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【手続補正書】
【提出日】平成21年7月2日(2009.7.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルコキシアルキルアクリレート（成分Ａ）及び架橋可能な官能基を有するアクリル系モノマー（成分Ｂ）を必須の単量体成分として構成される重量平均分子量４０万〜１６０万のアクリル系ポリマーおよび架橋剤を含む粘着剤組成物であって、アクリル系ポリマーを構成する全モノマー成分１００重量部に対する成分Ａの含有量が４５〜９９．５重量部、成分Ｂの含有量が０．５〜４．５重量部であり、アクリル系ポリマーを構成するモノマー成分中にカルボキシル基含有モノマーを実質的に含まないことを特徴とする粘着剤組成物。
【請求項２】
アクリル系ポリマーを構成する全モノマー成分１００重量部に対する成分Ａの含有量が５０〜９９．５重量部である請求項１に記載の粘着剤組成物。
【請求項３】
成分Ｂが水酸基を有するアクリル系モノマーである請求項１または２に記載の粘着剤組成物。
【請求項４】
架橋構造化した後のゲル分率が４０〜８０％である請求項１〜３のいずれかの項に記載の粘着剤組成物。
【請求項５】
前記アクリル系ポリマー１００重量部に対して、脂肪族系イソシアネート架橋剤を０．０１〜３．０重量部、複数のヒドロキシル基を含有するアミン系化合物を０．０１〜５．０重量部含む粘着剤組成物である請求項１〜４のいずれかの項に記載の粘着剤組成物。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかの項に記載の粘着剤組成物を塗布した粘着製品。
【請求項７】
請求項６に記載の粘着製品を用いたディスプレイ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
すなわち、本発明は、アルコキシアルキルアクリレート（成分Ａ）及び架橋可能な官能基を有するアクリル系モノマー（成分Ｂ）を必須の単量体成分として構成される重量平均分子量４０万〜１６０万のアクリル系ポリマーおよび架橋剤を含む粘着剤組成物であって、アクリル系ポリマーを構成する全モノマー成分１００重量部に対する成分Ａの含有量が４５〜９９．５重量部、成分Ｂの含有量が０．５〜４．５重量部であり、アクリル系ポリマーを構成するモノマー成分中にカルボキシル基含有モノマーを実質的に含まないことを特徴とする粘着剤組成物を提供する。アクリル系ポリマーを構成する全モノマー成分１００重量部に対する成分Ａの含有量は５０〜９９．５重量部が好ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
さらに、本発明は、アルコキシアルキルアクリレート（成分Ａ）及び架橋可能な官能基を有するアクリル系モノマー（成分Ｂ）を必須の単量体成分として構成される重量平均分子量４０万〜１６０万のアクリル系ポリマー１００重量部に対して、脂肪族系イソシアネート架橋剤を０．０１〜３．０重量部、複数のヒドロキシル基を含有するアミン系化合物を０．０１〜５．０重量部含む粘着剤組成物であって、アクリル系ポリマーを構成する全モノマー成分１００重量部に対する成分Ａの含有量が４５〜９９．５重量部、成分Ｂの含有量が０．５〜４．５重量部であり、アクリル系ポリマーを構成するモノマー成分中にカルボキシル基含有モノマーを実質的に含まないことを特徴とする前記の粘着剤組成物を提供する。アクリル系ポリマーを構成する全モノマー成分１００重量部に対する成分Ａの含有量は５０〜９９．５重量部が好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月11日(2009.3.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
合成例１
撹拌装置、温度計、コンデンサーを備えた反応容器に、２つ以上のアルコール性ヒドロキシル基を有する化合物として１，５−ペンタンジオールと１，６−ヘキサンジオールから誘導されるポリカーボネートジオール（数平均分子量８００）を３６０ｇ（０．４５ｍｏｌ）、ジメチロールブタン酸を８１．４ｇ（０．５５ｍｏｌ）、及び分子量調整剤（反応停止剤）としてｎ−ブタノール１１．８ｇ（０．１６ｍｏｌ）を投入した。次に、芳香環に直結していないイソシアネート基を有する化合物としてヘキサメチレンジイソシアネート１５１．２ｇ（１．０８ｍｏｌ）を投入し、撹拌しながら６０℃まで加熱して停止し、反応容器内の温度が低下し始めた時点で再度加熱して８０℃で撹拌を続け、赤外線吸収スペクトルでイソシアネート基の吸収スペクトル（２２８０ｃｍ−１）が消失したことを確認して反応を終了した。次いで、固形分が５０ｗｔ％となるようにカルビトールアセテートを添加し、希釈剤を含有する粘稠液体のカルボキシル基含有ウレタン樹脂（ワニスＡ）を得た。得られたカルボキシル基含有ウレタン樹脂の固形分の酸価は５１．０ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
合成例２
撹拌装置、温度計、コンデンサーを備えた反応容器に、２つ以上のアルコール性ヒドロキシル基を有する化合物として１，５−ペンタンジオールと１，６−ヘキサンジオールから誘導されるポリカーボネートジオール（数平均分子量８００）を３６０ｇ（０．４５ｍｏｌ）、ジメチロールブタン酸を８１．４ｇ（０．５５ｍｏｌ）、及び分子量調整剤（反応停止剤）としてｎ−ブタノール１１．８ｇ（０．１６ｍｏｌ）を投入した。次に、芳香環に直結していないイソシアネート基を有する化合物としてトリメチルヘキサメチレンジイソシアネート２００．９ｇ（１．０８ｍｏｌ）を投入し、撹拌しながら６０℃まで加熱して停止し、反応容器内の温度が低下し始めた時点で再度加熱して８０℃で撹拌を続け、赤外線吸収スペクトルでイソシアネート基の吸収スペクトル（２２８０ｃｍ−１）が消失したことを確認して反応を終了した。次いで、固形分が５０ｗｔ％となるようにカルビトールアセテートを添加し、希釈剤を含有する粘稠液体のカルボキシル基含有ウレタン樹脂（ワニスＢ）を得た。得られたカルボキシル基含有ウレタン樹脂の固形分の酸価は４９．８ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
合成例３
撹拌装置、温度計、コンデンサーを備えた反応容器に、２つ以上のアルコール性ヒドロキシル基を有する化合物として１，５−ペンタンジオールと１，６−ヘキサンジオールから誘導されるポリカーボネートジオール（数平均分子量８００）を３６０ｇ（０．４５ｍｏｌ）、ジメチロールブタン酸を８１．４ｇ（０．５５ｍｏｌ）、及び１分子中に１つのアルコール性ヒドロキシル基及び１つ以上のフェノール性ヒドロキシル基を有する化合物としてヒドロキシフェニルエチルアルコール２２．１ｇ（０．１６ｍｏｌ）を投入した。次に、芳香環に直結していないイソシアネート基を有する化合物としてトリメチルヘキサメチレンジイソシアネート２００．９ｇ（１．０８ｍｏｌ）を投入し、撹拌しながら６０℃まで加熱して停止し、反応容器内の温度が低下し始めた時点で再度加熱して８０℃で撹拌を続け、赤外線吸収スペクトルでイソシアネート基の吸収スペクトル（２２８０ｃｍ−１）が消失したことを確認して反応を終了した。次いで、固形分が５０ｗｔ％となるようにカルビトールアセテートを添加し、希釈剤を含有する粘稠液体の末端にフェノール性ヒドロキシル基を有するカルボキシル基含有ウレタン樹脂（ワニスＣ）を得た。得られた末端にフェノール性ヒドロキシル基を有するカルボキシル基含有ウレタン樹脂の固形分の酸価は４８．８ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
比較合成例１
撹拌装置、温度計、コンデンサーを備えた反応容器に、２つ以上のアルコール性ヒドロキシル基を有する化合物として１，５−ペンタンジオールと１，６−ヘキサンジオールから誘導されるポリカーボネートジオール（数平均分子量８００）を３６０ｇ（０．４５ｍｏｌ）、ジメチロールブタン酸を８１．４ｇ（０．５５ｍｏｌ）、及び分子量調整剤（反応停止剤）としてｎ−ブタノール１１．８ｇ（０．１６ｍｏｌ）を投入した。次に、芳香族イソシアネートとしてトリレンジイソシアネート１８７．９ｇ（１．０８ｍｏｌ）を投入し、撹拌しながら６０℃まで加熱して停止し、反応容器内の温度が低下し始めた時点で再度加熱して８０℃で撹拌を続け、赤外線吸収スペクトルでイソシアネート基の吸収スペクトル（２２８０ｃｍ−１）が消失したことを確認して反応を終了した。次いで、固形分が５０ｗｔ％となるようにカルビトールアセテートを添加し、希釈剤を含有する粘稠液体のカルボキシル基含有ウレタン樹脂（ワニスＤ）を得た。得られたカルボキシル基含有ウレタン樹脂の固形分の酸価は４９．５ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
（６）電気絶縁性
上記実施例１〜８及び比較例１、２の各熱硬化性樹脂組成物をそれぞれＬ／Ｓ（ライン／スペース）＝２０／２０μｍのポリイミド基板（エスパネックス；新日鐵化学（株）の登録商標）上に塗膜を作成し、１５０℃で６０分間熱硬化させた（乾燥膜厚１５μｍ）。得られた硬化被膜の電気絶縁性を以下の基準にて評価した。
加湿条件：温度１２０℃、湿度８５％ＲＨ、印加電圧６０Ｖ、１００時間
試験条件：測定時間６０秒、印加電圧６０Ｖ、室温にて測定
◎：加湿後の絶縁抵抗値１０１２Ω以上、銅のマイグレーションなし
○：加湿後の絶縁抵抗値１０１２Ω未満、１０９Ω以上、銅のマイグレーションなし
△：加湿後の絶縁抵抗値１０９Ω以上、銅のマイグレーションあり
×：加湿後の絶縁抵抗値１０８Ω以下、銅のマイグレーションあり
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月8日(2009.10.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０４】
比較例４
（バインダー樹脂溶液Ｈの調製）
２００ｍｌのガラス製セパラブルフラスコに、アクリル樹脂（ポリ（ブチルメタクリレート））５ｇおよびテルピオネール９５ｇを仕込み、６０℃に加熱しながら１時間攪拌してアクリルを溶解させることにより、バインダー樹脂溶液Ｈを調製した。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月14日(2009.7.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
局所適用向けの組成物において、ＥＧＦＲ阻害特性を有する、エクオールと、スタウロスポリンと、アエロプリシニンと、インドカルバゾールと、ラベンダスチンと、ピセアタンノールと、ケンフェロールと、ダイゼインと、エルブスタチンと、チルホスチンと、これらの組み合わせと、から選択される、天然ＥＧＦＲ阻害化合物と、レチノイドと、皮膚科学的に適したキャリアとを有することを特徴とする局所用組成物。
【請求項２】
請求項１に記載の局所用組成物において、前記レチノイドが、レチノイン酸、全トランスレチノイン酸、１３−シスレチノイン酸、９−シスレチノイン酸、レチノール、レチナール、レチノイン酸エステル及びこれらの混合物から選択される、天然レチノイドであることを特徴とする局所用組成物。
【請求項３】
請求項２に記載の局所用組成物において、前記レチノイン酸エステルは、酢酸レチノール又はパルミチン酸レチノールであることを特徴とする局所用組成物。
【請求項４】
請求項１に記載の局所用組成物において、前記レチノイドは、アダパレンと、タザロテンと、レチノイン酸エチルエステルのトリメチルメトキシフェニル類似物とのいずれから選択されることを特徴とする局所用組成物。
【請求項５】
請求項１〜４の内のいずれか１項に記載の局所用組成物において、更に、ダイズ由来の混合物、単離物または抽出物の形態で存在するゲニステイン又はケルセチンを有することを特徴とする局所用組成物。
【請求項６】
請求項１〜５の内のいずれか１項に記載の局所用組成物において、前記皮膚科学的に適したキャリアは、更に、皮膚軟化剤、乳液、保湿剤、又はこれらの組み合わせを含むことを特徴とする局所用組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月6日(2009.1.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】細胞の培養方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  繊維状リン酸カルシウム化合物の係合により形成された、直径が１００〜５００μｍの範囲にある気孔から構成される気孔連続体を含み、かつ全体の気孔率が７０〜９９％の範囲にある多孔質リン酸カルシウム化合物シートを用いて、細胞を培養することを特徴とする細胞の培養方法。
【請求項２】  細胞が肝細胞、軟骨細胞、または骨芽細胞である請求項１に記載の細胞の培養方法。
【請求項３】  繊維状リン酸カルシウム化合物の係合により形成された、直径が１００〜５００μｍの範囲にある気孔から構成される気孔連続体を含み、かつ全体の気孔率が７０〜９９％の範囲にある多孔質リン酸カルシウム化合物シート。
【請求項４】  繊維状リン酸カルシウム化合物が、水酸アパタイトからなることを特徴とする請求項３に記載の多孔質リン酸カルシウム化合物シート。
【請求項５】  請求項３もしくは４に記載の多孔質リン酸カルシウム化合物シートからなる骨芽細胞培養用シート。
【請求項６】  繊維状リン酸カルシウム化合物１質量部に対して、粒子径が１００〜５００μｍの範囲にある可燃性球状材料を１００〜２０００質量部の範囲にて含む混合スラリを吸引ろ過により脱水して成形体を得て、次いで、該成形体を加熱して該可燃性球状材料を焼却除去する請求項３に記載の多孔質リン酸カルシウム化合物シートの製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明は、繊維状リン酸カルシウム化合物の係合により形成された、直径が１００〜５００μｍの範囲にある気孔から構成される気孔連続体を含み、かつ全体の気孔率が７０〜９９％の範囲にある多孔質リン酸カルシウム化合物シートを用いて、細胞を培養することを特徴とする細胞の培養方法にある。
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月13日(2009.5.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
相対峙する回路電極を加熱、加圧によって、加圧方向の電極間を電気的に接続する加熱接着性接着剤において、前記接着剤中には、１０μｍ以下の平均粒径で分散されたゴム粒子と、フィルム形成性高分子と、エポキシ樹脂と、潜在性硬化剤とを含有する回路接続用接着剤であって、
前記ゴム粒子は、平均粒径以下の粒子が粒径分布の８０％以上を占めるシリコーン微粒子である回路接続用接着剤。
【請求項２】
相対峙する回路電極を加熱、加圧によって、加圧方向の電極間を電気的に接続する加熱接着性接着剤において、前記接着剤中には、硬化後に１０μｍ以下の平均粒径で分散されているゴム粒子と、フィルム形成性高分子と、エポキシ樹脂と、潜在性硬化剤とを含有する回路接続用接着剤であって、
前記ゴム粒子は、平均粒径以下の粒子が粒径分布の８０％以上を占めるシリコーン微粒子である回路接続用接着剤。
【請求項３】
ＤＳＣ（示差走査熱分析）での発熱開始温度が６０℃以上である、請求項１又は２に記載の回路接続用接着剤。
【請求項４】
硬化反応の８０％が終了する温度が２６０℃である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の回路接続用接着剤。
【請求項５】
発熱量が５０〜１４０Ｊ／ｇである、請求項１〜４のいずれか一項に記載の回路接続用接着剤。
【請求項６】
さらに０．２〜３０体積％の導電粒子を分散させた、請求項１〜５のいずれか一項に記載の回路接続用接着剤。
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月20日(2008.11.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置およびその作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁表面を有する基板上に形成されたゲート電極と、
前記ゲート電極上にゲート絶縁膜を介して形成された、チャネルを含む第１の島状半導体層と、
前記第１の島状半導体層上に形成された、ｎ型またはｐ型の導電型を付与する不純物元素を含む第２の島状半導体層と、
前記第２の島状半導体層上に形成された、ドレイン配線およびソース配線と、を有し、
前記ドレイン配線および前記ソース配線は、前記第１の島状半導体層をキャリアの移動方向と垂直に横断しており、
前記第２の島状半導体層と重ならない領域の、前記第１の島状半導体層は露呈しており、
前記チャネルの長さは、前記ドレイン配線および前記ソース配線の間隔に等しいことを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
絶縁表面を有する基板上に形成された第１および第２のゲート電極と、
前記第１および第２のゲート電極上にゲート絶縁膜を介して形成された、第１および第２のチャネルを含む第１の島状半導体層と、
前記第１の島状半導体層上に形成された、ｎ型またはｐ型の導電型を付与する不純物元素を含む第２の島状半導体層と、
前記第２の島状半導体層上に形成された、ドレイン配線、ソース配線および配線と、を有し、
前記第２の島状半導体層は、前記第１のゲート電極とのみ重なる第１の領域と、前記第２のゲート電極とのみ重なる第２の領域と、前記第１および第２のゲート電極の両方と重なる第３の領域と、からなり、
前記ドレイン配線は、前記第１の領域上に形成され、
前記ソース配線は、前記第２の領域上に形成され、
前記配線は、前記第３の領域上に形成され、
前記ドレイン配線、前記ソース配線および前記配線は、前記第１の島状半導体層をキャリアの移動方向と垂直に横断しており、
前記ドレイン配線および前記配線は、蛇行部分を有しており、
前記第２の島状半導体層と重ならない領域の、前記第１の島状半導体層は露呈しており、
前記第１のチャネルの長さは、前記ドレイン配線および前記配線の間隔に等しく、
前記第２のチャネルの長さは、前記配線および前記ソース配線の間隔に等しいことを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
請求項１において、
前記ドレイン配線および前記ソース配線は、感光性樹脂を含むことを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
請求項２において、
前記ドレイン配線、前記ソース配線および前記配線は、感光性樹脂を含むことを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
絶縁表面を有する基板上にゲート電極を形成し、
前記ゲート電極を覆うゲート絶縁膜を形成し、
前記ゲート絶縁膜上に第１の島状半導体層を形成し、
前記第１の島状半導体層上にｎ型またはｐ型の導電型を付与する不純物元素を含む第２の島状半導体層を形成し、
感光性材料を含む導電性材料を液滴吐出法で吐出して、前記第２の島状半導体層上に接する導電膜パターンを形成し、
前記第１の島状半導体層を横断するようにレーザ光を選択的に照射して、前記導電膜パターンを選択的に露光し、
露光された前記導電膜パターンを現像して、ドレイン配線およびソース配線を形成し、
前記ドレイン配線および前記ソース配線をマスクとして前記第１および第２の島状半導体層をエッチングして、前記ドレイン配線および前記ソース配線に挟まれた領域の前記第１の島状半導体層を露呈することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項６】
絶縁表面を有する基板上に第１および第２のゲート電極を形成し、
前記第１および第２のゲート電極を覆うゲート絶縁膜を形成し、
前記ゲート絶縁膜上に第１の島状半導体層を形成し、
前記第１の島状半導体層上にｎ型またはｐ型の導電型を付与する不純物元素を含む第２の島状半導体層を形成し、
感光性材料を含む導電性材料を液滴吐出法で吐出して、前記第２の島状半導体層上に接する導電膜パターンを形成し、
前記第１の島状半導体層を横断するようにレーザ光を選択的に照射して、前記導電膜パターンを選択的に露光し、
露光された前記導電膜パターンを現像して、ドレイン配線、ソース配線および配線を形成し、
前記ドレイン配線、前記ソース配線および前記配線をマスクとして前記第１および第２の島状半導体層をエッチングして、前記ドレイン配線および前記配線に挟まれた領域ならびに前記配線および前記ソース配線に挟まれた領域の前記第１の島状半導体層を露呈し、
前記ドレイン配線および前記配線は、蛇行部分を有することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月14日(2009.4.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反応ガスが供給されるチャンバー内に設けられる半導体製造装置用保持体であって、被処理物を表面上に保持すると共に被処理物を加熱するための抵抗発熱体を具備するセラミックス製保持体と、一端がセラミックス製保持体をその被処理物保持表面以外の部位で支持し、他端がチャンバーに固定される支持部材とを備え、該セラミックス製保持体の被処理物保持表面以外の部位に設けた抵抗発熱体の電極端子及び引出線が絶縁管内に収納されており、前記セラミックス製保持体の荷重が、前記支持部材のみで支持されるか、又は前記支持部材と前記絶縁管で支持されており、前記絶縁管の一端が前記セラミックス製保持体との間で気密封止されていると共に前記絶縁管の他端自体が気密封止されていることを特徴とする半導体製造装置用保持体。
【請求項２】
前記絶縁管が、径の異なる２本の絶縁管を摺動可能に嵌め合わせされていることを特徴とする、請求項１に記載の半導体製造装置用保持体。
【請求項３】
前記絶縁管の一端と前記セラミックス製保持体との間の気密封止が、ガラス、窒化アルミニウム接合材、又は金属ロウでなされていることを特徴とする、請求項１又は２に記載の半導体製造装置用保持体。
【請求項４】
前記絶縁管の他端と前記チャンバーとの間が気密封止されていることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の半導体製造装置用保持体。
【請求項５】
前記絶縁管の他端において、該絶縁管の側面と前記チャンバーとの間でＯ−リング封止がなされていることを特徴とする、請求項４に記載の半導体製造装置用保持体。
【請求項６】
前記Ｏ−リングを前記絶縁管の軸方向に押潰すことにより、該Ｏ−リングが絶縁管側面及びチャンバーに押し付けられていることを特徴とする、請求項５に記載の半導体製造装置用保持体。
【請求項７】
前記絶縁管の熱伝導率が前記セラミックス製保持体の熱伝導率より低いことを特徴とする、請求項１〜６のいずれかに記載の半導体製造装置用保持体。
【請求項８】
前記引出線と前記チャンバーとの間が気密封止されていることを特徴とする、請求項１〜７のいずれかに記載の半導体製造装置用保持体。
【請求項９】
前記セラミックス製保持体と前記絶縁管の室温における熱膨張率の差が５．０×１０−６／℃以下であることを特徴とする、請求項１〜８のいずれかに記載の半導体製造装置用保持体。
【請求項１０】
前記支持部材が筒状であって、その内部空間の雰囲気が前記チャンバー内の雰囲気と同じに維持されることを特徴とする、請求項１〜９のいずれかに記載の半導体製造装置用保持体。
【請求項１１】
前記支持部材が筒状であって、その内部空間の雰囲気を０．１ＭＰａ（１気圧）未満の滅圧雰囲気若しくは真空雰囲気とすることを特徴とする、請求項１〜１０のいずれかに記載の半導体製造装置用保持体。
【請求項１２】
前記セラミックス製保持体が、窒化アルミニウム、炭化ケイ素、酸化アルミニウム、窒化ケイ素から選ばれた少なくとも１種のセラミックスで構成されていることを特徴とする、請求項１〜１１のいずれかに記載の半導体製造装置用保持体。
【請求項１３】
前記絶縁管が、窒化アルミニウム、炭化ケイ素、酸化アルミニウム、窒化ケイ素、ムライトから選ばれた少なくとも１種のセラミックスで構成されていることを特徴とする、請求項１〜１２のいずれかに記載の半導体製造装置用保持体。
【請求項１４】
前記支持部材が、熱伝導率３０Ｗ／ｍＫ以下の金属又はセラミックスで構成されていることを特徴とする、請求項１〜１３のいずれかに記載の半導体製造装置用保持体。
【請求項１５】
前記支持部材が、ステンレス、チタン、酸化アルミニウム、ムライト、スピネル、コージェライトから選ばれた少なくとも１種で構成されていることを特徴とする、請求項１４に記蔵の半導体製造装置用保持体。
【請求項１６】
請求項１〜１５のいずれかに記載の半導体製造装置用保持体を用いた半導体製造装置。
【請求項１７】
前記半導体製造装置用保持体を用いた半導体製造装置が、フォトリソグラフィー用コータディベロッパの樹脂膜の加熱硬化、又は低誘電率の絶縁膜の加熱焼成に用いる加熱装置であることを特徴とする、請求項１６に記載の半導体製造装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
上記目的を達成するため、本発明が提供する半導体製造装置用保持体は、反応ガスが供給されるチャンバー内に設けられる半導体製造装置用保持体であって、被処理物を表面上に保持すると共に被処理物を加熱するための抵抗発熱体を具備するセラミックス製保持体と、一端がセラミックス製保持体をその被処理物保持表面以外の部位で支持し、他端がチャンバーに固定される支持部材とを備え、該セラミックス製保持体の被処理物保持表面以外の部位に設けた抵抗発熱体の電極端子及び引出線が絶縁管内に収納されており、前記セラミックス製保持体の荷重が、前記支持部材のみで支持されるか、又は前記支持部材と前記絶縁管で支持されており、前記絶縁管の一端が前記セラミックス製保持体との間で気密封止されていると共に前記絶縁管の他端自体が気密封止されていることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月27日(2009.10.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ゲート電極がゲート絶縁膜を介して半導体基板上に形成されてなる電界効果トランジスタであって、
前記ゲート絶縁膜は、印加される電圧に応じて、相異なる複数の静電容量のうちの何れかの静電容量をとり、
前記ゲート絶縁膜の前記複数の静電容量の値に対応する複数のしきい値電圧を有し、
前記複数のしきい値電圧は記憶すべきデータに対応する
ことを特徴とする電界効果トランジスタ。
【請求項２】
前記ゲート絶縁膜は、巨大磁気抵抗材料又は遷移金属酸化物からなる可変容量膜を含む
ことを特徴とする請求項１に記載の電界効果トランジスタ。
【請求項３】
前記巨大磁気抵抗材料はＰｒＸＣａ１−ＸＭｎＯ３（０＜Ｘ＜１）である
ことを特徴とする請求項２に記載の電界効果トランジスタ。
【請求項４】
前記ゲート絶縁膜が前記半導体基板と前記可変容量膜とに挟まれた絶縁膜を備える
ことを特徴とする請求項２に記載の電界効果トランジスタ。
【請求項５】
前記ゲート絶縁膜は前記絶縁膜と前記可変容量膜とに挟まれた導体膜を備える
ことを特徴とする請求項４に記載の電界効果トランジスタ。
【請求項６】
前記ゲート電極と前記可変容量膜との接触面積は、前記導電体膜と前記絶縁膜との接触面積よりも小さい
ことを特徴とする請求項５に記載の電界効果トランジスタ。
【請求項７】
前記ゲート絶縁膜は、前記ゲート絶縁膜に印加される電圧パルスの電圧値、パルス幅及び印加回数のうちの少なくとも一つに応じて静電容量が変化する
ことを特徴とする請求項１に記載の電界効果トランジスタ。
【請求項８】
前記ゲート電極が前記ゲート絶縁膜を介して前記半導体基板上に形成されてなり、請求項１に係る電界効果トランジスタの動作方法であって、
前記ゲート絶縁膜に印加される電圧パルスの電圧値、パルス幅及び印加回数のうちの少なくとも一つを変化させることによって、前記ゲート絶縁膜の静電容量を変化させるステップ
を含むことを特徴とする電界効果トランジスタの動作方法。
【請求項９】
前記電界効果トランジスタの前記ゲート絶縁膜の静電容量は、印加電圧に応じて繰り返して変化する
ことを特徴とする請求項８に記載の電界効果トランジスタの動作方法。
【請求項１０】
印加電圧レベルが所定値を超えると、前記静電容量が、複数の値のうちの１つの値から他の値へ変化する
ことを特徴とする請求項１に記載の電界効果トランジスタ。
【請求項１１】
ゲート電極がゲート絶縁膜を介して半導体基板上に形成されてなり、前記ゲート絶縁膜に印加される電圧に応じて前記ゲート絶縁膜の静電容量が変化する電界効果トランジスタの動作方法であって、
前記ゲート絶縁膜の２つの静電容量に対応する２つのしきい電圧の中間の電圧を、読み出し電圧として前記ゲート電極に印加するステップと、
前記読み出し電圧を印加することによってドレイン電流が流れたか否かを検出するステップと、を含み
前記ゲート絶縁膜は、印加電圧に応じて静電容量が変化する
ことを特徴とする電界効果トランジスタの動作方法。
【請求項１２】
前記読み出し電圧は、前記ゲート絶縁膜の静電容量を変化させるに足る電圧に満たない
ことを特徴とする請求項１１に記載の電界効果トランジスタの動作方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月25日(2009.2.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リクエスト金額データを入力する入力手段と、
個人の日給データ、及び個人に既に前払いされた利用金額データを記憶する記憶手段と、
前記記憶手段に記憶された前記個人の日給データの所定開始日から前記リクエスト金額データを入力した日までの期間における累計データを算出し、前記累計データから前記記憶手段に記憶された前記個人に既に前払いされた金額データの前記期間における累計データを減算し、前記減算して得られた金額データに基づいて利用可能額データを算出し、前記リクエスト金額データで特定される金額と前記利用可能額データで特定される金額とを大小比較し、前記リクエスト金額データで特定される金額が前記利用可能額データで特定される金額を超えない場合に前記リクエスト金額を前記個人に対して支払うための振込データを作成して出力し、前記リクエスト金額データで特定される金額が前記利用可能額データで特定される金額を超える場合に前記振込データの作成を拒否する処理手段と、
前記振込データに基づいて前記個人の口座に前記リクエスト金額を振り込む手段と、
を有し、前記個人の給与の一部を前払いすることを特徴とする給与前払システム。
【請求項２】
請求項１記載のシステムにおいて、さらに、
前記個人の労働時間データを含む労働データを入力する手段と、
前記労働時間データに基づいて前記個人の日給データを算出する手段と、
を有することを特徴とする給与前払システム。
【請求項３】
請求項１，２のいずれかに記載のシステムにおいて、
前記処理手段は、前記減算して得られた金額データに一定の割合を乗じることで前記利用可能額データを算出することを特徴とする給与前払システム。
【請求項４】
入力装置にリクエスト金額データを入力するステップと、
記憶装置に個人の日給データ、及び前記個人に既に前払いされた利用金額を記憶するステップと、
処理装置により前記記憶装置に記憶された前記個人の日給データの所定開始日から前記リクエスト金額データを入力した日までの期間における累計データを算出するステップと、
処理装置により前記累計データから前記記憶装置に記憶された前記個人に既に前払いされた金額データの前記期間における累計データを減算するステップと、
処理装置により前記減算して得られた金額データに基づいて利用可能額データを算出するステップと、
処理装置により前記リクエスト金額データで特定される金額と前記利用可能額データで特定される金額とを大小比較し、前記リクエスト金額データで特定される金額が前記利用可能額データで特定される金額を超えない場合に前記リクエスト金額を前記個人に対して支払うための振込データを作成して出力し、前記リクエスト金額データで特定される金額が前記利用可能額データで特定される金額を超える場合に前記振込データの作成を拒否するステップと、
銀行決済装置により前記振込データに基づいて前記個人の口座に前記リクエスト金額を振り込むステップと、
を有し、前記個人の給与の一部を前払いすることを特徴とする給与前払方法。
【請求項５】
請求項４記載の方法において、さらに、
入力装置により前記個人の労働時間データを含む労働データを入力するステップと、
処理装置により前記労働時間データに基づいて前記個人の日給データを算出するステップと、
を有することを特徴とする給与前払方法。
【請求項６】
請求項４，５のいずれかに記載の方法において、
前記処理装置は、前記減算して得られた金額データに一定の割合を乗じることで前記利用可能額データを算出することを特徴とする給与前払方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は、リクエスト金額データを入力する入力手段と、個人の日給データ、及び個人に既に前払いされた利用金額データを記憶する記憶手段と、前記記憶手段に記憶された前記個人の日給データの所定開始日から前記リクエスト金額データを入力した日までの期間における累計データを算出し、前記累計データから前記記憶手段に記憶された前記個人に既に前払いされた金額データの前記期間における累計データを減算し、前記減算して得られた金額データに基づいて利用可能額データを算出し、前記リクエスト金額データで特定される金額と前記利用可能額データで特定される金額とを大小比較し、前記リクエスト金額データで特定される金額が前記利用可能額データで特定される金額を超えない場合に前記リクエスト金額を前記個人に対して支払うための振込データを作成して出力し、前記リクエスト金額データで特定される金額が前記利用可能額データで特定される金額を超える場合に前記振込データの作成を拒否する処理手段と、前記振込データに基づいて前記個人の口座に前記リクエスト金額を振り込む手段とを有し、前記個人の給与の一部を前払いすることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
また、本発明は、入力装置にリクエスト金額データを入力するステップと、記憶装置に個人の日給データ、及び前記個人に既に前払いされた利用金額を記憶するステップと、処理装置により前記記憶装置に記憶された前記個人の日給データの所定開始日から前記リクエスト金額データを入力した日までの期間における累計データを算出するステップと、処理装置により前記累計データから前記記憶装置に記憶された前記個人に既に前払いされた金額データの前記期間における累計データを減算するステップと、処理装置により前記減算して得られた金額データに基づいて利用可能額データを算出するステップと、処理装置により前記リクエスト金額データで特定される金額と前記利用可能額データで特定される金額とを大小比較し、前記リクエスト金額データで特定される金額が前記利用可能額データで特定される金額を超えない場合に前記リクエスト金額を前記個人に対して支払うための振込データを作成して出力し、前記リクエスト金額データで特定される金額が前記利用可能額データで特定される金額を超える場合に前記振込データの作成を拒否するステップと、銀行決済装置により前記振込データに基づいて前記個人の口座に前記リクエスト金額を振り込むステップとを有し、前記個人の給与の一部を前払いすることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月27日(2008.11.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】トナーカートリッジ及び画像形成装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】トナーを攪拌または搬送するアジテータと、
前記アジテータ同士を連結するアジテータ連結部と、
前記アジテータと前記アジテータ連結部を回転させるアジテータ軸部とを備え、
互いに隣り合う前記アジテータ連結部が前記アジテータ軸部に対し互いに反対側に設けられることにより、前記アジテータは前記アジテータ軸部の軸方向に対し傾斜して設けられていることを特徴とするトナーカートリッジ。
【請求項２】前記アジテータ及び前記アジテータ連結部は棒状であることを特徴とする請求項１記載のトナーカートリッジ。
【請求項３】請求項１または請求項２記載のトナーカートリッジを備えたことを特徴とする画像形成装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は、トナーを攪拌または搬送するアジテータと、前記アジテータ同士を連結するアジテータ連結部と、前記アジテータと前記アジテータ連結部を回転させるアジテータ軸部とを備え、互いに隣り合う前記アジテータ連結部が前記アジテータ軸部に対し互いに反対側に設けられることにより、前記アジテータは前記アジテータ軸部の軸方向に対し傾斜して設けられていることを特徴とするトナーカートリッジ及びそれを用いた画像形成装置である。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月9日(2009.1.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 振動エネルギ変換器を刺激して超音波ビームを生成し、そのビームを所定の角度位置に向けて研究対象を貫通させる能力のある超音波システムにおいて、対象の組織内の液体流の１つあるいは複数の特性についてカラー表示を行う装置であって、
所定の第１の刺激繰返し率でビーム位置ごとに所定の第１の数だけ、前記変換器を刺激して、第１の超音波を生成し、所定の第２の刺激繰返し率でビーム位置ごとに所定の第２の数だけ、前記変換器を刺激して、第２の超音波を生成し、前記第１の数が前記第２の数を利も大きい、制御装置と、
前記第１の超音波に応答して前記対象内の所定の距離の範囲から後方散乱された超音波に対応する第１の受信器信号を生成し、前記第２の超音波に応答して前記対象内の所定の距離の範囲から後方散乱された超音波に対応する第２の受信器信号を生成する受信器と、
第１の受信器信号に応答して液体流の第１の特性を示す第１のカラー・フロー信号を生成し、第２の受信器信号に応答して液体流の第２の特性を示す第２のカラー・フロー信号を生成するように接続されたカラー・フロー・プロセッサと、第１と第２のカラー・フロー信号の組合せを選択するように接続された論理装置と、他の組織からの液体流の液体流ダイナミクスおよびセグメント化をより簡単に視覚化できるように組み合わされた第１のカラー・フロー信号と第２のカラー・フロー信号に応答して画像を表示するように接続されたディスプレイとを有する装置。
【請求項２】 第１の刺激繰返し率が第２の刺激繰返し率よりも小さい請求項１に記載の装置。
【請求項３】 第１の特性が液体流に隣接した組織からの液体流の部分を含む請求項１に記載の装置。
【請求項４】 第２の特性が液体流の速度のダイナミックの変化を含む請求項１に記載の装置。
【請求項５】 第１のカラー・フロー信号の値が所定の閾値よりも高い液体流を示した場合に、第１のカラー・フロー信号を第２のカラー・フロー信号で置き換えるように論理装置が接続されている請求項１乃至４のいずれかに記載の装置。
【請求項６】 第１のカラー・フロー信号の値が所定の閾値よりも高い液体流を示した場合に、第２のカラー・フロー信号を第１のカラー・フロー信号と組み合わせるように論理装置が接続されている請求項１乃至４のいずれかに記載の装置。
【請求項７】 少なくとも第１のカラー・フロー信号に応答して第１のメモリ信号を格納するための第１のメモリをさらに含む請求項１乃至６のいずれかに記載の装置。
【請求項８】 第２のカラー・フロー信号に応答して第２のメモリ信号を格納するようにメモリが接続されている請求項７に記載の装置。
【請求項９】 所定の角度位置と所定の範囲に応答してメモリがアドレス指定される請求項７または８に記載の装置。
【請求項１０】 表示の座標軸に従ってメモリがアドレス指定される請求項７または８に記載の装置。
【請求項１１】 振動エネルギ変換器を刺激して超音波ビームを生成し、そのビームを所定の角度位置に向けて研究対象を貫通させる能力のある超音波システムにおける、対象の組織内の液体流の１つあるいは複数の特性のカラー表示を行う方法において、
所定の第１の刺激繰返し率でビーム位置ごとに所定の第１の数だけ、前記変換器を刺激して、第１の超音波を生成し、所定の第２の刺激繰返し率でビーム位置ごとに所定の第２の数だけ、前記変換器を刺激して、第２の超音波を生成するステップであって、前記第１の数が前記第２の数を利も大きい、前記生成するステップと、
前記第１の超音波に応答して前記対象内の所定の距離の範囲から後方散乱された超音波に対応する第１の受信器信号を生成するステップと、
前記第２の超音波に応答して前記対象内の所定の距離の範囲から後方散乱された超音波に対応する第２の受信器信号を生成するステップと、
第１の受信器信号に応答して液体流の第１の特性を示す第１のカラー・フロー信号を生成するステップと、第２の受信器信号に応答して液体流の第２の特性を示す第２のカラー・フロー信号を生成するステップと、第１と第２のカラー・フロー信号の組合せを選択するステップと、液体流ダイナミクスと他の組織から分離した液体流とをより簡単に視覚化できるように、組み合わされた第１のカラー・フロー信号と第２のカラー・フロー信号に応答して画像を表示するステップとを含む方法。
【請求項１２】 第１の刺激繰返し率が第２の刺激繰返し率よりも小さい請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】 第１の特性が液体流に隣接した組織からの液体流のセグメント化を含む請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】 第２の特性が液体流の速度のダイナミックの変化を含む請求項１１に記載の方法。
【請求項１５】 選択ステップが、第１のカラー・フロー信号の値が所定の閾値よりも高い液体流を示した場合に、第１のカラー・フロー信号を第２のカラー・フロー信号で置き換えるステップを含む請求項１１乃至１４のいずれかに記載の方法。
【請求項１６】 選択ステップが、第１のカラー・フロー信号の値が所定の閾値よりも高い液体流を示した場合に、第２のカラー・フロー信号を第１のカラー・フロー信号と組み合わせるステップを含む請求項１１乃至１４のいずれかに記載の方法。
【請求項１７】 少なくとも第１のカラー・フロー信号に応答して第１のメモリ信号を格納するステップをさらに含む請求項１１乃至１６のいずれかに記載の装置。
【請求項１８】 格納ステップが、第２のカラー・フロー信号に応答して第２のメモリ信号を格納するステップをさらに含む請求項１７に記載の装置。
【請求項１９】 所定の角度位置と所定の範囲に応答して第１のメモリ信号を読み取るステップをさらに含む請求項１７又は１８に記載の装置。
【請求項２０】 表示の座標軸に従って第１のメモリ信号を読み取るステップをさらに含む請求項１７又は１８に記載の装置。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年1月23日(2009.1.23)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３６】
本発明は、接着剤コーティングに依拠せず、凹凸面に多層(または単層)のマスキングフィルムを貼着することを可能にする。さらに、本発明において、プロセスオイル、ブロッキング防止剤、耐熱性の基板も、必要ない。フィルムの馴染み性および粘着付与剤の割合によって、凹凸面への初期接着を制御するのが好ましい。上記の多層マスキングフィルムは、時間経過に安定であり、湿気、熱、紫外線に曝された場合でさえも、安定である。
【手続補正書】
【提出日】平成21年8月7日(2009.8.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技に関する制御を司る制御基板、及び該制御基板を収容する基板ケースを有する制御装置と、
遊技機本体の背面に設けられ、前記制御装置を前記基板ケースと前記遊技機本体の背面とを離間させた状態で装着し、その基板ケースと遊技機本体の背面との間に空間領域を形成する台座部材と、を備え、
前記台座部材に複数の貫通孔を設け、前記複数の貫通孔に、前記台座部材を挟んで前記空間領域とは反対側から空間領域側に複数の細分化部材をそれぞれ挿通させて配設し、前記複数の細分化部材により前記空間領域を細分化する構成としたことを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記複数の細分化部材を前記空間領域に交差させて配設したことを特徴とする請求項１に記載の遊技機。
【請求項３】
前記台座部材は、前記空間領域を囲む位置に設けられる貫通孔形成部を有し、
前記貫通孔形成部に前記複数の貫通孔が設けられていることを特徴とする請求項１又は２に記載の遊技機。
【請求項４】
前記貫通孔形成部は、遊技機背面に沿って異なる方向に延びる複数の板部により形成され、
前記複数の板部に前記貫通孔がそれぞれ設けられていることを特徴とする請求項３に記載の建物の遊技機。
【請求項５】
前記複数の板部に設けられた各貫通孔のうちの一方に挿通された前記細分化部材が、他方に挿通された前記細分化部材に係合されていることを特徴とする請求項４に記載の建物の遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月17日(2009.6.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のノズルからインクを吐出し、記録媒体上に画像記録を行う記録ヘッドを有する記録部と、
前記記録部に供給するための前記インクを貯留する第１のタンクと、
前記第１のタンクに貯留された前記インクの液面を前記記録ヘッドの前記複数のノズルが形成されたノズル面より鉛直方向上方、且つ所定の高さに維持させるために前記第１のタンクに設けられた第１の検知ユニットと、
前記第１のタンクを大気と連通、又は遮断させるために前記第１のタンクに設けられた弁と、
前記第１のタンクに供給するための前記インクを貯留する第２のタンクと、
前記第２のタンクに貯留された前記インクの液面を前記ノズル面より鉛直方向下方、且つ所定の高さに維持させるために前記第２のタンクに設けられた第２の検知ユニットと、
前記第２のタンクの前記インクを前記第１のタンクに送液するポンプと、
前記第１のタンクと前記記録部との間を接続する第１の配管と、
前記第１のタンクと前記第２のタンクとの間を接続する第２の配管と、
前記記録部と前記第２のタンクとの間を接続する第３の配管と、によって循環インク経路を構成し、
前記循環インク経路において、インク循環時は、前記第１のタンクの前記弁を開放し、非インク循環時は、前記第１のタンクの前記弁を閉じることを特徴とするインクジェット記録装置。
【請求項２】
前記インク循環時、前記第２のタンクは大気と連通していることを特徴とする請求項１に記載のインクジェット記録装置。
【請求項３】
前記非インク循環、前記第２のタンクは大気と連通していることを特徴とする請求項１、又は２に記載のインクジェット記録装置。
【請求項４】
前記第２のタンクは、該第２のタンクを大気と連通、又は遮断させるために弁が設けられていることを特徴とする請求項２、又は３に記載の画像記録装置。
【請求項５】
前記第１のタンクの容量Ｖ１と前記第２のタンクの容量Ｖ２との関係が、Ｖ２＞Ｖ１であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のインクジェット記録装置。
【請求項６】
前記ポンプは、前記第１の検知ユニットの検出情報のみに基づいて駆動することを特徴とする請求項１に記載のインクジェット記録装置。
【請求項７】
複数のノズルからインクを吐出し、記録媒体上に画像記録を行う記録ヘッドを有する記録部と、
前記記録部に供給するための前記インクを貯留し、前記記録ヘッドの複数のノズルが形成されたノズル面より鉛直方向上方に配置された第１のタンクと、
前記第１のタンクに貯留された前記インクの液面を所定の高さに維持させるために前記第１のタンクに設けられた第１の検知ユニットと、
前記第１のタンクを大気と連通、又は遮断させるために前記第１のタンクに設けられた弁と、
前記第１のタンクに供給するための前記インクを貯留し、前記ノズル面より鉛直方向下方に配置された第２のタンクと、
前記第２のタンクに貯留された前記インクの液面を所定の高さに維持させるために前記第２のタンクに設けられた第２の検知ユニットと、
前記第２のタンクを大気と連通、又は遮断させるために前記第２のタンクに設けられた弁と、
前記第２のタンクの前記インクを前記第１のタンクに送液するポンプと、
前記第１のタンクと前記記録部との間を接続する第１の配管と、
前記第１のタンクと前記第２のタンクとの間を接続する第２の配管と、
前記記録部と前記第２のタンクとの間を接続する第３の配管と、によって循環インク経路を構成し、
前記循環インク経路において、非インク循環時は、前記第１のタンクの前記弁を閉じると共に、前記第２のタンクの前記弁を開放し、インク循環時は、少なくとも前記第１のタンクの前記弁を開放することを特徴とするインクジェット記録装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明は目的を達成するために、複数のノズルからインクを吐出し、記録媒体上に画像記録を行う記録ヘッドを有する記録部と、記録部に供給するためのインクを貯留する第１のタンクと、第１のタンクに貯留されたインクの液面を記録ヘッドの複数のノズルが形成されたノズル面より鉛直方向上方、且つ所定の高さに維持させるために第１のタンクに設けられた第１の検知ユニットと、第１のタンクを大気と連通、又は遮断させるために第１のタンクに設けられた弁と、第１のタンクに供給するためのインクを貯留する第２のタンクと、第２のタンクに貯留されたインクの液面をノズル面より鉛直方向下方、且つ所定の高さに維持させるために第２のタンクに設けられた第２の検知ユニットと、第２のタンクのインクを第１のタンクに送液するポンプと、第１のタンクと記録部との間を接続する第１の配管と、第１のタンクと第２のタンクとの間を接続する第２の配管と、記録部と第２のタンクとの間を接続する第３の配管と、によって循環インク経路を構成し、循環インク経路において、インク循環時は、第１のタンクの前記弁を開放し、非インク循環時は、第１のタンクの前記弁を閉じることを特徴とするインクジェット記録装置を提供する。
また本発明は目的を達成するために、複数のノズルからインクを吐出し、記録媒体上に画像記録を行う記録ヘッドを有する記録部と、記録部に供給するためのインクを貯留し、記録ヘッドの複数のノズルが形成されたノズル面より鉛直方向上方に配置された第１のタンクと、第１のタンクに貯留された前記インクの液面を所定の高さに維持させるために第１のタンクに設けられた第１の検知ユニットと、第１のタンクを大気と連通、又は遮断させるために第１のタンクに設けられた弁と、第１のタンクに供給するためのインクを貯留し、ノズル面より鉛直方向下方に配置された第２のタンクと、第２のタンクに貯留されたインクの液面を所定の高さに維持させるために第２のタンクに設けられた第２の検知ユニットと、第２のタンクを大気と連通、又は遮断させるために第２のタンクに設けられた弁と、第２のタンクのインクを前記第１のタンクに送液するポンプと、第１のタンクと記録部との間を接続する第１の配管と、第１のタンクと第２のタンクとの間を接続する第２の配管と、記録部と第２のタンクとの間を接続する第３の配管と、によって循環インク経路を構成し、循環インク経路において、非インク循環時は、第１のタンクの弁を閉じると共に、第２のタンクの前記弁を開放し、インク循環時は、少なくとも第１のタンクの弁を開放することを特徴とするインクジェット記録装置を提供する。