【誤訳訂正書】
【提出日】平成25年11月6日(2013.11.6)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリコーン組成物であって、式：
（Ｍ１）ａ（Ｄ１）ｂ（Ｄ２）ｃ
を含有し、式中、Ｍ１＝Ｒ１Ｒ２Ｒ３ＳｉＯ１／２であり；Ｄ１＝Ｒ４Ｒ５ＳｉＯ２／２であり；Ｄ２＝Ｒ６Ｒ７ＳｉＯ２／２であり；ここで、Ｒ１が独立して各々、アミノ基以外の反応性の末端基を含有する一価の炭化水素ラジカルであり；Ｒ６が一価のポリ（オキシアルキル）炭化水素ラジカルを含有し；そして、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、およびＲ７が独立して一価の炭化水素ラジカルであり；ここで、ａ、ｂおよびｃが化学量論的な下付文字であり、ゼロもしくは正であり、以下の制限に従う：ａが２と等しいかもしくはそれより大きく；ｃが１と等しいかもしくはそれより大きく；そしてｂ＝０の時、ａ＋ｃが３と等しいかもしくはそれより大きい、シリコーン組成物。
【請求項２】
Ｒ６が
式：
【化２６】
2010522804.tif 000001
を有し、式中、Ｒ８およびＲ９が独立して２から２０個の炭素原子を有する二価の炭化水素ラジカルであり；Ｒ１０が、水素原子または１から２０個の炭素原子を有する一価の炭化水素ラジカルであり；ｄが１から１００の値を有する、請求項１に記載のシリコーン組成物。
【請求項３】
Ｒ９が、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）−、および−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−、またはそれらの組み合わせからなる群より選択される、請求項２に記載のシリコーン組成物。
【請求項４】
Ｒ１０が、Ｈ、ＣＨ３、Ｃ２Ｈ５、およびＣ４Ｈ９、またはそれらの組み合わせからなる群より選択される、請求項２に記載のシリコーン組成物。
【請求項５】
Ｒ８が式：
【化２７】
2010522804.tif 000002
を有し、式中、Ｒ１１、Ｒ１２、およびＲ１３がそれぞれ独立して、水素原子もしくは１から２０個の炭素原子を有する一価の炭化水素ラジカルであり；Ｗが１から６０個の炭素原子を有する二価の炭化水素ラジカルであり；ｅがゼロと等しいかもしくはそれより大きい、請求項２に記載のシリコーン組成物。
【請求項６】
「Ｗ」が−ＣＨ２−である、請求項５に記載のシリコーン組成物。
【請求項７】
Ｒ１１、Ｒ１２、およびＲ１３がそれぞれ水素原子であり；そしてｅが１である、請求項６に記載のシリコーン組成物。
【請求項８】
Ｒ１１およびＲ１２がそれぞれ水素原子であり、Ｒ１３がメチルであり、そしてｅが１である、請求項６に記載のシリコーン組成物。
【請求項９】
前記反応性の末端基が、ヒドロキシ基、カルボキシル基、およびエポキシ基もしくはそれらの組み合わせからなる群より選択される、請求項１に記載のシリコーン組成物。
【請求項１０】
前記反応性の末端基が、ヒドロキシ芳香族ラジカル、ヒドロキシ脂肪族ラジカル、ヒドロキシ脂環式ラジカル、カルボキシ芳香族ラジカル、カルボキシ脂肪族ラジカル、カルボキシ脂環式ラジカル、エポキシ芳香族ラジカル、エポキシ脂肪族ラジカル、エポキシ脂環式ラジカルからなる群より選択される、請求項１に記載のシリコーン組成物。
【請求項１１】
Ｒ１がそれぞれ独立してヒドロキシラジカルを含有する一価の炭化水素ラジカルを含有する、請求項１に記載のシリコーン組成物。
【請求項１２】
Ｒ１がそれぞれ独立して式：
【化２８】
2010522804.tif 000003
を有し、式中、Ａｒ１およびＡｒ２が二価の芳香族ラジカルであり、Ｗ１およびＷ２がそれぞれ独立して１から６０個の炭素原子を有する二価の炭化水素ラジカルであり、Ｒ１５、Ｒ１６、およびＲ１７がそれぞれ独立して水素原子または１から２０個の炭素原子を有する一価の炭化水素ラジカルであり、ｅ１およびｅ２がそれぞれ独立してゼロもしくはそれより大きい、請求項１１に記載のシリコーン組成物。
【請求項１３】
Ｒ１がそれぞれ独立して式：
【化２９】
2010522804.tif 000004
からなる群より選択され、式中、Ｒ１８が水素原子もしくはメチルラジカルであり、Ｒ１９がメチルラジカルもしくはトリフルオロメチルラジカルであり、そしてＲ２０が水素原子もしくはメチルラジカルである、請求項１２に記載のシリコーン組成物。
【請求項１４】
Ｒ１９が共に３から１２個の炭素原子を有するシクロアルキリデンラジカルを生成する、請求項１３に記載のシリコーン組成物。
【請求項１５】
Ｒ１が式：
【化３０】
2010522804.tif 000005
の化合物を含有し、式中、Ｒ１４が水素原子または１から２０個の炭素原子を有する一価の炭化水素ラジカルである、請求項１２に記載のシリコーン組成物。
【請求項１６】
Ｒ１がそれぞれ独立して、式：
【化３１】
2010522804.tif 000006
からなる群より選択される、請求項１５に記載のシリコーン組成物。
【請求項１７】
ａ＝１であり；ｂが２から２００の値を有し；そしてｃが１から５０の値を有する、請求項１に記載のシリコーン組成物。
【請求項１８】
ａ＝２であり；ｂが１０から７０の値を有し；そしてｄが１から１５の値を有する、請求項１に記載のシリコーン組成物。
【請求項１９】
（Ｔ）ｆ単位〔式中、Ｔ＝Ｒ２１ＳｉＯ３／２であり；ここでＲ２１が一価の炭化水素ラジカルであり；ｆが化学量論的な下付文字であり、正であり、ｂ＋ｆ＝０である時、ａ＋ｃが３と等しいかもしくはそれより大きいという制限に従う〕をさらに含有する、請求項１に記載のシリコーン組成物。
【請求項２０】
（Ｑ）ｇ単位〔式中、Ｑ＝ＳｉＯ４／２であり；ｇが化学量論的な下付文字であり、正であり、ｂ＋ｆ＋ｇ＝０である時、ａ＋ｃが３と等しいかもしくはそれより大きいという制限に従う〕をさらに含有する、請求項１９に記載のシリコーン組成物。
【請求項２１】
シリコーン組成物であって、式：
（Ｍ１）ｈ（Ｄ３）ｉ（Ｄ４）ｊ
を含有し、式中、Ｍ１＝Ｒ２２（ＣＨ３）２ＳｉＯ１／２であり；Ｄ３＝（ＣＨ３）２ＳｉＯ２／２であり；Ｄ４＝Ｒ２３Ｒ２４ＳｉＯ２／２であり；ここで、Ｒ２２がアミノ基以外の反応性末端基を含有する一価の炭化水素ラジカルであり；Ｒ２３が一価のポリ（オキシアルキル）炭化水素ラジカルであり；Ｒ２４が一価の炭化水素ラジカルであり；そして、ここでｊが２の値を有し；ｋが１から５００の値を有し；そしてｌが１と等しいかもしくはそれより大きい、シリコーン組成物。
【請求項２２】
Ｒ２２が、
【化３２】
2010522804.tif 000007
；またはそれらの組み合わせからなる群より選択され；ここでＲ２３がメチルラジカルもしくは水素原子である、請求項２１に記載のシリコーン組成物。
【請求項２３】
Ｒ２３が、式：
【化３３】
2010522804.tif 000008
を有し、式中Ｒ２４が水素原子もしくはメチルラジカルであり；Ｒ２５が水素原子もしくは一価の炭化水素ラジカルであり；ｍが１から２０の値を有し；ｎがゼロから２０の値を有し；ｏがゼロから２０の値を有する、請求項２１に記載のシリコーン組成物。
【請求項２４】
Ｒ２４がメチルである、請求項２３に記載のシリコーン組成物。
【請求項２５】
ｋが２２から４５の値を有し；そしてｌが３から約１２である、請求項２４に記載のシリコーン組成物。
【請求項２６】
方法であって、
式（Ｍ１）ａ（Ｄ１）ｐを含有するシリコーンと式（Ｄ５）ｑの環状ヒドロシロキサンとを反応させて、式（Ｍ１）ａ（Ｄ１）ｂ（Ｄ３）ｃを有する中間体オルガノシリコーン水素化物を産生するステップ〔ここでＭ１＝Ｒ１Ｒ２Ｒ３ＳｉＯ１／２であり；Ｄ１＝Ｒ４Ｒ５ＳｉＯ２／２であり；Ｄ３およびＤ５はそれぞれＲ３０ＨＳｉＯ１／２であり；ここで、Ｒ１の各々は独立して、アミノ基以外の反応性末端基を含有する一価の炭化水素ラジカルであり；Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、およびＲ３０は独立して一価の炭化水素ラジカルであり；そして、ここでａ、ｂ、ｃ、ｐおよびｑは化学量論的な下付文字であり、ゼロもしくは正であり、以下の制限に従う：ｑは３と等しいかもしくはそれより大きい値を有し；ａ＝２であり；ｃは１と等しいかもしくはそれより大きく；ｐ＝０の時、ａは２であり；ｂ＋ｃ＝０の時、ａ＋ｃは３と等しいかもしくはそれより大きく；ａは２と等しいかもしくはそれより大きく；ｃは１と等しいかもしくはそれより大きく；そして、ｂ＝０の時、ａ＋ｃは３と等しいかもしくはそれより大きい〕と、（ｉｉ）中間体オルガノシリコーン水素化物と不飽和ポリエーテルとを反応させ、式（Ｍ１）ａ（Ｄ１）ｂ（Ｄ２）ｃを有するシリコーン組成物を産生するステップ〔ここでＤ２＝Ｒ６Ｒ７ＳｉＯ２／２であり；Ｒ６は一価のポリ（オキシアルキル）炭化水素ラジカルを含有し；そして、Ｒ７は一価の炭化水素ラジカルであり；そしてここで、ａ、ｂおよびｃは化学量論的な下付文字であり、ゼロもしくは正であり、以下の制限に従う：ａは２の値を有し；ｃは１と等しいかもしくはそれより大きく；そしてｂ＝０の時、ａ＋ｃは３と等しいかもしくはそれより大きい〕とを含有する、方法。
【請求項２７】
前記不飽和のポリエーテルが式：
【化３４】
2010522804.tif 000009
を有し、式中、Ｒ９が２から２０個の炭素原子を有する二価の炭化水素ラジカルであり；Ｒ１０、Ｒ３３、Ｒ３４、およびＲ３５がそれぞれ独立して水素原子、または１から２０個の炭素原子を有する一価の炭化水素ラジカルであり；ｄが１から１００の値を有し；ｅがゼロと等しいかもしくはそれより大きく；Ｗが１から６０個の炭素原子を有する二価の炭化水素ラジカルである、請求項２６に記載の方法。
【請求項２８】
Ｒ３３がＨおよびＣＨ３、またはそれらの混合物からなる群より選択される、請求項２７に記載の方法。
【請求項２９】
Ｒ３３がＣＨ３である、請求項２７に記載の方法。
【請求項３０】
前記不飽和のポリエーテルが、中間体のオルガノシリコーン水素化物の量と比較して約２０モルパーセント過剰と等しいかもしくはそれより大きい量で投入される、請求項２９に記載の方法。
【請求項３１】
前記環状ヒドロシロキサンがシクロテトラメチルテトラヒドロシロキサンである、請求項２７に記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００６】
さらに他の態様において、式：（Ｍ１）ａ（Ｄ１）ｂ（Ｄ２）ｃを含有するシリコーン組成物を作製する方法が提供される。方法は：（ｉ）式（Ｍ１）ａ（Ｄ１）ｐを含有するシリコーンと式（Ｄ５）ｑの環状ヒドロシロキサンとを反応させて、式（Ｍ１）ａ（Ｄ１）ｂ（Ｄ３）ｃを有する中間体オルガノシリコーン水素化物を産生するステップ〔ここでＭ１＝Ｒ１Ｒ２Ｒ３ＳｉＯ１／２であり；Ｄ１＝Ｒ４Ｒ５ＳｉＯ２／２であり；Ｄ３およびＤ５はそれぞれＲ３０ＨＳｉＯ１／２であり；ここで、Ｒ１の各々は、アミノ基以外の反応性末端基を含有する一価の炭化水素ラジカルであり；Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、およびＲ３０は独立して一価の炭化水素ラジカルであり；そして、ここでａ、ｂ、ｃ、ｐおよびｑは化学量論的な下付文字であり、ゼロもしくは正であり、以下の制限に従う：ｑは３と等しいかもしくはそれより大きい値を有し；ａ＝２であり；ｃは１と等しいかもしくはそれより大きく；ｐ＝０の時、ａは２であり；ｂ＋ｃ＝０の時、ａ＋ｃは３と等しいかもしくはそれより大きく；ａは２と等しいかもしくはそれより大きく；ｃは１と等しいかもしくはそれより大きく；そして、ｂ＝０の時、ａ＋ｃは３と等しいかもしくはそれより大きい〕と、（ｉｉ）中間体オルガノシリコーン水素化物と不飽和ポリエーテルとを反応させ、式（Ｍ１）ａ（Ｄ１）ｂ（Ｄ２）ｃを有するシリコーン組成物を産生するステップ〔ここでＤ２＝Ｒ６Ｒ７ＳｉＯ２／２であり；Ｒ６は一価のポリ（オキシアルキル）炭化水素ラジカルを含有し；そして、Ｒ７は一価の炭化水素ラジカルであり；そしてここで、ａ、ｂおよびｃは化学量論的な下付文字であり、ゼロもしくは正であり、以下の制限に従う：ａは２の値を有し；ｃは１と等しいかもしくはそれより大きく；そしてｂ＝０の時、ａ＋ｃは３と等しいかもしくはそれより大きい〕とを含有する。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３５】
一実施態様において、式（ＸＶ）におけるＲ２２は式（Ｖ）、式（ＶＩ）、（ＶＩＩ）、および（ＸＶＩＩ）：
【化１１】
2010522804.tif 000010
、またはそれらの組み合わせからなる群より選択され、式中、Ｗ３は１から６０個の炭素原子を有する二価の炭化水素ラジカルであり、ｅ３はゼロもしくはそれより大きく、そしてＲ２７およびＲ２８は独立して水素原子もしくは炭化水素ラジカルであり、そしてＲ２９は水素原子もしくはメチルラジカルである。特定の実施態様において、Ｒ２２は式（ＸＶＩＩＩ）：
【化１２】
2010522804.tif 000011
を有し、式中Ｒ２９は水素原子もしくはメチルラジカルである。他の特定の実施態様において、Ｒ２２は式（ＸＶＩＩＩ）を有し、式中Ｒ２９はメチルラジカルである。さらに他の実施態様においてＲ２２は、
【化１３】
2010522804.tif 000012
、またはその組み合わせからなる群より選択され、式中、Ｒ２９はメチルラジカルもしくは水素原子である。式（Ｉ）のシリコーン組成物はを下記の一般的な方法によって作製できる。
最初に、式（ＸＩＸ）：
（Ｍ１）ａ（Ｄ１）ｐ      （ＸＩＸ）
を有するシリコーンを式（ＸＸ）：
（Ｄ５）ｑ      （ＸＸ）
の環状ヒドロシロキサンと反応させ、式（ＸＸＩ）：
（Ｍ１）ａ（Ｄ１）ｂ（Ｄ３）ｃ      （ＸＸＩ）
を有する中間体のオルガノシリコーン水素化物を生成し、式中、Ｍ１＝Ｒ１Ｒ２Ｒ３ＳｉＯ１／２であり；Ｄ１＝Ｒ４Ｒ５ＳｉＯ２／２であり；Ｄ３およびＤ５はＲ３０ＨＳｉＯ１／２であり；ここで、Ｒ１は独立して各々、アミノ基以外の反応性の末端基を含有する一価の炭化水素ラジカルであり；Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、およびＲ３０は独立して一価の炭化水素ラジカルであり；そしてここで、ａ、ｂ、ｃ、ｐおよびｑは化学量論的な下付文字であり、ゼロもしくは正であり、以下の制限に従う：ｑは３と等しいかもしくはそれより大きい値を有し、ａは２であり；ｃは１と等しいかもしくはそれより大きく；ｐ＝０の時、ａは２であり；ｂ＋ｃ＝０の時、ａ＋ｃは３と等しいかもしくはそれより大きく；ａは２と等しいかもしくはそれより大きく；ｃは１と等しいかもしくはそれより大きく；そしてｂ＝０の時、ａ＋ｃは３と等しいかもしくはそれより大きい。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３７】
Ｒ１が一般式（Ｘ）〔式中ｅ２は１もしくは１より大きい〕を有する式（ＸＩＸ）の開始物質のシリコーンを作製するために、（ＸＸＩＩ）のヒドリドキャップ化シリコーンは、一般式（ＸＸＩＩＩ）で表されるジヒドロキシ芳香族化合物のモノ−アルケニルエーテルによってヒドロシリル化された。
【化１４】
2010522804.tif 000013
式中、Ａｒ１、Ａｒ２、Ｗ１、Ｗ２、Ｒ１５、Ｒ１６、およびＲ１７は式（ＸＩ）のための上述されたとおりであり、ｅ１はゼロもしくはゼロより大きく、ｅ２は１もしくは１より大きい。式（ＸＸＩＩ）の化合物は、式（ＸＸＩＶ）：
【化１５】
2010522804.tif 000014
〔式中、Ａｒ１、Ａｒ２、Ｗ１およびｅ１は式（ＸＸＩＩＩ）のために上に記載されたとおりである〕を有するジヒドロキシ芳香族化合物を式（ＸＸＶ）：
【化１６】
2010522804.tif 000015
〔式中、Ｗ２、ｅ２、Ｒ１５、Ｒ１６、およびＲ１７は式（ＸＸＩＶ）のために上に記載されたとおりであり、そしてＹは反応性の離脱基である〕を有する化合物と反応させることによって作製できる。モノ−アルケニルエーテルの選択的作製は式（ＸＸＩＶ）および（ＸＸＶ）を有する化合物を、水と水と混合しないかもしくは水との混和性に乏しい有機溶媒とを含有する二相の反応溶剤中の塩基の存在下において、混合することによって達成される。相転移触媒を用いても良いが、モノ−アルケニル化の満足できる選択性は相転移触媒の使用無しに達成され得る。塩基の非限定的例は、たとえば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、および水酸化リチウムのようなアルカリ金属水酸化物を含む。式（ＸＸＩＩＩ）のモノ−アルケニルエーテルを作製するための二相の反応溶剤のいくつかの例は、脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、脂環式炭化水素、脂肪族ハロゲン化物、芳香族ハロゲン化物、および脂環式ハロゲン化物のような水と有機溶剤とを含有しているものを含む。有機溶媒のいくつかの具体例はジクロロメタン、クロロプロパン、ジクロロブタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トルエン、およびキシレンを含む。特定の実施態様において、ジクロロメタンは二相の溶剤における有機溶媒として利用され、それは所望の式（ＸＸＩＩ）のモノ−アルケニル化エーテルを高い選択性で提供する。ビスフェノールＡモノアリルエーテルの作製のために例示される例示的な手順において、１モルのビスフェノールＡと３モルの塩化アリルの混合物が、水、２モルの水酸化ナトリウム、およびジクロロメタンを含有する二相の溶剤の存在下において混合される。所望のビスフェノールＡのモノアリルエーテルはそののち、当分野に公知である技術によって分離される。産物はプロトン核磁気共鳴（ＮＭＲ）スペクトル法と液体クロマトグラフィー質量マススペクトル法によって分析され、ビスフェノールＡのモノアリルエーテルの純度を評価し、そして定量化した。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４０】
式（ＸＩＸ）のシリコーンの式（ＸＸ）の環状ヒドロシロキサンとの再分配反応は、式（ＸＸＩ）を有する中間体オルガノシロキサン水素化物を生成する。おのおののケイ素原子が一つの炭化水素ラジカルと一つの水素原子とを有している任意の環状ヒドロシロキサンを用いる事が出来る。式（ＸＩＩＩ）の環状ヒドロシロキサンの非限定的例は、テトラメチルテトラヒドロシクロテトラシロキサン；テトラブチルテトラヒドロシクロテトラシロキサン；テトラフェニルテトラヒドロシクロテトラシロキサン；およびトリメチルトリヒドロシクロトリシロキサンを含む。触媒はこの反応を促進するために一般的に用いられる。例えば、水酸化セシウムのようなアルカリ金属の水酸化物を触媒として用いる事が出来る。一実施態様において、再分配反応は式（ＸＸＩ）〔式中、ｂ＋ｃは５から１００の値を有し；そしてｄは１から５０の値を有する〕の化合物を作製するのを助ける。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４１】
次に、式（ＸＸＩＩ）のオルガノシリコーン水素化物を不飽和ポリエーテルと反応させ、式（Ｉ）（上述）を有する官能性シリコーン組成物を生成する。一実施態様において、不飽和のポリエーテルは式（ＸＸＶＩＩ）：
【化１８】
2010522804.tif 000016
を有し、式中、Ｒ９は２から２０個の炭素原子を有する二価の炭化水素ラジカルであり；Ｒ１０、Ｒ３３、Ｒ３４、およびＲ３５はそれぞれ独立して水素原子、または１から２０個の炭素原子を有する一価の炭化水素ラジカルであり；ｄは１から１００の値を有し；ｅはゼロと等しいかもしくはそれ以上であり；Ｗは１から６０個の炭素原子を有する二価の炭化水素ラジカルである。末端不飽和基を有するさまざまなポリエーテルもまた用いる事が出来る。好適な不飽和のポリエーテルのいくつかの例は、アリル末端ポリエーテルおよびビニル末端ポリエーテルを含む。いくつかの不飽和ポリエーテルはまた、たとえば式（ＸＸＶＩＩＩ）：
【化１９】
2010522804.tif 000017
で表される化合物〔式中、Ｒ２５は、水素もしくはメチルラジカルであり；Ｒ２６は水素もしくは一価の炭化水素ラジカルであり；ｍは１から２０の値を有し；ｎはゼロから２０の値を有し；ｏはゼロから２０の値を有する〕のように市販されている。さまざまな実施態様において、好適な式（ＸＸＶＩＩＩ）の不飽和ポリエーテルは、ｍおよびｏがゼロであり、そしてｎが１から２０の値を有するもの；ｎおよびｏがゼロであり、そしてｍが１から２０の値を有するもの；ならびに、ｍおよびｎがゼロであり、そしてｏが１から２０の値を有するものを含む。いくつかの不飽和のポリエーテルは、Ｃｌａｒｉａｎｔ  ＣｏｒｐｏｒａｔｉｏｎおよびＧＥ  Ｓｉｌｉｃｏｎｅｓ  ｏｆ  Ｇｅｎｅｒａｌ  Ｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｃｏｍｐａｎｙから市販されている。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４２】
実際に、式（ＸＸＶＩＩＩ）〔式中、Ｒ２５は水素原子〕のアリル末端ポリエーテルと白金触媒とがヒドロシリル化ステップにおいて用いられる時、以下に見られるように、アリル基は式（ＸＸＩＸ）を有する異性化１−プロペニル型へと再分配される。
【化２０】
2010522804.tif 000018
異性体の（ＸＸＩＸ）は、続いて式（ＸＸＩ）のオルガノシリコーン水素化物と競合的ヒドロシリル化反応をする。競合反応を防ぐために、式（ＸＸＩ）のオルガノシリコーン水素化物を上回る過剰の式（ＸＸＶＩＩＩ）のアリル末端ポリエーテルが用いられる。一般にオルガノシリコーン水素化物よりも２０モルパーセントもしくはそれより多い過剰のアリル末端ポリエーテルが用いられる。一実施態様において、オルガノシリコーン水素化物よりも３０モルパーセント過剰のアリル末端ポリエーテルが用いられる。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５１】
次に、オイゲノールキャップ化ポリ（ジメチルシロキサン−コ−メチルヒドロシロキサン）中間産物（１００グラム）、ポリエチレングリコールアリルエーテル（約３５０の分子量、６６グラム）、カールステット触媒（１０ｐｐｍの白金当量）、および３０ミリリットルのイソプロパノールが丸底フラスコに入れられた。生じる混合物は９０℃で４時間攪拌され、その後、イソプロパノールが蒸留によって除去され、透明の黄白色の液体として式（ＸＸＩＸ）の化合物を供給した。ピークを到底したプロトンＮＭＲおよび２９ＳｉＮＭＲスペクトルは図１および２に見られ、それらは所望の産物の生成を示す。さらに図１において、プロトンＮＭＲスペクトルは相当の量のビニルプロトン共鳴レベルを示し、これはアリルエーテル型の再分配型の特徴であり（一般式ＸＸＩＸを参照）、これはアリル型よりもヒドロシリル化に対してより反応性が低く（一般式ＸＸＶＩＩを参照）、それゆえにオルガノシリコーン水素化物の不完全な消費を導く。
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５３】
ポリエチレングリコールメタリルエーテルが用いられたことと反応時間が１２時間だったこと以外は、式（ＸＸＸ）のシリコーン組成物の作製のために記載された手順が用いられた。式（ＸＸＸＩＩ）のシリコーン組成物は黄白色の液体として得られた。図３に見られるプロトンＮＭＲのスペクトルは、所望の産物の産生を示す。さらに、図３はビニルプロトンの不在を示し、従って、メタリル基が再分配を行わないことでオルガノシリコーン水素化物の完全な消費を導いたことを示している。