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【手続補正書】
【提出日】平成21年5月28日(2009.5.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）乃至（３）で表されるユニット全てを少なくとも部分構造として含む共重合体であり、
該共重合体における下記式（１）及び（２）で表されるユニットのユニット数基準の合計の含有割合が、
下記式（１）及び（２）で表されるユニット：その他のユニット
＝３：９７〜１５：８５
であって、
該共重合体における下記式（１）で表されるユニットと下記式（２）で表されるユニットとのユニット数基準の含有割合が、
下記式（１）で表されるユニット：下記式（２）で表されるユニット
＝５０：５０〜９５：５
であることを特徴とする荷電制御樹脂。
【化１】
2006309195.tif 000001
（式中、Ｒ１は水素原子、メチル基又はエチル基を表し、Ｒ２は炭素数１〜４のアルキル基を表す。）
【化２】
2006309195.tif 000002
（式中、Ｒ３は水素原子、メチル基又はエチル基を表す。）
【化３】
2006309195.tif 000003
【請求項２】
前記式（１）で表されるユニットにおいて、Ｒ１が水素原子であり、Ｒ２がメチル基であることを特徴とする請求項１に記載の荷電制御樹脂。
【請求項３】
前記共重合体が、下記式（４）で表されるユニットを部分構造として更に含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の荷電制御樹脂。
【化４】
2006309195.tif 000004
（式中、Ｒ４は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ５は置換基を有していても良い炭化水素基を表し、置換基としてはハロゲン、ＯＨ基、アミノ基からなる群から選ばれる官能基である。）
【請求項４】
前記共重合体が、少なくともスチレンと下記式（５）で表されるモノマーとを共重合して得られる共重合体のスルホン酸基又はスルホン酸塩基の一部を炭素数１〜４の炭化水素でエステル化することにより得られた共重合体であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の荷電制御樹脂。
【化５】
2006309195.tif 000005
（式中、Ｒ６は水素原子、メチル基又はエチル基を表し、Ｘは水素原子又は水素原子と１価の陽イオンの混合物を表す。）
【請求項５】
前記共重合体が、少なくともスチレンと前記式（５）で表されるモノマーとを共重合して得られる共重合体のスルホン酸基又はスルホン酸塩基の一部をオルトギ酸エステル類を用いてエステル化することにより得られた共重合体であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の荷電制御樹脂。
【請求項６】
前記共重合体が、示差走査熱量計により測定されるＤＳＣ曲線において、４５〜９０℃の範囲にガラス転移点を有することを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の荷電制御樹脂。
【請求項７】
前記共重合体のゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより算出した重量平均分子量が２０００〜２０００００の範囲にあることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の荷電制御樹脂。
【請求項８】
前記共重合体のゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより算出した重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）において、Ｍｗ／Ｍｎが１．０〜６．０の範囲にあることを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載の荷電制御樹脂。
【請求項９】
前記共重合体の酸価が、１〜４０ｍｇＫＯＨ／ｇであることを特徴とする請求項１乃至８のいずれかに記載の荷電制御樹脂。
【請求項１０】
少なくとも結着樹脂、着色剤、及び、荷電制御樹脂を含有するトナー粒子を有するトナーであって、
該荷電制御樹脂が下記式（１）乃至（３）で表されるユニット全てを少なくとも部分構造として含む共重合体であり、
該共重合体における下記式（１）及び（２）で表されるユニットのユニット数基準の合計の含有割合が、
下記式（１）及び（２）で表されるユニット：その他のユニット
＝３：９７〜１５：８５
であって、
該共重合体における下記式（１）で表されるユニットと下記式（２）で表されるユニットとのユニット数基準の含有割合が、
下記式（１）で表されるユニット：下記式（２）で表されるユニット
＝５０：５０〜９５：５
であることを特徴とするトナー。
【化６】
2006309195.tif 000006
（式中、Ｒ１は水素原子、メチル基又はエチル基を表し、Ｒ２は炭素数１〜４のアルキル基を表す。）
【化７】
2006309195.tif 000007
（式中、Ｒ３は水素原子、メチル基又はエチル基を表す。）
【化８】
2006309195.tif 000008
【請求項１１】
該荷電制御樹脂が請求項２乃至９のいずれかに記載の荷電制御樹脂であることを特徴とする請求項１０に記載のトナー。
【請求項１２】
前記トナーは、ワックスを含有しており、示差走査熱量計により測定されるトナーのＤＳＣ曲線において、昇温時に４５〜１３０℃の範囲に融解ピークを有することを特徴とする請求項１０又は１１に記載のトナー。
【請求項１３】
前記トナーは、結着樹脂１００質量部に対してワックスを０．５〜３０質量部含有することを特徴とする請求項１０乃至１２のいずれかに記載のトナー。
【請求項１４】
前記トナーは、フローテスターによる軟化点が８０〜１３５℃にあることを特徴とする請求項１０乃至１３のいずれかに記載のトナー。
【請求項１５】
前記トナーは、示差走査熱量計により測定されるトナーのＤＳＣ曲線において、４５〜７５℃の範囲にガラス転移点を有することを特徴とする請求項１０乃至１４のいずれかに記載のトナー。
【請求項１６】
前記トナーは、重量平均粒子径（Ｄ４）が３．０〜９．０μｍであることを特徴とする請求項１０乃至１５のいずれかに記載のトナー。
【請求項１７】
前記トナーは、平均円形度が０．９５５以上であることを特徴とする請求項１０乃至１６のいずれかに記載のトナー。
【請求項１８】
前記トナー中における前記荷電制御樹脂の含有量が、前記結着樹脂１００質量部に対して０．１〜２０質量部であることを特徴とする請求項１０乃至１７のいずれかに記載のトナー。
【請求項１９】
前記トナーは、該トナー粒子表面に無機微紛体を有していることを特徴とする請求項１０乃至１８のいずれかに記載のトナー。
【請求項２０】
前記無機微粉体は、個数平均１次粒径４〜８０ｎｍであり、疎水化処理された無機微粉体であることを特徴とする請求項１９に記載のトナー。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月13日(2009.3.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上にデルタ配列された複数の画素を有し、
前記画素の各々は、画素電極と、画素電極の電位を制御する回路とを有し、
前記画素電極の電位を制御する回路の各々は、スタティックメモリを有し、
前記画素電極の形状が八角形であることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
基板上にデルタ配列された複数の画素を有し、
前記画素の各々は、画素電極を備えた発光素子と、画素電極の電位を制御する回路とを有し、
前記画素電極の電位を制御する回路の各々は、スタティックメモリを有し、
前記画素電極の形状が八角形であることを特徴とする表示装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において、
前記画素電極の電位を制御する回路が、隣り合う画素電極間に設けられていることを特徴とする表示装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項において、
前記画素電極の電位を制御する回路に信号または電力を供給する配線として、前記画素電極に沿った配線を有することを特徴とする表示装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項において、
前記画素電極の角部の少なくとも一つは、丸みを帯びていることを特徴とする表示装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載の表示装置を用いた電子機器。
【請求項７】
請求項６において、
前記電子機器は、コンピュータ、カメラ、携帯情報端末装置、画像再生装置、時計、携帯電話機のいずれかであることを特徴とする電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月3日(2009.2.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、光の吸収により液晶配向能を生じる光配向性層を形成した後、該光配向性層に対して斜め方向から光を照射する液晶配向膜の製造方法であって、前記の光が、光ａ及び光ｂの２つの異なる向きを有する無偏光で平行光であり、
１）光ａ及び光ｂは、前記光配向性層に交わる部分を有し、
２）光ａ及び光ｂのなす角（方位角θ１）は、実質的に０°又は１８０°であり、
３）光ａ及び光ｂと光配向性層表面のなす角（極角θ２ａ、θ２ｂ）は、実質的に同一であり、
４）光ａ及び光ｂの光配向性層表面における光強度をＩａ及びＩｂとした場合、光強度ＩａとＩｂが実質的に同一である、光ａと光ｂを同時に前記光配向性層に対して照射し、光ａ及び光ｂが交わる部分で光配向を行うことを特徴とする液晶配向膜の製造方法。
【請求項２】
前記２）光ａ及び光ｂのなす角度（方位角θ１）が式（１）又は式（２）を満たす請求項１に記載の液晶配向膜の製造方法。
【数１】
2006309181.tif 000001
【数２】
2006309181.tif 000002
【請求項３】
前記３）光ａ及び光ｂと光配向性層表面とがなす角度（極角θ２ａ、θ２ｂ）が、式（３）及び式（４）を同時に満たす請求項１または２に記載の液晶配向膜の製造方法。
【数３】
2006309181.tif 000003
【数４】
2006309181.tif 000004
【請求項４】
前記４）光ａ及び光ｂの光配向性層表面における光強度Ｉａ、Ｉｂが式（５）を満たす請求項１〜３のいずれかに記載の液晶配向膜の製造方法。
【数５】
2006309181.tif 000005
【請求項５】
前記光ａ及び光ｂが、前記光配向性層に対する直接照射光である請求項１〜４のいずれかに記載の液晶配向膜の製造方法。
【請求項６】
透明基板表面上に光照射により液晶配向能が生じる光配向性重合性組成物層を形成した後、該透明基板表面に対し斜め方向から照射する光ａと、該透明基板表面に対し光ａの正反射方向から照射する光ｂとを同時に照射する、請求項５に記載の液晶配向膜の製造方法。
【請求項７】
前記基板が透明基板であり、前記光ａが、前記光配向性層に対する直接照射光であり、前記光ｂが、前記光配向性層を設けた側と反対側の透明基板面に対する直接照射光である請求項１〜６のいずれかに記載の液晶配向膜の製造方法。
【請求項８】
透明基板表面上に光照射により液晶配向能が生じる光配向性重合性組成物層を形成した後、該透明基板表面に対し斜め方向から照射する光ａと、該透明基板裏面に対し前記光ａと該透明基板面に線対称方向から照射する光ｂとを同時に照射する、請求項７に記載の液晶配向膜の製造方法。
【請求項９】
基板上に、光の吸収により液晶配向能を生じる光配向性層を形成した後、該光配向性層に対して斜め方向から、光ａと光ｂを同時に前記光配向性層に対して照射し、光ａ及び光ｂが交わる部分で光配向を行う（但し、前記光ａ及び前記光ｂは、２つの異なる向きを有する無偏光で平行光であり、
１）光ａ及び光ｂは、前記光配向性層に交わる部分を有し、
２）光ａ及び光ｂのなす角（方位角θ１）は、実質的に０°又は１８０°であり、
３）光ａ及び光ｂと光配向性層表面のなす角（極角θ２ａ、θ２ｂ）は、実質的に同一であり、
４）光ａ及び光ｂの光配向性層表面における光強度をＩａ及びＩｂとした場合、光強度ＩａとＩｂが実質的に同一である、を満たす）ことを特徴とする液晶配向膜のチルト角を減じる方法。
【請求項１０】
請求項１〜８に記載の製造方法により得た液晶配向膜を使用することを特徴とする液晶表示素子。
【請求項１１】
重合性液晶組成物を、配向機能を有する基板上に塗布し、配向させた状態で重合させて得られる光学異方体であって、前記配向機能を有する基板が、請求項１〜８のいずれかに記載の製造方法により得られた液晶配向膜を有する基板であることを特徴とする光学異方体。
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月2日(2009.2.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
前記式（１）で表わされる色素の具体例としては、特願２００５−１１０５３５号及び特願２００５−１２３０９２号各明細書に記載されたものが挙げられる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９６】
〔実施例３〕
実施例１で使用した超純水の代わりにイオン交換樹脂によるイオン交換水を用いた以外は、実施例１と同様な方法により、In-Cell型偏光子用組成物を得た。これを実施例３のIn-Cell型偏光子用組成物とする。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月4日(2009.3.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電流源と、第１乃至第３の配線と、第１及び第２の表示素子と、第１及び第２のトランジスタとを有し、
前記第１のトランジスタのソースとドレインのうち一方は、前記第１の配線を介して前記電流源と電気的に接続され、
前記第１のトランジスタのソースとドレインのうち他方は、前記第２の配線と電気的に接続され、
前記第１のトランジスタのゲートは、前記第１のトランジスタのドレインと電気的に接続され、
前記第１の表示素子の一方の端子は、前記第１のトランジスタのソースとドレインのうち他方と電気的に接続され、
前記第２のトランジスタのソースとドレインのうち一方は、前記第３の配線と電気的に接続され、
前記第２のトランジスタのソースとドレインのうち他方は、前記第２の表示素子の一方の端子と電気的に接続され、
前記第２の表示素子の他方の端子は、前記第１の表示素子の他方の端子と電気的に接続され、
前記電流源から、前記第１の表示素子に電流を供給したとき、前記第１の配線に現れる電位に基づく電位が、前記第３の配線に供給され、
前記電流源から、前記第１の表示素子に電流を供給したとき、前記第１及び第２の配線に現れる電位に基づく信号が、前記第２のトランジスタのゲートに入力されることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
電流源と、第１乃至第３の配線と、サンプリング回路と、第１及び第２の表示素子と、第１及び第２のトランジスタとを有し、
前記第１のトランジスタのソースとドレインのうち一方は、前記第１の配線を介して前記電流源と電気的に接続され、
前記第１のトランジスタのソースとドレインのうち他方は、前記第２の配線と電気的に接続され、
前記第１のトランジスタのゲートは、前記第１のトランジスタのドレインと電気的に接続され、
前記第１の表示素子の一方の端子は、前記第１のトランジスタのソースとドレインのうち他方と電気的に接続され、
前記第２のトランジスタのソースとドレインのうち一方は、前記第３の配線と電気的に接続され、
前記第２のトランジスタのソースとドレインのうち他方は、前記第２の表示素子の一方の端子と電気的に接続され、
前記第２の表示素子の他方の端子は、前記第１の表示素子の他方の端子と電気的に接続され、
前記電流源から、前記第１の表示素子に電流を供給したとき、前記第１及び第２の配線に現れる電位が前記サンプリング回路に保持され、
前記サンプリング回路に保持された、前記第１の配線に現れる電位に基づく電位が、前記第３の配線に供給され、
前記サンプリング回路に保持された、前記第１及び第２の配線に現れる電位に基づく信号が、前記第２のトランジスタのゲートに入力されることを特徴とする表示装置。
【請求項３】
電流源と、第１乃至第３の配線と、デジタルアナログ変換回路と、第１及び第２の表示素子と、第１及び第２のトランジスタとを有し、
前記第１のトランジスタのソースとドレインのうち一方は、前記第１の配線を介して前記電流源と電気的に接続され、
前記第１のトランジスタのソースとドレインのうち他方は、前記第２の配線と電気的に接続され、
前記第１のトランジスタのゲートは、前記第１のトランジスタのドレインと電気的に接続され、
前記第１の表示素子の一方の端子は、前記第１のトランジスタのソースとドレインのうち他方と電気的に接続され、
前記第２のトランジスタのソースとドレインのうち一方は、前記第３の配線と電気的に接続され、
前記第２のトランジスタのソースとドレインのうち他方は、前記第２の表示素子の一方の端子と電気的に接続され、
前記第２の表示素子の他方の端子は、前記第１の表示素子の他方の端子と電気的に接続され、
前記電流源から、前記第１の表示素子に電流を供給したとき、前記第１及び第２の配線に現れる電位が前記デジタルアナログ変換回路に入力され、
前記電流源から、前記第１の表示素子に電流を供給したとき、前記第１の配線に現れる電位に基づく電位が、前記第３の配線に供給され、
前記デジタルアナログ変換回路において、前記第１の配線に現れる電位と、前記第２の配線に現れる電位とを、それぞれ最大出力、最小出力とする信号が生成され、前記第２のトランジスタのゲートに入力されることを特徴とする表示装置。
【請求項４】
電流源と、第１乃至第３の配線と、サンプリング回路と、デジタルアナログ変換回路と、第１及び第２の表示素子と、第１及び第２のトランジスタとを有し、
前記第１のトランジスタのソースとドレインのうち一方は、前記第１の配線を介して前記電流源と電気的に接続され、
前記第１のトランジスタのソースとドレインのうち他方は、前記第２の配線と電気的に接続され、
前記第１のトランジスタのゲートは、前記第１のトランジスタのドレインと電気的に接続され、
前記第１の表示素子の一方の端子は、前記第１のトランジスタのソースとドレインのうち他方と電気的に接続され、
前記第２のトランジスタのソースとドレインのうち一方は、前記第３の配線と電気的に接続され、
前記第２のトランジスタのソースとドレインのうち他方は、前記第２の表示素子の一方の端子と電気的に接続され、
前記第２の表示素子の他方の端子は、前記第１の表示素子の他方の端子と電気的に接続され、
前記電流源から、前記第１の表示素子に電流を供給したとき、前記第１及び第２の配線に現れる電位が前記サンプリング回路に保持され、
前記サンプリング回路に保持された、前記第１の配線に現れる電位に基づく電位が、前記第３の配線に供給され、
前記サンプリング回路に保持された、前記第１及び第２の配線に現れる電位が前記デジタルアナログ変換回路に入力され、
前記デジタルアナログ変換回路において、前記第１の配線に現れる電位と、前記第２の配線に現れる電位とを、それぞれ最大出力、最小出力とする信号が生成され、前記第２のトランジスタのゲートに入力されることを特徴とする表示装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一において、
前記第１のトランジスタと前記第２のトランジスタは、同極性であることを特徴とする表示装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一において、
前記第１のトランジスタのチャネル幅、及びチャネル長は、前記第２のトランジスタのチャネル幅、及びチャネル長と同一、もしくはその近傍であることを特徴とする表示装置。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一において、
前記第１の表示素子の形状は、前記第２の表示素子の形状と同一、もしくはその近傍であることを特徴とする表示装置。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか一において、
前記第１及び第２のトランジスタは、前記第１及び第２の表示素子と同一基板上に形成されていることを特徴とする表示装置。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のいずれか一において、
前記第１及び第２の表示素子は、発光素子を有することを特徴とする表示装置。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項９のいずれか一に記載の表示装置を具備していることを特徴とする表示モジュール。
【請求項１１】
請求項１０に記載の表示モジュールと、操作キーとを具備したことを特徴とする電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月24日(2009.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一定ピッチを有してマトリックス形態に配列された複数個の段差パターンを含む基板を準備する工程と、
前記基板に液体物質を吐出するインクジェットヘッド部の前記基板に対する相対移動方向と、前記マトリックス形態の配列の第１方向とのなす角度が０゜よりは大きくて９０゜よりは小さな角度を成しながら、前記インクジェットヘッド部から前記基板上に前記液体物質を吐出して前記基板の上面を覆う膜を形成する工程とを含むことを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記基板をステージ上に配置し、該ステージを、前記インクジェットヘッド部が固定され前記第１方向が前記ステージの移動方向と平行ではない前記インクジェットヘッド部を通りすぎるように移動させる工程をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の表示装置の製造方法。
【請求項３】
液晶表示装置の染み縞模様発生は、前記基板上の段差パターン内での規則的に交互に発生する前記液体物質の過剰及び前記液体物質の不足の発生を防止することによって防止されることを特徴とする請求項１に記載の表示装置の製造方法。
【請求項４】
膜を形成するための装置であって、
マトリックス形態に配列された複数個の薄膜トランジスタアレイが備えられた基板が配置され該基板を第１方向に移動させるステージと、
前記ステージ上部に位置して前記基板上に液体物質を吐出するインクジェットヘッド部とを含み、
該インクジェットヘッド部の前記基板に対する相対移動方向と、前記薄膜トランジスタアレイの一方向とのなす角度が０゜よりは大きくて９０゜よりは小さな角度を成すようにすることを特徴とする膜形成装置。
【請求項５】
前記インクジェットヘッド部は、複数個のノズルを備えたブロック形態のヘッドを少なくとも一つ含むことを特徴とする請求項４に記載の膜形成装置。
【請求項６】
前記インクジェットヘッドのノズルの間のピッチは、前記薄膜トランジスタアレイの一方向に沿って一定ピッチに配列された複数個の段差パターンのピッチより大きいことを特徴とする請求項５に記載の膜形成装置。
【請求項７】
前記膜は、配向膜であることを特徴とする請求項４に記載の膜形成装置。
【請求項８】
マトリックス形態に配列された複数個の薄膜トランジスタアレイが備えられた基板が配置され該基板を第１方向に移動させるステージと、
前記ステージ上部に位置して前記基板上に配向膜用溶液を吐出するインクジェットヘッド部とを含み、
前記インクジェットヘッド部の前記基板に対する相対移動方向と、前記薄膜トランジスタアレイの一方向とのなす角度が０゜よりは大きくて９０゜よりは小さな角度を成すようにすることを特徴とする配向膜形成装置。
【請求項９】
前記インクジェットヘッド部は、複数個のノズルを備えたブロック形態のヘッドを少なくとも一つ含むことを特徴とする請求項８に記載の配向膜形成装置。
【請求項１０】
前記インクジェットヘッドのノズルの間のピッチは、前記薄膜トランジスタアレイの一方向に沿って一定ピッチに配列された複数個の段差パターンのピッチより大きいことを特徴とする請求項９に記載の配向膜形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】表示装置の製造方法及びこれに使用される膜形成装置並びに配向膜形成装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、表示装置の製造方法及びこれに使用される膜形成装置並びに配向膜形成装置に関し、さらに詳細には、インクジェット方式を用いて配向膜を形成する表示装置の製造方法及びこれに使用される膜形成装置並びに配向膜形成装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
そこで、本発明は上記従来のインクジェット方式による配向膜形成方法における問題点に鑑みてなされたものであって、本発明の目的は、表示パネルの縞模様染み発生を防止できる表示装置の製造方法を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、前記表示パネルの縞模様染み発生を防止できる膜形成装置及び配向膜形成装置を提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明に係る表示装置の製造方法及びこれに使用される膜形成装置並びに配向膜形成装置によれば、現在常用されており基板に形成された段差パターンのピッチより大きいピッチのノズルを備えるインクジェット方式の配向膜形成装置に対し実質的な変更なしでも基板上に発生する縞模様染みを防止できるという効果がある。従って、液晶表示装置を低廉な生産費用で製造できる。
さらに、段差パターンを含む基板の場合でも均一な厚さを持つ配向膜が形成されるようにできるという効果がある。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
次に、本発明に係る表示装置の製造方法及びこれに使われる配向膜形成装置を実施するための最良の形態の具体例を図面を参照しながら説明する。
図２は、本発明の一実施形態による配向膜形成装置に対する概略的な構成図である。図２を参照すれば、本発明の一実施形態によるによる配向膜形成装置１００は、ステージ１１０、インクジェットヘッド部１２０、配向膜用溶液供給部１３０及び配向膜用溶液供給管１４０を含む。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月26日(2009.3.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明なシート状基材の少なくとも一方の面に、樹脂バインダー中に樹脂粒子を分散させた光拡散層を設けた光拡散フィルムであって、前記樹脂バインダーは、アクリルポリオールがポリイソシアネートで架橋された共重合体であって、水酸基を有するアクリルモノマー単位を１〜５０質量％含有し、かつ前記樹脂粒子がアクリルポリオールとポリイソシアネートとの架橋反応の触媒となる硬化触媒を含有しているアクリルウレタン樹脂粒子である事を特徴とする光拡散フィルム。
【請求項２】
前記ポリイソシアネートのアクリルポリオール中の水酸基に対する当量比（ＮＣＯ／ＯＨ）は、０．７〜３．０である請求項１に記載の光拡散フィルム。
【請求項３】
前記アクリルポリオールの水酸基価は２５〜５００である請求項１または２に記載の光拡散フィルム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、特定の樹脂バインダーと樹脂粒子を用いることにより光拡散層面の耐擦傷性を高め、光拡散層から樹脂粒子が脱落し難い光拡散フィルムを見いだした。
すなわち本発明は、透明なシート状基材の少なくとも一方の面に、樹脂バインダー中に樹脂粒子を分散させた光拡散層を設けた光拡散フィルムであって、前記樹脂バインダーは、アクリルポリオールがポリイソシアネートで架橋された共重合体であって、水酸基を有するアクリルモノマー単位を１〜５０質量％含有し、かつ前記樹脂粒子がアクリルポリオールとポリイソシアネートとの架橋反応の触媒となる硬化触媒を含有しているアクリルウレタン樹脂粒子である事を特徴とする光拡散フィルムを提供する。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月4日(2009.3.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第２主点がビーム入射側前方に位置する光路短縮型前側アレイレンズと第１主点がビーム射出側後方に位置する光路短縮型後側アレイレンズと集光レンズとを備え、更に前記前側アレイレンズの第２主点と前記後側アレイレンズの第１主点との間隔を前記後側アレイレンズの焦点距離としたことを特徴とするビームホモジナイザ。
【請求項２】
第２主点がビーム入射側前方に位置する光路短縮型前側アレイレンズと光路非短縮型後側アレイレンズと集光レンズとを備え、更に前記前側アレイレンズの第２主点と前記後側アレイレンズの第１主点との間隔を後側アレイレンズの焦点距離としたことを特徴とするビームホモジナイザ。
【請求項３】
光路非短縮型前側アレイレンズと第１主点がビーム射出側後方に位置する光路短縮型後側アレイレンズと集光レンズとを備え、更に前記前側アレイレンズの第２主点と前記後側アレイレンズの第１主点との間隔を前記後側アレイレンズの焦点距離としたことを特徴とするビームホモジナイザ。
【請求項４】
前記光路短縮型前側アレイレンズは、合成アレイレンズ又は両面に曲面を持つアレイレンズであって、
前記合成アレイレンズは、２枚以上のアレイレンズで構成され、各アレイレンズがシリンドリカルレンズアレイ又はフライレンズアレイであり、
前記両面に曲面を持つアレイレンズは、前方及び後方の両面に曲面を持つシリンドリカルレンズアレイ、フライアイレンズ、又はクロスドシリンドリカルレンズアレイのいずれかである請求項１又は２に記載のビームホモジナイザ。
【請求項５】
前記光路短縮型後側アレイレンズは、合成アレイレンズ又は両面に曲面を持つアレイレンズであって、
前記合成アレイレンズは、２枚以上のアレイレンズで構成され、各アレイレンズがシリンドリカルレンズアレイ又はフライアイレンズであり、
前記両面に曲面を持つアレイレンズは、前方及び後方の両面に曲面を持つシリンドリカルレンズアレイ、フライアイレンズ、又はクロスドシリンドリカルレンズアレイのいずれかである請求項１又は３に記載のビームホモジナイザ。
【請求項６】
前記光路非短縮型後側アレイレンズを構成するアレイレンズは、シリンドリカルレンズアレイ又はフライアイレンズである請求項２に記載のビームホモジナイザ。
【請求項７】
前記光路非短縮型前側アレイレンズを構成するアレイレンズは、シリンドリカルレンズアレイ又はフライアイレンズである請求項３に記載のビームホモジナイザ。
【請求項８】
前記集光レンズは、シリンドリカルレンズ、トーリックレンズ又はクロスドシリンドリカルレンズである請求項１ないし７のいずれか１項に記載のビームホモジナイザ。
【請求項９】
前記光路短縮型前側アレイレンズは、それぞれ一方の面に曲面を有する２個のアレイレンズで構成され、
前記２個のアレイレンズは、前方アレイレンズの曲面が凸型、後方アレイレンズの曲面が凹型である請求項１、２、又は４に記載のビームホモジナイザ。
【請求項１０】
前記光路短縮型後側アレイレンズは、それぞれ一方の面に曲面を有する２個のアレイレンズで構成され、
前記２個のアレイレンズの前方アレイレンズの曲面が凹型、後方アレイレンズの曲面が凸型である請求項１、３、又は５に記載のビームホモジナイザ。
【請求項１１】
前記２個のアレイレンズは、それぞれ他方の面が向かい合って配置される請求項９又は１０に記載のビームホモジナイザ。
【請求項１２】
前記２個のアレイレンズは、いずれもシリンドリカルレンズである請求項９ないし１１のいずれか１項に記載のビームホモジナイザ。
【請求項１３】
前記２個のアレイレンズは、いずれもフライアイレンズである請求項９ないし１１のいずれか１項に記載のビームホモジナイザ。
【請求項１４】
請求項１ないし１３のいずれか１項に記載のビームホモジナイザにより短辺方向又は長辺方向のいずれか１方向のエネルギー密度分布を均一化し、更に残る他の方向のエネルギー密度分布も均一化し、両方向のエネルギー密度分布の均一化された照射ビームを投影する照射面を設置するステージとを具備したレーザ照射装置。
【請求項１５】
請求項１ないし１３のいずれか１項に記載のビームホモジナイザにより短辺方向及び長辺方向の両方向のエネルギー密度分布を均一化し、その両方向のエネルギー密度分布の均一化された照射ビームを投影する照射面を設置するステージとを具備したレーザ照射装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月29日(2009.5.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ファイバ・オプティック・ケーブルを保護するためのモジュラ機構であって、
内側部材と、
前記ファイバ・オプティック・ケーブルを受けるための、前記内側部材を貫通する開口と、
前記内側部材を受けて且つ保持するための外側コンテナ部材と
を含み、
前記内側部材と前記外側コンテナ部材とが、前記ファイバ・オプティック・ケーブルの曲率半径を制限するために相互干渉を生じるように予め定められた形状の部分を夫々有し、
前記外側コンテナ部材が１対の係合用の対の外側部材を含み、且つ複数のモジュラ機構が前記対の外側部材で以って互いに真直ぐな剛性部分を構成するよう端部同士で突き合わせされて結合されている、前記モジュラ機構。
【請求項２】
前記内側部材及び前記外側コンテナ部材が成型工程によって形成される、請求項１に記載のモジュラ機構。
【請求項３】
前記内側部材及び前記外側コンテナ部材の各々が、選択された電気的な絶縁材料及びその中に導電性材料が挿入されてなる単一の成型部材である、請求項１に記載のモジュラ機構。
【請求項４】
前記絶縁材料がプラスティック材料である、請求項３に記載のモジュラ機構。
【請求項５】
前記導電性材料が、メタル・ファイバ、カーボン・ファイバ、及びフェライト・コア材料から選択された材料を含む、請求項３に記載のモジュラ機構。
【請求項６】
前記内側部材が、前記外側コンテナ部材とともに前記干渉面を生じるように、前記予め定められた形状の部分を有する細長いシリンダ部分と少なくとも一つの太い端部とを含む、請求項１に記載のモジュラ機構。
【請求項７】
前記外側コンテナ部材の前記係合用の対の夫々が、前記内側部材の前記細長いシリンダ部分と前記少なくとも一つの太い端部とを受けるための、対応する内部の凹部を含む、請求項６に記載のモジュラ機構。
【請求項８】
前記外側コンテナ部材の前記係合用の対が、前記内側部材上に置かれ、且つ互いに押し嵌め係合で結合されている、請求項７に記載のモジュラ機構。
【請求項９】
前記ファイバ・オプティック・ケーブルが、その長さに沿う選択された領域で完全に内包されている、請求項１に記載のモジュラ機構。
【請求項１０】
前記ファイバ・オプティック・ケーブルが、該ファイバ・オプティック・ケーブルの長さに沿って完全に内包されている、請求項１に記載のモジュラ機構。
【請求項１１】
ファイバ・オプティック・ケーブルを保護するためのモジュラ機構であって、
内側部材と、
前記ファイバ・オプティック・ケーブルを受けるための、前記内側部材を貫通する開口と、
前記内側部材を受けて且つ保持するための外側コンテナ部材と
を含み、
前記内側部材と前記外側コンテナ部材とが、ファイバ・オプティック・ケーブルの曲率半径を制限するために、相互干渉を生じるように予め定められた形状の部分を夫々有し、
前記外側コンテナ部材が係合用の対の外側部材を含み、前記外側部材が複数のリブの端部を有し、前記複数のリブによって次の外側コンテナ部材のリブと端部同士で相互にロック係合する、前記モジュラ機構。
【請求項１２】
前記内側部材及び前記対の外側部材が、ファイバ・オプティック・ケーブルを保護するに足る強度を有する選択された材料からなる成型部材である、請求項１１に記載のモジュラ機構。
【請求項１３】
前記外側コンテナ部材が、電磁（ＥＭＩ）シールドを提供するように選択された材料中に挿入されたメタル・ファイバまたはカーボン・ファイバで以って形成されている、請求項１２に記載のモジュラ機構。
【請求項１４】
フェライト・コア材料が、ＥＭＩシールドを提供するように前記外側部材の内部空洞部分に挿入されている、請求項１２に記載のモジュラ機構。
【請求項１５】
前記内側部材が、シャシーまたは回路ボードに装着するためのねじ部材を有している、請求項１１に記載のモジュラ機構。
【請求項１６】
前記内側部材及び前記外側コンテナ部材がＥＭＩシールド及びアースを提供するために導電性に形成されている、請求項１１記載のモジュラ機構。
【請求項１７】
ＥＭＩシールド及びアースを提供するために、フェライト・コア部材が前記外側部材とともに形成される、請求項１１記載のモジュラ機構。
【請求項１８】
ファイバ・オプティック・ケーブルを保護するためのモジュラ機構を使用する方法であって、
前記ファイバ・オプティック・ケーブルを受けるための、前記内側部材を貫通する開口を備える前記モジュラ機構の内部部材を形成すること、
前記内側部材を受けて且つ保持するための外側コンテナ部材を用意すること、
前記ファイバ・オプティック・ケーブルの曲率半径を制限するために、相互干渉を生じるように前記内側部材及び前記外側コンテナ部材の予め定められた形状の部分を夫々定義すること、
係合用の対の外側部材を用意して前記外側コンテナ部材を定義すること、及び次の外側コンテナ部材のリブと端部同士で相互にロック係合するための複数のリブを備える前記外部部材の端部を定義すること
を含む、前記方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月2日(2009.4.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ゲート配線及びデータ配線によって囲まれた領域に形成された液晶キャパシタと、
前記ゲート配線にゲート電圧が印加され活性化されることによって、前記データ配線に印加されたデータ電圧を前記液晶キャパシタに伝達するスイッチング素子と、
前記液晶キャパシタに連結されたストレージキャパシタと、
インパルスゲート信号を伝達するインパルスゲート配線と、
前記インパルスゲート配線にインパルスゲート信号が印加され活性化されることによって、共通電圧を前記液晶キャパシタに伝達し、更に前記ストレージキャパシタに伝達するインパルス駆動素子と、を有することを特徴とする表示パネル。
【請求項２】
前記インパルス駆動素子は、前記インパルスゲート配線に電気的に連結されたゲート電極、前記ストレージキャパシタにインパルス電圧を印加するための共通配線に電気的に連結されたソース電極、及び前記液晶キャパシタ及びストレージキャパシタに電気的に連結されたドレイン電極を有することを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
【請求項３】
ゲート配線及びデータ配線によって囲まれた領域に形成された液晶キャパシタと、
前記ゲート配線が活性化されることによって、前記データ配線に印加されたデータ電圧を前記液晶キャパシタに伝達するスイッチング素子と、
前記液晶キャパシタに連結されたストレージキャパシタと、
インパルスゲート信号を伝達するインパルスゲート配線と、
前記データ配線と平行で、インパルスデータ電圧が印加されるインパルス配線と、
前記インパルスゲート配線が活性化されることによって、前記インパルスデータ電圧を前記液晶キャパシタに伝達するインパルス駆動素子と、を有することを特徴とする表示パネル。
【請求項４】
前記インパルス駆動素子は、前記インパルスゲート配線に電気的に連結されたゲート電極、前記インパルスデータ配線に電気的に連結されたソース電極、及び前記液晶キャパシタに電気的に連結されたドレイン電極を有することを特徴とする請求項３に記載の表示パネル。
【請求項５】
ゲート配線、データ配線、及び電源電圧配線に囲まれた領域に形成され、共通電圧配線と電気的に連結される有機電界発光素子と、
インパルスゲート信号を伝達するインパルスゲート配線と、
前記有機電界発光素子を駆動させる駆動素子と、
前記ゲート配線にゲート電圧が印加され活性化されることによって、前記データ配線に印加されたデータ電圧を前記駆動素子に伝達するスイッチング素子と、
前記インパルスゲート配線にインパルスゲート信号が印加され活性化されることによって、前記有機電界発光素子に印加された共通電圧を前記駆動素子に伝達するインパルス駆動素子と、を有することを特徴とする表示パネル。
【請求項６】
前記インパルス駆動素子は、前記インパルスゲート配線に電気的に連結されたゲート電極、前記有機電界発光素子に連結された共通電圧配線に電気的に連結されたソース電極、及び前記駆動素子のゲート電極に電気的に連結されたドレイン電極を有することを特徴とする請求項５に記載の表示パネル。
【請求項７】
インパルスデータ電圧を出力する駆動電圧発生部と、
データ電圧を出力するデータ駆動部と、
駆動周波数に基づいて第１制御信号、及び前記第１制御信号より一定時間だけ遅延された第２制御信号を出力するタイミング制御部と、
前記第１制御信号に基づいてゲート信号を出力するゲート駆動部と、
前記第２制御信号に基づいてインパルスゲート信号を出力するインパルス駆動部と、
１フレームの第１区間には前記ゲート信号に応答して前記データ電圧に対応する通常階調を表示し、前記１フレームの第２区間には前記インパルスゲート信号に応答して前記インパルスデータ電圧に対応するインパルス階調を表示する表示パネルと、を有することを特徴とする表示装置。
【請求項８】
前記第１及び第２制御信号は、スキャン開始信号であることを特徴とする請求項７に記載の表示装置。
【請求項９】
前記駆動周波数は、実質的に６０Ｈｚ〜８０Ｈｚであることを特徴とする請求項７に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記表示パネルは、階調電圧を充電する液晶キャパシタと、
前記ゲート信号に応答してターンオンし前記液晶キャパシタに前記データ電圧を充電させる第１スイッチング素子と、
前記インパルスゲート信号に応答してターンオンし前記液晶キャパシタに前記インパルスデータ電圧を充電させる第２スイッチング素子と、を有することを特徴とする請求項７に記載の表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】表示パネルとこれを具備した表示装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、表示パネルとこれを具備した表示装置に関し、より詳細には、一般的な駆動速度でインパルシブ（ｉｍｐｕｌｓｉｖｅ）駆動を可能にするための表示パネルとこれを具備した表示装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月9日(2009.1.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 磁気共鳴イメージング（ＭＲＩ）装置用の磁極片であって、
複数のＭＲＩ磁石の間に位置したイメージング空間に向かって配置される第１の面と、
前記第１の面において複数個の同心環状配列体を成すように配置された複数個の台形又は環状扇形のタイルを有することを特徴とする、磁気共鳴イメージング（ＭＲＩ）装置用の磁極片。
【請求項２】 前記タイルが積層した複数個の層で構成されており、
前記複数個の同心環状配列体のうちの第１の同心環状配列体の高さが第２の同心環状配列体の高さよりも高い請求項１記載の磁極片。
【請求項３】 前記複数個の同心環状配列体が一体のタイル本体を構成しており、
１つのタイルが別のタイルから接着剤層によって隔てられている請求項２記載の磁極片。
【請求項４】 前記磁極片は、前記ＭＲＩ装置の第１の磁石の近傍に配置され、前記複数個の同心環状配列体に配置された複数個の台形又は環状扇形のタイルが、前記第１の磁石の次回の方向と垂直な平面に配置されている請求項１記載の磁極片。
【請求項５】 磁極片の基部に平行に該磁極片の基部に取付けられる第２の面と側面とを含み、前記複数個の同心環状配列体に配置された複数個の台形又は環状扇形のタイルが前記第１及び第２の面に平行に配置されている請求項１記載の磁極片。
【請求項６】 前記タイルが複数の積層した層を含む請求項５記載の磁極片。
【請求項７】 少なくとも１つのタイルがタイル面に空所を持っており、
前記少なくとも１つの空所がシム又は補助磁石によって埋められている請求項１乃至６のいずれかに記載の磁極片。
【請求項８】 請求項１乃至７のいずれかに記載の磁極片と、
ヨークと、
第１の側面が前記ヨークの第１の部分に取付けられ、第２の側面が積層タイル磁極片に取付けられた第１の磁石と、
前記ヨークの第２の部分に取付けられた第２の磁石と、
該第２の磁石に取付けられて、前記積層タイル磁極片の方を向いた複数個の第２のタイルで構成される第２の磁極片と、を有するＭＲＩシステム。
【請求項９】 前記第２の磁極片の第２の面において複数個の同心環状配列体を成すように配置された複数個の台形又は環状扇形のタイルを有し、
前記第２の磁極片の前記タイルが積層した複数個の層で構成されており、
前記第２の磁極片の前記複数個の同心環状配列体のうちの第１の同心環状配列体の高さが第２の同心環状配列体の高さよりも高いことを特徴とする、請求項８に記載のＭＲＩシステム。
【請求項１０】 前記第２の磁極片の少なくとも１つのタイルがタイル面に空所を持っており、
前記少なくとも１つの空所がシム又は補助磁石によって埋められている請求項９に記載のＭＲＩシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月10日(2009.7.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板上に絶縁膜を介して接合された第１導電型半導体層と、
前記第１導電型半導体層内の所定領域に形成された第２導電型ドリフト拡散層と、
前記第１導電型半導体層内で前記第２導電型ドリフト層から離して形成された第１導電型ベース拡散層と、
前記第１導電型ベース拡散層内に形成された第２導電型エミッタ拡散層と、
前記第１導電型半導体層内で前記第２導電型ドリフト拡散層を挟んだ前記第１導電型ベース拡散層の反対側に形成された第２導電型コレクタバッファ層と、
前記第２導電型コレクタバッファ層内に形成された第１導電型コレクタ拡散層と、
少なくとも前記第２導電型エミッタ拡散層と前記第２導電型ドリフト拡散層とに挟まれた前記第１導電型ベース拡散層上にゲート絶縁膜を介して形成されたゲート電極と、
前記第２導電型ドリフト層上に形成されたフィールド絶縁膜と
を備え、前記第２導電型ドリフト拡散層は、
前記第２導電型コレクタバッファ層を包囲するように形成され、該直線部分では両端から第２導電型の不純物が拡散して中央に第１オーバーラップ領域が形成され、前記第２導電型ドリフト拡散層と前記第２導電型コレクタバッファ層とが重なった第２オーバーラップ領域が形成されていることを特徴とする
高耐圧半導体装置。
【請求項２】
前記第２オーバーラップ領域における第２導電型の不純物濃度は、直線部分よりもコーナー部分が低いことを特徴とする
請求項１に記載の高耐圧半導体装置。
【請求項３】
前記第２オーバーラップ領域におけるコーナー部分の第２導電型の不純物濃度は、前記第２導電型ドリフト拡散層の不純物濃度よりも低いことを特徴とする
請求項１又は請求項２に記載の高耐圧半導体装置。
【請求項４】
前記第２オーバーラップ領域における第２導電型の不純物の表面濃度は、前記第１導電型コレクタ拡散層の直下に位置する前記第２導電型コレクタバッファ層の不純物濃度よりも低いことを特徴とする
請求項１から請求項３の何れかに記載の高耐圧半導体装置。
【請求項５】
前記第２導電型コレクタバッファ層は逆凸形状に形成され、該形状の外側部分が前記第２導電型ドリフト拡散層とオーバーラップしていることを特徴とする
請求項１から請求項４の何れかに記載の高耐圧半導体装置。
【請求項６】
半導体基板上に絶縁膜を介して接合された第１導電型半導体層内の所定領域に第２導電型ドリフト拡散層を形成する工程と、
前記第２導電型ドリフト拡散層を拡散するための熱処理工程と、
少なくとも前記第２導電型のドリフト拡散層上の前記第１導電型半導体層を選択酸化してフィールド酸化膜を形成する工程と、
前記第２導電型のドリフト拡散層に隣接した前記フィールド酸化膜の形成されていない領域から該フィールド酸化膜の端部に亘って開口部を有するレジストパターンを形成する工程と、
前記レジストパターンをマスクとして前記フィールド酸化膜の端部越しに第２導電型の不純物を注入して第２導電型コレクタバッファ層を形成する工程と、
前記第２導電型コレクタバッファ層の反対側の前記第２導電型ドリフト拡散層に隣接して第１導電型ベース拡散層を形成する工程と、
少なくとも第１導電型ベース拡散層の表面にゲート酸化膜を介してゲート電極を形成する工程と、
前記ゲート電極をマスクとして前記第１導電型ベース拡散層の一部に第２導電型の不純物を注入して第２導電型エミッタ拡散層を形成する工程と、
前記フィールド酸化膜をマスクとして前記第２導電型コレクタバッファ層に第１導電型の不純物を注入して第１導電型コレクタ拡散層を形成する工程と
を備え、前記第２導電型コレクタバッファ層は逆凸形状に形成され、該形状の外側部分が前記第２導電型ドリフト拡散層とオーバーラップしていることを特徴とする
高耐圧半導体装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
前記の目的を達成するため、本発明に係る高耐圧半導体装置は、半導体基板上に絶縁膜を介して接合された第１導電型半導体層と、前記第１導電型半導体層内の所定領域に形成された第２導電型ドリフト拡散層と、前記第１導電型半導体層内で前記第２導電型ドリフト層から離して形成された第１導電型ベース拡散層と、前記第１導電型ベース拡散層内に形成された第２導電型エミッタ拡散層と、前記第１導電型半導体層内で前記第２導電型ドリフト拡散層を挟んだ前記第１導電型ベース拡散層の反対側に形成された第２導電型コレクタバッファ層と、前記第２導電型コレクタバッファ層内に形成された第１導電型コレクタ拡散層と、少なくとも前記第２導電型エミッタ拡散層と前記第２導電型ドリフト拡散層とに挟まれた前記第１導電型ベース拡散層上にゲート絶縁膜を介して形成されたゲート電極と、前記第２導電型ドリフト層上に形成されたフィールド絶縁膜とを備え、前記第２導電型ドリフト拡散層は、前記第２導電型コレクタバッファ層を包囲するように形成され、該直線部分では両端から第２導電型の不純物が拡散して中央に第１オーバーラップ領域が形成され、前記第２導電型ドリフト拡散層と前記第２導電型コレクタバッファ層とが重なった第２オーバーラップ領域が形成されていることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
上記の高耐圧半導体装置において、前記第２オーバーラップ領域における第２導電型の不純物の表面濃度は、前記第１導電型コレクタ拡散層の直下に位置する前記第２導電型コレクタバッファ層の不純物濃度よりも低いことが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月19日(2009.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の色信号で駆動される表示デバイスで対応する色の照明光をそれぞれ変調して各色の映像光を生成し、前記各色の映像光をスクリーンに投影してカラー画像を表示するプロジェクタにおいて、
前記スクリーン上におけるレジずれ量を示す補正データを格納するメモリと、
前記メモリに格納された前記補正データに基づいて、少なくとも１つの前記色信号の画素毎に、レジずれ量を計算する移動量算出部と、
前記スクリーン上における輝度レベルに対して、信号レベルが比例関係となるように、前記１つの色信号の信号レベルを補正する補正部と、
前記移動量算出部で計算されたレジずれ量に基づいて、前記補正部で補正された前記色信号を補間演算処理することにより、画素毎に、前記１つの色信号のレジずれを補正するレジずれ補正部とを備え、
前記レジずれ補正部で補正した前記色信号により対応する前記表示デバイスを駆動する
プロジェクタ。
【請求項２】
前記レジずれ補正部で補正した前記色信号の信号レベルを、前記補正部の逆特性で補正して出力する戻し補正部を備える
請求項１に記載のプロジェクタ。
【請求項３】
前記補正部は、
前記表示デバイスのγにより前記１つの色信号の信号レベルを補正する
請求項１に記載のプロジェクタ。
【請求項４】
前記補正部は、
前記表示デバイスの表示特性で前記１つの色信号の信号レベルを補正する
請求項１に記載のプロジェクタ。
【請求項５】
前記１つの色信号から、前記スクリーン上の表示において他の部位とは異なって輝度レベルが変化する特定の変化パターンを検出する特定パターン検出手段と、
前記特定パターン検出手段の検出結果に基づいて、前記レジずれ補正部で補正する前記１つの色信号から、前記変化パターンによる信号レベルの変化を抑圧する変化パターン処理部とを有する
請求項１に記載のプロジェクタ。
【請求項６】
前記所定の色信号の１つが、少なくとも緑色の色信号であり、
前記移動量算出部は、
前記緑色の色信号に対する他の色信号のレジずれ量を計算し、
前記レジずれ補正部は、
前記緑色の色信号に対する他の色信号のレジずれを補正する
請求項１に記載のプロジェクタ。
【請求項７】
前記補正データが、
前記スクリーンに投影される映像を平行移動して補正可能な平行移動のレジずれ量、
前記スクリーンに投影される映像を回転させて補正可能な回転のレジずれ量、
及び又は前記スクリーンに投影される映像の投影倍率の可変により補正可能なレジずれ量を示すデータである
請求項１に記載のプロジェクタ。
【請求項８】
前記補正データが、
前記１つの色信号の所定画素毎に検出されたレジずれ量を示すデータである
請求項１に記載のプロジェクタ。
【請求項９】
所定の色信号で駆動される表示デバイスで対応する色の照明光をそれぞれ変調して各色の映像光を生成し、前記各色の映像光をスクリーンに投影してカラー画像を表示するプロジェクタの調整方法において、
メモリに格納された補正データに基づいて、少なくとも１つの前記色信号の画素毎に、レジずれ量を計算する移動量算出のステップと、
前記スクリーン上における輝度レベルに対して、信号レベルが比例関係となるように、前記１つの色信号の信号レベルを補正する補正のステップと、
前記移動量算出のステップで計算されたレジずれ量に基づいて、前記補正のステップで補正された前記色信号を補間演算処理することにより、画素毎に、前記１つの色信号のレジずれを補正するレジずれ補正のステップと、
前記レジずれ補正のステップで補正した前記色信号により対応する前記表示デバイスを駆動する駆動ステップとを有する
プロジェクタの調整方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
このプロジェクタ１１において、信号入力部１５は、テレビジョンチューナー、ビデオテープレコーダ等の映像機器からビデオ信号Ｓ１を入力する。画像処理部１６は、補正データメモリ１７に格納された補正データＤＦを基準にして信号入力部１５から入力されるビデオ信号のレジずれを補正し、赤色、緑色、青色の色信号Ｒ、Ｇ、Ｂを出力する。信号出力部１８は、この画像処理部１６から出力される赤色、緑色、青色の色信号Ｒ、Ｇ、Ｂによりそれぞれ赤色用、緑色用、青色用の透過型液晶表示パネル１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂを駆動する。これによりこのプロジェクタ１は、信号入力部１５に入力されるビデオ信号Ｓ１のカラー映像をスクリーン１４上に表示する。