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【手続補正書】
【提出日】平成21年8月19日(2009.8.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
気体の熱媒体を導入する導入口と前記熱媒体を導出する導出口とが形成された風導部と、前記風導部における前記熱媒体の風導導出方向の投影面上で前記導出口を包含する大きさを有し、前記風導導出方向にある前記熱媒体の流れ方向を変換する変換部材と、を有する熱媒体拡散部材と；
前記導入口に導入される熱媒体の温度を調節する温調機器とを備え；
前記風導部が筒状に形成されると共に、前記変換部材が錐体状に形成され；
前記変換部材が、錐体の頂部が前記導出口から前記風導部の中に入った状態で前記風導部に取り付けられ；
前記熱媒体拡散部材は、前記風導部と前記変換部材との間に前記熱媒体が流出するスリットが前記筒状の風導部の全周にわたって形成され；
前記スリットは、前記風導部の導出口側の端部に又は前記導出口側の端部に対向する部分の前記変換部材に、前記筒状の風導部の周方向に間隔をあけて複数形成された切り欠きを含んで形成され；
前記熱媒体拡散部材は、錐体状の前記変換部材の底部が冷暖房室の内外を区画する区画材の裏面に接触し、前記スリットから流出した熱媒体が前記冷暖房室の内外を区画する区画材の裏面に沿って流れるように配置された；
冷暖房システム。
【請求項２】
前記切り欠きは、前記筒状の風導部の周方向に幅を持ち、隣り合う前記切り欠きの前記幅の中心間の距離が前記幅の２〜３倍に形成された；
請求項１に記載の冷暖房システム。
【請求項３】
気体の熱媒体を導入する導入口と前記熱媒体を導出する導出口とが形成された風導部と、前記風導部における前記熱媒体の風導導出方向の投影面上で前記導出口を包含する大きさを有し、前記風導導出方向にある前記熱媒体の流れ方向を変換する変換部材と、を有する熱媒体拡散部材と；
前記導入口に導入される熱媒体の温度を調節する温調機器とを備え；
前記風導部が、最も長い辺が前記導出口の一辺となる直方体と、一方の端部が前記導入口となる円筒と、で構成されると共に、前記変換部材が、前記一辺の方向に延びる板状の部材が断面くの字状に形成され；
前記変換部材が、くの字の頂部が前記導出口から前記風導部の中に入った状態で前記風導部に取り付けられ；
前記熱媒体拡散部材は、前記風導部と前記変換部材との間に前記熱媒体が流出するスリットが前記直方体の最も長い両辺に形成され；
前記スリットは、前記風導部の導出口側の端部に又は前記導出口側の端部に対向する部分の前記変換部材に、前記一辺の方向に間隔をあけて複数形成された切り欠きを含んで形成され；
前記熱媒体拡散部材は、断面くの字状の前記変換部材の両辺が冷暖房室の内外を区画する区画材の裏面に接触し、前記スリットから流出した熱媒体が前記冷暖房室の内外を区画する区画材の裏面に沿って流れるように配置され；
前記直方体の内部に、前記投影面上で、前記一辺の方向の端部を残して前記導出口を塞ぐように遮蔽板が配設されて構成された；
冷暖房システム。
【請求項４】
前記切り欠きは、前記一辺の方向に幅を持ち、隣り合う前記切り欠きの前記幅の中心間の距離が前記幅の２〜６倍に形成された；
請求項３に記載の冷暖房システム。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月21日(2009.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の発光素子と、
前記発光素子の前面に設けられた透過部材と、
前記発光素子からの光を反射させて前記透過部材へ当該光を導く導光体とを備え、
前記導光体と前記透過部材の間には、前記発光素子からの光が拡散する空間が設けられ、
前記導光体は、前記透過部材に向かうに従って広がるように形成され、
前記複数の発光素子の光が前記透過部材を透過するときに、前記発光素子の間を互いの前記発光素子からの光で照射し、光の境界部分をぼかすように表示させることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記透光部は、大きさが異なるように形成されていることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記請求項２に記載の表示装置と、
空気の状況を検知する検知センサとを備え、
前記前記発光素子は２色以上の色で発光可能であり、
前記検知センサによる検知状況に応じて前記２色発光を行う発光素子の発光色を制御し、
前記発光素子の発光色の制御は、大きな透光部に対応する前記発光素子より順に発光色を切り替え制御することを特徴とする空気調和機。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月22日(2009.6.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
冷媒回路の一部である圧縮機と、
前記冷媒回路の一部である冷却器と、
前記圧縮機に母線電圧を印加する整流回路と、
前記圧縮機への通電電流を制御する制御手段と、
前記圧縮機に印加する母線電圧を検出する母線電圧検出手段と、
外気温度を検出する外気温度検出手段と、
前記母線電圧検出手段の検出結果から冷媒回路の配管のつまりを判定する配管つまりの異常判定手段と
を備えたことを特徴とする冷蔵庫。
【請求項２】
前記異常判定手段における冷媒回路の配管の詰まりを判定する異常判定電圧値は、正常な場合の圧縮機への印加電圧より大きく、異常な場合の圧縮機への印加電圧より小さく外気温度が高い場合に小さくなるように外気温度に応じて複数段階に設定されていることを特徴とする請求項１記載の冷蔵庫。
【請求項３】
前記異常判定手段の異常判定電圧値は、圧縮機回転数が高い場合に小さくなるように圧縮機回転数に応じて複数段階に設定されていることを特徴とする請求項２記載の冷蔵庫。
【請求項４】
前記圧縮機への通電電流を検出する圧縮機電流検出手段を備え、
前記異常判定手段は前記圧縮機電流検出手段の検出結果からも冷媒回路の配管つまりを判定することを特徴とする請求項１〜３のいずれか記載の冷蔵庫。
【請求項５】
冷媒回路の一部である圧縮機と、冷媒回路の一部である冷却器と、圧縮機に母線電圧を印加する整流回路と、圧縮機への通電電流を制御する制御手段と、圧縮機への通電電流を検出する圧縮機電流検出手段と、外気温度を検出する外気温度検出手段と、圧縮機電流検出手段の検出結果から冷媒回路の配管つまりを判定する配管つまりの異常判定手段とを備えた冷蔵庫において、
前記異常判定手段における冷媒回路の配管詰まりを判定する異常判定電流値は、正常な場合の圧縮機への通電電流より小さく、異常な場合の圧縮機への通電電流より大きく外気温度が高い場合に大きくなるように外気温度に応じて複数段階に設定されていることを特徴とする冷蔵庫。
【請求項６】
前記異常判定手段の異常判定電流値は、圧縮機回転数が高い場合に大きくなるように圧縮機回転数に応じて複数段階に設定されていることを特徴とする請求項５記載の冷蔵庫。
【請求項７】
前記冷却器の冷却器温度を検出する冷却器温度検出手段を備え、
前記異常判定手段は、前記冷却器温度検出手段の検出結果と判定値とを比較して冷蔵庫が据付け状態であるか冷却状態であるか否かを判断し、冷蔵庫が据付け状態と判断した場合は異常判定電流値が据付け状態に応じて大きくなるように設定されていることを特徴とする請求項５又は６記載の冷蔵庫。
【請求項８】
前記冷却器の冷却器温度を検出する冷却器温度検出手段を備え、
前記異常判定手段は、前記冷却器温度検出手段の検出結果と判定値とを比較して冷蔵庫が据付け状態であるか冷却状態であるか否かを判断し、冷蔵庫が据付け状態と判断した場合は異常判定電圧値が据付け状態に応じて小さくなるように設定されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の冷蔵庫。
【請求項９】
前記異常判定手段が配管つまり異常と判定した場合に、表示部に配管つまりの異常表示を行うようにしたことを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の冷蔵庫。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明に係る冷蔵庫は、冷媒回路の一部である圧縮機と、前記冷媒回路の一部である冷却器と、前記圧縮機に母線電圧を印加する整流回路と、前記圧縮機への通電電流を制御する制御手段と、前記圧縮機に印加する母線電圧を検出する母線電圧検出手段と、外気温度を検出する外気温度検出手段と、前記母線電圧検出手段の検出結果から冷媒回路の配管のつまりを判定する配管つまりの異常判定手段とを備えて構成されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明に係る冷蔵庫においては、異常判定手段が圧縮機に印加する母線電圧を検出する母線電圧検出手段の検出結果から冷媒回路の配管つまりを判定することができるという効果がある。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月21日(2009.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
加熱室内に蒸気を供給して被加熱物を調理する蒸気調理器において、前記加熱室の底面に溜まる水を排水孔を介して排水する排水手段を備え、前記排水手段は流体を一方向に搬送するとともに逆方向の流体の流通を阻止することを特徴とする蒸気調理器。
【請求項２】
前記排水手段は、環状に配される可撓性のチューブと、前記チューブの長手方向に沿って回転しながら前記チューブを順次押圧するローラーとを有したチューブポンプを備えることを特徴とする請求項１に記載の蒸気調理器。
【請求項３】
前記排水手段は調理開始から所定期間が経過して調理終了前に駆動されることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の蒸気調理器。
【請求項４】
蒸気発生用の水の消費量を検知し、所定量消費した際に前記排水手段を駆動したことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の蒸気調理器。
【請求項５】
前記加熱室の底面の液滴の状態を検知する液滴センサを設け、液滴が面状に繋がった際に前記排水手段を駆動したことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の蒸気調理器。
【請求項６】
調理終了後に前記排水手段を所定期間駆動したことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の蒸気調理器。
【手続補正書】
【提出日】平成21年8月4日(2009.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
阻止タンブラピン（ＢＺ）および阻止カウンタピン（ＢＧ）とシリンダハウジング（１０）とを有する割当てられたシリンダ（Ｚ）に用いられるキーを製造するためのキーブランクであって、
コーディングピン列に位置し、その先端からキーブランクの軸（ｘ）に平行に少なくとも第１のコーディング位置（Ｐ１）まで走る阻止溝（ＢＮ）を備え、
阻止溝（ＢＮ）は、割当てられたシリンダにおける阻止タンブラピン（ＢＺ）に対応する位置に設けられ、また阻止溝（ＢＮ）はコーディングされた阻止深さ（Ｂ１、Ｂ２、Ｂ３）を有し、
阻止タンブラピン（ＢＺ）および阻止カウンタピン（ＢＧ）の全長（ｌｂ）は、阻止溝（ＢＮ）からシリンダハウジング（１０）までの距離（ｄｂ）とほぼ同じまたは短く、
このため、阻止溝（ＢＮ）が十分に深くない場合に阻止カウンタピン（ＢＧ）がシリンダハウジング（１０）に当たり、これにより、深さが不十分である阻止溝（ＢＮ）を有するキーブランクの完全な挿入が阻止タンブラピン（ＢＺ）および阻止カウンタピン（ＢＧ）によって阻止され、阻止タンブラピン（ＢＺ）が阻止溝を通過して第１のコーディング位置（Ｐ１）に位置するとき阻止タンブラピン（ＢＺ）はシリンダの旋回を可能とするコーディングを有するコーディングタンブラピンとしても利用される、キーブランク。
【請求項２】
先端部にキーブランクの中央の２等分面を越えて延在する上昇する制御面（ＫＦ）をさらに備え、
前記制御面（ＫＦ）がシリンダに設けられたキーブランクの中央の２等分面を超えて延在する制御ピン（ＫＳ）を脇へ押しやることにより、キーブランクがシリンダに挿入可能となり、
このため、正しい制御面をもたないキーブランクの挿入が阻止される、請求項１に記載のキーブランク。
【請求項３】
少なくとも２つの異なった形状をした阻止溝のセクタ（ＢＮ１、ＢＮ２）を備える、請求項１に記載のキーブランク。
【請求項４】
阻止溝は少なくとも２つのコーディング位置（Ｐ１、Ｐ２）にわたって延在し、阻止溝
の深さ（ｔｂ）または幅（ｂｂ）は、第１のコーディング位置（Ｐ１）から次のコーディング位置（Ｐ２）の間で減少する、請求項１に記載のキーブランク。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】キーブランク
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月8日(2009.4.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
メインボディ１２の内部には、供給ポート２４からエゼクタ１４側（矢印Ｃ方向）に向かって延在する第１供給通路３２と、真空破壊用ポート２６からエゼクタ１４側に向かって延在する第１真空破壊用通路３４と、パイロットポート２８からエゼクタ１４側に向かって延在する第１パイロット通路３６とを備え、前記第１供給通路３２、第１真空破壊用通路３４及び第１パイロット通路３６は、エゼクタ１４を構成するディフューザボディ３８の内部を通じて切換弁部２２側（矢印Ｃ方向）へと延在している。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
一方、サブボディ５２の下部には、エゼクタ１４に臨むように第２供給通路７６、第２真空破壊用通路７８及び第２パイロット通路８０が形成され、前記第２供給通路７６、第２真空破壊用通路７８及び第２パイロット通路８０は、メインボディ１２の第１供給通路３２、第１真空破壊用通路３４及び第１パイロット通路３６と一直線上に配置される。すなわち、第２供給通路７６が、第１供給通路３２を通じて供給ポート２４と連通し、第２真空破壊用通路７８が、第１真空破壊用通路３４を通じて真空破壊用ポート２６と連通すると共に、第２パイロット通路８０が、第１パイロット通路３６を通じてパイロットポート２８と連通している。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
さらに、サブボディ５２の下部には、第２供給通路７６と所定間隔離間し、電磁弁部２０側（矢印Ａ方向）に設けられた第１連通路８２と、第２真空破壊用通路７８と所定間隔離間し、排気ユニット５４側（矢印Ｂ方向）に設けられた第２連通路８４とを備え、前記第１及び第２連通路８２、８４は、前記第１連通路８２の下部がエゼクタ１４のディフューザボディ３８に連通すると共に、第２連通路８４の下部が、メインボディ１２に形成された第３連通路８６と接続されて連通している。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
また、ディフューザボディ３８の外周面には、軸線方向に沿って所定間隔離間した複数の環状溝が形成され、この環状溝を介してメインボディ１２の第１供給通路３２、第１真空破壊用通路３４及び第３連通路８６と、サブボディ５２の第２供給通路７６、第２真空破壊用通路７８及び第２連通路８４とが互いに連通している。なお、これらの環状溝と第１通路９０とは非連通状態にある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
真空破壊弁６９ｂは、第２連通路８４及び第２真空破壊用通路７８に臨むように配置され、その外周面には、弾性材料からなるリング体１００ｂが装着されている。そして、この真空破壊弁６９ｂの変位作用下にリング体１００ｂが弁座部１０２ｂに着座することにより、第２シリンダ室６８を通じた第２連通路８４と第２真空破壊用通路７８との連通状態が遮断される（図２参照）。換言すれば、真空破壊弁６９ｂは、第２真空破壊用通路７８から第２連通路８４への流体の流通状態を切り換える切換弁として機能する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
さらに、真空破壊弁６９ｂには、サブボディ５２のバイパス通路７２を通じて真空破壊弁切換用ピストン室７３へと供給されたパイロットエアによって真空供給弁６９ａ側（矢印Ａ方向）へと押圧され、スプリング１０４の弾発力に抗して変位することによってリング体１００ｂが弁座部１０２ｂから離間した弁開状態となる（図４参照）。これにより、真空破壊用ポート２６から第２真空破壊用通路７８へと供給された流体が、第２シリンダ室６８を通じて第２連通路８４へと流通することとなる。同時に、リング体１００ａを弁座部１０２ａに着座させる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
このパイロットエアが、バイパス通路７２を通じて真空破壊弁切換用ピストン室７３へと供給され、真空破壊弁６９ｂをスプリング１０４の弾発力に抗して真空供給弁６９ａ側（矢印Ａ方向）に向かって変位させる。これにより、真空破壊弁６９ｂを構成するリング体１００ｂが弁座部１０２ｂから離間し、第２真空破壊用通路７８と第２連通路８４とが連通した状態となる（図３及び図４参照）。これにより、真空破壊用ポート２６から導入される圧力流体が、第１及び第２真空破壊用通路３４、７８を通じて第２連通路８４へと流通した後、真空ポート３０へと供給される。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
そして、この流体及び外気が、真空ポート３０を介して吸着パッド（図示せず）へと供給され、前記吸着パッドによるワークの吸着状態が解除される。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
【図１】本発明の実施の形態に係る真空発生ユニットの全体縦断面図である。
【図２】図１の真空発生ユニットにおけるエゼクタ及び切換弁部近傍を示す拡大断面図である。
【図３】図１の真空発生ユニットにおいて真空破壊弁の切換作用下に真空状態が解除された状態を示す全体縦断面図である。
【図４】図３の真空発生ユニットにおけるエゼクタ及び切換弁部近傍を示す拡大断面図である。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月11日(2009.3.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光素子と電気的に接続される金属部材の一部がパッケージに埋め込まれてなる発光装置であって、
前記発光素子が、パッケージ表面に形成された凹状開口部において金属部材の一部領域に搭載されており、
前記一部領域と独立して、パッケージ表面に形成された保護素子用凹状開口部によって前記金属部材の他の領域が画定され、該他の領域に保護素子が搭載され、かつ前記保護素子用凹状開口部にパッケージ材料が埋設されてなることを特徴とする発光装置。
【請求項２】
発光素子が搭載されたパッケージの凹状開口部に透光性被覆材が埋設されてなる請求項１に記載の発光装置。
【請求項３】
パッケージにおいて、保護素子用凹状開口部が複数形成されてなる請求項１又は２に記載の発光装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月18日(2009.3.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱媒体を燃料電池に流通させることで該燃料電池の温度を制御する温度制御システムであって、
低温運転する際、低効率発電によって前記燃料電池を暖機する暖機制御手段と、
前記低温運転する際、通常運転時の流量よりも大きな流量の熱媒体を前記燃料電池に流通させる流通制御手段とを具備することを特徴とする燃料電池用の温度制御システム。
【請求項２】
当該システムを始動する際、前記燃料電池に関わる温度を検出し、検出結果に基づいて低温始動すべきか通常始動すべきかを判断する判断手段をさらに具備し、
前記流通制御手段は、低温始動する際、通常始動時の流量よりも大きな流量の熱媒体を前記燃料電池に流通させることを特徴とする請求項１に記載の燃料電池用の温度制御システム。
【請求項３】
前記燃料電池の端部には、前記低温運転の際に該端部を加熱するヒータが設けられていることを特徴とする請求項１または２に記載の燃料電池用の温度制御システム。
【請求項４】
前記熱媒体の流路には、前記低温運転の際に前記熱媒体を加熱するヒータが設けられていることを特徴とする請求項１または２に記載の燃料電池用の温度制御システム。
【請求項５】
前記熱媒体と外気との間で熱交換させるラジエータと、前記低温運転する際、前記ラジエータの放熱を制限する制御手段とをさらに具備することを特徴とする請求項１または２に記載の燃料電池用の温度制御システム。
【請求項６】
前記低温運転時に流通させる前記熱媒体の流量は、当該システムが許容する最大流量であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１の請求項に記載の燃料電池用の温度制御システム。
【請求項７】
前記低温運転の際に該端部を加熱するヒータの温度を制御することで、セル間温度バラツキを抑制する温度制御手段をさらに具備することを特徴とする請求項３に記載の燃料電池用の温度制御システム。
【請求項８】
前記燃料電池の両端にはエンドプレートが設けられており、前記燃料電池の端部は、該エンドプレート近傍に位置するセルを含むことを特徴とする請求項７に記載の燃料電池用の温度制御システム。
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月2日(2009.4.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光を出射する光源と、当該光源からの光を制御する光学シートとを有する照明装置であって、
前記光学シートは、
光透過性を有する基材と、
当該基材上に形成された光透過性を有する光透過性樹脂層と、
当該光透過性樹脂層に接触する複数の微小レンズ構造体と、
前記複数の微小レンズ構造体の間に配設された反射層とを備え、
前記光源から入射した光は、前記反射層の間であって、前記光透過性樹脂層と前記微小レンズ構造体とが接触する部分を含む領域を透過する照明装置。
【請求項２】
前記反射層は、前記光源から入射された光のうち、８０％以上の可視光を反射する材質からなることを特徴とする請求項１に記載の照明装置。
【請求項３】
前記微小レンズ構造体の少なくとも一部は、前記基材に至るように前記光透過性樹脂層に埋め込まれ、
前記光源から入射した光は、当該微小レンズ構造体が埋め込まれた部分を含む領域を透過することを特徴とする請求項１又は２に記載の照明装置。
【請求項４】
前記微小レンズ構造体は、前記光透過性樹脂層上に一層積層されることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の照明装置。
【請求項５】
前記反射層は、反射効果を有する反射粒子と、当該反射粒子が分散された樹脂層とから構成されることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の照明装置。
【請求項６】
前記反射粒子は、金属粒子であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の照明装置。
【請求項７】
前記前記金属粒子は、互いに溶着された状態で前記樹脂層において密に配設されることを特徴とする請求項６に記載の証明装置。
【請求項８】
前記樹脂層は、接着性を有し、
前記反射粒子は、前記樹脂層の表面に分散されることによって前記樹脂層上に接着され、
当該照明装置はさらに、前記反射粒子又は前記金属粒子が前記樹脂層から剥離するのを保護する保護層を備えることを特徴とする請求項５乃至７のいずれかに記載の照明装置。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれかに記載の照明装置を備えた表示装置。
【請求項１０】
前記照明装置がバックライトとして用いられた液晶表示装置であることを特徴とする請求項９記載の表示装置。
【請求項１１】
照明装置に用いられ、当該照明装置の光源からの光を制御する光学シートを製造する方法であって、
光透過性を有する基材上に、粘着性を有する光透過性樹脂層を形成するステップと、
複数の微小レンズ構造体を前記光透過性樹脂層に散布し、前記光透過性樹脂層に前記複数の微小レンズ構造体を接着するステップと、
前記光透過性樹脂層上に、反射効果を有する反射粒子が分散された樹脂を塗布するステップとを備えた光学シートの製造方法。
【請求項１２】
前記複数の微小レンズ構造体を接着するステップでは、前記微小レンズ構造体の一部が前記光透過性樹脂層に埋まるように、前記微小レンズ構造体を押し付けることを特徴とする請求項１１に記載の光学シートの製造方法。
【請求項１３】
前記微小レンズ構造体を接着するステップでは、前記微小レンズ構造体が前記基材に至るように押し付けることを特徴とする請求項１２に記載の光学シートの製造方法。
【請求項１４】
照明装置に用いられ、当該照明装置の光源からの光を制御する光学シートの製造方法であって、
光透過性を有する基材上に、粘着性を有する光透過性樹脂層を形成するステップと、
複数の微小レンズ構造体を前記光透過性樹脂層に散布し、前記光透過性樹脂層に前記複数の微小レンズ構造体を接着するステップと、
前記基材とは異なる他の基材上に、反射効果を有する反射粒子が分散された樹脂を塗布するステップと、
前記基材と前記他の基材とを対向させ、前記他の基材に塗布された樹脂を前記複数の微小レンズ構造体に押し付けるステップとを備えた光学シートの製造方法。
【請求項１５】
照明装置に用いられ、当該照明装置の光源からの光を制御する光学シートを製造する方法であって、
樹脂中に、複数の微小レンズ構造体と反射効果を有する反射粒子とを混入するステップと、
光透過性を有する基材に、前記複数の微小レンズ構造体と前記反射粒子とが混入された樹脂を塗布するステップと、
当該塗布された複数の微小レンズ構造体が単層の状態で前記基材上に配置されるように、前記複数の微小レンズ構造体を配列するステップと、
前記樹脂を硬化するステップとを備えた光学シートの製造方法。
【請求項１６】
前記複数の微小レンズ構造体を配列するステップでは、スピンコートによって前記微小レンズ構造体を配列することを特徴とする請求項１５に記載の光学シートの製造方法。
【請求項１７】
前記反射粒子は金属粒子であって、
当該金属粒子が互いに溶着するように前記金属粒子及び前記樹脂を加熱するステップを、さらに備えたことを特徴とする請求項１１乃至１６のいずれかに記載の光学シートの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明に係る照明装置は、光を出射する光源と、当該光源からの光を制御する光学シートとを有する照明装置であって、前記光学シートは、光透過性を有する基材と、当該基材上に形成された光透過性を有する光透過性樹脂層と、当該光透過性樹脂層に接触する複数の微小レンズ構造体と、前記複数の微小レンズ構造体の間に配設された反射層とを備え、前記光源から入射した光は、前記反射層の間であって、前記光透過性樹脂層と前記微小レンズ構造体とが接触する部分を含む領域を透過するものである。
このような構成においては、微小レンズ構造体が光透過製樹脂上に配置され、光源からの光は、これらの接した部分及びその周辺を透過する。そのため、微小レンズ構造体と反射層の位置合せが自動的に行われる。それ故、微小レンズ構造体を作製できれば位置あわせが不要となり、構造の微小化が容易となる。従って、微小なレンズを用いた場合であっても、光指向性の向上と高精細化とを両立させることができる。
なお、上記の照明装置においては、前記反射層は、前記光源から入射された光のうち、８０％以上の可視光を反射する材質からなることが好ましい。このように高い反射率の膜で反射層を形成することで、その膜厚を薄くすることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月8日(2009.1.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板表面上に連続記録層、中間保護層、マスク層が形成された中間体の前記マスク層を所定のパターンで部分的に除去するマスク層加工工程と、前記連続記録層における前記マスク層から露出する部分を除去し、該連続記録層を前記所定のパターンで多数の分割記録要素に分割すると共に前記分割記録要素上に前記中間保護層を残しつつ前記マスク層を除去する連続記録層加工工程と、前記分割記録要素間の隙間部に非磁性体を充填する非磁性体充填工程と、を含み、且つ、前記連続記録層加工工程と、前記非磁性体充填工程と、をこの順で実行するようにしたことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２】
基板表面上に連続記録層、中間保護層、マスク層が形成された中間体の前記マスク層を所定のパターンで部分的に除去するマスク層加工工程と、前記連続記録層における前記マスク層から露出する部分を除去し、該連続記録層を前記所定のパターンで多数の分割記録要素に分割する連続記録層加工工程と、前記分割記録要素上に前記中間保護層を残しつつ前記分割記録要素間の隙間部に非磁性体を充填する非磁性体充填工程と、を含み、且つ、前記連続記録層加工工程と、前記非磁性体充填工程と、をこの順で実行するようにしたことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項３】
請求項１又は２において、
前記中間保護層としてダイヤモンドライクカーボンの薄膜層を形成するように構成されたことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項４】
請求項３において、
前記ダイヤモンドライクカーボンの薄膜層をＣＶＤ法を用いて形成するように構成されたことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月10日(2009.4.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
サーバ装置に格納されたオブジェクトを可視出力することが可能な画像形成装置であって、
オブジェクトを指定する指示が入力された場合に、オブジェクトの守秘性を示す情報とオブジェクトの格納場所とが予め対応付けて記憶された記憶手段を検索する検索手段と、
前記検索手段による検索の結果に基づいて、前記指示が入力されたオブジェクトの格納場所に対応する、該オブジェクトの守秘性を示す情報を前記記憶手段より読み出す読出手段と、
前記読出手段により読み出されたオブジェクトの守秘性を示す情報を、前記指示に基づいて表示されたオブジェクトとともに可視出力する出力手段と
を備えることを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
ユーザ情報を入力することにより、前記画像形成装置にログインするログイン手段を更に備え、
前記記憶手段は、更に、前記ユーザ情報により特定されるユーザの属性に対応付けて、前記オブジェクトの守秘性を示す情報を記憶し、
前記読出手段は、前記指示が入力されたオブジェクトの格納場所に対応し、かつ、前記ユーザの属性に対応する、該オブジェクトの守秘性を示す情報を前記記憶手段より読み出すことを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記記憶手段は、更に、前記ユーザ情報により特定されるユーザの属性に対応付けて、前記オブジェクトの守秘性を示す情報を可視出力する際の時間帯を記憶し、
前記読出手段は、前記指示が入力されたオブジェクトの格納場所と、前記ユーザの属性とに対応し、かつ、前記時間帯に対応する、該オブジェクトの守秘性を示す情報を前記記憶手段より読み出すことを特徴とする請求項２に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記記憶手段は、更に、前記オブジェクトの格納場所に対応付けて、前記オブジェクトの守秘性を示す情報を可視出力する際の、文字の大きさ、色、配置のいずれかを記憶し、
前記出力手段は、前記読出手段により読み出されたオブジェクトの守秘性を示す情報を、前記記憶手段に記憶された対応する文字の大きさ、色、配置に基づいて可視出力することを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記記憶手段は、更に、前記ユーザ情報により特定されるユーザの属性に対応付けて、前記オブジェクトの守秘性を示す情報を可視出力する際の、文字の大きさ、色、配置のいずれかを記憶し、
前記出力手段は、前記読出手段により読み出されたオブジェクトの守秘性を示す情報を、前記記憶手段に記憶された対応する文字の大きさ、色、配置に基づいて可視出力することを特徴とする請求項２に記載の画像形成装置。
【請求項６】
更に、前記画像形成装置の設置場所に基づいて、オブジェクトの格納場所に対応するオブジェクトの守秘性を示す情報を変更する変更手段を備えることを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項７】
サーバ装置に格納されたオブジェクトを可視出力することが可能な画像形成装置における情報処理方法であって、
検索手段が、オブジェクトを指定する指示が入力された場合に、オブジェクトの守秘性を示す情報とオブジェクトの格納場所とが予め対応付けて記憶された記憶手段を検索する検索工程と、
前記検索工程による検索の結果に基づいて、読出手段が、前記指示が入力されたオブジェクトの格納場所に対応する、該オブジェクトの守秘性を示す情報を前記記憶手段より読み出す読出工程と、
出力手段が、前記読出工程により読み出されたオブジェクトの守秘性を示す情報を、前記指示に基づいて表示されたオブジェクトとともに可視出力する出力工程と
を備えることを特徴とする情報処理方法。
【請求項８】
請求項７に記載の情報処理方法の各工程をコンピュータによって実行させるための制御プログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
上記の目的を達成するために本発明に係る画像形成装置は以下のような構成を備える。即ち、
サーバ装置に格納されたオブジェクトを可視出力することが可能な画像形成装置であって、
オブジェクトを指定する指示が入力された場合に、オブジェクトの守秘性を示す情報とオブジェクトの格納場所とが予め対応付けて記憶された記憶手段を検索する検索手段と、
前記検索手段による検索の結果に基づいて、前記指示が入力されたオブジェクトの格納場所に対応する、該オブジェクトの守秘性を示す情報を前記記憶手段より読み出す読出手段と、
前記読出手段により読み出されたオブジェクトの守秘性を示す情報を、前記指示に基づいて表示されたオブジェクトとともに可視出力する出力手段とを備える。
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月8日(2009.4.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
一方、ＰＴＭ方式では、無機レジストを塗布したディスク原盤に対して、半導体レーザからのレーザ光を照射し、熱記録としての露光を行う。
この場合、レーザ照射による熱の蓄積を抑圧してピット幅の均一化を計るために、通常図７（ａ）に示すようなパルス光で露光する。即ちこの場合には、一般にクロックに同期したＮＲＺ変調信号が、そのＨレベルの長さに応じてクロック周期より短い時間幅のパルス信号へ変換され、変換されたパルス変調信号に同期して直接変調可能な半導体レーザーへ電力供給される。これによって図７（ａ）のような予熱用のパルス発光Ｐｐと、ピット長に応じた加熱用のパルス発光Ｐ１〜Ｐｎとしてのレーザ出力が行われる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
半導体レーザとしてのレーザ光源１１は、例えば波長４０５ｎｍのレーザーを出力するものとされる。このレーザ光源１１には、例えばＲＬＬ（１−７）ｐｐ等のＮＲＺ変調信号が図７（ａ）のようにパルス変調信号に変換されたレーザ駆動信号ＤLが供給され、このレーザ駆動信号ＤLに則って発光する。
レーザ光源１１から出射したレーザ光は、コリメータレンズ１２で平行光とされた後、アナモルフィックプリズム１３でスポット形状が例えば円形に変形され、偏光ビームスプリッタ１４に導かれる。
そして偏光ビームスプリッタ１４を透過した偏光成分は、λ／４波長板１５，ビームエキスパンダ１６を介して対物レンズ２６に導かれ、この対物レンズ２６で集光されてディスク原盤１０３（無機レジスト層１０２が形成された原盤形成基板１００）上に照射される。
このとき、上記のように対物レンズ２６を介してディスク原盤１０３に照射される波長４０５ｎｍのレーザ光源１１からのレーザ光は、ディスク原盤１０３上で焦点を結ぶことになる。ディスク原盤１０３はシリコンウェハ上に金属酸化物からなる無機レジストを成膜したもので、４０５ｎｍのレーザービームを吸収することで、照射部の特に中心付近の高温に加熱された部分が多結晶化する。
即ち、対物レンズ２６で集光されたレーザ光スポットによる熱記録で、ピット列としての露光パターンがディスク原盤１０３上に形成されていく。
なお、図１（ｄ）で述べたように、露光されたディスク原盤１０３をＮＭＤ３等のアルカリ現像液で現像することにより、露光した部分のみが溶出し、所望のピット形状としての凹凸パターンが形成されるものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
一方、ディスク原盤１０３に照射されたレーザ光の戻り光は、対物レンズ２６，ビームエキスパンダ１６、λ／４波長板１５を通過して偏光ビームスプリッタ１４に達する。この場合、λ／４波長板１４を往路と復路で２回通過していることで偏光面が９０°回転されており、偏光ビームスプリッタ１４で反射されることになる。偏光ビームスプリッタ１４で反射された戻り光は集光レンズ１８，シリンドリカルレンズ１９を介してフォトディテクタ２０の受光面に受光される。
フォトディテクタ２０の受光面は、例えば４分割受光面を備え、非点収差によるフォーカスエラー信号を得ることができるようにされている。
フォトディテクタ２０の各受光面では、受光光量に応じた電流信号を出力して反射光演算回路２１に供給する。
反射光演算回路２１は、４分割の各受光面からの電流信号を電圧信号に変換すると共に、非点収差法としての演算処理を行ってフォーカスエラー信号ＦＥを生成し、そのフォーカスエラー信号ＦＥをフォーカス制御回路２２に供給する。
フォーカス制御回路２２は、フォーカスエラー信号ＦＥに基づいて、対物レンズ２６をフォーカス方向に移動可能に保持しているアクチュエータ２９のサーボ駆動信号ＦＳを生成する。そしてアクチュエータ２９がサーボ駆動信号ＦＳに基づいて、対物レンズ２６を原盤１０３に対して接離する方向に駆動することで、フォーカスサーボが実行される。
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月26日(2008.11.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
コンテンツの選択と再生を行う装置であって、
コンテンツのメタデータを保持する手段と、
前記コンテンツのメタデータをディレクトリへ振り分ける情報を記述するコンテンツディレクトリテンプレートを保持する手段と、
前記コンテンツディレクトリテンプレートを前記コンテンツのメタデータに適用する手段と、
前記コンテンツディレクトリテンプレートを選択する手段を備え、
前記選択されたコンテンツディレクトリテンプレートを前記コンテンツのメタデータに適用することで、コンテンツのメタデータにディレクトリ情報を設定することを特徴とするコンテンツ再生装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月14日(2009.1.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
音声認識システムをこれらの２つの例における入力方法と置き換えたとしても、状態は類似している。
【特許文献１】特開２００４−０６２５１７号公報
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月26日(2009.3.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源からの光を導出する導光板を備えた光源パネルを保持する底板部及びこの底板部に連接され前記底板部と直交する方向に形成された外枠部を有する金属フレームと、前記金属フレームとの嵌合構造により保持され前記導光板の周縁の少なくとも一部を支持する支持板部及びこの支持板部に連接され前記金属フレームの外枠部と対向する外枠部を有するプラスチックフレームとを備え、
前記金属フレームの底板部に一体に形成され外枠部と並設される固定手段が設けられ、この固定手段と前記金属フレームの外枠部とによって前記プラスチックフレームの外枠部が挟持されていることを特徴とする面光源装置。
【請求項２】
前記固定手段は前記金属フレームを切り欠くことにより前記金属フレームの底板部に形成した折り曲げ片からなり、当該折り曲げ片により前記プラスチックフレームの外枠部内周面側が支持されていることを特徴とする請求項１記載の面光源装置。
【請求項３】
前記固定手段は前記金属フレームの底板部に絞り加工によって形成した固定部からなり、当該固定部により前記プラスチックフレームの外枠部内周面側が支持されていることを特徴とする請求項１記載の面光源装置。
【請求項４】
前記固定手段が金属フレームの角部から１５ｍｍ以上離れた位置に形成されていることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項記載の面光源装置。
【請求項５】
複数の表示画素が配列された表示領域を備えた液晶表示パネルと、この液晶表示パネルの前記表示領域を照射する請求項１から４のいずれか１項記載の面光源装置を備えたことを特徴とする液晶表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
前述の目的を達成するために、本発明に係る面光源装置は、光源からの光を導出する導光板を備えた光源パネルを保持する底板部及びこの底板部に連接され前記底板部と直交する方向に形成された外枠部を有する金属フレームと、前記金属フレームとの嵌合構造により保持され前記導光板の周縁の少なくとも一部を支持する支持板部及びこの支持板部に連接され前記金属フレームの外枠部と対向する外枠部を有するプラスチックフレームとを備え、前記金属フレームの底板部に一体に形成され外枠部と並設される固定手段が設けられ、この固定手段と前記金属フレームの外枠部とによって前記プラスチックフレームの外枠部が挟持されていることを特徴とするものである。また、本発明に係る液晶表示装置は、複数の表示画素が配列された表示領域を備えた液晶表示パネルと、前記面光源装置を備えたことを特徴とするものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
前述のように、本実施形態の面光源装置、液晶表示装置においては、前記折り曲げ片３４の働きで強固な嵌合構造を実現することができる。ここで、前記折り曲げ片３４の形態としては、図２や図３に示すものに限られず、適宜変更することが可能である。例えば図５は、前記折り曲げ片３４の先端部分３４ｂを外枠部３１との間隔を拡大するように内方に折り曲げた例を示すものである。プラスチックフレーム４を金属フレーム３に組み付ける場合、プラスチックフレーム４の底辺部分を金属フレーム３の外枠部３１と前記折り曲げ片３４の間に挿入する形になる。このとき、本例のように折り曲げ片３４の先端部分３４ｂを内側に折り曲げておけば、円滑な挿入が可能になる。さらに、この際に、折り曲げ片３４と外枠部３１との間隙ｄがプラスチックフレーム４の外枠部４１の板厚よりも若干狭くなるように折り曲げ片３４を外方向に傾斜させ、折り曲げ片３４の先端部分３４ｂと外枠部３１との間隙を、この間隙ｄよりも広く形成しておくことにより、挿入方法を変更することなく折り曲げ片３４の弾性力を利用して、挿入し易く、且つ、より強固に弾性保持させることが可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月2日(2009.4.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
建物内の管理領域に出入する人物の入退室とその管理領域における所在を管理する入退室・所在管理システムにおいて、
前記管理領域の各出入口に設置され、前記管理領域に入る際の認証をおこなう本人認証装置と、
前記管理領域内に一つ以上設置され、前記管理領域における人物の通行を検知する人流検知装置と、
前記管理領域内に一つ以上設置され、入室時に生体による人物識別をおこなう入退室管理装置と、
前記本人認証装置と前記人流検知装置と前記入退室管理装置とネットワークにより接続されたシステム管理装置とを有し、
前記システム管理装置は、
前記本人認証装置による認証結果と前記人流検知装置による人流の測定結果を受信し、
受信した前記本人認証装置による認証結果と前記人流検知装置による人流の測定結果、および、前記本人認証装置、前記人流検知装置、前記入退室管理装置の各装置の管理領域における位置情報を用いて、
前記管理領域内に存在する人物の任意の地点の任意の時点における存在確率を求めることを特徴とする入退室・所在管理システム。
【請求項２】
さらに、前記管理領域内に複数設置され、前記管理領域内の人物の通行を追跡する人物追跡装置を有し、
前記システム管理装置は、
前記人物追跡装置の人物追跡結果を受信し、前記管理領域内に存在する人物の任意の地点の任意の過去の時刻における存在確率を求めることを特徴とする請求項１記載の入退室・所在管理システム。
【請求項３】
前記システム管理装置は、前記管理領域に出入する人物を登録する手段を有し、
前記本人認証装置の認証結果、または、前記入退室管理装置の認証結果により存在が把握される人物に対して、
指定された時点において、その人物について出発地と目的地の情報を利用し、その人物が指定された地点を目的地までの経路の中に含む確率と、
各経路における前記人流検知装置の人流検知結果の一致率とを用いて、任意の時点の前記管理領域内の任意の地点における前記存在確率を求める請求項１記載の入退室・所在管理システム。
【請求項４】
前記システム管理装置は、前記管理領域に出入する人物を登録する手段を有し、
前記本人認証装置の認証結果、または、前記入退室管理装置の認証結果により存在が把握される人物に対して、
指定された時点において、その人物について出発地と目的地の情報を利用し、その人物が指定された地点を目的地までの経路の中に含む確率と、
各経路における前記人流検知装置の人流検知結果、または、前記人物追跡装置の人物追跡結果の一致率とを用いて、任意の時点の前記管理領域内の任意の地点における前記存在確率を求める請求項２記載の入退室・所在管理システム。
【請求項５】
ある経路上に設置された前記人物追跡装置の人物追跡結果の情報として、その経路上をその人物が通行したために記録されたと考えられる前記人物追跡装置による人物追跡結果の記録が存在するとき、
その人物が目的地までの経路として選択した経路上に存在する複数地点間の追跡記録が、その人物の通過を記録したものである確率が高いと判断し、その経路を通過した事象による存在確率の寄与分を増加させ、
他の経路を通過した事象による存在確率の寄与分を減少させることを特徴とする請求項４記載の入退室・所在管理システム。
【請求項６】
前記システム管理装置は、前記管理領域に出入する人物を登録する手段を有し、
前記人物追跡装置による前記人物追跡結果により、前記経路前記管理領域内に存在する人物の前記管理領域に入ったときから各経路を通過した追跡スコアを算出し、前記追跡スコアにしたがって、その人物の存在確率を求めることを特徴とする請求項２記載の入退室・所在管理システム。
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月6日(2009.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
実写画像と仮想画像の合成画像でシミュレーションを行うための画像を生成する画像処理装置であって、
指定された特性に応じた画像を生成するための第１パラメータと、第２パラメータとを格納する格納手段と、
実写画像を取得する取得手段と、
前記取得手段によって取得した実写画像に、前記第１パラメータに基づいた変換を施す変換手段と、
前記第２パラメータに基づいて、仮想画像を生成する生成手段と、
前記変換手段で変換された実写画像と、前記生成手段で生成された仮想画像とを合成する合成手段と、
前記合成手段で合成した画像を表示する表示手段と
を備えることを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
画像を撮像する撮像手段を更に備え、
前記取得手段は、前記撮像手段で撮像された画像を実写画像として取得する
ことを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記格納手段は、前記指定された特性に応じた第３パラメータを更に格納し、
前記撮像手段は、前記第３パラメータに基づいて、画像を撮像する
ことを特徴とする請求項２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記格納手段は、前記第１パラメータを格納する第１格納部と、前記第２パラメータを格納する第２格納部とから構成される
ことを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記取得手段と、前記変換手段と、前記第１格納部とを内蔵する第１の筐体と、
前記生成手段と、前記合成手段と、前記表示手段と、前記第２格納部とを内蔵する第２の筐体とから構成される
ことを特徴とする請求項４に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記格納手段で格納する第１及び第２パラメータは、知覚特性に関するパラメータである
ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項７】
前記格納手段で格納する前記第２パラメータを、前記取得手段で取得した画像を元に生成する
ことを特徴とする請求項１乃至項６のいずれか１に記載の画像処理装置。
【請求項８】
実写画像と仮想画像の合成画像でシミュレーションを行うための画像を生成する画像処理装置の制御方法であって、
取得手段が、実写画像を取得する取得工程と、
変換手段が、前記取得工程によって取得した実写画像に、格納部に格納されている指定された特定に応じた画像を生成するための第１パラメータに基づいた変換を施す変換工程と、
生成手段が、格納部に格納されている指定された特定に応じた画像を生成するための第２パラメータに基づいて、仮想画像を生成する生成工程と、
合成手段が、前記変換工程で変換された実写画像と、前記生成工程で生成された仮想画像とを合成する合成工程と、
表示手段が、前記合成工程で合成した画像を表示する表示工程と
を備えることを特徴とする画像処理装置の制御方法。
【請求項９】
実写画像と仮想画像の合成画像でシミュレーションを行うための画像を生成する画像処理装置を制御するためのプログラムであって、
コンピュータを、
指定された特性に応じた画像を生成するための第１パラメータと、第２パラメータとを格納する格納手段と、
実写画像を取得する取得手段と、
前記取得手段によって取得した実写画像に、前記第１パラメータに基づいた変換を施す変換手段と、
前記第２パラメータに基づいて、仮想画像を生成する生成手段と、
前記変換手段で変換された実写画像と、前記生成手段で生成された仮想画像とを合成する合成手段と、
前記合成手段で合成した画像を表示する表示手段と
として機能させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
上記の目的を達成するための本発明による画像処理装置の制御方法は以下の構成を備える。即ち、
実写画像と仮想画像の合成画像でシミュレーションを行うための画像を生成する画像処理装置の制御方法であって、
取得手段が、実写画像を取得する取得工程と、
変換手段が、前記取得工程によって取得した実写画像に、格納部に格納されている指定された特定に応じた画像を生成するための第１パラメータに基づいた変換を施す変換工程と、
生成手段が、格納部に格納されている指定された特定に応じた画像を生成するための第２パラメータに基づいて、仮想画像を生成する生成工程と、
合成手段が、前記変換工程で変換された実写画像と、前記生成工程で生成された仮想画像とを合成する合成工程と、
表示手段が、前記合成工程で合成した画像を表示する表示工程と
を備える。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
上記の目的を達成するための本発明によるプログラムは以下の構成を備える。即ち、
実写画像と仮想画像の合成画像でシミュレーションを行うための画像を生成する画像処理装置を制御するためのプログラムであって、
コンピュータを、
指定された特性に応じた画像を生成するための第１パラメータと、第２パラメータとを格納する格納手段と、
実写画像を取得する取得手段と、
前記取得手段によって取得した実写画像に、前記第１パラメータに基づいた変換を施す変換手段と、
前記第２パラメータに基づいて、仮想画像を生成する生成手段と、
前記変換手段で変換された実写画像と、前記生成手段で生成された仮想画像とを合成する合成手段と、
前記合成手段で合成した画像を表示する表示手段と
として機能させる。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月23日(2009.3.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の領域に交番磁界を発生する励磁手段と、
前記領域において、用紙に設けられた磁性体が励磁されることによる磁界変化に対応した信号を出力する検知手段と、
前記検知手段から出力された信号の値に応じて、給紙部に収納されている用紙に画像を複写する複写装置の動作を制御する複写装置制御手段と
を備えることを特徴とするセキュリティシステム。
【請求項２】
前記複写装置制御手段は、前記検知手段から出力された信号が所定の値を超えたときは前記複写装置の複写動作を禁止する
ことを特徴とする請求項１記載のセキュリティシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
しかしながら、上述した特許文献においては、常時特定の領域を撮像しているか、センサなどで検知した人物全てを撮像しているため、撮像の必要ない人物（例えば、特定の領域に入ることが許可されている人物）も含めて撮像されてしまう。このため、不必要な撮像情報が多くなるという問題がある。
本発明は、磁性体入りの用紙が複写装置の近傍で抽出された時に、その複写装置の動作を禁止する等の動作を行うことができるセキュリティシステムを提供する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
また、本発明は、所定の領域に交番磁界を発生する励磁手段と、前記領域において、用紙に設けられた磁性体が励磁されることによる磁界変化に対応した信号を出力する検知手段と、前記検知手段から出力された信号の値に応じて、給紙部に収納されている用紙に画像を複写する複写装置の動作を制御する複写装置制御手段とを備えることを特徴とするセキュリティシステムを提供する。
また、前記複写装置制御手段は、前記検知手段から出力された信号が所定の値を超えたときは前記複写装置の複写動作を禁止するようにすると好適である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明によれば、例えば、本来複写が許されないような用紙を複写装置の近傍で検知した場合に複写装置の動作を制限し、不正な複写が行われるのを防ぐことができる。