【手続補正書】
【提出日】平成25年11月11日(2013.11.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ホログラフィックマスク検査システムであって、
放射ビームでマスクのターゲット部分上を照明するように構成された照明源と、
光学システムの瞳面に配置された空間フィルタであって、前記空間フィルタは、前記マスクの前記ターゲット部分から反射放射ビームの少なくとも一部を受け、前記光学システムは、前記反射放射ビームの前記一部を参照放射ビームと組み合わせて組み合わせ放射ビームを生成する、空間フィルタと、
前記組み合わせ放射ビームに対応するイメージを検出するように構成されたイメージセンサと
を含む、ホログラフィックマスク検査システム。
【請求項２】
ミラーをさらに含み、前記ミラーは、前記照明源からの前記放射ビームを前記マスクの前記ターゲット部分上に反射させるように構成されている、請求項１に記載のホログラフィックマスク検査システム。
【請求項３】
前記空間フィルタは、前記反射放射ビームに対応する前記イメージにおける１つ以上の空間周波数成分をフィルタリングするように構成されている、請求項１に記載のホログラフィックマスク検査システム。
【請求項４】
前記空間フィルタは、前記マスクの前記ターゲット部分によって生成される所定の回折パターンに基づくフィルタパターンを含む、請求項３に記載のホログラフィックマスク検査システム。
【請求項５】
前記光学システムは、
前記空間フィルタが前記反射放射ビームの前記一部を受ける前に前記反射放射ビームの前記一部を受けるように構成された対物レンズと、
前記空間フィルタからの前記反射放射ビームの前記一部を前記参照放射ビームと組み合わせて前記組み合わせ放射ビームを生成するように構成されたビームコンバイナであって、前記空間フィルタは、前記対物レンズと前記ビームコンバイナとの間に位置決めされている、ビームコンバイナと、
前記組み合わせ放射ビームを受け、かつ前記組み合わせ放射ビームを前記イメージセンサの一部上に誘導するように構成されたチューブレンズと
を含む、請求項１に記載のホログラフィックマスク検査システム。
【請求項６】
前記光学システムは、
前記照明源からの前記放射ビームを前記マスクの前記ターゲット部分上に反射させるように構成されたミラーと、
前記放射ビームを前記ミラーに向かって誘導し、かつ前記放射ビームに基づいて前記参照放射ビームを生成するように構成されたビームスプリッタと、
前記空間フィルタが前記反射放射ビームの前記一部を受ける前に前記反射放射ビームの前記一部を受けるように構成された対物レンズと、
前記空間フィルタからの前記反射放射ビームの前記一部を受けるように構成されたチューブレンズであって、前記空間フィルタは、前記対物レンズと前記チューブレンズとの間に位置決めされる、チューブレンズと、
前記チューブレンズからの前記反射放射ビームの前記一部を前記参照放射ビームと組み合わせて前記組み合わせ放射ビームを生成するように構成されたビームコンバイナと
を含む、請求項１に記載のホログラフィックマスク検査システム。
【請求項７】
前記光学システムは、
前記放射ビームおよび前記反射放射ビームの前記一部を受けるように構成された対物レンズと、
前記参照放射ビームを受けるように構成された参照ミラーと、
前記放射ビームを前記対物レンズおよび前記参照ミラーに向かって誘導し、かつ前記反射放射ビームの前記一部を前記参照ミラーからの前記参照放射ビームの反射と組み合わせて前記組み合わせ放射ビームを生成するように構成されたビームスプリッタおよびコンバイナと、
前記組み合わせ放射ビームを受けるリレーレンズと、
前記リレーレンズから前記組み合わせ放射ビームを受け、かつ前記組み合わせ放射ビームを前記イメージセンサの一部に誘導するように構成されたチューブレンズであって、前記空間フィルタは、前記リレーレンズと前記チューブレンズとの間に位置決めされている、チューブレンズと
を含む、請求項１に記載のホログラフィックマスク検査システム。
【請求項８】
前記イメージセンサは、センサアレイを有するシリコン電荷結合素子を含む、請求項１に記載のホログラフィックマスク検査システム。
【請求項９】
放射ビームでマスクのターゲット部分上を照明することと、
光学システムの瞳面に配置された空間フィルタに前記マスクの前記ターゲット部分からの反射放射ビームの少なくとも一部を通過させることと、
前記空間フィルタからの前記反射放射ビームの前記一部を参照放射ビームと組み合わせて組み合わせ放射ビームを生成することと、
前記組み合わせ放射ビームに対応するイメージを検出することと
を含む、ホログラフィックマスク検査方法。
【請求項１０】
ミラーを用いて照明源からの前記放射ビームを前記マスクの前記ターゲット部分上に反射させることをさらに含み、前記イメージを検出することは、前記マスク上の１つ以上のマスク欠陥を検出することを含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記反射放射ビームの前記少なくとも一部を通過させることは、前記反射放射ビームに対応する前記イメージ内の１つ以上の空間周波数成分をフィルタリングすることを含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
前記１つ以上の空間周波数成分をフィルタリングすることは、前記マスクの前記ターゲット部分によって生成される所定の回折パターンに基づいて１つ以上の空間周波数成分をフィルタリングすることを含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
リソグラフィシステムであって、
第１放射ビームを調整するように構成された第１照明システムと、
前記第１放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成するように構成されたパターニングデバイスを支持するように構成されたサポートと、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
前記パターン付き放射ビームを前記基板上に合焦させるように構成された投影システムと、
ホログラフィックマスク検査システムと
を含み、前記ホログラフィックマスク検査システムは、
第２放射ビームで前記パターニングデバイスのターゲット部分上を照明するように構成された第２照明源と、
光学システムの瞳面に配置された空間フィルタであって、前記空間フィルタは、前記パターニングデバイスの前記ターゲット部分から反射放射ビームの少なくとも一部を受け、前記光学システムは、前記反射放射ビームの前記一部を参照放射ビームと組み合わせて組み合わせ放射ビームを生成する、空間フィルタと、
前記組み合わせ放射ビームに対応するイメージを検出するように構成されたイメージセンサとを含む、リソグラフィシステム。
【請求項１４】
前記ホログラフィックマスク検査システムは、ミラーをさらに含み、前記ミラーは、前記第２照明源からの前記第２放射ビームを前記パターニングデバイスの前記ターゲット部分上に反射させるように構成されている、請求項１３に記載のリソグラフィシステム。
【請求項１５】
少なくとも１つの前記空間フィルタは、前記反射放射ビームに対応する前記イメージにおける１つ以上の空間周波数成分をフィルタリングするように構成されており、前記空間フィルタは、前記パターニングデバイスの前記ターゲット部分によって生成される所定の回折パターンに基づくフィルタパターンを含む、請求項１３に記載のリソグラフィシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ホログラフィックマスク検査システム、ホログラフィックマスク検査方法、及びリソグラフィシステム