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【手続補正書】
【提出日】平成25年8月21日(2013.8.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
工作物を切削加工する切削工具のための切削インサート（１）において、
主方向が主平面（Ｈ）を規定する上側の表面（２）と、下側の表面と、上側の表面（２）と下側の表面との間で周回する側壁（３）とを有しており、少なくとも上側の表面（２）の側で切削コーナ（４）として構成された、周方向で面取りされた少なくとも１つのコーナが形成されており、
それぞれ側壁（３）と上側の表面（２）との間に延びる、切削コーナ（４）の領域のエッジと、切削コーナ（４）に後続する少なくとも１つのエッジ（６）とが切削エッジ（５）を形成し、
主平面（Ｈ）で切削コーナ（４）から切削インサート（１）の中心部（Ｚ）へと延びる半径方向（Ｑ）には次に掲げる順序で構成されている、即ち、
降下していくすくい面（８）と、
すくい面に後続する切屑案内段部底面（９；９ａ）と、
切屑案内段部底面（９；９ａ）に対して上昇していく第１の面（１１ａ）とこれに後続する第１のプラトー（１１ｂ）とを備える、切屑案内段部底面（９；９ａ）に後続する第１の切屑案内段部（１１）と、
第１のプラトー（１１ｂ）に対して上昇していく第２の面（１２ａ）とこれに後続する第２のプラトー（１２ｂ）とを備える第２の切屑案内段部（１２）と、
第２のプラトー（１２ｂ）に対して上昇していく第３の面（１３ａ）とこれに後続する第３のプラトー（１３ｂ）とを備える第３の切屑案内段部（１３）とが構成されている切削インサート。
【請求項２】
切削エッジ（５）には面取り部（７）が設けられている、請求項１に記載の切削インサート。
【請求項３】
第１のプラトー（１１ｂ）は主平面（Ｈ）に対して垂直の方向（Ｒ）に関して少なくとも部分的に切削コーナ（４）の領域における切削エッジ（５）のレベル（ｈ０）よりも低い第１のレベルに配置されており、第３のプラトー（１３ｂ）は主平面（Ｈ）に対して垂直の方向（Ｒ）に関して少なくとも部分的に切削コーナ（４）の領域における切削エッジ（５）のレベル（ｈ０）よりも高い第３のレベルに配置されている、請求項１または２に記載の切削インサート。
【請求項４】
第２のプラトー（１２ｂ）は主平面（Ｈ）に対して垂直の方向（Ｒ）に関して少なくとも部分的にｈ０＋ｈ２またはｈ０−ｈ２のレベルに配置されており、このとき、
０≦ｈ２≦０．２５×ｈｇであり、
ｈ０は切削コーナ（４）の領域における前記方向（Ｒ）の切削エッジ（５）のレベルであり、
ｈｇは切削コーナ（４）の領域における前記方向（Ｒ）の切削エッジ（５）のレベル（ｈ０）と切屑案内段部底面（９ａ）との間の差異である、請求項１〜３のうちのいずれか１項に記載の切削インサート。
【請求項５】
切削コーナ（４）の領域には、切削コーナ（４）からの距離が増すにつれて切削エッジ（５）に沿う方向で切屑案内段部底面（９ｂ）の隆起部まで減少していくすくい角（Ｗ）が設けられており、すくい角（Ｗ）は主平面（Ｈ）とすくい面（８）の間に形成されている、請求項１〜４のうちのいずれか１項に記載の切削インサート。
【請求項６】
すくい角（Ｗ）は切削エッジ（５）に沿う方向で切屑案内段部底面（９ｂ）の隆起部の後に再び増大していく、請求項５に記載の切削インサート。
【請求項７】
切屑案内段部底面（９ｂ）の隆起部は主平面（Ｈ）に対して垂直の方向（Ｒ）に関して、第１の切屑案内段部（１１）が切削エッジ（５）に対して最小の間隔を有している領域において、切削コーナ（４）の領域における切削エッジ（５）のレベル（ｈ０）に対する最小の高低差を有している、請求項５または６に記載の切削インサート。
【請求項８】
主平面（Ｈ）に対して垂直の方向（Ｒ）に関して、切削コーナ（４）の領域における切削エッジ（５）のレベル（ｈ０）と切屑案内段部底面（９）のレベルとの間の最大の高低差は切削コーナ（４）の領域で与えられる、請求項１〜７のうちのいずれか１項に記載の切削インサート。
【請求項９】
第１のプラトー（１１ｂ）、第２のプラトー（１２ｂ）、および第３のプラトー（１３ｂ）の表面はそれぞれ主平面（Ｈ）と平行に延びている、請求項１〜８のうちのいずれか１項に記載の切削インサート。
【請求項１０】
切削インサート（１）は少なくとも１つの第２の切削コーナ（４ａ）を有するスローアウェイチップである、請求項１〜９のうちのいずれか１項に記載の切削インサート。
【請求項１１】
切削インサート（１）は下側の表面も工作物の切削加工をするために構成されたスローアウェイチップとして構成されている、請求項１〜１０のうちのいずれか１項に記載の切削インサート。
【請求項１２】
第３のプラトー（１３ｂ）は下側の表面が切削加工に利用されるときの切削工具における切削インサート（１）のための載置面として構成されている、請求項１１に記載の切削インサート。
【請求項１３】
第２の切屑案内段部（１２）は半径方向（Ｑ）に対して垂直かつ主平面（Ｈ）に対して平行に延びる横方向で第１の切屑案内段部（１１）よりも幅が狭い、請求項１〜１２のうちのいずれか１項に記載の切削インサート。
【請求項１４】
請求項１〜１３のうちのいずれか１項に記載の切削インサートの利用法において、施削によって工作物を加工するための利用法。
【請求項１５】
請求項１〜１４のうちのいずれか１項に記載の切削インサート（１）を備えている切削工具。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月5日(2013.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
研磨材物品であって、
第１及び第２の対向する主面を有する一体式弾力部材を備え、前記部材が、
中央に配置されたコアと、
複数の開口部又はセルを備える周辺環と、を備え、
前記周辺環は複数の研磨ゾーンを備え、前記研磨ゾーンは前記一体式弾力部材の前記主面の少なくとも１つを貫通して突出する研磨粒子を備え、
前記研磨ゾーンは前記少なくとも１つの主面から外向きに延び、
前記コアには実質的に研磨ゾーンがない、研磨材物品。
【請求項２】
研磨ディスクであって、
複数の開口部又はセルを備える第１及び第２の対向する主面を有する研磨層と、
前記研磨層の少なくとも一面上に配置された少なくとも１つの支持材層と、を備え、
前記研磨層は、前記研磨層の主面の少なくとも１つを貫通して突出している研磨粒子を含む複数の研磨ゾーンを含み、
前記研磨層は前記少なくとも１つの支持材層を超えて延び、周辺環を形成し、
前記少なくとも１つの支持材層は前記研磨ディスクのための支持フランジを形成する、研磨ディスク。
【請求項３】
研磨材物品であり、
２つ以上の一体式弾力部材を備え、それぞれの部材は第１及び第２の対向する主面を有し、前記部材の少なくとも１つは、
中央に配置されたコアと、
複数の開口部又はセルを備える周辺環と、
間に挟まれておりそれぞれの部材の少なくとも１つの主面と接触している中間層と、を備え、
前記周辺環は複数の研磨ゾーンを備え、前記研磨ゾーンは前記一体式弾力部材の前記主面の少なくとも１つを貫通して突出する研磨粒子を備え、
前記研磨ゾーンは前記少なくとも１つの主面から外向きに延び、
前記コアには研磨ゾーンが実質的になく、
前記中間層は研磨可能な材料を含む、研磨材物品。
【請求項４】
研磨材物品を製造する方法であって、
第１及び第２の対向する主面を有する一体式弾力部材を提供する工程において、前記部材が、
中央に配置されたコアと、
複数の開口部又はセルを備える周辺環と、を備え、
前記セルが前記一体式弾力部材の少なくとも１つの主面を貫通して突出し、
前記コアには実質的にセルがない、工程と、
研磨粒子を前記セル内に配置する工程と、
前記研磨粒子が前記セル内に定着されるように前記一体式弾力的ディスクを処理する工程と、を含む、製造方法。
【請求項５】
研磨材物品を製造する方法であって、
第１及び第２の対向する主面を有する一体式弾力部材を提供する工程において、前記部材が中央に配置されたコアを備える工程と、
レーザー又は電子ビーム溶接、ろう接、焼結、加熱、溶着、浸潤、加圧、スタンピング、鍛造、又はこれらの組み合わせを用いて、開口部又はセルを有する周辺環を前記中央に配置されたコアと結合する工程と、を含み、
前記周辺環は、前記一体式弾力部材の少なくとも１つの主面から突出した研磨粒子を含む少なくとも１つの研磨ゾーンを備え、前記研磨ゾーンは少なくとも１つの主面から外向きに延び、前記コアには実質的に研磨ゾーンがない、製造方法。
【請求項６】
研磨ディスクを製造する方法であって、
複数の開口部又はセルと、
研磨層の少なくとも一面上に配置された少なくとも１つの支持材層と、を備える第１及び第２の対向する主面を有する研磨層を含むシートを提供する工程と、
前記研磨層を露出するために前記少なくとも１つの支持材層を貫通してエッチングする工程と、
前記研磨ディスクを前記シートから抽出する工程と、を含み、
前記研磨層は、前記研磨層の主面の少なくとも１つを貫通して突出している研磨粒子を含む複数の研磨ゾーンを含み、
前記研磨層は、前記少なくとも１つの支持材層を超えて延び、周辺環を形成し、
前記少なくとも１つの支持材層は、前記研磨ディスクのための支持フランジを形成する、製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月17日(2013.5.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）繊維状基質および１種もしくはそれ以上の２０％より高い結晶化度を有する高性能重合体を含んでなる芯複合体層を準備し、そして、ｂ）該芯複合体の向かい合った表面に表面層重合体を適用する、ただし、該表面層重合体はゆっくり結晶化する２０％より低い結晶化度を有する半結晶性重合体または半結晶性重合体と非晶質性重合体との混合物から選択され、該表面層重合体は該芯複合体層に適用されて高性能重合体と配合された重合体を形成し、そして該高性能重合体は該表面層重合体よりも早い速度で結晶化し、その際に該高性能重合体は核を生成して該表面層重合体の結晶化速度を促進する、ことから成る方法によって形成される熱可塑性三層複合体構造物。
【請求項２】
繊維状基質が炭素繊維、ガラス繊維、アラミド繊維、およびそれらの混合物から選択されそして全複合体重量の５０〜８０重量％を構成する、請求項１に記載の熱可塑性三層複合体構造物。
【請求項３】
高性能重合体がポリアリールエーテルケトン類（ＰＡＥＫ）およびＰＡＥＫ配合物から選択される、前記請求項のいずれかに記載の熱可塑性三層複合体構造物。
【請求項４】
表面層重合体がポリアリールエーテルケトン（ＰＡＥＫ）；ＰＡＥＫのポリエーテルイミド（ＰＥＩ）またはポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）またはポリフエニレンスルフィド（ＰＰＳ）とのコポリマー；ＰＡＥＫのＰＥＩ、ＰＥＳ、ＰＰＳおよびポリイミドの１種以上との混合物から選択される、請求項３に記載の熱可塑性三層複合体構造物。
【請求項５】
表面層重合体が一層あたり１〜２０ミクロン厚さに適用される、前記請求項のいずれかに記載の熱可塑性三層複合体構造物。
【請求項６】
高性能重合体のためのＰＡＥＫがポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルエーテルケトンケトン（ＰＥＥＫＫ）、ポリエーテルケトンケトン（ＰＥＫＫ）、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）およびポリエーテルケトンケトンエーテルケトン（ＰＥＫＫＥＫ）よりなる群から選択される、請求項３に記載の熱可塑性三層複合体構造物。
【請求項７】
高性能重合体の重合体含有量が複合体構造物中の全重合体含有量の２６重量％〜９０重量％である、前記請求項のいずれかに記載の熱可塑性三層複合体構造物。
【請求項８】
全重合体含有量が複合体構造物の重量の３０重量％〜９５重量％である、前記請求項のいずれかに記載の熱可塑性三層複合体構造物。
【請求項９】
全重合体含有量が複合体構造物の重量の３２重量％〜４２重量％である、請求項８に記載の熱可塑性三層複合体構造物。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか１項に記載の熱可塑性三層複合体構造物の複数が相互に積層されてなる製造製品。
【請求項１１】
ａ）繊維状基質に１種もしくはそれ以上の２０％より高い結晶化度を有する高性能重合体を含浸させて芯複合体層を形成し、そして、ｂ）表面層重合体を該芯複合体の向かい合った表面上に適用する、ただし、該表面層重合体はゆっくり結晶化する２０％より低い結晶化度を有する半結晶性重合体または半結晶性重合体と非晶質性重合体との混合物から選択され、該高性能重合体は該表面層重合体よりも早い速度で結晶化し、その際に該高性能重合体は核を生成して該表面層重合体の結晶化速度を促進する、ことから成る、改良された処理時間および靱性を有する熱可塑性三層複合体構造物の製造方法。
【請求項１２】
熱可塑性三層複合体構造物が自動化されたテープ下置きまたは自動化された繊維配置機械上での使用のためのインシトゥ等級の熱可塑性複合体テープの形状である、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
全重合体含有量が三層複合体構造物の重量の３２重量％〜４２重量％である、請求項１１または１２に記載の方法。
【請求項１４】
芯複合体層への表面層重合体の適用がｉ）粉末または溶媒コーティング、ｉｉ）フィルム積層、ｉｉｉ）不織ベール積層、ｉｖ）火炎／プラズマ噴霧コーティング、およびｖ）それらの組み合わせにより行われる、請求項１１〜１３のいずれかに記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月2日(2013.9.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
積層配向している少なくとも２つの熱可塑性ポリマーフォームを含み、熱可塑性ポリマーフォームのそれぞれが、
（ａ）ポリマースキンを含む隣接表面；
（ｂ）隣接表面に対して垂直な方向の厚さ寸法；
（ｃ）隣接表面を貫いてフォームの厚さ寸法未満の深さまで達する直径１ミリメートル未満の穿孔；
を有し、１つの熱可塑性ポリマーフォームの隣接表面が別の熱可塑性ポリマーフォームの隣接表面に隣接し接着剤により接着されていることにより熱可塑性ポリマーフォームが互いに固定されているポリマーフォーム物品。
【請求項２】
前記接着剤が、１コンポーネントポリウレタン、２コンポーネントポリウレタン及びホットメルト接着剤からなる群から選ばれる、請求項１に記載のポリマーフォーム物品。
【請求項３】
別の隣接表面に接着された各隣接表面の表面積の少なくとも５０％を覆うポリマースキンによりさらに特徴付けられる、請求項１又は２に記載のポリマーフォーム物品。
【請求項４】
（ａ）ポリマースキンを含む隣接表面、隣接表面に対して垂直な方向の厚さ寸法及び隣接表面を貫いてフォームの厚さ寸法未満の深さまで達する直径１ミリメートル未満の穿孔をそれぞれ有する少なくとも２つの熱可塑性ポリマーフォームを用意する工程；
（ｂ）少なくとも１つの隣接表面に接着剤を適用する工程；
（ｃ）１つの熱可塑性ポリマーフォームの隣接表面が別の熱可塑性ポリマーフォームの隣接表面と隣接し、これら２つの熱可塑性ポリマーフォームの間に接着剤が存在するように、２つの熱可塑性ポリマーフォームを積層配向で配置する工程；及び
（ｄ）熱可塑性ポリマーフォームの間の接着剤により熱可塑性ポリマーフォームを接着させる工程、
を含む、請求項１に記載のポリマーフォーム物品の製造方法。
【請求項５】
接着剤が、１コンポーネントポリウレタン、２コンポーネントポリウレタン及びホットメルト接着剤からなる群から選ばれる、請求項４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月6日(2013.9.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
肉厚a+bを有し、厚さa中に少なくとも部材Ａを、厚さb中に少なくとも部材Ｂを含有し
ている、全または部分射出成形多部材複合材料系であって、
部材Ａ）は、バックモールド熱可塑性プラスチックフィルムまたは少なくとも射出成形熱
可塑性プラスチックの少なくとも一層であり、該フィルムの厚さまたは一層のその厚さ、
または数層の場合、部材Ａから作られている層の総厚が、厚さaであり、そして
部材Ｂ）は、射出成形熱可塑性プラスチックの少なくとも一層であり、一層のその厚さ、
または数層の場合は、部材Ｂから作られている層の総厚が、厚さｂであり、かつ
部材ＡおよびＢが以下の１つの基準を満たす、ことを特徴とする多部材複合材料系：
１．部材Ａは、厚さaにおいて少なくともＶ２を、そして厚さa＋ｂにおいてＨＢのみを
達成し、部材Ｂは厚さｂにおいてＶ２を、厚さa+bにおいてＶ０またはＶ１を達成し、比a
:bは≦2.5、好ましくは≦1.8、特に好ましくは≦1.2である；
２．部材Ａが厚さaにおいておよび厚さa+bにおいてＨＢのみを達成し、部材Ｂが厚さa+
bにおいてV0またはV1を達成し、比a:bは≦0.3，好ましくは≦0.2；または
３．部材ＡまたはＢの少なくとも１つが、それぞれ厚さaまたはbにおいてＶ２のみを達
成し、両部材が、厚さa+bにおいてＶ０またはＶ１を達成する。
【請求項２】
部材Ａが、厚さaにおいて少なくともＶ２を、そして厚さa＋ｂにおいてＨＢのみを達成
し、部材Ｂが厚さｂにおいてＶ２を、厚さa+bにおいてＶ０またはＶ１を達成し、比a:bが
≦2.5、好ましくは≦1.8、特に好ましくは≦1.2である、請求項１記載の多部材複合材料
系。
【請求項３】
部材Ａが厚さaにおいておよび厚さa+bにおいてＨＢのみを達成し、部材Ｂが厚さa+bに
おいてV0またはV1を達成し、比a:bは≦0.3，好ましくは≦0.2である、請求項１記載の多
部材複合材料系。
【請求項４】
複合材料系が、バックモールドフィルムであり、該フィルムが部材Ａを構成している、
請求項１〜３いずれかに記載の多部材複合材料系。
【請求項５】
部材ＡおよびＢの少なくとも１つが、ポリカーボネート、コポリカーボネートまたはコ
ポリエステルカーボネートを含有する、請求項１〜４いずれかに記載の多部材複合材料系
。
【請求項６】
全または部分射出成形多部材複合材料系の製造方法であって、以下のステップからなる
製造方法：
a. 以下の基準の１つを満たすように部材ＡまたはＢに適した材料を選択すること：
１．）部材Ａは、厚さaにおいて少なくともＶ２を、そして厚さa＋ｂにおいてＨＢの
みを達成し、部材Ｂは厚さｂにおいてＶ２を、厚さa+bにおいてＶ０またはＶ１を達成し
、比a:bは≦2.5、好ましくは≦1.8、特に好ましくは≦1.2である；
２．）部材Ａが厚さaにおいておよび厚さa+bにおいてＨＢのみを達成し、部材Ｂが厚
さa+bにおいてV0またはV1を達成し、比a:bは≦0.3，好ましくは≦0.2；または
３．）部材ＡまたはＢの少なくとも１つが、それぞれ厚さaまたはbにおいてＶ２のみ
を達成し、両部材が、厚さa+bにおいてＶ０またはＶ１を達成する；
b. ２成分または多成分射出成形プロセスにより、部材Ａからなるフィルムを部材Ｂで
バックモールドすることにより、または部材Ｂからなる射出成形パーツを部材Ａを含有す
るコーティング材でコーティングすることにより、全または部分射出成形複合系を製造す
ること。
【請求項７】
ステップbにおける製造プロセスが、２成分または多成分射出成形プロセスであること
を特徴とする、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
ステップbにおける製造プロセスが、部材Ａからなるフィルムを部材Ｂでバックモール
ドすることを特徴とする、請求項６に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月21日(2013.5.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
キャプティブ式パネル固定装置の製造方法において、
ネジ頭、軸部、およびこのネジ頭の底部を超えて下方に突出するキャップの円筒形プラスチックスカートを有し、そしてこのスカートが該底部に円形開口をもつプラスチックキャップ式ネジを用意する工程、
前記ネジの前記軸部周囲に圧縮バネを設ける工程、
上端部に半径方向に突出するフランジ、そして下端部にパネル装着手段を有する口環の貫通孔に前記キャップ式ネジを挿入する工程、
前記スカートが前記口環フランジの下に下向きに突出する前記口環の上面に対して前記ネジ頭の底部を押しつける工程、および
前記プラスチックスカートの底部縁部にそってその外周に半径方向内向きに熱および圧力を作用させて、プラスチックを流動化し、冷却後、前記口環フランジの外径よりも小さい直径のリングまで前記スカート底部の開口が小さくなる点まで前記底部縁部が永久的に変形し、これによって前記ネジの後退位置と前進位置との間において前記ネジを前記口環に軸方向を取り込む工程からなることを特徴とする製造方法。
【請求項２】
前記プラスチックキャップをオーバー成形法によって前記ネジ頭周囲に形成する請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記圧力を回転接触によって加熱された成形面に加える請求項２に記載の製造方法。
【請求項４】
前記ネジが金属からなる請求項３に記載の製造方法。
【請求項５】
キャプティブ式パネル固定装置の製造方法において、
ネジ頭の底部を超えて下方に突出する円筒形プラスチックスカートであって、底部に円形開口を持つプラスチックスカートを有するプラスチックキャップを、軸部を有するネジ頭の周囲にオーバー成形する工程、
前記ネジの前記軸部周囲に圧縮バネを設ける工程、
上端部に半径方向に突出するフランジ、そして下端部にパネル装着手段を有する口環の貫通孔に前記キャップ式ネジを挿入する工程、
前記スカートが前記口環フランジの下に下向きに突出する前記口環の上面に対して前記ネジ頭の底部を押しつける工程、および
前記プラスチックスカートの底部縁部にそってその外周に半径方向内向きに熱および圧力を作用させて、前記口環フランジの外径よりも小さい直径のリングまで前記スカート底部の開口が小さくなる点まで前記底部縁部が永久的に変形し、これによって前記ネジの後退位置と前進位置との間において前記ネジを前記口環に軸方向を取り込む工程からなることを特徴とする製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月23日(2013.7.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
煙道ガス処理システム内において発生したエネルギーを利用する方法において、
二酸化炭素が混入している溶液を前記煙道ガス処理システムの再生装置へ供給すること、
前記二酸化炭素が混入している溶液を前記再生装置内の圧力にさらし、これにより、前記二酸化炭素が混入している溶液から二酸化炭素を取り除き、高圧の二酸化炭素流れ及び減少した二酸化炭素を含有している溶液を生成すること、
前記高圧の二酸化炭素流れの少なくとも一部分を膨張タービンへ導入して、前記高圧の二酸化炭素流れの圧力を減少せしめ、これにより、エネルギーと低圧の二酸化炭素流れとを生成すること、及び
前記膨張タービン内において発生した前記エネルギーを利用して、動力を発生せしめ、これにより、前記煙道ガス処理システム内において発生したエネルギーを利用すること、
を包含する方法。
【請求項２】
請求項１記載の方法において、前記二酸化炭素が混入している溶液が１７２３．７kpascalと３４４７．４kpascalとの間の範囲を有する圧力にさらされる方法。
【請求項３】
請求項１記載の方法において、前記低圧の二酸化炭素流れの圧力が６８．９kpascalと１０６６．６kpascalとの間の範囲を有する方法。
【請求項４】
請求項１記載の方法において、前記低圧の二酸化炭素流れの圧力が１３７．９kpascalと２０６．８kpascalとの間の範囲内である方法。
【請求項５】
請求項１記載の方法において、前記動力が電気である方法。
【請求項６】
請求項１記載の方法において、更に、前記低圧の二酸化炭素流れを冷却器へ供給することを包含する方法。
【請求項７】
請求項１記載の方法において、更に、前記低圧の二酸化炭素流れを貯蔵容器へ供給することを包含する方法。
【請求項８】
請求項１記載の方法において、前記高圧の二酸化炭素流れの圧力が１７２３．７kpascalと３４４７．４kpascalとの間の範囲内である方法。
【請求項９】
請求項１記載の方法において、更に、前記動力を吸収装置へ供給することを包含し、前記吸収装置が前記再生装置の上流に位置して、煙道ガス流れから二酸化炭素を取り除く方法。
【請求項１０】
請求項１記載の方法において、更に、前記動力を消費電気グリッドへ供給することを包含する方法。
【請求項１１】
煙道ガス流れから取り除いた二酸化炭素の処理中に発生したエネルギーを利用するシステムにおいて、
二酸化炭素を含有している煙道ガス流れを受け入れるように構成した吸収装置であって、この吸収装置内で前記二酸化炭素を含有している煙道ガス流れが前記吸収装置内の二酸化炭素取り除き溶液と接触して、減少した二酸化炭素を含有している煙道ガス流れと二酸化炭素が混入している溶液とを生成するようにした吸収装置と、
前記二酸化炭素が混入している溶液を受け入れるように構成した再生装置であって、高圧の二酸化炭素流れと減少した二酸化炭素を含有している溶液とを生成する再生装置と、
前記高圧の二酸化炭素流れの少なくとも一部分を受け入れるように構成した膨張タービンであって、前記高圧の二酸化炭素流れの圧力を減少せしめて、低圧の二酸化炭素流れとエネルギーとを生成せしめる膨張タービンと、
前記膨張タービンに接続しているジェネレータであって、前記膨張タービンからの前記エネルギーを利用して電気を発生せしめるジェネレータと、
を包含するシステム。
【請求項１２】
請求項１１記載のシステムにおいて、前記再生装置が１７２３．７kpascalと３４４７．４kpascalとの間の範囲を有する圧力で作動されるシステム。
【請求項１３】
請求項１１記載のシステムにおいて、前記高圧の二酸化炭素流れが１７２３．７kpascalと３４４７．４kpascalとの間の範囲内の圧力を有するシステム。
【請求項１４】
請求項１１記載のシステムにおいて、前記低圧の二酸化炭素流れが６８．９kpascalと１０６６．６kpascalとの間の範囲内の圧力を有するシステム。
【請求項１５】
請求項１１記載のシステムにおいて、更に、前記膨張タービンに接続している冷却器を包含し、前記冷却器が前記膨張タービンからの前記低圧の二酸化炭素流れを受け入れて、前記低圧の二酸化炭素流れの温度を１０℃と８０℃との間の範囲内の温度にまで減少せしめるような構成とされているシステム。
【請求項１６】
請求項１１記載のシステムにおいて、更に、前記膨張タービンに接続している貯蔵容器を包含し、前記貯蔵容器が前記低圧の二酸化炭素流れを貯蔵するようにしているシステム。
【請求項１７】
請求項１１記載のシステムにおいて、前記二酸化炭素取り除き溶液がアンモニアを含有しているシステム。
【請求項１８】
請求項１７記載のシステムにおいて、前記吸収装置が０℃と２０℃との間の温度で作動されるシステム。
【請求項１９】
請求項１１記載のシステムにおいて、前記二酸化炭素取り除き溶液がアミン溶液であるシステム。
【請求項２０】
請求項１１記載のシステムにおいて、更に、前記減少した二酸化炭素を含有している溶液を前記吸収装置へ供給することを包含するシステム。
【請求項２１】
煙道ガス流れからの二酸化炭素の取り除き中に発生したエネルギーを再生利用する方法において、
二酸化炭素を含有している煙道ガス流れを吸収装置へ供給すること、
前記二酸化炭素を含有している煙道ガス流れを二酸化炭素取り除き溶液と接触させ、これにより、前記煙道ガス流れから二酸化炭素を取り除き、減少した二酸化炭素を含有している煙道ガス流れと二酸化炭素が混入している溶液とを生成すること、
前記二酸化炭素が混入している溶液を１７２３．９kpascalと３４４７．４kpascalとの間の範囲内の圧力にさらし、これにより、１７２３．７kpascalと３４４７．４kpascalとの間の範囲内の圧力を有する高圧の二酸化炭素流れと減少した二酸化炭素を含有している溶液とを生成すること、
前記高圧の二酸化炭素流れの圧力を減少せしめ、これにより、６８．９kpascalと６８９．５kpascalとの間の範囲内の圧力を有する低圧の二酸化炭素流れとエネルギーとを生成せしめること、及び
前記エネルギーを利用して電気を前記吸収装置へ供給し、これにより、煙道ガス流れからの二酸化炭素の取り除き中に発生したエネルギーを再生利用すること、
を包含する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月20日(2013.9.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
例３  −  尿素含有固体エポキシ樹脂の調製
８００ｇのＤ．Ｅ．Ｒ．６６４ＵＥ固体エポキシ樹脂及び５３ｇの尿素（Ａｌｄｒｉｃｈ社、純度＞９９％）を計量し１ガロンのプラスチック容器に投入した。得られた混合物は、次に、Ｐｒｉｓｍ  Ｐｉｌｏｔ３ミキサーにおいて２３００ｒｐｍで１５秒間２６℃の一定温度で混合した。この混合プロセスをさらに二度繰り返した。得られた粉体状の混合物は、次に、ＰＲＩＳＭ  ＴＳＥ  ２４ＰＣシリーズ二軸スクリュー配合機の供給ホッパーに導入し、この配合機の３つの押出ゾーンの温度を、それぞれ３０℃、７５℃、９０℃にセットした。得られた溶融配合物は、２５℃のＰＲＩＳＭチルロールに移し、エポキシ樹脂の固体反応生成物が形成されるように冷却した。このエポキシ樹脂の固体生成物は、粉体塗料の調製に使用された。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６３】
上記の表ＩＩは、配合物及びエピスルフィド含有樹脂の錠剤流れとゲル化時間の試験結果を示す。  ＊＊錠剤流れは、粉体塗料を錠剤ダイとカーバー（carver）プレス機を用いて３．１７５ｃｍの錠剤に押圧することによって測定した。粉体約８ｇを６１００ｐｓｉで５秒間押圧した。錠剤は、３００°F（１４９℃）にセットしたオーブン内で、６０度傾けたテフロン（登録商標）被覆した鋼鉄のパネル上に配置し、１時間平衡にした。錠剤は、オーブンから取り出す前に１０分間流れるようにした。流れの長さを測定し、錠剤の直径を差し引いて記録した。結果は、エピスルフィド樹脂（配合物２と３）の反応性が、対照のエポキシ樹脂（Ｄ．Ｅ．Ｒ．６６４ＵＥ固体エポキシ樹脂  −  配合物１）に比べて促進されていることを、明確に示している。尿素はエポキシ−チオ尿素反応の副生成物であり、したがって、観察された反応性の向上が尿素副生成物によるものでないことを確かめるために、尿素を含む固体エポキシ樹脂Ｄ．Ｅ．Ｒ．６６４ＵＥが対照（配合物４）として使用された。
以下に、本願発明に関連する発明の実施形態について列挙する。
［実施形態１］
（ａ）少なくとも１種の固体状のエポキシ樹脂と、（ｂ）少なくとも１種の硫黄供与性化合物、との固体反応混合物を融解反応させることを含む、エピスルフィド樹脂の製造方法であって、前記反応が融解反応によって行われる、エピスルフィド樹脂の製造方法。
［実施形態２］
前記少なくとも１種の硫黄供与性化合物が固体状である、前記実施形態１記載の製造方法。
［実施形態３］
前記反応が溶融押出機内で行われる、前記実施形態１記載の製造方法。
［実施形態４］
前記少なくとも１種のエポシキ樹脂が１．５−タイプから１０−タイプまでのエポキシ樹脂の固体エポキシ樹脂である、前記実施形態１記載の製造方法。
［実施形態５］
前記少なくとも１種のエポキシ樹脂の前記硫黄供与性化合物に対するモル比が約１：０．０１〜約１：１である、前記実施形態１記載の製造方法。
［実施形態６］
前記硫黄供与性化合物がチオ尿素、アルカリ金属チオシアン酸塩、ホスフィンサルファイト、及び／又はこれらの混合物である、前記実施形態１記載の製造方法。
［実施形態７］
前記反応が前記エポキシ樹脂反応物成分（ａ）のＴｇよりも少なくとも５℃高い温度で行われる、前記実施形態１記載の製造方法。
［実施形態８］
（ａ）少なくとも１種の固体状のエポキシ樹脂と、（ｂ）少なくとも１種の硫黄供与性化合物、との固体反応生成物を含むエピスルフィド樹脂組成物であって、前記成分（ａ）と（ｂ）の反応が溶融押出により行われたものである、エピスルフィド樹脂組成物。
［実施形態９］
約１パーセント未満の揮発性有機化合物（ＶＯＣｓ）を有するエピスルフィド樹脂組成物。
［実施形態１０］
塩素含有量が約１０００ｐｐｍ未満であるエピスルフィド樹脂組成物。
［実施形態１１］
（ｉ）前記実施形態８記載の組成物と、（ｉｉ）流れ調整剤、との反応生成物を含む、粉末塗料配合物。
［実施形態１２］
（ｉｉｉ）硬化剤、（ｉｖ）硬化触媒、（ｖ）充てん材、及び／又は（ｖｉ）溶媒を含む、前記実施形態１１記載の粉末塗料配合物。
［実施形態１３］
前記エポキシ樹脂が芳香族ビスフェノールとエピクロルヒドリンとの反応生成物を含む、前記実施形態８記載の組成物。
［実施形態１４］
ホルムアルデヒド又はイソシアネートを含む、前記実施形態１３記載の組成物。
［実施形態１５］
得られたエピスルフィド樹脂組成物中に存在する末端エポキシ基の一部が単官能のキャッピング剤と反応した、前記実施形態１３記載の組成物。
［実施形態１６］
（ａ）少なくとも１種の進行型エポキシ樹脂と、（ｂ）少なくとも１種の硫黄供与性化合物、との反応混合物を反応させることを含む、固体エピスルフィド樹脂組成物の製造方法であって、前記反応が融解反応によって行われ、前記硫黄供与性化合物は、前記進行型エポキシ樹脂が目標分子量の少なくとも８０％に達した後であって前記樹脂を反応器から取り出す前にプロセス中に導入される、固体エピスルフィド樹脂組成物の製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）少なくとも１種の固体状のエポキシ樹脂と、（ｂ）少なくとも１種の硫黄供与性化合物、との固体反応混合物を融解反応させることを含む、エピスルフィド樹脂の製造方法であって、前記反応が融解反応によって行われる、エピスルフィド樹脂の製造方法。
【請求項２】
前記少なくとも１種の硫黄供与性化合物が固体状である、請求項１記載の製造方法。
【請求項３】
前記反応が溶融押出機内で行われる、請求項１記載の製造方法。
【請求項４】
前記少なくとも１種のエポシキ樹脂が１．５−タイプから１０−タイプまでのエポキシ樹脂の固体エポキシ樹脂である、請求項１記載の製造方法。
【請求項５】
前記少なくとも１種のエポキシ樹脂の前記硫黄供与性化合物に対するモル比が１：０．０１〜１：１である、請求項１記載の製造方法。
【請求項６】
前記硫黄供与性化合物がチオ尿素、アルカリ金属チオシアン酸塩、ホスフィンサルファイト、又はこれらの混合物である、請求項１記載の製造方法。
【請求項７】
前記反応が前記エポキシ樹脂反応物成分（ａ）のＴｇよりも少なくとも５℃高い温度で行われる、請求項１記載の製造方法。
【請求項８】
（ａ）少なくとも１種の固体状のエポキシ樹脂と、（ｂ）少なくとも１種の硫黄供与性化合物、との固体反応生成物を含むエピスルフィド樹脂組成物であって、前記成分（ａ）と（ｂ）の反応が溶融押出により行われたものである、エピスルフィド樹脂組成物。
【請求項９】
１パーセント未満の揮発性有機化合物（ＶＯＣｓ）を有する、請求項８記載のエピスルフィド樹脂組成物。
【請求項１０】
塩素含有量が１０００ｐｐｍ未満である、請求項８記載のエピスルフィド樹脂組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月6日(2013.9.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２２】
前記粉末冶金部材（２）と前記中実体（１）を互いに異なる合金を備えるよう形成したことを特徴とする請求項２０記載の複合部材。
【手続補正書】
【提出日】平成25年8月15日(2013.8.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
好ましい例となる実施態様を、図および前記明細書に詳細に示しおよび特定するが、これらは、本発明を制限するものとしてではなく単なる例として見なされるべきである。好ましい例となる実施態様だけが示されおよび特定され、添付の特許請求の範囲の保護の範囲内に現在または将来に存在する全ての変形および修正が保護される点に注目する。
本発明の好ましい態様は、以下を包含する。
［１］金属微結晶およびナノ粒子を含み、該金属微結晶は、１００ｎｍより大きく２００ｎｍまでの範囲の平均寸法を有する、複合材料。
［２］金属微結晶は、１２０ｎｍおよび２００ｎｍの間の範囲の平均寸法を有する、［１］に記載の複合材料。
［３］ナノ粒子は、ＣＮＴにより形成され、該ＣＮＴの少なくとも一部は、１以上のロールアップ黒鉛層から構成されるスクロール構造を有し、各黒鉛層は、互いに重なり合った２以上のグラフェン層から構成される、［１］または［２］に記載の複合材料。
［４］前記ナノ粒子は、１００μｍより大きいクラスターサイズを有する絡み合ったＣＮＴ凝集体の粉末の形態で供給されるカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）により形成される、［１］〜［３］のいずれかに記載の複合材料。
［５］ＣＮＴ凝集体の平均径は、０．０５および５ｍｍの間、好ましくは０．１および２ｍｍの間、より好ましくは０．２および１ｍｍの間である、［１］〜［４］のいずれかに記載の複合材料。
［６］ナノ粒子、特にＣＮＴの長さ／直径比は、３より大きく、好ましくは１０より大きく、より好ましくは１５より小さい、［１］〜［５］のいずれかに記載の複合材料。
［７］ＣＮＴの長さは、金属微結晶の平均寸法または平均径の大きさ程度である、［１］〜［６］のいずれかに記載の複合材料。
［８］複合材料におけるＣＮＴの平均長さは、１００ｎｍより大きく２００ｎｍまでの範囲である、［７］に記載の複合材料。
［９］重量による複合材料のＣＮＴ含有量は、０．５〜１０．０％、好ましくは３．０〜９．０％、より好ましくは５．０〜９．０％の範囲である、［１］〜［８］に記載の複合材料。
［１０］機械的合金化前にナノ粒子の少なくとも一部を、官能化する、特に表面粗化する工程が含まれる、［１］〜［９］のいずれかに記載の複合材料。
［１１］ナノ粒子が、多壁ＣＮＴまたはマルチスクロールＣＮＴにより形成され、粗化が、少なくとも幾つかのＣＮＴの少なくとも最外層を、高圧、特に５．０ＭＰａ以上、好ましくは７．８ＭＰａ以上の圧力をＣＮＴに施すことにより破壊することにより行われる、［１０］に記載の複合材料。
［１２］ナノ粒子は、少なくとも幾つかの微結晶に部分的に組み込まれる、［１］〜［１１］のいずれかに記載の複合材料。
［１３］金属は、軽金属、特にＡｌ、Ｍｇ、Ｔｉまたはこれらの１以上を含む合金、ＣｕまたはＣｕ合金である、［１］〜［１２］のいずれかに記載の複合材料。
［１４］半製品または完成品の製造のための、［１］〜［１３］のいずれかに記載の複合材料の使用。
［１５］高エネルギー粉砕により金属およびカーボンナノチューブを機械的合金化する工程を含む、［１］〜［１３］のいずれかに記載の複合材料の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属微結晶およびナノ粒子を含み、該金属微結晶は、１００ｎｍより大きく２００ｎｍまでの範囲の平均寸法を有する、複合材料。
【請求項２】
ナノ粒子は、ＣＮＴにより形成され、該ＣＮＴの少なくとも一部は、１以上のロールアップ黒鉛層から構成されるスクロール構造を有し、各黒鉛層は、互いに重なり合った２以上のグラフェン層から構成される、請求項１に記載の複合材料。
【請求項３】
前記ナノ粒子は、１００μｍより大きいクラスターサイズを有する絡み合ったＣＮＴ凝集体の粉末の形態で供給されるカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）により形成される、請求項１または２に記載の複合材料。
【請求項４】
ＣＮＴの長さは、金属微結晶の平均寸法または平均径の大きさ程度である、請求項１〜３のいずれかに記載の複合材料。
【請求項５】
機械的合金化前にナノ粒子の少なくとも一部を、官能化する、特に表面粗化する工程が含まれる、請求項１〜４のいずれかに記載の複合材料。
【請求項６】
ナノ粒子は、少なくとも幾つかの微結晶に部分的に組み込まれる、請求項１〜５のいずれかに記載の複合材料。
【請求項７】
金属は、軽金属、特にＡｌ、Ｍｇ、Ｔｉまたはこれらの１以上を含む合金、ＣｕまたはＣｕ合金である、請求項１〜６のいずれかに記載の複合材料。
【請求項８】
半製品または完成品の製造のための、請求項１〜７のいずれかに記載の複合材料の使用。
【請求項９】
高エネルギー粉砕により金属およびカーボンナノチューブを機械的合金化する工程を含む、請求項１〜７のいずれかに記載の複合材料の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年8月16日(2013.8.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
本明細書中に引用される刊行物の完全な開示は、それぞれが個々に組み込まれたかのように、その全体が参照により組み込まれる。本発明の範囲及び趣旨から逸脱しない本発明の様々な変更や改変は、当業者には明らかとなるであろう。本発明は、本明細書で述べる例示的な実施形態及び実施例によって不当に限定されるものではないこと、また、こうした実施例及び実施形態は、本明細書において以下に記述する「特許請求の範囲」によってのみ限定されると意図する本発明の範囲に関する例示のためにのみ提示されることを理解すべきである。
本発明はまた、以下の内容を包含する。
（１）
多孔性非セラミック基材上にコンフォーマルコーティングを堆積させる方法であって、
入口と出口とを有する反応器を提供する工程と、
多孔性非セラミック基材が前記入口を前記出口から分離するように、少なくとも１つの前記多孔性非セラミック基材の少なくとも一部を配置する工程と、
第１及び第２の反応性ガスを前記多孔性非セラミック基材を通して出口まで流して、前記多孔性非セラミック基材の内部表面における一連の２回以上の自己制限的な反応を行って、前記内部表面の少なくとも一部の上にコンフォーマルコーティングを形成するように、前記入口における前記第１及び第２の反応性ガスの順次導入の少なくとも１回の繰り返しを実施する工程と、を含む、方法。
（２）
前記実施工程が、少なくとも８回の繰り返しで行われる、項目１に記載の方法。
（３）
前記実施工程が、少なくとも２０回の繰り返しで行われる、項目２に記載の方法。
（４）
前記実施工程が、前記内部表面の表面エネルギーが７２ダイン／ｃｍを超えるまで繰り返される、項目１に記載の方法。
（５）
前記出口に最も近い前記多孔性非セラミック基材の外部表面が、７２ダイン／ｃｍ未満の表面エネルギーを有する、項目４に記載の方法。
（６）
前記多孔性非セラミック基材が多孔性ポリマー基材であり、前記導入が、前記多孔性ポリマー基材の融解温度を下回る温度で行われる、項目１に記載の方法。
（７）
第２の多孔性非セラミック基材もまた前記入口を前記出口から分離するように、少なくとも前記第２の多孔性非セラミック基材の少なくとも一部を配置することを更に含む、項目１に記載の方法。
（８）
前記多孔性非セラミック基材が、不定長の材料のウェブの形態であり、前記配置手段がロールツーロールプロセスを可能とするものである、項目１に記載の方法。
（９）
前記ロールツーロールプロセスが、ステップアンドリピートプロセスである、項目８に記載の方法。
（１０）
前記ロールツーロールプロセスが、連続移動プロセスである、項目８に記載の方法。
（１１）
前記反応器がフィルタ本体の形態である、項目１に記載の方法。
（１２）
前記第１又は第２の反応性ガスの少なくとも一方が、非反応性搬送ガス成分を含む、項目１０に記載の方法。
（１３）
前記多孔性非セラミック基材が多孔性ポリマー基材である、項目１に記載の方法。
（１４）
前記多孔性ポリマー基材がＴＩＰＳ基材である、項目１３に記載の方法。
（１５）
前記多孔性ポリマー基材が不織布基材である、項目１３に記載の方法。
（１６）
前記コンフォーマルコーティングが、金属酸化物、金属窒化物、金属硫化物、又はこれらの組み合わせを含む、項目１に記載の方法。
（１７）
前記金属が、ケイ素、チタン、アルミニウム、ジルコニウム、及びイットリウムからなる群から選択される、項目１６に記載の方法。
（１８）
前記金属が、ケイ素、チタン、及びアルミニウムからなる群から選択される、項目１７に記載の方法。
（１９）
前記金属がアルミニウムである、項目１８に記載の方法。
（２０）
前記コンフォーマルコーティングが酸化アルミニウムを含む、項目１６に記載の方法。
（２１）
前記第１及び第２の反応性ガスの前記導入の間の温度が、約３００℃以下である、項目１に記載の方法。
（２２）
前記第１及び第２の反応性ガスの前記導入の間の温度が、約６０℃以下である、項目２１に記載の方法。
（２３）
前記コンフォーマルコーティングに化学部分をグラフティングする工程を更に含む、項目１に記載の方法。
（２４）
コンフォーマルコーティングが、前記多孔性非セラミック基材の内部表面全体に形成される、項目１に記載の方法。
（２５）
実施する繰り返しの回数を制御することにより、前記コンフォーマルコーティングを使用して前記多孔性非セラミック基材の気孔率を低減して所望の気孔率を達成する、項目１に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多孔性非セラミック基材上にコンフォーマルコーティングを堆積させる方法であって、
入口と出口とを有する反応器を提供する工程と、
多孔性非セラミック基材が前記入口を前記出口から分離するように、少なくとも１つの前記多孔性非セラミック基材の少なくとも一部を配置する工程と、
第１及び第２の反応性ガスを前記多孔性非セラミック基材を通して出口まで流して、前記多孔性非セラミック基材の内部表面における一連の２回以上の自己制限的な反応を行って、前記内部表面の少なくとも一部の上にコンフォーマルコーティングを形成するように、前記入口における前記第１及び第２の反応性ガスの順次導入の少なくとも１回の繰り返しを実施する工程と、を含む、方法。
【請求項２】
前記多孔性非セラミック基材が多孔性ポリマー基材であり、前記導入が、前記多孔性ポリマー基材の融解温度を下回る温度で行われる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記多孔性非セラミック基材が、不定長の材料のウェブの形態であり、前記配置手段がロールツーロールプロセスを可能とするものである、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記多孔性非セラミック基材が多孔性ポリマー基材である、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記コンフォーマルコーティングが、金属酸化物、金属窒化物、金属硫化物、又はこれらの組み合わせを含む、請求項１に記載の方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成25年9月5日(2013.9.5)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
黒く、クロム及びコバルトを有さない化成層を製造するための処理溶液であって、
ａ）少なくとも１つの、式Ｍ’Ｏcd+［式中、ｃは１〜３の整数であり、かつｄは１〜３の整数である］のオキソカチオンからなる群から選択される水溶性金属錯カチオン、及び／又は式Ｍ’’Ｘab-［式中、ＸはＦ，Ｃｌ、Ｂｒ及びＩからなる群から選択され、ａは３〜６の整数であり、ｂは１〜４の整数であり、かつＭ’及びＭ’’はＭｎ、Ｖ、Ｔｉ、Ｗ、Ｍｏ、Ｚｒ、Ｂ、Ｓｉ及びＡｌからなる群から選択される］のハロゲン錯イオン、
ｂ）少なくとも１つの酸化剤
ｃ）式（１）及び（２）
ＨＳ−Ｒ1−ＣＯＯＲ2                           （１）
Ｒ5ＯＯＣ−Ｒ3−Ｓ−Ｓ−Ｒ4−ＣＯＯＲ6         （２）
［式中、Ｒ1は、直鎖及び分枝鎖のＣ１〜Ｃ８−アルキル、及びアリールから選択され、
Ｒ2は、Ｈ、ＮＨ4+、Ｌｉ+、Ｎａ+、Ｋ+、並びに直鎖及び分枝鎖のＣ１〜Ｃ４−アルキルからなる群から選択され、
Ｒ3及びＲ4は、独立して、直鎖及び分枝鎖のＣ１〜Ｃ８−アルキル、及びアリールからなる群から選択され、かつ
Ｒ5及びＲ6は、独立して、Ｈ、ＮＨ4+、Ｌｉ+、Ｎａ+、Ｋ+、並びに直鎖及び分枝鎖のＣ１〜Ｃ４−アルキルからなる群から選択される］の化合物からなる群から選択される、少なくとも１つの有機硫黄化合物
を含む、処理溶液。
【請求項２】
前記Ｍ’が、Ｍｎ、Ｖ、Ｔｉ、Ｗ、Ｍｏ及びＺｒからなる群から選択される、請求項１に記載の処理溶液。
【請求項３】
前記Ｍ’’が、Ｂ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ及びＺｒからなる群から選択される、請求項１に記載の処理溶液。
【請求項４】
式Ｍ’Ｏcd+の少なくとも１つのオキソカチオン及び式Ｍ’’Ｘab-の少なくとも１つのハロゲン錯イオンを含有する、請求項１から３までのいずれか１項に記載の処理溶液。
【請求項５】
前記酸化剤が、過酸化水素、有機過酸化物、アルカリ金属過酸化物、過ホウ酸塩、過硫酸塩、硝酸塩、有機ニトロ化合物及び有機Ｎ−オキシド並びにそれらの混合物からなる群から選択される、請求項１から４までのいずれか１項に記載の処理溶液。
【請求項６】
前記式（１）及び（２）の化合物の基が、以下、
Ｒ1がＣ１〜Ｃ２−アルキルであり、かつ
Ｒ3及びＲ4が、独立して、Ｃ１〜Ｃ２−アルキルの中から選択される
の中から選択される、請求項１から５までのいずれか１項に記載の処理溶液。
【請求項７】
前記Ｒ3及びＲ4が同一である、請求項６に記載の処理溶液。
【請求項８】
前記有機硫黄化合物が、チオグリコール酸、ジチオジグリコール酸、チオ乳酸及び３−チオプロピオン酸からなる群から選択される、請求項１から７までのいずれか１項に記載の処理溶液。
【請求項９】
前記酸化剤が過酸化物である、請求項１から８までのいずれか１項に記載の処理溶液。
【請求項１０】
前記過酸化物が過酸化水素である、請求項９に記載の処理溶液。
【請求項１１】
前記式Ｍ’Ｏcd+の少なくとも１つのオキソカチオンが、ＭｎＯ+、ＶＯ3+、ＶＯ2+、ＷＯ22+、ＭｏＯ22+、ＴｉＯ2+、ＺｒＯ2+及びそれらの混合物からなる群から選択される、請求項１から１０までのいずれか１項に記載の処理溶液。
【請求項１２】
前記式Ｍ’’Ｘab-の少なくとも１つのハロゲン錯イオンが、ＳｉＦ62-、ＴｉＦ62-及びＺｒＦ62-からなる群から選択される、請求項１から１１までのいずれか１項に記載の処理溶液。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月24日(2013.7.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水素発生用電極であって、１〜１０ｎｍ、標準偏差０．５ｎｍ以下のサイズを有する金属又は酸化物の形態のルテニウムの結晶子を含有する表面触媒コーティングを備えた金属基材を含む電極（前記標準偏差は前記表面触媒コーティングの異なるゾーンでの測定を繰り返すことによって得られる）。
【請求項２】
前記金属基材と前記触媒コーティングとの間に間置されたＲｕＯ２を含む中間コーティングを含む、請求項１に記載の電極。
【請求項３】
前記触媒コーティングが１〜５ｇ／ｍ２のルテニウムの特定装填量を有し、前記中間コーティングが５〜１２ｇ／ｍ２のルテニウムの特定装填量を有する、請求項２に記載の電極。
【請求項４】
前記結晶子のサイズが１〜５ｎｍである、前記請求項のいずれか１項に記載の電極。
【請求項５】
前記金属基材がニッケル製である、前記請求項のいずれか１項に記載の電極。
【請求項６】
前記ルテニウムの結晶子が非化学量論的酸化物の形態である、前記請求項のいずれか１項に記載の電極。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の電極の製造法であって、前記触媒コーティングをルテニウムターゲットからの化学又は物理蒸着技術によって堆積することを含む方法。
【請求項８】
前記物理蒸着が、反応性ガスによる前記ルテニウムの同時酸化を含む、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
化学又は物理蒸着による前記触媒コーティングの堆積の前に、ルテニウム塩を含有する水溶液の熱分解によるＲｕＯ２の中間コーティングの堆積を行う、請求項７又は８に記載の方法。
【請求項１０】
化学又は物理蒸着による前記触媒コーティングの堆積の前に、電着技術によるＲｕＯ２の中間コーティングの堆積を行う、請求項７又は８に記載の方法。
【請求項１１】
電解プロセスにおける水素のカソード発生のための、請求項１〜６のいずれか１項に記載の電極の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成25年8月6日(2013.8.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式Ｉの繰り返し単位を少なくとも２個含むコポリマーであって、
【化１】
2013505327.tif 000001
式中、
各Ｒ１は独立して、アルキル、ハロアルキル、アラルキル、アルケニル若しくはアリールであるか、又はアルキル、アルコキシ若しくはハロで置換されたアリールであり、
各Ｙは独立して、アルキレン、アラルキレン、又はこれらの組み合わせであり、
各Ｇは独立して、結合であるか、又は式Ｒ３ＨＮ−Ｇ−ＮＨＲ３のジアミンから２個の−ＮＨＲ３基を除いたものに相当する二価の残基であり、
各Ｒ３は独立して、水素若しくはアルキルであるか、又は各Ｒ３はＧと、Ｒ３及びＧが両方結合している窒素と共に複素環基を形成し、
各ｎは独立して０〜１５００の整数であり、
各ｐは独立して１〜１０の整数であり、
各ｑは独立して１以上の整数であり、ｑの少なくとも５０％は整数２である、コポリマー。
【請求項２】
式Ｉ’の繰り返し単位を少なくとも２個含むコポリマーを製造する方法であって、
【化２】
2013505327.tif 000002
式中、
各Ｒ１は独立して、アルキル、ハロアルキル、アラルキル、アルケニル若しくはアリールであるか、又はアルキル、アルコキシ若しくはハロで置換されたアリールであり、
各Ｙは独立して、アルキレン、アラルキレン、又はこれらの組み合わせであり、
各Ｇは独立して、結合であるか、又は、式Ｒ３ＨＮ−Ｇ−ＮＨＲ３のジアミンから２個の−ＮＨＲ３基を除いたものに相当する二価の残基であり、
各Ｒ３は独立して、水素若しくはアルキルであるか、又は各Ｒ３はＧと、Ｒ３及びＧが両方結合している窒素と共に複素環基を形成し、
各ｎは独立して０〜１５００の整数であり、
前記方法は、
（ａ）式ＩＶの化合物を、
【化３】
2013505327.tif 000003
（式中、ｐは１〜１０の整数であり、各Ｒ２は独立して、アルキル、ハロアルキル若しくはアリールであるか、又はアルキル、アルコキシ、ハロ若しくはアルコキシカルボニルで置換されたアリールであるか、又はＮを介して結合した
【化４】
2013505327.tif 000004
であり、各Ｒ４は独立して、水素、アルキル若しくはアリールであるか、又はＲ４は共に環を形成する）
モル過剰の式Ｖのジアミンと反応させて、
【化５】
2013505327.tif 000005
式ＶＩのアミン末端ポリマーを形成することと、
【化６】
2013505327.tif 000006
（ｂ）過剰なジアミンを除去することと、
（ｃ）式ＶＩのアミン末端ポリマーを式ＩＩのオキサラートエステルにより処理することで、式Ｉ’の繰り返し単位を形成することと
【化７】
2013505327.tif 000007
（式中、Ｒ５はアルキル、ハロアルキル若しくはアリールであるか、又はアルキル、アルコキシ、ハロ若しくはアルコキシカルボニルで置換されたアリールであるか、又はＮを介して結合した
【化８】
2013505327.tif 000008
であり、各Ｒ４は独立して、水素、アルキル若しくはアリールであるか、又はＲ４は共に環を形成する）、を含む、コポリマーを製造する方法。
【請求項３】
感圧接着剤、フィルム、混合物又は低接着性バックサイズである、請求項１に記載のコポリマーを含む物品。