【手続補正書】
【提出日】平成21年3月10日(2009.3.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
共に対称軸（１３）周りに回転対称状に中空であるように形作られているアノード（１）とカソード（２）とを備え、これらによりアノード（１）の内部に放電空間が形成されており、前記カソード（２）が作動ガスの予備電離用の中空カソード空間（２１）を有し、当該中空カソード空間（２１）が、予備電離作動ガスを放電空間（３）に流入させるため等間隔に配置された複数の開口を有する金属壁（２２）によって前記放電空間（３）に対し境界を定められることで、前記放電空間（３）を流れる高電流のため前記開口を通ってガス放電経路の空間的に分布された基点（Ｆ）を創出する、ＥＵＶ放射線を放出するガス放電プラズマを生成するためのガス放電による高電流切り換え装置において、
前記中空カソード空間（２１）と前記放電空間（３）との間の前記金属壁（２２）が１センチメートル以上の厚さを有することで、前記金属壁（２２）の開口が流入チャネル（２３）に変わり、当該チャネルの端部が前記放電空間（３）内の共通交点（Ｓ）上で前記放電空間（３）に指向されること、および
ほぼ半径方向に延びる冷却チャネル（２４）が前記金属壁（２２）に設けられて効率的冷却により前記カソード（２）のイオン浸食を低減することを特徴とする装置。
【請求項２】
前記放電空間（３）への前記流入チャネル（２３）の開口が、湾曲した金属壁（２２）で、中空カソード（２）とアノード（１）の対称軸（１３）に沿って同心配置された少なくとも１つの円線上に均一分布して配置されることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記放電空間（３）内に開口する放電チャネル（２３１）を示し共通交点（Ｓ）で収束する部分内で少なくとも、前記金属壁（２２）での前記流入チャネル（２３）が、前記流入チャネル（２３）の長さ（Ｌ）より大幅に小さい均一な直径（Ｄ）を有することを特徴とする請求項１に記載の装置。
少なくとも前記放電空間（３）内に開口する放電チャネル（２３１）を示す所定部分内で、前記金属壁（２２）内の流入チャネル（２３）が、長さ（Ｌ）より大幅に小さい均一な直径（Ｄ）を有することを特徴とする請求項７に記載の装置。
【請求項４】
前記流入チャネル（２３）がそれぞれ、共線の入力部（２３２）と、前記放電空間（３）内で収束する放電チャネル（２３１）とで形成されており、前記共線入力部（２３２）が前記中空カソード空間（２１）から始まって、収束放電チャネル（２３１）内に入ることを特徴とする請求項３に記載の装置。
【請求項５】
前記中空カソード空間（２１）内で始まる前記共線入力部（２３２）が、前記放電空間（３）への前記収束放電チャネル（２３１）より大きい直径を有し、前記収束放電チャネル（２３１）のみが直径（Ｄ）と長さ（Ｌ）の所定比で形成されていることを特徴とする請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記放電チャネル（２３１）の直径（Ｄ）と長さ（Ｌ）の比が０．１〜０．１５であることを特徴とする請求項３または５に記載の装置。
【請求項７】
共に対称軸（１３）周りに回転対称状に中空であるように形作られているアノード（１）とカソード（２）とを備え、これらによりアノード（１）の内部に放電空間が形成されており、前記カソード（２）が作動ガスの予備電離用の中空カソード空間（２１）を有し、当該中空カソード空間（２１）が、予備電離作動ガスを放電空間（３）に流入させるため等間隔に配置された複数の開口を有する金属壁（２２）によって前記放電空間（３）に対し境界を定められることで、前記放電空間（３）を流れる高電流のため前記開口を通ってガス放電経路の空間的に分布された基点（Ｆ）を創出する、擬火花スイッチ内のガス放電による高電流切り換え装置において、
前記中空カソード空間（２１）と前記放電空間（３）との間の前記金属壁（２２）が１センチメートル以上の厚さを有することで、前記金属壁（２２）の開口が流入チャネル（２３）に変わり、当該チャネルの端部（２３１）が、前記放電空間（３）内の流入チャネル（２３）を通って生成されたガス放電経路が厳密に指向されたプラズマチャネル（３１）として空間的に分布されるために分岐するまで共線状に前記放電空間（３）に向かって配向されること、および
ほぼ半径方向に延びる冷却チャネル（２４）が前記金属壁（２２）に設けられて効率的冷却により前記中空カソード（２）の金属壁（２２）のイオン浸食を低減することを特徴とする装置。
【請求項８】
前記放電空間（３）への前記流入チャネル（２３）の開口が、湾曲した金属壁（２２）で、中空カソード（２）とアノード（１）の対称軸（１３）に対して同心配置された少なくとも１つの円線上に均一分布して配置されることを特徴とする請求項７に記載の装置。
【請求項９】
少なくとも前記放電空間（３）内に開口する放電チャネル（２３１）を示す所定部分内で、前記金属壁（２２）内の流入チャネル（２３）が、長さ（Ｌ）より大幅に小さい均一な直径（Ｄ）を有することを特徴とする請求項７に記載の装置。
【請求項１０】
前記流入チャネル（２３）がそれぞれ、共線の入力部（２３２）と、分岐するチャネル部分とで形成されており、前記共線入力部（２３２）が前記中空カソード空間（２１）から始まって、前記放電空間（３）に向かって分岐する放電チャネル（２３１）に入ることを特徴とする請求項７に記載の装置。
【請求項１１】
前記中空カソード空間（２１）内で始まる前記共線入力部（２３２）が、前記放電空間（３）への前記分岐放電チャネル（２３１）より大きい直径を有し、前記分岐放電チャネル（２３１）のみが直径（Ｄ）と長さ（Ｌ）の所定比で形成されていることを特徴とする請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記放電チャネル（２３１）の直径（Ｄ）と長さ（Ｌ）の比が０．１〜０．１５であることを特徴とする請求項９または１１に記載の装置。
【請求項１３】
前記冷却チャネル（２４）がそれぞれ、前記流入チャネル（２３）間の中心に配置されかつ前記中空カソード（２）の対称軸（１３）にて相互に交差し、冷媒供給源（２５）と冷媒出口（２６）とがそれぞれ、半円状で互いに対向して配置されるように形成されることを特徴とする請求項１または７に記載の装置。
【請求項１４】
前記冷媒供給源（２５）と前記冷媒出口（２６）とが、円筒状表面領域に沿って前記カソードの裏端面から除去された対向配置溝（２７）として形成されることを特徴とする請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
前記電離作動ガスを流入させる各流入チャネル（２３）が、対をなして対称配置された冷却チャネル（２４）により囲まれ、そのような冷媒チャネル対（２４２）すべての中心軸（２４１）が、前記中空カソード（２）の対称軸（１３）で交差することを特徴とする請求項１３に記載の装置。
【請求項１６】
前記中空カソード（２）が高融点金属で作製されることを特徴とする請求項１または７に記載の装置。
【請求項１７】
前記中空カソード（２）がカソード基体（２８）と電極カラー（２９）とを備え、前記電極カラー（２９）が高融点金属で作製され、前記カソード基体（２８）が高熱伝導率を有する金属で作製されることを特徴とする請求項１６に記載の装置。
【請求項１８】
前記高融点金属がタングステンまたはモリブデンで作製されることを特徴とする請求項１６または１７に記載の装置。
【請求項１９】
前記カソード基体（２８）が銅または銅合金で作製されることを特徴とする請求項１７に記載の装置。
【請求項２０】
前記高熱伝導カソード基体（２８）と前記高融点電極カラー（２９）の間の境界が、前記中空カソード（２）の金属壁（２２）内に配置されることを特徴とする請求項１７に記載の装置。
【請求項２１】
前記冷却チャネル（２４）が前記カソードカラー（２９）内に配置されることを特徴とする請求項１７に記載の装置。
【請求項２２】
前記冷却チャネル（２４）が前記カソード基体（２８）内に配置されることを特徴とする請求項１７に記載の装置。