【手続補正書】
【提出日】平成21年6月23日(2009.6.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の光ビームからなる光ビーム群を持ち、前記光ビーム群は、光偏向器により偏向走査され、走査光学系により同一の被走査面に対して副走査方向に所定の間隔をもって集光される光走査装置において、
前記複数の光ビームは、前記光偏向器の偏向反射面の法線に対し前記副走査方向に角度を持ち、かつ、主走査方向に各々異なる角度で前記偏向反射面近傍で交差するように前記光偏向器に入射し、各々の光ビームの交差位置は、前記光偏向器が光ビームの偏向のため回転したとき、各光ビームの光源から偏向反射点までの距離が最も長くなる位置と最も短くなる位置との間にあることを特徴とする光走査装置。
【請求項２】
請求項１記載の光走査装置において、
前記光ビーム群を複数持ち、前記光偏向器の同一の偏向反射面により偏向走査される各々の光ビーム群は、前記光偏向器の偏向反射面の法線に対し前記副走査方向に異なる角度を持ち、複数の異なる被走査面に集光されることを特徴とする光走査装置。
【請求項３】
請求項２記載の光走査装置において、
前記全ての光ビーム群は、前記光偏向器の同一の偏向反射面により偏向走査され、各々の光ビーム群は、前記光偏向器の偏向反射面の法線に対し前記副走査方向に異なる角度を持ち、複数の異なる被走査面に集光されることを特徴とする光走査装置。
【請求項４】
請求項１ないし３の何れか一つに記載の光走査装置において、
前記複数の光ビームを前記主走査方向に近接させるビーム合成手段を有することを特徴とする光走査装置。
【請求項５】
電子写真プロセスを実行することによってシート状記録媒体に画像を形成する画像形成装置において、
前記電子写真プロセスの露光プロセスを実行する手段として、請求項１または４記載の光走査装置を具備したことを特徴とする画像形成装置。
【請求項６】
電子写真プロセスを実行することによってシート状記録媒体に画像を形成するカラー画像形成装置において、
被走査面として少なくとも２つの像担持体を有し、前記電子写真プロセスの露光プロセスを実行する手段として、請求項２、３または４記載の光走査装置を具備したことを特徴とするカラー画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
図１０および図１１に示すように、半導体レーザ１−１と半導体レーザ１−２とからの光ビーム１ａ，２ａは、カップリングレンズ２およびシリンドリカルレンズ３を透過・経由して、ポリゴンミラー５の偏向反射面５ａに主走査方向２７に角度（いわゆる「開き角」）を持ち入射する。このとき、感光体７の被走査面上の同一像高に各々のビーム１ａ，２ａを偏向するためには、ポリゴンミラー５の回転角を異ならせる必要がある。しかしながら、ポリゴンミラー５の回転軸５ｂ（図１０参照）は、偏向反射面５ａ上に無いため、光学的なサグが発生する。なお、図１１において６０°で示す角度は、通常の入射角の一例を示している。また、図１１、後述の図１３および後述の実施形態における図５においては、各々のビーム１ａ，２ａの光源を表すために、半導体レーザ１−１と半導体レーザ１−２とを括弧を付して各々のビーム１ａ，２ａとともに併記している。
斜め入射光学系においては、図１２に示すように、半導体レーザ１−１と半導体レーザ１−２とからのビーム１ａ，２ａが例えば±１５０ｍｍの像高に向かうときの偏向反射面５ａのサグ（図中、基準となる位置からの符号Ｓａｇで示す）を見てみると、各ビーム１ａ，２ａでサグ量が変化してしまう。半導体レーザ１−１と半導体レーザ１−２において、このサグＳａｇの大きさが大きく異なると、図１２に示すように偏向反射面５ａでの偏向反射後の各ビーム１ａ，２ａ間の副走査方向２８の間隔であるピッチｄが変化する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
上述したように、斜め入射光学系におけるマルチビーム化では、回転多面鏡のサグによる主走査方向の光ビームのシフト、副走査方向の光ビームのピッチ変化などにより副走査ビームピッチ偏差が生じるという特有の問題が生じる。具体的には、像高片側より逆側に向かい副走査ビームピッチが増大する。フルカラー画像形成装置などに本斜め入射光学系を用いた場合、各色間で重ね合わせる光ビームが半導体レーザ１−１と半導体レーザ１−２とで異なってしまう場合に、周辺の像高における副走査方向の色ずれの発生が大きくなり、画像品質を著しく低下させてしまう。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
前述した課題を解決するとともに前述した目的を達成するために、請求項ごとの発明では、以下のような特徴ある手段・発明特定事項（以下、「構成」という）を採っている。
請求項１記載の発明は、複数の光ビームからなる光ビーム群を持ち、前記光ビーム群は、光偏向器により偏向走査され、走査光学系により同一の被走査面に対して副走査方向に所定の間隔をもって集光される光走査装置において、前記複数の光ビームは、前記光偏向器の偏向反射面の法線に対し前記副走査方向に角度を持ち、かつ、主走査方向に各々異なる角度で前記偏向反射面近傍で交差するように前記光偏向器に入射し、各々の光ビームの交差位置は、前記光偏向器が光ビームの偏向のため回転したとき、各光ビームの光源から偏向反射点までの距離が最も長くなる位置と最も短くなる位置との間にあることを特徴とする。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
請求項２記載の発明は、請求項１記載の光走査装置において、前記光ビーム群を複数持ち、前記光偏向器の同一の偏向反射面により偏向走査される各々の光ビーム群は、前記光偏向器の偏向反射面の法線に対し前記副走査方向に異なる角度を持ち、複数の異なる被走査面に集光されることを特徴とする。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
請求項３記載の発明は、請求項２記載の光走査装置において、前記全ての光ビーム群は、前記光偏向器の同一の偏向反射面により偏向走査され、前記各々の光ビーム群は、前記光偏向器の偏向反射面の法線に対し前記副走査方向に異なる角度を持ち、複数の異なる被走査面に集光されることを特徴とする。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
請求項４記載の発明は、請求項１ないし３の何れか一つに記載の光走査装置において、前記複数の光ビームを前記主走査方向に近接させるビーム合成手段を有することを特徴とする。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
請求項５記載の発明は、電子写真プロセスを実行することによってシート状記録媒体に画像を形成する画像形成装置において、前記電子写真プロセスの露光プロセスを実行する手段として、請求項１または４記載の光走査装置を具備したことを特徴とする。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
請求項６記載の発明は、電子写真プロセスを実行することによってシート状記録媒体に画像を形成するカラー画像形成装置において、被走査面として少なくとも２つの像担持体を有し、前記電子写真プロセスの露光プロセスを実行する手段として、請求項２、３または４記載の光走査装置を具備したことを特徴とする。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
本発明によれば、上記課題を解決して新規な光走査装置、これを用いた画像形成装置およびカラー画像形成装置を実現し提供することができる。請求項毎の発明の特有の効果を挙げれば次のとおりである。
請求項１、４記載の発明によれば、光偏向器の偏向反射面の法線に対し副走査方向に角度を持つ複数の光ビームを、光偏向器の同一の偏向反射面に主走査方向に各々異なる角度で偏向反射面近傍で交差するように光偏向器に入射させる光走査装置において、各々の光ビームの交差位置を、光偏向器（回転多面鏡）が光ビームの偏向のため回転したとき、各光ビームの光源から偏向反射点までの距離が最も長くなる位置と最も短くなる位置との間とすることによって、副走査ビームピッチ偏差を低減した斜め入射光学系の光走査装置を実現することが可能となる。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
請求項２、３記載の発明によれば、光偏向器の偏向反射面の法線に対し副走査方向に異なる角度を持つ複数の光ビーム群を、光偏向器の同一の偏向反射面に主走査方向に各々異なる角度で偏向反射面近傍で交差するように光偏向器に入射させる光走査装置において、各々の光ビームの交差位置を、光偏向器（回転多面鏡）が光ビームの偏向のため回転したとき、各光ビームの光源から偏向反射点までの距離が最も長くなる位置と最も短くなる位置との間とすることによって、副走査ビームピッチ偏差を低減し、低消費電力、低コスト、小型化を実現したカラーないしフルカラー対応の斜め入射光学系の光走査装置を実現することが可能となる。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
請求項５記載の発明によれば、請求項１または４記載の発明の効果を奏する光走査装置、すなわち低消費電力、低コスト、小型化を実現した光走査装置を具備した、小型化、低コスト化、低消費電力化に適し、副走査ビームピッチ偏差が小さく、高品質でかつ高速に対応可能な画像形成装置の実現が可能となる。
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
請求項６記載の発明によれば、請求項２、３または４記載の発明の効果を奏する光走査装置、すなわち低消費電力、低コスト、小型化を実現した光走査装置を具備した、小型化、低コスト化、低消費電力化に適し、副走査ビームピッチ偏差が小さく、色ずれ発生の小さい高品質でかつ高速に対応可能なカラーないしフルカラー画像形成装置の実現が可能となる。
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
以下、図を参照して、本発明を実施するための最良の形態を含む実施形態を説明する。各実施形態や参考例等に亘り、同一の機能および形状等を有する部材や構成部品等の構成要素については、できるだけ同一符号を付すことにより一度説明した後ではその説明をできるだけ省略する。図および説明の簡明化を図るため、図に表されるべき構成要素であっても、その図において特別に説明する必要がないものは適宜断わりなく省略することがある。
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
（第１の参考例）
図１を参照して、本発明の光走査装置に係る第１の参考例を説明する。
図１において、光源としての半導体レーザ１から放射された発散性の光束（光ビーム）は、カップリングレンズ２により以後の光学系に適した光束形態に変換される。カップリングレンズ２により変換された光束形態は、同図に示すような平行光束であってもよいし、弱い発散性あるいは弱い集束性の光束であってもよい。
カップリングレンズ２からの光束は、シリンドリカルレンズ３により副走査方向に集光され、シリンドリカルレンズ３の後方に配置された折り返しミラー３０により光偏向器の偏向反射面に向けて折り返し・反射され、光偏向器の偏向反射面に集光され入射するように構成されている。
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
本参考例では、偏向手段・光偏向器として、等速度で高速回転駆動される回転多面鏡（以下、「ポリゴンミラー」という）５が用いられ、ポリゴンミラー５の偏向反射面５ａに上記光束としての光ビームが集光され入射するように構成されている。同図に示すように、光源としての半導体レーザ１側からの光束（光ビーム）は、ポリゴンミラー５の偏向反射面５ａの法線に対して副走査方向（図１において、主走査方向２７と直交する紙面に対して垂直な方向）に傾いて入射する。
偏向反射面５ａの法線に対して副走査方向に傾けて光ビームを入射させる、すなわち光ビームを副走査方向に斜め入射させるには、所望の角度に光源装置（半導体レーザ１等から構成される）、カップリングレンズ２、シリンドリカルレンズ３を傾けて配置しても良いし、折り返しミラー４を用いて角度をつけても良い。また、シリンドリカルレンズ３の光軸を副走査方向にシフトすることで、偏向反射面５ａに向かう光ビームに角度をつけても構わない。
ここでは、シリンドリカルレンズ３を第１光学系とし、後述する走査光学系として、走査レンズＬ１，Ｌ２等で構成される走査結像光学系を第２光学系とする。
【手続補正２３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
そこで、本発明の光走査装置に係る本参考例では、複数の光ビームが光偏向器の同一の偏向反射面に主走査方向に略同一の角度で入射されるように構成したことを特徴としている。本構成とすることで、ポリゴンミラーにより複数の光ビームが同一の像高に偏向反射される角度を略一致させることができる。
【手続補正２４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
本参考例の一例として、光源１を半導体レーザアレイとした場合について説明する。前述のとおり、斜め入射光学系におけるマルチビーム化における副走査ビームピッチ偏差の発生は、ポリゴンミラーで発生する光学的なサグの影響によるところが大きかった。本参考例によれば、光源１として半導体レーザアレイを採用することにより、同一の被走査面に向かう複数の光ビームを光偏向器の同一の偏向反射面に主走査方向に略同一の角度で入射されるように構成することが可能となり、光ビームを偏向する際に生じる光学的なサグを低減することができる。本参考例のように、光源１としての半導体レーザアレイから出射された例えば平行光束である複数の光ビームのポリゴンミラー５への主走査方向２７の入射角が一致する場合、各々の光ビームが被走査面２９上の同一像高に偏向反射される際のポリゴンミラー５の回転角は同一となる。つまり、各々の光ビームが同一の像高に偏向走査されるときに、ポリゴンミラー５の回転による光学的なサグは発生しないこととなる。被走査面２９上の全ての像高に向かう光ビームで複数の光ビームを主走査方向２７に偏向する回転角が一致し、偏向反射面５ａ上での各光ビームの副走査方向の間隔の変化や、サグの影響により同一像高に向かう各々の光ビームが主走査方向２７にシフトすることを抑制でき、各光ビームで走査レンズＬ１，Ｌ２を通過する位置を一致させることが可能となる。
【手続補正２５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
本参考例によれば、光源１として半導体レーザアレイを用いているので、前記課題を容易に解決することができる。すなわち、光源１から被走査面２９までの光学系の副走査倍率と半導体レーザアレイの発光点間隔により、被走査面２９上で所望の副走査ビームピッチを得るために、半導体レーザアレイを主走査方向２７に対し直交する方向に発光点を並べるように配置しても良いし、主走査方向２７に傾けて配置しても良い。半導体レーザアレイを主走査方向２７に直交する方向に発光点を並べた場合は、複数の光ビームがポリゴンミラー５の同一の偏向反射面５ａに主走査方向２７に同一の角度で入射されるため、上記説明したようにポリゴンミラー５のサグの影響を受けず、副走査ビームピッチ偏差を低減することが可能となる。
また、半導体レーザアレイを主走査方向２７に傾けて配置した場合は、各光ビームで同一のカップリングレンズ２を透過した場合において、主走査方向２７に異なる角度を持つが、半導体レーザアレイの発光点の間隔は広くても十数μｍから数十μｍであるため、その角度差は極めて小さい。このため、複数の光ビームがポリゴンミラー５の同一の偏向反射面５ａに入射する際の主走査方向２７に持つ角度の差は小さく、前記説明のようにポリゴンミラー５のサグの影響を小さくすることが可能であり、副走査ビームピッチ偏差を低減することが可能となる。つまり、発光点の間隔が１００μｍ以下である半導体レーザアレイを光源１として用いた場合、前述した本発明の効果を得ることが可能となる。
本参考例によれば、光ビームの主走査方向２７のシフト、ポリゴンミラー５の偏向反射面５ａでの偏向反射後の光ビーム間隔を全像高に渡り一致、もしくは略一致させることで、斜め入射光学系特有の課題である被走査面上における副走査ビームピッチ偏差を大幅に低減することが可能となる。
【手続補正２６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
（第２の参考例）
図２および図３を参照して、光偏向器の同一の偏向反射面に主走査方向に略同一の角度で入射させるための光源部について説明を加える。
第１の参考例においては、光源として半導体レーザアレイを用いる場合について説明したが、別の形態として、光源として複数の半導体レーザ１−１，１−２を用いる場合について説明する。
光源部の構成の一例について、図２を参照して説明する。本参考例においては、複数の光ビームを主走査方向２７に近接させるビーム合成手段としてのプリズム３２を有する。複数の光源としての半導体レーザ１−１，１−２は、同図に示すように各々個別に配置されている。各半導体レーザ１−１，１−２から出射された光ビーム１ａ，２ａは、カップリングレンズ２で所望の光ビームの状態、すなわち平行光、発散光もしくは収束光などに変換され、変換された複数の光ビームはビーム合成手段としてのプリズム３２に入射され、各々主走査方向２７に対応する方向に重ねられて図示しない光偏光器のポリゴンミラーの同一の偏向反射面に入射される。このとき、副走査方向には被走査面上で所望の光ビームの間隔を得るために微小な距離、角度を持っている。
【手続補正２７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
第１の光源部からの光ビーム１ａが入射するプリズム３３の入射面には、１／２波長板（λ／２板）３５が設けられている。第１の光源部からの光ビーム１ａは、１／２波長板３５を透過後、偏光方向が９０度回転された後、プリズム３３内の反射面３３ａで反射され、その後、さらに偏光ビームスプリッタ面３４で反射され、偏光ビームスプリッタ面３４を透過してくる第２の光源部からの光ビーム２ａに副走査方向２８に近接させて射出される。このとき、主走査方向２７においては、各半導体レーザ１−１，１−２は重なるように配置されており、各々の光ビーム１ａ，２ａは、主走査方向２７に対応する方向に重ねられて図示しない光偏向器のポリゴンミラーの同一の偏向反射面に入射される。
ここでは、図２および図３に示した２つの光源装置について説明したが、同一の被走査面に向かう複数の光ビームが光偏向器の同一の偏向反射面に主走査方向に略同一の角度で入射される形態であれば、本参考例に限る形態でなくても良く、斜め入射光学系特有の課題である被走査面上における副走査ビームピッチ偏差を大幅に低減することが可能となる。
【手続補正２８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
上述した第１および第２の参考例では、例えば図１において同一の被走査面２９に光走査するものとして単一の感光体の被走査面２９を例にとって説明したが、これに限定されず、後述の各実施形態と同様に、少なくとも２つ以上の感光体、すなわち複数の異なる被走査面を光走査する光走査装置およびこれを有するカラー画像形成装置であっても良いことは無論である。
【手続補正２９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
（第１の実施形態）
本実施形態は、同一の被走査面に向かう複数の光ビームを、主走査方向に各々異なる角度で偏向反射面近傍で交差するように光偏向器に入射する光走査装置に関する。
一例として、交差方式マルチビーム光源装置について説明する。図４において、半導体レーザ１−１，１−２は、各々ベース部材４０５を貫通して形成された嵌合孔４０５−１，４０５−２に個別に嵌合されている。嵌合孔４０５−１，４０５−２は主走査方向に所定角度、実施例的に言えば約１．５°微小に傾斜していて、この嵌合孔４０５−１，４０５−２に嵌合された半導体レーザ１−１，１−２も主走査方向に約１．５°傾斜している。半導体レーザ１−１，１−２は、その円筒状のヒートシンク部１−１ａ，１−２ａに切り欠きが形成されていて、押え部材４０６，４０７の中心丸孔に形成された突起４０６−１，４０７−１を上記ヒートシンク部１−１ａ，１−２ａの切り欠き部に合わせることによって発光源の配列方向が合わせられている。押え部材４０６，４０７は、ベース部材４０５にその背面側からネジ４１２で固定されることにより、半導体レーザ１−１，１−２がベース部材４０５に固定されている。また、コリメートレンズ２，２は、各々その外周をベース部材４０５の半円状の取り付けガイド面４０５−４，４０５−５に沿わせて光軸方向の調整を行い、発光点から射出した発散ビームが平行光束となるよう位置決めされ接着されている。
【手続補正３０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
（第２の実施形態）
前記説明のとおり、同一の被走査面に向かう複数の光ビームを、主走査方向に各々異なる角度で偏向反射面近傍で交差するように光偏向器のポリゴンミラーに入射する光走査装置において、複数の光ビームが主走査方向に交差する位置を、ポリゴンミラーが光ビームの偏向のため回転したとき、各光ビームの光源から偏向反射点までの距離が最も長くなる位置と最も短くなる位置の間にすることで副走査ビームピッチ偏差を小さくすることが可能となる。
さらに、副走査ビームピッチ偏差を小さくするためには、各々異なる角度で偏向反射面近傍で交差する複数の光ビームのなす角、つまり異なる角度の差を小さくすると良い。なす角を小さくすることで、被走査面上の同一像高に向かう光ビームのポリゴンミラーの回転角の差を小さくできサグの影響を低減可能となる。
【手続補正３１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
図４および図５（ｂ）に示した第１の実施形態で説明した光源装置によれば、複数の光ビーム１ａ，２ａの主走査方向２７のなす角を小さくするためには、主走査方向２７の光ビーム１ａ，２ａの発光点間隔を小さくするか、ポリゴンミラー５から光源装置の距離を長くする必要がある。発光点間隔を小さくするためには、半導体レーザ１−１，１−２のパッケージの大きさやカップリングレンズ２の外形の制約より、一定の間隔以下にすることは困難である。また、ポリゴンミラー５から光源装置までの距離を長くすると光走査装置が大型化し好ましくない。
【手続補正３２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
そこで、複数の光ビームを主走査方向に近接させるビーム合成手段を持たせ、各光ビームを主走査方向、もしくは副走査方向に距離を持って配置させることで複数の光ビームの主走査方向のなす角を小さくすることが可能となる。
前記ビーム合成手段を有する光源装置の構成の例としては、図２および図３に示した第２の参考例で説明した構成と同様であるためその説明を省略する。第２の参考例と異なる点は、ビーム合成手段で合成する際に、複数の光ビームが主走査方向に各々異なる角度で偏向反射面近傍で交差するように、光源、もしくは、光源およびカップリングレンズが配置される点である。このとき、複数の光ビームの主走査方向のなす角を小さくすることで、前記説明のとおり光ビームの主走査方向のシフト量をより低減でき、斜め入射光学系特有の課題である被走査面上における副走査ビームピッチ偏差を大幅に低減することが可能となる。
また、複数の光ビームの主走査方向のなす角をもつことで、被走査面上での書き出し位置を決めるための、例えば図６（ｂ）に示す同期ＰＤ（フォトダイオード）３９にて、各々の光ビームの信号を個別に取ることができ、安定した画像品質を得ることが可能となる。
【手続補正３３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
（第３の実施形態）
上述した第１、第２参考例、第１、第２の実施形態で説明した複数の光ビームよりなる光ビーム群を複数持つ光走査装置について説明する。一例として、図６（ａ）、（ｂ）に示すように片側走査方式の光走査装置について説明する。
図６（ａ）、（ｂ）において、光源ユニット３６Ｂｋ，３６Ｍ，３６Ｃ，３６Ｙからの複数の光ビーム群（同図では１本の光ビームとして記載）は、同一の光偏向器におけるポリゴンミラー５の同一の偏向反射面５ａに斜め入射される。各光ビーム群は、偏向反射面５ａの法線３８（図６（ｂ）中破線で示す）を挟み副走査方向両側（図６（ｂ）中Ａの領域とＢの領域）より入射している。全ての光ビーム群は、共通の走査レンズＬ１を透過後、副走査方向への折り返しミラー３０により分離され、対応する被走査面としての感光体７Ｂｋ，７Ｍ，７Ｃ，７Ｙに導かれる。本実施形態の例では、走査レンズを２枚構成としており、対応する被走査面に向かう光ビーム群ごとにそれぞれ２枚目の走査レンズＬ２が配置されている。
なお、ポリゴンミラー５は、図６（ａ）では２段となっているが、低コスト化、低消費電力のためには、図６（ｂ）に示すように１段として、副走査方向のポリゴンミラー５の厚さを低減することが望ましい。
【手続補正３４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７３】
（第４の実施形態）
次に、図９を参照して、本発明に係る光走査装置を用いた画像形成装置の一実施形態を説明する。本実施形態は、本発明に係る光走査装置をタンデム型フルカラーレーザプリンタに適用した例である。
図９において、装置内の下部側には水平方向に配設された給紙カセット１３から給紙される転写紙（図示せず）を搬送する無端状の搬送ベルト１７が設けられている。搬送ベルト１７は、ローラ状の駆動プーリ１８と従動１９との間に張設されていて、図中矢印方向に走行・回転するように駆動される。この搬送ベルト１７上には、像担持体としてのイエローＹ用の感光体７Ｙ，マゼンタＭ用の感光体７Ｍ，シアンＣ用の感光体７ＣおよびブラックＢｋ用の感光体７Ｂｋが、転写紙の搬送方向上流側から順に等間隔で配設されている。なお、以下、符号に対する添字Ｙ，Ｍ，Ｃ，Ｂｋを適宜付けて区別するものとする。これらの感光体７Ｙ，７Ｍ，７Ｃ，７Ｂｋは全て同一径に形成されたもので、その周囲には、電子写真プロセスにしたがって各プロセスを実行するプロセス部材が順に配設されている。
【手続補正３５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７７】
【図１】本発明の第１の参考例における光走査装置を主走査対応方向から見た平面図である。
【図２】本発明の第２の参考例における光走査装置の光源装置、ビーム合成手段周りを主走査対応方向から見た平面図である。
【図３】（ａ）は、本発明の第２の参考例における光走査装置の光源装置、ビーム合成手段周りを副走査対応方向から見た正面図、（ｂ）は、主走査対応方向から見た平面図である。
【図４】本発明の第１の実施形態における光走査装置の光源ユニット周りの分解斜視図である。
【図５】（ａ）は、交差方式マルチビーム光源を用いた場合に、ポリゴンミラーの回転角の変化に応じて、各々の光ビームの偏向反射点が各々の光ビームの光路に沿って主走査方向に変動する不具合現象を説明するための光路を説明する平面図、（ｂ）は、複数の光ビームが主走査方向に交差する位置を各光ビームの光源から偏向反射点までの距離が最も長くなる位置と最も短くなる位置との間に構成した第１の実施形態における光路を説明する平面図である。
【図６】（ａ）は、本発明の第３の実施形態を示す片側走査方式の光走査装置の斜視図、（ｂ）は、副走査対応方向から見た正面図である。
【図７】（ａ）は、斜め入射を用いない従来の片側走査方式においてポリゴンミラーの偏向反射面への複数の光ビーム群の入射光路を説明する図、（ｂ）は、本発明の実施形態において複数の光ビーム群がポリゴンミラーの偏向反射面の法線に対し副走査方向に角度を持って入射する光路を説明する図である。
【図８】斜め入射光学系における走査レンズの形状特性による走査線曲がりを説明すための斜視図である。
【図９】本発明に係る光走査装置を用いた第４の実施形態を示すタンデム型フルカラーレーザプリンタの概略的な全体図である。
【図１０】ポリゴンミラーを用いた斜め入射光学系でかつ交差方式マルチビーム光源を用いた従来のマルチビーム光走査装置を示す斜視図である。
【図１１】従来の問題点を示す図であって、２つの半導体レーザからの各光ビームがポリゴンミラーの偏向反射面に対して主走査方向に角度を持ち入射・反射する際の、各光ビームでのサグ量が変化する状態を説明するための光路図である。
【図１２】従来の問題点を示す図であって、斜め入射光学系において、２つの半導体レーザからの各光ビームが所定の像高に向かうときの偏向反射面のサグ量が変化する状態を説明するための光路図である。
【図１３】サグの影響により同一像高に向かう各光ビームが主走査方向にシフトすることによって、各光ビームで走査レンズを通過する位置が異なってしまい、副走査ビームピッチ偏差が生じる不具合現象を説明するための光路図である。