【手続補正書】
【提出日】平成21年5月22日(2009.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法に係り、更に詳しくは、半導体素子、液晶表示素子等の電子デバイスの製造におけるリソグラフィ工程で用いられる露光装置及び露光方法、並びに該露光装置及び露光方法を用いたデバイス製造方法に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
本発明は、上述したような事情の下になされたもので、その第１の目的は、液浸法に好適な複数のテーブルを備えた露光装置を提供することにある。また、本発明の第２の目的は、液浸法に好適な複数のテーブルを用いた露光方法を提供することにある。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
また、本発明の第３の目的は、高集積度のマイクロデバイスの生産性の向上を図ることが可能なデバイス製造方法を提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
本発明は、第１の観点からすると、投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光装置であって、基板の載置領域が形成され、該載置領域の周囲の領域の表面が前記載置領域に載置された基板の表面とほぼ面一となるように設定され、前記液体が供給される前記投影光学系直下の位置を含む第１領域と該第１領域の一軸方向の一側に位置する第２領域とを含む所定範囲の領域内で移動可能な第１テーブルと；表面がほぼ面一となるように設定され、前記第１領域と前記第２領域とを含む領域内で前記第１テーブルとは独立して移動可能な第２テーブルと；前記第１、第２テーブルを駆動するとともに、一方のテーブルが前記第１領域に位置する第１の状態から他方のテーブルが前記第１領域に位置する第２の状態に遷移させる際に、両テーブルが前記一軸方向に関して近接又は接触した状態を維持して両テーブルを同時に前記一軸方向に駆動する駆動系と；を備える第１の露光装置である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
また、本発明は、第２の観点からすると、投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光装置であって、それぞれ基板を載置して独立に移動可能な第１、第２テーブルと、前記第１、第２テーブルの一方に載置される基板と前記投影光学系との間に前記液体を供給する液体供給装置と、前記一方のテーブルに載置される基板の露光後、前記投影光学系との間に前記液体を保持しつつ、前記一方のテーブルが前記投影光学系と対向する第１の状態から、次に露光が行われる基板を載置する前記第１、第２テーブルの他方が前記投影光学系と対向する第２の状態に遷移させるように前記第１、第２テーブルをそれぞれ駆動する駆動系と、を備える第２の露光装置である。
また、本発明は、第３の観点からすると、投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光方法であって、前記液体が供給される前記投影光学系直下の位置を含む第１領域と該第１領域の一軸方向の一側に位置する第２領域とを含む所定範囲の領域内で移動可能な第１テーブルの載置領域に基板を載置することと、前記投影光学系と前記液体とを介して前記第１テーブルに載置される基板を露光することと、前記第１テーブルと、表面がほぼ面一となるように設定されかつ前記第１領域と前記第２領域とを含む領域内で前記第１テーブルとは独立して移動可能な第２テーブルとを駆動するとともに、前記第１テーブルが前記第１領域に位置する第１の状態から前記第２テーブルが前記第１領域に位置する第２の状態に遷移させる際に、両テーブルが前記一軸方向に関して近接又は接触した状態を維持して両テーブルを同時に前記一軸方向に駆動することと、を含み、前記第１テーブルにおいて前記基板はその表面が前記載置領域の周囲領域の表面とほぼ面一となるように前記載置領域に載置される第１の露光方法である。
また、本発明は、第４の観点からすると、投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光方法であって、独立に移動可能な第１、第２テーブルの一方に基板を載置することと、前記投影光学系と前記液体とを介して前記一方のテーブルに載置される基板を露光することと、前記投影光学系との間に前記液体を保持しつつ、前記一方のテーブルが前記投影光学系と対向する第１の状態から、次に露光が行われる基板を載置する前記第１、第２テーブルの他方が前記投影光学系と対向する第２の状態に遷移させるように前記第１、第２テーブルをそれぞれ駆動することと、を含む第２の露光方法である。
また、リソグラフィ工程において、本発明の露光装置又は露光方法を用いて露光を行うことにより、基板上にパターンを精度良く形成することができ、これにより、より高集積度のマイクロデバイスを歩留まり良く製造することができる。従って、本発明は、更に別の観点からすると、本発明の露光装置又は露光方法を用いるデバイス製造方法であるとも言える。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６９】
以上説明したように、本発明の露光装置及び露光方法は、基板上へのパターンの転写に適している。また、本発明のデバイス製造方法は、マイクロデバイスの製造に適している。
【手続補正８】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光装置であって、
基板の載置領域が形成され、該載置領域の周囲の領域の表面が前記載置領域に載置された基板の表面とほぼ面一となるように設定され、前記液体が供給される前記投影光学系直下の位置を含む第１領域と該第１領域の一軸方向の一側に位置する第２領域とを含む所定範囲の領域内で移動可能な第１テーブルと；
表面がほぼ面一となるように設定され、前記第１領域と前記第２領域とを含む領域内で前記第１テーブルとは独立して移動可能な第２テーブルと；
前記第１、第２テーブルを駆動するとともに、一方のテーブルが前記第１領域に位置する第１の状態から他方のテーブルが前記第１領域に位置する第２の状態に遷移させる際に、両テーブルが前記一軸方向に関して近接又は接触した状態を維持して両テーブルを同時に前記一軸方向に駆動する駆動系と；を備える露光装置。
【請求項２】
請求項１に記載の露光装置において、
前記第２テーブルは、基板の載置領域が形成され、該載置領域に載置された基板の表面を含めて表面がほぼ面一となるように設定されていることを特徴とする露光装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の露光装置において、
基板上のアライメントマークを検出するアライメント系をさらに備え、
前記遷移動作中に、前記一方のテーブルには露光後の基板が載置され、前記他方のテーブルには前記アライメント系によるマーク検出後の基板が載置されていることを特徴とする露光装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１テーブルと前記第２テーブルの二次元的な位置はそれぞれ計測されていることを特徴とする露光装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記投影光学系の像面側に配置され、前記第１、第２テーブルのいずれかが、前記第１領域にあるとき、その第１領域にあるテーブル上の基板に対向する軸受面と前記基板との間に液体を供給して該液体の静圧により前記軸受面と前記基板の表面との間隔を維持する少なくとも１つの液体静圧軸受を含む液体静圧軸受装置を更に備える露光装置。
【請求項６】
投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光装置であって、
それぞれ基板を載置して独立に移動可能な第１、第２テーブルと、
前記第１、第２テーブルの一方に載置される基板と前記投影光学系との間に前記液体を供給する液体供給装置と、
前記一方のテーブルに載置される基板の露光後、前記投影光学系との間に前記液体を保持しつつ、前記一方のテーブルが前記投影光学系と対向する第１の状態から、次に露光が行われる基板を載置する前記第１、第２テーブルの他方が前記投影光学系と対向する第２の状態に遷移させるように前記第１、第２テーブルをそれぞれ駆動する駆動系と、を備える露光装置。
【請求項７】
請求項６に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ前記基板の載置領域と、その表面が前記載置領域に載置された基板の表面とほぼ面一となる、前記載置領域の周囲領域とを有する露光装置。
【請求項８】
請求項７に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれその表面が前記周囲領域の表面とほぼ面一となる基準マーク部材を有する露光装置。
【請求項９】
請求項６〜８のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記投影光学系に対して所定方向に離れて配置され、基板のアライメントマークを検出するアライメント系をさらに備え、
前記遷移動作中、前記一方のテーブルには露光後の基板が載置され、前記他方のテーブルには前記アライメント系によるマーク検出後の基板が載置される露光装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の露光装置において、
前記一方のテーブルに載置される基板の露光動作と、前記他方のテーブルに載置される基板のマーク検出動作とは並行して行われるとともに、前記一方のテーブルに載置される基板と前記他方のテーブルに載置される基板とは交互に露光処理が行われる露光装置。
【請求項１１】
請求項９又は１０に記載の露光装置において、
前記遷移動作中、前記第１、第２テーブルはそれぞれ前記所定方向に駆動される露光装置。
【請求項１２】
請求項６〜１１のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記遷移動作中、前記第１、第２テーブルはその位置関係が維持されつつ同時に駆動される露光装置。
【請求項１３】
請求項１２に記載の露光装置において、
前記一方のテーブルに載置される基板の露光後、前記一方のテーブルと、前記次に露光が行われる基板を載置する他方のテーブルとを接近させる露光装置。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか一項に記載の露光装置において、
複数の基板の露光処理シーケンスの実行中、前記第１テーブル及び前記第２テーブルの少なくとも一方が、常に、前記液体を介して前記投影光学系と対向する露光装置。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルの一方に載置される基板の露光動作中、前記一方のテーブルの位置を計測するエンコーダを備え、前記一方のテーブルを、前記エンコーダでその位置を計測しつつ移動する露光装置。
【請求項１６】
請求項１〜１５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルとは独立して移動可能な第３テーブルをさらに備え、
前記第３テーブルを用いて前記基板の露光動作と異なる動作を実行する露光装置。
【請求項１７】
リソグラフィ工程を含むデバイス製造方法であって、
前記リソグラフィ工程では、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板上にデバイスパターンを転写することを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項１８】
投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光方法であって、
前記液体が供給される前記投影光学系直下の位置を含む第１領域と該第１領域の一軸方向の一側に位置する第２領域とを含む所定範囲の領域内で移動可能な第１テーブルの載置領域に基板を載置することと、
前記投影光学系と前記液体とを介して前記第１テーブルに載置される基板を露光することと、
前記第１テーブルと、表面がほぼ面一となるように設定されかつ前記第１領域と前記第２領域とを含む領域内で前記第１テーブルとは独立して移動可能な第２テーブルとを駆動するとともに、前記第１テーブルが前記第１領域に位置する第１の状態から前記第２テーブルが前記第１領域に位置する第２の状態に遷移させる際に、両テーブルが前記一軸方向に関して近接又は接触した状態を維持して両テーブルを同時に前記一軸方向に駆動することと、を含み、
前記第１テーブルにおいて前記基板はその表面が前記載置領域の周囲領域の表面とほぼ面一となるように前記載置領域に載置される露光方法。
【請求項１９】
請求項１８に記載の露光方法において、
前記第２テーブルは、その載置領域に載置される基板の表面を含めて表面がほぼ面一となるように基板を載置する露光方法。
【請求項２０】
請求項１８又は１９に記載の露光方法において、
基板のアライメントマークを検出することをさらに含み、
前記遷移動作中、前記第１テーブルには露光後の基板が載置され、前記第２テーブルには前記マーク検出後の基板が載置される露光方法。
【請求項２１】
投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光方法であって、
独立に移動可能な第１、第２テーブルの一方に基板を載置することと、
前記投影光学系と前記液体とを介して前記一方のテーブルに載置される基板を露光することと、
前記投影光学系との間に前記液体を保持しつつ、前記一方のテーブルが前記投影光学系と対向する第１の状態から、次に露光が行われる基板を載置する前記第１、第２テーブルの他方が前記投影光学系と対向する第２の状態に遷移させるように前記第１、第２テーブルをそれぞれ駆動することと、を含む露光方法。
【請求項２２】
請求項２１に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれその表面が載置領域の周囲領域の表面とほぼ面一となるように基板を前記載置領域に載置する露光方法。
【請求項２３】
請求項２１又は２２に記載の露光方法において、
前記投影光学系に対して所定方向に離れて配置されるアライメント系によって基板のアライメントマークを検出することをさらに含み、
前記遷移動作中、前記一方のテーブルには露光後の基板が載置され、前記他方のテーブルには前記アライメント系によるマーク検出後の基板が載置される露光方法。
【請求項２４】
請求項２３に記載の露光方法において、
前記一方のテーブルに載置される基板の露光動作と、前記他方のテーブルに載置される基板のマーク検出動作とは並行して行われるとともに、前記一方のテーブルに載置される基板と前記他方のテーブルに載置される基板とは交互に露光処理が行われる露光方法。
【請求項２５】
請求項２３または２４に記載の露光方法において、
前記遷移動作中、前記第１、第２テーブルはそれぞれ前記所定方向に駆動される露光方法。
【請求項２６】
請求項２３〜２５のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれその表面が載置領域の周囲領域の表面とほぼ面一となるように基板を前記載置領域に載置するとともに、前記基板のマーク検出動作時に前記周囲領域の表面とほぼ面一となる基準マークが検出される露光方法。
【請求項２７】
請求項２１〜２６のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記遷移動作中、前記第１、第２テーブルはその位置関係が維持されつつ同時に駆動される露光方法。
【請求項２８】
請求項２７に記載の露光方法において、
前記一方のテーブルに載置される基板の露光後、前記一方のテーブルと、前記次に露光が行われる基板を載置する他方のテーブルとを接近させる露光方法。
【請求項２９】
請求項１８〜２８のいずれか一項に記載の露光方法において、
複数の基板の露光処理シーケンスの実行中、前記第１、第２テーブルの少なくとも一方が常に、前記液体を介して前記投影光学系と対向する露光方法。
【請求項３０】
請求項１８〜２９のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルの一方に載置される基板の露光動作中、前記一方のテーブルを、エンコーダでその位置を計測しつつ移動する露光方法。
【請求項３１】
請求項１８〜３０のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルとは独立して移動可能な第３テーブルを用いて前記基板の露光動作と異なる動作を実行することをさらに含む露光方法。
【請求項３２】
リソグラフィ工程を含むデバイス製造方法であって、
前記リソグラフィ工程では、請求項１８〜３１のいずれか一項に記載の露光方法を用いて基板上にデバイスパターンを転写することを特徴とするデバイス製造方法。