Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月20日(2013.5.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに直交する４個の基本プリコーディング行列からなるグループをＮ個（Ｎは２以上の自然数）有する第１の基本コードブックと、前記Ｎ個のグループの各々にグループ間で異なる値の位相オフセットを適用することによって生成される第２の基本コードブックとを、列方向に組み合わせて得られる拡張コードブックを保存するコードブック保存手段と、
前記拡張コードブックに含まれる４Ｎ個のプリコーディング行列のうちいずれか１個のプリコーディング行列を識別するためのインデックス（ＰＭＩ）を基地局装置にフィードバックするフィードバック手段と、
を具備する端末装置。
【請求項２】
前記第１の基本コードブック及び前記第２の基本コードブックはそれぞれ４行１列の基本プリコーディング行列を４Ｎ個有し、
前記拡張コードブックは８行１列のプリコーディング行列を４Ｎ個有する、
請求項１記載の端末装置。
【請求項３】
前記第１の基本コードブックに含まれる基本プリコーディング行列ｗｍ（ｍは整数）とｗｍ＋１の角度差は｛２π／３２｝のｎ倍（ｎは整数）である、
請求項１又は２記載の端末装置。
【請求項４】
前記基地局装置から２つのレイヤを用いてデータが送信される場合は、
前記第１の基本コードブックに含まれる基本プリコーディング行列は、前記２つのレイヤのうち一方のレイヤ向けの基本プリコーディング行列ベクトルｗｍ（ｍは整数）と他方のレイヤ向けの基本プリコーディング行列ベクトルｗ’ｍとを含み、
前記ｗｍと前記ｗ’ｍの角度差は２π／３２、４π／３２又は６π／３２である、
請求項１又は２記載の端末装置。
【請求項５】
前記基地局装置は複数のアレイアンテナを有し、
前記フィードバック手段は、前記複数のアレイアンテナのそれぞれに対して、前記ＰＭＩをフィードバックする、
請求項１から４のいずれかに記載の端末装置。
【請求項６】
互いに直交する４個の基本プリコーディング行列からなるグループをＮ個（Ｎは２以上の自然数）有する第１の基本コードブックと、前記Ｎ個のグループの各々にグループ間で異なる値の位相オフセットを適用することによって生成される第２の基本コードブックとを、列方向に組み合わせて得られる拡張コードブックを保存し、
前記拡張コードブックに含まれる４Ｎ個のプリコーディング行列のうちいずれか１個のプリコーディング行列を識別するためのインデックス（ＰＭＩ）を基地局装置にフィードバックする、
送信方法。
【請求項７】
前記第１の基本コードブック及び前記第２の基本コードブックはそれぞれ４行１列の基本プリコーディング行列を４Ｎ個有し、
前記拡張コードブックは８行１列の拡張プリコーディング行列を４Ｎ個有する、
請求項６記載の送信方法。
【請求項８】
前記第１の基本コードブックに含まれる基本プリコーディング行列ｗｍ（ｍは０以上２N以下の整数）とｗｍ＋１の角度差は｛２π／３２｝のｎ倍（ｎは整数）である、
請求項６又は７記載の送信方法。
【請求項９】
前記基地局装置から２つのレイヤを用いてデータが送信される場合は、
前記第１の基本コードブックに含まれる基本プリコーディング行列は、前記２つのレイヤのうち一方のレイヤ向けの基本プリコーディング行列ベクトルｗｍ（ｍは整数）と他方のレイヤ向けの基本プリコーディング行列ベクトルｗ’ｍとを含み、
前記ｗｍと前記ｗ’ｍの角度差は２π／３２、４π／３２又は６π／３２である、
請求項６又は７記載の送信方法。
【請求項１０】
前記基地局装置は複数のアレイアンテナを有し、
前記フィードバックは、前記複数のアレイアンテナのそれぞれに対して、前記ＰＭＩをフィードバックすることにより行われる、
請求項６から９のいずれかに記載の送信方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年8月5日(2013.8.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
クラウド・コンピューティング環境内で仮想インスタンスを起動する方法であって、
前記クラウド・コンピューティング環境内の機能不全仮想インスタンスを検出するステップと、
前記機能不全仮想インスタンスに応じ新規仮想インスタンスに対する要求を受信するステップと、
前記機能不全仮想インスタンスに関連付けられたユーザの資格を検証するステップであって、前記ユーザが前記機能不全仮想インスタンスの持ち主であるかどうかを判定するステップを含む、前記検証するステップと、
前記機能不全仮想インスタンスに関連付けられたカウントダウン・タイマを低減するステップと、
前記カウントダウン・タイマが所定の閾値に達したとき、前記新規仮想インスタンスを起動するステップと、
前記機能不全仮想インスタンスを終了させるステップと
を含む、前記方法。
【請求項２】
前記新規仮想インスタンスが仮想マシンを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記検証するステップは、前記ユーザが前記機能不全仮想インスタンスに関連付けられたブート・イメージの持ち主であるかどうかを判定するステップを含む、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記検証するステップは、前記ユーザが前記機能不全仮想インスタンスに関連付けられた予約済みインターネット・プロトコル（ＩＰ）アドレスの持ち主であるかどうかを判定するステップを含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記検証するステップは、前記ユーザが前記機能不全仮想インスタンスに関連付けられた永続性ストレージの持ち主であるかどうかを判定するステップを含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記所定の閾値はゼロを含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記ユーザに対する前記新規仮想インスタンスのブート・イメージ、予約済みＩＰアドレス、および永続性ストレージを登録するステップをさらに含む、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記新規仮想インスタンスは、前記機能不全仮想インスタンスの再起動を含む、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
クラウド・コンピューティング環境内で仮想インスタンスを起動するためのシステムであって、
命令を包含するメモリ媒体と、
前記メモリ媒体に連結されたバスと、
前記バスに連結されたプロセッサと
を含み、
前記プロセッサは、前記命令を実行したとき、前記システムが、
前記クラウド・コンピューティング環境内の機能不全仮想インスタンスを検出し、
前記機能不全仮想インスタンスに応じ新規仮想インスタンスに対する要求を受信し、
前記機能不全仮想インスタンスに関連付けられたユーザの資格を検証し、ここで、前記検証することは前記ユーザが前記機能不全仮想インスタンスの持ち主であるかどうかを判定することを含み、
前記機能不全仮想インスタンスに関連付けられたカウントダウン・タイマを低減し、
前記カウントダウン・タイマが所定の閾値に達したとき、前記新規仮想インスタンスを起動し、
前記機能不全仮想インスタンスを終了する、
ようにさせる、前記システム。
【請求項１０】
前記検証することは、前記ユーザが前記機能不全仮想インスタンスに関連付けられたブート・イメージの持ち主であるかどうかを判定することを含む、請求項９に記載のシステム。
【請求項１１】
前記検証することは、前記ユーザが前記機能不全仮想インスタンスに関連付けられた予約済みインターネット・プロトコル（ＩＰ）アドレスの持ち主であるかどうかを判定することを含む、請求項９または１０に記載のシステム。
【請求項１２】
前記検証することは、前記ユーザが前記機能不全仮想インスタンスに関連付けられた永続性ストレージの持ち主であるかどうかを判定するように更にされている、請求項９〜１１のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１３】
前記システムは、前記ユーザに対する前記新規仮想インスタンスのブート・イメージ、予約済みＩＰアドレス、および永続性ストレージを登録するように更にされている、請求項９〜１２のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１４】
クラウド・コンピューティング環境内で仮想インスタンスを起動するコンピュータ・プログラムであって、コンピュータ・システムに、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法の各ステップを遂行させる、前記コンピュータ・プログラム。
【請求項１５】
クラウド・コンピューティング環境内で仮想インスタンスを起動するためのシステムを展開する方法であって、
前記クラウド・コンピューティング環境内の機能不全仮想インスタンスを検出し、
前記機能不全仮想インスタンスに応じ新規仮想インスタンスに対する要求を受信し、
前記機能不全仮想インスタンスに関連付けられたユーザの資格を検証し、ここで、前記ユーザが前記機能不全仮想インスタンスの持ち主であるかどうかを判定することを含み、
前記機能不全仮想インスタンスに関連付けられたカウントダウン・タイマを低減し、
前記カウントダウン・タイマが所定の閾値に達したとき、前記新規仮想インスタンスを起動し、
前記機能不全仮想インスタンスを終了させる
ように作動する、コンピュータ・インフラストラクチャを提供するステップを含む、前記方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成25年6月20日(2013.6.20)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００９】
この課題は、請求項１で請求した方法によって解決される。この方法は、
この方法が、
初期位置で互いに相対的に位置決めされた両載置箇所上にコイルが不安定なバランス状況で載置されている又は載置されるかを点検及び判定するステップと、
ＹＥＳであれば、両載置箇所上にコイルが少なくともほぼ安定したバランス状況で載置されている又は載置されるように、両載置箇所の互いの相対的な位置を変更するステップと、
バランス状況の点検時に既に行なわれていない場合に限って、変更後の互いの相対位置で両載置箇所上にコイルを載置するステップと、
を有すること、を特徴とする。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１０】
“不安定なバランス状況”との概念は、本発明の範囲内では、高い残留応力を有するコイルの取扱い時、特に載置時、に生じ得る種々の危険又は不安定性を指す。高い残留応力に基づいて、コイルは、偏心してコイル台車上に位置することになり、時計バネ効果に基づいて自主的に跳ね上がることがある。その場合には、コイルが、自ら台車から持ち上がり、台車から落下する危険がある。これら全ての効果が、本明細書の意味のコイルの不安定なバランス状況である。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１９】
垂線許容範囲は、例えば、両載置箇所間の中心に対してコイルの直径の＋／−１０％とすることができる。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１】
装置の第１の載置箇所と第２の載置箇所上にコイルに巻き取られたストリップを載置するための方法において、
この方法が、
初期位置で互いに相対的に位置決めされた両載置箇所上にコイルが不安定なバランス状況で載置されている又は載置されるかを点検及び判定するステップと、
ＹＥＳであれば、両載置箇所上にコイルが少なくともほぼ安定したバランス状況で載置されている又は載置されるように、両載置箇所の互いの相対的な位置を変更するステップと、
バランス状況の点検時に既に行なわれていない場合に限って、変更後の互いの相対位置で両載置箇所上にコイルを載置するステップと、
を有すること、を特徴とする方法。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項７】
垂線許容範囲が、両載置箇所間の中心に対してコイルの直径の約＋／−１０％であること、を特徴とする請求項６に記載の方法。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項２９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項２９】
垂線許容範囲が、両載置箇所間の中心に対してコイルの直径の約＋／−１０％であること、を特徴とする請求項２８に記載の方法。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項４３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項４３】
第１の載置箇所と第２の載置箇所を有し、ストリップの終端部がコイルの重量によって保持されるように、これら両載置箇所上にコイルに巻き取られたストリップを載置するためのコイル台車において、
少なくとも第１の載置箇所が、第２の載置箇所に対するその水平方向の間隔及び／又は垂直方向の間隔を変更可能であること、
コイルの直径が所定の直径閾値よりも小さいこと、ストリップの厚さが所定の厚さ閾値よりも大きいこと、ストリップの材料の強度が所定の強度閾値よりも大きいこと、の条件が満足されているかを点検し、条件が満足されている場合に、初期位置で互いに相対的に位置決めされた両載置箇所上にコイルが不安定なバランス状況で載置されるとの判定を仮想するための検査装置が設けられていること、
条件が満足されている場合に、両載置箇所上にコイルが安定したバランス状況で載置され得るように、両載置箇所の互いの水平方向の間隔及び／又は垂直方向の間隔を変更するための制御装置が設けられていること、
を特徴とするコイル台車。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成25年7月1日(2013.7.1)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
異方性金属ナノ粒子を製造する方法であって、
金属原子２００個未満でサイズ２ｎｍ未満のゼロ酸化状態金属原子によってのみ形成される材料からなる原子量子クラスター及び溶媒の存在下で、金属カチオンを酸化状態ゼロに還元して、サイズ２ｎｍ〜４ｎｍの小さなナノ粒子からなるコアを形成するステップと、
コア濃度に対する原子量子クラスター濃度の比を制御して、前記コアを前記原子量子クラスターに接触させることにより、前記異方性金属ナノ粒子を形成するステップと、
を備える異方性金属ナノ粒子を製造する方法。
【請求項２】
前記溶媒を水、アルコール、ケトン、環状エーテル、グリコール、トルエン、ベンゼン、又はそれらの組み合わせから選択する請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記金属カチオンが、金属塩形態の遷移金属カチオンであり、該遷移金属の金属カチオンをＡｕ、Ａｇ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｐｔ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｐｄ、Ｎｉ、Ｒｈ及びＰｂから選択する請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記金属カチオンをＡｕ、Ａｇ、Ｃｕ及びＦｅから選択する請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記金属塩は、硝酸塩、酢酸塩、クエン酸塩、塩化物から選択したアニオンを含む請求項３又は４に記載の方法。
【請求項６】
前記金属塩のアニオンが硝酸塩又は塩化物である請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記金属カチオンを酸化状態ゼロに還元するための還元作因を化学還元剤並びに紫外線乃至可視光線及び超音波から選択される物理的還元作因から選択する請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記化学還元剤を、
アルキルアミン、糖、ポリマー及び有機酸から選択した有機還元剤と、
ホウ化水素ナトリウム、ヒドラジン、水素化リチウムアルミニウム、ヒドロキシルアミン及び次亜リン酸ナトリウムから選択した無機還元剤と
から選択する請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記化学還元剤がアスコルビン酸である請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記原子量子クラスターが、平均で金属原子２個〜５５個、又は金属原子２個〜５個を含む請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
前記原子量子クラスターの遷移金属をＡｕ、Ａｇ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｐｔ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｐｄ、Ｎｉ、Ｒｈ、Ｐｂ及びそれらの組み合わせのいずれかから選択する請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
前記原子量子クラスターの遷移金属をＡｕ、Ａｇ、Ｃｕ及びＦｅから選択する請求項１〜１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
成長抑制剤をさらに添加することを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
シードをさらに添加することを特徴とする請求項１〜１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
前記異方性金属ナノ粒子がナノ繊維、ナノ三角形、ナノ星形、ナノディスク、ナノ立方体、ナノ四面体又はナノプリズムである請求項１〜１４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１６】
異方性金属ナノ粒子を調製するための原子量子クラスターを使用する方法であって、
前記原子量子クラスターは、金属原子２００個未満でサイズ２ｎｍ未満のゼロ酸化状態金属原子によってのみ形成される材料からなり、
前記原子量子クラスターは、溶媒内に酸化状態ゼロに還元される金属カチオンと共にあって、前記金属カチオンの金属原子からなるコアを形成し、かつ、前記コアの濃度に対する前記原子量子クラスターの濃度の比が制御されることを特徴とする原子量子クラスターを使用する方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３１】
特定の実施形態では、有機還元剤をアルキルアミン、好ましくはメチルアミン；糖、好ましくはグルコース、フルクトース、ラクトース又はマルトース；有機酸、好ましくはアスコルビン酸、及びポリマー、好ましくはポリビニルピロリドンから選択する。別の特定の実施形態では、無機還元剤をホウ化水素ナトリウム、ヒドラジン、水素化リチウムおよびアルミニウム、ヒドロキシルアミン並び次亜リン酸ナトリウムから選択する。また別の実施形態では、物理的還元作因を紫外線乃至可視光線及び超音波から選択する。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３９】
本発明において、原子量子クラスター（ＡＱＣ）、すなわち触媒は、制御された方法で添加することができる。このことは、発生に必要となる異方性に応じて必然的に選択されるコア濃度に対する触媒濃度（すなわち、原子量子クラスターの濃度）の比（Ｒ）を制御することと理解され、Ｒが約１に等しいと、単一面の成長を発生して１方向に延びるナノ構造（ナノ繊維）を得、Ｒが約２に等しいと、２つの面の成長を発生して平坦な構造（ナノディスク）を得、Ｒが約３に等しいと、３つの面の成長を発生して三角形構造、立方体構造及びプリズム構造を得、Ｒがおよそ３よりも大きいと、マルチポッド等のようなより複雑な３次元異方性成長体を得る。コア濃度は反応の特定の速度に依存するので、コア濃度の概算決定のために事前試験を行わなければならない。このコア濃度研究は、ナノ粒子の形成用に選択した反応の監視、その検査用試料の抽出及びコア濃度の決定により行ない得る。これは、数ある方法の中でも透過型電子顕微鏡法、レーザ光散乱及び原子間力顕微鏡法により行うことができる。本発明の目的では、反応中に形成した約２ｎｍ〜４ｎｍからなるサイズを有する粒子をコアとみなす。比Ｒを概算的に求めるためのより簡単な方法は、クラスターの添加なしに開始するクラスター濃度走査を行うことであり、その際ナノスフェアが形成される。例えば、実施例及び図面を用いてさらに説明するように、コア濃度がクラスターのものにほぼ等しく、Ｒ＝１である場合、ナノ繊維が残りの構造に対し最大の割合で得られ（実施例１を参照）、コア濃度がクラスターもののおよそ半分（Ｒ＝２）である場合、ナノ三角形物が残りの構造に対し最大の割合で得られ（実施例２を参照）、クラスター濃度がコア濃度の約３．２倍（Ｒ＝３．２）である場合、３次元ナノ星形が残りの構造に対し最大の割合で得られる（実施例３を参照）。本明細書に記載のナノ星形は、四芒星形の３次元ナノ星形である（図９及び図１０を参照）。
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月29日(2013.10.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２０】
前記第２のフィルタと前記摩耗スリーブの前記滑り面との間に環状ギャップを設けるステップをさらに備える、請求項１３に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
第２のフィルタ２２は、第１のフィルタ１８と分離した材料として構成されるにしても、第１のフィルタ１８と類似した材料で構成されることが好ましい。ここで類似の材料とは、たとえばポリウレタン／ポリエステルの発泡体などの合成材料で製造されたようなオープンセルスポンジである。しかし、これは一例であってこれに限定されるものではない。第２のフィルタ２２の孔は、自由に空気を通過させる一方で、空気に含まれるデブリを捕捉して除去することを支援する。大気側Ａからのデブリの侵入の障壁および油側Ｏからの潤滑材の流出の障壁の構築を促進するために、第２のフィルタ２２は、第１のフィルタ１８とともに、外ケース１２と摩耗スリーブ１４とによって内部に定められる領域のすべてを占有する、あるいは実質的に占有する。ただし、第２のフィルタ２２と摩耗スリーブ１４との間にはわずかなギャップ５５が生じる。第２のフィルタ２２と摩耗スリーブ１４のフランジ５２との間にはわずかなギャップ５５′が生じることがある。図１に図示された実施の形態によれば、第２のフィルタ２２の幅は、第２のレッグ３０とフランジ５２との間の組立幅よりもわずかに大きい。したがって、第２のフィルタ２２は、第２のレッグ３０とフランジ５２との間で軸方向にわずかに圧縮される。なお、組立に先立って、第２のフィルタ２２と摩耗スリーブ１４との間の相対的な回転運動を実現させるために、第２のフィルタ２２は外ケース１２に固定される。第２のフィルタ２２は、外ケース１２に任意の適切な手段によって固定される。たとえば、第２のフィルタ２２は、接着結合部５７において第２のレッグ３０の油側に直接接着される。これにより、第２のフィルタ２２は、デブリの侵入および潤滑材の流出に対する障壁を与える。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月25日(2013.7.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体二酸化炭素流を生成する方法であって、
ケミカルルーピング燃焼システムにより、二酸化炭素、一酸化炭素及び水蒸気を含む煙道ガス流を生成し、
前記一酸化炭素を酸化させる酸化触媒に前記煙道ガス流を曝すことにより、二酸化炭素に富む煙道ガス流を生成し、
前記二酸化炭素に富む煙道ガス流を処理して液体二酸化炭素流を形成する、
ことを含む方法。
【請求項２】
前記ケミカルルーピング燃焼システムが空気反応器と燃料反応器を含み、酸素キャリアが前記空気反応器と前記燃料反応器との間で循環する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記二酸化炭素に富む煙道ガス流の処理によって、排ガスを生成する、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記排ガスを前記燃料反応器に供給することを更に含む、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記煙道ガス流を前記酸化触媒に曝す前に、
前記煙道ガス流及び酸素に富む煙道ガス流の少なくとも一方を冷却することを更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記一酸化炭素が、二酸化炭素濃度に対し少なくとも１体積％の濃度で前記煙道ガス流中に存在する、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記煙道ガス流を前記酸化触媒に曝す前に、
前記酸素に富む煙道ガス流を前記酸化触媒に曝す前に、前記酸素に富む煙道ガス流から粒子、硫黄酸化物、窒素酸化物及び水銀の少なくとも１つを除去することを更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
酸素を含有するガスを前記煙道ガス流に供給して、酸素に富む煙道ガス流を形成することを更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
液体二酸化炭素流を生成する方法であって、
ケミカルルーピング燃焼システムにより、二酸化炭素、一酸化炭素及び水蒸気を含む煙道ガス流を生成し、
酸素を含有するガスを前記煙道ガス流に供給して、一酸化炭素を酸化するための酸素に富む煙道ガス流を形成することにより、二酸化炭素に富む煙道ガス流を生成し、
前記二酸化炭素に富む煙道ガス流を処理して液体二酸化炭素流を形成する、
ことを含む方法。
【請求項１０】
前記ケミカルルーピング燃焼システムが空気反応器と燃料反応器を含み、酸素キャリアが前記空気反応器と前記燃料反応器との間で循環する、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記二酸化炭素に富む煙道ガス流の処理によって排ガスを生成し、前記排ガスの少なくとも一部が燃料反応器に供給される、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
煙道ガス流処理システムであって、
燃料を燃焼して、水蒸気、一酸化炭素及び二酸化炭素を含む煙道ガス流を生成するケミカルルーピング燃焼システムと、
前記煙道ガス流が流入し、前記一酸化炭素を酸化させて二酸化炭素に富む煙道ガス流を形成するように構成された、前記ケミカルルーピング燃焼システムの下流の酸化触媒と、
前記二酸化炭素に富む煙道ガス流中の二酸化炭素を液化する処理部と、
を備えるシステム。
【請求項１３】
前記ケミカルルーピング燃焼システムが空気反応器と燃料反応器を含み、酸素キャリアが前記空気反応器と前記燃料反応器との間で循環する、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１４】
酸素を含有するガスを前記煙道ガス流に供給して、酸素に富む煙道ガス流を形成することを更に含む、請求項１２又は１３に記載のシステム。
【請求項１５】
前記燃料反応器の下流に位置する酸素生成部を更に備え、該酸素生成部が、酸素を前記煙道ガス流へ導入する、請求項１２又は１３に記載のシステム。
【請求項１６】
煙道ガス流処理システムであって、
燃料を燃焼して、水蒸気、一酸化炭素及び二酸化炭素を含む煙道ガス流を生成するケミカルルーピング燃焼システムと、
酸素を含有するガスを受け取って前記煙道ガス流に供給して、酸素に富む煙道ガス流を形成し、一酸化炭素を酸化して、二酸化炭素に富む煙道ガス流を形成する入力部と、
前記二酸化炭素に富む煙道ガス流中の二酸化炭素を液化する処理部と、
を備えるシステム。
【請求項１７】
前記ケミカルルーピング燃焼システムが空気反応器と燃料反応器を含み、酸素キャリアが前記空気反応器と前記燃料反応器との間で循環する、請求項１６に記載のシステム。
【請求項１８】
前記燃料反応器の下流に位置する酸素生成部を更に備え、該酸素生成部が、酸素を前記煙道ガス流へ導入する、請求項１６又は１７に記載のシステム。
【請求項１９】
煙道ガス流処理システムから放出される汚染物質の量を削減する方法であって、
ケミカルルーピング燃焼システムの燃料反応器内で燃料を燃焼することによって、水蒸気及び一酸化炭素を含む煙道ガス流を生成し、
前記煙道ガス流から水蒸気及び一酸化炭素を除去することによって液体二酸化炭素を形成し、
前記液体二酸化炭素を形成する際に排ガスを生成し、
前記排ガスの少なくとも一部を前記ケミカルルーピング燃焼システム内の空気反応器に供給する、
ことを含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月10日(2013.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
廃棄物搬送システム等の空気圧式材料搬送システムにおける方法であって、該搬送システムは、材料、より具体的には廃材の少なくとも１つの投入点（６１）と、投入点（６１）に接続することができる材料搬送パイプ（１００）と、搬送される該材料を搬送空気から分離する分離装置と、また、少なくとも材料の搬送中に該搬送パイプ（１００）内で圧力差を達成する手段とを備え、該方法において、材料を投入点（６１）からサブシステム（１）の蓄積タンク（１０５）へ搬送し、該蓄積タンクにおいて該材料を該搬送空気から分離し、第２の段階で該サブシステムの該蓄積タンク（１０５）を空にする、方法であって、
サブシステムに関連する該方法において、材料搬送に必要な吸引効果を達成するために部分真空発生装置を用いること、及び／又は該方法において、材料搬送で必要な吸引効果を達成するためにより広範な廃棄物搬送システムの部分真空発生装置を用いる、
ことを特徴とする、廃棄物搬送システム等の空気圧式材料搬送システムにおける方法。
【請求項２】
該サブシステムに関連する該方法において、該吸引効果を達成するために、局所的な部分真空発生装置、又は可搬式部分真空発生器を用いる、ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
搬送空気を搬送パイプ（１０）内で循環させることができるように、より広範なシステムの該搬送パイプ（１０）が循環路になるように接続される、ことを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
サブシステム（１）の蓄積タンクからより広範なシステムの搬送パイプ（１０）に沿って前方に廃棄物ステーション（２）の該分離装置（２０）まで該材料を搬送し、該分離装置において搬送される該材料を該搬送空気から分離する、ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
該方法において、該循環路内で部分真空発生器及び／又はファン等の少なくとも１つのポンプ装置（２５、２６）を用いて部分真空が達成され、ポンプ装置の吸引側は分離装置（２０）に接続される、ことを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項６】
該方法において、材料の該投入点（６１）から搬送パイプ（１００）内に材料を給送し、該投入点は廃棄物容器又は廃棄物シュート等の廃棄物の投入点である、ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
該方法において、該サブシステム（１）は街区等の特定のエリアの廃棄物搬送システムである、ことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
広範なシステム、すなわち全体的なシステムが或る都市の地区等の特定のエリアの廃棄物搬送システムであり、該広範なシステムは複数のサブシステム（１）を備える、ことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
材料、より具体的には廃材の少なくとも１つの投入点（６１）と、投入点（６１）に接続することができる材料搬送パイプ（１００）と、搬送される該材料を搬送空気から分離する分離装置と、また、少なくとも材料の搬送中に該搬送パイプ（１００）内で圧力差を達成する手段（２５、２６）とを備える、廃棄物搬送システム等の空気圧式材料搬送システムにおける装置であって、
該装置は、材料を投入点（６１）からサブシステム（１）の蓄積タンク（１０５）へ搬送する手段を備え、該蓄積タンクにおいて該材料が該搬送空気から分離され、該サブシステムは、局所的な部分真空発生装置と、より広範な廃棄物搬送システムの部分真空発生装置とに接続されるように取り付けられている、
ことを特徴とする、廃棄物搬送システム等の空気圧式材料搬送システムにおける装置。
【請求項１０】
サブシステム（１）の蓄積タンクからより広範なシステムの搬送パイプ（１０）に沿って前方に廃棄物ステーション（２）の該分離装置（２０）まで材料を搬送する手段を該装置は備え、該分離装置において搬送される該材料は該搬送空気から分離される、ことを特徴とする請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
搬送空気を搬送パイプ（１０）内で循環させることができるように、より広範なシステムの該搬送パイプ（１０）が循環路に接続されるように取り付けられている、ことを特徴とする請求項９又は１０に記載の装置。
【請求項１２】
吸引側が分離装置（２０）に接続されている、部分真空発生器及び／又はファン等の少なくとも１つのポンプ装置（２５、２６）がより広範なシステムの該循環路内に取り付けられている、ことを特徴とする請求項９乃至１１のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１３】
材料の該投入点（６１）は廃棄物容器又は廃棄物シュート等の廃棄物の該投入点である、ことを特徴とする請求項９乃至１２のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１４】
サブシステム（１）は街区等の特定のエリアの廃棄物搬送システムである、ことを特徴とする請求項９乃至１３のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１５】
広範なシステム、すなわち全体的なシステムが或る都市の地区等の特定のエリアの廃棄物搬送システムであり、該広範なシステムは複数のサブシステム（１）を備える、ことを特徴とする請求項９乃至１４のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１６】
請求項９乃至１５のいずれか１項に記載の装置を備える廃棄物搬送システム。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成24年12月20日(2012.12.20)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
オリゴヌクレオチドを調製するための方法であって、
a)以下の式で表されるヒドロキシル基含有化合物を提供する工程:
【化１】
2008532946.tif 000001
(式中、
Bは複素環塩基であり、
及び
i)R2は、H、保護2'-ヒドロキシル基、F、保護アミノ基、O-アルキル基、O-置換アルキル、置換アルキルアミノ又はC4'-O2'メチレン結合であり、
R3は、OR'3、NHR''3、NR''3R'''3であり、R'3はヒドロキシル保護基、保護ヌクレオチド又は保護オリゴヌクレオチドであり、R''3、R'''3は独立にアミン保護基であり、及び  R5はOHであるか、
又は
ii)R2は、H、保護2'-ヒドロキシル基、F、保護アミノ基、O-アルキル基、O-置換アルキル、置換アルキルアミノ又はC4'-O2'メチレン結合であり、
R3はOHであり、及び
R5はOR'5であり、R'5はヒドロキシル保護基、保護ヌクレオチド又は保護オリゴヌクレオチドであるか、
又は
iii)R2はOHであり、
R3はOR'3、NHR''3、NR''3R'''3であり、R'3はヒドロキシル保護基、保護ヌクレオチド又は保護オリゴヌクレオチドであり、R''3、R'''3は独立にアミン保護基であり、及び
R5はOR'5であり、R'5はヒドロキシル保護基、保護ヌクレオチド又は保護オリゴヌクレオチドである)
b)式Iで表される活性体(活性体I)の存在下で前記化合物をリン酸化剤と反応させてリン酸化化合物を調製する工程、
【化２】
2008532946.tif 000002
(式中、
R=アルキル、シクロアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロアルキル、ヘテロアリール、
R1、R2=H又は5〜6員環を共に形成する
X1、X2=独立にN又はCH
Y=H又はSi(R4)3、R4=アルキル、シクロアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロアルキル、ヘテロアリール、
B-=脱プロトン化酸)
c)テトラゾール、ベンジルメルカプトテトラゾール、エチルチオテトラゾール、4,5-ジシアノイミダゾール、ピリジン及びピリジウムトリフルオロアセテートからなる群から選択される活性体IIの存在下で、単離していない前記リン酸化化合物を以下の式で表される第二の化合物と反応させる工程、
【化３】
2008532946.tif 000003
(式中、R5、R3、R2、Bは独立に選択されるが、上記と同様の定義を有する)
を含む、方法。
【請求項２】
式Iの活性体が、以下からなる群から選択される式で表される、請求項１記載の方法。
【化４】
2008532946.tif 000004
(式中、
Yは請求項１記載の定義であり、
Rは、メチル、フェニル又はベンジルである)
【請求項３】
リン酸化剤が以下の式で表される、請求項１又は２記載の方法。
【化５】
2008532946.tif 000005
(式中、Zは脱離基を意味し、R1及びR2は独立に第二級アミノ基である)
【請求項４】
リン酸化剤が、2-シアノエチル-N,N,N',N'-テトライソプロピルホスホロジアミダイトである、請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
脱プロトン化酸が、トリフルオロ酢酸、ジクロロ酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、o-クロロフェノラートからなる群から生じる、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
反応がアセトンの存在下で行われる、請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
リン酸化剤が、ヒドロキシル基含有化合物におけるヒドロキシル基の1.0〜1.2mol/molの量で用いられる、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
リン酸化剤が、ヒドロキシル基含有化合物におけるヒドロキシル基の3〜5mol/molの量で用いられる、請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
高分子アルコールが、請求項１の工程b)の後に加えられる、請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
高分子アルコールがポリビニルアルコールである、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
脱プロトン化酸が、トリフルオロ酢酸、ジクロロ酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸(トリフレート)、o-クロロフェノラート及びそれらの混合物からなる群から生じる、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
反応がアセトンの存在下で行われる、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
反応媒体の少なくとも95%(w/w)がアセトンである、請求項１１記載の方法。
【請求項１４】
オリゴヌクレオチドの合成における反応媒体又は共溶媒としての、式Rx-C(=O)-Ry(式中、Rx及びRyは独立にC1-C6アルキルであるか、又は一緒にシクロアルキルを形成する)で表されるケトンの使用。
【請求項１５】
ケトンが、アセトン、ブタノン、ペンタノン、ヘキサノン、シクロヘキサノン、又はそれらの混合物である、請求項１４記載の使用。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００７】
活性体IIは、カップリング工程を誘導する能力を有する。活性体IIの添加後、アミダイトはアミダイトカップリングを開始する。
活性体IIとして、調製したアミダイトを活性化して工程c)のヒドロキシル基含有化合物と反応することのできる全ての活性体(活性体Iとは異なる);すなわち、テトラゾール及びテトラゾール誘導体を用いることができる。テトラゾールの好ましい誘導体は、ベンジルメルカプトテトラゾール及びエチルチオテトラゾール(ETT)である。好適な化合物は、非プロトン化形態の酸性水素を有する窒素含有複素環、ピリジン、ピリジン塩及びそれらの混合物からなる群から選択される。窒素含有複素環はN0-H結合を有し、すなわちNがプロトン化されていない。これらの化合物は、酸H+B-(式中、B-は請求項に定義されているのと同一の意味を有する)などの酸と組み合わせることによって塩として用いてよい。さらなる好適な活性体IIはピリジンであり、好ましくはピリジニウムトリフルオロアセテートである。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成24年12月11日(2012.12.11)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００９０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００９０】
好ましい実施形態では、本発明は、図２７に示されているように、ドナー基板構造に剛性を追加するためにバッキング基板２７０１を用意する。好ましくは、バッキング基板は、ドナー基板からのシリコン担持材料の層をハンドル基板の正面に転写するのに適切な、少なくともバッキング基板とドナー基板からなるマルチレイヤ構造の有効たわみ特性を与えるのに適切な厚さと材料を有し、これを下でより詳細に説明する。単に例として、バッキング基板は、ドナー基板と比較してより厚いシリコン・ウエハとすることができる。そのようなバッキング基板は、７２５μ±１５μの厚さを有することができ、たとえば２００ｍｍドナー／ハンドル／バッキング基板構造を備える単結晶シリコンから作られる。そのような基板は、約１３０ＧＰａのヤング率を有する。プラスチック、金属、ガラス、石英、複合物、それらの類似物など、他のタイプの材料や厚さを使用して、組み合わされたバッキング基板構造とドナー基板構造に剛性を与えることができる。もちろん、当業者は、他の変形形態、修正形態、代替形態を認めるはずである。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成25年6月24日(2013.6.24)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６８】
実施例２ siRNA複合体を含む核酸送達用組成物の調製
モル比で、ジステアロイルフォスファチジルコリン(DSPC)：コレステロール：ステアリルアミン＝7:3:1となるように秤量し、これらをナス型フラスコを用いてクロロホルム中に溶解させた。この溶液をロータリーエバポレーターにより減圧乾燥させ、脂質薄膜層を形成した。次いで、得られた脂質薄膜層に対してDSPC濃度で30mg/mLとなるように、実施例１で得られたsiRNA複合体を0.028mg/ml含む溶液を添加し、混合した。その後、エクストルーダーを用いて孔径800nm及び200nmの膜に通して溶液の粒子径を揃え、カチオン性リポソーム形態であるsiRNA送達用組成物（実施例２）を調製した。得られたsiRNA送達用組成物は、粒子径は約200 nmを示し、粒度の均一な粒子のリポソーム形態であった。その組成物のゼータ電位は約50 mVを示した。粒子径は、ZETASIZER 3000HSA (MALVERN INSTRUMENT)（レーザー光回折法を用いて体積平均粒径を測定）によって測定した平均粒径（nm）を示す。ゼータ電位は、ZETASIZER 3000HSA (MALVERN INSTRUMENT)を用いて測定した。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成25年2月27日(2013.2.27)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１２８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１２８】
少なくとも一つのＡＰＩが必要である一方、複数のＡＰＩ使用も考慮される。本発明に基づく「ＡＰＩ」または医薬品有効成分には、粒子と成り得、誤用されやすいが、その他の点では本発明で有用な物質が含まれる。そのような有効成分には、全身投与が可能な薬剤成分、ビタミン、ミネラル、栄養補助食品、さらに全身投与不能の薬剤が含まれる。本発明ではこのような物質の組合せも考慮される。薬剤成分としては以下が挙げられる（これらに限定されるものではないが）：抗酸剤、鎮痛剤、覚醒剤、睡眠補助薬、睡眠薬、解熱剤、抗菌剤、抗不安薬、下剤、抗うつ薬、抗利尿薬、整腸剤、抗痙攣剤、抗炎症薬、抗生剤、利尿薬、食欲抑制薬、抗ヒスタミン薬、抗喘息薬、抗利尿薬、整腸剤、片頭痛薬、抗痙攣薬、鎮静剤、抗過活動薬、降圧薬、精神安定剤、充血除去剤、免疫抑制剤、抗癌剤、抗ウイルス薬、抗寄生虫薬、抗真菌薬、制吐薬、抗うつ薬、抗癲癇薬、局所麻酔薬、血管作用薬、抗喘息薬、骨格筋弛緩薬、パーキンソン薬、抗精神病薬、造血成長因子、抗高脂血症薬、抗凝血薬、線維素溶解薬、抗血栓剤、ホルモン、治療用タンパク質およびペプチド、抗不整脈薬、抗狭心症薬、ベータ遮断薬、およびこれらの組合せ。同じく本発明に基づいてＡＰＩとして含まれるのが米国特許第５、２３４，９６７号明細書Ｍａｎｔｅｌｌｅの１８列から２１列に記載された薬剤および医薬品有効成分である。Ｍａｎｔｅｌｌｅの文章は本明細書の参考文献を参照されたい。本発明に基づく一実施形態において、ＡＰＩは誤用される可能性が高い薬剤であるのが好ましい。本発明の好ましい別の実施形態において、ＡＰＩはニュージャージー州Ｗｈｉｔｅｈｏｕｓｅ  ＳｔａｔｉｏｎｎｏのＭｅｒｃｋ&Ｃｏ．，Ｉｎｃ．出版のＭｅｒｃｋ  Ｉｎｄｅｘ第１３版（著作権２００１）ページＴＨＥＲ−２およびページＴＨＥＲ−３に記載された麻薬性若しくは非麻薬性鎮痛剤である。当該麻薬性鎮痛剤としては以下が挙げられる（がこれらに限定されるものではない）：鎮痛剤、疼痛緩和剤、オキシコドン、コデイン、ヒドロコドン、モルヒネ、ヒドロモルフォン、オキシモルフォン、メタドン、プロポキシフェン、メペリジン、フェンタニル、ブプレノルフィン、ブトルファノール、デゾシン、酢酸レボメタジル、レボルファノール、ナルブフィン、ペンタゾシン、レミフェンタニル、スフェンタニル、トラマドールなどのようなオピオイド。アンフェタミン、メタンフェタミン、デキサンフェタミン、メチルフェニデート、デクスメチルフェニデート、ペモリンなどの覚醒剤。アモバルビタール、アプロバルビタール、ブタバルビタール、メホバルビタール、フェノバルビタール、セコバルビタール（以上バルビツール酸塩）、アルプラゾラム、クロナゼパム、ジアゼパム、エスタゾラム、フルラゾラム、ハラゼパム、ロラゼパム、ミダゾラム、クアゼパム、テマゼパム、トリアゾラム、プラゼパム、オキサゼパムなどの鎮静剤および睡眠薬。その他、モダフィニル、アルモダフィニルなど。特に好ましいＡＰＩはオキシコドンである。
【手続補正書】
【提出日】平成23年11月4日(2011.11.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の工程：
（a）固相担体を0.1〜10％（w/w）または0.1〜10％（v/v）の少なくとも1つのシランまたは別の適切なカップラーを含む溶液とともにインキュベーションし、その後溶液を除去する工程；
（b）担体を生体物質を含有する好ましく緩衝化された水溶液とともにインキュベーションすることにより生体物質を担体に対して結合させ、その後水溶液を除去する工程；そして
（c）（i）（ポリ）ペプチド、アミノ酸、スターチ、糖、ホスフェート、ポリアルコール、ポリエチレングリコール（PEG）またはこれらの混合物から選択される1またはそれ以上の物質を含む水溶液、（ii）イオン液体、または（iii）適合性溶質、またはそれらの混合物、中で担体をインキュベーションして、それにより生体物質を部分的にまたは完全に1またはそれ以上の物質により被覆する工程；
を含む、生体物質を保持する固相コーティング担体を製造する方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成25年7月2日(2013.7.2)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子サイクロトロン共鳴による複数の基本プラズマソースを用いて少なくとも一つの部品の表面を処理するための方法であって、前記部品（１）は、基本ソース（２）の少なくとも一つの固定された線形行に関して少なくとも一つの回転運動にさらされる段階よりなり、前記基本ソース（２）の線形行は、前記部品の回転軸に平行に配置されており、前記基本ソース（２）は、同軸導波管及び電子サイクロトロン共鳴のために定義された磁石を含む端部器具よりなり、前記磁石の磁化軸は、前記導波管の軸と同軸にあり、かつ隣接する磁石の極性が同じであるかまたは交互である方法。
【請求項２】
電子サイクロトロン共鳴による複数の基本プラズマソースを用いて少なくとも一つの部品の表面を処理するためのデバイスであって、少なくとも一つの回転運動を受けるための手段にさらされている前記部品に面して配置された基本ソース（２）の少なくとも一つの固定された線形行を備えており、基本ソース（２）の前記線形行は、前記部品の回転軸に平行に配置されており、前記基本ソース（２）は、同軸導波管及び電子サイクロトロン共鳴のために定義された磁石を含む端部器具よりなり、前記磁石の磁化軸は、前記導波管の軸と同軸にあり、かつ隣接する磁石の極性が同じであるかまたは交互であるデバイス。
【請求項３】
前記回転運動は、単一の回転である請求項２に記載のデバイス。
【請求項４】
前記回転運動は、単一または二重の惑星運動である請求項２に記載のデバイス。
【請求項５】
前記基本ソースは、前記ソース間に等量に分割された出力を有する単一の生成器により供給されたことを特徴とする請求項２から４のいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項６】
前記基本ソースは、前記ソースの行に沿って均一なプラズマを有するように調整された出力を有する生成器により供給されたことを特徴とする請求項２から４のいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項７】
前記ソース間の距離Ｄｍａｘは、以下の式によって定義されることを特徴とする請求項２から６に記載のデバイス。
【数１】
2011504206.tif 000001
ここで、Ｒｍａｘ０は５ｃｍであり、Ｐ０は２×１０−３ｍｂａｒ、及びＰは作動圧力（ｍｂａｒ）である。
【請求項８】
前記ソースから前記部品への最小距離は、前記運動の間に考慮された最も近い距離であり、４０と１６０ｍｍの間であることを特徴とする請求項２ないし６のいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項９】
電子サイクロトロン共鳴による複数の基本プラズマソースを用いて少なくとも一つの部品の表面を処理するためのデバイスであって、少なくとも一つの回転運動を受けるための手段にさらされている前記部品に面して配置された基本ソース（２）の少なくとも一つの固定された線形行を備えており、基本ソース（２）の前記線形行は、前記部品の回転軸に平行に配置されており、前記回転運動は、単一または二重の惑星運動であるデバイス。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２１】
有利的に、回転運動は、単一回転であるか、または単一または二重の惑星運動にある。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３０】
【図１】図１は、本発明による処理デバイスの簡易化された実施形態の純粋な概略正面図である。
【図２】図２は、前記運動が回転タイプであり、単一の回転にある場合の図１に対応する平面図である。
【図３】図３は、前記運動が回転タイプであり、単一の惑星運動にある場合の図２と同様の図面である。
【図４】図４は、前記運動が回転タイプであり、二重の惑星運動にある場合の図３と同様の図面である。
【図５】異なる極性の供給を有する基本ソースの配置を示している。
【図６】好ましくは同一の極性を供給を有する基本ソースの配置を示している。
【図７】基本ソースの例となる実施形態の斜視図である。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３６】
より小さな部品に対して、前記運動は、前記単一の惑星タイプ（図３）または二重の惑星タイプ（図４）であってもよい。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５４】
【表３】
2011504206.tif 000002
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５５】
この実施例は、前駆体ガスとして炭化水素を用いるマイクロ波ＥＣＲソースから作られた堆積の厚さの均一性に関している。サンプルは、前記ソースからの異なる最小距離及びそれらに向かい合って配置される。静止処理、すなわち、動かない状態の基板を有する処理は、惑星運動を有する処理と比較される。前記表は、ソースの行への距離が増大するときの堆積の速度の減少を示している。惑星運動の場合、前記運動の間、前記ソース‐基板距離は前記基板から前記ソースの最小距離に対応している。これは、前記運動は堆積の速度の低下を縮小する働きをすることを明らかに示している。