【誤訳訂正書】
【提出日】平成25年4月4日(2013.4.4)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）または（Ｉ’）のスピルコスタチン類似体またはその医薬的に許容される塩であるスピルコスタチン類似体
【化１】
2010510302.tif 000001
式中、Ｒ2およびＲ4は同一であっても異なっていてもよく、それぞれ−Ｈ、−炭素数１〜６のアルキル、−炭素数２〜６のアルケニル、−Ｌ−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｒ’、−Ｌ−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−Ｒ’’、−Ｌ−Ａ、−Ｌ−ＮＲ’’Ｒ’’、−Ｌ−Ｈｅｔ−Ｃ（Ｏ）−Ｈｅｔ−Ｒ’’および−Ｌ−Ｈｅｔ−Ｒ’’から選択され；
Ｒ1は−Ｈ、−炭素数１〜６のアルキル、−炭素数２〜６のアルケニル、−Ｌ−Ｏ−Ｃ
（Ｏ）−Ｒ’、−Ｌ−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−Ｒ’’、−Ｌ−Ａ、−Ｌ−ＮＲ’’Ｒ’’、−Ｌ−Ｈｅｔ−Ｃ（Ｏ）−Ｈｅｔ−Ｒ’’、−Ｌ−Ｈｅｔ−Ｒ’’および −（炭素数１〜４の
アルキル）−Ａ’から選択され；
Ｒ3は−Ｌ−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｒ’、−Ｌ−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−Ｒ’’、−Ｌ−Ａ、−Ｌ−Ｎ
Ｒ’’Ｒ’’、−Ｌ−Ｈｅｔ−Ｃ（Ｏ）−Ｈｅｔ−Ｒ’’、−Ｌ−Ｈｅｔ−Ｒ’’および−（炭素数１〜４のアルキル）−Ａ’’から選択され；
Ｌは炭素数１〜６のアルキレン基であり、Ａはフェニルまたは５〜６員ヘテロアリール基であり、Ａ’は炭素数６〜１０のアリール基または５〜１０員ヘテロアリール基であり、Ａ’’は炭素数６〜１０のアリール基または５〜１０員ヘテロアリール基であり、各Ｒ’は同一であっても異なっていてもよく、炭素数１〜４のアルキルを表し、各Ｒ’’は同一であっても異なっていてもよく、Ｈまたは炭素数１〜６のアルキルを表し、各−Ｈｅｔ−は同一であっても異なっていてもよく、−Ｏ−、−Ｎ（Ｒ’’’）−および−Ｓ−から選択されるヘテロ原子スペーサーであり、各Ｒ’’’は同一であっても異なっていてもよく、Ｈまたは炭素数１〜４のアルキルを表し；
各Ｒ6は同一であっても異なっていてもよく、水素または炭素数１〜４のアルキルを表
し；および、
Ｐｒ1，Ｐｒ2およびＰｒ3は同一であっても異なっていてもよく、それぞれ水素または
保護基を表す。
【請求項２】
式（Ｉ’）の化合物においてＲ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびＲ6全てが同一であるものでは
ない、請求項１記載の類似体。
【請求項３】
式（Ｉ）である、請求項１または２に記載の類似体。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の類似体であって、Ｒ1が−（炭素数１〜４のアル
キル）−Ａ’、またはＲ3が−（炭素数１〜４のアルキル）−Ａ’’である類似体。
【請求項５】
Ａ’がフェニルであり、かつ、Ａ’’がフェニル、インドリルまたはｔ−ブトキシカルボニルインドリルである、請求項４記載の類似体。
【請求項６】
Ａがフェニルである、請求項１〜５のいずれかに１項に記載の類似体。
【請求項７】
−Ｈｅｔ−が−Ｏ−または−ＮＲ’’’である、請求項１〜６のいずれかに１項に記載の類似体。
【請求項８】
Ｒ1が−Ｈおよび−炭素数１〜６のアルキルより選択される、請求項１〜７のいずれか
１項に記載の類似体。
【請求項９】
Ｒ3が−Ｌ−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−Ｒ’’、−Ｌ−Ａ、−Ｌ−ＮＲ’’Ｒ’’および−Ｌ−Ｎ
（Ｒ’’’）−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−Ｒ’’より選択される、請求項１〜８のいずれか１項に記載の類似体。
【請求項１０】
Ｒ2が−Ｈおよび−炭素数１〜４のアルキルより選択される、請求項１〜９のいずれか
１項に記載の類似体。
【請求項１１】
Ｒ4が−Ｈおよび−炭素数１〜４のアルキルより選択される、上記いずれかの請求項１
〜１０のいずれか１項に記載の類似体。
【請求項１２】
Ｒ6が−Ｈである、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の類似体。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の類似体であって、ここでＰｒ1およびＰｒ2は同一であっても異なっていてもよく、−Ｈ；ならびに、炭素数１〜６のアルコキシ、炭素数１〜６のアシルオキシ、ヒドロキシまたはニトロ、ピコリル、ピコリル−Ｎ−オキシド、アントリルメチル、ジフェニルメチル、フェニル、ｔ−ブチル、アダマンチル、炭素数１〜６のアシルオキシメチル、炭素数１〜６のアルコキシメチル、テトラヒドロピラニル、ベンジルチオメチル、フェニルチオメチル、チアゾリジン、アセトアミドメチル、ベンズアミドメチル、第３級ブトキシカルボニル（ＢＯＣ）、アセチルおよびその誘導体、ベンゾイルおよびその誘導体、カルバモイル、フェニルカルバモイルおよび炭素数１〜６のアルキルカルバモイルによって所望によって置換されていてもよいベンジル基より選択される保護基；から選択される類似体。
【請求項１４】
Ｐｒ1およびＰｒ2がそれぞれ−Ｈである、請求項１３記載の類似体。
【請求項１５】
Ｐｒ3が−Ｈである、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の類似体。
【請求項１６】
式（２）、（２’）、（３）、（３’）、（５）、（５’）、（７）、（７’）、（１０）、（１０’）、（１１）、（１１’）、（１２）、（１２’）、（１４）、（１４’）、（１４’’）、（１４’’’）、（１４’’’’）または（１４’’’’’）の化合物である、請求項１記載の類似体。
【化２】
2010510302.tif 000002
【化３】
2010510302.tif 000003
【化４】
2010510302.tif 000004
【化５】
2010510302.tif 000005
【請求項１７】
ヒストン脱アセチル化酵素（ＨＤＡＣ）により媒介される状態の治療または予防に使用される、請求項１〜１６のいずれか１項に記載の類似体。
【請求項１８】
前記状態が癌、心肥大、慢性心不全、炎症状態、循環器疾患、異常血色素症、サラセミア、鎌状赤血球病、ＣＮＳ障害、自己免疫疾患、糖尿病、骨粗しょう症、ＭＤＳ、良性前立腺肥大、子宮内膜症、口腔白板症、遺伝に関連した代謝障害、感染、Ｒｕｂｅｎｓ−Ｔａｙｂｉ、脆弱Ｘ症候群、またはα−１アンチトリプシン欠乏症である、請求項１７記載の類似体。
【請求項１９】
前記状態が慢性リンパ球性白血病、乳癌、前立腺癌、卵巣癌、中皮腫、Ｔ細胞リンパ腫、心肥大、慢性心不全または皮膚炎症状態である、請求項１７または請求項１８記載の類似体。
【請求項２０】
創傷治癒を促進するため、毛包を保護するため、または免疫抑制剤として使用される、請求項１〜１６のいずれかに記載類似体。
【請求項２１】
請求項１〜１６のいずれかに記載のスピルコスタチン類似体と、医薬的に許容される担体または希釈剤と、を含む医薬組成物。
【請求項２２】
経口、経腸、非経口、鼻腔内もしくは経皮投与、または吸入もしくは坐剤による投与に適した形態である、請求項２１記載の組成物。
【請求項２３】
顆粒剤または錠剤、カプセル剤、トローチ剤、ロゼンジ、水性もしくは油性懸濁剤、または分散可能な粉末剤の形態である、請求項２２記載の組成物。
【請求項２４】
ＨＤＡＣに媒介される状態の治療または予防用の医薬組成物であって、請求項１〜１６のいずれかに記載の類似体の使用を含む医薬組成物。
【請求項２５】
前記状態が請求項１７〜１９のいずれかに規定されたものである、請求項２４記載の組成物。
【請求項２６】
（ａ）請求項１〜１６のいずれかに記載のスピルコスタチン類似体と、（ｂ）他のＨＤＡＣ阻害剤と、を含む、ＨＤＡＣにより媒介される状態の治療または予防において、同時に、別々に、または順次使用される製品。
【請求項２７】
（ａ）請求項１〜１６のいずれかに記載のスピルコスタチン類似体と、（ｂ）他の化学療法薬または抗腫瘍薬と、を含む、癌の治療または予防において、同時に、別々に、または順次使用される製品。
【請求項２８】
スベロイルアニリドヒドロキサム酸（ＳＡＨＡ）が示すものと少なくとも同等のＨＤＡＣ阻害活性を有する化合物を選択する方法であって、請求項１〜１６のいずれかに規定される式（Ｉ）または（Ｉ’）の化合物を、
（ｉ）  式（ＶＩ）の化合物を式（ＶＩＩ）の化合物と反応させ
【化６】
2010510302.tif 000006
式中、Ｒ1およびＲ2は前記式（Ｉ）または（Ｉ’）の化合物におけるＲ1およびＲ2とそれぞれ同じであり、Ｒ7は炭素数１〜４のアルキルまたは炭素数２〜４のアルケニルであ
り、Ｙはアミノ保護基であり；
（ｉｉ）  このようにして得られた中間体を脱保護し、それを式（ＶＩＩＩ）の化合物と反応させ
【化７】
2010510302.tif 000007
式中、Ｙ’はアミノ保護基であり、Ｙ’’は水素または保護基であり；
（ｉｉｉ）  このようにして得られた中間体を脱保護し、それを式（ＩＸ）の化合物と反応させ
【化８】
2010510302.tif 000008
式中、Ｒ3は前記式（Ｉ）または（Ｉ’）の化合物におけるＲ3と同じであり、Ｙ’’’はアミノ保護基であり；
（ｉｖ）  このようにして得られた中間体を脱保護し、それを式（Ｘ）の化合物と反応させ
【化９】
2010510302.tif 000009
式中、Ｒ4は前記式（Ｉ）または（Ｉ’）の化合物におけるＲ4と同じであり、Ｒ5は水素またはヒドロキシ保護基であり、ＬＧは脱離基であり、Ｙ’’’’は水素または保護基であり；
（ｖ）  このようにして得られた中間体上のβ−ヒドロキシ基を所望によっては脱保護してＲ5保護基を除去してそれをＨに置換し；
（ｖｉ）  このようにして得られた中間体を加水分解および環化し；
（ｖｉｉ）  このようにして得られた中間体を所望によっては反応させてジスルフィド結合形成を生じさせ、および、ジスルフィド結合が形成される場合には、このようにして得られた化合物内のジスルフィド結合を所望によっては開裂させ、および、このようにして得られた化合物がチオール基を有する場合には、所望によってはチオール保護基を導入し；及び、
（ｖｉｉｉ）  このようにして得られた化合物をスクリーニングしてそのＨＤＡＣ阻害剤としての活性を測定すること；
によって、調製することを含む方法。
【請求項２９】
請求項２８記載の方法であって、工程（ｖｉｉｉ）において前記スクリーニング工程はｉｎ  ｖｉｔｒｏ  ＨＤＡＣアッセイであり、前記アッセイは被験化合物およびＳＡＨＡを、各種濃度で、希釈したＨｅｌａ核抽出物と接触させ、Ｈｅｌａ核抽出物に対する被験化合物のＩＣ50とＳＡＨＡのＩＣ50とを決定することを含む、方法。
【請求項３０】
ＳＡＨＡが示すものと少なくとも同等のヒト癌細胞増殖阻害活性を有する化合物を選択するための方法であって、請求項１〜１６のいずれかに規定される式（Ｉ）または（Ｉ’）の化合物を、
（ｉ）  式（ＶＩ）の化合物を式（ＶＩＩ）の化合物と反応させ
【化１０】
2010510302.tif 000010
式中、Ｒ1およびＲ2は前記式（Ｉ）または（Ｉ’）の化合物におけるＲ1およびＲ2とそれぞれ同じであり、Ｒ7は炭素数１〜４のアルキルまたは炭素数２〜４のアルケニルであ
り、Ｙはアミノ保護基であり；
（ｉｉ）  このようにして得られた中間体を脱保護し、それを式（ＶＩＩＩ）の化合物と反応させ
【化１１】
2010510302.tif 000011
式中、Ｙ’はアミノ保護基であり、Ｙ’’は水素または保護基であり；
（ｉｉｉ）  このようにして得られた中間体を脱保護し、それを式（ＩＸ）の化合物と反応させ
【化１２】
2010510302.tif 000012
式中、Ｒ3は前記式（Ｉ）または（Ｉ’）の化合物におけるＲ3と同じであり、Ｙ’’’はアミノ保護基であり；
（ｉｖ）  このようにして得られた中間体を脱保護し、それを式（Ｘ）の化合物と反応させ
【化１３】
2010510302.tif 000013
式中、Ｒ4は前記式（Ｉ）または（Ｉ’）の化合物におけるＲ4と同じであり、Ｒ5は水
素またはヒドロキシ保護基であり、ＬＧは脱離基であり、Ｙ’’’’は水素または保護基であり；
（ｖ）  このようにして得られた中間体上のβ−ヒドロキシ基を所望によっては脱保護してＲ5保護基を除去してそれをＨに置換し；
（ｖｉ）  このようにして得られた中間体を加水分解および環化し；
（ｖｉｉ）  このようにして得られた中間体を所望によっては反応させてジスルフィド結合形成を生じさせ、及び、ジスルフィド結合が形成される場合には、このようにして得られた化合物内のジスルフィド結合を所望によっては開裂させ、および、このようにして得られた化合物がチオール基を有する場合には、所望によってはチオール保護基を導入し；および、
（ｖｉｉｉ）  このようにして得られた化合物をスクリーニングしてそのヒト癌細胞増殖阻害剤としての活性を測定すること；
によって、調製することを含む方法。
【請求項３１】
請求項３０記載の方法であって、工程（ｖｉｉｉ）において前記スクリーニング工程はｉｎ  ｖｉｔｒｏアッセイであり、前記アッセイは被験化合物およびＳＡＨＡを、各種濃度で、ＭＣＦ７乳癌、ＨＵＴ７８  Ｔ細胞白血病、Ａ２７８０卵巣癌、ＰＣ３またはＬＮＣＡＰ前立腺癌細胞株と接触させ、前記細胞株に対する被験化合物のＩＣ50とＳＡＨＡのＩＣ50とを測定することを含む、方法。
【請求項３２】
ＳＡＨＡが示すものと少なくとも同等の抗炎症活性を有する化合物を選択するための方法であって、請求項１〜１６のいずれかに規定される式（Ｉ）または（Ｉ’）の化合物を、
（ｉ）  式（ＶＩ）の化合物を式（ＶＩＩ）の化合物と反応させ
【化１４】
2010510302.tif 000014
式中、Ｒ1およびＲ2は前記式（Ｉ）または（Ｉ’）の化合物におけるＲ1およびＲ2とそれぞれ同じであり、Ｒ7は炭素数１〜４のアルキルまたは炭素数２〜４のアルケニルであ
り、Ｙはアミノ保護基であり；
（ｉｉ）  このようにして得られた中間体を脱保護し、それを式（ＶＩＩＩ）の化合物と反応させ
【化１５】
2010510302.tif 000015
式中、Ｙ’はアミノ保護基であり、Ｙ’’は水素または保護基であり；
（ｉｉｉ）  このようにして得られた中間体を脱保護し、それを式（ＩＸ）の化合物と反応させ
【化１６】
2010510302.tif 000016
式中、Ｒ3は前記式（Ｉ）または（Ｉ’）の化合物におけるＲ3と同じであり、Ｙ’’’はアミノ保護基であり；
（ｉｖ）  このようにして得られた中間体を脱保護し、それを式（Ｘ）の化合物と反応させ
【化１７】
2010510302.tif 000017
式中、Ｒ4は前記式（Ｉ）または（Ｉ’）の化合物におけるＲ4と同じであり、Ｒ5は水
素またはヒドロキシ保護基であり、ＬＧは脱離基であり、Ｙ’’’’は水素または保護基であり；
（ｖ）  このようにして得られた中間体上のβ−ヒドロキシ基を所望によっては脱保護してＲ5保護基を除去してそれをＨに置換し；
（ｖｉ）  このようにして得られた中間体を加水分解および環化し；
（ｖｉｉ）  このようにして得られた中間体を所望によっては反応させてジスルフィド結合形成を達成し、および、ジスルフィド結合が形成される場合には、このようにして得られた化合物内のジスルフィド結合を所望によっては開裂させ、また、このようにして得られた化合物がチオール基を有する場合には、所望によってはチオール保護基を導入し；そして、
（ｖｉｉｉ）  このようにして得られた化合物をスクリーニングしてその抗炎症活性を測定すること；
によって調製することを含む方法。
【請求項３３】
請求項３２記載の方法であって、工程（ｖｉｉｉ）において前記スクリーニング工程はアッセイであり、前記アッセイは、末梢血単核球（ＰＢＭＣ）からのＴＮＦαの産生の阻害における化合物の活性を、ＳＡＨＡとの比較において測定することを含む、方法。 
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１１】
チオール保護基（Ｐｒ1およびＰｒ2に関して）は典型的には：
（ａ）チオール基を保護するチオエーテルを形成する保護基であって、例えば炭素数１〜６のアルコキシ（たとえばメトキシ等）、炭素数１〜６のアシルオキシ（たとえばアセトキシ等）、ヒドロキシおよびニトロによって任意に置換されていてもよいベンジル基、ピコリル、ピコリル−Ｎ−オキシド、アントリルメチル、ジフェニルメチル、フェニル、ｔ−ブチル、アダマンチル、炭素数１〜６のアシルオキシメチル（例えばピバロイルオキシメチル、第３級ブトキシカルボニルオキシメチル）；
（ｂ）チオール基を保護するモノチオ、ジチオまたはアミノチオアセタールを形成する保護基であって、例えば炭素数１〜６のアルコキシメチル（たとえばメトキシメチル、イソブトキシメチル等）、テトラヒドロピラニル、ベンジルチオメチル、フェニルチオメチル、チアゾリジン、アセトアミドメチル、ベンズアミドメチル；
（ｃ）チオール基を保護するチオエステルを形成する保護基であって、例えば第３級ブトキシカルボニル（ＢＯＣ）、アセチルおよびその誘導体、ベンゾイルおよびその誘導体；または
（ｄ）チオール基を保護するカルバミン酸チオエステルを形成する保護基であって、例えばカルバモイル、フェニルカルバモイル、炭素数１〜６のアルキルカルバモイル（たとえばメチルカルバモイルおよびエチルカルバモイル等）；
である。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１２】
典型的には、Ｐｒ1およびＰｒ2は同一であっても異なっていてもよく、それぞれ水素；あるいはチオール基を保護するための、チオエーテル、モノチオ、ジチオもしくはアミノチオアセタール、チオエステル、またはカルバミン酸チオエステルを形成する保護基；を表す。好ましくは、Ｐｒ1およびＰｒ2は同一であっても異なっていてもよく、それぞれ水素；または、炭素数１〜６のアルコキシ（たとえばメトキシ等）、炭素数１〜６のアシルオキシ（たとえばアセトキシ等）、ヒドロキシもしくはニトロによって任意に置換されていてもよいベンジル基、ピコリル、ピコリル−Ｎ−オキシド、アントリルメチル、ジフェニルメチル、フェニル、ｔ−ブチル、アダマンチル、炭素数１〜６のアシルオキシメチル（たとえばピバロイルオキシメチル、第３級ブトキシカルボニルオキシメチル等）、炭素数１〜６のアルコキシメチル（たとえばメトキシメチル、イソブトキシメチル等）、テトラヒドロピラニル、ベンジルチオメチル、フェニルチオメチル、チアゾリジン、アセトアミドメチル、ベンズアミドメチル、第３級ブトキシカルボニル（ＢＯＣ）、アセチルおよびその誘導体、ベンゾイルおよびその誘導体、カルバモイル、フェニルカルバモイルもしくは炭素数１〜６のアルキルカルバモイル（たとえばメチルカルバモイルおよびエチルカルバモイル等）から選択される保護基；を表す。最も好ましくは、Ｐｒ1およびＰｒ2は水素である。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１３】
ヒドロキシル保護基（Ｐｒ3に関して）は典型的には：
（ａ）エーテルを形成してヒドロキシル基を保護する保護基、例えば、炭素数１〜６のアルコキシ（たとえばメトキシ等）、炭素数１〜６のアシルオキシ（たとえばアセトキシ等）、ヒドロキシおよびニトロによって任意に置換されていてもよいベンジル基、ピコリル、ピコリル−Ｎ−オキシド、アントリルメチル、ジフェニルメチル、フェニル、ｔ−ブチル、アダマンチル、炭素数１〜６のアシルオキシメチル（たとえばピバロイルオキシメチル、第３級ブトキシカルボニルオキシメチル等）；
（ｂ）アセタールまたはアミノアセタールを形成する保護基、例えば炭素数１〜６のアルコキシメチル（たとえばメトキシメチル、イソブトキシメチル等）、テトラヒドロピラニル、アセトアミドメチル、ベンズアミドメチル；
（ｃ）エステルを形成してヒドロキシル基を保護する保護基、例えば第３級ブトキシカルボニル（ＢＯＣ）、アセチルおよびその誘導体、ベンゾイルおよびその誘導体；または
（ｄ）カルバミン酸エステルを形成してヒドロキシル基を保護する保護基、例えばカルバモイル、フェニルカルバモイル、炭素数１〜６のアルキルカルバモイル（たとえばメチルカルバモイルおよびエチルカルバモイル等）；
である。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１４】
典型的には、Ｐｒ3は水素；または、エーテル、アセタールもしくはアミノアセタール
、エステルもしくはカルバミン酸エステルを形成し、ヒドロキシル基を保護する保護基；を表す。好ましくは、Ｐｒ3は水素；または、炭素数１〜６のアルコキシ（たとえばメトキシ等）、炭素数１〜６のアシルオキシ（たとえばアセトキシ等）、ヒドロキシおよびニトロによって任意に置換されていてもよいベンジル基、ピコリル、ピコリル−Ｎ−オキシド、アントリルメチル、ジフェニルメチル、フェニル、ｔ−ブチル、アダマンチル、炭素数１〜６のアシルオキシメチル（たとえばピバロイルオキシメチル、第３級ブトキシカルボニルオキシメチル等）、炭素数１〜６のアルコキシメチル（たとえばメトキシメチル、イソブトキシメチル等）、テトラヒドロピラニル、ベンジルチオメチル、フェニルチオメチル、チアゾリジン、アセトアミドメチル、ベンズアミドメチル、第３級ブトキシカルボニル（ＢＯＣ）、アセチルおよびその誘導体、ベンゾイルおよびその誘導体、カルバモイル、フェニルカルバモイルおよび炭素数１〜６のアルキルカルバモイル（たとえばメチルカルバモイルおよびエチルカルバモイル等）から選択される保護基；を表す。最も好ましくは、Ｐｒ3は水素である。