(57)【要約】【課題】本発明は、上記した従来技術の問題点に鑑み、ある波長の光を反射することが可能な積層フィルムに、粒子を用いることなくフィルム製膜工程上でマット感を付与し、意匠性、ハンドリング性や装飾時のインク密着性、層間密着性、成形性に優れた積層フィルムを提供することを課題とする。また、環境負荷が小さく、リサイクル性に優れ、電磁波障害を起こさない成形体を提供することを課題とする。【解決手段】上記課題を解決するために、本発明の積層フィルムは少なくとも樹脂Ａからなる層と樹脂Ｂからなる層を含んでなる積層フィルムであって、明度ＬＳＣＥ＊２０以上、相対反射率が３０％以上となる反射帯域を少なくとも１つ有し、かつ、Ａ層が非晶もしくは融点２４０度未満の熱可塑性樹脂からなり、Ｂ層が融点２００℃以上２９０℃以下の樹脂であり、少なくとも片面の樹脂層が樹脂Ａからなる層であり、該面（Ａ面）の平均粗さＲａが５０ｎｍ以上であることを特徴とする。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも樹脂Ａからなる層（Ａ層）と、樹脂Ｂからなる層（Ｂ層）を含んでなる積層フィルムであって、明度ＬＳＣＥ＊が２０以上、相対反射率が３０％以上となる反射帯域を少なくとも１つ有し、かつ、Ａ層が非晶性もしくは融点２４０℃未満の熱可塑性樹脂からなり、Ｂ層が融点２００℃以上２９０℃以下の樹脂であり、少なくとも片面の樹脂層が樹脂Ａからなる層であり、該面（Ａ面）の平均粗さＲａが５０ｎｍ以上であることを特徴とする積層フィルム。
【請求項２】
Ａ層および／またはＢ層の粒子含有量が０ｗｔ％〜２ｗｔ％である請求項１に記載の積層フィルム。
【請求項３】
Ａ面の平均粗さＲａ（Ｒａ（Ａ））と反対面（Ｂ面）の平均粗さ（Ｒａ（Ｂ））が下記（１）式を満たす請求項１または２に記載の積層フィルム。
（Ｒａ（Ａ））／（Ｒａ（Ｂ））≧１．５      式（１）
【請求項４】
積層数が２５層以上である請求項１〜３のいずれかに記載の積層フィルム。
【請求項５】
紫外線吸収剤を含んでなる請求項１〜４のいずれかに記載の積層フィルム。
【請求項６】
Ｂ層に染料または顔料を含んでなる請求項１〜５のいずれかに記載の積層フィルム。
【請求項７】
Ａ層の厚みが２０μｍ以下である請求項１〜６のいずれかに記載の積層フィルム。
【請求項８】
積層フィルムの長手方向および／または幅方向の伸度が１００％の時の応力が１５０ＭＰａ以下である請求項１〜７のいずれかに記載の積層フィルム。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載の積層フィルムを含んでなる成形体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、少なくとも片面がマット調の外観を有する積層フィルムおよびそれを用いた成形体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、光沢感とマット感を併せ持つ積層フィルムは、種々提案されており、例えば、樹脂フィルムの一面に蒸着スパッタリングなどの方法で薄い金属蒸着層を形成し、ヘアライン加工やスピン加工などのスクラッチ加工を施したものが知られており（例えば特許文献１〜４参照）、主に化粧材として自動車関係の部品をはじめとして各種家電機器、建築部材などの製品（部品）などの各種用途で使用されている。しかしながら、加工面に金属蒸着品を形成する方法では、樹脂フィルムと金属蒸着層との密着性が劣る、金属層を有するためにリサイクルが困難であるという問題があった。また、金属層のために電磁波シールド性が発生するため、自動車や携帯電話、家電製品などの加飾材料として用いると、電磁波傷害を生じたりする場合があり問題となりつつある。
【０００３】
一方、金属を用いずに光沢感を有する積層フィルムも種々提案されており、例えば、屈折率の異なる樹脂層を交互に積層することにより選択的に特定の波長を反射するフィルム（例えば特許文献５、６参照）が知られている。選択的に特定の波長を反射するフィルムは、偽造防止用ホログラムや液晶ディスプレイなどのバックライト用リフレクターなどに利用されている。また、樹脂に粒子を加えることで、マット感を有する装飾材料としても利用されている。しかしながら、この選択的に特定の波長を反射するフィルムに粒子添加を行うことでマット感をもたせたフィルムは、粒子添加量によってマット感を制御するため、マット感を強めるためには粒子添加量を増加させる必要があり、ハンドリング性や装飾加工時にインク密着性が悪化し、層間剥離が生じやすいという問題があった。
【特許文献１】特開平１０−１５９８７号公報
【特許文献２】特開平８−２１６３３４号公報
【特許文献３】特開平１７−１４５０３０号公報
【特許文献４】特開平７−３４２２７号公報
【特許文献５】特開平４−２９５８０４号公報
【特許文献６】特開平９−５０６８３７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、上記した従来技術の問題点に鑑み、ある波長の光を反射することが可能な積層フィルムに、粒子を用いることなくフィルム製膜工程上でマット感を付与し、意匠性、ハンドリング性や装飾時のインク密着性、層間密着性、成形性に優れた積層フィルムを提供することを課題とする。また、環境負荷が小さく、リサイクル性に優れ、電磁波障害を起こさない成形体を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決するために、本発明の積層フィルムは、少なくとも樹脂Ａからなる層と樹脂Ｂからなる層を含んでなる積層フィルムであって、明度ＬＳＣＥ＊２０以上、相対反射率が３０％以上となる反射帯域を少なくとも１つ有し、かつ、Ａ層が非晶もしくは融点２４０度未満の熱可塑性樹脂からなり、Ｂ層が融点２００℃以上２９０以下の樹脂であり、少なくとも片面の樹脂層が樹脂Ａからなる層であり、該面（Ａ面）の平均粗さＲａが５０ｎｍ以上であることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００６】
本発明の積層フィルムは、少なくとも樹脂Ａからなる層（Ａ層）と、樹脂Ｂからなる層（Ｂ層）を含んでなる積層フィルムであって、明度ＬＳＣＥ＊２０以上、相対反射率が３０％以上となる反射帯域を少なくとも１つ有し、かつ、Ａ層が非晶もしくは融点２４０度未満の熱可塑性樹脂からなり、Ｂ層が融点２００℃以上２９０℃以下の樹脂であり、少なくとも片面の樹脂層が樹脂Ａからなる層であり、該面（Ａ面）の平均粗さＲａが５０ｎｍ以上であることを特徴とするので、粒子を用いる事なく、フィルム製膜工程上でマット感を付与し、ハンドリング性、成形性、層間密着性に優れ、電磁波障害を起こさない積層フィルムを提供することができた。
【０００７】
また、Ｂ層に染料、または顔料を含むことで、より意匠性に優れた積層フィルムをも提供することができた。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下に、本発明の実施の形態を詳細に説明する。
本発明の積層フィルムは、少なくとも樹脂Ａからなる層（Ａ層）と樹脂Ｂからなる層（Ｂ層）を含んでなる積層フィルムであって、明度ＬＳＣＥ＊２０以上、相対反射率が３０％以上となる反射帯域を少なくとも１つゆうし、かつ、Ａ層が非晶もしくは融点２４０度未満の熱可塑性樹脂からなり、Ｂ層が融点２００℃以上２９０℃以下の樹脂であり少なくとも片面の樹脂層が樹脂Ａからなる層であり、該面（Ａ面）の平均粗さＲａが５０ｎｍ以上でなければならない。このようなフィルムは、粒子等を用いることなく、フィルム製膜工程上でマット感を付与することが可能となり、ハンドリング性、成形性、層間密着性に優れるものである。
【０００９】
本発明でいう明度ＬＳＣＥ＊とは、正反射光を除き、拡散反射光のみで測定した際の明度であり、２０以上であることが重要である。より好ましくは３０以上であり、さらに好ましくは４０以上である。明度ＬＳＣＥ＊が４０以上の場合、相対反射率が高く、かつ、拡散性が高いことからマット感を有し、意匠性の高い積層フィルムとなるため、特に好ましいものである。
【００１０】
また、本発明の積層フィルムは、相対反射率が３０％以上となる反射帯域を少なくとも一つ有していることが重要である。より好ましくは５０％以上であり、さらに好ましくは８０％以上である。相対反射率が８０％以上であると、光沢度の高い積層フィルムとなるため、特に好ましいものである。
【００１１】
また、本発明の積層フィルムはＡ層が、非晶もしくは融点２４０度未満の熱可塑性樹脂であることが重要である。たとえば、ポリエチレン・ポリプロピレン・ポリスチレンなどのポリオレフィン樹脂、脂肪族ポリオレフィン樹脂、ナイロン６などのポリアミド樹脂、アラミド樹脂、ポリブチレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチルサクシネート・ポリエチレン−２，６−ナフタレートなどのポリエステル樹脂、または共重合ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、４フッ化エチレン樹脂・３フッ化エチレン樹脂・３フッ化塩化エチレン樹脂・４フッ化エチレン−６フッ化プロピレン共重合体・フッ化ビニリデン樹脂などのフッ素樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリグリコール酸樹脂、ポリ乳酸樹脂、などを用いることができる。この中で、強度・透明性の観点から、特にポリエステルであることがより好ましい。またこれらの熱可塑性樹脂としてはホモ樹脂であってもよく、共重合または２種類以上のブレンドであってもよい。
【００１２】
本発明のＡ層の熱可塑性樹脂としては、共重合ポリエステルがより好ましい。共重合ポリエステルとは、次にあげるジカルボン酸成分骨格とジオール成分骨格とより選ばれる少なくとも３つ以上の成分からなる重縮合体のことと定義される。ジカルボン酸成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、４，４‘−ジフェニルスルホンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、ダイマー酸、シクロヘキサンジカルボン酸とそれらのエステル融合対などが挙げられる。グリコール骨格成分としては、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタジオール、ジエチレングリコール、ポリアルキレングリコール、２，２−ビス（４’−β−ヒドロキシエトキシフェニル）プロパン、イソソルベート、１，４−シクロヘキサンジメタノールなどが挙げられる。
【００１３】
本発明のＢ層は、融点２００℃以上２９０℃以下であることが好ましい。より好ましくは２２０℃以上２８０℃以下、さらに好ましくは２４０℃以上２７０℃以下である。融点が熱処理温度以上のものを用いることにより、熱処理過程でのＢ層の融解が抑制されるため好ましいものである。Ａ層との層間密着性、強度、耐溶剤性の観点から、特にポリエステルであることが好ましい。ポリエステルとしては、ジカルボン酸成分骨格とジオール成分骨格との重縮合体であるホモポリエステルや共重合ポリエステルのことをいう。ここで、ホモポリエステルとしては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレンジフェニレートなどが代表的な物である。特にポリエチレンテレフタレートは安価であるため、非常に多岐にわたる用途に用いることができ、好ましい。また、樹脂中には、各種添加剤、例えば、顔料、染料、酸化防止剤、帯電防止剤、結晶核剤、無機粒子、有機粒子、減粘剤、熱安定剤、滑剤、赤外線吸収剤、紫外線吸収剤、屈折率調整のためのドープ剤などが添加されていてもよい。
【００１４】
本発明の積層フィルムは、少なくとも片面の樹脂層がＡ層であることが重要である。Ａ層は非晶または融点２４０度未満の熱可塑性樹脂であることから、フィルム製膜工程において、熱処理を行うことにより、Ａ層の樹脂が融解し再結晶化することでマット調の外観を付与することが可能となる。熱処理温度は、好ましくは２２０度以上２５０度未満であり、より好ましくは２３０度以上２４０度未満である。熱処理温度が２２０度未満ではＡ層の樹脂融解が進まず、マット調を付与することが困難となる。また、熱処理温度が２５０度以上の場合Ｂ層の樹脂までが融解するおそれがあり、かつ、フィルム延伸ムラが生じ、平面性を損なうおそれがあるため好ましくない。
【００１５】
また、本発明の積層フィルムは、Ａ面の平均粗さＲａ（Ａ）が５０ｎｍ以上であることが重要である。より好ましくは１００ｎｍ以上である。上限は特に限定するものではないが、Ｒａがあまりに高すぎると表面が荒れすぎ、意匠性に適した質感が損なわれるため、Ｒａは１０００ｎｍ以下であることが好ましい。
【００１６】
本発明の積層フィルムは、Ａ層および／またはＢ層の粒子含有量が０ｗｔ％以上２ｗｔ％以下であることが好ましい。より好ましくは０ｗｔ％である。０ｗｔ％の場合、粒子の脱落が生じないため好ましい。粒子含有量が３ｗｔ％以上となると、成型の際など、粒子の脱落による金型汚染が懸念されるため好ましくない。
【００１７】
本発明の粒子としては、樹脂に対して不活性な有機、無機系の粒子であれば、如何なるものも用いることができる。その形状としては、凝集粒子、真球状粒子、数珠状粒子、コンペイト状粒子、鱗片状粒子などの粒子を使うことができる。また、その材質としては、無機系としては、酸化鉄、酸化マグネシウム、酸化セリウム、酸化亜鉛、炭酸バリウム、チタン酸バリウム、塩化バリウム、水酸化バリウム、酸化バリウム、アルミナ、セリナイト、酸化珪素（シリカ）、炭酸カルシウム、酸化チタン、アルミナ、ジルコニア、珪酸アルミニウム、マイカ、パールマイカ、ろう石クレー、焼成クレー、ベントナイト、タルク、カオリン、その他の複合酸化物等を、有機系としてはポリイミド系樹脂、オレフィンあるいは変性オレフィン系樹脂、架橋ないし無架橋ポリスチレン系樹脂、架橋ないし無架橋アクリル樹脂、フッ素系樹脂、シリコン系樹脂等を挙げることができる。
【００１８】
本発明の積層フィルムにおいて、Ａ面の平均粗さＲａ（Ａ）と反対面（Ｂ面）の平均粗さＲａ（Ｂ）が下記式（１）を満たすことが好ましい。
（Ｒａ（Ａ））／（Ｒａ（Ｂ））≧１．５      （式１）
すなわち、上記式を満たすことによる、片面のみ拡散性の高いマット感を有する積層フィルムを提供することができる。また、Ａ面のＲａ（Ａ）が高くマット感を有しているにもかかわらず、Ｂ面のＲａ（Ｂ）が低いことから、意匠性付与のためのインキ塗布や基材との貼り合わせにＢ面を用いることによって、インキ密着性、層間密着性が向上し、かつ意匠性を損なわない加工が可能となる。
【００１９】
本発明の積層フィルムは、２５層以上積層されてなることも好ましい。積層は本発明のフィルム中のＡ層とＢ層の厚み方向における配置の序列がランダムな状態ではないことが好ましく、Ａ層とＢ層以外の第３の層以上についてはその配置の序列については特に限定されるものではない。また、Ａ層、Ｂ層、熱可塑性樹脂ＣのからなるＣ層を有する場合には、Ａ（ＢＣＡ）ｎ、Ａ（ＢＣＢＡ）ｎ、Ａ（ＢＡＢＣＢＡ）ｎなどの規則的順列で積層されることがより好ましい。ここでｎは繰り返しの単位数であり、例えばＡ（ＢＣＡ）ｎにおいてｎ＝３の場合、厚み方向にＡＢＣＡＢＣＡＢＣＡの順列で積層されているものを表す。また、積層数は２５層以上であることが好ましく、より好ましくは５０層以上であり、さらに好ましくは２００層以上である。Ａ層とＢ層をそれぞれ交互に２０層以上積層した構造を有さないと、十分な反射率が得られなくなるものである。また、上限値としては特に限定するものではないが、装置の大型化や層数が多くなりすぎることによる積層精度の低下に伴う波長選択性の低下を考慮すると、１５００層以下であることが好ましい。
【００２０】
また、２５層以上積層する際に用いる樹脂としては、Ｂ層の樹脂がポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレンナフタレートであり、Ａ層の樹脂がシクロヘキサンジメタノールを含んでなるポリエステルであることが好ましい。シクロヘキサンジメタノールを含んで成るエステルとは、シクロヘキサンジメタノールを共重合したコポリエステル、またはホモポリエステル、またはそれらをブレンドしたポリエステルのことを言う。シクロヘキサンジメタノールを含んでなるポリエステルは、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートとのガラス転移温度差が小さいため、層間剥離しにくいため好ましい。より好ましくは、Ａ層の樹脂がシクロヘキサンジメタノールの共重合量が１５ｍｏｌ％以上６０ｍｏｌ％以下であるエチレンテレフタレート重縮合体である。このようにすることにより、厚み方向の積層精度が向上し、高い反射性能を有しながら層間でも剥離も生じにくくなる。シクロヘキサンジメタノールの共重合量が１５ｍｏｌ％以上６０ｍｏｌ％以下であるエチレンテレフタレート重縮合体は、ポリエチレンテレフタレートと非常に強く接着する。また、そのシクロヘキサンジメタノール基は幾何異性体としてシス体あるいはトランス体があり、また配座異性体としてイス型あるいはボート型もあるので、ポリエチレンテレフタレートと共延伸しても配向結晶化しにくく、高反射率で製膜時の破れも生じにくいものである。また、Ｂ層の樹脂がポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレンナフタレート、Ａ層の樹脂がスピログリコールを含んでなるポリエステルであることも好ましい。スピログリコールを含んでなるポリエステルとは、スピログリコールを共重合したコポリエステル、またはホモポリエステル、またはそれらをブレンドしたポリエステルのことを言う。スピログリコールを含んでなるポリエステルは、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートとのＳＰ値の差の絶対値が１．０以下であり、かつ、同一の基本骨格を含むため、層間剥離が生じにくくなり好ましい。ここで、基本骨格とは、樹脂を構成する繰り返し単位のことである。より好ましくはＢ層の樹脂がポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレンナフタレート、Ａ層の樹脂がスピログリコールおよびシクロヘキサンジカルボン酸を含むポリエステルであることが好ましい。Ａ層の樹脂がスピログリコールおよびシクロヘキサンジカルボン酸を含んでなるポリエステルであると、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートとの面内屈折率差が大きくなるため、高い反射率が得られやすくなる。また、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートとのガラス転移温度差が小さいため、層間剥離しにくい。
【００２１】
本発明の積層フィルムでは、Ａ層とＢ層の面内平均屈折率差が０．０３以上であることが好ましい。より好ましくは０．０５以上であり、さらに好ましくは０．１以上である。屈折率差が０．０３より小さい場合には、十分な反射率が得られず好ましくないものである。また、Ａ層の面内平均屈折率と厚み方向の屈折率の差が０．０３以下であると、反射帯域の角度依存性が小さくなり、より好ましい。
【００２２】
本発明の積層フィルムは、紫外線吸収剤を含んでなることが好ましい。紫外線吸収剤を含むことにより、太陽光や蛍光灯などの光の紫外線を吸収し、積層フィルム、あるいは成形体の劣化や変質を防ぐことが可能となり好ましい。なお、紫外線吸収剤は積層フィルムの最表層に含んで成ることがより好ましい。紫外線吸収剤としては、例えばベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾエート系化合物、トリアジン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾオキサジノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、サリチル酸系化合物、環状イミノエステル系化合物などを好ましく例示することができるが、紫外線カット性、色調などの点から、ベンゾオキサジノン系化合物が最も好ましい。これらは単独で用いても良いし、組み合わせて用いても良い。また、ＨＡＬＳ（ヒンダードアミン系光安定剤）や酸化防止剤などの安定剤の併用はより好ましい。
【００２３】
好ましい材料であるベンゾオキサジノン系化合物の例としては、２−Ｐ−ニトロフェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−（ｐ−ベイゾルフェニル）―３，１―ベンゾオキサジンー４−オン、２−（ナフチル）―３，１−ベンゾオキサジンー４―オン、２−２‘−ｐ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２−（２，６−ナフチレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジンー４−オン）などを例示することができる。これらの化合物の添加量は積層フィルム中に０．０５〜１．０重量％含有させるのが好ましい、さらに優れた耐光性を付与するためにシアノアクリレート系４量体化合物を併用することが好ましい。シアノアクリレート系４量体化合物は積層フィルムに０．０５〜２重量％含有させることが好ましい。シアノアクリレート系４量体化合物とは、シアノアクリレートの４量体を基本とする化合物であり、例えば１，３ービス（２’シアノー３，３時フェニルアクリロイルオキシ）―２，２−ビスー（２‘シアノー３，３―ジフェニルアクリロイルオキシメチルプロパン）がある。これと併用する場合には前述の紫外線吸収剤は積層フィルム中に０．３〜３重量％であるのが好適である。これらの添加剤は積層フィルの熱可塑性樹脂Ａからなる層（Ａ層）、熱可塑性樹脂Ｂからなる層（Ｂ層）のいずれかの層に添加しても良く、最も好ましくはＡ層に添加するのが好ましい。
【００２４】
また、紫外線吸収剤は３００ｎｍから４００ｎｍの範囲の紫外線透過率が３０％以下となるものが好ましい。より好ましくは１０％以下、さらに好ましくは５％以下となるものである。紫外線透過率が低ければ低いほど、積層フィルムや基材の劣化は抑制されるため好ましいものである。
【００２５】
本発明の積層フィルムは、Ｂ層に染料または顔料を含んでなることが好ましい。Ｂ層を着色することにより、より色鮮やかで意匠性に優れたマット感を有する積層フィルムを提供することが可能となり、かつ、成形性も維持できることから、従来蒸着フィルムなどでは困難であった深絞り成形などを行うことが可能となる。用いる染料や顔料は特に限定されず、例えばキノン系、カチオン系、シアニン系、フタロシアニン系、キナクドリン系、ジアリール・トリアリールメタン系、フルギド、アゾ系、スクアリリウム系、オキソノール系、ベンジリデン系、ニトロ系、ニトロソ系、チアゾール系、インジゴイド系など各色素が使用される。特に本発明では、比較的安価で、耐光性にも優れるキノン系やカチオン系の色素などが好ましい。これらは色調補正のために、複数組み合わせて使用することも可能である。また、これらは層中に均一に分散し、透過光のむらがないようにすることが好ましい。
【００２６】
また、本発明の積層フィルムは、非晶もしくは融点２４０℃未満の熱可塑性樹脂からなるＡ層の厚みが２０μｍ以下であることが好ましい。より好ましくは１５μｍ以下である。Ａ層の厚みが２０μｍより厚い場合、熱処理でのＡ層の融解・結晶化が均一に生じず、外観にバラツキが生じ易くなり、品質が安定しないという問題が発生する可能性があるため好ましくない。下限値としては特に限定するものではないが、マット感を付与するという点を考慮すると、１μｍ以上であることが好ましい。
【００２７】
本発明の積層フィルムは、長手方向および／または幅方向の伸度１００％時の応力が１５０ＭＰａ以下であることが好ましい。より好ましくは１２０ＭＰａ以下である。応力が１２０ＭＰａ以下であると、成形が良好であるためにインサート成形や真空圧空成形に適した積層フィルムとなる。
【００２８】
また、本発明の積層フィルムは、その表面に易接着層、易滑層、ハードコート層、帯電防止層、耐摩耗性層、反射防止層、色補正層、電磁波シールド層、紫外線吸収層、印刷層、透明導電層、ガスバリア層、ホログラム層、剥離層、粘着層、接着層などの機能性層を形成してもよい。
本発明の成形体としては、本発明の積層フィルム以外に、黒色や反射ピークの補色となる色を吸収する色吸収層や、ハードコート層、耐候層（ＵＶカット層）、着色層、接着層、基材樹脂層のいずれかを含んでなることも好ましい。このような成形体はオールポリマーから構成することが可能であり、金属や重金属などを含まないため、環境負荷が小さく、リサイクル性にも優れ、電磁波障害を起こさないものである。
【００２９】
次に、本発明の積層フィルムの好ましい製造方法を以下に説明する。
２種類の熱可塑性樹脂Ａおよび樹脂Ｂをペレットなどの形態で用意する。ペレットは、必要に応じて、事前乾燥を熱風中あるいは真空下で行い、押出機に供給される。押出機内において、融点以上に加熱溶融された樹脂は、ギアポンプ等で樹脂の押出量を均一化され、フィルタ等を介して異物や変性した樹脂などを取り除く。
【００３０】
これらの２台以上の押出機を用いて異なる流路から送り出された熱可塑性樹脂を、次に積層装置に送り込む。積層装置としては、マルチマニホールドダイやフィールドブロックやスタティックミキサー等を用いて多層に積層する方法を使用することができる。また、これらを任意に組み合わせても良い。ここで本発明の効果を効率よく得るためには、各層ごとの層厚みを個別に制御できるマルチマニホールドダイもしくはフィードブロックが好ましい。さらに各層の厚みを精度良く制御するためには、加工精度０．１ｍｍ以下の放電加工、ワイヤー放電加工にて、各層の流量を調整する微細スリットを設けたフィードブロックが好ましい。また、この際、樹脂温度の不均一性を低減するため、熱媒循環方式による加熱が好ましい。また、フィードブロック内の壁面抵抗を抑制するため、壁面の粗さを０．４Ｓ以下にするか、室温下における水との接触角が３０°以上であると良い。
【００３１】
また、ここで本発明の第一の特徴である相対反射率が３０％以上となる反射ピークを少なくとも１つ以上有するための方法としては、まず、１つ目として、Ｂ層に染料あるいは顔料を含ませる方法、２つ目として屈折率の異なる樹脂を交互にそれぞれ２５層以上積層するという方法がある。屈折率の異なる樹脂を２５層以上積層する場合、各層の層厚みについては、下記式１に基づいて所望する反射ピークが得られるように設計することが必要であり、各々の面内平均屈折率および層厚みについては範囲４０％以下の分布が生じていても許容できる。また、本発明の好ましい態様である反射ピークの反射率が５０％以上であるためには、積層数が５０層以上であることが好ましい。また、本発明のさらに好ましい態様である反射ピークの反射率が８０％以上であるためには、積層数２００層以上であることが好ましい。
２×（ｎａ・ｄａ＋ｎｂ・ｄｂ）＝λ    式１
ｎａ：Ａ層の面内平均屈折率
ｎｂ：Ｂ層の面内平均屈折率
ｄａ：Ａ層の層厚み（ｎｍ）
ｄｂ：Ｂ層の層厚み（ｎｍ）
λ：主反射波長（１次反射波長）
また、本発明において相対反射率が３０％以上となる反射帯域を少なくとも１つ持たせるためには、各層の層厚みを上記式１に基づいて設計する必要がある。さらに、層厚みが一方の表面から反対側の表面に向かうにつれて徐々に厚くなる層構成を少なくとも含んでいることが好ましい。また、相対反射率についてはＡ層とＢ層の屈折率差と、Ａ層とＢ層の層数にて制御する。
【００３２】
これらのように、設計する反射フィルムの分光特性に応じて、最適な積層構成とすることが重要であるが、本発明では、この調整を各波長帯域に対応した微細スリットを有するフィードブロックにて製膜を行うことが特に好ましい。
【００３３】
さて、このようにして所望の層構成に形成した溶融積層体は、次にダイにて目的の形状に成形された後、吐出される。そして、ダイから吐出された多層に積層されたシートは、キャスティングドラム等の冷却体上に押し出され、冷却固化され、キャスティングフィルムが得られる。この際、ワイヤー状、テープ状、針状あるいはナイフ状等の電極を用いて、静電気力によりキャスティングドラム等の冷却体に密着させ急冷固化させる方法や、スリット状、スポット状、面状の装置からエアーを吹き出してキャスティングドラム等の冷却体に密着させ急冷固化させる方法、ニップロールにて冷却体に密着させ急冷固化させる方法が好ましい。
【００３４】
このようにして得られたキャスティングフィルムは、必要に応じて二軸延伸することが好ましい。二軸延伸とは、長手方向および幅方向に延伸することをいう。延伸は、逐次二軸延伸しても良いし、同時に二方向に延伸してもよい。また、さらに長手および／または幅方向に再延伸を行ってもよい。特に本発明では、面内の配向差を抑制できる点や、表面傷を抑制する観点から、同時二軸延伸を用いることが好ましい。
【００３５】
逐次二軸延伸の場合についてまず説明する。ここで、長手方向への延伸とは、フィルムに長手方向の分子配向を与えるための延伸を言い、通常は、ロールの周速差により施され、この延伸は１段階で行ってもよく、また、複数本のロール対を使用して多段階に行っても良い。延伸の倍率としては樹脂の種類により異なるが、通常、２〜１５倍が好ましく、積層フィルムを構成する樹脂のいずれかにポリエチレンテレフタレートを用いた場合には、２〜７倍が特に好ましく用いられる。また、延伸温度としては積層フィルムを構成する樹脂のガラス転移温度〜ガラス転移温度＋１００℃が好ましい。
【００３６】
このようにして得られた一軸延伸されたフィルムに、必要に応じてコロナ処理やフレーム処理、プラズマ処理などの表面処理を施した後、易滑性、易接着性、帯電防止性などの機能をインラインコーティングにより付与してもよい。
【００３７】
また、幅方向の延伸とは、フィルムに幅方向の配向を与えるための延伸を言い、通常は、テンターを用いて、フィルムの両端をクリップで把持しながら搬送して、幅方向に延伸する。延伸の倍率としては樹脂の種類により異なるが、通常、２〜１５倍が好ましく、積層フィルムを構成する樹脂のいずれかにポリエチレンテレフタレートを用いた場合には、２〜７倍が特に好ましく用いられる。また、延伸温度としては積層フィルムを構成する樹脂のガラス転移温度〜ガラス転移温度＋１２０℃が好ましい。こうして二軸延伸されたフィルムは、平面性、寸法安定性を付与するために、テンター内で延伸温度以上融点以下の熱処理を行うのが好ましい。
本発明の第二の特徴であるＡ面の平均粗さＲａ（Ａ）を５０ｎｍ以上とするためには、Ａ面の樹脂がシクロヘキサンジメタノールを含んでなるエステルの場合、特に熱処理温度を２３０〜２４０度とすることが好ましい。このようにして熱処理された後、均一に徐冷後、室温まで冷やして巻き取られる。また、必要に応じて、熱処理から徐冷の際に弛緩処理などを併用してもよい。
【００３８】
同時二軸延伸の場合について次に説明する。同時二軸延伸の場合、幅方向における反射ピークの反射率の差が±１０％以下にすることが容易となるため好ましい。同時二軸延伸の場合には、得られたキャストフィルムに、必要に応じてコロナ処理やフレーム処理、プラズマ処理などの表面処理を施した後、易滑性、易接着性、帯電防止性などの機能をインラインコーティングにより付与してもよい。
【００３９】
次に、キャストフィルムを、同時二軸テンターへ導き、フィルムの両端をクリップで把持しながら搬送して、長手方向と幅方向に同時および／または段階的に延伸する。同時二軸延伸機としては、パンタグラフ方式、スクリュー方式、駆動モーター方式、リニアモーター方式があるが、任意に延伸倍率を変更可能であり、任意の場所で弛緩処理を行うことができる駆動モーター方式もしくはリニアモーター方式が好ましい。延伸の倍率としては樹脂の種類により異なるが、通常、面積倍率として６〜５０倍が好ましく、積層フィルムを構成する樹脂のいずれかにポリエチレンテレフタレートを用いた場合には、面積倍率として８〜３０倍が特に好ましく用いられる。特に同時二軸延伸の場合には、面内の配向差を抑制するために、長手方向と幅方向の延伸倍率を同一とするとともに、延伸速度もほぼ等しくなるようにすることが好ましい。また、延伸温度としては積層フィルムを構成する樹脂のガラス転移温度〜ガラス転移温度＋１２０℃が好ましい。
【００４０】
こうして二軸延伸されたフィルムは、平面性、寸法安定性を付与するために、引き続きテンター内で延伸温度以上融点以下の熱処理を行うのが好ましい。
本発明の第二の特徴であるＡ面の平均粗さＲａ（Ａ）を５０ｎｍ以上とするためには、Ａ面の樹脂がシクロヘキサンジメタノールを含んでなるエステルの場合、特に熱処理温度を２３０〜２４０度とすることが好ましい。このようにして熱処理された後、均一に徐冷後、室温まで冷やして巻き取られる。また、必要に応じて、熱処理から徐冷の際に弛緩処理などを併用してもよい。この熱処理の際に、幅方向での主配向軸の分布を抑制するため、熱処理ゾーンに入る直前および／あるいは直後に瞬時に長手方向に弛緩処理することが好ましい。このようにして熱処理された後、均一に徐冷後、室温まで冷やして巻き取られる。また、必要に応じて、熱処理から徐冷の際に長手方向および／あるいは幅方向に弛緩処理を行っても良い。熱処理ゾーンに入る直前および／あるいは直後に瞬時に長手方向に弛緩処理する。
【実施例】
【００４１】
本発明に使用した物性値の評価法を記載する。
（物性値の評価法）
（１）積層厚み、積層数
フィルムの層構成は、ミクロトームを用いて断面を切り出したサンプルについて、電子顕微鏡観察により求めた。すなわち、透過型電子顕微鏡Ｈ−７１００ＦＡ型（（株）日立製作所製）を用い、加速電圧７５ｋＶでフィルムの断面を４００００倍に拡大観察し、断面写真を撮影、層構成および各層厚みを測定した。尚、場合によっては、コントラストを高く得るために、公知のＲｕＯ４やＯｓＯ４などを使用した染色技術を用いても良い。積層構造の具体的な求め方を、説明する。約４万倍のＴＥＭ写真画像を、ＣａｎｏｎＳｃａｎＤ１２３Ｕを用いて画像サイズ７２０ｄｐｉで取り込んだ。画像をＪＰＥＧ形式で保存し、次いで画像処理ソフトＩｍａｇｅ−Ｐｒｏ  Ｐｌｕｓ  ｖｅｒ．４（販売元  プラネトロン（株））を用いて、このＪＰＧファイルを開き、画像解析を行った。画像解析処理は、垂直シックプロファイルモードで、厚み方向位置と幅方向の２本のライン間で挟まれた領域の平均明るさとの関係を、数値データとして読み取った。表計算ソフト（Ｅｘｃｅｌ２０００）を用いて、位置（ｎｍ）と明るさのデータに対してサンプリングステップ６（間引き６）、３点移動平均の数値処理を施した。さらに、この得られた周期的に明るさが変化するデータを微分し、ＶＢＡプログラムにより、その微分曲線の極大値と極小値を読み込み、隣り合うこれらの間隔を１層の層厚みとして層厚みを算出した。この操作を写真毎に行い、全ての層の層厚みを算出した。
（２）相対反射率
日立製作所製  分光光度計（Ｕ−３４１０  Ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍａｔｅｒ）にφ６０積分球１３０−０６３２（（株）日立製作所）および１０°傾斜スペーサーを取り付け反射率を測定した。なお、バンドパラメーターは２／ｓｅｒｖｏとし、ゲインは３と設定し、１８７ｎｍ〜２６００ｎｍの範囲を１２０ｎｍ／ｍｉｎ．の検出速度で測定した。また、反射率を基準化するため、標準反射板として付属のＡｌ２Ｏ３板を用いた。なお、実施例２、３、４と比較例３については、波長２５０〜２６００ｎｍにおける相対反射率の最大値を示し、その波長を反射波長とした。また、実施例１、実施例５、実施例６および比較例１．比較例２、比較例４に関しては、波長帯域３５０ｎｍ〜１０００ｎｍの平均相対反射率を示した。
（３）異なる熱可塑性樹脂間の面内屈折率差
積層フィルムを構成する熱可塑性樹脂を単独で用いて、積層フィルムと同じ製膜条件で単膜フィルムを製膜した。この際の製膜方法は、キャスティングまでは同じ方法で未延伸フィルムを製膜した。次いで、未延伸フィルムからサンプルを１０ｃｍ×１０ｃｍの寸法に切り出し、二軸延伸装置（東洋精機（株））を用いて積層フィルムと同倍率で延伸し、さらに、得られた延伸フィルムを２０ｃｍ×２０ｃｍの金枠に貼り付けてトンネルオーブン（泰伸製作所製）を用いて、積層フィルムと同様の温度で熱処理を施し、単膜フィルムを得た。なお、製膜時の熱処理温度が熱可塑性樹脂を溶融する温度の場合は、ポリイミドフィルムなどの支持体で挟みトンネルオーブンで熱処理を施した。得られた単膜フィルムのフィルム巾方向中央部からサンプルを長さ４×巾３．５ｃｍの寸法で切り出し、アッベ屈折率計４Ｔ（アタゴ（株）製）を用いて、ＭＤ、ＴＤの屈折率を求めた。光源は、ナトリウムＤ線  波長５８９ｎｍを用いた。ＭＤとＴＤの屈折率の平均を面内屈折率とし、異なる熱可塑性樹脂間での面内屈折率の差を面内屈折率差（絶対値）として、求めた（｜熱可塑性樹脂Aの面内屈折率―熱可塑性樹脂Ｂの面内屈折率｜）。なお、浸液には、ヨウ化メチレン、テストピースの屈折率は、１．７４のものを用いた。
（４）明度  ＬＳＣＥ＊
サンプルを５ｃｍ×５ｃｍで切り出し、次いでサンプル裏面をマジックインキ（登録商標）で黒く塗り、コニカミノルタ（株）製ＣＭ−３６００ｄを用いて、測定径φ８ｍｍのターゲットマスク（ＣＭ−Ａ１０６）条件下で正反射光を除去したＳＣＥ方式にてＬ値を測定し、ｎ数３の平均値を求めた。なお、白色校正板はＣＭ−Ａ１０３、ゼロ校正ボックスはＣＭ−Ａ１０４を用いた。
（５）表面粗さ（Ｒａ）
ＪＩＳ−Ｂ０６０１（１９８２年）に規定された方法に従って、３次元微細形状測定器を用い最大高さ（Ｒｍａ）を測定し、それをスクラッチ加工の最大深さとした。測定条件は下記の条件とした。
測定装置：（株）小坂研究所製  三次元微細形状測定器“ＥＴ−３０ＨＫ”
三次元粗さ解析装置“ＳＰＡ−１１”
測定エリア：０．３ｍｍ２
サンプリングピッチ：フィルム長手方向に４μｍ、幅方向に１０μｍ
傾斜補正：有り。
（６）剥離試験
ＪＩＳ  Ｋ５６００（２００２年）に従って試験を行った。なお、フィルムを硬い素地とみなし、２ｍｍ間隔で２５個の格子状パターンを切り込んだ。また、約７５ｍｍの長さに切ったテープを格子の部分に接着し、テープを６０°に近い角度で０．５〜１．０秒の時間で引き剥がした。ここで、テープにはセキスイ製セロテープ（登録商標）Ｎｏ．２５２（幅１８ｍｍ）を用いた。評価結果は、格子１つ分が完全に剥離または、一部分が剥離した格子の数で表した。
（７）強伸度
ＪＩＳ−Ｋ７１２７（１９９９年）に規定された方法に従って、インストロンタイプの引張試験機を用いて測定した。測定は下記の条件とした。
測定装置：オリエンテック（株）製フィルム強伸度自動測定装置“テンシロンＡＭＦ／ＲＴＡー１００”
試料サイズ：幅１０ｍｍ×試長間５０ｍｍ
引張り速度：３００ｍｍ／ｍｉｎ
測定環境：温度２３℃、湿度６５％ＲＨ。
（８）ガラス転移温度
示差熱量分析（ＤＳＣ）を用い、ＪＩＳ−Ｋ−７１２２（１９８７年）に従って測定・算出した。なお、まず、はじめに１ｓｔ  Ｒｕｎで、２５℃から３００℃まで２０℃／ｍｉｎ．で昇温した後、２５℃まで急冷した。またつづく２ｎｄ  Ｒｕｎでは、２５℃から３００℃まで２０℃／ｍｉｎ．で昇温した。樹脂のガラス転移温度は２ｎｄ  Ｒｕｎにおけるガラス転移温度を用いた。
装置：セイコー電子工業（株）製”ロボットＤＳＣ−ＲＤＣ２２０”
データ解析”ディスクセッションＳＳＣ／５２００”
サンプル質量：５ｍｇ。
（実施例１）
２種類の樹脂として、Ａ層の樹脂ＡとＢ層の樹脂Ｂを準備した。実施例１においては、樹脂Ｂとして、固有粘度０．６５、融点２５５℃のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）［東レ製Ｆ２０Ｓ］を用いた。なお、この樹脂Ｂは結晶性樹脂であった。また樹脂Ａとして固有粘度０．５５のポリエチレンテレフタレートの共重合体（シクロヘキサンジカルボン酸成分２０ｍｏｌ％、スピログリコール成分１５ｍｏｌ％共重合したポリエチレンテレフタレート（ＣＨＤＣ２０ｍｏｌ％／ＳＰＧ１５ｍｏｌ％共重合ＰＥＴ）を用いた。これら樹脂ＡおよびＢは、それぞれ乾燥した後、別々の押出機に供給した。
【００４２】
樹脂ＡおよびＢは、それぞれ、押出機にて２７０℃の溶融状態とし、ＦＳＳタイプのリーフディスクフィルタを５枚介した後、ギアポンプにて吐出比が熱可塑性樹脂Ａ組成物／熱可塑性樹脂Ｂ組成物＝１．２／１になるように計量しながら、スリット数２６７個のスリット板３枚を用いた構成である８０１層フィードブロックにて合流させて、その後ピノールを用い、片面のみＡ層となるように厚み方向に交互に８０２層積層された積層体とした。合流した樹脂ＡおよびＢは、フィードブロック内にて各層の厚みが表面側から反対表面側に向かうにつれ徐々に厚くなるように変化させ、樹脂Ａが４００層、樹脂Ｂが４０１層からなる厚み方向に交互に積層された構造とした。また、片方の表層部分が樹脂Ａとなるようにピノールを用い、かつ隣接するＡ層とＢ層の層厚みはほぼ同じになるようにスリット形状を設計した。この設計では、３５０ｎｍ〜１０００ｎｍに反射帯域が存在するものとなる。このようにして得られた計８０２層からなる積層体を、マルチマニホールドダイに供給、さらにその表層に別の押出機から供給した樹脂Ａからなる層を形成し、シート状に成形した後、静電印加にて表面温度２５℃に保たれたキャスティングドラム上で急冷固化した。なお、樹脂Ａと樹脂Ｂが合流してからキャスティングドラム上で急冷固化されるまでの時間が約８分となるように流路形状および総吐出量を設定した。
【００４３】
得られたキャストフィルムを、７５℃に設定したロール群で加熱した後、延伸区間長１００ｍｍの間で、フィルム両面からラジエーションヒーターにより急速加熱しながら、縦方向に３．０倍延伸し、その後一旦冷却した。次に、この一軸延伸フィルムをテンターに導き、１００℃の熱風で予熱後、１１０℃の温度で横方向に３．３倍延伸した。延伸したフィルムは、そのまま、テンター内で２３５℃の熱風にて熱処理を行い、続いて同温度にて幅方向に５％の弛緩処理を施し、その後、室温まで徐冷後、巻き取った。得られたフィルムの厚みは、１２５μｍであり、ＬＳＣＥ＊が４５、Ａ面の表面粗さＲａ（Ａ）が５２０ｎｍであった。
【００４４】
得られた積層フィルムは、層間剥離がなく、反射率の高い金属光沢調を有し、かつ、片面のみマット感を有する積層フィルムであった。また、視野角によっても色の変化がほとんど起きないものであり、金属を使っていないため電磁波障害を起こさず、成形性、リサイクル性、意匠性に優れるものであった。得られた結果を表１に示す。
（実施例２）
実施例１において、樹脂ＡおよびＢは、それぞれ、押出機にて２７０℃の溶融状態とし、ＦＳＳタイプのリーフディスクフィルタを５枚介した後、ギアポンプにて吐出比が熱可塑性樹脂Ａ組成物／樹脂Ｂ組成物＝１．２／１になるように計量しながら２０１個の微細スリットを有するフィードブロックにて合流させ、樹脂Ａが１００層、樹脂Ｂが１０１層からなる厚み方向に交互に積層された構造とし、さらにピノールを用い片面のみ表層がＡ層となるようにした。また、フィードブロックのスリット形状は、（熱可塑性樹脂非供給側のスリット面積）／（供給側のスリット面積）が４５％であり、スリット長は１００ｍｍとした。なお、両表層部分は樹脂Ａとなるようにした。各層の厚みの調整は、フィードブロック内の微細スリット（加工精度０．０１ｍｍにて形成）の間隙と各樹脂の吐出量により行い、隣接するＡ層とＢ層の厚み比（Ａ層厚み／Ｂ層厚み）が１．９８としたに。このようにして得られた計２０２層からなる積層体を、Ｔダイに供給し、シート状に成形した後（ドラフト比１０）、テープ状の電極を用いて静電印加（直流電圧８ｋＶ）にて表面温度２５℃に保たれたキャスティングドラム上で急冷固化した。
【００４５】
得られたキャストフィルムを７５℃に設定したロール群で加熱した後、延伸区間長１００ｍｍの間で、フィルム両面からラジエーションヒーターにより急速加熱しながら、縦方向に３．０倍延伸し、その後一旦冷却した。次に、テンターに導き、９０℃の熱風で予熱後、幅方向に６．０倍延伸した。延伸した一軸延伸フィルムは、そのまま、テンター内で２３５℃の熱風にて熱処理を行い、続いて同温度にて幅方向に５％の弛緩処理を施し、その後、室温まで除冷後、巻き取った。得られたフィルムの厚みは、１００μｍであり、ＬＳＣＥ＊が３０、Ａ面の表面粗さＲａ（Ａ）が３４０ｎｍであった。
【００４６】
得られた積層フィルムは、実施例１同様に層間剥離がなく、高い相対反射率を有し、かつ、片面のみマット感を有する積層フィルムであった。また、金属を使っていないため電磁波障害を起こさず、成形性、リサイクル性に優れるものであった。得られた結果を表１に示す
（実施例３）
実施例２において、フィードブロックを５１層に変更した以外は、実施例２と同様の条件にて製膜を行った。得られた積層フィルムの厚みは１００μｍであり、ＬＳＣＥ＊が２５、Ａ面の表面粗さＲａ（Ａ）が４００ｎｍであった。得られた積層フィルムは層間剥離がないものの、積層数が減少したため、角度依存性を有し、反射率が若干低いものであった。結果を表１に示す。
（実施例４）
実施例２において、フィードブロックを３３層に変更し、ピノールを用いなかった以外は、実施例２と同様の条件にて製膜を行った。得られた積層フィルムの厚みは６０μｍであり、ＬＳＣＥ＊が２１、Ａ面の表面粗さＲａ（Ａ）が３１０ｎｍであった。
得られた積層フィルムは層間剥離がなく、電磁波障害を起こさず、成形性、リサイクル性に優れるものの、積層数が減ったために光沢はあるが相対反射率は４２％と低いものであった。結果を表１に示す
（実施例５）
２種類の樹脂として、Ａ層の樹脂ＡとＢ層の樹脂Ｂを準備した。樹脂Ａは固有粘度０．５５のポリエチレンテレフタレートの共重合体（シクロヘキサンジカルボン酸成分２０ｍｏｌ％、スピログリコール成分１５ｍｏｌ％共重合したポリエチレンテレフタレート（ＣＨＤＣ２０ｍｏｌ％／ＳＰＧ１５ｍｏｌ％共重合ＰＥＴ）を用いた。樹脂Ｂとしては、固有粘度０．６５、融点２５５℃のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）［東レ製Ｆ２０Ｓ］に蛍光顔料であるＧｌｏＰｒｉｌｌ  ＧＰＸ−１７をドライブレンドしたものを用いた。これら樹脂を実施例１同様の条件にて製膜を行った。なお、フィードブロックは単膜のものを用い、樹脂Ｂを流し、樹脂Ａはピノールにて片面のみに積層した。得られた積層フィルムの厚みは６５μｍであり、ＬＳＣＥ＊が３０、Ａ面の表面粗さＲａ（Ａ）が５８ｎｍであった。
得られた積層フィルムは層間剥離がなく、電磁波障害を起こさず、成形性、リサイクル性、意匠性にすぐれるものであった。結果を表１に示す。
（実施例６）
実施例１において、ピノールを用いない以外は、実施例１と同様の条件にて製膜を行った。得られた積層フィルムの厚みは１２０μｍであり、ＬＳＣＥ＊が４０、Ａ面の表面粗さＲａ（Ａ）が５１５ｎｍであった。
得られた積層フィルムは層間剥離がなく、電磁波障害を起こさず、成形性、リサイクル性に、かつ、金属光沢調を有する意匠性にすぐれるものであった。結果を表１に示す。
（実施例７）
実施例１において、Ａ面の樹脂としてポリエチレンテレフタレートの共重合体（シクロヘキサンジカルボン酸成分２０ｍｏｌ％、スピログリコール成分１５ｍｏｌ％共重合したポリエチレンテレフタレート（ＣＨＤＣ２０ｍｏｌ％／ＳＰＧ１５ｍｏｌ％共重合ＰＥＴ）に対し、シクロヘキサンジメタノールを３０ｍｏｌ％共重合したポリエチレンテレフタレート（ＣＨＤＭ共重合ＰＥＴ）［イーストマン製  ＰＥＴＧ６７６３］と固有粘度０．６５のポリエチレンテレフタレートを８５：１５の重量比で、二軸押出機にて混練しアロイ化した樹脂を用いた以外は実施例１と同様の条件にて製膜を行った。得られた積層フィルムの厚みは１２０μｍであり、ＬＳＣＥ＊が２２、Ａ面の表面粗さＲａ（Ａ）が１２０ｎｍであった。
【００４７】
得られた積層フィルムは層間剥離が無く、電磁波障害を起こさず、成形性、リサイクル性に優れたものであった。ただ、屈折率差が低下したために、相対反射率が６５％と若干低下した。結果を表１に示す。
（実施例８）
実施例１において、Ａ層の樹脂をポリエチレンテレフタレートの共重合体（シクロヘキサンジカルボン酸成分２０ｍｏｌ％、スピログリコール成分１５ｍｏｌ％共重合したポリエチレンテレフタレート（ＣＨＤＣ２０ｍｏｌ％／ＳＰＧ１５ｍｏｌ％共重合ＰＥＴ）を２軸ベント押出機を用いて下記の紫外線吸収剤の添加量が７重量％となるようにコンパウンド化したマスターチップとした以外は、実施例１と同様の製膜条件にて製膜を行った。
紫外線吸収剤：２，２‘―（１，４―フェニレン）ビス（４Ｈー３，１−ベンズオキサジン−４−オン）
得られた積層フィルムの厚みは１２５μｍであり、ＬＳＣＥ＊が４５、Ａ面の表面粗さＲａ（Ａ）が５２０ｎｍであった。結果を表２に示す。
（実施例９）
実施例１において、熱可塑性樹脂Ｂに平均粒子系１．２μｍの凝集シリカを２重量％添加した以外は、実施例１と同様の条件にて製膜を行った。得られた積層フィルムの厚みは１２５μｍであり、ＬＳＣＥ＊が４９、Ａ面の表面粗さＲａ（Ａ）が５２１ｎｍであった。
【００４８】
得られた積層フィルムは層間剥離がなく、電波障害を起こさず、成形性、リサイクル性に優れたものであった。粒子を添加することで粒子の脱落が懸念されたが、表層部分に存在する粒子数が少なく金型汚染の問題には発展しなかった。結果を表２に示す。
（実施例１０）
実施例１において、熱可塑性樹脂Ｂに平均粒径１．２μｍの凝集シリカを３重量％添加した以外は、実施例１と同様の条件にて製膜を行った。得られた積層フィルムの厚みは１２５μｍであり、ＬＳＣＥ＊が５３、Ａ面の表面粗さＲａ（Ａ）が５１０ｎｍであった。
【００４９】
得られた積層フィルムは層間剥離がなく、成形性、リサイクル性に優れるものであった。ただし、成形の際に粒子が脱落し、金型汚染の原因となった。結果を表２に示す。
（比較例１）
実施例６において、Ａ層の樹脂とＢ層の樹脂とを入れ替えた以外は、実施例６の製膜条件と同様の条件にて製膜を行った。得られた積層フィルムの厚みは１２５μｍであり、ＬＳＣＥ＊が５、Ａ面の表面粗さＲａ（Ａ）が１２ｎｍであった。
得られた積層フィルムは層間剥離がなく、電磁波障害を起こさないものの、正反射光が非常に強く、高級感を有する意匠性用途に用いるには不適であった。
（比較例２）
共重合ポリエステル（Ｉ）としてイソフタル酸を１２ｍｏｌ％共重合したポリエチレンテレフタレートを用い、ポリエステル（ＩＩ）としてポリブチレンテレフタレートを３０ｍｏｌ％共重合した共重合ポリブチレンテレフタレートを用い、つや消し剤として平均粒径３．５μｍの二酸化珪素を用いた。
【００５０】
共重合ポリエステル（Ｉ）、ポリエステル（ＩＩ）およびつや消し剤を押出機にて溶融混合し、フラットダイからフィルム状に押出し、急冷固化して未延伸フィルムを得た。ついで、この未延伸フィルムを縦延伸温度９０度にて３倍延伸し、横遠心温度１００度にて３．１倍に延伸し、続いて１８０度にて熱固定処理をした後、横方向に４．５％弛緩して、二軸配向ポリエステルフィルムを得た。これら二軸配向ポリエステルフィルムにポリエステル径接着剤をコートし、さらにジエチルへキシルフタレートを３０％含有する発泡塩ビと貼り合わせて積層体とした。この積層体はさらに、エンボス加工を施した。
得られた積層体は拡散性が強いものの、この積層体自体では意匠性用途として用いることができず、反射率も低いものであった。
（比較例３）
１５μｍのポリエチレンテレフタレート層と３ミクロンのテレフタル酸とエチレングリコール／１，４ーシクロヘキサンジメタノール（５０／５０ｍｏｌ％）からなる共重合ポリエステル樹脂層を共押出しにより積層製膜した総厚み１８μｍのプラスチックフィルムを得た。この共重合ポリエステル樹脂面に、３２０番のサンドペーパーを金属ロールに隙間なく貼り付けた研磨ロールに接触させながらプラスチックフィルムを走行させることによりスクラッチ加工し、最大深さ１．５μｍのヘアライン目を施した後、真空中で誘導加熱方式により、金属アルミニウムを約５００オングストロームの厚さで蒸着し、金属調化粧シートを得た。得られたシートは反射率が高いものの、層間密着性が悪く剥離試験により剥離が生じるものであった。また、また金属を使用しているために電磁波シールド性を有し、リサイクルが不可能であった
【００５１】
【表１】
2008114587.tif 000002
【００５２】
【表２】
2008114587.tif 000003
【００５３】
【表３】
2008114587.tif 000004
【産業上の利用可能性】
【００５４】
本発明は、上記した従来技術の問題点に鑑み、ある波長の光を反射することが可能な積層フィルムに、粒子を用いることなくフィルム製膜工程上でマット感を付与し、意匠性、ハンドリング性や装飾時のインク密着性、層間密着性、成形性に優れた積層フィルムに関するものである。また、環境負荷が小さく、リサイクル性に優れ、電磁波障害を起こさない成形体に関するものである。