(57)【要約】  【課題】走行性（易滑性）が良好なフレキシブルプリント配線板を提供する。  【解決手段】ジアミン成分として４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、酸二無水物成分としてピロメリット酸二無水物とから主としてなり、かつ粒子径０．０１〜１．５μｍで平均粒子径０．０５〜０．７μｍである無機粒子を主体とする粉体がフィルム樹脂重量当たり０．１〜０．９重量％の割合でフィルム中に分散されているポリイミドフィルムを用い、このポリイミドフィルムの片面または両面に、接着剤を介して配線が形成されていることを特徴とするフレキシブルプリント配線板。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ジアミン成分として４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、酸二無水物成分としてピロメリット酸二無水物とから主としてなり、かつ粒子径０．０１〜１．５μｍで平均粒子径０．０５〜０．７μｍである無機粒子を主体とする粉体がフィルム樹脂重量当たり０．１〜０．９重量％の割合でフィルム中に分散されているポリイミドフィルムを用い、このポリイミドフィルムの片面または両面に、接着剤を介して配線が形成されていることを特徴とするフレキシブルプリント配線板。
【請求項２】
ジアミン成分として４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、酸二無水物成分としてピロメリット酸二無水物とから主としてなり、かつ粒子径０．０１〜１．５μｍで平均粒子径０．０５〜０．７μｍである無機粒子を主体とする粉体がフィルム樹脂重量当たり０．１〜０．９重量％の割合でフィルム中に分散されているポリイミドフィルムを用い、このポリイミドフィルムの片面または両面に、接着剤を介することなく配線が形成されていることを特徴とするフレキシブルプリント配線板。
【請求項３】
ジアミン成分として４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、酸二無水物成分としてピロメリット酸二無水物とから主としてなり、かつ粒子径０．０１〜１．５μｍで平均粒子径０．０５〜０．７μｍである無機粒子を主体とする粉体がフィルム樹脂重量当たり０．１〜０．９重量％の割合でフィルム中に分散されているポリイミドフィルムを用い、このポリイミドフィルムの片面に接着剤を介し、他方の片面に接着剤を介することなく、それぞれ配線が形成されていることを特徴とするフレキシブルプリント配線板。
【請求項４】
ポリイミドフィルムの弾性率が２〜６ＧＰａ、５０〜２００℃での線膨張係数が２０〜４０ｐｐｍ／℃、吸水率が３％以下、２００℃１時間での加熱収縮率が０．３０％以下であることを特徴とする請求項１〜３いずれか１項に記載のフレキシブルプリント配線板。
【請求項５】
配線が主として銅からなることを特徴とする請求項１〜４いずれか１項に記載のフレキシブルプリント配線板。
【請求項６】
接着剤が、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、およびポリイミド樹脂から選ばれる少なくとも１種から主としてなることを特徴とする請求項１，３、４および５のいずれか１項に記載のフレキシブルプリント配線板。
【請求項７】
配線が、金属層をエッチングすることにより形成されたものであることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載のフレキシブルプリント配線板。
【請求項８】
配線が、鍍金により形成されたものであることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載のフレキシブルプリント配線板。
【請求項９】
配線の上にカバーレイが積層されていることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載のフレキシブルプリント配線板。
【請求項１０】
無機粒子の粒度分布において、粒子径０．１５〜０．６０μｍの粒子が全粒子中８０体積％以上の割合を占めることを特徴とする請求項１〜９いずれか１項に記載のフレキシブル配線板。
【請求項１１】
無機粒子に起因したフィルム表面突起において、高さ２μｍ以上の突起数が５個／４０ｃｍ角以下であることを特徴とする請求項１〜１０いずれか１項に記載フレキシブル配線板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プリント配線板に関するものであり、更に詳しくはポリイミドフィルムを基材として、その片面あるいは両面に配線を形成することにより得られる走行性（易滑性）を向上させたフレキシブルプリント配線板に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年では、プリント配線板が広く電子・電機機器に使用されている。中でも、折り曲げ可能なフレキシブルプリント配線板は、パーソナルコンピューターや携帯電話等の折り曲げ部分、ハードディスク等の屈曲が必要な部分に広く使用されている。このようなフレキシブルプリント配線板の基材には、通常各種のポリイミドフィルムが使用されており、この種のポリイミドフィルムの代表的なものとしては、酸二無水物成分としてピロメリット酸ニ無水物を用い、ジアミン成分として４，４’−ジアミノジフェニルエーテルを用いるポリイミドフィルムが挙げられる。
【０００３】
このようなポリイミドフィルムは、機械的、熱的特性のバランスに優れた構造を有しており、汎用の製品として広く工業的に用いられている。
【０００４】
ところで、ポリイミドフィルムにおいては、プリント配線板用途に用いられる際に重要な実用特性として、フィルムの滑り性（易滑性）が挙げられる。様々なフィルム加工工程において、フィルム支持体（たとえばロール）とフィルムの易滑性、またフィルム同志の易滑性が確保されることにより、各工程における操作性、取り扱い性を向上させ、更にはフィルム上にシワ等の不良個所の発生が回避できるからである。
【０００５】
従来のポリイミドフィルムにおける易滑化技術としては、不活性無機化合物（例えばアルカリ土類金属のオルトリン酸塩、第２リン酸カルシウム無水物、ピロリン酸カルシウム、シリカ、タルク等）をポリアミック酸に添加する方法（例えば、特許文献１参照）、微細粒子によってフィルム表面に微細な突起を形成後、プラズマ処理を施す方法（例えば、特許文献２参照）が知られている。しかし、これらの文献に示される無機粒子は、粒子径が大きく、自動光学検査システムには適応しないという問題があった。
【０００６】
また、ポリイミド表層に平均粒子径が０．０１〜１００μｍである無機質粒子が、各粒子の一部をそれぞれ埋設させて保持されていて、一部露出した前記無機質粒子からなる多数の突起が該フィルムの表面層に１×１０〜５×１０８個／ｍｍ２存在させる方法（例えば、特許文献３参照）が知られている。この方法は、積極的に表面に突起を露出させ、フィルム表面の摩擦係数を低減させることにより、易滑性効果を効果的に得るものであるが、無機質粒子がフィルム表面に一部露出しているため、フィルム表面へのすり傷が発生し、外観不良をきたすといった問題を抱えていた。 
【特許文献１】特開昭６２−６８８５２号公報
【特許文献２】特開２０００−１９１８１０号公報
【特許文献３】特開平５−２５２９５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上述した従来技術における問題点の解決を課題として検討した結果達成されたものである。
【０００８】
したがって、本発明の目的は、走行性（易滑性）を向上させたフレキシブルプリント配線板を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記の目的を達成するために本発明によれば、
ジアミン成分として４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、酸二無水物成分としてピロメリット酸二無水物とから主としてなり、かつ粒子径０．０１〜１．５μｍで平均粒子径０．０５〜０．７μｍである無機粒子を主体とする粉体がフィルム樹脂重量当たり０．１〜０．９重量％の割合でフィルム中に分散されているポリイミドフィルムを用い、このポリイミドフィルムの片面または両面に、接着剤を介して配線が形成されていることを特徴とするフレキシブルプリント配線板、
ジアミン成分として４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、酸二無水物成分としてピロメリット酸二無水物とから主としてなり、かつ粒子径０．０１〜１．５μｍで平均粒子径０．０５〜０．７μｍである無機粒子を主体とする粉体がフィルム樹脂重量当たり０．１〜０．９重量％の割合でフィルム中に分散されているポリイミドフィルムを用い、このポリイミドフィルムの片面または両面に、接着剤を介することなく配線が形成されていることを特徴とするフレキシブルプリント配線板、および
ジアミン成分として４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、酸二無水物成分としてピロメリット酸二無水物とから主としてなり、かつ粒子径０．０１〜１．５μｍで平均粒子径０．０５〜０．７μｍである無機粒子を主体とする粉体がフィルム樹脂重量当たり０．１〜０．９重量％の割合でフィルム中に分散されているポリイミドフィルムを用い、このポリイミドフィルムの片面に接着剤を介し、他方の片面に接着剤を介することなく、それぞれ配線が形成されていることを特徴とするフレキシブルプリント配線板
が提供される。
【００１０】
さらに、本発明のフレキシブルプリント配線板においては、
ポリイミドフィルムの弾性率が２〜６ＧＰａ、５０〜２００℃での線膨張係数が２０〜４０ｐｐｍ／℃、吸水率が３％以下、２００℃１時間での加熱収縮率が０．３０％以下であること
配線が主として銅からなること
接着剤が、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、およびポリイミド樹脂から選ばれる少なくとも１種から主としてなること
配線が金属層をエッチングすることにより形成されたものであること
配線が鍍金により形成されたものであること
配線の上にカバーレイが積層されていること
無機粒子の粒度分布において、粒子径０．１５〜０．６０μｍの粒子が全粒子中８０体積％以上の割合を占めること、および
無機粒子に起因したフィルム表面突起において、高さ２μｍ以上の突起数が５個／４０ｃｍ角以下であること
が、いずれも好ましい条件として挙げられる。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、以下に説明するとおり、走行性（易滑性）を向上させたフレキシブルプリント配線板を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明について詳細に説明する。
【００１３】
本発明のフレキシブルプリント配線板は、基材としてポリイミドフィルムを用い、このポリイミドフィルムの片面または両面に配線を形成したものである。
【００１４】
本発明において基材として用いるポリイミドフィルムは、ジアミン成分として４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、酸二無水物成分としてピロメリット酸二無水物を用いて形成してなるポリイミドフィルムである。すなわち、４、４’−ジアミノジフェニルエーテル、ピロメリット酸二無水物の２種類を必須成分とし、これら２種類のみ、あるいはこれら２種類に加えて少量の別成分を加えることにより得られるポリイミドフィルムである。更に好ましくは、弾性率が２〜６ＧＰａ、５０〜２００℃での線膨張係数が２０〜４０ｐｐｍ／℃、吸水率が３％以下、２００℃１時間での加熱収縮率が０．３０％以下であるポリイミドフィルムである。
【００１５】
上記のポリイミドフィルムにおいて、硬さの指標である弾性率は２〜６ＧＰａの範囲が好ましく、６ＧＰａを超えると硬すぎ、２ＧＰａより小さいと柔らかすぎる。
【００１６】
線膨張係数は２０〜４０ｐｐｍ／℃が好ましく、４０ｐｐｍ／℃を超えると熱による寸法変化が大き過ぎ、２０ｐｐｍ／℃より小さくなると反りが生じてしまう。
【００１７】
吸水率が３％を超えると、吸い込んだ水の影響でフィルムの寸法変化が大きくなるので３％以下が好ましい。
【００１８】
２００℃１時間の加熱収縮率が０．３０％を超えるとやはり熱による寸法変化が大きくなるので、加熱収縮率は０．３０％以下が好ましい。
【００１９】
本発明におけるポリイミドフィルムには、上述の通り、４，４’―ジアミノジフェニルエーテル以外に少量のジアミンを添加してもよい。また、ピロメリット酸二無水物以外に少量の酸二無水物を添加してもよい。具体的なジアミン及び酸二無水物としては以下のものが挙げられるが、これらに限定されない。
【００２０】
（１）酸二無水物
３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，３’，３，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，３，６，７−ナフタレンジカルボン酸二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル、ピリジン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物、１，２，４，５−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、１，４，５，８−デカヒドロナフタレンテトラカルボン酸二無水物、４，８−ジメチル−１，２，５，６−ヘキサヒドロナフタレンテトラカルボン酸二無水物、２，６−ジクロロ−１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、２，７−ジクロロ−１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、２，３，６，７−テトラクロロ−１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、１，８，９，１０−フェナントレンテトラカルボン酸二無水物、２，２−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物、１，１−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、１，１−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホン二無水物、ベンゼン−１，２，３，４−テトラカルボン酸二無水物、３，４，３’，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物等。
【００２１】
（２）ジアミン
３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，３’−ジアミノジフェニルエーテル、パラフェニレンジアミン、メタフェニレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルプロパン、３，４’−ジアミノジフェニルプロパン、３，３’−ジアミノジフェニルプロパン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、３，４’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジアミノジフェニルメタン、ベンチジン、４，４’−ジアミノジフェニルサルファイド、３，４’−ジアミノジフェニルサルファイド、３，３’−ジアミノジフェニルサルファイド、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、３，４’−ジアミノジフェニルスルホン、３，３’−ジアミノジフェニルスルホン、２，６−ジアミノピリジン、ビス−（４−アミノフェニル）ジエチルシラン、３，３’−ジクロロベンチジン、ビス−（４−アミノフェニル）エチルホスフィノキサイド、ビス−（４−アミノフェニル）フェニルホスフィノキサイド、ビス−（４−アミノフェニル）−Ｎ−フェニルアミン、ビス−（４−アミノフェニル）−Ｎ−メチルアミン、１，５−ジアミノナフタレン、３，３’−ジメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、３，４’−ジメチル−３’，４−ジアミノビフェニル３，３’−ジメトキシベンチジン、２，４−ビス（ｐ−β−アミノ−ｔ−ブチルフェニル）エーテル、ビス（ｐ−β−アミノ−ｔ−ブチルフェニル）エーテル、ｐ−ビス（２−メチル−４−アミノペンチル）ベンゼン、ｐ−ビス−（１，１−ジメチル−５−アミノペンチル）ベンゼン、ｍ−キシリレンジアミン、ｐ−キシリレンジアミン、１，３−ジアミノアダマンタン、３，３’−ジアミノ−１，１’−ジアミノアダマンタン、３，３’−ジアミノメチル１，１’−ジアダマンタン、ビス（ｐ−アミノシクロヘキシル）メタン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、デカメチレンジアミン、３−メチルヘプタメチレンジアミン、４，４’−ジメチルヘプタメチレンジアミン、２，１１−ジアミノドデカン、１，２−ビス（３−アミノプロポキシ）エタン、２，２−ジメチルプロピレンジアミン、３−メトキシヘキサエチレンジアミン、２，５−ジメチルヘキサメチレンジアミン、２，５−ジメチルヘプタメチレンジアミン、５−メチルノナメチレンジアミン、１，４−ジアミノシクロヘキサン、１，１２−ジアミノオクタデカン、２，５−ジアミノ−１，３，４−オキサジアゾール、２，２−ビス（４−アミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン、Ｎ−（３−アミノフェニル）−４−アミノベンズアミド、４−アミノフェニル−３−アミノベンゾエート等。
【００２２】
ポリイミドフィルムを製造する際には、通常まずジアミンと酸二無水物との重合から前駆体であるポリアミック酸を合成し、しかる後にフィルム状にしながら、或いはフィルム状にした後にイミド化してポリイミドフィルムとする。重合の際に用いる溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどが挙げられるが、これらに限定されない。また、β−ピコリンのような第三級アミン類に代表される各種触媒、無水酢酸のような有機カルボン酸無水物に代表される各種脱水剤などを適宜使用してもよい。
【００２３】
本発明で使用するポリイミドフィルムにおいては、走行性（易滑性）を良好なものにするために、無機粒子を添加することが必須である。ここで言う走行性とは、静摩擦係数に現れてくるものであり、静摩擦係数が１を越えると極端に走行性が悪くなるので、静摩擦係数を１未満にすることを目的としている。
【００２４】
このような無機粒子においては、粉体粒子径が０．０１〜１．５μｍの範囲内にあること、かつ平均粒子径が０．０５μｍ〜０．７μｍの範囲、より好ましくは０．１〜０．６μｍの範囲、さらにより好ましくは０．３〜０．５μｍの範囲にある場合には、該ポリイミドフィルムの自動光学検査システムでの検査に問題なく適応できる。また、フィルムの機械物性等の低下を発生させずに使用可能である。逆に、これらの範囲より平均粒子径が下回ると、フィルムへの充分な易滑性が得られず、上回ると、自動検査システムで該無機粒子が異物と判断され障害を来すことになるため好ましくない。
【００２５】
無機粒子の含有量は、フィルム樹脂重量当たり０．１〜０．９重量％が好ましく、０．３〜０．８重量％の割合で含まれていることがより好ましい。含有量が０．１重量％以下では、フィルム表面の突起数が不足することによってフィルムへの充分な易滑性が得られないばかりか、搬送性が悪化し、ロールに巻いた時のフィルム巻姿も悪化するため好ましくない。また、０．９重量％以上であると、フィルムの易滑性は良化するものの、粒子の異常凝集による粗大突起が増加し、これが結果的に自動検査システムで異物と判断され障害を来すことになるため好ましくない。
【００２６】
無機粒子による表面突起により、フィルム表面積も拡大し、十分に粗面化されアンカー効果が見られ接着性を損なうこともなくなる。
【００２７】
無機粒子の粒度分布においては狭い分布であること、つまり類似の大きさの粒子が全粒子に占める割合が高い方が良く、具体的には粒子径０．１５〜０．６０μｍの粒子が全粒子中８０体積％以上の割合を占めることが好ましい。この範囲を下回り０．１５μｍ以下の粒子の占める割合が高くなると、フィルムの易滑性が低下するため好ましくない。また、無機粒子送液の際には５μｍカットフィルターや１０μｍカットフィルターにより粗粒を除去することが可能であるが、０．６０μｍ以上の粒子の占める割合が高くなると、フィルターの目詰まりを頻発させてしまい、工程安定性を損ねるばかりか、粒子の粗大凝集が生じやすくなるため好ましくない。
【００２８】
無機粒子に起因したフィルム表面突起においては、高さ２μｍ以上の突起数が５個／４０ｃｍ角以下であること、より好ましくは３個／４０ｃｍ角以下、さらにより好ましくは１個／４０ｃｍ角以下であることが望ましい。これよりも多いと自動検査システムで該無機粒子が異物と判断され障害を来すことになるため好ましくない。
【００２９】
このような無機粒子を、ポリイミドの製造に使用される有機溶媒と同じ極性溶媒に分散させたスラリーを、ポリイミド製造工程中のポリアミド酸溶液に添加した後、脱環化脱溶媒させてポリイミドフィルムを得ることが好ましいが、ポリアミド酸重合前の有機溶媒中に無機粒子スラリーを添加した後、ポリアミド酸重合、脱環化脱溶媒を経てポリイミドフィルムを得ることなど、脱環化脱溶媒前の工程であればいかなる工程においても無機粒子スラリーを添加することが可能である。
【００３０】
次に、ポリイミドの重合方法について説明する。重合方法は公知のいずれの方法で行ってもよく、例えば（１）〜（２）が挙げられる。
（１）先にジアミン成分全量を溶媒中に入れ、その後酸二無水物成分をジアミン成分全量と当量になるよう加えて重合する方法。
（２）先に酸二無水物類成分全量を溶媒中に入れ、その後ジアミン成分を酸二無水物成分と等量になるよう加えて重合する方法。
【００３１】
なお、重合方法はこれらに限定されることはなく、その他公知の方法を用いてもよい。
【００３２】
こうして得られるポリアミック酸溶液は、固形分を５〜４０重量％、好ましくは１０〜３０重量％を含有しており、またその粘度はブルックフィールド粘度計による測定値で１０〜２０００Ｐａ・ｓ、好ましくは、１００〜１０００Ｐａ・ｓのものが、安定した送液のために好ましく使用される。また、有機溶媒溶液中のポリアミック酸は部分的にイミド化されていてもよい。
【００３３】
次いで、ポリアミック酸溶液を口金から押し出し、例えばドラム上やベルト上にキャストしてフィルムの形状とし、しかる後にドラムあるいはベルトから引き剥がし、適当な温度をかけてポリイミドに変換させる。ドラムあるいはベルト上にキャストする際、適当な温度をかけてイミド化や溶媒除去を促進させてもよい。  
【００３４】
ポリイミドフィルムの厚みについては特に限定されないが、好ましくは１〜２２５μｍ、より好ましくは３〜１７５μｍ、更に好ましくは５〜１２５μｍである。厚すぎるとロール状にした際に巻きずれが発生しやすくなり、薄すぎるとしわなどが入りやすくなる。
【００３５】
本発明においては、上記のようなポリイミドフィルムの片面あるいは両面に、接着剤を介して、あるいは接着剤無しで配線を形成し、フレキシブルプリント配線板を形成する。
【００３６】
接着剤を用いる場合の接着剤としては、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、及びポリイミド樹脂から選ばれる少なくとも１種が好ましい。これらの中でも、特にエポキシ樹脂やポリイミド樹脂が好ましい。これらの接着剤には、柔軟性を持たせる目的で、各種ゴム、可塑剤、硬化剤、リン系等の難燃剤、その他の各種添加物が付与されていてもよい。また、ポリイミド樹脂は主として熱可塑性ポリイミドが用いられることが多いが、熱硬化性ポリイミドであってもよい。ポリイミド樹脂の場合、通常は溶媒不要な場合が多いが、適当な有機溶媒に可溶なポリイミドを用いてもよい。
【００３７】
配線形成の方法としては、サブトラクティブ法、セミアディティブ法、フルアディティブ法等が挙げられる。サブトラクティブ法とは、接着剤を介してポリイミドフィルム上に銅箔を貼り、銅箔を配線パターン状にエッチング処理することで配線を形成する方法、或いは接着剤を介さずに直接銅層をポリイミドフィルム上に形成し、銅層を配線パターン状にエッチング処理することで配線を形成する方法を意味する。
【００３８】
銅箔を貼り付ける場合の銅箔としては、圧延銅箔又は電解銅箔が用いられる。
【００３９】
また、配線を形成する際には、通常フォトレジスト層を銅箔上に形成し、このフォトレジスト層を選択露光及び現像処理することで配線状にパターニングし、パターニングしたフォトレジスト層をエッチングマスクとして銅をエッチング処理し、その後にフォトレジスト層を完全に除去する。ここで、フォトレジストとしては、液状あるいはドライフィルムレジストが用いられ、エッチング液としては、塩化鉄系、塩化銅系、過酸系等の溶液が用いられる。
【００４０】
セミアディティブ法とは、まずポリイミドフィルム上に直接、或いは接着剤を介してシード層となる金属層を形成し、このシード層の上にフォトレジスト層を形成し、フォトレジスト層を選択露光及び現像処理することで配線状にパターニングし、パターニングしたフォトレジスト層を鍍金マスクとしてシード層上に無電解鍍金或いは電解鍍金にて配線を形成し、その後にフォトレジストを完全に除去し、最後に配線以外の部分のシード層をエッチング除去する方法を意味する。ここで、シード層金属としては、ニッケル、クロム、アルミニウム、鉛、銅、錫、亜鉛、鉄、銀、金等が単独或いは合金として使用される。また、フォトレジストとしては、液状あるいはドライフィルムレジストが用いられ、無電解鍍金或いは電解鍍金の金属としては、鉛、銅、ニッケル、クロム、錫、亜鉛、銀、金等が用いられ、エッチング液としては、シード層の金属に合わせたエッチング液が用いられる。
【００４１】
フルアディティブ法とは、ポリイミドフィルム上に直接、或いは接着剤の上にフォトレジスト層を形成し、フォトレジスト層を選択露光及び現像処理することで配線状にパターニングし、パターニングしたフォトレジスト層を鍍金マスクとして無電解鍍金にて配線を形成し、その後にフォトレジストを完全に除去する方法を意味する。ここで、フォトレジストとしては、液状あるいはドライフィルムレジストが用いられ、無電解鍍金の金属としては、銅、ニッケル、鉛、クロム、錫、亜鉛、銀、金等が用いられる。
【００４２】
上記のような各種配線形成の方法に用いられる金属としては、主として銅が好ましい。形成された配線は電気・電子回路として用いられるが、銅よりも抵抗の高い金属では、電気伝導性が悪なるため好ましくない。また、銅に比べて密度が疎になる金属では、やはり電気伝導性が悪くなるため好ましくない。但し、銅は錆びやすく腐食されやすい欠点も有しているので、銅を保護する目的で、錫や鉛、アルミニウム、ニッケル、銀、金等の金属を銅の上に形成することは任意である。また、銅はポリイミドフィルム中に拡散しやすいため、銅の拡散を防ぐ目的で、ニッケルやクロム、銀、金、錫等をポリイミドフィルムと銅との間にバリア層としてかませることも任意である。
【００４３】
以上のように形成されたフレキシブル配線板は、そのまま用いてもよいが、好ましくは保護の為にカバーレイを貼り付けて用いることが好ましい。この場合のカバーレイは、通常ポリイミドフィルム上に接着剤層が形成されたものを用いる。ここで、カバーレイに用いられるポリイミドフィルムは特に限定されないが、好ましくはフレキシブル配線板に用いたものと同一あるいは類似の組成を有するポリイミドフィルムを用いるのがよい。また、カバーレイの接着剤としては、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等が用いられる。カバーレイは配線全部を保護してもよく、また半導体搭載部分等を除いた部分だけを保護してもよい。カバーレイはあらかじめポリイミドフィルムの上に接着剤が塗布されたものを、配線板に貼り合わせるのが通常であるが、場合によっては配線板の上に接着剤を塗布し、その後にポリイミドフィルムを貼り付けてもよい。
【実施例】
【００４４】
以下、実施例にて具体的に説明する。なお、実施例で用いるポリイミドフィルムは合成例１〜４の方法により製膜したものを用いるが、これらに限定されない。また、比較例１〜４で用いるポリイミドフィルムは、合成例５〜８により製膜したものを用いる。更に、実施例で用いる接着剤としては、合成例９〜１０により調合したものを用いるが、これらに限定されない。なお、フィルム厚さ、線膨張係数、弾性率、吸水率、加熱収縮率、摩擦係数（静摩擦係数）、自動光学検査（ＡＯＩ）、無機粒子の評価、異常突起数については以下の（１）〜（９）の方法で測定した。
【００４５】
（１）フィルム厚
Ｍｉｔｕｔｏｙｏ製ライトマチック（Series318 ）を使用して測定した。
【００４６】
（２）線膨張係数
島津製作所製ＴＭＡ−５０を使用し、測定温度範囲：５０〜２００℃、昇温速度：１０℃／ｍｉｎの条件で測定した。
【００４７】
（３）弾性率
エー・アンド・デイ製ＲＴＭ−２５０を使用し、引張速度：１００ｍｍ／ｍｉｎの条件で測定した。
【００４８】
（４）吸水率
９８％ＲＨ雰囲気下のデシケーター内に２日間静置し、乾燥時重量に対しての増加重量％で評価した。
【００４９】
（５）加熱収縮率
２０ｃｍ×２０ｃｍのフィルムを用意し、２５℃、６０％ＲＨに調整された部屋に２日間放置した後のフィルム寸法（Ｌ１）を測定し、続いて２００℃６０分間加熱した後再び２５℃、６０％ＲＨに調整された部屋に２日間放置した後フィルム寸法（Ｌ２）を測定し、下記式計算により評価した。
加熱収縮率  ＝  −[（Ｌ２−Ｌ１）／Ｌ１]×１００
【００５０】
（６）摩擦係数（静摩擦係数）
フィルムの処理面同士を重ね合わせ、ＪＩＳ  Ｋ−７１２５（１９９９）に基づき測定した。すなわち、スベリ係数測定装置Ｓｌｉｐ  Ｔｅｓｔｅｒ（株式会社テクノニーズ製）を使用し、フィルム処理面同士を重ね合わせて、その上に２００ｇのおもりを載せ、フィルムの一方を固定、もう一方を１００ｍｍ／分で引っ張り、摩擦係数を測定した。
【００５１】
（７）自動光学検査（ＡＯＩ）
オルボテックのＳＫ−７５を使用してベースフィルムを検査した。異物と微粒子の区別の付く場合を「○」評価、一方異物と微粒子の大きさが類似していて、両者の区別が付かない場合を「×」評価とした。
【００５２】
（８）無機粒子の評価
堀場製作所のレーザ回析／散乱式粒度分布測定装置ＬＡ−９１０を用い、極性溶媒に分散させた試料を測定、解析した結果から粒子径範囲、平均粒子径、粒子径０．１５〜０．６０μｍの全粒子中に対する占有率を読み取った。
【００５３】
（９）異常突起数
フィルム４０ｃｍ角面積当たりにおいて、高さ２μｍ以上の突起数をカウントした。高さ測定は、レーザーテック（株）製走査型レーザー顕微鏡「１ＬＭ１５Ｗ」にて、ニコン製１００倍レンズ（ＣＦ  Ｐｌａｎ  １００×／０．９５  ∞／０  ＥＰＩ）を用いて、「ＳＵＲＦＡＣＥ１」モードにてフィルム表面を撮影・解析することにより確認した。
【００５４】
（合成例１）
ピロメリット酸二無水物（分子量２１８．１２）／４，４’−ジアミノジフェニルエーテル（分子量２００．２０）をモル比で１／１の割合で混合し、ＤＭＡｃ（Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド）１８．５重量％溶液にして重合し、ポリアミド酸を得た。無水酢酸（分子量１０２．０９）とイソキノリンからなる転化剤を、ポリアミド酸溶液に対し５０重量％の割合で混合、攪拌した。この時、ポリアミド酸のアミド酸基に対し、無水酢酸及びイソキノリンがそれぞれ２．０及び０．４モル当量になるように調製した。この混合物に、粒径が０．０１μｍ以上１．５μｍ以下に収まっており、平均粒子径が０．３０μｍ、粒子径が０．１５〜０．６０μｍである粒子が全粒子中８７．２体積％のシリカのＮ，Ｎージメチルアセトアミドスラリーを、前記ワニス状ポリアミド酸溶液に樹脂重量当たり０．３重量％添加し、十分攪拌、分散させた後、Ｔ型スリットダイより回転する１００℃のステンレス製ドラム上にキャストし、残揮発成分が５５重量％、厚み約０．２０ｍｍの自己支持性を有するゲルフィルムを得た。このゲルフィルムをドラムから引き剥がし、その両端を把持し、加熱炉にて２００℃×３０秒、３５０℃×３０秒、５５０℃×３０秒処理し、厚さ２５μｍのポリイミドフィルムを得た。このポリイミドフィルムの物性を表１に示す。
【００５５】
（合成例２）
ピロメリット酸二無水物（分子量２１８．１２）／４，４’−ジアミノジフェニルエーテル（分子量２００．２０）をモル比で１／１の割合で混合し、ＤＭＦ（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）１８．５重量％溶液にして重合し、ポリアミド酸を得た。無水酢酸（分子量１０２．０９）とイソキノリンからなる転化剤をポリアミド酸溶液に対し５０重量％の割合で混合、攪拌した。この時、ポリアミド酸のアミド酸基に対し、無水酢酸及びイソキノリンがそれぞれ２．０及び０．４モル当量になるように調製した。この混合物に、粒径が０．０１μｍ以上１．５μｍ以下に収まっており、平均粒子径が０．３８μｍ、粒子径が０．１５〜０．６０μｍである粒子が全粒子中８６．３体積％のシリカのＮ，Ｎージメチルアセトアミドスラリーを、前記ワニス状ポリアミド酸溶液に樹脂重量当たり０．３５重量％添加し、十分攪拌、分散させた後、Ｔ型スリットダイより回転する１００℃のステンレス製ドラム上にキャストし、残揮発成分が５５重量％、厚み約０．１０ｍｍの自己支持性を有するゲルフィルムを得た。このゲルフィルムをドラムから引き剥がし、その両端を把持し、加熱炉にて２００℃×３０秒、３５０℃×３０秒、５５０℃×３０秒処理し、厚さ１２．５μｍのポリイミドフィルムを得た。このポリイミドフィルムの物性を表１に示す。
【００５６】
（合成例３）
ピロメリット酸二無水物（分子量２１８．１２）／４，４’−ジアミノジフェニルエーテル（分子量２００．２０）をモル比で１／１の割合で混合し、ＤＭＡｃ（Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド）１８．５重量％溶液にして重合し、ポリアミド酸を得た。無水酢酸（分子量１０２．０９）とイソキノリンからなる転化剤を、ポリアミド酸溶液に対し５０重量％の割合で混合、攪拌した。この時、ポリアミド酸のアミド酸基に対し、無水酢酸及びイソキノリンがそれぞれ２．０及び０．４モル当量になるように調製した。この混合物に、粒径が０．０１μｍ以上１．５μｍ以下に収まっており、平均粒子径が０．４５μｍ、粒子径が０．１５〜０．６０μｍである粒子が全粒子中８７．７体積％のシリカのＮ，Ｎージメチルアセトアミドスラリーを、前記ワニス状ポリアミド酸溶液に樹脂重量当たり０．３重量％添加し、十分攪拌、分散させた後、Ｔ型スリットダイよりエンドレスベルト上にキャストし、７０℃の熱風にて加熱し、残揮発成分が５５重量％、厚み約１．００ｍｍの自己支持性を有するゲルフィルムを得た。このゲルフィルムをエンドレスベルトから引き剥がし、その両端を把持し、加熱炉にて２００℃×６０秒、３５０℃×６０秒、５５０℃×４５秒処理し、厚さ１２５μｍのポリイミドフィルムを得た。このポリイミドフィルムの物性を表１に示す。
【００５７】
（合成例４）
ピロメリット酸二無水物（分子量２１８．１２）／３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物（分子量３２２．２０）／４，４’−ジアミノジフェニルエーテル（分子量２００．２０）をモル比で９９／１／１００の割合で混合し、ＤＭＡｃ（Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド）１８．５重量％溶液にして重合し、ポリアミド酸を得た。無水酢酸（分子量１０２．０９）とイソキノリンからなる転化剤を、ポリアミド酸溶液に対し５０重量％の割合で混合、攪拌した。この時、ポリアミド酸のアミド酸基に対し、無水酢酸及びイソキノリンがそれぞれ２．０及び０．４モル当量になるように調製した。この混合物に、粒径が０．０１μｍ以上１．５μｍ以下に収まっており、平均粒子径が０．３５μｍ、粒子径が０．１５〜０．６０μｍである粒子が全粒子中８７．０体積％のシリカのＮ，Ｎージメチルアセトアミドスラリーを、前記ワニス状ポリアミド酸溶液に樹脂重量当たり０．５重量％添加し、十分攪拌、分散させた後、Ｔ型スリットダイよりエンドレスベルト上にキャストし、５０℃の熱風にて加熱し、残揮発成分が５５重量％、厚み約０．２０ｍｍの自己支持性を有するゲルフィルムを得た。このゲルフィルムをエンドレスベルトから引き剥がし、その両端を把持し、加熱炉にて１５０℃×３０秒、３００℃×３０秒、４００℃×２０秒、５５０℃×２０秒処理し、厚さ１２．５μｍのポリイミドフィルムを得た。このポリイミドフィルムの物性を表１に示す。
【００５８】
（合成例５）
合成例１において、シリカを添加しないこと以外は、全て合成例１と同様の方法でポリイミドフィルムを得た。このポリイミドフィルムの物性を表１に示す。
【００５９】
（合成例６）
合成例２において使用したシリカを、粒径が０．１μｍ以上４．５μｍ以下に収まっており、平均粒子径が１．１μｍ、粒子径が０．１５〜０．６０μｍである粒子が全粒子中２７．３体積％のシリカに変更し、Ｎ，Ｎージメチルアセトアミドスラリーを、前記ワニス状ポリアミド酸溶液に樹脂重量当たり０．２重量％添加したこと以外は、全て合成例２と同様の方法でポリイミドフィルムを得た。このポリイミドフィルムの物性を表１に示す。
【００６０】
（合成例７）
合成例３において使用したシリカを、粒径が０．０１μｍ以上０．３μｍ以下に収まっており、平均粒子径が０．０３μｍ、粒子径が０．１５〜０．６０μｍである粒子が全粒子中３１．４体積％のシリカに変更し、Ｎ，Ｎージメチルアセトアミドスラリーを、前記ワニス状ポリアミド酸溶液に樹脂重量当たり０．３５重量％添加したこと以外は、全て合成例３と同様の方法でポリイミドフィルムを得た。このポリイミドフィルムの物性を表１に示す。
【００６１】
（合成例８）
合成例４において使用したシリカを、粒径が０．０１μｍ以上２．０μｍ以下に収まっており、平均粒子径が０．４μｍ、粒子径が０．１５〜０．６０μｍである粒子が全粒子中７２．６体積％のシリカに変更し、Ｎ，Ｎージメチルアセトアミドスラリーを、前記ワニス状ポリアミド酸溶液に樹脂重量当たり０．３５重量％添加したこと以外は、全て合成例４と同様の方法でポリイミドフィルムを得た。このポリイミドフィルムの物性を表１に示す。
【００６２】
（合成例９）
油化シェル（株）製エポキシ樹脂“エピコート”８３４の５０重量部、東都化成（株）リン含有エポキシ樹脂ＦＸ２７９ＢＥＫ７５の１００重量部、住友化学（株）製硬化剤４，４’−ＤＤＳの６重量部、ＪＳＲ（株）ＮＢＲ（ＰＮＲ−１Ｈ）の１００重量部、昭和電工（株）製水酸化アルミニウムの３０重量部を、メチルイソブチルケトン６００重量部に３０℃で攪拌、混合し、接着剤溶液を得た。
【００６３】
（合成例１０）
油化シェル（株）製エポキシ樹脂“エピコート”８２８の５０重量部、東都化成（株）リン含有エポキシ樹脂ＦＸ２７９ＢＥＫ７５の８０重量部、住友化学（株）製硬化剤４，４’−ＤＤＳの６重量部、ＪＳＲ（株）ＮＢＲ（ＰＮＲ−１Ｈ）の１００重量部、昭和電工（株）製水酸化アルミニウムの１０重量部を、メチルイソブチルケトン６００重量部に３０℃で攪拌、混合し、接着剤溶液を得た。
【００６４】
［実施例１］
合成例１で製膜したポリイミドフィルムを用い、この片面に合成例９の接着剤を塗布し、１５０℃×５分間加熱乾燥し、乾燥膜厚１０μｍの接着剤層を形成した。この片面接着剤付きポリイミドフィルムと、１／２オンス銅箔（日鉱グールド・フォイル（株）製、ＪＴＣ箔）とを、熱ロールラミネート機を用いてラミネート温度１６０℃、ラミネート圧力１９６Ｎ／ｃｍ（２０ｋｇｆ／ｃｍ）、ラミネート速度１．５ｍ／分の条件で熱ラミネートを行い、片面フレキシブル銅張板を作製した。
【００６５】
得られた銅張板を用い、片面の銅箔の上にクラリアントジャパン（株）製フォトレジストＡＺＰ４６２０を、１０５℃１０分間の乾燥後膜厚１０μｍで形成し、ライン幅／スペース幅＝３５μｍ／３５μｍの櫛形パターンが配置されている三谷電子工業（株）製ガラスフォトマスクを用いて４００ｍＪ／ｃｍ２（全波長）で露光、ＡＺ４００Ｋ／水＝２５／７５（重量比）の現像液で現像し、フォトレジストを櫛形状にパターニングした。その後、塩化鉄３０重量％水溶液を用い、４０℃９０秒間で銅エッチングを行い、フォトレジストが形成されていない部分の銅を除去した。銅エッチング終了後、水酸化ナトリウム２．５重量％水溶液を用い、４０℃１分間でフォトレジストを剥離した。このようにして、片面にライン／スペース＝３５／３５μｍの回路パターンを形成し、片面フレキシブルプリント配線板を得た。
【００６６】
得られた片面フレキシブルプリント配線板のポリイミドフィルム部分の静摩擦係数、ＡＯＩ、異常突起数を測定した。結果を表１に示す。
【００６７】
［比較例１］
実施例１において、合成例１で製膜したポリイミドフィルムを、合成例５で製膜したポリイミドフィルムに変更した以外は、全て実施例１と同様にしてフレキシブル配線板を形成し、実施例１と同様の評価を実施した。結果を表１に示す。静摩擦係数が１を越えており、走行性が極端に悪かった。
【００６８】
［実施例２］
合成例２で製膜したポリイミドフィルムを用い、この両面に合成例１０の接着剤を塗布し、１５０℃×５分間加熱乾燥し、乾燥膜厚１０μｍの接着剤層を形成した。この両面接着剤付きポリイミドフィルムと、１／２オンス銅箔（日鉱グールド・フォイル（株）製、ＪＴＣ箔）とを、熱ロールラミネート機を用いてラミネート温度１６０℃、ラミネート圧力１９６Ｎ／ｃｍ（２０ｋｇｆ／ｃｍ）、ラミネート速度１．５ｍ／分の条件で熱ラミネートを行い、両面フレキシブル銅張板を作製した。
【００６９】
得られた銅張板を用い、両面の銅箔の上にクラリアントジャパン（株）製フォトレジストＡＺＰ４６２０を、１０５℃１０分間の乾燥後膜厚１０μｍで形成し、ライン幅／スペース幅＝２５μｍ／２５μｍの櫛形パターンが配置されている三谷電子工業（株）製ガラスフォトマスクを用いて４００ｍＪ／ｃｍ２（全波長）で露光、ＡＺ４００Ｋ／水＝２５／７５（重量比）の現像液で現像し、フォトレジストを櫛形状にパターニングした。その後、塩化銅３０重量％水溶液を用い、４０℃２分間で銅エッチングを行い、フォトレジストが形成されていない部分の銅を除去した。銅エッチング終了後、水酸化ナトリウム２．５重量％水溶液を用い、４０℃１分間でフォトレジストを剥離した。このようにして、両面にライン／スペース＝２５／２５μｍの回路パターンを形成し、両面フレキシブルプリント配線板を得た。
【００７０】
得られた両面フレキシブルプリント配線板のポリイミドフィルム部分の静摩擦係数、ＡＯＩ、異常突起数を測定した。結果を表１に示す。
【００７１】
［比較例２］
実施例２において、合成例２で製膜したポリイミドフィルムを合成例６で製膜したポリイミドフィルムに変更した以外は、全て実施例２と同様にしてフレキシブル配線板を形成し、実施例２と同様の評価を実施した。結果を表１に示す。異常突起が多く、ＡＯＩも不良であった。
【００７２】
［実施例３］
合成例３で製膜したポリイミドフィルムを用い、真空槽を到達圧力１×１０−３Ｐａにした後、アルゴンガス圧１×１０−１ＰａにてＤＣマグネトロンスパッタによりニッケル／クロム＝９５／５（重量比）のニクロム合金を厚さ５ｎｍになるように片面にスパッタリングし、更に銅を厚さ５０ｎｍになるようにスパッタリングした。次に、硫酸銅浴による電解鍍金で６μｍの厚さの銅層を、２Ａ／ｄｍ２の電流密度の条件により積層し、片面フレキシブル銅張板を作製した。なお、硫酸銅浴の組成は、硫酸銅五水和物８０ｇ／リットル、硫酸２００ｇ／リットル、塩酸５０ｍｇ／リットルに適宜量の添加剤を加えた溶液を用いた。
【００７３】
得られた銅張板を用い、片面の銅箔の上にクラリアントジャパン（株）製フォトレジストＡＺＰ４６２０を１０５℃１０分間の乾燥後膜厚５μｍで形成し、ライン幅／スペース幅＝１５μｍ／１５μｍの櫛形パターンが配置されている三谷電子工業（株）製ガラスフォトマスクを用いて４００ｍＪ／ｃｍ２（全波長）で露光、ＡＺ４００Ｋ／水＝２５／７５（重量比）の現像液で現像し、フォトレジストを櫛形状にパターニングした。その後、塩化鉄３０重量％水溶液を用い、４０℃９０秒間で銅エッチングを行い、フォトレジストが形成されていない部分の銅を除去した。銅エッチング終了後、水酸化ナトリウム２．５重量％水溶液を用い、４０℃１分間でフォトレジストを剥離した。このようにして、片面にライン／スペース＝１５／１５μｍの回路パターンを形成し、片面フレキシブルプリント配線板を得た。
【００７４】
得られた片面フレキシブルプリント配線板のポリイミドフィルム側の静摩擦係数、ＡＯＩ、異常突起数を測定した。結果を表１に示す。
【００７５】
［比較例３］
実施例３において、合成例３で製膜したポリイミドフィルムを合成例７で製膜したポリイミドフィルムに変更した以外は、全て実施例３と同様にしてフレキシブル配線板を形成し、実施例３と同様の評価を実施した。結果を表１に示す。静摩擦係数が１を越えており、走行性が極端に悪かった。
【００７６】
［実施例４］
合成例４で製膜したポリイミドフィルムを用い、真空槽を到達圧力１×１０−３Ｐａにした後、アルゴンガス圧１×１０−１ＰａにてＤＣマグネトロンスパッタによりニッケル／クロム＝９０／１０（重量比）のニクロム合金を厚さ３ｎｍになるように両面にスパッタリングし、更に銅を厚さ１０ｎｍになるようにスパッタリングした。次に、硫酸銅浴による電解鍍金で５μｍの厚さの銅層を、２Ａ／ｄｍ２の電流密度の条件により積層し、両面フレキシブル銅張板を作製した。なお、硫酸銅浴の組成は、硫酸銅五水和物８０ｇ／リットル、硫酸２００ｇ／リットル、塩酸５０ｍｇ／リットルに適宜量の添加剤を加えた溶液を用いた。
【００７７】
得られた銅張板を用い、両面の銅箔の上に日本ペイント（株）製フォトレジストオプトＥＲ  Ｎ−３５０を１０５℃５分間の乾燥後膜厚５μｍで形成し、ライン幅／スペース幅＝３５μｍ／３５μｍの櫛形パターンが配置されている三谷電子工業（株）製ガラスフォトマスクを用いて５０ｍＪ／ｃｍ２（全波長）で露光、炭酸ナトリウム１重量％水溶液の現像液で現像し、フォトレジストを櫛形状にパターニングした。その後、塩化鉄３０重量％水溶液を用い、４０℃９０秒間で銅エッチングを行い、フォトレジストが形成されていない部分の銅を除去した。銅エッチング終了後、水酸化ナトリウム２．５重量％水溶液を用い、４０℃１分間でフォトレジストを剥離した。このようにして、両面にライン＆スペース＝３５／３５μｍの回路パターンを形成し、両面フレキシブルプリント配線板を得た。
【００７８】
得られた両面フレキシブルプリント配線板のポリイミドフィルム側の静摩擦係数、ＡＯＩ、異常突起数を測定した。結果を表１に示す。
【００７９】
［比較例４］
実施例４において、合成例４で製膜したポリイミドフィルムを合成例８で製膜したポリイミドフィルムに変更した以外は、全て実施例４と同様にしてフレキシブル配線板を形成し、実施例４と同様の評価を実施した。結果を表１に示す。異常突起が多く、ＡＯＩも不良であった。
【００８０】
【表１】
2008166553.tif 000002
【産業上の利用可能性】
【００８１】
本発明のフレキシブル配線板ＡＯＩに適応可能な特性を備えると共に、走行性（易滑性）、接着性にも優れていることから、微細な配線を形成する高性能のフレキシブルプリント配線基板（ＦＰＣ）として極めて有用である。