【手続補正書】
【提出日】平成25年3月19日(2013.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式1：
【化１】
2012522827.tif 000001
[式中、R1は水素化分解により除去することができる基であり、R2は水素化分解により除去することができる基もしくはHである。]
の化合物またはその水和物もしくは溶媒和物を触媒的水素化分解にかけることを特徴とする2’-O-フコシルラクトースを製造するための一般式1の化合物の使用。
【請求項２】
触媒的水素化分解が、水中、1またはそれ以上のC1-C6アルコール中、または水と1またはそれ以上のC1-C6アルコールの混合物中で、パラジウムまたはラネーニッケルの存在下、好ましくはパラジウム/チャコールまたはパラジウムブラックの存在下で実施されることを特徴とする請求項1記載の使用。
【請求項３】
R1が、ベンジル、4-メチルベンジル、ナフチルメチル、ベンジルオキシカルボニル、4-フェニルベンジル、4-クロロベンジル、4-メトキシベンジル、3,4-ジメトキシベンジル、2,4,6-トリメチルベンジル、または2,3,4,5,6-ペンタメチルベンジル、より好ましくはベンジルもしくは4-メチルベンジルであり、R2がHである、一般式1の化合物を用いることを特徴とする請求項1または2に記載の使用。
【請求項４】
一般式1：
【化２】
2012522827.tif 000002
[式中、R1は、水素化分解により除去することができる基である；R2は、水素化分解により除去することができる基またはHである。]
の化合物またはその水和物もしくは溶媒和物。
【請求項５】
R1が、ベンジル、4-メチルベンジル、ナフチルメチル、ベンジルオキシカルボニル、4-フェニルベンジル、4-クロロベンジル、4-メトキシベンジル、3,4-ジメトキシベンジル、2,4,6-トリメチルベンジル、または2,3,4,5,6-ペンタメチルベンジル、より好ましくはベンジルもしくは4-メチルベンジルであり、R2がHである、請求項4記載の化合物。
【請求項６】
一般式2：
【化３】
2012522827.tif 000003
[式中、R1は、水素化分解により除去することができる基である；R3は、水素化分解により除去することができる基、アセタルタイプの基、シリル基、またはHである；Rはアルキルもしくは2個のジェミナルR-基であってそれらが結合している炭素原子と一緒になってC3-C6シクロアルキル環を形成する基である；R’はアルキルである。]
の化合物またはその水和物もしくは溶媒和物を酸触媒弱加水分解にかけることを特徴とする請求項4記載の一般式1の化合物の製造方法。
【請求項７】
酸触媒弱加水分解が、水および1またはそれ以上のC1-C6アルコールの混合物中、スルホン酸の存在下で、好ましくは、水-イソプロパノール混合物中、p-トルエンスルホン酸の存在下で行われることを特徴とする請求項6記載の方法。
【請求項８】
R1が、ベンジル、4-メチルベンジル、ナフチルメチル、ベンジルオキシカルボニル、4-フェニルベンジル、4-クロロベンジル、4-メトキシベンジル、3,4-ジメトキシベンジル、2,4,6-トリメチルベンジル、または2,3,4,5,6-ペンタメチルベンジル、より好ましくはベンジルもしくは4-メチルベンジルであり；R3がHであり；RおよびR’がメチルである、一般式2の化合物を適用することを特徴とする請求項6または7記載の方法。
【請求項９】
一般式2：
【化４】
2012522827.tif 000004
[式中、R1は、水素化分解により除去することができる基である；R3は、水素化分解により除去することができる基、アセタルタイプの基、シリル基、またはHである；Rはアルキルもしくは2個のジェミナルR-基であってそれらが結合している炭素原子と一緒になってC3-C6シクロアルキル環を形成する基である；R’はアルキルである。]
の化合物またはその水和物もしくは溶媒和物。
【請求項１０】
R1がベンジル、4-メチルベンジル、ナフチルメチル、ベンジルオキシカルボニル、4-フェニルベンジル、4-クロロベンジル、4-メトキシベンジル、3,4-ジメトキシベンジル、2,4,6-トリメチルベンジル、または2,3,4,5,6-ペンタメチルベンジル、より好ましくはベンジル、または4-メチルベンジルであり、R3がHであり、RおよびR’がメチルである請求項9記載の化合物。
【請求項１１】
一般式3：
【化５】
2012522827.tif 000005
[式中、R1は、水素化分解により除去することができる基である；R4は所望により置換されたアシルである；R5は、水素化分解により除去することができる基または所望により置換されたアシルである。]
の化合物またはその水和物もしくは溶媒和物を脱アシル化反応にかけることを特徴とする請求項4に記載の一般式1の化合物の製造方法。
【請求項１２】
R1が、ベンジル、4-メチルベンジル、ナフチルメチル、ベンジルオキシカルボニル、4-フェニルベンジル、4-クロロベンジル、4-メトキシベンジル、3,4-ジメトキシベンジル、2,4,6-トリメチルベンジル、または2,3,4,5,6-ペンタメチルベンジル、より好ましくはベンジルもしくは4-メチルベンジルであり；R4がベンゾイルもしくは4-クロロベンゾイルであり；R5がピバロイル、ベンゾイル、もしくは4-クロロベンゾイルである、一般式3の化合物を、NaOMeまたはNaOHの存在下、メタノール中で脱アシル化することを特徴とする請求項11記載の方法。
【請求項１３】
一般式3：
【化６】
2012522827.tif 000006
[式中、R1は、水素化分解により除去することができる基である；R4は所望により置換されたアシルである；R5は、水素化分解により除去することができる基または所望により置換されたアシルである。]
の化合物またはその水和物もしくは溶媒和物。
【請求項１４】
R1が、ベンジル、4-メチルベンジル、ナフチルメチル、ベンジルオキシカルボニル、4-フェニルベンジル、4-クロロベンジル、4-メトキシベンジル、3,4-ジメトキシベンジル、2,4,6-トリメチルベンジル、または2,3,4,5,6-ペンタメチルベンジル、より好ましくはベンジルもしくは4-メチルベンジルであり、R4がベンゾイルもしくは4-クロロベンゾイルであり、R5がピバロイル、ベンゾイル、もしくは4-クロロベンゾイルである請求項13記載の化合物。
【請求項１５】
一般式4：
【化７】
2012522827.tif 000007
[式中、R1は、水素化分解により除去することができる基である；R4は所望により置換されたアシルである；R6は、水素化分解により除去することができる基、アセタルタイプの基、シリル基、または所望により置換されたアシルである；Rはアルキルもしくは2個のジェミナルR-基であってそれらが結合している炭素原子と一緒になってC3-C6シクロアルキルを形成する基である；R’はアルキルである。]
の化合物またはその水和物もしくは溶媒和物を脱アシル化することを特徴とする請求項9記載の一般式2の化合物の製造方法。
【請求項１６】
R1が、ベンジル、4-メチルベンジル、ナフチルメチル、ベンジルオキシカルボニル、4-フェニルベンジル、4-クロロベンジル、4-メトキシベンジル、3,4-ジメトキシベンジル、2,4,6-トリメチルベンジル、または2,3,4,5,6-ペンタメチルベンジル、より好ましくはベンジルもしくは4-メチルベンジルであり、R4がベンゾイルもしくは4-クロロベンゾイルであり、R6がピバロイル、ベンゾイル、もしくは4-クロロベンゾイルであり、RおよびR’がメチルである、一般式4の化合物を、NaOMeまたはNaOHの存在下、メタノール中で脱アシル化することを特徴とする請求項15記載の方法。
【請求項１７】
一般式4：
【化８】
2012522827.tif 000008
[式中、R1は、水素化分解により除去することができる基である；R4は所望により置換されたアシルである；R6は、水素化分解により除去することができる基、アセタルタイプの基、シリル基、または所望により置換されたアシルである；Rはアルキルもしくは2個のジェミナルR-基であってそれらが結合している炭素原子と一緒になってC3-C6シクロアルキルを形成する基である；R’はアルキルである。]
の化合物またはその水和物もしくは溶媒和物を酸触媒弱加水分解にかけることを特徴とする請求項13記載の一般式3の化合物の合成方法。
【請求項１８】
R1が、ベンジル、4-メチルベンジル、ナフチルメチル、ベンジルオキシカルボニル、4-フェニルベンジル、4-クロロベンジル、4-メトキシベンジル、3,4-ジメトキシベンジル、2,4,6-トリメチルベンジル、または2,3,4,5,6-ペンタメチルベンジル、より好ましくはベンジルもしくは4-メチルベンジルであり、R4がベンゾイルもしくは4-クロロベンゾイルであり、R6がピバロイル、ベンゾイル、もしくは4-クロロベンゾイルであり、RおよびR’がメチルである、一般式4の化合物を適用し、酸触媒弱加水分解を水性アセトニトリルもしくは水性アセトン中、p-トルエンスルホン酸またはHClの存在下で行うことを特徴とする請求項17記載の方法。
【請求項１９】
一般式4：
【化９】
2012522827.tif 000009
[式中、R1は、水素化分解により除去することができる基である；R4は所望により置換されたアシルである；R6は、水素化分解により除去することができる基、アセタルタイプの基、シリル基、または所望により置換されたアシルである；Rはアルキルもしくは2個のジェミナルR-基であってそれらが結合している炭素原子と一緒になってC3-C6シクロアルキルを形成する基である；R’はアルキルである。]
の化合物またはその水和物もしくは溶媒和物。
【請求項２０】
R1が、ベンジル、4-メチルベンジル、ナフチルメチル、ベンジルオキシカルボニル、4-フェニルベンジル、4-クロロベンジル、4-メトキシベンジル、3,4-ジメトキシベンジル、2,4,6-トリメチルベンジル、または2,3,4,5,6-ペンタメチルベンジル、より好ましくはベンジルもしくは4-メチルベンジルであり、R4がベンゾイルもしくは4-クロロベンゾイルであり、R6がピバロイル、ベンゾイル、もしくは4-クロロベンゾイルであり、RおよびR’がメチルである請求項19記載の化合物。
【請求項２１】
一般式5：
【化１０】
2012522827.tif 000010
[式中、R1およびR4は請求項20と同意義である；Xは、ハロゲン、-OC(=NH)CCl3、-O-ペンテニル、-OAc、-OBz、または-SR7であり、R7は、アルキルまたは所望により置換されたフェニルである。]
の化合物を、一般式6：
【化１１】
2012522827.tif 000011
[式中、R、R’、およびR6は、請求項20と同意義である。]
の化合物とグリコシル化条件下で反応させることを特徴とする請求項19記載の一般式4の化合物の合成方法。
【請求項２２】
THF、トルエン、DCM、またはそれらの混合物、好ましくは、THF-DCM混合物中、プロモーターとして臭素またはNBS、好ましくはNBSを用いて、トリフリル酸とのグリコシル化反応を行うことを特徴とする21記載の方法。
【請求項２３】
R1が、ベンジル、4-メチルベンジル、ナフチルメチル、ベンジルオキシカルボニル、4-フェニルベンジル、4-クロロベンジル、4-メトキシベンジル、3,4-ジメトキシベンジル、2,4,6-トリメチルベンジル、または2,3,4,5,6-ペンタメチルベンジルであり；R4がベンゾイルもしくは4-クロロベンゾイルであり；Xが所望により1またはそれ以上のアルキルで置換されたフェニルチオである一般式5の化合物を、RおよびR’がメチルであり、R6が、ピバロイル、ベンゾイル、または4-クロロベンゾイルである一般式6の化合物と反応させることを特徴とする請求項21または22に記載の方法。
【請求項２４】
請求項21に記載の一般式5の化合物に属する一般式7：
【化１２】
2012522827.tif 000012
[式中、R1は、水素化分解により除去することができる基である；R4は、所望により置換されたアシルである；R7は、アルキルまたは所望により置換されたフェニルである。]
の化合物、ただし、フェニル3,4-ジ-O-アセチル-2-O-ベンジル-1-チオ-L-フコピラノシド、メチル 3,4-ジ-O-アセチル-2-O-ベンジル-1-チオ-L-フコピラノシド、エチル3,4-ジ-O-アセチル-2-O-ベンジル-1-チオ-L-フコピラノシド、およびエチル3,4-ジ-O-アセチル-2-O-(4-メトキシベンジル)-1-チオ-L-フコピラノシドを除く。
【請求項２５】
R1が、ベンジル、4-メチルベンジル、1-ナフチルメチル、ベンジルオキシカルボニル、3-フェニルベンジル、4-クロロベンジル、4-メトキシベンジル、3,4-ジメトキシベンジル、2,4,6-トリメチルベンジル、または2,3,4,5,6-ペンタメチルベンジルであり、R4がベンゾイルもしくは4-クロロベンゾイルであり、R7が非置換フェニルである請求項24記載の化合物。
【請求項２６】
一般式8：
【化１３】
2012522827.tif 000013
[式中、R1およびR7は請求項25と同意義である。]
の化合物をアシル化剤によりアシル化することを特徴とする請求項24に記載の一般式7の化合物の合成方法。
【請求項２７】
ベンゾイルもしくは塩化4-クロロベンゾイルをアシル化剤として用いる請求項26記載の方法。
【請求項２８】
一般式1：
【化１４】
2012522827.tif 000014
[式中、R1は水素化分解により除去することができる基であり、R2は水素化分解により除去することができる基もしくはHである。]
の化合物またはその水和物もしくは溶媒和物を触媒的水素化分解にかけること特徴とする2’-O-フコシルラクトースの製造方法。
【請求項２９】
触媒的水素化分解を、水中、1またはそれ以上のC1-C6アルコール中、または水および1またはそれ以上のC1-C6アルコールの混合物中で、パラジウムまたはラネーニッケルの存在下、好ましくはパラジウム/チャコールまたはパラジウムブラックの存在下で行うことを特徴とする請求項28記載の方法。
【請求項３０】
R1が、ベンジル、4-メチルベンジル、ナフチルメチル、ベンジルオキシカルボニル、4-フェニルベンジル、4-クロロベンジル、4-メトキシベンジル、3,4-ジメトキシベンジル、2,4,6-トリメチルベンジル、または2,3,4,5,6-ペンタメチルベンジル、より好ましくはベンジルまたは4-メチルベンジルであり、R2がHである、一般式1の化合物を適用することを特徴とする請求項28または29記載の方法。