(57)【要約】【課題】垂直磁気記録媒体における磁気記録層の配向性を改善し、さらに磁気記録層における初期成長層を低減することにより、高出力化および低ノイズ化といった媒体性能の向上の実現。【解決手段】非磁性基体上に軟磁性裏打ち層、下地層、中間層、磁気記録層、保護膜、液体潤滑層を順次有し、下地層が軟磁性であり、中間層が非磁性であることを特徴とする垂直磁気記録媒体。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性基体上に軟磁性裏打ち層、下地層、中間層、磁気記録層、保護膜、液体潤滑層を順次有する垂直磁気記録媒体であって、
前記下地層が軟磁性であり、前記中間層が非磁性である
ことを特徴とする垂直磁気記録媒体。
【請求項２】
前記下地層が、軟磁性パーマロイ系材料を含むことを特徴とする請求項１に記載の垂直磁気記録媒体。
【請求項３】
前記軟磁性パーマロイ系材料が、軟磁性を有するＮｉＦｅ、ＮｉＦｅＣｒ、ＮｉＦｅＭｏおよびＮｉＦｅＮｂからなる群から選択されることを特徴とする請求項２に記載の垂直磁気記録媒体。
【請求項４】
前記軟磁性パーマロイ系材料の結晶構造がｆｃｃ（面心立方格子）であることを特徴とする請求項２または３に記載の垂直磁気記録媒体。
【請求項５】
前記中間層が、非磁性のＣｏＣｒ、ＣｏＣｒＢ、ＲｕおよびＰｄからなる群から選択される非磁性材料を含むことを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の垂直磁気記録媒体。
【請求項６】
前記磁気記録層を構成する材料が、六方細密充填構造のｃ軸が膜面に対して垂直方向に配向していることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の垂直磁気記録媒体。
【請求項７】
前記磁気記録層は、少なくともＣｏとＣｒとを含む合金の強磁性材料が用いられることを特徴とする請求項１から６のいずれかに記載の垂直磁気記録媒体。
【請求項８】
前記軟磁性裏打ち層は、結晶性のＮｉＦｅ合金またはセンダスト（ＦｅＳｉＡｌ）合金、あるいは、非晶質のＣｏ合金を用いて形成されることを特徴とする請求項１から７のいずれかに記載の垂直磁気記録媒体。
【請求項９】
前記下地層は、磁気記録層の配向性を改善する下地層の機能と、軟磁性裏打ち層の機能とを兼ね得ることを特徴とする請求項１から８のいずれかに記載の垂直磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、各種磁気記録装置に搭載される垂直磁気記録媒体に関し、特に磁気記録層における初期成長層および配向分散の改善に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、磁気記録の高密度化を実現する技術として、従来の長手磁気記録方式に代えて垂直磁気記録方式が注目されつつある。垂直磁気記録方式による媒体（以下、「垂直磁気記録媒体」と称す）は、主に、硬質磁性材料の磁気記録層と、磁気記録層を目的の方向に配向させるための下地層、磁気記録層の表面を保護する保護膜から概略構成される。垂直磁気記録媒体には、磁気記録層への記録に用いられる磁気ヘッドから発生する磁束を集中させる目的で軟磁性材料からなる裏打ち層を設けることもある。通常、軟磁性裏打ち層を持たない媒体を単層垂直磁気記録媒体、軟磁性裏打ち層を有する媒体を二層垂直磁気記録媒体と呼ぶ。様々な垂直磁気記録媒体が検討されているが、磁気記録の高密度化に加えて、高出力化、低ノイズ化といった性能のさらなる向上が望まれている。
【０００３】
垂直磁気記録媒体の性能低下を招く要因の一つとして、磁気記録層の配向分散（配向のばらつき）の悪化が挙げられる。垂直記録媒体では磁気記録層の磁化容易軸を媒体面と垂直に配向させる必要があるが、単に配向していれば良いというわけではない。磁気記録層の配向分散が大きくなると、垂直方向の磁束の低下から信号出力が低下する。また、隣接するビットから斜め方向にもれる磁束が増加するため、ノイズが増加する。つまり、磁気記録層の配向分散の増大は、媒体の信号出力とノイズの比であるＳ／Ｎの低下を招くことになる。したがって、垂直磁気記録媒体の性能向上を実現するためには、磁気記録層の配向分散をできる限り小さくする必要がある。
【０００４】
また、垂直磁気記録媒体の性能低下を招く他の要因として、磁気記録層の初期成長層の発生が挙げられる。従来の垂直磁気記録媒体における磁気記録層には、面内方向にも磁化成分を持つ数ｎｍ程度の厚さの初期成長層が存在し、これがノイズの原因となっていた。さらに、記録の観点からは、磁気記録層の膜厚は薄い方が望ましいが、初期成長層が存在する場合には、膜厚を下げると相対的に初期層の占める割合が大きくなりＳ／Ｎが低下してしまうため、磁気記録層の薄膜化の障害となっていた。したがって、垂直磁気記録媒体の性能向上を実現するためには、磁気記録層の配向分散の低減に加えて、磁気記録層における初期成長層を低減する必要がある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の課題は、垂直磁気記録媒体における磁気記録層の配向性を改善し、さらに磁気記録層における初期成長層を低減することにより、高出力化および低ノイズ化といった媒体性能の向上を実現することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
磁気記録層の配向分散を低減し、初期成長層の厚さを可能な限りゼロに近づけるためには、下地層の役割が重要となる。その理由は、（１）配向性が良好な下地層を選ぶことで磁気記録層の配向が改善され、（２）下地層と磁気記録層との格子定数のマッチングを良くすることで、下地層と磁気記録層との界面の接合が良好になり、磁気記録層における初期成長層が低減されるからである。
【０００７】
磁気記録媒体の下地層として、一般にＴｉまたはＴｉＣｒなどのＴｉ系合金が用いられている。Ｔｉ系合金はｈｃｐ（六方細密充填）構造を有し、磁気記録層としてしばしば用いられるＣｏ系合金と同じ結晶構造となるため、格子定数のマッチングが比較的良い。しかし、Ｔｉ系合金は、基板表面に吸着したＯ２やＨ２Ｏと反応して容易に酸化物を生成する。そのため、膜成長の初期にアモルファス層を生じて配向が悪化し、その影響で磁気記録層の配向が悪化するという傾向がある。また、Ｔｉ系合金は磁気記録層と相互拡散し易く、磁気記録層に配向の悪い初期成長層を生じる傾向がある。
【０００８】
本発明者らは、上述の状況に鑑み鋭意検討を繰り返し、軟磁性パーマロイ系材料を下地層として用いることで、磁気記録層の配向性の改善、磁気記録層における初期成長層の低減を達成できることを見出した。また、非磁性中間層を組み合わせることにより、磁気特性のさらなる向上を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００９】
本発明にもとづく垂直磁気記録媒体は、非磁性基体上に軟磁性裏打ち層、下地層、中間層、磁気記録層、保護膜、液体潤滑層を順次有し、前記下地層が軟磁性であり、前記中間層が非磁性であることを特徴とする。ここで、前記下地層は、軟磁性パーマロイ系材料、好ましくは軟磁性を有するＮｉＦｅ、ＮｉＦｅＣｒ、ＮｉＦｅＭｏまたはＮｉＦｅＮｂを含むことが望ましい。また、前記軟磁性パーマロイ系材料の結晶構造がｆｃｃ（面心立方格子）であることが好ましい。さらに、前記中間層が、非磁性のＣｏＣｒ，ＣｏＣｒＢ，ＲｕおよびＰｄからなる群から選択される非磁性材料を含むことができる。また、前記磁気記録層を構成する材料は、六方細密充填構造のｃ軸が膜面に対して垂直方向に配向しており、好ましくは少なくともＣｏとＣｒとを含む合金を用いて前記磁気記録層を構成することができる。さらに、前記軟磁性裏打ち層は、結晶性のＮｉＦｅ合金またはセンダスト（ＦｅＳｉＡｌ）合金、あるいは、非晶質のＣｏ合金を用いて形成することができる。この構成において、前記下地層は、磁気記録層の配向性を改善する下地層の機能と、軟磁性裏打ち層の機能とを兼ね得る。
【発明の効果】
【００１０】
以上の構成を採る本発明によれば、配向性および接合性に優れた軟磁性パーマロイ系材料を下地層として用いるため、磁気記録層に存在する配向および磁気特性の悪い初期成長層が低減されるとともに、磁気記録層の磁化容易軸の配向分散が低減される。その結果、低ノイズ化を実現できる高性能の垂直磁気記録媒体を提供することが可能となる。また、磁気記録層における初期成長層が低減され、かつ容易軸の配向分散が低減されることにより、結晶磁気異方性が向上する。その結果、磁気記録層の熱安定性が向上し、媒体の信頼性が向上する。さらに、軟磁性パーマロイ系材料を下地層として用いた場合には、非磁性層を中間層のみにすることで磁気特性の劣化を改善することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
本発明の参考の態様は、非磁性ＮｉＦｅＣｒを含む下地層を有する垂直磁気記録媒体に関する。すなわち、参考の態様にもとづく垂直磁気記録媒体は、非磁性基体と、該非磁性基体の上に順次設けられる下地層、磁気記録層、保護膜、液体潤滑層とを有し、下地層が非磁性ＮｉＦｅＣｒを含むことを特徴とする。非磁性ＮｉＦｅＣｒは、配向性に優れ、かつ磁気記録層との接合性に優れている。そのため、非磁性ＮｉＦｅＣｒを下地層として用いることにより、磁気記録層の配向性および初期成長層の発生が著しく改善される。
【００１２】
上述のように構成される垂直磁気記録媒体は、単層媒体または二層媒体のいずれであってもよく、中間層、シード層、軟磁性裏打ち層などを適宜組み合わせてもよい。
【００１３】
以下、図を参照しながら、本発明の参考の態様をさらに具体的に説明する。
【００１４】
図１は、本発明の参考の態様にもとづいて構成される単層垂直磁気記録媒体の一例を模式的に示す側面断面図である。図に示したように、単層垂直磁気記録媒体は、非磁性基体１と、基体１の上に設けられたＮｉＦｅＣｒ下地層２と、下地層２の上に設けられた磁気記録層３と、磁気記録層３の上に設けられた保護膜４と、保護膜４の上に設けられた液体潤滑剤層５とから構成される。
【００１５】
非磁性基体１は、通常の磁気記録媒体に用いられる、表面が平滑である様々な基体であってよい。例えば、ＮｉＰメッキを施したＡｌ合金、化学強化ガラス、または結晶化ガラスなどが挙げられる。
【００１６】
下地層２は、非磁性ＮｉＦｅＣｒを用いて形成される。本発明で使用される「非磁性ＮｉＦｅＣｒ」は非磁性のＮｉ基合金を意味し、非磁性かつ結晶構造がｆｃｃ（面心立方格子）となるように選択されたＮｉ、Ｆｅ、Ｃｒの配合比を有するものである。例えば、Ｎｉ１５Ｆｅ２５Ｇｒ、Ｎｉ１８Ｆｅ２５Ｃｒ、Ｎｉ１５Ｆｅ３０Ｃｒなどが挙げられる。しかし、これらに限定されるものではない。概して非磁性ＮｉＦｅＣｒは、配向性に優れ、磁気記録層との接合性に優れた良好な下地層となる。
【００１７】
磁気記録層３は、少なくともＣｏとＣｒとを含む合金の強磁性材料が好適に用いられる。例えば、ＣｏＣｒＰｔ、ＣｏＣｒＴａ、ＣｏＣｒＰｔＢ、ＣｏＣｒＰｔＮｂ、ＣｏＣｒＰｔＴａなどが挙げられる。しかし、これらに限定されるものではない。但し、垂直磁気記録媒体の磁気記録層を構成する材料は、その六方細密充填構造のｃ軸が膜面に対して垂直方向に配向していなければならない。
【００１８】
必要に応じて、非磁性基体１と下地層２との間に、ＴｉまたはＴａから形成されるシード層を設けてもよい。シード層を設けることで、基体表面に吸着したＯ２やＨ２Ｏを取り除くゲッタとなり、かつ配向性悪化の一因となる基体表面の凹凸を低減することが可能となる。下地層の配向性、および基体表面の凹凸低減の観点から、ＴｉまたはＴａのシード層が、基体表面に吸着したＯ２やＨ２Ｏと反応してアモルファス層となることが好ましい。適切なアモルファス層を形成するために、シード層の膜厚は１０ｎｍ以下にしなければならない。１０ｎｍ以下の膜厚であれば、吸着元素と反応してアモルファスになり易いためである。シード層の膜厚が１０ｎｍを超えると、シード層の上層部に結晶質の層を生じ易くなり、下地層の配向悪化や結晶粒径の増大につながる可能性がある。
【００１９】
また、必要に応じて、下地層２と磁気記録層３との間に非磁性の中間層を設けてもよい。中間層を設けることで、磁気記録層の配向性をさらに改善し、磁気記録層の初期成長層を低減することが可能となる。その結果、磁気特性をさらに向上させることが可能となる。中間層に用いられる非磁性材料としては、特に限定されるものではないが、磁気記録層３の結晶格子とのマッチングが良いＣｏＣｒ，ＣｏＣｒＢ，Ｒｕ，Ｐｄなどが挙げられる。
【００２０】
保護膜４は、例えばカーボンを主体とする薄膜から形成される。その他、磁気記録媒体の保護膜として一般的に用いられる様々な薄膜材料を使用してもよい。
【００２１】
液体潤滑層５は、例えばパーフルオロポリエーテル系の潤滑剤を用いて形成することができる。その他、磁気記録媒体の液体潤滑層材料として一般的に用いられる様々な潤滑剤を使用してもよい。
【００２２】
非磁性基板の上に積層される各層は、磁気記録媒体の分野で通常用いられる様々な成膜技術によって形成することが可能である。液体潤滑層を除く各層の形成には、例えばＤＣ（直流）マグネトロンスパッタリング法を用いることができる。また、液体潤滑層の形成には、例えばディップ法を用いることができる。しかし、これらに限定されるものではない。
【００２３】
図２は、本発明の参考の態様にもとづいて構成される二層垂直磁気記録媒体の一例を模式的に示す側面断面図である。図に示したように、二層垂直磁気記録媒体は、非磁性基体１と、非磁性基体１の上に設けられた軟磁性裏打ち層６と、該軟磁性裏打ち層６の上に設けられたＮｉＦｅＣｒ下地層２と、該下地層２の上に設けられた磁気記録層３と、該磁気記録層３の上に設けられた保護膜４と、該保護膜４の上に設けられた液体潤滑層５とから構成される。すなわち、非磁性基体１と下地層２との間に軟磁性裏打ち層６を設けたことを除き、先に図１にもとづいて説明した単層垂直磁気記録媒体と同様にして構成される。
【００２４】
軟磁性裏打ち層６には、結晶性のＮｉＦｅ合金またはセンダスト（ＦｅＳｉＡｌ）合金など、あるいは非晶質のＣｏ合金であるＣｏＺｒＮｂなどを用いて形成することができる。軟磁性裏打ち層６を設けることで、磁気記録層への記録に用いられる磁気ヘッドが発生する磁束を集中させることができ、その結果、媒体の磁気特性をさらに向上させることが可能となる。軟磁性裏打ち層６が十分に機能するためには、ある程度の膜厚を有する必要がある。軟磁性裏打ち層６の膜厚は、記録に使用する磁気ヘッドの構造や特性によって最適値が変化するが、生産性との兼ね合いから、概ね１０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内であることが好ましい。
【００２５】
非磁性基体１、下地層２、磁気記録層３、保護膜４、液体潤滑層５を形成する各々の材料は先に説明した単層媒体の場合と同様である。また、それぞれの成膜方法も先に説明した単層媒体の場合と同様である。
【００２６】
二層媒体の磁気特性をさらに向上させるために、必要に応じて、下地層２と磁気記録層との間に中間層を設けてもよい。中間層を設けることで、磁気記録層の配向性をさらに改善し、磁気記録層の初期成長層を低減することが可能となる。中間層を形成する好ましい非磁性材料としては、特に限定されるものではないが、磁気記録層３の結晶格子とのマッチングが良いＣｏＣｒ，ＣｏＣｒＢ，Ｒｕ，Ｐｄなどが挙げられる。しかし、二層垂直磁気記録媒体の場合、軟磁性裏打ち層と磁気記録媒体層との距離が離れると（すなわち、下地層および中間層が相当する非磁性層の膜厚が大きくなると）磁気特性の低下を招いてしまう。そのため、非磁性層が非磁性ＮｉＦｅＣｒ層と非磁性中間層とから構成される場合、それらの膜厚ができるだけ薄くなるようにしなければならない。
【００２７】
本発明は、軟磁性パーマロイ系材料を含む下地層を有する垂直磁気記録媒体に関する。図３は、本発明にもとづいて構成される二層垂直磁気記録媒体の一例を模式的に示す側面断面図である。
【００２８】
図３に示したように、垂直磁気記録媒体は、非磁性基体１と、該非磁性基体１の上に順次設けられる軟磁性裏打ち層６、下地層２、中間層７、磁気記録層３、保護膜４、液体潤滑層５とを有する。なお、下地層２は軟磁性を有するパーマロイ（ＮｉＦｅ）、Ｃｒパーマロイ（ＮｉＦｅＣｒ）、Ｍｏパーマロイ（ＮｉＦｅＭｏ）、ハードパーム（ＮｉＦｅＮｂ）からなる群から選択される軟磁性パーマロイ系材料を含むことを特徴とする。
【００２９】
上述のように構成される媒体では下地層２が軟磁性であるために、非磁性材料からなる中間層７が必須となる。中間層７に用いられる非磁性材料としては、特に限定されるものではないが、磁気記録層３の結晶格子とのマッチングが良いＣｏＣｒ，ＣｏＣｒＢ，Ｒｕ，Ｐｄなどが挙げられる。その他、非磁性基体１、下地層２、磁気記録層３、保護膜４、液体潤滑層５および軟磁性裏打ち層６を形成する各々の材料および成膜方法は先に説明したとおりである。
【００３０】
本発明において下地層２として用いる軟磁性パーマロイ系材料は、非磁性ＮｉＦｅＣｒと同じ結晶構造を有する。したがって、磁気記録層の配向性を改善する良好な下地層の機能と、軟磁性裏打ち層の機能とを兼ね得る。しかし、軟磁性パーマロイ系材料のみを用いて軟磁性裏打ち層を形成しようとすると、膜厚を十分に厚くする必要があるため磁気特性の劣化が生じる。そこで、上述のように通常の軟磁性裏打ち層の上に軟磁性パーマロイ系材料を下地層として設け、非磁性層を中間層のみにすることで、軟磁性裏打ち層と磁気記録層との間隔を広げることなく二層媒体を形成することが可能となる。すなわち、中間層を設けた場合であっても、非磁性層の厚さを増加することなく二層媒体を構成することが可能となる。その結果、中間層を設けることによる非磁性層の厚さの増大を改善し、磁気特性の劣化を防止することが可能となる。以上説明したように、軟磁性パーマロイ系材料を用いた場合も、上述の特定の構造を採用することにより、非磁性ＮｉＦｅＣｒを下地層とした場合と同様に磁気記録層の配向性および初期成長層の発生を著しく改善することが可能となる。
【実施例】
【００３１】
以下、本発明にもとづく垂直磁気記録媒体について実施例により詳細に説明するが、本発明はそれらに限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能であることは言うまでもない。
【００３２】
なお、各実施例では、得られた磁気記録媒体の磁気特性を評価するために主に以下に説明するような方法を用いた。
【００３３】
（トルク測定法）
トルク測定法は、試料の磁気異方性を求めるものである。図４は、トルク測定に用いる磁気トルクメータ装置の概略を示す模式図である。図４に示したように、試料を弾性糸で吊し強い磁界で飽和磁化させると、試料の磁化容易軸が磁化の方向に回転する。その回転が釣り合った角度から試料の磁気異方性を求めることが可能となる。なお、トルク測定の詳細については、大田恵造著「磁気工学の基礎ＩＩ」（共立出版）の２３１頁を参照されたい。
【００３４】
（ロッキングカーブ法）
ロッキングカーブ法は、Ｘ線回折の測定法の１つであり、ある特定の結晶面の分散角を測定するものである。測定は、検出角（２θ）を固定して入射角θを変化させることにより行う。図５はロッキングカーブ法を示す概念図である。測定した結晶面に分散が全くない場合（理想的）には、回折線は１本の線になる。これに対して、結晶面がある程度の分散性を有する場合（通常多くの場合）には、ピークを持つカーブとなる。このとき、ピーク強度の半分の値となるところの幅を配向分散（Δθ５０）と呼び、配向のばらつきの目安とすることができる。
【００３５】
（参考例１）  
本参考例は、非磁性基体と、該基体の上に順次設けられるＮｉＦｅＣｒ下地層、磁気記録層、保護膜、液体潤滑剤層とを有する単層垂直磁気記録媒体に関する。媒体は以下のようにして作製した。
【００３６】
先ず、非磁性基体として表面が平滑な化学強化ガラス基板（例えばＨＯＹＡ社製Ｎ−１０ガラス基板）を洗浄した。洗浄したガラス基板をスパッタ装置内に導入し、非磁性のＮｉ基合金であるＮｉ１５Ｆｅ２５Ｃｒターゲットを用いてＮｉＦｅＣｒ下地層を５ｎｍ成膜した。引き続き、ＮｉＦｅＣｒ下地層の表面温度が３００℃になるようにランプヒータを用いて加熱を行なった後、Ｃｏ２０Ｃｒ１０Ｐｔターゲットを用いてＣｏＣｒＰｔ磁気記録層３０ｎｍを成膜した。最後にカーボンターゲットを用いてカーボンからなる保護膜１０ｎｍを成膜した。なお、ヒータ加熱を除く上述の全ての成膜は、ＤＣマグネトロンスパッタリング法にしたがい、Ａｒガス圧５ｍＴｏｒｒ下で実施した。このように順次成膜して得られた積層体を真空装置から取り出し、保護膜上にパーフルオロポリエーテルからなる液体潤滑剤層２ｎｍをディップ法で形成することにより、単層垂直磁気記録媒体を得た。
【００３７】
次に、上述のようにして作製した単層垂直磁気記録媒体の特性について様々な評価を実施した。なお、評価の比較対照として、ＮｉＦｅＣｒの代わりにＴｉＣｒを用いて下地層を成膜したこと以外、本参考例の媒体と同様にして作製した単層垂直磁気記録媒体についても検討した。
【００３８】
最初に、各媒体の磁気特性についてＶＳＭ（振動試料磁力計）により評価したところ、ＮｉＦｅＣｒ下地層を有する媒体（本参考例）およびＴｉＣｒ下地層を有する媒体（比較対照）のそれぞれの保磁力、角型比はほぼ同等であった。
【００３９】
次に、各媒体における磁気記録層の初期成長層についてＴＥＭ（透過電子顕微鏡）により観察した。図６はＮｉＦｅＣｒ下地層を有する媒体（本参考例）の断面ＴＥＭ像であり、（ａ）は全体像、（ｂ）は磁気記録層の周辺部を拡大した像である。図７はＴｉＣｒ下地層を有する媒体（比較対照）の断面ＴＥＭ像であり、（ａ）は全体像、（ｂ）は磁気記録層の周辺部を拡大した像である。図７に示す比較対照では、磁気記録層と下地層との界面に、格子像の見えないアモルファスの層が存在している。これが磁気記録層の初期成長層であり、ノイズの原因となる。一方、図６に示す本参考例の媒体では、下地層と磁気記録層との界面においても格子像が観察され、アモルファス層が存在しないことが明らかとなった。
【００４０】
次に、各媒体のトルク測定を実施し、磁気異方性定数Ｋｕの値を比較した。トルク測定の結果、比較対照の媒体のＫｕは１．１４×１０６［ｅｒｇ／ｃｃ］であるのに対し、本発明の媒体のＫｕは１．３５×１０６［ｅｒｇ／ｃｃ］であり、Ｋｕが向上した。これは、ＮｉＦｅＣｒ下地層を用いることにより、磁気記録層の初期成長層に通常存在するアモルファス層をなくすことができたことに起因すると考えられる。
【００４１】
（参考例２）  
本参考例は、非磁性基体とＮｉＦｅＣｒ下地層との間にシード層を設けたことを除き、参考例１と同様に構成される単層垂直磁気記録媒体に関する。すなわち、本参考例の単層垂直磁気記録媒体は、非磁性基体と、該基体の上に順次設けられるシード層、ＮｉＦｅＣｒ下地層、磁気記録層、保護膜、液体潤滑剤層とを有する。媒体は、以下のようにして作製した。
【００４２】
先ず、非磁性基体として表面が平滑な化学強化ガラス基板（例えばＨＯＹＡ社製Ｎ−１０ガラス基板）を洗浄した。洗浄したガラス基板をスパッタ装置内に導入し、Ｔａターゲットを用いてＴａシード層を５ｎｍ成膜した。シード層を成膜した後は、参考例１と全く同様にして、ＮｉＦｅＣｒ下地層、ＣｏＣｒＰｔ磁気記録層、カーボン保護膜を順次成膜した。次いで、参考例１と同様にして、保護膜上にパーフルオロエーテルからなる液体潤滑剤層２ｎｍを形成することにより単層垂直磁気記録媒体を得た。
【００４３】
上述のようにして得られた媒体の磁気記録層の初期成長層についてＴＥＭにより観察した。その結果、図６に示した参考例１の媒体と同様に、磁気記録層にアモルファスの初期成長層が存在しないことが確認できた。
【００４４】
次に、媒体における磁気記録層の磁化容易軸の配向分散を測定した。測定は、Ｘ線回折装置を用いるロッキングカーブ法にしたがって実施した。なお、比較対照として参考例１に示した媒体（ＮｉＦｅＣｒ下地層の代わりにＴｉＣｒ下地層を有する媒体）についても測定した。測定の結果、ＴｉＣｒ下地層を有する媒体（比較対照）のロッキングカーブ半値幅が９°であるのに対し、ＮｉＦｅＣｒ下地層を有する媒体（本参考例）のロッキングカーブ半値幅は６°であり、配向分散が２／３に低減した。
【００４５】
以上のように、Ｔａシード層およびＮｉＦｅＣｒ下地層を用いることで、磁気記録層の初期成長層をなくし、磁気記録層の磁化容易軸の配向分散を低減することができた。
【００４６】
（参考例３）  
本参考例は、ＮｉＦｅＣｒ下地層と磁気記録媒体層との間に中間層を設けたことを除き、参考例２と同様に構成される単層垂直磁気記録媒体に関する。すなわち、単層垂直磁気記録媒体は、非磁性基体と、該基体の上に順次設けられるシード層、下地層、中間層、磁気記録層、保護膜、液体潤滑剤層とを有する。媒体は以下のようにして作製した。
【００４７】
先ず、参考例２と同様に非磁性基体となるガラス基板の上にＴａシード層を成膜し、次いで参考例１と同様にしてＮｉＦｅＣｒ下地層を成膜した。さらに、Ｒｕターゲットを用いて、Ｒｕ中間層を５ｎｍ成膜した。その後、参考例１と全く同様にして、ＣｏＣｒＰｔ磁気記録層、カーボン保護膜を順次成膜し、さらに保護膜上に液体潤滑剤層２ｎｍをディップ法により形成することにより、単層垂直磁気記録媒体を得た。また、磁気特性を比較するために、ＣｏＣｒＰｔ磁気記録層の膜厚をそれぞれ１０ｎｍ，１５ｎｍ，２０ｎｍ，５０ｎｍとすることを除き、上述と同様にして磁気記録層の膜厚が異なる様々な媒体を作製した。
【００４８】
次いで、上述のように得られたそれぞれの単層媒体の特性について検討した。先ず、各単層媒体の断面についてＴＥＭにより観察したところ、図６に示した参考例１の媒体と同様に、磁気記録層にアモルファスの初期成長層が存在しないことが確認された。
【００４９】
次に、様々な膜厚の磁気記録層を有する各単層媒体の保磁力をＶＳＭにより測定した。なお、比較対照として参考例１に示した媒体（ＮｉＦｅＣｒ下地層の代わりにＴｉＣｒ下地層を有する媒体）についても測定した。その結果を図８に示す。図８から明らかなように、本参考例の単層媒体では磁気記録層の初期成長層が改善されたことにより、比較対照の単層媒体と比較して、同じ磁気記録層膜厚における保磁力が増加した。さらに、本参考例にもとづく単層媒体では、磁気記録層膜厚が薄い場合にも比較的高い保磁力が得られた。
【００５０】
（参考例４）  
本参考例は、ＮｉＦｅＣｒ下地層を有する二層垂直磁気記録媒体に関する。本参考例にもとづく二層垂直磁気記録媒体は、非磁性基体と、該基体の上に順次設けられる軟磁性裏打ち層、ＮｉＦｅＣｒ下地層、磁気記録層、保護膜、液体潤滑剤層とを有する。媒体は、非磁性基体と下地層との間に軟磁性裏打ち層を設けることを除き、参考例１と同様に構成される。すなわち、以下のようにして作製した。
【００５１】
先ず、非磁性基体として表面が平滑な化学強化ガラス基板（例えばＨＯＹＡ社製Ｎ−１０ガラス基板）を洗浄した。洗浄したガラス基板をスパッタ装置内に導入し、Ｃｏ１０Ｚｒ５Ｎｂターゲットを用いてＣｏＺｒＮｂ非晶質軟磁性裏打ち層を２００ｎｍ成膜した。次に下地層として、非磁性のＮｉ基合金であるＮｉ１５Ｆｅ２５Ｃｒターゲットを用いてＮｉＦｅＣｒ下地層を５ｎｍ成膜した。引き続いてランプヒータを用いて基板表面温度が３００℃になるように加熱を行なった後、Ｃｏ２０Ｃｒ１０Ｐｔターゲットを用いてＣｏＣｒＰｔ磁気記録層３０ｎｍを成膜した。最後にカーボンターゲットを用いてカーボンからなる保護膜１０ｎｍを成膜した。なお、ヒータ加熱を除く上述の全て成膜は、ＤＣマグネトロンスパッタリング法にしたがい、Ａｒガス圧５ｍＴｏｒｒ下で実施した。このように順次成膜して得られた積層体を真空装置から取り出し、保護膜上に、パーフルオロポリエーテルからなる液体潤滑剤層２ｎｍをディップ法により形成することで、二層垂直磁気記録媒体を得た。
【００５２】
次に、上述のようにして得られた二層媒体における磁気記録層の磁気容易軸の配向分散を測定した。測定は、Ｘ線回折装置を用いるロッキングカーブ法にしたがって実施した。なお、比較対照としてＮｉＦｅＣｒ下地層の代わりにＴｉＣｒ下地層を有することを除き、本参考例と同様にして作製される二層媒体についても測定した。その結果、ＴｉＣｒ下地層を有する二層媒体（比較対照）のロッキングカーブ半値幅が６°であるのに対し、ＮｉＦｅＣｒ下地層を有する二層媒体（本参考例）のロッキングカーブ半値幅は４°であり、配向分散が２／３に低減した。
【００５３】
また、本参考例の二層媒体の断面をＴＥＭにより観察したところ、参考例１〜３の単層媒体と同様に、磁気記録層にアモルファスの初期成長層が存在しないことが確認された。
【００５４】
（実施例５）  
本実施例は、軟磁性パーマロイ系材料からなる下地層を有する二層垂直磁気記録媒体に関する。本実施例にもとづく二層垂直磁気記録媒体は、非磁性基板と、該基板の上に順次設けられる軟磁性裏打ち層、下地層、中間層、磁気記録層、保護膜、液体潤滑剤層とを有する。二層媒体は以下のようにして作製した。
【００５５】
まず、参考例４と同様に、非磁性基体として表面が平滑な化学強化ガラス基板上に、Ｃｏ１０Ｚｒ５Ｎｂターゲットを用いてＣｏＺｒＮｂ非晶質軟磁性裏打ち層を２００ｎｍ成膜した。次に下地層として、軟磁性Ｎｉ１４．５Ｆｅ４Ｎｂ１Ｍｏターゲットを用いてＮｉＦｅＮｂＭｏ下地層を５ｎｍ成膜した。引き続き、非磁性Ｃｏ４２Ｃｒターゲットを用いて、ＣｏＣｒ中間層を５ｎｍ成膜した。引き続いてランプヒータを用いて基板表面温度が３００℃になるように加熱を行なった後、Ｃｏ２０Ｃｒ１０Ｐｔターゲットを用いてＣｏＣｒＰｔ磁気記録層３０ｎｍを成膜した。最後にカーボンターゲットを用いてカーボンからなる保護膜１０ｎｍを成膜した。なお、ヒータ加熱を除く上述の全ての成膜は、ＤＣマグネトロンスパッタリング法にしたがい、Ａｒガス圧５ｍＴｏｒｒ下で実施した。このように順次成膜して得られた積層体を真空装置から取り出し、保護膜上に、パーフルオロポリエーテルからなる液体潤滑剤層２ｎｍをディップ法により形成することで、二層垂直磁気記録媒体を得た。
【００５６】
上述のようにして得られた二層媒体について記録密度を変化させ、それに伴うノイズスペクトルを測定した。測定には、ソニーテクロニクス社製のリード・ライトテスターを用いた。比較対照として、参考例４で作製した比較対照の二層媒体についても同様に測定を実施した。その結果を図９に示す。なお、本実施例の媒体は、ＴＥＭ観察により初期層が無いことを確認しており、またロッキングカーブ半値幅は４．２°であった。図９から明らかなように、本実施例における媒体では、磁気記録層の初期成長層が改善され、さらに磁化容易軸の配向分散が低減しているため、比較対照の二層媒体と比較してノイズを低減することができた。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】本発明の参考の態様にもとづく単層垂直磁気記録媒体の一例を模式的に示す側面断面図である。
【図２】本発明の参考の態様にもとづく二層垂直磁気記録媒体の一例を模式的に示す側面断面図である。
【図３】本発明にもとづく二層垂直磁気記録媒体の一例を模式的に示す側面断面図である。
【図４】トルク測定に用いる磁気トルクメータ装置の概略を示す模式図である。
【図５】ロッキングカーブ法を示す概念図である。
【図６】参考例１で作製されたＮｉＦｅＣｒ下地層を有する単層垂直磁気記録媒体（本発明）の断面を示すＴＥＭ像であり、（ａ）は全体像、（ｂ）は磁気記録媒体層の周辺を拡大した像である。
【図７】参考例１で作製されたＴｉＣｒ下地層を有する単層垂直磁気記録媒体（比較対照）の断面を示すＴＥＭ像であり、（ａ）は全体像、（ｂ）は磁気記録媒体層の周辺を拡大した像である。
【図８】参考例３で作製された様々な膜厚の磁気記録層を有する媒体の保磁力の変化を示すグラフである。
【図９】実施例５で作製された二層垂直磁気記録媒体のノイズスペクトルを示すグラフである。
【符号の説明】
【００５８】
１  非磁性基体
２  下地層
３  磁気記録層
４  保護膜
５  液体潤滑層
６  軟磁性裏打ち層
７  中間層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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