Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月9日(2009.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
転写材上にテストパターンを形成し、前記テストパターンを検知した検知結果に基づき色味を安定化させるカラー画像形成装置であって、
前記転写材上に画像が形成されてから排紙されるまでの前記転写材の搬送路経路途中において、前記転写材上に形成されたテストパターンを検知する検知手段と、
前記検知手段による検知結果に基づいて、色味を安定させるべく画像信号を補正するための補正データを得る色安定化制御を実行する色安定化制御手段と、
転写材の種類に応じて前記補正データを特定できるように前記補正データを保持する保持手段と、
前記保持手段により保持された複数の補正データの中から、画像形成に使用される転写材の種類に応じた補正データを用いて画像形成を行う画像形成手段とを有することを特徴とするカラー画像形成装置。
【請求項２】
前記テストパターンは、ブラックのパッチと、シアン及びマゼンタ及びイエローの混色パッチと、を含み、前記色安定化制御は、前記ブラックのパッチと、前記混色パッチの色味を合わせるように、前記混色パッチにおけるシアン及びマゼンタ及びイエローの混合比を求めることであることを特徴とする請求項１に記載のカラー画像形成装置。
【請求項３】
前記検知手段及び前記色安定化制御手段を稼動させ、前記保持手段に既に保持されている前記補正データを更新する更新手段を有することを特徴とする請求項１又は２に記載のカラー画像形成装置。
【請求項４】
前記更新手段は、前記カラー画像形成装置の使用条件の変動に基づき、前記更新を実行するか否かを判断する判断手段を含み、
前記判断手段の判断により、前記更新を行わないと判断した場合に、前記画像形成手段は、前記保持手段により保持されている、前記画像形成に使用される転写材の種類に応じた補正データを用いて画像形成を行うことを特徴とする請求項３に記載のカラー画像形成装置。
【請求項５】
前記画像形成に使用される転写材の種類が変更された場合に、前記検知手段及び前記色安定化制御手段を稼動させ、該稼動された色安定化制御により得られる補正データに、前記変更後の転写材の種類を対応させて前記保持手段に保持させる更新手段を有することを特徴とする請求項１又は２に記載のカラー画像形成装置。
【請求項６】
転写材上にテストパターンを形成し、前記テストパターンを検知した検知結果に基づき色味を安定化させるカラー画像形成装置における色安定化制御方法であって、
前記転写材上に画像が形成されてから排紙されるまでの前記転写材の搬送路経路途中において、前記転写材上に形成されたテストパターンを検知する検知手段による検知工程と、
前記検知工程における検知結果に基づいて、色味を安定させるべく画像信号を補正するための補正データを得る色安定化制御を実行する色安定化制御手段による色安定化制御工程と、
転写材の種類に応じて前記補正データを特定できるように前記補正データを保持手段に保持する保持工程と、
前記保持手段に保持された複数の補正データの中から、画像形成に使用される転写材の種類に応じた補正データを用いて画像形成を行う画像形成手段による画像形成工程とを有することを特徴とする色安定化制御方法。
【請求項７】
前記テストパターンは、ブラックのパッチと、シアン及びマゼンタ及びイエローの混色パッチと、を含み、前記色安定化制御は、前記ブラックのパッチと、前記混色パッチの色味を合わせるように、前記混色パッチにおけるシアン及びマゼンタ及びイエローの混合比を求めることであることを特徴とする請求項６に記載の色安定化制御方法。
【請求項８】
前記検知手段による前記検知工程及び前記色安定化制御手段による前記色安定化制御工程を実行させ、前記保持手段に既に保持されている前記補正データを更新する更新工程を有することを特徴とする請求項６又は７に記載の色安定化制御方法。
【請求項９】
前記更新工程は、前記カラー画像形成装置の使用条件の変動に基づき、前記更新を実行するか否かを判断する判断工程を含み、
前記判断工程における判断により、前記更新を行わないと判断した場合に、前記画像形成工程においては、前記保持手段に保持されている、前記画像形成に使用される転写材の種類に応じた補正データを用いて画像形成を行うことを特徴とする請求項８に記載の色安定化制御方法。
【請求項１０】
前記画像形成に使用される転写材の種類が変更された場合に、前記検知手段及び前記色安定化制御手段を稼動させ、該稼動された色安定化制御により得られる補正データに、前記変更後の転写材の種類を対応させて前記保持手段に保持させる更新工程を有することを特徴とする請求項６又は７に記載の色安定化制御方法。
【請求項１１】
請求項６乃至１０の何れか１項に記載の色安定化制御方法の各工程をコンピュータに実行させるためのプログラム。
【請求項１２】
請求項１１に記載のプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月27日(2008.11.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像を表示するための表示システム（４００）であって、
１つまたは複数の個々の光源（１０２）と、
各光源または光源（１０２）群に関連した別個の光収集サブシステムを含む光結合ステージ（４１０）と、
表示されるべき画像に従って光結合ステージ（４１０）から受取られた光を変調するよう動作可能な光変調器（１２０）と、
投影ステージ（１３０）とを含み、
各光収集サブシステムは、光源（１０２）から延びる光パイプ（４１２）を含み、
各光収集サブシステムは、光パイプ（４１２）の出口にレンズ（４１４）を含むことを特徴とする、画像を表示するための表示システム。
【請求項２】
各光収集サブシステムは、第1の平面（Ｓ）に、関連する光源または光源群の画像（I）を作成し、
異なる光収集サブシステムによって作成された画像は、その第1の平面において、隙間を残すことなく実質的に隣接しており、および／または、
、これらの画像は、第２の平面において一致している、請求項１に記載の表示システム（４００）。
【請求項３】
前記複数の個々の光源（１０２）は発光ダイオードである、請求項１または２のいずれかに記載の表示システム（４００）。
【請求項４】
前記複数の光源（１０２）は、前記複数の光源（１０２）の各々の発光面が隣接して配置されることができないようなパッケージングを含む、請求項１〜３のいずれかに記載の表示システム（４００）。
【請求項５】
光収集サブシステムの各々の内部の対応する要素は実質的に互いに整列されている、請求項１〜４のいずれかに記載の表示システム（４００）。
【請求項６】
光収集サブシステムの各々は光軸を有し、前記光収集サブシステムの光軸は実質的に互
いに平行である、請求項１〜５のいずれかに記載の表示システム（４００）。
【請求項７】
前記光軸は、光収集サブシステム内の構成要素の中心点を通過する、請求項６に記載の表示システム（４００）。
【請求項８】
前記光収集サブシステムは少なくとも１つのレンズを含み、前記レンズの拡大係数は、光収集サブシステムの構成要素の物理的輪郭よりも大きい画像（Ｉ）を生成するのに十分である、請求項１〜７のいずれかに記載の表示システム（４００）。
【請求項９】
各光収集サブシステムは、光源（１０２）または光源（１０２）群の上に、または直接隣接して搭載された光学素子（１０４）を含む、請求項１〜８のいずれかに記載の表示システム（４００）。
【請求項１０】
各光収集サブシステムは、光変調器（１２０）の表面積全体の異なる部分を照明するよう動作可能である、請求項１〜９のいずれかに記載の表示システム（４００）。
【請求項１１】
光収集サブシステムは、レンズ（４１４）が実質的に互いに接触するよう構成される、請求項１〜１０のいずれかに記載の表示システム（４００）。
【請求項１２】
反射偏光器（４５２）と遅延手段（４５４）とをさらに含む、請求項１〜１１のいずれかに記載の表示システム（４００）。
【請求項１３】
光パイプ（４１２）は、光源（１０２）から延びる方向において外向きにテーパが付けられている、請求項１〜１２のいずれかに記載の表示システム（４００）。
【請求項１４】
光パイプ（４１２）の壁はすべて、実質的にまっすぐである、請求項１〜１３のいずれかに記載の表示システム（４００）。
【請求項１５】
光源に最も近い光パイプ（４１２）の少なくとも一部は反射性のコーティングを有する、請求項１〜１４のいずれかに記載の表示システム（４００）。
【請求項１６】
光源（１０２）は、３つの異なるカラーチャネルに設けられる、前述の請求項のいずれかに記載の表示システム。
【請求項１７】
画像を表示するための方法であって、
複数の光源を用いて光を生成するステップと、
前記複数の光源からの関連する１光源から、または関連する光源群から光を個々にサブ収集することによって光を結合するステップと、
結合された光を光変調器上で結像させるステップと、
表示されるべき画像情報に従って光を変調するステップと、
変調された光を投影するステップとを含み、
前記方法は、
サブ収集が、光源（１０２）から延びる光パイプ（４１２）によって行なわれることと、
レンズ（４１４）が光パイプ（４１２）の出口に位置することとをさらに含むことを特徴とする、画像を表示するための方法。
【請求項１８】
光を結合するステップは、実質的に平行な光路を用いて光をサブ収集することによって行なわれてもよい、請求項１７に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月20日(2008.11.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
タイミングコントローラと第１ラインドライバとを連結する第１群のデータバスと、
前記第１ラインドライバと第２ラインドライバとを連結する少なくとも一つのデータバスを含む第２群のデータバスと、を備え、
前記第２群のデータバスは、前記第１群のデータバスより少なくとも一つのデータバスを引いて備えることを特徴とするディスプレイ装置。
【請求項２】
前記第１及び第２ラインドライバは、
ソースドライバであることを特徴とする請求項１に記載のディスプレイ装置。
【請求項３】
前記第１及び第２ラインドライバは、
直列カスケードに互いに連結されることを特徴とする請求項１に記載のディスプレイ装置。
【請求項４】
前記第１群のデータバスは、
前記第１及び第２ラインドライバで利用されるデータを伝送することを特徴とする請求項１に記載のディスプレイ装置。
【請求項５】
前記第２群のデータバスは、
前記第２ラインドライバで利用されるデータを伝送することを特徴とする請求項４に記載のディスプレイ装置。
【請求項６】
前記第２群のデータバスは、
前記第１ラインドライバで利用されるデータを伝送しないことを特徴とする請求項５に記載のディスプレイ装置。
【請求項７】
前記第２群のデータバスは、
前記第２ラインドライバに接続される第３ラインドライバで利用されるデータを伝送することを特徴とする請求項６に記載のディスプレイ装置。
【請求項８】
前記第１群及び第２群のデータバスが備えるそれぞれのデータバスは、
既定の時間区間の間に少なくとも一つの制御信号を伝送することを特徴とする請求項１に記載のディスプレイ装置。
【請求項９】
前記少なくとも一つの制御信号は、
前記第１及び第２ラインドライバのラッチ状態、ロード状態及び極性状態のうち少なくとも一つの状態を表すことを特徴とする請求項８に記載のディスプレイ装置。
【請求項１０】
タイミングコントローラから第１ラインドライバまで第１群のデータ信号を伝送するステップと、
前記第１ラインドライバから第２ラインドライバまで第２群の少なくとも一つのデータ  信号を伝送するステップを備え、
前記第２群のデータ信号の数は、前記第１群のデータ信号の数より小さなことを特徴とするディスプレイ装置でデータ信号を伝送する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月1日(2009.9.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原稿読取ユニットが画像形成ユニットの上方に支持され、原稿読取ユニットと画像形成ユニットの間にシート排出用空間が形成され、前記原稿読取ユニットには上方から見た場合に４つの角部が設けられている画像形成装置において、
前記原稿読取ユニットの４つの角部のうち１つ又は２つの角部は、前記画像形成ユニットから離間し、前記画像形成ユニットに支持されていない離間角部であり、
前記離間角部を挟む２つの装置側面では、前記シート排出用空間が装置外部に開放されており、
前記離間角部の隣の角部であって前記画像形成ユニットに支持されている支持角部では、前記原稿読取ユニットが前記画像形成ユニットに連結部材を介して間接的に連結されており、
前記連結部材は、
前記原稿読取ユニットの側面に係合する第１係合部と、
前記画像形成ユニットの側面に係合する第２係合部と、を有する
ことを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記第１係合部及び第２係合部は、それぞれ複数の係合部から構成されている
ことを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記連結部材は、
前記第１係合部により、前記離間角部と前記支持角部を含む装置側面に平行な面内における前記原稿読取ユニットと前記連結部材の相対移動を規制し、
前記第２係合部により、前記離間角部と前記支持角部を含む装置側面に平行な面内における前記画像形成ユニットと前記連結部材の相対移動を規制する
ことを特徴とする請求項１または２に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記連結部材は、前記離間角部と前記支持角部を含む装置側面に垂直な方向に着脱可能である
ことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記連結部材は、前記離間角部と前記支持角部を含む装置側面における前記シート排出用空間の開放部分から退避した形状を有する
ことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記連結部材は、前記原稿読取ユニット及び前記画像形成ユニットの限界応力よりも低い応力で、塑性変形するように構成されている
ことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明に係る画像形成装置は、
原稿読取ユニットが画像形成ユニットの上方に支持され、原稿読取ユニットと画像形成ユニットの間にシート排出用空間が形成され、前記原稿読取ユニットには上方から見た場合に４つの角部が設けられている画像形成装置において、
前記原稿読取ユニットの４つの角部のうち１つ又は２つの角部は、前記画像形成ユニットから離間し、前記画像形成ユニットに支持されていない離間角部であり、
前記離間角部を挟む２つの装置側面では、前記シート排出用空間が装置外部に開放されており、
前記離間角部の隣の角部であって前記画像形成ユニットに支持されている支持角部では、前記原稿読取ユニットが前記画像形成ユニットに連結部材を介して間接的に連結されており、
前記連結部材は、
前記原稿読取ユニットの側面に係合する第１係合部と、
前記画像形成ユニットの側面に係合する第２係合部と、を有する
ことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月28日(2009.5.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
特定入賞口と非特定入賞口とを入賞装置に備え、前記特定入賞口に遊技球が入賞したことを契機として遊技者に特別の権利を付与する構成とした遊技機であって、
前記特定入賞口に入賞する確率が高い複数の第１通路と、当該複数の第１通路
のいずれよりも前記特定入賞口に入賞する確率が低い第２通路とを前記入賞装置に備え、
入賞装置に入った遊技球が、前記複数の第１通路のうちで、どの通路を通行したのかを検出する検出手段と、
遊技球が前記特定入賞口に入賞したときは、前記検出手段によって検出された通路に応じて前記特別の権利の内容を異ならせて付与する権利付与手段と、
前記複数の第１通路について一以上の通路に備え、前記特別の権利の内容を識別するための表示を行う識別表示手段とを有する遊技機。
【請求項２】
請求項１に記載した遊技機であって、
検出手段が複数の第１通路のうちで特定の通路を通行する遊技球を検出すると特別の権利の内容にかかる抽選を行う第１抽選手段を備え、
権利付与手段は前記第１抽選手段による抽選結果に応じた内容の特別の権利を遊技者に付与する遊技機。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載した遊技機であって、
第１所定条件を満たすことを契機として複数の第１通路のうちでどの通路に振り分けるのかを抽選する第２抽選手段と、
前記第２抽選手段による抽選結果に応じた通路に遊技球を振り分ける振分手段とを有する遊技機。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれか一項に記載した遊技機であって、
第２所定条件を満たすことを契機として、検出手段によって検出された通路に応じて付与する特別の権利の内容を変更するとともに、識別表示手段によって表示する内容を変更する内容変更手段を有する遊技機。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれか一項に記載した遊技機であって、
検出手段が単位時間内に複数の通路を遊技球が通行したことを検出すると、権利付与手段は先に通行した通路または遊技者にとって有利な特別の権利の内容となる通路を選択する遊技機。
【請求項６】
請求項１から請求項５のいずれか一項に記載した遊技機であって、
検出手段によって検出された通路および当該通路に応じて付与される特別の権利の内容のうちで一方または双方を報知する報知手段を有する遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月25日(2009.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）回転中心を有し、前記回転中心と同心であり、ある幅を有する環状研磨トラックを含む研磨層であって、前記環状研磨トラックの幅が半径方向の溝を含むものであり、前記半径方向の溝が、ある平均断面積を有するものである研磨層、及び
ｂ）前記研磨層中の、前記環状研磨トラックの幅の範囲内にある複数の半径方向のミクロチャネルであって、前記半径方向の溝の平均断面積の１０分の１以下である平均断面積を有し、大多数が主として半径方向の向きを有する半径方向のミクロチャネル
を含む、磁性基材、光学基材及び半導体基材の少なくとも一つを研磨するのに有用な研磨パッド。
【請求項２】
前記半径方向のミクロチャネルの大多数が前記半径方向の溝と交差しない、請求項１記載の研磨パッド。
【請求項３】
前記研磨層がカーブした半径方向の溝を含み、前記半径方向のミクロチャネルがカーブした半径方向のミクロチャネルを含む、請求項１記載の研磨パッド。
【請求項４】
前記研磨層が、少なくとも１５，０００μm2の平均断面積を有する溝を前記環状研磨トラック内に含まない、請求項１記載の研磨パッド。
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月17日(2009.2.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向する一対の端部を接合された金属板により形成された円筒軸であって、
前記端部の各々が、前記端部から突出し且つ前記端部から離れるほど幅が広くなる部分を含む凸部と、前記端部から引っ込み且つ前記端部から離れるほど幅が広くなる部分を含む凹部とを備え、
前記端部の一方の前記凸部および前記凹部が、前記端部の他方の凹部および凸部と、それぞれ相互に嵌合し、
前記凸部および凹部の各々の輪郭が、前記端部に対して略直角な直角側端部および前記端部に対して鋭角を挟む傾斜側端部を有し、
前記直角側端部と前記傾斜側端部とは、前記端部に隣接して配されるとともに、前記凸部および凹部の各々について前記端部の長手方向の互いに反対側に配される円筒軸。
【請求項２】
前記直角側端部が、前記円筒軸の長手方向について等間隔で配置される請求項１に記載の円筒軸。
【請求項３】
前記直角側端部が、前記円筒軸の長手方向について、前記凸部および前記凹部の同じ側に形成される請求項１または請求項２に記載の円筒軸。
【請求項４】
周方向に延在するノッチを軸方向について複数配した請求項１に記載の円筒軸。
【請求項５】
前記ノッチは、前記凸部および凹部に配される請求項４に記載の円筒軸。
【請求項６】
前記ノッチは、軸方向における前記凸部および凹部間に配される請求項４に記載の円筒軸。
【請求項７】
軸方向に延在し、周方向に複数配されたノッチを更に備える請求項１から６のいずれかに記載の円筒軸。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】円筒軸
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、円筒軸に関する。より詳細には、金属板を曲げ加工して製造される円筒軸に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
また、端部２１５、２１７における凸部２１１および凹部２１３の幅Ｗ１は、端部２１５、２１７から遠ざかるにつれて幅Ｗ２まで拡がっている。ただし、凸部２１１および凹部２１３の端部２１５、２１７に隣接する一対の側端部の一方は、端部２１５、２１７に対して直角をなす直角側端部２１６となる。これに対して、他方の側では、端部２１５、２１７に対して鋭角を挟む傾斜側端部２１８が形成される。なお、凸部２１１または凹部２１３の各々における直角側端部２１６の配置に着目すると、この実施形態では、一方の端部２１５、２１７において、凸部２１１における直角側端部２１６と、凹部２１３における直角側端部２１６は、金属板２１９の長手方向について互いに反対の側に形成される。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月24日(2009.3.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
前記画像信号から、画像信号を空間周波数成分表現に変換するように画像信号に変換を適用することにより、その中に含まれる周期的パターンに相当する空間周波数成分を抽出するステップと、空間周波数成分表現を処理するステップと、空間周波数成分表現について逆変換を計算するステップと、前記画像信号から前記逆変換の結果を除去することにより、画像信号内に生じている空間周波数成分を抑制するステップと、を有する、画像信号内に生ずる周期的パターンに相当する空間周波数成分が抑制される周期的パターン抑制方法において、
前記変換が、
【数１】
2006289095.tif 000001
但し、ｓ（ｘ）は前記画像信号で、ｗは重量によって決められ、ωは周期的パターンの与えられた周波数を示すものである、
によって決められる短時間ゲルツェル変換であることを特徴とする周期的パターン抑制方法。
【請求項２】
前記処理が、空間周波数成分表現への非線形高周波減衰フィルターの適用を有している請求項１による方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月6日(2009.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のサテライト施設で得られた生体内画像データを中央施設で処理するための方法であって、
サテライト施設の少なくとも一つにおいて患者の外部に位置する記録装置を初期化するステップと、
患者が飲込んだカプセルから患者の生体内画像データを取得し、生体内画像データをカプセルから記録装置へワイヤレスで送信するステップと、
複数のサテライト施設の一つにおいて、生体内画像データを圧縮し、および編集することを含む患者の生体内画像データを初期処理するステップと、
初期処理された生体内画像データを、前記複数のサテライト施設の少なくとも一つから中央施設へ転送するステップと、
中央施設で前記初期処理された生体内画像データを続いて処理するステップと、
続いて処理された生体内画像データをビデオフォーマットでそれぞれのサテライト施設の少なくとも一つに送り返すステップと
を含む方法。
【請求項２】
中央施設へ初期処理された生体内画像データを転送するステップは、記録装置または記録装置からの情報を含む取り外し可能なおよび／または移動可能なメモリ装置をサテライト施設から中央施設へ運ぶステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
中央施設へ初期処理された生体内画像データを転送するステップは、生体内画像データをサテライト施設の記録装置からワイヤレスで、又はインターネットを介して中央施設へ送信するステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
生体内画像データを記録装置から可搬式のメモリ装置へ転送するステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
記録装置を初期化するステップは、記録装置に患者情報データを入力するステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
複数のサテライト施設で得られた生体内画像データを中央施設で処理するためのシステムであって、
患者に隣接するサテライト施設に位置し、記録装置の初期化を実行するためのソフトウェアを備える第１のシステムと、
サテライト施設において、患者が飲込んだカプセルによって生成される生体内画像データをワイヤレスで受け取って格納し、かつ、生体内画像データを圧縮し、および編集することを含む、前記カプセルによって生成される生体内画像データを初期処理するための初期化プロセスを受けた、患者の外部に位置する記録装置と、
第１のシステムから受け取った初期処理された生体内画像データを続いて処理し、かつ、続いて処理された生体内画像データをサテライト施設に位置する第１のシステムへビデオフォーマットで送るためのソフトウェアを有する、第１のシステムから遠隔にある中央施設に位置する第２のシステムと
を備えるシステム。
【請求項７】
記録装置は、サテライト施設で患者が飲込んだカプセルによって生成された生体内画像データを格納した後、中央施設へ転送される請求項６に記載のシステム。
【請求項８】
記録装置から生体内画像データを受け取るための可搬式のメモリ装置をさらに含む、請求項６に記載のシステム。
【請求項９】
中央施設で前記処理された生体内画像データを続いて処理するステップは、画像合成、色彩認識、又はパターン認識を含む請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
中央施設は、生体内感知装置から得られる画像データを調査するために訓練された少なくとも一人の医療専門家を有する読取センターを備える請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
記録装置は、サテライト施設から中央施設へインターネットを介して転送される請求項７に記載のシステム。
【請求項１２】
中央施設に位置し、かつ第１のシステムから遠隔にある第２のシステムは、複数のサテライト施設から受け取った生体内画像データを続いて処理するためのソフトウェアを備える請求項６に記載のシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】生体内画像データを処理するための方法およびシステム
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月25日(2008.12.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透光性基板と、前記透光性基板の一方の面上に設けられた第１の透光性電極、前記第１の透光性電極上に設けられた発光物質、及び前記発光物質上に設けられた第２の透光性電極を備える発光素子と、を有する表示画面と、
前記表示画面に設けられた入力手段と、
前記表示画面の背面に設けられた遊技盤と、を有し、
前記表示画面と前記遊技盤との間に、光反射性を有する球を通過させることによって、前記発光素子の発光を散乱させ、
前記入力手段に外部から入力される情報により前記表示画面に表示される画像が変化することを特徴とする遊技機。
【請求項２】
請求項１に記載の遊技機は、可撓性フィルム上に形成された表示画面を有することを特徴とする遊技機。
【請求項３】
透光性基板と、前記透光性基板の一方の面上に設けられた第１の透光性電極と、前記第１の透光性電極上に設けられた発光物質と、前記発光物質上に設けられた第２の透光性電極と、を有する第１の表示画面と、
前記第１の表示画面に設けられた入力手段と、
前記第１の表示画面の背面に表示が行われる第２の表示画面と、
前記第２の表示画面を前記第２の表示画面表面に対して平行な軸を回転軸として回転させる回転手段と、
前記第２の表示画面の回転を停止させる停止手段と、を有し、
前記第１の表示画面及び前記第２の表示画面は、発光素子により表示が行われ、
前記回転開始手段により前記第２の表示画面を回転させることによって、３次元画像を表示し、
前記回転停止手段により前記第２の表示画面の回転を停止させることによって、２次元画像を表示することを特徴とする遊技機。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３いずれか一において、前記入力手段はセンサまたはタッチパネルであることを特徴とする遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月11日(2009.3.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シャフトと複数のマグネットブロックとを有するマグネットロールの前記マグネットブロックの作製に用いられ、
作製される前記マグネットブロックの長手方向に沿って延在する第１の凹部を有し、この第１の凹部によって前記マグネットブロックの外周曲面を形成する第１の型と、
作製される前記マグネットブロックの長手方向に沿って延在する第２の凹部を有し、この第２の凹部によって前記マグネットブロックの内周曲面及び両側平面を形成する第２の型とを備え、
前記第１の凹部の縁部のうちの前記第１の凹部の長手方向に平行な縁部、及び、前記第２の型の縁部のうちの前記第２の凹部の長手方向に平行な縁部の少なくともいずれか一方には、前記第１及び第２の凹部によって形成されるキャビティからパーティング面に沿って外方に延びる溝部を形成する切り欠き部が、前記縁部に沿って形成されている、マグネットブロックの金型。
【請求項２】
前記切り欠き部が前記縁部の略全長に亘って形成されている、請求項１に記載のマグネットブロックの金型。
【請求項３】
前記切り欠き部が、前記縁部に沿って部分的に形成されており、且つ、前記溶融樹脂が射出充填される側の反対側から延びている、請求項１に記載のマグネットブロックの金型。
【請求項４】
前記切り欠き部の第１の位置における幅が、前記第１の位置より前記溶融樹脂が射出充填される側にある第２の位置における幅より広い、請求項１〜３のいずれか一項に記載のマグネットブロックの金型。
【請求項５】
前記切り欠き部は、前記溶融樹脂が射出充填される側からその反対側へ向かってその幅が漸次増加する部分を含んでいる、請求項１〜４のいずれか一項に記載のマグネットブロックの金型。
【請求項６】
前記溝部は、前記キャビティから外方に向かう方向に関して、その溝深さが略均一となっている、請求項１〜５のいずれか一項に記載のマグネットブロックの金型。
【請求項７】
前記溝部は、前記キャビティから外方に向かう方向に関して、その溝深さが漸次増加又は漸次減少している、請求項１〜５いずれか一項に記載のマグネットブロックの金型。
【請求項８】
前記溝部は、その溝深さが０．１ｍｍ以下である、請求項１〜７のいずれか一項に記載のマグネットブロックの金型。
【請求項９】
前記溝部が、
前記キャビティに隣接する第１の溝部と、
前記第１の溝部よりも外方に位置すると共に、前記第１の溝部よりも深い第２の溝部とを有する、請求項１〜５のいずれか一項に記載のマグネットブロックの金型。
【請求項１０】
前記第１及び第２の溝部は、前記キャビティから外方に向かう方向に関して、その溝深さが略均一となっている、請求項９に記載のマグネットブロックの金型。
【請求項１１】
前記第１及び第２の溝部の少なくともいずれか一方は、前記キャビティから外方に向かう方向に関して、その溝深さが漸次増加又は漸次減少している、請求項９に記載のマグネットブロックの金型。
【請求項１２】
前記第１の溝部は、その溝深さが０．０５ｍｍ以下であり、前記第２の溝部は、その溝深さが０．０２ｍｍ〜１ｍｍの範囲内である、請求項９〜１１のいずれか一項に記載のマグネットブロックの金型。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか一項に記載の金型を用いるマグネットブロックの製造方法であって、
前記第１の型と前記第２の型とを合わせて前記キャビティを形成するステップと、
前記キャビティに磁性粉体を含む溶融樹脂を射出充填するステップと、
前記キャビティに射出充填された前記溶融樹脂を固化するステップとを有するマグネットブロックの製造方法。
【請求項１４】
前記溶融樹脂の固化により得られた成形品の前記溝部に対応する部分を除去するステップをさらに備える、請求項１３に記載のマグネットブロックの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月1日(2009.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
図４および図５は、穿孔（piercing）後の、図３のポート４０（４０ａ）を示す平面図および断面側面図である。ポート領域５０に圧力が加えられると、部分的にエッチングされた円弧６０に沿ってダイヤフラムプレート１０が破断する。それによってポート４０ａが開口させられ、ダイヤフラムプレート１０の押下または穿孔された部分によって、リーフレット５２が形成される。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月3日(2009.7.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を露光する露光装置であって、
照明光で原版を照明する照明光学系と、
前記原版のパターンを基板に投影する投影光学系とを備え、
前記照明光は、互いに直交する主偏光成分及び副偏光成分を含み、
前記照明光学系は、前記主偏光成分の方向を変えることなく前記主偏光成分と前記副偏光成分との間の位相差を連続的に調整する機能を有する位相差調整ユニットを含む、
ことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記位相差調整ユニットは、一軸性結晶で構成された位相差調整板を含み、前記位相差調整板の主面と前記照明光学系の光軸とのなす角を調整することが可能であることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記位相差調整ユニットは、前記位相差調整板を前記照明光学系の光軸に直交する軸の回りで回転させるアクチュエータを更に含むことを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記位相差調整ユニットは、ソレイユ補正器を含むことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項５】
前記ソレイユ補正器は、２枚の楔を含み、前記位相差調整ユニットは、前記照明光学系の光軸方向における前記２つの楔の合計の厚さを変更するアクチュエータを更に含むことを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
【請求項６】
前記照明光の主偏光成分の光量をＩｍ、前記照明光の副偏光成分の光量をＩｓ、原版上における前記主偏光成分と前記副偏光成分との間の位相差をφ、前記投影光学系のリタデーション量をθとし、（Ｉｍ／（Ｉｍ＋Ｉｓ））をＲｏＰとしたときに、（１）式を満たす、
【数１】
2008016516.tif 000001
・・・（１）
ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項７】
前記原版上における偏光状態を計測する計測ユニットと、
前記計測ユニットによる計測結果に基づいて前記位相差調整ユニットを制御する位相差制御ユニットを更に備えることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項８】
デバイス製造方法であって、
請求項１乃至７のいずれか１項に記載の露光装置を使って基板を露光する工程と、
前記基板を現像する工程と、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月1日(2009.7.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１主面、及び前記第１主面とは反対側の第１裏面を有する第１配線基板と、
前記第１配線基板の前記第１主面上に搭載されたマイコンチップと、
第２主面、及び前記第２主面とは反対側の第２裏面を有し、前記マイコンチップ上に配置された第２配線基板と、
前記第１配線基板と前記第２配線基板とを電気的に接続する複数の第１バンプ電極と、
前記第１配線基板の前記第１裏面に配置された複数の第２バンプ電極と、
前記第２配線基板の内部に配置された第１メモリチップと、
前記第２配線基板の内部において、前記第１メモリチップ上に配置された第２メモリチップと、を含み、
前記マイコンチップは、前記第１配線基板内に形成された第１内部配線を介して前記第１バンプ電極と電気的に接続され、
前記マイコンチップは、前記第１配線基板内に形成された第２内部配線を介して前記第２バンプ電極と電気的に接続され、
前記第１メモリチップは、前記第２配線基板内に形成された第３内部配線を介して前記第１バンプ電極と電気的に接続され、
前記第２メモリチップは、前記第２配線基板内に形成された第４内部配線を介して前記第１バンプ電極と電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
請求項１記載の半導体装置において、前記マイコンチップは、前記第１及び第２メモリチップと外部機器とのインタフェースであり、
前記第１及び第２メモリチップは、外部クロック信号の立ち上がりと立ち下がりの両方に同期してデータを転送することを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
請求項２記載の半導体装置において、前記複数の第１バンプ電極は、前記第１配線基板の前記第１主面上に設けられた複数の第１ボンディングリードと前記第２配線基板の前記第２裏面上に設けられた複数の第２ボンディングリードとの間にそれぞれ配置されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
請求項３記載の半導体装置において、前記マイコンチップと前記第１及び第２メモリチップのそれぞれは、前記複数の第１ボンディングリード、前記複数の第１バンプ電極、及び前記複数の第２ボンディングリードを介して電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
請求項４記載の半導体装置において、前記第１メモリチップの第１電極パッドから前記第１電極パッドに対応する前記第２配線基板の前記第２ボンディングリードまでの第１距離と、前記第２メモリチップの第２電極パッドから前記第２電極パッドに対応する前記第２ボンディングリードまでの第２距離は等しいことを特徴とする半導体装置。
【請求項６】
請求項５記載の半導体装置において、前記第１距離と前記第２距離の差の許容範囲は、±２ｍｍ以内好ましくは±１ｍｍ以内であることを特徴とする半導体装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、半導体装置に関し、特に、マイコンチップとメモリチップを有する半導体装置に適用して有効な技術に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
すなわち、本発明は、第１主面、及び前記第１主面とは反対側の第１裏面を有する第１配線基板と、前記第１配線基板の前記第１主面上に搭載されたマイコンチップと、第２主面、及び前記第２主面とは反対側の第２裏面を有し、前記マイコンチップ上に配置された第２配線基板と、前記第１配線基板と前記第２配線基板とを電気的に接続する複数の第１バンプ電極と、前記第１配線基板の前記第１裏面に配置された複数の第２バンプ電極と、前記第２配線基板の内部に配置された第１メモリチップと、前記第２配線基板の内部において、前記第１メモリチップ上に配置された第２メモリチップと、を含み、前記マイコンチップは、前記第１配線基板内に形成された第１内部配線を介して前記第１バンプ電極と電気的に接続され、前記マイコンチップは、前記第１配線基板内に形成された第２内部配線を介して前記第２バンプ電極と電気的に接続され、前記第１メモリチップは、前記第２配線基板内に形成された第３内部配線を介して前記第１バンプ電極と電気的に接続され、前記第２メモリチップは、前記第２配線基板内に形成された第４内部配線を介して前記第１バンプ電極と電気的に接続されているものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月22日(2009.6.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透光性放熱部材と、前記透光性放熱部材の表面にパターン形成された導体配線と、前記導体配線にフリップチップ実装された発光素子と、前記発光素子を被覆する波長変換部材と、を有し、
前記透光性放熱部材は、前記発光素子と対向する面の非導体配線形成領域に、絶縁性で且つ非透光性の無機部材が形成されていることを特徴とする発光装置。
【請求項２】
前記無機部材は、前記透光性部材と前記導体配線との界面に延在していることを特徴とする請求項１に記載の発光装置。
【請求項３】
前記発光素子の実装面と前記無機部材との距離は、前記発光素子の他の面からの前記波長変換部材の厚みよりも短いことを特徴とする請求項１または２に記載の発光装置。
【請求項４】
前記無機部材は、Ｎｉ２Ｏ３、ＳｉＣ、Ｃ３Ｎ４、Ｔａ２Ｏ５、ＳｉＯ２、ＳｉＮ、ＡｌＮ、Ａｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、Ｙ２Ｏ３およびＳｉ３Ｎ４から選択される少なくとも１種であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１つに記載の発光装置。
【請求項５】
前記無機部材は、多層膜であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１つに記載の発光装置。
【請求項６】
前記多層膜は、光遮断層と絶縁層を有することを特徴とする請求項５に記載の発光装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、無機部材は、前記透光性部材と前記導体配線との界面に延在していてもよい。前記無機部材は、Ｎｉ２Ｏ３、ＳｉＣ、Ｃ３Ｎ４、Ｔａ２Ｏ５、ＳｉＯ２、ＳｉＮ、ＡｌＮ、Ａｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、Ｙ２Ｏ３およびＳｉ３Ｎ４から選択される少なくとも１種であることが好ましい。前記無機部材は、多層膜であることが好ましい。前記多層膜は、光遮断層と絶縁層を有することが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月11日(2009.6.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光素子を収容するための凹部が設けられた発光素子収容体において、
前記凹部は、複数の側面を有し、
複数の前記側面のうちの少なくとも対向配置された１対の側面を前記凹部の底面に対して略垂直となるような垂直面にすると共に、
前記垂直面とされていない複数の前記側面のうち、少なくとも対向配置された他の１対の側面を、前記発光素子の光を前記発光素子の上方に反射する傾斜面にしたことを特徴とする発光素子収容体。
【請求項２】
前記傾斜面を隣り合うように配置したことを特徴とする請求項１記載の発光素子収容体。
【請求項３】
前記発光素子は、平面視長方形であり、
前記平面視長方形の少なくとも１つの長辺が前記垂直面とされた前記側面と対向するように、前記発光素子を配置したことを特徴とする請求項１または２記載の発光素子収容体。
【請求項４】
請求項１ないし３のうち、いずれか一項記載の発光素子収容体と、
前記発光素子収容体に収容される発光素子と、を備えたことを特徴とする発光装置。
【請求項５】
発光素子を収容するための凹部が設けられた発光素子収容体の製造方法において、
第１の主面が＜１００＞面とされたシリコン基板を準備するシリコン基板準備工程と、
前記シリコン基板の前記第１の主面に平面視四角形の開口部を有したレジスト膜を形成するレジスト膜形成工程と、
前記レジスト膜をマスクとするウエットエッチングにより、前記シリコン基板をエッチングして前記凹部を形成する凹部形成工程とを有し、
前記平面視四角形の２組の対向する２辺のうち、いずれか１組の前記対向する２辺が前記シリコン基板の＜１１０＞面に対して４５度の角度を成すように前記開口部を形成することを特徴とする発光素子収容体の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の一観点によれば、発光素子を収容するための凹部が設けられた発光素子収容体において、前記凹部は、複数の側面を有し、複数の前記側面のうちの少なくとも対向配置された１対の側面を前記凹部の底面に対して略垂直となるような垂直面にすると共に、前記垂直面とされていない複数の前記側面のうち、少なくとも対向配置された他の１対の側面を、前記発光素子の光を前記発光素子の上方に反射する傾斜面にしたことを特徴とする発光素子収容体が提供される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明によれば、凹部の複数の側面のうち、少なくとも対向配置された１対の側面を凹部の底面に対して略垂直となるような垂直面にすると共に、垂直面とされていない複数の側面のうち、少なくとも対向配置された他の１対の側面を、発光素子の光を発光素子の上方に反射する傾斜面にすることにより、発光効率を向上できると共に、発光素子収容体からその上方に放出される光の拡散を抑制することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月6日(2009.7.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
溝と溝に隣接する領域とを備えた基板と、第１の部分と前記第１の部分から延在する第２の部分とを備えた第１の配線と、を具備し、前記第１の部分が前記溝内に設けられており、前記第２の部分が前記溝に隣接する領域の一部の上に設けられている、配線基板の製造方法であって、
溝を備える基板を用意し、
導電性ペーストの主溶媒に対する接触角を、前記溝に隣接する領域の一部であって前記第２の部分が設けられる領域において、前記溝に隣接する領域の他の一部であって前記第２の部分が設けられる領域を前記溝とともに囲む領域においてよりも小さくなるようにし、
少なくとも前記溝内および前記溝に隣接する領域の一部上に導電性ペーストを設ける、
ことを特徴とする配線基板の製造方法。
【請求項２】
溝と溝に隣接する領域とを備えた基板と、第１の部分と前記第１の部分から延在する第２の部分とを備えた第１の配線と、を具備し、前記第1の部分が前記溝内に設けられてお
り、前記第２の部分が前記溝に隣接する領域の一部の上に設けられている、配線基板の製造方法であって、
溝を備える基板を用意し、
導電性ペーストの主溶媒に対する接触角を、前記溝に隣接する領域の一部であって前記第２の部分が設けられる領域において、前記溝に隣接する領域の他の一部であって前記第２の部分が設けられる領域を挟む領域においてよりも小さくなるようにし、
少なくとも前記溝内および前記溝に隣接する領域の一部上に導電性ペーストを設ける、
ことを特徴とする配線基板の製造方法。
【請求項３】
前記溝に隣接する領域は、前記溝に比べて平坦であることを特徴とする請求項１または２に記載の配線基板の製造方法。
【請求項４】
前記溝内および前記溝に隣接する領域の一部上に前記導電性ペーストを設ける前に、前記溝に隣接する領域に電極を設ける工程を更に備え、
前記導電性ペーストが前記電極の少なくとも一部を覆う
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の配線基板の製造方法。
【請求項５】
前記第２の部分が設けられる前記溝に隣接する領域の一部の接触角と前記溝に隣接する領域の他の一部の接触角との差が、前記導電性ペーストの主溶媒に対して、２０度以上７０度以下であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の配線基板の製造方法。
【請求項６】
前記第１の配線と交差し、前記第１の配線上に位置する第２の配線を設ける工程と、
前記第１の配線と前記第２の配線との間に位置する絶縁層を設ける工程とを、更に、備えることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の配線基板の製造方法。
【請求項７】
第１の配線および第２の配線を基板に備えた配線基板と、
該配線基板上に配置され、前記第１の配線に接続する第１の電極と前記第２の配線に接続する第２の電極とを有する複数の電子放出素子と、
を備えた電子源の製造方法であって、
前記配線基板を請求項６に記載の配線基板の製造方法により製造することを特徴とする電子源の製造方法。
【請求項８】
電子源と、該電子源から放出された電子が照射されることで発光する発光体とを備える
画像表示装置の製造方法であって、前記電子源が請求項７に記載の電子源の製造方法により製造されることを特徴とする画像表示装置の製造方法。
【請求項９】
放送信号および電気通信回線を経由した信号の少なくとも一方を受信する受信装置と該受信装置に接続した画像表示装置とを少なくとも備える画像再生装置であって、前記画像表示装置が請求項８に記載の画像表示装置の製造方法により製造されることを特徴とする画像再生装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月3日(2009.6.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電解質膜と、
前記電解質膜の一方の表面に形成された燃料極と、
前記電解質膜の他方の表面に形成された空気極と、
前記燃料極に液体燃料を供給するための液体燃料室と、
前記燃料極と前記液体燃料室との間に形成される分離層と、
を少なくとも備え、
前記分離層および／または前記燃料極に、前記燃料極で生成した排ガスを排出するための、面方向に連続した排気通路が設けられ、
前記分離層は、前記液体燃料室から前記燃料極に前記液体燃料を通過させるとともに、前記燃料極から前記液体燃料室への気体の移動を遮断する層である、燃料電池。
【請求項２】
前記分離層は前記液体燃料を浸透拡散により通過させる層である、請求項１に記載の燃料電池。
【請求項３】
前記分離層は多孔質層である、請求項１に記載の燃料電池。
【請求項４】
前記分離層は、層厚方向に貫通する開孔を有する、請求項１に記載の燃料電池。
【請求項５】
前記液体燃料は前記開孔を通過して前記燃料極に供給され、かつ、前記開孔は排気通路の一部をなす、請求項４に記載の燃料電池。
【請求項６】
前記分離層が固体高分子電解質膜である、請求項１〜５のいずれかに記載の燃料電池。
【請求項７】
前記固体高分子電解質膜が炭化水素系固体高分子電解質膜である、請求項６に記載の燃料電池。
【請求項８】
前記炭化水素系固体高分子電解質膜が、スルホン化ポリイミド、スルホン化ポリエーテルエーテルケトン、スルホン化ポリアリーレンエーテル、およびスルホン化ポリスチレンからなる群から選ばれる１以上の固体高分子電解質からなる、請求項７に記載の燃料電池。
【請求項９】
前記分離層における前記液体燃料の通路が前記開孔のみである、請求項４または５に記載の燃料電池。
【請求項１０】
前記燃料極は、燃料極触媒層および燃料極導電層を少なくとも備え、
前記分離層は、前記燃料極に接して形成され、
前記燃料極導電層には、層厚方向に連続した連続孔が設けられてなる、請求項１〜９のいずれかに記載の燃料電池。
【請求項１１】
前記燃料極導電層の表面に凹凸形状が形成されてなる、請求項１０に記載の燃料電池。
【請求項１２】
前記燃料極導電層が、多孔質金属層である、請求項１０または１１に記載の燃料電池。
【請求項１３】
前記多孔質金属層が、金属メッシュ、金属発泡体および金属焼結体から選択される少なくともいずれかである、請求項１２に記載の燃料電池。
【請求項１４】
前記燃料極触媒層および／または前記燃料極導電層と前記分離層とが接合されてなる、請求項１０〜１３のいずれかに記載の燃料電池。
【請求項１５】
前記燃料極触媒層は、前記液体燃料に溶解する電解質を含む、請求項２または１４に記載の燃料電池。
【請求項１６】
前記燃料極が、燃料極触媒層と、燃料極導電層と、多孔質基体とからなる、請求項１〜１５のいずれかに記載の燃料電池。
【請求項１７】
前記燃料極が、燃料極触媒層と、燃料極導電層と、多孔質基体とからなり、
前記空気極が、空気極触媒層と、空気極導電層とからなり、
前記多孔質基体、前記燃料極導電層、前記燃料極触媒層、前記電解質膜、前記空気極触媒層、前記空気極導電層、の順に接合された積層構造を有する、請求項１６に記載の燃料電池。
【請求項１８】
前記分離層の一端が燃料電池の外部と接するように形成されてなる、請求項１〜１７のいずれかに記載の燃料電池。
【請求項１９】
請求項１８に記載の燃料電池が組み込まれ、
燃料極用排出室および空気極用排出室を備え、
前記燃料極用排出室および前記空気極用排出室の各々には排気のための排出口が設けられ、
少なくとも前記燃料極用排出室の前記排出口は揮発性有機物質を除去するフィルター機能を有し、
前記燃料極において生成した排ガスが、前記燃料極用排出室から前記排出口を介して外部に排出されるように構成されてなる、燃料電池システム。
【請求項２０】
前記燃料極用排出室の前記排出口が、前記空気極用排出室の前記排出口を兼ねるように構成されてなる、請求項１９に記載の燃料電池システム。
【請求項２１】
請求項２に記載の燃料電池が組み込まれ、
前記液体燃料室に液体燃料を供給するための燃料供給室をさらに備え、
前記液体燃料を大気圧で前記液体燃料室に供給するための圧力調節機構が前記燃料供給室に設けられてなる、燃料電池システム。
【請求項２２】
前記液体燃料室に繋がる部位にのみ開孔を有する燃料収容室が前記燃料供給室の内部に配置され、前記液体燃料が前記燃料収容室の内部に充填されてなる、請求項２１に記載の燃料電池システム。
【請求項２３】
請求項１〜１８のいずれかに記載の燃料電池または請求項１９〜２２のいずれかに記載の燃料電池システムを搭載した電子機器。