Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【誤訳訂正書】
【提出日】平成25年6月24日(2013.6.24)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００１】
本発明は、少なくとも1つの熱相転移を有する少なくとも1つのスイッチングセグメントと共有結合及び／又は非共有結合の架橋点とをもつ形状記憶ポリマーをプログラムする方法に関するものであり、プログラムの後には、少なくともスイッチング温度に相当する温度にまで温度を上げた後、形状記憶ポリマーはプログラムされた一時的形状から永久形状へ転移することが可能である。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００８】
本目的は、形状記憶ポリマー又はその複合体をプログラムする方法によって達成されるものであって、そのポリマーは、少なくとも１つの熱相転移を有する少なくとも１つのスイッチングセグメントと共有結合及び／又は非共有結合の架橋点とをもつポリマーであり、プログラム後は、少なくともスイッチング温度(Tswitch, Tσmax)に相当する温度まで温度を上げた後に、プログラムされた一時的形状から永久形状に転移することができる。
本発明によるプログラム方法は、
(a) 所望のスイッチング温度 (Tswitch, Tσmax) の関数としてプログラム温度 (Tprog) を予め決定する工程と、
(b) 上記形状記憶ポリマーを予め決定したプログラム温度 (Tprog) まで加熱し、上記ポリマーを、強制成形をすることで一時的形状に相当する形状へ変形する工程と、
(c) 上記ポリマーを、強制成形を維持しつつ上記所望のスイッチング温度 (Tswitch, Tσmax) 未満の温度に冷却する工程とを有する。
【手続補正１】
【補正対象書類名】    特許請求の範囲
【補正対象項目名】    全文
【補正方法】          変更
【補正の内容】
【請求項１】
形状記憶ポリマー又はその複合素材をプログラムする方法であって、
前記形状記憶ポリマーは、少なくとも1つの相転移温度を有する少なくとも1つのスイッチングセグメントを備え、
前記形状記憶ポリマーは、更に、共有結合及び／又は非共有結合の架橋点を有し、
そのプログラムの後、前記形状記憶ポリマーは、少なくとも前記ポリマーのスイッチング温度(T switch, Tσmax)に相当する温度(Thigh)まで温度を上げた後に、プログラムされた一時的形状(A)からその永久形状(B)まで転移することが可能であって、
前記プログラムは、
(a) 所望のスイッチング温度(Tswitch, Tσmax)の関数としてプログラム温度(Tprog)を予め決定する工程と、
(b) 前記形状記憶ポリマーを前記予め決定したプログラム温度(Tprog)まで加熱し、前記ポリマーを強制成形することで一時的形状に相当する形状に変形させる工程と、
(c) 前記ポリマーを、強制成形を維持しつつ前記所望のスイッチング温度(Tswitch, Tσmax)未満の温度に冷却する工程と、を含み、
前記予め決定する工程は、
前記プログラム温度(Tprog)と前記スイッチング温度(Tswitch, Tσmax)との間の、実験的に決定された数学的関係を用いることで計算的に達成されるか、
前記プログラム温度(Tprog)と前記スイッチング温度(Tswitch, Tσmax)を含むパラメータ対を有する、実験的に決定された特徴的なダイアグラムを用いることで達成される、方法。
【請求項２】
前記プログラムする方法は、所定の形状記憶ポリマーに対して複数回連続して実施され、種々のプログラム温度(Tprog)を個々のプログラムサイクルに用いることで、種々のスイッチング温度(Tswitch, Tσmax)がプログラムされることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記プログラムする方法は、組成が同一である複数の形状記憶ポリマーに対して実施され、それぞれの場合に異なるプログラム温度(Tprog)が個々の形状記憶ポリマーに対して用いられ、従って種々のスイッチング温度(Tswitch, Tσmax)がプログラムされることを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記形状記憶ポリマーのスイッチングセグメントは、半結晶セグメントであり、
その熱力学的相転移温度は、融解転移温度(Tm)であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
前記形状記憶ポリマーのスイッチングセグメントは、アモルファスセグメントであり、
その熱力学的相転移温度は、ガラス転移温度(Tg)であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
前記プログラム温度Tprogは、少なくとも1つのスイッチングセグメントにおける熱力学的相転移温度Ttransの前後、少なくとも± 20Kの範囲から選択されることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
2つのスイッチングセグメントと2つの熱力学的相転移温度Ttrans,A及びTtrans,Bを有する形状記憶ポリマーの場合において、前記プログラム温度Tprogが少なくともTtrans,A ± 20KからTtrans,B ± 20Kの範囲から選択されることを特徴とする請求項１から６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
無孔材又は多孔、開放気孔又は密閉気孔材を、形状記憶ポリマーとして用いることを特徴
とする請求項１から７のいずれかに記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月8日(2013.3.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
０．０１％〜２％（ｗ／ｗ）のメナジオン、１〜５０％（ｗ／ｗ）の親油性成分、ゲル化剤、および水を含み、局所的に塗布された際に濃度約０．１〜１．５ｍＭのビタミンＫ３を表皮層に送達する、皮膚病態の治療に適した局所塗布可能な医薬製剤。
【請求項２】
前記親油性成分がミリスチン酸イソプロピル、カプリル酸／カプリン酸トリグリセリド、セバシン酸ジエチル、アジピン酸ジイソプロピル、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項１に記載の医薬製剤。
【請求項３】
前記ゲル化剤を約０．１〜５％（ｗ／ｗ）含む、請求項１に記載の医薬製剤。
【請求項４】
さらに、防腐剤を０．０１〜１０％（ｗ／ｗ）含む、請求項１に記載の医薬製剤。
【請求項５】
さらに、前記製剤のｐＨを約４．０〜８．０に維持するのに十分な中和剤を含む、請求項１に記載の医薬製剤。
【請求項６】
ａ）０．０１〜２％（ｗ／ｗ）のメナジオン；
ｂ）ミリスチン酸イソプロピル、カプリル酸／カプリン酸トリグリセリド、セバシン酸ジエチル、アジピン酸ジイソプロピル、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される、１〜５０％（ｗ／ｗ）の親油性成分；
ｃ）それぞれ０．０１〜５％（ｗ／ｗ）の１つもしくは複数のアクリル酸系ポリマー；
ｅ）０．０３〜１０％（ｗ／ｗ）の防腐剤；
ｆ）ｐＨ約４．０〜７．０を維持するのに十分な中和剤；ならびに
ｇ）水
を含み、局所的に塗布された際に濃度約０．１〜１．５ｍＭビタミンＫ３を表皮層に送達する、皮膚病態の治療に適した局所塗布可能な医薬製剤。
【請求項７】
ａ）０．０５〜２％（ｗ／ｗ）のメナジオン；
ｂ）３〜２０％（ｗ／ｗ）の前記親油性成分；
ｃ）それぞれ０．１〜１．０％（ｗ／ｗ）の１つもしくは複数のアクリル酸系ポリマー；
ｄ）０．５〜５％（ｗ／ｗ）の前記防腐剤；
ｅ）ｐＨ約４．５〜６．５を維持するのに十分な中和剤；ならびに
ｆ）水
を含む、請求項６に記載の医薬製剤。
【請求項８】
ａ）０．０５〜０．２％（ｗ／ｗ）のメナジオン；
ｂ）１２％（ｗ／ｗ）のミリスチン酸イソプロピル；
ｃ）０．３％（ｗ／ｗ）のＰｅｍｕｌｅｎ  ＴＲ‐１；
ｄ）０．１％（ｗ／ｗ）のＣａｒｂｏｐｏｌ  ９８１；
ｅ）１％（ｗ／ｗ）のベンジルアルコール；
ｆ）ｐＨ約５．０〜６．０を維持するのに十分な水酸化ナトリウム；および
ｇ）水
を含む、請求項６に記載の医薬製剤。
【請求項９】
ａ）０．０５〜０．２％（ｗ／ｗ）のメナジオン；
ｂ）３％（ｗ／ｗ）のセバシン酸ジエチル；
ｃ）０．３％（ｗ／ｗ）のＰｅｍｕｌｅｎ  ＴＲ‐１；
ｄ）０．１％（ｗ／ｗ）のＣａｒｂｏｐｏｌ  ９８１；
ｅ）それぞれ０．３％（ｗ／ｗ）のメチルパラベンおよびプロピルパラベン；
ｆ）ｐＨ約５．０〜６．０を維持するのに十分な水酸化ナトリウム；ならびに
ｇ）水
を含む、請求項６に記載の医薬製剤。
【請求項１０】
ａ）０．０５〜０．２％（ｗ／ｗ）のメナジオン；
ｂ）６％（ｗ／ｗ）のアジピン酸ジイソプロピル；
ｃ）０．３％（ｗ／ｗ）のＰｅｍｕｌｅｎ  ＴＲ‐１；
ｄ）０．１％（ｗ／ｗ）のＣａｒｂｏｐｏｌ  ９８１；
ｅ）それぞれ０．３％（ｗ／ｗ）のメチルパラベンおよびプロピルパラベン；
ｆ）ｐＨ約５．０〜６．０を維持するのに十分な水酸化ナトリウム；ならびに
ｇ）水
を含む、請求項６に記載の医薬製剤。
【請求項１１】
ａ）０．０５〜０．２％（ｗ／ｗ）のメナジオン；または
ｂ）０．１〜０．２％（ｗ／ｗ）のメナジオン
を含む、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の医薬製剤。
【請求項１２】
クリームまたはローションである、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の医薬製剤。
【請求項１３】
エチルアルコール無添加である、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の医薬製剤。
【請求項１４】
光不透過性容器内に収容された請求項１〜１３のいずれか一項に記載の医薬製剤を含む、収容された医薬製剤。
【請求項１５】
皮膚病態を治療するための、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の医薬製剤の調製における、メナジオンの使用。
【請求項１６】
前記皮膚病態が抗上皮増殖因子受容体（ＥＧＦＲ）療法に続発している、請求項１５に記載の使用。
【請求項１７】
前記抗ＥＧＦＲ療法が
ａ）抗ＥＧＦＲ抗体；または
ｂ）ＥＧＦＲチロシンキナーゼ阻害剤
による治療である、請求項１６に記載の使用。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成25年2月28日(2013.2.28)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２３】
特定の反応経路では、フェノールに基づくポリマーは、酸の存在下で４官能価であるグリコールウリルのような架橋剤で架橋される。ポリマーはこの単位によって架橋される。低分子量アルコールＲ−ＯＨ（メタノール又はブタノール）は揮発し、反応を完了させる。当量重量差のため、同じ架橋レベルを達成するのに、テトラメトキシ誘導体と比べてより多量のテトラブトキシ誘導体が必要である。図１は、ノボラック系ポリマー１１０及び本発明の架橋剤１２０を酸１３０の存在下で反応させて最終架橋生成物１４０を形成する本発明の反応経路１００を示す。図２は、架橋剤２２０をフェノール性物質２１０と反応させる本発明の態様の架橋メカニズム２００を示す。本発明の架橋剤及び酸活性化架橋剤には、グリコールウリル、ベンゾグアナミン、多数のアルキルオール基を有するメラミン又は尿素又はそれらの組み合わせが含まれる。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２６】
本発明の配合物では、有機系であろうと無機系であろうと、本発明の架橋剤はグリコールウリル、例えばアルコキシグリコールウリル、ＰＯＷＤＥＲＬＩＮＫ１１７４（テトラメトキシグリコールウリル）又はＣＹＭＥＬ１１７０（テトラブトキシグリコールウリル）；ベンゾグアナミン、多数のアルキルオール基を有するメラミン又は尿素を含む。
【手続補正書】
【提出日】平成24年2月27日(2012.2.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
開示される方法及び組成物に使用可能な、開示される方法及び組成物と共に使用可能な、開示される方法及び組成物の調製に使用可能な、または、開示される方法及び組成物の製品でありうる、材料、化合物、組成物、および成分について開示する。これら及び他の材料も本明細書に開示され、これらの材料の組合せ、部分集合、相互作用、群などが開示される場合、各々の、さまざまな個別的または集団的な組合せ、及びこれらの化合物の順列についての具体的な言及が明白には開示されていなくても、各々は本明細書で特に意図され、記載されているということが理解されよう。この概念は、本開示のすべての態様に適用され、限定はしないが、本開示の組成物の製造および使用方法における組成物およびステップの任意の成分が挙げられる。よって、行うことができるさまざまな追加のステップが存在する場合、これら追加のステップのそれぞれは、本開示の方法の態様の任意の特定の態様または組合せで行うことができ、これら組合せのそれぞれが明白に意図されており、開示されていると見なされるべきであることが理解されよう。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
さまざまな態様では、可溶性のウォッシュコート塩種として、鉄化合物、亜鉛化合物、アルミニウム化合物、またはそれらの組合せが挙げられる。好ましい態様では、可溶性のウォッシュコート塩種は、例えば、硝酸鉄、硫酸鉄、塩化鉄、またはそれらの組合せなどの鉄化合物を含む。他の態様では、可溶性のウォッシュコート塩種は、例えば、水酸化鉄、オキシヒドリド、またはそれらの組合せなどの水酸化物を含みうる。理論に縛られることは望まないが、鉄は、ある金属触媒粒子と共に使用すると触媒作用を促進することができ、鉄の存在が、小さい、高表面積の金属触媒粒子の維持を補助すると考えられる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
得られたスラリーの粘度も必要に応じて調整し、特定の基板を少なくともある程度コーティングする能力のあるスラリーを提供することができる。さまざまな態様では、得られたスラリー範囲の粘度は、例えば、約１，９５０、１，９００、１，８５０、１，８００、１，７５０、１，７００、１，６００、１，５００、１，４００、１，２００、１，０００、９００、８００、７００、６００、５００、４００、３００、２００、または１００ｃＰなど、約２，０００ｃＰ未満；好ましくは、例えば、約４９０、４８０、４７０、４６０、４５０、４４０、４３０、４２０、４１０、４００、３８０、３６０、３４０、３２０、３００、２７５、２５０、２２５、２００、１７５、１５０、１２５、または１００ｃＰなど、約５００ｃＰ未満である（１ｃＰ＝１ｍＰａ・ｓ）。他の態様では、得られたスラリーの粘度は、約２，０００ｃＰ以上または約１００ｃＰ未満であって差し支えなく、本発明は、任意の特定の粘度に限定されることを意図していない。得られたスラリーの粘度は、例えば、水および／または有機分散剤の添加などの任意の適切な手段を用いて、調整することができる。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成25年4月10日(2013.4.10)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００８】
例えばフランスで現在実施されている基準（１９９８年１１月３日のヨーロッパ指令９８／８３／ＥＣを適用する２００１年１２月２０日の法令２００１−１２２０号で規定）は、飲料水中の鉛の最大許容含量を２５μｇ／ｌ（すなわち２５ｐｐｂ）と規定しており、この閾値は、２０１３年１２月２５日から１０μｇ／ｌ（すなわち１０ｐｐｂ）となるであろう。従って飲用される水の処理について、数ｐｐｂという低い含量が得られるまで鉛や他の可能性のある重金属を抽出する方法に対するニーズがあり、これは、飲料水中に存在する他の有用な分子種（例えば、アルカリカチオンまたはアルカリ土類カチオン）を同時に抽出することなく行われることが好ましい。重金属の効率的抽出を可能にするこの種の方法はまた、環境中に排出される排出物について残存重金属の許容含量が低くなり続けているため、廃水または工業排出物（水性排出物）の処理に関係する。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１０】
本発明の目的は、上記ＷＯ０１／４６２０２号に開示された材料を用いて得られるものより効率的なＰｂ２＋カチオンの除去を可能にする、液体媒体中の金属カチオンの固体／液体抽出に適応した新規の固体抽出材料を提供することである。より一般的には本発明は、飲料水の精製、および環境に排出する前の工業排出物および廃水の処理の分野で必要な要求を満たすために、充分な効率で液体媒体から（最も特に水性媒体から）鉛イオンおよび好ましくは他の重金属のイオンを抽出することを可能にする固体抽出物質を提供する目的を有する。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６９】
本発明の精製法は、例えば、家庭用飲料水の水道蛇口の上流または下流に置いた精製カートリッジに本発明の抽出材料を使用することにより、飲料水を精製するための処理に有利に応用できる。
本発明の精製法はまた、工業液体排出物（特に水性排出物）または廃水を処理するための興味深い用途がある。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成25年5月7日(2013.5.7)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガスタービンのための翼（２０，２０′，２０″）であって、該翼（２０，２０′，２０″）は長手方向に延在して前縁（１１）と後縁（１３）とを有しており、該前縁（１１）と後縁（１３）との間において翼（２０，２０′，２０″）は前記長手方向に対して横方向に、受圧面（２３）と吸込み面（２４）とを形成して延びており、翼（２０，２０′，２０″）は、冷却媒体（１６）の流出のための前記長手方向に延在する流出スリット（１４）を後縁（１３）近傍に有しており、流出スリット（１４）を通って流出する冷却媒体（１６）の質量流量を制御する制御部材（２１，２２）の列が、前記長手方向に分配されて少なくとも流出スリット（１４）に配置されている、ガスタービンのための翼において、
制御部材（２１，２２）の前記列に、種々異なって形成された制御部材（２１，２２）の所定の配列が設けられていて、
流出スリット（１４）は翼（２０，２０′，２０″）の後縁（１３）の上流に間隔を持って配置されていることを特徴とする、ガスタービンのための翼。
【請求項２】
制御部材（２１，２２）の前記列に、種々異なる横断面の輪郭を備えた少なくとも２つの構造の制御部材（２１，２２）が設けられていることを特徴とする、請求項１記載の翼。
【請求項３】
前記少なくとも２つの構造の前記制御部材のうちの一方の構造（２１）が、前記冷却媒体の流れ方向に延びている縦長の水滴状の横断面の形状を有しており、前記少なくとも２つの構造の前記制御部材のうちの他方の構造（２２）が、ほぼ円形状の横断面形状を有していることを特徴とする、請求項２記載の翼。
【請求項４】
前記２つの構造の制御部材（２１，２２）は交互に直列に配置されていることを特徴とする、請求項２又は３記載の翼。
【請求項５】
一方の構造（２１，２２）の２つの前記制御部材の間に、他方の構造（２２，２１）の複数の前記制御部材が直列に配置されていることを特徴とする、請求項２又は３記載の翼。
【請求項６】
一方の構造（２１，２２）の２つの前記制御部材の間に、他方の構造（２２，２１）の２つ又は３つの前記制御部材が直列に配置されていることを特徴とする、請求項５記載の翼。
【請求項７】
流出スリット（１４）は翼（２０，２０′，２０″）の受圧面（２３）に配置されていることを特徴とする、請求項１から６までのいずれか一項記載の翼。
【請求項８】
少なくとも１つの制御部材（２１，２２）は流出スリット（１４）の横断面の全幅に関して、流出スリット（１４）の一方の貫流壁に対してヘッド側のエアギャップを持って形成されていることを特徴とする、請求項１から７までのいずれか一項記載の翼。
【請求項９】
前記エアギャップは種々異なる大きさを有していることを特徴とする、請求項８記載の翼。
【請求項１０】
水滴状の制御部材（２１′）は流出スリット（１４）を越えて延びていることを特徴とする、請求項３又は請求項３を引用する請求項４から９までのいずれか一項記載の翼。
【請求項１１】
制御部材（２１，２１′，２２）によりもたらされる横断面の狭幅部は２０〜９０％にあることを特徴とする、請求項１から１０までのいずれか一項記載の翼。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００７】
冷却流１６が大量の質量流量で又は少ない質量流量で流出する場合には、スリットに配置されている障害物若しくは制御部材による後縁冷却流の減少は常に不都合である。このような構成では、図２のように流出スリットの出口に、収束する噴流構造１８が冷却流に形成される。噴流構造１８には、あまり冷却されない、ひいては高められた温度に曝されている中間領域１９がもたらされる。また、少ない質量流量の理由は再冷却された空気が使用されることにある。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００８】
発明の開示
本発明は対策を講じている。本発明の課題は、公知の翼の上記欠点を回避し、冷却媒体の質量流量が小さい場合でも、特に翼の後縁の平面における均一な冷却を特徴とする、ガスタービン翼を提供することである。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００９】
上記課題は、請求項１の全特徴により達成される。本発明にとって、流出スリットにおける制御部材の列若しくは配置において、種々異なって構成された制御部材が所定の配列で設けられているということが重要である。種々異なって構成された制御部材の列は、特に２つの機能を満たす。
・１つには、種々異なって構成された制御部材は流出スリットを通って流出する冷却流を、質量流量への有利な影響を意図した制御をもたらすようにブロックする。
・もう１つには、種々異なって構成された制御部材は、流出スリットと後縁との間の面の良好なカバー面積を冷却媒体フィルムによって保証するために、均等に分配された冷却流を提供する。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１２】
【図１】先行技術に基づく、後縁の上流に配置された流出スリットによる後縁の冷却部を備えた、ガスタービン翼の一部分を簡略的に示す斜視図である。
【図２】公知の後縁冷却部における不都合な効果を示す概略図である。
【図３】交互に配置した２つの制御部材の構成を備えた本発明に係る、質量流量を減じる種々異なる制御部材の配置のための第１の実施の形態を示す図である。
【図４】それぞれ３つの部材毎に繰り返すように交互に配置した、２つの構造の制御部材を備えた本発明に係る、質量流量を減じる種々異なる制御部材の配置のための第２の実施の形態を示す図である。
【図５】それぞれ４つの部材毎に繰り返すように交互に配置した、２つの構造の制御部材を備えた本発明に係る、質量流量を減じる種々異なる制御部材の配置のための第３の実施の形態である。
【図６】所望に交互に配置されている２つの構造の制御部材を備えた本発明に係る、質量流量を減じる種々異なる制御部材の配置のための別の実施の形態であり、水滴状の制御部材は流出スリットを越えて延びている。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２１】
全体的に、冷却媒体の比較的小さな質量流量を翼の後縁に沿って流出させたいあらゆる場所において、種々異なって構成された絞り部材の上記交互の配置を使用することができる。即ち、上記交互の配置は、
・壁付近にて冷却が行われる案内翼又は動翼において、
・再冷却された冷却空気が使用される構成要素において、
・ガスタービンの、環状の開口又は場合によっては流出スリット又は類似の流出開口を有する付加的な冷却段において
使用することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成24年3月2日(2012.3.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ピストンと、
ローブを備えた回転クランクを有するクランクシャフトであって、該ローブは弓形面及び同心面を備える前記クランクシャフトと、
コネクティングロッドとを有し、該コネクティングロッドは、前記クランクローブと係合して前記クランクシャフトとコネクティングロッドとを連結するハブを備え、
前記コネクティングロッドに作動可能に連結されかつ前記クランクの回転に対応してリニアに変位できる前記ピストンと、
前記クランクの回転中にクランクローブの弓形面と相互作用する前記コネクティングロッドのハブに形成された弓形面とを更に有し、
前記相互作用中に、前記ピストンの前記リニア変位が一時的に静止状態を保持して、前記クランクが一定範囲の角度位置に亘って回転を続ける間にピストンを停止させることを特徴とする組立体。
【請求項２】
前記ピストンはパワーシリンダ内で作動して、内爆エンジンに圧縮チャンバの少なくとも一部を形成でき、前記停止は、前記クランクの前記範囲の角度位置に亘って前記圧縮チャンバ内での圧縮された空気／燃料混合気の一定体積の維持および所望圧縮比の維持を容易にし、前記圧縮された空気／燃料混合気のデトネーションは、前記ピストンが前記停止後にそのリニア変位を再開するほぼその時点で生じることを特徴とする請求項１記載の組立体。
【請求項３】
前記パワーシリンダは、半球形体積を形成するヘッドキャビティを備えたシリンダヘッドを更に有していることを特徴とする請求項２記載の組立体。
【請求項４】
前記パワーシリンダに流体連通している浮動ピストンシリンダと、
該浮動ピストンシリンダ内で変位できる押圧された浮動ピストンとを更に有し、
前記デトネーション時に、前記押圧された浮動ピストンは変位し、かつ前記パワーストローク中に前記ピストンに放出されて実質的に仕事エネルギに変換される過剰の潜在エネルギを蓄積することを特徴とする請求項３記載の組立体。
【請求項５】
前記内爆エンジン内で作動できるバルブカムおよび対応する吸気バルブを備えた第１バルブ組立体と、バルブカムおよび対応する排気バルブを備えた第２バルブ組立体とを更に有し、前記各バルブカムが、前記停止中に前記吸気バルブおよび排気バルブを同時に開くことができるハーモニックローブプロファイルを有していることを特徴とする請求項２記載の組立体。
【請求項６】
前記クランクの前記停止および角度位置の範囲は、ピストンの上死点位置並びに前記ピストンの前記上死点位置に対応する前記クランクの角度位置の前および後に生じる前記クランクの種々の角度位置を含んでいることを特徴とする請求項１記載の組立体。
【請求項７】
前記クランクの停止および角度位置の前記範囲は、前記ピストンの上死点位置の近くに中心を有し、前記ピストンのリニア変位は、前記上死点位置前の前記クランクの角度位置の所定範囲に亘り第１方向に停止しかつ前記上死点位置後の前記クランクの角度位置の所定範囲に亘り第２方向に再開することを特徴とする請求項１記載の組立体。
【請求項８】
クランクローブの前記弓形面は截頭型ピッチカム面からなり、前記コネクティングロッドのハブに形成された前記弓形面は、前記截頭型ピッチカム面と係合する対応截頭型ピッチフォロワ面からなりピッチ線経路に沿う運動を行い、前記截頭型ピッチカム面およびフォロワ面の各々の形状がそれぞれの揺動位置から幾何学的に配向されており、前記コネクティングロッドは、垂直通過後所定角度で揺らされ大きい角度を形成することを特徴とする請求項１記載の組立体。
【請求項９】
クランクローブの前記弓形面は、並んで重ねられた円形カムコンポーネントおよびハーモニックカムコンポーネントから形成されており、前記コネクティングロッドのハブに形成された前記弓形面は実質的にハート型の面からなり、前記円形カムコンポーネントは前記コネクティングロッド内の対応スロットと係合して、コネクティングロッドを左右に振動させ、前記ハーモニックカム面は前記ハート型面を追跡し、前記コネクティングロッドは、垂直通過後所定角度で揺らされ大きい角度を形成することを特徴とする請求項１記載の組立体。
【請求項１０】
前記角度位置の範囲は、合計で約３０°と７０°との間の移動範囲からなることを特徴とする請求項１記載の組立体。
【請求項１１】
ピストンと、
ローブを備えた回転クランクを有するクランクシャフトであって、該ローブは弓形面及び同心面を備える前記クランクシャフトと、
コネクティングロッドとを有し、該コネクティングロッドは、前記クランクローブと係合して前記クランクシャフトとコネクティングロッドとを連結するハブを備え、
前記コネクティングロッドに作動可能に連結されかつ前記クランクの回転に対応してリニアに変位できる前記ピストンと、
前記クランクの回転中にクランクローブの前記弓形面と相互作用する前記コネクティングロッドのハブに形成された弓形面とを更に有し、
前記相互作用中に、前記ピストンの上死点変位位置が、前記回転クランクの回転上死点位置の後まで遅延することを特徴とする組立体。
【請求項１２】
クランクローブの前記弓形面が軸線方向に隣接しかつ半径方向にオフセットした２つの円形面からなり、前記コネクティングロッドのハブに形成された前記弓形面が、前記オフセットした２つの円形面と交互に係合する軸線方向に隣接した２つの垂直スロットからなり、前記回転クランクの前記回転上死点位置後まで前記ピストンの前記リニア上死点変位位置を遅延させ、前記コネクティングロッドが、垂直通過後所定角度で揺らされ、大きい角度を形成することを特徴とする請求項１１記載の組立体。
【請求項１３】
クランクローブの前記弓形面が、クランクシャフトの回転方向に対して反時計回り方向にオフセットしており、前記コネクティングロッドのシャフトが前記ハブに対して半径方向にオフセットしており、前記回転クランクの前記回転上死点位置後まで前記ピストンの前記リニア上死点変位位置を遅延させ、前記コネクティングロッドが、垂直通過後所定角度で揺らされ、大きい角度を形成することを特徴とする請求項１１記載の組立体。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成25年7月16日(2013.7.16)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ピストンシール要素（５１）であって、該ピストンシール要素（５１）の長手方向で２つの面（５８，５９）によって画定されたスリーブ状の少なくとも１つの変形領域（５３）を有しており、該変形領域（５３）の外周面（６２）は、前記２つの面（５８，５９）を互いにつなぐ少なくとも１つの通路（６５）を有している形式のものにおいて、前記通路（６５）は、少なくとも部分的に螺線を描いて延びるように配置されていることを特徴とする、ピストンシール要素。
【請求項２】
前記通路（６５）は、該通路の全長にわたって螺線を描いて延びるように形成されている請求項１に記載のピストンシール要素。
【請求項３】
前記ピストンシール要素（５１）の最小の壁厚は、通路深さの一倍半〜三倍に相当している請求項１に記載のピストンシール要素。
【請求項４】
前記ピストンシール要素（５１）の前記外周面（６２）の面積は、少なくともほぼ該ピストンシール要素の包絡面の面積に相当している請求項１に記載のピストンシール要素。
【請求項５】
前記外周面（６２）は、少なくとも４つの前記通路（６５）を有しており、該各通路の螺線は、同一のピッチを有している請求項１に記載のピストンシール要素。
【請求項６】
前記通路（６５）の幅は、該通路の深さの少なくとも四倍に相当している請求項１に記載のピストンシール要素。
【請求項７】
前記通路（６５）を画定する前記面（５８，５９）の少なくとも１つは、前記ピストンシール要素（５１）の縦軸線（７５）に対して垂直に配置されている請求項１に記載のピストンシール要素。
【請求項８】
前記螺線は、前記少なくとも１つの面（５８，５９）と４５度の角度をなしている請求項７に記載のピストンシール要素。
【請求項９】
前記ピストンシール要素（５１）は、シールリップ（８２）を含んでいる請求項１に記載のピストンシール要素。
【請求項１０】
減速装置（２１）であって、シリンダーとピストンとから成るシリンダーピストンユニット（２２）を有しており、前記ピストン（４３）は、請求項１に記載の少なくとも１つのピストンシール要素（５１）を支持していることを特徴とする、減速装置。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１９】
ピストンシール要素（５１）の外周面（６２）は、螺線状に巻かれた少なくとも１つの通路、つまり螺線状に延びる少なくとも１つ通路、実施の形態では一例として４つの通路（６５）を有している。通路（６５）間には、通路間をつなぐ部分、つまりウエブ（６９）が配置されている。溝状の各通路（６５）は、外周面（６２）を画定する両方の面（５８，５９）をつないでおり、つまり一方の端面から他方の端面まで延びている。通路の経路を規定するつるまき状の巻き条若しくは螺線は、実施の形態では一定のピッチを有しており、両方の画定面（５８，５９）と４５度の角度をなしている。該角度は、例えば１５度〜７５度であってよい。通路を規定する螺線の一定でないピッチも考えられる。更に、各通路（６５）は、部分的にのみ螺線を描いて延びるように形成されていてよい。このような実施の形態では、通路は、ピストンシール要素（５１）の長さ方向若しくは縦軸線に対して平行に若しくは横方向又は垂直に延びる区分を有していてよい。両方の画定面（５８，５９）は、互いに交差する平面の面部分であってよい。前記角度は、通路を規定する螺線と前記面（５８，５９）の少なくとも１つとによって規定されるものである。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２０】
通路（６５）は、一例として弓形の一定の横断面を有しており、該横断面の円弧の半径は一例として１ミリメートルである。各通路（６５）は一例として０．２５ミリメートルの深さを有し、かつ上方の両方の縁部間で１．２５ミリメートルの幅を有している。通路（６５）の前記幅は、実施の形態ではその深さ（通路深さ又は溝深さ）の少なくとも４倍である。ピストンシール要素（５１）の最小の壁厚は、最小で通路深さの一倍半であり、かつ最大で通路深さの三倍であり、つまり通路深さの一倍半〜三倍に相当している。１つの通路（６５）の横断面は、図示の実施の形態では、ピストンシール要素（５１）の仮想の包絡面の横断面円弧と該円弧の両端、つまり該通路（溝）の相対する両方の通路縁部（６６，６７）を結ぶ弦とにより画定される弓形の面の少なくともほぼ二倍に相当している。ここでは包絡面は、外周面（６２）のウエブ（６９）間を結ぶ理想的な仮想の円柱面若しくは円筒面を含んでいる。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２１】
通路底部（６８）の横方向の長さは、少なくともほぼ、ピストンシール要素（５１）の仮想の包絡面の円弧の長さに相当している。通路（６５）を含む外周面（６２）の面積と前記仮想の包絡面の面積とは、実施の形態では互いに少なくともほぼ同じである。「少なくともほぼ」なる記載は、互いに比較される値が±三パーセントまでの差を含んでいてよいことを意味している。例えば、通路（６５）の横断面の面積は、ピストンシール要素（５１）の仮想の包絡面（円柱面又は円筒面）の横断面の弓形の面積の１９７パーセント〜２０３パーセントである。
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月13日(2013.5.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ある画素形状および画素透過率を有する画素から構成される画素マトリクスを符号化表面が有する画素化された光変調器に、コンピュータ生成されたホログラムを符号化する方法であって、
前記符号化表面は、それぞれがホログラム（１２）によって再構成されるべきオブジェクト（１０）の１つのオブジェクト点（３０、３１）を表すサブホログラム（２０１、２１１）から構成された前記ホログラム（１２）を備え、
定義された可視領域としての仮想観察者ウィンドウ（１１）と、頂点としての前記オブジェクト点（３０、３１）とを有するピラミッド体は、前記オブジェクト点（３０、３１）を超えて拡張され、前記符号化表面上に投影され、
従って、前記オブジェクト点（３０、３１）がサブホログラム（２０１、２１１）としてホログラフ的に符号化される符号化領域（２０、２１）を創出し、
個々のコンピュータ生成されたサブホログラム（２０１、２１１）のそれぞれは、訂正関数（Ｋ）で乗算され、次に前記訂正されたサブホログラム（２０１、２１１）はホログラム（１２）全体を形成するために加えられ、仮想観察者ウィンドウ（１１）に特有の、ホログラム面に投影される前記画素形状および前記画素透過率の逆数変換である前記訂正関数（Ｋ）は、前記サブホログラム（２０１、２１１）のコンピュータ生成に組み込まれることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記ホログラム面に投影され、前記サブホログラム（２０１、２１１）の幅まで縮尺される、前記画素形状および画素透過率の逆数変換が、前記訂正関数（Ｋ）として使用されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記画素形状および画素透過率の前記逆数変換は、前記観察者ウィンドウ（１１）の中心では値１を有し、前記観察者ウィンドウ（１１）の境界では値１．５を有し、サブホログラム（２０１、２１１）の振幅は、前記サブホログラム（２０１、２１１）の中心では前記値１を乗じられ、前記サブホログラム（２０１、２１１）の前記境界では値１．５を乗じられる点で訂正が実行されることを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記訂正は、実数値画素透過率を有する前記サブホログラムの振幅に対して実行され、前記画素の位相は、前記画素の全体の範囲に渡って同じままであることを特徴とする請求項２または３に記載の方法。
【請求項５】
前記サブホログラム（２０１、２１１）の振幅および位相の複素数値訂正が実行されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記訂正関数は、実際の画素形状および画素透過率、および、フーリエ変換の面における前記観察者ウィンドウ（１１）の位置に依存し、振幅の符号化と位相の符号化との少なくとも何れか１つの形式で複素値画素の所定の符号化に依存することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記訂正関数を求めるために、単一のオブジェクト点（３０）（３１）、または、前記ホログラム（２０１、２１１）の符号化領域（２０、２１）が重ならないオブジェクト点（３０）（３１）、のどちらかを備えるオブジェクト（１０）に対して
ホログラムが一度前もって計算され、それらのホログラムのために、前記観察者ウィンドウにおける前記画素形状および画素透過率の逆数変換を用いて訂正が実行されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記訂正によって変化させられる振幅分布は、波面の前記ホログラム面への変換後に前記個々のサブホログラム（２０１）（２１１）に対して決定され、
その計算に含まれた前記オブジェクト（１０）の点と、前記符号化表面に関して同じ深さにある全てのオブジェクト点に対する、訂正関数をその分布に基づいて取得するために、前記波面は前記観察者ウィンドウ（１１）において訂正されることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】
オブジェクト点（３０、３１）に対する訂正値は、前もって異なる深さで一度求められ、後にサブホログラムを訂正するために取得されて格納されることを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
矩形形状および一様な透過率を有する画素に対して、ｓｉｎｃ関数が訂正関数の変換として使用されることを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項１１】
矩形形状以外である場合、前記光変調器のそれぞれの符号化表面上でより複雑な画素構造または形状を有するなら、ｓｉｎｃ関数以外の変換が前記掛け算のために使用されることを特徴とする請求項４または５に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年3月6日(2012.3.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
疼痛の治療又は予防用の化合物であって、下記式I：
2011513377.tif 000001
(I)
（式中、
点線は、単結合又は二重結合を表し；R5及びR5'は、独立に-H、-OH又は-OR6であり、このときR6は、直鎖若しくは分岐鎖C1-C4アルキルであり；
Xは、-O-、-CH2O-、-CH2CH2O-、-CH(CH3)CH2O-又は-CH2CH(CH3)O-であり；
Zは、-CH2CH2O-、-CH(CH3)CH2O-又は-CH2CH(CH3)Oであり；
ｍは、1の整数でありかつｎは、0〜50の整数であるか、又はｍは、Oの整数でありかつｎは、1〜50の整数である）
で表される化合物又はその医薬的に許容しうる塩若しくは水和物。
【請求項２】
急性又は慢性疼痛の治療のための請求項1に記載の化合物。
【請求項３】
侵害受容性疼痛又は神経因性疼痛の治療のための請求項1に記載の化合物。
【請求項４】
ｍが0であり、かつｎが1〜50である、請求項1、2又は3に記載の化合物。
【請求項５】
ｍが1である、請求項1、2又は3に記載の化合物。
【請求項６】
Xが-CH2O-である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の化合物。
【請求項７】
前記化合物が下記式II：
2011513377.tif 000002
(II)
（式中、n、Z、R5及びR5'は、請求項1の定義どおりである）
で表される、請求項5に記載の化合物。
【請求項８】
Zが-CH(CH3)CH2O-である、請求項1〜7のいずれか1項に記載の化合物。
【請求項９】
前記化合物が下記式III：
2011513377.tif 000003
(III)
（式中、n、R5及びR5'は、請求項1の定義どおりである）
で表される、請求項5に記載の化合物。
【請求項１０】
R5がH又はOHである、請求項1〜9のいずれか1項に記載の化合物。
【請求項１１】
R5'がH又はOHである、請求項1〜10のいずれか1項に記載の化合物。
【請求項１２】
nが1〜25、好ましくは5〜9又は15〜19の整数である、請求項1〜11のいずれか1項に記載の化合物。
【請求項１３】
ｎが１である請求項１〜１２のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項１４】
ｎが２である請求項１〜１２のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項１５】
ｎが７である請求項１〜１２のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項１６】
前記化合物が下記式IV、V、VI又はVII：
2011513377.tif 000004
（式中、Rは、n個の単位を有するポリアルキレングリコールポリマーであり、ｎは1〜50の整数であり、前記ポリアルキレングリコールポリマーが、-CH2CH2O-、-CH(CH3)CH2O-又は-CH2CH(CH3)O-である）
で表される、請求項1に記載の化合物。
【請求項１７】
2011513377.tif 000005
（式中、Rは、-CH(CH3)CH2O-又は-CH2CH(CH3)O-であり、ｎは７の整数である）
で表される、請求項１６に記載の化合物。
【請求項１８】
必要に応じて1種以上の医薬的に許容しうる賦形剤と共に、医薬的に有効な量の請求項1〜17のずれか1項に記載の1種以上の化合物を含むことを特徴とする、疼痛の治療又は予防用の医薬組成物。
【請求項１９】
実質的に純粋な形態で前記1種以上の化合物を含み、前記実質的に純粋な形態が、少なくとも95質量％の前記1種以上の化合物と、5質量％までのフリーのポリアルキレングリコールとから成り、前記形態中の前記1種以上の化合物と前記フリーのポリアルキレングリコールとの総量が100質量％である、請求項１８に記載の医薬組成物。
【請求項２０】
部分的に純粋な形態で前記1種以上の化合物を含み、前記部分的に純粋な形態は、約5〜60質量％の前記1種以上の化合物と、約95〜40質量％のフリーのポリアルキレングリコールとから成り、その総量が100質量％である、請求項１８に記載の医薬組成物。
【請求項２１】
単位剤形として処方されている、請求項１８〜２０のいずれか1項に記載の医薬組成物。
【請求項２２】
経口投与用に処方されている、請求項１８〜２１のいずれか1項に記載の医薬組成物。
【請求項２３】
0.1〜約500mgの前記1種以上の化合物を含む単位剤形として処方されている、請求項１８〜２２のいずれか1項に記載の医薬組成物。
【請求項２４】
請求項1〜13のいずれか1項に記載の複数の化合物を含み、前記化合物がそれぞれ異なるｍ又はｎの値を有する、請求項１８〜２３のいずれか1項に記載の医薬組成物。
【請求項２５】
前記複数の化合物のnの平均値が、n=5〜9又は15〜19の範囲である、請求項２４に記載の医薬組成物。
【請求項２６】
前記1種以上の化合物の1.0mg〜15gの1日用量として、処方されている、請求項１８〜２５のいずれか1項に記載の医薬組成物。
【請求項２７】
疼痛の治療又は予防用の医薬の製造における請求項１〜１７のいずれか1項に記載の一種以上の化合物の使用。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成25年9月17日(2013.9.17)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００２】
背景
モロニーレトロウイルスの感染および宿主細胞ゲノムへのゲノム組み込みは、マウスにおいてリンパ腫の発症をもたらす。モロニーのプロウイルス組み込みキナーゼ(ＰＩＭキナーゼ)は、レトロウイルス組み込みイベントによって転写活性化され得る高頻度の癌原遺伝子の一つとして同定され(Cuypers HT et al., “Murine leukemia virus-induced T-cell lymphomagenesis: integration of proviruses in a distinct chromosomal region”, Cell 37(1):141-50 (1984); Selten G, et al., “Proviral activation of the putative oncogene Pim-1 in MuLV induced T-cell lymphomas”, EMBO J 4(7):1793-8 (1985))、従って、このキナーゼの過剰発現とその発癌能の間の相関関係が確立された。配列相同性分析により、３つの相同性の高いＰｉｍ−キナーゼ(Ｐｉｍ１、２および３)があることが証明され、Ｐｉｍ１がレトロウイルス組み込みによって最初に識別された癌原遺伝子である。さらに、Ｐｉｍ１またはＰｉｍ２を過剰発現した遺伝子組み換えマウスは、Ｔ細胞リンパ腫の発病率の増大を示し(Breuer M et al., “Very high frequency of lymphoma induction by a chemical carcinogen in pim-1 transgenic mice”, Nature 340(6228):61-3 (1989))、一方、ｃ−ｍｙｃと組み合わせた過剰発現は、Ｂ細胞リンパ腫の発病率に関連している(Verbeek S et al., “Mice bearing the E mu-myc and E mu-pim-1 transgenes develop pre-B-cell leukemia prenatally” Mol Cell Biol 11(2):1176-9 (1991))。従って、これらの動物モデルは、造血器悪性腫瘍において、Ｐｉｍ過剰発現と発癌の間の強い相関関係を確立している。これらの動物モデルに加えて、Ｐｉｍ過剰発現は、他の多くのヒトの悪性腫瘍において報告されている。Ｐｉｍ１、２および３の過剰発現は、しばしば、多くの造血器悪性腫瘍において(Amson R et al., “The human protooncogene product p33pim is expressed during fetal hematopoiesis and in diverse leukemias”, PNAS USA 86(22):8857-61 (1989); Cohen AM et al., “Increased expression of the hPim-2 gene in human chronic lymphocytic leukemia and non-Hodgkin lymphoma”, Leuk Lymph 45(5):951-5 (2004); Huttmann A et al., “Gene expression signatures separate B-cell chronic lymphocytic leukaemia prognostic subgroups defined by ZAP-70 and CD38 expression status”, Leukemia 20:1774-1782 (2006))、そして、前立腺癌において(Dhanasekaran SM, et al., “Delineation of prognostic biomarkers in prostate cancer”, Nature 412(6849):822-6 (2001); Cibull TL, et al., “Overexpression of Pim-1 during progression of prostatic adenocarcinoma”, J Clin Pathol 59(3):285-8 (2006))、観察され、一方、Ｐｉｍ３の過剰発現は、しばしば、肝細胞癌において(Fujii C, et al., “Aberrant expression of serine/threonine kinase Pim-3 in hepatocellular carcinoma development and its role in the proliferation of human hepatoma cell lines”, Int J Cancer 114:209-218 (2005))、そして、膵臓癌において(Li YY et al., “Pim-3, a proto-oncogene with serine/threonine kinase activity, is aberrantly expressed in human pancreatic cancer and phosphorylates bad to block bad-mediated apoptosis in human pancreatic cancer cell lines”, Cancer Res 66(13):6741-7 (2006))、観察される。
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月6日(2013.3.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式B
2011513307.tif 000001
の化合物、またはその薬学的に許容される塩：
（式中：
R1およびR2の各々が、-CH3および-CD3より独立して選択され；
R5が水素または重水素であり；
各Z3が水素であり；
各Z4が水素であり；
各Z5が水素であり；及び
（a）Y1がOHであり、Y2が水素または重水素であるか、または（b）Y1およびY2が、それらが結合されている炭素と一緒になって、C=Oを形成する）。
【請求項２】
R5が重水素である、請求項1記載の化合物またはその薬学的に許容される塩。
【請求項３】
R1が-CD3である、請求項2記載の化合物またはその薬学的に許容される塩。
【請求項４】
R1およびR2が、各々、-CD3である、請求項1乃至3のいずれか一項記載の化合物またはその薬学的に許容される塩。
【請求項５】
Y1およびY2が、それらが結合されている炭素と一緒になって、C=Oを形成する、請求項1乃至4のいずれか一項記載の化合物またはその薬学的に許容される塩。
【請求項６】
Y1がOHであり、Y2が水素または重水素である、請求項1乃至4のいずれか一項記載の化合物またはその薬学的に許容される塩。
【請求項７】
以下のいずれか1つより選択される化合物：
2011513307.tif 000002
またはその薬学的に許容される塩。
【請求項８】
重水素と指定されていない原子が、その天然同位体存在度で存在する、請求項1乃至7のいずれか一項記載の化合物またはその薬学的に許容される塩。
【請求項９】
請求項1乃至8のいずれか一項記載の化合物若しくはその薬学的に許容される塩、および薬学的に許容される担体を含む、薬学的組成物。
【請求項１０】
請求項1乃至8のいずれか一項記載の化合物またはその薬学的に許容される塩を含む、糖尿病性腎症、高血圧性腎症、または四肢の慢性閉塞性動脈疾患に基づく間欠性跛行を治療するための医薬組成物。
【請求項１１】
請求項1乃至8のいずれか一項記載の化合物またはその薬学的に許容される塩を含む、慢性腎疾患を治療するための医薬組成物。
【請求項１２】
慢性腎疾患が、糸球体腎炎、巣状分節状糸球体硬化症、ネフローゼ症候群、逆流性尿路疾患、または多発性嚢胞腎である、請求項11記載の医薬組成物。
【請求項１３】
請求項1乃至8のいずれか一項記載の化合物またはその薬学的に許容される塩を含む、肝臓の慢性疾患を治療するための医薬組成物。
【請求項１４】
肝臓の慢性疾患が、非アルコール性脂肪性肝炎、脂肪肝変性または他の食事誘発高脂肪若しくはアルコール誘発組織変性状態、肝硬変、肝不全、またはアルコール性肝炎である、請求項13記載の医薬組成物。
【請求項１５】
請求項1乃至8のいずれか一項記載の化合物またはその薬学的に許容される塩を含む、インスリン抵抗性、網膜症、糖尿病性潰瘍、放射線性壊死、急性腎不全または薬物誘発腎毒性を治療するための医薬組成物。
【請求項１６】
請求項1乃至8のいずれか一項記載の化合物またはその薬学的に許容される塩を含む、間欠性跛行を治療するための医薬組成物。
【請求項１７】
請求項1乃至8のいずれか一項記載の化合物またはその薬学的に許容される塩を含む、インスリン依存性糖尿病、インスリン非依存性糖尿病、メタボリックシンドローム、肥満症、インスリン抵抗性、脂質異常症、耐糖能異常、高血圧症、高脂血症、高尿酸血症、痛風または凝固能亢進を治療するための医薬組成物。