Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月7日(2013.1.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体積層体（２）を有するオプトエレクトロニクス半導体チップ（１）であって、
前記半導体積層体（２）が、
一次放射（Ｐ）を発生させる少なくとも１層の活性層（３）と、
複数の変換層（４）であって、前記一次放射（Ｐ）の少なくとも一部分を吸収し、それを、前記一次放射（Ｐ）よりも長い波長を有する二次放射（Ｓ）に変換する、前記変換層（４）と、
何箇所かにおいて前記少なくとも１層の活性層（３）の方向に前記変換層（４）の少なくとも１層を貫通する、粗面化領域（５）と、
を備え、
前記少なくとも１層の活性層（３）および前記変換層（４）がモノリシックに集積化されている、
オプトエレクトロニクス半導体チップ（１）。
【請求項２】
前記粗面化領域（５）が、何箇所かにおいて前記少なくとも１層の活性層（３）の方向に全ての変換層（４）を完全に貫通している、
請求項１に記載のオプトエレクトロニクス半導体チップ（１）。
【請求項３】
互いに異なって形成されている変換層（４）の少なくとも２つのグループ（４１，４２）であって、少なくとも２つの相互に異なるスペクトル範囲の前記二次放射（Ｓ）を発生させるのに適している、前記少なくとも２つのグループ（４１，４２）、
を備えている、請求項１または２に記載のオプトエレクトロニクス半導体チップ（１）。
【請求項４】
前記半導体チップ（１）によって放出される混合放射（Ｒ）が、前記一次放射（Ｐ）および前記二次放射（Ｓ）から形成されている、
請求項１〜３のいずれか１項に記載のオプトエレクトロニクス半導体チップ（１）。
【請求項５】
白色光を放出するように設計されている、
請求項１〜４のいずれか１項に記載のオプトエレクトロニクス半導体チップ（１）。
【請求項６】
前記半導体積層体（２）が、１０〜５０層の範囲内（両端値を含む）の前記変換層（４）を備えている、
請求項１〜５のいずれか１項に記載のオプトエレクトロニクス半導体チップ（１）。
【請求項７】
前記粗面化領域（５）の全体または一部分が、六角錐もしくは六角錐台またはその両方によって形成されている、
請求項１〜６のいずれか１項に記載のオプトエレクトロニクス半導体チップ（１）。
【請求項８】
前記少なくとも１層の活性層（３）とは反対側の、前記粗面化領域（５）の頂上領域（６）において、活性層に面している前記粗面化領域（５）の谷領域において放出される放射とは異なる色位置を有する放射（Ｐ，Ｓ）が放出される、
請求項１〜７のいずれか１項に記載のオプトエレクトロニクス半導体チップ（１）。
【請求項９】
前記粗面化領域（５）の平均深さ（Ｔ）が、０．２μｍ〜３．５μｍの範囲内（両端値を含む）である、
請求項１〜８のいずれか１項に記載のオプトエレクトロニクス半導体チップ（１）。
【請求項１０】
異なる深さの粗面化領域（５ａ，５ｂ）であって、
前記活性層（３）から遠い方の第１のグループ（４１）の前記変換層（４）のみに達している第１の粗面化領域（５ａ）と、
前記第１のグループ（４１）の前記変換層（４）を完全に貫通し、前記活性層（３）に近い方の第２のグループ（４２）の前記変換層（４）の中まで延びている第２の粗面化領域（５ｂ）と、
を備えている、
少なくとも請求項３に記載のオプトエレクトロニクス半導体チップ（１）。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか１項に記載のオプトエレクトロニクス半導体チップ（１）を製造する方法であって、
成長基板（２５）を形成するステップと、
前記成長基板（２５）の上に前記半導体積層体（２）をエピタキシャル成長させるステップであって、前記半導体積層体（２）が、一次放射（Ｐ）を発生させる前記少なくとも１層の活性層（３）と、前記一次放射（Ｐ）の少なくとも一部分を吸収し、それを、前記一次放射（Ｐ）よりも長い波長の前記二次放射（Ｓ）に変換する複数の前記変換層（４）と、を備えているステップと、
前記粗面化領域（５）を形成するステップであって、前記変換層（４）の少なくとも１層の材料が何箇所かにおいて前記粗面化領域（５）によって除去されるステップと、
前記半導体チップ（１）を完成させるステップと、
を有し、
前記半導体チップ（１）によって放出される前記放射（Ｐ，Ｒ，Ｓ）の色位置を前記粗面化領域（５）によって変化させる、
方法。
【請求項１２】
前記粗面化領域（５）を形成している間、前記半導体チップ（１）に、少なくとも随時、放射（Ｒ，Ｓ）を放出させ、前記半導体チップ（１）によって放出される前記放射（Ｒ，Ｓ）の色位置を、少なくとも随時、測定する、
請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記粗面化領域（５）を形成している間、前記半導体チップ（１）によって放出される前記放射（Ｒ）の前記色位置のｃｘ値およびｃｙ値の合計を、ＣＩＥ標準色度図において、少なくとも０．０５単位で減少させる、
請求項１１または１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記粗面化領域（５）を形成する前に、前記半導体積層体（２）から前記成長基板（２５）を除去し、前記粗面化領域（５）を形成する前に、前記半導体チップ（１）を電気的に接続し、前記粗面化領域（５）を形成している間、随時、前記半導体チップ（１）を電気的に動作させる、
請求項１１〜１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
前記少なくとも１層の活性層（３）と前記変換層（４）との間に結合手段がないようにするために、前記半導体積層体（２）全体をエピタキシャル成長させる、
請求項１１〜１４のいずれか１項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月9日(2013.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶媒、電解質、及び水素除去のための多層複合材ゲッター（１０）を含む、エネルギー貯蔵のための電気化学デバイスであって、前記多層複合材ゲッターが両面（１２、１２’）を有する金属ゲッター材料から本質的に形成される支持体（１１）を含み、パラジウム又はパラジウム系複合材の層（１３、１３’）が前記両面の少なくとも１面に設けられ、コーティングされる面を規定し、水素透過性保護ポリマー層（１４、１４’）が支持体のパラジウム又はパラジウム系複合材コーティング面の表面の少なくとも８０％に設けられており、前記水素透過性保護ポリマー層の厚みが１〜１００μｍの範囲に含まれることを特徴とする電気化学デバイス。
【請求項２】
金属層が支持体とパラジウム又はパラジウム系複合材層との間に置かれている、請求項１に記載の電気化学デバイス。
【請求項３】
支持体（１１）の前記両面（１２、１２’）に前記パラジウム又はパラジウム系複合材の層が設けられている、請求項１に記載の電気化学デバイス。
【請求項４】
支持体（１１）の面（１２、１２’）の一部のみがパラジウム又はパラジウム系複合材の層でコーティングされている、請求項１から３のいずれか一項に記載の電気化学デバイス。
【請求項５】
前記水素透過性保護ポリマー層が、ポリキシレン、ポリスチレン、ポリアルカン、ポリジエン、ポリオキシド、ポリシロキサンからなる群において選択される、請求項１に記載の電気化学デバイス。
【請求項６】
前記支持体（１１）が、ジルコニウム、イットリウム、及びチタンからなる群において選択される金属から本質的に形成される、請求項１に記載の電気化学デバイス。
【請求項７】
前記パラジウム系複合材が、Ｐｄ−Ａｇ、Ｐｄ−Ｃｕ、Ｐｄ−Ｖ、Ｐｄ−Ｎｉである、請求項１に記載の電気化学デバイス。
【請求項８】
金属ゲッター材料から本質的に形成される前記支持体（１１）の厚みが、２０〜５００μｍの範囲に含まれる、請求項１に記載の電気化学デバイス。
【請求項９】
前記パラジウム又はパラジウム系複合材の層の厚みが、１０〜２０００ｎｍの範囲に含まれる、請求項１に記載の電気化学デバイス。
【請求項１０】
前記ポリマー層がポリジメチルシロキサンでできている、請求項１に記載の電気化学デバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成25年4月16日(2013.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２人以上のユーザーを含むグループにおいて、共有メディア体験を確立するための方法であって、ユーザーそれぞれがそれぞれの計算装置を操作していて、ネットワークを介し通信可能に接続されており、前記方法が、
前記計算装置の１つにおいて、前記グループに参加するためのリクエストを受信するステップと、
前記リクエストを共有メディアサービスプロバイダーに送信し、前記グループへの承諾の指標を受信するステップと、
前記グループのその他のメンバーによって選択されたメディアエンティティを記述しているデータを受信し、前記受信されたメディアエンティティの表現を前記計算装置それぞれと接続されたユーザーインターフェース装置にレンダリングするステップと、
前記メディアエンティティの１つを識別する指名を受信し、前記指名を前記グループの別のメンバーに送信するステップと、
前記受信されたメディアエンティティの表現とともに、前記グループのユーザーを示しているアバターを前記ユーザーインターフェース装置に表示するステップと、
前記ユーザーの１人から感情の指標を受信し、それに応答して前記ユーザーインターフェース装置において、前記示された感情を伝達する動画を前記ユーザーの前記１人に対応している前記アバターに実行させるステップと、
前記グループによって共有される選択されたメディアエンティティの指標を受信し、前記選択されたメディアエンティティの表現を前記ユーザーインターフェース装置に表示するステップであって、前記選択されたメディアオブジェクトが、前記グループのホストと見なされる前記グループの前記ユーザーの１人によって選択されるものと、を含む方法。
【請求項２】
前記指名が、ユーザーそれぞれによって選択された１つ以上のメディアエンティティを含む１つ以上の待ち行列から選択されることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
更に、指定されたユーザーに対し前記グループに参加するための招待状を送信するステップを含む請求項１記載の方法。
【請求項４】
更に、前記グループの他のユーザーによって選択された前記メディアエンティティの他のものに関する票決の指標を受信するステップ及び表示するステップと、を含む請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記ユーザーの１人が、前記グループの形成を開始したとき、前記ユーザーの１人が、前記グループのホストと見なされることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項６】
前記１つ以上の待ち行列のそれぞれが、別個のチャネルにおいて受信されることを特徴とする請求項２記載の方法。
【請求項７】
前記感情が、複数の代表的感情を含む感情を表すホイールから選択されることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項８】
前記感情を表すホイールが、前記感情を表すホイールの中心から広がるパイ状のセグメントに分割されていて、前記代表的感情それぞれが、前記パイ状のセグメントの１つとして示されることを特徴とする請求項７記載の方法。
【請求項９】
更に、前記選択された感情に基づく任意の動画を表示するステップを含む請求項１記載の方法。
【請求項１０】
前記代表的感情が、映画のジャンルに基づいて選択されることを特徴とする請求項７記載の方法。
【請求項１１】
前記感情が、大好き、嫌悪、楽しさ、退屈、幸福感、悲しみ、陽気、及び恐れを含むことを特徴とする請求項７記載の方法。
【請求項１２】
前記任意の動画が、くつろぎ、声援、失望、ダンス、鑑賞、神経質、中立的、驚き、からかい、思考、及び歩みのうち１つを含むことを特徴とする請求項９記載の方法。
【請求項１３】
２人以上のユーザーを含むグループにおいて、共有メディア体験を確立するように構成される計算装置であって、ユーザーそれぞれがそれぞれの計算装置を操作し、ネットワークを介し通信可能に接続されており、
前記計算装置が、少なくとも１つのプロセッサー、ユーザーインターフェース装置、及び前記少なくとも１つのプロセッサーと通信可能に接続された少なくとも１つのメモリーを含んでいて、前記少なくとも１つのメモリーが、その上にストアされる計算機実行可能命令を有していて、前記少なくとも１つのプロセッサーによって実行されるとき、前記システムに
グループを形成するために前記前記２人以上のユーザーと通信し、
選択されたメディアエンティティを識別する指名を受信し、前記グループにおける前記ユーザーそれぞれに前記指名を記述しているデータを送信し、
前記選択されたメディアエンティティの表現とともに、前記グループの前記１人以上のユーザーを示しているアバターと、前記１人以上のユーザーによって選択された感情の指標を含む関連付けられたアバターの感情と、前記計算装置に前記アバターの感情を伝達する動画をレンダリングさせ得るに十分な前記アバターの感情情報と、を前記ユーザーインターフェース装置に表示し、
前記グループによって共有される選択されたメディアエンティティの指標を送信し、前記ユーザーの前記計算装置にレンダリングさせることを特徴とする計算装置。
【請求項１４】
前記アバターの感情が、複数の代表的感情を含む感情を表すホイールから選択され、前記感情を表すホイールが、前記感情を表すホイールの中心から広がるパイ状のセグメントに分割されており、前記代表的感情それぞれが、前記パイ状のセグメントの１つとして示されること、を特徴とする請求項１３記載のシステム。
【請求項１５】
２人以上のユーザーを含むグループにおいて、共有メディア体験を確立するための計算機可読命令を含む計算機可読記憶媒体であって、ユーザーそれぞれがそれぞれの計算装置を操作しており、ネットワークを介し通信可能に接続されており、前記計算機可読命令が、
前記計算装置の１つにおいて、前記グループに参加するためのリクエストを受信するステップと、
前記リクエストを共有メディアサービスプロバイダーに送信し、前記グループへの承諾の指標を受信するステップと、
前記グループの別のメンバーによって選択されたメディアエンティティを記述しているデータを受信し、前記受信されたメディアエンティティの表現を前記計算装置それぞれに接続されたユーザーインターフェース装置にレンダリングするステップと、
前記メディアエンティティの１つを識別する指名を受信し、前記指名を前記グループの別のメンバーに送信するステップと、
前記受信されたメディアエンティティの前記表現とともに、前記グループの前記ユーザーを表しているアバターを前記ユーザーインターフェース装置に表示するステップと、
前記ユーザーの１人から感情の指標を受信し、それに応答して前記ユーザーインターフェース装置において、前記示された感情を伝達する動画を前記ユーザーのうち１人に対応している前記アバターに実行させるステップと、
前記グループによって共有される選択されたメディアエンティティの指標を受信し、前記選択されたメディアエンティティの表現を前記ユーザーインターフェース装置に表示するステップと、を含んでいて、前記選択されたメディアオブジェクトが、前記グループのホストと見なされる前記グループの前記ユーザーのうち１人によって選択されるものと、を特徴とする計算機可読記憶媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成25年4月15日(2013.4.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２人以上のユーザーを含むグループにおいて、共有メディア体験を提供するための方法であって、ユーザーそれぞれがそれぞれの計算装置を操作していて、ネットワークを介し通信可能に接続されており、前記方法が、
前記グループの会員であることを確立するステップと、
前記グループによって共有されるメディアエンティティを選択するためのプロセスに参加するステップと、
前記グループによって共有される選択されたメディアエンティティの指標を受信し、前記選択したメディアエンティティの表現を前記計算装置の１つにレンダリングするステップと、
前記選択されたメディアエンティティをレンダリングするためのデータを受信し、前記計算装置のうち前記１つと接続されたユーザーインターフェース装置に前記受信されたデータをレンダリングするステップと、
前記選択されたメディアエンティティをレンダリングするための前記データとともに、共有メディア体験を表すためにレンダリングされる前記グループの前記ユーザーを表しているアバター、を前記ユーザーインターフェース装置に表示するステップと、
前記ユーザーの１人から感情の指標を受信し、それに応答して前記ユーザーインターフェース装置において、前記示された感情を伝達する動画を前記ユーザーのうち前記１人に対応している前記アバターに実行させるステップと、を含む方法。
【請求項２】
前記感情が、複数の代表的感情を含んでいる感情を表すホイールから選択されることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記感情を表すホイールが、前記感情を表すホイールの中心から広がるパイ状のセグメントに分割されていて、前記代表感情それぞれが、前記パイ状のセグメントの１つとして示されていることを特徴とする請求項２記載の方法。
【請求項４】
更に、前記選択された感情に基づく任意の動画を表示するステップを含む請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記代表感情が、映画のジャンルに基づいて選択されることを特徴とする請求項２記載の方法。
【請求項６】
前記感情が、大好き、嫌悪、愉快、退屈、幸福感、悲しみ、陽気、及び恐れを含むことを特徴とする請求項２記載の方法。
【請求項７】
前記任意の動画が、くつろぎ、声援、失望、ダンス、鑑賞、神経質、中立、驚き、からかい、思考、及び歩みのうち１つを含むことを特徴とする請求項４記載の方法。
【請求項８】
更に、前記ユーザーのうちの１人に、前記メディアエンティティの前記レンダリングを一時停止するためのリクエストを示している入力を提供する入力手段を提供することを含む請求項１記載の方法。
【請求項９】
更に、前記ユーザーのうちの１人に、前記メディアエンティティの前記レンダリングを早送り又は巻き戻すためのリクエストを示している入力を提供する入力手段を提供するステップを含む請求項１記載の方法。
【請求項１０】
更に、前記ユーザーのうちの１人に、前記メディアエンティティの前記レンダリング中、所定の音声効果をレンダリングするためのリクエストを示している入力を提供する入力手段を提供するステップを含んでいて、前記音声効果が、前記代表的感情の１つに対応していることを特徴とする請求項２記載の方法。
【請求項１１】
前記選択されたメディアエンティティが映画であって、前記受信されたデータを前記レンダリングするステップが更に、シミュレーションされる鑑賞環境をレンダリングするステップと、前記アバターがグループの座席の環境に座って画面上の前記映画を鑑賞しているように見えるように、前記アバターをレンダリングするステップと、を含むことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項１２】
前記シミュレーションされる鑑賞環境が、所定のテーマ一覧表から選択可能であることを特徴とする請求項１１記載の方法。
【請求項１３】
更に、前記映画を全画面モードで鑑賞するためのオプションを提供するステップであって、前記シミュレーションされる鑑賞環境及び前記アバターのレンダリングが、画面から非表示にされるものを含む請求項１記載の方法。
【請求項１４】
２人以上のユーザーを含むグループにおいて、共有メディア体験を提供するように構成される計算装置であって、ユーザーそれぞれがそれぞれの計算装置を操作し、ネットワークを介し通信可能に接続されており、前記計算装置が、少なくとも１つのプロセッサー、ユーザーインターフェース装置、及び前記少なくとも１つのプロセッサーと通信可能に接続された少なくとも１つのメモリーを含んでいて、前記少なくとも１つのメモリーが、その上にストアされる計算機実行可能命令を有していて、前記少なくとも１つのプロセッサーによって実行されるとき、前記システムに、
前記グループによって共有される選択されたメディアエンティティの指標を受信し、
前記選択されたメディアエンティティを前記ユーザーインターフェース装置にレンダリングするためのデータを受信してレンダリングし、
前記グループの前記ユーザーを表しているアバターに関する情報と、前記ユーザーによって選択された感情の指標を含む関連付けられたアバターの感情と、前記計算装置に、関連付けられたアバターに関し示された感情を伝達する動画をレンダリング可能にするのに十分な前記アバター感情情報と、をグループの他のユーザーと交換させることを特徴とする計算装置。
【請求項１５】
２人以上のユーザーを含むグループにおいて、共有メディア体験を提供するための計算機可読命令を含む計算機可読記憶媒体であって、ユーザーそれぞれがそれぞれの計算装置を操作しており、ネットワークを介し通信可能に接続されており、前記計算機可読命令が、
前記グループによって共有される選択されたメディアエンティティの指標を受信し、前記選択されたメディアエンティティの表現を計算装置にレンダリングするステップと、
前記選択されたメディアエンティティをレンダリングするためのデータを受信し、前記受信データを前記計算装置と接続されたユーザーインターフェース装置にレンダリングするステップと、
前記選択されたメディアエンティティをレンダリングするための前記データとともに、前記グループの前記ユーザーを示しており、共有メディア体験を表すためにレンダリングされるアバターと、を前記ユーザーインターフェース装置に表示するステップと、
感情の指標を受信し、それに応答して前記ユーザーインターフェース装置において、前記選択された感情を伝達する動画を前記アバターの１つに実行させるステップと、
前記感情の前記指標を前記グループの前記他のユーザーに送信するステップと、に関する命令を含むことを特徴とする計算機可読命令。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月13日(2013.2.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機発光ダイオード（１０）において、
金属によって形成されている第１の電極（１）と、第２の電極（２）と、少なくとも１つの活性層（３３）を備えた有機層列（３）と、放射を透過させるインデクス層（４）と、前面（６）と、背面（５）とを有しており、
前記有機層列（３）は前記第１の電極（１）と前記第２の電極（２）との間に設けられており、
前記インデクス層（４）は、前記第１の電極（１）の前記有機層列（３）側とは反対側の外面（１１）に設けられており、前記インデクス層（４）の平均屈折率は前記有機層列（３）の平均屈折率よりも大きく、
前記背面（５）は前記インデクス層（４）と対向しており、前記前面（６）は前記有機層列（３）と対向しており、発光ダイオード（１０）において生成される放射（Ｐ，Ｒ，Ｓ）は前記前面（６）及び前記背面（５）の内の少なくとも一方において放出され、有機発光ダイオード（１０）によって生成される電磁的なプラズモン放射（Ｐ）の少なくとも一部は前記インデクス層（４）を通過し、
前記第２の電極（２）は透明導電性酸化物から形成されており、
前記インデクス層（４）の平均屈折率は、前記有機層列（３）の平均屈折率の少なくとも１．２倍であり、
前記インデクス層（４）は少なくとも２００ｎｍの平均的な幾何学的厚さ（Ｄ）を有し、且つ、透明、可視並びに誘電性に構成されていることを特徴とする、有機発光ダイオード（１０）。
【請求項２】
前記活性層（３３）において生成される電磁放射の少なくとも一部によって、少なくとも前記第１の電極（１）においては表面プラズモン（＋，−）が励起されており、該表面プラズモン（＋，−）によって前記プラズモン放射（Ｐ）が形成されている、請求項１に記載の有機発光ダイオード（１０）。
【請求項３】
前記インデクス層（４）は結晶性の材料としてLiNbO3，ZnS，ZnSe又はTeO2を有しているか、又は、
前記インデクス層（４）はメタ材料であり、且つ、マトリクス材料内に埋め込まれているTiO2を含む、請求項１又は２に記載の有機発光ダイオード（１０）。
【請求項４】
前記第１の電極（１）は２５ｎｍ以上６５ｎｍ以下の厚さ（Ｔ）を有している、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の有機発光ダイオード（１０）。
【請求項５】
前記第１の電極（１）と前記活性層（３３）との間の平均間隔（Ａ）は１５ｎｍ以上８０ｎｍ以下であり、且つ、前記有機層列（３）の平均的な幾何学的総厚（Ｚ）は最大で１５０ｎｍである、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の有機発光ダイオード（１０）。
【請求項６】
有機発光ダイオード（１０）によって生成される放射（Ｐ，Ｒ）の、有機発光ダイオード（１０）の前記背面（５）における平均放射強度は、有機発光ダイオード（１０）の前記前面（６）における平均放射強度の少なくとも５％である、請求項４又は５に記載の有機発光ダイオード（１０）。
【請求項７】
２５％の許容差でもって、前記背面（５）における平均放射強度は前記前面（６）における平均放射強度に等しい、請求項６に記載の有機発光ダイオード（１０）。
【請求項８】
有機発光ダイオード（１０）は基板（７）を有しており、該基板（７）には前記第１の電極（１）、前記第２の電極（２）及び前記有機層列（３）が取り付けられており、前記基板（７）自体は前記インデクス層（４）を形成している、請求項１乃至７のいずれか一項に記載の有機発光ダイオード（１０）。
【請求項９】
前記インデクス層（４）は少なくとも二種類の層が交番的に配置されている複数の層を含んでおり、該複数の層の少なくとも一種類は透明な金属酸化物によって形成されている、請求項１乃至８のいずれか一項に記載の有機発光ダイオード（１０）。
【請求項１０】
前記インデクス層（４）は、ZnO層と、TiO層及び／又はSrTiO3層とが順番に交互に配置されている層列から形成されている、請求項９に記載の有機発光ダイオード（１０）。
【請求項１１】
前記背面（５）は前記インデクス層（４）によって形成されており、前記インデクス層（４）は前記プラズモン放射（Ｐ）の放射出力を高めるための構造化部（１３）を有している、請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の有機発光ダイオード（１０）。
【請求項１２】
前記インデクス層（４）は拡散手段（１４）を含有しており、該拡散手段（１４）は散乱粒子によって形成されている、請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の有機発光ダイオード（１０）。
【請求項１３】
前記インデクス層（４）の前記第１の電極（１）側とは反対側の面にはミラー（８）が設けられており、該ミラー（８）は前記プラズモン放射（Ｐ）を前記有機層列（３）の方向へと反射させるよう構成されており、
前記インデクス層（４）は前記ミラー（８）と金属性の前記第１の電極（１）との間に設けられており、
前記ミラー（８）を介して前記プラズモン放射（Ｐ）が基板（７）の方向へと反射され、それにより、前記プラズモン放射（Ｐ）も、直接的に前記活性層（３３）において生成された放射（Ｒ）も前記前面（６）を介して有機発光ダイオード（１０）から放出される、請求項１２に記載の有機発光ダイオード（１０）。
【請求項１４】
前記第１の電極（１）は複数の孔（９）を有しており、該孔（９）は前記第１の電極（１）を完全に貫通しており
前記孔（９）の直径は１００ｎｍ以上２００ｎｍ以下であり、
前記第１の電極（１）における前記孔（９）によって、前記背面（５）における放射特性を調整するための光学格子が形成されている、請求項１乃至１３のいずれか一項に記載の有機発光ダイオード（１０）。
【請求項１５】
前記第１の電極（１）は少なくとも主延在方向に沿って厚さが変化し、該厚さの変化の長さスケール（Ｌ）は少なくとも３００ｎｍ且つ最大で１．５μｍであり、
前記インデクス層（４）の厚さも変化する、請求項１乃至１４のいずれか一項に記載の有機発光ダイオード（１０）。
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月21日(2013.5.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電池ケースであって、
電池が第１の向きで挿入された場合に前記電池の正端子に接触するように構成されている第１正接点と、前記電池が第２の向きで挿入された場合に前記電池の負端子に接触するように構成されている第１負接点とを含む第１二重接点集成体と、
前記電池が前記第２の向きで挿入された場合に前記電池の正端子に接触するように構成されている第２正接点と、前記電池が前記第１の向きで挿入された場合に前記電池の負端子に接触するように構成されている第２負接点とを含む第２二重接点集成体と、
前記第１二重接点集成体が取り付けられている本体部であって、前記第１正接点に電気的に結合された第３正接点と前記第１負接点に電気的に結合された第３負接点とを含んだ第１結合部を有する、本体部と、
前記第２二重接点集成体が取り付けられている分離可能部であって、前記第２正接点に電気的に結合された第４正接点と前記第２負接点に電気的に結合された第４負接点とを含んだ第２結合部を有する、分離可能部と、
を備えており、
前記分離可能部が、前記本体部との結合状態に入るように、そして結合状態を解除するように、選択的に移動可能であり、前記分離可能部と前記本体部が前記結合状態に入るように移動することに応答して、前記第３正接点が前記第４正接点と電気的に結合し、前記第３負接点が前記第４負接点と電気的に結合し、それによって、前記第１正接点を前記第２正接点に電気的に結合し、前記第１負接点を前記第２負接点に電気的に結合し、
前記結合状態において、前記第１二重接点集成体および前記第２二重接点集成体が、収容部の範囲を定めるように離間関係で保持され、前記収容部において、前記第１二重接点集成体および前記第２二重接点集成体が、前記第１の向きまたは前記第２の向きのいずれかで前記電池の反対側の両端部を保持するように動作可能である、電池ケース。
【請求項２】
請求項１記載の電池ケースにおいて、前記本体部が電池動作型デバイス上に配置されている、電池ケース。
【請求項３】
請求項２記載の電池ケースにおいて、前記分離可能部が、前記電池動作型デバイスの電池室開閉部である、電池ケース。
【請求項４】
請求項３記載の電池ケースにおいて、前記電池動作型デバイスの電池室開閉部が、前記本体部から完全に取り外し可能である、電池ケース。
【請求項５】
請求項３記載の電池ケースにおいて、前記電池動作型デバイスの電池室開閉部が、前記本体部に移動可能に接続されている、電池ケース。
【請求項６】
請求項２記載の電池ケースにおいて、前記第１二重接点集成体の前記第１正接点が、前記電池動作型デバイスの正回路接続部に電気的に結合されており、前記第１二重接点集成体の前記第１負接点が、前記電池動作型デバイスの負回路接続部に電気的に結合されている、電池ケース。
【請求項７】
請求項１記載の電池ケースにおいて、前記分離可能部を異動させて前記結合状態にすると、（ａ）前記第１二重接点集成体の正接点および前記第２二重接点集成体の正接点の内少なくとも１つと、（ｂ）前記第１二重接点集成体の負接点および前記二重接点集成体の負接点との間に、電気的導通が生じる、電池ケース。
【請求項８】
請求項７記載の電池ケースであって、更に、前記第１二重接点集成体と前記第２二重接点集成体との間に前記電気的導通を生じさせるために電気カプラーを備えており、この電気カプラーが、前記第１二重接点集成体および前記第２二重接点集成体の内の一方に電気的に結合されている第１結合部と、前記第１二重接点集成体および前記第２二重接点集成体の内の他方に電気的に結合されている第２結合部とを含み、前記第１結合部が１つ又は複数のばね荷重コネクター・ピンを含み、前記第２結合部が１つ又は複数の電気接点を含む、電池ケース。
【請求項９】
請求項１記載の電池ケースにおいて、前記第１二重接点集成体および前記第２二重接点集成体が、第１電池を収容する二重接点集成体対の範囲を定め、前記電池ケースが、更に、１つ又は複数の追加の電池を収容するために１つ又は複数の追加の二重接点集成体対を備えている、電池ケース。
【請求項１０】
電池動作型デバイスであって、
複数の電池の長手方向の挿入を可能にするように構成されている筐体内部に規定されている電池室であって、この電池室に挿入されたときに、前記複数の電池が端部連続積層体の範囲を定め、この端部連続積層体が、前記筐体の遠端に位置する遠端と、前記筐体の近端に位置する近端とを有する、電池室と、
前記筐体の遠端にある二重接点集成体と、
前記筐体の近端に取り付け可能な電池室開閉部上に配置されている二重接点集成体と、
前記複数の電池の隣接する対毎に、前記筐体内部に配置されているスペーサー集成体であって、前記複数の電池の内その隣接する対を分離し、その隣接対の第１電池に対する二重接点集成体と、その隣接対の第２電池に対する二重接点集成体とを有する、スペーサー集成体と、
を備えており、
前記二重接点集成体および前記１つ又は複数のスペーサー集成体が、前記端部連続積層体における前記複数の電池の各々が、１対の前記二重接点集成体によって範囲が定められる配向不問電池長収容部の中に保持されるように構成されており、前記配向不問電池長収容部が、前記複数の電池の各々を前記筐体にどのように挿入するかには関係なく、前記端部連続積層体に所望の電気的構造を形成するように、電気的に互いに結合されている、電池動作型デバイス。
【請求項１１】
請求項１０記載の電池動作型デバイスにおいて、前記筐体が電池動作型デバイス上に配置され、前記筐体の遠端にある前記二重接点集成体が、前記電池動作型デバイスにおける正回路接続部に電気的に結合されており、更に前記電池動作型デバイスにおける負回路接続部に電気的に結合されている、電池動作型デバイス。
【請求項１２】
請求項１０記載の電池動作型デバイスにおいて、前記配向不問電池長収容部が、直列回路を形成するように、互いに電気的に結合されている、電池動作型デバイス。
【請求項１３】
請求項１０記載の電池動作型デバイスにおいて、前記配向不問電池長収容部が、並列回路を形成するように、互いに電気的に結合されている、電池動作型デバイス。
【請求項１４】
請求項１０記載の電池動作型デバイスにおいて、前記スペーサー集成体が、装填された端部連続積層体における電池の隣接する対を分離する第１状態と、前記スペーサー集成体が、前記筐体の端まで当該スペーサー集成体を通過して、前記電池の長手方向進行を可能にする第２状態との間で、前記スペーサー集成体が移動可能である、電池動作型デバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月30日(2013.1.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射出力半導体素子（１）と電気素子（２）と支持基板（３）とケーシングとを備えており、該ケーシング内に、前記支持基板（３）と前記電気素子（２）と前記放射出力半導体素子（１）とが配置されている、
オプトエレクトロニクスモジュールにおいて、
前記支持基板（３）は上面（３１）と下面（３３）を有しており、
前記下面（３３）には第１の電気端子（８）が、前記上面（３１）には第２の電気端子（５ａ，５ｂ，６ａ，６ｂ，７ａ，７ｂ）が配置されており、
前記電気素子（２）は、前記支持基板（３）の上面（３１）に配置されていて、前記第１の電気端子（８）と導電接続されており、
前記放射出力半導体素子（１）は、前記電気素子（２）の、前記支持基板（３）とは反対側に配置されており、
前記放射出力半導体素子（１）は導体構造部（４ａ，４ｂ）を備え、該導体構造部（４ａ，４ｂ）は前記第２の電気端子（５ａ，５ｂ，６ａ，６ｂ，７ａ，７ｂ）と導電接続されており、
前記ケーシングは放射を吸収する粒子を有していることを特徴とする、
オプトエレクトロニクスモジュール。
【請求項２】
前記支持基板（３）は配線板であり、前記放射出力半導体素子（１）はＬＥＤであり、前記電気素子（２）は該ＬＥＤを制御するＩＣである、請求項１記載のオプトエレクトロニクスモジュール。
【請求項３】
前記導体構造（４ａ，４ｂ）は、前記放射出力半導体素子（１）から突出した導電性ウェブである、請求項１または２記載のオプトエレクトロニクスモジュール。
【請求項４】
前記導電性ウェブ（４ａ，４ｂ）は、前記放射出力半導体素子（１）から離れて前記支持基板（３）の方向に湾曲するように成形されている、請求項３記載のオプトエレクトロニクスモジュール。
【請求項５】
前記導電性ウェブ（４ａ，４ｂ）はＬ字状に形成されている、請求項４記載のオプトエレクトロニクスモジュール。
【請求項６】
前記導電性ウェブ（４ａ，４ｂ）はＺ字状に形成されている、請求項４記載のオプトエレクトロニクスモジュール。
【請求項７】
前記導電性ウェブ（４ａ，４ｂ）はＪ字状に形成されている、請求項４記載のオプトエレクトロニクスモジュール。
【請求項８】
前記導電性ウェブ（４ａ，４ｂ）は金属ウェブである、請求項３から７のいずれか１項記載のオプトエレクトロニクスモジュール。
【請求項９】
前記第１の電気端子（８）は、スルーホール（１１）によって前記支持基板（３）中を案内されている、請求項１から８のいずれか１項記載のオプトエレクトロニクスモジュール。
【請求項１０】
前記支持基板（３）は高さＨを有するキャビティ（３２）を備えており、該キャビティ（３２）内に電気素子（２）が配置されており、
前記キャビティ（３２）の高さＨは前記電気素子（２）の高さｈ1よりも高く、
前記電気素子（２）は封止材料（１０）により充填されており、前記電気素子（２）の高さｈ1に該電気素子（２）の上の封止材料（１０）の高さｈ2を加えた高さは、前記キャビティ（３２）の高さＨと一致し、
前記放射出力半導体素子（１）は前記封止材料（１０）の上に配置されている、
請求項１から９のいずれか１項記載のオプトエレクトロニクスモジュール。
【請求項１１】
さらにモールド材料が設けられており、該モールド材料は前記放射出力半導体素子（１）を取り囲み、該モールド材料は放射を吸収する粒子を有している、請求項１から１０のいずれか１項記載のオプトエレクトロニクスモジュール。
【請求項１２】
前記支持基板（３）は多層基板として形成されている、請求項１から１１のいずれか１項記載のオプトエレクトロニクスモジュール。
【請求項１３】
前記支持基板（３）の上面（３１）に別の電気素子（２）が配置されており、該別の電気素子（２）は、前記支持基板（３）の下面（３３）において別の第１の電気端子（８）と導電接続されており、
それぞれ１つの電気素子（２）の、前記支持基板（３）とは反対側に、別の放射出力半導体素子（１）が配置されており、該別の放射出力半導体素子（１）は、前記支持基板（３）の上面（３１）における別の第２の電気端子（５ａ，５ｂ，６ａ，６ｂ，７ａ，７ｂ）と導電接続されている、
請求項１から１２のいずれか１項記載のオプトエレクトロニクスモジュール。
【請求項１４】
請求項１から１３のいずれか１項記載のオプトエレクトロニクスモジュールの製造方法において、
電気素子（２）を支持基板（３）の上面（３１）に取り付けるステップを有しており、該支持基板（３）は、下面（３３）に第１の電気端子（８）を備え、上面（３１）に第２の電気端子（５ａ，５ｂ，６ａ，６ｂ，７ａ，７ｂ）を備え、前記電気素子（２）を前記第１の電気端子（８）と導電接続し、
放射出力半導体素子（１）を取り付けるステップを有しており、該放射出力半導体素子（１）を、前記電気素子（２）の、前記支持基板（３）とは反対側に配置し、該放射出力半導体素子（１）の導体構造部（４ａ，４ｂ）を前記第２の電気端子（５ａ，５ｂ，６ａ，６ｂ，７ａ，７ｂ）と導電接続することを特徴とする、
オプトエレクトロニクスモジュールの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月28日(2012.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
全てがセルハウジングに収容された、触媒電極と、対電極と、前記触媒電極と前記対電極の間に配置されたセパレータと、水性アルカリ電解質とを含む電気化学セルであって、前記セルハウジングが、該ハウジングを通じて前記触媒電極へ又は該触媒電極からガスを通すための１又はそれ以上のポートを有し、
前記触媒電極が、前記セパレータに面した第１の面と、該第１の面の反対側にあって前記１又はそれ以上のポートと流体連通する第２の面と、酸素を還元できる触媒材料を含む触媒層と、前記触媒材料に少なくとも部分的に埋め込まれた多孔質集電体とを含み、
前記集電体が、前記触媒電極の前記第１の面に対応する第１の面と、前記触媒電極の前記第２の面に対応する第２の面とを有し、
前記集電体が、前記第１の面及び前記第２の面の一方に、前記触媒材料と接する導電性保護金属表面層を有する基板を含み、前記第１の面及び前記第２の面の他方に、前記触媒材料と接する導電性粒子を含む皮膜を含み、さらに、
前記皮膜がバインダを含む、
ことを特徴とする電気化学セル。
【請求項２】
前記集電体が、前記触媒電極の前記第１の面において前記触媒材料に少なくとも部分的に埋め込まれる、
ことを特徴とする請求項１に記載の電気化学セル。
【請求項３】
前記保護金属表面層が、前記集電体の前記第２の面において前記触媒材料と接触し、前記皮膜が、前記集電体の前記第１の面において前記触媒材料と接触する、
ことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の電気化学セル。
【請求項４】
前記保護金属表面層が、前記集電体の基本的に前記第１の面全体及び基本的に前記第２の面全体に存在する、
ことを特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載の電気化学セル。
【請求項５】
前記保護金属表面層が、前記金属表面層の下の前記基板の一部とは組成が異なる個別層である、
ことを特徴とする請求項１から請求項４のいずれかに記載の電気化学セル。
【請求項６】
前記保護金属表面層が、金、プラチナ、パラジウム及び銀からなる群の少なくとも１つの部材を含む、
ことを特徴とする請求項１から請求項５のいずれかに記載の電気化学セル。
【請求項７】
前記保護金属表面層が金を含む、
ことを特徴とする請求項１から請求項６のいずれかに記載の電気化学セル。
【請求項８】
前記ポリマー材料が、フルオロポリマー及びポリビニルアルコールからなる群の少なくとも１つの部材である、
ことを特徴とする請求項１に記載の電気化学セル。
【請求項９】
前記導電性粒子が、炭素粒子、金粒子、ニッケル粒子及び銀粒子からなる群の少なくとも１つの部材を含む、
ことを特徴とする請求項１から請求項８のいずれかに記載の電気化学セル。
【請求項１０】
前記導電性粒子が、グラファイト粒子及びカーボンブラック粒子からなる群の少なくとも１つの部材を含む、
ことを特徴とする請求項９に記載の電気化学セル。
【請求項１１】
前記触媒電極が、前記セルハウジングの外部からの酸素を還元するための酸素還元電極である、
ことを特徴とする請求項１から請求項１０のいずれかに記載の電気化学セル。
【請求項１２】
電気化学セルを作成するための工程であって、
（ａ）
（１）第１の面と、該第１の面の反対側にある第２の面とを有する多孔質の導電性金属基板のシートを設け、
（２）前記基板の少なくとも一部の上に導電性保護金属表面層を形成し、
（３）前記基板の一部の上に、導電性粒子及びバインダを含む皮膜を形成する、
ことにより集電体シートを形成するステップと、
（ｂ）前記集電体シートを、バインダと酸素を還元できる触媒とを含む触媒材料と組み合わせることにより、第１の面と、該第１の面の反対側にある第２の面とを有する触媒電極シートを形成して、
（１）前記集電体の前記第１の面及び前記第２の面が、前記触媒電極シートの前記第１の面及び第２の面それぞれに対応し、
（２）前記集電体が、前記触媒材料に少なくとも部分的に埋め込まれ、
（３）前記皮膜の少なくとも一部が、前記集電体の前記第１の面上に存在して前記触媒材料と接触し、
（４）前記基板の前記導電性保護金属表面層の少なくとも一部が、前記集電体の前記第２の面において前記触媒材料と接触する、
ようにするステップと、
（ｃ）酸素透過性で電解質不透過性のシートを含む酸素拡散層を、前記触媒電極シートの前記第２の面に固定するステップと、
（ｄ）前記触媒電極シートの少なくとも一部を、セルハウジング内で対電極及び水性アルカリ電解質と組み合わせて、
（１）前記触媒電極シートの前記第１の面と前記対電極の間に電気絶縁性でイオン透過性のセパレータが配置され、
（２）前記酸素拡散層が、セルハウジング内でガス入口ポートと流体連通し、ここを通じて前記セル外部からのガスが前記ハウジングに入ることができる、
ようにするステップと、
（ｅ）前記セルハウジングをシールして、前記触媒電極、前記対電極、及び前記電解質を前記セル内に収容するステップと、
を含むことを特徴とする工程。
【請求項１３】
前記触媒材料を含む触媒シートに前記集電体シートを押し込むことにより、前記集電体シートを前記触媒材料と組み合わせる、
ことを特徴とする請求項１２に記載の工程。
【請求項１４】
前記基板の表面上に保護金属をメッキすることにより、前記集電体シートの前記導電性保護金属表面層を形成する、
ことを特徴とする請求項１２又は請求項１３に記載の工程。
【手続補正書】
【提出日】平成25年4月23日(2013.4.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気抵抗の超弾性ワイヤを具備する抵抗加熱要素であって、前記超弾性ワイヤが、第１端部及び第２端部を有し、且つ該第１端部と該第２端部との間に隙間を有するループを形成する、抵抗加熱要素と、
前記超弾性ワイヤの第１端部と第２端部とを隔てる電気絶縁材料を具備する絶縁部であって、前記第１端部及び第２端部が、前記ループと当該絶縁部との間に移行ネック部を形成すべく、互いに近接し、且つ、少なくとも部分的に、前記ループによって画成された平面から当該絶縁部へ所定の角度で延在する絶縁部と
を具備する嚢切開装置。
【請求項２】
少なくとも部分的に、前記ループによって画成された前記平面から所定の角度で延在することが、前記ループによって画成された前記平面からほぼ垂直に延在することを含む、請求項１に記載の嚢切開装置。
【請求項３】
少なくとも部分的に、前記ループによって画成された前記平面から所定の角度で延在することが、前記ループによって画成された前記平面の後側に対して測定されたときに約４５°で延在することを含む、請求項１に記載の嚢切開装置。
【請求項４】
前記絶縁部の周りに収まり、且つ前記抵抗加熱要素が格納位置にあるときに実質的に該抵抗加熱要素を包含するように構成された挿入スリーブを更に具備する、請求項１に記載の嚢切開装置。
【請求項５】
前記超弾性ワイヤがニッケルチタン合金から形成される、請求項１に記載の嚢切開装置。
【請求項６】
前記ループが、眼の水晶体前嚢又は水晶体後嚢に対して設置するための底面と、該底面と反対側の頂面とを有し、前記抵抗加熱要素が、少なくとも前記頂面上に配置されるが前記底面には存在しない断熱層を更に具備する、請求項１に記載の嚢切開装置。
【請求項７】
前記超弾性ワイヤが実質的に少なくとも前記ループ全体の周りにおいて長方形の断面を有し、前記断熱層が、実質的に少なくとも前記ループ全体の周りにおいて、前記超弾性ワイヤの三つの側部上に配置される、請求項１に記載の嚢切開装置。
【請求項８】
前記絶縁部における、前記移行ネック部の一方の側の前記第１端部と前記第２端部との間の隙間が、前記ループにおける、前記移行ネック部の反対側の前記第１端部と前記第２端部との間の隙間よりも広い、請求項１に記載の嚢切開装置。
【請求項９】
前記移行ネック部の反対側の前記第１端部と前記第２端部との間の隙間が約０．０７６ｍｍである、請求項８に記載の嚢切開装置。
【請求項１０】
前記超弾性ワイヤのループにおける前記隙間は、前記ループが、眼の嚢に接触して定置されている間に電流が当該ループに印加されると前記眼の嚢において円形の連続的な切断部を形成することができるように十分小さい、請求項１に記載の嚢切開装置。
【請求項１１】
前記ループが後方の切嚢のために使用されることができるように、前記ループの直径が約２〜４ｍｍである、請求項１に記載の嚢切開装置。
【請求項１２】
前記ループが前方の切嚢のために使用されることができるように、前記ループの直径が約４〜６ｍｍである、請求項１に記載の嚢切開装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年4月18日(2013.4.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気抵抗の超弾性ワイヤを具備する抵抗加熱要素であって、前記超弾性ワイヤが、第１端部及び第２端部を有し、且つ該第１端部と該第２端部との間に隙間を有するループを形成する、抵抗加熱要素と、
前記超弾性ワイヤの第１端部と第２端部とを隔てる電気絶縁材料を具備する絶縁部であって、前記第１端部及び第２端部が、前記ループと当該絶縁部との間に移行ネック部を形成すべく、互いに近接し、且つ、少なくとも部分的に、前記ループによって画成された平面から当該絶縁部へ所定の角度で延在する、絶縁部と
を具備する、切嚢修復装置であって、
前記抵抗加熱要素が、嚢切開の周囲の修復のために該嚢切開の周囲における裂け目に重なるべく構成されるように、修復されるべき前記嚢切開の周囲の長さ及び幅よりも小さい長さ及び幅を有する、切嚢修復装置。
【請求項２】
前記抵抗加熱要素が横長の楕円形状を含む、請求項１に記載の切嚢修復装置。
【請求項３】
前記抵抗加熱要素によって形成されたループの長さ及び幅が１０ｍｍよりも小さい、請求項１に記載の切嚢修復装置。
【請求項４】
前記抵抗加熱要素によって形成されたループの長さ及び幅が約３ｍｍ〜７ｍｍの範囲内にある、請求項１に記載の切嚢修復装置。
【請求項５】
少なくとも部分的に、前記ループによって画成された前記平面から所定の角度で延在することが、前記ループによって画成された前記平面からほぼ垂直に延在することを含む、請求項１に記載の切嚢修復装置。
【請求項６】
前記絶縁部の周りに収まり、且つ前記抵抗加熱要素が格納位置にあるときに実質的に該抵抗加熱要素を包含するように構成された挿入スリーブを更に具備する、請求項１に記載の切嚢修復装置。
【請求項７】
前記絶縁部における、前記移行ネック部の一方の側の前記第１端部と前記第２端部との間の隙間が、前記ループにおける、前記移行ネック部の反対側の前記第１端部と前記第２端部との間の隙間よりも広い、請求項１に記載の切嚢修復装置。
【請求項８】
前記移行ネック部の反対側の前記第１端部と前記第２端部との間の隙間が約０．０７６ｍｍである、請求項７に記載の切嚢修復装置。
【請求項９】
前記超弾性ワイヤのループにおける前記隙間は、前記ループが、眼の嚢に接触して定置されている間に電流が当該ループに印加されると前記眼の嚢において円形の連続的な切断部を形成することができるように十分小さい、請求項１に記載の切嚢修復装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月24日(2013.5.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の分節カフプレチスモグラフィを実施して、対象者の身体の或る部分でベースラインの動脈コンプライアンス曲線及び/又はベースラインの圧力-面積(P-A)曲線を作成すること、ここで、カフ圧は第１のピークカフ圧まで増加させ、直ぐに第１のピークカフ圧から減少させる；
第２の分節カフプレチスモグラフィを実施して、充血動脈コンプライアンス曲線及び/又は充血P-A曲線を作成すること、ここで、カフ圧は第２のピークレベルまで増加させ、第２のピークカフ圧で所定期間維持し、その後第２のピークカフ圧から減少させる；及び
ベースラインの動脈コンプライアンス曲線と充血動脈コンプライアンス曲線との間の差を両動脈コンプライアンス曲線間の面積として、及び/又はベースラインのP-A曲線と充血P-A曲線との間の差を両P-A曲線間の面積として算出すること
を含んでなる、対象者における反応性充血の検出を補助するデータを取得する方法。
【請求項２】
第１のピークカフ圧が150〜180mmHgの範囲にある請求項１に記載の方法。
【請求項３】
第２のピークカフ圧が対象者の収縮期圧を超える圧力である請求項１に記載の方法。
【請求項４】
第２のピークカフ圧が150〜180mmHgの範囲にある請求項３に記載の方法。
【請求項５】
所定期間が約２〜10分間である請求項１に記載の方法。
【請求項６】
所定期間が約５分間である請求項５に記載の方法。
【請求項７】
対象者の収縮期血圧が第１の分節カフプレチスモグラフィの間に決定される請求項１に記載の方法。
【請求項８】
カフコンプライアンス曲線が第１の分節カフプレチスモグラフィ及び第２の分節カフプレチスモグラフィの間に非線形回帰法を用いて作成される請求項１に記載の方法。
【請求項９】
膨張可能なカフ；
カフの膨張及び収縮用計量ポンプ；
カフ内圧測定用圧トランスデューサ；及び
非線形回帰を用いてカフコンプライアンス曲線を算出する手段；
カフの膨張及び収縮プロセスの間の動脈コンプライアンス曲線及びP-A曲線を
算出する手段、及び
第１の動脈コンプライアンス曲線下面積と第２の動脈コンプライアンス曲線下
面積との間の差及び第１の圧力-面積(P-A)曲線下面積と第２のP-A曲線下面積と
の間の差を算出する手段
を備えるコンピュータ
を備える装置。
【請求項１０】
増幅器を更に備える請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
データをバンドパスフィルタリングする手段を更に備える請求項９に記載の装置。
【請求項１２】
請求項１に記載の方法を使用して対象者における反応性充血の第１の測定を実施すること；
請求項１に記載の方法を使用して対象者における反応性充血の第２の測定を実施すること；及び
第１の測定結果と第２の測定決定結果とを比較すること
を含んでなる、対象者において医学的処置の効力をモニタリングする方法。
【請求項１３】
第１の測定が医学的治療の開始前に実施される請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
医学的処置がED-関連疾患の治療的処置である請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
医学的処置がスタチン治療である請求項１２に記載の方法。
【請求項１６】
医学的処置が麻酔処置である請求項１２に記載の方法。