(57)【要約】【課題】カラーフィルタの欠陥を検出する検査機による搬送コロに起因する裏面汚れの欠陥の検出と、コロ裏面汚れを発生する搬送コロを特定することで、搬送コロによる欠陥発生時、迅速な対応が可能となり、当該装置及び搬送コロを早期復旧し、欠陥製品による損害、復帰のための人数と工数を削減すること。【解決手段】予め処理装置毎に搬送コロの配置位置を装置座標上に登録する手段と、予め配置位置の座標をガラス基板上の基板座標上に変換して登録する手段と、カラーフィルタガラス基板から欠陥の特異点抽出し、コロ裏面汚れと判定する手段と、コロ裏面汚れの欠陥座標と搬送コロの基板座標上の位置座標とを照合する手段と、座標値の一致とコロ裏面汚れの欠陥特徴より処理装置及び搬送コロを特定する手段とを含む手段の構成によりコロ裏面汚れの発生位置からその欠陥起因となる処理装置および搬送コロを特定する検査機によるコロ裏面汚れ判定方法。【選択図】図１
2008267993.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
種々の処理装置によりパターンを形成した基板の欠陥を検出する検査機により特定欠陥の発生位置からその欠陥起因となる処理装置の部位を特定する検査機による特定欠陥判定方法であって、
予め、処理装置毎に部位の配置位置を基板上の基板座標上に登録する手段と、
パターン形成基板から検出したパターンの形状差である特異点抽出し、その特異点により特定の欠陥と判定する手段と、
検出した特定の欠陥の欠陥座標と前記登録した位置座標とを照合する手段と、
座標値の一致とその欠陥特徴より処理装置及び部位を特定する手段と、
を含む手段の構成により処理装置の部位を特定することを特徴とする検査機による特定欠陥判定方法。
【請求項２】
処理装置によりカラーフィルタのパターンを形成したガラス基板の欠陥を検出する検査機によるコロ裏面汚れ判定方法であって、
予め、処理装置毎に搬送コロの配置位置を装置座標上に登録する手段と、
予め、配置位置の座標をガラス基板上の基板座標上に変換して登録する手段と、
パターン形成ガラス基板から検出した欠陥の特異点抽出し、コロ裏面汚れの欠陥と判定する手段と、
コロ裏面汚れの欠陥座標と前記登録した搬送コロの基板座標上の位置座標とを照合する手段と、
座標値の一致とコロ裏面汚れの欠陥特徴より処理装置及び搬送コロを特定する手段と、
を含む手段の構成によりコロ裏面汚れの欠陥の発生位置からそのコロ裏面汚れの欠陥起因となる処理装置および搬送コロを特定することを特徴とする検査機によるコロ裏面汚れ判定方法。
【請求項３】
前記搬送コロの装置座標上の配置位置及び装置座標上の配置位置をガラス基板のサイズ毎の基板座標上の配置位置へ変換する変換式と、ガラス基板のサイズ毎に搬送コロの基板座標上の配置位置をデータベースとして登録することを特徴とする請求項２記載の検査機によるコロ裏面汚れ判定方法。
【請求項４】
前記コロ裏面汚れの欠陥は、欠陥の形状の大小を問わず、検出した欠陥数およびその欠陥座標とその配列との特異点を抽出して判定することを特徴とする請求項２、または３記載の検査機によるコロ裏面汚れ判定方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パターン形成基板上の欠陥の発生位置からその欠陥起因となる処理装置の部位を特定する判定方法及び検査機による特定欠陥判定方法であり、特にカラーフィルタの製造時の検査機によるコロ裏面汚れ判定方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶表示装置の関連製品、例えばカラーフィルタの製造では、複数の処理装置間を連結した生産ラインにより、枚葉のガラス基板が処理装置内及び処理装置間を自動搬送ラインにより搬送されながら生産されている。
【０００３】
例えば、従来のカラーフィルタを製造する生産ラインでは、ガラス基板上に種々のパターンを形成するために、遮光膜（ブラックマトリックス：ＢＭ）の形成処理装置、赤（Ｒ）画素形成処理装置、緑（Ｇ）画素形成処理装置、青（Ｂ）画素形成工処理装置、透明電極の形成処理装置、等のパターン形成工程の処理装置がある。各々パターン形成の方法は、フォトリソグラフィ法を用いた処理手段、例えば塗布処理手段、露光処理手段、現像処理手段のフォトプロセスを実施する各処理手段を配置した処理ラインを用いて行う方法である。
【０００４】
一般に、カラーフィルタの製造方法は、生産ラインを用いた製造方法であり、生産ラインの先頭で、ガラス基板をローダー（基板供給口）よりライン内へ投入し、生産ラインの後尾の、アンローダー（基板受取口）から基板をライン外へ搬出する。
【０００５】
生産ラインは、複数台の処理装置をライン連結した構成である。生産ラインは、処理手段の順番に直列に連結したインライン配列の製造の処理装置が配置されている。生産ラインは、フォトリソグラフィ法を用いた処理手段、例えばレジスト塗布処理手段、フォトマスクを介した露光処理手段、レジスト現像処理手段のフォトプロセスからなるラインである。生産ラインは、種々のパターンを形成するために、複数の処理ラインを配置しており、パターン形成が赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の繰り返し実施するように処理装置が配置されている。
【０００６】
生産ラインでは、ガラス基板は、カセットに収納されており、そのカセットから順番にライン内へ投入される。ラインでは、ガラス基板毎に一枚、一枚区分管理されており、逆にライン外では、集団、例えば１カセット若しくは１ロット単位に区分管理されている。そのため、カセット一個毎、若しくはガラス基板一枚毎にＩＤ番号が添付され、ガラス基板の材料からカラーフィルタの製品まで全てＩＤ番号で管理される。当該ガラス基板のＩＤ番号毎に生産履歴、品質履歴がデータベース化されており、そのデータ情報で、現状の生産進捗、在庫位置、等を含むトレイサビリィティ等の追跡が可能となる。
【０００７】
生産ラインは、複数の処理装置を備えた一連の長パスラインからなる構成であり、ローダー及びアンローダーは、自動倉庫に連結され、ガラス基板の投入及び搬出と、基板の一時保管等が自動化され、ライン管理されている。
【０００８】
図３は、従来の生産ラインの一例のパスライン上のガラス基板の搬送方法を説明する処理装置部分拡大図であり、（ａ）は、ライン上面図であり、（ｂ）はその正面断面図である。
【０００９】
図３（ａ）は、パスライン１１の上面図であり、搬送ラインの両側の架台１２上に搬送
用ロール１４が配置されている。搬送用ロール１４は、架台上に所定の間隔毎に配置され、架台の一方の駆動部１３の装置により基板搬送方向へ所定の回転速度で回転する。搬送ロール１４は、その幅方向に搬送コロ１５が付設されており、その搬送コロ１５の間隔は、所定の間隔に付設されている。ガラス基板１は、パスライン１１の中央を搬送されており、基板搬送方向は図上側から下側方向（図面上矢印の方向）に一定速度でライン上を自動搬送されている。搬送ロール１４の配置は、３０ｃｍから５０ｃｍ毎に設置され、その搬送コロ１５は、搬送ロール上の１０ｃｍから３０ｃｍ毎の付設されており、多数の搬送コロが基板搬送に複雑に関連している。
【００１０】
図３（ｂ）は、図３（ａ）のｙ−ｙ’での正面断面図であり、ガラス基板１は搬送ロール１４上の搬送コロ１５の頭部分と接触した状態であり、搬送時では、ガラス基板１は、各々の搬送コロ１５の上面に載置されたように、搬送コロの回転方向へ搬送されている。ガラス基板１は、パスライン１１上ではガラス基板の裏面が搬送コロの上部と接触するのみであり、通常、ガラス基板は処理装置との接触面を厳しく制限している。すなわち、ガラス基板は清浄に維持されながら、パスライン上を搬送されている。しかし処理装置、パスラインでは、経時劣化、例えば汚れ堆積等により装置部品が汚染され、例えば搬送コロ１５の上部（外周面）の汚染がガラス基板１の裏面汚染となる場合があり問題となる。搬送コロによるガラス基板の裏面汚染は、基板搬送方向に筋状に汚染される特徴があり、連続して汚染不良のガラス基板が発生する傾向がある。
【００１１】
図５は、搬送コロ１５による裏面汚染のガラス基板の一例である。図５のガラス基板１では、汚染跡のコロ裏面汚れ１６が基板の搬送方向に連続して発生している。搬送コロによるガラス裏面汚染（以下、コロ裏面汚れ１６と記す）は、その発生位置と、その汚れ形状に特徴があり、該特徴を抽出するコロ裏面汚れ１６と判定し、その不良区分は容易に分別できる。
【００１２】
図５に示すカラーフィルタは、ガラス基板１上のほぼ中央部にパターン形成領域２が配置されており、該領域内に整列して複数のカラーフィルタが形成、すなわち多面付け配置されている。コロ裏面汚れ１６は、搬送方向に直線状に発生する特徴がある。
【００１３】
現状では、搬送コロによるコロ裏面汚れ１６が発生した場合、検査機の欠陥検出結果の欠陥データ画像から搬送コロ起因の汚れ欠陥であることは容易に特定することができるが、その欠陥起因の搬送コロの特定は容易に、迅速にできないことが問題である。
【００１４】
発生起因の搬送コロを調べる、すなわち搬送コロの位置の特定では、各処理装置の各搬送コロの位置を確認後、基板座標上の位置を算出し、コロ裏面汚れの発生位置をひとつ一つ照合して、その一致した搬送コロを直接、目視確認する作業が必要となる。その作業時間の工数とその調査時間が増加し、複雑化する問題がある。
【００１５】
その対処方法では、検査機によるコロ裏面汚れが検出された後から、発生起因の搬送コロの特定まで人手で調査するため、その解決までに長時間となるために不良カラーフィルタの基板が発生する場合がある。また、調査をするための人数とその労力、労務時間を浪費する問題がある。
【００１６】
図４は、従来の生産ラインでの基板の裏面汚れ発生時のその対策処置の工程フローである。最初に、図４ａでは、検査機で欠陥を検出、搬送コロに起因するコロ裏面汚れと判定する。次いで、図４ｂでは、関連の処理装置の一時停止（図４ｂ１）か、または継続して稼動図４ｂ２）する。次いで、図４ｃでは、関連の搬送コロの配置位置を調査する。次いで、図４ｄでは、欠陥起因の搬送コロの部位を特定し、対応処置を実施する。次いで、図４ｅでは、復帰を確認後、一時停止を解除する。最後に、図４ｆでは、当該搬送コロから
の汚れがなくなったことを確認する。以上のａ〜ｆを実行することにより裏面汚れ発生時のその対策処置が終了する。発生起因の搬送コロの特定までの対処方法は、コロ裏面汚れの検出、次いで、起因の処理装置若しくは搬送コロの調査と、次いでその処理と、結果を再確認後のラインの再稼動と、複数の段階の方法で問題を解決する。その間、処理装置は停止し、平行する調査では、調査員とその費用が浪費されることとなる。
【００１７】
図６は、従来の検査装置および検査方法の一例を説明する概念図であり、（ａ）は、検査装置であり、（ｂ）は、検査方法を説明する画像の上面図である。
【００１８】
図６（ａ）は、検査機のステージ上に載置したガラス基板１の上下側に光源２３、例えば上方に反射用光源２３ａと下方に透過用光源２３ｂが配置され、基板の上方に撮像カメラ２４、例えば反射光撮像カメラ２４ａと透過光撮像カメラ２４ｂが配置されており、撮像カメラ２４は、画像処理部２２を経由して制御コンピュータ画面２１に接続されている。
【００１９】
図６（ｂ）は、撮像カメラ２４で撮影された撮像画像の部分拡大図である。画像は、整列して、左側よりＲ画像、Ｇ画像、Ｂ画像、Ｒ画像、Ｇ画像と配置され、検査では検査中Ｒ画像２６ａと、そのＲ画像に隣り合う隣接Ｒ画像２６ｂとを照合し、そのパターン形状の差を特異点として抽出し、その差を特異点として検出する方法である。前記方法は、公知技術である。
【００２０】
カラーフィルタの欠陥検査は、反射光検査と透過光検査が個別の行われ、各々の長所を組み合わせて用いて、画像処理部２２での画像データ処理法により、撮像画像からデータ画像のデジタルデータを作成する。前記データ画像により特異点の抽出と、隣接する画素の画像差を算出し、該差の形状の大小、形状の特徴、配列の特徴、欠陥領域の再グループ化等により、欠陥の特定及び欠陥種類区分を判定する。
【００２１】
図７は、従来の検査方法の一例を説明する上面図であり、（ａ）は、撮像画像であり、（ｂ）は、その欠陥データ画像である。
【００２２】
図７（ａ）は、ローカル座標系９（基板座標上）の撮像画像の欠陥４である。座標原点は（Ｏ）であり、ラインラインの幅方向にｙ座標、ガラス基板の進行方向がｘ座標となる。なお、座標原点（Ｏ）は、ガラス基板の特定位置に決められており、例えば、ガラス基板の左上の一コーナーで、斜線印を記載した。撮像カメラの撮像画像の欠陥４は、濃淡の連続した画像であり、濃淡の区分レベルが不安定であり、濃領域（画像）の淡領域との境界も不安定である。その対応には、公知の画像処理の特徴抽出を用いており、点、線、エッジ等抽出する所定の演算手段により１、または０のデジタルデータに変換し、この変換データ（以下データ画像データと記す）によるデータ画像を画面上に図形出力して、視認する。
【００２３】
図７（ｂ）は、ローカル座標系９（基板座標上）のデータ画像の欠陥５である。データ画像５は、ローカル座標系９（基板座標上）に配置されており、データ画像の欠陥は、ビット単位に１、若しくは０を持ち、すなわち１ピクセル毎の濃淡のデータである。図７（ｂ）では、撮像画像欠陥４ａは、データ画像では消去されており、図７（ｂ）では、欠陥に特定されていない。撮像画像欠陥４ｂは、データ画像では残されており、欠陥５ｂと特定されている。撮像画像欠陥４は、データ画像では残されており、図７（ｂ）では、４個の独立した欠陥が１つの欠陥にグループイン化され、データ画像の欠陥５と特定されている。各々欠陥は、必要な場合はグループイン化され、欠陥判定をより確実に特定できる効果がある。
【００２４】
図８は、従来の生産ラインの一例のパスラインとカラーフィルタとの位置関係を説明する説明図である。
【００２５】
図８の説明図では、図左端にパスライン基準線（Ｙ方向の）１０ｘを基準に、右側へ、フォトマスクのマスク基準線３０ｘ、その内側に基板基準線１ｘと基板上のパターン基準線２ｘがあり、各々基準線を原点として、治具や材料、例えばフォトマスクやガラス基板のセット位置が決められている。上記の約束ルールにより、パスライン基準線の座標、すなわちグローバル座標（装置座標）と基板基準線の座標、すなわちローカル座標（基板座標）への変換式が有効となる。上述したルールの効果は、処理装置の部位が欠陥要因となる場合、ガラス基板のサイズ毎には、必ず同じ位置に欠陥発生となる。
【００２６】
以下に公知文献を記す。
【特許文献１】特開２００４−２６４２１４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２７】
本発明の課題は、カラーフィルタの欠陥を検出する検査機による搬送コロに起因する裏面汚れの欠陥の検出と、そのコロ裏面汚れ欠陥を発生する搬送コロを特定することで、搬送コロによる欠陥の発生時、迅速な対応が可能となり、当該処理装置及び搬送コロを早期復旧し、欠陥製品による損害、復帰のための人数とその工数を削減することである。
【課題を解決するための手段】
【００２８】
本発明の請求項１に係る発明は、種々の処理装置によりパターンを形成した基板の欠陥を検出する検査機により特定欠陥の発生位置からその欠陥起因となる処理装置の部位を特定する検査機による特定欠陥判定方法であって、
予め、処理装置毎に部位の配置位置を基板上の基板座標上に登録する手段と、
パターン形成基板から検出したパターンの形状差である特異点抽出し、その特異点により特定の欠陥と判定する手段と、
検出した特定の欠陥の欠陥座標と前記登録した位置座標とを照合する手段と、
座標値の一致とその欠陥特徴より処理装置及び部位を特定する手段と、
を含む手段の構成により処理装置の部位を特定することを特徴とする検査機による特定欠陥判定方法である。
【００２９】
本発明の請求項２に係る発明は、処理装置によりカラーフィルタのパターンを形成したガラス基板の欠陥を検出する検査機によるコロ裏面汚れ判定方法であって、
予め、処理装置毎に搬送コロの配置位置を装置座標上に登録する手段と、
予め、配置位置の座標をガラス基板上の基板座標上に変換して登録する手段と、
パターン形成ガラス基板から検出した欠陥の特異点抽出し、コロ裏面汚れの欠陥と判定する手段と、
コロ裏面汚れの欠陥座標と前記登録した搬送コロの基板座標上の位置座標とを照合する手段と、
座標値の一致とコロ裏面汚れの欠陥特徴より処理装置及び搬送コロを特定する手段と、
を含む手段の構成によりコロ裏面汚れの欠陥の発生位置からそのコロ裏面汚れの欠陥起因となる処理装置および搬送コロを特定することを特徴とする検査機によるコロ裏面汚れ判定方法である。
【００３０】
本発明の請求項３に係る発明は、前記搬送コロの装置座標上の配置位置及び装置座標上の配置位置をガラス基板のサイズ毎の基板座標上の配置位置へ変換する変換式と、ガラス基板のサイズ毎に搬送コロの基板座標上の配置位置をデータベースとして登録することを
特徴とする請求項２記載の検査機によるコロ裏面汚れ判定方法である。
【００３１】
本発明の請求項４に係る発明は、前記コロ裏面汚れの欠陥は、欠陥の形状の大小を問わず、検出した欠陥数およびその欠陥座標とその配列との特異点を抽出して判定することを特徴とする請求項２、または３記載の検査機によるコロ裏面汚れ判定方法である。
【発明の効果】
【００３２】
本発明の検査機によるコロ裏面汚れ判定方法を用いれば、検査機による、コロ裏面汚れの欠陥の検出と、同時にその汚れ欠陥が発生した、欠陥起因となる処理装置と搬送コロの位置を特定することにより、調査に要する時間や調査の労力が不要となり、処理装置の停止も大幅に削減され、その処理装置の停止する問題を解消できる効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３３】
本発明の検査機によるコロ裏面汚れ判定方法を一実施形態に基づいて以下説明する。
【００３４】
図２は、本発明の検査機による裏面汚れ判定方法を説明するための、生産ラインの一例のパスラインとカラーフィルタとの位置関係を説明する上面図である。
【００３５】
図２（ａ）は、パスラインでの搬送ロール１４及び搬送コロ１５である。パスライン基準線１０ｘ上の座標原点（ＯＯ）を持つグローバル座標系１９を仮想して、そのグローバル座標系（装置座標系）のＫＸＹ（０，ｋｎ）では、図左側より搬送コロＫ１（０，ｋ１）と、搬送コロＫ２（０，ｋ２）と、搬送コロＫ３（０，ｋ３）と配置位置を登録する。その結果は、図２（ｂ）で表せる。
【００３６】
図２（ｂ）は、パスライン基準線１０ｘのグローバル座標系１９の搬送コロの位置座標である。搬送コロＫ１はｙ座標のｋ１の位置に、Ｋ２はｋ２、Ｋ３はｋ３と登録されている。
【００３７】
本発明では、搬送コロは、装置座標上の配置位置をデータベースへ登録する。次いで、装置座標上の配置位置は、ガラス基板のサイズ毎に基板座標上の配置位置へ変換する変換式をデータベースへ登録する。次いで、ガラス基板のサイズ毎に搬送コロの基板座標上の配置位置をデータベース登録する。前記データベースとして登録することにより、本発明の検査機では、欠陥位置と装置の配置位置との位置の照合が容易になり、検査機の多機能化が展開できる。
【００３８】
図２（ｃ）は、基板規準線１ｘ上に原点（Ｏ）を持つローカル座標系９の搬送コロの位置座標である。搬送コロＫ１は、ローカル座標系では削除されており、Ｋ２はｙ座標のＡｘｙ（０、ａ２）、すなわちａ２の位置に、Ｋ３はａ３と変換され登録されている。検査機の検査結果では、ａ２の近傍にデータ画像の欠陥５と、ａ３上には線状汚れのデータ画像１６ａが表示されている。前記データ画像の欠陥５は、形状面積が欠陥判定レベルを超えており、その特異点と品質データベースの照合によりパターン形成処理に起因する欠陥と特定され、前記線状汚れのデータ画像１６ａはその特異点と品質データベースの照合により処理装置の部位との接触等に起因すると特定されている。
【００３９】
ここでグローバル座標系１９とローカル座標系９の関係は、主従の関係であり、グローバル座標系１９の或る一部分のエリアに限定してローカル座標系９を仮想したものであり、ローカル座標の原点（Ｏ）をグローバル座標系の座標に置き換える方法、Ａｘｙ（０，０）をＫＸＹ（０，ｋｎ）と設定することで、Ａｘｙ（０，ａｎ）とＫＸＹ（０，ｋｎ）とを双方向に変換できる。この登録方法の場合、処理装置の部位をグローバル座標系１９上に登録すれば、ガラス基板のサイズ毎に容易に変換できる効果が期待できる。なお、以下の説明では、グローバル座標系は、装置座標系１９とし、ローカル座標は、基板座標系９と記す。
【００４０】
本発明の特定欠陥判定方法は、種々の処理装置によりパターン形成した基板の欠陥を検出する検査機による特定欠陥の発生位置から処理装置の部位を特定する方法である。その手段は、検査機が備えた検査手段に、機能を追加する手段を追加したものであり、手段（ａ）〜（ｅ）である。
【００４１】
最初に、機能を追加する手段（ａ）は、予め、処理装置毎に部位の配置位置を座標上に登録する手段である。配置位置に不安がある場合、配置位置に幅を設けることで不安を解決することもできる。
【００４２】
必要な場合で、（ｂ）は、予め、前記配置位置を基板上の基板座標上に変換し登録する手段を準備する。ガラス基板のサイズ毎に配置位置を登録することが好ましい。
【００４３】
次いで、（ｃ）は、検出した欠陥の特異点抽出し、特定の欠陥と判定する手段である。特異点の抽出は、蓄積された品質データベースを活用することが重要となる。
【００４４】
次いで、機能を追加する手段（ｄ）は、前記検出した特定欠陥の欠陥座標と前記登録した位置座標とを照合する手段である。
【００４５】
次いで、機能を追加する手段（ｅ）は、座標値の一致とその欠陥特徴より処理装置及び部位を特定する手段と、以上の手段を含む構成により処理装置の部位を特定することを特徴とする本発明の検査機による特定欠陥判定方法である。
【００４６】
図１を用いて本発明の検査機によるコロ裏面汚れ判定方法の実施例を以下に説明する。
【００４７】
図１は、本発明の検査機によるコロ裏面汚れ判定方法の一実施例を説明する説明図である。図１（ａ）の表は、搬送コロの装置座標１９上の座標値である。表の縦方向に、搬送コロのＩＤ番号、１、２、〜ｎと、横方向には処理装置のＩＤ番号、例えば処理装置Ｋの搬送コロＫ１、Ｋ２、〜Ｋｎと、処理装置Ｌの搬送コロＬ１、Ｌ２、〜Ｌｎが表示され、各々配置した位置座標が登録されている。
【００４８】
図１（ｂ）は、搬送コロの装置座標上の配置図である。座標グラフでは、左側より、Ｌ１、Ｋ１、Ｋ２とＬ２、Ｋ３、Ｌ３が図示されている。
【００４９】
図１（ｃ）は、搬送コロの基板座標上の配置図である。このガラス基板サイズでは、Ｋ１、Ｋ２とＬ２、Ｋ３、Ｌ３が関連の搬送コロであり、図１（ｃ）の座標グラフでは、図左側より、ａ１、ａ２とｂ２、ａ３、ｂ３が表示されている。例えばａ２とｂ２上のコロ裏面汚れが検出された場合、検査機の結果出力は、搬送コロが処理装置ＫのＫ２と、ＬのＬ２となり、作業員は、２箇所の搬送コロを調べることとなる。図１（ｃ）では、ａ２とｂ２の近傍にデータ画像の欠陥５が検出され、ｂ３上にコロ裏面汚れ１６と判定されている。
【００５０】
本発明では、前記コロ裏面汚れの欠陥は、欠陥の形状の大小を問わず、検出した欠陥数を抽出し、その数の密集度を特異点とすることや、その欠陥座標とその配列、その方向を特異点として判定することを特徴とする検査機によるコロ裏面汚れ判定方法である。カラーフィルタ等の生産ラインでは、発生する品質の不具合とその不具合を予防する品質管理の活動が重要な課題である。その結果、検査機より検出した品質不具合の特異点とその発生起因との関連性がデータベース化されている。欠陥と装置起因との関連性のノウハウが蓄積されており、その起因先の部位の特定する場合、そのノウハウを活用することで自動化が加速する。
【実施例１】
【００５１】
実施例１では、予め、コロ裏面汚れが検出されたカラーフィルタを１枚準備し実施例１のカラーフィルタのガラス基板（以下実施例１のガラス基板と記す）とした。
【００５２】
次いで、実施例１のガラス基板のかかわる処理装置を調査し、処理装置Ｋ、処理装置Ｌを選別し、各々の搬送コロの配置位置をリストアップした。図１（ａ）の表に示す搬送コロの装置座標上の配置位置を登録した。
【００５３】
次いで、図１（ｂ）の装置座標上１９の配置位置に登録された。次いで、ガラス基板の原点（Ｏ）は、装置座標上１９の原点（ＯＯ）から５番目であり、その変換式により搬送コロの配置位置を基板座標上の配置位置に変換した。
【００５４】
次いで、図１（ｃ）の基板座標上９の搬送コロの配置位置に登録され、実施例１のガラス基板では、搬送コロの配置位置が、ａ１、ａ２とｂ２と、ａ３、ｂ３と登録された。
【００５５】
次いで、欠陥検査機に実施例１のガラス基板を載置し、所定の検査を開始した。検査手段は、パターン形成ガラス基板から検出した欠陥の特異点抽出し、その特徴からコロ裏面汚れ１６の欠陥と判定した。
【００５６】
平行処理により、コロ裏面汚れ１６の欠陥座標と、前記登録した搬送コロ１５の基板座標上の位置座標とを照合した。次いで、コロ裏面汚れ１６と座標位置が一致した搬送コロを特定した。検査機よりの検査結果の出力データは、コロ裏面汚れ１６と座標位置が一致した搬送コロは搬送コロＬ３と出力された。
【００５７】
座標値の一致とコロ裏面汚れは、座標上の欠陥位置がｂ３であり、該当する処理装置はＬであり、その搬送コロはＬ３と特定した。
【００５８】
次いで、作業員により、特定したＬ３の搬送コロを所定の方法で洗浄して、復帰させ再稼動した。
【００５９】
検査機によるコロ裏面汚れ判定方法は、以上を含む手段の構成によりコロ裏面汚れの欠陥の発生位置からそのコロ裏面汚れの欠陥起因となる処理装置および搬送コロを特定することを特徴とする方法であり、装置停止時間、調査時間、作業員の工数負荷が大幅に削減できた。
【００６０】
本発明の検査機によるコロ裏面汚れ判定方法は、発生欠陥とその欠陥起因との関連をデータベース化して、そのノウハウを蓄積するほど、活用範囲が拡大し、検査機による判定方法の自動化が加速する。
【図面の簡単な説明】
【００６１】
【図１】本発明の検査機によるコロ裏面汚れ判定方法の一実施例を説明する説明図であり、（ａ）は、搬送コロのユニバーサル座標上の座標値であり、（ｂ）は、搬送コロのユニバーサル座標上の配置図で、（ｃ）は、搬送コロのローカル座標上の配置図である。
【図２】本発明の検査機による裏面汚れ判定方法を説明するための、生産ラインの一例のパスラインとカラーフィルタとの位置関係を説明する上面図であり、（ａ）は、パスラインの搬送コロで、（ｂ）パスライン基準線のグローバル座標系の搬送コロの位置座標で、（ｃ）は、基板規準線のローカル座標系の搬送コロの位置座標である。
【図３】従来の生産ラインの一例のパスライン上の基板の搬送方法を説明する処理装置部分拡大図であり、（ａ）は、ライン上面図であり、（ｂ）はその正面断面図である。の部分平面図である。
【図４】従来の生産ラインでの基板の裏面汚れ発生時のその対策処置の工程フローである。
【図５】搬送コロによる基板の裏面汚れを説明するカラーフィルタの基板の上面図である。
【図６】従来の検査装置および検査方法の一例を説明する概念図であり、（ａ）は、検査装置であり、（ｂ）は、検査方法を説明する画像の上面図である。
【図７】従来の検査方法の一例を説明する上面図であり、（ａ）は、撮像画像であり、（ｂ）は、その欠陥データ画像である。
【図８】従来の生産ラインの一例のパスラインとカラーフィルタとの位置関係を説明する説明図である。
【符号の説明】
【００６２】
１…ガラス基板
１ｘ…基板基準線（Ｙ方向の）
２…パターン形成領域
２ｘ…パターン基準線（ｙ方向の）
４…撮像画像の欠陥（アナログデータ）
５…データ画像の欠陥（デジタルデータ）
９…ローカル座標系（基板座標）
１０ｘ…パスライン基準線（Ｙ方向の）
１１…パスライン
１２…架台
１３…駆動部
１４…搬送ロール
１５…搬送コロ
１６…コロ裏面汚れ
１６ａ…線状汚れのデータ画像
１９…グローバル座標系（装置座標）
２０…検査装置
２１…制御紺コンピュータ画面
２２…画像処理部
２３…光源
２３ａ…反射用光源
２３ｂ…透過用光源
２４…撮像カメラ
２４ａ…反射光撮像カメラ
２４ｂ…透過光撮像カメラ
２５…Ｇ画素画像
２６ａ…検査中Ｒ画像
２６ｂ…隣接Ｒ画像
３０…フォトマスク
３０ｘ…マスク基準線（Ｙ方向の）
３２…パターン形成領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図７】
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【図８】
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【図６】
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