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【手続補正書】
【提出日】平成21年1月14日(2009.1.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像処理システムであって、
対象画像の撮影シーンを判別するシーン判別部と、
前記対象画像を構成する複数の画素の内の少なくとも一部の値を変更することにより前記対象画像に所定の効果を生じさせるための予め設定された効果処理であって前記対象画像の撮影シーンに対応付けられた効果処理を選択可能に提示すると共に、選択された効果処理を前記対象画像に対して実行すべき効果処理として設定する効果設定部と、を備える、画像処理システム。
【請求項２】
請求項１記載の画像処理システムであって、さらに、
前記対象画像に対して、前記効果設定部により設定された効果処理を実行する効果処理部を備える、画像処理システム。
【請求項３】
請求項２記載の画像処理システムであって、さらに、
前記効果処理部による効果処理実行後の前記対象画像を出力する出力部を備える、画像処理システム。
【請求項４】
請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の画像処理システムであって、さらに、
前記対象画像の撮影シーンに対応付けられた画像補正を前記対象画像に対して実行すべき画像補正として設定する補正設定部と、
前記対象画像に対して、前記補正設定部により設定された画像補正を実行する補正処理部と、を備え、
前記効果処理部により実行される効果処理は、前記補正処理部により実行される画像補正に重畳して前記対象画像に対して実行される処理である、画像処理システム。
【請求項５】
請求項１ないし請求項４のいずれかに記載の画像処理システムであって、
前記効果設定部は、前記シーン判別部が複数の撮影シーンが前記対象画像の撮影シーンとして該当すると判別した場合には、前記複数の撮影シーンのそれぞれに対応付けられた効果処理のすべてを提示する、画像処理システム。
【請求項６】
請求項１ないし請求項５のいずれかに記載の画像処理システムであって、
前記シーン判別部は、撮影シーンの指定に基づき前記対象画像の撮影シーンを判別する、画像処理システム。
【請求項７】
画像処理方法であって、
（ａ）対象画像の撮影シーンを判別する工程と、
（ｂ）前記対象画像を構成する複数の画素の内の少なくとも一部の値を変更することにより前記対象画像に所定の効果を生じさせるための予め設定された効果処理であって前記対象画像の撮影シーンに対応付けられた効果処理を選択可能に提示すると共に、選択された効果処理を前記対象画像に対して実行すべき効果処理として設定する工程と、を備える、画像処理方法。
【請求項８】
請求項７に記載の画像処理方法であって、
前記工程（ａ）は、撮影シーンの指定に基づき前記対象画像の撮影シーンを判別する工程である、画像処理方法。
【請求項９】
画像生成装置であって、
撮影により画像を生成する撮影部と、
前記画像を構成する複数の画素の内の少なくとも一部の値を変更することにより前記画像に所定の効果を生じさせるための予め設定された効果処理であって前記画像の撮影シーンに対応付けられた効果処理を選択可能に提示すると共に、選択された効果処理を前記画像に対して実行すべき効果処理として設定する効果設定部と、を備える、画像生成装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の画像生成装置であって、さらに、
撮影シーンの指定を受領し、前記撮影時の撮影シーンとして設定するシーン設定部を備える、画像生成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月12日(2008.12.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
情報を管理するデータベースサーバと、該データベースサーバと無線で通信を行う携帯端末からなる情報管理システムで使用されるデータベースサーバにおいて、
前記情報の無線による送受信を制御するサーバ情報制御部と、
前記携帯端末との間で省電力無線による無線通信を行う一箇所または複数個所の省電力アクセスポイントと、
前記携帯端末との間で前記省電力無線よりも高い伝送速度で高速無線通信による無線通信を行う一箇所または複数個所の高速アクセスポイントとを備え、
前記サーバ情報制御部は、送信しようとする前記情報がある情報量を超えたときには、まず高速無線用通信信号を送信する旨の信号を、省電力無線用通信信号に変換して、前記省電力アクセスポイントから前記携帯端末に対して送信させ、
その後前記情報を前記高速無線用通信信号に変換して、前記高速アクセスポイントから前記携帯端末に対して送信させることを特徴とするデータベースサーバ。
【請求項２】
情報を管理するデータベースサーバと、該データベースサーバと無線で通信を行う携帯端末からなる情報管理システムで使用される携帯端末において、
前記情報の無線による送受信を制御する端末情報制御部と、
省電力無線で送受信を行う省電力無線アンテナと、
高速無線通信で送受信を行う高速無線アンテナと、
前記携帯端末でアクセスした前記情報について情報の解析と解析結果による入出力処理を行う主制御部とを備え、
前記端末情報制御部は、省電力無線用通信信号を受信して、それが、自端末宛のものであるときには、該通信信号を前記情報に変換して前記主制御部に伝達し、それが、自端末宛のものでないときには、該通信信号を他の前記携帯端末あるいは前記省電力アクセスポイントに送信させると共に、
送信しようとする前記情報がある情報量を超えたときには、前記情報を高速無線用通信信号に変換して、前記高速無線アンテナから前記データベースサーバに対して送信させることを特徴とする携帯端末。
【請求項３】
さらに、前記高速無線アンテナの電源を制御する高速無線電源制御部を備え、
該高速無線電源制御部は、前記省電力無線アンテナから前記高速無線用通信信号を送信する旨の信号を受信したときに、前記高速無線アンテナの電源を投入させ、前記高速無線アンテナの無線通信が終了したときには、前記高速無線アンテナの電源を遮断させることを特徴とする請求項２記載の携帯端末。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記問題を解決するために、本発明は次のように構成したのである。
請求項１に記載の発明は、情報を管理するデータベースサーバと、該データベースサーバと無線で通信を行う携帯端末からなる情報管理システムで使用されるデータベースサーバにおいて、前記情報の無線による送受信を制御するサーバ情報制御部と、前記携帯端末との間で省電力無線による無線通信を行う一箇所または複数個所の省電力アクセスポイントと、前記携帯端末との間で前記省電力無線よりも高い伝送速度で高速無線通信による無線通信を行う一箇所または複数個所の高速アクセスポイントとを備え、前記サーバ情報制御部は、送信しようとする前記情報がある情報量を超えたときには、まず高速無線用通信信号を送信する旨の信号を、省電力無線用通信信号に変換して、前記省電力アクセスポイントから前記携帯端末に対して送信させ、その後前記情報を前記高速無線用通信信号に変換して、前記高速アクセスポイントから前記携帯端末に対して送信させることを特徴とするものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
また、請求項２に記載の発明は、情報を管理するデータベースサーバと、該データベースサーバと無線で通信を行う携帯端末からなる情報管理システムで使用される携帯端末において、前記情報の無線による送受信を制御する端末情報制御部と、省電力無線で送受信を行う省電力無線アンテナと、高速無線通信で送受信を行う高速無線アンテナと、前記携帯端末でアクセスした前記情報について情報の解析と解析結果による入出力処理を行う主制御部とを備え、前記端末情報制御部は、省電力無線用通信信号を受信して、それが、自端末宛のものであるときには、該通信信号を前記情報に変換して前記主制御部に伝達し、それが、自端末宛のものでないときには、該通信信号を他の前記携帯端末あるいは前記省電力アクセスポイントに送信させると共に、送信しようとする前記情報がある情報量を超えたときには、前記情報を高速無線用通信信号に変換して、前記高速無線アンテナから前記データベースサーバに対して送信させることを特徴とするものである。
また、請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の携帯端末において、さらに、前記高速無線アンテナの電源を制御する高速無線電源制御部を備え、該高速無線電源制御部は、前記省電力無線アンテナから前記高速無線用通信信号を送信する旨の信号を受信したときに、前記高速無線アンテナの電源を投入させ、前記高速無線アンテナの無線通信が終了したときには、前記高速無線アンテナの電源を遮断させることを特徴とするものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
請求項１および請求項２に記載の発明によると、データベースサーバは高速アクセスポイントを備え、情報がある情報量を超えたときに情報を高速アクセスポイントから携帯端末に送信し、携帯端末は高速無線用信号を受信し、携帯端末が送信しようとする情報がある情報量を超えたときには、情報を高速無線用通信信号に変換してデータベースサーバに送信するので、情報量により高速無線と省電力無線を使い分けることができるため、常時高速無線で通信を行う場合に比べ、携帯端末の使用時間を長くすることができる。
また、請求項２に記載の発明によると、携帯端末は省電力無線通信信号を受信して、それが自端末宛のものでないときは、その通信信号を他の携帯端末に送信するので、数珠繋ぎで信号の送信が行え、伝送距離が短い通信方法を採用したときでも、アクセスポイントの設置台数を少なくすることができる。
また、請求項１および請求項３に記載の発明によると、データベースサーバは高速無線用通信信号を送信する旨を省電力無線信号に変換して携帯端末に向けて送信し、携帯端末は省電力無線アンテナから高速無線用通信信号を送信する旨の信号を受信したとき高速無線アンテナの電源を投入させ、高速無線通信が終了したとき、高速無線アンテナの電源を遮断するので、携帯端末の使用時間を長くすることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月8日(2008.12.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理モジュールに基板の処理を実行させるコントローラであって、その操作画面に画面の切替を行う機能を有する切替ボタンと、前記処理モジュールの状態を変更する機能を有するコマンドボタンとが表示されるコントローラを備えている基板処理装置であって、
前記操作画面は、前記切替ボタンによって表示内容が切り替わる第一表示部と、前記切替ボタンを押下しても表示内容が変わらずに常に同じ内容が表示される第二表示部とを備えており、
前記第二表示部には前記コマンドボタンが表示され、
前記コマンドボタンは作業者毎に操作可否が設定可能に構成されていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
権限のない前記作業者が前記コマンドボタンを押下した場合、エラーメッセージを画面上に表示する請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】
権限のない前記作業者がログインした場合、前記コマンドボタンを画面上に表示しない請求項１記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記第二表示部には、更にシステムボタンが表示され、該システムボタンは、前記作業者毎に操作可否が設定可能に構成されていることを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月19日(2009.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板の上方に形成された第1の半導体層と、
前記半導体基板の第1の領域と前記第1の半導体層との間に形成された第２の半導体層と、
前記半導体基板の第２の領域と前記第1の半導体層との間に形成された第１の絶縁層と、を備え、
前記第２の半導体層は、前記第１の半導体層よりもエッチングレートが大きく、
前記第２の領域上の前記第１の半導体層は開口部を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
前記開口部には、第２の絶縁層が形成され、
前記第１の絶縁層と前記第２の絶縁層は接してしていること、
を特徴とする、請求項１記載の半導体装置。
【請求項３】
前記第１の領域上の前記第１の半導体層と前記第２の領域の前記第１の半導体層とは、前記半導体基板に達するように形成された選択酸化膜により分離されていることを特徴とする請求項１または２のいずれか一項に記載の半導体装置。
【請求項４】
前記第１の半導体層は、エピタキシャル成長にて形成されたことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の半導体装置。
【請求項５】
第１半導体層を半導体基板上に形成する第１の工程と、
第２半導体層を前記第１半導体層上に形成する第２の工程と、
前記半導体基板の第１の領域上の前記第１半導体層および前記第２半導体層を囲むように、前記半導体基板に達する支持体を形成する第３の工程と、
前記支持体に囲まれた前記第２半導体層の一部を開口し、前記第１半導体層の一部を露出させる露出部を形成する第４の工程と、
前記露出部を介して前記支持体に囲まれた領域の前記第１半導体層を選択的にエッチングし空洞部を形成する第５の工程と、
前記空洞部と前記開口部に絶縁層を形成する第６の工程と、
前記支持体に囲まれた前記第２半導体層にトランジスタを形成する第７の工程と、
を備えることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項６】
前記第３の工程は、
前記第１領域上の前記第２半導体層上に酸化防止膜を形成する第８の工程と、
前記酸化防止膜をマスクとして、前記第１半導体層および前記第２半導体層を熱酸化することにより前記支持体を形成する第９の工程と、
を含むことを特徴とする請求項５記載の半導体装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上述した課題を解決するために、本発明の一態様に係る半導体装置によれば、半導体基板の上方に形成された第1の半導体層と、前記半導体基板の第１の領域と前記第1の半導体層との間に形成された第２の半導体層と、前記半導体基板の第２の領域と前記第1の半導体層との間に形成された第１の絶縁層と、を備え、前記第２の半導体層は前記第１の半導体層よりもエッチングレートが大きく、前記第２の領域上の前記第１の半導体層は開口部を有することを特徴とする。
上記の本発明の一態様に係る半導体装置は、前記開口部に第２の絶縁層が形成され、前記第１の絶縁層と前記第２の絶縁層は連続していること、が好ましい。
また、上記の本発明の一態様に係る半導体装置は、前記第１の領域上の前記第１の半導体層と前記第２の領域の前記第１の半導体層とは、前記半導体基板に達するように形成された選択酸化膜により分離されていることが好ましい。
また、上記の本発明の一態様に係る半導体装置は、前記第１の半導体層は、エピタキシャル成長にて形成されることが好ましい。
上述した課題を解決するために、本発明の一態様に係る半導体装置によれば、半導体基板上にエピタキシャル成長にて形成された第１半導体層と、前記第１半導体層下の第１の領域に配置され、前記第１半導体層よりもエッチングレートが大きな第２半導体層と、前記第１半導体層下の第２の領域に埋め込まれた埋め込み絶縁層とを備えることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、本発明の一態様に係る半導体装置の製造方法によれば、第１半導体層を半導体基板上に形成する第１の工程と、第２半導体層を前記第１半導体層上に形成する第２の工程と、前記半導体基板の第１の領域上の前記第１半導体層および前記第２半導体層を囲むように、前記半導体基板に達する支持体を形成する第３の工程と、前記支持体に囲まれた前記第２半導体層の一部を開口し、前記第１半導体層の一部を露出させる露出部を形成する第４の工程と、前記露出部を介して前記支持体に囲まれた領域の前記第１半導体層を選択的にエッチングし空洞部を形成する第５の工程と、前記空洞部と前記開口部に絶縁層を形成する第６の工程と、前記支持体に囲まれた前記第２半導体層にトランジスタを形成する第７の工程と、を備えることを特徴とする。
上記の本発明の一態様に係る半導体装置の製造方法によれば、前記第３の工程は、前記第１領域上の前記第２半導体層上に酸化防止膜を形成する第８の工程と、前記酸化防止膜をマスクとして、前記第１半導体層および前記第２半導体層を熱酸化することにより前記支持体を形成する第９の工程と、を含むことが好ましい。
また、本発明の一態様に係る半導体装置の製造方法によれば、第１半導体層を半導体基板上に形成する工程と、前記第１半導体層よりもエッチングレートが小さな第２半導体層を前記第１半導体層上に形成する工程と、前記第２半導体層の第１領域を前記半導体基板上で支持する支持体を形成する工程と、前記第１領域下の第１半導体層の一部を前記第２半導体層から露出させる露出部を形成する工程と、前記露出部を介して前記第１領域下の第１半導体層を選択的にエッチングすることにより、前記第１半導体層が除去された空洞部を前記半導体基板と前記第２半導体層との間に形成する工程と、前記空洞部内に埋め込まれた埋め込み絶縁層を形成する工程と、前記埋め込み絶縁層が埋め込まれた前記第２半導体層の第１領域に第１トランジスタを形成する工程と、前記第１半導体層上に配置された第２半導体層の第２領域に第２トランジスタを形成する工程とを備えることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月17日(2008.11.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の配線層と、
第２の配線層とを備え、
前記第１の配線層および前記第２の配線層の各々は、第１の配線と、前記第１の配線が活性化されていないときに活性化される第２の配線とを含み、
前記第１の配線層および前記第２の配線層の各々において前記第１の配線および前記第２の配線が交互に配置され、
前記第１の配線層および前記第２の配線層の積層方向において、前記第１の配線層に前記第１の配線が配置される場合には前記第２の配線層に前記第２の配線が配置され、前記第１の配線層に前記第２の配線が配置される場合には前記第２の配線層に前記第１の配線が配置される半導体装置。
【請求項２】
前記第１の配線層および前記第２の配線層の少なくともいずれか一方は、前記第１の配線および前記第２の配線間に配置されるシールド配線を含む請求項１記載の半導体装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記課題を解決するために、この発明のある局面に係わる半導体装置は、第１の配線層と、第２の配線層とを備え、第１の配線層および第２の配線層の各々は、第１の配線と、第１の配線が活性化されていないときに活性化される第２の配線とを含み、第１の配線層および第２の配線層の各々において第１の配線および第２の配線が交互に配置され、第１の配線層および第２の配線層の積層方向において、第１の配線層に第１の配線が配置される場合には第２の配線層に第２の配線が配置され、第１の配線層に第２の配線が配置される場合には第２の配線層に第１の配線が配置される。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月9日(2009.1.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板上にゲート絶縁膜を介してゲート電極を配置する工程と、
パターニングされたレジストから露出する半導体基板に第１の濃度で不純物を注入し第一領域を配置する第一領域配置工程と、
前記ゲート電極上に絶縁膜を形成する工程と、
前記絶縁膜を前記第一領域の全体を覆う部分に残し第一の膜とする第一膜配置工程と、
前記絶縁膜により前記ゲート電極の側面にサイドウォールを形成する工程と、
前記第一領域配置工程および前記第一膜配置工程よりも後において、前記半導体基板に前記第１の濃度より高濃度で不純物を選択的に注入し第二領域を配置する第二領域配置工程と、
を備える半導体装置の製造方法。
【請求項２】
請求項１記載の半導体装置の製造方法であって、
前記第一領域は、半導体基板に１×１０17ｃｍ-3以下の濃度で不純物を注入して形成され、
前記第二領域は、半導体基板に１×１０18ｃｍ-3以上の濃度で不純物を注入して形成される、
半導体装置の製造方法。
【請求項３】
請求項１記載の半導体装置の製造方法であって、
前記第一領域配置工程においては、所定のマスクを用いてレジストがパターニングされ、
前記第一膜配置工程においては、前記所定のマスクを用いて前記レジストとはポジ−ネガ型が逆であるレジストがパターニングされる、
半導体装置の製造方法。
【請求項４】
請求項２あるいは請求項３記載の半導体装置の製造方法であって、
前記第一の膜から露出する前記基板にシリサイド材料を注入する工程
をさらに備える半導体装置の製造方法。
【請求項５】
請求項２ないし請求項４のうち、いずれか１項に記載の半導体装置の製造方法であって、
前記第二領域配置工程においては、前記不純物としてリンが注入される、
半導体装置の製造方法。
【請求項６】
請求項５記載の半導体装置の製造方法であって、
前記第一領域は、高耐圧型電界効果トランジスタのオフセット領域または拡散抵抗領域の少なくとも一方を含む、
半導体装置の製造方法。
【請求項７】
半導体基板上に選択的に形成され１×１０17ｃｍ-3以下の低い不純物濃度を有する第一領域と、
前記半導体基板上に選択的に形成され１×１０18ｃｍ-3以上の高い不純物濃度を有し表面高さが前記第一領域より低く位置するソースドレイン領域と、
を備える半導体装置。
【請求項８】
請求項７記載の半導体装置であって、
前記ソースドレイン領域に近接して配置されたゲート電極の直下の領域は表面高さが前記第一領域に等しい、
半導体装置。
【請求項９】
請求項７あるいは請求項８記載の半導体装置であって、
前記第一領域は、高耐圧型電界効果トランジスタのオフセット領域または拡散抵抗領域の少なくとも一方を含む半導体装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明に係る半導体装置の製造方法は、半導体基板上にゲート絶縁膜を介してゲート電極を配置する工程と、パターニングされたレジストから露出する半導体基板に第１の濃度で不純物を注入し第一領域を配置する第一領域配置工程と、前記ゲート電極上に絶縁膜を形成する工程と、前記絶縁膜を前記第一領域の全体を覆う部分に残し第一の膜とする第一膜配置工程と、前記絶縁膜により前記ゲート電極の側面にサイドウォールを形成する工程と、前記第一領域配置工程および前記第一膜配置工程よりも後において、前記半導体基板に前記第１の濃度より高濃度で不純物を選択的に注入し第二領域を配置する第二領域配置工程と、を備える。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明に係る半導体装置の製造方法は、パターニングされたレジストから露出する半導体基板に第１の濃度で不純物を注入し第一領域を配置する第一領域配置工程と、絶縁膜を第一領域の全体を覆う部分に残し第一の膜とする第一膜配置工程と、第一領域配置工程および第一膜配置工程よりも後において、半導体基板に第１の濃度より高濃度で不純物を選択的に注入し第二領域を配置する第二領域配置工程とを備える。従って、第一領域を第二領域の形成時に第１の濃度より高濃度で注入された不純物のコンタミネーションから保護することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月19日(2009.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
連続する複数の周波数サブキャリアにて形成された周波数ブロックによってシステム帯域が複数に分割されており、下りリンクのチャネルに割り当てるべき周波数ブロックを選択する周波数スケジューリング部と、
前記周波数スケジューリング部において選択した周波数ブロックへ下りリンクのチャネルのデータをマッピングするマッピング部と
を備え、
前記周波数スケジューリング部は、時間の経過に応じて、システム帯域内に分散して配置されるように周波数ブロックを順次選択することを特徴とする送信装置。
【請求項２】
連続する複数の周波数サブキャリアにて形成された周波数ブロックによってシステム帯域が複数に分割されており、下りリンクのチャネルに割り当てるべき周波数ブロックを選択する周波数スケジューリング部と、
前記周波数スケジューリング部において選択した周波数ブロックへ下りリンクのチャネルのデータをマッピングするマッピング部と
を備え、
前記周波数スケジューリング部は、時間の経過に応じて、システム帯域内に分散して配置されるように周波数ブロックを順次選択するＤｉｓｔｒｉｂｕｔｅｄ型送信と、一定の周波数ブロックを選択するＬｏｃａｌｉｚｅｄ型送信とが規定されており、一方を使用することを特徴とする送信装置。
【請求項３】
前記周波数スケジューリング部は、Ｌｏｃａｌｉｚｅｄ型送信による周波数ブロックの選択とＤｉｓｔｒｉｂｕｔｅｄ型送信による周波数ブロックの選択とを所定の時間で切り替えることを特徴とする請求項２に記載の送信装置。
【請求項４】
前記周波数スケジューリング部は、Ｌｏｃａｌｉｚｅｄ型送信のために選択すべき周波数ブロックとは別の周波数ブロックをＤｉｓｔｒｉｂｕｔｅｄ型送信のために選択することを特徴とする請求項２に記載の送信装置。
【請求項５】
前記周波数スケジューリング部は、システム帯域に周波数ブロックが分散して配置されるためのパターンにしたがって周波数ブロックを順次選択することを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項に記載の送信装置。
【請求項６】
連続する複数の周波数サブキャリアにて形成された周波数ブロックによってシステム帯域が複数に分割されており、下りリンクのチャネルに割り当てるべき周波数ブロックを選択するステップと、
選択した周波数ブロックへ下りリンクのチャネルのデータをマッピングするステップと
を備え、
前記選択するステップは、時間の経過に応じて、システム帯域内に分散して配置されるように周波数ブロックを順次選択することを特徴とする送信方法。
【請求項７】
連続する複数の周波数サブキャリアにて形成された周波数ブロックによってシステム帯域が複数に分割されており、下りリンクのチャネルに割り当てるべき周波数ブロックを選択するステップと、
選択した周波数ブロックへ下りリンクのチャネルのデータをマッピングするステップと
を備え、
前記選択するステップは、時間の経過に応じて、システム帯域内に分散して配置されるように周波数ブロックを順次選択するＤｉｓｔｒｉｂｕｔｅｄ型送信と、一定の周波数ブロックを選択するＬｏｃａｌｉｚｅｄ型送信とが規定されており、一方を使用することを特徴とする送信方法。
【請求項８】
前記選択するステップは、Ｌｏｃａｌｉｚｅｄ型送信による周波数ブロックの選択とＤｉｓｔｒｉｂｕｔｅｄ型送信による周波数ブロックの選択とを所定の時間で切り替えることを特徴とする請求項７に記載の送信方法。
【請求項９】
前記選択するステップは、Ｌｏｃａｌｉｚｅｄ型送信のために選択すべき周波数ブロックとは別の周波数ブロックをＤｉｓｔｒｉｂｕｔｅｄ型送信のために選択することを特徴とする請求項７に記載の送信方法。
【請求項１０】
前記選択するステップは、システム帯域に周波数ブロックが分散して配置されるためのパターンにしたがって周波数ブロックを順次選択することを特徴とする請求項６ないし９のいずれか１項に記載の送信方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記課題を解決するため、本送信装置は、
連続する複数の周波数サブキャリアにて形成された周波数ブロックによってシステム帯域が複数に分割されており、下りリンクのチャネルに割り当てるべき周波数ブロックを選択する周波数スケジューリング部と、
前記周波数スケジューリング部において選択した周波数ブロックへ下りリンクのチャネルのデータをマッピングするマッピング部と
を備え、
前記周波数スケジューリング部は、時間の経過に応じて、システム帯域内に分散して配置されるように周波数ブロックを順次選択する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本送信方法は、
連続する複数の周波数サブキャリアにて形成された周波数ブロックによってシステム帯域が複数に分割されており、下りリンクのチャネルに割り当てるべき周波数ブロックを選択するステップと、
選択した周波数ブロックへ下りリンクのチャネルのデータをマッピングするステップと
を備え、
前記選択するステップは、時間の経過に応じて、システム帯域内に分散して配置されるように周波数ブロックを順次選択する。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月19日(2009.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
周波数方向に複数のリソースブロックを配置したフレームが時間方向に繰り返し形成されており、フレーム番号を変数として使用するリソースブロックの割当パターンをもとに、リソースブロックを決定するスケジューリング部と、
前記スケジューリング部において決定したリソースブロックによりパケットを送信する送信部と、
を備えることを特徴とする無線通信装置。
【請求項２】
前記スケジューリング部は、最大再送回数までの送信に使用されるリソースブロックの割当パターンをもとにリソースブロックを決定することを特徴とする請求項１に記載の無線通信装置。
【請求項３】
前記スケジューリング部は、第ｎ回目の送信のときに使用されるリソースブロックと第ｎ＋１回目の送信のときに使用されるリソースブロックとの割当パターンをもとにリソースブロックを決定することを特徴とする請求項１に記載の無線通信装置。
【請求項４】
前記スケジューリング部は、フレーム番号に応じた値を周波数方向のリソースブロック数で除算した場合の剰余をもとにリソースブロックを決定することを特徴とする請求項１ に記載の無線通信装置。
【請求項５】
前記スケジューリング部は、一意的に決定された割当パターンを予め格納することを特徴とする請求項１に記載の無線通信装置。
【請求項６】
前記スケジューリング部は、受信した報知チャネルをもとに、リソースブロックを決定することを特徴とする請求項１に記載の無線通信装置。
【請求項７】
前記フレーム番号は、報知チャネルに含まれていることを特徴とする請求項６に記載の無線通信装置。
【請求項８】
前記スケジューリング部は、受信した共有データチャネルをもとに、リソースブロックを決定することを特徴とする請求項１に記載の無線通信装置。
【請求項９】
前記スケジューリング部は、再送パケットに対しても、初回送信パケットと同様に、フレーム番号を変数として使用するリソースブロックの割当パターンを使用することを特徴とする請求項１から８のいずれかに記載の無線通信装置。
【請求項１０】
周波数方向に複数のリソースブロックを配置したフレームが時間方向に繰り返し形成されており、フレーム番号を変数として使用するリソースブロックの割当パターンをもとに、リソースブロックを決定するステップと、
決定したリソースブロックによりパケットを送信するステップと、
を備えることを特徴とする送信方法。
【請求項１１】
前記決定するステップは、最大再送回数までの送信に使用されるリソースブロックの割当パターンをもとにリソースブロックを決定することを特徴とする請求項１０に記載の送信方法。
【請求項１２】
前記決定するステップは、第ｎ回目の送信のときに使用されるリソースブロックと第ｎ＋１回目の送信のときに使用されるリソースブロックとの割当パターンをもとにリソースブロックを決定することを特徴とする請求項１０に記載の送信方法。
【請求項１３】
前記決定するステップは、フレーム番号に応じた値を周波数方向のリソースブロック数で除算した場合の剰余をもとにリソースブロックを決定することを特徴とする請求項１０に記載の送信方法。
【請求項１４】
前記決定するステップは、一意的に決定された割当パターンを予め格納することを特徴とする請求項１０に記載の送信方法。
【請求項１５】
前記決定するステップは、受信した報知チャネルをもとに、リソースブロックを決定することを特徴とする請求項１０に記載の送信方法。
【請求項１６】
前記フレーム番号は、報知チャネルに含まれていることを特徴とする請求項１５に記載の送信方法。
【請求項１７】
前記決定するステップは、受信した共有データチャネルをもとに、リソースブロックを決定することを特徴とする請求項１０に記載の送信方法。
【請求項１８】
前記決定するステップは、再送パケットに対しても、初回送信パケットと同様に、フレーム番号を変数として使用するリソースブロックの割当パターンを使用することを特徴とする請求項１０から１７のいずれかに記載の送信方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】無線通信装置及び送信方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の前記の目的を解決するため、無線通信装置は、
周波数方向に複数のリソースブロックを配置したフレームが時間方向に繰り返し形成されており、フレーム番号を変数として使用するリソースブロックの割当パターンをもとに、リソースブロックを決定するスケジューリング部と、
前記スケジューリング部において決定したリソースブロックによりパケットを送信する送信部と、
を備えることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、本発明の前記の目的を解決するため、送信方法は、
周波数方向に複数のリソースブロックを配置したフレームが時間方向に繰り返し形成されており、フレーム番号を変数として使用するリソースブロックの割当パターンをもとに、リソースブロックを決定するステップと、
決定したリソースブロックによりパケットを送信するステップと、
を備えることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月30日(2009.10.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パイロットチャネルを生成する生成部と、
前記生成部において生成したパイロットチャネルを、所定の帯域の中で一定間隔に並んだ複数の周波数成分へマッピングするマッピング部と、
前記マッピング部においてマッピングしたパイロットチャネルが含まれた送信信号を送信する送信部とを備え、
前記マッピング部は、前記送信部から送信すべき送信信号に含まれるパイロットチャネルと、別の移動局の送信信号に含まれるパイロットチャネルとが周波数軸上で直交するように、前記パイロットチャネルを前記複数の周波数成分へマッピングすることを特徴とする移動局。
【請求項２】
前記生成部は、カザック符号より成るパイロットチャネルを生成することを特徴とする請求項１に記載の移動局。
【請求項３】
前記生成部は、パイロットチャネルに使用されるカザック符号を循環的に所定長だけシフトさせることを特徴とする請求項１または２に記載の移動局。
【請求項４】
前記生成部は、移動局ごとに異なったシフト量を使用することを特徴とする請求項３に記載の移動局。
【請求項５】
前記生成部は、パイロットチャネルに使用されるカザック符号の末尾を含む所定長の一連の部分を前記カザック符号の先頭に付加することを特徴とする請求項３または４に記載の移動局。
【請求項６】
前記生成部は、パイロットチャネルに使用されるカザック符号の先頭を含む所定長の一連の部分を前記カザック符号の末尾に付加することを特徴とする請求項３または４に記載の移動局。
【請求項７】
データチャネルを符号拡散する拡散部をさらに備え、
前記マッピング部は、前記拡散部において符号拡散したデータチャネルを、所定の帯域の中で一定間隔に並んだ複数の周波数成分へマッピングし、
前記送信部は、前記マッピング部においてマッピングしたデータチャネルも含まれた送信信号を送信することを特徴とする請求項１から６のいずれかに記載の移動局。
【請求項８】
パイロットチャネルを生成するステップと、
生成したパイロットチャネルを、所定の帯域の中で一定間隔に並んだ複数の周波数成分へマッピングするステップと、
マッピングしたパイロットチャネルが含まれた送信信号を送信するステップとを備え、
前記マッピングするステップは、前記送信するステップにておいて送信すべき送信信号に含まれるパイロットチャネルと、別の移動局の送信信号に含まれるパイロットチャネルとが周波数軸上で直交するように、前記パイロットチャネルを前記複数の周波数成分へマッピングすることを特徴とする送信方法。
【請求項９】
前記生成するステップは、カザック符号より成るパイロットチャネルを生成することを特徴とする請求項８に記載の送信方法。
【請求項１０】
前記生成するステップは、パイロットチャネルに使用されるカザック符号を循環的に所定長だけシフトさせることを特徴とする請求項８または９に記載の送信方法。
【請求項１１】
前記生成するステップは、移動局ごとに異なったシフト量を使用することを特徴とする請求項１０に記載の送信方法。
【請求項１２】
前記生成するステップは、パイロットチャネルに使用されるカザック符号の末尾を含む所定長の一連の部分を前記カザック符号の先頭に付加することを特徴とする請求項１０または１１に記載の送信方法。
【請求項１３】
前記生成するステップは、パイロットチャネルに使用されるカザック符号の先頭を含む所定長の一連の部分を前記カザック符号の末尾に付加することを特徴とする請求項１０または１１に記載の送信方法。
【請求項１４】
データチャネルを符号拡散するステップをさらに備え、
前記マッピングするステップは、前記符号拡散するステップにおいて符号拡散したデータチャネルを、所定の帯域の中で一定間隔に並んだ複数の周波数成分へマッピングし、
前記送信するステップは、前記マッピングするステップにおいてマッピングしたデータチャネルも含まれた送信信号を送信することを特徴とする請求項８から１３のいずれかに記載の送信方法。
【請求項１５】
所定の帯域の中で一定間隔に並んだ複数の周波数成分へパイロットチャネルをマッピングし、マッピングしたパイロットチャネルが含まれた送信信号を送信する移動局と、
前記移動局からの送信信号を受信する基地局とを備え、
前記移動局は、本移動局から送信すべき送信信号に含まれるパイロットチャネルと、別の移動局の送信信号に含まれるパイロットチャネルとが周波数軸上で直交するように、前記パイロットチャネルを前記複数の周波数成分へマッピングすることを特徴とする通信システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】移動局、通信システム及び送信方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
一実施例では、所定の帯域の中で一定間隔に並んだ複数の周波数成分へパイロットチャネルをマッピングし、マッピングしたパイロットチャネルが含まれた送信信号を送信する移動局と、前記移動局からの送信信号を受信する基地局とを備える基地局が使用される。前記移動局は、本移動局から送信すべき送信信号に含まれるパイロットチャネルと、別の移動局の送信信号に含まれるパイロットチャネルとが周波数軸上で直交するように、前記パイロットチャネルを前記複数の周波数成分へマッピングする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月16日(2008.12.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
宛先情報に基づいて原稿画像の宛先を取得する宛先取得手段と、原稿画像に対する宛先の入力を受け入れる宛先入力手段と、この宛先入力手段が受け入れた宛先と前記宛先取得手段が取得した宛先とが一致するか否かを判定する一致判定手段と、この一致判定手段の判定結果に応じて原稿画像を送信する送信手段とを有する画像送信装置。
【請求項２】
符号化された宛先情報を付された原稿画像を読み取る画像読取手段と、この画像読取手段が読み取った原稿画像に付された宛先情報を復号化する宛先情報復号化手段と、原稿画像に対する宛先情報の入力を受け入れる宛先情報入力手段と、この宛先情報入力手段が受け入れた宛先情報と前記宛先情報復号化手段が復号化した宛先情報とが一致するか否かを判定する一致判定手段と、この一致判定手段の判定結果に応じて原稿画像を送信する送信手段とを有する画像送信装置。
【請求項３】
前記宛先情報入力手段が受け入れた宛先情報と前記宛先情報復号化手段が復号化した宛先情報とが一致しないと前記一致判定手段が判定した場合に、前記宛先情報復号化手段が復号化した宛先情報を出力する宛先情報出力手段をさらに有する請求項２記載の画像送信装置。
【請求項４】
前記宛先情報入力手段が受け入れた宛先情報と前記宛先情報復号化手段が復号化した宛先情報とが一致しないと前記一致判定手段が判定した場合に、前記宛先情報入力手段に対する宛先情報の再入力を要求する再入力要求手段と、この再入力要求手段が再入力を要求する前後に前記宛先情報入力手段が受け入れた宛先情報が互いに一致する場合に、前記宛先情報入力手段が受け入れた宛先情報に応じて原稿画像を送信するように前記送信手段を制御する制御手段とをさらに有する請求項２又は３記載の画像送信装置。
【請求項５】
前記宛先情報入力手段が受け入れた宛先情報と前記宛先情報復号化手段が復号化した宛先情報とが一致しないと前記一致判定手段が判定した場合に、前記宛先情報入力手段に対する宛先情報の再入力を要求する再入力要求手段と、この再入力要求手段が再入力を要求した後に前記宛先情報入力手段が受け入れた宛先情報が、前記宛先情報復号化手段が復号化した宛先情報に一致するまで、前記再入力要求手段が再入力を要求するよう制御する制御手段とをさらに有する請求項２又は３記載の画像送信装置。
【請求項６】
前記宛先情報入力手段が受け入れた宛先情報と前記宛先情報復号化手段が復号化した宛先情報とが一致しないと前記一致判定手段が判定した場合に、前記宛先情報入力手段に対する宛先情報の再入力を要求する再入力要求手段と、この再入力要求手段が再入力を要求した後に前記宛先情報入力手段が受け入れた宛先情報に応じて原稿画像を送信するように前記送信手段を制御する制御手段とをさらに有する請求項２又は３記載の画像送信装置。
【請求項７】
前記宛先情報復号化手段が宛先情報の復号化を正常に実施できたか否かを判定する復号化判定手段と、前記宛先情報復号化手段が宛先情報の復号化を正常に実施できなかったと前記復号化判定手段が判定した場合、前記宛先情報入力手段が受け入れた宛先情報を表示する表示手段と、この表示手段が表示した宛先情報に基づいて原稿画像を送信すべきか否かを前記送信手段に対して指示する入力を受け入れる送信指示入力手段とをさらに有する請求項２又は３記載の画像送信装置。
【請求項８】
前記宛先情報復号化手段が宛先情報の復号化を正常に実施できたか否かを判定する復号化判定手段と、前記宛先情報復号化手段が宛先情報の復号化を正常に実施できなかったと前記復号化判定手段が判定した場合に、前記宛先情報入力手段に対する宛先情報の再入力を要求する再入力要求手段と、この再入力要求手段が再入力を要求する前後に前記宛先情報入力手段が受け入れた宛先情報が互いに一致する場合に、前記宛先情報入力手段が受け入れた宛先情報に応じて原稿画像を送信するように前記送信手段を制御する制御手段とをさらに有する請求項２又は３記載の画像送信装置。
【請求項９】
原稿画像に付された宛先情報は、宛先を示すファックス番号である請求項２乃至８いずれか記載の画像送信装置。
【請求項１０】
原稿画像に付された宛先情報は、宛先を示すメールアドレスである請求項２乃至８いずれか記載の画像送信装置。
【請求項１１】
原稿画像に付された宛先情報は、送信元情報を含むものである請求項９又は１０記載の画像送信装置。
【請求項１２】
原稿画像に付された宛先情報は、二次元コードである請求項２乃至１１いずれか記載の画像送信装置。
【請求項１３】
原稿画像に付された宛先情報は、一次元コードである請求項２乃至１１いずれか記載の画像送信装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記目的を達成するため、本発明の第１の特徴とするところは、宛先情報に基づいて原稿画像の宛先を取得する宛先取得手段と、原稿画像に対する宛先の入力を受け入れる宛先入力手段と、この宛先入力手段が受け入れた宛先と前記宛先取得手段が取得した宛先とが一致するか否かを判定する一致判定手段と、この一致判定手段の判定結果に応じて原稿画像を送信する送信手段とを有する画像送信装置にある。即ち、一致判定手段が宛先情報に基づく宛先と入力された宛先とを照合するので、宛先の入力ミスによる誤送信を容易に防止することができる。したがって、ユーザが原稿上の間違ったファックス番号を見ながら宛先を入力することによって、間違ったファックス番号を入力しても、誤送信を防止することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月15日(2009.1.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光素子を有する画素部と、前記画素部を囲む部分に、シール材が形成されたシール領域とを有する第１の基板、および前記第１の基板に前記シール材により固定された第２の基板を有し、
前記第１の基板は、第１の絶縁膜と、前記第１の絶縁膜上の導電膜と、前記導電膜上の有機樹脂でなる第２の絶縁膜を有し、
前記シール領域は前記第２の絶縁膜が除去されており、
前記第２の絶縁膜の前記シール材と隣接している端部は、前記導電膜の側面と上面がつくる段差であって、且つ前記第２の絶縁膜の前記シール材と隣接している端部と平行な方向の段差と重ならないことを特徴とする発光装置。
【請求項２】
請求項１に記載の有機樹脂は、アクリル、ポリイミドポリアミド、またはポリイミドアミドであることを特徴とする発光装置。
【請求項３】
発光素子を有する画素部と、前記画素部を囲む部分に、シール材が形成されたシール領域とを有する第１の基板、および前記第１の基板に前記シール材により固定された第２の基板を有し、
前記第１の基板には、第１の絶縁膜と、前記第１の絶縁膜上の導電膜と、前記導電膜上の無機材料でなる第２の絶縁膜と、前記第２の絶縁膜上の有機樹脂でなる第３の絶縁膜が形成され、
前記シール領域は前記第３の絶縁膜が除去されており、
前記第２の絶縁膜は、前記第３の絶縁膜が前記導電膜と接しないように設けられていることを特徴とする発光装置。
【請求項４】
請求項３において、前記第２の絶縁膜は、酸化珪素膜、窒化珪素膜、酸化窒化珪素膜から選ばれた１つの膜、または複数の膜を積層した膜であることを特徴とする発光装置。
【請求項５】
請求項３または請求項４において、有機樹脂は、アクリル、ポリイミド、ポリアミド、またはポリイミドアミドであることを特徴とする発光装置。
【請求項６】
発光素子を有する画素部と、前記画素部を囲む部分に、シール材が形成されたシール領域とを有する第１の基板、および前記第１の基板に前記シール材により固定された第２の基板を有し、
前記第１の基板は、第１の絶縁膜と、前記第１の絶縁膜上の導電膜と、前記導電膜上の無機材料でなる第２の絶縁膜を有し、
前記シール領域は前記第２の絶縁膜が除去されていることを特徴とする発光装置。
【請求項７】
請求項６において、前記第２の絶縁膜は、酸化珪素膜、窒化珪素膜、酸化窒化珪素膜から選ばれた１つの膜、または複数の膜を積層した膜からなることを特徴とする発光装置。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか１項において、前記導電膜は、アルミニウム、チタン、モリブデン、タングステン、またはそれら金属の化合物から選ばれた材料でなる膜、またこれらの膜を複数積層した膜であることを特徴とする発光装置。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか１項において、前記第１の絶縁膜は、酸化珪素膜、窒化珪素膜、酸化窒化珪素膜から選ばれた１つの膜、または複数の膜を積層した膜からなることを特徴とする発光装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月9日(2009.9.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転可能な像担持体と、
前記像担持体に接触可能に設けられ、前記像担持体を帯電する帯電回転体と、
前記帯電回転体によって帯電された前記像担持体上に形成される静電潜像を、トナー画像として現像する現像器と、
前記帯電回転体が前記像担持体を帯電する前に、前記像担持体の電位を変化させる電位変化手段と、を備え、
前記像担持体上に担持されているトナー画像が転写材に転写され、その後、前記転写材に転写されずに前記像担持体上に残留する残留トナーを前記帯電回転体上に蓄積させ、さらに前記帯電回転体から前記像担持体上における非画像形成領域に移動させた後に前記現像器において前記残留トナーを回収する画像形成装置において、
前記帯電回転体は、前記像担持体と前記帯電回転体との接触部において、前記像担持体の回転方向とは逆方向に回転するものであり、
前記電位変化手段は、前記像担持体の所定領域において、前記所定領域に対して前記像担持体の回転方向下流側の領域よりも、前記像担持体の電位と前記帯電回転体の電位との電位差が小さくなるように、前記像担持体の電位を変化させるものであり、
前記所定領域は、前記像担持体の回転方向において前記像担持体の非画像形成領域となる領域の先端から前記帯電回転体の１回転分に対応する位置よりも、前記像担持体の回転方向上流側の領域にある
ことを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記所定領域は、前記像担持体の回転方向において前記像担持体の非画像形成領域となる領域の後端から前記帯電回転体の１回転分に対応する位置よりも、前記像担持体の回転方向下流側の領域にある
ことを特徴とする請求項１記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記所定領域において、前記帯電回転体から前記像担持体へ前記残留トナーが移動させられる
ことを特徴とする請求項１または２記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記像担持体の前記所定領域が前記像担持体と前記帯電回転体との前記接触部に到達し
たとき、前記接触部の前記像担持体回転方向上流側に溜まっていた前記残留トナーが前記帯電回転体へ移動させられる
ことを特徴とする請求項３記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記像担持体は感光体であり、
前記電位変化手段は、前記像担持体の回転方向において、前記像担持体から転写材へトナー画像が転写される転写位置よりも下流側であって前記像担持体と前記帯電回転体との前記接触部よりも上流側で、前記像担持体を露光する前露光手段を備える
ことを特徴とする請求項１〜４のうちいずれか１項記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記前露光手段は、前記所定領域において、前記所定領域に対して前記像担持体の回転方向下流側の領域よりも、露光量を小さくする
ことを特徴とする請求項５記載の画像形成装置。
【請求項７】
前記前露光手段は、前記像担持体の前記所定領域に対して前記像担持体の回転方向下流側の領域において、露光を行ない、前記所定領域において、露光を停止する
ことを特徴とする請求項５記載の画像形成装置。
【請求項８】
前記所定領域が前記像担持体と前記帯電回転体との前記接触部にあるとき、前記帯電回転体には、帯電時とは異なる電圧が印加される
ことを特徴とする請求項１〜７のうちいずれか１項記載の画像形成装置。
【請求項９】
前記所定領域が前記像担持体と前記帯電回転体との前記接触部にあるとき、前記帯電回転体には、ＡＣ電圧が印加される
ことを特徴とする請求項１〜８のうちいずれか１項記載の画像形成装置。
【請求項１０】
前記帯電回転体は、帯電ローラである
ことを特徴とする請求項１〜９のうちいずれか１項記載の画像形成装置。
【請求項１１】
前記像担持体と前記帯電回転体との接触部に導電粒子が設けられる
ことを特徴とする請求項１〜１０のうちいずれか１項記載の画像形成装置。
【請求項１２】
前記接触部に設けられる前記導電粒子の量は、１０３個／ｍｍ２以上５×１０５個／ｍｍ２以下である
ことを特徴とする請求項１１記載の画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
回転可能な像担持体と、
前記像担持体に接触可能に設けられ、前記像担持体を帯電する帯電回転体と、
前記帯電回転体によって帯電された前記像担持体上に形成される静電潜像を、トナー画像として現像する現像器と、
前記帯電回転体が前記像担持体を帯電する前に、前記像担持体の電位を変化させる電位変化手段と、を備え、
前記像担持体上に担持されているトナー画像が転写材に転写され、その後、前記転写材に転写されずに前記像担持体上に残留する残留トナーを前記帯電回転体上に蓄積させ、さ
らに前記帯電回転体から前記像担持体上における非画像形成領域に移動させた後に前記現像器において前記残留トナーを回収する画像形成装置において、
前記帯電回転体は、前記像担持体と前記帯電回転体との接触部において、前記像担持体の回転方向とは逆方向に回転するものであり、
前記電位変化手段は、前記像担持体の所定領域において、前記所定領域に対して前記像担持体の回転方向下流側の領域よりも、前記像担持体の電位と前記帯電回転体の電位との電位差が小さくなるように、前記像担持体の電位を変化させるものであり、
前記所定領域は、前記像担持体の回転方向において前記像担持体の非画像形成領域となる領域の先端から前記帯電回転体の１回転分に対応する位置よりも、前記像担持体の回転方向上流側の領域にある
ことを特徴とする。