【手続補正書】
【提出日】平成20年12月15日(2008.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
湿潤環境下で使用される低摩耗性の摺動部材であって、
上記摺動部材が、メチレン基を有する高分子材料から成形された基材と、該基材の摺動面を被覆した高分子膜とを含み、
上記高分子膜は、上記摺動面にグラフト結合されたホスホリルコリン基含有高分子鎖により構成されており、
上記摺動面のリン酸指数（赤外分光分析スペクトルのリン酸基のピーク強度／メチレン基のピーク強度）が０．２８以上であることを特徴とする摺動部材。
【請求項２】
上記リン酸指数が０．４５以上であることを特徴とする請求項１に記載の摺動部材。
【請求項３】
上記ホスホリルコリン基を有する高分子膜の水に対するぬれ性が、接触角２０°以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の摺動部材。
【請求項４】
上記ホスホリルコリン基を有する高分子膜の水に対するぬれ性が、接触角１４°以下であることを特徴とする請求項３に記載の摺動部材。
【請求項５】
上記摺動面のＸ線光電子分光分析から得られたリン原子濃度が、４．７ａｔｏｍ％以上であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の摺動部材。
【請求項６】
上記摺動面のＸ線光電子分光分析から得られたリン原子濃度が、５．３ａｔｏｍ％以上であることを特徴とする請求項５に記載の摺動部材。
【請求項７】
上記摺動面のＸ線光電子分光分析から得られた窒素原子濃度が、３．６ａｔｏｍ％以上であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の摺動部材。
【請求項８】
上記摺動面のＸ線光電子分光分析から得られた窒素原子濃度が、４．６ａｔｏｍ％以上であることを特徴とする請求項７に記載の摺動部材。
【請求項９】
上記摺動部材が、人工股関節、人工肩関節、人工脊椎、人工膝関節、人工肘関節、人工足関節、人工指関節、又は人工椎間板に含まれる高分子材料から成る人工関節用の摺動部材であることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の摺動部材。
【請求項１０】
上記基材を成形するための上記メチレン基を有する高分子材料が、３００万ｇ／ｍｏｌ以上の超高分子量ポリエチレンであることを特徴とする請求項９に記載の摺動部材。
【請求項１１】
上記メチレン基を有する高分子材料が、上記超高分子量ポリエチレンを架橋処理したクロスリンクポリエチレンであるあることを特徴とする請求項１０に記載の摺動部材。
【請求項１２】
上記メチレン基を有する高分子材料から成る上記基材が、フリーラジカルを含むことを特徴とする請求項１１に記載の摺動部材。
【請求項１３】
請求項９乃至１２のいずれか１項に記載の人工関節用の摺動部材と、該摺動部材に摺動可能に接触するセラミックス又は金属から成る対向部材と、を含む関節部分を有することを特徴とする人工関節。
【請求項１４】
上記人工関節が人工股関節、人工肩関節、又は人工脊椎であり、
上記人工関節用の摺動部材が、球面状の摺動面を備えたカップであり、
上記対向部材が、上記カップの摺動面に摺動可能に受容又は当接される骨頭であることを特徴とする請求項１３に記載の人工関節。
【請求項１５】
上記人工関節が人工膝関節、人工肘関節、又は人工足関節であり、
上記人工関節用の摺動部材が、曲面状の摺動面を備えたトレイであり、
上記対向部材が、上記トレイの摺動面と摺動可能に当接される関節部材であることを特徴とする請求項１３に記載の人工関節。
【請求項１６】
上記人工関節が、ヒンジ構造を有する人工指関節、人工膝関節、又は人工肘関節であり、
上記対向部材が、両端が突出した軸部を備えた軸側コンポーネントであり、
上記摺動部材が、上記軸部の両端を摺動可能に嵌め込むための軸受け穴を備えた軸受け部材であることを特徴とする請求項１３に記載の人工関節。
【請求項１７】
請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の摺動部材を製造するための方法であって、該方法は、
メチレン基を有する高分子材料から成る基材を成形する工程と、
上記基材の摺動面に、ホスホリルコリン基を有する高分子鎖をグラフト結合により固定することにより、摺動面に高分子膜を形成する工程と、を含み、
上記高分子膜を形成する工程が、
上記基材の摺動面に光重合開始剤を塗布する過程と、
ホスホリルコリン基を有する重合性モノマーを含有する溶液に浸漬した状態で、上記基材の摺動面に上記光重合開始剤を励起させるのに必要な強度の紫外線を照射する過程と、を含み、
上記紫外線の照射時間が４０分以上であることを特徴とする摺動部材の製造方法。
【請求項１８】
上記高分子膜を形成する工程の上記紫外線を照射する過程において、上記紫外線の照射時間が８０分以上であることを特徴とする請求項１７に記載の摺動部材の製造方法。
【請求項１９】
上記高分子膜を形成する工程に続いて、さらに、上記基材の摺動面にガンマ線を照射する工程を含むことを特徴とする請求項１７又は１８に記載の摺動部材の製造方法。
【請求項２０】
上記基材を成形する工程が、予め高エネルギー源を照射した上記メチレン基を有する高分子材料を、上記基材の形状に加工する工程であることを特徴とする請求項１７乃至１９のいずれか１項に記載の摺動部材の製造方法。
【請求項２１】
上記製造方法が、上記基材を成形する工程の前に、上記予め高エネルギー線を照射した上記メチレン基を有する高分子材料を調製する工程をさらに含み、
上記高分子材料を調製する工程が、メチレン基を有する高分子材料にガンマ線を照射する過程と、上記ガンマ線を照射した高分子材料を、その融点以下の温度で熱処理する過程とを含むことを特徴とする請求項２０に記載の摺動部材の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
実施例１で使用した試料ａ〜ｅについて、摺動面に存在するＭＰＣポリマー膜の密度を間接的に知るために、摺動面のリン原子及び窒素原子の原子濃度（原子％）を測定し、それらの原子濃度と試料の耐久性との関係を調べた。
前出のＭＰＣモノマーの化学構造式からわかるように、ＭＰＣモノマー１分子には、リン原子と窒素原子とが１原子ずつ含まれている。よって、測定領域内に含まれるリン原子及び窒素原子の含有率（原子濃度に相当）は、その範囲にあるＭＰＣモノマーの個数に比例する。すなわち、リン原子及び窒素原子の原子濃度は、ＭＰＣポリマー膜の密度を知る指標にすることができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】
リン原子及び窒素原子の原子濃度の決定には、Ｘ線光電子分光（ＸＰＳ）分析を用いた。ＸＰＳは、実施例１のＦＴ−ＩＲに比べて分析領域が極めて小さいことから、試料表面が凹凸を有する形状であっても測定できるという利点がある。その反面、ＸＰＳ分析の測定結果は、局所的な情報のみを反映することから、ＭＰＣポリマー膜が完全に均一でない場合には、測定箇所によって得られる結果が異なってくる可能性がある。よって、ＸＰＳ分析の測定結果は、複数点て測定した結果を平均化することが好ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１１】
2007202965.tif 000001
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１２】
2007202965.tif 000002
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１３】
2007202965.tif 000003
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１４】
2007202965.tif 000004
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１５】
2007202965.tif 000005
【手続補正９】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１６】
2007202965.tif 000006
【手続補正１０】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１７】
2007202965.tif 000007
【手続補正１１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１８】
2007202965.tif 000008