【誤訳訂正書】
【提出日】平成25年6月21日(2013.6.21)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上面（４）に、混合及び／又は粉砕部材を備えることができ、下面（６）に、内側から外側に延びる複数個の搬送リブ（７）を備えるディスク本体（３）を有し、搬送リブにより、運転中に、高分子粒子を外側に運び、又は、搬送リブにより、運転中に搬送リブ（７）により捕捉された高分子材料に、ローターディスク（１）の中心（８）から外側に向かう力を及ぼす、高分子処理用収容容器内に設けるローターディスク（１）において、前記ディスク本体（３）の厚さは、外側に近付くにつれて減少し、前記搬送リブ（７）は、外側に近付くにつれて高さが増加することを特徴とするローターディスク。
【請求項２】
前記ディスク本体（３）の厚さは、１．５ｍｍと３．５ｍｍの間の値で減少することを特徴とする請求項１に記載のローターディスク。
【請求項３】
前記ディスク本体（３）は、前記搬送リブ（７）が、外側に近付くにつれて高さが増加するにつれて、同じ比率で外側に近付くにつれて厚さが減少することを特徴とする請求項１又は２に記載のローターディスク。
【請求項４】
前記ローターディスク（１）の前記ディスク本体（３）の厚さと前記搬送リブ（７）の高さとを含む全体的な厚さは、その放射状部分に亘って等しくかつ一定であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１に記載のローターディスク。
【請求項５】
前記ディスク本体（３）の内側部分（９）の厚さは、一定であり、当該厚さは、前記ローターディスク（１）の中心（８）から離れた距離（１８）から減少が始まり、及び／又は、前記搬送リブ（７）の高さは、内側領域（９）で一定であり、前記ローターディスク（１）の中心（８）から離れた距離（１８）から増加が始まることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１に記載のローターディスク。
【請求項６】
前記ディスク本体（３）の内側部分（９）の厚さは、一定であり、当該厚さは、前記ローターディスク（１）の中心（８）から前記ローターディスクの半径の６０％と７０％の間の距離（１８）から減少が始まり、及び／又は、前記搬送リブ（７）の高さは、内側領域（９）で一定であり、前記ローターディスク（１）の中心（８）から前記ローターディスクの半径の６０％と７０％の間の距離（１８）から増加が始まることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１に記載のローターディスク。
【請求項７】
前記搬送リブ（７）の前記上面（４）から最も離れた箇所又は部分は、水平面（１０）を形成又はなすことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１に記載のローターディスク。
【請求項８】
前記ディスク本体（３）の上面（４）は、水平面であり、及び／又は、当該水平面（１０）は、前記上面（４）と平行であることを特徴とする請求項７に記載のローターディスク。
【請求項９】
前記ディスク本体（３）の、厚さが減少する領域内の下面（６）は、面取りされ、前記上面（４）に向かって、及び／又は水平面（１０）に向かって、３°未満の角度γで傾斜することを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１に記載のローターディスク。
【請求項１０】
前記ディスク本体（３）の、厚さが減少する領域内の下面（６）は、面取りされ、前記上面（４）に向かって、及び／又は水平面（１０）に向かって、０．４°と０．６°の間の角度γで傾斜することを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１に記載のローターディスク。
【請求項１１】
前記ディスク本体（３）の厚さの減少は、連続していることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１に記載のローターディスク。
【請求項１２】
前記ディスク本体（３）の厚さの減少は、不連続又は段階的、必要に応じて一段階であることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか１に記載のローターディスク。
【請求項１３】
前記搬送リブ（７）は、回転すなわち走行方向に凹となるように湾曲することを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか１に記載のローターディスク。
【請求項１４】
前記搬送リブ（７）の全ての湾曲は、等しく、及び／又は、当該湾曲は、円弧であることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１に記載のローターディスク。
【請求項１５】
前記搬送リブ（７）は、少なくとも２個のグループが、前記中心（８）から異なる距離で、すなわち、内側中央領域（１４）からと外側中央領域（１５）から交互に始まることを特徴とする請求項１乃至１４のいずれか１に記載のローターディスク。
【請求項１６】
前記搬送リブ（７）の外側端部部分は、前記ローターディスク（１）の端部に対してほぼ接線方向に、０°と２５°の間の外側交角αで、揃っており、及び／又は、前記搬送リブ（７）の内側形成開始部分は、前記内側中央領域（１４）又は前記外側中央領域（１５）に対して、０°と４５°の間の第１及び第２交角β１及びβ２で、設けられ、これら交角は、前記搬送リブ（７）に対する接線と前記ローターディスク（１）の端部又は前記内側中央領域（１４）又は前記外側中央領域（１５）に対する接線との間で、これら接線の交差箇所、又は前記搬送リブ（７）の開始箇所のそれぞれで形成されることを特徴とする請求項１乃至１５のいずれか１に記載のローターディスク。
【請求項１７】
前記搬送リブ（７）の外側端部部分は、前記ローターディスク（１）の端部に対してほぼ接線方向に、１２°と１８°の間の外側交角αで、揃っており、及び／又は、前記搬送リブ（７）の内側形成開始部分は、前記内側中央領域（１４）又は前記外側中央領域（１５）に対して、１５°と３０°の間の第１及び第２交角β１及びβ２で、設けられ、第２交角β２は、第１交角β１よりも大で、これら交角は、前記搬送リブ（７）に対する接線と前記ローターディスク（１）の端部又は前記内側中央領域（１４）又は前記外側中央領域（１５）に対する接線との間で、これら接線の交差箇所、又は前記搬送リブ（７）の開始箇所のそれぞれで形成されることを特徴とする請求項１乃至１５のいずれか１に記載のローターディスク。
【請求項１８】
前記搬送リブ（７）は、回転方向において直線で、前記下面（６）に対して実質的に垂直に揃えられた搬送面（１１）と、回転方向下流に向かって傾斜した、面取りされた平坦な側面（１２）とを備えた、実質的に三角形状の断面を有し、当該傾斜した側面（１２）は、１０°と３５°の間の角度δに揃えられることを特徴とする請求項１乃至１７のいずれか１に記載のローターディスク。
【請求項１９】
前記ディスク本体（３）内に、空洞部（１３）が形成され、必要に応じて、冷媒で満たされ又はかん流されることを特徴とする請求項１乃至１８のいずれか１に記載のローターディスク。
【請求項２０】
均一に平坦な床面（１７）と側壁（１８）とを備えた収容容器（２）を有し、当該床面（１７）近傍で平行に、請求項１乃至１７のいずれか１によるローターディスク（１）を備える、合成樹脂材料を処理し加工する装置において、当該ローターディスク（１）は、実質的に垂直に設けられたシャフト（１９）により支持され駆動されることにより、当該収容容器内の合成樹脂材料が、移動されることを特徴とする装置。
【請求項２１】
搬送リブ（７）の、前記ローターディスク（１）から最も離れた最外箇所又は最外端と前記床面（１７）の距離は、ディスク本体（３）の厚さよりも小で、３ｍｍと１５ｍｍの間であることを特徴とする請求項２０に記載の装置。
【請求項２２】
搬送リブ（７）の、前記ローターディスク（１）から最も離れた最外箇所又は最外端と前記床面（１７）の距離は、ディスク本体（３）の厚さよりも小で、４ｍｍと８ｍｍの間であることを特徴とする請求項２０に記載の装置。