【手続補正書】
【提出日】平成21年3月19日(2009.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（２）；
【化１】
2007297306.tif 000001
（式中、Ｒ1はアシル型保護基、又はカルバメート型保護基を表す。＊は不斉炭素原子を表す。）で表される光学活性３−（１−ピロリジニル）ピロリジン誘導体と酸から塩を形成させて有機溶媒を用いて晶析することにより、混入している不純物を母液に除去することを特徴とする、下記式（４）；
【化２】
2007297306.tif 000002
（式中、Ｒ1、＊は前記に同じ。Ａn-は対陰イオンを表す。ｎは１又は２の整数を表す。）で表される光学活性３−（１−ピロリジニル）ピロリジン塩の単離精製法。
【請求項２】
前記酸が塩化水素、臭化水素、硫酸、酢酸、ピバル酸、シュウ酸、Ｌ−酒石酸、Ｄ−酒石酸、マンデル酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、又はカンファースルホン酸である、請求項１に記載の単離精製法。
【請求項３】
前記酸が塩化水素である、請求項２に記載の単離精製法。
【請求項４】
前記有機溶媒がメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸イソプロピル、トルエン、ヘキサン、塩化メチレン、アセトニトリル、アセトンからなる群から選択される少なくとも１つである、請求項１〜３のいずれかに記載の単離精製法。
【請求項５】
前記式（２）で表される光学活性３−（１−ピロリジニル）ピロリジン誘導体が、下記
式（１）；
【化３】
2007297306.tif 000003
（式中、Ｒ1は前記に同じ。Ｒ2は置換基を有してもよい炭素数１〜１２のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数７〜１２のアラルキル基、又は置換基を有してもよい炭素数６〜１２のアリール基を表す。＊は不斉炭素原子を表す。）で表される光学活性３−（スルホニルオキシ）ピロリジン誘導体とピロリジンを反応させて得られたものである、請求項１〜４のいずれかに記載の単離精製法。
【請求項６】
Ｒ2がメチル基、トリフルオロメチル基、ベンジル基、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ｐ−クロロフェニル基、ｏ−ニトロフェニル基、ｍ−ニトロフェニル基、又はｐ−ニトロフェニル基である、請求項５に記載の単離精製法。
【請求項７】
前記混入している不純物が、下記式（５）；
【化４】
2007297306.tif 000004
（式中、Ｒ1は前記に同じ。）で表される２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール誘導体である、請求項１〜６のいずれかに記載の単離精製法。
【請求項８】
Ｒ1がホルミル基、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、イソブチリル基、ベンゾイル基、ｐ−ニトロベンゾイル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンジロキシカルボニル基、又はｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基である、請求項１〜７のいずれかに記載の単離精製法。
【請求項９】
Ｒ1がベンゾイル基、ベンジロキシカルボニル基、又はｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基である、請求項８に記載の単離精製法。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれかに記載の方法で得た前記式（４）で表される光学活性３−（１−ピロリジニル）ピロリジン塩を、更に脱保護することを特徴とする、下記式（３）；
【化５】
2007297306.tif 000005
（式中、＊は前記に同じ。）で表される光学活性３−（１−ピロリジニル）ピロリジン、又はその塩の製造法。
【請求項１１】
Ｒ1がベンゾイル基、ベンジロキシカルボニル基、又はｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基であり、Ａn-が塩素陰イオンである前記化合物（４）を脱保護することにより、前記式（３）で表される光学活性３−（１−ピロリジニル）ピロリジンを一塩酸塩、又はニ塩酸塩として取得することを特徴とする、請求項１０に記載の製造法。
【請求項１２】
下記式（１）；
【化６】
2007297306.tif 000006
（式中、Ｒ1はアシル型保護基、又はカルバメート型保護基を表す。Ｒ2は置換基を有してもよい炭素数１〜１２のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数７〜１２のアラルキル基、又は置換基を有してもよい炭素数６〜１２のアリール基を表す。＊は不斉炭素原子を表す。）で表される光学活性３−（スルホニルオキシ）ピロリジン誘導体とピロリジンを反応させることにより、下記式（２）；
【化７】
2007297306.tif 000007
（式中、Ｒ１、＊は前記に同じ。）で表される光学活性３−（１−ピロリジニル）ピロリジン誘導体を製造し、続いて酸との塩を形成させて水に溶解させ、混入している不純物を有機溶媒で抽出して除去した後、更に脱保護することを特徴とする、下記式（３）；
【化８】
2007297306.tif 000008
（式中、＊は前記に同じ。）で表される光学活性３−（１−ピロリジニル）ピロリジン、又はその塩の製造法。
【請求項１３】
Ｒ1がホルミル基、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、イソブチリル基、ベンゾイル基、ｐ−ニトロベンゾイル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンジロキシカルボニル基、又はｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基である、請求項１２に記載の製造法。
【請求項１４】
Ｒ1がベンゾイル基、ベンジロキシカルボニル基、又はｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基である、請求項１３に記載の製造法。
【請求項１５】
Ｒ2がメチル基、トリフルオロメチル基、ベンジル基、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ｐ−クロロフェニル基、ｏ−ニトロフェニル基、ｍ−ニトロフェニル基、又はｐ−ニトロフェニル基である、請求項１２〜１４のいずれかに記載の製造法。
【請求項１６】
前記混入している不純物が、下記式（５）；
【化９】
2007297306.tif 000009
（式中、Ｒ1は前記に同じ。）で表される２，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピロール誘導体である、請求項１２〜１５のいずれかに記載の製造法。
【請求項１７】
前記酸が塩化水素、臭化水素、硫酸、リン酸、酢酸、クエン酸、又はメタンスルホン酸であり、前記有機溶媒が酢酸エチル、又はトルエンである請求項１２〜１６のいずれかに記載の製造法。
【請求項１８】
下記式（３）；
【化１０】
2007297306.tif 000010
（式中、＊は不斉炭素原子を表す。）で表される光学活性３−（１−ピロリジニル）ピロリジンの塩を有機溶媒を用いて晶析することにより、化学純度の向上した光学活性３−（１−ピロリジニル）ピロリジンの塩を結晶として取得する単離精製法。
【請求項１９】
前記光学活性３−（１−ピロリジニル）ピロリジンの塩が、光学活性３−（１−ピロリジニル）ピロリジン一塩酸塩、又は光学活性３−（１−ピロリジニル）ピロリジンニ塩酸塩である、請求項１８に記載の単離精製法。
【請求項２０】
前記有機溶媒がメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸イソプロピル、トルエン、ヘキサン、塩化メチレン、アセトニトリル、アセトンからなる群より選択される少なくとも１つである、請求項１８又は１９に記載の単離精製法。
【請求項２１】
下記式（１）；
【化１１】
2007297306.tif 000011
（式中、Ｒ1はアシル型保護基、又はカルバメート型保護基を表す。Ｒ2は置換基を有してもよい炭素数１〜１２のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数７〜１２のアラルキル基、又は置換基を有してもよい炭素数６〜１２のアリール基を表す。＊は不斉炭素原子を表す。）で表される光学活性３−（スルホニルオキシ）ピロリジン誘導体とピロリジンを反応させることにより、下記式（２）；
【化１２】
2007297306.tif 000012
（式中、Ｒ１、＊は前記に同じ。）で表される光学活性３−（１−ピロリジニル）ピロリジン誘導体を製造し、更に脱保護した後、酸との塩を形成させて有機溶媒を用いて晶析することを特徴とする、下記式（３）；
【化１３】
2007297306.tif 000013
（式中、＊は前記に同じ。）で表される光学活性３−（１−ピロリジニル）ピロリジンの塩結晶の製造法。
【請求項２２】
Ｒ1がホルミル基、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、イソブチリル基、ベンゾイル基、ｐ−ニトロベンゾイル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンジロキシカルボニル基、又はｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基である、請求項２１に記載の製造法。
【請求項２３】
Ｒ1がベンゾイル基、ベンジロキシカルボニル基、又はｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基である、請求項２１に記載の製造法。
【請求項２４】
Ｒ2がメチル基、トリフルオロメチル基、ベンジル基、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ｐ−クロロフェニル基、ｏ−ニトロフェニル基、ｍ−ニトロフェニル基、又はｐ−ニトロフェニル基である、請求項２１〜２３のいずれかに記載の製造法。
【請求項２５】
前記酸が塩化水素であり、また前記有機溶媒がメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸イソプロピル、トルエン、ヘキサン、塩化メチレン、アセトニトリル、アセトンからなる群より選択される少なくとも１つである、請求項２１〜２４のいずれかに記載の製造法。