Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月9日(2009.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
標的部と、前記標的部に配設された第１のレーザ受光器と、敵対相手を撮影するためのカメラ監視範囲を有する標的ビデオカメラと、前記敵対相手に対して撃ち返し射撃を模擬するレーザ光線を発射させる第１のレーザ送信器と、前記標的ビデオカメラの方向切り換えと前記第１のレーザ送信器の方向切り換えとを行なう駆動装置と、により形成された少なくとも１つの標的装置と、
射撃訓練者が前記標的部に向けて射撃を模擬するレーザ光線を発射させる第２のレーザ送信器と、
前記射撃訓練者に装着された第２のレーザ受光器と、
前記標的装置の第１のレーザ送信器から発射させるレーザ光線の発射制御および前記駆動装置の駆動制御を遠隔操作で行なうレーザ送信制御器と、
前記標的ビデオカメラで撮影された前記敵対相手の画像を遠隔監視するための手段であるカメラ画像モニタと、が備えられた標的システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
この目的を達成するために、本発明の標的システムは、標的部と、前記標的部に配設された第１のレーザ受光器と、敵対相手を撮影するためのカメラ監視範囲を有する標的ビデオカメラと、前記敵対相手に対して撃ち返し射撃を模擬するレーザ光線を発射させる第１のレーザ送信器と、前記標的ビデオカメラの方向切り換えと前記第１のレーザ送信器の方向切り換えとを行なう駆動装置と、により形成された少なくとも１つの標的装置と、射撃訓練者が前記標的部に向けて射撃を模擬するレーザ光線を発射させる第２のレーザ送信器と、前記射撃訓練者に装着された第２のレーザ受光器と、前記標的装置の第１のレーザ送信器から発射させるレーザ光線の発射制御および前記駆動装置の駆動制御を遠隔操作で行なうレーザ送信制御器と、前記標的ビデオカメラで撮影された前記敵対相手の画像を遠隔監視するための手段であるカメラ画像モニタと、が備えられたものである。
【手続補正書】
【提出日】平成21年8月19日(2009.8.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
排出されたシートを積載可能な第１位置と、前記第１位置から離間した第２位置との間を移動可能な積載手段と、
前記積載手段に積載されたシートの上面に当接し移動可能なシート検知部を有し、前記シート検知部の位置を検知することによって前記積載手段に積載されたシートの積載量を検知するシート積載量検知手段と、
を備え、
前記積載手段が前記第２位置に位置している時、前記シート検知部がシート積載量を検知可能な位置から退避することを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記積載手段が前記第１位置に位置していることを検知する位置検知手段を有することを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記シート検知部が前記シート積載量を検知可能な位置から退避することにより、装置保守のための作業空間が形成されることを特徴とする請求項１または２に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記作業空間は、前記積載手段の前記第２位置への移動に伴い、装置本体内においてシートの搬送をガイドする搬送ガイドが外側に開放されることにより形成されることを特徴とする請求項３に記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記シート検知部が前記シート積載量を検知可能な位置から退避している時、
排出されたシートに処理を施すシート後処理装置が画像形成装置の装置本体に装着可能であることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記シート後処理装置が前記装置本体に対して装着されていることを検知する装着検知手段を有することを特徴とする請求項５に記載の画像形成装置。
【請求項７】
前記積載手段が前記第１位置に位置していないことを検知し、前記シート後処理装置が前記装置本体に装着されていることを検知し、前記装置本体と前記シート後処理装置間の電気的接続を検知した時に、前記シート後処理装置が前記装置本体に正常に接続されたと
認識することを特徴とする請求項６に記載の画像形成装置。
【請求項８】
前記シート後処理装置には、前記装置本体から排出されたシートを受け取るシート搬入路が設けられており、
前記シート後処理装置が前記装置本体に接続された時、前記シート検知部は前記シート搬入路を横断する待機位置に位置しており、
前記シート搬入路にシートが進入した時、前記シート検知部はシートに押圧されてシート進入検知位置まで移動可能であることを特徴とする請求項５乃至７のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項９】
前記シート検知部が前記シート進入検知位置まで移動したことを前記シート後処理装置に設けられたシート進入検知手段により検知することを特徴とする請求項８に記載の画像形成装置。
【請求項１０】
前記シート検知部が前記シート進入検知位置まで移動したことを前記装置本体に設けられたシート進入検知手段により検知することを特徴とする請求項８に記載の画像形成装置。
【請求項１１】
前記シート積載量検知手段は前記シート進入検知手段を兼ねることを特徴とする請求項１０に記載の画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７５】
図７（ａ）のように、シートＳがステイプルスタッカ２００に進入していない場合には、実施形態１で説明した満載検知センサフラグ５０は所定の待機位置に位置している。この所定の待機位置は、先端がシート搬入路２０２を横断する位置である。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月3日(2008.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
板状部材の一方の面に貼付され、当該板状部材の外周からはみ出る平面形状を備えた粘着シートを吸着することで板状部材を保持する吸着装置において、
所定の吸気を行うことにより前記粘着シートを吸着する吸着面を備えたテーブルを含み、
前記板状部材の外周に沿う少なくとも一部領域に溝が形成され、
前記テーブルは、吸着面と略同一面上に位置する領域を有するテーブル本体と、このテーブル本体の領域内に設けられて前記吸着面を形成する吸着部材とを備え、
前記吸着面は、板状部材の平面形状に対応する平面形状を備え、前記吸着面の外周に沿うテーブル本体に前記溝が形成されていることを特徴とする吸着装置。
【請求項２】
板状部材の一方の面に貼付され、当該板状部材の外周からはみ出る平面形状を備えた粘着シートを吸着することで板状部材を保持する吸着装置において、
所定の吸気を行うことにより前記粘着シートを吸着する吸着面を備えたテーブルを含み、
前記板状部材の外周に沿う少なくとも一部領域に溝が形成され、
前記テーブルは、吸着面と略同一面上に位置する領域を有するテーブル本体と、このテーブル本体の領域内に設けられて前記吸着面を形成する吸着部材とを備え、
前記吸着面内に前記板状部材の外周に沿う前記溝が形成されていることを特徴とする吸着装置。
【請求項３】
前記溝は、吸着面の面内中央部から外周を結ぶ方向に沿って所定間隔を隔てて複数形成されていることを特徴とする請求項２記載の吸着装置。
【請求項４】
前記板状部材の他方の面には、帯状の剥離用テープを介して剥離可能な保護テープが貼付され、
前記溝の延出長さは、剥離用テープの短寸幅より大きく設定されていることを特徴とする請求項１，２又は３記載の吸着装置。
【請求項５】
ダイシングテープを介してリングフレームに支持されたウエハの上面に貼付された保護テープを剥離する装置に用いられる吸着装置において、
所定の吸気を行うことにより前記ダイシングテープを吸着してウエハを保持する吸着面を備えたテーブルを含み、
前記ウエハの外周に沿う少なくとも一部領域に溝が形成されていることを特徴とする吸着装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
前記目的を達成するため、本発明は、板状部材の一方の面に貼付され、当該板状部材の外周からはみ出る平面形状を備えた粘着シートを吸着することで板状部材を保持する吸着装置において、
所定の吸気を行うことにより前記粘着シートを吸着する吸着面を備えたテーブルを含み、
前記板状部材の外周に沿う少なくとも一部領域に溝が形成され、
前記テーブルは、吸着面と略同一面上に位置する領域を有するテーブル本体と、このテーブル本体の領域内に設けられて前記吸着面を形成する吸着部材とを備え、
前記吸着面は、板状部材の平面形状に対応する平面形状を備え、前記吸着面の外周に沿うテーブル本体に前記溝が形成される、という構成を採っている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、本発明は、板状部材の一方の面に貼付され、当該板状部材の外周からはみ出る平面形状を備えた粘着シートを吸着することで板状部材を保持する吸着装置において、
所定の吸気を行うことにより前記粘着シートを吸着する吸着面を備えたテーブルを含み、
前記板状部材の外周に沿う少なくとも一部領域に溝が形成され、
前記テーブルは、吸着面と略同一面上に位置する領域を有するテーブル本体と、このテーブル本体の領域内に設けられて前記吸着面を形成する吸着部材とを備え、
前記吸着面内に前記板状部材の外周に沿う前記溝が形成される、という構成を採ることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月10日(2009.9.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発射された遊技球を流下させる遊技領域と、遊技者に相対する前面側に前記遊技領域が形成された遊技板と、この遊技板を装着して支持する枠体とを遊技機本体の構成部材として有する遊技機において、
遊技の進行に伴い所定の抽選契機が生じると、所定の確率で遊技者に利益を付与すべきか否かの利益抽選を行う利益抽選手段と、
前記利益抽選に当選した場合に遊技者にいかなる種類の利益を付与すべきかを判別する利益判別手段と、
前記利益抽選が行われると、所定の抽選情報を所定の変動期間にわたって変動表示させた後、前記利益抽選の結果に応じた態様で前記抽選情報を停止表示することが可能な抽選情報表示手段と、
前記利益判別手段の判別結果が基礎的な条件に合致すると、遊技者に対して基礎的な利益を付与する基礎利益付与手段と、
前記利益判別手段の判別結果が特別な条件に合致すると、遊技者に対して前記基礎的な利益に別の価値を付加した高付加価値利益を付与する高付加価値利益付与手段と、
前記高付加価値利益手段により付加される前記別の価値として、前記所定の確率が相対的に低い低確率遊技様態から、前記所定の確率を相対的に高く設定した高確率遊技様態への変更を行う当選確率変更手段と、
前記抽選情報表示手段とは別に、前記抽選情報に対応した演出抽選情報を変動表示させた後に前記利益抽選の結果に応じた態様で停止表示することが可能な演出抽選情報表示手段とを備え、
前記遊技板に対してその前面側から取り付けられ、前記遊技領域の一部に演出的な動作が行われる演出領域を形成するフロントユニットと、
前記遊技板に対してその背面側から取り付けられ、前記演出領域内で演出的な動作を実行可能な動作機構を有するリアユニットと、
前記遊技板の一部をその厚み方向に貫通して形成され、前記リアユニットの動作機構による演出的な動作を前面側から視認可能とする貫通孔と、を備えたことを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記フロントユニットの後方に前記リアユニットが位置した状態で、前記動作機構の非作動時において前記動作機構を前面側から視認不可能とするべく遮蔽する遮蔽手段をさらに備えたことを特徴とする請求項１に記載の遊技機。
【請求項３】
前記遮蔽手段は、前記リアユニットの外表面の一部を構成し、かつ、前記フロントユニットの外表面と一続きに連なった状態で前記リアユニットの動作機構を遮蔽する遮蔽部材を備えたことを特徴とする請求項２に記載の遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月3日(2009.6.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ＧａＮ結晶基板およびその製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、発光素子、電子素子、半導体センサなどの半導体デバイスに用いられるＧａＮ結晶基板およびその製造方法に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、結晶成長面上に結晶性のよい半導体層を成長させることが可能な、裏面の反りの小さいＧａＮ結晶基板およびその製造方法を提供することを目的とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は、結晶成長面の反対側の面である裏面に関して、反り曲面が最適平面に対して一方側に最も大きな変位値と最適平面との距離および他方側に最も大きな変位値と最適平面との距離の和として算出される裏面の反りｗ(R)が、−３５μｍ≦ｗ(R)≦４５μｍであり、前記結晶成長面の面粗さＲａ(C)がＲａ(C)≦５ｎｍであるＧａＮ結晶基板である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明にかかるＧａＮ結晶基板において、裏面の面粗さＲａ(R)をＲａ(R)≦１０μｍとすることができる。また、裏面の面粗さＲｙ(R)をＲｙ(R)≦７５μｍとすることができる。また、光干渉方式のフラットネステスタを用いて測定される結晶成長面の反りｗ(C)を−５０μｍ≦ｗ(C)≦５０μｍとすることができる。また、結晶成長面の面粗さＲｙ(C)をＲｙ(C)≦６０ｎｍとすることができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明によれば、結晶成長面上に結晶性のよい半導体層を成長させることが可能な、裏面の反りの小さいＧａＮ結晶基板およびその製造方法を提供することができる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
（実施形態２）
本発明にかかるＧａＮ結晶基板の製造方法は、図８を参照して、実施形態１のＧａＮ結晶基板の製造方法であって、ＧａＮ結晶１からＧａＮ結晶基板１０を切り出す工程（図８（ａ）を参照）と、ＧａＮ結晶基板１０の裏面１０ｒを処理する工程（図８（ｂ）を参照）とを含み、ＧａＮ結晶基板１０の裏面１０ｒを処理する工程は、裏面１０ｒを研削する工程、裏面１０ｒを研磨する工程および裏面１０ｒをエッチングする工程の少なくともいずれかの工程を含む。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
結晶成長面の反対側の面である裏面に関して、反り曲面が最適平面に対して一方側に最も大きな変位値と最適平面との距離および他方側に最も大きな変位値と最適平面との距離の和として算出される前記裏面の反りｗ(R)が、−３５μｍ≦ｗ(R)≦４５μｍであり、前記結晶成長面の面粗さＲａ(C)がＲａ(C)≦５ｎｍであるＧａＮ結晶基板。
【請求項２】
前記裏面の面粗さＲａ(R)が、Ｒａ(R)≦１０μｍである請求項１に記載のＧａＮ結晶基板。
【請求項３】
前記裏面の面粗さＲｙ(R)が、Ｒｙ(R)≦７５μｍである請求項１または請求項２に記載のＧａＮ結晶基板。
【請求項４】
光干渉方式のフラットネステスタを用いて測定される前記結晶成長面の反りｗ(C)が−５０μｍ≦ｗ(C)≦５０μｍである請求項１から請求項３までのいずれかに記載のＧａＮ結晶基板。
【請求項５】
前記結晶成長面の面粗さＲｙ(C)がＲｙ(C)≦６０ｎｍである請求項１から請求項４までのいずれかに記載のＧａＮ結晶基板。
【請求項６】
請求項１から請求項５までのいずれかのＧａＮ結晶基板の製造方法であって、
成長させたＧａＮ結晶からＧａＮ結晶基板を切り出す工程と、前記ＧａＮ結晶基板の裏面を処理する工程とを含み、
前記ＧａＮ結晶基板の裏面を処理する工程は、前記裏面を研削する工程、前記裏面を研磨する工程および前記裏面をエッチングする工程の少なくともいずれかの工程を含むＧａＮ結晶基板の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月9日(2009.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１のクラッド層と、第１のガイド層と、活性層と、第２のガイド層と、第２のクラッド層とが順に積層され、
前記第１のクラッド層と前記第２のクラッド層との間に光導波路となる層が構成されるとともに、当該光導波路となる層が基本モードの光の他に高次モードの光をも導波する厚さに形成されており、
前記光導波路となる層の構成層として、前記高次モードの光のみの発振を抑制する位置に、当該高次モードの光を吸収する吸収層が形成されている
半導体レーザ装置。
【請求項２】
前記吸収層は、前記基本モードの光の発振波長に対応する周期の回折格子状に形成されている
請求項１記載の半導体レーザ装置。
【請求項３】
前記高次モードの光は、各層の積層方向における光強度分布が三つのピークを有する
請求項１または２記載の半導体レーザ装置。
【請求項４】
前記高次モードの光は、各層の積層方向における光強度分布が五つのピークを有する
請求項１または２記載の半導体レーザ装置。
【請求項５】
前記高次モードの光を吸収する前記吸収層は、当該高次モードの光の光強度分布のピーク位置のうち、前記活性層の位置と一致するピーク位置を除く、他のピーク位置の少なくとも一つに対応する位置にある
請求項１〜４のいずれか１項に記載の半導体レーザ装置。
【請求項６】
前記ガイド層が片側６００ｎｍ以上の厚さである
請求項１〜５のいずれか１項に記載の半導体レーザ装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は、上記目的を達成するために案出された半導体レーザ装置である。すなわち、第１のクラッド層と、第１のガイド層と、活性層と、第２のガイド層と、第２のクラッド層とが順に積層され、前記第１のクラッド層と前記第２のクラッド層との間に光導波路となる層が構成されるとともに、当該光導波路となる層が基本モードの光の他に高次モードの光をも導波する厚さに形成されており、前記光導波路となる層の構成層として、前記高次モードの光のみの発振を抑制する位置に、当該高次モードの光を吸収する吸収層が形成されている半導体レーザ装置である。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月21日(2009.1.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エンジン出力で回転駆動される回転軸を静止部材に回転自在に支持する自動車電装・補機用転がり軸受であって、前記転がり軸受は、内輪および外輪と、この内輪および外輪間に介在する複数の転動体と、この転動体の周囲にグリース組成物を封止するためのシール部材を前記内輪および外輪の軸方向両端開口部に設けてなり、
前記グリース組成物は基油と、増ちょう剤とからなるベースグリースに添加剤を配合してなるグリース組成物であり、
前記添加剤は、無機ビスマスを含有し、該無機ビスマスの配合割合はベースグリース 100 重量部に対して 0.05〜10 重量部であることを特徴とする自動車電装・補機用転がり軸受。
【請求項２】
前記無機ビスマスは、三酸化ビスマス、ビスマス粉末および炭酸ビスマスから選ばれた少なくとも１つの無機ビスマスであることを特徴とする請求項１記載の自動車電装・補機用転がり軸受。
【請求項３】
前記増ちょう剤は、ウレア系増ちょう剤であることを特徴とする請求項１または請求項２記載の自動車電装・補機用転がり軸受。
【請求項４】
前記基油は、アルキルジフェニルエーテル油およびポリ-α-オレフィン油から選ばれた少なくとも１つの油であることを特徴とする請求項１、請求項２または請求項３記載の自動車電装・補機用転がり軸受。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の自動車電装・補機用転がり軸受はエンジン出力で回転駆動される回転軸を静止部材に回転自在に支持する自動車電装・補機用転がり軸受であって、上記転がり軸受は、内輪および外輪と、この内輪および外輪間に介在する複数の転動体と、この転動体の周囲にグリース組成物を封止するためのシール部材を上記内輪および外輪の軸方向両端開口部に設けてなり、上記グリース組成物は基油と、増ちょう剤とからなるベースグリースに添加剤を配合してなるグリース組成物であって、上記添加剤は無機ビスマスを含有し、該無機ビスマスの配合割合はベースグリース 100 重量部に対して 0.05〜10 重量部であることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記無機ビスマスは、三酸化ビスマス、ビスマス粉末および炭酸ビスマスから選ばれた少なくとも１つの無機ビスマスであることを特徴とする。
上記増ちょう剤は、ウレア系増ちょう剤であることを特徴とする。
上記基油は、アルキルジフェニルエーテル油およびポリ-α-オレフィン油から選ばれた少なくとも１つの油であることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
自動車電装・補機用転がり軸受に封入するグリース組成物は、基油と増ちょう剤とからなるグリースに、無機ビスマスを配合してなるので、自動車や産業機械に使用される軸受で見られる水素脆性による特異な剥離の発生を抑制することができ、自動車電装・補機用転がり軸受の長寿命化が図れる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
上記自動車電装・補機について使用するグリース組成物に、無機ビスマスを配合することにより、摩擦摩耗面または摩耗により露出した金属新生面でビスマス化合物が反応し、酸化鉄とともにビスマス化合物被膜が軸受転走面に生成される。軸受転走面に生成した酸化鉄およびビスマス化合物被膜は、グリースの分解による水素の発生を抑制して、水素ぜい性による特異な剥離を防止できる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
無機ビスマスの配合割合は、上記ベースグリース 100 重量部に対して0.05〜10 重量部である。無機ビスマスの配合割合が上記配合範囲未満であると水素脆性による転走面での剥離を効果的に防止できない。また上記範囲をこえると異常摩耗を生じる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
実施例１〜８
表１に示した基油の半量に、４，４−ジフェニルメタンジイソシアナート（日本ポリウレタン工業社製商品名のミリオネートＭＴ、以下、ＭＤＩと記す）を表１に示す割合で溶解し、残りの半量の基油にＭＤＩの２倍当量となるモノアミンを溶解した。それぞれの配合割合および種類は表１のとおりである。
ＭＤＩを溶解した溶液を撹拌しながらモノアミンを溶解した溶液を加えた後、100〜120℃で 30 分間撹拌を続けて反応させて、ジウレア化合物を基油中に生成させた。
これにビスマス系添加剤（無機ビスマス）および酸化防止剤を表１に示す配合割合で加えてさらに 100〜120℃で 10 分間撹拌した。その後冷却し、三本ロールで均質化し、グリース組成物を得た。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
比較例１〜５
実施例１に準じる方法で、表２に示す配合割合で、増ちょう剤、基油を選択してベースグリースを調整し、さらに添加剤を配合してグリース組成物を得た。得られたグリース組成物を実施例１と同様の試験を行なって評価した。結果を表２に示す。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
【表１】
2007040446.tif 000001
【表２】
2007040446.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月4日(2009.9.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
オペレータによる車両の走行・停止用として運転席周りに設けられ、走行速度の調整が可能な速度調整部材と、
前記速度調整部材の停止操作位置からの変位Ｓを検出する変位検出手段と、
走行駆動源を制御する駆動源制御手段と、
を備えた締固め車両において、
前記変位検出手段と前記駆動源制御手段との間にあって、前記変位Ｓを受けて前記駆動源制御手段に演算処理した信号Ｉを出力する演算手段と、
オペレータが所望の走行速度においてＯＮ操作する走行速度設定スイッチと、
前記演算手段内に設けられ、前記走行速度設定スイッチがＯＮ操作されたときの前記駆動源制御手段への信号Ｉ１を記憶する制御信号記憶手段と、
を備え、
前記演算手段は、
通常時は、前記変位Ｓの増減に応じて走行速度が増減するように信号Ｉを前記駆動源制御手段に出力し、
前記走行速度設定スイッチがＯＮ操作されてＯＮ状態を維持し、かつ前記変位Ｓが所定値以上であるときは、一定速度で走行するように前記制御信号記憶手段に記憶した信号Ｉ１を前記駆動源制御手段に出力することを特徴とする締固め車両。
【請求項２】
前記演算手段は、前記走行速度設定スイッチがＯＮ操作されたときの変位Ｓ１を記憶する変位記憶手段と、
前記走行速度設定スイッチがＯＮ操作されてＯＮ状態のとき、前記変位Ｓと前記変位記憶手段に記憶した変位Ｓ１とを比較する比較手段と、
を備え、
前記走行速度設定スイッチがＯＮ操作されてＯＮ状態を維持し、かつ「変位Ｓ≧変位Ｓ１」のとき、前記変位Ｓ１のときの一定速度で走行するように前記制御信号記憶手段に記憶した信号Ｉ１を前記駆動源制御手段に出力することを特徴とする請求項１に記載の締固め車両。
【請求項３】
オペレータによる車両の走行・停止用として運転席周りに設けられ、走行速度の調整が可能な速度調整部材と、
前記速度調整部材の停止操作位置からの変位Ｓを検出する変位検出手段と、
走行駆動源を制御する駆動源制御手段と、
を備えた締固め車両において、
前記変位検出手段と前記駆動源制御手段との間にあって、前記変位Ｓを受けて前記駆動源制御手段に演算処理した信号Ｉを出力する演算手段と、
オペレータが所望の走行速度においてＯＮ操作する走行速度設定スイッチと、
車両の走行速度Ｖを検出する車速センサと、
前記演算手段内に設けられ、前記走行速度設定スイッチがＯＮ操作されたときの走行速度Ｖ１を記憶する速度記憶手段と、
を備え、
前記演算手段は、
通常時は、前記変位Ｓの増減に応じて走行速度Ｖが増減するように信号Ｉを前記駆動源制御手段に出力し、
前記走行速度設定スイッチがＯＮ操作されてＯＮ状態を維持し、かつ前記変位Ｓが所定値以上であるときは、前記車速センサからの実際の走行速度Ｖをフィードバック情報として用いて、実際の走行速度Ｖが、前記速度記憶手段に記憶した一定の走行速度Ｖ１となるように信号Ｉを前記駆動源制御手段に出力することを特徴とする締固め車両。
【請求項４】
前記演算手段は、前記走行速度設定スイッチがＯＮ操作されたときの変位Ｓ１を記憶する変位記憶手段と、
前記走行速度設定スイッチがＯＮ操作されてＯＮ状態のとき、前記変位Ｓと前記変位記憶手段に記憶した変位Ｓ１とを比較する比較手段と、
を備え、
前記走行速度設定スイッチがＯＮ操作されてＯＮ状態を維持し、かつ「変位Ｓ≧変位Ｓ１」のとき、前記車速センサからの実際の走行速度Ｖをフィードバック情報として用いて、実際の走行速度Ｖが、前記速度記憶手段に記憶した一定の走行速度Ｖ１となるように信号Ｉを前記駆動源制御手段に出力することを特徴とする請求項３に記載の締固め車両。
【請求項５】
前記速度調整部材は、中立位置で車両を停止させ、前記中立位置からそれぞれ前方、後方に倒すと車両を前進、後進させる前後進レバーであり、
この前後進レバーが前進側または後進側のいずれか一方の側にあるときに前記走行速度設定スイッチがＯＮ操作されると、前記走行速度設定スイッチがＯＦＦ操作されるまで、ＯＮ操作以降の前記走行駆動源への制御が他方の側においても適用されることを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれかに記載の締固め車両。
【請求項６】
前記速度調整部材は、中立位置で車両を停止させ、前記中立位置からそれぞれ前方、後方に倒すと車両を前進、後進させる前後進レバーであり、
前記演算手段が、前記走行速度設定スイッチがＯＮ操作されてＯＮ状態を維持し、かつ前記変位Ｓが所定値以上であるときは、一定速度で走行するように前記制御信号記憶手段に記憶した信号Ｉ１を前記駆動源制御手段に出力するタイミングは、オペレータが前記走行速度設定スイッチをＯＮ操作し、その後、前記前後進レバーを一旦中立位置に戻した時点以降であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の締固め車両。
【請求項７】
前記速度調整部材は、中立位置で車両を停止させ、前記中立位置からそれぞれ前方、後方に倒すと車両を前進、後進させる前後進レバーであり、
前記演算手段が、前記走行速度設定スイッチがＯＮ操作されてＯＮ状態を維持し、かつ前記変位Ｓが所定値以上であるときは、前記車速センサからの実際の走行速度Ｖをフィードバック情報として用いて、実際の走行速度Ｖが、前記速度記憶手段に記憶した一定の走行速度Ｖ１となるように信号Ｉを前記駆動源制御手段に出力するタイミングは、オペレータが前記走行速度設定スイッチをＯＮ操作し、その後、前記前後進レバーを一旦中立位置に戻した時点以降であることを特徴とする請求項３または請求項４に記載の締固め車両。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
この締固め車両によれば、前後進を繰り返す締固め施工において、常に一定の走行速度で車両を前後進させることができる。
また、本発明においては、前記速度調整部材は、中立位置で車両を停止させ、前記中立位置からそれぞれ前方、後方に倒すと車両を前進、後進させる前後進レバーであり、前記演算手段が、前記走行速度設定スイッチがＯＮ操作されてＯＮ状態を維持し、かつ前記変位Ｓが所定値以上であるときは、一定速度で走行するように前記制御信号記憶手段に記憶した信号Ｉ１を前記駆動源制御手段に出力するタイミングは、オペレータが前記走行速度設定スイッチをＯＮ操作し、その後、前記前後進レバーを一旦中立位置に戻した時点以降であることを特徴とする。
また、本発明においては、前記速度調整部材は、中立位置で車両を停止させ、前記中立位置からそれぞれ前方、後方に倒すと車両を前進、後進させる前後進レバーであり、前記演算手段が、前記走行速度設定スイッチがＯＮ操作されてＯＮ状態を維持し、かつ前記変位Ｓが所定値以上であるときは、前記車速センサからの実際の走行速度Ｖをフィードバック情報として用いて、実際の走行速度Ｖが、前記速度記憶手段に記憶した一定の走行速度Ｖ１となるように信号Ｉを前記駆動源制御手段に出力するタイミングは、オペレータが前記走行速度設定スイッチをＯＮ操作し、その後、前記前後進レバーを一旦中立位置に戻した時点以降であることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月31日(2009.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数個のランドを有する配線パターンが形成された１個の支持基板と、
前記支持基板の表面に実装され、それぞれ異なる軸方向の振動を検出する少なくとも２個の振動素子と
を備えた振動型ジャイロセンサ。
【請求項２】
請求項１に記載の振動型ジャイロセンサであって、
前記支持基板は、
前記配線パターンが形成され前記各振動素子が実装される第１の面と、
前記第１の面の裏側の、複数個の外部接続端子部が形成された第２の面とを有する
振動型ジャイロセンサ。
【請求項３】
請求項１に記載の振動型ジャイロセンサであって、
前記各振動素子は、動作周波数を１ｋＨｚ以上離してそれぞれ駆動される
振動型ジャイロセンサ。
【請求項４】
請求項３に記載の振動型ジャイロセンサであって、
前記各振動素子は、動作周波数を２ｋＨｚから３ｋＨｚ離してそれぞれ駆動される
振動型ジャイロセンサ。
【請求項５】
請求項１に記載の振動型ジャイロセンサであって、
前記振動素子は、前記ランドに接続される複数の端子部が形成された基部と、
前記基部の側周部から片持ち梁状に一体に突設された振動子部とを有する
振動型ジャイロセンサ。
【請求項６】
請求項５に記載の振動型ジャイロセンサであって、
２個の前記振動素子のうち少なくとも一方の基部が、前記支持基板のコーナ部位に実装されている
振動型ジャイロセンサ。
【請求項７】
請求項６に記載の振動型ジャイロセンサであって、
前記２個の振動素子の基部が、前記支持基板の相対するコーナ部位にそれぞれ実装されている
振動型ジャイロセンサ。
【請求項８】
請求項５に記載の振動型ジャイロセンサであって、
前記各振動素子の前記振動子部は、前記基部の実装面と同一面を構成する基板対向面を有し、
前記基板対向面には、第１電極層と、この第１電極層の上に積層された圧電層と、この圧電層の上に積層された第２電極層とがそれぞれ形成されている
振動型ジャイロセンサ。
【請求項９】
請求項１に記載の振動型ジャイロセンサであって、
２個の前記振動素子が、各々の前記振動子部を互いに９０°異なる軸線上に配置して実装されている
振動型ジャイロセンサ。
【請求項１０】
請求項５に記載の振動型ジャイロセンサであって、
前記各振動素子は、前記基部の実装面に形成された複数の端子部に金属バンプが設けられており、これらの金属バンプを介して前記複数の端子部が前記ランドに接続されている
振動型ジャイロセンサ。
【請求項１１】
請求項１に記載の振動型ジャイロセンサであって、
前記支持基板は、セラミック基板である
振動型ジャイロセンサ。
【請求項１２】
請求項１に記載の振動型ジャイロセンサであって、
前記振動素子の振動子部の先端側には、共振周波数調整用の加工痕が形成されている
振動型ジャイロセンサ。
【請求項１３】
請求項１に記載の振動型ジャイロセンサであって、
前記各振動素子には、前記支持基板に対する位置合わせ用の位置合わせマークが設けられている
振動型ジャイロセンサ。
【請求項１４】
請求項１に記載の振動型ジャイロセンサであって、
前記支持基板には、前記複数の振動素子のほか、回路素子や複数の電子部品が実装されている
振動型ジャイロセンサ。
【請求項１５】
請求項１４に記載の振動型ジャイロセンサであって、
前記回路素子はＩＣ部品であり、前記支持基板の第１の面を第１〜第４の４つの象限に分けたとき、少なくとも各象限にＩＣ部品の実装領域の一部が属する
振動型ジャイロセンサ。
【請求項１６】
請求項１４に記載の振動型ジャイロセンサであって、
前記回路素子はＩＣ部品であり、前記複数の振動素子の実装領域間を結ぶ直線の中間領域が当該ＩＣ部品の主要実装領域とされている
振動型ジャイロセンサ。
【請求項１７】
請求項１４に記載の振動型ジャイロセンサであって、
前記ＩＣ部品は単数で、前記複数の振動素子の駆動検出を行う
振動型ジャイロセンサ。
【請求項１８】
請求項１に記載の振動型ジャイロセンサであって、
前記支持基板に前記振動子との対向間隔を保持するための凹部を形成した
振動型ジャイロセンサ。
【請求項１９】
請求項１に記載の振動型ジャイロセンサであって、
前記支持基板の表面は、遮光性のカバー部材で被覆されている
振動型ジャイロセンサ。
【請求項２０】
請求項１９に記載の振動型ジャイロセンサであって、
前記カバー部材は、前記支持基板に接着により接合されている
振動型ジャイロセンサ。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月3日(2009.7.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
走査ユニットとこの走査ユニットに対して少なくとも１つの方向に移動するスケール本体との相対位置を検出するエンコーダにあって、この場合、スケール本体は、測定方向に延在する少なくとも１つの測定目盛を有し、少なくとも１つの走査目盛が、走査ユニットの走査ユニットの側面上に配置されているエンコーダにおいて、
測定目盛（１０；１１０）又は走査目盛は、測定方向（ｘ）に沿って周期的に配置された目盛領域（１０．１，１０．２）から構成され、これらの目盛領域  （１０．１，１０．２）は、測定方向に対して垂直に延在し、この場合、これらの目盛領域（１０．１，１０．２）は、その延在方向（ｙ）に沿って異なったエッジ輪郭線（ｓ１（ｙ），ｓ２（ｙ））を有し、望まない高調波成分が、発生する走査信号から除去可能であるように、これらのエッジ輪郭線（ｓ１（ｙ），ｓ２（ｙ））は寸法決めされていることを特徴とするエンコーダ。
【請求項２】
横方向に回折された部分ビーム束が、位置に関連する走査信号を妨害しないように、エッジ輪郭線（ｓ１（ｙ），ｓ２（ｙ））がさらに寸法決めされていることを特徴とする請求項１に記載のエンコーダ。
【請求項３】
回折された部分ビーム束が、走査ビーム経路内の非透過のスクリーン（１２７ａ，１２７ｂ）上に当たるように、エッジ輪郭線（ｓ１（ｙ），ｓ２（ｙ））が寸法決めされていることを特徴とする請求項２に記載のエンコーダ。
【請求項４】
回折された部分ビーム束が、検出面内の移相されている多数のインクリメンタル信号の生成に使用される光電式検出素子（２５．１，２５．２，２５．３）上に当たらないように、エッジ輪郭線（ｓ１（ｙ），ｓ２（ｙ））が寸法決めされていることを特徴とする請求項２に記載のエンコーダ。
【請求項５】
エッジ輪郭線（ｓ１（ｙ），ｓ２（ｙ））は、ほぼ正弦状に形成されていることを特徴とする請求項１に記載のエンコーダ。
【請求項６】
測定目盛（１０；１１０）の目盛領域（１０．１，１０．２）は、その両長手側面に延在方向（ｙ）に沿って以下の関係によるエッジ輪郭線（ｓ１（ｙ），ｓ２（ｙ））を有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載のエンコーダ：
s1(y)=-xR -A*sin(2π*y/TP ＿M y ) 
s2(y)=+xR+A*sin(2 π*y/TP ＿M y + φ) 
この場合、
ＴＰ＿Ｍ：測定目盛の周期
ＴＰ＿Ｍy ：目盛周期の延在方向ｙに沿ったエッジ輪郭の周期性
【請求項７】
パラメータｘR ，Ａ及びφは、以下のように選択される請求項６に記載のエンコーダ：x R =0.25*TP＿M 
A=0.1275*TP ＿M 
φ=0
【請求項８】
スケール本体の測定目盛が形成されているスケール本体を有するエンコーダにおいて、走査ユニットは、１つの光源（２１），１つのレンズ（２４）及び多数の光電式検出素子（２５．１，２５．２，２５．３）を有し、これらの光電式検出素子（２５．１，２５．２，２５．３）は、光源（２１）から放出されたビーム束が
−最初に透過光目盛として構成された走査格子（２３．１）上に当たるように配置されていて、この透過光目盛は、多数の回折された部分ビーム束に分割し、これらの部分ビーム束は、測定目盛（１０）の方向に伝播し、
−多数の空間方向への新たな回折が、この測定目盛（１０）で発生し、これらの新たに回折された部分ビーム束が、引き続き再び走査ユニット内の走査格子（２３．２）の方向に伝播し、
−これらの部分ビーム束は、走査ユニット内で走査格子（２３．２）の透過後にレンズ（２４）を通過して部分ビーム束の干渉する対として３つの検出素子（２５．１，２５．２，２５．３）上に当たり、測定目盛（１０）と走査ユニットとの相対移動時に、移動に依存する変調された移相されている走査信号が、これらの検出素子（２５．１，２５．２，２５．３）上で発生することを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載のエンコーダ。
【請求項９】
スケール本体の測定目盛（１１０）が形成されているスケール本体を有するエンコーダにおいて、走査ユニットは、１つの光源（１２１），１つの回折格子  （１２８）及び多数の光電式検出素子（１２５．１，１２５．２，１２５．３）を有し、これらの光電式検出素子（１２５．１，１２５．２，１２５．３）は、光源（１２１）から放出されたビーム束が
−最初に入射光測定目盛として構成された測定目盛（１１０）上に当たるように配置されていて、異なる回折次数の部分ビーム束への分割が、この測定目盛（１１０）で起こり、−次いで測定目盛（１１０）から反射した部分ビーム束が、透過光目盛として構成された走査格子（１２３）上に当たり、次いでその少なくとも一部が、再帰反射素子（１２６）の方向に伝播し、
−これらの部分ビーム束は、再帰反射素子（１２６）によって走査格子（１２３）の方向に再び偏向され、
−これらの部分ビーム束は、引き続き90°だけ互いに回転した２つのλ／４板  （１２９ａ，１２９ｂ）を透過し、これらのλ／４板（１２９ａ，１２９ｂ）は、直線偏向した部分ビーム束を円偏向した部分ビーム束に変換し、
−これらの部分ビーム束は、走査格子（１２３）を引き続き透過した後に測定目盛（１１０）上に当たり、第２の反射後に走査ユニットの方向に再び伝播し、
−これらの部分ビーム束は、走査ユニット内で回折格子（１２８）の透過後に３つの部分ビーム束になり、これらの３つの部分ビーム束は、引き続き互いに60°だけ回転した３つのアナライザ（１３０．１，１３０．２，１３０．３）を透過し、光電式検出素子（１２５．１，１２５．２，１２５．３）が、これらのアナライザの後ろに配置されていて、スケール本体と走査本体との相対移動時に、移動に依存する変調された移相されている走査信号が、これらの光電式検出素子上で発生することを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載のエンコーダ。
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月15日(2009.5.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水を微粒化する手段によって発生する水粒子の通路に、微生物を滅するのに充分な高温域を作る赤外線熱源と、加湿空気が通過できる空隙を有するフィルターを備える加湿装置。
【請求項２】
フィルターが水粒子の蒸発残留物あるいはおよび微生物を捕集することを特徴とする請求項１記載の加湿装置。
【請求項３】
水を微粒化する手段によって発生する水粒子の径が１μｍ〜６０μｍであることを特徴とする請求項１または２記載の加湿装置。
【請求項４】
水を微粒化する手段が超音波振動子であることを特徴とする請求項１乃至３いずれかに記載の加湿装置。
【請求項５】
超音波振動子が振動を伝える媒体で覆われていることを特徴とする請求項４記載の加湿装置。
【請求項６】
赤外線熱源より後段の通路の開口断面積を大きくしたことを特徴とする請求項１乃至５いずれかに記載の加湿装置。
【請求項７】
水粒子の通路の少なくとも一部が、赤外線反射作用のある材料を含むことを特徴とする請求項１乃至６いずれかに記載の加湿装置。
【請求項８】
水粒子の通路が、銅、銀、亜鉛、ニッケルから選ばれる少なくとも一種類の抗菌性金属を含むことを特徴とする請求項１乃至７いずれかに記載の加湿装置。
【請求項９】
水粒子の通路が、銅、銀、亜鉛、ニッケル、アルミニウム、カーボンから選ばれる２種類以上の材料を含み、前記材料が電気的に接合されていることを特徴とする請求項１乃至８いずれかに記載の加湿装置。
【請求項１０】
フィルターに赤外線を照射することを特徴とする請求項１乃至９いずれかに記載の加湿装置。
【請求項１１】
フィルターが金属を含むことを特徴とする請求項１乃至１０いずれかに記載の加湿装置。
【請求項１２】
フィルターが、銅、銀、亜鉛、ニッケルから選ばれる少なくとも一種類の抗菌性金属を含むことを特徴とする請求項１乃至１１いずれかに記載の加湿装置。
【請求項１３】
フィルターが赤外線吸収材料を含むことを特徴とする請求項１乃至１２いずれかに記載の加湿装置。
【請求項１４】
フィルターを赤外線熱源の後段に配置することを特徴とする請求項１乃至１３いずれかに記載の加湿装置。
【請求項１５】
赤外線熱源の周囲にフィルターを配置することを特徴とする請求項１乃至１４いずれかに記載の加湿装置。
【請求項１６】
フィルターが回転することを特徴とする請求項１乃至１５いずれかに記載の加湿装置。
【請求項１７】
赤外線熱源の前段に、超音波振動子に直接赤外線が照射されるのを防ぐ反射板を設けたことを特徴とする請求項４乃至１６いずれかに記載の加湿装置。
【請求項１８】
フィルターが着脱自在である請求項１乃至１７いずれかに記載の加湿装置。
【請求項１９】
フィルターが洗浄可能である請求項１乃至１８いずれかに記載の加湿装置。
【請求項２０】
加湿運転停止時に、加熱および／または送風運転を行い、装置内を乾燥させることを特徴とする請求項１乃至１９いずれかに記載の加湿装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月9日(2009.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エッチングにより回路形成を行う電子回路用銅箔において、エッチング面側に銅よりエッチングレートの遅い金属又は合金層を、１００〜１００００μｇ／ｄｍ２形成したことを特徴とする電子回路用銅箔。
【請求項２】
銅張り積層板であることを特徴とする請求項１記載の電子回路用銅箔。
【請求項３】
銅よりエッチングレートの遅い金属又は合金層がコバルト、ニッケル又はこれらの合金層であることを特徴とする請求項１又は２記載の電子回路用銅箔。
【請求項４】
銅箔のエッチング側面の傾斜角度が、８０〜９５度の範囲にあることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の電子回路用銅箔。
【請求項５】
銅箔のエッチング側面の傾斜角度が、８５〜９０度の範囲にあることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の電子回路用銅箔。
【請求項６】
銅張り積層板の銅箔をエッチングし電子回路を形成する方法において、銅箔のエッチング面側に銅よりエッチングレートの遅い金属又は合金層を１００〜１００００μｇ／ｄｍ２形成した後、塩化第二銅水溶液を用いて該銅箔をエッチングし、回路を形成することを特徴とする電子回路の形成方法。
【請求項７】
銅よりエッチングレートの遅い金属又は合金層がコバルト、ニッケル又はこれらの合金層であることを特徴とする請求項６記載の電子回路の形成方法。
【請求項８】
銅箔のエッチング側面の傾斜角度が、８０〜９５度の範囲にあることを特徴とする請求項６又は７に記載の電子回路の形成方法。
【請求項９】
銅箔のエッチング側面の傾斜角度が、８５〜９０度の範囲にあることを特徴とする請求項６又は７に記載の電子回路の形成方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月15日(2008.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
正の出力電圧発生回路及び負の出力電圧発生回路とを具備する圧電トランス式高圧電源装置において、
前記出力電圧発生回路の夫々は、圧電トランスと、圧電トランス駆動回路と、出力電圧検出回路と、前記出力電圧検出回路からの信号と、出力電圧を設定するための出力電圧設定信号に基づいて前記圧電トランス駆動回路を制御する制御信号を出力する駆動制御回路を有し、
前記駆動制御回路は、出力極性を切り替える際に、正の出力電圧発生回路及び負の出力電圧発生回路を同時にＯＮする時間を設定することを特徴とする圧電トランス式高圧電源装置。
【請求項２】
前記出力電圧のターゲット電圧値に応じて、出力極性を切り替える際の前記正の出力電圧発生回路及び負の出力電圧発生回路を同時にＯＮする期間を変化させることを特徴とする請求項１記載の画像形成装置。
【請求項３】
転写材を静電吸着して搬送させるためのベルト部材と、転写材を前記ベルト部材へ静電吸着させるために転写材を帯電させる吸着部と、正の出力電圧発生回路及び負の出力電圧発生回路とを備え、前記吸着部に高電圧を出力する圧電トランス式高圧電源装置を有する画像形成装置において、
前記出力電圧発生回路の夫々は、圧電トランスと、圧電トランス駆動回路と、出力電圧検出回路と、前記出力電圧検出回路からの信号と、出力電圧を設定するための出力電圧設定信号に基づいて前記圧電トランス駆動回路を制御する制御信号を出力する駆動制御回路を有し、
前記駆動制御回路は、前記吸着部に出力する高電圧の出力極性を切り替える際に、正の出力電圧発生回路及び負の出力電圧発生回路を同時にＯＮする時間を設定することを特徴とする画像形成装置。
【請求項４】
前記画像形成装置の使用環境である温度又は湿度に応じて、出力極性を切り替える際の正の出力電圧発生回路及び負の出力電圧発生回路を同時にＯＮする期間を変化させることを特徴とする請求項３記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記吸着部に印加される高電圧のターゲット電圧値に応じて、出力極性を切り替える際の正の出力電圧発生回路及び負の出力電圧発生回路を同時にＯＮする期間を変化させることを特徴とする請求項２記載の画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
上記目的を達成するため、本発明に従う圧電トランス式高圧電源装置は、正の出力電圧発生回路及び負の出力電圧発生回路とを具備する圧電トランス式高圧電源装置において、前記出力電圧発生回路の夫々は、圧電トランスと、圧電トランス駆動回路と、出力電圧検出回路と、前記出力電圧検出回路からの信号と、出力電圧を設定するための出力電圧設定信号に基づいて前記圧電トランス駆動回路を制御する制御信号を出力する駆動制御回路を有し、前記駆動制御回路は、出力極性を切り替える際に、正の出力電圧発生回路及び負の出力電圧発生回路を同時にＯＮする時間を設定することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
本発明の画像形成装置は、転写材を静電吸着して搬送させるためのベルト部材と、転写材を前記ベルト部材へ静電吸着させるために転写材を帯電させる吸着部と、正の出力電圧発生回路及び負の出力電圧発生回路とを備え、前記吸着部に高電圧を出力する圧電トランス式高圧電源装置を有する画像形成装置において、前記出力電圧発生回路の夫々は、圧電トランスと、圧電トランス駆動回路と、出力電圧検出回路と、前記出力電圧検出回路からの信号と、出力電圧を設定するための出力電圧設定信号に基づいて前記圧電トランス駆動回路を制御する制御信号を出力する駆動制御回路を有し、前記駆動制御回路は、前記吸着部に出力する高電圧の出力極性を切り替える際に、正の出力電圧発生回路及び負の出力電圧発生回路を同時にＯＮする時間を設定することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】