【手続補正書】
【提出日】平成21年4月28日(2009.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
荷電粒子ビームの軌道上に設置された高周波空洞と、
該高周波空洞内の前記荷電粒子ビームを高周波電場の位相に同調させる位相同調装置と、を備えたことを特徴とする荷電粒子ビーム減速装置。
【請求項２】
前記位相同調装置は、前記高周波空洞を荷電粒子ビームの軌道に沿って移動させる減速管移動装置である、ことを特徴とする請求項１に記載の荷電粒子ビーム減速装置。
【請求項３】
前記高周波空洞は、荷電粒子ビームを加速する加速管の下流側に設置された減速管であり，前記加速管の下流側から前記減速管の上流側に高周波を伝送する高周波伝送路を備える、ことを特徴とする請求項１または２に記載の荷電粒子ビーム減速装置。
【請求項４】
前記高周波空洞は、直列に配置された複数の減速管からなり、隣接する上流側減速管の下流側と下流側減速管の上流側が高周波伝送路で連結されている、ことを特徴とする請求項１または２に記載の荷電粒子ビーム減速装置。
【請求項５】
前記高周波空洞の下流側から上流側に高周波を伝送する高周波循環路を備える、ことを特徴とする請求項１または２に記載の荷電粒子ビーム減速装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の荷電粒子ビーム減速装置を備えた、ことを特徴とするＸ線発生装置。
【請求項７】
高エネルギーの荷電粒子ビームの軌道上に高周波空洞を設置し、
該高周波空洞内の前記荷電粒子ビームを、高周波空洞の移動により、高周波電場の位相に同調させる、ことを特徴とする荷電粒子ビーム減速方法。
【請求項８】
請求項７に記載の荷電粒子ビーム減速方法であって，
前記加速管の下流側から前記減速管の上流側へ高周波伝送路によって伝送された高周波を利用する、ことを特徴とする荷電粒子ビーム減速方法。
【請求項９】
請求項７に記載の荷電粒子ビーム減速方法であって，
前記高周波空洞は、直列に配置された複数の減速管からなり、隣接する上流側減速管の下流側と下流側減速管の上流側とを連結する高周波伝送路によって伝送された高周波を利用する、ことを特徴とする荷電粒子ビーム減速方法。
【請求項１０】
請求項７に記載の荷電粒子ビーム減速方法であって，
前記高周波空洞の下流側から上流側に高周波を伝送する高周波循環路によって伝送された高周波を利用する、ことを特徴とする荷電粒子ビーム減速方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
参考例によれば、前記位相同調装置は、前記荷電粒子ビームの軌道を偏向させる偏向磁石を移動させる偏向磁石移動装置である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
また、別の参考例によれば、前記位相同調装置は、前記荷電粒子ビームの軌道を偏向させる偏向磁石の磁束密度を制御する偏向磁石制御装置である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また、別の参考例によれば、前記位相同調装置は、前記荷電粒子ビームを磁場により軌道変更するα磁石の磁束密度を制御するα磁石制御装置である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
本発明の好ましい実施形態によれば、前記高周波空洞は、荷電粒子ビームを加速する加速管の下流側に設置された減速管であり，前記加速管の下流側から前記減速管の上流側に高周波を伝送する高周波伝送路を備える。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
また本発明によれば、高エネルギーの荷電粒子ビームの軌道上に高周波空洞を設置し、
該高周波空洞内の前記荷電粒子ビームを、高周波空洞の移動により、高周波電場の位相に同調させる、ことを特徴とする荷電粒子ビーム減速方法が提供される。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
上記本発明の装置及び方法によれば、高周波空洞内の高周波電場の位相を、位相同調装置による高周波空洞の移動により、荷電粒子ビームに同調させるので、レーザーと衝突後の荷電粒子ビームを充填されている高周波の位相に合わせることができ、高周波の位相を専用の調整器等を用いて積極的に調整することなく、ビームエネルギーを調整することができる。  
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
図４は、荷電粒子ビーム減速装置３０の参考例である。この図において、位相同調装置４０は、電子ビーム１を磁場により軌道変更する上述したα磁石１２の磁束密度Ｂを制御するα磁石制御装置４４である。
一定磁場Ｂ中の電子ビーム１は、ビームのエネルギーをＥとすると、Ｅ［ＧｅＶ］＝０．３×Ｂ×Ｒの関係式（１）によって円弧軌道を描く。ここでＲは曲率半径である。
例えば、電子ビームエネルギーＥを５０ＭｅＶ＝０．０５ＧｅＶ、磁束密度Ｂを０．４Ｔとすると曲率半径は０．４１７ｍとなる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
図５は、荷電粒子ビーム減速装置３０の別の参考例である。この図において、位相同調装置４０は、電子ビーム１の軌道を偏向させる偏向磁石１４を移動させる偏向磁石移動装置４６である。
電子ビーム１の軌道を構成する中空管（図示せず）の上流端と下流端には、それぞれ伸縮ベローズが設けられ、中空管の内部を真空に保持したまま、偏向磁石１４を電子ビーム１の軌道方向（Ｘ方向）に沿って移動可能にしている。
偏向磁石移動装置４６は、例えば、螺旋ねじ、ラックとピニオン、直動アクチュエータであり、偏向磁石１４を電子ビーム１の軌道に沿って連続的に移動し、任意の位置で固定できるようになっている。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
図６は、荷電粒子ビーム減速装置３０の別の参考例である。この図において、位相同調装置４０は、電子ビーム１の軌道を偏向させる偏向磁石１４の磁束密度を制御する偏向磁石制御装置４８である。
偏向磁石１４の磁束密度を弱めるとビーム軌道Ａからビーム軌道Ｂに変わり、ビーム軌道長がその分変化する。ビーム軌道長を調整することで、電子ビーム１が高周波空洞に到達するタイミングを調整することができ、ビームエネルギーを任意に調整できる。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
図７（Ａ）は、本発明の荷電粒子ビーム減速装置３０の第２実施形態図である。この図において、高周波空洞３４は、直列に配置された複数（この例で２台）の減速管３４Ａ，３４Ｂからなり、隣接する上流側減速管３４Ａの下流側と下流側減速管３４Ｂの上流側が高周波伝送路３５で連結されている。
この構成により、上流側減速管３４Ａにおいて電子ビーム１の減速によりエネルギーを高めた高周波電場４を高周波伝送路３５で下流側減速管３４Ｂに伝送し再利用することができ、高周波空洞３４の必要エネルギーを小さくすることができる。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
図７（Ｂ）は、本発明の荷電粒子ビーム減速装置３０の第３実施形態図である。この図において、高周波空洞３４の下流側から上流側に高周波を伝送する高周波循環路３７を備える。
この構成により、高周波空洞３４において電子ビーム１の減速によりエネルギーを高めた高周波電場４を高周波循環路３７で高周波空洞３４の上流側に伝送し再利用することができ、高周波空洞３４の必要エネルギーを小さくすることができる。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
また本発明の方法によれば、高エネルギーの荷電粒子ビーム１の軌道上に高周波空洞３４を設置し、この高周波空洞３４内の荷電粒子ビーム１を、高周波空洞３４の移動により、高周波電場４の位相に同調させる。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
上述した本発明の装置及び方法によれば、高周波空洞３４内の荷電粒子ビーム１を、位相同調装置３０による高周波空洞３４の移動により、高周波電場４の位相に同調させるので、レーザー２と衝突後の荷電粒子ビーム１を充填されている高周波の位相に合わせることができ、高周波の位相を専用の調整器等を用いて積極的に調整することなく、ビームエネルギーを調整することができる。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
【図１】本発明による荷電粒子ビーム減速装置を備えた本発明のＸ線発生装置の全体構成図である。
【図２】図１の荷電粒子ビーム減速装置の側面図である。
【図３】本発明の荷電粒子ビーム減速装置の第１実施形態図とその説明図である。
【図４】荷電粒子ビーム減速装置の参考例である。
【図５】荷電粒子ビーム減速装置の別の参考例である。
【図６】荷電粒子ビーム減速装置の別の参考例である。
【図７】本発明の荷電粒子ビーム減速装置の第２、３実施形態図である。
【図８】非特許文献１の「小型Ｘ線発生装置」の構成図である。
【図９】特許文献１の「電子ビーム加速装置」の構成図である。
【図１０】特許文献２の「電子線装置」の構成図である。