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【手続補正書】
【提出日】平成21年6月24日(2009.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被写体光を光電変換し、映像信号を出力するカメラ部と、
前記映像信号を符号化する符号化手段と、
前記カメラ部の動作状況に関する情報を取得するカメラ情報取得手段と、
前記カメラ情報取得手段により取得された情報に基づいて、前記符号化手段の符号化動作の開始前に、前記符号化手段の最初の符号化動作のための符号化パラメータである初期パラメータを算出する演算手段と、
を具備することを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記演算手段は、前記カメラ部が動作を開始してから、前記符号化手段が符号化動作を開始するまでの間に、前記初期パラメータを所定時間間隔ごとに演算することを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記演算手段により算出された初期パラメータを記憶する記憶手段をさらに具備し、前記符号化手段は、前記記憶手段から前記初期パラメータを読み出して、前記映像信号の符号化を行なうことを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項４】
前記カメラ情報取得手段は、前記カメラ部の動作状況に関する情報にフィルタ処理を行なうフィルタ処理手段を備えることを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項５】
前記フィルタ処理手段によって行われるフィルタ処理は、平滑化フィルタ処理であることを特徴とする請求項４に記載の撮像装置。
【請求項６】
前記カメラ情報取得手段によって取得される情報は、前記カメラ部の、フォーカス情報、手ぶれ情報、ズーム情報、パン及びチルト情報のうち少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項７】
前記符号化手段は、前記映像信号に対する符号量が目標符号量になるように符号量制御を行なうとともに、該符号量制御を可変ビットレート方式により行なうことを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項８】
前記初期パラメータは、可変ビットレート方式における短期目標ビットレートであることを特徴とする請求項７に記載の撮像装置。
【請求項９】
前記符号化手段は、前記短期目標ビットレートを目標収束ビットレートより低く設定し、所定の時間をかけて徐々に前記目標収束ビットレートに収束させる第１の符号量制御動作と、前記短期目標ビットレートを目標収束ビットレートより高く設定し、所定の時間をかけて徐々に前記目標収束ビットレートに収束させる第２の符号量制御動作とを行なうことが可能であり、前記演算手段は、前記カメラ情報取得手段により取得された情報に応じて、前記初期パラメータである前記短期目標ビットレートを前記目標収束ビットレートより高い値にするか低い値にするかを演算することを特徴とする請求項８に記載の撮像装置。
【請求項１０】
前記演算手段は、前記カメラ情報取得手段によって取得された情報が、前記カメラ部の、非合焦、手ブレあり、ズーム中、パン又はチルト中のうちの少なくとも１つに該当する場合は、前記初期パラメータである前記短期目標ビットレートを前記目標収束ビットレートより低い値として算出することを特徴とする請求項９に記載の撮像装置。
【請求項１１】
前記演算手段は、前記短期目標ビットレートを演算する第１の演算部と、前記短期目標ビットレートから前記目標収束ビットレートに収束させるまでの収束時間を演算する第２の演算部とを備え、前記第２の演算部は、前記第１の演算部により設定された前記短期目標ビットレートに応じて前記収束時間を設定することを特徴とする請求項９に記載の撮像装置。
【請求項１２】
前記第１の演算部が前記短期目標ビットレートを前記目標収束ビットレートよりも低く設定した場合には、前記第２の演算部は、前記収束時間を標準的な収束時間よりも短く設定し、前記第１の演算部が前記短期目標ビットレートを前記目標収束ビットレートよりも高く設定した場合には、前記第２の演算部は、前記収束時間を前記標準的な収束時間よりも長く設定することを特徴とする請求項１１に記載の撮像装置。
【請求項１３】
被写体光を光電変換し、映像信号を出力するカメラ部と、前記映像信号を符号化する符号化手段とを備える撮像装置を制御する方法であって、
前記カメラ部の動作状況に関する情報を取得するカメラ情報取得工程と、
前記カメラ情報取得工程において取得された情報に基づいて、前記符号化手段の符号化動作の開始前に、前記符号化手段の最初の符号化動作のための符号化パラメータである初期パラメータを算出する演算工程と、
を具備することを特徴とする撮像装置の制御方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載の制御方法をコンピュータに実行させるためのプログラム。
【請求項１５】
請求項１４に記載のプログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月28日(2009.7.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プリント回路基板に一体的に組み込むための表面実装可能なバラン変成器であって、
前記プリント回路基板の一層上に配置される第１の端部および第２の端部を有する第１のＣ字形ラインセグメントと、
前記プリント回路基板の前記層上に配置される第１の端部および第２の端部を有する第２のＣ字形ラインセグメントと、
前記第１のＣ字形ラインセグメントにブロードサイドに沿って垂直方向に結合した第３のＣ字形ラインセグメントと、
前記第２のＣ字形ラインセグメントにブロードサイドに沿って垂直方向に結合した第４のＣ字形ラインセグメントと、を具備し、
前記第１および第２のＣ字形ラインセグメントの第１の端部は、当該変成器に接続するための平衡ポートを提供し、前記第１のＣ字形ラインセグメントの第２の端部は当該変成器に接続するための不平衡ポートを提供する、ことを特徴とする表面実装可能なバラン変成器。
【請求項２】
前記第３および第４のＣ字形ラインセグメントは、誘電体によって第１および第２のＣ字形ラインセグメントから隔離されていることを特徴とする請求項１に記載の表面実装可能なバラン変成器。
【請求項３】
前記第３および第４のＣ字形ラインセグメントは、前記第１のＣ字形ラインセグメントおよび第２のＣ字形ラインセグメントにそれぞれブロードサイドに沿って垂直方向に部分的に結合されていることを特徴とする請求項１に記載の表面実装可能なバラン変成器。
【請求項４】
前記平衡ポートは、前記プリント回路基板の前記層上に前記不平衡ポートの向かい側に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の表面実装可能なバラン変成器。
【請求項５】
プリント回路基板に一体的に組み込むための表面実装可能なバラン変成器であって、
前記プリント回路基板の一層上に配置される第１の端部および第２の端部を有する第１のＣ字形ラインセグメントと、
前記プリント回路基板の前記層上に配置される第１の端部および第２の端部を有する第２のＣ字形ラインセグメントと、
当該バラン変成器を前記プリント回路基板の電力面に結合する金属化ビア・ホールによって形成された第１のポートと、具備し、
前記各Ｃ字形ラインセグメントのそれぞれの第１の端部は、当該変成器に接続するための平衡ポートを提供し、前記第１のＣ字形ラインセグメントの第２の端部は当該変成器に接続するための不平衡ポートを提供する、ことを特徴とする表面実装可能なバラン変成器。
【請求項６】
前記各Ｃ字形ラインセグメントの第１の端部に隣接した位置にある金属化ビア・ホールによって形成された第２のポートを更に具備することを特徴とする請求項５に記載の表面実装可能なバラン変成器。
【請求項７】
プリント回路基板に一体的に組み込むための表面実装可能なバラン変成器であって、
前記プリント回路基板の一層上に配置される第１の端部および第２の端部を有する第１のＣ字形ラインセグメントと、
前記プリント回路基板の前記層上に配置される第１の端部および第２の端部を有する第２のＣ字形ラインセグメントと、
前記プリント回路基板の層の間を延びる金属化ビアによって形成された第１のポートと、を具備し、
前記各Ｃ字形ラインセグメントのそれぞれの第１の端部は、当該変成器に接続するための平衡ポートを提供するとともに、前記第１のＣ字形ラインセグメントの第２の端部は当該変成器に接続するための不平衡ポートを提供し、
前記第１のポートは、前記不平衡ポートに隣接した位置にあって前記第２のＣ字形ラインセグメントの第２の端部に接続されるとともに、前記金属化ビアを通じて接地されている、ことを特徴とする表面実装可能なバラン変成器。
【請求項８】
前記各Ｃ字形ラインセグメントは、直列に繋がった１対のＵ字形部分を形成するように折り曲げられていることを特徴とする請求項５に記載の表面実装可能なバラン変成器。
【請求項９】
第１の平面層およびこの第１の平面層とは反対側にかつ平行に配置された第２の平面層と、
当該プリント回路基板の第１の平面層上に配置された第１の端部および第２の端部を有する第１のＣ字形ラインセグメントと、
前記第１のＣ字形ラインセグメントにブロードサイドに沿って垂直方向に結合しており、当該プリント回路基板の前記第２の平面層上に配置された第１の端部および第２の端部を有する第２のＣ字形ラインセグメントと、
当該プリント回路基板の前記第１の平面層上に配置された第１の端部および第２の端部を有する第３のＣ字形ラインセグメントと、
前記第３のＣ字形ラインセグメントにブロードサイドに沿って垂直方向に結合しており、当該プリント回路基板の前記第２の平面層上に配置された第１の端部および第２の端部を有する第４のＣ字形ラインセグメントと、
前記第１のＣ字形ラインセグメントの前記第２の端部と前記第３のＣ字形ラインセグメントの前記第２の端部とを接続する一方の端部、および不平衡ポートを形成する他方の端部を有する第５のラインセグメントと、を具備し、
前記第１のＣ字形ラインセグメントの第１の端部と前記第３のＣ字形ラインセグメントの第１の端部は平衡ポートを形成し、前記第２のＣ字形ラインセグメントの第１の端部は不平衡ポートを形成する、ことを特徴とするプリント回路基板。
【請求項１０】
前記各Ｃ字形ラインセグメントは、直列に繋がった１対のＵ字形部分を形成するように折り曲げられていることを特徴とする請求項９に記載のプリント回路基板。
【請求項１１】
前記第２のＣ字形ラインセグメントの第２の端部は、金属化ビアを通じて当該プリント回路基板の第２の平面層上で接地されていることを特徴とする請求項９に記載のプリント回路基板。
【請求項１２】
第１の平面層およびこの第１の平面層とは反対側にかつ平行に配置された第２の平面層と、
前記第１の平面層内に形成された空洞内に配置された電子回路と、
前記第１の平面層上に第１の不平衡ポートおよび該第１の不平衡ポートと向かい合った第１の平衡ポートを形成するために、ブロードサイドに沿って垂直方向に結合され直列に接続された１対のＣ字形結合ラインを有する第１のバラン変成器と、
前記第１の平面層上に第２の不平衡ポートおよび該第２の不平衡ポートと向かい合った第２の平衡ポートを形成するために、ブロードサイドに沿って垂直方向に結合され直列に接続された１対のＣ字形結合ラインを有する第２のバラン変成器と、を具備し、
前記第１および第２の平衡ポートは前記電子回路に接続されている、ことを特徴とするプリント回路基板。
【請求項１３】
前記電子回路は、ダイオードリング、ミクサおよび増幅器から成るグループから選ばれたデバイスを構成する、ことを特徴とする請求項１２に記載のプリント回路基板。
【請求項１４】
前記第１の平衡ポートは、前記第１の不平衡ポートによって前記ダイオードリングに結合される局部発振器信号に接続可能であることを特徴とする請求項１３に記載のプリント回路基板。
【請求項１５】
第２の不平衡ポートは前記ダイオードリングからの高周波信号を第２の平衡ポートに結合させることを特徴とする請求項１４に記載のプリント回路基板。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月19日(2009.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８４】
光送信装置１０２は、多値光信号の伝送を開始する際に、光受信装置１０３と同期するために、発光強度が０と所定レベルとを交互に繰り返す交番信号を、予め定められた同期期間に出力する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１００
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１００】
上記のバイアス設定によれば、第１の発光部１３１と第２の発光部１３２の周波数応答帯域を補償することが可能となる。したがって、発光素子の変調帯域不足による伝送品質の劣化が抑制される。また、第１の多値光信号及び第２の多値光信号の波形歪みや、最小発光強度レベルで顕著に生じるアイ閉塞が改善され、それ故、符号間干渉の影響が低減される。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月9日(2009.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】リンと窒素を含むノンハロゲン系難燃剤（Ｘ）と有機樹脂（Ｙ）を含有し、該有機樹脂（Ｙ）がポリエステル系樹脂及び／又は変性ポリエステル樹脂である難燃性樹脂組成物。
【請求項２】前記難燃剤（Ｘ）がリン酸メラミン塩（下記式１）であることを特徴とする請求項１に記載の難燃性樹脂組成物。
【化１】
2002155211.tif 000001
【請求項３】前記難燃剤（Ｘ）がポリリン酸塩であることを特徴とする請求項１に記載の難燃性樹脂組成物。
【請求項４】前記ポリリン酸塩が、ポリリン酸メラミン複塩（下記式２）、ポリリン酸メラム複塩（下記式３）、ポリリン酸メレム複塩（下記式４）（式中ｎは２〜２０００の整数）から選択される少なくとも一種であることを特徴とする請求項３に記載の難燃性樹脂組成物。
【化２】
2002155211.tif 000002
【化３】
2002155211.tif 000003
【化４】
2002155211.tif 000004
【請求項５】前記ポリリン酸塩がポリリン酸アンモニウム（下記式５）であることを特徴とする請求項３に記載の難燃性樹脂組成物。
（ＮＨ4ＰＯ3）ｎ（式５）
＊）式中ｎは２〜２０００の整数
【請求項６】前記有機樹脂（Ｙ）がイオン性基を導入された樹脂であることを特徴とする請求項１〜５いずれかに記載の難燃性樹脂組成物。
【請求項７】 基材上に請求項１〜６に記載の難燃性樹脂組成物のいずれかが積層されていることを特徴とする難燃性積層体。
【請求項８】 基材上に少なくとも難燃性中間層とその上に接着層とが設けられている難燃性積層体において、難燃性中間層が請求項１〜６に記載の難燃性樹脂組成物のいずれかであることを特徴とする難燃性積層体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８４】
以下、表６〜表８に示す組成により同様にして、実施例２〜１２、比較例１〜２の難燃性接着性フィルムを作成した。得られた難燃性接着性フィルムの試験結果を表５〜表７に示す。ただし、配合比は固形分換算で表示した。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９６】
実施例１３〜２２、比較例３〜４、参考例１
実施例１と同様にして、実施例１３〜２２、比較例３〜４、参考例１を行った。結果は表１２〜１４に示す。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９８】
【表１３】
2002155211.tif 000005
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９９】
【表１４】
2002155211.tif 000006
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１１】
以下、表１８〜２３に示す組成により同様にして、実施例３５〜５６、比較例７〜１０、参考例２の難燃性接着性フィルムを作成した。得られた難燃性接着性フィルムの試験結果を表１８〜２３に示す。ただし、配合比は固形分換算で表示した。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１６】
【表２２】
2002155211.tif 000007
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１７】
【表２３】
2002155211.tif 000008
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１８】表１８〜２３において商標名他は前記各表と同じである。
【発明の効果】本発明は、リンを含むノンハロゲン系難燃剤（Ｘ）を有機樹脂（Ａ）に分散させた組成物であり、この難燃剤分散体を塗布又は積層することにより難燃性、発煙抑制効果に優れ、基材成形体又は基材フィルムとの密着性が良好な難燃性樹脂組成物を提供できる。また、有機樹脂にイオン性基を導入することにより、卓越した分散性を与えることができ、難燃性、密着性等の諸特性をさらに大きく向上させることができる。本発明の難燃性樹脂組成物を塗布又は積層することにより、安価で優れた難燃性積層体を提供するもので家電製品等の分野における高い要求品質に答えることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月24日(2009.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
板状部材の互いに対向する出射面と反射面を有し、光源から導入された光線を当該板状部材の側面から入射し前記反射面から出射面に対して反射すると共に、該反射面には入射する側面から遠ざかるに従って深くなる複数の反射用の凹部が超音波加工にて形成されることを特徴とする導光板。
【請求項２】
前記凹部はその深さが深くなるほど前記反射面での開口面積が大きくなることを特徴とする請求項１記載の導光板。
【請求項３】
前記凹部はその深さを徐々に変えるために、予め徐々に形状を変化させた凸部にて加工されることを特徴とする請求項１記載の導光板。
【請求項４】
前記反射用の凹部は、隣接する凹部と共に同じ深さの組をなすことを特徴とする請求項１記載の導光板。
【請求項５】
前記凹部は角錐形状、又は円錐形状から選ばれた形状をそれぞれ有することを特徴とする請求項１記載の導光板。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の導光板を有することを特徴とするバックライト装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上述の技術的な課題を解決するため、本発明の導光板は、板状部材の互いに対向する出射面と反射面を有し、光源から導入された光線を当該板状部材の側面から入射し前記反射面から出射面に対して反射すると共に、該反射面には入射する側面から遠ざかるに従って深くなる複数の反射用の凹部が超音波加工により形成されることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月25日(2008.12.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
相変化層と、
前記相変化層の一部に接触するように形成されたヒータ電極と、
前記相変化層と前記ヒータ電極との接触面の直上から外れた領域において、前記相変化層に接触する引き出し電極層と、
を有することを特徴とする相変化メモリ素子。
【請求項２】
前記引き出し電極に接続されるコンタクト電極をさらに備えることを特徴とする請求項１記載の相変化メモリ素子。
【請求項３】
請求項２記載の相変化メモリ素子であって、
前記ヒータ電極は層間絶縁層に埋め込まれており、この層間絶縁層上に、前記ヒータ電極の上面の少なくとも一部を露出するようにパターニングされている絶縁膜が形成され、その絶縁膜上に所定パターンの前記引き出し電極層が形成され、この引き出し電極層の一部上ならびに前記露出しているヒータ電極上を覆うように前記相変化層が設けられ、前記コンタクト電極は、前記ヒータ電極の直上から外れた箇所において前記引き出し電極層に接続されていることを特徴とする相変化メモリ素子。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれかに記載の相変化メモリ素子であって、前記引き出し電極層は、主電極層と、その主電極層の表面に形成された、前記相変化層との密着性を向上させるための密着層と、を備えることを特徴とする相変化メモリ素子。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれかに記載の相変化メモリ素子であって、前記相変化層は、カルコゲナイド半導体層であることを特徴とする相変化メモリ素子。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれかに記載の相変化メモリ素子と、
前記ヒータ電極に接続される絶縁ゲート型電界効果トランジスタ、バイポーラトランジスタまたはダイオードのいずれかと、により構成されるメモリセルと、
アドレス選択回路を含む周辺回路と、
を有する相変化メモリＩＣ。
【請求項７】
層間絶縁層に形成されたスルーホールに導電材料を埋め込んでヒータ電極を形成する工程と、
前記層間絶縁層上に絶縁膜を形成し、前記絶縁膜上に引き出し電極層を形成する工程と、
共通のマスクを利用して、前記引き出し電極層および前記絶縁膜を連続的にパターニングし、前記ヒータ電極の上面の少なくとも一部、ならびに、前記層間絶縁膜の一部を露出させる工程と、
前記引き出し電極層上、前記露出しているヒータ電極上ならびに前記絶縁膜上を覆うように相変化層を形成する工程と、
前記相変化層を、前記ヒータ電極の近傍において前記相変化層と前記引き出し電極層の一部とが重なり合って接触し、かつ、その重なり合って接触する部分から外れた箇所において前記引き出し電極層が露出するように、パターニングする工程と、
を含むことを特徴とする相変化メモリ素子の製造方法。
【請求項８】
前記相変化層上ならびに前記引き出し電極層上に層間絶縁層を形成し、その層間絶縁層に、前記引き出し電極層が露出していた前記箇所に達するスルーホールを形成し、そのスルーホールを介して前記引き出し電極に直接的に接触するコンタクト電極を形成する工程をさらに含む請求項７に記載の相変化メモリ素子の製造方法。
【請求項９】
請求項７又は８に記載の相変化メモリ素子の製造方法であって、
前記層間絶縁膜の一部を露出させる工程において、前記引き出し電極層と前記絶縁膜を連続的にパターニングしたとき、双方のエッチングレートの差に起因して、パターニングされた前記引き出し電極層の断面は略垂直となり、一方、パターニングされた前記絶縁膜の断面が傾斜形状となり、これにより、前記引き出し電極層の端部を、前記相変化層と前記ヒータ電極との接触部分の直上から外れた箇所に位置させることを特徴とする相変化メモリの製造方法。
【請求項１０】
請求項７乃至９のいずれかに記載の相変化メモリ素子の製造方法であって、
前記引き出し電極層を形成する工程は、前記絶縁膜上に主電極層を形成する工程と、前記主電極層上に前記相変化層との密着性を向上させるための密着層を形成する工程とを備えることを特徴とする相変化メモリ素子の製造方法。
【請求項１１】
請求項７乃至１０のいずれかに記載の相変化メモリ素子の製造方法であって、
前記層間絶縁膜の一部を露出させる工程は、前記ヒータ電極の上面の少なくとも一部ならびに前記層間絶縁膜の一部を露出させる開口パターンを、隣接する２つの前記ヒータ電極にまたがって形成する工程を備えることを特徴とする相変化メモリ素子の製造方法。
【請求項１２】
ヒータ電極に電気的に接続される絶縁ゲート型電界効果トランジスタ、バイポーラトランジスタ、またはダイオードのいずれかを形成する工程と、
層間絶縁層に形成されたスルーホールに導電材料を埋め込んで前記ヒータ電極を形成する工程と、
前記層間絶縁層上に絶縁膜を形成し、その絶縁膜上に引き出し電極層を形成する工程と、
共通のマスクを利用して、前記引き出し電極層および前記絶縁膜を連続的にパターニングし、前記ヒータ電極の上面の少なくとも一部、ならびに、前記層間絶縁膜の一部を露出させる工程と、
前記引き出し電極層上、前記露出しているヒータ電極上ならびに前記絶縁膜上を覆うように相変化層を形成する工程と、
前記相変化層を、前記ヒータ電極の近傍において前記相変化層と前記引き出し電極層の一部とが重なり合って接触し、かつ、その重なり合って接触する部分から外れた箇所において前記引き出し電極層が露出するように、パターニングする工程と、
前記相変化層上ならびに前記引き出し電極層上に層間絶縁層を形成し、その層間絶縁層に、前記引き出し電極層が露出していた前記箇所に達するスルーホールを形成し、そのスルーホールを介して前記引き出し電極に直接的に接触するコンタクト電極を形成する工程と、
を含むメモリセル形成工程を備えることを特徴とする相変化メモリＩＣの製造方法。
【請求項１３】
請求項１２記載の相変化メモリＩＣの製造方法であって、
前記相変化層を形成する工程において、前記メモリセルが形成される領域のみならず、周辺回路の形成領域においても、前記絶縁膜と引き出し電極層を形成し、前記引き出し電極層と前記絶縁膜とを連続的にパターニングするとき、前記周辺回路の形成領域においてもパターニングを行い、これによって、周辺回路の形成領域においても所定パターンをもつ電極層または配線層を形成することを特徴とする相変化メモリＩＣの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年8月31日(2009.8.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
信号を生成する単一コイル送信機（１１０）と、
前記単一コイル送信機（１１０）からの信号を受信する受信機（１２０）と、
前記受信機（１２０）によって受信された前記信号を処理するための電子回路（１３０）と、
を備え、前記電子回路（１３０）が、前記信号の少なくとも一部に基づいて前記単一コイル送信機（１１０）の位置を求め、
前記受信機が１２個の受信機回路プリント回路基板を備え、前記受信機回路プリント回路基板の４個が、単一のらせん状コイルを含み、前記受信機回路プリント回路基板の８個が、らせん状コイルのペアを含むことを特徴とする電磁追跡システム（１００）。
【請求項２】
前記送信機（１１０）が単一コイル無線送信機（１１０）であり、
前記１２個の受信機回路プリント回路基板が前記複数のコイル及び前記コイルペアを含む受信機アレイを備え、
前記電子回路（１３０）が、前記送信機（１１０）と前記受信機アレイのコイル及びコイルペアとの間の少なくとも１つのパラメータを解析して、前記受信機アレイに対する前記送信機（１１０）の位置を求めるための追跡電子回路（１３０）を備える請求項１に記載のシステム（１００）。
【請求項３】
前記電子回路（１３０）は更に、前記送信機（１１０）の位置、方位、及び利得の少なくとも１つを求めることを特徴とする請求項１又は２に記載のシステム（１００）。
【請求項４】
前記パラメータは、相互インダクタンス及び磁界の少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項２に記載のシステム（１００）。
【請求項５】
前記受信器アレイを較正するための較正コイルを更に備えることを特徴とする請求項２に記載のシステム（１００）。
【請求項６】
改良された器具追跡のための方法（３００）であって、
一定の周波数で送信機コイルを駆動して信号を生成する段階（３１０）と、
受信機コイルのアレイで前記信号を受信する段階（３３０）と、
前記送信機コイルの利得を求める段階と、
前記送信機コイルと受信機コイルのアレイの間の相互インダクタンスを測定する段階（３４０）と、
前記送信機コイルの位置の初期推定値を選択する段階（３５０）と、
前記相互インダクタンスに基づいてエラー最小化ルーチンを用いて前記初期推定値を調整する段階（３６０）と、
を含み、
前記受信機が１２個の受信機回路プリント回路基板を備え、前記受信機回路プリント回路基板の４個が、単一のらせん状コイルを含み、前記受信機回路プリント回路基板の８個が、らせん状コイルのペアを含む方法。
【請求項７】
前記初期推定値は、以前の結果を含むことを特徴とする請求項６に記載の方法（３００）。
【請求項８】
異なる周波数で前記受信機コイルのアレイを駆動する段階（３１０）と、
前記異なる周波数によって発生した電流比を求める段階（３２０）と、
前記異なる周波数で発生した電圧を測定する段階（３３０）と、
前記コイルのアレイと、該受信機コイルのアレイから離れた位置にある前記送信機コイルとの間の相互インダクタンス比を計算する段階（３４０）と、
前記送信機コイルの位置、利得、及び方位の少なくとも１つについて初期推定値を推定する段階（３５０）と、
前記初期推定値と前記相互インダクタンス比に基づいて前記送信機コイルの位置、利得、及び方位の少なくとも１つについて最適適合値を決定する段階（３６０）と、
を含む請求項６に記載の方法。
【請求項９】
前記受信機コイルのアレイを較正する段階を更に含むことを特徴とする請求項８に記載の方法（３００）。
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月6日(2009.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射線を照射する放射線源、放射線撮影時に被写体を透過した放射線量を検出する検出手段、当該検出手段により検出された放射線量に基づいて前記放射線源を制御する制御手段、及び前記被写体を放射線撮影した画像データを取得し、当該画像データに画像処理を施す画像処理手段を有する画像撮影システムであって、
前記検出手段の検出結果に基づいて、前記画像処理手段で実行される画像処理の画像処理条件を設定する画像処理条件設定手段を備えたことを特徴とする画像撮影システム。
【請求項２】
一の被写体について複数の撮影を行う場合、
前記検出手段は、当該被写体に係る複数の撮影のうち少なくとも１つの撮影について、放射線撮影時に被写体を透過した放射線量を検出し、
前記画像処理条件設定手段は、当該少なくとも１つの検出結果に基づいて、当該被写体に係る撮影全ての画像データに対する画像処理条件を設定することを特徴とする請求項１に記載の画像撮影システム。
【請求項３】
前記画像処理手段は、画像データに周波数強調処理を施し、
前記画像処理条件設定手段は、前記検出手段が検出した放射線量が、予め定められた基準値より多いと判断した場合に前記周波数強調処理の強調度をβ０（β０≧０）に設定し、前記基準値より少ないと判断した場合に前記周波数強調処理の強調度をβ２（β０≧β２≧０）に設定することを特徴とする請求項１又は２に記載の画像撮影システム。
【請求項４】
前記画像処理条件設定手段は、前記検出手段が検出した放射線量が、前記基準値であると判断した場合に前記周波数強調処理の強調度をβ１（β０≧β１≧β２≧０）に設定することを特徴とする請求項３に記載の画像撮影システム。
【請求項５】
前記被写体は乳房であることを特徴とする請求項１から４の何れか一項に記載の画像撮影システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記課題を解決するために、請求項１に記載の発明は、放射線を照射する放射線源、放射線撮影時に被写体を透過した放射線量を検出する検出手段、当該検出手段により検出された放射線量に基づいて前記放射線源を制御する制御手段、及び前記被写体を放射線撮影した画像データを取得し、当該画像データに画像処理を施す画像処理手段を有する画像撮影システムであって、前記検出手段の検出結果に基づいて、前記画像処理手段で実行される画像処理の画像処理条件を設定する画像処理条件設定手段を備えたことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の画像撮影システムにおいて、一の被写体について複数の撮影を行う場合、前記検出手段は、当該被写体に係る複数の撮影のうち少なくとも１つの撮影について、放射線撮影時に被写体を透過した放射線量を検出し、前記画像処理条件設定手段は、当該少なくとも１つの検出結果に基づいて、当該被写体に係る撮影全ての画像データに対する画像処理条件を設定することを特徴とする。
請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載の画像撮影システムにおいて、前記画像処理手段は、画像データに周波数強調処理を施し、前記画像処理条件設定手段は、前記検出手段が検出した放射線量が、予め定められた基準値より多いと判断した場合に前記周波数強調処理の強調度をβ０（β０≧０）に設定し、前記基準値より少ないと判断した場合に前記周波数強調処理の強調度をβ２（β０≧β２≧０）に設定することを特徴とする。
請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の画像撮影システムにおいて、前記画像処理条件設定手段は、前記検出手段が検出した放射線量が、前記基準値であると判断した場合に前記周波数強調処理の強調度をβ１（β０≧β１≧β２≧０）に設定することを特徴とする。
請求項５に記載の発明は、請求項１から４の何れか一項に記載の画像撮影システムにおいて、前記被写体は乳房であることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
請求項２に記載の発明によれば、少なくとも１つの検出結果に基づいて、被写体に係る撮影全ての画像データに対する画像処理条件を設定するので、処理負荷の軽減を図ることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月29日(2008.12.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放水口を閉鎖する弁体と、グラスバルブ支持フレームの下端中央部との間にグラスバルブを立設状態で支持するスプリンクラーヘッドにおいて、
上記グラスバルブの上半部の周囲を覆う筒状のデフレクター部を設けると共に、該デフレクター部の周囲に複数の開口部を均等間隔で設け、
かつ上記デフレクター部の内部に上記グラスバルブの破壊時に落下してきた上記弁体を受け止めて支持する弁体支持部を設け、
かつ上記グラスバルブ支持フレームは上記デフレクター部の下部から下方向けて設けられ、当該デフレクター部の下側において、上記フレームの下端中央部を以って上記グラスバルブの下端部を支持するように構成したものであることを特徴とするスプリンクラーヘッド。
【請求項２】
上記デフレクター部の開口部はデフレクター部の下半部側に設けられ、各開口部の上縁位置に天井面が位置し得るように構成したものであることを特徴とする請求項１記載のスプリンクラーヘッド。
【請求項３】
上記弁体は上記放水口を閉鎖する閉鎖部と、該閉鎖部の周囲に設けられた上記放水口より大径の盤状部とにより構成し、
上記盤状部の上面にその中心部から周縁方向に向かう下り傾斜面を形成し、
当該下り傾斜面は、上記グラスバルブが破壊して上記弁体が上記弁体支持部に支持された状態において、上記デフレクター部の中央部から各開口部の方向に向かうように構成されていることを特徴とする請求項１又は２記載のスプリンクラーヘッド。
【請求項４】
上記弁体における上記盤状部の盤面に複数の通水小孔を貫設し、
上記グラスバルブが破壊して上記弁体が上記弁体支持部に支持された状態において、上記放水口から上記開口部を介して外方向に流れる放水経路と、上記放水口から上記通水小孔を介して下方向に流れる放水経路が形成されるものであることを特徴とする請求項３記載のスプリンクラーヘッド。
【請求項５】
上記各開口部を側面開口部と下向開口部により構成し、上記開口部における側面開口部から下向開口部に至る一対の角部に面取部を形成し、これにより当該角部において上記開口部が外側方向に向けて拡径されていることを特徴とする請求項１〜４の何れかに記載のスプリンクラーヘッド。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
第４に、上記弁体における上記盤状部の盤面に複数の通水小孔を貫設し、上記グラスバルブが破壊して上記弁体が上記弁体支持部に支持された状態において、上記放水口から上記開口部を介して外方向に流れる放水経路と、上記放水口から上記通水小孔を介して下方向に流れる放水経路が形成されるものであることを特徴とする上記第３に記載のスプリンクラーヘッドにより構成される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
３はデフレクターであり、上部側のデフレクター部３ａと、４本のグラスバルブ支持フレーム３ｃからなる下部側のフレーム部３ｂとから構成されている。上記デフレクター部３ａは、上下開口の円筒状をなし、上側開口部３ｃ’の上端外周面に雄螺子部３ａ’が形成されており、該雄螺子部３ａ’を以って上記ナット部２ｂの上記雌螺子部２ｂ’に螺合され、これにより上記デフレクター３は、上記本体２に一体的に結合されている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
このデフレクター部３ａの内周の下端には水平方向段状の底面３ｅが形成されており、当該底面３ｅの中央側に円形の中央開口部３ｄが開口形成されている。よって当該中央開口部３ｄの直径は上記上側開口部３ｃ’の直径より小であるが、上記本体２の上記放水口２ｅ’の直径より大径になるように形成されている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2008079730.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月5日(2009.6.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
先端に鋭利な針先を有する針体と、該針体を前記針先により生体表面を穿刺するよう作動させる駆動手段とを有する穿刺機構と、
前記針先によって穿刺された生体表面の穿刺部位から流出した体液を導入する導入部と、該導入部から導入された体液中の所定成分を検出する検出部と、該検出部で検出された前記所定成分の量および／または性質を測定する成分測定装置に装着される装着部とを有する体液採取具と、
前記穿刺機構を該穿刺機構の針体が前記駆動手段によって移動できるように収納する機構収納部と、前記体液採取具を取り出し可能に収納する採取具収納部とを有する収納容器とを備えることを特徴とする体液採取ユニット。
【請求項２】
前記採取具収納部は、前記機構収納部から延長しており、前記採取具収納部と前記機構収納部とは、同軸上に配置されている請求項１に記載の体液採取ユニット。
【請求項３】
前記採取具収納部は、前記機構収納部に対して前記針体の針先の方向と反対側に位置している請求項２に記載の体液採取ユニット。
【請求項４】
前記体液採取具の取り出し方向と、前記針体の穿刺方向とが同方向である請求項１または２に記載の体液採取ユニット。
【請求項５】
前記体液採取具は、前記採取具収納部から取り出されるとともに、前記成分測定装置に装着して用いられる請求項１ないし４のいずれかに記載の体液採取ユニット。
【請求項６】
前記体液採取具は、前記採取具収納部に収納されている状態で前記成分測定装置に一旦接続し、その後、該成分測定装置に対して前記収納容器を離間させることによって、前記採取具収納部から離脱し、前記成分測定装置に装着される請求項１ないし５のいずれかに記載の体液採取ユニット。
【請求項７】
前記体液採取具は、前記採取具収納部に仮固定されており、
前記採取具収納部の前記体液採取具に対する固定力は、前記体液採取具と前記成分測定装置との接続力より小さい請求項６に記載の体液採取ユニット。
【請求項８】
前記穿刺機構は、前記体液採取具が離脱することによって、前記生体表面に対して穿刺操作することができる状態となる請求項１ないし７のいずれかに記載の体液採取ユニット。
【請求項９】
前記駆動手段は、前記針体を支持する支持部と、該支持部を付勢する付勢部とを有し、前記体液採取具を前記成分測定装置に装着する際、前記体液採取具の前記成分測定装置への押圧操作によって、前記付勢部に付勢力が蓄積される請求項１ないし８のいずれかに記載の体液採取ユニット。
【請求項１０】
前記機構収納部は、外筒で構成され、
前記採取具収納部は、前記外筒内をその長手方向に沿って摺動し、該外筒と前記穿刺機構を介して連結された内筒で構成されており、
前記体液採取具は、それを前記成分測定装置に押し込んで装着されるものであり、
前記体液採取具の前記成分測定装置への押込操作を行なった際、前記内筒が前記体液採取具とともに押圧されて前記外筒内を移動することにより、前記付勢部の付勢力が蓄積される請求項１ないし９のいずれかに記載の体液採取ユニット。
【請求項１１】
前記駆動手段は、前記針体を支持する支持部と、該支持部を付勢する付勢部と、該付勢部を付勢するように前記支持部を変位させる操作部材とを有する請求項１ないし８のいずれかに記載の体液採取ユニット。
【請求項１２】
前記操作部材は、前記針体の針先を覆い、該針先の無菌状態を維持するキャップとして機能する請求項１１に記載の体液採取ユニット。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月18日(2009.9.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投入口に投入されたメダルを自重により１枚ずつ転動させて内方に導くメダル通路と、前記メダル通路に検知対象物が存在することを検知して検出信号を出力する対象物検知センサと、前記対象物検知センサよりも後段の前記メダル通路の一側に沿って設定されたガイド領域に向けて、メダルの上端寄りを転動方向にガイドするメダル受入可能状態と前記転動方向へのガイドを解除するメダル受入不可状態とに切替移動する可動ガイド板と、前記可動ガイド板を前記メダル受入不可状態に付勢するバネと、オン状態において前記可動ガイド板を前記バネの付勢に抗して前記メダル受入可能状態に移動させるソレノイドとを備え、前記可動ガイド板が前記メダル受入不可状態にある時は前記メダル通路を通過するメダルが前記転動方向へのガイドが解除されていることで、返却方向に排除される構成とされた投入メダルセレクタにおいて、
少なくとも前記可動ガイド板の切替動作の制御を行う制御部は、
前記対象物検知センサの検出信号がオンからオフに変化した時点より、タイマによる経過時間の計時を開始するオフ時間計測手段と、
前記オフ時間計測手段で計時されたオフ時間に相当する値が、前記対象物検知センサによって検知されたメダルが前記可動ガイド板に干渉しない位置に移動するのに要する移動時間に相当する規定値に達するまで待機する一方、前記オフ時間に相当する値が前記規定値に達した時に、前記ソレノイドをオン状態として前記可動ガイド板を前記メダル受入可能状態に移動させる噛み込み予防手段と、
を備えたことを特徴とする投入メダルセレクタ。
【請求項２】
前記メダル通路のメダル厚さ方向の通路空間に向けて該メダル通路の外部より出没自在に付勢突出させた検知レバーを設け、
前記対象物検知センサを、前記投入口にメダルが投入された時、そのメダルに押されて前記検知レバーが通路空間の内方から通路空間の外方へと全て退避移動したことを検知して検出信号を出力するレバーセンサで構成した、
ことを特徴とする請求項１に記載の投入メダルセレクタ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
請求項１に係る投入メダルセレクタは、投入口に投入されたメダルを自重により１枚ずつ転動させて内方に導くメダル通路と、前記メダル通路に検知対象物が存在することを検知して検出信号を出力する対象物検知センサと、前記対象物検知センサよりも後段の前記メダル通路の一側に沿って設定されたガイド領域に向けて、メダルの上端寄りを転動方向にガイドするメダル受入可能状態と前記転動方向のガイドを解除するメダル受入不可状態とに切替移動する可動ガイド板と、前記可動ガイド板を前記メダル受入不可状態に付勢するバネと、オン状態において前記可動ガイド板を前記バネの付勢に抗して前記メダル受入可能状態に移動させるソレノイドとを備え、前記可動ガイド板が前記メダル受入不可状態にある時は前記メダル通路を通過するメダルが前記転動方向へのガイドが解除されていることで、返却方向に排除される構成とされたものであって、上記課題を解決するために、少なくとも前記可動ガイド板の切替動作の制御を行う制御部が、前記対象物検知センサの検出信号がオンからオフに変化した時点より、タイマによる経過時間の計時を開始するオフ時間計測手段と、前記オフ時間計測手段で計時されたオフ時間に相当する値が、前記対象物検知センサによって検知されたメダルが前記可動ガイド板に干渉しない位置に移動するのに要する移動時間に相当する規定値に達するまで待機する一方、前記オフ時間に相当する値が前記規定値に達した時に、前記ソレノイドをオン状態として前記可動ガイド板を前記メダル受入可能状態に移動させる噛み込み予防手段とを備えたことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
次に、図９のメダル受付処理について説明する。メダル受付処理は、概略として、ゲーム開始に必要なメダルの受け付け、またはクレジットのためのメダルの受け付けに関する処理である。メダル受付処理を開始すると、まず、ＣＪエラーフラグに「１（異常検出）」がセットされているか否かを判定する（ステップＳ０１）。ＣＪエラーフラグに「０（異常なし）」がセットされている場合、ステップＳ０１をＮＯと判定し、ステップＳ０３に進み、メダル受付のための処理に進む。一方、ＣＪエラーフラグに「１（異常検出）」がセットされている場合は、ステップＳ０１をＹＥＳと判定し、ＣＪエラー処理を行う（ステップＳ０２）。尚、ＣＪエラー処理については後述する。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月11日(2009.9.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技領域が形成された遊技盤と、
前記遊技領域の下方に配置され、当該遊技領域に向けて遊技球を発射する発射装置と、
該発射装置から発射された遊技球が前記遊技領域を流下可能であるように、前記発射装置から発射された遊技球を、当該遊技領域の上方に形成された発射口まで案内する案内レールと、
前記遊技領域に設けられ、遊技球が入賞可能な始動口と、
前記遊技領域に配置され、所定の演出画像が表示される演出表示装置と、
前記遊技領域に向けて打ち込まれた遊技球の流下方向における最下流側に形成され、前記遊技球を前記遊技領域から排出する排出口と
を備え、前記発射装置から前記案内レールを介して前記遊技領域に向けて打ち込まれた遊技球を当該遊技領域にて流下させる弾球遊技において所定の条件が満たされたとき、遊技者に有利な特別遊技を行う遊技機であって、
前記演出表示装置の前方側に配置され、後方側の前記演出表示装置における表示画面の一部を視認可能な視認窓を有する演出用役物と、
前記始動口への遊技球の入賞に基づき、特定の遊技状態への移行抽選を行う抽選手段、および
該抽選手段による抽選結果に基づき、演出態様を決定する演出態様決定手段
を少なくとも有する主制御手段と、
前記演出態様決定手段にて決定された前記演出態様に応じて、図柄の変動表示を含む前記演出画像を前記演出表示装置に表示する演出表示制御手段を少なくとも有する副制御手段と
をさらに備え、
前記演出表示制御手段は、
前記演出態様決定手段にて決定される前記演出態様に基づく演出画像の表示と並行して、前記演出表示装置の前記表示画面のうち前記視認窓に対応する部分に、前記演出画像とは別の画像である特別画像を表示可能である
ことを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記演出用役物は、前記視認窓とは別に、前記演出表示装置とは独立した発光部を有している
ことを特徴とする請求項１に記載の遊技機。
【請求項３】
前記演出用役物を、前方から認識困難な没入位置と出現位置との間で移動させるための役物駆動手段をさらに備え、
前記副制御手段は、前記役物駆動手段により前記演出用役物の移動制御を行う役物制御手段を有している
ことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
前記課題を解決するための本発明に係る遊技機は、遊技領域が形成された遊技盤と、前記遊技領域の下方に配置され、当該遊技領域に向けて遊技球を発射する発射装置と、該発射装置から発射された遊技球が前記遊技領域を流下可能であるように、前記発射装置から発射された遊技球を、当該遊技領域の上方に形成された発射口まで案内する案内レールと、前記遊技領域に設けられ、遊技球が入賞可能な始動口と、前記遊技領域に配置され、所定の演出画像が表示される演出表示装置と、前記遊技領域に向けて打ち込まれた遊技球の流下方向における最下流側に形成され、前記遊技球を前記遊技領域から排出する排出口とを備え、前記発射装置から前記案内レールを介して前記遊技領域に向けて打ち込まれた遊技球を当該遊技領域にて流下させる弾球遊技において所定の条件が満たされたとき、遊技者に有利な特別遊技を行う遊技機であって、前記演出表示装置の前方側に配置され、後方側の前記演出表示装置における表示画面の一部を視認可能な視認窓を有する演出用役物と、前記始動口への遊技球の入賞に基づき、特定の遊技状態への移行抽選を行う抽選手段、および該抽選手段による抽選結果に基づき、演出態様を決定する演出態様決定手段を少なくとも有する主制御手段と、前記演出態様決定手段にて決定された前記演出態様に応じて、図柄の変動表示を含む前記演出画像を前記演出表示装置に表示する演出表示制御手段を少なくとも有する副制御手段とをさらに備え、前記演出表示制御手段は、前記演出態様決定手段にて決定される前記演出態様に基づく演出画像の表示と並行して、前記演出表示装置の前記表示画面のうち前記視認窓に対応する部分に、前記演出画像とは別の画像である特別画像を表示可能であることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月18日(2009.9.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水薬が充填された水薬供給ボトルに挿入された供給管をノズル取付け部に取付けられたノズルに接続し、該ノズルから患者に供される水薬ボトルに水薬を吐出するようにした水薬供給装置における前記ノズルの保持機構であって、
ノズル取付け部に取付けられるとともにノズル取付け部のノズル取付け面に平行に回動自在となるよう支軸回りに回動自在であり、しかも支軸回りに回動して前記ノズルの被嵌合部に対してその側方から嵌合する嵌合部を備えた保持体が設けられ、該保持体は、支軸回りに一方向に回動してノズルの被嵌合部に対してその側方から嵌合部が嵌合した嵌合姿勢と支軸回りに他方向に回動させることでノズルとの嵌合を解除した解除姿勢とに切替え自在とされ、保持体の嵌合姿勢を保持する保持手段を有していることを特徴とする水薬供給装置におけるノズル保持機構。
【請求項２】
ノズルはその被保持部が筒状に形成され、被保持部の軸方向一側にノズル取付け部を貫通して水薬ボトルに水薬を吐出する吐出口部が形成され、被保持部の軸方向他側に水薬供給管が接続される導入口部が形成されており、該ノズルはノズル取付け部に着脱自在とされ、吐出口部をノズル取付け部に貫通した状態で支軸の軸心と被保持部の軸心とは平行になるよう構成されていることを特徴とする請求項１記載の水薬供給装置におけるノズル保持機構。
【請求項３】
ノズルの被保持部と吐出口部との境界部には、径方向外方に突出する一側鍔が一体的に設けられており、嵌合部に、一側鍔を回避する一側回避凹部が形成されるとともに一側鍔の鍔面に軸方向で重なる一側保持面が設けられていることを特徴とする請求項２記載の水薬供給装置におけるノズル保持機構。
【請求項４】
ノズルの被保持部と導入口部との境界部には、径方向外方に突出する他側鍔が一体的に設けられており、嵌合部に、他側鍔を回避する他側回避凹部が形成されるとともに他側鍔の鍔面に軸方向で重なる他側保持面が設けられていることを特徴とする請求項３記載の水薬供給装置におけるノズル保持機構。
【請求項５】
嵌合部は、ノズルの被嵌合部に外嵌する保持凹部を有していることを特徴とする請求項１ないし請求項４の何れかに記載の水薬供給装置におけるノズル保持機構。
【請求項６】
保持手段は、保持体に設けられてノズル取付け面に形成された凹部に嵌脱可能な嵌合具と、該嵌合具をノズル取付け面側に付勢するばねとを有しており、嵌合具は保持体の嵌合姿勢でノズル取付け面にばねの弾性力で当接しており、凹部は保持体の嵌合姿勢において嵌合具が嵌合する位置に設定されていることを特徴とする請求項１ないし請求項５の何れかに記載の水薬供給装置におけるノズル保持機構。
【請求項７】
嵌合具は球状に形成されていることを特徴とする請求項６記載の水薬供給装置におけるノズル保持機構。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
本発明の水薬供給装置におけるノズル保持機構によれば、保持体は支軸回りに回動自在であるから、保持体を支軸回りに回動させることで、保持体はノズル取付け面に平行に回動して嵌合姿勢と解除姿勢とに切替えることができ、保持体の嵌合姿勢ではその嵌合部がノズルの被保持部に側方から嵌合するようになっており、保持手段によって保持体の姿勢が保持されるからノズルをその所定の姿勢に確実に保持することができ、保持手段による保持力に抗して保持体の嵌合部とノズルの被保持部との嵌合を解除するように保持体を支軸回りに回動させて保持体を解除姿勢とすることで、ノズル取付け面のうち保持体の嵌合姿勢によって覆われていた部分が開放されることになるから、ノズル取付け面等の清掃やノズルの交換等のメンテナンスを容易に、しかも短時間で行うことができる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
以下、本発明に係る水薬供給装置におけるノズル保持機構を例に、図面に基づいて説明する。図１ないし図４は、水薬供給装置の全体構成を示す説明図である。先ず、本発明の実施形態に係る水薬供給装置１の概略構成を説明する。