【手続補正書】
【提出日】平成21年10月7日(2009.10.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光されることにより潜像が形成される像担持体と、
該像担持体を所定の極性に帯電する帯電手段と、
該像担持体上に形成された潜像を可視化する現像装置と
を含むプロセス装置と、
前記プロセス装置を制御して所定の検知パターンを形成する検知パターン形成手段と、
該検知パターンを検知する検知手段と、
前記検知手段の出力に基づいて、画像形成条件を制御する手段と
を備える画像形成装置において、
前記検知パターン形成手段が、前記プロセス装置を制御して出力補正用パターンを形成すると共に、前記検知手段が前記出力補正用パターンを検知し、該出力補正用パターンの検知結果に基づいて、前記検知パターンの検知結果を補正する画像形成装置。
【請求項２】
前記検知手段が、前記検知パターンに光を照射した際の光の反射強度を測定する手段であり、かつ、前記光の照射方向と該検知パターンが形成された面の法線について対称な方向に反射される光を検知する手段である請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記検知結果の補正が、前記検知手段による検知パターンの検知結果に対し、該検知結果に含まれる乱反射光成分の影響の補正である請求項１又は２に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記検知パターンの検知結果に対する補正が、少なくとも出力補正用パターンの検知結果と、前記出力補正用パターンに対する前記検知パターンの露光比率とに基づいて行われる請求項１から３のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記出力補正用パターンが、所定の面積内を全面露光したべたパターンである請求項１から４のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記検知パターンの検知結果に対する補正量が、前記出力補正用パターンに対する前記検知パターンの露光比率に対し非線形の関係である請求項１から５のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項７】
前記検知手段における検知パターンの検知結果の値Ｖｈの補正は、前記出力補正用パターンの検知結果の値をＶｆ、前記出力補正用パターンに対する前記検知パターンの露光比率をα、前記検知手段が前記出力補正用パターン又は検知パターンの検知を行っていない場合の検知手段の出力値をＶ０とした場合、Ｖｉ＝（Ｖｈ−Ｖ０）−（Ｖｆ−Ｖ０）×αなるＶｉを求めることにより行われる請求項１から６のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項８】
前記αは、Ｎを任意の自然数として、前記出力補正用パターンのＮドットマトリックス中における塗りつぶし数をｎ、前記検知パターンのＮドットマトリックス中における塗りつぶし数をｍとした場合、α＝ｍ／ｎにより与えられる請求項７に記載の画像形成装置。
【請求項９】
前記αは、予め装置本体に格納されている、中間調及びべた画像の露光比率と乱反射光量との関係を示すテーブルから与えられる値である請求項７に記載の画像形成装置。
【請求項１０】
前記画像形成条件を制御する手段は、前記像担持体と前記現像装置との間に印加される現像バイアスをそれぞれ変化させて複数の前記補正後の検知パターンの検知結果を得て、該得た複数の補正後の検知パターンの検知結果と現像バイアスとの関係から前記検知パターンの濃度が最適値となる最適現像バイアスを計算する請求項１から９のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項１１】
前記画像形成条件を制御する手段が前記最適現像バイアスの計算を行う場合、前記検知パターンの検知結果と現像バイアスとの関係から前記検知パターンの濃度の最適値を挟む２点の補正後の検知パターンの検知結果の値を取り出し、該２点で直線補間を行うことにより、前記検知パターンの濃度が最適値となる最適現像バイアスを計算する請求項１０に記載の画像形成装置。
【請求項１２】
画像形成条件決定時に検知した出力補正用パターンの検知結果から、画像形成条件補正実行時の出力補正用パターンの検知結果を推定し、該推定した検知結果を出力補正に用いる請求項１から１１のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項１３】
前記画像形成条件決定時の動作が、最適現像バイアスを計算する動作であり、
前記画像形成条件補正実行時の動作が、電子写真特有の非線形な入出力特性であるγ特性を打ち消して入出力特性をリニアに保つ画像処理動作である請求項１２に記載の画像形成装置。
【請求項１４】
露光されることにより潜像が形成される像担持体と、
該像担持体を所定の極性に帯電する帯電手段と、
該像担持体上に形成された潜像を可視化する現像装置と
を含むプロセス装置と、
前記プロセス装置を制御して所定の検知パターンを形成する検知パターン形成手段と、
該検知パターンを検知する検知手段と、
前記検知手段の出力に基づいて、画像形成条件を制御する手段と
を備える画像形成装置に適用される画像形成方法であって、
前記検知パターン形成手段が、
前記プロセス装置を制御して出力補正用パターンを形成する工程と、
前記検知手段が前記出力補正用パターンを検知し、該出力補正用パターンの検知結果に基づいて、前記検知パターンの検知結果を補正する工程と
を有する画像形成方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明に係る画像形成装置は、露光されることにより潜像が形成される像担持体と、該像担持体を所定の極性に帯電する帯電手段と、該像担持体上に形成された潜像を可視化する現像装置とを含むプロセス装置と、前記プロセス装置を制御して所定の検知パターンを形成する検知パターン形成手段と、該検知パターンを検知する検知手段と、前記検知手段の出力に基づいて、画像形成条件を制御する手段とを備える画像形成装置において、前記検知パターン形成手段が、前記プロセス装置を制御して出力補正用パターンを形成すると共に、前記検知手段が前記出力補正用パターンを検知し、該出力補正用パターンの検知結果に基づいて、前記検知パターンの検知結果を補正する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
また、前記検知手段が、前記検知パターンに光を照射した際の光の反射強度を測定する手段であり、かつ、前記光の照射方向と該検知パターンが形成された面の法線について対称な方向に反射される光を検知する手段である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
また、前記画像形成条件を制御する手段は、前記像担持体と前記現像装置との間に印加される現像バイアスをそれぞれ変化させて複数の前記補正後の検知パターンの検知結果を得て、該得た複数の補正後の検知パターンの検知結果と現像バイアスとの関係から前記検知パターンの濃度が最適値となる最適現像バイアスを計算する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
また、前記画像形成条件を制御する手段が前記最適現像バイアスの計算を行う場合、前記検知パターンの検知結果と現像バイアスとの関係から前記検知パターンの濃度の最適値を挟む２点の補正後の検知パターンの検知結果の値を取り出し、該２点で直線補間を行うことにより、前記検知パターンの濃度が最適値となる最適現像バイアスを計算する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
また、前記画像形成条件決定時の動作が、最適現像バイアスを計算する動作であり、前記画像形成条件補正実行時の動作が、電子写真特有の非線形な入出力特性であるγ特性を打ち消して入出力特性をリニアに保つ画像処理動作である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
さらに、本発明に係る画像形成方法は、露光されることにより潜像が形成される像担持体と、該像担持体を所定の極性に帯電する帯電手段と、該像担持体上に形成された潜像を可視化する現像装置とを含むプロセス装置と、前記プロセス装置を制御して所定の検知パターンを形成する検知パターン形成手段と、該検知パターンを検知する検知手段と、前記検知手段の出力に基づいて、画像形成条件を制御する手段とを備える画像形成装置に適用される画像形成方法であって、前記検知パターン形成手段が、前記プロセス装置を制御して出力補正用パターンを形成する工程と、前記検知手段が前記出力補正用パターンを検知し、該出力補正用パターンの検知結果に基づいて、前記検知パターンの検知結果を補正する工程とを有する。