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【手続補正書】
【提出日】平成21年2月10日(2009.2.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置の作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁性基板上に半導体膜を形成し、
前記半導体膜上に酸化珪素膜を形成し、
前記酸化珪素膜上にゲート電極を形成し、
前記ゲート電極上に窒化珪素膜を形成し、
臭化水素及び塩素を含む混合ガスを用いて前記窒化珪素膜をドライエッチングすることによって、前記ゲート電極上および前記半導体膜上の前記窒化珪素膜を除去するとともに、前記ゲート電極の側面に前記窒化珪素膜の一部を残して、サイドウォールを形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項２】
絶縁性基板上に半導体膜を形成し、
前記半導体膜上に酸化珪素膜を形成し、
前記酸化珪素膜上にゲート電極を形成し、
前記ゲート電極をマスクとして、前記半導体膜に一導電型を付与する不純物を導入して、低濃度不純物領域を形成し、
前記ゲート電極上に窒化珪素膜を形成し、
臭化水素及び塩素を含む混合ガスを用いて前記窒化珪素膜をドライエッチングすることによって、前記ゲート電極上および前記半導体膜上の前記窒化珪素膜を除去するとともに、前記ゲート電極の側面に前記窒化珪素膜の一部を残して、サイドウォールを形成し、
前記ゲート電極及び前記サイドウォールをマスクとして、前記半導体膜に前記一導電型を付与する不純物を導入して、高濃度不純物領域を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項３】
半導体基板上に酸化珪素膜を形成し、
前記酸化珪素膜上にゲート電極を形成し、
前記ゲート電極上に窒化珪素膜を形成し、
臭化水素及び塩素を含む混合ガスを用いて前記窒化珪素膜をドライエッチングすることによって、前記ゲート電極上および前記半導体基板上の前記窒化珪素膜を除去するとともに、前記ゲート電極の側面に前記窒化珪素膜の一部を残して、サイドウォールを形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項４】
半導体基板上に酸化珪素膜を形成し、
前記酸化珪素膜上にゲート電極を形成し、
前記ゲート電極をマスクとして、前記半導体膜に一導電型を付与する不純物を導入して、低濃度不純物領域を形成し、
前記ゲート電極上に窒化珪素膜を形成し、
臭化水素及び塩素を含む混合ガスを用いて前記窒化珪素膜をドライエッチングすることによって、前記ゲート電極上および前記半導体基板上の前記窒化珪素膜を除去するとともに、前記ゲート電極の側面に前記窒化珪素膜の一部を残して、サイドウォールを形成し、
前記ゲート電極及び前記サイドウォールをマスクとして、前記半導体膜に前記一導電型を付与する不純物を導入して、高濃度不純物領域を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項において、
前記混合ガスは、さらに酸素を含むことを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項において、
前記混合ガスにおける前記臭化水素の流量の割合は、前記混合ガスの総流量に対して５０％と同じ、若しくはそれ以上とすることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月23日(2009.1.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に剥離層を形成し、
前記剥離層上に絶縁層を形成し、
前記絶縁層上に第１の半導体層及び第２の半導体層を形成し、
前記第１の半導体層及び前記第２の半導体層上にゲート絶縁層を形成し、
前記第１の半導体層上及び前記第２の半導体層上に、前記ゲート絶縁層を介して、第１のゲート電極及び第２のゲート電極をそれぞれ形成し、
前記第１のゲート電極上、前記第２のゲート電極上及び前記ゲート絶縁層上に第１の層間絶縁膜を形成し、
前記第１の層間絶縁膜及び前記ゲート絶縁膜に、前記第１の半導体層又は前記第２の半導体層に達する複数のコンタクトホールを形成し、
前記第１の層間絶縁膜上に複数の第１の配線を形成し、前記複数の第１の配線は前記第１の半導体層又は前記第２の半導体層に電気的に接続し、
前記複数の第１の配線上及び前記第１の層間絶縁膜上に第２の層間絶縁膜を形成し、
前記第２の層間絶縁膜に、前記複数の第１の配線の一部に達するコンタクトホールを形成し、
前記第２の層間絶縁膜上に複数の第２の配線を形成し、前記複数の第２の配線は前記複数の第１の配線の一部と電気的に接続し、
前記複数の第２の配線上及び前記第２の層間絶縁膜上に複数の第３の配線を形成し、前記複数の第３の配線の一部は前記複数の第２の配線の一部に電気的に接続し、
前記複数の第２の配線上、前記複数の第３の配線上及び前記第２の層間絶縁膜上に樹脂からなる保護層を形成し、
前記第１の半導体層及び前記第２の半導体層の間に設けられている、前記保護層、前記第２の層間絶縁膜、前記第１の層間絶縁膜、前記ゲート絶縁膜及び前記絶縁層を、選択的にエッチングして前記剥離層に達する開口部を形成し、
前記剥離層を選択的にエッチングし、
前記保護層上に第１の基材を接着させ、
前記基板を前記剥離層から分離し、
前記第１の基材に紫外線を照射し、
前記絶縁層下に第２の基材を接着させ、
前記第１の基材を剥離し、
前記第２の基材に紫外線を照射し、
前記保護層上に第３の基材を接着し、
前記第２の基材を剥離し、
前記絶縁層下に第４の基材を接着するものであり、
前記剥離層は珪素を主成分として含む非晶質若しくは結晶質の半導体層又は金属からなる層と該金属の酸化物層とが積層して成る層であり、
前記第１の基材及び前記第２の基材は、１００μｍ以上の厚さを有し、可撓性を有するシート若しくはフィルムに、紫外線照射又は加熱によって粘着性が低下する粘着層が設けられたものであり、
前記第３の基材及び前記第４の基材は、５０μｍ以下の厚さを有し、可撓性を有するシート若しくはフィルムに、熱可塑性樹脂を主成分として含む接着層が設けられたものであることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項２】
請求項１において、前記第１の基材及び前記第２の基材は、接着時において５０００Ｎ／２０ｍｍよりも大きい粘着性を有し、紫外線照射後に４９０Ｎ／２０ｍｍよりも小さい粘着性を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項３】
請求項１又は２において、前記第２の基材を剥離する際に、前記第３の基材に取り外し可能で１００μｍ−２００μｍの厚さを有するフィルム又はシートを貼り付けておくことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一において、前記第１の基材に紫外線を照射した後、前記第１の基材に１２０−１４０℃の加熱処理を行ってから、前記絶縁層下に前記第２の基材を接着させることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一において、前記第２の基材に紫外線を照射した後、前記第１の基材に１２０−１４０℃の加熱処理を行ってから、前記保護層上に前記第３の基材を接着させることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月29日(2009.1.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レチクルのパターンを被処理体に投影する投影光学系を備え、前記被処理体の表面と前記投影光学系の最終光学素子との間に液体を満たし、前記投影光学系及び前記液体を介して前記被処理体を露光する露光装置であって、
前記被処理体の周囲に配置され、前記被処理体の表面と同じ高さの表面を持ち、前記液体を保持する液体保持部を有し、
前記液体保持部の表面は、前記液体と前記被処理体の表面との第１の接触角が前記液体と前記液体保持部の表面との第２の接触角以下であり、且つ、前記液体と前記被処理体の表面との第１の後退接触角が前記液体と前記液体保持部の表面との第２の後退接触角以下であることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記第２の後退接触角は、９０°以上であることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の露光装置を用いて被処理体を露光するステップと、
露光された前記被処理体を現像するステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の一側面としての露光装置は、レチクルのパターンを被処理体に投影する投影光学系を備え、前記被処理体の表面と前記投影光学系の最終光学素子との間に液体を満たし、前記投影光学系及び前記液体を介して前記被処理体を露光する露光装置であって、前記被処理体の周囲に配置され、前記被処理体の表面と同じ高さの表面を持ち、前記液体を保持する液体保持部を有し、前記液体保持部の表面は、前記液体と前記被処理体の表面との第１の接触角が前記液体と前記液体保持部の表面との第２の接触角以下であり、且つ、前記液体と前記被処理体の表面との第１の後退接触角が前記液体と前記液体保持部の表面との第２の後退接触角以下であることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
図９は、図６にＡで示す回収ノズル１５４のノズル口の周辺部分の拡大断面図である。図９は、液体Ｌがウェハ１４０と液体保持板１４４の間に供給された状態から、右側にウェハステージ１４２を移動させた際の液体Ｌの形状変化を示した図である。液体Ｌのウェハ１４０に対する接触角を第１の接触角、液体Ｌの液体保持板１４４に対する接触角を第２の接触角とした際に、図９（ａ）は、第１の接触角が第２の接触角以下の場合の液体Ｌの形状変化を示す図である。図９（ｂ）は、第１の接触角が第２の接触角より大きい場合の液体Ｌの形状変化を示す図である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
図１０において、液体Ｌは、ウェハステージ１４２の移動方向と逆方向に変形する。従って、ウェハステージ１４２の移動方向Ｄと逆の方向の動的接触角が前進接触角ＣＡ１、ウェハステージ１４２の移動方向Ｄと同じ方向の動的接触角が後退接触角ＣＡ２となる。かかる動的接触角は、ウェハステージ１４２の移動速度によっても変化する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
このように、ウェハ１４０の後退接触角（第１の後退接触角）を液体保持板１４４の後退接触角以下（第２の後退接触角以下）にすることで、液体保持板１４４の上面に液体Ｌが残りにくくすることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月3日(2009.2.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
ガイド突起部４７ｊ及び４７ｋの間には、リング部４３ｂの外周面が接触する接触部４７ｌが備えられる。この接触部４７ｌの形状は半円形状である。接触部４７ｌの半円略上部は、１８０°展開された綴じ部品４３を図９に示す半綴じ状態の綴じ部品４３にするまでに使用される。接触部４７ｌの半円略下部は、半綴じ状態の綴じ部品４３を図６（Ａ）に示す環状の綴じ部品４３にするまでに使用される。これにより、綴じ部品４３のリング部４３ｂに角がたたないので、綴じ部品４３を滑らかに綴じることができる。また、綴じ爪４１ｚは、軸係合部４７ｅ及びネジ穴４７ｃを備えている。このネジ穴４７ｃは、図５に示した板金４７ｆなどを固定するために使用される。軸係合部４７ｅには、図７（Ｂ）に示す綴じ爪回転軸４７ｂが挿入される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
図１１（Ａ）は、綴じ爪４１ｚの動作例（環状態）を示す一部破砕の上面図である。図１１（Ａ）に示す綴じ爪４１ｚは、図１０（Ａ）に示した綴じ爪４１ｚの状態から綴じ部品４３が環状になるまで綴じられたものである。このとき、ガイド部４７ｈは、綴じ部品４３のリンク部４３ｂをガイドするようになされる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2008023864.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月31日(2009.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
駆動軸を備えたモータと、
少なくとも該モータを内蔵するケーシング部と、
該駆動軸により駆動されると共に打撃子を駆動するピストンと、
該ピストンと該駆動軸との間に配置されて該駆動軸と平行に延びると共に、該駆動軸により回転駆動される中間軸と、
該中間軸上に配置されて該中間軸と連動可能であると共に、該駆動軸の回転運動を往復運動に変換する運動変換機構とを備え、
該運動変換機構は、第一運動変換機構を有し、該ピストンは該第一運動変換機構に接続されて該中間軸の軸方向に往復運動可能に構成され、
更に、複数種の低振動機構を備えたことを特徴とする電動工具。
【請求項２】
１種の低振動機構は、該ピストンの往復運動と逆位相で該中間軸の軸方向と略平行に往復運動可能なカウンタウェイトを有し、他の１種の低振動機構は、少なくとも該モータと該ケーシング部とから構成される本体に加わった振動に起因し該ピストンの往復運動方向に往復運動する第二のウェイトを有することを特徴とする請求項１記載の電動工具。
【請求項３】
該カウンタウェイトは、該ピストンと略同一質量であることを特徴とする請求項２に記載の電動工具。
【請求項４】
該運動変換機構は、第二運動変換機構を有し、
該カウンタウェイトは、該第二運動変換機構に接続されて、該ピストンの往復運動と逆位相に往復運動可能に構成されていることを特徴とする請求項２または請求項３のいずれかに記載の電動工具。
【請求項５】
該第一運動変換機構と該第二運動変換機構とは、該カウンタウェイトと該ピストンとのそれぞれの重心を結ぶ直線と平行な直線上に配置されていることを特徴とする請求項２または請求項４のいずれか一に記載の電動工具。
【請求項６】
該カウンタウェイトと該ピストンとは、それぞれの重心位置が、該中間軸の軸方向と平行な直線上に位置するように配置されていることを特徴とする請求項２乃至請求項５のいずれか一に記載の電動工具。
【請求項７】
該第一運動変換機構と該第二運動変換機構とは、略同一形状に構成されていることを特徴とする請求項４または請求項５のいずれかに記載の電動工具。
【請求項８】
該第一運動変換機構は、該中間軸の軸方向に沿って往復揺動する第一端部と、該中間軸に関して該第一端部と反対側に位置する第二端部とを有し、
該ピストンは該第一端部に接続されて往復運動し、
該第二端部には該カウンタウェイトが接続されて往復駆動されることを特徴とする請求項２または請求項３のいずれかに記載の電動工具。
【請求項９】
該ピストンの運動量と、該カウンタウェイトの運動量と、該第一端部の運動量と、該第二端部の運動量との和は、略０になるように構成されていることを特徴とする請求項８に記載の電動工具。
【請求項１０】
該第二のウェイトは、該第二のウェイトを初期位置に付勢する付勢手段を有する動吸振器を構成部品であることを特徴とする請求項２乃至請求項９のいずれか一に記載の電動工具。
【請求項１１】
該ケーシング部は、該モータを内蔵するモータケーシングと、該ピストンと該中間軸と該運動変換機構と該カウンタウェイトとを内蔵するギアケーシングとを有し、
該動吸振器は、該モータケーシングと該ギアケーシングとの間に配置されていることを特徴とする請求項１０に記載の電動工具。
【請求項１２】
該動吸振器は、該ケーシング部の外周に配置されていることを特徴とする請求項１０に記載の電動工具。
【請求項１３】
該動吸振器は、該ケーシング部に連結される保持部と、該保持部から延出されて該中間軸の軸方向と略直交する方向に延出された弾性変形部とを備え、該ウェイトは該弾性変形部に付設されていることを特徴とする請求項１０乃至請求項１２のいずれか一に記載の電動工具。
【請求項１４】
該動吸振器は、該ケーシング部に連結される保持部と、該保持部内に配置され該中間軸の軸方向と平行な方向に延びる弾性変形部とを備え、該ウェイトは該保持部内に配置されて該弾性変形部に支持されていることを特徴とする請求項１０乃至請求項１２のいずれか一に記載の電動工具。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月23日(2009.6.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マイクロリアクター本体、
前記マイクロリアクター本体内に形成された微小流路、及び、
前記マイクロリアクター本体に着脱可能に設けられ、前記微小流路端部に給排パイプを接続する一体型接続部を有することを特徴とする
マイクロリアクター装置。
【請求項２】
前記マイクロリアクター本体が第１の基材及び第２の基材の接合により形成され、接合面に微小流路が形成された、請求項１に記載のマイクロリアクター装置。
【請求項３】
前記一体型接続部が、接続部本体、前記接続部本体に固定され給排パイプを接続可能なジョイント部材、及び、前記接続部本体を前記マイクロリアクター本体に着脱可能な固定手段を有する、請求項１又は２に記載のマイクロリアクター装置。
【請求項４】
前記ジョイント部材の中心軸が、前記マイクロリアクター本体における前記微小流路端における接線方向に一致するように設けられた、請求項３に記載のマイクロリアクター装置。
【請求項５】
前記マイクロリアクター本体が前記微小流路端部付近に切り欠き部を有し、この切り欠き部に前記一体型接続部を着脱可能にはめ込んだ、請求項１〜４いずれか１つに記載のマイクロリアクター装置。
【請求項６】
前記一体型接続部の接続部本体と前記マイクロリアクター本体との間に弾性部材で構成されたリング状の閉塞部材を取り付けた、請求項１〜５いずれか１つに記載のマイクロリアクター装置。
【請求項７】
前記第１の基材及び前記第２の基材が熱可塑性樹脂よりなる、請求項２〜６いずれか１つに記載のマイクロリアクター装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月23日(2009.6.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
異なる２以上の流体を多相流として形成する微小流路を有し、
前記多相流の断面形状が、（１）複数の多角形が２次元状に配列されかつ前記多角形が相互に隣接した形状、（２）多角形が円若しくは楕円に内接するか若しくは多角形が円若しくは楕円に外接する形状、又は、（３）複数の円及び／若しくは楕円が２次元状に配列されかつ前記円及び／若しくは楕円が相互に隣接した形状、を少なくとも一部に有することを特徴とする
マイクロ流路デバイス。
【請求項２】
前記多角形が三角形、四角形、又は六角形である請求項１に記載のマイクロ流路デバイス。
【請求項３】
前記多角形が三角形であり、３種類若しくは６種類の流体を接触させる請求項２に記載のマイクロ流路デバイス。
【請求項４】
前記多角形が四角形であり、２種類若しくは４種類の流体を接触させる請求項２に記載のマイクロ流路デバイス。
【請求項５】
前記多角形が六角形であり、３種類の流体を接触させる請求項２に記載のマイクロ流路デバイス。
【請求項６】
フラクタル構造により異なる２以上の流体を分岐する流路分岐構造を有する請求項１〜５のいずれか１つに記載のマイクロ流路デバイス。
【請求項７】
多相流と微小流路の内壁との間に少なくとも流速調整層を有する請求項１〜６のいずれか１つに記載のマイクロ流路デバイス。
【請求項８】
少なくとも一部がパターン層を積層した構造である請求項１〜７のいずれか１つに記載のマイクロ流路デバイス。
【請求項９】
前記パターン層が、金属ニッケルの表面に金メッキを施した部材である請求項１〜８のいずれか１つに記載のマイクロ流路デバイス。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか１つに記載のマイクロ流路デバイスを準備する工程、及び、
前記マイクロ流路デバイスに異なる２以上の流体を送流し多相流を形成する工程を含む多相流の形成方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月9日(2009.11.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ヘッドと、
目標となる目標搬送量に応じて、前記ヘッドに対して媒体を搬送方向に搬送する搬送機構と、
前記ヘッドと前記媒体との相対位置に対応付けられた補正値を複数記憶するメモリと、
目標搬送量にて搬送する際の前記相対位置に応じた補正値を含む前記目標搬送量の大きさに応じた数の補正値に基づいて目標搬送量を補正し、補正後の目標搬送量に基づいて前記搬送機構を制御するコントローラと、
を備える記録装置。
【請求項２】
請求項１に記載の記録装置であって、
各前記補正値には、その補正値を適用すべき前記相対位置の範囲が対応付けられており、
前記目標搬送量にて搬送する際に搬送前の前記相対位置に対応する前記補正値の前記範囲を超える場合、前記コントローラは、搬送前の前記相対位置に対応する前記補正値と、搬送後の前記相対位置に対応する前記補正値とに基づいて、前記目標搬送量を補正する
ことを特徴とする記録装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の記録装置であって、
各前記補正値には、その補正値を適用すべき前記相対位置の範囲が対応付けられており、
前記コントローラは、前記目標搬送量にて搬送する際の前記相対位置の変化する範囲と、前記補正値を適用すべき前記相対位置の前記範囲との比率に応じて前記補正値に重み付けを行い、前記目標搬送量を補正する
ことを特徴とする記録装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の記録装置であって、
前記搬送機構は、搬送ローラを有し、前記搬送ローラを回転させることによって前記媒体を搬送方向に搬送するものであり、
各前記補正値は、前記搬送ローラを１回転させて前記媒体を搬送したときの搬送誤差に基づいて決定され、
前記補正値を適用すべき前記相対位置の範囲は、１回転未満の回転量にて前記搬送ローラを回転させて前記媒体を搬送したときの搬送量に相当し、
前記搬送機構は、搬送ローラを有し、前記搬送ローラを回転させることによって前記媒体を搬送方向に搬送するものであり、
前記メモリに前記補正値が記憶される前において、前記コントローラは、
第１パターンを媒体に印刷し、
前記第１パターンの印刷時の搬送ローラの回転位置から１回転未満の回転量にて前記搬送ローラを回転させて前記媒体を搬送した後に第２パターンを印刷し、
前記第１パターンの印刷時の搬送ローラの回転位置から１回転の回転量にて前記搬送ローラを回転させて前記媒体を搬送した後に前記第３パターンを印刷し、
前記第２パターンの印刷時の搬送ローラの回転位置から１回転の回転量にて前記搬送ローラを回転させて前記媒体を搬送した後に前記第４パターンを印刷し、
前記メモリは、前記第１パターン及び前記第３パターンに基づいて決定された第１補正値と、前記第２パターン及び前記第４パターンに基づいて決定された第２補正値を記憶し、
前記メモリに前記補正値が記憶された後において、前記コントローラは、
前記搬送ローラに対する媒体の相対位置が、前記第１パターンの印刷時の前記相対位置と前記第３パターンの印刷時の前記相対位置との間の所定の範囲にあるときに、前記第１補正値に基づいて前記目標搬送量を補正して媒体を搬送し、
前記搬送ローラに対する媒体の相対位置が前記所定の範囲にあるときから１回転未満の回転量にて前記搬送ローラを回転させた状態のときに、前記第２補正値に基づいて前記目標搬送量を補正して媒体を搬送し、
前記第１パターン〜前記第４パターンは、移動方向に移動する複数のノズルのうちの同じノズルを用いて形成されることを特徴とする記録装置。
【請求項５】
目標となる目標搬送量を補正値に基づいて補正して媒体を搬送する搬送方法であって、
前記ヘッドと前記媒体との相対位置に対応付けて補正値をメモリに予め複数記憶するステップと、
目標搬送量にて搬送する際の前記相対位置に応じた補正値を含む前記目標搬送量の大きさに応じた数の補正値に基づいて目標搬送量を補正するステップと、
補正後の目標搬送量に基づいて前記媒体を搬送するステップと、
を有することを特徴とする搬送方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月16日(2009.7.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ゲーム機、ゲーム処理方法及びプログラムを記憶した記憶媒体
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ゲーム機本体の装着部に着脱可能でデータの書込みが可能な記録媒体を用いるゲーム機で且つ協力者である他のプレイヤと協力して遊技する協力プレイモードを有するゲーム機であって、
前記装着部に第１プレイヤにより装着された第１記録媒体のデータを読込むと共に、前記装着部と同一又は他の装着部に他のプレイヤにより装着された第２記録媒体のデータを読込み、前記他のプレイヤの記録媒体固有ＩＤが前記第１記録媒体にも記録されているか、あるいは前記第１プレイヤの記録媒体固有ＩＤが前記第２記録媒体に記録されているかをチェックし、少なくともどちらか一方に自己の記録媒体固有ＩＤと異なる記録媒体固有ＩＤが記録されていればその両者をチームと判定するチーム認識手段と、
前記チーム認識手段により認識したチームでの協力対戦によるゲーム進行中の戦績又は戦績結果を示す情報を前記協力者の記録媒体固有ＩＤに対応付けて当該チームのチーム成績記録データとして前記第１及び第２記録媒体の少なくともいずれか一方の記録媒体に記録するデータ書込手段と、
を備えたことを特徴とするゲーム機。
【請求項２】
前記第１及び第２記録媒体のうちの１つの記録媒体を前記チーム成績記録データの記録先として決定する記録先決定手段を有することを特徴とする請求項１に記載のゲーム機。
【請求項３】
前記記録媒体固有ＩＤが、システム固有ＩＤとプレイヤにより設定されたユーザ名とから構成されている請求項１又は２に記載のゲーム機。
【請求項４】
前記データ書込手段は、前記プレイ成績のデータを前記協力者の記録媒体固有ＩＤに対応付けると共に、プレイヤにより設定されたチーム名と対応付けて前記記録媒体に記録することを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載のゲーム機。
【請求項５】
プレイヤが所有する前記記録媒体の記憶部に当該プレイヤを特定するユーザ識別情報を登録するユーザ識別情報登録手段を有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載のゲーム機。
【請求項６】
ゲーム機本体の装着部に着脱可能でデータの書込みが可能な記録媒体を用いるゲーム機で且つ協力者である他のプレイヤと協力して遊技する協力プレイモードを有するゲーム機におけるゲーム処理方法であって、
前記装着部に第１プレイヤにより装着された第１記録媒体のデータを読込むと共に、前記装着部と同一又は他の装着部に他のプレイヤにより装着された第２記録媒体のデータを読込み、前記他のプレイヤの記録媒体固有ＩＤが前記第１記録媒体にも記録されているか、あるいは前記第１プレイヤの記録媒体固有ＩＤが前記第２記録媒体に記録されているかをチェックし、少なくともどちらか一方に自己の記録媒体固有ＩＤと異なる記録媒体固有ＩＤが記録されていればその両者をチームと判定するステップと、
前記チーム認識手段により認識したチームでの協力対戦によるゲーム進行中の戦績又は戦績結果を示す情報を前記協力者の記録媒体固有ＩＤに対応付けて当該チームのチーム成績記録データとして前記第１及び第２記録媒体の少なくともいずれか一方の記録媒体に記録するステップと、
を含むことを特徴とするゲーム処理方法。
【請求項７】
ゲーム機本体の装着部に着脱可能でデータの書込みが可能な記録媒体を用いるゲーム機で且つ協力者である他のプレイヤと協力して遊技する協力プレイモードを有するゲーム機に適用されるプログラムを記憶したコンピュータ読取可能な記憶媒体であって、
前記装着部に第１プレイヤにより装着された第１記録媒体のデータを読込むと共に、前記装着部と同一又は他の装着部に他のプレイヤにより装着された第２記録媒体のデータを読込み、前記他のプレイヤの記録媒体固有ＩＤが前記第１記録媒体にも記録されているか、あるいは前記第１プレイヤの記録媒体固有ＩＤが前記第２記録媒体に記録されているかをチェックし、少なくともどちらか一方に自己の記録媒体固有ＩＤと異なる記録媒体固有ＩＤが記録されていればその両者をチームと判定するステップと、
前記チーム認識手段により認識したチームでの協力対戦によるゲーム進行中の戦績又は戦績結果を示す情報を前記協力者の記録媒体固有ＩＤに対応付けて当該チームのチーム成績記録データとして前記第１及び第２記録媒体の少なくともいずれか一方の記録媒体に記録するデータ書込ステップと、
を前記ゲーム機のコンピュータに実行させるためのプログラムを記憶した記憶媒体。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は上述のような事情から成されたものであり、本発明の目的は、携帯可能な記録媒体に自分と他のプレイヤからなるチームのプレイ成績データを、プレイヤ個人の個人成績データとは別に、チームを組んだプレイヤ別に記録できると共に、当該チームの記録データを活用して同じパートナーと繰り返しチームを組んだ時特有のゲーム処理を実行することが可能なゲーム機を提供することにある。更に、記憶容量の少ない記録媒体であっても上記目的の達成が可能なゲーム機、ゲーム処理方法及びプログラムを記憶した記憶媒体を提供することにある。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月21日(2009.7.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像形成装置により画像が形成されたシートを断裁するシート後処理装置であって、
画像が形成されたシートをレーザ光の照射により断裁するレーザ断裁ユニットと、
前記画像形成装置においてシートの所定の区画ごとに複数の画像を形成するモードが設定された場合、シートに形成される複数の画像の各々の画像が形成される区画のレイアウトの情報を取得する取得手段と、
前記取得手段により取得されたレイアウト情報に基づいて、前記区画の輪郭部を断裁するように、前記レーザ断裁ユニットを制御する制御手段と、
を備えることを特徴とするシート後処理装置。
【請求項２】
前記モードはラベル部と剥離紙部とからなるラベル用紙に複数の画像を形成するモードであることを特徴とする請求項１記載のシート後処理装置。
【請求項３】
前記制御手段は、前記レーザ断裁ユニットに前記ラベル用紙のラベル部のみ断裁させるようにレーザのパワーを調整することを特徴とする請求項２記載のシート後処理装置。
【請求項４】
前記制御手段は、前記レーザ断裁ユニットにミシン目穴形状で前記シートを断裁させることを特徴とする請求項１記載のシート後処理装置。
【請求項５】
シートに形成すべき画像を入力する入力手段と、
前記入力手段により入力された画像をシートの複数箇所に形成するように、前記画像がそれぞれ形成されるべき区画を表わすレイアウト情報を決定する決定手段と、
前記決定手段により決定されたレイアウト情報に基づいてシートに前記画像を複数形成する像形成手段と、
前記レイアウト情報に基づいて前記像形成手段により前記画像が複数形成されたシートにレーザ光を照射することにより、前記区画の輪郭部を断裁する断裁手段と、
を有することを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】シート後処理装置及び画像形成装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、シート後処理装置及び画像形成装置に関し、特に、レーザ光照射によりシート材を断裁する機能を有するシート後処理装置及び画像形成装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の目的は、確実に所望のラベルを作成し、ユーザーの事務費増大、ジョブ時間増大、環境負荷増大の抑制を図ることができるシート後処理装置及び画像形成装置を提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記目的を達成するために、請求項１記載のシート後処理装置は、画像形成装置により画像が形成されたシートを断裁するシート後処理装置であって、画像が形成されたシートをレーザ光の照射により断裁するレーザ断裁ユニットと、前記画像形成装置においてシートの所定の区画ごとに複数の画像を形成するモードが設定された場合、シートに形成される複数の画像の各々の画像が形成される区画のレイアウトの情報を取得する取得手段と、前記取得手段により取得されたレイアウト情報に基づいて、前記区画の輪郭部を断裁するように、前記レーザ断裁ユニットを制御する制御手段と、を備えることを特徴とする。
また、上記目的を達成するために、請求項５記載の画像形成装置は、シートに形成すべき画像を入力する入力手段と、前記入力手段により入力された画像をシートの複数箇所に形成するように、前記画像がそれぞれ形成されるべき区画を表わすレイアウト情報を決定する決定手段と、前記決定手段により決定されたレイアウト情報に基づいてシートに前記画像を複数形成する像形成手段と、前記レイアウト情報に基づいて前記像形成手段により前記画像が複数形成されたシートにレーザ光を照射することにより、前記区画の輪郭部を断裁する断裁手段と、を有することを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明装置によれば、確実に所望のラベルを作成し、ユーザーの事務費増大、ジョブ時間増大、環境負荷増大の抑制を図ることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月17日(2009.7.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体を吐出するために利用されるエネルギーを発生するエネルギー発生素子を有する基板と、該基板上に設けられた液体を吐出するための吐出口と、該吐出口へ液体を供給するための流路と、を備える液体吐出ヘッドであって、
前記流路を形成する流路形成部材は、
カチオン重合可能な樹脂と、
光カチオン重合開始剤と、
加水分解性有機シラン化合物の加水分解物と、
平均粒径が５０ｎｍ以下の無機微粒子と、
を含む樹脂組成物の硬化物から形成されていることを特徴とする液体吐出ヘッド。
【請求項２】
前記流路形成部材は、前記基板の上に形成された第一の流路形成部材と、該第一の流路形成部材の上に形成された第二の流路形成部材とからなり、
少なくとも前記第一の流路形成部材が、前記樹脂組成物の硬化物から形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液体吐出ヘッド。
【請求項３】
前記吐出口は、前記エネルギー発生素子と対向するように設けられていることを特徴とする請求項２に記載の液体吐出ヘッド。
【請求項４】
前記カチオン重合可能な樹脂がエポキシ樹脂であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の液体吐出ヘッド。
【請求項５】
液体を吐出するために利用されるエネルギーを発生するエネルギー発生素子を備えた基板と、液体を吐出するための吐出口と、該吐出口へ液体を供給するための流路と、を備える液体吐出ヘッドの製造方法であって、
前記基板上に
カチオン重合可能な樹脂と、
光カチオン重合開始剤と、
加水分解性有機シラン化合物の加水分解物と、
平均粒径が５０ｎｍ以下の無機微粒子と、
を含む第一の感光性樹脂層を形成する工程と、
前記第一の感光性樹脂層をパターニングすることにより、前記流路を形成する第一の流路形成部材を形成する工程と、
前記基板上に前記第一の流路形成部材を覆うように、溶解可能な樹脂からなる犠牲層を形成する工程と、
前記犠牲層と前記流路形成部材とを前記基板の前記犠牲層が設けられた側から基板方向に向かって研磨する工程と、
前記犠牲層と前記流路形成部材との上に第二の感光性樹脂層を形成する工程と、
前記第二の感光性樹脂層をパターニングすることにより、前記第二の感光性樹脂層に前記吐出口を形成する工程と、
前記犠牲層を除去して前記流路を形成する工程と、
を含むことを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項６】
前記研磨は、被研磨部材である前記犠牲層と前記流路形成部材とに溶剤を付加しつつ行うことを特徴とする請求項５に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
しかしながら、通常フィラーとして用いられる無機粒子の平均粒径は数十μｍから数μｍ程度であり、感光性樹脂に充填して、露光を行うと、露光に用いられる光線が吸収、反射又は散乱され、感光性樹脂が低感度になるとともに解像度も著しく低下してしまう。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
一方、無機粒子の平均粒径が数百ｎｍから数十ｎｍ以下であれば、露光に用いられる光線に対して十分に透明であると考えられる。しかしながら、そのような所謂無機微粒子はその粒径が小さくなるほど粒子間に働く力は大きくなり凝集などが起こりやすくなるため、粒径がナノメートルレベルの無機微粒子を機械的な混練などで樹脂に単分散させるのは極めて困難である。そのため平均粒径が数百ｎｍから数十ｎｍ以下であっても露光に用いられる光線に対する透明性を得られない場合があり、やはりフォトリソグラフィーの手法を用いての微細加工においては、困難な部分が残っている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明は、液体を吐出するために利用されるエネルギーを発生するエネルギー発生素子を有する基板と、該基板上に設けられた液体を吐出するための吐出口と、該吐出口へ液体を供給するための流路と、を備える液体吐出ヘッドであって、前記流路を形成する流路形成部材は、カチオン重合可能な樹脂と、光カチオン重合開始剤と、加水分解性有機シラン化合物の加水分解物と、平均粒径が５０ｎｍ以下の無機微粒子と、を含む樹脂組成物の硬化物から形成されていることを特徴とする液体吐出ヘッドである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また本発明は、液体を吐出するために利用されるエネルギーを発生するエネルギー発生素子を備えた基板と、液体を吐出するための吐出口と、該吐出口へ液体を供給するための流路と、を備える液体吐出ヘッドの製造方法であって、前記基板上にカチオン重合可能な樹脂と、光カチオン重合開始剤と、加水分解性有機シラン化合物の加水分解物と、平均粒径が５０ｎｍ以下の無機微粒子と、
を含む第一の感光性樹脂層を形成する工程と、前記第一の感光性樹脂層をパターニングすることにより、前記流路を形成する第一の流路形成部材を形成する工程と、前記基板上に前記第一の流路形成部材を覆うように、溶解可能な樹脂からなる犠牲層を形成する工程と、前記犠牲層と前記流路形成部材とを前記基板の前記犠牲層が設けられた側から基板方向に向かって研磨する工程と、前記犠牲層と前記流路形成部材との上に第二の感光性樹脂層を形成する工程と、
前記第二の感光性樹脂層をパターニングすることにより、前記第二の感光性樹脂層に前記吐出口を形成する工程と、前記犠牲層を除去して前記流路を形成する工程と、を含むことを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
本発明の流路形成部材４は少なくとも、以下を含む樹脂組成物（以下の説明においては樹脂組成物（１））の硬化物によって形成される。
（ａ）カチオン重合可能な樹脂
（ｂ）光カチオン重合開始剤
（ｃ）加水分解性有機シラン化合物の加水分解物
（ｄ）平均粒径が５０ｎｍ以下の無機微粒子
（ａ）カチオン重合可能な樹脂とは、カチオン重合性基である、ビニル基、環状エーテル基などを有する樹脂を意味する。なかでもエポキシ基、オキセタン基、ビニルエーテル基を有する化合物が好適に用いられる。エポキシ樹脂の具体例としては、以下のようなものを挙げることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月16日(2009.7.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
印刷データに基づき印刷を行う印刷装置であって、
印刷データを受信する受信手段と、
前記印刷装置の操作パネルから設定可能であり、前記受信手段で受信した印刷データに基づく印刷を行う際の印刷パラメータを設定する設定手段と、
前記受信手段で受信した印刷データ及び前記設定手段で設定された当該印刷データに基づく印刷を行う際の印刷パラメータをそれぞれ対応付けて記憶する記憶手段と、
前記記憶手段に記憶されている印刷データの再印刷が指示された場合、当該印刷データと対応付けられて前記記憶手段に記憶されている印刷パラメータを用いて印刷を行うよう制御する制御手段と、
を有することを特徴とする印刷装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記受信手段は、印刷データとともにメディアを指定する情報を受信し、前記印刷パラメータは当該メディアに対応した印刷パラメータであることを特徴とする印刷装置。
【請求項３】
請求項２において、
前記印刷装置は、インクを用いて印刷を行い、前記設定手段により設定される印刷パラメータは、印刷後、インクを乾燥させるまでの時間であるインク乾燥時間を含むことを特徴とする印刷装置。
【請求項４】
請求項２において、
前記印刷装置は、メディアとしてロール紙を用い、該ロール紙への印刷後、カッターにより切断を行い、前記設定手段により設定される印刷パラメータは、前記カッターによるカットスピードを含むことを特徴とする印刷装置。
【請求項５】
請求項２において、
前記印刷装置は、印刷ヘッドからインクを吐出させることにより印刷を行い、前記設定手段により設定される印刷パラメータは、前記メディアと前記印刷ヘッドとの距離を示すヘッド高さを含むことを特徴とする印刷装置。
【請求項６】
印刷データに基づき印刷を行う印刷装置制御方法であって、
印刷データを受信する受信工程と、
前記印刷装置の操作パネルから設定可能であり、前記受信工程で受信した印刷データに基づく印刷を行う際の印刷パラメータを設定する設定工程と、
前記受信工程で受信した印刷データ及び前記設定工程で設定された当該印刷データに基づく印刷を行う際の印刷パラメータをそれぞれ対応付けて記憶する記憶工程と、
前記記憶工程で記憶された印刷データの再印刷が指示された場合、当該印刷データと対応付けられて前記記憶工程で記憶された印刷パラメータを用いて印刷を行うよう制御する制御工程と、
を有することを特徴とする印刷装置の制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明は、印刷データに基づき印刷を行う印刷装置であって、印刷データを受信する受信手段と、前記印刷装置の操作パネルから設定可能であり、前記受信手段で受信した印刷データに基づく印刷を行う際の印刷パラメータを設定する設定手段と、前記受信手段で受信した印刷データ及び前記設定手段で設定された当該印刷データに基づく印刷を行う際の印刷パラメータをそれぞれ対応付けて記憶する記憶手段と、前記記憶手段に記憶されている印刷データの再印刷が指示された場合、当該印刷データと対応付けられて前記記憶手段に記憶されている印刷パラメータを用いて印刷を行うよう制御する制御手段とを有することを特徴とする印刷装置である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明によれば、再印刷する際に、元の印刷時と同じ条件に、より近づけることができ、再印刷の使い勝手が向上するという効果を奏する。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月17日(2009.7.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技領域が形成され、該遊技領域に向けて打ち込まれた遊技球が流下可能な遊技盤と、前記遊技領域へ遊技球を発射するための発射装置と、前記遊技領域に配設され、該遊技領域を特定入球口が設けられる第１の遊技領域とその他の第２の遊技領域とに区画形成する入賞装置と、前記第２の遊技領域に打ち込まれた遊技球の前記第１の遊技領域内への進入の確率が高くなるように動作可能な可動片と、前記第２の遊技領域に配設される始動口と、所定の条件が成立したことに基づいて前記可動片を駆動制御する駆動制御手段と、を備え、前記第２の遊技領域に打ち込まれた遊技球が前記可動片による動作を通じて前記第１の遊技領域内に進入し、該進入した遊技球が前記特定入球口に受け入れられたとき、遊技者にとって有利な特別遊技を行う遊技機であって、
前記所定の条件が成立してから前記可動片が動作するまでの時間である動作前時間を複数種類記憶する動作前時間記憶手段と、
前記始動口への遊技球の入球に基づいて、前記動作前時間記憶手段に記憶される複数種類の動作前時間から前記可動片の動作前時間を決定する動作前時間決定手段と、
前記複数種類の動作前時間に対応付けされた複数種類の演出を記憶する演出記憶手段と、
前記動作前時間決定手段により決定された前記可動片の動作前時間に対応する演出を前記演出記憶手段から読み出し、所定の演出表示手段にて該読み出された演出を表示制御する演出表示制御手段と、をさらに備え、
前記動作前時間記憶手段には、
遊技者が前記発射装置を通じた遊技球の発射を維持して前記第１の遊技領域内への遊技球の進入を狙う程度に設定された第１の動作前時間と、
遊技者が前記発射装置を通じた遊技球の発射を一旦停止しても前記第１の遊技領域内への遊技球の進入を十分に狙うことができる程度に長く設定された第２の動作前時間と、が少なくとも記憶されており、
前記演出表示制御手段は、
前記動作前時間決定手段により前記第１の動作前時間または前記第２の動作前時間が決定されたときに、これら動作前時間に対応する演出を前記演出記憶手段から読み出して表示制御することを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記始動口への遊技球の入球率を可変とする入球率可変手段と、
特定の条件が成立したことに基づいて当該遊技機の状態を、前記入球率可変手段によって前記始動口への入球率が高められる高入球率状態に設定する高入球率状態設定手段と、をさらに備え、
前記動作前時間決定手段は、前記高入球率状態であるときに、前記第１の動作前時間のみを動作前時間として決定することを特徴とする請求項１記載の遊技機。
【請求項３】
前記始動口への遊技球の入球率を可変とする入球率可変手段と、
特定の条件が成立したことに基づいて当該遊技機の状態を、前記入球率可変手段によって前記始動口への入球率が高められる高入球率状態に設定する高入球率状態設定手段と、をさらに備え、
前記動作前時間決定手段は、前記高入球率状態であるときに、前記可動片が動作するまでの時間が短く設定された動作前時間を高い割合で決定することを特徴とする請求項１または請求項２に記載の遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月15日(2009.7.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技の進行を制御するマイクロプロセッサを備えた主制御基板と、該主制御基板に種々の電圧を供給する電源基板と、を備えたパチンコ機であって、
前記主制御基板には、
前記電源基板から供給される前記種々の電圧から前記マイクロプロセッサの作動電圧を作成するレギュレータと、
該レギュレータが作成した前記マイクロプロセッサの作動電圧の低下を監視し、予め定めた作動電圧用しきい値より小さくなると、停電予告として作動電圧停電予告割り込み信号を前記マイクロプロセッサに出力する作動電圧停電監視回路と、
前記電源基板から供給される前記種々の電圧の低下を監視し、予め定めた供給電圧用しきい値より小さくなると、停電予告として供給電圧停電予告信号を前記マイクロプロセッサに出力する供給電圧停電監視回路と、
を備え、
前記マイクロプロセッサは、
前記供給電圧停電予告信号が入力された際に、当該マイクロプロセッサの内蔵ＲＡＭに記憶されている情報を数値とみなしてその合計を算出する停電予告時サム値算出制御手段と、
該停電予告時サム値算出制御手段が算出した値を前記内蔵ＲＡＭに記憶する停電予告時サム値記憶制御手段と、
該停電予告時サム値記憶制御手段による記憶のあと、当該マイクロプロセッサにリセットをかける停電予告時リセット制御手段と、
前記作動電圧停電予告割り込み信号が入力された際に、その旨を示す割り込み発生フラグをオンに設定する割り込み発生フラグ設定制御手段と、
該割り込み発生フラグ設定制御手段が設定した前記割り込み発生フラグを前記内蔵ＲＡＭに記憶する割り込み発生フラグ記憶制御手段と、
該割り込み発生フラグ記憶制御手段による記憶のあと、当該マイクロプロセッサにリセットをかける割り込み発生時リセット制御手段と、
前記停電予告時リセット制御手段によるリセット後に前記内蔵ＲＡＭに記憶されている情報を数値とみなしてその合計を算出するリセット後サム値算出制御手段と、
該リセット後サム値算出制御手段が算出した値と、前記停電予告時サム値記憶制御手段が記憶した値と、が一致しているか否かを判定するサム値判定制御手段と、
前記停電予告時リセット制御手段によるリセット後又は前記割り込み発生時リセット制御手段によるリセット後に前記割り込み発生フラグがオンに設定されているか否かを判定する割り込み発生フラグ判定制御手段と、
前記内蔵ＲＡＭに記憶されている情報を消去する情報消去制御手段と、
当該マイクロプロセッサの内蔵ＲＯＭから初期情報を読み出す初期情報読出制御手段と、
該初期情報読出制御手段が読み出した前記初期情報を前記内蔵ＲＡＭに記憶する初期情報記憶制御手段と、
前記サム値判定制御手段により、前記リセット後サム値算出制御手段が算出した値と、前記停電予告時サム値記憶制御手段が記憶した値と、が一致していると判定されたときには、前記内蔵ＲＡＭに記憶されている情報に基づいて復帰する第１の復帰制御手段と、
前記サム値判定制御手段により、前記リセット後サム値算出制御手段が算出した値と、前記停電予告時サム値記憶制御手段が記憶した値と、が一致していないと判定されたときには、前記情報消去制御手段により前記内蔵ＲＡＭに記憶されている情報を消去したあと、前記初期情報読出制御手段により前記内蔵ＲＯＭから読み出された前記初期情報を前記初期情報記憶制御手段により前記内蔵ＲＡＭに記憶し、その記憶された当該初期情報に基づいて復帰する第２の復帰制御手段と、
前記割り込み発生フラグ判定制御手段により、前記割り込み発生フラグがオンに設定されていると判定されたときには、前記第１の復帰制御手段による復帰及び前記第２の復帰制御手段による復帰を阻止する復帰阻止制御手段と、
を備えることを特徴とするパチンコ機。
【請求項２】
請求項１に記載のパチンコ機であって、
ベース部材と、該ベース部材に組み合わされるカバー部材と、の間に前記主制御基板が収容される基板ボックス
を備え、
前記基板ボックスは、封印ねじを用いて前記ベース部材と前記カバー部材とを相互に締結することで封印され、前記基板ボックスを開封する開封部に切除部が設けられ、該開封部を切断する際に、該切除部が切除されることを特徴とするパチンコ機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
本発明の請求項１においては、高周波による不正行為を防止することができる。本発明の請求項２においては、切除部を目視することによって基板ボックスの開封有無を容易に確認にすることができ、また主制御基板の改変有無の確認に役立つ。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月15日(2009.7.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｘ線を被検体に曝射するＸ線管と、
前記被検体をはさみ前記Ｘ線管と対向配置され前記被検体の透過Ｘ線を検出するＸ線検出器と、
前記Ｘ線管とＸ線検出器とを搭載しそれぞれを前記被検体の周囲を回転するスキャナと、
前記Ｘ線検出器によって検出された透過Ｘ線を投影データとして収集するデータ収集手段と、
このデータ収集手段によって収集された投影データに対しエア補正を含む前処理補正を行う補正手段と、
この補正手段によって補正された投影データから前記被検体の断層画像を再構成する再構成処理部と、を備えたＸ線ＣＴ装置において、
上記補正手段は、計測角度、Ｘ線スキャナの設定可能な回転速度、Ｘ線スキャナの設定可能なチルト角度毎に求めたエア補正データを格納する格納手段と、実際の被検体計測で得た被検体投影データに対して、実際の計測角度、設定したＸ線スキャナ回転速度、設定したチルト角度に対応して前記格納手段から読出されたエア補正データによって、エア補正を行うエア補正手段と、を備えたことを特徴とするＸ線ＣＴ装置。
【請求項２】
上記エア補正データは、予め定めた所定の基準時の基準計測角度、基準回転速度、基準チルト角度で得た基準エア計測データと、その基準時以外で得た各計測角度、各回転速度、各チルト角度のエア計測データとの相対値とすることを特徴とする請求項１に記載のＸ線ＣＴ装置。
【請求項３】
上記エア補正データは、チルト角度にあっては設定可能なチルト角度の中のその一部により計測で得た値の中から、実際の被検体計測時に設定したチルト角度に近いチルト角度に対応する前記計測で得た値が適用されることを特徴とする請求項１に記載のＸ線ＣＴ装置。
【請求項４】
上記エア補正データは、チルト角度にあっては、設定可能なチルト角度の中のその一部により計測で得た値と、それ以外のチルト角度に対してこの計測で得た値の補間で求めた値と、で算出されることを特徴とする請求項１に記載のＸ線ＣＴ装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月18日(2009.6.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
化粧料を収容した容器本体と、該容器本体を密閉するキャップとよりなり、該キャップの天井部分より塗布棒が垂下し、該塗布棒の先端側にブラシ毛で形成される塗布部を設け、容器本体内で前記塗布棒に付着した化粧料を払拭し、適量に調節する払拭部材を内装する化粧料容器において、
先端から中央部にかけて中心軸と平行にＵ字状凹溝を刻設する前記塗布棒とＵ
字状凹溝の底面に沿って帯状に配設した塗布部とを有し、
払拭部材により塗布棒の側面が摺接され払拭されるとともに、複数のブラシ毛
からなる塗布部がＵ字状凹溝内に押し曲げられ、塗布棒の側面に倣って払拭されることで塗布部に付着した化粧料を均一且つ適量に調節できるようにしたことを特徴とする化粧料塗布具。