定に制御していたが、希釈ガスやサンプリング排ガスの流量をマスフローコントローラによって制御するようにしてもよい。また、内燃機関の種類や試験状況に応じて希釈率を変化させるようにしてもよい。
第３動作モードやさらに多くの動作モードを設けて、３段階以上に希釈率を変え得るようにしてもよい。
【００４７】
前記各実施形態では、前記第１校正モードによって前記第１動作モードでの測定濃度を校正し、前記第２校正モードによって前記第２動作モードでの測定濃度を校正していたが、これら第１動作モードの測定濃度と第２動作モードの測定濃度との間に予め所定の相関係数を設定し、前記第１校正モード又は第２校正モードのいずれかに一方の校正モードによって校正すれば、他方の動作モードについても前記相関関数を用いて校正することが出来るようにしても良い。
この場合、前記相関関数は、前記メモリの所定領域に記憶させておくものであり、この相関関数の態様としては、数式の形式でも良いし、テーブル形式でも良い。
【００４８】
また、前記低濃度校正ガス及び高濃度校正ガスは、それぞれ別々に用意したボンベから導入されるものであっても良いし、前記高濃度較正ガスのみを用意し、該高濃度構成ガスを希釈して前記低濃度較正ガスを調整しても良い。
その他、本発明の趣旨に反しない限りにおいて様々な変形が可能であるし、各実施形態の構成要素を適宜組み合せても構わない。
【符号の説明】
【００４９】
１００・・・排ガス測定装置
１・・・サンプリング機構
２・・・測定装置本体
３・・・制御機構
【図１】
0006661518.tif 000002
【図２】
0006661518.tif 000003
【図３】
0006661518.tif 000004
【図４】
0006661518.tif 000005
【図５】
0006661518.tif 000006
【図６】
0006661518.tif 000007
【図７】
0006661518.tif 000008