【手続補正書】
【提出日】平成25年4月26日(2013.4.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
イオン置換されたリン酸カルシウムの表面コーティングを基体上に形成するための方法であって：
ａ．前記基体を提供すること；
ｂ．活性化した表面を作るために前記基体を前処理すること；
ｃ．カルシウムイオン、マグネシウムイオンおよびリン酸イオンを含み、２．０から１０．０の範囲の初期ｐＨおよび２０℃から１００℃の温度を有する水溶液であって、
ｉ）ストロンチウムイオン；または
ｉｉ）ケイ素イオン；または
ｉｉｉ）ストロンチウムイオンおよびケイ素イオン；または
ｉｖ）フッ化物イオン
を含む水溶液を提供すること；および
ｄ．前記溶液ｉからｉｖの１つにて、前記コーティングが形成されるのに十分な期間、前記基体の少なくとも一部をインキュベートすること
を含み、
前記溶液ｉ）は、第１層および第２層をもたらし、ここにおいて、前記第１層は高密度な層であり、前記第２層は高密度または多孔性の球を含み；前記溶液ｉｉ）およびｉｉｉ）は、第１層および第２層をもたらし、ここにおいて、前記第１層は多孔性であり、前記第２層は多孔性の球を含み；および、前記溶液ｉｖ）はスパイクを含むコーティングをもたらす方法。
【請求項２】
別のコーティングケミストリーおよびモフォロジーを任意に含む更なる層を作るために、工程ｃ）が繰り返される請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記前処理はリン酸カルシウム層の形成を含む請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記前処理は、熱処理、加水分解、酸化、酸もしくは塩基処理、陽極酸化、ＵＶ照射、ＣＶＤ、ゾル−ゲルまたはＰＶＤを含む請求項１から３の何れか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記前処理は、前記基体表面上に荷電した基の形成をもたらす請求項３に記載の方法。
【請求項６】
各々の溶液における浸漬時間は、最長で２週間、好ましくは１週間未満およびより好ましくは３日未満である請求項１から５の何れか１項に記載の方法。
【請求項７】
カルシウムイオンの濃度は、０．０１−２５×１０−３Ｍ、好ましくは０．５−２．５×１０−３Ｍの範囲であり；
マグネシウムイオンの濃度は、０．０１−１５×１０−３Ｍ、好ましくは０．２−１．５×１０−３Ｍの範囲であり；
ナトリウムイオンの濃度は、０．０１−１４２０×１０−３Ｍ、好ましくは１００−１５０×１０−３Ｍの範囲であり；
カリウムイオンの濃度は、０．０１−１４２０×１０−３Ｍ、好ましくは１．０−５．０×１０−３Ｍの範囲であり；
塩化物イオンの濃度は、０．０１−１０３０×１０−３Ｍ、好ましくは１００−１５０×１０−３Ｍの範囲であり；
リン酸イオンの濃度は、０．０１−１０×１０−３Ｍ、好ましくは１．０−１０×１０−３Ｍの範囲であり；
炭酸イオンの濃度は、０．０１−２７０×１０−３Ｍ、好ましくは１．０−５０×１０−３Ｍの範囲であり；
硫酸イオンの濃度は、０．０１−５×１０−３Ｍ、好ましくは０．１−１．０×１０−３Ｍの範囲である
請求項１から６の何れか１項に記載の方法。
【請求項８】
カルシウムと、マグネシウムと、ホスフェートと、ストロンチウムまたはケイ素の１以上と、任意にナトリウム、カリウム、塩化物、カーボネートおよびスルフェートの１以上とを含む、イオン置換されたリン酸カルシウム表面コーティングであって、
ストロンチウムによりイオン置換されたときに、第１の高密度の層と、高密度または多孔性の球を含む第２層を有するか；または
ケイ素によりイオン置換されたときに、もしくはケイ素およびストロンチウムによりイオン置換されたときに、第１の高密度の層と、多孔性の球を含む第２層とを有するか；または
塩化物によりイオン置換されたときに、スパイクを含む
表面コーティング。
【請求項９】
前記カルシウムの陽イオン性の置換は、最大で８０％であり、好ましくは２５−６０％である請求項８に記載の表面コーティング。
【請求項１０】
前記コーティングは、０−１０％の、好ましくは３−８％のストロンチウム、もしくは０−５％の、好ましくは０．５−２％のケイ素、またはこれらの組み合わせを含む請求項８または９に記載の表面コーティング。
【請求項１１】
前記コーティングは複数の層を含む請求項８から１０の何れか１項に記載の表面コーティング。
【請求項１２】
前記コーティングは生体再吸収性である請求項８から１１の何れか１項に記載の表面コーティング。
【請求項１３】
請求項６から１０の何れか１項に記載のイオン置換されたリン酸カルシウムコーティングの、薬剤および／またはイオン送達システムとしての使用。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９５】
イオン放出の結果を図２１から２３に示す。
以下に、当初の特許請求の範囲に記載していた発明を付記する。
［１］
制御されたモフォロジーを有する、イオン置換されたリン酸カルシウムの表面コーティングを基体上に形成するための方法であって：
ａ．前記基体を提供すること；
ｂ．活性化した表面を作るために前記基体を前処理すること；
ｃ．カルシウムイオン、マグネシウムイオン、リン酸イオン並びにＳｒ２＋、Ｓｉ４＋、Ｆ−、Ｂａ２＋、Ｆｅ３およびＺｎ２＋から選択される１以上の置換イオンを含み、任意にナトリウムイオン、カリウムイオン、塩化物イオン、炭酸イオンおよび硫酸イオンから選択される１以上のイオンを更に含み、２．０から１０．０の範囲の初期ｐＨおよび２０℃から１００℃の温度を有する水溶液を提供すること；および
ｄ．前記水溶液中にて、前記コーティングが形成されるのに十分な期間、前記基体の少なくとも一部をインキュベートすること
を含む方法。
［２］
制御されたモフォロジーを有する、イオン置換されたリン酸カルシウムの表面コーティングを基体上に形成するための前記方法が：
ａ．基体を提供すること；
ｂ．活性化した表面を作るために前記基体を前処理すること；
ｃ．カルシウムイオン、マグネシウムイオン、リン酸イオン並びにＳｒ２＋、Ｓｉ４＋、Ｆ−、Ｂａ２＋、Ｆｅ３およびＺｎ２＋から選択される１以上の置換イオンを含み、任意にナトリウムイオン、カリウムイオン、塩化物イオン、炭酸イオンおよび硫酸イオンから選択される１以上のイオンを更に含み、６．０から８．０の範囲の初期ｐＨおよび２０℃から１００℃の温度を有する水溶液を提供すること；
ｄ．前記第１水溶液中にて、第１コーティングが形成されるのに十分な期間、前記基体の少なくとも一部をインキュベートすること；
ｅ．カルシウムイオン、マグネシウムイオン、リン酸イオン並びにＳｒ２＋、Ｓｉ４＋、Ｆ−、Ｂａ２＋、Ｆｅ３およびＺｎ２＋から選択される１以上の置換イオンを含み、任意にナトリウムイオン、カリウムイオン、塩化物イオン、炭酸イオンおよび硫酸イオンから選択される１以上のイオンを更に含む第２水溶液であって、前記溶液は６．０から８．０の範囲の初期ｐＨおよび２０℃から１００℃の温度を有する第２水溶液を提供すること；および
ｆ．前記第２水溶液中にて、コーティングの第２層が形成されるのに十分な期間、前記基体の少なくとも一部をインキュベートすること
を含む［１］に記載の方法。
［３］
別のコーティングケミストリーおよびモフォロジーを任意に含む更なる層を作るために、工程ｃ）からｆ）が繰り返される［２］に記載の方法。
［４］
前記前処理はリン酸カルシウム層の形成を含む［１］から［３］の何れか１に記載の方法。
［５］
前記前処理は、熱処理、加水分解、酸化、酸もしくは塩基処理、陽極酸化、ＵＶ照射、ＣＶＤ、ゾル−ゲルまたはＰＶＤを含む［１］から［４］の何れか１に記載の方法。
［６］
前記前処理は、前記基体表面上に荷電した基の形成をもたらす［４］に記載の方法。
［７］
各々の溶液における浸漬時間は、最長で２週間、好ましくは１週間未満およびより好ましくは３日未満である［１］から［６］の何れか１に記載の方法。
［８］
カルシウムイオンの濃度は、０．０１−２５×１０−３Ｍ、好ましくは０．５−２．５×１０−３Ｍの範囲であり；
マグネシウムイオンの濃度は、０．０１−１５×１０−３Ｍ、好ましくは０．２−１．５×１０−３Ｍの範囲であり；
ナトリウムイオンの濃度は、０．０１−１４２０×１０−３Ｍ、好ましくは１００−１５０×１０−３Ｍの範囲であり；
カリウムイオンの濃度は、０．０１−１４２０×１０−３Ｍ、好ましくは１．０−５．０×１０−３Ｍの範囲であり；
塩化物イオンの濃度は、０．０１−１０３０×１０−３Ｍ、好ましくは１００−１５０×１０−３Ｍの範囲であり；
リン酸イオンの濃度は、０．０１−１０×１０−３Ｍ、好ましくは１．０−１０×１０−３Ｍの範囲であり；
炭酸イオンの濃度は、０．０１−２７０×１０−３Ｍ、好ましくは１．０−５０×１０−３Ｍの範囲であり；
硫酸イオンの濃度は、０．０１−５×１０−３Ｍ、好ましくは０．１−１．０×１０−３Ｍの範囲である
［１］から［７］の何れか１に記載の方法。
［９］
カルシウムと、マグネシウムと、ホスフェートと、ストロンチウム、ケイ素、フッ化物、バリウム、鉄および亜鉛の１以上と、任意にナトリウム、カリウム、塩化物、カーボネートおよびスルフェートの１以上とを含む、イオン置換されたリン酸カルシウム表面コーティング。
［１０］
前記カルシウムの陽イオン性の置換は、最大で８０％であり、好ましくは２５−６０％である［９］に記載の表面コーティング。
［１１］
前記ホスフェートの陰イオン性の置換は、最大で３０％であり、好ましくは１０−２５％である［９］または［１０］に記載の表面コーティング。
［１２］
前記コーティングは、０−５％の、好ましくは１．５−３％のフッ化物、もしくは０−１０％の、好ましくは３−８％のストロンチウム、もしくは０−５％の、好ましくは０．５−２％のケイ素、またはこれらの組み合わせを含む［９］から［１１］の何れか１に記載の表面コーティング。
［１３］
前記コーティングのモフォロジーは、シート、フレーク、球、多孔質構造、スパイクもしくはロッドまたはそれらの組み合わせの形状である［９］から［１２］の何れか１に記載の表面コーティング。
［１４］
前記コーティングは複数の層を含む［９］から［１３］の何れか１に記載の表面コーティング。
［１５］
前記コーティングは生体再吸収性である［９］から［１４］の何れか１に記載の表面コーティング。
［１６］
［７］から［１３］の何れか１に記載のイオン置換されたリン酸カルシウムコーティングの薬剤および／またはイオン送達システムとしての使用。