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【手続補正書】
【提出日】平成25年6月27日(2013.6.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ホスフィンの存在下でエポキシアルコールを変換することを特徴とする、超分岐ポリオールの製造方法。
【請求項２】
前記ポリオールが、ポリエーテルポリオールであることを特徴とする、請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記変換を、０〜２００℃の温度で行うことを特徴とする、請求項１又は２に記載の製造方法。
【請求項４】
前記変換を、０．０１〜５０ｂａｒの圧力で行うことを特徴とする、請求項１から３までのいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項５】
前記変換を、溶剤の存在下で行うことを特徴とする、請求項１から４までのいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項６】
前記変換を、実質的に溶剤の不在下で行うことを特徴とする、請求項１から４までのいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項７】
平均モル質量（Ｍw）が最大で１５００ｇ／ｍｏｌの高分岐若しくは超分岐のポリオールが得られることを特徴とする、請求項１から６までのいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項８】
モル質量分布が２．５未満の高分岐若しくは超分岐のポリオールが得られることを特徴とする、請求項１から７までのいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項９】
エポキシアルコールとして、２，３−エポキシ−１−プロパノール（グリシドール）を用いることを特徴とする、請求項１から８までのいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１０】
ホスフィンとして、ジフェニルホスフィンを用いることを特徴とする、請求項１から９までのいずれか１項に記載の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月3日(2013.6.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
封液排出を利用した液封式ポンプからガス排出を利用した液封式ポンプへの切替方法であって、
前記液封式ポンプのポンプヘッドから円錐状ポート部材を除去し、
前記ポンプ内の経路を（１）封液導入経路及び（２）封液排出経路のみからなる経路のグループから選択し、前記選択した経路にガス排出経路の機能を再割当する工程を含む方法。
【請求項２】
前記機能の再割当工程は、前記ポンプヘッド上への円錐部材の取付を含み、前記円錐部材のポートが前記ガス排出経路の一部を形成することを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記機能の再割当のために選択された経路は、前記封液導入経路を形成する前記経路であることを特徴とする請求項２記載の方法。
【請求項４】
前記機能の再割当工程は、前記ポンプヘッド内に流路を機械加工する工程を含み、前記流路は前記選択された経路の一部を形成することを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記機能の再割当工程は、前記ガス排出経路の配管工程を含むことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項６】
前記封液排出経路の一部を形成する流路に、新たな封液導入流路の一部を形成する流路の機能を再割当する更なる工程を含む請求項３記載の方法。
【請求項７】
前記液排出経路の一部を形成する前記流路に機能を再割当する工程は、前記円錐部材のフランジを有する前記排出経路を形成する前記流路の一部を封止することを含むことを特徴とする請求項６記載の方法。
【請求項８】
前記機能の再割当工程は、前記封液排出経路の一部を形成する前記流路の機械加工を含むことを特徴とする請求項６記載の方法。
【請求項９】
前記封液排出経路の一部を形成する前記流路に機能を再割当する工程は、前記封液導入経路の一部を形成するために前記円錐部材内の封液流路を整列することを含むこと特徴とする請求項７記載の方法。
【請求項１０】
円錐状ポート部材と組み合わせた液封式ポンプのポンプヘッドであって、
（１）封液導入経路及び（２）封液排出経路のみからなる既存の経路のグループから選択された第１の既存の経路から機能の再割当がされるポンプの一部のガス排出経路となる前記ポンプヘッド内の経路と、
前記ガス排出経路の一部となる前記円錐部材内のポートと、
前記円錐部材のフランジとを備え、
前記既存の封液排出経路は一部分を有し、
前記フランジは前記既存の封液排出経路の前記一部分を少なくとも部分的に封止する、
液封式ポンプのポンプヘッド。
【請求項１１】
連続する２つの回転翼を有するロータを更に備え、
前記円錐部材の前記ポートは閉鎖端を有し、前記閉鎖端から前記円錐部材内の最後の排出口の開口までの角距離は、許容誤差が７度の前記ポンプの前記連続する２つの回転翼の間の角距離であることを特徴とする請求項１０記載の組み合わせ。
【請求項１２】
ロータとハウジング本体を更に備え、前記円錐部材は、前記ロータの回転翼と前記ポンプの前記ハウジング本体の最接近の前は、好ましくは１１０〜１１５度の閉鎖端を有することを特徴とする請求項１０記載の組み合わせ。
【請求項１３】
ロータとハウジング本体を更に備え、前記円錐部材の前記ポートは、前記ロータの回転翼と前記ポンプの前記ハウジング本体の最接近点より前に、好ましくは１３０〜１４６度の前方端を有することを特徴とする請求項１０記載の組み合わせ。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成25年7月4日(2013.7.4)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
特に産業車両用のタイヤを補強するために使用可能なＫ×（Ｊ＋Ｋ）構造のマルチストランド金属コードであって、前記マルチストランド金属コードは、螺旋ピッチＰKで螺旋体をなして組み立てられたＫ本の要素ストランドから成り、各要素ストランドは、
・現場でゴム引きされたＬ＋Ｍ構造の２つの層（Ｃｉ，Ｃｅ）を有するコードから成り、前記層は、直径ｄ1のＬ（Ｌは、１〜４）本のワイヤから成る内側層（Ｃｉ）及び前記内側層（Ｃｉ）にピッチＰ2で螺旋状に前記内側層（Ｃｉ）に巻き付けられた直径ｄ2のＭ（Ｍは、５以上）本のワイヤの外側層（Ｃｅ）を含み、
ｍｍで表される次の特徴ｄ1、ｄ2及びＰ2を有し、即ち、
０．１０＜ｄ1＜０．５０
０．１０＜ｄ2＜０．５０
３＜ｐ2＜１０
前記内側層（Ｃｉ）は、「充填ゴム」と呼ばれるゴムコンパウンドで外装され、
Ｋ×ＰKに等しい前記要素ストランドの任意の長さ分にわたり、前記充填ゴムは、前記内側層（Ｃｉ）の前記Ｌ本のワイヤ及び前記外側層（Ｃｅ）の前記Ｍ本のワイヤにより画定された毛管の各々の中に存在すると共に更に、Ｌが３又は４である場合、前記内側層（Ｃｉ）の前記Ｌ本のワイヤにより画定された中央チャネルの中に存在し、
‐前記要素ストランド中の前記充填ゴムの量は、要素ストランド１ｇ当たり５〜４０ｍｇである、マルチストランド金属コード。
【請求項２】
各要素ストランドにおいて、次の特徴、即ち、
０．１５＜ｄ1＜０．３５、
０．１５＜ｄ2＜０．３５
が満たされる、
請求項１記載のマルチストランド金属コード。
【請求項３】
各要素ストランドにおいて、ｐ2は、４ｍｍから８ｍｍまでの範囲にある、
請求項１又は２記載のマルチストランド金属コード。
【請求項４】
ＰKは、３ｍｍ〜から５ｍｍまでの範囲にある、  請求項１〜３のいずれか１項に記載のマルチストランド金属コード。
【請求項５】
各要素ストランドにおいて、Ｌは、１に等しく、Ｍは、５、６又は７に等しい、
請求項１〜４のいずれか１項に記載のマルチストランド金属コード。
【請求項６】
各要素ストランドにおいて、Ｌは、１とは異なり、直径ｄ1の前記Ｌ本のワイヤは、次の関係式、
０．５＜ｐ1／ｐ2＜１
を満たすピッチｐ1で螺旋状に巻回されている、
請求項１〜４のいずれか１項に記載のマルチストランド金属コード。
【請求項７】
各要素ストランドにおいて、ｐ1は、３ｍｍ〜１０ｍｍである、
請求項６記載のマルチストランド金属コード。
【請求項８】
各要素ストランドにおいて、前記外側層は、飽和層である、
請求項１〜７のいずれか１項に記載のマルチストランド金属コード。
【請求項９】
前記Ｋ本の要素ストランドは、各要素ストランドの前記外側層（Ｃｅ）の前記Ｍ本のワイヤと同一の撚り方向で螺旋体をなして巻回されている、
請求項１〜８のいずれか１項に記載のマルチストランド金属コード。
【請求項１０】
Ｋは、３、４又は５に等しい請求項１〜９のいずれか１項に記載のマルチストランド金属コード。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか１項に記載のコードを有するタイヤ。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２６】
したがって、本発明の第１の要旨は、特に産業車両用のタイヤを補強するために使用可能なＫ×（Ｊ＋Ｋ）構造のマルチストランド金属コードであって、マルチストランド金属コードは、螺旋ピッチＰKで螺旋体をなして組み立てられたＫ本の要素ストランドから成り、各要素ストランドは、
・現場でゴム引きされたＬ＋Ｍ構造の２つの層（Ｃｉ，Ｃｅ）を有するコードから成り、層は、直径ｄ1のＬ（Ｌは、１〜４）本のワイヤから成る内側層（Ｃｉ）及び内側層（Ｃｉ）にピッチＰ2で螺旋状に内側層（Ｃｉ）に巻き付けられた直径ｄ2のＭ（Ｍは、５以上）本のワイヤの外側層（Ｃｅ）を含み、
・次の特徴（ｄ1、ｄ2及びＰ2は、ｍｍで表される）を有し、即ち、
‐０．１０＜ｄ1＜０．５０
‐０．１０＜ｄ2＜０．５０
‐３＜ｐ2＜１０
‐内側層（Ｃｉ）は、「充填ゴム」と呼ばれるゴムコンパウンドで外装され、
‐Ｋ×ＰKに等しい要素ストランドの任意の長さ分にわたり、充填ゴムは、内側層（Ｃｉ）のＬ本のワイヤ及び外側層（Ｃｅ）のＭ本のワイヤにより画定された毛管の各々の中に存在すると共に更に、Ｌが３又は４である場合、内側層（Ｃｉ）のＬ本のワイヤにより画定された中央チャネルの中に存在し、
‐要素ストランド中の充填ゴムの量は、要素ストランド１ｇ当たり５〜４０ｍｇであることを特徴とするマルチストランド金属コードにある。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４８】
Ｋ本の要素ストランドの各々は、次の特徴（ｄ1、ｄ2及びＰ2は、ｍｍで表される）を有し、即ち、
‐０．１０＜ｄ1＜０．５０
‐０．１０＜ｄ2＜０．５０
‐３＜ｐ2＜１０
‐内側層（Ｃｉ）は、「充填ゴム」と呼ばれるゴムコンパウンドで外装され、
‐Ｋ×ＰKに等しい要素ストランドの任意の長さ分にわたり、充填ゴムは、内側層（Ｃｉ）のＬ本のワイヤ及び外側層（Ｃｅ）のＭ本のワイヤにより画定された毛管の各々の中に存在すると共に更に、Ｌが３又は４である場合、内側層（Ｃｉ）のＬ本のワイヤにより画定された中央チャネルの中に存在し、
‐要素ストランド中の充填ゴムの量は、要素ストランド１ｇ当たり５〜４０ｍｇである。
【手続補正書】
【提出日】平成25年4月26日(2013.4.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
太陽光収集システムであって、
自然光をビルの中に向けるよう構成された少なくとも１の内部反射する中空のシャフトアッセンブリと；
前記ビルの屋根に取り付けられ、前記中空のシャフトアッセンブリの上端を覆うよう構成された透明のカバーと；
を具え、
前記カバーが、前記中空のシャフトアッセンブリに向けて太陽光を屈折させるよう構成され、前記カバーが：
前記屋根からある鉛直高さに配置されたプリズム状の上部カバー部と；
前記屋根と前記プリズム状の上部カバー部との間に延在する略鉛直部と；
前記透明のカバーの前記略鉛直部の中に配置された１又はそれ以上のプリズム要素と；
を具えることを特徴とするシステム。
【請求項２】
ビルの屋根の少なくとも一部を覆い、前記ビルの屋根に取り付けられた場合に、集光基部の開口を通して前記ビルの中に自然光を向けるよう構成された少なくとも部分的に透明な集光装置であって、前記装置が：
鉛直又は略鉛直の集光面を有する第１のカバー部であって、第２のカバー部が前記第１のカバー部の上端の上方に配置されたときに前記第２のカバー部を支持し、前記鉛直又は略鉛直の集光面に入射する自然光を屈折させて、屈折した自然光の大部分を集光基部の開口を通して第１のカバー部の下端に向け得るよう構成され、前記第２のカバー部と前記集光基部の開口との間に延在する鉛直高さを有し、前記第１のカバー部の前記鉛直高さの前記集光基部の開口の幅に対するアスペクト比が、０．９：１よりも大きい、第１のカバー部と；
前記第１のカバー部の前記上端の上方に配置可能な第２のカバー部と；
を具えており、
前記集光装置が、前記装置がビルの屋根の開口の上に設置されたときに、前記ビルの中に自然光を向けるよう構成されていることを特徴とする集光装置。
【請求項３】
前記第２のカバー部が、略ドーム形であることを特徴とする請求項２に記載の集光装置。
【請求項４】
前記第１のカバー部の前記鉛直高さの前記集光基部の開口の幅に対するアスペクト比が、１．１：１であることを特徴とする請求項２に記載の集光装置。
【請求項５】
前記第１のカバー部が、略円筒形を有することを特徴とする請求項２に記載の集光装置。
【請求項６】
前記第１のカバー部が、前記第１のカバー部の基部から内側又は外側にテーパが付いていることを特徴とする請求項２に記載の集光装置。
【請求項７】
ビルの屋根の少なくとも一部を覆い、前記ビルの屋根に取り付けられた場合に、集光基部の開口を通して前記ビルの中に自然光を向けるよう構成された少なくとも部分的に透明な集光装置であって、前記装置が：
鉛直又は略鉛直の集光面を有する第１のカバー部であって、第２のカバー部が前記第１のカバー部の上端の上方に配置されたときに前記第２のカバー部を支持し、前記鉛直又は略鉛直の集光面に入射する自然光を屈折させて、屈折した自然光の大部分を集光基部の開口を通して第１のカバー部の下端に向け得るよう構成された第１のカバー部と；
前記第１のカバー部の前記集光面の少なくとも一部に接して配置され、前記第１のカバー部を通して伝わる光を屈折させるよう構成されたプリズム要素と；
前記第１のカバー部の前記上端の上方に配置可能な第２のカバー部と；
を具えており、
前記集光装置が、前記装置が前記ビルの屋根の開口の上に設置されたときに、前記ビルの中に自然光を向けるよう構成されていることを特徴とする集光装置。
【請求項８】
前記プリズム要素が、前記第１のカバー部の軸部に接することを特徴とする請求項７に記載の集光装置。
【請求項９】
前記プリズム要素が、略円筒形であることを特徴とする請求項７に記載の集光装置。
【請求項１０】
前記プリズム要素が、前記第１のカバー部の第１の軸部に接するが、前記第１の軸部に隣接する第２の軸部には接していないことを特徴とする請求項７に記載の集光装置。
【請求項１１】
前記プリズム要素が、１．４９乃至１．６５の範囲の屈折率を具えた可塑性ポリマーでできていることを特徴とする請求項７に記載の集光装置。
【請求項１２】
前記プリズム要素が、平坦な背面を有することを特徴とする請求項７に記載の集光装置。
【請求項１３】
前記プリズム要素が、前記軸部の内面に接するよう設けられた、前記要素の外面に形成されたプリズム溝を有することを特徴とする請求項７に記載の集光装置。
【請求項１４】
前記溝が、前記集光基部の開口と平行であることを特徴とする請求項１３に記載の集光装置。
【請求項１５】
前記プリズム要素が、複数のプリズム要素で形成されることを特徴とする請求項７に記載の集光装置。
【請求項１６】
前記プリズム要素が、第２のプリズム要素と交互に並んだ第１のプリズム要素を有しており、
前記第１のプリズム要素が第１のプリズム角を規定し、前記第２のプリズム要素が前記第１のプリズム角とは異なる第２のプリズム角を規定することを特徴とする請求項７に記載の集光装置。
【請求項１７】
前記第１のプリズム角が５８度で、前記第２のプリズム角が６０度であることを特徴とする請求項１６に記載の集光装置。
【請求項１８】
ビルの屋根の少なくとも一部を覆い、前記ビルの屋根に取り付けられた場合に、集光基部の開口を通して前記ビルの中に自然光を向けるよう構成された少なくとも部分的に透明な集光装置であって、前記装置が：
鉛直又は略鉛直の集光面を有する第１のカバー部であって、第２のカバー部が前記第１のカバー部の上端の上方に配置されたときに前記第２のカバー部を支持し、前記鉛直又は略鉛直の集光面に入射する自然光を屈折させて、屈折した自然光の大部分を集光基部の開口を通して第１のカバー部の下端に向け得るよう構成され、低い太陽高度で自然光の大部分を受け取るよう構成された第１のカバー部と；
前記第１のカバー部の中に配置可能であり、前記第１のカバー部を通して伝わる自然光の少なくとも一部を前記集光基部の開口に向けるよう構成されたプリズム要素と；
前記第１のカバー部の前記上端の上方に配置可能な第２のカバー部と；
を具えており、
前記集光装置が、前記装置が前記ビルの屋根の開口の上に設置されたときに、前記ビルの中に自然光を向けるよう構成されており、
２０度の太陽高度で前記集光装置によって前記集光基部の開口を通して向けられる太陽光の光束が、４０度の太陽高度で前記集光装置によって前記集光基部の開口を通して向けられる太陽光の光束の７５％以上であることを特徴とする集光装置。
【請求項１９】
前記第１のカバー部が、前記ビルの内部の空間の過度の照射且つ過熱を防ぐために、高い太陽高度で自然光に対する有効な開口を減らすよう構成されていることを特徴とする請求項１８に記載の集光装置。
【請求項２０】
前記第１のカバー部が、前記第２のカバー部の収集領域を減らすことなしに、下方に光を屈折させるよう構成されていることを特徴とする請求項１８に記載の集光装置。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成25年5月9日(2013.5.9)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１１】
本発明は、２５０〜５０００ｇ／ｍｏｌの分子量を有し１分子あたりに少なくとも２個のエポキシ基を有するポリマーを含有する成分Ａ、および式（Ｉ）：
【化１】
2012531508.tif 000001
［式中、
Ｒ１＝Ｈ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、
Ｒ２＝−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨＯＨ−ＣＨ２−ＮＨ−ＣＨ２−フェニル−ＣＨ２−ＮＨ２、
ａ＝１、２または３］
で示される少なくとも１種の化合物を含有する成分Ｂからなる２成分組成物であって、ここで、成分Ａ：Ｂのエポキシド／アミン比は０.７５：１〜１.２５：１である２成分組成物により達成される。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３４】
過剰のアミノ基が存在するように、ジアミン（例えばＸＤＡ）中のアミノ基のグリシジル基に対する量比を選択し、全てのエポキシ基を反応させる。そのため、エポキシドを含有しない成分Ｂが製造される。一つの態様において、エポキシド／ＮＨ比は、０.９:４〜１.１:４となる（Ｈ酸ＮＨ基として計算）。別の態様において、完全に反応していないＸＤＡが過剰に存在するように、ＮＨ官能基の量に対するエポキシ基の量を選択する。この場合、成分Ｂは、ＸＤＡと式（I）で示される化合物の混合物である。これに関し、未反応のジアミンが（成分Ａに基づいて）ほぼ５０重量％含まれるように出発物質を選択する。さらなる態様は、成分Ｂを製造するための量比を分子量の増大が生じるように選択する。これに関し、エポキシド／ＮＨ比は、例えば１.１：４〜１.６：４であってよい。
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月20日(2012.12.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ａ）セルロース発泡体マトリックスと、
Ｂ）前記セルロース発泡体マトリックス中に分布されたカプセル化有機相変化材料の粒子と
を含む発泡体組成物。
【請求項２】
前記セルロース発泡体マトリックスは、連続気泡構造を有する、請求項１に記載の発泡体組成物。
【請求項３】
少なくとも２０ｋＪ／リットルの体積エンタルピーを有する、請求項１または請求項２に記載の発泡体組成物。
【請求項４】
カプセル化有機相変化材料の粒子（Ｂ）の量は、前記発泡体組成物の全質量に基づいて少なくとも４０質量％である、請求項１から３までのいずれか１項に記載の発泡体組成物。
【請求項５】
結合剤、好ましくは皮膜形成ポリマーが、前記カプセル化有機相変化材料の粒子（Ｂ）の外面に配置されている、請求項１から４までのいずれか１項に記載の発泡体組成物。
【請求項６】
Ａ）セルロース発泡体マトリックスと、
Ｂ）前記セルロース発泡体マトリックス中に分布されたカプセル化有機相変化材料の粒子とを含む発泡体組成物を製造するための方法であって、
ｉ）前記セルロース発泡体マトリックス（Ａ）を用意する工程と、
ｉｉ）カプセル化有機相変化材料の粒子（Ｂ）の分散液を前記セルロース発泡体マトリックス（Ａ）に導入する工程と、
ｉｉｉ）工程（ｉｉ）の生成物を乾燥させることによって、発泡体組成物を形成する工程と
を含む方法。
【請求項７】
熱調節のための物品またはシステムにおける請求項１から５までのいずれか１項に記載の発泡体組成物の使用。
【請求項８】
空気の温度を調節することを目的とする空調システムにおける請求項１から５までのいずれか１項に記載の発泡体組成物の使用。
【請求項９】
請求項１から５までのいずれか１項に記載の発泡体組成物を含み、空調システムにおける使用に適応された成形品。
【請求項１０】
（ｉ）空気温度の調節によって調和される一定体積の空気へまたは前記空気から、空気を流動させる手段と、
（ｉｉ）請求項１から５までのいずれか１項に記載の発泡体組成物または請求項９に記載の成型品を含む温度調節装置と
を含む空調システム。
【手続補正書】
【提出日】平成25年4月8日(2013.4.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属の電気精錬または金属の電解採取などの金属の電解回収処理で使用される永久陰極の母板を調整する方法において、
前記永久陰極を解放可能に保持し、
測定手段を用いて前記母板の形状を測定して測定データを取得し、
該測定データを使って所定の基本形状と比較して母板の幾何学的偏差を計算し、
該幾何学的偏差を使って加圧手段を自動的に制御して母板を局部的に押圧し、母板を塑性変形させて少なくとも母板の一部を基本形状にし、
それぞれ前記母板の異なる位置で該母板の形状を測定するよう構成され、且つ該母板の異なる位置の計測データを取得するよう構成された複数の測定装置を含む測定手段を使用し、
前記母板の一方の面に直線的な加圧力を実質的に垂直にかけて母板を塑性変形させるよう各々構成された個々に操作可能な複数の加圧装置を含む加圧手段を使用して、該母板を少なくとも部分的に基本形状にし、
前記加圧手段の複数の加圧装置の少なくとも１つを用いて、該母板の一方の面に直線的な加圧力を実質的に垂直にかけて母板を塑性変形させる工程によって、母板の少なくとも一部を基本形状にすることを特徴とする方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法において、吊り棒を備えた前記永久陰極の端部において該永久陰極を保持して、永久陰極を電解槽内で支持することを特徴とする方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載の方法において、前記母板の形状を遠隔操作で測定するレーザ測定システムを含む測定手段を使用して測定データを取得することを特徴とする方法。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかに記載の方法において、前記加圧手段を使用して前記永久陰極の前記母板を塑性変形させた後、母板の形状を測定して確認データを取得し、
該確認データを使って所定の基本形状と比較して、該母板の幾何学的偏差を計算し、
該幾何学的偏差を使って、前記加圧手段を自動的に制御して、加圧手段によって母板を押圧して該母板を塑性変形させて、母板の少なくとも一部を基本形状にすることを特徴とする方法。
【請求項５】
金属の電気精錬または金属の電解採取などの金属の電解回収処理で使用される永久陰極の母板を調整する装置において、
前記永久陰極を解放可能に保持する保持手段と、
前記母板の形状を測定して測定データを取得する測定手段と、
該測定手段に機能的に接続されて、該測定手段で測定した測定データを使って所定の基本形状と比較して該母板の幾何学的偏差を計算する計算手段と、
該計算手段に機能的に接続されて、得られた母板の幾何学的偏差に応じて自動的に母板を局部押圧して母板を塑性変形させて、少なくとも母板の一部を基本形状にさせる加圧手段とを含み、
前記測定手段は、前記母板の一部分の形状をそれぞれ測定するよう構成された複数の測定装置を含み、
前記母板の一方の面に直線的な加圧力を実質的に垂直にかけて母板を塑性変形させるよう各々構成された個々に操作可能な複数の加圧装置を含む加圧手段により、該母板を少なくとも部分的に基本形状にすることを特徴とする装置。
【請求項６】
請求項５に記載の装置において、前記保持手段は、吊り棒を備えた前記永久陰極の端部において該永久陰極を保持して、永久陰極を電解槽内で支持するよう構成されることを特徴とする装置。
【請求項７】
請求項５または６に記載の装置において、前記測定手段は、前記母板の形状を遠隔操作で測定し前記測定データを取得するレーザ測定システムを含むことを特徴とする装置。
【請求項８】
請求項５ないし７のいずれかに記載の装置において、各加圧装置は第２ピストン機構を含む加圧装置と連携するよう構成された第１ピストン機構を含み、前記母板が塑性変形されて母板の少なくとも一部が基本形状を成すと、該母板を少なくとも１つの第１ピストン機構と少なくとも１つの第２ピストン機構の間で保持可能になることを特徴とする装置。
【請求項９】
請求項５ないし７のいずれかに記載の装置において、各加圧装置は個々に操作可能な第２ピストン機構を含む加圧装置と連携するよう構成された個々に操作可能な第１ピストン機構を含み、前記母板が塑性変形されて母板の少なくとも一部が基本形状を成すと、該母板を少なくとも１つの第１ピストン機構と少なくとも１つの第２ピストン機構の間で保持可能になることを特徴とする装置。
【請求項１０】
請求項５ないし９のいずれかに記載の装置において、前記加圧手段は18個の加圧装置を含んでいて、9つの加圧装置は前記母板の第１の側に配置されるものであり、他の９つの加圧装置は母板の第２の側に配置されるものであることを特徴とする装置。
【請求項１１】
請求項５ないし１０のいずれかに記載の装置において、前記測定手段、前記加圧手段、および前記保持手段は、枠手段内に固定配設されることを特徴とする装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月13日(2013.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一つの第１精製要素と少なくとも一つの第２精製要素を備え、前記第２精製要素は、前記第１精製要素の周囲に、前記第１精製要素と前記第２精製要素が共通の中央軸を持ち、前記第１精製要素と前記第２精製要素の間に精製空間が存在し、前記第１精製要素及び/又は第２精製要素は前記中央軸の周りに回転できるように配置され、前記両精製要素は開口を有する精製表面を備え、前記開口を通して精製される繊維材料が精製空間に供給されるか又は前記開口を通して繊維材料が前記精製空間を出るように配置される繊維材料の精製装置であって、
前記精製装置は、供給チャンネル又は前記精製装置を前記精製要素の前記中央軸の方向に少なくとも二つの精製領域に分割するフランジ構造を有する供給フレームを有し、前記精製される繊維材料が前記供給チャンネル又は前記精製領域を通して前記精製空間に供給されることを特徴とする精製装置。
【請求項２】
前記供給フレームは、前記精製される材料を前記供給チャンネル又は前記供給フレーム内に供給するための開口を有することを特徴とする請求項１に記載の精製装置。
【請求項３】
前記供給フレームは前記供給チャンネルを形成する螺旋状のブレードを備えることを特徴とする請求項１に記載の精製装置。
【請求項４】
前記供給フレームは、前記精製装置のフレームに関して回転可能に設けられ、精製表面を通して延びる開口を備える精製要素が前記供給フレームに連結して設けられ、前記供給フレームとそれに連結される前記精製要素は、精製装置の回転精製要素を形成することを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の精製装置。
【請求項５】
前記供給フレームは、前記供給フレームを囲むケーシングと開口を備えることを特徴とする請求項３に記載の精製装置。
【請求項６】
前記供給フレームは、前記精製装置のフレームに関して回転可能に設けられ、ブレードバー、ブレード溝、及び開口が設けられたブレードセグメントが前記供給フレームに固定され、前記供給フレーム及び前記ブレードセグメントは共に前記精製装置の回転精製要素を形成していることを特徴とする請求項１又は２に記載の精製装置。
【請求項７】
前記供給フレームは、前記供給フレームの内部空間を完全に二つの分離された区域に分割するためのフランジ構造を有することを特徴とする請求項１、２又は６に記載の精製装置。
【請求項８】
前記フランジ構造は、開口を有し、前記供給フレームの内部空間を部分的に互いに分離された二つの区域に分離している請求項７に記載の精製装置。
【請求項９】
前記回転精製要素は固定精製要素の内部に配置されることを特徴とする請求項１乃至８のいずれかに記載の精製装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月1日(2013.7.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アンテナ配列のビームを形成するためのデバイスであって、
複数の空間的に分散された素子を有するアンテナ配列と、
第１及び第２の状態の間で前記素子を選択的に切り換えるためのプロセッサであって、該第１の状態では、該素子が着信信号を受信するように構成され、該第２の状態では着信信号を受信しないように構成される前記プロセッサと、
前記アンテナ配列及び前記プロセッサと作動的に関連付けられた受信器であって、前記受信器は、基準信号を生成し、前記第１の状態に切り替えられている前記素子に実質的に同期して前記基準信号を修正し、混合信号を生成するために前記着信信号を前記修正された基準信号と混合し、かつ累積信号を生成するために積分期間にわたって該混合信号を合計し、該累積信号が該アンテナ配列の前記ビームの方向及び大きさを示すことができるように構成された受信機と、
を含むことを特徴とするデバイス。
【請求項２】
前記受信機は、前記基準信号を生成するように構成された相関器を有する少なくとも１つの受信チャンネルを含む、
ことを特徴とする請求項１に記載のデバイス。
【請求項３】
前記基準信号の前記修正は、前記基準信号の位相及び／又は利得の選択的な操作を含むことを特徴とする請求項１又は２に記載のデバイス。
【請求項４】
前記位相及び／又は利得の前記操作は、前記基準信号の位相及び／又は利得オフセットの適用を含み、
前記位相及び／又は利得オフセットの値が、前記第１の状態に切り換えられる前記素子の１つに基づいて判断される、
ことを特徴とする請求項３に記載のデバイス。
【請求項５】
前記相関器は、前記基準信号を合成するように構成された搬送波数値制御発振器（ＮＣＯ）を含むことを特徴とする請求項２に記載のデバイス。
【請求項６】
前記プロセッサは、前記位相及び／又は利得オフセットの前記値をリアルタイムで、又は前記プロセッサによってアクセス可能なデータベースに記憶された所定の値を検索することによって決定されることを特徴とする請求項５に記載のデバイス。
【請求項７】
前記プロセッサは、前記素子の１つ又はそれよりも多くのいずれかを、所定のシーケンスで前記第１及び第２の状態間で選択的に切り換えるように構成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載のデバイス。
【請求項８】
前記所定のシーケンスは、１つ又はそれよりも多くの前記素子が前記第１の状態に切り換えられることを選択的に排除することを特徴とする請求項７に記載のデバイス。
【請求項９】
前記受信機が、複数の受信チャンネルを含み、
各受信チャンネルが、少なくとも１つのビームを形成するように適応可能である、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載のデバイス。
【請求項１０】
前記第２の状態に切り換えられた素子が、相互結合の影響が改善されるように非共振性であるように構成されることを特徴とする請求項１又は２に記載のデバイス。
【請求項１１】
前記プロセッサが、前記基準信号の前記修正を遅延させて、前記実質的な同期が維持されるように前記着信信号の受信と該着信信号の混合との間に発生した伝播遅延に対処することを特徴とする請求項１又は２に記載のデバイス。
【請求項１２】
アンテナ配列のビームを形成する方法であって、
ａ）空間的に分散されたアンテナ配列の素子を、該素子が着信信号を受信しないように構成される第２の状態から該素子が着信信号を受信するように構成される第１の状態に選択的に切り換える段階と、
ｂ）前記第１の状態に切り換えられた前記素子を通じて前記着信信号を受信する段階と、
ｃ）基準信号を生成する段階と、
ｄ）前記第１の状態に切り換えられている前記素子に実質的に同期して前記基準信号を修正する段階と、
ｅ）前記着信信号を前記修正された基準信号と混合して混合信号を作成する段階と、
ｆ）積分期間にわたって前記混合信号を累積し、前記アンテナ配列のビームの方向及び大きさを示す累積信号を作成する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１３】
前記基準信号は相関器で生成される、
ことを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記基準信号の前記修正は、前記基準信号の位相及び／又は利得の選択的な操作を含むことを特徴とする請求項１２又は１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記基準信号の前記位相及び／又は利得の前記選択的な操作は、前記位相及び／又は利得オフセットの前記基準信号への適用を含み、
前記位相及び／又は利得オフセットの値が、前記第１の状態に切り換えられる前記素子の１つに基づいて判断される、
ことを特徴とする請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記位相及び／又は利得オフセットの前記値をリアルタイムで、又はデータベースに記憶された所定の値を検索することによって決定されることを特徴とする請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記素子の１つ又はそれよりも多くのいずれかは、所定のシーケンスで前記第１及び第２の状態間で選択的に切り換えられることを特徴とする請求項１２又は１３に記載の方法。
【請求項１８】
前記素子のサブセットが、前記積分期間の持続時間全体にわたって前記第２の状態に切り換えられたままである請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記相関器は、搬送波数値制御発振器（ＮＣＯ）で前記基準信号を生成することを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【請求項２０】
前記方法は、前記アンテナ配列と作動的に関連して受信機によって実行され、
前記受信機が、複数の受信チャンネルを含み、
前記方法は、各受信チャンネルが、少なくとも１つのビームを形成するように適応させるステップを更に含む、
ことを特徴とする請求項１２又は１３に記載の方法。
【請求項２１】
前記基準信号の前記修正が遅延させられて、前記実質的な同期が維持されるように前記着信信号の受信と該着信信号の混合との間に発生した伝播遅延に対処することを特徴とする請求項１２又は１３に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月10日(2013.6.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
監視デバイスを収納する装置であって、
制御回路を収納する第１中空内部領域を画定し、空調素子からの調整された空気を受けるために前記空調素子と連通するように構成され、前記第１中空内部領域に温度制御された環境を生成する第１ハウジングと、
前記監視デバイスを収納する第２中空内部領域を画定する第２ハウジングであって、当該第２ハウジングが前記第１中空内部領域に結合される、第２ハウジングと、
前記第２中空内部領域と前記第１中空内部領域とを連通する連絡通路と、
前記第１中空内部領域と前記第２中空内部領域との間で空気を循環させ、前記第２中空内部領域に温度制御された環境を生成する循環手段と、
を備え、
前記第２中空内部領域を前記第１中空内部領域と連通させる空気収容ダクトが、前記第１中空内部領域と前記第２中空内部領域との間で前記連絡通路を通って延在し、
前記循環手段が、前記第１中空内部領域から前記第２中空内部領域まで前記空気収容ダクトと前記空気収容ダクトの外部にある前記連絡通路との一方を通って空気を循環させ、前記第２中空内部領域から前記第１中空内部領域まで前記空気収容ダクトと前記空気収容ダクトの外部にある前記連絡通路との他方のものを通って空気を帰還させるために位置されていることを特徴とする装置。
【請求項２】
結合手段が、前記第２ハウジングを前記第１ハウジングに結合するために設けられており、
前記結合手段が、前記連絡通路を画定することを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記循環手段が、前記空気収容ダクトに位置することを特徴とする請求項１または２に記載の装置。
【請求項４】
前記循環手段が、給電式のファンを備えることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の装置。
【請求項５】
前記第１ハウジングが、空調ユニットを収容する主チャンバを画定し、
前記主チャンバが、前記第１中空内部領域が前記空調ユニットからの調整された空気を受けるために前記空調ユニットに連通しかつ調整される空気を前記空調ユニットに帰還させるために前記第１及び前記第２中空内部領域に連通する状態で、前記空調ユニットを受けるように構成され、
前記連絡通路及び前記空調ユニットが、閉鎖系を形成することを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の装置。
【請求項６】
前記空気収容ダクトが、前記第１中空内部領域を通って延在し、前記主チャンバに隣接して終端することを特徴とする請求項５に記載の装置。
【請求項７】
前記空気収容ダクトが、前記第１中空内部領域でほぼ水平に延在し、前記第２中空内部領域へ下方に延在することを特徴とする請求項６に記載の装置。
【請求項８】
中央隔壁素子が、前記第２ハウジングの前記第２中空内部領域に位置し、中央第１チャンバと前記中央第１チャンバの周囲に延在する外側チャンバとを形成し、
前記外側チャンバが、前記中央第１チャンバとの間で空気を収容するために前記中央第１チャンバと連通することを特徴とする請求項７に記載の装置。
【請求項９】
少なくとも２つの径方向隔壁素子が、前記第２ハウジングの前記第２中空内部領域に位置し、前記中央隔壁素子から延在し、前記外側チャンバを少なくとも２つの外側第２チャンバに分割することを特徴とする請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記中央第１チャンバが、前記空気収容ダクトと前記空気収容ダクトの外部にある前記連絡通路との一方と連通し、
前記外側第２チャンバそれぞれが、前記空気収容ダクトと前記空気収容ダクトの外部にある前記連絡通路との他方と連通することを特徴とする請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
前記空気収容ダクトの下方に延在する部分が、前記中央第１チャンバで終端することを特徴とする請求項８から１０のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１２】
主支持プラットフォームが、前記第２ハウジングが前記第１ハウジングの下方に位置する状態で、前記第１ハウジングを支持するために設けられ、
前記主支持プラットフォームが、支持素子に取り付けるように構成されていることを特徴とする請求項１から１１のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１３】
電気回路支持プラットフォームが、遠隔にある中央観察ステーションに中継するために前記監視デバイスからのデータを処理するデータ処理回路を支持するために、前記第１ハウジングの前記第１中空内部領域に位置し、
前記電気回路支持プラットフォームが、前記データ処理回路から前記中央観察ステーションまでデータを送信する送信機を収容するように構成されていることを特徴とする請求項１から１２のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１４】
前記電気回路支持プラットフォームが、観察デバイスのうちの少なくとも１つの動作を制御するための前記中央観察ステーションからの信号を受信するために、当該電気回路支持プラットフォームに無線送受信機を取り付けるように構成されていることを特徴とする請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
細長い支持ポールと、
前記支持ポールに取り付けられる請求項１から１４のいずれか１項に記載の装置と、
を備えることを特徴とする監視ユニット。
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月27日(2013.5.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像を複数のブロックに分割し、MP（Matching  Pursuit）アルゴリズムに基づく空間予測を使用して前記現在のブロックをイントラ符号化し、その理論式が既知であるアトムのディクショナリから、現在のブロックの因果的近傍に最も相関するアトムを選択する、画像の系列のビデオデータを符号化する方法であって、
当該方法は、
前記因果的近傍と選択されたアトムとの間の２次元の空間シフトを決定するステップと、
前記２次元の空間シフトの値を考慮して、少なくとも、新たなフェーズドアトムを生成するステップと、
前記選択されたアトムよりも良好に相関する場合、前記MPアルゴリズムに従って、イントラ予測のために前記新たなフェーズドアトムを使用するステップと、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記ディクショナリのアトムは、離散コサイン変換（DCT）及び離散フーリエ変換（DFT）及び／又は他の変換から抽出される、
請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記２次元の空間シフト（Δx，Δy）を決定するステップは、
相互パワースペクトルCを計算するステップと、Ｆinputは現在の残差のフーリエ変換であり、Ｆatomは選択されたアトムのフーリエ変換であり、Ｆ*atomはＦatomの複素共役に対応し、
【数１】
2012531073.tif 000001
前記Cの逆フーリエ変換ｃを計算するステップと、
以下の相関ピークの２次元の位置を決定するステップと、
【数２】
2012531073.tif 000002
を含む請求項１記載の方法。
【請求項４】
前記因果的近傍は、前記現在のブロックに隣接する前に符号化されたブロックに対応する、
請求項１記載の方法。
【請求項５】
原信号の画素に関連するベクトルYを与えるために、画素の予測ベクトルXが乗算される、前記アトムから構成される行列Aは、前記現在のブロックに隣接する全てのブロックを考慮した領域から構築され、近傍の因果的領域にない画素に対応するその行をマスクすることでコンパクトにされる、
請求項１記載の方法。
【請求項６】
現在のブロックの復号化方法であって、
当該方法は、
MP（Matching  Pursuit）アルゴリズムを使用することでイントラ予測を計算し、その理論式が既知であるアトムのディクショナリから、復号化すべき現在のブロックの因果的近傍と最も相関するアトムを選択するステップを含み、
当該方法は、
前記現在のブロックの前記因果的近傍と前記選択されたアトムとの間の２次元の空間シフトを決定するステップと、
前記２次元の空間シフトの値を考慮して新たなフェーズドアトムを生成するステップと、
前記選択されたアトムよりも良好に相関する場合に、前記新たなフェーズドアトムをイントラ予測のために使用するステップと、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項７】
前記２次元の空間シフト（Δx，Δy）を決定するステップは、
相互パワースペクトルCを計算するステップと、Ｆinputは現在の残差のフーリエ変換であり、Ｆatomは選択されたアトムのフーリエ変換であり、Ｆ*atomはＦatomの複素共役に対応し、
【数３】
2012531073.tif 000003
前記Cの逆フーリエ変換ｃを計算するステップと、
以下の相関ピークの２次元の位置を決定するステップと、
【数４】
2012531073.tif 000004
を含む請求項６記載の方法。
【請求項８】
原信号の画素に関連するベクトルYを与えるために、画素の予測ベクトルXが乗算される、前記アトムから構成される行列Aは、前記現在のブロックに隣接する全てのブロックを考慮した領域から構築され、近傍の因果的領域にない画素に対応するその行をマスクすることでコンパクトにされる、
請求項６記載の方法。
【請求項９】
画像を複数のブロックに分割する手段、MP（Matching  Pursuit）アルゴリズムに基づく空間予測を使用して前記現在のブロックをイントラ符号化する手段、その理論式が既知であるアトムのディクショナリから、現在のブロックの因果的近傍に最も相関するアトムを選択する手段を備える、画像の系列のビデオデータを符号化するエンコーダであって、
当該エンコーダは、
前記因果的近傍と選択されたアトムとの間の２次元の空間シフトを決定する手段と、
前記２次元の空間シフトの値を考慮して、少なくとも、新たなフェーズドアトムを生成する手段と、
前記選択されたアトムよりも良好に相関する場合、前記MPアルゴリズムに従って、イントラ予測のために前記新たなフェーズドアトムを使用する、イントラ予測手段と、
を備えることを特徴とするエンコーダ。
【請求項１０】
MP（Matching  Pursuit）アルゴリズムを使用することでイントラ予測を計算する手段、その理論式が既知であるアトムのディクショナリから、復号化すべき現在のブロックの因果的近傍と最も相関するアトムを選択する手段を備える、現在のブロックを復号化するデコーダであって、
当該デコーダは、
前記現在のブロックの前記因果的近傍と前記選択されたアトムとの間の２次元の空間シフトを決定する手段と、
前記２次元の空間シフトの値を考慮して新たなフェーズドアトムを生成する手段と、
前記選択されたアトムよりも良好に相関する場合に、前記MPアルゴリズムに従って、前記新たなフェーズドアトムをイントラ予測のために使用するイントラ予測手段と、
を備えることを特徴とするデコーダ。
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月21日(2012.12.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板（４２０)上でコンポーネント（４１０）を得ることと、
コンポーネント（４１０）及び基板（４２０）の第１部分を、基板（４２０）の第２部分から分離することと、
コンポーネント（４１０）のために封入部を設けることとを含むデバイスのパッケージ方法であって、
分離することは、凹部を設けることを含み、
該凹部を設けることは、基板の最も上の位置の同じ位置で、少なくとも１つの傾斜壁を有する凹部を誘導する少なくとも１つの物理的プロセス、及び直立壁を有する凹部を誘導する物理的プロセスを使用し、
凹部を設けることにより、底部よりも広い上部を有する基板の上面で凹部を得ることを特徴とする方法。
【請求項２】
少なくとも１つの物理的プロセスを使用することは、傾斜側壁を有する凹部（４１４）又は切断部を作成するために、少なくとも、充分に傾斜したブレード面を有するブレードを用いてダイシングすることを含む請求項１記載のパッケージ方法。
【請求項３】
分離することは、基板（４２０）上でコンポーネント（４１０）が存在する基板（４２０）の側面で、基板（４２０）の第１部分に傾斜面を誘導する物理的プロセスを使用することを含む請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
分離すること、及び封入部を設けることは、
基板（４２０）の上面及び凹部（４１４）の少なくとも一部を覆う第１キャップ層（４４０）を堆積することを含む請求項１〜３のいずれか１項に記載のパッケージ方法。
【請求項５】
前記基板（４２０）の上面に凹部（４１４）を設けることは、
基板上面に実質的に垂直な側壁を切断部に付与するブレードを用いて、上面に第１ダイシングプロセスを施すことと、
基板（４２０）の表面に実質的に非垂直な傾斜側壁を切断部に付与するブレードを用いて、上面に少なくとも１つの第２ダイシングプロセスを施すこととを含み、
第１ダイシングプロセス及び第２ダイシングプロセスは、基板表面上の実質的に同じ位置で実施される請求項１〜４のいずれか１項に記載のパッケージ方法。
【請求項６】
分離することは、
基板（４２０）上でコンポーネントが存在する基板（４２０）の側面と反対側の基板（４２０）の側面で、基板（４２０）の第１部分に傾斜面を誘導する第２物理的プロセスを使用することを含む請求項１〜５のいずれか１項に記載のパッケージ方法。
【請求項７】
分離すること、及び封入部を設けることは、
基板（４２０）の上面の凹部（４１４）と実質的に反対側の位置で、基板（４２０）の底面を薄厚化し、その結果切断部が形成され、基板（４２０）の第１部分は基板（４２０）の第２部分から分離することと、
底面、及び基板（４２０）の底面で切断部の壁に対応する領域の少なくとも一部を覆う第１キャップ層（４４０）を堆積することとをさらに含む請求項１〜６のいずれか１項に記載のパッケージ方法。
【請求項８】
基板（４２０）の底面を薄厚化した後、底面のエッジが傾斜側壁を有するように少なくとも１つの傾斜側壁を誘導する第２物理的プロセスを使用することを含む請求項７記載の方法。
【請求項９】
基板（４２０）の底面を薄厚化するために、
基板（４２０）は、薄厚化の前に上面でキャリアに固定され、
キャリアは、底面で少なくとも１つの傾斜側壁を誘導した後に除去される請求項８記載の方法。
【請求項１０】
前記分離の後に、更なる封入層（４５０）を設けることをさらに含む請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
更なる封入層（４５０）を設ける前に、追加の洗浄ステップを実施する請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
傾斜面を誘導する少なくとも１つの物理的プロセスを使用する前に、チップを保護するための保護トップコーティング（４１２）を付加することを含む請求項１〜１１のいずれか１項に記載のパッケージ方法。
【請求項１３】
傾斜面を誘導する少なくとも１つの物理的プロセスを使用した後、表面損傷を除去するためのプラズマ処理を施すことを含む請求項１〜１２のいずれか１項に記載のパッケージ方法。
【請求項１４】
コンポーネント（４１０）のために封入部を設けることは、
サブ層の、追随して実施する２つの異なる堆積を用いて封入層を堆積することを含み、
サブ層は、封入層を形成する請求項１〜１３のいずれか１項に記載のパッケージ方法。
【請求項１５】
基板（４２０）上に存在するコンポーネント（４１０）と、
封入部と、
請求項１〜１４のいずれか１項に記載のデバイスのパッケージ方法を使用して誘導される少なくとも１つの傾斜側壁とを備えた生物医学用デバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月17日(2013.6.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）光源と、
ｂ）前記光源で蛍光体材料をダウンコンバートするエネルギと、
を有し、
前記蛍光体材料が、前記光源から放射された光エネルギを吸収し、前記吸収された光エネルギに応じて赤外線放射を放出する少なくとも１つの赤外線放射蛍光体からなることを特徴とするストークス放射発光デバイス。
【請求項２】
前記蛍光体材料が、一つ以上の希土類元素ドーピングガーネット、一つ以上の希土類元素ドーピング鉄ガーネット、一つ以上の希土類元素でドープされた一つ以上の混合ガーネット、一つ以上の希土類元素ドーピング酸硫化物、一つ以上の希土類元素ドーピングフッ化物、一つ以上の希土類元素ドーピングcolquiriites、希土類放射元素でドープされた少なくとも一つのガーネット・ホスト蛍光体、クロミウムおよび任意に一つ以上の光子放射希土類元素でドープされた少なくとも一つのガーネット・ホスト蛍光体、鉄および任意に一つ以上の光子放射希土類元素、イットリウム・ガリウム・ガーネット、イットリウム・アルミニウム・ガーネットでドープされ少なくとも一つのガーネット・ホスト蛍光体、または、それらの組み合わせからなることを特徴とする請求項１に記載のストークス放射発光デバイス。
【請求項３】
前記ストークス放射発光デバイスが、発光ダイオードアセンブリであり、
ａ）レセスカップおよびリードを有するマウントリードであって、前記レセスカップが、紫外線を赤外線放射に反射することができる反射金属を任意に有することを特徴とするマウントリードと、
ｂ）光源であって、紫外線から近赤外線領域の電磁スペクトルに変化する波長を備えた光を放射する材料を包含する発光ダイオード半導体チップを有し、電気エネルギによって励起されるとき、前記発光ダイオード半導体チップが、前記マウントリードのレセスカップに取り付けられ、前記マウントリードに電気的に接続される電極を有する、ことを特徴とする光源と、
ｃ）前記発光ダイオード半導体チップに蛍光体材料と
を有することを特徴とする請求項１に記載のストークス放射発光デバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月31日(2013.5.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２６】
前記第１電極が、ギャップ領域の近傍で終端する傾斜端を具備する請求項２４に記載のセンサ。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月13日(2013.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
加工チャンバ内で基板の表面上に２重層ライナを堆積させる方法であって、
前記加工チャンバの内部表面上に障壁材料層を形成するステップであり、前記障壁材料層が、窒素および炭素からなる群から少なくとも１つの要素を含む、ステップと、
前記基板を前記加工チャンバ内へ移動させるステップと、
前記加工チャンバ内をプラズマ状態にして前記拡散障壁材料の一部分を前記加工チャンバの前記内部表面から前記基板上へ再分散させることによって、前記基板上に開始層を形成するステップであり、前記開始層の厚さが約１５Å以下である、ステップと、
前記開始層上にホウ素含有層を形成するステップとを含む、方法。
【請求項２】
前記基板の前記表面が溝を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ホウ素含有層の厚さが約２００Å以下である、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記開始層が窒化シリコンを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記ホウ素含有層が窒化ホウ素を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記開始層が窒素を含み、窒素原子濃度が約１０％より大きく、ホウ素原子濃度が１０％未満である、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記開始層が炭素を含み、炭素原子濃度が約１０％より大きく、ホウ素原子濃度が１０％未満である、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記開始層が炭素と窒素の両方を含み、前記炭素と窒素の窒素原子濃度の合計が約１０％より大きく、ホウ素原子濃度が１０％未満である、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記開始層が、窒素を多く含む窒化ホウ素層を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記開始層が、ホウ素原子濃度が約４７％未満のホウ素と、窒素原子濃度が約５３％より大きい窒素とを含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記開始層が、ホウ素原子濃度が約４４％未満のホウ素と、窒素原子濃度が約５６％より大きい窒素とを含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
前記開始層が、ホウ素原子濃度が約４２％未満のホウ素と、窒素原子濃度が約５８％より大きい窒素とを含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１３】
前記開始層が、窒化シリコン層と窒化ホウ素シリコン層とを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
前記開始層が、窒化ホウ素層を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
前記ホウ素含有層の厚さが約１００Å以上である、請求項１に記載の方法。