Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月26日(2013.2.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
標的ＩＬ１２Ｒβ１ポリペプチド（配列番号４１）に対する抗体の抗原結合部分を含む単離された抗体またはタンパク質であって、１００ｎＭ以下のＫＤでＩＬ１２Ｒβ１ポリペプチドに結合し、そしてインビトロ競合結合アッセイで測定したときＩＬ１２Ｒβ１ポリペプチドへのＩＬ１２および／またはＩＬ２３の結合を阻害し、さらに約１ｎＭ以下のＩＣ５０でヒト血球細胞におけるＩＬ１２依存的ＩＦＮ−γ産生を阻害することを特徴とする、単離された抗体またはタンパク質。
【請求項２】
完全ヒトまたはヒト化抗体である、請求項１に記載の抗体。
【請求項３】
変異されまたは化学的に修飾されたアミノ酸Ｆｃ領域を含み、当該変異されまたは化学的に修飾されたアミノ酸Ｆｃ領域が、野生型Ｆｃ領域と比較したとき、ＡＤＣＣ活性の削除または低減を提供する、請求項１または２に記載の抗体。
【請求項４】
変異されまたは化学的に修飾されたアミノ酸Ｆｃ領域がサイレントＩｇＧ１  Ｆｃ領域である、請求項３に記載の抗体。
【請求項５】
ＩＬ１２Ｒβ１ポリペプチド（配列番号４１）に対する抗体のペグ化抗原結合部分から本質的になる、請求項１に記載のタンパク質。
【請求項６】
配列番号９〜１２からなる群から選択される重鎖領域ＣＤＲ３配列と少なくとも６０、７０、８０、９０、９５または１００％配列同一性を有する重鎖領域ＣＤＲ３を少なくとも含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載の抗体または結合タンパク質。
【請求項７】
配列番号２９〜３２の少なくとも一つと少なくとも６０、７０、８０、９０、９５または１００％配列同一性を有するＶＨポリペプチド配列を含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載の抗体または結合タンパク質。
【請求項８】
配列番号２５〜２８の少なくとも一つと少なくとも６０、７０、８０、９０、９５または１００％配列同一性を有するＶＬポリペプチド配列を含む、請求項１〜７のいずれか１項に記載の抗体または結合タンパク質。
【請求項９】
（ａ）配列番号２９の重鎖および配列番号２５の軽鎖；
（ｂ）配列番号３０の重鎖および配列番号２６の軽鎖；
（ｃ）配列番号３１の重鎖および配列番号２７の軽鎖；または
（ｄ）配列番号３２の重鎖および配列番号２８の軽鎖
のいずれかを含む、抗体。
【請求項１０】
請求項９に記載の少なくとも一つの抗体のＶＨおよびＶＬ対応配列と少なくとも６０、７０、８０、９０、９５または１００％配列同一性を有するＶＨおよびＶＬ配列を含む、請求項１〜８のいずれか１項に記載の抗体または結合タンパク質。
【請求項１１】
配列番号１〜４からなる群から選択されるアミノ酸配列を含む重鎖可変領域ＣＤＲ１；配列番号５〜８からなる群から選択されるアミノ酸配列を含む重鎖可変領域ＣＤＲ２；配列番号９〜１２からなる群から選択されるアミノ酸配列を含む重鎖可変領域ＣＤＲ３；配列番号１３〜１６からなる群から選択されるアミノ酸配列を含む軽鎖可変領域ＣＤＲ１；配列番号１７〜２０からなる群から選択されるアミノ酸配列を含む軽鎖可変領域ＣＤＲ２；配列番号２１〜２４からなる群から選択されるアミノ酸配列を含む軽鎖可変領域ＣＤＲ３を含む、請求項１０に記載の抗体または結合タンパク質。
【請求項１２】
請求項９に記載の少なくとも一つの抗体によってＩＬ１２Ｒβ１との結合が交差阻止される、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の抗体または結合タンパク質。
【請求項１３】
ＩＬ１２Ｒβ１との結合を交差阻止するかまたは請求項９に記載の少なくとも一つの抗体によって交差阻止される、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の抗体または結合タンパク質。
【請求項１４】
医薬として使用するための、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の抗体または結合タンパク質。
【請求項１５】
ＩＬ１２Ｒβ１によって介在されるかまたはＩＦＮγ産生の阻害によって処置できる病的障害の処置のための、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の抗体または結合タンパク質。
【請求項１６】
自己免疫性および炎症性障害、例えばリウマチ性関節炎、乾癬または炎症性腸疾患の処置のための、請求項１〜１５のいずれか１項に記載の抗体または結合タンパク質。
【請求項１７】
１種以上の薬学的に許容される賦形剤、希釈剤または担体と共に、請求項１〜１６のいずれか１項に記載の抗体または結合タンパク質を含む、医薬組成物。
【請求項１８】
請求項１〜１６のいずれか１項に記載の抗体または結合タンパク質をコードする、単離された核酸。
【請求項１９】
請求項１８に記載の１個以上の核酸を含む、クローニングまたは発現ベクター。
【請求項２０】
配列番号３３〜４０または少なくとも１個のＣＤＲ領域をコードするフラグメントからなる群から選択される少なくとも１個の核酸を含む、請求項１９に記載のクローニングまたは発現ベクター。
【請求項２１】
請求項１９または２０に記載の１個以上のクローニングまたは発現ベクターを含む、宿主細胞。
【請求項２２】
請求項１〜１６のいずれか１項に記載の抗体または結合タンパク質の製造方法であって、請求項２１に記載の宿主細胞を培養することおよび該抗体または機能的タンパク質を単離することを含む方法。
【請求項２３】
自己免疫性および炎症性障害、例えばリウマチ性関節炎、乾癬または炎症性腸疾患の処置に有用な医薬の製造における、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の抗体の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月26日(2013.3.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガウシア・ルシフェラーゼ（ＧＬｕｃ）レポータータンパク質およびその誘導体をコードするＤＮＡ配列を含む発現カセットであって、前記ＤＮＡ配列は、ゲノム損傷に応答してガウシア・ルシフェラーゼ（ＧＬｕｃ）レポータータンパク質をコードするＤＮＡ配列の発現を活性化するように配列されたヒトＧＡＤＤ４５α遺伝子調節エレメントと、ヒトＧＡＤＤ４５α遺伝子プロモーターとに機能的に連結している発現カセット。
【請求項２】
前記調節エレメントは、前記ＧＡＤＤ４５α遺伝子のイントロン３の少なくとも１つの領域を含む、請求項１に記載の発現カセット。
【請求項３】
前記調節エレメントは、推定ｐ５３結合モチーフを含む、請求項２に記載の発現カセット。
【請求項４】
ガウシア・ルシフェラーゼ（ＧＬｕｃ）をコードするＤＮＡ配列は配列番号１の位置２６４１〜３１９８に示されたものである、請求項１〜３のいずれか１項に記載の発現カセット。
【請求項５】
実質的に図２に示され、配列番号２により提供されている、発現カセットＧＤ５３２−ＧＬｕｃ。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の発現カセットを含む組換えベクター。
【請求項７】
実質的に図２に示され、配列番号１により提供されている、組換えベクターｐＥＰ−ＧＤ５３２−ＧＬｕｃ。
【請求項８】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の発現カセットまたは請求項６もしくは７に記載の組換えベクターを含有する細胞。
【請求項９】
前記細胞は、ヒト細胞である、請求項８に記載の細胞。
【請求項１０】
前記細胞は、完全に機能的なｐ５３を有するヒト細胞である、請求項９に記載の細胞。
【請求項１１】
前記細胞は、ＴＫ６ヒト細胞株である、請求項１０に記載の細胞。
【請求項１２】
ゲノム損傷を誘導または増強する物質の存在について検出する方法であって、請求項８〜１１のいずれか１項に記載の細胞を物質に曝露させるステップと、前記細胞からのＧＬｕｃレポータータンパク質の発現を測定するステップとを含む方法。
【請求項１３】
前記物質は、生体を前記物質に曝露させることが安全かどうかを評価するためにさらにスクリーニングされる、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記物質は、候補薬剤、食品添加物または化粧品である、請求項１２または請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
請求項８〜１１に記載の細胞の集団、または請求項６もしくは７に記載の組換えベクターによりトランスフェクトされた細胞を調製するステップと、前記細胞を規定時間にわたり前記物質とともにインキュベートするステップと、前記ＧＬｕｃレポータータンパク質の発現を前記細胞のサンプルから直接測定するステップとを含む、請求項１２〜１４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１６】
前記方法は、Ｓ９肝抽出物の存在下で実施される、請求項１５に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月22日(2013.1.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アセトンを形成することが可能なアセトン生成細胞。
【請求項２】
二酸化炭素および一酸化炭素を含む群から選択された少なくとも１種の炭素源から、アセトンを形成することが可能な、請求項１に記載のアセトン生成細胞。
【請求項３】
細胞の野生型と比較してより多くのアセトンを形成することが可能である程度に、当該野生型に対して遺伝子工学的改変が施されたものである、請求項１に記載のアセトン生成細胞。
【請求項４】
アセトン生成細胞の野生型と比較して少なくとも１種の以下の酵素：
アセチル−補酵素Ａからアセトアセチル−補酵素Ａへの変換を触媒する酵素Ｅ１；
アセトアセチル−補酵素Ａからアセトアセテートへの変換を触媒する酵素Ｅ２；
アセトアセテートからアセトンへの変換を触媒する酵素Ｅ３；
の増加した活性を示す、請求項１から３までのいずれか１項に記載のアセトン生成細胞。
【請求項５】
酵素Ｅ１が、アセチル−ＣｏＡ−Ｃ−アセチルトランスフェラーゼ（EC2.3.1.9）であり；
酵素Ｅ２が、ブチレート−アセトアセテート−ＣｏＡ−トランスフェラーゼ（EC2.8.3.9）またはアシル−ＣｏＡ−ヒドロラーゼ（EC3.1.2.20）であり；
酵素Ｅ３が、アセトアセテート−デカルボキシラーゼ（EC4.1.1.4）である、請求項４に記載のアセトン生成細胞。
【請求項６】
サーモアナエロバクターキブイ（hermoanaerobacter kivui）、アセトバクテリウムウッディイ（Acetobacterium woodii）、アセトアナエロビウムノテラ（Acetoanaerobium notera）、クロストリジウムアセチクム（Clostridium aceticum）、ブチリバクテリウムメチロトロフィクム（Butyribacterium methylotrophicum）、クロストリジウムアセトブチリクム（Clostridium acetobutylicum）、ムーレラサーモアセチカ（Moorella thermoacetica）、ユーバクテリウムリモスム（Eubacterium limosum）、ペプトストレプトコッカスプロダクツス（Peptostreptococcus productus）、クロストリジウムユングダリイ（Clostridium ljungdahlii）およびクロストリジウムカルボキシジボランス（Clostridium carboxidivorans）から成る群から選択された微生物である、請求項１から５までのいずれか１項に記載のアセトン生成細胞。
【請求項７】
以下の工程：
Ａ）請求項１から６までのいずれか１項に記載の細胞を、二酸化炭素および一酸化炭素を含む群から選択された少なくとも１種の炭素源を含む栄養培地と接触させ；
Ｂ）当該細胞がアセトンを形成することができる条件下で、当該細胞を培養し；
Ｃ）場合により、形成されたアセトンを単離する、
を含む、アセトンを製造する方法。
【請求項８】
請求項７に記載の方法によって製造されたアセトン。
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月26日(2013.3.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
本開示の様々な修正及び変更は、本開示の範囲及び原理から逸脱することなく当業者には明白であり、また、本開示は、本明細書に記載した例示的な実施形態に不当に制限されるものではないと理解すべきである。本発明の実施態様の一部を以下の項目１−１８に列記する。
［１］
ナノスケールの触媒粒子の薄膜を有するミクロ構造担持ウィスカーを含むナノ構造要素を含む燃料電池触媒であって、前記ナノスケールの触媒粒子の薄膜は、第１層及び第２層を交互に適用することにより作製され、前記第１層が触媒材料を含み、前記第２層が真空昇華可能な有機分子固体を含む、燃料電池触媒。
［２］
前記触媒材料が白金を含む、項目１に記載の燃料電池触媒。
［３］
前記触媒材料が白金の合金を含む、項目１に記載の燃料電池触媒。
［４］
前記触媒材料が白金である、項目１に記載の燃料電池触媒。
［５］
前記真空昇華可能な有機分子固体が芳香族有機顔料からなる群から選択される、項目１に記載の燃料電池触媒。
［６］
前記真空昇華可能な有機分子固体がフタロシアニン及びペリレンレッドからなる群から選択される、項目５に記載の燃料電池触媒。
［７］
少なくとも２つの前記第１層を含む、項目１に記載の燃料電池触媒。
［８］
少なくとも２つの前記第１層と少なくとも２つの前記第２層とを含む、項目１に記載の燃料電池触媒。
［９］
少なくとも３つの前記第１層を含む、項目１に記載の燃料電池触媒。
［１０］
少なくとも２つの前記第１層と少なくとも２つの前記第２層とを含む、項目１に記載の燃料電池触媒。
［１１］
前記第１層が５オングストローム〜２０００オングストロームの平面相当厚を有する、項目１に記載の燃料電池触媒。
［１２］
前記第１層が５オングストローム〜３００オングストロームの平面相当厚を有する、項目１に記載の燃料電池触媒。
［１３］
前記第１層が５オングストローム〜２００オングストロームの平面相当厚を有する、項目１に記載の燃料電池触媒。
［１４］
前記第１層が５オングストローム〜１００オングストロームの平面相当厚を有する、項目１に記載の燃料電池触媒。
［１５］
前記第１層が１０オングストローム〜２００オングストロームの平面相当厚を有する、項目１に記載の燃料電池触媒。
［１６］
前記第１層が１０オングストローム〜１００オングストロームの平面相当厚を有する、項目１に記載の燃料電池触媒。
［１７］
前記第２層が５オングストローム〜２０００オングストロームの平面相当厚を有する、項目１に記載の燃料電池触媒。
［１８］
前記第２層が１０オングストローム〜３００オングストロームの平面相当厚を有する、項目１に記載の燃料電池触媒。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ナノスケールの触媒粒子の薄膜を有するミクロ構造担持ウィスカーを含むナノ構造要素を含む燃料電池触媒であって、前記ナノスケールの触媒粒子の薄膜は、第１層及び第２層を交互に適用することにより作製され、前記第１層が触媒材料を含み、前記第２層が真空昇華可能な有機分子固体を含み、前記燃料電池触媒が、少なくとも２つの前記第１層と少なくとも２つの前記第２層とを含む、燃料電池触媒。
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月27日(2013.3.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光を発する少なくとも１つの発光ダイオードと、
前記少なくとも１つの発光ダイオードが発した光を方向付けるとともに、前記発光ダイオードに隣接して配置される光学系と、
二相冷却系を有し、前記二相冷却系が前記発光ダイオードからの熱を除去するように前記少なくとも１つの発光ダイオードに隣接して配置される冷却フィンと、
を備える、ライティングアセンブリ。
【手続補正書】
【提出日】平成25年4月23日(2013.4.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コロナ放電を誘発するのに充分な圧力およびイオン化電位を有する少なくとも１つの非イオン化ガス流を受けとり、標的に清浄なイオン化ガス流を送出するガスイオン化装置において、
前記非イオン化ガス流を受けとり清浄なイオン化ガス流を標的に送出するための貫通流路であって、該韓流通路の下流側に出口ノズルを設けた少なくとも１つの貫通流路と、
少なくとも１つのシェル組立体とを具備し、
前記少なくとも１つのシェル組立体が、
非イオン化ガス流の一部分がシェル内に進入し得るように貫通流路に連通するオリフィスを有するシェルと、
シェル内部のオリフィス近傍におけるガス圧をシェル外部のオリフィス近傍での非イオン化ガス流の圧力よりも低くする少なくとも１つの排出ポートと、
イオン化電位が印加されるとイオンおよび副生成物を生成する少なくとも１つのイオン化電極であって、生成されたイオンの少なくとも実質的部分が非イオン化ガス流内に移動して清浄なイオン化ガス流を形成し、かつ、排出ポートガス圧によって非イオン化ガス流の一部分のシェルオリフィス内への流入を誘発して副生成物の少なくとも実質的部分を排出ポート内に運び去るようにシェル内部に配置されたイオン化電極とを含む少なくとも１つのシェル組立体とを含むガスイオン化装置。
【請求項２】
シェルオリフィス内を通り非イオン化ガス流内へのイオンの実質的部分の移動を誘発する非イオン化電界を重畳して清浄なイオン化ガス流を形成するための少なくとも１つの非イオン化電極を更に含む請求項１に記載のガスイオン化装置。
【請求項３】
イオン化電極は、シェルオリフィスに面した鋭利な先端を備えたテーパーのついたピンを含み、
イオン化電位が該ピンに印加されると、前記先端によって、イオンと副生成物とよりなる略球形のプラズマ領域が生成され、
前記イオン化電位は、少なくともイオン化電極のコロナ閾値に等しい高周波電位であって、これによって前記プラズマ領域が実質的に電気的にバランスしかつ副生成物が実質的に中和されるようにした請求項１に記載のガスイオン化装置。
【請求項４】
前記シェルの上流側に設けられた少なくとも１つのエダクターを更に含み、該エダクターが、非イオン化ガス流を受け取るための駆動源接続部と、非イオン化ガス流を下流側で貫通流路に移行させるための排気接続部とを有している請求項１に記載のガスイオン化装置。
【請求項５】
前記エダクターが少なくとも部分的に前記貫通流路と連通し、そして該エダクターの排気接続部が前記シェルのオリフィスに面しており、
前記ガスイオン化装置が、非イオン化電位が印加されると電界を重畳するための非イオン化電極を更に含み、該電極は、前記貫通流路の外側で前記シェルのオリフィスの上流側に配置されている請求項４に記載のガスイオン化装置。
【請求項６】
イオン化電極が少なくとも１本のワイヤを含み、
前記ガスイオン化装置が、非イオン化ガス流を受けとり清浄なイオン化ガス流を標的へ向けて送出するための第２の貫通流路を更に含んでいる請求項１に記載のガスイオン化装置。
【請求項７】
非イオン化ガスが電気陽性ガスであり、
イオン化電位が無線周波イオン化電位であり、
イオン化電極が、電子、陽イオンおよび陰イオンならびに副生成物を含むプラズマ領域を生成する請求項１に記載のガスイオン化装置。
【請求項８】
下流側方向に流れる非イオン化ガス流を、電荷中和標的に向かって下流側方向に流れる清浄なイオン化ガス流へと転換する方法において、
イオンと汚染物質副生成物とを含むプラズマ領域を確立する段階と、
副生成物の少なくとも実質的部分が非イオン化ガス流内に移動するのを妨げながら、プラズマ領域から非イオン化ガス流内へのイオンの少なくとも実質的部分の移動を誘発して、下流側で電荷中和標的に向かって流れる清浄なイオン化ガス流を生成する段階とを含む方法。
【請求項９】
誘発段階は、イオンの実質的部分の非イオン化ガス流内への移動を誘発するのに充分でありかつ実質的にあらゆる副生成物の非イオン化ガス流内への移動を誘発するには不充分である非イオン化電界をプラズマ領域内で重畳する段階を更に含む請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
誘発段階は、イオンの実質的部分を非イオン化ガス流から遠くへ排出することなく、副生成物の実質的部分を非イオン化ガス流から遠くへプラズマ領域外に排出する段階を更に含む請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
プラズマ領域の圧力を低減して、汚染物質副生成物の実質的に全てが非イオン化ガス流内に移動するのを防止すると共に、イオンの少なくとも実質的部分が電界の影響下で非イオン化ガス流内に移動することを防止する段階を更に含む請求項８に記載の方法。
【請求項１２】
前記プラズマ領域を確立するための段階が、非イオン化ガス流内に陽イオンおよび陰イオンならびに汚染物質副生成物を含む、保護されたプラズマ領域を確立する段階含む請求項８に記載の方法。
【請求項１３】
前記確立段階は、プラズマ領域内に高周波イオン化電界を確立してプラズマ領域内に汚染物質副生成物を取り込む段階を更に含む請求項８に記載の方法。
【請求項１４】
前記確立段階は、プラズマ領域内に高周波イオン化電界を確立して、プラズマ領域を実質的に電気的にバランスし、汚染物質副生成物を実質的に中和する段階を更に含む請求項８に記載の方法。
【請求項１５】
汚染物質副生成物の実質的に全てをプラズマ領域外に排出させる段階と、排出された汚染物質副生成物の実質的に全てをトラップする段階とを更に含む請求項８に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年4月23日(2013.4.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光出力を有するライトアセンブリであって、
少なくとも一部分が湾曲した半透過型表面（transflectivesurface）と、
前記半透過型表面に面する内側主表面を有する反射体と、
前記半透過型表面と前記反射体との間にあり、５：１より大きい長さ対深さ比を有する、光キャビティと、
光を前記光キャビティに入射するように位置づけられる第１の光源と、を備え、
前記半透過型表面は、半鏡面反射性であり、ライトアセンブリの前記光出力が前記光キャビティに沿って均質で均一となるような、入射光の角度選択性透過率を呈し、
前記反射体の前記内側主表面は、
（ａ）前記半透過型表面の前記湾曲した部分の面積の少なくとも３０％に対してほぼ平行であり、あるいは、
（ｂ）前記半透過型表面の前記湾曲した部分に対して、それら２つの表面間の分離が前記光源から離れる距離にしたがって、距離に対する分離（深さ）の減少についてのある最大局所比率にて、減少するように配向される、ライトアセンブリ。
【請求項２】
前記半透過型表面は、第１の構造体群を有する第１の領域と、異なる第２の構造体群を有する第２の領域とを含む、請求項１に記載のライトアセンブリ。
【請求項３】
前記反射体は、前記反射体が第１及び第２の反射性の区域を含み、前記第１の反射性の区域は前記第２の反射性の区域より第１の波長の光に対してより反射性であり、前記第２の反射性の区域は前記第１の反射性の区域より第２の異なる波長の光に対してより反射性である、請求項１又は２に記載のライトアセンブリ。
【手続補正書】
【提出日】平成25年4月15日(2013.4.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下のステップを含む方法：
第一画像を含む複数の画像を印刷装置のディスプレイの第一エリアに表示する目的（ここで前記複数の画像が、複数のそれぞれ異なるラベル・データ・フィールドの種類を表す）、及び前記第一エリアとは異なる前記ディスプレイの第二エリアを占めるラベル媒体の外観を表す第二画像を表示する目的で、ディスプレイ・ドライバが印刷装置のディスプレイを作動させるためのデータを、コントローラから前記ディスプレイ・ドライバへ出力するステップ；
前記第一画像と及び前記第二エリア内の位置を表すデータとをユーザーが選択するためのセレクター操作を表すデータを含む情報を、前記コントローラにおいて前記セレクターから受け取ることに応答して、
前記ラベル媒体の外観を表す第二画像の変更バージョンを表示する目的で、前記ディスプレイ・ドライバが前記ディスプレイを作動させるためのデータを、前記コントローラから前記ディスプレイ・ドライバへ出力するステップ
（ここで、前記第二画像の変更バージョンが、前記第一画像が表すラベル・データ・フィールドの種類のラベル・データ・フィールドを含み、
前記第二画像の変更バージョンに含まれる前記ラベル・データ・フィールドが、前記第二エリア内の位置に依存して決定される場所に存在する）。
【請求項２】
請求項１に記載の方法であって、前記第二画像の変更バージョンに含まれる前記ラベル・データ・フィールドが、前記第二エリア内の前記位置を含む領域を占める該方法。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の方法であって、前記第二画像の変更バージョンに含まれる前記ラベル・データ・フィールドが、前記第二エリア内の前記位置を占める縁又は角を有する該方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法であって、前記第一画像は、前記第一エリア内の第一領域を占め、
前記第一画像を前記ユーザーが選択するための前記セレクター操作を表す前記データは、前記第一領域内の第一ポジションを表すデータを含む該方法。
【請求項５】
請求項４に記載の方法であって、前記情報は、第一領域内の第一ポジションから第二エリア内の前記ポジションにドラッグ・アンド・ドロップ操作をユーザーが行うための前記セレクター操作を表すデータを含む該方法。
【請求項６】
請求項５に記載の方法であって、前記ラベル・データ・フィールドは、テキスト・データ・フィールド、バーコード・データ・フィールド、又は画像データ・フィールドのうち少なくとも１つを含む該方法。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法であって、前記印刷装置が、コンピュータに接続されたプリンタを備える該方法。
【請求項８】
以下の動作を行うように設計されたコントローラを備える装置：
第一画像を含む複数の画像を印刷装置のディスプレイの第一エリアに表示する目的（ここで前記複数の画像が、複数のそれぞれ異なる種類のラベル・データ・フィールドを表す）、及び前記第一エリアとは異なる前記ディスプレイの第二エリアを占めるラベル媒体の外観を表す第二画像を表示する目的で、ディスプレイ・ドライバが印刷装置のディスプレイを作動させるためのデータを、前記ディスプレイ・ドライバへ出力するステップ；
前記第一画像と及び前記第二エリア内の位置を表すデータとをユーザーが選択するためのセレクター操作を表すデータを含む情報を、前記セレクターから受け取ることに応答して、
前記ラベル媒体の外観を表す第二画像の変更バージョンを表示する目的で、前記ディスプレイ・ドライバが前記ディスプレイを作動させるためのデータを、前記ディスプレイ・ドライバへ出力するステップ
（ここで、前記第二画像の変更バージョンが、前記第一画像が表すラベル・データ・フィールドの種類のラベル・データ・フィールドを含み、
前記第二画像の変更バージョンに含まれる前記ラベル・データ・フィールドが、前記第二エリア内の位置に依存して決定される場所に存在する）。
【請求項９】
コンピュータ読取可能媒体上で実行されるコンピュータ・プログラムであって、
コントローラに対して以下のステップのコントロールを行うために設計されるコンピュータ・プログラム：
第一画像を含む複数の画像を印刷装置のディスプレイの第一エリアに表示する目的（ここで前記複数の画像が、複数のそれぞれ異なる種類のラベル・データ・フィールドを表す）、及び前記第一エリアとは異なる前記ディスプレイの第二エリアを占めるラベル媒体の外観を表す第二画像を表示する目的で、ディスプレイ・ドライバが印刷装置のディスプレイを作動させるためのデータを、前記ディスプレイ・ドライバへ出力するステップ；
前記第一画像と及び前記第二エリア内の位置を表すデータとをユーザーが選択するためのセレクター操作を表すデータを含む情報を、前記セレクターから受け取ることに応答して、
前記ラベル媒体の外観を表す第二画像の変更バージョンを表示する目的で、前記ディスプレイ・ドライバが前記ディスプレイを作動させるためのデータを、前記ディスプレイ・ドライバへ出力するステップ
（ここで、前記第二画像の変更バージョンが、前記第一画像が表すラベル・データ・フィールドの種類のラベル・データ・フィールドを含み、
前記第二画像の変更バージョンに含まれる前記ラベル・データ・フィールドが、前記第二エリア内の位置に依存して決定される場所に存在する）。
【手続補正書】
【提出日】平成25年4月4日(2013.4.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プロセッサとプログラムを記録したメモリとを有するコンピュータであって、前記プログラムは、前記プロセッサを、
データ項目と関連付けられたメタデータ及び前記データ項目の現在の分類を含む既存の分類メタデータであり前記データ項目と関連付けられた前記既存の分類メタデータを入手するコンポーネントと、
分類ルールと関連付けられた１または複数の分類モジュールであり、それぞれが、呼び出されると前記データ項目と関連付けられた前記メタデータ及び前記データ項目と関連付けられた前記既存の分類メタデータに基づいて前記データ項目を分類メタデータに分類するように構成された前記１または複数の分類モジュールと、
前記データ項目にポリシーを適用する際に使用するために、前記データ項目に前記分類メタデータを関連付けるコンポーネントと
を含む分類パイプラインとして機能させることを特徴とするコンピュータ。
【請求項２】
前記プログラムは、前記プロセッサを、前記データ項目を発見する発見モジュールとしてさらに機能させ、前記分類パイプラインはデータ項目を処理するパイプラインに組み込まれ、前記データ項目を処理するパイプラインは前記発見モジュールを含むことを特徴とする請求項１に記載のコンピュータ。
【請求項３】
前記データ項目はファイルに対応し、前記発見モジュールはファイルシステムをスキャンしてその中のファイルを発見するための手段、またはファイルの変更を検出するための手段を有することを特徴とする請求項２に記載のコンピュータ。
【請求項４】
前記プログラムは、前記プロセッサを、ポリシーを前記データ項目に適用するために前記分類メタデータを評価するポリシーモジュールとしてさらに機能させ、前記分類パイプラインはデータ項目を処理するパイプライン内に組み込まれ、前記データ項目を処理するパイプラインは前記ポリシーモジュールを含むことを特徴とする請求項１に記載のコンピュータ。
【請求項５】
前記プログラムは、前記プロセッサを、任意の既存の分類データに基づいて、または前記データ項目に対する以前の変更を示すタイムスタンプまたは他の識別子に基づいて、分類モジュールを呼び出すかどうかを決定する手段としてさらに機能させることを特徴とする請求項１に記載のコンピュータ。
【請求項６】
前記プログラムは、前記プロセッサを、分類メタデータを外部に設定するために前記分類パイプラインとインタラクトするためのインタフェースとしてさらに機能させることを特徴とする請求項１に記載のコンピュータ。
【請求項７】
前記プログラムは、前記プロセッサを、分類メタデータを外部に取得するために前記分類パイプラインとインタラクトするためのインタフェースとしてさらに機能させることを特徴とする請求項１に記載のコンピュータ。
【請求項８】
前記１または複数の分類モジュールは、他の分類モジュールの分類メタデータをオーバーライドする権限のある分類モジュールを含み、前記分類パイプラインは、前記１または複数の分類モジュール中の異なる分類モジュールからの異なる分類結果を前記分類メタデータ内に集約するための手段を含むことを特徴とする請求項１に記載のコンピュータ。
【請求項９】
コンピュータで実行する方法であって、
第１のフェーズにおいて、データ項目を発見するステップと、
前記第１のフェーズとは独立している第２にフェーズにおいて、前記データ項目と関連付けられたプロパティであり前記データ項目と関連付けられた既存の分類プロパティを含む前記プロパティを使用して前記データ項目を分類するステップと、前記データ項目と関連付けられた少なくとも１つの分類プロパティを備える分類プロパティのセットを格納するステップと、
前記第２のフェーズとは独立している第３のフェーズにおいて、前記分類プロパティのセットに基づいてポリシーを前記データ項目に適用するステップと
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１０】
前記データ項目を分類するために前記データ項目と関連付けられたプロパティを使用するステップは、少なくとも１つの分類器を備える分類器のセットからの分類結果を使用して分類ルールを自動的に適用するステップを含むことを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記データ項目を分類するために前記データ項目と関連付けられたプロパティを使用するステップは、複数の分類器を呼び出すステップを有し、前記複数の分類器から複数のプロパティのセットを受信するステップと、ポリシーを適用するのに使用される前記分類プロパティのセット内に前記複数のプロパティのセットを集約するステップとをさらに含むことを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
前記データ項目を分類するために前記データ項目と関連付けられたプロパティを使用するステップは、分類に使用するためにある分類器からのプロパティのセットを別の分類器に渡すステップを有する事前定義された順序付けにおいて複数の分類器を呼び出すステップを含むことを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１３】
前記データ項目を分類するために前記データ項目と関連付けられたプロパティを使用するステップは、前記順序付けにおける後続の分類器が、前記順序付けにおける以前の分類器の前記プロパティのセットを変更できるようにするステップを有する、事前定義された順序付けにおいて複数の分類子を呼び出すステップを含むことを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１４】
コンピュータプログラムであって、
データ項目を発見するステップと、
前記データ項目と関連付けられたプロパティのプロパティセットであり前記データ項目と関連付けられた既存の分類プロパティを含む前記プロパティセットを入手するステップと、
分類器セットの各分類器を呼び出すかどうかを決定し、呼び出すと決定した場合、前記分類器を呼び出すステップと、
任意の分類器になされる任意の変更に基づいて前記プロパティのセットを更新するステップと、
前記プロパティセットに基づいてポリシーを前記データ項目に適用するステップと
をコンピュータに実行させることを特徴とするコンピュータプログラム。
【請求項１５】
任意の分類器によってなされる任意の変更に基づいて前記プロパティのセットを更新するステップは、分類器に前記プロパティのセットを直接更新させるステップ、またはルール機構に前記分類器から提供された結果に基づいて前記プロパティセットを更新させるステップを備えることを特徴とする請求項１４に記載のコンピュータプログラム。
【請求項１６】
前記請求項１４または１５に記載のコンピュータプログラムを記録したコンピュータ可読記録媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月14日(2013.2.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ビーム放射装置において、
−  基板（１）と、
−  第１電極（２）および第２電極（９）と、
−  当該の第１電極と第２電極との間に配置された、紫色または青色のスペクトル領域の光を放射する少なくとも１つのエミッタ層（５）とを有しており、
当該エミッタ層には、マトリクス材料と、当該のマトリクス材料を基準にして０.１ないし５重量％の蛍光発生ビーム放射エミッタと、１ないし３０重量％のりん光発生エキシトントラップとが含まれており、当該エキシトントラップの３重項状態レベルＴ１Exzitonenfaengerは、前記のビーム放射エミッタの１重項状態レベルＳ１Emitterよりも高く、い、
前記りん光発生エキシトントラップおよび前記蛍光発生ビーム放射エミッタは、前記エミッタ層にわたって分散されており、
前記の蛍光発生エミッタの放射最大値およびりん光発生エキシトントラップの放射最大値は、青色、紫色または紫外線のスペクトル領域にあることを特徴とする
ビーム放射装置。
【請求項２】
前記蛍光発生ビーム放射エミッタおよび前記りん光発生エキシトントラップは、前記エミッタ層にわたって統計的に分散されている、
請求項１に記載のビーム放射装置。
【請求項３】
濃度勾配が、前記エミッタ層（５）に設けられている、
請求項１または２に記載のビーム放射装置。
【請求項４】
前記のエキシトントラップは、前記のビーム放射エミッタよりも短い波長において放射最大値を有する、
請求項１から３までのいずれか１項に記載のビーム放射装置。
【請求項５】
前記のマトリクスの３重項状態レベルＴ１Matrixは、エキシトントラップの３重項状態レベルＴ１Exzitonenfaengerよりも高い、
請求項１から４までのいずれか１項に記載のビーム放射装置。
【請求項６】
前記の放射最大値の波長の差分は、最大で１ないし１００ｎｍである、
請求項１から５までのいずれか１項に記載のビーム放射装置。
【請求項７】
前記のエミッタ層（５）から放射されるビームは実質的に前記のビーム放射エミッタによって形成される、
請求項１から６までのいずれか１項に記載のビーム放射装置。
【請求項８】
前記のエキシトントラップの放射最大値の正規化された放射の強度は、前記のエミッタ層において前記のビーム放射エミッタの放射最大値の強度の最大２０％、有利には最大１０％である、
請求項１から７までのいずれか１項に記載のビーム放射装置。
【請求項９】
緑色、黄色、橙色および／または赤色のスペクトル領域における光を放射する少なくとも１つの別のエミッタ層を有する、
請求項１から８までのいずれか１項に記載のビーム放射装置。
【請求項１０】
前記の第１エミッタ層（５）および少なくとも１つの別のエミッタ層によって放射されるビームを重ね合わせることによって白色光を放射する、
請求項１から９までのいずれか１項に記載のビーム放射装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月6日(2012.12.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プロセッサにより、ソースサーバの実行状態を複製して、該実行状態を有するレプリカサーバを作成するステップと、
ルーティング可能なインターネットプロトコル（ＩＰ）アドレスを前記レプリカサーバに割り当てるステップと、
クライアントと前記ソースサーバとの間の、複数の進行中の接続のうちの全てより少ない前記進行中の接続を、前記ソースサーバから前記レプリカサーバに移行するステップとを含む方法。
【請求項２】
前記ソースサーバに関するリソース使用情報を監視するステップと、
リソースのリソース使用と閾値の関係を決定するステップであって、前記ソースサーバを複製して、前記レプリカサーバを作成するステップが、前記リソースの前記リソース使用と前記閾値の前記関係に基づいて実施される、ステップとをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ソースサーバを複製して、前記レプリカサーバを作成するステップが、前記リソースの前記リソース使用が前記閾値を超えると決定することに応答して実施される、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記リソースが、記憶装置、メモリ、ＣＰＵの使用、前記ソースサーバとクライアントの間のスループット、及び前記ソースサーバとクライアントの間のラウンドトリップ時間（ＲＴＴ）からなるグループから選択された１つ又は複数を備える、請求項２に記載の方法。
【請求項５】
リダイレクトすべき前記１つ又は複数の接続のうちの１つを選択するステップと、
使用可能なサーバ位置を見つけるステップであって、前記使用可能なサーバ位置が前記レプリカサーバである、ステップと、
前記レプリカサーバ上のリソース使用が閾値未満かどうかチェックするステップと、
前記レプリカサーバ上のリソース使用が前記閾値未満である場合は、前記１つの接続を前記レプリカサーバに移行するステップとをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
ソースサーバを複製して、レプリカサーバを作成するステップが、前記ソースサーバとレプリカサーバのＣＰＵ状態及びメモリ状態を同期させるサブステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
ソースサーバを複製して、レプリカサーバを作成するステップが、前記ソースサーバとレプリカサーバのオペレーティングシステムを同期させるサブステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記ソースサーバに宛てられたパケットを停止させ、前記レプリカサーバに転送させるステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
ルーティング可能なインターネットプロトコル（ＩＰ）アドレスを前記レプリカサーバに割り当てるステップが、ハイパーバイザを使用して実施される、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記レプリカサーバのＭＡＣアドレス及びＦＱＤＮを変更するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
１つ又は複数のノードに前記ルーティング可能なＩＰアドレスを通知するステップをさらに含み、前記１つ又は複数のノードが、前記ルーティング可能なＩＰアドレスを使用して、前記レプリカサーバにパケットをルーティングするように動作可能である、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記ソースサーバ及びレプリカサーバが、それぞれ異なるネットワークの一部である、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記ソースサーバが仮想マシンを実行し、前記レプリカサーバが、複製された仮想マシンを実行し、さらに前記ルーティング可能なＩＰアドレスが、前記複製された仮想マシンに割り当てられる、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
第１のサーバと、
第２のサーバと、
前記第１のサーバ上で実行される仮想マシンの実行状態を前記第２のサーバ上で実行される仮想マシンで複製させ、ルーティング可能なインターネットプロトコル（ＩＰ）アドレスを、前記第２のサーバ上で実行される前記仮想マシンに割り当てさせ、クライアントと前記第１のサーバとの間の複数の進行中の接続のうちの全てより少ない前記進行中の接続を前記第２のサーバに移行させるように動作可能なリソースマネージャとを備える通信システム。
【請求項１５】
前記リソースマネージャが、前記第１のサーバに関するリソース使用情報を監視し、
リソースのリソース使用と閾値の関係を決定するように動作可能であり、リソースマネージャが、前記リソースの前記リソース使用と前記閾値の前記関係に基づいて前記第１のサーバを複製する、請求項１４に記載のシステム。
【請求項１６】
前記リソースマネージャが、前記リソースの前記リソース使用が前記閾値を超えると決定することに応答して、前記第１のサーバ上で実行された前記仮想マシンを前記第２のサーバ上で複製させる、請求項１５に記載のシステム。
【請求項１７】
前記リソースが、記憶装置、メモリ、ＣＰＵの使用、前記第１のサーバとクライアントの間のスループット、及び前記第１のサーバとクライアントの間のラウンドトリップ時間（ＲＴＴ）からなるグループから選択された１つ又は複数を備える、請求項１５に記載のシステム。
【請求項１８】
前記第１のサーバ上で実行された前記仮想マシンが、前記第１のサーバと第２のサーバのＣＰＵ状態及びメモリ状態を同期させ、前記第１のサーバと第２のサーバのオペレーティングシステムを同期させることによって前記第２のサーバ上で複製される、請求項１４に記載のシステム。
【請求項１９】
前記リソースマネージャに通信可能に結合された負荷分散装置をさらに備え、前記リソースマネージャが、前記負荷分散装置に、前記第１のサーバに宛てられたパケットの転送を停止し、それらが前記第１のサーバから前記第２のサーバに移行される接続の一部である場合には前記パケットを前記第２のサーバに転送するように指示する、請求項１４に記載のシステム。
【請求項２０】
ルーティング可能なインターネットプロトコル（ＩＰ）アドレスを前記第２のサーバ上で実行される前記仮想マシンに割り当てるハイパーバイザをさらに備える、請求項１４に記載のシステム。
【請求項２１】
プロセッサによって実行されるとき、前記プロセッサに、
ソースサーバの実行状態を複製して、該実行状態を有するレプリカサーバを作成するステップと、
ルーティング可能なインターネットプロトコル（ＩＰ）アドレスを前記レプリカサーバに割り当てるステップと、
クライアントと前記ソースサーバとの間の、複数の進行中の接続のうちの全てより少ない前記進行中の接続を、前記ソースサーバから前記レプリカサーバに移行するステップとを含む方法を実行させる命令を格納する１つ又は複数の一時的でないコンピュータ読取り可能記憶媒体を有する製品。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月21日(2013.2.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有限回転モータシステムで用いられるミラーであって、
少なくとも１種類の材料から形成され、露出ミラー表面を有する本体であって、ミラー回転軸についての回転のために前記有限回転モータシステムに装着可能な本体と、
前記ミラーの本体内の開口部であって、少なくとも前記ミラー回転軸の一部に近接している開口部と、
前記開口部内の、前記開口部内で前記ミラー本体に対する運動が可能な高密度材料であって、前記ミラーの本体の前記少なくとも１種類の材料の密度より密度が高い、高密度材料と、を備えるミラー。
【請求項２】
前記高密度材料は、固形物の粒子である、請求項１に記載のミラー。
【請求項３】
前記粒子は、前記開口部内で弾性材料の内側にある、請求項２に記載のミラー。
【請求項４】
前記粒子は、各々、約１ミクロン〜約５ミクロンの大きさを有する、請求項２に記載のミラー。
【請求項５】
前記高密度材料は、タングステン、劣化ウラン、モリブデン、鉛、ビスマスのうちいずれか１つから形成されている、請求項２に記載のミラー。
【請求項６】
前記高密度材料は、流体である、請求項１に記載のミラー。
【請求項７】
前記流体は、水銀である、請求項１に記載のミラー。
【請求項８】
前記開口部は、前記ミラー回転軸の少なくとも一部と実質的に一致する、請求項１に記載のミラー。
【請求項９】
ミラーと連結された有限回転モータを備える走査システムであって、
前記有限回転モータは、回転子シャフトを備え、
前記ミラーは、
露出ミラー表面を有し、ミラー回転軸についての回転のために前記有限回転モータの回転子シャフトと連結している本体と、
前記ミラーの本体における開口部内の高密度材料であって、前記開口部内で前記ミラー本体に対する運動が可能であり、前記ミラーの本体の密度より密度が高い、高密度材料と、
を備える、走査システム。
【請求項１０】
前記高密度材料は、固形物の粒子である、請求項９に記載の走査システム。
【請求項１１】
前記粒子は、前記開口部内で弾性材料の内側にある、請求項１０に記載の走査システム。
【請求項１２】
前記粒子は、各々、約１ミクロン〜約５ミクロンの大きさを有する、請求項１０に記載の走査システム。
【請求項１３】
前記高密度材料は、タングステン、劣化ウラン、モリブデン、鉛、ビスマスのうちいずれか１つから形成されている、請求項１０に記載の走査システム。
【請求項１４】
前記高密度材料は、流体である、請求項９に記載の走査システム。
【請求項１５】
前記流体は、水銀である、請求項９に記載の走査システム。
【請求項１６】
前記開口部は、前記ミラー回転軸の少なくとも一部と実質的に一致する、請求項９に記載の走査システム。
【請求項１７】
回転子シャフトを備える有限回転モータと、前記有限回転モータの前記回転子シャフトに連結されたミラーとを備える走査システムにおける振動を減衰する方法であって、
前記有限回転モータによって前記回転子シャフトを介して前記ミラーへ印加されたトルクを利用して、ミラー回転軸を中心として前記ミラーを回転させるステップと、
前記ミラーの運動における振動によって前記ミラー内の高密度材料を加速するステップであって、それによって前記ミラー内の前記高密度材料の加速が、振動からのエネルギーを吸収して、前記走査システムにおける振動を減衰するステップと、を含む方法。
【請求項１８】
前記高密度材料は、固形物の粒子である、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記粒子は、各々、約１ミクロン〜約５ミクロンの大きさを有する、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記高密度材料は、タングステン、劣化ウラン、モリブデン、鉛、ビスマスのうちいずれか１つから形成されている、請求項１７に記載の方法。
【請求項２１】
前記高密度材料は、流体である、請求項１７に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月27日(2013.3.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ファイバーを終端処理するための光ファイバーコネクタであって、
レセプタクルと接続するように構成されたハウジングと、
前記ハウジング内に配置されてその中に保持され、回転ヘッド及び本体部分を含む鍔体と、を備え、前記回転ヘッドが、前記本体部分の前端部に連結され、前記回転ヘッドが、フェルールを受容し、かつ前記コネクタ及び／又は光ファイバーに側方引張力がかかると前記鍔体の本体部分の前端部に対して制御量だけ旋回するように構成される、光ファイバーコネクタ。
【請求項２】
前記本体部分の前端部が前側合わせ面を含み、前記回転ヘッドが前記前側合わせ面と締まりばめにより係合する、請求項１に記載の光ファイバーコネクタ。
【請求項３】
前記回転ヘッドが、その中に形成された１つ以上のスロットを有する円筒形リップ部と、フェルールまで及び／又はフェルールから光ファイバーの通過を可能にするように構成された中央ボアを包囲する、中央に配置された球形のボールピース部と、を含む、請求項１に記載の光ファイバーコネクタ。
【請求項４】
前記本体部分の前端部が前側合わせ面を含み、前記リップ部の内側表面が、前記合わせ面の外側表面と係合し、前記ボールピース部が、前記前側合わせ面に形成された相応しい形状のソケット内に嵌合する、請求項３に記載の光ファイバーコネクタ。
【請求項５】
前記回転ヘッドが、スナップ機構により前記本体部分の前側合わせ面の外側鍔部分内に実装されるように構成され、前記回転ヘッドに形成された１つ以上のスナップ突起部が、前記前側合わせ面の外側鍔部分に形成された対応する受容穴により受容される、請求項１に記載の光ファイバーコネクタ。
【請求項６】
アダプターにおいて第２の光ファイバーコネクタに接続される光ファイバーコネクタであって、前記光ファイバーが少なくとも４．５ポンド（２．０ｋｇ）の側方引張力を受ける間、前記光ファイバーコネクタが前記第２の光ファイバーコネクタと光学的接触を維持する、請求項１に記載の光ファイバーコネクタ。