【手続補正書】
【提出日】平成21年11月9日(2009.11.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
昇華転写方式で染料画像が転写される被転写体であって、
転写シート基材上に、光回折パターンを有する光回折パターン層及び硬化性接着剤層が、この順序で設けられた転写シートによって、前記被転写体上に転写し、５０度以下の環境下で当該硬化性接着剤層を硬化した後、当該転写シート基材を剥離して設けられ、当該光回折パターン層上に前記染料画像を受容可能な染料染着性素材からなる受容層が設けられたことにより、
前記受容層に前記昇華転写方式を用いて前記染料画像の転写を行なっても、しわや膨れのない染料画像が形成できることを特徴とする、光回折パターンおよび染料画像からなる複合画像を形成可能な被転写体。
【請求項２】
上記被転写体の基材がカード用基材であることを特徴とする請求項１記載の複合画像を形成可能な被転写体。
【請求項３】
上記被転写体の基材が記録部を伴ない、該記録部が感熱記録層、感熱発消色層、署名のための筆記性層、またはＩＣモジュールもしくはＬＳＩモジュールのいずれか、並びに磁気記録層であることを特徴とする請求項１〜２のいずれかに記載の複合画像を形成可能な被転写体。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか記載の複合画像を形成可能な被転写体の前記受容層に、染料画像が形成されていることを特徴とする、光回折パターンおよび染料画像からなる複合画像が形成された転写体。
【請求項５】
請求項４に記載の転写体の製造方法であって、
前記転写シート基材上に、前記光回折パターンを有する光回折パターン層及び前記硬化性接着剤層が、この順序で設けられた転写シートを用いて、前記被転写体上に転写し、
５０度以下の環境下で前記硬化性接着剤層を硬化した後、前記転写シート基材を剥離して設け、前記光回折パターン層上に前記染料画像を受容可能な染料染着性素材からなる受容層を設け、当該受容層に、前記昇華転写方式を用いて前記染料画像の転写を行って、
前記被転写体に光回折パターンおよび染料画像からなる複合画像を形成することを特徴とする転写体の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
従って、本発明においては、基材上（被転写体を意味する。）に、ホログラム等の光回折パターン層、および染料画像を受容し得る受容層が順に積層された積層基材が、その受容層に対して、昇華転写シートを用いて転写する際に、高温にさらされて、基材（被転写体を意味する。）と光回折パターン層との間の接着性低下による影響を回避することを課題とするものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
発明者によれば、被転写体上への光回折パターン層の積層を、従来のように感熱接着剤によらず、５０度以下の環境下で硬化性接着剤を用いて、硬化性接着剤層を硬化した後、その転写シート基材を剥離して行った後、光回折パターン層上に画像を受容する受容層を積層することにより、受容層に昇華転写シートを用いて転写する際に高温を加えても、基材と透明光回折パターン層との間の接着性低下による影響が生じることなく、染料画像の形成が可能であることが判明し、本発明に到達することができた。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
課題を解決する第１の発明は、昇華転写方式で染料画像が転写される被転写体であって、転写シート基材上に、光回折パターンを有する光回折パターン層及び硬化性接着剤層が、この順序で設けられた転写シートによって、前記被転写体に転写し、５０度以下の環境下で当該硬化性接着剤層を硬化した後、当該転写シート基材を剥離して設けられ、当該光回折パターン層上に前記染料画像を受容可能な染料染着性素材からなる受容層が設けられたことにより、
前記受容層に前記昇華転写方式を用いて前記染料画像の転写を行なっても、しわや膨れのない染料画像が形成できることを特徴とする、光回折パターンおよび染料画像からなる複合画像を形成可能な被転写体に関するものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
第４の発明は、請求項１〜３のいずれか記載の複合画像を形成可能な被転写体の前記受容層に、染料画像が形成されていることを特徴とする、光回折パターンおよび染料画像からなる複合画像が形成された転写体に関するものである。
第５の発明は、請求項４に記載の転写体の製造方法であって、前記転写シート基材上に、前記光回折パターンを有する光回折パターン層及び前記硬化性接着剤層が、この順序で設けられた転写シートを用いて、前記被転写体上に転写し、５０度以下の環境下で前記硬化性接着剤層を硬化した後、前記転写シート基材を剥離して設け、前記光回折パターン層上に前記染料画像を受容可能な染料染着性素材からなる受容層を設け、当該受容層に、前記昇華転写方式を用いて前記染料画像の転写を行って、
前記被転写体に光回折パターンおよび染料画像からなる複合画像を形成することを特徴とする転写体の製造方法に関するものである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
第１の発明によれば、被転写体上に、光回折パターン層への影響なく硬化を促進した硬化性接着剤層、光回折パターン層、および受容層が順に積層された積層構造を有するので、昇華転写シートを用いた受容層への転写を行なう際に高温にさらされても、被転写体と透明光回折パターン層との間の接着性低下による支障が生じることがなく、元来有する光回折パターンに加えて、受容層に染料画像を形成することが可能な、複合画像を形成可能な被転写体を提供することができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
第４の発明によれば、請求項１〜請求項３いずれかの発明の複合画像を形成可能な基材が有する効果を発揮することができ、しかも、その受容層に染料画像が形成されることにより、光回折パターンと染料画像との複合画像が形成された基材を提供することができる。
第５の発明によれば、請求項４に記載の転写体の製造方法であって、前記転写シート基材上に、前記光回折パターンを有する光回折パターン層及び前記硬化性接着剤層が、この順序で設けられた転写シートを用いて、前記被転写体上に転写し、５０度以下の環境下で前記硬化性接着剤層を硬化した後、前記転写シート基材を剥離して設け、前記光回折パターン層上に前記染料画像を受容可能な染料染着性素材からなる受容層を設け、当該受容層に、前記昇華転写方式を用いて前記染料画像の転写を行って、
前記被転写体に光回折パターンおよび染料画像からなる複合画像を形成することを特徴とする転写体の製造方法を提供することができる。
第５の発明は、請求項４に記載の転写体の製造方法であって、前記転写シート基材上に、前記光回折パターンを有する光回折パターン層及び前記硬化性接着剤層が、この順序で設けられた転写シートを用いて、前記被転写体上に転写し、５０度以下の環境下で前記硬化性接着剤層を硬化した後、前記転写シート基材を剥離して設け、前記光回折パターン層上に前記染料画像を受容可能な染料染着性素材からなる受容層を設け、当該受容層に、前記昇華転写方式を用いて前記染料画像の転写を行って、
前記被転写体に光回折パターンおよび染料画像からなる複合画像を形成することを特徴とする転写体の製造方法に関するものである。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
【図１】本発明の複合画像を形成可能な基材（複合画像を形成可能な被転写体）を示す図である。
【図２】本発明の複合画像が形成された基材（複合画像が形成された被転写体）を示す図である。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
図１は、本発明の複合画像を形成可能な基材（複合画像を形成可能な被転写体）の、基本的、かつ好ましい実施例を示し、図２は、図１のものを用いて得られた、複合画像が形成された基材（複合画像が形成された被転写体）の基本的、かつ好ましい実施例を示す図である。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
そこで、上記の転写において使用し得る接着剤としては、ユリア樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、レゾルシノール樹脂、フラン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリベンツイミダゾール樹脂、もしくはポリベンゾチアゾール樹脂等の熱硬化性の接着剤を挙げることができる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
１……複合画像を形成可能な基材（複合画像を形成可能な被転写体）（１’；複合画像        が形成された基材（複合画像が形成された被転写体））
２……基材
３……（硬化性）接着剤層（硬化性接着剤硬化物）
４……ホログラム層（光回折パターン層）
５……反射性層
６……ホログラム形成層
７……ＯＰ層
８……剥離層
９……受容層
１０……記録部（磁気記録層）
１１……染料画像