【手続補正書】
【提出日】平成25年2月14日(2013.2.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射源から空間的に分離されたビームを方向付けて、サンプル流量測定領域内に測定ビームを生成するように構成される光導波路と、
該空間的に分離されたビームを受けるレンズであって、該レンズは、該導波路と該サンプル流量測定領域との間に挿入されている、レンズと、
相互に対する固定相対位置で該光導波路の各々を維持し、該測定領域内に該測定ビームの配置を維持するように構成される支持材と、
該測定領域を通って流れる粒子と相互作用する該測定ビームから生成される光を感知するように構成される検出器と
を備える、粒子分析器。
【請求項２】
前記放射源が、光の複数の波長、波長帯域、偏光、またはパルス幅を生成し、かつ／または、
前記放射源は、複数のレーザ源を備える、請求項１に記載の粒子分析器。
【請求項３】
前記サンプル流量測定領域は、キュベットまたは空隙を備えるサンプルシステム内に含有される、請求項１に記載の粒子分析器。
【請求項４】
前記支持材および前記検出器のうちの少なくとも１つは、中核流サンプルシステムに連結される、請求項３に記載の粒子分析器。
【請求項５】
前記連結は、サンプル相互作用から生じる光学的放射を前記検出器に伝えるように構成される光導波路デバイスの使用を含む、請求項４に記載の粒子分析器。
【請求項６】
前記検出器は、前記サンプル流量測定領域を包囲する様々な検出器位置に対応する複数の検出器を備える、請求項１に記載の粒子分析器。
【請求項７】
前記支持材は、１以上の次元のアレイで形成される実質的に平行な溝を備える、請求項１に記載の粒子分析器。
【請求項８】
前記支持デバイスに連結され、かつ、前記光導波路の３次元移動を制約するように構成されるカバープレートをさらに備える、請求項１に記載の粒子分析器。
【請求項９】
前記カバープレートは、前記光導波路の末端の縦方向平行移動を制約するように構成される、請求項８に記載の粒子分析器。
【請求項１０】
前記光導波路から測定点に、前記空間的に分離されたビームを方向付けるように構成される光学システムをさらに備える、請求項１に記載の粒子分析器。
【請求項１１】
前記光学システムおよび前記支持システムは、相対移動を最小化するように固定的に機械的に結び付けられる、請求項１０に記載の粒子分析器。
【請求項１２】
粒子分析器内で分析するために粒子を含有する流体サンプルを調製することと、
放射源から光導波路を通して光を伝達することと、
該流体サンプルの測定領域の平面に沿って、複数の空間的に分離されたビームとして該光導波路から該光を方向付けることと、
該導波路と該流体サンプルの該測定領域との間に挿入されているレンズが、該複数の空間的に分離されたビームを受けることと、
該測定領域を通って流れるそれぞれの粒子との該空間的に分離されたビームの相互作用を介して生成される光を感知することと、
該それぞれの粒子のパラメータを決定するために信号を分析することと
を含む、粒子を分析する方法。
【請求項１３】
前記測定領域の前記平面に沿って方向付けられた前記ビームの一部分において、実質的に一様な空間強度プロファイルを生成することをさらに含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
請求項１に記載の粒子分析器を備えるシステムであって、
前記光導波路は、光ファイバ束を含み、該光ファイバ束は、それぞれの放射源からビームを受けるように、かつ、前記測定領域内に直列の空間的に分離された実質的に一様な空間強度プロファイルビームを生成するように構成され、
前記支持材は、Ｖ字形溝のアレイを含むＶ字形溝支持システムを含み、該Ｖ字形溝の各々は、該光ファイバ束内の対応するファイバを個別に支持するように、かつ、該ファイバと該直列的に分離されたビームとの間に固定相対間隔を維持するように構成され、
前記検出器は、粒子検出器を含み、該粒子検出器は、該ビームからの調査に基づいて、粒子によって反射、散乱、または放出される光を感知するように構成される、システム。
【請求項１５】
前記空間的に分離された生成されたビームは、実質的に一様な空間強度プロファイルまたは平頂プロファイルを備える、請求項１に記載の粒子分析器。
【請求項１６】
前記空間的に分離された生成されたビームは、実質的に一様な空間強度プロファイルまたは平頂プロファイルを備える、請求項１４に記載のシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明は、例えば、以下の項目も提供する。
（項目１）
放射源から空間的に分離されたビームを方向付けて、サンプル流量測定領域内に測定ビームを生成するように構成される光導波路と、
相互に対する固定相対位置で該光導波路の各々を維持し、該測定領域内に該測定ビームの配置を維持するように構成される支持材と、
該測定領域を通って流れる粒子と相互作用する該測定ビームから生成される光を感知するように構成される検出器と
を備える、粒子分析器。
（項目２）
前記測定ビームは、実質的に一様な空間強度プロファイルまたは平頂プロファイルを備える、項目１に記載の粒子分析器。
（項目３）
前記光導波路は、光ファイバを備える、項目１に記載の粒子分析器。
（項目４）
前記放射源は、複数のレーザ源を備える、項目１に記載の粒子分析器。
（項目５）
前記複数のレーザ源は、光の複数の様々な波長、波長帯域、偏光、またはパルス幅を生成する、項目４に記載の粒子分析器。
（項目６）
前記サンプル流量測定領域は、キュベットまたは空隙を備えるサンプルシステム内に含有される、項目１に記載の粒子分析器。
（項目７）
前記支持材および前記検出器のうちの少なくとも１つは、中核流サンプルシステムに連結される、項目６に記載の粒子分析器。
（項目８）
前記連結は、サンプル相互作用から生じる光学的放射を前記検出器に伝えるように構成される、光導波路デバイスの使用を含む、項目７に記載の粒子分析器。
（項目９）
前記放射源は、光の複数の波長、波長帯域、偏光、またはパルス幅を生成する、項目１に記載の粒子分析器。
（項目１０）
前記検出器は、前記サンプル流量測定領域を包囲する様々な検出器位置に対応する複数の検出器を備える、項目１に記載の粒子分析器。
（項目１１）
前記支持材は、１以上の次元のアレイで形成される、実質的に平行な溝を備える、項目１に記載の粒子分析器。
（項目１２）
前記支持デバイスに連結され、および前記光導波路の３次元移動を制約するように構成されるカバープレートをさらに備える、項目１に記載の粒子分析器。
（項目１３）
前記カバープレートは、前記光導波路の末端の縦方向平行移動を制約するように構成される、項目１２に記載の粒子分析器。
（項目１４）
前記光導波路から測定点に、前記空間的に分離されたビームを方向付けるように構成される光学システムをさらに備える、項目１に記載の粒子分析器。
（項目１５）
前記光学システムおよび前記支持システムは、相対移動を最小化するように固定的に機械的に結び付けられる、項目１４に記載の粒子分析器。
（項目１６）
粒子分析器内で分析するために粒子を含有する流体サンプルを調製することと、
放射源から光導波路を通して光を伝達することと、
該流体サンプルの測定領域の平面に沿って、複数の空間的に分離されたビームとして該光導波路から該光を方向付けることと、
該測定領域を通って流れるそれぞれの粒子との該空間的に分離されたビームの相互作用を介して生成される光を感知することと、
該それぞれの粒子のパラメータを決定するために信号を分析することと
を含む、粒子を分析する方法。
（項目１７）
前記測定領域の前記平面に沿って方向付けられた前記ビームの一部分において、実質的に一様な空間強度プロファイルを生成することをさらに含む、項目１６に記載の方法。
（項目１８）
それぞれの放射源からビームを受容するように、および測定領域内に直列の空間的に分離された実質的に一様な空間強度プロファイルビームを生成するように構成される光ファイバ束と、
Ｖ字形溝のアレイを含むＶ字形溝支持システムであって、該Ｖ字形溝の各々は、該光ファイバ束内の対応するファイバを個別に支持するように、および該ファイバと該直列的に分離されたビームとの間に固定相対間隔を維持するように構成される、Ｖ字形溝支持システムと、
該ビームからの調査に基づいて、粒子によって反射、散乱、または放出される光を感知するように構成される粒子検出器と
を備え、該直列の空間的に分離されたビームは、ビーム成形光学システムを使用して該粒子上に方向付けられる、システム。
（項目１９）
前記空間的に分離されたビームは、前記測定領域内の該ビームの一部分において、実質的に一様な空間強度プロファイルを備える、項目１８に記載のシステム。
（項目２０）
サンプルシステムに固定的に連結されるように構成されるように、および放射源から独立ビーム経路に沿ってビームを方向付けて、該サンプルシステムのサンプル流量測定領域内に測定ビームスポットを生成するように構成される第１の光学システムと、
該サンプル流量測定領域から送達される放射を感知するように構成される検出システムと
を備える、粒子分析器。
（項目２１）
前記第１の光学システムは、接着材料を使用して前記サンプルシステムに接着される、項目２０に記載の粒子分析器。
（項目２２）
前記第１の光学システムは、前記サンプルシステムに機械的に締結される、項目２０に記載の粒子分析器。
（項目２３）
前記検出システムは、前記サンプルシステムに固定して連結される、項目２０に記載の粒子分析器。
（項目２４）
前記測定ビームスポットは、前記測定領域内の該スポットの一部分において、実質的に一様な空間強度プロファイルを備える、項目２０に記載の粒子分析器。
添付図面を参照して、さらなる実施形態および特徴、ならびに種々の実施形態の構造および動作を、以下で詳細に説明する。本発明は、本明細書で説明される具体的実施形態に限定されないことに留意されたい。そのような実施形態は、本明細書では例証目的のみで提示される。付加的な実施形態は、本明細書に含有される情報に基づいて、当業者に明白となるであろう。