【手続補正書】
【提出日】平成20年11月18日(2008.11.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アノードと、
基板及び基板を被覆する被膜を含み、被膜が炭素質粒子及び無機粒子を有し、無機粒子が炭素質粒子及び基板に焼結結合されたカソードと、
カソードとアノードとの間に配置された電解質と、
を含む湿式電解コンデンサ。
【請求項２】
前記炭素質粒子が活性炭を含むことを特徴とする請求項１に記載の湿式電解コンデンサ。
【請求項３】
前記炭素質粒子が１グラム当たり少なくとも約２００平方メートルの比表面積を有することを特徴とする請求項１に記載の湿式電解コンデンサ。
【請求項４】
前記炭素質粒子が１グラム当たり少なくとも約１５００平方メートルの比表面積を有することを特徴とする請求項１に記載の湿式電解コンデンサ。
【請求項５】
前記炭素質粒子が約５から約２０マイクロメートルのメジアン径を有することを特徴とする請求項１に記載の湿式電解コンデンサ。
【請求項６】
前記炭素質粒子が多孔性であることを特徴とする請求項１に記載の湿式電解コンデンサ。
【請求項７】
前記無機粒子が約２０℃で約１×１０5ｏｈｍ−ｃｍ未満の抵抗率を有することを特徴とする請求項１に記載の湿式電解コンデンサ。
【請求項８】
前記無機粒子が、１：２．５未満のニオブ対酸素の原子比率を有する酸化ニオブを含むことを特徴とする請求項１に記載の湿式電解コンデンサ。
【請求項９】
前記酸化ニオブが１：１．５未満のニオブ対酸素の原子比率を有することを特徴とする請求項８に記載の湿式電解コンデンサ。
【請求項１０】
前記酸化ニオブがＮｂＯ0.7、ＮｂＯ1.0、ＮｂＯ1.1及びＮｂＯ2から成る群の中から選択されたことを特徴とする請求項８に記載の湿式電解コンデンサ。
【請求項１１】
前記酸化ニオブが１：０．５±０．２のニオブ対酸素の原子比率を有することを特徴とする請求項８に記載の湿式電解コンデンサ。
【請求項１２】
前記酸化ニオブがＮｂＯ2であることを特徴とする請求項８に記載の湿式電解コンデンサ。
【請求項１３】
前記無機粒子がタンタルを含むことを特徴とする請求項１に記載の湿式電解コンデンサ。
【請求項１４】
前記無機粒子が約２０マイクロメートル未満のメジアン径を有することを特徴とする請求項１に記載の湿式電解コンデンサ。
【請求項１５】
前記無機粒子が約５マイクロメートル未満のメジアン径を有することを特徴とする請求項１に記載の湿式電解コンデンサ。
【請求項１６】
前記炭素質粒子のメジアン粒径と前記無機粒子のメジアン粒径の比率が約１．５：１から約５０：１であることを特徴とする請求項１に記載の湿式電解コンデンサ。
【請求項１７】
前記炭素質粒子のメジアン粒径と前記無機粒子のメジアン粒径の比率が約４：１から約１５：１であることを特徴とする請求項１に記載の湿式電解コンデンサ。
【請求項１８】
前記コーティングにおける前記無機粒子と前記炭素質粒子の重量比が約０．５：１から約５０：１であることを特徴とする請求項１に記載の湿式電解コンデンサ。
【請求項１９】
前記被膜が単層であることを特徴とする請求項１に記載の湿式電解コンデンサ。
【請求項２０】
前記被膜が２層又はそれ以上の層を有することを特徴とする請求項１に記載の湿式電解コンデンサ。
【請求項２１】
層の１つが主に無機粒子を含み、別の層が無機粒子と炭素質粒子の混合物を含むことを特徴とする請求項２０に記載の湿式電解コンデンサ。
【請求項２２】
前記炭素質粒子が前記無機粒子に囲まれていることを特徴とする請求項１に記載の湿式電解コンデンサ。
【請求項２３】
前記基板を被覆する複数の金属粒子をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の湿式電解コンデンサ。
【請求項２４】
前記基板がタンタル、ニオブ、アルミニウム、ニッケル、ハフニウム、チタン、銅、銀及びこれらの混合物から成る群の中から選択された金属を有することを特徴とする請求項１に記載の湿式電解コンデンサ。
【請求項２５】
前記電解質が酸を含む水性溶液であることを特徴とする請求項１に記載の湿式電解コンデンサ。
【請求項２６】
前記アノードがタンタル又はニオブを含むことを特徴とする請求項１に記載の湿式電解コンデンサ。
【請求項２７】
前記アノードが酸化ニオブを含むことを特徴とする請求項２６に記載の湿式電解コンデンサ。
【請求項２８】
前記コンデンサが１２０ヘルツの周波数で約２００ミリオーム未満のＥＳＲを有することを特徴とする請求項１に記載の湿式電解コンデンサ。
【請求項２９】
前記アノード静電容量に対する前記カソード静電容量の比率が少なくとも約５０であることを特徴とする請求項１に記載の湿式電解コンデンサ。
【請求項３０】
前記アノード静電容量に対する前記カソード静電容量の比率が少なくとも約１００であることを特徴とする請求項１に記載の湿式電解コンデンサ。
【請求項３１】
湿式電解コンデンサを形成する方法であって、
カソードの基板に被膜剤を塗布する工程と、
カソード被膜であって、炭素粒子及び無機粒子を有するカソード被膜を形成するために被膜剤を焼結する工程と、
アノードとカソードとの間に電解質を配置する工程と、
を含む方法。
【請求項３２】
前記無機粒子が１：２．５未満のニオブ対酸素の原子比率を有する酸化ニオブを含むことを特徴とする請求項３１に記載の方法。
【請求項３３】
前記酸化ニオブが１：０．５±０．２のニオブ対酸素の原子比率を有することを特徴とする請求項３２に記載の方法。
【請求項３４】
前記酸化ニオブが、ＮｂＯ2であることを特徴とする請求項３２に記載の方法。
【請求項３５】
前記無機粒子がタンタルを含むことを特徴とする請求項３１に記載の方法。
【請求項３６】
前記被膜剤が約２０重量％から約８０重量％の固形分を有することを特徴とする請求項３１に記載の方法。
【請求項３７】
前記金属基板を前記被膜剤に浸漬することを特徴とする請求項３１に記載の方法。
【請求項３８】
前記被膜剤を約５００℃から約２４００℃の温度で焼結することを特徴とする請求項３１に記載の方法。
【請求項３９】
前記被膜剤を約９００℃から約１２００℃の温度で焼結することを特徴とする請求項３１に記載の方法。
【請求項４０】
前記被膜剤を約２００ミリトール未満の圧力で焼結することを特徴とする請求項３１に記載の方法。
【請求項４１】
前記被膜剤を約５０ミリトール未満の圧力で焼結することを特徴とする請求項３１に記載の方法。
【請求項４２】
前記被膜剤を塗布する前に、前記基板を複数の金属粒子で事前被覆する工程をさらに含むことを特徴とする請求項３１に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
所望レベルの電気接触を確保するために、無機粒子は、一般的に、導体又は半導体であるが、必ずしも炭素質粒子と同程度でなくてもよい。例えば、無機粒子は、通常、（約２０℃で）約１×１０5ｏｈｍ−ｃｍ未満の抵抗率を有するが、実施例の中には約１×１０4ｏｈｍ−ｃｍ未満のもの及び約１×１０3ｏｈｍ−ｃｍ未満のものもある。本発明では、この点に関して、所望レベルの接着強度を与える導体又は半導体であればどれでも用いることができる。例えば、無機粒子は、バルブ金属又は構成成分としてバルブ金属を含む組成物から形成することができる。適切なバルブ金属として、タンタル、ニオブ、アルミニウム、ハフニウム、チタン、これらの合金、酸化物又は窒化物などが挙げられるが、これらに限定されることはない。本発明に用いられる無機粒子の特に効果的な種類は、ニオブ対酸素の原子比率が１：２．５未満の酸化ニオブであるが、実施例の中には１：１．５未満のもの、１：１未満のもの、及び１：０．５±０．２未満のものもある。例えば、酸化ニオブは、ＮｂＯ0.7、ＮｂＯ1.0、ＮｂＯ1.1及びＮｂＯ2であってもよい。ある特定の実施例では、無機粒子は、ＮｂＯ2から形成される。ＮｂＯ2は、標準状態では陽極酸化しない比較的導電性の酸化ニオブである。ＮｂＯ2は、また、Ｈ2ＳＯ4又は他の電解液中で安定しており容易に溶解しない。さらに、ＮｂＯ2は、高温で焼結された後、化学的に安定している。すなわち、ＮｂＯ2被覆されたカソードは、化学的構造及び物理的特性を維持しつつ、ＮｂＯ2がカソード基板及び炭素質粒子とよく結合するように、十分な高温で焼結されることができる。さらに、ＮｂＯ2被覆カソードは、広いｐＨ範囲で効果的に作動できるため、広い範囲の異なる種類のアノードの使用を可能にすると考えられる。