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【手続補正書】
【提出日】平成20年12月4日(2008.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入射光量に応じた電荷を発生して蓄積する受光部を含む複数の画素回路を備えた撮像手段と、
前記受光部をリセットするリセット手段と、
前記撮像手段から電荷信号を１ライン毎に読み出す読出手段と、
前記リセット手段により前記受光部がリセットされてから前記読出手段により１ラインの前記電荷信号を読み出すまでの１ラインの蓄積時間が同じフレーム内のライン間で異なる場合に、該ライン間の蓄積時間のずれを補償する補正手段と、
を有することを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記補正手段は、基準蓄積時間を補償の対象となるラインの蓄積時間で除算して得られる商に基づいて補正値を算出することを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記撮像手段は、複数色の電荷信号を出力し、前記補正手段は、前記補正値を色毎に算出することを特徴とする請求項２に記載の撮像装置。
【請求項４】
所定の閾値を越える補正値が算出された場合に、前記補正手段は、前記閾値を前記補正値として設定することを特徴とする請求項２または３に記載の撮像装置。
【請求項５】
入射光量に応じた電荷を発生して蓄積する受光部を含む複数の画素回路を備えた撮像部において、画像データを生成する撮像装置の制御方法であって、
前記受光部をリセットするリセット工程と、
前記撮像部から電荷信号を１ライン毎に読み出す読出工程と、
前記リセット工程において前記受光部がリセットされてから前記読出工程により１ラインの前記電荷信号を読み出すまでの１ラインの蓄積時間が同じフレーム内のライン間で異なる場合に、該ライン間の蓄積時間のずれを補償する補正工程と、
を有することを特徴とする撮像装置の制御方法。
【請求項６】
前記補正工程では、基準蓄積時間を補償の対象となるラインの蓄積時間で除算して得られる商に基づいて補正値が算出されることを特徴とする請求項５に記載の撮像装置の制御方法。
【請求項７】
前記撮像部は、複数色の電荷信号を出力し、前記補正工程では、前記補正値が色毎に算出されることを特徴とする請求項６に記載の撮像装置の制御方法。
【請求項８】
所定の閾値を越える補正値が算出された場合に、前記補正工程では、前記閾値を前記補正値として設定することを特徴とする請求項６または７に記載の撮像装置の制御方法。
【請求項９】
請求項５乃至８のいずれか１項に記載の撮像装置の制御方法をコンピュータに実行させるためのコンピュータプログラム。
【請求項１０】
請求項９に記載のコンピュータプログラムを格納したコンピュータで読み取り可能な記憶媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
上記課題を解決するための本発明は、撮像装置であって、入射光量に応じた電荷を発生して蓄積する受光部を含む複数の画素回路を備えた撮像手段と、前記受光部をリセットするリセット手段と、前記撮像手段から電荷信号を１ライン毎に読み出す読出手段と、前記リセット手段により前記受光部がリセットされてから前記読出手段により１ラインの前記電荷信号を読み出すまでの１ラインの蓄積時間が同じフレーム内のライン間で異なる場合に、該ライン間の蓄積時間のずれを補償する補正手段と、を有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本発明によれば、フレーム内のライン間での蓄積時間の差によるレベル差が生じることを防ぎ、出力画像の品位を維持することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月18日(2008.12.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮影動作を実行する撮影手段と、
他の撮影装置に対して動作を指示する第一の指示信号を形成する信号形成手段と、
上記信号形成手段で形成された第一の指示信号及び第一の通知信号を上記他の撮影装置へ送信し、上記他の撮影装置より上記撮影手段への動作を指示する第二の指示信号を受信して当該撮影装置と他の撮影装置との間で連携した撮影動作を行う無線通信手段と、
少なくとも上記第二の指示信号に従った指示表示を行う表示手段と、
を具備することを特徴とする通信機能を有する撮影装置。
【請求項２】
上記指示表示は、当該撮影装置の撮影手段の起動を指示する表示であることを特徴とする請求項１に記載の通信機能を有する撮影装置。
【請求項３】
上記撮影手段の動作状態は、少なくとも起動状態またはフレーミング状態のうち何れかひとつの状態を示すことを特徴とする請求項１または２に記載の通信機能を有する撮影装置。
【請求項４】
請求項１に記載の通信機能を有する撮影装置において、
上記無線通信手段は、更に当該撮影装置と他の撮影装置との間で動画データを無線で通信するよう構成され、
上記表示手段は、上記撮影手段により撮影された画像データと上記他の撮影装置から取得した動画データとを同時に表示することを特徴とする。
【請求項５】
請求項１に記載の通信機能を有する撮影装置において、
上記無線通信手段は、更に当該撮影装置と他の撮影装置との間で動画データを無線で通信するよう構成され、
上記撮影手段により撮影された画像データ及び上記無線通信手段で取得した動画データを合成する合成手段と、
上記撮影手段により撮影された画像データと上記他の撮影装置から取得した動画データのうちの時間の共通する部分の画像を選択する選択手段と、
を更に有することを特徴とする。
【請求項６】
請求項１に記載の通信機能を有する撮影装置において、
上記第一の指示信号または第二の指示信号は、撮影動作の開始依頼を指示するものであり、
上記表示手段は、上記撮影開始の指示に係る表示を行うことを特徴とする。
【請求項７】
請求項１に記載の通信機能を撮影装置において、
上記信号形成手段は、更に上記撮影手段の動作状態を通知する第１の通知信号を形成し、
上記無線通信手段は、更に上記他の撮影装置の動作状態を通知する第２の通知信号を受信し、
上記第一の通知信号または第二の通知信号は、撮影動作を開始したことを通知する信号であり、
上記表示手段は、上記撮影動作を開始した旨の通知に係る表示を行うことを特徴とする。
【請求項８】
撮影により第１の画像を取得する際に、第２の画像を取得する為の撮影を依頼する撮影依頼信号を、他のカメラに対して送信する信号送信部と、
上記他のカメラからの応答信号を受信する信号受信部と、
上記応答信号受信部により上記応答信号が受信されると、上記他のカメラが上記撮影依頼信号に応じて撮影した第２の画像が存在する旨を記録するデータ存在記録部と、
上記第１の画像の再生時に、上記データ存在記録部の記録を参照して、上記第２の画像の存在の有無を判定し、上記第２の画像データが存在すると判定した場合には、上記第２の画像の送信要求信号を、上記他のカメラに送信する制御部と、
を具備することを特徴とするカメラ。
【請求項９】
第１の撮影開始時刻から第１の撮影終了時刻までの間における撮影で取得された第１の動画像を記録する動画像記録部と、
撮影開始時刻及び撮影終了時刻が、上記第１の撮影開始時刻から上記第１の撮影終了時刻の間に含まれている第２の動画像の検索及び送信を他のカメラに指示する検索指示部と、
上記他のカメラから送信された上記第２の動画像を受信する受信部と、
を具備することを特徴とする画像再生装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】通信機能を有する撮影装置、カメラ、及び画像再生装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記の目的を達成するために、本発明の第１の態様による通信機能を有する撮影装置は、撮影動作を実行する撮影手段と、他の撮影装置に対して動作を指示する第一の指示信号を形成する信号形成手段と、上記信号形成手段で形成された第一の指示信号及び第一の通知信号を上記他の撮影装置へ送信し、上記他の撮影装置より上記撮影手段への動作を指示する第二の指示信号を受信して当該撮影装置と他の撮影装置との間で連携した撮影動作を行う無線通信手段と、少なくとも上記第二の指示信号に従った指示表示を行う表示手段と、を具備することを特徴とする。
上記の目的を達成するために、本発明の第２の態様によるカメラは、撮影により第１の画像を取得する際に、第２の画像を取得する為の撮影を依頼する撮影依頼信号を、他のカメラに対して送信する信号送信部と、上記他のカメラからの応答信号を受信する信号受信部と、上記応答信号受信部により上記応答信号が受信されると、上記他のカメラが上記撮影依頼信号に応じて撮影した第２の画像が存在する旨を記録するデータ存在記録部と、上記第１の画像の再生時に、上記データ存在記録部の記録を参照して、上記第２の画像の存在の有無を判定し、上記第２の画像データが存在すると判定した場合には、上記第２の画像の送信要求信号を、上記他のカメラに送信する制御部と、を具備することを特徴とする。
上記の目的を達成するために、本発明の第３の態様による画像再生装置は、第１の撮影開始時刻から第１の撮影終了時刻までの間における撮影で取得された第１の動画像を記録する動画像記録部と、撮影開始時刻及び撮影終了時刻が、上記第１の撮影開始時刻から上記第１の撮影終了時刻の間に含まれている第２の動画像の検索及び送信を他のカメラに指示する検索指示部と、上記他のカメラから送信された上記第２の動画像を受信する受信部と、を具備することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月2日(2009.10.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１レベル配線層と、第２レベル配線層と、第３レベル配線層とを備えるマルチレベル配線構造と、前記第２レベル配線層は、前記第１レベル配線層と前記第３レベル配線層との間にあり、
前記第１レベル配線層として形成され、第１方向に延びる第１配線と、
前記第２レベル配線層として形成され、前記第１配線を横切るように延伸する第２配線と、前記第２配線は、前記第１配線に関して互いに対向する第１と第２の側に置かれた第１部分と第２部分とを有し、前記第１部分と前記第２部分は、前記第１方向に互いに離れており、
前記第３レベル配線層として形成され、前記第１配線を横切るように延伸する第３配線と、前記第３配線は、前記第１配線に関して前記第１と第２の側に置かれた第３部分と第４部分とを有し、
前記第２配線の前記第２部分は、前記第１配線に関して前記第２の側の前記第３配線の前記第３部分にビアを介して接続される、半導体装置。
【請求項２】
請求項１に記載の半導体装置において、
前記第２配線は、前記第１方向とは異なり、前記第１方向と直交しない第２方向に延伸し、
前記第３配線は、前記第１方向と直交する第３方向に延伸し、
前記第２レベル配線層として形成される第４配線を更に備え、
前記第４配線は、前記第１配線に関して前記第１の側の前記第３配線の前記第４部分にビアを介して接続される第５部分を有し、前記第５部分から前記第２方向に延伸している、半導体装置。
【請求項３】
請求項１に記載の半導体装置において、
前記第２配線は、前記第１方向とは異なり、前記第１方向と直交しない第２方向に延伸し、
前記第３配線は、前記第１方向とは直交せず、前記第１と第２の方向とは異なる第３方向に延伸し、
前記第３配線の前記第４部分は、前記第２方向に前記第２配線の前記第１と第２の部分とそれぞれ離れている、半導体装置。
【請求項４】
請求項３に記載の半導体装置において、
前記第２レベル配線層として形成される第４配線を更に備え、
前記第４配線は、前記第１配線に関して前記第１の側の前記第３配線の前記第４部分にビアを介して接続される第５部分を有し、前記第５部分から前記第２方向に延伸している、半導体装置。
【請求項５】
請求項１に記載の半導体装置において、
前記第２配線の前記第１と第２の部分の各々は、前記第１方向に直交する方向に延伸し、前記第１と第２の部分を互いに接続するように前記第１配線上を横切る第６部分を有する、半導体装置。
【請求項６】
請求項５に記載の半導体装置において、
前記第３配線は、前記第１方向に直交する方向に延伸し、
前記第２レベル配線層として形成される第４配線を更に備え、
前記第４配線は、前記第１配線に関して前記第１の側の前記第３配線の前記第４部分にビアを介して接続されている、半導体装置。
【請求項７】
請求項６に記載の半導体装置において、
前記第４配線は、前記第１方向に延伸した後、前記第１方向に直交する方向に曲がり、更に前記第１の方向に再び曲がる、半導体装置。
【請求項８】
請求項１、２、３、４、７のいずれかひとつに記載の半導体装置において、
前記第１配線層として形成され前記第１方向に延伸する複数の第５配線を更に備え、
前記第３配線は、前記複数の第５配線の各々を横切る、半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月22日(2008.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
窒化物半導体層と、該窒化物半導体層に接続された導電性酸化物膜とを含んで構成される半導体素子であって、
前記導電性酸化物膜が、表面に凹凸を有し、該表面の最大高さと最小高さとの中間高さよりも表面高さが高い領域が、表面高さが低い領域より多く占める凹優勢の導電性酸化物膜であることを特徴とする半導体発光素子。
【請求項２】
凹優勢の導電性酸化物膜が、表面の最大高さと最小高さとの中間高さにおける累積度数分布が５０％より大きい請求項１に記載の半導体発光素子。
【請求項３】
凹優勢の導電性酸化物膜が、不規則な凹凸である請求項１又は２に記載の半導体発光素子。
【請求項４】
凹優勢の導電性酸化物膜が、中間高さよりも底面の高さが高い凹部を有する請求項１〜３のいずれか１つに記載の半導体発光素子。
【請求項５】
導電性酸化物膜が、亜鉛、インジウム、スズ、ガリウム及びマグネシウムからなる群から選択される少なくとも１種の元素を含んでなる請求項１〜４のいずれか１つに記載の半導体発光素子。
【請求項６】
導電性酸化物膜が、ｐ型窒化物半導体層上に形成されてなる請求項１〜５のいずれか１つに記載の半導体発光素子。
【請求項７】
窒化物半導体層と、該窒化物半導体層に接続された導電性酸化物膜とを含んで構成される半導体素子の製造方法であって、
表面の最大高さと最小高さとの中間高さよりも表面高さが低い領域が、表面高さが高い領域より多く占める凹凸を有する凸優勢の導電性酸化物膜の表面を、表面の最大高さと最小高さとの中間高さよりも表面高さが高い領域が、表面高さが低い領域より多く占める凹凸を有する凹優勢の導電性酸化物膜に加工することを含む半導体発光素子の製造方法。
【請求項８】
凸優勢の導電性酸化物膜は、表面の最大高さと最小高さとの中間高さにおける累積度数分布が５０％より小さく、凹優勢の導電性酸化物膜は、表面の最大高さと最小高さとの中間高さにおける累積度数分布が５０％より大きい請求項７に記載の半導体発光素子の製造方法。
【請求項９】
加工を、ドライエッチングにより行う請求項７又は８に記載の半導体発光素子の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月19日(2008.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子部品を複数のノズルを用いて基板に装着する電子部品装着装置において、
前記ノズルにこのノズルの軸方向に弾性変形可能な弾性支持部を形成したことを特徴とする電子部品装着装置。
【請求項２】
前記複数のノズルは、水平方向に移動可能な装着ヘッドに付設することを特徴とする請求項１に記載の電子部品装着装置。
【請求項３】
前記装着ヘッドは、回転テーブルの外周部に搭載されることを特徴とする請求項２に記載の電子部品装着装置。
【請求項４】
前記複数のノズルは、ＸＹテーブルを有する装着系で基板に電子部品を装着することを特徴とする請求項１乃至請求項３いずれかに記載の電子部品装着装置。
【請求項５】
前記基板の反りを計測する手段を有することを特徴とする請求項２に記載の電子部品装着装置。
【請求項６】
前記回転テーブルは間欠回転動が可能であり、電子部品を装着する位置と前記計測位置とは共に前記回転テーブルの間欠同時の静止位置であることを特徴とする請求項３に記載の電子部品装着装置。
【請求項７】
電子部品を複数のノズルを用いて基板に装着する電子部品装着方法において、
前記ノズルに接続した真空吸引手段を用いて前記ノズル先端に電子部品を吸引し、前記ノズルを基板に位置決めすると共に、ノズル先端部からの押し上げ力に応じてノズル中心軸方向に前記ノズルを弾性変形させて電子部品を装着することを特徴とする電子部品の装着方法。
【請求項８】
前記電子部品を真空吸引した際に発生する力よりわずかに強い力で前記ノズルを弾性変形させることを特徴とする請求項７に記載の電子部品の装着方法。
【請求項９】
基板高さを検出する非接触センサにより部品を基板に装着する実装領域の近傍に設定したラインに倣ってプリント基板高さを予め計測する手順と、この計測した高さ情報を用いて基板の最も凹となる位置情報と電子部品の種類ごとの押し込み量に基づいてノズル装着位置を決定する手順とを備えたことを特徴とする請求項７または８に記載の電子部品の装着方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記目的を達成するために、供給系から供給された電子部品を複数のノズルを用いて基板に装着する電子部品装着装置において、ノズルにこのノズルの軸方向に弾性変形可能な弾性支持部を形成した。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
この装置において、回転テーブルを有しても良く、更に、基板の反りを計測する手段を回転テーブルに付設してもよい。回転テーブルは間欠回転動が可能であり、電子部品を装着する位置と計測位置とは共に回転テーブルの間欠同時の静止位置であってもよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記目的を達成するために、供給系から供給された電子部品を複数のノズルを用いて基板に装着する電子部品装着方法において、ノズルに接続した真空吸引手段を用いて前記ノズル先端に電子部品を吸引し、ノズルを基板に位置決めすると共に、ノズル先端部からの押し上げ力に応じてノズル中心軸方向にノズルを弾性変形させて電子部品を装着した。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
そしてこの方法において、電子部品を真空吸引した際に発生する力よりわずかに強い力でノズルを弾性変形させるのがよく、基板の上方に基板高さを検出する非接触センサを配置し、部品を基板に実際に装着する実装領域の近傍に設定したラインに倣って基板高さを予め計測する手順と、この計測した高さ情報を用いて基板の最も凹となる位置情報と電子部品の種類ごとの押し込み量に基づいてノズル装着位置を決定する手順とを備えるのがよい。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月22日(2008.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
表面に誘電体被膜が形成された多孔質部を有する弁金属シート体の１部において、絶縁材料からなる陽陰極分離部を有し、この陽陰極分離部によって陽極と陰極が電気的に絶縁され、前記陰極は多孔質部上に形成された固体電解質層に接続されるとともに、前記陽極は弁金属シート体の金属部分と電気的に接続され、かつ前記陰極を介して離れた位置に複数箇所設けられた固体電解コンデンサを内部に有し、前記固体電解コンデンサが、マザーボードに実装されたＩＣ素子の電源端子に接続される第１の端子と、前記ＩＣ素子のグランド端子に接続される第２の端子と、前記マザーボードのグランドに接続される第３の端子と、前記マザーボードの電源端子に接続される第４の端子と、を有することを特徴とするコンデンサ内蔵基板。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月12日(2008.12.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
透明な成形体に透明印刷層と、光輝性粒子を含んでなる光輝層とを設けた加飾成形体において、
透明印刷層と光輝層は、成形体の底面に形成されており、透明印刷層と光輝層との積層部分が立体地模様層を形成し、成形体の表面から視認される立体地模様層が立体的に浮き上がって見えることを特徴とする加飾成形体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記目的を達成すべく本発明は、透明な成形体に透明印刷層と、光輝性粒子を含んでなる光輝層とを設けた加飾成形体について、透明印刷層と光輝層は、成形体の底面に形成されており、透明印刷層と光輝層との積層部分が立体地模様層を形成し、成形体の表面から視認される立体地模様層が立体的に浮き上がって見えることを特徴とする加飾成形体を提供する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
透明な成形体の底面に、透明印刷層と光輝性粒子を含む光輝層とを有しており、明るく立体的に浮き出る立体地模様層を備えるため、デザイン性に優れた加飾成形体とすることができる。また、透明印刷層を透明樹脂インキで、光輝層を光輝性粒子を含む樹脂インキで形成することができるため、シルク印刷などの印刷方法により簡単に透明印刷層や光輝層を設け立体地模様層を形成することができる。そのため、デザインにおける自由度が高く、低コストで、内部がはっきりと立体的に見える加飾成形体を製造することができる。なお、ここで透明印刷層における「透明」には、無色透明である場合の他、有色透明である場合や、曇りがかった透明の場合も含むものとし、透明印刷層を通して透けて見えるものであれば良い。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月16日(2009.7.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ，Ｖ，Ｆｅ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｍｎ，Ｗ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｂ，Ｔｈ，Ｍｇ，Ｉｎからなる第一グループから選ばれた少なくとも１種の元素を合計で０．００１質量％以上２．０質量％以下含有し、
かつ、Ｂｅ，Ｓｉ，Ａｌ，Ｙ，希土類元素（但し、Ｙを除く）からなる第二グループから選ばれた少なくとも１種の元素を合計で０．００１質量％以上３．０質量％以下含有し、
残部がＮｉ及び不純物からなり、
冷陰極蛍光ランプの電極に用いられることを特徴とする電極材料。
【請求項２】
前記第一グループから選ばれた元素を合計で０．０１質量％以上１．０質量％以下含有し、かつ前記第二グループから選ばれた元素を合計で０．０１質量％以上２．０質量％以下含有することを特徴とする請求項１に記載の電極材料。
【請求項３】
Ｙを含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の電極材料。
【請求項４】
仕事関数が４．７ｅＶ未満であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の電極材料。
【請求項５】
エッチングレートが２２ｎｍ／ｍｉｎ未満であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の電極材料。
【請求項６】
Ｃ及びＳの含有量が合計で０．００１質量％以上０．１０質量％以下であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の電極材料。
【請求項７】
水素含有量が０．１ｐｐｍ以上２０ｐｐｍ以下であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の電極材料。
【請求項８】
前記電極材料を構成する金属の平均結晶粒径が７０μｍ以下であることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の電極材料。
【請求項９】
前記電極材料は、板状材であることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の電極材料。
【請求項１０】
前記電極材料は、線状材であることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の電極材料。
【請求項１１】
請求項１０に記載の線状材を切断し、所定長の短尺材を得る工程と、
前記短尺材に鍛造加工を施し、有底筒状に成形して電極を得る工程とを具えることを特徴とする冷陰極蛍光ランプ用電極の製造方法。
【請求項１２】
請求項１〜１０のいずれかに記載の電極材料により形成され、
冷陰極蛍光ランプに用いられることを特徴とする電極。
【請求項１３】
請求項１２に記載の電極と、
前記電極の底面に接続されたインナーリード線、及びこのインナーリード線に接続されたアウターリード線と、
前記インナーリード線の外周に溶着されたビードガラスとを具えることを特徴とする電極部材。
【請求項１４】
内壁面に蛍光体層を有し、内部に希ガス及び水銀、又は希ガスが封入されるガラス管と、
前記ガラス管の端部に固定された請求項１３に記載の電極部材とを具え、
前記ガラス管と前記電極部材のビードガラスとを溶着して、前記ガラス管を封止すると共に、前記電極をガラス管内の端部に固定していることを特徴とする冷陰極蛍光ランプ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
具体的な電極材料は、冷陰極蛍光ランプの電極に用いられる電極材料であり、Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ，Ｖ，Ｆｅ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｍｎ，Ｗ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｂ，Ｔｈ，Ｂｅ，Ｓｉ，Ａｌ，Ｙ，Ｍｇ，Ｉｎ，希土類元素からなる基準グループから選ばれた少なくとも１種の元素を合計で０．００１質量％以上５．０質量％以下含有し、残部がＮｉ及び不純物からなるものが挙げられる。つまり、この電極材料は、特定の添加元素を特定の範囲で含むＮｉ合金で構成されることを特徴とする。このような特定組成のＮｉ合金からなる電極材料で作製された電極は、放電し易く、スパッタリング速度が遅い。また、この電極材料からなる電極は、酸化被膜が形成されにくく、アマルガムを形成し難い。従って、上記本発明電極材料からなる電極を用いることで、高輝度で長寿命な冷陰極蛍光ランプが得られる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
別の電極材料は、冷陰極蛍光ランプの電極に用いられる電極材料であり、Ｎｉ合金からなり、仕事関数が４．７ｅＶ未満であるものが挙げられる。仕事関数とは、固体表面から一つの電子を真空中に取り出すのに必要とする最小のエネルギーである。仕事関数が小さいほど、電子を取り出し易い、つまり、放電し易い材料と言える。本発明者らは、冷陰極蛍光ランプの電極に望まれる放電特性を仕事関数で評価した結果、４．７ｅＶ未満が好ましいとの知見を得た。この知見に基づき、この電極材料は、Ｎｉ合金で構成すると共に、特定の仕事関数を満たすものとする。このような電極材料からなる電極を用いることで、高輝度で長寿命な冷陰極蛍光ランプが得られる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
別の電極材料は、冷陰極蛍光ランプの電極に用いられる電極材料であり、Ｎｉ合金からなり、エッチングレートが２２ｎｍ／ｍｉｎ未満であるものが挙げられる。電極がスパッタリングを起こすと、電極において水銀イオンの衝突により原子が放出された部分は、窪みが生じて表面が荒れる。スパッタリングを起こし易い電極ほど、時間当たりの窪みの深さが大きくなる。この時間当たりの窪みの平均深さをエッチングレートとし、本発明者らは、冷陰極蛍光ランプの電極に望まれるスパッタリング状態をエッチングレートで評価した結果、２２ｎｍ／ｍｉｎ未満が好ましいとの知見を得た。この知見に基づき、この電極材料は、Ｎｉ合金で構成すると共に、特定のエッチングレートを満たすものとする。このような電極材料からなる電極を用いることで、高輝度で長寿命な冷陰極蛍光ランプが得られる。なお、エッチングレートは、スパッタリング速度と実質的に同義であり、本発明では、エッチングレートを用いる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
上記特定組成を有するＮｉ合金からなる電極を具えることで、より高輝度で長寿命な冷陰極蛍光ランプが得られる。即ち、内壁面に蛍光体層を有し、内部に希ガス及び水銀が封入されるガラス管、又は内壁面に蛍光体層を有し、内部に希ガスが封入されるガラス管と、この管内の端部に配置させる電極とを具える冷陰極蛍光ランプであって、電極がＴｉ，Ｈｆ，Ｚｒ，Ｖ，Ｆｅ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｍｎ，Ｗ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｂ，Ｔｈ，Ｂｅ，Ｓｉ，Ａｌ，Ｙ，Ｍｇ，Ｉｎ，希土類元素からなる基準グループから選ばれた少なくとも１種の元素を合計で０．００１質量％以上５．０質量％以下含有し、残部がＮｉ及び不純物からなる蛍光ランプは、高輝度化、長寿命化を実現する。特に、電極は、一端が開口し、他端が有底であるカップ状とすると、ホローカソード効果による耐スパッタリング性の向上を図ることができる。このカップ状の電極は、上述のように本発明電極材料にプレス加工や鍛造加工を施すことで簡単に得られる。このカップ状の電極を一対用意し、両電極の開口部が対向するようにガラス管内に両電極を配置した蛍光ランプとしてもよいし、このカップ状の電極を一つ用意してガラス管内の片端にのみ配置させた蛍光ランプとしてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月17日(2008.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源と、光源からの光を光情報記録媒体に集光する光学系と、該集光されたレーザ光を該光情報記録媒体上で走査する機構とを備えた光情報処理装置において、
前記光源は、レーザ光を出射する少なくとも１つの面発光型半導体レーザ素子を含み、前記少なくとも１つの面発光型半導体レーザ素子は、垂直共振器構造を構成する第１および第２のミラーの間に活性領域および電流狭窄部を含み、前記電流狭窄部には電流を注入するための約４ミクロンよりも大きい開口部が形成され、面発光型半導体レーザ素子は、唯一つの横モードを含むシングルモードで動作される、光情報処理装置。
【請求項２】
前記光源は、複数の面発光型半導体レーザ素子が配列されたアレイを含む、請求項１に記載の光情報処理装置。
【請求項３】
面発光型半導体レーザ素子は、高次シングルモードで動作される、請求項１に記載の光情報処理装置。
【請求項４】
面発光型半導体レーザ素子は、しきい値近傍で動作される、請求項１または３に記載の光情報処理装置。
【請求項５】
前記光学系は、モータによって回転されるポリゴミミラーと、ｆθレンズを含み、光源からのレーザ光は、ポリゴンミラーで反射され、その反射光はｆθレンズにより感光体ドラム面上を走査する、請求項１に記載の光情報処理装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月28日(2009.9.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パターニング方法において、
被処理体の表面を、重水素プラズマを含む雰囲気に晒す表面処理工程と、
前記表面処理工程の後、前記被処理体の表面を部分的に露光して露光部と非露光部とを形成する露光工程と、
前記被処理体の前記露光部又は前記非露光部に液体を付与する工程と、
を含むことを特徴とするパターニング方法。
【請求項２】
前記表面処理工程は、前記雰囲気でプラズマを発生させて処理を施すことを特徴とする請求項１記載のパターニング方法。
【請求項３】
前記液体を付与する工程は、液体吐出法により前記液体を付与することを特徴とする請求項１記載のパターニング方法。
【請求項４】
前記表面処理工程は、重水素の濃度が９５体積％以上である前記雰囲気中でプラズマを発生させる工程を含む請求項１記載のパターニング方法。
【請求項５】
供給された電気エネルギーに応じて、光または電子を放出する放出素子を基板上に複数有する電気光学装置の製造方法において、
基板の表面を、重水素プラズマを含む雰囲気に晒す表面処理工程と、
前記表面処理工程の後、前記基板の表面を部分的に露光して露光部と非露光部とを形成する露光工程と、
前記基板の前記露光部又は前記非露光部に液体を付与する工程と、
前記液体を利用して前記放出素子を作製する工程と、
を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項６】
前記放出素子を作製する工程は、一対の電極を形成する工程と、前記一対の電極間に、前記液体を付与する工程と、前記液体を乾燥させる工程と、前記乾燥した液体で構成された導電性の層に通電して間隙を形成する工程と、を含む電子放出素子の作製方法であることを特徴とする請求項５記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項７】
前記放出素子を作製する工程は、第１の電極を形成する工程と、前記第１の電極上に、前記液体を付与する工程と、前記液体を乾燥させる工程と、前記乾燥した液体で構成された有機材料層の上に第２の電極を形成する工程と、を含む有機光放出素子の作製方法であることを特徴とする請求項５記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項８】
カラーフィルターの製造方法において、
基板の表面を、重水素プラズマを含む雰囲気に晒す表面処理工程と、
前記表面処理工程の後、前記基板の表面を部分的に露光して露光部と非露光部とを形成する露光工程と、
前記基板の前記露光部又は前記非露光部に液体を付与し、着色層を形成する工程と、
を含むことを特徴とするカラーフィルターの製造方法。
【請求項９】
発光体の製造方法において、
基板の表面を、重水素プラズマを含む雰囲気に晒す表面処理工程と、
前記表面処理工程の後、前記基板の表面を部分的に露光して露光部と非露光部とを形成する露光工程と、
前記基板の前記露光部又は前記非露光部に液体を付与し、発光体材料層を形成する工程と、
を含むことを特徴とする発光体の製造方法。
【請求項１０】
薄膜トランジスタの製造方法において、
基板の表面を、重水素プラズマを含む雰囲気に晒す表面処理工程と、
前記表面処理工程の後、前記基板の表面を部分的に露光して露光部と非露光部とを形成する露光工程と、
前記基板の前記露光部又は前記非露光部に液体を付与し、活性層を形成する工程と、
を含むことを特徴とする薄膜トランジスタの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
上記目的を達成するため、本発明のパターニング方法は、
被処理体の表面を、重水素プラズマを含む雰囲気に晒す表面処理工程と、
前記表面処理工程の後、前記被処理体の表面を部分的に露光して露光部と非露光部とを形成する露光工程と、
前記被処理体の前記露光部又は前記非露光部に液体を付与する工程と、
を含むことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、本発明の、供給された電気エネルギーに応じて、光または電子を放出する放出素子を基板上に複数有する電気光学装置の製造方法は、
基板の表面を、重水素プラズマを含む雰囲気に晒す表面処理工程と、
前記表面処理工程の後、前記基板の表面を部分的に露光して露光部と非露光部とを形成する露光工程と、
前記基板の前記露光部又は前記非露光部に液体を付与する工程と、
前記液体を利用して前記放出素子を作製する工程と、
を含むことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
さらに、本発明のカラーフィルターの製造方法は、
基板の表面を、重水素プラズマを含む雰囲気に晒す表面処理工程と、
前記表面処理工程の後、前記基板の表面を部分的に露光して露光部と非露光部とを形成する露光工程と、
前記基板の前記露光部又は前記非露光部に液体を付与し、着色層を形成する工程と、
を含むことを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
そして、本発明の発光体の製造方法は、
基板の表面を、重水素プラズマを含む雰囲気に晒す表面処理工程と、
前記表面処理工程の後、前記基板の表面を部分的に露光して露光部と非露光部とを形成する露光工程と、
前記基板の前記露光部又は前記非露光部に液体を付与し、発光体材料層を形成する工程と、
を含むことを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、本発明の薄膜トランジスタの製造方法は、
基板の表面を、重水素プラズマを含む雰囲気に晒す表面処理工程と、
前記表面処理工程の後、前記基板の表面を部分的に露光して露光部と非露光部とを形成する露光工程と、
前記基板の前記露光部又は前記非露光部に液体を付与し、活性層を形成する工程と、
を含むことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月12日(2008.12.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下部電極、発光層、上部電極、保護層、を有し、前記保護層が前記上部電極に接して配置されている発光素子において、
円偏光部材を有し、
前記円偏光部材は、前記上部電極、前記保護層、前記円偏光部材の順に配置されており、且つ前記保護層に接して設けられており、前記保護層はケイ素と窒素とから少なくとも構成されることを特徴とする発光素子。
【請求項２】
前記円偏光部材は前記保護層に対して接着剤を介して設けられていることを特徴とする請求項１に記載の発光素子。
【請求項３】
前記上部電極は光取り出し側電極であることを特徴とする請求項１乃至２の何れか一項に記載の発光素子。
【請求項４】
前記円偏光部材より光取り出し側に更に保護部材を有することを特徴とする請求項１乃至３の何れか一項に記載の発光素子。
【請求項５】
前記発光層は単一の層であることを特徴とする請求項１乃至４の何れか一項に記載の発光素子。
【請求項６】
前記発光層は第１の層と第２の層とからなり、前記第１の層と前記第２の層との界面において発光する積層体であることを特徴とする請求項１乃至４の何れか一項に記載の発光素子。
【請求項７】
前記発光層は有機化合物層であることを特徴とする請求項１乃至６の何れか一項に記載の発光素子。
【請求項８】
請求項１乃至７の何れか一項に記載の前記発光素子を表示部に有するディスプレイ。
【請求項９】
請求項１乃至７の何れか一項に記載の前記発光素子と撮像部を有する撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
よって本発明は、
下部電極、発光層、上部電極、保護層、を有し、前記保護層が前記上部電極に接して配置されている発光素子において、
円偏光部材を有し、
前記円偏光部材は、前記上部電極、前記保護層、前記円偏光部材の順に配置されており、且つ前記保護層に接して設けられており、前記保護層はケイ素と窒素とから少なくとも構成されることを特徴とする発光素子を提供する。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月15日(2008.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマ処理システム用の接地されたチャンバーアイソレーションバルブにおいて、
ドアと、
移動可能となるよう前記ドアに取り付けられ、前記ドアに対抗する突っ張り部材と、
前記ドアに電気的に連通する少なくとも１つの導電性部材とを備え、
前記少なくとも１つの導電性部材は、前記ドアが閉位置にあるときに前記プラズマ処理システムの少なくとも１つの接地された要素に接触するように適応される前記突っ張り部材上に配置された、１つ以上のリアクションバンパーを含む、チャンバーアイソレーションバルブ。
【請求項２】
前記少なくとも１つの導電性部材は、導電性エラストマー部材であり、更に、この導電性エラストマー部材は、ヒートエージングの後の体積抵抗率が約０．２００Ω−ｃｍ以下のエラストマー材料を含んでいる、請求項１に記載のチャンバーアイソレーションバルブ。
【請求項３】
前記少なくとも１つの導電性エラストマー部材は、前記ドアのシール部材を含む、請求項２に記載のチャンバーアイソレーションバルブ。
【請求項４】
前記少なくとも１つの導電性エラストマー部材は、エラストマー押出し成形品であって、該エラストマー押出し成形品は、Ｏストリップ、Ｄストリップ又はＰストリップより成るグループから選択される、請求項２に記載のチャンバーアイソレーションバルブ。
【請求項５】
前記少なくとも１つの導電性部材は、金属材料を含んでいる、請求項１に記載のチャンバーアイソレーションバルブ。
【請求項６】
前記金属材料は、エラストマー材料中に配置された導電性金属フィラーを含んでいる、請求項５に記載のチャンバーアイソレーションバルブ。
【請求項７】
プラズマ処理システム用の接地されたチャンバーアイソレーションバルブにおいて、
ドアと、
移動可能となるよう前記ドアに取り付けられ、前記ドアに対抗する突っ張り部材と、
前記ドアに電気的に連通する前記突っ張り部材の導電部分を含んでいる、少なくとも１つの導電性表面であって、前記ドアが閉位置にあるときに前記プラズマ処理システムの少なくとも１つの接地された要素に接触するように適応される導電性表面とを備え、
前記プラズマ処理システムの前記少なくとも１つの接地された要素は、導電性部材を含む、チャンバーアイソレーションバルブ。
【請求項８】
前記突っ張り部材の前記導電部分は、１つ以上のリアクションバンパーを備える、請求項７に記載のチャンバーアイソレーションバルブ。
【請求項９】
前記少なくとも１つの導電性部材は、エラストマー押出し成形品であって、該エラストマー押出し成形品は、Ｏストリップ、Ｄストリップ又はＰストリップより成るグループから選択される、請求項７に記載のチャンバーアイソレーションバルブ。
【請求項１０】
前記少なくとも１つの導電性部材は、前記ドアのシール部材を含む、請求項７に記載のチャンバーアイソレーションバルブ。
【請求項１１】
前記ドア及び前記突っ張り部材は、バルブハウジング内に配置されている、請求項７に記載のチャンバーアイソレーションバルブ。
【請求項１２】
前記プラズマ処理システムの前記少なくとも１つの接地された要素は、前記バルブハウジングの表面である、請求項１１に記載のチャンバーアイソレーションバルブ。
【請求項１３】
前記プラズマ処理システムは、第１のチャンバー及び第２のチャンバーを備え、
前記第１のチャンバー及び前記第２のチャンバーのそれぞれは、開口を含んでおり、
前記ドア及び前記突っ張り部材は、各チャンバ開口の間に、移動可能となるように配置されている、請求項７に記載のチャンバーアイソレーションバルブ。
【請求項１４】
前記プラズマ処理システムの少なくとも１つの接地された要素はチャンバー開口シール面を含んでいる、請求項１３に記載のチャンバーアイソレーションバルブ。
【請求項１５】
前記少なくとも１つの導電性部材は、金属材料を含んでいる、請求項７に記載のチャンバーアイソレーションバルブ。
【請求項１６】
第１のチャンバーにおける第１の開口と第２のチャンバーにおける第２の開口との間に、移動可能となるよう配置された閉鎖部材であって、前記閉鎖部材は、ドアと、突っ張り部材とを備え、前記ドア及び前記突っ張り部材が互いに関して移動可能となっている、前記閉鎖部材と、
前記突っ張り部材及び前記ドアが互いに離間したときに、前記閉鎖部材と前記第１の開口に隣接したシール面とを電気的に結合する手段とを備え、
前記手段は、前記閉鎖部材上に配置されていると共に前記閉鎖部材から延びている、装置。
【請求項１７】
前記閉鎖部材と前記シール面とを電気的に結合する手段は、前記突っ張り部材の１つ以上のリアクションバンパーを含んでいる、請求項１６に記載の装置。
【請求項１８】
前記閉鎖部材と前記シール面とを電気的に結合する手段は、前記ドアのシール部材を含んでいる、請求項１６に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月19日(2009.2.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ピストンをシリンダのボア内で摺動させるキャリパを有し該キャリパが前記ピストンによりブレーキパッドをディスクに押圧するディスクブレーキにおいて、
前記シリンダは、前記ボアが対向して設けられるとともに、底部の蓋部材と該蓋部材で閉塞される開口部を有するシリンダ本体とで構成され、さらに、一方の前記ボア側に前記キャリパを車両の非回転部にラジアルマウントするための車両取付け部を備え、該車両取付け部とは前記ディスクを挟んで反対側にある他方のボア側に前記開口部が設けられ、該開口部と前記蓋部材とを全周にわたって摩擦攪拌接合して閉ループ状に周回する接合部を形成することを特徴とするディスクブレーキ。
【請求項２】
前記接合部は、前記シリンダ本体の軸方向において前記蓋部材と前記シリンダ本体との接合境界がなくなるように、前記ボアの底面側の平面部分および前記蓋部材の内側平面部まで摩擦攪拌接合されてなることを特徴とする請求項１に記載のディスクブレーキ。
【請求項３】
前記シリンダが前記ボアを並列に２つ有しており、これら各ボアの前記開口部を別々の蓋部材で覆った状態で、各蓋部材を前記シリンダ本体にそれぞれ摩擦攪拌接合し、前記各蓋部材を前記シリンダ本体に摩擦攪拌接合する際の摩擦攪拌処理の完了位置を前記シリンダ本体と前記蓋部材との接合境界からずらし、前記シリンダの前記ディスクの円周方向の両端部としたことを特徴とする請求項１または２に記載のディスクブレーキ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
上記目的を達成するために、請求項１に係る発明は、ピストンをシリンダのボア内で摺動させるキャリパを有し該キャリパが前記ピストンによりブレーキパッドをディスクに押圧するディスクブレーキにおいて、前記シリンダは、前記ボアが対向して設けられるとともに、底部の蓋部材と該蓋部材で閉塞される開口部を有するシリンダ本体とで構成され、さらに、一方の前記ボア側に前記キャリパを車両の非回転部にラジアルマウントするための車両取付け部を備え、該車両取付け部とは前記ディスクを挟んで反対側にある他方のボア側に前記開口部が設けられ、該開口部と前記蓋部材とを全周にわたって摩擦攪拌接合して閉ループ状に周回する接合部を形成することを特徴とする。
請求項２に係る発明は、請求項１のディスクブレーキにおいて、前記接合部は、前記シリンダ本体の軸方向において前記蓋部材と前記シリンダ本体との接合境界がなくなるように、前記ボアの底面側の平面部分および前記蓋部材の内側平面部まで摩擦攪拌接合されてなることを特徴とする。
請求項３に係る発明は、請求項１または２のディスクブレーキにおいて、前記シリンダが前記ボアを並列に２つ有しており、これら各ボアの前記開口部を別々の蓋部材で覆った状態で、各蓋部材を前記シリンダ本体にそれぞれ摩擦攪拌接合し、前記各蓋部材を前記シリンダ本体に摩擦攪拌接合する際の摩擦攪拌処理の完了位置を前記シリンダ本体と前記蓋部材との接合境界からずらし、前記シリンダの前記ディスクの円周方向の両端部としたことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月29日(2009.6.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原子炉性能を改善するために、原子炉の緊急停止以前に、少なくとも１つの制御棒を前記原子炉へある程度の度合いで部分的に挿入する（Ｓ１４０５）ことを含むところの制御棒運転計画を実施する工程を有する原子炉性能の改善方法であって、
前記制御棒運転計画は、
前記原子炉の運転サイクルの、末期を含む第１の一部期間に緊急停止が起こることのシミュレーションを行い、
前記第１の一部期間における前記緊急停止についての前記シミュレーションにおける運転限界最小限界出力比（ＯＬＭＣＰＲ）を、緊急停止が起こる前の前記制御棒が挿入されていない状況で前記原子炉の運転サイクルの、末期を含む第２の一部期間に第２の緊急停止が起こるとのシミュレーションの結果と比較して低減するものである、
ことを特徴とする原子炉性能改善方法。 
【請求項２】
前記少なくとも１つの制御棒は、前記制御棒運転計画において最新に除去されるものとして指定された制御棒（Ｓ１４００）であることを特徴とする請求項１記載の原子炉性能改善方法。 .
【請求項３】
原子炉性能を改善する方法において、
前記原子炉の制御棒運転計画を生成する工程であって、
考慮対象として少なくとも１つの制御棒を選定し、
前記原子炉の緊急停止以前について前記選定した制御棒の挿入の程度を選択する、
制御棒運転計画生成工程と、
前記原子炉の運転サイクルの、末期を含む第１の一部期間に緊急停止が起こることのシミュレーションを行って、前記制御棒運転計画をシミュレーションする工程と、
前記第１の一部期間における前記緊急停止についての前記シミュレーションにおける運転限界最小限界出力比（ＯＬＭＣＰＲ）を、緊急停止が起こる前の前記制御棒が挿入されていない状況で前記原子炉の運転サイクルの、末期を含む第２の一部期間に第２の緊急停止が起こるとのシミュレーションの結果と比較して、低減するか否かを決定する工程と、
前記決定工程が、前記生成された制御棒運転計画が、前記運転限界最小限界出力比を、前記制御棒が挿入されていない状況と比較して減少させるものであると判断すれば、前記生成された制御棒運転計画を実施することを特徴とする原子炉性能改善方法。
【請求項４】
さらに、前記決定工程が、前記生成された制御棒運転計画は、前記運転限界最小限界出力比を、前記制御棒が挿入されていない状況と比較して減少させるものではないと、判断すれば、請求項３の工程を、制御棒を異ならせ、あるいは制御棒の挿入の程度を異ならせて、繰り返すことを特徴とする請求項３記載の原子炉性能改善方法。 .
【請求項５】
前記制御棒の部分的挿入の程度が、所望の安全マージンを満足させるように決定されることを特徴とする請求項１乃至４に記載の原子炉性能の改善方法。
【請求項６】
前記安全マージンは前記原子炉の炉心の少なくとも１つの燃料集合体内の温度を閾値未満に維持させて関連づけられることを特徴とする請求項５に記載の原子炉性能の改善方法。
【請求項７】
前記安全マージンは運転限界最小限界出力比（ＯＬＭＣＰＲを閾値を超えて維持されることに関連づけられることを特徴とする請求項５に６記載の原子炉性能の改善方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月10日(2009.2.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
走査ユニットが複数の格子構造と少なくとも１つのリフレクタ要素とを有する、走査ユニットと走査ユニットに対して少なくとも１つの測定方向に可動の寸法現示体との相対位置を検出するための位置測定装置において、
−寸法現示体（１０；１１０）によって回折された光束が走査ユニット（２０；１２０）の方向に伝播し、ここで光束が第１の格子構造（２４．１，２４．２；１２４．１，１２４．２）を通過し、次いでリフレクタ要素（２６．１，２６．２；１２６．１，１２６．２）に到達し、このリフレクタ要素によって寸法現示体（１０；１１０）の方向への逆反射が行なわれ、次に部分光束が第２の格子構造（２４．３，２４．４；１２４．３，１２４．４）を通過し、次いで新たに寸法現示体（１０；１１０）に到達するように、走査ユニット（２０；１２０）内の要素が配設されており、
−部分光束がそれぞれ通過する際に、部分光束に対して一定のレンズ作用が生じるように、第１と第２の格子構造（２４．１，２４．２，２４．３，２４．４；１２４．１，１２４．２，１２４．３，１２４．４）が形成されていることを特徴とする位置測定装置。
【請求項２】
−第１の格子構造（２４．１，２４．２；１２４．１，１２４．２）を通過する際に、レンズ作用として、入射方向に対して対平行に整向された測定方向（ｘ）への偏向作用と、測定方向に対して垂直にリフレクタ要素（２６．１，２６．２；１２６．１，１２６．２）に向かう集束作用とが生じ、
−第２の格子構造（２４．３，２４．４；１２４．３，１２４．４）を通過する際に、レンズ作用として、測定方向（ｘ）への偏向作用と、少なくとも測定方向に対して垂直な視準作用とが生じるように、
第１と第２の格子構造（２４．１，２４．２，２４．３，２４．４；１２４．１，１２４．２，１２４．３，１２４．４）が形成されていることを特徴とする請求項１に記載の位置測定装置。
【請求項３】
最初と次の通過の際に生じる偏向作用によって、第１と第２の格子構造（２４．１，２４．２，２４．３，２４．４；１２４．１，１２４．２，１２４．３，１２４．４）への部分光束の到達点間で光線のズレが生じるように、第１と第２の格子構造（２４．１，２４．２，２４．３，２４．４；１２４．１，１２４．２，１２４．３，１２４．４）が更に形成されていることを特徴とする請求項２に記載の位置測定装置。
【請求項４】
第１と第２の格子構造（２４．１，２４．２，２４．３，２４．４；１２４．１，１２４．２，１２４．３，１２４．４）が、０次の回折を抑制する位相格子として形成されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記載の位置測定装置。
【請求項５】
第１と第２の格子構造（２４．１，２４．２，２４．３，２４．４；１２４．１，１２４．２，１２４．３，１２４．４）が、測定方向（ｘ）に等間隔に配設されている湾曲した格子線を備えることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１つに記載の位置測定装置。
【請求項６】
少なくとも１つのリフレクタ要素（２６．１，２６．２；１２６．１，１２６．２）が、平面鏡リフレクタとして形成されていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１つに記載の位置測定装置。
【請求項７】
平面鏡リフレクタが、走査ユニット（２０；１２０）内に寸法現示体（１０；１１０）に対して平行に配設されていることを特徴とする請求項６に記載の位置測定装置。
【請求項８】
走査ユニットが、透明の担体サブストレート（４０；５０）を有し、この担体サブストレートの寸法現示体に面した側に、第１と第２の格子構造（４４．１，４４．２；５４．１，５４．２）が配設されており、平面鏡リフレクタ（４６．１，５６．１）が、
−担体サブストレート（４０）の第１と第２の格子構造とは反対側に配設されており、平面鏡リフレクタ（４６．１）の反射側が、寸法現示体の方向に整向されているか、
−担体サブストレート（５０）の同じ側に配設されており、平面鏡リフレクタ（５６．１）の反射側が、寸法現示体とは反対に整向されているか、
のいずれかであることを特徴とする請求項６に記載の位置測定装置。
【請求項９】
寸法現示体（１０；１１０）に最初に到達する視準された部分光束が、寸法現示体（１０；１１０）に次に到達した後、視準されて走査ユニット（２０；１２０）の方向に伝播するように、第１と第２の格子構造（２４．１，２４．２，２４．３，２４．４；１２４．１，１２４．２，１２４．３，１２４．４）が形成されていることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１つに記載の位置測定装置。
【請求項１０】
格子構造（２４．１，２４．２，２４．３，２４．４；１２４．１，１２４．２，１２４．３，１２４．４）が、格子構造（２４．１，２４．２，２４．３，２４．４；１２４．１，１２４．２，１２４．３，１２４．４）とリフレクタ要素（２６．１，２６．２；１２６．１，１２６．２）間の光学的な間隔に相当する焦点距離を備えていることを特徴とする請求項１〜９のいずれか１つに記載の位置測定装置。