【手続補正書】
【提出日】平成21年9月17日(2009.9.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記第一真空チャンバの真空圧は、第二真空チャンバの真空圧より高いことを特徴とする請求項１に記載の真空処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
半導体製造工程または水晶振動子製造工程において用いられる真空処理装置として、内部に搬送ロボットを収納した搬送チャンバおよび真空処理を行う各種処理チャンバが知られている。そして、搬送チャンバまたは処理チャンバを真空にするためにはロータリーポンプもしくはスクロールポンプ（ドライポンプ)または拡散ポンプもしくはターボ分子ポンプ（ドライポンプ)が使用されている。これら搬送チャンバと処理チャンバと間、または搬送チャンバと外部との間には、基板を出し入れするゲートロックチャンバ（搬送経路）がそれぞれ設けられている。ゲートロックチャンバには搬送チャンバと処理チャンバとの気圧差を遮断するためのゲート弁が設けられている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
このような搬送チャンバまたは処理チャンバは、故障だけでなく定期的な部品交換などのためにメンテナンスする必要がある。複数の搬送チャンバまたは処理チャンバが連なっている場合には、一つの真空圧の低い処理チャンバに対して部品交換のため大気圧に戻そうとすると（いわゆる真空破壊または大気開放と呼ばれる）、それより高い真空圧の搬送チャンバまたは処理チャンバに対しても、大気圧に戻さなくてならない。ゲート弁が真空圧が高い方から真空圧の低い方の一方方向に気圧差を利用して閉めているからである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
第３搬送チャンバ２２−Ｃは、必ずしも必須ではない。特に第１処理ユニットＵＮＩ−Ａで要求される真空圧と第２処理ユニットＵＮＩ―Ｂで要求される真空圧がほぼ同じであれば、第３搬送チャンバ２２−Ｃを設ける必要なない。一方、第１処理ユニットＵＮＩ−Ａで要求される真空圧と第２処理ユニットＵＮＩ―Ｂで要求される真空圧との差が二桁以上であれば、真空ポンプによる真空引き時間を考慮すると、第３搬送チャンバ２２−Ｃを設けた方がよい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
第２処理ユニットＵＮＩ―Ｂの動作は、第１処理ユニットＵＮＩ−Ａの動作とほぼ同じである。第２搬送チャンバ２２−Ｂ内で位置合わせが行われた水晶ウエハＷは、搬送ロボットＲＢ２のフォーク部に載置される。第２ゲートロックチャンバ７０−Ｂのゲート弁ＧＶ３およびゲート弁ＧＶ４が開き、水晶ウエハＷは、第２スパッタ処理チャンバ４２−ＢのローダＬに載置される。水晶ウエハＷのローダＬによる載置の間、第２搬送チャンバ２２−Ｂ内が第２スパッタ処理チャンバ４２−Ｂと同じ真空圧になるように真空引きされる。そして、第２ゲートロックチャンバ７０−Bのゲート弁ＧＶ３およびゲート弁ＧＶ４が再び閉じられる。第２スパッタ処理チャンバ４２−Ｂ内で所定のプロセス条件に基づいて水晶ウエハＷにＡｕ層が形成される。処理後の水晶ウエハＷは、第２搬送チャンバ２２−Ｂへ戻される。その後、水晶ウエハＷは、ゲート弁ＧＶ１０から外部に搬出される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
また、第１スパッタ処理チャンバ４２−Ａの最上流のパージガスラインＰＬには、第２ロータリーポンプＲＰ２が配置してある。第２ロータリーポンプＲＰ２は、より低い真空圧が必要な第１スパッタ処理チャンバ４２−Ａの粗引きとして用いられている。パージガスラインＰＬは、さらに２つに分岐される。第一のパージガスラインＰＬは、ラフ弁ＲＶを介して第１スパッタ処理チャンバ４２−Ａに接続される。第二のパージガスラインＰＬは、フォア弁ＦＶ、ターボ分子ポンプＴＭＰおよび第二メイン弁ＭＶ２を介して第１スパッタ処理チャンバ４２−Ａに接続される。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
ターボ分子ポンプＴＭＰは、内部の金属製の羽根が空気を排気して最高到達真空圧は１０−６Ｐａほどである。ターボ分子ポンプＴＭＰは、動作圧力には制限があるため、第２ロータリーポンプＲＰ２で一定の真空圧を確保してから、ターボ分子ポンプＴＭＰ内を一定の真空圧にする。第二メイン弁ＭＶ２の下流には、第１スパッタ処理チャンバ４２−Ａを大気圧に戻す際に窒素などを供給するベント弁ＶＶ２を備えたガス供給ラインＳＬが設けられている。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
第１搬送チャンバ２２−Ａ側は、ステップＳ５１にて、第１ロータリーポンプＲＰ１が起動する。そして、ステップＳ５２にて、第１メイン弁ＭＶ１が開いて第１搬送チャンバ２２−Ａを真空引きする。ステップＳ５３では、所定の真空圧に達したか否かを、ピラニー真空計Ｐｉ１で確認し、所定の真空圧に達したら、真空引きを終了する。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
第１スパッタ処理チャンバ４２−Ａ側は、ステップＳ６１にて、第２ロータリーポンプＲＰ２が起動する。そしてステップＳ６２にて、一定時間経過後にフォア弁ＦＶを開き、ステップＳ６３でターボ分子ポンプＴＭＰが起動する。ステップＳ６４でターボ分子ポンプＴＭＰが設定回転に達したか否かを判断する。
ターボ分子ポンプＴＭＰが設定回転に達したら、ステップＳ６５にて、フォア弁ＦＶを閉じ、そして所定時間経過後にラフ弁ＲＶを開く。これにより、第２ロータリーポンプＲＰ２より、ラフ弁ＲＶが開いて第１スパッタ処理チャンバ４２−Ａを真空引きする。ステップＳ６６では、所定の真空圧に達したか否かを、ピラニー真空計Ｐｉ２で確認する。ステップＳ６７では、所定の真空圧に達したら、ラフ弁ＲＶを閉じ、フォア弁ＦＶを開き、しばらくして第２メイン弁ＭＶ２を開く。これにより、第１スパッタ処理チャンバ４２−Ａがターボ分子ポンプＴＭＰで真空引きされる。ステップＳ６８では、所定の真空圧に達したか否かを、ペニング真空計Ｐｅで確認し、所定の真空圧に達したら、真空引きを終了する。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
＜＜第二実施例＞＞
図６は、第二実施例のゲート弁ＧＶおよびゲートロックチャンバ７０を示した斜視図である。なお、図６では真空圧の低い第１スパッタ処理チャンバ４２−Ａ側のゲート弁ＧＶ２のみを示している。ゲート弁ＧＶは、いわゆる扉形状になっており、扉部６１がヒンジ部６７によって回転できるようになっている。ヒンジ部６７に設けられたモ−タなどの駆動部によって扉部６１をロックチャンバ７０の壁部に密着させ、開口窓７２を閉めることができる。ゲート弁ＧＶの扉部６１は、第１搬送チャンバ２２−Ａからゲートロックチャンバ７０側へ、または第１スパッタ処理チャンバ４２−Ａからゲートロックチャンバ７０側へ突き出た突起部６２を有する。また、ゲート弁ＧＶの扉部６１は、ゲートロックチャンバ７０の壁部に接触する部分に溝部を形成し、その溝部にＯリング６３を配置している。扉部６１による開閉においても、Ｏリング６３を壊してしまうことにがないように、開口孔７４にベント弁ＶＶ３を設ける。ベント弁ＶＶ３を開けることでゲートロックチャンバ７０内の気圧を制御できる。