(57)【要約】【課題】発光特性及び封止特性を向上することができる有機エレクトロルミネッセンス装置、有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法を提供する。また、電気的特性に優れた、プリンタヘッド及び画像形成装置を提供する。【解決手段】少なくとも配線２４２と正孔輸送層７０との間に、正孔輸送層７０の形成材料との濡れ性を向上させる光触媒層３７が形成されていることを特徴とする。【選択図】図４
2008210671.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に有機機能層を含む有機エレクトロルミネッセンス素子と、前記有機エレクトロルミネッセンス素子に接続された配線と、前記配線を覆うように形成された機能層とを有する有機エレクトロルミネッセンス装置において、
少なくとも前記配線と前記機能層との間に光触媒層が形成されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項２】
前記光触媒層は、酸化チタンからなることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項３】
基板上に有機機能層を含む有機エレクトロルミネッセンス素子と、前記有機エレクトロルミネッセンス素子に接続された配線と、前記配線を覆うように形成された機能層とを有する有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法であって、
少なくとも前記配線を覆う光触媒層を形成する工程と、
前記光触媒層が形成された前記基板上に液相法により前記機能層を形成する工程とを有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
【請求項４】
前記機能層を形成する前に、前記光触媒層をＵＶ洗浄する工程と、
前記光触媒層をスピン洗浄する工程とを有することを特徴とする請求項３記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
【請求項５】
前記光触媒層は、酸化チタンからなることを特徴とする請求項３または請求項４記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
【請求項６】
前記機能層はスピンコート法により形成されることを特徴とする請求項３から請求項５の何れか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
【請求項７】
請求項１または請求項２記載の有機エレクトロルミネッセンス装置からなることを特徴とするプリンタヘッド。
【請求項８】
請求項７に記載のプリンタヘッドを備えたことを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス装置、有機エレクトロルミネッセンス装置製造方法、プリンタヘッド及び画像形成装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
電子写真方式を利用したプリンタとして、ラインプリンタ（画像形成装置）が知られている。このラインプリンタは、被露光部となる感光体ドラム（感光体）の周面上に、帯電器、ライン状のプリンタヘッド（ラインヘッド）、現像器、転写器などの装置を近接配置したものである。帯電器によって帯電された感光体ドラムの周面上に、プリンタヘッドに設けられた、発光素子の選択的な発光動作で露光を行なうことにより、静電潜像を形成し、この潜像を現像器から供給されるトナーで現像して、そのトナー像を転写器で用紙に転写するようにしたものである。
【０００３】
高精細な印字を得るためには、前記プリンタヘッドから出射された光を感光体ドラム上に効率的に結像させる必要がある。そこで、前記プリンタヘッドと前記感光体との間に複数のレンズ素子からなるレンズアレイを設け、プリンタヘッドの光を前記感光体上に集光して、結像する技術が提案されている。このようなラインプリンタに用いられるレンズアレイとしては、複数のレンズ素子を１列備えたもの、もしくは千鳥状に２列備えたものが知られている。
【０００４】
近年、有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、有機ＥＬ素子という）をガラス基板上に備えた構成の有機エレクトロルミネッセンス装置（以下、有機ＥＬ装置という）を発光素子として利用したプリンタヘッドが開発されている。この有機ＥＬ装置は、画素ごとに有機ＥＬ素子が設けられており、各有機ＥＬ素子に接続される例えばデータ線や走査線など配線が設けられている（例えば、特許文献１参照）。また、通常、データ線、走査線などの配線上には絶縁膜や有機機能層等が形成される。そして、これら絶縁膜や有機機能層等を形成する手法としては、基板上に全面塗布するスピンコート法が良く知られている。また、光触媒とバインダーからなる光触媒含有中間層を作成し、濡れ性の違いを出して有機ＥＬ素子の形成領域に選択塗布を行っているものがある（例えば、特許文献２〜４参照）。
【特許文献１】特開２００２−２４６２９３号公報
【特許文献２】特開２００２−１７２７６１号公報
【特許文献３】特開２００２−１２７７８３号公報
【特許文献４】特開２００４−５５１７７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、スピンコート法によって配線上に絶縁膜や有機機能層等を形成する際、その形成材料を含む液状組成物が基板上を拡散する際に、その流れが配線の側部によって遮られることになる。例えば配線の延在方向と液状組成物の流動方向とが平行な領域は液状組成物がスムーズに流れるが、配線の延在方向と液状組成物の流動方向とが直交する領域は液状組成物が流れにくくなる。このため、液状組成物の流れやすい領域と流れにくい領域との間で層の膜厚が不均一になってしまう。この膜厚が不均一になると、当該絶縁層上や陰極保護層上に形成される各層の膜厚にも影響を及ぼすことになる。このため、発光特性や封止特性が低下するという問題がある。
【０００６】
以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、発光特性及び封止特性を向上することができる有機エレクトロルミネッセンス装置、有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法を提供することにある。また、電気的特性に優れた、プリンタヘッド及び画像形成装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するため、本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス装置は、基板上に有機機能層を含む有機エレクトロルミネッセンス素子と、前記有機エレクトロルミネッセンス素子に接続された配線と、前記配線を覆うように形成された機能層とを有する有機エレクトロルミネッセンス装置において、少なくとも前記配線と前記機能層との間に光触媒層が形成されていることを特徴とする。
この構成によれば、配線上に光触媒層が形成されているため、配線と機能層との間で濡れ性を向上させることができる。これにより、液相法により機能層を形成する際、機能層の形成材料が配線上に濡れ広がりやすくなるため、膜厚全体を均一化させることができる。したがって、有機エレクトロルミネッセンス素子の均一な発光を得ることができるとともに、封止特性を向上させることができる。また、発光が均一化される結果、有機エレクトロルミネッセンス素子の有機機能層に局所的な電流負荷が掛かるのを防止して、有機エレクトロルミネッセンス素子を長寿命化することができる。
【０００８】
また、前記光触媒層は酸化チタンからなることが望ましい。
この構成によれば、バンドギャップエネルギーが高く、化学的に安定した光触媒層を形成することができる。
【０００９】
一方、本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法は、基板上に有機機能層を含む有機エレクトロルミネッセンス素子と、前記有機エレクトロルミネッセンス素子に接続された配線と、前記配線を覆うように形成された機能層とを有する有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法であって、少なくとも前記配線を覆う光触媒層を形成する工程と、前記光触媒層が形成された前記基板上に液相法により前記機能層を形成する工程とを有することを特徴とする。
この構成によれば、配線上に光触媒層を形成することで、配線と機能層との間で濡れ性を向上させることができるため、機能層の形成材料を液相法により塗布する際、機能層の形成材料と配線との交わる角度の違いにより生じる塗布スピード差を少なくすることができる。これにより、機能層が配線上にスムーズに濡れ広がり、膜厚全体を均一化することができる。したがって、有機エレクトロルミネッセンス素子の均一な発光を得ることができるとともに、封止特性を向上させることができる。また、発光が均一化される結果、有機エレクトロルミネッセンス素子の有機機能層に局所的な電流負荷が掛かるのを防止して、長寿命の有機エレクトロルミネッセンス素子を製造することができる。
さらに、少なくとも配線上には光触媒層が形成されているため、機能層の塗布スピードを全体的に向上させることができる。
【００１０】
また、前記機能層を形成する前に、前記光触媒層をＵＶ洗浄する工程と、前記光触媒層をスピン洗浄する工程とを有することを特徴とする。
この構成によれば、光触媒効果で生成した正孔によって表面の酸素原子が脱離して酸素欠乏状態となる。そして、基板をスピン洗浄することで、水酸基を吸着させて表面の水酸基密度を上昇させる。これにより、基板の配線上の濡れ性を向上させることができる。
【００１１】
また、前記光触媒層は、酸化チタンからなることが望ましい。
この構成によれば、バンドギャップエネルギーが高く、化学的に安定した光触媒層を形成することができる。
【００１２】
また、前記機能層はスピンコート法により形成されることを特徴とする。
この構成によれば、スピンコート法を用いた場合、機能層の形成材料は中心から外周方向に向けて拡散していく関係で、膜厚ムラが発生しやすいが、配線と機能層との間に光触媒層が形成されるため、配線上に機能層の形成材料をスムーズに濡れ広げることができる。したがって、機能層の膜厚ムラを防いだ上で、スピンコート法を用いて生産性を向上することができる。
【００１３】
一方、本発明に係るプリンタヘッドは、上記有機エレクトロルミネッセンス装置からなることを特徴とする。
また、本発明に係る画像形成装置は、上記プリンタヘッドを備えたことを特徴とする。  この構成によれば、上記有機エレクトロルミネッセンス装置をプリンタヘッドに適用することで、均一な発光が得られるとともに、電気的特性に優れ、長寿命の画像形成装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明の実施形態につき、図面を参照して説明する。なお、本実施の形態は、本発明の一部の態様を示すものであり、本発明を限定するものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。また、以下に示す各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材ごとに縮尺を異ならせてある。
【００１５】
（画像形成装置）  
まず、画像形成装置について説明する。図１は、画像形成装置の概略構成を示す図である。
図１に示すように、この画像形成装置ＩＭは、露光手段として用いられるヘッド装置１００と、感光体ドラム９と、感光体ドラム９の外周面を一様に帯電させるコロナ帯電器４２と、ヘッド装置１００で形成された静電潜像に現像剤であるトナーを付与してトナー像とする現像装置４４と、この現像装置４４で現像されたトナー像が転写される転写ローラ４５と、転写ローラ４５との間で記録媒体Ｐにトナー像を転写させる加圧ローラ６６と、記録媒体Ｐにトナー像を定着させる定着器６１と、転写された後に感光体ドラム９の表面に残留しているトナーを除去するクリーニング手段としてのクリーニング装置４６と、感光体ドラム９の回転駆動及びヘッド装置１００の駆動等を制御する制御装置（図示せず）とが設けられている。
【００１６】
感光体ドラム９は、導電性物質からなる基体の外周面に、有機材料や無機材料からなる像担持体としての感光層が設けられた構成を有している。また感光体ドラム９は、図１中、時計回りに回転してヘッド装置１００からの光によって露光されて潜像が形成されるものであり、その回転方向の位置はエンコーダ９Ａによって検出され、制御装置に出力される。また、感光体ドラム９の回転駆動は、制御装置の制御下で回転駆動装置（図示せず）により制御される。
【００１７】
現像装置４４は、例えば、現像剤として非磁性一成分トナーを用いるもので、その一成分現像剤を例えば供給ローラで現像ローラへ搬送し、現像ローラ表面に付着した現像剤の膜厚を規制ブレードで規制し、その現像ローラを感光体ドラム９に接触させあるいは押圧せしめることにより、感光体ドラム９の電位レベルに応じて現像剤を付着させ、トナー像として現像するものである。
【００１８】
ヘッド装置１００は、感光体ドラム９の周面に沿って、コロナ帯電器４２と現像装置４４との間に間隔をあけて配置されたヘッドモジュール（ラインヘッドモジュール）１０１、１０２から構成されている。また、これらヘッドモジュール１０１、１０２は、それぞれ感光体ドラム９の母線に沿って配置されている。
【００１９】
図２は、本実施形態に係るヘッドモジュールの斜視断面図である。
図２に示すように、本実施形態のヘッドモジュール１０１、１０２は、複数の有機ＥＬ素子（有機エレクトロルミネッセンス素子）を整列配置したラインヘッド１と、ラインヘッド１からの光を正立等倍結像させるレンズ素子を整列配置したＳＬアレイ（レンズアレイ）３１と、ラインヘッド（プリンタヘッド）１およびＳＬアレイ３１の外周部を保持するヘッドケース５２と、を備えて構成されたものである。ラインヘッド１とＳＬアレイ３１とは、互いにアライメントされた状態でヘッドケース５２に保持されており、これによってＳＬアレイ３１は、ラインヘッド１からの光を後述する感光体ドラムに正立等倍結像させるようになっている。
【００２０】
図３は、ラインヘッドを模式的に示した図である。
図３に示すように、このラインヘッド１は、本発明の有機ＥＬ装置（有機エレクトロルミネッセンス装置）の一実施形態となるもので、長細い矩形の素子基板２上に、本発明における発光素子としての有機ＥＬ素子３を複数配列してなる発光素子列３Ａと、有機ＥＬ素子３を駆動させる駆動素子４からなる駆動素子群と、発光制御装置としての制御装置の制御下でこれら駆動素子４の駆動を制御する制御回路群５とを一体形成した有機ＥＬ装置である。図３では発光素子列３Ａを１列の有機ＥＬ素子３で表示されているが、実際には有機ＥＬ素子（有機エレクトロルミネッセンス素子）３を２列にしてこれらが千鳥状に配列されている（図４（ａ）参照）。
【００２１】
有機ＥＬ素子３は、一対の電極間に少なくとも有機機能層を備えたものである。有機ＥＬ素子３における一方の電極には電源線８が接続され、他方の電極には駆動素子４を介して電源線７が接続されている。この駆動素子４は、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）等のスイッチング素子で構成されている。駆動素子４にＴＦＴを採用した場合には、そのソース領域に電源線８が接続され、ゲート電極に制御回路群５が接続される。そして、制御回路群５により駆動素子４の動作が制御され、駆動素子４により有機ＥＬ素子３への通電が制御されるようになっている。
【００２２】
このような有機ＥＬ素子３の構成について、さらに詳述する。図４（ａ）は、ラインヘッドの有機ＥＬ素子列を示す概略図であり、（ｂ）は、Ａ−Ａ線に沿う断面図である。なお、図４（ａ）においては、説明を分かり易くするため、配線上の光触媒層より上層の層は省略する。
【００２３】
図４（ｂ）に示すように、有機ＥＬ素子３が発光層６０で発光した光を画素電極２３側から出射する、いわゆるボトムエミッション型である場合には、素子基板（基板）２側から発光光を取り出す構成であるので、素子基板２としては透明あるいは半透明のものが採用される。例えば、ガラス、石英、樹脂（プラスチック、プラスチックフィルム）等が挙げられ、特にガラス基板が好適に用いられる。
【００２４】
また、有機ＥＬ素子３が発光層６０で発光した光を陰極（対向電極）５０側から出射する、いわゆるトップエミッション型である場合には、この素子基板２の対向側である封止基板側から発光光を取り出す構成となるので、透明基板及び不透明基板のいずれも用いることができる。不透明基板としては、例えば、アルミナ等のセラミックス、ステンレススチール等の金属シートに表面酸化などの絶縁処理を施したものの他に、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などが挙げられる。
本実施形態では、ボトムエミッション型が採用され、したがって素子基板２には透明なガラスが用いられるものとする。
【００２５】
素子基板２の表面には、二酸化珪素（ＳｉＯ２）を主体とする下地保護層（図示せず）が下地として形成され、この下地保護層の表面には、前述した電源線７から延設される配線２４２が形成されている。そして、この配線２４２及び下地保護層の表面には、配線２４２及び下地保護層を覆うように二酸化珪素（ＳｉＯ２）等からなる層間絶縁層２８３が形成されている。この層間絶縁層２８３上には、有機ＥＬ素子３が設けられている。
【００２６】
有機ＥＬ素子３は、画素電極２３と陰極５０とに挟持された有機機能層４０を備えている。また、有機機能層４０は、正孔輸送層（機能層）７０と発光層６０によって構成されている。
このような構成のもとに有機ＥＬ素子３は、画素電極２３と陰極５０とから発光層６０に電流を供給することにより、正孔輸送層７０から注入された正孔と陰極５０からの電子とが発光層６０で結合して、発光をなすようになっている。
【００２７】
陽極として機能する画素電極２３は、印加された電圧によって正孔を正孔輸送層７０に注入するものであり、ボトムエミッション型である本実施形態では、（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ：インジウム錫酸化物）などの透明導電膜により形成されている。
【００２８】
画素電極２３上には、無機隔壁２５と後述する光触媒層３７とが積層されている。この無機隔壁２５と光触媒層３７とは、画素電極２３上に断面視で同一面を形成する開口部２５ａを有し、有機ＥＬ素子３が複数配列された発光素子列３Ａを各々独立させて区分するものである。なお、光触媒層３７は、無機隔壁２５に対して断面視で後退するように形成されていてもよい。
【００２９】
無機隔壁２５は、二酸化珪素（ＳｉＯ２）等の絶縁性を有する無機物で形成されている。なお、無機隔壁２５を形成する材料として、無機物と有機物とを組み合わせたものであってもよい。
【００３０】
正孔輸送層７０は、画素電極２３の正孔を発光層６０へ注入／輸送するためのものである。正孔輸送層７０の形成材料としては、特に３，４−ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルフォン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）の水分散液が好適に用いられる。
なお、正孔輸送層７０の形成材料としては、前記のものに限定されることなく種々のものが使用可能である。例えば、ポリスチレン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレンやその誘導体などを、適宜な分散媒、例えば前記のポリスチレンスルフォン酸に分散させたものなどが使用可能である。
【００３１】
発光層６０は、画素電極２３から正孔輸送層７０を経て注入された正孔と、陰極５０から注入された電子とを結合して蛍光を発生させるものである。発光層６０を形成するための材料としては、蛍光あるいは燐光を発光することが可能な公知の発光材料が用いられる。なお、本実施形態では、例えば発光波長帯域が赤色に対応した発光層が採用されるが、もちろん、発光波長帯域が緑色や青色に対応した発光層を採用するようにしてもよい。この場合、用いる感光体は、その発光領域に感度を持つものを採用する。  
【００３２】
発光層６０の形成材料として具体的には、（ポリ）フルオレン誘導体（ＰＦ）、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリフェニレン誘導体（ＰＰ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）、ポリチオフェン誘導体、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）などのポリシラン系などが好適に用いられる。また、これらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素などの高分子系材料や、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等の低分子材料をドープして用いることもできる。
【００３３】
陰極５０は、発光層６０を覆うように形成されたもので、発光層６０へ効率的に電子注入を行うことができる仕事関数の低い金属、例えばアルミニウム（Ａｌ）、マグネシウム（Ｍｇ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）又はカルシウム（Ｃａ）等の金属材料から形成されている。この陰極５０上には、図示しないシール層（接着剤層）を介して封止基板が貼着される。
【００３４】
このように、素子基板２上には、無機隔壁２５と光触媒層３７とに形成された開口部２５ａの内部、すなわち画素領域に、正孔輸送層７０と発光層６０とが画素電極２３側からこの順で積層され、これによって有機機能層４０が形成されている。
一方、層間絶縁層２８３には、コンタクトホール２８３ａが形成されており、画素電極２３は、コンタクトホール２８３ａ内で前述した配線２４２と接続されている。
【００３５】
図４（ａ）に示すように、ラインヘッド１には、各画素電極２３に接続された複数の配線２４２が延在しており、これら複数の配線２４２が延在している領域は、配線領域３６として構成されている。各配線２４２は、前述した各駆動素子４を介して電源線７に接続される。また、配線領域３６では、配線２４２上に、前述した層間絶縁層２８３と無機隔壁２５とが積層されている。
【００３６】
ここで、配線領域３６の無機隔壁２５上には、光触媒層３７が形成されている。この光触媒層３７は、配線領域３６表面の濡れ性を向上させるためのものであり、有機ＥＬ素子３の画素領域を除く、配線領域３６の全面に亘って形成されている。光触媒層３７の形成材料としては、例えば光半導体として知られる酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、チタン酸ストロンチウム（ＳｒＴｉＯ３）、酸化タングステン（ＷＯ３）、酸化ビスマス（Ｂｉ２Ｏ３）、酸化鉄（Ｆｅ２Ｏ３）の様な金属酸化物を挙げることができ、特に酸化チタン（ＴｉＯ２）はバンドギャップエネルギーが高く、化学的に安定で毒性も無く、入手も容易であることから好適である。
【００３７】
なお、配線２４２の延在方向に対する両側面に、傾斜部を形成する構成としてもよい。具体的には、配線２４２の形成面に対して所定の角度（例えば、３０度）の傾斜面が形成され、その表面に層間絶縁層２８３及び無機隔壁２５が積層される。そして、その表面に光触媒層３７が形成されるようにしてもよい。これにより、配線２４２の凹凸による段差が緩和され、正孔輸送層７０の形成材料を配線領域３６に塗布した時の抵抗を減少させることができ、正孔輸送層７０の形成材料を基板２上に効率良く濡れ広げることができる。
【００３８】
図５は、ＳＬアレイの斜視図である。このＳＬアレイ３１は、日本板硝子株式会社製のセルフォック（登録商標）レンズ素子と同様の構成からなるＳＬ素子３１ａを、千鳥状に２列配列（配置）したものである。このように千鳥状に配置された各ＳＬ素子３１ａの隙間には、黒色のシリコーン樹脂３２が充填されており、さらにその周囲には、フレーム３４が配置されている。
【００３９】
前記ＳＬ素子３１ａは、その中心から周辺にかけて放物線上の屈折率分布を有している。そのため、ＳＬ素子３１ａに入射した光は、その内部を一定周期で蛇行しながら進む。
よって、このＳＬ素子３１ａの長さを調整すれば、画像を正立等倍結像させることができる。そして、このように正立等倍結像するＳＬ素子３１ａにあっては、隣接するＳＬ素子３１ａどうしが作る像を重ね合わせることが可能になり、広範囲の画像を得ることができる。したがって、図５に示したＳＬアレイ３１は、ラインヘッド１全体からの光を精度よく結像させることができるようになっている。
【００４０】
（ラインヘッドの製造方法）  
次に、上記のように構成されたラインヘッド１の製造方法を説明する。ここでは、複数のラインヘッド１が配列形成されるマザー基板（以下、基板２Ａという）上に光触媒層３７を形成する工程から説明する。  
図６〜８は、ラインヘッドの製造方法を示す工程図である。
【００４１】
図６（ａ）に示すように、配線領域３６上の無機隔壁２５上に光触媒層３７を形成する。具体的には、まず、無機隔壁２５をパターニング後、チタン（Ｔｉ）に酸素（Ｏ２）を混合しながらスパッタ法により酸化チタンの層を成膜する。その後、フォトリソグラフィ技術により露光、現像したレジストマスクを介して酸化チタン（ＴｉＯ２）をエッチングし、パターニングする。
続いて、酸化チタン（ＴｉＯ２）が成膜された基板２ＡをＵＶ洗浄する。具体的には、露光用の光、例えば紫外線（ＵＶ光）を照射し、露光を行う。このような露光に用いる光源としては、水銀ランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプなどの従来公知のものが使用される。また、露光に際しての光の照射量については、酸化チタン（ＴｉＯ２）の光触媒の作用によって特性を変化させるのに必要な照射量とする。
【００４２】
これにより、光触媒効果で生成した正孔によって表面の酸素原子が脱離して酸素欠乏状態となる。ここで基板２Ａを超純水スピン洗浄することで、水酸基を吸着させて表面の水酸基密度を上昇させる。その結果、基板２Ａ上の濡れ性を向上させることができる。なお、光触媒層３７は、チタン（Ｔｉ）をパターニングして積層させ、その後、熱酸化によって形成してもよい。
【００４３】
次に、図６（ｂ）に示すように、光触媒層３７が形成された基板２Ａの全面に正孔輸送層７０を形成する。具体的には、図７に示すように、スピンコート法によって前述した正孔輸送層７０の形成材料を、基板２Ａを回転させながら（図７中２点鎖線矢印）当該基板２Ａ上に滴下する。滴下された形成材料（液状組成物）Ｆは基板２Ａの全面に拡散していくこととなる。
【００４４】
このとき、図８に示すように、配線２４２の延在方向に沿った方向に拡散する正孔輸送層７０の形成材料は、当該配線２４２に沿ってスムーズに流れる。また、配線２４２の延在方向に交差する方向に拡散する正孔輸送層７０の形成材料も、配線２４２の濡れ性を向上させる光触媒層３７が形成されているため、やはりスムーズに流れることになる。この結果、膜厚全体が均一化された正孔輸送層７０が形成されることになる。
【００４５】
その後、正孔輸送層７０上に発光層６０を形成する。具体的には、正孔輸送層７０の形成材料と同様に、基板２Ａの全面にスピンコート法により形成する。
その後、陰極５０を形成する。具体的には、蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等で形成することができる。特に蒸着法で形成することが、熱による発光層６０の損傷を防止できる点で好ましい。これにより、複数の有機ＥＬ素子３が配列された発光素子列３Ａが形成される。
【００４６】
そして、陰極５０上にシール層（接着剤層）を形成し、さらにこのシール層によって封止基板（図示せず）を接着し、封止を行う。その後、ラインヘッド１が配列形成された基板２Ａを１つずつ切断することにより（図７中破線）、ラインヘッド１が完成する。
【００４７】
ここで、図９，１０に基づいて、配線領域３６に光触媒層３７を形成していない構成とした場合について述べる。図９は、従来のように、配線領域に光触媒層を形成していない場合のラインヘッドの構成を示す図であり、図１０は、正孔輸送層の画素毎の膜厚変動を示すグラフであり、横軸に画素Ｎｏ、縦軸に膜厚[Å]を示している。ここで、画素Ｎｏ．０〜３００は、図９における右側の配線領域３６に形成された配線２４２と接続された発光素子３に対応し、画素Ｎｏ．３００〜５００は、図９における左側の配線領域３６に形成された配線２４２と接続された発光素子３に対応している。
【００４８】
図９に示すように、この構成では、配線２４２上にスピンコート法によって正孔輸送層７０を形成する際に、配線２４２の延在方向に沿った方向（図１０中画素Ｎｏ．３００〜５００）に拡散する正孔輸送層７０の形成材料（液状組成物）についてはスムーズに流れる。一方で、配線２４２の延在方向に交差する方向（図１０中画素Ｎｏ．０〜３００）に拡散する形成材料（液状組成物）については、配線２４２によって流れが妨げられてしまう。これは、スピンコート法により塗布する際、基板２Ａが回転させて形成材料を拡散させる関係で、形成材料には遠心力がかかる。そして、形成材料が配線２４２上を乗り越える時に遠心力が配線２４２上で集中してしまい、配線２４２の延在方向に交差する領域での膜厚が局所的に厚くなってしまったと考えられる。その結果、図１０に示すように、配線２４２の延在方向に沿った領域と、配線２４２の延在方向に交差する領域との間では、正孔輸送層７０の膜厚ムラが発生してしまう。この膜厚ムラは、最大で１８０[Å]程度生じてしまう。
【００４９】
このように、本実施形態では、配線２４２が延在されている配線領域３６上に酸化チタン（ＴｉＯ２）からなる光触媒層３７を形成する構成とした。この構成によれば、配線領域３６において、配線２４２上に形成された無機隔壁２５と正孔輸送層７０の形成材料との間で濡れ性を向上させることができるため、正孔輸送層７０の形成材料をスピンコート法により塗布する際、配線２４２と正孔輸送層７０の形成材料との交わる角度により生じる塗布スピードの差を少なくすることができる。これにより、正孔輸送層７０の形成材料が配線２４２上にスムーズに濡れ広がり、膜厚全体を均一化することができる。
したがって、有機ＥＬ素子３の均一な発光を得ることができるとともに、封止特性を向上させることができる。また、発光が均一化される結果、有機ＥＬ素子３の正孔輸送層７０に局所的な電流負荷が掛かるのを防止して、有機ＥＬ素子３を長寿命化することができる。また、光触媒層３７を無機隔壁２５と断面視で同一面まで形成することで、正孔輸送層７０の形成材料の親液性と素子特性とを確保した上で有機ＥＬ素子３を形成することができる。
【００５０】
さらに、配線領域３６の全面に光触媒層３７が形成されているため、正孔輸送層７０の形成材料の塗布スピードを全体的に向上させることができる。また、スピンコート法を用いた場合、機能層の形成材料は中心から外周方向に向けて拡散していく関係で、膜厚ムラが発生しやすいが、光触媒層３７が形成されるため、配線領域３６上に正孔輸送層７０の形成材料をスムーズに濡れ広げることができる。したがって、スピンコート法を用いて、電気的特性に優れたラインヘッド１を効率的に製造することができる。
【００５１】
なお、本発明の技術範囲は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、上述した実施形態に種々の変更を加えたものを含む。例えば、ソース電極やドレイン電極上に光触媒層を形成する構成としても、勿論構わない。
【００５２】
また、上述の各実施形態の有機ＥＬ装置は、モノクロームのディスプレイに適用することができる。また、上述の各実施形態の有機ＥＬ装置の発光層（有機機能層）を、例えば白色発光材料で構成し、各画素領域のそれぞれから射出される光（白色光）を、カラーフィルタを用いて、赤色光、緑色光、及び青色光のそれぞれに変換することによって、フルカラーのディスプレイを形成することも可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】本発明の実施の形態に係る画像形成装置の構成を示す図。
【図２】本実施形態に係るヘッドモジュールの斜視断面図
【図３】ラインヘッドの構成を示す平面図。
【図４】ラインヘッドの有機ＥＬ素子列を示す概略図。
【図５】レンズアレイの構成を示す図。
【図６】本実施形態に係るラインヘッドの製造方法を示す工程図。
【図７】同、工程図。
【図８】同、工程図。
【図９】従来のスピンコート法によって成膜する様子を示す図。
【図１０】従来の正孔輸送層の膜厚を示すグラフ。
【符号の説明】
【００５４】
１…ラインヘッド  ２…素子基板（基板）  ２Ａ…基板  ３…有機ＥＬ素子  ５０…陰極  ２４…配線  ４０…有機機能層  ７０…正孔輸送層（機能層）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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