Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月8日(2009.9.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体側から順に、正の第１レンズ群、負の第２レンズ群、正の第３レンズ群、正の第４レンズ群を有し、広角から望遠への変倍に際して、第２レンズ群は広角端よりも望遠端の方が撮像面側に位置するように移動し、第３レンズ群は移動する変倍光学系において、第２レンズ群の最も物体側には負の屈折力を有するレンズ成分Ｌ21を有し、その負の屈折力を有するレンズ成分Ｌ21が以下の条件式を満足することを特徴とする変倍光学系。
−１．０＜（Ｒ21f ＋Ｒ21r ）／（Ｒ21f −Ｒ21r ）＜０．１      ・・・（１）
１．５＜ＦＬ21／Ｆ2 ＜６．０                                  ・・・（２）
ただし、Ｒ21f ：負の屈折力を有するレンズ成分Ｌ21の物体側の近軸曲率半径、
Ｒ21r ：負の屈折力を有するレンズ成分Ｌ21の撮像面側の近軸曲率半径、
Ｆ2 ：第２レンズ群全体の焦点距離、
ＦＬ21：負の屈折力を有するレンズ成分Ｌ21の焦点距離、
である。
【請求項２】
物体側から順に、正の第１レンズ群、負の第２レンズ群、正の第３レンズ群、正の第４レンズ群を有し、広角から望遠への変倍に際して、第２レンズ群は広角端よりも望遠端の方が撮像面側に位置するように移動し、第３レンズ群は移動する変倍光学系において、第２レンズ群の最も物体側には負の屈折力を有するレンズ成分Ｌ21を有し、以下の条件式を満足することを特徴とする変倍光学系。
０．５５＜ＩＨ／Ｆw                                           ・・・（３）
０．３＜Ｆ1 ／Ｆt ＜０．６２                                  ・・・（４）
−３．８≦Ｆ1 ／Ｆ2 ＜−２．０                                ・・・（５）
ただし、ＩＨ：撮像面の対角線寸法の１／２、
Ｆw ：広角端での全系の焦点距離、
Ｆt ：望遠端での全系の焦点距離、
Ｆ1 ：第１レンズ群全体の焦点距離、
Ｆ2 ：第２レンズ群全体の焦点距離、
である。
【請求項３】
前記負の屈折力を有するレンズ成分Ｌ21は、少なくとも何れか片方の面の硝材表面、又は、薄い樹脂を貼り付けた表面が非球面加工されていることを特徴とする請求項１又は２記載の変倍光学系。
【請求項４】
前記負の第２レンズ群は、物体側から順に、負の屈折力を有するレンズ成分Ｌ21、負の屈折力を有するレンズ成分Ｌ22、正の屈折力を有するレンズ成分Ｌ23から構成されていることを特徴とする請求項１から３の何れか１項記載の変倍光学系。
【請求項５】
前記負の屈折力を有するレンズ成分Ｌ21と前記負の屈折力を有するレンズ成分Ｌ22は以下の条件式を満足することを特徴とする請求項４記載の変倍光学系。
１．８＜ＦＬ21／ＦＬ22＜３．０                                ・・・（６）
ただし、ＦＬ21：負の屈折力を有するレンズ成分Ｌ21の焦点距離、
ＦＬ22：負の屈折力を有するレンズ成分Ｌ22の焦点距離、
である。
【請求項６】
前記第３レンズ群は、開口絞りと一体で移動することを特徴とする請求項１から５の何れか１項記載の変倍光学系。
【請求項７】
物体側から順に、正の第１レンズ群、負の第２レンズ群、正の第３レンズ群、正の第４レンズ群を有し、広角から望遠への変倍に際して、第１レンズ群は広角端より望遠端においてより物体側に位置するように移動し、第２レンズ群は望遠端において広角端よりも撮像面側に位置するように移動し、第３レンズ群は移動する変倍光学系において、第２レンズ群は、物体側から順に、負の屈折力を有するレンズ成分Ｌ21、負の屈折力を有するレンズ成分Ｌ22、正の屈折力を有するレンズ成分Ｌ23からなり、レンズ成分Ｌ21とレンズ成分Ｌ22が以下の条件式を満足することを特徴とする変倍光学系。
１．８＜ＦＬ21／ＦＬ22＜６．０                              ・・・（６）’
ただし、ＦＬ21：負の屈折力を有するレンズ成分Ｌ21の焦点距離、
ＦＬ22：負の屈折力を有するレンズ成分Ｌ22の焦点距離、
である。
【請求項８】
前記負の屈折力を有するレンズ成分Ｌ21は以下の条件式を満足することを特徴とする請求項７記載の変倍光学系。
−１．０＜（Ｒ21f ＋Ｒ21r ）／（Ｒ21f −Ｒ21r ）＜０．１      ・・・（１）
ただし、Ｒ21f ：負の屈折力を有するレンズ成分Ｌ21の物体側の近軸曲率半径、
Ｒ21r ：負の屈折力を有するレンズ成分Ｌ21の撮像面側の近軸曲率半径、
Ｆ2 ：第２レンズ群全体の焦点距離、
ＦＬ21：負の屈折力を有するレンズ成分Ｌ21の焦点距離、
である。
【請求項９】
前記負の屈折力を有するレンズ成分Ｌ21は、少なくとも物体側の面に非球面を有することを特徴とする請求項７又は８記載の変倍光学系。
【請求項１０】
正の第４レンズ群でフォーカシングを行い、以下の条件式を満足することを特徴とする請求項１から９の何れか１項記載の変倍光学系。
０．６＜ＭＧt4＜０．８５                                      ・・・（７）
ただし、ＭＧt4：望遠端における第４レンズ群の横倍率、
である。
【請求項１１】
前記正の第４レンズ群は、プラスチック材料からなる非球面を有する単レンズで構成されることを特徴とする請求項１０記載の変倍光学系。
【請求項１２】
前記第２レンズ群の最も物体側に配置される負の屈折力を有するレンズ成分Ｌ21は、プラスチック材料で形成され、非球面を有することを特徴とする請求項１から１１の何れか１項記載の変倍光学系。
【請求項１３】
前記第２レンズ群の正の屈折力を有するレンズ成分Ｌ23は、以下の条件式を満足することを特徴とする請求項４から１２の何れか１項記載の変倍光学系。
−１．２＜（Ｒ23f ＋Ｒ23r ）／（Ｒ23f −Ｒ23r ）＜０          ・・・（８）
ただし、Ｒ23f ：正の屈折力を有するレンズ成分Ｌ23の物体側の近軸曲率半径、
Ｒ23r ：正の屈折力を有するレンズ成分Ｌ23の撮像面側の近軸曲率半径、
である。
【請求項１４】
請求項１から１３の何れか１項記載の変倍光学系と、その変倍光学系の像側に配され、光学像を電気信号に変換する撮像素子とを備えたことを特徴とする撮像装置。
【請求項１５】
前記変倍光学系と前記撮像素子との間にローパスフィルターを配置したことを特徴とする請求項１４記載の撮像装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月5日(2009.10.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
図３は第１の実施の形態のスキャンドライバＩＣの動作を示すタイミングチャートである。出力Ｄｏｉ（ｉ＝１〜Ｎ）がＬレベルのとき、ＰＤＰの対応する行が選択される。また、図４は第１の実施の形態のスキャンドライバＩＣにおける出力波形を示す図である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
このように、第１の実施の形態のスキャンドライバＩＣは、プルアップ用スイッチ素子Ｎｕを各ビットで共用し、各ビットの出力を立ち上げるときに当該プルアップ用スイッチ素子を短時間（２００ｎｓ）オンし、出力が立ち上がると抵抗素子Ｒ１〜ＲＮによりＨレベルの出力を維持するので、高速のスキャン動作が可能で、チップサイズを小さくすることができ、低コスト化を図ることができるとともに、カップリングの問題もないという利点がある。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月18日(2009.9.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）一対の透明電極付き透明基板を準備する工程と、
（ｂ）前記透明基板の各々の前記透明電極側に、インクジェット法により機能性材料膜を形成する工程と、
（ｃ）前記機能性材料膜を形成した前記一対の透明基板を間隙をもって貼り合せ、該間隙に液晶を注入する工程と
を含む液晶表示装置の製造方法であって、
前記工程（ｂ）は、
（ｂ−１）前記機能性材料膜を形成する領域の外周部分に、相対的にインクジェットの吐出割合を低くした機能性材料を塗布して線状の輪郭部を形成する工程と、
（ｂ−２）前記輪郭部の内側に、相対的にインクジェットの吐出割合を高くした前記機能性材料を塗布して膜パターンを形成する工程と
を含み、
前記機能性材料膜は配向膜であり、前記輪郭部の幅が０．０８ｍｍ〜１．０ｍｍである液晶表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記機能性材料膜は絶縁膜である請求項１記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３】
前記インクジェットの単位吐出量が４ｐｌ〜４０ｐｌである請求項１または２記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項４】
間に液晶を挟み込んだ一対の透明電極付き透明基板と、
前記透明基板の各々の前記透明電極側に形成された機能性材料膜と
を有する液晶表示装置であって、
前記機能性材料膜が、膜厚の比較的薄い輪郭部と、膜厚の比較的厚い内部パターンとを有し、該輪郭部と該内部パターンとが同一材料からなり、前期機能性材料膜は配向膜であり、前記輪郭部の幅が０．０８ｍｍ〜１．０ｍｍである液晶表示装置。
【請求項５】
前記機能性材料膜は絶縁膜である請求項４記載の液晶表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の一観点によれば、（ａ）一対の透明電極付き透明基板を準備する工程と、（ｂ）前記透明基板の各々の前記透明電極側に、インクジェット法により機能性材料膜を形成する工程と、（ｃ）前記機能性材料膜を形成した前記一対の透明基板を間隙をもって貼り合せ、該間隙に液晶を注入する工程とを含む液晶表示装置の製造方法であって、前記工程（ｂ）は、（ｂ−１）前記機能性材料膜を形成する領域の外周部分に、相対的にインクジェットの吐出割合を低くした該機能性材料を塗布して線状の輪郭部を形成する工程と、（ｂ−２）前記輪郭部の内側に、相対的にインクジェットの吐出割合を高くした前記機能性材料を塗布して膜パターンを形成する工程とを含み、前記機能性材料膜は配向膜であり、前記輪郭部の幅が０．０８ｍｍ〜１．０ｍｍである液晶表示装置の製造方法が提供される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の他の観点によれば、間に液晶を挟み込んだ一対の透明電極付き透明基板と、前記透明基板の各々の前記透明電極側に形成された機能性材料膜とを有する液晶表示装置であって、前記機能性材料膜が、膜厚の比較的薄い輪郭部と、膜厚の比較的厚い内部パターンとを有し、該輪郭部と該内部パターンとが同一材料からなり、前記機能性材料膜は配向膜であり、前記輪郭部の幅が０．０８ｍｍ〜１．０ｍｍである液晶表示装置が提供される。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月8日(2009.9.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮像光学系によって集光した被写体からの光を撮像する撮像素子を複数個有し、複数の前記撮像素子で同じ被写体を略同時に撮像し、視差のある画像の対を得る複眼撮像装置において、
前記撮像光学系と前記撮像素子とをそれぞれ１つずつ有するとともに、直方体に形成され、その一面を前面として、前記前面の中心に対して偏心させて前記撮像光学系の対物レンズが配置された複数の撮像ユニットと、
前記撮像ユニットが複数個同時に着脱自在に、撮像する被写体までの距離に応じて位置及び向きを調節して接続されるカメラ本体と
を備えることを特徴とする複眼撮像装置。
【請求項２】
前記撮像光学系は、被写体からの光を屈曲させて前記撮像素子へ導く屈曲光学系であることを特徴とする請求項１記載の複眼撮像装置。
【請求項３】
前記直方体の前面は長辺が短辺の２倍に形成された長方形であり、前記長方形の４隅の一つに接近させて前記撮像光学系の対物レンズを配置することを特徴とする請求項１または２記載の複眼撮像装置。
【請求項４】
前記複数の撮像ユニットの側面同士を合わせて接触させ且つ各前面が面一になるように組み合わせたときに、前記側面による接触面に対して対称位置に前記対物レンズが配置される第１及び第２の撮像ユニットを備えることを特徴とする請求項１ないし３いずれかに記載の複眼撮像装置。
【請求項５】
前記カメラ本体は、前記複数個の撮像ユニットを縦姿勢及び横姿勢で収納可能な収納凹部と、前記収納凹部にセットされた前記撮像ユニットに接続し、各々の前記撮像ユニットにより撮像を行い、画像データを取得するユニット制御部とを有し、
前記収納凹部は、前記直方体の適数倍の短辺及び長辺を有する長方形の取付面を有することを特徴とする請求項１ないし４いずれかに記載の複眼撮像装置。
【請求項６】
前記撮像ユニットの前面とは反対側の背面には第１の接続部を有し、
前記収納凹部の取付面には、前記撮像ユニットの各取付位置での取り付けに対応して前記第１の接続部に対面する位置に第２の接続部を有し、
前記第２の接続部への前記第１の接続部の接続状態に応じて、前記撮像ユニットの取り付け位置と、前記縦姿勢または横姿勢の何れかの取り付け姿勢とを検出することを特徴とする請求項５記載の複眼撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
撮像光学系によって集光した被写体からの光を撮像する撮像素子を複数個有し、複数の前記撮像素子で同じ被写体を略同時に撮像し、視差のある画像の対を得る複眼撮像装置において、前記撮像光学系と前記撮像素子とをそれぞれ１つずつ有するとともに、直方体に形成され、その一面を前面として、前記前面の中心に対して偏心させて前記撮像光学系の対物レンズが配置された複数の撮像ユニットと、前記撮像ユニットが複数個同時に着脱自在に、撮像する被写体までの距離に応じて位置及び向きを調節して接続されるカメラ本体とを備えることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
ケース１４内で左側に撮像光学系２１が配置され、右側に光学系駆動部２２が配置されることにより、撮像光学系２１の対物レンズ２６はケース１４の前面１６ａの中心に対して左側に偏心して配置される。また、撮像光学系２１の対物レンズ２６はケース１４内の上部に配置されるため、ケース１４の前面の中心に対して上側に対物レンズ２６は偏心して配置される。これらの偏心配置によって、前述のように対物レンズ２６はケース１４の前面に対して左上隅部に配置されることになる。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月18日(2009.9.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向配置される一対の基板と、
両基板上に設けられ、垂直配向液晶層を挟んで互いに重なり合って表示領域を形成する一対の透明電極と、
前記一対の透明電極の各々に行列状に設けられたスリットと
を有し、
前記スリットは、行方向に対する角度が異なる第１、第２の種類のスリットを含み、
ある行では該第１の種類のスリットが行方向に並ぶと共に、列方向に隣接する行においては該第２の種類のスリットが行方向に並び、
一方の透明電極における第１の種類のスリットと、他方の透明電極における第１の種類のスリットとが前記列方向に交互に配置されて第１のスリット列を構成し、
一方の透明電極における第２の種類のスリットと、他方の透明電極における第２の種類のスリットとが前記列方向に交互に配置されて第２のスリット列を構成し、
前記第１のスリット列と前記第２のスリット列とが前記行方向に交互に配置されると共に、該第１のスリット列のスリット周期と該第２のスリット列のスリット周期とが半周期ずれている液晶表示素子。
【請求項２】
前記行方向および列方向は、前記表示領域における視野の左右方向もしくは上下方向に対応し、
前記第１、第２の種類のスリットの行方向に対する角度はそれぞれ略＋４５°、略−４５°であり、
前記両基板の各々に沿わせて設ける偏光板の一方の透過軸と他方の透過軸がそれぞれ行方向と列方向に平行である請求項１記載の液晶表示素子。
【請求項３】
前記スリットの短手方向の長さが液晶セルのセル厚よりも大きい請求項１または２記載の液晶表示素子。
【請求項４】
前記スリットの前記列方向におけるスリット重心間隔が１２０μｍ以下である請求項１〜３のいずれか１項記載の液晶表示素子。
【請求項５】
前記スリットの前記行方向におけるスリット重心間隔が前記列方向におけるスリット重心間隔の５倍以内である請求項１〜４のいずれか１項記載の液晶表示素子。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の一観点によれば、対向配置される一対の基板と、両基板上に設けられ、垂直配向液晶層を挟んで互いに重なり合って表示領域を形成する一対の透明電極と、前記一対の透明電極の各々に行列状に設けられたスリットとを有し、前記スリットは、行方向に対する角度が異なる第１、第２の種類のスリットを含み、ある行では第１の種類のスリットが行方向に並ぶと共に、列方向に隣接する行においては第２の種類のスリットが行方向に並び、一方の透明電極における第１の種類のスリットと、他方の透明電極における第１の種類のスリットとが前記列方向に交互に配置されて第１のスリット列を構成し、一方の透明電極における第２の種類のスリットと、他方の透明電極における第２の種類のスリットとが前記列方向に交互に配置されて第２のスリット列を構成し、前記第１のスリット列と前記第２のスリット列とが前記行方向に交互に配置されると共に、該第１のスリット列のスリット周期と該第２のスリット列のスリット周期とが半周期ずれている液晶表示素子が提供される。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月11日(2009.11.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体側より像側へ順に、正の屈折力の第１レンズ群、負の屈折力の第２レンズ群、正の屈折力の第３レンズ群、負の屈折力の第４レンズ群、正の屈折力の第５レンズ群で構成され、広角端に比べて望遠端での該第１レンズ群と該第２レンズ群の間隔が大きく、第２レンズ群と第３レンズ群との間隔が小さく、該第４レンズ群と第５レンズ群との間隔が大きくなるように前記５つのレンズ群のうち複数のレンズ群が移動してズーミングを行うズームレンズにおいて、該第４レンズ群は１つのレンズコンポーネントからなり、該第４レンズ群を光軸と垂直方向の成分を持つように移動させて像変位を行い、該第４レンズ群を構成する負レンズの材料のアッベ数をν４、該第４レンズ群の光軸上の厚みをＤ４、全系の広角端における焦点距離をｆｗとするとき、
６３＜ν４
Ｄ４／ｆｗ＜０．３
なる条件式を満足することを特徴とするズームレンズ。
【請求項２】
前記第４レンズ群の最も物体側レンズ面の曲率半径をＲ４ａ、該第４レンズ群の最も像側レンズ面の曲率半径をＲ４ｂとするとき、
０．２＜（Ｒ４ａ＋Ｒ４ｂ）／（Ｒ４ａ−Ｒ４ｂ）＜１．０
なる条件式を満足することを特徴とする請求項１に記載のズームレンズ。
【請求項３】
前記第４レンズ群の焦点距離をｆ４、望遠端における該第４レンズ群と、前記第５レンズ群の横倍率を各々β４、β５とするとき、
１．０＜｜ｆ４｜／ｆｗ＜４．０
−１．２＜（１−β４）×β５＜−０．４
なる条件式を満足することを特徴とする請求項１又は２に記載のズームレンズ。
【請求項４】
前記第４レンズ群は非球面形状の面を有し、該非球面形状の面と参照球面との光軸方向の変位量の最大値をｘ、該第４レンズ群の焦点距離をｆ４とするとき、
１×１０−４＜ｘ／｜ｆ４｜＜１×１０−２
なる条件式を満足することを特徴とする請求項１、２又は３のズームレンズ。
【請求項５】
前記第１レンズ群の焦点距離をｆ１、前記第２レンズ群の焦点距離をｆ２とするとき、
３．０＜ｆ１／ｆｗ＜６．０
０．９＜｜ｆ２｜／ｆｗ＜１．４
なる条件式を満足することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のズームレンズ。
【請求項６】
前記第３レンズ群の焦点距離をｆ３、前記第５レンズ群の焦点距離をｆ５とするとき、
１．５＜ｆ３／ｆｗ＜２．５
１．５＜ｆ５／ｆｗ＜３．０
なる条件式を満足することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項のズームレンズ。
【請求項７】
前記第３レンズ群と前記第４レンズ群の間隔は広角端と望遠端において等しいことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載のズームレンズ。
【請求項８】
前記第４レンズ群は、両凹形状の負レンズから構成されていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載のズームレンズ。
【請求項９】
前記第４レンズ群は両凹形状の負レンズと該負レンズの少なくとも１つの面には樹脂層が形成されており、該樹脂層の空気と接する面は非球面形状であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載のズームレンズ。
【請求項１０】
ズーミングに際して、前記第２、第３、第５レンズ群が移動することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項のズームレンズ。
【請求項１１】
固体撮像素子に像を形成することを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項のズームレンズ。
【請求項１２】
請求項１から１１のいずれか１項に記載のズームレンズと、該ズームレンズによって形成された像を受光する固体撮像素子を有することを特徴とする撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
図２、図３、図４は本発明の実施例１の広角端と中間のズーム位置と望遠端における縦収差図である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
図５は本発明の実施例２のズームレンズの広角端、中間のズーム位置、望遠端におけるレンズ断面図である。図６、図７、図８は本発明の実施例２の広角端と中間のズーム位置と望遠端における縦収差図である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
図９は本発明の実施例３のズームレンズの広角端、中間のズーム位置、望遠端におけるレンズ断面図である。図１０、図１１、図１２は本発明の実施例３の広角端と中間のズーム位置と望遠端における縦収差図である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
図１３は本発明の実施例４のズームレンズの広角端、中間のズーム位置、望遠端におけるレンズ断面図である。図１４、図１５、図１６は本発明の実施例４の広角端と中間のズーム位置と望遠端における縦収差図である。
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月16日(2009.2.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明に用いることができる微粒子は、その粒径が１〜１００ｎｍ、好ましくは５〜７０ｎｍ、より好ましくは１０〜５０ｎｍ、のものである。ここで、微粒子の粒径は動的光散乱法により測定されるものをいい、具体的には粒径アナライザーＦＰＡＲ−１０００（商品名、大塚電子株式会社製）により測定することができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
比較例１
純水にアクリル酸（３．９重量％）、エチレンオキサイド−プロピレンオキサイド共重合体（０．１重量％）を添加し、十分に撹拌して溶解させた。この溶液をシリコンウェハー上に塗布して製膜して試料を得た。膜厚は４２ｎｍであった。この試料の、１９３、２４８、３６５および６３３ｎｍの波長の光に対する屈折率を測定した。測定にはＶＵＶ−３０２型エリプソメーター（商品名、ジェー・エー・ウーラム社製）を用いた。得られた結果は表１に示すとおりであった。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
比較例２
エチレンオキサイド−プロピレンオキサイド共重合体（４重量％）を添加し、十分に撹拌して溶解させた。この溶液をシリコンウェハー上に塗布して製膜して試料を得た。膜厚は４２ｎｍであった。この試料の、１９３、２４８、３６５および６３３ｎｍの波長の光に対する屈折率を測定した。測定にはＶＵＶ−３０２型エリプソメーター（商品名、ジェー・エー・ウーラム社製）を用いた。得られた結果は表２に示すとおりであった。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
実施例６〜９
比較例２の溶液の組成を変化させ、粒径１３ｎｍの微粒子ダイアモンドを添加して、上面反射防止膜形成用組成物を調製した。その組成は表２に示すとおりであった。これらの組成物を比較例２と同様にシリコンウェハーに塗布し、膜厚および屈折率を測定した。得られた結果は表２に示すとおりであった。
【表２】
2008129080.tif 000001
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
比較例３および実施例１０〜１６
純水に粒径１２ｎｍの二酸化ケイ素微粒子、フッ素ポリマー（一般式−（ＣＦ２ＣＦＲ）ｎ−（ここで、Ｒは炭素数３の直鎖状フッ素置換アルキル基であり、ｎは重合度を表す）で表され、末端基がカルボキシル基を有するものであるポリマー）、炭素数１３〜１８のアルキル鎖を有するアルキルスルホン酸を表３に記載した割合で配合し、十分に撹拌して上面反射防止膜組成物を調製した。この組成物をシリコンウェハー上に２５００ｒｐｍでスピンコートして製膜することにより試料を得た。さらにこれらの試料の、１９３、２４８、３６５および６３３ｎｍの波長の光に対する屈折率を測定した。測定にはＶＵＶ−３０２型エリプソメーター（商品名、ジェー・エー・ウーラム社製）を用いた。得られた結果は表３に示すとおりであった。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
比較例４および実施例１７〜２３
純水に粒径１２ｎｍの二酸化ケイ素微粒子、アクリル酸、炭素数１３〜１８のアルキル鎖を有するアルキルスルホン酸を表４に記載した割合で配合し、十分に撹拌して上面反射防止膜組成物を調製した。この組成物をシリコンウェハー上に２５００ｒｐｍでスピンコートして製膜することにより試料を得た。さらにこれらの試料の、１９３、２４８、３６５および６３３ｎｍの波長の光に対する屈折率を測定した。測定にはＶＵＶ−３０２型エリプソメーター（商品名：ジェー・エー・ウーラム社製）を用いた。得られた結果は表４に示すとおりであった。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
比較例５および実施例２４
シリコンウェハー上に、ＤＸ５２４０Ｐ（商品名、ＡＺエレクトロニックマテリアルズ株式会社製）をスピンコートにより塗布し、９０℃で６０秒間加熱することにより膜厚が４００〜５０５ｎｍのレジスト膜を形成させた（比較例５）。このレジスト膜に、粒径１３ｎｍの微粒子ダイアモンド２重量％、エチレンオキサイド−プロピレンオキサイド共重合体０．１重量％および溶媒としての水を含む組成物をスピンコートにより塗布して膜厚が３０ｎｍの上面反射防止膜を形成させた（実施例２４）。
これらの被膜を、ＫｒＦエキシマーステッパーＦＰＡ３０００ＥＸ（商品名、キャノン株式会社製）により露光し、１２０℃で６０秒間加熱し、さらに２．３８％水酸化テトラメチルアンモニウムで現像し、Ｅｎｅｒｇｙ  Ｔｈｒｅｓｈｏｌｄ（以下、Ｅｔｈという）を測定した。Ｅｔｈとは、レジスト膜に対して曝射露光し、現像したときに、レジスト膜をすべて溶解して基板を露出させるのに必要な感度である。膜厚に対するＥｔｈをプロットすると、振幅が減衰していく形状の曲線が得られる。このような曲線の形状は、膜面において光の干渉が起きるために起こるが、この振幅の減衰率をみることで反射防止膜の効果を評価することができる。
比較例５に対して実施例２４の振幅の減衰率は６１％低減しており、本発明による反射防止膜が反射防止膜として機能することが確認できた。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
比較例６および実施例２５
シリコンウェハー上に、ＤＸ５２４０Ｐ（ＡＺエレクトロニックマテリアルズ株式会社製）をスピンコートにより塗布し、９０℃で６０秒間加熱することにより膜厚が５２０〜６１０ｎｍのレジスト膜を形成させた（比較例６）。このレジスト膜に、粒径１２ｎｍの二酸化ケイ素微粒子２．２重量％、フッ素ポリマー（一般式−（ＣＦ２ＣＦＲ）ｎ−（ここで、Ｒは炭素数３の直鎖状フッ素置換アルキル基であり、ｎは重合度を表す）で表され、末端基がカルボキシル基を有するものであるポリマー）０．２４重量％、アルキルスルホン酸（Ａ−３２−ＦＷ（商品名、竹本油脂株式会社製））０．０６重量％および溶媒としての水を含む組成物をスピンコートにより塗布して膜厚が４５ｎｍの上面反射防止膜を形成させた（実施例２５）。
得られた膜について、比較例５と同様にＥｔｈの測定を行った。比較例６に対して実施例２５の振幅の減衰率は５５％低減しており、本発明による反射防止膜が反射防止膜として機能することが確認できた。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月21日(2009.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
（Ａ）下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有するヒドロキシポリアミド１００
質量部に対して、（Ｂ）下記一般式（２）で表されるイソシアヌル酸誘導体２０〜８０質
量部、（Ｃ）感光性ジアゾキノン化合物１〜１００質量部、を含むことを特徴とするポジ
型感光性樹脂組成物。
【化１】
2008129071.tif 000001
（式中、Ｘ1 は少なくとも２個以上の炭素原子を有する４価の有機基、Ｘ2 、Ｙ1 および
Ｙ2 は少なくとも２個以上の炭素原子を有する２価の有機基、ｍは２〜１０００の整数、
ｎは０〜５００の整数であって、ｍ／（ｍ＋ｎ）≧０．５である。なお、Ｘ1 およびＹ1 
を含むｍ個のジヒドロキシジアミド単位、並びにＸ2 およびＹ2 を含むｎ個のジアミド単
位の配列順序は問わない。）
【化２】
2008129071.tif 000002
（式中、Ｑ1 はそれぞれ独立に、下記式（３）で表される一価の置換基である。）
【化３】
2008129071.tif 000003
（式中、Ｑ2 はエチレン基またはプロピレン基、Ｑ3 は下記式（４）で表される一価の置
換基であり、ｒは１から４までの整数、ｐは４から６までの整数である。ｑは０から３ま
での整数であるが、すべてのＱ1 について同時にｑが０であることはない。）
【化４】
2008129071.tif 000004
（式中、Ｑ4 は水素原子又はメチル基を表す。）
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【化３】
2008129071.tif 000005
（式中、Ｑ2 はエチレン基またはプロピレン基、Ｑ3 は下記式（４）で表される一価の置
換基であり、ｒは１から４までの整数、ｐは４から６までの整数である。ｑは０から３ま
での整数であるが、すべてのＱ1 について同時にｑが０であることはない。）
【化４】
2008129071.tif 000006
（式中、Ｑ4 は水素原子又はメチル基を表す。）
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
（Ｂ）イソシアヌル酸誘導体
次に、イソシアヌル酸誘導体である（Ｂ）成分について説明する。
本発明の感光性樹脂組成物の（Ｂ）成分として用いられるイソシアヌル酸誘導体は、下
記式（２）で表されるエチレンオキシド変性イソシアヌル酸誘導体である。
【化１０】
2008129071.tif 000007
（式中、Ｑ1 はそれぞれ独立に、下記式（３）で表される一価の置換基である。）
【化１１】
2008129071.tif 000008
（式中、Ｑ2 はエチレン基またはプロピレン基、Ｑ3 は下記式（４）で表される一価の置
換基であり、ｒは１から４までの整数、ｐは４から６までの整数である。ｑは０から３ま
での整数であるが、すべてのＱ1 について同時にｑが０であることはない。）
【化１２】
2008129071.tif 000009
（式中、Ｑ4 は水素原子又はメチル基を表す。）
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月22日(2009.6.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁基板の主面に薄膜トランジスタで構成される多数の画素を有するアクティブ基板を備え、前記薄膜トランジスタのゲート電極が前記絶縁基板の主面上の最下層、かつ当該薄膜トランジスタの能動層を構成する半導体膜の下層に位置し、ソース・ドレイン電極が該半導体の上部に接続したボトムゲート型である画像表示装置の製造方法であって、
透明導電膜を下層とし、第１の金属膜を上層とした積層電極膜を形成する積層電極膜成膜工程と、
ゲート絶縁膜を形成し、前記ゲート絶縁膜の上に島状に加工した前記半導体膜を形成する半導体加工工程と、
層間絶縁膜を形成した後、前記薄膜トランジスタのソース・ドレイン電極部と前記画素部の上方にある前記層間絶縁膜を除去する層間絶縁膜加工工程と、
前記層間絶縁膜加工工程で除去された前記薄膜トランジスタのソース・ドレイン電極部と前記画素部を含めた全域にソース・ドレイン電極用の前記第１の金属膜と同一材料の第２の金属膜を形成する金属膜成膜工程と、
前記薄膜トランジスタのソース・ドレイン電極部と前記画素部の上方にある前記第１の金属膜と前記第２の金属膜を同一のエッチング液中でのエッチング処理で同時に加工する金属膜加工工程と、
を含むことを特徴とする画像表示装置の製造方法。
【請求項２】
請求項１において、
前記積層電極膜の下層にＩＴＯを用いることを特徴とする画像表示装置の製造方法。
【請求項３】
請求項１において、
前記積層電極膜の下層に酸化錫系透明導電膜を用いることを特徴とする画像表示装置の製造方法。
【請求項４】
請求項２において、
前記積層電極膜の上層にアルミニウム又はアルミニウム‐ネオジム合金を用いることを特徴とする画像表示装置の製造方法。
【請求項５】
請求項２において、
前記積層電極膜の上層に、チタン、タングステン・チタニウム、窒化チタン、タングステン、クロム、モリブデン、タンタル、ニオブ、バナジウム、ジルコニウム、ハフニウム、プラチナ、ルテニウム、またはそれらの合金の何れかを用いることを特徴とする画像表示装置の製造方法。
【請求項６】
請求項１において、
前記画素領域に、前記積層電極膜の上層に形成された前記ゲート絶縁膜と前記半導体膜および前記金属膜で形成した保持容量部を形成することを特徴とする画像表示装置の製造方法。
【請求項７】
請求項１において、
配向膜材料を塗布して配向膜を形成した後、当該配向膜に液晶配向制御能を付与する配向膜形成工程を含むことを特徴とする画像表示装置の製造方法。
【請求項８】
請求項７において、
前記配向膜を形成した前記アクティブ基板に、液晶層を介してカラーフィルタ基板を貼り合わせる封止工程を含むことを特徴とする画像表示装置の製造方法。
【請求項９】
請求項８において、
前記対向基板に対向電極を有することを特徴とする画像表示装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項１において、
前記画素電極の上層に有機ＥＬ発光層を成膜する有機ＥＬ発光層形成工程を含むことを特徴とする画像表示装置の製造方法。
【請求項１１】
請求項１０において、
前記有機ＥＬ発光層の上層で、前記複数の画素領域の全域を覆って一方の電極である前記画素電極とで前記有機ＥＬ発光層を挟持する他方の電極である電極膜を形成する電極成膜工程を含むことを特徴とする画像表示装置の製造方法。
【請求項１２】
請求項１において、
前記絶縁基板としてガラス基板を用い、前記積層電極膜成膜工程の前に当該ガラス基板の主面上に下地膜を形成する下地膜成膜工程を有することを特徴とする画像表示装置の製造方法。
【請求項１３】
請求項１２において、
前記下地膜成膜工程が、酸化シリコン膜の成膜工程又は窒化シリコン若しくは酸化シリコンと窒化シリコンの積層膜の成膜工程の何れかであることを特徴とする画像表示装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
図４（ａ）、（ｂ）、（ｃ）において、ガラス基板１上に酸化シリコンからなる下地膜２を膜厚３００ｎｍに形成する。次に、透明導電膜１６としてＩＴＯを膜厚１００ｎｍに成膜し、その上に金属膜２６（第１の金属膜）としてアルミニウム（Ａｌ）を膜厚１５０ｎｍに成膜して積層膜（積層電極膜）を形成する。この積層電極膜を覆って感光性レジストを塗布・乾燥し、マスク露光と現像でレジストパターンを形成する。これにエッチング加工を施してゲート電極部分、保持容量部分および画素電極の部分等に所定のパターンの積層電極膜を形成する（ホト工程１）。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
このソース・ドレイン電極を除去するのと同時に、画素電極３を構成するＩＴＯの上層にあるゲート電極材料（アルミニウム膜２６）を、接続電極部分を残して除去する。ソース・ドレイン電極と画素電極の上層電極２６は同じ金属材料（第２の金属膜、ここでは、アルミニウム）で形成されているため同じエッチング液で同時に除去できる。ソース・ドレイン電極と画素電極３の上層電極とを異なる金属材料とした場合は、ソース・ドレイン電極の加工の後、ソース・ドレイン電極をマスクにして、画素電極部の上層電極は溶解し、ソース・ドレイン電極材料は溶解しないエッチング液を用いて画素電極３の下層であるＩＴＯ１６の上層電極２６を除去すれば良い。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月1日(2009.9.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源装置であって、
発光素子と、前記発光素子から出力された光を発振させる共振器とを備え、前記発光素子と前記共振器とを用いてレーザ光を出力するレーザ光源と、
前記レーザ光の一部を戻り光として前記共振器へ戻す戻り光発生手段と、を備え、
前記戻り光により、前記レーザ光源から射出されるレーザ光の波長を変化させる、光源装置。
【請求項２】
請求項１記載の光源装置であって、
前記戻り光発生手段は、前記レーザ光の光路上に配置されており、入射する前記レーザ光の一部を前記戻り光として前記共振器へ反射するとともに、残りを通過させる光学素子である、光源装置。
【請求項３】
請求項２記載の光源装置であって、
前記光学素子は、前記レーザ光源から出力された光を通過させるための貫通孔が形成された平面鏡である、光源装置。
【請求項４】
請求項２記載の光源装置であって、
前記光学素子は、前記レーザ光源から出力された光を通過させるための貫通孔が形成された凹面鏡である、光源装置。
【請求項５】
請求項２記載の光源装置であって、
前記光学素子は、反射膜が形成され、前記反射をおこなう反射面として機能する反射領域と、入射する前記レーザ光の一部を透過する透過領域とを有しており、
前記入射するレーザ光の一部は、前記反射膜により反射され、前記入射するレーザ光の残りは、前記透過領域を透過する、光源装置。
【請求項６】
請求項２記載の光源装置であって、
前記光学素子は、前記光学素子に入射する前記レーザ光の進行方向に対する前記反射面の角度が変更可能な構造を有する光源装置。
【請求項７】
請求項６記載の光源装置であって、更に、
前記レーザ光源から出力され、照射対象物を照射する照射レーザ光の強度を検出する検出手段を備え、
前記光学素子は、前記検出された強度に応じて、前記角度を変更する、光源装置。
【請求項８】
請求項６記載の光源装置であって、
前記光学素子は、メムスミラーおよびガルバノミラーの少なくとも一方を含む、光源装置。
【請求項９】
請求項６記載の光源装置であって、
前記レーザ光源は、複数の発光素子を有しており、
前記光学素子は、前記複数の発光素子のうちの少なくとも１つの発光素子から出力される光を前記戻り光として反射するように配置されている、光源装置。
【請求項１０】
請求項１ないし請求項９いずれか記載の光源装置を有する画像表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上述の態様によれば、レーザ光源から出力された光をレーザ光源内に再度戻すことができ、これによってレーザ光の発振モードが変化するいわゆるモードホップを発生させることで、レーザ光源から複数の波長の光を出力できる。よって、複数のスペックルパターンが生じ、スペックルパターン同士が重なり合い平均化されるため、スペックルノイズを低減できる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
第１の態様の光源装置において、
前記光学素子は、反射膜が形成され、前記反射をおこなう反射面として機能する反射領域と、入射する前記レーザ光の一部を透過する透過領域とを有しており、前記入射するレーザ光の一部は、前記反射膜により反射され、前記入射するレーザ光の残りは、前記透過領域を透過してもよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
センサ１５０ａ，１５０ｂ，１５０ｃは、それぞれが設置されている光源装置から出力されるレーザ光の強度を検出し、制御部１６０へ通知する。レーザ光の光強度の検出は、図５に示すように、センサ１５０ａを均一化光学素子５０の近傍に配置し、均一化光学素子５０から入射する散乱光Ｗ３０の光強度を、検出する。光源装置から出力されるレーザ光の光強度と散乱光Ｗ３０とは相関がある。よって、上述のように、散乱光の光強度を検出することにより、光源装置から出力されるレーザ光の光路上にセンサを配置せずにかかるレーザ光の光強度を測定できる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７５】
以上説明した第４実施例の光源装置によれば、特定の発光素子から出力されるレーザ光についてのみモードホップを生じさせることができるため、光源装置１３から出力されるレーザ光の全体的なレーザ強度の低下を抑制しながら、スペックルノイズの発生を低減できる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８３】
Ｆ．変形例
（１）戻り光発生光学素子として、一対の反射ミラーを用いても良い。図９は、本変形例における光源装置を例示する説明図である。本変形例の光源装置１５は、第１実施例と同様の半導体レーザ装置１００ａと、戻り光発生光学素子としての一対の反射ミラー２５０，２５１を備える。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月22日(2009.7.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電界の印加により移動する光学反射特性が異なる２種類以上の粒子を含む、複数色のマイクロカプセルを平行に配列形成する多色表示パネルの製造方法であって、
順に絶縁基板に導電性膜を形成する工程、保護膜を形成する工程、保護膜を異なる色間の境界にスリットする工程、各色ごとに保護膜を剥離する工程と保護膜が剥離された導電性膜表面に各色ごとのマイクロカプセルをリップコーターで塗工する工程を色数だけ繰り返した後、導電性フィルムをラミネートする工程を含むこと、
を特徴とする多色表示パネルの製造方法。
【請求項２】
マイクロカプセルを塗工する工程が、リップコーターで行われることを特徴とする請求項１記載の多色表示パネルの製造方法。
【請求項３】
請求項１または２のいずれかに記載の製造方法で形成された多色表示パネルの画像表示方法であって、配列形成された異なる色のマイクロカプセルごとに配置された電極アレイから電界を加えることで、画像表示を行うことを特徴とする多色表示パネルの画像表示方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
請求項１の発明は、電界の印加により移動する光学反射特性が異なる２種類以上の粒子を含む、複数色のマイクロカプセルを平行に配列形成する多色表示パネルの製造方法であって、順に絶縁基板に導電性膜を形成する工程、保護膜を形成する工程、保護膜を異なる色間の境界にスリットする工程、各色ごとに保護膜を剥離する工程と保護膜が剥離された導電性膜表面に各色ごとのマイクロカプセルをリップコーターで塗工する工程を色数だけ繰り返した後、導電性フィルムをラミネートする工程を含むこと、を特徴とすることで、マイクロカプセルが密にかつ２色以上指定位置に配置し、前記課題を解消するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
（請求項３の発明）
請求項３の発明は、請求項１または２のいずれかに記載の製造方法で形成された多色表示パネルの画像表示方法であって、配列形成された異なる色のマイクロカプセルごとに配置された電極アレイから電界を加えることで、画像表示を行うことを特徴とすることで、マイクロカプセルが密にかつ２色以上指定位置に配置し、前記課題を解消するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
（請求項１の発明の効果）
請求項１の発明によって、マイクロカプセルを密にコートできるリップコーターを用い、多色表示用のカラーのマイクロカプセルを指定した位置に塗り分けして、多色表示が可能な多色表示パネルを提供することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成21年8月4日(2009.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
配線パターンを備えた配線基板と、
前記配線基板の上に設けられ、銅層、又はニッケル層の上に金層が形成された積層金属膜からなる金属層から形成されて、表面側に光ファイバを配置するための溝を備えた光ファイバ搭載部とを有することを特徴とする光部品搭載用基板。
【請求項２】
前記溝は、Ｖ溝、半円状溝、又は矩形状溝であることを特徴とする請求項１に記載の光部品搭載用基板。
【請求項３】
前記配線パターンは前記配線基板の両面側にｎ層（ｎは１以上の整数）で形成されており、前記配線基板の両面側の前記配線パターンは、前記配線基板に設けられたスルーホール導電層によって相互接続されていることを特徴とする請求項１に記載の光部品搭載用基板。
【請求項４】
配線パターンを備えた配線基板と、
前記配線基板の上に設けられ、銅層、又はニッケル層の上に金層が形成された積層金属膜からなる金属層から形成されて、表面側に光ファイバを配置するための溝を備えた光ファイバ搭載部と、
前記光ファイバ搭載部の前記溝に配置された前記光ファイバと、
前記配線基板上の前記配線パターンに接続されて実装され、前記光ファイバに光結合された光半導体素子とを有することを特徴とする光モジュール。
【請求項５】
前記光ファイバと前記光半導体素子との光経路の間に設けられた光導波路をさらに有し、
前記光導波路の一端側が前記光ファイバに光結合され、他端側が前記光半導体素子に光結合されていることを特徴とする請求項４に記載の光モジュール。
【請求項６】
前記光ファイバは、はんだによって前記光ファイバ搭載部の前記溝に固定されていることを特徴とする請求項４又は５に記載の光モジュール。
【請求項７】
前記光導波路はコア部がクラッド層で囲まれた構造を有し、前記光導波路と前記光ファイバとが水平方向に並んで配置され、前記光導波路の前記コア部の一端と前記光ファイバの一端とが対向して光結合されていることを特徴とする請求項５に記載の光モジュール。
【請求項８】
前記光導波路の前記光半導体素子側の一端には、光路を９０°変換する光路変換部が設けられており、前記光半導体素子は前記光変換部の上方に発光部又は受光部が配置されて実装されていることを特徴とする請求項５に記載の光モジュール。
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月6日(2009.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
複数の演奏操作子と、
和音のルート音を指定するルート音指定手段と、
和音タイプを指定する和音タイプ指定手段と、
前記ルート音指定手段によって指定されたルート音と前記和音タイプ指定手段によって指定された和音タイプとから決定された和音の各構成音を、前記複数の演奏操作子のうちのいずれの演奏操作子に割り当てるかを示す割り当て情報を記憶する第１記憶手段と、
前記ルート音指定手段によって指定されたルート音と前記和音タイプ指定手段によって指定された和音タイプとから決定された和音の各構成音を、前記割り当て情報に従って前記演奏操作子に割り当てる割り当て手段と、
前記割り当て手段によって構成音の割り当てられた演奏操作子の操作に応じて、該演奏操作子に割り当てられた構成音を出力する出力手段と
を具備することを特徴とする電子楽器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
ベース音の設定を指定するベース音設定指定手段と、
ベース音の設定に関する基本論理を記憶する第２記憶手段と、
前記ベース音設定指定手段によって前記ベース音の設定が指定された場合、前記ベース音の設定に関する基本論理に従って、前記割り当て手段によって構成音の割り当てられた演奏操作子に対して該ベース音を含む新たな構成音を割り当てるベース音設定実行手段と
をさらに具備し、
前記出力手段は、前記ベース音設定実行手段によって該ベース音を含む新たな構成音の割り当てられた演奏操作子の操作に応じて、該演奏操作子に割り当てられた該ベース音を含む新たな構成音を出力する
ことを特徴とする請求項４に記載の電子楽器。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１０】
複数の演奏操作子を備えた電子楽器を制御するコンピュータに、
和音を指定する和音指定機能と、
前記和音指定機能によって指定された和音の各構成音を、前記和音指定機能によって指定が可能な和音の各構成音を前記複数の演奏操作子のうちのいずれの演奏操作子に割り当てるかを示す割り当て情報に従って、前記演奏操作子に割り当てる割り当て機能と、
前記割り当て機能によって構成音の割り当てられた演奏操作子の操作を検出し、検出結果に応じて該演奏操作子に割り当てられた構成音の出力を制御する制御機能と
を実現させるためのプログラム。