【手続補正書】
【提出日】平成25年3月14日(2013.3.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フーリエ面に配置された第１ディテクタであって、マスクの一部によって生成されたパターン付き光の第１部分を検出する、第１ディテクタと、
動的フーリエフィルタと、
前記パターン付き光の前記第１部分に基づいて前記動的フーリエフィルタを制御するコントローラと、
第２部分が前記動的フーリエフィルタを透過した後に前記マスクの前記一部によって生成された前記パターン付き光の前記第２部分を検出する第２ディテクタと、
前記パターン付き光の前記第２部分を別のパターン付き光と比較するデータ解析デバイスと
を含む、システム。
【請求項２】
前記パターン付き光を分割し、前記パターン付き光の前記１部分を前記第１ディテクタに向かって誘導し、かつ前記パターン付き光の前記第２部分を前記第２ディテクタに向かって誘導するビームスプリッタをさらに含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記ビームスプリッタと前記第１ディテクタとの間の第１バッフルと、
前記ビームスプリッタと前記第２ディテクタとの間の第２バッフルと
をさらに含む、請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
前記動的フーリエフィルタはデジタルミラーアレイである、請求項１に記載のシステム。
【請求項５】
前記動的フーリエフィルタはライトバルブアレイである、請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
第２フーリエ面に配置された第３ディテクタであって、第２マスクの一部によって生成された第２パターン付き光の第１部分を検出する、第３ディテクタと、
第２動的フーリエフィルタと、
前記第２マスクの前記一部によって生成された前記第２パターン付き光の前記第１部分に基づいて前記第２動的フーリエフィルタを制御する第２コントローラと、
第２部分が前記第２動的フーリエフィルタを透過した後に前記第２パターン付き光の前記第２部分を検出する第４ディテクタと
をさらに含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
前記マスクおよび前記第２マスクは、実質的に同じマスクパターンを有する、請求項６に記載のシステム。
【請求項８】
第２フーリエ面に配置された第３ディテクタであって、前記マスクの第２部によって生成された第２パターン付き光の第１部分を検出する、第３ディテクタと、
第２動的フーリエフィルタと、
前記第２パターン付き光の前記第１部分に基づいて前記第２動的フーリエフィルタを制御する第２コントローラと、
第２部分が前記第２動的フーリエフィルタを透過した後に前記第２パターン付き光の前記第２部分を検出する第４ディテクタと
をさらに含み、
前記データ解析デバイスは、前記パターン付き光の前記第２部分を前記第２パターン付き光の前記第２部分と比較するように構成され、
前記マスクの前記一部および前記第２部は、実質的に同じマスクパターンを有する、請求項１に記載のシステム。
【請求項９】
マスクによって生成されたパターン付き光の第１部分のフーリエイメージを検出することと、
前記検出されたフーリエイメージに基づいてフーリエフィルタを制御することと、
前記フーリエフィルタを用いて前記パターン付き光の第２部分をフィルタすることと、
前記フィルタされた第２部分を検出することと、
前記フィルタされた第２部分を別のパターン付き光と比較することと
を含む、方法。
【請求項１０】
第２マスクによって生成された第２パターン付き光の第１部分の第２フーリエイメージを検出することと、
前記検出されたフーリエイメージに基づいて第２フーリエフィルタを制御することと、
前記第２フーリエフィルタを用いて前記第２パターン付き光の第２部分をフィルタすることと、
前記第２パターン付き光の前記フィルタされた第２部分を検出することと
をさらに含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記比較することは、前記パターン付き光の前記フィルタされた第２部分を前記第２パターン付き光の前記フィルタされた第２部分と比較することを含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記フーリエイメージおよび前記第２フーリエイメージに基づいて平均化されたフーリエイメージを生成することと、
前記平均化されたフーリエイメージに基づいて前記フーリエフィルタおよび前記第２フーリエフィルタを制御することと
をさらに含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
露光段階および検査段階のうちの少なくとも１つの間に放射ビームをパターン付けするように構成されたパターニング構造を支持するサポートと、
基板を保持する基板テーブルと、
前記露光段階中に前記パターン付きビームを前記基板のターゲット部分上に投影する投影システムと、
前記検査段階中に前記パターニング構造の領域を検査するパターニング構造検査システムと
を含むリソグラフィシステムであって、前記パターニング構造検査システムは、
前記パターニング構造の前記領域からパターン付き光を受け、かつ前記パターン付き光を前記パターン付き光の第１部分と前記パターン付き光の第２部分とに分割するビームスプリッタと、
フーリエ面に配置された第１ディテクタであって、前記ビームスプリッタによって誘導される前記第１部分を検出する、第１ディテクタと、
動的フーリエフィルタと、
前記パターン付き光の前記検出された第１部分に基づいて前記動的フーリエフィルタを制御するコントローラと、
前記第２部分が前記動的フーリエフィルタを透過した後に前記パターン付き光の前記第２部分を検出する第２ディテクタと、
前記パターン付き光の前記第２部分を別のパターン付き光と比較するデータ解析デバイスとを含む、リソグラフィシステム。
【請求項１４】
第１光チャネルであって、第１ディテクタは、第１フーリエ面に配置され、かつ第１マスクパターンを有するマスクの第１部によって生成された第１パターン付き光の第１フーリエフィールドを検出するように構成され、第１動的フーリエフィルタは、第１一次結像パスに配置される、第１光チャネルと、
前記第１パターン付き光の前記第１フーリエフィールドに基づいて前記第１動的フーリエフィルタを制御する第１コントローラであって、それによって、前記第１動的フーリエフィルタは、前記第１マスクパターンによって生成された前記第１パターン付き光および前記第１マスクパターンによって生成された前記第１一次結像パスにおける第２パターン付き光の両方を実質的に除去する、第１コントローラと
を含む、スキャン検出システム。
【請求項１５】
第１光チャネルにおける第１ディテクタを用いて、第１マスクパターンを有するマスクの第１部によって生成された第１パターン付き光の第１フーリエフィールドを検出することと、
第１コントローラを用いて、前記第１パターン付き光の前記第１フーリエフィールドに基づいて第１一次結像パスに配置された第１動的フーリエフィルタを制御することであって、それによって前記第１動的フーリエフィルタは、前記第１マスクパターンによって生成された前記第１パターン付き光および前記第１マスクパターンによって生成された前記第１一次結像パスにおける第２パターン付き光の両方を実質的に除去する、ことと
を含み、前記第１ディテクタは第１フーリエ面に配置される、方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】フーリエフィルタリングおよびイメージ比較を用いるマスク検査システム及び方法、リソグラフィシステム、並びにスキャン検出システム