【手続補正書】
【提出日】平成21年11月6日(2009.11.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明支持体上に、少なくともハードコート層と低屈折率層とを有する反射防止フィルムであって、該低屈折率層がバインダーポリマー、少なくとも１種の重合開始剤、及びエチレン性不飽和基を有する硬化性化合物を含有する低屈折率層形成用組成物により形成される反射防止フィルムであって、
重合開始剤及び硬化性化合物が低屈折率層の下部に局在化して硬化されたものである反射防止フィルム。
【請求項２】
重合開始剤が熱及び／又は光分解性の開始剤である請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
バインダーポリマーが、熱硬化性及び/又は電離放射線硬化性の含フッ素ポリマーであり、硬化性化合物が非フッ素化合物である請求項１又は２に記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
重合開始剤及び硬化性化合物のＳＰ値がバインダーポリマーよりも大きい請求項１〜３のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項５】
硬化性化合物が、オルガノシランの加水分解物及び／又はその部分縮合物である請求項１〜４のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項６】
低屈折率層中に、硬化性化合物と重合開始剤が分子内で連結結合した化合物を含有する請求項１〜５のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項７】
低屈折率層に、更にシリカ粒子、中空シリカ粒子より選ばれる無機フィラーを含有する請求項１〜６のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項８】
透明支持体上に、少なくともハードコート層と低屈折率層とを有する反射防止フィルムの製造方法であって、低屈折率層形成用組成物を、塗布し、乾燥した後、酸素濃度３体積%以下の雰囲気下で電離放射線照射して硬化して形成する請求項１〜７のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項９】
低屈折率層形成用組成物を、塗布し、乾燥した後、さらに加熱硬化した後、３体積%以下の雰囲気下で電離放射線照射して硬化して形成する請求項８に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項１０】
請求項１〜７のいずれかに記載の反射防止フィルム、又は請求項８又は９に記載の製造方法で製造された反射防止フィルムを、偏光板における偏光膜の２枚の保護フィルムのうちの少なくとも一方に用いた偏光板。
【請求項１１】
請求項１〜７のいずれかに記載の反射防止フィルム、もしくは請求項８又は９に記載の製造方法で製造された反射防止フィルム、又は請求項１０に記載の偏光板を有するディスプレイ装置であって、低屈折率層が視認側になるように配置されているディスプレイ装置。
【請求項１２】
透明支持体上に、少なくともハードコート層と低屈折率層とを有する反射防止フィルムであって、該低屈折率層がバインダーポリマー、少なくとも１種の重合開始剤、及びエチレン性不飽和基を有する硬化性化合物を含有する低屈折率層形成用組成物により形成される反射防止フィルムであって、
低屈折率層中に、硬化性化合物と重合開始剤が分子内で連結結合した化合物を含有する反射防止フィルム。
【請求項１３】
重合開始剤及び硬化性化合物が低屈折率層の下部に局在化して硬化されたものである請求項１２記載の反射防止フィルム。
【請求項１４】
重合開始剤が熱及び／又は光分解性の開始剤である請求項１２又は１３に記載の反射防止フィルム。
【請求項１５】
バインダーポリマーが、熱硬化性及び／又は電離放射線硬化性の含フッ素ポリマーであり、硬化性化合物が非フッ素化合物である請求項１２〜１４のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項１６】
重合開始剤及び硬化性化合物のＳＰ値がバインダーポリマーよりも大きい請求項１２〜１５のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項１７】
硬化性化合物が、オルガノシランの加水分解物及び/又はその部分縮合物である請求項１２〜１６のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項１８】
低屈折率層に、更にシリカ粒子、中空シリカ粒子より選ばれる無機フィラーを含有する請求項１２〜１７のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項１９】
透明支持体上に、少なくともハードコート層と低屈折率層とを有する反射防止フィルムの製造方法であって、低屈折率層形成用組成物を、塗布し、乾燥した後、酸素濃度３体積%以下の雰囲気下で電離放射線照射して硬化して形成する請求項１２〜１８のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項２０】
低屈折率層形成用組成物を、塗布し、乾燥した後、さらに加熱硬化した後、３体積%以下の雰囲気下で電離放射線照射して硬化して形成する請求項１９に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項２１】
請求項１２〜１８のいずれかに記載の反射防止フィルム、又は請求項１９又は２０に記載の製造方法で製造された反射防止フィルムを、偏光板における偏光膜の２枚の保護フィルムのうちの少なくとも一方に用いた偏光板。
【請求項２２】
請求項１２〜１８のいずれかに記載の反射防止フィルム、もしくは請求項１９又は２０に記載の製造方法で製造された反射防止フィルム、又は請求項２１に記載の偏光板を有するディスプレイ装置であって、低屈折率層が視認側になるように配置されているディスプレイ装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
１）  透明支持体上に、少なくともハードコート層と低屈折率層とを有する反射防止フィルムであって、該低屈折率層がバインダーポリマー、少なくとも１種の重合開始剤、及びエチレン性不飽和基を有する硬化性化合物を含有する低屈折率層形成用組成物により形成される反射防止フィルムであって、
重合開始剤及び硬化性化合物が低屈折率層の下部に局在化して硬化されたものである反射防止フィルム。
２）  重合開始剤が熱及び／又は光分解性の開始剤である上記１）に記載の反射防止フィルム。
３）  バインダーポリマーが、熱硬化性及び/又は電離放射線硬化性の含フッ素ポリマーであり、硬化性化合物が非フッ素化合物である上記１）又は２）に記載の反射防止フィルム。
４）  重合開始剤及び硬化性化合物のＳＰ値がバインダーポリマーよりも大きい上記１）〜３）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
５）  硬化性化合物が、オルガノシランの加水分解物及び／又はその部分縮合物である上記１）〜４）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
６）  低屈折率層中に、硬化性化合物と重合開始剤が分子内で連結結合した化合物を含有する上記１）〜５）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
７）  低屈折率層に、更にシリカ粒子、中空シリカ粒子より選ばれる無機フィラーを含有する上記１）〜６）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
８）  透明支持体上に、少なくともハードコート層と低屈折率層とを有する反射防止フィルムの製造方法であって、低屈折率層形成用組成物を、塗布し、乾燥した後、酸素濃度３体積%以下の雰囲気下で電離放射線照射して硬化して形成する上記１）〜７）のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法。
９）  低屈折率層形成用組成物を、塗布し、乾燥した後、さらに加熱硬化した後、３体積%以下の雰囲気下で電離放射線照射して硬化して形成する上記８）に記載の反射防止フィルムの製造方法。
１０）  上記１）〜７）のいずれかに記載の反射防止フィルム、又は上記８）又は９）に記載の製造方法で製造された反射防止フィルムを、偏光板における偏光膜の２枚の保護フィルムのうちの少なくとも一方に用いた偏光板。
１１）  上記１）〜７）のいずれかに記載の反射防止フィルム、もしくは上記８）又は９）に記載の製造方法で製造された反射防止フィルム、又は上記１０）に記載の偏光板を有するディスプレイ装置であって、低屈折率層が視認側になるように配置されているディスプレイ装置。
１２）  透明支持体上に、少なくともハードコート層と低屈折率層とを有する反射防止フィルムであって、該低屈折率層がバインダーポリマー、少なくとも１種の重合開始剤、及びエチレン性不飽和基を有する硬化性化合物を含有する低屈折率層形成用組成物により形成される反射防止フィルムであって、
低屈折率層中に、硬化性化合物と重合開始剤が分子内で連結結合した化合物を含有する反射防止フィルム。
１３）  重合開始剤及び硬化性化合物が低屈折率層の下部に局在化して硬化されたものである上記１２）に記載の反射防止フィルム。
１４）  重合開始剤が熱及び/又は光分解性の開始剤である上記１２）又は１３）に記載の反射防止フィルム。
１５）  バインダーポリマーが、熱硬化性及び/又は電離放射線硬化性の含フッ素ポリマーであり、硬化性化合物が非フッ素化合物である上記１２）〜１４）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
１６）  重合開始剤及び硬化性化合物のＳＰ値がバインダーポリマーよりも大きい上記１２）〜１５）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
１７）  硬化性化合物が、オルガノシランの加水分解物及び/又はその部分縮合物である上記１２）〜１６）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
１８）  低屈折率層に、更にシリカ粒子、中空シリカ粒子より選ばれる無機フィラーを含有する上記１２）〜１７）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
１９）  透明支持体上に、少なくともハードコート層と低屈折率層とを有する反射防止フィルムの製造方法であって、低屈折率層形成用組成物を、塗布し、乾燥した後、酸素濃度３体積%以下の雰囲気下で電離放射線照射して硬化して形成する上記１２）〜１８）のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法。
２０）  低屈折率層形成用組成物を、塗布し、乾燥した後、さらに加熱硬化した後、３体積%以下の雰囲気下で電離放射線照射して硬化して形成する上記１９）に記載の反射防止フィルムの製造方法。
２１）  上記１２）〜１８）のいずれかに記載の反射防止フィルム、又は上記１９）又は２０）に記載の製造方法で製造された反射防止フィルムを、偏光板における偏光膜の２枚の保護フィルムのうちの少なくとも一方に用いた偏光板。
２２）  上記１２）〜１８）のいずれかに記載の反射防止フィルム、もしくは上記１９）又は２０）に記載の製造方法で製造された反射防止フィルム、又は上記２１）に記載の偏光板を有するディスプレイ装置であって、低屈折率層が視認側になるように配置されているディスプレイ装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また本発明では、以下の形態も好ましい。
２３）無機フィラーが、下記一般式（ａ）で表されるオルガノシラン化合物でシリカ粒子、中空シリカ粒子を表面処理したものである上記７）又は１８）に記載の反射防止フィルム。
一般式（ａ）：（Ｒ11）m1−ＳｉＸ114-m1
（式中、Ｒ11は置換もしくは無置換のアルキル基、又は置換もしくは無置換のアリール基を表す。Ｘ11は水酸基又は加水分解可能な基を表す。ｍ１は０〜３の整数を表す）
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
２４）一般式（ａ）におけるオルガノシラン化合物の置換基Ｒ11が、（メタ）アクリロイル基又はエポキシ基を含有する基である上記２３）に記載の反射防止フィルム。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
以下、本発明を詳細に説明する。なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「（数値１）〜（数値２）」という記載は「（数値１）以上（数値２）以下」の意味を表す。また、本発明でいう「重合」には、共重合も含む趣旨である。さらに、本発明でいう「支持体上」には、該支持体の直接の表面をいう場合と、該支持体の上に何らかの層（膜）を設けた表面をいう場合の両方を含む趣旨である。
本発明は、上記１）〜２４）に関するものであるが、その他の事項についても参考のために記載した。