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【手続補正書】
【提出日】平成25年10月31日(2013.10.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
重水素化された第１のホスト物質とエレクトロルミネセンスドーパント物質とを含む電気活性組成物であって、前記第１のホスト物質が式Ｉ：
【化１】
2013515380.tif 000001
［式中：
Ａｒ1〜Ａｒ4は同一または異なっていて、アリールであり；
Ｑは、多価アリール基、および
【化２】
2013515380.tif 000002
からなる群から選択され；
Ｔは、（ＣＲ’）a、ＳｉＲ2、Ｓ、ＳＯ2、ＰＲ、ＰＯ、ＰＯ2、ＢＲ、およびＲからなる群から選択され；
Ｒは、それぞれの出現において同一または異なっていて、アルキル、およびアリールからなる群から選択され；
Ｒ’は、それぞれの出現において同一または異なっていて、Ｈ、Ｄ、およびアルキルからなる群から選択され；
ａは１〜６の整数であり；
ｍは０〜６の整数である］
を有し、重水素化されている化合物である、電気活性組成物。
【請求項２】
２つの電気接触層とそれらの間の有機電気活性層を含む有機発光デバイスであって、前記電気活性層が：重水素化された第１のホスト物質とエレクトロルミネセンスドーパント物質とを含み、前記第１のホストが、請求項１に記載の化合物であり、任意選択的に、前記電気活性層が、フェナントロリン類、キノキサリン類、フェニルピリジン類、ベンゾジフラン類、ジフラノベンゼン類、インドロカルバゾール類、ベンゾイミダゾール類、トリアゾロピリジン類、ジヘテロアリールフェニル類、金属キノリネート錯体類、それらの置換誘導体、それらの重水素化類似体、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される第２のホスト物質をさらに含む、有機発光デバイス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２５２】
明快にするために別々の実施形態の文脈において本明細書で説明されている特定の複数の特徴を、１つの実施形態で兼ね備えさせることもできることを理解すべきである。その逆に、簡潔にするために１つの実施形態の文脈で説明されている様々な特徴を、別個に、あるいは任意の副次的な組合せで備えさせることもできる。さらに、範囲内に示されている値に言及する場合、それはその範囲内の各値およびすべての値を含む。
本出願は、特許請求の範囲に記載の発明を含め、以下の発明を包含する。
（１）  重水素化された第１のホスト物質とエレクトロルミネセンスドーパント物質とを含む電気活性組成物であって、前記第１のホスト物質が式Ｉ：
【化１】
2013515380.tif 000003
［式中：
Ａｒ1〜Ａｒ4は同一または異なっていて、アリールであり；
Ｑは、多価アリール基、および
【化２】
2013515380.tif 000004
からなる群から選択され；
Ｔは、（ＣＲ’）a、ＳｉＲ2、Ｓ、ＳＯ2、ＰＲ、ＰＯ、ＰＯ2、ＢＲ、およびＲからなる群から選択され；
Ｒは、それぞれの出現において同一または異なっていて、アルキル、およびアリールからなる群から選択され；
Ｒ’は、それぞれの出現において同一または異なっていて、Ｈ、Ｄ、およびアルキルからなる群から選択され；
ａは１〜６の整数であり；
ｍは０〜６の整数である］
を有し、重水素化されている化合物である、電気活性組成物。
（２）  Ｑが、アントラセン類、クリセン類、ピレン類、フェナントレン類、トリフェニレン類、フェナントロリン類、ナフタレン類、アントラセン類、キノリン類、イソキノリン類、キノキサリン類、フェニルピリジン類、ジベンゾフラン類、ジフラノベンゼン類、インドロカルバゾール類、それらの置換誘導体、およびそれらの重水素化類似体からなる群から選択される、（１）に記載の組成物。
（３）  前記第１のホスト物質が式ＩＩ
【化３】
2013515380.tif 000005
［式中：
Ｒ1は、それぞれの出現において同一または異なっていて、Ｄ、アルキル、アルコキシ、シリル、およびシロキサンからなる群から選択されるか、あるいは隣接したＲ1基は互いに結合して５または６員の脂肪族環を形成してもよく、
Ａｒ1およびＡｒ2は同一または異なっていて、アリール基であり、
ａは０〜６の整数であり；
ｂは０〜２の整数であり；
ｃは０〜３の整数である］
を有する、（１）に記載の組成物。
（４）  （ｃ）第２のホスト物質をさらに含む、（１）に記載の組成物。
（５）  前記第２のホスト物質が、フェナントロリン類、キノキサリン類、フェニルピリジン類、ベンゾジフラン類、ジフラノベンゼン類、インドロカルバゾール類、ベンゾイミダゾール類、トリアゾロピリジン類、ジヘテロアリールフェニル類、金属キノリネート錯体類、それらの置換誘導体、それらの重水素化類似体、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される、（４）に記載の組成物。
（６）  前記第１のホスト物質対前記第２のホスト物質の重量比が９９：１〜１．５：１の範囲内である、（４）に記載の組成物。
（７）  前記第１のホストおよび前記第２のホストのそれぞれのトルエンに対する溶解度が少なくとも０．６重量％である、（４）に記載の組成物。
（８）  前記ドーパント物質が有機金属錯体である、（１）に記載の組成物。
（９）  前記ドーパント物質がＩｒのシクロメタレート化錯体である、（８）に記載の組成物。
（１０）  ２つの電気接触層とそれらの間の有機電気活性層を含む有機発光デバイスであって、前記電気活性層が：重水素化された第１のホスト物質とエレクトロルミネセンスドーパント物質とを含み、前記第１のホストが、上記（１）〜（９）のいずれか一項に記載の化合物であり、任意選択的に、前記電気活性層が、フェナントロリン類、キノキサリン類、フェニルピリジン類、ベンゾジフラン類、ジフラノベンゼン類、インドロカルバゾール類、ベンゾイミダゾール類、トリアゾロピリジン類、ジヘテロアリールフェニル類、金属キノリネート錯体類、それらの置換誘導体、それらの重水素化類似体、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される第２のホスト物質をさらに含む、有機発光デバイス。
（１１）  Ａｒ１〜Ａｒ４が独立して、フェニル、ビフェニル、ターフェニル、クアルテルフェニル（ｑｕａｒｔｅｒｐｈｅｎｙｌ）、ナフチル、フェナントリル、ナフチルフェニル、およびフェナントリルフェニルからなる群から選択される、（１０）に記載のデバイス。
（１２）  Ａｒ１〜Ａｒ４の少なくとも１つが、アルキル基、アルコキシ基、およびシリル基からなる群から選択される少なくとも１つの置換基を有する、（１０）に記載のデバイス。
（１３）  Ｑが、少なくとも２つの縮合芳香環を有するアリール基である、（１０）に記載のデバイス。
（１４）  Ｑが３〜５個の縮合芳香環を有する、（１３）に記載のデバイス。
（１５）  Ｑがクリセンであり、ｍが１または２である、（１３）に記載のデバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月11日(2013.11.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
弁とともに使用するための流体制御システムであって、
第１の通路を介して制御アクチュエータに制御流体供給源を流体結合するための第１の流体制御装置であって、前記制御流体供給源は、前記制御アクチュエータが前記操作可能な状態にあるときに、第１の方向に、または前記第１の方向と反対の第２の方向に前記制御アクチュエータの制御アクチュエータ部材を移動させるために制御流体を提供する、第１の流体制御装置と、
前記第１の流体制御装置と流体連通し、前記制御アクチュエータが操作不能な状態にあるときに第２の通路を介して前記制御アクチュエータにオーバーライドアクチュエータを流体結合するように構成される、第２の流体制御装置であって、前記オーバーライドアクチュエータが前記制御アクチュエータに動作可能なように結合される、第２の流体制御装置と、
を備えるシステム。
【請求項２】
前記制御アクチュエータが前記操作可能な状態であるときに、前記オーバーライドアクチュエータを記憶位置に移動させるために、前記オーバーライドアクチュエータに前記制御流体供給源を流体結合するために第３の流体通路をさらに備える、請求項１に記載の流体制御システム。
【請求項３】
前記オーバーライドアクチュエータから前記制御流体供給源への流体の流れを防ぎ、前記制御流体供給源から前記オーバーライドアクチュエータへの流体の流れを可能にするために、前記オーバーライドアクチュエータと前記制御流体供給源との間の前記第３の流体通路の内部に配置される第１の一方向弁をさらに備える、請求項２に記載の流体制御システム。
【請求項４】
前記制御アクチュエータが、前記制御流体供給源が前記制御アクチュエータに前記制御流体を提供できないときに操作不能な状態にあり、前記制御流体供給源が前記制御アクチュエータに前記制御流体を提供するときに操作可能な状態にある、請求項３に記載の流体制御システム。
【請求項５】
前記第１の流体制御装置が、前記制御アクチュエータが操作可能な状態にあるときに前記制御流体供給源および前記制御アクチュエータを流体結合するために、および前記制御アクチュエータが操作不能な状態にあるときに前記オーバーライドアクチュエータおよび前記制御アクチュエータを流体結合するために、第１の弁システムを備える、請求項４に記載の流体制御システム。
【請求項６】
前記第１の弁システムがトリップ弁を備え、前記トリップ弁が、前記第１の通路と、前記制御アクチュエータの第１のチャンバまたは第２のチャンバとの間の流体の流れを可能にし、前記制御アクチュエータが前記操作可能な状態であるときに、前記第２の通路と前記制御アクチュエータの前記第１のチャンバとの間の流体の流れを防ぐ、請求項５に記載の流体制御システム。
【請求項７】
前記トリップ弁が、前記第３の通路と、前記制御アクチュエータの前記第１のチャンバとの間の流体の流れを可能にし、前記制御アクチュエータが操作不能な状態にあるときに、前記第１の通路と、前記制御アクチュエータの前記第１のチャンバまたは前記第２のチャンバとの間の流体の流れを防ぐ、請求項６に記載の流体制御システム。
【請求項８】
前記流体制御装置が、前記第１の弁システムが制御ユニットを介して前記制御アクチュエータの前記第１のチャンバまたは前記第２のチャンバに前記制御流体供給源を流体結合するように、前記第１の弁システムと前記流体制御供給源との間に配置される前記制御ユニットをさらに備える、請求項５に記載の流体制御システム。
【請求項９】
前記制御ユニットが前記第１の経路を介して前記制御流体供給源から前記制御流体を受け入れるために入力を含み、前記制御ユニットが、前記第１の弁システムを介して前記第１のチャンバまたは前記第２のチャンバに前記制御流体を流体結合するために、前記第１のチャンバと流体連通する第１の出力または前記第２のチャンバと流体連通する第２の出力を含む、請求項８に記載の流体制御システム。
【請求項１０】
前記第１の弁システムが複数の三方弁を備える、請求項５に記載の流体制御システム。
【請求項１１】
前記制御アクチュエータが前記操作可能な状態にあるとき、前記複数の弁の内の第１の弁が前記第１の通路と制御ユニットとの間の流体の流れを可能にし、前記複数の弁の内の第２の弁が、前記制御ユニットの第１の出力と、前記制御アクチュエータの第１のチャンバとの間の流体の流れを可能にし、前記複数の弁の内の第３の弁が、前記制御ユニットの第２の出力と前記制御アクチュエータの第２のチャンバとの間の流体の流れを可能にする、請求項１０に記載の流体制御システム。
【請求項１２】
前記複数の弁の内の前記第１の弁が、前記第２の通路を介して前記第２の流体制御装置に流体結合される、請求項１１に記載の流体制御システム。
【請求項１３】
前記制御アクチュエータが操作不能な状態にあるときに、前記複数の弁の内の前記第１の弁が、前記第２の通路と前記複数の弁の内の前記第２の弁との間の流体の流れを可能にし、前記制御ユニットへの流体の流れを防ぐように構成され、前記複数の弁の内の前記第２の弁が、前記第２の通路から前記制御アクチュエータの前記第１のチャンバへの流体の流れを可能にし、前記第１のチャンバと前記制御ユニットとの間の流体の流れを防ぐように構成される、請求項１１に記載の流体制御システム。
【請求項１４】
前記流体供給源から前記複数の弁の内の前記第１の弁への流体の流れを可能にし、前記複数の弁の内の前記第１の弁から前記制御流体供給源への流体の流れを防ぐために、前記複数の弁の内の前記第１の弁と前記流体制御供給源との間の前記第１の通路の内部に配置される第２の一方向弁をさらに備える、請求項１３に記載の流体制御システム。
【請求項１５】
前記第２の流体制御装置は、前記オーバーライドアクチュエータ内の前記制御流体の前記圧力が、所定の圧力値よりも大きいときに、前記オーバーライドアクチュエータ内の制御流体が前記第１の流体制御装置に流れることを選択的に可能にするために、前記オーバーライドアクチュエータと前記第１の流体制御装置との間の前記第２の通路に沿って配置される第２の弁システムを備え、前記第２の弁システムは、前記オーバーライドアクチュエータ内の前記制御流体の前記圧力が所定の値未満であるときに、前記オーバーライドアクチュエータ内部の前記制御流体を前記大気に放出することを選択的に可能にする、請求項１に記載の流体制御システム。
【請求項１６】
前記第２の弁システムが、前記オーバーライドアクチュエータの第３のチャンバに流体結合される第１のポートと、前記第１の流体制御装置に流体結合される第２のポートと、前記大気と流体連通する第３のポートとを有する三方弁を備える、請求項１５に記載の流体制御システム。
【請求項１７】
前記オーバーライドアクチュエータの前記体積が、前記制御アクチュエータの前記体積よりも大きい、請求項１に記載の流体制御システム。
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月1日(2013.11.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象物体を撮像するための光学系であって、
焦点レンズセルおよびズームレンズセルが移動可能に取り付けられるレールであり、
前記焦点レンズセルが、少なくとも１つの焦点レンズと、前記焦点レンズ上の入射光の量を制限する１次アパーチャとを備え、前記焦点レンズセルが、前記レール上の第１の焦点位置と前記レール上の第２の焦点位置とを有し、前記第１の焦点位置が、前記第２の焦点位置とは異なる被写界深度を有し、
前記ズームレンズセルが、少なくとも１つのズームレンズを備え、前記ズームレンズセルが、前記レール上の第１のズーム位置と前記レール上の第２のズーム位置とを有し、前記第１のズーム位置が、前記第２のズーム位置とは異なる倍率を有する、レールと、
前記焦点レンズセルの近くの２次アパーチャであって、前記焦点レンズセルの前で移動可能であり、第１のアパーチャ位置と第２のアパーチャ位置とを有し、前記第１のアパーチャ位置が、前記第２のアパーチャ位置とは異なる量の光が前記焦点レンズに入射することを可能にする、２次アパーチャと、
前記レールに沿って軸方向に前記焦点レンズセルを移動させるレンズ移動機構とを備え、
前記レンズ移動機構が、前記焦点レンズセルを前記第２の焦点位置から前記第１の焦点位置に前記レールに沿って軸方向に移動して、前記２次アパーチャを前記第２のアパーチャ位置から前記第１のアパーチャ位置に前記レールに沿って軸方向に移動させ、前記ズームレンズセルを前記第２のズーム位置から前記第１のズーム位置に前記レールに沿って軸方向に移動させて、前記被写界深度、前記倍率、および前記焦点レンズへの前記入射光の量を変更する、
光学系。
【請求項２】
フォーカススプリングをさらに備え、前記フォーカススプリングが、前記焦点レンズセルを前記第１の焦点位置から前記第２の焦点位置に前記レールに沿って軸方向に移動させ、前記２次アパーチャを前記第１のアパーチャ位置から前記第２のアパーチャ位置に移動させ、前記ズームレンズセルを前記第１のズーム位置から前記第２のズーム位置に前記レールに沿って軸方向に移動させて、前記被写界深度、前記倍率、および前記焦点レンズへの前記入射光の量を変更する、請求項１に記載の光学系。
【請求項３】
前記焦点レンズセルと前記ズームレンズセルを接続するズーム調整スクリュと、
前記焦点レンズセルと前記ズームレンズセルの間に位置するズームスプリングであって、前記ズームレンズセルの第１のズーム位置から前記第２のズーム位置への前記移動が、前記ズームスプリングによって、また前記焦点レンズセルの第１の焦点位置から前記第２の焦点位置への前記移動によって引き起こされる、ズームスプリングと、
をさらに備える、請求項２に記載の光学系。
【請求項４】
前記第１の焦点位置の前記被写界深度が、前記第２の焦点位置の前記被写界深度より小さい、請求項２に記載の光学系。
【請求項５】
前記第１のズーム位置の前記倍率が、前記第２のズーム位置の前記倍率より大きい、請求項２に記載の光学系。
【請求項６】
前記第１のアパーチャ位置の前記焦点レンズ上の前記入射光の量が、前記第２のアパーチャ位置の前記焦点レンズ上の前記入射光の量より小さい、請求項２に記載の光学系。
【請求項７】
前記レンズ移動機構が電気モータを備える、請求項１に記載の光学系。
【請求項８】
前記レンズ移動機構がさらに、前記焦点レンズセルを前記第１の焦点位置から前記第２の焦点位置に前記レールに沿って軸方向に移動させ、前記２次アパーチャを前記第１のアパーチャ位置から前記第２のアパーチャ位置に移動させ、前記ズームレンズセルを前記第１のズーム位置から前記第２のズーム位置に前記レールに沿って軸方向に移動させて、前記被写界深度、前記倍率、および前記焦点レンズへの前記入射光の量を変更する、請求項７に記載の光学系。
【請求項９】
前記レンズ移動機構が空気アクチュエータを備える、請求項１に記載の光学系。
【請求項１０】
前記レンズ移動機構がさらに、前記焦点レンズセルを前記第１の焦点位置から前記第２の焦点位置に前記レールに沿って軸方向に移動させ、前記２次アパーチャを前記第１のアパーチャ位置から前記第２のアパーチャ位置に移動させ、前記ズームレンズセルを前記第１のズーム位置から前記第２のズーム位置に前記レールに沿って軸方向に移動させて、前記被写界深度、前記倍率、および前記焦点レンズへの前記入射光の量を変更する、請求項９に記載の光学系。
【請求項１１】
前記レンズ移動機構がソレノイドを備える、請求項１に記載の光学系。
【請求項１２】
前記レンズ移動機構がさらに、前記焦点レンズセルを前記第１の焦点位置から前記第２の焦点位置に前記レールに沿って軸方向に移動させ、前記２次アパーチャを前記第１のアパーチャ位置から前記第２のアパーチャ位置に移動させ、前記ズームレンズセルを前記第１のズーム位置から前記第２のズーム位置に前記レールに沿って軸方向に移動させて、前記被写界深度、前記倍率、および前記焦点レンズへの前記入射光の量を変更する、請求項１１に記載の光学系。
【請求項１３】
前記焦点レンズセルと前記ズームレンズセルを接続するズーム調整スクリュと、
前記焦点レンズセルと前記ズームレンズセルの間に位置するズームスプリングであって、前記ズームレンズセルの第２のズーム位置から前記第１のズーム位置への前記移動が、前記ズームスプリングによって、また前記焦点レンズセルの第２の焦点位置から前記第１の焦点位置への前記移動によって引き起こされる、ズームスプリングと、
をさらに備える、請求項１記載の光学系。
【請求項１４】
アパーチャカムスロットを有するズームフォーカスモジュール外側シェルをさらに備え、前記２次アパーチャがアパーチャピボットピンをさらに備え、前記アパーチャカムスロットに沿って前記アパーチャピボットピンが移動することによって前記２次アパーチャが前記第１のアパーチャ位置と前記第２のアパーチャ位置の間で移動することになる、請求項１に記載の光学系。
【請求項１５】
前記焦点レンズセルの２次アパーチャスロットをさらに備え、前記２次アパーチャの前記第２の位置から前記第１の位置への前記移動が、前記２次アパーチャスロットを通る前記２次アパーチャの回転である、請求項１に記載の光学系。
【請求項１６】
前記第１の焦点位置の前記被写界深度が、前記第２の焦点位置の前記被写界深度より小さい、請求項１に記載の光学系。
【請求項１７】
前記第１のズーム位置の前記倍率が、前記第２のズーム位置の前記倍率より大きい、請求項１に記載の光学系。
【請求項１８】
前記第１のアパーチャ位置の前記焦点レンズへの前記入射光の量が、前記第２のアパーチャ位置の前記焦点レンズへの前記入射光の量より小さい、請求項１に記載の光学系。
【請求項１９】
前記１次アパーチャが前記２次アパーチャより大きい、請求項１に記載の光学系。
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月1日(2013.11.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
本発明の目的は、第１の層が結合している基本的に鉄からなる金属支持体を備えた窒化ピストンリングであって、前記ピストンリングが前記支持体（３）と前記第１の層（１）との間に位置する１つの第２の層（２）をさらに含み、前記第１の層（１）が少なくとも２質量％の窒素含量および前記第１の層（１）の最も外側の部分とみなされる８５μｍの深さで４００ビッカースの最小硬度まで実質的に直線的に変化する最大でも８００ビッカースの硬度を有し、前記第２の層（２）が前記支持体（３）に存在する炭素の質量割合を少なくとも部分的に上回る炭素の質量割合および１５μｍ以上の厚さを有する、前記窒化ピストンリングを提供することによって達成される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
図４および５は、従来技術におけるピストンリング１０１と本発明のピストンリング１００とをそれぞれ示しており、且つこれらは本発明、本明細書でこれらが繰り返し議論される理由を理解するために非常に重要である。図４および５の両方が、微細構造で存在する炭化物を明確にするために、村上タイプの化学攻撃を受けた後のピストンリングの横断面の金属組織学的画像を示していることを予め述べねばならない。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
硬度分析結果のグラフに基づくと、従来技術におけるピストンリング１０１は窒化層の領域における大きな硬度を保証することを目指していると結論付けることができる。これは、リングの表面から材料の内側部分までの約５０μｍの距離において硬度が約１０００ビッカースであること、そして窒化層に続いては硬度は急に低下し、表面まで約８０μｍより長い距離に対してほぼ３分の１であるということを示す。これが、過去、ピストンのための窒化ピストンリングの開発に広く行き渡りそして導かれた規範であった。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１８】
前記リングが前記第１の層（１）を覆って適用される少なくとも１つのさらなる被覆層（３０）を含むことを特徴とする請求項１〜１７のいずれか１項に記載の窒化ピストンリング（１００、１００’）。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月13日(2013.9.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
患者の脊柱に既知の向きおよび大きさを有し、コンパスを具えるポジショナを固定するステップと；
前記ポジショナのコンパスを用いて、患者が前記コンパスの第１軸に沿って、かつ前記コンパスの第２軸に直交する方向に配置されるようにＸ線源に対して患者を位置決めしてするステップであって、前記第１軸が前記第２軸に対して直交する、ステップと；
脊柱の横方向の椎骨の少なくとも１つのＸ線写真を受け取るステップと、
ユーザから受け取る情報に基づいて前記椎骨の理想的形状を生成するステップと、
前記理想的形状の物理的特徴を求めるステップと、
１組の規則に基づいて前記椎骨についてのレポートを生成するステップと、
を含むことを特徴とする患者の脊柱を分析するための方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法において、前記理想的形状が多角形であることを特徴とする方法。
【請求項３】
請求項２に記載の方法において、前記多角形がｎ個の頂点を有し、ｎ−１個の頂点の位置を示す情報を前記ユーザから受け取るステップと、残りの頂点の位置を計算するステップとをさらに含むことを特徴とする方法。
【請求項４】
請求項１に記載の方法において、複数の隣接する椎骨のＸ線写真を受け取るステップと、椎骨ごとに理想的形状を生成するステップと、隣接する椎骨間の関係を示すデータを用いて前記レポートを生成するステップと、をさらに含むことを特徴とする方法。
【請求項５】
請求項１に記載の方法において、前記Ｘ線写真が椎骨の生画像を含み、前記生画像が基準軸に対して第１の角度で方向付けられる側面図を示し、前記方向付けに起因する歪みをなくすために前記生画像を回転させるステップをさらに含むことを特徴とする方法。
【請求項６】
請求項１に記載の方法において、前記Ｘ線写真を変倍するステップと、前記椎骨の寸法を前記変倍したＸ線写真から求めるステップと、をさらに含むことを特徴とする方法。
【請求項７】
請求項１に記載の方法において、前記Ｘ線写真が前記ポジショナの像を含み、前記方法が更に、前記ポジショナの像を使用して前記Ｘ線像を調節するステップをさらに含むことを特徴とする方法。
【請求項８】
患者に向かうＸ線ビームを放射するＸ線源と；
患者の脊柱に、既知の向きおよび大きさを有し、第１軸と第２軸を有するコンパスを具えるポジショナであって、当該第１軸が第２軸に直交しており、当該第２軸が前記Ｘ線源から放射されたＸ線に平行になるように構成されており、前記コンパスが、前記患者が当該コンパスの第１軸に沿って、及び当該コンパスの第２軸に直交するように位置するように、前記患者を前記Ｘ線源に対して位置決めするよう動作可能である、ポジショナと；
生のＸ線像を受け取るレシーバと、
画面上に前記生のＸ線像を提示する画面と、
前記生のＸ線像上の関心のある点を示す情報をユーザから受け取るユーザ入力部と、
前記生のＸ線像を、前記情報に基づいて前記椎骨の対応する理想的形状に変換し、前記理想的形状に基づいてレポートを生成するように構成されるプロセッサと、
を含むことを特徴とする椎骨のＸ線像を分析するための機器。
【請求項９】
請求項８に記載の機器において、前記プロセッサが、前記生のＸ線像を多角形の形状を有する理想的形状の画像に変換することを特徴とする機器。
【請求項１０】
請求項９に記載の機器において、各椎骨の前記画像が、ｎ個の頂点を有する理想的多角形に変換されることを特徴とする機器。
【請求項１１】
請求項１０に記載の機器において、前記情報がｎ−１個の頂点の位置を定め、前記プロセッサが多角形ごとにｎ番目の頂点の位置を決定することを特徴とする機器。
【請求項１２】
請求項８に記載の機器において、前記プロセッサが、事前に選択された軸に対する前記生のＸ線像の角回転を示す歪みデータをさらに受け取り、前記歪みを補正するために前記生のＸ線像を回転させるようにさらに構成されることを特徴とする機器。
【請求項１３】
請求項８に記載の機器において、前記プロセッサが、前記椎骨の縮尺を示す縮尺データをさらに受け取り、前記椎骨の大きさに基づく情報を含む前記レポートを生成するようにさらに構成されることを特徴とする機器。
【請求項１４】
請求項８に記載の機器において、前記レシーバが、前記生のＸ線像内のポジショナの像を更に受け取り、前記ポジショナの像が前記ポジショナの実際の位置を示していることを特徴とする機器。
【請求項１５】
請求項１４に記載の機器において、前記プロセッサが、前記ポジショナの像に基づいて歪み角を検出し、前記歪み角を使用して前記生のＸ線像を回転させることを特徴とする機器。
【請求項１６】
請求項１５に記載の機器において、前記回転角が、それぞれの直交軸に沿って割り付けられる３つの成分を含むことを特徴とする機器。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月1日(2013.10.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下水汚泥の減圧が、１．０秒以下のインパルス持続時間、２０ｍｍＨｇ以下の残圧で、高速減圧インパルス作用によって引き起こされる、下水汚泥を減圧することによる下水汚泥の殺菌方法。
【請求項２】
高速減圧インパルス作用が、レシーバ、高速応答バルブ、およびパイプラインを通じて引き起こされる、請求項１の下水汚泥の殺菌方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月11日(2013.9.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
研削ディスク（７）であって、
研磨部品（３）と、
前記研磨部品（３）上に提供されるキャップ（１）と、を含み、
前記研磨部品（３）と前記キャップ（１）とは、前記キャップ（１）と前記研磨部品（３）との間のすき間、及び研磨部品（３）内に成形材料を注入することによって接合される、研削ディスクであって、
前記研磨部品（３）は実質的に円盤状で中心穴（３１）を有し、前記キャップ（１）はスルーホール（１１）を備えた実質的に円盤状のキャップ本体（１０）と、前記キャップ本体（１０）の底部から延び前記スルーホール（１１）を取り囲む包囲壁（１３）と、を有し、前記包囲壁（１１）は第１の対向するスロットの対（１５、１５）を有し、前記包囲壁（１１）は前記研磨部品（３）の前記中心穴（３１）に嵌合し、前記キャップ（１）と前記研磨部品（３）とを接合するために前記成形材料は前記スルーホール（１１）と前記スロット（１５、１５）とを通って注入され、前記キャップ（１）と前記研磨部品（３）との接触領域にわたって配分され、かつ前記研磨部品（３）内に配分される、研削ディスク。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月9日(2013.10.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
具現された装置では、第２のチャンバ１２０の濃縮部１２６は第１のチャンバ１１０の混合部１１４と流体的に連通している。図１では、流体連通は濃縮物導管１４０を介する。濃縮物導管１４０はチューブ、パイプ、チャネル、ホース、通路、ダクト、トンネル、トラフ、又は第２のチャンバ１２０の濃縮部１２６から第１のチャンバ１１０の混合部１１４内へと流体を流すことができる部品の任意の組み合せであってよい。濃縮物導管１４０は他のアイテム、例えば濾過器、計量器、絞り、圧力変換器、逆流防止弁、又は第２のチャンバ１２０から第１のチャンバ１１０への流体の流れの速さ、圧力、及び方向を変更することができる他の任意のアイテムを含んでもよい。随意選択的な逆流防止弁が図１に示されているが、これらは単に例示を目的とするものである。逆流防止弁１４４は、第２のピストン１２２の進出により濃縮物が第２のチャンバ１２０の濃縮部１２６から押し出された後にこの濃縮物が逆流するのを防ぐ。逆流防止弁１４２は、第１のピストン１１２の進出中における濃縮物の逆流を防止する。第１のピストンと機械的結合状態にある追加的なピストンを備えた追加的な濃縮物チャンバがあってもよく、そのような追加的な濃縮物チャンバもまた第１の円筒の混合部と流体的に連通していてよいことが、想定される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
図３は、提供される装置の別の実施形態を例示する。図３は、第１のチャンバ３１０、第２のチャンバ３２０Ａ、及び第３のチャンバ３２０Ｂを含む、装置３００を示している。溶媒源３５０は溶媒導管３５２及び逆流防止弁３５４を通して第１のチャンバ３１０の混合部３１４と流体的に連通している。第１の濃縮物源３６０Ａは濃縮物導管３６２Ａ及び逆流防止弁３６４Ａを介して第２のチャンバ３２０Ａの濃縮部３１６Ａと流体的に連通しており、第２の濃縮物源３６０Ｂは濃縮物導管３６２Ｂ及び逆流防止弁３６４Ｂを介して第３のチャンバ３２０Ｂの濃縮部３１６Ｂと流体的に連通している。更に、濃縮部３１６Ａは、逆流防止弁３４２Ａ及び３４４Ａを備える流体導管３４０Ａを通して第１のチャンバ３１０の混合部３１４と流体的に連通しており、濃縮部３１６Ｂは、逆流防止弁３４２Ｂ及び３４４Ｂを備える流体導管３４０Ｂを通して第１のチャンバ３１０の混合部３１４と流体的に連通している。第１のピストン３１２が第１のチャンバ３１０を混合部３１４と駆動部３１８とに区分する。駆動部３１８は逆流防止弁３７６を含む流体入力導管３７２及び逆流防止弁３７８を含む流体出力導管３７４と流体的に連通している。第１のピストン３１２は第２のピストン３２２Ａ及び第３のピストン３２２Ｂの両方と機械的結合状態にある。第２のチャンバ３２０Ａは第３のチャンバ３２０Ｂと寸法、容積、及び形状が異なってよい。同様に、第２のピストン３２２Ａは第３のピストン３２２Ｂと寸法及び形状が異なってよい。第１のチャンバ３１０の混合部３１４もまた、（逆流防止弁３５６を備える）溶媒／濃縮物混合物導管３５８と流体的に連通している。図３には示されないが、第２のピストン及び第３のピストンは、第１のピストン３１２に対してそれぞれ独立に異なる種類のリンクを有することができると想定される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の容積を有するとともに少なくとも１つの外壁を有する第１のチャンバと、
第２の容積を有するとともに少なくとも１つの外壁を有する第２のチャンバと、
前記第１のチャンバ内に摺動可能に配置されて前記第１のチャンバを混合部と駆動部とに密閉式に区分する第１のピストンと、
前記第１のピストンに結合されるとともに、前記第２のチャンバ内に摺動可能に配置されて前記第２のチャンバ内の濃縮部を密閉式に画定する第２のピストンと、を含み、
前記濃縮部が前記混合部と流体的に連通している、装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月9日(2013.10.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの水濾過部材と、
前記水濾過部材と流体的に連通し、サービス状態と充填状態とに切り替わるように構成された、第１のウォータオンウォータ容器と、
前記水濾過部材と流体的に連通し、サービス状態と充填状態とに切り替わるように構成された、第２のウォータオンウォータ容器と、を備え、
前記第１のウォータオンウォータ容器及び前記第２のウォータオンウォータ容器の少なくとも一方が装置を有し、該装置は、
一定の容積を有しかつ少なくとも１つの外壁を有する第１のチャンバと、
一定の容積を有しかつ少なくとも１つの外壁を有する第２のチャンバと、
前記第１のチャンバ内に配置された第１のピストンであって、前記第１のピストンの縁が、前記第１のチャンバの外壁と摺動可能に接触して、前記第１のチャンバを混合部分と駆動部分に分割する封止部を形成する、第１のピストンと、
前記第２のチャンバ内に配置された第２のピストンであって、前記第２のピストンの縁が、前記第２のチャンバの外壁と摺動可能に接触して、前記第２のチャンバ内に濃縮部分を画定する封止部を形成する、第２のピストンと、を有し、
前記第１のピストンが前記第１のチャンバ内で変位されるときは前記第２のピストンが前記第２のチャンバ内で変位されるように、前記第１のピストンと前記第２のピストンが互いに機械的に関連付けられており、
前記充填状態のときに、前記第２のチャンバの前記濃縮部分が、前記第１のチャンバの前記混合部分と流体的に連通する、濾過システム。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成25年3月11日(2013.3.11)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１０】
この課題は、本発明に従い、ストリップ形状の圧延材、特に金属ストリップを圧延するための方法でもって解決され、この方法の場合、この金属ストリップが、先ず第一に、酸洗ラインを、および次いで、２つの可逆式巻取り機の間で可逆式圧延機を通過し、およびその際、
金属ストリップの後端部が、この酸洗ラインの手前で、後に続く金属ストリップの始端部と溶接され、且つ、仕上げ圧延された金属ストリップの巻取り機の手前で、互いに接し合うように溶接された金属ストリップの分離が行われる様式の上記方法において、
以下の作業経過、即ち：
−  酸洗装置から走出した金属ストリップＡが、可逆式ロールスタンドの両方のロールスタンドを通過し、および次いで、この可逆式圧延機に後続して設けられた可逆式巻取り機で巻き取られ、
−  その際、金属ストリップＡのストリップ後端部に、酸洗装置内への走入の前に、既に、後に続く金属ストリップＢの始端部が溶接され、
−  この金属ストリップＢのストリップ始端部が、ここで共に圧延され、およびしかも、巻取り機の上での引張構造に至るまでの巻回長さに相応する長さにわたって圧延され、
且つ、可逆式巻取り機の上に走入し、
−  既に圧延された、金属ストリップＢのストリップ始端部が、未だに圧延されていない残りの金属ストリップＢにおいて残留するように、引き続いての可逆運動の際に、この金属ストリップＢが金属ストリップＡからせん断機によって分離され、
−  引き続いて、完全な金属ストリップＡの可逆式圧延が行われ、その際、
この金属ストリップＡが、可逆式圧延機からの走出の後、可逆式ロールスタンドの前に設けられた可逆式巻取り機に走入し、
−  金属ストリップＡが、完全に、可逆式巻取り機（２）の上に設けられたら直ぐに、
金属ストリップＢが、可逆式圧延機に供給され、且つ、
上記作業経過が、この金属ストリップＢと後に続く金属ストリップＣとでもって繰り返される。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属ストリップを圧延するための方法であって、この方法の場合、この金属ストリップが、先ず第一に、酸洗ラインを、および次いで、２つの可逆式巻取り機の間で可逆式圧延機を通過し、およびその際、
金属ストリップの後端部が、この酸洗ラインの手前で、後に続く金属ストリップの始端部と溶接され、且つ、仕上げ圧延された金属ストリップの巻取り機の手前で、互いに接し合うように溶接された金属ストリップの分離が行われる様式の上記方法において、
以下の作業経過、即ち：
−  酸洗装置から走出した金属ストリップ（Ａ）が、可逆式圧延機の両方のロールスタンド（３、４）を通過し、および次いで、この可逆式圧延機に後続して設けられた可逆式巻取り機（１）で巻き取られ、
−  その際、金属ストリップ（Ａ）のストリップ後端部に、酸洗装置（５）内への走入の前に、既に、後に続く金属ストリップ（Ｂ）の始端部が溶接され、
−  この金属ストリップ（Ｂ）のストリップ始端部が、ここで共に圧延され、およびしかも、巻取り機の上での引張構造に至るまでの巻回長さに相応する長さにわたって圧延され、
且つ、可逆式巻取り機（１）の上に走入し、
−  既に圧延された、金属ストリップ（Ｂ）のストリップ始端部が、未だに圧延されていない残りの金属ストリップ（Ｂ）において残留するように、引き続いての可逆運動の際に、この金属ストリップ（Ｂ）が金属ストリップ（Ａ）からせん断機（６）によって分離され、
−  引き続いて、完全な金属ストリップ（Ａ）の可逆式圧延が行われ、その際、
この金属ストリップ（Ａ）が、可逆式圧延機からの走出の後、可逆式ロールスタンドの前に設けられた可逆式巻取り機（２）に走入し、
−  金属ストリップ（Ａ）が、完全に、可逆式巻取り機（２）の上に設けられたら直ぐに、
金属ストリップ（Ｂ）が、可逆式圧延機に供給され、且つ、
上記作業経過が、この金属ストリップ（Ｂ）と後に続く金属ストリップ（Ｃ）とでもって繰り返される、
ことを特徴とする方法。
【請求項２】
既に圧延されたストリップ（Ｂ）、または後のストリップ（Ｃ）の、ストリップ始端部の送り込みの際に、可逆式圧延機の圧延ロール間隙が開放された状態で留まり、
従って、これらロールが、圧延されたストリップ始端部に引き続いての、圧延されていないストリップ部分の走入の際に初めて、アクティブにされることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
１つの金属ストリップの可逆式圧延の間じゅう、酸洗ラインと、これら金属ストリップの分離のためのせん断機との間で、後に続く金属ストリップの貯蔵が、ストリップ貯蔵部７内において行われることを特徴とする請求項１または２に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月31日(2013.10.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
メタンリッチ生成ガスを生成するための方法であって、該方法においては、第１のメタン化段階に流れることが可能である水素と二酸化炭素とを含有する原料ガスが、少なくとも２つの段階(Ｒ１、Ｒ２)における少なくとも１つの設定可能なパラメータの影響下で触媒的にメタン化され、該生成ガスの組成に関する少なくとも１つの基準が監視され、該基準は該方法に影響を与える条件下で充足され、前記条件は、前記原料ガスの供給流および単位時間当たりに流れる前記原料ガスの流れの量に関連し、該方法は、
該条件が変化した時には、該基準の充足を維持するパラメータ設定の変更が行われること
を特徴とする、方法。
【請求項２】
前記原料ガスに含有される前記水素の少なくとも一部分は、電気負荷を収集することによる電気分解によって特に生成され、前記条件は、前記収集された負荷に関連する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
メタン化と関連するエネルギー消費は、前記パラメータの設定に依存し、行われる前記設定変更は、該エネルギー消費を減少させる、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記少なくとも１つのパラメータの影響は、前記少なくとも２つのメタン化段階のうちの第１のメタン化段階と第２のメタン化段階との間で作用する、請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記少なくとも１つのパラメータは、前記第１のメタン化段階への流入時に存在する圧力と、前記第２のメタン化段階への流入時に存在する圧力と、方向転換され前記第１の段階の前に再循環されるガスの量と、前記第１のメタン化段階の前の前記ガスの水含有量と、前記第２のメタン化段階の前の前記ガスの水含有量と、前記第１のメタン化段階の後にガス混合物から除去された水の量と、前記第１のメタン化段階および/または前記第２のメタン化段階の前に前記ガスを加熱するために使用される加熱出力と、第３のメタン化段階を含むか含まないかと、前記第１のメタン化段階における温度と、別個に前記第２のメタン化段階における温度と、前記原料ガスの組成とからなる群から選択される、請求項１〜４のうちのいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記設定変更は、順守されるべき一般条件に依存する、請求項１〜５のうちのいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
前記一般条件は、前記第１のメタン化段階および/または前記第２のメタン化段階における前記ガスおよび/または前記触媒の最高温度と、前記第１のメタン化段階および/または前記第２のメタン化段階の前の前記ガスの最小水含有量および/または最大水含有量と、前記再循環されるガスの最小量および/または最大量と、前記第１のメタン化段階の後に除去された前記水の最小量および/または最大量と、前記第１のメタン化段階に存在する前記圧力の最小値および/または最大値と、前記生成されたガス混合物の前記組成に関する追加的な(第２の)基準の充足とからなる群から選択される、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記一般条件の充足は、適切に関連付けられた調整回路によって制御され、該調整回路によって特に監視される、請求項６または７に記載の方法。
【請求項９】
前記一般条件の充足の問題に影響を及ぼす追加(第２)のプロセスパラメータの前記設定は、前記一般条件を充足しながら変更され、前記(第１)のプロセスパラメータの設定の変更に対して、その変化形は、あらゆる場合において、前記設定の機能として、最も少ないエネルギー消費と関連する前記(第１)の処理パラメータの設定を得るために、変更された第２のパラメータを用いて行われる、請求項６〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
前記少なくとも１つのパラメータの影響は、前記メタン化の反応速度に作用し、単位時間当たりに流れる原料ガスの量が増加した場合において、前記少なくとも１つのパラメータの前記設定の変更は、前記反応速度が増加するように第１の介入において行われる、請求項１〜９のうちのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
第２の介入において、一般条件が充足されるとすぐに、特に、前記第１のメタン化段階における所定の温度が超過されるとすぐに、対策が行われる、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
水素と二酸化炭素とを含有する原料ガスからメタンリッチ生成ガスを生成するための反応器システムであって、該反応器システムは、
触媒を備え、次々に接続された少なくとも２つの反応器段階(Ｒ１、Ｒ２)と、
前記生成ガスの組成に関する基準を監視するための監視デバイスと、
前記監視デバイスに結合された制御デバイス(２０)と、
メタン化に影響を与える少なくとも１つのパラメータを設定するために、前記制御デバイス(２０)によって制御される少なくとも１つの設定デバイス(３、５、６、７、８、９０)と
を有し、
該反応器システムは、前記メタン化に影響を与える第１の条件下で操作可能であり、前記基準は、この操作の間、充足され、
該反応器システムが、第１の条件が第２の条件に変更されたときに、該反応器システムが前記基準の充足を維持する前記設定パラメータの変更を可能にするように設計され、前記２つの条件は、単位時間当たりに反応させられた原料ガスの量の差に関連し、前記システムは、前記反応させられる２つのガスの量の間での断続的な操作のために設計されること
を特徴とする、反応器システム。
【請求項１３】
それぞれの反応器段階に供給されたガスの性質は、特に少なくとも１つの設定デバイスによって変更可能である、請求項１２に記載の反応器システム。
【請求項１４】
少なくとも１つの第１の設定デバイス(８.１、７.２、６.２)は、前記２つの反応器段階の間に配置され、特に、コンプレッサ(７.２)を備える、および/またはコンプレッサ(７.２)からなる、請求項１３に記載の反応器システム。
【請求項１５】
第１の反応器段階の前に位置する場所へのガスの一部分の再循環、特に、第２の反応器段階を出るガスの再循環のために、追加の設定デバイスとして、再循環デバイス（ＲＺ)を備える、請求項１２〜１４のいずれか１項に記載の反応器システム。
【請求項１６】
電気エネルギーによって水素を発生させるためのデバイスに結合させることができる、特に、前記デバイスに結合される、請求項１２〜１５のいずれか１項に記載の反応器システム。
【請求項１７】
特にガス洗浄器によって、二酸化炭素を生成するためのデバイスに結合させることができる、特に、前記デバイスに結合される、請求項１２〜１６のいずれか１項に記載の反応器システム。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月12日(2013.7.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３７】
（５−ブロモ−８−ヒドロキシキノリン−７−イル）（イソインドリン−２−イル）メタノン
ＴＨＦ（１０ｍＬ）中の、調製物４の５−ブロモ−８−ヒドロキシキノリン−７−カルボン酸（１５０ｍｇ、０．５６ｍｍｏｌ）とジ（１Ｈ−イミダゾール−１-イル）メタノン（９０．７ｍｇ、０．５６ｍｍｏｌ）との混合物を、窒素下で３時間加熱還流した。反応混合物を室温まで放冷し、イソインドリン（５３ｍｇ、０．４５ｍｍｏｌ）を添加した。得られた混合物を、室温で一晩撹拌した。反応混合物を、次いでＨ2Ｏおよび炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液で反応停止させ、ＤＣＭで二回抽出した。分離した有機層をＮａ2ＳＯ4上で乾燥し、濾過し、減圧下で濃縮した。残留物を、ＳＰＥ−ＳＩカートリッジ（２ｇ、ＤＣＭからＤＣＭ：ＭｅＯＨ９９：１）により精製し、標記化合物（３９．１ｍｇ、０．１１ｍｍｏｌ）を淡褐色の固体として得た。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月23日(2013.10.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶液中の１種以上の化学種とフローセルの表面に固定化された標的との間の液体環境中での相互作用を特徴付ける方法であって、
（ａ）フローセルの表面を活性化し、標的を表面に固定化する段階と、
（ｂ）液体の流れ中に化学種の１種以上を用意する段階と、
（ｃ）固定化された標的を含むフローセルの表面に、化学種の１種以上を含有する液体の流れを通す段階と、
（ｄ）表面プラズモン共鳴（ＳＰＲ）技術を用いて１種以上の化学種と標的との間の相互作用の結果を検出する段階とを含む方法において、
段階（ａ）又は段階（ｂ）の少なくともいずれかにおいて、２種以上の液体溶液をインライン混合して混合溶液を生じさせておいてから、該混合溶液をフローセルの表面に通すことを含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
インライン混合が（１）統合流体カートリッジ（ＩＦＣ）内にマルチチャンバー式フローセルを配置する段階と、
（２）複合針及びチューブブロックを統合流体カートリッジに接続する段階であって、複合針及びチューブブロック内の針が、標準的なマルチウェルプレート内の別個の試薬ウェル、例えば９６ウェルプレート内のウェルなどに各針が届くことができるように間隔をおいて配置され、さらに、管路が、各針及び接続したチューブ、ＩＦＣのチャネル、並びにフローセルチャンバーの間に形成されている、段階と、
（３）ポンプ手段を用いて試薬容器から針の中に第１の液体溶液を吸引する段階と、
（４）気泡を導入せずに、異なる試薬容器から第２の液体溶液を吸引する段階と、
（５）段階（３）及び段階（４）を適宜繰り返す段階とを含み、第１及び第２の液体溶液の混合が、混合溶液がフローセルの表面に届く前に生じる、請求項１記載の方法。
【請求項３】
各段階がコンピュータプログラムによって制御され、複合針及びチューブブロックが垂直に移動し、一方、試薬容器を搬送する試薬ブロックが水平に移動する、請求項２記載の方法。
【請求項４】
混合溶液が１種以上の化学的に不安定な成分を含有する、請求項１記載の方法。
【請求項５】
段階（ａ）において、抗体をフローセル表面にアミンカップリングするために、インライン混合を使用してＥＤＣ及びＮＨＳを混合する、請求項１記載の方法。
【請求項６】
酸性化抗体を含有する溶液及び高ｐＨ溶液の段階（ｂ）中のインライン混合が、抗体を中和し、その後に抗体にフローセル表面上の標的との結合相互作用を受けさせる、請求項１記載の方法。
【請求項７】
複合針及びチューブブロックが、９６ウェルプレート内のウェルの列の別個のウェルに各針が届くことができるように間隔をおいて配置される８本又は１２本の針を収容する、請求項２記載の方法。
【請求項８】
ポンプ手段が蠕動ポンプ又はシリンジポンプである、請求項２記載の方法。
【請求項９】
各吸引する段階が約０．１、０．２５又は０．５〜約４又は１０μｌの溶液を取り込み、フローセルを通る液体の流量が約１０〜約３０、６０又は１００μｌ／分である、請求項２記載の方法。
【請求項１０】
高濃縮された試料の化学種を分析する方法であって、化学種とフローセルの表面に固定化された標的との間の相互作用を特徴付けるためのＳＰＲ法を試料に受けさせることを含み、
（ａ）フローセルの表面を活性化し、標的を表面に固定化する段階と、
（ｂ）液体の流れ中に適切な濃度の化学種を用意する段階と、
（ｃ）固定化された標的を含むフローセルの表面に、化学種を含有する液体の流れを通す段階と、
（ｄ）表面プラズモン共鳴（ＳＰＲ）技術を用いて化学種と標的との間の相互作用の結果を検出する段階とを含む方法において、
コンピュータの制御下で高濃縮された試料の化学種と緩衝液をインライン混合して、段階（ｂ）の前に混合溶液を生じさせ、インライン混合が、
（１）統合流体カートリッジ（ＩＦＣ）内にマルチチャンバー式フローセルを配置する段階と、
（２）複合針及びチューブブロックを統合流体カートリッジに接続する段階であって、複合針及びチューブブロック内の針が、標準的なマルチウェルプレート内の別個の試薬ウェル、例えば９６ウェルプレート内のウェルなどに各針が届くことができるように間隔をおいて配置され、さらに、管路が、各針及び接続したチューブ、ＩＦＣのチャネル、並びにフローセルチャンバーの間に形成されている、段階と、
（３）ポンプ手段を用いて針の中に緩衝溶液を吸引する段階と、
（４）気泡を導入せずに、所望の量の高濃縮された試料を吸引する段階と、
（５）気泡を導入せずに、第２の容積の緩衝溶液を吸引する段階とを含み、
高濃縮された試料の希釈が、試料がフローセルの表面に届く前に管路内で生じる
を含むことを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月1日(2013.11.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも２つの物品を互いに結合する方法であって、
少なくとも１．３ｍｍの厚さを有するキャビティを有する鋳型を形成する工程であって、当該鋳型が少なくとも部分的に前記物品から形成されている工程と、
前記鋳型内に硬化性組成物を堆積させる工程であって、当該硬化性組成物が（ａ）モノマー、（ｂ）タングステン、モリブデン、又は両方を含む触媒前駆体、及び、（ｃ）触媒活性剤を含む工程と、
前記硬化性組成物をメタセシス重合により重合させて、前記２つの物品を互いに結合する成形ポリマージョイントを形成する工程であって、前記２つの物品のそれぞれが、ポリオレフィン又はエラストマーから選択される熱可塑性体を含む工程と、
を含む、方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法に従って作製された組立体。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月17日(2013.10.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ａ．エチレン系ポリマー
Ｂ．ポリアルキレングリコール
Ｃ．第三級ヒンダードアミン安定剤
Ｄ．硫黄含有ヒンダードフェノール酸化防止剤
Ｅ．過酸化物および
Ｆ．任意選択の助剤
を含む組成物。
【請求項２】
Ａ．１０〜９９重量％のエチレン系ポリマー
Ｂ．０．１〜１重量％のポリアルキレングリコール
Ｃ．０．１〜１重量％の第三級ヒンダードアミン安定剤
Ｄ．０．１〜１重量％の硫黄含有ヒンダードフェノール酸化防止剤
Ｅ．０．１〜３重量％の過酸化物および
Ｆ．０〜１重量％の助剤
を含む請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
エチレン系ポリマーがＬＤＰＥであり、かつポリアルキレングリコールが、１，０００〜５０，０００のＭｗを有するポリエチレングリコールである請求項２に記載の組成物。
【請求項４】
請求項１から３のいずれかに記載の組成物から作られる中電圧ケーブル用絶縁被覆。
【請求項５】
ＴＲＸＬＰＥ中電圧ケーブルの構成要素としての請求項４に記載の絶縁被覆。