(57)【要約】【課題】本発明は、段差リブを有するＰＤＰ用背面板を簡便な方法で得ることができるＰＤＰ用背面板の製造方法を提供することを主目的とする。【解決手段】上記課題を解決するために、本発明は、基板と、上記基板上に形成されたパターン状のアドレス電極層と、上記アドレス電極層を覆うように形成された誘電体層と、上記誘電体層上に形成され、縦リブおよび横リブから構成されるマトリクスリブと、を有する背面板形成用部材を準備する背面板形成用部材準備工程と、上記背面板形成用部材の縦リブに沿う方向にブラスト噴射を行い、かつ、ブラストノズルの噴射方向と上記背面板形成用部材の平面方向とのなす角が、上記横リブを選択的に切削できる選択的切削角度以下の角度となるブラスト噴射を行うことにより、上記横リブが上記縦リブよりも低い段差リブを形成する段差リブ形成工程と、を有すことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法を提供する。【選択図】図１
2008210789.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、前記基板上に形成されたパターン状のアドレス電極層と、前記アドレス電極層を覆うように形成された誘電体層と、前記誘電体層上に形成され、縦リブおよび横リブから構成されるマトリクスリブと、を有する背面板形成用部材を準備する背面板形成用部材準備工程と、
前記背面板形成用部材の縦リブに沿う方向にブラスト噴射を行い、かつ、ブラストノズルの噴射方向と前記背面板形成用部材の平面方向とのなす角が、前記横リブを選択的に切削できる選択的切削角度以下の角度となるブラスト噴射を行うことにより、前記横リブが前記縦リブよりも低い段差リブを形成する段差リブ形成工程と、
を有すことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項２】
前記選択的切削角度が、１０°以下であることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項３】
前記ブラストノズルの吐出口の形状が、スリット状であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項４】
前記段差リブ形成工程の際に、前記背面板形成用部材の縦リブに沿う方向の両方向からブラスト噴射を行うことを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれかの請求項に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項５】
前記マトリクスリブが、前記段差リブの横リブの高さを規定するストッパー層を有することを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれかの請求項に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項６】
前記マトリクスリブが、リブ材料層よりもブラストレートの小さいストッパー層を有することを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれかの請求項に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項７】
前記マトリクスリブが、前記誘電体層側から順に、第一リブ材料層、前記ストッパー層および第二リブ材料層を有することを特徴とする請求項５または請求項６に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項８】
前記第二リブ材料層のブラストレートが、前記第一リブ材料層のブラストレートよりも小さいことを特徴とする請求項７に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項９】
前記マトリクスリブが、前記誘電体層側から順に、前記ストッパー層およびリブ材料層を有することを特徴とする請求項５または請求項６に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項１０】
プラズマディスプレイパネル用背面板を製造するために用いられるブラスト装置であって、
研削材をスリット状に噴射し、かつ、ブラストノズルの噴射方向と背面板形成用部材の平面方向とのなす角が、背面板形成用部材の横リブを選択的に切削できる選択的切削角度以下の角度となるブラストノズルを有することを特徴とするブラスト装置。
【請求項１１】
前記ブラストノズルの噴射角度を調整する噴射角度調整手段をさらに備えることを特徴とする請求項１０に記載のブラスト装置。
【請求項１２】
請求項１０または請求項１１に記載のブラスト装置と、背面板形成用部材を保持する保持装置と、を有し、
前記ブラスト装置のブラストノズルおよび前記保持装置の少なくとも一方が、前記背面板形成用部材の縦リブに沿う方向と直交する方向または平行する方向に水平移動できる移動手段を有することを特徴とするプラズマディスプレイパネル用背面板の製造装置。
【請求項１３】
前記ブラスト装置が、前記背面板形成用部材の縦リブに沿う方向の両方向について、一方の方向に研削材を噴射する吐出口を有する第一のブラストノズルと、他方の方向に研削材を噴射する吐出口を有する第二のブラストノズルとを有することを特徴とする請求項１２に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造装置。
【請求項１４】
前記第一のブラストノズルの吐出口と、前記第二のブラストノズルの吐出口とが、互いに向き合うように配置され、前記第一のブラストノズルと前記第二のブラストノズルとが同じ往復運動をすることを特徴とする請求項１３に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造装置。
【請求項１５】
前記第一のブラストノズルの吐出口と、前記第二のブラストノズルの吐出口とが、互いに反対方向となるように配置され、前記第一のブラストノズルと前記第二のブラストノズルとが同じ往復運動をすることを特徴とする請求項１４に記載のプラズマディスプレイパネル用背面板の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、縦リブおよび横リブの高さが異なる段差リブを有するプラズマディスプレイパネル用背面板（以下、「ＰＤＰ用背面板」と称する場合がある。）を簡便に形成することができるプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法、ならびに、それに用いられるブラスト装置およびＰＤＰ用背面板の製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイパネル（以下、「ＰＤＰ」と称する場合がある。）に用いられる背面板は、通常図１３に示すように、基板２１と、基板２１上に形成されたパターン状のアドレス電極層２２と、アドレス電極層２２上に形成された誘電体層２３と、誘電体層２３上に形成されたリブ２４と、リブ２４の間に形成された蛍光体層２５（２５Ｒ、２５Ｇ、２５Ｂ）と、を有する。また、従来のＰＤＰ用背面板は、図１４（ａ）に示すようにストライプ状のリブ２４を有するものが主流であったが、近年、輝度向上の観点から、図１４（ｂ）に示すように、縦リブ２６ｘおよび横リブ２６ｙを有するマトリクスリブ２６を備えたＰＤＰ用背面板が提案されている。
【０００３】
マトリクスリブを備えたＰＤＰ用背面板は、ストライプ状のリブを備えたＰＤＰ用背面板と比較して、単位面積あたりの蛍光体量を増加させることができるため、輝度向上を図ることができるという利点を有するが、その反面、縦横に形成されたリブが障害となり排気を行いにくいという欠点を有する。このような欠点を解決するため、高さの異なるリブ（段差リブ）を備えたＰＤＰ用背面板に関する技術が知られている。
【０００４】
例えば特許文献１においては、ドライフィルムレジスト（ＤＦＲ）のラミネート、製版、ブラストを２回行うことにより、段差リブを形成する方法が開示されている。しかしながら、特にこの方法においては、２回目のＤＦＲのラミネートが困難であるという問題があった。すなわち、１回目のブラストによりマトリクスリブを形成した後に、さらに、マトリクスリブの上底面にＤＦＲをラミネートすると、リブの端部がローラー圧で欠けてしまうという問題があった。また、ラミネート圧力が高いと、既に形成されたマトリクスリブの穴部にＤＦＲが入り込み、ＤＦＲの膜厚を均一とすることが困難になり、露光・現像を適切に行うことができないという問題があった。さらに、マトリクスリブの穴部に侵入したＤＦＲは完全に除去されない危険性もある。一方、ラミネート圧が低いと、密着不良を起こして、現像時あるいはブラスト時にＤＦＲが剥離してしまうという問題があった。
【０００５】
別の問題としては、２回目の露光のアライメントが困難であるという問題が挙げられる。１層目のＤＦＲの露光位置精度は、アドレス電極に対してのリブの相対位置精度が確保出来れば十分で、アドレス電極のパット部（放電部分に当たる位置に形成される略四角形もしくは略六角形の部分）が縦リブの間に入るレベルの精度が出れば十分である。しかしながら、この程度のアライメント精度で２層目のＤＦＲ露光を行ってしまうと、縦リブからＤＦＲがずれてしまい、ブラストの際に縦リブのエッジ部分が研削されてしまう。また、２枚のＤＦＲを使うので、設備、材料の両面でコストが高くなるという問題もあった。そのため、これらの問題を解決することができるＰＤＰ用背面板の製造方法が望まれていた。
【０００６】
なお、特許文献２においては、同一高さの隔壁を形成する前工程と、前記隔壁に高低差を設ける後工程とを有するプラズマディスプレイパネルの製造方法が開示されている。また、特許文献３〜６においては、ブラスト加工に関する技術が開示されている。
【０００７】
【特許文献１】特許第３４４０９０７号公報
【特許文献２】特開２００１−２３６８９１号公報
【特許文献３】特開２００５−２０５５３０号公報
【特許文献４】特開２００５−３４９５１３号公報
【特許文献５】特開２００６−１５９４０２号公報
【特許文献６】特開２００６−２２４２８１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、段差リブを有するＰＤＰ用背面板を簡便な方法で得ることができるＰＤＰ用背面板の製造方法を提供することを主目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために、本発明においては、基板と、上記基板上に形成されたパターン状のアドレス電極層と、上記アドレス電極層を覆うように形成された誘電体層と、上記誘電体層上に形成され、縦リブおよび横リブから構成されるマトリクスリブと、を有する背面板形成用部材を準備する背面板形成用部材準備工程と、上記背面板形成用部材の縦リブに沿う方向にブラスト噴射を行い、かつ、ブラストノズルの噴射方向と上記背面板形成用部材の平面方向とのなす角が、上記横リブを選択的に切削できる選択的切削角度以下の角度となるブラスト噴射を行うことにより、上記横リブが上記縦リブよりも低い段差リブを形成する段差リブ形成工程と、を有すことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法を提供する。
【００１０】
本発明によれば、背面板形成用部材の縦リブに沿う方向でブラスト噴射を行い、かつ、特定の浅い角度からブラスト噴射を行うことにより、横リブのみを選択的に切削することができ、段差リブを容易に形成することができる。
【００１１】
上記発明においては、上記選択的切削角度が、１０°以下であることが好ましい。段差リブを容易に形成することができるからである。
【００１２】
上記発明においては、上記ブラストノズルの吐出口の形状が、スリット状であることが好ましい。広い面積において均一に、かつ効率良く切削を行うことができるからである。
【００１３】
上記発明においては、上記段差リブ形成工程の際に、上記背面板形成用部材の縦リブに沿う方向の両方向からブラスト噴射を行うことが好ましい。均一な形状に切削を行うことができるからである。
【００１４】
上記発明においては、上記マトリクスリブが、上記段差リブの横リブの高さを規定するストッパー層を有することが好ましい。段差リブの横リブの高さを、横リブ中央部と縦リブに接する横リブ端部とで、容易に均一化することができるからである。さらに、段差リブの横リブの高さを、ＰＤＰ用背面板の面内全体で容易に均一化することもできる。
【００１５】
上記発明においては、上記マトリクスリブが、リブ材料層よりもブラストレートの小さいストッパー層を有することが好ましい。段差リブの横リブの高さを、横リブ中央部と縦リブに接する横リブ端部とで、容易に均一化することができるからである。さらに、段差リブの横リブの高さを、ＰＤＰ用背面板の面内全体で容易に均一化することもできる。
【００１６】
上記発明においては、上記マトリクスリブが、上記誘電体層側から順に、第一リブ材料層、上記ストッパー層および第二リブ材料層を有することが好ましい。ストッパー層の厚さを必要最低限にすることができ、コストの低減を図ることができるからである。
【００１７】
上記発明においては、上記第二リブ材料層のブラストレートが、上記第一リブ材料層のブラストレートよりも小さいことが好ましい。マトリクスリブを形成する際に、サイドエッチにより第二リブ材料層が第一リブ材料層と比較して過度に研削されることを抑制できるからである。
【００１８】
上記発明においては、上記マトリクスリブが、上記誘電体層側から順に、上記ストッパー層およびリブ材料層を有することが好ましい。さらに容易にマトリクスリブを形成できるからである。
【００１９】
また、本発明においては、プラズマディスプレイパネル用背面板を製造するために用いられるブラスト装置であって、研削材をスリット状に噴射し、かつ、ブラストノズルの噴射方向と背面板形成用部材の平面方向とのなす角が、背面板形成用部材の横リブを選択的に切削できる選択的切削角度以下の角度となるブラストノズルを有することを特徴とするブラスト装置を提供する。
【００２０】
本発明によれば、特定の浅い角度からブラスト噴射を行うことができるブラストノズルを有することから、段差リブを容易に形成することができる。さらに、本発明に用いられるブラストノズルは、研削材をスリット状に噴射できるスリットノズルであるため、大面積を短時間で切削できるという利点を有する。
【００２１】
上記発明においては、上記ブラストノズルの噴射角度を調整する噴射角度調整手段をさらに備えることが好ましい。リブの材質や研削材の種類、マトリクスリブのピッチやサイズ等に応じて、ブラストノズルの角度を調整でき、所望の段差リブを形成することができるからである。
【００２２】
また、本発明においては、上述したブラスト装置と、背面板形成用部材を保持する保持装置と、を有し、上記ブラスト装置のブラストノズルおよび上記保持装置の少なくとも一方が、上記背面板形成用部材の縦リブに沿う方向と直交する方向または平行する方向に水平移動できる移動手段を有することを特徴とするプラズマディスプレイパネル用背面板の製造装置を提供する。
【００２３】
本発明によれば、ブラスト装置のブラストノズルおよび保持装置の少なくとも一方を移動させることにより、プラズマディスプレイパネル面内において、横リブを均一な形状に切削を行うことができる。
【００２４】
上記発明においては、上記ブラスト装置が、上記背面板形成用部材の縦リブに沿う方向の両方向について、一方の方向に研削材を噴射する吐出口を有する第一のブラストノズルと、他方の方向に研削材を噴射する吐出口を有する第二のブラストノズルとを有することが好ましい。均一な形状に切削を行うことができるからである。
【００２５】
上記発明においては、上記第一のブラストノズルの吐出口と、上記第二のブラストノズルの吐出口とが、互いに向き合うように配置され、上記第一のブラストノズルと上記第二のブラストノズルとが同じ往復運動をすることが好ましい。２つのブラストノズルを用いて順次ブラスト噴射を行うことで、プラズマディスプレイパネル面内において、横リブを均一な形状に切削を行うことができるからである。
【００２６】
上記発明においては、上記第一のブラストノズルの吐出口と、上記第二のブラストノズルの吐出口とが、互いに反対方向となるように配置され、上記第一のブラストノズルと上記第二のブラストノズルとが同じ往復運動をすることが好ましい。２つのブラストノズルの吐出口が反対方向を向いており、同時にブラスト噴射を行うことができるからである。
【発明の効果】
【００２７】
本発明においては、段差リブを有するＰＤＰ用背面板を簡便な方法で得ることができるという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下、本発明のＰＤＰ用背面板の製造方法、ブラスト装置、およびＰＤＰ用背面板の製造装置について詳細に説明する。
【００２９】
Ａ．ＰＤＰ用背面板の製造方法
まず、本発明のＰＤＰ用背面板の製造方法について説明する。本発明のＰＤＰ用背面板の製造方法は、基板と、上記基板上に形成されたパターン状のアドレス電極層と、上記アドレス電極層を覆うように形成された誘電体層と、上記誘電体層上に形成され、縦リブおよび横リブから構成されるマトリクスリブと、を有する背面板形成用部材を準備する背面板形成用部材準備工程と、上記背面板形成用部材の縦リブに沿う方向にブラスト噴射を行い、かつ、ブラストノズルの噴射方向と上記背面板形成用部材の平面方向とのなす角が、上記横リブを選択的に切削できる選択的切削角度以下の角度となるブラスト噴射を行うことにより、上記横リブが上記縦リブよりも低い段差リブを形成する段差リブ形成工程と、を有すことを特徴とするものである。
【００３０】
本発明によれば、背面板形成用部材の縦リブに沿う方向でブラスト噴射を行い、かつ、特定の浅い角度からブラスト噴射を行うことにより、横リブのみを選択的に切削することができ、段差リブを容易に形成することができる。従来のように、ドライフィルムレジスト（ＤＦＲ）のラミネート、製版、ブラストを２回行うことにより段差リブを形成する方法を用いると、上述したように、２回目のＤＦＲのラミネートの際には、リブの端部が欠ける問題、マトリクスリブの穴部にＤＦＲが落ち込む問題、ＤＦＲ剥離不良の問題、密着不良の問題等が生じ、２回目の露光の際には、アライメントの問題等が生じ、さらには２枚のＤＦＲを使うので、コストが高くなる問題が生じていた。これに対して、本発明においては、マトリクスリブを切削して段差リブとする際に、ＤＦＲを使用せず、ブラストを行うものであるため、上記の問題が一切発生しないという利点を有する。
【００３１】
次に、本発明のＰＤＰ用背面板の製造方法について図面を用いて説明する。図１は、本発明のＰＤＰ用背面板の製造方法の一例を示す斜視図である。なお、図１に示されるＰＤＰ用背面板等は、ＰＤＰ用背面板等の一部を模式的に表したものである。また、後述する図２〜図８および図１０〜図１４についても同様に、ＰＤＰ用背面板等の一部を模式的に表したものである。図１に示されるＰＤＰ用背面板の製造方法においては、まず図１（ａ）に示すように、基板１と、基板１上に形成されたパターン状のアドレス電極層２と、アドレス電極層２を覆うように形成された誘電体層３と、誘電体層３上に形成され、縦リブ４ｘおよび横リブ４ｙから構成されるマトリクスリブ４と、を有する背面板形成用部材１０を準備する。次に図１（ｂ）に示すように、背面板形成用部材の縦リブ４ｘに沿う方向でブラスト噴射５を行い、かつ、ブラストノズルの噴射方向と背面板形成用部材の平面方向とのなす角が、特定の角度以下の角度となるブラスト噴射５を行う。それにより、図１（ｃ）に示すように、横リブ４ｙが縦リブ４ｘよりも低い段差リブ４ａを形成する。この後に、通常、得られた段差リブを焼成し、さらに段差リブの内周面に蛍光体層を形成することにより、ＰＤＰ用背面板を得る。
【００３２】
図２は、本発明におけるブラストノズルの噴射方向を説明する概略断面図である。図２に示すように、本発明においては、ブラスト装置のブラストノズル６の噴射方向と、背面板形成用部材１０の平面方向のなす角θが、特定の角度（選択的切削角度）以下となるように切削を行う。なお、ブラストノズルの噴射方向とは、研削材がある程度幅をもって噴射されている場合は、その中心方向をいう。また、本発明においては、背面板形成用部材１０の縦リブ４ｘに沿う方向でブラスト噴射を行うことにより、横リブ（図示せず）を選択的に切削する。
【００３３】
本発明においては、縦リブは切削せず、横リブのみを選択的に切削するが、これは縦リブと横リブで研削材の入射する角度が異なる事、また研削材がリブに衝突する単位面積当たりの密度が異なるためであると推察される。横リブ部分には研削材がほぼ垂直に衝突するのに対し、縦リブ部分には表面に対して極めて浅い角度で研削材が衝突するため、研削材の速度成分のうち基板に垂直な成分は、その１／１０以下であり、リブ材に対して与える衝突エネルギーは極めて小さい。
【００３４】
また、気流中に同一密度の研削材が飛翔しているところにリブ材を入れた場合、その角度によってリブ材単位面積あたりに衝突する研削材の数が変化する。気流中に垂直に基板を立てた場合に比べ、気流の方向を基板とのなす角度を５°まで倒すと、研削材の衝突確率は１／１０以下に下がる。
【００３５】
また、縦リブの表面は形状がフラットであるため、この縦リブに向かって入射してくる研削材に対しては水面効果が働き、基板と垂直方向の速度がさらに弱められると考えられる。水面効果とは、飛行する物体が水面（地面）の近傍を通過する際に、大きな揚力が生じる現象をいう。水面効果の具体例としては、例えば、海面の極近傍を飛行する飛行機には大きな揚力が生じる現象等を挙げることができる。
【００３６】
本発明におけるブラストは、これらの効果を利用したものであると考えられる。すなわち、比較的浅い角度からブラスト噴射を行うことで、研削材の流れ方向と平行な縦リブについては、研削材の入射角度が浅くなり衝突のエネルギーが大幅に弱められる事、また研削材の単位面積当たりの衝突個数が大幅に少なくなる事、更には水面効果の影響により研削材に大きな揚力が生じ、切削が生じにくくなる事が起きる。これに対して、研削材の流れ方向と垂直な横リブについては、水面効果の影響により研削材に大きな揚力が生じたとしても、研削材がほぼ垂直方向からダイレクトに衝突するため、切削が生じる結果となる。これにより、本発明においては、異方的なブラストを行うことができるのである。
【００３７】
なお、本発明における縦リブおよび横リブの規定は便宜的なものであり、交差するリブの一方を縦リブとした場合に、他方のリブを横リブとすることができる。また、段差リブを形成する前のマトリクスリブにおける縦リブおよび横リブの高さは、通常同一である。
【００３８】
本発明における「選択的切削角度」とは、縦リブに沿う方向でブラスト噴射を行った場合に、研削材の流れと平行な縦リブ方向は切削されず、研削材の流れと垂直な横リブ方向は切削される角度をいう。選択的切削角度は、用いられるマトリクスリブのピッチやサイズおよび研削材の種類やブラスト条件により異なるものである。本発明においては、「選択的切削角度」を以下の試験により算出する。すなわち、実際に用いられる背面板形成用部材および研削材を用意し、さらに、ブラストノズルとして、開口径５〜１０ｍｍ程度の円形ノズルを用意し、ブラストノズルの吐出口と背面板形成用部材における研削材の接触地点との距離を１００〜２００ｍｍ程度とし、ブラスト圧力を１．０ｋｇｆ／ｃｍ２程度とし、所望の段差量が得られる程度にブラストする試験を行う。ブラストノズルの角度を変化させた試験を複数回行い、得られた背面板のマトリクスリブを、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察し、縦リブが切削された状態を評価することにより、選択的切削角度を決定する。
【００３９】
上記選択的切削角度としては、用いられるマトリクスリブおよび研削材等の種類やブラスト条件により異なるものであるが、具体的には、１０°以下、中でも８°以下、特に５°以下であることが好ましい。また、上記選択的切削角度は０°であっても良い。背面板形成用部材の平面方向と平行に、研削材を噴射した場合であっても、気流や重力等の影響により、横リブのみを選択的に切削することが可能だからである。
以下、本発明のＰＤＰ用背面板の製造方法について、工程ごとに説明する。
【００４０】
１．背面板形成用部材準備工程
まず、本発明における背面板形成用部材準備工程について説明する。本発明における背面板形成用部材準備工程は、基板と、上記基板上に形成されたパターン状のアドレス電極層と、上記アドレス電極層を覆うように形成された誘電体層と、上記誘電体層上に形成され、縦リブおよび横リブから構成されるマトリクスリブと、を有する背面板形成用部材を準備する工程である。
【００４１】
なお、上記マトリクスリブは、後述するように、例えばガラスペースト等により形成することができるが、背面板形成用部材のマトリクスリブは、通常、焼成前の材料を用いて形成されている。その後に行われる段差リブ形成工程において、横リブの切削が容易だからである。通常は、横リブを切削し段差リブを形成した後に、焼成工程を行う。ただし、横リブの切削に支障がでない範囲であれば、上記マトリクスリブは、半焼成の材料を用いて形成されていても良い。
【００４２】
本発明における背面板形成用部材準備工程としては、段差リブを形成することが可能なマトリクスリブを有する背面板形成用部材を準備することができる工程であれば特に限定されるものではない。本発明において、通常、背面板形成用部材準備工程は、基板上にパターン状のアドレス電極層を形成するアドレス電極層形成工程と、上記アドレス電極層を覆うように誘電体層を形成する誘電体層形成工程と、上記誘電体層上にリブ層（全面リブ材料層と称する場合もある。）を形成し、上記リブ層を加工することにより、縦リブおよび横リブから構成されるマトリクスリブを形成するマトリクスリブ形成工程と、を有する。
【００４３】
図３は、本発明における背面板形成用部材準備工程の一例を示す斜視図である。より具体的には、マトリクスリブ形成工程の際にブラスト法を用いた場合の斜視図である。図３に示される背面板形成用部材準備工程においては、まず、基板１上にパターン状のアドレス電極層２を形成するアドレス電極層形成工程と（図３（ａ））、アドレス電極層２を覆うように誘電体層３を形成する誘電体層形成工程と（図３（ｂ））と、を行う。次に、マトリクスリブ形成工程として、誘電体層３上全面にリブ層４ｂを形成するリブ層形成処理と（図３（ｃ））、リブ層４ｂの全面にドライフィルムレジスト層７を形成し（図３（ｄ））、ドライフィルムレジスト層７を露光現像することにより、縦横のパターン状のドライフィルムレジストパターン７ａを形成するドライフィルムレジストパターン形成処理と（図３（ｅ））、ドライフィルムレジストパターン７ａをリブ層４ｂに転写するように、リブ材表面に対して略垂直な向きからブラスト加工するブラスト加工処理と（図３（ｆ））、ブラスト加工処理後に、ドライフィルムレジストパターン７ａを剥離する剥離処理と（図３（ｇ））、を行う。これにより、図３（ｇ）に示されるように、縦リブ４ｘおよび横リブ４ｙから構成されるマトリクスリブ４を有する背面板形成用部材が得られる。
以下、背面板形成用部材準備工程を構成する上記の各工程について詳細に説明する。
【００４４】
（１）アドレス電極層形成工程
まず、本発明におけるアドレス電極層形成工程について説明する。本発明におけるアドレス電極層形成工程は、基板上にパターン状のアドレス電極層を形成する工程である。
【００４５】
本発明に用いられる基板の材料としては、所定の耐熱性を有するものであれば特に限定されるものではなく、一般的なＰＤＰ用背面板に用いられる基板の材料と同様のものを使用することができる。具体的には、ガラス等を挙げることができ、中でも、誘電体やリブ材の焼成時等に生じるひずみが小さいガラスが好ましく、具体的には高歪点ガラスが好ましい。
【００４６】
本発明に用いられるアドレス電極層の材料としては、導電性を有するものであれば特に限定されるものではなく、一般的なＰＤＰ用背面板に用いられるアドレス電極層の材料と同様のものを使用することができる。具体的には、Ａｇ等の金属を挙げることができる。また、本発明に用いられるアドレス電極層は、金属薄膜を積層したものであっても良く、具体的には、Ｃｒ／Ｃｕ／Ｃｒ等の３層の金属薄膜を有するもの等を挙げることができる。
【００４７】
基板上にパターン状のアドレス電極層を形成する方法としては、例えばフォトペースト法、薄膜法および印刷法等を挙げることができ、中でもフォトペースト法および印刷法が好ましく、特に印刷法が好ましい。上記印刷法としては、具体的には、Ａｇペーストを、スクリーン版を用いて電極パターン状に印刷し、乾燥を行った後に、焼成することで所望の電極を得る方法を挙げることができる。上記フォトペースト法としては、具体的には、感光性樹脂を含有するＡｇペーストをスクリーン印刷法で基板全面に塗布し、乾燥させ、次に所定のパターンで露光、現像を行い、最後に焼成する方法等を挙げることができる。一方、上記薄膜法としては、具体的には、スパッタリング法で基板全面にＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒの３層の金属薄膜を形成し、その金属薄膜の最表層にレジストを塗布し乾燥させ、次に所定のパターンで露光、現像を行い、露出した金属薄膜をエッチングし、最後にレジストを剥離する方法等を挙げることができる。
【００４８】
（２）誘電体層形成工程
次に、本発明における誘電体層形成工程について説明する。本発明における誘電体層形成工程は、上記アドレス電極層を覆うように誘電体層を形成する工程である。
【００４９】
本発明に用いられる誘電体層の材料としては、所望の誘電率を有するものであれば特に限定されるものではなく、一般的なＰＤＰ用背面板に用いられる誘電体層の材料と同様のものを使用することができる。
【００５０】
誘電体層を形成する方法としては、例えばスクリーン印刷法等を挙げることができる。本発明においては、上記誘電体層を形成した後に、通常、乾燥を行うが、必要に応じて、さらに誘電体層の焼成を行っても良い。
【００５１】
（３）マトリクスリブ形成工程
次に、本発明におけるマトリクスリブ形成工程について説明する。上記誘電体層上にリブ層を形成し、上記リブ層を加工することにより、縦リブおよび横リブから構成されるマトリクスリブを形成する工程である。
【００５２】
マトリクスリブを形成する方法としては、所望のマトリクスリブを得ることができる方法であれば特に限定されるものではないが、例えばブラスト法、フォトペースト法およびエッチング法等を挙げることができ、中でもブラスト法が好ましい。
【００５３】
マトリクスリブを形成する方法がブラスト法である場合、マトリクスリブ形成工程は、通常、以下の処理を有する。すなわち、マトリクスリブ形成工程は、上記誘電体層上にリブ層を形成するリブ層形成処理と、上記リブ層上にドライフィルムレジスト層を形成し、上記ドライフィルムレジスト層を露光現像することにより、パターン状のドライフィルムレジストパターンを形成するドライフィルムレジスト層処理と、上記ドライフィルムレジストパターンを上記リブ層に転写するように背面板形成用基板平面の略垂直方向からブラスト加工するブラスト加工処理と、ブラスト加工処理後に、上記ドライフィルムレジストパターンを剥離する剥離処理と、を有する。上記の各処理については、上記図３で説明した内容と同様であり、一般的なＰＤＰ用背面板において行われる処理と同様であるので、ここでの説明は省略する。
【００５４】
マトリクスリブを形成する方法がブラスト法である場合、リブ材料層形成用材料として、例えばガラスペースト等が用いられる。上記ガラスペーストは、通常、ＢｉＯ２、ＺｎＯ、Ｂ２Ｏ３等の平均粒径３μｍ程度のガラスフリット、さらにはＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３等の無機成分、またペーストにするための樹脂成分および溶剤を含有する。
【００５５】
上記樹脂成分としては、具体的には、エチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース、ニトロセルロース等のセルロース誘導体、ポリアクリルエステル、アルキッド樹脂等のポリエステル系樹脂、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、ビニル酢酸、メチルメタクリレート、メチルアクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、プロピルアクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、２−ヘキシルアクリレート、ラウリルメタクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルメタクリレート、ステアリルアクリレート、ドデシルメタクリレート、ドデシルアクリレート、ヘキシルメタクリレート、ヘキシルアクリレート、オクチルメタクリレート、オクチルアクリレート、セチルメタクリレート、セチルアクリレート、ノニルメタクリレート、ノニルアクリレート、デシルメタクリレート、デシルアクリレート、シクロシキシルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート、グリシジルメタクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、２−メトキシアクリレート、２（２−エトキシエトキシ）エチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、ダイアセトンアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、イソプロピルアクリルアミド、ジエチルアミノエチルメタクリレート、ｔ−ブチルメタクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、α−メチルスチレン、スチレン、ビニルトルエン、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン等のモノマーからなるホモポリマーおよび上記モノマーから選択された２種以上のモノマーからなる共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−メタクリル酸共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体等のポリオレフィン系樹脂、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール等を挙げることができる。
【００５６】
上記溶剤としては、具体的には、α−、β−、γ−テルピネオールのようなテルペン類、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、エチレングリコールジアルキルエーテル類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテル類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、エチレングリコールジアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールジアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールジアルキルエーテルアセテート類、メタノール、エタノール、イソプロパノール、２−エチルヘキサノール、１−ブトキシ−２−プロパノール等のアルコール類等を挙げることができる。また、これらを単独または２種類以上を混合して使用しても良い。
【００５７】
（４）背面板形成用部材
次に、本発明に用いられる背面板形成用部材について説明する。本発明に用いられる背面板形成用部材は、基板と、上記基板上に形成されたパターン状のアドレス電極層と、上記アドレス電極層を覆うように形成された誘電体層と、上記誘電体層上に形成され、縦リブおよび横リブから構成されるマトリクスリブと、を有する。
【００５８】
縦（横）リブの頂部幅としては、ＰＤＰ用背面板の用途等により異なるものであるが、例えば３０μｍ〜１２０μｍの範囲内、中でも５０μｍ〜８０μｍの範囲内であることが好ましい。隣接する縦（横）リブの間隔としては、ＰＤＰ用背面板の用途等により異なるものであるが、例えば１２０μｍ〜５００μｍの範囲内、中でも１６０μｍ〜３００μｍの範囲内であることが好ましい。
【００５９】
上述したように、段差リブを形成する前のマトリクスリブにおける縦リブおよび横リブの高さは、通常同一である。縦（横）リブの高さとしては、一般的なＰＤＰ用背面板のリブの高さと同様であるが、例えば１００μｍ〜３００μｍの範囲内、中でも１２０μｍ〜１６０μｍの範囲内であることが好ましい。
【００６０】
また、本発明においては、マトリクスリブが、段差リブの横リブの高さを規定するストッパー層を有することが好ましい。段差リブの横リブの高さを、横リブ中央部と縦リブに接する横リブ端部とで、容易に均一化することができるからである。さらに、段差リブの横リブの高さを、ＰＤＰ用背面板の面内全体で容易に均一化することもできる。また、本発明においては、マトリクスリブが、リブ材料層よりもブラストレートの小さいストッパー層を有することが好ましい。上記と同様に、段差リブの横リブの高さを均一化することができるからである。本発明におけるマトリクスリブは、後述するように、ブラストレートが異なる複数のリブ材料層を有する場合がある。この際、上記の「リブ材料層よりもブラストレートの小さい」とは、複数のリブ材料層の中で最もブラストレートが小さいリブ材料層よりもブラストレートが小さいことを意味する。
【００６１】
次に、ストッパー層を設けることの効果の一つである、横リブ中央部と縦リブに接する横リブ端部とで、横リブの高さを容易に均一化することができる点について、ストッパー層を有しないマトリクスリブを用いた場合と、ストッパー層を有するマトリクスリブを用いた場合とを比較して説明する。図４は、ストッパー層を有しないマトリクスリブに対して、ブラスト噴射を行うことを説明する斜視図である。なお、便宜上、マトリクスリブ以外の背面板形成用部材の構成部材は省略する（後述する図５〜図８においても同様である）。図４（ａ）に示すように、ストッパー層を有しないマトリクスリブ４（縦リブ４ｘ、横リブ４ｙ）を備えた背面板形成用部材を用意し、図４（ｂ）に示すように、縦リブ４ｘに沿う方向であって、かつ、特定の浅い角度からブラスト噴射５を行うと、図４（ｃ）に示すように、横リブ４ｙが縦リブ４ｘよりも低い段差リブ４ａが得られる。この際、マトリクスリブは、ストッパー層を有さず、ガラスペースト等から構成されているため、段差リブにおける横リブの高さは、ブラスト噴射の条件によって大きな影響を受ける。図５は、図４（ｃ）のＡ−Ａ断面図であり、本発明のように縦リブ４ｘに沿う方向でブラスト噴射を行うと、２つの縦リブ４ｘの中央に位置する横リブ４ｙの領域（領域Ｐ）が、縦リブ４ｘに接する部分（端部）に位置する横リブの領域（領域Ｑ）よりも多く研削される場合がある。この現象の推定メカニズムとしては、領域Ｐを通過する研削材の量が、領域Ｑを通過する研削材と比較して多いこと、および領域Ｐを通過する研削材の運動エネルギーが領域Ｑを通過する研削材の運動エネルギーに比べて高いこと等が考えられる。その結果、段差リブにおける横リブの高さの均一化が難しくなる場合がある。
【００６２】
これに対して、マトリクスリブにストッパー層を設けることにより、段差リブの横リブの高さを容易に均一化することができる。図６は、ストッパー層を有するマトリクスリブに対して、ブラスト噴射を行うことを説明する斜視図である。図６（ａ）に示すように、誘電体層側から順に、第一リブ材料層３１ａ、ストッパー層３２および第二リブ材料層３１ｂを有するマトリクスリブ４（縦リブ４ｘ、横リブ４ｙ）を備えた背面板形成用部材を用意し、図６（ｂ）に示すように、縦リブ４ｘに沿う方向であって、かつ、特定の浅い角度からブラスト噴射５を行うと、図６（ｃ）に示すように、横リブ４ｙが縦リブ４ｘよりも低い段差リブ４ａが得られる。この際、ストッパー層３２は、通常、第二リブ材料層３１ｂよりも研削されにくい性質を有するため、段差リブにおける横リブの高さは、ブラスト噴射の条件によってほとんど影響を受けない。図７は、図６（ｃ）のＡ−Ａ断面図であり、本発明のように縦リブ４ｘに沿う方向でブラスト噴射を行った場合であっても、２つの縦リブ４ｘの中央に位置する横リブ４ｙの領域（領域Ｐ）と、縦リブ４ｘに接する部分（端部）に位置する横リブの領域（領域Ｑ）とで、横リブ４ｙの高さが均一になる。
【００６３】
次に、ストッパー層を設けることの別の効果として、ＰＤＰ用背面板の面内全体で、横リブの高さを容易に均一化することができる点について説明する。例えば、ストッパー層を有しないマトリクスリブを用いて、所定の角度からブラスト噴射を行うと、乾燥状態に起因するリブ材料層の硬さの場所的不均一、ブラスト噴射の気流の影響、研削材噴出量の時間的不均一、ブラスト噴射のオーバーラップに伴うムラの発生等により、ＰＤＰ背面板の面内で、横リブの高さが不均一になる現象が発生する場合がある。さらに、これらの影響は、実際の量産プロセスで顕著に生じる可能性がある。これに対して、ストッパー層を設けることで、横リブの高さを物理的に規定することができ、上記の不具合を抑制することができるのである。
【００６４】
次に、本発明に用いられるストッパー層の材料および構成について説明する。本発明に用いられるストッパー層は、通常、ストッパー層形成用材料を塗布することにより形成する。ストッパー層形成用材料の組成は、目的とするストッパー層の形成方法によって異なるものであるが、通常は少なくともブラスト抑制材料を含有する。上記ブラスト抑制材料としては、ブラストレートを低くすることができるものであれば特に限定されるものではないが、例えば樹脂（ブラスト抑制樹脂）を挙げることができる。ブラスト抑制樹脂は、感光性樹脂および非感光性樹脂のいずれであっても良いが、通常は非感光性樹脂が用いられる。上記非感光性樹脂としては、例えばアクリル系、エチルセルロース等を挙げることができる。
【００６５】
ストッパー層形成用材料がブラスト抑制材料のみからなる場合、ブラスト抑制材料の性質に応じた複数のストッパー層形成方法がある。ブラスト抑制材料がリブ材料層に浸透する性質を有する場合は、ブラスト抑制材料をリブ材料層に塗布し、ブラスト抑制材料の一部または全部を浸透させることにより、リブ材料層の一部にストッパー層を形成することができる。一方、ブラスト抑制材料がリブ材料層に浸透しない性質を有する場合は、ブラスト抑制材料をリブ材料層に塗布することにより、ブラスト抑制材料のみからなるストッパー層を形成することができる。
【００６６】
ストッパー層形成用材料は、ブラスト抑制材料の他に、ガラスフリットを含有していることが好ましい。ストッパー層形成用材料に含まれるガラスフリットが焼成時に溶融し、リブ材料層との結合をより強固にすることができるからである。さらに、上記ストッパー層形成用材料は、無機成分からなるフィラー等を含有していても良い。なお、ガラスフリット、および無機成分からなるフィラー等については、上述したリブ材料層形成用材料に用いられるものと同様の材料を用いることができる。本発明においては、上述したリブ材料層形成用材料と同様の材料であって、リブ材料層を形成するために用いられるリブ材料層形成用材料と比較して、樹脂成分の割合が多いリブ材料層形成用材料を、ストッパー層形成用材料として用いることもできる。また、本発明においては、ブラスト抑制材料およびガラスフリット等を含有するストッパー層形成用材料を、誘電体層上に塗布し、ストッパー層を形成しても良い。このような場合、例えば後述する２層構造のマトリクスリブを得ることができる。
【００６７】
ストッパー層形成用材料に用いられる溶剤としては、特に限定されるものではないが、例えば上述したリブ材料層形成用材料の溶剤と同様のものを用いることができる。
【００６８】
上記ストッパー層が、ガラスフリット等とブラスト抑制材料とから構成されるものである場合、ストッパー層に含まれるブラスト抑制材料の割合は、通常２重量％〜３０重量％の範囲内であり、中でも５重量％〜１５重量％の範囲内であることが好ましい。ブラスト抑制材料の割合が高すぎると、焼成後の段差リブの強度が低くなる可能性があり、ブラスト抑制材料の割合が低すぎると、充分な耐ブラスト性を発揮することができない可能性があるからである。
【００６９】
次に、本発明に用いられるストッパー層の特性について説明する。本発明に用いられるストッパー層は、マトリクスリブを構成する層の一つであって、段差リブの横リブの高さを規定するものである。そのため、通常はブラスト噴射を行う際に露出するマトリクスリブの最表面に、リブ材料層（最表面リブ材料層）が形成される。
【００７０】
本発明において、ストッパー層のブラストレートは、通常、最表面リブ材料層のブラストレートよりも小さい。本発明における「ブラストレート」とは、単位時間当たりの研削深さをいい、「ブラストレート比」とは、ブラスト噴射の条件が同一である場合のブラストレートの比をいう。ここで、ストッパー層のブラストレートをＢＲｓとし、最表面リブ材料層のブラストレートをＢＲｒとした場合、ＢＲｒ／ＢＲｓは、例えば２以上、中でも５〜１５の範囲内であることが好ましい。上記のブラストレート比が小さすぎると、段差リブの横リブの均一化を充分に図ることができない可能性があり、上記のブラストレート比が大きすぎると、効果に変化が見られない可能性があるからである。
【００７１】
次に、ストッパー層を有するマトリクスリブの構成について説明する。このようなマトリクスリブは、上述したように、通常ストッパー層および最表面リブ材料層を有する。本発明において、マトリクスリブにおけるストッパー層の位置は、段差リブの横リブの高さを規定することができれば特に限定されるものではない。
【００７２】
ストッパー層を有するマトリクスリブの一例としては、誘電体層側から順に、第一リブ材料層、ストッパー層および第二リブ材料層を有するものを挙げることができる。このような構成にすることにより、ストッパー層の厚さを必要最低限にすることができ、サイドエッチによって、ストッパー層上に形成された第二リブ材料層が過度に研削されることを抑制することができる。また、ストッパー層の厚さを必要最低限とすることで、マトリクスリブを形成する際に、ブラスト加工に要する時間を短縮することができる。この時間の短縮は、実際の量産プロセスにおいて特に有効であり、結果として大幅なコスト低減を図ることができる。このようなマトリクスリブとしては、具体的には、図８（ａ）に示すように、誘電体層側から、第一リブ材料層３１ａ、ストッパー層３２および第二リブ材料層３１ｂを有するものを挙げることができる。この場合、第二リブ材料層３１ｂが、上述した最表面リブ材料層になる。
【００７３】
この３層構造のマトリクスリブにおいては、第二リブ材料層のブラストレートが、第一リブ材料層のブラストレートよりも小さいことが好ましい。マトリクスリブを形成する際に、サイドエッチにより第二リブ材料層が第一リブ材料層と比較して過度に研削されることを抑制できるからである。サイドエッチが生じる理由について、上述した図３に示した場合と同様に、誘電体層上に、全面第一リブ材料層、全面ストッパー層および全面第二リブ材料層をこの順に形成し、略垂直方向からブラスト加工することでマトリクスリブを形成する場合を用いて説明すると、ブラスト加工の際に、研削材はリブ材料層に衝突し、その後リブ材料層から外に出て行くが、その際、研削されにくいストッパー層と、研削されやすい第二リブ材料層とが存在するため、研削材がストッパー層に衝突した時にはあまり研削されず、研削材がリブ材料層から外に出て行く時には第二リブ材料層が研削される。その結果、第二リブ材料層はサイドエッチされやすい状態になると考えられる。これに対して、第二リブ材料層を、第一リブ材料層よりも研削しにくくすることによって、サイドエッチにより第二リブ材料層が過度に研削されることを抑制でき、縦リブの幅方向の形状の均一性が向上する。ここで、第一リブ材料層のブラストレートをＢＲａ、第二リブ材料層のブラストレートをＢＲｂとした場合、ＢＲａ／ＢＲｂは、例えば１．５以上、中でも２〜６の範囲内であることが好ましい。上記の範囲であれば、サイドエッチにより第二リブ材料層が第一リブ材料層と比較して過度に研削されることを充分に抑制できるからである。なお、ブラストレートの定義等については、上述した内容と同様である。
【００７４】
上記の３層構造のマトリクスリブにおいて、乾燥後におけるストッパー層の膜厚は、ストッパー層の構成成分等により異なるものであるが、通常３０μｍ以下であり、中でも３μｍ〜２０μｍの範囲内、特に３μｍ〜１０μｍの範囲内であることが好ましい。また、第一リブ材料層およびストッパー層の膜厚の和は、段差リブの横リブの高さを決定する要因となるため、目的とする段差リブの形状に応じて適宜選択することが好ましい。
【００７５】
一方、ストッパー層を有するマトリクスリブの別の例としては、誘電体層側から順に、ストッパー層およびリブ材料層を有するものを挙げることができる。このような構成のマトリクスリブは、上述した３層構造のマトリクスリブと比較して、リブ材料層形成用材料の塗布回数を少なくすることができ、工程の簡略化を図ることができるという利点を有する。また、特に横リブの高さが低い段差リブを形成する場合には、このような構成のマトリクスリブが適している。このようなマトリクスリブとしては、具体的には、図８（ｂ）に示すように、誘電体層側から、ストッパー層３２およびリブ材料層３１を有するものを挙げることができる。この場合、リブ材料層３１が、上述した最表面リブ材料層になる。
【００７６】
この２層構造のマトリクスリブにおいては、ストッパー層が、リブ材料層形成用材料と同様の材料であって、そのリブ材料層形成用材料と比較して、樹脂成分の割合が多い材料を用いて形成されていることが好ましい。
【００７７】
上記の２層構造のマトリクスリブにおいて、乾燥後におけるストッパー層の膜厚は、ストッパー層の構成成分等により異なるものであるが、通常１０μｍ〜８０μｍの範囲内、中でも３０μｍ〜５０μｍの範囲内であることが好ましい。また、ストッパー層の膜厚は、段差リブの横リブの高さを決定する要因となるため、目的とする段差リブの形状に応じて適宜選択することが好ましい。
【００７８】
本発明において、ストッパー層を有するマトリクスリブを形成する方法は、特に限定されるものではない。例えば、上記の３層構造のマトリクスリブを形成する場合は、上述した図３に示した場合と同様に、誘電体層上に、全面第一リブ材料層、全面ストッパー層および全面第二リブ材料層をこの順に形成し、略垂直方向からブラスト加工する方法を挙げることができる。一方、上記の２層構造のマトリクスリブを形成する場合は、上述した図３に示した場合と同様に、誘電体層上に、全面ストッパー層および全面リブ材料層をこの順に形成し、略垂直方向からブラスト加工する方法を挙げることができる。
【００７９】
２．段差リブ形成工程
次に、本発明における段差リブ形成工程について説明する。本発明における段差リブ形成工程は、上記背面板形成用部材の縦リブに沿う方向でブラスト噴射を行い、かつ、ブラストノズルの噴射方向と上記背面板形成用部材の平面方向とのなす角が、上記横リブを選択的に切削できる選択的切削角度以下の角度となるブラスト噴射を行うことにより、上記横リブが上記縦リブよりも低い段差リブを形成する工程である。
なお、ブラストノズルの噴射方向と上記背面板形成用部材の平面方向とのなす角については、既に説明しているので、ここでの説明は省略する。
【００８０】
ブラストに用いられる研削材の材料としては、段差リブを形成することができるものであれば特に限定されるものではないが、例えばダイアモンド、アルミナ、炭化シリコン、炭酸カルシウム、ガラスビーズ、ステンレス等を挙げることができる。上記研削材の粒径としては、例えば３μｍ〜５０μｍの範囲内、中でも７μｍ〜２０μｍの範囲内であることが好ましい。
【００８１】
本発明においては、ブラストノズルから吐出された研削材が、直線的に背面板形成用部材に接触することが好ましい。研削材のブラスト圧力としては、例えば０．１ｋｇｆ／ｃｍ２〜３．０ｋｇｆ／ｃｍ２の範囲内、中でも０．５ｋｇｆ／ｃｍ２〜１．０ｋｇｆ／ｃｍ２の範囲内であることが好ましい。上記研削材の噴射量としては、例えば１００ｇ／ｍｉｎ〜２０００ｇ／ｍｉｎの範囲内、中でも２５０ｇ／ｍｉｎ〜５００ｇ／ｍｉｎの範囲内であることが好ましい。
【００８２】
ブラストノズルの吐出口の形状としては、マトリクスリブを形成することができれば特に限定されるものではないが、例えばスリット状、円状、楕円状および多角形状等を挙げることができ、中でもスリット状が好ましい。広い面積において均一に、かつ効率良く切削を行うことができるからである。上記吐出口の形状がスリット状である場合、そのスリット幅としては、特に限定されるものではないが、例えば５０μｍ〜５０００μｍの範囲内、中でも１００μｍ〜１０００μｍの範囲内であることが好ましい。
【００８３】
ブラストノズルの吐出口と、背面板形成用部材における研削材の接触地点と、の距離としては、例えば５０ｍｍ〜３００ｍｍの範囲内、中でも１００ｍｍ〜１５０ｍｍの範囲内であることが好ましい。
【００８４】
次に、本発明における段差リブの形成方法について説明する。本発明においては、背面板形成用部材の縦リブに沿う方向で、かつ、ブラストノズルの噴射方向と背面板形成用部材の平面方向とのなす角が特定の角度となるようなブラスト噴射を行う。本発明におけるブラスト噴射の方法としては、所望の段差リブを形成することができる方法であれば特に限定されるものではないが、中でも、大面積で切削可能な方法であることが好ましい。効率良く段差リブを形成することができるからである。
【００８５】
大面積で切削可能な方法としては、例えば、スリットノズルを用いる方法、および円形ノズルを複数並べて用いる方法等を挙げることができる。スリットノズルを用いる方法の場合は、具体的には図９（ａ）に示すように、吐出口の形状がスリット状のノズル６を用いることで、大面積の切削が可能である。一方、円形ノズルを複数並べて用いる方法の場合は、具体的には図９（ｂ）に示すように、吐出口の形状が円形のノズル６を複数並べて用いることで、大面積の切削が可能となる。
【００８６】
本発明においては、背面板形成用部材の縦リブに沿う方向にブラスト噴射を行う。本発明においては、背面板形成用部材の縦リブに沿う方向の一方向にブラスト噴射を行う方法であっても良く、背面板形成用部材の縦リブに沿う方向の両方向にブラスト噴射を行う方法であっても良いが、中でも本発明においては、背面板形成用部材の縦リブに沿う方向の両方向にブラスト噴射を行う方法であることが好ましい。均一な形状に切削を行うことができるからである。背面板形成用部材の縦リブに沿う方向の両方向にブラスト噴射を行う方法としては、例えば、図１０（ａ）に示すように、背面板形成用部材１０の縦リブ４ｘに沿う方向で、互いの吐出口が向き合うようにブラストノズル６を配置し、互いの噴射を妨げないように順次ブラスト噴射を行う方法、および、図１０（ｂ）に示すように、背面板形成用部材１０の縦リブ４ｘに沿う方向で、互いの吐出口が反対方向となるようにブラストノズル６を配置し、ブラスト噴射を行う方法等を挙げることができる。また、本発明においては、ブラスト噴射を行う方法が、互いに向き合うように配置されているブラストノズルを、入れ子に配置して互いの噴射を妨げないようにして同時にブラスト噴射を行う方法であっても良い。
【００８７】
本発明においては、ブラストノズルおよび背面板形成用部材の少なくとも一方を移動させながらブラスト噴射を行うことが好ましい。均一な段差リブを得ることができるからである。移動方向としては、背面板形成用部材の縦リブに沿う方向にブラスト噴射できる方向であれば特に限定されるものではない。中でも本発明においては、例えば、図１１（ａ）に示すように、ブラストノズル６および背面板形成用部材１０の少なくとも一方が、縦リブ４ｘに沿う方向と直交する方向に水平移動すること、図１１（ｂ）に示すように、ブラストノズル６および背面板形成用部材１０の少なくとも一方が、縦リブ４ｘに沿う方向と平行する方向に水平移動することが好ましい。また、本発明においては、図１１（ｃ）に示すようにブラストノズル６を高速で揺動させながら、背面板形成用部材１０を低速で一方向（方向Ａ）に送りブラストを行うことが望ましい。ブラストノズルが１往復する間に背面板形成用部材が送られる量をブラストノズルの噴射幅より十分小さくしておけば、背面板形成用部材内の同一箇所をノズルが複数回通過するので、ブラストされるエリアが常にオーバーラップするようにブラスト噴射を行うことができ、より均一な形状に切削を行うことができるからである。すなわち、本発明においては、ブラストノズルが背面板形成用部材の縦リブに沿う方向に水平移動し、かつ背面板形成用部材が縦リブに沿う方向とは直交する方向に水平移動しながら、ブラスト噴射を行うことが好ましい。
【００８８】
３．その他の工程
本発明においては、通常、上記段差リブ形成工程後に、上記段差リブを焼成する焼成工程を行う。焼成温度、焼成時間および焼成方法等の条件については、一般的なＰＤＰ用背面板における条件と同様であるので、ここでの説明は省略する。さらに、本発明においては、通常、上記焼成工程後に、上記段差リブの内周面に蛍光体層を形成する蛍光体層形成工程を行う。上記蛍光体層を形成する方法としては、例えばスクリーン印刷法およびディスペンス法等を挙げることができる。また、本発明においては、上述した各工程の後に、表面を洗浄する洗浄工程を行っても良い。
【００８９】
Ｂ．ブラスト装置
次に、本発明のブラスト装置について説明する。本発明のブラスト装置は、プラズマディスプレイパネル用背面板を製造するために用いられるブラスト装置であって、研削材をスリット状に噴射し、かつ、ブラストノズルの噴射方向と背面板形成用部材の平面方向とのなす角が、背面板形成用部材の横リブを選択的に切削できる選択的切削角度以下の角度となるブラストノズルを有することを特徴とするものである。
【００９０】
本発明によれば、特定の浅い角度からブラスト噴射を行うことができるブラストノズルを有することから、段差リブを容易に形成することができる。さらに、本発明に用いられるブラストノズルは、研削材をスリット状に噴射できるスリットノズルであるため、大面積を短時間で切削できるという利点を有する。
【００９１】
本発明に用いられるブラストノズルは、研削材をスリット状に噴射するスリットノズルである。スリットノズルについては、上記「Ａ．ＰＤＰ用背面板の製造方法」に記載した内容と同様であるので、ここでの説明は省略する。また、本発明における、背面板形成用部材および選択的切削角度等についても、上記「Ａ．ＰＤＰ用背面板の製造方法」に記載した内容と同様であるので、ここでの説明は省略する。また、本発明のブラスト装置は、ブラストノズル以外に、通常、研削材供給部や研削材加速部等を有するが、これらの部材については一般的なブラスト装置と同様である。
【００９２】
本発明のブラスト装置は、上記ブラストノズルの噴射角度を調整する噴射角度調整手段をさらに備えることが好ましい。リブの材質や研削材の種類、マトリクスリブのピッチやサイズ等に応じて、ブラストノズルの角度を調整でき、所望の段差リブを形成することができるからである。本発明のブラスト装置を用いてブラスト噴射を行う際、ブラストノズルの噴射角度は通常一定に保持される。そのため、上記噴射角度調整手段は、ブラストノズルを所定の角度に設定でき、かつその角度で保持できるものであれば特に限定されるものではない。上記噴射角度調整手段としては、具体的には、噴射角度を調整可能な固定用治具を用いる手段、所定の角度に削りだした楔状部材をノズル固定部の間に挟んで用いる手段、所定の噴射角度を有するブラストノズルに交換する手段等を挙げることができる。
【００９３】
Ｃ．ＰＤＰ用背面板の製造装置
次に、本発明のＰＤＰ用背面板の製造装置について説明する。本発明のＰＤＰ用背面板の製造装置は、上述したブラスト装置と、背面板形成用部材を保持する保持装置と、を有し、上記ブラスト装置のブラストノズルおよび上記保持装置の少なくとも一方が、上記背面板形成用部材の縦リブに沿う方向と直交する方向または平行する方向に水平移動できる移動手段を有することを特徴とするものである。
【００９４】
本発明によれば、ブラスト装置のブラストノズルおよび保持装置の少なくとも一方を移動させることにより、プラズマディスプレイパネル面内において、横リブを均一な形状に切削を行うことができる。
【００９５】
次に、本発明のＰＤＰ用背面板の製造装置について、図面を用いて説明する。図１２は、本発明のＰＤＰ用背面板の製造装置の一例を説明する説明図である。図１２に示されるＰＤＰ用背面板の製造装置は、研削材をスリット状に噴射でき、かつ、ブラストノズルの噴射方向と背面板形成用部材の平面方向とのなす角が、特定の角度以下の角度となるブラストノズル６を備えたブラスト装置と、背面板形成用部材１０を保持する保持装置１１と、を有し、ブラスト装置のブラストノズル６が、背面板形成用部材１０の縦リブ４ｘに沿う方向に水平移動できる移動手段を有し、かつ保持装置１１が、縦リブ４ｘに沿う方向と直交する方向に水平移動できる移動手段を有する。
【００９６】
本発明に用いられるブラスト装置については、上記「Ｂ．ブラスト装置」に記載した内容と同様であるので、ここでの説明は省略する。
【００９７】
本発明に用いられる保持装置は、背面板形成用部材を保持する装置である。本発明に用いられる保持装置は、背面板形成用部材を保持することができる装置であれば特に限定されるものではないが、通常、平板が用いられる。また、背面板形成用部材を保持する方法としては、具体的には、固定治具を用いて固定する方法、真空吸着させる方法等を挙げることができる。また、大型の基板を連続的に処理する場合には、基板が落下しない程度の一定の間隔を開けてローラーを設置し、このローラーを一定の速度で回転させて、ローラー上に基板を送る様にしても良い。なお、背面板形成用部材については、上記「Ａ．ＰＤＰ用背面板の製造方法」に記載した内容と同様であるので、ここでの説明は省略する。
【００９８】
本発明に用いられるブラスト装置は、背面板形成用部材の縦リブに沿う方向にブラスト噴射可能なブラストノズルを有する。上記ブラスト装置は少なくとも一つのブラストノズルを有していれば良いが、複数のブラストノズルを有していることが好ましい。効率良く切削することができるからである。中でも、本発明においては、上記ブラスト装置が、背面板形成用部材の縦リブに沿う方向の両方向について、一方の方向に研削材を噴射する吐出口を有する第一のブラストノズルと、他方の方向に研削材を噴射する吐出口を有する第二のブラストノズルとを有することが好ましい。背面板形成用部材の縦リブに沿う方向の両方向にブラスト噴射を行うことができ、効率良く切削することができるからである。
【００９９】
第一ブラストノズルおよび第二ブラストノズルの位置関係としては、特に限定されるものではないが、例えば、上記第一のブラストノズルの吐出口と、上記第二のブラストノズルの吐出口とが、互いに向き合うように配置されている場合等を挙げることができる。具体的には、既に説明した図１０（ａ）に示すように、背面板形成用部材１０の縦リブ４ｘに沿う方向で、互いの吐出口が向き合うようにブラストノズル６を配置したもの等を挙げることができる。この場合、通常、互いの噴射を妨げないように順次ブラスト噴射を行う。また、互いに向き合うように配置されているブラストノズルを、入れ子に配置して互いの噴射を妨げないようにしておき、同時にブラスト噴射を行っても良い。さらに本発明においては、第一のブラストノズルと第二のブラストノズルとが同じ往復運動をすることが好ましい。ブラストの効率を上げられるとともに、また、ブラストを行う方向を２方向にする事で、横リブの研削形状を対称な形にする事が出来るので、ブラストに起因するムラを低減する事が出来るからである。
【０１００】
第一ブラストノズルおよび第二ブラストノズルの位置関係の別の例としては、上記第一のブラストノズルの吐出口と、上記第二のブラストノズルの吐出口とが、互いに反対方向となるように配置されている場合等を挙げることができる。この場合、２つのブラストノズルの吐出口が反対方向を向いており、同時にブラスト噴射を行うことができる。さらに本発明においては、第一のブラストノズルと第二のブラストノズルとが同じ往復運動をすることが好ましい。ブラストの効率を上げられるとともに、また、ブラストを行う方向を２方向にする事で、横リブの研削形状を対称な形にする事が出来るので、ブラストに起因するムラを低減する事が出来るからである。具体的には、既に説明した図１０（ｂ）に示すように、互いの吐出口が反対方向となるようにブラストノズル６を配置され、互いのブラストノズル６が一体化したもの等を挙げることができる。
【０１０１】
本発明においては、上記ブラスト装置のブラストノズルおよび上記保持装置の少なくとも一方が、上記背面板形成用部材の縦リブに沿う方向と直交する方向及び／又は平行する方向に水平移動できる移動手段を有する。中でも、本発明においては、上記ブラスト装置のブラストノズルおよび上記保持装置の少なくとも一方が、直交する方向に水平移動できる移動手段を有することが好ましい。より均一な形状に切削を行うことができるからである。これらの具体例については、上記図１１において説明した内容と同様であるので、ここでの説明は省略する。また、上記ブラスト装置および上記保持装置の少なくとも一方は、高さを調整するために、鉛直方向の移動手段を有していても良い。
【０１０２】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と、実質的に同一の構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなる場合であっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【０１０３】
以下、実施例を用いて、本発明をさらに具体的に説明する。なお、実施例中、「部」は重量部、「％」は重量％を示す。
【０１０４】
［製造例１］
縦リブおよび横リブから構成されるマトリクスリブを有する背面板形成用部材を、下記の方法により作製した。
（１）フリット混合物の作製
下記の要領でフリット混合物の作製を行った。
・ガラスフリットＭＢ−１０Ａ（松波硝子工業製，ｄ５０＝２．６μｍ）  …８０部
・骨材（α−アルミナＲＡ−３０（岩谷化学工業製、ｄ５０＝１．０μｍ））  …１０部
・顔料（ダイピロキサイドブラック＃９５１０（大日精化工業製））  …１０部
これらを弗素樹脂製の容器に入れ、ペイントコンディショナーＲＣ−５０００（レッドデビル社製）により１５分間混合し、フリット混合物を作製した。
【０１０５】
（２）マトリクスリブ形成用材料の作製
上記フリット混合物に下記の添加物を加えて、マトリクスリブ形成用材料を作製した。
・上記フリット混合物  …８０部
・エトセルＳＴＤ−１００ＦＰ（ダウ・ケミカル社製）  …１．４４部
・ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート（純正化学製）  …９部
・スクリーンオイル７５９（奥野製薬工業製）  …９部
これらを均一に混合した後、三本ロールミル（井上製作所製、Ｃ−４・３／４×１０）にて混練しマトリクスリブ形成用材料を作製した。
【０１０６】
（３）背面板形成用部材の作製
３００×４５０ｍｍのガラス基板上に下地層としてＥＬＤ−１１５５（奥野製薬工業製）をスクリーン印刷にて印刷し、乾燥、焼成して膜厚１０μｍの下地層を形成した後、この下地層の上にアドレス電極としてＤ−５９０−ＨＶ−ＭＯＤ（イー・エス・エル日本製）をスクリーン印刷にて電極パターン状に印刷、焼成し、膜厚２μｍ、線幅４５μｍ、ピッチ１７０μｍの電極を形成した。次に、このアドレス電極上に誘電体層としてＰＬＳ−３２３２（日本電気硝子製）をスクリーン印刷にて印刷し、乾燥、焼成して膜厚１０μｍの誘電体層を形成した。次いで、上記マトリクスリブ形成用材料をスクリーンオイル７５９（奥野製薬工業製）で希釈しシェアーレート１５［１／ｓｅｃ］、２２℃で５００ポイズに粘度調整し、ブレードコーターによりコーティング、乾燥を行い、膜厚１６０μｍのベタ膜を作製した。ベタ膜が形成された基板を８０℃に加熱しベタ膜上にドライフィルムレジスト（東京応化工業製、ＯＳＢＲフィルムＢＦ−６０５）をラミネートした後、超高圧水銀灯を光源とする平行光プリンターを使用し、縦リブ線幅５６μｍ、縦リブピッチ１７０μｍ、横リブ線幅１２５μｍ、横リブピッチ５１０μｍのマトリクス状のパターンマスクを介して露光を行った。露光条件は、３６５μｍで測定した時に強度２００μＷ／ｃｍ２、照射量８０ｍＪ／ｃｍ２であった。
【０１０７】
次に、無水炭酸ナトリウム０．２％水溶液を用い、液温３５℃でスプレー現像を行いサンドブラスト用マスクを作製し、乾燥した後、溶融アルミナＡ−＃８００（不二見研磨材工業製）を研削材としてサンドブラスト加工により不要部分を除去した。次いで、水酸化ナトリウム０．７％水溶液を用い、液温３０℃にてサンドブラスト用マスクを剥離した。この塗膜を、ピーク温度５７５℃、保持時間２０分、全焼成時間２時間で焼成を行い、深さ１６０μｍ、縦リブピッチ１７０μｍ、縦リブ上部幅６０μｍ、横リブ上部幅１３０μｍ、横リブピッチ５１０μｍのマトリクスリブを有する背面板形成用部材を得た。得られたマトリクスリブのＳＥＭ写真を図１５に示す。
【０１０８】
［実施例１］
製造例１で得られた背面板形成用部材のマトリクスリブに、縦リブに沿う斜め方向からブラストを行なった。ブラスト装置は、ロボットアームの先にブラストノズルを固定したものを用い、ノズルからの噴射角度、ノズルと基板の距離が一定になるようにロボットを制御して斜め方向からブラスト噴射を行なった。ノズルは口径がφ８ｍｍの丸ノズルを使用し基板と研削材噴射のなす方向は３０°に設定し、ノズル先端とリブの加工点の距離を１５０ｍｍになるように設置した。平均粒径２０μｍの研削材を用い、噴射圧力を０．５ｋｇｆ／ｃｍ２に設定し、縦リブに沿う方向にノズルを往復運動させながら、横リブに沿う方向にノズル移動よりも十分ゆっくりとした速さで基板を移動させ、研削を行なった。これにより、横リブは頂部からリブ材を所望の量だけ研削する事が出来たが、同時に縦リブ頂上の肩の部分及び縦リブ側面も研削された。研削量は研削時間で調節可能であり、少なくとも横リブ頂部０〜１００μｍの研削量の間では、良好な横リブ段差形状が得られた。
【０１０９】
［実施例２］
製造例１で得られた背面板形成用部材のマトリクスリブに、縦リブに沿う斜め方向からブラストを行なった。ブラスト装置は、ロボットアームの先にブラストノズルを固定したものを用い、ノズルからの噴射角度、ノズルと基板の距離が一定になるようにロボットを制御して斜め方向からブラスト噴射を行なった。ノズルは口径がφ８ｍｍの丸ノズルを使用し基板と研削材噴射のなす方向は１０°に設定し、ノズル先端とリブの加工点の距離を１５０ｍｍになるように設置した。平均粒径２０μｍの研削材を用い、噴射圧力を０．５ｋｇｆ／ｃｍ２に設定し、縦リブに沿う方向にノズルを往復運動させながら、横リブに沿う方向にノズル移動よりも十分ゆっくりとした速さで基板を移動させ、研削を行なった。これにより、横リブは頂部からリブ材を所望の量だけ研削する事が出来た。同時に縦リブ頂上の肩の部分が若干研削されたが、縦リブ側面は研削されなかった。研削量は研削時間で調節可能であり、少なくとも横リブ頂部０〜１００μｍの研削量の間では、良好な横リブ段差形状が得られた。得られた段差リブのＳＥＭ写真を図１６に示す。
【０１１０】
［実施例３］
製造例１で得られた背面板形成用部材のマトリクスリブに、縦リブに沿う斜め方向からブラストを行なった。ブラスト装置は、ロボットアームの先にブラストノズルを固定したものを用い、ノズルからの噴射角度、ノズルと基板の距離が一定になるようにロボットを制御して斜め方向からブラスト噴射を行なった。ノズルは口径がφ８ｍｍの丸ノズルを使用し基板と研削材噴射のなす方向は５°に設定し、ノズル先端とリブの加工点の距離を１５０ｍｍになるように設置した。平均粒径２０μｍの研削材を用い、噴射圧力を０．５ｋｇｆ／ｃｍ２に設定し、縦リブに沿う方向にノズルを往復運動させながら、横リブに沿う方向にノズル移動よりも十分ゆっくりとした速さで基板を移動させ、研削を行なった。これにより、横リブは頂部からリブ材を所望の量だけ研削する事が出来た。同時に縦リブ頂上の肩の部分が若干研削されたが、縦リブ側面は研削されなかった。（すなわち、円形ノズルでは１０°の場合と差異は無かった）研削量は研削時間で調節可能であり、少なくとも横リブ頂部０〜１００μｍの研削量の間では、良好な横リブ段差形状が得られた。
【０１１１】
［実施例４］
製造例１で得られた背面板形成用部材のマトリクスリブに、縦リブに沿う斜め方向からブラストを行なった。ブラスト装置は通常の電子ディスプレイ用大型チャンバーブラスト装置（不二製作所製）を用い、垂直方向に噴射するノズル部分を、斜め方向から噴射できるようにして行なった。ノズルの幅は１００ｍｍ、スリット幅は１ｍｍ、基板と研削材噴射のなす方向は５°に設定し、ノズル先端とリブの加工点の距離を１５０ｍｍになるように設置した。平均粒径２０μｍの研削材を用い、噴射圧力を０．５ｋｇｆ／ｃｍ２に設定し、縦リブに沿う方向にノズルを往復運動させながら、横リブに沿う方向にノズル移動よりも十分ゆっくりとした速さで基板を移動させ、研削を行なった。これにより、縦リブの頂部肩部分と側面の形状を保持したまま、横リブのみ選択的に、頂部からリブ材を所望の量だけ研削する事が出来た。研削量は研削時間で調節可能であり、少なくとも０〜１００μｍの研削量の間では、良好な段差形状が得られ、縦リブの形状も保持された。
【０１１２】
［実施例５］
製造例１で得られた背面板形成用部材のマトリクスリブに、縦リブに沿う斜め方向からブラストを行なった。ブラスト装置は通常の電子ディスプレイ用大型チャンバーブラスト装置（不二製作所製）を用い、垂直方向に噴射するノズル部分を、斜め方向から噴射できるようにして行なった。ノズルの幅は１００ｍｍ、スリット幅は１ｍｍ、基板と研削材噴射のなす方向は５°に設定し、ノズル先端とリブの加工点の距離を１５０ｍｍになるように設置した。ノズルは２台用い、それぞれの噴射の方向が縦リブに沿う方向で、尚且つ噴射がそれぞれ逆向きの方向になるように、また、ノズル同士が衝突しないように、両者の往復運動が入れ子にかつ平行になるように間隔を持たせて実施した。平均粒径２０μｍの研削材を用い、噴射圧力を０．５ｋｇｆ／ｃｍ２に設定し、縦リブに沿う方向にノズルを往復運動させながら、横リブに沿う方向にノズル移動よりも十分ゆっくりとした速さで基板を移動させ、研削を行なった。これにより、縦リブのリブ形状を保持したまま、横リブのみ選択的に、頂部からリブ材を所望の量だけ研削した。研削量は研削時間で調節可能であり、横リブの幅が縦リブ間の幅より広い場合であっても、少なくとも段差深さ０〜１００μｍの研削量の間では、良好な段差形状が得られ、縦リブの形状も良好に保持された。
【０１１３】
［製造例２］
縦リブおよび横リブから構成されるマトリクスリブを有する背面板形成用部材を、下記の方法により作製した。
（１）フリット混合物の作製
下記の要領でフリット混合物の作製を行った。
・ガラスフリットＭＢ−１０Ａ（松波硝子工業製，ｄ５０＝２．６μｍ）  …８０部
・無機成分（α−アルミナＲＡ−３０（岩谷化学工業製、ｄ５０＝１．０μｍ））  …１０部
これらを弗素樹脂製の容器に入れ、ペイントコンディショナーＲＣ−５０００（レッドデビル社製）により１５分間混合し、フリット混合物を作製した。
【０１１４】
（２）マトリクスリブ形成用材料の作製
上記フリット混合物に下記の添加物を加えて、マトリクスリブ形成用材料を作製した。
・上記フリット混合物  …８０部
・エトセルＳＴＤ−１００ＦＰ（ダウ・ケミカル社製）  …１．４４部
・ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート（純正化学製）  …９部
・スクリーンオイル７５９（奥野製薬工業製）  …９部
これらを均一に混合した後、三本ロールミル（井上製作所製、Ｃ−４・３／４×１０）にて混練しマトリクスリブ形成用材料を作製した。
【０１１５】
（３）背面板形成用部材の作製
３００×４５０ｍｍのガラス基板上にアドレス電極としてＤ−５９０−ＨＶ−ＭＯＤ（イー・エス・エル日本製）をスクリーン印刷にて電極パターン状に印刷、焼成し、膜厚２μｍ、線幅４５μｍ、ピッチ１７０μｍの電極を形成した。次に、このアドレス電極上に誘電体層としてＰＬＳ−３２３２（日本電気硝子製）をスクリーン印刷にて印刷し、乾燥、焼成して膜厚１０μｍの誘電体層を形成した。次いで、上記マトリクスリブ形成用材料をスクリーンオイル７５９（奥野製薬工業製）で希釈しシェアーレート１５［１／ｓｅｃ］、２２℃で５００［Ｐａ・ｓ］に粘度調整し、ダイコーターによりコーティング、乾燥を行い、膜厚１６０μｍのベタ膜を作製した。ベタ膜が形成された基板を８０℃に加熱しベタ膜上にドライフィルムレジスト（東京応化工業製、ＯＳＢＲフィルムＢＦ−６０５）をラミネートした後、超高圧水銀灯を光源とする平行光プリンターを使用し、縦リブ線幅５６μｍ、縦リブピッチ１７０μｍ、横リブ線幅１２５μｍ、横リブピッチ５１０μｍのマトリクス状のパターンマスクを介して露光を行った。露光条件は、３６５ｎｍで測定した時に強度２００μＷ／ｃｍ２、照射量８０ｍＪ／ｃｍ２であった。
【０１１６】
次に、無水炭酸ナトリウム０．２％水溶液を用い、液温３５℃でスプレー現像を行いサンドブラスト用マスクを作製し、乾燥した後、溶融アルミナＡ−＃８００（不二見研磨材工業製）を研削材としてサンドブラスト加工により不要部分（ドライフィルムレジストの無い箇所におけるマトリクスリブ形成用材料）を除去した。次いで、水酸化ナトリウム０．７％水溶液を用い、液温３０℃にてサンドブラスト用マスクを剥離した。これにより、深さ１６０μｍ、縦リブピッチ１７０μｍ、縦リブ上部幅６０μｍ、横リブ上部幅１３０μｍ、横リブピッチ５１０μｍのマトリクスリブを有する背面板形成用部材を得た。
【０１１７】
［実施例６］
製造例２で得られた背面板形成用部材を用いたこと以外は、実施例１と同様にして段差リブを形成した。その結果、横リブは頂部からリブ材を所望の量だけ研削する事が出来たが、同時に縦リブ頂上の肩の部分及び縦リブ側面も研削された。研削量は研削時間で調節可能であり、少なくとも横リブ頂部０〜１００μｍの研削量の間では、研削後も焼成後も共に良好な横リブ段差形状が得られた。
【０１１８】
［実施例７］
製造例２で得られた背面板形成用部材を用いたこと以外は、実施例２と同様にして段差リブを形成した。その結果、横リブは頂部からリブ材を所望の量だけ研削する事が出来た。同時に縦リブ頂上の肩の部分が若干研削されたが、縦リブ側面は研削されなかった。研削量は研削時間で調節可能であり、少なくとも横リブ頂部０〜１００μｍの研削量の間では、研削後も焼成後も共に良好な横リブ段差形状が得られた。
【０１１９】
［実施例８］
製造例２で得られた背面板形成用部材を用いたこと以外は、実施例３と同様にして段差リブを形成した。その結果、横リブは頂部からリブ材を所望の量だけ研削する事が出来た。同時に縦リブ頂上の肩の部分が若干研削されたが、縦リブ側面は研削されなかった（すなわち、円形ノズルでは１０°の場合と差異は無かった）。研削量は研削時間で調節可能であり、少なくとも横リブ頂部０〜１００μｍの研削量の間では、研削後も焼成後も共に良好な横リブ段差形状が得られた。
【０１２０】
［実施例９］
製造例２で得られた背面板形成用部材を用いたこと以外は、実施例４と同様にして段差リブを形成した。その結果、縦リブの頂部肩部分と側面の形状を保持したまま、横リブのみ選択的に、頂部からリブ材を所望の量だけ研削する事が出来た。研削量は研削時間で調節可能であり、少なくとも０〜１００μｍの研削量の間では、良好な段差形状が得られ、縦リブの形状も保持された。また、焼成後も良好な形状の段差リブが得られ、段差量の面内分布は±1５μｍであった。
【０１２１】
［実施例１０］
製造例２で得られた背面板形成用部材を用いたこと以外は、実施例５と同様にして段差リブを形成した。その結果、縦リブのリブ形状を保持したまま、横リブのみ選択的に、頂部からリブ材を所望の量だけ研削する事が出来た。研削量は研削時間で調節可能であり、横リブの幅が縦リブ間の幅より広い場合であっても、少なくとも段差深さ０〜１００μｍの研削量の間では、研削後も焼成後も共に良好な段差形状が得られ、縦リブの形状も良好に保持された。
【０１２２】
［製造例３］
ストッパー層を有するマトリクスリブを備えた背面板形成用部材を、下記の方法により作製した。
まず、大きさ２０８０ｍｍ×１２１０ｍｍ、厚さ１．８ｍｍの高歪点ガラス（旭硝子（株）製「ＰＤ２００」）上にアドレス電極として、感光性銀ペ−スト（デュポン（株）製ＤＣ２０６）を、乳剤厚５μｍのスクリーン印刷版（東京プロセスサービス（株）製「Ｔ２５０メッシュ」）を用いてベタ印刷し、８０℃で３０分乾燥した。次に、開口幅６０μｍのパターンを有するフォトマスクにより露光し、０．３％炭酸ナトリウム水溶液にて現像圧１．５ｋｇｆ／ｃｍ２でスプレー現像し、銀電極パターンを形成した。次に、６００℃にて焼成し、ガラス基板上に膜厚３μｍ、線幅５０μｍ、ピッチ１７０μｍのアドレス電極を形成した。次に、このアドレス電極上に誘電体層としてＰＬＳ−３２３２（日本電気硝子製）をスクリーン印刷にて印刷し、乾燥、焼成して膜厚１０μｍの誘電体層を形成した。
【０１２３】
次に、下記組成の第一リブ材料層用ペースト（第一リブ材料層形成用材料）の作製を行った。
・ガラスフリット（ＺｎＯ／ＳｉＯ２／Ｂ２Ｏ３／アルカリ金属酸化物、熱膨張係数８０×１０−７／℃、軟化点５５０℃、平均粒径３μｍ）  …６０重量部
・アルミナ（岩谷化学工業（株）製ＲＡ−４０）  …２０重量部
・エチルセルロース（ダウ・ケミカル社製エトセルＳＴＤ−１００ＦＰ）  …２重量部
・ターピネオール  …９重量部
・ブチルカルビトールアセテート  …９重量部
【０１２４】
次いで、上記第一リブ材料層形成用材料を、誘電体層に対してダイコーターによりコーティング、乾燥を行い、膜厚１２０μｍの第一リブ材料層を作製した。
【０１２５】
次に、下記組成のストッパー層用ペースト（ストッパー層形成用材料）の作製を行った。
・ガラスフリット（ＺｎＯ／ＳｉＯ２／Ｂ２Ｏ３／アルカリ金属酸化物、熱膨張係数８０×１０−７／℃、軟化点５５０℃、平均粒径３μｍ）  …６０重量部
・アルミナ（岩谷化学工業（株）製ＲＡ−４０）  …１５重量部
・エチルセルロース（ダウ・ケミカル社製エトセルＳＴＤ−１００ＦＰ）  …９重量部
・ターピネオール  …８重量部
・ブチルカルビトールアセテート  …８重量部
【０１２６】
次いで、上記ストッパー層形成用材料を、第一リブ材料層に対してスクリーン印刷法によりコーティング、乾燥を行い、第一リブ材料層の全面に膜厚１０μｍのストッパー層を作製した。
【０１２７】
次に、下記組成の第二リブ材料層用ペースト（第二リブ材料層形成用材料）の作製を行った。
・ガラスフリット（ＺｎＯ／ＳｉＯ２／Ｂ２Ｏ３／アルカリ金属酸化物、熱膨張係数８０×１０−７／℃、軟化点５５０℃、平均粒径３μｍ）  …６０重量部
・アルミナ（岩谷化学工業（株）製ＲＡ−４０）  …２０重量部
・エチルセルロース（ダウ・ケミカル社製エトセルＳＴＤ−１００ＦＰ）  …３重量部
・ターピネオール  …８．５重量部
・ブチルカルビトールアセテート  …８．５重量部
【０１２８】
次いで、上記第二リブ材料層形成用材料を、ストッパー層に対してダイコーターによりコーティング、乾燥を行い、膜厚３０μｍの第二リブ材料層を作製した。
【０１２９】
次に、第二リブ材料層が形成された基板を１００℃に加熱し、第二リブ材料層上にドライフィルムレジスト（東京応化工業製、ＮＢ−２３５）をラミネートした後、縦リブ線幅６０μｍ、縦リブピッチ１７０μｍ、横リブ線幅１２５μｍ、横リブピッチ５１０μｍのマトリクス状のパターンマスクを介して露光を行った。露光条件は、照射量２５０ｍＪ／ｃｍ２であった。次に、無水炭酸ナトリウム０．５％水溶液を用い、液温３０℃でスプレー現像を行い、感光性レジストパターンを作製した。
【０１３０】
次に、Ｓ−９＃１２００（不二製作所製  ステンレス製研削材）を研削材として略垂直方向からサンドブラスト加工を行うことにより、マトリクスリブを形成した。その後、水酸化ナトリウム２．０％水溶液を用い、液温３０℃にて感光性レジストパターンを剥離した。これにより、ストッパー層を有するマトリクスリブを備えた背面板形成用部材を得た。
【０１３１】
［実施例１１］
製造例３で得られた背面板形成用部材のマトリクスリブに、縦リブに沿う斜め方向からブラストを行なった。ブラスト装置は通常の電子ディスプレイ用大型チャンバーブラスト装置（不二製作所製）を用い、垂直方向に噴射するノズル部分を、斜め方向から噴射できるようにして行なった。ノズルの幅は１００ｍｍ、スリット幅は１ｍｍ、基板と研削材噴射のなす方向は５°に設定し、ノズル先端とリブの加工点の距離を１５０ｍｍになるように設置した。平均粒径２０μｍの研削材を用い、噴射圧力を０．５ｋｇｆ／ｃｍ２に設定し、縦リブに沿う方向にノズルを往復運動させながら、横リブに沿う方向にノズル移動よりも十分ゆっくりとした速さで基板を移動させ、研削を行なった。これにより、縦リブの頂部肩部分と側面の形状を保持したまま、横リブのみ選択的に、頂部からリブ材をストップ層の面までほぼ均一に研削する事が出来た。本実施例では縦リブ高さ１６０μｍ、横リブ高さ１２９μｍ、段差３１μｍの段差リブを得た。また、焼成後も良好な形状の段差リブが得られ、パネル面内での段差量もほぼ均一のままであり、その面内分布は±５μｍであった。
【０１３２】
［製造例４］
ストッパー層を有するマトリクスリブを備えた背面板形成用部材を、下記の方法により作製した。
まず、大きさ２０８０ｍｍ×１２１０ｍｍ、厚さ１．８ｍｍの高歪点ガラス（旭硝子（株）製「ＰＤ２００」）上にアドレス電極として、感光性銀ペ−スト（デュポン（株）製ＤＣ２０６）を、乳剤厚５μｍのスクリーン印刷版（東京プロセスサービス（株）製「Ｔ２５０メッシュ」）を用いてベタ印刷し、８０℃で３０分乾燥した。次に、開口幅６０μｍのパターンを有するフォトマスクにより露光し、０．３％炭酸ナトリウム水溶液にて現像圧１．５ｋｇｆ／ｃｍ２でスプレー現像し、銀電極パターンを形成した。次に、６００℃にて焼成し、ガラス基板上に膜厚３μｍ、線幅５０μｍ、ピッチ１７０μｍのアドレス電極を形成した。次に、このアドレス電極上に誘電体層としてＰＬＳ−３２３２（日本電気硝子製）をスクリーン印刷にて印刷し、乾燥、焼成して膜厚１０μｍの誘電体層を形成した。
【０１３３】
次に、下記組成のストッパー層用ペースト（ストッパー層形成用材料）の作製を行った。
・ガラスフリット（ＺｎＯ／ＳｉＯ２／Ｂ２Ｏ３／アルカリ金属酸化物、熱膨張係数８０×１０−７／℃、軟化点５５０℃、平均粒径３μｍ）  …６０重量部
・アルミナ（岩谷化学工業（株）製ＲＡ−４０）  …１５重量部
・エチルセルロース（ダウ・ケミカル社製エトセルＳＴＤ−１００ＦＰ）  …６重量部
・ターピネオール  …９重量部
・ブチルカルビトールアセテート  …１０重量部
【０１３４】
次いで、上記ストッパー層形成用材料を、誘電体材料層に対してスクリーン印刷法によりコーティング、乾燥を行い、誘電体材料層の全面に膜厚５０μｍのストッパー層を作製した。
【０１３５】
次に、下記組成のリブ材料層用ペースト（リブ材料層形成用材料）の作製を行った。
・ガラスフリット（ＺｎＯ／ＳｉＯ２／Ｂ２Ｏ３／アルカリ金属酸化物、熱膨張係数８０×１０−７／℃、軟化点５５０℃、平均粒径３μｍ）  …６０重量部
・アルミナ（岩谷化学工業（株）製ＲＡ−４０）  …２０重量部
・エチルセルロース（ダウ・ケミカル社製エトセルＳＴＤ−１００ＦＰ）  …３重量部
・ターピネオール  …８．５重量部
・ブチルカルビトールアセテート  …８．５重量部
【０１３６】
次いで、上記リブ材料層形成用材料を、ストッパー層に対してダイコーターによりコーティング、乾燥を行い、膜厚５０μｍのリブ材料層を作製した。
【０１３７】
次に、リブ材料層が形成された基板を１００℃に加熱し、リブ材料層上にドライフィルムレジスト（東京応化工業製、ＮＢ−２３５）をラミネートした後、縦リブ線幅６０μｍ、縦リブピッチ１７０μｍ、横リブ線幅１２５μｍ、横リブピッチ５１０μｍのマトリクス状のパターンマスクを介して露光を行った。露光条件は、照射量２５０ｍＪ／ｃｍ２であった。次に、無水炭酸ナトリウム０．５％水溶液を用い、液温３０℃でスプレー現像を行い、感光性レジストパターンを作製した。
【０１３８】
次に、Ｓ−９＃１２００（不二製作所製  ステンレス製研削材）を研削材として略垂直方向からサンドブラスト加工を行うことにより、マトリクスリブを形成した。その後、水酸化ナトリウム２．０％水溶液を用い、液温３０℃にて感光性レジストパターンを剥離した。これにより、ストッパー層を有するマトリクスリブを備えた背面板形成用部材を得た。
【０１３９】
［実施例１２］
製造例４で得られた背面板形成用部材のマトリクスリブに、縦リブに沿う斜め方向からブラストを行なった。ブラスト装置は通常の電子ディスプレイ用大型チャンバーブラスト装置（不二製作所製）を用い、垂直方向に噴射するノズル部分を、斜め方向から噴射できるようにして行なった。ノズルの幅は１００ｍｍ、スリット幅は１ｍｍ、基板と研削材噴射のなす方向は５°に設定し、ノズル先端とリブの加工点の距離を１５０ｍｍになるように設置した。平均粒径２０μｍの研削材を用い、噴射圧力を０．５ｋｇｆ／ｃｍ２に設定し、縦リブに沿う方向にノズルを往復運動させながら、横リブに沿う方向にノズル移動よりも十分ゆっくりとした速さで基板を移動させ、研削を行なった。これにより、縦リブの頂部肩部分と側面の形状を保持したまま、横リブのみ選択的に、頂部からリブ材をストップ層の面までほぼ均一に研削する事が出来た。本実施例では縦リブ高さ１００μｍ、横リブ高さ４７μｍ、段差５３μｍの段差リブを得た。また、焼成後も良好な形状の段差リブが得られ、パネル面内での段差量もほぼ均一のままであり、その面内分布は±１０μｍであった。
【図面の簡単な説明】
【０１４０】
【図１】本発明のＰＤＰ用背面板の製造方法の一例を示す斜視図である。
【図２】本発明におけるブラストノズルの噴射方向を説明する概略断面図である。
【図３】本発明における背面板形成用部材準備工程の一例を示す斜視図である。
【図４】ストッパー層を有しないマトリクスリブに対して、ブラスト噴射を行うことを説明する斜視図である。
【図５】図４（ｃ）のＡ−Ａ断面図である。
【図６】ストッパー層を有するマトリクスリブに対して、ブラスト噴射を行うことを説明する斜視図である。
【図７】図６（ｃ）のＡ−Ａ断面図である。
【図８】本発明に用いられるマトリクスリブを例示する斜視図である。
【図９】本発明における段差リブの形成方法について説明する説明図である。
【図１０】本発明における段差リブの形成方法について説明する説明図である。
【図１１】本発明における段差リブの形成方法について説明する説明図である。
【図１２】本発明のＰＤＰ用背面板の製造装置の一例を説明する説明図である。
【図１３】従来のＰＤＰ用背面板を例示する概略断面図である。
【図１４】従来のＰＤＰ用背面板を例示する斜視図である。
【図１５】製造例で得られたマトリクスリブのＳＥＭ写真である。
【図１６】実施例で得られた段差リブのＳＥＭ写真である。
【符号の説明】
【０１４１】
１  …  基板
２  …  アドレス電極層
３  …  誘電体層
４  …  リブ（マトリクスリブ）
４ｘ  …  縦リブ
４ｙ  …  横リブ
４ａ  …  段差リブ
４ｂ  …  リブ層
５  …  ブラスト噴射
６  …  ブラストノズル
７  …  ドライフィルムレジスト層
７ａ  …  ドライフィルムレジストパターン
１０  …  背面板形成用部材
１１  …  保持装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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