(57)【要約】      （修正有）【課題】複数の露光ヘッドを備える露光装置によりスキャニング露光を行うに際し、繋ぎ部分でムラが生じたり、形状不良が発生することのないスキャニング露光方法を提供する。【解決手段】スキャニング露光装置を用い、それぞれの露光ヘッドＡ，Ｂに装着された複数の露光マスクのストライプパターンを、前記露光ヘッド下を走行する大面積の露光基板上の被露光領域に、端部が重ねられて繋がるように順次露光する方法であって、前記複数の露光マスクのそれぞれは、正規のピッチの主ストライプパターン２ａ，３ａと、その端部に設けられた、前記主ストライプパターンよりも広いピッチの端部ストライプパターン２ｂ，３ｂとを有し、隣接する露光マスクの重なった端部ストライプパターンは、前記露光ヘッドによる露光によって被露光領域上で組合わされて、正規のピッチのストライプパターンを構成することを特徴とする。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上の被露光領域の幅をカバーするように、所定の長さの端部を重ねて長手方向にずらして平行に並置された複数の露光ヘッドを備えたスキャニング露光装置を用い、それぞれの露光ヘッドに装着された複数の露光マスクのストライプパターンを、前記露光ヘッド下を走行する大面積の露光基板上の被露光領域に、端部が重ねられて繋がるように順次露光する方法であって、前記複数の露光マスクのそれぞれは、正規のピッチの主ストライプパターンと、その端部に設けられた、前記主ストライプパターンよりも広い倍数ピッチの端部ストライプパターンとを有し、隣接する露光マスクの重なった端部ストライプパターンは、前記露光ヘッドによる露光によって被露光領域上で組合わされて、正規のピッチのストライプパターンを構成することを特徴とするスキャニング露光方法。
【請求項２】
隣接する露光マスクの重なった端部ストライプパターンは、両方とも均一なピッチを有することを特徴とする請求項１に記載のスキャニング露光方法。
【請求項３】
隣接する露光マスクの水平方向に重なった端部ストライプパターンは、両方とも変化するピッチを有することを特徴とする請求項１に記載のスキャニング露光方法。
【請求項４】
隣接する露光マスクの水平方向に重なった端部ストライプパターンの一方は、端部に向って徐々に増加するピッチを有し、他方は端部に向って徐々に減少するピッチを有することを特徴とする請求項１に記載のスキャニング露光方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スキャニング露光方法に係り、特に、大型のカラー液晶表示装置用のカラーフィルタの製造に用いられる、複数のパターンを繋いて露光するスキャニング露光方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、大型のカラー液晶表示装置に用いられる大型のカラーフィルタの製造において、フォトリソグラフィー工程における課題として、原寸大の大型露光マスクを用いる一括露光方式では大型露光マスク作製のためのコストが極めて大きいことがある。この問題を解決するため、露光ヘッドを複数個搭載した露光機を用い、それぞれの露光ヘッドに対となる小型露光マスクを用いて、パターンを繋いでスキャニング露光を行う、大型露光マスクを必要としない露光方法が開発されている。このような露光方法は、例えば、特許文献１に記載されている。
【０００３】
しかし、この露光方法によると、複数のヘッド間の繋ぎ部分でパターンにムラが生ずるという問題がある。即ち、図３に示すように、露光ヘッドＡにより露光されるストライプパターン１１と、露光ヘッドＢにより露光されるストライプパターン１２とを繋ぐ場合、ストライプパターン１１とストライプパターン１２との間に多少でも位置ずれが生ずると、繋ぎ境界でのみピッチズレが発生するため、繋ぎムラが視覚的に強調される。
【０００４】
また、図４に示すように、露光ヘッドＡにより露光されるストライプパターン１３と、露光ヘッドＢにより露光されるパターンストライプ１４とを所定の長さだけ、例えば一部重なる部分のパターンを、図示するように重畳する露光エネルギー強度が一定になるような形状とすることが考えられる。
【０００５】
しかし、この方法では、２つのヘッドからの露光が重畳する部分が存在するため、ネガレジストでは、ヘッド間の位置ずれが少しでも発生すると、重畳する部分に重畳しない部分が生じ、露光エネルギ強度にバラツキが生じ、露光パターンに形状不良が発生してしまう。
【特許文献１】特開２０００−３４７０２０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、以上のような事情の下になされ、複数の露光ヘッドを備える露光装置によりスキャニング露光を行うに際し、繋ぎ部分でムラが生じたり、形状不良が発生することのないスキャニング露光方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するため、本発明の一態様は、基板上の被露光領域の幅をカバーするように、所定の長さの端部を重ねて長手方向にずらして平行に並置された複数の露光ヘッドを備えたスキャニング露光装置を用い、それぞれの露光ヘッドに装着された複数の露光マスクのストライプパターンを、前記露光ヘッド下を走行する大面積の露光基板上の被露光領域に、端部が重ねられて繋がるように順次露光する方法であって、前記複数の露光マスクのそれぞれは、正規のピッチの主ストライプパターンと、その端部に設けられた、前記主ストライプパターンよりも広い倍数ピッチの端部ストライプパターンとを有し、隣接する露光マスクの重なった端部ストライプパターンは、前記露光ヘッドによる露光によって被露光領域上で組合わされて、正規のピッチのストライプパターンを構成することを特徴とするスキャニング露光方法を提供する。
【０００８】
以上のように構成される本発明の一態様に係るスキャニング露光方法において、隣接する露光マスクの重なった端部ストライプパターンは、両方とも均一なピッチを有するものとすることができる。
【０００９】
或いは、隣接する露光マスクの水平方向に重なった端部ストライプパターンは、両方とも変化するピッチを有するものとすることができる。この場合、隣接する露光マスクの水平方向に重なった端部ストライプパターンの一方は、端部に向って徐々に増加するピッチを有し、他方は端部に向って徐々に減少するピッチを有するものとすることができる。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、複数の露光マスクのそれぞれは、正規のピッチの主ストライプパターンと、その端部に設けられた、主ストライプパターンよりも広いピッチの端部ストライプパターンとを有していて、隣接する露光マスクの重なった端部ストライプパターンは、前記露光ヘッドによる露光によって被露光領域上で組合わされて、正規のピッチのストライプパターンを構成するようにされているので、繋ぎ部の位置が多少ずれても繋ぎ境界部のみムラが強調されずに重ね部全体にピッチズレが発生するため視覚的にムラが分散することでムラ程度を小さくすることが可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、発明を実施するための最良の形態について説明する。  
本発明の露光方法は、複数の露光ヘッドを備えた露光装置を使用する。露光装置としては、例えば、プロキシミティー方式のスキャニング露光装置を用いることができる。露光光源は、例えば波長３６５ｎｍの紫外光源である。
【００１２】
図５は、複数の露光ヘッドを備えた露光装置を摸式的に示す斜視図である。ステージ上に配置された基板の被露光領域に、マスクを介して複数の露光ヘッドが、基板の全面をカバーするように、一定の方向に平行に並置されるが、それぞれ長手方向にずらして、その隣接する端部同士が所定領域で重なるように配置されている。これらの露光ヘッドの下を基板が矢印の方向にスキャン移動し、基板上の被露光領域への露光が行われる。
【００１３】
図１は、本発明の第１の実施形態に係る露光方法を説明するための露光マスクのパターンデザインを示す上面図である。図１（ａ）は、１枚の露光マスク１で被露光領域をカバーするマスクパターン１のデザインを示し、図１（ｂ）は、複数枚、図では２枚の露光マスクで被露光領域をカバーするマスクパターン２，３のデザインを示す。
【００１４】
大型ガラス基板上の大面積被露光領域をカバーするためには、図１（ａ）のような長尺のマスクパターン１が必要であるが、そのようなマスクパターン１を有する露光マスクの製造は、コストがかかり過ぎて、実用上困難である。図１（ｂ）は、複数の小さい露光マスクを用いて順次露光を行い、被露光領域上で繋ぎ合わせて大面積被露光領域をカバーしようとするものである。
【００１５】
図１（ｂ）において、露光ヘッドＡによりマスクパターン２が露光され、露光ヘッドＢによりマスクパターン３が露光されるが、これらのマスクパターン２，３は、所定の長さ、例えば４５ｍｍ、領域同士が重なるように、並置されている。
【００１６】
マスクパターン２は、所定のピッチの主ストライプパターン２ａと、主ストライプパターン２ａよりも広いピッチの端部ストライプパターン２ｂとからなり、マスクパターン３は、所定のピッチの主ストライプパターン３ａと、主ストライプパターン３ａよりも広い２倍ピッチの端部ストライプパターン３ｂとからなる。
【００１７】
端部ストライプパターン２ｂと端部ストライプパターン３ｂとは、被露光領域上で組み合わされて主ストライプパターン２ａ，３ａのようなピッチのパターンとなるようにデザインされている。その結果、主ストライプパターン２ａ，３ａと、端部ストライプパターン２ｂ，３ｂとが被露光領域上で繋ぎ合わされて、図１（ａ）に示すマスクパターン１と同様のマスクパターンを得ることができる。
【００１８】
以上のように、図１（ｂ）に示すマスクパターン２，３のデザインでは、繋ぎ合わされる部分の端部ストライプパターンのピッチが主ストライプパターンのピッチより広いため、位置が多少ずれてもストライプが重なることはなく、露光パターンの形状不良が発生することはない。
【００１９】
図２は、本発明の他の実施形態に係る露光方法を説明するための、隣接する２つの露光マスクのマスクパターン４，５のデザインの端部のみを拡大して示す上面図である。これらのマスクパターン４，５の端部ストライプパターンのピッチは、徐々に変化している。
【００２０】
即ち、マスクパターン４は、所定のピッチの主ストライプパターン４ａと、主ストライプパターン４ａよりも広いピッチの端部ストライプパターン４ｂとからなり、マスクパターン５は、所定のピッチの主ストライプパターン５ａと、主ストライプパターン５ａよりも広いピッチの端部ストライプパターン５ｂとからなる。
【００２１】
端部ストライプパターン４ｂと端部ストライプパターン５ｂは、繋ぎ部の中央において、ピッチの割合がほぼ１：１であり、そこから右側（マスクパターン４の中央の方向）に行くに従って、ピッチの割合を２：１、３：１というように増加させてある。逆に、左側（マスクパターン５の中央の方向）に行くに従って、ピッチの割合を１：２、１：３というように減少させてある。
【００２２】
このように、ピッチをグラデーションをかけて変化させることによっても、複数のマスクパターンを被露光領域上で繋ぎ合わせることができ、これにより多少位置ズレが発生した場合でも、重ね領域での視覚的に分散され、ムラの程度を小さくする効果が得られる。
【００２３】
以上のように、図２に示すマスクパターン４，５のデザインでは、繋ぎ合わされる部分の端部ストライプパターンのピッチが主ストライプパターンのピッチより広いため、位置が多少ずれてもストライプが重なることはなく、露光パターンの形状不良が発生することはない。
【００２４】
以上、隣接する２つのマスクパターンの重なる部分の２つのデザインの例について示したが、本発明はこれらに限らず、繋ぎ合わされる部分の端部ストライプパターンのピッチが主ストライプパターンのピッチより広く、被露光領域上で繋ぎ合わさせて主ストライプパターンと同一のピッチが得られればよい。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る露光方法を説明するための露光マスクのパターンデザインを示す上面図である。
【図２】本発明の第２の実施形態に係る露光方法を説明するための露光マスクの繋ぎ部のパターンデザインを拡大して示す上面図である。
【図３】従来の露光方法を説明するための露光マスクのパターンデザインを示す上面図である。
【図４】従来の露光方法を説明するための露光マスクのパターンデザインを示す上面図である。
【図５】本発明の露光方法に用いる露光装置の一例を示す図。
【符号の説明】
【００２６】
１，２，３，４，５…露光マスク、２ａ，３ａ，４ａ，５ａ…主ストライプパターン、２ｂ，３ｂ，４ｂ，５ｂ…端部ストライプパターン、１１，１２，１３，１４…ストライプパターン。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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