(57)【要約】      （修正有）【課題】ポリシリコン物質と酸化物質との間の食刻選択比を利用したパターン形成方法の提供。【解決手段】半導体基板１００の被食刻層上にハードマスク層、第1酸化膜パターン、その上に窒化膜パターンを形成、ハードマスク層を選択的に露出,ハードマスク層,第1酸化膜及び窒化膜パターンの露出部分上に第1厚の第1ポリシリコン層,第1ポリシリコン層上に第2厚の第2酸化膜,第2酸化膜上に第3厚の第2ポリシリコン層を形成。窒化膜パターンの露出まで第2ポリシリコン層,第2酸化膜及び第1ポリシリコン層を平坦化。窒化膜パターンを除去し第1酸化膜パターンを露出。酸化物・ポリシリコン間の食刻選択比に従い第1酸化膜パターンと第2酸化膜を食刻。第1ポリシリコン層と第2ポリシリコン層を食刻マスクにハードマスク層を食刻してハードマスク層パターンを形成し,ハードマスク層パターンをマスクに被食刻層を食刻して微細パターン１１０ａを形成。【選択図】図２ｈ
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板を提供する段階と、
前記半導体基板の上部に被食刻層を形成し、前記被食刻層の上部にハードマスク層を形成する段階と、
前記ハードマスク層の上部に第１の酸化膜パターンを形成し、前記第１の酸化膜パターンの上部に窒化膜パターンを形成して前記ハードマスク層を選択的に露出する段階と、
前記ハードマスク層、前記第１の酸化膜パターン及び前記窒化膜パターンの露出した部分の上部に第１の厚さを有する第１のポリシリコン層を形成する段階と、
前記第１のポリシリコン層の上部に第２の厚さを有する第２の酸化膜を形成する段階と、
前記第２の酸化膜の上部に第３の厚さを有する第２のポリシリコン層を形成する段階と、
前記窒化膜パターンを露出するまで前記第２のポリシリコン層、前記第２の酸化膜及び前記第１のポリシリコン層を平坦化する段階と、
前記窒化膜パターンを除去して前記第１の酸化膜パターンを露出する段階と、
酸化物質とポリシリコン物質の間の食刻選択比に従い前記第１の酸化膜パターンと前記第２の酸化膜を食刻する段階と、
前記第１のポリシリコン層と前記第２のポリシリコン層の上部を食刻マスクに前記ハードマスク層を食刻してハードマスク層パターンを形成する段階と、
前記ハードマスク層パターンをマスクに前記被食刻層を食刻して微細パターンを形成する段階と、
を含むことを特徴とする半導体素子のパターン形成方法。
【請求項２】
前記被食刻層は酸化膜で形成することを特徴とする請求項１に記載の半導体素子のパターン形成方法。
【請求項３】
前記被食刻層は１００〜６００℃の温度下で形成され、その厚さは１００〜１,０００ｎｍであることを特徴とする請求項１に記載の半導体素子のパターン形成方法。
【請求項４】
前記ハードマスク層は非晶質炭素層で形成することを特徴とする請求項１に記載の半導体素子のパターン形成方法。
【請求項５】
前記ハードマスク層の厚さは１００〜５００ｎｍであることを特徴とする請求項１に記載の半導体素子のパターン形成方法。
【請求項６】
前記第１の酸化膜パターン及び前記第２の酸化膜はＢＰＳＧ（Boro-Phosphor-Silicate-Glass）酸化膜で形成することを特徴とする請求項１に記載の半導体素子のパターン形成方法。
【請求項７】
前記第１の酸化膜パターンの厚さは１００〜１,０００ｎｍであることを特徴とする請求項１に記載の半導体素子のパターン形成方法。
【請求項８】
前記第１の酸化膜パターンの線幅と隣接した前記第１の酸化膜パターンの間に画成されたスペースの線幅の比は１：５であることを特徴とする請求項１に記載の半導体素子のパターン形成方法。
【請求項９】
前記第１の厚さは前記第２の厚さと同一であり、前記第１の厚さと前記第２の酸化膜の厚さは３０〜５０ｎｍであることを特徴とする請求項１に記載の半導体素子のパターン形成方法。
【請求項１０】
前記第３の厚さは、前記第２の酸化膜の上部表面から１００〜５００ｎｍであることを特徴とする請求項１に記載の半導体素子のパターン形成方法。
【請求項１１】
前記食刻選択比は、前記酸化物質の食刻が前記ポリシリコン物質の食刻より２０倍速いことを特徴とする請求項１に記載の半導体素子のパターン形成方法。
【請求項１２】
前記微細パターンの線幅と隣接した前記微細パターンの間に画成されるスペースの線幅の比は１：１であることを特徴とする請求項１に記載の半導体素子のパターン形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は半導体素子に関するものである。特に、半導体素子において改良されたパターンの形成方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
最近、半導体素子の極微細化及び高集積化が進むに伴い、メモリ容量の増加に比例して全体的なチップ（chip）の面積は増加しているが、実際に半導体素子のパターンが形成されるセル（cell）領域の面積は減少している。したがって、所望のメモリ容量の確保のためには限定されたセル領域内により多いパターンが形成されなければならないので、パターンの線幅（critical dimension）が減少した微細パターンの形成が必要である。このように、線幅が微細なパターンを形成するためリソグラフィ工程（Lithography Process）の発展が求められる。
このようなフォトリソグラフィ工程において、解像度（Resolution）と焦点深度（Depth of Focus：ＤＯＦ）は２つの重要な核心要素（issue）である。これらのうち解像度（Ｒ）は下記の式（１）のように表わすことができる。
【０００３】
【数１】
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ここで、ｋ１が感光膜種類、厚さ等により決定される常数で、lが光源の波長であり、ＮＡ（Numerical Aperture）が露光装備の開口数を意味する。
【０００４】
ｋ１が物理的な制限を有するので、現存する方法でｋ１を減少させることは困難である。したがって、狭いバンドを有する光源を適用した新しい露光装備と、新しい露光装備に効果的に反応する新しい感光物質の開発が求められる。このような発展無しに半導体素子の微細パターンの形成は困難である。
【０００５】
図１ａ〜図１ｃは、二重露光方法（Double Exposure Process）を利用した従来の微細パターン形成方法を示す断面図である。半導体基板１０の上部に被食刻層２０、ハードマスク層３０及び第１の感光膜（図示省略）を形成し、第１の感光膜（図示省略）をライン／スペースマスク（図示省略）で露光及び現像して第１の感光膜パターン４０を形成する。第１の感光膜パターン４０をマスクにハードマスク層３０を食刻して被食刻層２０の第１の部分を露出する第１のハードマスクパターン３０ａを形成する。以後、第１の感光膜パターン４０を除去する。
【０００６】
図１ｂ及び図１ｃに示されているように、第１のハードマスクパターン３０ａと被食刻層２０の露出した部分の上部に第２の感光膜（図示省略）を形成する。第２の感光膜（図示省略）をライン／スペースマスクで露光及び現像して第２の感光膜パターン４５を形成する。ここで、第２の感光膜パターン４５は被食刻層２０の２つの隣接した第１の部分のほぼ中心に位置する第１のハードマスクパターン３０ａの一部を露出する。第２の感光膜パターン４５を食刻マスクに第１のハードマスクパターン３０ａをパターニングして第２のハードマスクパターン３２を形成することにより、被食刻層２０の第２の部分を露出する。以後、第２の感光膜パターン４５を除去する。第２のハードマスクパターン３２で被食刻層２０を食刻して被食刻パターン２０ａを形成する。
【０００７】
前述の従来の技術に係る半導体素子の微細パターン形成方法において、露光装備の解像度の限界により線幅の微細なパターンの形成が困難であるという問題点がる。さらに、これを克服するための二重露光工程時に２次に亘る露光工程によりパターン間の誤整合（Misalignment）が発生するという問題点がある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の実施形態は、半導体素子のパターン形成方法に関するものである。本発明の一実施形態によれば、パターン形成方法はポリシリコン物質と酸化物質との間の食刻選択比を利用した選択食刻工程を行なうことを含む。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の一実施形態に係る半導体素子のパターン形成方法は、
半導体基板を提供する段階と、半導体基板の上部に被食刻層を形成し、被食刻層の上部にハードマスク層を形成する段階と、ハードマスク層の上部に第１の酸化膜パターンを形成し、第１の酸化膜パターンの上部に窒化膜パターンを形成してハードマスク層を選択的に露出する段階と、ハードマスク層、第１の酸化膜パターン及び窒化膜パターンの露出した部分の上部に第１の厚さを有する第１のポリシリコン層を形成する段階と、第１のポリシリコン層の上部に第２の厚さを有する第２の酸化膜を形成する段階と、第２の酸化膜の上部に第３の厚さを有する第２のポリシリコン層を形成する段階と、窒化膜パターンを露出するまで第２のポリシリコン層、第２の酸化膜及び第１のポリシリコン層を平坦化する段階と、窒化膜パターンを除去して第１の酸化膜パターンを露出する段階と、酸化物質とポリシリコン物質の間の食刻選択比に従い第１の酸化膜パターンと第２の酸化膜を食刻する段階と、第１のポリシリコン層と第２のポリシリコン層の上部を食刻マスクにハードマスク層を食刻してハードマスク層パターンを形成する段階と、ハードマスク層パターンをマスクに被食刻層を食刻して微細パターンを形成する段階とを含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明に係る半導体素子のパターン形成方法は、露光装備の限界解像度を克服したライン／スペースパターンを形成することができる。さらに、露光工程により発生するパターンの誤整合を防止して素子の特性を向上させるという効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下では、本発明の実施の形態を図を参照して詳しく説明する。
図２ａ〜図２ｈは、本発明の一実施形態に係る半導体素子のパターン形成方法を示す断面図である。半導体基板１００の上部に被食刻層１１０、第１の非晶質炭素層（Amorphous-Carbon）１２０、第１のＢＰＳＧ（Boro Phospho Silicate Glass）酸化膜１３０及び窒化膜１３５を順次形成する。ここで、被食刻層１１０は大凡１００〜６００℃の温度下において酸化膜で形成する。被食刻層１１０の厚さは大凡１００〜１,０００ｎｍであるのが好ましい。なお、第１の非晶質炭素層１２０はハードマスク層で形成し、その厚さは大凡１００〜５００ｎｍであるのが好ましい。さらに、第１のＢＰＳＧ酸化膜１３０の厚さは大凡１００〜１,０００ｎｍであるのが好ましい。
【００１２】
図２ｂに示されているように、窒化膜１３５の上部に第２の非晶質炭素層１４０及び反射防止膜１５０を順次形成する。ここで、第２の非晶質炭素層１４０の厚さは大凡１００〜５００ｎｍであるのが好ましい。さらに、反射防止膜１５０の厚さは大凡３０〜４０ｎｍまたは大凡３１〜３５ｎｍであるのが好ましい。次に、反射防止膜１５０の上部にＡｒＦ用感光膜（図示省略）を形成する。感光膜の厚さは１００〜５００ｎｍであるのが好ましい。ライン／スペース露光マスクで感光膜を露光及び現像して感光膜パターン１６０を形成する。さらに、感光膜パターン１６０はラインパターンを含み、各ラインパターンは線幅１６０ａを有する。２つの隣接したラインパターンは線幅１６０ｂで分離される。本発明の一実施形態によれば、線幅１６０ａと線幅１６０ｂの比は大凡１：５であるのが好ましい。例えば、露光マスクのピッチは２４０ｎｍであるとき、ラインパターンの線幅１６０ａは４０ｎｍであり、２つの隣接したラインパターンの間に画成された線幅１６０ｂは２００ｎｍであるのが好ましい。本発明の他の実施形態によれば、露光工程はＡｒＦ（１９３ｎｍ）光源を利用して行なうのが好ましい。
【００１３】
図２ｃ及び図２ｄに示されているように、感光膜パターン１６０をマスクに反射防止膜１５０、第２の非晶質炭素層１４０、窒化膜１３５及び第１のＢＰＳＧ酸化膜１３０を順次食刻し、第１のＢＰＳＧ酸化パターン１３０ａ、窒化パターン１３５ａ、第２の非晶質炭素パターン１４０ａ及び反射防止パターン１５０ａを形成することにより、第１の非晶質炭素層１２０の一部を露出する。以後、図２ｄに示されているように、感光膜パターン１６０、反射防止パターン１５０ａ及び第２の非晶質炭素パターン１４０ａを除去する。
【００１４】
図２ｅに示されているように、半導体基板１００の上部に第１のポリシリコン層１７０を形成して第１の非晶質炭素層１２０、第１のＢＰＳＧ酸化膜パターン１３０ａ及び窒化膜パターン１３５ａの露出した部分を覆う。第１のポリシリコン層１７０の上部に第１のポリシリコン層１７０の厚さと同じ第２のＢＰＳＧ酸化膜１８０を形成する。第１のポリシリコン層１７０と第２のＢＰＳＧ酸化膜１８０の厚さは３０〜５０ｎｍまたは３５〜４５ｎｍであるのが好ましい。第１のポリシリコン層１７０と第２のＢＰＳＧ酸化膜１８０は、下部の段差に従い均一の厚さを有するように形成する特性がある。第２のＢＰＳＧ酸化膜１８０の厚さは形成される微細パターンの線幅（Critical Dimension：ＣＤ）と同一である。次に、第２のＢＰＳＧ酸化膜１８０の上部に第２のポリシリコン層１９０を形成し、第２のＢＰＳＧ酸化膜１８０の２つの隣接した垂直部分の間に位置する空間を埋め込む。このとき、第２のポリシリコン層１９０の厚さは第１のＢＰＳＧ酸化膜パターン１３０ａの上部表面から大凡１００〜５００ｎｍであるのが好ましい。
【００１５】
図２ｆに示されているように、第２のポリシリコン層１９０、第２のＢＰＳＧ酸化膜１８０及び第１のポリシリコン層１７０を平坦化して窒化パターン１３５ａを露出する。露出した窒化膜パターン１３５ａを除去して第１の酸化膜パターン１３０ａを露出する。このとき、ＢＰＳＧ酸化膜１８０の線幅Ｄとポリシリコン層１７０の線幅Ｅの比は大凡１：１であるのが好ましい。
【００１６】
図２ｇに示されているように、選択的食刻工程で第１のポリシリコン層１７０と第２のポリシリコン層１９０の間に位置する第１のＢＰＳＧ酸化パターン１３０ａ及び第２のＢＰＳＧ酸化膜１８０を除去する。第１のポリシリコン層１７０と第２のポリシリコン層１９０を食刻マスクにハードマスク層１２０を食刻してハードマスクパターン１２０ａを形成する。本発明の一実施形態によれば、選択的食刻工程はポリシリコン層と酸化膜の食刻選択比の差を利用して行なわれるのが好ましい。さらに、ＢＰＳＧ酸化膜１８０と第１及び第２のポリシリコン層１７０、１９０の食刻選択比は大凡２０：１であるのが好ましい。換言すれば、ＢＰＳＧ酸化膜１８０は第１及び第２のポリシリコン層１７０、１９０より２０倍速く食刻される。食刻選択比のため、第１のポリシリコン層１７０と第２のポリシリコン層１９０の上部が食刻されるとき、第１及び第２のポリシリコン層１７０、１９０の上部部分を食刻マスクに第１のポリシリコン層１７０の下部部分１７０ａも併せて食刻される。選択食刻工程を続けてハードマスクパターン１２０ａを形成する。本発明の一実施形態によれば、ハードマスクパターン１２０ａが食刻されるとき、第１のポリシリコン層１７０と第２のポリシリコン層１９０は共に食刻され得る。
【００１７】
図２ｈに示されているように、ハードマスクパターン１２０ａを食刻マスクに被食刻層１１０を食刻して微細パターン１１０ａを形成する。したがって、図２ｈに示されているように、半導体基板１００と該上部に形成された微細パターン１１０ａを含む半導体素子を形成する。ここで、微細パターン１１０ａの線幅Ｆと隣接した微細パターン１１０ａ等の間に画成されたスペースの線幅Ｇの比は大凡１：１であるのが好ましい。本発明の実施形態によれば、微細パターン１１０ａの線幅Ｆは図２ｅに示された第２のＢＰＳＧ酸化膜１８０の厚さに応じて決定され得る。
【００１８】
なお、本発明について、好ましい実施の形態を基に説明したが、これらの実施の形態は、例を示すことを目的として開示したものであり、当業者であれば、本発明に係る技術思想の範囲内で、多様な改良、変更、付加等が可能である。このような改良、変更なども、特許請求の範囲に記載した本発明の技術的範囲に属することは言うまでもない。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１ａ】従来の技術に係る半導体素子のパターン形成方法を示した断面図である。
【図１ｂ】従来の技術に係る半導体素子のパターン形成方法を示した断面図である。
【図１ｃ】従来の技術に係る半導体素子のパターン形成方法を示した断面図である。
【図２ａ】本発明の一実施形態に係る半導体素子のパターン形成方法を示した断面図である。
【図２ｂ】本発明の一実施形態に係る半導体素子のパターン形成方法を示した断面図である。
【図２ｃ】本発明の一実施形態に係る半導体素子のパターン形成方法を示した断面図である。
【図２ｄ】本発明の一実施形態に係る半導体素子のパターン形成方法を示した断面図である。
【図２ｅ】本発明の一実施形態に係る半導体素子のパターン形成方法を示した断面図である。
【図２ｆ】本発明の一実施形態に係る半導体素子のパターン形成方法を示した断面図である。
【図２ｇ】本発明の一実施形態に係る半導体素子のパターン形成方法を示した断面図である。
【図２ｈ】本発明の一実施形態に係る半導体素子のパターン形成方法を示した断面図である。
【符号の説明】
【００２０】
１０、１００  半導体基板
２０、１１０  被食刻層
２０ａ  被食刻パターン
３０  ハードマスク層
３０ａ  第１のハードマスクパターン
３２  第２のハードマスクパターン
４０  第１の感光膜パターン
４５  第２の感光膜パターン
１１０ａ  微細パターン
１２０  第１の非晶質炭素層
１２０ａ  ハードマスクパターン
１３０  第１のＢＰＳＧ酸化膜
１３０ａ  第１のＢＰＳＧ酸化パターン
１３５  窒化膜
１３５ａ  窒化パターン
１４０  第２の非晶質炭素層
１４０ａ  第２の非晶質炭素パターン
１５０  反射防止膜
１５０ａ  反射防止パターン
１６０  感光膜パターン
１６０ａ、１６０ｂ  線幅
１７０  第１のポリシリコン層
１７０ａ  第１のポリシリコン層の下部部分
１８０  第２のＢＰＳＧ酸化膜
１９０  第２のポリシリコン層
【図１ａ】
2008166718.tif 000004
【図１ｂ】
2008166718.tif 000005
【図１ｃ】
2008166718.tif 000006
【図２ａ】
2008166718.tif 000007
【図２ｂ】
2008166718.tif 000008
【図２ｃ】
2008166718.tif 000009
【図２ｄ】
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【図２ｅ】
2008166718.tif 000011
【図２ｆ】
2008166718.tif 000012
【図２ｇ】
2008166718.tif 000013
【図２ｈ】
2008166718.tif 000014