【手続補正書】
【提出日】平成25年10月10日(2013.10.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
接触検出機器における方法において、前記機器が、接触面（４）および対向面（５）を画定する光透過パネル（１）と、前記パネル（１）内で光シートを供給するための光源機構（２；８）であって、各シートが、前記接触面（４）と前記対向面（５）との間の内部反射によって、入力結合部位（１０）から出力結合部位（１１）へ伝播する光を含む光源機構（２；８）と、を含み、前記機器が、前記出力結合部位（１１）に達する光を検出するための光センサ機構（３；９）であって、前記接触面（４）に接触する１つまたは複数の対象（６）が少なくとも２つの光シートの局所的減衰を引き起こすように前記接触検出機器が構成された光センサ機構（３；９）をさらに含み、前記方法が、
前記出力結合部位（１１）内で、光の空間分布を示す少なくとも１つの投影信号（Ｓｉ）を取得するステップと、
前記減衰を表す信号プロファイル（Ｐｉ、ｊ）の識別のために前記少なくとも１つの投影信号（Ｓｉ）を処理するステップと、
前記信号プロファイル（Ｐｉ、ｊ）に基づいて、前記接触面（４）上の１つまたは複数の候補接触領域を識別するステップと、
前記１つまたは複数の候補接触領域内で、信号値の二次元分布を再構成するために前記少なくとも１つの投影信号（Ｓｉ）を処理するステップと、
前記候補接触域内で、前記再構成された信号値を処理することによって、前記または各対象（６）用の接触データを決定するステップと、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法において、前記識別ステップが、各信号プロファイル（Ｐｉ、ｊ）用に、前記接触面（４）にわたる減衰経路（Ａｉ、ｊ）を決定するステップであって、前記減衰経路が、前記信号プロファイル（Ｐｉ、ｊ）に基づいて決定される幅を有するステップと、このように決定された減衰経路（Ａｉ、ｊ）のセットの関数として、前記接触面（４）上の前記１つまたは複数の候補接触領域を識別するステップと、を含むことを特徴とする方法。
【請求項３】
請求項２に記載の方法において、前記識別ステップが、前記減衰経路（Ａｉ、ｊ）を交差させるステップを含むことを特徴とする方法。
【請求項４】
請求項３に記載の方法において、前記取得ステップが、複数の投影信号（Ｓｉ）を取得するステップであって、各投影信号（Ｓｉ）が、前記接触面（４）の不感帯（Ｄｉ、ｊ）のセットに関連付けられ、前記投影信号（Ｓｉ）が、前記接触面（４）に接触する対象（６）に無感応であるステップを含み、かつ前記識別ステップが、前記減衰経路（Ａｉ、ｊ）を前記不感帯（Ｄｉ、ｊ）と交差させるステップをさらに含むことを特徴とする方法。
【請求項５】
請求項２に記載の方法において、前記取得ステップが、複数の投影信号（Ｓｉ）を取得するステップを含み、前記識別ステップが、各投影信号（Ｓｉ）用に、前記接触面（４）上の前記関連減衰経路（Ａｉ、ｊ）の位置を表す経路図（Ａｉ）を生成するステップと、前記生成された経路図（Ａｉ）を交差させるステップと、を含むことを特徴とする方法。
【請求項６】
請求項５に記載の方法において、各経路図（Ａｉ）が、前記光シートの１つに関連付けられ、かつ前記識別ステップが、前記関連するシートにおける光線間の角度を最小化するように経路図（Ａｉ）ペアを形成するステップと、前記経路図（Ａｉ）ペアを交差させるステップと、を含むことを特徴とする方法。
【請求項７】
請求項２に記載の方法において、前記取得ステップが、複数の投影信号（Ｓｉ）を取得するステップを含み、かつ前記識別ステップが、各投影信号（Ｓｉ）ペア用に、前記投影信号（Ｓｉ）ペア用に決定された前記減衰経路（Ａｉ、ｊ）の交差を表す経路図（Ａｉ）を生成するステップと、前記生成された経路図（Ａｉ）を交差させるステップと、を含むことを特徴とする方法。
【請求項８】
請求項５〜７のいずれか一項に記載の方法において、前記交差させるステップが、前記経路図（Ａｉ）を幾何学的に整列させるステップと、前記経路図（Ａｉ）に対して論理積演算を実行するステップと、を含むことを特徴とする方法。
【請求項９】
請求項５〜８のいずれか一項に記載の方法において、各経路図（Ａｉ）が、前記接触面（４）上の前記不感帯（Ｄｉ、ｊ）の位置をさらに表してもよく、前記投影信号（Ｓｉ）が、前記接触面（４）に接触する対象（６）に無感応であることを特徴とする方法。
【請求項１０】
請求項２〜９のいずれか一項に記載の方法において、前記減衰経路を決定する前記ステップが、多角形、好ましくは凸多角形によって各減衰経路（Ａｉ、ｊ）を表すステップを含むことを特徴とする方法。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法において、各投影信号（Ｓｉ）が、前記光シートの１つに関連付けられることを特徴とする方法。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の方法において、前記投影信号（Ｓｉ）を取得する前記ステップが、前記出力結合部位内（１１）で、光エネルギの空間分布を表すエネルギ信号を取得するステップと、背景信号（ＲＥＦ）によって前記エネルギ信号を正規化するステップであって、前記背景信号（ＲＥＦ）が、前記接触面（４）に対象（６）が接触していない状態で前記出力結合部位（１１）内で前記光エネルギ空間分布を表すステップと、を含むことを特徴とする方法。
【請求項１３】
データ処理システム上で実行される場合に、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の方法を実行するように適合されたコンピュータコードを含むコンピュータプログラムプロダクト。
【請求項１４】
接触検出機器に含まれる、接触面（４）における１つまたは複数の対象（６）用の接触データを決定するための装置において、前記接触検出機器が、前記接触面（４）および対向面（５）を画定する光透過パネル（１）と、前記パネル（１）内で光シートを供給するための光源機構（２；８）であって、各シートが、前記接触面（４）と前記対向面（５）との間の内部反射によって、入力結合部位（１０）から出力結合部位（１１）へ伝播する光を含む光源機構（２；８）と、前記出力結合部位（１１）に達する光を検出するための光センサ機構（３；９）であって、前記接触面（４）に接触する各対象（６）が少なくとも２つの光シートを局所的に減衰させるように、前記接触検出機器が構成される光センサ機構（３；９）と、を含み、前記装置が、
前記出力結合部位（１１）内で光の空間分布を示す少なくとも１つの投影信号（Ｓｉ）を取得するための要素（１３００）と、
前記減衰を表す信号プロファイル（Ｐｉ、ｊ）の識別のために前記少なくとも１つの投影信号（Ｓｉ）を処理するための要素（１３０２）と、
前記信号プロファイル（Ｐｉ、ｊ）に基づいて、前記接触面（４）上の１つまたは複数の候補接触領域を識別するための要素（１３０４）と、
前記１つまたは複数の候補接触領域内で信号値の二次元分布を再構成するために、前記少なくとも１つの投影信号（Ｓｉ）を処理するための要素（１３０６）と、
前記候補接触域内で、前記再構成された信号値を処理することによって、前記または各対象（６）用の接触データを決定するための要素（１３０８）と、を含むことを特徴とする装置。
【請求項１５】
接触検出機器における方法において、前記機器が、接触面（４）および対向面（５）を画定する光透過パネル（１）と、前記パネル（１）内で光シートを供給するための光源機構（２；８）であって、各シートが、前記接触面（４）と前記対向面（５）との間の内部反射によって、入力結合部位（１０）から出力結合部位（１１）へ伝播する光を含む光源機構（２；８）と、を含み、前記機器が、前記出力結合部位（１１）に達する光を検出するための光センサ機構（３；９）であって、前記接触面（４）に接触する１つまたは複数の対象（６）が少なくとも２つの光シートを局所的減衰を引き起こすように前記接触検出機器が構成される光センサ機構（３；９）をさらに含み、前記方法が、
前記出力結合部位（１１）内で光の空間分布を示す少なくとも１つの投影信号（Ｓｉ）を取得するステップと、
前記減衰を表す信号プロファイル（Ｐｉ、ｊ）の識別のために前記少なくとも１つの投影信号（Ｓｉ）を処理するステップと、
各信号プロファイル（Ｐｉ、ｊ）用に、前記接触面（４）にわたる減衰経路（Ａｉ、ｊ）を決定するステップであって、前記減衰経路（Ａｉ、ｊ）が、前記信号プロファイル（Ｐｉ、ｊ）に基づいて決定される幅を有するステップと、
このように決定された減衰経路（Ａｉ、ｊ）のセットの関数として、前記接触面（４）上の１つまたは複数の候補接触領域を識別するステップと、
前記候補接触領域に基づいて、前記または各対象（６）用の接触データを決定するステップと、
を含むことを特徴とする方法。