【手続補正書】
【提出日】平成25年10月31日(2013.10.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の欠陥検査および／または点検、あるいは前記基板上の特徴部の限界寸法を測定する電子ビーム装置であって、
電子ビーム用の電子を発生させる電子源と、複数の開口部サイズから１つの開口部サイズを選択して使用する調整可能なビーム制限開口部と、を含む電子銃と、
標的領域上に前記電子ビームの焦点を合わせる対物レンズと、前記基板を保持する可動な基板保持器と、信号電子を検出する検出器と、を含む電子柱と
を備える電子ビーム装置。
【請求項２】
前記調整可能なビーム制限開口部は、調整可能な開口部を有する、請求項１に記載の電子ビーム装置。
【請求項３】
更に、前記電子銃に固定ビーム制限開口部を備え、前記固定ビーム制限開口部は、前記電子源と前記調整可能なビーム制限開口部との間に配置されている、請求項１に記載の電子ビーム装置。
【請求項４】
前記電子銃における前記調整可能なビーム制限開口部は、前記調整可能なビーム制限開口部がビーム電流選択開口部としても機能するように、前記基板上に焦点が合うビーム電流を選択もする、請求項３に記載の電子ビーム装置。
【請求項５】
前記調整可能なビーム制限開口部は、前記電子銃が高真空環境にある間に調整可能である、請求項１に記載の電子ビーム装置。
【請求項６】
前記調整可能なビーム制限開口部は、切替可能な開口部の配列を有する、請求項１に記載の電子ビーム装置。
【請求項７】
前記切替可能な開口部の配列は、直線に配列された複数の開口部を含む、請求項６に記載の電子ビーム装置。
【請求項８】
前記切替可能な開口部の配列は、円形に配列された複数の開口部を含む、請求項６に記載の電子ビーム装置。
【請求項９】
更に、前記電子柱にビーム電流選択開口部を備え、前記ビーム電流選択開口部は、前記基板のスポット上に焦点が合うビーム電流を選択する複数の開口部で構成されている、請求項１に記載の電子ビーム装置。
【請求項１０】
前記電子銃における前記調整可能なビーム制限開口部は、少なくとも１０個の異なった開口部サイズを含む、請求項４に記載の電子ビーム装置。
【請求項１１】
更に、前記電子柱にビーム電流選択開口部を備え、前記ビーム電流選択開口部は、前記基板のスポット上に焦点が合うビーム電流を選択する複数の開口部で構成されている、請求項３に記載の電子ビーム装置。
【請求項１２】
基板の欠陥検査および／または点検、あるいは前記基板上の特徴部の限界寸法を測定する半導体製造機器に電子ビームを供給する方法であって、
電子銃内の電子源によって電子ビーム用の電子を発生させる工程と、
前記電子銃内に複数の開口部サイズを有する調整可能なビーム制限開口部を設ける工程と、
前記調整可能なビーム制限開口部の前記複数の開口部サイズから１つの開口部サイズを選択する工程と、
前記基板の標的領域上に前記電子ビームの焦点を合わせる工程と、
信号電子を検出する工程と
を備える方法。
【請求項１３】
前記開口部サイズを選択する工程を、前記ビーム制限開口部が前記電子銃の高真空環境内にある間に行う、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記開口部サイズを選択する工程を、選択された前記開口部の中心が前記電子銃の光軸と一致するように直線運動によって行う、請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
前記開口部サイズを選択する工程を、選択された前記開口部の中心が前記電子銃の光軸と一致するように回転運動によって行う、請求項１２に記載の方法。
【請求項１６】
前記開口部サイズを選択する工程を、前記電子銃における前記ビーム制限開口部のサイズを縮小または拡大して行う、請求項１２に記載の方法。
【請求項１７】
更に、前記電子銃に固定ビーム制限開口部を設ける工程を備え、前記固定ビーム制限開口部は、前記電子源と前記調整可能なビーム制限開口部との間に配置される、請求項１２に記載の方法。
【請求項１８】
電子画像装置に電子ビームを供給する自動化された方法であって、
電子銃内の電子源によって電子ビーム用の電子を発生させる工程と、
前記電子画像装置で使用するビーム電流をユーザーが設定する工程と、
前記電子銃内の調整可能なビーム制限開口部のサイズを選択すると共にビームの角電流密度を選択するために、マイクロコントローラを用いて前記ユーザーが設定した前記ビーム電流を含む範囲のビーム電流を供給する工程と
を備える自動化された方法。
【請求項１９】
更に、前記ユーザーが設定した前記ビーム電流を前記範囲内で実現するために、ビーム電流選択開口部のサイズの変更にマイクロコントローラを使用する工程を備える請求項１８に記載の自動化された方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
高感度と高処理能力の両方を得るように大きいビーム電流を維持しながら、本開示の装置及び方法はスポットのぼやけを有利に低減する。これは、感度（解像度）と処理能力（速度）との間の従来のトレードオフに対処した結果の相乗効果である。
本発明は、以下の適用例として実現することが可能である。
（適用例１）基板の欠陥検査および／または点検、あるいは前記基板上の特徴部の限界寸法を測定する電子ビーム装置であって、
電子ビーム用の電子を発生させる電子源と、複数の開口部サイズから１つの開口部サイズを選択して使用する調整可能なビーム制限開口部と、を含む電子銃と、
標的領域上に前記電子ビームの焦点を合わせる対物レンズと、前記基板を保持する可動な基板保持器と、信号電子を検出する検出器と、を含む電子柱と
を備える電子ビーム装置。
（適用例２）前記調整可能なビーム制限開口部は、前記電子銃が高真空環境にある間に調整可能である、適用例１に記載の電子ビーム装置。
（適用例３）前記調整可能なビーム制限開口部は、切替可能な開口部の配列を有する、適用例１に記載の電子ビーム装置。
（適用例４）前記切替可能な開口部の配列は、直線に配列された複数の開口部を含む、適用例３に記載の電子ビーム装置。
（適用例５）前記切替可能な開口部の配列は、円形に配列された複数の開口部を含む、適用例３に記載の電子ビーム装置。
（適用例６）前記調整可能なビーム制限開口部は、調整可能な開口部を有する、適用例１に記載の電子ビーム装置。
（適用例７）更に、前記電子柱にビーム電流選択開口部を備え、前記ビーム電流選択開口部は、前記基板のスポット上に焦点が合うビーム電流を選択する複数の開口部で構成されている、適用例１に記載の電子ビーム装置。
（適用例８）更に、前記電子銃に固定ビーム制限開口部を備え、前記固定ビーム制限開口部は、前記電子源と前記調整可能なビーム制限開口部との間に配置されている、適用例１に記載の電子ビーム装置。
（適用例９）前記電子銃における前記調整可能なビーム制限開口部は、前記調整可能なビーム制限開口部がビーム電流選択開口部としても機能するように、前記基板上に焦点が合うビーム電流を選択もする、適用例８に記載の電子ビーム装置。
（適用例１０）前記電子銃における前記調整可能なビーム制限開口部は、少なくとも１０個の異なった開口部サイズを含む、適用例９に記載の電子ビーム装置。
（適用例１１）更に、前記電子柱にビーム電流選択開口部を備え、前記ビーム電流選択開口部は、前記基板のスポット上に焦点が合うビーム電流を選択する複数の開口部で構成されている、適用例８に記載の電子ビーム装置。
（適用例１２）基板の欠陥検査および／または点検、あるいは前記基板上の特徴部の限界寸法を測定する半導体製造機器に電子ビームを供給する方法であって、
電子銃内の電子源によって電子ビーム用の電子を発生させる工程と、
前記電子銃内に複数の開口部サイズを有する調整可能なビーム制限開口部を設ける工程と、
前記調整可能なビーム制限開口部の前記複数の開口部サイズから１つの開口部サイズを選択する工程と、
前記基板の標的領域上に前記電子ビームの焦点を合わせる工程と、
信号電子を検出する工程と
を備える方法。
（適用例１３）前記開口部サイズを選択する工程を、前記ビーム制限開口部が前記電子銃の高真空環境内にある間に行う、適用例１２に記載の方法。
（適用例１４）前記開口部サイズを選択する工程を、選択された前記開口部の中心が前記電子銃の光軸と一致するように直線運動によって行う、適用例１２に記載の方法。
（適用例１５）前記開口部サイズを選択する工程を、選択された前記開口部の中心が前記電子銃の光軸と一致するように回転運動によって行う、適用例１２に記載の方法。
（適用例１６）前記開口部サイズを選択する工程を、前記電子銃における前記ビーム制限開口部のサイズを縮小または拡大して行う、適用例１２に記載の方法。
（適用例１７）更に、前記電子銃に固定ビーム制限開口部を設ける工程を備え、前記固定ビーム制限開口部は、前記電子源と前記調整可能なビーム制限開口部との間に配置される、適用例１２に記載の方法。
（適用例１８）電子画像装置に電子ビームを供給する自動化された方法であって、
電子銃内の電子源によって電子ビーム用の電子を発生させる工程と、
前記電子画像装置で使用するビーム電流をユーザーが設定する工程と、
前記電子銃内の調整可能なビーム制限開口部のサイズを選択すると共にビームの角電流密度を選択するために、マイクロコントローラを用いて前記ユーザーが設定した前記ビーム電流を含む範囲のビーム電流を供給する工程と
を備える自動化された方法。
（適用例１９）更に、前記ユーザーが設定した前記ビーム電流を前記範囲内で実現するために、ビーム電流選択開口部のサイズの変更にマイクロコントローラを使用する工程を備える適用例１８に記載の自動化された方法。