【手続補正書】
【提出日】平成21年10月21日(2009.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に、微粒子を含有するハードコート性を有する光散乱層、オーバーコート層、及び低屈折率層が、隣接もしくは他の層を介してこの順に積層してなる反射防止積層体であって、該オーバーコート層が、下記一般式（ａ）で示されるシランカップリング剤、及び／又は該シランカップリング剤の加水分解物及び縮合反応物を含むオーバーコート層用塗布組成物を塗設してなる層であり、該低屈折率層が水酸基を含有する電離放射線硬化性樹脂成分及び熱硬化性樹脂成分の少なくともいずれかを含む低屈折率用塗布組成物を塗設してなる層である反射防止積層体。
一般式（ａ）：（Ｒａ）ｍ−Ｓｉ（Ｘａ）４−ｍ
（但し、Ｘａは、無置換のアルキル基、水酸基、加水分解可能な基の少なくとも１つである。Ｒａは、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルケニル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アシルアミノ基、イソシアネート基の少なくとも１つを有する置換基、ｍは１≦ｍ≦３で示される整数である。）
【請求項２】
ハードコート性を有する光散乱層中に、三次元の立体構造を有する微粒子の凝集部が複数存在し、ハードコート性を有する光散乱層の表面が凹凸形状を有する請求項１に記載の反射防止積層体。
【請求項３】
前記オーバーコート層と低屈折率層が隣接しており、ハードコート性を有する光散乱層中に、三次元の立体構造を有する有機材料により形成されてなる微粒子の凝集部が複数存在し、ハードコート性を有する光散乱層の表面が凹凸形状を有する請求項１又は２に記載の反射防止積層体。
【請求項４】
凝集部を形成しない他の微粒子が複数連なることにより、複数の前記凝集部間を結ぶものである請求項２又は３に記載の反射防止積層体。
【請求項５】
微粒子の平均粒子径をＲ（μｍ）とし、凝集部の鉛直方向における基材面からの高さの最大値をＨｍａｘ（μｍ）とし、反射防止積層体の最表面における凹凸形状の平均間隔をＳｍ（μｍ）とし、凹凸部の平均傾斜角（正反射面に対する平均傾斜角度）をθａとした
場合に、下記式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）：
８Ｒ≦Ｓｍ≦６０Ｒ （Ｉ）
Ｒ＜Ｈｍａｘ≦３Ｒ （ＩＩ）
０．３≦θａ≦２.５ （ＩＩＩ）
を同時に満たす請求項１〜４のいずれか一項に記載の反射防止積層体。
【請求項６】
電離放射線硬化性樹脂成分及び／又は熱硬化性樹脂成分が、含フッ素ビニルモノマー重合単位、水酸基含有ビニルモノマー重合単位、及びポリシロキサン構造を少なくとも１種有する樹脂成分である請求項１〜５のいずれか一項に記載の反射防止積層体。
【請求項７】
電離放射線硬化性樹脂成分及び／又は熱硬化性樹脂成分が、エチレングリコール換算による質量平均分子量が３００〜１００００であるオルガノシランの加水分解物および縮合反応物の少なくともいずれか（Ａ）、及び／又はポリスチレン換算による質量平均分子量が５０００以上であって、フルオロアルキル構造およびポリシロキサン構造を有する含フッ素樹脂（Ｂ）を含有する請求項１〜５のいずれか一項に記載の反射防止積層体。
【請求項８】
電離放射線硬化性樹脂成分及び／又は熱硬化性樹脂成分が、１分子内に２つ以上の（メタ）アクリロイル基を有するアクリレート化合物である請求項１〜５のいずれか一項に記載の反射防止積層体。
【請求項９】
低屈折率用塗布組成物が、含フッ素樹脂成分を含む請求項１〜８のいずれか一項に記載の反射防止積層体。
【請求項１０】
低屈折率用塗布組成物が、熱及び／又は電離放射線により、酸及び／又はラジカルを発生する化合物を含有する請求項１〜９のいずれか一項に記載の反射防止積層体。
【請求項１１】
低屈折率用塗布組成物が、水酸基と反応可能な架橋剤を含有する請求項１〜１０のいずれか一項に記載の反射防止積層体。
【請求項１２】
低屈折率用塗布組成物が、下記一般式（ａ）で示されるシランカップリング剤、及び／又は前記シランカップリング剤の加水分解物及び縮合反応物を含有する請求項１〜１１のいずれか一項に記載の反射防止積層体。
一般式（ａ）：（Ｒａ）ｍ−Ｓｉ（Ｘａ）４−ｍ
（但し、Ｘａは、無置換のアルキル基、水酸基、加水分解可能な基の少なくとも１つである。Ｒａは、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルケニル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アシルアミノ基、イソシアネート基の少なくとも１つを有する置換基、ｍは１≦ｍ≦３で示される整数である。）
【請求項１３】
低屈折率層が、平均粒径５ｎｍ〜２００ｎｍの無機微粒子を含有する請求項１〜１２のいずれか一項に記載の反射防止積層体。
【請求項１４】
無機微粒子が、内部及び表面の少なくともいずれかに平均孔径０．０１ｎｍ〜９０ｎｍの空孔を有する請求項１３に記載の反射防止積層体。
【請求項１５】
熱及び／又は電離放射線により酸及び／又はラジカルを発生する化合物が、下記の３つの条件を満たす化合物である請求項１０〜１４のいずれか一項に記載の反射防止積層体。
電離放射線により酸及び又はラジカルを発生する      ・・・（Ｉ）
分子量が３００以上                                ・・・（ＩＩ）
最大吸収波長（λmax）が３１０〜４５０ｎｍ        ・・・（ＩＩＩ）
【請求項１６】
オーバーコート層の屈折率が、１．４８〜１．６５の範囲であり、かつ膜厚が０．５〜１０μｍの範囲である請求項１〜１５のいずれか一項に記載の反射防止積層体。
【請求項１７】
微粒子が、有機系材料により形成されてなる微粒子である請求項１〜１６のいずれか一項に記載の反射防止積層体。
【請求項１８】
微粒子の平均粒子径Ｒが、１．５μｍ以上７.０μｍ以下であり、かつ該微粒子の個数の９０％以上において、該微粒子の粒径平均分布がＲ±０.５μｍの範囲内にある請求項１〜１７のいずれか一項に記載の反射防止積層体。
【請求項１９】
ハードコート性を有する光散乱層が、前記微粒子の平均粒径と異なる平均粒径を有する第二微粒子をさらに含有する請求項１〜１８のいずれか一項に記載の反射防止積層体。
【請求項２０】
微粒子の平均粒子径をＲ（μｍ）とし、第二微粒子の平均粒子径をｒ（μｍ）とした場合に、下記式(ＩＶ)：
０.２５Ｒ≦ｒ≦１.０Ｒ (ＩＶ)
を満たすものである、請求項１〜１９のいずれか一項に記載の反射防止積層体。
【請求項２１】
有機系材料が、電離放射線硬化型樹脂であり、かつ第二微粒子が該有機系材料により形成されてなる微粒子である請求項１９又は２０に記載の反射防止積層体。
【請求項２２】
反射防止積層体の内部のヘイズ値が８０％以下である請求項１〜２１のいずれか一項に記載の反射防止積層体。
【請求項２３】
ヘイズ値が２.０〜６５．０（％）であり、６０度グロス値が３５〜９８(％)であり、透過鮮明度の値が７０〜３５０(％)であることを同時に満たすものである、請求項１〜２２のいずれか一項に記載の反射防止積層体。
【請求項２４】
支持体とハードコート性を有する光散乱層との間に帯電防止層を更に有し、かつ前記ハードコート性を有する光散乱層が、通電性微粒子を含有し、反射防止積層体の最表面が通電性をもつ請求項１〜２３のいずれか一項に記載の反射防止積層体。
【請求項２５】
反射防止積層体の表面抵抗値が、１.０×１０１３Ω／□以下である請求項１〜２４のいずれか一項に記載の反射防止積層体。
【請求項２６】
ハードコート性を有する光散乱層、オーバーコート層、及び低屈折率層の少なくとも２層が、支持体の送出しから巻取りまでの間に、逐次連続塗布により形成されてなる請求項１〜２５のいずれか一項に記載の反射防止積層体。
【請求項２７】
ハードコート性を有する光散乱層、オーバーコート層、及び低屈折率層の少なくとも２層が、１つの塗布装置で同時に重層塗布して形成されてなる請求項１〜２６のいずれか一項に記載の反射防止積層体。
【請求項２８】
支持体が、２５〜７０μmの厚さのトリアセチルセルロースフィルムである請求項１〜２７のいずれか一項に記載の反射防止積層体。
【請求項２９】
支持体が、ポリエステル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、及びシクロオレフィン系樹脂フィルムの群から選ばれる請求項１〜２８のいずれか一項に記載の反射防止積層体。
【請求項３０】
偏光膜と、該偏光膜の両側に設けられた保護フィルムとを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも一方が、請求項１〜２９のいずれか一項に記載の反射防止積層体である偏光板。
【請求項３１】
請求項１〜２９のいずれか一項に記載の反射防止積層体、又は請求項３０に記載の偏光板を、表示画面の視認側に有する画像表示装置。