【手続補正書】
【提出日】平成25年6月13日(2013.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
指紋をマイクロ走査するように構成された装置であって、
指紋像を捕捉するように構成された撮像センサ、
第一アクチュエイター、
第二アクチュエイター、及び
アセンブリを備える装置であり、
前記アセンブリは
前記撮像センサを保持するように構成された取り付け部、
前記第一アクチュエイターを保持するように構成された第一取り付け部位、
前記第二アクチュエイターを保持するように構成された第二取り付け部位、及び
前記取り付け部、前記第一アクチュエイター、及び前記第二アクチュエイターと連結された剛直化装置を含み、
前記剛直化装置は、前記取り付け部の線的並進を生成するように構成された前記第一アクチュエイターによって誘発される力に対する前記取り付け部の抵抗、及び前記取り付け部の線的並進を生成するように構成された前記第二アクチュエイターによって誘発される力に対する前記取り付け部の抵抗を、確立するように構成された幾何学的形状を有し、
前記第二アクチュエイターによって生成される前記線的並進が、前記第一アクチュエイターによって生成される前記線的並進と実質的に直交するものである、装置。
【請求項２】
前記第一アクチュエイターによって誘発される前記力、又は前記第二アクチュエイターによって誘発される前記力に対する、前記剛直化装置の前記抵抗の結果として、前記アセンブリの高共振周波数が生じるものである、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記アセンブリの前記共振周波数が約５００Ｈｚ以上である、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記第一アクチュエイター及び前記第二アクチュエイターが圧電装置を含むものである、請求項１から３のいずれか１項に記載の装置。
【請求項５】
前記取り付け部が並進されて行くパタンは実質上矩形である、請求項１から４のいずれか１項に記載の装置。
【請求項６】
前記撮像センサが、前記実質上矩形であるパタンの各頂点で指紋像を捕捉するように構成されているものである、請求項５に記載の装置。
【請求項７】
前記取り付け部が、実質上矩形である一組の四頂点に並進されるものであり、
前記取り付け部の少なくとも一つの並進は、前記実質上矩形の四頂点の組の斜線に実質上沿ったものである、請求項１から６のいずれか１項に記載の装置。
【請求項８】
前記撮像センサが前記四頂点の各々において指紋像を捕捉するように構成されたものである、請求項７に記載の装置。
【請求項９】
各頂点で捕捉された四指紋像の各々が、合成像へと結合されるように構成されており、
前記合成像は、前記各指紋像の解像度より高度の解像度である、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記合成像が転がされる指の指紋像である、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
駆動信号によって前記第一アクチュエイター及び前記第二アクチュエイターを駆動するように構成された制御ユニットを更に含み、
前記駆動信号は約５０Ｈｚの周波数を含み、
前記制御ユニットは、前記駆動信号から約２００Ｈｚ以上の周波数を除去するように構成されたローパスフィルターを、前記駆動信号に通過させるように構成されたものである、請求項１から１０のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１２】
前記撮像センサがＣＭＯＳセンサ、又はＣＣＤセンサである、請求項１から１１のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１３】
前記撮像センサが約２０ミリ秒ごとに像を捕捉するように構成されたものである、請求項１から１２のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１４】
物体に前記装置を取り付けるように構成された第三取り付け部位、及び前記第三取り付け部位と前記アセンブリの間の軽減機構を更に含むものであり、
前記軽減機構は前記アセンブリを前記第三取り付け部位内のストレス及びモーメントから実質上隔離するように構成されたものである、請求項１から１３のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１５】
前記アセンブリで定義される質量、前記撮像センサの質量、前記撮像センサと関連する回路板の質量、及び前記撮像センサと関連する取り付けハードウエアの質量によって定義される質量が最小化されているものである、請求項１から１４のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１６】
指紋をマイクロ走査するように構成された装置であって、
指紋像を捕捉するように構成された撮像センサ、
第一アクチュエイター、
第二アクチュエイター、
アセンブリ、及び
前記第一アクチュエイターと前記第二アクチュエイターを駆動信号によって駆動するように構成された制御ユニットを備える装置であって、
前記アセンブリは
前記撮像センサを保持するように構成された取り付け部、
前記第一アクチュエイターを保持するように構成された第一取り付け部位、
前記第二アクチュエイターを保持するように構成された第二取り付け部位、
前記取り付け部、前記第一アクチュエイター、及び前記第二アクチュエイターと連結された剛直化装置、及び
複数個の平行四辺形構造体を含み、
前記複数個の平行四辺形構造体は、前記第一アクチュエイターによって誘発された力による前記取り付け部の第一線的並進と、前記第二アクチュエイターによって誘発された力による前記取り付け部の第二線的並進と、を定義するように構成されたものであり、
前記第一線的並進は前記第二線的並進と実質上直交しており、
前記複数個の平行四辺形構造体は、前記アセンブリの面内における前記取り付け部の回転を実質上防止するものである、装置。
【請求項１７】
前記アセンブリの前記複数個の平行四辺形構造体が六個の平行四辺形構造体から成るものである、請求項１６に記載の装置。
【請求項１８】
指紋像を生成する方法であって、
第一位置における撮像センサで指から受光して第一像を捕捉する工程、
前記撮像センサを前記第一位置から第二位置へ実質上矩形である一組の四頂点の第一斜線に実質上沿って並進させる工程、
前記第二位置における前記撮像センサで前記指から受光して、前記第一像が捕捉される約２０ミリ秒以下以内に第二像を捕捉する工程、
前記撮像センサを前記第二位置から第三位置へ前記実質上矩形である一組の四頂点の第一側線に実質上沿って並進させる工程、
前記第三位置における前記撮像センサで前記指から受光して、前記第二像が捕捉される約２０ミリ秒以下以内に第三像を捕捉する工程、
前記撮像センサを前記第三位置から第四位置へ前記実質上矩形である一組の四頂点の第二斜線に実質上沿って並進させる工程、及び
前記第四位置における前記撮像センサで前記指から受光して、前記第三像が捕捉される約２０ミリ秒以下以内に第四像を捕捉する工程なら成り、
前記第一像、前記第二像、前記第三像、及び前記第四像は、合成像に組み合わされ、
前記合成像は、前記第一像、前記第二像、前記第三像、及び前記第四像の解像度より高度の解像度である、方法。
【請求項１９】
前記合成像の解像度が約１０００画素／インチである、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記撮像センサの前記第一位置、前記第二位置、前記第三位置、及び前記第四位置の間の並進が、前記撮像センサを保持するように構成された前記アセンブリの共振周波数以下の周波数で行われるものである、請求項１８または１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記撮像センサを、前記第四位置から前記第一位置へ、前記実質上矩形である一組の四頂点の第二側線に実質上沿って、前記第二位置から前記第三位置への並進と実質上平行に、並進させる工程が更に含まれるものである、請求項１８から２０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２２】
転がされる指の指紋像を生成するのに十分な数の前記合成像を生成するのに十分な数の像が捕捉されるまで、前記第一位置、前記第二位置、前記第三位置、及び前記第四位置における像の捕捉を繰り返す工程が更に含まれるものである、請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
前記第二像は、前記第一像が捕捉される約１０ミリ秒以下以内に捕捉され、
前記第三像は、前記第二像が捕捉される約１０ミリ秒以下以内に捕捉され、
前記第四像は、前記第三像が捕捉される約１０ミリ秒以下以内に捕捉されるものである、請求項１８から２２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２４】
指紋像を生成する方法であって、
第一位置における撮像センサで指から受光して第一像を捕捉する工程、
前記撮像センサを前記第一位置から第二位置へ並進させる工程、
前記第二位置における前記撮像センサで前記指から受光して、前記第一像が捕捉される約２０ミリ秒以下以内に第二像を捕捉する工程、
前記撮像センサを、前記第一位置から前記第二位置への並進と実質上直交する方向に前記第二位置から第三位置へ並進させる工程、
前記第三位置における前記撮像センサで前記指から受光して、前記第二像が捕捉される約２０ミリ秒以下以内に第三像を捕捉する工程、
前記撮像センサを、前記第一位置から前記第二位置への並進と実質上平行する方向に前記第三位置から第四位置へ並進させる工程、及び
前記第四位置における前記撮像センサで前記指から受光して、前記第三像が捕捉される約２０ミリ秒以下以内に第四像を捕捉する工程なら成り、
前記第一像、前記第二像、前記第三像、及び前記第四像は、合成像に組み合わされ、
前記合成像は、前記第一像、前記第二像、前記第三像、及び前記第四像の解像度より高度の解像度である、方法。
【請求項２５】
前記撮像センサを、前記第二位置から前記第三位置への並進と実質上平行する方向に、前記第四位置から前記第一位置へ並進させる工程が更に含まれるものである、請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
転がされる指の指紋像を生成するのに十分な数の前記合成像を生成するのに十分な数の像が捕捉されるまで、前記第一位置、前記第二位置、前記第三位置、及び前記第四位置における像の捕捉を繰り返す工程が更に含まれるものである、請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
転がされる指の指紋像を生成する方法であって、
ａ）所定位置の撮像センサで転がされる指から受光して像を捕捉する工程、
ｂ）前記撮像センサを新位置へ並進させる工程、  
ｃ）前記新位置での前記撮像センサで前記転がされる指から受光して別の像を捕捉する工程、及び
ｄ）前記工程ｂ）及びｃ）を繰り返す工程を含み、
前記工程ｂ）及びｃ）の各繰り返しの後の時点における新位置と前回の新位置との間の距離は、前記撮像センサの画素と画素の間の間隔の小部分であり、
前記工程ｂ）及びｃ）の繰り返しによって複数の像が捕捉されるものであり、
前記複数の像は合成像に組み合わされるものであり、
前記合成像は前記複数の像の各々の解像度より高度の解像度である、方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
本発明の数々の実施形態が記述されたが、本発明の精神から外れることのないまま、その範囲の中で種々の変形が可能であることは理解可能であろう。
本発明は、たとえば、以下のような態様で実現することもできる。
適用例１
指紋をマイクロ走査するように構成された装置であって、
指紋像を捕捉するように構成された撮像センサ、
第一アクチュエイター、
第二アクチュエイター、及び
アセンブリを備える装置であり、
前記アセンブリは
前記撮像センサを保持するように構成された取り付け部、
前記第一アクチュエイターを保持するように構成された第一取り付け部位、
前記第二アクチュエイターを保持するように構成された第二取り付け部位、及び
前記取り付け部、前記第一アクチュエイター、及び前記第二アクチュエイターと連結された剛直化装置を含み、
前記剛直化装置は、前記取り付け部の線的並進を生成するように構成された前記第一アクチュエイターによって誘発される力に対する前記取り付け部の抵抗、及び前記取り付け部の線的並進を生成するように構成された前記第二アクチュエイターによって誘発される力に対する前記取り付け部の抵抗を、確立するように構成された幾何学的形状を有し、
前記第二アクチュエイターによって生成される前記線的並進が、前記第一アクチュエイターによって生成される前記線的並進と実質的に直交するものである、装置。
適用例２
前記第一アクチュエイターによって誘発される前記力、又は前記第二アクチュエイターによって誘発される前記力に対する、前記剛直化装置の前記抵抗の結果として、前記アセンブリの高共振周波数が生じるものである、適用例１の装置。
適用例３
前記アセンブリの前記共振周波数が約５００Ｈｚ以上である、適用例２の装置。
適用例４
前記第一アクチュエイター及び前記第二アクチュエイターが圧電装置を含むものである、適用例１の装置。
適用例５
前記取り付け部が並進されて行くパタンは実質上矩形である、適用例１の装置。
適用例６
前記撮像センサが、前記実質上矩形であるパタンの各頂点で指紋像を捕捉するように構成されているものである、適用例５の装置。
適用例７
前記取り付け部が、実質上矩形である一組の四頂点に並進されるものであり、
前記取り付け部の少なくとも一つの並進は、前記実質上矩形の四頂点の組の斜線に実質上沿ったものである、適用例１の装置。
適用例８
前記撮像センサが前記四頂点の各々において指紋像を捕捉するように構成されたものである、適用例７の装置。
適用例９
各頂点で捕捉された四指紋像の各々が、合成像へと結合されるように構成されており、
前記合成像は、前記各指紋像の解像度より高度の解像度である、適用例８の装置。
適用例１０
前記合成像が転がされる指の指紋像である、適用例９の装置。
適用例１１
駆動信号によって前記第一アクチュエイター及び前記第二アクチュエイターを駆動するように構成された制御ユニットを更に含み、
前記駆動信号は約５０Ｈｚの周波数を含み、
前記制御ユニットは、前記駆動信号から約２００Ｈｚ以上の周波数を除去するように構成されたローパスフィルターを、前記駆動信号に通過させるように構成されたものである、適用例１の装置。
適用例１２
前記撮像センサがＣＭＯＳセンサ、又はＣＣＤセンサである、適用例１の装置。
適用例１３
前記撮像センサが約２０ミリ秒ごとに像を捕捉するように構成されたものである、適用例１の装置。
適用例１４
物体に前記装置を取り付けるように構成された第三取り付け部位、及び前記第三取り付け部位と前記アセンブリの間の軽減機構を更に含むものであり、
前記軽減機構は前記アセンブリを前記第三取り付け部位内のストレス及びモーメントから実質上隔離するように構成されたものである、適用例１の装置。
適用例１５
前記アセンブリで定義される質量、前記撮像センサの質量、前記撮像センサと関連する回路板の質量、及び前記撮像センサと関連する取り付けハードウエアの質量によって定義される質量が最小化されているものである、適用例１の装置。
適用例１６ 
指紋をマイクロ走査するように構成された装置であって、
指紋像を捕捉するように構成された撮像センサ、
第一アクチュエイター、
第二アクチュエイター、
アセンブリ、及び
前記第一アクチュエイターと前記第二アクチュエイターを駆動信号によって駆動するように構成された制御ユニットを備える装置であって、
前記アセンブリは
前記撮像センサを保持するように構成された取り付け部、
前記第一アクチュエイターを保持するように構成された第一取り付け部位、
前記第二アクチュエイターを保持するように構成された第二取り付け部位、
前記取り付け部、前記第一アクチュエイター、及び前記第二アクチュエイターと連結された剛直化装置、及び
複数個の平行四辺形構造体を含み、
前記複数個の平行四辺形構造体は、前記第一アクチュエイターによって誘発された力による前記取り付け部の第一線的並進と、前記第二アクチュエイターによって誘発された力による前記取り付け部の第二線的並進と、を定義するように構成されたものであり、
前記第一線的並進は前記第二線的並進と実質上直交しており、
前記複数個の平行四辺形構造体は、前記アセンブリの面内における前記取り付け部の回転を実質上防止するものである、装置。
適用例１７ 
前記アセンブリの前記複数個の平行四辺形構造体が六個の平行四辺形構造体から成るものである、適用例１６の装置。
適用例１８ 
指紋像を生成する方法であって、
第一位置における撮像センサで指から受光して第一像を捕捉する工程、
前記撮像センサを前記第一位置から第二位置へ実質上矩形である一組の四頂点の第一斜線に実質上沿って並進させる工程、
前記第二位置における前記撮像センサで前記指から受光して、前記第一像が捕捉される約２０ミリ秒以下以内に第二像を捕捉する工程、
前記撮像センサを前記第二位置から第三位置へ前記実質上矩形である一組の四頂点の第一側線に実質上沿って並進させる工程、
前記第三位置における前記撮像センサで前記指から受光して、前記第二像が捕捉される約２０ミリ秒以下以内に第三像を捕捉する工程、
前記撮像センサを前記第三位置から第四位置へ前記実質上矩形である一組の四頂点の第二斜線に実質上沿って並進させる工程、及び
前記第四位置における前記撮像センサで前記指から受光して、前記第三像が捕捉される約２０ミリ秒以下以内に第四像を捕捉する工程なら成り、
前記第一像、前記第二像、前記第三像、及び前記第四像は、合成像に組み合わされ、
前記合成像は、前記第一像、前記第二像、前記第三像、及び前記第四像の解像度より高度の解像度である、方法。
適用例１９ 
前記合成像の解像度が約１０００画素／インチである、適用例１８の方法。
適用例２０ 
前記撮像センサの前記第一位置、前記第二位置、前記第三位置、及び前記第四位置の間の並進が、前記撮像センサを保持するように構成された前記アセンブリの共振周波数以下の周波数で行われるものである、適用例１８の方法。
適用例２１ 
前記撮像センサを、前記第四位置から前記第一位置へ、前記実質上矩形である一組の四頂点の前記第二側線に実質上沿って、前記第二位置から前記第三位置への並進と実質上平行に、並進させる工程が更に含まれるものである、適用例１８の方法。
適用例２２ 
転がされる指の指紋像を生成するのに十分な数の前記合成像を生成するのに十分な数の像が捕捉されるまで、前記第一位置、前記第二位置、前記第三位置、及び前記第四位置における像の捕捉を繰り返す工程が更に含まれるものである、適用例２１の方法。
適用例２３ 
前記第二像は、前記第一像が捕捉される約１０ミリ秒以下以内に捕捉され、
前記第三像は、前記第二像が捕捉される約１０ミリ秒以下以内に捕捉され、
前記第四像は、前記第三像が捕捉される約１０ミリ秒以下以内に捕捉されるものである、適用例１８の方法。
適用例２４ 
指紋像を生成する方法であって、
第一位置における撮像センサで指から受光して第一像を捕捉する工程、
前記撮像センサを前記第一位置から第二位置へ並進させる工程、
前記第二位置における前記撮像センサで前記指から受光して、前記第一像が捕捉される約２０ミリ秒以下以内に第二像を捕捉する工程、
前記撮像センサを、前記第一位置から前記第二位置への並進と実質上直交する方向に前記第二位置から第三位置へ並進させる工程、
前記第三位置における前記撮像センサで前記指から受光して、前記第二像が捕捉される約２０ミリ秒以下以内に第三像を捕捉する工程、
前記撮像センサを、前記第一位置から前記第二位置への並進と実質上平行する方向に前記第三位置から第四位置へ並進させる工程、及び
前記第四位置における前記撮像センサで前記指から受光して、前記第三像が捕捉される約２０ミリ秒以下以内に第四像を捕捉する工程なら成り、
前記第一像、前記第二像、前記第三像、及び前記第四像は、合成像に組み合わされ、
前記合成像は、前記第一像、前記第二像、前記第三像、及び前記第四像の解像度より高度の解像度である、方法。
適用例２５ 
前記撮像センサを、前記第二位置から前記第三位置への並進と実質上平行する方向に、前記第四位置から前記第一位置へ並進させる工程が更に含まれるものである、適用例２４の方法。
適用例２６ 
転がされる指の指紋像を生成するのに十分な数の前記合成像を生成するのに十分な数の像が捕捉されるまで、前記第一位置、前記第二位置、前記第三位置、及び前記第四位置における像の捕捉を繰り返す工程が更に含まれるものである、適用例２５の方法。
適用例２７
転がされる指の指紋像を生成する方法であって、
ａ）所定位置の撮像センサで転がされる指から受光して像を捕捉する工程、
ｂ）前記撮像センサを新位置へ並進させる工程、  
ｃ）前記新位置での前記撮像センサで前記転がされる指から受光して別の像を捕捉する工程、及び
ｄ）前記工程ｂ）及びｃ）を繰り返す工程を含み、
前記工程ｂ）及びｃ）の各繰り返しの後の時点における新位置と前回の新位置との間の距離は、前記撮像センサの画素と画素の間の間隔の小部分であり、
前記工程ｂ）及びｃ）の繰り返しによって複数の像が捕捉されるものであり、
前記複数の像は合成像に組み合わされるものであり、
前記合成像は前記複数の像の各々の解像度より高度の解像度である、方法。