【手続補正書】
【提出日】平成20年11月20日(2008.11.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録媒体の所定領域に対する、複数種類のドットを形成するためのインクジェット記録ヘッドの複数回の走査それぞれで記録するための画像データを生成するのに用いられるマスクパターンの製造方法において、
前記複数種類のドットに対応した複数のマスクパターンにおける記録許容画素の配置を決定する決定工程を有し、
前記決定工程は、前記複数のマスクパターンの論理積によって得られる記録許容画素の配置パターンの低周波数成分および前記複数のマスクパターンの論理和によって得られる記録許容画素の配置パターンの低周波数成分が少なくなるように、前記複数のマスクパターンそれぞれにおける記録許容画素の配置を定める工程を含むことを特徴とするマスク製造方法。
【請求項２】
記録媒体の所定領域に対する、複数種類のドットを形成するためのインクジェット記録ヘッドの複数回の走査それぞれで記録するための画像データを生成するのに用いられるマスクパターンの製造方法において、
前記複数種類のドットに対応した複数のマスクパターンにおける記録許容画素の配置を定める決定工程を有し、
前記決定工程は、前記複数のマスクパターンの論理積によって得られる記録許容画素の配置パターンの低周波数成分が少なくなるように、前記複数のマスクパターンそれぞれにおける記録許容画素の配置を変化させる工程を含むことを特徴とするマスク製造方法。
【請求項３】
記録媒体の所定領域に対する、複数種類のドットを形成するためのインクジェット記録ヘッドの複数回の走査それぞれで記録するための画像データを生成するのに用いられるマスクパターンの製造方法において、
前記複数種類のドットに対応した複数のマスクパターンにおける記録許容画素の配置を定める決定工程を有し、
前記決定工程は、前記複数のマスクパターンの論理和によって得られる記録許容画素の配置パターンの低周波数成分が少なくなるように、前記複数のマスクパターンそれぞれにおける記録許容画素の配置を変化させる工程を含むことを特徴とするマスク製造方法。
【請求項４】
記録媒体の所定領域に対する、複数種類のドットを形成するためのインクジェット記録ヘッドの複数回の走査それぞれで記録するための画像データを生成するのに用いられるマスクパターンの製造方法において、
前記複数種類のドットに対応した複数のマスクパターンにおける記録許容画素の配置を第１配置状態から第２配置状態へと変化させることで、前記複数のマスクパターンそれぞれにおける配置を定める決定工程を有し、
前記第２配置状態のときの前記複数のマスクパターンの論理積によって得られる記録許容画素の配置パターンは、前記第１配置状態のときの前記複数のマスクパターンの論理積によって得られる記録許容画素の配置パターンに比して、低周波数成分が少ないことを特徴とするマスク製造方法。
【請求項５】
記録媒体の所定領域に対する、複数種類のドットを形成するためのインクジェット記録ヘッドの複数回の走査それぞれで記録するための画像データを生成するのに用いられるマスクパターンの製造方法において、
前記複数種類のドットに対応した複数のマスクパターンにおける記録許容画素の配置を第１配置状態から第２配置状態へと変化させることで、前記複数のマスクパターンそれぞれにおける配置を定める決定工程を有し、
前記第２配置状態のときの前記複数のマスクパターンの論理和によって得られる記録許容画素の配置パターンは、前記第１配置状態のときの前記複数のマスクパターンの論理和によって得られる記録許容画素の配置パターンに比して、低周波数成分が少ないことを特徴とするマスク製造方法。
【請求項６】
前記複数のマスクパターンは、前記複数種類のドットと前記複数回の走査の組合せに対応した複数のマスクパターンであることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載のマスク製造方法。
【請求項７】
前記決定工程は、
前記複数のマスクパターンのそれぞれについて、当該パターンの記録率に応じた数の記録許容画素を初期パターンで配置する第１工程と、
前記複数のマスクパターンのそれぞれに配置された記録許容画素それぞれについて、その記録許容画素と、それが配置されたマスクパターンを含めた前記複数のマスクパターンに配置された他の記録許容画素との間で斥力ポテンシャルを計算し、その合計である総ポテンシャルエネルギーを求める第２工程と、
前記斥力ポテンシャルが計算されたそれぞれの記録許容画素を、より斥力ポテンシャルが下がる位置に移動させる第３工程と、
前記第２工程と前記第３工程を繰り返すことにより、前記総ポテンシャルエネルギーを低下させる第４工程と、
を含むことを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載のマスク製造方法。
【請求項８】
前記総ポテンシャルエネルギーが所定値以下となったときそれぞれのマスクパターンにおける記録許容画素の配置を最終の配置として定める第５工程をさらに含むことを特徴とする請求項７に記載のマスク製造方法。
【請求項９】
前記第３工程は、より斥力ポテンシャルが下がる位置が、その位置が属するラスターであってマスクパターンの前記走査の方向に対応して規定されるラスターについて定められた記録許容画素を配置できる数を超える位置であるときは、他のラスターで次に斥力ポテンシャルが下がる位置に記録許容画素を移動させることを特徴とする請求項７または８に記載のマスク製造方法。
【請求項１０】
前記決定工程は、
前記複数のマスクパターンのそれぞれに対して１つの記録許容画素を配置する工程であって、その記録許容画素を配置するとしたときに、その位置の記録許容画素と、その記録許容画素のマスクパターンを含めた前記複数のマスクパターンに配置された他の記録許容画素との間で斥力ポテンシャルを計算する第１工程と、
前記斥力ポテンシャルが計算されたそれぞれの記録許容画素について、当該記録許容画素を斥力ポテンシャルが最小となる位置に配置する第２工程と、
前記第１工程と前記第２工程を繰り返し、前記複数のマスクパターンのそれぞれについて、当該パターンの記録率に応じた数の記録許容画素を配置する第３工程と、
を含むことを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載のマスク製造方法。
【請求項１１】
前記第２工程は、斥力ポテンシャルが最小となる位置が、その位置が属するラスターであってマスクパターンの前記走査の方向に対応して規定されるラスターについて定められた記録許容画素を配置できる数を超える位置であるときは、他のラスターで次に斥力ポテンシャルが小さい位置に記録許容画素を配置することを特徴とする請求項１０に記載のマスク製造方法。
【請求項１２】
前記複数種類のドットは、ドットの色およびサイズの少なくとも一方が異なることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか記載のマスク製法方法。
【請求項１３】
請求項１乃至１２のいずれかに記載のマスク製造方法により製造されたマスクパターンを用いて、前記複数種類のドットを前記複数回の走査それぞれで記録するための画像データを生成する工程を有することを特徴とするデータ処理方法。
【請求項１４】
請求項１乃至１２のいずれかに記載のマスク製造方法により製造されたマスクパターンを用いて、前記複数種類のドットを前記複数回の走査それぞれで記録するための画像データを生成する手段を有することを特徴とするデータ処理装置。
【請求項１５】
第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有する記録ヘッドの、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで用いられる画像データを生成するデータ処理方法であって、
前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１工程と、
前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２工程とを有し、
前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを記録時の対応関係に基づいて論理積することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを前記記録時の対応関係とは異なる対応関係に基づいて論理積することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少ないことを特徴とするデータ処理方法。
【請求項１６】
第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有する記録ヘッドの、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで用いられる画像データを生成するデータ処理方法であって、
前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１工程と、
前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２工程とを有し、
前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを正規の位置で論理積した場合に得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを前記正規の位置とは異なる位置で論理積した場合に得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少ないことを特徴とするデータ処理方法。
【請求項１７】
第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有する記録ヘッドの、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで用いられる画像データを生成するデータ処理方法であって、
前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１工程と、
前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２工程とを有し、
前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを記録時の対応関係に基づいて論理積することによって得られる記録許容画素の配列パターンにおける低周波数成分が高周波数成分よりも少ないことを特徴とするデータ処理方法。
【請求項１８】
第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有する記録ヘッドの、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで用いられる画像データを生成するデータ処理方法であって、
前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１工程と、
前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２工程とを有し、
前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンの論理積によって得られる記録許容画素の配列パターンは、非周期で且つ低周波数成分が高周波数成分よりも少ないことを特徴とするデータ処理方法。
【請求項１９】
前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを前記記録時の対応関係に基づいて論理積することによって得られる記録許容画素の配列パターンは、非周期で且つ低周波数成分が高周波数成分よりも少ないことを特徴とする請求項１５または１７に記載のデータ処理方法。
【請求項２０】
第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有する記録ヘッドの、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで用いられる画像データを生成するデータ処理方法であって、
前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１工程と、
前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２工程とを有し、
前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを記録時の対応関係に基づいて論理和することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを前記記録時の対応関係とは異なる対応関係に基づいて論理和することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少ないことを特徴とするデータ処理方法。
【請求項２１】
第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有する記録ヘッドの、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで用いられる画像データを生成するデータ処理方法であって、
前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１工程と、
前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２工程とを有し、
前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを正規の位置で論理和した場合に得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを前記正規の位置とは異なる位置で論理和した場合に得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少ないことを特徴とするデータ処理方法。
【請求項２２】
第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有する記録ヘッドの、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで用いられる画像データを生成するデータ処理方法であって、
前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１工程と、
前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２工程とを有し、
前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを記録時の対応関係に基づいて論理和することによって得られる記録許容画素の配列パターンにおける低周波数成分が高周波数成分よりも少ないことを特徴とするデータ処理方法。
【請求項２３】
第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有する記録ヘッドの、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで用いられる画像データを生成するデータ処理方法であって、
前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１工程と、
前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２工程とを有し、
前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンの論理和によって得られる記録許容画素の配列パターンは、非周期で且つ低周波数成分が高周波数成分よりも少ないことを特徴とするデータ処理方法。
【請求項２４】
前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを記録時の対応関係に基づいて論理和することによって得られる記録許容画素の配列パターンは、非周期で且つ前記低周波数成分が高周波数成分よりも少ないことを特徴とする請求項２０または２２に記載のデータ処理方法。
【請求項２５】
第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有する記録ヘッドの、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで用いられる画像データを生成するデータ処理方法であって、
前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１工程と、
前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２工程とを有し、
前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを記録時の対応関係に基づいて論理積することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを前記記録時の対応関係とは異なる対応関係に基づいて論理積することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少なく、且つ、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを前記記録時の対応関係に基づいて論理和することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを前記記録時の対応関係とは異なる対応関係に基づいて論理和することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少ないことを特徴とするデータ処理方法。
【請求項２６】
第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有する記録ヘッドの、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで用いられる画像データを生成するデータ処理方法であって、
前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１工程と、
前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２工程とを有し、
前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを正規の位置で論理積した場合に得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを前記正規の位置とは異なる位置で論理積した場合に得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少なく、
前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを正規の位置で論理和した場合に得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを前記正規の位置とは異なる位置で論理和した場合に得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少ないことを特徴とするデータ処理方法。
【請求項２７】
第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有する記録ヘッドの、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで用いられる画像データを生成するデータ処理方法であって、
前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１工程と、
前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２工程とを有し、
前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを記録時の対応関係に基づいて論理積することによって得られる記録許容画素の配列パターンにおける低周波数成分が高周波数成分よりも少なく、且つ前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを前記記録時の対応関係に基づいて論理和することによって得られる記録許容画素の配列パターンにおける低周波数成分が高周波数成分よりも少ないことを特徴とするデータ処理方法。
【請求項２８】
第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有する記録ヘッドの、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで用いられる画像データを生成するデータ処理方法であって、
前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１工程と、
前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２工程とを有し、
前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンの論理積によって得られる記録許容画素の配列パターンは、非周期で且つ低周波数成分が高周波数成分よりも少なく、且つ前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンの論理和によって得られる記録許容画素の配列パターンが非周期で且つ低周波数成分が高周波数成分よりも少ないことを特徴とするデータ処理方法。
【請求項２９】
前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを前記記録時の対応関係に基づいて論理積することによって得られる記録許容画素の配列パターンは、非周期で且つ前記低周波数成分が高周波数成分よりも少なく、且つ
前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを前記記録時の対応関係に基づいて論理和することによって得られる記録許容画素の配列パターンは、非周期で且つ前記低周波数成分が高周波数成分よりも少ないことを特徴とする請求項２５または２７に記載のデータ処理方法。
【請求項３０】
前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンは、それぞれ、非周期で且つ低周波数成分が高周波数成分よりも少ない特性を有することを特徴とする請求項１５乃至２９のいずれかに記載のデータ処理方法。
【請求項３１】
前記第１の種類のドットは所定色の色材を含有するインクのドットであり、
前記第２の種類のドットは前記インクと化学的に反応する成分を含有する液体のドットであることを特徴とする請求項１５乃至３０のいずれかに記載のデータ処理方法。
【請求項３２】
前記複数の第１マスクパターンそれぞれにおける記録許容画素の配列パターンは、非周期で且つ低周波数成分が高周波数成分よりも少なく、且つ
前記複数の第２マスクパターンそれぞれにおける記録許容画素の配列パターンは、非周期で且つ低周波数成分が高周波数成分よりも少ないことを特徴とする請求項１５乃至３１のいずれかに記載のデータ処理方法。
【請求項３３】
前記複数の第１マスクパターンそれぞれは、前記第１ノズル群のノズル配列方向に記録率の偏りを持つマスクパターンであり、
前記複数の第２マスクパターンそれぞれは、前記第２ノズル群のノズル配列方向に記録率の偏りを持つマスクパターンであることを特徴とする請求項１５乃至３２に記載のデータ処理方法。
【請求項３４】
前記複数の第１マスクパターンそれぞれは、前記走査の方向および当該走査の方向と直交する副走査の方向の少なくとも一方に隣接する複数の画素で構成されるグループを１単位として記録許容画素あるいは非記録許容画素が配列され、
前記複数の第２マスクパターンそれぞれは、前記走査の方向および当該走査の方向と直交する副走査の方向の少なくとも一方に隣接する複数の画素で構成されるグループを１単位として記録許容画素あるいは非記録許容画素が配列されることを特徴とする請求項１５乃至３３のいずれかに記載のデータ処理方法。
【請求項３５】
前記記録ヘッドは、前記第１および第２のノズル群を含むＮ（Ｎは２以上の整数）個のノズル群を有し、
前記所定領域に対する記録の順番が連続する前記Ｎ個のノズル群の前記所定の走査に対応した前記Ｎ個のマスクパターンの論理積および論理和それぞれによって得られる記録許容画素の配列パターンのそれぞれは、非周期且つ低周波数成分が高周波数成分よりも少ない特性を有することを特徴とする請求項１５乃至３４のいずれかに記載のデータ処理方法。
【請求項３６】
前記第１の種類のドットは、前記第２の種類のドットとは色およびサイズの少なくとも一方が異なることを特徴とする請求項１５乃至３５のいずれかに記載のデータ処理方法。
【請求項３７】
前記低周波数成分とは、周波数成分が存在する空間周波数領域のうち、半分より低周波側にある成分であることを特徴とする請求項１５乃至３６のいずれかに記載のデータ処理方法。
【請求項３８】
前記所定の走査は、前記所定領域に対する１回目の走査であることを特徴とする請求項１５乃至３７のいずれかに記載のデータ処理方法。
【請求項３９】
請求項１５乃至３８のいずれかに記載のデータ処理方法を実行する画像処理部を備えたことを特徴とするデータ処理装置。
【請求項４０】
前記データ処理装置は、前記記録ヘッドを前記記録媒体の所定領域に対して複数回走査して記録を行う記録装置であることを特徴とする請求項３９に記載のデータ処理装置。
【請求項４１】
前記データ処理装置は、前記記録ヘッドを前記記録媒体の所定領域に対して複数回走査して記録を行う記録装置に接続され、請求項１５乃至３８のいずれかに記載のデータ処理方法により生成される画像データを前記記録装置へ送信するコンピュータであることを特徴とする請求項３９に記載のデータ処理装置。
【請求項４２】
第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有する記録ヘッドの、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで用いられる画像データを生成するデータ処理装置であって、
前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１手段と、
前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２手段とを有し、
前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを記録時の対応関係に基づいて論理積することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを前記記録時の対応関係とは異なる対応関係に基づいて論理積することで得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少ないことを特徴とするデータ処理装置。
【請求項４３】
第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有する記録ヘッドの、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで用いられる画像データを生成するデータ処理装置であって、
前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１手段と、
前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２手段とを有し、
前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを記録時の対応関係に基づいて論理和することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを前記記録時の対応関係とは異なる対応関係に基づいて論理和することで得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少ないことを特徴とするデータ処理装置。
【請求項４４】
第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有する記録ヘッドの、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで用いられる画像データを生成するデータ処理装置であって、
前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１手段と、
前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２手段とを有し、
前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを記録時の対応関係に基づいて論理積することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを前記記録時の対応関係とは異なる対応関係に基づいて論理積することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少なく、且つ、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを前記記録時の対応関係に基づいて論理和することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを前記記録時の対応関係とは異なる対応関係に基づいて論理和することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少ないことを特徴とするデータ処理装置。
【請求項４５】
第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有する記録ヘッドの、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで用いられる画像データを生成するデータ処理装置であって、
前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１手段と、
前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２手段とを有し、
前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを記録時の対応関係に基づいて論理積することによって得られる記録許容画素の配列パターンにおける低周波数成分が高周波数成分よりも少ないことを特徴とするデータ処理装置。
【請求項４６】
第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有する記録ヘッドの、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで用いられる画像データを生成するデータ処理装置であって、
前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１手段と、
前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２手段とを有し、
前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンの論理積によって得られる記録許容画素の配列パターンは、非周期で且つ低周波数成分が高周波数成分よりも少ないことを特徴とするデータ処理装置。
【請求項４７】
第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有する記録ヘッドの、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで用いられる画像データを生成するデータ処理装置であって、
前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１手段と、
前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２手段とを有し、
前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを記録時の対応関係に基づいて論理和することによって得られる記録許容画素の配列パターンにおける低周波数成分が高周波数成分よりも少ないことを特徴とするデータ処理装置。
【請求項４８】
第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有する記録ヘッドの、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで用いられる画像データを生成するデータ処理装置であって、
前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１手段と、
前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２手段とを有し、
前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンの論理和によって得られる記録許容画素の配列パターンは、非周期で且つ低周波数成分が高周波数成分よりも少ないことを特徴とするデータ処理装置。
【請求項４９】
複数種類のドットを形成するための記録ヘッドの複数回の走査それぞれで記録するための画像データを生成するのに用いられる複数のマスクパターンにおいて、
前記複数のマスクパターンは、前記複数回の走査のうち同じ走査で用いられる２つ以上のマスクパターンを重ねた場合に得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分が、前記２つ以上のマスクパターンをずらして重ねた場合に得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少ないことを特徴とするマスクパターン。
【請求項５０】
第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有するインクジェット記録ヘッドを記録媒体の所定領域に対して複数回走査して、前記所定領域に画像を記録するための記録装置であって、
前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１手段と、
前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２手段とを有し、
前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを記録時の対応関係に基づいて論理積することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを前記記録時の対応関係とは異なる対応関係に基づいて論理積することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少ないことを特徴とする記録装置。
【請求項５１】
第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有するインクジェット記録ヘッドを記録媒体の所定領域に対して複数回走査して、前記所定領域に画像を記録するための記録装置であって、
前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１手段と、
前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２手段とを有し、
前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを記録時の対応関係に基づいて論理和することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを前記記録時の対応関係とは異なる対応関係に基づいて論理和することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少ないことを特徴とする記録装置。
【請求項５２】
第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有するインクジェット記録ヘッドを記録媒体の所定領域に対して複数回走査して、前記所定領域に画像を記録するための記録装置であって、
前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１手段と、
前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２手段とを有し、
前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを記録時の対応関係に基づいて論理積することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを前記記録時の対応関係とは異なる対応関係に基づいて論理積することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少なく、
前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを前記記録時の対応関係に基づいて論理和することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを前記記録時の対応関係とは異なる対応関係に基づいて論理和することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少ないことを特徴とする記録装置。
【請求項５３】
前記インクジェット記録ヘッドは、前記第１および第２のノズル群を含むＮ（Ｎは２以上の整数）のノズル群を有し、
前記所定領域に対する記録の順番が連続する前記Ｎ個のノズル群の前記所定の走査に対応した前記Ｎ個のマスクパターンの論理積および論理和それぞれによって得られる記録許容画素の配列パターンのそれぞれは、非周期で且つ低周波数成分が高周波数成分よりも少ないことを特徴とする請求項５０乃至５２のいずれかに記載の記録装置。
【請求項５４】
第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有するインクジェット記録ヘッドを記録媒体の所定領域に対して複数回走査して、前記所定領域に画像を記録するための記録装置であって、
前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１手段と、
前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２手段とを有し、
前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを記録時の対応関係に基づいて論理積することによって得られる記録許容画素の配列パターンにおける低周波数成分が高周波数成分よりも少ないことを特徴とする記録装置。
【請求項５５】
第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有するインクジェット記録ヘッドを記録媒体の所定領域に対して複数回走査して、前記所定領域に画像を記録するための記録装置であって、
前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１手段と、
前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２手段とを有し、
前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンの論理積によって得られる記録許容画素の配列パターンは、非周期で且つ低周波数成分が高周波数成分よりも少ないことを特徴とする記録装置。
【請求項５６】
第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有するインクジェット記録ヘッドを記録媒体の所定領域に対して複数回走査して、前記所定領域に画像を記録するための記録装置であって、
前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１手段と、
前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２手段とを有し、
前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを記録時の対応関係に基づいて論理和することによって得られる記録許容画素の配列パターンにおける低周波数成分が高周波数成分よりも少ないことを特徴とする記録装置。
【請求項５７】
第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有するインクジェット記録ヘッドを記録媒体の所定領域に対して複数回走査して、前記所定領域に画像を記録するための記録装置であって、
前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１手段と、
前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２手段とを有し、
前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、
前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンの論理和によって得られる記録許容画素の配列パターンは、非周期で且つ低周波数成分が高周波数成分よりも少ないことを特徴とする記録装置。
【請求項５８】
前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンは、それぞれ、非周期で且つ低周波数成分が高周波数成分よりも少ない特性を有することを特徴とする請求項５０乃至５７のいずれかに記載の記録装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
上記課題を解決するために本発明では、記録媒体の所定領域に対する、複数種類のドットを形成するためのインクジェット記録ヘッドの複数回の走査それぞれで記録するための画像データを生成するのに用いられるマスクパターンの製造方法において、前記複数種類のドットに対応した複数のマスクパターンにおける記録許容画素の配置を決定する決定工程を有し、前記決定工程は、前記複数のマスクパターンの論理積によって得られる記録許容画素の配置パターンの低周波数成分および前記複数のマスクパターンの論理和によって得られる記録許容画素の配置パターンの低周波数成分が少なくなるように、前記複数のマスクパターンそれぞれにおける記録許容画素の配置を定める工程を含むことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
他の形態では、記録媒体の所定領域に対する、複数種類のドットを形成するためのインクジェット記録ヘッドの複数回の走査それぞれで記録するための画像データを生成するのに用いられるマスクパターンの製造方法において、前記複数種類のドットに対応した複数のマスクパターンにおける記録許容画素の配置を定める決定工程を有し、前記決定工程は、前記複数のマスクパターンの論理積によって得られる記録許容画素の配置パターンの低周波数成分が少なくなるように、前記複数のマスクパターンそれぞれにおける記録許容画素の配置を変化させる工程を含むことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
さらに他の形態では、記録媒体の所定領域に対する、複数種類のドットを形成するためのインクジェット記録ヘッドの複数回の走査それぞれで記録するための画像データを生成するのに用いられるマスクパターンの製造方法において、前記複数種類のドットに対応した複数のマスクパターンにおける記録許容画素の配置を定める決定工程を有し、前記決定工程は、前記複数のマスクパターンの論理和によって得られる記録許容画素の配置パターンの低周波数成分が少なくなるように、前記複数のマスクパターンそれぞれにおける記録許容画素の配置を変化させる工程を含むことを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
さらに他の形態では、記録媒体の所定領域に対する、複数種類のドットを形成するためのインクジェット記録ヘッドの複数回の走査それぞれで記録するための画像データを生成するのに用いられるマスクパターンの製造方法において、前記複数種類のドットに対応した複数のマスクパターンにおける記録許容画素の配置を第１配置状態から第２配置状態へと変化させることで、前記複数のマスクパターンそれぞれにおける配置を定める決定工程を有し、前記第２配置状態のときの前記複数のマスクパターンの論理積によって得られる記録許容画素の配置パターンは、前記第１配置状態のときの前記複数のマスクパターンの論理積によって得られる記録許容画素の配置パターンに比して、低周波数成分が少ないことを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
さらに他の形態では、記録媒体の所定領域に対する、複数種類のドットを形成するためのインクジェット記録ヘッドの複数回の走査それぞれで記録するための画像データを生成するのに用いられるマスクパターンの製造方法において、前記複数種類のドットに対応した複数のマスクパターンにおける記録許容画素の配置を第１配置状態から第２配置状態へと変化させることで、前記複数のマスクパターンそれぞれにおける配置を定める決定工程を有し、前記第２配置状態のときの前記複数のマスクパターンの論理和によって得られる記録許容画素の配置パターンは、前記第１配置状態のときの前記複数のマスクパターンの論理和によって得られる記録許容画素の配置パターンに比して、低周波数成分が少ないことを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
また、第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有する記録ヘッドの、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで用いられる画像データを生成するデータ処理方法であって、前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１工程と、前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２工程とを有し、前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを記録時の対応関係に基づいて論理積することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを前記記録時の対応関係とは異なる対応関係に基づいて論理積することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少ないことを特徴とする。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
他の形態では、第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有する記録ヘッドの、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで用いられる画像データを生成するデータ処理方法であって、前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１工程と、前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２工程とを有し、前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを正規の位置で論理積した場合に得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを前記正規の位置とは異なる位置で論理積した場合に得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少ないことを特徴とする。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
さらに他の形態では、第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有する記録ヘッドの、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで用いられる画像データを生成するデータ処理方法であって、前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１工程と、前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２工程とを有し、前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを記録時の対応関係に基づいて論理積することによって得られる記録許容画素の配列パターンにおける低周波数成分が高周波数成分よりも少ないことを特徴とする。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
さらに他の形態では、第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有する記録ヘッドの、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで用いられる画像データを生成するデータ処理方法であって、前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１工程と、前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２工程とを有し、前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンの論理積によって得られる記録許容画素の配列パターンは、非周期で且つ低周波数成分が高周波数成分よりも少ないことを特徴とする。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
さらに他の形態では、第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有する記録ヘッドの、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで用いられる画像データを生成するデータ処理方法であって、前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１工程と、前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２工程とを有し、前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを記録時の対応関係に基づいて論理和することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを前記記録時の対応関係とは異なる対応関係に基づいて論理和することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少ないことを特徴とする。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
さらに他の形態では、第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有する記録ヘッドの、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで用いられる画像データを生成するデータ処理方法であって、前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１工程と、前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２工程とを有し、前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを正規の位置で論理和した場合に得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを前記正規の位置とは異なる位置で論理和した場合に得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少ないことを特徴とする。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
さらに他の形態では、第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有する記録ヘッドの、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで用いられる画像データを生成するデータ処理方法であって、前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１工程と、前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２工程とを有し、前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを記録時の対応関係に基づいて論理和することによって得られる記録許容画素の配列パターンにおける低周波数成分が高周波数成分よりも少ないことを特徴とする。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
さらに他の形態では、第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有する記録ヘッドの、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで用いられる画像データを生成するデータ処理方法であって、前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１工程と、前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２工程とを有し、前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンの論理和によって得られる記録許容画素の配列パターンは、非周期で且つ低周波数成分が高周波数成分よりも少ないことを特徴とする。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
さらに他の形態では、第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有する記録ヘッドの、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで用いられる画像データを生成するデータ処理方法であって、前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１工程と、前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２工程とを有し、前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを記録時の対応関係に基づいて論理積することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを前記記録時の対応関係とは異なる対応関係に基づいて論理積することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少なく、且つ、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを前記記録時の対応関係に基づいて論理和することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを前記記録時の対応関係とは異なる対応関係に基づいて論理和することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少ないことを特徴とする。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
さらに他の形態では、第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有する記録ヘッドの、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで用いられる画像データを生成するデータ処理方法であって、前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１工程と、前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２工程とを有し、前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを正規の位置で論理積した場合に得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを前記正規の位置とは異なる位置で論理積した場合に得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少なく、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを正規の位置で論理和した場合に得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを前記正規の位置とは異なる位置で論理和した場合に得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少ないことを特徴とする。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
さらに他の形態では、第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有する記録ヘッドの、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで用いられる画像データを生成するデータ処理方法であって、前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１工程と、前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２工程とを有し、前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを記録時の対応関係に基づいて論理積することによって得られる記録許容画素の配列パターンにおける低周波数成分が高周波数成分よりも少なく、且つ前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを前記記録時の対応関係に基づいて論理和することによって得られる記録許容画素の配列パターンにおける低周波数成分が高周波数成分よりも少ないことを特徴とする。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
さらに他の形態では、第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有する記録ヘッドの、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで用いられる画像データを生成するデータ処理方法であって、前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１工程と、前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２工程とを有し、前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンの論理積によって得られる記録許容画素の配列パターンは、非周期で且つ低周波数成分が高周波数成分よりも少なく、且つ前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンの論理和によって得られる記録許容画素の配列パターンが非周期で且つ低周波数成分が高周波数成分よりも少ないことを特徴とする。
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
さらに他の形態では、第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有する記録ヘッドの、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで用いられる画像データを生成するデータ処理装置であって、前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１手段と、前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２手段とを有し、前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを記録時の対応関係に基づいて論理積することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを前記記録時の対応関係とは異なる対応関係に基づいて論理積することで得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少ないことを特徴とする。
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
さらに他の形態では、第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有する記録ヘッドの、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで用いられる画像データを生成するデータ処理装置であって、前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１手段と、前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２手段とを有し、前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを記録時の対応関係に基づいて論理和することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを前記記録時の対応関係とは異なる対応関係に基づいて論理和することで得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少ないことを特徴とする。
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
さらに他の形態では、第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有する記録ヘッドの、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで用いられる画像データを生成するデータ処理装置であって、前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１手段と、前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２手段とを有し、前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを記録時の対応関係に基づいて論理積することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを前記記録時の対応関係とは異なる対応関係に基づいて論理積することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少なく、且つ、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを前記記録時の対応関係に基づいて論理和することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを前記記録時の対応関係とは異なる対応関係に基づいて論理和することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少ないことを特徴とする。
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
さらに他の形態では、第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有する記録ヘッドの、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで用いられる画像データを生成するデータ処理装置であって、前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１手段と、前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２手段とを有し、前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを記録時の対応関係に基づいて論理積することによって得られる記録許容画素の配列パターンにおける低周波数成分が高周波数成分よりも少ないことを特徴とする。
【手続補正２３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
さらに他の形態では、第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有する記録ヘッドの、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで用いられる画像データを生成するデータ処理装置であって、前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１手段と、前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２手段とを有し、前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンの論理積によって得られる記録許容画素の配列パターンは、非周期で且つ低周波数成分が高周波数成分よりも少ないことを特徴とする。
【手続補正２４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
さらに他の形態では、第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有する記録ヘッドの、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで用いられる画像データを生成するデータ処理装置であって、前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１手段と、前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２手段とを有し、前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを記録時の対応関係に基づいて論理和することによって得られる記録許容画素の配列パターンにおける低周波数成分が高周波数成分よりも少ないことを特徴とする。
【手続補正２５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
さらに他の形態では、第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有する記録ヘッドの、記録媒体の所定領域に対する複数回の走査それぞれで用いられる画像データを生成するデータ処理装置であって、前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１手段と、前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２手段とを有し、前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンの論理和によって得られる記録許容画素の配列パターンは、非周期で且つ低周波数成分が高周波数成分よりも少ないことを特徴とする。
また、複数種類のドットを形成するための記録ヘッドの複数回の走査それぞれで記録するための画像データを生成するのに用いられる複数のマスクパターンにおいて、前記複数のマスクパターンは、前記複数回の走査のうち同じ走査で用いられる２つ以上のマスクパターンを重ねた場合に得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分が、前記２つ以上のマスクパターンをずらして重ねた場合に得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少ないことを特徴とする。
さらに、第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有するインクジェット記録ヘッドを記録媒体の所定領域に対して複数回走査して、前記所定領域に画像を記録するための記録装置であって、前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１手段と、前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２手段とを有し、前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを記録時の対応関係に基づいて論理積することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを前記記録時の対応関係とは異なる対応関係に基づいて論理積することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少ないことを特徴とする。
他の形態では、第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有するインクジェット記録ヘッドを記録媒体の所定領域に対して複数回走査して、前記所定領域に画像を記録するための記録装置であって、前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１手段と、前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２手段とを有し、前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを記録時の対応関係に基づいて論理和することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを前記記録時の対応関係とは異なる対応関係に基づいて論理和することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少ないことを特徴とする。
さらに他の形態では、第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有するインクジェット記録ヘッドを記録媒体の所定領域に対して複数回走査して、前記所定領域に画像を記録するための記録装置であって、前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１手段と、前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２手段とを有し、前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを記録時の対応関係に基づいて論理積することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを前記記録時の対応関係とは異なる対応関係に基づいて論理積することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少なく、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを前記記録時の対応関係に基づいて論理和することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分は、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを前記記録時の対応関係とは異なる対応関係に基づいて論理和することによって得られる記録許容画素の配列パターンの低周波数成分よりも少ないことを特徴とする。
さらに他の形態では、第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有するインクジェット記録ヘッドを記録媒体の所定領域に対して複数回走査して、前記所定領域に画像を記録するための記録装置であって、前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１手段と、前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２手段とを有し、前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを記録時の対応関係に基づいて論理積することによって得られる記録許容画素の配列パターンにおける低周波数成分が高周波数成分よりも少ないことを特徴とする。
さらに他の形態では、第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有するインクジェット記録ヘッドを記録媒体の所定領域に対して複数回走査して、前記所定領域に画像を記録するための記録装置であって、前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１手段と、前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２手段とを有し、前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンの論理積によって得られる記録許容画素の配列パターンは、非周期で且つ低周波数成分が高周波数成分よりも少ないことを特徴とする。
さらに他の形態では、第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有するインクジェット記録ヘッドを記録媒体の所定領域に対して複数回走査して、前記所定領域に画像を記録するための記録装置であって、前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１手段と、前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２手段とを有し、前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンを記録時の対応関係に基づいて論理和することによって得られる記録許容画素の配列パターンにおける低周波数成分が高周波数成分よりも少ないことを特徴とする。
さらに他の形態では、第１の種類のドットを形成するための第１のノズル群と第２の種類のドットを形成するための第２のノズル群とを少なくとも有するインクジェット記録ヘッドを記録媒体の所定領域に対して複数回走査して、前記所定領域に画像を記録するための記録装置であって、前記複数回の走査に対応した複数の第１マスクパターンを用いて、前記第１のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第１手段と、前記複数回の走査に対応した複数の第２マスクパターンを用いて、前記第２のノズル群によって前記所定領域に記録されるべき画像データを前記複数回の走査それぞれで用いられる画像データに分割する第２手段とを有し、前記複数の第１マスクパターンのうち所定の走査で用いられる所定の第１マスクパターンにおける記録許容画素の配列は、前記複数の第２マスクパターンのうち前記所定の走査で用いられる所定の第２マスクパターンにおける記録許容画素の配列とは異なり、前記所定の第１マスクパターンと前記所定の第２マスクパターンの論理和によって得られる記録許容画素の配列パターンは、非周期で且つ低周波数成分が高周波数成分よりも少ないことを特徴とする。