【誤訳訂正書】
【提出日】平成25年9月2日(2013.9.2)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電界を発生させる高インピーダンスシステムであって、
誘電体を含む一対の電極であって、それぞれの電極は電気伝導体でコーティングされた少なくとも一つの面を有し、前記誘電体は、処理中の対象流体から前記電気伝導体を分離するバリアを形成し、前記誘電体は、前記対象流体を通る伝導電流を実質的に阻止するための誘電率、最大許容電界ストレス及び体積抵抗率の組合せを有するとともに、前記対象流体に浮遊する生体細胞における可逆的な又は非可逆的なエレクトロポレーションを引き起こす十分な電界強度及び継続時間により、前記対象流体を通る前記電界を同時に方向づけ且つ生成する一対の電極と、
流体流路又は空間であって、該流体流路又は空間が前記一対の電極間に形成され、前記電気伝導体が電極表面にあり該電極表面が当該流体流路または空間の中の前記対象流体に接触しない、流体流路又は空間と、
前記電極間に印加される電圧源と、
前記一対の電極を含むハウジングであって、該ハウジングが前記流路または空間に、対象静的または動的流体を保持するハウジングと、
を備える電界を発生させる高インピーダンスシステム。
【請求項２】
前記誘電体は、８．８Ｅ−１１Ｆｍ−１より高い静的誘電率、１．０Ｅ＋０４Ωｃｍより高い体積抵抗率、１．０ｋＶｍｍ−１より高い最大許容電界ストレスを集合的に備えることを特徴とする請求項１記載の電界を発生させる高インピーダンスシステム。
【請求項３】
前記電極は、細長く、断面において正方形で、平行に配列されていることを特徴とする請求項１記載の電界を発生させる高インピーダンスシステム。
【請求項４】
前記流体流路又は空間が前記電極の間にあることを特徴とする請求項３記載の電界を発生させる高インピーダンスシステム。
【請求項５】
前記電極は、異なる口径からなる細長いチューブであることを特徴とする請求項１記載の電界を発生させる高インピーダンスシステム。
【請求項６】
前記電極は、電極の間に環状の流体流路または空間を形成するため、より大きな直径の電極の内側により小さな直径の電極が設置されるように電極が同軸形状に配置されていることを特徴とする請求項５記載の電界を発生させる高インピーダンスシステム。
【請求項７】
前記より大きな直径の電極の外表面と前記より小さな直径の電極の内表面は、電気伝導体でコーティングされていることを特徴とする請求項６記載の電界を発生させる高インピーダンスシステム。
【請求項８】
前記誘電体は、高誘電率セラミックまたは微粒子／エポキシ複合材であることを特徴とする請求項１記載の電界を発生させる高インピーダンスシステム。
【請求項９】
前記対象流体は、液体、ガスあるいは固体相であることを特徴とする請求項１記載の電界を発生させる高インピーダンスシステム。
【請求項１０】
前記電界を発生させる高インピーダンスシステムは、対象流体にパルス音響エネルギーを適用するための手段をさらに含む構成であることを特徴とする請求項１記載の電界を発生させる高インピーダンスシステム。
【請求項１１】
前記電界を発生させる高インピーダンスシステムは、対象流体に音響エネルギーを適用することができる電気音響あるいは機械音響専用（mechanoacoustic）トランスデューサをさらに含む構成であることを特徴とする請求項１記載の電界を発生させる高インピーダンスシステム。
【請求項１２】
前記電極は、対象流体に音響エネルギーを適用することができる圧電体（piezoelectric material）によって構成されていることを特徴とする請求項１記載の電界を発生させる高インピーダンスシステム。
【請求項１３】
電界を発生させる高インピーダンスシステムであって、
誘電体を含む一対の電極であって、それぞれの電極は電気伝導体でコーティングされた少なくとも一つの面を有し、前記誘電体は、被検中または処理中の対象流体から前記電気伝導体を分離するバリアを形成し、８．８Ｅ−１１Ｆｍ−１より高い誘電率、１．０Ｅ＋０４Ωｃｍより高い体積抵抗率、１．０ｋＶｍｍ−１より高い最大許容電界ストレスを備え、それによって、前記誘電体は、前記対象流体を通る伝導電流を実質的に阻止するとともに、前記対象流体に浮遊する生体細胞における可逆的な又は非可逆的なエレクトロポレーションを引き起こす十分な電界強度及び継続時間により、前記対象流体を通る前記電界を同時に方向づけ且つ生成する一対の電極と、
流体流路又は空間であって、該流体流路又は空間が前記一対の電極間に形成され、前記電気伝導体が電極表面にあり該電極表面が当該流体流路または空間の中の前記対象流体に接触しない、流体流路又は空間と、
前記電極間に印加される電圧源であって、前記誘電体が、平行または同軸形状に配列され前記被検中または処理中の対象流体とともに直列容量網を形成し該流体に存在する電界を集中又は強化する、電圧源と、
前記一対の電極を含むハウジングであって、該ハウジングが前記流路または空間に、対象静的または動的流体を保持するハウジングと、
を備える電界を発生させる高インピーダンスシステム。
【請求項１４】
前記誘電体は、流体／電極界面で実質的にファラデー電流および電気化学を防ぐため前記電気伝導体から流体を絶縁（insulate）することを特徴とする請求項１３記載の電界を発生させる高インピーダンスシステム。
【請求項１５】
前記誘電体は、更に、前記電気伝導体から前記流体を絶縁して当該システムを通る電子のおよびイオンの伝導電流と当該システムのオーム加熱とを実質的に防ぐことを特徴とする請求項１３記載の電界を発生させる高インピーダンスシステム。
【請求項１６】
パルス化された音響エネルギーを電界の処理またはテストされる前記対象流体に印加する装置を更に備え、該音響エネルギーは、前記電界の印加と同時に、又は、前記電界の印加と連続して、又は、前記電界の印加の後に印加されることを特徴とする請求項１３記載の電界を発生させる高インピーダンスシステム。
【請求項１７】
前記対象流体に音響エネルギーを印加するように動作可能な電気音響あるいは機械音響トランスデューサを備えることを特徴とする請求項１３記載の高インピーダンスシステム。
【請求項１８】
前記電極は、前記対象流体に音響エネルギーを印加するように動作可能な圧電体から製造されることを特徴とする請求項１３記載の高インピーダンスシステム。
【請求項１９】
処理またはテスト過程の対象流体を電界にさらす方法であって、
誘電体及び電気伝導体を含む一対の電極の間に流体流路または空間を形成するステップであって、前記誘電体は、前記処理またはテスト過程の対象流体から前記電気伝導体を分離する物理的バリアを形成するとともに、前記電気伝導体は,流体流路または空間で前記対象流体と接触していない状態であるステップと、
前記流路または空間内に静的または動的状態で前記対象流体を保持するように、前記電極をハウジングするステップと、
前記電極の前記電気伝導体に時可変またはパルス電圧源を印加するステップであって、それにより流体流路または空間内の流体を通る電界を作り出すステップと、
誘電体を利用するステップであって、前記誘電体は、前記対象流体を通る伝導電流を実質的に阻止するための誘電率、最大許容電界ストレス及び体積抵抗率の組合せを有するとともに、前記対象流体に浮遊する生体細胞における可逆的な又は非可逆的なエレクトロポレーションを引き起こす十分な電界強度及び継続時間により、前記対象流体を通る前記電界を同時に方向づけ且つ生成する、ステップと、
流体を流体流路または空間に入れるステップであって、前記対象流体は電界に晒らされ、それにより処理されテストされるステップと、
を含む、方法。
【請求項２０】
８．８Ｅ−１１Ｆｍ−１より高い誘電率、１．０Ｅ＋０４Ωｃｍより高い体積抵抗率および、１．０ｋＶｍｍ−１より高い最大許容電界ストレスを有する誘電体を利用して、電気的に前記対象流体を絶縁し、それによって、ファラデー電流、伝導電流、流体/電極界面における電気化学、及び前記テストまたは処理過程の対象物質を通してのオーム加熱を実質的に防ぐステップを更に含むことを特徴とする請求項１９記載の方法。
【請求項２１】
更に、二つの平行に延長された電極の間の前記流体流路または空間を形成する２つの誘電性の電極を利用するステップであって、前記電極は、正方形または長方形の断面を有しており、前記平行な電極の配置は、前記対象流体とともに直列容量網を形成し、それによって、前記対象流体を通る前記電界を増加させるか集中させるステップを含む、請求項１９記載の方法。
【請求項２２】
更に、同軸に設けられた２つの管状電極間に前記流体流路または空間を形成する２つの誘電性の電極を利用するステップであって、前記同軸の電極の配置は、前記対象流体とともに直列容量網を形成し、それによって、前記テストまたは処理過程の対象流体を通る前記電界を増加させるか集中させるステップを含む、請求項１９記載の方法。
【請求項２３】
液体、ガスあるいは固体状態の処理過程又はテスト過程の流体を利用するステップを更に含む、請求項１９記載の方法。
【請求項２４】
前記電界の印加と同時に、前記電界の印加と連続して、及び／又は、前記電界の印加の後に、処理またはテスト過程の対象流体に音響エネルギーを印加するステップを更に有する請求項１９記載の方法。
【請求項２５】
処理またはテスト過程の対象流体を電界にさらす方法であって、
誘電体及び電気伝導体を含む一対の電極の間に流体流路または空間を形成するステップであって、前記誘電体は、前記処理またはテスト過程の対象流体から前記電気伝導体を分離する物理的バリアを形成し、前記電気伝導体は, 流体流路または空間で前記対象流体と接触していない、ステップと、
前記流路またはスペース内に静的または動的状態で対象流体を保持するように、前記電極をハウジングするステップと、
前記電極に時可変あるいはパルスの電圧源を印加して前記流路または空間の前記流体を通る電界を作り出すステップであって、前記誘電体が、前記処理またはテスト過程の対象流体との直列容量網を形成する、ステップと、
誘電体を利用するステップであって、前記誘電体は、前記対象流体を通る伝導電流を実質的に阻止するための誘電率、最大許容電界ストレス及び体積抵抗率の組合せを有するとともに、前記対象流体に浮遊する生体細胞における可逆的な又は非可逆的なエレクトロポレーションを引き起こす十分な電界強度及び継続時間により、前記対象流体を通る前記電界を同時に方向づけ且つ生成する、ステップと、
流体を流体流路または空間に入れるステップであって、前記対象流体は電界に晒らされるステップと、
を含む、方法。
【請求項２６】
前記誘電体を利用して、前記電気伝導体から流体を絶縁し、従って、ファラデー電流、伝導電流、および流体/電極界面の電気化学を本質的に防ぐステップを有する請求項２５記載の方法。
【請求項２７】
更に、高誘電率セラミック、金属酸化物、微粒子/エポキシ樹脂合成物を利用するステップを有する請求項２５記載の方法。
【請求項２８】
音響エネルギーを印加するステップであって、前記音響エネルギーが、前記電界の印加と同時に、前記電界の印加と連続して、及び／又は、前記電界の印加の後に、印加される、ステップを有する請求項２５記載の方法。