【誤訳訂正書】
【提出日】平成25年8月5日(2013.8.5)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００７】
本発明の核心部は、公知の視野ファセットミラーで一般的に存在する支持板の法線方向への視野ファセット縁部の投影が、特にサイズ及び同じく形状の両方に関して同一であり、更には向きに関しても同一であるというこれまでに維持されていた境界条件を放棄することである。非同一に形成された投影を可能にする新しい自由度に起因して、例えば、結像条件の理由から起こり得る個別視野ファセット像の互いに対する回転の事前補償を物体視野上での個別視野ファセット像の重ね合わせ中に達成することができる。本発明によって認識されているように、照明光学系を視野ファセットを介してチャンネル別に導かれる照明光の様々な経路に起因して、ファセット像のこの種の回転がもたらされる。この場合、視野ファセットの結像スケール変動が物体視野上で発生する可能性もある。視野ファセット反射面の同一の基部平面上への投影という条件を放棄することにより、結像スケールの上述の変動を事前補償することができる。物体視野上への結像中において、物体視野上で重ね合わされる視野ファセット像が、異なる実ファセット面と、特に縁部において、もはや一致しないので、事前補償なしのファセット像の回転は、物体視野照明の望ましくない縁部散乱効果を招く。互いに隣合わせで配置された視野ファセットによって張られる視野ファセットミラーの基部平面は、一般的に、視野ファセット支持体の保持平面によって予め決定される。一般的に、この基部平面は、視野ファセットミラーの主反射平面と一致し、この主反射平面に対して、照明光学系の照明チャンネルの割り当てに対して視野ファセットを依然として個別に傾斜して配置することができる。この場合、主反射平面は、傾斜されていない視野ファセット、言い換えれば保持平面に整列した視野ファセットを有する反射平面である。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反射面（２２）を有する複数の視野ファセット（１８）であって、該視野ファセット（１８）の像は物体視野（９）内で重ね合わせられる複数の視野ファセット（１８）を有し、
前記視野ファセット（１８）が、互いに隣接する該視野ファセット（１８）の配置が視野ファセットミラー（６）の基部平面（ｘｙ）を張るように配置される、
前記物体視野（９）に配置された物体の構造を像視野（１３）内に伝達するためのＥＵＶマイクロリソグラフィのための投影露光装置（１）の照明光学系に使用するための視野ファセットミラー（６）であって、
前記照明光学系を前記視野ファセット（１８）を介してチャンネル別に導かれる照明光の様々な経路に起因して発生する、前記物体視野（９）内での前記ファセット像の各々の理想的な結像状態からのずれを事前補償するように、前記視野ファセット（１８）のうちの少なくとも２つの反射面（２２）の基部平面（ｘｙ）上への投影が、以下のパラメータ：
形状、
向き、
のうちの少なくとも１つに関して異なる、
ことを特徴とする視野ファセットミラー。
【請求項２】
前記視野ファセット（１８）は、支持板（２１）上で特に行別又は列別に互いに隣合わせで配置されることを特徴とする請求項１に記載の視野ファセットミラー。
【請求項３】
前記視野ファセット（１８）のうちの少なくとも２つが、前記視野ファセットミラー（６）の前記基部平面（ｘｙ）に垂直な軸（２３；２６）の回りに１°よりも大きく互いに対して傾斜して配置されることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の視野ファセットミラー。
【請求項４】
前記視野ファセット（１８）の前記基部平面（ｘｙ）上への投影が、部分リング形状を有することを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の視野ファセットミラー。
【請求項５】
前記傾斜軸（２３）は、隣接する視野ファセット（１８）の前記部分リング形状が配置されたリングの中心点を通じて延び、従って、該傾斜軸（２３）の回りの傾斜時に、該視野ファセットは、該リングに沿って外周方向に変位されることを特徴とする請求項３及び請求項４のいずれか１項に記載の視野ファセットミラー。
【請求項６】
前記基部平面（ｘｙ）上への投影における前記視野ファセット（１８）は、前記部分リングの少なくとも２ｍｍの厚み、特に、３．４ｍｍの厚みを有することを特徴とする請求項４又は請求項５に記載の視野ファセットミラー。
【請求項７】
前記視野ファセット（１８）のうちの少なくとも２つが、前記部分リングの半径と平行に延びる軸（２５）の回りに互いに対して傾斜されることを特徴とする請求項４から請求項６のいずれか１項に記載の視野ファセットミラー。
【請求項８】
前記視野ファセット（１８）の前記反射面（２２）は、各場合に、２つの対向する球面側壁（２７，２８）によって制限されたファセット基部本体（２４）の端壁によって形成されることを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の視野ファセットミラー。
【請求項９】
前記ファセット基部本体は、前記２つの対向する球面側壁（２７，２８）によって凸状／凹状に制限されることを特徴とする請求項８に記載の視野ファセットミラー。
【請求項１０】
隣接するファセット基部本体（２４）の前記２つの互いに対面する側壁（２７x，２８y）は、同じ曲率半径を有し、かつ互いに対して同心状に延びることを特徴とする請求項８又は請求項９に記載の視野ファセットミラー。
【請求項１１】
前記視野ファセット（１８）のうちの１つの前記ファセット基部本体（２４）の前記２つの対向する側壁（２７x，２８x）は、同じ曲率半径（Ｒ1）を有し、かつ同心ではないことを特徴とする請求項８から請求項１０のいずれか１項に記載の視野ファセットミラー。
【請求項１２】
前記視野ファセット（１８）のうちの１つの前記ファセット基部本体（２４）の前記２つの対向する側壁（２７x，２８x）は、異なる曲率半径（Ｒ1，Ｒ2）を有し、かつ同心であることを特徴とする請求項８から請求項１０のいずれか１項に記載の視野ファセットミラー。
【請求項１３】
前記ファセット基部本体（２４）の前記２つの対向する側壁（２７x，２８x）は、同心ではなく、前記反射面（２２）は、前記外周方向に変化する厚みを有する部分リングを形成することを特徴とする請求項８から請求項１０のいずれか１項に記載の視野ファセットミラー。
【請求項１４】
前記視野ファセット（１８ａから１８ｃ）のうちの少なくとも２つが、対称中心半径（２９）に関して異なる方位角広がりを有し、特に、この対称中心半径（２９）に関して非対称の方位角広がりを有することを特徴とする請求項１から請求項１３のいずれか１項に記載の視野ファセットミラー。
【請求項１５】
隣接する視野ファセット（１８1，１８2）が、前記視野ファセットミラー（６）の前記基部平面（ｘｙ）に垂直な軸（２６）の回りに互い対して傾斜して配置されることを特徴とする請求項１から請求項１４のいずれか１項に記載の視野ファセットミラー。
【請求項１６】
前記視野ファセット（１８1，１８2）の前記反射面（２２）は、長手ファセット広がり（ｘ）と短手ファセット広がり（ｙ）とを有し、該長手ファセット広がり（ｘ）に沿って間断なく変化する中間空間（４５）が、該長手ファセット広がり（ｘ）にわたって隣接し、かつ互いに対して傾斜された視野ファセット（１８1，１８2）の間に生成されることを特徴とする請求項１５に記載の視野ファセットミラー。
【請求項１７】
請求項８から請求項１６のいずれか１項に記載の視野ファセットミラー（６）を生成する方法であって、
球面側壁（２７，２８）を有するファセット基部本体（２４）を有する個々の未加工視野ファセット（３４）を生成する段階と、
隣接するファセット基部本体（２４）のそれぞれ互いに割り当てられた側壁（２７，２８）が同じ曲率半径を有する視野ファセットスタック（３８）に前記個々の未加工視野ファセット（３４）を割り当てる段階と、
前記視野ファセットの前記個々の反射面（２２）を個々に処理する段階（３９）と、
処理された視野ファセット（１８）の群を組み立てて視野ファセットミラー（６）上にファセット装置を形成する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１８】
視野ファセットブロック（４２）への群別の配置が、前記視野ファセット（１８）の前記装置を組み立てる時に行われることを特徴とする請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記割り当ての後かつ前記個々の処理の前に、未加工ファセットブロックが組み立てられ（４０ａ）、該未加工ファセットブロックの基部面（４１）が研削されて、平坦な基準面が形成されることを特徴とする請求項１７又は請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
請求項１から請求項１６のいずれか１項に記載の視野ファセットミラー（６）を有する照明光学系。
【請求項２１】
反射面（２２）を有する複数の弓形視野ファセット（１８）を有する視野ファセットミラー（６）を有し、
前記視野ファセット（１８）を物体視野（９）内に結像するための伝達ファセットミラー（７）を有する後続光学系（８）を有し、
各視野ファセット（１８）には、前記物体視野（９）内への結像のために個々に割り当てられた伝達ファセットが割り当てられる、
ＥＵＶマイクロリソグラフィのための投影露光装置（１）に使用するための照明光学系であって、
前記伝達ファセットが、前記視野ファセット（１８）の反射面（２２）の中心（２７ａ）が前記物体視野（９）の中心で拡張領域（４６）上に結像されるような向きに配置される、
ことを特徴とする照明光学系。
【請求項２２】
前記物体視野（９）は、長手（ｘ）視野広がりと短手（ｙ）視野広がりとを有し、
前記視野ファセット（１８）の前記反射面（２２）は、湾曲しており、かつ前記長手視野広がり（ｘ）に対応する長手ファセット広がりと、前記短手視野広がり（ｙ）に対応する短手ファセット広がりとを有し、
前記伝達ファセットは、前記視野ファセット（１８）の前記反射面（２２）の中心（２７ａ）が、前記物体視野（９）の中心で前記長手視野広がり（ｘ）に沿って拡張された領域（４６）上に結像されるような向きに配置される、
ことを特徴とする請求項２１に記載の照明光学系。
【請求項２３】
前記伝達ファセットは、２つの長手視野広がり（ｘ）の一方に沿って延びる前記物体視野（９）の２つの縁部（４７，４８）の一方（４７）に沿った前記反射面（２２）の像が、これらの２つの縁部（４７，４８）のうちの他方（４８）に沿ったものよりも鮮明に互いに重ね合わされて結像されるような向きに配置されることを特徴とする請求項２２に記載の照明光学系。
【請求項２４】
請求項２０から請求項２３のいずれか１項に記載の照明光学系（１０）を有し、
前記物体視野（９）を前記像視野（１３）内に結像するための投影光学系（１２）を有する、
ことを特徴とする照明系。
【請求項２５】
請求項２４に記載の照明系と、
ＥＵＶ光源（２）と、
を有することを特徴とする投影露光装置。
【請求項２６】
微細構造構成要素を生成する方法であって、
レチクルとウェーハを準備する段階と、
請求項２５に記載の投影露光装置を用いて前記レチクル上の構造を前記ウェーハの感光層上に投影する段階と、
前記ウェーハ上に微細構造を生成する段階と、
を含むことを特徴とする方法。