(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１−２−ａ）から（１−２−ｅ）で表される化合物。
0006728637.tif 000072
式（１−２−ａ）から（１−２−ｅ）において、Ｒ１が炭素数２から２０のアルキルであり；Ｒ２およびＲ３は独立して、メチル、エチル、イソプロピル、またはｔ−ブチルであり；Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４、Ｌ５、Ｌ６、Ｌ７、およびＬ８は独立して、水素またはフッ素である。
【請求項２】
式（１−２−ｃ）から（１−２−ｅ）において、Ｒ１が炭素数２から１５のアルキルであり；Ｒ２およびＲ３は独立して、メチルまたはｔ−ブチルであり；Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４、Ｌ５、Ｌ６、Ｌ７、およびＬ８は独立して、水素またはフッ素であり、フッ素の合計は、０から４の整数である、請求項１に記載の化合物。
0006728637.tif 000073
【請求項３】
式（１−３−ａ）から（１−３−ｌ）で表される、化合物。
0006728637.tif 000074
0006728637.tif 000075
式（１−３−ａ）から（１−３−ｌ）において、Ｒ４は炭素数２から９のアルキルである。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか１項に記載の化合物を含有する液晶組成物。
【請求項５】
式（２）から（４）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項４に記載の液晶組成物。
0006728637.tif 000076
式（２）から（４）において、
Ｒ１１およびＲ１２は独立して、炭素数１から１０のアルキルまたは炭素数２から１０のアルケニルであり、このアルキルまたはアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；
環Ｂ１、環Ｂ２、環Ｂ３、および環Ｂ４は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、またはピリミジン−２，５−ジイルであり；
Ｚ１１、Ｚ１２、およびＺ１３は独立して、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、または−ＣＯＯ−である。
【請求項６】
式（５）から（７）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項４または５に記載の液晶組成物。
0006728637.tif 000077
式（５）から（７）において、
Ｒ１３は炭素数１から１０のアルキルまたは炭素数２から１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；
Ｘ１１は、フッ素、塩素、−ＯＣＦ3、−ＯＣＨＦ2、−ＣＦ3、−ＣＨＦ2、−ＣＨ2Ｆ、−ＯＣＦ2ＣＨＦ2、または−ＯＣＦ2ＣＨＦＣＦ3であり；
環Ｃ１、環Ｃ２、および環Ｃ３は独立して、１，４−シクロヘキシレン、少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、またはピリミジン−２，５−ジイルであり；
Ｚ１４、Ｚ１５、およびＺ１６は独立して、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ２Ｏ−、または−（ＣＨ２）４−であり；
Ｌ１１およびＬ１２は独立して、水素またはフッ素である。
【請求項７】
式（８）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項４から６のいずれか１項に記載の液晶組成物。
0006728637.tif 000078
式（８）において、
Ｒ１４は炭素数１から１０のアルキルまたは炭素数２から１０のアルケニルであり、アルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；
Ｘ１２は−Ｃ≡Ｎまたは−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｎであり；
環Ｄ１は、１，４−シクロヘキシレン、少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、またはピリミジン−２，５−ジイルであり；
Ｚ１７は、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、または−ＣＨ２Ｏ−であり；
Ｌ１３およびＬ１４は独立して、水素またはフッ素であり；
ｉは、１、２、３、または４である。
【請求項８】
式（９）から（１５）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項４から７のいずれか１項に記載の液晶組成物。
0006728637.tif 000079
式（９）から（１５）において、
Ｒ１５およびＲ１６は独立して、炭素数１から１０のアルキルまたは炭素数２から１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；
Ｒ１７は、水素、フッ素、炭素数１から１０のアルキル、または炭素数２から１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；
環Ｅ１、環Ｅ２、環Ｅ３、および環Ｅ４は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレン，テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、またはデカヒドロナフタレン−２，６−ジイルであり；
環Ｅ５および環Ｅ６は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン，テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、またはデカヒドロナフタレン−２，６−ジイルであり；
Ｚ１８、Ｚ１９、Ｚ２０、およびＺ２１は独立して、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＯＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、または−ＯＣＦ２ＣＨ２ＣＨ２−であり；
Ｌ１５およびＬ１６は独立して、フッ素または塩素であり；
Ｓ１１は、水素またはメチルであり；
Ｘは、−ＣＨＦ−または−ＣＦ２−であり；
ｊ、ｋ、ｍ、ｎ、ｐ、ｑ、ｒ、およびｓは独立して、０または１であり、ｋ、ｍ、ｎ、およびｐの和は、１または２であり、ｑ、ｒ、およびｓの和は、０、１、２、または３であり、ｔは、１、２、または３である。
【請求項９】
請求項１から３のいずれか１項に記載の化合物の酸化防止剤としての使用。
【請求項１０】
請求項１から３のいずれか１項に記載の化合物を添加することにより、液晶組成物を安定化させる方法。
【請求項１１】
請求項４から８のいずれか１項に記載の液晶組成物を含有する液晶表示素子。
【請求項１２】
液晶表示素子の動作モードが、ＴＮモード、ＥＣＢモード、ＯＣＢモード、ＶＡモード、ＩＰＳモード、ＰＳＡモード、ＦＦＳモード、またはＦＰＡモードであり、液晶表示素子の駆動方式がアクティブマトリックス方式である請求項１１に記載の液晶表示素子。
【請求項１３】
請求項４から８のいずれか１項に記載の液晶組成物の液晶表示素子における使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フェノール系の酸化防止剤、液晶組成物、および液晶表示素子に関する。さらに詳しくは、２，６−ジアルキル−４−置換フェノール、この化合物を添加した液晶組成物、この組成物を含有する液晶表示素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示素子において、液晶の動作モードに基づいた分類は、ＰＣ（phase change）、ＴＮ（twisted nematic）、ＳＴＮ（super twisted nematic）、ＥＣＢ（electrically controlled birefringence）、ＯＣＢ（optically compensated bend）、ＩＰＳ（in-plane switching）、ＶＡ（vertical alignment）、ＦＦＳ（Fringe Field Switching）、ＰＳＡ（polymer sustained alignment）、ＦＰＡ（field induced photo-reactive alignment）モードなどである。素子の駆動方式に基づいた分類は、ＰＭ（passive matrix）とＡＭ（active matrix）である。ＰＭはスタティック（static）とマルチプレックス（multiplex）などに分類され、ＡＭはＴＦＴ（thin film transistor）、ＭＩＭ（metal insulator metal）などに分類される。ＴＦＴの分類は非晶質シリコン（amorphous silicon）および多結晶シリコン（polycrystal silicon）である。後者は製造工程によって高温型と低温型とに分類される。光源に基づいた分類は、自然光を利用する反射型、バックライトを利用する透過型、そして自然光とバックライトの両方を利用する半透過型である。
【０００３】
これらの素子は適切な特性を有する液晶組成物を含有する。この液晶組成物はネマチック相を有する。良好な一般的特性を有するＡＭ素子を得るには組成物の一般的特性を向上させる。２つの一般的特性における関連を下記の表１にまとめる。組成物の一般的特性を市販されているＡＭ素子に基づいてさらに説明する。ネマチック相の温度範囲は、素子の使用できる温度範囲に関連する。ネマチック相の好ましい上限温度は約７０℃以上であり、そしてネマチック相の好ましい下限温度は約−１０℃以下である。組成物の粘度は素子の応答時間に関連する。素子で動画を表示するためには短い応答時間が好ましい。したがって、組成物における小さな粘度が好ましい。低い温度における小さな粘度はより好ましい。組成物の弾性定数は素子のコントラストに関連する。素子においてコントラストを上げるためには、組成物における大きな弾性定数がより好ましい。
【０００４】
0006728637.tif 000002
【０００５】
組成物の光学異方性は、素子のコントラスト比に関連する。組成物の光学異方性（Δｎ）と素子のセルギャップ（ｄ）との積（Δｎ×ｄ）は、コントラスト比を最大にするように設計される。適切な積の値は動作モードの種類に依存する。ＴＮのようなモードの素子では、適切な値は約０．４５μｍである。ＶＡモードの素子では約０．３０μｍから約０．４０μｍの範囲、ＩＰＳモード、またはＦＦＳモードの素子では約０．２０μｍから約０．３０μｍの範囲である。この場合、小さなセルギャップの素子には大きな光学異方性を有する組成物が好ましい。組成物における絶対値の大きな誘電率異方性は素子における低いしきい値電圧、小さな消費電力と大きなコントラスト比に寄与する。したがって、絶対値の大きな誘電率異方性が好ましい。組成物における大きな比抵抗は、大きな電圧保持率に寄与し、素子における大きなコントラスト比に寄与する。したがって、初期段階において室温だけでなくネマチック相の上限温度に近い温度でも大きな比抵抗を有する組成物が好ましい。長時間使用したあと、室温だけでなくネマチック相の上限温度に近い温度でも大きな比抵抗を有する組成物が好ましい。紫外線および熱に対する組成物の安定性は、液晶表示素子の寿命に関連する。これらの安定性が高いとき、この素子の寿命は長い。このような特性は、液晶プロジェクター、液晶テレビなどに用いるＡＭ素子に好ましい。組成物における大きな弾性定数は素子における大きなコントラスト比と短い応答時間に寄与する。したがって、大きな弾性定数が好ましい。
【０００６】
このような特性を有する組成物を調製するために、成分である液晶性化合物の種類や割合は注意深く選定される。しかしながら、このような特性を長時間維持できないことがある。経時変化によって素子の表示不良が発生することがある。これは液晶性化合物が酸化されるからだと推定される。この酸化を防止する目的で、酸化防止剤が組成物に添加される。酸化防止剤の例は、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール（特許文献１および２）、化合物（ＢＨ７）（特許文献３）、化合物（ＢＨ３Ｌ）（特許文献４）であるが、さらに有用な酸化防止剤が求められている。低い蒸気圧を有し、組成物への高い溶解度を有し、少量であっても効果的な酸化防止剤の開発が期待されている。
【０００７】
0006728637.tif 000003
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００２−２５６２６７号公報
【特許文献２】特開２０１０−１８０２６６号公報
【特許文献３】国際公開第２０１４／１６２５８７号
【特許文献４】特開平９−１２４５２９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の１つの目的は、酸化防止剤として有用な化合物である。他の目的は、この化合物を含有し、そしてネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学異方性、正または負に大きな誘電率異方性、大きな比抵抗、紫外線に対する高い安定性、熱に対する高い安定性、大きな弾性定数などの特性において、少なくとも１つの特性を充足する液晶組成物である。他の目的は、少なくとも２つの特性に関して適切なバランスを有する液晶組成物である。別の目的は、このような組成物を含有し、そして短い応答時間、大きな電圧保持率、低いしきい値電圧、大きなコントラスト比、長い寿命などの特性を有する液晶表示素子である。別の目的は紫外線に対する高い安定性を有する液晶組成物であり、長時間使用しても電圧保持率が低下しにくい素子である。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、式（１）で表される化合物、この化合物を添加した液晶組成物、この組成物を含有する液晶表示素子に関する。
0006728637.tif 000004
式（１）において、Ｒ１は水素または炭素数１から２０のアルキルであり、このアルキルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、または−ＳｉＨ２−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ２ＣＨ２−は−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく；Ｒ２およびＲ３は独立して、メチル、エチル、イソプロピル、またはｔ−ブチルであり；環Ａは、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、１，４−フェニレン、またはナフタレン−２，６−ジイルであり、これらの基において、少なくとも１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、または−ＳｉＨ２−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ２ＣＨ２−は−ＣＨ＝ＣＨ−または−ＣＨ＝Ｎ−で置き換えられてもよく、これらの二価基において、少なくとも１つの水素は、フッ素、塩素、−Ｃ≡Ｎ、−ＣＦ3、−ＣＨＦ２、−ＣＨ２Ｆ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＨＦ２、または−ＯＣＨ２Ｆで置き換えられてもよく；Ｚは、単結合または炭素数１から６のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、または−ＳｉＨ２−で置き換えられてもよく、１つまたは２つの−ＣＨ２ＣＨ２−は−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、これらの二価基において、少なくとも１つの水素はフッ素または塩素で置き換えられてもよく；ｍは０、１、または２であり、ｍ＝２のとき、２つの環Ａは同じであっても異なっていてもよく、２つのＺは同じであっても異なっていてもよい。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の１つの長所は、蒸気圧が低く、溶解度が高い、酸化防止剤として有用な化合物である。他の長所は、この化合物を含有し、そしてネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学異方性、正または負に大きな誘電率異方性、大きな比抵抗、紫外線に対する高い安定性、熱に対する高い安定性、大きな弾性定数などの特性において、少なくとも１つの特性を充足する液晶組成物である。他の長所は、少なくとも２つの特性に関して適切なバランスを有する液晶組成物である。別の長所は、このような組成物を含有し、そして短い応答時間、大きな電圧保持率、低いしきい値電圧、大きなコントラスト比、長い寿命などの特性を有する液晶表示素子である。別の長所は、紫外線に対する高い安定性を有する液晶組成物であり、長時間使用しても電圧保持率が低下しにくい素子である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
この明細書における用語の使い方は次のとおりである。「液晶組成物」および「液晶表示素子」をそれぞれ「組成物」または「素子」と略すことがある。「液晶表示素子」は、液晶表示パネルおよび液晶表示モジュールの総称である。「液晶性化合物」は、ネマチック相、スメクチック相などの液晶相を有する化合物または液晶相を有さないが、組成物の成分として有用な化合物を意味する。この化合物は、例えば１，４−シクロヘキシレンや１，４−フェニレンのような六員環を有し、その分子構造は棒状（rod like）である。「重合性化合物」は、組成物中に重合体を生成させる目的で添加する化合物である。式（１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を「化合物（１）」と略すことがある。「化合物（１）」は、式（１）で表される１つの化合物、２つの化合物の混合物、または３つ以上の化合物の混合物を意味する。他の式で表される化合物についても同様である。
【００１３】
液晶組成物は、複数の液晶性化合物を混合することによって調製される。液晶性化合物の割合（含有量）は、この液晶組成物の重量に基づいた重量百分率（重量％）で表される。この液晶組成物に、重合性化合物、重合開始剤、重合禁止剤、光学活性化合物、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、熱安定剤、色素、および消泡剤のような添加物が必要に応じて添加される。添加物の割合（添加量）は、液晶性化合物の割合と同様に、液晶組成物の重量に基づいた重量百分率（重量％）で表される。重量百万分率（ｐｐｍ）が用いられることもある。重合開始剤および重合禁止剤の割合は、例外的に重合性化合物の重量に基づいて表される。
【００１４】
ネマチック相の上限温度を「上限温度」と略すことがある。ネマチック相の下限温度を「下限温度」と略すことがある。「比抵抗が大きい」は、組成物が初期段階において室温だけでなくネマチック相の上限温度に近い温度でも大きな比抵抗を有し、そして長時間使用したあと室温だけでなくネマチック相の上限温度に近い温度でも大きな比抵抗を有することを意味する。「電圧保持率が大きい」は、素子が初期段階において室温だけでなくネマチック相の上限温度に近い温度でも大きな電圧保持率を有し、そして長時間使用したあと室温だけでなくネマチック相の上限温度に近い温度でも大きな電圧保持率を有することを意味する。「誘電率異方性を上げる」の表現は、誘電率異方性が正である組成物のときは、その値が正に増加することを意味し、誘電率異方性が負である組成物のときは、その値が負に増加することを意味する。「液晶組成物を安定化させる」とは、液晶組成物の紫外線または熱に対する安定性を向上させることを意味する。
【００１５】
成分化合物の化学式において、Ｒ１の記号を複数の化合物に用いた。これらの任意の２つの化合物において、Ｒ１で選択されるものは同じであっても、異なってもよい。例えば、化合物（１−１−ａ）のＲ１がエチルであり、化合物（１−１−ｂ）のＲ１がエチルであるケースがある。化合物（１−１−ａ）のＲ１がエチルであり、化合物（１−１−ｂ）のＲ１がプロピルであるケースもある。このルールは、Ｒ２、Ｒ１１、Ｚ１１などの記号にも適用される。化合物（８）において、ｉが２のとき、２つの環Ｄ１が存在する。この化合物において２つの環Ｄ１が表す２つの基は、同一であってもよく、または異なってもよい。ｉが２より大きいとき、任意の２つの環Ｄ１にも適用される。このルールは、環Ａ、Ｚ、Ｚ１７などの記号にも適用される。六角形で囲んだＡ、Ｂ１、Ｃ１などの記号はそれぞれ環Ａ、環Ｂ、環Ｃなどの環に対応する。化合物（１）において、六角形はベンゼン環のような六員環またはナフタレン環のような縮合環を表す。化合物（２）から化合物（１５）において、六角形はベンゼン環のような六員環を表す。
【００１６】
「少なくとも１つの‘Ａ’」の表現は、‘Ａ’の数は任意であることを意味する。「少なくとも１つの‘Ａ’は、‘Ｂ’で置き換えられてもよい」の表現は、‘Ａ’の数が１つのとき、‘Ａ’の位置は任意であり、‘Ａ’の数が２つ以上のときも、それらの位置は制限なく選択できる。このルールは、「少なくとも１つの‘Ａ’が、‘Ｂ’で置き換えられた」の表現にも適用される。「少なくとも１つのＡが、Ｂ、Ｃ、またはＤで置き換えられてもよい」という表現は、少なくとも１つのＡがＢで置き換えられた場合、少なくとも１つのＡがＣで置き換えられた場合、および少なくとも１つのＡがＤで置き換えられた場合、さらに複数のＡがＢ、Ｃ、Ｄの少なくとも２つで置き換えられた場合を含むことを意味する。例えば、少なくとも１つの−ＣＨ２−（または−ＣＨ２ＣＨ２−）が−Ｏ−（または−ＣＨ＝ＣＨ−）で置き換えられてもよいアルキルには、アルキル、アルケニル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルコキシアルケニル、アルケニルオキシアルキルが含まれる。なお、連続する２つの−ＣＨ２−が−Ｏ−で置き換えられて、−Ｏ−Ｏ−のようになることは好ましくない。アルキルなどにおいて、メチル部分（−ＣＨ２−Ｈ）の−ＣＨ２−が−Ｏ−で置き換えられて−Ｏ−Ｈになることも好ましくない。
【００１７】
ハロゲンはフッ素、塩素、臭素およびヨウ素を意味する。好ましいハロゲンは、フッ素および塩素である。さらに好ましいハロゲンはフッ素である。アルキルは、直鎖状または分岐状であり、環状アルキルを含まない。直鎖状アルキルは、一般的に分岐状アルキルよりも好ましい。これらのことは、アルコキシ、アルケニルなどの末端基についても同様である。１，４−シクロヘキシレンに関する立体配置は、一般的にシスよりもトランスが好ましい。２−フルオロ−１，４−フェニレンは、下記の２つの二価基を意味する。化学式において、フッ素は左向き（Ｌ）であってもよいし、右向き（Ｒ）であってもよい。このルールは、テトラヒドロピラン−２，５−ジイルのような、環から水素を２つ除くことによって誘導された非対称な二価基にも適用される。
0006728637.tif 000005
【００１８】
本発明は、下記の項などである。
【００１９】
項１．  式（１）で表される化合物。
0006728637.tif 000006
式（１）において、Ｒ１は水素または炭素数１から２０のアルキルであり、このアルキルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、または−ＳｉＨ２−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ２ＣＨ２−は−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく；Ｒ２およびＲ３は独立して、メチル、エチル、イソプロピル、またはｔ−ブチルであり；環Ａは、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、１，４−フェニレン、またはナフタレン−２，６−ジイルであり、これらの基において、少なくとも１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、または−ＳｉＨ２−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ２ＣＨ２−は−ＣＨ＝ＣＨ−または−ＣＨ＝Ｎ−で置き換えられてもよく、これらの二価基において、少なくとも１つの水素は、フッ素、塩素、−Ｃ≡Ｎ、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、−ＣＨ２Ｆ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＨＦ２、または−ＯＣＨ２Ｆで置き換えられてもよく；Ｚは、単結合または炭素数１から６のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、または−ＳｉＨ２−で置き換えられてもよく、１つまたは２つの−ＣＨ２ＣＨ２−は−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、これらの二価基において、少なくとも１つの水素はフッ素または塩素で置き換えられてもよく；ｍは０、１、または２であり、ｍ＝２のとき、２つの環Ａは同じであっても異なっていてもよく、２つのＺは同じであっても異なっていてもよい。
【００２０】
項２．  項１に記載の式（１）において、Ｒ１は水素または炭素数１から２０のアルキルであり、このアルキルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−または−Ｓ−で置き換えられてもよく；Ｒ２およびＲ３は独立して、メチル、エチル、イソプロピル、またはｔ−ブチルであり；環Ａは、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、１，４−フェニレン、または少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた１，４−フェニレンであり；Ｚは、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＨ２ＣＦ２−、−ＣＨ２ＣＨＦ−、−ＣＨ２Ｓ−、または−ＳＣＨ２−であり；ｍは０、１、または２であり、ｍ＝２のとき、２つの環Ａは同じであっても異なっていてもよく、２つのＺは同じであっても異なっていてもよい、項１に記載の化合物。
【００２１】
項３．  項１に記載の式（１）において、Ｒ１が炭素数２から２０のアルキルであり；Ｒ２およびＲ３は独立して、メチル、エチル、イソプロピル、またはｔ−ブチルであり；環Ａが１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、または少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられた１，４−フェニレンであり；Ｚが、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、または−ＯＣＨ２−であり；ｍが１または２であり、ｍ＝２のとき、２つの環Ａは同じであっても異なっていてもよく、２つのＺは同じであっても異なっていてもよい、項１または２に記載の化合物。
【００２２】
項４．  式（１−１−ａ）から（１−１−ｅ）で表される、項１から３のいずれか１項に記載の化合物。
0006728637.tif 000007
式（１−１−ａ）から（１−１−ｅ）において、Ｒ１が炭素数２から２０のアルキルであり；Ｒ２およびＲ３は独立して、メチル、エチル、イソプロピル、またはｔ−ブチルであり；Ｚは、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、または−ＯＣＨ２−であり；Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４、Ｌ５、Ｌ６、Ｌ７、およびＬ８は独立して、水素またはフッ素である。
【００２３】
項５．  式（１−２−ａ）から（１−２−ｅ）で表される、項１から４のいずれか１項に記載の化合物。
0006728637.tif 000008
式（１−２−ａ）から（１−２−ｅ）において、Ｒ１が炭素数２から２０のアルキルであり；Ｒ２およびＲ３は独立して、メチル、エチル、イソプロピル、またはｔ−ブチルであり；Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４、Ｌ５、Ｌ６、Ｌ７、およびＬ８は独立して、水素またはフッ素である。
【００２４】
項６．  式（１−２−ａ）から（１−２−ｅ）において、Ｒ１が炭素数２から１５のアルキルであり；Ｒ２およびＲ３は独立して、メチルまたはｔ−ブチルであり；Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４、Ｌ５、Ｌ６、Ｌ７、およびＬ８は独立して、水素またはフッ素であり、フッ素の合計は、０から４の整数である、項１から５のいずれか１項に記載の化合物。
0006728637.tif 000009
式（１−２−ａ）から（１−２−ｅ）において、Ｒ１が炭素数２から２０のアルキルであり；Ｒ２およびＲ３は独立して、メチル、エチル、イソプロピル、またはｔ−ブチルであり；Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４、Ｌ５、Ｌ６、Ｌ７、およびＬ８は独立して、水素またはフッ素である。
【００２５】
項７．  式（１−３−ａ）から（１−３−ｌ）で表される、項１から６のいずれか１項に記載の化合物。
0006728637.tif 000010
0006728637.tif 000011
式（１−３−ａ）から（１−３−ｌ）において、Ｒ４は炭素数２から９のアルキルである。
【００２６】
項８．  項１から７のいずれか１項に記載の化合物を含有する液晶組成物。
【００２７】
項９．  式（２）から（４）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、項８に記載の液晶組成物。
0006728637.tif 000012
式（２）から（４）において、
Ｒ１１およびＲ１２は独立して、炭素数１から１０のアルキルまたは炭素数２から１０のアルケニルであり、このアルキルまたはアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；
環Ｂ１、環Ｂ２、環Ｂ３、および環Ｂ４は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、またはピリミジン−２，５−ジイルであり；
Ｚ１１、Ｚ１２、およびＺ１３は独立して、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、または−ＣＯＯ−である。
【００２８】
項１０．  式（５）から（７）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、項８または９に記載の液晶組成物。
0006728637.tif 000013
式（５）から（７）において、
Ｒ１３は炭素数１から１０のアルキルまたは炭素数２から１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；
Ｘ１１は、フッ素、塩素、−ＯＣＦ3、−ＯＣＨＦ2、−ＣＦ3、−ＣＨＦ2、−ＣＨ2Ｆ、−ＯＣＦ2ＣＨＦ2、または−ＯＣＦ2ＣＨＦＣＦ3であり；
環Ｃ１、環Ｃ２、および環Ｃ３は独立して、１，４−シクロヘキシレン、少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、またはピリミジン−２，５−ジイルであり；
Ｚ１４、Ｚ１５、およびＺ１６は独立して、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ２Ｏ−、または−（ＣＨ２）４−であり；
Ｌ１１およびＬ１２は独立して、水素またはフッ素である。
【００２９】
項１１．  式（８）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、項８から１０のいずれか１項に記載の液晶組成物。
0006728637.tif 000014
式（８）において、
Ｒ１４は炭素数１から１０のアルキルまたは炭素数２から１０のアルケニルであり、アルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；
Ｘ１２は−Ｃ≡Ｎまたは−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｎであり；
環Ｄ１は、１，４−シクロヘキシレン、少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、またはピリミジン−２，５−ジイルであり；
Ｚ１７は、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、または−ＣＨ２Ｏ−であり；
Ｌ１３およびＬ１４は独立して、水素またはフッ素であり；
ｉは、１、２、３、または４である。
【００３０】
項１２．  式（９）から（１５）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、項８から１１のいずれか１項に記載の液晶組成物。
0006728637.tif 000015
式（９）から（１５）において、
Ｒ１５およびＲ１６は独立して、炭素数１から１０のアルキルまたは炭素数２から１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；
Ｒ１７は、水素、フッ素、炭素数１から１０のアルキル、または炭素数２から１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；
環Ｅ１、環Ｅ２、環Ｅ３、および環Ｅ４は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレン，テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、またはデカヒドロナフタレン−２，６−ジイルであり；
環Ｅ５および環Ｅ６は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン，テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、またはデカヒドロナフタレン−２，６−ジイルであり；
Ｚ１８、Ｚ１９、Ｚ２０、およびＺ２１は独立して、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＯＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、または−ＯＣＦ２ＣＨ２ＣＨ２−であり；
Ｌ１５およびＬ１６は独立して、フッ素または塩素であり；
Ｓ１１は、水素またはメチルであり；
Ｘは、−ＣＨＦ−または−ＣＦ２−であり；
ｊ、ｋ、ｍ、ｎ、ｐ、ｑ、ｒ、およびｓは独立して、０または１であり、ｋ、ｍ、ｎ、およびｐの和は、１または２であり、ｑ、ｒ、およびｓの和は、０、１、２、または３であり、ｔは、１、２、または３である。
【００３１】
項１３．  項１から７のいずれか１項に記載の化合物の酸化防止剤としての使用。
【００３２】
項１４．  項１から７のいずれか１項に記載の化合物を添加することにより、液晶組成物を安定化させる方法。
【００３３】
項１５．  項８から１２のいずれか１項に記載の液晶組成物を含有する液晶表示素子。
【００３４】
項１６．  液晶表示素子の動作モードが、ＴＮモード、ＥＣＢモード、ＯＣＢモード、ＶＡモード、ＩＰＳモード、ＰＳＡモード、ＦＦＳモード、またはＦＰＡモードであり、液晶表示素子の駆動方式がアクティブマトリックス方式である項１５に記載の液晶表示素子。
【００３５】
項１７．  項８から１２のいずれか１項に記載の液晶組成物の液晶表示素子における使用。
【００３６】
本発明は、次の項も含む。１）重合性化合物、重合開始剤、重合禁止剤、光学活性化合物、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、熱安定剤、色素、および消泡剤の少なくとも１つをさらに含有する上記の組成物、２）重合性化合物、重合開始剤、重合禁止剤、光学活性化合物、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、熱安定剤、色素、および消泡剤の少なくとも２つをさらに含有する上記の組成物、３）上記の組成物を含有するＡＭ素子、４）上記の組成物を含有し、そしてＴＮ、ＥＣＢ、ＯＣＢ、ＶＡ、ＩＰＳ、ＦＦＳ、ＰＳＡ、ＦＰＡのモードを有する素子、５）上記の組成物を含有する透過型の素子、６）上記の組成物を、ネマチック相を有する組成物としての使用、７）上記の組成物に光学活性な化合物を添加することによって光学活性な組成物としての使用。
【００３７】
化合物（１）の態様、化合物（１）の合成、液晶組成物、および液晶表示素子について順に説明する。
【００３８】
１．化合物（１）の態様
本発明の化合物（１）は、ジフルオロメトキシ基を有する２，６−ジアルキル−４−置換フェノールであるので、酸化防止剤として有用である。化合物（１）は、水酸基のパラ位にジフルオロメトキシ基を有するので、その電子的効果によってラジカルを捕捉する能力が向上していると考えられる。化合物（１）のＲ２またはＲ３は、メチル、エチル、イソプロピル、またはｔ−ブチルである。したがって、Ｒ２およびＲ３によって表される基を選択することによって、水酸基の立体障害の大きさを調節することができる。立体障害が小さい場合は、ラジカルを補足する反応が速くなる。立体障害が大きい場合は、ラジカルを補足したあとの安定性が大きい。Ｒ２およびＲ３を適切に組み合わせることによって水酸基の立体障害の大きさを調整することができるので、目的に一致した酸化防止剤を得ることができる。水酸基の立体障害が異なる２つ（または３つ以上）の化合物（１）を組み合わせることによって、相乗効果を期待することもできる。化合物（１）は、特にｍが２である化合物は、液晶性化合物の構造に類似する。したがって、化合物（１）を液晶組成物に添加したとき、溶解度は良好である。化合物（１）は分子量が大きいので、蒸気圧が低い。そのため化合物（１）を液晶組成物に添加した場合、蒸散により濃度が減少しない。
【００３９】
化合物（１）の好ましい例について説明をする。化合物（１）における末端基Ｒ１、側鎖基Ｒ２およびＲ３、環Ａ、結合基Ｚ、添え字ｍの好ましい例は、化合物（１）の下位式にも適用される。化合物（１）において、これらの基の種類を適切に組み合わせることによって、特性を任意に調整することが可能である。化合物の特性に大きな差異がないので、化合物（１）は、２Ｈ（重水素）、１３Ｃなどの同位体を天然存在比の量より多く含んでもよい。
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【００４０】
式（１）において、Ｒ１は水素または炭素数１から２０のアルキルであり、このアルキルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、または−ＳｉＨ２−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ２ＣＨ２−は−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよい。
【００４１】
好ましいＲ１は、アルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルキルチオ、アルキルチオアルキル、アルケニル、またはアルキニルである。さらに好ましいＲ１は、少なくとも１つの−ＣＨ２−が−Ｏ−または−Ｓ−で置き換えられてもよいアルキルである。特に好ましいＲ１は、アルキル、アルコキシ、またはアルキルチオである。最も好ましいＲ１はアルキルである。
【００４２】
式（１）において、Ｒ２およびＲ３は独立して、メチル、エチル、イソプロピル、またはｔ−ブチルである。好ましいＲ２またはＲ３は、メチル、イソプロピル、またはｔ−ブチルである。Ｒ２またはＲ３の少なくとも１つは、ｔ−ブチルであることが好ましい。Ｒ２およびＲ３において、好ましい組み合わせは、水酸基の立体障害の観点からｔ−ブチルおよびｔ−ブチルである。好ましい組み合わせは、水酸基の速い反応性の観点からｔ−ブチルおよびメチルである。
【００４３】
式（１）において、環Ａは、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、１，４−フェニレン、またはナフタレン−２，６−ジイルであり、これらの基において、少なくとも１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、または−ＳｉＨ２−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ２ＣＨ２−は−ＣＨ＝ＣＨ−または−ＣＨ＝Ｎ−で置き換えられてもよく、これらの二価基において、少なくとも１つの水素は、フッ素、塩素、−Ｃ≡Ｎ、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、−ＣＨ２Ｆ、−ＯＣＦ３、−ＯＣＨＦ２、または−ＯＣＨ２Ｆで置き換えられてもよい。式（１）において、ｍ＝２のとき、２つの環Ａは同じであっても異なっていてもよい。
【００４４】
好ましい環Ａは、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、１，４−フェニレン、または少なくとも１つの水素がフッ素または塩素で置き換えられた１，４−フェニレンである。さらに好ましい環Ａは、１，４−シクロヘキシレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２−クロロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、または２，６−ジフルオロ−１，４−フェニレンである。特に好ましい環Ａは、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、または２−フルオロ−１，４−フェニレンである。
【００４５】
式（１）において、Ｚは、単結合または炭素数１から６のアルキレンであり、このアルキレンにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、または−ＳｉＨ２−で置き換えられてもよく、１つまたは２つの−ＣＨ２ＣＨ２−は−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、これらの二価基において、少なくとも１つの水素はフッ素または塩素で置き換えられてもよい。式（１）において、ｍ＝２のとき、２つのＺは同じであっても異なっていてもよい。
【００４６】
好ましいＺは、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＨ２ＣＦ２−、−ＣＨ２ＣＨＦ−、−ＣＨ２Ｓ−、または−ＳＣＨ２−である。さらに好ましいＺは、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、または−ＯＣＨ２−である。特に好ましいＺは、単結合または−ＣＨ２ＣＨ２−である。最も好ましいＺは単結合である。
【００４７】
式（１）において、ｍは０、１、または２である。ｍが０のときは合成が容易という観点から好ましい。この場合は、高い溶解度の観点からＲ１が長鎖であることが好ましい。好ましいｍは、１または２である。さらに好ましいｍは、高い溶解度の観点から１であり、低い蒸気圧の観点から２である。特に好ましいｍは２である。特に好ましいｍは、Ｒ１が長鎖であるとき、１である。
【００４８】
上記の好ましい例を参照しながら、末端基Ｒ１、側鎖基Ｒ２およびＲ３、環Ａ、結合基Ｚ、および添え字ｍの組み合わせを適切に選択することによって、目的とする特性を有する化合物（１）を得ることができる。化合物（１）の好ましい例は、項４に記載した化合物である。より具体的な例は項５に記載した化合物である。さらに具体的な例は項７に記載した化合物である。
【００４９】
２．化合物（１）の合成
【００５０】
本発明の化合物（１）の合成法を説明する。化合物（１）は、有機合成化学の方法を適切に組み合わせることにより合成することができる。出発物質に目的の末端基、環、または結合基を導入する方法は、フーベン−ヴァイル（Houben-Wyle, Methoden der Organische Chemie, Georg-Thieme Verlag, Stuttgart）、オーガニック・シンセシズ（Organic Syntheses, John Wily & Sons, Inc.）、オーガニック・リアクションズ（Organic Reactions, John Wily & Sons Inc.）、コンプリヘンシブ・オーガニック・シンセシス（Comprehensive Organic Synthesis, Pergamon Press）、新実験化学講座（丸善）などの成書に記載されている。
【００５１】
２−１．合成経路（Ａ）
下記の化合物（５）は、ジフルオロメトキシ基に隣接する環が１，４−シクロヘキシレンである。このような化合物は、次のような経路（Ａ）で合成することができる。
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【００５２】
２−２．合成経路（Ｂ）
下記の化合物（４）は、ジフルオロメトキシ基に隣接する環が１，４−フェニレンである。このような化合物は、次のような経路（Ｂ）で合成することができる。
0006728637.tif 000018
【００５３】
２−３．合成経路（Ｃ）
下記の化合物（４）は、ジフルオロメトキシ基に隣接する環が無い場合である。このような化合物は、次のような経路（Ｃ）で合成することができる。
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【００５４】
３．液晶組成物
本発明の液晶組成物は、化合物（１）を成分Ａとして含む。化合物（１）は、液晶組成物が光や熱によって分解されるのを防止するのに適している。この組成物は、化合物（１）を成分Ａとして含み、下に示す成分Ｂ、Ｃ、Ｄ、およびＥから選択された液晶化合物をさらに含むことが好ましい。成分Ｂは、化合物（２）から（４）である。成分Ｃは化合物（５）から（７）である。成分Ｄは、化合物（８）である。成分Ｅは、化合物（９）から（１５）である。この組成物は、化合物（２）から（１５）とは異なる、その他の液晶性化合物を含んでもよい。この組成物を調製するときには、正または負の誘電率異方性、誘電率異方性の大きさなどを考慮して成分Ｂ、Ｃ、Ｄ、およびＥを選択することが好ましい。成分を適切に選択した組成物は、高い上限温度、低い下限温度、小さな粘度、適切な光学異方性（すなわち、大きな光学異方性または小さな光学異方性）、正または負に大きな誘電率異方性、および適切な弾性定数（すなわち、大きな弾性定数または小さな弾性定数）を有する。
【００５５】
化合物（１）の好ましい割合は、紫外線に対して高い安定性を維持するために、液晶組成物の重量に基づいて約０．００１重量％以上であり、液晶組成物へ溶解させるために約５重量％以下である。さらに好ましい割合は約０．００５重量％から約２重量％の範囲である。特に好ましい割合は、約０．０１重量％から約１重量％の範囲である。最も好ましい割合は、約０．０１重量％から約０．５重量％の範囲である。
【００５６】
成分Ｂは、２つの末端基がアルキルなどである化合物である。成分Ｂの好ましい例として、化合物（２−１）から（２−１１）、化合物（３−１）から（３−１９）、および化合物（４−１）から（４−７）を挙げることができる。成分Ｂの化合物において、Ｒ１１およびＲ１２は独立して、炭素数１から１０のアルキルまたは炭素数２から１０のアルケニルであり、このアルキルまたはアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよい。
【００５７】
0006728637.tif 000020
【００５８】
成分Ｂは、誘電率異方性の絶対値が小さいので、中性に近い化合物である。化合物（２）は、主として粘度の減少または光学異方性の調整に効果がある。化合物（３）および（４）は、上限温度を高くすることによってネマチック相の温度範囲を広げる効果、または光学異方性の調整に効果がある。
【００５９】
成分Ｂの含有量を増加させるにつれて組成物の誘電率異方性が小さくなるが粘度は小さくなる。そこで、素子のしきい値電圧の要求値を満たす限り、含有量は多いほうが好ましい。ＩＰＳ、ＶＡなどのモード用の組成物を調製する場合には、成分Ｂの含有量は、液晶組成物の重量に基づいて、好ましくは３０重量％以上、さらに好ましくは４０重量％以上である。
【００６０】
成分Ｃは、右末端にハロゲンまたはフッ素含有基を有する化合物である。成分Ｃの好ましい例として、化合物（５−１）から（５−１６）、化合物（６−１）から（６−１１３）、化合物（７−１）から（７−５７）を挙げることができる。成分Ｃの化合物において、Ｒ１３は炭素数１から１０のアルキルまたは炭素数２から１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；Ｘ１１は、フッ素、塩素、−ＯＣＦ３、−ＯＣＨＦ２、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、−ＣＨ２Ｆ、−ＯＣＦ２ＣＨＦ２、または−ＯＣＦ２ＣＨＦＣＦ３である。
【００６１】
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【００６２】
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【００６３】
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【００６４】
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【００６５】
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【００６６】
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【００６７】
成分Ｃは、誘電率異方性が正であり、熱、光などに対する安定性が非常に優れているので、ＩＰＳ、ＦＦＳ、ＯＣＢなどのモード用の組成物を調製する場合に用いられる。成分Ｃの含有量は、液晶組成物の重量に基づいて１重量％〜９９重量％の範囲が適しており、好ましくは１０重量％〜９７重量％の範囲、さらに好ましくは４０重量％〜９５重量％の範囲である。成分Ｃを誘電率異方性が負である組成物に添加する場合、成分Ｃの含有量は液晶組成物の重量に基づいて３０重量％以下が好ましい。成分Ｃを添加することにより、組成物の弾性定数を調整し、素子の電圧−透過率曲線を調整することが可能となる。
【００６８】
成分Ｄは、右末端基が−Ｃ≡Ｎまたは−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｎである化合物（８）である。成分Ｄの好ましい例として、化合物（８−１）から（８−６４）を挙げることができる。成分Ｄの化合物において、Ｒ１４は炭素数１から１０のアルキルまたは炭素数２から１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；Ｘ１２は−Ｃ≡Ｎまたは−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｎである。
【００６９】
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【００７０】
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【００７１】
成分Ｄは、誘電率異方性が正であり、その値が大きいので、ＴＮなどのモード用の組成物を調製する場合に主として用いられる。この成分Ｄを添加することにより、組成物の誘電率異方性を大きくすることができる。成分Ｄは、液晶相の温度範囲を広げる、粘度を調整する、または光学異方性を調整する、という効果がある。成分Ｄは、素子の電圧−透過率曲線の調整にも有用である。
【００７２】
ＴＮなどのモード用の組成物を調製する場合には、成分Ｄの含有量は、液晶組成物の重量に基づいて１重量％〜９９重量％の範囲が適しており、好ましくは１０重量％〜９７重量％の範囲、さらに好ましくは４０重量％〜９５重量％の範囲である。成分Ｄを誘電率異方性が負である組成物に添加する場合、成分Ｄの含有量は液晶組成物の重量に基づいて３０重量％以下が好ましい。成分Ｄを添加することにより、組成物の弾性定数を調整し、素子の電圧−透過率曲線を調整することが可能となる。
【００７３】
成分Ｅは、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレンのように、ラテラル位が２つのハロゲンで置換されたフェニレンを有する。これらの化合物の好ましい例として、化合物（９−１）から（９−８）、化合物（１０−１）から（１０−１７）、化合物（１１−１）、化合物（１２−１）から（１２−３）、化合物（１３−１）から（１３−１１）、化合物（１４−１）から（１４−３）、および化合物（１５−１）から（１５−３）を挙げることができる。これらの化合物おいて、Ｒ１５およびＲ１６は独立して、炭素数１から１０のアルキルまたは炭素数２から１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；Ｒ１７は、水素、フッ素、炭素数１から１０のアルキル、または炭素数２から１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよい。
【００７４】
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【００７５】
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【００７６】
成分Ｅは、誘電率異方性が負に大きい。これらの化合物は、ＩＰＳ、ＶＡ、ＰＳＡなどのモード用の組成物を調製する場合に用いられる。これらの化合物の含有量を増加させるにつれて組成物の誘電率異方性が負に大きくなるが、粘度が大きくなる。そこで、素子のしきい値電圧の要求値を満たす限り、含有量は少ないほうが好ましい。誘電率異方性が−５程度であることを考慮すると、充分な電圧駆動をさせるには、含有量が４０重量％以上であることが好ましい。
【００７７】
これらの化合物のうち、化合物（９）は二環化合物であるので、主として、粘度の減少、光学異方性の調整、または誘電率異方性の増加に効果がある。化合物（１０）および（１１）は三環化合物であるので、上限温度を高くする、光学異方性を大きくする、または誘電率異方性を大きくするという効果がある。化合物（１２）から（１５）は、誘電率異方性を大きくするという効果がある。
【００７８】
ＩＰＳ、ＶＡ、ＰＳＡなどのモード用の組成物を調製する場合には、化合物（９）から（１５）の含有量は、液晶組成物の重量に基づいて、好ましくは４０重量％以上であり、さらに好ましくは５０重量％〜９５重量％の範囲である。化合物（９）から（１５）を誘電率異方性が正である組成物に添加する場合は、これらの化合物の含有量が液晶組成物の重量に基づいて３０重量％以下が好ましい。これらの化合物を添加することにより、組成物の弾性定数を調整し、素子の電圧−透過率曲線を調整することが可能となる。
【００７９】
以上に述べた成分Ｂ、Ｃ、Ｄ、およびＥを適切に組み合わせることによって、高い上限温度、低い下限温度、小さな粘度、適切な光学異方性、大きな誘電率異方性、適切な弾性定数、大きな比抵抗などの特性の少なくとも１つを充足する液晶組成物を調製することができる。必要に応じて、成分Ｂ、Ｃ、Ｄ、およびＥとは異なる液晶性化合物を添加してもよい。
【００８０】
液晶組成物の調製は、必要な成分化合物を室温よりも高い温度で溶解させるなどの方法により行われる。用途に応じて、この組成物に添加物を添加してよい。添加物の例は、重合性化合物、重合開始剤、重合禁止剤、光学活性化合物、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、熱安定剤、色素、消泡剤などである。このような添加物は当業者によく知られており、文献に記載されている。
【００８１】
ＰＳＡ（polymer sustained alignment）モードを有する液晶表示素子では、組成物が重合体を含有する。重合性化合物は、組成物中に重合体を生成させる目的で添加される。電極間に電圧を印加した状態で紫外線を照射して、重合性化合物を重合させることによって、組成物の中に重合体を生成させる。この方法によって、適切なプレチルトが得られるので、応答時間が短縮され、画像の焼き付きが改善された液晶表示素子が得られる。
【００８２】
重合性化合物の好ましい例は、アクリレート、メタクリレート、ビニル化合物、ビニルオキシ化合物、プロペニルエーテル、エポキシ化合物（オキシラン、オキセタン）、およびビニルケトンである。さらに好ましい例は、少なくとも１つのアクリロイルオキシを有する化合物および少なくとも１つのメタクリロイルオキシを有する化合物である。さらに好ましい例には、アクリロイルオキシとメタクリロイルオキシの両方を有する化合物も含まれる。
【００８３】
さらに好ましい例は、化合物（Ｍ−１）から（Ｍ−１６）である。これらの化合物において、Ｒ２５、Ｒ２６、Ｒ２７、およびＲ２８は独立して、水素またはメチルであり；ｓ、ｖ、およびｘは独立して、０または１であり；ｔおよびｕは独立して、１から１０の整数である。Ｌ２１、Ｌ２２、Ｌ２３、Ｌ２４、Ｌ２５、およびＬ２６は独立して、水素またはフッ素である。
【００８４】
0006728637.tif 000031
【００８５】
重合性化合物は、重合開始剤を添加することによって、速やかに重合させることができる。反応温度を最適化することによって、残存する重合性化合物の量を減少させることができる。光ラジカル重合開始剤の例は、ＢＡＳＦ社のダロキュアシリーズからＴＰＯ、１１７３、および４２６５であり、イルガキュアシリーズから１８４、３６９、５００、６５１、７８４、８１９、９０７、１３００、１７００、１８００、１８５０、および２９５９である。
【００８６】
光ラジカル重合開始剤の追加例は、４−メトキシフェニル−２，４−ビス（トリクロロメチル）トリアジン、２−（４−ブトキシスチリル）−５−トリクロロメチル−１，３，４−オキサジアゾール、９−フェニルアクリジン、９，１０−ベンズフェナジン、ベンゾフェノン／ミヒラーズケトン混合物、ヘキサアリールビイミダゾール／メルカプトベンズイミダゾール混合物、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２，４−ジエチルキサントン／ｐ−ジメチルアミノ安息香酸メチル混合物、ベンゾフェノン／メチルトリエタノールアミン混合物である。
【００８７】
液晶組成物に光ラジカル重合開始剤を添加した後、電場を印加した状態で紫外線を照射することによって重合を行うことができる。しかし、未反応の重合開始剤または重合開始剤の分解生成物は、素子に画像の焼き付きなどの表示不良を引き起こすかもしれない。これを防ぐために重合開始剤を添加しないまま光重合を行ってもよい。照射する光の好ましい波長は１５０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲である。さらに好ましい波長は２５０ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲であり、最も好ましい波長は３００ｎｍ〜４００ｎｍの範囲である。
【００８８】
重合性化合物を保管するとき、重合を防止するために重合禁止剤を添加してもよい。重合性化合物は、通常は重合禁止剤を除去しないまま組成物に添加される。重合禁止剤の例は、ヒドロキノン、メチルヒドロキノンのようなヒドロキノン誘導体、４−ｔ−ブチルカテコール、４-メトキシフェノ−ル、フェノチアジンなどである。
【００８９】
光学活性化合物は、液晶分子にらせん構造を誘起して必要なねじれ角を与えることによって逆ねじれを防ぐ、という効果を有する。光学活性化合物を添加することによって、らせんピッチを調整することができる。らせんピッチの温度依存性を調整する目的で２つ以上の光学活性化合物を添加してもよい。光学活性化合物の好ましい例として、下記の化合物（Ｏｐ−１）から（Ｏｐ−１８）を挙げることができる。化合物（Ｏｐ−１８）において、環Ｊは１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、Ｒ２８は炭素数１から１０のアルキルである。
【００９０】
0006728637.tif 000032
【００９１】
酸化防止剤は、大きな電圧保持率を維持するために有効である。酸化防止剤の好ましい例として、下記の化合物（ＡＯ−１）および（ＡＯ−２）；ＩＲＧＡＮＯＸ  ４１５、ＩＲＧＡＮＯＸ  ５６５、ＩＲＧＡＮＯＸ  １０１０、ＩＲＧＡＮＯＸ  １０３５、ＩＲＧＡＮＯＸ  ３１１４、およびＩＲＧＡＮＯＸ  １０９８（商品名：ＢＡＳＦ社）を挙げることができる。紫外線吸収剤は、上限温度の低下を防ぐために有効である。紫外線吸収剤の好ましい例は、ベンゾフェノン誘導体、ベンゾエート誘導体、トリアゾール誘導体などである。具体例として下記の化合物（ＡＯ−３）および（ＡＯ−４）；ＴＩＮＵＶＩＮ  ３２９、ＴＩＮＵＶＩＮ  Ｐ、ＴＩＮＵＶＩＮ  ３２６、ＴＩＮＵＶＩＮ  ２３４、ＴＩＮＵＶＩＮ  ２１３、ＴＩＮＵＶＩＮ  ４００、ＴＩＮＵＶＩＮ  ３２８、およびＴＩＮＵＶＩＮ  ９９−２（商品名：ＢＡＳＦ社）；および１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）を挙げることができる。
【００９２】
0006728637.tif 000033
【００９３】
化合物（ＡＯ−１）において、Ｒ３０は炭素数１から２０のアルキル、炭素数１から２０のアルコキシ、−ＣＯＯＲ３１、または−ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＲ３１であり、ここでＲ３１は炭素数１から２０のアルキルである。化合物（ＡＯ−２）において、Ｒ３２は炭素数１から２０のアルキルである。化合物（ＡＯ−５）において、Ｒ３２は炭素数１から２０のアルキルであり；Ｒ３３は水素、メチル、またはＯ・（酸素ラジカル）であり；環Ｇは１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり；ｚは、１、２、または３である。
【００９４】
立体障害のあるアミンのような光安定剤は、大きな電圧保持率を維持するために好ましい。光安定剤の好ましい例として、上記の化合物（ＡＯ−５）および（ＡＯ−６）；ＴＩＮＵＶＩＮ  １４４、ＴＩＮＵＶＩＮ  ７６５、およびＴＩＮＵＶＩＮ  ７７０ＤＦ（商品名：ＢＡＳＦ社）を挙げることができる。熱安定剤も大きな電圧保持率を維持するために有効であり、好ましい例としてＩＲＧＡＦＯＳ  １６８（商品名：ＢＡＳＦ社）を挙げることができる。ＧＨ（guest host）モードの素子に適合させるために、アゾ系色素、アントラキノン系色素などのような二色性色素（dichroic dye）が組成物に添加される。消泡剤は、泡立ちを防ぐために有効である。消泡剤の好ましい例は、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイルなどである。
【００９５】
４．液晶表示素子
液晶組成物は、ＰＣ、ＴＮ、ＳＴＮ、ＯＣＢ、ＰＳＡなどの動作モードを有し、アクティブマトリックス（ＡＭ方式）で駆動する液晶表示素子に使用できる。この組成物は、ＰＣ、ＴＮ、ＳＴＮ、ＯＣＢ、ＶＡ、ＩＰＳなどの動作モードを有し、パッシブマトリクス（ＰＭ）方式で駆動する液晶表示素子にも使用することができる。これらのＡＭ方式およびＰＭ方式の素子は、反射型、透過型、半透過型のいずれのタイプにも適用ができる。
【００９６】
この組成物は、ＮＣＡＰ（nematic curvilinear aligned phase）素子にも適しており、ここでは組成物がマイクロカプセル化されている。この組成物は、ポリマー分散型液晶表示素子（ＰＤＬＣＤ）や、ポリマーネットワーク液晶表示素子（ＰＮＬＣＤ）にも使用できる。これらの組成物においては、多量の液晶性化合物が添加される。一方、重合性化合物の添加量が液晶組成物の重量に基づいて約１０重量％以下であるとき、ＰＳＡモードの液晶表示素子が作製される。好ましい割合は約０．１重量％から約２重量％の範囲である。さらに好ましい割合は、約０．２重量％から約１．０重量％の範囲である。ＰＳＡモードの素子は、アクティブマトリックス、パッシブマトリクスのような駆動方式で駆動させることができる。このような素子は、反射型、透過型、半透過型のいずれのタイプにも適用ができる。
【実施例】
【００９７】
実施例（使用例を含む）により本発明をさらに詳しく説明する。本発明は、使用例１の組成物と使用例２の組成物との混合物を含む。本発明は、使用例の組成物の少なくとも２つを混合することによって調製した組成物をも含む。本発明はこれらの実施例によっては制限されない。
【００９８】
１．化合物（１）の実施例
化合物（１）は、合成例に示す手順により合成した。特に記載のないかぎり、反応は窒素雰囲気下で行った。合成した化合物は、ＮＭＲ分析などの方法により同定した。化合物の特性は、下記に記載した方法により測定した。
【００９９】
ＮＭＲ分析
測定には、ブルカーバイオスピン社製のＤＲＸ−５００を用いた。１Ｈ−ＮＭＲの測定では、試料をＣＤＣｌ３などの重水素化溶媒に溶解させ、室温で、５００ＭＨｚ、積算回数１６回の条件で測定した。テトラメチルシランを内部標準として用いた。１９Ｆ−ＮＭＲの測定では、ＣＦＣｌ３を内部標準として用い、積算回数２４回で行った。核磁気共鳴スペクトルの説明において、ｓはシングレット、ｄはダブレット、ｔはトリプレット、ｑはカルテット、ｑｕｉｎはクインテット、ｓｅｘはセクステット、ｍはマルチプレット、ｂｒはブロードであることを意味する。
【０１００】
ＧＣ分析
測定には、島津製作所製のＧＣ−２０１０型ガスクロマトグラフを用いた。カラムは、Agilent Technologies Inc.製のキャピラリカラムＤＢ−１（長さ６０ｍ、内径０．２５ｍｍ、膜厚０．２５μｍ）を用いた。キャリアーガスとしてはヘリウムを用い、流量は１ｍｌ／分に調整した。試料気化室の温度を３００℃、検出器（ＦＩＤ）部分の温度を３００℃に設定した。試料はアセトンに溶解して、１重量％の溶液となるように調製し、得られた溶液１μｌを試料気化室に注入した。記録計には島津製作所製のＧＣＳｏｌｕｔｉｏｎシステムなどを用いた。
【０１０１】
ＨＰＬＣ分析
測定には、島津製作所製のＰｒｏｍｉｎｅｎｃｅ（ＬＣ−２０ＡＤ；ＳＰＤ−２０Ａ）を用いた。カラムはワイエムシー製のＹＭＣ−Ｐａｃｋ  ＯＤＳ−Ａ（長さ１５０ｍｍ、内径４．６ｍｍ、粒子径５μｍ）を用いた。溶出液はアセトニトリルと水を適宜混合して用いた。検出器としてはＵＶ検出器、ＲＩ検出器、ＣＯＲＯＮＡ検出器などを適宜用いた。ＵＶ検出器を用いた場合、検出波長は２５４ｎｍとした。試料はアセトニトリルに溶解して、０．１重量％の溶液となるように調製し、この溶液１μＬを試料室に導入した。記録計としては島津製作所製のＣ−Ｒ７Ａｐｌｕｓを用いた。
【０１０２】
紫外可視分光分析
測定には、島津製作所製のＰｈａｒｍａＳｐｅｃ  ＵＶ−１７００用いた。検出波長は１９０ｎｍから７００ｎｍとした。試料はアセトニトリルに溶解して、０．０１ｍｍｏｌ／Ｌの溶液となるように調製し、石英セル（光路長１ｃｍ）に入れて測定した。
【０１０３】
測定試料
相構造および転移温度（透明点、融点、重合開始温度など）を測定するときには、化合物そのものを試料として用いた。ネマチック相の上限温度、粘度、光学異方性、誘電率異方性などの特性を測定するときには、化合物と母液晶との混合物を試料として用いた。
【０１０４】
測定方法
特性の測定は下記の方法で行った。これらの多くは、社団法人電子情報技術産業協会（ＪＥＩＴＡ；Japan Electronics and Information Technology Industries Association）で審議制定されるＪＥＩＴＡ規格（ＪＥＩＴＡ・ＥＤ−２５２１Ｂ）に記載された方法、またはこれを修飾した方法であった。測定に用いたＴＮ素子には、薄膜トランジスター（ＴＦＴ）を取り付けなかった。
【０１０５】
（１）  相構造
偏光顕微鏡を備えた融点測定装置のホットプレート（メトラー社ＦＰ−５２型ホットステージ）に試料を置き、３℃／分の速度で加熱しながら相状態とその変化を偏光顕微鏡で観察し、相の種類を特定した。
【０１０６】
（２）  転移温度（℃）
測定には、パーキンエルマー社製の走査熱量計、Ｄｉａｍｏｎｄ  ＤＳＣシステムまたはエスアイアイ・ナノテクノロジー社製の高感度示差走査熱量計、Ｘ−ＤＳＣ７０００を用いた。試料は、３℃／分の速度で昇降温し、試料の相変化に伴う吸熱ピークまたは発熱ピークの開始点を外挿により求め、転移温度を決定した。化合物の融点、重合開始温度もこの装置を使って測定した。化合物が固体からスメクチック相、ネマチック相などの液晶相に転移する温度を「液晶相の下限温度」と略すことがある。化合物が液晶相から液体に転移する温度を「透明点」と略すことがある。
【０１０７】
結晶はＣと表した。結晶の種類の区別がつく場合は、それぞれをＣ１、Ｃ２のように表した。スメクチック相はＳ、ネマチック相はＮと表した。スメクチック相の中で、スメクチックＡ相、スメクチックＢ相、スメクチックＣ相、またはスメクチックＦ相の区別がつく場合は、それぞれＳＡ、ＳＢ、ＳＣ、またはＳＦと表した。液体（アイソトロピック）はＩと表した。転移温度は、例えば、「Ｃ  ５０．０  Ｎ  １００．０  Ｉ」のように表記した。これは、結晶からネマチック相への転移温度が５０．０℃であり、ネマチック相から液体への転移温度が１００．０℃であることを示す。
【０１０８】
（３）  ネマチック相の上限温度（ＴＮＩまたはＮＩ；℃）
偏光顕微鏡を備えた融点測定装置のホットプレートに試料を置き、１℃／分の速度で加熱した。試料の一部がネマチック相から等方性液体に変化したときの温度を測定した。ネマチック相の上限温度を「上限温度」と略すことがある。試料が化合物（１）と母液晶との混合物であるときは、ＴＮＩの記号で示した。試料が化合物（１）と成分Ｂ、Ｃ、Ｄのような化合物との混合物であるときは、ＮＩの記号で示した。
【０１０９】
（４）  ネマチック相の下限温度（ＴＣ；℃）
ネマチック相を有する試料を０℃、−１０℃、−２０℃、−３０℃、および−４０℃のフリーザー中に１０日間保管したあと、液晶相を観察した。例えば、試料が−２０℃ではネマチック相のままであり、−３０℃では結晶またはスメクチック相に変化したとき、ＴＣを≦−２０℃と記載した。ネマチック相の下限温度を「下限温度」と略すことがある。
【０１１０】
（５）  粘度（バルク粘度；η；２０℃で測定；ｍＰａ・ｓ）
測定には、東京計器株式会社製のＥ型回転粘度計を用いた。
【０１１１】
（６）  光学異方性（屈折率異方性；２５℃で測定；Δｎ）
測定は、波長５８９ｎｍの光を用い、接眼鏡に偏光板を取り付けたアッベ屈折計により行なった。主プリズムの表面を一方向にラビングしたあと、試料を主プリズムに滴下した。屈折率（ｎ‖）は偏光の方向がラビングの方向と平行であるときに測定した。屈折率（ｎ⊥）は偏光の方向がラビングの方向と垂直であるときに測定した。光学異方性（Δｎ）の値は、Δｎ＝ｎ‖−ｎ⊥、の式から計算した。
【０１１２】
（７）  比抵抗（ρ；２５℃で測定；Ωｃｍ）
電極を備えた容器に試料１．０ｍＬを注入した。この容器に直流電圧（１０Ｖ）を印加し、１０秒後の直流電流を測定した。比抵抗は次の式から算出した。（比抵抗）＝｛（電圧）×（容器の電気容量）｝／｛（直流電流）×（真空の誘電率）｝。
【０１１３】
（８）  電圧保持率（ＶＨＲ−１；２５℃で測定；％）
測定に用いたＴＮ素子はポリイミド配向膜を有し、そして２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）は５μｍであった。この素子は試料を入れたあと紫外線で硬化する接着剤で密閉した。この素子にパルス電圧（５Ｖで６０マイクロ秒）を印加して充電した。減衰する電圧を高速電圧計で１６．７ミリ秒のあいだ測定し、単位周期における電圧曲線と横軸との間の面積Ａを求めた。面積Ｂは減衰しなかったときの面積であった。電圧保持率は面積Ｂに対する面積Ａの百分率で表した。
【０１１４】
（９）  電圧保持率（ＶＨＲ−２；８０℃で測定；％）
２５℃の代わりに、８０℃で測定した以外は、上記と同じ手順で電圧保持率を測定した。得られた結果をＶＨＲ−２の記号で示した。
【０１１５】
（１０）電圧保持率（ＶＨＲ−３；２５℃で測定；％）：紫外線を照射したあと、電圧保持率を測定し、紫外線に対する安定性を評価した。測定に用いたＴＮ素子はポリイミド配向膜を有し、そしてセルギャップは５μｍであった。この素子に試料を注入し、光を２０分間照射した。光源は超高圧水銀ランプＵＳＨ−５００Ｄ（ウシオ電機製）であり、素子と光源の間隔は２０ｃｍであった。ＶＨＲ−３の測定では、１６．７ミリ秒のあいだ減衰する電圧を測定した。大きなＶＨＲ−３を有する組成物は紫外線に対して大きな安定性を有する。ＶＨＲ−３は９０％以上が好ましく、９５％以上がより好ましい。
【０１１６】
（１１）電圧保持率（ＶＨＲ−４；２５℃で測定；％）：試料を注入したＴＮ素子を８０℃の恒温槽内で５００時間加熱したあと、電圧保持率を測定し、熱に対する安定性を評価した。ＶＨＲ−４の測定では、１６．７ミリ秒のあいだ減衰する電圧を測定した。大きなＶＨＲ−４を有する組成物は熱に対して大きな安定性を有する。
【０１１７】
誘電率異方性が正の試料と負の試料とでは、特性の測定法が異なることがある。誘電率異方性が正であるときの測定法は、項（１２ａ）から（１６ａ）に記載した。誘電率異方性が負の場合は、項（１２ｂ）から（１６ｂ）に記載した。
【０１１８】
（１２ａ）粘度（回転粘度；γ１；２５℃で測定；ｍＰａ・ｓ）
正の誘電率異方性：測定は、M. Imai et al., Molecular Crystals and Liquid Crystals, Vol. 259, 37 (1995) に記載された方法に従った。ツイスト角が０度であり、そして２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が５μｍであるＴＮ素子に試料を入れた。この素子に１６Ｖから１９．５Ｖの範囲で０．５Ｖ毎に段階的に印加した。０．２秒の無印加のあと、ただ１つの矩形波（矩形パルス；０．２秒）と無印加（２秒）の条件で印加を繰り返した。この印加によって発生した過渡電流（transient current）のピーク電流（peak current）とピーク時間（peak time）を測定した。これらの測定値とＭ．Ｉｍａｉらの論文、４０頁の計算式（８）とから回転粘度の値を得た。この計算で必要な誘電率異方性の値は、この回転粘度を測定した素子を用い、下に記載した方法で求めた。
【０１１９】
（１２ｂ）粘度（回転粘度；γ１；２５℃で測定；ｍＰａ・ｓ）
負の誘電率異方性：測定は、M. Imai et al., Molecular Crystals and Liquid Crystals, Vol. 259, 37 (1995) に記載された方法に従った。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が２０μｍのＶＡ素子に試料を入れた。この素子に３９ボルト〜５０ボルトの範囲で１ボルト毎に段階的に印加した。０．２秒の無印加のあと、ただ１つの矩形波（矩形パルス；０．２秒）と無印加（２秒）の条件で印加を繰り返した。この印加によって発生した過渡電流（transient current）のピーク電流（peak current）とピーク時間（peak time）を測定した。これらの測定値とＭ．Ｉｍａｉらの論文、４０頁の計算式（８）とから回転粘度の値を得た。この計算に必要な誘電率異方性は、下記の誘電率異方性の項で測定した値を用いた。
【０１２０】
（１３ａ）誘電率異方性（Δε；２５℃で測定）
正の誘電率異方性：２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が９μｍであり、そしてツイスト角が８０度であるＴＮ素子に試料を入れた。この素子にサイン波（１０Ｖ、１ｋＨｚ）を印加し、２秒後に液晶分子の長軸方向における誘電率（ε‖）を測定した。この素子にサイン波（０．５Ｖ、１ｋＨｚ）を印加し、２秒後に液晶分子の短軸方向における誘電率（ε⊥）を測定した。誘電率異方性の値は、Δε＝ε‖−ε⊥、の式から計算した。
【０１２１】
（１３ｂ）誘電率異方性（Δε；２５℃で測定）
負の誘電率異方性：誘電率異方性の値は、Δε＝ε‖−ε⊥、の式から計算した。誘電率（ε‖およびε⊥）は次のように測定した。
１）誘電率（ε‖）の測定：よく洗浄したガラス基板にオクタデシルトリエトキシシラン（０．１６ｍＬ）のエタノール（２０ｍＬ）溶液を塗布した。ガラス基板をスピンナーで回転させたあと、１５０℃で１時間加熱した。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が４μｍであるＶＡ素子に試料を入れ、この素子を紫外線で硬化する接着剤で密閉した。この素子にサイン波（０．５Ｖ、１ｋＨｚ）を印加し、２秒後に液晶分子の長軸方向における誘電率（ε‖）を測定した。
２）誘電率（ε⊥）の測定：よく洗浄したガラス基板にポリイミド溶液を塗布した。このガラス基板を焼成した後、得られた配向膜にラビング処理をした。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が９μｍであり、ツイスト角が８０度であるＴＮ素子に試料を入れた。この素子にサイン波（０．５Ｖ、１ｋＨｚ）を印加し、２秒後に液晶分子の短軸方向における誘電率（ε⊥）を測定した。
【０１２２】
（１４ａ）弾性定数（Ｋ；２５℃で測定；ｐＮ）
正の誘電率異方性：測定には横河・ヒューレットパッカード株式会社製のＨＰ４２８４Ａ型ＬＣＲメータを用いた。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が２０μｍである水平配向素子に試料を入れた。この素子に０ボルトから２０ボルト電荷を印加し、静電容量および印加電圧を測定した。測定した静電容量（Ｃ）と印加電圧（Ｖ）の値を「液晶デバイスハンドブック」（日刊工業新聞社）、７５頁にある式（２．９８）、式（２．１０１）を用いてフィッティングし、式（２．９９）からＫ１１およびＫ３３の値を得た。次に１７１頁にある式（３．１８）に、先ほど求めたＫ１１およびＫ３３の値を用いてＫ２２を算出した。弾性定数Ｋは、このようにして求めたＫ１１、Ｋ２２、およびＫ３３の平均値で表した。
【０１２３】
（１４ｂ）弾性定数（Ｋ１１およびＫ３３；２５℃で測定；ｐＮ）
負の誘電率異方性：測定には株式会社東陽テクニカ製のＥＣ−１型弾性定数測定器を用いた。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が２０μｍである垂直配向素子に試料を入れた。この素子に２０ボルトから０ボルト電荷を印加し、静電容量および印加電圧を測定した。静電容量（Ｃ）と印加電圧（Ｖ）の値を、「液晶デバイスハンドブック」（日刊工業新聞社）、７５頁にある式（２．９８）、式（２．１０１）を用いてフィッティングし、式（２．１００）から弾性定数の値を得た。
【０１２４】
（１５ａ）しきい値電圧（Ｖｔｈ；２５℃で測定；Ｖ）
正の誘電率異方性：測定には大塚電子株式会社製のＬＣＤ５１００型輝度計を用いた。光源はハロゲンランプであった。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が０．４５／Δｎ（μｍ）であり、ツイスト角が８０度であるノーマリーホワイトモード（normally white mode）のＴＮ素子に試料を入れた。この素子に印加する電圧（３２Ｈｚ、矩形波）は０Ｖから１０Ｖまで０．０２Ｖずつ段階的に増加させた。この際に、素子に垂直方向から光を照射し、素子を透過した光量を測定した。この光量が最大になったときが透過率１００％であり、この光量が最小であったときが透過率０％である電圧−透過率曲線を作成した。しきい値電圧は透過率が９０％になったときの電圧で表した。
【０１２５】
（１５ｂ）しきい値電圧（Ｖｔｈ；２５℃で測定；Ｖ）
負の誘電率異方性：測定には大塚電子株式会社製のＬＣＤ５１００型輝度計を用いた。光源はハロゲンランプであった。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が４μｍであり、ラビング方向がアンチパラレルであるノーマリーブラックモード（normally black mode）のＶＡ素子に試料を入れ、この素子を紫外線で硬化する接着剤を用いて密閉した。この素子に印加する電圧（６０Ｈｚ、矩形波）は０Ｖから２０Ｖまで０．０２Ｖずつ段階的に増加させた。この際に、素子に垂直方向から光を照射し、素子を透過した光量を測定した。この光量が最大になったときが透過率１００％であり、この光量が最小であったときが透過率０％である電圧−透過率曲線を作成した。しきい値電圧は透過率が１０％になったときの電圧で表した。
【０１２６】
（１６ａ）応答時間（τ；２５℃で測定；ｍｓ）
正の誘電率異方性：測定には大塚電子株式会社製のＬＣＤ５１００型輝度計を用いた。光源はハロゲンランプであった。ローパス・フィルター（Low-pass filter）は５ｋＨｚに設定した。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が５．０μｍであり、ツイスト角が８０度であるノーマリーホワイトモード（normally white mode）のＴＮ素子に試料を入れた。この素子に矩形波（６０Ｈｚ、５Ｖ、０．５秒）を印加した。この際に、素子に垂直方向から光を照射し、素子を透過した光量を測定した。この光量が最大になったときが透過率１００％であり、この光量が最小であったときが透過率０％であるとみなした。立ち上がり時間（τｒ：rise time；ミリ秒）は、透過率が９０％から１０％に変化するのに要した時間である。立ち下がり時間（τｆ：fall time；ミリ秒）は透過率１０％から９０％に変化するのに要した時間である。応答時間は、このようにして求めた立ち上がり時間と立ち下がり時間との和で表した。
【０１２７】
（１６ｂ）応答時間（τ；２５℃で測定；ｍｓ）
負の誘電率異方性：測定には大塚電子株式会社製のＬＣＤ５１００型輝度計を用いた。光源はハロゲンランプであった。ローパス・フィルター（Low-pass filter）は５ｋＨｚに設定した。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が３．２μｍであり、ラビング方向がアンチパラレルであるノーマリーブラックモード（normally black mode）のＰＶＡ素子に試料を入れた。この素子を紫外線で硬化する接着剤を用いて密閉した。この素子にしきい値電圧を若干超える程度の電圧を１分間印加し、次に５．６Ｖの電圧を印加しながら２３．５ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を８分間照射した。この素子に矩形波（６０Ｈｚ、１０Ｖ、０．５秒）を印加した。この際に、素子に垂直方向から光を照射し、素子を透過した光量を測定した。この光量が最大になったときが透過率１００％であり、この光量が最小であったときが透過率０％であるとみなした。応答時間は透過率９０％から１０％に変化するのに要した時間（立ち下がり時間；fall time；ミリ秒）で表した。
【０１２８】
［合成例１］
化合物（１−２−１）を、下記の合成スキームに従って合成した。
0006728637.tif 000034
【０１２９】
第１工程：化合物（Ｔ−１）の合成
水素化ホウ素ナトリウム（６．５ｇ、１７２ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２５０ｍＬ）に懸濁させた。２，６−ｔ−ブチルシクロヘキサ−２，５−ジエン−１，４−ジオン（５０ｇ、２２７ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２５０ｍＬ）溶液を２５℃で滴下し、さらに１時間攪拌した。反応終了後、反応混合物をアセトン（１００ｍＬ）と水（５００ｍＬ）の混合物に注ぎ、メチルｔ−ブチルエーテル（５００ｍＬ）を加えた。そのものを分液し、水層をメチルｔ−ブチルエーテル（５００ｍＬで２回）で抽出した。合わせた有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液（５００ｍＬ）および水（５００ｍＬ）にて洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮することにより、化合物（Ｔ−１）を淡黄色油状物として（４６ｇ、２０７ｍｍｏｌ）得た。
【０１３０】
第２工程：化合物（Ｔ−２）の合成
１，３−ジチアン（６１ｇ、５０７ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（４２０ｍＬ）に溶解させ、窒素雰囲気下−３０℃に冷却した。ｎ−ブチルリチウム（１．６モル／Ｌのヘキサン溶液、３５０ｍＬ、５６０ｍｍｏｌ）を、−３０℃に保ちながら滴下した後、−３０℃で１時間攪拌した。この混合物を−３０℃に保ちながらクロロトリメチルシラン（６６ｇ、６０８ｍｍｏｌ）を滴下した。−３０℃で１時間攪拌した後、２５℃まで昇温させた。反応混合物に１０％塩酸（５００ｍＬ）を加え、ヘキサン（５００ｍＬで３回）で抽出した。合わせた有機層を水（２００ｍＬで２回）で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮することにより、化合物（Ｔ−２）を淡黄色油状物（９０ｇ、４６８ｍｍｏｌ）として得た。
【０１３１】
第３工程：化合物（Ｔ−３）の合成
上記操作で得られた化合物（Ｔ−２）（９０ｇ、４６８ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（５００ｍＬ）に溶解させ、窒素雰囲気下で−１０℃に冷却した。ｎ−ブチルリチウム（１．６モル／Ｌのヘキサン溶液、３２７ｍＬ、５２３ｍｍｏｌ）を−１０℃に保ちながら滴下し、さらに−１０℃で１時間攪拌した。この混合物を−１０℃に保ちながら、４−ペンチルシクロヘキサ−１−オン（７３ｇ、４３４ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１００ｍＬ）溶液を滴下した。その後２５℃で１時間攪拌した。反応混合物に１０％塩酸（４００ｍＬ）を加え、ヘキサン（５００ｍＬで３回）で抽出した。合わせた有機層を水（２００ｍＬで２回）で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮した。再結晶（エタノール）により精製し、化合物（Ｔ−３）を淡黄色固体（１０６ｇ、３９２ｍｍｏｌ）として得た。
【０１３２】
第４工程：化合物（１−２−１）の合成
上記操作で得られた化合物（Ｔ−３）（３５ｇ、１２９ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（１５０ｍＬ）に溶解させ、窒素雰囲気下で０℃に冷却した。この溶液を０℃に保ちながらトリフルオロメタンスルホン酸（２０ｇ、１３３ｍｍｏｌ）を滴下し、さらに２５℃で１時間攪拌した。この混合物を−７０℃に冷却し、−７０℃を保ちながら化合物（Ｔ−１）（３２ｇ、１４４ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン（１９ｇ、１８８ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（６０ｍＬ）溶液を滴下した。−７０℃で２時間攪拌した後、−７０℃を保ちながらトリエチルアミン三フッ化水素酸塩（６９ｇ、４２８ｍｍｏｌ）を滴下し、さらに２０分間攪拌した。−７０℃を保ちながら臭素（６９ｇ、４３２ｍｍｏｌ）を滴下し、−７０℃で４０分間攪拌し、さらに２５℃で１時間攪拌した。反応混合物に飽和亜硫酸ナトリウム水溶液（３００ｍＬ）を加え分液した後、有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液（３００ｍＬ）、水（３００ｍＬ）で洗浄した。この溶液を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮した。カラムクロマトグラフィー（ヘキサン）および再結晶（エタノール／酢酸エチルで２回）により精製し、化合物（１−２−１）を無色針状結晶（８ｇ、１９ｍｍｏｌ）として得た。
【０１３３】
１Ｈ−ＮＭＲ（δｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：６．９４（ｓ，２Ｈ）、５．０５（ｓ，１Ｈ）、２．０６−１．９４（ｍ，３Ｈ）、１．８６（ｄ，Ｊ＝１２．１Ｈｚ，２Ｈ）、１．４２（ｓ，１８Ｈ）、１．４０−１．１８（ｍ，１１Ｈ）、０．９６−０．８６（ｍ，５Ｈ）．
１９Ｆ−ＮＭＲ（δｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：７８．４３（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，２Ｆ）．
【０１３４】
［合成例２］
化合物（１−３−１）を、合成例１に示した方法と同様にして合成した。出発原料として４’−プロピル−[１，１’−ビ（シクロヘキサ）]−４−ノン）を９６ｇ用いたところ、この化合物を無色針状結晶（１４ｇ）として得た。
0006728637.tif 000035
【０１３５】
１Ｈ−ＮＭＲ（δｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：６．９４（ｓ，２Ｈ）、５．０５（ｓ，１Ｈ）、２．０５（ｄ，Ｊ＝１１．０Ｈｚ，２Ｈ）、２．０１−１．９４（ｍ，１Ｈ）、１．８４（ｄ，Ｊ＝１１．０Ｈｚ，２Ｈ）、１．７４（ｔ，Ｊ＝１５．８Ｈｚ，４Ｈ）、１．４２（ｓ，１８Ｈ）、１．３７（ｄ，Ｊ＝１２．０Ｈｚ，２Ｈ）、１．３３−１．２８（ｍ，２Ｈ）、１．１４（ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，３Ｈ）、１．０６−０．９７（ｍ，６Ｈ）、０．８９−０．８４（ｍ，５Ｈ）．
１９Ｆ−ＮＭＲ（δｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：７８．４７（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｆ）．
【０１３６】
［合成例３］
化合物（１−２−１５）を、下記の合成スキームに従って合成した。
0006728637.tif 000036
【０１３７】
第１工程：化合物（Ｔ−１１）の合成
窒素雰囲気下、４−ペンチル安息香酸（８．０６ｇ、４１．９ｍｍｏｌ）、トルエン（４０ｍｌ）、および２，２，４−トリメチルペンタン（４０ｍｌ）を反応器に入れて、６０℃に加熱した。そこへプロパンジチオール（５．０ｇ、４５．８ｍｍｏｌ）を加え１時間撹拌したのち、トリフルオロメタンスルホン酸（１３．９ｇ、９２．３ｍｍｏｌ）をゆっくりと加え１時間撹拌した。続いて留出してくる水を除去しつつ、さらに２時間加熱還流を行った。反応混合物を室温まで冷却したのち、減圧下で濃縮し、残渣をｔ−ブチルメチルエーテルからの再結晶により精製して、化合物（Ｔ−１１）（７．２ｇ、１７．４ｍｍｏｌ；４１％）を得た。
【０１３８】
第２工程：化合物（１−２−１５）の合成
窒素雰囲気下、化合物（Ｔ−１）（５．０ｇ、２２．７ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（２．３ｇ、２３．０ｍｍｏｌ）、およびジクロロメタン（３０ｍｌ）を反応器に入れて、−７０℃に冷却した。そこへ化合物（Ｔ−１１）（７．２ｇ、１７．４ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（８０ｍｌ）溶液をゆっくりと加え１時間撹拌した。次にフッ化水素トリエチルアミン錯体（８．８ｇ、５４．５ｍｍｏｌ）をゆっくりと加え３０分間撹拌した。続いて臭素（１４．２ｇ、８８．８ｍｍｏｌ）をゆっくりと加えさらに１時間撹拌した。反応混合物を氷水に注ぎ込み、炭酸水素ナトリウムを用いて中和したのち、水層をジクロロメタンで抽出した。一緒にした有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘプタン）で精製して、化合物（１−２−１５）（０．７ｇ、１．７ｍｍｏｌ；１０％）を得た。
【０１３９】
１Ｈ−ＮＭＲ（δｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：７．６２（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，２Ｈ）、７．２６（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，２Ｈ）、７．２６（ｓ，２Ｈ）、５．０９（ｓ，１Ｈ）、２．６５（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ）、１．６６−１．５９（ｍ，２Ｈ）、１．４２（ｓ，１８Ｈ）、１．３６−１．２９（ｍ，４Ｈ）、０．９０（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，３Ｈ）．
１９Ｆ−ＮＭＲ（δｐｐｍ；ＣＦＣｌ３）：−６５．５７（ｓ，２Ｆ）．
【０１４０】
［合成例４］
化合物（１−３−３４）を、合成例３に示した方法と同様にして合成した。出発原料として２−フルオロ−４−（４−プロピルシクロヘキシル）安息香酸を用いたところ、この化合物を無色針状結晶（１．８ｇ）として得た。
0006728637.tif 000037
【０１４１】
１Ｈ−ＮＭＲ（δｐｐｍ；ＣＤＣｌ３）：７．５８（ｄｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，２Ｈ）、７．０７−６．９７（ｍ，４Ｈ）、５．０９（ｓ，１Ｈ）、２．５６−２．４５（ｍ，１Ｈ）、１．９３−１．８３（ｍ，４Ｈ）、１．４７−１．１８（ｍ，７Ｈ）、１．４２（ｓ，１８Ｈ）、１．１０−０．９９（ｍ，２Ｈ）、０．９０（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，２Ｈ）．
１９Ｆ−ＮＭＲ（δｐｐｍ；ＣＦＣｌ３）：−６５．５７（ｄ，Ｊ＝１３．５Ｈｚ，２Ｆ）、−１１５．２１２−−１１５．４２５（ｍ，１Ｆ）．
【０１４２】
合成例１から４に記載された実験操作と「２．化合物（１）の合成」とを参照することによって、以下に示す化合物（１−１−１）、（１−１−２）、（１−２−１）から（１−２−３５）、（１−３−１）から（１−３−６１）を合成することが可能である。
【０１４３】
0006728637.tif 000038
【０１４４】
0006728637.tif 000039
【０１４５】
0006728637.tif 000040
【０１４６】
0006728637.tif 000041
【０１４７】
0006728637.tif 000042
【０１４８】
0006728637.tif 000043
【０１４９】
0006728637.tif 000044
【０１５０】
0006728637.tif 000045
【０１５１】
0006728637.tif 000046
【０１５２】
0006728637.tif 000047
【０１５３】
0006728637.tif 000048
【０１５４】
［比較実験］
化合物（１）は酸化防止剤として有用である。この効果を調べるために、化合物（１）を液晶組成物Ａに添加した。この組成物を入れたＴＮ素子を作製し、電圧保持率（ＶＨＲ−２およびＶＨＲ−３）を測定した。測定法は上の項（９）と項（１０）に記載したとおりである。液晶組成物Ａの成分とその割合は以下のとおりである。記号による化合物の表記法は、表２を参照のこと。
【０１５５】
（液晶組成物Ａ）
３−ＨＨ−Ｖ                                      （２−１）          １８％
３−ＨＨ−４                                      （２−１）          １０％
３−ＨＢ−Ｏ２                                    （２−５）            ３％
４−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ      （７−４７）        １０％
５−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ      （７−４７）          ６％
３−ＨＨＢ−１                                    （３−１）            ６％
３−ＨＨＢ−３                                    （３−１）            ５％
３−ＨＨＢ−Ｏ１                                  （３−１）            ５％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ              （６−９７）        １４％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                          （６−３）            ９％
３−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                    （６−６９）          ７％
３−ＧＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                          （６−１０９）        ４％
３−ＨＨＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （６−１００）        ３％
【０１５６】
本発明の化合物として、化合物（１−２−１）と化合物（１−３−１）を選んだ。化合物の構造式を表１に記載した。比較の酸化防止剤としては、公知の化合物（ＢＨ７）を選んだ。この化合物は、国際公開第２０１４／１６２５８７号の実施例８で使われているからである。特開平９−１２４５２９号公報の実施例に記載された化合物（ＢＨ３Ｌ）も選んだ。各化合物を液晶組成物Ａに０．１０％の割合で添加した。この組成物をＴＮ素子に入れ、電圧保持率を測定した。結果を表１にまとめた。８０℃の温度で測定した電圧保持率はＶＨＲ−２で表した。この条件では、本発明の化合物と比較化合物のいずれも、電圧保持率は９９％であり、ほぼ同一であった。次に、紫外線処理したあと測定した。紫外線を２０分間照射したところ、電圧保持率（ＶＨＲ−３）のカラムに示したように、大きな差が見られた。比較化合物では、４．８％と６．３％のように電圧保持率が激減したが、化合物（１−２−１）と化合物（１−３−１）は、それぞれ４６．２％と４１．４％にとどまった。したがって、化合物（１−２−１）と化合物（１−３−１）は、比較化合物と比べて大きなＶＨＲ−３を有したので、紫外線に対して高い安定性を有すると結論できる。
【０１５７】
0006728637.tif 000049
【０１５８】
２．液晶組成物の実施例
実施例（使用例を含む）における化合物は、下記の表２の定義に基づいて記号により表した。表２において、１，４−シクロヘキシレンに関する立体配置はトランスである。実施例において記号の後にあるかっこ内の番号は化合物の番号に対応する。（−）の記号はその他の液晶性化合物を意味する。液晶性化合物の含有量（百分率）は、液晶組成物の重量に基づいた重量百分率（重量％）である。最後に、液晶組成物の特性値をまとめた。特性は、先に記載した方法にしたがって測定し、測定値を（外挿することなく）そのまま記載した。
【０１５９】
0006728637.tif 000050
【０１６０】
［使用例１］
３−ＨＢ−Ｏ２                                    （２−５）          １１％
５−ＨＢ−ＣＬ                                    （５−２）          １５％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                          （６−２４）          ７％
３−ＰｙＢ（Ｆ）−Ｆ                              （５−１５）        １０％
５−ＰｙＢ（Ｆ）−Ｆ                              （５−１５）        １０％
３−ＰｙＢＢ−Ｆ                                  （６−８０）        １０％
４−ＰｙＢＢ−Ｆ                                  （６−８０）          ９％
５−ＰｙＢＢ−Ｆ                                  （６−８０）          ９％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２                            （４−５）          １０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３                            （４−５）            ９％
上記の組成物に下記の化合物（１−２−１）を０．０８％の割合で添加した。
0006728637.tif 000051
ＮＩ＝９４．４℃；η＝３７．９ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．１８５；Δε＝７．８．
【０１６１】
［使用例２］
２−ＨＢ−Ｃ                                      （８−１）            ６％
３−ＨＢ−Ｃ                                      （８−１）          １０％
３−ＨＢ−Ｏ２                                    （２−５）          １５％
２−ＢＴＢ−１                                    （２−１０）          ４％
３−ＨＨＢ−Ｆ                                    （６−１）            ５％
３−ＨＨＢ−１                                    （３−１）            ７％
３−ＨＨＢ−Ｏ１                                  （３−１）            ５％
３−ＨＨＢ−３                                    （３−１）          １４％
３−ＨＨＥＢ−Ｆ                                  （６−１０）          ４％
５−ＨＨＥＢ−Ｆ                                  （６−１０）          ４％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                              （６−２）            ７％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                              （６−２）            ７％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                              （６−２）            ７％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                          （６−３）            ５％
上記の組成物に下記の化合物（１−３−１）を０．０５％の割合で添加した。
0006728637.tif 000052
ＮＩ＝９９．６℃；η＝１７．５ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．１０１；Δε＝４．５．
【０１６２】
［使用例３］
７−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                            （５−４）            ５％
３−ＨＢ−Ｏ２                                    （２−５）            ５％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                              （６−２）          １０％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                              （６−２）            ９％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                              （６−２）            ９％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ                              （６−２３）          ９％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ                              （６−２３）          ９％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ                              （６−２３）        １６％
２−ＨＢＢ−Ｆ                                    （６−２２）          ４％
３−ＨＢＢ−Ｆ                                    （６−２２）          ５％
５−ＨＢＢ−Ｆ                                    （６−２２）          ４％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                          （６−２４）          ５％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                          （６−２４）        １０％
上記の組成物に下記の化合物（１−２−１６）を０．０５％の割合で添加した。
0006728637.tif 000053
ＮＩ＝８３．６℃；η＝２５．３ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．１１５；Δε＝５．６．
【０１６３】
［使用例４］
５−ＨＢ−ＣＬ                                    （５−２）          １３％
３−ＨＨ−４                                      （２−１）          １５％
３−ＨＨ−５                                      （２−１）            ４％
３−ＨＨＢ−Ｆ                                    （６−１）            ４％
３−ＨＨＢ−ＣＬ                                  （６−１）            ３％
４−ＨＨＢ−ＣＬ                                  （６−１）            ４％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                              （６−２）          １０％
４−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                              （６−２）            ９％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                              （６−２）            ８％
７−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                              （６−２）            ９％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ                              （６−２３）          ４％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−５                              （４−１）            ３％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （７−６）            ３％
４−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （７−６）            ２％
５−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （７−６）            ３％
３−ＨＨ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                      （７−１５）          ３％
４−ＨＨ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                      （７−１５）          ３％
上記の組成物に下記の化合物（１−２−１）を０．１％の割合で添加した。
0006728637.tif 000054
ＮＩ＝１１７．０℃；η＝１９．２ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．０９０；Δε＝３．６．
【０１６４】
［使用例５］
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                          （６−３）          １０％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （６−１５）          ８％
４−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （６−１５）          ８％
５−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （６−１５）        １０％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                          （６−２４）        １９％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                          （６−２４）        ２０％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （６−２７）          ８％
５−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （７−６）            ４％
５−ＨＨＥＢＢ−Ｆ                                （７−１７）          ２％
３−ＨＨ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                      （７−１５）          ３％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−４                              （４−１）            ４％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−５                              （４−１）            ４％
上記の組成物に下記の化合物（１−３−１）を０．１％の割合で添加した。
0006728637.tif 000055
ＮＩ＝１００．３℃；η＝３５．３ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．１１５；Δε＝８．９．
【０１６５】
［使用例６］
５−ＨＢ−Ｆ                                      （５−２）          １２％
６−ＨＢ−Ｆ                                      （５−２）            ９％
７−ＨＢ−Ｆ                                      （５−２）            ７％
２−ＨＨＢ−ＯＣＦ３                              （６−１）            ７％
３−ＨＨＢ−ＯＣＦ３                              （６−１）            ８％
４−ＨＨＢ−ＯＣＦ３                              （６−１）            ７％
５−ＨＨＢ−ＯＣＦ３                              （６−１）            ３％
３−ＨＨ２Ｂ−ＯＣＦ３                            （６−４）            ４％
５−ＨＨ２Ｂ−ＯＣＦ３                            （６−４）            ４％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−ＯＣＦ２Ｈ                  （６−３）            ５％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−ＯＣＦ３                    （６−３）            ５％
３−ＨＨ２Ｂ（Ｆ）−Ｆ                            （６−５）            ３％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ                              （６−２３）        １０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ                              （６−２３）        １０％
５−ＨＢＢＨ−３                                  （４−１）            ３％
３−ＨＢ（Ｆ）ＢＨ−３                            （４−２）            ３％
上記の組成物に下記の化合物（１−２−１６）を０．１％の割合で添加した。
0006728637.tif 000056
ＮＩ＝８４．９℃；η＝１５．２ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．０９２；Δε＝４．６．
【０１６６】
［使用例７］
５−ＨＢ−ＣＬ                                    （５−２）          １１％
３−ＨＨ−４                                      （２−１）            ８％
３−ＨＨＢ−１                                    （３−１）            ６％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                          （６−３）            ８％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                          （６−２４）        １９％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                          （６−２４）        １５％
３−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （６−１２）        １０％
４−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （６−１２）          ４％
５−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （６−１２）          ４％
２−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （６−３９）          ４％
３−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （６−３９）          ４％
５−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （６−３９）          ３％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （７−６）            ４％
上記の組成物に下記の化合物（１−２−１）を０．０５％の割合で添加した。
0006728637.tif 000057
ＮＩ＝７９．２℃；η＝２１．７ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．１０１；Δε＝８．６．
【０１６７】
［使用例８］
３−ＨＢ−ＣＬ                                    （５−２）            ５％
５−ＨＢ−ＣＬ                                    （５−２）            ５％
３−ＨＨＢ−ＯＣＦ３                              （６−１）            ５％
３−Ｈ２ＨＢ−ＯＣＦ３                            （６−１３）          ５％
５−Ｈ４ＨＢ−ＯＣＦ３                            （６−１９）        １５％
Ｖ−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                              （６−２）            ５％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                              （６−２）            ６％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                              （６−２）            ６％
３−Ｈ４ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−ＣＦ３                    （６−２１）          ８％
５−Ｈ４ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−ＣＦ３                    （６−２１）        １０％
５−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （６−１５）          ５％
５−Ｈ４ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （６−２１）          ７％
２−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ                            （６−２６）          ５％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ                            （６−２６）          ８％
３−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （６−３９）          ５％
上記の組成物に下記の化合物（１−３−１）を０．０８％の割合で添加した。
0006728637.tif 000058
ＮＩ＝７０．５℃；η＝２５．３ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．０９６；Δε＝８．３．
【０１６８】
［使用例９］
５−ＨＢ−ＣＬ                                    （５−２）          ２０％
３−ＨＨ−４                                      （２−１）          １０％
３−ＨＨ−５                                      （２−１）            ５％
３−ＨＢ−Ｏ２                                    （２−５）          １５％
３−ＨＨＢ−１                                    （３−１）            ８％
３−ＨＨＢ−Ｏ１                                  （３−１）            ５％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                              （６−２）            ７％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                              （６−２）            ７％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                              （６−２）            ７％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                          （６−３）            ６％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （６−１５）          ５％
４−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （６−１５）          ５％
上記の組成物に下記の化合物（１−２−１６）を０．０６％の割合で添加した。
0006728637.tif 000059
ＮＩ＝７３．１℃；η＝１３．０ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．０７６；Δε＝２．８．
【０１６９】
［使用例１０］
５−ＨＢ−ＣＬ                                    （５−２）            ５％
７−ＨＢ（Ｆ）−Ｆ                                （２−１）            ５％
３−ＨＨ−４                                      （２−１）          １１％
３−ＨＨ−ＥＭｅ                                  （２−２）          １０％
３−ＨＨＥＢ−Ｆ                                  （６−１０）          ９％
５−ＨＨＥＢ−Ｆ                                  （６−１０）        １０％
３−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （６−１２）        １０％
４−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （６−１２）          ６％
４−ＨＧＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                          （６−１０３）        ６％
５−ＨＧＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                          （６−１０３）        ７％
２−Ｈ２ＧＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （６−１０６）        ６％
３−Ｈ２ＧＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （６−１０６）        ６％
５−ＧＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                          （６−１０９）        ９％
上記の組成物に下記の化合物（１−２−１）を０．１２％の割合で添加した。
0006728637.tif 000060
ＮＩ＝８０．４℃；η＝２２．４ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．０６４；Δε＝６．７．
【０１７０】
［使用例１１］
３−ＨＢ−Ｏ１                                    （２−５）          １５％
３−ＨＨ−４                                      （２−１）            ６％
３−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                      （９−１）          １０％
５−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                      （９−１）          １０％
２−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−１                      （１０−１）        １３％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−１                      （１０−１）        １３％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                    （１０−１）        １４％
５−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                    （１０−１）        １５％
３−ＨＨＢ−１                                    （３−１）            ４％
上記の組成物に下記の化合物（１−３−１）を０．１２％の割合で添加した。
0006728637.tif 000061
ＮＩ＝９０．５℃；η＝３５．７ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．０９０；Δε＝−３．４．
【０１７１】
［使用例１２］
２−ＨＨ−５                                      （２−１）            ５％
３−ＨＨ−４                                      （２−１）          １５％
３−ＨＨ−５                                      （２−１）            ４％
３−ＨＢ−Ｏ２                                    （２−５）          １０％
３−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                    （９−４）          １３％
５−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                    （９−４）          １４％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３ＣＬ）−Ｏ２                  （１０−１２）        ５％
２−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                    （１０−７）          ４％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                    （１０−７）        １０％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                    （１０−７）        １０％
３−ＨＨＢ−１                                    （３−１）            ３％
３−ＨＨＢ−３                                    （３−１）            ４％
３−ＨＨＢ−Ｏ１                                  （３−１）            ３％
上記の組成物に下記の化合物（１−２−１６）を０．１％の割合で添加した。
0006728637.tif 000062
ＮＩ＝７９．９℃；η＝１９．９ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．０９５；Δε＝−４．０．
【０１７２】
［使用例１３］
２−ＨＨ−３                                      （２−１）          ２０％
３−ＨＨ−４                                      （２−１）            ８％
１−ＢＢ−３                                      （２−８）            ８％
３−ＨＢ−Ｏ２                                    （２−５）            ４％
３−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                      （９−３）            ９％
５−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                      （９−３）            ７％
２−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                （１０−５）        １５％
３−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                （１０−５）        １８％
３−ＨＨＢ−１                                    （３−１）            ５％
３−ＨＨＢ−Ｏ１                                  （３−１）            ３％
５−Ｂ（Ｆ）ＢＢ−２                              （３−８）            ３％
上記の組成物に下記の化合物（１−２−１）を０．０７％の割合で添加した。
0006728637.tif 000063
ＮＩ＝７３．６℃；η＝１５．９ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．１００；Δε＝−３．２．
【０１７３】
［使用例１４］
２−ＨＨ−３                                      （２−１）          ２０％
７−ＨＢ−１                                      （２−５）            ８％
５−ＨＢ−Ｏ２                                    （２−５）            ８％
３−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                      （９−１）          １６％
５−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                      （９−１）          １５％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３ＣＬ）−Ｏ２                  （１０−１２）        ３％
４−ＨＨＢ（２Ｆ，３ＣＬ）−Ｏ２                  （１０−１２）        ３％
５−ＨＨＢ（２Ｆ，３ＣＬ）−Ｏ２                  （１０−１２）        ３％
３−ＨＨ１ＯＣｒｏ（７Ｆ，８Ｆ）−５              （１３−６）          ５％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２                            （４−５）          １０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３                            （４−５）            ９％
上記の組成物に下記の化合物（１−３−１）を０．０９％の割合で添加した。
0006728637.tif 000064
ＮＩ＝７６．０℃；η＝２２．２ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．１００；Δε＝−２．４．
【０１７４】
［使用例１５］
１−ＢＢ−３                                      （２−８）          １２％
３−ＨＨ−Ｖ                                      （２−１）          ２７％
３−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                      （９−３）          １２％
２−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                （１０−５）        １３％
３−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                （１０−５）        ２２％
３−ＨＨＢ−１                                    （３−１）            ７％
５−Ｂ（Ｆ）ＢＢ−２                              （３−８）            ７％
上記の組成物に下記の化合物（１−２−１６）を０．０５％の割合で添加した。
0006728637.tif 000065
ＮＩ＝７６．１℃；η＝１４．８ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．１１０；Δε＝−３．０．
【０１７５】
［使用例１６］
２−ＨＨ−３                                      （２−１）            ６％
３−ＨＨ−Ｖ１                                    （２−１）          １０％
１Ｖ２−ＨＨ−１                                  （２−１）            ８％
１Ｖ２−ＨＨ−３                                  （２−１）            ７％
３−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                      （９−３）            ８％
５−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                      （９−３）            ４％
３−Ｈ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                  （９−５）            ７％
２−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                （１０−５）          ９％
３−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                （１０−５）        １７％
３−ＨＤｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                  （１０−３）          ８％
３−ＨＨＢ−１                                    （３−１）            ４％
３−ＨＨＢ−３                                    （３−１）            ３％
２−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）Ｂ−３                      （１１−１）          ９％
上記の組成物に下記の化合物（１−２−１）を０．１％の割合で添加した。
0006728637.tif 000066
ＮＩ＝８５．７η＝２１．２ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．１０５；Δε＝−４．４．
【０１７６】
［使用例１７］
１Ｖ２−ＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｃ                      （８−１５）          ６％
３−ＨＢ−Ｃ                                      （８−１）          １８％
２−ＢＴＢ−１                                    （２−１０）        １０％
５−ＨＨ−ＶＦＦ                                  （２−１）          ３０％
３−ＨＨＢ−１                                    （３−１）            ４％
ＶＦＦ−ＨＨＢ−１                                （３−１）            ８％
ＶＦＦ２−ＨＨＢ−１                              （３−１）            ９％
３−Ｈ２ＢＴＢ−２                                （３−１７）          ５％
３−Ｈ２ＢＴＢ−３                                （３−１７）          ５％
３−Ｈ２ＢＴＢ−４                                （３−１７）          ５％
上記の組成物に下記の化合物（１−３−１）を０．１％の割合で添加した。
0006728637.tif 000067
ＮＩ＝８１．８℃；η＝１１．８ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．１３２；Δε＝６．５．
【０１７７】
［使用例１８］
５−ＨＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ      （７−４１）          ４％
３−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ      （７−４７）          ４％
４−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ      （７−４７）          ５％
５−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ      （７−４７）          ５％
３−ＨＨ−Ｖ                                      （２−１）          ４１％
３−ＨＨ−Ｖ１                                    （２−１）            ７％
３−ＨＨＥＨ−５                                  （３−１３）          ３％
３−ＨＨＢ−１                                    （３−１）            ４％
Ｖ−ＨＨＢ−１                                    （３−１）            ５％
Ｖ２−ＢＢ（Ｆ）Ｂ−１                            （３−６）            ５％
１Ｖ２−ＢＢ−Ｆ                                  （５−１）            ３％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ              （６−９７）        １１％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （７−６）            ３％
上記の組成物に下記の化合物（１−２−１６）を０．１％の割合で添加した。
0006728637.tif 000068
ＮＩ＝８２．０℃；η＝１２．１ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．１０６；Δε＝６．４．
【０１７８】
［使用例１９］
３−ＧＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ      （７−５３）          ５％
３−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ      （７−４７）          ３％
４−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ      （７−４７）          ７％
５−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ      （７−４７）          ３％
３−ＨＨ−Ｖ                                      （２−１）          ４１％
３−ＨＨ−Ｖ１                                    （２−１）            ６％
３−ＨＨＥＨ−５                                  （３−１３）          ４％
３−ＨＨＢ−１                                    （３−１）            ４％
Ｖ−ＨＨＢ−１                                    （３−１）            ５％
Ｖ２−ＢＢ（Ｆ）Ｂ−１                            （３−６）            ５％
１Ｖ２−ＢＢ−Ｆ                                  （５−１）            ３％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ              （６−９７）          ５％
３−ＧＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ              （６−１１３）        ４％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （７−６）            ５％
上記の組成物に下記の化合物（１−２−１）を０．１２％の割合で添加した。
0006728637.tif 000069
ＮＩ＝８６．０℃；η＝１４．１ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．１０４；Δε＝７．０．
【０１７９】
［使用例２０］
５−ＨＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ      （７−４１）          ５％
３−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ      （７−４７）          ３％
４−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ      （７−４７）          ７％
５−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ      （７−４７）          ３％
３−ＨＨ−Ｖ                                      （２−１）          ４１％
３−ＨＨ−Ｖ１                                    （２−１）            ７％
３−ＨＨＢ−１                                    （３−１）            ４％
Ｖ−ＨＨＢ−１                                    （３−１）            ５％
Ｖ２−ＨＨＢ−１                                  （３−１）            ３％
Ｖ２−ＢＢ（Ｆ）Ｂ−１                            （３−６）            ５％
１Ｖ２−ＢＢ−Ｆ                                  （５−１）            ３％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ              （６−９７）        １１％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （７−６）            ３％
上記の組成物に下記の化合物（１−２−１５）を０．１５％の割合で添加した。
0006728637.tif 000070
ＮＩ＝８２．０℃；η＝１０．９ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．１０７；Δε＝６．４．
【０１８０】
［使用例２１］
３−ＧＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ      （７−５３）          ５％
３−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ      （７−４７）          ３％
４−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ      （７−４７）          ７％
５−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ      （７−４７）          ３％
３−ＨＨ−Ｖ                                      （２−１）          ４１％
３−ＨＨ−Ｖ１                                    （２−１）            ７％
３−ＨＨＢ−１                                    （３−１）            ４％
Ｖ−ＨＨＢ−１                                    （３−１）            ５％
Ｖ２−ＨＨＢ−１                                  （３−１）            ３％
Ｖ２−ＢＢ（Ｆ）Ｂ−１                            （３−６）            ５％
１Ｖ２−ＢＢ−Ｆ                                  （５−１）            ３％
３−ＨＨＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （６−１００）        ５％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ              （６−９７）          ６％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （７−６）            ３％
上記の組成物に下記の化合物（１−３−３４）を０．１％の割合で添加した。
0006728637.tif 000071
ＮＩ＝８６．３℃；η＝１１．２ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．１０５；Δε＝６．６．
【産業上の利用可能性】
【０１８１】
本発明の化合物は、酸化防止剤として有用である。この化合物を含有する液晶組成物は、上限温度、下限温度、小さな粘度、適切な光学異方性、正または負に大きな誘電率異方性、大きな比抵抗、紫外線に対する高い安定性、熱に対する高い安定性、大きな弾性定数などの特性において、少なくとも１つの特性を充足する、または少なくとも２つの特性のあいだで適切なバランスを有する。この組成物を含有する液晶表示素子は、短い応答時間、大きな電圧保持率、低いしきい値電圧、大きなコントラスト比、長い寿命などの特性を有するので、液晶プロジェクター、液晶テレビなどに用いることができる。