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【手続補正書】
【提出日】平成21年7月10日(2009.7.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
スチールコード被覆用ゴム材料またはスチールコード被覆ゴムに隣接した部材のゴム成形材料として用いられる請求項１記載の空気入りタイヤ用ゴム組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
請求項３記載の空気入りタイヤ用ゴム組成物の加硫物で被覆されたスチールコード被覆部またはスチールコード被覆ゴムに隣接したゴム部材を有する空気入りタイヤ。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
有機金属塩としては、コバルト、ニッケルなどを金属として含有する有機金属塩、例えばナフテン酸、ステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレイン酸、パルミチン酸、ネオデカン酸、ロジン酸、トール油酸、ホウ酸三ネオデカン酸などの有機酸コバルト塩またはニッケル塩が、ジエン系ゴム100重量部当り、金属含有量として0.05〜0.5重量部、好ましくは0.1〜0.3重量部の割合で用いられる。有機金属塩がこれ以外の割合で用いられると、弾性率および低発熱性の改善効果がみられなくなる。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月18日(2009.6.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ビニル芳香族単量体単位を主体とする、それぞれ同一でも異なっていてもよい少なくとも２個の重合体ブロックＡと、イソプレン、２，３−ジメチル−ブタジエン、２−メチル−１，３−ペンタジエン、ミルセン、２−メチル−１，３−ペンタジエン、３−メチル−１，３−ペンタジエン、４−メチル−１，３−ペンタジエン、２−フェニル−１，３−ブタジエン、２−フェニル−１，３−ペンタジエン、３−フェニル−１，３−ペンタジエン、２，３−ジメチル−１，３−ペンタジエン、４−メチル−１，３−ペンタジエン、２−ヘキシル−１，３−ブタジエン、３−メチル−１，３−ヘキサジエン、２−ベンジル−１，３−ブタジエン、２−ｐ−トリル−１，３−ブタジエン、又はこれらの混合物の中から選ばれる炭素原子数５個以上の共役ジエン単量体単位を主体とする、それぞれ同一でも異なっていてもよい少なくとも２個の重合体ブロックＢと、１，３−ブタジエン、１，３−ペンタジエン、２，４−ヘキサジエン、１，３−ヘキサジエン、１，３−ヘプタジエン、２，４−ヘプタジエン、１，３−オクタジエン、２，４−オクタジエン、３，５−オクタジエン、１，３−ノナジエン、２，４−ノナジエン、３，５−ノナジエン、１，３−デカジエン、２，４−デカジエン、３，５−デカジエン、又はこれらの混合物の中から選ばれる炭素原子数４個以上の共役ジエン単量体単位を主体とする、それぞれ同一でも異なっていてもよい少なくとも１個の重合体ブロックＣ及び／又は炭素原子数４個以上の共役ジエン単量体単位（ｄ−１）とビニル芳香族単量体単位（ｄ−２）とを主体とする、それぞれ同一でも異なっていてもよいランダム共重合体ブロックＤを１個以上有するブロック共重合体を選択的に水添して得られる水添ブロック共重合体であって、  重合体ブロックＢのオレフィン性不飽和二重結合の水添率が５０％以下であり、重合体ブロックＣ及びＤのオレフィン性不飽和二重結合の水添率が８０％以上であって、且つ、ブロック共重合体中のビニル芳香族単量体単位の含有量が１０重量％〜８５重量％であり、且つ、ブロック共重合体中、Ａが１０重量％〜７０重量％であり、Ｂが１重量％〜１５重量％であり、Ｃが０重量％〜８５重量％であり、Ｄが２重量％〜８５重量％であり、Ｃ＋Ｄが２５重量％〜８５重量％であって、Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄの合計が１００重量％であり、且つＡの重量平均分子量ＭがＭ≧１．８５万である上記水添ブロック共重合体。
【請求項２】
前記ランダム共重合体ブロックＤを２重量％〜８０重量％含むブロック共重合体を水添して得られる請求項１に記載の水添ブロック共重合体。
【請求項３】
前記重合体ブロックＣを２重量％〜８０重量％含むブロック共重合体を水添して得られる請求項１又は２に記載の水添ブロック共重合体。
【請求項４】
前記ランダム共重合体Ｄ中に含まれるビニル芳香族単量体単位（ｄ−２）の比率が、ランダム共重合体Ｄ１００重量％に対し、３０重量％以上である請求項１〜３のいずれか一項に記載の水添ブロック共重合体。
【請求項５】
前記重合体ブロックＣの全共役ジエン中のビニル結合量が１５％〜８０％である請求項１〜４のいずれか一項に記載の水添ブロック共重合体。
【請求項６】
前記重合体ブロックＤの全共役ジエン中のビニル結合量が１０％〜５０％である請求項１〜５のいずれか一項に記載の水添ブロック共重合体。
【請求項７】
前記重合体ブロックＢの共役ジエンがイソプレンである請求項１〜６のいずれか一項に記載の水添ブロック共重合体。
【請求項８】
前記重合体ブロックＣ及び前記重合体ブロックＤの共役ジエンが１，３−ブタジエンである請求項１〜７のいずれか一項に記載の水添ブロック共重合体。
【請求項９】
前記重合体ブロックＢの共役ジエンがイソプレンであり、前記重合体ブロックＣ及び前記重合体ブロックＤの共役ジエンが１，３−ブタジエンであって、水添触媒としてチタノセン化合物を含む化合物を用いて水添が実施され、前記重合体ブロックＣ及びＤの１，３−ブタジエンの９０％以上が水添され、且つ前記重合体ブロックＢのイソプレンの水添率が５０％以下である請求項１に記載の水添ブロック共重合体。
【請求項１０】
前記重合体ブロックＢを３個以上含み、且つ内部ブロックに少なくとも１個以上の重合体ブロックＢを有するブロック共重合体を水添して得られる請求項１〜９のいずれか一項に記載の水添ブロック共重合体。
【請求項１１】
水添ブロック共重合体の末端ブロック部が前記重合体ブロックＡ又は前記重合体ブロックＢからなり、下記の一般式  Ｈ−（Ｓ−Ｈ）ｎで表される直鎖状ブロック共重合体、或いは下記の一般式
［（Ｈ−Ｓ）ｋ］ｍ−Ｘ、［Ｈ−（Ｓ−Ｈ）ｋ］ｍ−Ｘ
で表される直鎖状ブロック共重合体又は放射状ブロック共重合体である請求項１〜１０のいずれか一項に記載の水添ブロック共重合体。（上式において、ＨはＡ−Ｂ、又はＢ−Ａのブロック共重合体、又はＡ／Ｂのランダム共重合体を示し、Ｈは同一でも異なってもよい。ＳはＣ単独ブロック、又はＤ単独ブロック、又はＣ−Ｄ、又はＤ−Ｃのブロック共重合体であり、１０重量％以下のＢブロックを含んでもよい。さらに、Ｓは同一でも異なってもよい。また、ｎ及びｋは１〜５の整数で、ｍは２〜６の整数である。Ｘはカップリング剤の残基、又は多官能開始剤の残基を示す。共重合体中に複数存在する場合、重合体ブ
ロックＡ〜Ｄの各々は、それぞれ、それらの分子量や組成の構造は同一でも異なっていてもよい。）。
【請求項１２】
前記重合体ブロックＡを両末端に有し、前記重合体ブロックＢを内部に含む請求項１〜１１のいずれか一項に記載の水添ブロック共重合体。
【請求項１３】
水添ブロック共重合体のポリスチレン換算した重量平均分子量が３〜２００万である請求項１〜１２のいずれか一項に記載の水添ブロック共重合体。
【請求項１４】
残存オレフィン性不飽和二重結合を含む重合体ブロックＢが水酸基、カルボニル基、チオカルボニル基、酸ハロゲン化物基、酸無水物基、カルボキシル基、チオカルボキシル酸基、アルデヒド基、チオアルデヒド基、カルボン酸エステル基、アミド基、スルホン酸基、スルホン酸エステル基、リン酸基、リン酸エステル基、アミノ基、イミノ基、シアノ基、ピリジル基、キノリン基、エポキシ基、チオエポキシ基、スルフィド基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、ハロゲン化ケイ素基、シラノール基、アルコキシシラン基、ハロゲン化スズ基、アルコキシスズ基、フェニルスズ基から選ばれる官能基を有する請求項１〜１３のいずれか一項に記載の官能化水添ブロック共重合体。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれか一項に記載の水添ブロック共重合体又は官能化水添ブロック共重合体１００重量部に対して、熱可塑性樹脂としてポリオレフィンを１０〜３００重量部及び架橋剤０．０１〜３０重量部を含む動架橋用組成物。
【請求項１６】
請求項１５に記載の動架橋用組成物を高温下で溶融混練することによって得られる動架橋体。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月20日(2009.10.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ターボ機械の圧縮機のための可変ピッチ羽根であって、羽根は、羽根の案内ピボット（８）を中心として旋回するように取付けられターボ機械のケーシング（２２）に取付けるためのブシュ（１８）を含み、ブシュ（１８）と案内ピボット（８）との間のピボット接触部がニッケル−黒鉛およびチタンタイプであることを特徴とする、可変ピッチ羽根。
【請求項２】
案内ピボット（８）がチタン系材料から作製される羽根であって、ブシュ（１８）がニッケルと黒鉛を主成分とする材料によって構成されることを特徴とする、請求項１に記載の羽根。
【請求項３】
ニッケルと黒鉛を主成分とする粉末を金型で焼結することによってブシュ（１８）が得られる、請求項２に記載の羽根。
【請求項４】
案内ピボット（８）がチタン系金属材料によって構成されない羽根であって、前記案内ピボットがニッケル−黒鉛の付着物で被覆され、ブシュ（１８）がチタン系材料から構成されることを特徴とする、請求項１に記載の羽根。
【請求項５】
案内ピボット（８）がチタン系金属材料によって構成されない羽根であって、ニッケル−黒鉛の付着物で被覆され案内ピボットに熱収縮された金属フェルール（２４）をさらに含み、ブシュ（１８）がチタン系材料によって構成されることを特徴とする、請求項１に記載の羽根。
【請求項６】
案内ピボット（８）がチタン系金属材料によって構成されない羽根であって、ニッケルと黒鉛を主成分とする材料で構成され案内ピボットに熱収縮されたフェルールをさらに含み、ブシュ（１８）がチタン系材料によって構成されることを特徴とする、請求項１に記載の羽根。
【請求項７】
フェルールがニッケルと黒鉛を主成分とする粉末を金型で焼結することによって得られることを特徴とする、請求項６に記載の羽根。
【請求項８】
ニッケル−黒鉛がニッケルと黒鉛を主成分とする粉末を熱溶射することによって被着することを特徴とする、請求項４または５に記載の羽根。
【請求項９】
請求項１から８のいずれか一項に記載の複数の可変ピッチ羽根（２）を含むことを特徴とする、ターボ機械の圧縮機。
【請求項１０】
請求項１から８のいずれか一項に記載の複数の可変ピッチ羽根（２）を含むことを特徴とする、ターボ機械。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月29日(2009.7.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体消費装置に装着される容器本体に、液体収容部と、前記液体消費装置に接続される液体供給部と、前記液体収容部に貯留した液体を前記液体供給部に誘導する液体誘導路と、前記液体収容部内の液体の消費に伴って外部から大気を前記液体収容部内に導入するための大気連通孔と、を備える大気開放タイプの液体収容容器であって、
前記液体収容部には、第１の内壁面と、該第１の内壁面に交わる第２の内壁面と、該第２の内壁面に近接した前記第１の内壁面に穿設されて前記液体収容部を前記液体誘導路に連通させる液体収容部出口と、を設けることを特徴とする液体収容容器。
【請求項２】
前記液体収容部出口が、前記液体収容部に収容される液体によって前記第１の内壁面と前記第２の内壁面との隅部に形成されるメニスカスより内側の領域に設けられることを特徴とする請求項１に記載の液体収容容器。
【請求項３】
液体消費装置に着脱可能な容器本体に、液体収容部と、前記液体消費装置に接続される液体供給部と、前記液体収容部に貯留した液体を前記液体供給部に誘導する液体誘導路と、前記液体収容部内の液体の消費に伴って外部から大気を前記液体収容部内に導入するための大気連通孔と、を備える大気開放タイプの液体収容容器であって、
前記液体収容部には、第１の内壁面と、該第１の内壁面に交わる第２の内壁面と、該第２の内壁面に近接した前記第１の内壁面に穿設されて前記液体収容部を前記液体誘導路に連通させる液体収容部出口とが、設けられ、
前記液体収容部に収容される液体によって前記第１の内壁面と前記第２の内壁面との隅部に形成可能なメニスカスの一部が、前記液体収容部出口を液封することを特徴とする液体収容容器。
【請求項４】
液体消費装置に装着される容器本体に、液体収容部と、前記液体消費装置に接続される液体供給部と、前記液体収容部に貯留した液体を前記液体供給部に誘導する液体誘導路と、前記液体収容部内の液体の消費に伴って外部から大気を前記液体収容部内に導入するための大気連通孔と、を備える大気開放タイプの液体収容容器であって、
前記液体収容部には、第１の内壁面と、該第１の内壁面に交わって互いに対向する一対の内壁面と、前記一対の内壁面の間における前記第１の内壁面に穿設されて前記液体収容部を前記液体誘導路に連通させる液体収容部出口と、を設けることを特徴とする液体収容容器。
【請求項５】
前記液体収容部出口が、前記液体収容部に収容される液体によって前記一対の内壁面の間に形成されるメニスカスの領域に設けられることを特徴とする請求項４に記載の液体収容容器。
【請求項６】
液体消費装置に着脱可能な容器本体に、液体収容部と、前記液体消費装置に接続される液体供給部と、前記液体収容部に貯留した液体を前記液体供給部に誘導する液体誘導路と、前記液体収容部内の液体の消費に伴って外部から大気を前記液体収容部内に導入するための大気連通孔と、を備える大気開放タイプの液体収容容器であって、
前記液体収容部には、第１の内壁面と、該第１の内壁面に交わって互いに対向する一対の内壁面と、前記一対の内壁面の間における前記第１の内壁面に穿設されて前記液体収容部を前記液体誘導路に連通させる液体収容部出口とが、設けられ、
前記液体収容部に収容される液体によって前記一対の内壁面の間に形成可能なメニスカスの一部が、前記液体収容部出口を液封することを特徴とする液体収容容器。
【請求項７】
前記液体収容部には、前記液体収容部出口を覆うように形成された壁が設けられ、
前記液体収容部の液体は、前記壁に形成された開口を通過し前記液体収容部出口から前記液体誘導路に流入することを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれか１項に記載の液体収容容器。
【請求項８】
前記液体誘導路には、当該液体誘導路への気体の流入を検知することで前記液体収容部の液体が消尽されたことを検出するための検出部が設けられることを特徴とする請求項１乃至請求項７のいずれか１項に記載の液体収容容器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月26日(2009.1.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
少なくとも記録液を吐出するための複数の記録素子、吐出口及びインク流路が形成されており、該吐出口面とは反対側の面にインク供給口が配置されている記録素子基板と、該記録素子基板を保持固定する支持部材とを有し、該記録素子基板と該支持部材が接着剤により接合されているインクジェット記録ヘッドの製造方法において、
紫外線の照射により硬化する性質を有すると共に加熱により硬化する性質を有する接着剤を、前記支持部材の接合面に塗布する工程と、
前記記録素子基板の接合面と前記支持部材の接着剤が塗布された接合面とを当接させて押圧して、前記接着剤を接合面からはみ出させる工程と、
前記接合面からはみ出した接着剤に紫外線を照射して該接着剤を硬化させることにより仮止めを行う工程と、
前記仮止めを行った後に、前記記録素子基板の吐出口面から紫外線を照射して、インク供給口内にはみだした接着剤を硬化させる工程とを有し、
前記接着剤が、少なくともエポキシ樹脂、光カチオン重合開始剤、熱カチオン重合開始剤、及び、シランカップリング剤のアルコキシシラン基が反応促進剤によりあらかじめ加水分解しシラノール基に変換している化合物を含んでなることを特徴とするインクジェット記録ヘッドの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明は、少なくとも記録液を吐出するための複数の記録素子、吐出口及びインク流路が形成されており、該吐出口面とは反対側の面にインク供給口が配置されている記録素子基板と、該記録素子基板を保持固定する支持部材とを有し、該記録素子基板と該支持部材が接着剤により接合されているインクジェット記録ヘッドの製造方法において、
紫外線の照射により硬化する性質を有すると共に加熱により硬化する性質を有する接着剤を、前記支持部材の接合面に塗布する工程と、
前記記録素子基板の接合面と前記支持部材の接着剤が塗布された接合面とを当接させて押圧して、前記接着剤を接合面からはみ出させる工程と、
前記接合面からはみ出した接着剤に紫外線を照射して該接着剤を硬化させることにより仮止めを行う工程と、
前記仮止めを行った後に、前記記録素子基板の吐出口面から紫外線を照射して、インク供給口内にはみだした接着剤を硬化させる工程とを有し、
前記接着剤が、少なくともエポキシ樹脂、光カチオン重合開始剤、熱カチオン重合開始剤、及び、シランカップリング剤のアルコキシシラン基が反応促進剤によりあらかじめ加水分解しシラノール基に変換している化合物を含んでなることを特徴とするインクジェット記録ヘッドの製造方法である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明においては、シランカップリング剤のアルコキシシラン基が反応促進剤（水や酸等）によりあらかじめ加水分解しシラノール基に変換している化合物を含む接着剤を用いる。これにより、記録素子基板と支持部材を接着剤により接合する際に、紫外線照射により短時間で接着剤を硬化した場合であっても接着力が強く、連続印字等厳しい使用環境においても接着剤の剥れによる混色が生じることのない、信頼性の高いインクジェット記録ヘッドを得ることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
本発明に用いる接着剤は、少なくともエポキシ樹脂、光カチオン重合開始剤、熱カチオン重合開始剤、及び、シランカップリング剤のアルコキシシラン基が反応促進剤によりあらかじめ加水分解しシラノール基に変換している化合物を含んでなる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
一般に、シランカップリング剤またはその溶液を添加した接着剤は、例えば、添加混合後１週間程度保存すると、シランカップリング剤中のアルコキシシラン基のシラノール基化がある程度進行する。しかしながら、温度、湿度、容器内の空気の割合等の保存条件に影響を受けるため、脱アルコール反応の反応率を管理し、接着条件を一定にして使用することは困難になる。そこで、本発明者らは、シランカップリング剤の加水分解反応に着目し、シランカップリング剤の加水分解反応を促進する物質（反応促進剤）を接着剤に添加した。これにより、シランカップリング剤のアルコキシシラン基が加水分解し、あらかじめシラノール基化された化合物となる。そして、接着剤を記録素子基板に塗布後短時間にその化合物とシリコン等からなる基板が水素結合することで、接着性が改善される。さらに、その後の熱硬化プロセスにより、脱水縮合反応し、その化合物と基板はより強固な共有結合となるため、接着力が向上する。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月10日(2008.12.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウォームをウォームホイールに弾性力により押圧して予圧を与える予圧機構を備えたウォーム減速機に於いて、
ウォーム支持部のブッシュの内径に、突起部が設けてあり、当該突起部の剛性と前記予圧機構の弾性力で前記ウォームのリフトの抑制を行うことを特徴とするウォーム減速機。
【請求項２】
前記ブッシュの突起部は、任意の形状であり、その数量も複数でも可とすることを特徴とする請求項１に記載のウォーム減速機。
【請求項３】
ステアリングホイールに印加された操舵トルクを、トルクセンサーにより検知し、この検知した操舵トルクに対応して電動モータから補助操舵トルクを発生してウォーム減速機により減速し、操舵機構の出力軸に伝達する電動パワーステアリング装置において、
前記ウォーム減速機は、ウォームをウォームホイールに弾性力により押圧して予圧を与える予圧機構を備え、
ウォーム支持部のブッシュの内径に、突起部が設けてあり、当該突起部の剛性と前記予圧機構の弾性力で前記ウォームのリフトの抑制を行うことを特徴とする電動パワーステアリング装置。
【請求項４】
前記ブッシュの突起部は、任意の形状であり、その数量も複数でも可とすることを特徴とする請求項３に記載の電動パワーステアリング装置。
【請求項５】
前記ウォーム支持部のブッシュと前記予圧機構のウォーム予圧部とが前記ウォームの軸方向における異なる位置にそれぞれ配置されていることを特徴とする請求項１または２に記載のウォーム減速機。
【請求項６】
前記ウォーム支持部のブッシュと前記予圧機構のウォーム予圧部とが前記ウォームの軸方向における異なる位置にそれぞれ配置されていることを特徴とする請求項３または４に記載の電動パワーステアリング装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月6日(2009.11.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
窒化ホウ素粉末を含む窒化ホウ素組成物であって、前記窒化ホウ素粉末の表面が、シラン、シロキサン、カルボン酸誘導体、及びその混合物の少なくとも１つを含む少なくともオーバーコーティング層で処理されており、前記オーバーコーティング層が、少なくとも反応性のある１つの官能基を有し、前記オーバーコーティングコーティング層が、前記窒化ホウ素の表面の少なくとも２％に付着することを特徴とする窒化ホウ素組成物。
【請求項２】
前記窒化ホウ素粉末が、オーバーコーティング層で処理される前に焼成工程で処理され、前記窒化ホウ素粉末が、２００から１０００°Ｃの間の温度の酸化環境で０．５〜２４時間焼成されることを特徴とする請求項１に記載の窒化ホウ素組成物。
【請求項３】
前記窒化ホウ素粉末が、オーバーコーティング層で処理される前に少なくとも２％の酸素濃度で焼成されることを特徴とする請求項１〜請求項２の何れかに記載の窒化ホウ素組成物。
【請求項４】
前記窒化ホウ素粉末は、オーバーコーティング層で処理される前に、前記オーバーコーティング層の少なくとも１つの官能基と反応する少なくとも1つの官能基を含む複数の反応部位を前記窒化ホウ素表面が有するように処理されることを特徴とする請求項１〜請求項３の何れかに記載の窒化ホウ素組成物。
【請求項５】
前記窒化ホウ素粉末は、オーバーコーティング層で処理される前に、前記最終コーティン層の官能基に反応する少なくとも１つに反応する官能基を含む複数の反応部位を前記表面が有するように、前記窒化ホウ素粉末を少なくとも１つの無機又は有機金属化合物でコーティングすることにより処理されることを特徴とする請求項１〜請求項４の何れかに記載の窒化ホウ素組成物。
【請求項６】
前記窒化ホウ素粉末が、オーバーコーティング層で処理される前に、耐火金属酸化物及び水酸化物の群から選択される無機化合物の０．５〜約１０重量％でコーティングすることにより処理されることを特徴とする請求項１〜請求項５の何れかに記載の窒化ホウ素組成物。
【請求項７】
前記窒化ホウ素粉末が、オーバーコーティング層で処理される前に、酢酸ニッケル、硫酸ニッケル、硝酸ニッケル、酢酸銅、硫酸銅、硝酸銅、酢酸亜鉛、硫酸亜鉛、硝酸亜鉛、酢酸ストロンチウム、硫酸ストロンチウム、硝酸ストロンチウム、硫酸アルミニウム、アルミニウムプロポキシド、ケイ酸アルミニウム、アルミン酸ナトリウム、酢酸アルミニウム及びその混合物の少なくとも１つでコーティングすることにより処理されることを特徴とする請求項１〜請求項６の何れかに記載の窒化ホウ素組成物。
【請求項８】
前記窒化ホウ素粉末が、オーバーコーティング層で処理される前に、２０〜１００μｍの範囲の平均粒径を有するコロイド状シリカを含む組成物でコーティングすることにより処理されることを特徴とする請求項１〜請求項７の何れかに記載の窒化ホウ素組成物。
【請求項９】
前記窒化ホウ素粉末が、オーバーコーティング層で処理される前に、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノオレエート（ｍｏｎｏｌｅａｔｅ）、ソルビタンモノパルミテート（ｍｏｎｏｐａｌｍａｔｅ）、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート（ｍｏｎｏｐａｌｍａｔｅ）、ポリオキシエチレンソルビタントリステアレート、及びその混合物の少なくとも１つを含む組成物でコーティングすることにより処理されることを特徴とする請求項１〜請求項８の何れかに記載の窒化ホウ素組成物。
【請求項１０】
前記オーバーコーティング層が、ポリパラヒドロキシ安息香酸；ウンデシルオキシ安息香酸；機能化シラン、ジシラン、トリシラン、オリゴマーシラン、ポリマーシラン、及びその組み合わせの群から選択された化合物の１つを含むことを特徴とする請求項１〜請求項９の何れかに記載の窒化ホウ素組成物。
【請求項１１】
前記窒化ホウ素粉末が、少なくとも１０μｍの平均粒径の小板を含むことを特徴とする請求項１〜請求項１０の何れかに記載の窒化ホウ素組成物。
【請求項１２】
前記窒化ホウ素粉末が、結合剤により互いに結合された後スプレー乾燥された不規則な非球状粒子の球形凝集塊を含むことを特徴とする請求項１〜請求項１１の何れかに記載の窒化ホウ素組成物。
【請求項１３】
前記窒化ホウ素粉末が、約５０〜約３００のアスペクト比の六方晶系窒化ホウ素小板を含むことを特徴とする請求項１〜請求項１２の何れかに記載の窒化ホウ素組成物。
【請求項１４】
溶融加工可能ポリマー、ポリエステル、フェノール、シリコーンポリマー、アクリル、ワックス、熱可塑ポリマー、低分子量流体、及びエポキシ成形化合物、並びにその混合物の群から選択されるポリマーマトリクスと、窒化ホウ素の粒子を含む充填剤材料とを含むポリマー複合体であって、前記窒化ホウ素の表面が、シラン、シロキサン、カルボン酸誘導体、及びその混合物の少なくとも１つを含むコーティング化合物で少なくとも処理され、前記コーティング化合物が、前記窒化ホウ素の表面の少なくとも１０％に付着することを特徴とするポリマー複合体。
【請求項１５】
窒化ホウ素粉末を生成するための方法であって、
複数の反応部位を前記窒化ホウ素表面の少なくとも一部に導入する段階と、
シラン、シロキサン、カルボン酸誘導体、及びその混合物の少なくとも１つから選択される少なくとも反応性官能基を有する化合物を含むコーティング層で前記窒化ホウ素をコーティングする段階と、
を含み、
前記コーティング層が、前記窒化ホウ素表面の少なくとも１０％に付着し、
前記反応部位が、
ａ）前記窒化ホウ素を２００から１０００°Ｃの間の温度の酸化環境で０．５〜２４時間焼成する段階、
ｂ）前記窒化ホウ素粉末の酸素濃度が少なくとも２％になるのに十分な温度で十分な時間前記窒化ホウ素を焼成する段階、及び、
ｃ）前記窒化ホウ素粉末を少なくとも無機化合物、有機金属化合物、又は金属化合物でコーティングし、このコーティングホウ素粉末を前記無機化合物、前記有機金属又は前記金属化合物が、アルミナ、シリカ、ジルコニア、ボリア、チタニア、セリア、ゲルマニア、酸化タンタル、セシア、イットリア、マグネシア、トリア、及びその混合物の少なくとも１つに変換するのに十分な温度まで加熱する段階、
の少なくとも１つにより前記窒化ホウ素表面の少なくとも一部に導入されることを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年8月17日(2009.8.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】画像形成装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】  
【請求項１】
複数の感光体それぞれに静電潜像を形成し、前記静電潜像をそれぞれ異なる色のトナーで現像する複数の画像形成手段と、
前記複数の感光体それぞれに形成されるトナー像を中間転写体に転写する第１の転写手段と、
前記中間転写体上の前記トナー像を記録媒体に転写する第２の転写手段と、
前記画像形成手段、前記第１の転写手段、および前記第２の転写手段により実行される画像形成プロセスのプロセススピードを制御する制御手段と、
前記画像形成手段によって前記複数の感光体それぞれに形成され、前記第１の転写手段によって前記中間転写体上に転写される所定のパターンを検出する検出手段と、
前記検出手段の検出結果に基づいて前記複数の画像形成手段それぞれが前記複数の感光体それぞれに前記静電潜像を形成するタイミングを調整する画像合せ手段と、を有し、
前記制御手段は、前記所定のパターンを形成する場合のプロセススピードを複数色のトナーで前記記録媒体に画像を形成する場合のプロセススピードよりも速くすることを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
複数の感光体それぞれに静電潜像を形成し、前記静電潜像をそれぞれ異なる色のトナーで現像を形成する複数の画像形成手段と、
記録媒体を搬送する搬送ベルトと、
前記搬送ベルトによって搬送される前記記録媒体上または前記搬送ベルト上に前記複数の感光体それぞれに形成されるトナー像を転写する転写手段と、
前記画像形成手段および前記転写手段により実行される画像形成プロセスのプロセススピードを制御する制御手段と、
前記画像形成手段によって前記複数の感光体それぞれに形成され、前記転写手段によって前記搬送ベルト上に転写される所定のパターンを検出する検出手段と、
前記検出手段の検出結果に基づいて前記複数の画像形成手段それぞれが前記複数の感光体それぞれに前記静電潜像を形成するタイミングを調整する画像合せ手段と、を有し、
前記制御手段は、前記所定のパターンを形成する場合のプロセススピードを複数色のトナーで前記記録媒体に画像を形成する場合のプロセススピードよりも速くすることを特徴とする画像形成装置。
【請求項３】
前記制御手段は、１色のトナーで前記記録媒体に画像を形成する場合の前記プロセススピードが前記複数色のトナーで前記記録媒体に画像形成する場合のプロセススピードよりも速くなるように、前記画像形成手段と前記第１の転写手段と前記第２の転写手段とを制御し、
前記制御手段は、前記１色のトナーで画像を形成する場合のプロセススピードで前記所定のパターンが形成されるように前記画像形成手段および前記第１の転写手段を制御することを特徴とする請求項１記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記制御手段は、１色のトナーで前記記録媒体に画像を形成する場合の前記プロセススピードが前記複数色のトナーで前記記録媒体に画像形成する場合のプロセススピードよりも速くなるように、前記画像形成手段および前記転写手段を制御し、
前記制御手段は、前記１色のトナーで画像を形成する場合のプロセススピードで前記所定のパターンが形成されるように前記画像形成手段および前記転写手段を制御することを特徴とする請求項２に記載の画像形成装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、複数の感光体それぞれに静電潜像を形成し、該形成された静電潜像をそれぞれ異なる色のトナーで現像した画像を搬送される記録媒体に転写してカラー画像を形成することが可能な画像形成装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明は、上記の課題を解決するためになされたもので、本発明の目的は、各感光体で形成されるそれぞれの色画像の重ね合わせ状態をチェックするための時間を短縮できる仕組みを提供することである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る画像形成装置は、以下の特徴的構成を備える。
複数の感光体それぞれに静電潜像を形成し、前記静電潜像をそれぞれ異なる色のトナーで現像する複数の画像形成手段と、前記複数の感光体それぞれに形成されるトナー像を中間転写体に転写する第１の転写手段と、前記中間転写体上の前記トナー像を記録媒体に転写する第２の転写手段と、前記画像形成手段、前記第１の転写手段、および前記第２の転写手段により実行される画像形成プロセスのプロセススピードを制御する制御手段と、前記画像形成手段によって前記複数の感光体それぞれに形成され、前記第１の転写手段によって前記中間転写体上に転写される所定のパターンを検出する検出手段と、前記検出手段の検出結果に基づいて前記複数の画像形成手段それぞれが前記複数の感光体それぞれに前記静電潜像を形成するタイミングを調整する画像合せ手段と、を有し、前記制御手段は、前記所定のパターンを形成する場合のプロセススピードを複数色のトナーで前記記録媒体に画像を形成する場合のプロセススピードよりも速くすることを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１９】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、各感光体で形成されるそれぞれの色画像の重ね合わせ状態をチェックするための時間を短縮できる。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月29日(2009.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
動画像を構成するピクチャ間で動き補償をブロック単位で行う動き補償装置であって、
参照ピクチャを記憶するピクチャメモリから独立して存在し、前記ピクチャメモリから転送される、前記参照ピクチャのうちの一部の領域の参照画素データを記憶する局所メモリと、
前記ピクチャメモリに記憶されている前記参照ピクチャの中から、複数の前記ブロックの動き補償で必要とされる参照領域を含む転送領域を、前記一部の領域として特定する領域特定手段と、
前記ピクチャメモリに記憶されている前記参照ピクチャのうち、前記領域特定手段によって特定された前記転送領域の参照画素データを前記ピクチャメモリから前記局所メモリへ転送する参照画素転送手段と、
前記局所メモリに記憶されている前記転送領域に含まれる前記参照領域の参照画素データを用いて、複数の前記ブロックの動き補償を行う動き補償手段と
を備えることを特徴とする動き補償装置。
【請求項２】
前記参照画素転送手段は、前記転送領域の画素数に基づいて前記転送領域を一括で転送するか、または前記ブロック毎に転送するかを切り替える
ことを特徴とする請求項１記載の動き補償装置。
【請求項３】
前記参照画素転送手段は、前記転送領域の画素数が所定の閾値を超えない場合には、前記転送領域の参照画素データを一括で転送し、前記転送領域の画素数が所定の閾値を超える場合には、前記転送領域の参照画素データを前記ブロック毎に転送する
ことを特徴とする請求項２記載の動き補償装置。
【請求項４】
前記参照画素転送手段は、前記所定の閾値として、前記ブロックの一つにおいて動き補償で必要とされる参照領域に、前記ピクチャメモリと前記局所メモリとの間の転送単位の制限によって動き補償では必要ないが同時に転送される不要領域を加えた領域の画素数を、一括で処理する候補となっている複数の前記ブロックについて総和した値以上の値を用いる
ことを特徴とする請求項３記載の動き補償装置。
【請求項５】
前記参照画素転送手段は、複数の前記ブロックが同じ参照ピクチャを参照するか否かを判定し、同じ参照ピクチャを参照しない場合には、前記転送領域の参照画素データを前記ブロック毎に転送する
ことを特徴とする請求項１記載の動き補償装置。
【請求項６】
前記領域特定手段は、複数の前記ブロックに対応する動きベクトル、ブロックサイズ、および小数精度画素生成方法の少なくとも１つに基づいて、前記転送領域を一括で転送するか、または前記ブロックごとに転送するかを切り替える
ことを特徴とする請求項１記載の動き補償装置。
【請求項７】
前記領域特定手段は、複数の前記ブロックに対応する参照ピクチャと動きベクトルのベクトル値がそれぞれ同じであるかどうかに基づいて、
参照ピクチャと動きベクトルのベクトル値がそれぞれ同じ場合は前記ブロックごとの転送を行わず、複数のブロックを一括して転送する判断を行う
ことを特徴とする請求項１記載の動き補償装置。
【請求項８】
前記領域特定手段は、前記転送領域を少なくとも１つの矩形領域として特定する
ことを特徴とする請求項１記載の動き補償装置。
【請求項９】
前記局所メモリは、前記ピクチャメモリから転送された前記転送領域に含まれる前記参照領域の参照画素データのみを記憶する
ことを特徴とする請求項１記載の動き補償装置。
【請求項１０】
前記参照画素転送手段は、前記転送領域の中で前記参照領域を含む、前記ピクチャメモリと前記局所メモリとの間の転送単位のみを実転送する
ことを特徴とする請求項１記載の動き補償装置。
【請求項１１】
前記動き補償手段は、さらに、前記局所メモリに記憶されている前記参照画素データを用いて小数精度画素データ生成のためのフィルタ演算を行う
ことを特徴とする請求項１記載の動き補償装置。
【請求項１２】
前記動き補償手段は、前記局所メモリに記憶されている前記参照画素データに対して、前記転送領域毎に一括で前記フィルタ演算を行う
ことを特徴とする請求項１１記載の動き補償装置。
【請求項１３】
前記動き補償手段は、前記局所メモリに記憶されている前記参照画素データに対して、いずれかの前記ブロックで小数画素精度の動き補償が必要とされるフィルタ必要領域に関してのみフィルタ演算を行う
ことを特徴とする請求項１２記載の動き補償装置。
【請求項１４】
前記動き補償装置は、さらに、
前記ピクチャメモリと前記局所メモリとの間に小数精度画素データ生成のためのフィルタ演算の一部を行う第１フィルタ演算手段を備え、
前記動き補償手段は、前記第１フィルタ演算手段でフィルタ演算を行わない残りのフィルタ演算を行う
ことを特徴とする請求項１１記載の動き補償装置。
【請求項１５】
動画像を構成するピクチャ間で動き補償をブロック単位で行う動き補償方法であって、
ピクチャメモリに記憶されている参照ピクチャの中から、複数の前記ブロックの動き補償で必要とされる参照領域を含む転送領域を、前記参照ピクチャの一部の領域として特定する領域特定ステップと、
前記ピクチャメモリに記憶されている前記参照ピクチャのうちの前記一部の領域である、前記領域特定ステップにおいて特定された前記転送領域の参照画素データを、前記ピクチャメモリから、前記ピクチャメモリから独立して存在する局所メモリへ転送する参照画素転送ステップと、
前記局所メモリに記憶されている前記転送領域に含まれる前記参照領域の参照画素データを用いて、複数の前記ブロックの動き補償を行う動き補償ステップと
を含むことを特徴とする動き補償方法。
【請求項１６】
動画像を構成するピクチャ間で動き補償をブロック単位で行うための集積回路であって、
参照ピクチャを記憶するピクチャメモリから独立して存在し、前記ピクチャメモリから転送される、前記参照ピクチャのうちの一部の領域の参照画素データを記憶する局所メモリと、
前記ピクチャメモリに記憶されている前記参照ピクチャの中から、複数の前記ブロックの動き補償で必要とされる参照領域を含む転送領域を、前記一部の領域として特定する領域特定手段と、
前記ピクチャメモリに記憶されている前記参照ピクチャのうち、前記領域特定手段によって特定された前記転送領域の参照画素データを前記ピクチャメモリから前記局所メモリへ転送する参照画素転送手段と、
前記局所メモリに記憶されている前記転送領域に含まれる前記参照領域の参照画素データを用いて、複数の前記ブロックの動き補償を行う動き補償手段と
を備えることを特徴とする集積回路。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月12日(2009.3.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技機の所定位置に設けられた端子基板装着部に複数の端子基板が装着された遊技機であって、
前記端子基板装着部は、前記複数の端子基板が階段状に装着可能な前後複数の装着部を有する階段状装着部によって構成され、
前記前後の装着部のうち、手前の装着部は、同手前の装着部に装着される端子基板が奥の装着部に向けてはみ出すことがない広さの装着面を有し、
前記前後の装着部の間の段差部は、前記奥の装着部に装着される端子基板上の各種の部材を含む同端子基板の実質的な高さ寸法よりも大きい段差寸法に設定されていることを特徴とする遊技機。
【請求項２】
請求項１に記載の遊技機であって、
階段状装着部は、遊技機の遊技盤の後側に設けられかつ球タンク、タンクレール等が装着される機構装着部の上隅部近傍に一体状に形成されていることを特徴とする遊技機。
【請求項３】
請求項１に記載の遊技機であって、
階段状装着部は、遊技機の遊技盤の後側に設けられかつ球タンク、タンクレール等が装着される遊技機。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の遊技機であって、
階段状装着部は、遊技機の遊技盤の後側に設けられかつ球タンク、タンクレール等が装着される機構装着部に一体状に形成され、
前記機構装着部は、前記遊技盤が着脱可能に装着される遊技盤装着枠を有する合成樹脂製の本体枠と一体に形成されていることを特徴とする遊技機。
【請求項５】
請求項１〜４に記載の遊技機であって、
階段状装着部は、その上段と下段に略垂直方向に延びる垂直装着部をそれぞれ有し、これら上段と下段の垂直装着部に端子基板がそれぞれ装着されていることを特徴とする遊技機。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の遊技機であって、
階段状装着部は、その上段の垂直装着部が遊技機の遊技盤の後側に接近して設けられ、  下段の垂直装着部は、上段の棚部に相当する分だけ前記遊技盤の後側に離隔して設けられ、
前記遊技盤の後側と前記下段の垂直装着部との間には空間部が形成されていることを特徴とする遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月12日(2009.3.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技盤装着枠に遊技盤が装着される遊技機の後上部に、多数の球が貯留可能な容積をもつ球タンクと、その球タンクに連通するタンクレールが装着された遊技機であって、
前記球タンクは、上方に開口する横長方形の箱形状に形成され、
前記球タンクの底面の長手方向の一端寄り部分に、島設備の球供給路から球が供給される供給領域が設定され、
前記球タンクの底面には、前記供給領域から遠ざかる一角部又はその近傍に位置しかつタンクレールに向けて球を放出する放出口が形成され、
前記球タンクの底面には、前記放出口近傍の角部と対角部をなす近傍から放出口に向かう斜めの線を境界谷部とし、かつ前記底面の周縁部から前記境界谷部に向けて下傾するとともに、対角部側が高く放出口側が低い傾斜状をなす第１、第２の傾斜面が形成され、
前記第１、第２の傾斜面のうち、前記供給領域の中心部が存在する一方の傾斜面には、前記放出口と前記供給領域との間に位置しかつ前記球タンクの壁部から前記境界谷部近傍にわたって突出体が設けられ、
前記突出体には、前記供給領域側に指向して起立しかつ球を受け止めてその球を前記境界谷部の方向に誘導する立壁状の当接面が形成されていることを特徴とする遊技機。
【請求項２】
請求項１に記載の遊技機であって、
球タンクの底面に形成される放出口は、前記底面の後角部に配置され、
タンクレールの後壁は、前記球タンクの後壁と略同一面をなし、同タンクレールの前壁と遊技盤の後面との間に空間部が設けられていることを特徴とする遊技機。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の遊技機であって、
球タンクの放出口側に位置する部分において、タンクレールの後壁の上端が球タンクの後壁の下端に当接又は近接して配置されていることを特徴とする遊技機。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の遊技機であって、
突出体は、供給領域側が低く、放出口側が高い階段状に形成され、
前記突出体の下段及び上段の立壁部には球を境界谷部の方向に誘導する下段当接面と上段当接面とが形成され、
前記下段当接面と上段当接面は、球の半径寸法よりも大きい高さ寸法を有していることを特徴とする遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月5日(2009.11.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像劣化を抑えるように対象（２２）を走査する方法であって、
前記対象（２２）の長軸の走査方向に沿ったｚ軸方向に沿って配列されている複数の検出器アレイ（１８、１９）と、ビーム焦点スポットを有する放射線源（１４）とを有するマルチ・スライス計算機式断層写真法（ＣＴ）イメージング・システム（１０）を用いて、ヘリカル・モードで前記対象を走査するステップと、
各々のビュー毎に前記走査対象を通して個々の前記検出器アレイを選択的に優先して照射するために、前記走査するステップでｚ軸方向に前記放射線源の前記焦点スポットの揺動を制御するステップと、
データを収集している検出器アレイが選択的に照射されているときにのみ各々のビュー毎に各々の前記検出器アレイからデータを収集するステップと、
を備えた方法。
【請求項２】
前記揺動を制御するステップは、プリ・オブジェクト・コリメータを移動させるステップを含んでいる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記揺動を制御するステップは、前記放射線管焦点スポットを動的に制御するステップを含んでいる、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記対象（２２）は患者である、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
画像劣化を抑えるように対象（２２）を走査する方法であって、
前記対象（２２）の長軸の走査方向に沿ったｚ軸方向に沿って配列されている複数の検出器アレイ（１８、１９）と、ビーム焦点スポットを有する放射線源（１４）とを有するマルチ・スライス計算機式断層写真法（ＣＴ）イメージング・システム（１０）を用いて、ヘリカル・モードで前記対象を走査するステップと、
各々のビュー毎に前記走査対象を通して個々の前記検出器アレイを選択的に優先して照射するために、前記走査するステップでｚ軸方向に前記放射線源の前記焦点スポットの揺動を制御するステップと、
個々の前記検出器アレイが選択的に優先して照射される位置と位置との間を前記焦点スポットが揺動しているときには前記放射線源がオフになるように前記放射線源をパルス駆動するステップと、
データを収集している検出器アレイが選択的に照射されているときにのみ各々のビュー毎に各々の前記検出器アレイからデータを収集するステップと、
を備えた方法。
【請求項６】
回転式ガントリ（１２）に設けられておりビーム焦点スポットを有する放射線源（１４）と、
ｚ軸に沿って配列されており撮像対象（２２）を透過した前記放射線源からの放射線を検出するように構成されており、前記ｚ軸が撮像対象（２２）の長軸の走査方向に沿っている複数の検出器アレイ（１８、１９）と、
を備えた計算機式断層写真法（ＣＴ）撮像装置であって、
ヘリカル・モードで対象を走査し、
各々のビュー毎に前記走査対象を通して個々の前記検出器アレイを選択的に優先して照射するために、前記走査するときにｚ軸方向に前記放射線源の前記焦点スポットの揺動を制御し、
データを収集している検出器アレイが選択的に照射されているときにのみ各々のビュー毎に各々の前記検出器アレイからデータを収集する
ように構成されている計算機式断層写真法（ＣＴ）撮像装置。
【請求項７】
可動式プリ・オブジェクト・コリメータをさらに含んでおり、前記放射線源（１４）の前記焦点スポットを揺動させるために、前記プリ・オブジェクト・コリメータを移動させるように構成されている請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記放射線源（１４）の前記焦点スポットを揺動させるために、前記放射線源焦点スポットを動的に制御するようにさらに構成されている請求項６に記載の装置。
【請求項９】
前記放射線源（１４）と前記検出器アレイ（１８、１９）との間で患者（２２）を支持するように構成されている可動式テーブル（４６）をさらに含んでいる請求項６に記載の装置。
【請求項１０】
回転式ガントリ（１２）に設けられておりビーム焦点スポットを有する放射線源（１４）と、
ｚ軸に沿って配列されており撮像対象（２２）を透過した前記放射線源からの放射線を検出するように構成されており、前記ｚ軸が撮像対象（２２）の長軸の走査方向に沿っている複数の検出器アレイ（１８、１９）と、
を備えた計算機式断層写真法（ＣＴ）撮像装置であって、
ヘリカル・モードで対象を走査し、
各々のビュー毎に前記走査対象を通して個々の前記検出器アレイを選択的に優先して照射するために、前記走査するときにｚ軸方向に前記放射線源の前記焦点スポットの揺動を制御し、
前記検出器アレイの各々が選択的に優先して照射される位置と位置との間を前記焦点スポットが揺動しているときには前記放射線源がオフになるように前記放射線源をパルス駆動して、
データを収集している検出器アレイが選択的に照射されているときにのみ各々のビュー毎に各々の前記検出器アレイからデータを収集する
ように構成されている計算機式断層写真法（ＣＴ）撮像装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月23日(2009.4.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レンズアレイが配設された長尺のカバーと、
複数の発光素子が実装されたＬＥＤ基板と、
該ＬＥＤ基板が配設された長尺のベースとを有し、
前記カバーが、前記レンズアレイと前記ＬＥＤ基板が対向するように前記ベースに固定されたＬＥＤプリントヘッドにおいて、
前記ベースは樹脂からなり、
前記ＬＥＤ基板が、前記ベースと一体的に成形されたことを特徴とするＬＥＤプリントヘッド
【請求項２】
前記ベースは、さらに長尺の剛体が一体的に成形された請求項１に記載のＬＥＤプリントヘッド
【請求項３】
前記剛体が金属である請求項２に記載のＬＥＤプリントヘッド
【請求項４】
前記ＬＥＤ基板と前記剛体が接触した請求項２または請求項３に記載のＬＥＤプリントヘッド
【請求項５】
ＬＥＤ基板と樹脂からなる長尺のベースとを一体的に成形し、
該ベースの長手方向の端面を基準として、前記ＬＥＤ基板に複数の発光素子を配設し、
レンズアレイを配設した長尺のカバーを、前記ベースの前記端面を基準として、前記ベースに固定したことを特徴とするＬＥＤプリントヘッドの製造方法
【請求項６】
前記ベースは、前記ＬＥＤ基板と、該ＬＥＤ基板に接する長尺の剛体とを一体的に成形した請求項５に記載のＬＥＤプリントヘッドの製造方法