【手続補正書】
【提出日】平成20年12月2日(2008.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原版のパターンを基板上に露光する露光装置であって、
指令値に応じて、波長スペクトルが複数のピークを有する光を前記原版に照射する照明系と、
前記照明系から照射された前記光の波長スペクトルを計測する計測手段と、
前記指令値に基づく第１中心波長と、前記計測手段の計測結果に基づいて算出される第２中心波長との差を算出し、前記差に基づいて前記指令値を修正する手段と、を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記照明系は、波長が異なる複数のパルス光を発光する光源を有し、前記差は、前記光源内部の光学特性に依存することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記第２中心波長は、前記複数のパルス光の強度を累積した値に基づいて算出されることを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記パルス光毎に前記光源の光品位をモニタした結果に基づいて、露光性能の良否が判定されることを特徴とする請求項２または３に記載の露光装置。
【請求項５】
前記指令値は、所定の露光量に基づいて算出されることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１つに記載の露光装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１つに記載の露光装置を用いて、前記基板を露光するステップと、
前記基板を現像するステップと、を備えることを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
上記の課題を解決するため、本発明の露光装置は、原版のパターンを基板上に露光する露光装置であって、指令値に応じて、波長スペクトルが複数のピークを有する光を前記原版に照射する照明系と、前記照明系から照射された前記光の波長スペクトルを計測する計測手段と、前記指令値に基づく第１中心波長と、前記計測手段の計測結果に基づいて算出される第２中心波長との差を算出し、前記差に基づいて前記指令値を修正する手段と、を備えることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明の好ましい実施の形態において、前記照明系は、波長が異なる複数のパルス光を発光する光源を有し、前記差は、前記光源内部の光学特性に依存する。前記第２中心波長は、前記複数のパルス光の強度を累積した値に基づいて算出される。前記パルス光毎に前記光源の光品位をモニタした結果に基づいて、露光性能の良否が判定される。前記指令値は、所定の露光量に基づいて算出される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
以下、本発明の実施例を図面を用いて説明する。
図１は、本発明の一実施例に係る走査型半導体露光装置の概略構成図を示す。
この露光装置は、レチクル（原版）１３及び投影光学系１５を介し半導体ウエハ（基板）１８を露光する露光装置である。また、加工物である基板に光を照射する（実露光）前に予め、該基板に光を照射する際の露光波長指令値を演算し、光源に露光波長指令値を設定し、光源（照明系）から照射された光の、複数のピークを有する波長スペクトルを計測する。更に、前記波長スペクトルから発光した光の中心波長（第２中心波長であり、図７記載のλｍｅａｓ）を算出し、前記光の中心波長（第１中心波長）として予め設定した波長指令値（露光波長指令値）との差（図７記載のλｄｉｆｆ）を演算して記録媒体に保存する、という前処理を行う。そして、前記基板に光を照射する際（実露光時）の前記光源の波長指令値は、前記差を修正するために、前記露光波長指令値と前記エラー成分との加減算により求めることを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
図１において、４は絞りターレットであり、所定の絞りにより前述の２次光源面の大きさを制限する。例えば、コヒーレンスファクタσ値を複数種設定するための円形開口面積が相異なる開口絞りや、輪帯照明用のリング形状絞り、４重極絞り等、絞りターレット４には番号付け（照明モード番号）された複数の絞りが埋設されている。照明光の入射光源の形状を変える際には、必要な絞りが選択され、光路に挿入される。
６は第１光電変換装置であり、ハーフミラー５によって反射されたパルス光の一部をパルス当りの光量として検出し、露光量演算部２１ヘアナログ信号を出力する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
所定の露光パラメータ（特に積算露光量や必要積算露光量精度、あるいは絞り形状）は、マンマシンインターフェース若しくはメディアインターフェースとしての入力装置２４より主制御系２２に入力され、記憶部２５に記憶される。また、第１光電変換装置６、第２光電変換装置１９から得られた各結果や検出器間の結果の相関等は、表示部２６に表示している。
主制御系２５は、入力装置２４から与えられたデータと、露光装置固有のパラメータおよび各第１光電変換装置６，第２光電変換装置１９等の測定手段が計測したデータから走査露光に必要なパラメータ群を算出し、レーザ制御系やステージ駆動制御系２０に伝達する。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
シーケンス１００において、ステップ１０２では図７に示すλｄｉｆｆを計測するために、発振の条件を設定する。この発振条件設定では、主制御系２２が、ウエハへ設定された露光量などに応じて、ステージのスキャン速度、光源の発振周波数、発光パルスのターゲットのエネルギ、発光パルス数、露光波長指令値（λｓｅｔ）等を算出する。光源１は発振周波数（又は波長）の異なる複数のパルス光を発光する。各設定値の算出後、主制御系２２は、ステージ駆動部制御系２０や露光量制御部２１、レーザ制御系２３へ制御パラメータを設定する。なお、ここでの各設定値は、ウエハの露光処理（実露光）と同じ条件を設定することが望ましい。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
ステップ１０７では、波長指令値修正係数の算出を行う。すなわち、ステップ１０５にて計測した露光光のスペクトルを図３に示すように設定波長に対して積算をする。積算するパルス数（Ｗｉｎｄｏｗサイズ）は、実際の露光条件に合わせたＷｉｎｄｏｗサイズにて、移動平均処理を実施する。走査露光時のＷｉｎｄｏｗサイズは、光源の発振周波数Ｆとステージのスキャン速度Ｖとウエハステージ上に形成される露光光（スリット像）の走査方向における幅Ｗより求められ、ウエハ一点当たりに照射される露光光の数を意味する。
Ｗｉｎｄｏｗサイズ ＝ Ｆ／Ｖ×Ｗ ［ｐｕｌｓｅ］…（３）
求めた露光光の積算スペクトルから、第２中心波長である計測した中心波長λｍｅａｓ（図７参照）を求め、第１中心波長である設定した露光波長指令値λｓｅｔとの差分λｄｉｆｆ（図７参照）を算出する。算出した値は、メモリなどの記録媒体に記録する。
λｍｅａｓは、図３に示すように、光スペクトルについて短波長側（もしくは、長波長側）からパルス光強度の累積を行い、光強度累積値の最大値の１／２を示す波長をλｍｅａｓと定義する。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
ステップ１１４では、ステップ１１２でモニタした光品位の確認結果に基づき、光品位の良、不良を判定する。そして、光品位が露光性能を保証できない場合には、Ｅｒｒｏｒ終了とし、光品位が露光性能を保証できる場合には、次のショットの露光を開始するため、次のショットの発振条件設定を実行する。従って、前記光品位の良、不良の判定は、パルス光毎に光源の光品位をモニタした結果に基づいて、露光性能の良否判定を行う手段でもある。以降、ウエハの全ショットの露光が完了するまで、１０９から１１４の処理を繰り返し実行する。