【手続補正書】
【提出日】平成25年7月12日(2013.7.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内径のところに位置する内側環状壁と、外径のところに位置する外壁と、上部表面と、底部表面とを有する環状リングと、
前記上部表面内に形成された上部リセスと、
前記内側環状壁の半径方向の外側に向けて形成されたリップと、
前記内側環状壁内に形成された台座と
を有する環状ボディ
を備え、
前記上部リセス内に設置された上部プレートが、
自身を貫通して形成された複数の第１のアパーチャを有し、前記第１のアパーチャが自身の表面を超えて延び、それによって、盛り上がった円柱状体が形成される、ディスク形状のボディを備え、
前記台座上に設置された底部プレートが、
前記第１のアパーチャに整列し、自身を貫通して形成された複数の第２のアパーチャを有するディスク形状のボディと、
前記第２のアパーチャの間に、底部プレートを貫通して形成された複数の第３のアパーチャであって、底部プレートが、前記複数の第１のアパーチャおよび前記複数の第２のアパーチャを前記複数の第３のアパーチャから流体的に分離するために前記上部プレートに密閉するように連結される、複数の第３のアパーチャと、
を備えた、ガス分配アセンブリ。
【請求項２】
前記上部プレートおよび底部プレートが一緒にろう付けされ、それによって、整列した第１のアパーチャおよび第２のアパーチャの各対の周りにシールが形成され、シールが前記上部プレートの外側端部と前記上部リセスの内側端部との間に作られるように、前記上部プレートが前記環状ボディにＥ−ビーム溶接され、シールが前記底部プレートの外側端部と前記内側環状壁との間に作られるように、前記底部プレートが前記環状ボディにＥ−ビーム溶接される、請求項１に記載のガス分配アセンブリ。
【請求項３】
前記環状ボディが、
第１の冷却チャネルの半径方向の内側の前記上部リセス内に形成された流体配送チャネルと、
前記流体配送チャネルの半径方向の内側の前記上部リセス内に形成された流体通路であって、前記流体通路が前記流体配送チャネルに流体的に連結される、流体通路と、
前記環状ボディの前記外側壁を貫通して形成され、前記流体配送チャネルに流体的に連結され、それによって、導管の注入部から前記複数の第３のアパーチャの排出部への流れ経路が形成される、導管と
をさらに備えた、請求項２に記載のガス分配アセンブリ。
【請求項４】
前記環状ボディが、
前記上部リセスの半径方向の外側の前記環状ボディの前記上部表面上に形成された第１の冷却チャネルと、
前記上部リセスの半径方向の外側の前記環状ボディの前記底部表面上に形成された第２の冷却チャネルと
をさらに備えた、請求項１に記載のガス分配アセンブリ。
【請求項５】
前記環状ボディが、
前記第２の冷却チャネルの半径方向の外側の前記環状ボディの前記底部表面内に形成されたヒータリセス
をさらに備えた、請求項１に記載のガス分配アセンブリ。
【請求項６】
前記複数の第１のアパーチャの各アパーチャおよび前記複数の第２のアパーチャの各アパーチャの少なくとも一部が、円柱状形状を有する、請求項１に記載のガス分配アセンブリ。
【請求項７】
前記複数の第３のアパーチャが、砂時計形状を有する、請求項１に記載のガス分配アセンブリ。
【請求項８】
前記複数の第２のアパーチャおよび前記複数の第３のアパーチャが交互に互い違いになった列を形成し、前記第２のアパーチャの各々が少なくとも１つの第３のアパーチャによってもう１つの第２のアパーチャから離される、請求項１に記載のガス分配アセンブリ。
【請求項９】
内径のところに位置する内側環状壁と、外径のところに位置する外壁と、上部表面と、底部表面とを有する環状リングと、
前記上部表面内に形成された上部リセスと、
前記内側環状壁の半径方向の外側に向けて形成されたリップと、
前記内側環状壁内に形成された台座と
を備えた環状ボディ
を備え、
前記上部リセス内に設置された上部プレートが、
自身を貫通して形成された複数の第１のアパーチャを有し、前記第１のアパーチャが自身の表面を超えて延び、それによって、盛り上がった円柱状体が形成される、ディスク形状のボディを備え、
前記台座上に設置された底部プレートが、
前記第１のアパーチャに整列し、自身を貫通して形成された複数の第２のアパーチャを有し、前記第２のアパーチャが１２辺多角形パターンに配列される、ディスク形状のボディと、
底部プレートを貫通して形成された複数の第３のアパーチャであって、前記第３のアパーチャが前記第２のアパーチャの直径よりも小さな直径を有し、前記第３のアパーチャの各々が少なくとも２つの第２のアパーチャの間に配置され、底部プレートが、前記複数の第１のアパーチャおよび前記複数の第２のアパーチャを前記複数の第３のアパーチャから流体的に分離するために前記上面プレートに密閉するように連結される、複数の第３のアパーチャと、
を備えた、ガス分配アセンブリ。
【請求項１０】
前記上部プレートおよび底部プレートが一緒にろう付けされ、それによって、整列した第１のアパーチャおよび第２のアパーチャの各対の周りにシールが形成され、シールが前記上部プレートの外側端部と前記上部リセスの内側端部との間に作られるように、前記上部プレートが前記環状ボディにＥ−ビーム溶接され、シールが前記底部プレートの外側端部と前記内側環状壁との間に作られるように、前記底部プレートが前記環状ボディにＥ−ビーム溶接される、請求項９に記載のガス分配アセンブリ。
【請求項１１】
前記環状ボディが、
第１の冷却チャネルの半径方向の内側の前記上部リセス内に形成された流体配送チャネルと、
前記流体配送チャネルの半径方向の内側の前記上部リセス内に形成された流体通路であって、前記流体通路が前記流体配送チャネルに流体的に連結される、流体通路と、
前記環状ボディの前記外側壁を貫通して形成され、前記流体配送チャネルに流体的に連結され、それによって、導管の注入部から前記複数の第３のアパーチャの排出部への流れ経路が形成される、導管と
をさらに備えた、請求項９に記載のガス分配アセンブリ。
【請求項１２】
前記環状ボディが、
前記上部リセスの半径方向の外側の前記環状ボディの前記上部表面上に形成された第１の冷却チャネルと、
前記上部リセスの半径方向の外側の前記環状ボディの前記底部表面上に形成された第２の冷却チャネルと
をさらに備えた、請求項９に記載のガス分配アセンブリ。
【請求項１３】
前記環状ボディが、
前記環状ボディの前記底部表面中に、前記第２の冷却チャネルの半径方向の外側に形成されたヒータリセス
をさらに備えた、請求項９に記載のガス分配アセンブリ。
【請求項１４】
前記複数の第１のアパーチャが複数の互い違いになった列を形成し、前記複数の第２のアパーチャおよび前記複数の第３のアパーチャが交互に互い違いになった列を形成し、前記第２のアパーチャの各々が少なくとも１つの第３のアパーチャによってもう１つの第２のアパーチャから離される、請求項９に記載のガス分配アセンブリ。
【請求項１５】
上部マニホールドの中心部分の周りに同心円状に配置され、複数の第１の放射状列に形成された複数の第１のアパーチャと、
前記複数の第１のアパーチャの周りに同心円状に配置され、複数の第２の放射状列に形成された複数の第２のアパーチャと
を備えた、上部マニホールドと、
中央マニホールドの中心部分の周りに同心円状に配置された第１の開口部のセットと、
前記第１の開口部の第１のセットの周りに同心円状に配置された第２の開口部のセットと
を備えた、前記上部マニホールドに連結された中央マニホールドと、
底部マニホールドの中心部分の周りに同心円状に配置された第３の開口部のセットと、
前記第３の開口部のセットの周りに同心円状に配置された第４の開口部のセットと、
前記底部マニホールドの上部面上で前記第４の開口部の各々の間に配置された複数の第１のガスチャネルと、
前記第４の開口部のセットの周りに同心円状に配置され、前記第１のガスチャネルのうちの１つまたは複数に流体的に連結されたチャネルネットワークと
を備えた、前記中央マニホールドに連結された底部マニホールドと
を備えた、ガス分配アセンブリ。
【請求項１６】
前記複数の第１のガスチャネルの各々が、第１のガスチャネル中に設置され、前記底部マニホールドを貫通して形成された１つまたは複数のアパーチャをさらに備える、請求項１５に記載のガス分配アセンブリ。
【請求項１７】
前記底部マニホールドの前記上部面上で前記第３の開口部の各々の間に配置された複数の第２のガスチャネルをさらに備えた、請求項１５に記載のガス分配アセンブリ。
【請求項１８】
前記上部マニホールドの底面上で前記上部マニホールドの前記中心部分に形成された第１の流体貯蔵部と、
前記上部マニホールドの前記底面上に配置され、前記第１の流体貯蔵部に流体的に連結された１つまたは複数のガスチャネルと、
前記中央マニホールドの前記中心部分を貫通して形成され、前記第１の流体貯蔵部と流体連絡した中心開口部と、
前記底部マニホールドの前記上部面上で前記底部マニホールドの前記中心部分に形成された第２の流体貯蔵部であって、前記第２の流体貯蔵部が、前記中心開口部と流体連絡し、前記複数の第２のガスチャネルと流体連絡する、第２の流体貯蔵部と
をさらに備えた、請求項１７に記載のガス分配アセンブリ。
【請求項１９】
前記複数の第２のガスチャネルの各々が、前記第２のガスチャネル中に設置され、前記底部マニホールドを貫通して形成された１つまたは複数のアパーチャをさらに備える、請求項１７に記載のガス分配アセンブリ。