Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成21年8月25日(2009.8.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像データがシートに印刷される際に第１の面積率より低く、かつ、第２の面積率より高い面積率でドットが打たれる領域を特定する特定手段と、
前記シート上の前記特定手段で特定された領域から紙指紋情報を取得する取得手段とを有し、
前記第１の面積率は、前記第２の面積率より高いことを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記特定手段は、前記シートを均等分割した際の境界線から所定の距離以上離れた領域の中から、前記第１の面積率より低く、かつ、前記第２の面積率より高い面積率でドットが打たれる領域を特定することを特徴とする請求項１記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記特定手段は、前記シートの端から所定の距離以上離れた領域の中から、前記第１の面積率より低く、かつ、前記第２の面積率より高い面積率でドットが打たれる領域を特定することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項４】
特定手段が、画像データがシートに印刷される際に第１の面積率より低く、かつ、第２の面積率より高い面積率でドットが打たれる領域を特定する特定工程と、
取得手段が、前記シート上の前記特定工程で特定された領域から紙指紋情報を取得する取得工程とを有し、
前記第１の面積率は、前記第２の面積率より高いことを特徴とする画像処理装置の制御方法。
【請求項５】
請求項４に記載の制御方法の各工程をコンピュータに実行させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】画像処理装置及び画像処理装置の制御方法及びプログラム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、紙指紋情報（以下では、紙指紋情報のことを紙紋とも称する）情報を取り扱うことができる画像処理装置及び画像処理装置の制御方法及びプログラムに関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記課題を解決するために、本発明の画像処理装置は以下の特徴を有する。即ち、画像データがシートに印刷される際に第１の面積率より低く、かつ、第２の面積率より高い面積率でドットが打たれる領域を特定する特定手段と、前記シート上の前記特定手段で特定された領域から紙指紋情報を取得する取得手段とを有し、前記第１の面積率は、前記第２の面積率より高いという特徴を有する。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月25日(2009.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基地局装置と端末局装置とが無線により通信する無線通信システムにおいて、
前記基地局装置は、時分割で設けられた複数のチャネルのスロットを使用して前記端末局装置との間で無線により通信する基地局通信手段と、
前記複数のチャネルのうちの１つ以上のチャネルのスロットをデータ通信に使用し且つその他のチャネルのスロットを通信品質測定用の通信に使用するように前記基地局通信手段による通信を制御する基地局制御手段と、を備え、
前記端末局装置は、自装置に割り当てられたチャネルのスロットを使用して前記基地局装置との間で無線により通信する端末局通信手段と、
自装置に割り当てられたチャネルのスロットが前記基地局装置によりデータ通信に使用されている場合には前記端末局通信手段によりデータ通信を行い、自装置に割り当てられたチャネルのスロットが前記基地局装置により通信品質測定用の通信に使用されている場合には前記端末局通信手段による通信に基づいて通信品質の測定を行う端末局制御手段と、を備えた、
ことを特徴とする無線通信システム。
【請求項２】
時分割で設けられた複数のチャネルのスロットを使用して端末局装置との間で無線により通信する通信手段と、
前記複数のチャネルのうちの１つ以上のチャネルのスロットをデータ通信に使用し且つその他のチャネルのスロットを通信品質測定用の通信に使用するように前記通信手段による通信を制御する制御手段と、を備えた、
ことを特徴とする基地局装置。
【請求項３】
基地局装置により自装置に割り当てられたチャネルのスロットを使用して前記基地局装置との間で無線により通信する通信手段と、
自装置に割り当てられたチャネルのスロットが前記基地局装置によりデータ通信に使用されている場合には前記通信手段によりデータ通信を行い、自装置に割り当てられたチャネルのスロットが前記基地局装置により通信品質測定用の通信に使用されている場合には前記通信手段による通信に基づいて通信品質の測定を行う制御手段と、を備えた、
ことを特徴とする端末局装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】無線通信システム，基地局装置，及び端末局装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明は、このような従来の事情に鑑み為されたもので、通常の通信と通信品質測定のための通信を効率的に行うことができる無線通信システム，基地局装置，及び端末局装置を提供することを目的とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
上記目的を達成するため、本発明に係る無線通信システム，基地局装置，及び端末局装置は、次のような構成とした。
すなわち、前記基地局装置では、基地局通信手段が、時分割で設けられた複数のチャネルのスロットを使用して、前記端末局装置との間で無線により通信し、この場合に、基地局制御手段が、前記複数のチャネルのうちの１つ以上のチャネルのスロットをデータ通信（例えば、通常の運用状態で行われる通信用のデータの通信）に使用し、且つ、その他のチャネルのスロットを通信品質測定用の通信に使用するように、前記基地局通信手段による通信を制御する。
前記端末局装置では、端末局通信手段が、自装置（当該端末局装置）に割り当てられたチャネルのスロットを使用して、前記基地局装置との間で無線により通信し、この場合に、端末局制御手段が、自装置（当該端末局装置）に割り当てられたチャネルのスロットが前記基地局装置によりデータ通信に使用されている場合には、前記端末局通信手段によりデータ通信を行い、また、自装置（当該端末局装置）に割り当てられたチャネルのスロットが前記基地局装置により通信品質測定用の通信に使用されている場合には、前記端末局通信手段による通信に基づいて通信品質の測定を行う。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
以上説明したように、本発明に係る無線通信システム，基地局装置，及び端末局装置によると、基地局装置と複数の端末局装置との間で複数のチャネルのスロットを使用して無線通信するに際して、一部のチャネルのスロットを通常の通信に使用し且つ他の一部のチャネル（或いは、他の全てのチャネル）のスロットを通信品質測定用の通信に使用することを可能としたことにより、通信品質の測定が必要なときにおいても、通常の通信を継続することができ、これにより、通常の通信と通信品質測定のための通信を効率的に行うことができる。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月24日(2009.7.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入力された映像データを記録媒体に記録する映像記録装置であって、
前記記録媒体のうち、複数種類のファイルシステムを含む少なくとも１つのサブ領域を有する記録領域を管理する管理手段と、
前記サブ領域のうち、外部機器からアクセス可能とするサブ領域を決定する領域決定手段と、
前記領域決定手段により決定されたサブ領域に含まれるファイルシステムに基づき、前記外部機器にアクセスさせるファイルシステムを決定するファイルシステム決定手段とを備えることを特徴とする映像記録装置。
【請求項２】
前記複数種類のファイルシステムは、前記サブ領域に含まれるファイルを１つのファイルとして管理するための第１のファイルシステムを含むことを特徴とする請求項１記載の映像記録装置。
【請求項３】
前記複数種類のファイルシステムは、前記サブ領域に含まれるファイルを１つのファイルとして管理するための第１のファイルシステムと、前記サブ領域に含まれるファイルを個別のファイルとして管理するための第２のファイルシステムとを含むことを特徴とする請求項１記載の映像記録装置。
【請求項４】
前記サブ領域の設定を行うための設定手段をさらに有し、
前記設定手段は、ユーザによる操作に応じて前記サブ領域を設定することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の映像記録装置。
【請求項５】
前記サブ領域の設定を行うための設定手段をさらに有し、
前記設定手段は、前記サブ領域に含まれるデータの記録形式を設定し、
前記サブ領域は、前記設定された記録形式に対応したファイルシステムを含むことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の映像記録装置。
【請求項６】
入力された映像データを記録媒体に記録する映像記録装置の制御方法であって、
前記記録媒体のうち、複数種類のファイルシステムを含む少なくとも１つのサブ領域を有する記録領域を管理する管理工程と、
前記サブ領域のうち、外部機器からアクセス可能とするサブ領域を決定する領域決定工程と、
前記領域決定工程にて決定されたサブ領域に含まれるファイルシステムに基づき、前記外部機器にアクセスさせるファイルシステムを決定するファイルシステム決定工程とを備えることを特徴とする制御方法。
【請求項７】
入力された映像データを記録媒体に記録する映像記録装置の制御方法を当該映像記録装置に実行させるためのプログラムであって、
前記映像記録装置を
前記記録媒体のうち、複数種類のファイルシステムを含む少なくとも１つのサブ領域を有する記録領域を管理する管理手段、
前記サブ領域のうち、外部機器からアクセス可能とするサブ領域を決定する領域決定手段、
前記領域決定手段により決定されたサブ領域に含まれるファイルシステムに基づき、前記外部機器にアクセスさせるファイルシステムを決定するファイルシステム決定手段として機能させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】映像記録装置及びその制御方法、並びにプログラム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、映像記録装置及びその制御方法、並びにプログラムに関し、特に、入力された映像データを記録媒体に記録する記録手段と外部の機器に接続して通信を行う通信手段とを備える映像記録装置及びその制御方法、並びにプログラムに関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明は、上記問題に鑑みて成されたものであり、映像記録装置が大容量記録装置を備えている場合に、外部機器にデータ転送を行いたいデータを膨大なデータの一覧から探し出すことなく、容易にデータ転送を実現することができる映像記録装置を提供することを目的とする。また、映像記録装置の制御方法及び該制御方法を実行するためのプログラムを提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
上記目的を達成するために、請求項１記載の映像記録装置は、入力された映像データを記録媒体に記録する映像記録装置であって、前記記録媒体のうち、複数種類のファイルシステムを含む少なくとも１つのサブ領域を有する記録領域を管理する管理手段と、前記サブ領域のうち、外部機器からアクセス可能とするサブ領域を決定する領域決定手段と、前記領域決定手段により決定されたサブ領域に含まれるファイルシステムに基づき、前記外部機器にアクセスさせるファイルシステムを決定するファイルシステム決定手段とを備えることを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
上記目的を達成するために、請求項６記載の映像記録装置の制御方法は、入力された映像データを記録媒体に記録する映像記録装置の制御方法であって、前記記録媒体のうち、複数種類のファイルシステムを含む少なくとも１つのサブ領域を有する記録領域を管理する管理工程と、前記サブ領域のうち、外部機器からアクセス可能とするサブ領域を決定する領域決定工程と、前記領域決定工程にて決定されたサブ領域に含まれるファイルシステムに基づき、前記外部機器にアクセスさせるファイルシステムを決定するファイルシステム決定工程とを備えることを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
上記目的を達成するために、請求項７記載のプログラムは、入力された映像データを記録媒体に記録する映像記録装置の制御方法を当該映像記録装置に実行させるためのプログラムであって、前記映像記録装置を前記記録媒体のうち、複数種類のファイルシステムを含む少なくとも１つのサブ領域を有する記録領域を管理する管理手段、前記サブ領域のうち、外部機器からアクセス可能とするサブ領域を決定する領域決定手段、前記領域決定手段により決定されたサブ領域に含まれるファイルシステムに基づき、前記外部機器にアクセスさせるファイルシステムを決定するファイルシステム決定手段として機能させるためのプログラムである。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
本発明によれば、映像記録装置に多くのデータが記憶されている場合であっても、ユーザはデータ転送を行いたいデータを膨大なデータの一覧から探し出すことなく、容易にデータ転送を実現することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月1日(2009.7.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体素子と、前記半導体素子の裏面が表面に固着されるアイランドと、前記半導体素子と電気的に接続されるリードと、前記半導体素子、前記アイランドおよび前記リードの前記アイランド側を一体に被覆する封止樹脂とを具備し、
前記アイランドの外周端部には、前記アイランドの表面から上方に向かって突出する突出部が設けられ、前記突出部は、前記アイランドの表面と角部を介して成る内側側面と、前記内側側面と対向して位置する外側側面と、前記内側側面と前記外側側面の間に位置する上面と、前記上面と対向して位置する下面とから成り、
前記内側側面および前記外側側面は、前記アイランドの表面に対して鋭角を成すように前記半導体素子側に傾斜している事を特徴とした半導体装置。
【請求項２】
前記下面は、前記半導体素子の実装領域側から外側に向かって下方に傾斜している事を特徴とした請求項１に記載の半導体装置。
【請求項３】
前記リードは、前記アイランドの一側辺側に、アイランドと一体の第１のリードと、前記半導体素子と電気的に接続された金属細線の接続部を有する第２のリードとを有する請求項１または請求項２に記載の半導体装置。
【請求項４】
前記アイランドの一側辺と対向する他側辺側には、前記アイランドと連結部を介して一体でなるタブが設けられる請求項１に記載の半導体装置。
【請求項５】
前記第１のリードと前記アイランドとの連続する領域および前記連結部と前記アイランドとの連続する領域には、前記突出部が省略される請求項４に記載の半導体装置。
【請求項６】
前記アイランドには、前記半導体素子を固着する、実装時に半固形状または液状と成る接合材が設けられ、前記連結部の表面には、前記アイランドから前記タブ部に向かう方向と交差する方向に凹状部が設けられる請求項４または請求項５に記載の半導体装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月5日(2009.6.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
この後、図１（ｆ）に示すように、ハーフアッシングした段状に形成されたレジストマスク１０７をマスクとして、金属膜１０６、ｎ＋ａ−Ｓｉ膜１０５、ａ−Ｓｉ膜１０４の一部をドライエッチングにより順次エッチングし、チャンネル１０９を形成する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2008034635.tif 000001
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2008034635.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月24日(2009.7.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パターンを有する構造体の製造方法であって、
被加工層のパターン形成領域に、表面に凹凸構造を有するスタンパをプレスし、第１のパターンを形成する第１のパターン形成工程と、
前記第１のパターンを形成した際のパターン形成領域とスタンパとの相対的な位置を移動させ、前記スタンパを前記パターン形成領域の少なくとも一部にプレスし、第２のパターンを形成する第２のパターン形成工程と、
を有することを特徴とするパターンを有する構造体の製造方法。
【請求項２】
前記スタンパは、前記表面の凹凸構造が四角格子状に配列された構造を備え、
前記第２のパターンが、前記スタンパにより形成された第１のパターンの四角格子配列のユニットセルを成す四角形の重心点の位置に形成されることを特徴とする請求項１に記載のパターンを有する構造体の製造方法。
【請求項３】
前記スタンパは、前記表面の凹凸構造が三角格子状に配列された構造を備え、
前記第２のパターンが、前記スタンパにより形成された第１のパターンの三角格子配列のユニットセルを成す三角形の重心点の位置に形成され、
更に、第３のパターンが、前記第１のパターンの前記三角形における前記第２のパターンが形成されていない重心点の位置に形成されることを特徴とする請求項１に記載のパターンを有する構造体の製造方法。
【請求項４】
前記被加工層が、熱可塑性材料で形成されることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載のパターンを有する構造体の製造方法。
【請求項５】
前記第２のパターン形成工程において、熱可塑性材料によって形成された被加工層に熱転写で前記第２のパターンを形成するに際し、
前記第２のパターンの形成条件を、前記第１のパターン形成工程での第１のパターンの形成条件と異なる形成条件とし、
前記第２のパターンの形状が前記第１のパターン形成工程で形成された第１のパターン形状と等しくなるように、前記第２のパターンを形成することを特徴とする請求項４に記載のパターンを有する構造体の製造方法。
【請求項６】
前記第２のパターンの形成条件が、
前記被加工層と前記スタンパとの加熱温度の調整、前記加熱温度とプレス圧力の調整、前記加熱温度と前記プレス圧力とプレス時間の調整、のいずれかの選択によることを特徴とする請求項５に記載のパターンを有する構造体の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、上記課題を解決するため、つぎのように構成したパターンを有する構造体の製造方法を提供するものである。
本発明のパターンを有する構造体の製造方法は、
被加工層のパターン形成領域に、表面に凹凸構造を有するスタンパをプレスし、第１のパターンを形成する第１のパターン形成工程と、
前記第１のパターンを形成した際のパターン形成領域とスタンパとの相対的な位置を移動させ、前記スタンパを前記パターン形成領域の少なくとも一部にプレスし、第２のパターンを形成する第２のパターン形成工程と、
を有することを特徴とする。
また、本発明のパターンを有する構造体の製造方法は、
前記スタンパが、前記表面の凹凸構造が四角格子状に配列された構造を備え、
前記第２のパターンが、前記スタンパにより形成された第１のパターンの四角格子配列のユニットセルを成す四角形の重心点の位置に形成されることを特徴とする。
また、本発明のパターンを有する構造体の製造方法は、前記スタンパが、前記表面の凹凸構造が三角格子状に配列された構造を備え、
前記第２のパターンが、前記スタンパにより形成された第１のパターンの三角格子配列のユニットセルを成す三角形の重心点の位置に形成され、
更に、第３のパターンが、前記第１のパターンの前記三角形における前記第２のパターンが形成されていない重心点の位置に形成されることを特徴とする。
また、本発明のパターンを有する構造体の製造方法は、前記被加工層が、熱可塑性材料で形成されることを特徴とする。
また、本発明のパターンを有する構造体の製造方法は、前記第２のパターン形成工程において、熱可塑性材料によって形成された被加工層に熱転写で前記第２のパターンを形成するに際し、
前記第２のパターンの形成条件を、前記第１のパターン形成工程での第１のパターンの形成条件と異なる形成条件とし、
前記第２のパターンの形状が前記第１のパターン形成工程で形成された第１のパターン形状と等しくなるように、前記第２のパターンを形成することを特徴とする。
また、本発明のパターンを有する構造体の製造方法は、前記第２のパターンの形成条件が、
前記被加工層と前記スタンパとの加熱温度の調整、前記加熱温度とプレス圧力の調整、前記加熱温度と前記プレス圧力とプレス時間の調整、のいずれかの選択によることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月13日(2009.5.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空容器と、この真空容器内部に配置されて上部に試料が載置される試料載置面を有した試料台とを備え、前記処理室内にプラズマを形成して前記試料載置面上に載置された試料を処理するプラズマ処理装置であって、
前記試料台は、その内部に蒸発してこの試料台の温度を調節するための冷媒が供給される蒸発器として冷凍サイクルの一部として配置され、
前記試料台内部に配置され内部に冷媒が供給される空間と、前記試料載置面と対向して配置され前記冷媒が複数箇所から衝突する前記空間の天井面と、前記天井面と衝突して蒸発した冷媒が前記試料台から排出される排出口とを備えたプラズマ処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載のプラズマ処理装置であって、前記試料台内の前記空間に供給された前記冷媒が前記天井面に衝突して分散した後前記排出口から排出されるプラズマ処理装置。
【請求項３】
請求項２に記載のプラズマ処理装置であって、前記冷媒が衝突して分散する空間の下方の前記試料台内部に配置され前記冷媒が供給されてその内部で拡散する別の空間と、前記複数の箇所に配置され前記別の空間と前記冷媒が分散する空間とを連通し前記冷媒が前記天井面に向かって流出する複数の冷媒導入孔とを備えたプラズマ処理装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれかに記載のプラズマ処理装置であって、前記天井面に配置され前記冷媒がその内側に導入される複数の凹み部を備えたプラズマ処理装置。
【請求項５】
請求項４に記載のプラズマ処理装置であって、前記複数箇所から供給される冷媒が前記凹み部の内部に直接的に導入されるプラズマ処理装置。
【請求項６】
請求項４または５に記載のプラズマ処理装置であって、前記複数の凹み部が前記試料台の中心側から外周側に放射状に延びる複数の溝により構成されたプラズマ処理装置。
【請求項７】
請求項６に記載のプラズマ処理装置において、前記放射状に延びる溝はその前記試料台外周側の幅が中心側の幅より大きな形状を有し、この溝内に供給された前記冷媒が前記試料台の中心側から外周側に向けて移動するプラズマ処理装置。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれかに記載のプラズマ処理装置であって、前記冷媒が前記天井面に衝突する空間の外周側に配置され熱交換した冷媒が流入後前記試料台の外部に向けて排出されるリング状の空間を備えたプラズマ処理装置。
【請求項９】
前記１乃至８のいずれかに記載のプラズマ処理装置であって、前記試料載置面とこの上に載せられた前記試料との間に熱伝達ガスを供給するための供給経路を備えたプラズマ処理装置。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれかに記載のプラズマ処理装置であって、前記試料台の内部で熱交換した後に外部に排出された前記冷媒を圧縮する圧縮機と、この圧縮機からの前記冷媒を凝縮する凝縮器とを有し、前記試料台を前記凝縮器から排出された冷媒が蒸発する蒸発器として備えた冷凍サイクルを備えたプラズマ処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記目的は、真空容器と、この真空容器内部に配置されて上部に試料が載置される試料載置面を有した試料台とを備え、前記処理室内にプラズマを形成して前記試料載置面上に載置された試料を処理するプラズマ処理装置であって、前記試料台は、その内部に蒸発してこの試料台の温度を調節するための冷媒が供給される蒸発器として冷凍サイクルの一部として配置され、前記試料台内部に配置され内部に冷媒が供給される空間と、前記試料載置面と対向して配置され前記冷媒が複数箇所から衝突する前記空間の天井面と、前記天井面と衝突して蒸発した冷媒が前記試料台から排出される排出口とを備えたプラズマ処理装置により達成される。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月29日(2009.6.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリコンが露出した基板表面にシリコンを含む半導体のエピタキシャル膜を選択的に成長させる基板処理装置であって、前記基板を収納する処理室と、該処理室内に於いて前記基板を保持する基板保持具と、前記基板及び前記処理室内の雰囲気を加熱する加熱手段と、前記処理室内にシリコンを含む原料ガス、塩素を含むエッチングガス、及び水素ガスを供給するガス供給手段と、前記処理室内の雰囲気を排気する排気手段と、少なくとも前記加熱手段、前記ガス供給手段及び前記排気手段の動作を制御する制御部とを備え、該制御部は、前記加熱手段を制御して前記基板を加熱し、前記ガス供給手段及び前記排気手段を制御して、前記原料ガスと前記エッチングガスとを前記処理室内に供給、排気して、前記シリコンが露出された基板表面にシリコンを含むエピタキシャル膜を成膜し、成膜後、少なくとも前記ガス供給手段の前記エッチングガスを供給したガス供給部に前記水素ガスを流して前記ガス供給部内をパージすることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
シリコンが露出された基板を処理室に収納する工程と、
前記処理室に収納された前記基板を加熱し、原料ガスとエッチングガスとを前記処理室内に供給し、排気し、前記基板表面にシリコンを含むエピタキシャル膜を成膜する工程と、前記成膜工程後に、少なくとも前記成膜工程において少なくとも前記エッチングガスを前記処理室内に供給したガス供給部に水素ガスを流して前記ガス供給部内をパージする工程とを有することを特徴とする基板処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】基板処理装置および基板処理方法
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月28日(2009.5.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反応ガスの電気化学反応により発電する燃料電池と、
燃料電池に反応ガスを供給するためのガス供給流路と、
ガス供給流路に設けられたガス供給装置と、
反応ガスの温度を検出する温度検出手段と、
ガス供給装置を通過したガスを冷却するインタークーラと、
インタークーラを冷却する冷媒を流す冷媒流路と、
冷媒流路に設けられた冷媒ポンプと、
制御部と、を備え、
制御部は、冷媒ポンプを含むインタークーラの冷却部の異常状態の有無を判定する冷却部異常判定手段と、インタークーラの冷却部に異常が発生したと判定された場合に、温度検出手段により検出された反応ガスの温度に応じてガス供給装置の作動状態を制御するガス供給装置作動制御手段とを有することを特徴とする燃料電池システム。
【請求項２】
請求項１に記載の燃料電池システムにおいて、
ガス供給装置はガス圧縮機であり、
ガス供給装置作動制御手段は、インタークーラの冷却部に異常が発生したと判定された場合に、温度検出手段により検出された反応ガスの温度に応じて反応ガスの温度が所定値以下になるように、ガス圧縮機の回転数を制御することを特徴とする燃料電池システム。
【請求項３】
請求項１に記載の燃料電池システムにおいて、
ガス供給装置はガス圧縮機であり、
ガス供給装置作動制御手段は、インタークーラの冷却部に異常が発生したと判定された場合に、温度検出手段により検出された反応ガスの温度と、反応ガスの温度に対応して設定したガス圧縮機の最大許容回転数または最大許容回転数の関係値を表すマップのデータとから、ガス圧縮機の回転数を制御することを特徴とする燃料電池システム。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれか１に記載の燃料電池システムにおいて、
ガス供給流路において燃料電池よりもガスの上流側で、インタークーラよりもガスの下流側に加湿器を設けており、
温度検出手段は、ガス供給流路において加湿器よりも上流側の反応ガスの温度を検出することを特徴とする燃料電池システム。
【請求項５】
請求項１に記載の燃料電池システムにおいて、
ガス供給流路は、燃料電池に反応ガスである酸化ガスを供給するための酸化ガス供給流路であり、ガス供給装置から供給された酸化ガスを、インタークーラを迂回させて燃料電池に供給する迂回路がない流路であることを特徴とする燃料電池システム。
【請求項６】
請求項１に記載の燃料電池システムにおいて、
ガス供給装置作動制御手段は、インタークーラの冷却部に異常が発生したと判定された場合に、インタークーラを通過した後の反応ガスである、温度検出手段により検出された反応ガスの温度に応じてガス供給装置の作動状態を制御することを特徴とする燃料電池システム。
【請求項７】
請求項１に記載の燃料電池システムにおいて、
インタークーラの冷却部は、冷媒流路と、冷媒流路に設けられた冷媒ポンプ及びラジエータとにより構成し、
冷却部異常判定手段は、冷媒ポンプを駆動するモータの回転要求がある場合のモータの回転数の検出信号に基づいて、またはモータに接続した回路に断線または短絡が生じたことの検出に基づいて、またはモータの温度が異常に低下または上昇したことに基づいて、冷媒ポンプの異常の発生の有無を判定することを特徴とする燃料電池システム。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月15日(2009.7.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
燃料電池に反応ガスを供給するためのガス配管系と、発電要求に応じて前記反応ガスの供給状態を変更するガス供給制御装置と、を備えた燃料電池システムにおいて、
前記燃料電池の温度に応じてガス供給量を変更し、
前記反応ガスが通過するガス通路を形成する通路部材の耐久温度特性に応じてガス供給量を変更することを特徴とする燃料電池システム。
【請求項２】
前記通路部材が複数の異なる部材であって、各部材の温度特性のうち最小値を選択することを特徴とする請求項１に記載の燃料電池システム。
【請求項３】
前記燃料電池のアノード側とカソード側におけるガス供給状態の差圧を考慮することを特徴とする請求項１に記載の燃料電池システム。
【請求項４】
前記ガス供給制御装置はガス供給源と前記燃料電池との間の前記ガス通路上に設けられた圧力調整装置であることを特徴とする請求項１に記載の燃料電池システム。
【請求項５】
燃料電池に反応ガスを供給するためのガス配管系と、発電要求に応じて前記反応ガスの供給状態を変更するガス供給制御装置と、を備えた燃料電池システムにおける前記反応ガスの供給量ないしはガス圧力を制御するための制御方法であって、
前記燃料電池の温度に応じてガス供給量を変更し、
前記反応ガスが通過するガス通路を形成する通路部材の耐久温度特性に応じてガス供給量を変更する
ことを特徴とする燃料電池システムの制御方法。
【請求項６】
複数の互いに異なる前記通路部材の温度特性のうち最小値を選択する請求項５に記載の燃料電池システムの制御方法。
【請求項７】
前記燃料電池のアノード側に燃料ガスを供給する際、カソード側に酸化ガスを同時に供給し、前記アノード側の圧力上限を上にシフトさせる請求項５または６に記載の燃料電池システムの制御方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月5日(2009.1.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の電子放出領域が設けられたカソードパネルと、蛍光体層及びアノード電極が設けられたアノードパネルとが、それらの周縁部において接合され、カソードパネルとアノードパネルとによって挟まれた空間が真空に保持された平面型表示装置であって、
（Ａ）一端部が該空間に連通し、他端部が平面型表示装置の外部に位置する、導電性材料から成る排気管、及び、
（Ｂ）導電性材料から成る弾性部材、
を備えており、
排気管とアノード電極とは、該空間内に配置された弾性部材を介して、相互に電気的に接続されており、
アノード電極には、排気管及び弾性部材を介して所定の電圧が印加されることを特徴とする平面型表示装置。
【請求項２】
カソードパネル及び／又はアノードパネルには、前記空間に連通したゲッターボックスが取り付けられており、
排気管はゲッターボックスに取り付けられていることを特徴とする請求項１に記載の平面型表示装置。
【請求項３】
弾性部材の一端はアノード電極と当接し、他端は排気管に固定されていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の平面型表示装置。
【請求項４】
複数の電子放出領域が設けられたカソードパネルと、蛍光体層及びアノード電極が設けられたアノードパネルとが、それらの周縁部において接合され、カソードパネルとアノードパネルとによって挟まれた空間が真空に保持された平面型表示装置であって、
一端部が該空間に連通し、他端部が平面型表示装置の外部に位置する、導電性材料から成る排気管を備えており、
排気管の一端部は、アノード電極に、直接、接しており、
アノード電極には、排気管を介して所定の電圧が印加されることを特徴とする平面型表示装置。
【請求項５】
カソードパネル及び／又はアノードパネルには、前記空間に連通したゲッターボックスが取り付けられており、
排気管はゲッターボックスに取り付けられていることを特徴とする請求項４に記載の平面型表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月25日(2009.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一列に配列された複数のブロックからなる導光板と、
前記ブロックごとに設けられ、前記ブロックに対して光を照射する複数の光源と、
を備え、
前記導光板は一体的に形成されており、前記導光板に設けられた楔形の溝によって前記導光板が前記複数のブロックに分割されており、
前記溝と、前記光源の光照射の方向と、は、略平行であり、
前記溝により形成された隣り合う前記ブロック間の一部の領域には０．１ミクロン以上の隙間が形成されており、前記隙間内は空気層となっていることを特徴とする照明装置。
【請求項２】
前記導光板に設けられた前記楔形の溝は、前記楔形の頂点をなす角度が１５度以下、（前記楔形の溝の深さ／前記導光板の厚さ）の比が０．４以上〜０．７以下、であることを特徴とする請求項１記載の照明装置。
【請求項３】
前記導光板は、射出成型によって形成されたものであることを特徴とする請求項１記載の照明装置。
【請求項４】
前記光源は、
赤色の光を出射する赤色発光ダイオードと、
緑色の光を出射する緑色発光ダイオードと、
青色の光を出射する青色発光ダイオードと、
を有することを特徴とする請求項１記載の照明装置。
【請求項５】
前記光源と前記ブロックとの間に配置され、前記赤色の光、前記緑色の光及び前記青色の光を混色する混色部材をさらに備えたことを特徴とする請求項４記載の照明装置。
【請求項６】
照明装置であって、
一列に配列された複数のブロックからなる導光板と、
前記ブロックごとに設けられ、前記ブロックに対して光を照射する複数の光源と、
を有し、
前記導光板は一体的に形成されており、前記導光板に設けられた楔形の溝によって前記導光板が前記複数のブロックに分割されており、
前記溝と、前記光源の光照射の方向と、は、略平行であり、
前記溝により形成された隣り合う前記ブロック間の一部の領域には０．１ミクロン以上の隙間が形成されており、前記隙間内は空気層となっている照明装置と、
前記照明装置により光が照射される液晶パネルと、
前記液晶パネルに映像信号を印加すると共に、前記印加のタイミングに同期させて前記光源を順次点灯させる制御部と、
を備えたことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項７】
前記導光板に設けられた前記楔形の溝は、前記楔形の頂点をなす角度が１５度以下、（前記楔形の溝の深さ／前記導光板の厚さ）の比が０．４以上〜０．７以下、であることを特徴とする請求項６記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記導光板は、射出成型によって形成されたものであることを特徴とする請求項６記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記光源は、
赤色の光を出射する赤色発光ダイオードと、
緑色の光を出射する緑色発光ダイオードと、
青色の光を出射する青色発光ダイオードと、
を有し、
前記光源と前記ブロックとの間に配置され、前記赤色の光、前記緑色の光及び前記青色の光を混色する混色部材をさらに備えたことを特徴とする請求項６記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記照明装置は、前記光の強度を前記ブロックごとに検出する受光部をさらに有し、
前記制御部は、前記受光部の検出結果に基づいて前記光源を制御することを特徴とする請求項６記載の液晶表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の一態様によれば、一列に配列された複数のブロックからなる導光板と、前記ブロックごとに設けられ、前記ブロックに対して光を照射する複数の光源と、を備え、前記導光板は一体的に形成されており、前記導光板に設けられた楔形の溝によって前記導光板が前記複数のブロックに分割されており、前記溝と、前記光源の光照射の方向と、は、略平行であり、前記溝により形成された隣り合う前記ブロック間の一部の領域には０．１ミクロン以上の隙間が形成されており、前記隙間内は空気層となっていることを特徴とする照明装置が提供される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の一態様によれば、照明装置であって、一列に配列された複数のブロックからなる導光板と、前記ブロックごとに設けられ、前記ブロックに対して光を照射する複数の光源と、を有し、前記導光板は一体的に形成されており、前記導光板に設けられた楔形の溝によって前記導光板が前記複数のブロックに分割されており、前記溝と、前記光源の光照射の方向と、は、略平行であり、前記溝により形成された隣り合う前記ブロック間の一部の領域には０．１ミクロン以上の隙間が形成されており、前記隙間内は空気層となっている照明装置と、前記照明装置により光が照射される液晶パネルと、前記液晶パネルに映像信号を印加すると共に、前記印加のタイミングに同期させて前記光源を順次点灯させる制御部と、を備えたことを特徴とする液晶表示装置が提供される。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月6日(2009.7.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板上に剥離層を形成し、
該剥離層の上に絶縁膜を形成し、
該絶縁膜の上方に受動素子を形成し、
該受動素子の上方に第２の基板を貼り合わせ、
該第２の基板を貼り合わせた後に前記剥離層に対して流体を噴射し、前記第１の基板と前記絶縁膜とを分離し、
前記絶縁膜にプラスチックからなる第３の基板を貼り合わせることを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項２】
第１の基板上に剥離層を形成し、
該剥離層の上に絶縁膜を形成し、
該絶縁膜の上方に能動素子を形成し、
該能動素子に電気的に接続する受動素子を形成し、
該受動素子の上方に第２の基板を貼り合わせ、
該第２の基板を貼り合わせた後に前記剥離層に対して流体を噴射し、前記第１の基板と前記絶縁膜とを分離し、
前記絶縁膜にプラスチックからなる第３の基板を貼り合わせることを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、前記剥離層は非晶質シリコン膜を陽極化成することにより形成されることを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、前記剥離層は多孔質シリコン膜であることを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一において、前記受動素子は発光素子もしくは液晶素子であること特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一において、前記流体は圧力が加えられた液体もしくは気体であること特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一において、前記第２の基板はプラスチックであることを特徴とする表示装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月6日(2009.1.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フッ素系樹脂と貧溶媒からなる樹脂溶液を、該樹脂溶液の結晶化温度よりも２０℃以上５０℃以下高い温度で５秒以上１００秒以下保持した後に、中空糸状に成形することを特徴とするフッ素樹脂からなる中空糸膜の製造方法。
【請求項２】
得られた中空糸膜が、１００ｋＰａ、２５℃における純水透過性能が０．４ｍ３／ｍ２・ｈｒ以上、破断強度が６ＭＰａ以上、破断伸度が５０％以上、かつ、外径が３００μｍ以上８００μｍ以下であることを特徴とする、請求項１に記載の中空糸膜の製造方法。
【請求項３】
前記中空糸膜が平均粒径０．５μｍ以上１．５μｍ以下の球状構造からなることを特徴とする請求項１または２に記載の中空糸膜の製造方法。
【請求項４】
前記中空糸膜が平均粒径０．５μｍ以上１．５μｍ以下の球状構造体を有する層と、三次元網目状構造層の両方を有することを特徴とする請求項１または２に記載の中空糸膜の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】中空糸膜の製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明はフッ素系樹脂からなり、優れた耐薬品性と優れた透過性能を備え、かつ、細径で薄膜の中空糸でありながら高い機械的強度を有する中空糸膜の製造方法に関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
上記目的を達成するための本発明は、下記（１）〜（４）の構成によって達成される。
（１）フッ素系樹脂と貧溶媒からなる樹脂溶液を、該樹脂溶液の結晶化温度よりも２０℃以上５０℃以下高い温度で５秒以上１００秒以下保持した後に、中空糸状に成形することを特徴とするフッ素樹脂からなる中空糸膜の製造方法。
（２）得られた中空糸膜が、１００ｋＰａ、２５℃における純水透過性能が０．４ｍ３／ｍ２・ｈｒ以上、破断強度が６ＭＰａ以上、破断伸度が５０％以上、かつ、外径が３００μｍ以上８００μｍ以下であることを特徴とする、（１）に記載の中空糸膜の製造方法。
（３）前記中空糸膜が平均粒径０．５μｍ以上１．５μｍ以下の球状構造からなることを特徴とする（１）または（２）に記載の中空糸膜の製造方法。
（４）前記中空糸膜が平均粒径０．５μｍ以上１．５μｍ以下の球状構造体を有する層と、三次元網目状構造層の両方を有することを特徴とする（１）または（２）に記載の中空糸膜の製造方法。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
本発明の中空糸膜の製造方法は、以下に示す通りである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
上記フッ素系樹脂とその貧溶媒からなる結晶化温度以上のフッ素系樹脂溶液を、任意の径の二重管状口金から結晶化温度以下の冷却浴に吐出し、固化させる方法において、以下に示す通り、フッ素系樹脂と貧溶媒からなる樹脂溶液を結晶化温度Ｔｃ（℃）より２０℃以上５０℃以下高い温度で５秒以上１００秒以下保持した後に、結晶化温度以下の貧溶媒あるいは良溶媒を含む冷却浴中で固化することにより所望の性能を有する中空糸膜が得られる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
フッ素系樹脂溶液保持温度Ｔｋは、中空糸膜の破断強伸度向上が発現され、かつ曵糸性が著しく奪われない範囲であることが求められ、Ｔｃ＋２０℃以上Ｔｃ＋５０℃以下であることが必要であり、好ましくはＴｃ＋２５℃以上Ｔｃ＋４８℃以下、さらに好ましくはＴｃ＋３０℃以上Ｔｃ＋４６℃以下である。また、フッ素系樹脂溶液の保持時間は、中空糸膜の破断強伸度向上の為に必要な数の一次核が生成され、かつ曵糸性が著しく奪われないことが求められ、５秒以上１００秒以下であることが必要であり、好ましくは１０秒以上８０秒以下、さらに好ましくは１５秒以上６０秒以下である。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
本発明の中空糸膜の膜性能は、１００ｋＰａ、２５℃における純水透過性能が０．４ｍ３／ｍ２・ｈｒ以上、かつ、破断強度が６ＭＰａ以上、かつ、破断伸度が５０％以上であることが好ましい。なお、水処理用途に好適な高い透過性能と高い破断強伸度を両立させた高性能の中空糸膜とするという観点から、１００ｋＰａ、２５℃における純水透過性能が０．４ｍ３／ｍ２・ｈｒ以上８ｍ３／ｍ２・ｈｒ以下、かつ、破断強度が６ＭＰａ以上４０ＭＰａ以下、かつ、破断伸度が５０％以上３００％以下の範囲とすることがその中でも好ましく、より好ましくは、１００ｋＰａ、２５℃における純水透過性能が０．８ｍ３／ｍ２・ｈｒ以上７ｍ３／ｍ２・ｈｒ以下、かつ、破断強度が１０ＭＰａ以上３０ＭＰａ以下、かつ、破断伸度が８０％以上２８０％以下の範囲とすること、さらに好ましくは、１００ｋＰａ、２５℃における純水透過性能が１．６ｍ３／ｍ２・ｈｒ以上６ｍ３／ｍ２・ｈｒ以下、かつ、破断強度が１２ＭＰａ以上２５ＭＰａ以下、かつ、破断伸度が１２０％以上２５０％以下の範囲とすることである。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月24日(2009.3.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インキジェット印刷ヘッドと、
インキ通路と薄膜と真空室を有する脱気装置であって、前記インキ通路は前記インキジェット印刷ヘッドに接続された出口と、入口とを有し、前記薄膜は第１の面と第２の面を有し、前記第１の面は前記インキ通路内のインキに接し、前記第２の面は前記真空室に接し、前記インキ通路の前記入口は前記出口の上方に位置している、脱気装置と
を有し、
前記インキ通路は、前記入口と前記出口の間に下向きに傾斜した斜面を有しており、前記入口と前記出口の間の全長にわたって次第に低くなっている、インキジェット装置。
【請求項２】
前記下向きに傾斜した斜面は、前記入口と前記出口の間における一定の角度の斜面である、請求項１に記載のインキジェット装置。
【請求項３】
前記下向きの角度は３０度よりも小さい、請求項２に記載のインキジェット装置。
【請求項４】
前記下向きの角度は５度と１５度の間にある、請求項３に記載のインキジェット装置。
【請求項５】
前記インキジェット印刷ヘッドは、下方に向いた複数のノズルを有する、請求項１に記載のインキジェット装置。
【請求項６】
前記入口に接続された、加圧されていないインキの供給装置をさらに有する、請求項１に記載のインキジェット装置。
【請求項７】
前記入口に接続され、かつ前記入口の上方に位置するインキ供給容器をさらに有する、請求項１に記載のインキジェット装置。
【請求項８】
前記インキ供給容器は大気圧にさらされている、請求項７に記載のインキジェット装置。
【請求項９】
被印刷物に印刷する印刷ユニットと、
前記被印刷物に液体を供給する、請求項１に記載のインキジェット装置と
を有する印刷機。
【請求項１０】
インキ通路がインキジェット印刷ヘッドに接続された出口と、入口とを有する、請求項１に記載のインキジェット装置の前記インキ通路内のインキを脱気する方法であって、
前記インキ通路内の気泡が前記入口を通って上昇できるように、前記出口に対する前記入口の高さを調整することを含む、インキを脱気する方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は、インキジェット印刷ヘッドと、インキ通路と薄膜と真空室を有する脱気装置であって、インキ通路はインキジェット印刷ヘッドに接続された出口と、入口とを有し、薄膜は第１の面と第２の面を有し、第１の面はインキ通路内のインキに接し、第２の面は真空室に接し、インキ通路の入口は出口の上方に位置している、脱気装置とを有し、インキ通路は、入口と出口の間に下向きに傾斜した斜面を有しており、入口と出口の間の全長にわたって次第に低くなっている、インキジェット装置を提供する。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月11日(2009.1.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
鉄、非鉄金属からなる被研削面に付着した鉄粉、非鉄金属粉を研削、除去する為のロールにおいて、前記ロールを構成するロール片は、少なくともフィラメント及び研磨砥粒が接着剤を介して一体化された繊維を有する平板状の不織布Ａを有して形成されてあると共に、該ロール片が複数枚重ね合わされてなることを特徴とするロール。
【請求項２】
請求項１記載の構成よりなるロールにおいて、前記ロールを構成するロール片は、外層部及び芯部が接合されてあり、前記外層部はフィラメント及び研磨砥粒が接着剤を介して一体化された繊維を有する平板状の不織布Ａにて形成されてあると共に、前記芯部は、前記外層部にたいして異質材料にて形成されてあり、該ロール片が複数枚重ね合わされてなることを特徴とするロール。
【請求項３】
請求項１あるいは請求項２記載の構成よりなるロールにおいて、前記ロールの外周部に、螺旋状の凹部が形成されてあることを特徴とするロール。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明にかかるロールは、次のように構成したものである。
（１）鉄、非鉄金属からなる被研削面に付着した鉄粉、非鉄金属粉を研削、除去する為のロールにおいて、前記ロールを構成するロール片は、少なくともフィラメント及び研磨砥粒が接着剤を介して一体化された繊維を有する平板状の不織布Ａを有して形成されてあると共に、該ロール片が複数枚重ね合わされてなるものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
（１）ロール片は、少なくともフィラメント及び研磨砥粒が接着剤を介して一体化された繊維を有する平板状の不織布Ａを有して形成されてあると共に、該ロール片が複数枚重ね合わされてなる。その為、接着剤を介して研磨砥粒がフィラメントに付着していることから、研磨砥粒の脱落が無く、ブラシ毛材のように毛折れや毛切れが発生することが無く、ロール寿命の長期化を図ることができると共に、ブラシの毛材間の如く隙間が無い為、被研削面を均一に研削することができる。また、ロール片の積層枚数に応じて、ロール部の表面硬度を調整することができ、被研削面にたいしてロールの接圧を調整することができる。また、ロール部が被研削面の非鉄金属粉で目詰りしても、ロール部を再切削加工及び再研磨加工して、再度新しいロール部を出すことにより、再び被研削面を研削することができる。