(57)【要約】【課題】本発明は、感光層の耐溶剤性が高く、感光層以下の層の特性を維持すると共に、長期に亘って繰り返し再生することが可能な感光体及び該感光体の再生方法を提供することを目的とする。また、該感光体を用いる画像形成方法並びに該感光体を有する画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供することを目的とする。【解決手段】感光体は、導電性支持体１１上に、少なくとも、光硬化型感光層１２と、表面層１３が順次積層されており、光硬化型感光層１２は、電荷輸送性構造を有し、ラジカル重合性官能基を有する第一のモノマー、電荷輸送性構造を有さず、ラジカル重合性官能基を３個以上有する第二のモノマー及び電荷発生物質を含有する塗工液を用いて形成されており、塗工液の固形分重量に対するラジカル重合性官能基の数の比は、２．５〜６．５ｍｍｏｌ／ｇであり、塗工液の固形分に対する、ラジカル重合性官能基の数に対する分子量の比が１２０以下である第二のモノマーの重量比は、１７％以上である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性支持体上に、少なくとも、光硬化することにより形成されている感光層と、熱可塑性樹脂及び電荷輸送物質を含有する表面層が順次積層されている感光体において、
該感光層は、電荷輸送性構造を有し、ラジカル重合性官能基を有する第一のモノマー、電荷輸送性構造を有さず、ラジカル重合性官能基を３個以上有する第二のモノマー及び電荷発生物質を含有する塗工液を用いて形成されており、
該塗工液の固形分重量に対するラジカル重合性官能基の数の比は、２．５ｍｍｏｌ／ｇ以上６．５ｍｍｏｌ／ｇ以下であり、
該塗工液の固形分に対する、ラジカル重合性官能基の数に対する分子量の比が１２０以下である該第二のモノマーの重量比は、１７％以上であることを特徴とする感光体。
【請求項２】
前記第一のモノマー及び第二のモノマーは、それぞれ独立に、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を有することを特徴とする請求項１に記載の感光体。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の感光体の表面層を除去する工程と、熱可塑性樹脂及び電荷輸送物質を含有する塗工液を用いて表面層を再形成する工程を有することを特徴とする感光体の再生方法。
【請求項４】
前記表面層を除去する工程は、溶剤を用いて前記表面層を剥離する工程又は前記表面層を研磨する工程であることを特徴とする請求項３に記載の感光体の再生方法。
【請求項５】
請求項３又は４に記載の感光体の再生方法を用いて再生されていることを特徴とする感光体。
【請求項６】
請求項１、２又は５に記載の感光体を用いて、少なくとも帯電、画像露光、現像及び転写を繰り返し行うことを特徴とする画像形成方法。
【請求項７】
請求項１、２又は５に記載の感光体を有することを特徴とする画像形成装置。
【請求項８】
請求項１、２又は５に記載の感光体と、帯電手段、現像手段、転写手段、クリーニング手段及び除電手段からなる群より選択される少なくとも一つの手段を有し、
画像形成装置本体に着脱可能であることを特徴とするプロセスカートリッジ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光体、感光体の再生方法、画像形成方法、画像形成装置及びプロセスカートリッジに関する。
【背景技術】
【０００２】
複写機、レーザープリンター等の画像形成装置においては、電子写真感光体の帯電、露光、現像、転写等を順次行う電子写真方式が広く採用されている。このような画像形成プロセスの場合、転写工程後の電子写真感光体は、必要に応じて、その表面に残存するトナー等が除去された後、次の画像形成プロセスに繰り返し使用される。そして、繰り返し使用するうちに、電子写真感光体の表面に、全体的な摩耗又は局所的な摩耗、傷が発生したり、表面への放電生成物の付着、トナー及びその添加剤の固着等が発生したりすると、十分な画像品質が維持できなくなって電子写真感光体は使用限界に達する。使用限界に達した電子写真感光体は、新品の電子写真感光体と交換され、そのまま廃棄される。ところが、近年、環境問題、省資源、製造コストの低減等の観点から、リサイクルの動きが活発になっているおり、電子写真感光体についても使用済みのものを回収して再利用する方法が提案されている。
【０００３】
電子写真感光体をリサイクルして使用する技術としては、（１）導電性基体上に形成した電荷輸送層、電荷発生層等を全て剥離した後、導電性基体の表面を加工し直し、導電性基体上に、電荷発生層や電荷輸送層等を再形成する方法（特許文献１〜３参照）、（２）熱硬化性樹脂による下塗り層を形成しておき、下塗り層よりも上層を剥離した後、感光層を再形成する方法（特許文献４参照）、（３）水溶性溶剤で感光層を溶解除去した後、感光層を再形成する方法（特許文献５、６参照）、（４）電荷輸送層のみを溶解除去した後、電荷輸送層を再形成する方法（特許文献７参照）、（５）機械的外力を加えて表面層を剥離した後、表面層を再形成する方法（特許文献８参照）、（６）三次元架橋層の直上の電荷輸送層を有機溶剤で溶解除去した後、電荷輸送層を再形成する方法（特許文献９参照）等が挙げられる。
【０００４】
これらの技術のうち、（１）は、導電性基体上に形成された電荷発生層を完全に剥離することが困難であるという問題がある。また、全て剥離した後に、導電性基体の表面を再加工することは、寸法制度の観点からも問題がある。（２）は、熱硬化性樹脂を用いており、硬化に長時間を要するため、下層の成分を含有しやすく、耐溶剤性に問題がある。（３）は、導電性基体が再生可能な程度にまで十分に感光層を溶解除去することが非常に困難であり、溶解除去するためには、多量の溶剤と処理時間を必要とするという問題がある。（４）は、電荷輸送層を剥離する際に、有機溶剤によって電荷発生層等の他の層が溶解又は膨潤し、電荷発生材料及び結着樹脂の局所的な溶解、脱離を引き起こすという問題がある。（５）は、機械的外力により表面層を剥離するが、剥離後の再塗布時と乾燥時において、下層から表面層中へ電荷輸送性物質等が染み出して、電気特性及び画像特性に不具合が生じるという問題がある。（６）は、三次元架橋層として、熱硬化性樹脂であるシロキサン、ウレタンを使用しているが、硬化に長時間が必要であり、電荷発生層成分を含有しやすいため、十分に硬化することができず、耐溶剤性が弱いという問題がある。また、実施例のシロキサンを使用する場合には、熱硬化反応の触媒として、酸（酢酸）を使用するため、酢酸がドナーのアミンと錯体を形成し、電気特性に不具合を生じる。さらに、層内に残った酢酸を取り除くためには、長時間の乾燥が必要である。一方、実施例のウレタンを使用する場合には、三次元架橋層の架橋密度が低いため、耐溶剤性が不十分である。また、使用済みの感光体から電荷輸送層を剥離して、再形成する際に、三次元架橋層中の成分が染み出して、電気特性及び画像特性に不具合が生じるという問題がある。
【特許文献１】特開昭６３−２６１３６１号公報
【特許文献２】特開平４−２５５８６３号公報
【特許文献３】特開平５−１８１２８９号公報
【特許文献４】特開平５−３４１５３７号公報
【特許文献５】特開平８−２９７３７１号公報
【特許文献６】特開平１１−２４２８８号公報
【特許文献７】特開平５−２８１７５７号公報
【特許文献８】特開２００３−１４９８４６号公報
【特許文献９】特開２００１−２０１８８３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、上記の従来技術が有する問題に鑑み、感光層の耐溶剤性が高く、感光層以下の層の特性を維持すると共に、長期に亘って繰り返し再生することが可能な感光体及び該感光体の再生方法を提供することを目的とする。また、本発明は、該感光体を用いる画像形成方法並びに該感光体を有する画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
請求項１に記載の発明は、導電性支持体上に、少なくとも、光硬化することにより形成されている感光層と、熱可塑性樹脂及び電荷輸送物質を含有する表面層が順次積層されている感光体において、該感光層は、電荷輸送性構造を有し、ラジカル重合性官能基を有する第一のモノマー、電荷輸送性構造を有さず、ラジカル重合性官能基を３個以上有する第二のモノマー及び電荷発生物質を含有する塗工液を用いて形成されており、該塗工液の固形分重量に対するラジカル重合性官能基の数の比は、２．５ｍｍｏｌ／ｇ以上６．５ｍｍｏｌ／ｇ以下であり、該塗工液の固形分に対する、ラジカル重合性官能基の数に対する分子量の比が１２０以下である該第二のモノマーの重量比は、１７％以上であることを特徴とする。
【０００７】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の感光体において、前記第一のモノマー及び第二のモノマーは、それぞれ独立に、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を有することを特徴とする。
【０００８】
請求項３に記載の発明は、感光体の再生方法において、請求項１又は２に記載の感光体の表面層を除去する工程と、熱可塑性樹脂及び電荷輸送物質を含有する塗工液を用いて表面層を再形成する工程を有することを特徴とする。
【０００９】
請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の感光体の再生方法において、前記表面層を除去する工程は、溶剤を用いて前記表面層を剥離する工程又は前記表面層を研磨する工程であることを特徴とする。
【００１０】
請求項５に記載の発明は、感光体において、請求項３又は４に記載の感光体の再生方法を用いて再生されていることを特徴とする。
【００１１】
請求項６に記載の発明は、画像形成方法において、請求項１、２又は５に記載の感光体を用いて、少なくとも帯電、画像露光、現像及び転写を繰り返し行うことを特徴とする。
【００１２】
請求項７に記載の発明は、画像形成装置において、請求項１、２又は５に記載の感光体を有することを特徴とする。
【００１３】
請求項８に記載の発明は、プロセスカートリッジにおいて、請求項１、２又は５に記載の感光体と、帯電手段、現像手段、転写手段、クリーニング手段及び除電手段からなる群より選択される少なくとも一つの手段を有し、画像形成装置本体に着脱可能であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、感光層の耐溶剤性が高く、感光層以下の層の特性を維持すると共に、長期に亘って繰り返し再生することが可能な感光体及び該感光体の再生方法を提供することができる。また、本発明は、該感光体を用いる画像形成方法並びに該感光体を有する画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
次に、本発明を実施するための最良の形態を説明する。
【００１６】
本発明の感光体は、導電性支持体上に、少なくとも、光硬化することにより形成されている感光層（以下、光硬化型感光層という）と、熱可塑性樹脂及び電荷輸送物質を含有する表面層が順次積層されており、光硬化型感光層は、電荷輸送性構造を有し、ラジカル重合性官能基を有する第一のモノマー、電荷輸送性構造を有さず、ラジカル重合性官能基を３個以上有する第二のモノマー及び電荷発生物質を含有する塗工液を用いて形成されている。なお、光硬化型感光層の塗工液の固形分重量に対するラジカル重合性官能基の数の比は、２．５〜６．５ｍｍｏｌ／ｇであり、光硬化型感光層の塗工液の固形分に対する、ラジカル重合性官能基の数に対する分子量の比が１２０以下である第二のモノマーの重量比は、１７％以上である。これにより、表面層以下の優れた特性を維持しつつ、容易且つ安価に長期に亘って繰り返し再生することができる。
【００１７】
この理由としては、以下の要因が挙げられる。感光体を繰り返し再生する方法としては、使用済みの感光体の表面層を除去した後に、溶剤を含有する表面層の塗工液を塗工する方法が挙げられる。このとき、剥離後の表面層の直下の層は、溶剤に晒されるため、一般に、溶解が進行し、層中の成分が溶出する。このため、表面層を再形成すると、再生前の感光体よりも電気特性が低下する。さらに、繰り返し再生される毎に、電気特性が低下する。以上のことから、表面層の直下の層の耐溶剤性が高い必要がある。耐溶剤性が高い層としては、硬化層が挙げられ、中でも、熱硬化層及び光硬化層は、耐溶剤性が特に高い。
【００１８】
熱硬化層は、硬化する際に、高温で長い乾燥時間が必要であり、乾燥中に下層の成分が染み出して、硬化不良が起こることがある。さらに、感光体に対する熱的負荷が大きい。また、ウレタン結合により硬化する場合には、イソシアネート基とヒドロキシル基の当量を合わせる必要があり、材料の選択性、配合量の選択性が低い。
【００１９】
一方、光硬化層は、短時間で硬化させることが可能であるため、下引き層の成分の混入が熱硬化層と比較して少なく、硬化不良が発生しにくい。また、同じ官能基同士で硬化する場合には、当量を合わせる必要もなく、材料の選択性、配合量の選択性が熱硬化層と比較して高い。さらに、架橋密度を高くすることができる。しかし、感光体を繰り返し再生する際には、溶剤に晒される回数が多いため、感光体の表面層の直下に光硬化層を形成するだけでは、不十分であり、光硬化層の架橋密度を高くする必要がある。
【００２０】
本発明においては、光硬化型感光層の塗工液の固形分重量に対するラジカル重合性官能基の数の比は、２．５〜６．５ｍｍｏｌ／ｇであり、３〜９．５ｍｍｏｌ／ｇが好ましい。さらに、光硬化型感光層の塗工液の固形分に対する、ラジカル重合性官能基の数に対する分子量の比が１２０以下である第二のモノマーの重量比は、１７％以上であり、２５％以上が好ましい。これにより、光硬化型感光層の耐溶剤性を高くすることができ、再生を繰り返す中でも、長期に亘って優れた電子写真特性を維持することができる。なお、架橋密度を高くするためには、ラジカル重合性官能基以外の官能基が少ない、ラジカル重合性官能基の数に対する分子量の比が１２０以下である第二のモノマーを用いることが重要である。また、光硬化型感光層の硬化不良を抑制するためには、硬化反応を短時間で進行させ、下引き層の成分の混入を可能な限り抑える必要がある。
【００２１】
光硬化型感光層の塗工液の固形分重量に対するラジカル重合性官能基の数の比が２．５ｍｍｏｌ／ｇ未満である場合、架橋密度が十分ではなく、また、下引き層の成分の混入が多くなることがあるため、光硬化型感光層の内部で硬化不良が発生し、再成を繰り返す毎に、光硬化型感光層の成分が徐々に染み出す。また、塗工液の固形分重量に対するラジカル重合性官能基の数の比が６．５ｍｍｏｌ／ｇを超える場合、架橋密度は十分であるが、電荷輸送性物質が少なくなり、電気特性が低下する。
【００２２】
本発明において、第一のモノマー及び第二のモノマーは、それぞれ独立に、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を有することが好ましい。これにより、第一のモノマー及び第二のモノマーの反応性が高くなり、硬化反応が短時間で進行するため、下引き層の成分の混入をさらに抑制することができる。
【００２３】
次に、第一のモノマーについて説明する。
【００２４】
本発明において、第一のモノマーとしては、トリアリールアミン、ヒドラゾン、ピラゾリン、カルバゾール等の正孔輸送性構造又は縮合多環キノン、ジフェノキノン、シアノ基やニトロ基を有する電子吸引性芳香族環等の電子輸送性構造を有すると共に、ラジカル重合性官能基を有する化合物が挙げられる。電荷輸送性構造としては、トリアリールアミン構造を用いることが好ましい。ラジカル重合性官能基は、炭素−炭素二重結合を有し、ラジカル重合が可能な官能基であればよく、ビニル系官能基、１−置換ビニル系官能基等を用いることができる。
【００２５】
ビニル系官能基としては、一般式
ＣＨ２＝ＣＨ−Ｘ１−
［式中、Ｘ１は、置換基を有してもよいフェニレン基、ナフチレン基等のアリーレン基、置換基を有してもよいアルケニレン基、カルボニル基、オキシカルボニル基、一般式
−ＣＯＮＲ１０−
（Ｒ１０は、水素原子、メチル基、エチル基等のアルキル基、ベンジル基、ナフチルメチル基、フェネチル基等のアラルキル基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基を表す。）で表される官能基又はチオ基を表す。］
で表される化合物を用いることができる。これらの官能基を具体的に例示すると、ビニル基、スチリル基、２−メチル−１，３−ブタジエニル基、ビニルカルボニル基、アクリロイルオキシ基、アクリロイルアミド基、ビニルチオ基等が挙げられる。
【００２６】
１−置換ビニル系官能基としては、一般式
ＣＨ２＝Ｃ（Ｙ）−Ｘ２−
［式中、Ｙは、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアラルキル基、置換基を有してもよいフェニル基、ナフチル基等のアリール基、ハロゲン基、シアノ基、ニトロ基、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、一般式
−ＣＯＯＲ１１
（Ｒ１１は、水素原子、置換基を有してもよいメチル基、エチル基等のアルキル基、置換基を有してもよいベンジル、フェネチル基等のアラルキル基、置換基を有してもよいフェニル基、ナフチル基等のアリール基を表す。）
で表される官能基又は一般式
−ＣＯＮＲ１２Ｒ１３
（Ｒ１２及びＲ１３は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有してもよいメチル基、エチル基等のアルキル基、置換基を有してもよいベンジル基、ナフチルメチル基、フェネチル基等のアラルキル基、置換基を有してもよいフェニル基、ナフチル基等のアリール基を表す。）
で表される官能基を表す。また、Ｘ２は、上記一般式のＸ１と同一の官能基、単結合又はアルキレン基を表す。ただし、Ｙ及びＸ２の少なくとも一方は、オキシカルボニル基、シアノ基、アルケニレン基又は芳香族環である。］
で表される化合物を用いることができる。これらの官能基を具体的に例示すると、α−塩化アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、α−シアノビニル基、α−シアノアクリロイルオキシ基、α−シアノビニルフェニレン基、メタクリロイルアミノ基等が挙げられる。
【００２７】
なお、これらＸ１、Ｘ２及びＹの置換基としては、例えば、ハロゲン基、ニトロ基、シアノ基、メチル基、エチル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基等が挙げられる。
【００２８】
これらのラジカル重合性官能基の中では、アクリロイルオキシ基及びメタクリロイルオキシ基が好ましい。
【００２９】
１個以上のアクリロイルオキシ基を有する第一のモノマーは、例えば、水酸基を１個以上有する化合物と、アクリル酸（塩）、アクリル酸ハロゲン化物又はアクリル酸エステルを用いて、エステル化反応又はエステル交換反応させることにより得ることができる。また、１個以上のメタクリロイルオキシ基を有する第一のモノマーも同様にして得ることができる。
【００３０】
なお、第一のモノマーが有するラジカル重合性官能基の数は、２個以上であってもよいが、光硬化型感光層の内部応力を抑えて、平滑な表面性を得やすいこと及び良好な電気特性を持続させることから、１個であることが好ましい。このとき、第一のモノマーがラジカル重合性官能基を２個以上有する場合、複数のラジカル重合性官能基は、同一であってもよいし異なっていてもよい。このような第一のモノマーを用いることにより、耐溶剤性を向上させると共に、長期間安定した電気特性を実現することができる。
【００３１】
本発明において、第一のモノマーは、一般式（１）
【００３２】
【化１】
2008009056.tif 000003
及び（２）
【００３３】
【化２】
2008009056.tif 000004
［式中、Ｒ１は、水素原子、ハロゲン基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のアリール基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基、一般式
−ＣＯＯＲ７
（Ｒ７は、水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアラルキル基又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。）
で表される官能基、一般式
−ＣＯＹ
（Ｙは、ハロゲン基を表す。）
で表される官能基又は一般式
−ＣＯＮＲ８Ｒ９
（Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアラルキル基又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。）で表される官能基を表し、Ａｒ１及びＡｒ２は、それぞれ独立に、置換又は無置換のアリーレン基を表す。Ａｒ３及びＡｒ４は、それぞれ独立に、置換又は無置換のアリール基を表す。Ｘは、単結合、置換若しくは無置換のアルキレン基、置換若しくは無置換のシクロアルキレン基、置換若しくは無置換のオキシアルキレン基、オキシ基、チオ基又はビニレン基を表す。Ｚは、置換若しくは無置換のアルキレン基、置換若しくは無置換のオキシアルキレン基又はオキシアルキレン基及びカルボニル基を組み合わせた官能基を表す。ｍ及びｎは、それぞれ独立に、０〜３の整数を表す。）
で表される化合物の少なくとも一方であることが好ましい。これにより、感度、残留電位等の電気特性を良好に持続することができる。
【００３４】
以下に、一般式（１）又は（２）で表される化合物における置換基の具体例を示す。
【００３５】
Ｒ１の中で、アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等、アリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が、アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基、アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等がそれぞれ挙げられ、これらは、ハロゲン基、ニトロ基、シアノ基、メチル基、エチル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基等により置換されていてもよい。中でも、水素原子又はメチル基が好ましい。
【００３６】
Ａｒ３及びＡｒ４のアリール基としては、縮合多環式炭化水素基、非縮合環式炭化水素基、複素環基等が挙げられる。
【００３７】
縮合多環式炭化水素基は、環を形成する炭素数が１８以下であることが好ましく、例えば、ペンタニル基、インデニル基、ナフチル基、アズレニル基、ヘプタレニル基、ビフェニレニル基、ａｓ（ａｓｙｍ）−インダセニル基、ｓ（ｓｙｍ）−インダセニル基、フルオレニル基、アセナフチレニル基、プレイアデニル基、アセナフテニル基、フェナレニル基、フェナントリル基、アントリル基、フルオランテニル基、アセフェナントリレニル基、アセアントリレニル基、トリフェニレル基、ピレニル基、クリセニル基、ナフタセニル基等が挙げられる。
【００３８】
非縮合環式炭化水素基としては、ベンゼン、ジフェニルエーテル、ポリエチレンジフェニルエーテル、ジフェニルチオエーテル、ジフェニルスルホン等の単環式炭化水素化合物の１価基、ビフェニル、ポリフェニル、ジフェニルアルカン、ジフェニルアルケン、ジフェニルアルキン、トリフェニルメタン、ジスチリルベンゼン、１，１−ジフェニルシクロアルカン、ポリフェニルアルカン、ポリフェニルアルケン等の非縮合多環式炭化水素化合物の１価基又は９，９−ジフェニルフルオレン等の環集合炭化水素化合物の１価基が挙げられる。
【００３９】
複素環基としては、カルバゾール、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、オキサジアゾール、チアジアゾール等の１価基が挙げられる。
【００４０】
また、Ａｒ３及びＡｒ４の置換若しくは無置換のアリール基は、以下に示すような置換基を有してもよい。
（１）ハロゲン基、シアノ基、ニトロ基
（２）アルキル基
Ｃ１〜Ｃ１２、好ましくは、Ｃ１〜Ｃ８、さらに好ましくは、Ｃ１〜Ｃ４の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、さらに、フルオロ基、水酸基、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、フェニル基又はハロゲン基、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基若しくはＣ１〜Ｃ４のアルコキシ基で置換されたフェニル基を有してもよい。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−プロピル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキエチル基、２−エトキシエチル基、２−シアノエチル基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチルベンジル基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。
（３）アルコキシ基（−ＯＲ２）
Ｒ２は、（２）で定義したアルキル基を表す。
【００４１】
具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、イソブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、ベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
（４）アリールオキシ基
アリール基としては、フェニル基、ナフチル基が挙げられ、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基又はハロゲン基を有していてもよい。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−メチルフェノキシ基等が挙げられる。
（５）アルキルメルカプト基又はアリールメルカプト基
具体的には、メチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。
（６）アミノ基（−ＮＲ３Ｒ４）
Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、（２）で定義したアルキル基又はアリール基を表す。アリール基としては、例えば、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基等が挙げられ、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基又はハロゲン基を有してもよい。また、Ｒ１及びＲ２は、共同で環を形成してもよい。
【００４２】
具体的には、アミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ジトリルアミノ基、ジベンジルアミノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基、ピロリジノ基等が挙げられる。
（７）アルキレンジオキシ基又はアルキレンジチオ基
具体的には、メチレンジオキシ基又はメチレンジチオ基等が挙げられる。
（８）置換又は無置換のスチリル基、置換又は無置換のβ−フェニルスチリル基、ジフェニルアミノフェニル基、ジトリルアミノフェニル基
Ａｒ１及びＡｒ２のアリーレン基としては、Ａｒ３及びＡｒ４のアリール基から誘導される２価基が挙げられる。
【００４３】
Ｘのアルキレン基は、Ｃ１〜Ｃ１２、好ましくは、Ｃ１〜Ｃ８、さらに好ましくは、Ｃ１〜Ｃ４の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基であり、さらに、フルオロ基、水酸基、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ４のアルコキシ基、フェニル基又はハロゲン基、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基若しくはＣ１〜Ｃ４のアルコキシ基で置換されたフェニル基を有してもよい。具体的には、メチレン基、エチレン基、ｎ−ブチレン基、イソプロピレン基、ｔ−ブチレン基、ｓ−ブチレン基、ｎ−プロピレン基、トリフルオロメチレン基、２−ヒドロキエチレン基、２−エトキシエチレン基、２−シアノエチレン基、２−メトキシエチレン基、ベンジリデン基、フェニルエチレン基、４−クロロフェニルエチレン基、４−メチルフェニルエチレン基、４−ビフェニルエチレン基等が挙げられる。
【００４４】
Ｘのシクロアルキレン基は、Ｃ５〜Ｃ７の環状アルキレン基であり、フルオロ基、水酸基、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基又はＣ１〜Ｃ４のアルコキシ基を有してもよい。具体的には、シクロヘキシリデン基、シクロへキシレン基、３，３−ジメチルシクロヘキシリデン基等が挙げられる。
【００４５】
Ｘのオキシアルキレン基としては、エチレンオキシ基、プロピレンオキシ基等のオキシアルキレン基、エチレングリコール、プロピレングリコール等から誘導されるアルキレンジオキシ基、ジエチレングリコール、テトラエチレングリコール、トリプロピレングリコール等から誘導されるビス（オキシアルキレン）オキシ基又はポリ（オキシアルキレン）オキシ基等が挙げられる。オキシアルキレン基中のアルキレン基は、ヒドロキシル基、メチル基、エチル基等で置換されていてもよい。
【００４６】
Ｘのビニレン基としては、一般式
【００４７】
【化３】
2008009056.tif 000005
（式中、Ｒ５は、水素原子、アルキル基（（２）で定義されるアルキル基と同じ）又はアリール基（Ａｒ３及びＡｒ４のアリール基と同じ）を表し、ａは、１又は２を表し、ｂは、１〜３の整数を表す。）
で表される官能基が挙げられる。
【００４８】
Ｚのアルキレン基及びオキシアルキレン基としては、Ｘと同様のものが挙げられる。また、Ｚのオキシアルキレン基及びカルボニル基を組み合わせた官能基としては、カプロラクトン変性基が挙げられる。
【００４９】
本発明において、第一のモノマーは、一般式（３）
【００５０】
【化４】
2008009056.tif 000006
（式中、ｏ、ｐ及びｑは、それぞれ独立に、０又は１を表し、Ｒａは、水素原子又はメチル基を表し、Ｒｂ及びＲｃは、それぞれ独立に、炭素数１〜６のアルキル基を表し、ｓ及びｔは、それぞれ独立に、０〜３の整数を表す。なお、ｓ又はｔが２又は３である場合は、複数のＲｂ又はＲｃは、異なってもよい。Ｚａは、単結合、メチレン基、エチレン基又は構造式
【００５１】
【化５】
2008009056.tif 000007
で表される官能基を表す。）
で表される化合物であることがさらに好ましい。
【００５２】
一般式（３）で表される化合物の中でも、Ｒｂ及びＲｃが、それぞれ独立に、メチル基又はエチル基である化合物が特に好ましい。
【００５３】
また、本発明において、第一のモノマーとしては、一般式（４）
Ｂ１−Ａｒ５−ＣＨ＝ＣＨ−Ａｒ６−Ｂ２
で表される化合物も用いることができる。
【００５４】
Ａｒ５は、置換又は無置換の芳香族炭化水素の１価基又は２価基を表す。芳香族炭化水素としては、ベンゼン、ナフタレン、フェナントレン、ビフェニル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン等が挙げられる。置換基としては、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、ベンジル基、ハロゲン基が挙げられる。また、アルキル基及びアルコキシ基は、ハロゲン基、フェニル基で置換されていてもよい。
【００５５】
Ａｒ６は、少なくとも１個の３級アミノ基を有する芳香族炭化水素又は複素環式化合物の１価基又は２価基を表す。ここで、３級アミノ基を有する芳香族炭化水素は、一般式（Ａ）
【００５６】
【化６】
2008009056.tif 000008
（式中、Ｒ１３及びＲ１４は、それぞれ独立に、アシル基、置換若しくは無置換のアルキル基又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。ｗは、１〜３の整数を表し、Ａｒ７は、芳香族炭化水素の１〜３価基を表す。）
で表される。
【００５７】
Ｒ１３及びＲ１４のアシル基としては、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等が挙げられる。Ｒ１３及びＲ１４の置換若しくは無置換のアルキル基としては、Ａｒ５の置換基で述べたアルキル基と同様である。Ｒ１３及びＲ１４の置換若しくは無置換のアリール基は、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、ターフェニル基、ピレニル基、フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニル基、クリセニル基又は一般式（Ｂ）
【００５８】
【化７】
2008009056.tif 000009
［式中、Ｂは、オキシ基、チオ基、スルフィニル基、スルホニル基、カルボニル基又は一般式
【００５９】
【化８】
2008009056.tif 000010
（Ｒ２２は、水素原子、Ａｒ５で定義された置換若しくは無置換のアルキル基又はＲ１３で定義された置換若しくは無置換のアリール基を表し、ｉは、１〜１２の整数を表し、ｊは、１〜３の整数を表す。）
で表される官能基を表し、Ｒ２１は、水素原子、Ａｒ５で定義された置換若しくは無置換のアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン基、Ｒ１３で定義された置換若しくは無置換のアリール基、アミノ基、ニトロ基又はシアノ基を表す。］
で表される官能基が挙げられる。
【００６０】
Ｒ２１のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。Ｒ２１のハロゲン基としては、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基が挙げられる。Ｒ２１のアミノ基としては、ジフェニルアミノ基、ジトリルアミノ基、ジベンジルアミノ基、４−メチルベンジル基等が挙げられる。
【００６１】
Ａｒ７のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、ターフェニル基、ピレニル基、フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニル基、クリセニル基が挙げられる。
【００６２】
なお、Ａｒ７、Ｒ１３及びＲ１４は、Ａｒ５で定義されたアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン基で置換されていてもよい。
【００６３】
また、３級アミノ基を有する複素環式化合物としては、ピロール、ピラゾール、イミダゾール、トリアゾール、ジオキサゾール、インドール、イソインドール、ベンズイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾイソキサジン、カルバゾール、フェノキサジン等のアミン構造を有する複素環化合物が挙げられる。これらは、Ａｒ５で定義されたアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン基で置換基されていてもよい。
【００６４】
Ｂ１及びＢ２は、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基又はアクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基若しくはビニル基を有するアルキル基若しくはアルコキシ基を表す。アルキル基及びアルコキシ基は、Ａｒ５で述べたものが同様に適用される。なお、Ｂ１及びＢ２は、一方だけが存在し、両方が存在することは無い。
【００６５】
本発明において、一般式（４）で表される化合物は、一般式（５）
【００６６】
【化９】
2008009056.tif 000011
（式中、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルコキシ基又はハロゲン基を表し、Ａｒ７及びＡｒ８は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のアリール基若しくはアリーレン基又は置換若しくは無置換のベンジル基を表す。Ｂ１〜Ｂ４は、一般式（４）におけるＢ１及びＢ２と同様であり、Ｂ１〜Ｂ４は、一つだけが存在し、二つ以上が存在することは無い。ｕは、０〜５の整数を表し、ｖは、０〜４の整数を表す。）
で表される化合物であることがさらに好ましい。
【００６７】
Ｒ８及びＲ９のアルキル基、アルコキシ基及びハロゲン基は、Ａｒ５と同様である。Ａｒ７及びＡｒ８のアリール基は、Ｒ１３及びＲ１４で定義されたアリール基と同様であり、アリーレン基は、これらのアリール基から誘導される二価基である。
【００６８】
一般式（４）又は（５）で表される化合物は、スチルベン型共役構造を有する三級アミン化合物である。このような共役構造を有する電荷輸送性物質を用いることにより、光硬化型感光層の界面部分での電荷注入性が良好となり、さらに、架橋結合間に固定化された場合でも分子間相互作用が阻害されにくく、電荷移動度に関しても良好な特性を有する。また、ラジカル重合性の高いアクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を有するため、硬化反応時に速やかに反応すると共に過度な歪みの発生を抑制することができる。また、スチルベン構造の二重結合が部分的に重合するが、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基よりも重合性が低いため、硬化反応に時間差が生じることにより、歪みを抑制することができる。さらに、分子中の二重結合を使用するために、架橋密度を向上させることができ、耐溶剤性のさらなる向上が可能となる。また、硬化条件により重合度を調節することができ、最適な光硬化型感光層を形成することができる。なお、このようなラジカル重合は、前述したようなα−フェニルスチルベン型の構造では起こらない。
【００６９】
以上のことから、一般式（４）、特に、一般式（５）で表される化合物を用いることにより、良好な電気特性を維持すると共に、クラック等の発生を抑制する架橋密度の高い光硬化型感光層を形成することができる。これにより、感光体の諸特性を満足すると共に、シリカ粒子等が感光体に刺さることを抑制することができ、白斑点等の画像欠陥の発生を抑制することができる。
【００７０】
一般式（１）〜（５）、特に、一般式（３）又は（５）で表される化合物は、第二のモノマーと共重合することにより得られる硬化樹脂中では、主鎖又は主鎖−主鎖間の架橋鎖中に存在する。なお、架橋鎖には、１つの高分子と他の高分子の間を架橋する分子間架橋鎖と、１つの高分子内で折り畳まれた状態の主鎖のある部位と他の部位の間を架橋する分子内架橋鎖がある。このとき、上記化合物が主鎖中に存在する場合であっても、架橋鎖中に存在する場合であっても、鎖部分から懸下するトリアリールアミン構造は、窒素原子から放射状方向に配置する少なくとも３つのアリール基を有するため、嵩高いが、鎖部分に直接結合しておらず、鎖部分からカルボニル基等を介して懸下しているため、立体的位置取りに融通性のある状態で固定されている。このように、トリアリールアミン構造は、硬化樹脂中で相互に程よく隣接する空間配置とすることが可能であるため、分子内の構造的歪みが少ない。このため、光硬化型感光層中で、電荷輸送経路の断絶を比較的免れた分子内構造とすることができると推測される。
【００７１】
以下に、電荷輸送性構造として、トリアリールアミン構造を有する第一のモノマーの具体例を示すが、これらの化合物に限定されるものではなく、２官能のラジカル重合性モノマーも使用することができる。
【００７２】
【化１０】
2008009056.tif 000012
【００７３】
【化１１】
2008009056.tif 000013
【００７４】
【化１２】
2008009056.tif 000014
【００７５】
【化１３】
2008009056.tif 000015
【００７６】
【化１４】
2008009056.tif 000016
【００７７】
【化１５】
2008009056.tif 000017
【００７８】
【化１６】
2008009056.tif 000018
【００７９】
【化１７】
2008009056.tif 000019
【００８０】
【化１８】
2008009056.tif 000020
【００８１】
【化１９】
2008009056.tif 000021
【００８２】
【化２０】
2008009056.tif 000022
【００８３】
【化２１】
2008009056.tif 000023
【００８４】
【化２２】
2008009056.tif 000024
【００８５】
【化２３】
2008009056.tif 000025
【００８６】
【化２４】
2008009056.tif 000026
【００８７】
【化２５】
2008009056.tif 000027
【００８８】
【化２６】
2008009056.tif 000028
【００８９】
【化２７】
2008009056.tif 000029
【００９０】
【化２８】
2008009056.tif 000030
【００９１】
【化２９】
2008009056.tif 000031
本発明において、第一のモノマーは、光硬化型感光層の電荷輸送性能を付与するために重要であり、第一のモノマーの含有量は、光硬化型感光層の塗工液の固形分に対して、通常、２０〜８０重量％であり、３０〜７０重量％が好ましい。第一のモノマーの含有量が２０重量％未満では、光硬化型感光層の電荷輸送性能が充分に保てず、繰り返しの使用により、感度の低下、残留電位の上昇等の電気特性が劣化することがある。また、第一のモノマーの含有量が８０重量％を超えると、第二のモノマーの含有量が低下して、架橋密度が低下し、耐溶剤性が不十分となることがある。使用されるプロセスによって要求される電気特性や耐溶剤性が異なるため、一概には言えないが、両特性のバランスを考慮すると、第一のモノマーの含有量は、３０〜７０重量％が好ましい。
【００９２】
本発明において、第一のモノマーは、例えば、特許第３１６４４２６号公報に記載されている方法を用いて、合成することができる。この一例を下記に示す。
（１）ヒドロキシル基置換トリアリールアミンの合成
構造式
【００９３】
【化３０】
2008009056.tif 000032
で表されるメトキシ基置換トリアリールアミン１１３．８５ｇ（０．３ｍｏｌ）及びヨウ化ナトリウム１３８ｇ（０．９２ｍｏｌ）にスルホラン２４０ｍｌを加え、窒素気流中で６０℃に加温した。この液中にトリメチルクロロシラン９９ｇ（０．９１ｍｏｌ）を１時間で滴下し、約６０℃の温度で４時間半撹拌し、反応を終了させた。この反応液にトルエン約１．５Ｌを加え、室温まで冷却し、水と炭酸ナトリウム水溶液で繰り返し洗浄した。その後、得られたトルエン溶液から溶媒を除去し、カラムクロマト処理（吸着媒体：シリカゲル、展開溶媒：体積比２０／１のトルエン／酢酸エチル混合溶媒）により、精製した。得られた淡黄色オイルにシクロヘキサンを加え、結晶を析出させた。このようにして、構造式
【００９４】
【化３１】
2008009056.tif 000033
で表されるヒドロキシル基置換トリアリールアミンの白色結晶８８．１ｇ（収率８０．４％）を得た。なお、生成物の融点は、６４．０〜６６．０℃であり、元素分析値［％］は、表１に示す。
【００９５】
【表１】
2008009056.tif 000034
（２）例示化合物Ｎｏ．１の合成
ヒドロキシ基置換トリアリールアミン８２．９ｇ（０．２２７ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン４００ｍｌに溶解させ、窒素気流中で水酸化ナトリウム１２．４ｇを水１００ｍｌに溶解させた水溶液を滴下した。得られた溶液を５℃に冷却し、アクリル酸塩化物２５．２ｇ（０．２７２ｍｏｌ）を４０分間で滴下した。その後、５℃で３時間撹拌し、反応を終了させた。この反応液を水中に注ぎ、トルエンで抽出した。この抽出液を炭酸水素ナトリウム水溶液と水で繰り返し洗浄した。その後、得られたトルエン溶液から溶媒を除去し、カラムクロマト処理（吸着媒体：シリカゲル、展開溶媒：トルエン）により、精製した。得られた無色のオイルにｎ−ヘキサンを加え、結晶を析出させた。このようにして例示化合物Ｎｏ．１の白色結晶８０．７３ｇ（収率８４．８％）を得た。なお、生成物の融点は、１１７．５〜１１９．０℃であり、元素分析値［％］は、表２に示す。
【００９６】
【表２】
2008009056.tif 000035
（３）例示化合物Ｎｏ．３４の合成
かき混ぜ装置、温度計及び滴下漏斗を設けた反応容器に、４−ヒドロキシベンジルアルコール（東京化成品社製）３８．４ｇ及びｏ−キシレン８０ｍｌを入れ、窒素気流下、亜リン酸トリエチル（東京化成品社製）６２．８ｇを８０℃で滴下し、さらに１時間反応を行った。次に、減圧蒸留により、生成したエタノール、溶媒のｏ−キシレン及び未反応の亜リン酸トリエチルを除去し、４−ヒドロキシベンジルホスホン酸ジエチル６６ｇ（収率９０％）を得た。なお、生成物の沸点は、１２０．０℃／１．５ｍｍＨｇであった。
【００９７】
かき混ぜ装置、温度計及び滴下漏斗を設けた反応容器に、カリウムｔ−ブトキシド１４．８ｇ、テトラヒドロフラン５０ｍｌを入れ、窒素気流下、４−ヒドロキシベンジルホスホン酸ジエチル９．９０ｇ及び４−ビス（４−メチルフェニル）アミノベンズアルデヒド５．４４ｇをテトラヒドロフランに溶解させた溶液を室温でゆっくり滴下し、２時間反応させた。次に、水冷下、水を加えた後、２Ｎ塩酸を加えて酸性化した。さらに、テトラヒドロフランをエバポレーターにより除き、粗生成物をトルエンで抽出した。トルエン相を、順に、水、炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水を用いて洗浄した後、硫酸マグネシウムを加えて脱水した。ろ過後、トルエンを除いてオイル状の粗収物を得た。さらに、シリカゲルによりカラム精製を行った後、ヘキサン中で晶析させ、４−ヒドロキシ−４’−ビス（４−メチルフェニル）アミノスチルベン５．０９ｇ（収率７２％）を得た。なお、生成物の融点は、１３６．０〜１３８．０℃であった。
【００９８】
かき混ぜ装置、温度計及び滴下漏斗を設けた反応容器に、４−ヒドロキシ−４’−ビス（４−メチルフェニル）アミノスチルベン１４．９ｇ、テトラヒドロフラン１００ｍｌ及び１２重量％水酸化ナトリウム水溶液２１．５ｇを入れ、窒素気流下、５℃でアクリル酸塩化物５．１７ｇを３０分で滴下し、３時間反応させた。反応液を水中に注ぎ、トルエンで抽出した後、濃縮してシリカゲルによるカラム精製を行った。得られた粗収物をエタノールで再結晶し、例示化合物Ｎｏ．３４（４−アクリロイルオキシ−４’−ビス（４−メチルフェニル）アミノスチルベン）の黄色針状晶１３．５ｇ（収率７９．８％）を得た。なお、生成物の融点は、１０４．１〜１０５．２℃であり、元素分析値［％］は、表３に示す。
【００９９】
【表３】
2008009056.tif 000036
次に、第二のモノマーについて説明する。
【０１００】
本発明において、第二のモノマーのラジカル重合性官能基としては、第一のモノマーと同様のものが挙げられ、中でも、アクリロイルオキシ基及びメタクリロイルオキシ基が好ましい。このような第二のモノマーを用いることにより、耐溶剤性を向上させることができる。なお、第二のモノマーが有する３個以上のラジカル重合性官能基は、同一であってもよいし、異なっていてもよい。
【０１０１】
３個以上のアクリロイルオキシ基を有する第二のモノマーは、例えば、水酸基を３個以上有する化合物と、アクリル酸（塩）、アクリル酸ハロゲン化物又はアクリル酸エステルを用い、エステル化反応又はエステル交換反応させることにより得ることができる。また、３個以上のメタクリロイルオキシ基を有する第二のモノマーも同様にして得ることができる。
【０１０２】
第二のモノマーの具体例としては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）、トリメチロールプロパントリメタクリレート、アルキレン変性（以下、ＨＰＡ変性という）トリメチロールプロパントリアクリレート、エチレンオキシ変性（以下、ＥＯ変性という）トリメチロールプロパントリアクリレート、プロピレンオキシ変性（以下、ＰＯ変性という）トリメチロールプロパントリアクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ＨＰＡ変性トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）、グリセロールトリアクリレート、エピクロロヒドリン変性（以下、ＥＣＨ変性という）グリセロールトリアクリレート、ＥＯ変性グリセロールトリアクリレート、ＰＯ変性グリセロールトリアクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジメチロールプロパンテトラアクリレート（ＤＴＭＰＴＡ）、ペンタエリスリトールエトキシテトラアクリレート、ＥＯ変性リン酸トリアクリレート、２，２，５，５−テトラヒドロキシメチルシクロペンタノンテトラアクリレート等が挙げられ、これらは、単独又は２種類以上混合して用いることができる。
【０１０３】
また、ラジカル重合性官能基の数に対する分子量の比が１２０以下である第二のモノマーは、架橋密度を高くすることができるため、光硬化型感光層の塗工液の固形分に対して、１７重量％以上添加されるが、７０重量％以下であることが好ましい。これにより、光硬化型感光層が第一のモノマーを多く含有することができ、感光体は、高い耐溶剤性、良好な電気特性、画像特性を維持することができる。
【０１０４】
上記以外の第二のモノマーは、光硬化型感光層中に緻密な架橋結合を形成するために、ラジカル重合性官能基の数に対する分子量の比は、２５０以下であることが好ましい。この比が２５０より大きい場合、架橋密度が低下したり、硬化反応の速度が低下したりして、光硬化型感光層の耐溶剤性が不十分となることがある。このため、第二のモノマーとして、ＨＰＡ、ＥＯ、ＰＯ等の長い変性基を有するモノマーを単独で用いることは好ましくない。
【０１０５】
また、第二のモノマーの含有量は、光硬化型感光層の塗工液の固形分に対して、通常、２０〜８０重量％であり、３０〜７０重量％が好ましい。第二のモノマーの含有量が２０重量％未満では、光硬化型感光層の架橋密度が小さくなり、耐溶剤性が不十分となることがある。また、第二のモノマーの含有量が８０重量％を超えると、第一のモノマーの含有量が低下し、電気特性が劣化することがある。なお、使用されるプロセスによって要求される耐溶剤性や電気特性が異なるため、一概には言えないが、両特性のバランスを考慮すると、第二のモノマーの含有量は、３０〜７０重量％が好ましい。
【０１０６】
本発明において、光硬化型感光層の塗工液は、塗工時の粘度調整、光硬化型感光層の応力緩和、表面エネルギーの低下、摩擦係数の低減等の機能を付与する目的で、１官能又は２官能のラジカル重合性モノマー、機能性モノマー、ラジカル重合性オリゴマーを含有することができる。これらとしては公知のものが利用できる。
【０１０７】
１官能のラジカル重合性モノマーとしては、例えば、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、テトラヒドロフルフリルアクリレート、２−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、アクリル酸３−メトキシブチル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸イソアミル、アクリル酸イソブチル、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、フェノキシテトラエチレングリコールアクリレート、アクリル酸セチル、アクリル酸イソステアリル、アクリル酸ステアリル、スチレン等が挙げられる。
【０１０８】
２官能のラジカル重合性モノマーとしては、例えば、１，３−ブタンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ビスフェノールＡ−ＥＯ変性ジアクリレート、ビスフェノールＦ−ＥＯ変性ジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート等が挙げられる。
【０１０９】
機能性モノマーとしては、例えば、アクリル酸オクタフルオロペンチル、アクリル酸２−パーフルオロオクチルエチル、メタクリル酸２−パーフルオロオクチルエチル、アクリル酸２−パーフルオロイソノニルエチル等のフルオロ基で置換したもの、特公平５−６０５０３号公報及び特公平６−４５７７０号公報に記載されているシロキサン繰り返し単位数が２０〜７０のアクリロイルポリジメチルシロキサンエチル、メタクリロイルポリジメチルシロキサンエチル、アクリロイルポリジメチルシロキサンプロピル、アクリロイルポリジメチルシロキサンブチル、ジアクリロイルポリジメチルシロキサンジエチル等のポリシロキサン基を有するビニルモノマー、アクリレート及びメタクリレートが挙げられる。
【０１１０】
ラジカル重合性オリゴマーとしては、例えば、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリエステルアクリレート系オリゴマーが挙げられる。
【０１１１】
ただし、１官能又は２官能のラジカル重合性モノマー、機能性モノマー、ラジカル重合性オリゴマーを多量に添加すると、光硬化型感光層の架橋密度が実質的に低下し、耐溶剤性が低下することがある。このため、これらのモノマーやオリゴマーの含有量は、第二のモノマー１００重量部に対して、通常、５０重量部以下であり、３０重量部以下が好ましい。
【０１１２】
また、本発明において、光硬化型感光層を形成する際に、硬化反応を効率よく進行させるために、必要に応じて、光重合開始剤を用いてもよい。
【０１１３】
光重合開始剤としては、ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−メチル−２−モルホリノ（４−メチルチオフェニル）プロパン−１−オン、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム等のアセトフェノン系又はケタール系光重合開始剤、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾインエーテル系光重合開始剤、ベンゾフェノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、２−ベンゾイルナフタレン、４−ベンゾイルビフェニル、４−ベンゾイルフェニルエーテル、アクリル化ベンゾフェノン、１，４−ベンゾイルベンゼン等のベンゾフェノン系光重合開始剤、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン等のチオキサントン系光重合開始剤等が挙げられる。その他の光重合開始剤としては、エチルアントラキノン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルエトキシホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，４−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、メチルフェニルグリオキシエステル、９，１０−フェナントレン、アクリジン系化合物、トリアジン系化合物、イミダゾール系化合物が挙げられる。
【０１１４】
また、光重合促進効果を有する化合物を単独又は光重合開始剤と併用して用いることもできる。このような化合物としては、例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸２−ジメチルアミノエチル、４，４’−ジメチルアミノベンゾフェノン等が挙げられる。
【０１１５】
これらの光重合開始剤は、１種又は２種以上を混合して用いてもよい。光重合開始剤の添加量は、ラジカル重合性を有する化合物の総重量に対して、通常、０．５〜４０重量％であり、１〜２０重量％が好ましい。
【０１１６】
さらに、光硬化型感光層は、必要に応じて、各種可塑剤（応力緩和や接着性向上の目的）、レベリング剤等の添加剤を含有することができる。添加剤は、公知のものが使用可能である。
【０１１７】
可塑剤としては、フタル酸ジブチル、フタル酸ジオクチル等の一般の樹脂に使用されているものが挙げられる。光硬化型感光層中の可塑剤の含有量は、通常、２０重量％以下であり、１０重量％以下が好ましい。
【０１１８】
また、レベリング剤としては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のシリコーンオイル類、側鎖にパーフルオロアルキル基を有するポリマー又はオリゴマーが挙げられる。光硬化型感光層中のレベリング剤の含有量は、通常、３重量％以下である。
【０１１９】
光硬化型感光層の塗工液の溶剤として、蒸発速度の遅い溶剤を用いると、溶剤が残留して硬化を妨げたり、下引き層の成分の混入が増加したりすることがある。その結果、不均一に硬化したり、架橋密度が低下したりして、耐溶剤性が低下する。このため、溶剤としては、テトラヒドロフラン、テトラヒドロフラン及びメタノールの混合溶剤、酢酸エチル、メチルエチルケトン、エチルセロソルブ等を用いることが好ましいが、塗工方法に応じて適宜選択することができる。
【０１２０】
また、光硬化型感光層の塗工液の固形分濃度は、１０〜５０重量％であることが好ましい。固形分濃度が１０重量％未満では、耐溶剤性が低下することがある。また、膜厚及び粘度の制限から、固形分濃度は、５０重量％以下であることが好ましい。
【０１２１】
光硬化型感光層の塗工方法としては、浸漬塗工法、スプレーコート法、ビードコート法、リングコート法が挙げられるが、塗工時における塗膜中の残留溶剤量を適度に調整できるスプレーコート法が好ましい。
【０１２２】
本発明において、光硬化型感光層は、導電性支持体上に、光硬化型感光層の塗工液を塗布した後に、光硬化することにより形成されるが、光源としては、主に紫外領域に発光波長を有する高圧水銀灯、メタルハライドランプ等のＵＶ照射光源を用いることができる。また、ラジカル重合性官能基を有する化合物や光重合開始剤の吸収波長に応じて、可視光光源を用いることもできる。照射光量は、通常、５０ｍＷ／ｃｍ２以上であり、５００ｍＷ／ｃｍ２以上が好ましく、１０００ｍＷ／ｃｍ２以上がさらに好ましい。これにより、硬化反応速度が大きくなり、均一性の高い光硬化型感光層を形成することが可能となる。さらに、照射時間を５秒〜５分として、温度上昇を５０℃以下に制御することにより、不均一な硬化反応を抑制することができる。
【０１２３】
図１に、本発明の感光体の一例を示す。図１に示す感光体は、導電性支持体１１上に、光硬化型感光層１２と、熱可塑性樹脂及び電荷輸送物質を含有する表面層１３が順次積層されている。
【０１２４】
導電性支持体としては、体積抵抗率が１０１０Ω・ｃｍ以下であるものを用いることができ、例えば、アルミニウム、ニッケル、クロム、ニクロム、銅、金、銀、白金等の金属、酸化スズ、酸化インジウム等の金属酸化物を蒸着又はスパッタリングにより、フィルム状又は円筒状のプラスチック、紙に被覆したもの、アルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ステンレス等の板及びそれらを押し出し、引き抜き等の工法で素管化した後、切削、超仕上げ、研磨等の表面処理を施した管等が挙げられる。また、特開昭５２−３６０１６号公報に開示されたエンドレスニッケルベルト、エンドレスステンレスベルトも導電性支持体として用いることができる。
【０１２５】
この他に、フィルム状又は円筒状のプラスチック、紙に、導電性粉体が結着樹脂に分散されている導電性層を形成したものについても、導電性支持体として用いることができる。
【０１２６】
導電性粉体としては、カーボンブラック、アセチレンブラック；アルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛、銀等の金属粉；導電性酸化スズ、ＩＴＯ等の金属酸化物粉体等が挙げられる。
【０１２７】
また、導電性粉体を分散させる結着樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂又は光硬化性樹脂が挙げられる。
【０１２８】
このような導電性層は、導電性粉体と結着樹脂を、例えば、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、メチルエチルケトン、トルエン等の溶剤に分散して塗布することにより、形成することができる。
【０１２９】
さらに、導電性粉体を含有する熱収縮チューブを用いて、円筒基体上に導電性層を形成したものも、導電性支持体として用いることができる。熱収縮チューブの素材としては、ポリ塩化ビニル、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、塩化ゴム、テフロン（登録商標）等が挙げられる。
【０１３０】
光硬化型感光層は、電荷発生機能を有する電荷発生物質を含有するが、必要に応じて、バインダー樹脂と併用することができる。電荷発生物質としては、無機系材料及び有機系材料を用いることができる。
【０１３１】
無機系材料としては、結晶セレン、アモルファスセレン、セレン−テルル、セレン−テルル−ハロゲン、セレン−ヒ素化合物、アモルファスシリコン等が挙げられる。アモルファスシリコンにおいては、ダングリングボンドを水素原子、ハロゲン原子でターミネートしたものや、ホウ素原子、リン原子等をドープしたものが良好に用いられる。
【０１３２】
一方、有機系材料としては、公知の材料を用いることができる。例えば、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニン等のフタロシアニン系顔料、アズレニウム塩顔料、スクエアリック酸メチン顔料、カルバゾール骨格を有するアゾ顔料、トリフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジベンゾチオフェン骨格を有するアゾ顔料、フルオレノン骨格を有するアゾ顔料、オキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料、ビススチルベン骨格を有するアゾ顔料、ジスチリルオキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料、ジスチリルカルバゾール骨格を有するアゾ顔料、ペリレン系顔料、アントラキノン系又は多環キノン系顔料、キノンイミン系顔料、ジフェニルメタン及びトリフェニルメタン系顔料、ベンゾキノン及びナフトキノン系顔料、シアニン及びアゾメチン系顔料、インジゴイド系顔料、ビスベンズイミダゾール系顔料等が挙げられる。これらの電荷発生物質は、単独又は２種以上混合して用いることができる。
【０１３３】
バインダー樹脂としては、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカーボネート、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）、ポリアクリルアミド等が挙げられる。これらのバインダー樹脂は、単独又は２種以上の混合物として用いることができる。
【０１３４】
また、バインダー樹脂として、電荷輸送機能を有する高分子電荷輸送物質、例えば、アリールアミン骨格、ベンジジン骨格、ヒドラゾン骨格、カルバゾール骨格、スチルベン骨格、ピラゾリン骨格等を有するポリカーボネート、ポリエステル、ポリウレタン、ポリエーテル、ポリシロキサン、アクリル樹脂等の高分子材料；ポリシラン骨格を有する高分子材料等を用いることができる。
【０１３５】
前者の具体例としては、特開平０１−００１７２８号公報、特開平０１−００９９６４号公報、特開平０１−０１３０６１号公報、特開平０１−０１９０４９号公報、特開平０１−２４１５５９号公報、特開平０４−０１１６２７号公報、特開平０４−１７５３３７号公報、特開平０４−１８３７１９号公報、特開平０４−２２５０１４号公報、特開平０４−２３０７６７号公報、特開平０４−３２０４２０号公報、特開平０５−２３２７２７号公報、特開平０５−３１０９０４号公報、特開平０６−２３４８３６号公報、特開平０６−２３４８３７号公報、特開平０６−２３４８３８号公報、特開平０６−２３４８３９号公報、特開平０６−２３４８４０号公報、特開平０６−２３４８４１号公報、特開平０６−２３９０４９号公報、特開平０６−２３６０５０号公報、特開平０６−２３６０５１号公報、特開平０６−２９５０７７号公報、特開平０７−０５６３７４号公報、特開平０８−１７６２９３号公報、特開平０８−２０８８２０号公報、特開平０８−２１１６４０号公報、特開平０８−２５３５６８号公報、特開平０８−２６９１８３号公報、特開平０９−０６２０１９号公報、特開平０９−０４３８８３号公報、特開平０９−７１６４２号公報、特開平０９−８７３７６号公報、特開平０９−１０４７４６号公報、特開平０９−１１０９７４号公報、特開平０９−１１０９７６号公報、特開平０９−１５７３７８号公報、特開平０９−２２１５４４号公報、特開平０９−２２７６６９号公報、特開平０９−２３５３６７号公報、特開平０９−２４１３６９号公報、特開平０９−２６８２２６号公報、特開平０９−２７２７３５号公報、特開平０９−３０２０８４号公報、特開平０９−３０２０８５号公報、特開平０９−３２８５３９号公報等に記載されている高分子電荷輸送物質が挙げられる。
【０１３６】
また、後者の具体例としては、特開昭６３−２８５５５２号公報、特開平０５−１９４９７号公報、特開平０５−７０５９５号公報、特開平１０−７３９４４号公報等に記載されているポリシリレンが挙げられる。
【０１３７】
また、光硬化型感光層は、電荷輸送機能を有する電荷輸送物質を含有することができる。電荷輸送物質としては、正孔輸送物質と電子輸送物質を用いることができる。
【０１３８】
電子輸送物質としては、クロルアニル、ブロムアニル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、２，４，７−トリニトロ−９−フルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロキサントン、２，４，８−トリニトロチオキサントン、２，６，８−トリニトロ−４Ｈ−インデノ〔１，２−ｂ〕チオフェン−４−オン、１，３，７−トリニトロジベンゾチオフェン−５，５−ジオキサイド、ジフェノキノン誘導体等が挙げられる。これらの電子輸送物質は、単独又は２種以上の混合物として用いることができる。
【０１３９】
正孔輸送物質としては、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、モノアリールアミン誘導体、ジアリールアミン誘導体、トリアリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、α−フェニルスチルベン誘導体、ベンジジン誘導体、ジアリールメタン誘導体、トリアリールメタン誘導体、９−スチリルアントラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、ジビニルベンゼン誘導体、ヒドラゾン誘導体、インデン誘導体、ブタジエン誘導体、ピレン誘導体等、ビススチルベン誘導体、エナミン誘導体等が挙げられる。これらの正孔輸送物質は、単独又は２種以上の混合物として用いることができる。
【０１４０】
光硬化型感光層中の電荷発生物質の含有量は、１〜３０重量％であることが好ましく、バインダー樹脂（電荷輸送性構造を有さないラジカル重合性化合物を含む）の含有量は、２０〜８０重量％であることが好ましく、電荷輸送物質（電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物を含む）の含有量は、１０〜７０重量％であることが好ましい。
【０１４１】
また、光硬化型感光層の膜厚は、通常、１〜２０μｍであり、２〜１０μｍが好ましい。膜厚が１μｍより薄いと、膜厚ムラによって耐溶剤性のバラツキが生じることがある。
【０１４２】
表面層は、熱可塑性樹脂と電荷輸送物質を含有するが、電荷輸送物質としては、光硬化型感光層と同様の電子輸送物質及び正孔輸送物質を用いることができる。
【０１４３】
熱可塑性樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂等が挙げられる。また、熱可塑性樹脂として、光硬化型感光層と同様の高分子電荷輸送物質を用いることができる。
【０１４４】
表面層中の電荷輸送物質の含有量は、熱可塑性樹脂１００重量部に対して、通常、２０〜３００重量部であり、４０〜１５０重量部が好ましい。
【０１４５】
表面層は、少なくとも電荷輸送物質及び熱可塑性樹脂を溶剤に溶解又は分散した塗工液を光硬化型感光層上に塗布、乾燥することにより形成することができる。溶剤としては、光硬化型感光層と同様のものを用いることができるが、電荷輸送物質及び熱可塑性樹脂を良好に溶解するものが好ましい。これらの溶剤は、単独で使用してもよいし、二種以上混合して使用してもよい。また、表面層の塗工方法としては、光硬化型感光層と同様の方法を用いることができる。
【０１４６】
表面層は、必要に応じて、可塑剤、レベリング剤を添加することもできる。
【０１４７】
可塑剤としては、光硬化型感光層と同様のものを用いることができ、表面層中の可塑剤の含有量は、熱可塑性樹脂に対して、通常、０〜３０重量％である。
【０１４８】
レベリング剤としては、光硬化型感光層と同様のものを用いることができ、表面層中のレベリング剤の含有量は、熱可塑性樹脂に対して、通常、０〜１重量％である。
【０１４９】
表面層の膜厚は、通常、１〜１０μｍであり、１〜５μｍが好ましい。
【０１５０】
本発明においては、導電性支持体と光硬化型感光層の間に、下引き層を設けることができる。下引き層は、一般には、樹脂を主成分とする。このような樹脂は、その上に、溶剤を用いて光硬化型感光層を形成する場合を考慮すると、一般の有機溶剤に対する耐溶剤性の高い樹脂であることが好ましい。具体的には、ポリビニルアルコール、カゼイン、ポリアクリル酸ナトリウム等の水溶性樹脂、共重合ナイロン、メトキシメチル化ナイロン等のアルコール可溶性樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド−メラミン樹脂、エポキシ樹脂等、三次元網目構造を形成する硬化型樹脂等が挙げられる。
【０１５１】
また、下引き層は、モアレ防止、残留電位の低減等のために、酸化チタン、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化インジウム等の金属酸化物の粉末顔料を含有してもよい。
【０１５２】
下引き層は、光硬化型感光層と同様の溶剤及び塗工方法を用いて形成することができる。
【０１５３】
さらに、下引き層としては、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、クロムカップリング剤等を用いることもできる。この他に、下引き層としては、陽極酸化により形成されたＡｌ２Ｏ３、真空薄膜作製法により形成された、ポリパラキシリレン（パリレン）等の有機物、ＳｉＯ２、ＳｎＯ２、ＴｉＯ２、ＩＴＯ、ＣｅＯ２等の無機物も用いることができる。
【０１５４】
下引き層の膜厚は、通常、０〜５μｍである。
【０１５５】
また、本発明においては、耐環境性の改善のため、とりわけ、感度の低下、残留電位の上昇を抑制するために、下引き層、光硬化型感光層、表面層等の各層に酸化防止剤を添加することができる。
【０１５６】
本発明に用いることができる酸化防止剤として、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸ステアリル、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、テトラキス［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、ビス［３，３’−ビス（４’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチルフェニル）ブチリックアシッド］グリコールエステル、トコフェロール類等のフェノール系化合物；Ｎ−フェニル−Ｎ’−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｓ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ−ｓ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジイソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン等のパラフェニレンジアミン類；２，５−ジ−ｔ−オクチルハイドロキノン、２，６−ジドデシルハイドロキノン、２−ドデシルハイドロキノン、２−ドデシル−５−クロロハイドロキノン、２−ｔ−オクチル−５−メチルハイドロキノン、２−（２−オクタデセニル）−５−メチルハイドロキノン等のハイドロキノン類；３，３’−チオジプロピオン酸ジラウリル、３，３’−チオジプロピオン酸ジステアリル、３，３’−チオジプロピオン酸ジテトラデシル等の有機硫黄化合物類；トリフェニルホスフィン、トリス（ノニルフェニル）ホスフィン、トリス（ジノニルフェニル）ホスフィン、トリクレジルホスフィン、トリス（２，４−ジブチルフェノキシ）ホスフィン等の有機リン化合物類が挙げられる。これらの酸化防止剤は、ゴム、プラスチック、油脂類等の酸化防止剤として知られており、市販品を用いることができる。
【０１５７】
本発明において、酸化防止剤の添加量は、添加する層の総重量に対して、通常、０．０１〜１０重量％である。
【０１５８】
本発明の感光体の再生方法においては、使用済みの本発明の感光体に残存した表面層を除去した後、熱可塑性樹脂及び電荷輸送物質を含有する塗工液を用いて表面層を再形成する。ここで、使用済みとは、ある程度以上の使用により、感光体の表面に、摩耗、傷、汚れの付着等が発生し、感光体が所望の特性を維持し得なくなった状態をいう。なお、表面層を除去する方法としては、溶剤を用いて剥離する方法又は研摩する方法を用いることが好ましい。
【０１５９】
溶剤を用いて剥離する方法としては、表面層内に溶剤を含浸させて、熱可塑性樹脂や電荷輸送性物質を溶解又は膨潤させる方法、感光体を回転させた状態で、溶剤を染み込ませたブラシを表面層に押し当てて、熱可塑性樹脂や電荷輸送性物質を溶解又は膨潤させる方法が挙げられる。後者の方法は、感光体に負荷がかかるが、使用する溶剤量を少なくすることができる。溶剤としては、表面層の塗工液の溶剤をはじめ、種々の溶剤を用いることができる。
【０１６０】
研摩する方法としては、例えば、市販されている平均粒径が３０μｍ以下の砥石を付着させたラッピングフィルムを、一定の荷重で表面層に押し当てて、感光体を回転させながら研摩する方法が挙げられる。
【０１６１】
本発明においては、表面層が除去された使用済みの感光体上に、表面層を再形成するが、再形成する際に用いる表面層の塗工液は、再生前の表面層を形成する際に用いたものと同様のものを用いることができる。
【０１６２】
次に、本発明の画像形成方法及び画像形成装置を説明する。
【０１６３】
本発明の画像形成方法及び画像形成装置においては、本発明の感光体を用い、例えば、少なくとも感光体に帯電、画像露光及び現像する工程を経た後、現像されたトナー像を被転写体（転写紙）に転写する工程を有するが、転写されたトナー像を定着する工程及び感光体の表面をクリーニングする工程をさらに有してもよい。なお、静電潜像を直接被転写体に転写し、現像する画像形成方法等では、感光体に配した上記プロセスを必ずしも有するものではない。
【０１６４】
図２に、本発明の画像形成装置の一例を示す。感光体２１を平均的に帯電させる帯電手段として、帯電チャージャ２３が用いられる。この他の帯電手段としては、コロトロンデバイス、スコロトロンデバイス、固体放電素子、針電極デバイス、ローラ帯電デバイス、導電性ブラシデバイス等の公知の方式を使用することができる。このとき、不要な電荷は、イレーサ２４により、消去される。
【０１６５】
特に、本発明の構成は、接触帯電方式又は非接触近接配置帯電方式のような帯電手段からの近接放電により、感光体の組成物が分解するような帯電手段を用いた場合に有効である。接触帯電方式とは、感光体に、帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電ブレード等が直接接触する帯電方式である。一方の近接帯電方式とは、例えば、帯電ローラが感光体の表面との間に２００μｍ以下の空隙を有するように非接触状態で近接配置したタイプのものである。この空隙は、通常、１０〜２００μｍであり、１０〜１００μｍが好ましい。空隙が２００μｍより大きい場合には、帯電が不安定になりやすく、また、１０μｍより小さい場合には、感光体に残留したトナーが存在する場合に、帯電部材の表面が汚染されることがある。
【０１６６】
次に、均一に帯電された感光体２１上に静電潜像を形成するために、画像露光部２５が用いられる。この光源には、蛍光灯、タングステンランプ、ハロゲンランプ、水銀灯、ナトリウム灯、発光ダイオード（ＬＥＤ）、半導体レーザー（ＬＤ）、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）等の発光物全般を用いることができる。そして、所望の波長域の光のみを照射するために、シャープカットフィルター、バンドパスフィルター、近赤外カットフィルター、ダイクロイックフィルター、干渉フィルター、色温度変換フィルター等の各種フィルターを用いることもできる。
【０１６７】
次に、感光体２１上に形成された静電潜像を可視化するために、現像ユニット２６が用いられる。現像方式としては、乾式トナーを用いた一成分現像法、二成分現像法、湿式トナーを用いた湿式現像法がある。感光体２１に正（負）帯電を施し、画像露光を行うと、感光体２１の表面には、正（負）の静電潜像が形成される。これを負（正）極性のトナー（検電微粒子）で現像すれば、ポジ画像が得られ、また、正（負）極性のトナーで現像すれば、ネガ画像が得られる。
【０１６８】
次に、感光体２１上で可視化されたトナー像を、レジストローラ２８により、感光体２１上への画像形成とタイミングを合わせて送られた被転写体２９上に転写するために、転写チャージャ３０が用いられる。また、転写をより良好に行うために、転写前チャージャ２７を用いてもよい。これらの転写手段としては、転写チャージャ、バイアスローラーを用いる静電転写方式、粘着転写法、圧力転写法等の機械転写方式、磁気転写方式が利用可能である。静電転写方式としては、帯電手段と同様のものを用いることができる。
【０１６９】
次に、被転写体２９を感光体２１から分離する手段として、分離チャージャ３１、分離爪３２が用いられる。その他の分離手段としては、静電吸着誘導分離、側端ベルト分離、先端グリップ搬送、曲率分離等を用いることができる。分離チャージャ３１としては、帯電手段と同様のものを利用することができる。
【０１７０】
次に、転写後、感光体２１上に残されたトナーをクリーニングするために、ファーブラシ３４、クリーニングブレード３５が用いられる。また、クリーニングをより効率的に行うために、クリーニング前チャージャ３３を用いてもよい。その他のクリーニング手段としては、ウェブ方式、マグネットブラシ方式等があるが、クリーニング手段は、単独又は複数の方式を同時に用いることができる。
【０１７１】
次に、感光体２１上の静電潜像を取り除くために、必要に応じて、除電手段が用いられる。除電手段としては、除電ランプ２２及び除電チャージャが用いられ、それぞれ露光光源及び帯電手段と同様のものを利用することができる。
【０１７２】
その他、感光体に近接していない原稿読み取り、給紙、定着、排紙等のプロセスは、公知のものを使用することができる。
【０１７３】
本発明の画像形成装置としては、複写装置、ファクシミリ、プリンターが挙げられるが、プロセスカートリッジが画像形成装置本体に組み込まれ、着脱自在としたものであってもよい。
【０１７４】
図３に、本発明のプロセスカートリッジの一例を示す。プロセスカートリッジとは、感光体３１を内蔵し、他に、帯電手段３２、現像手段３４、転写手段３６、クリーニング手段３７、除電手段（図示せず）の少なくとも一つを具備し、画像形成装置本体に着脱可能とした装置（部品）である。なお、感光体３１は、本発明の感光体である。
【０１７５】
次に、図３のプロセスカートリッジによる画像形成プロセスについて説明する。感光体３１は、矢印方向に回転しながら、帯電手段３２により帯電され、露光手段３３により露光されて、その表面に露光像に対応する静電潜像が形成される。静電潜像は、現像手段３４でトナー像に現像され、トナー像は、転写手段３６により、被転写体３５に転写され、プリントアウトされる。次に、転写後の感光体３１の表面は、クリーニング手段３７により、クリーニングされ、さらに除電手段（図示せず）により除電されて、再び以上の操作を繰り返すものである。
【０１７６】
以上の説明から明らかなように、本発明の感光体は、電子写真複写機の他に、レーザービームプリンター、ＣＲＴプリンター、ＬＥＤプリンター、液晶プリンター及びレーザー製版等の電子写真応用分野にも広く用いることができる。
【実施例】
【０１７７】
次に、実施例によって本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。なお、実施例において、部は、重量部を意味する。
（実施例１〜６、比較例１〜３）
外径３０ｍｍのアルミニウムシリンダー上に、浸漬塗工法によって、下引き層塗工液Ａを塗布、乾燥し、膜厚が３．５μｍの下引き層を形成した。
（下引き層塗工液Ａ）
アルキッド樹脂ベッコゾール１３０７−６０−ＥＬ（大日本インキ化学工業社製）６部
メラミン樹脂スーパーベッカミンＧ−８２１−６０（大日本インキ化学工業社製）４部
酸化チタンＣＲ−ＥＬ（石原産業社製）４０部
メチルエチルケトン５０部
下引き層上に、塗工液Ａと、塗工液１〜９を重量比１：１で混合した光硬化型感光層塗工液（表４参照）をスプレー塗工し、図４に示すＵＶランプシステムＭｏｄｅｌ  Ｆ６００Ｓ（光源部：モデルＩ６００Ｍ、電源部：モデルＰ６００Ｍ）（Ｆｕｓｉｏｎ社製）を用いて、ランプ電力を１６０Ｗ／ｃｍとし、ランプ種をＶバルブとし、ランプの数及び配置を直列２本連結とし、波長が３６５ｎｍ、照度が３００ｍＷ／ｃｍ２以上の光が、下引き層上に光硬化型感光層塗工液を塗工した感光体前駆体５１の表面に当たる時間を３０秒間とし、感光体前駆体５１の表面温度が７０℃を超えないように水冷する条件で、感光体前駆体５１を回転させながら光照射を行った。さらに、１３０℃で３０分間乾燥し、膜厚が２．０μｍの光硬化型感光層を形成した。
【０１７８】
【表４】
2008009056.tif 000037
（塗工液Ａ）
１０．７部の構造式
【０１７９】
【化３２】
2008009056.tif 000038
で表されるビスアゾ顔料Ａ
シクロヘキサノン１００部
メチルエチルケトン８０部
（塗工液１）
例示化合物Ｎｏ．１（分子量４１９、１官能）１０部
トリメチロールプロパントリアクリレートＫＡＹＡＲＡＤ  ＴＭＰＴＡ（日本化薬社製）（分子量２９６、３官能）１５部
光重合開始剤イルガキュア１８４（日本化薬社製）（分子量２０４）１部
テトラヒドロフラン１００部
（塗工液２）
例示化合物Ｎｏ．１（分子量４１９、１官能）１０部
ペンタエリスリトールテトラアクリレートＳＲ−２９５（日本化薬社製）（分子量３５２、４官能）１５部
光重合開始剤イルガキュア１８４（日本化薬社製）（分子量２０４）１部
テトラヒドロフラン１００部
（塗工液３）
例示化合物Ｎｏ．１５（分子量５５９、１官能）１８．７５部
トリメチロールプロパントリアクリレートＫＡＹＡＲＡＤ  ＴＭＰＴＡ（日本化薬社製）（分子量２９６、３官能）６．２５部
光重合開始剤イルガキュア１８４（日本化薬社製）（分子量２０４）１部
テトラヒドロフラン１００部
（塗工液４）
例示化合物Ｎｏ．１５（分子量５５９、１官能）１８．７５部
ペンタエリスリトールテトラアクリレートＳＲ−２９５（日本化薬社製）（分子量３５２、４官能）６．２５部
光重合開始剤イルガキュア１８４（日本化薬社製）（分子量２０４）１部
テトラヒドロフラン１００部
（塗工液５）
例示化合物Ｎｏ．１（分子量４１９、１官能）１２．５部
トリメチロールプロパントリアクリレートＫＡＹＡＲＡＤ  ＴＭＰＴＡ（日本化薬社製）（分子量２９６、３官能）６．２５部
カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＣＡ−１２０（日本化薬社製）（平均分子量１９４８、６官能）６．２５部
光重合開始剤イルガキュア１８４（日本化薬社製）（分子量２０４）１部
テトラヒドロフラン１００部
（塗工液６）
例示化合物Ｎｏ．１（分子量４１９、１官能）１２．５部
トリメチロールプロパントリアクリレートＫＡＹＡＲＡＤ  ＴＭＰＴＡ（日本化薬社製）（分子量２９６、３官能）６．２５部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ（日本化薬社製）（平均分子量５３６、５．５官能）６．２５部
光重合開始剤イルガキュア１８４（日本化薬社製）（分子量２０４）１部
テトラヒドロフラン１００部
（塗工液７）
例示化合物Ｎｏ．１５（分子量５５９、１官能）１８．７５部
ジトリメチロールプロパンテトラアクリレートＳＲ−３５５（日本化薬社製）（分子量４６７、４官能）６．２５部
光重合開始剤イルガキュア１８４（日本化薬社製）（分子量２０４）１部
テトラヒドロフラン１００部
（塗工液８）
例示化合物Ｎｏ．１（分子量４１９、１官能）５部
ペンタエリスリトールテトラアクリレートＳＲ−２９５（日本化薬社製）（分子量３５２、４官能）２０部
光重合開始剤イルガキュア１８４（日本化薬社製）（分子量２０４）１部
テトラヒドロフラン１００部
光硬化型感光層上に、浸漬塗工法によって表面層塗工液Ａを塗布した後に、１０分間指触乾燥し、１３０℃で３０分間乾燥し、膜厚が２０μｍの表面層を形成し、感光体を作製した。
（塗工液９）
例示化合物Ｎｏ．１（分子量４１９、１官能）２部
ペンタエリスリトールテトラアクリレートＳＲ−２９５（日本化薬社製）（分子量３５２、４官能）２部
カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＣＡ−１２０（日本化薬社製）（平均分子量１９４８、６官能）８．５部
光重合開始剤イルガキュア１８４（日本化薬社製）（分子量２０４）１部
テトラヒドロフラン１００部
（表面層塗工液Ａ）
ビスフェノールＺ型ポリカーボネートのパンライトＴＳ−２０５０（帝人化成社製）１０部
７部の構造式
【０１８０】
【化３３】
2008009056.tif 000039
で表される電荷輸送物質Ａ
テトラヒドロフラン１００部
シリコーンオイルの１重量％テトラヒドロフラン溶液ＫＦ５０−１００ＣＳ（信越化学工業社製）１部
（比較例４）
外径３０ｍｍのアルミニウムシリンダー上に、浸漬塗工法によって、下引き層塗工液Ａ、電荷発生層塗工液及び電荷輸送層塗工液を順次塗布、乾燥し、膜厚が３．５μｍの下引き層、膜厚が０．２μｍの電荷発生層、膜厚が５μｍの電荷輸送層を形成した。
（電荷発生層塗工液）
２．５部のビスアゾ顔料Ａ
ポリビニルブチラールＸＹＨＬ（ＵＣＣ社製）０．５部
シクロヘキサノン２００部
メチルエチルケトン８０部
（電荷輸送層塗工液）
ビスフェノールＺ型ポリカーボネートのパンライトＴＳ−２０５０（帝人化成社製）１０部
１５部の電荷輸送物質Ａ
テトラヒドロフラン１００部
シリコーンオイルの１重量％テトラヒドロフラン溶液ＫＦ５０−１００ＣＳ（信越化学工業社製）１部
次に、電荷輸送層上に、浸漬塗工法によって、熱硬化型電荷輸送層塗工液を塗布した後に、１０分間指触乾燥し、１５０℃で６０分加熱して、膜厚が１μｍの熱硬化型電荷輸送層を形成した。
（熱硬化型電荷輸送層塗工液）
構造式
【０１８１】
【化３４】
2008009056.tif 000040
で表される電荷輸送物質８．３部
構造式
【０１８２】
【化３５】
2008009056.tif 000041
で表される化合物１６．７部
固形分６７重量％のビュレット変性体溶液１６．６部
シクロヘキサノン１００部
なお、熱硬化型電荷輸送層塗工液の固形分重量に対するウレタン結合の数の比は、２．３４ｍｍｏｌ／ｇである。ここで、ウレタン結合の数は、ＯＨ基及びＮＣＯ基の数が同一である場合は、その数とし、同一でない場合は、ＯＨ基及びＮＣＯ基の少ない方の数としている。
【０１８３】
その後、熱硬化型電荷輸送層上に、浸漬塗工法によって表面層塗工液Ａを塗布した後に、１０分間指触乾燥し、１３０℃で３０分間乾燥して、膜厚が２０μｍの表面層を形成した。
（評価方法及び評価結果）
実施例及び比較例の感光体をプロセスカートリッジに装着し、帯電方式として、ＡＣ非接触ローラ方式、画像露光光源として、波長が６５５ｎｍの半導体レーザーを用いたＩＰＳｉＯ  Ｃｏｌｏｒ  ７１００（リコー社製）の暗部電位を−７００Ｖに設定した後、連続してトータル５０００枚の実機通紙試験を行った。５０００枚のプリントテストを行った使用済みの感光体を取り出し、テトラヒドロフランを入れた容器に感光体を入れ、モーターを用いて２００ｒｐｍで回転させながら、残存した表面層を溶解剥離した。次に、上記と同様にして、表面層を再形成した。表５に、初期及び以上の再生操作を１０回繰り返した時の感光体の機内電位特性を示す。
【０１８４】
【表５】
2008009056.tif 000042
表５より、比較例２及び３は、初期の明部電位が高いが、これは、電荷輸送物質の含有量が少ないために、感度が低下したものと考えられる。また、比較例１及び４は、１０回再成後の明部電位が初期に比べ非常に高くなっているが、これは、架橋密度が低いために、表面層を再形成する際に、溶剤によって、下層の成分が染み出したものと考えられる。
【０１８５】
次に、光硬化型感光層（比較例４は、熱硬化型電荷輸送層）の耐溶剤性を評価するため、以下に示すように、表面層を剥離した感光体の溶出試験を行った。
【０１８６】
感光体を１Ｌのテトラヒドロフランが入った容器に入れ、モーターを用いて２００ｒｐｍで１時間回転させた後のテトラヒドロフランに染み出す電荷発生物質（比較例４は、電荷輸送物質）を、光吸収スペクトルにより定量した（溶出試験１）。
【０１８７】
図５に示すように、モーターを用いて感光体６１を２００ｒｐｍで回転させ、テトラヒドロフランを染み込ませたブラシ６２を、感光体６１の回転方向とは逆方向に１０ｒｐｍで回転させながら感光体６１に１時間当てた後のテトラヒドロフランに染み出す電荷発生物質（比較例４は、電荷輸送物質）を光吸収スペクトルにより定量した（溶出試験２）。なお、光吸収スペクトルを測定する前に、テトラヒドロフランの量を１Ｌに調整した。
【０１８８】
溶出試験１及び２において、電荷発生物質（又は電荷輸送物質）の定量は、テトラヒドロフランに量の異なる電荷輸送物質（又は電荷輸送物質）を溶解させた溶液と光吸収スペクトルの関係を求めた検量線から算出した。なお、光吸収スペクトルは、分光光度計ＵＶ３１００（島津製作所社製）を用いて測定した。
【０１８９】
溶出試験の結果を表６に示す。
【０１９０】
【表６】
2008009056.tif 000043
表６より、比較例１及び４の染み出し量は、他と比較して極端に多いことがわかる。また、実施例１〜６では、架橋密度が高い程、溶出量が少ない。
【０１９１】
次に、溶出試験２の後の感光体の表面粗さＲｚ（ＪＩＳ  Ｂ０６０１：１９８２規格：中心線表面粗さ）を測定した結果を表７に示す。
【０１９２】
【表７】
2008009056.tif 000044
表７より、比較例１及び４の表面粗さは、他と比較して極端に大きいことがわかる。
【図面の簡単な説明】
【０１９３】
【図１】本発明の感光体の一例を示す断面図である。
【図２】本発明の画像形成装置の一例を示す図である。
【図３】本発明のプロセスカートリッジの一例を示す図である。
【図４】実施例のＵＶランプシステムの構成を示す図である。
【図５】溶出試験２を説明する図である。
【符号の説明】
【０１９４】
１１    導電性支持体
１２    光硬化型感光層
１３    表面層
２１    感光体
２２    除電ランプ
２３    帯電チャージャ
２４    イレーサ
２５    画像露光部
２６    現像ユニット
２７    転写前チャージャ
２８    レジストローラ
２９    被転写体
３０    転写チャージャ
３１    分離チャージャ
３２    分離爪
３３    クリーニング前チャージャ
３４    ファーブラシ
３５    クリーニングブレード
４１    感光体
４２    帯電手段
４３    露光手段
４４    現像手段
４５    被転写体
４６    転写手段
４７    クリーニング手段
５１    感光体前駆体
５２    ＵＶランプ
５３    光透過性部材
５４    ワーク室
５５    ランプ室
６１    感光体
６２    ブラシ
【図１】
2008009056.tif 000045
【図２】
2008009056.tif 000046
【図３】
2008009056.tif 000047
【図４】
2008009056.tif 000048
【図５】
2008009056.tif 000049