Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月28日(2012.12.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｈｉｇｈ−ｂａｎｄｗｉｄｔｈ  Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｃｏｎｔｅｎｔ  Ｐｒｏｔｅｃｔｉｏｎ（ＨＤＣＰ）送信デバイスを、時間ベース移動アーキテクチャを有するＨＤＣＰ受信デバイスの複数のポートのうちの第一のポートで認証するステップと、
前記ＨＤＣＰ受信デバイスの前記第一のポートを前記ＨＤＣＰ受信デバイスの前記時間ベース移動アーキテクチャのメインパイプ又は移動パイプに接続するステップであって、前記第一のポートは、第一の時点で、前記ＨＤＣＰ受信デバイスの前記時間ベース移動アーキテクチャの前記メインパイプ又は前記移動パイプによって選択されるステップと、
前記ＨＤＣＰ受信デバイスの前記第一のポートで前記ＨＤＣＰ送信デバイスからの暗号化同期信号を受信するステップと、
前記第一の時点と第二の時点との間の期間が、前記ＨＤＣＰ送信デバイスから送信される連続する同期信号間の期間より大きくないとき、前記ＨＤＣＰ送信デバイスと前記ＨＤＣＰ受信デバイスの間の同期外れを検出するステップと、
前記同期外れの検出に応答して、前記ＨＤＣＰ送信デバイスと前記ＨＤＣＰ受信デバイスの間の再認証を開始するステップと、
を含む方法。
【請求項２】
前記第一のポートは、前記ＨＤＣＰ受信デバイスの前記時間ベース移動アーキテクチャの前記メインパイプによって選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第一のポートは、前記ＨＤＣＰ受信デバイスの前記時間ベース移動アーキテクチャの前記移動パイプによって選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
ＨＤＣＰ送信デバイスを認証する複数のポートのうちの第一のポートを含むＨＤＣＰ受信デバイスを有する装置であって、
前記ＨＤＣＰ受信デバイスは、前記ＨＤＣＰ受信デバイスの前記第一のポートを前記ＨＤＣＰ受信デバイスの前記時間ベース移動アーキテクチャのメインパイプ又は移動パイプに接続するための時間ベース移動アーキテクチャを有するものであって、前記第一のポートは、第一の時点で、前記ＨＤＣＰ受信デバイスの前記時間ベース移動アーキテクチャの前記メインパイプ又は前記移動パイプによって選択され、
前記第一のポートは前記ＨＤＣＰ送信デバイスからの暗号化同期信号を受信し、
前記ＨＤＣＰ受信デバイスは、前記第一の時点と第二の時点との間の期間が、前記ＨＤＣＰ送信デバイスから送信される連続する同期信号の間の期間より大きくないときに、前記ＨＤＣＰ送信デバイスと前記ＨＤＣＰ受信デバイスの間の同期外れを検出し、前記同期外れの検出に応答して、前記ＨＤＣＰ送信デバイスと前記ＨＤＣＰ受信デバイスの間の再認証を開始する同期検出器と、
を備える装置。
【請求項５】
前記第一のポートは、前記ＨＤＣＰ受信デバイスの前記時間ベース移動アーキテクチャの前記メインパイプによって選択される、請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記第一のポートは、前記ＨＤＣＰ受信デバイスの前記時間ベース移動アーキテクチャの前記移動パイプによって選択される、請求項４に記載の装置。
【請求項７】
請求項４に記載された装置と、
前記装置のＨＤＣＰ受信デバイスの第一のポートに連結されたＨＤＣＰ送信デバイスであって、前記ＨＤＣＰ受信デバイスにデータストリームと連続する同期信号とを送信するＨＤＣＰ送信デバイスと、
を備えるシステム。
【請求項８】
前記第一のポートは、前記ＨＤＣＰ受信デバイスの前記時間ベース移動アーキテクチャの前記メインパイプによって選択される、請求項７に記載のシステム。
【請求項９】
前記第一のポートは、前記ＨＤＣＰ受信デバイスの前記時間ベース移動アーキテクチャの前記移動パイプによって選択される、請求項７に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月10日(2013.1.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
デンプンを含む穀物ふすまの可溶化のための方法であって、
ａ）相当量のデンプンを含む粒子穀物ふすまの液体懸濁液を調製し、
ｂ）液体懸濁液中に相当量のデンプンを含む該粒子穀物ふすまを、いずれの成分も除去することなく、任意の順番で連続して、または同時に、１つまたはそれ以上の細胞壁修飾酵素、１つまたはそれ以上のデンプン修飾酵素、および所望により１つまたはそれ以上のトランスグリコシル化酵素、リパーゼ、例えば、ホスホリパーゼまたはガラクトリパーゼおよびプロテアーゼから選択される１つまたはそれ以上のさらなる酵素で処理する
工程を含む方法。
【請求項２】
粒子穀物ふすまの液体懸濁液の約３０％未満、例えば、約２０％未満、例えば、約１０％未満、例えば、約６％未満、例えば、約３％未満、例えば、約１％未満（ｗ／ｗ）が、デンプンまたはデンプンを含む成分、例えば、穀粉である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
該１つまたはそれ以上の細胞壁修飾酵素がキシラナーゼおよびセルラーゼ、例えば、セロビオヒドロラーゼ、エンド−グルカナーゼおよびベータ−グルカナーゼからなる群から選択される、請求項１−２のいずれかに記載の方法。
【請求項４】
該１つまたはそれ以上のデンプン修飾酵素がアルファ−アミラーゼ、プルラナーゼ、イソアミラーゼおよびベータ−アミラーゼからなる群から選択される、請求項１−３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
該粒子ふすまの平均粒径が３０００μｍ未満、例えば、１０００μｍ未満、例えば、５００μｍ未満である、請求項１−４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
該穀物ふすまを産業的製粉工程から得、５００μｍ未満、例えば、４００μｍ未満、例えば、２００μｍ未満の平均粒径を得るためにさらに製粉する、請求項１−５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
さらなる酵素活性を不活性化するために、可溶化された穀物ふすまをさらに処理する、請求項１−６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
乾物  対  乾物ふすまで決定されるとき、可溶化度が２０％以上、例えば、２５％以上、例えば、３０％以上、例えば、３５％以上、例えば、４０％以上、例えば、５０％以上、例えば、４０％−６０％の範囲、例えば、５０％−６０％の範囲である、請求項１−７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
乾物  対  乾物ふすまで決定されるとき、工程ｂ）から得られる可溶性画分中のアラビノキシランオリゴ糖（ＡＸＯＳ）の含有量が、２０％を越える、例えば、３０％を越える、例えば、４０％を越える、例えば、４５％を越える、例えば、５０％を越える、請求項１−８のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
穀物ふすま中の１％以上のデンプン、例えば、穀物ふすま中の２％以上のデンプン、例えば、穀物ふすま中の３％以上のデンプン、例えば、穀物ふすま中の４％以上のデンプン、例えば、穀物ふすま中の５％以上のデンプン、例えば、穀物ふすま中の１０％以上のデンプン、例えば、穀物ふすま中の１５−５０％以上のデンプンが、工程ｂ）から得られる可溶性画分中でイソマルトオリゴ糖（ＩＭＯ）に変換される、請求項１−９のいずれかに記載の方法。
【請求項１１】
乾物  対  乾物ふすまで決定されるとき、工程ｂ）から得られる可溶性画分中の修飾された脂質の含有量が、少なくとも約０．０５％、例えば、少なくとも約１．０％、例えば、０．０５−５％の範囲である、請求項１−１０のいずれかに記載の方法。
【請求項１２】
請求項１−１１のいずれかに記載の方法により生産される可溶化された穀物ふすま。
【請求項１３】
食品の生産のための請求項１２に記載の可溶化された穀物ふすまの使用。
【請求項１４】
請求項１３に記載の使用により得られる食品。
【請求項１５】
ａ）１つまたはそれ以上の細胞壁修飾酵素；１つまたはそれ以上のデンプン修飾酵素、および所望により１つまたはそれ以上のさらなる酵素を含む酵素の組合せ、
ｂ）請求項１−１１のいずれかに記載の方法における使用のための指示書；および
ｃ）所望により食品のための他の成分
を含むパーツを含むキット。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月10日(2013.1.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
脂質含有植物原料の処理のための方法であって、少なくとも部分的に可溶化された脂質含有植物原料の液体懸濁液を１つまたはそれ以上の脂質修飾酵素で処理する工程を含む方法。
【請求項２】
少なくとも部分的に可溶化された脂質含有植物原料の液体懸濁液が本質的にデンプンを含まない、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
少なくとも部分的に可溶化された脂質含有植物原料の液体懸濁液の約５０％未満、例えば、約４０％未満、例えば、約３０％未満、例えば、約２０％未満、例えば、約１０％未満、例えば、約６％未満、例えば、約３％未満、例えば、約１％未満（ｗ／ｗ）がデンプンまたはデンプンを含む成分、例えば、穀粉である、請求項１または２のいずれかに記載の方法。
【請求項４】
該少なくとも部分的に可溶化された植物原料を得るために脂質含有植物原料の液体懸濁液を処理する、先立つ工程、または同時の工程をさらに含み、少なくとも部分的に可溶化された植物原料を得るための該処理がキシラナーゼ、およびセルラーゼ、例えば、セロビオヒドロラーゼ、エンド−グルカナーゼ、およびベータ−グルカナーゼからなる群から選択される１つまたはそれ以上の細胞壁修飾酵素での処理である、請求項１−３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
該１つまたはそれ以上の脂質修飾酵素が、トリアシルグリセロールリパーゼ、ホスホリパーゼおよびガラクトリパーゼからなる群から選択される、請求項１−４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
該植物原料が穀物ふすまである、請求項１−５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
該穀物ふすまを産業製粉プロセスから得、５００μｍ未満、例えば、４００μｍ未満、例えば、２００μｍ未満の平均粒径を得るためにさらに製粉する、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
該植物原料が、植物原料の加工処理由来の二次生産物、例えば、植物油精製由来のせっけん材料、醸造業者使用済み穀物または穀物蒸留粕（ＤＤＧＳ）である、請求項１−７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
さらなる酵素活性を不活性化するために、修飾された脂質、例えば、機能性脂質を含む得られる組成物をさらに処理する、請求項１−８のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
得られる乾物  対  乾物植物原料で決定されるとき、該植物原料の可溶化度が、１５％以上、例えば、２５％以上、例えば、３５％以上、例えば、４０％以上、例えば、５０％以上、例えば、４０％−６０％の範囲、例えば、５０％−６０％の範囲である、請求項１−９のいずれかに記載の方法。
【請求項１１】
得られる可溶性画分中の乾物  対  乾物植物原料で決定されるとき、脂質および修飾された脂質、例えば、機能性脂質の全含有量が、少なくとも約０．０５％、例えば、少なくとも約１．０％、例えば、０．０５−５％の範囲である、請求項１−１０のいずれかに記載の方法。
【請求項１２】
１つまたはそれ以上の脂質修飾酵素での該処理が、５％以上、例えば、１０％以上、例えば、２５％以上、例えば、５０％以上のホスファチジルイノシトールをリゾホスファチジルイノシトール（リゾ−ＰＩ）へ変換する、請求項１−１１のいずれかに記載の方法。
【請求項１３】
請求項１−１２のいずれかに記載の方法により生産される組成物。
【請求項１４】
食品の生産のための、またはバイオエタノールの生産のための請求項１３に記載の組成物の使用。
【請求項１５】
請求項１４に記載の使用により得られる食品。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月18日(2013.2.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ゲノム配列を決定する方法であって、
-プールされた人工染色体クローンの断片の断片末端を配列決定することによってサンプルゲノムの物理的マップを提供するステップと;
-サンプルゲノムに由来する配列リードのセットを提供するステップと;
-ゲノム配列を構築するために物理的マップおよび配列リードのコンティグを作製するステップと
を含む方法。
【請求項２】
ゲノム配列を決定する方法であって、
(a)サンプルDNAを提供するステップと;
(b)各人工染色体クローンがサンプルDNAの一部を含有する人工染色体(例えば、BAC、YAC)クローンバンクを作製するステップと;
(c)複数のプール中で人工染色体クローンを組み合わせ、ここで、各クローンが2つ以上のプール中に存在するステップと;
(d)各プールに断片のセットを提供するステップと;
(e)アダプターを、断片の一端または両端とライゲーションするステップと;
(f)少なくともアダプターの一部および断片の一部の配列を決定するステップと;
(g)断片配列を、対応するクローンに割り当てるステップと;
(h)クローン-コンティグを構築し、それによってサンプルゲノムの物理的マップを作製するステップと;
(i)サンプルDNAから配列リードを作製するステップと;
(j)配列リード、および/または配列リードから得たコンティグもしくはスキャフォールドを、クローンコンティグに対してアラインし、それによって、ゲノム配列/スーパースキャフォールドを構築するステップと
を含む方法。
【請求項３】
少なくとも1つのアダプターが、プール特異的識別子または縮重識別子セクションをそれぞれ含有し、識別子を含有するアダプターがライゲーションされた断片を提供する、請求項2に記載の方法。
【請求項４】
-少なくとも識別子および断片の一部を増幅するプライマー、または
-アダプター中の縮重セクションと相補的であるセクションを含有し、識別子を増幅される断片中に導入するプライマー、または
-アダプターの少なくとも一部と相補的であり、増幅されたアダプターがライゲーションされた断片中に識別子を提供するプライマー
を使用して、アダプターがライゲーションされた断片が増幅される、請求項2または3に記載の方法。
【請求項５】
プールをランダムに断片化することによって、および/またはプールの制限酵素断片化によって、プールの断片が作製される、請求項2から4のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
配列リードが、断片化されたサンプルDNAから、および/またはサンプルDNAの1つまたは複数の人工染色体クローンから得られる、請求項2から5のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
配列リードが、ランダムに断片化されたサンプルDNAから、および/またはサンプルDNAの1つまたは複数の人工染色体クローンから得られる、請求項2から6のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
配列リードが、サンプルDNAの制限酵素断片化によって得られていた制限断片から、および/またはサンプルDNAの1つまたは複数の人工染色体クローンから得られる、請求項2から6のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
制限断片が、アダプターがライゲーションされた制限断片である、請求項8に記載の方法。
【請求項１０】
アダプターがライゲーションされた制限断片が、選択的に、または非選択的に増幅される、請求項9に記載の方法。
【請求項１１】
配列決定が、ハイスループット配列決定によって実施される、請求項1から10のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
ハイスループット配列決定が固相支持体で実施される、請求項11に記載の方法。
【請求項１３】
ハイスループット配列決定が、合成時解読に基づく、請求項11または12に記載の方法。
【請求項１４】
配列決定が、パイロシークエンシングに基づく、請求項11から12に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月28日(2012.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
藻類の細胞増殖を増加させる方法であって、藻細胞数を増加させるために１つ以上の植物成長調節剤、その模倣体、またはそれらの混合物の存在下で該藻類を培養することを含む、上記方法。
【請求項２】
前記植物成長調節剤が、オーキシン、サイトカイニン、ジベレリン、および／またはそれらの混合物から選択される少なくとも１つ、２つ、３つ、４つ、５つ、またはそれ以上の成長ホルモンを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
（１）前記オーキシンが、インドール酢酸（ＩＡＡ）および／または１−ナフタレン酢酸（ＮＡＡ）を含む；（２）前記ジベレリンがＧＡ３を含む；あるいは、（３）前記サイトカイニンが、アデニン型サイトカイニンまたはフェニル尿素型サイトカイニンである、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記アデニン型サイトカイニンが、キネチン、ゼアチン、および／または６−ベンジルアミノプリンを含み、前記フェニル尿素型サイトカイニンは、ジフェニル尿素および／またはチジアズロン（ＴＤＺ）を含む、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記植物成長調節剤が、ビタミンＢ１またはその類似体／模倣体をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
（１）オーキシンとサイトカイニンとの比率（ｗ／ｗ）が、１：２〜２：１（ｗ／ｗ）、または１：１（ｗ／ｗ）である；あるいは、（２）オーキシンとジベレリンとの比率（ｗ／ｗ）が、１：２〜２：１（ｗ／ｗ）、または１：１（ｗ／ｗ）である、請求項２に記載の方法。
【請求項７】
前記模倣体がフェノキシ酢酸化合物である、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記藻類が、従属栄養、光従属栄養、または独立栄養の生理機構を使用して代謝する、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記藻類が有色植物類、緑色植物または珪藻であるか、あるいは、被殻の無い形態である、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
藻類生成物を生成する方法であって、前記藻類生成物を蓄積させるために植物成長調節剤またはその模倣体の存在下で藻類を培養することを含む、上記方法。
【請求項１１】
前記藻類を、窒素制限培地（１．５〜１５ｍｇＮ／Ｌ）、または藻類生成物合成に最適な窒素レベルを有する培地で培養する、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記植物成長調節剤が油刺激因子を含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
前記油刺激因子が、フルボ酸またはフミン酸のフミン酸塩を含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記藻類生成物が油または脂質である、請求項１０に記載の方法。
【請求項１５】
前記藻類生成物が、オメガ−３、−６、および／または−９を含む、請求項１４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月27日(2012.12.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
以下の演算を実行して、新たな作動点を得る。
Ｃａｌｃｕｌａｔｅｄ＿Ｅｒｒｏｒ  ＝  Ｐｒｅｖｉｏｕｓ＿Ｓｅｔｕｐ  −  Ｃｏｉｌ＿Ｃｕｒｒｅｎｔ＿Ｓｅｔｐｏｉｎｔ     （３）
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
〔比例演算〕
アルゴリズムの比例項は、以下の式で計算される。
Ｐ  Ｐｒｏｐｏｒｔｉｎａｌ＿Ｔｅｒｍ  ＝  Ｃａｌｃｕｌａｔｅｄ＿Ｅｒｒｏｒ＊Ｋ        （４）
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
〔全体のＰＩＤ演算〕
全体のＰＩＤ演算は、比例項、積分項、及び微分項の合計である。
ＰＩＤ＿Ｏｕｔｐｕｔ  ＝Ｐｒｏｐｏｒｔｉｏｎａｌ＿Ｔｅｒｍ  ＋  Ｉｎｔｅｇｒａｌ＿Ｔｅｒｍ  ＋  Ｄｅｒｉｖａｔｉｖｅ＿Ｔｅｒｍ （７）
最大出力は、ＰＩＤ  Ｏｕｔｐｕｔ  Ｌｉｍｉｔ及びＰＩＤ  Ｏｕｔｐｕｔ  Ｌｏｗｅｒ  Ｌｉｍｉｔパラメータを使用して制御される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
〔更新作動点の演算〕
最終的な周波数調整は、以下の式で演算される。
【数１】
2012514971.tif 000001
「Ｇａｉｎ＿Ｃｏｒｒｅｃｔｉｏｎ＿Ｆａｃｔｏｒ」は、区分線形関数に共振曲線を分割する。
「ＰＩＤ＿Ｓｃａｌｅ＿Ｆａｃｔｏｒ」は、ＰＩＤ演算において整数計算を補助するために使用される。
「ＰＩＤ  Ｄｅｌａｙ  Ｔｉｍｅ」を過ぎると、ＰＩＤループは、「ＰＩＤ  Ａｃｔｉｖｅ  Ｔｉｍｅ」の間、上述の式を使用してＰＩＤコイル電流を新たなターゲット設定値にすることを能動的に試みる。
最終的に、ＰＩＤ制御は、「ＰＩＤ  Ｓｅｔｔｌｅ  Ｔｉｍｅ」の間、抑制され、ＰＣＩコイル電流の正確な読み出しが１次により記録でき、電圧又は電流の正確な読み出しがＳＣＩにより記録できる。
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月14日(2012.12.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遠隔制御デバイスのタッチ表面を介した選択タッチ入力に応答して選択可能である制御機能の視覚的表現を、前記タッチ表面を介して表示するステップであって、前記視覚的表現は、選択された時にチャネルの選択を可能にする数字の表現を含む、ステップと、
前記タッチ表面を介して表示され前記選択タッチ入力に応答して選択可能である前記数字の表現の少なくとも１つの上を通る、前記タッチ表面を介して入力されたジェスチャーを受け取るステップと、
前記タッチ表面を介して入力された前記ジェスチャーに対応する制御機能を識別するステップであって、前記ジェスチャーは、表示された前記数字の表現の前記少なくとも１つを選択することなく、前記識別された制御機能を示す、ステップと、
クライアントデバイスによる前記識別された制御機能の実行を開始するステップであって、前記クライアントデバイスは、前記遠隔制御デバイスに通信するように結合され、前記クライアントデバイスにブロードキャストされたコンテンツの前記クライアントデバイスによる出力を変更するように構成された、ステップと、
を備える方法。
【請求項２】
前記制御機能は、前記ブロードキャストにおける複数のチャネルの或る特定のチャネルを選択する機能を含む請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ジェスチャーは、１つまたは複数の数字の入力を示す数字ジェスチャーである請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記ジェスチャーは、前記タッチ表面に適用された前記ジェスチャーの長さによる値の増加または減少の相対量を示す請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記増加または前記減少は、前記クライアントデバイスによって出力される前記コンテンツのオーディオの音量と関係する請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記制御機能の前記実行は、出力のための前記クライアントデバイスによって前記コンテンツがどのようにレンダリングされるかを変化させる請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記クライアントデバイスは、ＰＶＲ（パーソナルビデオレコーダー）機能を含み、さらに前記制御機能は、前記ＰＶＲ機能のトリックモードを含む請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記クライアントデバイスは、テレビである請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記識別するステップおよび前記開始するステップは、前記遠隔制御デバイスによって実行される請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
タッチ表面を介した選択タッチ入力に応答して選択可能である制御機能の視覚的表現を、前記タッチ表面を介して表示するように構成されたタッチ表面であって、前記視覚的表現は、選択された時にチャネルの選択を可能にする数字の表現を含む、タッチ表面と、
前記選択タッチ入力に応答して選択可能である前記数字の表現のうちの表示されたいくつかの上を通る、前記タッチ表面を介して入力された１つまたは複数の数字に類似する１つまたは複数のジェスチャーを検出し、前記検出された１つまたは複数のジェスチャーは、前記数字の表現のうちの前記表示されたいくつかの選択を生じさせず、
その上を通って前記１つまたは複数のジェスチャーが入力された前記数字の表現のうちの前記表示されたいくつかに基づいて制御機能を開始する代わりに、前記検出された１つまたは複数のジェスチャーに対応するチャネルを特定し、
クライアントデバイスが前記特定されたチャネルに合わせるべきことを指示する、前記クライアントデバイスへの無線通信のための通知を形成する、
１つまたは複数のモジュールと、
を備える遠隔制御デバイス。
【請求項１１】
前記クライアントデバイスは、前記特定されたチャネルに合わせて、ブロードキャストを介してコンテンツを受信するように構成されたセットトップボックスであり、さらに
前記タッチ表面は、タッチスクリーンまたはタッチパッドである
請求項１０に記載の遠隔制御デバイス。
【請求項１２】
前記クライアントデバイスは、ＰＶＲ（パーソナルビデオレコーダー）機能を含み、さらに前記１つまたは複数のモジュールは、前記ＰＶＲ機能のトリックモードを指定する別のジェスチャーを検出するようにさらに構成される請求項１０に記載の遠隔制御デバイス。
【請求項１３】
前記１つまたは複数のモジュールは、前記タッチ表面に適用された別のジェスチャーの長さによる値の増加または減少の相対量を示す前記別のジェスチャーを検出するようにさらに構成される請求項１０に記載の遠隔制御デバイス。
【請求項１４】
前記増加または前記減少は、前記クライアントデバイスによって出力される前記コンテンツのオーディオの音量と関係する請求項１３に記載の遠隔制御デバイス。
【請求項１５】
前記１つまたは複数のモジュールは、出力のために前記クライアントデバイスによって前記コンテンツがどのようにレンダリングされるかを変化させる別のジェスチャーを検出するようにさらに構成される請求項１０に記載の遠隔制御デバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月28日(2012.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ナノ構造化表面を作製する連続的な方法であって、
（ａ）減圧容器内の円筒型電極上に、ナノスケールのマスクを含む基材を配置する工程と、
（ｂ）エッチング用ガスを、所定の圧力で前記容器に導入する工程と、
（ｃ）前記円筒型電極と対電極との間にプラズマを発生させる工程と、
（ｄ）前記円筒型電極を回転させて、前記基材を移動させる工程と、
（ｅ）前記基材の表面を異方性エッチングして、異方性のナノスケール構造を前記表面に提供する工程と、を含む、方法。
【請求項２】
前記ガスが、フッ素含有ガスを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記基材がマイクロ構造化表面を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記ナノスケールのマスクが、前記基材内に分散したナノ粒子、ナノチューブ、又はナノ繊維を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記異方性のナノスケール構造が、約５：１以上の、高さ対幅の比を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記異方性のナノスケール構造が、ナノピラーを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記基材が、少なくとも約１００ｎｍの深さまでエッチングされる、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
ナノ構造化表面を作製する連続的な方法であって、
（ａ）減圧容器内の円筒型電極上に、ナノスケールの分散相を含む基材を配置する工程と、
（ｂ）エッチング用ガスを、所定の圧力で前記容器に導入する工程と、
（ｃ）前記円筒型電極と対電極との間にプラズマを発生させる工程と、
（ｄ）前記円筒型電極を回転させて、前記基材を移動させる工程と、
（ｅ）前記分散相を異方性エッチングして、異方性のナノスケール構造を前記表面に提供する工程と、を含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月3日(2012.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ディスクの破損に起因する故障を伴うことなく、２４０００ＲＰＭの条件下での高速回転試験に少なくとも３０分間耐えることができると共に、８５％よりも高いピット／グルーブ構造の転写率を示す光ディスク用基板を製造するためのポリカーボネートの使用方法。
【請求項２】
ポリカーボネートが１.２１０〜１.２８５の相対溶液粘度を有する請求項１に記載の方法。
【請求項３】
ポリカーボネートが、２０００ｐｐｍ未満の離型剤を含有する請求項１に記載の方法。
【請求項４】
離型剤がグリセリンモノステアレートまたはグリセリンモノパルミテート、あるいはこれらの混合物である請求項３に記載の方法。
【請求項５】
転写率が９０％より高い請求項１に記載の方法。
【請求項６】
ディスクの破損に起因する故障を伴うことなく、スピンスタンド上での２４０００ＲＰＭの条件に少なくとも３０分間耐えることができ、１.２１０〜１.２８５の相対溶液粘度を有するポリカーボネート製の光媒体用基板。
【請求項７】
ポリカーボネートがビスフェノールＡに基づく請求項６に記載の基板。
【請求項８】
請求項６に記載の基板から製造される光媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月18日(2012.12.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４６】
本明細書中に引用される刊行物の完全な開示は、それぞれが個々に組み込まれたかのように、その全体が参照により組み込まれる。本発明の範囲及び趣旨から逸脱しない本発明の様々な変更や改変は、当業者には明らかとなるであろう。本発明は、本明細書で述べる例示的な実施形態及び実施例によって不当に限定されるものではないこと、また、こうした実施例及び実施形態は、本明細書において以下に記述する「特許請求の範囲」によってのみ限定されると意図する本発明の範囲に関する例示のためにのみ提示されることを理解すべきである。
本発明はまた、以下の内容を包含する。
（１）
複合体であって
（ａ）少なくとも９０％の可視光線透過率及び５％未満のヘイズを有し、対向する第１表面及び第２表面を有する、基材と、
（ｂ）前記基材の前記第１表面上に配置され、マトリックス及びナノスケールの分散相を含み、かつランダムなナノ構造化異方性表面を有する、ナノ構造化物品と、
（ｃ）前記基材の前記第２表面上に配置され、少なくとも９０％の可視光線透過率及び５％未満のヘイズを有する、光学的に透明な接着剤と、を含む、複合体。
（２）
電子用途のディスプレイであって、前記光学的に透明な接着剤がガラス基材又は偏光子に接触するように前記ガラス基材に積層された項目１に記載の複合体を含み、液晶ディスプレイモジュールを有する積層体を組み立てた、電子用途のディスプレイ。
（３）
前記マトリックスが、マルチ（メタ）アクリレート、ポリエステル、エポキシ、フルオロポリマー、ウレタン、シロキサン、又はこれらのブレンド若しくはこれらのコポリマーを含む架橋可能なマトリックス中に分散したＳｉＯ２、ＺｒＯ２及びこれらの組み合わせのナノ粒子を含むハードコートを含む、項目１に記載の複合体。
（４）
前記ナノスケールの分散相がＳｉＯ２、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＺｎＯ、Ａｌ２Ｏ３、炭酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、酸化インジウムスズ、酸化アンチモンスズ、ポリ（テトラフルオロエチレン）、カーボン、及びこれらの組み合わせのナノ粒子を含む、項目１に記載の複合体。
（５）
前記ナノ粒子が、約１００ｎｍ未満の平均粒子サイズを有する、項目４に記載の複合体。
（６）
前記ナノ粒子が、表面改質されている、項目５に記載の複合体。
（７）
前記マトリックスが、ポリカーボネート、ポリ（メタ）アクリレート、ポリエステル、ナイロン、シロキサン、フルオロポリマー、ウレタン、エポキシ、環状オレフィンコポリマー、セルローストリアセテート、セルロースジアクリレート、又はこれらのブレンド若しくはこれらのコポリマーからなる群から選択されるポリマーを含む、項目１に記載の複合体。
（８）
前記マトリックスが、酸化ケイ素及び炭化タングステンの群から選択される無機材料を含む、項目１に記載の複合体。
（９）
前記基材が、マルチ（メタ）アクリレート、ポリエステル、エポキシ、フルオロポリマー、ウレタン、シロキサン、又はこれらのブレンド若しくはこれらのコポリマーから選択される架橋可能な材料を含む、項目１に記載の複合体。
（１０）
前記基材が、ポリカーボネート、ポリ（メタ）アクリレート、ポリエステル、ナイロン、シロキサン、フルオロポリマー、ウレタン、エポキシ、環状オレフィンコポリマー、セルローストリアセテート、セルロースジアクリレート、又はこれらのブレンド若しくはこれらのコポリマーからなる群から選択されるポリマーを含む、項目１に記載の複合体。
（１１）
前記基材がガラス又は偏光子を含む、項目１に記載の複合体。
（１２）
前記マトリックスが、合金又は固溶体を含む、項目１に記載の物品。
（１３）
前記マトリックス内の前記分散相の濃度が、約５重量％〜９０重量％である、項目１に記載の複合体。
（１４）
前記ナノ構造化物品が、前記ナノ構造化異方性表面をその上に有するマイクロ構造化表面を含む、項目１に記載の複合体。
（１５）
複合体を作製する方法であって、
（ａ）少なくとも９０％の可視光線透過率及び５％未満のヘイズを有する基材を提供する工程と、
（ｂ）ハードコート組成物を前記基材の第１主表面上にコーティングして、反射防止層を生じさせる工程であって、前記ハードコート組成物が、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２、及びこれらの組み合わせのナノ粒子を含み、前記ナノ粒子がマトリックス中に分散されている、工程と、
（ｃ）前記ハードコート溶液を乾燥させて反射防止層を生じさせる工程と、
（ｄ）
（ｉ）減圧容器内の円筒型電極上に前記反射防止層を配置すること、
（ｉｉ）エッチャントガスを、所定の圧力で前記容器に導入すること、
（ｉｉｉ）前記円筒型電極と対電極との間にプラズマを発生させること、
（ｉｖ）前記円筒型電極を回転させて、前記基材を移動すること、及び
（ｖ）前記ハードコート組成物を異方性にエッチングすること、を含む、反応性イオンエッチングに、前記反射防止層を暴露する工程と、
（ｅ）前記基材の前記第２表面に配置された光学的に透明な接着剤を積層する工程であって、前記光学的に透明な接着剤が、少なくとも９０％の可視光線透過率及び５％未満のヘイズを有する、工程と、含む、方法。
（１６）
前記プラズマが酸素プラズマである、項目１５に記載の方法。
（１７）
前記工程（ｄ）（ｉｉ）において、前記エッチャントが、約１〜２０ミリトール（１３．３ｃＰａ〜２．７Ｐａ）の圧力で導入される、項目１５に記載の方法。
（１８）
前記ハードコートが乾燥した後、前記ハードコートを硬化させて、反射防止層を生じさせることを更に含む、項目１５に記載の方法。
（１９）
前記ハードコートが、マルチ（メタ）アクリレート、ポリエステル、エポキシ、フルオロポリマー、ウレタン、シロキサン、又はこれらのブレンド若しくはこれらのコポリマーを含む架橋可能なマトリックス中に分散したＳｉＯ２、ＺｒＯ２及びこれらの組み合わせのナノ粒子を含む、項目１５に記載の方法。
（２０）
前記複合体をガラス又は偏光子基材に積層する工程を更に含む、項目１５に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複合体であって
（ａ）少なくとも９０％の可視光線透過率及び５％未満のヘイズを有し、対向する第１表面及び第２表面を有する、基材と、
（ｂ）前記基材の前記第１表面上に配置され、マトリックス及びナノスケールの分散相を含み、かつランダムなナノ構造化異方性表面を有する、ナノ構造化物品と、
（ｃ）前記基材の前記第２表面上に配置され、少なくとも９０％の可視光線透過率及び５％未満のヘイズを有する、光学的に透明な接着剤と、を含む、複合体。
【請求項２】
電子用途のディスプレイであって、前記光学的に透明な接着剤がガラス基材又は偏光子に接触するように前記ガラス基材に積層された請求項１に記載の複合体を含み、液晶ディスプレイモジュールを有する積層体を組み立てた、電子用途のディスプレイ。
【請求項３】
前記マトリックスが、マルチ（メタ）アクリレート、ポリエステル、エポキシ、フルオロポリマー、ウレタン、シロキサン、又はこれらのブレンド若しくはこれらのコポリマーを含む架橋可能なマトリックス中に分散したＳｉＯ２、ＺｒＯ２及びこれらの組み合わせのナノ粒子を含むハードコートを含む、請求項１に記載の複合体。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月22日(2012.11.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マトリックス及びナノスケールの分散相を含み、かつランダムなナノ構造化異方性表面を有する、ナノ構造化物品。
【請求項２】
前記ナノ構造化異方性表面が、約５：１以上の、幅に対する高さの比を有するナノスケール構造を含む、請求項１に記載の物品。
【請求項３】
前記ナノスケール構造が、ナノピラーを含む、請求項２に記載の物品。
【請求項４】
前記ナノピラーの大半が、分散相物質で末端保護されている、請求項３に記載の物品。
【請求項５】
前記分散相が、ナノ粒子、ナノチューブ、又はナノ繊維を含む、請求項１に記載の物品。
【請求項６】
前記分散相が、かご状分子、超分岐分子、ミセル、又は逆ミセルを含む、請求項１に記載の物品。
【請求項７】
前記ナノ構造化異方性表面の表面反射率は、非処理表面の表面反射率の約５０％以下である、請求項１に記載の物品。
【請求項８】
前記ナノ構造化異方性表面のパーセント透過率が、非処理表面のパーセント透過率の約２％以上である、請求項１に記載の物品。
【請求項９】
前記物品が、前記ナノ構造化異方性表面に取り付けられた、インク、封止材、接着剤、又は金属を含む層若しくはコーティングを更に含む、請求項１に記載の物品。
【請求項１０】
前記ナノ構造化異方性表面が、非処理表面よりも約２％以上の光を吸収する、請求項１に記載の物品。
【請求項１１】
ランダムなナノ構造化表面を作製する方法であって、
（ａ）ナノ分散相を含むマトリックスを提供する工程と、
（ｂ）プラズマを使用して前記マトリックスを異方性エッチングし、ランダムなナノ構造化表面を形成する工程と、を含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月11日(2012.12.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】誤差検出方法、誤差を検出するための装置およびコンピュータプログラム
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
誤差検出方法であって、
フィールド・データを得るステップ（４０２）であって、前記フィールド・データが、信号相関モデルにおいて用いる基準線または位置依存値を有する、ステップと、
（１）信号相関モデルおよび関連する測定パラメータ（４０５）、（２）相関マトリクス規則（４０４）、ならびに（３）事前位置のモデル（４０６）を得るために、前記フィールド・データを分析するステップ（４０３）と、
前記測定の推定した可変性に基づいて、測定値に対する重みを計算するステップ（４０７）と、
共分散マトリクス（４０９）を発生するために、前記相関マトリクス規則と共に前記重みを用い、逆共分散マトリクス（４１０）を計算するステップと、
最大の事後（ＭＡＰ）メトリックを有する位置を発見するために、地理的領域にわたって反復サーチを行うステップ（４１５）と、
停止条件に達したと判定するステップ（４１９）と、
最大のＭＡＰメトリックを有する地理的位置を位置解として報告するステップと、
を含む、誤差検出方法。
【請求項２】
請求項１記載の方法であって、更に、スキューに対する測定パラメータと、前記測定に対する相関値との間のマッピングを規定する表を作成するステップを含む、方法。
【請求項３】
請求項１記載の方法であって、更に、スキューに対する測定パラメータと、基準線の数との間のマッピングを規定する表を作成するステップを含む、方法。
【請求項４】
請求項１記載の方法において、更に、位置検出受信機を外部アンテナにリンクする異なる受信ポート間の相関を分析し、その用途に対する相関値および規則を与えるステップを含む、方法。
【請求項５】
請求項１記載の方法において、前記反復サーチが、各反復において地理的サーチ空間分解能を低下させ、内挿補間によって新たな検査地点を発生する、分解能ループを含む、方法。
【請求項６】
請求項５記載の方法において、前記サーチが、実行前に、前の反復の最小誤差地点を中心に置き直され、現在の地理的領域サーチ空間内にある検査地点が、個々にサーチされ、検査地点毎に、ＭＡＰメトリックを計算する、方法。
【請求項７】
請求項１記載の方法において、前記反復サーチが、前記共分散マトリクス、誤差モデル、および測定パラメータ表を用いるＭＡＰメトリック計算を含む、方法。
【請求項８】
誤差を検出するための装置であって、
フィールド・データを得る手段（４０２）であって、前記フィールド・データが、信号相関モデルにおいて用いる基準線または位置依存値を有する、手段と、
（１）信号相関モデルおよび関連する測定パラメータ（４０５）、（２）相関マトリクス規則（４０４）、ならびに（３）事前位置のモデル（４０６）を得るために、前記フィールド・データを分析する手段（４０３）と、
前記測定の推定した可変性に基づいて、測定値に対する重みを計算する手段（４０７）と、
共分散マトリクス（４０９）を発生するために、前記相関マトリクス規則と共に前記重みを用い、逆共分散マトリクス（４１０）を計算する手段と、
最大の事後（ＭＡＰ）メトリックを有する位置を発見するために、地理的領域にわたって反復サーチを行う手段（４１５）と、
停止条件に達したと判定する手段（４１９）と、
最大のＭＡＰメトリックを有する地理的位置を位置解として報告する手段と、
を含む、誤差を検出するための装置。
【請求項９】
請求項８記載の装置であって、更に、スキューに対する測定パラメータと、前記測定に対する相関値との間のマッピングを規定する表を作成する手段を含む、装置。
【請求項１０】
請求項８記載の装置であって、更に、スキューに対する測定パラメータと、基準線の数との間のマッピングを規定する表を作成する手段を含む、装置。
【請求項１１】
請求項８記載の装置において、更に、位置検出受信機を外部アンテナにリンクする異なる受信ポート間の相関を分析し、その用途に対する相関値および規則を与える手段を含む、装置。
【請求項１２】
請求項８記載の装置において、前記反復サーチが、各反復において地理的サーチ空間分解能を低下させ、内挿補間によって新たな検査地点を発生する、分解能ループを含む、装置。
【請求項１３】
請求項１２記載の装置において、前記サーチが、実行前に、前の反復の最小誤差地点を中心に置き直され、現在の地理的領域サーチ空間内にある検査地点が、個々にサーチされ、検査地点毎に、ＭＡＰメトリックを計算する、装置。
【請求項１４】
請求項８記載の装置において、前記反復サーチが、前記共分散マトリクス、誤差モデル、および測定パラメータ表を用いるＭＡＰメトリック計算を含む、装置。
【請求項１５】
請求項１〜７のいずれかに記載の方法をコンピュータに実行させるためのコンピュータプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月20日(2012.12.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
炭化水素含有地下貯留層から炭化水素を生産する方法であって、
（ａ）該炭化水素含有地下貯留層中に砂時計形の解離区域の形の天然の導管を形成すること、
（ｂ）廃熱を回収し、該廃熱を流体に移動させて、加熱された流体を生じさせること、
（ｃ）該加熱された流体を該炭化水素含有地下貯留層に輸送し、熱を該貯留層に含まれるハイドレートに移動させて、該ハイドレートを天然ガスと水に解離させること、並びに
（ｄ）該解離した天然ガス及び水を生産施設に輸送して、該天然ガスを処理すること
を含む、上記方法。
【請求項２】
前記廃熱の回収が熱発生地表施設で発生した熱である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記廃熱がガス液化油（ＧＴＬ）プラントにより発生する、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記廃熱が液化天然ガス（ＬＮＧ）プラントにより発生する、請求項２に記載の方法。
【請求項５】
前記廃熱が発電プラントにより発生する、請求項２に記載の方法。
【請求項６】
前記廃熱が地下貯留層から他の従来型又は非従来型炭化水素を生産する陸上又は沖合施設により発生する、請求項２に記載の方法。
【請求項７】
前記廃熱が地下地層から発生する、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記廃熱が地下地熱井により生ずる、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記廃熱が炭化水素生産貯留層からの生成流体から回収された熱である、請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
前記生成流体からの廃熱を、前記ハイドレート貯留層に注入される水に移動させる、請求項７に記載の方法。
【請求項１１】
地下貯留層から天然ガスを生産するシステムであって、
（ａ）炭化水素含有ハイドレート貯留層、
（ｂ）第１の導管と第２の導管とを接続する、該地下貯留層中の砂時計形の解離区域の形の、天然の高透過性の導管
（ｃ）廃熱を発生する地表施設、
（ｄ）加熱された流体を生成するために該廃熱により加熱される流体、
（ｅ）該加熱された流体を該炭化水素含有ハイドレート貯留層に運んで、ハイドレートを天然ガスと水に解離させる第１の導管、並びに
（ｆ）該炭化水素含有ハイドレート貯留層から該解離した天然ガス及び水を生産施設に運ぶ第２の導管
を含む、上記システム。
【請求項１２】
前記地表施設が、ガス液化油（ＧＴＬ）プラント及び液化天然ガス（ＬＮＧ）プラントのうちの１つである、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１３】
前記地表施設が発電プラントである、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１４】
更に廃熱が地熱源の加熱された岩石から発生し、
前記加熱される流体が該加熱された岩石及び前記地表施設から熱を受け取る水である、
請求項１１に記載のシステム。
【請求項１５】
更に廃熱が炭化水素生産貯留層から生産された流体中の地下熱源から発生し、
前記加熱される流体が前記生産された流体及び前記地表施設から熱を受け取る水である、
請求項１１に記載のシステム。
【請求項１６】
ハイドレート地層を有する地下貯留層から炭化水素を生産する方法であって、
（ａ）該地下貯留層中の該ハイドレート地層の頂部及び底部に砂時計形の解離区域の形の天然の導管であって、少なくとも１の注入井を、少なくとも１の生産井に接続する導管、を形成すること
（ｂ）廃熱を回収し、該廃熱を流体に移動させて、加熱された流体を生じさせること、
（ｃ）該加熱された流体を該注入井によって該地下貯留層中の該ハイドレート地層に供給すること、
（ｄ）熱を該ハイドレートに移動させて、該ハイドレートを天然ガス及び水に解離させること
（ｅ）該砂時計形の解離区域を通じて、解離した該天然ガス及び水を、該生産井に向かわせること、並びに
（ｆ）解離した該天然ガス及び水を、該生産井によって地表施設に移動させること、
を含む、上記方法。
【請求項１７】
前記地表施設において、解離した前記天然ガスと水とを分離することを更に含む、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
ガス液化油（ＧＴＬ）プラント又は液化天然ガス（ＬＮＧ）プラントにより廃熱を発生させ、前記解離から発生する水を該ＧＴＬ又はＬＮＧプラントに送ることを更に含む、請求項１６に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
ハイドレート貯留層１２２の上又は下にある水の地熱源１５０は、加熱された水の源を得るために活用することができる。加熱された水は、地表に戻し、そこでポンプで下方に注入井１３４を経てハイドレート地層１２２に送り込む。水からの熱は、ハイドレート地層１２２からの炭化水素及び水の解離を促進し、解離区域１２６中に放出される。或いは、加熱された水は、地表に水を最初に戻す必要なしに補助導管１３２により井戸１３４に直接送出することができよう。或いは、加熱された水又は蒸気からの熱は、移動させるか、又は注入する流体と交換させることができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2012514148.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月11日(2012.12.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の不織布繊維と、
自己支持型粘弾性不織布繊維ウェブを形成するために、前記複数の不織布繊維の少なくとも一部分と絡合する、複数の弾性フィラメントと、を備え、前記複数の弾性フィラメントが、下方ウェブ方向に実質的に整合される、弾性不織布繊維ウェブ。
【請求項２】
前記弾性不織布繊維ウェブが、少なくとも１．５の伸張比を呈する、請求項１に記載の弾性不織布繊維布ウェブ。
【請求項３】
前記弾性フィラメントが、少なくとも２００％の破断伸びを呈し、元の長さの２倍に伸張した後に張力から解放されたときに、前記元の長さの１２５％以下まで後退する、請求項１に記載の弾性不織布繊維ウェブ。
【請求項４】
（ａ）複数の不織布繊維を提供する工程と、
（ｂ）張力下で複数の弾性フィラメントを提供し、弛緩状態から伸張状態へ前記複数の弾性フィラメントを伸張する工程と、
（ｃ）前記複数の弾性フィラメントを前記張力下で維持しながら、前記複数の不織布繊維の少なくとも一部分を前記複数の弾性フィラメントと絡合する工程と、
（ｄ）前記複数の弾性フィラメントを前記伸張状態から後退させるように、前記張力を解放し、それによって、自己支持型粘弾性不織布繊維ウェブが形成される工程と、を含み、前記複数の弾性フィラメントが、下方ウェブ方向に実質的に整合される、請求項１に記載の弾性不織布繊維ウェブを形成する方法。
【請求項５】
フィラメント離間コームが、前記複数の不織布繊維の少なくとも一部分を前記複数の弾性フィラメントと絡合する前に、前記複数の弾性フィラメントの間の分離を維持するために使用される、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
請求項１に記載の複合不織布繊維ウェブを含む物品であって、創傷包帯物品、個人衛生物品、表面洗浄物品、ガス濾過物品、液体濾過物品、音声吸収物品、断熱物品、細胞成長支援物品、又は薬物送達物品からなる群から選択される、物品。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月20日(2012.11.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
加圧下の流体エネルギーを蓄えるアキュムレータ（１）におけるアキュムレータ室（６）内に包含するアキュムレータ膜ユニット（２）において、
アキュムレータ膜ユニット（２）が複数の膜要素（３）を備え、膜要素（３）が周囲を密封的に接合し、アキュムレータ膜ユニット（２）の外側の圧力に依存して変化する内側膜容積（Ｖ）を画定し、また
アキュムレータ膜要素（３）がアキュムレータ膜要素（３）の流体圧力の増大による加圧中に弾性的に変形できるように設けた少なくとも一つの材料で形成され、流体エネルギーが膜要素における弾性変形エネルギーとして蓄積できること
を特徴とするアキュムレータ膜ユニット。
【請求項２】
アキュムレータ膜ユニットが非加圧状態で凸状体を形成することを特徴とする請求項１に記載のアキュムレータ膜ユニット。
【請求項３】
膜要素がアーチ形状であり、アキュムレータ膜ユニット（２）が非加圧状態ではレンズ形状であることを特徴とする請求項２に記載のアキュムレータ膜ユニット。
【請求項４】
流体媒体の密封型接続部（１０）を備えたハウジングを有する加圧下の流体媒体を蓄積するアキュムレータ（１）において、
ハウジング内に請求項１〜３のいずれか一項に記載の少なくとも一つのアキュムレータ膜ユニット（２）が設けられ、流体媒体の密封型接続部（１０）が、ハウジング内のアキュムレータ室（６）における空間と連通し、前記空間が各少なくとも一つのアキュムレータ膜ユニット（２）に対する膜容積（Ｖ）の外側に位置すること
を特徴とするアキュムレータ。
【請求項５】
前記少なくとも一つのアキュムレータ膜ユニット（２）に対する位置決め装置（７）が設けられ、位置決め装置が、ハウジングに関して及び場合によっては側方に位置したアキュムレータ膜ユニットに対してそれぞれのアキュムレータ膜ユニット（２）を保持する軸方向及び半径方向をもつ締付けリング（７）を備えていることを特徴とする請求項４に記載のアキュムレータ。
【請求項６】
前記締付けリング（７）が、各アキュムレータ膜ユニット（２）の周囲領域と共動する軸方向に向いた凹部（８）を備えていることを特徴とする請求項５に記載のアキュムレータ。
【請求項７】
同一アキュムレータ（１）の内側に、種々の作動点（Ｐ１、Ｐ２、・・・Ｐｎ）及び動作範囲（ΔＰ１、ΔＰ２、・・・ΔＰｎ）をもつ複数のアキュムレータ膜ユニット（２）が設けられ、同一のアキュムレータ（１）に対して複数の作動点及び動作範囲を実現するように構成したことを特徴とする請求項４〜６のいずれか一項に記載のアキュムレータ。
【請求項８】
加圧下の流体媒体によってエネルギーを蓄えるアキュムレータ（１）におけるアキュムレータ室（６）内に位置決めするアキュムレータ膜ユニット（２）の製造方法であって、
アキュムレータ膜ユニット（２）が複数の膜要素（３）を備え、膜要素（３）が周囲を密封的に接合し、外側の圧力に依存して変化する膜容積（Ｖ）を画定している方法において、
膜要素が互いに接合されて非加圧状態では凸状であるアキュムレータ膜ユニット（２）を形成すること
を特徴とするアキュムレータ膜ユニットの製造方法。
【請求項９】
膜要素が溶接により互いに接合され、膜要素を接合するため、アキュムレータ膜ユニット（２）を包囲して半径方向外方に向いたジョイント（５）が設けられることを特徴とする請求項８に記載のアキュムレータ膜ユニットの製造方法。
【請求項１０】
非加圧状態でアーチ状に曲がる二つの膜要素が、レンズ形態を成すように位置決めされ、
膜要素が、押圧装置によって本質的に平坦な状態に圧搾され、また
膜要素が、この互いに押圧した状態で互いに接合されることを特徴とする請求項８又は９に記載のアキュムレータ膜ユニットの製造方法。