Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月26日(2009.2.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
異なった種類のディスクを記録又は再生可能な光ディスク装置において、
ディスクに対物レンズを介してレーザ光を照射する光ピックアップと、
前記対物レンズをフォーカス方向に移動するアクチュエータと、
前記ディスクからの反射光によってフォーカス状態を検出するフォーカス検出用受光手段と、
前記フォーカス検出用受光手段より生成されるフォーカス誤差信号の振幅を測定するＦＥ信号測定手段と、
前記ＦＥ信号測定手段で測定した振幅から前記ディスクを判別するディスク判別手段とを備え、前記アクチュエータ駆動手段により前記対物レンズを前記ディスクに近づけていき、前記ディスクの信号面にレーザ光の焦点が合う位置の前後でフォーカス誤差信号を発生させ、前記ディスク判別手段を、前記フォーカス誤差信号の振幅の最大値をＦＥｍａｘ、最小値をＦＥｍｉｎ、フォーカス和信号の振幅の最大値をＦＳｍａｘとした時に、（ＦＥｍａｘ−ＦＥｍｉｎ）／ＦＳｍａｘに基づいて前記ディスクの基板厚の判別を行うよう構成した光ディスク装置。
【請求項２】
ディスクの種類を判別するに際し、
ディスクにレーザ光を照射しながら対物レンズを移動させる第１ステップと、
前記第１ステップ中にフォーカス誤差信号の振幅を測定し、前記フォーカス誤差信号の最大値ＦＥｍａｘと最小値ＦＥｍｉｎならびにフォーカス和信号の振幅の最大値をＦＳｍａｘを計測する第２ステップと、
“（ＦＥｍａｘ−ＦＥｍｉｎ）／ＦＳｍａｘ”を判別値と比較して前記ディスクの種類を判別する第３ステップとを有する光ディスク判別方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
本発明の請求項１記載の光ディスク装置は、異なった種類のディスクを記録又は再生可能な光ディスク装置において、ディスクに対物レンズを介してレーザ光を照射する光ピックアップと、前記対物レンズをフォーカス方向に移動するアクチュエータと、前記ディスクからの反射光によってフォーカス状態を検出するフォーカス検出用受光手段と、前記フォーカス検出用受光手段より生成されるフォーカス誤差信号の振幅を測定するＦＥ信号測定手段と、前記ＦＥ信号測定手段で測定した振幅から前記ディスクを判別するディスク判別手段とを備え、前記アクチュエータ駆動手段により前記対物レンズを前記ディスクに近づけていき、前記ディスクの信号面にレーザ光の焦点が合う位置の前後でフォーカス誤差信号を発生させ、前記ディスク判別手段を、前記フォーカス誤差信号の振幅の最大値をＦＥｍａｘ、最小値をＦＥｍｉｎ、フォーカス和信号の振幅の最大値をＦＳｍａｘとした時に、（ＦＥｍａｘ−ＦＥｍｉｎ）／ＦＳｍａｘに基づいて前記ディスクの基板厚の判別を行うよう構成したことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
本発明の請求項２記載の光ディスク判別方法は、ディスクの種類を判別するに際し、ディスクにレーザ光を照射しながら対物レンズを移動させる第１ステップと、前記第１ステップ中にフォーカス誤差信号の振幅を測定し、前記フォーカス誤差信号の最大値ＦＥｍａｘと最小値ＦＥｍｉｎならびにフォーカス和信号の振幅の最大値をＦＳｍａｘを計測する第２ステップと、“（ＦＥｍａｘ−ＦＥｍｉｎ）／ＦＳｍａｘ”を判別値と比較して前記ディスクの種類を判別する第３ステップとを有することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月18日(2009.9.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
〈処方量変更〉
上記変更ボタン１５ｂが押された場合，すなわち処方量についての修正を行う場合の，制御部７の処理手順について説明する。
この場合には制御部７によって前記のように図２６に示す処方画面１６ａが表示される。このとき，図２６の投与スケジュール表示部１６ｂには，その薬剤の投与日に投与マーク１６ｃが表示される。投与マーク１６ｃは，薬剤の投与量の相対的変化をシンボルマー
クで表現したものであり，ここではその一例として横向き矢印で示されている。この矢印には，３つの種類がある。すなわち横向き矢印→，下向き矢印↓，上向き矢印↑のいずれかが表示される。投与マーク１６ｃの表示のない日付には，その薬剤の投与がないことを示している。
ここに→は，その日の投与量が，前回の投与量と比べて変化がないことを意味している。
↑は，その日の投与量が，前回の投与量と比べて増加していることを意味している。
↓は，その日の投与量が，前回の投与量と比べて減少していることを意味している。
ただし，投与量の変化は，絶対的変化ではなく，体表面積などにより修正された相対的変化を問題とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
たとえば，体表面積に応じて投与量が変化する薬剤について，前回投与日と比較して今回投与日には体表面積が１０％減少した場合に，今回の投与量は体表面積の変化に応じて自動的に１０％減少したものになる。従って，上記投与マークの判断基準が絶対量であれば，上記投与量の１０％減少によって，下向き矢印↓が付されなければならないが，ここでの判断基準は体表面積などに応じた相対的変化を問題とするので，投与マークは→のままとなる。
逆に体表面積に応じた投与量に規定された薬剤について，体表面積が１０％減少したにもかかわらず，医師において投与量を確保するために前回の投与量と同量となるように医師が変更した場合には，投与マークは，↑が表示される。
この画面の表示に当たって，制御部７は，患者に関するマスタとして，患者療法マスタ属性（図３５参照），患者療法マスタ処方患者，患者療法マスタ処方投与，患者療法マスタ処方明細（図３６参照），患者療法マスタ処方用法，患者療法マスタ処方コメントの各テーブルを参照する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
上記投与マークとしての，→，↓，↑などは，その一例であり，要するに投与量の相対的変化が一目瞭然にわかるようなものであれば，上記矢印にこだわるものではない。
このように薬剤の投与量の変化が，矢印などの記号により表示可能であるので，薬剤投与量の実質的な変化を目視で直感的に評価でき，忙しい医療の分野で投与量の変化に関する見間違いが極めて少なくなるという優れた効果を達成することができる。
また図２７には，患者の身長や体重が表示されており，これらから計算された体表面積も表示されている。前記したように，処方された薬剤が，体表面積あたりの重量で計算されている場合には，患者の体表面積の変化に応じて薬剤の投与量が自動的に変更される。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月18日(2009.3.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７７】
なお、他の樹脂成分ａとしてガラス転移温度が７１℃の熱可塑性樹脂（バイロン296：東洋紡績社）を用い、バインダー成分における全固形分中の７重量％となるように添加した。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８１】
［実施例３］
実施例２のニュートンリング防止層用塗布液を、下記処方のニュートンリング防止層用塗布液に変更した以外は、実施例２と同様にして、実施例３の上部電極のパネル板を作製した。なお、他の樹脂成分ｂとしてガラス転移温度が６０℃の熱可塑性樹脂（バイロン240：東洋紡績社）を用い、バインダー成分における全固形分中の１０重量％となるように添加した。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８３】
［実施例４］
実施例２のニュートンリング防止層用塗布液を、下記処方のニュートンリング防止層用塗布液に変更した以外は、実施例２と同様にして、実施例４の上部電極のパネル板を作製した。なお、他の樹脂成分ｃとしてガラス転移温度が１０５℃の熱可塑性樹脂（サーモラックLP45M：綜研化学社）を用い、バインダー成分における全固形分中の３重量％となるように添加した。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８５】
［実施例５］
実施例２のニュートンリング防止層用塗布液を、下記処方のニュートンリング防止層用塗布液に変更し、実施例２と同様にしてニュートンリング防止層を形成した後、６０℃、４８時間キュアリングして、実施例５の上部電極のパネル板を作製した。なお、他の樹脂成分ｄとしてガラス転移温度が７０℃の熱硬化型樹脂（アクリディックA808：大日本インキ化学工業社）を用い、バインダー成分における全固形分中の７重量％となるように添加した。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９５】
［比較例６］
実施例２のニュートンリング防止層用塗布液を、下記処方のニュートンリング防止層用塗布液に変更した以外は、実施例２と同様にして、比較例６の上部電極のパネル板を作製した。なお、他の樹脂成分ａは、上述したようにガラス転移温度が７１℃の熱可塑性樹脂で、バインダー成分における全固形分中の２０重量％となるように添加した。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９７】
［比較例７］
実施例２のニュートンリング防止層用塗布液を、下記処方のニュートンリング防止層用塗布液に変更した以外は、実施例２と同様にして、比較例７の上部電極のパネル板を作製した。なお、他の樹脂成分ａは、上述したようにガラス転移温度が７１℃の熱可塑性樹脂で、バインダー成分における全固形分中の０．０６重量％となるように添加した。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９９】
［比較例８］
比較例６のニュートンリング防止層用塗布液の他の樹脂成分ａを、他の樹脂成分ｅとしてガラス転移温度が２０℃の熱可塑性樹脂（バイロンGK140：東洋紡績社）に変更した以外は、比較例６と同様にして、比較例８の上部電極のパネル板を作製した。よって、他の樹脂成分ｅは、バインダー成分における全固形分中の２０重量％である。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１００
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１００】
［比較例９］
比較例７のニュートンリング防止層用塗布液の他の樹脂成分ａを、他の樹脂成分ｆとしてガラス転移温度が２６０℃の熱可塑性樹脂（バイロマックスHR15ET：東洋紡績社）に変更した以外は、比較例７と同様にして、比較例９の上部電極のパネル板を作製した。よって、他の樹脂成分ｆは、バインダー成分における全固形分中の０．０６重量％である。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月26日(2009.3.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
固体高分子電解質膜と水電解触媒を備えるアノード触媒層とを含む燃料電池セルと、
前記燃料電池セルの酸素極の水を燃料極側に移動する移動手段と、
前記固体高分子電解質膜の含水量を検出する含水量検出手段と、
前記含水量検出手段の検出結果に基づいて前記移動手段を制御する制御手段と、
前記固体高分子電解質膜の含水量が低下するか否かを判定する第１の判定手段と、
前記燃料電池セルが燃料欠乏状態にあるか否かを判定する第２の判定手段と、を備え、
前記制御手段は、前記燃料電池セルが燃料欠乏状態にあると前記第２の判定手段によって判定されかつ前記固体高分子電解質膜の含水量が低下すると前記第１の判定手段によって判定された場合に、前記酸素極の水を前記燃料極に移動するように前記移動手段を制御することを特徴とする燃料電池システム。
【請求項２】
前記移動手段は、前記燃料電池セルに供給される酸化剤ガスの背圧を調整する背圧調整手段を含むことを特徴とする請求項１記載の燃料電池システム。
【請求項３】
前記制御手段は、前記固体高分子電解質膜の含水量が低下すると前記第１の判定手段によって判定された場合に、前記酸化剤ガスの背圧が増加するように前記背圧調整手段を制御することを特徴とする請求項２記載の燃料電池システム。
【請求項４】
前記移動手段は、前記燃料電池セルを加熱するヒータを含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の燃料電池システム。
【請求項５】
前記制御手段は、前記固体高分子電解質膜の含水量が低下すると前記第１の判定手段によって判定された場合に、前記燃料電池セルの温度が上昇するように前記ヒータを制御することを特徴とする請求項４記載の燃料電池システム。
【請求項６】
前記含水量検出手段は、前記固体高分子電解質膜の電気抵抗を検出する抵抗検出手段を含み、
前記第１の判定手段は、前記固体高分子電解質膜の電気抵抗が増加する場合に前記固体高分子電解質膜の含水量が低下すると判定することを特徴とする請求項２〜５のいずれかに記載の燃料電池システム。
【請求項７】
前記燃料電池セルを複数積層させた燃料電池スタックをさらに備え、
前記含水量検出手段は、前記燃料電池スタックの締結荷重を検出する荷重検出手段を含み、
前記第１の判定手段は、前記燃料電池スタックの締結荷重が低下する場合に前記固体高分子電解質膜の含水量が低下すると判定することを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の燃料電池システム。
【請求項８】
前記燃料電池セルの発電電圧を検出する発電電圧検出手段をさらに備え、
前記第２の判定手段は、前記燃料電池セルの発電電圧が所定値以下である場合に、前記燃料電池セルが燃料欠乏状態にあると判定することを特徴とする請求項１記載の燃料電池システム。
【請求項９】
前記燃料電池セルの温度を検出する温度検出手段をさらに備え、
前記制御手段は、前記燃料電池セルの温度が氷点下でありかつ前記固体高分子電解質膜の含水量が低下すると前記第１の判定手段によって判定された場合に、前記酸素極の水を前記燃料極に移動するように前記移動手段を制御することを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の燃料電池システム。
【請求項１０】
固体高分子電解質膜と水電解触媒を備えるアノード触媒層とを含む燃料電池セルの前記固体高分子電解質膜の含水量を検出する含水量検出ステップと、
前記固体高分子電解質膜の含水量が低下するか否かを判定し、前記燃料電池セルが燃料欠乏状態にあるか否かを判定する判定ステップと、
前記判定ステップにおいて、前記燃料電池セルが燃料欠乏状態にあると判定されかつ前記固体高分子電解質膜の含水量が低下すると判定された場合に、前記燃料電池セルの酸素極の水を燃料極側に移動する移動ステップとを含むことを特徴とする燃料電池セルの運転方法。
【請求項１１】
前記移動ステップは、前記燃料電池セルに供給される酸化剤ガスの背圧を調整する背圧調整手段によって前記酸化剤ガスの背圧を増加させるステップを含むことを特徴とする請求項１０記載の燃料電池セルの運転方法。
【請求項１２】
前記移動ステップは、ヒータによって前記燃料電池セルの温度を上昇させるステップを含むことを特徴とする請求項１０または１１記載の燃料電池セルの運転方法。
【請求項１３】
前記判定ステップは、前記固体高分子電解質膜の電気抵抗が増加する場合に前記固体高分子電解質膜の含水量が低下すると判定するステップを含むことを特徴とする請求項１０〜１２のいずれかに記載の燃料電池セルの運転方法。
【請求項１４】
前記判定ステップは、前記燃料電池セルを複数積層させた燃料電池スタックの締結荷重が低下する場合に前記固体高分子電解質膜の含水量が低下すると判定するステップを含むことを特徴とする請求項１０〜１３のいずれかに記載の燃料電池セルの運転方法。
【請求項１５】
前記含水量検出ステップは、前記燃料電池セルの発電電圧が所定値以下である場合になされるステップであることを特徴とする請求項１０〜１４のいずれかに記載の燃料電池セルの運転方法。
【請求項１６】
前記含水量検出ステップは、前記燃料電池セルの温度が氷点下である場合になされるステップであることを特徴とする請求項１０〜１５のいずれかに記載の燃料電池セルの運転方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明に係る燃料電池システムは、固体高分子電解質膜と水電解触媒を備えるアノード触媒層とを含む燃料電池セルと、燃料電池セルの酸素極の水を燃料極側に移動する移動手段と、固体高分子電解質膜の含水量を検出する含水量検出手段と、含水量検出手段の検出結果に基づいて移動手段を制御する制御手段と、固体高分子電解質膜の含水量が低下するか否かを判定する第１の判定手段と、燃料電池セルが燃料欠乏状態にあるか否かを判定する第２の判定手段と、を備え、制御手段は、燃料電池セルが燃料欠乏状態にあると第２の判定手段によって判定されかつ固体高分子電解質膜の含水量が低下すると第１の判定手段によって判定された場合に、酸素極の水を前記燃料極に移動するように移動手段を制御することを特徴とするものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明に係る燃料電池セルの運転方法は、固体高分子電解質膜と水電解触媒を備えるアノード触媒層とを含む燃料電池セルの固体高分子電解質膜の含水量を検出する含水量検出ステップと、固体高分子電解質膜の含水量が低下するか否かを判定し、燃料電池セルが燃料欠乏状態にあるか否かを判定する判定ステップと、判定ステップにおいて、燃料電池セルが燃料欠乏状態にあると判定されかつ固体高分子電解質膜の含水量が低下すると判定された場合に、燃料電池セルの酸素極の水を燃料極側に移動する移動ステップとを含むことを特徴とするものである。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月18日(2009.3.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のコンテンツを管理するコンテンツ管理手段と、
前記コンテンツごとに対応付けられた情報を管理するコンテンツ情報管理手段と、
前記コンテンツを表示する表示手段と、
前記表示手段の周辺を撮影する撮影手段と、
前記撮影手段により撮影された映像を基に人物の視線方向を検出して前記表示手段を注視している人物を特定する視線検出手段と、
前記注視している人物をカウントして注視人数を計測するカウント手段と、
前記計測した注視人数を基に前記コンテンツごとの表示優先度を算出し、算出された表示優先度が最も高いコンテンツを前記表示手段に表示するコンテンツに決定するコンテンツ決定手段と、
を備えたことを特徴とするコンテンツ表示装置。
【請求項２】
コンテンツの優先度及び注視人数に基づいて設定した重み付け値を管理する重み付け値管理手段を備えたことを特徴とする請求項１に記載のコンテンツ表示装置。
【請求項３】
前記コンテンツ決定手段は、当該表示優先度の算出に用いる情報を用いて前記表示優先度を算出することを特徴とする請求項１または２に記載のコンテンツ表示装置。
【請求項４】
前記コンテンツ決定手段は、前記計測した注視人数を用いて前記重み付け値管理手段から前記注視人数に該当する優先度の重み付け値を取得し、当該重み付け値を用いて前記表示優先度を算出することを特徴とする請求項１乃至３の何れかに記載のコンテンツ表示装置。
【請求項５】
前記コンテンツ決定手段は、前記表示優先度を算出した後、前記表示優先度の算出に用いる情報の更新処理を行い、前記更新処理は前記表示手段に表示したコンテンツとそれ以外のコンテンツにより異なる処理を行うことを特徴とする請求項１乃至４の何れかに記載のコンテンツ表示装置。
【請求項６】
前記視線検出手段は、検出した視線が前記表示手段のいずれかの位置に所定時間以上あった場合に注視している人物として特定することを特徴とする請求項１乃至５の何れかに記載のコンテンツ表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明のコンテンツ表示装置は、複数のコンテンツを管理するコンテンツ管理手段と、前記コンテンツごとに対応付けられた情報を管理するコンテンツ情報管理手段と、前記コンテンツを表示する表示手段と、前記表示手段の周辺を撮影する撮影手段と、前記撮影手段により撮影された映像を基に人物の視線方向を検出して前記表示手段を注視している人物を特定する視線検出手段と、前記注視している人物をカウントして注視人数を計測するカウント手段と、前記計測した注視人数を基に前記コンテンツごとの表示優先度を算出し、算出された表示優先度が最も高いコンテンツを前記表示手段に表示するコンテンツに決定するコンテンツ決定手段と、を備えたことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成21年8月7日(2009.8.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一定の濃度のＮＤ膜を有する第１の領域と、
該第１の領域とは濃度の異なる一定の濃度のＮＤ膜を有する第２の領域と、
前記第１の領域と第２の領域の間に設けられた濃度変化領域とを有し、
該濃度変化領域は、前記第１の領域の濃度から前記第２の領域の濃度まで、濃度が連続的に変化するＮＤ膜を有し、
前記濃度変化領域の幅は、０．１ｍｍ以上０．４ｍｍ以下であることを特徴とするＮＤフィルタ。
【請求項２】
前記第１の領域が有するＮＤ膜及び前記第２の領域が有するＮＤ膜は、基板の片側に形成されていることを特徴とする請求項１に記載のＮＤフィルタ。
【請求項３】
前記第１の領域が有するＮＤ膜及び前記第２の領域が有するＮＤ膜のうち少なくともどちらか一方は、基板の両側に形成されていることを特徴とする請求項１に記載のＮＤフィルタ。
【請求項４】
開口を形成する絞り部材と、
該開口を通過する光の光量を減衰するためのＮＤフィルタを備え、
該ＮＤフィルタは、
一定の濃度のＮＤ膜を有する第１の領域と、
該第１の領域とは濃度の異なる一定の濃度のＮＤ膜を有する第２の領域と、
前記第１の領域と第２の領域の間に設けられた濃度変化領域を有し、
該濃度変化領域は前記第１の領域の濃度から前記第２の領域の濃度まで、濃度が連続的に変化するＮＤ膜を有し、
前記濃度変化領域の幅は、０．１ｍｍ以上０．４ｍｍ以下であることを特徴とする絞り装置。
【請求項５】
開口を形成する絞り部材と、
該開口を通過する光の光量を減衰するためのＮＤフィルタを備え、
該ＮＤフィルタは、
一定の濃度のＮＤ膜を有する第１の領域と、
該第１の領域とは濃度の異なる一定の濃度のＮＤ膜を有する第２の領域と、
前記第１の領域と第２の領域の間に設けられた濃度変化領域を有し、
該濃度変化領域は前記第１の領域の濃度から前記第２の領域の濃度まで、濃度が連続的に変化するＮＤ膜を有し、
前記濃度変化領域の幅は、前記開口内において前記第１の領域と第２の領域の面積が同一となるときに、前記開口内の前記濃度変化領域の面積が、前記開口の面積の２０％以下となるような幅に設定されていることを特徴とする絞り装置。
【請求項６】
請求項４又は５に記載の絞り装置を備える光学系と、
該光学系によって形成される像を受光する固体撮像素子を備えることを特徴とする光学機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明は、上記課題を解決するため、つぎのように構成したＮＤフィルタ、ＮＤフィルタを有する絞り装置及び光学機器を提供するものである。
本発明のＮＤフィルタは、一定の濃度のＮＤ膜を有する第１の領域と、
該第１の領域とは濃度の異なる一定の濃度のＮＤ膜を有する第２の領域と、
前記第１の領域と第２の領域の間に設けられた濃度変化領域とを有し、
該濃度変化領域は、前記第１の領域の濃度から前記第２の領域の濃度まで、濃度が連続的に変化するＮＤ膜を有し、
前記濃度変化領域の幅は、０．１ｍｍ以上０．４ｍｍ以下であることを特徴とする。
また、本発明のＮＤフィルタは、前記第１の領域が有するＮＤ膜及び前記第２の領域が有するＮＤ膜が、基板の片側に形成されていることを特徴とする。
また、本発明のＮＤフィルタは、前記第１の領域が有するＮＤ膜及び前記第２の領域が有するＮＤ膜のうち少なくともどちらか一方が、基板の両側に形成されていることを特徴とする。
また、本発明の絞り装置は、
開口を形成する絞り部材と、
該開口を通過する光の光量を減衰するためのＮＤフィルタを備え、
該ＮＤフィルタは、
一定の濃度のＮＤ膜を有する第１の領域と、
該第１の領域とは濃度の異なる一定の濃度のＮＤ膜を有する第２の領域と、
前記第１の領域と第２の領域の間に設けられた濃度変化領域を有し、
該濃度変化領域は前記第１の領域の濃度から前記第２の領域の濃度まで、濃度が連続的に変化するＮＤ膜を有し、
前記濃度変化領域の幅は、０．１ｍｍ以上０．４ｍｍ以下であることを特徴とする。
また、本発明の絞り装置は、開口を形成する絞り部材と、
該開口を通過する光の光量を減衰するためのＮＤフィルタを備え、
該ＮＤフィルタは、
一定の濃度のＮＤ膜を有する第１の領域と、
該第１の領域とは濃度の異なる一定の濃度のＮＤ膜を有する第２の領域と、
前記第１の領域と第２の領域の間に設けられた濃度変化領域を有し、
該濃度変化領域は前記第１の領域の濃度から前記第２の領域の濃度まで、濃度が連続的に変化するＮＤ膜を有し、
前記濃度変化領域の幅は、前記開口内において前記第１の領域と第２の領域の面積が同一となるときに、前記開口内の前記濃度変化領域の面積が、前記開口の面積の２０％以下となるような幅に設定されていることを特徴とする。
また、本発明の光学機器は、上記したいずれかに記載の絞り装置を備える光学系と、
該光学系によって形成される像を受光する固体撮像素子を備えることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月3日(2009.4.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
それぞれゲート配線とソース配線に連結されたスイッチング素子と前記スイッチング素子に連結された画素電極とを含む画素部が複数含んでなる表示基板の製造方法において、
ベース基板上に前記スイッチング素子のゲート電極を形成する段階と、
前記ゲート電極が形成された前記ベース基板上にゲート絶縁膜を形成する段階と、
前記ゲート絶縁膜上に前記スイッチング素子のソース及びドレイン電極を形成する段階と、
前記ソース及びドレイン電極が形成された前記ベース基板上に保護絶縁膜を形成する段階と、
レーザビームを前記保護絶縁膜に照射して前記ドレイン電極の一部領域を露出させる第１コンタクトホールを形成する段階と、
前記第１コンタクトホールを通じて前記ドレイン電極と電気的に連結された前記画素電極を形成する段階と、
を含むことを特徴とする表示基板の製造方法。
【請求項２】
前記レーザビームは、ＵＶエキシマーであることを特徴とする請求項１記載の表示基板の製造方法。
【請求項３】
それぞれのゲート配線とソース配線に連結されたスイッチング素子と前記スイッチング素子に連結された画素電極とを含む画素部が複数含んでなる表示基板の製造方法において、
ベース基板上に前記スイッチング素子のゲート電極を形成する段階と、
前記ゲートが形成された前記ベース基板上にゲート絶縁膜を形成する段階と、
前記ゲート絶縁膜上に前記スイッチング素子のソース及びドレイン電極を形成する段階と、
前記ソース及びドレイン電極が形成された前記ベース基板上に有機絶縁膜を形成する段階と、
レーザビームを前記有機絶縁膜に照射して前記ドレイン電極の一部領域を露出させる第１コンタクトホールを形成する段階と、
前記第１コンタクトホールを通じて前記ドレイン電極と電気的に連結された前記画素電極を形成する段階と、
を含むことを特徴とする表示基板の製造方法。
【請求項４】
前記レーザビームは、ＵＶエキシマーであることを特徴とする請求項３記載の表示基板の製造方法。
【請求項５】
前記第１コンタクトホールを形成する段階で前記レーザビームを利用して前記画素電極が形成される領域の有機絶縁膜をテーパー構造にパターニングする段階を更に含むことを特徴とする請求項３または４記載の表示基板の製造方法。
【請求項６】
レーザビームを走査するヘッド部と、
前記ヘッド部が固定され、前記ヘッド部を所定の位置に移動させる移送部と、
被処理表示基板が配置されるステージ部と、を含み、
前記レーザビームによって前記ステージ部に配置された表示基板の絶縁膜がパターニングされることを特徴とする表示基板の製造装置。
【請求項７】
前記レーザビームは、ＵＶエキシマーであることを特徴とする請求項６記載の表示基板の製造装置。
【請求項８】
前記ヘッド部は、
前記レーザビームを生成する光源部と、
前記光源部から出射されたレーザビームを所定の形状に変更させる開口パターンが形成されたマスクと、
前記開口パターンを通過したレーザビームを前記表示基板に投射させる投射レンズと、
を含むことを特徴とする請求項６または７記載の表示基板の製造装置。
【請求項９】
前記レーザビームの量を調節する移動可能な絞りを更に含むことを特徴とする請求項６から８のいずれかに記載の表示基板の製造装置。
【請求項１０】
前記絞りは、前記マスクと前記光源部との間に配置されることを特徴とする請求項９記載の表示基板の製造装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月31日(2009.7.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像供給装置から供給される画像データに基づいて表示装置において画像を表示する表示システムであって、
前記画像供給装置は、原稿を読み取ることにより得られた画像データに対する編集を許可するか否かの指示を受け付ける指示手段を有し、
前記表示装置は、前記指示手段による指示に応じて、前記画像供給装置から供給される画像データの編集を制御する表示制御手段と、
を有することを特徴とする表示システム。
【請求項２】
ネットワークを介して接続されているコンピュータの表示画面に表示されている画像データを表示装置に転送し、前記表示装置が前記画像データに基づいて画像を表示する表示システムであって、
前記コンピュータは、当該コンピュータの表示画面の画像に対する編集を許可するか否かの指示を受け付ける指示手段を有し、
前記表示装置は、前記指示手段による指示に応じて、前記コンピュータから転送された前記画像データに対する編集を制御する表示制御手段と、
を有することを特徴とする表示システム。
【請求項３】
前記表示制御手段は、編集が許可されている画像データを前記表示装置の画面の第１の表示領域に表示し、編集が許可されていない画像データを前記表示装置の画面の第２の表示領域に表示することを特徴とする請求項１又は２に記載の表示システム。
【請求項４】
前記表示制御手段は、前記第１の表示領域に画像データを表示する際、編集メニューを表示するメニューウインドウを更に表示することを特徴とする請求項３に記載の表示システム。
【請求項５】
前記表示装置は、
前記表示装置の画面に表示されている表示内容の記録が指示されると、当該画面に編集が許可されていない画像データが表示されているかどうかを判定する判定手段と、
前記判定手段により前記編集が許可されていない画像データが表示されていると判定された場合、当該編集が許可されていない画像データを消去した状態で、前記画面に表示されている表示内容を記録する記録制御手段とを更に有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の表示システム。
【請求項６】
前記表示装置は、前記記録制御手段によって記録された後、前記編集が許可されていない画像データを前記画面に再び表示させる手段を更に有することを特徴とする請求項５に記載の表示システム。
【請求項７】
前記表示装置は、前記画面上で位置を指示する位置指示手段を更に有し、前記編集は前記位置指示手段により指示された座標位置への編集を含むことを特徴とする請求項３乃至６のいずれか１項に記載の表示システム。
【請求項８】
画像供給装置から供給される画像データに基づいて表示装置において画像を表示する表示制御方法であって、
前記画像供給装置において、原稿を読み取ることにより得られた画像データに対する編集を許可するか否かの指示を受け付ける指示工程と、
前記前記表示装置において、前記指示工程による指示に応じて、前記画像供給装置から供給される画像データの編集を制御する表示制御工程と、
を有することを特徴とする表示制御方法。
【請求項９】
ネットワークを介して接続されているコンピュータの表示画面に表示されている画像データを表示装置に転送し、前記表示装置が前記画像データに基づいて画像を表示する表示システムの表示制御方法であって、
前記コンピュータが、前記コンピュータから前記表示装置に転送される、前記コンピュータの表示画面に表示されている画像データに対する編集を許可するか否かの指示を受け付ける指示工程と、
前記表示装置が、前記指示工程による指示に応じて、前記画像データに対応して前記表示装置の画面に表示されている画像に対する編集を制御する表示制御工程と、
を有することを特徴とする表示制御方法。
【請求項１０】
前記表示装置の画面に表示されている画像データの記録が指示されると、当該画面に編集が許可されていない画像データが表示されているかどうかを判定する判定工程と、
前記判定工程で前記編集が許可されていない画像データが表示されていると判定された場合、当該編集が許可されていない画像データを消去した状態で、前記画面に表示されている画像データを記録する記録制御工程とを更に有することを特徴とする請求項８又は９に記載の表示制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
上記目的を達成するために本発明の一態様に係る表示システムは以下のような構成を備える。即ち、
画像供給装置から供給される画像データに基づいて表示装置において画像を表示する表示システムであって、
前記画像供給装置は、原稿を読み取ることにより得られた画像データに対する編集を許可するか否かの指示を受け付ける指示手段を有し、
前記表示装置は、前記指示手段による指示に応じて、前記画像供給装置から供給される画像データの編集を制御する表示制御手段とを有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
上記目的を達成するために本発明の一態様に係る表示システムは以下のような構成を備える。即ち、
ネットワークを介して接続されているコンピュータの表示画面に表示されている画像データを表示装置に転送し、前記表示装置が前記画像データに基づいて画像を表示する表示システムであって、
前記コンピュータは、当該コンピュータの表示画面の画像に対する編集を許可するか否かの指示を受け付ける指示手段を有し、
前記表示装置は、前記指示手段による指示に応じて、前記コンピュータから転送された前記画像データに対する編集を制御する表示制御手段と、を有することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
上記目的を達成するために本発明の一態様に係る表示制御方法は以下のような工程を備える。即ち、
画像供給装置から供給される画像データに基づいて表示装置において画像を表示する表示制御方法であって、
前記画像供給装置において、原稿を読み取ることにより得られた画像データに対する編集を許可するか否かの指示を受け付ける指示工程と、
前記前記表示装置において、前記指示工程による指示に応じて、前記画像供給装置から供給される画像データの編集を制御する表示制御工程と、を有することを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
上記目的を達成するために本発明の一態様に係る表示制御方法は以下のような工程を備える。即ち、
ネットワークを介して接続されているコンピュータの表示画面に表示されている画像データを表示装置に転送し、前記表示装置が前記画像データに基づいて画像を表示する表示システムの表示制御方法であって、
前記コンピュータが、前記コンピュータから前記表示装置に転送される、前記コンピュータの表示画面に表示されている画像データに対する編集を許可するか否かの指示を受け付ける指示工程と、
前記表示装置が、前記指示工程による指示に応じて、前記画像データに対応して前記表示装置の画面に表示されている画像に対する編集を制御する表示制御工程と、を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成21年8月20日(2009.8.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザビームを偏向走査する回転多面鏡と、
前記回転多面鏡によって走査されたレーザビームを被走査体に導く光学手段と、
前記被走査体上における前記レーザビームの走査方向を補正するために、前記光学手段の一端部に作用して、前記光学手段の光軸に平行な軸を回転軸として前記光軸と直交する平面で前記光学手段を回動させる回動手段と、
前記光軸を挟んで前記一端部とは反対側の前記光学手段の他端部に当接して前記光学手段の振動を抑制する振動抑制手段と、
前記回動手段により光学手段を回動させるとき、前記振動抑制手段を前記光学手段から離間させる離間手段と、
を有することを特徴とする走査光学装置。
【請求項２】
前記光学手段は、前記回転多面鏡によって走査されたレーザビームを前記被走査体に導く光学部材と、前記光学部材を保持する保持部材と、を有し、前記振動抑制手段は前記保持部材に接触して前記光学手段の振動を抑制することを特徴とする請求項１に記載の走査光学装置。
【請求項３】
前記回動手段は、前記光学手段を前記回転軸を中心に前記平面内で回動するように前記光学手段の一端部に作用する駆動モータを有し、
前記離間手段は、前記駆動モータに前記駆動モータを駆動するためのパルス信号が付与されていないとき、前記光学手段に前記振動抑制手段を当接させ、前記駆動モータに前記パルス信号が付与されたことに応じて前記光学手段から前記振動抑制手段を離間させることを特徴とする請求項１に記載の走査光学装置。
【請求項４】
前記振動抑制手段は、前記光学手段に接触する部分に粘弾性部材を備えることを特徴とする請求項１に記載の走査光学装置。
【請求項５】
前記光学手段は、前記振動抑制手段と接触する面が曲率を有することを特徴とする請求項１に記載の走査光学装置。
【請求項６】
複数の像担持体と、
それぞれの像担持体を露光するための複数の請求項１から請求項５のいずれかに記載の走査光学装置を有することを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
上記課題を解決するための本発明における代表的な手段は、レーザビームを偏向走査する回転多面鏡と、前記回転多面鏡によって走査されたレーザビームを被走査体に導く光学手段と、前記被走査体上における前記レーザビームの走査方向を補正するために、前記光学手段の一端部に作用して、前記光学手段の光軸に平行な軸を回転軸として前記光軸と直交する平面で前記光学手段を回動させる回動手段と、前記光軸を挟んで前記一端部とは反対側の前記光学手段の他端部に当接して前記光学手段の振動を抑制する振動抑制手段と、前記回動手段により光学手段を回動させるとき、前記振動抑制手段を前記光学手段から離間させる離間手段と、を有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
20はシート面と垂直方向に屈折力を有するシリンダレンズである。21はレーザ光を偏向し走査する偏向走査手段でポリゴンミラー及びそのモータ部を有している。22はレーザ光を感光体ドラム７上に所定のスポット径で結像するトーリックレンズであり、23は同じくレーザ光を感光体ドラム７上に所定のスポット径で結像するために光回折する回折光学素子である。また、24は光束を反射するための反射ミラーである。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月29日(2009.7.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光が入射される入射面と、
前記入射面の端部から延びた上部面と、
前記上部面に向き合う下部面と、
前記上部面において互いに離隔されるように突出した第１プリズムと、
を含むことを特徴とする導光板。
【請求項２】
前記第１プリズムは、互いに前記各第１プリズムの幅の分だけ離隔されることを特徴とする請求項１記載の導光板。
【請求項３】
前記第１プリズムは、互いに前記各第１プリズムの幅の２倍分だけ離隔されることを特徴とする請求項１記載の導光板。
【請求項４】
前記第１プリズムの縦断面は、三角形形状を有することを特徴とする請求項１記載の導光板。
【請求項５】
互いに隣接する前記第１プリズムの間に形成され、膨らんで突出した凸パターンをさらに含むことを特徴とする請求項１記載の導光板。
【請求項６】
互いに隣接する前記第１プリズムの間に形成され、凹んで陥没した凹パターンをさらに含むことを特徴とする請求項１記載の導光板。
【請求項７】
前記第１プリズムが形成された一面と対向する他面に形成され、光を拡散し反射させるドットパターンをさらに含むことを特徴とする請求項１記載の導光板。
【請求項８】
前記ドットパターンには第２プリズムが形成されることを特徴とする請求項７記載の導光板。
【請求項９】
前記第２プリズムの長手方向は、前記第１プリズムの長手方向と交差することを特徴とする請求項８記載の導光板。
【請求項１０】
前記下部面から突出する第２プリズムをさらに含むことを特徴とする請求項１記載の導光板。
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月17日(2009.4.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
請求項４または５記載の魚眼レンズ系において、次の条件式（６）ないし（８）を満足する魚眼レンズ系。
（６）１．５＜｜ｒ２／ｆ１｜＜２．０  （ｆ１＜０）
（７）０．２＜ｒ２／ｒ３＜０．８  （ｒ２、ｒ３＞０）
（８）１．０＜ｆ１ａ／ｆ１ｂ＜２．０  （ｆ１ａ、ｆ１ｂ＜０）
但し、
ｆ１；第１レンズ群の焦点距離、
ｒ２；第１レンズ群中の最も物体側の第１負メニスカスレンズの像面側の面の曲率半径、
ｒ３；第１レンズ群中の物体側から２番目の第２負メニスカスレンズの物体側の面の曲率半径、
ｆ１ａ；第１レンズ群中の最も物体側の第１負メニスカスレンズの焦点距離、
ｆ１ｂ；第１レンズ群中の物体側から２番目以降のレンズ群の合成焦点距離。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、次の条件式（６）ないし（８）を満足することが好ましい。
（６）１．５＜｜ｒ２／ｆ１｜＜２．０  （ｆ１＜０）
（７）０．２＜ｒ２／ｒ３＜０．８  （ｒ２、ｒ３＞０）
（８）１．０＜ｆ１ａ／ｆ１ｂ＜２．０  （ｆ１ａ、ｆ１ｂ＜０）
但し、
ｆ１；第１レンズ群の焦点距離、
ｒ２；第１レンズ群中の最も物体側の第１負メニスカスレンズの像面側の面の曲率半径、
ｒ３；第１レンズ群中の物体側から２番目の第２負メニスカスレンズの物体側の面の曲率半径、
ｆ１ａ；第１レンズ群中の最も物体側の第１負メニスカスレンズの焦点距離、
ｆ１ｂ；第１レンズ群中の物体側から２番目以降のレンズ群の合成焦点距離、
である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
条件式（８）は、第１レンズ群内の第２負メニスカスレンズ以降のレンズで効果的にインナーフォーカスを行なうための条件である。すなわち、条件式（８）は、固定の第１負メニスカスレンズのパワー（ｆ１ａ）と第２負メニスカスレンズ以降のフォーカスレンズ群のパワー（ｆ１ｂ）との比を規定している。条件式（８）の下限を超えて第１負メニスカスレンズのパワーが強くなる（第２負メニスカスレンズ以降のフォーカスレンズ群のパワーが弱くなる）と、フォーカスの為の移動量が大きくなり、インナーフォーカスとすることが困難になる。条件式（８）の上限を超えて、第１負メニスカスレンズのパワーが弱くなる（第２負メニスカスレンズ以降のフォーカスレンズ群のパワーが強くなる）と、フォーカシングに際し、第１負メニスカスレンズによる収差発生量の変化が大きくなる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
各実施例の各条件式に対する値を表１１に示す。
（表１１）
実施例１   実施例２   実施例３   実施例４   実施例５
条件式（１）      0.59       0.59       0.59       0.58       0.60
条件式（２）      0.46       0.51       0.64       0.38       0.40
条件式（３）      1.22       1.10       1.22       1.02       1.59
条件式（４）     81.6       81.6       81.6       81.6       81.6
条件式（５）      1.21       1.13       1.13       0.58       1.00
条件式（６）      1.60 1.70       1.74       1.71       1.74
条件式（７）      0.45       0.40       0.27       0.60       0.63
条件式（８）      1.21       1.61       1.68       1.74       1.51
実施例６   実施例７   実施例８   実施例９   実施例１０
条件式（１）      0.65       0.61       0.65       0.59       0.60
条件式（２）      0.31       0.38       0.22       0.62       0.71
条件式（３）      1.71       1.66       1.49       1.42       1.06
条件式（４）     81.6       70.2       81.6       81.6       81.6
条件式（５）      0.91       0.93       0.78       1.05       1.21
条件式（６）      1.55       1.75       1.54       1.73       1.73
条件式（７）      0.66       0.74       0.79       0.33       0.20
条件式（８）      1.26       1.54       1.21       1.88       1.65
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月30日(2009.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
浸漬フォトリソグラフィ法を含む、２５０ｎｍより短波長で動作するフォトリソグラフィシステムに適する光学素子において、前記素子が、
２５０ｎｍより短い波長を有する電磁放射を透過させる、第１の面すなわち上面及び第２の面すなわち下面を有する基板であって、前記電磁放射が前記第２の面から入り、前記素子を通過して前記第１の面から出る基板、
前記基板上に被着された、無反射コーティング、反射または半反射ミラーコーティング、偏光コーティング、ビームスプリッタコーティング及び技術上既知のその他のコーティングからなる群から選ばれる、前記第１の面及び前記第２の面の内の少なくとも１つの上に被着される１つまたは複数のコーティング層、
前記第１の面及び前記第２の面の内の少なくとも１つの上に被着されているか、前記必要に応じて被着された層が存在する場合には前記必要に応じて被着された層を覆って被着されている、気密封止材料の緻密耐久性被膜、及び
前記基板及び前記気密封止材料のいずれにも接するように、前記気密封止材料の周縁領域及び前記基板に施された封止剤、
を有することを特徴とする素子。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
浸漬フォトリソグラフィ法を含む、２５０ｎｍより短波長で動作するフォトリソグラフィシステムに適する光学素子において、前記素子が、
２５０ｎｍより短い波長を有する電磁放射を透過させる、第１の面すなわち上面及び第２の面すなわち下面を有する金属フッ化物基板であって、前記電磁放射が前記第２の面から入り、前記素子を通過して前記第１の面から出る金属フッ化物基板、
前記基板上に被着された、無反射コーティング、反射または半反射ミラーコーティング、偏光コーティング、ビームスプリッタコーティング及び技術上既知のその他のコーティングからなる群から選ばれる、前記第１の面及び前記第２の面の内の少なくとも１つの上に被着される１つまたは複数のコーティング層、
前記第１の面及び前記第２の面の内の少なくとも１つの上に被着されているか、前記必要に応じて被着された層が存在する場合には前記必要に応じて被着された層を覆って被着されている、気密封止材料の緻密耐久性被膜、及び
前記基板及び前記気密封止材料のいずれにも接するように、前記気密封止材料の周縁領域及び前記基板に施された封止剤、
を有することを特徴とする素子。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１３】
浸漬フォトリソグラフィ法を含む、２５０ｎｍより短波長で動作するフォトリソグラフィシステムに適する光学素子の作成方法において、前記方法が、
第１の面及び第２の面を有し、２５０ｎｍより短い波長を有する電磁放射を透過させ、前記電磁放射が前記第２の面から入り、前記素子を通過して前記第１の面から出る、金属フッ化物基板を提供する工程、
前記基板上に被着された、無反射コーティング、反射または半反射ミラーコーティング、偏光コーティング、ビームスプリッタコーティング及び技術上既知のその他のコーティングからなる群から選ばれる、前記第１の面及び前記第２の面の内の少なくとも１つの上に被着される１つまたは複数のコーティング層を設ける工程、
前記第１の面及び前記第２の面の内の少なくとも１つの上に被着されているか、前記必要に応じて設けられた層が存在する場合には前記必要に応じて設けられた層を覆って被着されている、気密封止材料の緻密耐久性被膜を設ける工程、及び
前記基板及び前記気密封止材料のいずれにも接するように、前記気密封止材料の周縁領域及び前記基板に封止剤を施す工程、
を含むことを特徴とする方法。