(57)【要約】【課題】処理槽や洗浄槽の周辺の化学強化処理液による汚染を最小限に抑えることで、ガラス基板への異物の付着を防止することができ、高い生産効率で製造することができる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法等を提供する。【解決手段】化学強化処理液にガラス基板を浸漬することによってガラス基板を化学強化する工程を含む情報記録媒体用ガラス基板の製造方法において、処理槽に貯留された化学強化処理液にガラス基板を浸漬する浸漬工程と、化学強化処理液に浸漬したガラス基板を引き上げる引き上げ工程と、引き上げたガラス基板を処理槽の上方で２秒よりも長時間待機させる待機工程と、待機工程の後、ガラス基板を処理槽の上方から搬出する搬出工程とを有する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
化学強化処理液にガラス基板を浸漬することによって前記ガラス基板を化学強化する工程を含む情報記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
処理槽に貯留された化学強化処理液にガラス基板を浸漬する浸漬工程と、
前記化学強化処理液に浸漬した前記ガラス基板を引き上げる引き上げ工程と、
引き上げた前記ガラス基板を前記処理槽の上方で２秒よりも長時間待機させる待機工程と、
前記待機工程の後、前記ガラス基板を前記処理槽の上方から搬出する搬出工程とを有することを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項２】
前記搬出工程の後、洗浄槽で前記ガラス基板を洗浄する洗浄工程を有することを特徴とする請求項１に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項３】
前記待機工程は、引き上げたガラス基板の温度が前記化学強化処理液の凝固点よりも低くなるまで待機する工程であることを特徴とする請求項１又は２に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項４】
請求項１乃至３の何れか１項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法によって製造された情報記録媒体用ガラス基板。
【請求項５】
請求項４に記載された情報記録媒体用ガラス基板の上に、少なくとも記録層が形成されていることを特徴とする情報記録媒体。
【請求項６】
前記記録層は、磁性層であることを特徴とする請求項５に記載の情報記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気、光、光磁気等の性質を利用した記録層を有する情報記録媒体に用いる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体用ガラス基板及び情報記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気、光、光磁気等の性質を利用した記録層を有する情報記録媒体のなかで、代表的なものとして磁気ディスクがある。磁気ディスク用基板として、従来アルミニウム基板が広く用いられていた。しかし、近年、記録密度向上のための磁気ヘッド浮上量の低減の要請に伴い、アルミニウム基板よりも表面の平滑性に優れ、しかも表面欠陥が少ないことから磁気ヘッド浮上量の低減を図ることができるガラス基板を磁気ディスク用基板として用いる割合が増えてきている。
【０００３】
このような磁気ディスク等の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法においては、ガラス基板の耐衝撃性や耐振動性を向上させ衝撃や振動によって基板が破損するのを防止する目的で、ガラス基板の表面に化学強化処理を施して基板を強化することが一般的に行われている。
【０００４】
化学強化処理は、通常、加熱された化学強化処理液にガラス基板を浸漬して、ガラス基板の成分であるリチウムイオン、ナトリウムイオン等のアルカリ金属イオンをこれらのイオンよりイオン半径の大きなナトリウムイオン、カリウムイオン等のアルカリ金属イオンと置換するイオン交換法によって行われる。
【０００５】
化学強化処理が行われたガラス基板は、洗浄槽に投入され、ガラス基板の表面に付着した化学強化処理液の除去が行われる（例えば、特許文献１を参照。）。
【特許文献１】特開２００３−１４６７０７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、洗浄後のガラス基板の表面に微小な異物が残存し、表面に記録層を形成した後に記録層の剥離や突起の発生等を引き起こすという問題が発生する場合があった。特に近年、記録密度向上のための磁気ヘッド浮上量の低減に伴い、かかる問題を防止する要請が非常に高まっている。
【０００７】
本発明者らが鋭意検討を重ねた結果、洗浄後のガラス基板の表面に残存する微小な異物は、化学強化処理のための処理槽や洗浄槽の周辺に付着した化学強化処理液の結晶に起因することが判明した。更に、これらの結晶は、化学強化処理液に浸漬したガラス基板を引き上げた後すぐに搬送が行われることにより、ガラス基板や搬送治具に付着した化学強化処理液が、処理槽の外壁、配管類、床面、あるいは洗浄槽の内壁や外壁等に落下し、冷却されて結晶化したものであることを突き止めた。
【０００８】
化学強化処理液としては、硝酸カリウム（ＫＮＯ3）、硝酸ナトリウム（ＮａＮＯ3）、炭酸カリウム（Ｋ2ＣＯ3）などの溶融塩や、これらの混合物の溶融塩を用い場合が多い。これらは、処理槽内で加熱されている間は液体状態であるが、ガラス基板や搬送治具から落下した後は冷却されて結晶化する。洗浄槽の周辺がこのような結晶で汚染されることで、洗浄槽の周辺に微細な結晶が飛散し、飛散した結晶が洗浄後の搬送過程においてガラス基板の表面に付着していたのである。
【０００９】
洗浄槽の周辺の汚染によるガラス基板の表面への異物の付着を防止するためには、化学強化処理液を貯留する処理槽や洗浄槽、及びそれらの周辺を数時間〜数十時間といった短い周期で定期的に清掃するという方法も考えられるが、そのたびに製造作業を停止せざるを得ず、生産性を大きく低下させるという問題があった。
【００１０】
本発明は上記のような技術的課題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、処理槽や洗浄槽の周辺の化学強化処理液による汚染を最小限に抑えることで、ガラス基板への異物の付着を防止することができ、高い生産効率で製造することができる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体用ガラス基板及び情報記録媒体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記の課題を解決するために、本発明は以下の特徴を有するものである。
【００１２】
１．  化学強化処理液にガラス基板を浸漬することによって前記ガラス基板を化学強化する工程を含む情報記録媒体用ガラス基板の製造方法において、処理槽に貯留された化学強化処理液にガラス基板を浸漬する浸漬工程と、前記化学強化処理液に浸漬した前記ガラス基板を引き上げる引き上げ工程と、引き上げた前記ガラス基板を前記処理槽の上方で２秒よりも長時間待機させる待機工程と、前記待機工程の後、前記ガラス基板を前記処理槽の上方から搬出する搬出工程とを有することを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【００１３】
２．  前記搬出工程の後、洗浄槽で前記ガラス基板を洗浄する洗浄工程を有することを特徴とする前記１に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【００１４】
３．  前記待機工程は、引き上げたガラス基板の温度が前記化学強化処理液の凝固点よりも低くなるまで待機する工程であることを特徴とする前記１又は２に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【００１５】
４．  前記１乃至３の何れか１項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法によって製造された情報記録媒体用ガラス基板。
【００１６】
５．  前記４に記載された情報記録媒体用ガラス基板の上に、少なくとも記録層が形成されていることを特徴とする情報記録媒体。
【００１７】
６．  前記記録層は、磁性層であることを特徴とする前記５に記載の情報記録媒体。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、処理槽や洗浄槽の周辺の化学強化処理液による汚染を最小限に抑えることで、ガラス基板への異物の付着を防止することができ、高い生産効率で製造することができる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体用ガラス基板及び情報記録媒体を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明する。
【００２０】
（情報記録媒体用ガラス基板の製造方法）
情報記録媒体用ガラス基板は、一般的に、ブランク材作製工程、内外周加工工程、研削・研磨工程、化学強化工程、洗浄工程などの工程を経て製造される。ブランク材作製工程は情報記録媒体用ガラス基板の基になるブランク材を形成する工程であり、溶融ガラスをプレス成形して作製する方法や、シート状のガラスを切断して作製する方法が知られている。内外周加工工程は、中心孔の穿孔加工、内外周の形状や寸法精度確保のための研削加工、内外周の研磨加工等を行う工程である。研削・研磨工程は、記録層が形成される面の平坦度、表面粗さを満足させるための研削加工、研磨加工を行う工程である。通常は、粗研削加工、精研削加工、１次研磨加工、２次研磨加工といったようにいくつかの段階に分けて行われる場合が多い。化学強化工程は、化学強化処理液にガラス基板を浸漬することでガラス基板を強化する工程である。また、洗浄工程は、ガラス基板の表面に残った研磨剤や化学強化処理液等の異物を除去する工程である。
【００２１】
本発明の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、これらの工程の内、主に化学強化工程と洗浄工程に特徴を有するものである。本発明においては、研削・研磨工程が完了した後に化学強化工程を行っても良いし、先に化学強化工程を行ってから研削・研磨工程を行ってもよい。また、研削・研磨工程がある段階まで進んだ時点で化学強化工程を行い、その後に研削・研磨工程の残りの工程を行って仕上げることもできる。
【００２２】
なお、本発明の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法においては、上記以外の種々の工程を有していても良い。例えば、ガラス基板の内部歪みを緩和するためのアニール工程、ガラス基板からのアルカリ金属イオンの析出を防止するための脱アルカリ処理工程、種々の検査・評価工程等を有していても良い。
【００２３】
（化学強化工程）
化学強化工程は、加熱された化学強化処理液にガラス基板を浸漬することによってガラス基板の成分であるリチウムイオン、ナトリウムイオン等のアルカリ金属イオンをこれらのイオンよりイオン半径の大きなナトリウムイオン、カリウムイオン等のアルカリ金属イオンと置換するイオン交換法によって行われる。イオン半径の違いによって生じる歪みより、イオン交換された領域に圧縮応力が発生し、ガラス基板の表面が強化される。
【００２４】
本発明においては、処理槽に貯留された化学強化処理液にガラス基板を浸漬する浸漬工程と、化学強化処理液に浸漬したガラス基板を引き上げる引き上げ工程と、引き上げたガラス基板を処理槽の上方で２秒よりも長時間待機させる待機工程と、待機工程の後、ガラス基板を処理槽の上方から搬出する搬出工程とを有している。
【００２５】
図１は、本実施形態で用いる化学強化及び洗浄装置の一例を示す模式図である。この装置は、化学強化処理液１７を貯留する処理槽１１と洗浄液１８を貯留する洗浄槽１２を備えている。ガラス基板１４は搬送治具１３に収納され、垂直移動ロボット１５と水平移動ロボット１６により搬送される。
【００２６】
浸漬工程は、処理槽１１に貯留された化学強化処理液１７にガラス基板１４を浸漬する工程である。ガラス基板１４は搬送治具１３に収納された状態で処理槽１１の上方に搬送された後、垂直移動ロボット１５によって下方に移動して化学強化処理液１７に浸漬される。
【００２７】
化学強化処理液１７としては、硝酸カリウム（ＫＮＯ3）、硝酸ナトリウム（ＮａＮＯ3）、炭酸カリウム（Ｋ2ＣＯ3）などの溶融塩や、これらの混合物（例えば、硝酸カリウムと硝酸ナトリウムの混合物、硝酸カリウムと炭酸カリウムの混合物など）の溶融塩を用いることができる。また、更に別の金属塩等を混合したものであっても良い。
【００２８】
化学強化処理液１７は、上記の成分が融解する温度よりも高温になるよう加熱される。例えば、化学強化処理液として硝酸カリウムを用いる場合には融点である３３４℃よりも高温に、硝酸ナトリウムを用いる場合には融点である３０６℃よりも高温に加熱すればよい。一方、化学強化処理液の加熱温度が高すぎると、ガラス基板の温度が上がりすぎ、ガラス基板の変形を招く虞がある。このため、化学強化処理液の加熱温度はガラス基板のガラス転移点（Ｔｇ）よりも低い温度が好ましく、ガラス転移点−５０℃よりも低い温度とすることが更に好ましい。
【００２９】
イオン交換によって強化される領域（以下、「強化層」という。）の厚みや強化の程度は、ガラス基板と化学強化処理液の温度、及び浸漬時間によって決まる。情報記録媒体用ガラス基板として必要な堅さ、強度、表面粗さを備えるという観点から、強化層の厚みは、研削・研磨工程が完了した後に化学強化工程を行う場合は５μｍ〜２００μｍ、化学強化工程の後に、更に研削・研磨工程を行う場合は、１０μｍ〜５００μｍの範囲が好ましい。このような強化層の厚みを得るために必要な浸漬時間は、通常、０．５時間〜２０時間程度となる。
【００３０】
引き上げ工程は、化学強化処理液１７に浸漬したガラス基板１４を引き上げる工程である。搬送治具１３に収納された状態で化学強化処理液１７に浸漬されていたガラス基板１４は、所定の浸漬時間が経過した後、垂直移動ロボット１５によって上方に移動して化学強化処理液１７から引き上げられる。
【００３１】
待機工程は、引き上げたガラス基板１４を処理槽１１の上方で２秒よりも長時間待機させる工程である。ガラス基板１４を化学強化処理液１７から引き上げた直後は、ガラス基板１４や搬送治具１３に付着した化学強化処理液１７の滴が下方に落下する。このような待機工程を設けることで、落下する滴の大部分を処理槽１１の内部に回収することができ、装置周辺が落下する滴によって汚染されるのを防止することができる。
【００３２】
落下する滴の量は引き上げた直後の２秒間が最も多く、時間の経過に伴って急激に減少する。その後、引き上げたガラス基板の温度が化学強化処理液の凝固点よりも低くなると、化学強化処理液は結晶化するためほとんど落下することはなくなる。そのため、ガラス基板を処理槽の上方で待機させる時間が２秒よりも長時間であれば汚染防止の効果が得られる。また、引き上げたガラス基板の温度が化学強化処理液の凝固点よりも低くなるまで待機することは、更に高い効果が得られるため好ましい。一方、引き上げたガラス基板の温度が化学強化処理液の凝固点よりも低くなった後更に長時間待機しても、製造工程にかかる時間が必要以上に長くなり生産性が低下するだけで、汚染防止の効果が向上するわけではなく、好ましくない。
【００３３】
処理槽の上方で待機させるとは、化学強化処理液から引き上げたガラス基板から落下する化学強化処理液の滴が処理槽に回収され得る状態であれば良く、ガラス基板の移動を完全に停止していても良いし、上下方向や水平方向にゆっくり移動していても良い。また、付着した化学強化処理液が飛散しない程度にガラス基板に振動や衝撃を与えて滴の落下を促進することもできる。
【００３４】
搬出工程は、待機工程の後、ガラス基板１４を処理槽１１の上方から搬出する工程である。搬送治具１３に収納されたガラス基板１４は、処理槽１１の上方で２秒よりも長時間待機した後、水平移動ロボット１６により水平方向に移動し、処理槽１１の上方から搬出される。ガラス基板１４等に付着した化学強化処理液は、待機工程の間に十分落下しているため、搬出工程中に滴が落下することによる装置周辺の汚染を最小限に抑えることができる。
【００３５】
なお、本発明においては、加熱された化学強化処理液に浸漬される際の熱衝撃によるガラス基板の割れや微細なクラックの発生を防止するため、化学強化処理液への浸漬に先立って、予熱槽でガラス基板を所定温度に加熱する予熱工程を有していても良い。
【００３６】
（洗浄工程）
洗浄工程は、化学強化工程の後、処理槽１１の上方から搬出されたガラス基板１４の表面に残存する化学強化処理液等の異物を十分に除去するために洗浄する工程である。搬送治具１３に収納されたガラス基板１４は、水平移動ロボット１６により水平方向に移動し、洗浄槽１２の上方に搬送された後、垂直移動ロボット１５によって下方に移動して洗浄槽１２に貯留された洗浄液１８に浸漬される。
【００３７】
洗浄液は、特に制限はなく、水、有機溶剤、界面活性剤を含んだ各種洗浄剤等の公知の洗浄液の中から適宜選択して用いることができる。特に水は、化学強化処理液が結晶化した微粒子を溶解することが容易であるため好ましく、異物の付着を防止する観点から、フィルタリングした純水、イオン交換水、超純水などが特に好ましい。結晶化した微粒子の溶解度を更に上げるため、３０〜１００℃程度に加熱した水を用いることも好ましい。
【００３８】
また、ガラス基板を洗浄液に浸漬するだけではなく、超音波を加えても良いし、スポンジ等でガラス基板の表面を擦るスクラブ式の洗浄を行っても良い。
【００３９】
なお、洗浄工程は、複数の洗浄槽を用いて、複数段階に分けて行うこともできる。また、ガラス基板の表面に残存する化学強化処理液等の異物を除去するという効果以外の他の効果、例えば、ガラス基板の表面からのアルカリ金属イオン溶出を防止する効果等を併せ持った工程であっても良い。このような工程としては、例えば、ガラス基板を加熱した酸に浸漬する工程等が挙げられる。
【００４０】
（ガラス基板）
本発明で用いることのできるガラス基板は、化学強化処理液に浸漬することでイオン交換が可能なガラス基板であれば特に制限されない。例えば、アルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス、ソーダアルミノケイ酸ガラス、アルミノボロシリケートガラス、ボロシリケートガラスなどが挙げられる。中でも、アルミノシリケートガラスは、耐衝撃性や耐振動性に優れるため特に好ましい。
【００４１】
ガラス基板の大きさに限定はない。例えば、外径が２．５インチ、１．８インチ、１インチ、０．８インチなど種々の大きさのガラス基板を用いることができる。また、ガラス基板の厚みにも限定はない。例えば、２ｍｍ、１ｍｍ、０．６３ｍｍなど種々の厚みのガラス基板を用いることができる。
【００４２】
（情報記録媒体）
本発明の方法により得られた情報記録媒体用ガラス基板の上に、少なくとも記録層を形成することで情報記録媒体を得ることができる。記録層は特に限定されず、磁気、光、光磁気等の性質を利用した種々の記録層を用いることができるが、特に磁性層を記録層として用いた情報記録媒体（磁気ディスク）の製造に好適である。
【００４３】
磁性層に用いる磁性材料としては、特に限定はなく公知の材料を適宜選択して用いることができる。例えば、Ｃｏを主成分とするＣｏＰｔ、ＣｏＣｒ、ＣｏＮｉ、ＣｏＮｉＣｒ、ＣｏＣｒＴａ、ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＮｉＰｔ、ＣｏＮｉＣｒＰｔ、ＣｏＮｉＣｒＴａ、ＣｏＣｒＰｔＴａ、ＣｏＣｒＰｔＳｉＯなどが挙げられる。また、磁性層を非磁性膜（例えば、Ｃｒ、ＣｒＭｏ、ＣｒＶなど）で分割してノイズの低減を図った多層構成としてもよい。
【００４４】
磁性層として、上記のＣｏ系材料の他、フェライト系や鉄−希土類系の材料や、ＳｉＯ2、ＢＮなどからなる非磁性膜中にＦｅ、Ｃｏ、ＣｏＦｅ、ＣｏＮｉＰｔ等の磁性粒子が分散された構造のグラニュラーなどを用いることもできる。磁性層は、面内型、垂直型の何れであっても良い。
【００４５】
磁性膜の形成方法としては、公知の方法を用いることがでる。例えば、スパッタリング法、無電解メッキ法、スピンコート法などが挙げられる。
【００４６】
磁気ディスクには、更に必要により下地層、保護層、潤滑層等を設けても良い。これらの層はいずれも公知の材料を適宜選択して用いることができる。下地層の材料としては、例えば、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ、Ｖ、Ｂ、Ａｌ、Ｎｉなどが挙げられる。保護層の材料としては、例えば、Ｃｒ、Ｃｒ合金、Ｃ、ＺｒＯ2、ＳｉＯ2などが挙げられる。また、潤滑層としては、例えば、パーフロロポリエーテル（ＰＦＰＥ）等からなる液体潤滑剤を塗布し、必要に応じ加熱処理を行ったものなどが挙げられる。
【実施例】
【００４７】
（実施例１）
ガラス材料としてアルミノシリケートガラスを用い、溶融ガラスをプレス成形してブランク材を作製した。内外周加工工程、研削・研磨工程を経て、外径６５ｍｍ、内径２０ｍｍ、厚み０．６３５ｍｍのガラス基板とした。表面粗さは、表裏ともに算術平均高さＲａ（ＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１）が０．４〜０．５ｎｍとなるように仕上げた。
【００４８】
化学強化処理液として、硝酸カリウム（ＫＮＯ3）の溶融塩を用意した。硝酸カリウムの融点は３３４℃である。化学強化処理液の加熱温度は４００℃とした。
【００４９】
ガラス基板１０枚を１つの搬送治具にセットし、４００℃に加熱した予熱槽に投入して予熱を行った後、処理槽に貯留した化学強化処理液に浸漬した。浸漬時間は２時間とした。ガラス基板を化学強化処理液から引き上げ、処理槽の上方で２．２秒間待機した後、処理槽の上方から搬出した。その後、洗浄槽に貯留した純水に浸漬し、ガラス基板に付着した化学強化処理液等を除去した。純水温度は６０℃とし、洗浄槽に超音波を付加した。
【００５０】
ガラス基板を入れ替えて同様の工程を２０回繰り返し、処理済みの基板２００枚を得た。１回目に処理した搬送治具、１０回目に処理した搬送治具、及び２０回目に処理した搬送治具からそれぞれ１０枚ずつのガラス基板を抜き取り、ガラス基板の表面に付着する異物の数を評価した。評価はクリーンルーム内の光学顕微鏡で行い、ガラス基板１枚当たりに存在する１μｍ以上の異物の数を求めた。ここでは、ガラス基板１枚当たりに存在する１μｍ以上の異物の数が２未満であれば性能上問題とならず良好（○）、２以上の場合は性能上問題あり（×）と判断した。
【００５１】
評価結果を表１に示す。ガラス基板１枚当たりに存在する１μｍ以上の異物の数は、１回目に処理した基板の平均が０．７個、１０回目に処理した基板の平均が０．８個、２０回目に処理した基板の平均が１．３個であり、いずれも良好であることが確認された。
【００５２】
【表１】
2008127235.tif 000003
【００５３】
（実施例２）
ガラス基板を化学強化処理液から引き上げた後、処理槽の上方で待機する時間を１５秒間とした以外は、実施例１と同様の条件で処理を行い、処理済みのガラス基板について表面に付着する異物の数を評価した。１５秒間待機した時点におけるガラス基板の温度は３２５℃であり、硝酸カリウムの凝固点よりも低温であった。なお、実施例２の処理は、実施例１の処理の後、装置周辺を清掃すると共に、化学強化処理液と洗浄液を未使用のものに入れ替えた後に行った。
【００５４】
評価結果を表１に併せて示す。ガラス基板１枚当たりに存在する１μｍ以上の異物の数は、１回目に処理した基板の平均が０．８個、１０回目に処理した基板の平均が０．８個、２０回目に処理した基板の平均が０．７個であり、いずれも良好であり、繰り返し処理を行っても異物の数は増加していないことが確認された。
【００５５】
（実施例３）
ガラス基板を化学強化処理液から引き上げた後、処理槽の上方で待機する時間を３秒間とした以外は、実施例１と同様の条件で処理を行い、処理済みのガラス基板について表面に付着する異物の数を評価した。なお、実施例３の処理は、実施例２の処理の後、装置周辺を清掃すると共に、化学強化処理液と洗浄液を未使用のものに入れ替えた後に行った。
【００５６】
評価結果を表１に併せて示す。ガラス基板１枚当たりに存在する１μｍ以上の異物の数は、１回目に処理した基板の平均が０．８個、１０回目に処理した基板の平均が０．８個、２０回目に処理した基板の平均が１個であり、いずれも良好であることが確認された。
【００５７】
（比較例１）
ガラス基板を化学強化処理液から引き上げた後、処理槽の上方で待機する時間を１．５秒間とした以外は、実施例１と同様の条件で処理を行い、処理済みのガラス基板について表面に付着する異物の数を評価した。処理槽から洗浄槽への搬送中に、ガラス基板や搬送治具に付着した化学強化処理液の滴が装置周辺に落下して汚染されていくのが目視で確認された。なお、比較例１の処理は、実施例３の処理の後、装置周辺を清掃すると共に、化学強化処理液と洗浄液を未使用のものに入れ替えた後に行った。
【００５８】
評価結果を表１に併せて示す。ガラス基板１枚当たりに存在する１μｍ以上の異物の数は、１回目に処理した基板の平均が０．８個、１０回目に処理した基板の平均が２．３個、２０回目に処理した基板の平均が５．２個であり、処理を繰り返すことで性能上問題となるレベルまで異物の数が増加することが確認された。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】本実施形態で用いる化学強化及び洗浄装置の一例を示す模式図
【符号の説明】
【００６０】
１１  処理槽
１２  洗浄槽
１３  搬送治具
１４  ガラス基板
１７  化学強化処理液
１８  洗浄液
【図１】
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