【手続補正書】
【提出日】平成21年7月29日(2009.7.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板と、前記透明基板の上に設けられた少なくとも２種類の光学材料により形成された多層膜と、前記多層膜の上面に形成された保護膜と、を備えた複屈折板であって、前記多層膜は、基板表面の法線に対して斜めとなる第１の方向からの斜方蒸着層と前記第１の方向と互いに逆となる前記法線に対して斜めとなる第２の方向からの斜方蒸着層とを含む少なくとも２層以上で構成されており、前記斜方蒸着層が屈折率異方性Δｎを有する第１の光学材料で形成された高Δｎ層と前記高Δｎ層よりも屈折率が低い第２の光学材料で形成された低屈折率層を交互に積層した部分を含むことを特徴とする複屈折板。
【請求項２】
前記高Δｎ層の屈折率異方性Δｎが０．０７以上であることを特徴とする請求項１に記載の複屈折板。
【請求項３】
前記斜方蒸着層において前記高Δｎ層を形成する光学材料がＴａ２Ｏ５であり、前記低屈折率層を形成する光学材料がＳｉＯ２である請求項１または請求項２に記載の複屈折板。
【請求項４】
前記斜方蒸着層は、前記第１の方向から斜方蒸着される前記高Δｎ層の厚さの合計と前記第２の方向から斜方蒸着される前記高Δｎ層の厚さの合計が実質的に等しいことを特徴とする請求項１〜請求項３いずれか一項に記載の複屈折板。
【請求項５】
前記多層膜の側面と上面とに保護膜が形成されており、前記保護膜は前記多層膜の側面に設けられた部分と前記多層膜の上面に設けられた部分とが一体化されている請求項１〜請求項４いずれか一項に記載の複屈折板。
【請求項６】
所定の波長帯域の光に対して、前記保護膜と、前記透明基板と前記多層膜を含む層との光学アドミッタンスが実質的に等しいことを特徴とする請求項１〜５に記載の複屈折板。
【請求項７】
前記保護膜の屈折率をｎ１とし、前記透明基板と前記多層膜を含む層の光学アドミッタンスを（ａ１＋ｉｂ１）として３９５〜４１５ｎｍの波長の光が基板に対して垂直に入射したときに、ａ１、ｂ１が次の不等式を満たすことを特徴とする請求項６に記載の複屈折板（ｉは虚数単位を示す）。
（ａ１−１．０２ｎ１）２＋ｂ１２＜０．０４ｎ１２
【請求項８】
所定の波長帯域の光に対して、前記多層膜上の保護膜の上面と接する媒質と、前記透明基板と前記多層膜と前記保護膜を含む層との光学アドミッタンスが実質的に等しいことを特徴とする請求項１〜請求項６いずれか一項に記載の複屈折板。
【請求項９】
前記多層膜上の保護膜の上面と接する媒質の屈折率をｎ２とし、前記透明基板と前記多層膜と前記保護膜を含む層の光学アドミッタンスを（ａ２＋ｉｂ２）として３９５〜４１５ｎｍの少なくとも一部の波長の光が基板に対して垂直に入射したときに、ａ２、ｂ２が次の不等式を満たすことを特徴とする請求項８に記載の複屈折板（ｉは虚数単位を示す）。
（ａ２−１．０２ｎ２）２＋ｂ２２＜０．０４ｎ２２
【請求項１０】
前記多層膜上面の保護膜の上に少なくとも２種類の光学材料によって形成された反射防止膜が積層された請求項１〜請求項９いずれか一項に記載の複屈折板。
【請求項１１】
前記反射防止膜を形成する光学材料が、Ｔａ２Ｏ５とＳｉＯ２とで形成された請求項１０に記載の複屈折板。
【請求項１２】
所定の波長帯域の光に対して前記反射防止膜の上面と接する媒質と、前記透明基板と前記多層膜と前記保護膜と前記反射防止膜を含む層との光学アドミッタンスが実質的に等しいことを特徴とする請求項１０または請求項１１に記載の複屈折板。
【請求項１３】
前記反射防止膜の上面と接する媒質の屈折率をｎ３とし、前記透明基板と前記多層膜と前記保護膜と前記反射防止膜を含む層の光学アドミッタンスを（ａ３＋ｉｂ３）として３９５〜４１５ｎｍの少なくとも一部の波長の光が基板に対して垂直に入射したときに、ａ３、ｂ３が次の不等式を満たすことを特徴とする請求項１２に記載の複屈折板（ｉ：虚数単位）。
（ａ３−１．０２ｎ３）２＋ｂ３２＜０．０４ｎ３２
【請求項１４】
特定の波長の直線偏光を出射する光源と、直線偏光を出射する光を光記録媒体に集光する対物レンズと、光記録媒体からの反射光を検出する光検出器とを備えた、光記録媒体の情報の記録・再生を行う光ヘッド装置であって、前記光源と前記対物レンズとの間の光路中、または前記対物レンズと前記光検出器との間の光路中に、請求項１〜請求項１３のいずれか一項に記載の複屈折板が設置されている光ヘッド装置。
【請求項１５】
透明基板の表面に積層する膜の厚さに対して十分に深い加工溝を形成する工程後に、斜方蒸着膜を積層させ、前記斜方蒸着膜上にＣＶＤにより多層膜の側面に保護膜を蒸着させる工程と、前記斜方蒸着膜の側面に保護膜を有する基板表面の前記加工溝に沿って所定の形状にダイシングされることを特徴とする複屈折板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
斜方蒸着膜の屈折率異方性Δｎが高い特性を有する材料としては、Ｔａ２Ｏ５、ＣｅＯ２、ＨｆＯ２、ＳｎＯ２などがある。とくに、より高Δｎの特性を有する材料を選択することで斜方蒸着膜の厚さを増大させることなく適正なリタデーションを得ることができる。上記材料ではＴａ２Ｏ５がとくに高Δｎの特性を有するため、複屈折板に使用される例が多い。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明は、透明基板と、前記透明基板の上に設けられた少なくとも２種類の光学材料により形成された多層膜と、前記多層膜の上面に形成された保護膜と、を備えた複屈折板であって、前記多層膜は、基板表面の法線に対して斜めとなる第１の方向からの斜方蒸着層と前記第１の方向と互いに逆となる前記法線に対して斜めとなる第２の方向からの斜方蒸着層とを含む少なくとも２層以上で構成されており、前記斜方蒸着層が屈折率異方性Δｎを有する第１の光学材料で形成された高Δｎ層と前記高Δｎ層よりも屈折率が低い第２の光学材料で形成された低屈折率層を交互に積層した部分を含むことを特徴とする複屈折板を提供する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
（実施例２）
図３に本発明の実施例２に係る複屈折板の模式的断面図を示す。実施例１で作製した斜方蒸着多層膜に波長４０５ｎｍにおいて光学膜厚がλ／２となるように蒸着源の鉛直方向と基板面の法線方向が一致するようにＳｉＯ２を正面より蒸着させた膜を形成した。作製した複屈折板をダイシングによって４ｍｍ×５ｍｍに切断し６０℃、湿度９０％の環境下に５００時間保管したところ蒸着多層膜の剥離が無いことが確認され、また、ＳｉＯ２膜により斜方蒸着多層膜表面の保護効果が確認された。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
（実施例４）
図６に本発明の実施例４に係る複屈折板の模式的断面図を示す。実施例３でＣＶＤにより作製した最表層であるＳｉＯ２層３３１の上にさらにＴａ２Ｏ５層４０１を１４ｎｍ、ＳｉＯ２層４０２を９２ｎｍの順に蒸着源の鉛直方向と基板面の法線方向が一致するように正面より蒸着させて反射防止膜を形成した。実施例４における複屈折板と接する空気の屈折率は１であり、４０５ｎｍの波長の光を入射したときの複屈折板の光学アドミッタンスは１．０６＋ｉ０．０４（ｉ：虚数単位）である。この反射防止膜により、実施例３の構成における４０５ｎｍの波長帯においてＳｉＯ２層３３１と空気との界面で発生する光の反射を低減させることができ、さらに高透過率の複屈折板４００を得ることができた。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
（比較例２）
図８に本発明の比較例２に係る複屈折板の模式的断面図を示す。比較例１で作製した斜方蒸着多層膜に波長４０５ｎｍにおいて光学膜厚がλ／２となるように蒸着源の鉛直方向と基板面の法線方向が一致するようにＳｉＯ２膜６０１を正面より蒸着させた膜を形成した。ＳｉＯ２膜により表面の保護効果が向上したもののＴａ２Ｏ５多層膜内の干渉による反射率の増大が確認された。