【手続補正書】
【提出日】平成21年9月29日(2009.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理基板を熱処理部に移動自在に構成され前記被処理基板に対して温調自在に構成された温調機構を各々備えた熱処理装置を複数積層または併設して構成された熱処理装置ブロックを複数具備した基板処理装置であって、前記熱処理装置ブロック毎に供給される所定の温度に設定された冷却液を供給する冷却液供給機構と、この冷却液供給機構より供給される冷却液は分岐され１つの熱処理装置ブロック内の複数の熱処理装置の温調機構に各々冷却液を供給する供給機構と、前記温調機構側から熱処理部側に向かって気体の流れを形成する排気口を熱処理部の温調機構の対向する側に少なくとも１つ具備し構成された排気機構と、前記熱処理装置ブロック毎に供給された冷却液を回収する冷却液回収機構と、この冷却液回収機構と前記冷却液供給機構とは前記熱処理装置ブロック毎の実質的に対の接続ポートから各々装置外の用力装置に実質的に一括して接続されるよう構成されていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
被処理基板を熱処理部に移動自在に構成され前記被処理基板に対して温調自在に構成された温調機構を各々備えた熱処理装置を複数積層または併設して構成された熱処理装置ブロックを複数具備及び被処理基板に対して所定の液を供給して同一の処理を行う液処理装置を水平方向或いは垂直方向に複数配置して構成された液処理装置ブロックを複数具備した基板処理装置であって、前記熱処理装置ブロック毎に供給され所定の温度に設定された冷却液を供給する冷却液供給機構と、この冷却液供給機構より供給される冷却液は分岐され１つの熱処理装置ブロック内の複数の熱処理装置の温調機構に各々冷却液を供給する液供給機構と、この液供給機構から複数の熱処理装置の温調機構に供給された冷却液を複数の熱処理装置の温調機構から回収する回収機構と、この回収機構を前記熱処理装置ブロック毎に回収する冷却液回収機構と、この冷却液回収機構と前記冷却液供給機構と実質的に一対として配置され各々装置外の用力装置に接続するための接続ポートと、前記液処理装置ブロック毎に供給される所定の温度と湿度に設定された気体を供給する気体供給機構と、この気体供給機構より供給される気体は分岐され１つの液処理装置ブロック内の液処理装置に各々気体を供給する気体供給機構と、を具備したことを特徴とする基板処理装置。
【請求項３】
被処理基板を熱処理部に移動自在に構成され前記被処理基板に対して温調自在に構成された温調機構を各々備えた熱処理装置を複数積層または併設して構成された熱処理装置ブロックを複数具備した基板処理装置の基板処理方法であって、前記熱処理装置ブロック毎に所定の温度に設定された冷却液を供給する工程と、冷却液を分岐し１つの熱処理装置ブロック内の複数の熱処理装置の温調機構に各々冷却液を供給する工程と、前記熱処理装置ブロック毎に供給された冷却液を前記熱処理装置ブロック毎に回収する工程と、前記温調機構側から熱処理部側に向かって気体の流れを形成する工程と、前記熱処理装置の温調機構に供給された冷却液を回収する工程と、この回収される冷却液の温度を検出する工程と、を具備したことを特徴とする基板処理方法。
【請求項４】
被処理基板を熱処理部に移動自在に構成され前記被処理基板に対して温調自在に構成された温調機構を各々備えた熱処理装置を複数積層または併設して構成された熱処理装置ブロックを複数具備及び被処理基板に対して所定の液を供給して同一の処理を行う液処理装置を水平方向或いは垂直方向に複数配置して構成された液処理装置ブロックを複数具備した基板処理装置の基板処理方法であって、前記熱処理装置ブロック毎に供給される所定の温度に設定された冷却液を供給する工程と、この供給された冷却液を分岐し１つの熱処理装置ブロック内の複数の熱処理装置の温調機構に各々冷却液を供給する工程と、前記液処理装置ブロック毎に供給される所定の温度と湿度に設定された気体を供給する工程と、この供給された気体を分岐し１つの液処理装置ブロック内の液処理装置に各々所定の温度と湿度に設定された気体を供給する工程と、１つの液処理装置ブロック内の液処理装置内の複数の処理カップに対して同時に所定の温度と湿度に設定された気体を供給する工程と、前記温調機構側から熱処理部側に向かって気体の流れを形成する工程と、を具備したことを特徴とする基板処理方法。
【請求項５】
被処理基板を熱処理部に移動自在に構成され前記被処理基板に対して温調自在に構成された温調機構を各々備えた熱処理装置を複数積層して構成された熱処理装置ブロックを複数具備した基板処理装置に対して用力を供給する用力供給装置であって、前記熱処理装置ブロック毎に供給される所定の温度に設定された冷却液を供給する冷却液供給機構と、これら複数の冷却液供給機構により前記熱処理装置ブロック毎に供給された冷却液を前記熱処理装置ブロック毎に回収する冷却液回収機構と、前記温調機構側から熱処理部側に向かって気体の流れを形成するために熱処理部の温調機構の対向する側に配置された少なくとも１つの排気口からの気体を回収する気体回収機構と、前記熱処理装置の温調機構に供給された冷却液を回収する回収機構と、この回収機構にて回収される冷却液の温度を検出する温度検出機構と、を具備したことを特徴とする基板処理装置の用力供給装置。
【請求項６】
被処理基板を熱処理部に移動自在に構成され前記被処理基板に対して温調自在に構成された温調機構を各々備えた熱処理装置を複数積層または併設して構成された熱処理装置ブロックを複数具備した基板処理装置に対して用力を供給する用力供給装置であって、前記熱処理装置ブロック毎に供給される所定の温度に設定された冷却液を供給する第１の冷却液供給機構と、これら複数の冷却液供給機構により前記熱処理装置ブロック毎に供給された冷却液を前記熱処理装置ブロック毎に回収する冷却液回収機構と、この冷却液回収機構にて回収される冷却液または／及び前記第１の冷却液供給機構にて供給する冷却液の温度を検出する検出機構と、この検出機構にて各熱処理装置ブロックの冷却液の温度が少なくとも１つの冷却液ラインの冷却液が所定の範囲の温度でない場合に前記第１の冷却液供給機構からの冷却液の供給を第２の冷却液供給機構に切り替える切替機構と、を具備したことを特徴とする基板処理装置の用力供給装置。
【請求項７】
被処理基板に対して所定の液を供給して同一の処理を行う液処理装置を水平方向或いは垂直方向に複数配置して構成された液処理装置ブロックを複数積層或いは水平方向に併設して具備した基板処理装置に対して所定の温度及び湿度に設定された気体を供給する用力供給装置であって、各液処理装置ブロック毎に前記気体を排出する複数の排出機構と、これら複数の排出機構に対して一括して気体を供給する第１の空間部と、この第１の空間部の気体に気体を通流自在に構成され気体に対し所定の湿度に設定するための湿度調整機構を備えた第２の空間部と、前記第１及び第２の空間部に気体を実質的に送り込む送風機構と、この送風機構の回転機構の中心位置より実質的に下方向に配置され気体を所定の温度に設定する熱機構を備えた第３の空間部と、この熱機構の下方位置に設けられ気体を所定の温度に冷却する冷却機構を備えた第４の空間部と、前記冷却機構と熱機構との間に設けられ気体を通流自在に構成された通流部と、を具備し、前記冷却機構の幅は通流部の幅より大きく設定されていることを特徴とする基板処理装置の用力供給装置。
【請求項８】
被処理基板に対して所定の液を供給して同一の処理を行う液処理装置を水平方向或いは垂直方向に複数配置して構成された液処理装置ブロックを複数積層或いは水平方向に併設して具備した基板処理装置に対して所定の温度及び湿度に設定された気体を供給する用力供給装置であって、各液処理装置ブロック毎に前記気体を排出する複数の排出機構と、これら複数の排出機構に対して一括して気体を供給する第１の空間部と、この第１の空間部の気体に気体を通流自在に構成され気体に対し所定の湿度に設定するための湿度調整機構を備えた第２の空間部と、前記第１及び第２の空間部に気体を実質的に送り込む送風機構と、この送風機構の回転機構の中心位置より実質的に下方向に配置され気体を所定の温度に設定する熱機構を備えた第３の空間部と、この熱機構の下方位置に設けられ気体を所定の温度に冷却する冷却機構を備えた第４の空間部と、前記冷却機構と熱機構との間に設けられ気体を通流自在に構成され前記冷却機構の幅より少ない幅を有する通流部と、この通流部の下方の前記冷却機構備えられ前記通流部方向に伸びる冷却板と、この冷却板の側方より気体を装置内に気体を導入する気体導入機構と、を具備し、前記冷却機構の幅は通流部の幅より大きく設定されていることを特徴とする基板処理装置の用力供給装置。
【請求項９】
被処理基板を熱処理部に移動自在に構成され前記被処理基板に対して温調自在に構成された温調機構を各々備えた熱処理装置を複数積層または併設して構成された熱処理装置ブロックを複数具備した基板処理装置に対して用力を供給する用力供給装置であって、前記熱処理装置ブロック毎に供給される所定の温度に設定された冷却液を供給する第一の供給ラインと、熱処理装置ブロック毎に供給された冷却液を前記熱処理装置ブロック毎に回収する第一の回収ラインと、第一の供給ラインの冷却液の温度と第一の回収ラインの冷却液の温度とを比較する制御機構と、この制御機構により比較した冷却液の温度が所定の温度の範囲に無い場合に前記第一の供給ラインとは異なる第二の供給ラインまたは／及び前記第一の回収ラインとは異なる第二の回収ラインに切り替える切替機構と、を具備したことを特徴とする基板処理装置の用力供給装置。
【請求項１０】
請求項５から請求項９のいずれかに記載の用力供給装置と接続自在に構成された基板処理装置。
【請求項１１】
請求項５から請求項９のいずれかに記載の用力供給装置からの気体または／及び冷却液を使用して被処理基板を処理する基板処理方法。
【請求項１２】
被処理基板を熱処理部に移動自在に構成され前記被処理基板に対して温調自在に構成された温調機構を各々備えた熱処理装置を複数積層して構成された熱処理装置ブロックを複数具備した基板処理装置に対して用力を供給する用力供給方法であって、前記熱処理装置ブロック毎に供給される所定の温度に設定された冷却液を第一の供給ラインから供給する工程と、熱処理装置ブロック毎に供給された冷却液を前記熱処理装置ブロック毎に第一の回収ラインから回収する工程と、第一の供給ラインの冷却液の温度と第一の回収ラインの冷却液の温度とを比較する工程と、この比較した冷却液の温度差が所定の温度の範囲に無い場合に前記第一の供給ラインとは異なる第二の供給ラインまたは／及び前記第一の回収ラインとは異なる第二の回収ラインに切り替える工程と、を具備したことを特徴とする基板処理装置の用力供給方法。
【請求項１３】
被処理基板に対して所定の液を供給して同一の処理を行う液処理装置を水平方向或いは垂直方向に複数配置して構成された液処理装置ブロックを複数具備した基板処理装置であって、前記液処理装置内に配置される少なくとも一つの処理カップと、この処理カップに配置される被処理基板に対して所定の処理液を供給する処理液ノズルと、この処理液ノズルに処理液を送出するよう構成されるとともに処理液を少なくとも被処理基板の一処理分以上の処理液を収納自在に構成された処理液タンクと、この処理液タンクに処理液を処理液タンク内の処理液面上方位置の処理液タンクの内壁に供給して実質的に処理液タンク内に処理液を供給する処理液供給機構と、この処理液タンクに所定の気体を供給する気体供給機構と、を具備したことを特徴とする基板処理装置。
【請求項１４】
請求項２または１０のいずれかに記載の基板処理装置において、前記液処理装置内に配置される少なくとも一つの処理カップと、この処理カップに配置される被処理基板に対して所定の処理液を供給する処理液ノズルと、この処理液ノズルに処理液を送出するよう構成されるとともに処理液を少なくとも被処理基板の一処理分以上の処理液を収納自在に構成された処理液タンクと、この処理液タンクに処理液を処理液タンク内の処理液面上方位置の処理液タンクの内壁に供給して実質的に処理液タンク内に処理液を供給する処理液供給機構と、をさらに具備したことを特徴とする基板処理装置。
【請求項１５】
請求項１４に記載の基板処理装置において、前記液処理装置内に配置される少なくとも一つの処理カップは、水平方向かつ一直線上に配置された複数の処理カップであり、これら複数の処理カップは同一の雰囲気空間に配置されており、これら複数の処理カップには、実質的に一つの搬送機構で複数の処理カップ内に配置される被処理基板に対して処理液を供給するノズルを搬送自在に構成されたことを特徴とする基板処理装置。