【手続補正書】
【提出日】平成25年11月8日(2013.11.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空チャンバ用のガス分析装置であって、
電子処理部を備え、当該電子処理部が、
ａ）質量スペクトルデータを受け入れ、
ｂ）前記真空チャンバ内の全圧を示す入力を受け入れ、
ｃ）少なくとも１つのセンサからの外部入力を受け入れ、
ｄ）前記質量スペクトルデータ、前記真空チャンバ内の前記全圧、および前記少なくとも１つのセンサからの前記外部入力を用いて、少なくとも１つの品質基準に基づき真空品質指数を算出する、
ように構成された、ガス分析装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記電子処理部が、さらに、前記質量スペクトルデータに基づき前記真空チャンバ内に存在する少なくとも１つの化学種を同定するように構成された、ガス分析装置。
【請求項３】
請求項２において、
前記電子処理部が、さらに、少なくとも第一段および第二段を有するクライオポンプの飽和レベルを求めるように構成された、ガス分析装置。
【請求項４】
請求項３において、
前記少なくとも１つのセンサが、前記クライオポンプの前記第二段の温度を計測する温度センサを含み、前記真空チャンバ内に存在する少なくとも１つの化学種が水素であり、前記少なくとも１つの品質基準が前記真空チャンバ内の前記全圧に対する水素の分圧の比を含む、ガス分析装置。
【請求項５】
請求項２において、
前記電子処理部が、さらに、前記真空チャンバ内に存在する少なくとも２つの化学種の相対濃度を求め、前記真空品質指数を算出するにあたって当該相対濃度を用いるように構成された、ガス分析装置。
【請求項６】
請求項２において、
前記電子処理部が、さらに、前記真空チャンバ内に存在する前記少なくとも１つの化学種の分圧を求め、前記真空品質指数を算出するにあたって当該分圧を用いるように構成された、ガス分析装置。
【請求項７】
請求項６において、
前記電子処理部が、さらに、前記真空チャンバ内に存在する少なくとも２つの化学種の分圧を求め、前記真空品質指数を算出するにあたって当該少なくとも２つの化学種の分圧を用いるように構成された、ガス分析装置。
【請求項８】
請求項２において、
さらに、前記少なくとも１つの化学種の分圧を出力するデジタル出力部を備える、ガス分析装置。
【請求項９】
請求項１から８のいずれか一項において、
前記少なくとも１つのセンサが、基板温度センサ、真空ポンプ速度センサ、質量流量モニタ、クライオポンプ温度センサおよびイオンポンプ電流センサの少なくとも１つを含む、ガス分析装置。
【請求項１０】
請求項１から９のいずれか一項において、
前記真空品質指数が、二値の出力および／またはアナログ出力を制御する、ガス分析装置。
【請求項１１】
請求項１から１０のいずれか一項において、
前記真空品質指数が、二値の出力を制御する、ガス分析装置。
【請求項１２】
請求項１から１１のいずれか一項において、
前記電子処理部が、さらに、前記真空品質指数を用いてプロセスを制御するように構成された、ガス分析装置。
【請求項１３】
請求項１２において、
前記プロセスを制御する過程が、プロセスのフィードフォワード制御を含む、ガス分析装置。
【請求項１４】
請求項１２において、
前記プロセスを制御する過程が、プロセスのフィードバック制御を含む、ガス分析装置。
【請求項１５】
請求項１２において、
前記プロセスを制御する過程が、異なる真空チャンバにおける前記プロセスの品質をマッチングさせることを含む、ガス分析装置。
【請求項１６】
請求項１２において、
前記プロセスが、前記真空チャンバのベースアウトであり、前記少なくとも１つのセンサが、前記真空チャンバの温度を計測する温度センサを含む、ガス分析装置。
【請求項１７】
請求項１６において、
前記少なくとも１つの品質基準が、水素の、前記真空チャンバ内に存在する他の全化学種に対する比を含む、ガス分析装置。
【請求項１８】
請求項１２において、
前記プロセスが、前記真空チャンバのベースアウトであり、前記少なくとも１つのセンサが、前記真空チャンバと前記真空チャンバを排気する真空ポンプとの間に介在するゲートバルブの位置センサを含む、ガス分析装置。
【請求項１９】
請求項１８において、
前記少なくとも１つの品質基準が、水の、前記真空チャンバ内に存在する他の全化学種に対する比を含む、ガス分析装置。
【請求項２０】
請求項１から１９のいずれか一項において、
さらに、前記真空品質指数、前記真空チャンバ内の前記全圧および前記質量スペクトルデータの走査範囲の少なくとも１つを表示する表示部を備える、ガス分析装置。
【請求項２１】
請求項１から２０のいずれか一項において、
さらに、前記真空品質指数および／または前記質量スペクトルデータを出力するデジタル出力部を備える、ガス分析装置。
【請求項２２】
請求項１から２１のいずれか一項において、
前記少なくとも１つの品質基準が、ユーザによってプログラム可能である、ガス分析装置。
【請求項２３】
請求項１から２２のいずれか一項において、
さらに、前記質量スペクトルデータを提供する質量分析計を備える、ガス分析装置。
【請求項２４】
真空チャンバ内のガスを分析する方法であって、
ａ）質量スペクトルデータを受け入れる過程と、
ｂ）前記真空チャンバ内の全圧を示す入力を受け入れる過程と、
ｃ）少なくとも１つのセンサからの外部入力を受け入れる過程と、
ｄ）前記質量スペクトルデータ、前記真空チャンバ内の全圧、および前記少なくとも１つのセンサからの前記外部入力を用いて、少なくとも１つの品質基準に基づき真空品質指数を算出する過程と、
を含む、ガス分析方法。
【請求項２５】
請求項２４において、
さらに、前記質量スペクトルデータに基づき前記真空チャンバ内に存在する少なくとも１つの化学種を同定する過程を含む、ガス分析方法。
【請求項２６】
請求項２５において、
さらに、少なくとも第一段および第二段を有するクライオポンプの飽和レベルを求める過程を含む、ガス分析方法。
【請求項２７】
請求項２６において、
前記少なくとも１つのセンサが、前記クライオポンプの前記第二段の温度を計測する温度センサを含み、前記真空チャンバ内に存在する少なくとも１つの化学種が水素であり、前記少なくとも１つの品質基準が前記真空チャンバ内の前記全圧に対する水素の分圧の比を含む、ガス分析方法。
【請求項２８】
請求項２５において、
さらに、前記真空チャンバ内に存在する少なくとも２つの化学種の相対濃度を求める過程を含み、前記真空品質指数を算出するにあたって当該相対濃度を用いる、ガス分析方法。
【請求項２９】
請求項２５において、
さらに、前記真空チャンバ内に存在する前記少なくとも１つの化学種の分圧を求める過程を含み、前記真空品質指数を算出するにあたって当該分圧を用いる、ガス分析方法。
【請求項３０】
請求項２９において、
さらに、前記真空チャンバ内に存在する少なくとも２つの化学種の分圧を求める過程を含み、前記真空品質指数を算出するにあたって当該少なくとも２つの化学種の分圧を用いる、ガス分析方法。
【請求項３１】
請求項２５において、
さらに、前記少なくとも１つの化学種の分圧のデジタル出力を出力する過程を含む、ガス分析方法。
【請求項３２】
請求項２４から３１のいずれか一項において、
前記少なくとも１つのセンサが、基板温度センサ、真空ポンプ速度センサ、質量流量モニタ、クライオポンプ温度センサおよびイオンポンプ電流センサの少なくとも１つを含む、ガス分析方法。
【請求項３３】
請求項２４から３２のいずれか一項において、
さらに、前記真空品質指数を用いて二値の出力および／またはアナログ出力を制御する過程を含む、ガス分析方法。
【請求項３４】
請求項２４から３３のいずれか一項において、
さらに、前記真空品質指数を用いて二値の出力を制御する過程を含む、ガス分析方法。
【請求項３５】
請求項２４から３４のいずれか一項において、
さらに、前記真空品質指数を用いてプロセスを制御する過程を含む、ガス分析方法。
【請求項３６】
請求項３５において、
前記プロセスを制御する過程が、プロセスのフィードフォワード制御を含む、ガス分析方法。
【請求項３７】
請求項３５において、
前記プロセスを制御する過程が、プロセスのフィードバック制御を含む、ガス分析方法。
【請求項３８】
請求項３５において、
前記プロセスを制御する過程が、異なる真空チャンバにおける前記プロセスの品質をマッチングさせることを含む、ガス分析方法。
【請求項３９】
請求項３５において、
前記プロセスが、前記真空チャンバのベースアウトであって、前記少なくとも１つのセンサが、前記真空チャンバの温度を計測する温度センサを含む、ガス分析方法。
【請求項４０】
請求項３９において、
前記少なくとも１つの品質基準が、水素の、前記真空チャンバ内に存在する他の全化学種に対する比を含む、ガス分析方法。
【請求項４１】
請求項３５において、
前記プロセスが、前記真空チャンバのベースアウトであり、前記少なくとも１つのセンサが、前記真空チャンバと前記真空チャンバを排気する真空ポンプとの間に介在するゲートバルブの位置センサを含む、ガス分析方法。
【請求項４２】
請求項４１において、
前記少なくとも１つの品質基準が、水の、前記真空チャンバ内に存在する他の全化学種に対する比を含む、ガス分析方法。
【請求項４３】
請求項２４から４２のいずれか一項において、
さらに、前記真空品質指数、前記真空チャンバ内の前記全圧および前記質量スペクトルデータの走査範囲の少なくとも１つを表示する過程を含む、ガス分析方法。
【請求項４４】
請求項２４から４３のいずれか一項において、
さらに、前記真空品質指数のデジタル出力および／または前記質量スペクトルデータのデジタル出力を出力する過程を含む、ガス分析方法。
【請求項４５】
請求項２４から４４のいずれか一項において、
前記少なくとも１つの品質基準が、ユーザによってプログラム可能である、ガス分析方法。
【請求項４６】
請求項２４から４５のいずれか一項において、
前記質量スペクトルデータを質量分析計から受け入れる、ガス分析方法。