【手続補正書】
【提出日】平成21年4月27日(2009.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】薄膜トランジスタとこの薄膜トランジスタを用いた液晶表示パネル
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上にゲート配線部と、ゲート電極部と、選択信号を印加するゲート端子部とを備えたゲート配線を有する薄膜トランジスタであって、 前記ゲート配線を構成する前記ゲート配線部と前記ゲート電極部と前記ゲート端子部の何れかが耐プラズマ性とバリア特性を有することを特徴とする薄膜トランジスタ。
【請求項２】
基板上にゲート配線部と、ゲート電極部と、選択信号を印加するゲート端子部とを備えたゲート配線を有する薄膜トランジスタであって、 前記ゲート配線は、金属主層の表面にキャップ層を披覆した積層構造で形成され、 前記ゲート配線部のキャップ層は、耐プラズマ性と下層金属を固溶拡散させないバリア特性を有する導電性の材料を含んでいるインクの焼成で形成され、 前記ゲート電極部のキャップ層は、耐プラズマ性と、下層金属を固溶拡散させないバリア特性と、平坦性および耐電圧性を有する導電性の材料を含んでいるインクの焼成で形成され、 前記ゲート端子部のキャップ層は、耐プラズマ性と、下層金属を固溶拡散させないバリア特性と、ドライエッチング耐性を有する導電性の材料を含んでいるインクの焼成で形成されていることを特徴とする薄膜トランジスタ。
【請求項３】
請求項１又は２において、 前記金属主層が銀・インクの焼成で形成されていることを特徴とする薄膜トランジスタ。
【請求項４】
請求項１乃至３の何れか１項において、  前記ゲート配線と前記第１基板の間に密着層を有することを特徴とする薄膜トランジスタ。
【請求項５】
請求項４において。 前記密着層がマンガン・インクの焼成で形成されていることを特徴とする薄膜トランジスタ。
【請求項６】
薄膜トランジスタを有する複数の画素回路が形成された第１基板と、液晶層を介して第１基板と対向配置された第２基板とを有する液晶表示パネルであって、 前記第１基板に、ゲート配線部と、該ゲート配線部から延びて前記薄膜トランジスタのゲート電極を構成するゲート電極部と、ゲート配線に選択信号を印加するゲート端子部とを備えたゲート配線を有し、 前記ゲート配線を構成する前記ゲート配線部と前記ゲート電極部と前記ゲート端子部の何れかが耐プラズマ性とバリア特性を有することを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項７】
薄膜トランジスタを有する複数の画素回路が形成された第１基板と、液晶層を介して第１基板と対向配置された第２基板とを有する液晶表示パネルであって、  前記第１基板に、ゲート配線部と、該ゲート配線部から延びて前記薄膜トランジスタのゲート電極を構成するゲート電極部と、ゲート配線に選択信号を印加するゲート端子部とを備えたゲート配線を有し、  前記ゲート配線は、金属主層の表面にキャップ層を披覆した積層構造で形成され、 前記ゲート配線部のキャップ層は、耐プラズマ性と下層金属を固溶拡散させないバリア特性を有する導電性の材料を含んでいるインクの焼成で形成され、 前記ゲート電極部のキャップ層は、耐プラズマ性と、下層金属を固溶拡散させないバリア特性と、平坦性および耐電圧性を有する導電性の材料を含んでいるインクの焼成で形成され、 前記ゲート端子部のキャップ層は、耐プラズマ性と、下層金属を固溶拡散させないバリア特性と、ドライエッチング耐性を有する導電性の材料を含んでいるインクの焼成で形成されていることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項８】
請求項６又は７において、 前記金属主層が銀・インクの焼成で形成されていることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項９】
請求項６乃至８の何れか１項において、 前記ゲート配線と前記第１基板の間に密着層を有することを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項１０】
請求項９において、 前記密着層がマンガン・インクの焼成で形成されていることを特徴とする液晶表示パネル。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】  本発明は、薄膜トランジスタとこの薄膜トランジスタを用いた液晶表示パネルに係り、特に薄膜トランジスタのゲート配線をインクジェット塗布と焼成で形成した液晶表示パネルに好適なものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】  液晶表示装置は、液晶表示パネルと駆動回路およびバックライト等の周辺装置を組み合わせて構成される。図１０は典型的な縦電界型（所謂、ＴＮ型）の液晶表示装置の概略構成例を説明する断面模式図である。通常、アクティブ・マトリクス型の液晶表示装置を構成する液晶表示パネルは、第１基板（アクティブ・マトリクス基板あるいは薄膜トランジスク基板）で構成される第１パネルＰＮＬ１と、第２基板（対向基板あるいはカラーフィルタ基板）で構成される第２パネルＰＮＬ２との間に液晶ＬＣを封人して形成される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】  第１パネルＰＮＬ１を構成する第１基板ＳＵＢ１の内面には薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）と、この薄膜トランジスクで駆動される画素電極ＰＸを有し、最上層には第１配向膜ＯＲＩ １が成膜され、液晶配向制御能が付与されている。また、外面（背面）には第１偏光板ＰＯＬ１が貼付されている。一方、第２パネルＰＮＬ２を構成する第２基板ＳＵＢ２の内面には、カラーフィルタＣＦ、隣接画素のカラーフィルタとの間を区画する遮光層（ブラックマトリクス）ＢＭ、対向電極ＣＴを有し、最上層には第２配向膜ＯＲＩ ２が成膜され、液晶配向制御能が付与されている。また、外面（表面）には、偏光軸を第１偏光板ＰＯＬ１の偏光軸とはクロスニコル配置した第２偏光板ＰＯＬ２が貼付されている。なお細かな構成は図示を省略した。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】  本発明の目的は、ゲート配線のゲート電極部、ゲート端子部のそれぞれの要求性能毎にキャップメタル層の材料とＩＪ用インク形態の最適化を図り、更なる高機能化であるプロセス簡略化等を実現した薄膜トランジスタとこの薄膜トランジスタを用いた液晶表示パネルを提供することにある。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】  ゲート配線の各部に要求される機能は以下のとおりである。先ず、ゲート電極部のキャップ層には、耐プラズマ性、耐拡散性、バリア特性（主メタルを固溶拡散させない緻密性）が要求される。ゲート電極としては、平坦性（移動度等ＴＦＴ性能）、耐電圧性が要求され、フラットＴＦＴ、電極薄膜となる高機能化が要求される。ゲート配線部のキャップ層には、耐プラズマ性、緻密性が要求される。ゲート端子部にはゲート配線部のキャップ層に求められる性能に加えて、ゲート絶縁膜の端子部コンタクトホールによるドライエッチング耐性、導電性（キャップ層と主メタル層の低コンタクト抵抗性）が要求され、構成の簡素化等の高性能化が要求される。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】  上記目的を達成するための本発明の代表的な解決手段を列挙すれば、以下のとおりである。すなわち、本発明の薄膜トランジスタは、前記ゲート配線を構成する前記ゲート配線部と前記ゲート電極部と前記ゲート端子部の何れかが耐プラズマ性とバリア特性を有することを特徴とする。また、本発明の薄膜トランジスタは、基板上にゲート配線部と、ゲート電極部と、選択信号を印加するゲート端子部とを備えたゲート配線を有し、 前記ゲート配線は、金属主層の表面にキャップ層を披覆した積層構造で形成され、 前記ゲート配線部のキャップ層は、耐プラズマ性と下層金属を固溶拡散させないバリア特性を有する導電性の材料を含んでいるインクの焼成で形成され、 前記ゲート電極部のキャップ層は、耐プラズマ性と、下層金属を固溶拡散させないバリア特性と、平坦性および耐電圧性を有する導電性の材料を含んでいるインクの焼成で形成され、  前記ゲート端子部のキャップ層は、耐プラズマ性と、下層金属を固溶拡散させないバリア特性と、ドライエッチング耐性を有する導電性の材料を含んでいるインクの焼成で形成されていることを特徴とする。  本発明の液晶パネルは、前記第１基板に、ゲート配線部と、該ゲート配線部から延びて前記薄膜トランジスタのゲート電極を構成するゲート電極部と、ゲート配線に選択信号を印加するゲート端子部とを備えたゲート配線を有し、 前記ゲート配線を構成する前記ゲート配線部と前記ゲート電極部と前記ゲート端子部の何れかが耐プラズマ性とバリア特性を有することを特徴とする。 また、本発明の液晶パネルは、薄膜トランジスタを有する複数の画素回路が形成された第１基板と、液晶層を介して第１基板と対向配置された第２基板とを有し、  前記第１基板に、ゲート配線部と、該ゲート配線部から延びて前記薄膜トランジスタのゲート電極を構成するゲート電極部と、ゲート配線に選択信号を印加するゲート端子部とを備えたゲート配線を有し、  前記ゲート配線は、金属主層の表面にキャップ層を披覆した積層構造で形成され、 前記ゲート配線部のキャップ層は、耐プラズマ性と下層金属を固溶拡散させないバリア特性を有する導電性の材料を含んでいるインクの焼成で形成され、 前記ゲート電極部のキャップ層は、耐プラズマ性と、下層金属を固溶拡散させないバリア特性と、平坦性および耐電圧性を有する導電性の材料を含んでいるインクの焼成で形成され、 前記ゲート端子部のキャップ層は、耐プラズマ性と、下層金属を固溶拡散させないバリア特性と、ドライエッチング耐性を有する導電性の材料を含んでいるインクの焼成で形成されていることを特徴とする。