【手続補正書】
【提出日】平成20年11月28日(2008.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
短波長電磁放射線、特にＥＵＶ放射線の生成用のターゲット材料を測定するための装置であって、
所定のターゲット経路に沿ってターゲット材料を供給するために配置されるターゲット生成装置と、
前記ターゲット経路に向けられる、放射線放射プラズマを生成するためのエネルギビームと、
プラズマの生成に必要なときのみ、相互作用点で相互作用チャンバに個別ターゲットを導入するために、前記ノズルチャンバにおける規定の一時的な圧力増大をもたらすための手段と、
前記相互作用チャンバにおける真空圧と前記貯槽中の前記ターゲット材料に及ぼされる圧力の間の圧力差から生じる前記注入装置の前記ノズルでの圧力低下を補償するために、前記ノズルに配置され平衡圧力を調整するための手段と、を具備し、
前記ターゲット生成装置は、ノズルを備えたノズルチャンバを含み且つ貯槽と連結される注入装置を有し、
前記調整された平衡圧力は、前記ノズルチャンバにおける一時的な圧力増大がない場合に限り、ターゲット材料の排出を防止する、装置。
【請求項２】
圧電素子が、前記ノズルチャンバにおける圧力を増大させるための手段として設けられ、前記圧電素子が前記ノズルチャンバの壁を内側に移動する、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記ノズルチャンバは、電圧が前記圧電素子に印加されるときに、内側に押し込まれる膜壁を有する、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
圧電スタックが、前記チャンバの容積を減少させるために、前記ノズルチャンバの内側に配置されている、請求項２に記載の装置。
【請求項５】
絞りが前記ノズルチャンバに設けられ、前記絞りの内側で前記ターゲット材料を気化する加熱素子が前記絞りの周囲に配置され、ターゲットの容積が熱膨張によって前記ノズルチャンバの中に移動させられ、圧力の一時的な増大を生じる、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記ノズルチャンバに隣接して位置する前記貯槽への連結線の一部が、前記ノズルチャンバの絞りとして設けられている、請求項５に記載の装置。
【請求項７】
５０ｍｂａｒを超える圧力で液体であるターゲット材料の場合には、液化のために、さらなる圧力が前記貯槽に加えられる、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
キセノンがターゲット材料として用いられる、請求項７に記載の装置。
【請求項９】
５０ｍｂａｒ未満の圧力におけるプロセス温度下で液体であるターゲット材料の場合には、圧力を調整するために、前記貯槽中の前記ターゲット材料の静水圧がもたらされる、請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
スズを用いるターゲット材料が用いられる、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
金属スズ合金がターゲット材料として用いられる、請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
塩化スズ（ＩＶ）がターゲット材料として用いられる、請求項１０に記載の装置。
【請求項１３】
前記ターゲット材料が塩化スズ（ＩＩ）の水溶液である、請求項１０に記載の装置。
【請求項１４】
前記ターゲット材料が塩化スズ（ＩＩ）のアルコール溶液である、請求項１０に記載の装置。
【請求項１５】
プラズマ生成のために工程条件下で５０ｍｂａｒ未満の圧力で液体であるターゲット材料の場合には、前記ノズルの出口で平衡圧力を最小限に抑えるために、前記ターゲット材料の静水圧がもたらされ、圧力を減少させるために、前記ノズルにおける前記ターゲット材料の液面と前記貯槽の前記ターゲット材料の液面との高さの差が、前記貯槽の液面が重力方向で前記ノズルの出口より下にあるように調整される、請求項９に記載の装置。
【請求項１６】
前記ノズルの出口方向が重力方向に配置される、請求項１５に記載の装置。
【請求項１７】
前記ノズルの出口方向が、重力方向に対向して配置されている、請求項１５に記載の装置。
【請求項１８】
前記個別ターゲットの出口のために、前記ターゲット経路に沿って開口部を有する副室が、平衡圧力を生成するための手段として前記相互作用チャンバの上流で前記注入装置の前記ノズルの周囲に配置され、前記ノズルチャンバにおける一時的な圧力増大がない場合に限り、ターゲット材料を逃さないように、平衡圧力として準静的圧力が前記副室に存在する、請求項１に記載の装置。
【請求項１９】
緩衝気体が、前記プラズマからの高い運動エネルギ粒子用の減速材として、前記副室に供給される気体として用いられる、請求項１８に記載の装置。
【請求項２０】
前記副室に供給される前記気体が不活性気体である、請求項１９に記載の装置。
【請求項２１】
前記副室に供給される前記気体が窒素を含有する、請求項２０に記載の装置。
【請求項２２】
前記副室に供給される前記気体が少なくとも１つの希ガスを含有する、請求項２０に記載の装置。
【請求項２３】
前記エネルギビームが集光レーザビームである、請求項１に記載の装置。
【請求項２４】
前記相互作用チャンバにおける前記エネルギビームのパルスが、正確に１つの個別ターゲットの放出と同期される、請求項１に記載の装置。
【請求項２５】
前記相互作用チャンバにおける前記エネルギビームのパルスが、前記注入装置の前記ノズルからの少なくとも２つの個別ターゲットの放出と同期され、少なくとも第１のターゲットが、前記エネルギビームによって衝突されるメインターゲットのための蒸気スクリーンを生成するための犠牲ターゲットとして形成される、請求項１に記載の装置。
【請求項２６】
前記相互作用チャンバにおける前記エネルギビームのパルスが、前記注入装置の複数のノズルからの少なくとも２つの個別ターゲットの放出と同期され、前記ノズルが、前記エネルギビームの軸および平均ターゲット経路によって定められる平面に対して３°〜９０°の角度を成す少なくとも１つの平面に配置される、請求項１に記載の装置。
【請求項２７】
前記ノズルが共用ノズルチャンバに配置される、請求項２６に記載の装置。
【請求項２８】
前記ノズルが独立ノズルチャンバに配置される、請求項２６に記載の装置。
【請求項２９】
前記相互作用チャンバにおける前記エネルギビームのパルスが、前記注入装置のすべてのノズルから互いに接近して連続する複数の個別ターゲットの放出と同期され、各ノズルからの少なくとも第１の個別ターゲットが、前記エネルギビームによって衝突される少なくとも１つのメインターゲットのための蒸気スクリーンを生成するための犠牲ターゲットである、請求項２６に記載の装置。
【請求項３０】
前記注入装置のすべてのノズルチャンバにおける圧力変化が、前記エネルギビームのパルスと同期され、少なくとも１つの犠牲ターゲットと２つのメインターゲットを含むターゲットカラムが、すべてのノズルからの前記エネルギビームのすべてのパルスのために準備される、請求項２８に記載の装置。
【請求項３１】
ターゲットの放出のために前記注入装置の前記ノズルチャンバが、一時的に増大する圧力のための手段と同相同期する、請求項２８に記載の装置。
【請求項３２】
前記注入装置の隣接するノズルチャンバが、一時的に増大する圧力のための手段の交互位相遅延で同期する、請求項２８に記載の装置。
【請求項３３】
短波長電磁放射線、特にＥＵＶ放射線の生成用のターゲット材料を測定する方法であって、ターゲット材料が所定のターゲット経路に沿ってターゲット生成装置のノズルからもたらされ、放射線を放射するプラズマを生成するためのエネルギビームが、前記ターゲット経路に向けられる、方法にして、
−前記ターゲット生成装置の動作不能状態では、ターゲット材料が前記ノズルから排出されないように前記ノズルに準静的平衡圧力を生成するステップと、
−ターゲット材料が前記ノズルを通じて前記ノズルチャンバから発射され、前記エネルギビームによって相互作用点の方向において個別ターゲットとして加速されるように、前記ノズルの上流側に位置したノズルチャンバに一時的なパルス圧力の増大を生成するステップと、
−すべての個別ターゲットが前記エネルギビームのパルスによって正確に衝突されるように、前記エネルギビームのパルスと前記ノズルチャンバにおけるパルス圧力の増大とを同期させるステップと、
を有する方法。