【手続補正書】
【提出日】平成21年1月26日(2009.1.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
結像光学系の像面の像面湾曲収差に対応する曲面に形成された高分子部材と、
前記高分子部材を支持する基板とからなり、
加工手段で前記高分子部材と前記基板とを加工して光伝達管を形成することを特徴とする像面変換素子の製造方法。
【請求項２】
前記高分子部材は、ホトレジスト、プラスチック、ＵＶ硬化樹脂、又は熱可塑性樹脂からなることを特徴とする請求項１に記載の像面変換素子の製造方法。
【請求項３】
前記加工手段は、所定の光伝達管パターンを露光する工程、現像工程、及びエッチング工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の像面変換素子の製造方法。
【請求項４】
前記加工手段は、金属膜、酸化膜、又は窒化膜の成膜工程を更に含むことを特徴とする請求項１に記載の像面変換素子の製造方法。
【請求項５】
透明基板を略平面に支持する支持部材を接着する工程と、
前記基板にホトレジストを塗布する工程と、
前記基板に塗布されたホトレジストの表面を像面湾曲収差に対応する曲面を有する金型で成型する工程と、
選択された撮像素子の受光素子の配列に対応するパターンを露光する工程と、
現像工程と、
前記現像工程で得られた前記ホトレジストをマスクとして前記基板をエッチングする工程と、
前記支持部材を剥離する工程と、
を含むことを特徴とする像面変換素子の製造方法。
【請求項６】
前記支持部材は、シリコン板またはＣＶＤ成膜されたシリコン薄膜層を有するセラミック板またはガラス板であることを特徴とする請求項５に記載の像面変換素子の製造工程。
【請求項７】
前記支持部材を接着する工程は、陽極接合を含むことを特徴とする請求項５に記載の像面変換素子の製造方法。
【請求項８】
透明樹脂部材を、第１面が像面湾曲収差に対応する曲面、及び第１面に対向する第２面が略平面に成型する工程と、
前記透明樹脂部材を透明基板に接着する工程と、
前記透明樹脂部材の表面に透明な酸化膜を形成する工程と、
前記酸化膜上にホトレジストを塗布する工程と、
選択された撮像素子の受光素子の配列に対応するパターンを露光する工程と、
現像工程と、
前記酸化膜をエッチングする工程と、
前記酸化膜をマスクとして前記透明樹脂部材をエッチングする工程と、
前記透明部材をマスクとして前記透明基板をエッチングする工程と、
を含むことを特徴とする像面変換素子の製造方法。
【請求項９】
基板に導電層を形成する工程と、
第１面が像面湾曲収差に対応する曲面に形成され、第１面に対向する第２面が略平面に形成された樹脂部材の前記第２面側を前記導電層の上に接着する工程と、
前記樹脂部材の表面に酸化膜を形成する工程と、
前記酸化膜上にホトレジストを塗布する工程と、
選択された撮像素子の受光素子の配列に対応するパターンを露光する工程と、
現像工程と、
前記酸化膜をエッチングする工程と、
前記酸化膜をマスクとして前記樹脂部材をエッチングする工程と、
前記導電層を電極としてＮｉ電気メッキを行いＮｉ金型を形成する工程と、
前記Ｎｉ金型から前記樹脂部材及び前記基板を剥離する工程と、
前記Ｎｉ金型をにより像面変換素子を透明基板上に成型する工程と、
前記透明基板をエッチングする工程と、
を含むことを特徴とする像面変換素子の製造方法。
【請求項１０】
前記露光する工程は、紫外線近接露光、Ｘ線露光工程、又は露光する領域を複数の領域に分割して基板下部から前記ホトレジスト表面までの高さに応じて所定のレチクルを選択してそれぞれ露光するステッパー露光による露光工程を含むことを特徴とする請求項３、５、８、又は９に記載の像面変換素子の製造方法。
【請求項１１】
前記エッチングする工程は、等方性ドライエッチング工程、又は異方性ドライエッチング工程を含むことを特徴とする請求項３、５、８、又は９に記載の像面変換素子の製造方法。
【請求項１２】
前記成型する工程は、ＵＶ硬化樹脂又は熱可塑性樹脂硬化樹脂を用いて行われることを特徴とする請求項９に記載の像面変換素子の製造方法。
【請求項１３】
前記基板又は前記透明基板は、ガラス、又はプラスチックであることを特徴とする請求項１、５、８、又は９に記載の像面変換素子の製造方法。
【請求項１４】
結像光学系の像面と撮像素子の間に配置され、前記撮像素子の複数の受光素子のそれぞれに対向するそれぞれの光伝達管が互いに非交差に形成され、
前記光伝達管で形成される第１面は、前記像面における像面湾曲収差に対応した曲面に形成され、
前記第１面に対向し前記光伝達管の端面の集合体の包絡面である第２面は、前記撮像素子の受光素子の包絡面に略平行に形成されていることを特徴とする像面変換素子。
【請求項１５】
前記第１面側の前記光伝達管のそれぞれの端面は、光の入射角度が大きくなる方向に傾斜して形成されていることを特徴とする請求項１４に記載の像面変換素子。
【請求項１６】
前記第１面側の前記光伝達管のそれぞれの端面は、光の入射角度が大きくなる方向に湾曲して形成されていることを特徴とする請求項１４に記載の像面変換素子。
【請求項１７】
前記第１面側の前記光伝達管の端面近傍の側端部は、凹面状に形成されていることを特徴とする請求項１４から１６のいずれか１項に記載の像面変換素子。
【請求項１８】
前記光伝達管は、前記第１面側の面積と前記第２面側の面積が異なることを特徴とする請求項１４から１７のいずれか１項に記載の像面変換素子。
【請求項１９】
前記撮像素子の中央部分のみ、又は周辺部分のみに前記受光素子に対向する前記光伝達管が形成されていることを特徴とする請求項１４から１８のいずれか１項に記載の像面変換素子。
【請求項２０】
前記第１面側の前記光伝達管を互いに固定する固定部材を有することを特徴とする請求項１４から１９のいずれか１項に記載の像面変換素子。
【請求項２１】
前記光伝達管の側面部の一部又は全部が遮光部材で覆われていることを特徴とする請求項１４から２０のいずれか１項に記載の像面変換素子。
【請求項２２】
前記第２面の近傍に前記光伝達管にそれぞれ対向して配置されたレンズを有するレンズアレイを少なくとも１つ有することを特徴とする請求項１４から２１のいずれか１項に記載の像面変換素子。
【請求項２３】
前記光伝達管は、光学的に透明な部材からなることを特徴とする請求項１４から２２のいずれか１項に記載の像面変換素子。
【請求項２４】
前記光学的に透明な部材は、ガラス部材、高分子部材、酸化物部材、又は窒化物部材からなることを特徴とする請求項２３に記載の像面変換素子。
【請求項２５】
前記光伝達管は、前記第１面側が高分子部材からなり、前記第２面側が前記光学的に透明な部材で支持されていることを特徴とする請求項１４から２４のいすれか１項に記載の像面変換素子。
【請求項２６】
前記高分子部材は、ＵＶ硬化樹脂からなることを特徴とする請求項２４又は２５に記載の像面変換素子。
【請求項２７】
前記高分子部材は、熱可塑性樹脂からなることを特徴とする請求項２４又は２５に記載の像面変換素子。
【請求項２８】
前記高分子部材は、ホトレジストからなることを特徴とする請求項２４又は２５に記載の像面変換素子。
【請求項２９】
前記光伝達管は、円形状、又は多角形状の断面形状を有することを特徴とする請求項１４から２８のいずれか１項に記載の像面変換素子。
【請求項３０】
前記光伝達管の太さのばらつきは、±５％以内であることを特徴とする請求項１４から２９のいずれか１項に記載の像面変換素子。
【請求項３１】
前記光伝達管の分離間隔のばらつきは、±５％以内であることを特徴とする請求項１４から３０のいずれか１項に記載の像面変換素子。
【請求項３２】
物体側から順に、結像光学系と、請求項１４から３１のいずれか１項に記載の像面変換素子と、撮像素子と、からなることを特徴とする光学系。
【請求項３３】
請求項１４から３１のいずれか１項に記載の像面変換素子の前記第１面を光軸と垂直な方向に移動する手段を有することを特徴とする光学系。