Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月14日(2012.12.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材を含み、当該基材上に、水不溶性のポリマーバインダー及び赤外線吸収性化合物を含む画像形成性層を有するポジ型画像形成性要素であって、前記ポリマーバインダーが、ペンダントヒドロキシアリールカルボン酸エステル基を有する反復単位を含み、当該反復単位が全反復単位の少なくとも２０モル％を構成するポジ型画像形成性要素。
【請求項２】
前記ポリマーバインダーが、下記構造（Ｉａ）〜（Ｉｃ）：
【化１】
2012513039.tif 000001
（ここで、全反復単位を基準として、構造（Ｉａ）の反復単位は０〜２２モル％で存在し、構造（Ｉｂ）の反復単位は２０〜８５モル％で存在し、構造（Ｉｃ）の反復単位は５〜４０モル％で存在し、Ｒ及びＲ’は、独立に、水素、又は置換もしくは非置換アルキル基、置換もしくは非置換シクロアルキル基、又はハロ基であり、Ｒ１は置換もしくは非置換アルキル基、置換もしくは非置換シクロアルキル基であるか、又はヒドロキシアリール基以外の置換もしくは非置換アリール基であり、Ｒ２は任意選択的に置換されていてもよいヒドロキシアリール基である。）
により表される反復単位を含む、請求項１に記載のポジ型画像形成性要素。
【請求項３】
前記ポリマーバインダーが、さらに、構造（Ｉｂ’）：
【化２】
2012513039.tif 000002
（式中、Ｒ３は、環状イミド基により置換されたヒドロキシアリール基である）
により表される反復単位を０〜６０モル％の量で含み、構造（Ｉｂ）及び（Ｉｂ’）により表される反復単位が少なくとも２０モル％の量で存在する、請求項１又は２に記載のポジ型画像形成性要素。
【請求項４】
全反復単位を基準として、構造（Ｉａ）により表される反復単位が２〜１２モル％で存在し、構造（Ｉｂ）により表される反復単位が３０〜６０モル％で存在し、構造（Ｉｂ’）により表される反復単位が２０〜４０モル％で存在し、構造（Ｉｃ）により表される反復単位が１０〜３５モル％で存在し、構造（Ｉｂ）により表される反復単位と（Ｉｂ’）により表される反復単位の合計が６０〜９０モル％である、請求項３に記載のポジ型画像形成性要素。
【請求項５】
前記画像形成性層中に、さらに、着色染料又はＵＶもしくは可視光感受性成分、あるいはこれらの両方を含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載のポジ型画像形成性要素。
【請求項６】
印刷回路板を提供するために使用でき、前記画像形成性層の下側に、非導電性下層上の導電性材料を含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載のポジ型画像形成性要素。
【請求項７】
Ａ）請求項１〜６のいずれか一項に記載のポジ型画像形成性要素を像様露光して露光領域及び非露光領域をもたらす工程、及び
Ｂ）前記像様露光された要素を現像して、主に前記露光領域だけを除去する工程、
を含む、画像形成された要素の製造方法。
【請求項８】
前記画像形成性要素を７００〜１２００ｎｍの波長で画像形成して、親水性アルミニウム含有基材を有する平版印刷版を提供する、請求項７に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月4日(2013.9.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下のスキームに示されるように、シンコニジン塩（ＸＸａ）から出発し、これがアミド形成反応においてＮ−メチル−ヘキセンアミン（ＮＭＨＡ）（ＸＩＸ）と反応されて二環式ラクトンアミド（ＸＶＩＩＩ）を生成し、ここで、ラクトン基が開かれて所望の生成物（ＶＩＩＩ）を生成する、式（ＶＩＩＩ）の化合物を製造する方法であって、Ｒ1がＣ1-4アルキルである、上記方法。
【化１】
2012513381.tif 000001
【請求項２】
Ｒ1がメチルである、請求項１の方法。
【請求項３】
アミド形成反応が、反応に不活性な溶媒中、場合によっては塩基の存在下、アミドカップリング剤の存在下で実施される、請求項１または２の方法。
【請求項４】
溶媒が、ジクロロメタン（ＤＣＭ）またはクロロホルムのようなハロゲン化炭化水素、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）または２−メチルテトラヒドロフラン（ＭｅＴＨＦ）のようなエーテル、メタノールまたはエタノールのようなアルコール、トルエンまたはキシレンのような炭化水素溶媒、ＤＭＦ、ＤＭＡ、アセトニトリルのような双極性非プロトン性溶媒、またはそれらの混合液を含む、請求項３の方法。
【請求項５】
アミド形成剤が、場合によっては１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢｔ）または４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）のような触媒の存在下で、Ｎ−エトキシカルボニル−２−エトキシ−１，２−ジヒドロキノリン（ＥＥＤＱ）、Ｎ−イソプロポキシカルボニル−２−イソプロポキシ−１，２−ジヒドロキノリン（ＩＩＤＱ）、ヘキサフルオロリン酸Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−Ｏ−（７−アザベンゾトリアゾル−１−イル）ウロニウム、ヘキサフルオロリン酸ベンゾトリアゾル−１−イル−オキシ−トリス−ピロリジノ−ホスホニウム、ＣＤＩ、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド（ＥＤＣＩ）またはその塩酸塩、ジシクロヘキシル−カルボジイミド（ＤＣＣ）、１，３−ジイソプロピルカルボジイミド、またはヘキサフルオロリン酸Ｏ−ベンゾトリアゾール−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−ウロニウム（ＨＢＴＵ）を含む、請求項３の方法。
【請求項６】
任意の塩基が第３級アミン、例えばトリエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンである、請求項３の方法。
【請求項７】
結晶化によってラセミ塩（ＸＸ）から得られる、シンコニジン塩（ＸＸａ）の製造方法。
【化２】
2012513381.tif 000002
【請求項８】
ラセミ塩（ＸＸ）が二環式ラクトンカルボン酸（ＸＶ）をシンコニジンと接触させることによって得られる、請求項７の方法。
【化３】
2012513381.tif 000003
【請求項９】
シンコニジンの懸濁液がやや高い温度において（ＸＶ）の溶液に添加され、続いて混合液を冷却させ、それによって所望の生成物（ＸＸａ）が晶出する、請求項８の方法。
【請求項１０】
（ＸＶ）が酢酸エチルのようなエステル溶媒から選ばれる溶媒中に溶解され、そしてシンコニジン懸濁液のための溶媒がアセトニトリルを含む、請求項７または８の方法。
【請求項１１】
塩形成が約５０〜約７０℃の温度、特に約６０℃で実施され、そして混合液がほぼ室温、例えば約２０〜約２５℃の範囲の温度まで冷却される、請求項９または１０の方法。
【請求項１２】
塩が適当な溶媒または溶媒混合液からの再結晶化によるか；あるいは溶媒または溶媒混合液中に再スラリー化することによってさらに精製される、請求項９または１０の方法。
【請求項１３】
再結晶化における溶媒が、Ｃ1-4アルカノール、例えばイソプロパノールであるか、または再スラリー化において溶媒または溶媒混合液が、５％／９５％（ｗ／ｗ）水／エタノール混合液のようなエタノール／水混合液である、請求項１２の方法。
【請求項１４】
式
【化４】
2012513381.tif 000004
のシンコニジン塩。
【請求項１５】
中間体（ＶＩＩＩ）の製造における中間体としての、請求項４に定義されたシンコニジン塩（ＸＸａ）の使用。
【請求項１６】
式（Ｉ）の化合物を製造する方法であって、
【化５】
2012513381.tif 000005
請求項１〜６のいずれか１に記載の式（ＶＩＩＩ）の化合物を製造する方法に続いて、式（Ｉ）の化合物に変換することを含んでなる、上記方法。
【請求項１７】
式（Ｉ）の化合物への変換が以下の通りである、請求項１６の方法：
（ｉ）  式（ＶＩＩＩ）の化合物を式（ＶＩＩ）の化合物と反応させて、式（ＶＩ）の化合物を形成させること、
【化６】
2012513381.tif 000006
（ｉｉ）  以下のスキームに従って（ＶＩ）を（Ｉ）に変換すること：
【化７】
2012513381.tif 000007
【化８】
2012513381.tif 000008
【請求項１８】
請求項１６記載の、式（Ｉ）の化合物を製造する方法であって、請求項７〜１３のいずれか１に記載の式（ＸＸａ）の化合物を製造する方法に続いて、式（Ｉ）の化合物に変換することを含んでなる、上記方法。
【請求項１９】
請求項１〜６のいずれかに記載の方法に従って、式（ＸＸａ）の化合物が最初に式（ＶＩＩＩ）の化合物に変換される、請求項１８記載の方法。
【請求項２０】
式（ＶＩＩＩ）の化合物から式（Ｉ）の化合物への変換が請求項１７に記載の通りである、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
（Ｉ）が請求項１６に定義された通りである式（Ｉ）の化合物の製造における中間体としての、（ＸＸａ）が請求項１４に定義された通りであるシノコニジン塩（ＸＸａ）の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月13日(2012.12.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
分子量１０〜１００ｋＤａのポリマー主鎖であって、酵素開裂に耐えるポリマー主鎖と、
（ｉ）各々が酵素開裂及び生化学的酸化に耐える第１の結合を介して主鎖に共有結合したある数（ｚ）の近赤外蛍光色素と、
（ｉｉ）各々が酵素代謝又は生化学的酸化によって開裂し得る第２の結合を介して主鎖に共有結合したある数（ｚ）の消光剤部分と
とを含んでなる分子内消光型蛍光プローブであって、ｚが１〜１５０の値を有する整数であり、前記消光剤部分は前記蛍光色素と蛍光消光性エネルギー移動関係にある、蛍光プローブ。
【請求項２】
第２の結合が酵素代謝によって開裂し得る、請求項１記載のプローブ。
【請求項３】
前記酵素が加水分解酵素である、請求項２記載のプローブ。
【請求項４】
前記ポリマー主鎖がポリペプチドを含む、請求項１乃至請求項３のいずれか１項記載のプローブ。
【請求項５】
前記ポリマー主鎖がコポリマーを含む、請求項１乃至請求項４のいずれか１項記載のプローブ。
【請求項６】
前記コポリマーがリシン−グルタミン酸コポリマーを含む、請求項６記載のプローブ。
【請求項７】
前記消光剤部分が
（ｉ）非蛍光性色素、
（ｉｉ）ニトロ置換フェニル部分、及び
（ｉｉｉ）アズレンダイマー
から選択される、請求項１乃至請求項６のいずれか１項記載のプローブ。
【請求項８】
前記消光剤部分が非蛍光性である、請求項１乃至請求項７のいずれか１項記載のプローブ。
【請求項９】
前記消光剤部分が生体適合性である、請求項１乃至請求項８のいずれか１項記載のプローブ。
【請求項１０】
第１の結合がスルホンアミド又はアミド結合からなる、請求項１乃至請求項１０のいずれか１項記載のプローブ。
【請求項１１】
前記蛍光色素が６００〜１０００ｎｍの範囲内に吸収極大を有する蛍光色素である、請求項１乃至請求項１０のいずれか１項記載のプローブ。
【請求項１２】
さらに生物学的標的化分子を含む、請求項１乃至請求項１１のいずれか１項記載のプローブ。
【請求項１３】
請求項１乃至請求項１２のいずれか１項記載のプローブを含んでなる、インビボイメージングのために適した光学イメージング剤。
【請求項１４】
前記プローブが、哺乳動物への投与に適した形態で該プローブを生体適合性キャリヤーと共に含んでなる医薬組成物として提供される、請求項１３記載の光学イメージング剤。
【請求項１５】
請求項１３又は請求項１４記載の光学イメージング剤組成物を製造するためのキットであって、当該キットは請求項１乃至請求項１２のいずれか１項記載のプローブを無菌固体形態で含んでいて、生体適合性キャリヤーの無菌供給物で再構成すれば溶解が起こって所望の医薬組成物を与える、キット。
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月13日(2013.3.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多機能インサートであって、
空間的に膨らんだ両縁（６）と同両縁（６）の間の凹んだ中央部（７）とを含む空間的形状に形成された固定インサート（１）と、
前記固定インサート（１）に前記中央部（７）で取り付けられ、前記固定インサート（１）の少なくとも一部を覆い、かつ、シート状の材料からなる補足包装手段（３）と、を備える。
【請求項２】
前記請求項１に記載の多機能インサートにおいて、前記補足包装手段（３）は情報メッセージを含むことを特徴とする。
【請求項３】
前記請求項１または２のいずれか１項に記載の多機能インサートにおいて、前記固定インサート（１）は複数の層（５）が互いに接合されており、前記補足包装手段（３）は前記固定インサート（１）の中央部（７）の個々の層（５）が互いに接合される方法と同じ方法で前記固定インサート（１）に取り付けられることを特徴とする。
【請求項４】
前記請求項１または２のいずれか１項に記載の多機能インサートにおいて、前記補足包装手段（３）は接着剤、および／または、糸またはワイヤによって形成される継目（１１，１９）、および／または凹部（４）によって前記固定インサート（１）に取り付けられることを特徴とする。
【請求項５】
前記請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の多機能インサートにおいて、前記補足包装手段（３）は被包装物を包むことのできる柔軟なシート状の材料からなる。
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月20日(2012.12.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
特にDIN69893による、選択された機能領域が硬化法を受けている、専門工具又は工具レセプタクルのような、円筒状ブランクが中空テーパシャンク（HSK）を具備する軸方向の一端に搭載されている工具システムモジュールの製造方法であって、
前記方法の硬化ステップは、誘導硬化方法に従って行われ、前記工具システムモジュールの連続的な製造プロセスラインに統合されており、
前記誘導硬化方法のステップは、完全な処理の範囲内、好ましくは同一のチャックを用いることで、実行されることを特徴とする工具システムモジュールの製造方法。
【請求項２】
中空テーパシャンク（HSK）の少なくとも選択された領域は、境界層硬化方法を受けることを特徴とする請求項1に記載の方法。
【請求項３】
硬化の深さ（TH）は、硬化する中空テーパーシャンク（HSK）の箇所で提供されたそれぞれの断面の歪みプロフィールの関数として、制御されていることを特徴とする請求項1又は２のいずれかに記載の方法。
【請求項４】
前記誘導硬化方法のステップは、さらなる熱処理ステップと組み合わされていることを特徴とする請求項1乃至３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
前記誘導硬化方法のステップは、少なくとも中空テーパシャンク（HSK）の選択された領域上で、シース硬化法に従って行われることを特徴とする請求項1乃至４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
前記誘導硬化方法のステップは、少なくとも中空テーパシャンク（HSK）の選択された領域上で、線硬化法に従って行われることを特徴とする請求項1乃至５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
硬化する中空テーパシャンク（HSK）のセクションの誘導加熱は、磁束コンセントレータを使用して実行されることを特徴とする請求項1乃至６のいずれかに記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
請求項１に記載の方法の改良を使用すると、特に信頼性の高い加工の結果を持つ精密機械加工が結果として生じる。このように、リードタイムの短縮と、さらに、最小なスペース要求と、簡単な設定、修理、及び製造ラインの維持とが、結果として生じる。最後に、製造プロセスにおいて、エラー源の数が減少される。被加工物のブランクの機械加工は、通常、原料向けの方法で実行される。製造プロセスラインにおける製造プロセスへの統合によって、中空テーパシャンクの各自の提供材料に硬化プロセスを適応する期間中、エラーが実質的に防止される。被加工物のより小さな変形は、さらに、誘導硬化の期間中に生じるので、硬化前の中空テーパシャンクの寸法は、これまで必要とされたものよりも小さく抑えることができる。これによって、硬化の深さを、1/10 mmの範囲まで、より正確に制御する可能性が結果として生じ、これにより、より延性のある材料の微細構造の形成のために、より大きい断面を残すことになる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
特に良好な結果が、請求項２の改良によって達成することができる。中空テーパシャンクの特定の表面領域は、境界層硬化のみにつけられるため、コアの微細構造は、この部分にて実質的に影響なしのままにする。被加工物は、一種類の「熱の蓄積効果」が発生するように、硬化温度までいわゆる硬化ゾーンで加熱される。言い換えれば、単位時間に当たり、被加工物の中央に向かって流れるエネルギーよりも、多くのエネルギーが硬化ゾーンに供給される。このように、コアの微細構造は、影響なしのままにすることができ、いわゆる「表皮効果」のさらなる利点は、誘導硬化時に利用される。ヒステリシス損失によるエネルギー供給が直線的に上昇するが、抵抗加熱によるエネルギー供給は、周波数の二乗で増加する。被加工物の表面上の電流密度も、周波数の上昇とともに増加する（表皮効果）。このため、電流の侵入深さは、周波数に依存する。誘導加熱中に単位時間あたりに供給できるエネルギー量は、硬化温度で保持する時間により及び急冷までの時間遅延によって硬化深さが広い範囲で変化できるように、炎焼硬化の場合の約10倍の大きさである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
請求項４に記載の改良によると、硬化プロセスは、有利には、そこに期待される長期的な歪みに対して、微細構造に関して中空テーパシャンクの少なくとも選択された領域を適応させるために、材料のさらなる処理と組み合わされる。そして、基本的には、誘導硬化は、すべての従来の方法、そして、例えば、シース硬化の方法またはライン硬化法に従って実行することができる。いわゆるシース硬化では、硬化しようとする表面は、完全に加熱し、その後急冷する。対照的に、ライン硬化では、加熱源と急冷スプレーとを、連続して結合する。同様に、組合せ方法を使用して動作させることも可能である。また、所望の微細構造の分布を達成するために、特定の構造の各中空テーパシャンクに統合されたスプレーユニットの有無にかかわらず、別の誘導子ヘッドを関連付けることが有利であり得る。
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月21日(2012.12.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
直接溶融工程から成形可能な、高強度ガラス繊維用組成物であって、
SiO2を64〜75質量％；
Al2O3を16〜24質量％；
MgOを8〜12質量％；及び
R2Oを0.25〜3質量％を含み、R2OはLi2O、Na2Oの合計に等しく、かつ、約2650°F（約1454℃）より低い繊維化温度を有する組成物を含む、前記組成物。
【請求項２】
ガラスバッチが、CaO、P2O5、ZnO、ZrO2、SrO、BaO、SO3、F2、B2O3、TiO2及びFe2O3からなる群から選択される化合物を合計5質量％より少なく含む、請求項１記載の高強度ガラス繊維用組成物。
【請求項３】
前記バッチから製造されるガラスが、少なくとも80°F（44.44℃）のΔTを有する、請求項１記載の高強度ガラス繊維用組成物。
【請求項４】
前記バッチから製造されるガラスが、少なくとも120°F（66.67℃）のΔTを有する請求項３記載の高強度ガラス繊維用組成物。
【請求項５】
前記バッチから製造されるガラスが、2600°F（1427℃）より低い繊維化温度を有する、請求項１記載の高強度ガラス繊維用組成物。
【請求項６】
ガラスバッチが、さらに0〜3質量％のアルカリ金属酸化物を含む、請求項１記載の高強度ガラス繊維用組成物。
【請求項７】
SiO2を68〜69質量％；
Al2O3を20〜22質量％；
MgOを9〜10質量％；及び
Li2Oを1〜3質量％を含む組成物である、請求項１記載の高強度ガラス繊維用組成物。
【請求項８】
SiO2を64〜75質量％；
Al2O3を16〜24質量％；
MgOを8〜12質量％；及び
R2Oを0.25〜3質量％含み、R2OはLi2O、Na2Oの合計に等しい、耐火物で裏打ちしたガラス溶融装置の中でガラスバッチを溶融することにより成形した、高強度ガラス繊維。
【請求項９】
繊維が82737MPaより大きいモジュラスを有する、請求項８記載の高強度ガラス繊維。
【請求項１０】
繊維が87563MPaより大きいモジュラスを有する、請求項８記載の高強度ガラス繊維。
【請求項１１】
繊維が4744MPaより大きい強度を有する、請求項８記載の高強度ガラス繊維。
【請求項１２】
SiO2を68〜69質量％；
Al2O3を20〜22質量％；
MgOを9〜10質量％；及び
Li2Oを1〜3質量％含む、請求項８記載の高強度ガラス繊維。
【請求項１３】
Li2Oを約1.75〜3.0質量％含む、請求項１記載の組成物。
【請求項１４】
Al2O3を前記組成物中に約17〜約22質量％；
MgOを前記組成物中に約9〜約11質量％；及び
Li2Oを前記組成物中に約1.75〜3.0質量％含む、請求項８記載の高強度ガラス繊維。
【請求項１５】
前記組成物の成分が、耐火物で裏打ちした溶融装置中で溶融できる、請求項１記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月19日(2012.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
硫化水素含有ガス流の圧縮方法であって、
（ｉ）硫化水素含有ガス流を、圧縮機で圧縮する工程、
（ｉｉ）
ａ）ジアルキルポリスルフィドを１０〜９８質量％、
ｂ）ジアルキルジスルフィドを１．９〜８０質量％、
ｃ）少なくとも１つのアミンを０．１〜１０質量％、
含む混合物で、圧縮機を洗浄する工程、
ここでジアルキルポリスルフィド、ジアルキルジスルフィド、及び少なくとも１つのアミンの合計は１００質量％である、
を有する、前記方法。
【請求項２】
前記圧縮機が、循環ガス圧縮機、好ましくは液体リング圧縮機、又はスクリュー式圧縮機であることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
工程（ｉ）における圧縮を１段階又は２段階で行うことを特徴とする、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
工程（ｉｉ）における洗浄を連続的に行うことを特徴とする、請求項１から３までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
工程（ｉｉ）における洗浄を非連続的に行うことを特徴とする、請求項１から３までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
工程（ｉｉ）における圧縮機の洗浄を、３０〜１６０℃の温度で行うことを特徴とする、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
工程（ｉｉ）で洗浄のために使用する混合物が、
ａ）ジアルキルポリスルフィドを２０〜９５質量％、特に好ましくは３５〜９０質量％、
ｂ）ジアルキルジスルフィドを４．８〜７２質量％、特に好ましくは９．５〜６０質量％、
ｃ）少なくとも１つのアミンを０．２〜８質量％、特に好ましくは０．５〜５質量％、
ここでジアルキルポリスルフィド、ジアルキルジスルフィド、及び少なくとも１つのアミンの合計は１００質量％である、
有することを特徴とする、請求項１から６までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記硫化水素含有ガス流が、元素の硫黄及び水素から硫化水素を製造することにより得られることを特徴とする、請求項１から７までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
請求項１に記載の硫化水素含有ガスの圧縮方法であって、
（ｉ）硫化水素含有ガス流を、圧縮機で圧縮する工程、
（ｉｉ）
ａ）ジアルキルポリスルフィドを１０〜９８質量％、
ｂ）ジアルキルジスルフィドを１．９〜８０質量％、
ｃ）少なくとも１つのアミンを０．１〜１０質量％、
含む混合物で圧縮機を洗浄する工程、
（ｉｉｉ）圧縮された硫化水素含有ガス流を、引き続き反応させてアルキルメルカプタン、ジアルキルジスルフィド、及びアルカンスルホン酸にする工程、
を有する、前記方法。
【請求項１０】
アルキルメルカプタンを製造する請求項９に記載の方法において、アルカノールと、圧縮された硫化水素含有ガス流とを反応させる工程を有することを特徴とする、前記製造方法。
【請求項１１】
ジアルキルジスルフィドを製造する請求項９に記載の方法において、
ａ）アルカノールと、圧縮された硫化水素含有ガス流との反応によってアルキルメルカプタンを製造する工程、
ｂ）工程ａ）で得られるアルキルメルカプタンを、酸化により硫黄と反応させてジアルキルジスルフィドにする工程、
を有することを特徴とする、前記製造方法。
【請求項１２】
アルカンスルホン酸を製造する請求項９に記載の方法において、
ａ）アルカノールと、圧縮された硫化水素含有ガス流との反応によってアルキルメルカプタンを製造する工程、
ｂ）工程ａ）で製造されるアルキルメルカプタンを、酸化により硫黄と反応させてジアルキルジスルフィドにする工程、
ｃ）工程ｂ）で得られるジアルキルジスルフィドを、酸化剤で酸化させてアルカンスルホン酸にする工程、
を有することを特徴とする、前記製造方法。
【請求項１３】
ジアルキルポリスルフィド、ジアルキルジスルフィド、及び少なくとも１つのアミンを含む混合物を、硫化水素含有ガス流の圧縮時に生じる硫黄堆積物の除去に用いる方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月21日(2012.12.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス繊維を未処理のガラスバッチから、耐火物で裏打ちしたガラス溶融装置中で製造する方法であって、
(1)未処理のガラスバッチを、耐火物で裏打ちした溶融装置の溶融域に充填する工程であって、前記ガラスバッチが
SiO2を64〜75質量％；
Al2O3を16〜26質量％；
MgOを8〜12質量％；及び
R2Oを0.25〜3質量％含み、R2OがLi2O、Na2O及びK2Oの合計に等しい前記工程、
(2)ガラスバッチを、結果として得られるガラスの液相線温度を超えて成形温度まで加熱し、繊維化可能な溶融ガラスを成形する工程；及び
(3)前記溶融ガラスを繊維化する工程、
を含む、前記方法。
【請求項２】
ガラスバッチが、CaO、P2O5、ZnO、ZrO2、SrO、BaO、SO3、フッ素、B2O3、TiO2、Fe2O3、CeO2及びBeO2からなる群から選択される化合物を合計5質量％未満含む、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記バッチから製造したガラスが、2650°F（1454℃）より低い繊維化温度、及び少なくとも80°F（44.44℃）のΔTを有する、請求項１記載の方法。
【請求項４】
前記バッチから製造したガラスが、少なくとも120°F（約49℃）のΔTを有する、請求項１記載の方法。
【請求項５】
ガラス溶融装置が、酸化物を基礎とした耐火性物質で裏打ちされている、請求項１記載の方法。
【請求項６】
ガラス溶融装置が、酸化アルミニウム、シリカ、酸化クロム、酸化アルミニウム及びシリカ、ジルコン、酸化ジルコニウム及び酸化アルミニウム及びシリカ、及びそれらの組み合わせからなる群から選択される耐火性物質で裏打ちされている、請求項１記載の方法。
【請求項７】
バッチから製造されるガラスを、2600°F（約1427℃）より低い成形温度で繊維化する、請求項１記載の方法。
【請求項８】
バッチから製造されるガラスが、少なくとも140°F（約60℃）のΔTを有する、請求項１記載の方法。
【請求項９】
前記ガラスバッチが、SiO2を68〜69質量％；
Al2O3を20〜22質量％；
MgOを9〜10質量％；及び
Li2Oを1〜3質量％含む請求項1記載の方法。
【請求項１０】
請求項1記載の方法に従って製造した、耐火物で裏打ちした溶融装置内における未処理のガラスバッチから製造したガラス繊維。
【請求項１１】
マトリックス素材、及び
SiO2を64〜75質量％；
Al2O3を16〜24質量％；
MgOを8〜12質量％；及び
R2Oを0.25〜3質量％含み、R2OはLi2O、Na2O及びK2Oの合計に等しい、ガラスバッチ組成物から成形される多数のガラス繊維を含む、高強度物品。
【請求項１２】
ガラス繊維が、87632〜89356MPaの測定モジュラスを有する、請求項11記載の高強度物品。
【請求項１３】
高強度の複合物品を生産する方法であって、
(1) 前記ガラスバッチ組成物から繊維を成形する工程、
(2) 繊維をマトリックス素材と組み合わせる工程、
(3) 物品を造形する工程；及び
(4) マトリックス素材を硬化し、高強度の複合物品を成形する工程
を更に含む、請求項1記載の方法。
【請求項１４】
湿式チョップドストランド、乾式チョップドストランド、連続フィラメントマット、チョップドストランドマット、湿式マット及びエアレイドマットからなる群から選択される中間ガラス構造を形成する工程を含む、請求項１３記載の方法。
【請求項１５】
Li2Oが約１．７５〜３．０質量％の量で前記組成物中に存在する、請求項1記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月18日(2012.12.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１７６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１７６】
【表１】
2012513318.tif 000001
本発明はまた、以下の内容を包含する。
（１）
（ｉ）ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）を含む第一層と、
（ｉｉ）接着剤を含む第二層とを
含む層状材料であって、前記第一層が照射処理領域を含む、層状材料。
（２）
前記照射処理領域が、
少なくとも１つの数字、少なくとも１つの文字、少なくとも１つの幾何学的形状又はこれらの組み合わせを形成する、項目１に記載の層状材料。
（３）
前記照射がレーザー照射である、項目１又は２に記載の層状材料。
（４）
前記層状材料がレーザー感応性顔料を含む、項目１〜３のいずれか一項に記載の層状材料。
（５）
前記第一層が着色されていて、前記層状材料が第三層を含有し、当該第三層が第一層と第二層との間に配置され、当該第三層が前記第一層とは異なった色で着色されている、項目１〜４のいずれか一項に記載の層状材料。
（６）
前記第三層が１つ以上の透明層により前記第一層から分離されている、項目５に記載の層状材料。
（７）
前記ポリビニルブチラールが架橋している、項目１〜６のいずれか一項に記載の層状材料。
（８）
前記第一層がポリエステルを更に含む、項目１〜７のいずれか一項に記載の層状材料。
（９）
前記ポリビニルブチラールがポリエステルと架橋している、項目１〜８のいずれか一項に記載の層状材料。
（１０）
前記層状材料がシートの形態である、項目１〜９のいずれか一項に記載の層状材料。
（１１）
前記層状材料がロールに巻き取られたシートの形態である、項目１〜１０のいずれか一項に記載の層状材料。
（１２）
前記層状材料がラベル又は装飾用フィルムである、項目１〜１１のいずれか一項に記載の層状材料。
（１３）
前記層状材料中の第二層によって、項目１〜１２のいずれか一項に記載の層状材料が接着している物品。
（１４）
前記物品が、燃料管理システム、エンジン、燃料貯蔵容器、乗り物の本体又はそれらの構成要素から選択される、項目１３に記載の物品。
（１５）
ａ）ポリビニルブチラールを含有する第一層と接着剤を含有する第二層とを含有する層状材料を供給する工程と、
ｂ）前記第一層を照射処理して、情報又は画像を表示するパターンを生成させる工程とを含む、装飾用フィルム又はラベルの製造方法。
（１６）
（ｉ）ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）を含む第一層と、
（ｉｉ）接着剤を含む第二層と
を含む層状材料の、レーザーマーキングされたラベル又は装飾用フィルムを作製するための使用。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ｉ）ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）を含む第一層と、
（ｉｉ）接着剤を含む第二層とを
含む層状材料であって、前記第一層が照射処理領域を含む、層状材料。
【請求項２】
前記層状材料中の第二層によって、請求項１に記載の層状材料が接着している物品。
【請求項３】
ａ）ポリビニルブチラールを含有する第一層と接着剤を含有する第二層とを含有する層状材料を供給する工程と、
ｂ）前記第一層を照射処理して、情報又は画像を表示するパターンを生成させる工程とを含む、装飾用フィルム又はラベルの製造方法。
【請求項４】
（ｉ）ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）を含む第一層と、
（ｉｉ）接着剤を含む第二層と
を含む層状材料の、レーザーマーキングされたラベル又は装飾用フィルムを作製するための使用。
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月11日(2012.12.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１２０〜２２０℃の融点を有する、少なくとも１つの半結晶質又は結晶質芳香族のレーザー焼結可能なポリエステルポリマーを含む粉末組成物を提供する工程と、ここで、当該粉末組成物の弾性率が、レーザー焼結されたＩＳＯ  ３１６７タイプ１Ａ多目的犬用骨試験試料に形成させ、ＩＳＯ  ５２７に従って試験したとき、少なくとも２００ＭＰａである；そして、
前記粉末組成物を選択的にレーザー焼結させて、３次元物品を形成する工程とを含む、方法。
【請求項２】
前記少なくとも１つの半結晶質又は結晶質のレーザー焼結可能なポリエステルポリマーが、１５０℃超〜２２０℃の融点を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記少なくとも１つの半結晶質又は結晶質のレーザー焼結可能なポリエステルポリマーが、−３０〜８０℃のガラス転移温度を有する、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記少なくとも１つの半結晶質又は結晶質のレーザー焼結可能なポリエステルポリマーが、１５０℃未満の再結晶温度を有し、ＴｍとＴｃとの温度差が２５℃超である、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記少なくとも１つの半結晶質又は結晶質のレーザー焼結可能なポリエステルポリマーが、テレフタル酸、イソフタル酸、ジメチルテレフタレート、又はジメチルイソフタレートのうち１つ以上から誘導されるユニットを含み、前記少なくとも１つの半結晶質又は結晶質のレーザー焼結可能なポリエステルポリマーが、１０，０００〜８０，０００の重量平均分子量を有する、請求項１〜４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
前記粉末組成物が、前記粉末中のポリマー材料の重量に基づいて、５０〜１００重量パーセントの半結晶質又は結晶質ポリエステルを含む、請求項１〜５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
１５０〜２２０℃の融点を有する、少なくとも１つの半結晶質又は結晶質のレーザー焼結可能なポリエステルポリマーを含む粉末組成物を提供する工程と、ここで、当該粉末組成物の弾性率が、レーザー焼結されたＩＳＯ  ３１６７タイプ１Ａ多目的犬用骨試験試料に形成させ、ＩＳＯ  ５２７に従って試験したとき、少なくとも２００ＭＰａである；そして
前記粉末組成物を選択的にレーザー焼結させて、３次元物品を形成する工程と、を含む、方法。
【請求項８】
２つ以上のレーザー焼結可能なポリエステルポリマーのブレンドを含む粉末組成物を提供する工程であって、ここで：
少なくとも１つの前記ポリエステルポリマーが、１２０〜２２０℃の融点を有する、半結晶質又は結晶質であり、そして
少なくとも１つの前記ポリエステルポリマーが、非晶質である、工程と；
前記粉末組成物を選択的にレーザー焼結させて、３次元物品を形成する工程と、を含む、方法。
【請求項９】
前記少なくとも１つの半結晶質又は結晶質のポリエステルポリマーが、１つ以上の芳香族基を含む、請求項７又は８に記載の方法。
【請求項１０】
前記少なくとも１つの半結晶質又は結晶質の芳香族レーザー焼結可能なポリエステルポリマーの実質的に総てが、ポリエステルユニットを含む、請求項１〜９のいずれかに記載の方法。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれかに記載の方法により製造される３次元物品。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成25年7月4日(2013.7.4)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
耳の正円窓膜上または正円窓膜近傍での鼓室内投与による耳の疾患の処置の際に使用するための無菌の医薬組成物であって、
前記医薬組成物は、ポリオキシプロピレンとポリオキシエチレンのポリマーを含む耳に許容可能な熱可逆性の水性ゲルと、蝸牛への耳感覚細胞調節剤の徐放が少なくとも５日間起こるような多重粒子耳感覚細胞調節剤とを含み、
前記耳感覚細胞調節剤がグルタミン酸受容体アンタゴニストであることを特徴とする医薬組成物。
【請求項２】
前記グルタミン酸受容体アンタゴニストが、１−アミノアダマンタン、デキストロメトルファン、デキストロルファン、イボガイン、イフェンプロジル、（Ｓ）−ケタミン、（Ｒ）−ケタミン、メマンチン、ジゾシルピン（ＭＫ−８０１）、ガシクリジン、トラキソプロジル、Ｄ−２−アミノ−５−ホスホノペンタン酸（Ｄ−ＡＰ５）、３−（（±）２−カルボキシピペラジン−４−イル）−プロピル−１−ホスホン酸（ＣＰＰ）、コナントキン、７−クロロキヌレネート（７−ＣＫ）、リコスチネル、亜酸化窒素、フェンシクリジン、リルゾール、チレタミン、アプチガネル、レマシミド、ＤＣＫＡ（５、７−ジクロロキヌレン酸）、キヌレン酸、１−アミノシクロプロパンカルボン酸（ＡＣＰＣ）、ＡＰ７（２−アミノ−７−ホスホノヘプタン酸）、ＡＰＶ（Ｒ−２−アミノ−５−ホスホノペンタノアート）、ＣＰＰｅｎｅ（３−［（Ｒ）−２−カルボキシピペラジン−４−イル］−プロプ−２−エニル−１−ホスホン酸）、（＋）−（１Ｓ，２Ｓ）−１−（４−ヒドロキシ−フェニル）−２−（４−ヒドロキシ−４−フェニルピペリジノ）−１−プロ−パノール）、（１Ｓ，２Ｓ）−１−（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）−２−（４−ヒドロキシ−４−フェニルピペリ−ジノ）−１−プロパノール）、（３Ｒ，４Ｓ）−３−（４−（４−フルオロフェニル)−４−ヒドロキシピペリジン−１−イル−）−クロマン−４，７−ジオール）、（１Ｒ＊；２Ｒ＊）−１−（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）−２−（４−（４−フルオロ−フェニル）−４−ヒドロキシピペリジン−１−イル）−プロパノ−１−オール−メシル酸、または、それらの塩、もしくは、それらの組み合わせであることを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記グルタミン酸受容体アンタゴニストが、ＮＭＤＡ受容体アンタゴニストであることを特徴とする請求項２に記載の組成物。
【請求項４】
前記ＮＭＤＡ受容体アンタゴニストがアリールシクロアルキルアミン、または、キナゾリンであることを特徴とする請求項３に記載の組成物。
【請求項５】
前記ＮＭＤＡ受容体アンタゴニストが、（Ｓ）−ケタミンまたはその塩、もしくは、７−ＣＫまたはその塩であることを特徴とする請求項３に記載の組成物。
【請求項６】
前記ＮＭＤＡ受容体アンタゴニストが、（Ｓ）−ケタミンまたはその塩であることを特徴とする請求項３に記載の組成物。
【請求項７】
前記グルタミン酸受容体アンタゴニストが、（ａ）輸送体ペプチドと、（ｂ）ＮＭＤＡ受容体のＮＭＤＡ受容体結合タンパク質との相互作用を抑制するペプチドとを備えることを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
ポリオキシプロピレンとポリオキシエチレンのポリマーを含む耳に許容可能な熱可逆性の水性ゲルが、ポロクサマー４０７であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１つに記載の組成物。
【請求項９】
前記耳の疾患が耳鳴りであることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１つに記載の組成物。
【請求項１０】
前記耳感覚細胞調節剤が、少なくとも７日間、蝸牛へ徐放されることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１つに記載の組成物。
【請求項１１】
前記耳感覚細胞調節剤が、ガシクリジンであることを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項１２】
前記多重粒子の耳感覚細胞調節剤が、微粒子化した耳感覚細胞調節剤の粒子を含むことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１つに記載の組成物。
【請求項１３】
前記組成物が２５０から３００ｍＯｓｍ／Ｌの実際の浸透圧を提供することを特徴とする請求項１乃至９のいずれかに記載の組成物。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１９７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１９７】
いくつかの実施形態において、グルタミン酸受容体アンタゴニストは、ペプチドである。いくつかの実施形態において、グルタミン酸受容体アンタゴニストは融合ペプチドであり、該融合ペプチドは、(a)輸送体ペプチド及び(b)NMDA受容体とNMDA受容体結合タンパク質との相互作用を抑制するペプチドを備える。本明細書で使用されているように、「輸送体ペプチド」は、細胞及び組織へのペプチド浸透を促進するペプチドを意味する。いくつかの実施形態において、輸送体ペプチドは、ＴＡＴである。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１９８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１９８】
いくつかの実施形態において、グルタミン酸受容体アンタゴニストは融合ペプチドであり、該融合ペプチドは、(a)TATペプチド及び(b)NMDA受容体とNMDA受容体結合タンパク質との相互作用を抑制するペプチドを備える。いくつかの実施形態において、グルタミン酸受容体アンタゴニストは融合ペプチドであり、該融合ペプチドは、(a) (D)-TATペプチド及び(b)NMDA受容体とNMDA受容体結合タンパク質との相互作用を抑制するペプチドを備える。いくつかの実施形態において、グルタミン酸受容体アンタゴニストは融合ペプチドであり、該融合ペプチドは、(a)輸送体ペプチド及び(b)NR2B9cペプチドを備える。いくつかの実施形態において、グルタミン酸受容体アンタゴニストは融合ペプチドであり、該融合ペプチドは、(a)輸送体ペプチド及び(b)(D)-NR2B9cペプチドを備える。いくつかの実施形態において、グルタミン酸受容体アンタゴニストは融合ペプチドであり、該融合ペプチドは、(a)(D)-TATペプチド及び(b)(D)-NR2B9cペプチドを備える。いくつかの実施形態において、グルタミン酸受容体アンタゴニストは融合ペプチドであり、該融合ペプチドは、(a)輸送体ペプチド及び(b)(L)-NR2B9cペプチドを備える。
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月7日(2012.12.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
TFPIのK2ドメインと特異的に結合できるモノクローナル抗体であって、配列番号2の残基R17を含むエピトープと特異的に結合できる抗体。
【請求項２】
TFPIのK2ドメインと特異的に結合できるモノクローナル抗体であって、配列番号2のE10、E11、D12、P13、R17、Y19、T21、Y23、F24、N26、Q28、Q31、C32、E33、R34、F35、K36およびL50からなる群より選択される1または複数の残基を含むエピトープと結合できる抗体。
【請求項３】
TFPIのK2ドメインと結合できるモノクローナル抗体であって、前記抗体の軽鎖が、配列番号15の
・31位に相当する位置にE、
・32位に相当する位置にS、
・33位に相当する位置にD、
・37位に相当する位置にY、
・96位に相当する位置にA、
・97位に相当する位置にT、および
・99位に相当する位置にF
のアミノ酸残基を含み、
前記抗体の重鎖が、配列番号18の
・31位に相当する位置にN、
・53位に相当する位置にR、
・54位に相当する位置にS、
・57位に相当する位置にY、
・59位に相当する位置にY、
・60位に相当する位置にF、
・61位に相当する位置にP、
・62位に相当する位置にD、
・65位に相当する位置にQ、
・102位に相当する位置にY、
・103位に相当する位置にD、および
・106位に相当する位置にD
のアミノ酸残基を含む抗体。
【請求項４】
前記重鎖が、配列番号18の52位に相当する位置にSをさらに含み、かつ/または前記軽鎖が、配列番号15の98位に相当する位置にHをさらに含み、かつ前記重鎖が、配列番号18の56位に相当する位置にSをさらに含む、請求項3に記載のモノクローナル抗体。
【請求項５】
組織因子経路阻害因子(TFPI)のKunitz 2(K2)ドメインと結合できるモノクローナル抗体であって、前記抗体の重鎖が:
・配列番号18のアミノ酸31〜35(NYAMS)のCDR1配列であって、これらのアミノ酸の1つが別のアミノ酸で置換されていてよい配列、および/または
・配列番号18のアミノ酸50〜66(TISRSGSYSYFPDSVQG)のCDR2配列であって、これらのアミノ酸の1、2もしくは3つが別のアミノ酸で置換されていてよい配列、および/または
・配列番号18のアミノ酸99〜110(LGGYDEGDAMDS)のCDR3配列であって、これらのアミノ酸の1、2もしくは3つが別のアミノ酸で置換されていてよい配列
を含む抗体。
【請求項６】
組織因子経路阻害因子(TFPI)のKunitz 2(K2)ドメインと結合できるモノクローナル抗体であって、前記抗体の軽鎖が:
・配列番号15のアミノ酸24〜39(KSSQSLLESDGKTYLN)のCDR1配列であって、これらのアミノ酸の1、2もしくは3つが別のアミノ酸で置換されていてよい配列、および/または
・配列番号15のアミノ酸55〜61(LVSILDS)のCDR2配列であって、これらのアミノ酸の1もしくは2つが別のアミノ酸で置換されていてよい配列、および/または
・配列番号15のアミノ酸94〜102(LQATHFPQT)のCDR3配列であって、これらのアミノ酸の1もしくは2つが別のアミノ酸で置換されていてよい配列
を含む抗体。
【請求項７】
組織因子経路阻害因子(TFPI)のKunitz 2(K2)ドメインと結合できるモノクローナル抗体であって、前記抗体の重鎖が:
・配列番号18のアミノ酸31〜35(NYAMS)のCDR1配列と、
・配列番号18のアミノ酸50〜66(TISRSGSYSYFPDSVQG)のCDR2配列と、
・配列番号18のアミノ酸99〜110(LGGYDEGDAMDS)のCDR3配列とを含み、
前記抗体の軽鎖が:
・配列番号15のアミノ酸24〜39(KSSQSLLESDGKTYLN)のCDR1配列と、
・配列番号15のアミノ酸55〜61(LVSILDS)のCDR2配列と、
・配列番号15のアミノ酸94〜102(LQATHFPQT)のCDR3配列と
を含む抗体。
【請求項８】
前記抗体の軽鎖が、配列番号15を含み、前記抗体の重鎖が、配列番号18を含む、請求項1から7のいずれか一項に記載のモノクローナル抗体。
【請求項９】
前記抗体の軽鎖が、配列番号21を含み、前記抗体の重鎖が、配列番号24を含む、請求項1から8のいずれか一項に記載のモノクローナル抗体。
【請求項１０】
mAb2974よりも高い親和性でTFPIのK2ドメインと結合できる、請求項1から9のいずれか一項に記載のモノクローナル抗体。
【請求項１１】
TFPIが前記抗体で飽和されている場合に、FVIIa/TF/FXa阻害因子アッセイにおいて測定して、膜結合FVIIa/TF/FXaのTFPI阻害を、少なくとも55%、少なくとも60%、少なくとも65%、少なくとも70%、少なくとも75%、少なくとも80%、少なくとも85%、少なくとも90%、少なくとも95%、100%まで、または100%中和できる、請求項1から10のいずれか一項に記載のモノクローナル抗体。
【請求項１２】
請求項1から10のいずれか一項に記載のモノクローナル抗体またはそのフラグメントを発現する真核生物細胞。
【請求項１３】
請求項1から11のいずれか一項に記載の抗体と、医薬的に許容され得る担体または希釈剤とを含む医薬組成物。
【請求項１４】
凝血異常を伴う対象を治療するための、請求項13に記載の医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月17日(2012.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（Ｉ）で表される化合物：
【化１】
2012513380.tif 000001
（式中：
ｎは１〜１５の整数であり、
ｍは０、１、２、または３であり、および
Ｒは、オメガ−３多価不飽和脂肪酸およびオメガ−６多価不飽和脂肪酸から選択される多価不飽和脂肪酸の炭化水素鎖である）。
【請求項２】
ｎが１〜１０である、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
ｎが１、２、３、４、または５である、請求項１または２に記載の化合物。
【請求項４】
ｍが０または１である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５】
多価不飽和脂肪酸が、α−リノレン酸、ステアリドン酸、エイコサトリエン酸、エイコサテトラエン酸、エイコサペンタエン酸、ドコサペンタエン酸、ドコサヘキサエン酸、テトラコサペンタエン酸、テトラコサヘキサエン酸、リノール酸、γ−リノレン酸、エイコサジエン酸、ジホモ−γ−リノレン酸、アラキドン酸、ドコサテトラエン酸、ドコサペンタエン酸、アドレン酸、およびカレンド酸から選択され、好ましくはα−リノレン酸、ステアリドン酸、またはリノール酸である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項６】
下記分子から選択される、請求項１〜５のいずれか一項に記載の化合物：
【化２】
2012513380.tif 000002
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の少なくとも一種の式（Ｉ）で表される化合物と、少なくとも一種の薬学上または化粧料上許容される賦形剤と組み合わせて含む、医薬組成物または化粧料組成物。
【請求項８】
組成物が、組成物の総重量に対して０．０１重量％〜１０重量％、好ましくは０．１重量％〜１重量％の、前記一種以上の式（Ｉ）で表される化合物を含む、請求項７に記載の医薬組成物または化粧料組成物。
【請求項９】
皮膚上へ塗布するための、請求項７または８に記載の医薬組成物または化粧料組成物。
【請求項１０】
薬物として用いるための、請求項７に記載の医薬組成物または化粧料組成物。
【請求項１１】
アクネまたは脂漏性皮膚炎の治療のための、請求項７に記載の医薬組成物または化粧料組成物。
【請求項１２】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の式（Ｉ）で表される化合物の製造方法であって、カルボン酸官能基が遊離型または活性化型である、オメガ−３脂肪酸およびオメガ−６脂肪酸から選択される多価不飽和脂肪酸と、下記式（ＩＩ）で表されるのジオールとをカップリングすることによる、方法：
【化３】
2012513380.tif 000003
（式中、ｎは１〜１５、好ましくは１〜１０の整数であり、ｍは０、１、２、または３、好ましくは０または１である）。
【請求項１３】
カップリング反応が、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド、Ｎ−ヒドロキシベンゾトリアゾール、３，４−ジヒドロ−３−ヒドロキシ−４−オキソ−１，２，３−ベンゾトリアゾール、１−ヒドロキシ−７−アザベンゾトリアゾール、ジメチルアミノピリジン、またはＮ−ヒドロキシスルホスクシンイミドからなる群から選択されるカップリング助剤と場合により組み合わせてよい、ジイソプロピルカルボジイミド、ジシクロヘキシルカルボジイミド、１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩、カルボニルジイミダゾール、２−Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イル）−１，１，３，３−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスファート、２−（１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イル）−１，１，３，３−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボラート、またはＯ−（７−アゾベンゾトリアゾール−１−イル）−１，１，３，３−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスファートからなる群から選択されるカップリング剤の存在下で、カルボン酸官能基が遊離型である多価不飽和脂肪酸から行われる、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
カップリング剤が１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩であり、カップリング助剤がジメチルアミノピリジンである、請求項１２および１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
カップリング反応が、特にピリジンおよびジメチルアミノピリジンの存在下で、カルボン酸官能基が酸塩化物の形で活性化される多価不飽和脂肪酸から行われる、請求項１２に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月13日(2012.11.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プリント配線を製造する方法であり：
基板上に熱可塑性物質を含むパターンをイメージに基づき生成し；
前記基板上の熱可塑性パターンの上に導電性粉末を堆積させ；及び
前記導電性粉末を前記熱可塑性パターン上に、圧力により恒久的に固定し；及び
前記熱可塑性パターンでコーティングされた以外の基板の部分から前記導電性粉末を除去する、ステップを含む方法。
【請求項２】
プリント配線を製造する方法であり：
プライマリイメージ部材を荷電し；
前記プライマリイメージ部材にイメージに基づく暴露により静電的潜在イメージを生成し；
前記プライマリイメージ部材上に熱可塑性粒子をイメージに基づき堆積し；
前記熱可塑性粒子を、電気的絶縁基板に移し；
前記移された熱可塑性粒子を恒久的に固定し；
前記基板上に導電性粉末を堆積し；
前記導電性粉末を前記固定熱可塑性粒子上に圧力で恒久的に固定し；及び
前記固定された熱可塑性粒子でコーティングされた以外の基板の部分から前記導電性粉末を除去する、ステップを含む方法。
【請求項３】
多層プリント配線を製造する方法であり：
プライマリイメージ部材に荷電し；
前記イメージをイメージに基づき暴露して静電潜在イメージを生成し；
前記プライマリイメージ部材上に熱可塑性粒子をイメージに基づき堆積させ；
前記熱可塑性粒子を電気的絶縁基板に移し；
前記移された熱可塑性粒子を恒久的に固定し；
前記基板上に導電性粉末を堆積し；
前記導電性粉末を前記固定された熱可塑性粒子に恒久的に固定し；及び
前記固定された熱可塑性粒子に堆積された部分以外の基板から金属粉除去し；
電気的絶縁性熱可塑性粒子を、前記基板上に均一に堆積させ；
前記熱可塑性粒子をクロスリンクさせて熱硬化層とし；
プライマリイメージング部材を荷電し；
前記プライマリイメージ部材をイメージに基づき暴露して静電的潜在イメージを生成し；
前記プライマリイメージ部材に熱可塑性粒子をイメージに基づき堆積させ；
前記追加の熱可塑性粒子を前記熱硬化層に移し、前記以前に除去されなかった導電性粉末を登録し；
前記熱可塑性粒子を恒久的に固定し；
前記基板上に導電性粉末を堆積させ；
前記追加の導電性粉末を前記固定熱可塑性粒子上に恒久的に固定し；及び
前記固定の熱可塑性粒子でコーティングされた前記基板以外の部分から前記追加の導電性粉末を除去する、ステップを含む方法。