【手続補正書】
【提出日】平成25年2月22日(2013.2.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１ａ）の化合物
Ｒf−（ＣＨ2ＣＦ2）n（ＣＨ2）m−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）p−ＸＨ （１ａ）
（式中、
Ｒfは、１〜６個の炭素原子の直鎖または分岐鎖パーフルオロアルキル基であり；
ｎは０〜４であり；
ＸはＯであり；
ｍは１〜６の整数であり；
ｐは１〜約４０の整数である）
の調製方法であって、式（４）のフッ素化アルコール
Ｒf−（ＣＨ2ＣＦ2）n（ＣＨ2）m−ＸＨ （４）
（式中、
Ｒfは、１〜６個の炭素原子の直鎖または分岐鎖パーフルオロアルキル基であり；
ｎは０〜４の整数であり；
ｍは１〜６の整数であり；
ＸはＯである）
と、２〜１０個の炭素原子を有するアルキレンオキシド、または、前記アルキレンオキシドの混合物とを、（１）少なくとも１種の水素化ホウ素アルカリ金属、および、（２）少なくとも１種の有機第４級塩を含む触媒系の存在下に接触させる工程を含む調製方法。
【請求項２】
（１）水素化ホウ素アルカリ金属、および、（２）少なくとも１種の有機第４級塩を含む触媒系。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
比較例Ｃ
反応器に、４０グラムの精製Ｃ4Ｆ9（ＣＨ2ＣＦ2）nＣＨ2ＣＨ2ＯＨ（１２１．９ｍｍｏｌ）、主にｎ＝１；０．３５グラム（２．３２ｍｍｏｌ）のヨウ化ナトリウム、および０．２０グラム（５．２９ｍｍｏｌ）の水素化ホウ素ナトリウムを仕込んだ。反応器を窒素パージ下（エチレンオキシド供給なし）で約８０℃に加熱し、約１時間保持して、触媒形成中の水素の発生を完了させた。２０グラムのエチレンオキシドを導入した後、９ｐｓｉｇ（１６３×１０３Ｐａ）の窒素で０℃で反応器を加圧した。反応を１２時間実施し、および、反応器の温度を約１３５℃に維持した。開始時点で反応器の圧力は約３５〜４０ｐｓｉｇ（３４３×１０３〜３７７×１０３Ｐａ）であったが、エチレンオキシドが消費されるに伴って低下し、エチレンオキシドの消費が完了した各時点では９ｐｓｉｇ（１６３×１０３Ｐａ）に低下した。生成物は、1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤ2Ｃｌ2／トリフルオロ酢酸無水物、５００ＭＨｚ）により、Ｃ4Ｆ9（ＣＨ2ＣＦ2）nＣＨ2ＣＨ2（ＯＣＨ2ＣＨ2）p−ＯＨ（主にｎ＝１およびｐは約１．４であった）として特徴付けた。
本発明は以下の実施の態様を含むものである。
１．式（１ａ）の化合物
Ｒf−（ＣＨ2ＣＦ2）n（ＣＨ2）m−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）p−ＸＨ （１ａ）
（式中、
Ｒfは、１〜６個の炭素原子の直鎖または分岐鎖パーフルオロアルキル基であり；
ｎは０〜４であり；
ＸはＯであり；
ｍは１〜６の整数であり；
ｐは１〜約４０の整数である）
の調製方法であって、式（４）のフッ素化アルコール
Ｒf−（ＣＨ2ＣＦ2）n（ＣＨ2）m−ＸＨ （４）
（式中、
Ｒfは、１〜６個の炭素原子の直鎖または分岐鎖パーフルオロアルキル基であり；
ｎは０〜４の整数であり；
ｍは１〜６の整数であり；
ＸはＯである）
と、２〜１０個の炭素原子を有するアルキレンオキシド、または、前記アルキレンオキシドの混合物とを、（１）少なくとも１種の水素化ホウ素アルカリ金属、および、（２）少なくとも１種の有機第４級塩を含む触媒系の存在下に接触させる工程を含む調製方法。
２．有機第４級塩が、式（２）
［（Ｒ1）4Ｑ］+Ｙ- （２）
（式中、
Ｑは、窒素、リン、砒素、アンチモン、および、ビスマスからなる群から選択され；
各Ｒ1は、任意によりフッ素を含有しており、および、任意によりアルキルで置換されている、Ｃ1〜Ｃ16アルキル、Ｃ1〜Ｃ16アリール、Ｃ1〜Ｃ16アルカリール、Ｃ1〜Ｃ16アラルキル、Ｃ1〜Ｃ16シクロアルキル、Ｃ1〜Ｃ16フルオロアルキルラジカル（fluoroalkyl radical）、および、Ｃ1〜Ｃ16芳香族炭素環からなる群から独立して選択され、ただし、４個のＲ1部分における炭素原子の総数は少なくとも１６であり；
Ｙはハロゲンまたはカルボエトキシラジカル（carboethoxy radical）である）
のものである、１に記載の方法。
３．有機第４級塩が：
（Ｃ4Ｈ9）4Ｎ+Ｂｒ-、
（Ｃ4Ｈ9）4Ｎ+Ｃｌ-、
（Ｃ4Ｈ9）4Ｎ+Ｉ-、
（Ｃ4Ｈ9）4Ｎ+Ｆ-、
（Ｃ4Ｈ9）4Ｎ+ＯＡｃ-、
（ヘキシル）4Ｎ+Ｂｒ-、
（ヘプチル）4Ｎ+Ｃｌ-、
（Ｃ2Ｈ5）3Ｎ+ＣＨ2（Ｃ6Ｈ5）Ｂｒ-、
［ＣＨ3（ＣＨ2）１５］Ｎ+（ＣＨ3）３Ｂｒ-、
（Ｃ4Ｈ9）4Ｐ+Ｂｒ-、
（Ｃ6Ｈ5）3Ｐ+ＣＨ3Ｂｒ-、および
（Ｃ6Ｈ5）3Ｐ+ＣＨ2（Ｃ6Ｈ5）Ｂｒ-
からなる群から選択される、２に記載の方法。
４．触媒中の水素化ホウ素アルカリ金属対フッ素化アルコールのモル比が、約０．００５：１〜約０．２５：１である、１に記載の方法。
５．第４級塩中の部分Ｑ対水素化ホウ素アルカリ金属の触媒中のモル比が、約０．１：１〜約３：１である、１に記載の方法。
６．触媒系が、ハロゲン化アルカリ金属、ハロゲン化アルカリ土類金属、元素ハロゲン、および、これらの混合物からなる群から選択される少なくとも１種のハロゲン供給源をさらに含み、ハロゲン供給源対水素化ホウ素アルカリ金属のモル比が約０．０１：１〜約３００：１である、１に記載の方法。
７．エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリ−エチレングリコールジメチルエーテル、テトラ−エチレングリコールジメチルエーテル、エチレンオキシド環状六量体、エチレンオキシド環状五量体、および、これらの混合物からなる群から選択される溶剤中で実施される、請求項１に記載の方法。
８．接触が、約１００℃〜約１４５℃の温度、および、大気圧〜約１００ｐｓｉｇ（７９１×１０3Ｐａ）の圧力で行われる、１に記載の方法。
９．（１）水素化ホウ素アルカリ金属、および、（２）少なくとも１種の有機第４級塩を含む触媒系。
１０．有機第４級塩が、式（２）
［（Ｒ1）4Ｑ］+Ｙ- （２）
（式中、
Ｑは、窒素、リン、砒素、アンチモン、および、ビスマスからなる群から選択され；
各Ｒ1が、任意によりフッ素を含有しており、および、任意によりアルキルで置換されている、Ｃ1〜Ｃ16アルキル、Ｃ1〜Ｃ16アリール、Ｃ1〜Ｃ16アルカリール、Ｃ1〜Ｃ16アラルキル、Ｃ1〜Ｃ16シクロアルキル、Ｃ1〜Ｃ16フルオロアルキルラジカル、および、Ｃ1〜Ｃ16芳香族炭素環からなる群から独立して選択され、ただし、４個のＲ1部分における炭素原子の総数は少なくとも１６であり；
Ｙはハロゲンまたはカルボエトキシラジカルである）
のものである、９に記載の触媒系。
１１．有機第４級塩が：
（Ｃ4Ｈ9）4Ｎ+Ｂｒ-、
（Ｃ4Ｈ9）4Ｎ+Ｃｌ-、
（Ｃ4Ｈ9）4Ｎ+Ｉ-、
（Ｃ4Ｈ9）4Ｎ+Ｆ-、
（Ｃ4Ｈ9）4Ｎ+ＯＡｃ-、
（ヘキシル）4Ｎ+Ｂｒ-、
（ヘプチル）4Ｎ+Ｃｌ-、
（Ｃ2Ｈ5）3Ｎ+ＣＨ2（Ｃ6Ｈ5）Ｂｒ-、
［ＣＨ3（ＣＨ2）１５］Ｎ+（ＣＨ3）３Ｂｒ-、
（Ｃ4Ｈ9）4Ｐ+Ｂｒ-、
（Ｃ6Ｈ5）3Ｐ+ＣＨ3Ｂｒ-、および
（Ｃ6Ｈ5）3Ｐ+ＣＨ2（Ｃ6Ｈ5）Ｂｒ-
からなる群から選択される、１０に記載の触媒系。
１２．ハロゲン化アルカリ金属、ハロゲン化アルカリ土類金属、元素ハロゲン、および、これらの混合物からなる群から選択される少なくとも１種のハロゲン供給源をさらに含む、１０に記載の触媒系。