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【手続補正書】
【提出日】平成25年10月4日(2013.10.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カソード（１０４）と、
基板（１１０）と、
前記カソード（１０４）の上に配置される少なくとも１つの膜層（１０８）であって、磁性材料、混合磁性材料及びそれらの組合せの１種類以上を含む少なくとも１つの膜層（１０８）と、
前記少なくとも１つの膜層（１０８）とカソード（１０４）との中間に配置される第２の膜層（１１２）と、
アノード（１０６）と、
前記カソード（１０４）とアノード（１０６）との中間にある少なくとも１つの有機層（１０２）と
を含む有機発光デバイスであって、当該有機発光デバイスが交流駆動デバイスであり、前記少なくとも１つの膜層（１０８）と第２の膜層（１１２）との全厚が、前記カソード（１０４）の厚さよりも大きい、有機発光デバイス。
【請求項２】
前記少なくとも１つの膜層（１０８）が、マンガン、ニッケル、鉄、ニッケル−コバルト、ニッケル−アルミニウム、鉄−白金、鉄−アルミニウム、マンガン（テトラシアノ−ｐ−キノジメタン）２、鉄（テトラシアノ−ｐ−キノジメタン）２、コバルト（テトラシアノ−ｐ−キノジメタン）２、ニッケル（テトラシアノ−ｐ−キノジメタン）２及びそれらの組合せから成る群から選択される磁性材料及び混合磁性材料の１種類以上を含む、請求項１記載の有機発光デバイス。
【請求項３】
前記少なくとも１つの膜層（１０８）がマンガンを含む、請求項１記載の有機発光デバイス。
【請求項４】
前記少なくとも１つの膜層（１０８）が２５ｎｍ〜５００ｎｍの厚さを有する、請求項１乃至請求項３のいずれか１項記載の有機発光デバイス。
【請求項５】
前記第２の膜層（１１２）が、鉄、ニッケル、コバルト及びそれらの組合せから成る群から選択される金属を含む、請求項１乃至請求項４のいずれか１項記載の有機発光デバイス。
【請求項６】
前記カソード（１０４）がアルミニウムを主成分とする、請求項１乃至請求項５のいずれか１項記載の有機発光デバイス。
【請求項７】
前記カソード（１０４）が５０〜２００ｎｍの厚さを有する、請求項１乃至請求項６のいずれか１項記載の有機発光デバイス。
【請求項８】
前記カソード（１０４）に直接隣接して配置される第３の膜層（１１４）をさらに含んでいて、前記第３の膜層（１１４）が、ニッケル、銀、クロム、マンガン、セシウム及び鉄のハロゲン化物及びそれらの組合せから成る群から選択される１種以上の金属ハロゲン化物を含む、請求項１乃至請求項７のいずれか１項記載の有機発光デバイス。
【請求項９】
カソード（１０４）と、
基板（１１０）と、
前記カソード（１０４）の上に配置される少なくとも１つの膜層（１０８）であって、磁性材料、酸化物及びそれらの組合せの１種類以上を含む少なくとも１つの膜層（１０８）と、
アノード（１０６）と、
前記カソード（１０４）とアノード（１０６）との中間にある少なくとも１つの有機層（１０２）と
を含む有機発光デバイスであって、当該有機発光デバイスが直流駆動デバイスである、有機発光デバイス。
【請求項１０】
前記酸化物が、アルミニウム、鉄、バナジウム、バリウム、ジルコニウム、クロム、インジウム−クロム、ポリエチレン、グラフェン、ポリアセチレン、それらの酸化物及びそれらの組合せから成る群から選択される金属及び高分子酸化物の１種類以上を含む、請求項９記載の有機発光デバイス。
【請求項１１】
前記酸化物が酸化アルミニウムである、請求項９記載の有機発光デバイス。
【請求項１２】
前記酸化物が、前記少なくとも１つの膜層（１０８）の５〜１５重量％をなす、請求項９乃至請求項１１のいずれか１項記載の有機発光デバイス。
【請求項１３】
第２の膜層（１１２）をさらに含んでいて、前記第２の膜層（１１２）が前記少なくとも１つの膜層（１０８）と外部基板（２２２）との中間に配置される、請求項９記載の有機発光デバイス。
【請求項１４】
第３の膜層（１１４）をさらに含んでいて、前記第３の膜層（１１４）が前記少なくとも１つの膜層（１０８）の上に配置される、請求項１３記載の有機発光デバイス。
【請求項１５】
前記第２及び第３の膜層（１１２，１１４）の各々が、金、銀、ニッケル及びそれらの組合せの群から選択される金属を含む、請求項１４記載の有機発光デバイス。
【請求項１６】
前記第２及び第３の膜層（１１２，１１４）の各々が２０〜１００ｎｍの厚さを有する、請求項１４又は請求項１５記載の有機発光デバイス。
【請求項１７】
前記有機発光デバイスは、変動電流が印加されると５０〜２００Ω±２０％の抵抗を有し、前記変動電流は、少なくとも公称電流の２％よりも大きい、請求項１５記載の有機発光デバイス。
【請求項１８】
請求項１乃至請求項１７のいずれか１項記載の有機発光デバイスを少なくとも１つ含む照明器具。
【請求項１９】
磁石をさらに含む請求項１８記載の照明器具。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月21日(2013.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ユーザ機器と通信を行なう基地局における送信方法であって、
前記ユーザ機器に対するダウンリンクデータシンボルに対するレイヤの数とアンテナポートに関する情報とを含むビット情報を前記ユーザ機器に対して通知する工程と、
前記ダウンリンクデータシンボルのＥＰＲＥとＤＭＲＳのＥＰＲＥの電力比を前記ダウンリンクデータシンボルに対するレイヤの数に応じて０ｄＢまたは３ｄＢに設定し、前記ダウンリンクデータシンボルおよび前記ＤＭＲＳを前記電力比に基づいた送信電力で送信する工程と、を含むことを特徴とする送信方法。
【請求項２】
基地局と通信を行なうユーザ機器における受信方法であって、
前記ユーザ機器に対するダウンリンクデータシンボルに対するレイヤの数とアンテナポートに関する情報とを含むビット情報を前記基地局から受信する工程と、
前記ビット情報により通知された前記ダウンリンクデータシンボルに対するレイヤの数に基づいて、前記ダウンリンクデータシンボルのＥＰＲＥとＤＭＲＳのＥＰＲＥの電力比を０ｄＢまたは３ｄＢと設定し、前記電力比に基づいて、前記ダウンリンクデータシンボルおよび前記ＤＭＲＳを前記基地局から受信する工程と、を含むことを特徴とする受信方法。
【請求項３】
ユーザ機器と通信を行なう基地局であって、
前記ユーザ機器に対するダウンリンクデータシンボルに対するレイヤの数とアンテナポートに関する情報とを含むビット情報を前記ユーザ機器に対して通知し、
前記ダウンリンクデータシンボルのＥＰＲＥとＤＭＲＳのＥＰＲＥの電力比を前記ダウンリンクデータシンボルに対するレイヤの数に応じて０ｄＢまたは３ｄＢに設定し、
前記ダウンリンクデータシンボルおよび前記ＤＭＲＳを前記電力比に基づいた送信電力で送信することを特徴とする基地局。
【請求項４】
基地局と通信を行なうユーザ機器であって、
前記ユーザ機器に対するダウンリンクデータシンボルに対するレイヤの数とアンテナポートに関する情報とを含むビット情報を前記基地局から受信し、
前記ビット情報により通知された前記ダウンリンクデータシンボルに対するレイヤの数に基づいて、前記ダウンリンクデータシンボルのＥＰＲＥとＤＭＲＳのＥＰＲＥの電力比を０ｄＢまたは３ｄＢと設定し、
前記電力比に基づいて、前記ダウンリンクデータシンボルおよび前記ＤＭＲＳを前記基地局から受信することを特徴とするユーザ機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】送信方法、受信方法、基地局、ユーザ機器
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2013511855.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月8日(2013.11.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
n型領域及びp型領域の間に配置されたIII-V族発光層を含む半導体構造；及び
n型領域と直接接触している、透明な導電性の非III族窒化物材料を含み、前記発光層と前記透明な導電性の非III族窒化物材料との間の半導体材料の総厚が、0.8μm以下である、デバイス。
【請求項２】
透明な導電性の非III族窒化物材料が酸化物である、請求項1に記載のデバイス。
【請求項３】
発光層及び透明な導電性の非III族窒化物材料の間の半導体材料の総厚がInGaNである、請求項1に記載のデバイス。
【請求項４】
発光層及び透明な導電性の非III族窒化物材料の間の半導体材料の面内格子定数が3.186Åより大きい、請求項1に記載のデバイス。
【請求項５】
透明な導電性の非III族窒化物材料と反対側の半導体構造の表面であるp型領域の表面上に配置された反射金属のp接点をさらに含み、半導体構造から取り出される光の大部分が透明な導電性の非III族窒化物材料を通って取り出される、請求項1に記載のデバイス。
【請求項６】
透明な導電性の非III族窒化物材料の表面を露出する少なくとも1つの開口部が半導体構造に形成された、請求項５に記載のデバイスであって、透明な導電性の非III族窒化物材料上の開口部に配置された金属のn接点をさらに含むデバイス。
【請求項７】
透明な導電性の非III族窒化物材料に結合された光学部材をさらに含む請求項1に記載のデバイス。
【請求項８】
透明な導電性の非III族窒化物材料に結合された発光セラミックをさらに含む請求項1に記載のデバイス。
【請求項９】
透明な導電性の非III族窒化物材料に形成された溝に合わせた半導体材料に形成された溝をさらに含む請求項1に記載のデバイス。
【請求項１０】
発光層がIII族窒化物材料である、請求項1に記載のデバイス。
【請求項１１】
n型領域が90Ω/squareよりも大きいシート抵抗を有し、並びにn型領域及び透明な導電性の非III族窒化物材料の組み合わせが70Ω/square未満のシート抵抗を有する、請求項1に記載のデバイス。
【請求項１２】
n型領域が80Ω/squareよりも大きいシート抵抗を有し、並びにn型領域及び透明な導電性の非III族窒化物材料の組み合わせが60Ω/square未満のシート抵抗を有する、請求項1に記載のデバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月11日(2013.11.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも３００ナノメートル〜４００ナノメートルの波長範囲において少なくとも３０ナノメートルの範囲にわたって少なくとも５０パーセントの入射ＵＶ光を合計で反射する、少なくとも複数の第１及び第２光学層を含み、前記第１又は第２光学層の少なくとも１つの一部がＵＶ吸収剤を含む、ＵＶに安定な多層光学フィルム。
【請求項２】
主表面を有し、かつ少なくとも３００ナノメートル〜４００ナノメートルの波長範囲において少なくとも３０ナノメートルの波長範囲にわたって少なくとも５０パーセントの入射ＵＶ光を合計で反射する、複数の少なくとも第１及び第２光学層と、第１及び第２の概ね相対する第１及び第２主表面を有し、かつ少なくとも３００ナノメートル〜４００ナノメートルの波長範囲において少なくとも３０ナノメートルの波長範囲にわたって少なくとも５０パーセントの入射ＵＶ光を吸収する、第３光学層と、を含み、前記複数の第１及び第２光学層の前記主表面が、前記第３光学層の前記第１主表面に近接し、並びに前記第３光学層の第２表面に近接する別の多層光学フィルムが存在しない、多層光学フィルム。
【請求項３】
主表面を有し、かつ少なくとも３００ナノメートル〜４００ナノメートルの波長範囲において少なくとも３０ナノメートルの波長範囲にわたって少なくとも５０パーセントの入射ＵＶ光を合計で反射する、第１の複数の少なくとも第１及び第２光学層と、第１及び第２の概ね相対する第１及び第２主表面を有し、かつ少なくとも３００ナノメートル〜４００ナノメートルの波長範囲において少なくとも３０ナノメートルの波長範囲にわたって少なくとも５０パーセントの入射ＵＶ光を合計で吸収する、第３光学層と、を含み、前記複数の第１及び第２光学層の前記主表面が前記第３光学層の前記第１主表面に近接し、並びに主表面を有し、かつ少なくとも３００ナノメートル〜４００ナノメートルの波長範囲において少なくとも３０ナノメートルの波長範囲にわたって少なくとも５０パーセントの入射ＵＶ光を合計で反射し、前記第３光学層の前記第２主表面に近接する、第２の複数の第１及び第２光学層が存在する、多層光学フィルム。
【請求項４】
相対する第１及び第２主表面を有し、かつ少なくとも３００ナノメートル〜４００ナノメートルの波長範囲において少なくとも３０ナノメートルの波長範囲にわたって少なくとも５０パーセントの入射ＵＶ光を合計で反射する、複数の少なくとも第１及び第２光学層と、主表面を有し、かつ少なくとも３００ナノメートル〜４００ナノメートルの波長範囲において少なくとも３０ナノメートルの波長範囲にわたって少なくとも５０パーセントの入射ＵＶ光を吸収し、前記複数の少なくとも第１及び第２光学層の前記第１表面に近接する、第３光学層と、少なくとも３００ナノメートル〜４００ナノメートルの波長範囲において少なくとも３０ナノメートルの波長範囲にわたって少なくとも５０パーセントの入射ＵＶ光を吸収し、前記複数の少なくとも第１及び第２光学層の前記第２主表面に近接する、第４光学層と、を含む、多層光学フィルム。
【請求項５】
３００ナノメートル〜４３０ナノメートルの波長範囲において３０ナノメートルの波長範囲にわたって少なくとも５０パーセントの入射光を反射する、少なくとも第１及び第２光学層と、任意の、少なくとも３００ナノメートル〜４３０ナノメートルの波長範囲において少なくとも３０ナノメートルの波長範囲にわたって少なくとも５０パーセントの入射光を吸収する、第３光学層と、ポリエチレンナフタレートを含む第４光学層と、を含み、前記第１、第２、又は第３光学層の少なくとも１つが、少なくとも３００ナノメートル〜４３０ナノメートルの波長範囲において少なくとも３０ナノメートルの波長範囲にわたって少なくとも５０パーセントの入射光を吸収する、多層光学フィルム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2013511746.tif 000001
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2013511746.tif 000002
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2013511746.tif 000003
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月8日(2013.10.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コンピューティング環境において、
少なくとも一処理ユニットが、リソースから分離されたポリシーに基づいて前記リソースへのアクセスを決定するステップであって、アクセス要求に関連するユーザ要求に対して、前記リソースに関連するリソースラベルを評価することによるものを含み、前記リソースラベルは、前記リソースへのアクセスを決定するのに用いる前記リソースに関連する分類プロパティを含み、前記アクセス要求は前記ユーザ要求により要求されたリソースを特定する、前記リソースへのアクセスを決定するステップと、
前記ポリシーが前記リソースへのアクセスを認めるとの決定に応じて、前記少なくとも一処理ユニットが、前記リソースへのアクセスを許可するステップと、
前記ポリシーが前記リソースへのアクセスを認めないとの決定に応じて、前記少なくとも一処理ユニットが、前記リソースへのアクセスを拒絶するステップと
を備えることを特徴とする方法。
【請求項２】
一つまたは複数の分類ルールによって得られるリソース分類から前記リソースラベルを得るステップをさらに備えること特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記分類ルールは、あるリソースラベルをあるファイルへ割り当てる宣言型（declarative）命令を備え、前記リソースは、ファイルであり、前記リソースラベルの各々を得ることは、
前記ファイルのコンテンツに対する変更、前記ファイルの一つまたは複数のラベルに対する変更、前記ファイルの他の属性に対する変更、前記ファイルの場所に対する変更、分類ルールに対する変更、もしくは一つまたは複数の分類ルールへの状態の変化、あるいは、
前記ファイルのコンテンツに対する変更、前記ファイルの一つまたは複数のラベルに対する変更、前記ファイルの他の属性に対する変更、前記ファイルの場所に対する変更、分類ルールに対する変更、もしくは一つまたは複数の分類ルールに対する状態の変化、の任意の組み合わせに基づいて、前記リソース分類を実行することを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記リソースに結合されたアクセス制御リストに基づいて、前記アクセスを決定するステップをさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記アクセス要求に関連する前記ユーザ要求に対して、前記リソースに関連する前記リソースラベルを評価することは、複合した条件を評価することを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記ファイルに関連する前記リソースラベルをキャッシュするステップをさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記アクセス要求に関連する前記ユーザ要求に対して、前記リソースラベルを評価することは、前記ユーザ要求中のデータに対応するユーザのクリアランスレベル値が、前記リソースラベル中のデータに対応するリソースの機密性レベル値を満たすかどうかを評価することを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項８】
コンピューティング環境における、
ポリシーに基づいてリソースへのアクセスの決定をする、前記ポリシー内の情報を使用して、アクセス要求に関連するユーザ要求に対して、前記リソースに関連するリソースラベルを評価する、前記リソースラベルは、前記リソースへのアクセスを決定するのに用いる前記リソースに関連する分類プロパティを含み、前記アクセス要求は、前記ユーザ要求により要求されたリソースを特定する、認証エンジン
を備えるシステム。
【請求項９】
前記ポリシーはポリシーコンポーネントの組み合わせに基づく、または
前記ポリシーは前記リソースと独立して保持されて複数のリソースへ適用される、または
前記ポリシーはポリシーコンポーネントの組み合わせに基づくとともに前記ポリシーは前記リソースと独立して保持されて複数のリソースへ適用されることの両方である
ことを特徴とする請求項８に記載のシステム。
【請求項１０】
前記リソースはファイルを含み、
前記ファイルを分類することによって前記リソースラベルを提供する分類器をさらに備えることを特徴とする請求項８に記載のシステム。
【請求項１１】
前記リソースはファイルを含み、前記リソースラベルは、前記ファイルの代替データストリーム（alternate  data  stream）にキャッシュされることを特徴とする請求項８に記載のシステム。
【請求項１２】
コンピュータにより実行されると、前記コンピュータに、
アクセス要求を処理して、リソースへのアクセス関連の動作を承諾するか拒否するステップであって、前記リソースから分離されたポリシーを得ることを含む、ステップと、
前記ポリシーを使用して、前記アクセス関連の動作を承諾するか拒否するか決定するステップであって、前記アクセス要求に関連するユーザ要求に対して、前記リソースに関連するリソースラベルを評価することを含む、ステップと、
を実行させ、
前記リソースラベルは、前記リソースへのアクセスを決定するのに用いる前記リソースに関連する分類プロパティを含み、前記アクセス要求は、前記ユーザ要求により要求されたリソースを特定する
ことを特徴とするコンピュータプログラム。
【請求項１３】
前記リソースはファイルであり、
前記リソースラベルは前記ファイルに関連してキャッシュされ、
前記コンピュータに、さらに、
前記リソースラベルが有効かつ最新であるか決定するステップと、
前記リソースラベルが有効かつ最新でなければ、有効かつ最新のリソースラベルを得るステップと、
前記有効かつ最新のソースラベルを、前記ファイルと関連付けてキャッシュするステップと、
を実行させることを特徴とする請求項１２に記載のコンピュータプログラム。
【請求項１４】
複数のポリシーは適用可能であり、
前記ポリシーを使用して前記アクセス関連の動作を承諾するか拒否するかを決定するステップは、さらに、ユーザ要求に対して、前記リソースに関連するリソースラベルを評価した結果と、少なくとも一つの他のポリシー評価の結果とを論理的に組み合わせるステップをさらに含むことを特徴とする請求項１２に記載のコンピュータプログラム。
【請求項１５】
少なくとも一つの他のポリシー評価は、アクセス制御リストベースの評価結果を含むことを特徴とする請求項１４に記載のコンピュータプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月7日(2013.10.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
好ましくは、アダプテーション層は、平均表面粗さとして、２．５μｍ未満、好ましくは大きくとも１．５μｍ、更に好ましくは大きくても１．０μｍの二乗平均粗さ値Ｒｑを有する。２．５μｍを超える二乗平均粗さ値Ｒｑは、次の薄層電解質において潜在的な漏れを招く。それで、例えば次のＰＶＤ層の成長の際に柱間の中間スペースが生じ得る。ゾル−ゲル薄層電解質では、より大きい粗さ値は、プロフィルの先端部の濡れがもはや保証され得ないということかまたはプロフィルの谷において臨界的な層厚を超えてしまい、これが薄層電解質の割れを起こすということを招く。
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月27日(2013.5.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
チャンバ内で磁界を生成するためのコイル構造を備える真空処理チャンバにおいて、前記コイル構造は少なくとも１つの第１の部分コイルと第２の部分コイルとを含んでおり、前記第１の部分コイルと前記第２の部分コイルは、前記第１のコイルの少なくともそれぞれ１つの部分区域が前記第２のコイルの部分区域の形状を実質的に引き継ぐように、断面で見て相並んで特に１つの平面に位置しており、前記第２の部分区域に対する前記第１の部分区域の間隔は少なくとも一方の部分コイルおよび場合により小さいほうの部分コイルの断面よりも小さいオーダーである真空処理チャンバ。
【請求項２】
前記コイル構造はさらに別のコイルを含んでおり、前記コイル構造は前記チャンバの直径に実質的に相当するヘルムホルツコイル構造を形成することを特徴とする、請求項１に記載の真空処理チャンバ。
【請求項３】
前記第１の部分コイルは前記第２の部分コイルとともに共通の電気回路を形成しておらず、特に電気的に切り離されていることを特徴とする、請求項１または２に記載の真空処理チャンバ。
【請求項４】
前記第１の部分コイルは前記第２の部分コイルから機械的に切り離されて前記処理設備に配置されていることを特徴とする、請求項１から３のうちいずれか１項に記載の真空処理チャンバ。
【請求項５】
フロント扉を備える真空処理室であり、前記第１の部分コイルは前記フロント扉に配置されており、該フロント扉とともに前記チャンバから離反旋回させることができることを特徴とする、請求項１から４のうちいずれか１項に記載の真空処理チャンバ。
【請求項６】
請求項１から５のうちいずれか１項に記載の真空処理チャンバを含んでいる真空処理設備、特にコーティング設備。
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月8日(2013.11.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
円筒形構造コアと、
前記コア内に同軸に配置され、第１の熱硬化性マトリックス中に第１のＣＮＴ浸出繊維材料を含む内層と、
第２の熱硬化性マトリックス中に第２のＣＮＴ浸出繊維材料を含む外層と、
を含んで構成される構造支柱。
【請求項２】
前記コアは、第３の熱硬化性マトリックス中に第３の繊維材料を含んで構成される請求項１に記載の支柱。
【請求項３】
前記第１の熱硬化性マトリックスと、前記第２の熱硬化性マトリックスと、及び前記第３の熱硬化性マトリックスとは同一である請求項２に記載の支柱。
【請求項４】
前記第１の熱硬化性マトリックスと前記第２の熱硬化性マトリックスと前記第３の熱硬化性マトリックスとは、少なくとも２つの異なる熱硬化性樹脂を含んで構成される請求項２に記載の支柱。
【請求項５】
前記第１のＣＮＴ浸出繊維と前記第２のＣＮＴ浸出繊維とは、それぞれ約２０から約５００ミクロンまでの長さのＣＮＴを含んで構成される請求項１に記載の支柱。
【請求項６】
前記第３の繊維材料は、第３のＣＮＴ浸出繊維である請求項２に記載の支柱。
【請求項７】
前記第３のＣＮＴ浸出繊維は、約０．１ミクロンから約２０ミクロンまでの長さのＣＮＴを含んで構成される請求項６に記載の支柱。
【請求項８】
前記第１のＣＮＴ浸出繊維材料のＣＮＴ及び前記第２のＣＮＴ浸出繊維材料のＣＮＴは、それぞれ、前記ＣＮＴ浸出繊維の約１０重量パーセントから約４０重量パーセントの範囲の量が存在する請求項１に記載の支柱。
【請求項９】
前記内層に関する第１の繊維容量及び前記外層に関する第２の繊維容量は、それぞれ、約２０パーセントから約４０パーセントの範囲内である請求項１に記載の支柱。
【請求項１０】
前記コアに関する第３の繊維容量は、約５０パーセントから約７０パーセントの範囲内である請求項２に記載の支柱。
【請求項１１】
円筒形マンドレルの周囲に第１のＣＮＴ浸出繊維を前記マンドレルの軸に対して略平行に湿式巻き付けすることと、
巻き付けられた前記第１のＣＮＴ浸出繊維の周囲にベースライン層を前記マンドレルの軸に対して実質的に非平行な角度で湿式巻き付けすることと、
前記ベースライン層の周囲に第２のＣＮＴ浸出繊維を前記マンドレルの軸に対して略平行に湿式巻き付けすることと、
を含んで構成され、
それぞれの湿式巻き付けステップは、少なくとも１つの熱硬化性マトリックスとの湿式巻き付けを含んで構成される構造支柱を製造する方法。
【請求項１２】
少なくとも１つの前記熱硬化性マトリックス材料を硬化するステップを更に含んで構成される請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記硬化ステップは、全ての湿式巻き付けステップが行われた後に１回のステップとして行われる請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記硬化ステップは、それぞれの湿式巻き付けステップ間の全部又は部分硬化を含んで構成される請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
熱硬化性マトリックスと、約２０ミクロンから約５００ミクロンまでの長さを有するＣＮＴを含むカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）浸出繊維材料と、を含んで構成される複合材料。
【請求項１６】
前記ＣＮＴ浸出繊維材料のＣＮＴは、約１０重量パーセントから約４０重量パーセントの範囲の量が存在し、前記複合材料の第１の部分における前記ＣＮＴ浸出繊維材料の第１の繊維容量は、約２０パーセントから約４０パーセントの範囲内である請求項１５に記載の複合材料。
【請求項１７】
前記複合材料の第２の部分に配置された第２の繊維材料をさらに含んで構成され、
前記第２の繊維材料の第２の繊維容量は約５０パーセントから約７０パーセントまでである請求項１５に記載の複合材料。
【請求項１８】
約０．１ミクロンから約２０ミクロンの範囲の長さを有するＣＮＴを含むＣＮＴ浸出繊維材料と、
熱硬化性マトリックスと、
を含んで構成された複合材料であって、
前記ＣＮＴは、前記複合材料の約０．１重量パーセントから約５重量パーセントの範囲が存在する複合材料。
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月8日(2013.11.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複合材料構造体を備えた航空機用の航空機構造体を含んで構成される装置であって、
前記複合材料構造体は少なくとも、
電気抵抗、損傷検知、引張強度、圧縮強度、除氷、せん断強度、曲げ強度、亀裂抵抗、電磁妨害遮蔽、落雷保護、熱伝導性、電気信号の伝達、及びレーダー吸収から選択される第１の機能性を、前記構造体に与える第１のカーボンナノチューブ浸出材料と、
電気抵抗、損傷検知、引張強度、圧縮強度、除氷、せん断強度、曲げ強度、亀裂抵抗、電磁妨害遮蔽、落雷保護、熱伝導性、電気信号の伝達、及びレーダー吸収から選択される第２の機能性を、前記構造体に与える、前記第１のカーボンナノチューブ浸出材料と異なる第２のカーボンナノチューブ浸出材料と、
を含んで構成される装置。
【請求項２】
前記複合材料構造体は、第３のカーボンナノチューブ浸出材料を含んで構成される請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記第１のカーボンナノチューブ浸出材料のカーボンナノチューブ担持量は、０％から２％の間である請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記第１の機能性は、損傷検知、引張強度、又は圧縮強度である請求項３に記載の装置。
【請求項５】
前記第１のカーボンナノチューブ浸出材料のカーボンナノチューブ担持量は、２％から５％の間である請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記第１の機能性は、除氷、せん断強度、又は亀裂抵抗である請求項５に記載の装置。
【請求項７】
前記第１のカーボンナノチューブ浸出材料のカーボンナノチューブ担持量は、５％から４０％の間である請求項１に記載の装置。
【請求項８】
前記第１の機能性は、電磁妨害遮蔽、落雷保護、又は熱伝導性である請求項７に記載の装置。
【請求項９】
前記第１のカーボンナノチューブ浸出材料は、前記構造体上に電気回路と隣接して配置され、前記第１の機能性は電気信号の伝達である請求項７に記載の装置。
【請求項１０】
前記第１のカーボンナノチューブ浸出材料のカーボンナノチューブ担持量は勾配を有する請求項１に記載の装置。
【請求項１１】
前記第１のカーボンナノチューブ浸出材料は、レーダー吸収を与えるように前記構造体上に配置され、前記第１の機能性はレーダー波の吸収である請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
複合材料構造体を備えた航空機用の航空機構造体を提供することを含んで構成される方法であって、
前記複合材料構造体は少なくとも、
電気抵抗、損傷検知、引張強度、圧縮強度、除氷、せん断強度、曲げ強度、亀裂抵抗、電磁妨害遮蔽、落雷保護、熱伝導性、電気信号の伝達、及びレーダー吸収から選択される第１の機能性を、前記構造体に与える第１のカーボンナノチューブ浸出材料と、
電気抵抗、損傷検知、引張強度、圧縮強度、除氷、せん断強度、曲げ強度、亀裂抵抗、電磁妨害遮蔽、落雷保護、熱伝導性、電気信号の伝達、及びレーダー吸収から選択される第２の機能性を、前記構造体に与える第２のカーボンナノチューブ浸出材料と、
を含んで構成される方法。
【請求項１３】
前記第１のカーボンナノチューブ浸出材料と前記第２のカーボンナノチューブ浸出材料とは重複する請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記第１の機能性を決定することと、
前記第１の機能性に基づいて前記第１のカーボンナノチューブ浸出材料の第１のカーボンナノチューブ担持量を選択することと、
をさらに含んで構成される請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
前記第２の機能性を決定することと、
前記第２の機能性に基づいて前記第２のカーボンナノチューブ浸出材料の第２のカーボンナノチューブ担持量を選択することと、
をさらに含んで構成される請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記航空機構造体は、機体、ノーズコーン、航空機の翼、プロペラ、ヘリコプターの回転翼、航空機エンジンの一部、及び気象観測気球筐体からなるグループから選択される請求項１に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月25日(2013.10.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２６６】
本明細書で参照されている全ての特許及び刊行物は、参照として全体が本明細書に組み込まれている。本開示の範囲及び原理から逸脱することなく、本開示の様々な修正及び変更を当業者が行うことができ、本開示は上記で説明した例示的な実施形態に過度に限定して理解すべきではない。本発明の実施態様の一部を以下の項目［１］−［１６］に記載する。
［１］
外側表面及び内側の孔表面を含む処理された多孔質粒子であって、前記処理された多孔質粒子の外側表面の少なくとも実質的な部分は疎水基を含み、前記内側の孔表面は実質的に未処理である、処理された多孔質粒子。
［２］
前記疎水基は、アルキル基又はアリール基の少なくとも１つを含み、アルキル及びアリールはそれぞれフッ素で置換されていてもよい、項目１に記載の処理された多孔質粒子。
［３］
外側表面及び内側の孔表面を含む処理された多孔質粒子であって、前記処理された多孔質粒子の外側表面の少なくとも一部分は疎水基を含み、前記疎水基は、アルキル基又はアリール基の少なくとも１つを含み、前記アルキル基及びアリール基はフッ素で置換されており、前記内側の孔表面は、少なくとも部分的に親水性である、処理された多孔質粒子。
［４］
前記疎水基は、アルキル基、アリール基、又はこれらの組み合わせを有するシロキサンを含む、項目１〜３のいずれか一項に記載の処理された多孔質粒子。
［５］
前記処理された多孔質粒子は、Ｘ線光電子分光法によって測定されたとき、最高５０オングストロームの深さまで最高５原子パーセントのケイ素原子を有する前記外側表面を備えるシリカゲル粒子である、項目１〜４のいずれか一項に記載の処理された多孔質粒子。
［６］
項目１〜５のいずれか一項に記載の処理された多孔質粒子を含む、複数の粒子。
［７］
前記複数の粒子が水面に撒かれて単一層を形成するとき、少なくとも７５％の前記複数の粒子が水面に浮き、前記複数の粒子は３０℃及び相対湿度５０％において、２４時間後にそれらの重量の少なくとも２０％の水蒸気を吸収する、項目６に記載の複数の粒子。
［８］
前記複数の粒子は、３０℃及び相対湿度８０パーセントにおいて、前記疎水基を含まない比較用の複数の粒子の水蒸気取り込みの少なくとも６０％である水蒸気取り込みを有する、項目６又は７に記載の複数の粒子。
［９］
前記複数の粒子の少なくとも一部分が水性液体に暴露されたとき、前記複数の粒子は、前記疎水基を含まない比較用の複数の粒子より大きく相対湿度を減少させる、項目６〜８のいずれか一項に記載の複数の粒子。
［１０］
前記複数の粒子は、前記外側表面及び前記内側の孔表面が両方とも疎水基で処理された粒子を実質的に含まない、項目６〜９のいずれか一項に記載の複数の粒子。
［１１］
未処理の乾燥剤粒子又は色変化表示剤の少なくとも１つを更に含む、項目６〜１０のいずれか一項に記載の複数の粒子。
［１２］
超吸収性ポリマー、親水性不織布、又は木材パルプの少なくとも１つを含む吸収性粒子又は繊維を更に含む、項目６〜１１のいずれか一項に記載の複数の粒子。
［１３］
項目６〜１２のいずれか一項に記載の複数の粒子と組み合わされた吸収性材料を含む、吸収性部品。
［１４］
液体透過性トップシート、液体不透過性バックシート、及び前記トップシートと前記バックシートとの間に項目１３に記載の吸収性部品又は項目１２の複数の粒子の少なくとも一方を含む、吸収性物品。
［１５］
項目１〜５のいずれか一項に記載の処理された多孔質粒子又は項目６〜１２のいずれか一項に記載の複数の粒子の乾燥剤としての使用。
［１６］
項目１〜５のいずれか一項に記載の処理された多孔質粒子又は項目６〜１２のいずれか一項に記載の複数の粒子の悪臭抑制剤としての使用。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外側表面及び内側の孔表面を含む処理された多孔質粒子であって、前記処理された多孔質粒子の外側表面の少なくとも実質的な部分は疎水基を含み、前記内側の孔表面は実質的に未処理である、処理された多孔質粒子。
【請求項２】
前記疎水基は、アルキル基又はアリール基の少なくとも１つを含み、アルキル及びアリールはそれぞれフッ素で置換されていてもよい、請求項１に記載の処理された多孔質粒子。
【請求項３】
外側表面及び内側の孔表面を含む処理された多孔質粒子であって、前記処理された多孔質粒子の外側表面の少なくとも一部分は疎水基を含み、前記疎水基は、アルキル基又はアリール基の少なくとも１つを含み、前記アルキル基及びアリール基はフッ素で置換されており、前記内側の孔表面は、少なくとも部分的に親水性である、処理された多孔質粒子。
【請求項４】
前記疎水基は、アルキル基、アリール基、又はこれらの組み合わせを有するシロキサンを含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の処理された多孔質粒子。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月28日(2013.10.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
炭素マトリックスと不織，カーボン・ナノチューブ（ＣＮＴ）浸出炭素繊維材料とを含んで構成された炭素／炭素（Ｃ／Ｃ）複合材料。
【請求項２】
前記不織，ＣＮＴ浸出炭素繊維材料は、連続ＣＮＴ浸出炭素繊維材料又は短ＣＮＴ浸出炭素繊維材料である請求項１に記載の炭素／炭素複合材料。
【請求項３】
リン又はホウ素を含むマトリックス改質剤を、更に含んで構成された請求項１に記載の炭素／炭素複合材料。
【請求項４】
遊離（loose）ＣＮＴｓ，フラーレン，ナノ・オニオン（nano-onions），ナノフレーク（nanoflakes），ナノスクロール（nanoscrolls），ナノペーパー（nanopaper），ナノ繊維（nanofibers），ナノホーン（nanohorns），ナノシェル（nanoshells），ナノワイヤー（nanowires），ナノスプリング（nanosprings），ナノ結晶（nanocrystals），ナノダイヤモンド（nanodiamonds），バッキーダイヤモンド（bucky diamond），ナノコンテナ（nanocontainers），ナノメッシュ（nanomesh），ナノスポンジ（nanosponges），ナノスケールのグラフェンプレート（ＮＧＰｓ）及びナノビーズ（nanobeads）からなる群から選択されたドーパント炭素ナノ構造を、更に含んで構成された請求項１に記載の炭素／炭素複合材料。
【請求項５】
炭素マトリックスとＣＮＴ浸出炭素繊維材料を含んで構成され、前記ＣＮＴ浸出炭素繊維材料が織物である場合、ＣＮＴｓを、不織状態の元の炭素繊維材料上に浸出する炭素／炭素複合材料。
【請求項６】
ＣＮＴ浸出炭素繊維トウを形成するために開繊炭素繊維トウ上にＣＮＴｓを成長させること、前記ＣＮＴ浸出炭素繊維トウを成形すること及び前記成形されたＣＮＴ浸出炭素繊維トウの周りに炭素マトリックスを形成することを含むプロセスによって製造された炭素／炭素複合材料。
【請求項７】
炭素マトリックスとＣＮＴ浸出炭素繊維材料とを含んで構成され、前記ＣＮＴ浸出炭素繊維材料がバリア・コーティングを含む炭素／炭素複合材料。
【請求項８】
炭素マトリックスと不織ＣＮＴ浸出炭素繊維材料とを含む炭素／炭素複合材料を含んで構成された製品。
【請求項９】
前記ＣＮＴ浸出炭素繊維材料が、連続又は刻まれている請求項８に記載の製品。
【請求項１０】
保護コーティング、マトリックス改質剤、又はこれらの組み合わせを、更に含んで構成された請求項８に記載の製品。
【請求項１１】
ブレーキローター又は極超音速機の一部である請求項８に記載の製品。
【請求項１２】
炭素マトリックス内にＣＮＴ浸出炭素繊維を含んで構成される炭素／炭素複合材料の製造方法であって、
連続ＣＮＴ浸出炭素繊維を型板構造体の周囲に巻き取る工程と、
初期の炭素／炭素複合材料を形成するために炭素マトリックスを成形する工程と、
を含む炭素／炭素複合材料の製造方法。
【請求項１３】
前記炭素マトリックス成形工程が、化学蒸着法（ＣＶＤ）及び／又は化学蒸着浸透法、又は炭素マトリックス前駆体の熱分解をその後に伴って、前記巻き取られた連続ＣＮＴ浸出炭素繊維材料を浸出することを含む請求項１２に記載の炭素／炭素複合材料の製造方法。
【請求項１４】
前記炭素マトリックス前駆体が、有機樹脂、又はタール又はピッチである請求項１３に記載の炭素／炭素複合材料の製造方法。
【請求項１５】
前記巻き取り工程が、炭素マトリックス前駆体を用いたウエットワインディングを含み、前記成形工程が、熱分解を含む請求項１２に記載の炭素／炭素複合材料の製造方法。
【請求項１６】
前記初期の炭素／炭素複合材料の高密度化を、更に含む請求項１２に記載の炭素／炭素複合材料の製造方法。
【請求項１７】
炭素マトリックス内にＣＮＴ浸出炭素繊維を含んで構成される炭素／炭素複合材料の製造方法であって、
混合物を形成するために、炭素マトリックス前駆体に短ＣＮＴ浸出炭素繊維材料を分散する工程と、
型内に前記混合物を載置する工程と、
初期の炭素／炭素複合材料を形成するために炭素マトリックスを成形する工程と、
を含む炭素／炭素複合材料の製造方法。
【請求項１８】
前記炭素マトリックス成形工程は、前記炭素マトリックス前駆体を熱分解することを含む請求項１７に記載の炭素／炭素複合材料の製造方法。
【請求項１９】
前記炭素マトリックス前駆体が、有機樹脂、又はタール又はピッチである請求項１７に記載の炭素／炭素複合材料の製造方法。
【請求項２０】
前記初期の炭素／炭素複合材料の高密度化を、更に含む請求項１７に記載の炭素／炭素複合材料の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年4月12日(2013.4.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
リール又は糸スプール（２５、２６）を支持するのに適する、少なくとも１個の支持体（２２、２３）を備える構造体（２）を有するクリールのモジュラーユニット（１）において、構造体（２）は、多角立体形の形状をし、張力及び速度の特性から選択された、少なくとも１個の特性を、予め定めた固定値又は繊維機械の運転段階の関数に等しくなるように絶えず維持しながら、リール又は糸スプール（２５、２６）から巻き戻して糸を供給するのに適する供給装置（３０）を備え、構造体（２）は、他の同様な構造体（２）とモジュラー式に接続されて、繊維機械に複数本の糸を供給できるように構成され、モジュラーユニットの各々により供給される糸は、対応するモジュラーユニット（１）と連動する供給装置により規定される固有の選択された特性を有することを特徴とするモジュラーユニット。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
添付図面を参照すると、モジュラークリールユニットは、全体を符号１で示してあり、対向側面部３（正面側）及び５（背面側）と、対向側面部４及び６と、上部７と、下部８とを備えた構造体２（図示の例では、多角立体形）とを有する。下部８は、平坦な格子部材１０か、又は透明としてよいが、正面側側面部３は、後述する機能を持つ平面部１１を支持する。平面部１１機能は、後述する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
オペレータは、空のスプール２５を載せたアーム２２を、対応する柱部材２０を中心としてアームを回転させて構造体の内部空間部１９から取出す。すると、このアームは、内部空間部内の外側に位置付けられるので、空のスプール（糸用の通常管状の支持体）を、取り除いて、新しい満杯のスプール２５をアームに装着できる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
さらに、本発明によれば、２個以上のモジュラーユニット１を備えたクリールでは、各モジュラーユニットを独立して管理することが可能であるので、糸毎に、張力と引出しとを変える運転が可能であり、この点が、米国特許第６６７６０５４号とは異なっている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
上述したタイプのモジュラーユニット１は、繊維機械の制御ユニットに制御ユニット３５を通じて接続されていると、糸供給装置３０に供給される糸の破裂、供給張力の誤り又はセンサ装置３３での糸の不存在が検出された場合、繊維機械を停止して、製造される製品の製造品質に一定性を保証でき、こうしたことの発生後に製品に生じうる欠陥に基づく付加費用を回避できる。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月21日(2013.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
治療有効量のプロポフォールおよび半フッ素化アルカンを含有する医薬組成物。
【請求項２】
半フッ素化アルカンが、式：
ＲＦＲＨ
または式：
ＲＦＲＨＲＦ
［式中、ＲＦは、２０個またはそれ以下の炭素原子を有する過フッ素化炭化水素部分であり、および
ＲＨは、３〜２０個の炭素原子を有する非フッ素化炭化水素部分である］
の化合物である、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
半フッ素化アルカンが、式：
ＲＦＲＨ
［式中、ＲＦは、３〜１０個の炭素原子を有する直鎖状過フッ素化炭化水素部分であり、および
ＲＨは、３〜１０個の炭素原子を有する直鎖状アルキル基である］
の化合物である、請求項２に記載の組成物。
【請求項４】
半フッ素化アルカンが、Ｆ４Ｈ５、Ｆ６Ｈ６およびＦ６Ｈ８から選択される、請求項３に記載の組成物。
【請求項５】
プロポフォールの濃度が１重量％またはそれ以上である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項６】
その中に含まれる基本的にすべてのプロポフォールが溶解形態である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項７】
液体またはゲルの形態である、請求項１〜６のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項８】
トリグリセリドまたはリン脂質などの脂質を実質的に含まない、請求項１〜７のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか一項に記載の組成物を含有する医薬剤形。
【請求項１０】
軟カプセルまたは口腔スプレー、鼻腔スプレー、吸入エアロゾル、経口ゲルおよび経口液体から選択される、請求項９に記載の剤形。
【請求項１１】
容器およびその中に請求項１〜８に記載の組成物を含み、容器が組成物を噴霧化するための手段を含む医薬キット。
【請求項１２】
請求項１〜８に記載の組成物または請求項９もしくは１０に記載の剤形の薬剤としての使用。
【請求項１３】
薬剤が経口、口腔粘膜または経鼻投与用である、請求項１２に記載の使用。
【請求項１４】
薬剤が、麻酔、鎮静を誘導するため、脳損傷における神経保護のため、または片頭痛もしくは悪心の治療のためである、請求項１２または１３に記載の使用。
【請求項１５】
請求項１〜８に記載の組成物または請求項９もしくは１０に記載の剤形の動物薬としての使用。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月10日(2013.10.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
媒体上に硬化性の熱溶解性インクを塗布する方法であって、当該方法は：
（ａ）流体状態で、ある量の硬化性の熱溶解性インクを供給する段階；
（ｂ）高温で、流体の前記インクの少なくとも一部を、媒体の表面上に塗布する段階であって、前記インクは、前記表面上への塗布時に、冷め、前記インクは少なくとも部分的に固化又はゲル化する、段階；
（ｃ）前記媒体の前記表面上に塗布された前記インクの少なくとも一部を再加熱し、前記インクの再加熱された部分が、流体状態に戻る、段階；及び
（ｄ）流体状態に戻った前記インクの少なくとも再加熱された部分を硬化する段階；
を含み、
段階（ｄ）が開始される前に、段階（ｃ）が開始される、
方法。
【請求項２】
前記媒体は記録媒体であり、
段階（ｄ）において、前記インクは、前記記録媒体の表面上にある、
請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記媒体は、中間転写部材であり、
前記方法は、前記インクを硬化する前に、前記中間転写部材の表面から記録媒体の表面へと転写する段階を更に含む、
請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記硬化性の熱溶解性インクは、少なくとも１つのゲル化剤を含み、
工程（ｂ）において、前記ゲル化剤は、前記の冷める時に、前記インク中でゲル状態を形成する、
請求項１に記載の方法。
【請求項５】
段階（ｃ）は、前記表面上に塗布された前記インクの少なくとも一部に、赤外線放射を供する段階を含む、
請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記硬化性の熱溶解性インクは、ＵＶ放射によって硬化可能であり、
段階（ｄ）は、前記表面上に塗布された前記インクに、ＵＶ放射を供する段階を含む、
請求項１に記載の方法。
【請求項７】
段階（ｄ）は、前記表面上に塗布された前記インクの一部だけに赤外線放射を供する段階を含み、
前記インクの前記一部は、前記媒体の表面と接触していない、
請求項１に記載の方法。
【請求項８】
段階（ｃ）が実行されている間に、段階（ｄ）が開始される、
請求項１に記載の方法。
【請求項９】
段階（ｄ）が開始される前に、段階（ｄ）が終わる、
請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
工程（ｃ）において、前記媒体の前記表面上に塗布された前記インクの少なくとも一部は、前記媒体の前記表面上に塗布された液滴の外層である、
請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
媒体上に硬化性の熱溶解性インクを塗布する印刷デバイスであって、当該印刷デバイスは：
（ａ）流体状態で少なくともある量のインクを供給するよう構成された、インク供給手段；
（ｂ）前記インク供給手段と流体連結され、流体の前記インクを受信する、インク塗布手段であって、当該インク塗布手段は、流体の前記インクを、高温で媒体の表面に、塗布するよう構成されており、前記インクは、前記媒体の表面上への塗布時に冷め、前記インクは少なくとも部分的に固化又はゲル化する、インク塗布手段；
（ｃ）前記媒体の前記表面上に塗布された前記インクの少なくとも一部を加熱するよう構成された、加熱手段；
（ｄ）前記インクを硬化するよう構成された、硬化手段；
を含む、印刷デバイスであって、
当該印刷デバイスは、前記媒体の表面上に塗布された前記インクの少なくとも一部を加熱する前記加熱手段を、前記インクの再加熱された部分が流体状態へと戻るように制御するよう構成された制御ユニットを更に含む、
印刷デバイス。
【請求項１２】
前記加熱手段は、赤外線放射発生手段であり、
前記赤外線放射発生手段は、前記媒体の前記表面上に塗布された前記インクの一部に、赤外線放射を供するよう構成される、
請求項１１に記載の印刷デバイス。
【請求項１３】
前記硬化手段は、ＵＶ放射発生手段であり、
前記ＵＶ放射発生手段は、記録媒体の表面上に適用されたインクに、ＵＶ放射を供するよう構成される、
請求項１１に記載の印刷デバイス。
【請求項１４】
前記赤外線放射発生手段は及び前記ＵＶ放射発生手段は、単一の放射手段によって供され、
前記印刷デバイスは、ＵＶ放射をフィルタリングし、赤外線放射を透過する、フィルタ要素を更に含み、
前記放射手段及び前記フィルタ要素は、作動中、表面に塗布されたインクが、先ず、前記赤外線放射によって照射され、その後、前記ＵＶ放射によって照射されるように、各々関連して配置される、
請求項１１に記載の印刷デバイス。
【請求項１５】
前記媒体は、中間転写部材であり、
前記中間転写部材は、前記インクを記録媒体上に転写するよう構成される、
請求項１１に記載の印刷デバイス。
【請求項１６】
結果であるイメージの光沢レベルが、ユーザー設定可能なパラメータであり、
前記印刷デバイスは更に、前記ユーザー設定可能なパラメータに対応して、前記媒体の前記表面上に塗布された前記インクの一部の加熱を制御するために、前記ユーザー設定可能なパラメータに応答して、前記加熱手段を制御するよう構成された、制御ユニットを含む、
請求項１１に記載の印刷デバイス。