【誤訳訂正書】
【提出日】平成24年9月27日(2012.9.27)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
・分配室または分配要素に通じる酸素含有ガスのための供給管、
・反応室に通じる全部または部分的に酸化すべき粗ガスのための供給管、
・反応室内に配置される前記ガス輸送に関して外側表面が入口面および出口面を形成する多数の気密な酸素伝導性膜要素を含み、
その際、この出口面は、反応室側に備えられており、膜要素と併せて、酸素含有ガスが通過する分配室と捕集室および／または反応器の放出区域との間に結合を構成し、かつ反応室が触媒充填物の収容に依然適している酸化反応器において、
・１つ以上のスペーサー要素が、膜要素の外側表面と反応室内の触媒ベッドとの間に空間を設け、
・スペーサー要素が膜の出口域に対向して位置しおよび／または接触して配置され、意図された区域内で特定の反応器の運転の間に酸化し、それによって不活性化になる触媒活性部品であることを特徴とする、酸化反応器。
【請求項２】
１つ以上のスペーサー要素が、膜要素の束または群の外側表面と反応室内の触媒ベッドとの間に空間を設ける、請求項１記載の酸化反応器。
【請求項３】
スペーサー要素が、反応室の方へ膜要素を個別的にまたは各々束または群を包囲する予め作られたブロックであり、その際該ブロックは、バルク型および／または個別要素である、請求項１または２記載の酸化反応器。
【請求項４】
個別要素として予め作られたブロックが、外被管である、請求項１または２記載の酸化反応器。
【請求項５】
スペーサー要素が直接膜の外側表面へ付される１つ以上の不活性材料からなる、請求項１または２記載の酸化反応器。
【請求項６】
スペーサー要素が規則的または不規則な構造を備える、請求項１から５までのいずれか１項に記載の酸化反応器。
【請求項７】
スペーサー要素が１つ以上の触媒活性表面を備える、請求項１から６までのいずれか１項に記載の酸化反応器。
【請求項８】
表面が反応室の方へ向いているような形状のスペーサーが、触媒活性材料を備える、請求項７に記載の酸化反応器。
【請求項９】
不活性材料が、多孔質構造であり、その容積は触媒の微粒子含分より小さい容積である、請求項１から８までのいずれか１項に記載の酸化反応器。
【請求項１０】
触媒がバータイプまたは表面型要素として形作られる、請求項９記載の酸化反応器。
【請求項１１】
触媒が板の少なくとも片側へ接着されるまたは焼結される、請求項９または１０記載の酸化反応器。
【請求項１２】
膜要素が、ペロフスカイト（ＡＢＯ3）、ペロフスカイト関連構造、フルオライト構造（ＡＯ２）、アウリビリウス構造（［Ｂｉ2Ｏ2］［Ａn-1ＢnＯx］）またはブラウンミレライト構造（Ａ2Ｂ2Ｏ5）の群に由来する１つ以上の材料から形成される、請求項１から１１までのいずれか１項に記載の酸化反応器。
【請求項１３】
膜要素が、次の一般構造式：Ｌａ1-x（Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ）xＣｏ1-yＦｅyＯ3-δ、Ｂａ（Ｓｒ）Ｃｏ1-xＦｅxＯ3-δ、Ｓｒ（Ｂａ）Ｔｉ（Ｚｒ）1-x-yＣｏyＦｅxＯ3-δ、ＢａＣｏxＦｅyＺｒ1-x-yＯ3-δ、Ｌａ1-xＳｒxＧａ1-yＦｅyＯ3-δＬａ0.5Ｓｒ0.5ＭｎＯ3-δ、Ｌａ2ＮｉxＦｅyＯ4-δ、ＬａＦｅ（Ｎｉ）Ｏ3-δまたはＬａ0.9Ｓｒ0.1ＦｅＯ3-δによって記載され得る１つ以上の材料から形成されている、請求項１から１２までのいずれか１項に記載の酸化反応器。
【請求項１４】
膜要素が、９５０℃および膜の両側上に存在する遊離ガス相間の０．１バールを上廻る酸素分圧差で平均で０．１Ｎｍ3／（ｍ2ｈ）以上である酸素浸透率を示す、請求項１から１３までのいずれか１項に記載の酸化反応器。
【請求項１５】
流体を酸化する方法において、
反応器が、請求項１から１４までのいずれか１項記載の設計型に従って構成され、反応室が触媒で充填され、さらに以下の工程
・酸素または酸素含有ガスが入口管を介して酸化反応器の分配室内に導入され、
・酸化すべきガスまたはガス混合物が反応室内に運ばれ、
・この反応室内の温度は、２００〜１２００℃であり、
・圧力は、１〜２００バールである
を含むことを特徴とする、流体を酸化する方法。
【請求項１６】
反応室内の温度は、５００〜１０００℃であり、反応室内の圧力は、１０〜７０バールであることを特徴とする、請求項１５記載の流体を酸化する方法。
【請求項１７】
反応室内の温度は、７００〜９００℃であり、反応室内の圧力は、３０〜６０バールであることを特徴とする、請求項１６記載の流体を酸化する方法。
【請求項１８】
酸化すべきガスは、酸化不可能な成分をも含有し、好ましくは、メタンまたは高いメタン含量を有する天然ガスである、請求項１５〜１７のいずれか1項記載の流体を酸化する方法。
【請求項１９】
請求項１５〜１８のいずれか1項記載の方法の使用において、それによって主要成分Ｈ2およびＣＯを有する合成ガスが製造されることを特徴とする、請求項１５〜１８のいずれか1項記載の方法の使用。
【請求項２０】
請求項１５〜１８のいずれか1項記載の方法の使用において、この方法を、アルカンの酸化脱水、酸化によるメタンカップリング、高級炭化水素および／または炭化水素誘導体の部分酸化またはガス混合物の成分の選択的な酸化に使用することを特徴とする、請求項１５〜１８のいずれか1項記載の方法の使用。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１８】
比較例１
以下、ＢＣＦＺと呼称される（T.Schiestel,M.Kilgus,S.Peter,K.J.Caspary,H.Wang,J.Caro, Journal of Membrane Science, 2005, 258, 1-4）、混合伝導性膜に適した材料Ｂａ（Ｃｏ，Ｆｅ，Ｚｒ）Ｏ3-δの試験体を８５０℃および１バールの圧力で次の組成の合成ガス雰囲気に晒した：
【表１】
2009519195.tif 000001
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３４】
１つの好ましい実施態様において、２つの前記の酸化反応器の膜要素は、１つ以上の材料から形成されており、この場合この材料は、ペロフスカイト（ＡＢＯ3）、ペロフスカイトに使用される構造、フルオライト構造（ＡＯ3）、アウリビリウス構造（［Ｂｉ2Ｏ2］［Ａn-1ＢnＯx］）またはブラウンミレライト構造（Ａ2Ｂ2Ｏ5）の群に由来する。Ｏ2輸送、ひいては本発明による酸化反応器中での利用に特に好適なのは、次の一般構造式：Ｌａ1-x（Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ）xＣｏ1-yＦｅyＯ3-δ、Ｂａ（Ｓｒ）Ｃｏ1-xＦｅxＯ3-δ、Ｓｒ（Ｂａ）Ｔｉ（Ｚｒ）1-x-yＣｏyＦｅxＯ3-δ、ＢａＣｏxＦｅyＺｒ1-x-yＯ3-δ、Ｌａ1-xＳｒxＧａ1-yＦｅyＯ3-δ、Ｌａ2ＮｉxＦｅyＯ4-δ、Ｌａ0.5Ｓｒ0.5ＭｎＯ3-δ、ＬａＦｅ（Ｎｉ）Ｏ3-δまたはＬａ0.9Ｓｒ0.1ＦｅＯ3-δによって記載されることができる１つ以上の材料から形成されている膜要素である。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４０】
実施例
合成ガスの製造のために、予想すべき条件下で熱力学的に不安定な材料ＢＣＦＺから次の寸法を有する中空繊維を製造した（T.Schiestel,M.Kilgus,S.Peter,K.J.Caspary,H.Wang,J.Caro, Journal of Membrane Science, 2005, 258, 1-4）：
長さ３０ｃｍ、
外径約１．５ｍｍ、
肉厚約２００μｍ。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４６】
従って、外側の膜表面と触媒との間のスペーサー要素を使用することによって、浸透側での酸素−物質輸送の抑制の規模は、望ましい強度の局部的な酸素保護層が膜表面上に形成されるように調節されうる。この場合、膜の浸透側からの酸素の意図的な搬出は、重要であり、それによってこの場合、膜の浸透側からの酸素の意図的な搬出は、重要であり、それによって触媒上での酸素の次の反応は、抑制される。これに対して、膜に向かっての反応性媒体、例えばこの場合にはメタンまたは水素の物質輸送は、重要ではない。それというのも、膜の保護は、反応性成分の僅かな濃度により膜の浸透側の表面では生じないからである。この保護は、むしろ酸素の十分に緩徐な搬出が膜を通じての同時に十分に高い酸素浸透とカップリングされることによってもたらされる。その結果、浸透側の膜表面で局部的に著量の遊離酸素が存在する。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４７】
図５は、略示断面図で例示的に工業的使用のための本発明による酸化反応器の構造的な構成を示す。この場合、膜中空繊維の束として形成されている膜１は、ガス浸透性の管３によって包囲されている。管３の外側には、点状の平面によって示されている触媒堆積物９が配置されている。個々の膜中空繊維の複数の端部は、管３中で結合要素１０に導通されており、この結合要素中で固定されている。この結合要素１０は、同時に陰影を付けた線で示された個々の膜モジュール中への空気５または別のＯ2供給媒体の流入、束からのＯ2含量が減少された空気７の流出およびガス流５とガス流６との間の気密な遮断に使用される。