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【手続補正書】
【提出日】平成21年9月28日(2009.9.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベース基板上に回路基板を接合する回路接合方法であって、
ａ）回路基板の基板電極をベース基板の基板電極に対向させつつ前記回路基板を前記ベース基板上に搭載する工程と、
ｂ）前記回路基板の基板電極近傍において前記回路基板を貫通する金属にて形成され、かつ、前記回路基板の配線と電気的に分離された熱伝導部を加熱部に接触させることにより、前記熱伝導部を介して前記回路基板の基板電極近傍を加熱して前記回路基板の基板電極と前記ベース基板の基板電極とを電気的に接合する工程と、
を備えることを特徴とする回路接合方法。
【請求項２】
請求項１に記載の回路接合方法であって、
前記ａ）工程の前に、前記回路基板の基板電極または前記ベース基板の基板電極に異方性導電性樹脂または非導電性樹脂を付与する工程をさらに備え、
前記ｂ）工程において、前記回路基板が前記ベース基板に向けて押圧されることを特徴とする回路接合方法。
【請求項３】
請求項１に記載の回路接合方法であって、
前記回路基板が、
前記ａ）工程において前記ベース基板上に搭載される第１回路基板と、
前記ａ）工程において前記第１回路基板上に搭載される第２回路基板と、
を備え、
前記第１回路基板が、前記熱伝導部の一部であって前記第１回路基板を貫通する第１熱伝導部を有し、前記第２回路基板が、前記熱伝導部の一部であって前記第２回路基板を貫通する第２熱伝導部を有し、
前記ｂ）工程において、前記第１熱伝導部と前記第２熱伝導部とが熱的に接続されて前記第１熱伝導部および前記第２熱伝導部を介して前記回路基板の基板電極近傍が加熱され、さらに、前記第２熱伝導部からの熱により前記第１回路基板と前記第２回路基板とが接合されることを特徴とする回路接合方法。
【請求項４】
請求項３に記載の回路接合方法であって、
前記第１回路基板が、前記第１熱伝導部近傍において前記第２回路基板に対向する第１中間電極を有し、前記第２回路基板が、前記第２熱伝導部近傍において前記第１回路基板に対向する第２中間電極を有し、
前記ｂ）工程において、前記第２熱伝導部を介して前記第１中間電極および前記第２中間電極近傍が加熱されることにより、前記第１中間電極と前記第２中間電極とが電気的に接合されることを特徴とする回路接合方法。
【請求項５】
請求項４に記載の回路接合方法であって、
前記ａ）工程の前に、
前記基板電極に異方性導電性樹脂または非導電性樹脂を付与する工程と、
前記第１中間電極または前記第２中間電極に異方性導電性樹脂または非導電性樹脂を付与する工程と、
をさらに備え、
前記ｂ）工程において、前記第２回路基板が前記第１回路基板に向けて押圧されるとともに前記第１回路基板が前記ベース基板に向けて押圧されることを特徴とする回路接合方法。
【請求項６】
請求項５に記載の回路接合方法であって、
前記第１中間電極または前記第２中間電極に異方性導電性樹脂または非導電性樹脂が付与される際に、前記第１熱伝導部または前記第２熱伝導部の端部にも前記異方性導電性樹脂または前記非導電性樹脂が付与されることを特徴とする回路接合方法。
【請求項７】
請求項３ないし６のいずれかに記載の回路接合方法であって、
前記ａ）工程の前に、半導体チップを部品基板の両面に実装して前記第２回路基板を得る工程をさらに備え、
前記第１回路基板が、前記ベース基板と前記部品基板との間に配置されて前記第２回路基板を支持するスペーサであることを特徴とする回路接合方法。
【請求項８】
請求項７に記載の回路接合方法であって、
前記半導体チップが、メモリデバイスであることを特徴とする回路接合方法。
【請求項９】
請求項７または８に記載の回路接合方法であって、
前記第１回路基板において、前記第１熱伝導部が、前記第１回路基板を貫通して前記第１回路基板の基板電極と前記第１中間電極とを電気的に接続する貫通配線の周囲を囲むことを特徴とする回路接合方法。
【請求項１０】
回路基板積層体であって、
基板電極を有するベース基板と、
前記ベース基板上に接合された第１回路基板と、
前記第１回路基板上に接合された第２回路基板と、
を備え、
前記第１回路基板が、
第１基板本体と、
前記ベース基板の前記基板電極に電気的に接続された基板電極と、
前記第１基板本体の前記第２回路基板に対向する面上に設けられた第１中間電極と、
前記第１基板本体を貫通するとともに一端が前記第１回路基板の基板電極に接続され、他端が前記第１中間電極に接続された第１配線と、
前記第１回路基板の基板電極近傍において前記第１基板本体を貫通する金属にて形成され、かつ、前記第１配線と電気的に分離された第１熱伝導部と、
を備え、
前記第２回路基板が、
第２基板本体と、
前記第１回路基板の前記第１中間電極に電気的に接続された第２中間電極と、
前記第２中間電極に接続された第２配線と、
前記第２中間電極近傍において前記第２基板本体を貫通する金属にて形成され、前記第２配線と電気的に分離されるとともに前記第１熱伝導部に熱的に接続された第２熱伝導部と、
を備えることを特徴とする回路基板積層体。
【請求項１１】
請求項１０に記載の回路基板積層体であって、
前記第１回路基板が、異方性導電性樹脂または非導電性樹脂を介して前記ベース基板に接合されており、
前記第２回路基板が、異方性導電性樹脂または非導電性樹脂を介して前記第１回路基板に接合されていることを特徴とする回路基板積層体。
【請求項１２】
請求項１０または１１に記載の回路基板積層体であって、
前記第２回路基板が、
部品基板と、
前記部品基板の両面に実装された半導体チップと、
を備え、
前記第１回路基板が、前記ベース基板と前記部品基板との間に配置されて前記第２回路基板を支持するスペーサであることを特徴とする回路基板積層体。
【請求項１３】
請求項１２に記載の回路基板積層体であって、
前記半導体チップが、メモリデバイスであることを特徴とする回路基板積層体。
【請求項１４】
請求項１２または１３に記載の回路基板積層体であって、
前記第１回路基板において、前記第１熱伝導部が、前記第１配線の周囲を囲むことを特徴とする回路基板積層体。
【請求項１５】
メモリカードであって、
請求項１０ないし１４のいずれかに記載の回路基板積層体と、
前記回路基板積層体の前記ベース基板上において前記第１回路基板および前記第２回路基板を覆うカバー部と、
を備えることを特徴とするメモリカード。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】回路接合方法、回路基板積層体およびメモリカード
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月9日(2008.12.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流れの悪いバルク材を空気輸送する方法であって、バルク材が供給装置(８)により縦送りコンベヤー(１)に計量供給され、その後、輸送ライン(１９)を通して縦送りコンベヤー(１)から排出される方法において、
バルク材の縦送りコンベヤー(１)への計量供給は、供給装置(８)によって行われ、縦送りコンベヤー(１)からの排出は、機械式コンベヤー(９)と流入圧縮ガス(１７)の同時作用によって達成され、機械式コンベヤー(９)は、排出工程の間に縦送りコンベヤー(１)からの排出が完全に行われるように、縦送りコンベヤー(１)内の壁に沿って回転することを特徴とする方法。
【請求項２】
流れの悪いバルク材の空気輸送装置であって、供給装置(８)、機械式コンベヤー(９)を有する縦送りコンベヤー(１)、機械式コンベヤー(９)用ギアードモータ(７)、縦送りコンベヤー(１)の両端部にそれぞれ設けられた圧縮ガス入口ライン(１１)および圧縮ガス出口ライン(１０)、並びに、バルク材または圧縮ガス(１７)用輸送ライン(１９)を含む装置において、
機械式コンベヤー(９)が、縦送りコンベヤー(１)内に壁に沿って回転するように設けられていることを特徴とする装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月21日(2009.1.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
本発明は、固体結晶ＺＢＭ−３０を合成するための新規な方法に関する。前記固体は、酸化物のモルについて無水化合物として表される、一般式：ｍＸＯ２：ｎＺ２Ｏ３：ｑｉＲｉ：ｒＭ２／ｐＯによって定義される化学組成を有する（式中、Ｍは原子価ｐを有する１以上のカチオンを示し、Ｒｉはアミン化合物ｉ（ｉは２以上の自然数）を示し、Ｘは１以上の異なる４価元素を示し、Ｚは少なくとも１つの３価元素を示し、ｍ、ｎ、ｒは、それぞれ、ＸＯ２、Ｚ２Ｏ３、Ｍ２／ｐＯのモル数を示し、ｑｉは、Ｒｉのモル数を示す）。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
ａ）第１の実施態様：工程ｉ）は、４価金属源、３価金属源、水および少なくとも２種のアミン化合物を、最終のゲルを形成するように攪拌しながら混合することによって行われる。混合する順序は変更されてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月19日(2009.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
繊維強化セラミックマトリックス複合材プリフォーム（２２又は２８）を溶浸処理する方法であって、
（ａ）プリフォームを溶融シリコン浴中に浸漬するステップと、
（ｂ）前記プリフォームを所定の時間前記浴内にそのまま置いておくステップと、
（ｃ）前記プリフォームを前記浴から引き出すステップと、
（ｄ）前記プリフォームを冷却するステップと、
を含み、前記ステップ（ａ）及び（ｃ）の間、前記プリフォームを毎分１／２〜１０インチのプリフォーム速度で移動させることを特徴とする溶解処理方法。
【請求項２】
前記溶融浴が約１４５０℃の温度に維持されることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記ステップ（ｄ）が、エアロックチャンバ内で実施されることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項４】
前記ステップ（ｄ）の間、前記チャンバが気体で満たされることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記気体がアルゴンであることを特徴とする請求項４記載の方法。
【請求項６】
前記ステップ（ａ）の間、前記プリフォームがロードセルにより吊り下げられ、それによって該プリフォームの重量が測定されることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項７】
前記ステップ（ｂ）の間、前記プリフォームが、２〜１０分間前記浴中に保持されることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項８】
セラミックマトリックス複合材を形成する方法であって、
（ａ）繊維トウ（１０）に繊維コーティングを施工するステップと、
（ｂ）高温及び低温バインダ、炭化ケイ素粉末、カーボンブラック並びに水から構成されたスラリー水を通して前記繊維トウを引き、それによってプリプレグテープ（２０）を形成するステップと、
（ｃ）前記プリプレグテープ（２０）をドラム（１８）に巻き取るステップと、
（ｄ）前記プリプレグテープを切断し、レイアップしかつ積層して、複合材プリフォーム（２２）を形成するステップと、
（ｅ）請求項１乃至７のいずれか１項記載の溶解処理方法によって該プリフォームを溶浸処理するステップと
を含むことを特徴とする形成方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月22日(2008.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
６６．４重量％以下の鉄含量および少なくとも０．０８重量％のリチウム含量を有する亜鉛フェライト顔料。
【請求項２】
ＨＤＰＥ中に組み入れられた場合、亜鉛フェライト顔料が、３００℃で、４．０未満、特に３．０未満の、ＤＩＮ５３７７２およびＤＩＮ６１７４に対する色シフトΔＥ＊を示すことを特徴とする、請求項１に記載の亜鉛フェライト顔料。
【請求項３】
ＨＤＰＥ中に組み入れられた場合、亜鉛フェライト顔料が、２６０℃で、３．０未満、特に２．４未満の、ＤＩＮ５３７７２およびＤＩＮ６１７４に対する色シフトΔＥ＊を示すことを特徴とする、請求項１または２に記載の亜鉛フェライト顔料。
【請求項４】
ＤＩＮ５３７７２に従って調製されたＨＤＰＥ試料試験片中で、亜鉛フェライト顔料が、５１より高い、特に５２より高い、ＤＩＮ６１７４に従って測定されたＣＩＥＬＡＢ単位のＬ＊値を示すことを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の亜鉛フェライト顔料。
【請求項５】
ＤＩＮ５３７７２に従って調製されたＨＤＰＥ試料試験片中で、亜鉛フェライト顔料が、３４より高い、特に３５より高い、ＤＩＮ６１７４に従って測定されたＣＩＥＬＡＢ単位のｂ＊値を示すことを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の亜鉛フェライト顔料。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の亜鉛フェライト顔料の製造法であって、亜鉛フェライト顔料の組成に対応する酸化亜鉛および酸化鉄の初期混合物を生じるか、または含んでなる原材料混合物、溶液または懸濁液が、
ａ）焼成の前もしくは間に１つ以上のリチウム化合物と混合されるか、または
ｂ）焼成の後に１つ以上のリチウム化合物と混合され、次いで再び焼成されるか、
あるいはａ）とｂ）との組み合わせであり、
それによって、焼成後、亜鉛フェライト顔料中に０．０８％〜０．８重量％のリチウムが存在し、その鉄含量が６６．４重量％以下であることを特徴とする製造法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月14日(2008.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
組織包埋工程中に使用されるフレーム内の上側位置から、前記フレーム内の下側位置に組織標本カセットを移動させる装置であって、
前記カセットの上面に係合するように構成された載置機構と、
前記カセットが前記フレーム内の前記下側位置に達したときに、前記載置機構の垂直移動を停止するように構成されたストッパと、
を備える装置。
【請求項２】
前記ストッパは、前記載置機構とともに動くように結合されるとともに前記フレームの上面に当たって停止するように構成された固定ストッパ部材を含むことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記載置機構は複数のフィンガをさらに備え、該複数のフィンガは、前記カセットの上面の対応する複数の区域と係合するように構成されていることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記載置機構に対して相対的に移動可能な安定化機構をさらに備え、該安定化機構は、前記載置機構が前記カセットを前記上側位置から前記下側位置に移動させるときに、前記フレームの上面に係合するように構成されていることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記載置機構は、通常は上方位置にばねで付勢されており、前記カセットを前記上側位置から前記下側位置に移動させるときに、前記ばねによる付勢に抗して下向きに力が加えられることを特徴とする請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記ストッパは、前記安定化機構の表面を含むことを特徴とする請求項４に記載の装置。  
【請求項７】
組織包埋工程中に使用されるフレーム内の上側位置から、前記フレーム内の下側位置に組織標本カセットを移動させる方法であって、
前記カセットが前記上側位置にあるように、前記カセットを前記フレームと結合するステップと、
包埋媒体中に前記カセットを包埋し、続いて前記包埋媒体中に包埋された組織標本を切片化するために、前記カセットを前記フレームに対して前記下側位置に移動して前記カセットを露出させるステップと、
を備える方法。
【請求項８】
前記カセットを前記下側位置に移動するステップは、前記組織標本が前記包埋媒体を収容するための型の中に配置されるように、前記カセットを移動させるステップをさらに備えることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記カセットが底壁をさらに備え、該底壁上に前記組織標本が配置され、
前記カセットを移動するステップは、前記カセットの低壁を前記型の底に接触させるステップを備えることを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記フレームを前記型に結合するステップをさらに備えることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項１１】
前記フレームを前記型に密閉するステップをさらに備えることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記カセットの前記下側位置を越える移動を、ストッパによって防止するステップをさらに備えることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項１３】
前記カセットが前記下側位置に到達したときに、前記ストッパを前記フレームに係合させるステップをさらに備えることを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記カセットを移動させるステップは、前記カセットを複数のフィンガに係合させるステップをさらに備えることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項１５】
前記カセットを移動させるステップは、前記フレームを安定化機構に係合させるステップをさらに備えることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月6日(2009.10.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明のホログラム再生装置は、記録データに応じて変調された信号光と前記信号光と光源を同一とする参照光とを干渉させてホログラム記録媒体の記録層に形成されたホログラムから前記記録データを再生するホログラム再生装置であって、前記参照光を発生させるための参照光パターンを表示する参照光空間光変調部と、前記参照光を前記ホログラム記録媒体に照射して発生する回折光を受光する２次元に配列されたピクセルを有するイメージセンサと、前記イメージセンサからの電気信号を処理して記録データを再生する制御部と、を備え、前記制御部は、前記光源からの光ビームの照射を停止して前記イメージセンサから得られる電気信号である光ビーム停止電気信号を検出し、前記ホログラム記録媒体のホログラムが形成されている領域に前記参照光を照射して前記イメージセンサから得られる電気信号であるホログラム電気信号を検出し、前記ホログラム電気信号から前記光ビーム停止電気信号を減算してノイズ削減後再生信号を得、前記ノイズ削減後再生信号から前記記録データを再生する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
この図１３と図１４とを対比して、具体的にノイズ削減の効果を示す。暗時背景ノイズ（ＦＰＮ）、すなわち、電気信号としての第２起因電気ノイズ信号を減算によって除去することによって、信号対雑音比、誤ったシンボルの数のいずれも改善される。暗時背景ノイズの除去前は、信号対雑音比の値として１．８０を得たが、暗時背景ノイズの除去後は、信号対雑音比の値として１．９２を得た。暗時背景ノイズの除去後は、誤ったシンボルの数は９５から誤ったシンボルの数は７２に改善している。ここで、信号対雑音比は、符号０と符号１を付した各々のグラフがガウス分布であるとして、各々の分散（σ0、σ1）および各々の平均値（μ0、μ1）を求め、式（１）から求めた。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
記録層のホログラムが形成されていない領域（例えば、ヘッダ領域）に参照光を照射する（ステップＳＴ１００）。
記録層のホログラムが形成されていない領域からの光ビームが生じるイメージセンサの像に応じた各々のピクセルからの信号（無記録部再生デジタル信号）を検出してノイズ保存ＲＡＭ領域に記憶する（ステップＳＴ１０１）。
記録層のホログラムが形成されている領域に参照光を照射する（ステップＳＴ１０２）。記録層のホログラムが形成されている領域からの回折光が生じるイメージセンサの像に応じた各々のピクセルからの信号（再生デジタル信号）を検出して再生信号保存ＲＡＭ領域に記憶する（ステップＳＴ１０３）。
各々のピクセルについて、再生信号保存ＲＡＭ領域に記憶された再生デジタル信号からノイズ保存ＲＡＭ領域に記憶された無記録部再生デジタル信号を減算してノイズ削減後デジタル再生信号を得る（ステップＳＴ１０４）。
ノイズ削減後デジタル再生信号を処理して記録データを得る（ステップＳＴ１０５）。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６７】
特に、コアキシャル光学系を採用する場合には、参照光と信号光は非常に近い位置にあり
、また、参照光は回折光よりも２〜３桁程度光強度が大きいので参照光漏込ノイズが発生
するが、この参照光漏込ノイズを効果的に除去することが可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月4日(2009.9.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
基板上に設けられたパターンの欠陥にレーザ光を照射して、前記欠陥を修正する欠陥修正方法であって、
前記パターンの欠陥を検出する工程と、
前記欠陥よりも大きい開口部を有するマスクフィルムと前記基板とを相対移動させる工程と、
前記相対移動させた後、前記開口部が前記欠陥上に配置された状態で、前記開口部を介して前記欠陥にレーザ光を照射して、前記欠陥を除去する工程と、を備える欠陥修正方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１１】
基板上に設けられたパターンの欠陥にレーザ光を照射して、前記欠陥を修正する欠陥修正装置であって、
前記欠陥よりも大きい開口部を有するマスクフィルムが取り付けられるマスクフィルムリールと、
前記開口部が前記欠陥上に配置された状態で、前記開口部を介して、前記欠陥に照射されるレーザ光を出射するレーザ光源と、を備える欠陥修正装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月13日(2009.10.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性を有する平板の表面にスパッタリングにより第１の金属層を設ける工程と、この第１の金属層の一部を除去して光を透過する光透過部を形成する工程と、前記第１の金属層の表層に第２の金属層を形成する置換めっき工程と、を備えることを特徴とする時計用文字板の製造方法。
【請求項２】
前記光透過部は、前記第１の金属層をエッチングすることにより形成されることを特徴とする請求項１に記載の時計用文字板の製造方法。
【請求項３】
前記置換めっき工程の前に、前記第１の金属層の表面をライトエッチングするライトエッチング工程を備えることを特徴とする請求項１又は２に記載の時計用文字板の製造方法。
【請求項４】
前記第１金属層を設ける工程の前に、前記光透過性を有する平板の表面に、光透過性を有するとともにバリア層としての機能を有する下地層を形成する工程を備えることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の時計用文字板の製造方法。
【請求項５】
前記置換めっき工程において、前記第１の金属層の表面を、当該置換めっきするエリアを残して保護層でマスキングし、このエリアに置換めっきを実行することを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の時計用文字板の製造方法。
【請求項６】
前記置換めっき工程において、前記第１の金属層の表面を複数のエリアに分割し、これらエリアごとに異なる金属でそれぞれ置換めっきを実行することを特徴とする請求項１乃至４のいずれかの記載に時計用文字板の製造方法。
【請求項７】
前記置換めっき工程の後に、前記第２の金属層を覆う透明保護層を設ける工程を備えることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の時計用文字板の製造方法。
【請求項８】
前記第１の金属層は、銅層で形成され、前記第２の金属層は、銀層、金層あるいは白金層のいずれかで形成されることを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載の時計用文字板の製造方法。
【請求項９】
前記第１の金属層は、ニッケル層で形成され、前記第２の金属層は、銀層、金層、錫層、銅層あるいは白金層のいずれかで形成されることを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載の時計用文字板の製造方法。
【請求項１０】
光透過性を有する平板の表面にスパッタリングにより第１の金属層を設け、この第１の金属層の一部を除去して光を透過する光透過部を形成するとともに、前記第１の金属層の表層を置換めっきして、当該第１の金属層の表層に第２の金属層を形成したことを特徴とする時計用文字板。
【請求項１１】
光透過性を有する時計用文字板を備えた時計において、
前記時計用文字板は、光透過性を有する平板の表面にスパッタリングにより第１の金属層を設け、この第１の金属層の一部を除去して光を透過する光透過部を形成するとともに、前記第１の金属層の表層を置換めっきして、当該第１の金属層の表層に第２の金属層を形成したことを特徴とする時計。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月15日(2009.10.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ソフトウェア技法データと、安全度水準ごとのソフトウェア技法の推奨指針データとを含むベストプラクティスデータを保存するベストプラクティスデータ保存手段と、
前記ベストプラクティスデータを参照してソフトウェア技法を表示する表示手段と、
前記表示手段によって表示されたソフトウェア技法に対して入力された適用状況に基づいてソフトウェア技法ごとに適用条件の成立、不成立を判定する適用状況入力手段と、
前記適用状況入力手段の判定結果と前記ベストプラクティスデータ保存手段に保存されている前記推奨指針データとを用いて安全度水準ごとに当該水準を満たしているか否かを判定するＳＩＬ診断手段と、
前記ＳＩＬ診断手段の判定結果を出力する出力手段と、
を備えたことを特徴とするソフトウェア安全性診断装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月26日(2009.1.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１７】
前記仮想ストレージ装置は、他の仮想ストレージ装置とネットワークを介して接続され、
前記第１の制御部は、前記仮想計算機によって書き込まれたデータを格納し、前記格納されたデータを、前記ネットワークを介して前記他の仮想ストレージ装置に送信し、
前記第１の情報は、前記仮想ストレージ装置と、前記仮想ストレージ装置に格納されたデータの送信先である前記他の仮想ストレージ装置との対応関係を示す情報を含み、
前記第１の制御部は、
前記電源を切断されるべき仮想ストレージ装置に格納されたデータのうち、まだ前記他の仮想ストレージ装置に送信されていないデータがあるか否かを判定し、
まだ前記他の仮想ストレージ装置に送信されていないデータがある場合、まだ前記他の仮想ストレージ装置に送信されていない前記データを前記他の仮想ストレージ装置に送信し、
前記送信が終了した後、前記送信元の仮想ストレージ装置に割り当てられた前記第１の資源の電源を切断することを特徴とする請求項１３に記載のストレージ装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月6日(2009.10.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
本発明を適用した光ピックアップ７は、図３に示すように、所定の波長の光ビームを出射する光源３１と、光源３１から出射された光ビームを光ディスク２の信号記録面としての記録層上に集光する対物レンズ３３と、光ディスク２の記録層で反射された戻り光を受光する受光部３４ａを有する光検出器３４と、光源３１と対物レンズ３３との間に配置され、光ディスク２で反射された戻り光の光路を光源３１から出射された光ビームの光路と分離する光路分離手段としてビームスプリッタ３５と、ビームスプリッタ３５と光検出器３４との間に設けられ、通過する光ビームの一部を遮光する遮蔽部３６ａを有する遮蔽部材３６とを備える。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
また、光ピックアップ７は、光源３１とビームスプリッタ３５との間に設けられ、光源３１から出射された光ビームの発散角を変えて略平行光とするコリメータレンズ３７と、ビームスプリッタ３５と光検出器３４との間に設けられ、ビームスプリッタ３５で反射された戻りの光ビームを光検出器３４の受光部３４ａ上に集光する集光レンズ３８とを備える。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月17日(2009.9.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも結着樹脂、ワックス及び着色剤を含有するトナー粒子を有するトナーにおいて、
該結着樹脂は少なくとも２種以上の樹脂Ａ及び樹脂Ｂを含有し、
該樹脂Ａは、縮重合系モノマーの存在下でビニル系モノマーを付加重合させ、付加重合反応が終了後に、該縮重合系モノマーを縮重合させて得られる樹脂、または、ビニル系モノマーを付加重合させて得られるビニル系樹脂の存在下で、縮重合系モノマーを縮重合させることにより得られる樹脂であり、
該樹脂Ｂは、縮重合系モノマーを縮重合させることにより得られる縮重合樹脂に、ビニル系モノマーを添加、混合して付加重合させることにより得られる樹脂であり、
該樹脂Ａの軟化点が該樹脂Ｂの軟化点よりも５℃以上低く、
該樹脂Ａと該樹脂Ｂが１０：９０〜６０：４０の質量比で含有されていることを特徴とするトナー。
【請求項２】
該樹脂Ａの軟化点が８０℃以上１２０℃未満であり、該樹脂Ｂの軟化点が１００〜１５０℃であることを特徴とする請求項１に記載のトナー。
【請求項３】
該樹脂Ａ又は該樹脂Ｂのうち、少なくとも一方は重合工程の途中および／または終了後に、重合物と水とを、１００〜３００℃で混合する工程を有することを特徴とする請求項１又は２に記載のトナー。
【請求項４】
該樹脂Ａはテトラヒドロフラン不溶分の含有量が５質量％以下であり、該樹脂Ｂはテトラヒドロフラン不溶分の含有量が５〜５０質量％であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載のトナー。
【請求項５】
該樹脂Ａ又は該樹脂Ｂのうち、少なくとも一方の樹脂はワックスを含有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載のトナー。
【請求項６】
該樹脂Ｂは、不飽和ポリエステル樹脂の存在下でビニル系モノマーを塊状重合することにより得られたハイブリッド樹脂を含有しており、該塊状重合が、不飽和ポリエステル樹脂：ビニル系モノマー＝５０：５０〜９０：１０の質量比で行われたものであることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載のトナー。
【請求項７】
該トナーは、モノアルコールの含有量が３００ｐｐｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載のトナー。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
上記目的を達成するため、本出願に係る第２の発明は、樹脂Ａの軟化点が８０℃以上１２０℃未満であり、樹脂Ｂの軟化点が１００〜１５０℃であることを特徴とするトナーに関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
上記目的を達成するため、本出願に係る第４の発明は、樹脂Ａはテトラヒドロフラン不溶分の含有量が５質量％以下であり、樹脂Ｂはテトラヒドロフラン不溶分の含有量が５〜５０質量％であることを特徴とするトナーに関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
上記目的を達成するため、本出願に係る第７の発明は、トナーは、モノアルコールの含有量が３００ｐｐｍ以下であることを特徴とするトナーに関する。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月8日(2009.10.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
該トナーは、フロー式粒子像測定装置で計測される個数基準の円相当径−円形度スキャッタグラムにおける円相当径２μｍ以上かつ円形度０．７０以上の粒子の平均粒子径及び平均円形度が、下記の範囲を満たしており、
４．００≦平均粒子径（μｍ）≦６．３０
０．９５０≦平均円形度≦０．９９０
１０％粒子径および９０％粒子径が下記の関係式（５）を満足していることを特徴とする請求項１又は２のいずれかに記載の非磁性トナー。
１．２０≦９０％粒子径／１０％粒子径≦２．００・・・・・（５）
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
該トナーは、フロー式粒子像測定装置で計測される個数基準の円相当径−円形度スキャッタグラムにおける円形度０．７０以上の全粒子数に対する円相当径０．６０μｍ以上１．００μｍ未満のトナー粒子の存在量Ａ（個数％）が下記の範囲を満たしていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の非磁性トナー。
０．１０≦Ａ（％）≦８．００
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
すなわち、本発明は以下のとおりである。
（１）少なくとも樹脂、着色剤、離型剤を含有するトナー粒子と無機微粉体を有する非磁性トナーにおいて、フローテスターによる１００℃粘度（Ｐａ・ｓ）が、
１５０００≦１００℃粘度（Ｐａ・ｓ）≦４５０００
であり、下記の関係式（１）、（２）を満足することを特徴とする非磁性トナー。
０≦Ｅｔ１００（ｍＪ）≦５００・・・・・（１）
１．００≦Ｅｔ１０／Ｅｔ１００≦１．６０・・・・・（２）
［但し、Ｅｔ１００（ｍＪ）は、プロペラ型ブレードの最外縁部の周速を１００ｍｍ／ｓｅｃで回転させながら容器内のトナー粉体層中に垂直に進入させ、トナー粉体層の底面から１００ｍｍの位置から測定を開始し、底面から１０ｍｍの位置まで進入させた時に得られる、回転トルクと垂直荷重の総和を表しており、Ｅｔ１０（ｍＪ）は、１０ｍｍ／ｓｅｃで回転させた時の回転トルクと垂直荷重の総和を表している。］
（２）該トナーは、下記の関係式（３）、（４）を満足することを特徴とする（１）に記載の非磁性トナー。
１５０≦Ｅｔ１００（ｍＪ）≦４７０・・・・・（３）
１．２０≦Ｅｔ１０／Ｅｔ１００≦１．６０・・・・・（４）
（３）該トナーは、フロー式粒子像測定装置で計測される個数基準の円相当径−円形度スキャッタグラムにおける円相当径２μｍ以上かつ円形度０．７０以上の粒子の平均粒子径及び平均円形度が、下記の範囲を満たしており、
４．００≦平均粒子径（μｍ）≦６．３０
０．９５０≦平均円形度≦０．９９０
１０％粒子径および９０％粒子径が下記の関係式（５）を満足していることを特徴とする（１）又は（２）のいずれかに記載の非磁性トナー。
１．２０≦９０％粒子径／１０％粒子径≦２．００・・・・・（５）
（４）該トナーは、フロー式粒子像測定装置で計測される個数基準の円相当径−円形度スキャッタグラムにおける円形度０．７０以上の全粒子数に対する円相当径０．６０μｍ以上１．００μｍ未満のトナー粒子の存在量Ａ（個数％）が下記の範囲を満たしていることを特徴とする（１）乃至（３）のいずれかに記載の非磁性トナー。
０．１０≦Ａ（％）≦８．００
（５）該トナーは、上記Ａ（個数％）が、以下の範囲を満たしていることを特徴とする（１）乃至（４）のいずれかに記載の非磁性トナー。
０．１０≦Ａ（％）≦５．００
（６）該トナーは、ＴＨＦ可溶分のゲルパーミエーションクロマトグラフィーによる重量平均分子量Ｍｗにおいて、１０００から１５０００の間に少なくとも極小値と極大値又は、極小値と変曲点を有していることを特徴とする（１）乃至（５）のいずれかに記載の非磁性トナー。
（７）該トナーは、少なくともスチレンまたはスチレン誘導体を重合して得られた単重合体又は共重合体を含有していることを特徴とする（１）乃至（６）のいずれかに記載の非磁性トナー。
（８）該トナーは、該トナー粒子が水系媒体中で製造されたトナー粒子であることを特徴とする（１）乃至（７）のいずれかに記載の非磁性トナー。
（９）該トナーは、該トナー粒子が懸濁重合法で製造されたトナー粒子であることを特徴とする（１）乃至（８）のいずれかに記載の非磁性トナー。
（１０）該トナーは、一成分系現像剤であることを特徴とする（１）乃至（９）のいずれかに記載の非磁性トナー。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
本発明のトナーは、フロー式粒子像測定装置「ＦＰＩＡ−２１００型」（シスメックス社製）を用いて測定を行い、計測される個数基準の円相当径−円形度スキャッタグラムにおける円相当径２μｍ以上かつ円形度０．７０以上の粒子の平均粒子径が、４．００≦平均粒子径（μｍ）≦６．３０であることが、１２００、２４００ｄｐｉと潜像の解像度が高まっている近年のプリンターや複写機において、より微小な潜像ドットを忠実に現像し、更なる高画質化を達成するためには好ましい。また、隠蔽力の向上により、トナーの低消費量化が可能となり、ランニングコスト低減にもつながる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
本発明のトナーは、フロー式粒子像測定装置「ＦＰＩＡ−２１００型」（シスメックス社製）を用いて測定を行い、計測される個数基準の円相当径−円形度スキャッタグラムにおける円相当径２μｍ以上かつ円形度０．７０以上の粒子の平均円形度が、０．９５０≦平均円形度≦０．９９０であることが好ましい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
本発明のトナーは、フロー式粒子像測定装置「ＦＰＩＡ−２１００型」（シスメックス社製）を用いて測定を行い、計測される個数基準の円相当径−円形度スキャッタグラムにおける円相当径２μｍ以上かつ円形度０．７０以上の粒子の９０％粒子径／１０％粒子径の値が、１．２０≦９０％粒子径／１０％粒子径≦２．００であることが、好ましい。９０％粒子径／１０％粒子径は、粒度分布の幅を表した指標であり、値が小さいほどシャープな粒度分布を持ったトナーであるということができ、値が大きいほど、ブロードな粒度分布を持ったトナーであるということができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
本発明のトナーは、フロー式粒子像測定装置「ＦＰＩＡ−２１００型」（シスメックス社製）を用いて測定を行い、計測される個数基準の円相当径−円形度スキャッタグラムにおける円形度０．７０以上の全粒子数に対する円相当径０．６０μｍ以上１μｍ未満の粒子の存在量Ａ（％）が、０．１０≦Ａ（％）≦８．００であることが好ましく、０．１０≦Ａ（％）≦５．００であることが更に好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月3日(2009.9.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性を有する基板と、
該基板上に設けられた光反射型の画素電極と、
前記基板上における前記画素電極よりも下層側に且つ前記画素電極と重なるように設けられており、前記画素電極と電気的に接続されたトランジスタと、
前記基板における前記画素電極が設けられた面とは反対側の面に設けられており、光を吸収する光吸収体と、
を有し、
前記光吸収体は前記基板と同一の屈折率を有することを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
光透過性を有する基板と、
該基板上に設けられた光反射型の画素電極と、
前記基板上における前記画素電極よりも下層側に且つ前記画素電極と重なるように設けられており、前記画素電極と電気的に接続されたトランジスタと、
前記基板における前記画素電極が設けられた面とは反対側の面に設けられており、光を吸収する光吸収体と、
を有し、
前記光吸収体は、前記基板の屈折率と同一の屈折率を有する接着剤によって、前記反対側の面に接着されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項３】
前記光吸収体は、前記透明基板の熱伝導率よりも高い熱伝導率を有することを特徴とする請求項２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記光吸収体は、アルマイト処理によって黒色にされたアルミニウムであることを特徴とする請求項３に記載の電気光学装置。
【請求項５】
前記光吸収体は、黒色の樹脂からなることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項６】
前記透明基板は、サファイア基板からなることを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか一項に記載の電気光学装置を具備してなることを特徴とする電子機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の一実施形態に係る電気光学装置は、光透過性を有する基板と、該基板上に設けられた光反射型の画素電極と、前記基板上における前記画素電極よりも下層側に且つ前記画素電極と重なるように設けられており、前記画素電極と電気的に接続されたトランジスタと、前記基板における前記画素電極が設けられた面とは反対側の面に設けられており、光を吸収する光吸収体と、を有し、前記光吸収体は前記基板と同一の屈折率を有することを特徴とする。
また、本発明の一実施形態に係る電気光学装置は、光透過性を有する基板と、該基板上に設けられた光反射型の画素電極と、前記基板上における前記画素電極よりも下層側に且つ前記画素電極と重なるように設けられており、前記画素電極と電気的に接続されたトランジスタと、前記基板における前記画素電極が設けられた面とは反対側の面に設けられており、光を吸収する光吸収体と、を有し、前記光吸収体は、前記基板の屈折率と同一の屈折率を有する接着剤によって、前記反対側の面に接着されていることを特徴とする。
また、本発明の一実施形態に係る電気光学装置は、前記光吸収体は、前記透明基板の熱伝導率よりも高い熱伝導率を有することを特徴とする。
また、本発明の一実施形態に係る電気光学装置は、前記光吸収体は、アルマイト処理によって黒色にされたアルミニウムであることを特徴とする。
また、本発明の一実施形態に係る電気光学装置は、前記光吸収体は、黒色の樹脂からなることを特徴とする。
また、本発明の一実施形態に係る電気光学装置は、前記透明基板は、サファイア基板からなることを特徴とする。
また、本発明の一実施形態に係る電子機器は、上記に記載の電気光学装置を備えることを特徴とする。
また、本発明の一実施形態に係る電気光学装置は、透明基板と、該透明基板上に設けられた複数の反射型の表示用電極と、前記透明基板上における前記画素電極よりも下層側に且つ前記画素電極と重なるように夫々設けられており、前記画素電極と電気的に接続された複数のトランジスタとを備える。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月30日(2009.9.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
現像剤像を担持する像担持体と、
交流電圧なしの直流電圧を印加され帯電部で前記像担持体を帯電する帯電部材と、
前記像担持体に形成された静電潜像を現像剤で反転現像して前記現像剤像を形成する現像装置と、
前記現像剤像を転写部において被転写体に転写する転写部材と、
前記帯電部材に印加される電圧と前記転写部材に印加される電圧とを制御する制御手段とを有する画像形成装置であって、
前記像担持体は、前記転写部と前記帯電部との間で除電をされることなく、
前記転写部材の表面は発泡体を備えており、前記転写部材と前記像担持体とが接触し、前記転写部材と前記像担持体との間を被転写体を通過させて転写を行い、
前記転写部材と前記像担持体の間に前記被転写体が存在しない時に前記転写部を通過し、且つ前記静電潜像が形成されることになる前記像担持体の領域を第一の領域とし、
前記転写部材と前記像担持体の間に前記被転写体が存在する時に前記転写部を通過し、且つ前記静電潜像が形成されることになる前記像担持体の領域を第二の領域として、
前記第一の領域が前記転写部を通過する時に、前記転写部材には電圧が印加されており、
前記制御手段は、前記第一の領域が前記転写部を通過する時に前記転写部材から前記像担持体に流れる電流値を、前記第二の領域が前記転写部を通過する時に前記転写部材から前記像担持体に流れる電流値よりも大きくするように、前記転写部材に印加される電圧を制御することを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
現像剤像を担持する像担持体と、
交流電圧なしの直流電圧を印加され帯電部で前記像担持体を帯電する帯電部材と、
前記像担持体に形成された静電潜像を現像剤で反転現像して前記現像剤像を形成する現像装置と、
前記現像剤像を転写部において被転写体に転写する転写部材と、
前記帯電部材に印加される電圧と前記転写部材に印加される電圧とを制御する制御手段とを有する画像形成装置であって、
前記像担持体は、前記転写部と前記帯電部との間で除電をされることなく、
前記転写部材の表面は発泡体を備えており、前記転写部材と前記像担持体とが接触し、前記転写部材と前記像担持体との間を被転写体を通過させて転写を行い、
前記転写部材と前記像担持体の間に前記被転写体が存在しない時に前記転写部を通過し、且つ前記静電潜像が形成されることになる前記像担持体の領域を第一の領域とし、
前記転写部材と前記像担持体の間に前記被転写体が存在する時に前記転写部を通過し、且つ前記静電潜像が形成されることになる前記像担持体の領域を第二の領域として、
前記第一の領域が前記転写部を通過する時に、前記転写部材には電圧が印加されており、
前記制御手段は、前記第一の領域が前記帯電部を通過する時に前記帯電部材に印加される電圧を、前記第二の領域が前記帯電部を通過する時に前記帯電部材に印加される電圧よりも小さくする制御をすることを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
上記目的を達成するため、本発明に係る装置は、以下のようなものである。
（１）現像剤像を担持する像担持体と、
交流電圧なしの直流電圧を印加され帯電部で前記像担持体を帯電する帯電部材と、
前記像担持体に形成された静電潜像を現像剤で反転現像して前記現像剤像を形成する現像装置と、
前記現像剤像を転写部において被転写体に転写する転写部材と、
前記帯電部材に印加される電圧と前記転写部材に印加される電圧とを制御する制御手段とを有する画像形成装置であって、
前記像担持体は、前記転写部と前記帯電部との間で除電をされることなく、
前記転写部材の表面は発泡体を備えており、前記転写部材と前記像担持体とが接触し、前記転写部材と前記像担持体との間を被転写体を通過させて転写を行い、
前記転写部材と前記像担持体の間に前記被転写体が存在しない時に前記転写部を通過し、且つ前記静電潜像が形成されることになる前記像担持体の領域を第一の領域とし、
前記転写部材と前記像担持体の間に前記被転写体が存在する時に前記転写部を通過し、且つ前記静電潜像が形成されることになる前記像担持体の領域を第二の領域として、
前記第一の領域が前記転写部を通過する時に、前記転写部材には電圧が印加されており、
前記制御手段は、前記第一の領域が前記転写部を通過する時に前記転写部材から前記像担持体に流れる電流値を、前記第二の領域が前記転写部を通過する時に前記転写部材から前記像担持体に流れる電流値よりも大きくするように、前記転写部材に印加される電圧を制御することを特徴とする画像形成装置。
（２）現像剤像を担持する像担持体と、
交流電圧なしの直流電圧を印加され帯電部で前記像担持体を帯電する帯電部材と、
前記像担持体に形成された静電潜像を現像剤で反転現像して前記現像剤像を形成する現像装置と、
前記現像剤像を転写部において被転写体に転写する転写部材と、
前記帯電部材に印加される電圧と前記転写部材に印加される電圧とを制御する制御手段とを有する画像形成装置であって、
前記像担持体は、前記転写部と前記帯電部との間で除電をされることなく、
前記転写部材の表面は発泡体を備えており、前記転写部材と前記像担持体とが接触し、前記転写部材と前記像担持体との間を被転写体を通過させて転写を行い、
前記転写部材と前記像担持体の間に前記被転写体が存在しない時に前記転写部を通過し、且つ前記静電潜像が形成されることになる前記像担持体の領域を第一の領域とし、
前記転写部材と前記像担持体の間に前記被転写体が存在する時に前記転写部を通過し、且つ前記静電潜像が形成されることになる前記像担持体の領域を第二の領域として、
前記第一の領域が前記転写部を通過する時に、前記転写部材には電圧が印加されており、
前記制御手段は、前記第一の領域が前記帯電部を通過する時に前記帯電部材に印加される電圧を、前記第二の領域が前記帯電部を通過する時に前記帯電部材に印加される電圧よりも小さくする制御をすることを特徴とする画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月16日(2009.10.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ロータおよびボビンを収納し、ヨークを嵌合させるカバー部材と、
一方面側に前記カバー部材を固定する突出部が形成され、他方面側に絞り羽根を駆動する駆動部材が配置されるケース部材とを備え、
前記カバー部材を前記ケース部材に固定することで、前記ロータの回転軸に固定されるピニオンが、前記ケース部材に形成される穴部を貫通して前記駆動部材に形成されているギヤ部と噛合するものであって、
前記突出部を前記穴部に近い側の突出高さが前記穴部から遠い側の突出高さよりも低くなるように形成し、
前記カバー部材を前記ケース部材に固定する際に、前記カバー部材に形成される前記突出部と当接する座部を弾性変形させることを特徴とする光量調節装置。
【請求項２】
前記座部には、前記突出部の側面に嵌合する嵌合片部を形成するとともに、前記カバー部材を前記ケース部材に固定する際に弾性変形させる部分に薄肉片部を形成することを特徴とする請求項１に記載の光量調節装置。
【請求項３】
前記ケース部材には前記駆動部材の位置を検出する位置検出器を収納する収納部が形成され、前記カバー部材を前記ケース部材に固定することで、前記カバー部材の前記座部とは反対側の端に形成される張り出し片部が前記収納部に収納される前記位置検出器を押圧保持することを特徴とする請求項２に記載の光量調節装置。
【請求項４】
前記ケース部材には、前記収納部の前記穴部側に係止爪部が形成され、前記カバー部材には前記係止爪部と係合可能な弾性片部が形成されていることを特徴とする請求項３の記載の光量調節装置。
【請求項５】
前記薄肉片部の位置をＰ、前記薄肉片部の弾性変形によって前記カバー部材が前記ケース部材に当接する位置をＱ、前記弾性片部と前記係止爪部との係止位置をＲ、前記張り出し片部が前記収納部に収納される前記位置検出器を押圧する位置をＳとし、
前記カバー部材がＱ点で当接する力ｆ１の線分ＰＱに対する垂直分力をｆ１ａ、前記カバー部材がＲ点で受ける力ｆ２の線分ＰＲに対する垂直分力をｆ２ａ、前記カバー部材がＳ点で受ける力ｆ３の線分ＰＳに対する垂直分力をｆ３ａとし、
線分ＰＱの長さをＬ１、線分ＰＲの長さをＬ２、線分ＰＳの長さをＬ３とした場合に、ｆ１ａ・Ｌ１＋ｆ２ａ・Ｌ２＞ｆ３ａ・Ｌ３の関係を満足する、ことを特徴とする請求項４に記載の光量調節装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明の光量調節装置は、ロータおよびボビンを収納し、ヨークを嵌合させるカバー部材と、一方面側に前記カバー部材を固定する突出部が形成され、他方面側に絞り羽根を駆動する駆動部材が配置されるケース部材とを備え、前記カバー部材を前記ケース部材に固定することで、前記ロータの回転軸に固定されるピニオンが、前記ケース部材に形成される穴部を貫通して前記駆動部材に形成されているギヤ部と噛合するものであって、前記突出部を前記穴部に近い側の突出高さが前記穴部から遠い側の突出高さよりも低くなるように形成し、前記カバー部材を前記ケース部材に固定する際に、前記カバー部材に形成される前記突出部と当接する座部を弾性変形させることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
ボビン５ａ，５ｂは合成樹脂等で形成されており、給電のための端子部を有する。また、ボビン５ａ，５ｂには、コイル６ａ，６ｂが取り付けられるとともに、端子部にコイル引き出し線が絡げられて、半田によるメッキ処理が施されている。また、コイル６ａ，６ｂとヨーク９との間には、両者が導通しないようにするための絶縁性のシート部材８が介装される。このシート部材８には、軸受部材１０の逃げ穴部８ａとヨーク９の逃げ穴部８ｂ−１，８ｂ−２とが形成されている。