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【手続補正書】
【提出日】平成21年4月8日(2009.4.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内枠に設けた遊技盤の遊技領域を覆うように、前記内枠に対して、正面視で一方の側部を回動軸芯として開閉自在な前面枠が設けられ、前記前面枠に前記遊技領域を視認する窓部が設けられてある遊技機において、
前記前面枠は、前記窓部に対応した開口が形成されたベース部材と、前記ベース部材の前面側に設けられた中間ケース状部材とを備え、
前記ベース部材が、前記回動軸芯と反対側の側部に、前記開口と側方縁部との距離が最も小さい細幅部と、前記細幅部から上方に繋がり、前記開口と前記側方縁部との距離が前記細幅部より大きな上側の広幅部と、前記細幅部から下方に繋がり、前記開口と前記側方縁部との距離が前記細幅部より大きな下側の広幅部とを含み、
前記中間ケース状部材が、前記上側の広幅部から前記細幅部を超えて前記下側の広幅部までを覆う、
ことを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記前面枠が、前記ベース部材における前記回動軸芯と反対側の側部に設けられた発光部を更に含み、
前記中間ケース状部材が、前記発光部を覆い、光透過性材料で構成されている請求項１に記載の遊技機。
【請求項３】
前記中間ケース状部材が、横断面視において、上下の方向に峰が走る山形状である請求項１又は２に記載の遊技機。
【請求項４】
前記中間ケース状部材の外面は、複数の山が遊技機の上下の方向に位相のずれた状態で重なる凹凸形状である請求項３に記載の遊技機。
【請求項５】
前記中間ケース状部材が、前記上側の広幅部を越えて前記ベース部材の上コーナー部分まで延出している請求項１〜４のいずれか一項に記載の遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
特に、上述したように、前面枠の側部は正面視で細幅となって弱くなっており、厚みを持たせることが困難である状況においては、別途の補強対策を講じなければ、前面枠に設けられるＬＥＤ基板などの部材の破損、或いは隙間からピアノ線などを差し込み、遊技領域を改変させる不正行為を生じさせる可能性も高くなる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
しかし、上述した前面枠は、遊技機の外面を形成するところであるので、遊技機自体の原寸法が規定されている中で、表示装置や装飾部材の大型化に伴う遊技領域の拡張を許容しつつ、前面枠の側部の細幅化に伴う強度低下を防止することが求められる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は、かかる問題点に鑑みて案出されたものであり、遊技領域の拡張を図りながら、前面枠の強度を高めることができるところの遊技機を提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
本発明によれば、ベース部材の側部における細幅部を挟んだ上側の広幅部から下側の広幅部までの範囲を覆うように、中間ケース部材を取り付けてあることによって、遊技領域の拡張を図りながら前面枠の強度を向上させることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月8日(2009.4.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内枠に設けた遊技盤の遊技領域を覆うように、前記内枠に対して、正面視で一方の側部を回動軸芯として開閉自在な前面枠が設けられ、前記前面枠に前記遊技領域を視認する窓部が設けられてある遊技機において、  前記前面枠は、前記窓部に対応した開口が形成されたベース部材と、前記ベース部材の前面側に設けられた発光部とを備え、  前記ベース部材が、前記回動軸芯と反対側の側部に、前記開口と側方縁部との距離が最も小さい細幅部と、前記細幅部から上方に繋がり、前記開口と前記側方縁部との距離が前記細幅部より大きな上側の広幅部と、前記細幅部から下方に繋がり、前記開口と前記側方縁部との距離が前記細幅部より大きな下側の広幅部とを含み、  前記発光部は、発光基板と、前記発光基板が前面側に取り付けられる基板ベース部材とを含み、  前記基板ベース部材が、前記上側の広幅部から前記細幅部を超えて前記下側の広幅部までを覆う、ことを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記前面枠が、前記ベース部材と前記基板ベース部材との間に設けられた金属製の補強板を更に備え、  前記補強板が、前記下側の広幅部から前記細幅部及び上側の広幅部を超えて前記ベース部材の上コーナー部分まで延出している請求項１に記載の遊技機。
【請求項３】
前記基板ベース部材は、前記補強板と前記ベース部材との両方に固定されている請求項２に記載の遊技機。
【請求項４】
前記基板ベース部材の前面に、所定長さのネジボス部が突設され、前記発光基板がこのネジボス部の上に載置され、前記基板ベース部材の前面と所定の間隔を隔ててネジ止めされている請求項１、２又は３に記載の遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】  特に、前面枠の側部は、正面視で細幅となって弱くなっており、厚みを持たせることが困難である状況において、別途の補強対策を講じなければ、ここに配置する発光基板などの部材の破損、或いは隙間からピアノ線などを差し込み、遊技領域を改変させる不正行為を生じさせる可能性も高くなる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】  しかし、上述した前面枠は、遊技機の外面を形成するところであるので、遊技機自体の原寸法を維持する中で、表示装置や装飾部材の大型化に伴う遊技領域の拡張を許容しつつ、前面枠の側部の細幅化に伴う強度低下を防止することが求められる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】  本発明は、かかる問題点に鑑みて案出されたものであり、遊技領域の拡張を図りながら、前面枠の強度を高めることができるところの遊技機を提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】  本発明によれば、発光基板を載置する基板ベース部材をベース部材の側部における細幅部を挟んだ上側の広幅部から下側の広幅部までの範囲を覆うようにして取り付けたことで、遊技領域の拡張を図りながら前面枠の強度を向上させることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月8日(2009.4.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
弾性層の上面側に上面側通電性層、下面側に下面側通電性層が配置される中底であって、
弾性層は絶縁性であり、
中底の周縁部に施された縁縫いの導電糸により、両通電性層が導通されることを特徴とする通電性中底。
【請求項２】
上面側通電性層は、導電糸が少なくとも一本または適当な間隔で織り込まれるか編み込まれて作られる布帛であるとともに、導電糸が少なくとも第一趾中足骨頭ないし第二趾中足骨骨頭あたりを通るようにされており、
下面側通電性層は、網状、膜状又はシート状の通電性のものであることを特徴とする請求項１ に記載の通電性中底。
【請求項３】
前記下面側通電性層が、前記縁縫いを施した後に導電性接着剤を塗布して膜状又はシート状に形成されることを特徴とする請求項１または２に記載の通電性中底。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の通電性中底を有する帯電防止性靴であって、
甲皮下縁部が周縁部に縫合された通電性中底の下面側通電性層に、通電性靴底が接合してなることを特徴とする帯電防止性靴。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
すなわち、好ましい態様の通電性中底は、上面側通電性層として、導電糸が少なくとも一本または適当な間隔で織り込まれるか編み込まれて作られる布帛を用い、前記導電糸が少なくとも第一趾中足骨頭ないし第二趾中足骨骨頭あたりを通るようにされており、下面側通電性層として、網状、膜状又はシート状の通電性のものを用いる。
また、下面側通電性層が、縁縫いを施した後に導電性接着剤を塗布して膜状又はシート状に形成されるものであってもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月15日(2009.4.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
長手方向に少なくとも１条の溝を有するロータと、清掃体とを備え、前記清掃体は、被掃除面の塵埃を掻き上げるブラシ部と、前記ブラシ部の下端が固着されると共に前記溝に装着される基部からなり、前記ブラシ部を前記溝の開口より突出させながら前記基部を前記溝に装着した時、前記ブラシ部の根元部が、前記溝の開口よりも内側に位置し、且つ前記ロータの回転中心を通ると共に前記ブラシ部の長手方向に垂直な中心線を超えて位置するようにした回転ロータ。
【請求項２】
請求項１に記載の回転ロータを回転自在に設けた掃除機用床吸込具。
【請求項３】
回転ロータを回転駆動する駆動手段を備えた請求項２に記載の掃除機用床吸込具。
【請求項４】
電動送風機と、請求項２又は３に記載の掃除機用床吸込具とを備えた電気掃除機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
前記従来の課題を解決するために、本発明の回転ロータは、長手方向に少なくとも１条の溝を有するロータと、清掃体とを備え、前記清掃体は、被掃除面の塵埃を掻き上げるブラシ部と、前記ブラシ部の下端が固着されると共に前記溝に装着される基部からなり、前記ブラシ部を前記溝の開口より突出させながら前記基部を前記溝に装着した時、前記ブラシ部の根元部が、前記溝の開口よりも内側に位置し、且つ前記ロータの回転中心を通ると共に前記ブラシ部の長手方向に垂直な中心線を超えて位置するようにしたもので、ブラシ部の溝の開口部からの必要な突出代を確保して塵埃掻き上げ性能を維持しながら回転ロータの回転直径を小さくすることができ、ひいては、その回転ロータが搭載される掃除機用吸込具の高さを低くして、使用勝手を向上させることが出来る。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
第１の発明は、長手方向に少なくとも１条の溝を有するロータと、清掃体とを備え、前記清掃体は、被掃除面の塵埃を掻き上げるブラシ部と、前記ブラシ部の下端が固着されると共に前記溝に装着される基部からなり、前記ブラシ部を前記溝の開口より突出させながら前記基部を前記溝に装着した時、前記ブラシ部の根元部が、前記溝の開口よりも内側に位置し、且つ前記ロータの回転中心を通ると共に前記ブラシ部の長手方向に垂直な中心線を超えて位置するようにしたもので、ブラシ部の溝の開口部からの必要な突出代を確保して塵埃掻き上げ性能を維持しながら回転ロータの回転直径を小さくすることができ、ひいては、その回転ロータが搭載される掃除機用吸込具の高さを低くして、使用勝手を向上させることが出来る。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月22日(2009.6.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の箸のそれぞれが、柄の部分は木（竹を含む）或いは合成樹脂で形成され、先端部分は金属により形成され、前記柄の部分の下端から長手方向に沿って穴が形成され、該穴に永久磁石が配設され、該穴の開口が前記先端部分の前記柄の部分への接続によって塞がれていることを特徴とする箸。
【請求項２】
上記先端部分を形成する金属が、ステンレス或いはアルミニウムであることを特徴とする、請求項１に記載の箸。
【請求項３】
上記先端部分と上記柄の部分との接続が、先端部分の上端に形成された雄ねじと、柄の部分の上記穴の入口付近に形成された雌ねじとの螺合であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の箸。
【請求項４】
上記一対の箸のそれぞれの同一位置に、箸の先端部をテーブル上から浮かせる突起部が設けられていることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の箸。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記した目的を達成するため、請求項１の箸は、一対の箸のそれぞれが、柄の部分は木（竹を含む）或いは合成樹脂で形成され、先端部分は金属により形成され、前記柄の部分の下端から長手方向に沿って穴が形成され、該穴に永久磁石が配設され、該穴の開口が前記先端部分の前記柄の部分への接続によって塞がれていることを特徴とする。
また、請求項２の箸は、上記請求項１の箸において、上記先端部分を形成する金属が、ステンレス或いはアルミニウムであることを特徴とする。
また、請求項３の箸は、上記請求項１又は２の箸において、上記先端部分と上記柄の部分との接続が、先端部分の上端に形成された雄ねじと、柄の部分の上記穴の入口付近に形成された雌ねじとの螺合であることを特徴とする。
さらに、請求項４の箸は、上記請求項１〜３のいずれかに記載の箸において、上記一対の箸のそれぞれの同一位置に、箸の先端部をテーブル上から浮かせる突起部が設けられていることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記した請求項１の本発明によれば、一対の箸のそれぞれに永久磁石が配設されているため、箸を軽く揃えて近づけるだけできちんと揃い、その後に僅かな振動を加えてもバラバラになることはないため、転がり難く、容易に一対の箸をテーブル上にきちんと並べて置くことができる。また、永久磁石は箸の長手方向に沿って形成した穴内に配設されているため、外部からは見えず、例えば子供が興味を持って箸を扱うようになり、箸を持つことが上手になる。
また、上記した請求項１の本発明によれば、上記の効果に加え、柄の部分は熱が伝わり難く、手触りのよい木（竹を含む）或いは合成樹脂で形成され、先端部分は傷が付き難く、しかも衛生的に保つことが容易なステンレス、アルミニウム等の金属により形成されているため、繰り返し使用によっても歯形などの傷が付き難く、また熱い汁物等を扱った場合にも柄の部分が熱くなり難い箸を提供することができる。
さらに、上記した請求項１の本発明によれば、上記の効果に加え、永久磁石を配設する穴が、柄の部分の下端から長手方向に沿って形成され、該穴が、先端部分の柄の部分への接続によって塞がれるものとしているため、穴を塞ぐ別部材が不要となり、製造コストを低く抑えることができると共に、永久磁石は箸の長手方向中心付近に配設されることとなり、扱いやすい箸を提供することができる。
さらに、上記した請求項４の本発明によれば、上記請求項１の発明の効果に加え、箸の先端部をテーブル上から浮かせる突起部を設けたため、箸置きを使用することなく、箸を衛生的にテーブル上に置くことができ、また、当然のことながら、箸置きをテーブル上にセットする手間、箸置きを片付ける手間、箸置きを洗う手間等がなくなる。
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月20日(2009.4.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技盤に区画形成されて遊技者の操作によって遊技球が打ち込まれる遊技領域と、該遊技領域内に配置されて遊技球の入賞が可能な始動入賞口と、該始動入賞口に入賞した遊技球を検出する始動検出手段と、該始動検出手段による遊技球の検出に応じて所定の開閉動作が可能な開閉部材、該開閉部材が開くことで遊技球が入賞可能となる球受入口、該球受入口から入った遊技球を受入れ可能とされ遊技者に利益を付与する利益付与状態が発生する特定受入領域及び前記利益付与状態が発生しない普通受入領域を有し、前記遊技領域内の前記始動入賞口とは異なる位置に配置された入賞装置と、を備えた遊技機であって、
前記開閉部材は、
前記球受入口の閉鎖状態で配される閉鎖位置と、前記球受入口の開放状態で配される開放位置との間で移動可能であり、前記閉鎖位置及び前記開放位置への移動によって前記球受入口を開閉する第１の開閉部材と、
前記第１の開閉部材とは異なった部材によって構成され、前記球受入口の閉鎖状態では閉鎖位置に配される前記第１の開閉部材と少なくとも一部は隣接した閉鎖位置に配され、前記球受入口の開放状態では前記第１の開閉部材の開放位置とは離反する方向に移動して開放位置に配されることによって前記球受入口を開閉する第２の開閉部材と、から構成され、
前記入賞装置は、
前記第１の開閉部材を開閉動作させる第１の駆動源と、
前記第２の開閉部材を開閉動作させる第２の駆動源と、
前記第１及び第２の駆動源の駆動を制御することで、前記第１及び第２の開閉部材の開閉動作を連動して制御する開閉制御手段と、を備え、
前記第１の開閉部材は、前記開閉制御手段の制御に基づいて、前記開放位置に配されることによって第１の球受入領域を形成する一方、
前記第２の開閉部材は、前記開閉制御手段の制御に基づいて、前記開放位置に配されることによって前記第１の球受入領域と隣接した位置に第２の球受入領域を形成し、
前記球受入口は、
開放状態において、前記第１の球受入領域と前記第２の球受入領域とから構成される一連の球受入開口領域であることを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記第１の開閉部材は、前記第１の駆動源の駆動に基づいて回動可能に設けられる回動軸部と、該回動軸部から延設されてその先端部分が開放端部分となる開閉片部と、を備え、
前記第２の開閉部材は、前記第２の駆動源の駆動に基づいて進退可能に設けられるスライド仕切部を備え、
前記開閉制御手段は、前記球受入口の閉鎖状態では、前記第１の開閉部材における前記回動軸部を一方向に回動させて前記開閉片部を閉鎖位置に配すると共に、前記第２の開閉部材における前記スライド仕切部を一方向に移動させて閉鎖位置に配する一方、前記球受入口の開放状態では、前記第１の開閉部材における前記回動軸部を他方向に回動させて前記開閉片部を開放位置に配すると共に、前記第２の開閉部材における前記スライド仕切部を他方向に移動させて開放位置に配し、
前記球受入口は、前記第１の開閉部材と前記第２の開閉部材とが隣接する状態では閉鎖状態となり、前記第１の開閉部材と前記第２の開閉部材とが双方離反位置に駆動することによって開放状態となることを特徴とする請求項１記載の遊技機。
【請求項３】
前記第２の開閉部材は、前記第１の開閉部材の上方に配置されると共に、前記球受入口の閉鎖時には、前記スライド仕切部を進出方向に移動させて閉鎖位置に配される一方、前記球受入口の開放時には、前記スライド仕切部を退行方向に移動させて開放位置に配されることを特徴とする請求項２記載の遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月11日(2009.3.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複素入力信号Ｓｘ＝Ｉｘ＋ｊＱｘに基づき基底ベクトルＸｖを生成する多項式基底生成部と，係数ベクトルＣｖとの内積Ｃｖ・Ｘｖを多項式の値として出力する内積演算部とから構成される多項式プリディストータにおいて，
複素入力信号Ｓｘ＝Ｉｘ＋ｊＱｘの実部と虚部を最大Ｍサンプル遅延させた２（Ｍ＋１）個の信号に基づき，これらの重複組合せより作れる最大次数Ｎの単項式全て，または必要に応じ一部を，基底ベクトルＸｖとして出力すると共に，係数ベクトルＣｖとして前記Ｘｖのサイズに等しい複素数の組を用いることによって，
記憶を持つ非線形時不変システムの記述に適したボルテラ級数を，入力信号が複素数Ｓｘ＝Ｉｘ＋ｊＱｘ，かつ出力信号が複素数Ｓｙ＝Ｉｙ＋ｊＱｙとなるように拡張することを特徴とする多項式プリディストータ。
【請求項２】
請求項１に記載の多項式プリディストータにおいて，上記最大次数Ｎの単項式が，最大次数Ｎの多項式であることを特徴とする多項式プリディストータ。
【請求項３】
請求項１または２に記載の多項式プリディストータにおいて，出力Ｓｙに入力Ｓｘを加える直達項を設け，Ｓｙ＝Ｓｘ＋Ｃｖ・Ｘｖとすることを特徴とする多項式プリディストータ。
【請求項４】
請求項１から３に記載の多項式プリディストータと，ＤＡ変換器と直交変調器から成る直交変調ＤＡ変換器と，直交変調器出力を増幅する電力増幅器と，出力信号の一部を直交復調して複素復調信号Ｓｚ＝Ｉｚ＋ｊＱｚを出力する直交復調ＡＤ変換器と，複素信号ＳｘとＳｚの残差信号Ｓｅ＝Ｓｚ−Ｓｘ＝Ｉｅ＋ｊＱｅの電力を最小化する方向へ係数ベクトルＣｖの各要素を逐次更新する適応アルゴリズムとから構成されるディジタルプリディストーション送信機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
この１つにＦＰＧＡなどのディジタル信号処理デバイスを活用したディジタルプリディストーションがある。その標準的な構成を図２に示す。ベースバンド複素入力信号Ｓｘ＝Ｉｘ＋ｊＱｘをルックアップテーブルや多項式の形で実現したプリディストータ（Ｐｒｅｄｉｓｔｏｒｔｏｒ）１０１によってディジタル領域で非線形処理し，ベースバンド複素信号Ｓｙ＝Ｉｙ＋ｊＱｙを出力する。次に，直交変調ＤＡ変換器（Ｑｕａｄｒａｔｕｒｅ  ＤＡＣ）１０２によって，アナログＲＦ信号へ変換し，電力増幅器（ＰＡ）１０４で増幅して出力する。出力信号は直交復調ＡＤ変換器（Ｑｕａｄｒａｔｕｒｅ  ＡＤＣ）１０５でディジタルベースバンド複素信号Ｓｚ＝Ｉｚ＋ｊＱｚに変換し，入力信号Ｓｘとの減算によって残留歪信号Ｓｅ＝Ｓｚ−Ｓｘを抽出する。適応アルゴリズム（Ａｄａｐｔａｔｉｏｎ  Ａｌｇｏｒｉｔｈｍ）１０６では，Ｓｅの電力を最小化するようにテーブル値の書き換えや多項式の係数修正を行うことで，プリディストータ１０１の非線形入出力特性を自律的に調整する。
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月10日(2009.4.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
白色基準板を有し、原稿の画像データを読取る画像読取部と、前記原稿の画像データに基づいて記録媒体に画像を形成する画像形成部とを備えた画像処理装置において、
前記白色基準板にコヒーレント光を照射する照射手段と、
前記コヒーレント光が前記白色基準板に照射されることにより発生する散乱光のスペックルパタンの画像データを読取る読取手段とを備え、
前記画像形成部は、前記スペックルパタンの画像データを前記原稿の画像データに付加し、当該スペックルパタンの画像データが付加された原稿の画像データに基づいて前記画像の形成を行うことを特徴とする画像処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記目的を達成するために、請求項１記載の画像処理装置は、白色基準板を有し、原稿の画像データを読取る画像読取部と、前記原稿の画像データに基づいて記録媒体に画像を形成する画像形成部とを備えた画像処理装置において、前記白色基準板にコヒーレント光を照射する照射手段と、前記コヒーレント光が前記白色基準板に照射されることにより発生する散乱光のスペックルパタンの画像データを読取る読取手段とを備え、前記画像形成部は、前記スペックルパタンの画像データを前記原稿の画像データに付加し、当該スペックルパタンの画像データが付加された原稿の画像データに基づいて前記画像の形成を行うことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明によれば、白色基準板にコヒーレント光を照射し、当該コヒーレント光の照射により発生する散乱光のスペックルパタンの画像データを原稿の画像データに付加し、当該スペックルパタンの画像データが付加された原稿の画像データに基づき出力画像の形成を行う。これにより、当該散乱光のスペックルパタンは白色基準板毎に異なることに鑑みて、原稿の画像データに付加された地紋コードとしてのスペックルパタンの画像データを読み取ることができる画像読取装置を用いて、どの複写機からの出力画像であるかを追跡することができる。よって、個々の複写機に本体と対応するコード及びその本体内に当該コード用のメモリを必要とせず、地紋コードを出力画像に埋め込むことができるので、コストを削減することができる。また、当該地紋コードは、ある暗号化のルールに従って作成されたものでないため、解読及び偽造される恐れはない。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月25日(2008.12.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で示されるカルバゾール誘導体。
【化１】
2006298898.tif 000001
（式中、Ｒ11及びＲ13は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、ｎ―プロピル基、ｎ―ブチル基、ｎ―ヘキシル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、フェニル基、４―ビフェニリル基、１―ナフチル基、２―ナフチル基、９―アントリル基、９―フェナントリル基、１―ピレニル基、９，９’―ジメチル―２―フルオレニル基、スピロ―９，９’―ビフルオレン―２―イル基、ｍ―トリル基、ｐ―トリル基、２−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニル基、２―ピリジル基、８―キノリル基、３―キノリル基、ベンジル基、アセチル基、ベンゾイル基、プロピオニル基のいずれかを表し、
Ａｒ11は、フェニル基、４―ビフェニリル基、１―ナフチル基、２―ナフチル基、９―アントリル基、９―フェナントリル基、１―ピレニル基、９，９’―ジメチル―２―フルオレニル基、スピロ―９，９’―ビフルオレン―２―イル基、ｍ―トリル基、ｐ―トリル基、２−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニル基、２―ピリジル基、８―キノリル基、３―キノリル基のいずれかを表し、
Ｒ12及びＲ14は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、ｉｓｏ−プロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、フェニル基、４―ビフェニリル基、１―ナフチル基、２―ナフチル基のいずれかを表す。）
【請求項２】
請求項１において、Ｒ11またはＲ13の少なくとも一方は、フェニル基、４―ビフェニリル基、１―ナフチル基、２―ナフチル基、９―アントリル基、９―フェナントリル基、１―ピレニル基、９，９’―ジメチル―２―フルオレニル基、スピロ―９，９’―ビフルオレン―２―イル基、ｍ―トリル基、ｐ―トリル基、２−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニル基、２―ピリジル基、８―キノリル基、３―キノリル基であることを特徴とするカルバゾール誘導体。
【請求項３】
請求項１において、Ｒ11及びＲ13は、フェニル基、４―ビフェニリル基、１―ナフチル基、２―ナフチル基、９―アントリル基、９―フェナントリル基、１―ピレニル基、９，９’―ジメチル―２―フルオレニル基、スピロ―９，９’―ビフルオレン―２―イル基、ｍ―トリル基、ｐ―トリル基、２−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニル基、２―ピリジル基、８―キノリル基、３―キノリル基であることを特徴とするカルバゾール誘導体。
【請求項４】
請求項１において、Ｒ11及びＲ13は、フェニル基、ビフェニル基のいずれかであることを特徴とするカルバゾール誘導体。
【請求項５】
請求項１において、Ｒ11及びＲ13は、フェニル基、Ｒ12及びＲ14は、水素、Ａｒ11は、フェニル基、ナフチル基のいずれかであることを特徴とするカルバゾール誘導体。
【請求項６】
請求項１において、Ｒ11及びＲ13は、ビフェニル基、Ｒ12及びＲ14は、水素、Ａｒ11は、フェニル基であることを特徴とするカルバゾール誘導体。
【請求項７】
請求項１において、Ｒ11及びＲ13は、フェニル基、Ｒ12及びＲ14は、水素、Ａｒ11は、ナフチル基であることを特徴とするカルバゾール誘導体。
【請求項８】
請求項１において、Ｒ11及びＲ13は、フェニル基、Ｒ12及びＲ14は、水素、Ａｒ11は、フェニル基であることを特徴とするカルバゾール誘導体。
【請求項９】
請求項１において、Ｒ14は下記一般式（２）で示されるカルバゾール誘導体。
【化２】
2006298898.tif 000002
（式中、Ｒ11、Ｒ13及びＲ15は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、ｎ―プロピル基、ｎ―ブチル基、ｎ―ヘキシル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、フェニル基、４―ビフェニリル基、１―ナフチル基、２―ナフチル基、９―アントリル基、９―フェナントリル基、１―ピレニル基、９，９’―ジメチル―２―フルオレニル基、スピロ―９，９’―ビフルオレン―２―イル基、ｍ―トリル基、ｐ―トリル基、２−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニル基、２―ピリジル基、８―キノリル基、３―キノリル基、ベンジル基、アセチル基、ベンゾイル基、プロピオニル基のいずれかを表し、
Ａｒ11及びＡｒ12は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、フェニル基、４―ビフェニリル基、１―ナフチル基、２―ナフチル基、９―アントリル基、９―フェナントリル基、１―ピレニル基、９，９’―ジメチル―２―フルオレニル基、スピロ―９，９’―ビフルオレン―２―イル基、ｍ―トリル基、ｐ―トリル基、２−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニル基、２―ピリジル基、８―キノリル基、３―キノリル基のいずれかを表し、
Ｒ12及びＲ16は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、ｉｓｏ−プロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、フェニル基、４―ビフェニリル基、１―ナフチル基、２―ナフチル基のいずれかを表す。）
【請求項１０】
請求項９において、Ｒ11、Ｒ13及びＲ15は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、フェニル基、４―ビフェニリル基、１―ナフチル基、２―ナフチル基、９―アントリル基、９―フェナントリル基、１―ピレニル基、９，９’―ジメチル―２―フルオレニル基、スピロ―９，９’―ビフルオレン―２―イル基、ｍ―トリル基、ｐ―トリル基、２−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニル基、２―ピリジル基、８―キノリル基、３―キノリル基であることを特徴とするカルバゾール誘導体。
【請求項１１】
請求項９において、Ｒ11、Ｒ13及びＲ15は、フェニル基、ビフェニル基のいずれかであることを特徴とするカルバゾール誘導体。
【請求項１２】
請求項９において、Ｒ12、Ｒ16は水素、Ｒ11、Ｒ15はフェニル基、Ｒ13はビフェニル基、Ａｒ11及びＡｒ12は、フェニル基、ナフチル基のいずれかであることを特徴とするカルバゾール誘導体。
【請求項１３】
請求項９において、Ｒ12、Ｒ16は水素、Ｒ11、Ｒ15はフェニル基、Ｒ13はビフェニル基、Ａｒ11及びＡｒ12は、ナフチル基であることを特徴とするカルバゾール誘導体。
【請求項１４】
請求項９において、Ｒ12、Ｒ16は水素、Ｒ11、Ｒ15、Ｒ13、Ａｒ11及びＡｒ12は、フェニル基であることを特徴とするカルバゾール誘導体。
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月24日(2009.2.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
タイヤ付きホイール又はホイールリムを、回転軸を中心に回転可能に支持するように構成した基部と、
前記回転軸とほぼ平行に、前記基部から上方に伸びた少なくとも１つのガイド部材と、
前記ガイド部材に摺動可能に取り付けられる工具搬送アームと、
自由端の一端を有する板状の工具部材と、
前記板状の工具部材の他端である第１端部を、前記工具搬送アームに連接し、前記工具部材の運動を限定する部材とを備えており、
前記工具部材へ前記ホイールリム及び／又は前記タイヤが接触したときに、前記工具部材への力の印加により、前記工具部材は、前記支持アームに対する回転並進運動が可能になり、
前記工具部材の自由端は、前記ホイールリムに向いた背部を備えるタイヤ着脱機。
【請求項２】
前記工具部材の運動を限定する部材は、弾性的に変形する収縮手段を前記工具搬送アームと前記工具部材との間に備える請求項１に記載のタイヤ着脱機。
【請求項３】
前記工具部材は、前記工具搬送アームに形成した少なくとも１つの凹み又は長穴内で、前記第１端部において連接されている請求項１又は２に記載のタイヤ着脱機。
【請求項４】
前記少なくとも１つの凹み又は長穴は、前記工具搬送アームの軸及びそれに垂直な方向の両方に対して傾いた方向に延びている請求項３に記載のタイヤ着脱機。
【請求項５】
前記工具搬送アームは、一端が前記ガイド部材によって支持され、他端が前記工具部材への関節連結のためのフォーク形部材で終わっている請求項３又は４に記載のタイヤ着脱機。
【請求項６】
前記工具部材は、前記第１端部においてシャックル部材の一端に連接され、前記シャックル部材の他端は前記工具搬送アームに連接されている請求項１又は２に記載のタイヤ着脱機。
【請求項７】
前記弾性的に変形する手段は、前記工具部材と前記シャックル部材との間と、前記シャックル部材と前記工具搬送アームとの間とに設けられ、それによって前記工具部材を前記ホイールリムの回転軸に実質的に平行な向きの静止位置に保持する請求項６に記載のタイヤ着脱機。
【請求項８】
前記弾性的に変形する手段は、少なくとも１つのばねを含む請求項７に記載のタイヤ着脱機。
【請求項９】
前記工具搬送アームは、一端が前記ガイド部材によって張り出し式に支持され、他端が前記シャックル部材への関節連結のためのフォーク部材で終わっている請求項６から８のいずれかに記載のタイヤ着脱機。
【請求項１０】
前記工具部材の前記自由端は、使用中に、前記工具搬送アームに向く内側凹み、及び前記凹みから見て外方に向く外側溝を画定するのに適している横長さで終わっている請求項１から９のいずれかに記載のタイヤ着脱機。
【請求項１１】
前記内側凹みは、使用中に、タイヤビードの縁と係合し、前記縁を対応するホイールリムから引き出すように設計されている請求項１０に記載のタイヤ着脱機。
【請求項１２】
前記外側溝は、ホイールリム縁に摺動可能に止まるように設計されている請求項１０又は１１に記載のタイヤ着脱機。
【請求項１３】
前記工具部材は、適切な減摩プラスチック材料で作られている請求項１から１２のいずれかに記載のタイヤ着脱機。
【請求項１４】
使用中に、前記タイヤ着脱機に置かれたホイールリム又はタイヤ付きホイールに関して対向する側に配置される少なくとも１対のビード離脱ローラーと、前記ホイールリム又はタイヤ付きホイールの回転軸に平行に、互いに平行で所定の距離だけ隔てた２つの方向に沿って摺動する直立材とを備える請求項１から１３のいずれかに記載のタイヤ着脱機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】タイヤ着脱機
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月8日(2009.7.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
窒素を添加したシリコン単結晶において、
結晶成長時に導入された酸素析出物の半径に対する密度を表す関係式を、窒素濃度と結晶成長中の酸素析出物の密度が増加する温度領域での冷却速度から導出し、
導出された酸素析出物の半径毎の密度を表す関係式と酸素濃度及び熱処理の温度プロセスを与えることにより、熱処理後に得られる酸素析出物密度を予測する方法。
【請求項２】
前記結晶成長中の酸素析出物の密度が増加する温度領域は、１１００℃近傍であることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
シリコンウェーハ中の酸素析出物密度を予測するプログラムにおいて、
該シリコンウェーハの原材料のシリコン単結晶の結晶成長時に導入された酸素析出物の密度が増加する温度領域での冷却速度、該シリコン単結晶中における窒素濃度及び／又は酸素濃度の入力を促し、
結晶成長時に導入された酸素析出物の半径に対する密度を表す所定の関係式により、該シリコンウェーハが被る温度プロセスデータを用いて、熱処理後に得られる酸素析出物密度を計算し、
前記計算結果を出力するプログラム及びそのプログラムを記録した記録媒体。
【請求項４】
ＣＺ法又はＭＣＺ法によりシリコンインゴットを引き上げ、該インゴットからシリコンウェーハを切り出し、該シリコンウェーハをプレアニールして、製造されるエピタキシャル成長ウェーハ又は高温アニールシリコンウェーハであって、
製造されたエピタキシャル成長ウェーハ又は高温アニールシリコンウェーハの用途に適した酸素析出物密度を決定し、
酸素及び窒素濃度に基づいて、所定の関係式により、決定された酸素析出物密度となるように、前記シリコンインゴットの引き上げ時の冷却速度、プレアニールの温度及び保持時間、及び、エピタキシャル成長ウェーハの水素ベークの温度及び保持時間又は高温アニールウェーハの高温アニールの所定温度範囲での昇温速度を決定し、
決定された条件により製造されたウェーハ。
【請求項５】
請求項１又は２記載の方法を用いて予測される条件に基づいて適正な酸素析出物密度に制御されたシリコンウェーハ。
【請求項６】
結晶成長中の１１００℃近傍での冷却速度を０．７６℃／分以上とし、請求項１又は２記載の方法を用いて予測される条件とすることで、酸素析出物密度を５ｘ１０８個／ｃｍ３以上としたことを特徴とするシリコンウェーハ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、シリコン単結晶インゴットを窒素を添加したシリコン融液から育成し切り出したウェーハから得られる結晶欠陥がコントロールされたシリコンウェーハの製造方法及びその方法で得られたシリコンウェーハに関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
結晶成長中の１１００℃付近の冷却速度を３．５℃／分とし、酸素濃度を１２．０ｘ１０１７ａｔｏｍｓ／ｃｍ３とした。高温アニールプロセスでは、８００℃から１０００℃までの昇温速度は図に示す通りで、１０００℃から１１００℃までの昇温速度は２℃／分とし、１１００℃から１２００℃までの昇温速度は、１℃／分とし、１２００℃での保持時間を１時間とした。図中等高線状に引かれている線は、ＢＭＤの密度を表すもので、幾つかの線には、ＢＭＤ密度の具体的な値を示している。これらの図からＢＭＤ密度を５ｘ１０８個／ｃｍ３以上とする条件を選定することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８４】
（９）シリコンウェーハ中の酸素析出物密度を予測するプログラムにおいて、
該シリコンウェーハの原材料のシリコン単結晶の結晶成長時に導入された酸素析出物の密度が増加する温度領域での冷却速度、該シリコン単結晶中における窒素濃度及び／又は酸素濃度の入力を促し、
結晶成長時に導入された酸素析出物の半径に対する密度を表す所定の関係式により、該シリコンウェーハが被る温度プロセスデータを用いて、熱処理後に得られる酸素析出物密度を計算し、
前記計算結果を出力するプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月19日(2009.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一の筐体と、
第二の筐体と、
前記第一の筐体と前記第二の筐体を開閉可能に接続する連結部と、
前記第一の筐体の前記連結部に隣接した端部に配置された導体素子と、
前記第二の筐体の前記連結部に隣接した端部に配置された給電素子と、を備え、
前記連結部による開き状態において、前記導体素子及び前記給電素子は、互いに対向して配置され、給電時に容量結合可能であり、
前記連結部による閉じ状態において、前記導体素子及び前記給電素子は、前記連結部を隔てて配置される、
折畳式携帯無線機。
【請求項２】
前記給電素子が、略４分の１波長の電気長を有する、請求項１に記載の折畳式形態無線機。
【請求項３】
前記導体素子が、前記第一の筐体に配置された導体板に接続された、請求項１又は請求項２に記載の折畳式携帯無線機。
【請求項４】
前記導体素子が、前記第一の筐体に取り付けられた導体カバーに接続され、前記導体カバーは前記第一の筐体に配置された導体板に少なくとも一つの接点を介して接続された、請求項１又は請求項２に記載の折畳式携帯無線機。
【請求項５】
前記導体素子及び前記給電素子各々は平面部を有し、前記連結部による開き状態において各平面が近接して対向する、請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の折畳式携帯無線機。
【請求項６】
前記導体素子及び前記給電素子の主要部が、前記連結部の回転軸に略平行である、請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の折畳式携帯無線機。
【請求項７】
前記導体素子が、略４分の１波長の電気長を有する、請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の折畳式携帯無線機。
【請求項８】
前記導体素子の一端が前記第一の筐体に配置された前記導体板または前記第一の筐体に取り付けられた前記導体カバーに接続され、他端が開放端である、請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の折畳式携帯無線機。
【請求項９】
前記導体素子の一端と、前記第一の筐体に配置された前記導体板または前記第一の筐体に取り付けられた前記導体カバーとの接続位置が、前記給電素子の給電部近傍である、請求項８に記載の折畳式携帯無線機。
【請求項１０】
前記導体素子または前記給電素子の少なくとも一方が、電気長の異なる複数の素子で構成される、請求項１から請求項９のいずれか１項に記載の折畳式携帯無線機。
【請求項１１】
前記導体素子の一端を、前記第一の筐体に配置された前記導体板または前記第一の筐体に取り付けられた前記導体カバーに接続するか開放とするかを切り換える第一切換部と、前記導体素子の他端を、前記第一の筐体に配置された前記導体板または前記第一の筐体に取り付けられた前記導体カバーに接続するか開放とするかを切り換える第二切換部とを更に備える、請求項１から請求項１０のいずれか１項に記載の折畳式携帯無線機。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月22日(2008.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
これは、光電変換素子５２が完全空乏化した上体であり、読み出し時にこの完全空乏化が行われないと、例えば、ムービー動作のように読み出しと転送動作が連続的に繰り返される場合、光電変換素子５２に残った電荷は、次の読み出し時までに蓄積される信号電荷に重綻され、いわゆる残像現象となってムービー画像の著しい画質劣化を招く。従って、読み出し時には光電変換素子５２が完全空乏化するのに十分な電圧を印加する必要がある。以降、完全空乏化するのに必要最低限の電圧を最小空乏化電圧と称す。
【特許文献１】特開２００２−１３４７３２号公報
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月26日(2009.10.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の電極及び第２の電極を有する２点接合型の複数の発光素子と、
第１の面に設けられて前記第１の電極及び前記第２の電極が同一方向に配列されるように前記複数の発光素子を搭載する表面パターンと、前記第１の面とは反対側の面である第２の面に設けられて前記第１の電極及び前記第２の電極の前記表面パターンとの接合部が平面視にて含まれるように設けられる放熱パターンと、前記第２の面に設けられて第１の面に設けられる前記表面パターンと電気的に接続され、前記放熱パターンに隣接し、前記放熱パターンを中心として前記第１の電極及び前記第２の電極の配列方向に対し直交する方向に対称的に配置される一対の電極パターンとを有する素子搭載基板と、
前記表面パターン上の前記複数の発光素子を含む前記第１の面を封止するガラス封止部と、を有することを特徴とする発光装置。
【請求項２】
前記複数の発光素子は、正方形状に形成され、前記第１の面に正方格子状に配列され、
前記放熱パターンは、前記第１の電極及び前記第２の電極の配列方向に平行となるように長辺を有する矩形状に形成されることを特徴とする請求項１に記載の発光装置。
【請求項３】
前記複数の発光素子は、各発光素子の搭載方向が同一であることを特徴とする請求項１又は２に記載の発光装置。
【請求項４】
前記複数の発光素子は、各発光素子の前記第１の電極及び前記第２の電極が一線上に配列されるように前記表面パターンに搭載されることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の発光装置。
【請求項５】
前記複数の発光素子は、不連続状に形成される前記表面パターン上に前記第１の電極と前記第２の電極が接合されることによって直列接続されていることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の発光装置。
【請求項６】
前記発光素子は、前記第１の電極及び前記第２の電極を素子側面に平行な方向に配置してなることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の発光装置。
【請求項７】
前記発光素子は、前記第１の電極及び前記第２の電極を対角方向に配置してなることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の発光装置。
【請求項８】
前記電極パターンは、前記放熱パターンに対して回転対称性を有した形状で形成されていることを特徴とする請求項５に記載の発光装置。
【請求項９】
前記表面パターンは、Ａｇからなる表層を有することを特徴とする請求項１から８のいずれか１項に記載の発光装置。
【請求項１０】
前記ガラス封止部は、蛍光体を含有した直方体状のガラスからなる請求項３に記載の発光装置。
【請求項１１】
第１の電極及び第２の電極を有する２点接合型の複数の発光素子と、第１の面に設けられて前記第１の電極及び前記第２の電極が同一方向に配列されるように前記複数の発光素子を搭載する表面パターンと、前記第１の面とは反対側の面である第２の面に設けられて前記第１の電極及び前記第２の電極の前記表面パターンとの接合部が含まれるように設けられる放熱パターンと、前記第２の面に設けられて第１の面に設けられる前記表面パターンと電気的に接続され、前記放熱パターンに隣接し、前記放熱パターンを中心として前記第１の電極及び前記第２の電極の配列方向に対し直交する方向に対称的に配置される一対の電極パターンとを有する素子搭載基板と、前記表面パターン上の前記複数の発光素子を含む前記第１の面を封止するガラス封止部とを含むガラス封止ＬＥＤと、
前記ガラス封止ＬＥＤの前記素子搭載基板に設けられる前記電極パターンと電気的に接続され、前記放熱パターンと熱的に接合される金属基板とを有することを特徴とする発光装置。
【請求項１２】
前記金属基板は、アルミニウムからなることを特徴とする請求項１１に記載の発光装置。
【請求項１３】
前記金属基板は、銅又は銅合金からなることを特徴とする請求項１１に記載の発光装置。
【請求項１４】
前記金属基板は、金属面上に絶縁層を介して形成された配線層に前記ガラス封止ＬＥＤの前記電極パターンが接合されることを特徴とする請求項１２又は１３に記載の発光装置。
【請求項１５】
前記金属基板は、金属面上に絶縁層を介して形成された放熱層に前記ガラス封止ＬＥＤの前記放熱パターンが接合されることを特徴とする請求項１２から１４のいずれか１項に記載の発光装置。
【請求項１６】
前記金属基板は、金属面が露出した表面に前記放熱パターンが接合されることを特徴とする請求項１３に記載の発光装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記目的を達成するため、本発明では、第１の電極及び第２の電極を有する２点接合型の複数の発光素子と、第１の面に設けられて前記第１の電極及び前記第２の電極が同一方向に配列されるように前記複数の発光素子を搭載する表面パターンと、前記第１の面とは反対側の面である第２の面に設けられて前記第１の電極及び前記第２の電極の前記表面パターンとの接合部が平面視にて含まれるように設けられる放熱パターンと、前記第２の面に設けられて第１の面に設けられる前記表面パターンと電気的に接続され、前記放熱パターンに隣接し、前記放熱パターンを中心として前記第１の電極及び前記第２の電極の配列方向に対し直交する方向に対称的に配置される一対の電極パターンとを有する素子搭載基板と、前記表面パターン上の前記複数の発光素子を含む前記第１の面を封止するガラス封止部と、を有することを特徴とする発光装置が提供される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記発光装置において、前記複数の発光素子は、正方形状に形成され、前記第１の面に正方格子状に配列され、前記放熱パターンは、前記第１の電極及び前記第２の電極の配列方向に平行となるように長辺を有する矩形状に形成されることが好ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
また、上記目的を達成するため、本発明では、第１の電極及び第２の電極を有する２点接合型の複数の発光素子と、第１の面に設けられて前記第１の電極及び前記第２の電極が同一方向に配列されるように前記複数の発光素子を搭載する表面パターンと、前記第１の面とは反対側の面である第２の面に設けられて前記第１の電極及び前記第２の電極の前記表面パターンとの接合部が含まれるように設けられる放熱パターンと、前記第２の面に設けられて第１の面に設けられる前記表面パターンと電気的に接続され、前記放熱パターンに隣接し、前記放熱パターンを中心として前記第１の電極及び前記第２の電極の配列方向に対し直交する方向に対称的に配置される一対の電極パターンとを有する素子搭載基板と、前記表面パターン上の前記複数の発光素子を含む前記第１の面を封止するガラス封止部とを含むガラス封止ＬＥＤと、前記ガラス封止ＬＥＤの前記素子搭載基板に設けられる前記電極パターンと電気的に接続され、前記放熱パターンと熱的に接合される金属基板とを有することを特徴とする発光装置が提供される。
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月29日(2009.5.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回路基板と、導体パターンとを含む電子デバイスであって、
前記導体パターンは、前記回路基板上に設けられ、導電層と、絶縁層とを含んでおり、
前記絶縁層は、前記導電層の一面上に存在しており、
前記導電層は、高融点金属粒子と、低融点金属粒子とを含んでおり、
前記高融点金属粒子は、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｓｉ、または、Ｎｉの群から選択された少なくても１種を含んでおり、
前記低融点金属粒子は、コンポジット構造を有し、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｂｉの群から選択された少なくても１種を含む、
電子デバイス。
【請求項２】
請求項１に記載された電子デバイスであって、
前記絶縁層は、熱硬化性樹脂から形成され、硬化点が、前記低融点金属粒子の融点より高く、前記高融点金属粒子の融点より低い、
電子デバイス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】電子デバイス。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７８】
＜実施例、及び、比較例の対比＞
表１、及び、表２より、実施例１〜３は、良好な導電性を示した。このことにより、実施例１〜３では、銅の酸化を防止できたことが分かる。更に、図６の断面写真により、実施例1〜３では、樹脂層と、導電層の２層に分かれ、絶縁層の表面を樹脂層が被膜している。又、絶縁層では、低融点金属が融解して固化したため、隙間や断線等がない構造を取ることが分かる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７９】
これに対して、比較例では、図７の断面写真に示されたように、銀粒子が、その表面を被膜されることなく、個々に存在しているため、銀マイグレーションが起こったことが分かる。図７の中間部に現れた暗色部分が銀マイグレーションによる断線部分を示している。