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【手続補正書】
【提出日】平成21年7月3日(2009.7.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
集束イオンビームを利用した加工観察方法であって、
断面を削っている集束イオンビームにより試料から発生する二次粒子像を、ＸＹ軸それぞれ独立に表示倍率変更することにより断面構造を表示する方法。
【請求項２】
集束イオンビームを利用した加工観察方法であって、
試料断面部位が含まれる領域に設定された短冊形状の加工領域を加工する集束イオンビームにより試料から発生する二次粒子像を、前記短冊形状の短辺方向に拡大することにより断面構造を表示する方法。
【請求項３】
請求項１又は２のいずれかに記載の加工観察方法であって、
表示された断面構造により試料の断面構造を判断し、所望の断面に達していれば加工を終了することを特徴とする方法。
【請求項４】
請求項１又は２のいずれかに記載の加工観察方法であって、
表示された断面構造により試料の断面構造を判断し、所望の断面に達していなければ短冊形状の加工領域を断面方向に移動して、所望の断面が得られるまでこれを繰り返すことを特徴とする方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の加工観察方法であって、
薄膜試料の片断面を少なくとも形成することを特徴とする方法。
【請求項６】
請求項５記載の加工観察方法であって、
作製した薄膜試料を、１５ｋＶ以上の加速電圧を有する走査形電子顕微鏡、走査形透過電子顕微鏡、又は透過形電子顕微鏡の少なくとも１つで観察することを特徴とする方法。
【請求項７】
請求項５記載の加工観察方法であって、
薄膜試料に加工した後、１５ｋＶ以上の加速電圧を有する走査形電子顕微鏡、走査形透過電子顕微鏡、又は透過形電子顕微鏡の何れか、若しくはこれらを併用して加工の進行を確認し、集束イオンビームで追加工し、最終的に観察部位を含む極薄薄膜に加工することを特徴とする方法。
【請求項８】
請求項７記載の加工観察方法であって、
作製した極薄薄膜試料を走査形電子顕微鏡、走査形透過電子顕微鏡、又は透過形電子顕微鏡の少なくとも１つで観察することを特徴とする方法。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載の加工観察方法であって、
短冊形状の加工領域設定時に、試料傾斜を併用して断面の仕上がり角度を調整することを特徴とする方法。
【請求項１０】
集束イオンビームを利用した加工観察装置であって、
断面を削っている集束イオンビームにより試料から発生する二次粒子像を、ＸＹ軸それぞれ独立に表示倍率変更する制御装置を備えている装置。
【請求項１１】
集束イオンビームを利用した加工観察装置であって、
試料断面部位が含まれる領域に設定された短冊形状の加工領域を加工する集束イオンビームにより試料から発生する二次粒子像を、前記短冊形状の短辺方向に拡大表示する画像表示手段を備える装置。
【請求項１２】
集束イオンビームを利用した加工観察装置であって、
加工中の二次粒子像の片軸拡大表示機能を備えている装置。
【請求項１３】
集束イオンビームを利用した加工観察装置であって、
断面に短冊状の加工領域を設定し加工する手段、加工中の二次粒子像を短冊状の加工領域の少なくとも短辺方向に拡大表示する手段、短冊状の加工領域を断面方向に移動する手段を備えている装置。
【請求項１４】
請求項１０〜１３のいずれかに記載の加工観察装置であって、
電子線カラムを複合実装していることを特徴とする装置。
【請求項１５】
請求項１０〜１３のいずれかに記載の加工観察装置と、１５ｋＶ以上の高加速電圧電子線装置と、を組み合わせた微細試料の加工観察システム。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月14日(2009.7.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ハウジングと、前記ハウジング内に備えられるものであって流体収容空間を有する流体移動手段と、前記流体移動手段を回転させるための駆動軸と、流体を前記ハウジングの内部に吸入するための吸入通路と、流体を前記ハウジング内から外部に吐出するための吐出通路と、吐出工程における前記吐出通路の流体圧力が所定の圧力未満の状態では前記吐出通路と前記吸入通路とを遮断すると共に吐出工程における前記吐出通路の流体圧力が所定以上の圧力になった場合に前記吐出通路と前記吸入通路とを連絡するためのバルブと、そのバルブを所定の方向に付勢するための付勢手段とを備えたポンプにおいて、前記バルブに前記駆動軸の直径より径大の内側筒状部を形成し、前記駆動軸の外側にその駆動軸に対して摺接移動可能な筒状のスリーブを備え、前記バルブの内側筒状部を前記スリーブの外側にそのスリーブに対して摺接移動可能に備え、前記バルブを前記駆動軸に接触させないようにしたことを特徴とするポンプ。
【請求項２】
前記筒状のスリーブの一端に外側に広がる環状のフランジを設け、前記バルブに前記フランジを収容する凹部を設けたことを特徴とする請求項１に記載のポンプ。
【請求項３】
前記バルブにおいて前記内側筒状部の外側に外側筒状部を間隔を空けて一体に形成し、その外側筒状部の外壁に環状の溝を形成し、その溝内に前記ハウジングと接触するための環状のＸリングを備えたことを特徴とする請求項１又は２に記載のポンプ。
【請求項４】
前記流体移動手段における前記流体収容空間の一方側の開口位置に前記バルブを備え、前記流体収容空間の他方側の開口位置に前記吐出通路及び前記吸入通路を備え、前記流体収容空間の前記バルブを備えた側に前記吸入通路と連絡する吸入連絡通路並びに前記吐出通路と連絡する吐出連絡通路を設け、前記バルブが前記吸入連絡通路と前記吐出連絡通路とを連絡遮断することによって、前記吸入通路と前記吐出通路とを連絡遮断させることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載のポンプ。
【請求項５】
前記流体移動手段が、インナーロータとアウターロータから成ることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載のポンプ。
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月19日(2008.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）現像剤を収納する収納部と、
（ｂ）前記現像剤の残量を検出する検出光の光路であって、前記収納部内を通過する複数の光路と、
（ｃ）該光路を形成するように収納部の壁面に形成された検出光を透過する窓と、
（ｄ）移動自在に配設され、前記窓を遮蔽する遮蔽部材と、
（ｅ）該遮蔽部材を移動させる移動手段とを備え、
（ｆ）前記遮蔽部材は、前記光路毎に配設され、前記移動手段の移動によって所定の位相差で各光路を遮断及び開放することを特徴とする現像装置。
【請求項２】
前記移動手段は回転体であり、
前記遮蔽部材は前記回転体と同軸上に配設される請求項１に記載の現像装置。
【請求項３】
発光素子からの検出光を前記光路に入射させ、該光路からの検出光を受光素子に受光させる導光部材を備える請求項１に記載の現像装置。
【請求項４】
前記光路は第１の光路及び第２の光路を含み、
前記遮蔽部材は、前記第１の光路を遮断及び開放する第１の遮蔽部材、並びに、前記第２の光路を遮断及び開放する第２の遮蔽部材を含む請求項１に記載の現像装置。
【請求項５】
前記第１の遮蔽部材が前記第１の光路を遮断し、かつ、前記第２の遮蔽部材が前記第２の光路を開放する第１の期間と、
前記第１の遮蔽部材が前記第１の光路を開放し、かつ、前記第２の遮蔽部材が前記第２の光路を遮断する第２の期間と、
前記第１の遮蔽部材が前記第１の光路を遮断し、かつ、前記第２の遮蔽部材が前記第２の光路を遮断する第３の期間とを備える請求項４に記載の現像装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の現像装置を備える画像形成装置。
【請求項７】
前記現像装置は着脱自在に装着される請求項６に記載の画像形成装置。
【請求項８】
前記移動手段を駆動する駆動部を備える請求項６又は７に記載の画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
本発明は、前記従来の現像装置の問題点を解決して、現像剤の残量を検出するための複数の光路上の窓の各々を周期的に遮蔽する遮蔽部材の動作の周期に所定の位相差を設定するようにして、収納部内に収納された現像剤の分布が不均一になっても、現像剤の残量を正確に検出することができ、現像剤を無駄にしてしまうことがない現像装置及び画像形成装置を提供することを目的とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
そのために、本発明の現像装置においては、現像剤を収納する収納部と、前記現像剤の残量を検出する検出光の光路であって、前記収納部内を通過する複数の光路と、該光路を形成するように収納部の壁面に形成された検出光を透過する窓と、移動自在に配設され、前記窓を遮蔽する遮蔽部材と、該遮蔽部材を移動させる移動手段とを備え、前記遮蔽部材は、前記光路毎に配設され、前記移動手段の移動によって所定の位相差で各光路を遮断及び開放する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明によれば、現像装置は、現像剤の残量を検出するための複数の光路上の窓の各々を周期的に遮蔽する遮蔽部材の動作の周期に所定の位相差を設定するようになっている。これにより、現像剤の残量を正確に検出することができ、現像剤を無駄にしてしまうことがない。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月15日(2009.1.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内周に内歯が形成された外側ケースと、外側ケース内に収納され、外周に前記内歯に噛み合い歯数が該内歯より若干少ない外歯を有するとともに、軸方向に並列配置された複数のピニオンと、中央部がピニオンに挿入され、回転することでピニオンを偏心回転させるクランク軸と、前記外側ケースに挿入され、前記クランク軸の両端部を回転可能に支持するキャリアと、駆動モータの出力軸の回転を減速して前記クランク軸に伝達する前段減速機とを備え、前記キャリアは、基台部と、前記基台部から軸方向に延びるとともに、前記ピニオンを貫通する周方向に離れた柱部と、該柱部に締結された端板部とを有する偏心揺動型減速機であって、
外側ケースから突出した基台部に、減速された回転を伝達する伝達歯車を固定するとともに、外側ケースから突出した基台部の径を、全ての柱部の半径方向内端に接する円より大径としたことを特徴とする偏心揺動型減速機。
【請求項２】
外側ケースから突出した基台部の径は、全ての柱部の半径方向外端に接する円より小径である請求項１記載の偏心揺動型減速機。
【請求項３】
外側ケースから突出した基台部は、外側ケースに挿入されている基台部に一体形成されている請求項１または２記載の偏心揺動型減速機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
このような目的は、内周に内歯が形成された外側ケースと、外側ケース内に収納され、外周に前記内歯に噛み合い歯数が該内歯より若干少ない外歯を有するとともに、軸方向に並列配置された複数のピニオンと、中央部がピニオンに挿入され、回転することでピニオンを偏心回転させるクランク軸と、前記外側ケースに挿入され、前記クランク軸の両端部を回転可能に支持するキャリアと、駆動モータの出力軸の回転を減速して前記クランク軸に伝達する前段減速機とを備え、前記キャリアは、基台部と、前記基台部から軸方向に延びるとともに、前記ピニオンを貫通する周方向に離れた柱部と、該柱部に締結された端板部とを有する偏心揺動型減速機であって、外側ケースから突出した基台部に、減速された回転を伝達する伝達歯車を固定するとともに、外側ケースから突出した基台部の径を、全ての柱部の半径方向内端に接する円より大径とすることにより達成することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月21日(2009.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
冷気を生成する冷却器と、前記冷却器の下方に配されて前記冷却器を除霜する除霜ヒータと、前記除霜ヒータの下方に配されて前記冷却器の除霜水を受けるとともに排水口を有する除霜水受けと、前記排水口に連通する排水パイプとを備えた冷蔵庫において、前記除霜水受けは前記除霜ヒータに対向して前記排水口を覆う遮蔽部を有することを特徴とする冷蔵庫。
【請求項２】
前記除霜水受けの底面は斜面により谷状に形成される谷部から成り、前記遮蔽部は前記谷部を横切る切り込みに囲まれた領域を前記斜面に対して折曲して成ることを特徴とする請求項１に記載の冷蔵庫。
【請求項３】
前記除霜水受けの下面を支持するとともに前記排水口と前記排水パイプとを連通させる貫通孔を有した断熱壁を備え、前記貫通孔の上端は前記排水口よりも広い領域が開口することを特徴とする請求項１または２に記載の冷蔵庫。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月21日(2009.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
室内の空気を取込む吸込口と、前記吸込口から吸込まれた空気と熱交換する熱交換器と、前記熱交換器の前面に配されて空気内の塵埃を集塵する集塵フィルタと、前記集塵フィルタに係止されるとともに前記集塵フィルタよりも粒子の細かい塵埃を捕集する空気清浄フィルタと、前記熱交換器を流下する結露水を受けて下方へ導くことにより前面側からの漏水を防止する露受け部と、前記露受け部から前記空気清浄フィルタと前記熱交換器との間に延びるとともに前記空気清浄フィルタの上下方向の中央部に対向する延設部とを備えたことを特徴とする空気調和機。
【請求項２】
前記延設部は先端を前記熱交換器側に折曲して前記熱交換器に当接する折曲部を有することを特徴とする請求項１に記載の空気調和機。
【請求項３】
前記延設部に孔部または切欠きを設けたことを特徴とする請求項１または２に記載の空気調和機。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月8日(2009.1.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
第１接続フランジ９８ａ、９８ｂは、連結部９６の略中央部の両側部から互いに離間する方向に所定角度傾斜して形成され、レギュレータ１２の結合部１８ａ又はアダプタ２０の結合部４８ａに係合される。なお、第１接続フランジ９８ａ、９８ｂの傾斜角度は、一側面側がテーパ状に形成されたレギュレータ１２の結合部１８ａ及びアダプタ２０の結合部４８ａの傾斜角度に対応した角度で設定される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
第２接続フランジ１１６ａ、１１６ｂは、第２保持部材７０の略中央部の両側部から互いに離間する方向に所定角度傾斜して形成されると共に、板ばね９０のばね力に抗して該第２保持部材７０の第２切欠溝１２０側をボディ６６側に接近させるように押圧することにより、レギュレータ１２の結合部１８ｂ及びアダプタ２０の結合部４８ｂに係合される。なお、第２接続フランジ１１６ａ、１１６ｂの傾斜角度は、一側面側がテーパ状に形成されたレギュレータ１２の結合部１８ｂ及びアダプタ２０の結合部４８ｂの傾斜角度に対応した角度で設定される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
また、第２保持部材７０が板ばね９０の弾発作用下に所定角度傾斜するように付勢された際に、該板ばね９０の折曲部９４が当接する位置に係合凹部１２２（図９参照）が形成される。すなわち、折曲部９４が第２保持部材７０側へと押圧された状態において、前記折曲部９４が係合凹部１２２に係合されることにより、第２保持部材７０が該第２保持部材７０の係合されているボルト７２から脱抜することが防止される。さらに、レギュレータ１２とアダプタ２０の装着された二方弁１４とを接続する際、第２保持部材７０をボディ６６側に向かって押圧すると、折曲部９４が係合凹部１２２から第１切欠溝１１８の方向へと離脱する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
次に、接続装置１６においてピン部材７４を第１保持部材６８に支持された部位を支点として第２保持部材７０の第２切欠溝１２０から離間させるように所定角度だけ傾動させることにより、板ばね９０の弾発力によって前記第２保持部材７０がボルト７２に支持された第１切欠溝１１８の部分を支点として上方に所定角度傾斜して押し上げられた状態となる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６】
2008286356.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月8日(2008.12.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
データ記憶装置の磁気ヘッド制御装置において，
情報を記憶するディスクと，
前記ディスク上の磁界を感知する磁気読み取り素子及び前記ディスクを磁化させる磁気書き込み素子を備え，前記ディスクの表面，前記磁気読み取り素子及び磁気書き込み素子の間に空気軸受表面を生成させる構造を有し，前記空気軸受表面を生成させる構造物を加熱させるヒータを備える磁気ヘッドと，
前記ディスクと前記磁気ヘッドとの間隔を書き込みモード及び読み取りモードで同一に維持させるように決定された電流を前記ヒータに印加する電流供給回路と，
を備えることを特徴とする，磁気ヘッド制御装置。
【請求項２】
前記ヒータは，コイルを備えることを特徴とする，請求項１に記載の磁気ヘッド制御装置。
【請求項３】
前記ヒータに印加される電流は，
書き込みモード及び読み取りモードでそれぞれ前記ヒータに印加される電流を可変させつつ，前記ヒータの消費電力の変化に対する前記ディスクと前記磁気ヘッドとの間隔を算出し，前記書き込みモード及び読み取りモードで前記ディスクと前記磁気ヘッドとの目標間隔に対応する電流値に決定することを特徴とする，請求項１に記載の磁気ヘッド制御装置。
【請求項４】
ヒータが内蔵された磁気ヘッドを備えるデータ記憶装置の磁気ヘッド制御方法において，
書き込みモード及び読み取りモードでそれぞれ前記ヒータに印加される電流を可変させつつ，前記ヒータの消費電力の変化に対するディスクと磁気ヘッドとの間隔のグラフを算出するステップと，
前記グラフから前記ディスクと前記磁気ヘッドとの目標間隔に対応する書き込みモードで前記ヒータに印加する電流値，及び読み取りモードで前記ヒータに印加する電流値をそれぞれ決定するステップと，
を含むことを特徴とする，磁気ヘッド制御方法。
【請求項５】
前記読み取りモードで，前記ヒータの消費電力の変化に対するディスクと磁気ヘッドとの間隔のグラフを算出するプロセスは，
所定のテストトラックで線速度及び記録周波数を検出するステップと，
前記テストトラックでデータ読み取りモードを実行するステップと，
前記磁気ヘッドと前記ディスクとが接触されるまで，前記ヒータに印加される電流を所定単位で増加させつつ再生される信号に対する自動利得制御回路の利得値を検出するステップと，
前記ヒータの消費電力の変化に対する前記ディスクと前記磁気ヘッドとの間隔のグラフを次の数式に基づいて算出するステップと，
Δｄ＝（λ／２π）×Ｌｓ
（ここで，Δｄ＝ディスクと磁気ヘッドとの磁気空間の変化量，λ＝記録波長＝線速度／記録周波数，Ｌｓ＝Ｌｎ（ＴＡＡ１／ＴＡＡ２）であり，ＴＡＡ１は以前のＡＧＣ利得値であり，ＴＡＡ２は現在のＡＧＣ利得値である）
を含むことを特徴とする，請求項４に記載の磁気ヘッド制御方法。
【請求項６】
位置エラー信号が検出され，前記位置エラー信号のレベルが所定の臨界値を超えれば，前記磁気ヘッドが前記ディスクに接触されると判定することを特徴とする，請求項５に記載の磁気ヘッド制御方法。
【請求項７】
前記書き込みモードで，前記ヒータの消費電力の変化に対するディスクと磁気ヘッドとの間隔のグラフを算出するプロセスは，
所定のテストトラックで線速度及び記録周波数を検出するステップと，
前記テストトラックでデータ書き込みモードを実行するステップと，
前記磁気ヘッドと前記ディスクとが接触されるまで，前記ヒータに印加される電流を所定単位で増加させつつ再生される信号に対する自動利得制御回路の利得値を検出するステップと，
前記ヒータの消費電力の変化に対する前記ディスクと前記磁気ヘッドとの間隔のグラフを次の数式に基づいて算出するステップと，
Δｄ＝（λ／２π）×Ｌｓ
（ここで，Δｄ＝ディスクと磁気ヘッドとの磁気空間の変化量，λ＝記録波長＝線速度／記録周波数，Ｌｓ＝Ｌｎ（ＴＡＡ１／ＴＡＡ２）であり，ＴＡＡ１は以前のＡＧＣ利得値であり，ＴＡＡ２は現在のＡＧＣ利得値である）
前記グラフでディスクと磁気ヘッドとの目標間隔に対応する消費電力を求め，前記求めた消費電力から書き込みモードでの前記ヒータに印加する電流を決定するステップと，
を含むことを特徴とする，請求項４に記載の磁気ヘッド制御方法。
【請求項８】
位置エラー信号が検出され，前記位置エラー信号のレベルが所定の臨界値を超えれば，前記磁気ヘッドが前記ディスクに接触されると判定することを特徴とする，請求項７に記載の磁気ヘッド制御方法。
【請求項９】
ヒータが内蔵された磁気ヘッドを備えるデータ記憶装置の磁気ヘッド制御方法を実行させるための，コンピュータで読み取り可能なコードを含む記録媒体において，
書き込みモード及び読み取りモードでそれぞれ前記ヒータに印加される電流を可変させつつ，前記ヒータの消費電力の変化に対するディスクと磁気ヘッドとの間隔のグラフを算出するプロセスと，
前記グラフから前記ディスクと前記磁気ヘッドとの目標間隔に対応する書き込みモードで前記ヒータに印加する電流値，及び読み取りモードで前記ヒータに印加する電流値をそれぞれ決定するプロセスと，
を実行させることを特徴とする，記録媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月8日(2008.12.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
柔軟性印刷回路と，前記柔軟性印刷回路を支持する支持部材を有する柔軟性印刷回路部と，前記柔軟性印刷回路部が結合されるアクチュエータアームと，を備える，ハードディスクドライブの前記柔軟性印刷回路と前記アクチュエータアームとの結合構造において：
前記柔軟性印刷回路部又は前記アクチュエータアームのいずれかに，１つのアライメントホールと，前記アライメントホールに差し込まれるアライメントピンと，一側が開放されたガイド溝と，前記ガイド溝に嵌め込まれるガイド突起と，が形成され，
前記アライメントホールと前記アライメントピンとはソルダリングにより固定されることを特徴とする，柔軟性印刷回路とアクチュエータアームとの結合構造。
【請求項２】
前記アライメントピン及び前記ガイド突起は，前記アクチュエータアームに形成されることを特徴とする，請求項１に記載の柔軟性印刷回路とアクチュエータとの結合構造。
【請求項３】
前記アクチュエータアームはモールディング部を有し，
前記ガイド突起及び前記アライメントピンは，前記モールディング部に形成されることを特徴とする，請求項２に記載の柔軟性印刷回路とアクチュエータアームとの結合構造。
【請求項４】
前記アライメントピンは，前記アクチュエータアームに押し込まれることを特徴とする，請求項２に記載の柔軟性印刷回路とアクチュエータアームとの結合構造。
【請求項５】
前記アライメントホールの周囲にはソルダリングパッドが設けられることを特徴とする，請求項１に記載の柔軟性印刷回路とアクチュエータアームとの結合構造。
【請求項６】
柔軟性印刷回路と，前記柔軟性印刷回路を支持する支持部材を有する柔軟性印刷回路部をハードディスクドライブのアクチュエータアームに結合する前記柔軟性印刷回路と前記アクチュエータアームとの結合方法において：
アライメントホールと，アライメントピンと，一側が開放されたガイド溝と，ガイド突起とを，前記柔軟性印刷回路部又は前記アクチュエータアームのいずれかに備えるステップと；
前記アライメントホールに前記アライメントピンを差し込み，前記ガイド溝に前記ガイド突起を嵌め込んで，前記柔軟性印刷回路部を前記アクチュエータアームにアライメントするステップと；
前記アクチュエータアームに前記柔軟性印刷回路を固定させるステップと；
を含むことを特徴とする，柔軟性印刷回路とアクチュエータアームとの結合方法。
【請求項７】
前記柔軟性印刷回路部及び前記アクチュエータアームを備えるステップは，
前記アクチュエータアームに前記アライメントピン及び前記ガイド突起を形成するステップを含むことを特徴とする，請求項６に記載の柔軟性印刷回路とアクチュエータアームとの結合方法。
【請求項８】
前記アクチュエータアームに前記アライメントピン及び前記ガイド突起を形成するステップは，
前記アクチュエータアームに，モールディング部と前記ガイド突起とを一体に成形するステップを含むことを特徴とする，請求項７に記載の柔軟性印刷回路とアクチュエータアームとの結合方法。
【請求項９】
前記アクチュエータアームに前記柔軟性印刷回路を固定させるステップは，
前記アライメントホールの周囲にソルダリングパッドを設けるステップを含むことを特徴とする，請求項６に記載の柔軟性印刷回路とアクチュエータアームとの結合方法。
【請求項１０】
前記アクチュエータアームに前記柔軟性印刷回路を固定させるステップは，
前記ソルダリングパッド及び前記アライメントピンをソルダリングするステップを含むことを特徴とする，請求項９に記載の柔軟性印刷回路とアクチュエータアームとの結合方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月18日(2008.11.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の電極と、前記一対の電極間に設けられた第１の層、第２の層、第３の層と、を有し、前記第１の層乃至前記第３の層のいずれかは、ガラス転移温度が１５０℃以上３００℃以下である有機化合物と金属酸化物とを有することを特徴とする発光素子。
【請求項２】
一対の電極と、前記一対の電極間に設けられた第１の層、第２の層、第３の層と、を有し、前記第１の層乃至前記第３の層のいずれかは、ガラス転移温度が１５０℃以上３００℃以下である有機化合物と金属酸化物とを有し、前記有機化合物は、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジンと、２−ブロモ−スピロ−９，９’−ビフルオレンまたは２−ブロモ−２’，７’−ジアルキル−スピロ−９，９’−ビフルオレンとのカップリング反応によって得られることを特徴とする発光素子。
【請求項３】
一対の電極と、前記一対の電極間に設けられた第１の層、第２の層、第３の層と、を有し、前記第１の層乃至前記第３の層のいずれかは正孔を発生する層であり、前記正孔を発生する層はガラス転移温度が１５０℃以上３００℃以下である有機化合物と金属酸化物とを有することを特徴とする発光素子。
【請求項４】
一対の電極と、前記一対の電極間に設けられた第１の層、第２の層、第３の層と、を有し、前記第１の層乃至前記第３の層のいずれかは正孔を発生する層であり、前記正孔を発生する層は、ガラス転移温度が１５０℃以上３００℃以下である有機化合物と金属酸化物とを有し、前記有機化合物は、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジンと、２−ブロモ−スピロ−９，９’−ビフルオレンまたは２−ブロモ−２’，７’−ジアルキル−スピロ−９，９’−ビフルオレンとのカップリング反応によって得られることを特徴とする発光素子。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一において、前記有機化合物は、スピロ環、及びトリフェニルアミン骨格を有する化合物であることを特徴とする発光素子。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一において、前記有機化合物は、一般式（１）で表されるベンジジン誘導体であることを特徴とする発光素子。
【化０１】
2006190993.tif 000001
（式中、Ｒ１は、水素または炭素数１〜４のアルキル基のいずれかを表す。）
【請求項７】
請求項１乃至５のいずれか一において、前記有機化合物は、構造式（２）で表されるベンジジン誘導体であることを特徴とする発光素子。
【化０２】
2006190993.tif 000002
【請求項８】
一対の電極と、前記一対の電極間に設けられた第１の層、第２の層、第３の層と、を有し、前記第１の層乃至前記第３の層のいずれかは、スピロ環、及びトリフェニルアミン骨格を有する化合物と金属酸化物とを有することを特徴とする発光素子。
【請求項９】
一対の電極と、前記一対の電極間に設けられた第１の層、第２の層、第３の層と、を有し、前記第１の層乃至前記第３の層のいずれかは、一般式（１）で表されるベンジジン誘導体と金属酸化物とを有することを特徴とする発光素子。
【化０３】
2006190993.tif 000003
（式中、Ｒ１は、水素または炭素数１〜４のアルキル基のいずれかを表す。）
【請求項１０】
一対の電極と、前記一対の電極間に設けられた第１の層、第２の層、第３の層と、を有し、前記第１の層乃至前記第３の層のいずれかは、構造式（２）で表されるベンジジン誘導体と金属酸化物とを有することを特徴とする発光素子。
【化０４】
2006190993.tif 000004
【請求項１１】
一対の電極と、前記一対の電極間に設けられた第１の層、第２の層、第３の層と、を有し、前記第１の層乃至前記第３の層のいずれかは、一般式（１）で表されるベンジジン誘導体と金属酸化物とが混在した層であり、前記ベンジジン誘導体を正孔輸送性物質とし、前記混在した層は正孔を発生する層であることを特徴とする発光素子。
【化０５】
2006190993.tif 000005
（式中、Ｒ１は、水素または炭素数１〜４のアルキル基のいずれかを表す。）
【請求項１２】
一対の電極と、前記一対の電極間に設けられた第１の層、第２の層、第３の層と、を有し、前記第１の層乃至前記第３の層のいずれかは、構造式（２）で表されるベンジジン誘導体と金属酸化物とが混在した層であり、前記ベンジジン誘導体を正孔輸送性物質とし、前記混在した層は正孔を発生する層であることを特徴とする発光素子。
【化０６】
2006190993.tif 000006
【請求項１３】
請求項１乃至１２のいずれか一において、前記金属酸化物は、バナジウム酸化物、モリブデン酸化物、ニオブ酸化物、レニウム酸化物、タングステン酸化物、ルテニウム酸化物、チタン酸化物、クロム酸化物、ジルコニウム酸化物、ハフニウム酸化物、及びタンタル酸化物のいずれかであることを特徴とする発光素子。
【請求項１４】
請求項１乃至１３のいずれか一に記載の前記発光素子と前記発光素子に電気的に接続されたトランジスタを有する発光装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月3日(2008.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の電子メールアドレスからなるグループに対応する電子メールアドレスを有し、前記グループのうち当該電子メールを送りたくない一または複数の電子メールアドレスの指定を含むような電子メール（ｅメール）を、当該グループの全メンバーのアドレスを知ることなく作成し、
当該電子メールを配送のために前記グループアドレスのためのメールホストに送ることを含み、
前記電子メールの作成が、前記電子メールアドレスのドメイン名のあとにある記号列および当該電子メールを受け取ってほしくない前記一または複数のアドレスを追加することを含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記記号列が当該電子メールアドレスに現れるかどうかを判定し、
前記ドメイン名を使っているメールサーバーアドレスを取得し、前記一または複数のアドレスをもつ当該電子メールアドレスを前記メールサーバーに配送する、
ことをさらに含むことを特徴とする、請求項１記載の方法。
【請求項３】
複数の電子メールアドレスからなるグループに対応する電子メールアドレスを有し、前記グループのうち当該電子メールを送りたくない一または複数の電子メールアドレスの指定を含むような、当該グループの全メンバーのアドレスを知ることなく作成された電子メール（ｅメール）を受信し、
前記一または複数のアドレスが当該グループのメールアドレスにあれば、当該グループのうち前記一または複数の電子メールアドレス以外の全メールアドレスに当該電子メールを転送する、
ことを含むことを特徴とする方法。
【請求項４】
前記記号列が当該電子メールアドレスに現れるかどうかを判定し、
前記記号列が当該電子メールアドレスに現れる場合、
当該電子メールアドレスから前記一または複数のアドレスを取得し、
前記一または複数のアドレスが当該グループの電子メールアドレスにあるかどうかを判定し、
前記一または複数のアドレスが当該グループの電子メールアドレスにあれば、当該電子メールを受信すべき一または複数の電子メールアドレスの一時リストを作成して、該一時リストにある電子メールアドレスに当該電子メールを送る、
ことをさらに含むことを特徴とする、請求項９記載の方法。
【請求項５】
複数の電子メールアドレスからなるグループに対応する電子メールアドレスを有し、前記グループのうち当該電子メールを送りたくない一または複数の電子メールアドレスの指定を含むような、当該グループの全メンバーのアドレスを知ることなく作成された電子メール（ｅメール）を受信し、
前記一または複数のアドレスが当該グループのメールアドレスにあれば、当該グループのうち前記一または複数の電子メールアドレス以外の全メールアドレスに当該電子メールを転送することをコンピュータで実行可能なプログラムを記録した記録媒体であって、
前記電子メールが、ある記号列および当該電子メールを受け取ってほしくない前記一または複数のアドレスを含み、該記号列および当該電子メールを受け取ってほしくない前記一または複数のアドレスが当該電子メールアドレスのドメイン名の後に現れる、記録媒体。
【請求項６】
前記方法が、
前記記号列が当該電子メールアドレスに現れるかどうかを判定し、
前記記号列が当該電子メールアドレスに現れる場合、
当該電子メールアドレスから前記一または複数のアドレスを取得し、
前記一または複数のアドレスが当該グループの電子メールアドレスにあるかどうかを判定し、
前記一または複数のアドレスが当該グループの電子メールアドレスにあれば、当該電子メールを受信すべき一または複数の電子メールアドレスの一時リストを作成して、該一時リストにある電子メールアドレスに当該電子メールを送る、
ことをさらに含むことを特徴とする、請求項５記載のコンピュータで実行可能なプログラムを記録した記録媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月11日(2008.12.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のレーザから照射されるレーザ光を主走査方向に走査して画像を形成する画像形成装置であって、
前記レーザからのレーザ光の主走査ラインの副走査方向における走査ライン位置を検出する検出手段と、
前記検出手段により検出された前記走査ライン位置に応じて、前記複数のレーザそれぞれの光量配分を決定する決定手段と、
前記決定手段により決定された各レーザの光量配分に応じて前記複数のレーザのそれぞれの駆動を制御する制御手段と、
を有することを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記検出手段は、前記複数のレーザのうち所定のレーザからのレーザ光に基づいて、前記主走査ラインの副走査方向における走査ライン位置を検出することを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記複数のレーザは、形成される画像の副走査方向に１画素以内の間隔で均等に配置され、主走査方向には所定間隔を空けて配置されており、１画素に対して前記複数のレーザからのレーザ光を重畳させることにより１画素を形成することを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記決定手段は、前記検出手段により検出された走査ライン位置が、走査対象の走査ライン位置よりも前記副走査方向の上流側に位置している場合は、前記複数のレーザに対する光量配分を前記副走査方向の下流側に位置しているレーザに多くし、走査対象の走査ライン位置よりも前記副走査方向の下流側に位置している場合は、前記複数のレーザに対する光量配分を前記副走査方向の上流側に位置しているレーザに多くすることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記決定手段は、前記検出手段により検出された走査ライン位置が走査対象の走査ライン位置に略一致している場合は、前記複数のレーザの内、中央に位置しているレーザの光量配分を端部のレーザよりも多くすることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記決定手段は、検出された前記走査ライン位置と所定の走査ライン位置とのずれ量に応じた各レーザの光量分配配分を記憶しているテーブルを参照して、前記複数のレーザそれぞれの光量配分を決定することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項７】
複数のレーザから照射されるレーザ光を主走査方向に走査して画像を形成する画像形成装置の制御方法であって、
前記レーザからのレーザ光の主走査ラインの副走査方向における走査ライン位置を検出する検出工程と、
前記検出工程で検出された前記走査ライン位置に応じて、前記複数のレーザそれぞれの光量配分を決定する決定工程と、
前記決定工程で決定された各レーザの光量配分に応じて前記複数のレーザのそれぞれの駆動を制御する制御工程と、
を有することを特徴とする画像形成装置の制御方法。
【請求項８】
前記検出工程は、前記複数のレーザのうち所定のレーザからのレーザ光に基づいて、前記主走査ラインの副走査方向における走査ライン位置を検出することを特徴とする請求項７に記載の画像形成装置の制御方法。
【請求項９】
前記複数のレーザは、形成される画像の副走査方向に１画素以内の間隔で均等に配置され、主走査方向には所定間隔を空けて配置されており、１画素に対して前記複数のレーザからのレーザ光を重畳させることにより１画素を形成することを特徴とする請求項７に記載の画像形成装置の制御方法。
【請求項１０】
前記決定工程は、前記検出工程で検出された走査ライン位置が、走査対象の走査ライン位置よりも前記副走査方向の上流側に位置している場合は、前記複数のレーザに対する光量配分を前記副走査方向の下流側に位置しているレーザに多くし、走査対象の走査ライン位置よりも前記副走査方向の下流側に位置している場合は、前記複数のレーザに対する光量配分を前記副走査方向の上流側に位置しているレーザに多くすることを特徴とする請求項７乃至９のいずれか１項に記載の画像形成装置の制御方法。
【請求項１１】
前記決定工程は、前記検出工程で検出された走査ライン位置が所望の走査ライン位置に略一致している場合は、前記複数のレーザの内、中央に位置しているレーザの光量配分を端部のレーザよりも多くすることを特徴とする請求項７乃至１０のいずれか１項に記載の画像形成装置の制御方法。
【請求項１２】
前記決定工程は、検出された前記走査ライン位置と所定の走査ライン位置とのずれ量に応じた各レーザの光量分配を記憶しているテーブルを参照して、前記複数のレーザそれぞれの光量配分を決定することを特徴とする請求項７乃至１１のいずれか１項に記載の画像形成装置の制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明の一態様に係る画像形成装置は以下のような構成を備える。即ち、
複数のレーザから照射されるレーザ光を主走査方向に走査して画像を形成する画像形成装置であって、
前記レーザからのレーザ光の主走査ラインの副走査方向における走査ライン位置を検出する検出手段と、
前記検出手段により検出された前記走査ライン位置に応じて、前記複数のレーザそれぞれの光量配分を決定する決定手段と、
前記決定手段により決定された各レーザの光量配分に応じて前記複数のレーザのそれぞれの駆動を制御する制御手段と、
を有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の一態様に係る画像形成装置の制御方法は以下のような工程を備える。即ち、
複数のレーザから照射されるレーザ光を主走査方向に走査して画像を形成する画像形成装置の制御方法であって、
前記レーザからのレーザ光の主走査ラインの副走査方向における走査ライン位置を検出する検出工程と、
前記検出工程で検出された前記走査ライン位置に応じて、前記複数のレーザそれぞれの光量配分を決定する決定工程と、
前記決定工程で決定された各レーザの光量配分に応じて前記複数のレーザのそれぞれの駆動を制御する制御工程と、
を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月26日(2009.1.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の裏面に当接する弾性膜と、前記弾性膜の少なくとも一部を固定する取付部材と、前記弾性膜に当接した基板の外周縁を保持するリテーナリング部とを備えた基板保持装置において、
前記弾性膜は突出部を備え、
前記取付部材は、前記弾性膜の突出部に係合する係合部を備えたことを特徴とする基板保持装置。
【請求項２】
前記突出部は、前記弾性膜の径方向内側に突出していることを特徴とする請求項１に記載の基板保持装置。
【請求項３】
前記弾性膜の突出部および前記取付部材の係合部をそれぞれ複数設けたことを特徴とする請求項１または２に記載の基板保持装置。
【請求項４】
前記複数の係合部は前記基板の中心に対して対称に配置されることを特徴とする請求項３に記載の基板保持装置。
【請求項５】
前記係合部は、前記基板の裏面に当接する前記弾性膜よりも厚いまたはこれと同じ厚さであることを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の基板保持装置。
【請求項６】
基板の裏面に当接する弾性膜と、前記弾性膜の少なくとも一部を固定する取付部材と、前記弾性膜に当接した基板の外周縁を保持するリテーナリング部とを備えた基板保持装置において、
前記弾性膜は、該弾性膜の外周縁から径方向内側に突出する突出部を全周にわたって有する外周膜を備えたことを特徴とする基板保持装置。
【請求項７】
前記弾性膜は、前記基板の押圧方向に伸縮自在のベローズ部を備えたことを特徴とする請求項１から６のいずれか一項に記載の基板保持装置。
【請求項８】
前記基板の裏面に当接する前記弾性膜の厚さを前記ベローズ部より厚くしたことを特徴とする請求項７に記載の基板保持装置。
【請求項９】
基板の裏面に当接する弾性膜と、前記弾性膜の少なくとも一部を固定する取付部材と、前記弾性膜に当接した基板の外周縁を保持するリテーナリング部とを備えた基板保持装置において、
前記弾性膜は、押圧方向に延びる同心円状の複数の円筒面により構成される外周膜と、前記外周膜と略直角をなして前記基板の裏面に当接する底面膜とを備えたことを特徴とする基板保持装置。
【請求項１０】
研磨面を有する研磨テーブルと、
請求項１から９のいずれか一項に記載の基板保持装置とを備え、
前記基板保持装置により保持された基板を前記研磨テーブルに押圧して該基板を研磨することを特徴とする研磨装置。
【請求項１１】
基板保持装置の上下動部材に取り付けられる弾性膜であって、
基板の裏面に当接する底面膜と、
前記基板の押圧方向に伸縮自在のベローズ部を有する外周膜とを備えたことを特徴とする弾性膜。
【請求項１２】
前記弾性膜はゴム材から形成されていることを特徴とする請求項１１に記載の弾性膜。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月4日(2008.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反応性プラスチックによって形成される少なくとも１つの層を有する一層もしくは複層積層フィルムまたは複合材料成形品を製造するための方法であって、スプレー・ノズルから液体の反応性混合物を表面に噴霧することを含んでなり、振動するジェット・スプレーを表面に適用し、噴霧の間にジェット・スプレーの振動の振幅および／または周波数を調節して、ジェット・スプレーによってカバーされる表面領域を変化させる方法。
【請求項２】
１つの振動が次の振動と０度以上の角度でずれて重ねられる請求項１記載の方法。
【請求項３】
少なくとも１つの反応性プラスチックの層を有する一層もしくは複層積層フィルムまたは複合材料成形品を製造するためのデバイスであって、
ａ）反応成分のための少なくとも１つの貯蔵容器、
ｂ）反応成分のための少なくとも１つの計量デバイス、
ｃ）ミキシング・ヘッド、
ｄ）スプレー・ノズル、ならびに
ｅ）スプレー・ノズルに振動を生じさせる手段であって、振幅および／または周波数を調節することができる手段
を有してなるデバイス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
以上、本発明について説明を目的として、詳細な事項を記載したが、そのような詳細な事項は説明を目的とするものであって、当業者は、特許請求の範囲によって規定されることを除いて、本発明の範囲および精神から離れることなく、種々の変更を行うこともできる。
尚、この出願の発明の好ましい態様には、以下の事項も含まれる。
［事項１］
反応性プラスチックによって形成される少なくとも１つの層を有する一層もしくは複層積層フィルムまたは複合材料成形品を製造するための方法であって、スプレー・ノズルから液体の反応性混合物を表面に噴霧することを含んでなり、振動するジェット・スプレーを表面に適用し、噴霧の間にジェット・スプレーの振動の振幅および／または周波数を調節して、ジェット・スプレーによってカバーされる表面領域を変化させる方法。
［事項２］
振動するジェット・スプレーは、０ｍｍ〜５００ｍｍの振幅で振動する事項１記載の方法。
［事項３］
振動するジェット・スプレーは、０．１ｍｍ〜４００ｍｍの振幅で振動する事項１記載の方法。
［事項４］
振動するジェット・スプレーは、０．５ｍｍ〜３００ｍｍの振幅で振動する事項１記載の方法。
［事項５］
ジェット・スプレーは５Ｈｚ〜４００Ｈｚの周波数で振動する事項１記載の方法。
［事項６］
ジェット・スプレーは１０Ｈｚ〜３００Ｈｚの周波数で振動する事項１記載の方法。
［事項７］
ジェット・スプレーは２０Ｈｚ〜２００Ｈｚの周波数で振動する事項１記載の方法。
［事項８］
振幅および周波数が連続的に調節される事項１記載の方法。
［事項９］
振幅および／または周波数が傾斜関数的に調節される事項１記載の方法。
［事項１０］
ジェット・スプレーの周波数および／または振幅が調節される間、スプレー・ノズルとスプレーされる表面との間の距離は一定に保たれる事項１記載の方法。
［事項１１］
ジェット・スプレーの周波数および／または振幅が調節される間、スプレーされる反応性混合物の量が変化する事項１記載の方法。
［事項１２］
ジェット・スプレーの周波数および／または振幅が調節される間、スプレーされる表面領域に対するスプレー・ノズルの相対的な速度が変化する事項１記載の方法。
［事項１３］
ジェット・スプレーの周波数および／または振幅の調節を、制御プログラムによって、位置に応じて自動的に行う事項１記載の方法。
［事項１４］
スプレー・ノズルおよび該スプレー・ノズルに連絡するミキシング・ヘッドが振動するように設定されている事項１記載の方法。
［事項１５］
スプレー・ノズルのみまたはミキシング・ヘッドおよび連絡するスプレー・ノズルが振動するように設定されている事項１記載の方法。
［事項１６］
１つの振動が次の振動と０度以上の角度でずれて重ねられる事項１記載の方法。
［事項１７］
９０度ずらした振動の振幅を、互いに独立して制御する事項１６記載の方法。
［事項１８］
制御プログラムによって自動的に、２つの振動のより大きな振幅がスプレー・ノズルの移動方向に対して垂直に設定される事項１６記載の方法。
［事項１９］
少なくとも１つの反応性プラスチックの層を有する一層もしくは複層積層フィルムまたは複合材料成形品を製造するためのデバイスであって、
ａ）反応成分のための少なくとも１つの貯蔵容器、
ｂ）反応成分のための少なくとも１つの計量デバイス、
ｃ）ミキシング・ヘッド、
ｄ）スプレー・ノズル、ならびに
ｅ）スプレー・ノズルに振動を生じさせる手段であって、振幅および／または周波数を調節することができる手段
を有してなるデバイス。
［事項２０］
事項１９記載のデバイスであって、
ｆ）ミキシング・ヘッドとスプレー・ノズルとの間に配される弾性部材を更に有してなるデバイス。
［事項２１］
ミキシング・ヘッドとスプレー・ノズルとの間に配されるボール・ジョイントを更に有する事項１９記載のデバイス。
［事項２２］
ミキシング・ヘッドとスプレー・ノズルとの間に配されるベローズを更に有する事項１９記載のデバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月10日(2009.7.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】デジタル信号フィルタリング方法及び装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  デジタル信号の一連のオリジナルサンプルに適用されるデジタル信号フィルタリング方法であって、
前記デジタル信号のオリジナルサンプルの関数、オリジナルサンプル及び中間サンプルの関数、中間サンプルの関数、中間サンプル及び出力サンプルの関数、又は、オリジナルサンプル及び出力サンプルの関数により任意の出力サンプルを計算することにより、前記オリジナルサンプルを出力サンプルへ変換する変換ステップを有し、
前記変換ステップは、
前記関数を２つの基本演算に分解し、第１の基本演算の部分的な結果を第２の基本演算に入力として与え、
前記一連のオリジナルサンプル全体をフィルタリングする前に、少なくとも１つの出力サンプルが得られるように、前記関数すべての基本演算を順序付けすることを特徴とするデジタル信号フィルタリング方法。
【請求項２】  前記サンプルに指標を付け、前記第１の基本演算は前記関数の計算結果の指標に等しいか、より低い指標のサンプルを処理し、前記第２の基本演算は前記関数の計算結果の指標に等しいか、より高い指標のサンプルを処理することを特徴とする請求項１に記載のデジタル信号フィルタリング方法。
【請求項３】  前記フィルタリングは、前記デジタル信号をインタレース周波数部分帯域信号に分解するものであることを特徴とする請求項１に記載のデジタル信号フィルタリング方法。
【請求項４】  前記フィルタリングは、インタレース周波数部分帯域信号に分解されたデジタル信号を合成信号へ合成するものであることを特徴とする請求項１に記載のデジタル信号フィルタリング方法。
【請求項５】  前記フィルタリングは、前記デジタル信号をインタレース周波数部分帯域信号に分解するものと、前記インタレース周波数部分帯域信号に分解された信号を合成信号へ合成するものとの組み合わせであることを特徴とする請求項１に記載のデジタル信号フィルタリング方法。
【請求項６】  前記基本演算は、少なくとも１つの乗算係数が１に等しいサンプルの関数であることを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載のデジタル信号フィルタリング方法。
【請求項７】  前記出力サンプルに正規化係数を乗算することを特徴とする請求項１乃至５の何れか１項に記載のデジタル信号フィルタリング方法。
【請求項８】  前記デジタル信号は画像信号であり、前記オリジナルサンプルは画素ラインであることを特徴とする請求項１乃至６の何れか１項に記載のデジタル信号フィルタリング方法。
【請求項９】  前記デジタル信号は画像信号であり、前記オリジナルサンプルは画素列であることを特徴とする請求項１乃至６の何れか１項に記載のデジタル信号フィルタリング方法。
【請求項１０】  デジタル信号の一連のオリジナルサンプルをフィルタリングするためのデジタル信号フィルタリング装置であって、
前記デジタル信号のオリジナルサンプルの関数、オリジナルサンプル及び中間サンプルの関数、中間サンプルの関数、中間サンプル及び出力サンプルの関数、又は、オリジナルサンプル及び出力サンプルの関数により任意の出力サンプルを計算することにより、前記オリジナルサンプルを出力サンプルへ変換する変換手段を有し、
前記変換手段は、
前記関数を２つの基本演算に分解し、第１の基本演算の部分的な結果を第２の基本演算に入力として与え、
前記一連のオリジナルサンプル全体をフィルタリングする前に、少なくとも１つの出力サンプルが得られるように、前記関数すべての基本演算を順序付けすることを特徴とするデジタル信号フィルタリング装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は、デジタル信号の一連のオリジナルサンプルに適用されるデジタル信号フィルタリング方法であって、前記デジタル信号のオリジナルサンプルの関数、オリジナルサンプル及び中間サンプルの関数、中間サンプルの関数、中間サンプル及び出力サンプルの関数、又は、オリジナルサンプル及び出力サンプルの関数により任意の出力サンプルを計算することにより、前記オリジナルサンプルを出力サンプルへ変換する変換ステップを有し、前記変換ステップは、前記関数を２つの基本演算に分解し、第１の基本演算の部分的な結果を第２の基本演算に入力として与え、前記一連のオリジナルサンプル全体をフィルタリングする前に、少なくとも１つの出力サンプルが得られるように、前記関数すべての基本演算を順序付けすることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
好ましい特徴及びそれに代わる特徴によれば、前記フィルタリングは、前記デジタル信号をインタレース周波数部分帯域信号に分解するものであるか、前記フィルタリングは、インタレース周波数部分帯域信号に分解されたデジタル信号を合成信号へ合成するものであるか、又は、前記フィルタリングは、前記デジタル信号をインタレース周波数部分帯域信号に分解するものと、前記インタレース周波数部分帯域信号に分解された信号を合成信号へ合成するものとの組み合わせである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
これに関連して、本発明は、デジタル信号の一連のオリジナルサンプルをフィルタリングするためのデジタル信号フィルタリング装置であって、前記デジタル信号のオリジナルサンプルの関数、オリジナルサンプル及び中間サンプルの関数、中間サンプルの関数、中間サンプル及び出力サンプルの関数、又は、オリジナルサンプル及び出力サンプルの関数により任意の出力サンプルを計算することにより、前記オリジナルサンプルを出力サンプルへ変換する変換手段を有し、前記変換手段は、前記関数を２つの基本演算に分解し、第１の基本演算の部分的な結果を第２の基本演算に入力として与え、前記一連のオリジナルサンプル全体をフィルタリングする前に、少なくとも１つの出力サンプルが得られるように、前記関数すべての基本演算を順序付けすることを特徴とする。