【手続補正書】
【提出日】平成21年1月21日(2009.1.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ビームを射出する光源と、前記光源から射出される光ビームを正弦振動する偏向ミラー面により偏向する偏向器と、ａｒｃ−ｓｉｎ特性を有するとともに前記偏向器により偏向された光ビームを被走査面に導光する走査光学系とを備え、前記光ビームを主走査方向に走査して前記被走査面にスポット状に照射する光走査動作を実行可能な光走査装置において、前記光ビームをスポット状に照射する位置を示すパターンデータを変換して得られる露光信号を前記光源に入力するとともに前記光走査動作を前記光走査装置に実行させることで、前記被走査面の所定位置に前記光ビームをスポット状に照射させる前記光走査装置の制御方法であって、
前記偏向ミラー面により偏向された光ビームの主光線と前記走査光学系の光軸とが成す角度を偏向角としたとき、
前記光源から射出される光ビームの光量を、前記偏向角の絶対値の増大に伴って前記光源から射出される光ビームの光量を連続的に増大させる光量パターンに基づいて制御するとともに、
前記被走査面の前記主走査方向に互いに異なる位置にパッチ潜像としての潜像を複数形成するパッチ潜像形成工程と、
前記複数のパッチ潜像をトナー現像して複数のパッチ画像を形成するパッチ現像工程と、
前記転写媒体に転写された前記複数のパッチ画像の濃度を、前記転写媒体に対向する濃度センサにより検出する濃度検出工程と、
前記濃度検出工程での検出結果に基づいて前記光量パターンを求めるパターン生成工程と、
を備えることを特徴とする光走査装置の制御方法。
【請求項２】
前記複数のパッチ潜像の１つは、前記走査光学系の光軸上に形成される請求項１記載の光走査装置の制御方法。
【請求項３】
前記パッチ潜像形成工程は、前記複数のパッチ潜像として２個のパッチ潜像を、前記走査光学系の光軸に対して前記主走査方向において互いに非対称な位置に形成する請求項１記載の光走査装置の制御方法。
【請求項４】
前記２個のパッチ潜像の１つは、前記走査光学系の光軸上に形成される請求項３記載の光走査装置の制御方法。
【請求項５】
各画素の階調値を多階調で表した画像階調データに対してハーフトーン処理を実行して前記パターンデータを生成する請求項１乃至４のいずれかに記載の光走査装置の制御方法であって、
前記ハーフトーン処理は、前記画像階調データの階調値の増大に伴って所定の増大パターンで前記セルへの光ビームの照射面積を増大させるように前記パターンデータを生成するとともに、
前記増大パターンは前記偏向角によらず一定である光走査装置の制御方法。
【請求項６】
光ビームを射出する光源と、前記光源から射出される光ビームを正弦振動する偏向ミラー面により偏向する偏向器と、ａｒｃ−ｓｉｎ特性を有するとともに前記偏向器により偏向された光ビームを被走査面に導光する走査光学系とを備え、前記光ビームを主走査方向に走査して前記被走査面にスポット状に照射する光走査動作を実行する光走査装置において、
前記偏向ミラー面により偏向された光ビームの主光線と前記走査光学系の光軸とが成す角度を偏向角としたとき、
前記光源から射出される光ビームの光量を、前記偏向角の絶対値の増大に伴って前記光源から射出される光ビームの光量を連続的に増大させる光量パターンに基づいて制御するとともに、
前記被走査面の前記主走査方向に互いに異なる位置に複数の潜像をそれぞれパッチ潜像として形成し、前記複数のパッチ潜像をトナー現像して得られる複数のパッチ画像を転写媒体に形成し、前記複数のパッチ画像の濃度を前記転写媒体に対向する濃度センサにより検出した結果に基づいて前記光量パターンを求めることを特徴とする光走査装置。
【請求項７】
潜像担持体と、
前記潜像担持体の表面を略一様に帯電させる帯電手段と、
光ビームを射出する光源と、前記光源から射出される光ビームを正弦振動する偏向ミラー面により偏向する偏向器と、ａｒｃ−ｓｉｎ特性を有するとともに前記偏向器により偏向された光ビームを前記帯電手段により帯電された前記潜像担持体表面に導光する走査光学系とを備え、前記光ビームを主走査方向に走査して前記潜像担持体表面にスポット状に照射する光走査動作を実行する露光手段と、
前記静電潜像をトナー現像する現像手段と、
前記現像手段がトナー現像して得られた画像が転写される転写媒体と、
前記転写媒体に対向する濃度センサと、
を備え、
前記偏向ミラー面により偏向された光ビームの主光線と前記走査光学系の光軸とが成す角度を偏向角としたとき、
前記光源から射出される光ビームの光量を、前記偏向角の絶対値の増大に伴って前記光源から射出される光ビームの光量を連続的に増大させる光量パターンに基づいて制御するとともに、
前記潜像担持体表面の前記主走査方向に互いに異なる位置に複数の潜像をそれぞれパッチ潜像として形成し、前記複数のパッチ潜像をトナー現像して得られる複数のパッチ画像を前記転写媒体に転写し、前記複数のパッチ画像の濃度を前記濃度センサにより検出した結果に基づいて前記光量パターンを求めることを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
この発明にかかる光走査装置の制御方法は、光ビームを射出する光源と、光源から射出される光ビームを正弦振動する偏向ミラー面により偏向する偏向器と、ａｒｃ−ｓｉｎ特性を有するとともに偏向器により偏向された光ビームを被走査面に導光する走査光学系とを備え、光ビームを主走査方向に走査して被走査面にスポット状に照射する光走査動作を実行可能な光走査装置であって、上記目的を達成するために、光ビームをスポット状に照射する位置を示すパターンデータを変換して得られる露光信号を光源に入力するとともに光走査動作を光走査装置に実行させることで、被走査面の所定位置に光ビームをスポット状に照射させる光走査装置の制御方法であって、偏向ミラー面により偏向された光ビームの主光線と走査光学系の光軸とが成す角度を偏向角としたとき、光源から射出される光ビームの光量を、偏向角の絶対値の増大に伴って光源から射出される光ビームの光量を連続的に増大させる光量パターンに基づいて制御するとともに、被走査面の主走査方向に互いに異なる位置にパッチ潜像としての潜像を複数形成するパッチ潜像形成工程と、複数のパッチ潜像をトナー現像して複数のパッチ画像を形成するパッチ現像工程と、転写媒体に転写された複数のパッチ画像の濃度を、転写媒体に対向する濃度センサにより検出する濃度検出工程と、濃度検出工程での検出結果に基づいて光量パターンを求めるパターン生成工程と、を備えることを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、この発明にかかる光走査装置は、光ビームを射出する光源と、光源から射出される光ビームを正弦振動する偏向ミラー面により偏向する偏向器と、ａｒｃ−ｓｉｎ特性を有するとともに偏向器により偏向された光ビームを被走査面に導光する走査光学系とを備え、光ビームを主走査方向に走査して被走査面にスポット状に照射する光走査動作を実行する光走査装置であって、上記目的を達成するために、偏向ミラー面により偏向された光ビームの主光線と走査光学系の光軸とが成す角度を偏向角としたとき、光源から射出される光ビームの光量を、偏向角の絶対値の増大に伴って光源から射出される光ビームの光量を連続的に増大させる光量パターンに基づいて制御するとともに、被走査面の主走査方向に互いに異なる位置に複数の潜像をそれぞれパッチ潜像として形成し、複数のパッチ潜像をトナー現像して得られる複数のパッチ画像を転写媒体に形成し、複数のパッチ画像の濃度を転写媒体に対向する濃度センサにより検出した結果に基づいて光量パターンを求めることを特徴としている。
また、この発明にかかる画像形成装置は、上記目的を達成するために、潜像担持体と、潜像担持体の表面を略一様に帯電させる帯電手段と、光ビームを射出する光源と、光源から射出される光ビームを正弦振動する偏向ミラー面により偏向する偏向器と、ａｒｃ−ｓｉｎ特性を有するとともに偏向器により偏向された光ビームを帯電手段により帯電された潜像担持体表面に導光する走査光学系とを備え、光ビームを主走査方向に走査して潜像担持体表面にスポット状に照射する光走査動作を実行する露光手段と、静電潜像をトナー現像する現像手段と、現像手段がトナー現像して得られた画像が転写される転写媒体と、転写媒体に対向する濃度センサと、を備え、偏向ミラー面により偏向された光ビームの主光線と走査光学系の光軸とが成す角度を偏向角としたとき、光源から射出される光ビームの光量を、偏向角の絶対値の増大に伴って光源から射出される光ビームの光量を連続的に増大させる光量パターンに基づいて制御するとともに、潜像担持体表面の主走査方向に互いに異なる位置に複数の潜像をそれぞれパッチ潜像として形成し、複数のパッチ潜像をトナー現像して得られる複数のパッチ画像を転写媒体に転写し、複数のパッチ画像の濃度を濃度センサにより検出した結果に基づいて光量パターンを求めることを特徴としている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
上述のように構成された発明（光走査装置、該装置の制御方法および画像形成装置）では、光源から射出された光ビームを正弦振動する偏向ミラー面により偏向している。そして、該偏向光ビームをａｒｃ−ｓｉｎ特性を有する走査光学系により被走査面に導光することで、光ビームを被走査面の主走査方向に走査して被走査面にスポット状に照射する。したがって、上述したように、被走査面に照射されるスポットが有する光量分布のピーク値が、走査光学系の光軸付近で最大値を取るとともに該光軸から主走査方向に離れるに連れて減少するという光走査不良が発生する場合がある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
また、本発明は、被走査面の主走査方向に互いに異なる位置にパッチ潜像としての潜像を複数形成するパッチ潜像形成工程と、複数のパッチ潜像をトナー現像して複数のパッチ画像を形成するパッチ現像工程と、転写媒体に転写された複数のパッチ画像の濃度を、転写媒体に対向する濃度センサにより検出する濃度検出工程と、濃度検出工程での検出結果に基づいて光量パターンを求めるパターン生成工程と、を備える。つまり、これらのパッチ潜像形成工程、パッチ現像工程及び濃度検出工程を実行することで、被走査面に照射されるスポットが有する光量分布のピーク値の主走査方向における変化を高精度に検出している。そして、パターン生成工程を実行して、このような濃度検出工程の検出結果から光量パターンを求めることとしている。よって、最適な光量パターンを求めることが可能となり、その結果、より良好な光走査動作の実行が可能となるため好適である。そして、より良好な光走査動作が実行可能な光走査装置により画像形成を実行することで、上述したような画像濃度の主走査方向位置による差異をより高精度に抑制して、より良好なハイライト像の形成が可能となり好適である。なお、この際、複数の静電潜像の１つは、走査光学系の光軸上に形成してもよい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、パッチ潜像形成工程が形成する複数のパッチ潜像の個数が２個であるように構成しても良い。ただし、上述のような光走査装置は、走査光学系の光軸に対して対称に構成されることが多い。このような場合、パッチ潜像形成工程及びパッチ現像工程を実行して形成される２個のパッチ画像それぞれの位置が、走査光学系の光軸に対して主走査方向に対称な位置であると、これら２個のパッチ画像の濃度は略同値となる。これに対して、パッチ潜像形成工程を、２個のパッチ潜像を走査光学系の光軸に対して主走査方向において互いに非対称な位置に形成するように構成しても良い。このように構成された発明では、パッチ潜像形成工程及びパッチ現像工程を実行して形成される２個のパッチ画像の濃度は、装置構成の対称性に依存することなく互いに異なる。よって、走査面に照射されるスポットが有する光量分布のピーク値の主走査方向における変化を高精度に検出することができる。よって、最適な光量パターンを求めることが可能となり、その結果、より良好な光走査動作の実行が可能となるため好適である。そして、より良好な光走査動作が実行可能な光走査装置により画像形成を実行することで、上述したような画像濃度の主走査方向位置による差異をより高精度に抑制して、より良好なハイライト像の形成が可能となり好適である。なお、この際、２個のパッチ潜像の１つは、走査光学系の光軸上に形成するように構成しても良い。