Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月30日(2009.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技領域が形成され、当該遊技領域に向け遊技球が打ち込まれる遊技盤と、
該遊技盤の遊技領域に配置され、遊技球が入賞可能な始動口と、
該始動口に遊技球が入賞したことを検出する始動検出手段と、
前記遊技領域に配置され、閉状態と開状態とを変化可能となっており、前記閉状態から前記開状態に変化させられることで遊技球が入賞可能となる開閉装置と、
該開閉装置に遊技球が入賞したことを検出する入賞検出手段と、
少なくとも数字図柄及び絵柄から構成される図柄の変動表示を行うための変動表示手段と、
少なくとも変動表示のパターンである複数の変動パターンを記憶する変動情報記憶手段と、
前記始動検出手段による遊技球の検出に基づいて抽選を行う抽選手段、
前記変動情報記憶手段に記憶された前記変動パターンに基づいて、前記変動表示手段に、変動表示を行い、前記抽選手段による抽選結果に応じた停止表示を行う変動表示制御手段、および
前記抽選手段による抽選に当選したことに基づいて、前記開閉装置の開閉動作を行い、遊技者に遊技価値を付与可能な大当たり遊技を実行する大当たり遊技実行手段、
を少なくとも有する遊技制御手段と
を備えた遊技機において、
前記変動情報記憶手段は、前記変動表示に用いられる図柄に関する情報を記憶する図柄情報記憶手段を含み、
前記遊技制御手段は、前記図柄情報記憶手段に記憶された情報を変更することにより、通常図柄の一部を、見た目の異なる図柄である特殊図柄へ変更可能な図柄変更手段を有しており、
前記図柄変更手段は、前記絵柄のみを変更することにより、前記通常図柄を前記特殊図柄へ変更し、
前記図柄情報記憶手段は、前記変更された前記特殊図柄に関する情報を、少なくとも次回の変動表示まで記憶し、
前記変動表示制御手段は、前記図柄情報記憶手段に記憶された情報に基づいて、前記特殊図柄を含む図柄の変動表示を実行可能である
ことを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記図柄を構成する前記絵柄は、前記数字図柄よりも大きく表示されることによって認識しやすくなっている
請求項１に記載の遊技機。
【請求項３】
前記数字図柄に対する前記絵柄の縦又は横の比率が２倍以上とされている
請求項２に記載の遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
前記課題を解決するための本発明に係る遊技機は、遊技領域が形成され、当該遊技領域に向け遊技球が打ち込まれる遊技盤と、該遊技盤の遊技領域に配置され、遊技球が入賞可能な始動口と、該始動口に遊技球が入賞したことを検出する始動検出手段と、前記遊技領域に配置され、閉状態と開状態とを変化可能となっており、前記閉状態から前記開状態に変化させられることで遊技球が入賞可能となる開閉装置と、該開閉装置に遊技球が入賞したことを検出する入賞検出手段と、少なくとも数字図柄及び絵柄から構成される図柄の変動表示を行うための変動表示手段と、少なくとも変動表示のパターンである複数の変動パターンを記憶する変動情報記憶手段と、前記始動検出手段による遊技球の検出に基づいて抽選を行う抽選手段、前記変動情報記憶手段に記憶された前記変動パターンに基づいて、前記変動表示手段に、変動表示を行い、前記抽選手段による抽選結果に応じた停止表示を行う変動表示制御手段、および前記抽選手段による抽選に当選したことに基づいて、前記開閉装置の開閉動作を行い、遊技者に遊技価値を付与可能な大当たり遊技を実行する大当たり遊技実行手段、を少なくとも有する遊技制御手段とを備えた遊技機において、前記変動情報記憶手段は、前記変動表示に用いられる図柄に関する情報を記憶する図柄情報記憶手段を含み、前記遊技制御手段は、前記図柄情報記憶手段に記憶された情報を変更することにより、通常図柄の一部を、見た目の異なる図柄である特殊図柄へ変更可能な図柄変更手段を有しており、前記図柄変更手段は、前記絵柄のみを変更することにより、前記通常図柄を前記特殊図柄へ変更し、前記図柄情報記憶手段は、前記変更された前記特殊図柄に関する情報を、少なくとも次回の変動表示まで記憶し、前記変動表示制御手段は、前記図柄情報記憶手段に記憶された情報に基づいて、前記特殊図柄を含む図柄の変動表示を実行可能であることを特徴とする。
また、前記図柄を構成する前記絵柄は、前記数字図柄よりも大きく表示されることによって認識しやすくなっていることが好ましい。
また、前記数字図柄に対する前記絵柄の縦又は横の比率が２倍以上とされていることが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月30日(2009.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技領域が形成され、当該遊技領域に向けて打ち込まれた遊技球が流下可能な遊技盤と、
前記遊技盤の遊技領域に設けられ、遊技球を受け入れ困難な閉状態と当該閉状態よりも遊技球を受け入れ容易な開状態との間で開閉動作可能な可動片を有する開閉装置と、
前記遊技領域に設けられ、遊技球を受け入れ可能な始動口と、
前記始動口への遊技球の入球を検出する入球検出手段と、
前記入球検出手段により前記始動口への遊技球の入球が検出されることに基づいて、予め定められた数値範囲内で更新される数である乱数に基づいて前記可動片の開閉動作態様を示す特別クジについての抽選処理を行う抽選手段と、
前記抽選手段により前記特別クジが選出されることに基づき、該選出された特別クジにより示される開閉動作態様をもって前記可動片を駆動制御する駆動制御手段と、を備え、
前記可動片の開閉動作によって開放される前記開閉装置内の補助遊技領域には、特別入球口が設けられており、
前記駆動制御手段による駆動制御に応じた前記可動片による開閉動作を通じて前記開閉装置内の補助遊技領域に進入した遊技球が前記特別入球口に受け入れられたとき、遊技者にとって有利な特別遊技が行われる遊技機において、
前記入球検出手段により前記始動口への遊技球の入球が検出されたとき、予め定められた条件が満たされたか否かを判断する条件判断手段と、
前記条件判断手段により前記予め定められた条件が満たされた旨判断されるとき、前記入球検出手段により前記始動口への遊技球の入球が検出されてから当該検出に応じた前記抽選手段による前記抽選処理が開始されるまでの期間をより長い期間に可変設定する間置き設定処理手段と、
前記特別クジが選出されることを示す選出確定情報のみが前記乱数の全てに対応付けされるかたちで記憶される選確情報記憶手段と、を備え、
前記抽選手段は、前記間置き設定処理手段により可変設定された期間が経過した後に開始される前記抽選処理では、前記選確情報記憶手段に記憶されている選出確定情報に基づいて前記特別クジが必ず選出されるようにした
ことを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記可動片は、一対の羽根部材からなる
請求項１に記載の遊技機。
【請求項３】
前記駆動制御手段は、前記一対の羽根部材が同時に動作するように前記駆動制御を行うものである
請求項２に記載の遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
こうした目的を達成するため、請求項１に記載の発明では、遊技領域が形成され、当該遊技領域に向けて打ち込まれた遊技球が流下可能な遊技盤と、前記遊技盤の遊技領域に設けられ、遊技球を受け入れ困難な閉状態と当該閉状態よりも遊技球を受け入れ容易な開状態との間で開閉動作可能な可動片を有する開閉装置と、前記遊技領域に設けられ、遊技球を受け入れ可能な始動口と、前記始動口への遊技球の入球を検出する入球検出手段と、前記入球検出手段により前記始動口への遊技球の入球が検出されることに基づいて、予め定められた数値範囲内で更新される数である乱数に基づいて前記可動片の開閉動作態様を示す特別クジについての抽選処理を行う抽選手段と、前記抽選手段により前記特別クジが選出されることに基づき、該選出された特別クジにより示される開閉動作態様をもって前記可動片を駆動制御する駆動制御手段と、を備え、前記可動片の開閉動作によって開放される前記開閉装置内の補助遊技領域には、特別入球口が設けられており、前記駆動制御手段による駆動制御に応じた前記可動片による開閉動作を通じて前記開閉装置内の補助遊技領域に進入した遊技球が前記特別入球口に受け入れられたとき、遊技者にとって有利な特別遊技が行われる遊技機にあって、前記入球検出手段により前記始動口への遊技球の入球が検出されたとき、予め定められた条件が満たされたか否かを判断する条件判断手段と、前記条件判断手段により前記予め定められた条件が満たされた旨判断されるとき、前記入球検出手段により前記始動口への遊技球の入球が検出されてから当該検出に応じた前記抽選手段による前記抽選処理が開始されるまでの期間をより長い期間に可変設定する間置き設定処理手段と、前記特別クジが選出されることを示す選出確定情報のみが前記乱数の全てに対応付けされるかたちで記憶される選確情報記憶手段と、を備え、前記抽選手段は、前記間置き設定処理手段により可変設定された期間が経過した後に開始される前記抽選処理では、前記選確情報記憶手段に記憶されている選出確定情報に基づいて前記特別クジが必ず選出されるようにしたことを要旨とする。なお、上記特別遊技とは、当該特別遊技が行われない状態にあるときよりも遊技者が多くの賞球を獲得可能な遊技のことをいう。
このような構成では、予め定められた条件が満たされたときは、上記可動片の開閉動作態様についての抽選処理が行われるタイミング（抽選処理が開始されるタイミング）を遅延させるようにした（間置き設定処理手段）。すなわちこの場合、上記始動口への遊技球の入球があったにもかかわらず、当該入球に応じた上記抽選処理は長い期間行われないため、遊技者は、「あの時の遊技球の入球に応じた抽選処理の結果はどうなるのか」といったドキドキ感をより長い期間感じるようになり、ひいては遊技の興趣の低下が抑制されるようになる。
またさらに、上記構成では、上記遅延された抽選処理が行われたときは、上記特別クジが必ず選出されるようにした。そして、この選出された特別クジにより示される開閉動作態様をもって前記可動片の駆動制御を行うようにした。すなわちこの場合、遊技者から見れば、「上記抽選処理が開始されるまで長い期間待った甲斐があった」といった興奮を感じるようになり、これによって遊技の興趣の低下をより好適に抑制することができるようになる。また、上記遅延された抽選処理にて抽選された開閉動作態様をもって上記可動片の駆動制御を行うようにしたため、遊技領域上の各種の部材が予め定められた動作をするにすぎない、といったようなことが回避されるようになり、これによっても遊技の興趣の低下をより好適に抑制することができるようになる。
なお、上記抽選手段により抽選される上記可動片の開閉動作態様を示す特別クジとしては、例えば、後述の技術的思想２８〜３０のいずれか一項に記載されているように、可動片の開放時間を示す特別クジ、ラウンド数を示す特別クジ、動作タイミングを示す特別クジ、あるいはこれら３項目をそれぞれ示す特別クジ、等々といった、各種の特別クジを採用することが可能である。
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月20日(2009.2.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の工程を含む半導体集積回路装置の製造方法：
（ａ）その１面に複数の配線パターン、複数のパッド及びレジスト層を有し、前記配線パターンは、前記レジスト層に覆われ、前記パッドは、前記レジスト層から露出した配線基板を準備する工程；
（ｂ）前記配線基板を３次元測定することにより、以降の工程でそれぞれの前記パッドに形成された半田の実際の高さを測定するための測定基準面を前記パッド上に設定する工程；
（ｃ）前記（ｂ）工程の後に、前記配線基板の前記１面に半田を印刷し、それぞれの前記パッドの上に半田パターンを形成する工程；
（ｄ）前記（ｃ）工程の後に、前記測定基準面を基準にして、前記半田パターンの高さを検査する工程；
（ｅ）前記（ｄ）工程の後に、それぞれの前記半田パターンの上に、対応した回路部品を搭載する工程。
【請求項２】
請求項１に記載の半導体集積回路装置の製造方法において、
前記測定基準面は、前記レジスト層の上面である。
【請求項３】
請求項２に記載の半導体集積回路装置の製造方法において、
前記レジスト層は、第１部分と第２部分とを有し、前記第１部分と前記第２部分はそれぞれ前記パッドの上面から異なる高さであって、前記測定基準面は、前記異なる高さを含む。
【請求項４】
請求項３に記載の半導体集積回路装置の製造方法において、
前記回路部品は、半導体パッケージを含む。
【請求項５】
請求項４に記載の半導体集積回路装置の製造方法において、
前記半導体パッケージは複数のリードを有し、
前記（ｅ）工程は、前記配線基板の前記パッドに、前記半導体パッケージの前記リードを熱処理によって半田付けすることを含む。
【請求項６】
以下の工程を含む半導体集積回路装置の製造方法：
（ａ）配線基板上に半田を印刷する工程；
（ｂ）前記配線基板上に印刷された半田を検査する工程；
（ｃ）前記配線基板上に印刷された半田上に回路部品を搭載する工程、
前記（ｂ）工程は、３次元検査と２次元検査を含み、前記３次元検査と前記２次元検査とは、光源の切り替えが可能な共通のカメラを用いて実行され、前記３次元検査と前記２次元検査との間で異なる光の照射を可能とすることにより、前記共通のカメラによって撮像された画像を用いて前記半田の検査を行う。
【請求項７】
請求項６に記載の半導体集積回路装置の製造方法において、
前記２次元検査は、前記３次元検査の後に実行される。
【請求項８】
請求項７に記載の半導体集積回路装置の製造方法において、
前記共通のカメラは、ＣＭＯＳエリアカメラである。
【請求項９】
請求項７に記載の半導体集積回路装置の製造方法において、
前記光源はＬＥＤ照明ランプである。
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月14日(2008.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
磁気テープ等の各種のテープが種々の用途に用いられている。例えば、磁気テープは、高速走行中に各種の情報を記憶するために用いられており、その情報記憶領域を正確に管理する必要があり、製造工程においてテープ幅を高精度に管理する必要がある。また、各種のテープは、走行する幅広のシート材料をスリッタにより所定のテープ幅に切り出すことにより製造されるため、製造工程においてテープ幅をリアルタイムで高精度に測定することが強く要請されている。特に、走行するテープをリアルタイムで測定できれば、測定データに基づいて走行するテープに作用するテンションに対してリアルタイムでフィードバックできるため、製造上の歩留りを大幅に改善できる効果が達成される。
従来、磁気テープ等の走行するテープの幅を測定する方法として、走行するテープの両方の縁部にテープをはさんで光源とフォトマルを配置し、フォトマルに入射する入射光量からテープ幅が測定されていた。すなわち、テープ幅が基準値よりも増大するとフォトマルに入射する光量が減少し、テープ幅が基準値よりも小さくなるとフォトマルへの入射光量が増加する。よって、フォトマルへの入射光量に基づいて走行するテープの幅が測定される。
また、テープの幅を測定する方法として特許文献１に記載の方法が知られている。
【特許文献１】特開２００１−５０７１５号公報
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月19日(2008.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
着色膜３，４，５が正常な厚さであれば、干渉縞が生じないか或いは一様な縞模様となって現れるが、例えばカラーフィルタ１に図２（Ａ）に示すような示すような局所的に盛り上がった膜厚ムラ３ａ，４ａ，５ａが生じていると、図２（Ｂ）に示すような等高線状の干渉縞Ａが現れる。検査者はこの干渉縞Ａを観察して着色膜３，４，５の膜厚の均一性についてその適否を判断する。
その他、従来、カラーフィルタ等の欠陥検査として、単色光光源から透明膜に所定の入射角度で検査光を照射し、透明膜表面において反射された反射光と透明膜を透過した後に透明膜の裏面側界面で反射された反射光との光路差による位相のズレから生じる干渉光を、光検出器で受光し、その信号を画像処理し、その強度分布から所定量以上の光強度変化が生じている透明膜の領域を検出することによって厚みムラのある箇所を検出することが提案されている（例えば、特許文献１参照。）。また、干渉現象を利用してガラス基板の表面上の膜厚ムラなどの欠陥部をラインセンサカメラで撮像するという方法や（例えば、特許文献２参照。）、半導体ウェハ表面のレジスト膜厚の目視検査に光の干渉を利用する方法（例えば、特許文献３参照。）も提案されている。
【特許文献１】特開平１０−３８７５３号公報
【特許文献２】特開２００３−２６３６２７号公報
【特許文献３】特許第３１１４９７２号公報
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月31日(2009.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 （ａ）Ｘ線放射装置とＸ線検出器との間に目標物を配置する工程であって、前記Ｘ線検出器が少なくとも実質的に平面状であり、前記Ｘ線放射装置が前記Ｘ線検出器に向かってＸ線ビームを照射するように作動可能であり、前記Ｘ線ビームがＸ線ビーム軸に中心を有している工程と、（ｂ）前記Ｘ線検出器に対して第１の撮像位置から前記Ｘ線ビームを照射するように前記Ｘ線放射装置を作動し、これにより、前記目標物の第１の像を得る工程であって、前記第１の撮像位置を前記Ｘ線検出器に対して少なくとも実質的に平行な撮像平面内に配置されている、第１の像を得る工程と、（ｃ）前記Ｘ線検出器に対して第２の撮像位置に前記Ｘ線放射装置を配置するように前記Ｘ線放射装置及び／又はＸ線検出器を高速で移動させる工程であって、前記第２の撮像位置を前記撮像平面内に配置する工程と、（ｄ）前記第２の撮像位置から前記Ｘ線ビームを照射するように前記Ｘ線放射装置を作動し、これにより、前記目標物の第２の像を得る工程と、（ｅ）前記第１及び第２の像を立体視的に組み合わせる工程と、を含んでおり、
前記Ｘ線ビーム軸は、前記第１及び第２の撮像位置において前記Ｘ線検出器に対して異なる角度に配向され、
前記Ｘ線放射装置が前記第１の撮像位置にあるときの前記Ｘ線ビーム軸は、前記Ｘ線放射装置が前記第２の撮像位置にあるときの前記Ｘ線ビーム軸と交差し、
前記Ｘ線ビーム軸の交差点が、少なくとも前記Ｘ線検出器からと同じだけ前記Ｘ線放射装置から距離上離隔して配置される
放射線撮像方法。
【請求項２】 前記Ｘ線検出器が不動に保たれ、前記Ｘ線放射装置が移動する請求項１に記載の方法。
【請求項３】 前記Ｘ線放射装置が不動に保たれ、前記Ｘ線検出器が移動する請求項１に記載の方法。
【請求項４】 前記Ｘ線放射装置及び前記Ｘ線検出器の両方が移動する請求項１に記載の方法。
【請求項５】 前記Ｘ線放射装置及び前記Ｘ線検出器が、平行で且つ反対方向の経路に沿って平行移動する請求項４に記載の方法。
【請求項６】 前記第１及び第２の像を立体視的に組み合わせる工程は、（ａ）前記第１及び第２の像を高速で連続して交互に表示する工程と、（ｂ）同時に、観察者の右眼及び左眼の各々からの前記第１及び第２の像の観察を交互に遮蔽する工程と、を含んでいる請求項１に記載の方法。
【請求項７】 （ａ）前記第１の撮像位置にある前記Ｘ線放射装置の位置を測定する工程と、（ｂ）前記第２の撮像位置にある前記Ｘ線放射装置の位置を測定する工程と、（ｃ）前記第１の像に含まれる各物体の間の距離を測定する工程と、（ｄ）前記第２の像に含まれる各物体の間の距離を測定する工程と、（ｅ）前記工程（ａ）〜工程（ｄ）の前記測定された位置及び距離を利用して、前記第１及び第２の像における各物体の相対的な深さを決定する工程と、を更に含んでいる請求項１に記載の方法。
【請求項８】 （ａ）Ｘ線ビーム軸を中心とするＸ線ビームを照射するように作動することが可能なＸ線放射装置と、（ｂ）全体的に平面状の構成を有しており、前記Ｘ線ビームの経路内に配置され、これにより、前記Ｘ線ビームを受け取るときに像を形成するＸ線検出器と、（ｃ）前記Ｘ線検出器と前記Ｘ線放射装置との間に配置されていて、放射線撮像対象の目標物を配置することができる目標物区域とを備え、前記Ｘ線放射装置及びＸ線検出器のうち少なくとも一方が、前記目標物の第１の像と前記目標物の第２の像とを高速で連続的に形成するように自動的に移動可能であり、前記第１の像は、前記Ｘ線放射装置が前記Ｘ線検出器の前記平面に対して少なくとも実質的に平行な撮像平面内の第１の撮像位置に配置されている場合に形成され、前記第２の像は、前記Ｘ線放射装置が前記撮像平面内の第２の撮像位置に配置されている場合に形成され、
前記Ｘ線ビーム軸は、前記第１及び第２の撮像位置において前記Ｘ線検出器に対して異なる角度に配向され、
前記Ｘ線放射装置が前記第１の撮像位置にあるときの前記Ｘ線ビーム軸は、前記Ｘ線放射装置が前記第２の撮像位置にあるときの前記Ｘ線ビーム軸と交差し、
前記Ｘ線ビーム軸の交差点が、少なくとも前記Ｘ線検出器からと同じだけ前記Ｘ線放射装置から距離上離隔して配置されること、を特徴とする放射線撮像システム。
【請求項９】 前記Ｘ線放射装置に動作上関連していて、前記撮像平面内の経路を横断して前記Ｘ線放射装置を移動させるように作動することが可能な放射装置アクチュエータを更に含んでいる請求項８に記載の放射線撮像システム。
【請求項１０】 前記Ｘ線検出器に動作上関連していて、前記撮像平面に平行な経路を横断して前記Ｘ線検出器を移動させるように作動することが可能な検出器アクチュエータを更に含んでいる請求項８に記載の放射線撮像システム。
【請求項１１】 前記Ｘ線放射装置に動作上関連しており、前記撮像平面内の経路を横断して前記Ｘ線放射装置を移動させるように作動可能な放射装置アクチュエータを更に含んでいる請求項１０に記載の放射線撮像システム。
【請求項１２】 前記Ｘ線ビーム軸は、前記Ｘ線放射装置が前記第１の撮像位置にあるときには前記Ｘ線検出器の前記平面に対して第１の角度を成しており、前記Ｘ線ビーム軸はまた、前記Ｘ線放射装置が前記第２の撮像位置にあるときには前記Ｘ線検出器の前記平面に対して第２の角度を成している請求項８に記載の放射線撮像システム。
【請求項１３】 前記第１及び第２の像から前記目標物区域の立体視像を形成する手段を更に含んでいる請求項８に記載の放射線撮像システム。
【請求項１４】 前記目標物区域の立体視像を形成する前記手段は、前記第１及び第２の像を表示する画面と、各々のポートが観察者の両眼から前記第１及び第２の像のそれぞれ一方を遮蔽するような２つの目視ポートを有する眼鏡と、を含んでいる請求項１３に記載の放射線撮像システム。
【請求項１５】 （ａ）Ｘ線ビーム軸を中心とするＸ線ビームを照射するように作動可能なＸ線放射装置と、（ｂ）全体的に平面状の構成を有しており、前記Ｘ線ビームの経路内に配置され、これにより、前記Ｘ線ビームを受け取るときに像を形成するＸ線検出器であって、前記Ｘ線放射装置及び当該Ｘ線検出器のうち少なくとも一方が、前記Ｘ線検出器の前記平面に対して少なくとも実質的に平行に配向した平面内を移動することが可能であり、これにより、前記Ｘ線放射装置が当該Ｘ線検出器に対して異なる撮像位置からの像を形成するように作動可能であるようにするＸ線検出器と、（ｃ）異なる撮像位置からの前記像を交互に相次いで提供する表示装置と、（ｄ）各々のポートが前記表示装置と同期して異なる撮像位置からの前記像を交互に遮蔽するような２つの目視ポートを有する眼鏡と、を備えており、
前記Ｘ線ビーム軸は、前記第１及び第２の撮像位置において前記Ｘ線検出器に対して異なる角度に配向され、
前記Ｘ線放射装置が前記第１の撮像位置にあるときの前記Ｘ線ビーム軸は、前記Ｘ線放射装置が前記第２の撮像位置にあるときの前記Ｘ線ビーム軸と交差し、
前記Ｘ線ビーム軸の交差点が、少なくとも前記Ｘ線検出器からと同じだけ前記Ｘ線放射装置から距離上離隔して配置される放射線撮像システム。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月25日(2009.6.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも２つの隣接する超合金構成要素（１２、１４）をレーザービーム溶接する方法であって、
（ａ）裏当て板なしで、１対の接合面（１８、２０）に沿って超合金構成要素を整列させ、
（ｂ）接合面の間に超合金シム（１６）を配置し、
（ｃ）上記超合金構成要素の接合面に沿った複数の部分を上記超合金シムと混合させるレーザービームを使用して超合金構成要素同士を溶接し、超合金構成要素を冷却して超合金構成要素の間に突合せ溶接部（２２）を形成する
ことを含んでおり、
ステップ（ｃ）を実行するためのパラメータが、
ワット数が１０００〜３５００W、
速度が２０．３２〜７６．２ｃｍ／ｍｉｎ、
焦点距離が１９．０５ｃｍ、
シムの厚さが０．０２５４〜０．１０１６ｃｍ、
シムと接合面との間の間隙が０〜０．０２５４ｃｍ
であって、０．５インチまでの深さの完全溶け込み溶接部を形成することを特徴とする方法。
【請求項２】
接合部の長さに沿ってスポット仮付けが行われる、請求項１記載の方法。
【請求項３】
超合金構成要素（１２、１４）がニッケル系超合金、コバルト系超合金又は鉄系超合金である、請求項１又は請求項２記載の方法。
【請求項４】
シム（１６）がニッケル系超合金又はコバルト系超合金である、請求項１乃至請求項３のいずれか１項記載の方法。
【請求項５】
シム（１６）が隣接する超合金構成要素から上方へ突出する、請求項１乃至請求項４のいずれか１項記載の方法。
【請求項６】
シム（１６）は、隣接する超合金構成要素から０．２５〜３．８ｍｍ（０．０１０〜０．１５０インチ）上方へ突出する、請求項５記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月2日(2009.10.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
イオン交換樹脂よりなる軟水化濾材を充填した軟水化濾材充填部に原水を通過させて、その原水を軟水化させるようにした水質調整装置において、
前記濾材充填部の上流または下流に金属イオン封鎖剤を収容する封鎖剤収容部を設け、軟水化濾材充填部を通過した軟水化水中に金属イオン封鎖剤が溶出するように構成したことを特徴とする水質調整装置。
【請求項２】
前記イオン交換樹脂として、酸性の軟水化水が生成されるようにしたものを用いたことを特徴とする請求項１に記載の水質調整装置。
【請求項３】
前記イオン交換樹脂として、ｐＨ４．０〜６．９の範囲内の軟水化水が生成されるようにしたものを用いたことを特徴とする請求項１に記載の水質調整装置。
【請求項４】
金属イオン封鎖剤の溶出が少なくなるように、前記封鎖剤収容部は、金属イオン封鎖剤の溶出速度を遅延させるための溶出遅延手段を有することを特徴とする請求項１〜３のうちのいずれか一項に記載の水質調整装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
（作用）
この発明においては、原水が濾材充填部を通過することにより、原水中に含まれるイオン物質が濾材充填部のイオン交換樹脂によりイオン交換されて、その原水が軟水化される。その後、濾材充填部を通過した軟水化水が収容部を通過することにより、その軟水化水中に金属イオン封鎖剤が溶出する。よって、イオン交換樹脂のイオン交換能力が低下した場合でも、軟水化水中に溶出した金属イオン封鎖剤により、軟水化効率の低下を補足することができる。このため、イオン交換樹脂を頻繁に交換したり再生したりする必要がなく、長時間にわたって軟水化効率を維持することができて、取り扱いが簡単であるとともに管理コストのアップを抑制することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、酸性の軟水化水が生成されるようにすれば、配管系の内部が酸により洗浄されて、スケールの生成を抑制できる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７５】
ここで、サンゴカルシウムに取り付いているリン酸アパタイトを排除し、溶出させるためには、軟水のｐＨを下げる方法と分散剤を投入する方法とが考えられる。すなわち、軟水化水には、カルシウム硬度溶出促進能力を有するが、さらに、カルシウム硬度をリン酸と反応させてリン酸カルシウム［Ｃａ３（ＰＯ４）２］に変えてやれば、物質の溶出度積から考えてサンゴのカルシウムは更にイオン化して軟化水中に溶出するのではないか推察される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７７】
【表５】
2007007651.tif 000001
表５は、試料として、それぞれｐＨ７のつくば市水の原水（非軟水化水），ｐＨ６の調整水（軟水化水），ｐＨ５の調整水（軟水化水），ｐＨ４の調整水（軟水化水）を５００ミリリットル用意し、それらの調整水にそれぞれ金属イオン封鎖剤を１５０ｇ添加して、時間ごとの溶出量を測定したものである。表５から理解されるように酸性度が高いほうが金属イオン封鎖剤の全リン酸溶出量は多いが、特に、ｐＨ５の調整水に対する溶出量が多い。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８６】
ペレットよりなる分散剤４５の配合割合の一例は以下の通りである。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９９】
１１…収容ケース、１２…ケース本体、１６…濾材充填部としてのカートリッジ、１８…濾材としてのイオン交換樹脂、２９…金属イオン封鎖剤収容部としての金属イオン封鎖剤容器、３０…容器本体、３１…流路形成部、３３…金属イオン封鎖剤３３…通水シート、４１…第２収容ケース、４４…接続ホース。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月19日(2009.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁表面上に設けられた第一の多結晶シリコン層を有する第一層と、
前記第一層上に設けられた第二の多結晶シリコン層を有する第二層と、を有し、
前記第一の多結晶シリコン層および前記第二の多結晶シリコン層は、金属元素を用いて結晶化された多結晶シリコン層であり、
前記第一層と前記第二層との間には空間を有することを特徴とする微小構造体。
【請求項２】
絶縁表面上に設けられた第一の多結晶シリコン層を有する第一層と、
前記第一層上に設けられた第二の多結晶シリコンを有する第二層と、を有し、
前記第一の多結晶シリコン層および前記第二の多結晶シリコン層は、金属元素を用いて結晶化された多結晶シリコン層であり、
前記第一層と前記第二層との間には空間を有し、前記第二層は、前記絶縁表面及び前記第一層に接しない部分を有することを特徴とする微小構造体。
【請求項３】
絶縁表面上に設けられた第一の多結晶シリコン層を有する第一層と、
前記第一層上に設けられた第二の多結晶シリコンを有する第二層と、を有し、
前記第一の多結晶シリコン層および前記第二の多結晶シリコン層は、金属元素を用いて結晶化された多結晶シリコン層であり、
前記第一層と前記第二層との間には空間を有し、前記第二層は、前記絶縁表面及び前記第一層に接しない部分を有する梁構造となることを特徴とする微小構造体。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一において、
前記空間は、前記第一層上に設けられた金属、金属化合物、シリコン、シリコン酸化物又はシリコン窒化物を有する層がエッチング法により除去され生じたことを特徴とする微小構造体。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一において、
前記第二層は、前記第二の多結晶シリコン層と、非晶質シリコン層とを積層した構造を有することを特徴とする微小構造体。
【請求項６】
請求項１乃至４のいずれか一において、
前記第二層は、前記第二の多結晶シリコン層と第三の多結晶シリコン層が積層した構造を有し、
前記第二の多結晶シリコン層の結晶状態と前記第三の多結晶シリコンの結晶状態とが異なることを特徴とする微小構造体。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一において、
前記結晶化には熱結晶化又はレーザ結晶化が用いられることを特徴とする微小構造体。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか一において、
前記結晶化に用いられる金属元素は、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、及びＡｕのいずれか１つ又は複数であることを特徴とする微小構造体。
【請求項９】
絶縁表面上に、非晶質シリコンを有する層を形成し、
前記非晶質シリコンを、金属を用いて結晶化して多結晶シリコンとし、
前記第三層をエッチングにより除去することによって、前記多結晶シリコンを有する層の上方又は下方に空間を形成することを特徴とする微小構造体の作製方法。
【請求項１０】
絶縁表面上に、非晶質シリコンを有する第一層を形成し、
前記非晶質シリコンを、金属を用いて結晶化して多結晶シリコンとし、
前記第一層上に、第三層を形成し、
前記第三層上に、非晶質シリコンを有する第二層を形成し、
前記非晶質シリコンを、金属元素を用いて結晶化して多結晶シリコンとし、
前記第二層を覆う絶縁層を形成し、
前記絶縁層にコンタクトホールを形成し、前記コンタクトホールを介してエッチング剤を導入して前記第三層をエッチングにより除去することによって、前記多結晶シリコンを有する層の上方又は下方に空間を形成することを特徴とする微小構造体の作製方法。
【請求項１１】
絶縁表面上に、非晶質シリコンを有する第一層を形成し、
前記非晶質シリコンを、金属を用いて結晶化して多結晶シリコンとし、
前記第一層上に、第三層を形成し、
前記第三層上に、非晶質シリコンを有する第二層を形成し、
前記非晶質シリコンを、金属元素を用いて結晶化して多結晶シリコンとし、
前記第三層をエッチングにより除去することによって、前記第二層と前記絶縁表面又は前記絶縁表面に接合した前記第一層とが接していない部分を形成することを特徴とする微小構造体の作製方法。
【請求項１２】
絶縁表面上に、非晶質シリコンを有する第一層を形成し、
前記非晶質シリコンを、金属を用いて結晶化して多結晶シリコンとし、
前記第一層上に、第三層を形成し、
前記第三層上に、非晶質シリコンを有する第二層を形成し、
前記非晶質シリコンを、金属元素を用いて結晶化して多結晶シリコンとし、
前記第三層をエッチングにより除去することによって、前記第二層を梁構造とすることを特徴とする微小構造体の作製方法。
【請求項１３】
請求項９乃至１２のいずれか一において、
前記第三層は、金属、金属化合物、シリコン、シリコン酸化物又はシリコン窒化物を有することを特徴とする微小構造体の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年8月12日(2009.8.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一つのすくい面と少なくとも一つの逃げ面を有する全体として多角形状または円形形状のボディよりなる超硬合金の被覆切削工具インサートであって、
前記インサートが、６．４〜８．６のＣｏと、４〜８．５ｗｔ％の立方晶炭化物と、残部ＷＣの化学組成であって、０．７８〜０．９２の範囲のＣＷ比を有し、且つ立方晶炭化物のＴｉＣ、ＴａＣ及び／またはＮｂＣが枯渇した１０〜３５μｍの厚みの表面領域を有し、
前記インサートが、Ｘ≧０、Ｙ≧０かつＸ＋Ｙ＝１であるＴｉＣＸＮＹの少なくとも１層、及びすくい面上で少なくとも外側層であるαＡｌ２Ｏ３の層を含む１０〜２５μｍ厚みの被膜で部分的に被覆され、且つ前記少なくとも一つのすくい面上で、
−  前記ＴｉＣＸＮＹ層が、５〜１５μｍの厚み、及び５０〜３９０ＭＰａの引張応力を有し、
−  ３〜１２μｍの厚みを有する前記αＡｌ２Ｏ３の層が、≧１．３のＸ線回折法の回折強度比率Ｉ（０１２）／Ｉ（０２４）と、原子間力顕微鏡技術によって１０個の無作為に選んだ１０μｍ×１０μｍの領域上を測定したすくい面上の少なくとも切屑の接触区域において及び逃げ面上でＭＲａ≦０．１２μｍの平均Ｒａ値と、を有する最外側層であり、
−  前記ＴｉＣＸＮＹ層が、５００〜７００ＭＰａの範囲の引張応力を有し、
−  前記αＡｌ２Ｏ３の層が、＜１．５のＸ線回折法の回折強度比率Ｉ（０１２）／Ｉ（０２４）を有し、
または、前記少なくとも一つのすくい面上及び前記少なくとも一つの逃げ面上で、
−  前記ＴｉＣＸＮＹ層が、５〜１５μｍの厚み、及び５０〜３９０ＭＰａの引張応力を有し、
−  ３〜１２μｍの厚みを有する前記αＡｌ２Ｏ３の層が、≧１．３のＸ線回折法の回折強度比率Ｉ（０１２）／Ｉ（０２４）と、原子間力顕微鏡技術によって１０個の無作為に選んだ１０×１０μｍ２の領域上を測定したすくい面上の少なくとも切屑の接触区域において及び逃げ面上でＭＲａ≦０．１２μｍの平均Ｒａ値と、を有する最外側層であり、頂部層が着色された耐熱塗料または着色された物理蒸着層からなる、
ことを特徴とする少なくとも一つのすくい面と少なくとも一つの逃げ面を有する全体として多角形状または円形形状のボディよりなる超硬合金の被覆切削工具インサート。
【請求項２】
ＴｉＣＸＮＹの層とＡｌ２Ｏ３の層との間に、薄い０．２〜２μｍのＴｉＣＸＮＹＯＺの結合層を有し、Ｘ≧０、Ｚ＞０かつＹ≧０であることを特徴とする請求項１に記載の超硬合金の被覆切削工具インサート。
【請求項３】
前記αＡｌ２Ｏ３の層が、ＴＣ（０１２）＞１．３の組織係数を備える０１２方向の組織を有することを特徴とする請求項１または２に記載の超硬合金の被覆切削工具インサート。
【請求項４】
前記αＡｌ２Ｏ３の層が、ＴＣ（１１０）＞１．５の組織係数を備える１１０方向の組織を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の超硬合金の被覆切削工具インサート。
【請求項５】
前記被膜は、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｈｆ、Ｖ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｗ及びＡｌから選択された金属元素を有する金属の窒化物及び／または炭化物及び／または酸化物から成り且つ＜５μｍの合計層厚みの付加層を含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の超硬合金の被覆切削工具インサート。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月3日(2009.7.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コアおよびこのコアの周りに配された少なくとも１つの層を有するゴルフボールであって、上記コアまたは上記層が、ベースポリマー、架橋開始剤、および、少なくとも１つの添加物から形成された配合物を有し、上記添加物は少なくとも１つのＣ−Ｏ−Ｂ結合を有し、この結合中の炭素が第２または第３の炭素であり、かつ、上記添加物が、ボラン、ボレート、ボロネート、ボリネート、少なくとも１つのホウ素原子を環員として有する複素環式化合物、ホウ素含有有機スルフィド、そのような添加物の塩およびホウ素錯体の金属塩、有機金属塩、および非金属塩からなるグループから選択されたことを特徴とするゴルフボール。
【請求項２】
上記添加物は、ＢＲ３を含む、またはＢＲ３の、モノオルガノ、ジオルガノ、またはトリオルガノ化合物、ホウ酸、硫黄置換ボレート、アミンボレートエステル、ボロン酸、ジボロネート、ボリン酸、ジオキサボロラン、ジオキサボリナン、Ｂ（ＯＲ）３、Ｂ（ＯＲ”）３、Ｒ’Ｂ（ＯＲ）２、ＹＲ” Ｂ（ＯＲ）２、Ｙ’［Ｒ”Ｂ（ＯＲ）２]２、および、Ｒ’２Ｂ（ＯＲ）の構造を有する化合物、このような添加物の金属または非金属塩、テトラオルガノ−ボランのアニオンＲ４Ｂ−からなるグループから選択され、ＲおよびＲ’は、Ｈ、および、４０以下の炭素原子を有する同一または異なる一価のラジカルであり、オプションとして１または複数のヘテロ原子を含み、オプションとして１または複数の電子吸引基で置換され、Ｒ”は、２０以下の炭素原子を有する同一または異なる二価のラジカルであり、オプションとして１または複数のヘテロ原子を含み、オプションとして１または複数の電子吸引基で置換され；Ｙは、チオシアノ（−ＳＣＮ）、エポキシ、グルシジル、エピチオ、ビニル、アリル、アミン、およびＡＺ基から選択され、Ａは酸素または硫黄原子であり、ＺはＨ、金属カチオン、有機金属カチオン、および非金属有機カチオンからなるグループから選択されたものであり；Ｙ’はポリスルフィドＳｙまたはポリセレンＳｅｙから選択された二価のラジカルであり；ｙは１〜８の整数である、請求項１記載のゴルフボール。
【請求項３】
上記配合物は、３〜８の炭素原子を有する不飽和酸の金属塩、フィラー、脂肪酸およびその塩からなるグループから選択された少なくとも１つの成分をさらに有する請求項１記載のゴルフボール。
【請求項４】
上記添加物は、上記ベースポリマーの重量基準で０．１ｐｈｒ〜５ｐｈｒの量だけ存在する請求項１記載のゴルフボール。
【請求項５】
上記配合物は少なくとも１つのアミノベースの化合物をさらに有する請求項１記載のゴルフボール。
【請求項６】
上記コアの直径は１．５インチ（３．８１ｃｍ）以上であり、上記コアの圧縮は５０〜９０であり、上記コアは、センタおよび外側コア層を有する請求項１記載のゴルフボール。
【請求項７】
上記少なくとも１つの層は、厚さが０．０５インチ（０．１２７ｃｍ）以下で曲げ弾性率が２０００ｐｓｉ〜３００００ｐｓｉ（１３．７９ＭＰａ〜２０６．８４ＭＰａ）である外側カバー層である請求項１記載のゴルフボール。
【請求項８】
上記ゴルフボールはさらに外側カバー層を有し、上記少なくとも１つの層は、上記コアおよび上記外側カバー層の間に配され、各層の厚さが０．０５インチ（０．１２７ｃｍ）以下である中間層である請求項１記載のゴルフボール。
【請求項９】
上記少なくとも１つの層は、外側カバー層であり、上記ゴルフボールは上記コアおよび上記外側カバー層の間に配され、層の厚さが０．０５インチ（０．１２７ｃｍ）以下である中間層をさらに有する請求項１記載のゴルフボール。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月4日(2008.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
生分解性で多孔性の骨移植用マトリックスの作成方法であって、
（ａ）生分解性の水不溶性バイオポリマー繊維、水溶性バインダーおよびリン酸カルシウム無機質微粒子を含む分散物を形成させる工程と、
（ｂ）前記の分散物を多孔性マトリックスに形作る工程であって、前記リン酸カルシウム無機質が前記バインダーによって前記マトリックス内部に保持される、前記工程と、
（ｃ）前記の多孔性マトリックスを架橋する工程、
とを含む前記方法。
【請求項２】
工程（ｂ）が前記の分散物の凍結及び凍結乾燥を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
分散物が更に滲出可能な粒子を含み、前記の工程（ｂ）が前記の分散物を乾燥すること及び前記の粒子を滲出して前記のマトリックスを形成させることを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
分散物がさらに昇華可能な粒子を含み、前記の工程（ｂ）が前記の分散物を乾燥することおよび前記の粒子を昇華させて前記のマトリックスを形成させることを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
生分解性の水不溶性バイオポリマー繊維が、約３０−８０質量％のコラーゲンを含有する無機化コラーゲン繊維を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
バインダーが可溶性コラーゲンを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
無機質がヒドロキシアパタイトを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
無機質が直径約５ミクロン以下の粒子からなる、請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月7日(2009.5.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
特定入賞口への遊技球の入賞に基づいて各種乱数を抽出記憶するとともに、該乱数の判定結果に基づいて画像表示装置の複数の可変表示領域に複数種類の識別情報を可変表示し、その複数の可変表示領域の可変表示の全てが停止する以前の段階で、遊技価値を付与する識別情報の組み合わせが成立する可能性のあるリーチ状態となっている場合に、該リーチ状態を可変表示領域の背面領域で装飾表示する遊技機において、
前記可変表示領域の背面領域で行うリーチの装飾表示のパターンを決定するリーチ装飾表示パターン決定手段と、
前記リーチ装飾表示パターン決定手段により決定されたリーチの装飾表示のパターンに対応して、可変表示停止時の識別情報の組み合わせを決定するリーチ停止識別情報決定手段と、
各可変表示領域の識別情報の可変表示を行うと共に、前記リーチ停止識別情報決定手段によって決定された識別情報の組み合わせのうち、リーチ状態を成立させる可変表示領域の識別情報を前記リーチ停止識別情報決定手段によって決定された識別情報で仮停止するとともに、リーチ状態を成立させない可変表示領域の識別情報を前記リーチ停止識別情報決定手段によって決定された識別情報でない識別情報で仮停止する可変表示手段と、
前記リーチ装飾表示パターン決定手段により決定されたリーチの装飾表示のパターンに対応した装飾表示を行うとともに、前記可変表示手段により仮停止されたリーチ状態の組み合わせの識別情報のうち、リーチ状態を成立させない可変表示領域の識別情報を再度可変表示し、最終的に前記リーチ停止識別情報決定手段によって決定された識別情報の組み合わせを停止させるリーチ制御手段と、を備え、
前記リーチ制御手段は、リーチ状態を成立させない可変表示領域の識別情報を再度可変表示する場合には、リーチ状態を成立させて仮停止している可変表示領域の識別情報を縮小させるとともに、当該識別情報を可変表示領域の端側へ移動させることを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
これは、遊技制御装置が遊技領域に設けられている特図始動口への遊技球の入賞を検出すると、遊技価値を決定する乱数を抽出記憶し、判定時にその乱数値を予め設定した判定値と比較判定し、その判定結果に基づいて画像表示装置へ制御信号を順次送信することで、識別情報を可変表示し、所定時間後に識別情報の可変表示を停止して、この停止した識別情報の組み合わせが所定の組み合わせの場合に、遊技者に遊技価値を付与するいわゆる大当たり遊技を行わせるものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
そして、大当たりのときは、大当たり停止識別情報記憶領域に記憶されている識別情報の組み合わせを取得して、識別情報を可変表示する制御を行い、リーチ状態となった際に、可変表示領域（識別情報）の背面領域を利用してキャラクタ等を登場させたリーチ装飾表示を行って、その後可変表示中の識別情報を停止させて全ての識別情報の組み合わせを確定表示させる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
一方、ハズレのときは、ハズレ停止識別情報記憶領域に記憶されている識別情報の組み合わせを取得すると共に、この識別情報の組み合わせがリーチとなる組み合わせの場合（例えば、「７，７，２」等）には、識別情報を可変表示する制御を行い、リーチ状態（最後の識別情報が可変中に、既に停止している識別情報が所定の組み合わせとなった場合）となった際に、可変表示領域（識別情報）の背面領域を利用してキャラクタ等を登場させたリーチ装飾表示を行って、その後可変表示中の識別情報を停止させて全ての識別情報の組み合わせを確定表示させる。
なお、識別情報の組み合わせがリーチとならない組み合わせの場合（例えば、「７，５，２」等）には、識別情報を可変表示する制御を行った後に、この取得した識別情報の組み合わせを停止表示させる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
第１の発明は、特定入賞口への遊技球の入賞に基づいて各種乱数を抽出記憶するとともに、該乱数の判定結果に基づいて画像表示装置の複数の可変表示領域に複数種類の識別情報を可変表示し、その複数の可変表示領域の可変表示の全てが停止する以前の段階で、遊技価値を付与する識別情報の組み合わせが成立する可能性のあるリーチ状態となっている場合に、該リーチ状態を可変表示領域の背面領域で装飾表示する遊技機において、前記可変表示領域の背面領域で行うリーチの装飾表示のパターンを決定するリーチ装飾表示パターン決定手段と、前記リーチ装飾表示パターン決定手段により決定されたリーチの装飾表示のパターンに対応して、可変表示停止時の識別情報の組み合わせを決定するリーチ停止識別情報決定手段と、各可変表示領域の識別情報の可変表示を行うと共に、前記リーチ停止識別情報決定手段によって決定された識別情報の組み合わせのうち、リーチ状態を成立させる可変表示領域の識別情報を前記リーチ停止識別情報決定手段によって決定された識別情報で仮停止するとともに、リーチ状態を成立させない可変表示領域の識別情報を前記リーチ停止識別情報決定手段によって決定された識別情報でない識別情報で仮停止する可変表示手段と、前記リーチ装飾表示パターン決定手段により決定されたリーチの装飾表示のパターンに対応した装飾表示を行うとともに、前記可変表示手段により仮停止されたリーチ状態の組み合わせの識別情報のうち、リーチ状態を成立させない可変表示領域の識別情報を再度可変表示し、最終的に前記リーチ停止識別情報決定手段によって決定された識別情報の組み合わせを停止させるリーチ制御手段と、を備え、前記リーチ制御手段は、リーチ状態を成立させない可変表示領域の識別情報を再度可変表示する場合には、リーチ状態を成立させて仮停止している可変表示領域の識別情報を縮小させるとともに、当該識別情報を可変表示領域の端側へ移動させる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月7日(2009.5.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
特定入賞口への遊技球の入賞に基づいて各種乱数を抽出記憶するとともに、該乱数の判定結果に基づいて画像表示装置の複数の可変表示領域に複数種類の識別情報を可変表示し、複数の可変表示領域の可変表示の全てが停止する以前の段階で、遊技価値を付与する識別情報の組み合せが成立する可能性のあるリーチ状態となっている場合に、該リーチ状態を可変表示領域の背面領域で装飾表示する遊技機において、
前記乱数は、前記遊技価値を付与するか否かを判定するための大当たり用乱数及び前記可変表示領域の背面領域で行われる装飾表示パターンを決定するためのリーチアクション決定用乱数を含み、
前記大当たり用乱数に基づいて、前記遊技価値を付与するか否かを判定する大当たり用乱数判定手段と、
前記大当たり用乱数の判定結果及び前記リーチアクション決定用乱数に基づいて、前記装飾表示パターンを決定するリーチパターン決定手段と、
前記リーチパターン決定手段で決定された装飾表示パターンに基づいて、可変表示停止時の識別情報の組合せを決定する停止識別情報決定手段と、を備えたことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
第１の発明は、特定入賞口への遊技球の入賞に基づいて各種乱数を抽出記憶するとともに、該乱数の判定結果に基づいて画像表示装置の複数の可変表示領域に複数種類の識別情報を可変表示し、複数の可変表示領域の可変表示の全てが停止する以前の段階で、遊技価値を付与する識別情報の組み合せが成立する可能性のあるリーチ状態となっている場合に、該リーチ状態を可変表示領域の背面領域で装飾表示する遊技機において、前記乱数は、前記遊技価値を付与するか否かを判定するための大当たり用乱数及び前記可変表示領域の背面領域で行われる装飾表示パターンを決定するためのリーチアクション決定用乱数を含み、前記大当たり用乱数に基づいて、前記遊技価値を付与するか否かを判定する大当たり用乱数判定手段と、前記大当たり用乱数の判定結果及び前記リーチアクション決定用乱数に基づいて、前記装飾表示パターンを決定するリーチパターン決定手段と、前記リーチパターン決定手段で決定された装飾表示パターンに基づいて、可変表示停止時の識別情報の組合せを決定する停止識別情報決定手段と、を備えた。