Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月25日(2009.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、この基材表面に窒素以外の不活性ガス雰囲気下で形成された、Ｔｉ原子の含有率が膜厚方向に一定であるＴｉ被膜と、このＴｉ被膜上に形成された、Ｎ原子の含有率が膜厚方向に勾配を有するＴｉＮ傾斜被膜と、このＴｉＮ傾斜被膜上に形成された、Ｔｉ原子およびＮ原子の含有率が膜厚方向に一定であるＴｉＮ被膜と、このＴｉＮ被膜上に形成された、Ａｕ原子の含有率が膜厚方向に勾配を有するＡｕ−ＴｉＮ混合傾斜被膜と、このＡｕ−ＴｉＮ混合傾斜被膜上に形成された、Ａｕ原子、Ｔｉ原子およびＮ原子の含有率が膜厚方向に一定であるＡｕ−ＴｉＮ混合被膜と、このＡｕ−ＴｉＮ混合被膜上に形成された、Ａｕ原子の含有率が膜厚方向に一定であるＡｕ被膜またはＡｕ合金被膜とを有し、
該Ａｕ被膜またはＡｕ合金被膜の膜厚が、０.００５〜０.１μｍである
ことを特徴とする金色装飾品。
【請求項２】
Ａｕ−ＴｉＮ混合傾斜被膜において、Ａｕ原子の含有率がＴｉＮ被膜からＡｕ−ＴｉＮ混合被膜への膜厚方向に対して増大することを特徴とする請求項１に記載の金色装飾品。
【請求項３】
金およびチタン以外の金属原子を含まないＡｕ−ＴｉＮ混合傾斜被膜において、Ａｕ原子の含有率が２〜１０原子％／０．００１μｍの割合で増大することを特徴とする請求項１に記載の金色装飾品。
【請求項４】
Ａｕ−ＴｉＮ混合傾斜被膜において、Ａｕ原子が金およびチタン以外の金属原子と合金を形成し、Ａｕ原子と金およびチタン以外の金属原子との合計含有率が２〜１０原子％／０．００１μｍの割合で増大することを特徴とする請求項２に記載の金色装飾品。
【請求項５】
Ａｕ−ＴｉＮ混合被膜中のＡｕ原子が金およびチタン以外の金属原子と合金を形成し、該Ａｕ−ＴｉＮ混合被膜上にＡｕ合金被膜が形成していることを特徴とする請求項４に記載の金色装飾品。
【請求項６】
ＴｉＮ傾斜被膜において、Ｎ原子の含有率がＴｉ被膜からＴｉＮ被膜への膜厚方向に対して増大することを特徴とする請求項１に記載の金色装飾品。
【請求項７】
ＴｉＮ傾斜被膜において、Ｎ原子の含有率が４〜１２原子％／０．１μｍの割合で増大することを特徴とする請求項３に記載の金色装飾品。
【請求項８】
Ｔｉ被膜の膜厚が０．１〜０．５μｍであり、
ＴｉＮ傾斜被膜とＴｉＮ被膜との合計膜厚が０．５〜２．０μｍであり、かつ該合計膜厚に対するＴｉＮ傾斜被膜の膜厚の割合が１０〜６０％の範囲にあり、
Ａｕ−ＴｉＮ混合傾斜被膜の膜厚とＡｕ−ＴｉＮ混合被膜との合計膜厚が０．００５〜０．１μｍであり、かつ該合計膜厚に対するＡｕ−ＴｉＮ混合傾斜被膜の膜厚の割合が１０〜９０％の範囲にあり、
Ａｕ被膜またはＡｕ合金被膜の膜厚が０．００５〜０．１μｍであることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の金色装飾品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明に係る金色装飾品は、基材と、この基材表面に窒素以外の不活性ガス雰囲気下で形成された、Ｔｉ原子の含有率が膜厚方向に一定であるＴｉ被膜と、このＴｉ被膜上に形成された、Ｎ原子の含有率が膜厚方向に勾配を有するＴｉＮ傾斜被膜と、このＴｉＮ傾斜被膜上に形成された、Ｔｉ原子およびＮ原子の含有率が膜厚方向に一定であるＴｉＮ被膜と、このＴｉＮ被膜上に形成された、Ａｕ原子の含有率が膜厚方向に勾配を有するＡｕ−ＴｉＮ混合傾斜被膜と、このＡｕ−ＴｉＮ混合傾斜被膜上に形成された、Ａｕ原子、Ｔｉ原子およびＮ原子の含有率が膜厚方向に一定であるＡｕ−ＴｉＮ混合被膜と、このＡｕ−ＴｉＮ混合被膜上に形成された、Ａｕ原子の含有率が膜厚方向に一定であるＡｕ被膜またはＡｕ合金被膜とを有し、該Ａｕ被膜またはＡｕ合金被膜の膜厚が、０.００５〜０.１μｍであることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月18日(2008.11.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１００ｍｏｌ％〜４００ｍｏｌ％の架橋剤により架橋された下式のアミンからなる、架橋アミンポリマー：
【化１】
2007262421.tif 000001
（式中、ｎは３、４または５である）、ただし、該架橋剤はエピクロロヒドリンではない。
【請求項２】
前記アミンモノマーが、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（３−アミノプロピル）１，４−ジアミノブタンである、請求項１に記載の架橋アミンポリマー。
【請求項３】
前記アミンモノマーの反応性アミン基に対する架橋剤の比が、２００ｍｏｌ％〜３００ｍｏｌ％である、請求項１または２に記載の架橋アミンポリマー。
【請求項４】
膨潤率が５未満であることによって特徴づけられる、請求項１に記載の架橋アミンポリマー。
【請求項５】
２００より大きい分子量の非反応性溶質が利用可能な部分が、ゲル重量の２０％未満であることによって特徴づけられる、請求項１に記載の架橋アミンポリマー。
【請求項６】
非干渉性緩衝液と比した胃腸内模擬液のリン酸イオンに対するイオン結合干渉率が６０％未満であることによって特徴づけられる、請求項１に記載の架橋アミンポリマー。
【請求項７】
請求項１に記載の架橋アミンポリマーを製造する方法であって、不均一プロセスである分散媒質中の重合を含むものであり、ここに該方法は、アミンモノマーは連続相に不溶性で液粒として分散され、架橋反応は該液粒相内で起こり、架橋反応が進んで生成した架橋ポリマーを、連続相中に分散したビーズまたは不定形粒子として得る、方法。
【請求項８】
前記不均一プロセスが、逆懸濁、直接懸濁、沈殿重合、乳化重合およびマイクロエマルジョン重合、ならびにエアロゾル中の反応から選択される、請求項６に記載の方法。
【請求項９】
請求項７または８に記載の方法であって、次の工程を包含する、方法：
ｉ）アミンモノマーを水または水溶液に溶かす工程、
ｉｉ）該アミンモノマーの一部を、酸で中和する工程、
ｉｉｉ）水と混和しない溶媒の中に該アミンモノマー溶液を分散させ、乳化液をつくる工程、
ｉｖ）架橋剤を該乳化液に、何回かに分けて追加する工程、及び
ｖ）架橋反応を最後まで反応させて、架橋アミンポリマーを製造する工程。
【請求項１０】
請求項７〜９のいずれか１項に記載の方法によって製造される、請求項１に記載の架橋アミンポリマー。
【請求項１１】
請求項１〜６および１０のいずれか１項に記載の架橋アミンポリマーを活性成分として含有する医薬。
【請求項１２】
高リン酸血症、低カルシウム血症、上皮小体亢進症、腎臓でのカルシトリオール合成低下、低カルシウム血症によるテタニー、腎不全、軟組織の異所性石灰化、慢性腎不全、および同化代謝から選択される疾患の治療剤である、請求項１１に記載の医薬。
【請求項１３】
高リン酸血症の治療剤である、請求項１１に記載の医薬。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月18日(2009.9.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
上記保護カバー２４はまた、上記側面覆い部２４ｃの操作穴３５を覆う穴カバー３７を有している。この穴カバー３７は、上記側面覆い部２４ｃの上半部外面に沿って横向きに延びる細長い板状をした部材である。この穴カバー３７の一端には支持部３７ａが形成され、この支持部３７ａが、上記側面覆い部２４ｃの端部に形成された同様の支持部２４ｅに枢軸（リベット）３８で回動自在に連結されており、この枢軸３８を中心に該穴カバー３７を回動させることで、該穴カバー３７が、上記操作穴３５を露出させる穴開放位置（図２の鎖線位置）と、該操作穴３５を覆う穴閉鎖位置（図２の実線位置）とに変位するように構成されている。また、該穴カバー３７が上記穴閉鎖位置にあるときその位置を安定的に保持できるように、該穴カバー３７の先端部上縁にはストッパ３７ｂが形成され、このストッパ３７ｂが保護カバー２４の上面に係止するようになっている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
【図１】本発明に係るピストン位置検出装置が設けられた流体圧シリンダの第１実施形態を示す側面図である。
【図２】図１の要部底面図である。
【図３】図１におけるＩＩＩ−ＩＩＩ線での断面図である。
【図４】ピストン位置検出装置を構成するセンサ装置の斜視図である。
【図５】図４の分解斜視図である。
【図６】本発明に係るピストン位置検出装置が設けられた流体圧シリンダの第２実施形態を示す部分正面図である。
【図７】図６の平面図である。
【図８】図６の分解斜視図である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５】
2009150438.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月17日(2009.2.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技機の本体を構成する枠体と、この枠体に支持されて遊技領域を形成する遊技盤と、前記遊技領域に向けて遊技球を発射する球発射装置とを備えた遊技機において、
前記枠体の前面側で所定の取付軸線に沿って配設され、前記球発射装置を作動させるべく遊技者により操作可能な操作部材が取り付けられたハンドルユニットと、
前記ハンドルユニットの取付軸線に対し、該取付軸線を基準として形成される球状曲面に沿って操作部材を変位可能に支持する球面可動機構と、
前記操作部材の変位に節度を付与することで、前記球状曲面上で前記ハンドルユニットの取付軸線に対する該操作部材の変位角度を複数段階に調整可能とする節度機構とを備えることを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記球面可動機構は、
球状曲面から構成される案内面を有する球面案内部材と、
前記球面案内部材の案内面に相対する球状曲面から構成される被案内面とを有し、
前記被案内面が形成され該被案内面が前記球面案内部材の案内面に沿って案内される可動部材と、
前記可動部材を介してハンドルユニットに操作部材を連結し、連結状態で該操作部材と該可動部材とが該ハンドルユニットに対して一体的に変位するのを許容する可動連結部材とを含むことを特徴とする請求項１記載の遊技機。
【請求項３】
前記節度機構は、
前記案内面および前記被案内面のうち凹面となる一方から突出して形成され、その凹面上で環状に連なる突出部と、
前記案内面および前記被案内面のうち凸面となる他方に形成され、節度機構により複数段階に調整可能とする前記操作部材の変位角度ごとに前記突出部を嵌合させるべくその凸面上で環状に連なる凹み部と、
前記操作部材と前記可動部材との間に介挿され、該可動部材を前記案内面に密着させる方向に付勢力を発生させる一方、遊技者の操作により付勢力に抗して該可動部材を前記案内面から離脱可能とする付勢部材とを含むことを特徴とする請求項２に記載の遊技機。
【請求項４】
前記節度機構は、
前記案内面および前記被案内面のうち凸面となる一方から突出して形成され、その凸面上で環状に連なる突出部と、
前記案内面および前記被案内面のうち凹面となる他方に形成され、節度機構により複数段階に調整可能とする前記操作部材の変位角度ごとに前記突出部を嵌合させるべくその凹面上で環状に連なる凹み部と、
前記操作部材と前記可動部材との間に介挿され、該可動部材を前記案内面に密着させる方向に付勢力を発生させる一方、遊技者の操作により付勢力に抗して該可動部材を前記案内面から離脱可能とする付勢部材とを含むことを特徴とする請求項２に記載の遊技機。
【請求項５】
遊技機の本体を構成する枠体と、この枠体に支持されて遊技領域を形成する遊技盤と、前記遊技領域に向けて遊技球を発射する球発射装置とを備えた遊技機において、
前記枠体の前面側に配置されて前記球発射装置を作動させるべく遊技者により操作可能な操作部材が取り付けられたハンドルユニットと、
前記枠体に対し、その前面側の所定平面内にて前記ハンドルユニットを移動可能に支持する平面可動機構と、
前記枠体に対し、所定平面内の所望の位置で前記ハンドルユニットを固定する一方、遊技者の操作に応じて該ハンドルユニットの固定を解除可能な位置決め機構とを具備し、
前記位置決め機構は、
前記枠体に配設され、その前側に凹凸面を有する係合部材と、
前記ハンドルユニットに形成され、該係合部材の凹凸面と係合可能な係合部と、
前記ハンドルユニットに内蔵され、該ハンドルユニットを前記係合部材に密着させる方向に付勢力を発生させる一方、遊技者の操作により付勢力に抗して前記ハンドルユニットを前記係合部材から離脱可能とする付勢部材とを含むことを特徴とする遊技機。
【請求項６】
前記平面可動機構は、
前記枠体に対し、その縦方向に前記ハンドルユニットをスライド自在に案内する第１案内部材と、
前記枠体に対し、その横方向に前記ハンドルユニットをスライド自在に案内する第２案内部材と、
前記第１および第２案内部材の一方側に前記ハンドルユニットを連結し、かつ、この連結状態にて、該第１および第２案内部材の双方に対する前記ハンドルユニットのスライド変位を許容するスライド連結部材とを含んでいることを特徴とする請求項５記載の遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月15日(2009.5.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内燃機関の吸気通路を構成する部材に介装されたコンプレッサと同内燃機関の排気通路を構成する部材に介装されたタービンとを有するターボチャージャと、前記コンプレッサを通過するガスの流量であるコンプレッサ通過ガス流量を実際に測定するエアフローメータと、を備え、前記内燃機関に異常が発生しているか否かを判定する内燃機関の異常判定装置であって、
前記コンプレッサ通過ガス流量以外の所定の変数を実測するとともに同ターボチャージャの状態をモデル化して表すターボチャージャモデル式に同実測された変数を適用することにより同コンプレッサ通過ガス流量を推定するコンプレッサ通過ガス流量推定手段と、
前記実際に測定されたコンプレッサ通過ガス流量と前記推定されたコンプレッサ通過ガス流量との差に応じた値であるガス流量乖離指標値の絶対値が異常判定閾値より大きいか否かを判定するとともに同ガス流量乖離指標値の絶対値が同異常判定閾値より大きいと判定されたときに前記エアフローメータ及び前記吸気通路を構成する部材の何れかに異常が発生したと判定する異常判定手段と、
を備えた内燃機関の異常判定装置において、
前記異常判定手段は、
前記機関に実際に供給されているガスの流量である実ガス流量が第１範囲内にあるか否かを判定するとともに同実ガス流量が同第１範囲内にあると判定されるとき前記吸気通路を構成する部材のうち前記コンプレッサ下流位置において同吸気通路を構成する部材に発生した同吸気通路内と同吸気通路外とを連通する空気漏れ部の面積を第１空気漏れ部面積として取得する第１空気漏れ部面積算出手段と、
前記実ガス流量が前記第１範囲よりも大きい第２範囲内にあるか否かを判定するとともに同実ガス流量が同第２範囲内にあると判定されるとき前記コンプレッサ下流位置において同吸気通路を構成する部材に発生した同吸気通路内と同吸気通路外とを連通する空気漏れ部の面積を第２空気漏れ部面積として取得する第２空気漏れ部面積算出手段と、
前記取得された第１空気漏れ部面積と前記取得された第２空気漏れ部面積との差に応じた値である漏れ部面積乖離指標値の絶対値が所定値より小さいか否かを判定し、同漏れ部面積乖離指標値の絶対値が同所定値より小さいと判定されたとき前記吸気通路を構成する部材に異常が発生し且つ前記エアフローメータには異常が発生していないと判定し、同漏れ部面積乖離指標値の絶対値が同所定値より大きいと判定されたとき同エアフローメータに異常が発生し且つ前記吸気通路を構成する部材には異常が発生していないと判定する異常箇所特定手段と、
を含む内燃機関の異常判定装置。
【請求項２】
請求項１に記載の内燃機関の異常判定装置において、
前記第１空気漏れ部面積算出手段は、前記内燃機関の回転速度が第１回転速度範囲内にあるとき前記実ガス流量が前記第１範囲内にあると判定するように構成され、
前記第２空気漏れ部面積算出手段は、前記内燃機関の回転速度が前記第１回転速度範囲よりも大きい第２回転速度範囲内にあるとき前記実ガス流量が前記第２範囲内にあると判定するように構成された内燃機関の異常判定装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
更に、本発明の異常判定装置は、第１空気漏れ部面積算出手段と、第２空気漏れ部面積算出手段と、異常箇所特定手段と、を備える。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2007332882.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月21日(2009.5.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性支持体上に感光層を有する電子写真感光体において、
該感光層が、フタロシアニン結晶を含有するとともに、
該フタロシアニン結晶が、無置換又は置換のアミノ基を有する化合物の存在下、無置換又は置換のアミノ基を有さない有機化合物に、フタロシアニン結晶前駆体を接触させることにより結晶型を変換する工程を経て得られる
ことを特徴とする、電子写真感光体。
【請求項２】
該フタロシアニン結晶が、ＣｕＫα特性Ｘ線（波長１．５４１Å）に対するブラッグ角（２θ±０．２°）２７．２°に主たる回折ピークを示す
ことを特徴とする、請求項１記載の電子写真感光体。
【請求項３】
請求項１又は２記載の電子写真感光体と、
該電子写真感光体を画像形成装置に対して着脱可能に支持するカートリッジケースとを備えた
ことを特徴とする、電子写真感光体カートリッジ。
【請求項４】
請求項１又は２記載の電子写真感光体と、
該電子写真感光体を帯電させる帯電部と、
帯電した該電子写真感光体を露光させ静電潜像を形成する露光部と、
該電子写真感光体上に形成された静電潜像を現像する現像部とを備えた
ことを特徴とする、画像形成装置。
【請求項５】
無置換又は置換のアミノ基を有する化合物の存在下、無置換又は置換のアミノ基を有さない有機化合物に、フタロシアニン結晶前駆体を接触させることにより結晶型を変換する工程を経て得られる
ことを特徴とする、フタロシアニン結晶。
【請求項６】
ＣｕＫα特性Ｘ線（波長１．５４１Å）に対するブラッグ角（２θ±０．２°）２７．２°に主たる回折ピークを示す
ことを特徴とする、請求項５記載のフタロシアニン結晶。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】電子写真感光体、電子写真感光体カートリッジ、及び画像形成装置、並びにフタロシアニン結晶
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
即ち、本発明の要旨は、導電性支持体上に感光層を有する電子写真感光体において、該感光層が、フタロシアニン結晶を含有するとともに、該フタロシアニン結晶が、無置換又は置換のアミノ基を有する化合物の存在下、無置換又は置換のアミノ基を有さない有機化合物に、フタロシアニン結晶前駆体を接触させることにより結晶型を変換する工程を経て得られることを特徴とする、電子写真感光体に存する（請求項１）。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
ここで、該フタロシアニン結晶が、ＣｕＫα特性Ｘ線（波長１．５４１Å）に対するブラッグ角（２θ±０．２°）２７．２°に主たる回折ピークを示すことが好ましい（請求項２）。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
また、本発明の別の要旨は、上述の電子写真感光体と、該電子写真感光体を画像形成装置に対して着脱可能に支持するカートリッジケースとを備えたことを特徴とする、電子写真感光体カートリッジに存する（請求項３）。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
また、本発明の別の要旨は、上述の電子写真感光体と、該電子写真感光体を帯電させる帯電部と、帯電した該電子写真感光体を露光させ静電潜像を形成する露光部と、該電子写真感光体上に形成された静電潜像を現像する現像部とを備えたことを特徴とする、画像形成装置に存する（請求項４）。
さらに、本発明の別の要旨は、無置換又は置換のアミノ基を有する化合物の存在下、無置換又は置換のアミノ基を有さない有機化合物に、フタロシアニン結晶前駆体を接触させることにより結晶型を変換する工程を経て得られることを特徴とする、フタロシアニン結晶に存する（請求項５）。
ここで、ＣｕＫα特性Ｘ線（波長１．５４１Å）に対するブラッグ角（２θ±０．２°）２７．２°に主たる回折ピークを示すことが好ましい（請求項６）。
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月17日(2009.2.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性支持体上に感光層を有する感光体において、該感光層中に下記一般式（１）で表されるアミン化合物を含有することを特徴とする電子写真感光体。 
一般式（１） 
【化１】
2007332099.tif 000001
（式（１）中、Ar1は、置換基を有しても良い芳香族残基、Ar2ないしAr3は、置換基を有
しても良いアリーレン基、R１ないしR8は、水素原子、または、置換基を有しても良いア
ルキル基、置換基を有しても良いアリール基を表し、X１は、炭素数３ないし７の分岐ア
ルキル構造を有する置換基を表し、ｎ１ないしｎ２は、１以上５以下の整数を表す） 
【請求項２】
一般式（１）において、X１が−O−X2  （但し、X２は、炭素数３ないし７の分岐アル
キル構造を有する置換基を表す）で表される事を特徴とする請求項１記載の電子写真感光体。
【請求項３】
該感光層中に、ＣｕＫα特性Ｘ線（波長１．５４１Å）に対するブラッグ角（２θ±０．２°）が２７．２°に主たる回折ピークを有するオキシチタニウムフタロシアニンを含有することを特徴とする請求項１または２に記載の電子写真感光体。 
【請求項４】
請求項１〜３の何れか1項に記載の電子写真感光体に対して、少なくとも、帯電、露光
、反転現像及び転写の各プロセスを行なう画像形成方法において、選択する用紙の種類により転写電圧が変化することを特徴とした画像形成方法。 
【請求項５】
請求項１〜３の何れか1項に記載の電子写真感光体を並列に複数個並べて使用するカラ
ー画像形成方法であって、少なくとも、帯電、露光、反転現像及び転写の各プロセスを各色で各感光体に対して行なう画像形成方法において、転写プロセスでの印可電圧が各色で段階的に変化することを特徴とした画像形成方法。 
【請求項６】
請求項４または５に記載の画像形成方法を用いることを特徴とした、画像形成装置。 
【請求項７】
下記一般式（１）で表されるアミン化合物。 
一般式（１） 
【化１】
2007332099.tif 000002
（式（１）中、Ar1は、置換基を有しても良い芳香族残基、Ar2ないしAr3は、置換基を有
しても良いアリーレン基、R１ないしR8は、水素原子、または、置換基を有しても良いア
ルキル基、置換基を有しても良いアリール基を表し、X１は、炭素数３ないし７の分岐ア
ルキル構造を有する置換基を表し、ｎ１ないしｎ２は、１以上５以下の整数を表す） 
【請求項８】
一般式（１）において、X１が−O−X2  （但し、X２は、炭素数３ないし７の分岐アル
キル構造を有する置換基を表す）で表される事を特徴とする請求項７記載のアミン化合物。 
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】電子写真感光体、画像形成方法、画像形成装置、及びアミン化合物
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
すなわち、本発明の第１の要旨は、導電性支持体上に感光層を有する感光体において、該感光層中に、下記一般式（１）で表されるアミン化合物を含有することを特徴とする電子写真感光体に存する。
一般式（１） 
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
（式（１）中、Ar1は、置換基を有しても良い芳香族残基、Ar2ないしAr3は、置換基を有
しても良いアリーレン基、R１ないしR8は、水素原子、または、置換基を有しても良いア ルキル基、置換基を有しても良いアリール基を表し、X１は、炭素数３ないし７の分岐ア ルキル構造を有する置換基を表し、ｎ１ないしｎ２は、１以上５以下の整数を表す）
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、本発明の第２の要旨は、本発明に係る電子写真感光体に対して、少なくとも、帯電、露光、反転現像及び、転写の各プロセスを行なう画像形成方法において、選択する用紙の種類により転写電圧が変化することを特徴とした画像形成方法に存し、第３の要旨は、本発明に係る電子写真感光体を並列に並べて複数個使用するカラー画像形成方法であって、少なくとも、帯電、露光、反転現像及び、転写の各プロセスを各色で各感光体に対して行なう画像形成方法において、転写プロセスでの印可電圧が各色で段階的に変化することを特徴とした画像形成方法に存する。 
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明の第４の要旨は該画像形成方法を用いることを特徴とした、画像形成装置に存する。さらに、本発明の第５の要旨は、上記一般式（１）で表されるアミン化合物に存する。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月15日(2009.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
(A)成分のニトリルゴム(NBR)としては、結合アクリロニトリル含量が18〜48％、好ましくは31〜42％で、ムーニー粘度ML1+4(100℃)が30〜85、好ましくは40〜70のアクリロニトリル−ブタジエン共重合ゴムが用いられ、実際には市販品をそのまま用いることができる。結合アクリロニトリル量がこれより少ないと、ゴム金属積層体などに適用された場合に接着剤との接着性が乏しくなり、一方結合アクリロニトリル量がこれより多い場合には、耐寒性が損なわれるようになる。また、ムーニー粘度がこれより小さいと、耐摩擦・摩耗特性が乏しくなり、他方ムーニー粘度がこれより大きいと、混練加工性が損なわれるようになる。このNBRに対しては、シリカ、酸化アルミニウム、加硫剤および加硫促進剤が添加されて、本発明のNBR組成物が調製される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
NBR組成物中には、以上の各成分以外に、活性炭酸カルシウム等の他の補強剤、タルク、クレー、グラファイト、けい酸カルシウム等の充填剤、ステアリン酸、パルミチン酸、パラフィンワックス等の加工助剤、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、ハイドロタルサイト等の受酸剤、老化防止剤、ジオクチルセバケート等の可塑剤など、ゴム工業で一般的に用いられている各種配合剤が適宜添加されて用いられる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
組成物の調製は、インタミックス、ニーダ、バンバリーミキサ等の混練機あるいはオープンロールなどを用いて混練することによって行われ、その加硫は射出成形機、圧縮成形機、加硫プレス、加硫用オーブン等を用い、一般に約160〜250℃で約0.5〜30分間程度加熱することによって行われ、更に必要に応じて約150〜250℃で約30秒〜10時間程度加熱する二次加硫も行われる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
得られたプライマー溶液は、金属板上にスプレー、浸せき、刷毛、ロールコータ等を用いて、約50〜200mg／m2量の目付量で塗布され、室温または温風にて乾燥させた後、約100〜250℃、約0.5〜20分間焼付け処理され、プライマー層が形成される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
接着剤の一成分として用いられる未加硫のNBRとしては、市販品である極高ニトリル含量(ニトリル含量43％以上)、高ニトリル含量(同36〜42％)、中高ニトリル含量(同31〜35％)、中ニトリル含量(同25〜30％)および低ニトリル含量(同24％以下)の各種NBRをそのまま用いることができるが、好ましくは中高ニトリル含量のものが用いられる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
接着剤層としては、一層の構成のみならず多層構成とすることもできる。例えば、プライマー層上には有機金属化合物を含むフェノール系の接着剤層を形成し、さらにその上には未加硫NBRを含むフェノール系接着剤層を設けて接着剤を多段塗布した上で、ゴム層を形成させたものが挙げられる。このような構成とすることにより、接着剤層の塗布工程は増加するものの、プライマー層およびゴム層の接着性をより強固なものとすることが可能となる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
実施例６
実施例１において、テトラベンジルチウラムジスルフィドの代わりに、テトラキス(2-エチルヘキシル)チウラムジスルフィド(大内新興化学製品ノクセラーTOT-N)3重量部が用いられた。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
比較例１
実施例１において、ジ-2-ベンゾチアゾリルジスルフィドおよびテトラベンジルチウラムジスルフィドの代わりに、テトラメチルチウラムジスルフィド(大内新興化学製品ノクセラーTT)2重量部が用いられた。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
比較例４
実施例１において、シリカおよび酸化アルミニウムが用いられず、またFEFカーボンブラック量が120重量部に変更され、さらにジ-2-ベンゾチアゾリルジスルフィドおよびテトラベンジルチウラムジスルフィドの代わりに、テトラメチルチウラムジスルフィド(ノクセラーTT)2重量部が用いられた。
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月28日(2009.5.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
粉末状フッ素系樹脂、ポリカーボネート樹脂およびイソシアネート基含有1,2-ポリブタジエンを含有してなるゴム状弾性体用コーティング剤。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
これらのフッ素系樹脂の粒子は、塊状重合法、懸濁重合法、溶液重合法、乳化重合法などで得られたフッ素樹脂を粒子径0.1〜5μm程度に分級したものや、懸濁重合法、溶液重合法、乳化重合法などで得られた分散液をせん断攪拌などにより、0.1〜5μm程度に微粒子分散させたもの、これらの重合法で得られたものを凝析・乾操後、乾式粉砕や冷却粉砕により、10μm以下に微粒子化したものなどが用いられる。0.1〜10μmに設定される粒子径において、粒子径がより小さい場合には、塗布厚みを小さく出来るメリットがあるが、塗布表面の凹凸が小さくなることにより接触面積が小さくなり、低面圧では摩擦係数が大きくなる傾向があり、一方粒子径がより大きい場合には、塗布厚みが大きくなり、塗布の際のコストがかかるが、凹凸が大きくなり、低面圧では相手材との接触面積が小さくなり、摩擦係数が下がるようになる。したがって、粒子径は使用要求によって適宜調整され、例えばシール部品などではこれら長所、短所を考慮して決定され、好ましくは0.5〜2μm程度のものが用いられる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
イソシアネート基含有1,2-ポリブタジエンとしては、末端基としてイソシアネート基が付加された分子量1,000〜3,000程度のものが用いられ、これは市販品、例えば日本曹達製品日曹TP-1001(酢酸ブチル50重量％含有溶液)などをそのまま用いることが出来る。このポリブタジエン樹脂は、同様のイソシアネート基で反応高分子化するポリイソシアネート樹脂よりも、ゴムとの相性、相溶性が良いため、ゴムとの密着性が良く、特に耐摩擦・摩耗特性が良いのが特徴である。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月9日(2009.1.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）
ＲｎＳｉＸ４−ｎ・・・（Ｉ）
（式中、Ｒは、式中のＳｉに炭素原子が直接結合するような有機基を表し、Ｘは、水酸基又は加水分解性基を表す。ｎは１又は２を表し、ｎが２のとき、Ｒは同一であっても異なっていてもよく、（４−ｎ）が２以上のとき、Ｘは同一であっても異なっていてもよい。）で表される有機ケイ素化合物の縮合物を主成分とし、金属キレート化合物、金属有機酸塩化合物、２以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物、それらの加水分解物、及びそれらの縮合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の３５０ｎｍ以下の波長の光に感応する光感応性化合物、及び／又はそれから誘導される化合物を含有する有機無機複合体であって、
さらに、機能性物質を含有することを特徴とする有機無機複合体。
【請求項２】
式（Ｉ）
ＲｎＳｉＸ４−ｎ・・・（Ｉ）
（式中、Ｒは、式中のＳｉに炭素原子が直接結合するような有機基を表し、Ｘは、水酸基又は加水分解性基を表す。ｎは１又は２を表し、ｎが２のとき、Ｒは同一であっても異なっていてもよく、（４−ｎ）が２以上のとき、Ｘは同一であっても異なっていてもよい。）で表される有機ケイ素化合物の縮合物を主成分とし、機能性物質を含有する薄膜であって、
膜表面から深さ方向１０ｎｍにおける膜表面部の炭素含有量が、膜裏面から深さ方向１０ｎｍにおける膜裏面部の炭素含有量の８０％以下であることを特徴とするポリシロキサン系薄膜。
【請求項３】
金属キレート化合物、金属有機酸塩化合物、２以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物、それらの加水分解物、及びそれらの縮合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の光感応性化合物の存在下、
機能性物質を含有する式（Ｉ）
ＲｎＳｉＸ４−ｎ・・・（Ｉ）
（式中、Ｒは、式中のＳｉに炭素原子が直接結合するような有機基を表し、Ｘは、水酸基又は加水分解性基を表す。ｎは１又は２を表し、ｎが２のとき、Ｒは同一であっても異なっていてもよく、（４−ｎ）が２以上のとき、Ｘは同一であっても異なっていてもよい。）で表される有機ケイ素化合物及び／又はその縮合物に、３５０ｎｍ以下の波長の光を照射することを特徴とする有機無機複合体の製造方法。
【請求項４】
式（Ｉ）
ＲｎＳｉＸ４−ｎ・・・（Ｉ）
（式中、Ｒは、式中のＳｉに炭素原子が直接結合するような有機基を表し、Ｘは、水酸基又は加水分解性基を表す。ｎは１又は２を表し、ｎが２のとき、Ｒは同一であっても異なっていてもよく、（４−ｎ）が２以上のとき、Ｘは同一であっても異なっていてもよい。）で表される有機ケイ素化合物及び／又はその縮合物と、金属キレート化合物、金属有機酸塩化合物、２以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物、それらの加水分解物、及びそれらの縮合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の光感応性化合物と、機能性物質とを含有することを特徴とする有機無機複合体形成用組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月15日(2009.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１重量％以上の燐酸、クエン酸、酒石酸、シュウ酸、リンゴ酸、酢酸、グルコン酸、グリコール酸、コハク酸などステンレス鋼に非酸化性に働く酸、硫酸およびフッ酸からなる群から選ばれた１種または２種以上の水溶液に、１重量％以上の２−アミノ−２−メチル−１−プロパノールを添加したものを主成分とすることを特徴とするステンレス鋼の電解研磨法に用いる電解液。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の詳細な説明】
【発明の名称】ステンレス鋼の電解研磨法に用いる電解液
【技術分野】
【０００１】
この発明は、ステンレス鋼の溶接後の焼け取り等のために行われるステンレス鋼表面に対する電解研磨で使用する電解液の組成に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
金属加工法として金属を電解液と接触させながら直流又は交流電圧を印加して加工する電解加工が広く用いられており、ステンレス鋼においても、例えばステンレス鋼の溶接後の焼け取り部分を表面研磨する方法として電解加工による電解研磨法が行なわれている。
【０００３】
また、金属と電解液を接触させる方法も、電解液に被研磨材となる金属（ワーク）を浸漬させる浸漬式や、電極とワークの間に天然または合成の不織布を置いた簡易式がある。
【０００４】
現在まで使用されてきた電解液としては、交流、直流、交直重畳にかかわらず、また、浸漬式、簡易式等の方式を問わず、硫酸、燐酸、クエン酸、酒石酸、シュウ酸、リンゴ酸、酢酸、グルコン酸、グリコール酸、コハク酸、フッ化水素酸もしくはそれらのアンモニウム、カリウム、ナトリウム塩の一種もしくは二種以上の塩を配合したものを電解液として利用してきた（例えば、特許文献１、特許文献２参照）。
【特許文献１】特許第３４８４５２５号公報
【特許文献２】特開２００３−８２４９５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、上記従来の電解液を用いたものでは電解後、特にオーステナイト系ステンレス鋼では孔食などの腐食がおきる危険性があった。
【０００６】
また、特許文献１にあるように、非酸化性の酸のナトリウム塩、アンモニウム塩、カリウム塩に水溶性フッ化物を添加して表面にフッ化不動態膜を形成させるような方法が考案されているが、処理後の美観の問題やフェライト系ステンレス鋼に使用して塩水噴霧試験を行った場合に全面腐食を増大させる危険性があった。
【０００７】
そこで、上記のような課題を解決し、どのような鋼種のステンレスでも上記の課題をもっと効果的に解決できる様な電解液を得るべく種々の材料を検討することによって本発明に至ったものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の課題を解決するため、請求項１の発明は、１重量％以上の燐酸、クエン酸、酒石酸、シュウ酸、リンゴ酸、酢酸、グルコン酸、グリコール酸、コハク酸などステンレス鋼に非酸化性に働く酸、硫酸およびフッ酸からなる群から選ばれた１種または２種以上の水溶液に、１重量％以上の２−アミノ−２−メチル−１−プロパノールを添加したものを主成分とするステンレス鋼の電解研磨法に用いる電解液である。
【発明の効果】
【０００９】
この発明の電解液は、ステンレス鋼の電解研磨において交流及び直流及び交直重畳で使用できると共に、どのような鋼種のステンレスでも耐食性と処理後の美観を向上させることができ経済的である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
電極の先の不織布に、（１）１０重量％のピロリン酸ナトリウム水溶液、（２）１０重量％のピロリン酸に８重量％の２−アミノ−２−メチル−１−プロパノールを添加した水溶液を、それぞれ電解液として染み込ませ、オーステナイト系ステンレス鋼であるＳＵＳ３０４（３０ｍｍ×９０ｍｍ×１．６ｍｍ）に押し当て２０Ｖの交流電流を印加した後、表面の状態を比較してみた。
【００１１】
尚、表面状態の比較後、オーステナイト系ステンレスであるＳＵＳ３０４（３０ｍｍ×９０ｍｍ×１．６ｍｍ）の試験片は６重量％の塩化第二鉄水溶液に浸漬し２４時間後の重量減を計測した。
【００１２】
（１）１０重量％のピロリン酸ナトリウム水溶液の試験片の減少率は、２．１重量％であったが、（２）１０重量％のピロリン酸に２−アミノ−２−メチル−１−プロパノールを添加した水溶液を電解液として処理した試験片では僅か１．５％にすぎなかった。
【００１３】
また、２−アミノ−２−メチル−１−プロパノールの量は多くするほど好結果がでたので、請求項１にあるように、１重量％以上の燐酸、クエン酸、酒石酸、シュウ酸、リンゴ酸、酢酸、グルコン酸、グリコール酸、コハク酸などステンレス鋼に非酸化性に働く酸、硫酸およびフッ酸からなる群から選ばれた１種もしくは２種以上の水溶液に、１重量％以上の２−アミノ−２−メチル−１−プロパノールを添加すれば、耐孔食性が飛躍的に向上する事が分かった。また、フェライト系ステンレス鋼に対する塩水噴霧試験においても同様の防錆作用がある事がわかった。
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月17日(2009.4.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
鉄道レールの分岐器において、基本レールに対してトングレールを移動させる際に該トングレールを支承ローラで下方から支持する転てつ減摩器であって、
前記転てつ減摩器が、枕木に固定する取付ブラケットと、該取付ブラケットに対して着脱自在に固定されるローラユニットとを有するとともに、
前記ローラユニットが、少なくとも１つの前記支承ローラと、該支承ローラを支持するローラ支持フレームとを備え、
前記ローラ支持フレームと、前記取付ブラケットとが、締結手段を介して締結されていることを特徴とする転てつ減摩器。
【請求項２】
前記ローラ支持フレームの底面、および前記取付ブラケットの該ローラ支持フレームが載置される上面とが、平面で構成されるとともに、該取付ブラケットが、平板状の床板を介して前記枕木に固定されることを特徴とする請求項１記載の転てつ減摩器。
【請求項３】
前記ローラ支持フレームが、前記取付ブラケットに対して、高さ調整用のシムを介して取付されることを特徴とする請求項１又は２記載の転てつ減摩器。
【請求項４】
前記床板への取付部分となるアーム部分が一対互いに離間して形成されるとともに、
前記離間している一対のアーム部分の先端部間を、前記ローラユニットを上面上に載置するローラユニット取着部によって、連結することによって、
前記取付ブラケットが、平面視においてコの字状の形態に形成されていることを特徴とする請求項２又は３記載の転てつ減摩器。
【請求項５】
前記締結手段が、ボルトとナットであることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１の項に記載の転てつ減摩器。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月25日(2009.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
配向処理された面上においてハイブリッド配向する重合性液晶モノマーと、下記一般式（１）に示す光重合開始剤および一般式（２）に示す光重合開始剤のうちの少なくとも一つとを含有する
ことを特徴とする重合性液晶組成物。
【化１】
2007332195.tif 000001
ただし、一般式（１）または一般式（２）中において、Ｒ１〜Ｒ６は独立に水素原子またはメチル基を表す。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
例えば、ＥＣＢモードの液晶表示装置においては、液晶分子を傾斜配向させていわゆるハイブリット構造とした光学素子を位相差層として設けることにより、広い視野角が得られることが知られている。このように液晶分子を傾斜配向させた光学素子（位相差層）の製造においては、重合性液晶化合物を、光重合開始剤や界面活性剤と混合した組成物として用い、光重合開始剤としては、ベンゾインエーテル類、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、ベンジルケタール類、アシルフォスフィンオキサイド等を用いることが開示されている（下記特許文献１参照）。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
ｃ）界面活性剤
界面活性剤としては、フッ素系の界面活性剤またはアクリル系の界面活性剤が用いられる。フッ素系の界面活性剤としては、ＤＭＡＯＰ（アズマックス社製商品名）等を用いることができる。アクリル系の界面活性剤としてはＢＹＫ３６１（ビックケミー社製商品名）、ポリフロー４６１（共栄社化学社製商品名）等を用いることができる。これらの界面活性剤は、単独で用いても良く、複数種類を用いても良い。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
また、塗膜に照射する放射線としては、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯などの水銀励起光源、およびキセノン光源等を用いることができ、好ましくは、光重合開始剤の感度の大きい波長帯域に強度のピークを有する光源を選択することが好ましい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
そして、液晶分子をハイブリッド配向させたハイブリッド位相差層２４として、図1を用いて説明した光学素子１００が用いられており、このハイブリッド位相差層２４が透明基板２１における液晶層ＬＣ側に形成されているところが特徴的である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
＜液晶表示装置−２＞
図３は、本発明の液晶表示装置の第２実施形態の断面構成図である。この図に示す液晶表示装置１ｂが、図２に示した液晶表示装置１ａと異なるところは、対向基板２０側の構成である。すなわち液晶表示装置１ｂでは、透明基板２１上のカラーフィルタ２２を平坦化絶縁膜４０で覆い、この上部に配向膜２３およびハイブリッド位相差層２４を設けた構成であり、他の構成は図２の液晶表示装置１ａと同様である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
このように、平坦化絶縁膜４０を設けることにより、平坦な下地面上にハイブリッド位相差層２４を形成することが可能になる。これにより、ハイブリッド位相差層２４の配向性を向上させることが可能である。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
＜液晶表示装置−３＞
図４は、本発明の液晶表示装置の第３実施形態の断面構成図である。この図に示す液晶表示装置１ｃが、図２に示した液晶表示装置１ａと異なるところは、対向基板２０側の構成である。すなわち液晶表示装置１ｃでは、配向膜２３およびハイブリッド位相差層２４を、透明基板２１上に直接設けた構成であり、他の構成は図２の液晶表示装置１ａと同様である。
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月15日(2009.5.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
比較例４
撹拌機、温度計、ｐＨメーターを装着した容量２００ｍｌのフラスコに、ｔｒａｎｓ−２−メトキシシクロヘキサノール１３．０２ｇ（０．１００モル）、水３１．４２ｇ、９５％硫酸１．４４ｇ（０．０１４ｍｏｌ）を仕込んだ。反応液の温度を１３〜２０℃に保ちながら、１３．０重量％次亜塩素酸ナトリウム水溶液（ＮａＣｌ含有率１３重量％、ＮａＯＨ含有率０．８重量％）６３．１８ｇ（０．１１０ｍｏｌ；ｔｒａｎｓ−２−メトキシシクロヘキサノールに対して１．１０倍モル）を８時間かけて添加した。反応途中において、反応液のｐＨを１．０以下に保つために５０％硫酸水溶液９．３２ｇ（０．０９０ｍｏｌ）を添加した。反応終了後、１３〜２０℃で３０分間熟成した。反応液を分析したところ、ｔｒａｎｓ−２−メトキシシクロヘキサノールの残存率は２６％、２−メトキシシクロヘキサノンの収率は７０ｍｏｌ％であった。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
比較例７
撹拌機、温度計、ｐＨメーターを装着した容量１００ｍｌのフラスコに、ｔｒａｎｓ−２−メトキシシクロヘキサノール１３．０ｇ（０．１０モル）、水１５．７ｇ、３５％塩酸２．９ｇ（０．０２８ｍｏｌ）、塩化カルシウム８．２ｇを仕込んだ。反応液の温度を１３〜２０℃に保ちながら、１６．２％次亜塩素酸カルシウム水溶液４８．５ｇ（０．０５５ｍｏｌ；ｔｒａｎｓ−２−メトキシシクロヘキサノールに対して１．１０倍当量）を５時間かけて添加した。反応途中において、反応液のｐＨを１．０以下に保つために５０％硫酸水溶液６．７ｇ（０．０３４ｍｏｌ）を添加した。反応終了後、１３〜２０℃で３０分間熟成した。反応液を分析したところ、ｔｒａｎｓ−２−メトキシシクロヘキサノールの残存率は３１％、２−メトキシシクロヘキサノンの収率は６８ｍｏｌ％であった。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
実施例１
撹拌機、温度計、ｐＨメーターを装着した容量２００ｍｌのフラスコに、ｔｒａｎｓ−２−メトキシシクロヘキサノール１９．５ｇ（０．１５０モル）、水２３．６ｇ、９５％硫酸２．２ｇ（０．０２１ｍｏｌ）、塩化ナトリウム６．２ｇ（水に対して０．２６重量倍）を仕込んだ。反応液の温度を１３〜２０℃に保ちながら、１４．３重量％次亜塩素酸ナトリウム水溶液（ＮａＣｌ含有率１２重量％、ＮａＯＨ含有率０．８重量％）８５．９ｇ（０．１６５ｍｏｌ；ｔｒａｎｓ−２−メトキシシクロヘキサノールに対して１．１０倍モル）を６時間かけて添加した。反応途中における反応液のｐＨは１．０以下であったので５０％硫酸水溶液は添加しなかった。反応終了後、１３〜２０℃で３０分間熟成した。反応液を分析したところ、ｔｒａｎｓ−２−メトキシシクロヘキサノールの残存率は１％以下、２−メトキシシクロヘキサノンの収率は９８ｍｏｌ％であった。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
実施例８
撹拌機、温度計、ｐＨメーターを装着した容量２００ｍｌのフラスコに、ｔｒａｎｓ−２−メトキシシクロヘキサノール１９．５ｇ（０．１５０モル）、水２３．６ｇ、９５％硫酸２．２ｇ（０．０２１ｍｏｌ）、硫酸ナトリウム水和物２．３２ｇ（水に対して０．２６重量倍）を仕込んだ。反応液の温度を１３〜２０℃に保ちながら、１４．３重量％次亜塩素酸ナトリウム水溶液（ＮａＣｌ含有率１２重量％、ＮａＯＨ含有率０．８重量％）８５．９ｇ（０．１６５ｍｏｌ；ｔｒａｎｓ−２−メトキシシクロヘキサノールに対して１．１０倍モル）を６時間かけて添加した。反応途中における反応液のｐＨは１．０以下であったので５０％硫酸水溶液は添加しなかった。反応終了後、１３〜２０℃で３０分間熟成した。反応液を分析したところ、ｔｒａｎｓ−２−メトキシシクロヘキサノールの転化率は９９％以上、２−メトキシシクロヘキサノンの収率は９８ｍｏｌ％であった。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
実施例９
撹拌機、温度計、ｐＨメーターを装着した容量２００ｍｌのフラスコに、ｔｒａｎｓ−２−メトキシシクロヘキサノール１３．０２ｇ（０．１００モル）、水３１．４２ｇ、９５％硫酸１．４４ｇ（０．０１４ｍｏｌ）、塩化ナトリウム１６．３４ｇ（水に対して０．５２重量倍）を仕込んだ。反応液の温度を１３〜２０℃に保ちながら、１３．０重量％次亜塩素酸ナトリウム水溶液（ＮａＣｌ含有率１３重量％、ＮａＯＨ含有率０．８重量％）６３．１８ｇ（０．１１０ｍｏｌ；ｔｒａｎｓ−２−メトキシシクロヘキサノールに対して１．１０倍モル）を８時間かけて添加した。反応途中において、反応液のｐＨを１．０以下に保つために５０％硫酸水溶液２．５ｇ（０．０１３ｍｏｌ）を添加した。反応終了後、１３〜２０℃で３０分間熟成した。反応液を分析したところ、ｔｒａｎｓ−２−メトキシシクロヘキサノールの残存率は２％、２−メトキシシクロヘキサノンの収率は９６ｍｏｌ％であった。
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月26日(2009.5.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明の第１の要旨の作業雰囲気の空気成分制御方法では、作業者の吸気はクリーンルーム外側からホースを介して面体の内側に供給することができ、呼気は面体の内側からホースを介してクリーンルーム外側に排気することができる。これにより、クリーンルームの作業雰囲気の空気成分は、作業者の呼吸によって変化せず、窒素ガスと酸素ガスとからなり、水分も二酸化炭素も含まれない状態を維持することができる。このため、前面板に形成された酸化マグネシウムからなる保護層は、その前面板に背面板を封着させるまでの間、水分とも二酸化炭素とも反応せず、保護層の表面に水酸化マグネシウムも炭酸マグネシウムも析出しないようにすることができる。その結果、上記水酸化マグネシウムや炭酸マグネシウムを除去するためのエージング工程を不要にすることができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
このようにして行われる本発明の作業雰囲気の空気成分制御方法では、作業者１が上記保護具２を装着しているため、作業者１の呼気に含まれるＨ2 ＯもＣＯ2 も、クリーンルーム５の作業雰囲気に排出されない。すなわち、クリーンルーム５の作業雰囲気の空気成分は、窒素ガスと酸素ガスとからなる上記人工空気を維持し、Ｈ2 ＯもＣＯ2 も含まれない状態となっている。このため、前面板に形成されたＭｇＯからなる保護層は、その前面板に背面板を封着させるまでの間、Ｈ2 ＯともＣＯ2 とも反応せず、保護層の表面には、水酸化マグネシウム〔Ｍｇ（ＯＨ）2 〕も炭酸マグネシウム（ＭｇＣＯ3 ）も析出しないようにすることができる。その結果、上記Ｍｇ（ＯＨ）2 やＭｇＣＯ3 を除去するためのエージング工程を不要にすることができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
また、作業者１がクリーンルーム５に出入りする際に、Ｈ2 ＯおよびＣＯ2 がクリーンルーム５の外側から侵入する場合や、クリーンルーム５で作業者１が上記保護具２を着脱する際に、作業者１の呼気としてＨ2 ＯおよびＣＯ2 がクリーンルーム５で排出される場合等もある。しかしながら、そのような場合のＨ2 ＯおよびＣＯ2 は僅かであり、上記保護層の表面に析出するＭｇ（ＯＨ）2 およびＭｇＣＯ3 は全く無いか、あっても極僅かである。しかも、この第１の実施の形態では、Ｈ2 ＯおよびＣＯ2 を吸着する吸着塔４１を備えた空気循環装置４により、クリーンルーム５の作業雰囲気の空気を循環させているため、その循環中に上記Ｈ2 ＯおよびＣＯ2 を吸着塔４１で吸着させることができる。これにより、上記保護層の表面でのＭｇ（ＯＨ）2 およびＭｇＣＯ3 の析出をより一層防止することができる。この観点からも、エージング工程を不要にするか、エージングを行ったとしても、そのエージングに要する時間を非常に短くすることができる。