Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月29日(2009.6.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像信号を発生し、圧縮画像信号を貯蔵するためのメモリを具備し、前記圧縮画像を出力するホスト部と、
前記圧縮画像信号を利用して画像を表示する液晶ディスプレイ装置部と、を含み、
前記液晶ディスプレイ装置部は、
前記ホスト部から入力された前記画像信号を圧縮して前記メモリに貯蔵し、前記メモリに貯蔵されている前記圧縮画像信号を読み出して復元するタイミング制御部と、
前記復元された画像信号に対応するデータ電圧を発生する駆動部と、
前記データ電圧に応答して前記画像信号を表示する液晶パネルと、を含み、
前記タイミング制御部、前記駆動部、及び前記液晶パネルは同一の基板上に形成されることを特徴とする液晶ディスプレイ装置。
【請求項２】
前記タイミング制御部、前記駆動部、及び前記液晶パネルは、システムオンガラス技術及びシステムオンプラスチック技術のうちのいずれか一つに基づいて同一の基板上に形成されることを特徴とする請求項１に記載の液晶ディスプレイ装置。
【請求項３】
前記タイミング制御部は前記入力された画像信号を圧縮し、前記圧縮画像信号の圧縮を解除するＣＯＤＥＣを含むことを特徴とする請求項１に記載の液晶ディスプレイ装置。
【請求項４】
前記外部メモリの少なくとも一領域が前記液晶ディスプレイ装置部のフレームメモリ領域として割り当てられることを特徴とする請求項１に記載の液晶ディスプレイ装置。
【請求項５】
前記駆動部は、
前記復元された画像信号の電圧レベルを増幅するレベルシフトと、
前記タイミング制御部の制御に応答して前記液晶パネルの各ゲートラインを活性化させるゲート駆動部と、
前記タイミング制御部の制御に応答して前記レベルシフトの出力に対応するデータ電圧を発生し、前記データ電圧を前記液晶パネルの各データラインに出力するソース駆動部と、を含むことを特徴とする請求項１に記載の液晶ディスプレイ装置。
【請求項６】
画像信号を発生し、前記画像信号を圧縮して前記圧縮画像信号を内部に具備されたメモリに前記圧縮画像信号を貯蔵するホスト部と、
前記圧縮画像信号を利用して画像を表示する液晶ディスプレイ装置部と、を含み、
前記液晶ディスプレイ装置部は、
前記メモリから圧縮画像信号を受け入れて前記圧縮画像信号を表示される画像信号として復元するタイミング制御部と、
前記復元された画像信号に対応するデータ電圧を発生する駆動部と、
前記データ電圧に応答して前記画像信号を表示する液晶パネルと、を含み、
前記タイミング制御部、前記駆動部、及び前記液晶パネルは同一の基板上に形成されることを特徴とする液晶ディスプレイ装置。
【請求項７】
前記タイミング制御部、前記駆動部、及び前記液晶パネルは、システムオンガラス技術及びシステムオンプラスチック技術のうちのいずれか一つに基づいて同一の基板上に形成されることを特徴とする請求項６に記載の液晶ディスプレイ装置。
【請求項８】
前記タイミング制御部は前記圧縮画像信号の圧縮を解除するデコーダを含むことを特徴とする請求項６に記載の液晶ディスプレイ装置。
【請求項９】
前記外部メモリの少なくとも一領域が前記液晶ディスプレイ装置部のフレームメモリ領域として割り当てられることを特徴とする請求項６に記載の液晶ディスプレイ装置。
【請求項１０】
前記駆動部は、
前記復元された画像信号の電圧レベルを増幅するレベルシフトと、
前記タイミング制御部の制御に応答して前記液晶パネルの各ゲートラインを活性化させるゲート駆動部と、
前記タイミング制御部の制御に応答して前記レベルシフトの出力に対応するデータ電圧を発生し、前記データ電圧を前記液晶パネルの各データラインに出力するソース駆動部と、を含むことを特徴とする請求項６に記載の液晶ディスプレイ装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】液晶ディスプレイ装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は液晶ディスプレイ装置に係り、より詳細には、同一の回路基板に多数の回路を集積した液晶ディスプレイ装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の目的は、チップサイズ、従って基板サイズを全体として低減した液晶ディスプレイ装置を提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月16日(2009.6.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
３９０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の波長範囲に発光ピークを有する光を発する光源と、
該光源から発せられた光を吸収して可視光を発する、１５０℃での輝度保持率が７０％以上の蛍光体を含有し、シリコーン系材料を含有する蛍光体部とを備える表示装置であって、
該シリコーン系材料が、固体Ｓｉ−ＮＭＲスペクトルにおいて、
（ｉ）ピークトップの位置がケミカルシフト−４０ｐｐｍ以上０ｐｐｍ以下の領域にあり、ピークの半値幅が０．３ｐｐｍ以上３．０ｐｐｍ以下であるピーク、及び、
（ii）ピークトップの位置がケミカルシフト−８０ｐｐｍ以上−４０ｐｐｍ未満の領域にあり、ピークの半値幅が０．３ｐｐｍ以上５．０ｐｐｍ以下であるピーク
からなる群より選ばれるピークを、少なくとも１つ有する
ことを特徴とする表示装置。
【請求項２】
該シリコーン系材料のケイ素含有率が２０重量％以上である
ことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
該シリコーン系材料が、固体Ｓｉ−核磁気共鳴スペクトルにおいて、
（ケミカルシフト−４０ｐｐｍ以上０ｐｐｍ以下のピークの総面積）／（ケミカルシフト−４０ｐｐｍ未満のピークの総面積）の比が、３以上２００以下である
ことを特徴とする請求項１又は請求項２記載の表示装置。
【請求項４】
該シリコーンのシラノール含有率が１０重量％以下である
ことを特徴とする請求項１〜３の何れか一項に記載の表示装置。
【請求項５】
該光源が発する光が３９０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の波長範囲に発光ピークを有する
ことを特徴とする請求項１〜４の何れか一項に記載の表示装置。
【請求項６】
該表示装置が、液晶バックライトである
ことを特徴とする請求項１〜５の何れか一項に記載の表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
即ち、本発明の要旨は、３９０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の波長範囲に発光ピークを有する光を発する光源と、該光源から発せられた光を吸収して可視光を発する、１５０℃での輝度保持率が７０％以上の蛍光体を含有し、シリコーン系材料を含有する蛍光体部とを備える表示装置であって、
該シリコーン系材料が、固体Ｓｉ−ＮＭＲスペクトルにおいて、
（ｉ）ピークトップの位置がケミカルシフト−４０ｐｐｍ以上０ｐｐｍ以下の領域にあり、ピークの半値幅が０．３ｐｐｍ以上３．０ｐｐｍ以下であるピーク、及び、
（ii）ピークトップの位置がケミカルシフト−８０ｐｐｍ以上−４０ｐｐｍ未満の領域にあり、ピークの半値幅が０．３ｐｐｍ以上５．０ｐｐｍ以下であるピーク
からなる群より選ばれるピークを、少なくとも１つ有する
ことを特徴とする表示装置に存する（請求項１）。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
このとき、該シリコーン系材料のケイ素含有率が２０重量％以上であることが好ましい（請求項２）。
また、該シリコーン系材料が、固体Ｓｉ−核磁気共鳴スペクトルにおいて、
（ケミカルシフト−４０ｐｐｍ以上０ｐｐｍ以下のピークの総面積）／（ケミカルシフト−４０ｐｐｍ未満のピークの総面積）の比が、３以上２００以下であることが好ましい（請求項３）。
また、該シリコーンのシラノール含有率が１０重量％以下であることが好ましい（請求項４）。
また、該光源が発する光が３９０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の波長範囲に発光ピークを有することが好ましい（請求項５）。
また、該表示装置が、液晶バックライトであることが好ましい（請求項６）。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月12日(2009.6.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アッベ数νｄ、部分分散比θｇＦが以下の条件を満足する固体材料で構成される屈折光学素子を備えたガウス型の光学系。
θｇＦ−（−１．６６５×１０−７・νｄ３＋５．２１３×１０−５・νｄ２−５．６５６×１０−３・νｄ＋０．７５５）  ＞  ０
θｇＦ−（−１．６６５×１０−７・νｄ３＋５．２１３×１０−５・νｄ２−５．６５６×１０−３・νｄ＋１．０１１）  ＜  ０
【請求項２】
開口絞りの物体側に配置された正の屈折力の前群と、前記開口絞りの像側に配置された正の屈折力の後群とで構成される光学系において、
前記前群は、前記開口絞り側の面が凹形状の第１負レンズと、該第１負レンズの物体側に配置された第１正レンズとを有し、前記後群は、前記開口絞り側の面が凹形状の第２負レンズと、前記第２負レンズの像側に配置された第２正レンズとを有し、前記前群と前記後群の焦点距離をｆＦ，ｆＲ、全系の焦点距離をｆとするとき、
０．８＜ｆＦ／ｆ＜５．０
０．４＜ｆＲ／ｆ＜３．０
０．２＜ｆＦ／ｆＲ＜１０
なる条件を満足すると共に、
前記光学系は、アッベ数νｄ、部分分散比θｇＦが以下の条件を満足する固体材料で構成される屈折光学素子を有することを特徴とする光学系。
θｇＦ−（−１．６６５×１０−７・νｄ３＋５．２１３×１０−５・νｄ２−５．６５６×１０−３・νｄ＋０．７５５）  ＞  ０
θｇＦ−（−１．６６５×１０−７・νｄ３＋５．２１３×１０−５・νｄ２−５．６５６×１０−３・νｄ＋１．０１１）  ＜  ０
【請求項３】
開口絞りの物体側に配置された正の屈折力の前群と、前記開口絞りの像側に配置された正の屈折力の後群とで構成される光学系であって、
前記前群は、前記開口絞り側の面が凹形状の第１負レンズが最も物体側に配置されたレンズ群と、前記第１負レンズの物体側に配置された第１正レンズとを有し、前記後群は、前記開口絞り側の面が凹形状の第２負レンズが最も像側に配置されたレンズ群と、前記第２負レンズの像側に配置された第２正レンズとを有し、
前記第１負レンズが最も物体側に配置されたレンズ群の焦点距離をｆＦＳ、前記第２負レンズが最も像側に配置されたレンズ群の焦点距離をｆＲＳ、全系の焦点距離をｆとするとき、
ｆＦＳ／ｆ  ＜  −０．７
ｆＲＳ／ｆ  ＜  −０．７
なる条件の少なくとも一方を満足すると共に、
前記光学系は、アッベ数νｄ、部分分散比θｇＦが以下の条件を満足する固体材料で構成される屈折光学素子を有することを特徴とする光学系。
θｇＦ−（−１．６６５×１０−７・νｄ３＋５．２１３×１０−５・νｄ２−５．６５６×１０−３・νｄ＋０．７５５）  ＞  ０
θｇＦ−（−１．６６５×１０−７・νｄ３＋５．２１３×１０−５・νｄ２−５．６５６×１０−３・νｄ＋１．０１１）  ＜  ０
なる条件を満足する。
【請求項４】
前記前群と前記後群の焦点距離をｆＦ，ｆＲ、全系の焦点距離をｆとするとき、
０．８＜ｆＦ／ｆ＜５．０
０．４＜ｆＲ／ｆ＜３．０
０．２＜ｆＦ／ｆＲ＜１０
なる条件を満足することを特徴とする請求項３の光学系。
【請求項５】
前記第１負レンズの前記開口絞り側の面の曲率半径をＲａ、前記第２負レンズの前記開口絞り側の面の曲率半径をＲｂとするとき、
０．１＜Ｒａ／ｆ＜  ０．５
−０．５＜Ｒｂ／ｆ＜−０．１
なる条件を満足することを特徴とする請求項２〜４いずれかの光学系。
【請求項６】
前記第１負レンズのアッベ数νａ、前記第２負レンズのアッベ数νｂは、
νａ＜４０
νｂ＜４０
なる条件を満足することを特徴とする請求項２〜５いずれかの光学系。
【請求項７】
前記固体材料の部分分散比θｇｄは、
θｇｄ−（−１．６８７×１０−７・νｄ３＋５．７０２×１０−５・νｄ２−６．６０３×１０−３・νｄ＋１．５００）  ＞  ０
θｇｄ−（−１．６８７×１０−７・νｄ３＋５．７０２×１０−５・νｄ２−６．６０３×１０−３・νｄ＋１．８０９）  ＜  ０
なる条件を満足することを特徴とする請求項１〜６いずれかの光学系。
【請求項８】
前記光学系の最も物体側の屈折面から最も像側の屈折面までの距離をＬ、光軸と瞳近軸光線との交点に近い側の前記屈折光学素子の屈折面から前記交点までの距離をＸとするとき、
Ｘ／Ｌ  ＜  ０．４
なる条件を満足することを特徴とする請求項１〜７いずれかの光学系。
【請求項９】
前記固体材料のアッベ数νｄは、
νｄ  ＜  ６０
なる条件を満足することを特徴とする請求項１〜８いずれかの光学系。
【請求項１０】
請求項１〜９いずれかの光学系と、該光学系によって形成される像を受光する光電変換素子とを有することを特徴とする光学機器。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月13日(2009.7.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１方向に延伸した位相差層と、
第２方向に延伸し、前記位相差層上に形成された偏光子層と、
前記偏光子層上に形成された透明保護フィルムとを有することを特徴とする偏光フィルム。
【請求項２】
前記第１方向と第２方向は、平面上にて４５±１０°に交差することを特徴とする請求項１に記載の偏光フィルム。
【請求項３】
前記位相差層の厚さは、４０μｍであることを特徴とする請求項１に記載の偏光フィルム。
【請求項４】
前記偏光子層の厚さは、２０μｍであることを特徴とする請求項１に記載の偏光フィルム。
【請求項５】
前記透明保護フィルムは、アセテートセルロース系フィルムよりなり、その厚さは４０μｍであることを特徴とする請求項１に記載の偏光フィルム。
【請求項６】
前記位相差層は、λ／４位相遅延フィルムであることを特徴とする請求項１に記載の偏光フィルム。
【請求項７】
前記位相差層は、８０〜１６０ｎｍの平面方向のリターデイション（ｒｅｔａｒｄａｔｉｏｎ）（Ｒｏ）を有する１軸性フィルムであることを特徴とする請求項１に記載の偏光フィルム。
【請求項８】
前記位相差層は、８０〜１６０ｎｍの厚さ方向のリターデイション（Ｒｔｈ）と、１００〜２００ｎｍの平面方向のリタデーション（Ｒｏ）を有する２軸性フィルムであることを特徴とする請求項１に記載の偏光フィルム。
【請求項９】
前記偏光子層とは反対側の前記位相差層上に配置される圧力感知粘着層を更に有することを特徴とする請求項１に記載の偏光フィルム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】偏光フィルム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、偏光フィルムに関し、より詳細には、厚さ減少と収率増大を達成し、かつ異物混入問題を解決できる偏光フィルムに関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
そこで、本発明は上記従来の偏光フィルムにおける問題点に鑑みてなされたものであって、本発明の目的は、厚さ減少と収率増大とを達成しかつ異物混入の問題を解決することのできる偏光フィルムを提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
前記第１方向と第２方向は、平面上にて４５±１０°に交差することが好ましい。
前記位相差層の厚さは、４０μｍであることが好ましい。
前記偏光子層の厚さは、２０μｍであることが好ましい。
前記透明保護フィルムは、アセテートセルロース系フィルムよりなり、その厚さは４０μｍであることが好ましい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
前記位相差層は、λ／４位相遅延フィルムであることが好ましい。
前記位相差層は、８０〜１６０ｎｍの平面方向のリターデイション（ｒｅｔａｒｄａｔｉｏｎ）（Ｒｏ）を有する１軸性フィルムであることが好ましい。
前記位相差層は、８０〜１６０ｎｍの厚さ方向のリターデイション（Ｒｔｈ）と、１００〜２００ｎｍの平面方向のリタデーション（Ｒｏ）を有する２軸性フィルムであることが好ましい。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
前記偏光フィルムは、前記偏光子層とは反対側の前記位相差層上に配置される圧力感知粘着層を更に有することが好ましい。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明に係る偏光フィルムによれば、偏光フィルムにおいて、表面処理層の反対側に偏光子層の延伸方向とは異なる延伸方向を有するλ／４位相遅延のような位相差フィルムを配置することで、偏光フィルムの厚さ減少と収率増大を達成することができ、異物混入の問題を解決することができるという効果がある。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
次に、本発明に係る偏光フィルムを実施するための最良の形態の具体例を図面を参照しながら説明する。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
図３は、本発明の実施形態による偏光フィルムを用いた液晶表示装置を説明するための概略断面図である。
図３を参照すると、液晶表示装置は、アレイ基板１００と、カラーフィルタ基板２００、アレイ基板１００とカラーフィルタ基板２００との間に形成された液晶層３００と、アレイ基板１００の下に形成された下部光学フィルム積層体４００と、カラーフィルタ基板２００上に形成された上部光学フィルム積層体５００を含む。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
【図１】本発明の実施形態による反射透過型偏光フィルムを説明するための断面図である。
【図２】図１に示した反射透過型偏光フィルムの製造方法を説明するための概略構成図である。
【図３】本発明の実施形態による偏光フィルムを用いた液晶表示装置を説明するための概略断面図である。
【図４】図３の液晶表示装置の動作原理を説明するための概略図である。
【図５】図３の液晶表示装置の動作原理を説明するための概略図である。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月29日(2009.6.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１電極と、
前記第１電極に対向する第２電極と、
前記第１電極と前記第２電極との間に挟持され、ねじれネマチック配向する液晶層とを備え、
前記液晶層のピッチは１０μｍ〜７０μｍ、前記液晶層の厚さであるセルギャップは３．０μｍ〜４．５μｍ、前記第１電極と前記第２電極との電圧差は０．２Ｖ〜６．０Ｖであることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記第１電極と前記第２電極との電圧差は０．２Ｖ〜５．５Ｖ、前記液晶層のピッチは１０μｍ〜３０μｍ、液晶層の応答時間は０．０３６４×（ピッチ）＋４．９９２８を満たすことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記第１電極と前記第２電極との電圧差は０．２Ｖ〜５．５Ｖ、前記液晶層のピッチは３０μｍ〜７０μｍ、液晶層の応答時間は０．０１６６×（ピッチ）＋５．５５５８を満たすことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記第１電極と前記第２電極との電圧差は０．２Ｖ〜６．０Ｖ、前記液晶層のピッチは１０μｍ〜３０μｍ、液晶層の応答時間は０．０４０８×（ピッチ）＋４．８１８９を満たすことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記第１電極と前記第２電極との電圧差は０．２Ｖ〜６．０Ｖ、前記液晶層のピッチは３０μｍ〜７０μｍ、液晶層の応答時間は０．０１２３×（ピッチ）＋５．６４６７を満たすことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記液晶層のピッチは２０μｍであり、画面のコントラスト比は５００：１であり、前記第１電極と前記第２電極との最大電圧差は５．８Ｖより大きいことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記液晶層のピッチは３０μｍであり、画面のコントラスト比は５００：１であり、前記第１電極と前記第２電極との最大電圧差は５．４Ｖより大きいことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記液晶層のピッチは３０μｍであり、画面のコントラスト比は６００：１であり、前記第１電極と前記第２電極との最大電圧差は５．６Ｖより大きいことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記第１電極は、
第１基板と、
前記第１基板上に形成されているゲート線及びデータ線と、
前記ゲート線及びデータ線に接続されている薄膜トランジスタと、
前記薄膜トランジスタに接続されている画素電極とを備えることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記第２電極は、
第２基板と、
前記第２基板上に形成されているカラーフィルタと、
前記カラーフィルタ上に形成されている共通電極とを備えることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月22日(2009.6.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板の第１面に界面活性剤を付与する界面活性剤付与段階と、
前記第１基板を処理する処理段階と、を含む液晶表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記界面活性剤は、陰イオン界面活性剤、陽イオン界面活性剤、または両性界面活性剤
である、請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３】
前記界面活性剤付与段階では、ローラーを使用して前記界面活性剤を前記第１面に塗布
する、請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記処理段階の前、後、または同時に、前記第１基板の第２面を洗浄する洗浄段階をさ
らに含む、請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項５】
前記界面活性剤付与段階では、ノズルを使用して前記界面活性剤を前記第１面に噴射し
、
前記洗浄段階を、前記界面活性剤付与段階の後または同時に行う、
請求項４に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項６】
前記洗浄段階では、洗浄液を噴射することにより前記第２面を洗浄し、
前記界面活性剤付与段階では、ノズルを使用して前記界面活性剤を前記第１面に噴射し
、かつ前記界面活性剤の噴射圧力を前記洗浄液の噴射圧力より小さく調整する、請求項４
に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項７】
前記処理段階は、前記第１基板の第２面上に薄膜を形成する薄膜形成段階を有している
、請求項１乃至６のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項８】
上部表示板と、
前記上部表示板と対向して互いに結合されている下部表示板と、
前記上部表示板及び前記下部表示板のうちの少なくとも一方の表面に形成されている静
電気防止層と、
前記静電気防止層上に付着されている偏光板と、
を含む液晶表示装置。
【請求項９】
前記静電気防止層は、陽イオン界面活性剤、陰イオン界面活性剤、または両性界面活性
剤を含む、請求項８に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記静電気防止層は、前記上部表示板及び前記下部表示板の外側面に形成されている、
請求項８又は９に記載の液晶表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月8日(2009.7.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像を表示する表示領域と、前記表示領域に隣接した周辺領域とで区分され画像を表示するために前記表示領域上に形成された複数の画素部と、位置を感知するために前記表示領域上に形成された複数の光感知部と、前記周辺領域上に形成された反射防止膜とを含む下部基板と、
前記下部基板と向き合い、前記周辺領域に対応して形成された遮光膜を含む上部基板と、
前記下部基板と前記上部基板との間に配置された液晶層とを有することを特徴とする表示パネル。
【請求項２】
前記画素部は、ゲートラインと、
前記ゲートラインと絶縁され交差するデータラインと、
前記ゲートライン及びデータラインと連結された第１スイッチング素子と、
前記第１スイッチング素子と連結された透明電極とを有することを特徴とする請求項１記載の表示パネル。
【請求項３】
前記下部基板は、前記透明電極と連結され、光の透過のための透過窓を有する反射電極をさらに有することを特徴とする請求項２記載の表示パネル。
【請求項４】
前記反射防止膜は、前記反射電極と同一の物質で同一の層に形成されることを特徴とする請求項３記載の表示パネル。
【請求項５】
前記周辺領域は、前記データラインの入力端が配置される第１周辺部と、
前記ゲートラインの入力端が配置される第２周辺部と、
前記第１周辺部及び第２周辺部を除いた残りの第３周辺部とを有することを特徴とする請求項２記載の表示パネル。
【請求項６】
前記第１周辺部に形成される前記反射防止膜は、前記ゲートラインと同一の物質で同一の層に形成されることを特徴とする請求項５記載の表示パネル。
【請求項７】
前記第１周辺部に形成される前記反射防止膜は、前記データラインと重畳しない領域に形成されることを特徴とする請求項５記載の表示パネル。
【請求項８】
前記第２周辺部に形成される前記反射防止膜は、前記データラインと同一の物質で同一の層に形成されることを特徴とする請求項５記載の表示パネル。
【請求項９】
前記第２周辺部に形成される前記反射防止膜は、前記ゲートラインと重畳しない領域に形成されることを特徴とする請求項５記載の表示パネル。
【請求項１０】
前記第３周辺部に形成される前記反射防止膜は、前記ゲートライン及び前記データラインの内のいずれか一つと同一の物質で同一の層に形成されることを特徴とする請求項５記載の表示パネル。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】表示パネル
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は表示パネルに関し、さらに詳細には光センサーを用いてタッチスクリーン機能を一体化させた表示パネルに関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
前記画素部は、ゲートラインと、前記ゲートラインと絶縁され交差するデータラインと、前記ゲートライン及びデータラインと連結された第１スイッチング素子と、前記第１スイッチング素子と連結された透明電極とを有することが好ましい。
前記下部基板は、前記透明電極と連結され、光の透過のための透過窓を有する反射電極をさらに有することが好ましい。
前記反射防止膜は、前記反射電極と同一の物質で同一の層に形成されることが好ましい。
前記周辺領域は、前記データラインの入力端が配置される第１周辺部と、前記ゲートラインの入力端が配置される第２周辺部と、前記第１周辺部及び第２周辺部を除いた残りの第３周辺部とを有することが好ましい。
前記第１周辺部に形成される前記反射防止膜は、前記ゲートラインと同一の物質で同一の層に形成されることが好ましい。
前記第１周辺部に形成される前記反射防止膜は、前記データラインと重畳しない領域に形成されることが好ましい。
前記第２周辺部に形成される前記反射防止膜は、前記データラインと同一の物質で同一の層に形成されることが好ましい。
前記第２周辺部に形成される前記反射防止膜は、前記ゲートラインと重畳しない領域に形成されることが好ましい。
前記第３周辺部に形成される前記反射防止膜は、前記ゲートライン及び前記データラインの内のいずれか一つと同一の物質で同一の層に形成されることが好ましい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月30日(2009.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベース基板と、
前記ベース基板上に形成され、互いに隣接した第１ゲートライン及び第２ゲートラインを有する多数のゲートラインと、
前記ベース基板上に形成され、前記ゲートラインとは絶縁され、前記ゲートラインと交差し、互いに隣接した第１データライン及び第２データラインを有する多数のデータラインと、
同一の行に配置されそれぞれ画素電極を含む第１画素及び第２画素を有する画素グループと、を含み、
前記第１画素は前記第１ゲートラインに電気的に連結され、前記第２画素は前記第２ゲートラインに電気的に連結され、前記第１画素の前記画素電極は部分的に前記第２ゲートラインと重なり、前記第２画素の前記画素電極は部分的に前記第１ゲートラインと重なり、前記第１及び第２画素はそれぞれ前記第１及び第２データラインに連結されることを特徴とするアレイ基板。
【請求項２】
前記第１画素は、前記第１ゲートラインに電気的に連結された第１スイッチング素子を含み、前記第１画素の前記画素電極は、前記第１スイッチング素子に電気的に連結されたことを特徴とする請求項１記載のアレイ基板。
【請求項３】
前記第１及び第２画素の前記画素電極と前記ゲートラインとの間には、絶縁膜が介在されたことを特徴とする請求項１記載のアレイ基板。
【請求項４】
前記第２画素は、前記第２ゲートラインに電気的に連結された第２スイッチング素子を含み、前記第２画素の前記画素電極は、前記第２スイッチング素子に電気的に連結されたことを特徴とする請求項１記載のアレイ基板。
【請求項５】
アレイ基板及び前記アレイ基板と向かい合う対向基板で構成され画像を表示する表示パネルと、
前記アレイ基板に第１ゲート信号及び第２ゲート信号を提供するゲート駆動部と、
前記アレイ基板に多数のデータ信号を提供するデータ駆動部と、を含み、
前記アレイ基板は、
第１ベース基板と、
前記第１ベース基板上に形成され、互いに隣接した第１ゲートライン及び第２ゲートラインを有する多数のゲートラインと、
前記第１ベース基板上に形成され、前記ゲートラインとは絶縁され、前記ゲートラインと交差し、互いに隣接した第１データライン及び第２データラインを有する多数のデータラインと、
同一の行に配置されそれぞれ画素電極を含む第１画素及び第２画素を有する画素グループを含み、
前記第１画素の前記画素電極は部分的に前記第２ゲートラインと重なり、前記第２画素の前記画素電極は部分的に前記第１ゲートラインと重なり、前記第１及び第２画素はそれぞれ前記第１及び第２データラインに連結されることを特徴とする表示装置。
【請求項６】
前記第１画素は、前記第１ゲートラインに提供される第１ゲート信号のハイ電圧に応答してターンオンされ、
前記第２画素は、前記第２ゲートラインに提供される第２ゲート信号のハイ電圧に応答してターンオンされ、前記第１ゲート信号のハイ電圧及び前記第２ゲート信号のハイ電圧は前記第１ゲートライン及び前記第２ゲートラインに順次に提供されることを特徴とする請求項５記載の表示装置。
【請求項７】
１Ｈ時間の初期時間の間、前記第１ゲート信号は前記ハイ電圧を維持し、前記１Ｈ時間の後期時間の間、前記第２ゲートラインは前記ハイ電圧を維持することを特徴とする請求項６記載の表示装置。
【請求項８】
前記１Ｈ時間の初期時間の間、第１極性を有する前記多数のデータ信号のうち第１データ信号が前記第１データラインを通じて前記第１画素に提供され、
前記１Ｈ時間の後期時間の間、前記第１極性に対し反転された第２極性を有する前記多数のデータ信号のうち第２データ信号が前記第２データラインを通じて前記第２画素に提供されることを特徴とする請求項７記載の表示装置。
【請求項９】
前記第１ゲート信号は、第１時間区間である前記１Ｈ時間の前記後期時間の間、ロー電圧を維持し、前記第１時間区間である前記１Ｈ時間の前記後期時間以後、前記ロー電圧より高い第１電圧に上昇することを特徴とする請求項８記載の表示装置。
【請求項１０】
前記第２ゲート信号は、前記１Ｈ時間の前記後期時間以後、１／２Ｈ時間の間、ロー電圧を維持し、前記ロー電圧状態の前記１／２Ｈ時間以後前記ロー電圧より低い第２電圧に下降することを特徴とする請求項８記載の表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明の一特徴によるアレイ基板は、ベース基板と、前記ベース基板上に形成され、互いに隣接した第１ゲートライン及び第２ゲートラインを有する多数のゲートラインと、前記ベース基板上に形成され、前記ゲートラインとは絶縁され、前記ゲートラインと交差し、互いに隣接した第１データライン及び第２データラインを有する多数のデータラインと、同一の行に配置されそれぞれ画素電極を含む第１画素及び第２画素を有する画素グループと、を含み、前記第１画素は前記第１ゲートラインに電気的に連結され、前記第２画素は前記第２ゲートラインに電気的に連結され、前記第１画素の前記画素電極は部分的に前記第２ゲートラインと重なり、前記第２画素の前記画素電極は部分的に前記第１ゲートラインと重なり、前記第１及び第２画素はそれぞれ前記第１及び第２データラインに連結される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明の他の特徴による表示装置は、アレイ基板及び前記アレイ基板と向かい合う対向基板で構成され画像を表示する表示パネルと、前記アレイ基板に第１ゲート信号及び第２ゲート信号を提供するゲート駆動部と、前記アレイ基板に多数のデータ信号を提供するデータ駆動部と、を含み、前記アレイ基板は、第１ベース基板と、前記第１ベース基板上に形成され、互いに隣接した第１ゲートライン及び第２ゲートラインを有する多数のゲートラインと、前記第１ベース基板上に形成され、前記ゲートラインとは絶縁され、前記ゲートラインと交差し、互いに隣接した第１データライン及び第２データラインを有する多数のデータラインと、同一の行に配置されそれぞれ画素電極を含む第１画素及び第２画素を有する画素グループを含み、前記第１画素の前記画素電極は部分的に前記第２ゲートラインと重なり、前記第２画素の前記画素電極は部分的に前記第１ゲートラインと重なり、前記第１及び第２画素はそれぞれ前記第１及び第２データラインに連結される。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月10日(2009.7.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
区画された複数のセル領域を有するベース基板上に金属層を形成する段階と、
前記金属層をパターニングして互いに隣接した少なくとも２つのセル領域にかけてセル識別表示部を形成する段階とを有し、
前記セル識別表示部は前記セル領域に対応して、対応するセル領域を識別するための各々のセル識別子を含むことを特徴とする表示装置用母基板の製造方法。
【請求項２】
前記複数のセル領域は、マトリックス形態に形成されることを特徴とする請求項１に記載の表示装置用母基板の製造方法。
【請求項３】
前記セル識別子は、レーザーを出射するタイトリング（ｔｉｔｌｉｎｇ）装置によって形成されることを特徴とする請求項２に記載の表示装置用母基板の製造方法。
【請求項４】
前記セル識別表示部は、互いに隣接した２つのセル領域にかけて形成され、前記互いに隣接した２つのセル領域は、同じ行に形成されることを特徴とする請求項２に記載の表示装置用母基板の製造方法。
【請求項５】
前記タイトリング装置は、互いに隣接した２つの列ずつ前記複数のセル領域の前記行を順次に移動しながらセル識別子を形成することを特徴とする請求項４に記載の表示装置用母基板の製造方法。
【請求項６】
前記セル識別表示部は、互いに隣接した２つのセル領域にかけて形成され、前記互いに隣接した２つのセル領域は、同じ列に形成されることを特徴とする請求項２に記載の表示装置用母基板の製造方法。
【請求項７】
前記タイトリング装置は、互いに隣接した２つの行ずつ前記複数のセル領域の前記行を順次に移動しながらセル識別子を形成することを特徴とする請求項６に記載の表示装置用母基板の製造方法。
【請求項８】
多数のセル領域に区画されたベース基板と、
各セル領域に対応して前記各セル領域を識別するためのセル識別子を有するセル識別表示部とを有し、
前記セル識別表示部は、前記各セル領域別に互いに異なる位置に配置されることを特徴とする表示装置。
【請求項９】
前記セル識別表示部が配置される互いに異なる位置は、前記セル領域の互いに異なる辺であることを特徴とする請求項８記載の表示装置。
【請求項１０】
前記セル識別表示部は、互いに隣接した２つのセル領域にかけて形成されることを特徴とする請求項８記載の表示装置。
【請求項１１】
前記セル識別表示部は、前記４つのセル領域が接するコーナー部に位置することを特徴とする請求項８記載の表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】表示装置用母基板の製造方法及びそれを用いた表示装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は表示装置用母基板の製造方法及びそれを用いた表示装置に係り、より詳細には、製品の生産性を向上させることができる表示装置用母基板の製造方法及びそれを用いた表示装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
そこで、本発明は上記従来の表示装置用母基板における問題点に鑑みてなされたものであって、本発明の目的は、製品の生産性を向上させることができる表示装置用母基板の製造方法を提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
又、本発明の他の目的は、上記表示装置用母基板の製造方法用いた表示装置を提供することにある。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記目的を達成するためになされた本発明による表示装置用母基板の製造方法は、区画された複数のセル領域を有するベース基板上に金属層を形成する段階と、前記金属層をパターニングして互いに隣接した少なくとも２つのセル領域にかけてセル識別表示部を形成する段階とを有し、前記セル識別表示部は前記セル領域に対応して、対応するセル領域を識別するための各々のセル識別子を含むことを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記目的を達成するためになされた本発明による表示装置は、多数のセル領域に区画されたベース基板と、各セル領域に対応して前記各セル領域を識別するためのセル識別子を有するセル識別表示部とを有し、前記セル識別表示部は、前記各セル領域別に互いに異なる位置に配置されることを特徴とする。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明に係る表示装置用母基板の製造方法及びそれを用いた表示装置によれば、互いに隣接した２つのセル領域にかけて形成されたセル識別表示部を含む。これによって、液晶表示装置用母基板は、セル識別表示部の個数を減少させることができる。セル識別表示部には、２つのセル識別子が形成され、セル識別子は各セル領域に対応して位置する。タイトリング装置は、一つのセル識別表示部が形成された２つのセル領域が配置された方向と直交する方向にセルアレイをスキャンする。タイトリング装置は、一つのセル識別表示部に２つのセル識別子を形成した後、次のセル識別表示部に移動する。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
次に、本発明に係る表示装置用母基板の製造方法及びそれを用いた表示装置を実施するための最良の形態の具体例を図面を参照しながら説明する。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月22日(2009.6.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源からの光を拡散する拡散層と、
前記拡散層を挟んで前記光源と反対側に配置された集光層と、
前記集光層と前記拡散層との間に位置し、前記拡散層と前記集光層との所定の間隔を維持し、前記集光層と前記拡散層との間に前記間隔を有するギャップを形成する反射部材と、を含む光学シート。
【請求項２】
前記拡散層には複数の凹凸が形成されている、請求項１に記載の光学シート。
【請求項３】
前記集光層は、
ベースフィルムと、
前記ベースフィルム上に形成された複数のレンズと、を有する、請求項１又は２に記載の光学シート。
【請求項４】
前記複数のレンズのそれぞれは、前記光源の長手方向に沿って延び、互いに隣接し、
前記長手方向に垂直な断面が半円形状である、請求項３記載の光学シート。
【請求項５】
前記複数のレンズのそれぞれは、前記光源の長手方向に沿って延び、互いに隣接し、前記長手方向に垂直な断面が、頂点が丸みを帯びた三角形状である、請求項３記載の光学シート。
【請求項６】
前記複数のレンズのそれぞれは、前記光源の長手方向に沿って延び、互いに隣接し、前記長手方向に垂直な断面が台形状である、請求項３記載の光学シート。
【請求項７】
前記反射部材は、前記複数のレンズの間の境界領域に対応する位置に、前記ランプの長手方向に延在して形成されている、請求項３記載の光学シート。
【請求項８】
前記反射部材は、前記集光層と一体に形成されている、請求項１から7のいずれか１つに記載の光学シート。
【請求項９】
前記反射部材は、二酸化チタニウム（ＴｉＯ2）、銀（Ａｇ）、または白色ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）のうち、いずれか一種からなる、請求項１から8のいずれか１つに記載の光学シート。
【請求項１０】
前記反射部材と前記拡散層との間に形成され、前記拡散層を前記反射部材に接着させる接着パターンを更に含む、請求項１から９のいずれか１つに記載の光学シート。
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月26日(2009.5.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１画素及び第２画素を含む複数の画素と、
前記第１画素の直前映像信号と前記第１画素の次の映像信号と前記第２画素の入力映像
信号とに基づいて、前記第１画素の入力映像信号を補正して補正映像信号を生成する映像
信号補正部とを含む表示装置。
【請求項２】
前記映像信号補正部は、前記第２画素の入力映像信号に対する前記第１画素の入力映像
信号の階調変化の程度を示す補正変数を算出する補正変数演算部を含む請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記映像信号補正部は、前記第１画素の直前映像信号と前記第１画素の次の映像信号と
に基づいて、前記第１画素の入力映像信号を補正して予備補正信号を生成する第１補正部
をさらに含む請求項２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記映像信号補正部は、前記第１画素の直前映像信号と前記第１画素の入力映像信号と
の対に対する前記予備補正信号を記憶する第１ルックアップテーブルをさらに含む請求項３に記載の表示装置。
【請求項５】
前記映像信号補正部は、前記第１画素の入力映像信号と前記第１画素の次の映像信号と
の対に対する前記予備補正信号を記憶する第２ルックアップテーブルをさらに含む請求項４に記載の表示装置。
【請求項６】
前記映像信号補正部は、前記第１補正部からの前記予備補正信号より前記第１画素の入
力映像信号を引いた値に、前記補正変数を掛けた値を、前記第１画素の入力映像信号に足
して、前記補正映像信号を算出する第２補正部をさらに含む請求項６に記載の表示装置。
【請求項７】
前記映像信号補正部は、前記第１画素の直前映像信号と前記第１画素の入力映像信号と
前記第１画素の次の映像信号と前記第２画素の入力映像信号とを記憶するフレームメモリ
を含む請求項１に記載の表示装置。
【請求項８】
第１画素及び第２画素を含む表示装置の映像信号補正方法であって、
前記第１画素の直前映像信号と前記第１画素の入力映像信号と前記第２画素の入力映像
信号とを読み取る段階と、
前記第１画素の直前映像信号と前記第２画素の入力映像信号とに基づいて、前記第１画
素の入力映像信号を補正する段階とを含む表示装置の映像信号補正方法。
【請求項９】
前記補正段階は、前記第２画素の入力映像信号に対する前記第１画素の入力映像信号の
階調変化の程度を示す補正変数を算出する段階を含む請求項８に記載の表示装置の映像信号補正方法。
【請求項１０】
前記補正変数算出段階は、前記第１の入力映像信号及び第２画素の入力映像信号に対し
てハイパスフィルタリングしたりエッジを検出する段階を含む請求項８又は９に記載の表示装置の映像信号補正方法。
【請求項１１】
前記補正段階は、前記第１画素の直前映像信号と前記第１画素の入力映像信号とに基づ
いて、予備補正信号を生成する段階をさらに含み、
前記予備補正信号と前記第１画素の直前映像信号との差は、前記第１画素の入力映像信
号と前記第１画素の直前映像信号との差以上である請求項８から１０のいずれか１つ２２に記載の表示装置の映像信号補正方法。
【請求項１２】
前記補正段階は、前記予備補正信号より前記第１画素の入力映像信号を引いた値に、前
記補正変数を掛けた値を、前記第１画素の入力映像信号に足して、補正映像信号を算出す
る段階をさらに含む請求項１１に記載の表示装置の映像信号補正方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月22日(2009.6.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板、
前記基板上に形成されていて、ライトホールが形成されてる色フィルター、
前記色フィルター上及び前記ライトホール内に形成されている共通電極、そして
前記ライトホール内に形成されている共通電極上に形成されている第１絶縁膜を含む、共通電極表示板。
【請求項２】
前記ライトホールは、少なくとも二つの領域に区画されていて、前記第１絶縁膜は、前記少なくとも二つの領域のうちのいずれか一つの領域に形成されている、請求項１に記載の共通電極表示板。
【請求項３】
前記ライトホール内に形成されている第２絶縁膜をさらに含み、
前記共通電極は、前記少なくとも二つの領域のうちの他の一つの領域で前記第２絶縁膜上に形成されている、請求項２に記載の共通電極表示板。
【請求項４】
前記第１絶縁膜及び前記第２絶縁膜の面積比は、０．４：０．６乃至０．６：０．４である、請求項３に記載の共通電極表示板。
【請求項５】
前記色フィルターは、前記第２絶縁膜と共に形成される透明色フィルターを含む、請求項３に記載の共通電極表示板。
【請求項６】
前記第２絶縁膜及び前記透明色フィルターは、ネガティブＰＲで形成される、請求項５に記載の共通電極表示板。
【請求項７】
前記色フィルターは、少なくとも三つの基本色のうちの一つを示したり、透明である、請求項１に記載の共通電極表示板。
【請求項８】
前記少なくとも三つの基本色を示す各色フィルターのライトホールの大きさは、互いに異なる、請求項７に記載の共通電極表示板。
【請求項９】
前記共通電極上に形成されている弾性間隔材をさらに含む、請求項１に記載の共通電極表示板。
【請求項１０】
前記弾性間隔材は、前記第１絶縁膜と共に形成される、請求項９に記載の共通電極表示板。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月1日(2009.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶ディスプレイ向けカラーフィルター用の顔料としての、ゲスト化合物としてメラミンを含有する、式（Ｉ）
【化１】
2007025687.tif 000001
またはその互変異性構造体および／またはその水和物の顔料の使用であって、前記顔料が２５０より大きいディスパージョン硬度を有することを特徴とする使用。
【請求項２】
請求項１に規定された少なくとも１つの顔料、少なくとも１つの有機溶媒、場合によりバインダー樹脂および場合により分散剤を含む調合物。
【請求項３】
少なくとも１つの光硬化性モノマー、少なくとも１つの光開始剤および請求項１に規定された少なくとも１つの顔料を含むフォトレジスト。
【請求項４】
請求項１に規定された少なくとも１つの顔料が、場合によりバインダー樹脂および／または分散剤を添加して、有機溶媒中ですり砕かれ、次に光硬化性モノマー、光反応開始剤および、場合により、さらなるバインダーおよび／または溶媒を添加してフォトレジストに加工され、フォトレジストがその後基材に塗布され、フォトマスクを用いて露光され、そして次に硬化され、そしてカラーフィルターを製造するために現像されることを特徴とする液晶ディスプレイ向けカラーフィルターの製造方法。
【請求項５】
請求項１に規定された少なくとも１つの顔料を含むカラーフィルター。
【請求項６】
請求項４に記載の少なくとも１つのカラーフィルターを含む液晶ディスプレイ。
【手続補正書】
【提出日】平成21年8月11日(2009.8.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
全画素が長時間露光画素グループと短時間露光画素グループに分割され、各画素グループの画素から所定のフレーム期間内において異なる露光時間の蓄積電荷信号を読出し可能な撮像手段と、
前記フレーム期間内において長時間露光期間が経過した後の第１の読出しタイミングで、前記長時間露光画素グループから長時間露光の蓄積電荷信号を読み出す第１の読出し手段と、
前記フレーム期間内において短時間露光期間が経過した後の第２の読出しタイミングで、前記短時間露光画素グループから短時間露光の蓄積電荷信号を読み出す第２の読出し手段と、
前記第１の読出しタイミングおよび前記第２の読出しタイミングをそれぞれ独立に調整する読出しタイミング調整手段と、
前記長時間露光画素グループから読み出した前記長時間露光の蓄積電荷信号を用いて、長時間露光信号を生成する長時間露光信号生成手段と、
前記短時間露光画素グループから読み出した前記短時間露光の蓄積電荷信号を用いて、短時間露光信号を生成する短時間露光信号生成手段と、
前記長時間露光信号と前記短時間露光信号を合成して、全画素分の映像信号を生成する合成手段と、
を備えた撮像装置であって、
前記フレーム期間内における前記第１の読出しタイミングで、前記短時間露光画素グループから長時間露光の蓄積電荷信号を読み出す第３の読出し手段を備え、
前記長時間露光信号作成手段は、
前記短時間露光画素グループから読み出した前記長時間露光の蓄積電荷信号を、前記長時間露光画素グループから読み出した前記長時間露光の蓄積電荷信号に加算して、前記長時間露光信号を生成することを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記第１の読出し手段は、前記長時間露光画素グループの各画素に接続する第１の転送路と、前記長時間露光画素グループの各画素から前記第１の転送路への読出し経路となる第１のゲート電極を備え、
前記第２の読出し手段は、前記短時間露光画素グループの各画素に接続する第２の転送路と、前記短時間露光画素グループの各画素から前記第２の転送路への読出し経路となる第２のゲート電極を備え、
前記読出しタイミング調整手段は、前記第１の読出しタイミングで前記第１のゲート電極にゲート電圧を印加し、前記第２の読出しタイミングで前記第２のゲート電極にゲート電圧を印加することを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記第３の読出し手段は、前記短時間露光画素グループの各画素に接続する前記第１の転送路と、前記短時間露光画素グループの各画素から前記第１の転送路への読出し経路となる第３のゲート電極を備え、
前記読出しタイミング調整手段は、前記第１の読出しタイミングで前記第３のゲート電極にゲート電圧を印加することを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項４】
前記フレーム期間内における第２の読出しタイミングで、前記長時間露光画素グループから短時間露光の蓄積電荷信号を読み出す第４の読出し手段を備え、
前記長時間露光信号作成手段は、前記長時間露光画素グループから読み出した前記短時間露光の蓄積電荷信号を、前記長時間露光画素グループから読み出した前記長時間露光の蓄積電荷信号に加算して、前記長時間露光信号を生成することを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項５】
前記第４の読出し手段は、前記長時間露光画素グループの各画素に接続する前記第１の転送路と、前記長時間露光画素グループの各画素から前記第１の転送路への読出し経路となる前記第１のゲート電極を備え、
前記読出しタイミング調整手段は、前記第２の読出しタイミングで前記第１のゲート電極にゲート電圧を印加することを特徴とする請求項４に記載の撮像装置。
【請求項６】
前記長時間露光画素グループの画素と前記短時間露光画素グループの画素は、縦方向または横方向に交互に配置されたことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の撮像装置。
【請求項７】
前記長時間露光画素グループおよび前記短時間露光画素グループの各々において、画素配列がベイヤー配列となるように、前記画素が配置されたことを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の撮像装置。
【請求項８】
全画素が長時間露光画素グループと短時間露光画素グループに分割され、各画素グループの画素から所定のフレーム期間内において異なる露光時間の蓄積電荷信号を読出し可能な撮像手段を用い、
前記フレーム期間内において長時間露光期間が経過した後の第１の読出しタイミングと、前記フレーム期間内において短時間露光期間が経過した後の第２の読出しタイミングを、それぞれ独立に調整し、
前記第１の読出しタイミングで、前記長時間露光画素グループから長時間露光の蓄積電荷信号を読み出し、
前記第２の読出しタイミングで、前記短時間露光画素グループから短時間露光の蓄積電荷信号を読み出し、
前記長時間露光画素グループから読み出した前記長時間露光の蓄積電荷信号を用いて、長時間露光信号を生成し、
前記短時間露光画素グループから読み出した前記短時間露光の蓄積電荷信号を用いて、短時間露光信号を生成し、
前記長時間露光信号と前記短時間露光信号を合成して、全画素分の映像信号を生成することを特徴とする撮像方法。