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【手続補正書】
【提出日】平成21年6月2日(2009.6.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料のエッジを検査するように構成されたシステムであって、
前記試料のエッジに斜め入射角で光を向けるように構成された照明サブシステムと、
前記試料のエッジからの散乱光を集光して、該散乱光に応答して信号を生成するように構成された検出サブシステムと、
を備え、
前記光の入射面が前記試料のエッジにほぼ正接する面に対しほぼ垂直であり、前記信号を用いて、前記試料のエッジ上の欠陥を検出することが可能であり、前記システムは前記試料の上面を検査し、前記試料上面の検査に使用される前記システムのパラメータは前記試料のエッジの検査に使用される前記システムのパラメータとは異なることを特徴とするシステム。
【請求項２】
前記試料のエッジは、前記試料の上部ベベル部、頂部、底部ベベル部を含むことを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記システムは、ほぼ同時に前記試料を回転及び並進することによって、前記試料のエッジ全体にわたり光をスキャンさせるようにさらに構成されることを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
前記システムは、前記試料の公称エッジを約２ｍｍから約３ｍｍまでの距離だけ越えて光をスキャンさせることによって、前記試料のエッジ全体にわたり光をスキャンさせるようにさらぶ構成されることを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項５】
前記システムは、前記エッジに近接する前記試料の上面のある位置から前記試料の公称エッジを越えるある位置まで光をスキャンさせることによって前記試料のエッジ全体にわたり光をスキャンさせるようにさらに構成されることを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
前記検出サブシステムは、前記試料のエッジからの鏡面反射光が前記検出サブシステムの検出器に入射するのを実質的に阻止するように構成されたマスクを含むことを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
前記信号を使用して前記試料のエッジ上の欠陥位置を求めるように構成されたプロセッサをさらに含むことを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項８】
前記パターン形成されたフューチャは前記試料のエッジに近接して前記試料の上面に配置され、前記システムは、どの信号が前記パターン形成されたフューチャからの散乱光に対応するかを判定して、前記パターン形成されたフューチャからの散乱光に対応する信号を前記欠陥の検出に使用される信号から除去するようにさらに構成されたプロセッサを含むことを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項９】
前記システムは、前記試料の底面を検査するようにさらに構成されることを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項１０】
前記試料は、パターン形成されたウェハ又はパターン未形成のウェハを含むことを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項１１】
試料のエッジを検査するための方法であって、
斜めの入射角で前記試料のエッジに光を向けるステップと、
前記試料のエッジからの散乱光を集光するステップと、
前記散乱光に応答して信号を生成するステップと、
前記試料の上面を検査するステップと、
から構成され、
前記光の入射面が前記試料のエッジにほぼ正接する面に対しほぼ垂直であり、前記信号を用いて前記試料のエッジ上の欠陥を検出することが可能であり、前記試料の上面の検査に使用されるパラメータは前記試料のエッジを検査するのに使用されるパラメータとは異なることを特徴とする方法。
【請求項１２】
前記試料のエッジは、前記試料の上部ベベル部、頂部、底部ベベル部を含むことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記向けるステップは、ほぼ同時に前記試料を回転させ、並進させることによって前記試料のエッジ全体にわたり光をスキャンさせるステップを有することを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
前記向けるステップは、前記試料の公称エッジを約２ｍｍから約３ｍｍまでの距離だけ越えて光をスキャンさせるステップを有することを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１５】
前記向けるステップは、前記エッジに近接する前記試料の上面のある位置から前記試料の公称エッジを越えるある位置まで前記試料全体にわたり光をスキャンさせるステップを有することを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１６】
前記試料のエッジからの鏡面反射光が前記生成段階に使用される検出器に入射するのを実質的に阻止するステップをさらに有することを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１７】
前記信号を使用して前記試料のエッジ上の欠陥位置を求めるステップをさらに有することを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１８】
前記信号を使用して前記試料のエッジ上の欠陥位置を求めるステップをさらに有し、前記位置が前記欠陥位置のｘ、ｙ座標を含むことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１９】
前記試料のエッジは、前記試料の上部ベベル部、頂部、底部ベベル部を含み、前記方法は、前記信号を用いて前記欠陥が上部ベベル部、頂部、又は底部ベベル部に位置するか否かを判定するステップをさらに有することを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項２０】
パターン形成されたフューチャは、前記試料のエッジに近接して前記試料の上面に配置され、前記方法方法は、どの信号が前記パターン形成されたフューチャからの散乱光に対応するかを判定するステップと、前記パターン形成されたフューチャからの散乱光に対応する信号を前記欠陥の検出に使用される前記信号から除去するステップをさらに有することを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項２１】
前記試料の底面を検査するステップをさらに有することを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項２２】
前記試料は、パターン形成されたウェハまたはパターン未形成のウェハを含むことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月28日(2009.10.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光部と、
前記発光部から出射した光束を反射する複数の反射面を有し、かつ前記反射面の幅は前記反射面に入射する光束の幅よりも狭い回転多面鏡と、
前記回転多面鏡によって走査された光束を感光体上に結像する結像光学系と、
を備えた走査装置において、
前記発光部は、複数の光源と、前記光源から出射した光束を弱発散光もしくは弱収束光へと変換する複数の第１光学素子と、前記複数の光源から出射した光束を合成して略同一方向へ出射させる合成手段と、前記合成手段の下流に設けられ前記合成手段を通過した光束を主走査方向において平行光束へと変換する第２光学素子とが一体となったレーザユニットとして構成され、前記平行光束の光軸と略直交する主走査方向に移動可能に保持されていると共に、
前記複数の第１光学素子と前記第２光学素子の前記レーザユニットにおける位置決めを共に互いに直交する３軸方向の自由度をもって可能にすべく、前記複数の第１光学素子及び前記第２光学素子とこれらが前記レーザユニットにおいて固定される部分との間に隙間が設けられ、該隙間に接着剤が充填されることにより前記複数の第１光学素子及び前記第２光学素子が固定されていることを特徴とする走査装置。
【請求項２】
前記回転多面鏡と前記結像光学系を備えるレーザ走査装置に対して前記レーザユニットを主走査方向に自在に位置決めできる構成であることを特徴とする請求項１に記載の走査装置。
【請求項３】
複数の光源と、前記光源から出射した光束を弱発散光もしくは弱収束光へと変換する複数の第１光学素子と、前記複数の光源から出射した光束を合成して略同一方向へ出射させる合成手段と、前記合成手段の下流に設けられ、前記合成手段を通過した光束を主走査方向において平行光束へと変換する第２光学素子とが一体となってレーザユニットを形成していると共に、
前記複数の第１光学素子と前記第２光学素子の前記レーザユニットにおける位置決めを共に互いに直交する３軸方向の自由度をもって可能にすべく、前記複数の第１光学素子及び前記第２光学素子とこれらが前記レーザユニットにおいて固定される部分との間に隙間が設けられ、該隙間に接着剤が充填されることにより前記複数の第１光学素子及び前記第
２光学素子が固定されていることを特徴とする走査装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明は上記目的を達成するため、発光部と、前記発光部から出射した光束を反射する複数の反射面を有し、かつ前記反射面の幅は前記反射面に入射する光束の幅よりも狭い回転多面鏡と、前記回転多面鏡によって走査された光束を感光体上に結像する結像光学系と、を備えた走査装置において、前記発光部は、複数の光源と、前記光源から出射した光束を弱発散光もしくは弱収束光へと変換する複数の第１光学素子と、前記複数の光源から出射した光束を合成して略同一方向へ出射させる合成手段と、前記合成手段の下流に設けられ前記合成手段を通過した光束を主走査方向において平行光束へと変換する第２光学素子とが一体となったレーザユニットとして構成され、前記平行光束の光軸と略直交する主走査方向に移動可能に保持されていると共に、前記複数の第１光学素子と前記第２光学素子の前記レーザユニットにおける位置決めを共に互いに直交する３軸方向の自由度をもって可能にすべく、前記複数の第１光学素子及び前記第２光学素子とこれらが前記レーザユニットにおいて固定される部分との間に隙間が設けられ、該隙間に接着剤が充填されることにより前記複数の第１光学素子及び前記第２光学素子が固定されていることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、本発明は、複数の光源と、前記光源から出射した光束を弱発散光もしくは弱収束光へと変換する複数の第１光学素子と、前記複数の光源から出射した光束を合成して略同一方向へ出射させる合成手段と、前記合成手段の下流に設けられ、前記合成手段を通過した光束を主走査方向において平行光束へと変換する第２光学素子とが一体となってレーザユニットを形成していると共に、前記複数の第１光学素子と前記第２光学素子の前記レーザユニットにおける位置決めを共に互いに直交する３軸方向の自由度をもって可能にすべく、前記複数の第１光学素子及び前記第２光学素子とこれらが前記レーザユニットにおいて固定される部分との間に隙間が設けられ、該隙間に接着剤が充填されることにより前記複数の第１光学素子及び前記第２光学素子が固定されていることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月9日(2009.9.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パターニングすべき第１の膜上に、ラインとスペースの比率が略３：１のパターンを形成する工程と、
前記パターンをマスクとして前記第１の膜を加工する工程と、
前記加工された第１の膜両側の幅それぞれ略１／３分を改質する工程と、
前記第１の膜の非改質部分を選択的に除去する工程と、
を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項２】
前記パターンを形成する工程は、ラインとスペースの比率が略１：１のパターンを有する膜を形成した後、ラインとスペースの比率が略３：１となるように前記膜の両側に側壁を形成する工程を含むことを特徴とする請求項１記載の半導体装置の製造方法。
【請求項３】
前記第１の膜を加工する工程の後、前記ラインとスペースの比率が略３：１のパターンの幅それぞれ略１／３分を選択的に除去する工程をさらに備えることを特徴とする請求項１または２記載の半導体装置の製造方法。
【請求項４】
前記パターンを形成する工程は、前記パターンが形成されるべき膜上に少なくとも第２の膜を形成し、その上にラインとスペースの比率が略１：１のパターンを有する第３の膜を形成した後、前記第３の膜をマスクとして前記第２の膜をテーパ加工してラインとスペースの比率が略３：１のパターンを形成し、さらに、この第２の膜に形成されたパターンを前記パターンが形成されるべき膜まで転写する工程を含むことを特徴とする請求項１または３記載の半導体装置の製造方法。
【請求項５】
前記改質する工程は、前記加工された第１の膜の露出した部分を酸化することにより改質することを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項記載の半導体装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月20日(2009.2.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
米国特許公報６、７７５、３２０号ならびに同６、７７８、５８９号は、複数のアプリケーションおよび複数のフレーマー／符号化装置／インターリーバーＦＣＩブロック（ＦＣＩブロックは、レイテンシーパスとも呼ばれる）に対応するＤＳＬシステムについて述べている。ＤＳＬシステムは、例えば、データレート、レイテンシー（遅延）、ビットエラーレート（ＢＥＲ）等について異なる通信要件を有するアプリケーションを搭載している。例えば、通常、映像は、低いＢＥＲ（<1E-10)が要求されるが、高いレイテンシー（<1E-10)を許容する。他方、通常、音声は、低いＢＥＲ（<1ｍｓ）が要求されるが、（>1E-3)というレイテンシーを許容する。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月6日(2009.10.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
セル本体と、
前記セル本体において、太陽光線が入射する側に形成された表面電極と、
前記セル本体において、太陽光線が入射する側とは反対の側に形成された裏面電極と
を有し、
前記セル本体は、
太陽光線が入射する側とは反対の側に形成され、多結晶のｐｎ接合層を含む第１セルと、
前記第１セルに対して太陽光線が入射する側に形成され、単結晶のｐｎ接合層を含む第２セルと
を備えた、化合物太陽電池。
【請求項２】
前記第２セルの前記単結晶のｐｎ接合層の禁制帯幅は、前記第１セルの前記多結晶のｐｎ接合層の禁制帯幅よりも高く設定された、請求項１記載の化合物太陽電池。
【請求項３】
前記第２セルと前記表面電極との間に形成され、単結晶のｐｎ接合層を含む第３セルを備えた、請求項１または２に記載の化合物太陽電池。
【請求項４】
前記第２セルの前記単結晶のｐｎ接合層の禁制帯幅は、前記第１セルの前記多結晶のｐｎ接合層の禁制帯幅よりも高く、
前記第３セルの前記単結晶のｐｎ接合層の禁制帯幅は、前記第２セルの前記単結晶のｐｎ接合層の禁制帯幅よりも高く設定された、請求項３記載の化合物太陽電池。
【請求項５】
前記第２セルと前記第３セルとは格子整合している、請求項３または４に記載の化合物太陽電池。
【請求項６】
前記第１セルと前記第２セルとの間に形成されたＩＴＯ（Indium Tin Oxide）膜を備えた、請求項１〜５のいずれかに記載の化合物太陽電池。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】化合物太陽電池
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は化合物太陽電池に関し、特に、多接合型の化合物太陽電池に関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
このとき、トップセルＴＴ〜ボトムセルＢＢにおいて吸収されなかった太陽光線の成分は、Ｇｅ基板１０１（またはＧａＡｓ基板）に吸収されてしまい、発電に有効に寄与することができなかった。そのため、電気エネルギへの変換効率の向上が阻害されてしまうという問題があった。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
本発明は上記問題点を解決するためになされたものであり、その目的は、電気エネルギへの変換効率の向上が図られる化合物太陽電池を提供することである。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月14日(2009.7.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＤＮＡチップを用いて得られた被検体の主要組織適合性複合体に関する情報及び疾病関連遺伝子情報に基づいて、所定の医療情報を抽出するためのデータベースを有する情報処理装置であって、
前記主要組織適合性複合体に関する情報及び疾病関連遺伝子情報と、前記被検体の生化学検査情報及び症状に関する情報とを取得する取得手段と、
前記取得手段により取得された情報を前記データベースに基づいて解析する解析手段と、
前記解析手段による解析の結果抽出された前記被検体に対する医療情報を出力する出力手段と、
前記被検体に対する薬剤効果に関する情報を取得し、前記取得手段により取得された情報とともに前記データベースに登録する登録手段と、
前記医療情報の出力に対して前記被検体より徴収した費用のうち、あらかじめ前記データベースに登録され、前記解析手段による解析の際に用いられた情報の提供者に還元する還元費用を算出する算出手段と
を備えることを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
前記ＤＮＡチップに結合している主要組織適合性複合体遺伝子のプローブは、ＨＬＡ抗原のタイプを判定するためのプローブセットであることを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記被検体に対する医療情報には、疾病名および効果的な薬剤の情報及び疾病関連遺伝子情報が含まれていることを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記主要組織適合性複合体に関する情報は、前記ＤＮＡチップを用いて得られた検査結果を、画像読取装置により読み取ることにより生成されたデータであることを特徴とする請求項２に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記生化学検査情報は、前記被検体より採取された血液および尿についての臨床検査データを含むことを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項６】
前記取得手段は、
インターネットを介して、前記主要組織適合性複合体に関する情報及び疾病関連遺伝子情報と、前記被検体の生化学検査情報及び症状に関する情報とを取得することを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項７】
前記解析手段は、
前記ＤＮＡチップを用いて得られた被検体の主要組織適合性複合体に関する情報に基づいて、該被検体の体質を解析し、疾病関連遺伝子情報に基づいて、疾病関連遺伝子の発現状態を解析することを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項８】
前記登録手段は、
前記取得手段により取得された情報を暗号化し、前記被検体についての情報をサンプルＩＤに置換して前記データベースに登録することを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項９】
前記算出手段は、
前記データベースに登録されている提供者ごとの情報量に応じて、該提供者ごとに前記還元費用を算出することを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項１０】
ＤＮＡチップを用いて得られた被検体の主要組織適合性複合体に関する情報及び疾病関連遺伝子情報に基づいて、所定の医療情報を抽出するためのデータベースを有する情報処理方法であって、
取得手段が、前記主要組織適合性複合体に関する情報及び疾病関連遺伝子情報と、前記被検体の生化学検査情報及び症状に関する情報とを取得する取得工程と、
解析手段が、前記取得工程により取得された情報を前記データベースに基づいて解析する解析工程と、
出力手段が、前記解析工程による解析の結果抽出された前記被検体に対する医療情報を出力する出力工程と、
登録手段が、前記被検体に対する薬剤効果に関する情報を取得し、前記取得工程により取得された情報とともに前記データベースに登録する登録工程と、
算出手段が、前記医療情報の出力に対して前記被検体より徴収した費用のうち、あらかじめ前記データベースに登録され、前記解析工程における解析の際に用いられた情報の提供者に還元する還元費用を算出する算出工程と
を備えることを特徴とする情報処理方法。
【請求項１１】
前記ＤＮＡチップに結合している主要組織適合性複合体遺伝子のプローブは、ＨＬＡ抗原のタイプを判定するためのプローブセットであることを特徴とする請求項１０に記載の情報処理方法。
【請求項１２】
前記被検体に対する医療情報には、疾病名および効果的な薬剤の情報及び疾病関連遺伝子情報が含まれていることを特徴とする請求項１０に記載の情報処理方法。
【請求項１３】
前記主要組織適合性複合体に関する情報は、前記ＤＮＡチップを用いて得られた検査結果を、画像読取装置により読み取ることにより生成されたデータであることを特徴とする請求項１１に記載の情報処理方法。
【請求項１４】
前記生化学検査情報は、前記被検体より採取された血液および尿についての臨床検査データを含むことを特徴とする請求項１０に記載の情報処理方法。
【請求項１５】
前記取得工程は、
インターネットを介して、前記主要組織適合性複合体に関する情報及び疾病関連遺伝子情報と、前記被検体の生化学検査情報及び症状に関する情報とを取得することを特徴とする請求項１０に記載の情報処理方法。
【請求項１６】
前記解析工程は、
前記ＤＮＡチップを用いて得られた被検体の主要組織適合性複合体に関する情報に基づいて、該被検体の体質を解析し、疾病関連遺伝子情報に基づいて、疾病関連遺伝子の発現状態を解析することを特徴とする請求項１０に記載の情報処理方法。
【請求項１７】
前記登録工程は、
前記取得工程により取得された情報を暗号化し、前記被検体についての情報をサンプルＩＤに置換して前記データベースに登録することを特徴とする請求項１０に記載の情報処理方法。
【請求項１８】
前記算出工程は、
前記データベースに登録されている提供者ごとの情報量に応じて、該提供者ごとに前記還元費用を算出することを特徴とする請求項１０に記載の情報処理方法。
【請求項１９】
請求項１０乃至１８のいずれか１項に記載の情報処理方法をコンピュータに実行させるための制御プログラムを格納した記憶媒体。
【請求項２０】
請求項１０乃至１８のいずれか１項に記載の情報処理方法をコンピュータに実行させるための制御プログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために本発明に係る情報処理装置は以下のような構成を備える。即ち、
ＤＮＡチップを用いて得られた被検体の主要組織適合性複合体に関する情報及び疾病関連遺伝子情報に基づいて、所定の医療情報を抽出するためのデータベースを有する情報処理装置であって、
前記主要組織適合性複合体に関する情報及び疾病関連遺伝子情報と、前記被検体の生化学検査情報及び症状に関する情報とを取得する取得手段と、
前記取得手段により取得された情報を前記データベースに基づいて解析する解析手段と、
前記解析手段による解析の結果抽出された前記被検体に対する医療情報を出力する出力手段と、
前記被検体に対する薬剤効果に関する情報を取得し、前記取得手段により取得された情報とともに前記データベースに登録する登録手段と、
前記医療情報の出力に対して前記被検体より徴収した費用のうち、あらかじめ前記データベースに登録され、前記解析手段による解析の際に用いられた情報の提供者に還元する還元費用を算出する算出手段とを備える。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月15日(2009.9.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転多面鏡に複数の光ビームを照射し、該回転多面鏡によって偏向された光ビームを複数の対象物上に結像させるための複数の光学要素を、該回転多面鏡を回転軸に垂直方向から挟んで対称に配置し、該光ビームが前記光学要素に、前記回転多面鏡の回転軸に垂直な平面に対して斜めに照射される走査式光学装置において、
前記複数の光学要素のうちの少なくともいずれかの光学要素に前記回転多面鏡から入射し、該いずれかの光学要素によって、前記複数の光学要素のうちの他の光学要素へ向けて反射された光ビームを遮蔽する遮光部材を備えた走査式光学装置。
【請求項２】
前記遮光部材は、前記回転多面鏡の回転軸方向について、該回転多面鏡を回転させるモータ側及び該モータと逆側の少なくともいずれかを通り、前記他の光学要素に向かう光ビームを遮蔽する請求項１に記載の走査式光学装置。
【請求項３】
前記遮光部材は、前記回転多面鏡の回転軸方向から見たときに、前記回転多面鏡の回転軸に対して対称に配置されている請求項１又は２に記載の走査式光学装置。
【請求項４】
前記遮光部材は、前記光学要素の位置決め基準となる位置決め手段と一体に形成されている請求項１乃至３のいずれか一項に記載の走査式光学装置。
【請求項５】
前記遮光部材は、前記回転多面鏡を半径方向外側から囲う環状をなす請求項１乃至３のいずれか一項に記載の走査式光学装置。
【請求項６】
前記回転多面鏡および前記光学要素を収容する収容部材を有し、
前記収容部材は、前記回転多面鏡の回転軸方向について、該回転多面鏡を回転させるモータと逆側に位置する上側部と、該モータ側に位置する下側部とを有し、
前記遮光部材は、前記収容部材の上側部および下側部の少なくともいずれかに設けられている請求項１乃至５のいずれか一項に記載の走査式光学装置。
【請求項７】
前記遮光部材は、前記回転多面鏡の回転軸方向に分割された複数の構成部材からなり、前記収容部材の上側部に設けられた第一の構成部材と、前記収容部材の下側部に設けられた第二の構成部材とを含む請求項６に記載の走査式光学装置。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか一項に記載の走査式光学装置と、
複数の感光体と、
を備え、
画像情報に基づいて発光された光ビームを、前記走査式光学装置の回転多面鏡によって偏向し、前記光学要素を介して前記感光体上に結像させることにより、前記感光体上に潜像を形成する画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために本発明は、回転多面鏡に複数の光ビームを照射し、該回転多面鏡によって偏向された光ビームを複数の対象物上に結像させるための複数の光学要素を、該回転多面鏡を回転軸に垂直方向から挟んで対称に配置し、該光ビームが前記光学要素に、前記回転多面鏡の回転軸に垂直な平面に対して斜めに照射される走査式光学装置において、
前記複数の光学要素のうちの少なくともいずれかの光学要素に前記回転多面鏡から入射し、該いずれかの光学要素によって、前記複数の光学要素のうちの他の光学要素へ向けて反射された光ビームを遮蔽する遮光部材を備えた走査式光学装置である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
前記遮光部材は、前記回転多面鏡の回転軸方向について、該回転多面鏡を回転させるモータ側及び該モータと逆側の少なくともいずれかを通り、前記他の光学要素に向かう光ビームを遮蔽することが好適である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
前記遮光部材は、前記回転多面鏡の回転軸方向から見たときに、前記回転多面鏡の回転軸に対して対称に配置されていることが好適である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
前記遮光部材は、前記光学要素の位置決め基準となる位置決め手段と一体に形成されてい
ることが好適である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
前記遮光部材は、前記回転多面鏡を半径方向外側から囲う環状をなすことが好適である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
前記遮光部材は、少なくとも前記回転多面鏡および光学要素を収容する収容部材に設けられることが好適である。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
前記回転多面鏡および前記光学要素を収容する収容部材を有し、
前記収容部材は、前記回転多面鏡の回転軸方向について、該回転多面鏡を回転させるモータと逆側に位置する上側部と、該モータ側に位置する下側部とを有し、
前記遮光部材は、前記収容部材の上側部および下側部の少なくともいずれかに設けられていることが好適である。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
前記遮光部材は、前記回転多面鏡の回転軸方向に分割された複数の構成部材からなり、前記収容部材の上側部に設けられた第一の構成部材と、前記収容部材の下側部に設けられた第二の構成部材とを含むことが好適である。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
また、本発明は、前記いずれかの走査式光学装置と、複数の感光体と、を備え、画像情報に基づいて発光された光ビームを、前記走査式光学装置の回転多面鏡によって偏向し、前記光学要素を介して前記感光体上に結像させることにより、前記感光体上に潜像を形成す
る画像形成装置として構成することができる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
１枚のポリゴンミラーに対して両側にそれぞれ各２本のレーザ光が入射し、異なる４本の感光ドラムを露光する方式である。図において、１はレーザ発光したビームを偏向走査するポリゴンミラー（回転多面鏡）、２ａ，２ｂはレーザ光を等速走査およびドラム上でスポット結像させる第一の結像レンズ、３ａは前記第一の結像レンズとともにドラム上でスポット結像させる第二の結像レンズであり、前記第一の結像レンズ２ａと合わせてｆθレンズと呼ばれている。また、第一の結像レンズ２ａ，２ｂは従来例と同様に、複数のビームを異なる角度で入射させるため、副走査方向に屈折力を持たないシリンダーレンズで構成される。４は前記第一の結像レンズを透過したレーザ光を所定の方向へ反射させる折り返しミラー、５は光学箱、６は前記第一の結像レンズを支持する光学箱に設けられたリブである。ここでは、第一の結像レンズ２ａ，２ｂが、光学要素に相当する。また、光学箱５が収容部材に相当する。
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月20日(2009.2.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
認証対象者の顔画像を撮像した入力顔画像とあらかじめ登録した登録顔画像とを照合して前記認証対象者の認証処理を行う顔認証装置であって、
前記認証対象者を広視野角で撮像する撮像装置と、
前記撮像装置の近傍に配設され、位置変動し得る各認証対象者の顔を該認証対象者により視認可能ならしめる凸面効果を有するミラー部と
を備えたことを特徴とする顔認証装置。
【請求項２】
前記ミラー部は、前記認証対象者に向けて凸面をなす凸面鏡により形成されることを特徴とする請求項１に記載の顔認証装置。
【請求項３】
前記ミラー部は、平面状の透明プラスチック板の裏面に多数の径の異なる環状溝を同心状に形成するとともに、該裏面に反射膜を施して前記透明プラスチック板の表面側に凸面効果を付加したフレネルミラーにより形成されたことを特徴とする請求項１に記載の顔認証装置。
【請求項４】
前記ミラー部は、前記認証対象者により顔の視認可能領域を制限するための切り欠き部若しくは隠蔽部をその一部に有することを特徴とする請求項１、２又は３に記載の顔認証装置。
【請求項５】
前記認証対象者による視認を可能ならしめる前記ミラー部の正反射範囲は、前記撮像装置の撮像可能領域の範囲内に含まれることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一つに記載の顔認証装置。
【請求項６】
前記認証対象者の目視を要するガイダンス表示手段を前記ミラー部の近傍に配設したことを特徴とする請求項１〜５のいずれか一つに記載の顔認証装置。
【請求項７】
前記認証対象者の登録顔画像データを記憶する記録媒体の読取手段を前記ミラー部の近傍に配設したことを特徴とする請求項１〜６のいずれか一つに記載の顔認証装置。
【請求項８】
認証対象者の顔画像を撮像する顔撮像装置であって、
前記認証対象者を広視野角で撮像する撮像部と、
前記撮像部の近傍に配設され、位置変動し得る各認証対象者の顔を該認証対象者により視認可能ならしめる凸面効果を有するミラー部と
を備えたことを特徴とする顔撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】顔認証装置および顔撮像装置
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月26日(2009.3.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ディジタル情報を処理するコンピュータシステムで実行される方法であって、
ディジタル情報を受信するステップと、
前記ディジタル情報から１以上のイベント群を決定するステップと、
前記イベント群に基づいて、実行すべきアクションを決定するステップと、
アクションを実行するステップと、
を有することを特徴とする方法。
【請求項２】
前記ディジタル情報が、１以上の捕捉装置群により捕捉されたデータを有し、
前記アクションを実行するステップが、前記捕捉装置群中の捕捉装置の動作を制御するステップを有する
ことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記アクションを実行するステップが、前記ディジタル情報の前記部分の出力先となるエンティティを決定するステップを更に有し、
前記ディジタル情報の前記部分を出力するステップが、前記ディジタル情報の前記部分を前記エンティティに出力するステップを有する
ことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項４】
前記ディジタル情報を受信するステップが第１ユーザにより提示された書類を受信するステップを有し、当該方法は、
前記第１ユーザから、前記書類に関する１以上の好みの第１群を受信するステップと、
前記書類へのアクセス要求を第２ユーザから受信するステップと、
前記第２ユーザから、前記１以上の好みの第２群を受信するステップと、
前記好みの第２群に従って前記第２ユーザに前記書類を提供するステップと、
を更に有することを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記ディジタル情報の前記部分をコピーする要求を受信するステップと、
前記コピーする要求に応答して、前記ディジタル情報の前記部分を１以上の表現物群に変換するステップと、
前記表現物群をクリップボードにコピーするステップと、
を更に有することを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項６】
ディジタル情報を処理するシステムであって、
一群の１以上の捕捉装置と、
コンピュータシステムと、
を有し、前記コンピュータシステムは、
一群の捕捉装置で捕捉された情報を含むディジタル情報を受信し、
前記ディジタル情報から１以上のイベント群を決定し、
前記イベント群に基づいて、実行すべきアクションを決定し、
アクションを実行する、
ことを特徴とするディジタル情報を処理するシステム。
【請求項７】
前記アクションの実行が、
前記イベント群中のイベントに基づいて、出力されるべきディジタル情報の部分を決定すること、及び
前記ディジタル情報の前記部分を出力すること
によりなされることを特徴とする請求項６記載のシステム。
【請求項８】
前記コンピュータシステムで受信された前記ディジタル情報が、第１ユーザにより提示された書類を含み、前記コンピュータシステムは、
前記第１ユーザから、前記書類に関する１以上の好みの第１群を受信し、
前記書類へのアクセス要求を第２ユーザから受信し、
前記第２ユーザから、前記１以上の好みの第２群を受信し、
前記好みの第２群に従って前記第２ユーザに前記書類を提供する、
ように構成されることを特徴とする請求項６記載のシステム。
【請求項９】
前記コンピュータシステムは、
前記ディジタル情報の前記部分をコピーする要求を受信し、
前記コピーする要求に応答して、前記ディジタル情報の前記部分を１以上の表現物群に変換し、
前記表現物群をクリップボードにコピーする、
ように構成されることを特徴とする請求項６記載のシステム。
【請求項１０】
ディジタル情報を処理する装置であって、
ディジタル情報を受信する手段と、
前記ディジタル情報から１以上のイベント群を決定する手段と、
前記イベント群に基づいて、実行すべきアクションを決定する手段と、
アクションを実行する手段と、
を有することを特徴とする装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月24日(2009.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画素及びこれに接続されている信号線をそれぞれ備える少なくとも２つの表示領域を有する表示装置用シフトレジスタであって、
互いに接続されていて、順に出力信号を生成する複数のステージをそれぞれ含む少なくとも２つのステージ群を含み、
前記各ステージ群は前記表示領域のうちの１つに属する前記信号線に前記出力信号を送出する表示装置用シフトレジスタ。
【請求項２】
前記ステージ群のうちの少なくとも１つは、走査開始信号の印加を受ける、請求項１に記載の表示装置用シフトレジスタ。
【請求項３】
前記各ステージ群の第１ステージに前記走査開始信号が入力される、請求項２に記載の表示装置用シフトレジスタ。
【請求項４】
前記走査開始信号は、上に隣接したステージ群の最後のステージの出力と同期して入力される、請求項３に記載の表示装置用シフトレジスタ。
【請求項５】
前記各ステージは、セット端子、リセット端子、ゲート電圧端子、出力端子並びに第１及び第２クロック端子を有する、請求項１に記載の表示装置用シフトレジスタ。
【請求項６】
前記各ステージは、
前記第１クロック端子に接続されている第１端子、第１接続点に接続されている第２端子及び前記出力端子に接続されている第３端子を有する第１スイッチング素子と、
前記セット端子に共通に接続されている第１及び第２端子と、前記第１接続点に接続されている第３端子を有する第２スイッチング素子と、
前記第１接続点に接続されている第１端子、前記リセット端子に接続されている第２端子及び前記ゲートオフ電圧端子に接続されている第３端子を有する第３スイッチング素子と、
前記第１接続点に接続されている第１端子、第２接続点に接続されている第２端子及び前記ゲートオフ電圧端子に接続されている第３端子を有する第４スイッチング素子と、
前記出力端子に接続されている第１端子、前記第２接続点に接続されている第２端子及び前記ゲートオフ電圧端子に接続されている第３端子を有する第５スイッチング素子と、
前記出力端子に接続されている第１端子、前記第２クロック端子に接続されている第２端子及び前記ゲートオフ電圧端子に接続されている第３端子を有する第６スイッチング素子と、
前記第２接続点に接続されている第１端子、前記第１接続点に接続されている第２端子及び前記ゲートオフ電圧端子に接続されている第３端子を有する第７スイッチング素子と、
前記第１クロック端子と前記第２接続点との間に接続されている第１キャパシタと、
前記第１接続点と前記出力端子との間に接続されている第２キャパシタと、
を含む、請求項５に記載の表示装置用シフトレジスタ。
【請求項７】
スイッチング素子をそれぞれ含む複数の画素と、前記スイッチング素子にそれぞれ接続されている複数の信号線を各々含む少なくとも２つの表示領域と、
互いに接続されていて、順に出力信号を生成して前記表示領域のうちの１つに属する信号線に印加する複数のステージをそれぞれ含む少なくとも２つのステージ群を含むシフトレジスタと、
を含む表示装置。
【請求項８】
前記ステージ群のうちの少なくとも１つは走査開始信号の印加を受ける、請求項７に記載の表示装置。
【請求項９】
互いに異なる時間に出力される複数の走査開始信号を生成する回路部をさらに含む、請求項７に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記走査開始信号の一部は前記ステージ群の最後のステージの出力に同期されて入力される、請求項９に記載の表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月18日(2009.5.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示パネルと、
前記表示パネルの下部に設けられ、第１方向の直線偏光を透過させ、前記第１方向と直交する第２方向の直線偏光を反射させる反射偏光板と、
前記反射偏光板の下部に設けられる位相遅延層と、
前記位相遅延層の下部に設けられ、前記表示装置に光を供給する光源を含むバックライトユニットとを含む液晶表示装置。
【請求項２】
前記反射偏光板は、基板、及び前記基板上に形成された複数の金属線を含み、前記複数の金属線の間の間隔は、可視光線の波長より狭い請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記複数の金属線は、前記第２方向に沿って互いに平行に形成されている請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
表示パネルと、
前記表示パネルの下部に設けられ、第１方向の直線偏光を透過させ、前記第１方向と直交する第２方向の直線偏光を反射させる反射偏光板と、
前記反射偏光板の下部に設けられ、前記表示装置に光を供給する光源を含むバックライトユニットとを含み、
前記反射偏光板は、基板、複数の金属線、及び前記金属線の下部に形成された位相遅延膜を含み、且つ、
前記複数の金属線は、前記第２方向に沿って互いに平行に形成されていて、前記金属線の間の間隔は、可視光線の波長より狭い液晶表示装置。
【請求項５】
前記表示パネルと前記反射偏光板との間には、第１吸収型偏光板が設けられている請求項１又は請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記第１吸収型偏光板の透過軸は、前記第１方向である請求項５に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記表示パネルの上部には、第２吸収型偏光板が設けられている請求項６に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記第２吸収型偏光板の透過軸は、前記第２方向である請求項７に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記位相遅延膜は、遅相軸及び進相軸を有し、遅相軸方向の光と進相軸方向の光との間の位相差が１/４λになるようにし、円偏光を直線偏光変換し、または、直線偏光を円偏光に変換する請求項１又は請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記位相遅延膜の遅相軸または進相軸は、前記第１方向または前記第２方向と±４５゜をなす請求項９に記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
前記基板は、前記複数の金属線の上部に設けられ、且つ前記位相遅延膜の下部に設けられる請求項１０に記載の液晶表示装置。
【請求項１２】
前記位相遅延膜は、液晶を硬化することによって形成される請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項１３】
前記バックライトユニットは、上部の前記表示装置に光を反射する反射板をさらに含む請求項１又は請求項４に記載の液晶表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月2日(2009.6.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ゲート配線とソース配線によって定義される複数の画素部と、
前記ゲート配線にゲート信号を出力するゲート回路部と、
前記ゲート回路部と隣接するように配置され、前記ゲート回路部の駆動を開始させる開始信号を伝達する第１信号配線と、
前記第１信号配線の一側に配置され、前記ゲート回路部の出力を制御する制御信号を伝達する第２信号配線と、
前記ゲート回路部と第２信号配線とを電気的に接続し、前記第１信号配線と交差する第１連結配線と、
を含むことを特徴とするアレイ基板。
【請求項２】
前記第１信号配線の前記一側に配置され、前記ゲート回路部の駆動電圧を伝達する第３信号配線と、  
前記ゲート回路部と第３信号配線とを電気的に接続し、前記第１信号配線と交差する第２連結配線と、
を更に含むことを特徴とする請求項１に記載のアレイ基板。
【請求項３】
前記ゲート回路部は、互いに従属的に接続された複数のステージを含むことを特徴とする請求項１に記載のアレイ基板。
【請求項４】
前記第１信号配線〜第３信号配線は、前記ソース配線と同一の金属層で形成されることを特徴とする請求項１に記載のアレイ基板。
【請求項５】
前記第１連結配線及び第２連結配線は、前記ゲート配線と同一の金属層で形成することを特徴とする請求項１に記載のアレイ基板。
【請求項６】
それぞれの画素部は、ゲート配線とソース配線に接続されたスイッチング素子を含み、
前記スイッチング素子とゲート回路部は、アモルファスシリコン薄膜トランジスタを含むことを特徴とする請求項１に記載のアレイ基板。
【請求項７】
ゲート配線とソース配線によって定義される複数の画素部と、
前記ゲート配線にゲート信号を出力する複数のステージを含むゲート回路部と、
前記ゲート回路部と隣接するように形成され、前記ゲート回路部の駆動を開始させる開始信号を伝達する開始信号配線と、
前記開始信号配線の一側に形成され、前記ステージの出力を制御するクロック信号を伝達するクロック配線と、
前記クロック信号配線の一側に形成され、前記ゲート回路部の駆動電圧を伝達する電圧配線と、
前記ゲート回路部とクロック信号配線とを電気的に接続し、前記開始信号配線と交差するように形成された第１連結配線と、
前記ゲート回路部と電圧配線を電気的に接続し、前記開始信号配線と交差するように形成された第２連結配線と、
を含むことを特徴とするアレイ基板。
【請求項８】
第１基板と、
前記第１基板と結合して液晶層を収容し、表示領域に複数の画素部が形成され、周辺領域に前記画素部にゲート信号を出力するゲート回路部と、ゲート回路部に駆動信号を伝達する信号配線と、前記ゲート回路部と信号配線とを接続する連結配線が形成された第２基板を含み、
前記信号配線のうち、前記開始信号を伝達する第１信号配線は、前記ゲート回路部に隣接し、前記連結配線と交差するように形成されることを特徴とする表示装置。
【請求項９】
前記信号配線は、
前記第１信号配線の一側に形成され、前記ゲート回路部の出力を制御する制御信号を伝達する第２信号配線と、
前記第２信号配線の一側に形成され、前記ゲート回路部の駆動電圧を伝達する第３信号配線と、
を更に含むことを特徴とする請求項８に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記信号配線は、
前記ゲート回路部と第２信号配線とを電気的に接続する第１連結配線と、
前記ゲート回路部と第３信号配線とを電気的に接続する第２連結配線と、
を更に含むことを特徴とする請求項８に記載の表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月5日(2009.1.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
第１位相差フィルム30は第１基板100と第１偏光板20との間で第１基板100の背面（図１、３では下面）を覆い、第２位相差フィルム40は第２基板200と第２偏光板50との間で第２基板200の前面（図１、３では上面）を覆っている。各位相差フィルム30、40は、互いに直交する二つの方向のそれぞれに平行な透過光の偏光成分の間に所定の（好ましくは1／4波長の）位相差を与える。尚、各位相差フィルム30、40の与える位相差が1／2波長であっても良い。好ましくは、第１位相差フィルム30の遅相軸が第２位相差フィルム40の遅相軸に対して垂直に設定される。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月19日(2009.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
二枚の基板と、これらの基板間に形成された液晶層とを具備し、単位画素領域で定義される複数のドメインを有する液晶パネルと、
前記液晶パネルに相対的に近く配置された二軸性フィルムと、該二軸性フィルムに一体に形成された偏光フィルムとを有し、前記液晶パネルの下部及び上部にそれぞれ配置される光学フィルムアセンブリと、を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記液晶パネルは、
画素電極を有するアレイ基板と、
前記アレイ基板に対向して、共通電極を有する対向基板と、を含み、
前記複数のドメインを定義するために前記画素電極と共通電極には互いに交互するように開口部が形成されることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記偏光フィルムの厚さは、前記二軸性フィルムのＲｏ／Ｒｔｈ（ここで、Ｒｏは面方向リタデーション、Ｒｔｈは厚さ方向リタデーション）が１４０／１３０であるとき、相対的に厚いことを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記偏光フィルムの厚さは、前記二軸性フィルムのＲｏ／Ｒｔｈ（ここで、Ｒｏは面方向リタデーション、Ｒｔｈは厚さ方向リタデーション）が１４０／１７５であるとき、相対的に薄いことを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記二軸性フィルムの面方向リタデーション（Ｒｏ）は、λ／４であることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記二軸性フィルムの面方向リタデーション（Ｒｏ）は、１２０〜１６０ｎｍであることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記偏光フィルムの厚さが相対的に薄い場合、前記二軸性フィルムの厚さ方向リタデーション（Ｒｔｈ）は、１３０ｎｍであることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記偏光フィルムの厚さが相対的に厚い場合、前記二軸性フィルムの厚さ方向リタデーション（Ｒｔｈ）は、１６０ｎｍであることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記二軸性フィルムのスロー軸と前記偏光フィルムの透過軸は、相互２５°〜６５°の角度を有するように配置されることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記偏光フィルムの透過軸は、前記二軸性フィルムのスロー軸から時計回り方向に４５°傾くことを特徴とする請求項９記載の液晶表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】液晶表示装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に関し、より詳細には薄型化と低い製造コストを達成するための液晶表示装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
そこで、本発明は上記従来の液晶表示装置における問題点に鑑みてなされたものであって、本発明の目的は、光学フィルムの厚さを減少させ、薄型化と低い製造コストを達成するための液晶表示装置を提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
このような液晶表示装置によれば、約１６０ｎｍの厚さ方向リタデーション（Ｒｔｈ）と、λ／４の面方向リタデーション（Ｒｏ）を有する二軸性フィルムを液晶表示パネルに近接するように配置し、この二軸性フィルム上に付着された偏光フィルムを製造することで、光学フィルムの厚さを薄くすることができ、光学フィルムや液晶表示装置の製造コストを節減することができる。