【手続補正書】
【提出日】平成25年7月17日(2013.7.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水平面に平行な所定の二次元平面に沿って配置された平板状の物体を、前記二次元平面内の少なくとも一軸方向に駆動する物体駆動装置と、
前記物体駆動装置により一定の速度で駆動される前記物体に対し、その移動経路上の所定の領域内で、前記物体表面の被処理部位に対して所定の処理を実行する実行装置と、
前記物体よりも面積の狭い保持面を有する保持部材を含み、該保持部材を用いて前記物体の一部を下方から非接触状態で保持して前記物体の前記二次元平面に交差する方向の位置を調整する調整装置と、
前記物体の前記所定の領域に対する位置に応じて、前記保持部材を、位置を調整しつつ前記一軸方向に駆動する駆動装置と、を備える物体処理装置。
【請求項２】
前記保持部材は、前記物体に対して前記所定の処理が行われる前には、前記所定の領域よりも前記物体の移動方向上流側の位置で予め前記物体の前記被処理部位の前端部を含む領域を保持し、前記物体が前記所定の処理のために駆動される際には、前記物体と共に前記一軸方向に移動する請求項１に記載の物体処理装置。
【請求項３】
前記保持面の寸法は、前記一軸方向に関して、前記被処理部位よりも短く、
前記駆動装置は、前記物体に対して前記所定の処理が行われている間、前記保持部材を前記所定の領域に対応する位置に停止させる請求項２に記載の物体処理装置。
【請求項４】
前記保持部材は、前記物体に対する前記所定の処理が終了する前に、前記駆動装置により前記物体の移動方向下流側に向けて加速され、前記物体の前記被処理部位の後端部を含む領域を保持した状態で前記物体と共に前記一軸方向に移動する請求項３に記載の物体処理装置。
【請求項５】
前記一軸方向に関して、前記保持面の寸法は、前記所定の領域よりも長い請求項１〜４のいずれか一項に記載の物体処理装置。
【請求項６】
前記調整装置は、前記保持部材の前記保持面から前記物体に対して気体を噴出するとともに、前記保持面と前記物体との間の気体を吸引して前記物体を非接触保持する請求項１〜５のいずれか一項に記載の物体処理装置。
【請求項７】
前記調整装置は、前記物体と前記保持面との距離が一定となるように、前記物体と前記保持面との間の気体の圧力及び流量の少なくとも一方を可変させる請求項６に記載の物体処理装置。
【請求項８】
前記所定の領域よりも前記物体の移動方向上流側且つ前記保持部材の移動範囲と重複する領域内で、前記物体を下方から非接触支持する上流側支持装置をさらに備え、
前記上流側支持装置は、前記保持部材が前記所定の領域よりも前記物体の移動方向上流側に位置する場合には、前記保持部材の移動経路上から退避する請求項１〜７のいずれか一項に記載の物体処理装置。
【請求項９】
前記所定の領域よりも前記物体の移動方向下流側且つ前記保持部材の移動範囲と重複する領域内で、前記物体を下方から非接触支持する下流側支持装置をさらに備え、
前記下流側支持装置は、前記保持部材が前記所定の領域よりも前記物体の移動方向下流側に位置する場合には、前記保持部材の移動経路上から退避する請求項１〜８のいずれか一項に記載の物体処理装置。
【請求項１０】
前記物体の移動可能範囲内、且つ前記保持部材の移動範囲外で、前記物体に対して気体を噴出して前記物体を下方から非接触支持する非接触支持装置をさらに備える請求項１〜９のいずれか一項に記載の物体処理装置。
【請求項１１】
前記物体は、該物体の端部に沿って延設された枠状の部材から成る移動体によりその端部が保持され、
前記物体駆動装置は、前記移動体を駆動する請求項１〜１０のいずれか一項に記載の物体処理装置。
【請求項１２】
前記実行装置は、前記物体を検査するために該物体表面を撮像する撮像装置を含む請求項１〜１１のいずれか一項に記載の物体処理装置。
【請求項１３】
前記物体は、ディスプレイ装置の表示パネルに用いられる基板である請求項１〜１２のいずれか一項に記載の物体処理装置。
【請求項１４】
前記実行装置は、エネルギビームを用いて前記物体を露光することにより所定のパターンを前記物体上に形成するパターン形成装置である請求項１〜１３のいずれか一項に記載の物体処理装置。
【請求項１５】
請求項１４に記載の物体処理装置を用いて前記物体を露光することと、
前記露光された物体を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【請求項１６】
エネルギビームを照射して物体を露光することにより所定のパターンを前記物体上に形成する露光装置であって、
水平面に平行な所定の二次元平面に沿って配置された平板状の物体を、前記二次元平面内の少なくとも一軸方向に駆動する物体駆動装置と、
前記物体駆動装置により一定の速度で駆動される前記物体の表面に、その移動経路上で前記エネルギビームを照射する露光系と、
前記物体よりも面積の狭い保持面を有する保持部材を含み、該保持部材を用いて前記物体の一部を下方から非接触状態で保持して前記物体の前記二次元平面に交差する方向の位置を調整する調整装置と、
前記露光系による前記エネルギビームの照射領域に対する前記物体の位置に応じて、前記保持部材を、前記一軸方向に駆動する駆動装置と、を備える露光装置。
【請求項１７】
前記保持面の寸法は、前記一軸方向に関して、前記物体上の被露光領域よりも短く、
前記駆動装置は、前記物体に対して前記照射が行われている間、前記保持部材を前記照射領域に対応する位置に停止させる請求項１６に記載の露光装置。
【請求項１８】
前記一軸方向に関して、前記保持面の寸法は、前記照射領域よりも長い請求項１６又は１７に記載の露光装置。
【請求項１９】
前記調整装置は、前記保持部材の前記保持面から前記物体に対して気体を噴出するとともに、前記保持面と前記物体との間の気体を吸引して前記物体を非接触保持する請求項１６〜１８のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項２０】
前記エネルギビームの照射領域よりも前記物体の移動方向上流側且つ前記保持部材の移動範囲と重複する領域内で、前記物体を下方から非接触支持する上流側支持装置をさらに備え、
前記上流側支持装置は、前記保持部材が前記照射領域よりも前記物体の移動方向上流側に位置する場合には、前記保持部材の移動経路上から退避する請求項１６〜１９のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項２１】
前記エネルギビームの照射領域よりも前記物体の移動方向下流側且つ前記保持部材の移動範囲と重複する領域内で、前記物体を下方から非接触支持する下流側支持装置をさらに備え、
前記下流側支持装置は、前記保持部材が前記照射領域よりも前記物体の移動方向下流側に位置する場合には、前記保持部材の移動経路上から退避する請求項１６〜２０のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項２２】
前記物体の移動可能範囲内、且つ前記保持部材の移動範囲外で、前記物体に対して気体を噴出して前記物体を下方から非接触支持する非接触支持装置をさらに備える請求項１６〜２１のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項２３】
前記物体は、該物体の端部に沿って延設された枠状の部材から成る移動体によりその端部が保持され、
前記物体駆動装置は、前記移動体を駆動する請求項１６〜２２のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項２４】
エネルギビームを用いて前記物体を露光することにより所定のパターンを前記物体上に形成する露光装置であって、
水平面に平行な所定の二次元平面内の一部の領域に、前記パターンを介した前記エネルギビームを照射する光学系と、
前記二次元平面に沿って配置された平板状の物体を、前記二次元平面内の前記一部の領域を含む所定の領域内で少なくとも一軸方向に駆動する駆動装置と、
前記物体が前記駆動装置により駆動される際に、前記一部の領域と同程度の大きさ又はこれより小さい保持面を有し、該保持面に対向する前記物体の一部を下方から非接触状態で保持して前記物体の前記二次元平面に交差する方向の位置を調整するとともに、前記一部の領域に対する前記物体の位置に応じて、前記一軸方向に移動する調整装置と、を備える露光装置。
【請求項２５】
前記物体の前記調整装置に保持される部分を除く他の領域に支持面を対向させて前記物体を下方から非接触支持する非接触支持装置を、さらに備える請求項２４に記載の露光装置。
【請求項２６】
前記所定の領域内の一部で、前記物体の上面の前記二次元平面に垂直な方向の面位置の分布を計測する面位置計測系をさらに備える請求項２４又は２５に記載の露光装置。
【請求項２７】
前記物体は、サイズが５００ｍｍ以上の基板である請求項１６〜２６のいずれか一項に記載の露光装置
【請求項２８】
請求項１６〜２７のいずれか一項に記載の露光装置を用いて前記物体を露光することと、
前記露光された物体を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【請求項２９】
請求項１６〜２７のいずれか一項に記載の露光装置を用いてフラットパネルディスプレイ用の基板を露光することと、
露光された前記基板を現像することと、を含むフラットパネルディスプレイの製造方法。
【請求項３０】
エネルギビームを用いて前記物体を露光することにより所定のパターンを前記物体上に形成する露光方法であって、
前記パターンを介した前記エネルギビームが光学系により照射される一部の領域を含む水平面に平行な所定の二次元平面内の所定の領域内で、前記二次元平面に沿って配置された平板状の物体を、少なくとも一軸方向に駆動することと、
前記物体が駆動される際に、前記一部の領域に対する前記物体の位置に応じて、前記一部の領域と同程度の大きさ又はこれより小さい保持面の前記一軸方向の位置を変更しつつ、前記保持面に対向する前記物体の部分を、前記物体の下方から非接触状態で保持し、前記部分の前記二次元平面に交差する方向の位置を調整することと、を含む露光方法。
【請求項３１】
前記物体の前記部分を除く他の領域を下方から非接触支持することを、さらに含む請求項３０に記載の露光方法。
【請求項３２】
請求項３０又は３１に記載の露光方法を用いて前記物体を露光することと、
前記露光された物体を現像することと、を含むデバイス製造方法。