(57)【要約】【課題】平面モータの推力を向上させる。【解決手段】平面モータは、磁性材料を含む複数の凸部３２が配列された固定子４００と、固定子４００に対向して配置された可動子３００とを備える。可動子３００は、複数のコイルを有し、該複数のコイルを流れる電流が制御されることによって可動子３００が少なくともＸ方向に移動する。固定子４００の各凸部３２は、ｘ方向に沿った直線の上の少なくとも２つの位置におけるｙ方向の長さが互いに異なる形状を有する。【選択図】図１１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁性材料を含む複数の凸部が配列された固定子と、前記固定子に対向して配置された可動子とを備え、前記可動子が複数のコイルを有し、前記複数のコイルを流れる電流が制御されることによって前記可動子が少なくとも第１方向に移動する平面モータであって、
各凸部は、前記第１方向に沿った直線の上の少なくとも２つの位置における前記第１方向に直交する第２方向の長さが互いに異なる形状を有する、
ことを特徴とする平面モータ。
【請求項２】
前記複数の凸部がチェッカーボードパターン状に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の平面モータ。
【請求項３】
各凸部が８個の角を含む形状を有することを特徴とする請求項１に記載の平面モータ。
【請求項４】
各凸部がスリットで分離された複数の部分で構成されていることを特徴とする請求項１に記載の平面モータ。
【請求項５】
前記スリットが前記第１方向又は第２方向に沿っていることを特徴とする請求項４に記載の平面モータ。
【請求項６】
各凸部が前記第１方向及び第２方向のいずれにも平行ではない辺を含む輪郭を有することを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の平面モータ。
【請求項７】
前記第１方向における前記複数の凸部の配列ピッチをτ、前記第１方向における凸部の最大長さをＤとしたときに、Ｄ／τ＞０．５を満たすことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の平面モータ。
【請求項８】
物体を位置決めする位置決め装置であって、請求項１乃至７のいずれか１項に記載の平面モータを駆動部として備えることを特徴とする位置決め装置。
【請求項９】
原版のパターンを基板に転写する露光装置であって、
前記基板を位置決めする位置決め装置と、
前記基板に原版のパターンを投影する投影光学系とを備え、
前記位置決め装置の駆動部として請求項１乃至７のいずれか１項に記載の平面モータを含むことを特徴とする露光装置。
【請求項１０】
デバイス製造方法であって、
請求項９に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
該基板を現像する工程とを含むことを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁性材料を含む複数の凸部が配列された固定子と、前記固定子に対向して配置された可動子とを備える平面モータ、該平面モータを備える位置決め装置、該平面モータを備える露光装置、及び、前記露光装置を利用するデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
図７は、リニアモータの動作原理を示す図である。リニアモータは、固定子１００と可動子２００とを備える。固定子１００は、プラテンと呼ばれることもある。固定子１００は、磁性材料を含む複数の凸部２が周期的に配列されて構成される。ここで、凸部２と凸部２との間の部分を凹部３と呼ぶ。可動子２００は、固定子１００に対向して配置される。可動子２００は、コア２０２と、コア２０２に巻かれた複数のコイル５、６とを備える。可動子２００の複数のコイル５、６を流れる電流が制御されることによって可動子２００が移動する。可動子２００には、永久磁石７、８が設けられうる。永久磁石７、８を設けることにより、全てのコイル５、６に対する電流の供給が遮断された状態においても、可動子２００が安定して静止することができる。コア２０２は、固定子１００の凸部２の配列に対向するように、複数の歯先４を有する。複数の歯先４は、所定個数を単位としてグループ化されていて、歯先グループ１１、１２、１３、１４を有する。固定子１００の凸部２は、配列ピッチτで配列されている。図７の（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）は、それぞれ、固定子のある凸部２の位置を原点位置として、可動子２００が原点位置、τ/４位置、２τ/４位置、３τ/４位置に配置されている状態を示している。
【０００３】
図７（ａ）の状態において、第１コイル５に図７（ａ）に示す方向に電流を流すことにより、歯先グループ１１を通過する磁束が、永久磁石７から出る磁束と合わさって最大となり、可動子２００を左側に移動させる力を発生する。これにより、図７（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）に示すように、可動子２００が移動する。
【０００４】
図８は、平面モータの可動子の構成例を示す図である。可動子３００は、例えば、ｘ方向の移動用の可動子２００ｘと、ｙ方向の移動用の可動子２００Ｙをそれぞれ２つずつ備えて１つの構造体として構成されうる。可動子２００ｘ、２００Ｙは、図７に示す可動子２００である。このような構成により、可動子３００をｘ方向、ｙ方向に駆動することができる。可動子３００は、固定子１００に対して可動子３００を浮上させるために、エアー噴出し口１６を有する。
【０００５】
図９は、平面モータの固定子の製造方法及び構成を示している。磁性材料としての珪素鋼板２０をｙ方向に積層してｘｙ方向に広がる板状にした後に、その表面を図９（ａ）に示すようにｘ方向、ｙ方向にそれぞれ延びる凹部（溝）３を切削加工して周期的な正方形の凸部２を形成する。その後、図９（ｂ）に示すように、凹部３にエポキシ樹脂２１を充填し、このエポキシ樹脂が硬化した後に表面を平面加工することにより固定子１００が製造されうる。
【０００６】
ここで、珪素鋼板２０を積層する理由は、可動子３００が移動する際に発生する渦電流損失を低減するためである。なお、図９（ａ）に示す構成例では、珪素鋼板の向き（ｘ方向）への移動する場合にしか渦電流損失の低減効果が得られないので、通常は、より推力が必要な方向に珪素鋼板の向きが合わせられる。
【０００７】
図１０は、平面モータの概略構成を示す斜視図である。可動子３００は、固定子１００の上部に例えば約２０ミクロンほどエアー浮上状態した状態で、前述の駆動原理に従ってｘ方向、ｙ方向に移動する。
【特許文献１】特開２００５−２６１０６３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
従来の平面モータでは、固定子の凸部は、可動子の移動方向及びそれに直交する方向に平行な辺で構成される矩形形状を有する。また、可動子の移動方向における凸部の配列ピッチをτ、該移動方向における凸部の長さをＤとしたときにＤ／τ＝０．５であった（特許文献１の図４、５参照）。このような凸部の配列では、高い推力を得ることが困難であると考えられる。
【０００９】
本発明は、本発明者による上記の課題認識を基礎としてなされたものであり、例えば、平面モータの推力を向上させることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の第１の側面は、磁性材料を含む複数の凸部が配列された固定子と、前記固定子に対向して配置された可動子とを備え、前記可動子が複数のコイルを有し、前記複数のコイルを流れる電流が制御されることによって前記可動子が少なくとも第１方向に移動する平面モータに係り、前記平面モータは、各凸部は、前記第１方向に沿った直線の上の少なくとも２つの位置における前記第１方向に直交する第２方向の長さが互いに異なる形状を有する。
【００１１】
本発明の第２の側面は、物体を位置決めする第１位置決め装置に係り、上記の平面モータを駆動部として備える。
【００１２】
本発明の第３の側面は、原版のパターンを基板に転写する露光装置に係り、前記露光装置が、前記基板を位置決めする位置決め装置と、前記基板に原版のパターンを投影する投影光学系とを備え、前記位置決め装置の駆動部として上記の平面モータを含む。
【００１３】
本発明の第４の側面は、デバイス製造方法に係り、前記方法は、上記の露光装置を用いて基板を露光する工程と、該基板を現像する工程とを含む。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、例えば、平面モータの推力を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態を説明する。
【００１６】
図１１は、平面モータの概略構成を示す斜視図である。本発明の好適な実施形態の平面モータは、固定子４００と、固定子４００に対向して配置された可動子３００とを備える。可動子３００は、複数のコイルを有する。可動子３００は、複数のコイルを流れる電流が制御されることによって少なくとも１つの方向に移動するように構成されうる。典型的には、可動子３００は、複数のコイルを流れる電流が制御されることによってｘ方向及び／又はｙ方向に移動するように構成される。可動子３００は、例えば、図８に示すように、ｘ方向の移動用の可動子２００Ｘと、ｙ方向の移動用の可動子２００Ｙをそれぞれ２つずつ備えて１つの構造体として構成されうる。可動子３００は、固定子１００に対して可動子３００を浮上させるために、エアー噴出し口１６を有する。
【００１７】
図１Ａは、固定子４００の構成例を示す図である。固定子４００は、磁性材料を含む複数の凸部３２が配列されて構成される。固定子４００の凸部３２と凸部３２との間の部分は、凹部３３である。各凸部３２は、Ｘ方向（第１方向）に沿った直線ＬＸの上の少なくとも２つの位置Ｐ１、Ｐ２におけるＸ方向（第１方向）に直交するｙ方向（第２方向）の長さＹ１、Ｙ２が互いに異なる形状を有する。各凸部３２はまた、ｙ方向（第２方向）に沿った直線ＬＹの上の少なくとも２つの位置Ｐ３、Ｐ４におけるｙ方向（第２方向）に直交するＸ方向（第１方向）の長さＸ１、Ｘ２が互いに異なる形状を有する。
【００１８】
図１Ａに示す例では、複数の凸部３２は、チェッカーボードパターン状に配置されている。また、図１Ａに示す例では、各凸部３２は、Ｘ方向（第１方向）及びｙ方向（第２方向）のいずれにも平行ではない辺を含む輪郭を有する。
【００１９】
また、図１Ａに示す例では、ｘ方向（第１方向）における複数の凸部３２の配列ピッチをτ、ｘ方向（第１方向）における凸部３２の最大長さをＤとしたときに、Ｄ／τ＝１であり、Ｄ／τ＞０．５を満たす。凸部３２は、例えば、Ｄ／τ＞０．９、Ｄ／τ＞０．８、Ｄ／τ＞０．７、又は、Ｄ／τ＞０．６を満たすように構成されてもよい。
【００２０】
図１Ｂは、比較例としての固定子の構成を示す図である。図１Ｂに示す比較例では、各凸部２は、ｘ方向（第１方向）に沿った直線の上の少なくとも２つの位置におけるｘ方向（第１方向）に直交するｙ方向（第２方向）の長さが互いに等しい。各凸部２はまた、ｙ方向（第２方向）に沿った直線の上の少なくとも２つの位置におけるｙ方向（第ｘ方向）に直交するｘ方向（第１方向）の長さが互いに等しい。
【００２１】
図２Ａは、図１Ａに示す固定子において凸部を通過する磁束を説明するための図である。図２Ｂは、図１Ｂに示す固定子において凸部を通過する磁束を説明するための図である。図２Ａ、２Ｂにおいて、τは凸部の配列ピッチ（配列の１周期）であり、ａは可動子の歯先４の移動方向（図２Ａ、２Ｂではｘ方向）における長さである。４ａ、４ｃは、原点位置にある歯先４を示し、４ｂ、４ｄは、原点位置からτ／２の位置にある歯先４を示している。
【００２２】
図３は、歯先Ｄｕｔｙに関する説明図である。前述のように可動子の移動方向における可動子の歯先４の長さをａ、可動子の移動方向における固定子の凸部の配列ピッチ（配列の１周期）をτとすると、歯先Ｄｕｔｙは次のように定義される。
【００２３】
歯先Ｄｕｔｙ＝ａ／τ
歯先Ｄｕｔｙは、例えば、約０．３に設定されうる。
【００２４】
平面モータの推力をＦとすると、Ｆは、ｄφ／ｄｘに比例する。ここで、ｄφ/ｄｘは磁束の空間微分である。
【００２５】
可動子のコイルを流れる電流によって生じる磁束のうち固定子の凸部を通過する磁束は、凸部と歯先とが重なる部分の面積（これを磁束通過面積と呼ぶ）に比例する。図２Ａ中の（ｂ）は、図１Ａに示す固定子における磁束通過面積を示し、図２Ｂ中の（ｂ）は、図１Ｂに示す固定子における磁束通過面積を示している。図２Ａ中の（ｃ）は、図２Ａ中の（ｂ）の空間微分を示し、図２Ｂ中の（ｃ）は、図２Ｂ中の（ｂ）の空間微分を示している。なお、ここでは、歯先Ｄｕｔｙを０．３とした。
【００２６】
磁束通過面積の空間微分（ｄφ/ｄｘに比例）は、推力Ｆに比例する。最大推力を発生するτ/４位置における該空間微分を図２Ａ（ｃ）と図２Ｂ（ｃ）とで比較すると、図２Ａ（ｃ）が図２Ｂ（ｃ）の１．２倍になっている。即ち、本発明の好適な実施形態に係る図１Ａに示す固定子を使用した場合、比較例に係る図１Ｂに示す固定子を使用した場合の１．２倍の推力が得られる。
【００２７】
また、磁束通過面積の空間微分を１周期長τで比較すると、図１Ａの方が図１Ｂよりも連続性が高く、推力変化が滑らかであることがわかる。したがって、本発明の好適な実施形態に係る図１Ａに示す固定子を使用した場合、比較例に係る図１Ｂに示す固定子を使用した場合よりも、コギング等の振動的な動きを抑制する効果がある。
【００２８】
また、本発明の好適な実施形態に係る図１Ａに示す固定子を使用した場合、磁束通過面積の空間微分がゼロの区間が存在せず、全域で推力が確保されている。一方、比較例に係る図１Ｂに示す固定子を使用した場合、磁束通過面積の空間微分がゼロの区間、即ち推力がゼロの区間が存在する。
【００２９】
また、磁束通過面積の変化分を比較すると、図１Ａにおける磁束通過面積の変化分は、図１Ｂにおける磁束通過面積の変化分の１．４倍である。磁束通過面積の変化分は、１周期長τにおける平均推力に比例するので、本発明の好適な実施形態に係る図１Ａに示す固定子を使用した場合の平均推力は、比較例に係る図１Ｂに示す固定子を使用した場合の１．４倍である。
【００３０】
図２Ａ及び図２Ｂを参照した比較は、前述のように、歯先Ｄｕｔｙ＝０．３における比較である。歯先Ｄｕｔｙ＝０．４においては、本発明の好適な実施形態に係る図１Ａに示す固定子を使用した場合の平均推力は、比較例に係る図１Ｂに示す固定子を使用した場合の１．２倍である。
【００３１】
図４Ａ〜図４Ｄは、固定子の凸部の変形例である。図４Ａ〜図４Ｄにおいて可動子３００は図示されていないが、可動子３００は、ｘ方向及び／又はｙ方向に移動するように構成される。
【００３２】
図４Ａに示す変形例において、固定子は、磁性材料を含む複数の凸部３２ａが配列されて構成される。固定子の凸部３２ａと凸部３２ａとの間の部分は、凹部３３ａである。凸部３２ａは、８角形、即ち、８個の角を含む形状である。この変形例では、τ/２の位置における磁束通過面積を最小にすることができる。したがって、磁性材料の飽和が軽減される。
【００３３】
図４Ｂに示す変形例において、固定子は、磁性材料を含む複数の凸部３２ｂが配列されて構成される。固定子の凸部３２ｂと凸部３２ｂとの間の部分は、凹部３３ｂである。凸部３２ｂは、４角形の４角を円弧で切り落とした形状を有する。凸部３２ｂは、８個の角を含む形状である。この変形例では、τ/２の位置における磁束通過面積を最小にすることができる。したがって、磁性材料の飽和が軽減される。このような形状の凸部３２ｂは、後述のように、製造の容易化に寄与する。
【００３４】
図４Ｃ示す変形例において、固定子は、磁性材料を含む複数の凸部３２ｃが配列されて構成される。固定子の凸部３２ｃと凸部３２ｃとの間の部分は、凹部３３ｃである。凸部３２ｃは、スリット５０により、１又は複数の第１部分５１と１又は複数の第２部分５２とに分離されている。スリット５０は、Ｘ方向（第１方向）及び／又はｙ方向（第２方向）に沿って配置されうる。このようなスリットは、図４Ａ、４Ｂに示す変形例に適用することもできる。スリットは、可動部の歯先から固定子の凸部に入る磁束を均一化することに寄与する。これにより、局所的な磁性材料の飽和が軽減され、推力が向上する。
【００３５】
図４Ｄに示す変形例において、固定子は、磁性材料を含む複数の凸部３２ｄが配列されて構成される。固定子の凸部３２ｄと凸部３２ｄとの間の部分は、凹部３３ｄである。凸部３２ｄは、スリット５５により、１又は複数の第１部分５６と１又は複数の第２部分５７とに分離されている。前述のように、このようなスリットは、可動部の歯先から固定子の凸部に入る磁束を均一化することに寄与し、これにより、局所的な磁性材料の飽和が軽減され、推力が向上する。
【００３６】
図５は、図４Ｂに示す凸部の形成方法を説明するための図である。凸部３２ｂは、図９に示すように、珪素鋼板の表面に、ｘ方向、ｙ方向にそれぞれ延びる凹部（溝）を切削加工して周期的な正方形の凸部を形成し、ｘ方向の溝とｙ方向の溝との各交点部分を円形に切削加工することで形成される。円形の切削は、ｚ軸周りで回転する切削歯で行なうことができるので、図４Ａに示すように４角形の角を直線で切り落とす加工よりも、容易である。
【００３７】
図６は、図１Ａに示す固定子の形成方法を説明するための図である。まず、磁性材料としての珪素鋼板２０をｙ方向に積層して直方体形状の複数のブロック６０ｉ、６０ｊを形成する。次いで、複数のブロック６０ｉ、６０ｊにそれぞれ幅が異なる溝７０ｉ、７０ｊを形成する。次いで、溝７０ｉ、７０ｊが形成された複数のブロック６０ｉ、６０ｊを圧接接着することによって、固定子４００が得られる。即ち、溝７０ｉ、７０ｊの幅の違いを利用して凸部３２の形状が決定される。
【００３８】
図１２は、本発明の好適な実施形態の位置決め装置及び露光装置の構成を概略的に示す図である。露光装置は、原版（レチクル）Ｒを位置決めする原版ステージ装置ＲＳと、原版Ｒを照明する照明光学系ＩＬと、基板（ウエハ）を位置決めする位置決め装置ＷＳと、原版Ｒのパターンを基板Ｗに投影する投影光学系ＰＬとを備えうる。露光装置は、原版Ｒのパターンを基板Ｗに転写して、基板Ｗに塗布されている感光剤に潜像パターンを形成するように構成されうる。
【００３９】
位置決め装置ＷＳは、例えば、基板ステージ装置と呼ぶことができる。位置決め装置ＷＳは、前述の平面モータを駆動部として含んで構成されうる。より具体的な例を挙げると、基板位置決め装置ＷＳは、基板Ｗを位置決めする微動ステージ機構Ａ１と、微動ステージ機構Ａ１を位置決めする粗動ステージ機構Ａ２とを含んで構成されうる。微動ステージ機構Ａ１は、基板Ｗを保持する基板チャックを含む第１可動子ＦＭと、第１固定子ＦＳとを含んで構成されうる。粗動ステージ機構Ａ２は、第１固定子ＦＳを駆動する第２可動子ＣＭと、第２固定子ＣＳとを含んで構成されうる。粗動ステージ機構Ａ２は、駆動部として上記の平面モータを含みうる。即ち、粗動ステージ機構Ａ２の可動子である第２可動子ＣＭは、前述の可動子３００を含んで構成され、粗動ステージ機構Ａ２の固定子である第２固定子ＣＳは、前述の固定子４００を含んで構成されうる。
【００４０】
上記のような位置決め装置ＷＳは、露光装置の構成部品に限定されず、種々の物体の位置決めのために応用されうる。ここで、位置決め装置という用語の意味には、物品を搬送する搬送装置も含まれうる。
【００４１】
次に上記の露光装置を利用したデバイス製造方法を説明する。図１３は、半導体デバイスの全体的な製造プロセスのフローを示す図である。ステップ１（回路設計）では半導体デバイスの回路設計を行う。ステップ２（レチクル作製）では設計した回路パターンに基づいてレチクル（原版またはマスクともいう）を作製する。一方、ステップ３（ウエハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウエハ（基板ともいう）を製造する。ステップ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、上記のレチクルとウエハを用いて、リソグラフィー技術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次のステップ５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップ４によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の組み立て工程を含む。ステップ６（検査）ではステップ５で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、これを出荷（ステップ７）する。
【００４２】
図１４は、上記ウエハプロセスの詳細なフローを示す図である。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸化させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶縁膜を成膜する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオン打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１５（ＣＭＰ）ではＣＭＰ工程によって絶縁膜を平坦化する。ステップ１６（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ステップ１７（露光）では上記の露光装置を用いて、回路パターンが形成されたマスクを介し感光剤が塗布されたウエハを露光してレジストに潜像パターンを形成する。ステップ１８（現像）ではウエハ上のレジストに形成された潜像パターンを現像してレジストパターンを形成する。ステップ１９（エッチング）ではレジストパターンが開口した部分を通してレジストパターンの下にある層又は基板をエッチングする。ステップ２０（レジスト剥離）ではエッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。これらのステップを繰り返し行うことによって、ウエハ上に多重に回路パターンを形成する。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１Ａ】本発明の好適な実施形態の固定子の構成例を示す図である。
【図１Ｂ】比較例としての固定子の構成を示す図である。
【図２Ａ】図１Ａに示す固定子において凸部を通過する磁束を説明するための図である。
【図２Ｂ】図１Ｂに示す固定子において凸部を通過する磁束を説明するための図である。
【図３】歯先Ｄｕｔｙに関する説明図である。
【図４Ａ】固定子の凸部の第１変形例である。
【図４Ｂ】固定子の凸部の第２変形例である。
【図４Ｃ】固定子の凸部の第３変形例である。
【図４Ｄ】固定子の凸部の第４変形例である。
【図５】図４Ｂに示す凸部の形成方法を説明するための図である。
【図６】図１Ａに示す固定子の形成方法を説明するための図である。
【図７】リニアモータの動作原理を示す図である。
【図８】平面モータの可動子の構成例を示す図である。
【図９】平面モータの固定子の製造方法及び構成を示す図である。
【図１０】平面モータの概略構成を示す斜視図である。
【図１１】本発明の好適な実施形態の平面モータの概略構成を示す斜視図である。
【図１２】本発明の好適な実施形態の位置決め装置及び露光装置の構成を概略的に示す図である。
【図１３】半導体デバイスの全体的な製造プロセスのフローを示す図である。
【図１４】ウエハプロセスの詳細なフローを示す図である。
【符号の説明】
【００４４】
２、３２  固定子の凸部
３、３３  固定子の凹部
４  可動子の歯先
１００  固定子
２００  可動子
３００  可動子
４００  固定子
ＩＬ  照明光学系
Ｒ  原版
ＲＳ  原版ステージ
ＰＬ  投影光学系
Ｗ  基板
ＷＳ  基板ステージ
Ａ１  微動ステージ機構
Ａ２  粗動ステージ機構
【図１Ａ】
2008228406.tif 000003
【図１Ｂ】
2008228406.tif 000004
【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図３】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図４Ｃ】
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【図４Ｄ】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
2008228406.tif 000016
【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
2008228406.tif 000019
【図１３】
2008228406.tif 000020
【図１４】
2008228406.tif 000021