【手続補正書】
【提出日】平成25年10月25日(2013.10.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
本発明は、特に、窒素酸化物、一酸化炭素、炭化水素、及び粒状物質を、触媒で被覆されたワイヤーメッシュ及び多孔質の壁部材を通過させることによって除去することに関する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
９．  前記酸化する工程が、希土類によって促進されたアルミナ上の白金及び／又はパラジウムである触媒の存在下で行われ、
前記フィルターが、希土類及びジルコニウムの混合酸化物上のパラジウム及び／又は白金である触媒で被覆され、
前記選択接触還元する工程が、酸化チタン上の酸化バナジウム及び／又は酸化タングステン、又はゼオライト上の鉄及び／又は銅である触媒の存在下で行われ；そして
前記還元剤の残部が、ゼオライト上の白金、ゼオライト上のパラジウム、又はゼオライト上の白金及びパラジウムである触媒によって酸化される、
上記の特徴５〜８のいずれか一つに記載の方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
１０．  上記の特徴１〜９のいずれか一つに記載の内燃機関からの排ガスを浄化するための装置であって、ハウジング内に、
−  該ハウジング内に、互いに平行かつ離間して組み込まれた、二つ又はより多くの交差して波形を設けたガス不浸透性金属シート；及び
−  該ガス不浸透性金属シートの間の各空間に組み込まれた、一つ又はより多くの交差して波形を設けた、触媒的に被覆されたワイヤーメッシュシート、
を含む、上記の装置。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
窒素酸化物、一酸化炭素、炭化水素及び粒状物質を含む、内燃機関からの排ガスを浄化する方法であって、
該排ガスを、ガス不浸透性の交差して波形を設けた（ｃｒｏｓｓ  ｃｏｒｒｕｇａｔｅｄ）二つ又はより多くのシートの間に配置された、交差して波形を設けた一つ又はより多くのワイヤーメッシュシート上の一種又は複数種の触媒と接触させる工程、
を含む、上記の方法。
【請求項２】
前記排ガスを、前記一つ又はより多くの交差して波形を設けたシート上の異なる領域に被覆された、一種又は複数種の触媒と接触させる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記排ガス中の粒状物質が、前記ガス不浸透性シートの、多孔質で、そして任意に酸化触媒で被覆された領域中に保持される、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記燃焼機関からの排ガス及び浄化された排ガスが、互いに熱交換の関係にある、請求項１〜３のいずれか一つに記載の方法。
【請求項５】
前記燃焼機関からの排ガスが、次の連続する、
−  前記排ガス中へ炭化水素を噴射する工程；
−  前記排ガス及び炭化水素を触媒的に酸化する工程；
−  前記排ガスを、触媒的に被覆されたフィルターに通過させ、そして粒状物質を酸化する工程；
−  還元剤を噴射する工程；
−  前記酸化され、フィルター処理された排ガス中の窒素酸化物を、窒素への還元剤によって選択接触還元する工程；
−  前記還元剤の残部を触媒的に酸化する工程；及び
−  浄化された排ガス流を引き出す工程、
によって浄化される、請求項１〜４のいずれか一つに記載の方法。
【請求項６】
前記内燃機関からの排ガスが、次の連続する、
−  還元剤を噴射する工程；
−  前記酸化され、フィルター処理された排ガス中の窒素酸化物を、窒素への還元剤によって選択接触還元する工程；
−  前記還元剤の残部を触媒的に酸化する工程；
−  前記排ガス中へ炭化水素を噴射する工程；
−  前記排ガス及び炭化水素を触媒的に酸化する工程；
−  前記排ガスを、触媒的に被覆されたフィルターに通過させ、そして粒状物質を酸化する工程；及び
−  浄化された排ガス流を引き出す工程、
によって浄化される、請求項１〜４のいずれか一つに記載の方法。
【請求項７】
前記燃焼機関からの排ガスが、次の連続する、
−  還元剤を噴射する工程；
−  前記排ガス中の窒素酸化物を、窒素への還元剤によって選択接触還元する工程；  −  前記還元剤の残部を触媒的に酸化する工程；
−  前記排ガスを、触媒的に被覆されたフィルターに通過させ、そして粒状物質を酸化する工程；
−  前記排ガス中へ炭化水素を噴射する工程；
−  前記排ガス及び炭化水素を触媒的に酸化する工程；及び
−  浄化された排ガス流を引き出す工程、
によって浄化される、請求項１〜４のいずれか一つに記載の方法。
【請求項８】
前記炭化水素が前記機関への燃料であり、そして前記還元剤が、尿素水溶液、アンモニア及びアンモニア水溶液である、請求項５〜７のいずれか一つに記載の方法。
【請求項９】
前記酸化する工程が、希土類によって促進されたアルミナ上の白金及び／又はパラジウムである触媒の存在下で行われ、
前記フィルターが、希土類及びジルコニウムの混合酸化物上のパラジウム及び／又は白金である触媒で被覆され、
前記選択接触還元する工程が、酸化チタン上の酸化バナジウム及び／又は酸化タングステン、又はゼオライト上の鉄及び／又は銅である触媒の存在下で行われ；そして
前記還元剤の残部が、ゼオライト上の白金、ゼオライト上のパラジウム、又はゼオライト上の白金及びパラジウムである触媒によって酸化される、
請求項５〜８のいずれか一つに記載の方法。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか一つに記載の内燃機関からの排ガスを浄化するための装置であって、ハウジング内に、
−  該ハウジング内に、互いに平行かつ離間して組み込まれた、二つ又はより多くの交差して波形を設けたガス不浸透性金属シート；及び
−  該ガス不浸透性金属シートの間の各空間に組み込まれた、一つ又はより多くの交差して波形を設けた、触媒的に被覆されたワイヤーメッシュシート、
を含む、上記の装置。
【請求項１１】
前記交差して波形を設けた不浸透性金属シートの間の各空間が、互いに積層された、複数の交差して波形を設けた触媒的に被覆されたワイヤーメッシュシートを含む、請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記交差して波形を設けた不浸透性の金属シートが、角度を有するよう波形を設けられる、請求項１０又は１１に記載の装置。
【請求項１３】
前記交差して波形を設けたシートのパターンが、平行するチャンネルを形成し、該チャンネルのそれぞれが、
第二の真っ直ぐなチャンネルに続く、第一の真っ直ぐなチャンネル；
該第一のチャンネルと第一の角度を形成し、そして第三のチャンネルに続く該第二の真っ直ぐなチャンネル；
該第一のチャンネルに平行で、そして第四のチャンネルに続く、該第三のチャンネル；及び
該第一の角度と同じサイズであるが、それとは反対方向にある第二の角度を該第一のチャンネルと形成する、該第四のチャンネル、
である、繰り返し形状を有する、請求項１０〜１２のいずれか一つに記載の装置。
【請求項１４】
前記不浸透性金属シートそれぞれの二つ又は三つの縁部が、シーリングワイヤーを使って互いに、それら縁部に沿って、流れの方向において一緒にシールされ、任意に、一つおきの空間において、シーリングワイヤーが、一つの流れ方向における一つの縁部及び隣接する縁部に沿って配置され、そして、別のシーリングワイヤーが、その流れ方向における他の側部の一部に対して配置され、そしてこのワイヤーと、装置の流れ方向に対して垂直なワイヤーとの間に空間が残される、請求項１０〜１３のいずれか一つに記載の装置。
【請求項１５】
前記ハウジングが、インレットチャンバー及びアウトレットチャンバーを含む、請求項１０〜１４のいずれか一つに記載の装置。
【請求項１６】
前記ハウジングが、そのハウジングの一方の端部にインレットチャンバー及びアウトレットチャンバーを、そして該ハウジングの他方の端部にターニングチャンバーを含み、その際、該ガスは、該ガス不浸透性のシートの間においては一つおきの空間中を一方向において流れ、そして他の空間においては対向する方向において流れる、請求項１０〜１４のいずれか一つに記載の装置。
【請求項１７】
前記ワイヤーメッシュシート及び、任意に、不浸透性の金属シートが、それぞれが異なる触媒を有する領域内で触媒的に被覆される、請求項１０〜１６のいずれか一つに記載の装置。
【請求項１８】
前記ガス不  浸透性のシートの、一方の端部における長さが均一、かつ多孔質であり、そして一つおきの空間において、シーリングワイヤーと一緒にシールされ、任意に、それらシートの該多孔質部分が、粒状物質の燃焼において活性な触媒で被覆される、請求項１０〜１７のいずれか一つに記載の装置。
【請求項１９】
前記ユニットのインレット／アウトレットにおける該シートの領域が、触媒的に被覆されておらず、熱交換領域を形成している、請求項１０〜１８のいずれか一つに記載の装置。
【請求項２０】
−  前記排ガス中に炭化水素を噴射する手段；
−  前記排ガス及び炭化水素の触媒的な酸化において活性な第一の触媒；
−  粒状物質の燃焼において活性な第二の触媒で被覆された前記ガス不浸透性のシートのフィルター部分；
−  ターニングチャンバー中へ還元剤を噴射するための手段；
−  該酸化された、フィルター処理された排ガスの該還元剤による選択接触還元において活性な第三の触媒；及び
−  該還元剤の残部の接触酸化において活性な第四の触媒、
を上記の順に含む、請求項１８又は１９に記載の装置。
【請求項２１】
−  前記排ガス中に還元剤を噴射する手段；
−  前記排ガスの該還元剤による選択接触還元において活性な第一の触媒；
−  該還元剤の残部の接触酸化において活性な第二の触媒；
−  ターニングチャンバー中へ炭化水素を噴射するための手段；
−  前記排ガス及び炭化水素の接触酸化において活性な第三の触媒；及び
−  粒状物質の燃焼において活性な第四の触媒で被覆された前記ガス不浸透性のシートのフィルター部分；
を上記の順に含む、請求項１８又は１９に記載の装置。
【請求項２２】
−  前記排ガス中に還元剤を噴射する手段；
−  前記排ガスの該還元剤による選択接触還元において活性な第一の触媒；
−  該還元剤の残部の接触酸化において活性な第二の触媒；
−  粒状物質の燃焼において活性な第三の触媒で被覆された前記ガス不浸透性のシートのフィルター部分；
−  ターニングチャンバー中へ炭化水素を噴射するための手段；及び
−  前記排ガス及び炭化水素の接触酸化において活性な第四の触媒、
を上記の順に含む、請求項１８又は１９に記載の装置。