【手続補正書】
【提出日】平成20年12月3日(2008.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｃ2〜20オレフィンホモポリマーまたはインターポリマーを製造する方法であって、
１つ以上のＣ2〜20オレフィン類を反応器中に連続的に供給する工程、
低分子量触媒を前記反応器中に定速で連続的に供給する工程、
高分子量触媒を重合条件下、前記反応器中に連続的に供給する工程、ここで、前記高分子量触媒および前記低分子量触媒は、それぞれ前記ポリマー中に近似量のコモノマー類を組込み、前記高分子量触媒で製造される前記ポリマーの分子量対前記低分子量触媒で製造される前記ポリマーの分子量の比率、ＭwH／ＭwLは４．０から４０の範囲内であり、および、
前記ポリマー製品を回収する工程、を含む前記製造方法。
【請求項２】
前記低分子量触媒を前記反応器中に連続的に供給する工程が、前記低分子量触媒を、目標メルトインデックスの２倍以上のメルトインデックスを有するポリマーを製造する第１の速度で供給することを含み、および、
前記高分子量触媒を前記反応器中に連続的に供給する工程が、前記高分子量触媒を、前記ポリマーのメルトインデックスを、目標メルトインデックスを有するポリマー生成物を製造するよう調整する第２の速度で供給することを含む、請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
第３の反応器中で混合がおこるように、第１の反応器を第２の反応器と並列に接続する、請求項１に記載の製造方法。
【請求項４】
第１の反応器が、第２の反応器と直列に接続される、請求項１に記載の製造方法。
【請求項５】
前記第１の反応器の内容物が、前記第２の反応器中に順次導入される、請求項４に記載の製造方法。
【請求項６】
第１の反応器が連続溶液重合条件下で運転される、請求項１に記載の製造方法。
【請求項７】
少なくとも１つの触媒が、０．１２より大きいＲVを有するシングルサイト触媒類である、請求項１に記載の製造方法。
【請求項８】
前記ポリマーが、第１の反応器の内容物の３．５重量％以下の濃度を有するエチレンを含有する、請求項１に記載の製造方法。
【請求項９】
第１の反応器が、該第１の反応器の内容物の１５重量％以上の濃度を有するポリマーを含む、請求項１に記載の製造方法。
【請求項１０】
前記ＭwH／ＭwLが４．０から１０の間である、請求項１に記載の製造方法。
【請求項１１】
前記エチレン濃度が前記反応器の内容物の２．５重量％以下である、請求項８に記載の製造方法。
【請求項１２】
前記エチレン濃度が前記反応器の内容物の２．０重量％以下である、請求項８に記載の製造方法。
【請求項１３】
前記ポリマー濃度が前記反応器の内容物の１８重量％以上である、請求項９に記載の製造方法。
【請求項１４】
１つ以上のオレフィン性モノマー類を、少なくとも高分子量触媒および少なくとも低分子量触媒の存在下で単一反応器中で接触させ、更に、重合条件下、前記反応器中で前記オレフィン性モノマー類の重合を実行し、オレフィンポリマーを得ることを含み、
前記高分子量触媒および前記低分子量触媒は、それぞれ、
【化１】
2008179825.tif 000001
［式中、Ｍは元素周期表の、３、４〜１０族、またはランタノイド系列の金属であり、Ｃｐ*は、シクロペンタジエニルまたは置換シクロペンタジエニル基であり、Ｚはホウ素、元素周期表の１４族の元素、イオウまたは酸素を含み、かつ、最大４０までの水素でない原子を含む成分であり、場合により、Ｃｐ*およびＺは互いに縮合環系を形成し、Ｘはそれぞれ独立にアニオン性リガンド基であり、前記Ｘは３０までの水素でない原子を有し、Ｙがアニオン性の場合ｎはＭの原子価より２小さく、Ｙが中性の場合はＭの原子価より１小さく、Ｌはそれぞれ独立に中性ルイス塩基リガンド基であり、前記Ｌは３０までの水素でない原子を有し、ｍは０、１、２、３または４であり、ＹはＺおよびＭに結合し、窒素、リン、酸素またはイオウを含み、かつ、４０までの水素でない原子を含む、アニオン性または中性のリガンド基であり、場合によりＹおよびＺは相互に縮合環系を形成する。］
の化合物を含有し、
前記高分子量触媒および前記低分子量触媒は、（Ｃ5Ｍｅ4ＳｉＭｅ2ＮtＢｕ）Ｔｉ（η4−１，３−ペンタジエン）および（Ｎ−（１，１−ジメチルエチル）−１，１−ジ−ｐ−トリル−１−（（１，２，３，３ａ，７ａ−η）−３−（１，３−ジヒドロ−２Ｈ−イソインドール−２−イル）−１Ｈ−インデン−１−イル）シランアミナート−（２−）−Ｎ−）ジメチルチタニウムの組合せ、（１Ｈ−シクロペンタ［１］フェナントレン−２−イル）ジメチル（ｔ−ブチルアミド）シランチタンジメチルおよびジメチルシリル（２−メチル−ｓ−インダセニル）（ｔ−ブチルアミド）チタニウム１，３−ペンタジエンの組合せ、（１Ｈ−シクロペンタ［１］フェナントレン−２−イル）ジメチル（ｔ−ブチルアミド）シランチタンジメチルおよび（Ｃ5Ｍｅ4ＳｉＭｅ2ＮtＢｕ）Ｔｉ（η4−１，３−ペンタジエン）の組合せ、（１Ｈ−シクロペンタ［１］フェナントレン−２−イル）ジメチル（ｔ−ブチルアミド）シランチタンジメチルおよび（Ｎ−（１，１−ジメチルエチル）−１，１−ジ−ｐ−トリル−１−（（１，２，３，３ａ，７ａ−η）−３−（１，３−ジヒドロ−２Ｈ−イソインドール−２−イル）−１Ｈ−インデン−１−イル）シランアミナート−（２−）−Ｎ−）ジメチルチタニウムの組合せ、並びにｒａｃ−［ジメチルシリルビス（１−（２−メチル−４−フェニル）インデニル）］ジルコニウム（１，４−ジフェニル−１，３−ブタジエン）およびｒａｃ−［１，２−エタンジイルビス（１−インデニル）］ジルコニウム（１，４−ジフェニル−１，３−ブタジエン）の組合せからなる群より選択され、
前記高分子量触媒および前記低分子量触媒は、それぞれ前記重合条件下、前記ポリマー中に近似量のコモノマー類を組込み、
ここで、前記高分子量触媒は前記重合条件下、前記モノマー類から高分子量ＭwHを有するポリマーを製造し、および、
前記低分子量触媒は前記重合条件下、同一のモノマー類から低分子量ＭwLを有するポリマーを製造し、ここで前記ＭwHはＭwLより１．３倍より大きく、前記オレフィンポリマーは、全ての末端不飽和の合計に対するビニル基の比率であって以下に規定されるＲVにより特徴づけられる、オレフィンポリマーの製造方法によって製造されたオレフィンポリマーであって、
【数１】
2008179825.tif 000002
［式中、［ビニル］は、ビニル／１，０００炭素原子で表される、前記オレフィンポリマー中のビニル基の濃度であり、［ビニリデン］、［ｃｉｓ］および［ｔｒａｎｓ］は、１，０００炭素原子あたりのそれぞれの基の数で表される、前記オレフィンポリマー中のビニリデン、ｃｉｓ、および、ｔｒａｎｓ基の濃度であり、ここで、ＲVは０．１２以上である。］
該オレフィンポリマーがくし状構造を有する、オレフィンポリマー。
【請求項１５】
前記オレフィン性モノマー類が、プロピレン、１−ブテン、１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン、ビニルシクロヘキセン、スチレン、エチリデン、ノルボルネン、ノルボルナジエン、１，５−ヘキサジエン、１，７−オクタジエン、および、１，９−デカジエンである、請求項１４に記載のオレフィンポリマー。
【請求項１６】
前記オレフィンポリマーがポリプロピレン、ポリブテン、または、ポリスチレンである、請求項１４に記載のオレフィンポリマー。
【請求項１７】
前記オレフィンポリマーが、１０００炭素原子あたり３の長鎖分枝を有する、請求項１４に記載のオレフィンポリマー。
【請求項１８】
１９０℃で５ｃＮの溶融強度を有し、前記ポリマーでフィルムを製造した場合、前記フィルムは少なくとも２０％のＣＤ収縮を有する、請求項１４に記載のオレフィンポリマー。
【請求項１９】
くし状構造および１０００炭素原子あたり少なくとも０．０３の長鎖分枝を有することを特徴とする、請求項１８に記載のオレフィンポリマー。
【請求項２０】
前記ポリマーが高分子フラクションおよび低分子フラクションを含有する、請求項１４に記載のオレフィンポリマー。
【請求項２１】
前記高分子量フラクションが０から１００である、請求項２０に記載のオレフィンポリマー。
【請求項２２】
前記低分子量フラクションが０から１００である、請求項２０に記載のオレフィンポリマー。
【請求項２３】
前記ポリマーが、エチレン／プロピレンコポリマー、エチレン／１−ブテンコポリマー、エチレン／１−ヘキセン、エチレン／スチレン、エチレン／１−オクテンコポリマー類、または、エチレン／プロピレン／ジエンターポリマーである、請求項１８または１９に記載のオレフィンポリマー。