(57)【要約】【課題】透明な基材フィルムの上に透明な無機物層を真空成膜法で積層してなる透明複層フィルムの製造方法において、所望の光線透過率と透明度を有する透明複層フィルムを安定して製造することができる方法を得る。【解決手段】真空成膜するための基材フィルム１の表面処理の条件を調整して、該表面処理面２の水滴接触の標準偏差を規定値内としてから、無機物層３を真空成膜することによって、透明複層フィルム１００の光線透過率と透明度を所望値に納めることができる。【選択図】  図２
2008114444.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材フィルムに表面処理を施してから透明無機物層を真空成膜法によって積層して設けることにより所望の全光線透過率とヘーズを有する透明複層フィルムを製造する方法であって、予備実験で求めておいた「表面処理面の水滴接触角の標準偏差−該複層フィルムの全光線透過率およびヘーズ」の対応関係を用いて、所望の全光線透過率とヘーズを有する該透明複層フィルムの製造条件を設定することを特徴とする透明複層フィルムの製造方法。
【請求項２】
該表面処理の条件を調整することによって、該表面処理面の水滴接触角の平均値と標準偏差を所定の範囲内に納めることを特徴とする請求項１に記載の透明複層フィルムの製造方法。
【請求項３】
該表面処理後の水滴接触角の平均値が少なくとも９０度以下であり、かつ標準偏差が少なくとも１．７度以下である基材フィルムを使用することを特徴とする請求項１または２に記載の透明複層フィルムの製造方法。
【請求項４】
該表面処理が少なくともプラズマ処理、コロナ放電処理のいずれかの処理を含むことを特徴とする請求項１、２、３のいずれかに記載の透明複層フィルムの製造方法。
【請求項５】
該透明無機物層がガスバリア性であることを特徴とする請求項１、２、３、４のいずれかに記載の透明複層フィルムの製造方法。
【請求項６】
該表面処理法がプラズマ処理であり、該真空成膜法が真空蒸着法であることを特徴とする請求項４または５に記載の透明複層フィルムの製造方法
【請求項７】
該表面処理終了後の水滴接触角が９０度以下、好ましくは７０度以下であり、かつ標準偏差が１．７度以下であるポリエチレンテレフタレート基材フィルムを使用して請求項６の方法で作成したことを特徴とする透明複層フィルム。
【請求項８】
請求項５に記載のガスバリア性を有する透明無機物層が酸化アルミニウム層、酸化珪素層のいずれか一種からなることを特徴とする請求項６、７のいずれかに記載の透明複層フィルムの製造方法で作成した透明複層フィルム。
【請求項９】
該ガスバリア性透明無機物層の上に水溶性高分子と、１種以上の金属アルコキシドあるいはその加水分解物、または塩化スズの少なくとも一方の材料から実質的になるガスバリア性補強層を設けたことを特徴とする請求項６、７、８のいずれかに記載の透明複層フィルム。
【請求項１０】
請求項９に記載の透明複層フィルムのガスバリア性補強被層の上に熱接着剤層を設けたことを特徴とする封止フィルム。
【請求項１１】
請求項９に記載の透明複層フィルムの基材フィルム面に熱接着剤層を設けたことを特徴とする封止フィルム。
【請求項１２】
該透明基材フィルムが２軸延伸ポリエチレンテレフタレート樹脂のフィルムであることを特徴とする請求項１０、１１のいずれかに記載の封止フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基材となる透明なプラスチックフィルムに透明な無機物層を積層してなる透明複層フィルムの製造方法について、光学的な特性を安定させる方法、およびその方法で製造した透明複層フィルムと封止フィルムに関するものである。さらに詳しくは、画像表示装置の基材フィルムや封止フィルムや保護フィルムに使用して好適な光線透過率が高く、ヘーズが低いガスバリア性透明複層フィルムを安定して製造する方法およびその方法で製造した透明複層フィルムと封止フィルムに関するものである。以下、基材となるプラスチックフィルムを「基材フィルム」と記す。
【背景技術】
【０００２】
ガスバリア性透明複層フィルムは、透明な基材フィルムの上に透明なガスバリア性の材料を積層したものである。透明度が高いこと、フレキシブルであること、水蒸気バリア性能、酸素バリア性能性が高いこと、軽量であること、低コストであることから、画像表示装置の基材や表面保護材として使用するための開発が盛んである。例えば、特許文献１には、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子の基板としての用途が開示され、特許文献２には、フレキシブル液晶画像表示装置の基材フィルムとしての用途が開示されている。
【０００３】
該ガスバリア性透明複層フィルムの断面構造を図１に示す。図１（ａ）は基本構造であり、透明性が高い基材フィルム１の一面に表面処理された層２があり、その上に積層された透明性が高い無機物層３からなる。図１（ｂ）は、該無機物層３の上に機械的強度とガスバリア性があるガスバリア性補強層４を形成した構造である。ガスバリア性補強層を形成する目的は、該無機物層が耐摩擦等の機械的強度が低い点を補強するため、およびガスバリア性をさらに向上させるためである。
【０００４】
また、封止フィルムは図１（ｂ）の構造の複層フィルムにさらに熱接着剤層を積層してヒートシールが可能な封止フィルムとなしたものである。該封止フィルムは、例えば、食品、医薬品、精密電子部品等の包装に使用されているだけでなく、画像表示装置の封止フィルムとしての開発が盛んに行われている。
【０００５】
該封止フィルムの断面構造を図２に示す。該熱接着剤層を積層する位置に応じて２種類ある。すなわち、一種は図２（ａ）に示すごとく、該ガスバリア性補強層４の上にプライマー層５を介して熱接着剤層６を積層した構造である。他の一種は、図２（ｂ）に示すごとく、基材フィルム１の面にプライマー層５を介して、熱接着剤層６を積層した構造である。ここでプライマー層５は熱接着剤が、図２（ａ）においては下地であるガスバリア性補強層、図２（ｂ）においては下地である基材フィルムに対して接着強度が不足する場合に、充分な接着強度を得るために両者の間に介在させる層である。
【０００６】
該封止フィルムを高度なガスバリア性が要求されるＥＬデバイス等の封止フィルムとして使用した例が、特許文献３、４、５に開示されている。
【０００７】
図３は、特許文献５に開示されている使用例であって、水蒸気や酸素が侵入すると欠陥が発生してしまうＥＬ素子を真空封止して実用性があるＥＬデバイスとしたものである。すなわち、図３において、第一電極１０１、第二電極１０２、無機蛍光層１０３を積層してなるＥＬ素子（Ｂ）をガスバリア性の透明複層フィルムに熱接着剤層を積層してなる封止フィルム（Ａ）を使用して封止してＥＬデバイス１００としたものである。蛍光層１０３で発生した光は透明な第一電極１０１と、透明なガスバリア性封止フィルムＡを通過し
て、外部に出る。
【０００８】
図１（ａ）に示した構造のガスバリア性フィルムの光学特性は、例えば基材フィルムとして透明度が高いポリエステルフィルムを使用し、無機物層として透明度が高い酸化アルミニウムを真空蒸着法で２００ｎｍ程度積層した場合、全光線透過率は８５〜９９％程度である。またヘーズは０．５〜３％％程度である。ここで、基材フィルムの全光線透過率は９５〜９９％、ヘーズは０．００１〜２％程度である。基材フィルムについては、現在では検討、開発がかなり進み、光学用途や画像表示装置用途として市販されているプラスチックフィルムにおいては、全光線透過率やヘーズの程度は問題にならない程度に減少している。（例えば特許文献６）
【特許文献１】特開２００３−２７６１１５号公報
【特許文献２】特開２００４−１０３２９２号公報
【特許文献３】特開２００１−２３７０６５号公報
【特許文献４】特開２００４−３２２３９５号公報
【特許文献５】特開２００５−２２４９６５号公報
【特許文献６】特開２００５−９７５６０号公報
【特許文献７】特開２００２−１８８２号公報
【特許文献８】特開２００５−３２４３７３号公報
【特許文献９】特開２００２−５２６４６号公報
【特許文献１０】特開２００３―１０３７３０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明では透明度をＪＩＳ７１０５に規定されているヘーズ（ヘイズ、曇価）で示す。また、全光線透過率もＪＩＳ７１０５に規定されている測定方法による値で示す。
【００１０】
画像表示装置の表示面に使用する透明複層フィルムは、使用目的に適した全光線透過率とヘーズを有するものを製造する必要がある。例えば液晶テレビの表示面には、以前は適度な反射防止機能を有する表面保護フィルムが使用されていた。そのヘーズは１０〜２０％であった。そのため、外光の映り込みがほとんどなかったが、その分、画像の輝度と鮮明度が、低かった。しかし最近の液晶テレビの表面には反射防止機能のない保護フィルムを使用している。そのヘーズは５％以下である。光線透過率が高く、画面の輝度と鮮明度はかなり高いが、外光の映り込みも多い。現在は、液晶表示装置の表面保護フィルムには、用途に応じた光線透過率とヘーズを有するものが使用されている。本発明の透明複層フィルムの製造方法は、このような場合に使用することを目的としている。なかでも、全光線透過率が高いと同時に、ヘーズが低くて透明度が高い複層フィルムを得ること、さらに、ガスバリア性の透明複層フィルムを得ることが主目的である。
【００１１】
ヘーズを低くするためには、透明複層フィルムを通過する光が散乱されないようにすることが必要である。通過する光が散乱される第一の要因は、基材フィルムの表面とその上の無機物層の表面の凹凸である。従って、凹凸のない平坦な基材フィルムの上に表面が平坦な無機物層を形成することが、ヘーズの低い複層フィルムを得るために必要である。
【００１２】
無機物層は通常真空成膜法で形成する。真空成膜法で形成する無機物層の表面の平坦度は、基材フィルムの平坦度に大きく依存する。例えば特許文献７では、磁気面が平坦な蒸着型磁気テープを製造するために、ポリエステルフィルム基材の上に表面粗さＷＲａが０．１ｎｍ〜４ｎｍである平坦度の高い塗膜を形成してから磁気材料を真空成膜している。
【００１３】
基材フィルムの平坦度としては、成膜の直前の平坦度が問題である。一般的に、真空成膜法では、膜の密着強度を向上するために真空成膜前に表面処理（前処理）が行われる。
この前処理によって、基材フィルム表面の極性が変化するが、一般的には、極性が大きくなるような処理を行うことによって、無機物膜の密着強度を向上させている。また該表面処理によって、表面の平坦度が変化する。例えばプラズマ処理によって基材フィルムの表面の凹凸が変化することが特許文献４、特許文献８に記載されている。その前処理が終了した状態での基材フィルムの表面の凹凸が、複層フィルムのヘーズに関連する。
【００１４】
前処理による基材フィルム表面の凹凸の変化は、高倍率の表面粗さ計、原子間力顕微鏡、透過電子顕微鏡、走査電子顕微鏡等で直接に測定したり、観察することができる。しかし、これらの方法では微少な領域についての測定や観察になるので、大面積を管理する必要がある生産現場ではあまり使用されない。生産現場では水滴接触角を測定して管理することが多い。すなわち、真空成膜前の表面処理によって、基材フィルム表面の極性が変化するが、一般的には無機物膜の密着強度を向上させるため、極性が大きくなるような処理を行う。極性が大きくなれば水滴接触角は小さくなる。また、基材フィルム表面の微細な凹凸が増加すれば膜の密着強度は増加し、また水滴接触角は小さくなる。従って、水滴接触角は、他に不都合が生じない限り小さいことが好ましい。
【００１５】
本発明者は真空成膜の前処理終了後に基材フィルムの水滴接触角を測定し、その値が規定値内に納まる材料を使用することによって、真空成膜した無機物層の密着強度を所望の範囲に納めていた。しかし、用途が画像表示装置の封止用などの場合には、水滴接触角を規定するだけでは、所定の全光線透過率、ヘーズを有する透明複層フィルムを安定して製造することが難しい場合があることに気づいた。すなわち、例えばメーカが異なるが対応した品番である市販品２種がある場合において、水滴接触角が同一であっても、真空成膜したフィルムの全光線透過率が所定値に収まる場合と、逸脱してしまう場合があることに気づいた。また、同一メーカの製品であって、水滴接触角がほぼ同じ場合でも、品番、番手によって、得られる光学的特性（全光線透過率、ヘーズ）が異なる場合があることにも気づき、問題であることが判明した。
【００１６】
すなわち、ガスバリア性透明複層フィルムを製造する際に、従来の、水滴接触角を規定値内に納めることを含む生産管理の方法では、得られるガスバリア性透明複層フィルムの光学特性のうち全光線透過率とヘーズが不安定であった。本発明では、この不安定性を解消し、光学的特性が重要である用途に使用できる透明複層フィルムを安定して生産することができる方法を提供することが課題である。また、その方法を使用して製造したガスバリア性透明複層フィルム、封止フィルムを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであって、基本的には、本発明者が鋭意検討の結果、真空成膜前処理後の基材フィルムの水滴接触角の標準偏差が真空成膜フィルムの全光線透過率やヘーズに関連していて、標準偏差が小さいほど全光線透過率が向上し、ヘーズが減少することを見いだし、本発明に到ったものである。
【００１８】
本発明は、透明複層フィルムを真空成膜法を使用して製造する際に、事前に真空成膜の前処理を原材料である基材フィルム表面に施し、その表面の水滴接触角を測定し、その標準偏差を求めて、その標準偏差の値が所定値内である基材フィルムを選定して真空成膜することによって、全光線透過率、透明度が安定して所望値範囲内に納まる透明複層フィルムの製造方法を提供する。また、その方法を使用することによって、透明度、全光線透過率が高い、画像表示装置の表示面に使用するのに好都合な、封止フィルムを提供することができる。
【００１９】
請求項１は、透明基材フィルムに表面処理を施してから透明無機物層を真空成膜法によって積層して設けることにより所望の全光線透過率とヘーズを有する透明複層フィルムを
製造する方法であって、予備実験で求めておいた「透明基材フィルムの表面処理条件−該表面処理面の水滴接触角の標準偏差−該複層フィルムの全光線透過率およびヘーズ」の対応関係を用いて、所望の全光線透過率とヘーズを有する該透明複層フィルムの製造条件を設定することを特徴とする透明複層フィルムの製造方法である。
【００２０】
請求項２は、該表面処理の条件を調整することによって該表面処理面の水滴接触角の平均値と標準偏差を所定の範囲内の納めることを特徴とする請求項１に記載の透明複層フィルムの製造方法である。
【００２１】
請求項３は、該表面処理後の水滴接触角の平均値が少なくとも９０度以下であり、かつ標準偏差が少なくとも１．７度以下である基材フィルムを使用することを特徴とする請求項１または２に記載の透明複層フィルムの製造方法である。
【００２２】
請求項４は、該表面処理が少なくともプラズマ処理、コロナ放電処理のいずれかの処理を含むことを特徴とする請求項１、２、３のいずれかに記載の透明複層フィルムの製造方法である。
【００２３】
請求項５は、該透明無機物層がガスバリア性であることを特徴とする請求項１、２、３、４のいずれかに記載の透明複層フィルムの製造方法である。
【００２４】
請求項６は、該表面処理がプラズマ処理であり、該真空成膜法が真空蒸着法であることを特徴とする請求項４または５に記載の透明複層フィルムの製造方法である。
【００２５】
請求項７は、該表面処理終了後の水滴接触角が９０度以下、好ましくは７０度以下であり、かつ標準偏差が１．７度以下であるポリエチレンテレフタレート基材フィルムを使用して請求項６の方法で作成することを特徴とする透明複層フィルムの製造方法である。
【００２６】
請求項８は、請求項５に記載のガスバリア性を有する透明無機物層が酸化アルミニウム層、酸化珪素層のいずれか一種からなることを特徴とする請求項６、７のいずれかに記載の透明複層フィルムの製造方法で作成した透明複層フィルムである。
【００２７】
請求項９は、該ガスバリア性透明無機物層の上に水溶性高分子と、１種以上の金属アルコキシドあるいはその加水分解物、または塩化スズの少なくとも一方の材料から実質的になるガスバリア性補強層を設けたことを特徴とする請求項６、７、８のいずれかに記載の透明複層フィルムである。
【００２８】
請求項１０は、請求項９に記載の透明複層フィルムのガスバリア性補強被層の上に熱接着剤層を設けたことを特徴とする封止フィルムである。
【００２９】
請求項１１は、請求項９に記載の透明複層フィルムの基材フィルム面に熱接着剤層を設けたことを特徴とする封止フィルムである。
【００３０】
請求項１２は、該透明基材フィルムが２軸延伸ポリエチレンテレフタレート樹脂のフィルムであることを特徴とする請求項１０、１１のいずれかに記載の封止フィルムである。
【発明の効果】
【００３１】
透明複層フィルムを真空成膜法で製造する従来の方法では、製品の全光線透過率とヘーズを制御するために表面処理を行った基材フィルム面の水滴接触角を規定していた。しかし、この方法だけでは、その光学的品質（全光線透過率、ヘーズ）のバラツキを画像表示装置の表示面に使用するに十分な程度に制御して生産することが難しかった。本発明の方
法を使用することによって、用途に適した全光線透過率とヘーズを有する透明複層フィルムを、高収率で生産することが可能である。特に、全光線透過率が高く、ヘーズが低い透明複層フィルムを安定して、高収率で生産することができる。また、真空成膜前の表面処理条件の判定、状況把握、制御、にも有効な方法である。さらに、基材フィルムの市販品の事前評価、ロット管理にも使用することができる。
【００３２】
実施例では、ガスバリア性の透明複層フィルムを製造する場合について記載したが、ガスバリア性が不要である場合にも、本発明の方法によって、全光線透過率とヘーズのバラツキを制御した透明複層フィルムを製造することが可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３３】
以下に、前処理の方法とその効果の主要な判定方法である水滴接触角と、その面に真空成膜して得られる膜の光学特性（全光線透過率、ヘーズ）との関係に関する従来の知見を若干例示する。
【００３４】
真空成膜の前処理としては、紫外線照射処理、火炎処理、コロナ放電処理、イオンボンバード処理、プラズマ処理等があるが、コロナ放電処理、プラズマ処理が良好な密着強度が得られるので、主流となっている。
【００３５】
特許文献９は、ガスバリア性封止フィルムの加工耐性を向上することを課題としているが、密着性が良好な酸化物膜を形成するための前提条件として基材フィルムのヘーズが２．５％以下であり、かつ表面粗さが３５ｎｍ以下である基材フィルムであると規定している。しかし、特許文献９の方法によって得たガスバリア性透明複層フィルムについて、その全光線透過率やヘーズやその他の光学特性については、なにも触れていない。また、成膜前処理としてプラズマ処理を使用しているが、その処理によって、水滴接触角や光学特性がどのように変化するかについても触れていない。
【００３６】
特許文献１０は、真空成膜する基材フィルム面の水滴接触角は、そこに成膜した金属酸化物の接着強度に関係すること、また接着強度はガスバリア性にも関連することを記載している。そして、請求項１に、被蒸着物の水との接触角が９０度以下であるべきことを記載している。しかし、水との接触角のバラツキについては、記載がない。
【００３７】
基材フィルムの平坦度と蒸着膜の接着強度については、例えば特許文献９に、蒸着前処理として不活性ガスによるプラズマ処理を行い、処理面の表面粗さ（２乗平均粗さ）Ｒａが１ｎｍ以上１．５ｎｍ以下であり、また表面エネルギーが６０ｄｙｎｅ／ｃｍ以上である場合に接着性が良好であると記載している。しかし、表面エネルギーの標準偏差やバラツキに関しては記載がない。また、得られたバリア性フィルムの光線透過率やヘーズについての記載もない。
【００３８】
上記した如く、従来技術では真空成膜の前処理と水滴接触角の関係、および真空成膜した膜の密着強度、光学的特性は、かなり検討されている。しかし、水滴接触角のバラツキ（標準偏差、レンジ）について検討しているものは、見あたらない。
【００３９】
以下本発明を実施するための最良の形態につき説明する。まず本発明請求項１〜５に係わる材料、表面処理の方法、水滴接触角の測定方法、真空成膜法による透明無機物層の形成方法、全光線透過率とヘーズの測定方法について以下に詳述する。なお、本発明はガスバリア性の透明無機物層を形成する方法としても好適に使用できるので、請求項５でガスバリア性である発明としている。請求項１〜４、および請求項４が実質的に含まれる請求項６、請求項７においては、説明文中にガスバリア性について記載することがあるが、ガスバリア性であることは必ずしも必要ではない。例えば、ガスバリア性が低いフッ化カル
シウムを真空成膜法で積層した複層フィルムは、可視光で透明である。そして全光線透過率が高く、ヘーズが低い用途に使用する透明複層フィルムを製造する際には、本発明を好適に使用することができる。
【００４０】
本発明に使用することができる基材フィルムとしては、全光線透過率が高く、例えば９５％以上であり、ヘーズが低いこと、例えば５％以下、が必要である。光学用フィルムあるいは光学用透明フィルムと称されているものは、一般に全光線透過率が高く、ヘーズが低く、さらに表面の平坦度が高く、厚さムラが少なく、キズが少ないので、好適に使用することができる。無色であることが好ましいが、画像表示装置の表示面に使用して差し支えない範囲で着色していてもよい。
【００４１】
実際の材質としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリトリメチレンテレフタレート（ＰＴＴ）などのポリエステル、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリシクロオレフィン、ポリスチレン（ＰＳ）などのポリオレフィン、ナイロン−６，ナイロン−６６などのポリアミド、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート（ＰＣ）ポリアクリロニトリル（ＰＡＮ）、ポリイミド（ＰＩ）などがあり、無延伸あるいは延伸フィルムを使用することができる。これら各種フィルムの中でも、強度、加工適性、光学用途として開発された品種が多いこと、コストなどの点から、ポリエチレンテレフタレートフィルムを使用することが好ましい。該基材フィルムの厚さは用途によるが、１０〜２５０μｍ程度が通常の範囲である。
【００４２】
ポリエチレンテレフタレートフィルムの種類としては、２軸延伸したものが、伸縮性が低く、透明度が高く、表面強度も強いので好ましい。さらに、特許文献１０にポリアミド樹脂フィルムなみの柔軟性を賦与し、しかも封止フィルム（レトルト、真空封止）用等の包装用に適するようにしたものが開示されているが、好適に使用することができる。
【００４３】
透明無機物層としては、全光線透過率が高く、ヘーズを低く成膜することができる材料が必要である。また、透明であることが好ましいが、画像表示装置の表示面に使用して差し支えない範囲で着色していてもよい。さらには高屈曲性であることが好ましい。例えば珪素、アルミニウム、マグネシウム、亜鉛、ジルコニウム、チタン、イットリウム、及びタンタルから選ばれる少なくとも１種の金属を主成分とする金属酸化物；珪素、アルミニウム、及びホウ素から選ばれる少なくとも１種の金属を主成分とする金属窒化物；及びこれらの混合物を挙げることができる。
【００４４】
透明無機物層は、真空成膜法で形成する。真空成膜法とは、材料を真空中で気相とし基材フィルム上へ堆積させて膜形成する方法である。真空成膜法としては、例えば真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等の真空成膜法を使用することができる。ガスバリア性を必要とする場合は、真空蒸着法、スパッタ法が特に優れたガスバリア性の膜が得られるので好ましい。無機物ガスバリア層の膜厚は１０ｎｍ〜３００ｎｍが好ましく、より好ましくは３０ｎｍ以上２００ｎｍ以下が好ましい。１０ｎｍより薄いとガスバリア性が不足し、３００ｎｍより厚いと、曲げた時にクラックが入りやすくなったり、剥離しやすくなったりする。
【００４５】
このような真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法の好ましい真空度は、１．３３×１０-3Ｐａ以上６．６５Ｐａ以下、より好ましくは６．６５×１０-3Ｐａ以上１．３３Ｐａ以下である。
【００４６】
なお、透明無機物層を形成する前に、および形成している状態で、基材フィルムを５０℃以上２００℃以下の温度で加熱処理することが、透明無機物層の密着強度を上げること
と、膜欠陥の減少、全光線透過率の向上および安定化、ヘーズの低下および安定化に有効である。すなわち、基材フィルム中は、一般に０．０１％〜５％の水を吸着している。透明無機物層を蒸着、スパッタ等の真空法で該基材フィルム上に設けようとした場合、これらの水分が、スパッタ、蒸着時の衝撃で真空中に放出され、これが透明無機物層に取り込まれるため、これらの層の密度が低下し、かつ隙間の多い脆い層になり、全光線透過率が減少し、ヘーズが増加するとともに、破断しやすい層となり易い。一カ所でも破断すると、微少な破断であっても、ガスバリア性がなくなる。これを防止するため、これらの蒸着またはスパッタの前に、基材フィルムを加熱して水分を放出させる。その条件は、５０℃以上２００℃以下、より好ましくは７０℃以上１８０℃以下、さらに好ましくは９０℃以上１６０℃以下、１秒以上２０分以下、より好ましくは３秒以上１５分以下、さらに好ましくは５秒以上１０分以下加熱するのが好ましい。上記加熱処理は６．６５×１０-1Ｐａ以上２．６６×１０3Ｐａ以下、より好ましくは２．６６Ｐａ以上６．６５×１０2Ｐａ以下の真空下で行うことが好ましい。すなわち、これらの加熱処理を行った後、連続して蒸着またはスパッタを真空中で実施することができ、好ましい方法である。
【００４７】
表面処理は、基材フィルムと透明無機物層との間の密着力を増加するために、基材フィルム表面の極性を増加させることを主目的として行う真空成膜の前の表面処理であり、単に前処理と記す場合もあり、本発明で前処理と記してある場合はこの表面処理を意味する。前処理としては、コロナ放電処理、プラズマ処理、火炎処理、薬品処理などの公知の方法があり、本発明においても使用することができる。なかでもコロナ放電処理、プラズマ処理が、密着強度向上効果が安定していること、インライン処理が可能である点で、好ましく挙げられる。なお、これらの表面処理は、表面に凹凸を付与する効果も有し、接触面積が増えることで密着強度を上げる効果も有する。
【００４８】
コロナ放電処理は、大気圧中におけるコロナ放電を使用して、基材フィルムの改質を図るものであり、基材フィルムの表面の凹凸を増加する効果も多少あるが、おもに基材フィルムの極性の増加の効果がある。通常の装置においては、放電周波数は５０Ｈｚ以上５０００ｋＨｚ以下、好ましくは５ｋＨｚ以上数１００ｋＨｚ以下が適当である。好ましい出力は、０．００１ｋＶ・Ａ・分／ｍ2以上５ｋＶ・Ａ・分／ｍ2以下、好ましくは０．０１ｋＶ・Ａ・分／ｍ2以上１ｋＶ・Ａ・分／ｍ2以下である。電極と基材フィルムとのギャップクリアランスは０．５以上２．５ｍｍ以下、好ましくは１．０以上２．０ｍｍ以下である。
【００４９】
プラズマ処理は、直流グロー放電、高周波放電、マイクロ波放電等の放電によってその放電空間にある気体をプラズマ電離させて、基材フィルムに衝突させて、表面改質を行う表面処理方法である。通常のプラズマ処理装置においては、放電周波数は、直流から数１０００ＭＨｚ、好ましくは５０Ｈｚ以上２０ＭＨｚ以下、さらに好ましくは５０Ｈｚ以上１ＭＨｚ以下である。放電処理強度は、０．１以上２０ｋＷ以下が好ましく、より好ましくは０．５以上１５ｋＷ以下、さらに好ましくは１以上１２ｋＷ以下である。プラズマ処理時の真空度は、１．３３×１０-3Ｐａ以上２．６６×１０2Ｐａ以下）が好ましく、より好ましくは６．６５×１０-3Ｐａ以上６．６５×１０Ｐａ以下である。好ましい処理時間は、０．１秒以上２０分以下であり、より好ましくは０．５秒以上１０分以下、さらに好ましくは１秒以上５分以下である。使用する気体は窒素ガス、アルゴンガス、ヘリウムガス等であり、処理速度を向上させたり、処理後の基材フィルムの表面の極性を大きくするために、必要に応じて酸素ガスを添加する。
【００５０】
前処理としてコロナ放電処理もプラズマ処理も好ましく使用することができるが、より好ましくはプラズマ処理である。なぜなら、透明無機物層は真空中でスパッタあるいは蒸着法により形成することができるが、プラズマ処理も真空中で行われるので、真空成膜の前に処理装置を設置した連続した製造ライン上で処理できる利点を有するためである。
【００５１】
このような前処理による表面の極性増加の効果を検出する方法として、上述したように水滴接触角を用いる方法が、生産現場においては有効である。前処理前の表面と水の接触角を基準にして、前処理後の表面と水の接触角が３度以上、より好ましくは５度以上、さらに好ましくは１０度以上低下するように表面処理するのが好ましい。基材フィルムがポリエチレンテレフタレートフィルムの場合、無処理では水滴接触角は１１０度程度であるが、前処理によって９０度以下にすることができ、さらに条件を検討することによって７０度以下に低下させることができる。その結果として、基材フィルムに対する無機物層の密着強度が向上し、ガスバリア性が要求される場合には特に有効である。なお、水滴接触角の測定方法については、後に請求項７に係わる項で述べる。
【００５２】
さらに、水滴接触角の標準偏差も前処理の条件によって変化する。全光線透過率が高く、ヘーズが低い透明無機物層を得るためには、実施例において述べるように、水滴接触角の標準偏差が小さいことが必要である。例えば、該標準偏差が１．７度以下であれば、全光線透過率が８５％程度以上、ヘーズが２．６程度以下の全光線透過率が高く、ヘーズが低い透明複層フィルムを得ることができる。そのため、予め前処理条件を検討し、水滴接触角が少なくとも９０度以下、好ましくは７０度以下となる条件範囲を求め、次にその条件範囲内で水滴接触角の標準偏差が最小となる条件を見いだすことによって、その前処理装置で得られる最高の全光線透過率と最低のヘーズを有する透明複層フィルムを得ることができる。
【００５３】
すなわち、種々の前処理条件で処理した種々の水滴接触角の平均値と標準偏差を有する基材フィルムについて、その上に種々の成膜条件で真空成膜した透明複層フィルムの全光線透過率とヘーズの値を、予備実験によって求めておき、その結果を使用して所望の全光線透過率およびヘーズを有する透明複層フィルムを製造する条件を定め、それに基づいて製造する。なお、予備実験において、前処理条件や成膜条件は、あらゆる条件を検討する必要はなく、所望の全光線透過率やヘーズが得られる条件を集中的に検討ればよい。また、用途によって全光線透過率とヘーズの所望値が定められている場合には、予備実験の結果からその全光線透過率とヘーズを得ることができる水滴接触角の標準偏差を見いだすことができ、さらにその標準偏差を有する基材フィルムを前処理によって得るための条件を見いだすことができる。
【００５４】
請求項６に係わる真空蒸着法について、以下および実施例において詳述する。真空蒸着法は、原料として金属または金属の酸化物、窒化物を蒸発源に置き、蒸発源部分を抵抗加熱、高周波誘導加熱、電子ビーム加熱等の方法で加熱して、蒸発させ、被着体となる基材フィルムの上に層状の膜として凝縮させる方法である。いずれの方法も本発明において使用することができる。なお、原料が金属である場合には、酸化物や窒化物と比較して低温で蒸発するので、加熱が容易である。そして、蒸着装置のチャンバー内に酸素、あるいは窒素を導入して、気相中で反応させて酸化物、あるいは窒化物とする反応性蒸着法を使用する。その場合、チャンバー内にプラズマを発生させて酸化反応、窒化反応を促進するプラズマアシスト法と呼ばれる方法を使用してもよい。
【００５５】
実際の真空蒸着装置の一例として、実施例において使用した連続成膜装置を図４の概略構成図に基づき以下に説明する。なおこの装置は反応性蒸着装置であり、前処理装置としてホローアノード形式のプラズマ処理装置を有し、また形成する膜の厚さ方向の化学組成を制御することができる構造のものである。この成膜装置４０は真空チャンバー４１内に設けられた基材フィルム１を供給するための送り出し部４２と、送り出し部４２の下流に順に設けられた、ホローアノード型プラズマ処理装置５０、プラズマ処理後の基材フィルムを支持し、これを冷却する冷却ドラム４５、および基材フィルム１を巻き取るための巻き取り部４３と、基材フィルム１を搬送するためにプラズマ処理装置５０から巻き取り部
４３までの間に適宜設けられたガイドローラ４４と、冷却ドラム４５に、基材フィルム１を介して対抗して設けられた蒸着源を置くための坩堝４９と、坩堝４９内に収納された蒸着源５１と、さらに、基材フィルム１および蒸着源５１の間に反応ガスを供給するためのガス供給部４６およびそのガス供給口４７と、真空チャンバー４１内を真空にするための真空ポンプ４８とから構成される。
【００５６】
この装置では、基材フィルム１を成膜装置の送り出し部４２に装着し、例えばアルミニウムを蒸着源として坩堝４９内に装着する。その後、真空ポンプ４８にて真空チャンバー４１内を真空度１．３×１０-2Ｐａないし１３×１０-2Ｐａで真空にした後、基材フィルム１を送り出し部４２からプラズマ処理装置５０と冷却ドラム４５の間を通過させてプラズマ処理を行い、次に蒸着源と冷却ドラム４５の間を通過させる。同時に坩堝４９内のアルミニウム蒸着源５１を電子線加熱方式により加熱して蒸発させ、また同時に酸素ガスを酸素ガス供給口４７からアルミニウム蒸気雰囲気中に供給し、アルミニウム蒸気と反応させて、基材フィルム１上に酸化アルミニウムの薄膜の層を形成させる。酸素ガス供給口４７は基材フィルムの移動方向に対して坩堝４９の位置よりもやや上流側に設けられている。このために、基材フィルム１の側から表面側にかけて、酸素原子比が大きな値から小さな値に連続して変化している酸化アルミニウムの層が形成される。
【００５７】
請求項７に係わる水滴接触角とその標準偏差について以下に詳述する。まず、水滴接触角を以下の方法で測定した。接触角計として協和界面科学（株）社製「ＣＡ−ＤＴ−Ａ型接触角計」を用い、温度２３℃、湿度５０％ＲＨに２４時間放置した試料フィルム表面に純水をマイクロシリンジを用いて０．００５ミリリットル滴下し、２分経過した時の水滴と基材フィルムのなす角を読みとった。試料フィルム約１平方メートルを切り取り、測定点として、ほぼ等間隔に５０カ所を選定した。なお、標準偏差に対する全光線透過率およびヘーズの関係は、一試料当たりの測定点が１０カ所以下では不明瞭なことが多く、逆に１００カ所にしても５０カ所の場合と比較して明瞭度がそれほど向上しなかったので、５０カ所とした。表面処理の方法や装置が異なる場合、またロットの大きさによっては、測定箇所数を見直すことが必要である。さらに、表面処理装置によっては幅方向の処理ムラが大きい結果、複層フィルムとした状態で全光線透過率やヘーズに幅方向のムラが認められる場合には、処理ムラを無くしてから、本発明の方法を使用する必要がある。成膜装置についても、幅方向の全光線透過率やヘーズのムラを無くしてから、本発明の方法を使用することが必要である。なお、本願においては、「水滴接触角」と記載した場合、個々の水滴接触角の測定値を明示する場合以外は、たとえ「水滴接触角の平均値」と記載してなくても、平均値または抽象的な意味での水滴接触角を指す。
【００５８】
請求項８において、ガスバリア性材料を酸化アルミニウム、酸化珪素に限定した理由には、第１に真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ等の真空成膜法で、全光線透過率が高く、ヘーズの低い膜を形成することができる、第２に共に化学的に安定であって、高いガスバリア性が使用中に低下するおそれがほとんどない、第３に共に反応性真空蒸着法によって容易に化学量論的組成からはずれた酸化物組成の膜とすることができる、からである。例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルムをプラズマ処理して、水滴接触角を７０度以下、その標準偏差を１．７度以下とした基材フィルムに、酸化アルミニウムを真空蒸着法で成膜した場合、全光線透過率が８５％以上でかつヘーズが５％以下である透明複層フィルムが得られる。さらに、化学量論的組成からはずれた組成のもののほうが一般的にアモルファス組成になりやすく、アモルファス構造のものは高屈曲性であるので好ましい。
【００５９】
すなわち、珪素、アルミニウム、マグネシウム、亜鉛、ジルコニウム、チタン、イットリウム、タンタル等の透明でガスバリア性の酸化物の膜を形成する金属の中でも、ガスバリア性、透明度、表面平滑性、屈曲性、膜応力、コスト等の点から、酸化アルミニウム、
酸化珪素が好ましく、なかでもアルミニウム原子数に対する酸素原子数の割合が１：２〜１：１．２のアルミニウム酸化物を主成分とするもの、および珪素原子数に対する酸素原子数の割合が１．５〜２．０の珪素酸化物を主成分とするものが良好である。アモルファス構造となり、ガスバリア性が高く、折り曲げにも強いガスバリア性膜となり、本発明の目的に適しているからである。
【００６０】
請求項９に係わるガスバリア性補強層について以下に述べる。該ガスバリア性補強層は、その下の真空成膜したガスバリア層が薄く、耐摩擦性などの機械的強度が不足するので、それを補強するために設ける膜である。それ自体もガスバリア性を有する膜が、ガスバリア性も補強するので好ましい。請求項１０に記載の組成よりなるガスバリア性補強層は、機械的強度、ガスバリア性がともに高く、さらにその下の真空成膜したガスバリア層との密着性も良好なので、ガスバリア性補強層として好ましい。請求項１０に記載の水溶性高分子は、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、デンプン、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、アルギン酸ナトリウム等である。このポリビニルアルコールは、一般にポリ酢酸ビニルを鹸化して得られるもので、酢酸基が数十％残存している、いわゆる部分鹸化ポリビニルアルコールを含み、特に限定されるものでない。
【００６１】
請求項９に記載の金属アルコキシドは、シランアルコキシド、シランカップリング剤、テトラエトシキシラン、トリイソプロポキシアルミニウム等であり、とくに、テトラエトシキシラン、トリイソプロポキシアルミニウムが加水分解後、水系の溶液中で安定であり、好ましい。また、請求項１０に記載の塩化スズは、塩化第一スズ、塩化第二スズ、またはそれらの混合物であってもよく、無水物でも水和物であっても用いることができる。
【００６２】
上述した各材料を単独、あるいはいくつかを組み合わせて使用することができる。たとえば、水溶性高分子と塩化第一スズの少なくとも一方を水または水／アルコールの混合溶剤に溶解した溶液と、１種以上の金属アルコキシドあるいはその加水分解物を混合した溶液を、該透明無機物層の上に塗布して、乾燥して被膜とする。塗布する方法は特に制限がなく、例えばロールコーティング法を使用することができる。ポリビニルアルコールがガスバリア性を補強する効果に優れている。
【００６３】
請求項１０、１１に記載の、熱接着層をガスバリア性補強膜の層の上に形成したもの、の断面説明図を、図２（ａ）（ｂ）に示す。図２（ａ）および（ｂ）の構造は、それぞれ請求項１１および請求項１２に対応するものである。いずれも、図１（ｂ）の構造のガスバリア性透明複層フィルムに熱接着剤の層を設けてヒートシール（加熱封止）機能を有する封止フィルムとしたものである。ただし、図２（ａ）、（ｂ）いずれにおいても、表面処理層２は、本発明の方法に従って測定した水滴接触角が所定の範囲であるものである。図２（ａ）は、前記ガスバリア性補強層４の上にプライマー層５を介して熱接着剤層６を積層した構造である。図２（ｂ）は基材フィルム１の面にプライマー層５を介して、熱接着剤層６を積層した構造である。ここでプライマー層５は熱接着剤が、請求項１１の場合には下地であるガスバリア性補強層、請求項１２の場合には下地である基材フィルムに対して接着強度が不足する場合に、両者の間に介在させて、充分な接着強度を得るために使用する。
【００６４】
請求項１０、１１に記載の熱接着剤層およびプライマーについて、以下に詳述する。熱接着剤６はヒートシール材、例えば真空パック等の封止フィルムに使用されている公知の熱接着剤のうち、光線透過率が高く、ヘーズが低いものを使用することができる。例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体鹸化物、ポリエステル、およびこれらの酸変性樹脂、さらにエチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−メタクリル酸共重合体等の樹脂がある。特に、エチレンとメタクリル酸の共重合体をナトリウム、亜鉛等の金属で部分的に中和した熱可塑性アイオノマ
ー樹脂、および該共重合体の酸変性ポリエチレン系樹脂、ポリエステル樹脂系のテレフタル酸とグリコールとの共重合体ポリエステル、テレフタル酸と１，４−ブタンジオールとの共重合体は全光線透過率が高く、またヘーズが低い上に、熱シール強度が高く、またヒートシール温度が７０℃〜１８０℃であるので、実用的に好ましい。特に、図２（ｂ）においては、ポリエステル樹脂系のものは基材フィルムがポリエステル樹脂系である場合に、プライマーを使用しないでも基材フィルムと十分な強度で接着するので好ましい。なかでも、テレフタル酸とエチレングリコールとの共重合体ポリエステルは接着温度が１２０℃前後であって、実用上適度な温度であるので、好ましい。
【００６５】
上記熱接着剤をガスバリア性補強層の上や基材フィルムの上に積層する方法としては、例えば、ドライラミネート法、ノンソルベントドライラミネート法、押し出しラミネート法、その他公知のラミネート法を使用することができる。なかでも押し出しラミネート法を使用することが、膜厚制御性や下地を損傷することがない点で好ましいが、その他の方法であってもよい。上記熱接着剤層の厚さは、用途によって異なるが、画像表示装置の表示面に使用する場合には、３０〜１００μｍが好ましい。
【００６６】
プライマーは公知の汎用のラミネート用接着剤のなかで、下地であるガスバリア性補強層、あるいは基材フィルムと接着し、さらに上記熱接着剤層と接着するものであって、透明なものを使用する。例えば、透明な、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、エポキシ系、ポリ（メタ）アクリル系、ポリエチレンイミン系、（変性）ポリオレフィン系の溶剤型、水性型、熱溶融型の接着剤の中から選定して使用することができる。
【００６７】
上記プライマー層の積層方法としては、例えばダイレクトグラビアコート法、リバースグラビアコート法、キスコート法、ダイコート法、ロールコート法、ディップコート法、ナイフコート法、スプレーコート法、上記の各種ラミネート法がある。これらの積層方法うちから、選定したプライマーの性状と被積層体の性状に適した方法を選定して使用する。その厚さは、所用の強度を得ることができる範囲で薄いほうが好ましく、通常０．１〜１０μｍ（乾燥状態）程度が好ましい。
【００６８】
請求項７および１２に係わるポリエチレンテレフタレートフィルムについて、以下に述べる。ポリエチレンテレフタレートフィルムは、本質的に機械的強度が高く、全光線透過率が高く、へーズが低いものを得やすいので、開発が盛んであって、光学用として優れたものが上梓されている。また、真空成膜前の表面処理、特にプラズマ処理によっても表面の凹凸の増加が少ないので、本発明において特に好ましい材料である。中でも、２軸延伸したものは、引っ張り応力によるのびが少なく、本発明の目的である画像表示装置の表示面に使用する場合に特に適している。
【００６９】
全光線透過率、ヘーズ（曇価）を以下の方法で測定した。光線透過度測定装置として日本電色工業製、ＣＯＨ−３００Ａを用い、ＪＩＳ７１０５に準拠した方法で測定し、算出した。測定点は、水滴接触角の測定点と同様に、試料フィルム約１平方メートルを切り取り、ほぼ等間隔に５カ所を選定している。表面処理装置の幅方向の処理ムラと、真空成膜装置の幅方向の成膜ムラを調整によって除去した結果、場所ムラが認められなくなった。測定箇所を５カ所としても測定値にほとんど相違がない状態となったので、平均値のみを問題としている。
【実施例１】
【００７０】
＜試作１＞基材フィルムとして、厚さ１００μｍの２軸延伸のポリエチレンテレフタレートフィルムＸを使用した。図４に示した連続真空成膜装置を用いて、高周波プラズマによる表面処理と酸化アルミニウムの成膜を連続して、以下の条件で行った。高周波プラズマ処理を、入力電力１２０Ｗ、自己バイアス１２０Ｖ、アルゴン雰囲気下でプラズマ密度
と処理時間の積であるＥｄ値を１０００Ｖ・ｓ・ｍ-2に設定して行った。引き続き、上記の処理を行った基材フィルムを成膜装置部分へ導入し、基材フィルム面を蒸着器内に導入し、この基材の一表面上に、アルミニウムを蒸着源として、酸素、ガスを、流量１５００ｓｃｃｍで流しながら、電子線加熱方式を用いた反応蒸着を行うことにより、基材側から蒸着層表面にかけてＡｌとＯの原子比が１：２から１：１．２の範囲で連続的に変化する傾斜構造を持つ酸化アルミニウム蒸着層を、基材の一表面上に、厚さ約５０ｎｍで形成した。
【００７１】
＜試作２＞  基材フィルムには試作１と同じ品番のポリエチレンテレフタレートフィルムＸを使用した。表面処理を、試作１に使用した真空成膜装置を使用し、ホローアノードプラズマ装置部において、プラズマガス種として、アルゴンを用い、入力電力１２０Ｗ、自己バイアス３３０Ｖの条件で低温プラズマ処理を行った。プラズマ処理された試料の表面上に、試作１と同じ条件で電子線加熱方式を用いた反応蒸着を行うことにより、基材側から蒸着層表面にかけてＡｌとＯの原子比が１：２から１：１．２の範囲で連続的に変化する傾斜構造を持つ酸化アルミニウム蒸着層を、基材の一表面上に、厚さ約５０ｎｍで形成した。
【００７２】
＜試作３＞基材フィルムには試作１と同じ品番のポリエチレンテレフタレートフィルムＸを使用した。表面処理を行わずに、試作１と同じ方法を用いて、基材側から蒸着層表面にかけてＡｌとＯの原子比が１：２から１：１．２の範囲で連続的に変化する傾斜構造を持つ酸化アルミニウム蒸着層を、基材の一表面上に、厚さ約５０ｎｍで形成した。
【００７３】
＜試作４＞基材フィルムとして、厚さ１００μｍの２軸延伸のポリエチレンテレフタレートフィルムＹを使用した。試作３と同様に、表面処理を行わずに、試作１と同じ方法を用いて、基材側から蒸着層表面にかけてＡｌとＯの原子比が１：２から１：１．２の範囲で連続的に変化する傾斜構造を持つ酸化アルミニウム蒸着層を、基材の一表面上に、厚さ約５０ｎｍで形成した。
【００７４】
水滴接触角を２軸延伸のポリエチレンテレフタレートフィルムＸについては、試作１および２の表面処理を行ったもの、さらに表面処理を行わないものについて、測定した。ポリエチレンテレフタレートフィルムＹは表面処理を行わないものについて測定した。結果を表１に示す。同様に成膜直後の試料について、全光線透過率とヘーズを測定した。結果を表１に示す。
【表１】
2008114444.tif 000003
【００７５】
表１において、真空成膜前の表面処理後の水滴接触角の標準偏差に対する全光線透過率とヘーズの関係は、真空成膜前の表面処理条件が異なっても、成膜条件が同じならば、相関していると言える。従って、事前に水滴接触角を測定し、その標準偏差を求めることによって、成膜後の全光線透過率とヘーズを予想することができる。よって、水滴接触角の標準偏差を基に、使用している基材フィルムの新規ロットの使用の可否、新規基材フィルムに成膜した場合に全光線透過率、ヘーズが所望の値になるかどうか、さらには、所望する全光線透過率、ヘーズを得るための真空成膜前の表面処理条件を設定することができる。
【実施例２】
【００７６】
試作１で形成したアルミナ層の上に、以下のようにして、ガスバリア性補強膜の層を形成し、さらにプライマー層を形成し、その上に熱接着フィルム層を積層し、図２（ａ）の構造の封止フィルムＡを得た。この封止フィルムＡは、図３の封止フィルムＡと構造が同じであり、同じく画像表示装置の基材用や封止用や保護用に使用することができる。
【００７７】
まず、ガスバリア性補強膜の層を形成するため、１液として、テトラエトキシシラン１
０．４ｇに塩酸（０．１Ｎ）８９．６ｇを加え、３０分間撹拌し、加水分解させ、ＳｉＯ２換算で固形分が３ｗｔ％の加水分解溶液を調製した。次に、２液として、水とイソプロピルアルコールを重量比で９０対１０で混合した水−イソプロピルアルコール溶液９７重量％とポリビニルアルコール３重量％とを混合した。
【００７８】
上記１液と２液を６０対４０の重量混合比で混合し、コーティング液１を得た。得られたコーティング液１をグラビアコート法により塗布し、その後、１２０℃で１分間乾燥させ、５００ｎｍの厚さを有するガスバリア性補強膜の層を形成した。
【００７９】
さらに、プライマーとしてポリウレタン系接着剤（三井武田ケミカル社製  Ａ６２６）をドライラミネート法により塗布量３．５ｇ／ｍ2の層を積層し、その上にヒートシール性接着剤として厚さ５０μｍの直鎖状低密度ポリエチレンフィルム（東セロ社製  ＴＵＸ−ＦＣＳ）を積層し、本発明による図２（ａ）の構造の封止フィルムを得た。
【図面の簡単な説明】
【００８０】
【図１】（ａ）  本発明透明複層フィルムの基本構成についての断面説明図である。（ｂ）  本発明透明複層フィルムの基本構成にガスバリア補強層を追設した構造についての断面説明図である。
【図２】（ａ）  図１（ｂ）の本発明透明複層フィルムの構成にプライマー層と熱接着フィルム層を追設して封止フィルム構造としたものについての断面説明図である。図１（ｂ）構成本発明透明複層フィルムのにプライマー層と熱接着フィルム層を追設して封止フィルム構造とした別構造についての断面説明図である。
【図３】従来技術、および本発明によるガスバリア性封止フィルムの使用例であるＥＬ表示デバイスについての断面説明図である。
【図４】実施例において使用した前処理と真空蒸着を連続して行うことができる巻き取り式の連続反応性真空蒸着装置の概略構成図である。
【符号の説明】
【００８１】
Ａ  ガスバリア性透明封止フィルム
Ｂ  ＥＬ素子
１  透明な基材フィルム
２  表面処理層（前処理層）
３  透明無機物層
４  ガスバリア性補強層
５  プライマー層
６  熱接着剤層
４０  巻き取り式の反応性真空蒸着装置
４１  真空チャンバー
４２  送り出し部
４３  巻き取り部
４４  ガイドローラ
４５  冷却ドラム
４６  反応ガス供給部
４７  反応ガス供給口
４８  真空ポンプ
４９  坩堝
５０  ホローアノード型プラズマ処理装置
５１  蒸着源
１００  ガスバリア性透明封止フィルムで封止したＥＬ素子
１０１  ＥＬ素子の第一電極
１０２  ＥＬ素子の蛍光層
１０３  ＥＬ素子の第二電極
【図１】
2008114444.tif 000004
【図２】
2008114444.tif 000005
【図３】
2008114444.tif 000006
【図４】
2008114444.tif 000007