【手続補正書】
【提出日】平成25年3月25日(2013.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
荷を運ぶための装置であって、
磁束源であって、
互いに反対の極性を有する第１の上方部分及び第１の下方部分であって、前記第１の上方部分及び前記第１の下方部分は、磁化可能構造の第１の側から水平に間隔を空けるように構成される、第１の上方部分及び第１の下方部分と、
互いに反対の極性を有する第２の上方部分及び第２の下方部分であって、前記第２の上方部分及び前記第２の下方部分は、前記磁化可能構造の第２の側から水平に間隔を空けるように構成され、前記第２の側は前記第１の側の反対であり、前記第１の上方部分及び前記第２の上方部分は、前記磁化可能構造の上方部分に磁気的に引き付けられるように構成され、前記第１の下方部分及び前記第２の下方部分は、前記磁化可能構造の下方部分に磁気的に引き付けられるように構成される、第２の上方部分及び第２の下方部分と、
を含む磁束源と、
前記磁束源の内表面に取り付けられた内側磁束ガイドと、
前記磁束源の外表面に取り付けられた外側磁束ガイドであって、前記内側磁束ガイドと前記外側磁束ガイドは磁化可能材料を含む、外側磁束ガイドと、
前記磁化可能構造に相対的な前記磁束源の位置を制御するように構成されたコントローラと、
を備える装置。
【請求項２】
請求項１に記載の装置であって、
前記磁束源は、１つ又は２つ以上の永久磁石、非磁化可能スペーサによって分けられる複数の磁束源、ボンド磁石、及び半径方向に一様に磁化される磁石のうちの、少なくとも１つを含む、装置。
【請求項３】
請求項１に記載の装置であって、
前記内側磁束ガイド及び前記外側磁束ガイドの各自は、前記磁束源によって生成される磁束を集中させるように構成される、装置。
【請求項４】
請求項１に記載の装置であって、
前記コントローラは、前記磁束源によって生成される磁束にバイアスをかけるために電流を運ぶように構成された制御コイルを含む、装置。
【請求項５】
請求項１に記載の装置であって、
前記コントローラは、更に、
前記磁束源の前記部分の少なくとも１つの水平位置を表すセンサデータを生成するように構成された１つ又は２つ以上のセンサと、
前記センサデータに基づいて電流を提供するように構成された回路と、
を含む、装置。
【請求項６】
請求項５に記載の装置であって、
前記センサの少なくとも１つは、前記磁束源と前記磁化可能構造との間のギャップ距離を決定するように構成される、装置。
【請求項７】
請求項５に記載の装置であって、
前記電流は、前記磁化可能構造の両側で磁束を等しくするように構成される、装置。
【請求項８】
請求項５に記載の装置であって、
前記電流は、前記磁束源によって生成される磁束を増加又は減少させるためにバイアス磁束を生成する、装置。
【請求項９】
請求項１に記載の装置であって、更に、
前記磁化可能構造に沿って推進力を提供するように構成されたエンジンを備える装置。
【請求項１０】
請求項１に記載の装置であって、更に、
追加の磁束源であって、
互いに反対の極性を有する追加の第１の上方部分及び追加の第１の下方部分であって、前記追加の第１の上方部分及び前記追加の第１の下方部分は、追加の磁化可能構造の第１の側で前記追加の磁化可能構造から水平に間隔を空けるように構成される、追加の第１の上方部分及び追加の第１の下方部分と、
互いに反対の極性を有する追加の第２の上方部分及び追加の第２の下方部分であって、前記追加の第２の上方部分及び前記追加の第２の下方部分は、前記追加の磁化可能構造の第２の側で前記追加の磁化可能構造から水平に間隔を空けるように構成され、前記第２の側は前記第１の側の反対であり、前記第１の上方部分及び前記第２の上方部分は、前記追加の磁化可能構造の上方部分に磁気的に引き付けられるように構成され、前記第１の下方部分及び前記第２の下方部分は、前記追加の磁化可能構造の下方部分に磁気的に引き付けられるように構成され、前記磁化可能構造と前記追加の磁化可能構造とが互いに水平に間隔を空けて配置されている、追加の第２の上方部分及び追加の第２の下方部分と、
を含む追加の磁束源を備える装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載の装置であって、更に、
前記磁化可能構造を中心にした荷の回転を前記磁束源によって抑制されるように前記磁束源に結合された前記荷を備える装置。
【請求項１２】
請求項１に記載の装置であって、
前記磁束源は、前記磁化可能構造の方に突き出して前記磁束源の垂直変位に対する抵抗を提供するように構成された複数の突出を含む、装置。
【請求項１３】
請求項１に記載の装置であって、更に、
前記磁化可能構造に沿って荷を導くように構成された１つ又は２つ以上のフランジ付き車輪を備える装置。
【請求項１４】
請求項１に記載の装置であって、
前記第１の上方部分は、前記第１の側で前記磁化可能構造の前記上方部分に磁束を導入するように構成され、前記第２の上方部分は、前記第２の側で前記磁化可能構造の前記上方部分に磁束を導入するように構成され、前記磁束は、前記磁化可能構造の中を前記下方部分に垂直に伝わり、前記磁束の少なくとも一部分は、前記第１の側で前記磁化可能構造の前記下方部分を通じて前記第１の下方部分に戻り、前記磁束の少なくとも一部分は、前記第２の側で前記磁化可能構造の前記下方部分を通じて前記第２の下方部分に戻る、装置。
【請求項１５】
上方部分、下方部分、第１の側、及び前記第１の側の反対側の第２の側を有する磁化可能構造に相対的に磁束源を制御する方法であって、
内表面、外表面、第１の極性を有する第１の上方部分、前記第１の極性の反対の第２の極性を有する第１の下方部分、前記第１の極性を有する第２の上方部分、及び前記第２の極性を有する第２の下方部分を有する磁束源と、第１の磁化可能材料を含み、前記磁束源の前記内表面に取り付けられた第１のガイドと、第２の磁化可能材料を含み、前記磁束源の前記外表面に取り付けられた第２の磁束ガイドとを提供することと、
前記磁束源の前記第１の上方部分及び前記磁束源の前記第１の下方部分を前記磁化可能構造の前記第１の側から間隔を空けて配置することと、
前記磁束源の前記第２の上方部分及び前記磁束源の前記第２の下方部分を前記磁化可能構造の前記第２の側から間隔を空けて配置することであって、前記第１の上方部分及び前記第２の上方部分は、前記磁化可能構造の前記上方部分に磁気的に引き付けられ、前記第１の下方部分及び前記第２の下方部分は、前記磁化可能構造の前記下方部分に磁気的に引き付けられる、ことと、
前記磁化可能構造に相対的な前記磁束源の位置を制御することと、
を備える方法。
【請求項１６】
請求項１５に記載の方法であって、
前記磁束源は、１つ又は２つ以上の永久磁石、非磁化可能スペーサによって分けられる複数の磁束源、ボンド磁石、及び半径方向に一様に磁化される磁石のうちの、少なくとも１つを含む、方法。
【請求項１７】
請求項１５に記載の方法であって、
前記位置を制御することは、前記磁束源によって生成される前記磁束にバイアスをかけるために電流を生成することを含む、方法。
【請求項１８】
請求項１５に記載の方法であって、
前記位置を制御することは、前記磁化可能構造に相対的な前記磁束源の前記部分の少なくとも１つの位置を感知することと、前記感知された位置に基づいて電流を提供することとを含む、方法。
【請求項１９】
請求項１８に記載の方法であって、
前記位置を感知することは、前記磁束源と前記磁化可能構造との間のギャップ距離を決定することを含む、方法。
【請求項２０】
請求項１５に記載の方法であって、
前記位置を制御することは、前記磁化可能構造の両側で前記磁束を等しくすることを含む、方法。
【請求項２１】
荷を運ぶためのシステムであって、
磁束を生成するための手段であって、
磁束を生成するための第１の上方手段と、
磁束を生成するための第１の下方手段であって、前記第１の上方手段と前記第１の下方手段は磁化可能構造の第１の側から水平に間隔を空けられ、前記第１の上方手段と前記第１の下方手段は互いに反対の極性を有している第１の下方手段と、
磁束を生成するための第２の上方手段と、
磁束を生成するための第２の下方手段であって、前記第２の上方手段と前記第２の下方手段は前記磁化可能構造の第２の側から水平に間隔を空けられ、前記第２の上方手段と前記第２の下方手段は互いに反対の極性を有し、前記第２の側は前記第１の側の反対であり、前記第１の上方手段及び前記第２の上方手段は、前記磁化可能構造の上方部分に磁気的に引き付けられるように構成され、前記第１の下方手段及び前記第２の下方手段は、前記磁化可能構造の下方部分に磁気的に引き付けられるように構成される、第２の下方手段と、
を含む磁束生成手段と、
前記磁束生成手段の内表面に取り付けられ、前記磁束を導くための第１の手段と、
前記磁束生成手段の外表面に取り付けられ、前記磁束を導くための第２の手段と、
前記磁化可能構造に相対的な前記磁束生成手段の位置を制御するための制御手段と、
を備えるシステム。
【請求項２２】
請求項２１に記載のシステムであって、
前記磁束生成手段は、１つ又は２つ以上の永久磁石、非磁化可能スペーサによって分けられる複数の磁束源、ボンド磁石、及び半径方向に一様に磁化される磁石のうちの、少なくとも１つを含む、システム。
【請求項２３】
請求項２１に記載のシステムであって、
前記制御手段は、コントローラ回路を含む、システム。
【請求項２４】
請求項２１に記載のシステムであって、
前記制御手段は、前記磁束源によって生成される前記磁束にバイアスをかけるために電流を生成するための手段を含む、システム。
【請求項２５】
請求項２１に記載のシステムであって、
前記制御手段は、前記磁束源の前記部分の少なくとも１つの水平位置を感知するための位置感知手段と、前記感知された位置に基づいて電流を提供するための手段とを含む、システム。
【請求項２６】
請求項２５に記載のシステムであって、
前記位置感知手段は、前記磁束源と前記磁化可能構造との間のギャップ距離を決定するための手段を含む、システム。
【請求項２７】
請求項２１に記載のシステムであって、
前記制御手段は、前記磁化可能構造の両側で前記磁束を等しくするための手段を含む、システム。