Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月18日(2009.9.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水素吸蔵合金容器と燃料電池セルとの間に、開閉弁、検出用圧力センサ及び圧力調整弁が配置されて成る微細流体流路と、上記微細流体流路から分岐する分岐路の開閉を行う安全弁と、温度センサと、少なくとも上記開閉弁及び上記安全弁の開閉を制御する制御回路と、を有する燃料電池システムに於いて、
上記制御回路は、上記温度センサの出力信号に基づいて、上記燃料電池システム内が温度異常と判断した時に、上記開閉弁を開放したまま、若しくは閉じた後、上記安全弁を開放することを特徴とする燃料電池システム。
【請求項２】
水素吸蔵合金容器と燃料電池セルの間に、開閉弁、検出用圧力センサ、圧力調整弁が配置されて成る微細流体流路で、且つ、上記開閉弁若しくは上記検出用圧力センサと安全弁とを直接接続して配置し、上記水素吸蔵合金容器に接続した第１の配管から上記燃料電池セルに接続した第２の配管までに、少なくとも１系統の微細流体流路及び補助の微細流体流路と、温度センサと、少なくとも上記開閉弁及び上記安全弁の開閉を制御する制御回路と、を有する燃料電池システムに於いて、
上記制御回路は、上記流路近傍に配置した上記温度センサの出力に応じて、上記何れかの微細流体流路の開閉弁を閉じて上記補助の微細流体流路の安全弁を開放することを特徴とする燃料電池システム。
【請求項３】
上記温度センサ及び上記圧力センサの出力には、リトライ動作が含まれることを特徴とする請求項１若しくは２に記載の燃料電池システム。
【請求項４】
上記開閉弁、上記検出用圧力センサ、上記圧力調整弁が形成されるものでガラス基板と接合するシリコン基板を更に具備し、
上記シリコン基板は、上記ガラス基板上に微細流体流路用の下層を形成する第１のシリコン基板と、上記微細流体流路用の上層を形成する第２のシリコン基板とを有し、該第２のシリコン基板に上記検出用圧力センサと、上記圧力調整弁と、上記安全弁とを配置し、
上記ガラス基板に上記第１及び第２のシリコン基板を介して温度センサを配置したことを特徴とする請求項１若しくは２に記載の燃料電池システム。
【請求項５】
更に、２次電池と、デバイス負荷部と、複数の温度特性に於ける圧力−残量線図を有する記憶手段と、上記デバイス負荷部及び２次電池と上記燃料電池セルとの間に配置された切り替えスイッチと、
を具備することを特徴とする請求項４に記載の燃料電池システム。
【請求項６】
上記デバイス負荷部を載置した電子機器載置ユニットを更に具備することを特徴とする請求項５項に記載の燃料電池システム。
【請求項７】
請求項４に記載の燃料電池システムに、
更に、２次電池と、デバイス負荷部と、複数の温度特性に於ける圧力−残量線図を有する記憶手段と、上記デバイス負荷部及び２次電池と上記燃料電池セルとの間に配置された切り替えスイッチと、
を具備することを特徴とする燃料電池システムを用いた端末用機器。
【請求項８】
上記デバイス負荷部を載置した電子機器載置ユニットであることを特徴する請求項７に記載の燃料電池システムを用いた端末用機器。
【請求項９】
水素吸蔵合金容器と燃料電池セルとの間に、開閉弁、検出用圧力センサ、圧力調整弁が配且されて成る微細流体流路で、且つ、上記開閉弁若しくは上記検出用圧力センサと安全弁とを直接配置し、上記水素吸蔵合金容器に接続した第１の配管から上記燃料電池セルに接続した第２の配管までに、少なくとも１系統の微細流体流路及び補助の微細流体流路から成る燃料電池システムと、２次電池と、ユニット用温度センサと、制御回路とを具備した端末用機器に於いて、
上記制御回路は、上記ユニット用温度センサの出力信号に基づいて上記燃料電池システム内が温度異常と判断したとき、使用中の上記開閉弁を開放状態若しくは閉じた後、上記安全弁を開放することを特徴とする端末用機器。
【請求項１０】
水素吸蔵合金容器と燃料電池セルとの間に、開閉弁、検出用圧力センサ、圧力調整弁が配置されて成る微細流体流路で少なくとも１系統の微細流体流路及び補助の微細流体流路を有する燃料電池システムと、２次電池と、ユニット用温度センサと、制御回路とを具備した端末用機器に於いて、
上記制御回路は、上記ユニット用温度センサの出力信号に基づいて上記燃料電池システム内が温度異常と判断したとき、使用中の上記開閉弁を閉じた後、上記何れかの微細流体流路の開閉弁を閉じて上記補助の微細流体流路の安全弁を開放することを特徴とする端末用機器。
【請求項１１】
デバイス負荷部を更に具備し、
上記制御回路は、上記ユニット用温度センサの出力信号に基づいて上記燃料電池システムと上記デバイス負荷部を遮断することを特徴とする請求項９若しくは１０に記載の端末用機器。
【請求項１２】
上記ユニット用温度センサは、電池収納室近傍、ディスクの近傍または撮像素子の近傍やレンズ駆動回路用ＩＣチップに配置されたことを特徴とする請求項９若しくは１０に記載の端末用機器。
【請求項１３】
電子機器載置ユニットを更に具備することを特徴とする請求項１１若しくは１２に記載の端末用機器。
【請求項１４】
上記電子機器載置ユニットには、上記燃料電池システムと、充電制御回路を備えたことを特徴とする請求項１３に記載の端末用機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
すなわち請求項１に記載の発明は、水素吸蔵合金容器と燃料電池セルとの間に、開閉弁、検出用圧力センサ及び圧力調整弁が配置されて成る微細流体流路と、上記微細流体流路から分岐する分岐路の開閉を行う安全弁と、温度センサと、少なくとも上記開閉弁及び上記安全弁の開閉を制御する制御回路と、を有する燃料電池システムに於いて、
上記制御回路は、上記温度センサの出力信号に基づいて、上記燃料電池システム内が温度異常と判断した時に、上記開閉弁を開放したまま、若しくは閉じた後、上記安全弁を開放することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
請求項４に記載の発明は、請求項１または３に記載の発明に於いて、上記開閉弁、上記検出用圧力センサ、上記圧力調整弁が形成されるものでガラス基板と接合するシリコン基板を更に具備し、上記シリコン基板は、上記ガラス基板上に微細流体流路用の下層を形成する第１のシリコン基板と、上記微細流体流路用の上層を形成する第２のシリコン基板とを有し、該第２のシリコン基板に上記検出用圧力センサと、上記圧力調整弁と、上記安全弁とを配置し、上記ガラス基板に上記第１及び第２のシリコン基板を介して温度センサを配置したことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成21年8月4日(2009.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】非水電解質二次電池用電極材料及び非水電解質二次電池及び非水電解質二次電池用電極材料の製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
そこで、近年、ＬｉＦｅＰＯ４などのオリビン型酸素酸リチウム化合物や、Ｌｉ３Ｆｅ２（ＰＯ４）３、Ｌｉ３Ｖ２（ＰＯ４）３、ＬｉＴｉ２（ＰＯ４）３などのナシコン型酸素酸リチウム化合物が、ＬｉＣｏＯ２に代わる正極材料として注目されている（特許文献１など）。
【特許文献１】特開２００２−５６８４８号公報
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
〔電極材料の調製〕
（リチウム）：（チタン）：（リン酸）＝１．２：２：３のモル比となるようにこれらの原料を混合し、さらに炭素（デグサ社製商品名「ＰＲＩＮＴＥＸ  ＸＥ２−Ｂ」）を４重量％加え、さらにアセトンを添加して、遊星ボールミルにて１５０ｒｐｍの回転数で３時間混合した。混合したスラリーからアセトンを蒸発させ、残った粉末からペレットを作製した。このペレットをアルゴン（Ａｒ）雰囲気中で３００℃８時間仮焼成した。仮焼成後のペレットを再び粉砕しペレット化した後、アルゴン（Ａｒ）雰囲気中で８５０℃８時間焼成した。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月28日(2009.7.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
原紙上に、顔料と接着剤を含有する塗工層が設けられたラベル用塗工紙において、
原紙は、シェーキング強度１，８００〜１２，０００でワイヤーを振動させ、ジェット／ワイヤー比０．９５０〜１．０５０にて、抄紙速度６００ｍ／分以上で抄紙したものであり、
音速法によって測定される超音波伝播速度の縦方向と横方向の比率（縦方向の超音波伝播速度／横方向の超音波伝播速度）が１．０〜１．６であり、ＴＡＰＰＩ  Ｔ４６６ｈｍ−８２に準拠して測定されるカール度が５０〜１４０度／ｃｍであることを特徴とするラベル用塗工紙。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
すなわち、本発明は、以下の構成を包含する。
［１］  原紙上に、顔料と接着剤を含有する塗工層が設けられたラベル用塗工紙において、
原紙は、シェーキング強度１，８００〜１２，０００でワイヤーを振動させ、ジェット／ワイヤー比０．９５０〜１．０５０にて抄紙速度６００ｍ／分以上で抄紙したものであり、
音速法によって測定される超音波伝播速度の縦方向と横方向の比率（縦方向の超音波伝播速度／横方向の超音波伝播速度）が１．０〜１．６であり、ＴＡＰＰＩ  Ｔ４６６ｈｍ−８２に準拠して測定されるカール度が５０〜１４０度／ｃｍであることを特徴とするラベル用塗工紙。
［２］  原紙は、ＪＩＳ  Ｐ  ８１４０に準拠して測定されるコッブ法によるサイズ度が５〜２０ｇ／ｍ２である［１］に記載のラベル用塗工紙。
［３］  シェーキング強度１，８００〜１２，０００でワイヤーを振動させ、ジェット／ワイヤー比０．９５０〜１．０５０にて、抄紙速度６００ｍ／分以上で抄紙して、原紙を得る工程と、
該原紙上に顔料および接着剤を含有する塗工液を塗工して、塗工層を得る工程と、
該塗工層の表面を平滑化処理する工程とを有することを特徴とするラベル用塗工紙の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月9日(2008.12.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画素電極を含むＥＬ発光素子と、ソース電極およびドレイン電極ならびに前記電極間を接続する半導体材料を含む第１のトランジスタと、を具備する有機ＥＬデバイスであって、
前記画素電極は、前記ソース電極または前記ドレイン電極ともなり、かつ
前記半導体材料は、前記ソース電極または前記ドレイン電極の周囲の一部または全体に配置されている、
有機ＥＬデバイス。
【請求項２】
画素電極を含むＥＬ発光素子と、ソース電極およびドレイン電極ならびに前記電極間を接続する半導体材料を含む第１のトランジスタと、を具備する有機ＥＬデバイスであって、
前記画素電極は、前記ソース電極または前記ドレイン電極上に直接配置され、
前記半導体材料は、前記ソース電極または前記ドレイン電極の周囲の一部または全体に配置されている、
有機ＥＬデバイス。
【請求項３】
前記画素電極の全体が、前記第１のトランジスタのソース電極またはドレイン電極上に直接配置されている、請求項２に記載の有機ＥＬデバイス。
【請求項４】
前記ソース電極またはドレイン電極の周囲に配置された半導体材料の周囲に、前記ドレイン電極またはソース電極が配置される、請求項１または請求項２に記載の有機ＥＬデバイス。
【請求項５】
前記ソース電極またはドレイン電極の外周部のうち、前記半導体材料と接触している部分が櫛歯状であり、かつ
前記半導体材料の周囲に配置されるドレイン電極またはソース電極の内周部のうち、前記半導体材料と接触している部分が櫛歯状である、請求項４に記載の有機ＥＬデバイス。
【請求項６】
前記第１のトランジスタの外側に配置された第２のトランジスタをさらに具備し、
前記第２のトランジスタのソース電極またはドレイン電極は、前記第１のトランジスタのゲート電極に接続されている、請求項１または請求項２に記載の有機ＥＬデバイス。
【請求項７】
前記第１のトランジスタのゲート電極と、前記第２のトランジスタのソース電極およびドレイン電極が同一平面上にある、請求項６に記載の有機ＥＬデバイス。
【請求項８】
前記第１のトランジスタのソース電極およびドレイン電極が、前記第２のトランジスタのゲート電極と同一平面上にある、請求項６に記載の有機ＥＬデバイス。
【請求項９】
前記第１のトランジスタの半導体材料と、前記第２のトランジスタの半導体材料とが、互いに異なる材料である、請求項７または８に記載の有機ＥＬデバイス。
【請求項１０】
有機発光トランジスタと、前記有機発光トランジスタをスイッチングするスイッチ用トランジスタを含む有機ＥＬデバイスであって、
前記有機発光トランジスタのソース電極またはドレイン電極（Ｘ電極）が、Ｘ電極の対極となる前記有機発光トランジスタのドレイン電極またはソース電極（Ｙ電極）に取り囲まれている、有機ＥＬデバイス。
【請求項１１】
前記Ｘ電極の外周部、および前記Ｙ電極の内周部が櫛歯状であり、かつ互いの櫛歯がかみ合っている、請求項１０に記載の有機ＥＬデバイス。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の有機ＥＬデバイスを具備する、有機ＥＬディスプレイ。
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月24日(2009.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
測位衛星から電波を受信して測位を行う測位装置であって、
当該測位装置が生成したレプリカ測位基礎符号と前記測位衛星から受信した電波に乗せられた測位基礎符号との相関処理を行い、前記測位基礎符号の位相と前記電波の受信周波数を算出する算出手段と、
前回測位時における前記測位基礎符号の位相、前記電波のドップラー偏移、および前回測位時から今回測位時までの経過時間に基づいて、今回測位時の予測位相を算出する予測位相算出手段と、
前記受信周波数と前回測位時の受信周波数との差が所定の周波数差範囲に含まれるとともに、前記位相と前記予測位相との差が所定の位相差範囲に含まれると判定された測位衛星からの電波を使用して、測位を行う測位手段と、
を備え、
前記ドップラー偏移は、前回測位時の受信周波数と前記測位衛星が前記電波を発信する発信周波数との差、および前記相関処理によって算出された受信周波数と前記発信周波数との差の平均値である、
測位装置。
【請求項２】
請求項１に記載の測位装置であって、
前回測位時に算出された当該測位装置の位置と前記測位衛星の軌道情報とを用いて算出された第２のドップラー偏移、および前記発信周波数に基づいて、前記電波の推定受信周波数を算出する推定周波数算出手段、
を備え、
前記算出手段は、前記推定受信周波数を中心とする所定の周波数範囲を所定の周波数間隔で、前記相関処理に用いる周波数を変更して前記相関処理を行い、相関値が最大となる周波数を前記電波の受信周波数とする、
測位装置。
【請求項３】
前記周波数差範囲は、前記所定の周波数間隔よりも小さい周波数範囲である、
請求項２に記載の測位装置。
【請求項４】
測位衛星から電波を受信する測位装置を用いて測位を行う測位方法であって、
当該測位装置が生成したレプリカ測位基礎符号と前記測位衛星から受信した電波に乗せられた測位基礎符号との相関処理を行い、前記測位基礎符号の位相と前記電波の受信周波数を算出することと、
前回測位時における前記測位基礎符号の位相、前記電波のドップラー偏移、および前回測位時から今回測位時までの経過時間に基づいて、今回測位時の予測位相を算出することと、
前記受信周波数と前回測位時の受信周波数との差が所定の周波数差範囲に含まれるとともに、前記位相と前記予測位相との差が所定の位相差範囲に含まれると判定された測位衛星からの電波を使用して、測位を行うことと、
を含み、
前記ドップラー偏移は、前回測位時の受信周波数と前記測位衛星が前記電波を発信する発信周波数との差、および前記相関処理によって算出された受信周波数と前記発信周波数との差の平均値である、
測位方法。
【請求項５】
測位衛星から電波を受信して測位を行う測位装置が有するコンピュータを、
当該測位装置が生成したレプリカ測位基礎符号と前記測位衛星から受信した電波に乗せられた測位基礎符号との相関処理を行い、前記測位基礎符号の位相と前記電波の受信周波数を算出する算出手段、
前回測位時における前記測位基礎符号の位相、前記電波のドップラー偏移、および前回測位時から今回測位時までの経過時間に基づいて、今回測位時の予測位相を算出する予測位相算出手段、
前記受信周波数と前回測位時の受信周波数との差が所定の周波数差範囲に含まれるとともに、前記位相と前記予測位相との差が所定の位相差範囲に含まれると判定された測位衛星からの電波を使用して、測位を行う測位手段、
として機能させるためのプログラムであり、
前記ドップラー偏移は、前回測位時の受信周波数と前記測位衛星が前記電波を発信する発信周波数との差、および前記相関処理によって算出された受信周波数と前記発信周波数との差の平均値である、
プログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】測位装置、測位方法及びプログラム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、発信源からの電波を利用する測位装置、測位方法及びプログラムに関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
そこで、本発明は、電波強度が微弱な弱電界下において、測位基礎符号の位相の精度を検証したうえで、精度良く測位することができる測位装置、測位方法及びプログラムを提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
（ＧＰＳ装置３２の構成について）
図８は、ＧＰＳ装置３２の構成を示す概略図である。
図８に示すように、ＧＰＳ装置３２は、ＲＦ部３２ａとベースバンド部３２ｂで構成される。
ＲＦ部３２ａは、アンテナ３３ａで電波Ｓ１等を受信する。そして、増幅器であるＬＮＡ３３ｂが、電波Ｓ１に乗せられているＣ／Ａコード等の信号を増幅する。そして、ミキサ３３ｃが、信号の周波数をダウンコンバートする。そして、直交（ＩＱ）検波器３３ｄが信号をＩＱ分離する。続いて、Ａ／Ｄコンバータ３３ｅ１及び３３ｅ２が、ＩＱ分離された信号をそれぞれデジタル信号に変換するように構成されている。
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月18日(2009.2.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の凹部が形成された乾燥ガスセパレータと第２の凹部が形成された湿潤ガスセパレータとに挟まれて加湿膜が設けられ、
前記両セパレータの各々に形成された凹部の外側に樹脂が充填された貫通流路がそれぞれ形成されると共に前記両セパレータに形成された貫通流路のそれぞれの表面の開口径が異なり、かつ、前記樹脂は前記両セパレータに跨って充填されている
加湿器。
【請求項２】
両セパレータに形成された貫通流路のうち、少なくとも一方の貫通流路は表面の開口径が中間の開口径よりも大きい
請求項１記載の加湿器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】加湿器
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は、シール性に富んだ加湿器を提供することを目的とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の請求項１記載の加湿器は、第１の凹部が形成された乾燥ガスセパレータと第２の凹部が形成された湿潤ガスセパレータとに挟まれて加湿膜が設けられ、前記両セパレータの各々に形成された凹部の外側に樹脂が充填された貫通流路がそれぞれ形成されると共に前記両セパレータに形成された貫通流路のそれぞれの表面の開口径が異なり、かつ、前記樹脂は前記両セパレータに跨って充填されていることを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月22日(2009.6.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下部が開口する筐体と、
前記筐体の内部中央に配置された送風機と、
前記送風機を囲むように配置されて前記筐体内に収容された熱交換器と、
前記送風機の下方に設置された吸込口と、
前記吸込口から吸込んだ空気の清浄を行うフィルタと、
前記筐体の下面に設置され平面的にみて前記吸込口を囲むように吹出口を配置形成してなる化粧パネルと、
前記吸込口を閉塞可能に配置されて前記化粧パネルとフラットとなる空気の流通のない正面パネルと、
前記筐体側又は化粧パネル側に取り付けられて、前記正面パネルを昇降自在に支持する昇降装置と、
を備え、前記昇降装置によって前記正面パネルを降下させることにより生じる前記化粧パネルと該正面パネルとの間の隙間を吸込口とすることを特徴とする天井埋込型空気調和機。
【請求項２】
前記フィルタは、前記正面パネル上に付勢手段を介して弾性支持され、前記昇降装置による前記正面パネルの昇降動作に伴って昇降可能となっていることを特徴とする請求項１記載の天井埋込型空気調和機。
【請求項３】
前記フィルタは、スプリング芯材を有し前記吸込口を覆う蛇腹からなり、前記正面パネル上に上下方向伸縮自在に載置されてなることを特徴とする請求項１記載の天井埋込型空気調和機。
【請求項４】
前記筐体側に、前記フィルタの上端と係合してその筐体内奥部への移動を制限する突起部を設けたことを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の天井埋込型空気調和機。
【請求項５】
前記正面パネルは、空気調和機の運転停止時には前記化粧パネル側に収納されて前記吸込口を閉塞し、運転時には下降して前記化粧パネルとの間で吸込口を形成することを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の天井埋込型空気調和機。
【請求項６】
前記昇降装置は、前記正面パネルを手元まで降下可能な昇降ストロークを有していることを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の天井埋込型空気調和機。
【請求項７】
前記フィルタに堆積した塵埃を掻き出す回転ブラシと掻き出した塵埃を溜める集塵手段とを備えたフィルタ清掃装置を設けたことを特徴とする請求項１記載の天井埋込型空気調和機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明に係る天井埋込型空気調和機は、下部が開口する筐体と、筐体の内部中央に配置された送風機と、送風機を囲むように配置されて筐体内に収容された熱交換器と、送風機の下方に設置された吸込口と、吸込口から吸込んだ空気の清浄を行うフィルタと、筐体の下面に設置され平面的にみて吸込口を囲むように吹出口を配置形成してなる化粧パネルと、吸込口を閉塞可能に配置されて化粧パネルとフラットとなる空気の流通のない正面パネルと、筐体側又は化粧パネル側に取り付けられて、正面パネルを昇降自在に支持する昇降装置と、を備え、昇降装置によって正面パネルを降下させることにより生じる化粧パネルと正面パネルとの間の隙間を吸込口とするものである。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月25日(2009.6.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
室内に調和空気を吹出す吹出し口に配置されるとともに回動自在に支持され、前記吹出し口から吹出す調和空気の吹出し方向を回動して変更する風向調整板と、
この風向調整板の長手方向中間の位置で前記風向調整板に設けられた羽根側支持体に形成された軸受と、
この軸受に嵌合して、前記風向調整板を回動自在に支持する中間軸が形成された中間軸体と、
前記吹出し口に設けられ、この中間軸体を固定する固定孔が形成された本体側支持体と、
前記羽根側支持体の方向に延伸する前記中間軸の径方向に前記中間軸より外方に突出するように前記中間軸体に形成され、前記羽根側支持体と前記本体側支持体との間に配置される規制片と、
この規制片から前記本体側支持体の方向に延伸するように前記中間軸体に形成され、突端が前記固定孔を突き抜け、外側面が前記固定孔の内周面に密着するように前記固定孔に嵌合されて前記中間軸体を前記固定孔に固定する固定片と、
前記風向調整板の長手方向に前記羽根側支持体と所定の間隔を置いて前記風向調整板に設けられ、前記羽根側支持体との間に前記本体側支持体が位置するように配置された規制板と、を備え、
前記風向調整板の長手方向の一方向は前記羽根側支持体が前記規制片に接触し、他方向は前記規制板が前記固定孔を突き抜けた前記固定片の突端に接触して、前記風向調整板の長手方向の移動が規制されることを特徴とする空気調和機。
【請求項２】
前記中間軸体に形成され、前記固定片の外側面より外方に突出し、前記本体側支持体の前記規制片が位置する側とは反対側で前記固定孔の周縁に掛かかることで前記固定孔からの前記固定片の抜けを防止する爪部を備え、
前記固定片が弾性変形することで前記爪部が前記固定孔を通過して、前記固定片が前記固定孔に嵌合されることを特徴とする請求項１に記載の空気調和機。
【請求項３】
室内に調和空気を吹出す吹出し口に配置されるとともに回動自在に支持され、前記吹出し口から吹出す調和空気の吹出し方向を回動して変更する風向調整板と、
この風向調整板の長手方向中間の位置で前記風向調整板に設けられた羽根側支持体に形成された軸受と、
この軸受に嵌合して、前記風向調整板を回動自在に支持する中間軸が形成された中間軸体と、
前記吹出し口に設けられ、この中間軸体を固定する固定孔が形成された本体側支持体と、
前記羽根側支持体の方向に延伸する前記中間軸の径方向に前記中間軸より外方に突出するように前記中間軸体に形成され、前記羽根側支持体と前記本体側支持体との間に配置される規制片と、
この規制片から前記本体側支持体の方向に延伸するように前記中間軸体に形成され、外周面が前記固定孔の内周面に密着するように前記固定孔に嵌合されて前記中間軸体を前記固定孔に固定する固定軸と、
前記規制片と所定の距離を置いて、前記固定軸の径方向に前記固定軸の外周から前記固定軸の外方に突出するように前記中間軸体に形成され、前記本体側支持体の前記規制片が位置する側とは反対側で前記固定孔の周縁に掛かかることで前記固定孔からの前記固定軸の抜けを防止する掛かり壁と、
前記固定孔を取り囲む前記本体側支持体の外壁部に前記固定軸の外径より小さい幅で切欠かれ、前記外壁部が弾性変形して前記幅を拡大することで前記固定軸の前記掛かり壁と前記規制片の間の部位を通過させ、前記固定軸を前記固定孔に嵌合させる切欠き部と、
前記風向調整板の長手方向に前記羽根側支持体と所定の間隔を置いて前記風向調整板に設けられ、前記羽根側支持体との間に前記本体側支持体が位置するように配置された規制板と、を備え、
前記風向調整板の長手方向の一方向は前記羽根側支持体が前記規制片に接触し、他方向は前記規制板が前記固定軸の突端に接触して、前記風向調整板の長手方向の移動が規制されることを特徴とする空気調和機。
【請求項４】
前記軸受に、前記中間軸の外径より小さい幅で切欠かれ、前記軸受が弾性変形して、前記幅を拡大することで前記中間軸を通過して、前記中間軸を前記軸受に嵌合させる軸受切欠き部を形成したことを特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載の空気調和機。
【請求項５】
前記中間軸体は、自己潤滑性のある樹脂により一体的に成形されていることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれかに記載の空気調和機。
【請求項６】
室内に調和空気を吹出す吹出し口に配置され、前記吹出し口から吹出す調和空気の吹出し方向を回動して変更する風向調整板を、この風向調整板の長手方向中間の位置で、前記吹出し口に設けられた本体側支持体に形成される固定孔に固定された中間軸体が有する中間軸を、前記風向調整板に設けられた羽根側支持体に形成された軸受に嵌合して成る中間支持部により回動自在に支持する風向調整板の中間支持部の組立方法であって、
前記羽根側支持体の方向へ延伸する前記中間軸とは反対に前記本体側支持体の方向に延伸するように前記中間軸体に形成され、外側面に外方に突出して前記固定孔の周縁に掛かる爪部を有する固定片を、内側に傾斜するように弾性変形させるステップと、
前記固定片を弾性変形させた状態で前記固定孔に前記爪部を通過させ、前記固定片を前記固定孔に嵌合して前記中間軸体を前記固定孔に固定するステップと、
前記軸受に前記中間軸の外径より小さい幅で切欠かれた切欠き部を前記中間軸の外周面に押しつけるステップと、
前記切欠き部を前記中間軸の外周面に押しつけることで前記軸受を弾性変形させて前記切欠き部の幅を拡大するステップと、
前記切欠き部を引き続き前記中間軸の外周面に押しつけ、前記中間軸を乗り越えさせて前記中間軸を前記軸受に嵌合するステップと、
を備えたことを特徴とする風向調整板の中間支持部の組立方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
この発明に係わる空気調和機は、室内に調和空気を吹出す吹出し口に配置されるとともに回動自在に支持され、吹出し口から吹出す調和空気の吹出し方向を回動して変更する風向調整板と、この風向調整板の長手方向中間の位置で風向調整板に設けられた羽根側支持体に形成された軸受と、この軸受に嵌合して、風向調整板を回動自在に支持する中間軸が形成された中間軸体と、吹出し口に設けられ、この中間軸体を固定する固定孔が形成された本体側支持体と、羽根側支持体の方向に延伸する中間軸の径方向に中間軸より外方に突出するように中間軸体に形成され、羽根側支持体と本体側支持体との間に配置される規制片と、この規制片から本体側支持体の方向に延伸するとともに、突端が固定孔を突き抜け、外側面が固定孔の内周面に密着するように固定孔に嵌合されて中間軸体を固定孔に固定する固定片と、風向調整板の長手方向に羽根側支持体と所定の間隔を置いて風向調整板に設けられ、羽根側支持体との間に本体側支持体が位置するように配置された規制板と、を備え、風向調整板の長手方向の一方向は羽根側支持体が規制片に接触し、他方向は規制板が固定孔を突き抜けた固定片の突端に接触して、風向調整板の長手方向の移動が規制されるものである。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月21日(2009.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の加熱手段で加熱された後の温水が貯溜される貯湯タンクと，前記貯湯タンクの外側で該貯湯タンクに接続された内部が見通し可能な水位表示手段とを備えてなる貯湯タンクユニットであって，
前記所定の加熱手段から前記貯湯タンクに温水を供給するための温水供給配管が，前記所定の加熱手段から前記水位表示手段の近傍を経由して前記貯湯タンクに接続されてなることを特徴とする貯湯タンクユニット。
【請求項２】
請求項１に記載の貯湯タンクユニットを備えてなるヒートポンプ式給湯機。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月22日(2009.10.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
本発明の実施例１は粉砕品と非粉砕品の乾燥速度の差、水分差による炭化の難易試験結果を示す。実施例２は通風乾燥の速度と堆積層内への少量通風の効果をしめす。実施例３は泥土の乾燥例であり、通風抵抗が大な時には挿入物で間隙を作れば透過気流の効果を出せることを示す。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月21日(2009.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
断面形状がいずれかの方向において非対称の管であって冷媒が流れる第１の管と，断面形状が円形であり前記第１の管と熱交換を行うべく第１の管と密接し水が流れる第２の管とを備え，
前記第１の管に，前記第２の管と密接して嵌合するための断面円形の嵌合部が形成されてなる熱交換器用管。
【請求項２】
請求項１に熱交換器用管が略平行に複数本配置された熱交換器であって，
複数の前記第１の管を並列接続する第１の接続部と，複数の前記第２の管を並列接続する第２の接続部と，を更に備えてなる熱交換器。
【請求項３】
請求項２に記載の熱交換器を備えてなるヒートポンプ給湯機。
【請求項４】
断面形状がいずれかの方向において非対称の管であって冷媒が流れる第１の管と，断面形状が円形であり前記第１の管と熱交換を行うべく第１の管と密接し水が流れる第２の管とを備え，
前記第１の管に，前記第２の管と密接して嵌合するための断面円形の嵌合部が形成されてなる熱交換器用管の製造方法において，
前記第１の管の前記嵌合部に前記第２の管を挿入した後，前記第２の管を拡管することで，前記第２の管を前記嵌合部に密接して嵌合させてなることを特徴とする熱交換器用管の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月21日(2009.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カビ結露予防指令を受けてカビ結露予防運転を実行する制御部を備え、前記制御部は、特定時間帯でカビ結露予防指令を受けたとき、カビ結露予防運転を実行し、また、特定時間帯以外の時間帯でカビ結露予防指令を受けたとき、特定時間帯に突入するまでカビ結露予防運転を待機し、特定時間帯に突入したときに、カビ結露予防運転を実行することを特徴とする空気調和機。
【請求項２】
前記制御部は、特定時間帯を経過したとき、前記カビ結露予防運転を中断又は中止することを特徴とする請求項１に記載の空気調和機。
【請求項３】
前記制御部は、次の特定時間帯に入ったとき、前記カビ結露予防運転を再開することを特徴とする請求項２に記載の空気調和機。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月3日(2009.3.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  一対の基板と、該一対の基板の間に挟持される液晶と、該基板の内面側に設けられた配向膜とを備え、該配向膜は、ジアミン成分を含むポリアミック酸と、該ポリアミック酸のジアミン成分とは異なるジアミン成分を含むポリイミドとの混合物からなることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】  該ポリイミドのジアミン成分は、垂直配向性に寄与するジアミン成分を含んでいることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】  該垂直配向性に寄与するジアミン成分は、該配向膜の該液晶の側の表面に存在していることを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】  該垂直配向性に寄与するジアミン成分は、アルキル側鎖を有していることを特徴とする請求項２または３に記載の液晶表示装置。
【請求項５】  該ポリイミドのジアミン成分は、垂直配向性に寄与しないジアミン成分と垂直配向性に寄与するジアミン成分とを含むことを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項６】  該ポリイミドに含まれるジアミン成分全体に対する該垂直配向性に寄与するジアミン成分の割合が３０％以上であることを特徴とする請求項５に記載の液晶表示装置。
【請求項７】  紫外線光源と、該紫外線光源から放射された紫外線を通過させるスリット及び紫外線光源とは反対側に反射面を有する反射板と、該反射板の該スリットから出射した紫外線を通過させる開口部及び該反射板側に反射面を有するフォトマスクとを備えたことを特徴とする配向膜の露光装置。
【請求項８】  該紫外線光源と該反射板との間に該紫外線光源から放射された紫外線を集光する集光部材を備えることを特徴とする請求項７に記載の配向膜の露光装置。
【請求項９】  複数の画素領域が規定されている配向膜に紫外線を照射して配向膜の配向処理を行う配向膜の形成方法において、
フォトマスクを配向膜の上方に配置し、
該フォトマスクの第１の開口部の中心部が該配向膜の第１の画素領域の中心部に整列するように該フォトマスクを該配向膜に対して位置合わせし、
紫外線光源を該フォトマスクの上方に配置し、
該紫外線光源、該フォトマスク及び該配向膜は、該フォトマスクの該第１の開口部を通過した紫外線が該配向膜の該第１の画素領域からｎ個（ｎは０以上の整数）離れた画素領域を照射するように配置されており、
該フォトマスクの開口部の幅をａ（μｍ）、該フォトマスクと該配向膜との間の間隔をｄ（μｍ）、該配向膜に入射する紫外線の角度をθ（ｒａｄ）、画素領域のピッチをｇ（μｍ）とするとき、該紫外線光源、該フォトマスク、及び該配向膜は次の関係を満足するように配置され、
（ｇ／２−２０）≦ａ≦（ｇ／２＋２０）                （１）
【数１】
2003043492.tif 000001
該紫外線光源から紫外線を照射して該配向膜に配向処理を行うことを特徴とする配向膜の処理方法。
【請求項１０】  該フォトマスクと該配向膜との間の該間隔ｄ（μｍ）は次の関係を満足し、
【数２】
2003043492.tif 000002
該配向膜に入射する紫外線の角度をθ（ｒａｄ）は次の関係を満足する、
【数３】
2003043492.tif 000003
ことを特徴とする請求項９に記載の配向膜の処理方法。
【請求項１１】  該紫外線光源、該フォトマスク、及び該配向膜が上記した関係で配置された後で、該紫外線光源から紫外線を照射して該配向膜に配向処理を行い、該紫外線光源の向きを変え且つ該紫外線光源、該フォトマスク、及び該配向膜が上記した関係で配置された状態で、再度該紫外線光源から紫外線を照射して該配向膜に配向処理を行うことを特徴とする請求項９に記載の配向膜の処理方法。
【請求項１２】  第１及び第２の対向する基板と、該第１及び第２の基板の間に挟持される液晶と、該第１の基板の内面側に設けられた複数の画素電極、バスライン及び配向膜と、該第２の基板の内面側に設けられた共通電極及び配向膜とを備え、該第１及び第２の基板の少なくとも一方の配向膜には液晶を所定の方向に配向させる処理が施されており、該第２の基板の配向膜には該第１の基板のバスラインに対応する位置に厚さ０．１〜０．１５μｍの土手構造が設けられていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１３】  該土手構造は該第１の基板の画素電極と２〜８μｍオーバーラップすることを特徴とする請求項１２に記載の液晶表示装置。
【請求項１４】  該土手構造は該所定の方向と平行に長く延びることを特徴とする請求項１２に記載の液晶表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
【課題を解決するための手段】
本発明による液晶表示装置は、一対の基板と、該一対の基板の間に挟持される液晶と、該基板の内面側に設けられた配向膜とを備え、該配向膜は、ジアミン成分を含むポリアミック酸と、該ポリアミック酸のジアミン成分とは異なるジアミン成分を含むポリイミドとの混合物からなる。
ある実施形態において、該ポリイミドのジアミン成分は、垂直配向性に寄与するジアミン成分を含んでいる。
ある実施形態において、該垂直配向性に寄与するジアミン成分は、該配向膜の該液晶の側の表面に存在している。
ある実施形態において、該垂直配向性に寄与するジアミン成分は、アルキル側鎖を有している。
ある実施形態において、該ポリイミドのジアミン成分は、垂直配向性に寄与しないジアミン成分と垂直配向性に寄与するジアミン成分とを含む。
ある実施形態において、該ポリイミドに含まれるジアミン成分全体に対する該垂直配向性に寄与するジアミン成分の割合が３０％以上である。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月6日(2009.10.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  媒体上に画像を形成する画像形成装置において、
媒体が搬送される複数の媒体搬送路と、
前記複数の媒体搬送路のそれぞれに設けられ、媒体を検出する複数の媒体検出手段と、
前記複数の媒体検出手段のそれぞれについての異常を検出する異常検出手段と、
画像形成動作の設定を行うための設定手段と、
前記異常検出手段がいずれかの前記媒体検出手段の異常を検出したことに応じて、前記画像形成装置全体を使用禁止にすることなく、前記異常が検出された前記媒体検出手段が設けられている前記媒体搬送路を使用する設定が前記設定手段によりなされることを禁止する設定禁止手段と、
を有することを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】  前記複数の媒体搬送路は、一方の面に画像形成された媒体の他方の面に画像形成するべく媒体を再給送するための再給送搬送路を含み、前記設定禁止手段は、前記異常検出手段が前記再給送搬送路に設けられた前記媒体検出手段の異常を検出したことに応じて、媒体の両面に画像形成する両面モードの設定が前記設定手段によりなされることを禁止することを特徴とする請求項１記載の画像形成装置。
【請求項３】  前記複数の媒体搬送路は、複数の媒体収納部のいずれか１つに対応した給送搬送路を含み、前記設定禁止手段は、前記異常検出手段が前記給送搬送路に設けられた前記媒体検出手段の異常を検出したことに応じて、前記異常が検出された前記給送搬送路に対応した媒体収納部からの給送の設定が前記設定手段によりなされることを禁止することを特徴とする請求項１記載の画像形成装置。
【請求項４】  前記複数の媒体検出手段は、それぞれ発光手段及び受光手段を含み、前記発光手段と前記受光手段の間の光路が搬送される媒体により遮られるよう設けられ、前記異常検出手段は、前記発光手段への入力に対する前記受光手段からの出力に応じて、前記媒体検出手段の異常を判別することを特徴とする請求項１記載の画像形成装置。
【請求項５】  前記異常検出手段は、前記発光手段へ所定の入力を行ったときの前記受光手段からの出力が予め決められた値以下の場合、前記媒体検出手段が異常であると判別することを特徴とする請求項４記載の画像形成装置。
【請求項６】  前記異常検出手段は、前記画像形成装置の電源オン時に異常判別を行うことを特徴とする請求項１記載の画像形成装置。
【請求項７】  前記異常検出手段は、前記設定手段を介して所定の操作が行われることに応じて異常判別を行うことを特徴とする請求項１記載の画像形成装置。
【請求項８】  前記異常検出手段は、前記画像形成装置における画像形成ジョブと画像形成ジョブの間に異常判別を行うことを特徴とする請求項１記載の画像形成装置。
【請求項９】  前記設定禁止手段は設定を禁止する項目を設定可能な項目と区別できるように前記設定手段に表示させ、設定を禁止する項目に対応する箇所が押されても前記設定手段による設定を受け付けないことを特徴とする請求項１記載の画像形成装置。
【請求項１０】  媒体上に画像を形成する画像形成装置において、
媒体が搬送される複数の媒体搬送路と、
前記複数の媒体搬送路のそれぞれに設けられ、媒体を検出する複数の媒体検出手段と、
所定のタイミングにおける前記複数の媒体検出手段の出力が所定値以下であることを判別する出力判別手段と、
画像形成動作の設定を行うための設定手段と、
前記出力判別手段がいずれかの前記媒体検出手段の出力が所定値以下であることを判別したことに応じて、前記画像形成装置全体を使用禁止にすることなく、出力が所定値以下であることを判別された前記媒体検出手段が設けられている前記媒体搬送路を使用する設定が前記設定手段によりなされることを禁止する設定禁止手段と、
を有することを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前述の調整を行なったとしても、発光素子／受光素子ともにばらつき、光量のばらつきとして考えた場合には、発光素子の発光量ばらつきと、受光素子の受光量ばらつきの両方の影響を受けてしまうので、かなり大きくなり、長期ノーメンテナンスを実現する上で、両素子ばらつきによる光量のばらつきが、メンテナンス間隔や寿命時間に大きな影響を与える。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
【課題を解決するための手段】
上記問題を解決するため、本発明は、媒体上に画像を形成する画像形成装置において、媒体が搬送される複数の媒体搬送路と、前記複数の媒体搬送路のそれぞれに設けられ、媒体を検出する複数の媒体検出手段と、前記複数の媒体検出手段のそれぞれについての異常を検出する異常検出手段と、画像形成動作の設定を行うための設定手段と、前記異常検出手段がいずれかの前記媒体検出手段の異常を検出したことに応じて、前記画像形成装置全体を使用禁止にすることなく、前記異常が検出された前記媒体検出手段が設けられている前記媒体搬送路を使用する設定が前記設定手段によりなされることを禁止する設定禁止手段と、を有することを特徴とする画像形成装置を提供するものである。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月13日(2009.1.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８３】
上式（２１）に示したように、非反転出力端子ＯＰの出力電圧ＶＯＰは、ＭＯＳＦＥＴ  Ｍ１１とＭ１２のドレイン電流Ｉ１１とＩ１２の差電流Ｉ１１−Ｉ１２に比例する。同様にして、反転出力端子ＯＭの出力電圧ＶＯＭは、ＭＯＳＦＥＴ  Ｍ１とＭ６のドレイン電流Ｉ１とＩ６の差電流Ｉ１−Ｉ６に比例する。簡単のために、ＭＯＳＦＥＴ  Ｍ１とＭ２、Ｍ６とＭ８、Ｍ４とＭ１１、Ｍ１０とＭ１２のゲート幅／ゲート長比をそれぞれ１とすれば、ＭＯＳＦＥＴ  Ｍ１のドレイン電流ＭＯＳＦＥＴ  Ｍ１とＭ６の出力電流Ｉ１、Ｉ６の差電流は、Ｉ３とＩ７の差電流で与えられ、Ｉ３∝ＶＭ、Ｉ７∝−１ＶＭより、反転出力端子ＯＭの電圧ＶＯＭは、入力電圧ＶＭに対応した電圧となる。また、ＭＯＳＦＥＴ  Ｍ１１とＭ１２の出力電流Ｉ１１、Ｉ１２の差電流Ｉ１１−Ｉ１２は、Ｉ５とＩ９の差電流で与えられ、Ｉ５∝ＶＰ、Ｉ９∝−１ＶＰより、非反転出力端子ＯＰの電圧ＶＯＰは、入力電圧ＶＰに対応した電圧となる。よって、式（２４）が成り立つ。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月25日(2009.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記ドットパターンのブロック形状は、前記第１の方向に隣接するドットパターンとの境界線が前記第２の方向に対して斜め方向の成分を含む平行四辺形型を有していることを特徴とする請求項１記載の画像処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
前記多値画像データは、前記第２の方向に隣接する画素間で前記第１の方向に半画素分画素の位置がシフトした構成の画像データであり、
前記ドットパターンのブロック形状は、前記第１の方向及び第２の方向に沿った境界線で区画される矩形形状を有し、
前記ドットパターンテーブル上における各ブロックの配列は、前記多値画像データの画素配列に対応しており、前記第２の方向に隣接するドットパターンのブロック同士は前記第１の方向に半ブロック分シフトした位置関係で接していることを特徴とする請求項１記載の画像処理方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
すなわち、画像Ｂの位置(x，y)の画素の階調値Ｉb(x,y)に対して、階調値毎に作成されたドットパターンテーブルの該当する位置(mod(x/(K/k)), mod(y/(L/l)))にアクセスして、k×lサイズのドットパターンを出力する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
図７のドットパターンテーブルを用いて、図３と類似の濃度パターン処理を行う場合には、画像Ｂの位置(x,y)の画素の画素値Ib(x,y)に対して、階調値毎に作成されたドットパターンテーブル（図７）の該当する位置(mod(x/(M/m)), mod(y/(N/n)))にアクセスして、そのドットパターン形状及び当該ドットパターン形状の画素ブロック内に含まれるドットパターンを出力する。なお、M、Nはドットパターンテーブルのサイズを表す自然数、m、nはドットパターンのサイズを表す自然数である（図７参照）。本例では、ドットパターンテーブルは、記録ヘッドのノズル数と同じセル数を縦方向のサイズ（M）とし、横方向については、ノズルのばらつきの影響を吸収できるだけの十分なセル数(N)を有するサイズとする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
位置(x,y)に対応するドットパターンの位置を求める上記の計算は、ドットパターンテーブル上におけるドットパターンの基準位置を求めるものであるため、求めた基準位置に対応するブロックのドットパターンに変換することができる。なお、mod(x/(M/m))が零または最大値などの特別な条件のときには、図７の符号２２、２３で示した端部形状のドットパターンが適用される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７８】
図１０のドットパターンテーブルを用いて、図３と類似の濃度パターン処理を行う場合には、画像Ｂの位置(x,y)の画素の画素値Ib(x,y)に対して、階調値毎に作成されたドットパターンテーブルの該当する位置(mod(x/(M/m)), mod(y/(N/n)))にアクセスして、そのドットパターン形状及び当該ドットパターン形状の画素ブロック内に含まれるドットパターンを出力する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７９】
なお、mod(y/(N/n))が奇数、且つmod(x/(M/m))が零または最大値などの特別な条件のときには、図１０の符号４２、４３で示した端部形状のドットパターンが適用される。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８２】
〔第３実施形態〕
図１０で説明したドットパターンテーブルに代えて、図１１に示すような十字型形状のドットパターン５０で定義されたドットパターンテーブルを用いることもできる。図１１のようなドットパターンテールの場合も、画素の位置（x,y）に該当する位置のドットパターンを指定するためのアドレスの計算に関しては、端部形状に対応する特別な条件が追加される点（mod(y/(N/n))が零のときと、最後のとき）を除いて、図７や図１０で説明した例と同様である。
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月29日(2009.5.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
一方、第２の共振モードでは、一方の１／４波長共振器２１では開放端側から短絡端側
に電流ｉが流れると共に、他方の１／４波長共振器３１では短絡端側から開放端側に電流
ｉが流れ、それぞれに流れる電流ｉの向きが同方向となる。すなわち、この第２の共振モ
ードでは、電界Ｅの分布を見ても分かるように、一対の１／４波長共振器２１，３１で電
磁波が逆相に励振されている。この第２の共振モードでは、一対の１／４波長共振器全体
の物理的な回転対称軸に対して互いに回転対称な位置で、電界Ｅの位相が１８０°異なる
。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
図１５（Ａ），図１５（Ｂ）は、この積層型フィルタの第２の変形例を示している。上
述の第１の変形例では、第１および第２の共振器４１，５１をそれぞれ、１つの積層面１
０１内に、１つの連続した線路導体として形成するようにしたが、この第２の変形例では
、第１の共振器４１と第２の共振器５１とを別々の積層面１０１，１０２内において、１
つの連続した線路導体として形成している。すなわち、第１の共振器４１を、積層面１０
１において一方の端部側の共振部１１を構成する他方の１／４波長共振器３１に隣接して
形成している。また、別の積層面１０２において、第２の共振器５１を、他方の端部側の
共振部１４を構成する一方の１／４波長共振器２４に隣接して形成している。この第２の
変形例の構造では、図４（Ｃ），図４（Ｄ）の構造と同様に、第１の共振器４１と第２の
共振器５１とが、異なる内部層側から信号用外部端子電極１，２に接続される。また、図
４（Ｃ），図４（Ｄ）の構造と同様に、第１の共振器４１の開放端と第２の共振器５１の
開放端とが互いに逆方向を向くように構成される。