Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月26日(2009.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
本発明は重合を終了させる時のポリフェニレンエーテルの良溶媒は３５質量％以上であり、好ましくは４０質量％、より好ましくは４５質量％以上、さらに好ましくは５０質量％以上、最も好ましくは５５質量％以上である。フェノール性化合物を酸化重合させて得られる重合体であるポリフェニレンエーテルに対する良溶媒と貧溶媒の比率を変化させ、貧溶媒の比率が高いほど反応の進行とともに重合体が反応溶媒中に粒子として析出する沈殿重合法になるが、良溶媒が３５質量％未満であると、所望の分子量を得られ、或いは所望の分子量を得るために重合時間が著しく長期化する可能性がある、重合中に外部からの加熱が必要となることがある等、効率的にポリフェニレンエーテルを得られなくなる場合がある。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７９】
［実施例１０］
重合槽に入れる２，６−ジメチルフェノールを１６０ｇとし、貯蔵槽に入れる２，６−ジメチルフェノールを１４４０ｇとした以外は実施例１と同様に実施した。酸素ガス供給開始１３０分後にポリフェニレンエーテルが析出し、スラリー状の形態を示した。重合終結時の重合液の形態は沈殿析出重合である。反応器等へのスケールは確認されなかった。結果を表２に示す。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８２】
反応器の内温は４０℃になるようコントロールした。
その後、濾過して濾残の湿潤ポリフェニレンエーテルをメタノール６４００ｇともに１０Ｌ洗浄槽に入れ分散させ、３０分間撹拌した後再度ろ過し、湿潤ポリフェニレンエーテルを得た。洗浄槽の内温は４０℃になるようコントロールした。これを３回繰り返し、次いで１４０℃で１５０分真空乾燥し乾燥ポリフェニレンエーテルを得た。
乾燥ポリフェニレンエーテルを用いて分子量の測定・ガラス転移温度測定を行なった。また、反応器等へのスケールは確認されなかった。結果を表２に示す。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８３】
［比較例３］
重合槽に入れる塩化第二銅２水和物を１．０８７ｇ、３５％塩酸を４．６５６ｇ、Ｎ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラメチルプロパンジアミンを４１．５３３ｇ、ジ−ｎ−ブチルアミンを３１．３２８ｇ、ｎ−ブタノールを６３２ｇ、メタノール１２６４ｇ、キシレンを４４２５ｇ、２，６−ジメチルフェノールを１２００ｇ、２，３，６−トリメチルフェノールを１００ｇとした以外は実施例１と同様に実施した。酸素ガス供給開始１４０分後にポリフェニレンエーテルが析出し、スラリー状の形態を示した。重合終結時の重合液の形態は沈殿析出重合である。結果を表２に示す。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８４】
［実施例１１］
重合槽に入れる２，６−ジメチルフェノールを７２ｇ、２，３，６−トリメチルフェノールを８８ｇとし、貯蔵槽に入れる２，６−ジメチルフェノールを６４８ｇ、２，３，６−トリメチルフェノールを７９２ｇとし、酸素ガス通気時間を２００分とした以外は実施例１と同様に実施した。酸素ガス供給開始１００分後にポリフェニレンエーテルが析出し、スラリー状の形態を示した。重合終結時の重合液の形態は沈殿析出重合である。結果を表２に示す。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８５】
［比較例５］
重合槽に入れる塩化第二銅２水和物を１．１１０ｇ、３５％塩酸を４．７５４ｇ、Ｎ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラメチルプロパンジアミンを４２．４０９ｇ、ジ−ｎ−ブチルアミンを１５．９９４ｇ、ｎ−ブタノールを１２６７ｇ、メタノール１９０１ｇ、キシレンを３１６８ｇ、２，６−ジメチルフェノールを１５２０ｇ、２，３，６−トリメチルフェノールを８０ｇとした以外は比較例３と同様に実施した。酸素ガス供給開始１４０分後にポリフェニレンエーテルが析出し、スラリー状の形態を示した。重合終結時の重合液の形態は沈殿析出重合である。結果を表２に示す。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８６】
［比較例６］
重合槽に入れる塩化第二銅２水和物を１．０８２ｇ、３５％塩酸を４．６３２ｇ、Ｎ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラメチルプロパンジアミンを４1.３１４ｇ、ジ−ｎ−ブチルアミンを３１．１６２ｇ、ｎ−ブタノールを１２６４ｇ、メタノール１２６４ｇ、キシレンを３７９３ｇ、２，６−ジメチルフェノールを１１２０ｇ、２，３，６−トリメチルフェノールを４８０ｇとした以外は比較例３と同様に実施した。酸素ガス供給開始１４０分後にポリフェニレンエーテルが析出し、スラリー状の形態を示した。重合終結時の重合液の形態は沈殿析出重合である。結果を表２に示す。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９０】
その後、濾過して濾残の湿潤ポリフェニレンエーテルをメタノール５１２０ｇともに１０Ｌ洗浄槽に入れ分散させ、３０分間撹拌した後再度ろ過し、湿潤ポリフェニレンエーテルを得た。洗浄槽の内温は４０℃になるようコントロールした。これを３回繰り返し、次いで１４０℃で１５０分真空乾燥し乾燥ポリフェニレンエーテルを得た。
乾燥ポリフェニレンエーテルを用いて分子量の測定・ガラス転移温度測定を行なった。また、反応器等へのスケールは確認されなかった。結果を表２に示す。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９１】
【表１】
2008063537.tif 000001
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９２】
【表２】
2008063537.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成21年8月24日(2009.8.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
下記一般式（４）で表されることを特徴とする請求項８に記載の高分子混合金属錯体。
【化１１】
2008063398.tif 000001
［但し、一般式（４）において、ＰＲ3はＰが配位原子である３級フォスフィンであり、下記構造式（５）に示す化合物から選ばれる。
【化１２】
2008063398.tif 000002
但し、構造式（５）中、フェニル基の水素原子はハロゲン原子または炭素原子数１０以下の分岐または直鎖状のアルキル基、アルコキシル基に置換されても良い。Ｒ2とＲ3は、炭素原子数６以下の直鎖状、分岐状または環状のアルキル基である。］
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月16日(2009.6.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）水酸基を有する有機カルボン酸のみからなることを特徴とするゴムチップ表面処理剤。
【請求項２】
（Ａ）水酸基を有する有機カルボン酸と、イソシアネート基に不活性な溶媒とのみからなることを特徴とするゴムチップ表面処理剤。
【請求項３】
前記（Ａ）水酸基を有する有機カルボン酸が、水酸基を有する脂肪族有機カルボン酸、または水酸基と側鎖に結合したカルボキシル基を有する芳香族有機カルボン酸であることを特徴とする請求項１または２に記載のゴムチップ表面処理剤。
【請求項４】
（Ａ）水酸基を有する有機カルボン酸と、（Ｂ）ひまし油系ポリオールまたはひまし油系ポリオール及びポリブタジエン系ポリオールを含有することを特徴とするゴムチップ表面処理剤。
【請求項５】
（Ｃ）有機カルボン酸を含有することを特徴とする請求項４に記載のゴムチップ表面処理剤。
【請求項６】
さらに溶媒を含有することを特徴とする請求項４または５に記載のゴムチップ表面処理剤。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載のゴムチップ表面処理剤により表面処理したゴムチップと、ウレタン樹脂バインダーとを混練し、硬化させてなることを特徴とする弾性舗装材。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
すなわち、本発明第一のゴムチップ表面処理剤は、（Ａ）水酸基を有する有機カルボン酸のみからなること、または（Ａ）水酸基を有する有機カルボン酸と、イソシアネート基に不活性な溶媒とのみからなることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月11日(2009.6.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
害虫忌避組成物と噴射ガスとがエアゾール容器に充填されてなる害虫忌避エアゾール製品であって、
前記害虫忌避組成物は、害虫忌避成分と多孔質無機粉体とを含むものであり、
前記エアゾール容器は、前記害虫忌避組成物と前記噴射ガスとからなる噴射物を噴射する噴射ノズルを備え、
前記噴射物中の粒径１０μｍ以下の噴霧粒子が、体積分布で５％以下であることを特徴とする害虫忌避エアゾール製品。
【請求項２】
前記噴射ノズルの内径が０．５ｍｍ〜２．０ｍｍであり、
前記噴射ノズルの長さが１．０ｍｍ〜１０．０ｍｍであることを特徴とする請求項１に記載の害虫忌避エアゾール製品。
【請求項３】
前記害虫忌避成分がＮ，Ｎ−ジエチル−ｍ−トルアミドであることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の害虫忌避エアゾール製品。
【請求項４】
前記多孔質無機粉体が非晶質シリカ、非晶質シリカ−アルミナ或いは非晶質アルミノケイ酸塩の少なくとも一つから成る核粒子と、該核粒子を被覆するマグネシウム化合物とから成るマグネシウム化合物被覆粒子であることを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれかに記載の害虫忌避エアゾ−ル製品。
【請求項５】
前記Ｎ，Ｎ−ジエチル−ｍ−トルアミドと前記多孔質無機粉体との質量比が１／３〜３／１であることを特徴とする請求項３または請求項４に記載の害虫忌避エアゾ−ル製品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】害虫忌避エアゾール製品
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また、本発明の害虫忌避エアゾール製品においては、Ｎ，Ｎ−ジエチル−ｍ−トルアミドと前記多孔質無機粉体の質量比が１／３〜３／１であるものとすることができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月11日(2009.9.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シート束を製本するシート処理装置において、
前記シート束を折り曲げる折り曲げ手段と、
前記折り曲げ手段の上流に設けられ、レーザ光により前記シート束を形成するシートの折り曲げ位置に溝を形成するシート加工手段と、
前記シート加工手段の動作を制御する制御手段と、を備え、
前記制御手段は、前記シート束が折り曲げられた際の前記シート束の外側に位置するシートの前記溝の幅が、内側に位置するシートの前記溝の幅よりも広くなるよう前記シート加工手段の動作を制御することを特徴とするシート処理装置。
【請求項２】
前記制御手段は、シートに前記溝を形成する際、一枚毎に前記溝の幅を変化させるよう前記シート加工手段の動作を制御することを特徴とする請求項１記載のシート処理装置。
【請求項３】
前記制御手段は、シートに前記溝を形成する際、複数枚毎に前記溝の幅を変化させるよう前記シート加工手段の動作を制御することを特徴とする請求項１記載のシート処理装置。
【請求項４】
前記制御手段は、前記シート束が折り曲げられた際の前記シート束の最も内側に位置するシートには前記溝の形成を行わないよう前記シート加工手段の動作を制御することを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載のシート処理装置。
【請求項５】
シートに画像を形成する画像形成部と、前記画像形成部により画像が形成されたシートの束を二つ折りにして製本する請求項１ないし４のいずれか１項に記載のシート処理装置と、を備えたことを特徴とする画像形成装置。
【請求項６】
シートに画像を形成する画像形成部と、
画像形成されたシートを束にして折り曲げる折り曲げ手段と、
前記折り曲げ手段の上流に設けられ、レーザ光により前記シート束を形成するシートの折り曲げ位置に溝を形成するシート加工手段と、
前記シート加工手段の動作を制御する制御手段と、を備え、
前記制御手段は、前記シート束が折り曲げられた際の前記シート束の外側に位置するシートの前記溝の幅が、内側に位置するシートの前記溝の幅よりも広くなるよう前記シート加工手段の動作を制御することを特徴とする画像形成装置。
【請求項７】
前記制御手段は、シートに前記溝を形成する際、一枚毎に前記溝の幅を変化させるよう前記シート加工手段の動作を制御することを特徴とする請求項６記載の画像形成装置。
【請求項８】
前記制御手段は、シートに前記溝を形成する際、複数枚毎に前記溝の幅を変化させるよう前記シート加工手段の動作を制御することを特徴とする請求項６に記載の画像形成装置。
【請求項９】
前記制御手段は、前記シート束が折り曲げられた際の前記シート束の最も内側に位置するシートには前記溝の形成を行わないよう前記シート加工手段の動作を制御することを特徴とする請求項６ないし８のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明は、シート束を製本するシート処理装置において、前記シート束を折り曲げる折り曲げ手段と、前記折り曲げ手段の上流に設けられ、レーザ光により前記シート束を形成するシートの折り曲げ位置に溝を形成するシート加工手段と、前記シート加工手段の動作を制御する制御手段と、を備え、前記制御手段は、前記シート束が折り曲げられた際の前記シート束の外側に位置するシートの前記溝の幅が、内側に位置するシートの前記溝の幅よりも広くなるよう前記シート加工手段の動作を制御することを特徴とするものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また本発明は、シートに画像を形成する画像形成部と、画像形成されたシートを束にして折り曲げる折り曲げ手段と、前記折り曲げ手段の上流に設けられ、レーザ光により前記シート束を形成するシートの折り曲げ位置に溝を形成するシート加工手段と、前記シート加工手段の動作を制御する制御手段と、を備え、前記制御手段は、前記シート束が折り曲げられた際の前記シート束の外側に位置するシートの前記溝の幅が、内側に位置するシートの前記溝の幅よりも広くなるよう前記シート加工手段の動作を制御することを特徴とするものである。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月2日(2009.9.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
薄板状の矩形基板を検査領域に搬送して検査する基板検査装置において、
前記矩形基板を水平にして搬送するための搬送ステージと、
前記矩形基板の搬送方向に沿う前記搬送ステージの両側にそれぞれ往復移動可能に配置され、前記搬送方向に沿う前記矩形基板の片側端部を保持して前記搬送方向に搬送力を付勢する片側搬送部と、
前記それぞれの片側搬送部が前記矩形基板の受渡し領域に移動して一方の片側搬送部から反対側に位置する他方の片側搬送部に前記矩形基板を受渡すことにより、前記矩形基板の搬送を行うようにしたことを特徴とする基板検査装置。
【請求項２】
前記片側搬送部は、前記矩形基板の受渡し領域に対して前記搬送ステージの両側に前記矩形基板の受渡し領域から上流側と前記矩形基板の受渡し領域から下流側にそれぞれ往復移動可能に設けられることを特徴とする請求項１に記載の基板検査装置。
【請求項３】
前記片側搬送部は、前記搬送ステージの複数個所に配置された前記矩形基板の受渡し領域に対して隣り合う前記矩形基板の受渡し領域間に往復移動可能に設けられるとともに、上流側の端に位置する前記矩形基板の受渡し領域から上流側と下流側の端に位置する前記矩形基板の受渡し領域から下流側にそれぞれ往復移動可能に設けられることを特徴とする請求項１に記載の基板検査装置。
【請求項４】
前記片側搬送部は、前記搬送ステージの複数個所に配置された前記矩形基板の受渡し領域に対して隣り合う前記矩形基板の受渡し領域間に設けられることを特徴とする請求項１に記載の基板検査装置。
【請求項５】
前記片側搬送部は、前記搬送ステージを挟んで前記搬送ステージの両側に沿って交互に複数設けられることを特徴とする請求項１から４に記載の基板検査装置。
【請求項６】
前記片側搬送部は、前記搬送ステージの片側に沿って交互に複数設けられることを特徴とする請求項１から４に記載の基板検査装置。
【請求項７】
前記搬送ステージは、前記矩形基板を搬入する基板搬入部と、この基板搬入部の下流側に配置され前記矩形基板の全面を検査するための基板検査部と、この基板検査部の下流側に配置され前記基板検査部で検査された基板を搬出する基板搬出部で構成され、
前記検査部は、上流側から搬送された前記矩形基板を受ける上流側の基板受渡し領域と、前記矩形基板を検査して基板搬出部に渡す下流側の基板受渡し領域とが隣り合って設けられることを特徴とする請求項１に記載の基板検査装置。
【請求項８】
前記矩形基板の受渡し領域は、搬入された前記矩形基板を基準位置に位置決めするアライメント機構を備えた基板搬入部と、前記矩形基板の全面を検査するための基板検査部の検査領域との間に設けられ、前記アライメント機構により位置決めされた状態で前記矩形基板を上流側の片側搬送部から下流側の片側搬送部に受け渡して前記検査部の検査領域に搬送することを特徴とする請求項７に記載の基板検査装置。
【請求項９】
前記搬送ステージは、前記矩形基板を浮上させる浮上ステージよりなることを特徴とする請求項１から４に記載の基板検査装置。
【請求項１０】
前記搬送ステージは、前記矩形基板を一定高さで水平に支える多数のローラが配列されたローラステージよりなることを特徴とする請求項１から４に記載の基板検査装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
上記の課題を解決するために、本発明の基板検査装置は、薄板状の矩形基板を検査領域に搬送して検査する基板検査装置において、前記矩形基板を水平にして搬送するための搬送ステージと、前記矩形基板の搬送方向に沿う前記搬送ステージの両側にそれぞれ往復移動可能に配置され、前記搬送方向に沿う前記矩形基板の片側端部を保持して前記搬送方向に搬送力を付勢する片側搬送部と、前記それぞれの片側搬送部が前記矩形基板の受渡し領域に移動して一方の片側搬送部から反対側に位置する他方の片側搬送部に前記矩形基板を受渡すことにより、前記矩形基板の搬送を行うようにしたことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月11日(2009.9.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シート束を綴じる綴じ手段と、
前記綴じ手段により綴じられた後の各シートを折り返すための溝をレーザ光によって前記シート束の綴じ部近傍に形成する溝形成手段と、を備え、
前記溝形成手段が、前記綴じ手段の上流側に配設されて、前記綴じ手段によって綴じられる前に前記シートに前記溝を形成する、
ことを特徴とするシート処理装置。
【請求項２】
前記溝形成手段が、前記シート束を構成するシートを折り返した際に見える側のシート面に前記溝を形成してなる、
ことを特徴とする請求項１に記載のシート処理装置。
【請求項３】
前記溝形成手段が、前記溝を前記シート束の最終ページに近いシートほど前記綴じ部から離れた位置に形成してなる、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載のシート処理装置。
【請求項４】
前記溝形成手段が、前記溝を前記シート束の厚みの中央に近いシートほど前記綴じ部から離れた位置に形成してなる、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載のシート処理装置。
【請求項５】
前記溝形成手段が、前記シート束の最終ページに近いシートほど前記溝の幅を大きくして、前記溝を形成してなる、
ことを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載のシート処理装置。
【請求項６】
前記溝形成手段が、前記シート束を構成するシートの枚数が多いほど前記溝の幅と深さとの少なくとも一方の寸法を大きくして、前記溝を形成してなる、
ことを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記載のシート処理装置。
【請求項７】
前記溝形成手段が、前記シート束を構成するシートの厚みが厚いほど前記溝の幅と深さとの少なくとも一方の寸法を大きくして、前記溝を形成してなる、
ことを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項に記載のシート処理装置。
【請求項８】
前記溝形成手段が、前記シート束を構成するシートの剛性が大きいほど前記溝の幅と深さとの少なくとも一方の寸法を大きくして、前記溝を形成してなる、
ことを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項に記載のシート処理装置。
【請求項９】
前記溝形成手段が、前記溝を前記シート束の最終ページのシートを除いて形成してなる、
ことを特徴とする請求項１ないし８のいずれか１項に記載のシート処理装置。
【請求項１０】
前記溝形成手段が、シート束の厚みとシート枚数の少なくとも一方に応じて前記溝の形成を行うよう動作することを特徴とする請求項１ないし９のいずれか１項に記載のシート処理装置。
【請求項１１】
シートに画像を形成する画像形成部と、
前記画像形成部によって画像を形成された前記シートを束状にして綴じるシート処理装置と、を備え、
前記シート処理装置が、請求項１ないし１０のいずれか１項に記載のシート処理装置である、
ことを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明のシート処理装置は、シート束を綴じる綴じ手段と、前記綴じ手段により綴じられた後の各シートを折り返すための溝をレーザ光によって前記シート束の綴じ部近傍に形成する溝形成手段と、を備え、前記溝形成手段が、前記綴じ手段の上流側に配設されて、前記綴じ手段によって綴じられる前に前記シートに前記溝を形成する、ことを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
また、図７に示すように、溝Ｘは、シート束ＰＡの厚みの中央に近いシートＰＣほど、綴じ針Ｙから離れた位置に形成されてもよい。このようにすると、シート束を両側から開き易くなる。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月3日(2009.9.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シートに画像を形成する画像形成部を有する画像形成装置と、前記画像形成装置から受け取ったシートを処理する処理部を有するシート処理装置と、を具備した画像形成システムであって、
前記画像形成装置の画像形成動作開始前の運転中又は画像形成動作の中断中に前記シート処理装置にシートを搬送し、前記シート処理装置は前記画像形成装置から受け取った前記シートを用いて前記処理部を処理能力が発揮できる状態に維持する調整のための前記処理部のキャリブレーション動作を行うことを特徴とする画像形成システム。
【請求項２】
前記画像形成装置は、画像形成動作開始前の運転中又は画像形成動作の中断中に、前記シート処理装置にシートを搬送してキャリブレーション動作を行う際に、前記画像形成部を経由しないシートパスを通して前記シート処理装置にシートを搬送することを特徴とする請求項１に記載の画像形成システム。
【請求項３】
前記画像形成装置は、シートに画像を定着する定着部を有し、画像形成動作開始前の運転中又は画像形成動作の中断中に、前記シート処理装置にシートを搬送してキャリブレーション動作を行う際に、前記画像形成部及び前記定着部におけるシート挟持部の圧接を解除することを特徴とする請求項１に記載の画像形成システム。
【請求項４】
前記シート処理装置におけるシートを用いた処理部のキャリブレーション動作とは、処理されるべきシートを整合する整合板の間隔調整、前記処理部においてシートの処理中に一時的に蓄積するバッファユニットに蓄積された複数枚のシートのずらし量の調整、中綴じ処理されるべきシートの端部を突き当てて保持するストッパの位置調整、穿孔処理されるべきシートの端部の検知に基づく穿孔位置調整、裁断処理されるべきシートの端部を突き当てて保持するストッパの位置調整のいずれかのための動作であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の画像形成システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記目的を達成するための本発明の代表的な構成は、シートに画像を形成する画像形成部を有する画像形成装置と、前記画像形成装置から受け取ったシートを処理する処理部を有するシート処理装置と、を具備した画像形成システムであって、前記画像形成装置の画像形成動作開始前の運転中又は画像形成動作の中断中に前記シート処理装置にシートを搬送し、前記シート処理装置は前記画像形成装置から受け取った前記シートを用いて前記処理部を処理能力が発揮できる状態に維持する調整のための前記処理部のキャリブレーション動作を行うことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
すなわち、キャリブレーションのためのシートを搬送する際には、まず画像形成部９０２における各感光ドラム９１４と搬送装置９２０を離間させ、更に定着部９０４において対をなすローラを離間させ、シート挟持部の圧接を解除する。その後、カセット９１０から給送されたシートを画像形成部９０２及び定着部９０４を通してシート処理装置１００へ搬送する。なお、その他の構成は前述した実施形態と同様である。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月11日(2009.9.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反応性スパッタリング法によって基板に薄膜を成膜する成膜装置において、スパッタ粒子を発生させるターゲットと、前記ターゲットの放電空間である第１の空間部を囲う第１の仕切り部材と、前記第１の空間部にスパッタガスを供給するスパッタガス供給手段と、前記第１の仕切り部材に配設された第１の開口と、前記第１の開口を介して前記第１の空間部に隣接する第２の空間部を囲う第２の仕切り部材と、前記第２の空間部に反応性ガスを供給する反応性ガス供給手段と、前記第２の仕切り部材に配設された第２の開口と、前記第２の開口に対向するように前記基板を固定する基板ホルダと、を有することを特徴とする成膜装置。
【請求項２】
前記第１および前記第２の空間部のうちの少なくとも一方の空間部の圧力を３．０Ｐａ以上に制御することを特徴とする請求項１記載の成膜装置。
【請求項３】
前記スパッタガスとして、Ａｒ、Ｘｅ、Ｎｅ、Ｋｒ、もしくはそれらの混合ガスを用いることを特徴とする請求項１または２記載の成膜装置。
【請求項４】
前記反応性ガスとして、Ｆ２、ＣｍＦｎ（ｍ、ｎは整数）、ＮＦ３、ＳＦ６、Ｏ２、Ｈ２またはＨ２Ｏを用いることを特徴とする請求項１ないし３いずれか１項記載の成膜装置。
【請求項５】
前記ターゲットとして、Ｍｇ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｌａ、Ｇｄ、Ｎｄ、Ｎａまたはそれらの化合物を用いることを特徴とする請求項１ないし４いずれか１項記載の成膜装置。
【請求項６】
請求項１ないし５いずれか１項記載の成膜装置によってＭｇＦ２の膜を成膜することを特徴とする成膜方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
上記目的を達成するため、本発明の成膜装置は、反応性スパッタリング法によって基板に薄膜を成膜する成膜装置において、スパッタ粒子を発生させるターゲットと、前記ターゲットの放電空間である第１の空間部を囲う第１の仕切り部材と、前記第１の空間部にスパッタガスを供給するスパッタガス供給手段と、前記第１の仕切り部材に配設された第１の開口と、前記第１の開口を介して前記第１の空間部に隣接する第２の空間部を囲う第２の仕切り部材と、前記第２の空間部に反応性ガスを供給する反応性ガス供給手段と、前記第２の仕切り部材に配設された第２の開口と、前記第２の開口に対向するように前記基板を固定する基板ホルダと、を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月7日(2009.9.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シートを排出する排出手段と、
前記排出手段によって排出されたシートが積載される積載部と、
前記排出手段の近傍であって、前記積載部の上方に配置され、シートの排出方向と直交するシートの幅方向に沿う軸を中心として、前記排出手段によって排出されているシートと接触して該シートによって回動される第１回動部材と、
前記第１回動部材の上方にて前記第１回動部材の前記軸と平行な軸を中心として回動自在に支持され、先端部が前記第１回動部材の上面に接触する第２回動部材と、を備える、
ことを特徴とするシート排出装置。
【請求項２】
前記第２回動部材は、自重で先端部が前記第１回動部材の上面に接触し、
前記第１及び第２回動部材は、重力に基づく回動方向が互いに同じである、
ことを特徴とする請求項１記載のシート排出装置。
【請求項３】
前記第２回動部材の質量は、前記第１回動部材の質量よりも小さい、
ことを特徴とする請求項１又は２記載のシート排出装置。
【請求項４】
前記第１及び第２回動部材は、固有振動数が互いに異なっている、
ことを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項記載のシート排出装置。
【請求項５】
前記第１回動部材は、前記積載部に積載されたシートの満載状態を検知するための満載検知レバーである、
ことを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項記載のシート排出装置。
【請求項６】
前記第１回動部材は、排出されるシートを前記積載部に押えるシート押えレバーである、
ことを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項記載のシート排出装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
しかしながら、上記特許文献４に記載の技術では、押圧手段を伴った上記押圧レバーが、排紙される記録紙（シート）の動きを阻害する懸念があり、記録紙の搬送性に対し、或いは画像に対して悪影響を与える虞があった。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は、このような現状に鑑みてなされたものであり、排紙カバー等の回動部材が待機位置に復帰する際の振動に起因する騒音を防止しながらも、排紙されるシートの動きを阻害しないようにしたシート排出装置を提供することを目的とするものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明は、シートを排出する排出手段と、前記排出手段によって排出されたシートが積載される積載部と、前記排出手段の近傍であって、前記積載部の上方に配置され、シートの排出方向と直交するシートの幅方向に沿う軸を中心として、前記排出手段によって排出されているシートと接触して該シートによって回動される第１回動部材と、前記第１回動部材の上方にて前記第１回動部材の前記軸と平行な軸を中心として回動自在に支持され、先端部が前記第１回動部材の上面に接触する第２回動部材と、を備えることを特徴としている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明によれば、第１回動部材の上方に位置し、且つ第１回動部材の軸と平行な軸を中心として回動自在な第２回動部材が、先端部を第１回動部材の上面に自重で接触している。このため、排紙されるシートの動きを阻害することなく、待機位置に第１回動部材が復帰する際の振動を、第２回動部材により自然な形で打ち消し、振動に起因する騒音を防止することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
［全体構成］
ＭＦＰ１０は、図１及び図２に示すように、装置本体１０ａに、原稿読取部Ａ、画像形成部Ｂ、記録紙積載部（積載部）３０及び操作部２１を備え、コピー機能と、ファクシミリ機能と、コンピュータ周辺機器としてのプリンタ機能及びイメージスキャナ機能とを有する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
［画像形成部Ｂの構成と動作］
画像形成部Ｂは、記録信号に応じて画像を形成する部位であり、装置本体１０ａ内方の略中央部に光学系１を有している。そして画像形成部Ｂは、装置本体１０ａの背面側（図２における右側）における下側から上方にかけて、搬送手段３、転写手段４、定着手段５、排出手段である排紙手段６を有している。更に、画像形成部Ｂは、プロセスカートリッジＣを駆動する駆動手段（図示せず）を有している。この駆動手段は、駆動源としてのモータ（図示せず）からの駆動力を不図示のギア列を介して各回転体（図示せず）に伝達するように構成される。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
記録紙積載台２ａには、シートである記録紙Ｐの搬送方向（図２の矢印Ｊ方向）と直交する方向（記録紙Ｐの幅方向）にスライド可能に支持されたマルチスライダ２ｂが配設されている。このマルチスライダ２ｂにより、Ａ４サイズやレターサイズ等の定型サイズ紙はもとより、葉書や封筒といった不定形サイズの記録媒体をサポートすることができ、記録紙給紙部２に載置された記録紙Ｐの両サイドを揃えることができる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
６    排出手段（排紙手段）
６ａ    記録紙トレイ
６ｂ    排紙ローラ対
１０    シート排出装置（画像形成装置（ＭＦＰ））
１０ａ    装置本体
３０    積載部（記録紙積載部）
３２    第１回動部材、排シートカバー（排紙カバー）
３３    第２回動部材（振動防止部材）
３３ｂ    先端部（下端部）
Ｂ    画像形成部
Ｆ    シートの排出方向（記録紙の排出方向）
Ｈ    排紙カバーの軸
Ｉ    振動防止部材の軸
Ｐ    シート（記録紙）
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月15日(2009.9.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（Ｉ）で表される二環式化合物を便通誘導のために有効な量を含む下剤組成物：
【化１】
2009114217.tif 000001
［式中Ｖ１およびＶ２は炭素である；
Ｗ１は＝Ｏである；
Ｗ２は
【化２】
2009114217.tif 000002
である；
Ｘ１およびＸ２はハロゲンである；
Ｒ２は水素である；
Ｙは非置換の６〜８炭素原子を含む飽和炭化水素鎖である；
Ｚは酸素である；
Ａは−ＣＯＯＨまたはその医薬上許容しうる塩またはエステルである；そして、
Ｒ１は非置換の４−８の炭素原子を含む直鎖または分岐鎖を形成する飽和または不飽和の炭化水素である；
Ｃ−１３位とＣ−１４位の間の結合は二重結合または単結合である；そして、
Ｃ−１５はＲ、Ｓの立体配置を有するかその混合物である］
【請求項２】
Ａが−ＣＯＯＨである、請求項１記載の組成物。
【請求項３】
Ａが−ＣＯＯＨ、Ｘ１およびＸ２がフッ素原子である、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
ＡがＣＯＯＨ；Ｙが（ＣＨ２）６；Ｘ１およびＸ２がフッ素原子；そしてＲ１が（ＣＨ２）３ＣＨ３である、請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
式（Ｉ）で表される二環式化合物が、
【化３】
2009114217.tif 000003
またはその医薬上許容しうる塩またはエステルである、請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
式（Ｉ）で表される二環式化合物が、
【化３】
2009114217.tif 000004
である、請求項５に記載の組成物。
【請求項７】
さらに中鎖脂肪酸トリグリセリドを含有する、請求項１−６のいずれかに記載の組成物。
【請求項８】
中鎖脂肪酸トリグリセリドが、式（Ｉ）の二環式化合物１重量部に対して１−１，０００，０００重量部存在する、請求項７に記載の組成物。
【請求項９】
中鎖脂肪酸トリグリセリドが、式（Ｉ）の二環式化合物１重量部に対して５−５００，０００重量部存在する、請求項８に記載の組成物。
【請求項１０】
中鎖脂肪酸トリグリセリドが、式（Ｉ）の二環式化合物１重量部に対て１０−２００，０００重量部存在する、請求項９に記載の組成物。
【請求項１１】
中鎖脂肪酸トリグリセリドが、６−１４の炭素原子を有する脂肪酸のトリグリセリドである、請求項７に記載の組成物。
【請求項１２】
中鎖脂肪酸トリグリセリドが、カプリル酸トリグリセリドおよび／またはカプリン酸トリグリセリドである、請求項１１に記載の組成物。
【請求項１３】
ヒト便秘患者における便秘の軽減または予防のための、請求項１−１２のいずれかに記載の組成物。
【請求項１４】
腸洗浄のための、請求項１−１２のいずれかに記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月7日(2009.9.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
患者における抗原に対する記憶Ｔ細胞応答を誘導するための医薬組成物の製造における、抗ＣＴＬＡ−４抗体またはそのフラグメントの使用であって、前記抗ＣＴＬＡ−４抗体またはそのフラグメントがＣＴＬＡ−４の細胞外ドメインに特異的に結合し、さらにＣＴＬＡ−４シグナル発生を抑制するという特徴を有する前記使用。
【請求項２】
当該抗原が病原体抗原である、請求の範囲第１項記載の使用。
【請求項３】
病原体抗原がウイルスのエンベロープおよびコート蛋白である、請求の範囲第２項記載の使用。
【請求項４】
病原体抗原が黄色ブドウ球菌内毒素Ｂである、請求の範囲第２または３項記載の使用。
【請求項５】
当該抗原が腫瘍抗原である、請求の範囲第１項記載の使用。
【請求項６】
さらに、腫瘍に対するＴ細胞の反応を高めるための腫瘍抗原の使用を含む、請求の範囲第５項記載の使用。
【請求項７】
腫瘍抗原が既に死んだ腫瘍細胞または死につつある腫瘍細胞を含む、請求の範囲第５または６項記載の使用。
【請求項８】
既に死んだ腫瘍細胞または死につつある腫瘍細胞が照射腫瘍細胞である、請求の範囲第５または６項記載の使用。
【請求項９】
腫瘍抗原が、精製蛋白または腫瘍細胞由来の溶解物を含む抗原調製物である、請求の範囲第５または６項記載の使用。
【請求項１０】
さらに、免疫反応刺激剤の治療方法における使用を含む、請求の範囲第１〜９項のいずれか一項記載の使用。
【請求項１１】
免疫反応刺激剤がサイトカインである、請求の範囲第１０項記載の使用。
【請求項１２】
サイトカインが顆粒球−マクロファージコロニー刺激因子（ＧＭ−ＣＳＦ）、マクロファージコロニー刺激因子（Ｍ−ＣＳＦ）、顆粒球コロニー剌激因子（Ｇ−ＣＳＦ）、またはインターロイキン１２（ＩＬ−１２）である、請求の範囲第１１項記載の使用。
【請求項１３】
さらに、化学療法剤の治療方法における使用を含む、請求の範囲第１〜１２項のいずれか一項記載の使用。
【請求項１４】
ＣＴＬＡ−４抗体またはそのフラグメントを、ホストの腫瘍特異Ｔ細胞と生体外で混合する、請求の範囲第５〜９項のいずれか一項記載の使用。
【請求項１５】
患者における抗原に対する記憶Ｔ細胞応答を誘導することにより癌腫を治療するための医薬組成物の製造における、抗ＣＴＬＡ−４抗体またはそのフラグメントの使用であって、前記抗ＣＴＬＡ−４抗体またはそのフラグメントがＣＴＬＡ−４の細胞外ドメインに特異的に結合し、さらにＣＴＬＡ−４シグナル発生を抑制するという特徴を有する前記使用。
【請求項１６】
患者における抗原に対する記憶Ｔ細胞応答を誘導するための医薬組成物であって、ＣＴＬＡ−４の細胞外ドメインに特異的に結合し、さらにＣＴＬＡ−４シグナル発生を抑制する抗ＣＴＬＡ−４抗体またはそのフラグメントを含む前記医薬組成物。
【請求項１７】
患者における抗原に対する記憶Ｔ細胞応答を誘導することにより癌腫を治療するための医薬組成物であって、ＣＴＬＡ−４の細胞外ドメインに特異的に結合し、さらにＣＴＬＡ−４シグナル発生を抑制する抗ＣＴＬＡ−４抗体またはそのフラグメントを含む前記医薬組成物。
【請求項１８】
放射線療法を受けた患者におけるメラノーマを治療するための薬剤の製造における、抗ＣＴＬＡ−４抗体またはそのフラグメントの使用。
【請求項１９】
化学療法を受けた患者におけるメラノーマを治療するための薬剤の製造における、抗ＣＴＬＡ−４抗体またはそのフラグメントの使用。
【請求項２０】
放射線療法を受けた患者における癌腫（カルシノーマ）を治療するための薬剤の製造における、抗ＣＴＬＡ−４抗体またはそのフラグメントの使用。
【請求項２１】
化学療法を受けた患者における癌腫（カルシノーマ）を治療するための薬剤の製造における、抗ＣＴＬＡ−４抗体またはそのフラグメントの使用。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月19日(2008.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ターボ機械の可変ピッチのステータベーン（１４、１４’）の２つの段（１０、１０’）を制御するための制御システムであって、
各段（１０、１０’）が、ターボ機械のケーシング（１２）に各々旋回可能に取り付けられる複数のベーン（１４、１４’）と、ケーシングを取り巻き、レバー（１８、１８’）を介して段のベーン（１４、１４’）のそれぞれに連結される制御リング（２２、２２’）とから形成され、
制御システムが、ケーシング（１２）に旋回可能に取り付けられるリーダ部材（２６）を介して、一方の段（１０）の制御リング（２２）を回転させるための駆動要素（２４）と、駆動要素（２４）によって駆動される制御リング（２２）の回転運動を、ケーシングに旋回可能に取り付けられる従動部材（２６’）を介して他方の段（１０’）の制御リング（２２’）に伝えるための同期バー（３０）とを備え、
前記制御システムが、従動部材（２６’）と従動リング（２２’）との間に挿置される追加のピボット部材（４４）をさらに備え、前記追加のピボット部材（４４）が、ケーシング（１２）および従動部材（２６’）の両方に旋回可能に取り付けられることを特徴とする、制御システム。
【請求項２】
追加のピボット部材（４４）が、従動リング（２２’）に連結される制御ロッド（３２’）に旋回可能に取り付けられる１つのアーム（４６）と、ケーシング（１２）に旋回可能に取り付けられるブシュ（５２）にスライド可能に受けられるガイドロッド（５０）とを有する、請求項１に記載の制御システム。
【請求項３】
従動部材（２６’）が、追加のピボット部材（４４）に旋回可能に連結される第１のアーム（３６）と、同期バー（３０）の一端部に連結される第２のアーム（４０）とを備える、請求項１または２に記載の制御システム。
【請求項４】
追加のピボット部材（４４）のケーシング（１２）上のピボット点が、円（Ｃ）の内側に配置され、前記円（Ｃ）が、従動部材（２６’）のケーシング上のピボット点（２６’ａ）に中心を合わされ、半径として前記従動部材の第１のアーム（３６）を有する、請求項３に記載の制御システム。
【請求項５】
追加のピボット部材（４４）のケーシング（１２）上のピボット点が、円（Ｃ）の外側に配置され、前記円（Ｃ）が、従動部材（２６’）のケーシング上のピボット点（２６’ａ）に中心を合わされ、半径として前記従動部材の第１のアーム（３６）を有する、請求項３に記載の制御システム。
【請求項６】
リーダ部材（２６）が、第２の制御ロッド（３２）を介してリーダ段（１０）の制御リング（２２）に連結される第１のアーム（３４）と、従動部材（２６’）に連結される端部と反対側の同期バー（３０）の端部に連結される第２のアーム（３８）と、駆動要素（２４）に連結される第３のアーム（４２）とを備える、請求項３から５のいずれか一項に記載の制御システム。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月19日(2008.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電極パッドと、
キャパシタと、
前記電極パッドおよび前記キャパシタが所定の領域に配置された基板とを備え、
前記キャパシタおよび前記電極パッドは、前記キャパシタおよび前記電極パッドの各々の少なくとも２辺が所定の間隔で隣接する、平面上の配置関係を有し、
前記キャパシタは、前記キャパシタの当該２辺を連結して前記電極パッドと対向する接続辺をさらに備え、
前記接続辺と前記２辺の各々とがなす前記キャパシタの外側の角度は、９０度よりも大きいことを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
電極パッドと、
キャパシタと、
前記電極パッドおよび前記キャパシタが所定の領域に配置された基板とを備え、
前記キャパシタおよび前記電極パッドは、前記キャパシタおよび前記電極パッドの各々の少なくとも２辺が所定の間隔で隣接する、平面上の配置関係を有し、
前記キャパシタは、前記キャパシタの当該２辺を連結して前記キャパシタの直角な関係の外周辺の延長線が交差されてなる内側角部と対向する接続辺を有し、
前記接続辺は、前記キャパシタ側に凹の湾曲辺であることを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
電極パッドと、
キャパシタと、
前記電極パッドおよび前記キャパシタが所定の領域に配置された基板とを備え、
前記キャパシタは、前記キャパシタの直角な関係の外周辺を連結して当該外周辺の延長線と交差されてなる内側角部と対向する接続辺を有し、
前記接続辺は、前記キャパシタ側に凹の湾曲しており、
前記キャパシタおよび前記電極パッドは、前記キャパシタの外周辺の延長線によって区画された内側領域の少なくとも一部に前記接続辺と対向して前記電極パッドが配置される、平面上の配置関係を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
電極パッドと、
第１のキャパシタ領域上に第２のキャパシタ領域が積層されたキャパシタと、
前記電極パッドおよび前記キャパシタが所定の領域に配置された基板とを備え、
前記第２のキャパシタ領域は、前記電極パッドと所定の間隔で隣接し、
前記第１のキャパシタ領域は、前記第２のキャパシタ領域に比較して前記電極パッド側に延在していることを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
前記キャパシタは、ＭＩＳ構造またはＭＩＭ構造からなることを特徴とする請求項１〜３に記載の半導体装置。
【請求項６】
前記第１のキャパシタ領域は、前記基板上の半導体層上に第１の絶縁層及び第１の金属層が積層された構造を有し、
前記第２のキャパシタ領域は、第１の金属層上に第２の絶縁層および第2の金属層が積層された構造を有することを特徴とする請求項４に記載の半導体装置。
【請求項７】
前記キャパシタは、第１のキャパシタ領域上に第２のキャパシタ領域が積層された構造を有し、
前記第１のキャパシタ領域は、前記第２のキャパシタ領域よりも前記電極パッド側に延在していることを特徴とする請求項１〜３に記載の半導体装置。
【請求項８】
前記基板上にさらに受光素子を備え、
前記基板上の中央部に前記受光素子の受光面が配置され、前記基板上の少なくとも４隅の１つに前記電極パッドとが配置されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の半導体装置。
【請求項９】
前記受光素子は、アバランシェフォトダイオードまたはＰＩＮフォトダイオードであることを特徴とする請求項８に記載の半導体装置。
【請求項１０】
前記基板上にさらに抵抗素子を備えることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の半導体装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月11日(2008.12.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２重構造の反応容器と、前記反応容器の外周に設けられる加熱手段とから構成される処理炉を備えた基板処理装置であって、  前記反応容器は、上部が閉じ下部が開いた外管と上部および下部が開いた内管とから構成される反応管と、前記反応管の前記外管と前記内管とを同心状に立設させるマニホールドと、前記マニホールドに設けられ、前記外管と前記内管との間に形成される空間の下端部を構成するとともに前記内管を立設させるための立設部を有する内管支持部と、前記内管内へ下方からガスを供給するガス供給手段と、前記マニホールドもしくは前記外管の側面に前記空間と連通するよう設けられ、前記内管内を上昇して前記空間を下降するガスを排気する開口とを有し、  
前記排気ガスに含有される物質が前記空間の下端部を構成する内管支持部上で液化した際に、該液化物質が前記内管支持部の立設部側に流入する前に、前記開口から排出するのを促進する液化物質排出促進手段を設けたことを特徴とする基板処理装置。  
【請求項２】
２重構造の反応容器と、前記反応容器の外周に設けられる加熱手段とから構成される処理炉を備えた基板処理装置であって、前記反応容器は、上部が閉じ下部が開いた外管と上部および下部が開いた内管とから構成される反応管と、前記反応管の前記外管と前記内管とを同心状に立設させるマニホールドと、前記マニホールドに設けられ、前記外管と前記内管との間に形成される空間の下端部を構成するとともに前記内管を立設させるための立設部を有する内管支持部と、前記内管内へ下方からガスを供給するガス供給手段と、前記マニホールドもしくは前記外管の側面に前記空間と連通するよう設けられ、前記内管内を上昇して前記空間を下降するガスを排気する開口とを有し、前記排気ガスに含有される物質が前記空間の下端部を構成する内管支持部上で液化した際に、該液化物質が前記内管支持部の立設部側に流れるのを阻止する障壁を設けたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項３】
２重構造の反応容器と、前記反応容器の外周に設けられる加熱手段とから構成される処理炉を備えた基板処理装置であって、前記反応容器は、上部が閉じ下部が開いた外管と上部および下部が開いた内管とから構成される反応管と、前記反応管の前記外管と前記内管とを同心状に立設させるマニホールドと、前記マニホールドに設けられ、前記外管と前記内管との間に形成される空間の下端部を構成するとともに前記内管を立設させるための立設部を有する内管支持部と、前記内管内へ下方からガスを供給するガス供給手段と、前記マニホールドもしくは前記外管の側面に前記空間と連通するよう設けられ、前記内管内を上昇して前記空間を下降するガスを排気する開口とを有し、前記内管を立設させるための立設部を前記開口の下端より高い位置に設けたことを特徴とする基板処理装置
【請求項４】
前記内管の外周の前記内管支持部に前記内管の移動を防止する内管移動防止手段を備えていることを特徴とする請求項１乃至請求項３記載の基板処理装置
【請求項５】
反応管における内管内部に基板を保持した基板保持具を搬入する工程と、加熱手段により前記内管内の前記基板を加熱しつつ、ガス供給手段により内管内へ下方からガスを供給しつつ前記反応管における外管と前記内管との間に形成される空間を介して、前記外管と前記内管とを同心状に立設させるマニホールドもしくは前記外管の側面に設けられる開口から排気して前記基板を処理する工程と、処理後の前記基板を前記反応容器内から搬出する工程と、を有し、
前記基板処理工程では、前記内管を立設させるための立設部を有する内管支持部上で前記排気ガスに含有される物質が液化した際に、液化物質排出促進手段が、該液化物質が前記内管支持部の立設部側に流入する前に、前記開口から排出するのを促進していることを
特徴とする半導体装置の製造方法。