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【手続補正書】
【提出日】平成21年5月13日(2009.5.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の電極及び第２の電極と、
前記第１の電極と前記第２の電極との間に形成された発光積層体とを有する発光素子において、
前記発光積層体は、少なくとも第１の層と、第２の層と、第３の層とをこの順に有し、
前記第１の層は、キャリア輸送層であり、
前記第３の層は、発光中心材料と、前記発光中心材料が分散されたホスト材料とを含む層であり、
前記第２の層のバンドギャップは、前記第１の層のバンドギャップより大きく、且つ前記ホスト材料のバンドギャップ以上であることを特徴とする発光素子。
【請求項２】
第１の電極及び第２の電極と、
前記第１の電極と前記第２の電極との間に形成された発光積層体とを有する発光素子において、
前記発光積層体は、少なくとも第１の層と、第２の層と、第３の層と、第４の層とをこの順に有し、
前記第１の層及び前記第４の層は、キャリア輸送層であり、
前記第３の層は、発光中心材料と、前記発光中心材料が分散されたホスト材料とを含む層であり、
前記第２の層のバンドギャップは、前記第１の層のバンドギャップより大きく、且つ前記ホスト材料のバンドギャップ以上であることを特徴とする発光素子。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において、
前記第２の層の膜厚は、０．１ｎｍ以上５ｎｍ未満であることを特徴とする発光素子。
【請求項４】
請求項１又は請求項２において、
前記第２の層は、膜厚が０．１ｎｍ以上５ｎｍ未満の層が島状に形成されていることを特徴とする発光素子。
【請求項５】
第１の電極および第２の電極と、
前記第１の電極と前記第２の電極との間に形成された発光積層体とを有する発光素子において、
前記発光積層体は、少なくとも第１の層と、第２の層と、第３の層と、第４の層と、第５の層とをこの順に有し、
前記第１の層及び前記第５の層は、キャリア輸送層であり、
前記第３の層は、発光中心材料と、前記発光中心材料が分散されたホスト材料とを含む層であり、
前記第２の層のバンドギャップは、前記第１の層のバンドギャップより大きく、且つ前記ホスト材料のバンドギャップ以上であり、
前記第４の層のバンドギャップは、前記第５の層のバンドギャップより大きく、且つ前記ホスト材料のバンドギャップ以上であることを特徴とする発光素子。
【請求項６】
第１の電極及び第２の電極と、
前記第１の電極と前記第２の電極との間に形成された発光積層体とを有する発光素子において、
前記発光積層体は、少なくとも第１の層と、第２の層と、第３の層と、第４の層と、第５の層と、第６の層とをこの順に有し、
前記第１の層及び前記第６の層は、キャリア注入層であり、
前記第２の層及び前記第５の層は、キャリア輸送層であり、
前記第４の層は、発光中心材料と、前記発光中心材料が分散されたホスト材料とを含む層であり、
前記第３の層のバンドギャップは、前記第１の層のバンドギャップより大きく、且つ前記ホスト材料のバンドギャップ以上であることを特徴とする発光素子。
【請求項７】
第１の電極及び第２の電極と、
前記第１の電極と前記第２の電極との間に形成された発光積層体とを有する発光素子において、
前記発光積層体は、少なくとも第１の層と、第２の層と、第３の層と、第４の層と、第５の層と、第６の層と、第７の層とをこの順に有し、
前記第１の層及び前記第７の層は、キャリア注入層であり、
前記第２の層及び前記第６の層は、キャリア輸送層であり、
前記第４の層は、発光中心材料と、前記発光中心材料が分散されたホスト材料とを含む層であり、
前記第３の層のバンドギャップは、前記第２の層のバンドギャップより大きく、且つ前記ホスト材料のバンドギャップ以上であり、
前記第５の層のバンドギャップは、前記第６の層のバンドギャップより大きく、且つ前記ホスト材料のバンドギャップ以上であることを特徴とする発光素子。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】発光素子
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月14日(2009.4.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源と、
前記光源から放出された光を伝達及び分配する導光板と、
光源と隣接した前記導光板の側端に隣接して設けられて、光を所定範囲の入射角で前記導光板に入射させるコリメータと、
２つの屈折率を有する光学的異方性物質からなり、すくなくとも前記導光板の一面に設けられたものであって、前記２つの屈折率により導光板との境界面で、前記導光板から入射した光のうち、第１偏光成分は透過し、第２偏光成分は全反射させる偏光分離層と、
前記偏光分離層上に設けられ、前記偏光分離層から入射された光を出射させる出光構造を有する出光層とを備える平板表示装置用照明装置。
【請求項２】
前記導光板は、光学的等方性物質からなる請求項１に記載の平板表示装置用照明装置。
【請求項３】
前記偏光分離層は、第１方向の屈折率がｎｅ、第２方向の屈折率がｎｏ、前記導光板の屈折率がｎｉであるとき、ｎｏ＜ｎｉ≦ｎｅの関係を満たす請求項１又は２に記載の平板表示装置用照明装置。
【請求項４】
前記出光層は、光学的に等方性である請求項１から３のいずれか１つに記載の平板表示装置用照明装置。
【請求項５】
前記出光層は、前記偏光分離層の表層であって、表面に立体パターンを有する請求項１から４のいずれか１つに記載の平板表示装置用照明装置。
【請求項６】
前記導光板は、前記導光板の上面の第１偏光分離層と、前記導光板の下面の第２偏光分離層とを有し、
前記第１偏光分離層は、前記導光板との境界面で、前記導光板から入射された光のうち、第１偏光成分は透過させて第２偏光成分は全反射させ、
前記第２偏光分離層は、前記導光板との境界面で、前記導光板から入射された光のうち、第２偏光成分は透過させて第１偏光成分は全反射させ、
前記出光層は、前記第１偏光分離層及び第２偏光分離層の外面にそれぞれ設けられており、前記それぞれの偏光分離層から入射された光を出射させる請求項１から５のいずれか１つに記載の平板表示装置用照明装置。
【請求項７】
前記コリメータは、
光源側が狭く、導光板側の広い台形に対向するように配置された反射鏡と、
前記対向する反射鏡の間に配置され、底面が光源に向かい、頂部が導光板に向う三角プリズムとを備える請求項１から６のいずれか１つに記載の平板表示装置用照明装置。
【請求項８】
前記コリメータは、
前記導光板の光源側の側端から光源まで、その厚さが次第に薄くなるように延びたものであって、その断面が台形をなす請求項１から７のいずれか１つに記載の平板表示装置用照明装置。
【請求項９】
前記コリメータは、
前記導光板の光源側の側端が前記光源側に延びたものであって、その表面に複数の偏向鋸歯状の立体パターンが形成された導光板拡張部と、
前記導光板拡張部の外面に配置されて、前記偏向鋸歯状の立体パターンを埋め込むものであって、前記導光板拡張部より大きな屈折率を有する第１表層と、
前記第１表層の外面に配置され、前記第１表層より小さく、外部より大きな屈折率を有する第２表層とを備える請求項１から８のいずれか１つに記載の平板表示装置用照明装置。
【請求項１０】
前記複数の偏向鋸歯状の立体パターンは、垂直面および前記光源に向って形成された斜面からなる請求項９に記載の平板表示装置用照明装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月2日(2009.9.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電極（４；５）であって、
凹部（６、７）を備えた少なくとも２つの多孔質導電層（４ａ、４ｂ；５ａ、５ｂ）を含み、相連続する層（４ａ、４ｂ；５ａ、５ｂ）の凹部（６、７）が部分的に重なりかつこうして補足し合って流体分配用通路構造体となるようなパターンに凹部（６、７）が配置されており、協動する凹部（６、７）によって形成される通路が少なくとも２つの層（４ａ、４ｂ、５ａ、５ｂ）の間に複数の移行部を有し、
さらに他の１つの多孔質導電層（４ｃ；５ｃ）を含み、この層が凹部を含んでおらずかつ触媒層（２；３）と接触してなる電極。
【請求項２】
凹部を有していない層（４ｃ；５ｃ）が触媒（２；３）で被覆されていることを特徴とする、請求項１記載の電極。
【請求項３】
電極（４；５）を形成する層（４ａ、４ｂ、４ｃ；５ａ、５ｂ、５ｃ）の厚さが０．０５ｍｍ〜１ｍｍであり、個々の層（４ａ、４ｂ、４ｃ；５ａ、５ｂ、５ｃ）を異なった厚さとすることができることを特徴とする、請求項１記載の電極。
【請求項４】
多孔質導電性材料が炭素繊維または黒鉛繊維からなる紙（湿式不織布）、乾式不織布または繊維材であり、個々の層（４ａ、４ｂ、４ｃ；５ａ、５ｂ、５ｃ）が異なった材料で構成できることを特徴とする、請求項１記載の電極。
【請求項５】
多孔質導電性材料が含浸物を有することを特徴とする、請求項４記載の電極。
【請求項６】
カーボンブラック、黒鉛等の導電性粒子が含浸物中に分散していることを特徴とする、請求項５記載の電極。
【請求項７】
含浸物が炭化または黒鉛化されていることを特徴とする、請求項５記載の電極。
【請求項８】
多孔質導電性材料が、材料の親水性または疎水性に影響を及ぼす含浸物を有することを特徴とする、請求項５記載の電極。
【請求項９】
層（４ａ、４ｂ、４ｃ；５ａ、５ｂ、５ｃ）がそれらの多孔度または／および、親水性または疎水性に関して相違しており、その結果、親水性または／および多孔度が電極（４；５）の厚さ方向で勾配を有する、請求項１または８記載の電極。
【請求項１０】
孔を閉鎖する含浸物によって、または電極を取り囲むプラスチック枠によって、多孔質導電性材料が電極（４；５）の稜を密封することを特徴とする、請求項１記載の電極。
【請求項１１】
相連続する層（４ａ、４ｂ；５ａ、５ｂ）の凹部（６、７）の協動によって形成される通路構造体が、互いに平行に延びる連続的通路を含むことを特徴とする、請求項１記載の電極。
【請求項１２】
相連続する層（４ａ、４ｂ；５ａ、５ｂ）の凹部（６、７）の協動によって形成される通路構造体が不連続な通路を含むことを特徴とする、請求項１記載の電極。
【請求項１３】
相連続する層（４ａ、４ｂ；５ａ、５ｂ）の凹部（６、７ａ、７ｂ）の協動によって形成される通路構造体が、蛇行して延びる通路を含むことを特徴とする、請求項１記載の電極。
【請求項１４】
電極（４；５）を形成する層（４ａ、４ｂ、４ｃ；５ａ、５ｂ、５ｃ）が互いに積層されていることを特徴とする、請求項１記載の電極。
【請求項１５】
請求項１記載のアノード（４）とセパレータ層（８）と請求項１記載のカソード（５）とを含むことを特徴とする燃料電池用複合構造体。
【請求項１６】
セパレータ層（８）が黒鉛箔を含むことを特徴とする、請求項１５記載の燃料電池用複合構造体。
【請求項１７】
請求項１記載のアノード（４）とアノード側触媒層（２）と電解質層（１）とカソード側触媒層（３）と請求項１記載のカソード（５）とを含むことを特徴とする燃料電池用複合構造体。
【請求項１８】
黒鉛箔からなるセパレータを有する高分子電解質膜型燃料電池において使用することを特徴とする請求項１記載の電極もしくは請求項１７記載の複合構造体。
【手続補正書】
【提出日】平成21年8月6日(2009.8.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】表示装置の作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体層を形成し、
前記半導体層上にゲート絶縁層を形成し、
前記ゲート絶縁層上にゲート電極層を形成し、
前記半導体層に接するソース電極層及びドレイン電極層を形成し、
前記ソース電極層又は前記ドレイン電極層に電気的に接続する第１の電極層を形成し、
前記第１の電極層の一部、前記ゲート電極層、前記ソース電極層、前記ドレイン電極層上に無機絶縁層を形成し、
前記無機絶縁層及び前記第１の電極層にプラズマ処理を行い、前記プラズマ処理を行った前記無機絶縁層及び第１の電極層上に電界発光層を形成し、
前記電界発光層上に第２の電極層を形成することを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項２】
半導体層を形成し、
前記半導体層上にゲート絶縁層を形成し、
前記ゲート絶縁層上にゲート電極層を形成し、
前記半導体層に接するソース電極層及びドレイン電極層を形成し、
前記ソース電極層又は前記ドレイン電極層に電気的に接続する第１の電極層を形成し、
前記第１の電極層、前記ゲート電極層、前記ソース電極層、前記ドレイン電極層上に無機絶縁膜を形成し、
前記無機絶縁膜をエッチングし、前記第１の電極層に達する開口有する無機絶縁層を形成し、
前記無機絶縁層及び前記第１の電極層にプラズマ処理を行い、前記プラズマ処理を行った前記無機絶縁層及び第１の電極層上に電界発光層を形成し、
前記電界発光層上に第２の電極層を形成することを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記プラズマ処理は、窒素雰囲気又は酸素雰囲気下で行い、前記無機絶縁層及び前記第１の電極層表面を窒化又は酸化することを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項４】
半導体層を形成し、
前記半導体層上にゲート絶縁層を形成し、
前記ゲート絶縁層上にゲート電極層を形成し、
前記半導体層に接するソース電極層及びドレイン電極層を形成し、
前記ソース電極層又は前記ドレイン電極層に電気的に接続する第１の電極層を形成し、
前記第１の電極層の一部、前記ゲート電極層、前記ソース電極層、前記ドレイン電極層上に第１の無機絶縁層及び第２の無機絶縁層を積層して形成し、
前記第１の無機絶縁層、前記第２の無機絶縁層及び前記第１の電極層にプラズマ処理を行い、前記プラズマ処理を行った前記第１の無機絶縁層、前記第２の無機絶縁層及び前記第１の電極層上に電界発光層を形成し、
前記電界発光層上に第２の電極層を形成することを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項５】
半導体層を形成し、
前記半導体層上にゲート絶縁層を形成し、
前記ゲート絶縁層上にゲート電極層を形成し、
前記半導体層に接するソース電極層及びドレイン電極層を形成し、
前記ソース電極層又は前記ドレイン電極層に電気的に接続する第１の電極層を形成し、
前記第１の電極層、前記ゲート電極層、前記ソース電極層、前記ドレイン電極層上に第１の無機絶縁膜及び第２の無機絶縁膜を積層して形成し、
前記第１の無機絶縁膜及び前記第２の無機絶縁膜をエッチングし、前記第１の電極層に達する開口を有する第１の無機絶縁層及び第２の無機絶縁層を形成し、
前記第１の無機絶縁層、前記第２の無機絶縁層及び前記第１の電極層にプラズマ処理を行い、前記プラズマ処理を行った前記第１の無機絶縁層、前記第２の無機絶縁層及び前記第１の電極層上に電界発光層を形成し、
前記電界発光層上に第２の電極層を形成することを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項６】
請求項４または請求項５において、
前記プラズマ処理は、窒素雰囲気又は酸素雰囲気下で行い、前記第１の無機絶縁層、前記第２の無機絶縁層及び前記第１の電極層表面を窒化又は酸化することを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一項において、
前記ゲート絶縁層を形成後、前記ゲート絶縁層に対するプラズマ処理を行うことを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか一項において、
前記ゲート電極層を形成後、前記ゲート絶縁層に対するプラズマ処理を行うことを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項９】
請求項７または請求項８において、
前記ゲート絶縁層に対するプラズマ処理は、窒素雰囲気又は酸素雰囲気下で行い、前記ゲート絶縁層表面を窒化又は酸化することを特徴とする表示装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月26日(2008.11.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
階層型ストレージ管理（ＨＳＭ）システムであって、
内容管理システムの管理する階層型ストレージ・コンプレックス内のデータ・オブジェクトからデータ・オブジェクト情報を抽出するためのデータ使用モニタと、
データ・オブジェクト情報を保存するためのデータ関係リポジトリであって、前記データ・オブジェクト情報は前記階層型ストレージ・コンプレックス内のデータ・オブジェクトに関する関係データを含む、データ関係リポジトリと、
前記関係データを分析し、前記階層型ストレージ・コンプレックス用のデータ管理アクション推奨を作成するシステムと
を含む、ＨＳＭシステム。
【請求項２】
前記データ・オブジェクト情報が、データ・オブジェクト記述子、データ・アクセス記述子、およびデータ関係記述子を含む、請求項１に記載のＨＳＭシステム。
【請求項３】
データ・オブジェクトに関する内容属性およびメタデータを分析し、前記データ・オブジェクト情報とともに前記データ関係リポジトリ内に保存される内容情報を生成する内容分析処理部をさらに含む、請求項１に記載のＨＳＭシステム。
【請求項４】
ユーザが関係データを前記データ関係リポジトリへと入力できるようにするユーザ・インターフェースをさらに含む、請求項１に記載のＨＳＭシステム。
【請求項５】
前記内容管理システム用のデータ管理アクション推奨の優先度決定を行うストレージ割り当てシステムをさらに含む、請求項１に記載のＨＳＭシステム。
【請求項６】
前記ストレージ割り当てシステムが、データ管理アクション推奨の優先度決定をストレージ使用規則およびストレージ使用パターンに基づいて行う、請求項５に記載のＨＳＭシステム。
【請求項７】
前記階層型ストレージ・コンプレックスが、階層レベル間で移動中のデータ・オブジェクトに対する準備スペースを含む、請求項１に記載のＨＳＭシステム。
【請求項８】
前記関係データが、関係するオブジェクトの組、関係するオブジェクトの組ごとの関係タイプ、各組のオブジェクトが関係する頻度、および関係するオブジェクトの組ごとの内容管理アクションを含む、請求項１に記載のＨＳＭシステム。
【請求項９】
前記内容管理アクションが、マイグレーション、アーカイブ、および再呼び出しからなる群から選択される、請求項８に記載のＨＳＭシステム。
【請求項１０】
ストレージ管理システム内のデータ・オブジェクト関係を管理するための、コンピュータ可読媒体上に格納されたプログラム製品であって、
内容管理システムの管理するストレージ・コンプレックス内のデータ・オブジェクトからデータ・オブジェクト情報を抽出するために構成されたプログラム・コードと、
データ・オブジェクト情報を保存するためのデータ関係リポジトリであって、前記データ・オブジェクト情報は前記ストレージ・コンプレックス内のデータ・オブジェクトに関する関係データを含む、データ関係リポジトリと、
前記関係データを分析し、前記ストレージ・コンプレックス用のデータ管理アクション推奨を作成するために構成されたプログラム・コードと
を含む、プログラム製品。
【請求項１１】
ストレージ・コンプレックス内のデータ・オブジェクト用の予見的ストレージ管理を提供する方法であって、
データ・オブジェクトを分析して内容情報を生成すること、
前記内容情報を、類似の内容情報をもつオブジェクトを識別する関係リポジトリへと格納すること、および
推奨されるストレージ管理アクションを、前記関係リポジトリ内で識別された関係に基づいて作成すること
を含む方法。
【請求項１２】
前記推奨されるストレージ管理アクションの優先度決定を行うさらに別のステップを含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記内容情報が、内容特徴およびメタデータを含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
前記推奨されるストレージ管理アクションが、マイグレーション、アーカイブ、および再呼び出しからなる群から選択されるアクションを含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１５】
ストレージ・コンプレックス内のデータ・オブジェクトを管理するための予見的ストレージ管理アプリケーションを展開する方法であって、
データ・オブジェクト情報を前記ストレージ・コンプレックス内のデータ・オブジェクトから抽出すること、
前記ストレージ・コンプレックス内のデータ・オブジェクトに関する関係データを含む、データ・オブジェクト情報を格納すること、および
前記関係データを分析し、前記ストレージ・コンプレックス用のデータ管理アクション推奨を作成すること
を行うように動作可能であるコンピュータ・インフラストラクチャを提供すること
を含む方法。
【請求項１６】
ストレージ・コンプレックス内のデータ・オブジェクトを管理するための予見的ストレージ管理アプリケーションを実装する伝播信号の形で実施されるコンピュータ・ソフトウェアであって、前記コンピュータ・ソフトウェアは、コンピュータに以下の機能、すなわち、
データ・オブジェクト情報を前記ストレージ・コンプレックス内のデータ・オブジェクトから抽出すること、
前記ストレージ・コンプレックス内のデータ・オブジェクトに関する関係データを含む、データ・オブジェクト情報を格納すること、および
前記関係データを分析し、前記ストレージ・コンプレックス用のデータ管理アクション推奨を作成すること
を行わせる命令を含む、コンピュータ・ソフトウェア。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月3日(2009.7.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁表面を有する基板上に記憶素子及びスイッチング素子が配置された半導体装置であり、
前記記憶素子は、第１の電極、第２の電極、及び前記第１の電極と前記第２の電極との間に有機化合物を含む層を有し、
前記第１の電極、前記第２の電極、及び前記有機化合物を含む層は同一平面に設けられ、
前記第１の電極及び前記第２の電極の側面は、テーパー形状を有し、
前記第１の電極は、前記スイッチング素子と電気的に接続され、
前記第１の電極から前記第２の電極へ電流が流れることにより、前記第１の電極と前記第２の電極との間に電位差を生じさせて、前記有機化合物を含む層の導電性を不可逆に変化させる半導体装置。
【請求項２】
絶縁表面を有する基板上に記憶素子及びスイッチング素子が配置された半導体装置であり、
一対の絶縁層を有し、
前記記憶素子は、第１の電極、第２の電極、及び前記第１の電極と前記第２の電極との間に有機化合物を含む層を有し、
前記一対の絶縁層、前記第１の電極、前記第２の電極、及び前記有機化合物を含む層は同一平面に設けられ、
前記有機化合物を含む層は、前記一対の絶縁層、前記第１の電極、及び前記第２の電極で四方を囲まれ、
前記第１の電極及び前記第２の電極の側面は、テーパー形状を有し、
前記第１の電極は、前記スイッチング素子と電気的に接続され、
前記第１の電極から前記第２の電極へ電流が流れることにより、前記第１の電極と前記第２の電極との間に電位差を生じさせて、前記有機化合物を含む層の導電性を不可逆に変化させる半導体装置。
【請求項３】
請求項１または２において、前記第１の電極と前記第２の電極の電極幅の合計幅は、前記有機化合物を含む層の幅よりも広い半導体装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一において、前記スイッチング素子のゲート電極は、ワード線と電気的に接続されている半導体装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一において、前記有機化合物を含む層の上面形状は、矩形状、楕円状、または円状である半導体装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一において、前記スイッチング素子は、ｎチャネル型の薄膜トランジスタである半導体装置。
【請求項７】
請求項１乃至５のいずれか一において、前記スイッチング素子は、ｐチャネル型の薄膜トランジスタである半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年8月7日(2009.8.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
活性層と、屈折率の異なる媒質が二次元周期で配列された二次元フォトニック結晶とを有する面発光レーザにおいて、
前記二次元フォトニック結晶が、二次元周期構造を有する第１の層と、第２の層とを備え、前記第１の層と第２の層とを接するように配置し、前記二次元フォトニック結晶の屈折率周期を乱す部位が前記第２の層に形成されていることを特徴とする面発光レーザ。
【請求項２】
前記第１の層が、第１の屈折率を有する第１媒質中に、第２の屈折率を有する第２媒質よりなる柱状構造体が一定間隔で周期的に形成された第１の二次元周期構造層であり、
前記第２の層が、第３の屈折率を有する第３媒質中に、第４の屈折率を有する第４媒質よりなる柱状構造体が形成された第２の二次元周期構造層であり、その周期は、前記第１の二次元周期構造とは異なるように形成され、
且つ、その柱状構造体の大きさを含む形状が前記第１の二次元周期構造層における柱状構造体と異なる形状に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の面発光レーザ。
【請求項３】
二次元周期構造を有する第１の層と第２の層とを接するように配置し、屈折率周期を乱す部位が前記第２の層に形成されている請求項１に記載の面発光レーザを構成する二次元フォトニック結晶の製造方法であって、
基板上に形成された第１の半導体層に、第１の柱状空孔を後の工程における第３の半導体層に形成される第２の柱状空孔と周期あるいは形状の少なくとも一方が異なるように形成し、該第１の柱状空孔に第２の半導体層を埋め込む工程と、
前記第２の半導体層が埋め込まれた第１の半導体層上に、第３の半導体層を形成し、該第３の半導体層に一定間隔で周期的構造を有する第２の柱状空孔を、前記第１の柱状空孔に埋め込まれた第２の半導体層が露出する深さで形成する工程と、
前記露出した第２の半導体層を、該第１の柱状空孔から除去しあるいは除去しないでおく工程と、
を有することを特徴とする二次元フォトニック結晶の製造方法。
【請求項４】
二次元周期構造を有する第１の層と第２の層とを接するように配置し、屈折率周期を乱す部位が前記第２の層に形成されている請求項１に記載の面発光レーザを構成する二次元フォトニック結晶の製造方法であって、
基板上に形成された第１の半導体層に、該半導体層の一部を多孔質化した柱状形状部を、後の工程で形成される第１の柱状空孔と周期あるいは形状の少なくとも一方が異なるように形成する工程と、前記多孔質化された柱状形状部の形成された前記第１の半導体層上に、第２の半導体層を形成し、該第２の半導体層に一定間隔で周期的構造を有する第１の柱状空孔を、前記多孔質化された柱状形状部が露出する深さで形成する工程と、
前記露出した前記多孔質化された柱状形状部から、該多孔質化された部分を除去して第２の柱状空孔を形成し、あるいは該多孔質化された部分を除去しないでおく工程と、
を有することを特徴とする二次元フォトニック結晶の製造方法。
【請求項５】
二次元周期構造を有する第１の層と第２の層とを接するように配置し、屈折率周期を乱す部位が前記第２の層に形成されている請求項１に記載の面発光レーザを構成する二次元フォトニック結晶の製造方法であって、
基板上に積層された上層の半導体層に、一定間隔で周期的構造を有する第１の柱状空孔を形成する第１の工程と、
前記第１の工程後に、前記基板上における下層の半導体層に前記上層の半導体層に形成された第１の柱状空孔と周期あるいは形状の少なくとも一方が異なる第２の柱状空孔を形成する第２の工程と、を有することを特徴とする二次元フォトニック結晶の製造方法。
【請求項６】
二次元周期構造を有する第１の層と第２の層とを接するように配置し、屈折率周期を乱す部位が前記第２の層に形成されている請求項１に記載の面発光レーザを構成する二次元フォトニック結晶の製造方法であって、
基板上に積層された半導体層の上面側から、一定間隔で周期的構造を有する第１の柱状空孔を形成する第１の工程と、
前記第１の工程後に、前記半導体層の下面側から、前記上面側から形成された第１の柱状空孔と周期あるいは形状の少なくとも一方が異なる第２の柱状空孔を形成する第２の工程と、を有することを特徴とする二次元フォトニック結晶の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月30日(2009.7.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の導電層と、第２の導電層と、前記第１の導電層と前記第２の導電層との間に形成され、且つ、光増感酸化還元剤、及び前記光増感酸化還元剤により光増感酸化還元反応する基質を有する有機化合物を含む層とを有する記憶素子を有することを特徴とする記憶装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記光増感酸化還元剤は、前記第１の導電層及び前記第２の導電層に電圧を印加して発生する正孔と電子との再結合によるエネルギーにより励起状態となり、前記励起状態の光増感酸化還元剤により、前記基質の少なくとも一部に光増感酸化還元反応が生じ、前記基質と導電率の異なる反応生成物が生成されることを特徴とする記憶装置。
【請求項３】
第１の導電層と、第２の導電層と、前記第１の導電層と前記第２の導電層との間に形成され、且つ、発光性を有する材料、光増感酸化還元剤、及び前記光増感酸化還元剤により少なくとも一部が光増感酸化還元反応する基質を有する有機化合物を含む層とを有する記憶素子を有することを特徴とする記憶装置。
【請求項４】
請求項３において、
前記有機化合物を含む層は、発光性を有する材料で形成される層と、光増感酸化還元剤および基質で形成される層とを積層して形成されることを特徴とする記憶装置。
【請求項５】
請求項３または請求項４において、
前記光増感酸化還元剤は、前記第１の導電層及び前記第２の導電層に電圧を印加して発生する正孔及び電子が、前記発光性を有する材料において再結合することにより生じる発光エネルギーにより励起状態となり、前記励起状態の光増感酸化還元剤により前記基質の少なくとも一部に光増感酸化還元反応が生じ、前記基質と導電率の異なる反応生成物が生成されることを特徴とする記憶装置。
【請求項６】
第１の導電層、透光性を有する第２の導電層、及び第３の導電層を有し、
前記第１の導電層と前記第２の導電層との間において、発光性を有する材料で形成される第１の有機化合物を含む層を有し、
前記第２の導電層と前記第３の導電層との間において、光増感酸化還元剤及び前記光増感酸化還元剤により少なくとも一部が光増感酸化還元反応する基質を有する第２の有機化合物を含む層とを有する記憶素子を有することを特徴とする記憶装置。
【請求項７】
請求項６において、
前記光増感酸化還元剤は、前記第１の導電層及び前記第２の導電層に電圧を印加して発生する正孔と電子との再結合によるエネルギーにより励起状態となり、前記励起状態の光増感酸化還元剤により、前記基質の少なくとも一部に光増感酸化還元反応が生じ、前記基質と導電率の異なる反応生成物が生成されることを特徴とする記憶装置。
【請求項８】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項において、
前記第１の導電層又は前記第２の導電層に接続するダイオードを有することを特徴とする記憶装置。
【請求項９】
請求項６乃至請求項８のいずれか一項において、
前記第１の導電層又は前記第３の導電層に接続するダイオードを有することを特徴とする記憶装置。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項９のいずれかに記載の記憶素子がマトリクス状に配置されたメモリセルアレイと、書込み回路とを有することを特徴とする半導体装置。
【請求項１１】
請求項１乃至請求項９のいずれかに記載の記憶素子及びトランジスタで構成されるメモリセルがマトリクス状に配置されたメモリセルアレイと、書込み回路とを有することを特徴とする半導体装置。
【請求項１２】
請求項１乃至請求項１１のいずれか一項において、
アンテナとして機能する導電層と、前記アンテナとして機能する導電層に電気的に接続するトランジスタとを有することを特徴とする半導体装置。
【請求項１３】
請求項１２において、
読出し回路、電源回路、クロック発生回路、データ復調／変調回路、制御回路、及びインターフェイス回路のいずれか一つ以上を有することを特徴とする半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月12日(2009.3.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に下電極、圧電体層及び上電極からなる圧電素子を形成する工程を有し、且つ前記圧電素子を形成する工程では、前記圧電体層上にスパッタリング法によって前記上電極を形成し、その際の温度を２５〜２５０（℃）、圧力を０．４〜１．５（Ｐａ）として、厚さが３０〜１００（ｎｍ）であって応力が０．３〜２．０（ＧＰａ）であり、且つ比抵抗が２．０（×１０−７Ω・ｍ）以下である前記上電極を形成することを特徴とするアクチュエータ装置の製造方法。
【請求項２】
前記上電極を形成する際のパワー密度を３〜３０（ｋＷ／ｍ２）としたことを特徴とする請求項１に記載のアクチュエータ装置の製造方法。
【請求項３】
前記上電極の材料として、イリジウム（Ｉｒ）を用いたことを特徴とする請求項１又は２に記載のアクチュエータ装置の製造方法。
【請求項４】
基板上に下電極、圧電体層及び上電極からなる圧電素子を有し、
前記上電極は、厚さが３０〜１００（ｎｍ）であって応力が０．３〜２．０（ＧＰａ）であり、且つ比抵抗が２．０（×１０−７Ω・ｍ）以下であることを特徴とするアクチュエータ装置。
【請求項５】
請求項４に記載のアクチュエータ装置を具備することを特徴とする液体噴射ヘッド。
【請求項６】
請求項５に記載の液体噴射ヘッドを具備することを特徴とする液体噴射装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記課題を解決する本発明の第１の態様は、基板上に下電極、圧電体層及び上電極からなる圧電素子を形成する工程を有し、且つ前記圧電素子を形成する工程では、前記圧電体層上にスパッタリング法によって前記上電極を形成し、その際の温度を２５〜２５０（℃）、圧力を０．４〜１．５（Ｐａ）として、厚さが３０〜１００（ｎｍ）であって応力が０．３〜２．０（ＧＰａ）であり、且つ比抵抗が２．０（×１０−７Ω・ｍ）以下である前記上電極を形成することを特徴とするアクチュエータ装置の製造方法にある。
かかる第１の態様では、上電極の圧電体層との密着性が確保されるため、圧電体層の圧電特性が良好に保持しつつ上電極の膜質を向上させることができる。したがって、変位特性及び耐久性に優れたアクチュエータ装置を実現することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の第４の態様は、基板上に下電極、圧電体層及び上電極からなる圧電素子を有し、前記上電極は、厚さが３０〜１００（ｎｍ）であって応力が０．３〜２．０（ＧＰａ）であり、且つ比抵抗が２．０（×１０−７Ω・ｍ）以下であることを特徴とするアクチュエータ装置にある。
かかる第４の態様では、変位特性及び耐久性が著しく向上したアクチュエータ装置が実現される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６】
2007073931.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月7日(2009.7.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の電極間に、
第１の有機化合物と無機化合物とを複合してなる複合材料を含む層と、
前記複合材料を含む層に接する第２の有機化合物を含む層と、
が積層された積層体と、
発光物質を含む層と、
を有し、
前記複合材料は、４５０ｎｍ〜８００ｎｍの波長領域において、吸収スペクトルのピークを有しないことを特徴とする発光素子。
【請求項２】
一対の電極間に、
第１の有機化合物と無機化合物とを複合してなる複合材料を含む層と、
前記複合材料を含む層に接する第２の有機化合物を含む層と、
が積層された積層体と、
発光物質を含む層と、
を有し、
前記複合材料は、４５０ｎｍ〜８００ｎｍの波長領域において、膜厚１００ｎｍあたりの透過率が８０％以上であることを特徴とする発光素子。
【請求項３】
請求項１乃至請求項２のいずれか一項において、
前記第１の有機化合物は、芳香族炭化水素であることを特徴とする発光素子。
【請求項４】
請求項１乃至請求項２のいずれか一項において、
前記第１の有機化合物は、アントラセン誘導体であることを特徴とする発光素子。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項において、
前記無機化合物は、前記第１の有機化合物に対して電子受容性を示すことを特徴とする発光素子。
【請求項６】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項において、
前記無機化合物は、遷移金属酸化物であることを特徴とする発光素子。
【請求項７】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項において、
前記無機化合物は、酸化バナジウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化クロム、酸化モリブデン、酸化タングステン、酸化マンガン、酸化レニウムのいずれかであることを特徴とする発光素子。
【請求項８】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項において、
前記無機化合物は、酸化モリブデンであることを特徴とする発光素子。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月14日(2009.1.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明する。実施例中に使用した各特性値は次の測定方法により求めた。
Ａ．ポリエステル樹脂の固有粘度（ＩＶ）
オルトクロロフェノールに溶解し、２５℃において測定した。
Ｂ．加熱処理前後の固有粘度の差（ΔＩＶ）
下記式（１）で表す。
ΔＩＶ＝加熱処理後の固有粘度（Ｂ）−加熱処理前の固有粘度（Ａ）・・・（１）
Ｃ．ポリエステル組成物またはフイルム中のリン元素量
ポリエステル組成物またはフイルム８ｇを溶融し板状に成型した板を、理学電機社製蛍光Ｘ線装置（型番３２７０）により、蛍光Ｘ線の強度を測定した。この値を含有量既知のサンプルで予め作成した検量線を用い、金属含有量に換算した。
Ｄ．オリゴマー（環状３量体）含有量
ポリエステル組成物１ｇを２０ｍｌのオルトクロロフェノールに溶解し、内部標準を添加する。さらにメタノールを加えてポリマーを析出させて遠心分離によって上澄みを採取し、液体クロマトグラフを用いてオリゴマー（環状３量体）含有量として定量した。
Ｅ．フイルムの表面粗さＲａ値
フイルム表面の表面粗さＲａ値は、原子間力顕微鏡（走査型プローブ顕微鏡）を用いて測定した。即ち、セイコーインスツルメント（株）製の卓上小型プローブ顕微鏡（”Ｎａｎｏｐｉｃｓ” １０００）を用い、ダンピングモードで、フイルム表面を４μｍ角の範囲で原子間力顕微鏡計測走査を行い、得られる表面のプロファイル曲線よりＪＩＳ・Ｂ０６０１・Ｒａに相当する算術平均粗さよりＲａを求めた。面内方向の拡大倍率は１万〜５万倍、高さ方向の拡大倍率は１００万倍程度とした。
Ｆ．黒色異物
ポリエステルフィルム１ｇをアセトン、次いでクロロホルムで洗浄した。そのポリエステルをヘキサフルオロイソプロパノール（ＨＦＩＰ）／クロロホルム＝１／１の溶液２０ｇ中に１６時間放置して溶かし、目開き１μｍのメンブランフィルターで濾過（濾過面直径１４ｍｍ）を行った。更に濾紙面上をＨＦＩＰで十分洗浄した後風乾し、光学顕微鏡（２００倍）で濾紙面全体の着色異物（１μｍ以上）の数を数えて、評価した。
Ｇ.フイルム表面に析出する環状３量体を主体としたオリゴマー個数
縦・横５ｃｍ角のフイルムを熱風乾燥機中で１５０℃の熱風で３０分間熱処理した。熱処理したフイルムの片面をブロアーにて空気を吹き付けて付着ゴミを除去し、カーボンを真空蒸着し、走査型電子顕微鏡にて５０００倍に拡大してフイルム表面に析出したオリゴマー粒の個数をカウントした。１０視野観察した平均値をフイルム表面１ｍｍ２当たりの個数へ換算し、１０の位で四捨五入した。ポリマー中に含まれる粒子や異物が作るフイルム表面突起も観察できるが、これらはフイルム表面と連続した突起として観察され、一方オリゴマーはフイルム表面とはつながっておらず、また角張ったエッジを持つ粒のように観察されるので見分けることができ、評価した。
Ｈ．フイルム生産の安定性
製膜押出機の濾圧、フイルム破れ具合から、下記のように評価した。
○：製膜押出機の濾圧の上昇が問題なく、安定して生産できる。
△：製膜押出機の濾圧が高いが、生産できる。
×：製膜押出機の濾圧が高く生産できない。または固有粘度が低く、フイルム破れが発生して安定して生産できない。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月16日(2009.1.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マトリックス樹脂と、チューブ状ケイ酸塩化合物と、を含有する難燃性樹脂組成物。
【請求項２】
難燃助剤をさらに含有する請求項１に記載の難燃性樹脂組成物。
【請求項３】
前記チューブ状ケイ酸塩化合物が、Ｍｇ、Ｃａ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｚｎ、Ｂａ、Ｃｕ及びＮｉからなる群から選択される少なくとも１種の金属を構成元素として含む請求項１又は請求項２に記載の難燃性樹脂組成物。
【請求項４】
前記チューブ状ケイ酸塩化合物の表面が、Ｍｇ、Ｃａ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｚｎ、Ｂａ、Ｃｕ及びＮｉからなる群から選択される少なくとも１種の金属又は前記金属を含む化合物により被覆された請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の難燃性樹脂組成物。
【請求項５】
前記チューブ状ケイ酸塩化合物の表面に、有機化合物又はポリシリコーンを含む被覆層が形成された請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の難燃性樹脂組成物。
【請求項６】
前記難燃助剤が、ホウ酸系難燃助剤である請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の難燃性樹脂組成物。
【請求項７】
請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の難燃性樹脂組成物を含有し、ＵＬ−９４試験による難燃性がＨＢ以上である難燃性樹脂成形品。
【請求項８】
前記マトリックス樹脂からなる成型品と比較して、ＩＳＯ５６６０のコーンカロリメータ測定による発熱速度が３分の１以下である請求項７に記載の難燃性樹脂成型品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
＜７＞  ＜１＞〜＜６＞のいずれか１つに記載の難燃性樹脂組成物を含有し、ＵＬ−９４試験による難燃性がＨＢ以上である難燃性樹脂成形品である。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月22日(2009.1.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シートを積載手段上に排出する排出手段と、前記排出手段により排出されるシートに当接して回動するシート押さえ手段と、を備えたシート排出装置において、
前記シート押さえ手段は、シート幅方向に間隔をおいて設けられた第一のシート押さえ部材と、前記第一のシート押さえ部材の間に設けられた第二のシート押さえ部材とを、同軸上に一体的に有し、
前記第二のシート押さえ部材は、排出されるシートの先端を受け止める受け止め面を有し、前記受け止め面は、排出されるシートに前記第一のシート押さえ部材よりも先に当接するよう、前記第一のシート押さえ部材のシート排出方向上流側に設けられたことを特徴とするシート排出装置。
【請求項２】
前記第一及び第二のシート押さえ部材は各々、前記積載手段上に積載されたシートの浮き上がりを押さえる押さえ面と、を有することを特徴とする請求項１に記載のシート排出装置。
【請求項３】
前記排出手段は、同軸上に複数の回転体を有する回転体対からなり、
前記回転体対は、前記複数の回転体のうち少なくとも一つが互い違いに配置されていることを特徴とする請求項１又２に記載のシート排出装置。
【請求項４】
前記シート押さえ手段は、前記第一及び第二のシート押さえ部材の回動にともなってセンサをＯＮ・ＯＦＦ作動させる遮蔽部を有し、前記積載手段上に積載されたシートの満載を検知することを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載のシート排出装置。
【請求項５】
前記複数の回転体のうち互い違いに配置された回転体を除く回転体は、その搬送方向がシート排出方向に対して傾くように配置されていることを特徴とする請求項３に記載のシート排出装置。
【請求項６】
前記第二のシート押さえ部材がシートと当接する際のシートと前記受け止め面のなす自由端側の角度は鈍角であり、シート当接後、押し出しにつれて、その角度が拡大するように受け止め面が移動することを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記載のシート排出装置。
【請求項７】
シートに画像を形成する画像形成手段と、
この画像形成手段により画像形成されたシートを排出する請求項１ないし６のいずれかに記載のシート排出装置と、
を有することを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
上記課題を解決するために本発明に係るシート排出装置及び画像形成装置の代表的な構成は、シートを積載手段上に排出する排出手段と、前記排出手段により排出されるシートに当接して回動するシート押さえ手段と、を備えたシート排出装置において、前記シート押さえ手段は、シート幅方向に間隔をおいて設けられた第一のシート押さえ部材と、前記第一のシート押さえ部材の間に設けられた第二のシート押さえ部材とを、同軸上に一体的に有し、前記第二のシート押さえ部材は、排出されるシートの先端を受け止める受け止め面を有し、前記受け止め面は、排出されるシートに前記第一のシート押さえ部材よりも先に当接するよう、前記第一のシート押さえ部材のシート排出方向上流側に設けられたことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
フラグレバー５１は、回動軸６９ｂの左端に第一の押さえ部材である端部フラグ５２ｂを備え、回動軸６９ｂの右端に接合部６５を備えている。回動軸６９ｂの左端と接合部６５をガイドフレーム５６の穴に矢印で示すように挿入することで、フラグレバー５１は回転可能に保持される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
一方で、端部（シート幅方向外側）の従動コロ６２ｃ、６２ｄは、シート幅方向内側に向きに傾けて配置されている。すなわち、従動コロ６２ｃ、６２ｄのシート排出方向先端は、シート幅方向中央に近づく方向を向いており、シートを内側に向けて排出する。それにより、ローラ６０ａとローラ６０ｃ間と、ローラ６０ｂとローラ６０ｄ間で、それぞれシートＳにたるみをつけて、波打ちしやすくし、シートＳの端部側での排出方向の波打ちを増やし、排出方向の腰を強めることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月16日(2009.1.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被記録物を搬送しつつ前記被記録物に記録する記録装置であって、
回転駆動力が与えられることにより回転する搬送駆動ローラと、
前記搬送駆動ローラとの間で前記被記録物を挟んで連れ回る搬送従動ローラと、
前記搬送駆動ローラに回転駆動力を与える駆動部と
を備え、
前記駆動部は、
板状の圧電素子および前記圧電素子を面方向に挟んだ対の電極を少なくとも一つ含み、各々の前記対の電極間に周期的な電圧を与えることにより、前記搬送駆動ローラの回転軸に垂直な面に対して前記圧電素子の面方向に当接および離間する振動体と、
前記圧電素子の面方向を前記搬送駆動ローラの回転軸に平行に、前記振動体を支持する振動体保持部と
を有する記録装置。
【請求項２】
前記搬送駆動ローラを軸支するフレームと、
前記搬送駆動ローラが前記フレームに対して軸方向に移動することができる距離を規定する軸止め部と、
を備え、
前記振動体を、前記搬送駆動ローラに対して付勢する付勢部をさらに備え、
前記軸止め部により規定される前記搬送駆動ローラが前記フレームに対して軸方向に移動することができる距離は、前記振動体が前記付勢部により移動することができる距離よりも小さい請求項１に記載の記録装置。
【請求項３】
前記振動体および前記搬送駆動ローラの回転軸に垂直な面を互いに押し付けあう方向に付勢する付勢部をさらに備える請求項２に記載の記録装置。
【請求項４】
被記録物を搬送しつつ前記被記録物に液体を噴射する液体噴射装置であって、
回転駆動力が与えられることにより回転する搬送駆動ローラと、
前記搬送駆動ローラとの間で前記被記録物を挟んで連れ回る搬送従動ローラと、
前記搬送駆動ローラに回転駆動力を与える駆動部と
を備え、
前記駆動部は、
板状の圧電素子および前記圧電素子を面方向に挟んだ対の電極を少なくとも一つ含み、各々の前記対の電極間に周期的な電圧を与えることにより、前記搬送駆動ローラの回転軸に垂直な面に対して前記圧電素子の面方向に当接および離間する振動体と、
前記圧電素子の面方向を前記搬送駆動ローラの回転軸に平行に、前記振動体を支持する振動体保持部と
を有する液体噴射装置。
【請求項５】
前記搬送駆動ローラを軸支するフレームと、
前記搬送駆動ローラが前記フレームに対して軸方向に移動することができる距離を規定する軸止め部と、
を備え、
前記振動体を、前記搬送駆動ローラに対して付勢する付勢部をさらに備え、
前記軸止め部により規定される前記搬送駆動ローラが前記フレームに対して軸方向に移動することができる距離は、前記振動体が前記付勢部により移動することができる距離よりも小さい請求項４に記載の液体噴射装置。
【請求項６】
前記振動体および前記搬送駆動ローラの回転軸に垂直な面を互いに押し付けあう方向に付勢する付勢部をさらに備える請求項５に記載の液体噴射装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月23日(2009.1.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基端部を部分糊付けした付箋紙を複数積層して成る付箋紙束をセットするセット部と、
セットした前期付箋紙束から１枚ずつ前記付箋紙を捲り上げた後、前記付箋紙を挟持し、前記付箋紙の糊付け部を引き剥がしながら送り出す付箋紙送り手段と、
引き剥がされながら送り出されてゆく前記付箋紙に臨み、前記付箋紙に印刷を行う印刷手段と、を備え、
前記付箋紙送り手段は、前記付箋紙束の長手方向に対する前記付箋紙の引き剥がし角度が、鈍角および略直角のいずれかとなるように前記付箋紙を引き剥がすことを特徴とする付箋紙プリンタ。
【請求項２】
前記付箋紙送り手段は、前記付箋紙を挟持する挟持位置において前記付箋紙に引き剥がし力を付与し、
前記挟持位置は、前記引き剥がし角度が鈍角となるように、前記付箋紙の糊付け部側端から前記付箋紙束の長手方向に対し直角に延ばした仮想線の外側に位置していることを特徴とする請求項１に記載の付箋紙プリンタ。
【請求項３】
前記付箋紙送り手段は、前記付箋紙を捲り上げる送りローラと、捲り上げた前記付箋紙を前記送りローラとの間で挟持する挟持部材とを有し、
且つ前記印刷手段は、前記付箋紙に印刷を行う印刷ヘッドを有しており、
前記印刷ヘッドは、前記挟持部材を兼ねていることを特徴とする請求項１または２に記載の付箋紙プリンタ。
【請求項４】
前記送りローラは、自身の下側に接触した前記付箋紙を自身の上側に載るように捲り上げ、
前記付箋紙送り手段は、前記送りローラを、上側に前記付箋紙を載せた状態で前記印刷ヘッドに挟持させるように移動させる移動機構を、更に有していることを特徴とする請求項３に記載の付箋紙プリンタ。
【請求項５】
前記セット部は、前記付箋紙の引き剥がしに抗して、前記付箋紙束の自由端側の端部および糊付け部側の端部を押さえる一対の爪片を有していることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の付箋紙プリンタ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明の付箋紙プリンタは、基端部を部分糊付けした付箋紙を複数積層して成る付箋紙束をセットするセット部と、セットした付箋紙束から１枚ずつ付箋紙を捲り上げた後、付箋紙を挟持し、付箋紙の糊付け部を引き剥がしながら送り出す付箋紙送り手段と、引き剥がされながら送り出されてゆく付箋紙に臨み、付箋紙に印刷を行う印刷手段と、を備え、付箋紙送り手段は、付箋紙束の長手方向に対する付箋紙の引き剥がし角度が、鈍角および略直角のいずれかとなるように付箋紙を引き剥がすことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
付箋紙ホルダ２１は、所定サイズの付箋紙束１２を保持するものであって、上面を開放したボックス状に形成され、付箋紙束１２を水平に載置する方形のセットステージ３６と、セットステージ３６を上下方向にスライド自在に案内する四周枠状の導入ガイド３７と、複数のコイルばね３２を介してセットステージ３６を下側から支持すると共に、付箋紙導入開口１６を閉塞する蓋体３３と、から構成されている。また、導入ガイド３７の上端部の前後には、付箋紙束１２の自由端部および糊付け部を相対的に押さえる一対の爪片３８、３８が内向きに突設されている。セットステージ３６は、複数のコイルばね３２により上方に付勢されており、これにセットされた付箋紙束１２は、付箋紙１２ｈが１枚ずつ送り出され目減りしても、一対の爪片３８、３８に位置規制されて、その最上位に位置する付箋紙１２ｈの高さレベルが一定となっている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
印刷手段２３は、排紙口１７の近傍に配設されたサーマルヘッド６１と、装着されたリボンカートリッジＣのインクリボンＲを巻き取るリボン巻取り機構（図示省略）とを有している。リボンカートリッジＣは、インクリボンＲを繰り出し自在に巻回したリボン繰出しリール６６と、インクリボンＲを巻き取るリボン巻取りリール６７と、これらを回転自在に収容するカートリッジケース（図示省略）とから構成されている。また、リボン巻取り機構は、送りローラ４１が挟持位置２５へ移動すると、上記の減速ギヤ列４３と連結して駆動モータ４２からの動力が入力するようになっており、付箋紙１２ｈの送りと併せて、インクリボンＲの巻取り（送り）を開始するようになっている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
そして、パソコン３の制御部１０５は、送りローラ４１による付箋紙１２ｈの送りと、サーマルヘッド６１の発熱駆動とを制御して、付箋紙１２ｈの空送り、すなわち印刷を行うことなく付箋紙１２ｈを送り出すことができるように構成されている。これにより、印刷された付箋紙１２ｈを得ることができると共に、何も印刷されていない付箋紙１２ｈを得ることもできる。つまり、付箋紙プリンタ２を、付箋紙ディスペンサーとして機能させることができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
パソコン３により印刷開始を指示すると、送りローラ４１は回転して付箋紙１２ｈの捲り上げ動作を開始する。すなわち、送りローラ４１が最上位の付箋紙１２ｈに対し、自由端側の表面に巻き込むように転接することで、その長手方向の中間部が次第に上方へと湾曲するように撓んでいく（図４（ｂ）参照）。