【手続補正書】
【提出日】平成25年4月16日(2013.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
次のものを含む光学物品の製造方法：
（ａ）剥き出しの表面がある基材を備える光学物品を準備する、
（ｂ）基材の前記剥き出し表面上に少なくとも１つの開裂可能な界面活性剤を含む第１硬化性組成物の第１層を堆積する、
（ｃ）前記第１硬化性組成物を少なくとも部分的に硬化し、これにより第１塗膜を形成する。
（ｄ）前記第１塗膜の上に第２塗膜を形成する、および
（ｅ）前記第１塗膜および前記第２塗膜を連続的に塗工され、前記第１塗膜が前記第２塗膜に接着している基材を備える光学物品を得る、
ここに、前記第１硬化性組成物が基材の剥き出しの表面上にすでに堆積された後で、かつステップ（ｄ）の前に、前記光学物品は開裂可能な界面活性剤が少なくとも部分的に開裂することになる処理過程を受ける。
【請求項２】
前記第１塗膜がゾル−ゲル塗膜または（メタ）アクリレートをベースとした塗膜から選択される、請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
第１硬化性組成物がさらに次の化学式の化合物：
【化１】
2012529663.tif 000001
またはその加水分解物を少なくとも１つ含む、請求項１または２に記載の製造方法で、ここにＲ基群は同一または異なりかつ炭素原子群を介してシリコン原子に結合した１価の有機基群を表し、Ｘ基群は同一または異なりかつ加水分解性基群を表し、およびｎは１または２に等しい整数である。
【請求項４】
第１硬化性組成物がさらに次の化学式の化合物：
【化２】
2012529663.tif 000002
またはその加水分解物を少なくとも１つ含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載の製造方法で、ここにＲ基群は同一または異なりかつ炭素原子を介してシリコン原子に結合する有機基を表し、Ｙ基群は同一または異なりかつ炭素原子を介してシリコン原子に結合した１価の有機基を表しかつ少なくとも１つのエポキシ官能基を含み、Ｘ基群は同一または異なりかつ加水分解性の基を表し、ｍおよびｎ’はｍが１または２に等しくさらにｎ’＋ｍ＝１または２となる様な整数である。
【請求項５】
第１硬化性組成物がさらに化学式Ｓｉ（Ｚ）４の化合物を少なくとも１つ含み、ここにＺ基群は同一または異なる加水分解性の基群を表す、請求項３に記載の製造方法。
【請求項６】
第１塗膜の厚みが１から１５μｍの範囲である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項７】
第１塗膜の厚みが５から２５０ｎｍの範囲である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項８】
開裂可能な界面活性剤が化学式VIIIの化合物から選ばれる、請求項１〜７のいずれか１項に記載の製造方法：
【化３】
2012529663.tif 000003
ここに極性頭部は極性部分、疎水性尾部は疎水性部分、ａは１から４の範囲の整数、ｃは１から４の範囲の整数、およびｂは１から１０の範囲の整数、極性頭部は同一または異なり、開裂可能リンカーは同一または異なりおよび疎水性尾部は同一または異なる。
【請求項９】
開裂可能な界面活性剤が熱および／または光開裂性である、請求項１〜８のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１０】
開裂可能な界面活性剤が化学式IXおよびＸから選ばれる、請求項１〜９のいずれか１項に記載の製造方法：
【化４】
2012529663.tif 000004
ここに極性頭部は極性基、疎水性尾部は疎水性基、Ｒ１、Ｒ２および Ｒ３ は独立的に Ｈ、アリール、アルキル、ハロゲン、疎水性尾部または極性頭部またはディールスアルダー付加環化反応の条件に適合する全ての他の基を表す。
【請求項１１】
開裂可能な界面活性剤が化学式ＸＩの化合物から選ばれる、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の製造方法：
【化５】
2012529663.tif 000005
ここにＲ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は独立的にＨ、アリール、アルキル、ハロゲン、またはディールスアルダー付加環化反応の条件に適合する全ての基を表すが、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８の内少なくとも１つは化学式ＣｍＨ２ｍ＋１のアルキル基であるという条件付で、ここにｍは６から２４の範囲の整数、Ｒ４基群は独立的に親水性基を表し、ｎは１から５の範囲の整数である。
【請求項１２】
開裂可能な界面活性剤が加水分解により開裂可能である、請求項１〜８のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１３】
開裂可能な界面活性剤が、ドデシル硫酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、または両者の混合物である、請求項１２に記載の製造方法。
【請求項１４】
少なくとも部分的に硬化した塗膜を塗工された表面を持つ基材を備えた光学物品で、ここに前記塗膜が以下の様にして得られている光学物品：
基材の表面上に少なくとも１つの開裂可能な界面活性剤を含む第１硬化性組成物を堆積する、および
前記硬化性組成物を少なくとも部分的に硬化する、
ここに前記光学物品は前記硬化性組成物が基材の表面上に堆積された後に開裂可能な界面活性剤が少なくとも部分的に開裂することになる処理過程を受けている。
【請求項１５】
前記塗膜がゾル−ゲル塗膜または（メタ）アクリレートをベースとした塗膜から選ばれる、請求項１４に記載の物品。
【請求項１６】
少なくとも１つの開裂可能な界面活性剤、および次の化学式の化合物：
【化６】
2012529663.tif 000006
またはその加水分解物を少なくとも１つ含む硬化性組成物で、ここにＲ基群は同一または異なりかつ炭素原子群を介してシリコン原子に結合した１価の有機基群を表し、Ｘ基群は同一または異なりかつ加水分解性基群を表し、およびｎは１または２に等しい整数である。
【請求項１７】
硬化性組成物がさらに次の化学式の化合物：
【化７】
2012529663.tif 000007
またはその加水分解物を少なくとも１つ含む、請求項１６に記載の硬化性組成物で、ここにＲ基群は同一または異なりかつ炭素原子を介してシリコン原子に結合する有機基を表し、Ｙ基群は同一または異なりかつ炭素原子を介してシリコン原子に結合した１価の有機基を表しかつ少なくとも１つのエポキシ官能基を含み、Ｘ基群は同一または異なりかつ加水分解性の基を表し、ｍおよびｎ’はｍが１または２に等しくさらにｎ’＋ｍ＝１または２となる様な整数である。
【請求項１８】
開裂可能な界面活性剤が化学式IXおよびＸから選ばれる、請求項１６または１７に記載の硬化性組成物：
【化８】
2012529663.tif 000008
ここに極性頭部は極性部分、疎水性尾部は疎水性部分、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は独立的にＨ、アリール、アルキル、ハロゲン、疎水性尾部もしくは極性頭部またはディールスアルダー付加環化反応の条件に適合する全ての他の基を表す。
【請求項１９】
次のものを含む硬化塗膜の別の塗膜に対する接着性を向上させる方法：
（ａ）剥き出しの表面がある基材を備える光学物品を準備する、
（ｂ）基材の前記剥き出し表面上に少なくとも１つの開裂可能な界面活性剤を含む第１硬化性組成物の第１層を堆積する、
（ｃ）前記第１硬化性組成物を少なくとも部分的に硬化し、これにより第１塗膜を形成する。
（ｄ）前記第１塗膜の上に第２塗膜を形成する、および
（ｅ）前記第１塗膜および前記第２塗膜を連続的に塗工され、前記第１塗膜が前記第２塗膜に接着している基材を備える光学物品を得る、
ここに、前記第１硬化性組成物が基材の剥き出しの表面上にすでに堆積された後で、かつステップ（ｄ）の前に、前記光学物品は開裂可能な界面活性剤が少なくとも部分的に開裂することになる処理過程を受ける。