【手続補正書】
【提出日】平成21年10月29日(2009.10.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
描画するパターンの領域を複数のフレームに分割し、主偏向により電子ビームを前記フレーム内の任意のサブフィールドに位置決めし、副偏向によりサブフィールド単位でパターンを描画する電子ビーム描画装置において、
前記電子ビームを偏向させる偏向器を含むビーム光学系と、
前記偏向器を駆動するドライバと、
描画したいパターンを示す描画データに基づいて前記ドライバを制御する偏向制御部と
を備え、
前記偏向制御部は、
前記フレームである第１のフレーム描画領域と、前記第１のフレーム描画領域より幅Ｃだけ次に描画すべきフレームの方向に移動させた領域である第２のフレーム描画領域からなるストライプごとに描画を行い、
前記第１のフレーム描画領域における第１のサブフィールド描画領域と、前記第２のフレーム描画領域における第２のサブフィールド描画領域とを交互に描画するように前記ドライバを制御し、
前記サブフィールドの一辺の幅がＳである場合に、
０＜Ｃ＜Ｓ
であることを特徴とする電子ビーム描画装置。
【請求項２】
前記第１のフレーム描画領域及び前記第２のフレーム描画領域のフレーム幅がＨである場合に、
前記電子ビーム描画装置の主偏向の偏向可能な長さＬは、Ｃ＋Ｈよりも大きいことを特徴とする請求項１に記載の電子ビーム描画装置。
【請求項３】
前記第２のサブフィールド描画領域の中心は、前記第１のフレーム描画領域の境界上に存在していることを特徴とする請求項１または２に記載の電子ビーム描画装置。
【請求項４】
電子ビームを偏向させる偏向器を含むビーム光学系と、前記偏向器を駆動するドライバと、描画したいパターンを示す描画データに基づいて前記ドライバを制御する偏向制御部とを備え、
描画するパターンの領域を複数のフレームに分割し、主偏向により電子ビームを前記フレーム内の任意のサブフィールドに位置決めし、副偏向によりサブフィールド単位でパターンを描画する電子ビーム描画装置における電子ビーム描画方法において、
前記フレームからなる第１のフレーム描画領域と、前記サブフィールドの一辺の幅がＳである場合に、０＜Ｃ＜Ｓとなる幅Ｃだけ前記第１のフレーム描画領域より、次に描画すべきフレームの方向に移動させた領域である第２のフレーム描画領域とを形成する工程と、
前記第１のフレーム描画領域に含まれる第１のサブフィールド描画領域における描画と、前記第２のフレーム描画領域に含まれる第２のサブフィールド描画領域における描画とを交互に行うことにより、前記第１のフレーム描画領域と前記第２のフレーム描画領域から構成されるストライプの描画を行う工程と、
を備えたことを特徴とする電子ビーム描画方法。
【請求項５】
前記第１のフレーム描画領域及び前記第２のフレーム描画領域のフレーム幅がＨである場合に、
前記電子ビーム描画装置の主偏向の偏向可能な長さＬは、Ｃ＋Ｈよりも大きいことを特徴とする請求項４に記載の電子ビーム描画方法。
【請求項６】
前記第２のサブフィールド描画領域の中心は、前記第１のフレーム描画領域の境界上に存在していることを特徴とする請求項４または５に記載の電子ビーム描画方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
また、この種の装置においては、高精度かつ高スループットな描画を可能とするため、主副２段の偏向器或いは主偏向器１段・副偏向器２段からなる３段偏向など多段の偏向器により電子ビームを偏向する方式が広く利用されている。通常、半導体集積回路における描画される領域は、電子ビーム描画装置の変更可能な領域よりも大きいため、半導体集積回路パターン全体（チップ）を偏向可能な複数の領域に分割して、各領域を繋ぎ合わせながら順次描画していく方式が採用されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
更に、半導体集積回路は大規模化の方向にもあり、これに伴い描画データ量は増加する。また、メモリ回路を混在したロジック回路や、描画されたマスクを露光装置に用いた場合における光近接効果補正により、更にデータ量が増加する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明の一態様に係る電子ビーム描画装置は、描画するパターンの領域を複数のフレームに分割し、主偏向により電子ビームを前記フレーム内の任意のサブフィールドに位置決めし、副偏向によりサブフィールド単位でパターンを描画する電子ビーム描画装置において、前記電子ビームを偏向させる偏向器を含むビーム光学系と、前記偏向器を駆動するドライバと、描画したいパターンを示す描画データに基づいて前記ドライバを制御する偏向制御部とを備え、前記偏向制御部は、前記フレームである第１のフレーム描画領域と、前記第１のフレーム描画領域より幅Ｃだけ次に描画すべきフレームの方向に移動させた領域である第２のフレーム描画領域からなるストライプごとに描画を行い、前記第１のフレーム描画領域における第１のサブフィールド描画領域と、前記第２のフレーム描画領域における第２のサブフィールド描画領域とを交互に描画するように前記ドライバを制御し、前記サブフィールドの一辺の幅がＳである場合に、０＜Ｃ＜Ｓであることを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
また、本発明の一態様に係る電子ビーム描画方法は、電子ビームを偏向させる偏向器を含むビーム光学系と、前記偏向器を駆動するドライバと、描画したいパターンを示す描画データに基づいて前記ドライバを制御する偏向制御部とを備え、描画するパターンの領域を複数のフレームに分割し、主偏向により電子ビームを前記フレーム内の任意のサブフィールドに位置決めし、副偏向によりサブフィールド単位でパターンを描画する電子ビーム描画装置における電子ビーム描画方法において、前記フレームからなる第１のフレーム描画領域と、前記サブフィールドの一辺の幅がＳである場合に、０＜Ｃ＜Ｓとなる幅Ｃだけ前記第１のフレーム描画領域より、次に描画すべきフレームの方向に移動させた領域である第２のフレーム描画領域とを形成する工程と、前記第１のフレーム描画領域に含まれる第１のサブフィールド描画領域における描画と、前記第２のフレーム描画領域に含まれる第２のサブフィールド描画領域における描画とを交互に行うことにより、前記第１のフレーム描画領域と前記第２のフレーム描画領域から構成されるストライプの描画を行う工程と、を備えたことを特徴とする。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
通常の電子ビームによる描画は、図２に示すように、試料２上の描画すべきパターン５１を短冊状のフレーム領域５２に分割し、ステージ３をＸ方向に連続移動させながら各フレーム領域５２を描画する。このフレーム領域５２は、更に、サブフィールド領域５３に分割し、サブフィールド領域５３内の必要な部分のみを可変成型ビームである電子ビームＥＢを偏向させ描画するものである。このため、主偏向器１５、副偏向器１６と２段の偏向器を用い、サブフィールド領域５３の位置決めは主偏向器１５で行い、サブフィールド領域５３の描画は、副偏向器１６で行う。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
具体的には、描画すべきパターン５１を帯状のフレーム領域に分割する。この分割後の各々のフレーム領域を第１のフレーム描画領域５４（フレーム幅Ｈ）と定義する。この第１のフレーム描画領域５４と次に描画する第１のフレーム描画領域５４との間に跨る領域として、第２のフレーム描画領域５５（フレーム幅Ｈ）を定義する。このような第１のフレーム描画領域５４と第２のフレーム描画領域５５からなるストライプ５６ごとに描画が行われる。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
本実施の形態では、図３に示すように、第２のフレーム描画領域５５は、第１のフレーム描画領域５４を幅方向に距離Ｃだけ移動させた領域である。この距離Ｃはサブフィールドの一辺の幅をＳ（図２参照）とした場合に、０＜Ｃ＜Ｓの関係を満足する。通常、フレーム幅Ｈは主偏向器１５で偏向可能な最大幅Ｌとほぼ等しいが、本実施の形態では、Ｃ＋Ｈ＜Ｌを満足するものである。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
図４に基づきストライプ５６の構成を説明する。ストライプ５６は、前述したように、フレーム領域により構成される実線で示した第１のフレーム描画領域５４と、これより幅方向に距離Ｃだけずれた領域に形成した破線で示した第２のフレーム描画領域５５により形成されている。第１のフレーム描画領域５４には、実線で示した第１のサブフィールド描画領域５７が形成され、第２のフレーム描画領域５５には、破線で示した第２のサブフィールド描画領域５８が形成されている。尚、後述するように、第１のフレーム描画領域５４と第２のフレーム描画領域５５とのずれ幅Ｃは、サブフィールドの１辺の幅Ｓの半分（Ｃ＝１／２・Ｓ）であることが望ましい。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
ビーム形状形成後のスポットパターンである電子ビームは、縮小レンズ１１によってビーム形状が縮小される。試料２に描画される電子ビームの試料２における照射位置は、主偏向器ドライバ２７により制御された主偏向器１５と副偏向器ドライバ２８により制御された副偏向器１６とにより制御される。主偏向器１５は、試料２における所定の副偏向領域に電子ビームを位置決め、即ち、ストライプ５６における第１のフレーム描画領域５４及び第２のフレーム描画領域５５の位置決めをする。また、副偏向器１６は、第１のサブフィールド描画領域５７及び第２のサブフィールド描画領域５８の内の図形描画位置の位置決めを行う。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
本実施の形態の電子ビーム描画方法は、第１のサブフィールド描画領域５７における描画を行った後、重複する第２のサブフィールド描画領域５８の描画を行う。この後、先に描画した第１のサブフィールド描画領域５７に隣接する別の第１のサブフィールド描画領域５７の描画を行った後、先に描画した第２のサブフィールド描画領域５８に隣接する別の第２のサブフィールド描画領域５８の描画を行う。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
尚、第１のフレーム描画領域５４と第２のフレーム描画領域５５とは、サブフィールドの幅Ｓに対し１／２の幅Ｃ（Ｃ＝１／２・Ｓ）で重複している。即ち、第２のフレーム描画領域５５の境界上に、第１のフレーム描画領域５４における第１のサブフィールド描画領域５７の中心が存在するように形成されている。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
最初に、図５に示すように、形成されたストライプ５６に基づき、第１のフレーム描画領域５４に含まれる第１のサブフィールド描画領域５３１における描画すべき領域５４１に電子ビームを照射し描画を行う。具体的には、主偏向器１５により、電子ビームを偏向（符号ＰＭ１１）させた後、更に、副偏向器１６により、電子ビームを偏向（符号ＰＳ１１）させて、電子ビームの照射を行う。このようにして、第１のサブフィールド描画領域５３１において、第１のフレーム描画領域５４の境界であるフレーム境界に接する描画すべき領域５４１に電子ビームによる描画が行われる。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
次に、図６に示すように、主偏向器１５による偏向を行い、第２のフレーム描画領域５５に含まれる第２のサブフィールド描画領域５３３における描画すべき領域５４３に電子ビームを照射し描画を行う。具体的には、主偏向器１５により電子ビームを偏向（符号ＰＭ２）させた後、更に、副偏向器１６により電子ビームを偏向（符号ＰＳ２１）させて、電子ビームの照射を行う。このようにして、第２のサブフィールド描画領域５３３における描画すべき領域５４３において電子ビームによる描画が行われる。尚、この描画すべき領域５４３は、電子ビームの偏向による位置ずれ等が生じていない理想的な場合においては、第１のサブフィールド描画領域５３１において電子ビームを照射した描画すべき領域５４１と一致する。
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
この後、図７に示すように、第２のサブフィールド描画領域５３３における描画すべき領域５４４（第１のサブフィールド描画領域５３１の境界の外側）に電子ビームを照射し描画を行う。具体的には、主偏向はそのままで、副偏向器１６により電子ビームを偏向（符号ＰＳ２２）させて、電子ビームの照射を行う。このようにして、第２のサブフィールド描画領域５３３における描画すべき領域５４４において電子ビームによる描画が行われる。
【手続補正２０】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2008117871.tif 000001