【手続補正書】
【提出日】平成25年1月29日(2013.1.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エンクロージャを充填ガスで充填する方法であって、
内部、幅、高さ、厚さ、ならびに、前記内部に流体的に通じる流体充填ホールおよび流体出口ホールを有するエンクロージャを用意するステップ；
前記流体充填ホール中に前記充填ガスの流れをある充填流量で向けることによって、前記エンクロージャの充填を開始するステップ；および
感知された酸素濃度がしきい値濃度に達したときに、前記エンクロージャの充填を停止するステップを具備し、ここで、前記しきい値酸素濃度および／または前記充填流量は、前記幅、前記高さ、および／または前記厚さに基づいて決定支援ツールによって選択される方法、前記方法は、さらに
前記高さおよび／または厚さをコントローラに入力させるステップ；
前記コントローラを用いて前記充填流量を選択するステップを具備し、ここで、前記決定支援ツールは前記コントローラに書き込まれるアルゴリズムである。
【請求項２】
前記しきい値酸素濃度は、予め決められており、かつ、前記充填流量は、前記幅、前記高さ、および／または前記厚さに基づいて前記決定支援ツールによって選択される請求項１の方法。
【請求項３】
前記充填流量は、予め決められており、かつ、前記しきい値酸素濃度は、前記幅、前記高さ、および／または前記厚さに基づいて前記決定支援ツールによって選択される請求項１の方法。
【請求項４】
前記充填流量および前記しきい値酸素濃度は、前記幅、前記高さ、および／または前記厚さに基づいて前記決定支援ツールによって選択される請求項１の方法。
【請求項５】
前記エンクロージャの内部で得られる前記充填ガスの最小濃度を予め決めるステップ、
前記充填の間中に起こる前記ガスの最大パーセント損失を予め決めるステップをさらに具備し、ここで、前記決定支援ツールによって選択される前記充填流量およびしきい値酸素濃度は、さらに前記予め決められた最小濃度および予め決められた最大パーセント損失に基づく請求項４の方法。
【請求項６】
前記エンクロージャの内部で得られる前記充填ガスの最小濃度を予め決めるステップをさらに具備し、ここで、前記決定支援ツールによって選択される前記充填流量またはしきい値酸素濃度は、さらに前記予め決められた最小充填ガス濃度に基づく請求項１の方法。
【請求項７】
前記充填の間中に起こる前記充填ガスの最大パーセント損失を予め決めるステップをさらに具備し、ここで、前記決定支援ツールによって選択される前記充填流量またはしきい値酸素濃度は、さらに前記予め決められた最大パーセント損失に基づく請求項１の方法。
【請求項８】
前記充填の前記開始と停止との間の時間間隔によって定義される最大充填持続を予め決めるステップをさらに具備し、ここで、前記決定支援ツールによって選択される前記充填流量またはしきい値酸素濃度は、さらに前記予め決められた最大充填持続に基づく請求項１の方法。
【請求項９】
前記決定支援ツールは、前記幅、高さ、および／または前記厚さに基づいて、前記充填ガスの前記流量と、前記充填ガスの組成とを選択する請求項１の方法。
【請求項１０】
前記エンクロージャは、一列に整列されかつ互いに平行の少なくとも二つの正方形、三角形、半円または長方形のガラスペイン（glass panes）と、前記ペイン（panes）の周辺の周囲および前記ペインによって定義されるインタペインスペース上に延びる封止構造とを具備する絶縁ガラスユニットであり、前記流体充填ホールおよび流体出口ホールは、前記密封構造の向かい合ったコーナー（corners）に隣接して前記密封構造内に形成されている請求項１の方法。
【請求項１１】
前記エンクロージャの前記充填の間中に前記エンクロージャのボトム・エッジ（bottom edge）は水平に対して角度αを形成し、前記角度αは１°から１７９°の範囲内にあり、前記流体出口ホールは前記流体充填ホールよりも垂直に高い請求項１の方法は。
【請求項１２】
前記角度αは、５°から１７５°の範囲内にある請求項１１の方法。
【請求項１３】
前記酸素濃度は、光学ベースの（optically-based）酸素センサによって検知される請求項１の方法。
【請求項１４】
前記センサの応答時間は１秒未満である請求項１３の方法。
【請求項１５】
前記センサは、前記流体出口ホールの内部または前記流体出口ホールに隣接して配置される請求項１３の方法
【請求項１６】
前記充填ガスは、アルゴン、アルゴンが濃縮された空気、ネオン、ネオンが濃縮された空気、クリプトン、クリプトンが濃縮された空気、キセノン、キセノンが濃縮された空気、およびそれらの混合物からなるグループから選ばれる請求項１の方法。
【請求項１７】
前記流体出口ホールに真空を適用するステップをさらに具備し、ここで、
前記しきい値酸素濃度は、前記幅、高さ、および／または厚さに基づいて前記決定支援ツールによって選択され；
前記充填流量は、前記真空の適用により生じた前記エンクロージャを通る前記充填ガスの流れの増加を補償する、オペレータによって選択される充填流量に基づいて予め決定される請求項１の方法。
【請求項１８】
エンクロージャを充填ガスで充填するためのシステムであって、
前記エンクロージャの一端内に形成された流体充填ホール中に挿入されるように適合された充填ランス（filling lance）；
前記エンクロージャの他端内に形成された流体出口ホールに隣接して配置された酸素センサ；および
アルゴリズムで書かれたコントローラ、前記コントローラは、
前記酸素センサによって感知された酸素濃度を受け取り、
前記エンクロージャの高さ、幅および／または厚さが入力され、
前記エンクロージャの充填の間中に前記充填ガスの流量および／またはしきい値酸素濃度を選択し、前記選択は、前記コントローラに入力された、充填される前記エンクロージャの前記高さ、幅および／または厚さに基づくこと、前記選択は前記アルゴリズムによって実行されること、および
前記酸素センサによって感知された前記酸素濃度が、前記アルゴリズムによって選択されまたは予め決められ、かつ、オペレータによって前記コントローラに入力された、前記しきい値酸素濃度にいったん達したら、前記充填ランスによって前記エンクロージャの充填を停止するように適合されていること
を具備すること。
【請求項１９】
前記充填ランスに流体的に通じる充填ガスのソース（source）をさらに具備し、前記充填ガスは、アルゴン、アルゴンが濃縮された空気、ネオン、ネオンが濃縮された空気、クリプトン、クリプトンが濃縮された空気、キセノン、キセノンが濃縮された空気、およびそれらの混合物からなるグループから選ばれる請求項１８のシステム。
【請求項２０】
前記コントローラは、そのなかに充填パラメータがオペレータによって入力されるようにさらに適合され、前記充填パラメータは、前記エンクロージャ内で得られる充填ガスの最小濃度、充填の間中に起こる前記充填ガスの最大パーセント損失、前記エンクロージャを前記充填ガスで充填することの開始と停止との間の時間間隔によって定義される最大充填持続（maximum filling duration）、および、前記充填ガスの組成（composition）からなるグループから選ばれること、ここで、前記流量はさらに前記充填パラメータに基づく請求項１８のシステム。
【請求項２１】
真空チューブ、および、前記チューブと真空連通する（in vacuum communication with）の真空ポンプをさらに具備し、前記センサは、少なくとも部分的に、前記真空チューブ内に配置されること、前記チューブは前記流体出口ホールと真空連通して置かれるように適合されることの請求項１８のシステム。