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【手続補正書】
【提出日】平成21年4月8日(2009.4.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】表示装置の駆動方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１フレームを複数のサブフレームに分割して階調を表現する表示装置の駆動方法であって、
ｎビット（ｎは整数、０＜ｎ）の映像信号で階調を表現する場合に、
２進数で表示される階調の各ビットを第１ビット群、第２ビット群、第３ビット群の３種類に区別し、
前記１フレームを、２個のサブフレーム群に分割し、
前記第１ビット群に属するａビット分（ａは整数、０＜ａ＜ｎ）のサブフレームを、それぞれ３個以上に分割して、前記２個のサブフレーム群の一方にｙ個、他方にｚ個（ｙ、ｚは整数、０＜ｚ≦ｙ）としたとき、０．５≦（ｚ／ｙ）≦１となるように配置し、
前記第２ビット群に属するｂビット分（ｂは整数、０＜ｂ＜ｎ）のサブフレームを、それぞれ２個に分割して、前記２個のサブフレーム群に１個ずつ配置し、
前記第３ビット群に属するｃビット分（ｃは整数、０≦ｃ＜ｎ、ａ＋ｂ＋ｃ＝ｎ）のサブフレームを、前記２個のサブフレーム群のうち少なくとも１個のサブフレーム群に配置し、
１ゲート選択期間をｍ個（ｍは整数、１＜ｍ）に分割し、前記ｍ個に分割されたそれぞれの期間において、ゲート線を独立に走査することを特徴とする表示装置の駆動方法。
【請求項２】
１フレームを複数のサブフレームに分割して階調を表現する表示装置の駆動方法であって、
ｎビット（ｎは整数、０＜ｎ）の映像信号で階調を表現する場合に、
２進数で表示される階調の各ビットを第１ビット群、第２ビット群、第３ビット群の３種類に区別し、
前記１フレームを、ｋ個（ｋはｋ≧３の整数）のサブフレーム群に分割し、
前記第１ビット群に属するａビット分（ａは整数、０＜ａ＜ｎ）のサブフレームを、それぞれ（ｋ＋１）個以上に分割して、前記ｋ個のサブフレーム群に、前記ｋ個のサブフレーム群の各々に配置されたうちの最大の個数がｙ個、最小の個数がｚ個（ｙ、ｚは整数、０＜ｚ≦ｙ）としたとき、０．５≦（ｚ／ｙ）≦１となるように配置し、
前記第２ビット群に属するｂビット分（ｂは整数、０＜ｂ＜ｎ）のサブフレームを、それぞれｋ個に分割して、前記ｋ個のサブフレーム群に１個ずつ配置し、
前記第３ビット群に属するｃビット分（ｃは整数、０≦ｃ＜ｎ、ａ＋ｂ＋ｃ＝ｎ）のサブフレームを、それぞれ（ｋ−１）個以下に分割し、または分割せずに、前記ｋ個のサブフレーム群のうち少なくとも１個のサブフレーム群に配置し、
１ゲート選択期間をｍ個（ｍは整数、１＜ｍ）に分割し、前記ｍ個に分割されたそれぞれの期間において、ゲート線を独立に走査することを特徴とする表示装置の駆動方法。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
輝度が線形に変化する第１の階調領域と、輝度が非線形に変化する第２の階調領域とを有し、
前記第１の階調領域の階調数は、前記第２の階調領域の階調数より小さいことを特徴とする表示装置の駆動方法。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
前記サブフレーム群のうちの少なくとも一において、前記第１ビット群に属するビットに相当する全てのサブフレームが出現した後、前記第２ビット群または前記第３ビット群に属するビットに相当する全てのサブフレームが出現することを特徴とする表示装置の駆動方法。
【請求項５】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
前記サブフレーム群のうちの少なくとも一において、前記第２ビット群または前記第３ビット群に属するビットに相当する全てのサブフレームが出現した後、前記第１ビット群に属するビットに相当する全てのサブフレームが出現することを特徴とする表示装置の駆動方法。
【請求項６】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
前記サブフレーム群のうちの少なくとも一において、前記第１ビット群に属するビットに相当するサブフレームのうちの少なくとも一が出現し、前記第２ビット群または前記第３ビット群に属するビットに相当するサブフレームのうちの少なくとも一が出現した後、前記第１ビット群に属するビットに相当するサブフレームのうちの別の一が出現することを特徴とする表示装置の駆動方法。
【請求項７】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
前記サブフレーム群のうちの少なくとも一において、前記第２ビット群もしくは前記第３ビット群に属するビットに相当するサブフレームのうちの少なくとも一が出現し、前記第１ビット群に属するビットに相当するサブフレームのうちの少なくとも一が出現した後、前記第２ビット群または前記第３ビット群に属するビットに相当するサブフレームのうちの別の一が出現することを特徴とする表示装置の駆動方法。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか一において、
前記第１ビット群に属するビットに相当するサブフレームの一部又は全部について、重ね合わせ時間階調方式を用い、
前記第２ビット群に属するビットに相当するサブフレームの一部又は全部について、重ね合わせ時間階調方式を用いて階調を表現することを特徴とする表示装置の駆動方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月28日(2009.5.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
像担持体と、
バイアスが印加されて前記像担持体を注入帯電する複数の帯電器と、
前記複数の帯電器より像担持体移動方向下流側に設けられ、前記複数の帯電器により帯電された前記像担持体に潜像形成をする潜像形成装置と、
前記複数の帯電器通過後の像担持体の表面電位を検出する電位検出手段とを有する画像形成装置において、
前記複数の帯電器は、第一の帯電器と、前記複数の帯電器の中で前記像担持体移動方向最下流に設けられた第二の帯電器とを備え、
前記電位検出手段の検出結果に応じて、前記第二の帯電器に印加されるバイアスは変化させずに、前記第一の帯電器に印加されるバイアスを変化させる第一の制御モードを有することを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記第一の制御モードは、連続画像形成時における、画像形成と画像形成の間に行われることを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記第一の制御モードは、前記像担持体の電位が所定電位から絶対値で５Ｖ以下の範囲内で変化した際に行われることを特徴とする請求項１又は２に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記第一の制御モードでは、前記第一の帯電器に印加されるバイアスの直流電圧の値を変化させることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記第一の制御モードでは、前記第一の帯電器に印加されるバイアスの交流電圧のＤｕｔｙ比を変化させることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記第一の制御モードでは、前記第一の帯電器に印加されるバイアスの交流電圧の振幅値を変化させることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の画像形成装置。
【請求項７】
前記第一及び第二の帯電器は、磁性粒子を磁性粒子担持体に磁気的に担持させ、前記磁性粒子を前記像担持体に接触させて、前記像担持体を帯電することを特徴とする請求項１
乃至６のいずれかに記載の画像形成装置。
【請求項８】
前記像担持体は、アモルファスシリコン系感光体であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載の画像形成装置。
【請求項９】
前記電位検出手段の検出結果に応じて、前記第二の帯電器に印加されるバイアスを変化させる第二の制御モードを有することを特徴とする請求項１乃至８のいずれかに記載の画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
像担持体と、
バイアスが印加されて前記像担持体を注入帯電する複数の帯電器と、
前記複数の帯電器より像担持体移動方向下流側に設けられ、前記複数の帯電器により帯電された前記像担持体に潜像形成をする潜像形成装置と、
前記複数の帯電器通過後の像担持体の表面電位を検出する電位検出手段とを有する画像形成装置において、
前記複数の帯電器は、第一の帯電器と、前記複数の帯電器の中で前記像担持体移動方向最下流に設けられた第二の帯電器とを備え、
前記電位検出手段の検出結果に応じて、前記第二の帯電器に印加されるバイアスは変化させずに、前記第一の帯電器に印加されるバイアスを変化させる第一の制御モードを有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
そして、本実施形態の特徴として、制御装置（ＣＰＵ）３９を用いて、画像形成と画像形成の間（転写材間）において、表面電位検出装置（表面電位検出手段に相当）３８の出力が所定値になるように、第一帯電スリーブ３１の帯電バイアスである直流電圧を制御している。これにより、感光ドラム１の表面電位の調整を行い安定した帯電電位をえることができる。特に、数Ｖ程度の微調整を効果的に行うことができる。また、連続画像形成時における電位変動に対してはより大きな効果を得ることができ、表面電位の大きな変動を引き起こすことなく表面電位の微調整を可能としている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
この特徴について以下に述べる。図４は、感光ドラム１の表面電位の変動を示す図である。図４で、○印は第二の帯電スリーブ３２に印加される直流電圧（第二帯電直流電圧）を変化させずに第一帯電スリーブ３１に印加される直流電圧（第一帯電直流電圧）の大き
さを変化させたとき（第一の制御モードに相当）の感光ドラム１の表面電位の変動（第一帯電バイアス調整）を示す。また、△印は第一帯電直流電圧を変化させずに、第二帯電直流電圧を変化させた時との感光ドラム１の表面電位の変動（図４中の第二帯電バイアス調整）を示す。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
本実施形態のように、第二帯電バイアスを一定のまま、第一帯電バイアスのみを制御することは、特に数Ｖ程度の微調整を行なう際の制御モードにおいて効果的である。また、連続画像形成時における電位変動に対してはより大きな効果が得られる。本実施形態では、表面電位の大きな変動による濃度変動を引き起こすことなく表面電位の微調整が可能となった。なお、感光ドラム１の表面電位を大きく変化させる粗調整モード（第二の制御モードに相当）の場合には、第二帯電直流電圧の制御を行っても良い。したがって本願発明は、感光ドラム１の表面電位を大きく変化させる粗調整モードと、感光ドラム１の表面電位を小さく変化する微調整モードの双方を有するような画像形成装置にも適用可能である。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月3日(2008.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下部クラッド、該下部クラッド上に形成された、主コアと該主コアに接続された２本の分岐コアとからなる回路コア、および前記回路コアを埋め込む上部クラッドを備え、
前記主コアと前記２本の分岐コアとは間隔を有して接続され、
前記２本の分岐コアは、前記主コア側の端部において、前記下部クラッド側よりも前記上部クラッド側が狭い隙間を有することを特徴とするＹ分岐回路。
【請求項２】
前記２本の分岐コアは、高さに対する幅の比が５０％から１５０％であることを特徴とする請求項１に記載のＹ分岐回路。
【請求項３】
前記２本の分岐コアの前記隙間は、前記上部クラッド側が１．５μｍ以下であることを特徴とする請求項１または２に記載のＹ分岐回路。
【請求項４】
前記主コアと前記２本の分岐コアとの前記間隔は、２．５μｍ以上であることを特徴とする請求項１、２または３に記載のＹ分岐回路。
【請求項５】
前記上部クラッドは前記コア層の軟化温度よりも１００℃から２５０℃低い軟化温度の石英ガラスまたは石英系ガラスであることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載のＹ分岐回路。
【請求項６】
前記上部クラッドは、前記コア層の軟化温度より５０℃から２００℃高い温度で処理されたことを特徴とする請求項１ないし５のいずれかに記載のＹ分岐回路。
【請求項７】
下部クラッド上に該下部クラッドより屈折率の高いコア層を形成する工程と、
前記コア層の一部を除去し、１本の主コアと、該主コアと間隔を有して接続される、互いに隙間を有する２本の分岐コアと、からなる回路コアを形成する工程と、
前記回路コアより屈折率の低い上部クラッドで前記回路コアを覆う行程であって、前記２本の分岐コアの前記隙間が前記上部クラッド側で前記下部クラッド側より狭くする工程と
を含むことを特徴とするＹ分岐回路の製造方法。
【請求項８】
前記回路コアを形成する前記工程は、
前記主コアと前記２本の分岐コアとの前記間隔を２．５μｍ以上とする行程と、
前記２本の分岐コアを高さに対する幅の比が５０％から１５０％とする行程と
を含むことを特徴とする請求項７に記載のＹ分岐回路の製造方法。
【請求項９】
前記回路コアを覆う行程は、
前記回路コアを覆う前記上部クラッドが、前記コア層の軟化温度よりも１００℃から２５０℃低い軟化温度の石英ガラスまたは石英系ガラスであって、
前記コア層の軟化温度より５０℃から２００℃高い温度で前記上部クラッドを処理する行程を含むことを特徴とする請求項７または８に記載のＹ分岐回路の製造方法。
【請求項１０】
前記回路コアを覆う前記行程は、前記上部クラッド側の前記隙間を１．５μｍ以下にする行程であることを特徴とする請求項７ないし９のいずれかに記載のＹ分岐回路の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
本発明に係るＹ分岐回路は、下部クラッド、該下部クラッド上に形成された、主コアと該主コア接続された２本の分岐コアとからなる回路コア、および前記回路コアを埋め込む上部クラッドを備え、前記主コアと前記２本の分岐コアとは間隔を有して接続され、前記２本の分岐コアは、前記主コア側の端部において、前記下部クラッド側よりも前記上部クラッド側が狭い隙間を有することを特徴とする。２本の分岐コアは、高さに対する幅の比が５０％から１５０％であることが望ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月8日(2009.1.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
上記のように、この実施の形態では、両ブロワ１，２を用い、吸着分離工程および減圧再生工程において、両ブロワ１，２の圧縮比が小さいときには、並列運転を行い、両ブロワ１，２の圧縮比が大きいときには、直列運転を行っている。このため、加圧時の圧力が高くなって吸着剤の吸着圧力を高くすることができ、また、減圧時の圧力が低くなって吸着剤の再生圧力を低くすることができる。その結果、吸着圧力と再生圧力との圧力差が大きくなり、吸着剤の有効吸着量（窒素の）を増大することができる。しかも、両ブロワ１，２の圧縮比が大きいときには、直列運転を行っており、これにより、消費動力を低減させることができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６】
2006272325.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月24日(2009.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
塩分を含有する原水を精密ろ過膜モジュールまたは限外ろ過膜モジュールで処理して得られた処理水を、逆浸透膜モジュールで逆浸透処理する膜分離方法において、前記精密ろ過膜モジュールまたは限外ろ過膜モジュールで処理して得られた処理水を洗浄水として、前記精密ろ過膜モジュールに用いられる精密ろ過膜または前記限外ろ過膜モジュールに用いられる限外ろ過膜の逆流洗浄を定期的に行うとともに、前記逆浸透膜モジュールで得られた透過水の少なくとも一部を洗浄水として、１ヶ月に１回〜１日に１０回の範囲で、前記精密ろ過膜または前記限外ろ過膜の洗浄を行うことを特徴とする膜分離方法。
【請求項２】
前記逆浸透膜モジュールで得られた濃縮水で前記精密ろ過膜モジュールに用いられる精密ろ過膜または前記限外ろ過膜モジュールに用いられる限外ろ過膜を洗浄する洗浄手段Ａと、前記逆浸透膜モジュールで得られた透過水で前記精密ろ過膜モジュールに用いられる精密ろ過膜または前記限外ろ過膜モジュールに用いられる限外ろ過膜を洗浄する洗浄手段Ｂとを、前記洗浄手段Ａの次に洗浄手段Ｂの順序で、もしくは、前記洗浄手段Ｂの次に洗浄手段Ａの順序で行うことを特徴とする請求項１に記載の膜分離方法。
【請求項３】
前記逆浸透膜モジュールで得られた透過水および／または濃縮水のｐＨが５以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の膜分離方法。
【請求項４】
塩分を含有する原水を膜分離処理するための装置であって、精密ろ過膜モジュールまたは限外ろ過膜モジュールと、前記精密ろ過膜モジュールまたは前記限外ろ過膜モジュールで得られた処理水を逆浸透処理する逆浸透膜モジュールと、前記精密ろ過膜モジュールまたは前記限外ろ過膜モジュールで得られた処理水を洗浄水として、前記精密ろ過膜モジュールに用いられる精密ろ過膜または前記限外ろ過膜モジュールに用いられる限外ろ過膜の逆流洗浄用に返送する手段と、前記逆浸透膜モジュールで得られた透過水の少なくとも一部を、前記精密ろ過膜または前記限外ろ過膜の洗浄水として返送する手段とを有することを特徴とする膜分離装置。
【請求項５】
前記逆浸透膜モジュールへ供給される水のｐＨを５以下にするための酸添加装置を有することを特徴とする請求項４に記載の膜分離装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月16日(2009.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
前記第１のコイルおよび前記第２のコイルに関連して、前記第１のコイルと前記第２のコイルの間に前記イオンビームに関連する空間電荷を中性化するプラズマを供給するように動作可能なプラズマ源をさらに含むことを特徴とする請求項６に記載のハイブリッド偏向器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
次に、図３Ａ〜図５Ｂを参照し、本発明に係るハイブリッド偏向器が有する磁気偏向器について、磁気偏向器のみを例示することにより説明する。
図３Ａを参照すると、図１および図２に示すシステム１１８、２２４のような、本発明の一態様に従った例示的な偏向システム３００が示されている。偏向システム３００は、コントローラー３０４に結合された磁気偏向器３０２を含み、磁気偏向器３０２は、プラズマ源３０６に作動的に関連するものである。磁気偏向器３０２は、１つまたは複数の入力制御信号３０８に基づいてコントローラー３０４によって動作し、イオンビーム３１３の伝播方向３１２にほぼ直交する（または、横断する）磁界を領域３１０に発生する。この例において、イオンビームは、ペンシル形ビーム、ペンシル形スキャンビーム（したがって、走査のためにリボン状に見える）、またはリボン形ビーム、および本発明において考えられる全ての代替的なビーム形状である。より詳細には、磁界３１０は、イオンビームを、ビームライン軸３１４から加工物３１８に向かう方向３１６に偏向するように作用するものである。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月3日(2009.9.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エミッタ表面（５）を有する荷電粒子ビーム源（２、６０）を含む荷電粒子ビーム照射デバイスを動作するための方法であって、
（ａ）荷電粒子ビームを発生させる段階と、
（ｂ）前記発生した荷電粒子ビームをサンプル又は試料上に合焦させる段階と、
（ｃ）トリガー事象の発生に基づいて前記エミッタ表面の清浄化のための清浄化処理を自動的に実行する段階と、を有し、
前記トリガー事象は、サンプルの交換、較正、サンプル又は試料の移動、及び／又はステージの移動であることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記荷電粒子ビームは、前記清浄化処理中に前記サンプル又は試料からデフォーカス又は偏向されることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
荷電粒子ビームを発生させる段階（ａ）が、
（ａ１）所与の作動状態下で、高い初期照射電流Ｉ0と低い安定平均照射電流ＩSとを示す前記荷電粒子ビーム源（２、６０）を所与の圧力の真空中に配置する段階と、
（ａ２）前記エミッタ表面（５）から荷電粒子を照射するために前記荷電粒子ビーム源（２、６０）に前記所与の作動状態を適用して、前記荷電粒子ビーム源の照射電流が前記安定平均照射電流ＩSよりも高くなるようにする段階と、を有し、
（ｃ１）少なくとも１つの加熱パルスを前記荷電粒子ビーム源に印加して前記エミッタ表面（５）を温度ＴCにまで加熱することにより清浄化処理を行い、これにより前記荷電粒子ビーム源の照射電流が低い安定平均照射電流ＩSに低下する前に前記清浄化処理を行うようにする段階と、
（ｃ２）前記清浄化処理（ｃ１）を繰返して、前記平均安定照射電流ＩSを連続的に上回るように前記荷電粒子ビーム源の照射電流を維持する段階と、
を有する請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
清浄化処理を行う段階（ｃ１）が、所定時間実行され、又は、照射電流が、安定平均照射電流ＩSよりも高い所定のＩCまで低下したとき実行される請求項３記載の方法。
【請求項５】
荷電粒子ビームを発生させる段階（ａ）が、
（ａ１）所与の引き出し電界下で高い初期照射電流Ｉ0と低い安定平均照射電流ＩSとを示す冷陰極電界エミッタ（２、６０）を所与の圧力の真空中に配置する段階と、
（ａ２）前記エミッタ表面（５）から電子を照射するために前記冷陰極電界エミッタ（２、６０）に前記所与の引き出し電界を印加して、前記冷陰極電界エミッタの照射電流が前記安定平均照射電流ＩSよりも高くなるようにする段階と、
（ａ３）前記引き出し電界の強度を調節して、前記照射電流が実質的に安定し且つ前記平均安定照射電流ＩSを連続的に上回ってＩSよりも高い事前に定められた値ＩCに維持する段階と、を有し、
さらに、清浄化処理を行う段階（ｃ）が、
（ｃ１）少なくとも１つの加熱パルスを前記冷陰極電界エミッタに印加して前記エミッタ表面（５）を温度ＴCにまで加熱することにより清浄化処理を行い、これにより前記引き出し電界の強度が事前に定められた基準値を超える時に前記清浄化処理を行うようにする段階と、
（ｃ２）前記調節段階（ａ３）及び前記清浄化処理（ｃ１）を繰返して、前記冷陰極電界エミッタの照射電流が実質的に安定した照射値ＩSを連続的に上回るように維持する段階と、を含む請求項１又は２に記載の方法。
【請求項６】
予め定められた値ＩCはＩC＝αＩ0で定義され、α＞０．９であり、特にα＞０．９５であることを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項７】
エミッタ表面（５）を含む、荷電粒子を照射するための荷電粒子ビーム源（６０）と、
前記荷電粒子ビーム源（６０）に電圧を印加して荷電粒子ビーム（７８）を発生させるための電圧ユニット（８６）と、
前記エミッタ表面（５）を加熱するための加熱要素（８２）と、
トリガー信号を受け取るための入力部（９０）を含む制御ユニット（８８）と、
を備え、
前記制御ユニット（８８）は、トリガー信号を受け取ると、前記加熱要素（８２）を制御して、前記荷電粒子ビーム（７８）の発生中に前記荷電粒子ビーム源（６０）のエミッタ表面（５）に少なくとも１つの加熱パルスを印加するように動作し、
さらに、サンプルの交換、較正、サンプル又は試料の移動、及びステージの移動のうち少なくとも１つがあったとき、トリガー信号を供給するように適合されたトリガーユニット（９８）を備えていることを特徴とする荷電粒子ビーム照射デバイス。
【請求項８】
前記荷電粒子ビーム照射デバイスが、ビームブランカ（６６）を備え、前記制御ユニット（８８）は、前記トリガー信号を受け取ると前記ビームブランカ（６６）を制御して、前記発生した粒子ビームを偏向させるように動作することを特徴とする請求項７に記載の荷電粒子ビーム照射デバイス。
【請求項９】
前記荷電粒子ビーム照射デバイスは、前記荷電粒子ビーム（７８）をサンプル又は試料（７２）上に合焦及びデフォーカスするための合焦ユニット（９２）を備え、前記制御ユニット（８８）は、前記トリガー信号を受け取ると、前記合焦ユニット（９２）を制御して、前記発生した荷電粒子ビーム（７８）を前記サンプル又は試料（７２）に対してデフォーカスするように動作することを特徴とする請求項７に記載の荷電粒子ビーム照射デバイス。
【請求項１０】
前記荷電粒子ビーム照射デバイスは、前記荷電粒子ビーム源（６０）の照射電流を測定するための測定要素（９４）を有し、前記トリガーユニット（９８）は、前記照射電流が事前に定められた値にまで低下した時にトリガー信号を供給するように適合されていることを特徴とする請求項７から請求項９のいずれか１項に記載の荷電粒子ビーム照射デバイス。
【請求項１１】
前記荷電粒子ビーム照射デバイスは、試料を移動可能に支持するための支持要素（９６）と、該支持要素（９６）を制御するためのモーションコントローラユニットと、備え、前記トリガーユニットは、前記支持要素（９６）の移動に基づいてトリガー信号を供給するように適合された同期手段（９８）を構成することを特徴とする請求項７から請求項９のいずれか１項に記載の荷電粒子ビーム照射デバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月16日(2009.9.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
燃料ガス流路及び酸化剤ガス流路を有し、前記燃料ガス流路に燃料ガスが、前記酸化剤ガス流路に酸化剤ガスが、それぞれ供給されることで発電する燃料電池と、
前記燃料ガス流路に燃料ガスを供給する燃料ガス供給手段と、
前記燃料電池の発電停止後に、所定時間経過毎に、当該燃料電池のカソード電位に関する電位量を検出する電位量検出手段と、
前記電位量検出手段が検出した電位量を記憶する電位量記憶手段と、
今回の電位量と前回の電位量との差である電位量差を算出し、算出した電位量差が所定電位量差以上である場合、再起動によりカソード電位が上昇しても前記燃料電池の劣化しないカソード電位以下となるように、今回の電位量差に基づいて燃料ガスの目標供給量を算出し、算出した目標供給量の燃料ガスが前記燃料ガス流路に供給されるように、前記燃料ガス供給手段を制御する制御手段と、
を備える
ことを特徴とする燃料電池システム。
【請求項２】
前記目標供給量は、今回の電位量差が大きいほど、多くなるように設定される
ことを特徴とする請求項１に記載の燃料電池システム。
【請求項３】
前記目標供給量は、前記燃料電池の発電停止からの経過時間が短いほど、多くなるように設定される
ことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の燃料電池システム。
【請求項４】
前記目標供給量は、発電停止時における前記燃料電池の温度が高いほど、多くなるように設定される
ことを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の燃料電池システム。
【請求項５】
前記燃料ガス供給手段は、燃料ガス源と、第１遮断弁と、圧力調整手段と、第２遮断弁とを備え、
前記燃料ガス源の燃料ガスが、前記第１遮断弁、前記圧力調整手段、前記第２遮断弁を順に介して、前記燃料ガス流路に供給され、
前記燃料電池の発電を停止させる場合、前記第１遮断弁及び前記第２遮断弁が閉じられ、
前記燃料電池の発電停止後において前記燃料ガス流路に燃料ガスを供給する場合、前記制御手段は、前記第１遮断弁を閉じたまま、前記第２遮断弁を開く
ことを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の燃料電池システム。
【請求項６】
前記燃料電池の前記酸化剤ガス流路の下流に、前記酸化剤ガス流路内のガスの圧力を調整する背圧弁を備え、
前記燃料電池の発電停止後、前記制御手段は、前記背圧弁を閉じ、外部から前記酸化剤ガス流路への空気の流入を低減する
ことを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の燃料電池システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
ステップＳ１０３において、ＥＣＵ６０は、内部クロックを利用して、ステップＳ１０１、後記するステップＳ１０５の判定結果がＮｏ、又は、後記するステップＳ１０９の後、所定時間Δｔ経過したか否かを判定する。所定時間Δｔ１（例えば５分）は、燃料電池スタック１０の発電停止後、カソード電位の上昇を抑えるべく、カソード電位を定期的に検出する時間であり、事前試験等により求められ、ＥＣＵ６０に予め記憶されている。
なお、所定時間Δｔ１を可変、例えば、燃料電池スタック１０の発電停止からの時間が経過するにつれて、所定時間Δｔ１を徐々に長くする構成としてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月5日(2009.6.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数種類の記録媒体の装填を受け付ける映像記録装置であって、
映像信号を再生専用媒体と互換性のある第１フォーマットまたは再生専用媒体と互換性のない第２フォーマットの記録フォーマットに変換する記録フォーマットを指定する記録モード選択手段と、
前記モード選択手段に従って第１フォーマットまたは第２フォーマットの記録フォーマットにより記録する記録手段と、
装填された記録媒体の種類を検知する媒体検知手段と、
前記媒体検知手段により前記媒体が１回のみの追記型記録メディアと判別したときに、
前記記録手段が前記再生専用媒体と互換性のない第２フォーマットの記録フォーマットにより記録できないように制限する制御手段とを有することを特徴とする映像記録装置。
【請求項２】
複数種類の記録媒体の装填を受け付ける映像記録装置であって、
映像信号を再生専用媒体と互換性のある第１フォーマットまたは再生専用媒体と互換性のない第２フォーマットの記録フォーマットに変換する記録データ処理手段と、
装填された記録媒体の種類を検知する媒体検知手段と、
該記録データ処理手段により前記映像信号が第１フォーマットの記録フォーマットに変換され記録する第一の記録モードと、前記記録データ処理手段により前記映像信号が第２フォーマットの記録フォーマットに変換され記録する第二の記録モードとを有し、
装填された記録媒体が、前記媒体検知手段により書き換え可能な書換型記録媒体と検知されたとき、前記記録データ処理手段により前記映像信号が第１フォーマットの記録フォーマットに変換され前記第一の記録モードまたは第２フォーマットの記録フォーマットに変換され前記第二の記録モードの一方を選択して記録し、前記媒体検知手段により１回のみの追記型記録媒体と検知されたとき、前記記録データ処理手段により前記映像信号が再生専用媒体と互換性のない第２フォーマットの記録フォーマットに変換され前記第二の記録モードにて記録することが出来ないように制限する制御手段とを有することを特徴とする映像記録装置。
【請求項３】
複数種類の記録媒体の装填を受け付ける映像記録装置であって、
映像信号を再生専用媒体と互換性のある第１フォーマットまたは再生専用媒体と互換性のない第２フォーマットの記録フォーマット処理に変換する記録データ処理手段と、
装填された記録媒体の種類を検知する媒体検知手段と、
該記録データ処理手段により前記映像信号が第１フォーマットの記録フォーマットに変換され記録する第一の記録モードと、前記記録データ処理手段により前記映像信号が第２フォーマットの記録フォーマットに変換され記録する第二の記録モードとを有し、
装填された記録媒体が、前記媒体検知手段により書き換え可能な書換型記録媒体と検知されたとき、前記記録データ処理手段により前記映像信号が第１フォーマットまたは第２フォーマットの記録フォーマットに変換され前記第一または第二の記録モードにて記録可能にし、前記媒体検知手段により１回のみの追記型記録媒体と検知されたとき、前記記録データ処理手段により前記映像信号が再生専用媒体と互換性のない第２フォーマットの記録フォーマットに変換され前記第二の記録モードにて記録することができないように制限する制御手段とを有すること特徴とする映像記録装置。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか１項に記載の映像記録装置であって、
前記映像信号は撮像センサーとその出力信号を処理する信号処理回路から成るカメラ部から得られることを特徴とするカメラ一体型の映像記録装置。
【請求項５】
請求項１から３のいずれか１項に記載の映像記録装置であって、
前記映像信号はテレビ放送信号であることを特徴とする映像記録装置。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか１項に記載の映像記録装置であって、
前記映像信号の記録データ処理手段は、他の記録デジタルメディアからの信号を一旦デコードした後、再エンコードする手段を含むことを特徴とする映像記録装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年8月19日(2009.8.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
空気を容器に送り込む送風ブロアと、この送風ブロアで送り込んだ空気の吐出圧力及び吐出温度を調節する調節手段とを備え、前記調節手段で前記空気の吐出圧力及び吐出温度を調節することにより、テラヘルツ波を発生させることを特徴とするテラヘルツ波の発生方法。
【請求項２】
前記吐出圧力は、３０Ｋｐａ以上１５０Ｋｐａ以下の範囲に調節するとともに、
前記吐出温度は、４０℃以上２５０℃以下の範囲に調節することを特徴とする請求項１に記載のテラヘルツ波の発生方法。
【請求項３】
空気を容器に送り込む送風ブロアと、この送風ブロアで容器内に封入させた空気の吐出圧力及び吐出温度を調節する調節手段とを備えたことを特徴とするテラヘルツ波の発生装置。
【請求項４】
前記調節手段は、複数の貫通孔を有する平板を、その貫通方向が前記空気の流出方向と同一になるように前記容器の内部及び外部の少なくとも一部に設けることで構成されていることを特徴とする請求項３に記載のテラヘルツ波の発生装置。
【請求項５】
前記平板を前記容器の内部に設けて、前記容器の内部に前記平板で仕切られた二つの空間を形成するとともに、
前記二つの空間を連結させる配管を前記容器の外部に設け、前記配管の一部に、前記空気の吐出圧力及び吐出温度を調節する補助調節手段を備えたことを特徴とする請求項４に記載のテラヘルツ波の発生装置。
【請求項６】
前記容器の内部又は外部に、防音手段を備えたことを特徴とする請求項３から５のいずれかに記載のテラヘルツ波の発生装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
このような課題を解決するために、本発明者らは、自ら発明した暖房装置（特願２００６−２９８３１５号明細書参照）を用いて空気を圧縮することで発生させた熱風について、サーモグラフィ等により鋭意研究を重ねた結果、この熱風の発生条件を適宜変更することでテラヘルツ波が発生することを見出し、本発明をなすに至った。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
すなわち、本発明は、空気を容器に送り込む送風ブロアと、この送風ブロアで送り込んだ空気の吐出圧力及び吐出温度を調節する調節手段とを備え、前記調節手段で前記空気の吐出圧力及び吐出温度を調節することにより、テラヘルツ波を発生させることを特徴とするテラヘルツ波の発生方法を提供する。本発明に係るテラヘルツ波の発生方法によれば、光放射技術や電波放射技術を用いずに、空気の吐出圧力及び吐出温度を調節することでテラヘルツ波を発生させるようにしたため、小型装置を用いて、低コストで効率よくテラヘルツ波を発生させることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明はまた、空気を容器に送り込む送風ブロアと、この送風ブロアで容器内に封入された空気の吐出圧力及び吐出温度を調節する調節手段とを備えたことを特徴とするテラヘルツ波の発生装置を提供する。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月17日(2009.6.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パターンをパターン化デバイスから基板へ液体を介して投影するようになされたリソグラフィ投影装置であって、
基板を支持するように構成された基板テーブルと、
前記基板に隣接する空間であって、前記基板より平面が小さく、かつ、前記基板に実質的に平行な平面で実質的に多角形である空間に、液体を拘束するようになされた液体拘束構造と、を含み、
前記多角形は湾曲した縁を有する、リソグラフィ投影装置。
【請求項２】
前記多角形は非対称である、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記多角形はＸ軸について非対称である、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記多角形は、主軸の一方（Ｙ軸）が他方より短く、
前記基板テーブルは、主に１つの方向に走査するように構成されて配置される、請求項２または３に記載の装置。
【請求項５】
液体を含有するようになされた前記空間と乾くようになされた周囲の空間との間が移行ゾーンであり、
前記空間の２つの角の曲率半径が前記移行ゾーンの幅より長い、請求項１―４のいずれか１項に記載の装置。
【請求項６】
液体を含有するようになされた前記空間と乾くようになされた周囲の空間との間が移行ゾーンであり、
前記空間の２つの角の曲率半径が移行ゾーンの幅以下である、請求項１―４のいずれか１項に記載の装置。
【請求項７】
前記空間は、拘束構造と、投影システムと、基板または基板および基板テーブルの両方との間で画定され、
前記投影システムは、パターン化されたビームをパターン化デバイスから前記基板の目標部分に投射するように構成され、
前記液体拘束構造は、前記空間内の少なくとも一部に前記液体を充填するように構成される、請求項１−６のいずれか１項に記載の装置。
【請求項８】
デバイス製造方法であって、
基板と隣接する空間であって、前記基板より平面が小さく、かつ、前記基板に実質的に平行な平面で実質的に多角形である空間に液体を供給するステップと、
パターン化された放射ビームを、前記液体を介して前記基板に投射するステップと、を含み、
前記多角形は湾曲した縁を有する、デバイス製造方法。
【請求項９】
パターンをパターン化デバイスから基板へ液体を介して投影するようになされたリソグラフィ投影装置であって、
基板を支持するように構成された基板テーブルと、
前記基板に隣接する空間であって、前記基板より平面が小さく、かつ、前記基板に実質的に平行な平面で実質的に多角形である空間に、液体を拘束するようになされた液体拘束構造と、を含み、
液体を含有するようになされた前記空間と乾くようになされた周囲の空間との間が移行ゾーンであり、
前記空間の２つの角の曲率半径が移行ゾーンの幅以下である、リソグラフィ投影装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月28日(2009.7.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
この配線回路基板１の検査は、光学的検査により、製造後の配線回路基板１または製造途中の配線回路基板１に対して、実施される。
具体的には、光学的検査における光線は、６００〜６８０ｎｍの波長の光線が用いられる。光線の波長が上記した範囲内であれば、顔料（例えば、緑色顔料）を含むカバー絶縁層５が形成されている場合に、導体パターン３の誤検知の防止およびカバー絶縁層５の正常な認識を達成することができる。なお、かかる光線は、例えば、単波長として用いたり、また、２種以上の異なる複波長として用いたり、あるいは、上記した範囲内の連続波長として用いることができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
とりわけ、カバー絶縁層５は、５００〜５８０ｎｍの波長の光線の透過率が５５％以上であるので、金属薄膜４の表面で反射される反射光と、ベース絶縁層２の表面で反射される反射光との強度の相違を容易かつ明確に区別することができ、導体パターン３のパターン形状を正しく認識することができる。
なお、上記した説明では、本発明の配線回路基板を、ベース絶縁層２が支持されていないフレキシブル配線回路基板を例示したが、例えば、図示しないが、ベース絶縁層２の下面が金属支持層により支持され、金属支持層が補強層として設けられたフレキシブル配線回路基板やＣＯＦ基板（ＴＡＢテープキャリアなどを含む）などの各種フレキシブル配線回路基板にも広く適用することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
続いて、Ｎｏ．１のサンプルに準じて、カバー絶縁層の形成において、表１に示すように、ワニスにおける顔料の配合量を変更することにより、Ｎｏ．２〜Ｎｏ．５のフレキシブル配線回路基板をそれぞれ得た。
実施例２
（Ｎｏ．６〜Ｎｏ．１２のフレキシブル配線回路基板の製造）
表２に示すように、ワニスにおける顔料の配合量を変更し、また、カバー絶縁層の厚みを１０μｍから５μｍに変更した以外は、実施例１と同様にして、Ｎｏ．６〜Ｎｏ．１２のフレキシブル配線回路基板を得た。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
実施例３
（Ｎｏ．１３〜Ｎｏ．２０のフレキシブル配線回路基板の製造）
カバー絶縁層の形成におけるワニスの調製において、顔料の配合量を４．８重量部に変更して、さらに、カバー絶縁層の厚みを、表３に示すように設定した以外は、実施例１と同様にして、Ｎｏ．１３〜Ｎｏ．２０のフレキシブル配線回路基板を得た。
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2009117572.tif 000001
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年2月10日(2009.2.10)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  車両のホイールに設けられるタイヤ（３）の状態の少なくとも１つの量的特徴、詳細には、タイヤの膨らまし圧力を特に無線リンクにより測定し、受信機に送信するようになっているモジュール（１）を車両のホイールに固定する装置（４、４０）において、上記モジュール（１）にしっかり連結された連結手段（５、５'、６、６'）と、この連結手段（５、５'、６、６'）を上記ホイールに取付ける手段（７、８）とを備えており、上記モジュール（１）がリムフック（２２）および上記ホイールのリム（２）のシート（２１）に対して半径方向内側に固定されるようになっており、また上記取付け手段（７、８）が所定値より大きい強さの適応可能な締付応力で上記連結手段（６、６'）を上記リムフック（２２）の半径方向内面（２３）に付けるようになっていることを特徴とするモジュール（１）を車両のホイールに固定する装置。
【請求項２】  上記締付応力が２５００Nより大きいことを特徴とする請求項１に記載の装置（４、４０）。
【請求項３】  上記連結手段（５、５'、６、６'）は上記モジュール（１）にしっかり連結された板（５、５'）と、上記板（５、５'）にしっかり連結され且つ上記リムフック（２２）の半径方向内面に配置されるようになっている連結部片（６、６'）とよりなることを特徴とする請求項１、２のいずれか１項に記載の装置（４、４０）。
【請求項４】  上記連結手段は、モジュール（１）にしっかり連結され、且つ上記リムフック（２２）の半径方向内面（２３）に配置されるようになっている単一の連結部片よりなることを特徴とする請求項１、２のいずれか１項に記載の装置（４、４０）。
【請求項５】  上記連結手段（６、６'）は上記リムフック（２２）の中空部（２５）の両側に位置決めされた少なくとも２つの支持領域（E、F）において上記リムフック（２２）の半径方向内面およびと接触するようになっていることを特徴とする請求項３、４のいずれか１項に記載の装置（４、４０）。
【請求項６】  取付け手段（７、８）は、第１端部（７１）が上記リムフック（２２）の半径方向外面（２４）に静止するようになっており、第２端部（７２）が連結部片（６、６'）に圧接するようになっている概ねU字形の固定クリップ（７）よりなることを特徴とする請求項３ないし５のうちのいずれか１項に記載の装置（４、４０）。
【請求項７】  上記固定クリップ（７）の上記第１端部（７１）がテーパになっていることを特徴とする請求項６に記載の装置（４、４０）。
【請求項８】  上記固定クリップ（７）の形状寸法は、連結部片（６、６'）のまわりでリムフック（２２）の半径方向上面（２４）に設置される場合、上記クリップ（７）の弾性変形により締付応力を発生するようになっていることを特徴とする請求項６、７のいずれか１項に記載の装置（４、４０）。
【請求項９】  上記固定クリップ（７）の第２端部（７２）は上記クリップ（７）と上記連結部片（６、６'）との間に所定の締付応力を付加する手段（８）を備えていることを特徴とする請求項６、７のいずれか１項に記載の装置（４、４０）。
【請求項１０】  上記締付応力の付加方向が固定クリップのU字の対向枝部と交差することを特徴とする請求項９に記載の装置（４、４０）。
【請求項１１】  上記連結部片（６、６'）がリムフック（２２）の半径方向内面に付けられるようになっている第1面（６１）と、この第1面に対向した第２面と（６２）を有する場合、上記第２面（６２、６４）は締付応力の付加箇所（C）で上記第２面（６２、６４）と接する平面（P）が上記締付応力の付加方向（I）と実質的に直角であるようになっていることを特徴とする請求項３ないし１０のうちのいずれか１項に記載の装置（４、４０）。
【請求項１２】  所定応力を付加する上記手段（８）は上記固定クリップ（７）の上記第２端部（７２）を通して配置された押えねじ（８）であることを特徴とする請求項１１に記載の装置（４、４０）。
【請求項１３】  上記押えねじは２Nmより大きい締付トルクで設置される直径５ｍｍの押えねじであることを特徴とする請求項１２に記載の装置（４、４０）。
【請求項１４】  ホイールが市販車両用の鋼シートホイールであることを特徴とする請求項１ないし１３のうちのいずれかの項に記載の装置（４、４０）。
【請求項１５】  ホイール（１０）が開口部（９１）を有するディスクを備えている場合、モジュール（１）がディスク（９）の開口部（９１）に面して固定されることを特徴とする請求項１ないし１４のうちのいずれか１項に記載の装置（４、４０）。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、車両のホイールに設けられるタイヤの状態の少なくとも１つの量的特徴、詳細には、タイヤの膨らまし圧力を特に無線リンクにより測定し、受信機に送信するようになっているモジュールを車両のホイールに固定する装置は、モジュールにしっかり連結された連結手段と、この連結手段をホイールに取付ける手段とを備えている。この装置は、モジュールがホイールリムシートおよびリムフックに対して半径方向内側に固定されるようになっており、また取付け手段が所定値より大きい強さの適応可能な締付応力で上記連結手段をリムの半径方向内面に付けるようになっている。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００８】
有利には、連結手段はリムフックの中空部の両側に位置決めされた少なくとも２つの支持領域においてリムフックの半径方向内面と接触するようになっている。
これは、リムフックの内面に対する連結部片の安定な固定を確保するという利点がある。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月25日(2009.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理されるシートが搬送されるシート積載手段を備え、前記シート積載手段に搬送された後、整合されたシートの処理を行うシート処理装置において、
前記シート積載手段に搬送されたシートを整合する整合部と、
前記整合部によるシートの整合を妨げない退避位置と、前記整合部により整合されたシートを押える押圧位置とに移動可能な押え手段と、
前記押え手段にシート搬送方向に沿って複数設けられ、前記押え手段が前記押圧位置へ移動した際、前記整合されたシートに圧接する圧接部と、を備えたことを特徴とするシート処理装置。
【請求項２】
前記複数の圧接部は、中空部を有する弾性部材により構成され、前記整合されたシートに少なくとも一部が当接した後、前記シートに面接触の状態で弾性的に圧接することを特徴とする請求項１記載のシート処理装置。
【請求項３】
前記複数の圧接部は、前記押え手段に弾性部材を介して取り付けられていることを特徴とする請求項１記載のシート処理装置。
【請求項４】
前記複数の圧接部は、保持部材により保持され、かつ前記保持部材は前記押え手段に弾性部材を介して取り付けられていることを特徴とする請求項１記載のシート処理装置。
【請求項５】
前記押え手段は、前記整合されたシートに対して略垂直に移動することを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載のシート処理装置。
【請求項６】
前記整合部は、前記シート積載手段に搬送されたシートのシート搬送方向端部を整合する第１整合部と、
前記シート積載手段に搬送されたシートのシート搬送方向と直交する方向の端部を整合する第２整合部と、を備えたことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載のシート処理装置。
【請求項７】
画像を形成する画像形成部と、前記画像形成部により画像が形成されたシートを処理する前記請求項１乃至６のいずれか１項に記載のシート処理装置とを備えたことを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明は、処理されるシートが搬送されるシート積載手段を備え、前記シート積載手段に搬送された後、整合されたシートの処理を行うシート処理装置において、前記シート積載手段に搬送されたシートを整合する整合部と、前記整合部によるシートの整合を妨げない退避位置と、前記整合部により整合されたシートを押える押圧位置とに移動可能な押え手段と、前記押え手段にシート搬送方向に沿って複数設けられ、前記押え手段が前記押圧位置へ移動した際、前記整合されたシートに圧接する圧接部と、を備えたことを特徴とするものである。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月25日(2009.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理されるシートが搬送されるシート積載手段と、前記シート積載手段にシートを搬送するシート搬送手段とを備え、前記シート積載手段に搬送された後、整合されたシートの処理を行うシート処理装置において、
前記シート積載手段に搬送されたシートを整合する整合部と、
前記整合部によるシートの整合を妨げない退避位置と、前記整合されたシートを前記シート積載手段に圧接する押圧位置とに移動可能な押圧部材と、
前記整合部によるシートの整合を妨げない退避位置と、前記整合されたシートのシート搬送方向端部の上方への移動を規制する規制位置とに前記押圧部材と一体的に移動可能な規制部材と、
を備えたことを特徴とするシート処理装置。
【請求項２】
前記規制位置において前記規制部材は、前記整合されたシートのシート搬送方向上流側端部が前記シート搬送手段による後続シートの搬送を妨げないように前記整合されたシートのシート搬送方向上流側端部の上方への移動を規制することを特徴とする請求項１記載のシート処理装置。
【請求項３】
シートの移動を規制する前記規制部材の規制面は、シートに圧接する前記押圧部材の圧接面よりも上方に位置することを特徴とする請求項１又は２記載のシート処理装置。
【請求項４】
シートの移動を規制する前記規制部材の規制面は、前記整合されたシートが当接した際、前記シートに押圧されて弾性的に上方に移動することを特徴とする請求項１又は２記載のシート処理装置。
【請求項５】
前記整合部により整合されたシートを綴じる綴じ手段を備え、
前記規制部材の規制面を前記綴じ手段の綴じ位置近傍に位置させることを特徴とする請求項３又は４記載のシート処理装置。
【請求項６】
前記規制部材を前記シート搬送手段によるシート搬送領域外に設け、かつ前記規制面を前記圧接面よりも綴じ手段側に設けたことを特徴とする請求項５記載のシート処理装置。
【請求項７】
前記整合部は、前記シート積載手段に搬送されたシートのシート搬送方向端部を整合する第１整合部と、前記シート積載手段に搬送されたシートのシート搬送方向と直交する方向の端部を整合する第２整合部と、を備えたことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載のシート処理装置。
【請求項８】
前記規制部材を前記第１整合部における整合位置に沿って設け、かつ該規制部材の規制面を前記押圧部材よりも綴じ手段側に設けたことを特徴とする請求項７記載のシート処理装置。
【請求項９】
前記規制部材と前記押圧部材を一体的に退避位置へ移動する駆動手段を有することを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載のシート処理装置。
【請求項１０】
前記規制部材と前記押圧部材を一体としたことを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載のシート処理装置。
【請求項１１】
画像を形成する画像形成部と、前記画像形成部により画像が形成されたシートを処理する前記請求項１乃至１０のいずれか１項に記載のシート処理装置とを備えたことを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
本発明は、処理されるシートが搬送されるシート積載手段と、前記シート積載手段にシートを搬送するシート搬送手段とを備え、前記シート積載手段に搬送された後、整合されたシートの処理を行うシート処理装置において、前記シート積載手段に搬送されたシートを整合する整合部と、前記整合部によるシートの整合を妨げない退避位置と、前記整合されたシートを前記シート積載手段に圧接する押圧位置とに移動可能な押圧部材と、前記整合部によるシートの整合を妨げない退避位置と、前記整合されたシートのシート搬送方向端部の上方への移動を規制する規制位置とに前記押圧部材と一体的に移動可能な規制部材と、を備えたことを特徴とするものである。