Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月29日(2009.6.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子写真感光体に接触し回転可能な帯電部材に振動電圧を印加する電圧印加手段と、
前記帯電部材に印加された振動電圧の振幅値Ｖｐを検出する電圧振幅値検出手段と、
前記振動電圧の微分波形の振幅値Ｖｄを検出する微分電圧振幅値検出手段と、を有し、
｜Ｖｐ−Ｖｄ｜が閾値Ｖｔｈ以上となった場合に、前記帯電部材表面に付着した汚染物を除去するためのクリーニングシーケンスを実行する
ことを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
電子写真感光体に接触し回転可能な帯電部材に振動電圧を印加する電圧印加手段と、
前記帯電部材に印加された振動電圧の振幅値Ｖｐを検出する電圧振幅値検出手段と、
前記振動電圧の微分波形の振幅値Ｖｄを検出する微分電圧振幅値検出手段と、を有し、
電子写真感光体の画像形成領域を帯電する際に前記帯電部材に印加される振動電圧は定電流制御され、
｜Ｖｐ−Ｖｄ｜が大きくなるにつれて、前記定電流制御の目標電流を小さくする
ことを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
上記目的を達成するために、本発明の第１の発明は、
電子写真感光体に接触し回転可能な帯電部材に振動電圧を印加する電圧印加手段と、前記帯電部材に印加された振動電圧の振幅値Ｖｐを検出する電圧振幅値検出手段と、前記振動電圧の微分波形の振幅値Ｖｄを検出する微分電圧振幅値検出手段と、を有し、｜Ｖｐ−Ｖｄ｜が閾値Ｖｔｈ以上となった場合に、前記帯電部材表面に付着した汚染物を除去するためのクリーニングシーケンスを実行することを特徴とする画像形成装置である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
本発明の第２の発明は、
電子写真感光体に接触し回転可能な帯電部材に振動電圧を印加する電圧印加手段と、前記帯電部材に印加された振動電圧の振幅値Ｖｐを検出する電圧振幅値検出手段と、前記振動電圧の微分波形の振幅値Ｖｄを検出する微分電圧振幅値検出手段と、を有し、電子写真感光体の画像形成領域を帯電する際に前記帯電部材に印加される振動電圧は定電流制御され、｜Ｖｐ−Ｖｄ｜が大きくなるにつれて、前記定電流制御の目標電流を小さくすることを特徴とする画像形成装置である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月21日(2009.4.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ディスプレイの表示制御が可能な内蔵グラフィックコントローラと、
グラフィックコントローラ搭載のグラフィックカードを接続可能なスロットと、
前記スロットに前記グラフィックカードが接続されているとき、前記スロットに接続されたグラフィックコントローラに表示制御させるとともに、前記内蔵グラフィックコントローラに符号化データの演算処理を実行させる制御手段と、を含むことを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
前記制御手段は、前記符号化データの処理状況に応じて、前記内蔵グラフィックコントローラの起動及び停止を制御することを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記内蔵グラフィックコントローラは、前記符号化データを復号し得られた画像データを、前記グラフィックカードへ転送可能であることを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項４】
ディスプレイの表示制御が可能な内蔵グラフィックコントローラと、
グラフィックコントローラが外付けされたとき、前記内蔵グラフィックコントローラに前記表示制御以外の処理を実行させる制御手段と、を含むことを特徴とする情報処理装置。
【請求項５】
前記内蔵グラフィックコントローラは、グラフィック・メモリ・コントローラ・ハブ（ＧＭＣＨ）に含まれていることを特徴とする請求項１又は４に記載の情報処理装置。
【請求項６】
前記グラフィックコントローラは、ＡＧＰ（Advanced Graphics Port）又はＰＣＩ Expressの規格に準拠したグラフィックカードであることを特徴とする請求項１又は４に記載の情報処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は、上記目的を達成するため、ディスプレイの表示制御が可能な内蔵グラフィックコントローラと、グラフィックコントローラ搭載のグラフィックカードを接続可能なスロットと、前記スロットに前記グラフィックカードが接続されているとき、前記スロットに接続されたグラフィックコントローラに表示制御させるとともに、前記内蔵グラフィックコントローラに符号化データの演算処理を実行させる制御手段と、を含むことを特徴とする情報処理装置を提供する。
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月22日(2009.4.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
DSP１２は、映像信号に各種の信号処理を適用する。例えば、DSP１２は、信号処理によって映像信号からAF（Auto Focus）またはAE（Auto Exposure）などの制御信号を生成して、生成した制御信号を図示せぬ光学系に供給する。また、例えば、DSP１２は、映像信号にAWB（Auto White Balance）の信号処理を適用する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９０】
このように、静止画像または動画像を撮影する場合においても、有機ELディスプレイ１４は、縁取りを付加され、半透明とされたアイコン８２−１，８２−４、および８２−６乃至アイコン８２−９を表示する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９１】
以下、アイコン８２−１乃至８２−９を個々に区別する必要がない場合、単に、アイコン８２と称する。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月30日(2009.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の光電変換素子を配列したセンサを二つ有し、該センサからそれぞれ信号を読み出すことで焦点検出を行う位相差検出型焦点検出装置において、
前記二つのセンサは、それぞれ複数のリニアセンサからなり、
前記二つのセンサはそれぞれ、前記光電変換素子の蓄積時間を制御する複数の蓄積制御回路と、前記光電変換素子の信号出力を読み出す複数の走査回路と、を具備し、
前記二つのセンサのそれぞれをリニアセンサごとに独立に蓄積制御して独立に信号出力を読み出す第１のモードを実行する第１の駆動手段と、
前記二つのセンサのそれぞれをまとめて蓄積制御して信号出力を読み出す第２のモードを実行する第２の駆動手段と、を備えたことを特徴とする位相差検出型焦点検出装置。
【請求項２】
前記第１の駆動手段は、前記第１のモードを実行する際に前記複数の走査回路を独立に駆動し、
前記第２の駆動手段は、前記第２のモードを実行する際に前記複数の走査回路を順次駆動することを特徴とする請求項１記載の位相差検出型焦点検出装置。
【請求項３】
前記複数の蓄積制御回路は、複数配列された前記光電変換素子の信号出力の最大値と最小値を検出し、その検出された最大値と最小値との差分に基づいて被写体像の輝度のコントラストが所定の値になるように前記光電変換素子の蓄積時間を制御することを特徴とする請求項１又は２記載の位相差検出型焦点検出装置。
【請求項４】
前記複数のリニアセンサは、互いに密接して配置されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の位相差検出型焦点検出装置。
【請求項５】
前記複数のリニアセンサは、互いの配列方向を揃えて配置されていることを特徴とする請求項４記載の位相差検出型焦点検出装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の位相差検出型焦点検出装置を具備することを特徴とするカメラシステム。
【請求項７】
複数の光電変換素子を配列したセンサを二つ有し、該センサからそれぞれ信号を読み出すことで焦点検出を行う位相差検出型焦点検出装置の駆動方法において、
前記二つのセンサは、それぞれ複数のリニアセンサからなり、前記複数のリニアセンサの蓄積時間を制御する複数の蓄積制御回路と、前記複数のリニアセンサの信号出力を読み出す複数の走査回路とを具備し、
前記複数のリニアセンサを独立に蓄積制御して独立に信号出力を読み出す第１のモードを実行するステップと、前記複数のリニアセンサをまとめて蓄積制御して信号出力を読み出す第２のモードを実行するステップとを有することを特徴とする位相差検出型焦点検出装置の駆動方法。
【請求項８】
前記第１のモードを実行するステップは、前記複数の走査回路を独立に駆動し、
前記第２のモードを実行するステップは、前記複数の走査回路を順次駆動することを特徴とする請求項７記載の位相差検出型焦点検出装置の駆動方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月14日(2009.4.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
顕微鏡と、
前記顕微鏡に設けられ、標本を載置するステージと、
前記顕微鏡に設けられ、前記ステージ上の標本の像を観察するための第１対物レンズと、
前記顕微鏡の一端側に設けられ、前記第１対物レンズを介して前記標本を観察する接眼部と、
前記顕微鏡の前記一端側と反対側の他端側に設けられ、各種の拡張用光学装置を支持する、前記顕微鏡の設置面に垂直に延びたベース本体とを備え、
前記ベース本体は、前記ステージ側に向いている第一設置面及び前記第一設置面の裏面の第二設置面に、それぞれ前記拡張用光学装置が設けられることを特徴とする光学装置拡張用支援装置。
【請求項２】
請求項１に記載の光学装置拡張用支援装置において、
前記第二設置面には前記拡張用光学装置の光軸方向の位置を調整するためのレールが形成されていることを特徴とする光学装置拡張用支援装置。
【請求項３】
請求項２に記載の光学装置拡張用支援装置において、
前記ベース本体は、前記ステージの一端を支持しており、前記第二設置面には前記拡張用光学装置としてレーザー光源が設置されていることを特徴とする光学装置拡張用支援装置。
【請求項４】
請求項１に記載の光学装置拡張用支援装置において、
前記ベース本体は、前記第一設置面側に透明照明装置を備え、また前記第二設置面側に全反射照明用光学装置を備えたことを特徴とする光学装置拡張用支援装置。
【請求項５】
請求項１に記載の光学装置拡張用支援装置において、
前記ベース本体は、矩形状の平板からなり、前記第二設置面側には水平方向に複数のレールが形成され、複数の前記拡張用光学装置が前記レール上を位置調整可能に設置されていることを特徴とする光学装置拡張用支援装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
前述の課題を解決するため請求項１の発明の光学装置拡張用装置は、顕微鏡と、前記顕微鏡に設けられ、標本を載置するステージと、前記顕微鏡に設けられ、前記ステージ上の標本の像を観察するための第１対物レンズと、前記顕微鏡の一端側に設けられ、前記第１対物レンズを介して前記標本を観察する接眼部と、前記顕微鏡の前記一端側と反対側の他端側に設けられ、各種の拡張用光学装置を支持する、前記顕微鏡の設置面に垂直に延びたベース本体とを備え、前記ベース本体は、前記ステージ側に向いている第一設置面及び前記第一設置面の裏面の第二設置面に、それぞれ前記拡張用光学装置が設けられることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
請求項２の発明は、請求項１に記載の光学装置拡張用支援装置において、前記第二設置面には前記拡張用光学装置の光軸方向の位置を調整するためのレールが形成されていることを特徴とする。
請求項３の発明は、請求項２に記載の光学装置拡張用支援装置において、前記ベース本体は、前記ステージの一端を支持しており、前記第二設置面には前記拡張用光学装置としてレーザー光源が設置されていることを特徴とする。
請求項４の発明は、請求項１に記載の光学装置拡張用支援装置において、前記ベース本体は、前記第一設置面側に透明照明装置を備え、また前記第二設置面側に全反射照明用光学装置を備えたことを特徴とする。
請求項５の発明は、請求項１に記載の光学装置拡張用支援装置において、前記ベース本体は、矩形状の平板からなり、前記第二設置面側には水平方向に複数のレールが形成され、複数の前記拡張用光学装置が前記レール上を位置調整可能に設置されていることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月15日(2009.4.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
また図２に示すように、Ｘ−Ｙ平面での断面において、スクリーン最下点に達する光束の中心線をＬＬ、スクリーン最上点に達する光束の中心線をＬＨとし、中心線ＬＬとＸ−Ｚ平面とがなす角度をΨ、中心線ＬＨとＹ−Ｚ平面（スクリー
ン３０）とがなす角度をθとする。ここで、角度Ψが９０度のとき奥行Ｄが最小になり投
影装置１００の小型化が達成され、かつスクリーン３０上で非点収差が発生して像がＹ方
向に延びる現象を有効に防止する効果が得られる。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月26日(2009.3.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
前記基板の周辺部に形成された端子群と、
前記端子群の所定の端子に、電気的・機械的に接続されるフレキシブル配線基板とを有し、
前記端子群は、前記第１検査端子とは異なる位置に配置された第１ホトセンサ端子と、
前記第２検査端子とは異なる位置に配置された第２ホトセンサ端子と、
前記第３検査端子とは異なる位置に配置された第３ホトセンサ端子とを有し、
前記第１ホトセンサ端子は、前記第１ホトセンサ配線を介して前記少なくとも１個の薄膜トランジスタの前記第１電極に接続され、
前記第２ホトセンサ端子は、前記第２ホトセンサ配線を介して前記少なくとも１個の薄膜トランジスタの前記第２電極に接続され、
前記第３ホトセンサ端子は、前記第３ホトセンサ配線を介して前記少なくとも１個の薄膜トランジスタの前記制御電極に接続されていることを特徴とする請求項２に記載の表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
前記端子群は、第１制御端子を有し、
前記基板は、前記少なくとも１個の第１スイッチング素子の前記制御電極と前記第１制御端子とを接続する第１制御配線を有し、
前記第１制御端子には、通常の使用状態において、前記少なくとも１個の第１スイッチング素子をオフとする制御電圧が供給されることを特徴とする請求項３に記載の表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月4日(2009.6.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
取得手段が、現実空間を撮像する撮像装置から画像を取得する取得工程と、
管理手段が、前記取得工程で取得した画像中に、仮想物体に対する操作入力を行うための操作入力装置に固有の情報が含まれている場合には、前記撮像装置に固有の情報と、当該操作入力装置に固有の情報とを関連付けて、メモリ内で管理する管理工程と
を備えることを特徴とする画像処理方法。
【請求項２】
更に、
処理手段が、前記操作入力装置からの操作入力を検知した場合には、前記操作入力装置に固有の情報に関連付けて前記管理工程で管理されている情報が示す撮像装置の位置姿勢に基づいて、当該操作入力の対象となる仮想物体について処理を行う処理工程と、
生成手段が、前記撮像装置の位置姿勢に応じて見える仮想空間の画像を生成する生成工程と、
出力手段が、前記取得工程で取得した画像と、前記生成工程で生成した画像との合成画像を生成し、外部に出力する出力工程と
を備えることを特徴とする請求項１に記載の画像処理方法。
【請求項３】
前記管理工程では、前記取得工程で取得した画像中に、仮想物体に対する操作入力を行うための操作入力装置に固有の情報が含まれていない場合には、前記撮像装置に固有の情報と、予め定めた値とを関連付けて、メモリ内で管理することを特徴とする請求項１に記載の画像処理方法。
【請求項４】
第１の取得手段が、頭部装着型表示装置の位置姿勢を取得する第１の取得工程と、
第２の取得手段が、仮想物体に対する操作入力を行うための操作入力装置の位置姿勢を取得する第２の取得工程と、
管理手段が、前記第１の取得工程で取得した位置姿勢と、前記第２の取得工程で取得した位置姿勢と、の関係が予め定めた関係を満たす場合には、前記頭部装着型表示装置に固有の情報と、前記操作入力装置に固有の情報とを関連付けて、メモリ内で管理する管理工程と
を備えることを特徴とする画像処理方法。
【請求項５】
現実空間を撮像する撮像装置から画像を取得する取得手段と、
前記取得手段が取得した画像中に、仮想物体に対する操作入力を行うための操作入力装置に固有の情報が含まれている場合には、前記撮像装置に固有の情報と、当該操作入力装置に固有の情報とを関連付けて、メモリ内で管理する管理手段と
を備えることを特徴とする画像処理装置。
【請求項６】
頭部装着型表示装置の位置姿勢を取得する第１の取得手段と、
仮想物体に対する操作入力を行うための操作入力装置の位置姿勢を取得する第２の取得手段と、
前記第１の取得手段が取得した位置姿勢と、前記第２の取得手段が取得した位置姿勢と、の関係が予め定めた関係を満たす場合には、前記頭部装着型表示装置に固有の情報と、前記操作入力装置に固有の情報とを関連付けて、メモリ内で管理する管理手段と
を備えることを特徴とする画像処理装置。
【請求項７】
コンピュータに請求項１乃至４の何れか１項に記載の画像処理方法を実行させるためのプログラム。
【請求項８】
請求項７に記載のプログラムを格納したことを特徴とする、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
即ち、取得手段が、現実空間を撮像する撮像装置から画像を取得する取得工程と、
管理手段が、前記取得工程で取得した画像中に、仮想物体に対する操作入力を行うための操作入力装置に固有の情報が含まれている場合には、前記撮像装置に固有の情報と、当該操作入力装置に固有の情報とを関連付けて、メモリ内で管理する管理工程と
を備えることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
即ち、第１の取得手段が、頭部装着型表示装置の位置姿勢を取得する第１の取得工程と、
第２の取得手段が、仮想物体に対する操作入力を行うための操作入力装置の位置姿勢を取得する第２の取得工程と、
管理手段が、前記第１の取得工程で取得した位置姿勢と、前記第２の取得工程で取得した位置姿勢と、の関係が予め定めた関係を満たす場合には、前記頭部装着型表示装置に固有の情報と、前記操作入力装置に固有の情報とを関連付けて、メモリ内で管理する管理工程と
を備えることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
即ち、現実空間を撮像する撮像装置から画像を取得する取得手段と、
前記取得手段が取得した画像中に、仮想物体に対する操作入力を行うための操作入力装置に固有の情報が含まれている場合には、前記撮像装置に固有の情報と、当該操作入力装置に固有の情報とを関連付けて、メモリ内で管理する管理手段と
を備えることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月26日(2009.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入力画像を二値化する二値化手段と、
前記二値化手段によって二値化した入力画像について所定の属性を有する領域を検出する領域検出手段と、
前記領域検出手段によって検出した領域を前記入力画像から削除して第二入力画像を生成する画像生成手段と、
前記第二入力画像を前記入力画像として、前記二値化手段と前記領域検出手段とによる処理を繰り返し、階層別の二値化画像から前記所定の属性を有する領域を取得することを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記二値化手段で二値化する入力画像は多値の輝度値を有することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記階層別に分割された領域間の結合性を求める判断手段と、
前記判断手段によって領域間の結合性が高いと判断された複数の領域を単一領域に結合する結合手段と、
を更に備えることを特徴とする請求項１又は２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
入力画像を二値化する二値化ステップと、
前記二値化ステップによって二値化した入力画像について所定の属性を有する領域を検出する領域検出ステップと、
前記領域検出ステップで検出した領域を前記入力画像から削除して第二入力画像を生成する画像生成ステップと、
前記第二入力画像を前記入力画像として、前記二値化ステップと前記領域検出ステップとを繰り返し、階層別の二値化画像から前記所定の属性を有する領域を取得することを特徴とする画像処理方法。
【請求項５】
コンピュータを、
入力画像を二値化する二値化手段と、
前記二値化手段によって二値化した入力画像について所定の属性を有する領域を検出する領域検出手段と、
前記領域検出手段によって検出した領域を前記入力画像から削除して第二入力画像を生成する画像生成手段と、
前記第二入力画像を前記入力画像として、前記二値化手段と前記領域検出手段とによる処理を繰り返し、階層別の二値化画像から前記所定の属性を有する領域を取得する取得手段として機能させることを特徴とするプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記の目的を達成するために本発明の画像処理装置は、入力画像を二値化する二値化手段と、前記二値化手段によって二値化した入力画像について所定の属性を有する領域を検出する領域検出手段と、前記領域検出手段によって検出した領域を前記入力画像から削除して第二入力画像を生成する画像生成手段と、前記第二入力画像を前記入力画像として、前記二値化手段と前記領域検出手段とによる処理を繰り返し、階層別の二値化画像から前記所定の属性を有する領域を取得することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月30日(2009.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
更に、前記被写体の前記状態の変化パターンが表す動作を検出する動作検出手段を備え、
前記動作検出手段が特定の動作を検出した場合に、前記決定手段は、前記複数の個体識別処理モジュールのうち、当該特定の動作に対応する個体識別処理モジュールを決定することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１２】
画像処理装置が行う画像処理方法であって、
取得手段が、被写体を含む画像を取得する取得工程と、
検出手段が、前記画像中における前記被写体の状態を検出する検出工程と、
決定手段が、複数の個体識別処理モジュールのうち、前記検出工程で検出した状態に対応する個体識別処理モジュールを決定する決定工程と、
処理手段が、前記画像中における前記被写体に対して、前記決定工程で決定した個体識別処理モジュールによる個体識別処理を行うことで、前記被写体の個体識別を行う処理工程と
を備えることを特徴とする画像処理方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
即ち、画像処理装置が行う画像処理方法であって、
取得手段が、被写体を含む画像を取得する取得工程と、
検出手段が、前記画像中における前記被写体の状態を検出する検出工程と、
決定手段が、複数の個体識別処理モジュールのうち、前記検出工程で検出した状態に対応する個体識別処理モジュールを決定する決定工程と、
処理手段が、前記画像中における前記被写体に対して、前記決定工程で決定した個体識別処理モジュールによる個体識別処理を行うことで、前記被写体の個体識別を行う処理工程と
を備えることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月7日(2009.5.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象物を測光する測光手段と、
前記対象物に対する対物光学系の焦点検出を位相差検出方式により行う焦点検出手段と、
前記測光手段からの測光情報および該測光情報に対応する前記焦点検出手段からの焦点検出情報に基づいて、前記対象物を追尾する追尾手段とを備えることを特徴とする追尾装置。
【請求項２】
請求項１に記載の追尾装置において、
前記測光手段および前記焦点検出手段はそれぞれ、前記対物光学系の視野内の複数の位置において前記測光情報および前記焦点検出情報を求め、
前記追尾手段は、前記複数の位置における測光情報および焦点検出情報のうち、前記対象物に対する前記測光情報および前記焦点検出情報との一致度が高い情報を有する位置を、前記対象物が存在する位置と判断することを特徴とする追尾装置。
【請求項３】
請求項２に記載の追尾装置において、
前記追尾手段は、前記測光手段が前記測光情報を求める測光位置を前記焦点検出手段が前記焦点検出情報を求める焦点検出位置とが異なる場合、前記測光位置の近傍の焦点検出位置で検出される焦点検出情報に基づいて前記追尾を行なうことを特徴とする追尾装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の追尾装置において、
前記測光情報は、前記対象物の輝度または色情報であることを特徴とする追尾装置。
【請求項５】
請求項４に記載の追尾装置において、
前記追尾手段は、前記測光情報として前記色情報と前記輝度情報とを用い、前記焦点検出情報としてデフォーカス量を用いて前記追尾を行なうことを特徴とする追尾装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の追尾装置と、 
前記焦点検出手段が求めた焦点検出情報に応じて、前記対物光学系の焦点位置を調節する焦点調節光学系の駆動量を求めるフォーカス制御手段とを備え、 
前記追尾手段は、前記焦点検出手段が焦点検出を行う対象を追尾することを特徴とするオートフォーカス装置。 
【請求項７】
請求項６に記載のオートフォーカス装置において、 
前記追尾手段は、前記焦点調節光学系が駆動された量に応じて前記焦点検出情報を補正することを特徴とするオートフォーカス装置。 
【請求項８】
請求項６または７に記載のオートフォーカス装置において、 
前記追尾手段は、前記対象物の移動に伴う前記対物光学系の結像面の移動を予測し、当該予測結果に応じて前記焦点検出情報を補正することを特徴とするオートフォーカス装置。
【請求項９】
請求項６〜８のいずれか一項に記載のオートフォーカス装置を備えたことを特徴とするカメラ。
【請求項１０】
請求項９に記載のカメラにおいて、
前記対象物を撮像する撮像素子を備え、
前記撮像素子と前記測光手段と前記焦点検出手段とを、それぞれ別個に設けたことを特徴とするカメラ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
（１）本発明による追尾装置は、対象物を測光する測光手段と、対象物に対する対物光学系の焦点検出を位相差検出方式により行う焦点検出手段と、測光手段からの測光情報および該測光情報に対応する焦点検出手段からの焦点検出情報に基づいて、対象物を追尾する追尾手段とを備えることを特徴とする。
（２）請求項１に記載の追尾装置において、測光手段および焦点検出手段はそれぞれ、対物光学系の視野内の複数の位置において測光情報および焦点検出情報を求め、追尾手段は、複数の位置における測光情報および焦点検出情報のうち、対象物に対する測光情報および焦点検出情報との一致度が高い情報を有する位置を、対象物が存在する位置と判断することもできる。
（３）請求項２に記載の追尾装置において、追尾手段は、測光手段が測光情報を求める測光位置と焦点検出手段が焦点検出情報を求める焦点検出位置とが異なる場合、測光位置の近傍の焦点検出位置で検出される焦点検出情報に基づいて追尾を行うことが好ましい。
（４）請求項１〜３のいずれか一項に記載の追尾装置において、測光情報は、対象物の輝度または色情報であることが好ましい。
（５）請求項４に記載の追尾装置において、追尾手段は、測光情報として色情報と輝度情報とを用い、焦点検出情報としてデフォーカス量を用いて追尾を行なうこともできる。
（６）本発明によるオートフォーカス装置は、請求項１〜５のいずれか一項に記載の追尾装置と、焦点検出手段が求めた焦点検出情報に応じて、対物光学系の焦点位置を調節する焦点調節光学系の駆動量を求めるフォーカス制御手段とを備え、追尾手段は、焦点検出手段が焦点検出を行う対象を追尾することを特徴とする。
（７）請求項６に記載のオートフォーカス装置において、追尾手段は、焦点調節光学系が駆動された量に応じて焦点検出情報を補正することが好ましい。
（８）請求項６または７に記載のオートフォーカス装置において、追尾手段は、対象物の移動に伴う対物光学系の結像面の移動を予測し、当該予測結果に応じて焦点検出情報を補正することが好ましい。
（９）本発明によるカメラは、請求項６〜８のいずれか一項に記載のオートフォーカス装置を備えたことを特徴とする。
（１０）請求項９に記載のカメラはさらに、対象物を撮像する撮像素子を備えてもよい。この場合の撮像素子と測光手段と焦点検出手段とを、それぞれ別個に設けてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月22日(2009.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ソース又はドレインの一方がソース線に接続され、他方が第２の薄膜トランジスタのソース又はドレインに接続され、ゲートが第１のゲート信号線に接続された第１の薄膜トランジスタと、
ソース又はドレインの他方が画素電極に接続され、ゲートが第２のゲート信号線に接続された前記第２の薄膜トランジスタと、
共通線と、
前記第１の薄膜トランジスタと前記第２の薄膜トランジスタとの接続部と前記共通線とそれらに挟持された第１の絶縁体でなる第１の容量Ｃ１と、
前記第２の薄膜トランジスタのソース又はドレインのうち、前記画素電極に接続されている接続部と前記共通線とそれらに挟持された第２の絶縁体でなる第２の容量Ｃ２と、
前記画素電極と対向電極とそれらに挟持された液晶とでなる第３の容量Ｃｌｃと、
を有する画素がマトリクス状に配置された液晶モジュールであって、
前記ソース線には、下記式を満たすオーバードライブ電圧Ｖoverが表示信号Ｖsigに加えて印加されることを特徴とする液晶モジュール。
2008009058.tif 000001
【請求項２】
１つの前記画素において、順に、
前記第２のゲート信号線にＨｉｇｈを入力し、
前記第１のゲート信号線にＨｉｇｈを入力し、
前記ソース線に（Ｖsig＋Ｖover）を印加し、
前記第１のゲート信号線にＬｏｗを入力し、
前記第２のゲート信号線にＬｏｗを入力し、
前記第１のゲート信号線にＨｉｇｈを入力し、
前記第１のゲート信号線にＬｏｗを入力することを特徴とする請求項１に記載の液晶モジュール。
【請求項３】
１つの前記画素において、順に、
前記第２の薄膜トランジスタをＯＮし、
前記第１の薄膜トランジスタをＯＮし、
前記ソース線に（Ｖsig＋Ｖover）を印加し、
前記第１の薄膜トランジスタをＯＦＦし、
前記第２の薄膜トランジスタをＯＦＦし、
前記第１の薄膜トランジスタをＯＮし、
前記第１の薄膜トランジスタをＯＦＦすることを特徴とする請求項１に記載の液晶モジュール。
【請求項４】
前記第１の薄膜トランジスタ及び前記第２の薄膜トランジスタは、ポリシリコンでなることを特徴とする請求項１に記載の液晶モジュール。
【請求項５】
前記第１の薄膜トランジスタ及び前記第２の薄膜トランジスタは、アモルファスシリコンでなることを特徴とする請求項１に記載の液晶モジュール。
【請求項６】
前記画素の前記共通線は、前記画素に行方向に隣接する画素の共通線として用いることを特徴とする請求項１に記載の液晶モジュール。
【請求項７】
前記液晶モジュールは、前記画素電極が金属からなる反射型の液晶モジュールであることを特徴とする請求項１に記載の液晶モジュール。
【請求項８】
ソース又はドレインの一方がソース線に接続され、他方が第２の薄膜トランジスタのソース又はドレインに接続され、ゲートが第１のゲート信号線に接続された第１の薄膜トランジスタと、
ソース又はドレインの他方が画素電極に接続され、ゲートが第２のゲート信号線に接続された前記第２の薄膜トランジスタと、
共通線と、
前記第１の薄膜トランジスタと前記第２の薄膜トランジスタとの接続部と前記共通線とそれらに挟持された第１の絶縁体でなる第１の容量Ｃ１と、
前記第２の薄膜トランジスタのソース又はドレインのうち、前記画素電極に接続されている接続部と前記共通線とそれらに挟持された第２の絶縁体でなる第２の容量Ｃ２と、
前記画素電極と対向電極とそれらに挟持された液晶とでなる第３の容量Ｃｌｃと、
を有する画素がマトリクス状に配置された液晶モジュールの駆動方法であって、
前記ソース線には、下記式を満たすオーバードライブ電圧Ｖoverが表示信号Ｖsigに加えて印加されることを特徴とする液晶モジュールの駆動方法。
2008009058.tif 000002
【請求項９】
１つの前記画素において、順に、
前記第２のゲート信号線にＨｉｇｈを入力し、
前記第１のゲート信号線にＨｉｇｈを入力し、
前記ソース線に（Ｖsig＋Ｖover）を印加し、
前記第１のゲート信号線にＬｏｗを入力し、
前記第２のゲート信号線にＬｏｗを入力し、
前記第１のゲート信号線にＨｉｇｈを入力し、
前記第１のゲート信号線にＬｏｗを入力することを特徴とする請求項８に記載の液晶モジュールの駆動方法。
【請求項１０】
１つの前記画素において、順に、
前記第２の薄膜トランジスタをＯＮし、
前記第１の薄膜トランジスタをＯＮし、
前記ソース線に（Ｖsig＋Ｖover）を印加し、
前記第１の薄膜トランジスタをＯＦＦし、
前記第２の薄膜トランジスタをＯＦＦし、
前記第１の薄膜トランジスタをＯＮし、
前記第１の薄膜トランジスタをＯＦＦすることを特徴とする請求項８に記載の液晶モジュールの駆動方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月30日(2009.1.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
媒体中に導波路を製造する方法であって、
約３００フェムト秒と７００フェムト秒の間のパルス幅と、約４９０ナノメートルと５５０ナノメートルの間の範囲の波長と、約１００ｋＨｚから５ＭＨｚの間の繰り返し周波数とを備える超高速パルスレーザビームを生成し、
物質イオン化バンドギャップλｇを有する物質を備える前記媒体中の領域に、前記波長が３．０λｇと５λｇの間である前記超高速パルスレーザビームの少なくとも一部を照射し、
前記媒体中から前記超高速パルスレーザビームを除く、
ことを含み、前記媒体中の領域に照射された前記超高速パルスレーザビームは、前記媒体中から前記超高速パルスレーザビームが除かれた後、前記媒体の屈折率を変化させ、これにより、前記媒体中に前記導波路を形成するに十分な強度を有することを特徴とする方法。
【請求項２】
前記超高速パルスレーザビームが、約５Ｊ／ｃｍ２と約５０Ｊ／ｃｍ２の間の、媒体の領域に対するレーザフルエンスを有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
赤外光を生じさせ、該赤外光の周波数を２逓倍して可視光ビームを生じさせることとを更に含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記媒体が、実質的に透明な結晶、ガラス及びポリマーから成る物質群から選択されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記媒体が、溶融石英を備えることを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項６】
細長い導波路を形成するために前記媒体を移動することを更に含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項７】
細長い導波路を形成するために超高速パルスレーザビームを移動することを更に含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項８】
物質イオン化バンドギャップλｇを有する媒体中に導波路を製造するためのシステムであって、
超高速パルス赤外レーザビームを出力する赤外ファイバレーザと、
前記超高速パルス赤外レーザビームを受け取り、前記媒体の空間領域を照射する超高速パルス可視レーザビームであって、３．０λｇと５λｇの間で、約４９０ナノメートルと５５０ナノメートルの間の範囲の波長を有し、３００フェムト秒と７００フェムト秒の間のパルス幅を有し、約１００ｋＨｚから５ＭＨｚの間で繰り返し周波数が可変である光パルスを備える超高速パルス可視レーザビームを出力する周波数逓倍器と、
前記媒体中に前記導波路を形成するために前記空間領域を移動する移動システムと、
を備えることを特徴とするシステム。
【請求項９】
前記赤外ファイバレーザが、Ｙｂドープ・ファイバレーザを備えることを特徴とする請求項８に記載のシステム。
【請求項１０】
前記赤外ファイバレーザが、１０３０ナノメートルと１０５０ナノメートルの間の波長を出力し、
前記周波数逓倍器が、第二高調波発生により波長が５１５ナノメートルと５２５ナノメートルの間の光を生成する非線形光学素子を備える、
ことを特徴とする請求項８に記載のシステム。
【請求項１１】
前記超高速パルス可視レーザビームが、約５Ｊ／ｃｍ２と５０Ｊ／ｃｍ２の間の、前記空間領域に対するレーザフルエンスを有することを特徴とする請求項８に記載のシステム。
【請求項１２】
前記超高速可視パルスレーザビームを受け取り、前記超高速可視パルスレーザビームにより前記空間領域を照射するように配置された光学系を更に備えることを特徴とする請求項８に記載のシステム。
【請求項１３】
前記光学系が、顕微鏡対物レンズを備えることを特徴とする請求項１２に記載のシステム。
【請求項１４】
前記光学系が約１．０未満の開口数を有することを特徴とする請求項１２に記載のシステム。
【請求項１５】
前記移動システムが、前記媒体を搭載する移動ステージを備えることを特徴とする請求項８に記載のシステム。
【請求項１６】
前記移動システムが、可動ミラーを備えることを特徴とする請求項８に記載のシステム。
【請求項１７】
導波路を製造するためのシステムであって、
約３００フェムト秒と８００フェムト秒の間のパルス幅と、約４９０ナノメートルと５５０ナノメートルの間の波長を有し、約１００ｋＨｚから５ＭＨｚで繰り返し周波数が可変である光パルスを備える超高速パルス可視レーザビームを生成する超高速パルス可視レーザ光源と、
前記波長が３．０λｇと５λｇの間となる物質イオン化バンドギャップλｇを有し、前記ビームの中に配置される媒体であって、物理的な構造と、該構造が可視光のビームによって変化を受け、それによって屈折率が変化する、前記構造に依存する屈折率とを有する媒体と、
を備えることを特徴とするシステム。
【請求項１８】
前記媒体が、実質的に透明な結晶、ガラス及びポリマーから成る物質群から選択されることを特徴とする請求項１７に記載のシステム。
【請求項１９】
前記媒体が、溶融石英を備えることを特徴とする請求項１８に記載のシステム。
【請求項２０】
前記導波路が、１ｄＢ／ｃｍより小さい伝搬損失を有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項２１】
前記構造が前記可視光のビームによって変化を受けた後において、前記媒体が１ｄＢ／ｃｍより小さい伝搬損失を有することを特徴とする請求項１７に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月30日(2009.9.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下地層において、一方の溝パターンと他方の溝パターンとを、前記一方の溝パターンの一端部と前記他方の溝パターンの一端部とが所定幅の前記下地層を介して突き合わさるように形成する、半導体装置の製造方法において、
（Ａ）前記下地層上に、第１のハードマスク層、第２のハードマスク層、および第３のハードマスク層を、当該順に堆積する工程と、
（Ｂ）前記第３のハードマスク層に第１の溝を形成する工程と、
（Ｃ）前記第１の溝内において、前記第１の溝の底部から露出する前記第２のハードマスクを前記第１の溝を２つに分割するような２つの溝パターンにパターン化する工程と、
（Ｄ）前記工程（Ｃ）の後に、前記第２ハードマスク層および前記３のハードマスク層をマスクとして用いて、前記第１のハードマスク層を除去する工程と、
（Ｅ）前記工程（Ｄ）の後に、前記第１のハードマスク層をマスクとして用いて前記下地層を除去することにより、前記下地層に、前記一方の溝パターンと前記他方の溝パターンとを形成する工程とを、備えている、
ことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項２】
前記工程（Ｂ）は、
（Ｂ−１）前記第３のハードマスク層上にレジストを形成する工程と、
（Ｂ−２）前記レジストに対してリソグラフィ技術を施すことにより、レジストに第２の溝を形成する工程と、
（Ｂ−３）前記工程（Ｂ−２）の後に、前記レジストをマスクとして使用して前記第３のハードマスク層を除去することにより、前記第３のハードマスク層に前記第１の溝を形成する工程とを、備えている、
ことを特徴とする請求項１に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項３】
前記工程（Ｃ）は、
（Ｃ−１）前記第１の溝を充填するように、前記第３のハードマスク層上にレジストを形成する工程と、
（Ｃ−２）前記レジストに対してリソグラフィ技術を施すことにより、平面視における前記第１の溝の形成位置において残存するように、前記レジストをパターン化する工程と、
（Ｃ−３）前記工程（Ｃ−２）の後に、前記レジストをマスクとして使用して前記第２のハードマスク層を除去することにより、前記第１の溝の底部から露出する前記第２のハードマスクを前記第１の溝を２つに分割するような前記２つの溝パターンにパターン化する工程とを、備えている、
ことを特徴とする請求項１に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項４】
下地層において、一方の溝パターンと他方の溝パターンとを、前記一方の溝パターンの一端部と前記他方の溝パターンの一端部とが所定幅の前記下地層を介して突き合わさるように形成する、半導体装置の製造方法において、
（Ａ）前記下地層上に、ハードマスク層を堆積する工程と、
（Ｂ）前記ハードマスク層上に、第１の溝を有する第１のパターンを形成する工程と、
（Ｃ）前記第１の溝内に、前記第１の溝を２つに分割するような第２のパターンを形成する工程と、
（Ｄ）前記工程（Ｃ）の後に、ハードマスク層を前記第１および第２パターンによりパターニングする工程と、
（Ｅ）前記工程（Ｄ）の後に、パターニングされた前記ハードマスク層をマスクとして用いて前記下地層をパターニングすることにより、前記下地層に、前記一方の溝パターンと前記他方の溝パターンとを形成する工程とを、備えている、
ことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置の製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
この発明は、半導体装置の製造方法に係る発明であり、特に、下地層において、一方の溝パターンと他方の溝パターンとを、当該一方の溝パターンの一端部と当該他方の溝パターンの一端部とが下地層を介して突き合わさるように形成することができる、半導体装置の製造方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
そこで、本発明は、下地層等において突合せ部の後退が生じること無く、下地層に突合せ状態で二つの溝パターンを形成することができる、半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明は、平面図である図１に示すように、下地層Ｂ１に、一方の溝パターン４ａと他方の溝パターン４ａとを、当該一方の溝パターン４ａの一端部と当該他方の溝パターン４ａの一端部とが所定幅の下地層（突合せ部４ｓ）を介して突き合わさるように形成する、下地層Ｂ１における溝パターン形成方法に関するものである。つまり、下地層Ｂ１に、突合せ状態で二つの溝パターン４ａを形成する溝パターン形成を伴う半導体装置の製造方法に係わるものである。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月25日(2009.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１又は複数の発光素子と、前記１又は複数の発光素子を収容する凹部を備えた発光素子収容体と、前記凹部により形成された空間を気密すると共に、前記１又は複数の発光素子の光を透過させる光透過部材と、を有する発光装置を備え、
前記凹部は、前記凹部の底面から前記光透過部材に向かうにつれて幅広形状とされており、
前記１又は複数の発光素子が放出する光を所定の方向に照射する照明装置であって、
前記光透過部材に前記１又は複数の発光素子が放出する光の一部を遮光する遮光部材と、前記１又は複数の発光素子を覆う蛍光体含有樹脂と、前記空間を充填するように設けられ、前記１又は複数の発光素子を封止する封止樹脂とを設けると共に、
前記光透過部材に、前記空間に前記封止樹脂を導入するための貫通部をさらに設けたことを特徴とする照明装置。
【請求項２】
前記遮光部材は、前記空間に露出された側の前記光透過部材の面に設けたことを特徴とする請求項１記載の照明装置。
【請求項３】
前記凹部の側面及び／又は前記凹部の底面に、前記１又は複数の発光素子が放出する光を反射する反射部材を設けたことを特徴とする請求項１又は２記載の照明装置。
【請求項４】
前記遮光部材は、前記１又は複数の発光素子の光を受光する側の面が略鏡面とされた金属膜であることを特徴とする請求項１ないし３のうち、いずれか一項記載の照明装置。
【請求項５】
蛍光体含有樹脂に覆われた１又は複数の発光素子と、前記１又は複数の発光素子を収容する凹部を備えた発光素子収容体と、前記凹部により形成された空間に設けられ、前記１又は複数の発光素子を封止する封止樹脂と、を有する発光装置を備え、
前記凹部は、前記凹部の底面から離間するにつれて幅広形状とされており、
前記１又は複数の発光素子が放出する光を所定の方向に照射する照明装置であって、
前記発光素子収容体及び前記封止樹脂の上面に、前記１又は複数の発光素子が放出する光を遮光する板体を設けると共に、前記板体に前記１又は複数の発光素子が放出する光を前記所定の方向に通過させる貫通部を設けたことを特徴とする照明装置。
【請求項６】
前記凹部の側面及び／又は前記凹部の底面に、前記１又は複数の発光素子が放出する光を反射する第１の反射部材を設けたことを特徴とする請求項５記載の照明装置。
【請求項７】
前記板体に前記１又は複数の発光素子が放出する光を前記第１の反射部材に向けて反射する第２の反射部材を設けたことを特徴とする請求項６記載の照明装置。
【請求項８】
蛍光体含有樹脂に覆われた１又は複数の発光素子と、前記１又は複数の発光素子を収容する凹部を有する発光素子収容体と、前記凹部により形成された空間に設けられ、前記１又は複数の発光素子を封止する封止樹脂と、を有する発光装置を備え、
前記凹部は、前記凹部の底面から離間するにつれて幅広形状とされており、
前記１又は複数の発光素子が放出する光を所定の方向に照射する照明装置であって、
前記封止樹脂上に、前記１又は複数の発光素子が放出する光の一部を遮光する遮光部材を設けたことを特徴とする照明装置。
【請求項９】
前記凹部の側面及び／又は前記凹部の底面に、前記１又は複数の発光素子が放出する光を反射する反射部材を設けたことを特徴とする請求項８記載の照明装置。
【請求項１０】
前記遮光部材は、前記１又は複数の発光素子の光を受光する側の面が略鏡面とされた金属板であることを特徴とする請求項８または９記載の照明装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明の一観点によれば、１又は複数の発光素子と、前記１又は複数の発光素子を収容する凹部を備えた発光素子収容体と、前記凹部により形成された空間を気密すると共に、前記１又は複数の発光素子の光を透過させる光透過部材と、を有する発光装置を備え、
前記凹部は、前記凹部の底面から前記光透過部材に向かうにつれて幅広形状とされており、
前記１又は複数の発光素子が放出する光を所定の方向に照射する照明装置であって、
前記光透過部材に前記１又は複数の発光素子が放出する光の一部を遮光する遮光部材と、前記１又は複数の発光素子を覆う蛍光体含有樹脂と、前記空間を充填するように設けられ、前記１又は複数の発光素子を封止する封止樹脂とを設けると共に、
前記光透過部材に、前記空間に前記封止樹脂を導入するための貫通部をさらに設けたことを特徴とする照明装置が提供される。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月1日(2009.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リフレクタと、前記リフレクタの開放された前部に位置する透明カバーと、前記リフレクタの後部に装着され半導体発光素子を保持する基板を含む車両用前照灯と、を有し、
前記リフレクタは、その外周に流路体を備え、前記流路体を介して、所定の冷却部を経由した冷却水を循環させることを特徴とする車両用前照灯装置。
【請求項２】
前記リフレクタの後部にヒートシンクを設け、前記ヒートシンクの外周に前記流路体を設けた請求項１記載の車両用前照灯装置。
【請求項３】
前記流路体が、シート状の蓋をさらに有する請求項１記載の車両用前照灯装置。
【請求項４】
前記冷却部は、前記冷却水を循環させる配管の所定区間の壁部が圧電素子により伸縮可能で、前記圧電素子による伸縮によって前記所定区間内の容積が変動するように設定されるポンプからなることを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか1つに記載の車両用前照灯装置。
【請求項５】
前記圧電素子による容積の変動に呼応して開閉する２つの弁が前記所定区間を挟んで前記配管内に同方向に配列された前記ホンプである請求項４記載の車両用前照灯装置。
【請求項６】
内面が反射面であるドーム形状のリフレクタと、前記リフレクタの開放された前部を塞ぐ透明カバーと、前記リフレクタの後部中央に装着され半導体発光素子を保持する基板を含む車両用前照灯と、を有し、
前記リフレクタは、その外周に螺旋状に巻かれたパイプ状の流路体を備え、前記流路体を介して、前記透明カバー側から前記リフレクタの後部側に、所定の冷却部を経由した冷却水を循環させることを特徴とする車両用前照灯装置。
【請求項７】
内面が反射面であるドーム形状のリフレクタと、前記リフレクタの開放された前部を塞ぐ透明カバーと、前記リフレクタの後部中央に装着され半導体発光素子を保持する基板を含む車両用前照灯と、を有し、
前記リフレクタは、その外周壁部に螺旋状に密閉して設けられた流路を備え、前記流路を介して前記透明カバー側から前記リフレクタの後部側に、所定の冷却部を経由した冷却水を循環させることを特徴とする車両用前照灯装置。
【請求項８】
前記冷却部は、前記冷却水を循環させる配管の所定区間の壁部が圧電素子により伸縮可能で、前記圧電素子による伸縮によって前記所定区間内の容積が変動するように設定され前記圧電素子による容積の変動に呼応して開閉する２つの弁が前記所定区間を挟んで前記配管内に同方向に配列されることにより形成されるポンプからなることを特徴とする請求項６または請求項７に記載の車両用前照灯装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月23日(2009.6.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
電流センサ３６は、ホール素子を用いた非接触型の電流センサである。電流センサ３６は、電池ＥＣＵ２０から電力供給を受けるための電源ラインＬ１と、信号を電池ＥＣＵ２０へ出力するための信号ラインＬ２と、グランドラインＬ３とを備える。二次電池に電流が流れると、電流センサ３６は、その電流の大きさに応じたホール電圧を電池ＥＣＵ２０に信号ラインＬ２を介して出力する。電池ＥＣＵ２０は、図２に示すようなホール電圧と充放電電流との関係を示すマップを保持し、そのマップを参照することで、入力されたホール電圧に対応する電流を特定し、その特定した電流を充放電電流Ｉとして検知する。なお、電池ＥＣＵ２０は、例えば、充電時をマイナス、放電時をプラスとして充放電電流Ｉを検知する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
以下、異常検知部２００が電流センサ３６の異常を検知する処理手順について、図３に示すフローチャートを用いて説明する。異常検知部２００は、例えば、予め定められた周期で、図３に示すフローチャートの処理を実行する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2008135310.tif 000001
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2008135310.tif 000002
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2008135310.tif 000003