【手続補正書】
【提出日】平成21年5月1日(2009.5.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源からの光で照明されたレチクルのパターンを被処理体に投影する投影光学系を備える露光装置であって、
前記光を複数の光に分割すると共に、前記複数の光を前記レチクル上の異なる位置に集光する分割集光手段と、
前記分割集光手段から射出して前記レチクルを照明する前記複数の光の各々の中心部を周辺部よりも暗くする減光手段とを備えることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記投影光学系の瞳面において、前記複数の光の各々の中心部を周辺部よりも暗くする瞳フィルタを更に備えることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
光源からの光で照明されたレチクルのパターンを被処理体に投影する投影光学系と、
前記光を複数の光に分割すると共に、前記複数の光を前記レチクル上の異なる位置に集光する分割集光手段と、
前記複数の光の各々の中心部を周辺部よりも暗くする減光手段とを備え、
前記減光手段は、前記投影光学系の瞳に配置された瞳フィルタを有することを特徴とする露光装置。
【請求項４】
前記瞳フィルタは、前記複数の光の各々の０次回折光を遮光することを特徴とする請求項３記載の露光装置。
【請求項５】
前記分割集光手段は、複数のレンズ要素を有するレンズアレイを有し、
前記減光手段は、前記複数のレンズ要素の各々の中心部に配置される遮光部材を有することを特徴とする請求項３記載の露光装置。
【請求項６】
前記分割集光手段は、アキシコンレンズを有する光学系であることを特徴とする請求項１又は３記載の露光装置。
【請求項７】
前記分割集光手段は、ＣＧＨを有する光学系であることを特徴とする請求項１又は３記載の露光装置。
【請求項８】
前記レチクルのパターンは、前記レチクルの前記光源側に配置されていることを特徴とする請求項１又は３記載の露光装置。
【請求項９】
前記分割集光手段は、前記レチクルのパターンに基づいて、前記レチクルを照明する前記複数の光の入射角度分布又は照明光量分布を調整する調整手段を有することを特徴とする請求項１又は３記載の露光装置。
【請求項１０】
前記光源は、複数の光源で構成されることを特徴とする請求項１又は３記載の露光装置。
【請求項１１】
請求項１乃至１０の何れか１項に記載の露光装置を用いて、基板を露光するステップと、
該露光された基板を現像するステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
また、ＯＰＥを補正する他の技術も幾つか提案されている（例えば、特許文献１参照）。具体的には、特許文献１は、レチクルの直上にレンズアレイを配置し、結像パターンがＯＰＥの影響を受けないように、レチクルパターンを複数のレチクルに分割し、かかるレンズアレイからのスポット光でレチクルを照明し，複数回露光を行っている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
低周波成分を遮光する光学部材１２０は、例えば、金属などの遮光体（遮光膜）を使用する。例えば、光学素子１１０がマイクロレンズアレイである場合、光学部材１２０としての遮光体（遮光部材）は、マイクロレンズアレイを構成するマイクロレンズの各々の中心部に配置される。光学部材１２０は、図１では、光学素子１１０の下面（被処理体４０側の面）に配置しているが、光学素子１１０の上面（照明装置１０側の面）や内部、レチクル２０上の照明装置１０側のいずれかに配置すればよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
図６は、光学素子１１０の一例としてのマイクロレンズアレイ１１０Ａの配置例を示す図である。マイクロレンズアレイ１１０Ａ（分割集光手段）は、図６に示すように、マイクロレンズ１１２Ａ（レンズ要素）が一定の間隔を隔てて形成されている。各々のマイクロレンズ１１２Ａは、光Ｌ２をレチクル２０に集光し、集光スポット列を形成する。集光スポット列の集光スポット間隔は、集光スポット径に比べて大きいため、互いに干渉することはなくコヒーレンス度は低い。従って、ＯＰＥを低減させることができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
集光光学系１００は、低周波成分を遮光する光学部材１２０として、図７に示すように、アキシコンレンズ１２０Ａを用いてもよい。図７は、光学部材１２０としてアキシコンレンズ１２０Ａを用いた集光光学系１００の構成を示す概略断面図である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
図８を参照するに、ＣＧＨ１３０に入射した光束Ｌ１は、低周波成分が減衰された状態で、レチクル２０のパターン２２を照明する。図８に示す集光光学系１００は、マイクロレンズアレイ１１０Ａと遮光体（光学部材１２０）との位置合わせや、アキシコンレンズ１２０Ａとマイクロレンズアレイ１１０Ａとの位置合わせが不要となる。これにより、集光光学系１００のコストを低減させることができ、位置合わせ誤差による像の劣化も防ぐことができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
露光装置１Ａは、レチクル２０のパターン２２を照明する照明光学系を複雑な構成にすることなく、従来の露光装置で生じていたＯＰＥを低減し、レチクル２０のパターン２２に付加するＯＰＣパターンを減少させることができる。露光装置１Ａは、露光光の波長と比べて、比較的小さいパターンサイズの像を転写する際に、ｋ１ファクタの小さい回路パターンに複雑なＯＰＣパターンを付加したレチクルを必要とせず、製造コストや歩留まりの低減防止を実現することができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６３】
一方、本実施形態の露光装置では、例えば、図１２に示すように、パターン２２の形成された面が照明装置１０側（光源側）になるようにレチクル２０を配置してもよい。図１２を参照するに、光Ｌ１は、アキシコンレンズ１２０Ａによってドーナツ状の照度分布を有する光となり、マイクロレンズアレイ１１０Ａに入射する。マイクロレンズアレイ１１０Ａは、パターン２２が形成されているレチクル２０の表面に光Ｌ１を集光する。これにより、マイクロレンズアレイ１１０Ａの焦点距離を短くすることが可能となり、スポット径を小さくすると同時に、マイクロレンズアレイ１１０Ａのマイクロレンズ１１２Ａの間隔を狭めることができる。従って、マイクロレンズ１１２Ａの密度を高めることが可能となり、一度にレチクル２０のパターン２２を照明するスポット数を増加させることができるため、被処理体４０上に結像するスポットの数も増加する。この結果、被処理体４０にレチクル２０のパターン２２を転写する速度を向上させることができ、露光装置のスループットを向上させることができる。ここで、図１２は、レチクル２０の配置を説明するための図である。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
図１３は、集光光学系１００としてＣＧＨ１３０Ａを用いた構成を示す概略断面図である。ＣＧＨ１３０Ａは、液晶を用いて光透過光量を調整可能なＣＧＨである。信号処理部１７２は、レチクルステージ２５の駆動を制御する制御部１７４からのレチクル２０の位置情報及びレチクル２０のパターン２２を記憶する記憶部１７６からのパターン情報に基づいて、ＣＧＨ１３０Ａとパターン２２との位置を算出する。更に、信号処理部１７２は、ＣＧＨ１３０Ａの位置に対応したレチクル２０のパターン２２を参照し、ＣＧＨ１３０Ａにおける透過部及び遮光部の配列データを調整部１７８に送信する。調整部１７８は、信号処理部１７２からの配列データに基づいて、ＣＧＨ１３０Ａの光透過パターンを調整する。