【手続補正書】
【提出日】平成24年12月3日(2012.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３５】
本出願では、以下の態様が提供される。
１．  （ａ）少なくとも１つの主表面を有する少なくとも１つの基材を提供する工程と、（ｂ）ペルフルオロポリエーテル有機イオウ化合物である、少なくとも１つの官能基形成性分子を含む少なくとも１つのパターン形成性組成物を提供する工程と、（ｃ）前記パターン形成性組成物を前記基材の前記主表面に、前記主表面の少なくとも１つの官能基化領域及び少なくとも１つの非官能基化領域を形成するような仕方で塗布する工程と、（ｄ）前記非官能基化領域の少なくとも一部をエッチングする工程と、を含む、方法。
２．  前記基材が少なくとも１種の無機材料を含む、態様１に記載の方法。
３．  前記基材が少なくとも１種の元素金属、少なくとも１種の金属合金、少なくとも１種の金属含有化合物、又はこれらの組み合わせを含む、態様１に記載の方法。
４．  前記基材が少なくとも１種の元素金属を含む、態様１に記載の方法。
５．  前記基材が金を含む、態様１に記載の方法。
６．  前記ペルフルオロポリエーテル有機イオウ化合物が、一価又は二価である、少なくとも１つのペルフルオロポリエーテルセグメントを含む、態様１に記載の方法。
７．  前記ペルフルオロポリエーテル有機イオウ化合物が、少なくとも１つの二価のヘキサフルオロプロピレンオキシ基を含む、少なくとも１つのペルフルオロポリエーテルセグメントを含む、態様１に記載の方法。
８．  前記ペルフルオロポリエーテルセグメントは、ａが４〜２０の平均値を有する、Ｆ［ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ］ａＣＦ（ＣＦ３）−、及びｂ＋ｃが４〜１５の平均値を有する、−ＣＦ（ＣＦ３）（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ｂＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｃＣＦ（ＣＦ３）−から選択される、態様７に記載の方法。
９．  前記ペルフルオロポリエーテル有機イオウ化合物が、ペルフルオロポリエーテルチオール化合物、ペルフルオロポリエーテルジスルフィド化合物、ペルフルオロポリエーテルキサンテート化合物、ペルフルオロポリエーテルスルフィド化合物、及びこれらの組み合わせから選択される、態様１に記載の方法。
１０．  前記ペルフルオロポリエーテル有機イオウ化合物が、以下の一般式（Ｉ）：
Ｒｆ−［Ｑ−（ＳＨ）ｘ］ｙ （Ｉ）
により表される、ペルフルオロポリエーテルチオール化合物の類の一つであり、式中、Ｒｆは一価又は二価のペルフルオロポリエーテル基であり、Ｑは二価、三価、又は四価の有機連結基であり、ｘは１〜３の整数であり、ｙは１又は２の整数である、態様１に記載の方法。
１１．  前記官能基形成性分子がアミドで連結されたペルフルオロポリエーテル有機イオウ化合物である、態様１に記載の方法。
１２．  前記官能基形成性分子が、少なくとも２つのカルボニルイミノ部分を含むか、又は少なくとも１つのカルボニルイミノ部分及び少なくとも１つのカルボニルオキシ部分を含む、アミドで連結されたペルフルオロポリエーテル有機イオウ化合物である、態様１に記載の方法。
１３．  前記アミドで連結されたペルフルオロポリエーテル有機イオウ化合物が、ペルフルオロポリエーテルセグメント、少なくとも１つのメルカプト基、及び少なくとも１つの介在型二価カルボニルイミノ部分を含む、アミドで連結されたペルフルオロポリエーテルチオール化合物である、態様１１に記載の方法。
１４．  前記カルボニルイミノ部分が、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−である、態様１３に記載の方法。
１５．  前記アミドで連結されたペルフルオロポリエーテルチオール化合物が、以下の一般式（ＩＩ）：
Ｒｆ−［Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ）−Ｑ−（ＳＨ）ｘ］ｙ （ＩＩ）
により表される類の一つであり、式中、Ｒｆは一価又は二価のペルフルオロポリエーテル基であり、Ｒは水素又はアルキルであり、Ｑは二価、三価、又は四価の有機連結基であり、ｘは１〜３の整数であり、ｙは１又は２の整数である、態様１３に記載の方法。
１６．  前記アミドで連結されたペルフルオロポリエーテルチオール化合物が、以下の一般式（ＩＩＩ）：
Ｒｆ’−（Ｏ［ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ］ａＣＦ（ＣＦ３）−［Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ）−Ｑ−（ＳＨ）ｘ］）ｙ （ＩＩＩ）
により表される類の一つであり、式中、Ｒｆ’は、線状又は分岐のペルフルオロアルキル又はペルフルオロアルキレン基であり、ａは４〜２０の平均値を有し、Ｒは水素又はアルキルであり、Ｑは二価、三価、又は四価の有機連結基であり、ｘは１〜３の整数であり、ｙは１又は２の整数である、態様１３に記載の方法。
１７．  前記アミドで連結されたペルフルオロポリエーテルチオール化合物が、
Ｆ［ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ］ａＣＦ（ＣＦ３）−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−（ＣＨ２）３−Ｎ（ＣＨ３）Ｃ（＝Ｏ）−（ＣＨ２）３−ＳＨ、
Ｆ［ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ］ａＣＦ（ＣＦ３）−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−（ＣＨ２）２ＳＨ、
ＨＳ−（ＣＨ２）２−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＦ（ＣＦ３）（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ｂ−ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｃ−ＣＦ（ＣＦ３）−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−（ＣＨ２）２ＳＨ、
ＨＳ−（ＣＨ２）３−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−（ＣＨ２）２−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＦ（ＣＦ３）（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ｂ−ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｃ−ＣＦ（ＣＦ３）−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−（ＣＨ２）２−ＮＨＣ（＝Ｏ）−（ＣＨ２）３−ＳＨ、
Ｆ［ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ］ａＣＦ（ＣＦ３）−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ２ＣＨ２ＳＨ、
Ｆ［ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ］ａＣＦ（ＣＦ３）−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−（ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ）２−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ２ＣＨ２ＳＨ、
ＨＳ−（ＣＨ２）３−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＦ（ＣＦ３）（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ｂ−ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｃ−ＣＦ（ＣＦ３）−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−（ＣＨ２）３−Ｎ（ＣＨ３）Ｃ（＝Ｏ）−（ＣＨ２）３−ＳＨ、
及びこれらの組み合わせから選択され、式中、ａは約４〜約２０の平均値を有し、ｂ＋ｃは約４〜約１５の平均値を有する、態様１３に記載の方法。
１８．  前記パターン形成性組成物が印刷により塗布される、態様１に記載の方法。
１９．  前記パターン形成性組成物がマイクロコンタクトプリンティングにより塗布される、態様１に記載の方法。
２０．  前記官能基化領域が前記官能基形成性分子の自己組織化モノレイヤー（ＳＡＭ）を含む、態様１に記載の方法。
２１．  前記エッチングが化学エッチングである、態様１に記載の方法。
２２．  前記化学エッチングが、三ヨウ化物エッチング剤系を使用することにより行われる、態様２１に記載の方法。
２３．  前記エッチングが選択的に行われる、態様１に記載の方法。
２４．  （ａ）少なくとも１つの主表面を有する少なくとも１つの基材を提供する工程であって、前記基材が金を含む、工程と、（ｂ）アミドで連結されたペルフルオロポリエーテル有機イオウ化合物である、少なくとも１つの官能基形成性分子を含む少なくとも１つのパターン形成性組成物を提供する工程と、（ｃ）前記主表面の少なくとも１つの官能基化領域及び少なくとも１つの非官能基化領域を形成するように、前記パターン形成性組成物をマイクロコンタクトプリンティングにより前記基材の前記主表面に塗布する工程と、（ｄ）三ヨウ化物化学エッチング剤系を使用することにより、前記非官能基化領域の少なくとも一部を選択的にエッチングする工程と、を含む、方法。
２５．  前記アミドで連結されたペルフルオロポリエーテル有機イオウ化合物がアミドで連結されたペルフルオロポリエーテルチオール化合物である、態様２４に記載の方法。
本明細書で引用した特許、特許文献、及び公報に含有される参照された記述内容は、その全体が、それぞれ個別に組み込まれているかのように、参照として組み込まれる。本発明に対するさまざまな予見できない修正及び変更が、本発明の範囲及び趣旨から逸脱することなく当業者に明らかとなるであろう。本発明は、本明細書に記載した例示的な実施形態及び実施例によって過度に限定されるものではなく、またかかる実施例及び実施形態は、一例として表されているだけであり、ただし、本発明の範囲は、以下のように本明細書に記載した請求項によってのみ限定されることを意図するものと理解されるべきである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）少なくとも１つの主表面を有する少なくとも１つの基材を提供する工程と、（ｂ）ペルフルオロポリエーテル有機イオウ化合物である、少なくとも１つの官能基形成性分子を含む少なくとも１つのパターン形成性組成物を提供する工程と、（ｃ）前記パターン形成性組成物を前記基材の前記主表面に、前記主表面の少なくとも１つの官能基化領域及び少なくとも１つの非官能基化領域を形成するような仕方で塗布する工程と、（ｄ）前記非官能基化領域の少なくとも一部をエッチングする工程と、を含む、方法。
【請求項２】
前記基材が金を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記官能基形成性分子がアミドで連結されたペルフルオロポリエーテル有機イオウ化合物である、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記パターン形成性組成物がマイクロコンタクトプリンティングにより塗布される、
前記官能基化領域が前記官能基形成性分子の自己組織化モノレイヤー（ＳＡＭ）を含む、
前記エッチングが化学エッチングである、及び／又は
前記エッチングが選択的に行われる、
請求項１に記載の方法。
【請求項５】
（ａ）少なくとも１つの主表面を有する少なくとも１つの基材を提供する工程であって、前記基材が金を含む、工程と、（ｂ）アミドで連結されたペルフルオロポリエーテル有機イオウ化合物である、少なくとも１つの官能基形成性分子を含む少なくとも１つのパターン形成性組成物を提供する工程と、（ｃ）前記主表面の少なくとも１つの官能基化領域及び少なくとも１つの非官能基化領域を形成するように、前記パターン形成性組成物をマイクロコンタクトプリンティングにより前記基材の前記主表面に塗布する工程と、（ｄ）三ヨウ化物化学エッチング剤系を使用することにより、前記非官能基化領域の少なくとも一部を選択的にエッチングする工程と、を含む、方法。