Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月11日(2009.11.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体レーザ素子、該半導体レーザ素子を載置する放熱部材を備えて構成され、
前記半導体レーザ素子から放熱部材にわたる外表面に導電性放熱膜が被覆され、半導体レーザ素子及び／又は放熱部材は、外表面の一部において前記導電性放熱膜から露出していることを特徴とする半導体レーザ装置。
【請求項２】
半導体レーザ素子及び／又は放熱部材は、外表面の角部において前記導電性放熱膜から露出している請求項１に記載の半導体レーザ装置。
【請求項３】
放熱部材の角部が、導電性放熱膜から露出している請求項１又は２に記載の半導体レーザ装置。
【請求項４】
レーザ素子の角部が、導電性放熱膜から露出している請求項１から３のいずれか１つに記載の半導体レーザ装置。
【請求項５】
放熱部材が、基台上に載置され、前記放熱部材から基台にわたる外表面に導電性放熱膜が被覆されている請求項１から４のいずれか１つに記載の半導体レーザ装置。
【請求項６】
半導体レーザ素子、該半導体レーザ素子を載置する放熱部材、該放熱部材を載置する基台を備えて構成され、
前記放熱部材から基台にわたる外表面に導電性放熱膜が被覆され、放熱部材及び／又は基台は、外表面の一部において前記導電性放熱膜から露出していることを特徴とする半導体レーザ装置。
【請求項７】
放熱部材は、外表面の角部において導電性放熱膜から露出している請求項６に記載の半導体レーザ装置。
【請求項８】
基台は、外表面の角部において導電性放熱膜から露出している請求項６又は７に記載の半導体レーザ装置。
【請求項９】
導電性放熱膜は、放熱部材の側面から基台の全表面を被覆する請求項６から８のいずれか１つに記載の半導体レーザ装置。
【請求項１０】
導電性放熱膜は、電解めっきが可能な導電性を有する請求項１から９のいずれか１項に記載の半導体レーザ装置。
【請求項１１】
導電性放熱膜が、Ａｇ，Ａｕ，Ｃｕ，Ｎｉ，Ｃｒ，Ｚｎ，Ｐｔ，Ｐｄ，Ｒｈ及びＣｏからなる群から選択される１種以上の元素を含む請求項１から１０のいずれか１つに記載の半導体レーザ装置。
【請求項１２】
導電性放熱膜が、Ａｇの単層膜又はＡｇを含む積層膜である請求項１から１１のいずれか１つに記載の半導体レーザ装置。
【請求項１３】
半導体レーザ素子を、放熱部材を介して基台に搭載した半導体レーザ装置の製造方法であって、
めっき法を利用して、前記半導体レーザ素子から放熱部材にわたる外表面の少なくとも一部及び／又は前記放熱部材から基台にわたる外表面の少なくとも一部に導電性放熱膜を被覆することを特徴とする半導体レーザ装置の製造方法。
【請求項１４】
前記放熱部材の角部が露出するように導電性部材を形成し、該導電性部材が形成された領域に選択的に前記導電性放熱膜を形成する請求項１３に記載の半導体レーザ装置の製造方法。
【請求項１５】
前記導電性部材を部分的に除去することにより放熱部材を露出させ、
該露出させた領域で前記放熱部材を分割し、放熱部材の角部を形成した後に前記導電性放熱膜を形成することを含む請求項１４に記載の半導体レーザ装置の製造方法。
【請求項１６】
前記放熱部材は導電性材料又は導電性材料で被覆された材料からなり、前記放熱部材の角部を含む周辺部に絶縁性部材を形成する請求項１３に記載の半導体レーザ装置の製造方法。
【請求項１７】
前記放熱部材を所望の大きさに分割し、
前記放熱部材の側面が露出するように放熱部材に導電性部材を形成し、該導電性部材が形成された領域に選択的に前記導電性放熱膜を形成することを含む請求項１３に記載の半導体レーザ装置の製造方法。
【請求項１８】
前記めっき法は、前記半導体レーザ装置を負極とした電解めっきである請求項１３から１７のいずれか１つに記載の半導体レーザ装置の製造方法。
【請求項１９】
導電性放熱膜がＡｇからなる請求項１３から１８のいずれか１つに記載の半導体レーザ装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月29日(2009.10.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の一面側に搭載された電子部品を封止する封止樹脂層が、横断面形状がコ字状の金属製のシールドケースによって覆われたシールドケース付パッケージであって、
前記シールドケースの端部の少なくとも一部が、前記基板の他面側に当接したとき、前記基板の他面側を弾発するバネ性を呈するように、前記基板の他面側にレ字状に曲折された曲折部に形成され、
且つ前記曲折部が前記基板の他面側に形成された、金属から成る接続パッドに当接して、前記基板にシールドケースが装着されていることを特徴とするシールドケース付パッケージ。
【請求項２】
基板の一面側に搭載された電子部品と前記基板の一面側に形成されたボンディングパッドとがボンディングワイヤによって電気的に接続され、且つ前記ボンディングワイヤが封止樹脂層に封止されている請求項１記載のシールドケース付パッケージ。
【請求項３】
基板の一面側に形成されたボンディングパッドとボンディングワイヤによって電気的に接続されている電子部品が、半導体素子である請求項２項記載のシールドケース付パッケージ。
【請求項４】
シールドケースの内面と封止樹脂層の表面とが密着されるように、前記シールドケースが基板に装着されている請求項１〜３のいずれか一項記載のシールドケース付パッケージ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明者等は、前記課題を解決するには、シールドケース付パッケージ用の基板の側面に、シールドケースの爪部を嵌め合わす凹部を形成することなく、シールドケースを基板に装着することが有効であると考え検討した結果、本発明に到達した。
すなわち、本発明は、基板の一面側に搭載された電子部品を封止する封止樹脂層が、横断面形状がコ字状の金属製のシールドケースによって覆われたシールドケース付パッケージであって、前記シールドケースの端部の少なくとも一部が、前記基板の他面側に当接したとき、前記基板の他面側を弾発するバネ性を呈するように、前記基板の他面側にレ字状に曲折された曲折部に形成され、且つ前記曲折部が前記基板の他面側に形成された、金属から成る接続パッドに当接して、前記基板にシールドケースが装着されているシールドケース付パッケージにある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
かかる本発明において、基板の一面側に搭載した電子部品と前記基板の一面側に形成したボンディングパッドとをボンディングワイヤによって電気的に接続し、且つ前記ボンディングワイヤを封止樹脂層に封止することによって、ボンディングワイヤとシールドケースとの接触を確実に防止できる。
ここで、シールドケースの内面と封止樹脂層の表面とが密着するように、前記シールドケースを基板に装着することによって、シールドケース付パッケージの小型化を図ることができる。
尚、基板の一面側に形成したボンディングパッドとボンディングワイヤによって電気的に接続する電子部品として、半導体素子を好適に用いることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明に係るシールドケース付パッケージでは、シールドケースの端部の少なくとも一部を、基板の他面側に当接したとき、基板の他面側を弾発するバネ性を呈するように、基板の他面側にレ字状に曲折した曲折部に形成している。このため、シールドケースを確実に装着できる。
更に、シールドケースの端部に形成した曲折部を、基板の他面側に形成した、金属から成る接続パッドに当接してシールドケースを装着しているため、シールドケースの曲折部と基板の接続パッド部とをはんだ付けして、シールドケースを基板に強固に装着できる。
その結果、本発明に係るシールドケース付パッケージでは、その基板の側面にシールドケースを装着する装着部を形成することを要せず、基板の一面側に搭載した電子部品を封止する封止樹脂層を形成できる。
このため、シールドケースと電子部品との接触を確実に防止でき、電子部品とシールドケースとの間に空間部を形成することを要せず、シールドケース付パッケージの小型化を図ることができる。
また、基板の一面側に搭載した電子部品と基板とをボンディングワイヤによって電気的に接続しても、電子部品及びボンディングワイヤを封止する樹脂封止層を形成することができ、ボンディングワイヤとシールドケースとの接触を確実に防止できる。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月31日(2009.7.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１６】
請求項１〜１５の何れかに記載の製造方法によって製造された窒化物半導体レーザ装置であって、該装置は、
活性層上に、ｐ型の第１の窒化物半導体層、ｎ型の第２の窒化物半導体層、前記活性層への電流を狭窄するための開口部を有する電流狭窄層を構成するｎ型の第３の窒化物半導体層、及びｐ型の第４の窒化物半導体層を備え、
前記第２の窒化物半導体層における前記開口部下の領域は、ｐ型不純物が導入されてｐ型化されており、
前記第２の窒化物半導体層のエネルギーギャップは、前記第３の窒化物半導体層のエネルギーギャップよりも小さいことを特徴とする、窒化物半導体レーザ装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１８】
前記第３の窒化物半導体層のフェルミ準位が、前記第２の窒化物半導体層のフェルミ準位と等しい、またはそれよりも小さいことを特徴とする、請求項１６に記載の窒化物半導体レーザ装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月3日(2009.9.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子素子が形成された素子基板と、
素子基板に形成された電子素子を取り囲む隔壁部と、
貫通した電極を有し前記隔壁部の開口を閉塞するカバーと
を設け、前記隔壁部と前記カバーとによって前記電子素子を封止するとともに、
前記カバーのヤング率が前記素子基板のヤング率よりも低いことを特徴とする
電子素子パッケージ。
【請求項２】
前記素子基板の材質がＬｉＴａＯ３、Ｓｉ、ガラス、石英、水晶の何れかでその厚みが０．１５〜０．４ｍｍであることを特徴とする
請求項１記載の電子素子パッケージ。
【請求項３】
前記カバーがフレキシブル基板であることを特徴とする
請求項１または請求項２記載の電子素子パッケージ。
【請求項４】
前記カバーがポリイミドであることを特徴とする
請求項１〜請求項３の何れかに記載の電子素子パッケージ。
【請求項５】
前記隔壁部がグリッド状であることを特徴とする
請求項１〜請求項４の何れかに記載の電子素子パッケージ。
【請求項６】
前記カバーに外側が内側よりも広いテーパー状の貫通孔を形成し、この貫通孔に充填した導電材料を介して前記電子素子の電極を引き出したことを特徴とする
請求項１〜請求項５の何れかに記載の電子素子パッケージ。
【請求項７】
前記カバーの少なくとも一方の面に絶縁膜を形成したことを特徴とする
請求項１記載の電子素子パッケージ。
【請求項８】
前記絶縁膜が、無機材料系の絶縁膜であることを特徴とする
請求項７記載の電子素子パッケージ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の請求項２記載の電子素子パッケージは、請求項１において、前記素子基板の材質がＬｉＴａＯ３、Ｓｉ、ガラス、石英、水晶の何れかでその厚みが０．１５〜０．４ｍｍであることを特徴とする。
本発明の請求項３記載の電子素子パッケージは、請求項１または請求項２において、前記カバーがフレキシブル基板であることを特徴とする。
本発明の請求項４記載の電子素子パッケージは、請求項１〜請求項３の何れかにおいて、前記カバーがポリイミドであることを特徴とする。
本発明の請求項５記載の電子素子パッケージは、請求項１〜請求項４の何れかにおいて、前記隔壁部がグリッド状であることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の請求項６記載の電子素子パッケージは、請求項１〜請求項５の何れかにおいて、前記カバーに外側が内側よりも広いテーパー状の貫通孔を形成し、この貫通孔に充填した導電材料を介して前記電子素子の電極を引き出したことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の請求項７記載の電子素子パッケージは、請求項１において、前記カバーの少なくとも一方の面に絶縁膜を形成したことを特徴とする。
本発明の請求項８記載の電子素子パッケージは、請求項７において、前記絶縁膜が、無機材料系の絶縁膜であることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成21年8月26日(2009.8.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上パッケージのはんだボールと下パッケージのパッドとを直接接続させて形成される半導体装置において、
前記パッドの一部がフィデューシャルマークを兼用し、
前記フィデューシャルマークを兼用するパッドと、その他のパッドとは、形状が相違し、かつ面積が実質的に等しく形成されること
を特徴とする半導体装置。
【請求項２】
前記フィデューシャルマークを兼用するパッドが、前記下パッケージにおける対角位置に二箇所設けられること
を特徴とする請求項１記載の半導体装置。
【請求項３】
前記フィデューシャルマークを兼用するパッドが、前記下パッケージにおいて三角形を構成する位置に三箇所設けられること
を特徴とする請求項１記載の半導体装置。
【請求項４】
キャリアに収納された下パッケージの位置を、下パッケージに設けられたフィデューシャルマークを兼用するパッドによって認識し、
前記認識位置に基づいて、上パッケージのはんだボールと、下パッケージのパッドとの位置合わせを行い、それらを直接接続させて、半導体装置を形成すること
を特徴とする半導体装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
さらに、パッドとフィデューシャルマーク兼用パッドとが相違する形状に形成されることによって、認識装置によるパッドとフィデューシャルマーク兼用パッドとの判別を可能としつつ、フィデューシャルマーク兼用パッドの位置を認識することが可能となる。さらに、パッドとフィデューシャルマーク兼用パッドの面積が実質的に等しく形成されることによって、上パッケージと下パッケージとの接合時に、フィデューシャルマーク兼用パッドとパッドとにおけるはんだが濡れ広がる面積を実質的に等しくすることが可能となり、はんだの形成形状および接合強度に影響を与えず、均一でばらつきのない接合を実現することが可能となる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
請求項２および請求項３によれば、対角位置に二箇所もしくは三角形を構成する位置に三箇所等のように、フィデューシャルマーク兼用パッドが複数個所設けられる構成によって、下パッケージの位置認識の精度を向上させることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
請求項４によれば、専用のフィデューシャルマークの形成工程を省略することが可能となり、その形成に要していた材料費の削減および工期の削減が可能となる。また、基板および下パッケージを従来のものと比べて小型に形成することが可能となり、キャリアに収納できるパッケージ数を増加させることが可能となるため、半導体装置の生産効率を向上させることが可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月21日(2009.5.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のＶＬＡＮ（Virtual LAN）が形成される中継網と、該中継網に接続された複数のＬＡＮとからなり、上記中継網内では、１つあるいは複数のＶＬＡＮからなるＭＳＴ（Multiple Spanning Tree Protocol）インスタンス毎に、論理的なスパニングツリーが形成されるBridged-ＬＡＮにおいて、
上記中継網が、イーサネットフレームを送受信する複数のブリッジからなり、
各ブリッジが、
ＶＬＡＮ識別子とサービスクラス（ＣＯＳ：Class of service）の値との組み合わせに対応してＭＳＴインスタンスの識別子を定義した変換テーブルと、
上記中継網内で、上記変換テーブルで定義されたＭＳＴインスタンス識別子毎にスパニングツリーを形成するための手段とを有し、
上記各ブリッジが、受信フレームのヘッダからＶＬＡＮ識別子とＣＯＳ値とを抽出し、上記変換テーブルによって、上記受信フレームのＭＳＴインスタンス識別子を特定し、該ＭＳＴインスタンス識別子をもつスパニングツリーの経路に従って、上記受信フレームを転送することを特徴とするBridged-ＬＡＮ。
【請求項２】
前記スパニングツリーを形成するための手段が、ＶＬＡＮ識別子が同一でサービスクラスの異なる第１、第２のＭＳＴインスタンス識別子と対応付けて、前記中継網内に経路の異なる第１、第２のスパニングツリーを形成することを特徴とする請求項１に記載のBridged-ＬＡＮ。
【請求項３】
前記複数のＶＬＡＮのうちの特定の１つが、第１のＬＡＮに収容されたセッション管理サーバと、それぞれ少なくとも１つのクライアント端末を収容した複数の第２のＬＡＮとからなり、上記特定ＶＬＡＮの識別子と音声通信用に割り当てられたＣＯＳ値との組合せに対応付けられたＭＳＴインスタンス識別子をもつスパニングツリーは、上記第１のＬＡＮと各第２のＬＡＮとの間のフレーム転送遅延が最小となるように形成されることを特徴とする請求項１に記載のBridged-ＬＡＮ。
【請求項４】
前記各ＬＡＮに収容された各端末装置が、ヘッダ部にＶＬＡＮ識別子とＣＯＳ値とを含むイーサネットフレームを送信することを特徴とする請求項１〜請求項３の何れかに記載のBridged-ＬＡＮ。
【請求項５】
１つのＬＡＮからの受信フレームのヘッダ部に、該フレームのＴＣＰ／ＵＤＰポート番号によって決まるＣＯＳ値を設定して、前記中継網に転送するゲートウェイ装置を含むことを特徴とする請求項１〜請求項３の何れかに記載のBridged-ＬＡＮ。
【請求項６】
複数のＬＡＮ（Local Area Network）間をＶＬＡＮ（Virtual LAN）で接続する中継網内に設置される通信ノード装置であって、
それぞれイーサネットフレームを送受信する複数のポートインタフェースと、
ＶＬＡＮ識別子とサービスクラス（ＣＯＳ：Class of service）の値との組み合わせに対応してＭＳＴインスタンス識別子を定義した変換テーブルと、
上記中継網に、上記変換テーブルで定義されたＭＳＴインスタンス識別子毎にスパニングツリーを形成するための手段と、
上記各ポートインタフェースからイーサネットフレームを受信した時、上記変換テーブルによって、受信フレームのヘッダが示すＶＬＡＮ識別子とＣＯＳの値との組み合せに対応するＭＳＴインスタンス識別子を特定し、該ＭＳＴインスタンス識別子をもつスパニングツリーの経路に従って、上記受信フレームを転送する経路制御部とを備えたことを特徴とする通信ノード装置。
【請求項７】
複数のＶＬＡＮ（Virtual LAN）が形成される中継網と、該中継網に接続された複数のＬＡＮとからなり、上記中継網内では、１つあるいは複数のＶＬＡＮからなるＭＳＴ（Multiple Spanning Tree Protocol）インスタンス毎に、論理的なスパニングツリーが形成されるBridged-ＬＡＮに接続される端末装置であって、
ＴＣＰ／ＵＤＰポート番号とサービスクラス（ＣＯＳ：Class of service）の値との対応関係を示す変換テーブルと、
ネットワークアプリケーションが使用するＴＣＰ／ＵＤＰポート番号に応じて、上記変換テーブルから、送信フレームに適用すべきＣＯＳ値を特定するための手段とを有し、
該端末装置が所属するＶＬＡＮの識別子と上記特定のＣＯＳ値とをヘッダ部に含むイーサネットフレームを上記Bridged-ＬＡＮに送信することを特徴とする端末装置。
【請求項８】
複数のＶＬＡＮ（Virtual LAN）が形成される中継網と、該中継網に接続された複数のＬＡＮとからなり、上記中継網内では、１つあるいは複数のＶＬＡＮからなるＭＳＴ（Multiple Spanning Tree Protocol）インスタンス毎に、論理的なスパニングツリーが形成されるBridged-ＬＡＮと、少なくとも１つのＬＡＮとの間に接続されるゲートウェイ装置であって、
それぞれがポート番号によって識別される複数のポートインタフェースと、
ＴＣＰ／ＵＤＰポート番号とサービスクラス（ＣＯＳ：Class of service）の値との対応関係を示す変換テーブルと、
ポート番号と対応してＣＯＳ値設定の要否を示すフラグ情報を記憶したＣＯＳ値設定テーブルと、
上記各ポートインタフェースからイーサネットフレームを受信した時、上記ＣＯＳ値設定テーブルから、受信フレームの転送先となるポート番号と対応するフラグ情報を検索し、該フラグ情報がＣＯＳ値設定要を示す場合、上記変換テーブルから、上記受信フレームのＴＣＰ／ＵＤＰポート番号と対応するＣＯＳ値を検索し、該ＣＯＳ値を上記受信フレームのヘッダ部に設定して、受信フレームを上記転送先ポート番号で特定されるポートインタフェースに転送する経路制御手段とを備えたことを特徴とするゲートウェイ装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
ブリッジＢＲ３では、EthernetポートＰ３１が、MST instance ＃１でＮＤＰ、MST instance ＃２でＤＰとなり、EthernetポートＰ３２が、MST instance ＃１、＃２の双方でＲＰとなっている。ブリッジＢＲ４では、EthernetポートＰ４１が、MST instance ＃１、＃２の双方でＲＰ、EthernetポートＰ４２が、MST instance ＃１でＤＰ、MST instance ＃２でＲＰとなっている。従って、MST instance ＃２では、ブリッジＢＲ１とＢＲ２との間、MST instance ＃１ではブリッジＢＲ３とＢＲ４との間が、それぞれブロッキングされている。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月30日(2009.10.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
本体筐体および蓋体筐体と、前記本体筐体に対して前記蓋体筐体を開方向および閉方向へ付勢するバネアシスト式スライドユニットとを備え、前記蓋体筐体に前記バネアシスト式スライドユニットのユニット本体を設置し、かつ該バネアシスト式スライドユニットのスライダに前記本体筐体を設置し、前記本体筐体を覆う閉位置と前記本体筐体を露呈させる開位置との間において前記蓋体筐体をスライド可能とするとともに、前記蓋体筐体が閉位置に占位している状態において、前記本体筐体に形成した抜止めフックを前記蓋体筐体に形成したストッパ縁部に係合させ、前記本体筐体と前記蓋体筐体との剥離を防止するよう構成した電子機器であって、
前記本体筐体と前記蓋体筐体とが互いに分離した状態において、前記蓋体筐体の前記ストッパ縁部と対向する前記スライダの縁部に、前記本体筐体の前記抜止めフックと係合し得る係合部を設けて成ることを特徴とする電子機器。
【請求項２】
本体筐体および蓋体筐体と、前記本体筐体に対して前記蓋体筐体を開方向および閉方向へ付勢するバネアシスト式スライドユニットとを備え、前記蓋体筐体に前記バネアシスト式スライドユニットのユニット本体を設置し、かつ該バネアシスト式スライドユニットのスライダに前記本体筐体を設置し、前記本体筐体を覆う閉位置と前記本体筐体を露呈させる開位置との間において前記蓋体筐体をスライド可能とするとともに、前記蓋体筐体が閉位置に占位している状態において、前記本体筐体に形成した抜止めフックを前記蓋体筐体に形成したストッパ縁部に係合させて前記本体筐体と前記蓋体筐体との剥離を防止し、前記本体筐体と前記蓋体筐体とが互いに分離した状態において、前記蓋体筐体の前記ストッパ縁部と対向する前記スライダの縁部に、前記本体筐体の前記抜止めフックと係合し得る係合部を設けて成る電子機器を対象とした電子機器の製造方法であって、
前記本体筐体と前記蓋体筐体とが互いに分離した状態から、前記蓋体筐体の前記ストッパ縁部と対向している前記スライダの前記係合部に、前記本体筐体の前記抜止めフックを係止させる工程と、
前記蓋体筐体を開方向へ移動させて、前記スライダを前記蓋体筐体に対して相対的に開方向へ移動させる工程と、
前記本体筐体の前記抜止めフックを前記蓋体筐体に挿入し、前記本体筐体と前記スライダとを互いに当接させる工程と、
前記蓋体筐体を閉方向へ移動させて、前記抜止めフックを前記蓋体筐体の前記ストッパ縁部に係合させるとともに、閉方向へ付勢される前記スライダにより、前記抜止めフックを前記ストッパ縁部に押圧し、前記本体筐体と前記蓋体筐体とを互いに位置決めする工程と、
前記スライダに前記本体筐体を固定する工程とを含んで成ることを特徴とする電子機器の製造方法。
【請求項３】
抜止めフックを含む本体筐体と、
ストッパ縁部を含む蓋体筐体と、
前記蓋体筐体に取り付けられたユニット本体と、前記本体筐体と分離可能に取り付けられたスライダを含むバネアシスト式スライドユニットから構成され、
前記スライダは前記本体筐体が露出する開位置と前記本体筐体が前記蓋体筐体で覆われる閉位置との間を前記蓋体筐体が移動可能なように、前記ユニット本体の上をスライド可能であり、
前記抜止めフックは前記蓋体筐体が閉位置の時にストッパ縁部と結合し、
前記スライダは前記本体筐体が前記蓋体筐体と離れている時に前記抜止めフックと係合可能な係合部を含む
ことを特徴とする電子機器。
【請求項４】
前記スライダは、前記蓋体筐体が前記閉位置に向けて付勢されるように前記ユニット本体の上で付勢される
ことを特徴とする請求項３に記載の電子機器。
【請求項５】
前記スライダは、前記蓋体筐体が前記開位置に向けて付勢されるように前記ユニット本体の上で付勢される
ことを特徴とする請求項３に記載の電子機器。
【請求項６】
前記スライダは前記ストッパ縁部と対面する縁部を持ち、
前記係合部は前記スライダの縁部に形成される
ことを特徴とする請求項３に記載の電子機器。
【請求項７】
前記スライダは前記スライダとユニット本体が結合するときに前記ユニット本体に触れる接触面を有し
前記蓋体筐体は前記抜止めフックが前記ストッパ縁部に係合するときに本体筐体に対向する対向面を有し
前記接触面は前記対向面より前記本体筐体に対して突出している
ことを特徴とする請求項６に記載の電子機器。
【請求項８】
前記係合部は前記接触面と前記対向面との段差として形成される
ことを特徴とする請求項７に記載の電子機器。
【請求項９】
前記抜止めフックは前記対向面に平行な底面を持つ
ことを特徴とする請求項７に記載の電子機器。
【請求項１０】
前記蓋体筐体が前記閉位置の時、前記スライダの縁部とストッパ縁部にギャップが形成され、
前記スライダがスライドする方向への前記ギャップの大きさはスライダがスライドする方向への前記係合部の大きさより小さい
ことを特徴とする請求項６に記載の電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月19日(2009.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上において複数のデータ線と複数の走査線との交差に対応してマトリクス状に形成された複数の画素の各々に設けられた画素電極に電気的に接続される半導体素子の一部として前記基板上に形成された半導体層上に絶縁膜を形成する工程と、
前記半導体層の表面の一部が露出するように、前記絶縁膜を貫通する穴部を形成する工程と、
前記半導体層の表面のうち前記穴部に露出する領域に金属膜を形成する工程と、
前記半導体層及び前記金属膜を熱処理することによって、前記半導体層の表面の一部に第１低抵抗層を形成する工程と、
前記金属膜を除去する工程と、
前記第１低抵抗層を熱処理することによって前記第１低抵抗層より電気抵抗が低い第２低抵抗層を形成する工程と、
前記第２低抵抗層の表面、前記穴部の内壁面及び前記絶縁膜の表面に導電膜を形成する工程と
を備えたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項２】
前記半導体素子は、ｎチャネル型のトランジスタ素子であること
を特徴とする請求項１に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項３】
前記トランジスタ素子は、前記画素電極に対応して前記基板上の前記画素に形成された画素スイッチング用トランジスタであること
を特徴とする請求項２に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項４】
前記トランジスタ素子は、前記基板上の表示領域の周辺に延びる周辺領域に形成された周辺回路部の一部を構成していること
を特徴とする請求項２に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項５】
前記金属膜は、チタン（Ｔｉ）を含んでおり、
前記第１低抵抗層は、前記半導体層及び前記チタンの合金層であり、
前記第２低抵抗層は、前記合金層に形成された転位層であること
を特徴とする請求項１から４の何れか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項６】
前記導電膜が前記データ線であり、前記各工程は前記第２低抵抗層を介して前記データ線と前記半導体層とを電気的に接続する工程であること
を特徴とする請求項１から５の何れか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項７】
前記データ線は、アルミニウムの層を含み、当該アルミニウムの層が前記半導体層に接触すること
を特徴とする請求項１から６の何れか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項８】
基板と、
前記基板上において互いに交差する複数のデータ線及び複数の走査線と、
前記複数のデータ線と前記複数の走査線との交差に対応してマトリクス状に形成された複数の画素の各々に設けられた画素電極と、
前記画素電極に電気的に接続される半導体素子の一部として前記基板上に形成された半導体層と、
前記半導体層上に形成された絶縁膜と、
前記半導体層の表面の一部が露出するように前記絶縁膜を貫通する穴部と、
前記半導体層の表面のうち前記穴部に露出する領域に形成された金属膜を前記半導体層と共に熱処理した後、前記金属膜が除去された前記半導体層を熱処理することによって前記半導体層の表面の一部に形成された低抵抗層と、
前記低抵抗層の表面の一部、前記絶縁膜の表面、及び前記穴部の内壁面に形成された導電膜と
を備えたことを特徴とする電気光学装置。
【請求項９】
前記半導体素子は、フレームを分割する複数のサブフレーム毎にデジタル信号として供給された画像信号を前記画素電極に供給すること
を特徴とする請求項８に記載の電気光学装置。
【請求項１０】
請求項８又は９に記載の電気光学装置を具備してなること
を特徴とする電子機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
本発明に係る電気光学装置の製造方法の他の態様では、前記導電膜が前記データ線であり、前記各工程は前記第２低抵抗層を介して前記データ線と前記半導体層とを電気的に接続する工程であることを特徴とする。
本発明に係る電気光学装置の製造方法の他の態様では、前記データ線は、アルミニウムの層を含み、当該アルミニウムの層が前記半導体層に接触することを特徴とする。
本発明に係る電気光学装置は上記課題を解決するために、基板と、前記基板上において互いに交差する複数のデータ線及び複数の走査線と、前記複数のデータ線と前記複数の走査線との交差に対応してマトリクス状に形成された複数の画素の各々に設けられた画素電極と、前記画素電極に電気的に接続される半導体素子の一部として前記基板上に形成された半導体層と、前記半導体層上に形成された絶縁膜と、前記半導体層の表面の一部が露出するように前記絶縁膜を貫通する穴部と、前記半導体層の表面のうち前記穴部に露出する領域に形成された金属膜を前記半導体層と共に熱処理した後、前記金属膜が除去された前記半導体層を熱処理することによって前記半導体層の表面の一部に形成された低抵抗層と、前記低抵抗層の表面の一部、前記絶縁膜の表面、及び前記穴部の内壁面に形成された導電膜とを備える。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月6日(2009.10.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シートを積載するシート積載装置において、
搬送されたシートを積載する積載部と、
前記積載部を昇降させるための積載部昇降手段と、
前記積載部に積載されたシートの端部を規制する少なくとも１つのシート規制部材と、
前記シート規制部材を前記積載部に積載されたシート端部を規制する規制位置と、前記規制位置から退避した退避位置との間を移動させるための規制部材移動手段と、
を有し、
前記積載部は、搬送されたシートを積載するための積載位置と、前記積載部を装置本体から取り出し可能な取り出し位置とに移動可能であり、
前記積載部が前記積載位置から前記取り出し位置へ移動する前に、前記シート規制部材が前記退避位置に移動することを特徴とするシート積載装置。
【請求項２】
前記積載部が前記取り出し位置から前記積載位置へ移動した後、前記積載部上にシートがあるときに前記シート規制部材が前記規制位置に移動することを特徴とする請求項１記載のシート積載装置。
【請求項３】
前記シート規制部材は前記積載部に積載されたシートに対し、シート搬送方向と直交する方向の端部を規制する規制部材と、シート搬送方向の端部を規制する規制部材とを有することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のシート積載装置。
【請求項４】
前記積載部は、前記積載部が前記取り出し位置へ移動した後、シートを前記積載部に積載したまま装置外部に移送することが可能な移送手段を有することを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載のシート積載装置。
【請求項５】
前記退避位置は、前記積載部の移送時に、前記シート規制部材と前記積載部に積載される最大積載量のシートとが干渉しない位置に設定されることを特徴とする請求項４記載のシート積載装置。
【請求項６】
シートに画像を形成する画像形成部と、
前記画像形成部により画像を形成されたシートを積載する請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載のシート積載装置と、
を備えたことを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記課題を解決するための本発明における代表的な手段は、シートを積載するシート積載装置において、搬送されたシートを積載する積載部と、前記積載部を昇降させるための積載部昇降手段と、前記積載部に積載されたシートの端部を規制する少なくとも１つのシート規制部材と、前記シート規制部材を前記積載部に積載されたシート端部を規制する規制位置と、前記規制位置から退避した退避位置との間を移動させるための規制部材移動手段と、を有し、前記積載部は、搬送されたシートを積載するための積載位置と、前記積載部を装置本体から取り出し可能な取り出し位置とに移動可能であり、前記積載部が前記積載位置から前記取り出し位置へ移動する前に、前記シート規制部材が前記退避位置に移動することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明にあっては、積載部に積載されたシートを取り出す場合等、積載部を取り出し位置に移動させる前にシート規制部材をシートから退避させておく。そのため、積載部の取り出し接地面が平面でない場合や、シート積載装置自体が平面に設置されていない場合でも、シートとシート規制部材の干渉を防ぐことができる。このため、シートへダメージを与えることを回避することが可能となる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
図2において、101はシート積載装置であり、このシート積載装置101を中心にしてシート搬送方向上流側には画像形成装置102が配置され、シート搬送方向下流側には下流装置103が配置されている。そして、画像形成装置102で画像が形成されたシートがシート積載装置101に搬送され、ここで所定のシート積載が行われた後、下流装置103に搬送されるように、シート積載装置101、画像形成装置102、下流装置103が接続されている。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月6日(2009.3.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
地震後に実施される自動復旧運転前に、かごに設けられたマイクによって、前記かご内で発生する音を集音するステップと、
自動復旧運転前に前記マイクによって集音された音に基づいて、前記かご内に乗客がいない場合の音に相当する基準値を判定するステップと、
前記マイクによって集音される音、及び、前記判定された基準値を比較して、前記かご内の乗客の有無を判定するステップと、
前記乗客の有無の判定によって前記かご内に乗客がいないと判定された場合に、地震後の自動復旧運転を開始するステップと、
を備えたことを特徴とするエレベータの制御方法。
【請求項２】
乗客の有無の判定によってかご内に乗客がいると判定された場合に、戸開して前記かごから乗客を追い出すステップと、
前記追い出し動作完了後にマイクによって集音された音に基づいて、前記かご内に乗客がいない場合の音に相当する基準値を再判定するステップと、
前記マイクによって集音される音、及び、前記再判定された基準値を比較して、前記かご内の乗客の有無を再判定するステップと、
を備えたことを特徴とする請求項１に記載のエレベータの制御方法。
【請求項３】
乗客の有無の再判定によってかご内に乗客がいると判定された場合に、戸開して、エレベータの外部に通報するステップと、
を備えたことを特徴とする請求項２に記載のエレベータの制御方法。
【請求項４】
かご内に乗客がいない場合の音に相当する基準値は、マイクによって集音された音が、自動復旧運転開始前の所定期間に渡って所定のレベル内にある場合に、前記所定期間内に前記マイクによって集音された音に基づいて判定されることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のエレベータの制御方法。
【請求項５】
地震の発生後、エレベータのかごを最寄り階に停止させるステップと、
前記かごが前記最寄り階に停止した後、前記かご内の乗客を救出するため、戸開動作及び戸閉動作を順次実施するステップと、
を更に備え、前記戸閉動作が完了した後、前記かごに設けられたマイクによって前記かご内で発生する音を集音することを特徴とする請求項１から請求項４の何れかに記載のエレベータの制御方法。
【請求項６】
エレベータのかごに設けられ、前記かご内で発生する音を集音するマイクと、
地震後に実施される自動復旧運転前に、前記マイクによって集音された音に基づいて、前記かご内に乗客がいない場合の音に相当する基準値を判定する基準値判定部と、
前記マイクによって集音される音、及び、前記基準値判定部によって判定された基準値を比較して、前記かご内の乗客の有無を判定する乗客有無判定部と、
前記乗客有無判定部によって前記かご内に乗客がいないと判定された場合に、地震後の自動復旧運転を開始する自動復旧運転制御部と、
を備えたことを特徴とするエレベータの制御装置。
【請求項７】
エレベータのかごに設けられ、前記かご内に情報を報知する報知手段と、を備え、
前記報知手段は、乗客の有無の判定の際に、前記かご内に対して、音を発生させる旨を報知することを特徴とする請求項６に記載のエレベータの制御装置。
【請求項８】
基準値判定部は、マイクによって集音された音が、自動復旧運転開始前の所定期間に渡って所定のレベル内にある場合に、前記所定期間内に前記マイクによって集音された音に基づいて、かご内に乗客がいない場合の音に相当する基準値を判定することを特徴とする請求項６又は請求項７に記載のエレベータの制御装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月23日(2009.10.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
装置本体に着脱自在に装着され、シートを積載する中板を回動自在に設けたシート収納部と、前記中板に積載されたシートを給送するシート給送ローラと、前記中板を前記シート給送ローラに向けて付勢するための付勢部材と、を備えたシート給送装置において、
前記シート給送ローラと共に回転するカムと、
前記カムに当接し、前記カムの回転により上下方向に回動することにより、前記中板を、前記付勢部材に抗して前記シート給送ローラから離隔した待機位置と、前記付勢部材により、積載されたシートをシート給送ローラに圧接させる給送位置との間で回動させるための従動部材と、を備え、
前記カムを、前記従動部材の回動支点と前記従動部材の前記中板との係合位置との間で前記従動部材に当接させることを特徴とするシート給送装置。
【請求項２】
前記従動部材と前記中板との間に、前記従動部材の回動端に当接して該従動部材の上下方向の回動に伴って上下方向に回動可能な他の従動部材を設け、該他の従動部材に前記付勢部材を設けると共に前記中板に係合させることにより、前記カムの回転によって前記中板を前記待機位置と前記給送位置との間で移動させることを特徴とする請求項１に記載のシート給送装置。
【請求項３】
前記シート給送ローラと前記カムとの間に前記シート給送ローラを駆動する駆動力を選択的に前記カムに伝達するクラッチ機構を設けたことを特徴とする請求項１記載のシート給送装置。
【請求項４】
前記クラッチ機構をスプリングクラッチとソレノイド装置で構成することを特徴とする請求項３記載のシート給送装置。
【請求項５】
前記カムの形状を、前記従動部材及び前記他の従動部材を介してシート給送時には前記中板を前記給送位置に移動させ、シート給送後には前記中板を前記待機位置に移動させる形状としたことを特徴とする請求項２又は３記載のシート給送装置。
【請求項６】
前記シート収納部が前記装置本体に装着される際、前記中板は前記他の従動部材に案内されて前記カムの位相に応じた待機位置に移動することを特徴とする請求項２乃至５のいずれか１項に記載のシート給送装置。
【請求項７】
前記付勢部材の付勢力により、前記シート給送ローラと前記中板に積載されたシートとの間にシート給送圧が発生することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載のシート給送装置。
【請求項８】
前記従動部材の回動端及び前記他の従動部材の前記従動部材の回動端との当接部の一方にコロを設けたことを特徴とする請求項２乃至７のいずれか１項に記載のシート給送装置。
【請求項９】
前記従動部材又は前記他の従動部材の回動位置に応じて中板上のシートの有無を検知するシート有無検知手段を備えたことを特徴とする請求項２乃至８のいずれか１項に記載のシート給送装置。
【請求項１０】
画像形成部と、シートを前記画像形成部に送り出す前記請求項１乃至９のいずれか１項に記載のシート給送装置とを備えたことを特徴とする画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月19日(2009.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
分散媒中に金属ナノ粒子がコロイド分散している窯業表面処理剤であって、該金属ナノ粒子の粒度分布の９０％累積径Ｄ90が２２ｎｍ≦Ｄ90≦１５０ｎｍであることを特徴とする窯業表面処理剤。  
【請求項２】
金属ナノ粒子が、銀または銀を含む合金であることを特徴とする請求項１に記載の窯業表面処理剤。
【請求項３】
窯業表面処理剤が、親水性基を有する分散剤を金属ナノ粒子１００重量部あたり１〜２０重量部含有し、金属ナノ粒子が該分散剤によって被覆された状態で、分散媒としての水中にコロイド分散していることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の窯業表面処理剤。
【請求項４】
窯業表面処理剤が、水溶性の有機溶媒を金属ナノ粒子１００重量部あたり３０〜９００重量部含有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の窯業表面処理剤。
【請求項５】
調製後、２４時間、経過した時点での金属ナノ粒子の沈降量が、前記金属ナノ粒子の総量の０．１重量％以下である分散液を用いて調製されたことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の窯業表面処理剤。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の窯業表面処理剤を窯業製品の表面に塗布した後、８００〜１６００℃で焼成した、表面に少なくとも銀を含む金属ナノ粒子が存在する抗菌性窯業製品であって、表面に存在する該金属ナノ粒子の平均粒子径が８ｎｍ≦平均粒子径≦２００ｎｍであることを特徴とする抗菌性窯業製品。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月30日(2009.7.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
本実施の形態において、射出シリンダ１０２は、アルミ溶湯を射出するための油圧駆動の往復動ピストン／シリンダである。射出シリンダ１０２は、シリンダ６とピストン１３とを具備する。ピストン１３は図１に示すように、プランジャースリーブ７に係合する。ピストン１３は、図１において左端にピストンヘッド５を具備し、そのピストンヘッド５と一体化しているピストンロッド４に射出カップリング３でプランジャーロッド２が連結され、その先にプランジャーチップ１が取り付けられている。プランジャーチップ１は、プランジャースリーブ７内に嵌合し、プランジャースリーブ７内で往復動して、プランジャースリーブ７内のアルミ溶湯１５を圧送することにより、アルミ溶湯１５を射出する。本実施の形態において、射出シリンダ１０２は、油圧式であるので、作動油をシリンダ６のヘッド側に供給して、ピストンヘッド５及びピストンロッド４を駆動し、プランジャーロッド２を介して、プランジャースリーブ７に貯められたアルミ（ＡＬ）溶湯１５をプランジャーチップ１で押して、固定金型８，９内のキャビティ（空洞）１２に射出して鋳造成形する。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月26日(2009.10.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のシート材が積載される積載手段と、
前記積載手段に積載された複数のシート材を折り曲げる折り曲げ手段と、
前記折り曲げ手段に折り曲げられた複数のシート材からなる冊子に折り目を形成する折り目形成手段と、
前記折り曲げ手段により折り曲げられる前のシート材の、冊子の折り目となる部分に加湿を行う加湿手段と、
を備える製本装置において、
前記折り目形成手段によって冊子に折り目を形成しやすくするよう、前記加湿手段が加湿を行う際の加湿条件を制御する制御手段を有することを特徴とする製本装置。
【請求項２】
前記加湿条件は、
シート材の、冊子の折り目となる部分における加湿幅であることを特徴とする請求項１に記載の製本装置。
【請求項３】
前記加湿条件は、
シート材の、冊子の折り目となる部分における加湿量であることを特徴とする請求項１に記載の製本装置。
【請求項４】
前記加湿条件は、
シート材の、冊子の折り目となる部分における加湿の有無であることを特徴とする請求項１に記載の製本装置。
【請求項５】
前記加湿条件は、
シート材の、冊子の折り目となる部分における加湿幅、加湿量、及び加湿の有無のうちの少なくとも２つの組合わせであることを特徴とする請求項１に記載の製本装置。
【請求項６】
前記加湿条件は、
冊子を形成するシート材ごとに可変であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の製本装置。
【請求項７】
前記加湿条件は、
冊子を形成するシート材１枚の中で可変であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の製本装置。
【請求項８】
前記加湿手段は、
前記積載手段に積載されるシート材１枚ごとに、冊子の折り目となる部分を加湿することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の製本装置。
【請求項９】
前記加湿手段は、
冊子の内側となる側から、シート材の、冊子の折り目となる部分を加湿することを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の製本装置。
【請求項１０】
前記加湿手段は、
冊子の外側となるシート材から、順次加湿していくことを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の製本装置。
【請求項１１】
前記積載手段には、
前記積載手段に積載されたシート材の前記加湿手段により加湿された面側に、シート材が順次積載されることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の製本装置。
【請求項１２】
前記制御手段は、
加湿を行うシート材の開き量に関わる情報に基づいて、前記開き量が少なくなるように前記加湿条件を制御することを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の製本装置。
【請求項１３】
シート材に画像を形成する画像形成部と、
前記画像形成部により画像形成されたシート材を製本する請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の製本装置と、
を備えることを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
上記目的を達成するために本発明にあっては、複数のシート材が積載される積載手段と、前記積載手段に積載された複数のシート材を折り曲げる折り曲げ手段と、前記折り曲げ手段に折り曲げられた複数のシート材からなる冊子に折り目を形成する折り目形成手段と、前記折り曲げ手段により折り曲げられる前のシート材の、冊子の折り目となる部分に加湿を行う加湿手段と、を備える製本装置において、前記折り目形成手段によって冊子に折り目を形成しやすくするよう、前記加湿手段が加湿を行う際の加湿条件を制御する制御手段を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成21年8月31日(2009.8.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリカーボネート基材と、該基材上に積層された、酸化亜鉛膜と、ハードコート層とを有し、前記基材と酸化亜鉛膜との間には、酸化珪素膜が配置されていることを特徴とする透明体。
【請求項２】
ポリカーボネート基材と、該基材上に順に積層された、第１の酸化珪素膜と、酸化亜鉛膜と、第２の酸化珪素膜とを有することを特徴とする透明体。
【請求項３】
請求項２に記載の透明体において、前記第１の酸化珪素膜の膜厚は１０００オングストローム以上であり、前記第２の酸化珪素膜の膜厚は１μｍ以上であることを特徴とする透明体。
【請求項４】
基材側に配置された紫外線吸収層と、その上に配置されるハードコート層とを含むハードコート構造であって、
前記紫外線吸収層は、酸化亜鉛膜であり、前記酸化亜鉛膜と基材との間にはバッファ層が配置されていることを特徴とするハードコート構造。
【請求項５】
請求項４に記載のハードコート構造において、前記バッファ層は、酸化珪素膜であることを特徴とするハードコート構造。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月10日(2009.9.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）媒体に記録を行うためのヘッドと、
（Ｂ）前記ヘッドの上流側のローラと下流側のローラとを含む搬送機構であって、目標となる目標搬送量に応じて前記ヘッドに対して前記媒体を搬送方向に搬送するための搬送機構と、
（Ｃ）前記媒体を搬送するときに前記目標搬送量を補正するための補正値であって、前記ヘッドと前記媒体との相対位置に対応づけられた前記補正値を複数記憶するメモリと、
（Ｄ）前記ヘッドを制御して前記媒体に第１パターンを記録させ、前記相対位置に対応する補正値を用いて前記目標搬送量を補正して前記搬送機構に前記媒体を搬送させ、前記ヘッドを制御して前記媒体に第２パターンを記録させて、前記第１パターンと前記第２パターンとの距離に基づいて搬送量を確認するための確認用のパターンを記録させるコントローラであって、前記第１パターンを記録してから前記第２パターンを記録するまでの間における前記媒体の搬送のときに前記媒体が前記下流側のローラへ進入しないようにするコントローラと、
を備える記録装置。
【請求項２】
前記コントローラは、前記第１パターンと前記第２パターンとの重なり具合に基づいて搬送量を確認することができる確認用パターンを記録させる、請求項１に記載の記録装置。
【請求項３】
前記第１パターンと前記第２パターンはともに矩形のパターンである、請求項１又は２に記載の記録装置。
【請求項４】
前記第１パターンと前記第２パターンは前記媒体の搬送方向の垂直方向にずれるようにして形成される、請求項１〜３のいずれかに記載の記録装置。
【請求項５】
前記コントローラは、さらに、前記第１パターンを記録してから前記第２パターンを記録するまでの間における前記媒体の搬送のときに前記媒体が前記上流側のローラから外れることがないようにする、請求項１〜４のいずれかに記載の記録装置。
【請求項６】
記録装置を動作させるためのプログラムであって、
媒体を搬送するときに目標搬送量を補正するための補正値であって、ヘッドと前記媒体との相対位置に対応付けられた前記補正値を複数記憶するステップと、
前記ヘッドを制御して前記媒体に第１パターンを記録するステップと、
前記相対位置に対応する補正値を用いて前記目標搬送量を補正して前記媒体を搬送させるステップであって、該搬送のときに前記媒体が前記ヘッドの下流側のローラに進入しないように前記媒体を搬送するステップと、
前記第１パターンとの距離に基づいて搬送量を確認するための第２パターンを前記ヘッドを制御して前記媒体に記録するステップと、
を前記記録装置に行わせるプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月17日(2009.2.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
両面枚葉印刷機などの両面印刷機により紙、布などのシートの両面に印刷を行なう場合には、二色目以降の印刷の際、シートは、直前に印刷された面側から圧胴により押されて反対側の面がブランケット胴に押し付けられる。従って、インキが圧胴に付着し、圧胴に付着したインキがその後の印刷物（枚葉紙などのシート）に付着し、印刷物を汚して不良印刷物としてしまうおそれがある。このような不具合は、両面印刷機に限らず、シートの表面に印刷した後シートを反転して裏面を印刷する両面兼用印刷機において裏面を印刷する場合にも同様に生じる。また、両面印刷機においては、圧胴ほどではないが搬送胴（渡し胴）においても同様に印刷物の汚れは生じる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
また、基材１の両面に同様のニッケルメッキ層を形成することにより、片面にのみメッキを施す場合に比べて製造が容易となり（メッキしない面を覆う必要がなくなる）、更に基材１として、耐食性の高いＳＵＳ３０４等を使用する必要がなくなる。