【手続補正書】
【提出日】平成21年6月5日(2009.6.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＥＵＶ光の波長帯域で用いられる多層膜ミラーであって、
基板と、
前記ＥＵＶ光を反射する反射層と、
前記基板と前記反射層との間に形成され、前記反射層による前記基板の変形を緩和する応力緩和層とを有し、
前記基板上において、前記応力緩和層が形成され、前記反射層が形成されていない第１領域が存在することを特徴とする多層膜ミラー。
【請求項２】
前記第１領域には、前記応力緩和層のみが形成されていることを特徴とする請求項１記載の多層膜ミラー。
【請求項３】
前記第１領域における前記応力緩和層の層数は、前記反射層と前記応力緩和層の両者が形成された第２領域における前記応力緩和層の層数と異なることを特徴とする請求項１又は２記載の多層膜ミラー。
【請求項４】
前記第１領域が前記基板上に複数存在することを特徴とする請求項１乃至３いずれかに記載の多層膜ミラー。
【請求項５】
複数の前記第１領域は、前記反射層の膜厚が周期的に変化する方向に沿って形成されることを特徴とする請求項４記載の多層膜ミラー。
【請求項６】
ＥＵＶ光の波長帯域で用いられ、基板と、前記ＥＵＶ光を反射する反射層と、前記基板と前記反射層との間に形成され、前記反射層による前記基板の変形を緩和する応力緩和層とを有し、前記応力緩和層が表面に露出した複数の第１領域を有する多層膜ミラーの評価方法であって、
前記第１領域を用いて、前記応力緩和層の状態を評価するステップと、
前記評価ステップで検出された前記応力緩和層の状態に基づいて、前記多層膜ミラーが使用可能であるか判断するステップとを有することを特徴とする評価方法。
【請求項７】
前記評価ステップは、前記複数の第１領域を用いることを特徴とする請求項６記載の評価方法。
【請求項８】
光源からのＥＵＶ光を、請求項１乃至５いずれかに記載の多層膜ミラーを介して被処理体に導光し、前記被処理体を露光する露光装置であって、
前記ＥＵＶ光が、前記基板のうち前記反射層と前記応力緩和層の両者が形成された第２領域に入射するように、前記多層膜ミラーを配置することを特徴とする露光装置。
【請求項９】
前記ＥＵＶ光が、前記第１領域に入射しないように、前記多層膜ミラーを配置することを特徴とする請求項８記載の露光装置。
【請求項１０】
請求項８又は９記載の露光装置を用いて被処理体を露光するステップと、
露光された前記被処理体を現像するステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
しかしながら、応力緩和層が所望の精度で形成されていない場合、反射層の応力を打ち消すことができず、基板の変形が残存したり、基板を更に変形させてしまったりする。また、基板ＳＴが所望の形状に維持されていても、図１４に示すように、応力緩和層ＳＲＬの膜周期が不均一である場合、反射層ＲＬＬからの反射波面ＲＷＳが乱れてしまう。従って、高い結像性能を実現するためには、応力緩和層が基板上に高精度に形成されていることが重要であり、かかる応力緩和層を検査（評価）する需要が存在する。但し、応力緩和層は基板と反射層との間に形成されているため、非破壊で応力緩和層を検査することが非常に困難である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
本発明の更に別の側面としての露光装置は、光源からのＥＵＶ光を、上述の多層膜ミラーを介して被処理体に導光し、前記被処理体を露光する露光装置であって、前記ＥＵＶ光が、前記基板のうち前記反射層と前記応力緩和層の両者が形成された第２領域に入射するように、前記多層膜ミラーを配置することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
以下、図２を参照して、多層膜ミラー１０の評価方法１０００について、多層膜ミラー１０の製造方法と共に説明する。図２は、多層膜ミラー１０の基板１２の研磨から製造した多層膜ミラー１０を露光装置に搭載するまでを説明するフローチャートである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
基板１２上に応力緩和層１４を形成したら、応力緩和層１４上に反射層１６を形成する（ステップ１００６）。具体的には、応力緩和層１４を形成した時点で、図３に示すように、応力緩和層１４上の有効領域ＥＡ以外の領域ＮＥＡにマスクＭＫを取り付ける。そして、マスクＭＫを取り付けた応力緩和層１４上に反射層１６を形成し、反射層１６を形成したらマスクＭＫを取り外す。マスクＭＫが取り付けられた領域は、マスクＭＫによって反射層１６が形成されていないため、図４に示すように、有効領域ＥＡ以外の領域ＮＥＡにおいて、応力緩和層１４を露出した多層膜ミラー１０が製造される。ここで、図３及び図４は、多層膜ミラー１０の製造（ステップ１００６における反射層１６の形成）を説明するための図であって、図３（ａ）及び図４（ａ）は多層膜ミラー１０の上面図、図３（ｂ）及び図４（ｂ）は多層膜ミラー１０の側面図である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
次に、ステップ１０１２で評価した応力緩和層１４の状態に基づいて、応力緩和層１４が仕様の範囲内（即ち、多層膜ミラー１０として使用可能である）であるか判断する（ステップ１０１４）。具体的には、ステップ１０１２で評価した応力緩和層１４の表面粗さ、ＥＵＶ光に対する反射率、応力緩和層１４の膜周期と閾値とを比較する。換言すれば、ステップ１０１２及びステップ１０１４は、応力緩和層１４を評価する工程である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
以下、図９を参照して、評価方法１０００を用いた露光装置の投影光学系の評価方法１０００Ａについて説明する。なお、本実施形態では、投影光学系が２つの多層膜ミラーＭ１及びＭ２で構成される場合を例に説明する。但し、評価方法１０００Ａは、光学系を構成する多層膜ミラーの数を２つに限定するものではなく、多層膜ミラーの数は２つ以上であってもよい。多層膜ミラーＭ１の応力緩和層を評価するまでのステップ（即ち、ステップ１００２Ａ乃至１０１４Ａ）は、評価方法１０００のステップ１００２乃至１０１４と同じである。また、多層膜ミラーＭ１の応力緩和層を評価した結果、仕様の範囲内である場合には、多層膜ミラーＭ２に対して評価方法１０００と同様なステップ１００２Ｂ乃至１０１６Ｂ（ステップ１００２乃至１０１６に相当）を実施する。多層膜ミラーＭ２の応力緩和層を評価した結果、仕様の範囲内である場合には、多層膜ミラーＭ１及びＭ２を露光装置に搭載する（ステップ１０１８）。一方、多層膜ミラーＭ２の応力緩和層を評価した結果、仕様の範囲内ではない場合には、ステップ１００２Ｂに戻り、多層膜ミラーＭ２の基板の研磨からやり直す。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６３】
照明光学系２１４を構成する集光ミラー２１４ａは、本発明の評価方法１０００によって使用可能であると評価された多層膜ミラー１０を使用する。勿論、照明光学系２１４は、本発明の評価方法１０００Ａによって使用可能と評価された多層膜ミラー１０で構成されていてもよい。かかる多層膜ミラーは、反射層と応力緩和層の両者が形成された領域（第２領域）にＥＵＶ光が照射（入射）されるように配置される。また、かかる多層膜ミラーは、応力緩和層のみが形成された領域（第１領域）にはＥＵＶ光が照射（入射）されないように配置される。これにより、照明光学系２１４は、優れた光学性能を発揮することができる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６７】
投影光学系２３０を構成する多層膜ミラー２３０ａは、本発明の評価方法１０００によって使用可能であると評価された多層膜ミラー１０を使用する。勿論、投影光学系２３０は、本発明の評価方法１０００Ａによって使用可能であると評価された多層膜ミラー１０で構成されていてもよい。かかる多層膜ミラーは、反射層と応力緩和層の両者が形成された領域（第２領域）にＥＵＶ光が照射（入射）されるように配置される。また、かかる多層膜ミラーは、応力緩和層のみが形成された領域（第１領域）にはＥＵＶ光が照射（入射）されないように配置される。これにより、投影光学系２３０は、優れた光学性能を発揮することができる。