【手続補正書】
【提出日】平成21年6月9日(2009.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  接触帯電部材として弾性ローラを被帯電体に接触させて回転させ、該弾性ローラに電圧印加手段から帯電バイアスとして直流電圧を印加して被帯電体を帯電する帯電装置において、
前記電圧印加手段は、被帯電体と弾性ローラとの長期圧接放置により弾性ローラ表面に形成された放置跡が被帯電体と弾性ローラとの放電領域を通過する時、弾性ローラに印加する直流電圧の振れ幅Ｆ［＝（実出力帯電バイアスの最大値−実出力帯電バイアスの最小値）／印加帯電バイアス×１００］を１（％）以下に制御可能であることを特徴とする帯電装置。
【請求項２】  前記弾性ローラの表面に形成された放置跡は、被帯電体と弾性ローラとの所定の当接条件にて、４０℃・９５％ＲＨ環境下で３０日間放置された後に弾性ローラ表面に形成された永久変形部であることを特徴とする請求項１に記載の帯電装置。
【請求項３】  前記電圧印加手段は、整流回路を備え、前記整流回路は３０００ｐＦ以上のコンデンサを備えることを特徴とする請求項１又は２に記載の帯電装置。
【請求項４】  前記コンデンサは、１００００ｐＦ以下であることを特徴とする請求項３に記載の帯電装置。
【請求項５】  静電潜像担持体に帯電工程を含む作像プロセスを適用して画像形成を実行する画像形成装置において、
前記静電潜像担持体の帯電工程手段は、接触帯電部材として弾性ローラを静電潜像担持体に接触させて回転させ、該弾性ローラに電圧印加手段から帯電バイアスとして直流電圧を印加して静電潜像担持体を帯電する帯電装置であり、
前記電圧印加手段は、静電潜像担持体と弾性ローラとの長期圧接放置により弾性ローラ表面に形成された放置跡が静電潜像担持体と弾性ローラとの放電領域を通過する時、弾性ローラに印加する直流電圧の振れ幅Ｆ［＝（実出力帯電バイアスの最大値−実出力帯電バイアスの最小値）／印加帯電バイアス×１００］を１（％）以下に制御可能であることを特徴とする画像形成装置。
【請求項６】  静電潜像担持体に帯電工程を含む作像プロセスを適用して画像形成を実行する画像形成装置において、
前記静電潜像担持体の帯電工程手段は、接触帯電部材として弾性ローラを静電潜像担持体に接触させて回転させ、該弾性ローラに電圧印加手段から帯電バイアスとして直流電圧を印加して静電潜像担持体を帯電する帯電装置であり、
前記電圧印加手段は、静電潜像担持体と弾性ローラとの長期圧接放置により弾性ローラ表面に形成された放置跡が静電潜像担持体と弾性ローラとの放電領域を通過する時、弾性ローラに印加する直流電圧の振れ幅Ｆ［＝（実出力帯電バイアスの最大値−実出力帯電バイアスの最小値）／印加帯電バイアス×１００］を１（％）以下に制御可能であり、
少なくとも前記静電潜像担持体と前記弾性ローラは画像形成装置本体に対して一体的に着脱自在なプロセスカートリッジに包含されていることを特徴とする画像形成装置。
【請求項７】  前記弾性ローラの表面に形成された放置跡は、被帯電体と弾性ローラとの所定の当接条件にて、４０℃・９５％ＲＨ環境下で３０日間放置された後に弾性ローラ表面に形成された永久変形部であることを特徴とする請求項５または６に記載の画像形成装置。
【請求項８】  前記電圧印加手段は、整流回路を備え、前記整流回路は３０００ｐＦ以上のコンデンサを備えることを特徴とする請求項５乃至７のいずれかに記載の画像形成装置。
【請求項９】  前記コンデンサは、１００００ｐＦ以下であることを特徴とする請求項８に記載の画像形成装置。
【請求項１０】  接触帯電部材として弾性ローラを被帯電体に接触させて回転させ、該弾性ローラに電圧印加手段から帯電バイアスとして直流電圧を印加して被帯電体を帯電する帯電装置において、
前記電圧印加手段は、整流回路を備え、前記整流回路は３０００ｐＦ以上のコンデンサを備えることを特徴とする帯電装置。
【請求項１１】  前記コンデンサは、１００００ｐＦ以下であることを特徴とする請求項１０に記載の帯電装置。
【請求項１２】  静電潜像担持体に帯電工程を含む作像プロセスを適用して画像形成を実行する画像形成装置において、
前記静電潜像担持体の帯電工程手段は、請求項１０又は１１に記載の帯電装置により行なわれることを特徴とする画像形成装置。
【請求項１３】  少なくとも前記静電潜像担持体と前記弾性ローラは画像形成装置本体に対して一体的に着脱自在なプロセスカートリッジに包含されていることを特徴とする請求項１２に記載の画像形成装置。
【請求項１４】  接触帯電部材として弾性ローラを被帯電体に接触させて回転させ、該弾性ローラに電圧印加手段から帯電バイアスとして直流電圧を印加して被帯電体を帯電する帯電装置において、
前記電圧印加手段は、高圧トランスの出力側に前記高圧トランスと電気的に並列に設けられたコンデンサを備え、前記コンデンサは３０００ｐＦ以上であることを特徴とする帯電装置。
【請求項１５】  前記コンデンサは、１００００ｐＦ以下であることを特徴とする請求項１４に記載の帯電装置。
【請求項１６】  静電潜像担持体に帯電工程を含む作像プロセスを適用して画像形成を実行する画像形成装置において、
前記静電潜像担持体の帯電工程手段は、請求項１４又は１５に記載の帯電装置により行なわれることを特徴とする画像形成装置。
【請求項１７】  少なくとも前記静電潜像担持体と前記弾性ローラは画像形成装置本体に対して一体的に着脱自在なプロセスカートリッジに包含されていることを特徴とする請求項１６に記載の画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
（９）前記コンデンサは、１００００ｐＦ以下であることを特徴とする（８）に記載の画像形成装置。
（１０）接触帯電部材として弾性ローラを被帯電体に接触させて回転させ、該弾性ローラに電圧印加手段から帯電バイアスとして直流電圧を印加して被帯電体を帯電する帯電装置において、
前記電圧印加手段は、整流回路を備え、前記整流回路は３０００ｐＦ以上のコンデンサを備えることを特徴とする帯電装置。
（１１）前記コンデンサは、１００００ｐＦ以下であることを特徴とする（１０）に記載の帯電装置。
（１２）静電潜像担持体に帯電工程を含む作像プロセスを適用して画像形成を実行する画像形成装置において、
前記静電潜像担持体の帯電工程手段は、（１０）又は（１１）に記載の帯電装置により行なわれることを特徴とする画像形成装置。
（１３）少なくとも前記静電潜像担持体と前記弾性ローラは画像形成装置本体に対して一体的に着脱自在なプロセスカートリッジに包含されていることを特徴とする（１２）に記載の画像形成装置。
（１４）接触帯電部材として弾性ローラを被帯電体に接触させて回転させ、該弾性ローラに電圧印加手段から帯電バイアスとして直流電圧を印加して被帯電体を帯電する帯電装置において、
前記電圧印加手段は、高圧トランスの出力側に前記高圧トランスと電気的に並列に設けられたコンデンサを備え、前記コンデンサは３０００ｐＦ以上であることを特徴とする帯電装置。
（１５）前記コンデンサは、１００００ｐＦ以下であることを特徴とする（１４）に記載の帯電装置。
（１６）静電潜像担持体に帯電工程を含む作像プロセスを適用して画像形成を実行する画像形成装置において、
前記静電潜像担持体の帯電工程手段は、（１４）又は（１５）に記載の帯電装置により行なわれることを特徴とする画像形成装置。
（１７）少なくとも前記静電潜像担持体と前記弾性ローラは画像形成装置本体に対して一体的に着脱自在なプロセスカートリッジに包含されていることを特徴とする（１６）に記載の画像形成装置。