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【手続補正書】
【提出日】平成20年12月19日(2008.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電解銅箔の製造に用いる３−メルカプト−１−プロパンスルホン酸と環状構造を持つ４級アンモニウム塩重合体と塩素とを含む硫酸系銅電解液であって、
ヤヌスグリーンを含むことを特徴とする硫酸系銅電解液。
【請求項２】
前記硫酸系銅電解液中のヤヌスグリーン濃度が２ｐｐｍ〜３０ｐｐｍである請求項１に記載の硫酸系銅電解液。
【請求項３】
請求項１又は請求項２のいずれかに係る硫酸系銅電解液を用い、液温２０℃〜６０℃とし、電流密度３０Ａ／ｄｍ２〜９０Ａ／ｄｍ２で電解することを特徴とする電解銅箔の製造方法。
【請求項４】
請求項３に係る製造方法により得られた電解銅箔。  
【請求項５】
請求項４に係る電解銅箔の析出面に粗化処理、防錆処理、シランカップリング剤処理のいずれか一種又は二種以上を行った表面処理銅箔。
【請求項６】
前記表面処理銅箔の、絶縁樹脂基材との張り合わせ面の表面粗さ（Ｒｚｊｉｓ）が５μｍ以下の低プロファイルであることを特徴とする請求項５に記載の表面処理銅箔。
【請求項７】
請求項５又は請求項６に係る表面処理銅箔を絶縁樹脂基材と張り合わせてなることを特徴とする銅張積層板。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】硫酸系銅電解液及び該硫酸系銅電解液を用いて得られた電解銅箔
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
硫酸系銅電解液：  本件発明は、３−メルカプト−１−プロパンスルホン酸と環状構造を持つ４級アンモニウム塩重合体と塩素とを含む硫酸系銅電解液であって、ヤヌスグリーンを含むことを特徴とする硫酸系銅電解液を提供する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本件発明に係る硫酸系銅電解液は、３−メルカプト−１−プロパンスルホン酸、環状構造を持つ４級アンモニウム塩重合体、塩素、ヤヌスグリーンを含むことを特徴とした硫酸系銅電解液である。そして、この硫酸系銅電解液は、従来市場に供給されてきた低プロファイル電解銅箔の製造に用いられてきた銅電解液に比べ、更に低プロファイルな電解銅箔の安定した製造を可能にするものである。また、該硫酸系銅電解液の組成は、従来の低プロファイルの電解銅箔の製造に用いられていたものとは異なり、溶液安定性にも優れ、安定した長期電解が可能で、廃液処理を考慮してもコスト上昇を招かない。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
＜本件発明に係る電解銅箔製造用の硫酸系銅電解液＞
本件発明に係る硫酸系銅電解液は、３−メルカプト−１−プロパンスルホン酸（以降ＭＰＳと記す）、ジアリルジメチルアンモニウムクロライド（以降ＤＤＡＣと記す）等の環状構造を持つ４級アンモニウム塩重合体、そして塩素とを含む硫酸系銅電解液であって、ヤヌスグリーンを含むことを特徴とする硫酸系銅電解液である。硫酸系銅電解液としてはＭＰＳ、ＤＤＡＣ重合体及び塩素を含んでいるものを用いても、従来市場に供給されてきた低プロファイル電解銅箔に比べて、より低プロファイルの電解銅箔の製造は可能となる。ところが、ヤヌスグリーンを含む硫酸系銅電解液とすることにより、前記添加剤ＤＤＡＣの重合体構造の違いなどがあった場合でも、その効果を得ることができる。従って、原材料の選択肢が広がるうえ、陰極表面の凹凸形状の電解銅箔析出面粗さへの影響も緩和でき、更に低プロファイル化された電解銅箔の安定した製造が可能になるのである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
そして、本件発明に係る硫酸系銅電解液に基本的に含まれている添加剤濃度の好ましい範囲は、ＭＰＳでは０．５〜５０ｐｐｍ、ＤＤＡＣ重合体では１ｐｐｍ〜５０ｐｐｍ、そして塩素では５ｐｐｍ〜６０ｐｐｍであり、ヤヌスグリーンを２ｐｐｍ〜３０ｐｐｍ含むことが更に好ましいのである。そして、更に好ましいヤヌスグリーンの濃度範囲は５ｐｐｍ〜１５ｐｐｍである。なお、ＭＰＳは電解液中で２量体化することがあるが、ここで言うＭＰＳには当該２量体及びはじめから２量体として添加した場合をも含む概念で記載している。  
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
ヤヌスグリーン濃度が２ｐｐｍを下回るとＤＤＡＣ重合体構造の違いを平準化する効果が得られなくなるとともに低プロファイル化の効果及び陰極表面の凹凸形状の析出面粗さへの影響緩和が十分に得られないのである。そして、３０ｐｐｍを超えて添加してもＤＤＡＣ重合体構造の違いを平準化する効果及び析出面の低プロファイル化の効果及び陰極表面の凹凸形状の析出面粗さへの影響緩和がともに飽和状態に達してしまっており有用とは言えないのである。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７２】
本件発明に係る銅電解液を用いることで、低プロファイルの銅の析出面を得ることが出来る。従って、この銅電解液を用いて製造される電解銅箔は、従来市場に供給されてきた低プロファイル電解銅箔に比べ、更に低プロファイルであり、且つ、一般的な工程管理項目である添加剤の素性と陰極表面形状のばらつきの影響をミニマイズできている。従って、その析出面に上記表面処理を施し、粗化処理を施した場合でも、従来に無いレベルの低プロファイルの表面処理銅箔を安定的に、容易に得ることが出来る。従って、当該硫酸系銅電解液は、テープ  オートメーティド  ボンディング（ＴＡＢ）基板やチップ  オン  フレキシブル（ＣＯＦ）基板等のファインピッチ回路の形成を要求される用途に好適な電解銅箔を製造するのに好適な銅電解液である。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月7日(2009.9.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材表面に酸化イットリウムからなる構造物がエアロゾルデポジション法によって形成された複合構造物であって、
前記構造物は酸化イットリウム多結晶体が主成分であり、前記構造物を構成する結晶同士の界面にはガラス質からなる粒界層が実質的に存在せず、さらに前記構造物を構成する前記酸化イットリウム多結晶体の結晶構造に立方晶系（ｃｕｂｉｃ）と単斜晶系（ｍｏｎｏｃｌｉｎｉｃ）とが混在するように、前記エアロゾルデポジション法において、エアロゾルは、前記構造物を形成する酸化イットリウム微粒子と、前記酸化イットリウム微粒子よりも大粒径の、前記構造物の構成材料にはならない粒子とを含むことを特徴とする複合構造物。
【請求項２】
請求項１に記載の複合構造物において、前記複合構造物の一部が基材表面に食い込むアンカー部となっていることを特徴とする複合構造物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記目的を達成するために本発明によれば、基材表面にエアロゾルデポジション法によって形成された酸化イットリウムからなる構造物は、酸化イットリウム多結晶体が主成分であり、構造物を構成する結晶同士の界面にはガラス質からなる粒界層が実質的に存在せず、さらに前記構造物を構成する酸化イットリウム多結晶体の結晶構造に立方晶系（ｃｕｂｉｃ）と単斜晶系（ｍｏｎｏｃｌｉｎｉｃ）とが混在するように、前記エアロゾルデポジション法において、エアロゾルは、前記構造物を形成する酸化イットリウム微粒子と、前記酸化イットリウム微粒子よりも大粒径の、前記構造物の構成材料にはならない粒子とを含むことにより、基材表面に形成された酸化イットリウムからなる構造物の硬度を酸化イットリウム焼結体の硬度よりも大きくすることを可能とした。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月30日(2009.9.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｉ．Ｓ．機械用の押出し機構であって、
複数の指状突出部を支持するアームを含むプッシャ指状突出部組立体を備え、
前記アームが、形成された瓶を受けるためにそれぞれコーナー部を有する対応する数のポケットを前記指状突出部と共に画成する正面部と、背面部と、前記背面部に画成された対応する数のキャビティと、入口ポートおよび該入口ポートを前記キャビティのそれぞれに連結する導管を備える空気マニホルドと、前記ポケットの前記コーナー部で各キャビティから前記正面部に延びる通し穴と、を有し、
前記プッシャ指状突出部組立体は、更に、対応する数のオリフィス部材であって、それぞれが、キャビティに挿入するように構成されたベース部、および前記キャビティの前記穴に挿入するように構成されており前記アームの前記正面部を越えた位置において終端するポストを有するオリフィス部材を備え、前記ポストがその端部に空気吐出ポートを備え、前記ベース部が、空気を前記アームの前記空気マニホルドから前記空気吐出ポートに送るための空気導管を備え、
前記プッシャ指状突出部組立体は、更に、前記吐出ポートを選択された向きにして、前記キャビティ内に前記オリフィス部材の前記ベース部を取外し可能に固定する手段を有し、前記空気吐出ポートの位置が、一の長さのポストを有するオリフィス部材を取外し、それらを別の長さのポストを有するオリフィス部材に交換することによって調整可能である、
ことを特徴とする、押出し機構。
【請求項２】
前記キャビティが円筒形のポケットであることを特徴とする、請求項１に記載のＩ．Ｓ．機械用の押出し機構。
【請求項３】
前記オリフィス部材の前記ベース部が、前記円筒形のポケットの寸法および形状である、請求項２に記載のＩ．Ｓ．機械用の押出し機構。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
上記目的を達成するため、本発明は、Ｉ．Ｓ．機械用の押出し機構であって、複数の指状突出部を支持するアームを含むプッシャ指状突出部組立体を備え、前記アームが、形成された瓶を受けるためにそれぞれコーナー部を有する対応する数のポケットを前記指状突出部と共に画成する正面部と、背面部と、前記背面部に画成された対応する数のキャビティと、入口ポートおよび該入口ポートを前記キャビティのそれぞれに連結する導管を備える空気マニホルドと、前記ポケットの前記コーナー部で各キャビティから前記正面部に延びる通し穴と、を有し、前記プッシャ指状突出部組立体は、更に、対応する数のオリフィス部材であって、それぞれが、キャビティに挿入するように構成されたベース部、および前記キャビティの前記穴に挿入するように構成されており前記アームの前記正面部を越えた位置において終端するポストを有するオリフィス部材を備え、前記ポストがその端部に空気吐出ポートを備え、前記ベース部が、空気を前記アームの前記空気マニホルドから前記空気吐出ポートに送るための空気導管を備え、前記プッシャ指状突出部組立体は、更に、前記吐出ポートを選択された向きにして、前記キャビティ内に前記オリフィス部材の前記ベース部を取外し可能に固定する手段を有し、前記空気吐出ポートの位置が、一の長さのポストを有するオリフィス部材を取外し、それらを別の長さのポストを有するオリフィス部材に交換することによって調整可能であることを特徴とする、押出し機構を提供する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
図２は、組立て前のアーム１１の背面部を示す。押出しブラケット１６の、供給ライン（図示せず）から空気を受け取る空気入口２０は、アーム１１内の交差導管（ｃｒｏｓｓｃｏｎｄｕｉｔ）２２と連通する。オリフィス部材２４（図３）は、円筒形ヘッド部２６および突出するポスト２８を有する。オリフィス部材２４の円筒形ヘッド部２６は、合致する寸法および形状を有する円筒形キャビティ３２に嵌合し、アーム１１のネジ付きの穴３６に入る取付ネジ３４によって定位置に取外し可能に取り付けられる。ネジは、オリフィス部材２４を、向きを定めて配置する。ポスト２８は、穴３８を貫通して延びる。オリフィス部材２４内の交差穴４０は、空気をポストの軸方向穴４２に供給するためにアームの交差ボア２２と連通し、軸方向穴４２は、空気を出口穴または噴出口（ｊｅｔ）４４に供給する。例示の実施形態では、穴は上方にも下方にも排気する。ポスト部分がアーム１１の正面部から突出する距離は、距離５０によって表される。図示のように、このオリフィスは、空気噴出口の配置が容易に調整可能なように、簡単に取り除き、より長いまたはより短いポストを有するオリフィス部材と容易に交換することができる。図示のように、ポスト２８の先端部は、噴出口を置かれたボトルの近くに望むとおり配置できるように、面取りされる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2007131524.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月21日(2009.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｉ．Ｓ．マシーンのための型半体であり、
平らな垂直前面と、
当該平らな垂直前面内に規定されているガラス対象物を規定する面とを備え、
前記型半体は、上方部分及び下方部分を備え、当該型半体の上方部分及び下方部分は、後面を有し、前記型半体の下方部分は、適用されるクランプ力を前記平らな垂直前面へと移動させるために前記平らな垂直前面に平行な後方の平らな垂直面部分を有しており、
前記型半体の上方部分の後面は、水平フランジにおいて型の下方部分の後面と接合しており、
前記型の下方部分は、頂面を有する垂直方向に伸長している“Ｔ”字形状のキーを含んでおり、前記後方の平らな垂直面部分は、前記“Ｔ”字形状のキーの頂面を含んでいるＩ．Ｓ．マシーンのための型半体。
【請求項２】
請求項１に記載のＩ．Ｓ．マシーンのための型半体であって、
前記垂直方向に伸長している“Ｔ”字形状のキーが頂部の“Ｔ”字形状部分の上方及び下方の対を含んでいるＩ．Ｓ．マシーンのための型半体。
【請求項３】
請求項１に記載のＩ．Ｓ．マシーンのための型半体であって、
当該型半体が型半体キャリア上に取り付けられる構造とされているＩ．Ｓ．マシーンのための型半体。
【請求項４】
請求項３に記載のＩ．Ｓ．マシーンのための型半体であって、
当該型半体が、前記型半体キャリアの“Ｔ”字形状穴内に前記“Ｔ”字形状キーを降ろすことによって水平方向に配置される構造とされているＩ．Ｓ．マシーンのための型半体。
【請求項５】
請求項３に記載のＩ．Ｓ．マシーンのための型半体であって、
前記水平フランジを前記型半体キャリアの突出部取り付けブラケットの頂面（６２）上に載置することによって垂直方向に位置決めされる構造とされているＩ．Ｓ．マシーンのための型半体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
対向する型の対は、内側傾斜面によって一方の型の面を形成し且つ外側傾斜面又は何らかの他の整合装置によって他方の型面を形成することによって相対的に所望の整合を達成するであろう。図示されているように、各“Ｔ”字形状のキーは、型の前方垂直面７２に平行である後方垂直面を備えている。型が閉じられたときに、この平らな下方面は隣接する摩擦プレートに対して押し付けられるであろう。適合する切欠き７１，７３は、ねじ３５に隣接している楔状部材への工具のアクセスを可能にする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2007131521.tif 000001
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2007131521.tif 000002
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５】
2007131521.tif 000003
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月1日(2009.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
さらに、加硫促進剤0.1〜10重量部および2価金属の酸化物および／または水酸化物1〜40重量部が添加された請求項５記載のフッ素系エラストマー組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
加硫促進剤としては、例えば
(R1R2R3R4N)+X-  または  (R1R2R3R4P)+X-
R1〜R4:炭素数1〜25のアルキル基、アルコキシル基、アリール
基、アルキルアリール基、アラルキル基またはポリオ
キシアルキレン基であり、あるいはこれらの内2〜3個
がNまたはPと共に複素環構造を形成することもできる。
X-:Cl-、Br-、I-、HSO4-、H2PO4-、RCOO-、ROSO2-、CO3--
等のアニオン
で示される4級オニウム塩または一般式［(R5)3P=N=P(R6)3］+Y-(ここでR5、R6は一価炭化水素基、Yはハロゲンである)で示されるイミニウム塩が用いられる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
以上の成分よりなるフッ素系エラストマー組成物の調製は、これらを完全に分散させることができれば特に限定されないが、例えばゴム用２本ロール、加圧ニーダ、ニーダ、バンバリーミキサなどを用いて行われ、次いで160〜200℃、5〜15分間の条件下でプレス加硫した後、200〜230℃、1〜24時間の二次加硫を行い、圧縮成形、射出成形等の公知の成形方法により、ガスケット、Oリング、パッキン等の所望の形状に加硫成形される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
本発明にかかるフッ素系エラストマー組成物より得られる加硫成形品は、ガスケット、Oリング、パッキン等の自動車用ゴム部品をはじめとする各種ゴム製品に有効に用いられる。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月30日(2009.10.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
サブツールテーブル３０Ｂにも、上記した第１のコイルばね成形ツールＴ１と、第２のコイルばね成形ツールＴ２と、折り曲げツールＴ３とが取り付けられている。そして、ヘッド回転中心軸Ｊ２から所定距離だけ平行移動した架空の中心軸が、サブツールテーブル３０Ｂの回転位置に応じて各ツールＴ１，Ｔ２，Ｔ３の先端面Ｔ１１，Ｔ２１，Ｔ３３と第１円柱突部Ｔ３１とを貫通するように配置されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
仮想軸駆動演算プログラムＰＧ１を実行すると、図１２に示すように、ＣＰＵ７３Ｂは、仮想回転中心軸Ｊ４を特定するための旋回オフセット量Ｌｒと、Ｘ座標オフセット量Ｌｘと、Ｙ座標オフセット量Ｌｙのデータをメモリ７３Ａから取り込む（Ｓ１０）。次いで、図１１に示したＸＹ座標系において、そのＸＹ平面とヘッド回転中心軸Ｊ２との交点Ｐ２のＸＹ座標位置と、ＸＹ平面と仮想回転中心軸Ｊ４との交点Ｐ４のＸＹ座標位置とを求める（図１２のＳ１１）。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月24日(2009.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の変調方式の中から選択される変調方式を用いて送信信号を変調して、直交ベースバンド信号である第１のシンボルを生成し、
特定の変調方式を用いてパイロットシンボルである第２のシンボルを生成し、
前記第２のシンボルの直前または直後に配置するための、前記第１のシンボルとは異なる第３のシンボルを生成し、
信号空間ダイヤグラムにおいて、前記第３のシンボルの信号点は、原点と前記第２のシンボルの信号点とを結ぶ仮想線上に配置される
送信信号生成方法。
【請求項２】
前記第２のシンボルの直前または直後に前記第３のシンボルを配置し、前記第２のシンボル及び前記第３のシンボルの時間軸後方に前記第１のシンボルを配置することにより送信フレームを生成する
請求項１記載の送信信号生成方法。
【請求項３】
前記第２のシンボルを生成するための特定の変調方式は、ＢＰＳＫ変調である
請求項１又は２記載の送信信号生成方法。
【請求項４】
前記送信信号の変調に用いる変調方式は、送信装置と受信装置との間の通信品質情報に基づいて選択される
請求項１乃至３いずれか一項に記載の送信信号生成方法。
【請求項５】
前記第１のシンボルに対する前記第２のシンボルの挿入間隔を、送信装置と受信装置との間の通信品質情報に基づいて切り替える
請求項１乃至３いずれか一項に記載の送信信号生成方法。
【請求項６】
前記通信品質情報は、伝送路の変動情報と、受信信号レベル情報との少なくとも一方を含む
請求項４又は５記載の送信信号生成方法。
【請求項７】
複数の変調方式の中から選択される変調方式を用いて送信信号を変調して、直交ベースバンド信号である第１のシンボルを生成する第１シンボル生成部と、
特定の変調方式を用いてパイロットシンボルである第２のシンボルを生成する第２シンボル生成部と、
前記第２のシンボルの直前または直後に配置するための、前記第１のシンボルとは異なる第３のシンボルを生成する第３シンボル生成部と
を具備し、
信号空間ダイヤグラムにおいて、前記第３のシンボルの信号点は、原点と前記第２のシンボルの信号点とを結ぶ仮想線上に配置される
送信信号生成装置。
【請求項８】
前記第２のシンボルの直前または直後に前記第３のシンボルを配置し、前記第２のシンボル及び前記第３のシンボルの時間軸後方に前記第１のシンボルを配置することにより送信フレームを生成するフレーム構成部をさらに備える
請求項７記載の送信信号生成装置。
【請求項９】
前記第２のシンボルを生成するための特定の変調方式は、ＢＰＳＫ変調である
請求項７又は８記載の送信信号生成装置。
【請求項１０】
前記送信信号の変調に用いる変調方式は、送信装置と受信装置との間の通信品質情報に基づいて選択される
請求項７乃至９いずれか一項に記載の送信信号生成装置。
【請求項１１】
前記第１のシンボルに対する前記第２のシンボルの挿入間隔を、送信装置と受信装置との間の通信品質情報に基づいて切り替える
請求項７乃至９いずれか一項に記載の送信信号生成装置。
【請求項１２】
前記通信品質情報は、伝送路の変動情報と、受信信号レベル情報との少なくとも一方を含む
請求項１０又は１１記載の送信信号生成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】送信信号生成方法及び送信信号生成装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、データ伝送効率の向上とデータの品質の向上に対し柔軟に対処することができる送信信号生成方法及び送信信号生成装置を提供することを目的とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の送信信号生成方法は、複数の変調方式の中から選択される変調方式を用いて送信信号を変調して、直交ベースバンド信号である第１のシンボルを生成し、特定の変調方式を用いてパイロットシンボルである第２のシンボルを生成し、第２のシンボルの直前または直後に配置するための、第１のシンボルとは異なる第３のシンボルを生成し、信号空間ダイヤグラムにおいて、第３のシンボルの信号点は、原点と第２のシンボルの信号点とを結ぶ仮想線上に配置される方法を採る。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の送信信号生成装置は、複数の変調方式の中から選択される変調方式を用いて送信信号を変調して、直交ベースバンド信号である第１のシンボルを生成する第１シンボル生成部と、特定の変調方式を用いてパイロットシンボルである第２のシンボルを生成する第２シンボル生成部と、第２のシンボルの直前または直後に配置するための、第１のシンボルとは異なる第３のシンボルを生成する第３シンボル生成部とを具備し、信号空間ダイヤグラムにおいて、第３のシンボルの信号点は、原点と第２のシンボルの信号点とを結ぶ仮想線上に配置される構成を採る。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明によれば、第１のシンボルを生成する際の変調方式を可変とし、信号空間ダイヤグラムにおいて、第３のシンボルの信号点を、原点と第２のシンボルの信号点とを結ぶ仮想線上に配置することにより、データ伝送効率の向上とデータ品質の向上の両立を図ることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成21年8月18日(2009.8.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
キャップ絶縁層を層間誘電体上に付着し、
複数のトレンチを前記層間誘電体の第１および第２の領域と前記キャップ絶縁層とに形成し、
前記領域中のトレンチの集中度の比較にもとづいて、前記第１の領域上の前記キャップ絶縁層を除去し、前記キャップ絶縁層を前記第２の領域上に残留させるステップ、
前記除去するステップは、さらに、前記第１および第２の領域間で化学機械研磨率を調節するステップを具備する半導体装置の製造方法。
【請求項２】
さらに、前記第１の領域中のトレンチ密度を計算し、
前記トレンチ密度をあらかじめ定められた密度のカットオフ値と比較するステップを含み、
前記トレンチ密度は、前記トレンチにより占有される前記第１の領域の面積のパーセンテージであり、前記あらかじめ定められたカットオフ値はパーセンテージである請求項１に記載の方法。
【請求項３】
半導体層と、
前記半導体層上に配置された層間誘電体と、
第１のトレンチ密度を有する、前記層間誘電体の第１の領域中の第１の複数のトレンチと、
前記第１のトレンチ密度よりも小さい第２のトレンチ密度を有する、前記層間誘電体の第２の領域中の第２の複数のトレンチと、
前記第１の領域上にはなく、前記第２の領域上だけに配置されているキャップ絶縁層とを具備する半導体装置。
【請求項４】
キャップ絶縁層を層間誘電体上に付着し、
複数のトレンチを前記層間誘電体に形成し、
前記層間誘電体の複数の領域のトレンチ密度を計算し、
前記トレンチ密度にもとづいて、前記キャップ絶縁層の部分を選択的に除去するステップを含み、前記キャップ絶縁層は、前記層間誘電体の領域の少なくとも１つの領域から除去され、前記層間誘電体の領域の少なくとも別の領域で保存される半導体装置の製造方法。
【請求項５】
前記選択的に除去するステップは、前記計算されたトレンチ密度をあらかじめ定められた密度のカットオフ値と比較するステップを含む請求項４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月12日(2009.2.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
送信されてきたデータを受信して他の機器に転送する通信装置であって、
受信したデータの送信元を示す送信元情報を取得する取得手段と、
前記受信したデータを特定のフォーマットのデータに変換する変換手段と、
前記取得手段で取得した前記送信元情報を前記特定のフォーマットのデータに付加する付加手段と、
前記通信装置の秘密鍵と当該秘密鍵に対応する公開鍵証明書を使用して、前記送信元情報が付加された前記特定のフォーマットのデータに対応する電子署名を生成する電子署名手段と、
前記電子署名手段により生成された電子署名が付加された前記特定のフォーマットのデータを転送先に転送する転送手段と、
を有することを特徴とする通信装置。
【請求項２】
前記送信元情報は、受信したデータの送信者のメールアドレスを含むことを特徴とする請求項１に記載の通信装置。
【請求項３】
前記送信元情報は、受信したデータの送信者が送信に使用した端末機器の電話番号を含むことを特徴とする請求項１に記載の通信装置。
【請求項４】
データを転送する条件を示す転送条件情報、データの転送先を示す転送先情報、転送されるデータのファイル形式を示す転送ファイル形式情報を設定する設定手段と、
受信したデータが前記転送条件情報によって示される転送条件を満たしているか否かを判定する判定手段とを有し、
前記変換手段は、前記転送ファイル形式情報によって示されるファイル形式のデータに変換し、
前記転送手段は、受信したデータが前記転送条件情報によって示される転送条件を満たしている場合に、前記送信元情報が付加された前記特定のフォーマットのデータを、前記転送先情報によって示される転送先に転送することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項５】
前記電子署名手段は、受信したデータが暗号化されている場合に前記電子署名を生成することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項６】
送信されてきたデータを受信して他の機器に転送する通信装置における通信制御方法であって、
受信したデータの送信元を示す送信元情報を取得する取得工程と、
前記受信したデータを特定のフォーマットのデータに変換する変換工程と、
前記取得工程で取得した前記送信元情報を前記特定のフォーマットのデータに付加する付加工程と、
前記通信装置の秘密鍵と当該秘密鍵に対応する公開鍵証明書を使用して、前記送信元情報が付加された前記特定のフォーマットのデータに対応する電子署名を生成する電子署名工程と、
前記電子署名工程で生成された電子署名が付加された前記特定のフォーマットのデータを転送先に転送する転送工程と、
を有することを特徴とする通信制御方法。
【請求項７】
請求項６に記載の通信制御方法の各工程をコンピュータにより実行させるためのコンピュータプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、ファクシミリや電子メール等で送信されてきたデータを他の機器に転送する通信装置及び前記通信装置における通信制御方法に関するものである。尚、ここでデータとは、文書データ及び／或は画像データ等を含むデータを総称している。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本願発明の特徴は、受信したデータを特定のファイル形式に変換して転送した場合でも、そのデータの元々の送信者を特定できる技術を提供することにある。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記目的を達成するために本発明の一態様に係る通信装置は以下のような構成を備える。即ち、
送信されてきたデータを受信して他の機器に転送する通信装置であって、
受信したデータの送信元を示す送信元情報を取得する取得手段と、
前記受信したデータを特定のフォーマットのデータに変換する変換手段と、
前記取得手段で取得した前記送信元情報を前記特定のフォーマットのデータに付加する付加手段と、
前記通信装置の秘密鍵と当該秘密鍵に対応する公開鍵証明書を使用して、前記送信元情報が付加された前記特定のフォーマットのデータに対応する電子署名を生成する電子署名手段と、
前記電子署名手段により生成された電子署名が付加された前記特定のフォーマットのデータを転送先に転送する転送手段と、を有することを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記目的を達成するために本発明の一態様に係る通信装置における通信制御方法は以下のような工程を備える。即ち、
送信されてきたデータを受信して他の機器に転送する通信装置における通信制御方法であって、
受信したデータの送信元を示す送信元情報を取得する取得工程と、
前記受信したデータを特定のフォーマットのデータに変換する変換工程と、
前記取得工程で取得した前記送信元情報を前記特定のフォーマットのデータに付加する付加工程と、
前記通信装置の秘密鍵と当該秘密鍵に対応する公開鍵証明書を使用して、前記送信元情報が付加された前記特定のフォーマットのデータに対応する電子署名を生成する電子署名工程と、
前記電子署名工程で生成された電子署名が付加された前記特定のフォーマットのデータを転送先に転送する転送工程と、を有することを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明によれば、受信したデータを他の機器に転送する場合に、転送先で送信元を確実に認識させることができるとともに、当該転送を行った装置も特定させることができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
ここではディスプレイ２０３に、プロパティ情報として、ファイルのサイズ、作成日時、更新日時、送信者、署名者等の情報が表示されている。ここではプロパティ１００２を表示すると、ステップＳ１５でＰＤＦファイルに埋め込んだFromアドレス１００４が表示されている。更に１００５には、この電子署名が誰によってなされたかを示す署名者の情報が表示されている。また「詳細表示」１００３を指示することにより、公開鍵証明書８０２に関する情報が別のウインドウで表示される。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月7日(2009.1.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記位相差演算手段は、前記第一の正弦波信号データｘ[ｋ]と第二の正弦波信号データｙ[ｋ]の位相差を式（１）〜（７）により算出することを特徴とする請求項１に記載のディジタル位相同期装置。
【数１】
2007221548.tif 000001
ここで、「ｘ’[ｋ]」，「ｙ’[ｋ]」はそれぞれｘ[ｋ] ，ｙ[ｋ]を微分した信号データ、「Ａ1」，「Ａ2」はそれぞれｘ[ｋ] ，ｙ[ｋ]の振幅値を示す。また、「ω」は位相角速度を示し、「ｋ＋１」は、サンプリングデータの時間軸上の位置ｋに対して１つ後の時間軸上の位置を示し、「ｋ−１」は、上記ｋに対して１つ前の時間軸上の位置を示す。
【数２】
2007221548.tif 000002
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
ローパスフィルタ１０２は、前記位相比較器１０１が出力した位相差信号を入力し、含まれる高周波成分及び雑音を除去してＶＣＯ１０３の電圧制御信号として出力する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
位相角速度データレジスタ５１１は、位相角速度調整回路３より入力された位相角速度調整データを、設定している位相角速度データに加算したうえで出力する。位相角速度データレジスタ５１１には、初期設定の周波数に応じた値を初期値として設定してあり、入力された位相角速度調整データの値により位相角速度データを１ずつ増減する。この位相角速度データが、先述の位相情報アドレスの増加量に該当し、位相角速度調整データにより正弦波生成回路の出力正弦波の周波数を微調整することになる。ここで、位相情報アドレスがｎビットで構成されていて、位相情報アドレスの増加量がＮの場合、位相情報アドレスは２n/Ｎ回の基準クロックを１回の周期としてオーバーフローする（図４（ｂ１）参照）。すなわち、基準クロックの周波数をｆclk［Ｈｚ］とすると、正弦波生成回路５の出力正弦波の周波数はｆclk＊Ｎ／２n［Ｈｚ］となり、Ｎが１増加すると、ｆclk／２n［Ｈｚ］増加する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
位相オフセット加算回路５１３は、位相累算回路５１２が出力する位相情報アドレスに位相オフセット調整回路２が出力する位相オフセット調整データを加算して出力する。内部生成波が基準波より遅れている位相を加えることで、内部生成波の位相を基準波に合わせる。例えば、位相オフセット調整データがＮ’＝２n-2−１（１／２πに相当）の場合、通常０から始まる位相情報アドレスがＮ’から始まって、図４（ｄ１）のようになり、この入力による後述の波形メモリ５２の出力は、図４（ｄ２）のように、位相が１／２π進むことになる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６３】
位相差検出回路１からの出力である位相差ｐｈ０（内部生成波と基準波の位相差、内部生成波のほうが遅れている場合プラスになる）を検出し（Ｓ１）、ｐｈ０が０かどうか判別する（Ｓ２）。ｐｈ０＝０（ステップＳ２：ＹＥＳ）の場合、すなわち内部生成波と基準波の位相があっている場合、位相を同期する必要がないので、ステップＳ４に進む。ｐｈ０≠０（ステップＳ２：ＮＯ）の場合、内部生成波と基準波の位相を同期するために、正弦波生成回路５から出力する内部生成波の位相をｐｈ０進める（Ｓ３）。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
ステップＳ３で位相を合わせても、周波数の違いによる位相差は残る。次に、この位相差ｐｈ１を検出し（Ｓ４）、ｐｈ１が０より大きいか否かを判別する（Ｓ５）。ｐｈ１＞０（ステップＳ５：ＹＥＳ）の場合、すなわち内部生成波の位相が基準波の位相より遅れている場合、内部生成波の位相角速度が小さいので、正弦波生成回路５の位相角速度を増加させ（Ｓ６）、ステップＳ１に戻る。ｐｈ１≦０（ステップＳ５：ＮＯ）の場合、更にｐｈ１が０より小さいか否かを判別する（Ｓ７）。ｐｈ１＜０（ステップＳ７：ＹＥＳ）の場合、すなわち内部生成波の位相が基準波の位相より進んでいる場合、内部生成波の位相角速度が大きいので、正弦波生成回路５の位相角を減少させ（Ｓ８）、ステップＳ１に戻る。ｐｈ１＝０（ステップ７：ＮＯ）の場合、内部生成波の位相が基準波の位相と同期しているので、そのまま位相角速度を変えずに、ステップＳ１に戻る。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６７】
【図１】本願発明に係るディジタル位相同期装置のブロック図である。
【図２】位相差検出回路の内部構成を示すブロック図である。
【図３】位相情報アドレスと波形メモリを説明するための図である。
【図４】ＤＤＳの動作を説明するための図である。
【図５】正弦波生成回路の内部構成を示すブロック図である。
【図６】検出した位相差により、位相と周波数を同期させる制御の処理手順を示すフローチャートである。
【図７】従来のＰＬＬ（位相同期回路）のブロック図である。
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
2007221548.tif 000003
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月14日(2009.1.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転軸の周囲に永久磁石が取り付けられた回転部材と、
前記永久磁石の周囲に配置され、ヨークに装着されたコイルと、
前記ヨークに一体形成され、前記コイルの端末が取り付けられた端子と、
から構成されたことを特徴とするモータ装置。
【請求項２】
前記コイルの端末と前記端子の間には絶縁層が設けられていることを特徴とする請求項１に記載のモータ装置。
【請求項３】
前記コイルは、自己融着にて固定されていることを特徴とする請求項１、又は請求項２に記載のモータ装置。
【請求項４】
モータ装置のステータに使用するコイルをヨークに装着するコイル装着方法であって、
端子が形成されたヨークにコイルを装着するコイル装着ステップと、
前記コイルの端末を前記端子に取り付ける端末取付ステップと、
を有することを特徴とするコイル装着方法。
【請求項５】
前記端子を前記コイルに接合する接合ステップを有することを特徴とする請求項４に記載のコイル装着方法。
【請求項６】
モータ装置のステータに使用するコイルをヨークに巻装するコイル巻装方法であって、
前記ヨークの磁極の間にガイド冶具を設置して前記磁極歯の外周に円形の周面を形成するガイド冶具設置ステップと、
前記周面上にコイル線を巻くコイル線巻きステップと、
を有することを特徴とするコイル線巻装方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、前記目的を達成するために、回転軸の周囲に永久磁石が取り付けられた回転部材と、前記永久磁石の周囲に配置され、ヨークに装着されたコイルと、前記ヨークに一体形成され、前記コイルの端末が取り付けられた端子と、から構成されたことを特徴とするモータ装置を提供する（第１の構成）。
第１の構成において、前記コイルの端末と前記端子の間には絶縁層が設けられているように構成することもできる（第２の構成）。
第１の構成、又は第２の構成において、前記コイルは、自己融着にて固定されているように構成することもできる（第３の構成）。
また、本発明は、モータ装置のステータに使用するコイルをヨークに装着するコイル装着方法であって、端子が形成されたヨークにコイルを装着するコイル装着ステップと、前記コイルの端末を前記端子に取り付ける端末取付ステップと、を有することを特徴とするコイル装着方法を提供する（第４の構成）。
第４の構成において、前記端子を前記コイルに接合する接合ステップを有するように構成することもできる（第５の構成）。
また、本発明は、モータ装置のステータに使用するコイルをヨークに巻装するコイル巻装方法であって、前記ヨークの磁極の間にガイド冶具を設置して前記磁極歯の外周に円形の周面を形成するガイド冶具設置ステップと、前記周面上にコイル線を巻くコイル線巻きステップと、を有することを特徴とするコイル線巻装方法を提供する  (第６の構成)。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月22日(2008.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
正弦波状の連続した電流を用いて交流電動機を駆動するインバータを制御する交流電動機の制御方法において、
直流電源がインバータへ供給する電流を検出する電流検出手段によって検出されたインバータ電流をサンプルするサンプル手段を設け、
前記搬送波信号の正のピーク値と負のピーク値の中間時刻をトリガとし、
前記サンプル手段は、前記トリガを用いて前記インバータ電流値をサンプルすることを特徴とする交流電動機の制御方法。
【請求項２】
正弦波状の連続した電流を用いて交流電動機を駆動するインバータを制御する交流電動機の制御装置において、
直流電源がインバータへ供給する電流を検出する電流検出手段によって検出されたインバータ電流をサンプルするサンプル手段を設け、
前記搬送波信号の正のピーク値と負のピーク値の中間時刻をトリガとし、
前記サンプル手段は、前記トリガを用いて前記インバータ電流値をサンプルすることを特徴とする交流電動機の制御装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月24日(2008.12.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
交互にスイッチングされるように接続された第１のスイッチング素子から構成される第１のスイッチング回路を含み、出力電圧が変動する低電圧直流電源から直流電力が入力され、この直流電力をＤＣ−ＡＣ変換して出力する電圧共振回路と、
導通電流が零並びに印加電圧が零のタイミングで前記第１のスイッチング素子をターンオン及びターンオフして前記電圧共振回路における電圧共振を維持するドライバ回路と、
１次側及び２次側を有し、その１次側に前記電圧共振回路からの出力電圧が入力される第１の絶縁型高周波トランスと、
前記第１のトランスの２次側の第１端子に接続されるチョークコイル及びこのチョークコイルに夫々直列に接続される第１及び第２キャパシタから成る電流共振回路と、
第１及び第２のダイオードが直列接続された第１のダイオード接続、この第１のダイオード接続に並列に接続された第３キャパシタ、第２及び第３のダイオードが直列接続された第２のダイオード接続、この第２のダイオード接続に並列に接続された第４キャパシタとから構成され、この第１及び第２のダイオード接続間の接続点並びに第３及び第４のキャパシタ間の接続点が前記第１のトランスの２次側の第２端子に接続され、前記第３キャパシタが前記第１及び第２のダイオード間の接続点に接続され、前記第４キャパシタが前記第３及び第４のダイオード間の接続点に接続されている倍電圧回路と、
前記第３及び第４キャパシタの一方の電圧或いは前記第３及び第４キャパシタの直列接続の電圧を切り替える第２のスイッチング回路と、
このスイッチング回路からの出力を平滑化して出力する平滑回路と、
を具備することを特徴とするＤＣ―ＤＣコンバータ。
【請求項２】
前記電圧共振回路は、ブリッジ型又はプッシュプル型のいずれかであることを特徴とする請求項１に記載のＤＣ−ＤＣコンバータ。
【請求項３】
前記スイッチング回路は、前記第３及び第４キャパシタの一方に並列に接続されたダイオード及びスイッチング素子の直列回路から構成され、前記平滑回路は、前記第３及び第４キャパシタの直列接続に並列接続されたチョークコイル及び第５のキャパシタから構成され、この第５のキャパシタの両端電圧が出力されることを特徴とする請求項１に記載のＤＣ−ＤＣコンバータ。
【請求項４】
交互にスイッチングされるように接続された第１のスイッチング素子から構成される第１のスイッチング回路を含み、出力電圧が変動する低電圧直流電源から直流電力が入力され、この直流電力をＤＣ−ＡＣ変換して出力する電圧共振回路と、
導通電流が零並びに印加電圧が零のタイミングで前記第１のスイッチング素子をターンオン及びターンオフして前記第１の電圧共振回路における電圧共振を維持する第１のドライバ回路と、
１次側及び２次側を有し、その１次側に前記電圧共振回路からの出力電圧が入力される第１の絶縁型高周波トランスと、
前記第１のトランスの２次側の第１端子に接続されるチョークコイル及びこのチョークコイルに夫々直列に接続されキャパシタから成る電流共振回路と、
この電流共振回路に接続され、前記電流共振回路からの出力電流を整流して電圧を出力する整流回路と、
この整流回路に接続された第２のスイッチング素子を含む第２のスイッチング回路と、
前記整流回路からの電圧出力を平滑化して平滑化電圧を出力する平滑回路と
前記平滑化出力に応じて前記第２のスイッチング素子のオンオフを制御して前記平滑化電圧を安定化させる制御回路と、
を具備することを特徴とするＤＣ―ＤＣコンバータ。
【請求項５】
前記制御回路は、前記第２のスイッチングをオンオフするPWM幅信号を発生するPWM信号発生器を含み、このPWM信号のパルス幅を前記平滑化出力に応じて選定することを特徴とする請求項４のＤＣ―ＤＣコンバータ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
この発明によれば、
交互にスイッチングされるように接続された第１のスイッチング素子から構成される第１のスイッチング回路を含み、出力電圧が変動する低電圧直流電源から直流電力が入力され、この直流電力をＤＣ−ＡＣ変換して出力する電圧共振回路と、
導通電流が零並びに印加電圧が零のタイミングで前記第１のスイッチング素子をターンオン及びターンオフして前記電圧共振回路における電圧共振を維持するドライバ回路と、
１次側及び２次側を有し、その１次側に前記電圧共振回路からの出力電圧が入力される第１の絶縁型高周波トランスと、
前記第１のトランスの２次側の第１端子に接続されるチョークコイル及びこのチョークコイルに夫々直列に接続される第１及び第２キャパシタから成る電流共振回路と、
第１及び第２のダイオードが直列接続された第１のダイオード接続、この第１のダイオード接続に並列に接続された第３キャパシタ、第２及び第３のダイオードが直列接続された第２のダイオード接続、この第２のダイオード接続に並列に接続された第４キャパシタとから構成され、この第１及び第２のダイオード接続間の接続点並びに第３及び第４のキャパシタ間の接続点が前記第１のトランスの２次側の第２端子に接続され、前記第３キャパシタが前記第１及び第２のダイオード間の接続点に接続され、前記第４キャパシタが前記第３及び第４のダイオード間の接続点に接続されている倍電圧回路と、
前記第３及び第４キャパシタの一方の電圧或いは前記第３及び第４キャパシタの直列接続の電圧を切り替える第２のスイッチング回路と、
この第２のスイッチング回路からの出力を平滑化して出力する平滑回路と、
を具備することを特徴とするＤＣ―ＤＣコンバータが提供される。
また、この発明によれば、
交互にスイッチングされるように接続された第１のスイッチング素子から構成される第１のスイッチング回路を含み、出力電圧が変動する低電圧直流電源から直流電力が入力され、この直流電力をＤＣ−ＡＣ変換して出力する電圧共振回路と、
導通電流が零並びに印加電圧が零のタイミングで前記第１のスイッチング素子をターンオン及びターンオフして前記第１の電圧共振回路における電圧共振を維持する第１のドライバと、
１次側及び２次側を有し、その１次側に前記電圧共振回路からの出力電圧が入力される第１の絶縁型高周波トランスと、
前記第１のトランスの２次側の第１端子に接続されるチョークコイル及びこのチョークコイルに夫々直列に接続されキャパシタから成る電流共振回路と、
この電流共振回路に接続され、電流共振回路からの出力電流を整流して電圧を出力する整流回路と、
この整流回路に接続された第２のスイッチング素子を含む第２のスイッチング回路と、
前記整流回路からの電圧出力を平滑化して平滑化電圧を出力する平滑回路と
前記平滑化出力に応じて前記第２のスイッチング素子のオンオフを制御して前記平滑化電圧を安定化させる制御回路と、
を具備することを特徴とするＤＣ―ＤＣコンバータが提供される。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月7日(2009.1.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
端末装置にネットワークを介して接続されるサーバ装置に接続され、プロセッサ、メモリ及びインタフェースを備える管理装置であって、
前記プロセッサは、
前記サーバ装置から出力されるパケット及び前記サーバ装置に入力されるパケットを捕捉し、
前記サーバ装置が前記入力パケットの処理を開始した時刻を推定し、
前記捕捉された出力パケットの数の時間変化に基づいて、前記サーバ装置が前記入力パケットに対する応答を完了した時刻を推定し、
前記推定された応答完了時刻から、前記推定された処理開始時刻を減算することによって、前記サーバ装置のパケット処理時間を算出することを特徴とする管理装置。
【請求項２】
前記プロセッサは、
前記捕捉された出力パケットの数の移動平均値を算出し、
前記算出された移動平均値に基づいて、前記サーバ装置が前記入力パケットに対する応答を完了した時刻を推定することを特徴とする請求項１に記載の管理装置。
【請求項３】
前記プロセッサは、前記算出された移動平均値の減少が止まった時刻を、前記サーバ装置が前記入力パケットに対する応答を完了した時刻と推定することを特徴とする請求項２に記載の管理装置。
【請求項４】
前記プロセッサは、
前記捕捉された入力パケットが前記サーバ装置に入力された時刻を特定し、
前記特定された入力時刻を、前記サーバ装置が前記入力パケットの処理を開始した時刻と推定することを特徴とする請求項１に記載の管理装置。
【請求項５】
前記プロセッサは、前記捕捉された出力パケットの数の時間変化に基づいて、前記サーバ装置が前記入力パケットの応答を開始した時刻を推定することを特徴とする請求項１に記載の管理装置。
【請求項６】
前記プロセッサは、
前記捕捉された出力パケットが前記サーバ装置から出力された時刻を特定し、
当該出力パケットに対する到着確認パケットが前記サーバ装置に入力された時刻を特定し、
前記特定された到着確認パケットの入力時刻から、前記特定された出力パケットの出力時刻を減算することによって、前記サーバ装置から前記端末装置への通信時間を算出し、
前記算出された前記サーバ装置から前記端末装置への通信時間に基づいて、前記端末装置から前記サーバ装置への通信時間を推定し、
前記算出された前記サーバ装置のパケット処理時間に、前記推定された前記端末装置から前記サーバ装置への通信時間を加算することによって、前記サーバ装置のパケット応答時間を算出することを特徴とする請求項１に記載の管理装置。
【請求項７】
前記サーバ装置は、当該サーバ装置にサービスを提供する業務サーバ装置に接続され、
前記プロセッサは、前記捕捉された入力パケットのうち前記業務サーバ装置からの入力パケット及び前記捕捉された出力パケットのうち前記業務サーバ装置への出力パケットをプロトコル解析することによって、前記業務サーバ装置のパケット応答時間及び前記サーバ装置から前記業務サーバ装置への通信時間を算出することを特徴とする請求項１に記載の管理装置。
【請求項８】
前記サーバ装置は、当該サーバ装置に記憶領域を提供するストレージ装置と接続され、
前記プロセッサは、前記捕捉された入力パケットのうち前記ストレージ装置からの入力パケット及び前記捕捉された出力パケットのうち前記ストレージ装置への出力パケットをプロトコル解析することによって、前記ストレージ装置のパケット応答時間及び前記サーバ装置から前記ストレージ装置への通信時間を算出することを特徴とする請求項１に記載の管理装置。
【請求項９】
前記プロセッサは、前記捕捉された出力パケットの数の時間変化に基づいて、前記サーバ装置で実行されているアプリケーションプログラムの種類を特定することを特徴とする請求項１に記載の管理装置。
【請求項１０】
前記プロセッサは、
前記捕捉された出力パケットの数の時間変化に基づいて、前記サーバ装置の通信の不正を検出し、
通信の不正が検出されたサーバ装置の通信ポートの閉塞を指示することを特徴とする請求項１に記載の管理装置。