【手続補正書】
【提出日】平成21年9月25日(2009.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベース基板と、
前記ベース基板上に形成されたゲート電極と、
前記ゲート電極をカバーするように前記ゲート電極の上部に形成されたアクティブ層と、
前記アクティブ層の上部に所定の間隔で離隔されて形成されたソース電極及びドレイン電極と、
前記アクティブ層と前記ソース電極との間、及び前記アクティブ層と前記ドレイン電極との間にそれぞれ形成され、前記アクティブ層の酸化を減少させるためのバッファ層とを有し、
前記バッファ層は、複数の層で構成され、前記アクティブ層を構成する第１物質と結合して化合物を形成することができる第２物質を含むことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記第２物質は、前記バッファ層の厚さによって実質的に連続的に変動する含有量比を有することを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記バッファ層は、第１連結層、第２連結層、及び第３連結層を含むことを特徴とする請求項２記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記第１連結層は前記第１物質及び前記第２物質の化合物からなり、前記第２連結層は前記第２物質からなり、前記第３連結層は前記第２物質及び第３物質の化合物からなることを特徴とする請求項３記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記第１連結層の厚さが増加するほど、前記第１物質の含有量は実質的に減少し、前記第２物質の含有量は実質的に連続的に増加し、
前記第３連結層の厚さが増加するほど、前記第２物質の含有量は実質的に連続的に減少し、前記第３物質の含有量は実質的に連続的に増加することを特徴とする請求項４記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記第１物質は、シリコン（Ｓｉ）であることを特徴とする請求項５記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記第２物質は、チタン（Ｔｉ）、モリブデン（Ｍｏ）、及びニッケル（Ｎｉ）のうちの、いずれか一種であることを特徴とする請求項５記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記第３物質は、窒素（Ｎ）であることを特徴とする請求項５記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記第１連結層の厚さは５０Å〜１５０Åの範囲を有し、前記第２連結層の厚さは１００Å〜５００Åの範囲を有し、前記第３連結層の厚さは１００Å〜５００Åの範囲を有することを特徴とする請求項３記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
ベース基板上にゲート電極を形成する段階と、
前記ゲート電極をカバーするように前記ベース基板上にゲート絶縁層を形成する段階と、
前記ゲート電極をカバーするように前記ゲート絶縁層上にアクティブ層を形成する段階と、
前記アクティブ層上に前記アクティブ層の酸化を減少させるためのバッファ層を形成する段階と、
前記バッファ層の第１部分及び前記アクティブ層の第１部分を第１次にエッチングする段階と、
前記第１次にエッチングされたアクティブ層上に所定の間隔で離隔されるようにソース電極及びドレイン電極を形成する段階と、
前記ソース電極及び前記ドレイン電極をマスクとして用い、前記第１次にエッチングされたバッファ層の第２部分及び前記第１次にエッチングされたアクティブ層の第２部分を第２次にエッチングする段階と、を有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】液晶表示装置とその製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置とその製造方法に関し、より詳細には電気的な特性を向上させた液晶表示装置とその製造方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
そこで、本発明は、上記従来の薄膜トランジスタとその製造における問題点に鑑みてなされたものであって、本発明の目的は、自然酸化を防止して電気的な特性を向上させた薄膜トランジスタを具備する液晶表示装置を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、前記液晶表示装置を製造する方法を提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記目的を達成するためになされた本発明の一特徴による薄膜トランジスタ基板は、ベース基板と、前記ベース基板上に形成されたゲート電極と、前記ゲート電極をカバーするように前記ゲート電極の上部に形成されたアクティブ層と、前記アクティブ層の上部に所定の間隔で離隔されて形成されたソース電極及びドレイン電極と、前記アクティブ層と前記ソース電極との間、及び前記アクティブ層と前記ドレイン電極との間にそれぞれ形成され、前記アクティブ層の酸化を減少させるためのバッファ層とを有し、前記バッファ層は、複数の層で構成され、前記アクティブ層を構成する第１物質と結合して化合物を形成することができる第２物質を含む。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記他の目的を達成するためになされた本発明の一特徴による液晶表示装置の製造方法は、ベース基板上にゲート電極を形成する段階と、前記ゲート電極をカバーするように前記ベース基板上にゲート絶縁層を形成する段階と、前記ゲート電極をカバーするように前記ゲート絶縁層上にアクティブ層を形成する段階と、前記アクティブ層上に前記アクティブ層の酸化を減少させるためのバッファ層を形成する段階と、前記バッファ層の第１部分及び前記アクティブ層の第１部分を第１次にエッチングする段階と、前記第１次にエッチングされたアクティブ層上に所定の間隔で離隔されるようにソース電極及びドレイン電極を形成する段階と、前記ソース電極及び前記ドレイン電極をマスクとして用い、前記第１次にエッチングされたバッファ層の第２部分及び前記第１次にエッチングされたアクティブ層の第２部分を第２次にエッチングする段階と、を有する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
このような本発明の液晶表示装置とその製造方法によれば、ソース電極とドレイン電極及びアクティブ層の間にバッファ層が形成されることによって、酸化による接触抵抗が増加することを防止することができる。このように、接触抵抗が増加することを防止することで、薄膜トランジスタの電気的な特性を向上させることができ、その結果、液晶表示パネルまたは電界発光表示パネルまたは電界発光表示パネルの表示品質をより向上させることができる。特に、本発明は、電流駆動方式によって画像を表示する電界発光表示パネルにおいて、より効果的である。
また、多種の反応気体の含有量の比率を連続的に変化させてチャンバの内部に流入させることによって、バッファ層は厚さが増加するほど連続的に徐々に変動する物質の含有量比を有することができ、その結果、バッファ層の含有量の比率が急激に変動することによるストレスの発生を防止することができる。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
以下、本発明の液晶表示装置とその製造方法を実施するための最良の形態の具体例を、添付した図面を参照しながらより詳細に説明する。
＜液晶表示パネルの実施例＞
図１は、本発明の一実施例による液晶表示パネルを示す斜視図である。
図１に示すように、本発明の液晶表示パネル４００は、第１基板１００、第２基板２００、及び液晶層３００を含み、光を用いて画像を外部に表示する。