【手続補正書】
【提出日】平成25年1月21日(2013.1.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶存または非溶存の状態の有機および／または無機物質を含有して流量Ｄｆで連続して供給される液体廃液を洗浄する方法であって、必要であれば前処理の廃液浮揚運転をした後に少なくとも１回の処理サイクルが実行されることを特徴とし、前記処理サイクルは、第１区分室内で非常に強い乱流を発生する循環によって廃液のラジカル酸化および／またはラジカル還元が実行される第１のステップと、その後、自由表面を有する第２区分室内での廃液の循環の前に廃液中に含まれる非溶存物質が凝固／凝集によって集め寄せられ、前記第２区分室内では発泡および弱い乱流を維持しながら、上部に得られるスラッジのこすり取りを伴う第２のステップと、を含む方法。
【請求項２】
第１区分室内の上部および底部の間で流量Ｑ≧５Ｄｆの廃液の流れを生じさせる撹拌により、前記区分室内で強い乱流が発生することを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
流量Ｑ≧２５Ｄｆであることを特徴とする、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
酸化および／または還元が電解処理によって起こるということを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
電解処理がラジカル酸化であるということを特徴とする、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
第１区分室の底部に捕捉される廃液を循環させること、および電解回路をとおして前記区分室の上部に再導入させることによって、電解処理が実行されることを特徴とする、請求項４または５に記載の方法。
【請求項７】
電解処理が、ダイヤモンドおよびボロンを含む層で被覆される電極上の電解によって実行されることを特徴とする、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
電解処理が、炭素および窒素原子を含む層で被覆される電極上の電解によって実行されることを特徴とする、請求項６に記載の方法。
【請求項９】
第２区分室の底部における廃液に、垂直発泡を生成するための外部キャビテーション手段を使用して流量ｑ≦Ｄｆの流れを生じさせることによって、前記区分室において弱い乱流が維持されるということを特徴とする、請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
電解回路から離れる際に廃液が脱気され、そして得られたガスを垂直発泡のための外部キャビテーション手段に供給するために用いることを特徴とする、請求項４〜８のいずれか１項に従属する場合の請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
少なくとも２回の処理サイクルを含むことを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
少なくとも１回の高度に還元性の処理サイクルを含むということを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
処理によって廃液が定められた汚濁負荷、定められたＣＯＤおよび／または定められたＴＯＣとなるように、自由表面を有する区分室の表面で少しずつ固／液相分離を得るべく回数ｎ≧２となるように考案されるｎ処理サイクルをとおして廃液が連続して流されることを特徴とする、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
各処理サイクルが、電解によって発生する流れおよび泡を中間の第３区分室の上部まで上昇させて、触媒を伴って酸化後および／または還元後運転が実行される中間のステップを第１および第２のステップ間に追加的に含むことを特徴とする、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
廃液が、電解回路の取り出し口から流量Ｄｆで、第３区分室の底部において前記区分室に注入されるということを特徴とする、請求項６または請求項６に従属する場合の請求項７〜１１、１３もしくは１４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１６】
廃液を流量Ｄｆで電解回路の出口で引き抜くことにより酸化後運転が実行されることを特徴とする、請求項１４または１５に記載の方法。
【請求項１７】
凝固凝集した後に予備の発泡浮揚運転が実行され、そして、自由表面を有し上部にこすり取り手段と、酸化／分離のための垂直発泡を生成するためのキャビテーション手段とを備える室内で、弱い乱流を伴いながらその室の底部における廃液が再循環されることを特徴とする、請求項１〜１６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１８】
溶存または非溶存の状態の有機および／または無機物質を含有して流量Ｄｆで連続して供給される液体廃液を洗浄するための設備であって、区分室底部で往来が自由な、２つの連続した垂直区分室、すなわち、廃液のラジカル酸化および／またはラジカル還元の手段を備え、第１区分室での非常に強い乱流を生成するための手段を含む第１区分室、および、第２区分室での弱い乱流を維持するように設計された自由酸化／分離表面を有し、外部の凝固／凝集手段、発泡手段および上部のこすり取り手段を備える第２区分室、の少なくとも１つの第１の一組を含むことを特徴とする、設備。
【請求項１９】
非常に強い乱流を生成する手段が、区分室の底部に捕捉される廃液の再循環、および流量Ｑ≧５Ｄｆで上部への再導入のための第１の回路を含むことを特徴とする、請求項１８に記載の設備。
【請求項２０】
流量Ｑ≧２５Ｄｆであることを特徴とする、請求項１９に記載の設備。
【請求項２１】
設備が、自由表面および弱い乱流を有し、底部に凝固／凝集手段および廃液再循環手段を含む予備浮揚室を含み、前記室が上部にこすり取り手段および前記室内での酸化／分離のための垂直発泡を生成するためのキャビテーション手段を備えることを特徴とする、請求項１８〜２０のいずれか１項に記載の設備。
【請求項２２】
設備が、酸化および／または還元を実行するための電解処理手段を含むことを特徴とする、請求項１８〜２１のいずれか１項に記載の設備。
【請求項２３】
電解処理手段が、ダイヤモンド被覆電極を含むことを特徴とする、請求項２２に記載の設備。
【請求項２４】
電解処理手段が、炭素／窒素で被覆される電極を含むことを特徴とする、請求項２２に記載の設備。
【請求項２５】
電解処理手段が、第１の廃液再循環回路に位置することを特徴とする、請求項２２〜２４のいずれか１項に記載の設備。
【請求項２６】
第２区分室が、当該区分室内で垂直発泡を生成するためのキャビテーション手段を含む、第２の廃液再循環回路を底部に含むことを特徴とする、請求項１８〜２５のいずれか１項に記載の設備。
【請求項２７】
第２の再循環回路の流量が低く、Ｄｆ／２０およびＤｆ２の間にあるということを特徴とする、請求項２６に記載の設備。
【請求項２８】
設備が第１の区分室と連続の区分室の、少なくとも１つの第２の一組を含むことを特徴とする、請求項１８〜２７のいずれか１項に記載の設備。
【請求項２９】
廃液を連続して流れさせるｎ組の区分室を含み、処理によって廃液が定められたＣＯＤとなるように、自由表面を有する区分室の表面上で固／液相分離を少しずつ得るために数値ｎ≧２が選択されることを特徴とする、請求項２８に記載の設備。
【請求項３０】
区分室の各々の一組が、第１および第２区分室間に、触媒を伴って酸化後運転が実行され、廃液が中程度の乱流を伴って攪拌される、少なくとも１つの中間の第３区分室を含むことを特徴とする、請求項１８〜２９のいずれか１項に記載の設備。
【請求項３１】
設備が、前記第３区分室内で中程度の乱流を生成するために、前記第３区分室の底部で、流量Ｄｆ≦ｄ≦３Ｄｆを有する第３の廃液循環回路を含むことを特徴とする、請求項３０に記載の設備。
【請求項３２】
中間の第３区分室の底部で、それ自体に電解処理手段が備わる第１の循環回路から供給をうけることを特徴とする、請求項１８〜３１のいずれか１項に記載の設備。
【請求項３３】
空気で発泡が実行され、泡の相当直径の平均サイズが０．２ｍｍから１ｍｍの間にあることを特徴とする、請求項１８〜３２のいずれか１項に記載の設備。
【請求項３４】
区分室が３ｍから５ｍの間の使用可能高さを有することを特徴とする、請求項１８〜３３のいずれか１項に記載の設備。