(57)【要約】【課題】装置のメンテナンス作業を極力少なくしながら、２枚取りを防止して積載された最上位置の基板のみを取り出す基板取出装置およびその方法を提供する。【解決手段】吸着ユニット７０は、積載された最上位置の基板Ｓｔの上面端部近傍のみをその吸着面で吸着する第１吸着部７０２を少なくとも備える。昇降機構７３は、吸着ユニット７０を昇降する。昇降機構７３は、第１吸着部７０２の吸着面と最上位置の基板Ｓｔの上面端部近傍とが近接する位置まで吸着ユニット７０を下降させる。第１吸着部７０２は、その吸着面を最上位置の基板Ｓｔの上面端部近傍に吸着させる。昇降機構７３は、第１吸着部７０２の吸着面が最上位置の基板Ｓｔの上面端部近傍に吸着した状態で吸着ユニット７０を上昇させる。【選択図】図１１
2008087883.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
積載された基板から基板を取り出す基板取出装置であって、
積載された最上位置の基板の上面端部近傍のみをその吸着面で吸着する第１吸着部を少なくとも備える吸着ユニットと、
前記吸着ユニットを昇降する昇降機構とを備え、
前記昇降機構は、前記第１吸着部の吸着面と前記最上位置の基板の上面端部近傍とが近接する位置まで前記吸着ユニットを下降させ、
前記第１吸着部は、その吸着面を前記最上位置の基板の上面端部近傍に吸着させ、
前記昇降機構は、前記第１吸着部の吸着面が前記最上位置の基板の上面端部近傍に吸着した状態で前記吸着ユニットを上昇させる、基板取出装置。
【請求項２】
前記第１吸着部の吸着面には、外部の気体を吸引する複数の吸引孔が格子配列または千鳥配列で形成されている、請求項１に記載の基板取出装置。
【請求項３】
前記基板は、複数の貫通孔を有しており、
前記第１吸着部の吸着面に形成された吸引孔の総面積は、当該吸着面が吸着する部位に形成されている前記基板の貫通孔の総面積より広い、請求項２に記載の基板取出装置。
【請求項４】
前記基板は、複数の貫通孔を有しており、
前記吸引孔は、前記第１吸着部の吸着面に含まれる一部の領域内に全て形成され、
前記第１吸着部の吸着面に形成された吸引孔の総面積は、前記吸引孔が形成される領域が当接する部位に形成されている前記基板の貫通孔の総面積より広い、請求項２に記載の基板取出装置。
【請求項５】
前記吸引孔は、前記第１吸着部の吸着面を複数に分割した領域に対して、それぞれ異なった孔数密度で形成される、請求項２に記載の基板取出装置。
【請求項６】
前記吸着ユニットは、前記最上位置の基板の上面に対して、前記第１吸着部が吸着する領域とは異なる領域をその吸着面で吸着する第２吸着部を、さらに含み、
前記第２吸着部は、前記昇降機構の上昇動作に応じて、前記最上位置の基板と他の基板との間に隙間が形成されたとき、その吸着面を前記最上位置の基板の上面に吸着させる、請求項１に記載の基板取出装置。
【請求項７】
前記第１吸着部の吸着面の長軸方向を中心として、前記吸着ユニットを揺動する揺動機構を、さらに備える、請求項６に記載の基板取出装置。
【請求項８】
前記吸着ユニットは、前記第１吸着部の吸着面が前記最上位置の基板の上面前端部近傍に吸着したとき、当該基板の後端と当接する後端当接部材を、さらに含む、請求項７に記載の基板取出装置。
【請求項９】
前記第１吸着部および前記第２吸着部に供給する吸引圧を制御する吸着圧制御部を、さらに備え、
前記吸着圧制御部は、
前記第１吸着部が前記最上位置の基板の上面端部近傍を吸着するとき、第１の吸引圧を当該第１吸着部に供給し、
前記昇降機構の上昇動作に応じて、前記最上位置の基板と他の基板との間に隙間が形成されたとき、前記第１の吸引圧より強い第２の吸引圧を前記第１の吸着部および前記第２吸着部に供給する、請求項６に記載の基板取出装置。
【請求項１０】
積載された基板から基板を取り出す基板取出方法であって、
積載された最上位置の基板の上面端部近傍のみを吸着する第１吸着部を下降させて、当該第１吸着部の吸着面と当該最上位置の基板の上面端部近傍とを近接させる下降ステップと、
前記第１吸着部の吸着面と前記最上位置の基板の上面端部近傍とを吸着させる吸着ステップと、
前記第１吸着部の吸着面が前記最上位置の基板の上面端部近傍に吸着した状態で前記第１吸着部を上昇させる上昇ステップとを含む、基板取出方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板取出装置およびその方法に関し、より特定的には、積載された基板を１枚ずつ取り出す基板取出装置およびその方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、積載されたシート状の部材から、最上位置の部材を１枚ずつ給版する装置では、２枚以上同時に給版することを防止することが必要となる。例えば、図１９に示すように、上述したように積載されるシート状の部材として、半導体装置などの電子部品を実装するためのプリント基板などの基板Ｓを想定する。基板Ｓは、スルーホールＴＨ（図中の塗りつぶし領域）やスリットＳＬ（図中の斜線領域）などの表裏を貫通する複数の孔が多数形成されている。このような基板Ｓが積載された基板供給部から、最上位置に載置された基板Ｓを例えば全面真空吸着することによってピックアップする場合、２枚目以下の基板Ｓにも強い吸着力が生じるときがある。
【０００３】
例えば、図２０Ａおよび図２０Ｂに示すように、基板ケース５０２内に積載された基板Ｓが、吸着テーブル５０１の吸着面に真空吸着されるブロア吸着方式を説明する。なお、図２０Ａおよび図２０Ｂは、ブロア吸着方式の概略的な装置構造を断面図で示している。吸着テーブル５０１の吸着面には、複数の吸引孔が形成されている。複数の吸引孔は、ブロア（図示せず）によって吸引されており、吸着テーブル５０１の吸着面が基板ケース５０２の開口部付近に配置された場合、基板ケース５０２の内部に負圧が発生する。そして、最上位置の基板Ｓは、吸着テーブル５０１からの吸引力によって吸着面に真空吸着され、基板ケース５０２からピックアップされる。
【０００４】
しかしながら、図２０Ａに示すように、基板ＳにはスルーホールＴＨやスリットＳＬなどの表裏を貫通する複数の孔が形成されているため、吸着テーブル５０１からの吸引力が２枚目以降の基板Ｓにも回り込んで作用する。例えば、最上位置および最上位置から２枚目の基板Ｓが互いに隙間なく密着しており、３枚目の基板Ｓに反りが生じている場合、当該２枚目の基板Ｓに対する吸引力が大きく作用する。これは、最上位置の基板Ｓと吸着テーブル５０１との間がブロア吸引によって負圧となり、２枚目と３枚目との基板Ｓの隙間が正圧（大気圧）となるため、最上位置および２枚目の基板Ｓが浮き上がりやすくなるためである。また、最上位置の基板Ｓと２枚目の基板Ｓとにずれが生じた場合も、最上位置の基板Ｓに形成されたスルーホールＴＨやスリットＳＬが吸着テーブル５０１の吸引孔と同様に作用するため、２枚目の基板Ｓが浮き上がりやすくなる。これによって、図２０Ｂに示すように、最上位置および２枚目の基板Ｓが同時にピックアップされて吸着テーブル５０１の吸着面に真空吸着されてしまう。
【０００５】
このような最上位置から２枚目以下の部材を分離する方法として、粘着部材を用いる基板取出装置が開示されている（例えば、特許文献１参照）。図２１Ａおよび図２１Ｂに示すように、上記基板取出装置は、昇降テーブル５０５上に積載された基板Ｓに対して、粘着部材５０４を下方に露出させた状態で粘着部材アーム５０３を当該基板Ｓ上に突出させる。そして、積載された最上位置に配置された基板Ｓの上面と粘着部材５０４とを当接させる（図２１Ａの状態）。そして、昇降テーブル５０５を下降させることによって、最上位置の基板Ｓと他の基板Ｓとの間に隙間が形成される（図２１Ｂの状態）。その後、この隙間に挟入部材等を挿入して上部から基板Ｓを吸引することによって、最上位置の基板Ｓのみを吸引する。上記基板取出装置は、最上位置の基板Ｓと２枚目の基板Ｓとが一致して重なっている場合のみならず、最上位置の基板Ｓと２枚目の基板Ｓとにずれが生じた場合でも、最上位置の基板Ｓのみ取り出すことが可能である。
【特許文献１】特開２００５−３３５８４３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記特許文献１で開示された基板取出装置では、粘着部材５０４が有する粘着力の低下が問題となる。例えば、基板Ｓ自体は、その端部等から繊維くず等の異物が発生するものであり、当該異物が粘着部材５０４に粘着することによって粘着部材５０４の粘着力が低下する。このような粘着力の低下が進行すると、最上位置の基板Ｓのみを粘着して他の基板Ｓから引き離すことができなくなるため、粘着部材５０４の連続使用回数が限られてしまう。したがって、上記基板取出装置では、粘着部材５０４のメンテナンスが必要となり、より具体的には、粘着部材５０４の粘着力が低下した際にその粘着力をリフレッシュする作業が必要となる。
【０００７】
また、吸着面積が小さい吸着パッドなどを用いて、基板Ｓの一部を真空吸着してピックアップする方式も考えられる。しかしながら、この方式では、スルーホールＴＨやスリットＳＬが形成されていない部位と吸着パッドとを当接させる必要があるため、供給する基板Ｓの形状に合わせて吸着パッドの位置を調整することが必要となる。したがって、この調整に要する作業が基板毎に必要となる。また、基板Ｓの一部を真空吸着するため、集中的な応力が基板Ｓに加わることとなり、基板Ｓに生じる変形や汚損の原因となる。さらに、基板Ｓの形状によっては、吸着パッドを当接するために適切な貫通孔がない部位がなく、ピックアップできない可能性もある。
【０００８】
それ故に、本発明の目的は、装置のメンテナンス作業を極力少なくしながら、２枚取りを防止して積載された最上位置の基板のみを取り出す基板取出装置およびその方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するために、本発明は、以下に述べるような特徴を有している。
第１の発明は、積載された基板から基板を取り出す基板取出装置である。基板取出装置は、吸着ユニットおよび昇降機構を備える。吸着ユニットは、積載された最上位置の基板の上面端部近傍のみをその吸着面で吸着する第１吸着部を少なくとも備える。昇降機構は、吸着ユニットを昇降する。昇降機構は、第１吸着部の吸着面と最上位置の基板の上面端部近傍とが近接する位置まで吸着ユニットを下降させる。第１吸着部は、その吸着面を最上位置の基板の上面端部近傍に吸着させる。昇降機構は、第１吸着部の吸着面が最上位置の基板の上面端部近傍に吸着した状態で吸着ユニットを上昇させる。
【００１０】
第２の発明は、上記第１の発明において、第１吸着部の吸着面には、外部の気体を吸引する複数の吸引孔が格子配列または千鳥配列で形成されている。
【００１１】
第３の発明は、上記第２の発明において、基板は、複数の貫通孔を有している。第１吸着部の吸着面に形成された吸引孔の総面積は、その吸着面が吸着する部位に形成されている基板の貫通孔の総面積より広い。
【００１２】
第４の発明は、上記第２の発明において、基板は、複数の貫通孔を有している。吸引孔は、第１吸着部の吸着面に含まれる一部の領域内に全て形成される。第１吸着部の吸着面に形成された吸引孔の総面積は、吸引孔が形成される領域が当接する部位に形成されている基板の貫通孔の総面積より広い。
【００１３】
第５の発明は、上記第２の発明において、吸引孔は、第１吸着部の吸着面を複数に分割した領域に対して、それぞれ異なった孔数密度で形成される。
【００１４】
第６の発明は、上記第１の発明において、吸着ユニットは、最上位置の基板の上面に対して、第１吸着部が吸着する領域とは異なる領域をその吸着面で吸着する第２吸着部を、さらに含む。第２吸着部は、昇降機構の上昇動作に応じて、最上位置の基板と他の基板との間に隙間が形成されたとき、その吸着面を最上位置の基板の上面に吸着させる。
【００１５】
第７の発明は、上記第６の発明において、揺動機構を、さらに備える。揺動機構は、第１吸着部の吸着面の長軸方向を中心として、吸着ユニットを揺動する。
【００１６】
第８の発明は、上記第７の発明において、吸着ユニットは、第１吸着部の吸着面が最上位置の基板の上面前端部近傍に吸着したとき、その基板の後端と当接する後端当接部材を、さらに含む。
【００１７】
第９の発明は、上記第６の発明において、吸着圧制御部を、さらに備える。吸着圧制御部は、第１吸着部および第２吸着部に供給する吸引圧を制御する。吸着圧制御部は、第１吸着部が最上位置の基板の上面端部近傍を吸着するとき、第１の吸引圧をその第１吸着部に供給し、昇降機構の上昇動作に応じて、最上位置の基板と他の基板との間に隙間が形成されたとき、第１の吸引圧より強い第２の吸引圧を第１の吸着部および第２吸着部に供給する。
【００１８】
第１０の発明は、積載された基板から基板を取り出す基板取出方法である。基板取出方法は、下降ステップ、吸着ステップ、および上昇ステップを含む。下降ステップは、積載された最上位置の基板の上面端部近傍のみを吸着する第１吸着部を下降させて、その第１吸着部の吸着面とその最上位置の基板の上面端部近傍とを近接させる。吸着ステップは、第１吸着部の吸着面と最上位置の基板の上面端部近傍とを吸着させる。上昇ステップは、第１吸着部の吸着面が最上位置の基板の上面端部近傍に吸着した状態で第１吸着部を上昇させる。
【発明の効果】
【００１９】
上記第１の発明によれば、積載された基板のうち、最上位置の基板の端部近傍のみ吸着して引き上げる。この基板を引き上げる力は、吸着力を用いているために経時変化がなく、従来の粘着部材等を用いるときに必要なメンテナンスが不要となる。また、最上位置の基板の端部近傍のみ吸着して引き上げることによって、最上位置の基板のみを容易に剥離することができ、表裏を貫通する複数の孔が形成された基板であっても、積載された複数の基板のうち、２枚取りを防止して最上位置に載置された基板のみを取り出すことができる。
【００２０】
上記第２の発明によれば、第１吸着部の吸着面に多数の吸引孔が設けられるため、表裏を貫通する複数の孔が形成された基板を取り出す場合、最上位置から２枚目の基板に作用する吸引力に対して、最上位置の基板に作用する吸引力が大きくなる。
【００２１】
上記第３の発明によれば、吸着面と相対する基板の貫通孔の総面積より吸引孔の総面積が大きいため、２枚取りを防止する効果が高くなる。
【００２２】
上記第４の発明によれば、吸着面の一部に吸引孔が形成される領域が集中しているため、サイズが小さな基板を吸引するときに当該領域と当該基板とを吸着させることによって、小さなサイズの基板でも安定して基板を取り出すことができる。
【００２３】
上記第５の発明によれば、取り出す対象となる基板サイズに応じて、当該基板と吸着させる吸着面の領域を調整することによって、様々なサイズの基板を安定して取り出すことができる。
【００２４】
上記第６の発明によれば、最上位置の基板と他の基板との間に隙間が形成された後は、複数の吸着部によって基板が吸着固定されるため、安定して基板を保持することができる。
【００２５】
上記第７の発明によれば、吸着ユニットが揺動可能であるため、第１吸着部の吸着面が最上位置の基板の上面端部近傍に吸着した状態で吸着ユニットを揺動させることによって、最上位置の基板の一方端を引き上げることができるため、最上位置の基板と他の基板との間に隙間が容易に形成される。
【００２６】
上記第８の発明によれば、第１吸着部の吸着面が最上位置の基板の上面端部近傍に吸着した状態で、当該基板の後端を後端当接部材と当接させながら吸着ユニットを揺動させることによって、最上位置の基板の他方端を押さえながら一方端のみを引き上げることができるため、最上位置の基板と他の基板との間に隙間がさらに容易に形成される。
【００２７】
上記第９の発明によれば、最上位置の基板と他の基板との間に隙間が形成されるまで第１吸着部に供給する圧力を低くすることによって、最上位置から２枚目の基板に作用する吸引力の絶対量を低くすることができ、２枚取りを防止する効果が高くなる。
【００２８】
また、本発明の基板取出方法によれば、上述した基板取出装置と同様の効果が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
図１〜図５を参照して、本発明の一実施形態に係る基板取出装置が搭載された基板検査装置について説明する。なお、図１は、当該基板検査装置の概略的な構造を示す正面図である。図２は、当該基板検査装置の概略的な構造を示す上面図である。図３は、エアーシリンダが伸びた状態における基板検査装置の概略的な構造を示す正面図である。図４は、当該基板検査装置の空圧機構の概略的に示す図である。図５は、当該基板検査装置における回転部材を回転駆動する機構の構造を示す背面図である。なお、各構成部の位置関係を明確にするために、基板検査装置１の構成の全てが、図１〜図５に示されていないことを注釈しておく。
【００３０】
図１および図２において、基板検査装置１は、第１検査ステージ２、第２検査ステージ３、Ａ面検査ヘッド４、Ｂ面検査ヘッド５、フレーム６、基板供給部７、基板収納部８、第１基板搬送コンベア１０、第２基板搬送コンベア１１、および制御部（図示せず）を備えている。なお、基板供給部７が本発明の基板取出装置の一例に相当する。ここで、基板検査装置１の被検査体の一例は、半導体装置などの電子部品を実装するためのプリント基板等の基板Ｓであり、背景技術で説明したようにスルーホールＴＨやスリットＳＬ等の表裏を貫通する複数の孔が形成されている。また、上記基板Ｓは、例えば、その両面の外観検査が必要な両面基板である。そして、被検査体である基板Ｓの一方の主面をＡ面とし、他方の主面をＢ面とする。
【００３１】
第１検査ステージ２は、第１回転部材２１、Ａ面検査吸着テーブル２２、エアーシリンダ２３、および第１回転軸２４を有している。第１回転部材２１は、略直方体形状を有し、第１回転軸２４を中心に図示Ａ方向に回転可能である。第１回転軸２４に平行な第１回転部材２１の４つの側面には、それぞれエアーシリンダ２３ａ〜２３ｄを介して４つのＡ面検査吸着テーブル２２ａ〜２２ｄが設けられる。図１では第１回転軸２４が紙面に対して垂直に配置され、３つのエアーシリンダ２３ａ（図１では、２つのエアーシリンダ２３ａのみ図示されている）を介して、第１回転軸２４に対して直上方向にＡ面検査吸着テーブル２２ａが設けられている。３つのエアーシリンダ２３ｂ（図１では、２つのエアーシリンダ２３ｂのみ図示されている）を介して、第１回転軸２４に対して左方向にＡ面検査吸着テーブル２２ｂが設けられている。３つのエアーシリンダ２３ｃ（図１では、２つのエアーシリンダ２３ｃのみ図示されている）を介して、第１回転軸２４に対して下方向にＡ面検査吸着テーブル２２ｃが設けられ、Ａ面検査吸着テーブル２２ａおよび２２ｃが互いに平行に配置される。そして、３つのエアーシリンダ２３ｄ（図１では、２つのエアーシリンダ２３ｄのみ図示されている）を介して、第１回転軸２４に対して右方向にＡ面検査吸着テーブル２２ｄが設けられ、Ａ面検査吸着テーブル２２ｂおよび２２ｄが互いに平行に配置される。
【００３２】
第２検査ステージ３は、第１検査ステージ２と並設される。第２検査ステージ３は、第２回転部材３１、Ｂ面検査吸着テーブル３２、エアーシリンダ３３、および第２回転軸３４を有している。第２回転部材３１は、第１回転部材２１と同様の略直方体形状を有し、第１回転軸２４と平行な第２回転軸３４を中心に図示Ｂ方向に回転可能である。第２回転軸３４に平行な第２回転部材３１の４つの側面には、それぞれエアーシリンダ３３ａ〜３３ｄを介して４つのＢ面検査吸着テーブル３２ａ〜３２ｄが設けられる。図１では第２回転軸３４が紙面に対して垂直に配置され、３つのエアーシリンダ３３ａ（図１では、２つのエアーシリンダ３３ａのみ図示されている）を介して、第２回転軸３４に対して直上方向にＢ面検査吸着テーブル３２ａが設けられている。３つのエアーシリンダ３３ｂ（図１では、２つのエアーシリンダ３３ｂのみ図示されている）を介して、第２回転軸３４に対して左方向にＢ面検査吸着テーブル３２ｂが設けられ、Ｂ面検査吸着テーブル３２ｂとＡ面検査吸着テーブル２２ｄとが相対するように配置される。３つのエアーシリンダ３３ｃ（図１では、２つのエアーシリンダ３３ｃのみ図示されている）を介して、第２回転軸３４に対して下方向にＢ面検査吸着テーブル３２ｃが設けられ、Ｂ面検査吸着テーブル３２ａおよび３２ｃが互いに平行に配置される。そして、３つのエアーシリンダ３３ｄ（図１では、２つのエアーシリンダ３３ｄのみ図示されている）を介して、第２回転軸３４に対して右方向にＢ面検査吸着テーブル３２ｃが設けられ、Ｂ面検査吸着テーブル３２ｂおよび３２ｄが互いに平行に配置される。
【００３３】
図１および図２に示すように、大略的にフレーム６は、検査ヘッド梁６１、３つの直動軸受６２ａ〜６２ｃ、本体ベース６３、当接部材６４、およびボールネジ６５で構成されている。本体ベース６３は、所定の支持柱によって第１検査ステージ２および第２検査ステージ３の上部に位置する平面に固設されている。直動軸受６２ａ〜６２ｃは、レールとスライドブロック、軸と軸受やスリーブ、ガイドレールとガイドなど様々な組み合わせによって構成可能であるが、一例としてレールとスライドブロックとを用いる。３つの直動軸受６２ａ〜６２ｃは、それぞれレール６２１ａ〜６２１ｃとスライドブロック６２２ａ、６２２ｂ１、６２２ｂ２、および６２２ｃとを含んでおり、レール６２１ａ〜６２１ｃが本体ベース６３の上面に固設される（なお、図２においては、検査ヘッド梁６１下部に設けられたレール６２１およびスライドブロック６２２を破線で示している）。レール６２１ａ〜６２１ｃは、互いに所定の間隔を開けて平行に並設して固設され、レール６２１ｂを中心としてその両側にレール６２１ａおよび６２１ｃが配置されている。そして、レール６２１ａと６２１ｂとの間の下部空間に第１検査ステージ２が配置され、レール６２１ｂと６２１ｃとの間の下部空間に第２検査ステージ３が配置される。また、本体ベース６３には、レール６２１ｂの上部空間に、直動モータ６５１の駆動によって回転するボールネジ６５がレール６２１ｂと平行に設けられている。ここで、直動モータ６５１の駆動は、上記制御部によって制御される。なお、図１および図２においては、レール６２１ａ〜６２１ｃを支持する本体ベース６３がそれぞれ分離して記載されているが、これは他の構成部との関係を説明するためであり、それぞれの本体ベース６３は、少なくとも第１検査ステージ２および第２検査ステージ３の上部空間にそれぞれ開口部が形成されて互いに連結して固設されている。そして、複数の当接部材６４（例えば、上記開口部に対してそれぞれ３箇所）が、それぞれ同一平面上に配置され、上記開口部へ突出して本体ベース６３に固設される。
【００３４】
検査ヘッド梁６１は、本体ベース６３の上面に固設されたレール６２１ａ〜６２１ｃ間に架設される。検査ヘッド梁６１の下部には、スライドブロック６２２ａ、６２２ｂ１、６２２ｂ２、および６２２ｃが設けられている。そして、スライドブロック６２２ａがレール６２１ａに沿って移動可能に係合し、スライドブロック６２２ｂ１および６２２ｂ２がレール６２１ｂに沿って移動可能に係合し、スライドブロック６２２ｃがレール６２１ｃに沿って移動可能に係合している。また、検査ヘッド梁６１は、スライドブロック６２２ｂ１および６２２ｂ２の上部でボールネジ６５と螺合する。したがって、直動モータ６５１が駆動するとボールネジ６５が回転し、レール６２１ａ〜６２１ｃが並設された方向（図示Ｃ方向）に検査ヘッド梁６１が本体ベース６３上を移動する。
【００３５】
また、検査ヘッド梁６１には、Ａ面検査ヘッド４およびＢ面検査ヘッド５が配置される。Ａ面検査ヘッド４およびＢ面検査ヘッド５は、それぞれＣＣＤカメラなどの撮像装置（図示せず）を備えており、撮像装置が下部に向けて開口したスリット４１および５１（図２の破線で示す）を介してそれぞれ検査ヘッド梁６１の下部空間を撮像する。Ａ面検査ヘッド４は、スライドブロック６２２ａとスライドブロック６２２ｂ１および６２２ｂ２との間となる検査ヘッド梁６１に配置される。具体的には、後述により明らかとなるが、第１検査ステージ２のＡ面検査吸着テーブル２２が当接部材６４と当接する位置に固定された場合、検査ヘッド梁６１が図示Ｃ方向に移動することによってＡ面検査ヘッド４の撮像装置が当該Ａ面検査吸着テーブル２２に吸着した基板Ｓの撮像が可能となる位置にＡ面検査ヘッド４が配置される。また、Ｂ面検査ヘッド５は、スライドブロック６２２ｂ１および６２２ｂ２とスライドブロック６２２ｃとの間となる検査ヘッド梁６１に配置される。具体的には、第２検査ステージ３のＢ面検査吸着テーブル３２が当接部材６４と当接する位置に固定された場合、検査ヘッド梁６１が図示Ｃ方向に移動することによってＢ面検査ヘッド５の撮像装置が当該Ｂ面検査吸着テーブル３２に吸着した基板Ｓの撮像が可能となる位置にＢ面検査ヘッド５が配置される。
【００３６】
基板供給部７は、第１基板搬送コンベア１０上に積載された基板Ｓを第１検査ステージ２へ供給するために、第１検査ステージ２の下部空間に配置される。後述により明らかとなるが、基板供給部７は、吸着ユニット７０、揺動機構７１、昇降支持部材７２、昇降機構７３、搬送板７４、および搬送板移動機構７５を備えている。なお、図１においては、基板供給部７の搬送板７４および搬送板移動機構７５のみを図示して、他の構成要素の図示を省略している。
【００３７】
図２に示すように、第１基板搬送コンベア１０上には基板検査装置１による検査前の基板Ｓが種類毎に積載され、吸着ユニット７０の直下空間に何れか１つの種類の基板Ｓが配置される。そして、吸着ユニット７０は、上記制御部の制御に基づいて、その下部に積載された基板Ｓから最上部に載置された基板Ｓｔを取り上げて、搬送板７４上に基板Ｓｔを載置する。また、搬送板７４は、上記制御部の制御による搬送板移動機構７５の駆動に応じて、図示Ｇ方向に移動可能に構成されている。そして、搬送板７４は、搬送板移動機構７５の駆動に応じて、その上面に載置された基板ＳｔをＡ面検査吸着テーブル２２の直下位置まで搬送する。なお、基板供給部７に供給される検査前の基板Ｓは、それぞれ一方の主面であるＡ面を下に向けて第１基板搬送コンベア１０上に積載される。また、後述により明らかとなるが、第１検査ステージ２のＡ面検査吸着テーブル２２が下方向に降下した場合、当該Ａ面検査吸着テーブル２２の吸着面が搬送板７４上に載置された基板Ｓｔ近傍に配置される。
【００３８】
基板収納部８は、３つの基板ケース８１ａ〜８１ｃ、３つの昇降テーブル８２ａ〜８２ｃ、ターンテーブル８３、第１搬出コンベア８４、および一対の第２搬出コンベア８５を備えている。昇降テーブル８２ａ〜８２ｃはそれぞれ基板ケース８１ａ〜８１ｃの内部に設けられ、昇降テーブル８２ａ〜８２ｃ上の基板ケース８１ａ〜８１ｃ内に基板検査装置１による検査後の基板Ｓが積載される。そして、昇降テーブル８２ａ〜８２ｃは、それぞれ上記制御部の制御に基づいて上下動を行い、例えば、最上部に載置された基板Ｓの上下方向の位置が一定となるように制御される。例えば、基板ケース８１ａ〜８１ｃ内には、基板検査装置１によるＡ面および／またはＢ面の検査が不合格となった基板Ｓｎｇが順次積み重ねられていく。これらの基板ケース８１ａ〜８１ｃは、ターンテーブル８３の回転平面上に配置される。ターンテーブル８３は、上記制御部によって図示Ｄ方向の回転および停止位置が制御され、基板ケース８１ａ〜８１ｃのいずれか１つを第２検査ステージ３の直下となる空間に配置する。なお、基板収納部８に収納される検査後の基板Ｓｎｇは、それぞれＡ面を上に向けて基板ケース８１ａ〜８１ｃ内に積載される。例えば、第２検査ステージ３のＢ面検査吸着テーブル３２が基板Ｓｎｇを吸着固定して下方向に降下して当該吸着を解除した場合、当該Ｂ面検査吸着テーブル３２の直下配置された基板ケース８１ａ〜８１ｃ内に当該基板Ｓｎｇが積み重ねられる。
【００３９】
第１搬出コンベア８４は、上記制御部の制御によって、図示Ｈ方向に移動可能に構成されている。一対の第２搬出コンベア８５は、第２基板搬送コンベア１１の上部に配設され、上記制御部の制御によって、それぞれ図示Ｉ方向に移動可能に構成されている。例えば、第１搬出コンベア８４および第２搬出コンベア８５は、基板検査装置１によるＡ面およびＢ面の検査が合格となった基板Ｓｏｋを第２基板搬送コンベア１１へ搬出する。
【００４０】
第２検査ステージ３のＢ面検査吸着テーブル３２が基板Ｓｏｋを吸着固定して下方向に降下するとき、第１搬出コンベア８４は、当該Ｂ面検査吸着テーブル３２の直下位置（つまり、Ｂ面検査吸着テーブル３２と基板ケース８１ａ〜８１ｃの何れかとの間）まで図示Ｈ方向へ移動する。そして、Ｂ面検査吸着テーブル３２が基板Ｓｏｋの吸着を解除した場合、第１搬出コンベア８４上に基板Ｓｏｋが載置される。その後、第１搬出コンベア８４は、第２搬出コンベア８５と列設状態となる第２基板搬送コンベア１１近傍位置まで、基板Ｓｏｋを載置した状態で移動する。第１搬出コンベア８４と第２搬出コンベア８５とが列設状態に配置されたとき、基板Ｓｏｋが第２搬出コンベア８５上へ移動する方向へ、第１搬出コンベア８４および第２搬出コンベア８５のベルトの回転が開始される。そして、基板Ｓｏｋが完全に第２搬出コンベア８５上まで移動すると、一対の第２搬出コンベア８５が互いに離れる図示Ｉ方向に移動する。これによって、第２搬出コンベア８５上の基板Ｓｏｋが第２基板搬送コンベア１１上または第２基板搬送コンベア１１上に積載されている他の基板Ｓｏｋ上に落下して積み重ねられる。
【００４１】
次に、図１〜図３を参照して、第１検査ステージ２および第２検査ステージ３にそれぞれ備えられているエアーシリンダ２３および３３の伸縮動作について説明する。
【００４２】
上述したように、第１回転部材２１には、Ａ面検査吸着テーブル２２ａ〜２２ｄをそれぞれ支持するエアーシリンダ２３ａ〜２３ｄが設けられている。エアーシリンダ２３ａ〜２３ｄは上記制御部の制御によって伸縮可能に構成され、伸縮動作によってそれぞれ支持するＡ面検査吸着テーブル２２ａ〜２２ｄと第１回転軸２４との距離を変化させる。図１は、エアーシリンダ２３ａ〜２３ｄが縮んだ状態であり、Ａ面検査吸着テーブル２２ａ〜２２ｄがそれぞれ第１回転部材２１の側面近傍に配置される。また、図３は、エアーシリンダ２３ａ〜２３ｄが伸びた状態であり、Ａ面検査吸着テーブル２２ａ〜２２ｄがそれぞれ第１回転部材２１から離れた位置に配置される。
【００４３】
図２および図３に示すように、第１回転軸２４に対して直上方向に配置されたＡ面検査吸着テーブル２２ａは、エアーシリンダ２３ａが伸びたとき、その外縁部の上面（第１回転軸２４に対して外側の面）が当接部材６４と当接して位置決めされる。以下、当接部材６４と当接して位置決めされたＡ面検査吸着テーブル２２の位置をＡ面検査位置と記載する。なお、図２に示すように、本実施例では、Ａ面検査吸着テーブル２２ａをＡ面検査位置で安定して位置決めするために、当接部材６４が固設される箇所（３箇所）にエアーシリンダ２３ａがＡ面検査吸着テーブル２２ａを支持する箇所（３箇所）が含まれるように設定されている。
【００４４】
また、図３に示すように、第１回転軸２４に対して下方向に配置されたＡ面検査吸着テーブル２２ｃは、エアーシリンダ２３ｃが伸びたとき、当該Ａ面検査吸着テーブル２２ｃの吸着面が搬送板７４上に載置された基板Ｓｔの上部近傍に配置される。
【００４５】
さらに、図３に示すように、第１回転軸２４に対して右方向に配置されたＡ面検査吸着テーブル２２ｄの吸着面は、エアーシリンダ２３ｄが伸びたとき、同じくエアーシリンダ３３ｂが伸びたＢ面検査吸着テーブル３２ｂの吸着面と当接する。以下、Ａ面検査吸着テーブル２２の吸着面とＢ面検査吸着テーブル３２の吸着面とが当接する位置を基板受渡位置と記載する。
【００４６】
また、第２回転部材３１には、Ｂ面検査吸着テーブル３２ａ〜３２ｄをそれぞれ支持するエアーシリンダ３３ａ〜３３ｄが設けられている。エアーシリンダ３３ａ〜３３ｄは上記制御部の制御によって伸縮可能に構成され、伸縮動作によってそれぞれ支持するＢ面検査吸着テーブル３２ａ〜３２ｄと第２回転軸３４との距離を変化させる。図１は、エアーシリンダ３３ａ〜３３ｄが縮んだ状態であり、Ｂ面検査吸着テーブル３２ａ〜３２ｄがそれぞれ第２回転部材３１の側面近傍に配置される。また、図３は、エアーシリンダ３３ａ〜３３ｄが伸びた状態であり、Ｂ面検査吸着テーブル３２ａ〜３２ｄがそれぞれ第２回転部材３１から離れた位置に配置される。
【００４７】
図２および図３に示すように、第２回転軸３４に対して直上方向に配置されたＢ面検査吸着テーブル３２ａは、エアーシリンダ３３ａが伸びたとき、その外縁部の上面（第２回転軸３４に対して外側の面）が当接部材６４と当接して位置決めされる。以下、当接部材６４と当接して位置決めされたＢ面検査吸着テーブル３２の位置をＢ面検査位置と記載する。なお、図２に示すように、本実施例では、Ｂ面検査吸着テーブル３２ａをＢ面検査位置で安定して位置決めするために、当接部材６４が固設される箇所（３箇所）にエアーシリンダ３３ａがＢ面検査吸着テーブル３２ａを支持する箇所（３箇所）が含まれるように設定されている。
【００４８】
また、図３に示すように、第２回転軸３４に対して下方向に配置されたＢ面検査吸着テーブル３２ｃは、エアーシリンダ３３ｃが伸びたとき、当該Ｂ面検査吸着テーブル３２ｃの吸着面が第１搬出コンベア８４の上部近傍または基板ケース８１の開口部の上方位置に配置される。以下、このＢ面検査吸着テーブル３２の位置を基板排出位置と記載する。
【００４９】
さらに、図３に示すように、第２回転軸３４に対して左方向に配置されたＢ面検査吸着テーブル３２ｂの吸着面は、エアーシリンダ３３ｂが伸びたとき、同じくエアーシリンダ２３ｄが伸びたＡ面検査吸着テーブル２２ｄの吸着面と当接する。
【００５０】
次に、図４を参照して、基板検査装置１の空圧機構について説明する。なお、図４は、基板供給部７および第１検査ステージ２側の空圧機構のみを示しているが、第２検査ステージ３側も第１検査ステージ２側と同様に構成され、以下、基板供給部７および第１検査ステージ２側の空圧機構を代表的に説明する。また、図４は、第１検査ステージ２側の空圧機構を説明するために、第１検査ステージ２の構成の一部を省略し、Ａ面検査吸着テーブル２２を断面で示していることを注釈しておく。また、図４では、基板供給部７について、それら構成要素のうち、空圧機構に関わる構成要素のみブロック図で示している。
【００５１】
図４において、基板検査装置１の第１検査ステージ２に関する空圧機構は、ブロア９０、コンプレッサ９５、主配管９１ａ、主配管９１ｂ、空圧切替部９２、吸着配管９３、シリンダ配管９４を備えている。第１回転軸２４は、第１回転部材２１の内部で空圧切替部９２を支持している。空圧切替部９２は上記制御部によって開閉が制御される複数の切替弁を有しており、第１回転軸２４にはその一方端部からそれぞれの切替弁まで貫通する中空経路（図４の破線で示す）が形成されている。また、第１回転軸２４の他方端部には、タイミングプーリ２５が固設されている。主配管９１ａは、第１回転軸２４の中空経路を通ってブロア９０と空圧切替部９２とを接続し、空圧切替部９２を介してブロア９０が生成する空圧をＡ面検査吸着テーブル２２ａ〜２２ｄに供給する。同様に、主配管９１ｂは、第１回転軸２４の中空経路を通ってコンプレッサ９５と空圧切替部９２とを接続し、空圧切替部９２を介してコンプレッサ９５が生成する空圧をエアーシリンダ２３ａ〜２３ｄに供給する。
【００５２】
Ａ面検査吸着テーブル２２ａ〜２２ｄの吸着面ＡＦには、それぞれ複数の吸着穴が形成されている（図４では、Ａ面検査吸着テーブル２２ａおよび２２ｃのみを示している）。また、Ａ面検査吸着テーブル２２ａ〜２２ｄと空圧切替部９２の切替弁との間には、それぞれエアーシリンダ２３ａ〜２３ｄの伸縮動作に応じて伸縮可能な吸着配管９３ａ〜９３ｄ（図４では、吸着配管９３ａおよび９３ｃのみを示している）が接続されている。ここで、吸着配管９３ａ〜９３ｄは、それぞれ別の切替弁と接続される。また、吸着配管９３ａ〜９３ｄからＡ面検査吸着テーブル２２ａ〜２２ｄに供給される空圧（負圧）は、それぞれＡ面検査吸着テーブル２２ａ〜２２ｄに形成された吸着穴から外部に開放されている。つまり、上記制御部の制御に基づいて、吸着配管９３ａ〜９３ｄを介してＡ面検査吸着テーブル２２ａ〜２２ｄに負圧が供給された場合、それぞれの吸着穴に負圧が発生して吸着面ＡＦを用いた真空吸着が可能となる。
【００５３】
また、エアーシリンダ２３ａ〜２３ｄと空圧切替部９２の切替弁との間には、それぞれシリンダ配管９４ａ〜９４ｄ（図４では、シリンダ配管９４ａおよび９４ｃのみを示している）が接続されている。そして、上記制御部の制御に基づいてシリンダ配管９４ａ〜９４ｄへ上記コンプレッサ９５から空圧（正圧）が供給され、エアーシリンダ２３ａ〜２３ｄの伸縮動作が可能となる。なお、第２検査ステージ３側の空圧機構も第１検査ステージ２側と同様であるため、詳細な説明を省略する。なお、第２検査ステージ３の第２回転軸３４の他方端部には、タイミングプーリ３５（図５参照）が固設されている。なお、上記実施の形態では、空圧切替部９２がブロア９０およびコンプレッサ９５の２系統の空圧を切り替えるようにしているが、各々個別の切替部を備えていてもよい。
【００５４】
また、基板供給部７の吸着ユニット７０は、第１吸着部７０２、第２吸着部７０３、第３吸着部７０４、および第４吸着部７０５を含んでいる。そして、基板供給部７に関する空圧機構は、ブロア９０および吸着圧制御部７０７を備えている。吸着圧制御部７０７は、上記制御部の制御に基づいて、ブロア９０が生成する空圧（負圧）を吸着ユニット７０に供給する。例えば、吸着圧制御部７０７は、上記制御部の制御に基づいて動作制御される複数のソレノイドバルブ等で構成され、第１吸着部７０２、第２吸着部７０３、第３吸着部７０４、および第４吸着部７０５にそれぞれ供給する負圧の有無およびそれらの圧力を制御する。
【００５５】
次に、図５を参照して、基板検査装置１における第１回転部材２１および第２回転部材３１を回転駆動する機構について説明する。なお、図５は、基板検査装置１の一部を示す背面図であり、図１および図３で示す第１検査ステージ２および第２検査ステージ３の位置関係や回転方向が左右逆になっていることを注釈しておく。
【００５６】
図５において、第１回転部材２１および第２回転部材３１を回転駆動する機構は、回転駆動モータ１０１と、タイミングベルト１０３と、テンションプーリ１０４および１０５とを有している。回転駆動モータ１０１の回転軸にはプーリ１０２が固設されており、回転駆動モータ１０１は、上記制御部の制御に基づいて所定の回転角度だけプーリ１０２を駆動する。タイミングベルト１０３は、テンションプーリ１０４および１０５を介して、プーリ１０２とタイミングプーリ２５および３５とによって回動可能に掛け渡される。テンションプーリ１０４および１０５は、掛け渡されたタイミングベルト１０３の張力を制御する。回転駆動モータ１０１の駆動力は、タイミングベルト１０３を介してタイミングプーリ２５および３５を同期して同じ回転角度で回転させる。そして、タイミングプーリ２５および３５がそれぞれ固設された第１回転軸２４および第２回転軸３４も回転し、第１回転軸２４および第２回転軸３４の回転に応じて、それぞれ第１回転部材２１および第２回転部材３１も図示Ａ方向およびＢ方向に回転する。なお、本実施例では、上記制御部による回転指示に応じて、第１回転部材２１および第２回転部材３１がそれぞれ図示Ａ方向およびＢ方向に９０°毎に回転する。
【００５７】
次に、図６および図７を参照して、基板供給部７の詳細な構造について説明する。なお、図６は、吸着ユニット７０および揺動機構７１を断面で示して、基板供給部７の概略構造を示す側面図である。図７は、吸着ユニット７０の下面図である。
【００５８】
図６において、基板供給部７は、吸着ユニット７０、揺動機構７１、昇降支持部材７２、昇降機構７３、搬送板７４、および搬送板移動機構７５を備えている。
【００５９】
図６および図７において、吸着ユニット７０は、一対の支持部材７０１ａおよび７０１ｂと、第１吸着部７０２と、第２吸着部７０３と、第３吸着部７０４と、第４吸着部７０５と、後端当接部材７０６とを含んでいる。第１〜第４吸着部７０２〜７０５は、それぞれ棒状の中空角柱で形成され、それぞれ一対の支持部材７０１ａおよび７０１ｂの間に架設される。そして、吸着ユニット７０は、昇降支持部材７２に支持されて、第１基板搬送コンベア１０上に積載された検査前の基板Ｓの上を第１〜第４吸着部７０２〜７０５がそれぞれ同一方向に横断するように配置される。
【００６０】
第１吸着部７０２は、積載された基板Ｓと対向する下面（長軸方向に平行な中空角柱の側面；以下、吸着面と記載する）に、複数の吸引孔ｈａが形成されている。例えば、吸引孔ｈａは、第１吸着部７０２の下面において、支持部材７０１ａ側に設定された所定領域（例えば、幅約１０ｍｍ×長さ約１４０ｍｍ）に対して直径０．５ｍｍの孔が中心間ピッチ１．５ｍｍでマトリックス状に形成される。これは、吸引孔ｈａが形成される態様の一例であり、吸引孔ｈａが形成される領域や他の態様については後述する。そして、第１吸着部７０２の中空内部には、吸着圧制御部７０７（図４参照）によって制御された負圧が供給され、第１吸着部７０２の下方の外部気体が吸引孔ｈａから吸引される。また、第１吸着部７０２は、支持部材７０１ａおよび７０１ｂの一方端付近（以下、吸着ユニット７０の前端側と記載する）にその両端が支持され、その長軸（図示Ｏ軸）を中心に図示Ｉ方向へ回転可能である。より詳細には、第１吸着部７０２は、後述する吸着ユニット７０の揺動とは独立して、かつ、４つの吸着部の中で第１吸着部７０２のみ単独でＯ軸を中心に回転可能に支持される。これによって、第１吸着部７０２は、基板吸着を柔軟に行うことができ、さらに一旦吸着した基板が剥離しにくい。
【００６１】
第２吸着部７０３は、積載された基板Ｓと対向する下面（吸着面）に、複数の吸引孔ｈｂが形成されている。例えば、吸引孔ｈｂは、第２吸着部７０３の下面において、支持部材７０１ａ側に設定された所定領域（例えば、幅約１０ｍｍ×長さ約５０ｍｍ）に対して直径１．０ｍｍの孔が中心間ピッチ２．０ｍｍでマトリックス状に形成され、当該所定領域に支持部材７０１ｂ側で隣接する別の所定領域（例えば、幅約１０ｍｍ×長さ約８０ｍｍ）に対して直径１．０ｍｍの孔が中心間ピッチ８．０ｍｍでマトリックス状に形成される。なお、この吸引孔ｈｂは、基板Ｓと対向する位置に複数形成されていれば、他の態様で形成されてもかまわない。そして、第２吸着部７０３の中空内部には、吸着圧制御部７０７によって制御された負圧が供給され、第２吸着部７０３の下方の外部気体が吸引孔ｈｂから吸引される。また、第２吸着部７０３は、第１吸着部７０２に対して支持部材７０１ａおよび７０１ｂの他方端側（以下、吸着ユニット７０の後端側と記載する）に、その両端が固設される。
【００６２】
第３吸着部７０４は、積載された基板Ｓと対向する下面（吸着面）に、第２吸着部７０３と同様の複数の吸引孔ｈｂが形成されている。そして、第３吸着部７０４の中空内部には、吸着圧制御部７０７によって制御された負圧が供給され、第３吸着部７０４の下方の外部気体が吸引孔ｈｂから吸引される。また、第３吸着部７０４は、第２吸着部７０３に対して支持部材７０１ａおよび７０１ｂのさらに吸着ユニット７０の後端側に、その両端が固設される。
【００６３】
第４吸着部７０５は、積載された基板Ｓと対向する下面（吸着面）に、複数の吸引孔ｈｃが形成されている。例えば、吸引孔ｈｃは、第４吸着部７０５の下面において、支持部材７０１ａ側に設定された所定領域（例えば、幅約１０ｍｍ×長さ約８０ｍｍ）に対して直径１．０ｍｍの孔が中心間ピッチ８．０ｍｍでマトリックス状に形成され、当該所定領域に支持部材７０１ｂ側で隣接する別の所定領域（例えば、幅約１０ｍｍ×長さ約５０ｍｍ）に対して直径１．０ｍｍの孔が中心間ピッチ２．０ｍｍでマトリックス状に形成される。なお、この吸引孔ｈｃは、基板Ｓと対向する位置に複数形成されていれば、他の態様で形成されてもかまわない。そして、第４吸着部７０５の中空内部には、吸着圧制御部７０７によって制御された負圧が供給され、第４吸着部７０５の下方の外部気体が吸引孔ｈｃから吸引される。また、第４吸着部７０５は、第３吸着部７０４に対して支持部材７０１ａおよび７０１ｂのさらに吸着ユニット７０の後端側となる他方端付近に、その両端が固設される。
【００６４】
後端当接部材７０６は、吸着ユニット７０の最も後端側に配設され、例えば、第４吸着部７０５の上記後端側に固設される。
【００６５】
吸着ユニット７０は、その前端側に設けられた回転軸を中心に揺動可能に昇降支持部材７２に支持される。上記回転軸は、第１〜第４吸着部７０２〜７０５が架設される方向に平行であり、例えば、図示Ｏ軸である。また、吸着ユニット７０の後端側（例えば、第３吸着部７０４および第４吸着部７０５付近）には、揺動機構７１が設けられている。揺動機構７１は、吸着ユニット７０の後端側と昇降支持部材７２とを連結している。また、揺動機構７１の内部には、上記制御部によってその回転角度が制御される揺動カムが設けられている。そして、上記制御部の制御に応じて揺動カムが回動することによって、吸着ユニット７０の後端側と昇降支持部材７２との距離が増減し、上記回転軸を中心に吸着ユニット７０が図示Ｅ方向に揺動する。なお、吸着ユニット７０を揺動させる機構は、他の態様でもかまわない。例えば、エアーシリンダ等の上下駆動を実現する機構を設けてもかまわない。また、上記回転軸を中心に直接吸着ユニット７０を回転させるモータ等の回転機構を設けてもかまわない。
【００６６】
昇降機構７３は、上記制御部の制御に応じて、昇降支持部材７２を図示Ｆ方向に昇降させる。また、基板供給部７は、供給対象となっている基板Ｓの積載高さ（基板Ｓの残量）を検知し、その高さ情報を上記制御部へ出力する高さセンサ（図示せず）を備えている。これによって、吸着ユニット７０は、第１〜第４吸着部７０２〜７０５の吸着面がそれぞれ第１基板搬送コンベア１０上に積載された最上位置に載置された基板Ｓｔの一方主面と相対して近接する位置（基板吸着開始位置）と、第１〜第４吸着部７０２〜７０５の吸着面で吸着した基板Ｓｔを搬送板７４に受け渡す位置（基板吸引解除位置；図６に示す位置）との間を昇降動作することが可能となる。
【００６７】
なお、後述するフローチャートによる動作を開始する前に、供給対象となる基板Ｓが第１基板搬送コンベア１０上に積載されて吸着ユニット７０の下部空間となる所定位置に配置される。ここで、所定位置とは、吸着ユニット７０が積載された基板Ｓに向かって下降したとき、第１吸着部７０２の吸着面が基板Ｓの長軸方向の上面前端部近傍と近接し、少なくとも第２吸着部７０３の吸着面が当該基板Ｓの他の上面領域と近接する位置であり、基板Ｓの短軸方向と第１〜第４吸着部７０２〜７０５の架設方向とが平行になる位置である。
【００６８】
図８を参照して、供給対象となる最大サイズの基板Ｓｍａｘと最小サイズの基板Ｓｍｉｎを一例として、第１吸着部７０２が近接して吸引孔ｈａで吸引する範囲について説明する。なお、図８は、上記所定位置に配置された基板ＳｍａｘおよびＳｍｉｎの上面に対する第１吸着部７０２の吸引範囲の一例を示す図である。
【００６９】
図８において、上記所定位置に積載された基板Ｓｍａｘに向かって吸着ユニット７０が下降したとき、第１吸着部７０２の吸着面が基板Ｓｍａｘの長軸方向の上面端部近傍と近接する。そして、第１吸着部７０２の複数の吸引孔ｈａから吸引することによって、基板Ｓｍａｘの上面端部近傍において、幅Ｗおよび長さＬの領域が吸引されることになる。例えば、上述した吸引孔ｈａの一例では、Ｗ＝約１０ｍｍ、Ｌ＝約１４０ｍｍとなる。一方、上述したように第１吸着部７０２の支持部材７０１ａ側に片寄った所定領域に複数の吸引孔ｈａが形成されているために、最大サイズの基板Ｓｍａｘでは上面前端部近傍において左右何れか一方側に片寄った領域が第１吸着部７０２の吸引範囲となり、好ましくは当該一方側から基板Ｓｍａｘの短軸方向の幅の約２／３まで範囲に当該吸引範囲が設定される。これは、最小サイズの基板Ｓｍｉｎを同じ第１吸着部７０２で吸引することを考慮した場合、第１吸着部７０２の吸引範囲が基板Ｓｍｉｎの短軸方向の幅を超えることが考えられる。具体的には、基板Ｓｍａｘの短軸方向の全幅を第１吸着部７０２の吸引範囲とした場合、基板Ｓｍｉｎに対して吸引漏れが多くなるために吸引圧力を上げなければならなくなる。このような吸引圧力の調整を極力減らすために、最大サイズの基板Ｓｍａｘでは上面前端部近傍において左右何れか一方側に片寄った領域を第１吸着部７０２の吸引範囲に設定することが望ましい。なお、第１吸着部７０２の吸着面は、基板ＳｍａｘおよびＳｍｉｎの上面前端部近傍において、それぞれ短軸方向の全幅と当該吸着面とが当接するように配置される。
【００７０】
図６に戻り、搬送板移動機構７５は、上記制御部の制御に応じて、搬送板７４を図示Ｇ方向に水平移動させる。これによって、搬送板７４は、吸着ユニット７０が基板Ｓｔを吸着支持して上記基板吸引解除位置に配置されたとき、当該基板Ｓｔの下方位置（図６の破線で示す位置）に配置される。そして、吸着ユニット７０による基板Ｓｔの吸着支持が解除されたとき、搬送板７４の上面に基板Ｓｔが載置される。そして、搬送板７４は、その上面に基板Ｓｔを載置した状態でＡ面検査吸着テーブル２２の直下位置まで移動する。
【００７１】
次に、図９〜図１５を参照して、基板供給部７の動作について説明する。なお、図９は、基板供給部７からＡ面検査吸着テーブル２２ａ〜２２ｄの何れかに基板Ｓを供給する動作を示すフローチャートである。図１０〜図１５は、それぞれ図９で示すフローチャートの動作に基づいて、基板供給部７が動作する状態を段階的に示した模式図である。
【００７２】
図９において、基板検査装置１の制御部は、昇降機構７３を駆動して、第１基板搬送コンベア１０上に積載されて供給対象となっている基板Ｓに対して、その最上位置に載置された基板Ｓｔと吸着ユニット７０の吸着面とを近接させる位置（基板吸着開始位置）に昇降支持部材７２を下降させる（ステップＳ５０）。例えば、基板検査装置１の制御部は、上記高さセンサから出力される高さ情報を用いて、現在供給対象となっている基板Ｓの積載高さ（基板Ｓの残量）を算出し、当該積載高さに応じて吸着ユニット７０を下降させる基板吸着開始位置を決定する。そして、図１０に示すように、基板検査装置１の制御部は、昇降機構７３を駆動して、吸着ユニット７０が基板吸着開始位置に配置されるように図示Ｅ１方向に昇降支持部材７２を下降させる。これによって、第１吸着部７０２の吸着面が、最上位置に積載された基板Ｓｔの長軸方向の端部近傍と近接する。このとき、後述するステップによる動作で明らかとなるが、揺動機構７１は、吸着ユニット７０の吸着面が水平になるように動作しているため、当該吸着面と最上位置の基板Ｓｔの主面とが平行な状態で近接する。
【００７３】
次に、基板検査装置１の制御部は、ブロア９０の駆動および吸着圧制御部７０７の動作を制御して、第１吸着部７０２に負圧を供給する。これによって、第１吸着部７０２の吸着面に形成された複数の吸引孔ｈａ（図７参照）へ最上位置の基板Ｓｔの端部が吸引され、第１吸着部７０２の吸着面と基板Ｓｔの上面前端部とが当接する（ステップＳ５１；図８参照）。これによって、第２〜第４吸着部７０３〜７０５の吸着面および後端当接部材７０６と基板Ｓｔの上面とも接する状態となる。このとき、基板検査装置１の制御部は、吸着圧制御部７０７を制御して、第１吸着圧の負圧を第１吸着部７０２に供給する。第１吸着圧は、１枚の基板Ｓｔの端部を持ち上げることができる程度の負圧であり、後述する第２吸着圧より弱い負圧である。例えば、第１吸着圧は、厚さ１．６ｍｍ、サイズ９５ｍｍ×１３０ｍｍ、重量４５ｇの基板Ｓｔに対して、９０ｍｍの幅で吸着してその端部を持ち上げる場合、３〜５ｍｍＨｇである。なお、図１０では、第１吸着圧が発生している状態を第１吸着部７０２内部の実線矢印で示している。
【００７４】
次に、基板検査装置１の制御部は、揺動機構７１の揺動カムを回転させて、吸着ユニット７０が下方向（図１０において反時計回り方向）に所定の角度まで揺動可能な状態にする（ステップＳ５２）。このとき、第１〜第４吸着部７０２〜７０５の吸着面および後端当接部材７０６と最上位置に積載された基板Ｓｔの上面とが接した状態であるため、吸着ユニット７０は、基板Ｓｔと同様の水平状態が維持される（図１０の状態）。
【００７５】
次に、基板検査装置１の制御部は、昇降機構７３を駆動して、昇降支持部材７２を上昇させる（ステップＳ５３）。例えば、図１１に示すように、基板検査装置１の制御部は、昇降機構７３を駆動して、図示Ｅ２方向に昇降支持部材７２を上昇させる。この昇降支持部材７２を上昇に応じて、最上位置に積載された基板Ｓｔの前端部が第１吸着部７０２に吸着された状態で持ち上がる。一方、吸着ユニット７０等の自重によって、上記所定の角度となるまで当該吸着ユニット７０が上記下方向（図示Ｆ１方向）に揺動するため、基板Ｓｔの後端は、積載された他の基板Ｓと接した状態となる。つまり、基板Ｓｔは、他の基板Ｓから前端のみが引き上げられ、当該基板Ｓｔと他の基板Ｓとの間に隙間が形成される（図１１の状態）。
【００７６】
次に、基板検査装置１の制御部は、吸着圧制御部７０７の動作を制御して、第２〜第４吸着部７０３〜７０５に負圧を供給する（ステップＳ５４）。これによって、第２〜第４吸着部７０３〜７０５の吸着面に形成された複数の吸引孔ｈｂまたはｈｃ（図７参照）へ最上位置の基板Ｓｔの端部が吸引され、基板Ｓｔが第１〜第４吸着部７０２〜７０５によって確実に吸着固定される（図１２の状態）。このとき、基板検査装置１の制御部は、吸着圧制御部７０７を制御して、第２吸着圧の負圧を第２〜第４吸着部７０３〜７０５に供給する。第２吸着圧は、基板Ｓｔを確実に吸着固定して全体を持ち上げることができる負圧であり、上記第１吸着圧より強い負圧である。例えば、第２吸着圧は、厚さ１．６ｍｍ、サイズ９５ｍｍ×１３０ｍｍ、重量４５ｇの基板Ｓｔに対して、９０ｍｍの幅で吸着して全体を持ち上げる場合、１０ｍｍＨｇ以上である。なお、図１２では、第２吸着圧が発生している状態を第２〜第４吸着部７０３〜７０５内部の白抜き矢印で示している。
【００７７】
ここで、基板Ｓｔには、背景技術で説明したようにスルーホールＴＨやスリットＳＬなどの表裏を貫通する複数の孔が形成されている。しかしながら、最上位置の基板Ｓｔと最上位置から２枚目の基板Ｓとの間に隙間が形成されているため、基板Ｓｔと２枚目の基板Ｓとが互いに密着することはなく、当該最上位置の基板Ｓｔに対してのみ吸引力が大きく作用する。
【００７８】
次に、基板検査装置１の制御部は、吸着圧制御部７０７の動作を制御して、第１吸着部７０２への供給圧を第１吸着圧から第２吸着圧に変更する（ステップＳ５５）。そして、基板検査装置１の制御部は、揺動機構７１の揺動カムを回転させて吸着ユニット７０を水平状態まで揺動させ（ステップＳ５６）、昇降機構７３をさらに駆動して吸着ユニット７０を上記基板吸引解除位置に配置する（ステップＳ５７；図１３の状態）。例えば、図１３に示すように、上記制御部が揺動カムを回転させることによって、吸着ユニット７０が図示Ｆ２方向に揺動して水平状態となる。そして、上記制御部が昇降機構７３をさらに駆動して図示Ｅ３方向に昇降支持部材７２をさらに上昇させ、吸着ユニット７０を上記基板吸引解除位置に配置する。これによって、吸着ユニット７０に吸着固定された基板Ｓｔは、水平状態で基板吸引解除位置に配置されることになる。なお、図１３では、第２吸着圧に変更された第１吸着部７０２の状態を内部の白抜き矢印で示している。
【００７９】
次に、基板検査装置１の制御部は、搬送板移動機構７５を制御して、搬送板７４を吸着ユニット７０の下方位置まで移動させる（ステップＳ５８）。そして、基板検査装置１の制御部は、吸着圧制御部７０７の動作を制御して、第１〜第４吸着部７０２〜７０５に供給している負圧を停止する（ステップＳ５９；図１４の状態）。これによって、吸着ユニット７０に吸着固定されていた基板Ｓｔが、搬送板７４上に載置される。例えば、図１４に示すように、上記制御部が搬送板７４を図示Ｇ１方向に移動させて、基板Ｓｔを吸着固定した吸着ユニット７０の下方位置に当該搬送板７４を配置する。そして、第１〜第４吸着部７０２〜７０５に供給している負圧を停止することによって、吸着固定されていた基板Ｓｔが搬送板７４の上面に載置される。なお、図１４において、第１〜第４吸着部７０２〜７０５内部の無印は、負圧が供給されていない状態を示している。
【００８０】
次に、基板検査装置１の制御部は、搬送板移動機構７５を制御して、搬送板７４をＡ面検査吸着テーブル２２の直下位置となる基板供給位置まで移動させる（ステップＳ６０；図１５の状態）。例えば、図１５に示すように、上記制御部が搬送板７４を図示Ｇ２方向に移動させて、上記基板供給位置まで当該搬送板７４を移動させる。
【００８１】
次に、基板検査装置１の制御部は、全てのエアーシリンダ２３ａ〜２３ｄおよび３３ａ〜３３ｄを伸ばす方向に動作させる（図３参照）ことによって、Ａ面検査吸着テーブル２２ａ〜２２ｄのいずれか１つの吸着面が基板Ｓｔを載置した搬送板７４の上方近傍に配置される。そして、Ａ面検査吸着テーブル２２が搬送板７４上に載置された基板Ｓｔを吸引し、当該基板Ｓｔの一方主面（具体的にはＢ面）が当該Ａ面検査吸着テーブル２２の吸着面に真空吸着固定される（ステップＳ６１）。
【００８２】
次に、基板検査装置１の制御部は、全てのエアーシリンダ２３ａ〜２３ｄおよび３３ａ〜３３ｄを縮める方向に動作させる（図１参照）。この動作によって、Ａ面検査吸着テーブル２２ａ〜２２ｄおよびＢ面検査吸着テーブル３２ａ〜３２ｄが全て第１回転部材２１および第２回転部材３１の側面近傍に配置され、上記ステップＳ６１においてＡ面検査吸着テーブル２２の吸着面に真空吸着固定された基板Ｓが、基板供給部７からピックアップされる（ステップＳ６２）。
【００８３】
次に、基板検査装置１の制御部は、基板Ｓの供給を継続するか否かを判断する（ステップＳ６３）。そして、制御部は、基板Ｓの供給を継続する場合、上記ステップＳ５０に戻って処理を繰り返し、基板Ｓの供給を終了する場合、当該フローチャートによる処理を終了する。
【００８４】
このように、基板供給部７では、積載された基板Ｓのうち、最上位置の基板Ｓｔの端部近傍のみ吸着して引き上げる。この基板Ｓｔを引き上げる力は、負圧による気体吸引を用いているために吸引力の経時変化がなく、従来の粘着部材等を用いるときに必要なメンテナンスが不要となる。また、最上位置の基板Ｓｔの端部近傍のみ吸着することによって、最上位置の基板Ｓｔのみを容易に剥離することができ、最上位置の基板Ｓｔと２枚目の基板Ｓ間が密着することなく隙間が形成された後、最上位置の基板Ｓｔのみが他の吸着部によって確実に吸着固定される。したがって、本発明の基板取出装置は、表裏を貫通する複数の孔が形成された基板であっても、積載された複数の基板のうち、２枚取りを防止して最上位置に載置された基板のみを取り出すことができる。
【００８５】
本発明において、最上位置の基板Ｓｔのみを他の基板Ｓから剥離できる本質的な要素は、上述したようにピックアップする基板Ｓｔの長手方向の端部のみを吸着するところにある。例えば、ピックアップする基板Ｓｔの中央部を吸着した場合、基板Ｓｔと他の基板Ｓとの密着力が強いために２枚の基板をピックアップしやすいが、長手方向端部のみを吸着することによって、基板Ｓｔと他の基板Ｓとの間に隙間が容易に形成される。
【００８６】
また、ピックアップされる基板Ｓｔの第１吸着部７０２の吸引範囲（図８参照）に対して、当該吸引範囲に含まれる基板Ｓｔの孔を総計した孔面積より、当該吸引範囲に含まれる第１吸着部７０２の吸引孔ｈａの総面積が大きい程、２枚取りを防止する効果が高くなる。例えば、図１６に示すように、最上位置の基板Ｓｔと他の基板Ｓとがずれて積載されている場合を考える。このとき、第１吸着部７０２の吸引孔ｈａと基板Ｓｔの孔とが不一致の箇所については、当該吸引孔ｈａの吸引力が基板Ｓｔのみに作用する（図示実線矢印）。一方、第１吸着部７０２の吸引孔ｈａと基板Ｓｔの孔とが一致している箇所については、当該吸引孔ｈａの吸引力が２枚目の基板Ｓ２に作用する（図示破線矢印）。つまり、２枚取りを防止する効果を高くして、最上位置の基板Ｓｔのみを確実にピックアップするためには、２枚目の基板Ｓ２に作用する吸引力を小さくしながら、吸引孔ｈａと基板Ｓｔの孔とが不一致の箇所を多くすることが必要となる。例えば、第１吸着部７０２の吸引範囲に形成される吸引孔ｈａの孔数をできるだけ多くすることによって基板Ｓｔに作用する吸引力を大きくして、第１吸着部７０２に供給する負圧を低く（例えば、上述した第１吸着圧）制御することによって基板Ｓに作用する吸引力を小さくすれば、２枚取りを防止しながら最上位置の基板Ｓｔのみを確実にピックアップする効果が高くなる。つまり、第１吸着部７０２の吸引範囲に形成される吸引孔ｈａの孔数を多く（吸引孔ｈａの総面積を大きく）することによって、２枚目の基板Ｓ２に作用する吸引力に対して基板Ｓｔに作用する吸引力の割合が増加する。また、第１吸着部７０２に供給する負圧を低く制御することによって、２枚目の基板Ｓ２に作用する吸引力の絶対量が低くなる。
【００８７】
例えば、図１７に示すように、複数の吸引孔ｈａが形成された第１吸着部７０２と複数の貫通孔が形成された基板Ｓｔとを重ね合わせて考える。ここで、図１７の下図においては、複数の吸引孔ｈａが形成された第１吸着部７０２を実線で示し、複数の貫通孔が形成された基板Ｓｔを破線で示し、吸引孔ｈａと貫通孔とが重複する領域を塗りつぶし領域で示している。図１７から明らかなように、吸引孔ｈａの面積に対して吸引孔ｈａと貫通孔とが重複する面積の割合が相対的に低いため、基板Ｓｔに作用する吸引力に対して２枚目の基板Ｓ２に作用する吸引力が極めて低くなることがわかる。また、さらに吸引孔ｈａの孔数を多くすることによって、基板Ｓｔに作用する吸引力に対して２枚目の基板Ｓ２に作用する吸引力の割合がさらに低くなることは明らかである。
【００８８】
上述した第１吸着部７０２の一例では、直径０．５ｍｍの吸引孔ｈａを中心間ピッチ１．５ｍｍでマトリックス状に形成したが、他の態様でもかまわない。例えば、通常ブロア吸着に用いられる直径１．５ｍｍの吸引孔であっても、上記支持部材７０１ａ側に設定された所定領域において孔加工可能な範囲で可能な限り吸引孔をマトリックス状に形成することによって、本発明を実現することができる。また、図１８Ａに示すように、吸引孔ｈａを千鳥配置してもかまわない。吸引孔ｈａを千鳥配置して形成することによって、さらに効率的に吸引孔ｈａを配置できるため、上記所定領域内における孔数や孔総面積をさらに大きくすることができる。また、吸引孔ｈａを千鳥配置して直径を０．５〜０．８ｍｍ程度に形成すれば、さらに効率的に吸引孔ｈａを配置できることは言うまでもない。さらに、第１吸着部７０２の吸着面を多孔質結晶合金等で構成してもかまわない。
【００８９】
また、最小サイズの基板Ｓｍｉｎを同じ第１吸着部７０２で吸引することを考慮して、当該基板Ｓｍｉｎには当接しない吸着面に対しては、第１吸着部７０２における吸引孔ｈａの数を少なくしてもかまわない。例えば、図１８Ｂに示すように、最小サイズの基板Ｓｍｉｎでも当接する第１吸着部７０２の吸着面に対しては、上述したように多数の吸引孔ｈａを形成する。一方、そのサイズに応じて当接しない基板Ｓがあり得る第１吸着部７０２の吸着面に対しては、相対的に少数の吸引孔ｈｂを形成する。さらに、基板Ｓｍｉｎ等サイズの小さな基板Ｓに対して吸引漏れが多い場合、吸着圧制御部７０７によって基板Ｓのサイズ別に吸引圧を制御してもかまわない。
【００９０】
さらに、最小サイズの基板Ｓｍｉｎを同じ第１吸着部７０２で吸引することを考慮して、第１吸着部７０２における吸引孔ｈａを複数のグループに分割して吸引圧を制御してもかまわない。例えば、図１８Ｃに示すように、吸引孔ｈａが形成されている第１吸着部７０２の吸着面を３つの領域Ａｒ１〜Ａｒ３に区分して、各領域Ａｒ１〜Ａｒ３に対して供給する負圧をそれぞれ独立して吸着圧制御部７０７が制御する。そして、供給対象となっている基板Ｓのサイズに応じて、各領域Ａｒ１〜Ａｒ３に供給する吸引圧を制御すれば、基板サイズに応じた適切な吸引圧を供給することができる。
【００９１】
なお、上述した説明では、搬送板７４上に載置された基板Ｓｔが吸着ユニット７０の後端側（つまり、後端当接部材７０６側）へ搬送される例を示したが、他の方向へ搬送されてもかまわない。例えば、搬送板７４上に載置された基板Ｓｔが吸着ユニット７０の前端側（つまり、第１吸着部７０２側）へ搬送されてもいいし、吸着ユニット７０の左右方向へ搬送されてもかまわない。
【００９２】
また、上述した説明では、図８等に示したように、基板Ｓｔの前端に対して右側に片寄った端部が第１吸着部７０２の吸引範囲に設定される例を用いたが、他の位置に吸引範囲が設定されてもかまわない。第１吸着部７０２の吸引範囲は、各サイズの基板Ｓｔが共通して存在する前端部近傍であればよく、例えば、基板Ｓｔの前端に対して左側に片寄った端部や基板Ｓｔの前端の中央であってもかまわない。
【００９３】
また、上述した説明では、第１吸着部７０２の他に３つの吸着部（第２〜第４吸着部７０３〜７０５）を設けたが、第１吸着部７０２による基板Ｓｔの吸着固定をサポートする機構は、他の態様でもかまわない。上述したように、第２〜第４吸着部７０３〜７０５は、第１吸着部７０２による吸着固定だけでは基板Ｓｔ全体を持ち上げる吸引力が不足する、または基板Ｓｔを吸着固定して引き上げる体勢が安定しないために設けられている。例えば、基板Ｓｔを吸着固定して安定して引き上げることができれば、第１吸着部７０２をサポートする他の吸着部は少なくとも１つあればよく、４つ以上の吸着部であってもかまわない。また、第１吸着部７０２をサポートする他の吸着部は、供給対象となる基板Ｓｔのほぼ全面を吸着するような大型の吸着面を有する吸着部であってもかまわない。
【００９４】
また、上述した説明では、吸着ユニット７０を昇降させることによって、最上位置の基板Ｓｔと２枚目の基板Ｓ２との隙間を形成し当該基板Ｓｔをピックアップしたが、最上位置の基板Ｓｔと２枚目の基板Ｓ２との高さ方向の位置関係がそれぞれ相対的に拡大／縮小すれば、他の態様でもかまわない。例えば、積載された基板Ｓ自体を昇降させて最上位置の基板Ｓｔと２枚目の基板Ｓ２との高さ方向の位置関係を拡大／縮小してもかまわない。
【００９５】
また、上述した説明では、本発明の基板取出装置を複数の検査吸着テーブルを有する基板検査装置に適用したが、他の装置に適用してもかまわない。例えば、単独の検査吸着テーブルを有する基板検査装置に適用してもいいし、描画装置や他の処理を行う装置に適用してもかまわない。また、基板取出装置によって取り出す基板は、その両面の外観検査が必要な両面基板でなくてもかまわない。
【産業上の利用可能性】
【００９６】
本発明に係る基板取出装置およびその方法は、装置のメンテナンス作業を極力少なくしながら、積載された複数の基板のうち、２枚取りを防止して最上位置に載置された基板のみを取り出すことができ、表裏を貫通する複数の孔が形成された基板に対して処理する装置などの用途に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００９７】
【図１】本発明の一実施形態に係る基板検査装置１の概略的な構造を示す正面図
【図２】図１の基板検査装置１の概略的な構造を示す上面図
【図３】図１のエアーシリンダ２３および３３が伸びた状態における基板検査装置１の概略的な構造を示す正面図
【図４】図１の基板検査装置１における空圧機構の概略的な構造を示す内部側面図
【図５】図１の基板検査装置１における回転部材を回転駆動する機構の構造を示す背面図
【図６】図１の基板供給部７の概略構造を示す側面図
【図７】図６の吸着ユニット７０の下面図
【図８】所定位置に配置された基板ＳｍａｘおよびＳｍｉｎの上面に対する第１吸着部７０２の吸引範囲の一例を示す図
【図９】基板供給部７からＡ面検査吸着テーブル２２ａ〜２２ｄの何れかに基板Ｓを供給する動作を示すフローチャート
【図１０】図９で示すフローチャートの動作に基づいて、基板供給部７が動作する状態の第１段階を示した模式図
【図１１】図９で示すフローチャートの動作に基づいて、基板供給部７が動作する状態の第２段階を示した模式図
【図１２】図９で示すフローチャートの動作に基づいて、基板供給部７が動作する状態の第３段階を示した模式図
【図１３】図９で示すフローチャートの動作に基づいて、基板供給部７が動作する状態の第４段階を示した模式図
【図１４】図９で示すフローチャートの動作に基づいて、基板供給部７が動作する状態の第５段階を示した模式図
【図１５】図９で示すフローチャートの動作に基づいて、基板供給部７が動作する状態の第６段階を示した模式図
【図１６】最上位置の基板Ｓｔと他の基板Ｓとがずれて積載されている場合に、それぞれの基板ＳｔおよびＳに作用する吸引力を説明するための図
【図１７】複数の吸引孔ｈａが形成された第１吸着部７０２と複数の貫通孔が形成された基板Ｓｔとを重ね合わせた状態を示す図
【図１８Ａ】第１吸着部７０２に形成される吸引孔ｈａの第１の変形例を示す図
【図１８Ｂ】第１吸着部７０２に形成される吸引孔ｈａの第２の変形例を示す図
【図１８Ｃ】第１吸着部７０２に形成される吸引孔ｈａの第３の変形例を示す図
【図１９】基板Ｓの一例を示す図
【図２０Ａ】従来のブロア吸着方式の概略的な装置構造を示す断面図
【図２０Ｂ】従来のブロア吸着方式の概略的な装置構造を示す断面図
【図２１Ａ】従来の粘着部材を用いた方式を概略的に示す断面図
【図２１Ｂ】従来の粘着部材を用いた方式を概略的に示す断面図
【符号の説明】
【００９８】
１…基板検査装置
２…第１検査ステージ
２１…第１回転部材
２２…Ａ面検査吸着テーブル
２３、３３…エアーシリンダ
２４…第１回転軸
２５、３５…タイミングプーリ
３…第２検査ステージ
３１…第２回転部材
３２…Ｂ面検査吸着テーブル
３４…第２回転軸
４…Ａ面検査ヘッド
４１、５１…スリット
５…Ｂ面検査ヘッド
６…フレーム
６１…検査ヘッド梁
６２…直動軸受
６２１…レール
６２２…スライドブロック
６３…本体ベース
６４…当接部材
６５…ボールネジ
６５１…直動モータ
７…基板供給部
７０…吸着ユニット
７０１…支持部材
７０２…第１吸着部
７０３…第２吸着部
７０４…第３吸着部
７０５…第４吸着部
７０６…後端当接部材
７０７…吸着圧制御部
７１…揺動機構
７２…昇降支持部材
７３…昇降機構
７４…搬送板
７５…搬送板移動機構
８…基板収納部
８１…基板ケース
８２…昇降テーブル
８３…ターンテーブル
８４…第１搬出コンベア
８５…第２搬出コンベア
９０…ブロア
９１…主配管
９２…空圧切替部
９３…吸着配管
９４…シリンダ配管
９５…コンプレッサ
１０１…回転駆動モータ
１０２…プーリ
１０３…タイミングベルト
１０４、１０５…テンションプーリ
１０…第１基板搬送コンベア
１１…第２基板搬送コンベア
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８Ａ】
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【図１８Ｂ】
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【図１８Ｃ】
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【図１９】
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【図２０Ａ】
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【図２０Ｂ】
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【図２１Ａ】
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【図２１Ｂ】
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