Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月12日(2012.11.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】交通領域のための分離部材
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コンクリートで形成された交通領域のための分離部材（１）であって、この分離部材は、両端面（４）の夫々設けられた一方並びに他方の接続部材（３；２３；２５；２８；３０）を有し、この一方の接続部材（３；２５；２８）は、隣接し対応した分離部材の他方の接続部材（３；２３；３０）と接続可能であり、
前記接続部材（３；２３；２５；２８；３０）の各々は、少なくとも２つの並列した脚部（５、６；２４、２６、２７；２９、３１、３２）を備え、
前記一方の接続部材が前記隣接し対応した分離部材の他方の接続部材（３；２３；３０）と接続された接続状態で、一方の接続部材（３；２５；２８）の少なくとも１つの脚部（５；２６；２９）は、隣接し対応した前記分離部材の他方の接続部材（３；２３；３０）の脚部（５、６；２４；３１、３２）間で、ポジティブロックに保持され、
前記他方の接続部材（３；２３；３０）の脚部（５、６；２４；３１、３２）間で保持される前記一方の接続部材（３；２５；２８）の前記少なくとも１つの脚部（５；２６；２９）は、両側に突出部（９、１０）を有しており、
これら突出部は、前記他方の接続部材（３；２３；３０）の前記脚部（５、６；２４；３１、３２）に設けられている複数の突出部（９、１０、１１）の後ろで係合する、分離部材において、
前記一方の接続部材（３；２５；２８）の前記少なくとも１つの脚部（５；２６；２９）は、前記他方の接続部材（３；２３；３０）の脚部のフックの形態の前記突出部（９、１０、１１）によって相互にロックされることを特徴とする、分離部材。
【請求項２】
前記複数の突出部（９、１０、１１）は、前記脚部（５、６；２４、２６、２７；２９、３１、３２）の端部に設けられていることを特徴とする、請求項１に記載の分離部材。
【請求項３】
前記他方の接続部材の脚部（５、６；２４；３１、３２）間に保持される前記一方の接続部材の前記少なくとも１つの脚部（５；２６；２９）は、Ｔ字形状であり、
前記一方の接続部材は、前記少なくとも１つの脚部と並列した少なくとも１つの外側の脚部（６；２７）有し、外側の脚部は、Ｌ字形状の断面を有していることを特徴とする、請求項１又は２に記載の分離部材。
【請求項４】
前記脚部（５、６；２４、２６、２７；２９、３１、３２）と突出部（９、１０、１１）とは、丸められている角部と端面とを、接続領域に有していることを特徴とする、請求項１乃至３のいずれか１に記載の分離部材。
【請求項５】
前記一方の接続部材（２５、３０）は、前記少なくとも１つの脚部と並列した少なくとも１つの外側の脚部（２７、２９）を有し、
前記他方の接続部材（２３、２８）の脚部（３１）は、前記一方の接続部材（２５、３０）の前記少なくとも１つの脚部（２９）と前記外側の脚部との間で、保持されることとを特徴とする、請求項１又は２に記載の分離部材。
【請求項６】
前記脚部（５、６；２４、２６、２７；２９、３１、３２）は、接続部（７；３３、３４；３６、３７）によって支持部（８、３５）に接続されていることを特徴とする、請求項１乃至５のいずれか１に記載の分離部材。
【請求項７】
フック形状の前記突出部（１０）は、前記２つの脚部（５）間の支持部（８）の延長部であり、これら脚部（５）は、前記他方の接続部材（３）の２つの脚部（５、６）間で保持されることを特徴とする、請求項６に記載の分離部材。
【請求項８】
前記他方の接続部材（３）の支持部（８）と前記支持部（８）とは、前記接続された状態で、この中心面（１７）がこの分離部材（１）の中心にある前記２つの脚部（５）の接触面（１３）の近くに置かれるように、前記接続部（７）に設けられていることを特徴とする、請求項７に記載の分離部材。
【請求項９】
前記支持部（８）の中心面（１７）は、前記脚部（２４、２６、２７）間の中心の領域にあることを特徴とする、請求項５又は６に記載の分離部材。
【請求項１０】
前記支持部（８、３５）は、プレートであることを特徴とする、請求項６乃至９のいずれか１に記載の分離部材。
【請求項１１】
接続バー（２０）が、前記支持部（８、３５）に設けられていることを特徴とする、請求項６乃至１０のいずれか１に記載の分離部材。
【請求項１２】
前記接続バー（２０）は、前記支持部（８、３５）の上面（１８）及び底面（１９）もしくは側面に溶接されていることを特徴とする、請求項１１に記載の分離部材。
【請求項１３】
前記接続バー（２０）は、凸部及び／もしくは凹部を表面に有していることを特徴とする請求項１２に記載の分離部材。
【請求項１４】
前記一方並びに他方の接続部材（３）は、支持部（８）、もしくは接続部（７）によって互いに接続されていることを特徴とする、請求項６に記載の分離部材。
【請求項１５】
前記突出部（９、１０、１１）は、９０度以内の角度ａで、前記支持部（８）に面しており、この支持部（８）の中心面（１７）に合わせられている接触面（１２、１３、１４）を有していることを特徴とする、請求項１４に記載の分離部材。
【請求項１６】
前記角度ａは、６０度乃至９５度であることを特徴とする、請求項１５に記載の分離部材。
【請求項１７】
前記角度ａは、６０度乃至９５度であることを特徴とする、請求項１５に記載の分離部材。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月19日(2012.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
向流クロマトグラフィー装置であって、
１）１つ又は２つ以上の第１の表面を有し、前記第１の表面は、複数本の編成された螺旋チャネルを有し、
２）１つ又は２つ以上の管接近ポートを有し、
３）オプションとして、１本又は２本以上の半径方向チャネルを有する、装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月14日(2012.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プロセスチャンバシステムであって、
プロセス空間を有し、処理を実行可能なプロセスチャンバと、
前記プロセスチャンバに着脱可能に取り付けられた複数の冷凍機と、
前記冷凍機に着脱可能に取り付けられた複数のアレイと、
を備え、
前記着脱可能に取り付けられた冷凍機および前記アレイが、前記プロセスチャンバ内に延在して、前記プロセス空間内に排気面を形成している、プロセスチャンバシステム。
【請求項２】
請求項１において、さらに、
前記プロセス空間を気体分子源に曝すことが可能なプロセススロット、
を備える、プロセスチャンバシステム。
【請求項３】
請求項１において、さらに、
閉塞プレート、
を備えており、
前記冷凍機および前記アレイが、前記閉塞プレートに着脱可能に取り付けられており、
前記閉塞プレートは、前記プロセスチャンバに着脱可能に取付けられている、プロセスチャンバシステム。
【請求項４】
請求項１において、前記処理が、半導体ウェハ製造、フラットパネル製造、ＯＬＥＤ製造、ソーラーパネル製造、電子顕微鏡検査、およびガスクロマトグラフ分析のうちのいずれか１つに用いられる処理工程を含む、プロセスチャンバシステム。
【請求項５】
請求項４において、前記半導体ウェハ製造での処理工程がイオンビーム注入を含む、プロセスチャンバシステム。
【請求項６】
請求項１において、さらに、
前記排気面を前記プロセス空間の一部から遮断可能なアイソレーションバルブ、
を備える、プロセスチャンバシステム。
【請求項７】
請求項１において、前記複数のアレイが、前記複数の冷凍機のうちの１つの異なる箇所に取り付けられている、プロセスチャンバシステム。
【請求項８】
請求項１において、前記複数の冷凍機のうちの１つが、単一の箇所に取り付けられた単一のアレイを有する、プロセスチャンバシステム。
【請求項９】
請求項１において、前記複数のアレイのうちの１つが、前記複数の冷凍機に取り付けられている、プロセスチャンバシステム。
【請求項１０】
請求項７において、前記複数のアレイが、前記複数の冷凍機の１つの冷凍器の１つの箇所に取り付けられている、プロセスチャンバシステム。
【請求項１１】
請求項１において、前記冷凍機が極低温冷凍機であり、前記排気面が極低温排気面である、プロセスチャンバシステム。
【請求項１２】
請求項１において、さらに、
前記冷凍機に対する作動ガスの供給を制御可能な、クライオポンプシステム用のコントローラ、
を備える、プロセスチャンバシステム。
【請求項１３】
プロセスチャンバシステムであって、
プロセス空間を有し、処理を実行可能なプロセスチャンバと、
前記プロセス空間と連通する気体分子源と、
前記プロセスチャンバに取り付けられた複数の冷凍機と、
前記冷凍機に取り付けられた複数のアレイと、
を備え、
前記取り付けられた冷凍機および前記アレイが、前記プロセス空間に延在して、前記気体分子源の近傍に位置した排気面を形成している、プロセスチャンバシステム。
【請求項１４】
プロセス空間内の気体分子を捕集する方法であって、
プロセス空間を有し、処理を実行可能なプロセスチャンバを用意する工程と、
前記プロセス空間と連通する気体分子源を用意する工程と、
前記プロセスチャンバ内における最適な配置箇所を決定する工程と、
前記プロセスチャンバに複数の冷凍機を取り付ける工程と、
前記冷凍機に複数のアレイを取り付ける工程と、
を含み、
前記取り付けられた冷凍機および前記アレイが、前記最適な配置箇所において複数の排気面を形成する、プロセス空間内の気体分子の捕集方法。
【請求項１５】
請求項１４において、前記最適な配置箇所が、前記気体分子源の近傍である、プロセス空間内の気体分子の捕集方法。
【請求項１６】
請求項１４において、さらに、
前記排気面を前記プロセス空間の一部から遮断可能なアイソレーションバルブを用意する工程と、
前記プロセスチャンバを粗引き排気可能な粗引きポンプを用意する工程と、
を含む、プロセス空間内の気体分子の捕集方法。
【請求項１７】
請求項１６において、さらに、
前記排気面を前記プロセス空間の前記一部から遮断する工程と、
前記排気面を再生する工程と、
前記プロセスチャンバを粗引き排気する工程と、
前記プロセス空間の前記一部からの前記排気面の遮断を止める工程と、
を含む、プロセス空間内の気体分子の捕集方法。
【請求項１８】
請求項１７において、前記排気面を再生する工程が、前記複数の排気面の全てを再生すること、前記複数の排気面を個別に再生すること、および前記複数の排気面をグループで再生すること、を含む、プロセス空間内の気体分子の捕集方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成25年2月14日(2013.2.14)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項１４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１４】
請求項１において、上記バルク凝固アモルファス合金はＦｅ、Ｎｉ、Ｃｏから成る群から選択された鉄族金属の合金であって、かつ、
該バルク凝固アモルファス合金は弾性限界が１．５％以上、硬さが７．５ＧＰａ以上であることを特徴とする電子機器用金属フレーム。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項１５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１５】
請求項１において、上記バルク凝固アモルファス合金はＦｅ、Ｎｉ、Ｃｏから成る群から選択された鉄族金属の合金であって、かつ、
該バルク凝固アモルファス合金は弾性限界が１．５％以上、破壊靭性が２１．６２ＭＰａ√ｍ（２０ksi√in）以上、密度が６．５g/cc以下であることを特徴とする電子機器用金属フレーム。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項７４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項７４】
電子機器用金属フレーム（但し、時計外装部品を除く。）の製造方法であって、
溶融温度以上の温度のバルク凝固アモルファス合金溶湯としての素材を準備する工程、及び、
上記素材を鋳造することにより、少なくとも１つの電子部品を収納する形態を有する電子機器用金属フレームの一部を形成する工程
を含み、
上記素材を鋳造することにより、弾性限界が２．０％以上、過冷却液体領域ΔＴＳＣが６０℃以上であり、かつ、２．０ＧＰａ以上の降伏強度、５．５ＧＰａ以上の硬さ、２１．６２ＭＰａ√ｍ（２０ksi√in）以上の破壊靭性、６．５g/cc以下の密度から成る群から選択された少なくとも２つの物理特性を備えており、
上記バルク凝固アモルファス合金は５００Ｋ／秒以下の遅い冷却速度で冷却されたアモルファス合金であり、かつ上記バルク凝固アモルファス合金は、アモルファス構造を保持し、かつ上記バルク凝固アモルファス合金は、０．５ｍｍ以上の厚さを保持することを特徴とする製造方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成25年3月4日(2013.3.4)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
推薦器において用いられる方法であって、少なくとも１つのシンボル的なフィーチャを有しているアイテムを、１つ又は複数のグループに割り当て、前記推薦器のユーザのための視聴履歴を生成する方法において、前記推薦器が、
前記アイテムを第三者が利用した履歴を集めるステップと、
前記履歴における前記アイテムについて、前記アイテムと前記グループのそれぞれにおける少なくとも１つのアイテムとの対応するシンボル的なフィーチャ値間の距離を計算するステップであって、前記距離は、前記シンボル的なフィーチャ値の取り得る値それぞれに対応する、すべての実例のクラス分けの全体的な類似性に基づくものであるステップと、
前記アイテムと前記グループのそれぞれにおける少なくとも１つのアイテムとの近さを決定する各前記フィーチャ値間の前記距離を総計するステップと、
前記アイテムを最小距離値に関連する前記グループに割り当てるステップと、
前記グループに基づいて、前記視聴履歴を生成するステップと、
を実施する、方法。
【請求項２】
前記距離を計算する前記ステップは、前記シンボル的なフィーチャ間の前記距離を計算するために変更されたバリューディファレンスメトリック技法を用いる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
特定のシンボル的なフィーチャに関する２つの値Ｖ１とＶ２との間の距離δは、
δ（Ｖ１，Ｖ２）＝  Σ｜Ｃ１ｉ／Ｃ１−Ｃ２ｉ／Ｃ２｜
によって与えられ、ここで、Ｃ１ｉは、Ｖ１がクラスｉに分類された回数であり、Ｃ１は、Ｖ１がデータセットに出現した合計回数であり、Ｃ２ｉは、Ｖ２がクラスｉに分類された回数であり、Ｃ２は、Ｖ２がデータセットに出現した合計回数である、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記アイテムは番組であり、クラスｉは「視聴」クラス及び「非視聴」クラスであり、特定のシンボル的なフィーチャに関する２つの値Ｖ１とＶ２との間の前記距離δは、
【数１】
2005509954.tif 000001
によって与えられ、ここで、Ｃ１_ｗａｔｃｈｅｄはＶ１が「視聴」クラスに分類された回数、Ｃ１＿ｎｏｔ＿ｗａｔｃｈｅｄはＶ１が「非視聴クラス」に分類された回数、Ｃ１＿ｔｏｔａｌはＶ１がデータセットに出現した合計回数であり、Ｃ２_ｗａｔｃｈｅｄはＶ２が「視聴」クラスに分類された回数、Ｃ２＿ｎｏｔ＿ｗａｔｃｈｅｄはＶ２が「非視聴クラス」に分類された回数、Ｃ２＿ｔｏｔａｌは、Ｖ２がデータセットに出現した合計回数である、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記グループのそれぞれにおける前記少なくとも１つのアイテムは、予め計算されたグループの平均的なアイテムである、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記アイテムは番組である、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記アイテムはコンテントである、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記アイテムは製品である、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
推薦器において用いられるシステムであって、少なくとも１つのシンボル的なフィーチャを有しているアイテムを、１つ又は複数のグループに割り当て、前記推薦器のユーザのための視聴履歴を生成するシステムにおいて、前記推薦器が、
前記アイテムを第三者が利用した履歴を集める手段と、
前記履歴における前記アイテムについて、前記アイテムと前記グループのそれぞれにおける少なくとも１つのアイテムとの対応するシンボル的なフィーチャ値間の距離を計算する手段であって、前記距離は、前記シンボル的なフィーチャ値の取り得る値それぞれに対応する、すべての実例のクラス分けの全体的な類似性に基づくものである手段と、
前記アイテムと前記グループのそれぞれにおける少なくとも１つのアイテムとの近さを決定する各前記フィーチャ値の前記距離を総計する手段と、
前記アイテムを最小距離値に関連する前記グループに割り当てる手段と、
前記グループに基づいて、前記視聴履歴を生成する手段と、
を有する、システム。
【請求項１０】
推薦器において用いられるシステムであって、少なくとも１つのシンボル的なフィーチャを有しているアイテムを、１つ又は複数のグループに割り当て、前記推薦器のユーザのための視聴履歴を生成するシステムにおいて、コンピュータ読み取り可能なコードを記憶するためのメモリと、前記メモリに機能的に結合されたプロセッサとを有しており、前記プロセッサが、
前記アイテムを第三者が利用した履歴を集め、
前記履歴における前記アイテムについて、前記アイテムと前記グループのそれぞれにおける少なくとも１つのアイテムとの対応するシンボル的なフィーチャ値間の距離を、前記シンボル的なフィーチャ値の取り得る値それぞれに対応する、すべての実例のクラス分けの全体的な類似性に基づいて計算し、
前記アイテムと前記グループのそれぞれにおける少なくとも１つのアイテムとの近さを決定する各前記フィーチャ値間の前記距離を総計し、
前記アイテムを最小距離値に関連する前記グループに割り当て、
前記グループに基づいて、前記視聴履歴を生成する
システム。
【請求項１１】
プログラム可能な装置がコンピュータプログラムを実行するときに請求項９に記載のシステムとして機能することを可能にするコンピュータプログラム。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４２】
明らかに、既知の数値距離メトリックは、フィーチャ値「ＥＢＣ」と「ＦＥＸ」との間の距離を計算するために使用されることができない。バリューディファレンスメトリック（ＶＤＭ）は、シンボル的なフィーチャで表されるドメインにおけるフィーチャの値の間の距離を測るための既存の技法である。ＶＤＭ技法は、それぞれのフィーチャのそれぞれの取り得る値についてすべての実例の分類（classification）の全体的な類似性を考慮する。この方法を使用して、フィーチャのすべての値の間の距離を規定するマトリクスが、トレーニングセットにおける標本に基づいて統計的に導き出される。シンボル的なフィーチャ値の間の距離を計算するためのＶＤＭ技法に関するより詳細な説明のため、例えばStanfill及びWaltz、「Toward Memory-Based Reasoning」、Communications of the ACM、29:12、1213-1228、1986年、を参照されたい。この内容は、参照によってここに盛り込まれる。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成25年1月7日(2013.1.7)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
筋力トレーニングおよびリハビリテーション用トレーニングマシーンであって、
ウェイトパッケージ（１６，１６ａ，１８，１８ａ）中の既定の数のウェイト（１６ａ，１８）が上げ下げされるよう配置され、選択的に接続手段（２２、１９）によって、後方および前方に動かされるように設けられたプルまたはプレス手段（４２、４３）を備え、
および、前記プルまたはプレス手段（４２、４３）にかかる使用者の第一の力を用いて前記既定の数のウェイトを継続的に上げ、前記プルまたはプレス手段（４２、４３）にかかる使用者の第二の力によって前記既定の数のウェイトを継続的に下げ、
前記第一の力は前記第二の力より小さくなり、前記トレーニングマシーンは、前記ウェイト（１６，１６ａ，１８，１８ａ）を保持し、かつ水平の回転軸（９、１０）を中心に回転可能に配置された内部フレーム（８）を有し、
前記内部フレーム（８）に沿って前記規定の数のウェイト（１６ａ，１８）がスライド可能であり、
前記回転軸（９，１０）は前記内部フレームの両側に、かつ、前記内部フレーム（８）の下側から、所定の距離に配置された２つのピボットピンから構成され、
前記トレーニングマシーンはさらに、電気モーターである運転手段（４８）を用いて前記内部フレーム（８）を自動的に回転させるために、コントロールユニットを備え、前記運転手段（４８）は、ほぼ垂直な位置と既定の傾斜位置との間で、前記ピボットピン（９、１０）の周囲を回転するようにフレームを前後に動かすようにされ、  
前記コントロールユニットは、接続手段（２２、１９）の動きをセンサーを経由して感知し、前記内部フレーム（８）を傾斜位置からほぼ垂直の位置まで、あるいはほぼ垂直の位置から傾斜位置まで回転させることを特徴とする、トレーニングマシーン。
【請求項２】
前記回転軸（９、１０）は前記フレームの下方のほぼ水平側に平行であることを特徴とする、請求項１に記載のトレーニングマシーン。
【請求項３】
前記回転軸は、前記内部フレーム（８）の垂直方向にほぼ中央に位置することを特徴とする、請求項１または２に記載のトレーニングマシーン。
【請求項４】
前記第一の力は前記第二の力より３０％以上少ないことを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載のトレーニングマシーン。
【請求項５】
前記接続手段は、ポリパラフェニレンテレフタルアミド材で作成される少なくとも一つの非弾性ベルト（２２）を備え、前記非弾性ベルトは、前記プルまたはプレス手段（４２、４３）と前記既定の数のウェイト（１６ａ，１８）を、マシーンに配置されたレバーシステム（２９、３４、３８、３６）とプーリー（２３， ２４， ２５， ２６， ３２，９１， ９２， ９４）を経由して接続する、請求項１〜４のいずれかに記載のトレーニングマシーン。
【請求項６】
前記プーリー（２３， ２４， ２５， ２６， ３２，９１， ９２， ９４）は、前記内部フレーム（８）の上部梁の上に設けられたプーリー（２３，２４）、および、前記内部フレーム（８）に前記回転軸（９）と同じ高さに配置されたプーリー（２５）を含むことを特徴とする、請求項５に記載のトレーニングマシーン。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１５】
本発明による筋力トレーニング装置１を使用して訓練する者は、図１から明らかなように、イス５２を設置し、およびアーム４２および４３の上でハンドル４６を握る。例えば使用者がアーム４２および４３を身体から外側に向かって押すなどのポジティブ運動を促進するために、上部ウェイトパッケージ１を上げるのに必要な力が内部フレーム８の傾斜によって減少され、一方、上部ウェイトパッケージ１８がコントローラー・ロッド１４および１５上をスライドし、およびハンドルを前方に押すのに必要な力が少なくとも５０％以上減少されるように、図３にしたがって内部フレームが回転される。ウェイトを上げるのに必要なポジティブ力はネガティブ力より大幅に、例としてだいたい３０％以上、より正確には約４０％、少なくなる。トレーニング者がネガティブ運動を始めるとき、例えばストップ４７ａがフレーム構造１３に対して接する開始／停止位置に、アーム４２および４３を身体に向かって内側に動かすとき、内部フレーム８はウェイトパッケージ１８から全負荷を達成する元の垂直位置に戻される。シリンダー装置４８を用いた内部フレームを回転させることは、ベルト２２の動き、およびベルトが矢印５３の方向に動くときの図３の位置に対する内部フレームの回転、またベルトが矢印５４の方向に動くときの図４の位置に対するフレームの回転を感知する、センサーを経由するコントロールユニット（図示せず）によって適切に自動で行われる。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成25年3月19日(2013.3.19)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキシド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキシドおよびビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキシドの群から選択される、室温を上廻る融点を有する固体のアシルホスフィンオキシドの製造法において、反応後または後処理後に連続的な溶融相として存在するアシルホスフィンオキシドを、溶融液の外側から作用される機械的応力、剪断および／または内部攪拌下に固体の凝集体に変えることを特徴とする、上記の固体のアシルホスフィンオキシドの製造法。
【請求項２】
溶融液の機械的応力が攪拌、ポンプ輸送、ナイフ塗布、引掻き、超音波での処理または溶融液に導通されるかまたは溶融液表面上に向けられているガス噴射によって惹起される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
溶融液を固体と混合する、請求項１または２に記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００４】
溶液からの結晶化の欠点は、次の通りである：
結晶化後に廃棄されなければならないかまたは再使用前に後処理されなければならない溶剤を必要とすること（溶剤の費用）。
結晶化後に残留溶液からの結晶物を分離するための費用（例えば、フィルターまたは遠心分離器を用いる）。
分離後に残留溶液の一部分が残留湿分として付着したままであるような結晶物の費用のかかる乾燥。
結晶化後に残存する残留溶液中にアシルホスフィンオキシドの一部分が溶解したままであるので、アシルホスフィンオキシドの減少した収量。このアシルホスフィンオキシドの一部分の回収は、多くの場合に困難であり、費用がかかり、一般に損失なしには実施不可能であること。
有機溶剤を使用する場合に、一般に可燃性の溶剤の確実な取り扱いおよび放出の回避のための処理技術的に高価な費用。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４２】
一般に、エネルギーのインプットがよりいっそう長く、強力であるかまたはよりいっそう強い前分布で行なわれる場合には、よりいっそう小さな粒径を得ることができ、最初の固体の装入量を使用しない場合には、幅広の粒径分布を得ることができる。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成25年2月27日(2013.2.27)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
モノマー溶液の噴霧重合によって吸水性ポリマー粒子を製造する方法において、
ａ）少なくとも１種のエチレン性不飽和の酸基を有するモノマー、及び
ｂ）少なくとも１種の、式：
【化１】
2008527155.tif 000001
（式中、
Ｒは水素、メチルおよびエチルの群から選択される同じかまたは異なる基であり、
ＡはＣ３〜Ｃ２０−アルク（ｐ＋ｑ）イルまたはＣ３〜Ｃ２０−ヘテロアルク（ｐ＋ｑ）イルであり、
Ｂは
【化２】
2008527155.tif 000002
から選択される同じかまたは異なる基であり、＊により結合位置が特徴付けられ、
Ｃはカルボニルおよびメチレンから選択される同じかまたは異なる基であり、
ｍ、ｎおよびｏは０〜１００の整数であり、
ｐは０〜６の整数であり、および
ｑは２〜６の整数である）の架橋剤、
を含有するモノマー溶液を噴霧する方法であって、少なくとも１種の架橋剤ｂ）が液滴表面に蓄積することを特徴とする、吸水性ポリマー粒子を製造する方法。
【請求項２】
架橋剤ｂ）が、一般式ＩＩ：
【化３】
2008527155.tif 000003
（式中、Ｒ、ＢおよびＣは前記の意味を表し、ｘおよびｚは同じかまたは異なり、０〜１００の整数であり、ｙは１〜２００の整数である。）の架橋剤である、請求項１記載の方法。
【請求項３】
一般式ＩＩ中のｘおよびｚは同じかまたは異なり、１〜５０の整数であり、ｙは３〜１００の整数である、請求項２記載の方法。
【請求項４】
一般式ＩＩ中のｘおよびｚは同じかまたは異なり、２〜３０の整数であり、ｙは５〜６０の整数である、請求項３記載の方法。
【請求項５】
架橋剤ｂ）がＡＳＴＭＤ３８２５により動的表面張力を測定する際に１０秒未満で平衡状態を達成する請求項１〜４何れかに記載の方法。
【請求項６】
モノマーａ）がアクリル酸またはメタクリル酸である請求項１から５までのいずれか１項記載の方法。
【請求項７】
モノマーａ）が部分的に中和されたアクリル酸またはメタクリル酸である請求項１から６までのいずれか１項記載の方法。
【請求項８】
モノマー溶液が、さらに、少なくとも２個の重合可能な基を有する他の架橋剤ｂ’）を含有する、請求項１〜７いずれかに記載の方法。
【請求項９】
ｉ）少なくとも部分的に中和されていてもよい、少なくとも１種のエチレン性不飽和の、酸基を有するモノマー、及び
ｉｉ）少なくとも１種の、式：
【化４】
2008527155.tif 000004
（式中、
Ｒは水素、メチルおよびエチルの群から選択される同じかまたは異なる基であり、
ＡはＣ３〜Ｃ２０−アルク（ｐ＋ｑ）イルまたはＣ３〜Ｃ２０−ヘテロアルク（ｐ＋ｑ）イルであり、
Ｂは
【化５】
2008527155.tif 000005
から選択される同じかまたは異なる基であり、＊により結合位置が特徴付けられ、
Ｃはカルボニルおよびメチレンから選択される同じかまたは異なる基であり、
ｍ、ｎおよびｏは０〜１００の整数であり、
ｐは０〜６の整数であり、および
ｑは２〜６の整数である）の架橋剤を重合して得られ、重合された架橋剤ｉｉ）の濃度が粒子内部に比べて粒子表面の領域で高くなっている吸水性ポリマー粒子。
【請求項１０】
架橋剤ｉｉ）が、一般式ＩＩ：
【化６】
2008527155.tif 000006
（式中、Ｒ、ＢおよびＣは前記の意味を表し、ｘおよびｚは同じかまたは異なり、０〜１００の整数であり、ｙは１〜２００の整数である。）の架橋剤である、請求項９記載の吸水性ポリマー粒子。
【請求項１１】
一般式ＩＩ中のｘおよびｚは同じかまたは異なり、１〜５０の整数であり、ｙは３〜１００の整数である、請求項１０記載の吸水性ポリマー粒子。
【請求項１２】
一般式ＩＩ中のｘおよびｚは同じかまたは異なり、２〜３０の整数であり、ｙは５〜６０の整数である、請求項１１記載の吸水性ポリマー粒子。
【請求項１３】
架橋剤ｉｉ）がＡＳＴＭＤ３８２５により動的表面張力を測定する際に１０秒未満で平衡状態を達成する請求項９〜１２何れかに記載の吸水性ポリマー粒子。
【請求項１４】
架橋剤ｉｉ）がラジカル重合されている、請求項９〜１３いずれかに記載のポリマー粒子。
【請求項１５】
さらに、少なくとも２個の重合可能な基を有する他の架橋剤ｉｉ’）が重合されている、請求項９〜１４いずれかに記載のポリマー粒子。
【請求項１６】
請求項９〜１５何れかに記載の吸水性ポリマー粒子を含有する衛生用品。
【請求項１７】
衛生用品がオムツである請求項１６記載の衛生用品。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３０】
モノマー溶液は有利に架橋剤ｂ）のほかになお他の架橋剤ｂ´）を含有する。架橋剤ｂ´）はポリマーネットワークにラジカル重合されていてもよい少なくとも２個の重合可能な基を有する化合物である。架橋剤ｂ）と組み合わせた架橋剤ｂ´）の使用により、粒子表面の領域および粒子内部で架橋度を互いに独立に最適にすることができる。適当な架橋剤ｂ´）は例えばエチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、アリルメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリアリルアミン、ＥＰＡ０５３０４３８号に記載されるテトラアリルオキシエタン、ＥＰＡ０５４７８４７号、ＥＰＡ０５５９４７６号、ＥＰＡ０６３２０６８号、ＷＯＡ９３／２１２３７号、ＷＯＡ０３／１０４２９９号、ＷＯＡ０３／１０４３００号、ＷＯＡ０３／１０４３０１号およびドイツ特許出願番号１０３３１４５０．４に記載されるジ−およびトリアクリレート、ドイツ特許出願番号１０３３１４５６．３および１０３５５４０１．７に記載される、アクリレート基のほかに他のエチレン不飽和基を有する混合アクリレート、または例えばＤＥＡ１９５４３３６８号、ＤＥＡ１９６４６４５４号、ＷＯＡ９０／１５８３０号およびＷＯＡ０２／３２９６２号に記載される架橋剤混合物である。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００７２】
本発明の他の対象は、
ｉ）少なくとも部分的に中和されていてもよい、少なくとも１種の重合されたエチレン性不飽和、酸基を有するモノマー、
ｉｉ）少なくとも１種の重合された架橋剤、
ｉｉｉ）場合により、１個以上の重合された、ｉ）に記載されたモノマーと共重合可能なエチレン性不飽和モノマーおよび／またはアリル不飽和モノマー、および
ｉｖ）場合により、ｉ）に記載されたモノマーが少なくとも部分的にグラフトされている、１個以上の水溶性ポリマーを含有し、共重合された架橋剤ｉｉ）の濃度が粒子内部に比べて粒子表面の領域で高くなっており、ｉ）〜ｉｖ）の成分に関して成分ａ）〜ｄ）に記載されたものが意味に即して該当する吸水性ポリマー粒子である。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成25年6月18日(2013.6.18)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ひとみ平面（Ｅ１、Ｅ３）または中間像平面（Ｅ２）によって互いに分離された、Ｎ≧２である投影対物レンズ（１０）の連続セクションＡ1〜ＡNに配置された複数の光エレメント（Ｐ、Ｓ、Ｌ１〜Ｌ８、Ｌ１３、Ｌ１９）を備えた、マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズであって、
少なくとも２つの光エレメントが、それぞれ、局部的に非球面再処理された表面を有し、第１の光エレメントが、ｊ＝１．．．Ｎである１つのセクションＡjに配置され、第２の光エレメントが、ｋ＝１．．．Ｎである他のセクションＡkに配置され、差の絶対値｜ｋ−ｊ｜が奇数であり、
前記第１の光エレメント及び前記第２の光エレメントの組み合わせは、複数のセクションに渡って複数分布する摂動によって生じる、偶数対称成分及び奇数対称成分の両方を含む視野依存性を持つ波面変形を修正することを特徴とする投影対物レンズ。
【請求項２】
ひとみ平面（Ｅ１、Ｅ３）またはその近傍に配置された、同じく、局部的に非球面再処理された表面を有する第３の光エレメントを特徴とする請求項１に記載の投影対物レンズ。
【請求項３】
前記局部再処理が、光軸に対して回転対称ではないことを特徴とする請求項１または２に記載の投影対物レンズ。
【請求項４】
局部材料浸食によって前記再処理が実行されることを特徴とする前記請求項のうちの一項に記載の投影対物レンズ。
【請求項５】
前記局部材料浸食の量が５００ｎｍ未満、好ましくは２００ｎｍ未満であることを特徴とする請求項４に記載の投影対物レンズ。
【請求項６】
前記波面変形が、前記複数の光エレメントのうちの１つの形状誤差または屈折率不均質によって生じることを特徴とする前記請求項のうちの一項に記載の投影対物レンズ。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１５】
そのために、直ぐ隣の少なくとも２つのセクションの表面を再処理するか、あるいは偶数の他のセクションが間に存在している２つのセクションの表面を再処理しなければならない。これは、同じセクションｎと直ぐ隣のセクションを除く隣接セクションｎ±２、またはより一般的には、ｋ＝０、１、２、．．．であるセクションｎ±２ｋ内で摂動毎に修正が実行されることを意味しており、変形によって生じる、偶数対称成分と奇数対称成分の両方を含むあらゆる視野依存波面変形をほぼ完全に修正することができることが保証されるのは、この方法によってのみである。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成24年12月13日(2012.12.13)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６７】
単一ステップまたは多ステップの熱成型プロセスにおいて湾曲したパネルを作製するには、湿式形成よりも乾式形成の方が好ましい。また、本乾式形成コアにおいて用いられたモールドデザインは、積層プラットフォーム部材により、コアの負荷に耐えられる対角線状の部材における強度および接着材の受理性を独自に最適化する機会を提供し、その結果、強力なグルーラインが生じ、これにより強いパネルとなる。対照的に、湿式形成プロセスにおいて用いられる３次元エラストマーモールドおよび排液部材においては、中央で積層されたパネルにその面に垂直な曲げ力がかかったときに生じる最大剪断応力面と一致する、完成パネルのグルーラインに沿った弱い平面がどうしても生じてしまう。この本来的な欠陥は、エラストマー「塊状」部材が排液部材の面に付着（および固定）する面に沿って、繊維ウェブの高密度化が低下することから生じる。この繊維高密度化が低下した面は、積層面およびその面に対して垂直なパネルに曲げ負荷がかかっているときの最大剪断応力面と一致し、これによりパネル強度が制限される。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６８】
本発明においては、乾式形成された繊維マットから深絞り３次元構造および強固な積層複合体を形成することを容易にするために、ある程度の変更を組み込むことができる。これらの変更により、米国特許第５，９００，３０４号のモールドデザインを用いた場合の結果が改善される。これらの変更は、モールドの幾何学上のパラメータを絞りの深さに対して所定の角度内に維持し、応力外皮面を通してパターンを電信しない積層隆起部を有するコアを作製しつつ、予形成マットを引き裂くことなく繊維絞りを得ることを含み得る。負荷に耐えられる対角線状の部材の角は、３次元コアの縦−横軸から測定して、好ましくは約３５度から、より好ましくは約４０度から、最も好ましくは約４５度から、好ましくは約７０度まで、より好ましくは約６５度まで、最も好ましくは約６０度までの範囲とすることができる。これらのコアの垂直軸方向の深さは、好ましくは約１／４インチから、より好ましくは約３／８インチから、最も好ましくは約１／２インチから、好ましくは約１−１／２インチまで、より好ましくは約１−１／４インチまで、最も好ましくは約１インチまでの範囲とすることができる。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６９】
また、これらの変更には、隅肉と湾曲コーナーをモールドデザインに組み込み、製品における応力集中を軽減し、成型プロセス中に積層プラットフォームとモールドデザインの負荷に耐えられる対角線状の部材の交差点における繊維絞りを容易にすることが含まれ得る。外装用の積層プラットフォームである隆起部の頂部および谷部の幅は可変であり、所定の厚さの完成パネルを作製するために必要とされる対角部材の深さと角度による。積層プラットフォームは、正確な完成パネル厚さ、積層面における十分な剪断強さを提供するとともに、外装ボードを通した電信（telegraphing）をなくすように寸法取りすることができる。外装ボードの水平面のパーセンテージとして、積層プラットフォーム寸法は、接触面積の好ましくは約１０％から、より好ましくは約１２％から、最も好ましくは約１５％から、約３０％まで、より好ましくは約２５％まで、最も好ましくは約２３％までである。また、繊維絞りを容易にするための曲率半径は、各辺で接する点において、隆起部の頂部または谷部の各辺で横積層プラットフォームに沿って隆起部または谷部を横切る距離の好ましくは約５％から、より好ましくは約１０％から、最も好ましくは約１５％から、約３５％まで、より好ましくは約３０％まで、最も好ましくは約２５％までである。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００７０】
さらに、これらの変更には、３次元コアの負荷に耐え得る積層部材の厚さおよび密度を独立して変化させることが含まれ得る。そのような壁厚さの範囲は、好ましくは約０．０８０インチから、より好ましくは約０．０９０インチから、最も好ましくは約０．１０インチから、約０．１８０インチまで、より好ましくは約０．１５０インチまで、最も好ましくは約０．１２０インチまでである。上述した密度範囲は、好ましくは約４５ポンド毎立方フィートから、より好ましくは約５０ポンド毎立方フィートから、最も好ましくは約５５ポンド毎立方フィートから、約７０ポンド毎立方フィートまで、より好ましくは約６５ポンド毎立方フィートまで、最も好ましくは約６０ポンド毎立方フィートまでである。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成25年9月18日(2013.9.18)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基質を有する天然の動物組織を提供するステップと、
該基質を架橋かつ固定するステップと、
該基質由来の抗原を最小化するステップと、
該基質をなめすステップと、
該基質に活性層を組み込むステップと、を含み、
前記活性層が、ポリペプチドまたはグリコサミノグリカンを含み、
前記基質由来の抗原を最小化するステップが、
前記基質のタンパク質中の特定の活性基である−ＯＨ、−ＮＨ２または−ＳＨを遮断する活性剤を利用することと、
前記基質中のタンパク質分子のらせん鎖における特定の水素結合を置換し、その特定の配座を変性するために強力な水素結合力を有する試薬であるグアニジン化合物を利用することと、
を含み、
前記活性剤が無水有機酸、塩化アシル、アシルアミド、またはエポキシドからなる群から選択され、
前記基質をなめすステップが、ポリグリコール酸またはポリ乳酸を前記基質に含まれるコラーゲン分子中にグラフトすることを含むことを特徴とする生体外科用パッチの作製方法。
【請求項２】
前記天然の動物組織が心膜であることを特徴とする請求項１に記載の生体外科用パッチの作製方法。
【請求項３】
生体外科用パッチであって、
基質を有し、該基質が架橋され、該基質由来の抗原が最小化され、かつ、該基質に含まれるコラーゲン分子にポリグリコール酸またはポリ乳酸がグラフトされ、該基質は組み込まれた活性層を有する、天然の動物組織を含んでなり、
前記活性層がポリペプチドまたはグリコサミノグリカンを含み、
前記基質のタンパク質中の特定の活性基である−ＯＨ、−ＮＨ２または−ＳＨを遮断する活性剤と、前記基質中のタンパク質分子のらせん鎖中の特定の水素結合を置換し、その特定の配座を変性する強力な水素結合力を有する試薬であるグアニジン化合物により前記抗原が前記基質から最小化され、前記活性剤が無水有機酸、塩化アシル、アシルアミド、またはエポキシドからなる群から選択されることを特徴とする生体外科用パッチ。
【請求項４】
前記天然の動物組織が心膜であることを特徴とする請求項３に記載の生体外科用パッチ。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００３】
ところで、従来、外科用粘着パッチにおいて、これら製品はまず合成材料で作製されたものであった。外科用粘着パッチを作製するのに利用されるこれら合成材料には、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリアミド、ダクロン（登録商標）樹脂、ポリテトラフルオロエチレン、シリコーンゲルおよび炭素繊維が含まれ、特に人体にとって異物であり、修復した組織中に一生残る。これら材料により、慢性的な拒絶反応によって生じる肉体的な刺激および合併症に起因する非細菌性の炎症疾患が引き起こされる場合が多々ある。
その他のパッチは、ポリグリコール酸（ＰＧＡ）、ポリ乳酸（ＰＬＡ）およびそれらのコポリマー（ＰＧＡ−ＰＬＡ）などの吸収可能な合成材料で作製されている。しかしながら、これらの材料の分解速度は、組織の回復速度に一致させるよう制御するのが困難であるため、急速な分解に起因して効力が不確実な場合が多い。さらに、分解した製品により局限的な酸度が生じる場合があり、この酸度が修復した組織の正常な治癒に影響を及ぼす。
近年、脱脂、細胞除去およびグルタルアルデヒドでの固定を含む従来の方法を介して筋膜およびウシの心膜などの動物の膜組織が利用されているが、細胞除去だけが抗原を排除するための唯一の方法として採用されるため、抗原の排除はほとんど効果がない。さらに、グルタルアルデヒドによる組織の固定は、アセタール化による架橋によって達成され、グルタルアルデヒドは分解中に放出されて残存する毒性を残すため、より強い細胞毒性が生じ、固有組織における成長が困難になり修復効果が不十分になる。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１３】
化学試薬は、組織固定に用いるのに本明細書で説明したのと同じであってよい。タンパク質グラフト法により、組織の機械的強度、靱性、剛性並びに係数をさらに改善することができる。タンパク質グラフト法には、大量のポリマー鎖が必要であるため、タンパク質構造の性質を実質的に変化させることができる。高分子ポリマーのいくつかは、重縮合性プライマーを用いることにより、コラーゲン分子中にグラフトさせることができる。危険材料が人体に導入するのを避けるために、ポリグリコール酸（ＰＧＡ）、ポリ乳酸（ＰＬＡ）、その他などの生分解性の高分子ポリマーをグラフト剤として用いることが好ましい。これらの生分解性ポリマーは、ちょうど炭水化物や脂肪の代謝のように、トリカルボン酸回路（ＴＣＡ回路）を介して宿主環境内で固定することができる。そのような広範なタンパク質の改質後、組織材料の機械特性に悪影響を及ぼすことなく、２５ｋＧｙのガンマ線殺菌を適用することができる。たんぱく質グラフトの総量は最適に制御することができる。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２０】
強度向上のための改質
上記ステップ６において、強力な基質を作製するために、タンパク質で強化することにより基質を改質する。膜組織の中には、ヘルニア修復パッチなどの実用的な用途に必要な機械的強度がないものがあり、生化学的処理中に機械的強度が低下する場合が多いため、コラーゲン分子上へ適切なグラフトを実施する。この場合、ポリアミド、ポリアミン、ポリエステル、ポリ乳酸、またはポリグリコール酸のフラグメントを、コラーゲン分子上に適当にグラフトする。利用する材料はこれらの材料のプレポリマーであってよく、方法には縮合などのポリマーグラフト法、誘導および照射が包含される。この改質により、基質の機械的強度並びに靱性が向上される。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成25年6月21日(2013.6.21)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の化学式（Ｉ）に対応する化合物を含むナノ粒子からなるスピン転移材料であって：
【化１】
2009519879.tif 000001
式中、
−Ｌは、４位の窒素に置換基Ｒを有した１，２，４−トリアゾール配位子であり；
−Ｘは、価数ｘのアニオンであり、１≦ｘ≦２であり；
−Ｙは、価数ｘ´のＸ以外のアニオンであり、１≦ｘ´≦２であり；
−Ｒは、アルキル基、又は、Ｒ1Ｒ2Ｎ−基であり、Ｒ1及びＲ2は独立別個に、Ｈ又はアルキル基であり；
−Ｍは、鉄（Ｆｅ）以外の３ｄ4、３ｄ5、３ｄ6、又は、３ｄ7軌道を有する金属であり;
−ｙは、０≦ｙ≦１であり、
−ｚは、０≦ｚ≦２であり、
−ｗは、３≦ｗ≦１５００であり、
粒子の平均粒径が１〜５００ｎｍである材料。
【請求項２】
Ｒは１〜８個の炭素原子を有するアルキル基、又は、Ｒ1Ｒ2Ｎ−基であり、Ｒ1及びＲ2は独立別個に、Ｈ又は１〜８個の炭素原子を有するアルキル基であることを特徴とする請求項１に記載の材料。
【請求項３】
アニオンＸ及びＹは独立別個に、ＢＦ4-、ＣｌＯ4-、Ｂｒ-、Ｃｌ-及びＮＯ3-から選択される一価のアニオン、又は、ＳＯ42-及びＣＯ32-から選択される二価のアニオンであることを特徴とする請求項１に記載の材料。
【請求項４】
［（ＦｅＬ3）wＬ3］［Ｘ2/x］w又は［（Ｆｅ1-yＭyＬ3）wＬ3］［Ｘ2/x］wの化学式に対応することを特徴とする請求項１に記載の材料。
【請求項５】
Ｍが、Ｚｎ、Ｍｎ、Ｎｉ又はＣｏであることを特徴とする請求項１に記載の材料。
【請求項６】
前記ナノ粒子錯体がシリカフィルムで被覆されていることを特徴とする請求項１に記載の材料。
【請求項７】
単一溶媒中又は混合溶媒中のＦｅ（ＩＩ）塩及び任意に金属Ｍの前駆体を含んだ溶液を、単一溶媒中又は混合溶媒中の配位子Ｌの溶液と混合することを特徴とする請求項１に記載の材料の製造方法。
【請求項８】
以下のステージを含むことを特徴とする請求項７に記載の方法：
ａ）界面活性を有している油性組成物を、アスコルビン酸を含有する少なくとも一種以上の鉄塩の水性溶液に急速な撹拌と共に、添加することによる油中水型のエマルジョンの製造；
ｂ）界面活性を有している油性組成物を、配位子の水性溶液に急速な撹拌と共に、添加することによる油中水型のエマルジョンの製造；
ｃ）前記２つのエマルジョンを混合し、その後１〜１０分間急速な撹拌を行う混合；
ｄ）ナノ粒子の構造に影響を与えないがエマルジョンを変性させる溶媒の添加によるナノ粒子の沈殿形成；
ｅ）複数回の「前記溶媒及び遠心分離による洗浄」サイクルと、その後の溶媒の蒸発による沈殿の抽出。
【請求項９】
界面活性を有している油性組成物が、油に界面活性剤を添加して得られる組成物、又は界面活性剤と油の両方の特性を有する単一の物質であることを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
以下のステージを含むことを特徴とする請求項７に記載の方法：
ａ．少なくとも一種以上の鉄塩の水性溶液を、油中の界面活性剤の溶液に添加し、そして、透明な溶液が得られるまで超音波をかけることによる油中水型のマイクロエマルジョンの製造；
ｂ．配位子の水性溶液を、油中の界面活性剤の溶液に添加し、そして、透明な溶液が得られるまで超音波をかけることによる油中水型のマイクロエマルジョンの製造；
ｃ．前記２つのマイクロエマルジョンを混合し、そして、透明な溶液が得られるまで超音波をかけることによる混合；
ｄ．ナノ粒子の構造に影響を与えないがエマルジョンを変性させる溶媒の添加によるナノ粒子の沈殿形成。
【請求項１１】
以下の化学式（Ｉ）の化合物を含むナノ粒子からなる材料の製造方法であって：
【化２】
2009519879.tif 000002
式中、ｙ≠０及びｚ＝０であり、
Ｍの塩の水性溶液を製造し、Ｆｅ塩の水性溶液に添加し、その後にこれを界面活性を有している油性組成物に添加することを特徴とする請求項８又は１０に記載の方法。
【請求項１２】
以下の化学式（Ｉ）の化合物を含むナノ粒子からなる材料の製造方法であって：
【化３】
2009519879.tif 000003
式中、ｚ≠０及びｙ＝０であり、
アニオンとＦｅ塩、及び、他のアニオンと鉄塩を含んだ水性溶液を製造し、その後にこれを界面活性を有している油性組成物に添加することを特徴とする請求項８又は１０に記載の方法。
【請求項１３】
以下の化学式（Ｉ）の化合物を含むナノ粒子からなる材料の製造方法であって：
【化４】
2009519879.tif 000004
式中、ｙ≠０及びｚ≠０であり、
アニオンと少なくとも一種のＦｅ塩、及び、他のアニオンと少なくとも一種のＭの塩を含んだ溶液を製造することを特徴とする請求項８又は１０に記載の方法。
【請求項１４】
シリカで被覆された以下の化学式（Ｉ）の化合物を含むナノ粒子からなる材料の製造方法であって：
【化５】
2009519879.tif 000005
シリル誘導体を、ステージｄ）の前に、反応媒体に添加することを特徴とする請求項８又は１０に記載の方法。
【請求項１５】
シリル誘導体が、テトラエトキシシラン、(ｎ−オクタデシル)トリエトキシシラン、又は、(ｎ−オクチル)トリエトキシシランであることを特徴とする請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
示温顔料、データストレージの支持体、光リミッタ、又は、光学ゲートとしての請求項１に記載の材料の使用。
【請求項１７】
請求項１に記載の材料を含むことを特徴とする癌細胞を検出するための造影剤。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成24年12月19日(2012.12.19)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３０】
Dll4の細胞外ドメインは、Delta/Serrate/Lag-2（DSL）ドメイン、および直列に並んだ8つの上皮成長因子（EGF）様リピートから構成される。通常、EGFドメインは、hDll4（SEQ ID NO：2）のおよその位置218〜251（ドメイン1）、252〜282（ドメイン2）、284〜322（ドメイン3）、324〜360（ドメイン4）、および362〜400（ドメイン5）に出現すると認識され、DSLドメインは約173〜217位にあり、N末端ドメインは約27〜172位である。特定の態様において、Dll4活性を阻害することができるhDll4アンタゴニストは、hFc（SEQ ID NO：20）に融合したSEQ ID NO：2のアミノ酸約27〜約172を含むDSL-hFc（SEQ ID NO：21）、hFcに融合したSEQ ID NO：2の約27〜217を含むN末端ドメイン-DSL-hFc（SEQ ID NO：22）、hFcに融合した約218〜400を含むEGFドメイン1-5-hFc（SEQ ID NO：23）、hFcに融合した約218〜360を含むEGFドメイン1-4-hFc（SEQ ID NO：24）、hFcに融合した約218〜322を含むEGFドメイン1-3-hFc（SEQ ID NO：25）、hFcに融合した約218〜282を含むEGFドメイン1-2-hFc（SEQ ID NO：26）、または任意でドメイン成分間のリンカーを含むそれらの変種である。融合タンパク質の成分はまた、Dll4アンタゴニストとして作用する能力を保持したまま、様々な立体配置で配置され得る。