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【手続補正書】
【提出日】平成25年7月1日(2013.7.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水素化触媒を再生するための方法であって：
炭化質沈殿物を含む水素化触媒を提供するステップと；
前記水素化触媒を洗浄媒体で洗浄するステップであって、前記洗浄媒体が液相にあるステップと；
前記水素化触媒を水素と接触させるステップと；
前記水素化触媒にわたり水素の流動を維持するステップと；
前記水素化触媒の圧力を、略大気圧ないし約３０００ｐｓｉのゲージ圧の範囲の再生圧力に調節するステップと；
前記水素化触媒の温度を、約２５０℃ないし約４００℃の範囲の再生温度に調節するステップと；
を具え、炭化質沈殿物が前記水素化触媒から除去され、水素化が再開可能なように前記水素化触媒が再生されることを特徴とする方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法において：
ａ）約１００℃未満の洗浄温度で、前記水素化触媒が前記洗浄媒体で洗浄されること；
ｂ）前記洗浄媒体が水、アルコール、ケトン、環状エーテル、水溶性の含酸素炭化水素、及びその任意の２以上の組合せからなる群から選択されること；あるいは
ｃ）前記水素化触媒が酸素のない環境を維持するように水素の存在下で洗浄されること；
を特徴とする方法。
【請求項３】
請求項１に記載の方法において、前記水素化触媒の温度が１時間につき約２０℃ないし１時間につき約１００℃の割合で前記再生温度に調節され、前記再生温度が少なくとも約８時間更に維持されることを特徴とする方法。
【請求項４】
請求項１に記載の方法において：
前記再生温度が約８時間維持されること；あるいは
前記再生圧力の範囲が約６００ｐｓｉのゲージ圧ないし約１５００ｐｓｉのゲージ圧であること；
を特徴とする方法。
【請求項５】
請求項１に記載の方法において、前記炭化質沈殿物のうち約９８％が前記水素化触媒から除去されることを特徴とする方法。
【請求項６】
請求項１に記載の方法において、前記水素化触媒が担体、ならびにＦｅ、Ｒｕ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｎｉ、Ｒｅ、Ｃｕ、その少なくとも２の合金、及びその少なくとも２の組合せからなる群から選択される触媒材を含むことを特徴とする方法。
【請求項７】
請求項６に記載の方法において：
ａ）前記水素化触媒がＡｇ、Ａｕ、Ｃｒ、Ｚｎ、Ｍｎ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ｍｏ、Ｗ、Ｂ、Ｐ、その少なくとも２の合金、及びその少なくとも２の組合せからなる群から選択される更なる触媒物質を更に含むこと；
ｂ）前記担体が窒化物、炭素、シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタニア、バナジア、セリア、窒化ホウ素、ヘテロポリ酸、珪藻土、ヒドロキシアパタイト、酸化亜鉛、クロミア、及びその少なくとも２の組合せからなる群から選択される材を含むこと；あるいは
ｃ）前記担体が酸素のない環境を維持するように水素の存在下で洗浄されること；
を特徴とする方法。
【請求項８】
糖の水素化及び炭化質沈殿物を含む水素化触媒のインライン式再生のための方法であって：
液相又は気相において水と糖とを含む水溶液を、水素化触媒の存在下において水素化温度及び水素化圧力で水素と触媒反応させるステップと；
前記水溶液を洗浄媒体と置換するステップであって、前記洗浄媒体が液相にあるステップと；
前記水素化触媒を水素と接触させるステップと；
前記水素化触媒にわたり水素の流動を維持するステップと；
前記水素化触媒の圧力を、略大気圧ないし約３０００ｐｓｉのゲージ圧の範囲の再生圧力に調節するステップと；
前記水素化触媒の温度を、約２５０℃ないし約４００℃の範囲の再生温度に調節するステップであって、前記炭化質沈殿物が前記水素化触媒から除去され、水素化が再開可能なように前記水素化触媒が再生されるステップと；
前記水素化触媒を前記水素化温度及び前記水素化圧力に戻すステップと；
前記水溶液を、水素化触媒の存在下において前記水素化温度及び前記水素化圧力で水素と触媒反応させるステップと；
を具えることを特徴とする方法。
【請求項９】
請求項８に記載の方法において：
ａ）約１００℃未満の洗浄温度で、前記水素化触媒が前記洗浄媒体で洗浄されること；
ｂ）前記洗浄媒体が水、アルコール、ケトン、環状エーテル、水溶性の含酸素炭化水素、及びその任意の２以上の組合せからなる群から選択されること；あるいは
ｃ）前記水素化触媒が酸素のない環境を維持するように水素の存在下で洗浄されること；
を特徴とする方法。
【請求項１０】
請求項８に記載の方法において、前記水素化触媒の温度が１時間につき約２０℃ないし１時間につき約１００℃の割合で前記再生温度に調節され、更に：
（ｉ）前記再生温度が少なくとも約８時間維持され；
（ｉｉ）前記再生圧力の範囲が約６００ｐｓｉのゲージ圧ないし約１５００ｐｓｉのゲージ圧である；
ことを特徴とする方法。
【請求項１１】
請求項８に記載の方法において：
前記再生温度が約８時間維持されること；あるいは
前記再生圧力の範囲が約６００ｐｓｉのゲージ圧ないし約１５００ｐｓｉのゲージ圧であること；
を特徴とする方法。
【請求項１２】
請求項８に記載の方法において、前記炭化質沈殿物のうち約９８％が前記水素化触媒から除去されることを特徴とする方法。
【請求項１３】
請求項８に記載の方法において、前記水素化触媒が担体、ならびにＦｅ、Ｒｕ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｎｉ、Ｒｅ、Ｃｕ、その少なくとも２の合金、及びその少なくとも２の組合せからなる群から選択される触媒物質を含むことを特徴とする方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載の方法において：
ａ）前記水素化触媒がＡｇ、Ａｕ、Ｃｒ、Ｚｎ、Ｍｎ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ｍｏ、Ｗ、Ｂ、Ｐ、その少なくとも２の合金、及びその少なくとも２の組合せからなる群から選択される更なる触媒物質を更に含むこと；
ｂ）前記担体が窒化物、炭素、シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタニア、バナジア、セリア、窒化ホウ素、ヘテロポリ酸、珪藻土、ヒドロキシアパタイト、酸化亜鉛、クロミア、及びその少なくとも２の組合せからなる群から選択される材を含むこと；あるいは
ｃ）前記担体が炭素担体であり、前記水素化触媒が酸素のない環境を維持するように水素の存在下で洗浄されること；
を特徴とする方法。
【請求項１５】
単糖類の水素化及び炭化質沈殿物を含む水素化触媒のインライン式再生のための方法であって：
液相又は気相において水と単糖類とを含む水溶液を、水素化触媒の存在下において水素化温度及び水素化圧力で水素と触媒反応させるステップと；
前記水溶液を洗浄媒体と置換するステップであって、前記洗浄媒体が液相にあるステップと；
前記水素化触媒を水素と接触させるステップと；
前記水素化触媒にわたり水素の流動を維持するステップと；
前記水素化触媒の圧力を、略大気圧ないし約３０００ｐｓｉのゲージ圧の範囲の再生圧力に調節するステップと；
前記水素化触媒の温度を、約２５０℃ないし約４００℃の範囲の再生温度に調節するステップであって、前記炭化質沈殿物が前記水素化触媒から除去され、水素化が再開可能なように前記水素化触媒が再生されるステップと；
前記水素化触媒を前記水素化温度及び前記水素化圧力に戻すステップと；
前記水溶液を、水素化触媒の存在下において前記水素化温度及び前記水素化圧力で水素と触媒反応させるステップと；
を具えることを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月29日(2013.5.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
供給流れを受け入れる表面を有する逆浸透膜であって、逆浸透膜は、
（ａ）多孔質の支持体膜、
（ｂ）多孔質の支持体膜の上の弁別層であって、ポリアミンと多官能価の酸ハロゲン化物との界面重合生成物を含む弁別層、および
（ｃ）ハロゲンに曝露したときに可逆的に反応することによって逆浸透膜の表面上にハロアミンを形成する窒素含有種、
を含み、窒素含有種はポリアミン以外の供給源から誘導されたものである、前記逆浸透膜。
【請求項２】
窒素含有種は弁別層の中に含まれている、請求項１に記載の逆浸透膜。
【請求項３】
窒素含有種は弁別層にグラフトされている、請求項１に記載の逆浸透膜。
【請求項４】
窒素含有種は弁別層の上に被覆されている、請求項１に記載の逆浸透膜。
【請求項５】
逆浸透膜は弁別層の上に耐汚れ性の層をさらに含み、そして窒素含有種は耐汚れ性の層の中に含まれている、請求項１に記載の逆浸透膜。
【請求項６】
窒素含有種はアミン、イミド、スルホンアミド、ヒダントイン、イミダゾリジン-４-オン、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項１に記載の逆浸透膜。
【請求項７】
弁別層はナノ粒子をさらに含む、請求項１に記載の逆浸透膜。
【請求項８】
弁別層は、ポリアミンと、多官能価の酸ハロゲン化物と、流量を増大させる添加剤との界面重合生成物を含む、請求項１に記載の逆浸透膜。
【請求項９】
耐汚れ性の逆浸透膜を製造する方法であって、
（ａ）請求項１に記載の逆浸透膜を用意すること、および
（ｂ）逆浸透膜の表面をハロゲンを含む水性供給流れに曝露し、それによって逆浸透膜の表面上にハロアミンを形成すること、
を含む前記方法。
【請求項１０】
水性供給流れは塩素を含み、そしてハロアミンはクロラミンを含む、請求項９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月13日(2013.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
接触式清掃で用いるシートロールにおいて、
ロール芯と、
その上に取外可能に取着された少なくとも１枚の粘着シートとを具備し、
前記粘着シートの第１の側面が粘着性で、第２の側面がエンボス面を備え、該粘着シートがシリコーンを含んでおらず、前記少なくとも１枚の粘着シートが生物分解性でかつリサイクル可能であって、完成した粘着ロールが環境親和性を備えているシートロール。
【請求項２】
前記シートロールが、少なくとも２枚の粘着シートを具備し、該少なくとも２枚の粘着シートが、互いにそして前記ロール芯の周囲に巻付けられる請求項１に記載のシートロール。
【請求項３】
前記粘着シートは、エンボス面が個々の粘着シートの内側に面しており、該エンボス面がシリコーンを含んでいない請求項１または２に記載のシートロール。
【請求項４】
前記粘着シートが前記ロール芯上に取外可能に取着されている請求項１〜３の何れか１項に記載のシートロール。
【請求項５】
前記粘着シートが、熱可塑性ポリマーから形成した柔軟なフィルムである請求項１〜４の何れか１項に記載のシートロール。
【請求項６】
前記熱可塑性ポリマーが、分子量約150 - 270 kg mol-1のポリプロピレンである請求項５に記載のシートロール。
【請求項７】
前記粘着シートの少なくとも１枚または全てが、シート上に付着する接触面積を低減するエンボス面を備えている請求項１〜６の何れか１項に記載のシートロール。
【請求項８】
前記粘着シートに三次元的に規則的または不規則パターンでエンボス加工される請求項７に記載のシートロール。
【請求項９】
エンボス加工によって、前記フィルムの粘着剤への接触面積が５０％、６０％、７０％、８０％または９０％低減される請求項７または８に記載のシートロール。
【請求項１０】
前記粘着シートおよび／または粘着剤および／または剥離剤コーティングが帯電防止剤を含む請求項１〜９の何れか１項に記載のシートロール。
【請求項１１】
前記帯電防止剤は、０．１〜０．５重量％の濃度で使用されるイオン性塩類である請求項１０に記載のシートロール。
【請求項１２】
前記粘着シートおよび／または粘着剤および／または剥離剤コーティングが殺菌剤を含む請求項１〜１１の何れか１項に記載のシートロール。
【請求項１３】
前記殺菌剤は０．１〜０．５重量％添加される請求項１２に記載のシートロール。
【請求項１４】
シートロールを用いて汚染された表面から細片および／または汚染物質を除去する方法において、
ロール芯を準備し、
取外可能に前記ロール芯に取着された少なくとも１枚の粘着シートを準備し、
前記粘着シートの第１の側面が粘着性で、第２の側面がエンボス面を備え、該粘着シートがシリコーンを含んでおらず、前記少なくとも１枚の粘着シートが生物分解性でかつリサイクル可能であって、完成した粘着ロールが環境親和性を備えている方法。
【請求項１５】
汚染された表面の清掃における請求項１〜１３の何れか１項に記載のシートロールの使用。
【請求項１６】
ロール芯に取外可能に取着することができる粘着シートであって、前記粘着シートの第１の側面が粘着性で、第２の側面がエンボス面を備え、該粘着シートがシリコーンを含んでおらず、前記少なくとも１枚の粘着シートが生物分解性でかつリサイクル可能であって、完成した粘着ロールが環境親和性を備えている粘着シート。
【請求項１７】
接触式清掃に適したエンボス加工されたフィルムを形成する方法において、
エンボス胴を準備し、
該エンボス胴をフィルムに押圧し、
該エンボス胴をフィルムに押圧したときに、フィルムにエンボス加工されるようにした方法。
【請求項１８】
ワークを清掃する装置において、
清掃面を有した少なくとも１つの清掃ロールを具備し、
前記清掃ロールは、ワークに隣接させて回転自在に取付可能であり、
シートロールが、その上に取外可能に取着された少なくとも１枚の粘着シートであって、前記ワークに関して清掃ロールに隣接させて回転自在に取付けられた粘着剤の少なくとも１枚のシートを具備し、
前記粘着シートの第１の側面が粘着性で、第２の側面がエンボス面を備え、該粘着シートがシリコーンを含んでおらず、前記少なくとも１枚の粘着シートが生物分解性でかつリサイクル可能であって、完成した粘着ロールが環境親和性を備えている装置。
【請求項１９】
前記ワークが、プラスチックエレクトロニクス、光起電力技術、フラットパネルディスプレイを含む電子部品の製造に用いられる請求項１８に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月13日(2013.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
結晶沈殿化学反応器であって、媒体、上部と下部を持つ容器
容器の上部と下部に位置する固体廃棄ポート
容器上部付近に位置する廃水ポート、容器下部に位置し流入液ポート、容器下部の媒体と流体連通になっているリサイクル廃水ポートを有する結晶沈殿化学反応器。
【請求項２】
液体処理システムとこれを構成する媒体を含む結晶沈殿化学反応器、化学反応器を構成する上部と下部を持つ容器、容器の上部と下部の間に位置する固体廃棄ポート、容器上部付近に位置する廃水ポート、容器下部に位置し媒体と流体連通となっている流入液ポート、容器下部にあり媒体と流体連通となっているリサイクル廃水ポート、容器と接続しまた選択的にリサイクル廃水ポートと接続される媒体と流体連通となっている薬剤源、廃水ポートと流入液ポートが流体連通となっている懸濁固体粉砕装置。
【請求項３】
結晶沈殿化学反応器により液体を処理する方法であって、前記化学反応器は媒体の入った上部と下部を持つ容器からなり、その方法とは流入水を第一の管から化学反応器内の容器の下部付近に注入する、化学反応器内の容器の上部付近から懸濁固体粉砕装置に廃水する、リサイクル廃水を懸濁固体粉砕装置から第二の管を通して容器の下部に注入する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月25日(2013.6.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
触媒であって、
（Ａ）ランタノイド族、Ｍｇ、Ｃａおよび周期律表の４族の元素（Ｔｉ、ＺｒおよびＨｆ）から成る群より選択される少なくとも１種の元素、
（Ｂ）周期律表の１族の元素であるＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓおよび３族の元素（ＬａおよびＡｃを包含）および５−１５族の元素から成る群より選択される少なくとも１種の元素、
（Ｃ）１族の元素であるＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓおよび元素Ｃａ、ＳｒおよびＢａから成る群より選択される少なくとも１種の元素、および
（Ｄ）酸素、
を含有して成っていて周期律表の１族に属する元素が（Ｂ）で用いられている時にはそれが（Ｃ）で用いられることはあり得ない触媒。
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月30日(2013.5.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
好適なインジケータは、特許出願ＪＰ６０−２０１２５２に開示されたパラジウム系のエチレンインジケータを含む。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パラジウムドープされた水素ＺＳＭ−５の使用であって、
有機物質由来の揮発性有機化合物（ＶＯＣ）を吸着するものであり、
前記水素ＺＳＭ−５のＳｉ：Ａｌの比が、１００：１以下であり、
前記パラジウムドープされた水素ＺＳＭ−５が、１０ｖｏｌ％未満の酸素を含む環境で使用される、パラジウムドープされた水素ＺＳＭ−５の使用。
【請求項２】
前記水素ＺＳＭ−５のＳｉ：Ａｌの比は、２２：１〜２８：１である、請求項１に記載のパラジウムドープされた水素ＺＳＭ−５の使用。
【請求項３】
前記有機物質が腐敗しやすい有機物品である、請求項１または２に記載のパラジウムドープされた水素ＺＳＭ−５の使用。
【請求項４】
前記腐敗しやすい有機物品が(a)食品又は(b)園芸作物である、請求項３に記載のパラジウムドープされた水素ＺＳＭ−５の使用。
【請求項５】
前記食品が果物および／または野菜である、請求項４に記載のパラジウムドープされた水素ＺＳＭ−５の使用。
【請求項６】
前記園芸作物が、植物および／または切り花である、請求項４に記載のパラジウムドープされた水素ＺＳＭ−５の使用。
【請求項７】
前記有機物質が、ゴミを含んでなるものである、請求項１または２に記載のパラジウムドープされた水素ＺＳＭ−５の使用。
【請求項８】
前記有機物質が、貯蔵容器または包装に貯蔵されてなるものである、請求項１〜７のいずれか一項に記載のパラジウムドープされた水素ＺＳＭ−５の使用。
【請求項９】
前記揮発性有機化合物が、−１０℃〜５０℃の温度で吸着される、請求項１〜８のいずれか一項に記載のパラジウムドープされた水素ＺＳＭ−５の使用。
【請求項１０】
前記揮発性有機化合物が、(a)エチレン、或いは(b)ホルムアルデヒドおよび／または酢酸を含んでなるものである、請求項１〜９のいずれか一項に記載のパラジウムドープされた水素ＺＳＭ−５の使用。
【請求項１１】
前記パラジウムが、前記ドープされた水素ＺＳＭ−５の総重量を基準として０．１ｗｔ％〜１０．０ｗｔ％で含まれてなる、請求項１〜１０のいずれか一項に記載のパラジウムドープされた水素ＺＳＭ−５の使用。
【請求項１２】
前記環境が、調整された大気の環境または変更された大気の環境である、請求項１〜１１のいずれか一項に記載のパラジウムドープされた水素ＺＳＭ−５の使用。
【請求項１３】
前記酸素が、０．５ｖｏｌ％以上１０ｖｏｌ％未満で存在する、請求項１〜１２のいずれか一項に記載のパラジウムドープされた水素ＺＳＭ−５の使用。
【請求項１４】
前記揮発性有機化合物が、０．１０ｐｐｍ以下の水準で吸着される、請求項１〜１３のいずれか一項に記載のパラジウムドープされた水素ＺＳＭ−５の使用。
【請求項１５】
前記パラジウムドープされた水素ＺＳＭ−５を、空気中において、３０分間、２５０℃で加熱し、
前記パラジウムドープされた水素ＺＳＭ−５に吸着された揮発性有機化合物および存在する第２化合物を放出し、
それにより、更なる使用のためにパラジウムドープされた水素ＺＳＭ−５を再生するものである、請求項１〜１４のいずれか一項に記載のパラジウムドープされた水素ＺＳＭ−５の使用。
【請求項１６】
前記パラジウムドープされた水素ＺＳＭ−５が、ＶＯＣインジケータと共に使用される、請求項１〜１５のいずれか一項に記載のパラジウムドープされた水素ＺＳＭ−５の使用。
【請求項１７】
前記パラジウムドープされた水素ＺＳＭ−５が、
ラベルの形態、小袋の形態またはインクの形態であり、
触媒担体上またはその内部にコーティングされた形態であり、或いは
押出成形物、ペレット、錠剤、グレインまたはグラニュールの形態であり、或いは、
前記パラジウムドープされた水素ＺＳＭ−５が、包装物質内に挿入されてなるものである、請求項１〜１６のいずれか一項に記載のパラジウムドープされた水素ＺＳＭ−５の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月28日(2013.6.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プロトン励起Ｘ線分析により測定されたとき、１１〜９２の範囲の原子番号を有する成分を総不純物含量として５００ｐｐｍ未満の量で含み、または該総不純物含量は３００ｐｐｍ未満である、好ましくは２００ｐｐｍ未満である、より好ましくは１００ｐｐｍ未満である、さらにより好ましくは５０ｐｐｍ未満である、超高純度の合成アモルファス炭素材料。
【請求項２】
炭素材料の灰分が、プロトン励起Ｘ線分析データから算出されたとき０.０３％未満である、または灰分が０.０１％未満である、好ましくは０.００５％未満である、より好ましくは０．００１％未満である、請求項１に記載の炭素材料。
【請求項３】
請求項１に記載の炭素材料であって、
該炭素材料が、プロトン励起Ｘ線分析により測定されたとき、３ｐｐｍ未満の鉄を含有する、または１ｐｐｍ未満のニッケルを含有する、または５ｐｐｍ未満の硫黄を含有する、または１ｐｐｍ未満のクロムを含有する、または１ｐｐｍ未満の銅を含有する、炭素材料。
【請求項４】
炭素材料が、プロトン励起Ｘ線分析により測定されたとき、１００ｐｐｍ未満のナトリウム、３００ｐｐｍ未満のケイ素、５０ｐｐｍ未満の硫黄、１００ｐｐｍ未満のカルシウム、２０ｐｐｍ未満の鉄、１０ｐｐｍ未満のニッケル、１４０ｐｐｍ未満の銅、５ｐｐｍ未満のクロム、および５ｐｐｍ未満の亜鉛を含有する、請求項１または２に記載の炭素材料。
【請求項５】
炭素材料が、プロトン励起Ｘ線分析により測定されたとき、５０ｐｐｍ未満のナトリウム、５０ｐｐｍ未満のケイ素、３０ｐｐｍ未満の硫黄、１０ｐｐｍ未満のカルシウム、２ｐｐｍ未満の鉄、１ｐｐｍ未満のニッケル、１ｐｐｍ未満の銅、１ｐｐｍ未満のクロム、および１ｐｐｍ未満の亜鉛を含有する、請求項１に記載の炭素材料。
【請求項６】
炭素材料が、燃焼分析により測定されたとき、３.０％未満の酸素、０.１％未満の窒素、および０.５％未満の水素を含有する、請求項１に記載の炭素材料。
【請求項７】
炭素材料が、燃焼分析により測定されたとき、１.０％未満の酸素を含有する請求項１に記載の炭素材料。
【請求項８】
炭素材料が、熱分解された超高純度のポリマークリオゲルを含有する、請求項１に記載の炭素材料。
【請求項９】
炭素材料が、活性化された超高純度のポリマークリオゲルを含有する、請求項１に記載の炭素材料。
【請求項１０】
炭素材料が、少なくとも１００ｍ２／ｇのＢＥＴ比表面積を有する、または少なくとも５００ｍ２／ｇ、または少なくとも６００ｍ２／ｇ、または少なくとも８００ｍ２／ｇ、または少なくとも１０００ｍ２／ｇ、または少なくとも１２００ｍ２／ｇ、または少なくとも１５００ｍ２／ｇ、または少なくとも２０００ｍ２／ｇ、または少なくとも２４００ｍ２／ｇのＢＥＴ比表面積を有する、請求項１に記載の炭素材料。
【請求項１１】
炭素材料が、少なくとも０．５ｃｃ/ｇ、少なくとも０.７ｃｃ/ｇ、少なくとも１.０ｃｃ/ｇ、少なくとも１.４ｃｃ/ｇ、または少なくとも１.６ｃｃ/ｇ、の細孔容積を有する、請求項１に記載の炭素材料。
【請求項１２】
プロトン励起Ｘ線分析により測定されたとき、１１〜９２の範囲の原子番号を有する成分を総不純物含量として５００ｐｐｍ未満の量で含有し、炭素、水素、酸素を含有する超高純度のポリマーゲル。
【請求項１３】
超高純度のポリマーゲルが、プロトン励起Ｘ線分析により測定されたとき、１１〜９２の範囲の原子番号を有する成分を総不純物含量として２００ｐｐｍ未満の量で含有する、請求項１２に記載の超高純度のポリマーゲル。
【請求項１４】
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の炭素材料を有するデバイス。
【請求項１５】
デバイスが、下記のａ）〜ｃ）を含有する電気二重層キャパシタ（ＥＤＬＣ）デバイスである、請求項１４に記載のデバイス：
ａ）正極および負極であって、該正極および該負極の各々が超高純度の合成炭素材料を含有する該正極および該負極、
ｂ）不活性の多孔質セパレーター、および
ｃ）電解質、
ただし、該正極および該負極は、該不活性の多孔質セパレーターにより分離される。
【請求項１６】
デバイスが電池である、請求項１４に記載のデバイス。
【請求項１７】
デバイスが、リチウム/炭素電池、亜鉛/炭素電子、リチウム空気電池、および鉛酸電池である、請求項１６に記載のデバイス。
【請求項１８】
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の炭素材料を含有する電極。
【請求項１９】
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の炭素材料を調製するための方法であって、該方法が、揮発性の塩基性触媒の存在下、酸性条件下にて１種以上のポリマー前駆物質を反応させることにより、超高純度のポリマーゲルを得ることを含む、該方法。
【請求項２０】
ポリマー前駆物質がレソルシノールとホルムアルデヒドを含有し、酸性条件が酢酸と水を含有するか、または揮発性の塩基性触媒が、炭酸アンモニウム、重炭酸アンモニウム、酢酸アンモニウム、水酸化アンモニウムまたはそれらの組合せを含む、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
揮発性の塩基性触媒の存在下、酸性条件下にて１種以上のポリマー前駆物質を反応させることを含む、ポリマーゲルの製造方法。
【請求項２２】
ポリマー前駆物質がレソルシノールとホルムアルデヒドを含有し、酸性条件が酢酸と水を含有するか、または揮発性の塩基性触媒が、炭酸アンモニウム、重炭酸アンモニウム、酢酸アンモニウム、水酸化アンモニウムまたはそれらの組合せを含む、請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
１種以上のポリマー前駆物質、酸および揮発性の塩基性触媒を含有する組成物。
【請求項２４】
ポリマー前駆物質がレソルシノールとホルムアルデヒドであり、酸が酢酸であり、または揮発性の塩基性触媒が、炭酸アンモニウム、重炭酸アンモニウム、酢酸アンモニウム、水酸化アンモニウムまたはそれらの組合せである、請求項２３に記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月7日(2013.6.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
ガラスをバッチ配合し、溶融し、冷却する。冷却後、ガラスを約１０〜１５μｍ／−３２５メッシュに粉砕する。随意的に、必要に応じて、ガラスのＣＴＥを増加させるか、または減少させるために、ガラスに質量基準で必要なだけ不活性充填剤を加える。充填剤の例としては、ジルコニア、アルミナ、ジルコン、ベータ・ユークリプタイト、ベータ石英、およびベータ・スポジュメンが挙げられる。例えば、ジルコニアは、ガラスのＣＴＥを増加させるために使用できるのに対し、ベータ・ユークリプタイトは、ガラスのＣＴＥを減少させるために使用できる。ガラスと充填剤のブレンドは、ここではフリットブレンドとも称する。フリットブレンドは、８質量％まで、１０質量％まで、１２質量％まで、１５質量％まで、２０質量％まで、２２質量％まで、２５質量％まで、５０質量％まで、５５質量％までの充填剤を含んでよく、フリットブレンドの残りは、前述の段落に記載されたガラス組成である。得られたフリットブレンドは、３２５メッシュスクリーンに通して篩い分けされる。高温用途について、フリットブレンドは、１０質量％から６０質量％の充填剤、好ましくは１５質量％から５０質量％の充填剤を含有するであろう。低温用途について、フリットブレンドは、０質量％から２５質量％の充填剤を含有するであろう。ある実施の形態において、充填剤は必要ない。
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月2日(2013.5.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
統合エゼクタ弁アセンブリであって、
第１の入口ポートからの比較的圧力がより低い流体の流れを制御するように構成された第１の弁アセンブリと、
第２の入口ポートからの比較的圧力がより高い流体の流れを制御するように構成され、前記第１の弁アセンブリと同軸上に整列された第２の弁アセンブリと、
前記第１の弁アセンブリを閉じるように構成された第１の駆動室と、
前記第２の弁アセンブリを閉じるように構成された第２の駆動室と、
前記第２の弁アセンブリを開くように構成された第３の駆動室と、
前記比較的圧力がより低い流体の流れの増加を容易にするために、前記比較的圧力がより高い流体の流れを使用するように構成されたエゼクタと、
を備える統合エゼクタ弁アセンブリ。
【請求項２】
前記第１の弁アセンブリがポペット弁を備える、請求項１に記載のアセンブリ。
【請求項３】
前記第２の弁アセンブリがピントル弁を備える、請求項１に記載のアセンブリ。
【請求項４】
前記第１の駆動室内の圧力を制御するように構成された複数の通路を備える第１のマニホルドをさらに備える、請求項１に記載のアセンブリ。
【請求項５】
前記第２の駆動室と前記第３の駆動室の間の差圧を制御するように構成された複数の通路を備える第２のマニホルドをさらに備える、請求項１に記載のアセンブリ。
【請求項６】
前記第１の弁アセンブリが、前記統合エゼクタ弁アセンブリの出口の圧力を第１の所定の圧力範囲より高い圧力に維持するように構成され、前記第２の弁アセンブリが、前記統合エゼクタ弁アセンブリの前記出口の圧力を第２の所定の圧力範囲より高い圧力に維持するように構成され、前記第１の圧力範囲が前記第２の圧力範囲より高く、また、前記第１および第２の範囲が重畳していない、請求項１に記載のアセンブリ。
【手続補正書】
【提出日】平成25年4月19日(2013.4.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ロスト法金型上に、あるいは鉄およびスチール鋳造用のコアに金型被膜を生成するため
の、そのまま使用できる耐火性被覆剤であって、
該耐火性被覆剤が、質量基準の割合で表して、0.001％〜0.99％の無機中空体を含み、
該無機中空体の一部または全体が、結晶性材料からなることを特徴とする、前記そのまま使用できる耐火性被覆剤。
【請求項２】
前記無機中空体が、1,000℃またはそれ以上の軟化点を持つ、請求項1に記載の耐火性被覆剤。
【請求項３】
前記無機中空体が、
・シリケート；あるいは
・酸化物；あるいは
・炭化物；あるいは
・窒化物；または
・これら材料の混合物からなり、
あるいはこれら材料の無機中空体の混合物である、請求項1又は2に記載の耐火性被覆剤。
【請求項４】
前記無機中空体が、400μm未満の径を持つ中空ボールである、請求項1〜3の何れか1項に記載の耐火性被覆剤。
【請求項５】
前記無機中空体が、その3-次元構造の体積の15％またはそれ以上なる割合を占めるキャビティを持つ、請求項1〜4の何れか1項に記載の耐火性被覆剤。
【請求項６】
前記無機中空体が、10MPaまたはそれ以上の圧縮強さを持つ、請求項1〜5の何れか1項に記載の耐火性被覆剤。
【請求項７】
前記無機中空体が、10〜150μmなる範囲の外径を持つ中空ボールである、請求項1〜6の何れか1項に記載の耐火性被覆剤。
【請求項８】
前記無機中空体が、モース硬度スケールで、5〜6なる範囲の硬さを持つ、請求項1〜7の何れか1項に記載の耐火性被覆剤。
【請求項９】
前記無機中空体が、25MPaを越える圧縮強さを持つ、請求項1〜8の何れか1項に記載の耐火性被覆剤。
【請求項１０】
前記無機中空体が中空ボールであり、該中空ボールが、その全体積の70％またはそれ以上なる割合を占めるキャビティを持つ、請求項1〜9の何れか1項に記載の耐火性被覆剤。
【請求項１１】
前記無機中空体各々、その大部分またはその全体が、
・10〜150μmなる範囲の外径；
・前記中空ボール全体積の70％またはそれ以上なる割合を占めるキャビティ；
・1,200〜1,450℃なる範囲の軟化点；
・モース硬度スケールで、5〜6なる範囲の硬さ；および
・25MPaまたはそれ以上の圧縮強さ、
を持つ中空ボールである、請求項1〜10の何れか1項に記載の耐火性被覆剤。
【請求項１２】
前記無機中空体が、CAS-No. 93924-19-7(セノスフェア)に従う中空ボールであり、該中空ボールは、発電所における石炭の燃焼中に、フライアッシュの一部として生成され、またその廃ガス流から分離される、請求項1〜11の何れか1項に記載の耐火性被覆剤。
【請求項１３】
前記無機中空体が炭素からなり、あるいは炭素の無機中空体と、一種または複数の請求項3記載の材料の無機中空体との混合物である、請求項1に記載の耐火性被覆剤。
【請求項１４】
前記炭素の無機中空体が、炭素のナノ中空体を含む、請求項13記載の耐火性被覆剤。
【請求項１５】
請求項1〜14の何れか1項に記載の耐火性被覆剤の、鋳造において使用する金型またはコア上に被膜を生成するための使用。
【請求項１６】
鉄およびスチールを鋳造するための金型またはコアであって、
該金型または該コアが、その鋳造金属に面する表面上に、請求項1〜14の何れか1項に記載の耐火性被覆剤の乾燥生成物を含む、耐火性被覆剤をベースとする被膜を有し、
該耐火性被覆剤をベースとする該被膜の厚みが、0.05mmまたはそれ以上であることを特徴とする、前記鉄およびスチールを鋳造するための金型またはコア。
【請求項１７】
請求項16記載の金型またはコアの、鉄またはスチール製鋳物を製造するための使用。
【請求項１８】
請求項1〜14の何れか1項に記載のそのまま利用できる耐火性被覆剤を製造するための濃厚物であって、該濃厚物が、その全質量を基準として、以下の組成を持つことを特徴とする、前記濃厚物：
(a) 0.0011〜3.5％なる範囲の量の、部分的にまたは完全に結晶性材料からなる無機中空体；
(b) 20〜75％なる範囲の量の、前記(a)において規定されたような中空体ではない、1種または複数の耐火性または高度に耐火性の材料；
(c) 15〜80％なる範囲の量の、1種または複数の担体流体、例えば水；
(d) 0.1〜10％なる範囲の量の、1種または複数の懸濁剤、例えば水に対して膨潤性のクレー材料；
(e) 0.01〜0.6％なる範囲の量の、1種または複数の殺生物薬；
(f) 0〜4％なる範囲の量の、1種または複数の湿潤剤；
(g) 0〜2％なる範囲の量の、1種または複数の浮遊促進剤および/またはレオロジー添加剤；
(h) 0〜2％なる範囲の量の、1種または複数の結合剤。
【請求項１９】
請求項18記載の濃厚物から耐火性被覆剤を製造する方法であって、以下の諸工程：
・請求項15記載の濃厚物を製造または準備する工程；および
・請求項1〜11の何れか1項に記載のそのまま利用できる耐火性被覆剤を得ることのできる混合比にて、該濃厚物と水または他の担体流体とを混合する工程、
を含むことを特徴とする、前記方法。
【請求項２０】
金型またはコア上に耐火性被覆剤をベースとする被膜を製造する方法であって、以下の
諸工程を含むことを特徴とする前記方法：
・被覆すべき金型またはコアを製造または準備する工程；
・請求項1〜14の何れか1項に記載のそのまま利用できる耐火性被覆剤を準備し、あるいは請求項19記載の方法に従ってこのような耐火性被覆剤を製造する工程；および
・前記金型またはコア上に、前記そのまま利用できる耐火性被覆剤を、該耐火性被覆剤をベースとする被膜が、0.05mmまたはそれ以上の厚みを持つ被膜となるように、適用する工程。
【請求項２１】
前記耐火性被覆剤の適用が、前記金型またはコアの浸漬法、フラッディング法、噴霧法および塗布法からなる群から選択される方法によって行われる、請求項20記載の方法。
【請求項２２】
前記耐火性被覆剤の乾燥を、熱の適用またはマイクロ波輻射の適用により行う、請求項20または21記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月28日(2013.6.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
切削操作で使用するための切削要素であって、
−前記操作中にワークピースから材料を切り出し、その中にワークピース角角度αを形成できる切刃と、
−前記切刃の部分が、それぞれの接触点ＡおよびＢで前記切刃の前記部分に接して配向される第１の線および第２の線によって区切られ、その間に、前記ワークピース角の角度αに相当する切削角度を形成し、頂点Ｏを有する前記切刃の少なくとも１つの表示と、
−点Ｃで前記切刃の前記部分を交差する前記切削角度の二等分線と、
−前記１つの表示の前記平面に垂直に、前記頂点Ｏを通過する線ＯＬ上の前記切刃の前記部分の前記点Ｃの突出部Ｃ‘であって、前記線ＯＬ上の前記切刃の前記部分の前記それぞれの点ＡおよびＢの突出部Ａ’およびＢ‘の間に位置する突出部Ｃ‘と、
−正面、前記正面と反対の後面、少なくとも前記角度αの部分にて定義される少なくとも１つの側面を有する前記切削要素であって、少なくとも１つの側面が、前記角度αの少なくとも一部に定義される前記切削要素と、
−前記切刃を形成する前記正面および前記側面の間の前記交点と、
−前記点Ａであって、前記点Ｂが、前記角度αの反対の部分の前記側面および前記正面の間の前記交点上に位置しており、前記角度αの第１の部分の前記側面および前記正面の間の前記交点上に位置する前記点Ａと、
−前記切削要素の正面の表示に対応し、かつ、前記切削要素の側面の表示において、前記切刃を含む、前記切刃の前記１つの表示であって、前記点ＡおよびＢの内の１つが、他の前記点ＡおよびＢの内の１つとより近くなる、前記切刃の１つの表示と
を備える切削要素。
【請求項２】
前記切削操作中、前記切刃が、点Ａが最初に前記ワークピースに係合し、その後点Ｃ、およびその後初めて点Ｂが係合するように構成される、請求項１に記載の切削要素。
【請求項３】
前記切削要素の前記切刃が、傾斜面と起伏面との間の交差として画定され、前記切削要素が、前記切刃から、および前記切刃に沿って伸びる傾斜面の領域部分で切削ストリップを備えて形成され、かつ前記切刃に対して垂直方向の幅を有する、請求項１または２に記載の切削要素。
【請求項４】
前記切削ストリップは、点Ａ、Ｃ、およびＢを通過する前記切刃の前記角に沿って伸び、点ＡとＢの間に画定される前記切刃部分に沿って各点に変化する向きを有し、前記向きが、前記切削ストリップの法線方向により定義される、請求項３に記載の切削要素。
【請求項５】
前記切削ストリップが２つの部分的な捻り――前記切削要素の角の回りの捻り、およびそれ自体の回りの捻りを実行し、前記交線ＯＬに関して前記切削ストリップの前記表面の前記向きを変更する、請求項３または４に記載の切削要素。
【請求項６】
点Ａで、前記切削ストリップの前記向きが、前記切削要素が、前記交線ＯＬに垂直な切刃面に水平であるようにされ、点Ｃで、前記切削ストリップが、前記面に対して概して垂直であるようにそれ自体の回りで少なくとも部分的に捻られ、点Ｂで、前記面に概して水平に再び向くように曲がる、請求項５に記載の切削要素。
【請求項７】
前記切削要素が、穴あけインサート、またはその中に穴を形成するためにワークピースから材料が取り除かれる穴あけ操作を実行するために構成された穴あけ工具の切削部分によって構成され、前記切削要素が中心軸Ｘに沿っておよび中心軸Ｘの回りに伸び、前記中心軸の回りで伸びる周囲面および前記中心軸に垂直に配向される前面を有する本体と、前記前面に隣接する前記本体の端部に切削部分を備え、したがって前記切削部分が、前記本体の前記周囲面と、その前記正面との間の前記交差に画定され、前記角度αに相当する角度のある角を画定する切刃を備える、前記請求項１から６のいずれか１項に記載の切削要素。
【請求項８】
ワークピースからの小片の除去を含む切削操作を実行するために構成される切削部材であって、前記切削部材が、擬似起伏切削面と擬似傾斜面との間に画定される交線のある切削部分を有し、前記操作で前記切削部材の最大作動寸法を画定し、前記切削部材が１つまたはそれぞれが前記交線に横向きに配向される切刃を有する複数の切削要素を備えて形成される切削部材。
【請求項９】
前記１つまたは複数の切刃のそれぞれ、もしくはその仮想拡張部分が、交線を交差する、請求項８に記載の切削部材。
【請求項１０】
少なくとも２つの隣接する切削応訴の間に小片排出チャネルが形成される、請求項９に記載の切削部材。
【請求項１１】
前記溝および前記チャネルが、前記操作中に、前記切削部材によって取り除かれる前記小片の一方の部分が前記小片排出溝を通して排出され、他方の部分が前記切削要素間に形成される前記小片排出チャネルを通して排出される、請求項１０に記載の切削部材。
【請求項１２】
前記小片排出チャネルの少なくとも１つが、前記一体化した工具の中心軸に関して傾斜角度βで前記切削工具の回りに渦巻き状に伸び、一方、前記切刃の少なくとも１つが角度α≦β、特にα＜＜βによって前記中心軸に関して傾斜する、請求項１１に記載の切削部材。
【請求項１３】
前記切削部材によって前記ワークピースから取り除かれる小片が、前記小片排出チャネルを通して排出され、前記追加切刃によって前記ワークピースから取り除かれる前記そう片がそれ以外に排出される、請求項１２に記載の切削部材。
【請求項１４】
ワークピースから材料を取り除くために適応される切削部材であって、前記切削部材が第１のエンベロープ表面を画定する半径Ｒ１の湾曲した部分を有する第１の切刃、および第２のエンベロープ表面を画定する半径Ｒ２＜Ｒ１の湾曲した部分を有する第１の切刃を備えて形成される、ワークピースから材料を取り除くために適応された切削部材。
【請求項１５】
前記切削部材が、互いに曲げられる第１の表面と第２の表面との間をつなぐ半径Ｒ１の湾曲した部分を有する第１の切刃、前記切削工具の操作可能な方向に関して前記第１の切削部分の後方に連続して位置し、前記第１の表面に沿って伸び、半径Ｒ２＜Ｒ１の湾曲した部分を有する第２の切刃、および前記切削工具の操作可能な方向に関して前記第１の切削部分の後方に連続して位置し、前記第２の表面に沿って伸び、半径Ｒ３＜Ｒ１の湾曲した部分を有する第３の切刃を備えて形成される、請求項１４に記載の切削部材。
【請求項１６】
切削工具ホルダと、切削インサートと、前記切削インサートとは別個の小片破砕機とを備える切削工具切削工具であって、前記切削インサートが、それが前記小片破砕機と係合し、それによって支えられるように、前記切削工具ホルダの上に取り付けるために構成される、切削工具。
【請求項１７】
切削工具の切削工具ホルダの上に取り付けられるように適応された小片破砕機であって、前記小片破砕機が、前記切削工具ホルダを係合し、それによって支えられるために適合された第１の部分、および切削インサートを係合し、それを支えるために構成された第２の部分を有する、小片破砕機。
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月15日(2013.5.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多層押出品の層の向きが、前記層が積み重なった状態から互いに並んで配置された状態になるように変わり、それにより多重縞の押出品が成形されるように、前記層を回転させるためのダイ要素であって、
複数の入口スロットと、複数の出口スロットと、複数の回転したスロットキャビティと、を含み、
各入口スロット内に押出された押出品が、接続するスロットキャビティを通って１つの出口スロットから出てくるように、各入口スロットは１つのスロットキャビティを通って１つの出口スロットに接続され、
各入口スロットは入口長軸を有し、各出口スロットは出口長軸を有し、各スロットキャビティはキャビティ長軸を有し、
前記キャビティ長軸は、各出口スロットの前記出口長軸が、接続している入口スロットの前記入口長軸から角度をなして方向付けられ、かつ、前記出口スロットが、各出口長軸が他の出口長軸と互いに同一平面上になるように方向付けられるように回転している、ダイ要素。
【請求項２】
多重縞の押出品を製造する方法であって、
互いに積み重なった複数の層を有する多層押出品を用意する工程と、
前記多層押出品を複数の多層押出品部分に分離する工程であって、各多層押出品部分は互いに積み重なった層を有し、各多層押出品部分の各層は互いに反対側の側端を有する、工程と、
各多層押出品部分の層の互いに反対側の側端が、それぞれの対応する多重縞の押出品部分の互いに反対側の主表面を画定するように、各多層押出品部分の層の向きを、前記層が積み重なった状態から互いに並んで配置された状態になるように回転させることによって、多層押出品部分から複数の多重縞の押出品部分を成形する工程と、
前記複数の多重縞の押出品部分を、前記複数の多重縞の押出品部分の前記互いに反対側の主表面によって画定される、互いに反対側の主表面を有する単一の多重縞の押出品に結合する工程と、
複数の分離した入口と、複数の分離した出口と、複数の分離したキャビティとを有するダイ要素を用意する工程であって、前記分離した入口内に押出された押出品が前記分離した出口から複数の押出品部分の形状で出てくるように、分離した入口の各々が１つの分離したキャビティを通って１つの分離した出口に接続される、工程と、を含み、
前記分離する工程は、前記多層押出品が前記分離した出口から複数の多層押出品部分の形状で出てくるように、多層押出品を前記複数の分離した入口内に押出すことを含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月3日(2013.7.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７２】
一実施例によれば、誘導融着耐久性層（１３）は、乾燥重量で０．５〜７ｇ／ｍ２の、好ましくは０．５〜５ｇ／ｍ２の、さらに好ましくは０．５〜３ｇ／ｍ２の合計量にて施される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７３】
２つの部分層として施される場合には、各層は、０．３〜３．５ｇ／ｍ２の、好ましくは０．５〜２．５ｇ／ｍ２の量で適切に施され、この量により、比較的低量の液体ポリマー組成物から比較的高品質の全体層がもたらされ得る。さらに好ましくは、２つの部分層が、それぞれ０．５〜２ｇ／ｍ２の、好ましくは０．５〜１．５ｇ／ｍ２の量で施され得る。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月21日(2013.6.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フレーム上への第１のジェット射出アセンブリ及び第２のジェット射出アセンブリの取付けを可能にするための機構を有する装置において、前記機構が、
前記第１のジェット射出アセンブリ及び前記第２のジェット射出アセンブリが前記フレームに取り付けられたときに、一方の前記ジェット射出アセンブリの長さに沿うノズルの内の少なくともいくつかが他方の前記ジェット射出アセンブリの長さに沿うノズルの内の少なくともいくつかに対するあらかじめ定められたオフセットを有するように、前記第１のジェット射出アセンブリ及び前記第２のジェット射出アセンブリのそれぞれの位置を確立するために前記フレームに対してあらかじめ固定された、第１のアライメント基準及び第２のアライメント基準、及び
基板上への液体の射出を可能にするために、前記第１のジェット射出アセンブリ及び前記第２のジェット射出アセンブリの前記長さに沿う前記ノズルの全てを露出させる開口、
を有することを特徴とする装置。
【請求項２】
前記フレームが、「テフロン」とニッケルの均質混合物を含有する「テフロン」-ニッケルコーティングで被覆されることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記コーティングが約２μｍから約８μｍの厚さを有することを特徴とする請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記機構が前記ジェット射出アセンブリのための少なくとも１つの締結具も有することを特徴とする請求項１から３いずれか１項に記載の装置。
【請求項５】
前記機構が、前記第１のアライメント基準または前記第２のアライメント基準に対応する少なくとも１つの撓み素子も有することを特徴とする請求項１から４いずれか１項に記載の装置。
【請求項６】
前記締結具が、前記締結具を前記装置に固定するための部品及び前記ジェット射出アセンブリに力をかけるための弾性部品を有することを特徴とする請求項４に記載の装置。
【請求項７】
前記締結具がネジを含み、前記弾性部品がバネを含むことを特徴とする請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記締結具が前記ジェット射出アセンブリにトルクをかけないことを特徴とする請求項４から７いずれか１項に記載の装置。
【請求項９】
前記機構が、前記ジェット射出アセンブリの前記長さに垂直な方向に沿う前記ジェット射出アセンブリの相対位置を確立するための、別のアライメント基準も有することを特徴とする請求項１から８いずれか１項に記載の装置。
【請求項１０】
ジェット射出アセンブリを、射出方向にある基板上への前記ジェット射出アセンブリのノズルからの液体の射出を可能にするように、取り付けるための支持体、及び
少なくとも一点において前記支持体の高精度面に対して前記ジェット射出アセンブリを緊密に保持するために前記射出方向において前記ジェット射出アセンブリに力を印加する締結具であって、前記ジェット射出アセンブリの少なくとも一部の、前記射出方向に沿う軸を中心とするトルクを前記支持体にかけない、運動を可能にする締結具、
を備えることを特徴とする１から９いずれか１項に記載の装置。
【請求項１１】
前記締結具が、前記締結具の端と前記ジェット射出アセンブリの間に配置された弾性素子を含むことを特徴とする請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記弾性素子だけが、前記ジェット射出アセンブリと接触する前記締結具部分であることを特徴とする請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
前記締結具が、前記支持体に締結するための螺旋ねじ山を有することを特徴とする請求項１０から１２いずれか１項に記載の装置。
【請求項１４】
前記弾性素子が前記ジェット射出アセンブリに約２ポンド(０.９０７ｋｇ)から約１０ポンド(４.５３６ｋｇ)の力をかけることを特徴とする請求項１１または１２に記載の装置。
【請求項１５】
前記弾性素子が前記ジェット射出アセンブリに約５ポンド(２.２６８ｋｇ)の力をかけることを特徴とする請求項１１、１２または１４に記載の装置。
【請求項１６】
ジェット射出アセンブリをノズルからの液体の射出を可能にするように取り付けるための支持体であって、該支持体と前記ジェット射出アセンブリの第１の端との間に前記第１のアライメント基準を有する支持体、及び
前記支持体と前記ジェット射出アセンブリの第２の端の間の弾性シート金属撓み素子であって、前記ジェット射出アセンブリの長さに沿って前記アライメント基準に向かう力をかけるために、ベンドにおいて自由端に連結された締結端を有する撓み素子、
を備えることを特徴とする１から９いずれか１項に記載の装置。
【請求項１７】
液体を射出するジェット射出アセンブリを取り付けるための金属支持体、及び
前記金属支持体上にあって、熱伝導性及び電気伝導性であり、前記液体に対して化学的耐性を有する、コーティング、
を有し、
前記コーティングが、「テフロン」、ニッケル、窒化クロムニッケル、またはこれらの内の２つ以上の組合せを含むことを特徴とする１から９いずれか１項に記載の装置。