(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の工程を有する、基板、異方性を有する偏光層及び保護層を含む光学素子の製造方法。
(I）基板に異方性を有する偏光層形成用組成物を連続塗布して異方性を有する偏光層を形成し、次いで前記異方性を有する偏光層を塩交換によって不溶化処理する工程。
(II）前記不溶化処理した異方性を有する偏光層上に、感光性樹脂組成物を連続塗布して保護層を形成する工程。
(III）露光及び現像液による現像により、前記保護層をパターニングする工程。
(IV）保護層が現像除去されて露出した部分の異方性を有する偏光層を、酸性水溶液又はアルカリ性水溶液に接触後、水洗する工程。
【請求項２】
前記現像液が、有機溶剤を８０容量％以上含有してなるものである、請求項１に記載の光学素子の製造方法。
【請求項３】
前記感光性樹脂組成物が熱可塑性樹脂を含むものである、請求項１又は２に記載の光学素子の製造方法。
【請求項４】
前記異方性を有する偏光層の膜厚が、保護層の膜厚以下である、請求項１乃至３の何れか１項に記載の光学素子の製造方法
【請求項５】
前記(IV）工程において、異方性を有する偏光層は保護層の輪郭部と同位置又は輪郭部より内側まで浸食させることを含む、請求項１乃至４の何れか１項に記載の光学素子の製造方法。
【請求項６】
さらに、以下工程を有するものである、請求項１乃至３の何れか１項に記載の光学素子の製造方法。
(Ｖ）前記パターニングされた保護層を、加熱によりメルトフローさせる工程。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置等に用いる光学素子に関し、詳しくは基板上に形成する異方性を有する光学膜及びその保護層を含む光学素子の製造方法に存する。
【背景技術】
【０００２】
ＬＣＤ（液晶表示ディスプレイ）では、表示における旋光性や複屈折性を制御するために直線偏光板や円偏光板が用いられている。ＯＬＥＤ（有機ＥＬ素子）においても、外光の反射防止のために円偏光板が使用されている。従来、これらの偏光板には、ヨウ素や二色性を有する有機色素をポリビニルアルコール等の高分子材料に溶解又は吸着させ、その膜を一方向にフィルム状に延伸して二色性色素を配向させることにより得られる偏光板が広く使用されてきた。しかしながら、このようにして製造される従来の偏光板では、用いる色素や高分子材料によっては耐熱性や耐光性が十分でない、液晶装置製造時における偏光板の貼り合せの歩留まりが悪い等の問題があった。
【０００３】
一方、ガラスや透明フィルム等の基材上に二色性色素を含む溶液を、剪断力を加えつつ塗布することにより、二色性色素を配向させて異方性を有する光学膜を製造する方法が検討されている（特許文献１〜７参照）。
【０００４】
特許文献８には、二色性色素の水溶液をインキとして用い、得られた膜を直接又は間接的にセルの内側に印刷して偏光層を形成する方法が示されている。不溶化後の偏光層上にポリイミドの液晶用配向膜をフレキソ印刷でパターン形成・焼成し、その後のエッチング・リンスにより偏光層を溶かし出して除去したことが示されている。偏光層はガラス基板の内側にあり、ガラス基板により保護されるため、偏光層に傷をつきにくくするためのハードコート処理や静電気の帯電防止処理等が不要になることが示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特表平８−５１１１０９号公報
【特許文献２】特開２００２−２７７６３６号公報
【特許文献３】特開２００７−２７２２１１号公報
【特許文献４】特開２００７−１８６４２８号公報
【特許文献５】特開２００８−６９３００号公報
【特許文献６】特表２００１−５０４２３８号公報
【特許文献７】特開２００６−４８０７８号公報
【特許文献８】特表２００４−５３４２８３号公報
【特許文献９】特開２００８−２３３８１９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
異方性を有する光学膜を含む表示装置を製造するに当たり、１枚の基板母材から複数個の液晶セル用の基板を切り出す方法が用いられている。この場合、異方性を有する光学膜は所定のパターンに形状化したものを基板上に複数形成し、これを各々分割して基板として用いることが多い。 また、基板の内面側に異方性を有する光学膜を備えたIn-Cell型の液晶表示装置として用いる場合は、異方性を有する光学膜は、予め電極やカラーフィルター等の液晶セル内に設けられる各層が基板に積層された後、基板に対して凸状となった部分（段差構造部分）に形成することになる。
しかしながら、特許文献１〜７等に記載の方法を用いて基板母材全体に、二色性色素を含む溶液を塗布する場合、上述した段差構造以外の部分つまり、塗布不要の部分にまで塗布するため、塗布後、不要部分を除去する作業が必要であった。
【０００７】
１枚の基板母材から複数個の液晶セル用の基板を切り出す方法として、例えば間欠塗布方法を用いて前記の段差構造のみを選択して、異方性を有する光学膜形成用組成物を塗布することも考えられる。しかし、基板母材上に複数設けられた段差構造の間隔が短いと、異方性を有する光学膜形成用組成物の吐出制御が難しく塗布欠陥が生じ、光学的に均質な異方性を有する光学膜、ひいては光学的に均質な光学素子が得られないという問題がある。
【０００８】
一方、異方性を有する光学膜は、水や溶剤からの影響を受けやすく、異方性を有する光学膜の欠損等が発生する傾向にある。これらを抑制するために、異方性を有する光学膜を不溶化し、保護層を設けることが従来なされてきた。しかし、基板上に積層された異方性を有する光学膜や保護層を、異方性を有する光学膜の剥離等の欠損を抑制しながら所定のパターンに形状化するパターニングの検討は十分になされていなかった。
より詳細には、異方性を有する光学膜及び保護層はそれぞれ特性が異なるため、例えば異方性を有する光学膜及び保護層の不要部分を一度に溶解させてパターニングする場合、これらの溶解領域を制御し、所望の形状にすることが困難であることを本発明者は見出した。
【０００９】
特許文献８では、偏光層（異方性を有する光学膜）上に、ポリイミド樹脂の液晶用配向膜をフレキソ印刷することでパターン形成・焼成している。本発明者は、異方性を有する光学膜は不溶化後においてもポリイミドの溶媒（ＮＭＰ等）に溶解し易く、異方性を有する光学膜の溶解、剥離等や偏光機能の低下が発生することを見出した。
また本発明者は、特許文献８に記載の方法を用いる場合、パターン形成後、ポリイミドをイミド化するために高温での焼成が必要であり、異方性を有する光学膜、基板等に影響を与えることも見出した。これは、ポリイミド樹脂として紫外線硬化型ポリイミドを塗布した場合であっても、３００℃程度のイミド化工程が必要（特許文献９）となるため同様の問題を有する。
【００１０】
本発明は、前記のような技術的課題を解決するためになされたものであって、その目的とするところは、塗布欠陥がなく、均質な異方性を有する光学膜及び保護層を容易にパターニングすることができ、異方性を有する光学膜形成後の製造工程で用いられる水や溶剤の影響を受けない光学素子の製造方法を提供することにある。また、異方性を有する光学膜の剥離が発生しない光学素子の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者らは、前記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、光学素子の製造方法において、不溶化後の異方性を有する光学膜と保護層を、特定の方法を用いて別々にパターニングすることにより前記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明の要旨は以下の通りである。
[１]以下の工程を有する、基板、異方性を有する光学膜及び保護層を含む光学素子の製造方法。
(I）基板に異方性を有する光学膜形成用組成物を連続塗布して異方性を有する光学膜を形成し、次いで前記異方性を有する光学膜を塩交換によって不溶化処理する工程。
(II）前記不溶化処理した異方性を有する光学膜上に、感光性樹脂組成物を連続塗布して保護層を形成する工程。
(III）露光及び現像液による現像により、前記保護層をパターニングする工程。
(IV）保護層が現像除去されて露出した部分の異方性を有する光学膜を、酸性水溶液又はアルカリ性水溶液に接触後、水洗する工程。
[２]前記現像液が、有機溶剤を８０容量％以上含有してなるものである、[１]に記載の光学素子の製造方法。
[３]前記感光性樹脂組成物が熱可塑性樹脂を含むものである、[１]又は[２]に記載の光学素子の製造方法。
[４]前記異方性を有する光学膜の膜厚が、保護層の膜厚以下である、[１]乃至[３]の何れか１に記載の光学素子の製造方法
[５]前記(IV）工程において、異方性を有する光学膜は保護層の輪郭部と同位置又は輪郭部より内側まで浸食させることを含む、[１]乃至[４]の何れか１に記載の光学素子の製造方法。
[６]さらに、以下工程を有するものである、[１]乃至[５]の何れか１に記載の光学素子の製造方法。
(Ｖ）前記パターニングされた保護層を、加熱によりメルトフローさせる工程。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の光学素子の製造方法によれば、塗布欠陥がなく、均質な異方性を有する光学膜及び保護層を容易にパターニングすることができる。また、異方性を有する光学膜形成後の製造工程で用いられる水や溶剤の影響を受けず、異方性を有する光学膜の溶解、剥離等の発生、偏光機能の損失を抑制することができる。
従って、特に異方性を有する光学膜形成後に配向膜形成用の溶媒（Ｎ―メチルピロリドン）や洗浄溶媒である水を用いるプロセスを有する光学素子を１枚の基板母材から複数個に区画して分割した基板を切り出すにあたり有用である。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】（IV）工程の保護層が現像除去されて露出した異方性を有する光学膜の部分を表す概略図である。
【図２】本発明の異方性を有する光学膜のパターニングにおいて、異方性を有する光学膜を浸食させた状態を表す概略図である。
【図３】保護層をメルトフローさせた状態を表す概略図である。
【図４】実施例２で得られた光学素子の偏光性能を示す写真である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下に本発明を実施するための代表的な態様を具体的に説明するが、本発明は、その要旨を超えない限り、以下の態様に限定されるものではない。
本発明において、「（メタ）アクリル酸」とは、アクリル酸とメタクリル酸の双方を含み、「（メタ）アクリレート」、「（メタ）アクリロイル」等も同様の意味を表す。また、モノマー名の前に「（ポリ）」をつけたものは、該モノマー及び該ポリマーを意味する。
【００１５】
本発明は、基板、異方性を有する光学膜及び保護層を含む光学素子の製造方法である。該製造方法は、少なくとも以下の工程を有する（以下、下記（I）の工程を「（I）工程」と表すことがある。また、（I）工程と同様に、「（II）工程」、「（III）工程」「（IV）工程」「（Ｖ）工程」と表すことがある。）。
（I）基板に異方性を有する光学膜形成用組成物を連続塗布して異方性を有する光学膜を形成し、次いで前記異方性を有する光学膜を塩交換によって不溶化処理する工程。
（II）前記不溶化処理した異方性を有する光学膜上に、感光性樹脂組成物を連続塗布して保護層を形成する工程。
（III）露光及び現像液による現像により、前記保護層をパターニングする工程 。
（IV）保護層が現像除去されて露出した部分の異方性を有する光学膜を、酸性水溶液又はアルカリ性水溶液に接触後、水洗する工程。
【００１６】
本発明の製造方法は、（I）〜（IV）工程を有しており、(I)工程→（II）工程→（III）工程→（IV）工程の順で実施されれば特に限定されず、それぞれの工程の間に、その他の工程を有していてもよい。例えば（I）工程と（II）工程の間に他の工程を有していてもよい。
【００１７】
（光学素子）
本発明の光学素子は、基板面に連続塗布により得られた異方性を有する光学膜及び異方性を有する光学膜上に設けられた保護層を含むものである。また、光学素子は異方性を有する光学膜及び保護層だけに限られず、偏光性能を向上させる、機械的強度を向上させる等の目的で他の層を有していてもよい。
また、本発明におけるパターンとは、基板上に面付けされた異方性を有する光学膜の形状パターンを表し、パターニングとはパターンを形成させることを表す。また、輪郭部とは、異方性を有する光学膜のパターンの外周部を指す。なお、本発明におけるパターニングは、１枚の基板母材から複数個の液晶セル用の基板を切り出すにあたっての異方性を有する光学膜の区画を意図したものであるが、これに限定されるものではない。
【００１８】
（基板）
本発明の基板としては、特に限定されるものではないが、良好な表面性状、接触角特性
及び吸水特性を有する基板であることが好ましい。そのような基板を形成する基材として
は、例えば、ガラス等の無機材料と高分子材料が挙げられる。高分子材料としては、トリ
アセテート系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポ
リエチレンテレフタレート系樹脂、トリアセチルセルロース系樹脂、ノルボルネン系樹脂
、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリイミド系樹脂、ウレタン系樹脂等が挙げられる。これ
らは１種を単独で、又は２種以上を併用してもよい。特に、高分子材料を含有する基材を
含むことが好ましい。
基板の吸水率としては、通常５％以下、好ましくは３％以下、より好ましくは１％以下
である。吸水率が過度に大きくないことで、湿式成膜法にて異方性材料の膜を形成する際
の基板が吸湿を抑制するため、基板の反りによる塗布欠陥が発生し難い傾向にある。また
、塗布法にて異方性を有する光学膜が形成された後の基板の膨潤も抑制することができる
ため、光学欠陥が発生し難い傾向がある。なお、本実施の形態における「吸水率」とは、
ＡＳＴＭＤ５７０の試験方法を用い、２３℃の水に４時間浸漬させたときの重量変化率を
測定した値である。
【００１９】
基板の異方性を有する光学膜が形成される面には、異方性を有する光学膜に含まれる色素等の異方性材料をよりよく一定方向に配向させる観点から、予め配向膜等を設けることができる。配向膜の形成方法については「液晶便覧」（丸善株式会社、平成１２年１０月３０日発行）２２６頁〜２３９頁等に記載の公知の方法によることができる。また、基板の形状としては、一定寸法のフィルム状（枚葉状）であってもよいし、連続フィルム状（帯状）であってもよい。また、基板の膜厚としては、通常、０．０１ｍｍ〜３ｍｍ、好ましくは０．０２ｍｍ〜２ｍｍである。 
【００２０】
基板の全光線透過率としては、通常８０％以上、好ましくは８５％以上、より好ましくは９０％以上である。 なお、本実施の形態における「全光線透過率」とは、積分球色測定装置を使用して測定されるもので、拡散透過光と平行光線透過光とをあわせた値である。
【００２１】
（（I）工程）
本発明は、（I）工程として、基板に異方性を有する光学膜形成用組成物を連続塗布して異方性を有する光学膜を形成し、次いで前記異方性を有する光学膜を塩交換によって不溶化処理する工程を有する。
【００２２】
（異方性を有する光学膜） 
異方性を有する光学膜とは、膜の厚み方向及び任意の直交する面内２方向の立体座標系における合計３方向から選ばれる任意の２方向における電磁気学的性質に、異方性を有する光学膜である。電磁気学的性質としては、吸収、屈折等の光学的性質、抵抗、容量等の電気的性質が挙げられる。吸収、屈折等の光学的異方性を有する膜としては、例えば、直線偏光層、円偏光層、位相差膜、導電異方性膜等がある。本実施の形態における異方性を有する光学膜は、偏光層、位相差膜、導電異方性膜としても好適に用いることが可能であり、特に偏光層として有用である。 
【００２３】
異方性を有する光学膜の膜厚は特に限定されないが、乾燥膜厚として、好ましくは１０ｎｍ以上、さらに好ましくは５０ｎｍ以上である。一方、好ましくは３μｍ以下、さらに好ましくは１μｍ以下である。異方性を有する光学膜の膜厚が上記範囲にあることで、後記の（IV）工程の異方性を有する光学膜をパターニングする際において、異方性を有する光学膜を溶解させる範囲が確保され、溶解の制御が容易になる傾向にある。さらに、膜内で色素の均一な配向及び均一な膜厚を得られる傾向にある。
【００２４】
（異方性材料異方性材料及び異方性を有する光学膜形成用組成物）
本発明の異方性を有する光学膜に用いられる異方性材料は、前記異方性を発現する材料であれば特に限定されない。また、基板上に湿式塗布で異方性を有する光学膜を作製することから、異方性材料および溶剤を含む組成物（以下、異方性を有する光学膜形成用組成物と表す事がある。）であることが好ましい。
異方性を有する光学膜形成用組成物の態様としては、溶液状であってもよいし、ゲル状であってもよく、異方性材料が溶剤中に分散している状態であってもよい。また、これら以外にも必要に応じ、バインダー樹脂、モノマー、硬化剤、添加剤等を含んでいてもよい。
【００２５】
ここで、異方性を有する光学膜形成用組成物は、組成物として液晶相の状態であることが、溶剤が蒸発した後に形成される異方性を有する光学膜を高配向度に形成する観点から好ましい。なお、本実施の形態において、液晶相の状態であるとは、『液晶の基礎と応用』（松本正一・角田市良著、１９９１）の１〜１６ページに記載されている状態のことをいう。特に３ページに記載されているネマティック相が好ましい。 ここで、異方性材料としては、異方性を有する光学膜を形成できるものであればよく、色素等が挙げられる。異方性材料として色素を用いた異方性を有する光学膜としては、異方性色素膜が挙げられる。色素を用いることで、電磁気学的性質に優れた異方性を有する光学膜が得られる傾向にあり、特に偏光層として有用である。
【００２６】
（色素） 
本発明の色素としては、二色性色素が用いられる。また、色素は、配向制御のため液晶相を有する色素であることが好ましい。ここで、液晶相を有する色素とは、溶剤中でリオトロピック液晶性を示す色素を意味する。本発明で用いられるリオトロピック液晶性を示す色素としては、塗布により異方性を有する光学膜を形成するために、水や有機溶媒に可溶であることが好ましく、特に水溶性であることが好ましい。さらに好ましいものは、「有機概念図−基礎と応用」（甲田善生著、三共出版、１９８４年）で定義される無機性値が有機性値よりも小さな化合物である。なお、水溶性とは、室温で色素が水に、通常０．１重量％以上、好ましくは１重量％以上溶解することをいう。
本発明の色素は、塩型をとらない遊離の状態で、その分子量が２００以上であるのが好ましく、３００以上であるのが特に好ましい。また、１５００以下であるのが好ましく、１２００以下であるのが特に好ましい。
また、本発明のリオトロピック液晶性を示す色素は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。 
【００２７】
色素として、具体的には、アゾ系色素、スチルベン系色素、シアニン系色素、フタロシアニン系色素、縮合多環系色素（ペリレン系、オキサジン系）等が挙げられる。これら色素の中でも、異方性を有する光学膜中で高い分子配列を取り得るアゾ系色素が好ましい。アゾ系色素とは、アゾ基を少なくとも１個以上持つ色素をいう。その一分子中のアゾ基の数は、色調および製造面の観点から、２以上が好ましく、６以下が好ましく、４以下がさらに好ましい。本発明に用いられる色素は特に限定されず、公知の色素を用いることができる。
【００２８】
色素としては、例えば、特開２００６−０７９０３０号公報、特開２０１０−１６８５７０号公報、特開２００７−３０２８０７号公報、特開２００８−０８１７００号公報、特開平０９−２３０１４２号公報、特開２００７−２７２２１１号公報、特開２００７−１８６４２８号公報、特開２００８−６９３００号公報、特開２００９−１６９３４１号公報、特開２００９−１６１７２２号公報、特開２００９−１７３８４９号公報、特開２０１０−０３９１５４号公報、特開２０１０−１８０３１４号公報、特開２０１０−２６６７６９号公報、特開２０１０−０３１２６８号公報、特開２０１１−０１２１５２号公報、特開２０１１―０１６９２２号公報、特開２０１０−１０００５９号公報、特開２０１１−１４１３３１号公報、特開２０１１−１９０３１３号公報、特表平０８−５１１１０９号公報、特表２００１−５０４２３８号公報、特開２００６−４８０７８号公報、特開２００６−９８９２７号公報、特開２００６−１９３７２２号公報、特開２００６−２０６８７８号公報、特開２００５−２５５８４６号公報、特開２００７−１４５９９５号公報、特開２００７−１２６６２８号公報、特開２００８−１０２４１７号、特開２０１２−１９４３５７号公報、特開２０１２−１９４２９７号公報、特開２０１１−０３４０６１号公報、特開２００９−１１０９０２号公報、特開２０１１−１０００５９号公報、特開２０１２−１９４３６５号公報、特開２０１１−０１６９２０号公報等に記載の色素が挙げられる。
【００２９】
本発明に用いられる色素は、遊離酸の形のまま使用してもよく、酸基の一部が塩型を取っているものであってもよい。また、塩型の色素と遊離酸型の色素が混在していてもよい。
製造時に色素が塩型で得られた場合はそのまま使用してもよいし、所望の塩型に変換してもよい。塩型の交換方法としては、公知の方法を任意に用いることができ、例えば以下の方法が挙げられる。
【００３０】
１）塩型で得られた色素の水溶液に塩酸等の強酸を添加し、色素を遊離酸の形で酸析せしめた後、所望の対イオンを有するアルカリ溶液（例えば水酸化リチウム水溶液）で色素酸性基を中和し塩交換する方法。
２）塩型で得られた色素の水溶液に、所望の対イオンを有する大過剰の中性塩（例えば、塩化リチウム）を添加し、塩析ケーキの形で塩交換を行う方法。
３）塩型で得られた色素の水溶液を、強酸性陽イオン交換樹脂で処理し、色素を遊離酸の形で酸析せしめた後、所望の対イオンを有するアルカリ溶液（例えば水酸化リチウム水溶液）で色素酸性基を中和し塩交換する方法。
４）予め所望の対イオンを有するアルカリ溶液（例えば水酸化リチウム水溶液）で処理した強酸性陽イオン交換樹脂に、塩型で得られた色素の水溶液を作用させ、塩交換を行う方法。
【００３１】
また、本発明に用いられる色素が有する酸性基が、遊離酸型となるか塩型となるかは、色素のｐＫａと色素水溶液のｐＨに依存する。前記の塩型の例としては、Ｎａ、Ｌｉ、Ｋ等のアルカリ金属の塩、アルキル基又はヒドロキシアルキル基で置換されていてもよいアンモニウムの塩、有機アミンの塩等が挙げられる。
有機アミンの例として、炭素数１〜６の低級アルキルアミン、ヒドロキシ置換された炭素数１〜６の低級アルキルアミン、カルボキシ置換された炭素数１〜６の低級アルキルアミン等が挙げられる。
これらの塩型の場合、その種類は１種類に限らず複数種混在していてもよい。また、本発明において、色素は単独で使用することができるが、これらの２種以上を併用してもよく、また、配向を低下させない程度に前記例示色素以外の色素を配合して用いることもできる。これにより各種の色相を有する異方性を有する光学膜を製造することができる。
【００３２】
他の色素を配合する場合の配合用色素の例としては、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｙｅｌｌｏｗ １２、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｙｅｌｌｏｗ ３４、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＹｅｌｌｏｗ ８６、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｙｅｌｌｏｗ １４２、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＹｅｌｌｏｗ １３２、Ｃ．Ｉ．Ａｃｉｄ Ｙｅｌｌｏｗ ２５、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｏｒａｎｇｅ ３９、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｏｒａｎｇｅ ７２、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｏｒａｎｇｅ ７９、Ｃ．Ｉ．Ａｃｉｄ Ｏｒａｎｇｅ ２８、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｒｅｄ ３９、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｒｅｄ ７９、Ｃ．Ｉ．ＤｉｒｅｃｔＲｅｄ ８１、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｒｅｄ ８３、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｒｅｄ８９、Ｃ．Ｉ．Ａｃｉｄ Ｒｅｄ３７、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｖｉｏｌｅｔ ９、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｖｉｏｌｅｔ ３５、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｖｉｏｌｅｔ ４８、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｖｉｏｌｅｔ ５７、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｂｌｕｅ １、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｂｌｕｅ ６７、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｂｌｕｅ ８３、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｂｌｕｅ ９０、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｇｒｅｅｎ ４２、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｇｒｅｅｎ ５１、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ Ｇｒｅｅｎ ５９等が挙げられる。
【００３３】
（異方性を有する光学膜形成用組成物の溶剤）
溶剤としては、水、水混和性のある有機溶剤又はこれらの混合物が適している。有機溶剤の具体例としては、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、グリセリン等のアルコール類、エチレングリコール、ジエチレングリコール等のグリコール類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ類等が挙げられる。これらは、単独で用いても、２種以上を混合して用いてもよい。 
【００３４】
（異方性を有する光学膜形成用組成物中の異方性材料の濃度）
異方性を有する光学膜形成用組成物中の異方性材料の濃度としては、異方性を有する光学膜の成膜条件にもよるが、好ましくは０．０１重量％以上、更に好ましくは０．１重量％以上であり、好ましくは５０重量％以下、更に好ましくは３０重量％以下である。異方性材料濃度が前記範囲であることで、均一な薄膜塗布ができる異方性を有する光学膜形成用組成物の粘度が得られ、且つ異方性材料が析出しない傾向にある。また、異方性を有する光学膜において十分な二色比等の異方性を得られる傾向にある。
【００３５】
（異方性を有する光学膜形成用組成物の添加剤） 
異方性を有する光学膜形成用組成物には、さらに必要に応じて、界面活性剤、レベリング剤、カップリング剤、ｐＨ調整剤等の添加剤を配合することができる。添加剤により、濡れ性、塗布性等を向上させ得る場合がある。
界面活性剤としては、アニオン性、カチオン性及びノニオン性のいずれも使用可能である。その添加濃度は、特に限定されるものではないが、異方性を有する光学膜形成用組成物中の濃度として、通常０．０５重量％以上、０．５重量％以下が好ましい。この範囲であることで、界面活性剤の添加効果が得られ、且つ、色素分子の配向を阻害しない傾向にある。
異方性を有する光学膜形成用組成物中での異方性材料の造塩や凝集等の不安定性を抑制する等の目的のために、公知の酸／アルカリ等のｐＨ調整剤等を、異方性を有する光学膜形成用組成物の構成成分の混合の前後或いは混合中のいずれかで添加してもよい。なお、前記以外の添加剤として“Ａｄｄｉｔｉｖｅ ｆｏｒ Ｃｏａｔｉｎｇ”， Ｅｄｉｔｅｄ ｂｙ Ｊ．Ｂｉｅｌｅｍａｎ，Ｗｉｌｌｅｙ−ＶＣＨ（２０００）に記載の公知の添加剤を用いることもできる。 
【００３６】
（異方性を有する光学膜の塗布方法）
本発明の異方性を有する光学膜の塗布方法は連続塗布であれば特に限定されない。本発
明において連続塗布とは、パターンごとの間欠塗布ではなく、複数のパターン（区画）に
なるべき領域を連続で塗布することを指す。基板上に複数のパターンを設ける場合でも、
１回で連続塗布でき、複数のパターンごとに分けて塗布する必要はない。
異方性を有する光学膜形成用組成物を連続塗布し、異方性を有する光学膜を形成する方
法としては、特に限定されるものではないが、例えば、原崎勇次著「コーティング工学」
（株式会社朝倉書店、１９７１年３月２０日発行）２５３頁〜２７７頁に記載の方法、市
村國宏監修「分子協調材料の創製と応用」（株式会社シーエムシー出版、１９９８年３月
３日発行）１１８頁〜１４９頁に記載の方法、スロットダイコート法、スピンコート法、
スプレーコート法、バーコート法、ロールコート法、ブレードコート法、カーテンコート
法、ファウンテン法、ディップ法等で塗布する方法が挙げられる。これらの中でも、スロ
ットダイコート法が、均一性の高い異方性を有する光学膜が得られる傾向にあるため好ま
しい。
【００３７】
異方性を有する光学膜形成用組成物を塗布する際の、異方性を有する光学膜形成用組成物の供給方法、供給間隔は特に限定されない。塗布液の供給操作が繁雑になったり、塗布液の開始時と停止時に塗布膜厚の変動を生じてしまったりする場合があるため、異方性を有する光学膜の膜厚が薄い時には、特に連続的に異方性を有する光学膜形成用組成物を供給しながら塗布することが望ましい。
【００３８】
異方性を有する光学膜形成用組成物を塗布する速度としては、通常１ｍｍ／秒以上であり、好ましくは５ｍｍ／秒以上である。また、通常１０００ｍｍ／秒以下であり、好ましくは８００ｍｍ／秒以下である。塗布速度が前記範囲であることで、異方性を有する光学膜の異方性を得ながら、均一に塗布できる傾向にある。
なお、異方性を有する光学膜形成用組成物の塗布温度としては、通常０℃以上、８０℃以下であり、好ましくは４０℃以下である。また、異方性を有する光学膜形成用組成物の塗布時の湿度は、好ましくは１０％ＲＨ以上、さらに好ましくは３０％ＲＨ以上であり、一方、好ましくは８０ＲＨ％以下である。
【００３９】
（不溶化処理）
本発明において、基板上に異方性を有する光学膜を形成した後に、塩交換によって異方性を有する光学膜を不溶化処理する。本発明の不溶化とは、異方性を有する光学膜中の色素の溶解性を低下させることにより該異方性を有する光学膜からの色素の溶出を抑制し、異方性を有する光学膜の安定性を高める処理工程を意味する。 具体的には、例えば、少ない価数のイオンをそれより大きい価数のイオンに置き換える（例えば、１価のイオンを多価のイオンに置き換える）処理が挙げられる。
【００４０】
（不溶化液）
本発明の不溶化に用いる不溶化液は、特に限定されない。例えば、特開２００７−２４１２６７号公報、特開２００９−１９９０７５号公報、特開２０１０−４４１３０号公報、特開２０１０−１９７７６０号公報、特開２０１１−２５７４８９号公報、特開２０１２−０５８４２７号公報等に記載の不溶化液等を用いることができる。
【００４１】
本発明に用いられる不溶化液のｐＨは特に限定されないが、陽イオン交換の原理からイオン交換に寄与するカチオン濃度がある一定濃度以上でなくてはならない。このため材料に依存する、ある特定のｐＨより酸性側である必要がある場合がある。また、不溶化液の色調も特に制限されるものではないが、基本的には偏光度に影響を与えない無色、淡色である方が好ましい。
【００４２】
本発明に用いられる不溶化液は特に限定されず、不溶化化合物と溶媒を含むことが好ましい。不溶化化合物及び溶媒は１種でもよく、複数用いてもよい。
不溶化化合物としては、スルホン酸基、カルボキシル基、ホスホン酸基及びホスフィン酸基に対して強いイオン選択性を有することが好ましい。具体的にはＭｇ、Ｃａ等の無機塩、ポリアミン系化合物等が挙げられる。この中でもポリアミン系化合物が不溶化後の異方性を有する光学膜のクラック低減のため好ましい。
【００４３】
ポリアミン系化合物とは、その分子内に２以上のアミノ基を有する化合物をいう。またポリアミン系化合物一分子が有するアミノ基の数としては、通常２以上、また、その上限は、通常２０以下、好ましくは１０以下である。アミノ基の数が適当な範囲であることで、ポリアミン系化合物が異方性を有する光学膜内に拡散し、異方性を有する光学膜を不溶化できる傾向にある。
ポリアミン系化合物としては、脂肪族ポリアミン系化合物及び芳香族ポリアミン系化合物が挙げられる。中でも、脂肪族ポリアミン系化合物が好ましい。
【００４４】
脂肪族ポリアミン系化合物の具体例としては、ジアミノヘキサン、ジアミノデカン等のジアミノアルカン化合物；１，４−シクロヘキサンジアミン等のジアミノシクロヘキサン；４，４’−メチレンビスシクロヘキシルアミン等のジアミノシクロアルカン化合物；ジエチレントリアミン、ペンタエチレンヘキサミン、ビス（ヘキサメチレン）トリアミン等のポリエチレンポリアミン化合物；等が挙げられる。中でも、ポリエチレンポリアミン化合物が好ましく、ビス（ヘキサメチレン）トリアミンが特に好ましい。
芳香族ポリアミン系化合物の具体例としては、ジアミノベンゼン、キシリレンジアミン等が挙げられる。中でも、ジアミノベンゼンが好ましい。
【００４５】
不溶化液の溶媒としては、イオンを溶解する極性溶媒であることが好ましい。具体的には水、イオン液体等が挙げられる。この中でも水が経済性及び安全性の観点で好ましい。
不溶化液中の不溶化化合物の量はイオン交換能を持つ限り特に制限されないが、不溶化化合物及び溶媒の種類、２５℃における不溶化液の粘度等に合わせ適宜調整することができる。好ましくは飽和濃度の１０％以上であり、更に好ましくは飽和濃度の２０％以上である。また、好ましくは飽和濃度（＝１００％）以下であり、更に好ましくは飽和濃度の９０％以下である。この範囲にすることで不必要な不溶化化合物の析出を抑制し、かつ不溶化反応を速やかに行うことができる傾向がある。
【００４６】
（不溶化液の添加剤）
本発明の不溶化液は、増粘剤、保湿剤、界面活性剤等の添加剤を含んでいてもよい。また、不溶化液中の添加剤の量は、添加剤、不溶化化合物、溶媒の種類等に合わせ適宜調整することができる。
【００４７】
本発明の不溶化液の調整方法は特に限定されない。例えば、前記不溶化化合物を前記濃度範囲となるように溶媒と混合し、必要に応じて撹拌等を行って溶媒に溶解させればよい。また、必要に応じて用いられる添加剤をそれぞれ前記濃度範囲となるように、溶媒に混合してもよい。なお、混合の時期、順番等も任意である。
【００４８】
（不溶化方法）
異方性を有する光学膜を不溶化する方法は特に限定されず、浸漬法；異方性を有する光学膜の上方から不溶化液を供給する方法；スプレー；カーテンコート、ロールコート、ディッピングコート、フローティングコート、吹き出しコート等により不溶化液を塗布する方法；等が挙げられる。本発明の異方性を有する光学膜は非常に薄く、物体との接触によりはがれ等が発生しやすい傾向にある。そのため、異方性を有する光学膜の偏光性能の低下、膜の剥離等の欠損を抑制できる方法を用いることが好ましい。
【００４９】
（不溶化後の洗浄）
不溶化後の異方性を有する光学膜は洗浄することが好ましい。洗浄する方法は特に限定されず、ディッピング、異方性を有する光学膜の上方から洗浄液を供給する流水洗浄、超音波洗浄等を用いることができる。また、洗浄中に特定周波数で搖動する等洗浄を促進する効果を加えてもよい。あるいは、これらの方法を複数組み合わせて洗浄することも可能である。
前記の中でも、ディッピングが異方性を有する光学膜の剥離や欠陥の原因となる不要な力を加えない点において好ましい。
洗浄液は特に限定されず、具体的には、純水、純水にメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコールを添加した液体等を使用してもよい。これらは洗浄性を高めるために洗浄助剤や界面活性剤等の洗浄性を制御する添加物を含んでいてもよい。
【００５０】
洗浄液の温度は特に限定されないが、異方性を有する光学膜のひび割れ抑制の観点から低い方が好ましく、好ましくは３０℃以下、さらに好ましくは２０℃以下が好ましい。
洗浄液のｐＨは洗浄性を考慮の上、硫酸、塩酸、硝酸等の無機酸及び酢酸、シュウ酸、クエン酸等の有機酸を用いて酸性に調整してもよく、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸塩、リン酸塩、その他のアルカリ性化合物等を用いてアルカリ性に調整してもよい。
【００５１】
洗浄後の異方性を有する光学膜の乾燥方法は特に限定されず、風乾、エアーブロー乾燥、真空乾燥、加熱乾燥等が挙げられる。これらの中でも異方性を有する光学膜のひび割れ抑制の観点から、風乾及びエアーブロー乾燥を用いることが好ましい。また、これらの乾燥を組み合わせてもよい。
【００５２】
（（II）工程）
本発明は、（II）工程として、（I）工程にて不溶化した異方性を有する光学膜上に、
感光性樹脂組成物を連続塗布して保護層を形成する工程を有する。
（保護層）
本発明の保護層は、異方性を有する光学膜をその後のプロセスや素子作成後の刺激や衝
撃等から保護する目的で形成されるものであるが、同時に異方性を有する光学膜の不要部
分を除去してパターニングするためのレジストとしての役割も果たす。
本発明の保護層は、異方性を有する光学膜上に感光性樹脂組成物を連続塗布することで
形成されたものであれば特に限定さないが、光学異方性を有さないものが、異方性を有す
る光学膜の性能を阻害しないため好ましい。本発明における光学異方性とは、保護層の厚
み方向及び任意の直交する面内２方向の立体座標系における合計３方向から選ばれる任意
の２方向における電磁気学的性質に異方性を有することである。
本発明の保護層は、異方性を有する光学膜の光学特性を損なわないことから、保護層の
厚み５００nmにおける５５０nmの光線透過率が８０％以上であること好ましく、更に好ま
しくは８５％以上であり、特に好ましくは９０％以上である。上限は特になく、高い方が
好ましい。
【００５３】
（感光性樹脂組成物）
本発明の保護層を形成するために用いる感光性樹脂組成物は、感光性樹脂を含有する。感光性樹脂組成物は、光の照射によって現像液への溶解性が変化するものであれば特に限定されず、光の照射によって架橋反応や重合反応を起こして硬化するネガ型感光性樹脂組成物が好ましい。
この他、本発明の感光性樹脂組成物は、重合開始剤、増感色素等の増感剤、加速剤、各種硬化剤、熱硬化性樹脂、界面活性剤、密着性向上剤、レべリング剤、有機溶剤等を含んでいてもよい。
【００５４】
（感光性樹脂）
本発明の感光性樹脂組成物に用いられる感光性樹脂は特に限定されないが、例えば、ラジカル重合性不飽和基含有化合物、カチオン重合性基含有化合物等が挙げられる。
【００５５】
（ラジカル重合性不飽和基含有化合物）
本発明のラジカル重合性不飽和基含有化合物は、分子内にエチレン性不飽和基を少なくとも１個有する化合物である。エチレン性不飽和基は、反応性の点より、アリル基又は（メタ）アクリロイル基であることが好ましい。
【００５６】
ラジカル重合性不飽和基含有化合物として、例えば、不飽和カルボン酸とポリヒドロキシ化合物とのエステル類、ヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物とポリイソシアネート化合物とのウレタン（メタ）アクリレート類、（メタ）アクリル酸又はヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物とポリエポキシ化合物とのエポキシ（メタ）アクリレート類等が挙げられる。  具体的には、東亜合成社のアロニックスシリーズ、新中村化学社のＮＫシリーズ、日本油脂社のブレンマーシリーズ、共栄社化学社のライトアクリレートシリーズ、大阪有機社のビスコートシリーズ等が挙げられる。
【００５７】
（カチオン重合性基含有化合物）
本発明のカチオン重合性基含有化合物としては、エポキシ基含有化合物、オキセタニル基含有化合物、ビニル基含有化合物等が挙げられる。
中でもエポキシ基含有化合物が好ましい。例えば、三菱化学社のＪＥＲシリーズ、ダイセル社のセロキサイドシリーズ、新日鉄住金化学のエポトートシリーズ、日本化薬社のＮＣ−、ＸＤ−、ＥＰＰＮ−、ＥＯＣＮ−等のシリーズ、ＤＩＣ社のＥＰＩＣＬＯＮ等が挙げられる。また、この他にも、グリシジルメタクリレート等のエチレン性不飽和基含有化合物を共重合させた樹脂等も好適に用いることができる。
オキセタニル基含有化合物としては、東亜合成社のＯＸＴシリーズ、大阪有機社のＯＸＥ−１０や３０、それらを用いた共重合樹脂等が挙げられる。
【００５８】
本発明の感光性樹脂としては、カチオン重合性基含有化合物を少なくとも含むことが、ラジカル重合性不飽和基よりも、低温又は短時間で熱硬化できる傾向にあり、異方性を有する光学膜への熱的ダメージを抑制しやすい傾向にある。
また、カチオン重合性基含有化合物とラジカル重合性不飽和基含有化合物を組み合わせて用いることも好ましい。組み合わせて用いることにより、高い露光感度と熱硬化性の両立をさせ易く、露光及び現像液による現像によるパターニングの容易性及び保護特性の優れた保護膜が得られ易い傾向にある。具体的な好ましい化合物の組み合わせとしては、側鎖にエポキシ基を持つエチレン性不飽和基含有化合物と(メタ)アクリロイル基を有する化合物との共重合体と、不飽和カルボン酸とポリヒドロキシ化合物とのエステル類との組み合わせ等が挙げられる。
【００５９】
（熱可塑性樹脂）
本発明の光学素子の製造方法において、後述する（V）工程を有する場合には、感光性樹脂組成物は熱可塑性樹脂を含むことが好ましい。熱可塑性樹脂としては、アクリル樹脂、ノボラック樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル、ナイロン、ポリイミド、ポリカーボネート、それらの誘導体等が挙げられる。なお、これら樹脂には、重合性基や架橋性基が付与されていてもよい。
【００６０】
本発明の熱可塑性樹脂は、（V）工程で実施する加熱時の温度で軟化する樹脂であれば特に制限されないが、他の成分との親和性や塗布溶剤への溶解性の点で、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ノボラック樹脂等が好ましい例として挙げられる。なお、これらの樹脂にはラジカル重合性不飽和基、カチオン重合性基、その他の架橋基等が導入されていてもよく、その場合、前記のラジカル重合性不飽和基含有化合物及び/又はカチオン重合性基含有化合物の役割も兼ね備えることが出来る。
【００６１】
ラジカル重合性不飽和基含有化合物と熱可塑性樹脂を兼ね備えた樹脂としては、例えば日本化薬社のＺＡＲ、ＺＣＲ、ＣＣＲ等のエポキシアクリレート樹脂、グリシジル（メタ）アクリレート等を共重合成分として重合させた樹脂を（メタ）アクリル酸等で開環させた樹脂等が挙げられる。
カチオン重合性基含有化合物と熱可塑性樹脂を兼ね備える樹脂としては、例えば日本化薬社のＮＣ、ＥＯＣＮ、ＸＤ、ＥＰＰＮ等のノボラックエポキシ樹脂、グリシジル（メタ）アクリレート及び（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル（メタ）アクリレート等を共重合成分として重合させた樹脂等が挙げられる。
【００６２】
（重合開始剤）
本発明の感光性樹脂組成物は、重合開始剤を含んでいてもよい。重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤、光カチオン重合開始剤、熱ラジカル重合開始剤、熱カチオン重合開始剤等が挙げられる。これらの中でも、光ラジカル重合開始剤及び光カチオン重合開始剤を用いること保護層の硬化容易性の点から好ましい。
【００６３】
（光ラジカル重合開始剤）
本発明の感光性樹脂組成物に好適に用いられる光ラジカル重合開始剤は、特に限定されない。例えば、特開昭５９−１５２３９６号公報、特開昭６１−１５１１９７号各公報等に記載のチタノセン化合物を含むメタロセン化合物；特開２０００−５６１１８号公報等に記載のヘキサアリールビイミダゾール誘導体；特開平１０−３９５０３号公報等に記載のハロメチル化オキサジアゾール誘導体；ハロメチル−ｓ−トリアジン誘導体；Ｎ−フェニルグリシン等のＮ−アリール−α−アミノ酸類；Ｎ−アリール−α−アミノ酸塩類；Ｎ−アリール−α−アミノ酸エステル類等のラジカル活性剤；α−アミノアルキルフェノン誘導体；特開２０００−８００６８号公報、特開２００６−３６７５０号公報等に記載のオキシムエステル誘導体；等が挙げられる。
これらの中でも、オキシムエステル誘導体類及び／又はα−アミノアルキルフェノン誘導体類が比較的薄い膜でも感度を確保し易いため好ましい。
【００６４】
オキシムエステル誘導体類としては例えば、特開２０００−８００６８号公報、特開２００６−３６７５０号公報等に記載されているオキシム及びケトオキシムエステル系化合物が挙げられる。
α−アミノアルキルフェノン誘導体類としては、例えば２−メチル−１〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン、４−ジメチルアミノエチルベンゾエ−ト、４−ジメチルアミノイソアミルベンゾエ−ト、４−ジエチルアミノアセトフェノン、４−ジメチルアミノプロピオフェノン、２−エチルヘキシル−１，４−ジメチルアミノベンゾエート、２，５−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロヘキサノン、７−ジエチルアミノ−３−（４−ジエチルアミノベンゾイル）クマリン、４−（ジエチルアミノ）カルコン等が挙げられる。
【００６５】
（光カチオン重合開始剤）
本発明の感光性樹脂組成物に好適に用いられる光カチオン重合開始剤は、可視光線、紫外線等の照射によってカチオン種又はルイス酸を発生し、カチオン硬化性成分の重合反応を開始するものである。
光カチオン重合開始剤としては、例えば、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩等のオニウム塩、芳香族ジアゾニウム塩、鉄−アレーン錯体等が挙げられる。これらの中でも、硬化性の点で芳香族ヨードニウム塩や芳香族スルホニウム塩が好ましい。また、画像表示装置中で感光性樹脂層に隣接する液晶層の電気信頼性を確保するためには、芳香族ヨードニウム塩が特に好ましい。
【００６６】
芳香族ヨードニウム塩は、ジアリールヨードニウムカチオンを有する化合物であり、芳香族スルホニウム塩は、トリアリールスルホニウムカチオンを有する化合物である。これらカチオンは、アニオン（陰イオン）と対になって光カチオン重合開始剤を構成する。
光カチオン重合開始剤を構成するアニオンとしては、ヘキサフルオロホスフェートアニオンＰＦ6-、ヘキサフルオロアンチモネートアニオンＳｂＦ6-、ペンタフルオロヒドロキシアンチモネートアニオンＳｂＦ5(ＯＨ)-、ヘキサフルオロアーセネートアニオンＡｓＦ6-、テトラフルオロボレートアニオンＢＦ4-、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートアニオンＢ(Ｃ6Ｆ5)4-等が挙げられる。中でも、画像表示装置中で感光性樹脂層に隣接する液晶層の電気信頼性を確保するためには、感度はあまり高いとは言えないものの、ヘキサフルオロホスフェートアニオンＰＦ6-感度芳香族ヨードニウム塩が好ましい。
【００６７】
芳香族スルホニウム塩としては、例えばサンアプロ社のＣＰＩ−１００Ｐ、ＣＰＩ−１０１Ａ、ＣＰＩ−２００Ｋ、ＣＰＩ−２１０Ｓ、ＡＤＥＫＡ社のアデカオプトマーＳＰ−１５０、ＳＰ−１７０、ＳＰ−１７１等が具体例として挙げられる。
【００６８】
芳香族ヨードニウム塩としては、ソルベイジャパン社のＰＨＯＴＯＩＮＩＴＩＡＴＯＲ２０７４、ＢＡＳＦジャパン社のＩＲＧＡＣＵＲＥ２５０、日本曹達社のＣＩ−５１０２、和光純薬社のＷＰＩ−１１３、ＷＰＩ−１１６等が具体例として挙げられる。
【００６９】
（感光性樹脂及び重合開始剤の組み合わせ）
本発明の感光性樹脂及び重合開始剤の組み合わせは特に限定されないが、光ラジカル重合開始剤及びラジカル重合性不飽和基含有化合物の組み合わせ、カチオン重合性基含有化合物及び光カチオン重合開始剤の組み合わせ、さらにこれら組合せを併用した系等が光硬化性の確保の点から好ましい。
【００７０】
（感光性樹脂組成物の溶剤）
本発明の感光性樹脂組成物に用いる溶剤は、異方性を有する光学膜に対して悪影響を与えないものであれば特に限定されないが、塗布後乾燥をする必要があるため、沸点（圧力１０１３．２５［ｈＰａ］条件下。以下、沸点に関しては全て同様。）が１００〜３００℃の範囲のものを選択するのが好ましい。より好ましくは１２０〜２８０℃の沸点をもつ有機溶剤である。
【００７１】
有機溶剤としては、グリコールモノアルキルエーテル類、グリコールジアルキルエーテル類、グリコールアルキルエーテルアセテート類、アルキルアセテート類、エーテル類、ケトン類、１価又は多価アルコール類、脂肪族炭化水素類、脂肪族炭化水素類、脂環式炭化水素類、芳香族炭化水素類、鎖状又は環状エステル類、アルコキシカルボン酸類、ハロゲン化炭化水素類、エーテルケトン類、ニトリル類等が挙げられる。
これらの中でも、塗布性、表面張力等のバランスがよく、感光性樹脂組成物中の構成成分の溶解度が比較的高い点から、グリコールアルキルエーテルアセテート類が好ましい。また、有機溶剤は単独でも、２種以上を併用してもよい。
【００７２】
有機溶剤として、例えば以下が挙げられる。
（グリコールモノアルキルエーテル類）
グリコールモノアルキルエーテル類としては、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、プロピレングリコール−ｔ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、メトキシメチルペンタノール、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、３−メチル−３−メトキシブタノール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリプロピレングリコールメチルエーテル等が挙げられる。
【００７３】
（グリコールジアルキルエーテル類）
グリコールジアルキルエーテル類としては、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル等が挙げられる。
【００７４】
（グリコールアルキルエーテルアセテート類）
グリコールアルキルエーテルアセテート類としては、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、メトキシブチルアセテート、３−メトキシブチルアセテート、メトキシペンチルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート等が挙げられる。
【００７５】
（グリコールジアセテート類）
グリコールジアセテート類としては、エチレングリコールジアセテート、１，３−ブチレングリコールジアセテート、１，６−ヘキサノールジアセテート等が挙げられる。
【００７６】
（アルキルアセテート類）
アルキルアセテート類としては、シクロヘキサノールアセテート等が挙げられる。
【００７７】
（エーテル類）
エーテル類としては、アミルエーテル、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジアミルエーテル、エチルイソブチルエーテル、ジヘキシルエーテル等が挙げられる。
【００７８】
（ケトン類）
ケトン類としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルアミルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソアミルケトン、ジイソプロピルケトン、ジイソブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、エチルアミルケトン、メチルブチルケトン、メチルヘキシルケトン、メチルノニルケトン、メトキシメチルペンタノン等が挙げられる。
【００７９】
（１価又は多価アルコール類）
１価又は多価アルコール類としては、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコール、メトキシメチルペンタノール、グリセリン、ベンジルアルコール等が挙げられる。
【００８０】
（脂肪族炭化水素類）
脂肪族炭化水素類としては、ｎ−ペンタン、ｎ−オクタン、ジイソブチレン、ｎ−ヘキサン、ヘキセン、イソプレン、ジペンテン、ドデカン等が挙げられる。
【００８１】
（脂環式炭化水素類）
脂環式炭化水素類としては、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、メチルシクロヘキセン、ビシクロヘキシル等が挙げられる。
【００８２】
（芳香族炭化水素類）
芳香族炭化水素類としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン等が挙げられる。
【００８３】
（鎖状又は環状エステル類）
鎖状又は環状エステル類としては、アミルホルメート、エチルホルメート、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸アミル、メチルイソブチレート、エチレングリコールアセテート、エチルプロピオネート、プロピルプロピオネート、酪酸ブチル、酪酸イソブチル、イソ酪酸メチル、エチルカプリレート、ブチルステアレート、エチルベンゾエート、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸プロピル、３−メトキシプロピオン酸ブチル、γ−ブチロラクトン等が挙げられる。
【００８４】
（アルコキシカルボン酸類）
アルコキシカルボン酸類としては、３−メトキシプロピオン酸、３−エトキシプロピオン酸等が挙げられる。
【００８５】
（ハロゲン化炭化水素類）
ハロゲン化炭化水素類としては、ブチルクロライド、アミルクロライド等が挙げられる。
（エーテルケトン類）
エーテルケトン類としては、メトキシメチルペンタノン等が挙げられる。
（ニトリル類）  
ニトリル類としては、アセトニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられる。
【００８６】
前記に該当する市販の溶剤としては、ミネラルスピリット、バルソル＃２、アプコ＃１８ソルベント、アプコシンナー、ソーカルソルベントＮｏ．１、ソーカルソルベントＮｏ．２、ソルベッソ＃１５０、シェルＴＳ２８  ソルベント、カルビトール、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセテート、メチルセロソルブアセテート、ジグライム（いずれも商品名）等が挙げられる。
【００８７】
本発明の感光性樹脂組成物に溶剤を用いる場合には、全固形分の含有率を３重量％以上とすることが好ましく、５重量％以上とすることがより好ましい。一方、３０重量％以下にすることが好ましく、２０重量％以下にすることがより好ましい。前記下限値以上とすることで保護層の膜厚の制御を容易にすることが出来る傾向にあり、前記上限値以下とすることで、感光性樹脂組成物のポットライフを維持し易くなる傾向にある。
【００８８】
（感光性樹脂組成物の調製）
本発明の感光性樹脂組成物の調製方法は特に限定されないが、例えば、前記の各成分を溶剤と共に混合し、撹拌や超音波印加により、溶解又は分散させることにより、調製することができる。なお、感光性樹脂組成物を調製する時に、ラジカル重合性不飽和基含有化合物やカチオン重合性基含有化合物が液体状である場合は、それらを溶剤の代わりとしてもよい。
【００８９】
本発明の感光性樹脂組成物は、前記の各成分を溶剤と共に混合した後に、フィルターを用いて濾過することにより、不溶物、樹脂等の合成時に生じる可能性のあるゲル成分、ゴミ、微量金属等を除去することが好ましい。フィルターとしては、例えば、インテグリスオプチマイザー、ＣＵＮＯナノシールド、ゼータプラスＥＣ等を使用することが出来る。なお、不溶物、ゲル成分、ゴミ、微量金属等は、保護層を成膜する際の感光性樹脂組成物のハジキの原因となり、保護層を貫通する異物やハジキ等の欠陥がある場合、後述する現像液がそこから下層の異方性を有する光学膜に侵入して異方性を有する光学膜を溶かしてしまう傾向にある。そのため、フィルターの目のサイズはなるべく小さいことが好ましく、少なくとも保護層の膜厚より小さいことが好ましい。
【００９０】
（保護層の塗布方法）
本発明の保護層は、異方性を有する光学膜の塗布方法に示した方法等を用いて、異方性を有する光学膜上に感光性樹脂組成物を連続塗布することで得ることができる。この後、感光性樹脂組成物が溶剤を含む場合は保護層を乾燥させてもよい。乾燥は、クリーンオーブン、ホットプレート、赤外線、ハロゲンヒーター、マイクロ波照射等の加熱機器を用いて加熱することにより行うことができる。中でも、膜全体を均等に加熱しやすいことから、クリーンオーブン及びホットプレートが好ましい。
乾燥条件は、溶剤の種類や異方性を有する光学膜の耐熱性等に応じて、適宜選択すればよい。十分に乾燥させた方が安定した硬化性を得やすい点では、高温で長時間乾燥させることが好ましい。また、乾燥に要する時間が短く生産性に優れる、及び異方性を有する光学膜や基板に加熱の影響を及ぼし難い点では、低温で短時間乾燥させることが好ましい。そこで、乾燥温度は、通常４０℃以上、好ましくは５０℃以上であり、また、一方、通常１２０℃以下、好ましくは１００℃以下である。
乾燥時間は、１５秒以上が好ましく、３０秒以上が更に好ましい。また、５分以下が好ましく、３分以下が更に好ましい。乾燥は、減圧乾燥法により行ってもよく、加熱法と減圧乾燥法を併用してもよい。
【００９１】
保護層の膜厚は特に限定されないが、乾燥膜厚として、好ましくは１００ｎｍ以上、さらに好ましくは２００ｎｍ以上である。一方、好ましくは５μｍ以下、さらに好ましくは４μｍ以下である。保護層の膜厚が上記範囲にあることで、下層の異方性を有する光学膜の保護性、異方性を有する光学膜をパターニングするための保護層の膜強度の確保、及び異方性を有する光学膜の光学特性の維持が並立し易い傾向にある。
【００９２】
（(III）工程)
本発明の製造方法は(III)工程として、露光及び現像液による現像により、前記保護層をパターニングする工程を有する。
露光及び現像によりパターニングする方法は、 (II)で形成した保護層に露光マスクを設け、露光し保護層の一部分を重合反応させる。さらに、露光による光照射を受けずに重合反応しなかった部分の保護層を取り除く現像処理を行って、保護層をパターニングするものである。
【００９３】
(露光)
露光に使用される光源は、保護層を重合できれば特に限定されない。具体的には、例えば、キセノンランプ、ハロゲンランプ、タングステンランプ、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、中圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、蛍光ランプ、ＬＥＤ等のランプ光源；アルゴンイオンレーザー、ＹＡＧレーザー、エキシマレーザー、窒素レーザー、ヘリウムカドミニウムレーザー、青紫色半導体レーザー、近赤外半導体レーザー等のレーザー光源等が挙げられる。ここで、特定波長の光を使用する場合には、光学フィルターを用いてもよい。
露光量は、通常０．０１ｍＪ／ｃｍ2以上、好ましくは０．１ｍＪ／ｃｍ2以上、より好ましくは１ｍＪ／ｃｍ2以上であり、また、一方、通常１０００ｍＪ／ｃｍ2以下、好ましくは８００ｍＪ／ｃｍ2以下、より好ましくは５００ｍＪ／ｃｍ2以下である。
【００９４】
（現像液）
本発明の現像液は、保護層の非露光部を溶解させると共に、露光部の保護層や、その下部に位置する異方性を有する光学膜に悪影響を与えないものであれば特に限定はされないが、有機溶剤を主成分とするものであることが好ましい。有機溶剤を主成分とする現像液の有機溶剤の含有量は、有機溶剤を８０容量％以上含有することが好ましく、９０容量％以上含有することが更に好ましい。また、上限はなく１００容量％でもよい。この範囲であることで、異方性を有する光学膜を溶解させず、保護層のみを現像することができ、さらに保護層の電気信頼性を損なわない傾向にある。
また現像液は、有機溶剤以外にさらに、水、ノニオン系の界面活性剤等を含有してもよい。
本発明の現像液に用いられる有機溶剤の具体例としては、例えば、前記の感光性樹脂組成物の溶剤の項で記載したもの等を挙げることができる。これらの中でも保護層をよく溶解させ、乾燥時に保護層を白化させないため、グリコールアルキルエーテルアセテート類及びグリコールアルキルエーテルアセテート類が好ましく、特にプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート及びプロピレングリコールモノメチルエーテルが好ましい。本発明の現像液に用いる有機溶剤は、単品でもいくつかを混合して用いてもよい。
本発明の保護層をパターニングする工程において、現像液として一般的によく使用されている水酸化カリウム、水酸化テトラメチルアンモニウム等のアルカリ現像液は、下層の異方性を有する光学膜をよく溶かしてしまうため、溶解浸食の制御がし難く好ましくない。また、電気信頼性も損ねやすい傾向にある。
【００９５】
（現像方法）
現像方法及びその条件ついては、特に制限は無い。現像方法としては、浸漬現像、パドル式現像、スプレー現像、ブラシ現像、超音波現像等が挙げられる。中でも、浸漬現像及びスプレー現像は、汚れが付き難く、保護層及び異方性を有する光学膜へのダメージが生じ難く、さらに均一に現像しやすいことから好ましい。また、パドル式現像は現像液の使用量が抑えられる点で好ましい。
現像温度については、通常１０℃以上、好ましくは１５℃以上であり、また、通常５０℃以下、好ましくは４５℃以下である。現像後はそのまま、又は他の溶剤や水で洗浄した上で、振り切りや圧空等によって基板を乾燥させることが好ましい。ここで他の溶剤とは、露光後の保護層や異方性を有する光学膜を溶かさずに、現像液とは混合する様な溶剤を選択することが好ましい。
【００９６】
（(IV)工程）
本発明の製造方法は（IV）工程として、保護層が現像除去されて露出した部分の異方性を有する光学膜を、酸性水溶液（以下「方法（１）」とする）又はアルカリ性水溶液（以下「方法（２）」とする）に接触後、水洗する工程を有する。この工程により、異方性を有する光学膜のパターニングを行うことができる。
ここで、保護層が現像除去されて露出した部分とは、（III）工程のパターニングにおいて保護層が除去されたことにより、外部へさらされた異方性を有する光学膜のことを指す。具体的には、図１のａ部分を指す。
【００９７】
（方法（１））
方法（１）は、保護層が現像除去されて露出した部分の異方性を有する光学膜を、酸性水溶液によって水可溶化処理した後、水可溶化した異方性を有する光学膜を水洗で除去する方法である。
方法（１）の水可溶化処理は、酸性水溶液に接触している異方性を有する光学膜の表面から進行する。一方、酸性水溶液が不溶化処理後の異方性を有する光学膜表面から侵入していく速度は遅い。この酸性水溶液の異方性を有する光学膜への侵入速度の遅さが、異方性を有する光学膜の横方向への酸性水溶液の浸食（保護層のパターンがある部分の下に位置する異方性を有する光学膜への酸性水溶液の侵入）を制御し易くしていると共に、異方性を有する光学膜への酸成分のコンタミも抑えることができる。従って、異方性を有する光学膜の寸法精度、及び高度な電気信頼性を重視する場合は、方法（１）を用いることが好ましい。
【００９８】
方法（１）において、酸性水溶液が不溶化処理後の異方性を有する光学膜表面から侵入していく速度が遅いことから、一度の処理で異方性を有する光学膜の底部まで水溶化処理をさせるよりは、表面を水可溶化→水可溶化部した表面を水洗除去→新たな表面を水可溶化といったサイクルを複数繰り返すことが、水可溶化処理時間の短縮が可能となるため好ましい。
【００９９】
本発明に用いる酸性水溶液は、酸性の水溶液であれば特に限定されないが、例えば、硫酸、塩酸、硝酸等の無機酸及び酢酸、シュウ酸、クエン酸等の有機酸を適宜水に溶解させたものである。これらのうち、電気信頼性、臭気、腐食性、取扱い性等の点で有機酸を用いることが好ましく、特にシュウ酸を用いることが好ましい。また、これらの酸は複数のものの混合物でもよい。
前記酸性水溶液は、増粘剤、保湿剤、界面活性剤等の添加剤を含んでいてもよい。
【０１００】
（方法（１）水可溶化処理方法）
前記の酸性水溶液を用いて異方性を有する光学膜を水可溶化処理する方法は特に限定されず、酸性水溶液に異方性を有する光学膜を有する基板を浸漬する方法；異方性を有する光学膜の上方から酸性水溶液を供給する方法；異方性を有する光学膜を有する基板に酸性水溶液をスプレーする方法；異方性を有する光学膜を有する基板に、カーテンコート、ロールコート、ディッピングコート、フローティングコート、吹き出しコート等により酸性水溶液を塗布する方法；等が挙げられる。本発明の異方性を有する光学膜は、非常に薄く、物体との接触によりはがれ等が発生しやすい傾向にある。そのため、異方性を有する光学膜の偏光性能の低下、膜の剥離等の欠損を抑制できる方法を用いることが好ましい。
【０１０１】
（方法（１）異方性を有する光学膜の水洗除去）
水可溶化処理後の異方性を有する光学膜は水洗して除去する。水洗する方法は特に限定されず、浸漬式、パドル式、スプレー式等が挙げられる。
水洗除去に用いる水が酸性になってしまうと異方性を有する光学膜が溶出し難くなるため、効率的に異方性を有する光学膜を除去するためには、洗浄水に水可溶化処理に用いた酸性水溶液がコンタミするのを避ける方が好ましい。この点で新しい水が常に供給されるスプレー式等が好ましく、浸漬式の場合は複数の水槽を用意する等の工夫をすることが好ましい。
また、アルカリ性化合物等を用いて洗浄水が酸性にならないようにｐＨを調整してもよいが、洗浄水がアルカリ性になると、水可溶化処理をされていない部分の異方性を有する光学膜も溶出しやすく、パターニングの制御がし難くなるため好ましくない。
いずれの場合も、最終的にはコンタミの無い清浄な水で洗い流すことが好ましい。
【０１０２】
（方法（２））
方法（２）は、保護層が現像除去されて露出した部分の異方性を有する光学膜を、アルカリ性水溶液に接触することで溶解除去する方法である。不溶化処理した異方性を有する光学膜は、アルカリ性水溶液には可溶であるため、アルカリ性水溶液に接触することでそのまま溶解され除去される。
方法（２）は、一度の処理で短時間に異方性を有する光学膜を除去できるため、プロセス上の合理性を重視する場合はアルカリ水溶液を用いることが好ましい。
【０１０３】
本発明に用いるアルカリ性水溶液は、アルカリ性化合物を適宜水に溶解させたものである。アルカリ性化合物は特に限定されず、無機アルカリ性化合物でも有機アルカリ性化合物でもよい。また、これらのアルカリ性化合物は１つでもよく、複数の混合物でもよい。さらに、増粘剤、保湿剤、界面活性剤等の添加剤を含んでいてもよい。
【０１０４】
無機アルカリ性化合物としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、メタケイ酸ナトリウム、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素カリウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸二水素カリウム、水酸化アンモニウム等が挙げられる。
【０１０５】
有機アルカリ性化合物としては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエ
タノールアミン等のエタノールアミン；モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチル
アミン等のメチルアミン；モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン等のエ
チルアミン；モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン等のイソプロピルアミン；
ｎ−ブチルアミン；モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、トリイソ
プロパノールアミン等のイソプロパノールアミン；エチレンイミン；エチレンジイミン；
テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）；コリン等が挙げられる。これらの
うち、電気特性の点では、有機アルカリ性化合物が好ましく、ＴＭＡＨを用いることが特
に好ましい。
【０１０６】
（方法（２）異方性を有する光学膜の除去方法）
方法（２）において、アルカリ性水溶液に接触することで異方性を有する光学膜を溶解除去する方法は特に限定されない。例えば、アルカリ性水溶液に異方性を有する光学膜を有する基板を浸漬する方法；異方性を有する光学膜の上方からアルカリ性水溶液を供給する方法；異方性を有する光学膜を有する基板にアルカリ性水溶液をスプレーする方法；異方性を有する光学膜を有する基板に、カーテンコート、ロールコート、ディッピングコート、フローティングコート、吹き出しコート等によりアルカリ性水溶液を塗布する方法；等が挙げられる。本発明の異方性を有する光学膜は、非常に薄く、物体との接触によりはがれ等が発生しやすい傾向にある。そのため、異方性を有する光学膜の偏光性能の低下、膜の剥離等の欠損を抑制できる方法を用いることが好ましい。
【０１０７】
（方法（２）水洗方法）
アルカリ性水溶液に接触することで異方性を有する光学膜を溶解除去した後、水洗することで、異方性を有する光学膜に残存するアルカリ性化合物を除去する。異方性を有する光学膜にアルカリ性化合物が残存すると、除去不溶である異方性を有する光学膜部分の浸食が進行したり、光学素子の電気信頼性悪化等が発生したりするため水洗を行う。
水洗する方法は特に限定されず、浸漬式、パドル式、スプレー式等が挙げられる。これらの中でも、アルカリ性化合物の除去効率の点から、新しい水が常に供給されるスプレー式等が好ましい。また、浸漬式の場合は、複数の水洗用の水槽を用意する等を行い、充分にアルカリ性化合物を除去することが好ましい。
【０１０８】
方法（１）及び（２）後の異方性を有する光学膜の乾燥方法は特に限定されず、風乾、エアーブロー乾燥、真空乾燥、加熱乾燥等が挙げられる。これらの中でも、異方性を有する光学膜のひび割れ抑制の観点から、風乾又はエアーブロー乾燥を用いることが好ましい。また、これらの乾燥を組み合わせてもよい。
【０１０９】
上記方法において異方性を有する光学膜を浸食する程度は特に限定されず、保護層の輪郭部と同位置であってもよく、保護層の輪郭部の内側であってもよい。異方性を有する光学膜が保護層の輪郭部と同位置である場合の例を図２（ａ）に、異方性を有する光学膜が保護層の輪郭部の内側である場合の例を図２（ｂ）に示す。
異方性を有する光学膜と保護層の膜厚の関係は特に限定されず、どちらが大きくてもよいが、異方性を有する光学膜の膜厚が、保護層の膜厚以下であることが、異方性を有する光学膜の保護性、異方性を有する光学膜をパターニングするための保護層の膜強度の確保、及び異方性を有する光学膜の光学特性の維持が並立し易い傾向にある。
また、後記の(V）工程を有する場合は、異方性を有する光学膜の膜厚が、保護層の膜厚以下であることが好ましく、異方性を有する光学膜の膜厚が、保護層の膜厚より小さい方がより好ましい。異方性を有する光学膜と保護層の膜厚の関係が上記になることにより、メルトフローによる封止が容易になる傾向にある。
異方性を有する光学膜と保護層の好ましい膜厚の差は、乾燥膜厚として１００ｎｍ以上であり、更に好ましくは５００ｎｍ以上である。また、好ましくは４μｍ以下であり、更に好ましくは３μｍ以下である。また、膜厚が同じでもよい。膜厚の差が特定の範囲にあることで、（IV）工程で用いる酸性又はアルカリ性水溶液を充分に洗浄除去することが容易になる傾向にある。また、（V）工程を有する場合、上記洗浄除去の容易性及び異方性を有する光学膜の露出部を封止することの両立がし易い傾向にある。
【０１１０】
異方性を有する光学膜の浸食を保護層の輪郭部の内側及び保護層の輪郭部と同位置とする方法は特に限定されないが、異方性を有する光学膜の浸食が保護層の輪郭部の内側とする場合は、（IV）工程において、保護層の無い部分の異方性を有する光学膜が除去しきれてからもしばらく時間をかける等の方法が挙げられる。また、異方性を有する光学膜の浸食が保護層の輪郭部と同位置とする方法は、（IV）工程において保護層の無い部分の異方性を有する光学膜が除去出来た瞬間に水洗工程に入る等の方法が挙げられる。
【０１１１】
本発明の光学素子の製造方法において、後記の（V）工程を有する場合には、(IV)工程において、図２(ｂ)に示す様に保護層の輪郭部より内側まで異方性を有する光学膜を浸食させることが好ましい。浸食された異方性を有する光学膜の輪郭より外側の保護層部分が、（V）工程におけるメルトフローの充分な糊代となることで、保護層が異方性を有する光学膜輪郭部の側面を封止することができる。
異方性を有する光学膜の輪郭部が保護層の輪郭部より内側まで入り込む距離としては、異方性を有する光学膜の膜厚以上が好ましく、５mm以下が好ましく、５００μｍ以下がより好ましく、５０μｍ以下が特に好ましい。前前記下限以上であることで、異方性を有する光学膜の輪郭部側面をその後工程から充分に保護出来る傾向にあり、一方、前記上限以下であることで、異方性を有する光学膜のパターニングに要する時間を抑制することができ、（IV）工程で用いる酸やアルカリの除去もし易い傾向にある。
【０１１２】
（その他の工程）
本発明の光学素子を得るために、前記の（I）〜（IV）工程以外にも工程を有していてもよい。例えば、前述の基板上に配向膜を設ける工程、基板の濡れ性を付与する工程、保護層を加熱によりメルトフローさせる工程等が挙げられる。
【０１１３】
（基板上に配向膜を設ける工程）
異方性を有する光学膜の配向性を向上させるため、前記（I）工程の前に、基板上に配向膜を設けてもよい。具体的には、「液晶便覧」  丸善株式会社、平成１２年１０月３０日発行、２２６頁から２３９頁等に記載の公知の方法を用いることができる。
【０１１４】
（基板の濡れ性を付与する工程）
塗布による異方性を有する光学膜の形成に際して、異方性を有する光学膜形成用組成物のはじきを抑制するため、基板に濡れ性を付与してもよい。濡れ性を付与し親液部分を形成する処理としては、特に限定されるものではないが、物理的又は化学的改質処理手段であるコロナ処理、プラズマ処理、紫外線照射（ＵＶオゾン）処理等の表面処理を施す。この際、ガス組成や処理時間を調整するとこにより親液状態を調整してもよい。
【０１１５】
（(V）工程  保護層を加熱によりメルトフローさせる工程)
(V）工程として、前記（IV）工程の後に、保護層を加熱によりメルトフローさせる工程を有してもよい。図３に示すように、保護層をメルトフローさせることで、現像後露出した異方性を有する光学膜輪郭部の側面を封止することができる。この封止により、光学素子形成後の画像表示装置のプロセスからの異方性を有する光学膜の保護をさらに向上させることができる。特に異方性を有する光学膜形成後に、配向膜形成用の溶媒（Ｎ―メチルピロリドン）を用いるプロセスを有するIn-Cell型光学素子を、１枚の基板母材から複数個に区画して分割した基板を切り出すにあたり有用である。
【０１１６】
保護層のメルトフローの方法は、現像後の保護層が軟化して、異方性を有する光学膜の輪郭部側面を封止することが出来れば特に条件は限定されない。異方性を有する光学膜の耐熱性の点から、加熱温度が２００℃以下であることが好ましく、１８０℃以下が特に好ましい。また、保護層の硬化を加熱によってさらに促進する目的で、１００℃以上が好ましく、１２０℃以上が特に好ましい。
加熱時間は異方性を有する光学膜の劣化を回避する点でなるべく短い方が好ましいが、保護層の硬化をさらに促進する目的では長い方が好ましいため、通常１分以上、好ましくは１０分以上であり、通常１２０分以下、好ましくは６０分以下である。
加熱方法は、公知の方法を自由に選択することが出来るが、例えばホットプレート、ＩＲオーブン、コンベクションオーブン等が挙げられる。
【０１１７】
＜光学素子＞
本発明の光学素子は、異方性を有する光学膜及び保護層だけに限られず、偏光性能を向上させる、機械的強度を向上させる等の目的で他の層を有していてもよい。
また、光学素子は、粘着層又は反射防止層；配向膜；位相差フィルムとしての機能、輝度向上フィルムとしての機能、反射フィルムとしての機能、半透過反射フィルムとしての機能、拡散フィルムとしての機能などの光学機能を有する層；等を基板として使用してもよいし、様々な機能を有する層を塗布や貼合等により積層形成し、積層体として使用してもよい。
これらの層は、製造プロセス、特性及び機能に合わせ適宜設けることができ、その積層の位置、順番等は特に限定されない。例えば、上記各層を形成する位置は、保護層の上に形成してもよく、また、異方性を有する光学膜を設けた基板の反対面に形成してもよい。一方、上記各層を形成する順番は、異方性を有する光学膜を形成する前でも形成した後でもよい。
【０１１８】
これら光学機能を有する層は、以下の様な方法により形成することができる。
位相差フィルムとしての機能を有する層は、以下のような方法で得られた位相差フィルムを、光学素子を構成する他の層に貼合等を行うことにより、形成することができる。
位相差フィルムは、例えば、特開平２−５９７０３号公報、特開平４−２３０７０４号公報等に記載の延伸処理を施したり、特開平７−２３０００７号公報等に記載された処理を施したりすることにより形成することができる。
【０１１９】
輝度向上フィルムとしての機能を有する層は、以下のような方法で得られた輝度向上フィルムを、光学素子を構成する他の層に貼合等を行うことにより、形成することができる。
輝度向上フィルムは、例えば、特開２００２−１６９０２５号公報及び特開２００３−２９０３０号公報に記載されるような方法で微細孔を形成すること、又は、選択反射の中心波長が異なる２層以上のコレステリック液晶層を重畳することにより形成することができる。
【０１２０】
反射フィルムまたは半透過反射フィルムとしての機能を有する層は、例えば、蒸着やスパッタリングなどで得られた金属薄膜を、光学素子を構成する他の層に貼合等を行うことにより、形成することができる。
拡散フィルムとしての機能を有する層は、例えば、光学素子を構成する他の層に微粒子を含む樹脂溶液をコーティングすることにより、形成することができる。
【０１２１】
また、位相差フィルムや光学補償フィルムとしての機能を有する層は、ディスコティック液晶性化合物、ネマティック液晶性化合物等の液晶性化合物を、光学素子を構成する他の層に塗布して配向させることにより形成することができる。
【０１２２】
＜画像表示装置＞
本実施の形態における光学素子をＬＣＤやＯＬＥＤ等の各種の画像表示装置に用いる場合には、画像表示装置の構成等は特に限定されず、光学素子の位置等も特に限定されない。例えば、光学素子を、画像表示装置を構成する電極基板等の表面や、カラーフィルター上に直接形成したり、光学素子を形成した基板をこれら画像表示装置の構成部材として用いたりすることができる。また、本発明の光学素子上に液晶用の配向膜等を設けることもできる。
本発明の異方性を有する光学膜及び保護層は、塗布により形成することができるという点から、本発明の光学素子はフレキシブルディスプレイ等の用途にも好適に使用することができる。
【実施例】
【０１２３】
以下、本発明を実施例によって詳細に説明する。但し、本発明は、以下の実施例に限定されず、その要旨を逸脱しない範囲において、任意に変更して実施できる。
【０１２４】
＜カチオン重合性基含有化合物−１の製造方法＞
還流冷却器、攪拌機及び窒素吹込み管を備えたフラスコに、トリシクロデカン骨格を有するモノメタクリレート（日立化成（株）製「ＦＡ−５１３Ｍ」）４７質量部、グリシジルメタクリレート６１質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４００質量部、ジメチル２，２′−アゾビス（２−メチルプロピオネート）８．０質量部を仕込み、窒素置換した後、攪拌しながら液温を８０℃に上昇させ、８０℃で６時間反応した。さらに、ジメチル２，２′−アゾビス（２−メチルプロピオネート）の分解処理を１００℃で１時間行った後、８０℃の減圧下でプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを蒸留して、固形分濃度５０質量％程度まで濃縮し、カチオン重合性基含有化合物−１を得た。この樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、約１１，０００であった。
なお、重量平均分子量は、島津製作所製「ゲル浸透クロマトグラフシステムＬＳ  Ｓｏｌｕｔｉｏｎ」で、島津製作所製「カラムＧＰＣ−８０４」を用いて測定した。
【０１２５】
【化１】
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【０１２６】
＜感光性樹脂組成物−１の調整＞
表１に示す感光性樹脂組成物−１の成分の内、まず光カチオン重合開始剤（Ｉｒｇ２５０）、増感剤（ＵＶＳ−１３３１）、加速剤（ＥＴ−２２０１）、光ラジカル重合開始剤（Ｉｒｇ３６９）及び熱ラジカル重合開始剤（ＶＡｍ−１１０）をそれぞれ量り取り、そこに有機溶剤のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）を加えて、マグネチックスターラーを用いて撹拌し完全に溶解させた。
次に前記以外の感光性樹脂組成物−１の成分を加え、さらに１０分間撹拌を続けた。次にインテグリス社のオプチマイザーＶ４７  ０．０２μｍ  ＦＤ５Ａ  ＸＦＲを用いて濾過して、感光性樹脂組成物−１を得た。
【０１２７】
＜感光性樹脂組成物−２の調整＞
表１に示す感光性樹脂組成物−２の成分の内、まず光カチオン重合開始剤（Ｉｒｇ２５０）、増感剤（ＵＶＳ−１３３１）、加速剤（ＥＴ−２２０１）をそれぞれ量り取り、そこに有機溶剤のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）を加えて、マグネチックスターラーを用いて撹拌し完全に溶解させた。
次に前記以外の感光性樹脂組成物−２の成分を加え、さらに１０分間撹拌を続けた。次にインテグリス社のオプチマイザーＶ４７  ０．０２μｍ  ＦＤ５Ａ  ＸＦＲを用いて濾過して、感光性樹脂組成物−２を得た。
【０１２８】
【表１】
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【０１２９】
＜異方性を有する光学膜形成用組成物１の調整＞
水７９部に、下記式（Ｉ）で表される色素のリチウム塩２０部と、下記式（II）で表される色素１部とを撹拌溶解させることにより、異方性を有する光学膜形成用組成物１を調製した。
【０１３０】
【化２】
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【０１３１】
＜不溶化液１の調整＞
ビス（ヘキサメチレン）トリアミン（東京化成社製）２４．４部に、６規定の硫酸７５．６部を加えて撹拌溶解させ、不溶化液１を調整した。不溶化液１の粘度は５０ｃＰであった。
【０１３２】
[実施例１]
（（I）工程）
ガラス製基板（１０ｘ１０ｃｍ、厚さ０．７ｍｍ）上に配向膜（ポリイミド膜厚約６０ｎｍ）を形成し、端面に水平な方向にラビング処理を施したものを基板として用意した。この配向膜の上に、異方性を有する光学膜形成用組成物１をダイコーター（ウェット膜厚２ｕｍ、ヘッド速度１５ｍｍ/ｓ）で塗布し、自然乾燥させることにより、膜厚約０．４μｍの異方性を有する光学膜を形成した。なお、塗布時の環境条件は２３℃、５０ＲＨ％であった。
【０１３３】
不溶化液１中に異方性を有する光学膜を形成した基板を５秒間含浸させた。基板を取り出した後に脱塩水を用いて洗浄し、その後、基板の風乾を行なった。
【０１３４】
（（II）工程）
(I)工程において不溶化処理された異方性を有する光学膜の上に、感光性樹脂組成物−１を約０．５ｃｃ滴下し、（III）工程の現像後の膜厚が１μｍとなるようにスピンコーターの回転数を調整し、５０秒間回転させて塗布した。その後、ホットプレート上で９０℃、９０秒間加熱乾燥して、保護層を形成させた。
【０１３５】
（（III）工程）
(II)工程において保護層を形成した基板を、３ｋＷ高圧水銀灯を用いて、５００ｍＪ／ｃｍ2の露光量でネガパターンのあるマスクを介して露光させた。
次に露光後の基板を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを現像液として、３０秒間揺らしながら浸漬し、現像した。現像後、脱塩水で洗浄をした後、乾燥し、異方性を有する光学膜の上にパターニングした保護層を形成した。
【０１３６】
（（IV）工程）
(III)工程後の基板を、１Ｎのシュウ酸水溶液に３０秒搖動浸漬後、脱塩水にてかけ流し水洗を行った。同工程を計３度行い、保護層が現像除去されて露出した部分の異方性を有する光学膜を完全に除去し乾燥することで光学素子−１を得た。顕微鏡で光学素子−１を確認したところ、異方性を有する光学膜は保護層の輪郭部より１．５μｍ程度内側まで浸食されていた。また、保護層の下の異方性を有する光学膜は、ひび割れ、膜の脱落等のない均一で良好な膜であった。
【０１３７】
（（V）工程）
（IV）工程で得られた光学素子−１を１８０℃のオーブンで３０分加熱した。加熱後の光学素子−１の異方性を有する光学膜輪郭部に該当する部分の断面ＳＥＭを観察したところ、保護層がメルトフローして異方性を有する光学膜の輪郭部側面を封止していることを確認した。また、保護層の下の異方性を有する光学膜は、ひび割れ、膜の脱落等のない均一で良好な膜であった。
また、実施例２のように２枚の光学素子―１を直交と平行に重ね合せ、光学素子として機能することを確認した。
【０１３８】
[実施例２]
実施例１の感光性樹脂組成物−１を感光性樹脂組成物−２に変更し、さらに(III)工程の露光量を２００ｍＪ／ｃｍ2に変更し、他は同様にして光学素子−２を得た。実施例１と同様に顕微鏡で光学素子を確認したところ、異方性を有する光学膜は保護層の輪郭部より１．５μｍ程度内側まで浸食されていた。また、保護層の下の異方性を有する光学膜は、ひび割れ、膜の脱落等のない均一で良好な膜であった。さらに、断面ＳＥＭを観察したところ、保護層がメルトフローして異方性を有する光学膜の輪郭部側面を封止していることを確認した。また、保護層の下の異方性を有する光学膜は、ひび割れ、膜の脱落等のない均一で良好な膜であった。
図４（１）〜（３）に示すように、２枚の光学素子−２を直交と平行に重ね合せ、光学素子として機能することを確認した。
【０１３９】
[実施例３]
（IV）工程を以下とする以外は実施例２と同様にして光学素子−３を得た。
（（IV）工程）
（III）工程後の基板を、０．４％ＴＭＡＨ水溶液に２０秒間搖動浸漬して、保護層が現像除去されて露出した部分の異方性を有する光学膜を完全に除去した後、脱塩水にてかけ流し水洗を行い乾燥した。
【０１４０】
得られた光学素子−３の異方性を有する光学膜輪郭部に該当する部分の断面ＳＥＭを観察したところ、保護層がメルトフローして異方性を有する光学膜の輪郭部側面を封止していることを確認した。また、保護層の下の異方性を有する光学膜は、ひび割れ、膜の脱落等のない均一で良好な膜であった。
さらに実施例２と同様に、２枚の光学素子−３を用いて、光学素子として機能することを確認した。
【符号の説明】
【０１４１】
ａ  保護層が現像除去されて露出した異方性を有する光学膜部分
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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