(57)【要約】      （修正有）【課題】外部のアース端子との直接の接続が可能となる新しい接地構造を有し、プラズマディスプレイパネルに特別な設計や工夫を施すことなく、プラズマディスプレイ装置のコストダウンを実現し、製造過程で傷が付きにくい、新構造の電磁波シールドシートを提供する。【解決手段】基材フィルム２ａと、基材フィルム２ａの一方の面１３ａに形成された、メッシュ状パターンからなる電磁波シールド層及び電磁波シールド層に電気的に接続された接地層４ａと、基材フィルム２ａの他方の面１４ａから接地層４ａの表面１５ａまで貫通する１又は２以上の貫通孔５ａと、貫通孔５ａの内部を介して、基材フィルム２ａの他方の面１４ａから接地層４ａの表面１５ａまで連続して設けられる導電性材料で形成される接地取り出し部６ａと、を有する電磁波シールドシート１ａ。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材フィルムと、
該基材フィルムの一方の面に形成された、メッシュ状パターンからなる電磁波シールド層及び該電磁波シールド層に電気的に接続された接地層と、
前記基材フィルムの他方の面から前記接地層の表面まで貫通する１又は２以上の貫通孔と、
該貫通孔の内部を介して、前記基材フィルムの他方の面から前記接地層の表面まで連続して設けられる導電性材料で形成される接地取り出し部と、
を有することを特徴とする電磁波シールドシート。
【請求項２】
前記接地取り出し部を複数設ける、請求項１に記載の電磁波シールドシート。
【請求項３】
前記貫通孔の直径を０．１ｍｍ以上１０ｍｍ以下とする、請求項１又は２に記載の電磁波シールドシート。
【請求項４】
前記導電性材料として銀を含有する材料を用いる、請求項１〜３のいずれか１項に記載の電磁波シールドシート。
【請求項５】
前記導電性材料を前記貫通孔に充填する、請求項１〜４のいずれか１項に記載の電磁波シールドシート。
【請求項６】
基材フィルムと、該基材フィルムの一方の面に形成された、メッシュ状パターンからなる電磁波シールド層及び該電磁波シールド層に電気的に接続された接地層と、前記基材フィルムの他方の面に設けられた光学調整層とを有する光学フィルタにおいて、
前記基材フィルムの他方の面のうち前記光学調整層が設けられていない面から前記接地層の表面まで貫通する１又は２以上の貫通孔と、
該貫通孔の内部を介して、前記基材フィルムの他方の面から前記接地層の表面まで連続して設けられる導電性材料で形成される接地取り出し部と、
を有することを特徴とする光学フィルタ。
【請求項７】
基材フィルムと、該基材フィルムの一方の面に形成された、メッシュ状パターンからなる電磁波シールド層及び該電磁波シールド層に電気的に接続された接地層と、前記基材フィルムの他方の面に設けられた光学調整層とを有する光学フィルタにおいて、
前記光学調整層の表面から前記接地層の表面まで貫通する１又は２以上の貫通孔と、
該貫通孔の内部を介して、前記光学調整層の表面から前記接地層の表面まで連続して設けられる導電性材料で形成される接地取り出し部と、
を有することを特徴とする光学フィルタ。
【請求項８】
前記接地取り出し部を複数設ける、請求項６又は７に記載の光学フィルタ。
【請求項９】
前記貫通孔の直径を０．１ｍｍ以上１０ｍｍ以下とする、請求項６〜８のいずれか１項に記載の光学フィルタ。
【請求項１０】
前記導電性材料を前記貫通孔に充填する、請求項６〜９のいずれか１項に記載の光学フィルタ。
【請求項１１】
前記導電性材料として銀を含有する材料を用いる、請求項６〜１０のいずれか１項に記載の光学フィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電磁波シールドシート及び該電磁波シールドシートを用いた光学フィルタに関する。
【背景技術】
【０００２】
ディスプレイ装置はテレビやパーソナルコンピュータのモニター等、各種の分野で用いられているが、その種類は多岐にわたる。ディスプレイ装置の種類としては、例えば、ＣＲＴディスプレイ装置、液晶ディスプレイ装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ装置、及びＥＬディスプレイ装置等を挙げることができる。
【０００３】
上記の様々なディスプレイ装置のうち、大画面ディスプレイ装置の分野では、プラズマディスプレイ装置が注目されている。プラズマディスプレイ装置は、画像表示領域に微細な画素区画パターンが形成されたプラズマディスプレイパネルを有する高精細な表示装置であり、その奥行きが薄いこと、また軽量であることから、テレビジョン、モニター等の種々の用途に利用され、今後も需要の増加が期待されている。
【０００４】
しかし、こうしたプラズマディスプレイ装置は、発光にプラズマ放電を利用するため、３０ＭＨｚ〜１ＧＨｚ帯域の不要な電磁波が外部に漏洩して他の機器（例えば、遠隔制御機器、情報処理装置等）に影響を与えるおそれがある。そのため、プラズマディスプレイ装置に用いられるプラズマディスプレイパネルの前面側（観察者側）に、漏洩する電磁波をシールドするための電磁波シールドフィルムを設けるのが一般的である。
【０００５】
電磁波シールドフィルムは、プラズマディスプレイパネルの表示の視認性を落とすことなく電磁波を効率的にシールドするために、通常、金属メッシュ、及びこの金属メッシュと電気的に接続された電極部が、透明基材フィルム上に形成された形態を有する。こうした電磁波シールドフィルムは、粘着剤を用いてディスプレイパネルの表示面に貼付される。そして、外部のアース端子と上記の電極部とを電気的に接続することにより、金属メッシュが接地される。
【０００６】
金属メッシュを接地するための構造として、特許文献１では、ディスプレイパネルの周縁に接地電極を配置し、この接地電極に設けられた突起又は突条を電磁波シールドフィルムの電極部に貫通させることにより、金属メッシュの接地を行う構造が提案されている。
【特許文献１】特開２００６−１９６７６０号公報（第００３３段落〜第００３６段落、図５、図６）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
特許文献１においては、例えば同文献の図５，６に示されるように、金属メッシュ（以下、「金属メッシュ」を「メッシュ状パターンからなる電磁波シールド層」又は、単に「電磁波シールド層」という。）を、粘着剤を介してディスプレイパネルに対向するように設置する構成を採用している。これは、ディスプレイパネルと電磁波シールド層とを近接（数十μｍの間隔）して設けることにより、ディスプレイパネルから漏洩する電磁波を効率的にシールドするためであると考えられる。ところが、上記のような構成は、電磁波シールド層とディスプレイパネルとが近接して設けられる分、ディスプレイパネル側に接地用の電極を設けることなく、電磁波シールド層を接地するための端子を外部に取り出すことが困難となる。このため、特許文献１に記載された発明においては、ディスプレイパネルの周縁に接地電極を配置し、この接地電極に設けられた突起又は突条を電磁波シールドフィルムの電極部に貫通させることにより、電磁波シールド層の接地をとる構造を採用している（以下、「電磁波シールドフィルム」を「電磁波シールドシート」という。また、電極部を「接地層」という。）。
【０００８】
しかしながら、特許文献１で提案された構造では、ディスプレイパネル側に接地電極を設ける必要があるためにディスプレイパネルにおいて所定の設計変更が必要となる課題があるが、ディスプレイパネルは表面がガラス基板であることが多いのでその設計変更は容易ではない。また、接地電極に突起又は突条を設ける分、ディスプレイ装置全体のコストが増加する課題もある。さらに、同文献の図６に記載されるように、接地電極に設けられた突起又は突条を接地層に貫通させるために圧縮ロールを用いているが、こうした圧縮ロールの採用により、圧縮ロールの押圧により電磁波シールドシートに傷が付きやすくなるという課題もある。
【０００９】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、その目的は、外部のアース端子との直接の接続が可能となる新しい接地構造を有し、プラズマディスプレイパネルに特別な設計や工夫を施すことなく、プラズマディスプレイ装置のコストダウンを実現し、製造過程で傷が付きにくい、新構造の電磁波シールドシートを提供することにある。
【００１０】
また、本発明の他の目的は、外部のアース端子との直接の接続が可能となる新しい接地構造を有し、プラズマディスプレイパネルに特別な設計や工夫を施すことなく、プラズマディスプレイ装置のコストダウンを実現し、製造過程で傷が付きにくい、新構造の光学フィルタを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題を解決するための本発明の電磁波シールドシートは、基材フィルムと、該基材フィルムの一方の面に形成された、メッシュ状パターンからなる電磁波シールド層及び該電磁波シールド層に電気的に接続された接地層と、前記基材フィルムの他方の面から前記接地層の表面まで貫通する１又は２以上の貫通孔と、該貫通孔の内部を介して、前記基材フィルムの他方の面から前記接地層の表面まで連続して設けられる導電性材料で形成される接地取り出し部と、を有することを特徴とする。
【００１２】
この発明によれば、接地取り出し部が、貫通孔の内部を介して、基材フィルムの他方の面から接地層の表面まで連続して設けられる導電性材料で形成されるので、基材フィルムの他方の面と接地層の表面とが電気的に接続され、その結果、外部のアース端子との直接の接続が可能となる接地構造を有する電磁波シールドシートを得ることができる。
【００１３】
本発明の電磁波シールドシートの好ましい態様として、前記電磁波シールドシートは、前記接地取り出し部を複数設ける。
【００１４】
この発明によれば、接地取り出し部を複数設けるので、基材フィルムの他方の面と接地層の表面とが電気的に接続される箇所が増加し、その結果、電磁波シールド層の接地を行いやすくなる。
【００１５】
本発明の電磁波シールドシートの好ましい他の態様として、前記貫通孔の直径を０．１ｍｍ以上１０ｍｍ以下とする。
【００１６】
この発明によれば、貫通孔の直径を０．１ｍｍ以上１０ｍｍ以下としているので、導電性材料が貫通孔内部に十分に存在しやすくなり、その結果、基材フィルムの他方の面に存在する導電性材料と電磁波シールド層との間の電気抵抗をより低減できる。
【００１７】
本発明の電磁波シールドシートの好ましい他の態様においては、前記導電性材料として銀を含有する材料を用いる。
【００１８】
この発明によれば、導電性材料として銀を含有する材料を用いるので、導電性材料として電気抵抗が低くコストも低廉となり、その結果、基材フィルムの他方の面に存在する導電性材料と電磁波シールド層との間の電気抵抗をより低減できるとともに、コストの増加も抑制できる。
【００１９】
本発明の電磁波シールドシートの好ましい他の態様として、前記導電性材料を前記貫通孔に充填する。
【００２０】
この発明によれば、導電性材料を貫通孔に充填するので、導電性材料が貫通孔を完全にふさぐようになり、その結果、基材フィルムの他方の面に存在する導電性材料と電磁波シールド層との間の電気抵抗をより低減しやすくなる。
【００２１】
上記課題を解決するための本発明の光学フィルタの第一の態様は、基材フィルムと、該基材フィルムの一方の面に形成された、メッシュ状パターンからなる電磁波シールド層及び該電磁波シールド層に電気的に接続された接地層と、前記基材フィルムの他方の面に設けられた光学調整層とを有する光学フィルタにおいて、前記基材フィルムの他方の面のうち前記光学調整層が設けられていない面から前記接地層の表面まで貫通する１又は２以上の貫通孔と、該貫通孔の内部を介して、前記基材フィルムの他方の面から前記接地層の表面まで連続して設けられる導電性材料で形成される接地取り出し部と、を有することを特徴とする。
【００２２】
この発明によれば、接地取り出し部が、貫通孔の内部を介して、基材フィルムの他方の面から接地層の表面まで連続して設けられる導電性材料で形成されるので、基材フィルムの他方の面と接地層の表面とが電気的に接続され、その結果、外部のアース端子との直接の接続が可能となる接地構造を有する光学フィルタを得ることができる。
【００２３】
上記課題を解決するための本発明の光学フィルタの第二の態様は、基材フィルムと、該基材フィルムの一方の面に形成された、メッシュ状パターンからなる電磁波シールド層及び該電磁波シールド層に電気的に接続された接地層と、前記基材フィルムの他方の面に設けられた光学調整層とを有する光学フィルタにおいて、前記光学調整層の表面から前記接地層の表面まで貫通する１又は２以上の貫通孔と、該貫通孔の内部を介して、前記光学調整層の表面から前記接地層の表面まで連続して設けられる導電性材料で形成される接地取り出し部と、を有することを特徴とする。
【００２４】
この発明によれば、接地取り出し部が、貫通孔の内部を介して、光学調整層の表面からから接地層の表面まで連続して設けられる導電性材料で形成されるので、光学調整層の表面と接地層の表面とが電気的に接続され、その結果、外部のアース端子との直接の接続が可能となる接地構造を有する光学フィルタを得ることができる。
【００２５】
本発明の光学フィルタの好ましい態様として、前記光学フィルタは、前記接地取り出し部を複数設ける。
【００２６】
この発明によれば、接地取り出し部を複数設けるので、基材フィルムの他方の面又は光学調整層の表面と、接地層の表面とが電気的に接続される箇所が増加し、その結果、電磁波シールド層の接地を行いやすくなる。
【００２７】
本発明の光学フィルタの好ましい他の態様として、前記貫通孔の直径を０．１ｍｍ以上１０ｍｍ以下とする。
【００２８】
この発明によれば、貫通孔の直径を０．１ｍｍ以上１０ｍｍ以下とするので、導電性材料が貫通孔内部に十分に存在しやすくなり、その結果、基材フィルムの他方の面又は光学調整層の表面に存在する導電性材料と、電磁波シールド層との間の電気抵抗をより低減できる。
【００２９】
本発明の光学フィルタの好ましい他の態様においては、前記導電性材料を前記貫通孔に充填する。
【００３０】
この発明によれば、導電性材料を貫通孔に充填するので、導電性材料が貫通孔を完全にふさぐようになり、その結果、基材フィルムの他方の面又は光学調整層の表面に存在する導電性材料と、電磁波シールド層との間の電気抵抗をより低減しやすくなる。
【００３１】
さらに、本発明の光学フィルタの好ましい他の態様においては、前記導電性材料として銀を含有する材料を用いる。
【００３２】
この発明によれば、導電性材料として銀を含有する材料を用いるので、導電性材料として電気抵抗が低くコストも低廉となり、その結果、基材フィルムの他方の面又は光学調整層の表面に存在する導電性材料と電磁波シールド層との間の電気抵抗をより低減できるとともに、コストの増加も抑制できる。
【発明の効果】
【００３３】
本発明の電磁波シールドシートによれば、接地取り出し部が、貫通孔の内部を介して、基材フィルムの他方の面から接地層の表面まで連続して設けられる導電性材料で形成されるので、外部のアース端子との直接の接続が可能となる接地構造を有する電磁波シールドシートを得ることができる。そして、本発明の電磁波シールドシートによれば、プラズマディスプレイパネルに特別な設計や工夫を施すことなく、プラズマディスプレイ装置のコストダウンを実現し、製造過程で傷が付きにくい、新構造の電磁波シールドシートを提供できる。
【００３４】
本発明の第一の態様に係る光学フィルタによれば、接地取り出し部が、貫通孔の内部を介して、基材フィルムの他方の面から接地層の表面まで連続して設けられる導電性材料で形成されるので、外部のアース端子との直接の接続が可能となる接地構造を有する光学フィルタを得ることができる。そして、本発明の第一の態様に係る光学フィルタによれば、プラズマディスプレイパネルに特別な設計や工夫を施すことなく、プラズマディスプレイ装置のコストダウンを実現し、製造過程で傷が付きにくい、新構造の光学フィルタを提供できる。
【００３５】
本発明の第二の態様に係る光学フィルタによれば、接地取り出し部が、光学調整層の表面から接地層の表面まで連続して設けられる導電性材料で形成されるので、外部のアース端子との直接の接続が可能となる接地構造を有する光学フィルタを得ることができる。そして、本発明の第二の態様に係る光学フィルタによれば、プラズマディスプレイパネルに特別な設計や工夫を施すことなく、プラズマディスプレイ装置のコストダウンを実現し、製造過程で傷が付きにくい、新構造の光学フィルタを提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３６】
次に、本発明の実施の形態について詳細に説明するが、本発明は以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。
【００３７】
［電磁波シールドシート及びその製造方法］
（電磁波シールドシート）
図１は、本発明の電磁波シールドシートの一例を示す模式的な斜視図であり、図２は、図１におけるＡ−Ａ’面の模式的な断面図であり、図３は、図２の一部を拡大して示す模式的な断面図である。
【００３８】
本発明の電磁波シールドシート１ａは、基材フィルム２ａと、基材フィルム２ａの一方の面１３ａに形成された、メッシュ状パターンからなる電磁波シールド層３ａ及び電磁波シールド層３ａに電気的に接続された接地層４ａと、基材フィルム２ａの他方の面１４ａから接地層４ａの表面１５ａまで貫通する１又は２以上の貫通孔５ａと、貫通孔５ａの内部を介して、基材フィルム２ａの他方の面１４ａから接地層４ａの表面１５ａまで連続して設けられる導電性材料で形成される接地取り出し部６ａと、から構成される。なお、導電性材料を「貫通孔５ａの内部を介して、基材フィルム２ａの他方の面１４ａから接地層４ａの表面１５ａまで連続して設ける」とは、例えば図３に示すように、接地層４ａと基材フィルム２ａの他方の面１４ａと間の電気的な接続を確保するために、導電性材料の一部が接地層４ａに接し、かつ、導電性材料の他の一部が基材フィルム２ａの他方の面１４ａに存在していることをいう。より詳しくは、図３においては、貫通孔５ａの内壁うち、接地層４ａに対応する部分の内壁、及び接地層４ａの表面１５ａに導電性材料が接して設けられる一方で、導電性材料が、基材フィルム２ａの他方の面１４ａ上で盛り上がって形成されることによって基材フィルム２ａの他方の面１４ａ上に存在している。なお、図３に示すように、電磁波シールドシート１ａにおいては、接地層４ａの表面１５ａにおいても導電性材料が盛り上がって形成されているために、接地層４ａの表面１５ａにおけるアンカーやターミナルとしての役割を接地取り出し部６ａに付与することもできる。
【００３９】
電磁波シールドシート１ａにおいては、接地取り出し部６ａが、貫通孔５ａの内部を介して、基材フィルム２ａの他方の面１４ａから接地層４ａの表面１５ａまで連続して設けられる導電性材料で形成されるので、基材フィルム２ａの他方の面１４ａと接地層４ａの表面１５ａとが電気的に接続され、その結果、外部のアース端子との直接の接続が可能となる接地構造が形成される。
【００４０】
基材フィルム２ａは、透明なフィルムであり、従来公知のものを用いることができる。具体的には、透明性の高い樹脂フィルムが用いられる。基材フィルム２ａの透明性は、分光光度計等を利用して測定される可視光線透過率で８０％以上であることが好ましい。樹脂フィルムの材料としては、透明性、耐熱性、コスト等の観点から、通常、ポリエチレンテレフタレートが用いられる。また、こうした樹脂フィルムは、１軸延伸又は２軸延伸した延伸シートが用いられ、より好ましくは２軸延伸した延伸シートが用いられる。基材フィルム２ａの厚さは、機械的強度、反りや弛み、破断、及び帯状で供給して加工すること等を考慮して、通常１２μｍ以上、通常１０００μｍ以下とする。
【００４１】
基材フィルム２ａの一方の面１３ａには、電磁波シールド層３ａ及びこの電磁波シールド層３ａに電気的に接続された接地層４ａがそれぞれ設けられている。
【００４２】
電磁波シールド層３ａは、プラズマディスプレイパネルから漏洩する電磁波をシールドするために、基材フィルム２ａの一方の面１３ａに設けられる。電磁波シールド層３ａは、プラズマディスプレイパネルの視認性を低下させずに電磁波シールド機能を奏するために、互いに交差する細い導電性の線群で形成されるメッシュ状パターンからなる。
【００４３】
電磁波シールド層３ａは、図１には図示していないが、プラズマディスプレイパネルと対向するようにして、電磁波シールドシート１ａとプラズマディスプレイパネルとが貼り合わせられる。これにより、電磁波シールド層３ａとプラズマディスプレイパネルとが数十μｍのオーダーで近接して配置されることになり、電磁波シールド機能がより効果的に発現するようになる。一方で、こうした電磁波シールド層３ａとプラズマディスプレイパネルのガラスの表示面とが近接することにより、電磁波シールド層３ａの外部のアース端子への接続方法が課題となるが、この点については、接地取り出し部６ａを用いることにより、外部のアース端子との直接の接続が可能となる接地構造が得られる。
【００４４】
電磁波シールド層３ａには、通常、電磁波シールド機能以外に、プラズマディスプレイパネルに入射する外光を吸収するという機能が付加される。このため、電磁波シールド層３ａを構成するメッシュ状パターンの線群は、通常、電磁波をシールドするための金属材料で構成される金属層と、外光を吸収するための黒化層との少なくとも２層で構成される。そして、外光が入射する側に黒化層が設けられ、プラズマディスプレイパネルと対向する側に金属層が設けられるように構成される。より詳しくは、上記で説明したように、プラズマディスプレイパネルの表示面が、電磁波シールド層３ａに対向するように電磁波シールドシート１ａに貼り合わせられる（図１では図示していない。）ので、電磁波シールド層３ａは、基材フィルム２ａの一方の面１３ａから、黒化層及び金属層の順番になるように形成される。こうした電磁波シールド層３ａは、通常、黒化処理によって得られる黒化層と、銅等の金属層との２層を少なくとも有する薄膜を基材フィルム２ａ全面に形成し、フォトリソグラフィー法等でメッシュ状パターンにパターニングして得る。
【００４５】
電磁波シールド層３ａは、通常、プラズマディスプレイパネルの表示面と同等又はそれより大きくなるように形成され、図１に示すように略長方形の形状を有する。
【００４６】
接地層４ａは、電磁波シールド層３ａと外部のアース端子とを電気的に接続するために用いられるものである。このため、接地層４ａは、メッシュ状パターンからなる電磁波シールド層３ａと電気的に接続され、電磁波シールド層３ａと同様に、基材フィルム２ａの一方の面１３ａ上に設けられている。より詳しくは、図１では、接地層４ａは、電磁波シールド層３ａを囲むようにして基材フィルム２ａ上に額縁状に設けられている。接地層４ａと電磁波シールド層３ａとの電気的な接続は、通常、電磁波シールド層３ａのメッシュ状パターンを構成する線群と、接地層４ａとを連続的に形成することによって行われる。例えば、上記のフォトリソグラフィー法でメッシュ状パターンからなる電磁波シールド層３ａを形成する場合には、黒化処理によって得られる黒化層と、銅等の金属層との２層を少なくとも有する薄膜を基材フィルム２ａの全面に形成する。その後フォトリソグラフィー法で、電磁波シールド層３ａに該当する領域をメッシュ状パターンにパターニングすれば、パターニングが行われなかった電磁波シールド層３ａの周囲の領域が接地層４ａとなる。こうして得られる接地層４ａの、材料、層構成、及び厚さ等は、電磁波シールド層３ａと同様となる。なお、接地層は、必ずしも額縁状である必要はない。例えば、電磁波シールド層と同様にメッシュ状パターンに形成してもよい。
【００４７】
貫通孔５ａは、後述する導電性材料を内部に存在させることにより、基材フィルム２ａの他方の面１４ａと接地層４ａの表面１５ａとの電気的接続、ひいては、電磁波シールド層３ａと基材フィルム２ａの他方の面１４ａとの電気的接続を確保するために用いられるものである。貫通孔５ａは、基材フィルム２ａの他方の面１４ａから接地層４ａの表面１５ａまで貫通して設けられる。また、貫通孔５ａは、１又は２以上設けられればよく、電磁波シールドシート１ａにおいては、図１に示すように、６カ所設けられている。なお、本発明においては、貫通孔は、１又は２以上設けられればよい。
【００４８】
貫通孔５ａの直径ｔは、図３に示すように、通常０．１ｍｍ以上、好ましくは１ｍｍ以上、一方、通常１０ｍｍ以下、好ましくは３ｍｍ以下とする。上記範囲とすれば、導電性材料が貫通孔５ａ内部に十分に存在しやすくなり、その結果、基材フィルム２ａの他方の面１４ａに存在する導電性材料と電磁波シールド層３ａとの間の電気抵抗をより低減できる。本発明においては、基材フィルム２ａとして比較的薄い厚さを有するフィルムを用いるので、上記のような小さい直径の貫通孔を開けやすくなり、その結果、後述する導電性材料で貫通孔５ａを充填しやすくなるという利点が発揮されやすくなる。
【００４９】
接地取り出し部６ａは、基材フィルム２ａの他方の面１４ａと接地層４ａの表面１５ａとを電気的に接続するためのものである。より詳しくは、接地取り出し部６ａは、各貫通孔５ａの内部を介して、基材フィルム２ａの他方の面１４ａから接地層４ａの表面１５ａまで連続して設けられる導電性材料で形成されている。また、図３に示す、接地取り出し部６ａの接地層４ａの表面１５ａにおける高さｄ１、及び接地取り出し部６ａの基材フィルム２ａの他方の面１４ａにおける高さｄ２は、通常１０μｍ以上、好ましくは２０μｍ以上、一方、通常１ｍｍ以下、好ましくは０．１ｍｍ以下とする。上記範囲とすれば、電磁波シールド層３ａと接地取り出し部６ａとの間の抵抗を低減しやすくなるとともに、接地取り出し部６ａの盛り上がりによる、電磁波シールドシート１ａと他の部材との接触等を抑制しやすくなる。
【００５０】
接地取り出し部６ａに用いられる導電性材料としては、例えば、銀を含有する材料、銅を含有する材料、インクに導電剤を分散させた材料、及び導電性ポリマー等を挙げることができる。例えば、銀を含有する材料としては銀ペーストを乾燥させて得られるもの、銅を含有する材料としては銅ペーストを乾燥させて得られるものを挙げることができる。これらのうち、銀を含有する材料を用いることが好ましい。銀を含有する材料を用いることにより、導電性材料として電気抵抗が低くコストも低廉となり、その結果、基材フィルム２ａの他方の面１４ａに存在する導電性材料と電磁波シールド層３ａとの間の電気抵抗をより低減できるとともに、コストの増加も抑制できる。抵抗値の低減及びコストの低減の観点から、銀を含有する材料として銀ペーストを用いることがより好ましい。
【００５１】
接地取り出し部６ａの導電性材料は、図２，３に示すように、貫通孔５ａに充填されている。導電性材料を貫通孔５ａに充填するので、導電性材料が貫通孔５ａを完全にふさぐようになり、その結果、基材フィルム２ａの他方の面１４ａに存在する導電性材料と電磁波シールド層３ａとの間の電気抵抗を低減しやすくなる。但し、本発明においては、貫通孔５ａは、導電性材料で必ずしも充填されている必要はない。
【００５２】
図４は、接地取り出し部の他の一例を示す模式的な断面図である。電磁波シールドシート１ｂにおいては、接地層４ｂの表面１５ｂから、貫通孔５ｂの内壁に沿って、基材フィルム２ｂの他方の面１４ｂまで導電性材料が連続的に設けられることによって接地取り出し部６ｂが形成されている。こうした電磁波シールドシート１ｂにおける接地取り出し部６ｂおいては、貫通孔５ｂが導電性材料で充填されてはないが、電磁波シールド層と基材フィルム２ｂの他方の面１４ｂに存在する導電性材料との間の電気抵抗を実使用可能な範囲まで下げることは可能である。そして、接地取り出し部６ｂは、用いる導電性材料の量を低減できるので、コストダウンが図りやすくなる利点がある。なお、接地取り出し部６ｂの接地層４ｂの表面１５ｂにおける高さｄ３、及び接地取り出し部６ｂの基材フィルム２ｂの他方の面１４ｂにおける高さｄ４は、通常１０μｍ以上、好ましくは２０μｍ以上、一方、通常１ｍｍ以下、好ましくは０．１ｍｍ以下とする。上記範囲とすれば、電磁波シールド層と接地取り出し部６ｂとの間の抵抗を低減しやすくなるとともに、接地取り出し部６ｂの盛り上がりによる、電磁波シールドシート１ｂと他の部材との接触等を抑制しやすくなる。
【００５３】
図５は、電磁波シールドシートの他の一例を示す模式的な斜視図である。電磁波シールドシート１ｃは、接地取り出し部６ｃが複数、より詳しくは、４カ所設けられている。接地取り出し部６ｃを複数設けることにより、接地層４ｃの表面と基材フィルム２ｃの他方の面とが電気的に接続される箇所が増加し、その結果、電磁波シールド層３ｃの接地が行いやすくする。なお、本発明においては、接地取り出し部は複数設けられることが好ましいが、電磁波シールドシートに設けられる接地取り出し部の数は、通常１以上、好ましくは４以上とする。この範囲とすれば、電磁波シールド層の接地が行いやすくなる。
【００５４】
（電磁波シールドシートの製造方法）
本発明の電磁波シールドシートは、通常、一方の面に電磁波シールド層及び接地層が設けられた基材フィルムを準備した後、所定の箇所への貫通孔の形成、及びこの貫通孔内部に導電性材料を存在させることによって製造される。
【００５５】
一方の面に電磁波シールド層及び接地層が形成された基材フィルムの製造は、例えば、上記で一部説明したとおり、基材フィルム上にスパッタリングや印刷等により、黒化層と金属層とを少なくとも形成し、これをフォトリソグラフィー法でパターニングして基材フィルム上に電磁波シールド層及び接地層を形成することによって行われる。こうした製造方法は、従来公知の方法をそのまま用いることができるので、ここでは詳細な説明は省略する。
【００５６】
次に、電磁波シールド層及び接地層が形成された基材フィルムに、接地取り出し部を形成する。接地取り出し部の形成は、連続的に行ってもよいし、間欠的に行っても良い。連続的に行う場合は、通常、長尺の基材フィルム表面に一組の電磁波シールド層及び接地層が連続的かつ断続的に複数設けられてロール状に巻き取られたものを準備し、長尺の基材フィルムをロールから引き出しながら、一組の電磁波シールド層及び接地層ごとに接地取り出し部の形成を行う。一方、接地取り出し部の形成を間欠的に行う場合は、通常、上記のロール状に形成された長尺の基材フィルムから、一組の電磁波シールド層及び接地層毎に基材フィルムを切り出し、これら１枚１枚の基材フィルム毎に接地取り出し部の形成を行う。
【００５７】
接地取り出し部の形成は、まず、接地層が設けられた領域の所定の位置に貫通孔を形成する。貫通孔の形成方法としては、例えば、針を用いる機械的な方法、レーザーを用いる光学的な方法等を挙げることができる。次に、貫通孔内部に導電性材料を存在させて、基材フィルムの他方の面から接地層の表面まで連続的に導電性材料を設けて接地取り出し部を形成する。例えば、導電性材料として銀ペーストを用いる場合には、基材フィルム側又は接地層側から銀ペーストを貫通孔に注入するとともに、基材フィルム上及び接地層上に形成される銀ペーストが所定の厚さとなるように制御する。こうした制御は、例えば、スクリーン印刷等により行うことができる。その後、銀ペーストを乾燥させれば、接地取り出し部を得ることができる。
【００５８】
［光学フィルタ及びその製造方法］
（光学フィルタ）
図６は、本発明の光学フィルタの一例を示す模式的な斜視図であり、図７は、図６におけるＢ−Ｂ’面の模式的な断面図である。
【００５９】
本発明の第一の形態に係る光学フィルタ１０ａは、基材フィルム２ｄと、基材フィルム２ｄの一方の面１３ｃに形成された、メッシュ状パターンからなる電磁波シールド層３ｄ及び電磁波シールド層３ｄに電気的に接続された接地層４ｄと、基材フィルム２ｄの他方の面１４ｃに設けられた光学調整層７ａとを有する。そして、基材フィルム２ｄの他方の面１４ｃのうち光学調整層７ａが設けられていない面から接地層４ｄの表面１５ｃまで貫通する１又は２以上の貫通孔（以下、「第１貫通孔」という。）８と、第１貫通孔８の内部を介して、基材フィルム２ｄの他方の面１４ｃから接地層４ｄの表面１５ｃまで連続して設けられる導電性材料で形成される接地取り出し部（以下、「第１接地取り出し部」という。）９ａと、を有する。
【００６０】
光学フィルタ１０ａにおいては、第１接地取り出し部９ａが第１貫通孔８の内部を介して、基材フィルム２ｄの他方の面１４ｃから接地層４ｄの表面１５ｃまで連続して設けられる導電性材料で形成されるので、基材フィルム２ｄの他方の面１４ｃと接地層４ｄの表面１５ｃとが電気的に接続され、その結果、外部のアース端子との直接の接続が可能となる接地構造が形成される。
【００６１】
光学フィルタ１０ａは、光学調整層７ａを間欠的に基材フィルム２ｄに貼り合わせて製造される形態のものである。より具体的には、光学フィルタ１０ａは、長尺の基材フィルム表面に一組の電磁波シールド層及び接地層が連続的かつ断続的に複数設けられてロール状に巻き取られたものを準備し、このロール状に形成された長尺の基材フィルムから、一組の電磁波シールド層３ｄ及び接地層４ｄ毎に基材フィルム２ｄを切り出し、こうして得られた基材フィルム２ｄ毎に、電磁波シールド層３ｄと同程度の大きさの光学調整層７ａを、基材フィルム２ｄの他方の面１４ｃに、電磁波シールド層３ｄが形成された領域をカバーするように貼り合わせて得られるものである。
【００６２】
光学フィルタ１０ａは、電磁波シールド層３ｄとほぼ同等の大きさの光学調整層７ａが基材フィルム２ｄの他方の面１４ｃに貼り付けられていること以外は、基本的には、図１〜３で説明した電磁波シールドシート１ａと同様とすればよい。したがって、光学フィルタ１０ａにおける好ましい態様や変形例も、基本的に図１〜３で説明した電磁波シールドシート１ａと同様とすればよい。以下、光学フィルタ１０ａの好ましい態様について代表的なものをいくつか説明する。
【００６３】
光学フィルタ１０ａにおいては、第１貫通孔８の直径を、通常０．１ｍｍ以上、好ましくは１ｍｍ以上、一方、通常１０ｍｍ以下、好ましくは３ｍｍ以下とする。上記範囲とすれば、導電性材料が第１貫通孔８内部に十分に存在しやすくなり、その結果、基材フィルム２ｄの他方の面１４ｃに存在する導電性材料と電磁波シールド層３ｄとの間の電気抵抗をより低減できる。本発明においては、基材フィルム２ｄとして比較的薄い厚さを有するフィルムを用いるので、上記のような小さい直径の第１貫通孔８を開けやすくなり、その結果、後述する導電性材料で第１貫通孔８を充填しやすくなるという利点が発揮されやすくなる。
【００６４】
光学フィルタ１０ａにおいては、導電性材料を第１貫通孔８に充填することが好ましい。導電性材料を第１貫通孔８に充填すれば、導電性材料が第１貫通孔８を完全にふさぐようになり、その結果、基材フィルム２ｄの他方の面１４ｃに存在する導電性材料と電磁波シールド層３ｄとの間の電気抵抗をより低減しやすくなる。
【００６５】
光学フィルタ１０ａにおいては、導電性材料として銀を含有する材料を用いることが好ましい。導電性材料として銀を含有する材料を用いれば、導電性材料として電気抵抗が低くコストも低廉となり、その結果、基材フィルム２ｄの他方の面１４ｃに存在する導電性材料と電磁波シールド層３ｄとの間の電気抵抗をより低減できるとともに、コストの増加も抑制できる。銀を含有する材料として銀ペーストが好ましいことも、電磁波シールドシート１ａと同様である。
【００６６】
光学フィルタ１０ａは、上記で説明したように、電磁波シールド層３ｄとほぼ同等の大きさの光学調整層７ａが基材フィルム２ｄの他方の面１４ｃに貼り付けられている点で電磁波シールドシート１ａと異なる。そこで、以下では、電磁波シールドシート１ａとの相違点である光学調整層７ａについて説明を行う。
【００６７】
光学調整層７ａとしては、従来公知のものをそのまま用いればよい。例えば近赤外線吸収層、ネオン光吸収層、紫外線吸収層、反射防止層、ハードコート層、防汚層、及び防眩層等を挙げることができる。これら層を複数用いる場合における層を積層する順番は、用いる用途に応じて適宜調整すればよい。また、それぞれの層の厚さはそれぞれの光学調整層７ａ毎に適当な厚さが設定される。
【００６８】
近赤外線吸収層は、通常、プラズマディスプレイパネルから放射される近赤外線を吸収するために設けることができる。近赤外線吸収層を設けることにより、プラズマディスプレイ装置の近くで使用されるリモートコントロール装置の誤作動等を防止することができる。近赤外線吸収層は、例えば、ジインモニウム系化合物、フタロシアニン系化合物等の近赤外線吸収剤をバインダ樹脂中に添加した塗料を、基材フィルム２ｄの他方の面１４ｃ上に塗工する、又は透明基材上にかかる近赤外線吸収塗料を塗工したものを基材フィルム２ｄの他方の面１４ｃ上に接着剤で接着することにより設けることができる。
【００６９】
ネオン光吸収層は、通常、プラズマディスプレイパネルから放射されるネオン光を吸収するために設けることができる。ネオン原子の発光スペクトル帯域は波長５５０〜６４０ｎｍであるので、ネオン光吸収層は、通常、少なくとも５５０〜６４０ｎｍの波長領域内に吸収極大を有する色素をバインダ樹脂に分散させた層とすることが好ましく、中心波長５９０ｎｍにおける光線透過率が５０％以下になるように含有量等を調整することがより好ましい。
【００７０】
紫外線吸収層は、外光としてプラズマディスプレイパネルに入射する紫外線を吸収して、プラズマディスプレイパネルを構成する材料の紫外線劣化を防ぐために設けることができる。また、上記のような有機系の近赤外線吸収剤を含有する近赤外線吸収層を設ける場合には、この近赤外線吸収剤は紫外線により劣化しやすいため、紫外線吸収層を近赤外線吸収層より外側に積層することが好ましい。紫外線吸収層は、通常、紫外線吸収剤をバインダ樹脂に分散させた層を基材フィルム２ｄの他方の面１４ｃ上に設ける、又は紫外線吸収層を有するシートを基材フィルム２ｄの他方の面１４ｃ上に貼り合わせて設けることができる。
【００７１】
反射防止層（ＡＲ（Anti  Reflection）層）は、通常、光干渉で反射光を抑制するために設けることができる。反射防止層としては、通常、低屈折率層が最表面に位置する様にして低屈性率層と高屈折率層とを交互に積層した多層構成からなるものが好ましく用いられる。
【００７２】
ハードコート層（ＨＣ（Hard  Coat）層）は、通常、光学調整層７ａの表面を保護するために設けることができる。ハードコート層は、通常、電離放射線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂等で形成される。
【００７３】
防眩層（ＡＧ（Anti  Glare）層）は、光拡散によって外光の鏡面反射を低減し、ギラツキを防止するために設けることができる。防眩層は、通常、透明樹脂バインダ中にこれと屈折率の異なるシリカ等の無機フィラーを分散させた層として、又は透明樹脂層表面にエンボス加工等で光拡散性の微小な凹凸を賦形したものとして形成することができる。
【００７４】
防汚層は、通常、基材フィルム２ｄに付着する汚れを防止するために設けることができる。防汚層は、撥水性や撥油性を有する層であり、通常、シロキサン系化合物や、フッ素化アルキルシリル化合物等が用いられる。
【００７５】
光学調整層７ａは、求められる性能に応じて、以上説明した各層を適宜選択して用いればよい。
【００７６】
図８は、本発明の光学フィルタの他の一例を示す模式的な斜視図であり、図９は、図８におけるＣ−Ｃ’面の模式的な断面図である。
【００７７】
本発明の第二の形態に係る光学フィルタ１０ｂは、基材フィルム２ｅと、基材フィルム２ｅの一方の面１３ｄに形成された、メッシュ状パターンからなる電磁波シールド層３ｅ及び電磁波シールド層３ｅに電気的に接続された接地層４ｅと、基材フィルム２ｅの他方の面１４ｄに設けられた光学調整層７ｂとを有する。そして、光学調整層７ｂの表面１６から接地層４ｅの表面１５ｄまで貫通する１又は２以上の貫通孔（以下、「第２貫通孔」という。）１１と、第２貫通孔１１の内部を介して、光学調整層７ｂの表面１６から接地層４ｅの表面１５ｄまで連続して設けられる導電性材料で形成される接地取り出し部（以下、「第２接地取り出し部」という。）１２ａと、を有する。
【００７８】
光学フィルタ１０ｂにおいては、第２接地取り出し部１２ａが第２貫通孔１１の内部を介して、光学調整層７ｂの表面１６から接地層４ｅの表面１５ｄまで連続して設けられる導電性材料で形成されるので、光学調整層７ｂの表面１６と接地層４ｅの表面１５ｄとが電気的に接続され、その結果、外部のアース端子との直接の接続が可能となる接地構造が形成される。
【００７９】
光学フィルタ１０ｂは、光学調整層７ｂを連続的に基材フィルム２ｅに貼り合わせて製造される形態のものである。具体的には、長尺の基材フィルム表面に一組の電磁波シールド層及び接地層が連続的かつ断続的に複数設けられてロール状に巻き取られたものを準備し、また、長尺の光学調整層がロール状に形成されたものを準備する。ここで、光学調整層の幅は、基材フィルムの幅よりも小さく、電磁波シールド層の短辺の長さと略同一となっている。そして、これら二つのロールから基材フィルムと光学調整層とをそれぞれ引き出し、電磁波シールド層と光学調整層とを重ねるようにして、基材フィルムの他方の面に光学調整層を貼り合わせた後、光学フィルタ１０ｂを１枚ずつ切り出す。
【００８０】
光学フィルタ１０ｂは、図８に示すように、光学調整層７ｂの長辺が基材フィルム２ｅの長辺の長さと同一になっているために、第２貫通孔１１が光学調整層７ｂの表面１６から接地層４ｅの表面１５ｄまで貫通していること、第２接地取り出し部１２ａが第２貫通孔１１の内部を介して、光学調整層７ｂの表面１６から接地層４ｅの表面１５ｄまで連続して設けられる導電性材料で形成されていること、以外は、図６，７で説明した光学フィルタ１０ａと同様とすればよい。したがって、光学フィルタ１０ｂにおける好ましい態様や変形例も、基本的に光学フィルタ１０ａひいては図１〜３で説明した電磁波シールドシート１ａと同様とすればよい。以下、光学フィルタ１０ｂの好ましい態様について代表的なものをいくつか説明する。
【００８１】
光学フィルタ１０ｂにおいては、第２貫通孔１１の直径を、通常０．１ｍｍ以上、好ましくは１ｍｍ以上、一方、通常１０ｍｍ以下、好ましくは３ｍｍ以下とする。上記範囲とすれば、導電性材料が第２貫通孔１１内部に十分に存在しやすくなり、その結果、光学調整層７ｂの表面１６に存在する導電性材料と電磁波シールド層３ｅとの間の電気抵抗をより低減できる。本発明においては、基材フィルム２ｅとして比較的薄い厚さを有するフィルムを用いるので、上記のような小さい直径の第２貫通孔１１を開けやすくなり、その結果、後述する導電性材料で第２貫通孔１１を充填しやすくなるという利点が発揮される。
【００８２】
光学フィルタ１０ｂにおいては、導電性材料を第２貫通孔１１に充填することが好ましい。導電性材料を第２貫通孔１１に充填すれば、導電性材料が第２貫通孔１１を完全にふさぐようになり、その結果、光学調整層７ｂの表面１６に存在する導電性材料と電磁波シールド層３ｅとの間の電気抵抗をより低減しやすくなる。
【００８３】
光学フィルタ１０ｂにおいては、導電性材料として銀を含有する材料を用いることが好ましい。導電性材料として銀を含有する材料を用いれば、導電性材料として電気抵抗が低くコストも低廉となり、その結果、光学調整層７ｂの表面１６に存在する導電性材料と電磁波シールド層３ｅとの間の電気抵抗をより低減できるとともに、コストの増加も抑制できる。銀を含有する材料として銀ペーストが好ましいことも、光学フィルタ１０ａ及び電磁波シールドシート１ａと同様である。
【００８４】
光学フィルタ１０ｂは、上記で説明したように、第２貫通孔１１が光学調整層７ｂの表面１６から接地層４ｅの表面１５ｄまで貫通している点、及び第２接地取り出し部１２ａが第２貫通孔１１の内部を介して、光学調整層７ｂの表面１６から接地層４ｅの表面１５ｄまで連続して設けられる導電性材料で形成されている点、の２点において光学フィルタ１０ａと異なる。そこで、以下では、光学フィルタ１０ａとの上記２点の相違点について説明する。
【００８５】
光学フィルタ１０ｂにおいては、第２貫通孔１１が光学調整層７ｂの表面１６から接地層４ｅの表面１５ｄまで貫通して設けられている。より詳しくは、図９に示すように、第２貫通孔１１は、光学調整層７ｂ、基材フィルム２ｅ、及び接地層４ｅを貫通して設けられている。また、第２接地取り出し部１２ａは、比較的長く設けられた第２貫通孔１１の内部を介して、光学調整層７ｂの表面１６から接地層４ｅの表面１５ｄまで連続して設けられる導電性材料で形成されている。
【００８６】
図１０は、本発明の光学フィルタのさらに他の一例を示す模式的な斜視図である。光学フィルタ１０ｃは、第１接地取り出し部９ｂを複数設け、また、第２接地取り出し部１２ｂを複数設けたものである。より詳しくは、図６，７に示した第１接地取り出し部９ａと同様の構造を有する第１接地取り出し部９ｂを４カ所、図８，９に示した第２接地取り出し部１２ａと同様の構造を有する第２接地取り出し部１２ｂを４カ所設けたものである。このように、第１接地取り出し部９ｂ及び第２接地取り出し部１２ｂを複数設けるので、接地層４ｆの表面と基材フィルム２ｆの他方の面とが電気的に接続される箇所が増加するとともに、接地層４ｆの表面と光学調整層７ｃの表面とが電気的に接続される箇所が増加し、その結果、電磁波シールド層３ｆの接地を行いやすくなる。このように、本発明においては、接地取り出し部を複数設けることが好ましいが、光学フィルタに設けられる接地取り出し部の数は、通常１以上、好ましくは４以上とする。この範囲とすれば、電磁波シールド層の接地が行いやすくなる。
【００８７】
（光学フィルタの製造方法）
本発明の光学フィルタは、通常、一方の面に電磁波シールド層及び接地層が設けられ、他方の面には光学調整層が設けられた基材フィルムを準備した後、所定の箇所への貫通孔の形成、及びこの貫通孔内部に導電性材料を存在させることによって製造される。
【００８８】
光学フィルムは、電磁波シールドシートにおける基材フィルムの他方の面に光学調整層を貼り付けることによって製造される。光学フィルムの製造方法は、従来公知の方法をそのまま用いることができるので、ここでは詳細な説明は省略する。また、光学フィルムへの接地取り出し部の形成についても、電磁波シールドシートで説明した製造方法をそのまま用いることができるので、ここでの説明は省略する。
【００８９】
［プラズマディスプレイ装置への適用］
図１１は、本発明の光学フィルタを適用したプラズマディスプレイ装置の模式的断面図である。より詳しくは、６，７図に示す光学フィルタ１０ａをプラズマディスプレイ装置に適用したものである。
【００９０】
プラズマディスプレイ装置１００は、プラズマディスプレイパネル８０と、光学フィルタ１０ａの電磁波シールド層３ｄとが、粘着層７０を挟んで向かい合うように設置されている。そして、基材フィルム２ｄの他方の面１４ｃに存在する第１接地取り出し部９ａの導電性材料と、外部アース端子９０とを電気的に接続することにより、電磁波シールド層３ｄが接地されている。この構成では、電磁波シールド層３ｄとプラズマディスプレイパネル８０とが数十μｍのオーダーに近接して設置されることになるので、電磁波シールドの機能が向上する。一方、電磁波シールド層３ｄとプラズマディスプレイパネル８０とが近接して位置する分、光学フィルタ１０ａとプラズマディスプレイパネル８０との間に存在する粘着層７０が形成する空間に外部アース端子を挿入することは現実的でない。無理に外部アース端子を設置すると、外部アース端子がプラズマディスプレイパネル８０の表面に接触して傷を付ける可能性もある。そこで、第１接地取り出し部９ａを設けて基材フィルム２ｄの他方の面１４ｃから外部アース端子９０に接地を行う、本発明の光学フィルタ１０ａにおいて採用する接地構造の有効性が発揮されることになる。
【００９１】
プラズマディスプレイ装置１００では、図６，７の光学フィルタ１０ａについてのみ説明したが、上記において紹介したその他の電磁波シールドシート１ａ，１ｂ，１ｃや、光学フィルタ１０ｂ，１０ｃにおいても同様の効果が奏される。
【実施例】
【００９２】
次に、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例の記載に限定されるものではない。
【００９３】
短辺方向の貫通孔を２つ、長辺方向の貫通孔を３つとしたこと以外は、図１に示す電磁波シールドシート１ａと同様の構造を有する電磁波シールドシートを準備した。より詳しくは、電磁波シールド層及びこの電磁波シールド層に電気的に接続された接地層を表面に有する基材フィルムを、フォトリソグラフィー法を用いて製造した。次いで、電磁波シールドシートの接地層が存在する部分に針を刺して上記６つの貫通孔を設けた。ここで、貫通孔の直径が接地特性に与える影響を調べるために、用いる針の直径を適宜変更（φ１ｍｍ、φ４ｍｍ）した。そして、スクリーン印刷により、貫通孔に銀ペーストを充填させ、さらに基材フィルムの他方の面及び接地層の表面に銀ペーストが所定の高さに盛り上がって形成されるようにした。その後、上記の銀ペーストを乾燥させて接地取り出し部を得た。こうして貫通孔の直径を１ｍｍとした電磁波シールドシートと、貫通孔の直径を４ｍｍとした電磁波シールドシートとをそれぞれ製造した。貫通孔の直径を１ｍｍとした電磁波シールドシートにおける接地取り出し部は図３と同様の形態を有し、ｄ１、ｄ２を測定したところ、それぞれ３０μｍであった。また、貫通孔の直径を４ｍｍとした電磁波シールドシートにおける接地取り出し部は図４と同様の形態を有し、ｄ３、ｄ４を測定したところ、それぞれ３０μｍであった。
【００９４】
以上のようにして得られた電磁波シールドシートにおいて、基材フィルムの他方の面に存在する接地取り出し部の導電性材料と接地層との間の電気抵抗、及び基材フィルムの他方の面に存在する接地取り出し部の導電性材料と電磁波シールド層との間の電気抵抗をそれぞれ測定した。結果を表１に示す。
【００９５】
【表１】
2008166506.tif 000003
【００９６】
以上の結果より、貫通孔の直径が１ｍｍ、４ｍｍのいずれの場合でも十分に低い抵抗値が得られたが、直径を１ｍｍとすることによって抵抗値がより低減することがわかる。これは、直径を１ｍｍとした場合には貫通孔に銀ペーストひいては導電性材料が完全に充填されたのに対し、直径を４ｍｍとした場合、図４に示すように銀ペーストが貫通孔に完全に充填されなかったためと考えられる。
【図面の簡単な説明】
【００９７】
【図１】本発明の電磁波シールドシートの一例を示す模式的な斜視図である。
【図２】図１におけるＡ−Ａ’面の模式的な断面図である。
【図３】図２の一部を拡大して示す模式的な断面図である。
【図４】接地取り出し部の他の一例を示す模式的な断面図である。
【図５】電磁波シールドシートの他の一例を示す模式的な斜視図である。
【図６】本発明の光学フィルタの一例を示す模式的な斜視図である。
【図７】図６におけるＢ−Ｂ’面の模式的な断面図である。
【図８】本発明の光学フィルタの他の一例を示す模式的な斜視図である。
【図９】図８におけるＣ−Ｃ’面の模式的な断面図である。
【図１０】本発明の光学フィルタのさらに他の一例を示す模式的な斜視図である。
【図１１】本発明の光学フィルタを適用したプラズマディスプレイ装置の模式的断面図である。
【符号の説明】
【００９８】
１ａ，１ｂ，１ｃ  電磁波シールドシート
２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｅ，２ｆ  基材フィルム
３ａ，３ｃ，３ｄ，３ｅ，３ｆ  電磁波シールド層
４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄ，４ｅ，４ｆ  接地層
５ａ，５ｂ  貫通孔
６ａ，６ｂ，６ｃ  接地取り出し部
７ａ，７ｂ，７ｃ  光学調整層
８  第１貫通孔
９ａ，９ｂ  第１接地取り出し部
１０ａ，１０ｂ，１０ｃ  光学フィルタ
１１  第２貫通孔
１２ａ，１２ｂ  第２接地取り出し部
１３ａ，１３ｃ，１３ｄ  基材フィルムの一方の面
１４ａ，１４ｂ，１４ｃ，１４ｄ  基材フィルムの他方の面
１５ａ，１５ｂ，１５ｃ，１５ｄ  接地層の表面
１６  光学調整層の表面
７０  粘着層
８０  プラズマディスプレイパネル
９０  外部アース端子
１００  プラズマディスプレイ装置
【図１】
2008166506.tif 000004
【図２】
2008166506.tif 000005
【図３】
2008166506.tif 000006
【図４】
2008166506.tif 000007
【図５】
2008166506.tif 000008
【図６】
2008166506.tif 000009
【図７】
2008166506.tif 000010
【図８】
2008166506.tif 000011
【図９】
2008166506.tif 000012
【図１０】
2008166506.tif 000013
【図１１】
2008166506.tif 000014