【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年6月9日(2009.6.9)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リソグラフィ装置で、
パターニングデバイスを保持するように構築された支持体とを有し、前記パターニングデバイスは、放射線ビームの断面にパターンを与えて、パターン形成した放射線ビームを形成するように構成され、さらに、
基板を保持するように構築された基板テーブルと、
前記パターン形成した放射線ビームを前記基板の目標部分に投影するように構成された投影システムと、
前記投影システムと前記基板の間の空間を液体で少なくとも部分的に充填するように構成された液体供給システムとを有し、前記液体供給システムは、前記空間内に液体を少なくとも部分的に閉じ込めるように構成された液体閉じ込め構造を有し、さらに、
前記液体閉じ込め構造と前記基板の間のギャップを通る液体と気体の混合物を除去するように構成された出口と、
前記出口を通して前記混合物を引き出すように構成された排出システムとを有し、前記排出システムは、前記混合物の気体と液体とを重力によって分離するように配置構成されたセパレータタンクと、前記セパレータタンクの非液体充填領域に接続され、前記非液体充填領域内に安定した圧力を維持するように構成されたセパレータタンク圧力制御装置とを有するものであるリソグラフィ装置。
【請求項２】
前記セパレータタンクより下に位置し、前記セパレータタンクの下部分にある開口および自身の上部分にある開口を通して前記セパレータタンクに接続されたパージタンクを有し、前記接続はパージ弁を介して制御可能である請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項３】
前記排出システムがさらに、
均圧弁によって制御可能であり、前記セパレータタンクと前記パージタンクの個々の上部分を接続して、前記セパレータタンク内の圧力を変化させずに、前記セパレータタンクから前記パージタンクへの分離された液体の流れを容易にするように構成された均圧接続部を有し、
前記パージタンクは、液体除去段階中に、前記パージ弁を閉鎖し、前記均圧弁を閉鎖して、前記パージタンクを液体シンクへと液体シンク弁を介して開放することによって、液体をそこから除去できるように構成される、請求項２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項４】
前記排出システムがさらに、前記パージタンクに接続可能であり、前記パージタンクから前記液体シンクへとより高い率で液体を強制的に送るように構成された高圧気体ソースを有する、請求項３に記載のリソグラフィ装置。
【請求項５】
前記排出システムがさらに、前記セパレータタンクから前記液体シンクへと液体を給送するように構成された液体ポンプを有し、前記液体ポンプが、前記高圧気体ソースによって動力付与された気体ジェットポンプを有する、請求項４に記載のリソグラフィ装置。
【請求項６】
前記パージ弁、前記液体シンク弁、または両方が、逆流を防止するように構成された逆止め弁を有する、請求項３乃至５に記載のリソグラフィ装置。
【請求項７】
前記排出システムがさらに、
前記セパレータタンクおよび前記パージタンクの個々の上部分を接続するように構成され、流れインピーダンスを提供するように配置構成された流れ限定デバイスを有する制限流接続部を有し、
前記パージタンクは、液体除去段階中に、前記パージ弁を閉鎖し、前記パージタンクを液体シンクへと液体シンク弁を介して開放することによって、液体をそこから除去できるように構成され、前記流れインピーダンスは、前記液体除去段階の後に、前記セパレータタンク内で閾値を超える圧力変動を引き起こさずに、前記セパレータタンクおよび前記パージタンクの圧力を均等化するように選択される、請求項２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項８】
前記流れインピーダンスは、液体が前記セパレータタンクから前記パージタンクへと最低移送速度より高い率で流れることが可能であるようにも選択される、請求項７に記載のリソグラフィ装置。
【請求項９】
前記排出システムがさらに、前記パージタンクに接続可能であり、前記パージタンクから前記液体シンクへとより高い率で液体を強制的に送るように構成された高圧気体ソースを有する、請求項７又は請求項8に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１０】
前記パージ弁、前記液体シンク弁、または両方が、逆流を防止するように構成された逆止め弁を有する、請求項７乃至請求項９に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１１】
排出システムがさらに、
前記セパレータタンクおよび前記パージタンクの個々の上部分を接続するように構成され、流れインピーダンスを提供するように配置構成された流れ限定デバイスを有する制限流接続部と、
均圧弁によって制御可能であり、前記セパレータタンクと前記パージタンクの個々の上部分を接続して、前記セパレータタンク内の圧力を変化させずに、前記セパレータタンクから前記パージタンクへの分離された液体の流れを容易にするように構成された均圧接続部を有し、
前記パージタンクは、液体除去段階中に、前記パージ弁を閉鎖し、前記パージタンクを液体シンクへと液体シンク弁を介して開放することによって、液体をそこから除去できるように構成され、前記流れインピーダンスは、前記液体除去段階の後に、前記セパレータタンク内で閾値を超える圧力変動を引き起こさずに、前記セパレータタンクおよび前記パージタンクの圧力を均等化するように選択される、請求項２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１２】
前記排出システムがさらに、前記パージタンクに接続可能であり、前記パージタンクから前記液体シンクへとより高い率で液体を強制的に送るように構成された高圧気体ソースを有する、請求項１１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１３】
前記パージ弁、前記液体シンク弁、または両方が、逆流を防止するように構成された逆止め弁を有する、請求項１１又は請求項１２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１４】
前記排出システムがさらに、液体を前記セパレータタンクから液体シンクへと給送するように構成された液体ポンプを有する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１５】
前記セパレータタンク圧力制御装置が、
２相両立ポンプに接続され、混合物を給送するように構成された主要給送線と、
共用真空機構に接続可能であり、気体のみを給送するように構成されたバックアップ線とを有し、
前記主要給送線および前記バックアップ線が前記セパレータタンクに接続され、前記２相両立ポンプが、前記共用真空機構より深い真空を提供するように構成可能である、請求項１乃至請求項１４に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１６】
前記主要給送線が、前記セパレータタンクの主に液体で充填された下部分に接続され、前記バックアップ線が、前記セパレータタンクの主に気体で充填された上部分に接続される、請求項１５に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１７】
前記主要給送線および前記バックアップ給送線がそれぞれ、逆止め弁を装備して、一方の給送線が他方の給送線から汲み出すことを防止する、請求項１５又は請求項１６に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１８】
前記バックアップ線が、液体が前記共用真空機構に到達するのを防止するように構成された疎水性フィルタを有する、請求項１５乃至請求項１７に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１９】
前記主要給送線、前記バックアップ線、または両方が、前記２相両立ポンプ、前記共用真空機構、または両方によって提供される給送力を、背圧調整器のセパレータタンク側にかかる圧力の関数として制御するように構成された背圧調整器を有する、請求項１５乃至請求項１８に記載のリソグラフィ装置。
【請求項２０】
前記２相両立ポンプが、前記主要給送線を介して前記セパレータタンクの非液体充填部分の真空レベルを維持し、さらに下部セパレータタンク給送線を介して前記セパレータタンクの主に液体で充填された下部分から液体を抽出するように構成され、前記共用真空機構が液体をくみ出すのを防止するように前記主要給送線と前記下部セパレータタンク給送線の間に逆止め弁が位置決めされる、請求項１５乃至請求項１９に記載のリソグラフィ装置。
【請求項２１】
リソグラフィ装置であって、
パターニングデバイスを保持するように構築された支持体を有し、前記パターニングデバイスは、放射線ビームの断面にパターンを与えて、パターン形成した放射線ビームを形成するように構成され、さらに、
基板を保持するように構築された基板テーブルと、
前記パターン形成した放射線ビームを前記基板の目標部分に投影するように構成された投影システムと、
前記投影システムと前記基板の間の空間を液体で少なくとも部分的に充填するように構成された液体供給システムとを有し、前記液体供給システムは、前記空間内の液体を少なくとも部分的に閉じ込めるように構成された液体閉じ込め構造を有し、さらに、
前記液体閉じ込め構造と前記基板の間のギャップを通る液体と気体の混合物を除去するように構成された出口と、
前記出口を通して前記混合物を引き出すように構成された排出システムとを有し、前記排出システムは、２相両立ポンプと、前記ギャップと前記２相両立ポンプとの間に配置構成された液体／気体ホモジナイザとを有し、前記液体／気体ホモジナイザは、液体と気体の均質な混合物を前記２相両立ポンプに提供するように配置構成されるリソグラフィ装置。
【請求項２２】
前記液体／気体ホモジナイザが保持タンクおよび多孔性ブロックを有し、前記多孔性ブロックが、前記混合物が前記保持タンクへと通過するにつれて、前記混合物を均質化するように構成される、請求項２１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項２３】
リソグラフィ装置であって、
パターニングデバイスを保持するように構築された支持体とを有し、前記パターニングデバイスは、放射線ビームの断面にパターンを与えて、パターン形成した放射線ビームを形成するように構成され、さらに、
基板を保持するように構築された基板テーブルと、
前記パターン形成した放射線ビームを前記基板の目標部分に投影するように構成された投影システムと、
前記投影システムと前記基板の間の空間を液体で少なくとも部分的に充填するように構成された液体供給システムとを有し、前記液体供給システムは、前記空間内の液体を少なくとも部分的に閉じ込めるように構成された液体閉じ込め構造を有し、さらに、
前記液体閉じ込め構造と前記基板の間のギャップを通る液体と気体の混合物を除去するように構成された出口と、
前記出口を通して前記混合物を引き出すように構成された排出システムとを有し、前記排出システムは、
前記混合物を保持する保持タンクと、
２相両立ポンプに接続され、前記保持タンクから前記混合物を給送するように構成された主要給送線と、
共用真空機構に接続可能であり、前記保持タンクから気体のみを給送するように構成され、前記２相両立ポンプをバックアップするように配置構成されたバックアップ線とを有し、前記２相両立ポンプは、前記共用真空機構より深い真空を提供するように構成可能であり、さらに、
前記主要給送線と前記バックアップ線に接続する２相両立圧力調整器を有するリソグラフィ装置。
【請求項２４】
前記バックアップ線が、液体が前記共用真空機構に到達するのを防止するように構成された疎水性フィルタを有する、請求項２３に記載のリソグラフィ装置。
【請求項２５】
デバイス製造方法であって、
リソグラフィ装置の投影システムと基板の間の空間に液体を提供することを含み、液体は、液体閉じ込め構造によって少なくとも部分的に空間に閉じ込められ、さらに、
前記液体閉じ込め構造と前記基板の間のギャップを通して、液体と気体の混合物を除去することと、
セパレータタンク内で混合物中の気体から液体を重力によって分離することと、
前記セパレータタンク内の安定した圧力を維持するように、前記セパレータタンクの非液体充填領域を汲み出すことと、
投影システムを使用して、パターン形成した放射線ビームを液体に通して前記基板へと投影することとを含むデバイス製造方法。
【請求項２６】
パージタンクを用いて、前記分離した液体を除去することを更に含み、
前記パージタンクは、前記セパレータタンクより下に位置し、前記セパレータタンクの下部分にある開口および前記パージタンクの上部分にある開口を通して前記セパレータタンクに接続され、前記接続はパージ弁を介して制御可能である請求項２５に記載のデバイス製造方法。
【請求項２７】
デバイス製造方法であって、
リソグラフィ装置の投影システムと基板の間の空間に液体を提供することを含み、液体は、液体閉じ込め構造によって少なくとも部分的に空間に閉じ込められ、さらに、
前記液体閉じ込め構造と前記基板の間のギャップを通過する液体と気体の混合物を、２相両立ポンプを使用して除去することと、
前記２相両立ポンプに到達する前に、前記混合物を均質化することと、
投影システムを使用して、パターン形成した放射線ビームを液体に通して前記基板に投影することとを含むデバイス製造方法。
【請求項２８】
デバイス製造方法であって、
リソグラフィ装置と基板の間の空間に液体を提供することを含み、液体は、液体閉じ込め構造によって少なくとも部分的に空間に閉じ込められ、さらに、
前記液体閉じ込め構造と前記基板の間のギャップを通過した液体と気体の混合物を保持タンクに保持することと、
主要給送線を通して、２相両立ポンプを使用して前記保持タンクから前記混合物を除去することを含み、
前記２相両立ポンプのバックアップとしての共用真空装置を用いて前記保持タンクの前記混合物から気体のみをバックアップ線を介して除去し、前記２相両立ポンプは共用真空装置より深い真空を提供し、
さらに、
２相両立圧力調整器を使用して、前記主要給送線および前記バックアップ線の圧力を調整することと、
投影システムを使用して、パターン形成した放射線ビームを液体に通して前記基板に投影することを含むデバイス製造方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】図面
【訂正対象項目名】図１１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【図１１】
2006121078.tif 000001