【誤訳訂正書】
【提出日】平成25年4月8日(2013.4.8)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３０】
本発明のナノワイヤーは、材料特性において、ほぼ均一であってもよいし、または、特定の実施形態では、異質（例えばナノワイヤーヘテロ構造）であってもよい。このナノワイヤーは、基本的に、任意の好都合な１つの材料または複数の材料から製造されていてもよく、例えば、ほぼ結晶質、ほぼ単結晶質、多結晶質、または、アモルファスであってもよい。ナノワイヤーは、可変の直径を有していてもよいし、または、ほぼ均一な直径を有していてもよい。すなわち、ほぼ均一な直径とは、最も変動が大きい領域に対して、および、少なくとも５ｎｍ（例えば、少なくとも１０ｎｍ、少なくとも２０ｎｍ、または、少なくとも５０ｎｍ）の線寸法に対して、約２０％未満（例えば、約１０％未満、約５％未満、または、約１％未満）の差異を示すということである。典型的には、この直径は、ナノワイヤーの端部から算出されたものである（例えば、ナノワイヤーの中心の２０％、４０％、５０％、または、８０％に亘って）。ナノワイヤーは、その長軸の全長または一部に亘って、直線状であってもよいし、または、例えば曲線状若しくは湾曲していてもよい。特定の実施形態では、ナノワイヤーまたはそのナノワイヤーの一部は、二次元または三次元の量子閉じ込めを示すことが可能である。本発明に係るナノワイヤーからは、カーボンナノチューブを特別に除外することができ、特定の実施形態では、「ウィスカー」または「ナノウィスカー」、特に１００ｎｍまたは約２００ｎｍよりも大きな直径を有するウィスカーも除外される。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ナノワイヤーを転写対象となる目標面に転写する方法であって、
少なくとも１つのナノワイヤーを電極対に近接するように供給する供給工程と、
上記電極対の２つの電極によって電界を発生させて、上記少なくとも１つのナノワイヤーを当該２つの電極に関連付ける電界発生工程と、
上記電極対を上記転写対象となる目標面の領域に位置合わせする位置合わせ工程と、
上記少なくとも１つのナノワイヤーを上記電極対から上記転写対象となる目標面の領域に堆積させる堆積工程とを含み、
上記電極対は、第１電荷を有する転写表面に実装され、
上記第１電荷は、上記少なくとも１つのナノワイヤーに静電反発力を印加するものであり、
上記電界は、当該静電反発力に反発して当該少なくとも１つのナノワイヤーに誘電泳動力を与えて、当該少なくとも１つのナノワイヤーを上記転写表面に引き付ける、方法。
【請求項２】
ナノワイヤーを転写対象となる目標面に転写する方法であって、
少なくとも１つのナノワイヤーを電極対に近接するように供給する供給工程と、
上記電極対の２つの電極によって電界を発生させて、上記少なくとも１つのナノワイヤーを当該２つの電極に関連付ける電界発生工程と、
上記電極対を上記転写対象となる目標面の領域に位置合わせする位置合わせ工程と、
上記少なくとも１つのナノワイヤーを上記電極対から上記転写対象となる目標面の領域に堆積させる堆積工程とを含み、
上記電極対は、第１電荷を有する転写表面に実装され、
上記電界に交流（ＡＣ）電界によるバイアスをかけて、上記少なくとも１つのナノワイヤーを上記転写表面に引き付ける、方法。
【請求項３】
上記堆積工程は、上記電界に第２ＡＣ電界によるバイアスをかけて、上記少なくとも１つのナノワイヤーが上記転写対象となる目標面の方に移動することを可能にする、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
ナノワイヤーを転写対象となる目標面に転写する方法であって、
少なくとも１つのナノワイヤーを電極対に近接するように供給する供給工程と、
上記電極対の２つの電極によって電界を発生させて、上記少なくとも１つのナノワイヤーを当該２つの電極に関連付ける電界発生工程と、
上記電極対を上記転写対象となる目標面の領域に位置合わせする位置合わせ工程と、
上記少なくとも１つのナノワイヤーを上記電極対から上記転写対象となる目標面の領域に堆積させる堆積工程とを含み、
上記電極対は、第１電荷を有する転写表面に実装され、
上記転写対象となる目標面が上記第１電荷とは反対の電荷である第２電荷を有するように、上記転写対象となる目標面を形成する工程をさらに含む、方法。
【請求項５】
上記位置合わせ工程は、上記少なくとも１つのナノワイヤーと上記転写対象となる目標面との間隔を狭めることによって、当該少なくとも１つのナノワイヤーを、上記第２電荷の静電引力によって当該転写対象となる目標面に引き付けることを可能にする工程を含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
上記堆積工程は、上記第２電荷によって、上記少なくとも１つのナノワイヤーを上記転写対象となる目標面の方に引き付ける工程を含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
上記堆積工程は、上記転写表面を超音波振動させて、上記第２電荷の静電引力が、上記少なくとも１つのナノワイヤーを上記転写対象となる目標面の方に引き付けることを可能にする工程を含む、請求項４に記載の方法。
【請求項８】
上記転写表面を超音波振動させる工程は、上記転写表面および上記転写対象となる目標面の両方を超音波振動させる工程を含む、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
上記転写表面を超音波振動させる工程は、上記転写表面と上記転写対象となる目標面とを同期して超音波振動させる工程をさらに含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
ナノワイヤーを転写対象となる目標面に転写する方法であって、
少なくとも１つのナノワイヤーを電極対に近接するように供給する供給工程と、
上記電極対の２つの電極によって電界を発生させて、上記少なくとも１つのナノワイヤーを当該２つの電極に関連付ける電界発生工程と、
上記電極対を上記転写対象となる目標面の領域に位置合わせする位置合わせ工程と、
上記少なくとも１つのナノワイヤーを上記電極対から上記転写対象となる目標面の領域に堆積させる堆積工程とを含み、
上記電極対は、第１電荷を有する転写表面に実装され、
上記堆積工程は、上記転写対象となる目標面から上記転写表面に真空を印加して、上記少なくとも１つのナノワイヤーを上記転写対象となる目標面の方に移動させる工程を含む、方法。
【請求項１１】
ナノワイヤーを転写対象となる目標面に転写する方法であって、
少なくとも１つのナノワイヤーを電極対に近接するように供給する供給工程と、
上記電極対の２つの電極によって電界を発生させて、上記少なくとも１つのナノワイヤーを当該２つの電極に関連付ける電界発生工程と、
上記電極対を上記転写対象となる目標面の領域に位置合わせする位置合わせ工程と、
上記少なくとも１つのナノワイヤーを上記電極対から上記転写対象となる目標面の領域に堆積させる堆積工程とを含み、
上記電極対は、第１電荷を有する転写表面に実装され、
上記堆積工程は、上記転写対象となる目標面に関連付けられた第２電界を発生させて、上記少なくとも１つのナノワイヤーを当該転写対象となる目標面の方に引き付ける工程を含む、方法。
【請求項１２】
ナノワイヤーを転写対象となる目標面に転写する方法であって、
少なくとも１つのナノワイヤーを電極対に近接するように供給する供給工程と、
上記電極対の２つの電極によって電界を発生させて、上記少なくとも１つのナノワイヤーを当該２つの電極に関連付ける電界発生工程と、
上記電極対を上記転写対象となる目標面の領域に位置合わせする位置合わせ工程と、
上記少なくとも１つのナノワイヤーを上記電極対から上記転写対象となる目標面の領域に堆積させる堆積工程とを含み、
上記電極対は、第１電荷を有する転写表面に実装され、
上記堆積工程は、上記電界の発生を中止する工程を含む、方法。
【請求項１３】
ナノワイヤーを転写対象となる目標面に転写する方法であって、
少なくとも１つのナノワイヤーを電極対に近接するように供給する供給工程と、
上記電極対の２つの電極によって電界を発生させて、上記少なくとも１つのナノワイヤーを当該２つの電極に関連付ける電界発生工程と、
上記電極対を上記転写対象となる目標面の領域に位置合わせする位置合わせ工程と、
上記少なくとも１つのナノワイヤーを上記電極対から上記転写対象となる目標面の領域に堆積させる堆積工程とを含み、
上記電極対は、第１電荷を有する転写表面に実装され、
親水性を有するように上記転写対象となる目標面を形成して、上記少なくとも１つのナノワイヤーを含有する溶液を当該転写対象となる目標面の方に引き付けるようにする工程をさらに含む、方法。
【請求項１４】
ナノワイヤーを転写対象となる目標面に転写する方法であって、
少なくとも１つのナノワイヤーを電極対に近接するように供給する供給工程と、
上記電極対の２つの電極によって電界を発生させて、上記少なくとも１つのナノワイヤーを当該２つの電極に関連付ける電界発生工程と、
上記電極対を上記転写対象となる目標面の領域に位置合わせする位置合わせ工程と、
上記少なくとも１つのナノワイヤーを上記電極対から上記転写対象となる目標面の領域に堆積させる堆積工程とを含み、
上記電極対は、第１電荷を有する転写表面に実装され、
疎水性を有するように上記転写表面を形成して、上記少なくとも１つのナノワイヤーを含有する溶液をはね返すようにする工程をさらに含む、方法。
【請求項１５】
ナノワイヤーを転写対象となる目標面に転写する方法であって、
少なくとも１つのナノワイヤーを電極対に近接するように供給する供給工程と、
上記電極対の２つの電極によって電界を発生させて、上記少なくとも１つのナノワイヤーを当該２つの電極に関連付ける電界発生工程と、
上記電極対を上記転写対象となる目標面の領域に位置合わせする位置合わせ工程と、
上記少なくとも１つのナノワイヤーを上記電極対から上記転写対象となる目標面の領域に堆積させる堆積工程とを含み、
上記電極対は、第１電荷を有する転写表面に実装され、
上記供給工程は、上記少なくとも１つのナノワイヤーを含有する溶液を上記電極対上に流す工程を含む、方法。
【請求項１６】
上記電極対上の上記溶液の流速を変化させる工程をさらに含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
ナノワイヤーを転写対象となる目標面に転写する方法であって、
少なくとも１つのナノワイヤーを電極対に近接するように供給する供給工程と、
上記電極対の２つの電極によって電界を発生させて、上記少なくとも１つのナノワイヤーを当該２つの電極に関連付ける電界発生工程と、
上記電極対を上記転写対象となる目標面の領域に位置合わせする位置合わせ工程と、
上記少なくとも１つのナノワイヤーを上記電極対から上記転写対象となる目標面の領域に堆積させる堆積工程とを含み、
上記電極対は、第１電荷を有する転写表面に実装され、
上記電極対は、第１電極および第２電極を含み、
上記少なくとも１つのナノワイヤーは、第１ナノワイヤーを含むものであり、
上記電界発生工程は、上記第１ナノワイヤーの第１端部を上記第１電極の表面の近傍に配置すると共に、上記第１ナノワイヤーの第２端部を上記第２電極の表面の近傍に配置する工程を含む、方法。
【請求項１８】
上記電界発生工程は、上記少なくとも１つのナノワイヤーを、上記第１電極および上記第２電極を通る軸にほぼ平行に配向する工程を含む、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
上記電界発生工程は、上記少なくとも１つのナノワイヤーを、上記第１端部および上記第２端部が上記第１電極および上記第２電極に接触しないように配置する工程を含む、請求項１７に記載の方法。
【請求項２０】
ナノワイヤーを転写対象となる目標面に転写する方法であって、
少なくとも１つのナノワイヤーを電極対に近接するように供給する供給工程と、
上記電極対の２つの電極によって電界を発生させて、上記少なくとも１つのナノワイヤーを当該２つの電極に関連付ける電界発生工程と、
上記電極対を上記転写対象となる目標面の領域に位置合わせする位置合わせ工程と、
上記少なくとも１つのナノワイヤーを上記電極対から上記転写対象となる目標面の領域に堆積させる堆積工程とを含み、
上記電極対は、第１電荷を有する転写表面に実装され、
上記転写対象となる目標面の領域は、電気接点対を含むものであり、
上記位置合わせ工程は、上記電極対を上記電気接点対に接触させる工程を含む、方法。
【請求項２１】
ナノワイヤーを転写対象となる目標面に転写する方法であって、
少なくとも１つのナノワイヤーを電極対に近接するように供給する供給工程と、
上記電極対の２つの電極によって電界を発生させて、上記少なくとも１つのナノワイヤーを当該２つの電極に関連付ける電界発生工程と、
上記電極対を上記転写対象となる目標面の領域に位置合わせする位置合わせ工程と、
上記少なくとも１つのナノワイヤーを上
上記電極対は、第１電荷を有する転写表面に実装され、
上記位置合わせ工程は、上記電極対を上記転写対象となる目標面に接触させる接触工程を含む、方法。
【請求項２２】
上記接触工程は、当該接触工程によって、上記電極対の第１電極を実装するカンチレバーを屈曲させる工程を含む、請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
上記接触工程は、当該接触工程によって、上記電極対を実装する一対のカンチレバーを屈曲させる工程を含む、請求項２１に記載の方法。
【請求項２４】
ナノワイヤーを転写対象となる目標面に転写する方法であって、
少なくとも１つのナノワイヤーを電極対に近接するように供給する供給工程と、
上記電極対の２つの電極によって電界を発生させて、上記少なくとも１つのナノワイヤーを当該２つの電極に関連付ける電界発生工程と、
上記電極対を上記転写対象となる目標面の領域に位置合わせする位置合わせ工程と、
上記少なくとも１つのナノワイヤーを上記電極対から上記転写対象となる目標面の領域に堆積させる堆積工程とを含み、
上記電極対は、第１電荷を有する転写表面に実装され、
上記位置合わせ工程は、上記電極対を上記転写対象となる目標面の近傍に配置する工程を含む、方法。
【請求項２５】
ナノワイヤーを転写対象となる目標面に転写する方法であって、
ナノワイヤーを転写対象となる目標面に転写する方法であって、
少なくとも１つのナノワイヤーを電極対に近接するように供給する供給工程と、
上記電極対の２つの電極によって電界を発生させて、上記少なくとも１つのナノワイヤーを当該２つの電極に関連付ける電界発生工程と、
上記電極対を上記転写対象となる目標面の領域に位置合わせする位置合わせ工程と、
上記少なくとも１つのナノワイヤーを上記電極対から上記転写対象となる目標面の領域に堆積させる堆積工程とを含み、
上記電極対は、第１電荷を有する転写表面に実装され、
上記転写対象となる目標面の領域に位置合わせされている電極対を当該領域から取り除く工程をさらに含む、方法。
【請求項２６】
少なくとも１つの第２ナノワイヤーを上記電極対に近接するように供給する供給工程と、
上記電極対の２つの電極によって第２電界を発生させて、上記少なくとも１つの第２ナノワイヤーを当該２つの電極に関連付ける電界発生工程と、
上記電極対を、上記転写対象となる目標面の第２領域に位置合わせする位置合わせ工程と、
上記少なくとも１つのナノワイヤーを上記電極対から上記転写対象となる目標面の第２領域に堆積させる堆積工程とをさらに含む、請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
ナノワイヤーを転写対象となる目標面に転写する方法であって、
少なくとも１つのナノワイヤーを電極対に近接するように供給する供給工程と、
上記電極対の２つの電極によって電界を発生させて、上記少なくとも１つのナノワイヤーを当該２つの電極に関連付ける電界発生工程と、
上記電極対を上記転写対象となる目標面の領域に位置合わせする位置合わせ工程と、
上記少なくとも１つのナノワイヤーを上記電極対から上記転写対象となる目標面の領域に堆積させる堆積工程とを含み、
上記電極対は、第１電荷を有する転写表面に実装され、
第１電極対および第２電極対は、共通の転写表面上に存在するものであり、
上記供給工程と並行して、上記少なくとも１つの第１ナノワイヤーを上記第１電極対に近接するように供給すると共に、少なくとも１つの第２ナノワイヤーを上記第２電極対に近接するように供給する工程と、
第１電界を発生させる上記工程と並行して、上記第２電極対の２つの第２電極によって第２電界を発生させて、少なくとも１つの上記第２ナノワイヤーを上記２つの第２電極に関連付ける工程と、
上記第１電極対を上記転写対象となる目標面の第１領域に位置合わせする上記位置合わせ工程と並行して、上記第２電極対を上記転写対象となる目標面の第２領域に位置合わせする工程と、
上記少なくとも１つの第１ナノワイヤーを上記第１電極対から上記第１領域に堆積させる上記堆積工程と並行して、上記少なくとも１つの第２ナノワイヤーを上記第２電極対から上記転写対象となる目標面の第２領域に堆積させる工程とをさらに含む、方法。
【請求項２８】
ナノワイヤーを転写対象となる目標面に転写する方法であって、
少なくとも１つのナノワイヤーを電極対に近接するように供給する供給工程と、
上記電極対の２つの電極によって電界を発生させて、上記少なくとも１つのナノワイヤーを当該２つの電極に関連付ける電界発生工程と、
上記電極対を上記転写対象となる目標面の領域に位置合わせする位置合わせ工程と、
上記少なくとも１つのナノワイヤーを上記電極対から上記転写対象となる目標面の領域に堆積させる堆積工程とを含み、
上記電極対は、第１電荷を有する転写表面に実装され、
結合されていないナノワイヤーを上記電極対から除去する工程をさらに含む、方法。
【請求項２９】
ナノワイヤーを転写対象となる目標面に転写するためのシステムであって、
転写表面を有する筐体と、
上記転写表面上の電極対と、
上記電極対に近接するように供給された複数のナノワイヤーを含有する懸濁液と、
上記電極対の２つの電極によって電界を発生させて、上記複数のナノワイヤーのうちの少なくとも１つのナノワイヤーを上記２つの電極に関連付けることが可能なように構成されている、当該電極対に結合された信号発生器と、
上記電極対を上記転写対象となる目標面の領域に位置合わせして、関連付けされた上記少なくとも１つのナノワイヤーを、当該電極対から当該転写対象となる目標面の領域に堆積させることが可能なように構成されている位置合わせ機構とを備え、
上記電極対は、第１電荷を有する転写表面に実装され、
上記第１電荷は、上記少なくとも１つのナノワイヤーに静電反発力を印加するものであり、
上記電界は、当該静電反発力に反発して当該少なくとも１つのナノワイヤーに誘電泳動力を与えて、当該少なくとも１つのナノワイヤーを上記転写表面に引き付ける、システム。
【請求項３０】
ナノワイヤーを転写対象となる目標面に転写するためのシステムであって、
転写表面を有する筐体と、
上記転写表面上の電極対と、
上記電極対に近接するように供給された複数のナノワイヤーを含有する懸濁液と、
上記電極対の２つの電極によって電界を発生させて、上記複数のナノワイヤーのうちの少なくとも１つのナノワイヤーを上記２つの電極に関連付けることが可能なように構成されている、当該電極対に結合された信号発生器と、
上記電極対を上記転写対象となる目標面の領域に位置合わせして、関連付けされた上記少なくとも１つのナノワイヤーを、当該電極対から当該転写対象となる目標面の領域に堆積させることが可能なように構成されている位置合わせ機構とを備え、
上記電極対は、第１電荷を有する転写表面に実装され、
上記信号発生器は、上記電界に交流（ＡＣ）電界によるバイアスをかけて、上記少なくとも１つのナノワイヤーを上記転写表面に引き付ける、システム。
【請求項３１】
上記信号発生器は、上記電界に第２ＡＣ電界によるバイアスをかけて、関連付けられた上記少なくとも１つのナノワイヤーを上記転写対象となる目標面の方に移動させることを可能にする、請求項３０に記載のシステム。
【請求項３２】
ナノワイヤーを転写対象となる目標面に転写するためのシステムであって、
転写表面を有する筐体と、
上記転写表面上の電極対と、
上記電極対に近接するように供給された複数のナノワイヤーを含有する懸濁液と、
上記電極対の２つの電極によって電界を発生させて、上記複数のナノワイヤーのうちの少なくとも１つのナノワイヤーを上記２つの電極に関連付けることが可能なように構成されている、当該電極対に結合された信号発生器と、
上記電極対を上記転写対象となる目標面の領域に位置合わせして、関連付けされた上記少なくとも１つのナノワイヤーを、当該電極対から当該転写対象となる目標面の領域に堆積させることが可能なように構成されている位置合わせ機構とを備え、
上記電極対は、第１電荷を有する転写表面に実装され、
上記転写対象となる目標面は、上記第１電荷とは反対の電荷である第２電荷を有している、システム。
【請求項３３】
上記位置合わせ機構は、上記少なくとも１つのナノワイヤーと上記転写対象となる目標面との間隔を狭めて、関連付けられた上記少なくとも１つのナノワイヤーを、上記第２電荷の静電引力によって当該転写対象となる目標面に引き付けることが可能なように構成されている、請求項３２に記載のシステム。
【請求項３４】
関連付けられた上記少なくとも１つのナノワイヤーを、上記第２電荷によって上記転写対象となる目標面の方に引き付ける、請求項３３に記載のシステム。
【請求項３５】
上記転写表面を振動させて、上記第２電荷の静電引力が、関連付けられた上記少なくとも１つのナノワイヤーを上記転写対象となる目標面の方に引き付けることが可能なように構成されている超音波振動源をさらに備える、請求項３２に記載のシステム。
【請求項３６】
上記超音波振動源は、上記転写表面および上記転写対象となる目標面の両方を振動させるように構成されている、請求項３５に記載のシステム。
【請求項３７】
上記超音波振動源は、上記転写表面と上記転写対象となる目標面とを同期して振動させるように構成されている、請求項３６に記載のシステム。
【請求項３８】
ナノワイヤーを転写対象となる目標面に転写するためのシステムであって、
転写表面を有する筐体と、
上記転写表面上の電極対と、
上記電極対に近接するように供給された複数のナノワイヤーを含有する懸濁液と、
上記電極対の２つの電極によって電界を発生させて、上記複数のナノワイヤーのうちの少なくとも１つのナノワイヤーを上記２つの電極に関連付けることが可能なように構成されている、当該電極対に結合された信号発生器と、
上記電極対を上記転写対象となる目標面の領域に位置合わせして、関連付けされた上記少なくとも１つのナノワイヤーを、当該電極対から当該転写対象となる目標面の領域に堆積させることが可能なように構成されている位置合わせ機構とを備え、
上記電極対は、第１電荷を有する転写表面に実装され、
上記転写対象となる目標面から上記転写表面に真空を印加して、関連付けられた上記少なくとも１つのナノワイヤーを当該転写対象となる目標面に移動させるように構成されている真空源をさらに備える、システム。
【請求項３９】
ナノワイヤーを転写対象となる目標面に転写するためのシステムであって、
転写表面を有する筐体と、
上記転写表面上の電極対と、
上記電極対に近接するように供給された複数のナノワイヤーを含有する懸濁液と、
上記電極対の２つの電極によって電界を発生させて、上記複数のナノワイヤーのうちの少なくとも１つのナノワイヤーを上記２つの電極に関連付けることが可能なように構成されている、当該電極対に結合された信号発生器と、
上記電極対を上記転写対象となる目標面の領域に位置合わせして、関連付けされた上記少なくとも１つのナノワイヤーを、当該電極対から当該転写対象となる目標面の領域に堆積させることが可能なように構成されている位置合わせ機構とを備え、
上記電極対は、第１電荷を有する転写表面に実装され、
上記転写対象となる目標面に関連付けられた第２電界を発生させて、関連付けられた上記少なくとも１つのナノワイヤーを当該転写対象となる目標面の方に引き付けるように構成されている電界源をさらに備える、システム。
【請求項４０】
ナノワイヤーを転写対象となる目標面に転写するためのシステムであって、
転写表面を有する筐体と、
上記転写表面上の電極対と、
上記電極対に近接するように供給された複数のナノワイヤーを含有する懸濁液と、
上記電極対の２つの電極によって電界を発生させて、上記複数のナノワイヤーのうちの少なくとも１つのナノワイヤーを上記２つの電極に関連付けることが可能なように構成されている、当該電極対に結合された信号発生器と、
上記電極対を上記転写対象となる目標面の領域に位置合わせして、関連付けされた上記少なくとも１つのナノワイヤーを、当該電極対から当該転写対象となる目標面の領域に堆積させることが可能なように構成されている位置合わせ機構とを備え、
上記電極対は、第１電荷を有する転写表面に実装され、
上記信号発生器は、電界の強度を弱めて、関連付けられた上記少なくとも１つのナノワイヤーを上記転写対象となる目標面の方に引き付けることが可能なように構成されている、システム。
【請求項４１】
ナノワイヤーを転写対象となる目標面に転写するためのシステムであって、
転写表面を有する筐体と、
上記転写表面上の電極対と、
上記電極対に近接するように供給された複数のナノワイヤーを含有する懸濁液と、
上記電極対の２つの電極によって電界を発生させて、上記複数のナノワイヤーのうちの少なくとも１つのナノワイヤーを上記２つの電極に関連付けることが可能なように構成されている、当該電極対に結合された信号発生器と、
上記電極対を上記転写対象となる目標面の領域に位置合わせして、関連付けされた上記少なくとも１つのナノワイヤーを、当該電極対から当該転写対象となる目標面の領域に堆積させることが可能なように構成されている位置合わせ機構とを備え、
上記電極対は、第１電荷を有する転写表面に実装され、
上記転写対象となる目標面は、親水性を有するように構成されており、関連付けられた上記少なくとも１つのナノワイヤーを含有する流体を当該転写対象となる目標面の方に引き付ける、システム。
【請求項４２】
ナノワイヤーを転写対象となる目標面に転写するためのシステムであって、
転写表面を有する筐体と、
上記転写表面上の電極対と、
上記電極対に近接するように供給された複数のナノワイヤーを含有する懸濁液と、
上記電極対の２つの電極によって電界を発生させて、上記複数のナノワイヤーのうちの少なくとも１つのナノワイヤーを上記２つの電極に関連付けることが可能なように構成されている、当該電極対に結合された信号発生器と、
上記電極対を上記転写対象となる目標面の領域に位置合わせして、関連付けされた上記少なくとも１つのナノワイヤーを、当該電極対から当該転写対象となる目標面の領域に堆積させることが可能なように構成されている位置合わせ機構とを備え、
上記電極対は、第１電荷を有する転写表面に実装され、
上記転写表面は、疎水性を有するように構成されており、関連付けられた上記少なくとも１つのナノワイヤーを含有する流体をはね返す、システム。
【請求項４３】
ナノワイヤーを転写対象となる目標面に転写するためのシステムであって、
転写表面を有する筐体と、
上記転写表面上の電極対と、
上記電極対に近接するように供給された複数のナノワイヤーを含有する懸濁液と、
上記電極対の２つの電極によって電界を発生させて、上記複数のナノワイヤーのうちの少なくとも１つのナノワイヤーを上記２つの電極に関連付けることが可能なように構成されている、当該電極対に結合された信号発生器と、
上記電極対を上記転写対象となる目標面の領域に位置合わせして、関連付けされた上記少なくとも１つのナノワイヤーを、当該電極対から当該転写対象となる目標面の領域に堆積させることが可能なように構成されている位置合わせ機構とを備え、
上記電極対は、第１電荷を有する転写表面に実装され、
上記懸濁液および上記電極対を収容している容器をさらに備える、システム。
【請求項４４】
ナノワイヤーを転写対象となる目標面に転写するためのシステムであって、
転写表面を有する筐体と、
上記転写表面上の電極対と、
上記電極対に近接するように供給された複数のナノワイヤーを含有する懸濁液と、
上記電極対の２つの電極によって電界を発生させて、上記複数のナノワイヤーのうちの少なくとも１つのナノワイヤーを上記２つの電極に関連付けることが可能なように構成されている、当該電極対に結合された信号発生器と、
上記電極対を上記転写対象となる目標面の領域に位置合わせして、関連付けされた上記少なくとも１つのナノワイヤーを、当該電極対から当該転写対象となる目標面の領域に堆積させることが可能なように構成されている位置合わせ機構とを備え、
上記電極対は、第１電荷を有する転写表面に実装され、
上記電極対上に上記懸濁液を流す、システム。
【請求項４５】
ナノワイヤーを転写対象となる目標面に転写するためのシステムであって、
転写表面を有する筐体と、
上記転写表面上の電極対と、
上記電極対に近接するように供給された複数のナノワイヤーを含有する懸濁液と、
上記電極対の２つの電極によって電界を発生させて、上記複数のナノワイヤーのうちの少なくとも１つのナノワイヤーを上記２つの電極に関連付けることが可能なように構成されている、当該電極対に結合された信号発生器と、
上記電極対を上記転写対象となる目標面の領域に位置合わせして、関連付けされた上記少なくとも１つのナノワイヤーを、当該電極対から当該転写対象となる目標面の領域に堆積させることが可能なように構成されている位置合わせ機構とを備え、
上記電極対は、第１電荷を有する転写表面に実装され、
上記電極対は、第１電極および第２電極を含み、
上記少なくとも１つのナノワイヤーは、第１ナノワイヤーを含むものであり、
上記電界は、上記第１ナノワイヤーの第１端部を上記第１電極の表面の近傍に配置すると共に、上記第１ナノワイヤーの第２端部を上記第２電極の表面の近傍に配置する、システム。
【請求項４６】
上記電界は、上記少なくとも１つのナノワイヤーを、上記第１電極および上記第２電極を通る軸にほぼ平行に配向する、請求項４５に記載のシステム。
【請求項４７】
上記電界は、上記少なくとも１つのナノワイヤーを、上記第１端部および上記第２端部が上記第１電極および上記第２電極に接触しないように配置する、請求項４５に記載のシステム。
【請求項４８】
ナノワイヤーを転写対象となる目標面に転写するためのシステムであって、
転写表面を有する筐体と、
上記転写表面上の電極対と、
上記電極対に近接するように供給された複数のナノワイヤーを含有する懸濁液と、
上記電極対の２つの電極によって電界を発生させて、上記複数のナノワイヤーのうちの少なくとも１つのナノワイヤーを上記２つの電極に関連付けることが可能なように構成されている、当該電極対に結合された信号発生器と、
上記電極対を上記転写対象となる目標面の領域に位置合わせして、関連付けされた上記少なくとも１つのナノワイヤーを、当該電極対から当該転写対象となる目標面の領域に堆積させることが可能なように構成されている位置合わせ機構とを備え、
上記電極対は、第１電荷を有する転写表面に実装され、
上記転写対象となる目標面の領域は、電気接点対を含むものであり、
上記位置合わせ機構は、上記電極対を上記電気接点対に接触させる、システム。
【請求項４９】
ナノワイヤーを転写対象となる目標面に転写するためのシステムであって、
転写表面を有する筐体と、
上記転写表面上の電極対と、
上記電極対に近接するように供給された複数のナノワイヤーを含有する懸濁液と、
上記電極対の２つの電極によって電界を発生させて、上記複数のナノワイヤーのうちの少なくとも１つのナノワイヤーを上記２つの電極に関連付けることが可能なように構成されている、当該電極対に結合された信号発生器と、
上記電極対を上記転写対象となる目標面の領域に位置合わせして、関連付けされた上記少なくとも１つのナノワイヤーを、当該電極対から当該転写対象となる目標面の領域に堆積させることが可能なように構成されている位置合わせ機構とを備え、
上記電極対は、第１電荷を有する転写表面に実装され、
上記位置合わせ機構は、上記電極対を上記転写対象となる目標面に接触させるように構成されている、請求項３１に記載のシステム。
【請求項５０】
上記転写表面は、上記電極対の第１電極を実装するカンチレバーを有し、
上記カンチレバーは、上記電極対が上記転写対象となる目標面に接触する場合に屈曲するように構成されている、請求項４９に記載のシステム。
【請求項５１】
上記転写表面は、上記電極対の第１電極および第２電極を実装する一対のカンチレバーを有し、
上記一対のカンチレバーは、上記電極対が上記転写対象となる目標面に接触する場合に屈曲するように構成されている、請求項４９に記載のシステム。
【請求項５２】
ナノワイヤーを転写対象となる目標面に転写するためのシステムであって、
転写表面を有する筐体と、
上記転写表面上の電極対と、
上記電極対に近接するように供給された複数のナノワイヤーを含有する懸濁液と、
上記電極対の２つの電極によって電界を発生させて、上記複数のナノワイヤーのうちの少なくとも１つのナノワイヤーを上記２つの電極に関連付けることが可能なように構成されている、当該電極対に結合された信号発生器と、
上記電極対を上記転写対象となる目標面の領域に位置合わせして、関連付けされた上記少なくとも１つのナノワイヤーを、当該電極対から当該転写対象となる目標面の領域に堆積させることが可能なように構成されている位置合わせ機構とを備え、
上記電極対は、第１電荷を有する転写表面に実装され、
上記位置合わせ機構は、上記電極対を、上記転写対象となる目標面の近傍に配置するように構成されている、システム。
【請求項５３】
上記転写表面上に複数のスペーサをさらに備える、請求項５２に記載のシステム。
【請求項５４】
ナノワイヤーを転写対象となる目標面に転写するためのシステムであって、
転写表面を有する筐体と、
上記転写表面上の電極対と、
上記電極対に近接するように供給された複数のナノワイヤーを含有する懸濁液と、
上記電極対の２つの電極によって電界を発生させて、上記複数のナノワイヤーのうちの少なくとも１つのナノワイヤーを上記２つの電極に関連付けることが可能なように構成されている、当該電極対に結合された信号発生器と、
上記電極対を上記転写対象となる目標面の領域に位置合わせして、関連付けされた上記少なくとも１つのナノワイヤーを、当該電極対から当該転写対象となる目標面の領域に堆積させることが可能なように構成されている位置合わせ機構とを備え、
上記電極対は、第１電荷を有する転写表面に実装され、
上記位置合わせ機構は、関連付けられた上記少なくとも１つのナノワイヤーが堆積された後に、上記転写対象となる目標面の領域に位置合わせされている電極対を当該領域から取り除くように構成されている、システム。
【請求項５５】
ナノワイヤーを転写対象となる目標面に転写するためのシステムであって、
転写表面を有する筐体と、
上記転写表面上の電極対と、
上記電極対に近接するように供給された複数のナノワイヤーを含有する懸濁液と、
上記電極対の２つの電極によって電界を発生させて、上記複数のナノワイヤーのうちの少なくとも１つのナノワイヤーを上記２つの電極に関連付けることが可能なように構成されている、当該電極対に結合された信号発生器と、
上記電極対を上記転写対象となる目標面の領域に位置合わせして、関連付けされた上記少なくとも１つのナノワイヤーを、当該電極対から当該転写対象となる目標面の領域に堆積させることが可能なように構成されている位置合わせ機構とを備え、
上記電極対は、第１電荷を有する転写表面に実装され、
第２電極対が上記転写表面上にある、システム。