Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成21年8月10日(2009.8.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検物質を添加する試料添加部、被検物質に特異的に反応する特異的結合物が標識された標識物質を保持する標識物質保持部、被検物質に特異的に反応する特異的結合物が標識された標識物質を捕捉する捕捉物質が固定された判定部、がクロマトグラフィー媒体上に形成された試験片と、
前記被検物質を前記試験片上に展開させるための展開液と、を備えるイムノクロマトグラフィー用試験キットにおいて、
前記展開液が、展開液１ｍＬに対し５〜２０００μｇの免疫グロブリンを含み、
前記免疫グロブリンが、前記判定部の捕捉物質と同一の産生動物種由来であり、かつ前記判定部の捕捉物質のみと同一のサブクラスを有するものであり、前記試料添加部及び前記標識物質保持部に保持された捕捉物質と同一のサブクラスを有するものではないことを特徴とするイムノクロマトグラフィー用試験キット。
【請求項２】
被検物質を添加する試料添加部、被検物質に特異的に反応する特異的結合物が標識された標識物質を保持する標識物質保持部、被検物質に特異的に反応する特異的結合物が標識された標識物質を捕捉する捕捉物質が固定された判定部、がクロマトグラフィー媒体上に形成された試験片と、
前記被検物質を前記試験片上に展開させるための展開液と、を備えるイムノクロマトグラフィー用試験キットにおいて、
前記試験片の試料添加部及び／又は標識物質保持部に、前記試料添加部及び／又は前記標識物質保持部の表面積１ｃｍ２に対し、免疫グロブリンが０．６〜２５０μｇ保持されており、
前記免疫グロブリンが、前記判定部の捕捉物質と同一の産生動物種由来であり、かつ前記判定部の捕捉物質のみと同一のサブクラスを有するものであり、前記試料添加部及び前記標識物質保持部に保持された捕捉物質と同一のサブクラスを有するものではないことを特徴とするイムノクロマトグラフィー用試験キット。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
〔参考例１〕
実施例１において、試験片の判定部に固定する抗マウスＰＳＡモノクローナル抗体のサブクラスをＩｇＧ２ａとすると共に、展開液に添加する免疫グロブリンをマウスＩｇＧ２ａとしたこと、の２点を除いて、実施例１と同様にイムノクロマトグラフィー用試験キットを作製した。判定は実施例１と同様に行った。その結果を表３に示す。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
【表３】
2009133739.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成21年8月3日(2009.8.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
この管継手１は、図１０に示されるように、外周部にロックボール２を有し、操作スリーブ３を摺動自在に保持する前筒部４と、前記前筒部４の後端部に接続される後筒部５とを備え、前記前筒部４及び後筒部５からソケット本体６が構成される。このソケット本体６の内部には、筒状に形成された弁受部７と、前記弁受部７の内部に摺動自在に挿入された弁体８とを含む弁機構９が設けられる。弁体８と弁受部７の端部との間にスプリング１０が介装され、該弁体８を前筒部４側に向かって付勢している。弁体８の外周面には、第１シールリング１１が装着され、後筒部５に形成された弁座１２に対して当接自在に設けられる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
さらに、弁体２２の着座時において、該弁体２２から弁座部２３に対して付与されるシール力は、前記弁体２２の変位方向と同一方向であるため、前記弁体２２に対して高圧が付与された場合における耐圧性が低いという問題もある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
さらにまた、着座部は、第３シール部に当接する当接面が、弁体の軸線に対して所定角度で傾斜したテーパ状に形成され、前記第３シール部は、前記着座部に対応して前記シール部材の軸線に対して所定角度で傾斜したテーパ状の着座面を備えることにより、弁体が着座面に着座した際に付与されるシール力を好適に分散させることが可能となり、それに伴って、耐圧強度の向上を図ることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
この際、着座部１１８は、バルブ１１０の軸線に対して所定角度傾斜したテーパ面１２０を有しているため、図６に示されるように、着座面９０に当接した際のシール力を、該着座面９０に対して鉛直方向に働く第１分力Ｆ１と、前記バルブ１１０の軸線と略平行に働く第２分力Ｆ２と、該バルブ１１０の軸線と略直交方向に働く第３分力Ｆ３とに好適に分散させることができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
さらにまた、バルブ１１０の着座する着座部１１８を、パッキン７６の軸線に対して所定角度傾斜したテーパ状とすることにより、バルブ１１０から着座面９０に付与されるシール力を好適に分散させることができるため、耐圧強度を向上させることができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
このボディパッキン１５２は、ソケット５２に当接する第１当接部１５８と、ホルダ５６に当接する第２当接部１６０と、前記第１及び第２当接部１５８、１６０の半径内方向に膨出し、バルブ１１０の着座するシート部１６２と、該シート部１６２から離間する方向に突出した凸部１６４とを含む。凸部１６４は、ホルダ５６の内周面に摺接するようにプラグ５４側（矢印Ｂ方向）に向かって突出している。
【手続補正書】
【提出日】平成21年8月31日(2009.8.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザー光源を具備するレーザーユニットと、
該レーザー光源から発せられるレーザー光の光路上に設けられる絞りと、
該絞りを通って形成された光束を反射する反射面を複数有する回転多面鏡であって、前記回転多面鏡の回転軸に直交する方向、かつ、前記レーザー光源から発せられるレーザー光の光軸に直交する方向である主走査方向における該反射面の幅は前記光束の幅よりも狭い回転多面鏡と、
該回転多面鏡により反射された反射光を被走査面に結像させる結像光学系と、を備えた光走査光学装置において、
前記レーザー光源を、前記主走査方向に直交する方向、かつ、前記回転多面鏡の回転軸に平行な方向である副走査方向に位置決めしながら前記主走査方向に調整自在な調整機構を備えることを特徴とする光走査光学装置。
【請求項２】
前記調整機構は、
前記レーザーユニットあるいは装置本体側のケースのいずれか一方に設けられた嵌合凸部と、
他方に設けられた、前記主走査方向に伸びる長孔と、を備え、
前記嵌合凸部と前記長孔とが嵌合して、該嵌合凸部が該長孔に対して前記副走査方向に位置決めされつつ、該嵌合凸部が該長孔に対して前記主走査方向に相対的にスライドして調整が行われる機構であることを特徴とする請求項１に記載の光走査光学装置。
【請求項３】
前記嵌合凸部は鏡筒であることを特徴とする請求項２に記載の光走査光学装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために本発明にあっては、
レーザー光源を具備するレーザーユニットと、
該レーザー光源から発せられるレーザー光の光路上に設けられる絞りと、
該絞りを通って形成された光束を反射する反射面を複数有する回転多面鏡であって、前記回転多面鏡の回転軸に直交する方向、かつ、前記レーザー光源から発せられるレーザー光の光軸に直交する方向である主走査方向における該反射面の幅は前記光束の幅よりも狭い回転多面鏡と、
該回転多面鏡により反射された反射光を被走査面に結像させる結像光学系と、を備えた光走査光学装置において、
前記レーザー光源を、前記主走査方向に直交する方向、かつ、前記回転多面鏡の回転軸に平行な方向である副走査方向に位置決めしながら前記主走査方向に調整自在な調整機構を備えることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
前記調整機構は、
前記レーザーユニットあるいは装置本体側のケースのいずれか一方に設けられた嵌合凸部と、
他方に設けられた、前記主走査方向に伸びる長孔と、を備え、
前記嵌合凸部と前記長孔とが嵌合して、該嵌合凸部が該長孔に対して前記副走査方向に位置決めされつつ、該嵌合凸部が該長孔に対して前記主走査方向に相対的にスライドして調整が行われる機構であるとよい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成21年8月21日(2009.8.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源により照明された原稿からの反射光を反射して光路を折り曲げるミラー及び前記光源を含み、原稿台に沿って移動する光源手段と、
前記光源手段より出射した前記原稿からの反射光を結像させて読取手段により該原稿の画像情報を読取る結像手段と、
前記光源手段の移動に連動して移動し、前記反射光の光路を形成するとともに、前記原稿から前記読取手段までの物像間距離を一定に保つ光路形成手段と、
を備えた画像読取装置において、
前記光源手段及び前記光路形成手段の移動を、各々の進行方向に直交する方向の両端においてガイドするガイド手段を備え、
前記ガイド手段には、前記光源手段を両端においてガイドする２箇所の第１の移動支持範囲と、前記光路形成手段を両端においてガイドする２箇所の第２の移動支持範囲と、が形成され、
前記結像手段は、各々の前記第２の移動支持範囲を前記光路形成手段の移動方向と平行な方向に延長した領域において、前記ガイド手段に位置決め固定されることを特徴とする画像読取装置。
【請求項２】
前記光路形成手段の移動方向に直交する方向について、各々の前記第１の移動支持範囲は、各々の前記第２の移動支持範囲の外側に位置し、
前記光路形成手段の移動方向に平行な方向について、前記第１の移動支持範囲は前記第２の移動支持範囲よりも長く、
前記結像手段は、前記光路形成手段の移動方向に直交する方向について、前記第１の移動支持範囲の内側の領域において、前記ガイド手段に位置決め固定されることを特徴とする請求項１に記載の画像読取装置。
【請求項３】
前記読取手段は、前記結像手段に光学的に調整可能に備えられ、該結像手段は前記読取手段が備えられた状態で前記ガイド手段に位置決め固定されることを特徴とする請求項１に記載の画像読取装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するために本発明にあっては、光源により照明された原稿からの反射光を反射して光路を折り曲げるミラー及び前記光源を含み、原稿台に沿って移動する光源手段と、
前記光源手段より出射した前記原稿からの反射光を結像させて読取手段により該原稿の画像情報を読取る結像手段と、
前記光源手段の移動に連動して移動し、前記反射光の光路を形成するとともに、前記原稿から前記読取手段までの物像間距離を一定に保つ光路形成手段と、
を備えた画像読取装置において、
前記光源手段及び前記光路形成手段の移動を、各々の進行方向に直交する方向の両端においてガイドするガイド手段を備え、
前記ガイド手段には、前記光源手段を両端においてガイドする２箇所の第１の移動支持範囲と、前記光路形成手段を両端においてガイドする２箇所の第２の移動支持範囲と、が形成され、
前記結像手段は、各々の前記第２の移動支持範囲を前記光路形成手段の移動方向と平行な方向に延長した領域において、前記ガイド手段に位置決め固定されることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
前記光路形成手段の移動方向に直交する方向について、各々の前記第１の移動支持範囲は、各々の前記第２の移動支持範囲の外側に位置し、前記光路形成手段の移動方向に平行な方向について、前記第１の移動支持範囲は前記第２の移動支持範囲よりも長く、前記結像手段は、前記光路形成手段の移動方向に直交する方向について、前記第１の移動支持範囲の内側の領域において、前記ガイド手段に位置決め固定されることも好適である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
前記読取手段は、前記結像手段に光学的に調整可能に備えられ、該結像手段は前記読取手段が備えられた状態で前記ガイド手段に位置決め固定されることも好適である。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月1日(2008.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  複数の割基板部を形成した割基板上に電子部品を装着する電子部品装着方法において、割基板部への電子部品の装着が指定数に到達したとき、前記電子部品の装着を停止することを特徴とする電子部品装着方法。
【請求項２】  複数の割基板部を形成した割基板上に電子部品を装着する電子部品装着方法において、特定の電子部品が指定数に限定されている場合に、割基板部への前記特定部品の装着が指定数に到達したとき、前記電子部品の装着を停止することを特徴とする電子部品装着方法。
【請求項３】  複数の割基板部を形成した割基板上に電子部品を装着する電子部品装着方法において、前記割基板の各基板部に付された不良品マークの有無を検出センサにより検出し、前記検出センサの判定結果に基づき良品の基板部にのみ電子部品を装着すると共に電子部品を装着した良品の総基板部数が所定数に到達したとき、前記電子部品の装着を停止することを特徴とする電子部品装着方法。
【請求項４】  複数の割基板部を形成した割基板上に電子部品を装着する電子部品装着方法において、前記割基板の各基板部に付された不良品マークの有無を検出センサにより検出し、前記検出センサの検出結果による良品の基板部数をカウンタにより計数し、前記検出センサによる当該割基板の各基板部の検出が完了した場合に良品の基板部にのみ電子部品を装着すると共に前記カウンタが計数した良品の総基板部数が、所定数に到達したとき、前記電子部品の装着を停止することを特徴とする電子部品装着方法。
【請求項５】  複数の割基板部を形成した割基板上に電子部品を装着する電子部品装着装置において、前記割基板の各基板部に付された不良品マークの有無を検出する検出センサと、前記検出センサの検出結果による良品の基板部数を計数するカウンタとを設け、前記検出センサによる当該割基板の各基板部の検出が完了した場合に良品の基板部にのみ電子部品を装着すると共に前記カウンタが計数した良品の総基板部数が、所定数に到達したとき、前記電子部品の装着を停止することを特徴とする電子部品装着装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】
このため第１の発明は、複数の割基板部を形成した割基板上に電子部品を装着する電子部品装着方法において、割基板部への電子部品の装着が指定数に到達したとき、前記電子部品の装着を停止することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
第２の発明は、複数の割基板部を形成した割基板上に電子部品を装着する電子部品装着方法において、特定の電子部品が指定数に限定されている場合に、割基板部への前記特定部品の装着が指定数に到達したとき、前記電子部品の装着を停止することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また第３の発明は、複数の割基板部を形成した割基板上に電子部品を装着する電子部品装着方法において、前記割基板の各基板部に付された不良品マークの有無を検出センサにより検出し、前記検出センサの判定結果に基づき良品の基板部にのみ電子部品を装着すると共に電子部品を装着した良品の総基板部数が所定数に到達したとき、前記電子部品の装着を停止することを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また第４の発明は、複数の割基板部を形成した割基板上に電子部品を装着する電子部品装着方法において、前記割基板の各基板部に付された不良品マークの有無を検出センサにより検出し、前記検出センサの検出結果による良品の基板部数をカウンタにより計数し、前記検出センサによる当該割基板の各基板部の検出が完了した場合に良品の基板部にのみ電子部品を装着すると共に前記カウンタが計数した良品の総基板部数が、所定数に到達したとき、前記電子部品の装着を停止することを特徴とする。
また第５の発明は、複数の割基板部を形成した割基板上に電子部品を装着する電子部品装着装置において、前記割基板の各基板部に付された不良品マークの有無を検出する検出センサと、前記検出センサの検出結果による良品の基板部数を計数するカウンタとを設け、前記検出センサによる当該割基板の各基板部の検出が完了した場合に良品の基板部にのみ電子部品を装着すると共に前記カウンタが計数した良品の総基板部数が、所定数に到達したとき、前記電子部品の装着を停止することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月2日(2009.7.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放出される放射線の線源の発熱体に給電する方法であって、
その強度が待機値である加熱用電流により前記発熱体を待機温度にまで加熱する工程と、
放射線の放出の前の一定の時間の間に前記発熱体に前記加熱用電流の増強を施す工程と、
この時間の後に、その強度が前記待機値と前記増強電流の値との間の中間値である電流を前記発熱体に印加する工程と、
を備えており、
前記増強電流の値は、各回の放出毎に前記待機値及び中間値の関数として決定され、
前記増強電流の値は、曝射毎に異なる値となることができるように前記加熱用電流の漸進的上昇のモデルの関数として決定される、方法。
【請求項２】
前記線源は放射線検査に適用される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記増強電流の値は、前記加熱用電流の漸進的上昇のモデルの関数として決定され、
前記漸進的上昇のモデルは、前記線源に期待される線源電流と得られる線源電流との間の線源電流誤差の最小化を生成するモデルである、請求項１又は請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記モデルは次式を含んでおり、
ｉｐ＝ｉｂ−［（ｉｂ−ｉ０）／
｛（τ（ｉｂ）／τ（ｉ０））・（ｅｘｐ（ｔ／τ（ｉｂ））−１）＋１｝］
ここで、
τ（ｉｂ）＝１／（ａ＋ｂ＊ｉｂ＋ｃ＊ｉｂ＋ｄ＊ｉｂ＊ｉｂ）、及び
τ（ｉ０）＝１／（ａ＋ｂ＊ｉｂ＋ｃ＊ｉ０＋ｄ＊ｉｂ＊ｉ０）
であり、ｉｐは放出の開始時の発熱体電流であり、ｉｂは増強用の発熱体過電流であり、ｉ０は初期電流であり、ｔは定数であり、ａ〜ｄは前記線源のパラメータであり、
前記増強電流値ｉｂは、前記待機電流の値ｉ０及び前記中間値ｉｐを既知として繰り返しにより決定される、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記パラメータａ、ｂ、ｃ及びｄは、前記カソードが前記アノードに小さい焦点スポットを形成するか大きい焦点スポットを形成するかによって次の値
小さい焦点スポット：ａ＝−０．９６５８、ｂ＝０．０５０４、ｃ＝０．４０７２、ｄ＝０．０１２４
大きい焦点スポット：ａ＝−０．４０４５、ｂ＝０．０４１６、ｃ＝０．２６６３、ｄ＝０．０２１５
を有する、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記パラメータａ、ｂ、ｃ及びｄは、期待される管電流と検出される管電流との間に検出される誤差の最小化により決定される、請求項４又は請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記時間は持続時間が４００ミリ秒である、請求項１〜請求項６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記時間は、４００ミリ秒に近似的に等しい安定化の持続時間だけ前記放出に先行する、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
発熱体を備えたカソードと、
アノードと、
前記発熱体に給電する手段と、
その強度が待機値である待機温度にまで前記発熱体を加熱して、放出の前の一定の時間の間に前記発熱体に前記加熱用電流の増強を施すと共に、この時間の後に、その強度が前記待機値と前記増強電流の値との間の中間値である電流を前記発熱体に印加する手段と、
各回の放出毎に前記待機値及び中間値の関数として前記増強電流の値を決定する手段と、
を備え、
前記増強電流の値を決定する前記手段は、前記増強電流の値が曝射毎に異なる値となることができるように前記加熱用電流の漸進的上昇のモデルを含んでいる、放射線源。
【請求項１０】
前記漸進的上昇のモデルは、当該線源に期待される線源電流と得られる線源電流との間の線源電流誤差の最小化を生成するモデルである、請求項９に記載の線源。
【請求項１１】
前記モデルは次式を具現化し、
ｉｐ＝ｉｂ−［（ｉｂ−ｉ０）／
｛（τ（ｉｂ）／τ（ｉ０））・（ｅｘｐ（ｔ／τ（ｉｂ））−１）＋１｝］
ここで、
τ（ｉｂ）＝１／（ａ＋ｂ＊ｉｂ＋ｃ＊ｉｂ＋ｄ＊ｉｂ＊ｉｂ）、及び
τ（ｉ０）＝１／（ａ＋ｂ＊ｉｂ＋ｃ＊ｉ０＋ｄ＊ｉｂ＊ｉ０）
であり、ｉｐは放出の開始時の発熱体電流であり、ｉｂは増強用の発熱体過電流であり、ｉ０は初期電流であり、ｔは定数であり、ａ〜ｄは当該線源のパラメータであり、
前記増強電流値ｉｂは、前記待機電流の値ｉ０及び前記中間値ｉｐを既知として繰り返しにより決定される、請求項１０に記載の線源。
【請求項１２】
前記パラメータａ、ｂ、ｃ及びｄは、前記カソードが前記アノードに小さい焦点スポットを形成するか大きい焦点スポットを形成するかによって次の値
小さい焦点スポット：ａ＝−０．９６５８、ｂ＝０．０５０４、ｃ＝０．４０７２、ｄ＝０．０１２４
大きい焦点スポット：ａ＝−０．４０４５、ｂ＝０．０４１６、ｃ＝０．２６６３、ｄ＝０．０２１５
を有する、請求項１１に記載の線源。
【請求項１３】
コンピュータ上で実行されると請求項１〜請求項８のいずれか一項の工程を実行するコード手段を備えたコンピュータ・プログラム。
【請求項１４】
コンピュータ上で実行されると請求項１〜請求項８のいずれか一項の工程を実行するコードを担持した担体上のコンピュータ・プログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月2日(2009.2.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１および第２の選択スイッチと、
前記第１の選択スイッチに接続される第１のプラグと、
前記第２の選択スイッチに接続される第２のプラグと、
前記第１及び第２のプラグ上に形成される連続した記録層と、
前記記録層上に形成される導電層とを有し、
前記記録層の内の前記第１のプラグと前記導電層とに挟まれる第１領域の抵抗状態及び前記記録層の内の前記第２のプラグと前記導電層とに挟まれる第２領域の抵抗状態でデータを記憶する半導体記憶装置。
【請求項２】
前記第１のプラグは抵抗の異なる２つの領域を備え、該２つの領域の内の抵抗が高い領域が前記記録層に接続されていることを特徴とする請求項１に記載の半導体記憶装置。
【請求項３】
前記抵抗が高い領域はチタンを含むことを特徴とする請求項２に記載の半導体記憶装置。
【請求項４】
前記第１のプラグは平坦性の異なる２つの領域を備え、該２つの領域の内の平坦性の高い領域が前記記録層に接続されていることを特徴とする請求項１に記載の半導体記憶装置。
【請求項５】
前記平坦性の高い領域はモリブデンを含むことを特徴とする請求項４に記載の半導体記憶装置。
【請求項６】
前記記録層は相変化材料を含むことを特徴とする請求項１に記載の半導体記憶装置。
【請求項７】
前記相変化材料はカルコゲナイド材料を含むことを特徴とする請求項６に記載の半導体記憶装置。
【請求項８】
前記第１の選択スイッチは電界効果型トランジスタであることを特徴とする請求項１に記載の半導体記憶装置。
【請求項９】
前記第２の選択スイッチは電界効果型トランジスタであることを特徴とする請求項１に記載の半導体記憶装置。
【請求項１０】
第１のプラグと、
第２のプラグと、
前記第１及び第２のプラグ上に形成される連続した相変化材料層と、
前記相変化材料層上に形成される導電層とを有し、
前記相変化材料層の内の前記第１のプラグと前記導電層とに挟まれる第１領域の相状態及び前記相変化材料層の内の前記第２のプラグと前記導電層とに挟まれる第２領域の相状態でデータを記憶する半導体記憶装置。
【請求項１１】
前記第１のプラグは抵抗の異なる２つの領域を備え、該２つの領域の内の抵抗が高い領域が前記相変化材料層に接続されていることを特徴とする請求項１０に記載の半導体記憶装置。
【請求項１２】
前記抵抗が高い領域はチタンを含むことを特徴とする請求項１１に記載の半導体記憶装置。
【請求項１３】
前記第1のプラグは平坦性の異なる２つの領域を備え、該２つの領域の内の平坦性の高い領域が前記相変化材料層に接続されていることを特徴とする請求項１０に記載の半導体記憶装置。
【請求項１４】
前記平坦性の高い領域はモリブデンを含むことを特徴とする請求項１３に記載の半導体記憶装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体記憶装置
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月28日(2009.5.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
質量％で、Ｃ：０．０００５％以上０．００４％未満、Ｓｉ：０．５％以下、Ｍｎ：０．１〜２．５％、Ｐ：０．０６％以下、Ｓ：０．０５％以下、ｓｏｌ．Ａｌ：０．００５％以上０．１％以下、Ｎ：０．００６％以下、Ｔｉ：（Ｎ／１４×４８×０．５）％以上、（０．０２＋Ｎ／１４×４８）％以下およびＮｂ：０．０４〜０．２０％を含有し、残部がＦｅおよび不純物からなるとともに、ＴｉおよびＮｂの含有量が２≦Ｎｂ／Ｔｉ≦２０の関係式を満足する化学組成を備え、ｒ値の最小値が１．０以上であり、さらに圧延方向に対する角度が４５°方向におけるｒ値が１．５以上であることを特徴とする引張強度が３４０ＭＰａ以上の高強度冷延鋼板。
【請求項２】
前記Ｆｅの一部に代えて、質量％で、Ｂ：０．００２０％以下を含有することを特徴とする請求項１に記載の高強度冷延鋼板。
【請求項３】
前記Ｆｅの一部に代えて、質量％で、Ｃｒ：１％以下、Ｍｏ：１％以下、Ｖ：１％以下およびＮｉ：１％以下の群から選ばれる１種または２種以上を含有することを特徴とする請求項１または２に記載の高強度冷延鋼板。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の高強度冷延鋼板の表面に溶融亜鉛めっき層を備えることを特徴とする高強度溶融亜鉛めっき鋼板。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれかに記載の化学組成を備える鋼塊または鋼片を１１００〜１２８０℃として熱間圧延を施し、Ａｒ３〜１０００℃で熱間圧延を完了して４００〜６５０℃で鋼帯に巻き取り、酸洗を行った後に圧下率５０％以上で冷間圧延を施し、次いで７８０〜９００℃で焼鈍することを特徴とする高強度冷延鋼板の製造方法。
【請求項６】
請求項５に記載の製造方法により得られる高強度冷延鋼板に溶融亜鉛めっきを施すことを特徴とする高強度溶融亜鉛めっき鋼板の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月11日(2009.9.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１１】
請求項１０に記載した未焼鈍高強度鋼板の製造方法によって得た未焼鈍高強度鋼板を、
焼鈍のためにAc1以上、Ac3＋20℃以下の温度まで加熱し、当該温度に保持した後、10℃／sec以上の速度ΔCRで350℃以下まで連続的に冷却することを特徴とする高強度鋼板の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月26日(2009.2.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
一般的に、分散液の送液用としては定量ポンプが好ましく用いられ、渦巻きポンプ、ギアポンプ、チューブポンプ、ホースポンプ、ダイヤフラムポンプ等が使用されている。しかしながら、渦巻きポンプ、ギアポンプでは、分散液中の顔料等のスラリーによりインペラやギア、ポンプ室の摩耗、軸封（シール）部での摩耗が起こりやすく、またスラリーの固着が固着するといった問題が生じる。一方、チューブポンプ、ホースポンプでは、回転するギヤ部分を多段階とすることで脈動を抑えるように工夫されたものもあるが、その改善は不十分である。また、脈動以外の問題点として、使用する溶媒によっては配管からの抽出物が有り、塗液でのハジキの原因となるといった問題がある。ダイヤフラムポンプは吐出・吸込を繰り返すため、吐出状態は正弦波の波形となり、１８０°〜３６０°の間は吐出しないため、脈動が大きいという問題がある。脈動を抑えるためには、空気の圧縮性を利用したエアチャンバーやアキュムレータが一般的に使用されているが、チャンバー内での分散液の滞留や顔料等スラリーの沈降による凝集物が問題となることが多い。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
ヘイシンモーノポンプは雄ねじの構造をしたローターと雌ねじ構造をしたステーターからなり、ローターが偏心回転することで、ローター・ステーター間の液体を無脈動・定量に送液できるポンプである。耐溶剤性には優れるが、スラリーによってはローター・ステーター部での摩耗が問題となる。２連式ダイヤフラムポンプでは、ポンプヘッドを２つにし、吐出流量波形の位相を１８０°ずつずらして運転することで、合成された流れはほぼ一定流となり、更に特殊な形状のカムを用いて流量波形を台形とする事で、より脈動のない送液を可能としたものもある。同様にポンプヘッドを３つにし、吐出流量波形の位相を１２０°ずつ変えて運転する３連式ダイヤフラムポンプも好ましい。また、ダイヤフラムポンプにおいては、接液部を耐溶剤の高い素材へ変更が容易であり、摩耗による劣化といった問題も生じない。同様な思想で脈動を抑えたポンプとして、２連式のチューブポンプ（株式会社イワキ社製  ＷＭ−５２０ＤｉＮ／Ｌ）もあるが、前述の通り、配管からの抽出が懸念されるため、好ましくない。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月22日(2009.1.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶剤に可溶であり、かつその分子量が１０，０００以上であるフッ素ポリマーと、該フッ素ポリマーを溶解した溶媒とから実質的に構成されることを特徴とするコーティング組成物。
【請求項２】
前記フッ素ポリマーは、テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）、ヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）及びビニリデンフルオライド（ＶｄＦ）からなる三元系フッ素ポリマーからなる、請求項１に記載のコーティング組成物。
【請求項３】
物品に塗布して、該物品に含まれる導電部を少なくとも封止するために用いられる、請求項１又は２に記載のコーティング組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】コーティング組成物
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月26日(2009.2.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明のアスファルト付着防止剤は、舗装品質をより安定した状態に仕上げることでき、かつ、タイヤローラ等の締固め機械のタイヤなどにアスファルトが付着するのを防止し、タイヤの劣化や装置の稼動効率の低下を軽減するとともに、付着防止剤による環境汚染を防止することができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明における植物系脂肪酸エステル類は、タイヤローラ等の表面に油膜を形成してアスファルトの付着を防止するものとして配合される。この植物系脂肪酸エステル類としては、ダイズ油、ナタネ油、綿実油等の植物油とアルコール類との反応によって得られる脂肪酸エステルが使用できる。これらの脂肪酸エステルは、１種または２種以上を併せて使用することができる。生分解性の観点からダイズ油、ナタネ油、綿実油に由来する脂肪酸エステルが好ましい。特に、付着防止性及び付着物の除去性の点で、ナタネ油遊離脂肪酸のメチルエステル、エチルエステルが好ましい。
植物系脂肪酸エステル類は、植物系脂肪酸エステル類とソルビタン系脂肪酸エステル類、グリコール類及び沸点が１６０℃〜２００℃の脂肪族炭化水素とからなる組成物（以下、本発明組成物という）に対して、２５〜４５質量％の範囲で用いられ、好ましくは３０〜４０質量％、より好ましくは３０〜３５質量％である。以下、特に記載しない限り、％は質量％を示す。
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月6日(2009.2.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
このような(Ａ)成分を調製する方法としては、例えば、フェニルトリクロロシランとアルケニル基を含有するクロロシラン、例えば、ビニルトリクロロシラン、メチルビニルジクロロシラン、ジメチルビニルクロロシラン、アリルメチルジクロロシラン、ブテニルメチルジクロロシラン、メチルペンテニルジクロロシラン、ヘキセニルトリクロロシラン、ヘキセニルメチルジクロロシラン、ヘキセニルジメチルクロロシラン、ヘプテニルメチルジクロロシラン、メチルオクテニルジクロロシラン、メチルノネニルジクロロシラン、デセニルメチルジクロロシラン、メチルウンデセニルジクロロシラン、ドデセニルメチルジクロロシランとを、必要に応じて、テトラクロロシラン、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシランまたはトリメチルクロロシランの存在下で共加水分解および縮合反応する方法、フェニルトリメトキシシランとアルケニル基を含有するアルコキシシラン、例えば、ビニルトリメトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、ジメチルビニルメトキシシラン、アリルメチルジメトキシシラン、ブテニルメチルジメトキシシラン、メチルペンテニルジメトキシシラン、ヘキセニルトリメトキシシラン、ヘキセニルメチルジメトキシシラン、ヘキセニルジメチルメトキシシラン、ヘプテニルメチルジメトキシシラン、メチルオクテニルジメトキシシラン、メチルノネニルジメトキシシラン、デセニルメチルジメトキシシラン、メチルウンデセニルジメトキシシラン、ドデセニルメチルジメトキシシランとを、必要に応じて、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシランまたはトリメチルメトキシシランの存在下で共加水分解および縮合反応する方法、上記の方法により調製されたシリコーンレジン中のシラノール基を酸性もしくは塩基性の重合触媒の存在下で縮合反応する方法、Ｃ6Ｈ5ＳiＯ3/2単位からなるシリコーンレジンと分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルビニルシロキサンとを酸性もしくは塩基性の重合触媒の存在下で再平衡重合する方法、Ｃ6Ｈ5ＳiＯ3/2単位からなるシリコーンレジンと環状メチルビニルシロキサンとを酸性もしくは塩基性の重合触媒の存在下で再平衡重合する方法、Ｃ6Ｈ5ＳiＯ3/2単位からなるシリコーンレジンと環状メチルビニルシロキサンと環状ジメチルシロキサンとを酸性もしくは塩基性の重合触媒の存在下で再平衡重合する方法、Ｃ6Ｈ5ＳiＯ3/2単位からなるシリコーンレジンと分子鎖両末端シラノール基封鎖メチルヘキセニルシロキサンとを酸性もしくは塩基性の重合触媒の存在下で再平衡重合する方法、Ｃ6Ｈ5ＳiＯ3/2単位からなるシリコーンレジンと環状ヘキセニルメチルシロキサンとを酸性もしくは塩基性の重合触媒の存在下で再平衡重合する方法、Ｃ6Ｈ5ＳiＯ3/2単位からなるシリコーンレジンと環状ヘキセニルメチルシロキサンと環状メチルビニルシロキサンとを酸性もしくは塩基性の重合触媒の存在下で再平衡重合する方法が挙げられる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
(Ｂ)成分は、本組成物の架橋剤として作用する、一分子中に少なくとも２個のケイ素原子結合水素原子を有するオルガノポリシロキサンである。(Ｂ)成分の分子構造は限定されないが、直鎖状、一部分岐を有する直鎖状、分岐鎖状が例示され、好ましくは分岐鎖状である。このような(Ｂ)成分は、好ましくは、平均組成式：
Ｒ2bＨcＳiＯ（4-b−c）/2
で表される。式中、Ｒ2は脂肪族不飽和炭化水素基を除く置換または非置換の一価炭化水素基であり、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等のアルキル基；フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のアリール基；ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基等のアラルキル基；３−クロロプロピル基、２−ブロモエチル基、３,３,３−トリフロロプロピル基等のハロゲン置換アルキル基が挙げられる。また、式中、ｂ、ｃは、それぞれ、０.７≦ｂ≦２.１、０.００１≦ｃ≦１.０、かつ０.８≦ｂ＋ｃ≦２.６を満たす数であり、好ましくは、０.８≦ｂ≦２、０.０１≦ｃ≦１、１≦ｂ＋ｃ≦２.４を満たす数である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
本発明の硬化性シリコーンレジン組成物および硬化物を実施例・比較例により詳細に説明する。なお、組成物の物理特性は次のようにして測定した。
［軟化点の測定］
融点測定器により、粉末状硬化性シリコーンレジン組成物の一部が液状化しはじめてから全体が液化するまでの平均温度を軟化点とした。
［１５０℃における溶融粘度の測定］
レオメータにより１５０℃における粘度を測定した。
［硬化物の機械的強度］
トランスファー成形により棒状硬化物を成形し、これをＪＩＳ  Ｋ  ７１７１-1994「プラスチック−曲げ特性の試験方法」に規定の方法により、その曲げ応力および曲げ弾性率を求めた。
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月27日(2009.2.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリスチレン又はスチレン共重合体中の芳香環に環状オレフィンユニットを有し、平均分子量が１０００〜１００万の範囲であって、前記環状オレフィンユニットが、前記ポリスチレン又はスチレン共重合体中のスチレン単位に対して５〜１００モル％の量で含有されることを特徴とする環状オレフィンユニットを有する重合体。
【請求項２】
前記スチレン共重合体が、水添スチレン−ブタジエン−スチレン共重合体または水添スチレン−イソプレン−スチレン共重合体であることを特徴とする請求項１に記載の環状オレフィンユニットを有する重合体。
【請求項３】
前記水添スチレン−ブタジエン−スチレン共重合体または水添スチレン−イソプレン−スチレン共重合体が、スチレン含量２０〜８０質量％のものであることを特徴とする請求項２に記載の環状オレフィンユニットを有する重合体。
【請求項４】
前記環状オレフィンユニットが、ノルボルネン類に由来し、前記ポリスチレン又はスチレン共重合体中の芳香環のＰ−位に付加してなるものであることを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載の環状オレフィンユニットを有する重合体。
【請求項５】
プロトン酸触媒の存在下、ポリスチレン又はスチレン共重合体のスチレン単位に、環状オレフィンを付加させることを特徴とする環状オレフィンユニットを有する重合体の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、芳香環に特定の炭化水素基を持つ重合体およびその製造方法に関する。より具
体的には、ポリスチレンやスチレンユニットを持つ共重合体中の芳香環に環状オレフィンユニットを導入して、耐熱性、機能性を持つ新たな変性重合体およびその容易に合成する方法に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
すなわち、本発明の第１の要旨は、ポリスチレン又はスチレン共重合体中の芳香環に環状オレフィンユニットを有する重合体にあり、本発明の第２の要旨は、プロトン酸触媒の存在下、ポリスチレン又はスチレン共重合体のスチレン単位に、環状オレフィンを付加させることを特徴とする重合体の製造方法にある。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
次に、本発明の第１の新規な重合体について説明する。上記の様にして得られるポリマーは、ポリスチレン又はスチレン共重合体を主鎖とするポリマーであり、下式（１）に示される如く、その芳香環のＰ−位に環状オレフィンユニットを有する。主鎖となる部分は、前躯体となる、上記したポリスチレン又はスチレン共重合体と同一である。
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月27日(2009.2.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
緑色領域に発光を示す蛍光体であり、該蛍光体の材料組成が（Ｍｇｘ，Ｃａｙ，Ｓｒｚ，Ａｗ）（Ｓｉ１−ａＧｅａ）酸化物で表され、０＜ｘ≦０．４５、０＜ｙ≦０．４５、ｚ≧０．４、０＜ｗ≦０．４、０≦ａ≦１であり、且つＡはＥｕ、Ｃｅ、Ｔｍから選ばれる少なくとも一つの元素であることを特徴とする蛍光体。
【請求項２】
請求項１において、該蛍光体の材料組成が（Ｍｇｘ，Ｃａｙ，Ｓｒｚ，Ａｗ）Ｓｉ酸化物で表され、０＜ｘ≦０．４５、０＜ｙ≦０．４５、ｚ≧０．４、０＜ｗ≦０．４、ｙ＜ｘであり、且つＡはＥｕ、Ｃｅ、Ｔｍから選ばれる少なくとも一つの元素であることを特徴とする蛍光体。
【請求項３】
緑色領域に発光を示す蛍光体であり、該蛍光体の材料組成が（Ｍｇｘ，Ｃａｙ，Ａｗ）（Ｓｉ１−ａＧｅａ）酸化物で表され、０＜ｘ≦０．５、０．５≦ｙ＜１、ｘ＋ｙ＝１、０＜ｗ≦０．４、０≦ａ≦１であり、且つＡはＥｕ、Ｃｅ、Ｔｍから選ばれる少なくとも一つの元素であることを特徴とする蛍光体。
【請求項４】
請求項３において、該蛍光体の材料組成が（Ｍｇｘ，Ｃａｙ，Ａｗ）Ｓｉ酸化物で表され、０＜ｘ≦０．５、０．５≦ｙ＜１、ｘ＋ｙ＝１、０＜ｗ≦０．４であり、且つＡはＥｕ、Ｃｅ、Ｔｍから選ばれる少なくとも一つの元素であることを特徴とする蛍光体。
【請求項５】
請求項１から４に記載の蛍光体から構成される膜に接して、Ｓｉ、Ｇｅから選ばれる少なくとも一つの元素を構成元素として含む隣接膜を有することを特徴とする蛍光体。
【請求項６】
該蛍光体からなる膜と該隣接膜の界面が０．１μｍから１μｍの周期で曲面形状を有することを特徴とする請求項５に記載の蛍光体。
【請求項７】
材料組成が（Ｍｇｘ，Ｃａｙ，Ｓｒｚ，Ａｗ）（Ｓｉ１−ａＧｅａ）酸化物で表され、０＜ｘ≦０．４５、０＜ｙ≦０．４５、ｚ≧０．４、０＜ｗ≦０．４、０≦ａ≦１であり、且つＡはＥｕ、Ｃｅ、Ｔｍから選ばれる少なくとも一つの元素である膜に隣接して、ＳｉあるいはＧｅを含む隣接膜を配置することにより、前駆体を形成する工程と、
該前駆体を還元雰囲気中で熱処理する工程と、を有することを特徴とする蛍光体の製造方法。
【請求項８】
材料組成が（Ｍｇｘ，Ｃａｙ，Ａｗ）（Ｓｉ１−ａＧｅａ）酸化物で表され、０＜ｘ≦０．５、０．５≦ｙ＜１、ｘ＋ｙ＝１、０＜ｗ≦０．４、０≦ａ≦１であり、且つＡはＥｕ、Ｃｅ、Ｔｍから選ばれる少なくとも一つの元素である膜に隣接して、ＳｉあるいはＧｅを含む隣接膜を配置することにより、前駆体を形成する工程と、
該前駆体を還元雰囲気中で熱処理する工程と、を有することを特徴とする蛍光体の製造方法。
【請求項９】
該前駆体は、該膜及び該隣接膜が基板上に積層された構成からなることを特徴とする請求項７及び８に記載の蛍光体の製造方法。
【請求項１０】
請求項１から６に記載の蛍光体と、該蛍光体を励起する手段とを具備することを特徴とする表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月27日(2009.2.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリフェニレンエーテル（Ａ）５〜９５重量部、ポリエステル（Ｂ）９５〜５重量部ならびにポリフェニレンエーテル（Ａ）およびクレゾールノボラック型エポキシ樹脂および／またはビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（Ｃ）の反応によって得られるエポキシ変性ポリフェニレンエーテル（Ｄ）１〜５０重量部、を含有することを特徴とする樹脂組成物。
【請求項２】
（Ｄ）が、ポリエチレンテレフタレートであることを特徴とする請求項１に記載の樹脂組成物。
【請求項３】
成分（Ｄ）が、ゲル化物を含有しないことを特徴とする請求項１〜２のいずれかに記載の樹脂組成物。
【請求項４】
成分（Ｄ）が、１分子鎖あたり平均２．１個以上のエポキシ基を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の樹脂組成物。
【請求項５】
成分（Ｂ）が、テレフタル酸を酸成分とし、エチレングリコールおよびシクロヘキサンジメタノールをグリコール成分とする共重合物であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の樹脂組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
本発明者は前記課題を解決するためにポリフェニレンエーテルとポリエステルの組成物について鋭意検討を進めた結果、ポリフェニレンエーテル、ポリエステル、ポリフェニレンエーテルとエポキシ樹脂の反応によって得られるエポキシ変性ポリフェニレンエーテルの３成分を少なくとも含有する樹脂組成物は、機械特性が優れることを見出し本発明に至った。
即ち、本発明は
１．ポリフェニレンエーテル（Ａ）５〜９５重量部、ポリエステル（Ｂ）９５〜５重量部ならびにポリフェニレンエーテル（Ａ）およびクレゾールノボラック型エポキシ樹脂および／またはビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（Ｃ）の反応によって得られるエポキシ変性ポリフェニレンエーテル（Ｄ）１〜５０重量部、を含有することを特徴とする樹脂組成物、
２．成分（Ｄ）が、ポリエチレンテレフタレートであることを特徴とする上記１に記載の樹脂組成物、
３．成分（Ｄ）が、ゲル化物を含有しないことを特徴とする上記１〜２のいずれかに記載の樹脂組成物、
４．成分（Ｄ）が、１分子鎖あたり平均２．１個以上のエポキシ基を有することを特徴とする上記１〜３のいずれかに記載の樹脂組成物、
５．成分（Ｂ）が、テレフタル酸を酸成分とし、エチレングリコールおよびシクロヘキサンジメタノールをグリコール成分とする共重合物であることを特徴とする上記１〜４のいずれかに記載の樹脂組成物、
である。
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月27日(2009.2.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
弱塩基性無機粒子、分散剤、塩基性有機溶剤、および酸性化合物を含み、弱塩基性無機粒子に対する分散剤の含有量が０．１重量％以上５重量％以下であり、弱塩基性無機粒子の平均粒子径が１ｎｍ以上５０ｎｍ以下であり、分散液のｐＨが４以上６以下である分散液。
【請求項２】
弱酸性無機粒子、分散剤、酸性有機溶剤、および塩基性化合物を含み、弱酸性無機粒子に対する分散剤の含有量が０．１重量％以上５重量％以下であり、弱酸性無機粒子の平均粒子径が１ｎｍ以上５０ｎｍ以下であり、分散液のｐＨが８以上１０以下である分散液。
【請求項３】
請求項１記載の分散液と樹脂を有し、ペースト組成物のｐＨが４以上６以下であるペースト組成物。
【請求項４】
請求項２記載の分散液と樹脂を有し、ペースト組成物のｐＨが８以上１０以下であるペースト組成物。
【請求項５】
請求項３または４のペースト組成物を硬化させて得られる樹脂組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
すなわち本発明は（１）弱塩基性無機粒子、分散剤、塩基性有機溶剤、および酸性化合物を含み、弱塩基性無機粒子に対する分散剤の含有量が０．１重量％以上５重量％以下であり、弱塩基性無機粒子の凝集体としての平均粒子径が１ｎｍ以上５０ｎｍ以下であり、分散液のｐＨが４以上６以下である分散液である。
（２）弱酸性無機粒子、分散剤、酸性有機溶剤、および塩基性化合物を含み、弱酸性無機粒子に対する分散剤の含有量が０．１重量％以上５重量％以下であり、弱酸性無機粒子の凝集体としての平均粒子径が１ｎｍ以上５０ｎｍ以下であり、分散液のｐＨが８以上１０以下である分散液である。
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月20日(2009.2.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
スライダを針本体に対して相対的に上昇させると、スライダの上端のフックが針本体上端のフック格納突起に格納可能な編出し針を、編出しベッドの溝に装着させた横編機の編出し装置において、
針本体は、
編出しベッドの溝から板面側に突出し、該溝を覆う保持部材の上側に当接して、針本体が該溝に沿って下降するのを阻止する下降阻止突起と、
下降阻止突起よりも下側に設けられ、該溝の保持部材で覆われている部分を通過するように弾性変形可能であり、下降阻止突起が保持部材に当接する状態で弾性変形から回復すれば、該溝に対して係止されて、針本体が該溝に沿って上昇するのを阻止可能な上昇阻止部を有し、
上昇阻止部は、予め定める方向への外力の印加でも該弾性変形を行って、針本体の上昇阻止の解除が可能であることを特徴とする横編機の編出し装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明は、スライダを針本体に対して相対的に上昇させると、スライダの上端のフックが針本体上端のフック格納突起に格納可能な編出し針を、編出しベッドの溝に装着させた横編機の編出し装置において、
針本体は、
編出しベッドの溝から板面側に突出し、該溝を覆う保持部材の上側に当接して、針本体が該溝に沿って下降するのを阻止する下降阻止突起と、
下降阻止突起よりも下側に設けられ、該溝の保持部材で覆われている部分を通過するように弾性変形可能であり、下降阻止突起が保持部材に当接する状態で弾性変形から回復すれば、該溝に対して係止されて、針本体が該溝に沿って上昇するのを阻止可能な上昇阻止部を有し、
上昇阻止部は、予め定める方向への外力の印加でも該弾性変形を行って、針本体の上昇阻止の解除が可能であることを特徴とする横編機の編出し装置である。
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月20日(2009.2.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
固定部分１９の上部中央には、編目受け用トランスファカム１６が出没自在に設けられる。編目受け用トランスファカム１６は左右対称形であり、その両側端には、中央に近い部分が深くなる傾斜面２５ａ，２５ｂを有する。編目受け用トランスファカム１６の中央には、三角形状のセンターカム２７が斜面２７ａ，２７ｂで形成されている。編目受け用トランスファカム１６の両端の傾斜面２５ａ，２５ｂの上縁は、凸形のバット案内面２９ａ，２９ｂとなり、その間は編目受け用トランスファカム１６で最も低い凹面３０となっている。ニードルレイジングカム１２の固定部分１９で編目受け用トランスファカム１６の傾斜面２５ａ，２５ｂに続く部分には、凹面３１，３２が設けられている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
片側針床で平編地を編成する際には、下部バット５４をバット案内溝２３で下降を開始させてステッチカム１３，１４のカム面に移行させるようにすることが好ましい。バット案内溝２３の水平部分２４からステッチカム１３，１４のカム面に下部バット５４を円滑に案内するためには、たとえばニードルレイジングカム１２の可動部分２０の両端に、水平部分２４の終端をステッチカム１３，１４の傾斜方向に案内するガイド部２０ａを形成することが考えられる。しかしながら、ガイド部２０ａを形成しても、強度確保のためにある程度の厚みを必要とするので、下部バット５４が水平部分２４からステッチカム１３，１４のカム面に移行する部分には段差が生じ、下部バット５４が円滑に移行するように形成することは困難である。段差が生じると、段差の部分で下部バット５４が跳ねてステッチカム１３，１４の斜面に当たり、編目の形成が不安定になるなどのおそれがある。
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月5日(2009.2.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
２次バランサ95のバランサドリブンギヤ96ｂは、クランク軸10のクランクウエブに形成されたバランサドリブンギヤ96ｂの２倍の歯数を有するバランサドライブギヤ96ａ（図４参照）に噛合している。
したがって、２次バランサ95は、クランク軸10の２倍の回転速度でバランスウエイト95ｂが回転して直列４気筒の内燃機関Ｅの２次振動を吸収する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９３】
オイルの供給経路は、前記したように構成されるので、オイルポンプ70が駆動して吐出口70ｂから吐出したオイルは、第１のオイル供給路Ａ１（オイル供給管75）を通って第２のオイル供給路Ａ２からオイルフィルタ76に流入し、ゴミ等の不純物を除去されて第３のオイル供給路Ａ３に流出して流入ポート78ａからオイルクーラ77に流入して冷却され、流出ポート78ｂから第４のオイル供給路Ａ４に流出してメインギャラリＡ５に至り、メインギャラリＡ５からオイル分岐供給路Ａ６を経てクランク軸10やオイル供給路Ｂ１，Ｂ２を経て変速機50等の各潤滑部位やオイル供給路Ｃ１，Ｃ２，Ｃ３，Ｃ４を経てカムチェーンテンショナ43等の油圧機器にオイルが供給される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０８】
また、図１に示すように、管継手部材115は斜め前方に分岐接続管115ｃが延出しており、同分岐接続管115ｃに一端を接続したオイルクーラ用の流入ホース117が斜め前下方向に延出して下側クランクケース11Ｌの前面に突設されたオイルクーラ77の水流入口に他端を接続している。
オイルクーラ77の水流出口から延出した流出ホース118は前記ラジエータ流出ホース107に連結されてオイルクーラ77を経た冷却水を、ラジエータ流出ホース107の一部を利用して水ポンプ100に戻している。