【手続補正書】
【提出日】平成25年3月18日(2013.3.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザであって、
電極及び前記電極間の利得媒体を有する放電チャンバと、
前記放電チャンバから光カプラ上に衝突するレーザビームの少なくとも一部が反射されて前記放電チャンバを通って戻り、かつ前記放電チャンバから光カプラ上に衝突する前記レーザビームの少なくとも一部が光カプラを通って伝達されるように部分反射性である光カプラと、
前記レーザビームの経路におけるビーム修正光学システムと、
を含む再生リング共振器、
を含み、
前記ビーム修正光学システムは、近視野レーザビームプロフィールがレーザ内の各開口を均一に満たすように、かつ前記再生リング共振器が前記再生リング共振器の内側の光学要素に熱レンズを誘起する平均出力電力でレーザを作動させる時に条件付安定であるか又は僅かに不安定なままに留まるように前記レーザビームのプロフィールを横断方向に拡張する、
ことを特徴とするレーザ。
【請求項２】
前記ビーム修正光学システムは、横断方向に沿って前記曲率を負に変更することを特徴とする請求項１に記載のレーザ。
【請求項３】
前記ビーム修正光学システムは、前記再生リング共振器の出口での前記レーザビームに前記再生リング共振器に入る前記レーザビームの横断方向ビームプロフィールのサイズと同じか又はそれよりも大きいサイズの横断方向ビームプロフィールのサイズを持たせるように構成されることを特徴とする請求項１に記載のレーザ。
【請求項４】
前記ビーム修正光学システムは、前記光カプラと、前記光カプラに面する側と反対の前記放電チャンバの側に設けられたビーム回転光学要素との間にあることを特徴とする請求項１に記載のレーザ。
【請求項５】
前記ビーム修正光学システムは、高反射性ミラーを含むことを特徴とする請求項１に記載のレーザ。
【請求項６】
前記凸面高反射性ミラーは、約５０ｍと約１７０ｍの間の曲率半径を有することを特徴とする請求項５に記載のレーザ。
【請求項７】
前記再生リング共振器は、前記レーザビームの前記横断方向プロフィールのサイズが、前記レーザビームが前記再生リング共振器の一部を通って進行する時に増加するが、前記レーザビーム横断方向プロフィールサイズは、前記光カプラを通って前記再生リング共振器から減結合される前には前記再生リング共振器内の前記光学構成要素のいずれの横断方向サイズも超えない場合に、僅かに不安定なままに留まることを特徴とする請求項１に記載のレーザ。
【請求項８】
前記ビーム修正光学システムは、１組のプリズムを含むことを特徴とする請求項１に記載のレーザ。
【請求項９】
前記１つ又はそれよりも多くの第１、第２、及び第３のプリズムは、前記ビーム修正光学システムを通って前記第２の方向に沿って進行して前記プリズムの組を出る前記レーザビームの前記プロフィールの前記横断方向サイズが、前記光カプラから前記プリズムの組まで前記第１の方向に沿って進行する前記レーザビームの前記プロフィールの前記横断方向サイズよりも大きいように調節されることを特徴とする請求項８に記載のレーザ。
【請求項１０】
前記再生リング共振器からの前記レーザビームの出力が、少なくとも約５Ｗ／ｃｍ2の平均放射照度を有することを特徴とする請求項１に記載のレーザ。
【請求項１１】
放電ガスレーザのレーザビームを修正する方法であって、
レーザビームを誘導して再生リング共振器の光カプラに通す段階と、
放電チャンバから前記光カプラ上に衝突する光の少なくとも一部が反射されて前記放電チャンバを通って戻り、かつ前記放電チャンバから前記光カプラ上に衝突する前記光の少なくとも一部が前記光カプラを通って伝達されるように、前記光カプラを通過する前記レーザビームを前記放電チャンバを通って前記光カプラに戻るように誘導する段階と、
近視野レーザビームプロフィールが前記レーザ内の各開口を均一に満たすように、かつ前記再生リング共振器が前記再生リング共振器内の要素の熱レンズ化を引き起こす電力で前記レーザを作動させる時に条件付安定であるか又は僅かに不安定なままに留まるように前記レーザビームのプロフィールを横断方向に拡張する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１２】
前記レーザビームの前記プロフィールを横断方向に拡張する段階は、前記再生リング共振器内で循環する前記レーザビームの波面に負の曲率を付与する段階を含むことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記再生リング共振器は、前記レーザビームの前記横断方向プロフィールのサイズが、前記レーザビームが前記再生リング共振器の少なくとも一部を通って進行する時に増加するが、前記レーザビーム横断方向プロフィールサイズは、前記光カプラを通って前記再生リング共振器から減結合される前には前記再生リング共振器内の前記光学構成要素のいずれの横断方向サイズも超えない場合に、僅かに不安定なままに留まることを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
前記レーザビームの前記プロフィールを横断方向に拡張する段階は、
前記レーザビームを誘導して前記放電チャンバに通す前に前記レーザビームを前記光カプラからプリズムの組の第１と第３のプリズムを通過させることによって前記レーザビームのプロフィールを圧縮する段階と、
前記レーザビームを前記光カプラに到達する前に前記第３のプリズムを通過させ、かつ前記プリズムの組の第２のプリズムを通過させることにより、それが前記放電チャンバを通過した後に前記レーザビームのプロフィールを拡張する段階と、
を含む、
ことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１５】
レーザビームの経路における再生リング共振器であって、
電極及び前記電極間の利得媒体を有する放電チャンバと、
前記放電チャンバから光カプラ上に衝突する光の少なくとも一部が反射されて前記放電チャンバを通って戻り、かつ前記放電チャンバから光カプラ上に衝突する前記光の少なくとも一部が光カプラを通って伝達されるように部分反射性である光カプラと、
レーザビームの経路におけるビーム修正光学システムと、
を含み、
前記ビーム修正光学システムは、近視野レーザビームプロフィールが共振器内の各開口を均一に満たすように、かつ再生リング共振器が再生リング共振器の内側の光学要素の熱レンズ化を引き起こす電力でレーザを作動させる時に条件付安定であるか又は僅かに不安定なままに留まるように前記レーザビームのプロフィールを横断方向に拡張するように構成される、
ことを特徴とする共振器。
【請求項１６】
前記ビーム修正光学システムは、再生リング共振器内で循環する前記レーザビームの波面に負の曲率を付与するように構成されることを特徴とする請求項１５に記載の共振器。
【請求項１７】
前記ビーム修正光学システムは、高反射性凸面ミラーを含むことを特徴とする請求項１５に記載の共振器。
【請求項１８】
レーザビームの経路における再生リング共振器であって、
電極及び前記電極間の利得媒体を有する放電チャンバと、
前記放電チャンバから光カプラ上に衝突する光の少なくとも一部が反射されて前記放電チャンバを通って戻り、かつ前記放電チャンバから光カプラ上に衝突する前記光の少なくとも一部が光カプラを通って伝達されるように部分反射性である光カプラと、
前記放電チャンバと光カプラとの間のレーザビームの経路におけるビーム修正光学システムであって、
前記レーザビームの発散が少なくもと横断方向に沿って増加するように前記レーザビームの波面の曲率を負に変更するか、
又は、
前記ビーム修正光学システムに入るレーザビームに対して前記ビーム修正光学システムを出るレーザビームを拡大するか、
のいずれかによって、前記レーザビームのプロフィールを横断方向に拡張する光学構成要素を含むビーム修正光学システムと、
を含ことを特徴とする再生リング共振器。
【請求項１９】
前記前記レーザビームの発散が少なくもと横断方向に沿って増加するように前記レーザビームの波面の曲率を負に変更することによって前記レーザビームのプロフィールを横断方向に拡張する光学構成要素は、高反射性ミラーを含んでいる、請求項１８に記載の共振器。
【請求項２０】
高反射性ミラーは、横断方向の拡張の方向に沿って凸面であることを特徴とする請求項１９に記載の共振器。
【請求項２１】
前記高反射性ミラーの表面の反射率は、９４％よりも大きいことを特徴とする請求項１９に記載の共振器。
【請求項２２】
前記ビーム修正光学システムは、さらに、１組のプリズムを含むことを特徴とする請求項１８に記載の共振器。
【請求項２３】
更に、前記放電チャンバの外部にあり、かつ前記ビーム修正光学システムに面する側と反対の前記放電チャンバの側の前記レーザビームの前記経路にあるビーム回転光学要素を含むことを特徴とする請求項１８に記載の共振器。
【請求項２４】
前記レーザビームが再生リング共振器の少なくとも一部を通って進行する時に、前記レーザビームの横断方向プロフィールのサイズが増加するが、前記レーザビーム横断方向プロフィールサイズは、前記光カプラを通って前記再生リング共振器から減結合される前には前記再生リング共振器内の前記光学構成要素のいずれの横断方向サイズも超えないように、前記レーザビームが横断方向に拡張することを特徴とする請求項１８に記載の共振器。
【請求項２５】
前記レーザビームが再生リング共振器の少なくとも一部を通って進行する時に、前記レーザビームの横断方向プロフィールのサイズが増加するが、前記レーザビーム横断方向プロフィールサイズは、前記光カプラを通って前記再生リング共振器から減結合される前には前記再生リング共振器内の前記光学構成要素のいずれの横断方向サイズも超えないことを特徴とする請求項１８に記載の共振器。
【請求項２６】
前記ビーム修正光学システムに入るレーザビームに対して前記ビーム修正光学システムを出るレーザビームを拡大することによって、前記レーザビームのプロフィールを横断方向に拡張する光学構成要素は、前記光カプラと前記放電チャンバとの間に配置された複数のプリズムを含むことを特徴とする、請求項１８に記載の共振器。
【請求項２７】
前記複数のプリズムは、第１、第２、第３のプリズムを含んでおり、前記第１と第３のプリズムは、前記ビーム修正光学システムを通って第１の方向に沿って進行する前記レーザビームの前記プロフィールの前記横断方向サイズを低減し、かつ、前記第３と第２のプリズムは、前記ビーム修正光学システムを通って第２の方向に沿って進行する前記レーザビームの前記プロフィールの前記横断方向サイズを増大させるように構成かつ配置されたており、ここで、前記第１の方向は前記ビーム修正光学システムに入る方向であり、前記第２の方向は前記ビーム修正光学システムを出る方向である、ことを特徴とする請求項２６に記載の共振器。