【手続補正書】
【提出日】平成21年2月18日(2009.2.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パターンの像を液体を介して基板上に転写して基板を露光する露光装置であって、
パターンの像を基板に投影する投影光学系と、
露光された基板を処理する処理装置との接続部と、
前記接続部を介して基板が処理装置へ搬出される前に、基板に付着した液体を除去する液体除去装置とを備える露光装置。
【請求項２】
パターンの像を液体を介して基板上に転写して基板を露光する露光装置であって、
パターンの像を基板に投影する投影光学系と、
露光された基板に付着した液体を除去する液体除去装置と、
露光された基板を液体除去装置に搬送する第１搬送部材と、
液体除去装置により液体が除去された基板を液体除去装置から搬送する第２搬送部材とを備える露光装置。
【請求項３】
前記第１搬送部材は、その表面の少なくとも一部が撥液性であることを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
パターンの像を液体を介して基板上に転写して基板を露光する露光装置であって、
パターンの像を基板に投影する投影光学系と、
露光された基板を搬送する搬送システムと、
基板の搬送経路に設けられ、基板に付着した液体を除去する液体除去装置とを備え、
液体除去装置は、液体の除去を行うときに液体が飛散することを防止するように基板周囲の少なくとも一部を覆うカバーを有する露光装置。
【請求項５】
前記カバー機構はチャンバを含むことを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
【請求項６】
前記液体除去装置は、前記露光後の基板を洗浄する洗浄装置を備え、
前記洗浄装置による前記基板の洗浄後に、前記基板に付着した洗浄液を除去することを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項７】
パターンの像を液体を介して基板上に転写して基板を露光する露光装置であって、
パターンの像を基板に投影する投影光学系と、
基板を保持する基板ステージと、
基板ステージから露光された基板を搬出する前に、基板に付着した液体を除去する液体除去装置とを備える露光装置。
【請求項８】
前記露光後に、前記液体が付着した基板は水平面に対して所定角度で搬送されることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項９】
前記液体除去装置は、前記基板上の液体を吸引することを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記液体除去装置は、前記基板上の液体を乾燥させることを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１１】
前記液体除去装置は、前記基板上の液体を飛ばすことを特徴とする請求項１〜１０のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１２】
前記液体除去装置は、前記液体が付着した基板を回転させる回転機構を含むことを特徴とする請求項１１に記載の露光装置。
【請求項１３】
前記液体除去装置は、前記液体が付着した基板を傾けることを特徴とする請求項１〜１２、２、４及び７のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１４】
前記液体除去装置は、前記基板の両面に付着した液体を除去することを特徴とする請求項１〜１３のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１５】
前記液体除去装置は、前記基板の裏面に付着した液体を除去することを特徴とする請求項１〜１３のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１６】
前記液体を供給する液体供給装置と、
前記液体供給装置によって供給された液体を回収する液体回収装置とをさらに備え、
前記液体除去装置は、前記基板の露光完了後に、前記液体回収装置によって回収されずに、前記基板表面に残留した液体の除去を行うことを特徴とする請求項１〜１５のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１７】
基板を保持する第１保持部材と、基板を保持する第２保持部材とをさらに備え、
前記液体除去装置は、一方の保持部材に保持された基板の露光中に、他方の保持部材に保持された基板に付着した液体の除去を行うことを特徴とする請求項１６に記載の露光装置。
【請求項１８】
基板を保持する第１保持部材と、基板を保持する第２保持部材とをさらに備え、
前記液体除去装置は、一方の保持部材に保持された基板の露光中に、他方の保持部材に保持された基板に付着した液体の除去を行うことを特徴とする請求項１〜１５のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１９】
さらに、基板ステージを備え、基板ステージに前記液体除去装置が設けられている請求項１に記載の露光装置。
【請求項２０】
前記基板ステージに前記液体除去装置が設けられている請求項７に記載の露光装置。
【請求項２１】
パターンの像を液体を介して基板上に転写して基板を露光する露光装置であって、
パターンの像を基板に投影する投影光学系と、
露光された基板を搬送する搬送システムと、
基板の搬送経路の下の少なくとも一部に、露光後の基板から落下した液体を処理する液体処理機構とを備える露光装置。
【請求項２２】
前記液体処理機構は、前記搬送経路の下の少なくとも一部に配置された樋部材と、該樋部材を介して回収された液体を排出する排出機構とを有することを特徴とする請求項２１に記載の露光装置。
【請求項２３】
パターンの像を液体を介して基板上に転写して基板を露光する露光装置であって、
パターンの像を基板に投影する投影光学系と、
液体が付着した基板を搬送する第１搬送部材と、
液体が付着していない基板を搬送する第２搬送部材とを備える露光装置。
【請求項２４】
基板上に存在する露光用の液体を除去する液体除去装置をさらに備え、
前記第１搬送部材は、液体が付着した基板を、前記液体除去装置へ搬送することを特徴とする請求項２３記載の露光装置。
【請求項２５】
前記第１搬送部材の少なくとも一部の表面は撥液性であることを特徴とする請求項２３または２４記載の露光装置。
【請求項２６】
前記第１搬送部材による基板の搬送経路の下の少なくとも一部に配置され、基板から落下した液体を処理する液体処理機構をさらに備えることを特徴とする請求項２１〜２５のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項２７】
液体を介して基板上に露光光を照射して基板を露光する露光装置であって、
基板を保持して移動可能な第１保持部材と、
基板を保持して移動可能な第２保持部材と、
前記第１保持部材に保持された基板が露光されているときに、前記第２保持部材に保持された、露光を終えた基板に付着した液体の除去を行う液体除去装置と、
を備える露光装置。
【請求項２８】
請求項１〜２７のいずれか一項記載の露光装置を用いることを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項２９】
パターンの像を液体を介して基板上に転写して基板を露光する露光装置と共に用いられる液体除去装置であって、
露光された基板を保持する保持部と、
基板上に存在する露光用の液体を除去する液体除去機構とを備える液体除去装置。
【請求項３０】
さらに、液体除去機構を包囲するカバーを備える請求項２９に記載の液体除去装置。
【請求項３１】
さらに、前記保持部に基板を搬送する搬送装置を備える請求項２９または３０に記載の液体除去装置。
【請求項３２】
請求項１〜２７のいずれか一項記載に記載の露光装置と、
露光した基板を処理を行う処理装置とを備える露光システム。
【請求項３３】
前記処理装置が、基板の基材に感光性材料を塗布する塗布装置及び露光された基板を現像する現像装置の少なくとも一方を含む請求項３２に記載の露光システム。