【手続補正書】
【提出日】平成21年8月20日(2009.8.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画素が配列されてなる表示領域を有する電気光学装置であって、
前記複数の画素の各々に対応して設けられた画素電極及びスイッチング用ＴＦＴを有するＴＦＴアレイ基板と、
前記複数の画素に対応して設けられた第１プリズム素子及び第２プリズム素子を有する対向基板と、
前記ＴＦＴアレイ基板及び前記対向基板間に狭持された液晶層と
を備え、
前記第１プリズム素子は、前記対向基板の中央領域に位置する第１領域に配置されており、
前記第２プリズム素子は、前記第１領域の外側に位置する第２領域に配置されており、
前記第１プリズム素子及び前記第２プリズム素子は、前記電気光学装置の法線に対して傾斜した傾斜面を各々有しており、
前記第２プリズム素子の傾斜面及び前記法線が互いになす角度は、前記第１プリズム素子の傾斜面及び前記法線が互いになす角度よりも小さい
ことを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記第１プリズム素子及び前記第２プリズム素子は、前記対向基板の前記液晶層側の面に形成された凹部に、前記対向基板の屈折率よりも低い屈折率を有する樹脂を充填し、該樹脂を硬化することで形成されていることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記対向基板には、前記複数の画素の開口部の少なくとも一部を規定する遮光膜が形成されており、
前記第１プリズム素子及び前記第２プリズム素子は、平面視において、前記遮光膜と重なる領域に形成されている
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記第２プリズム素子の傾斜面は、前記第１プリズム素子の傾斜面より光反射率が高いことを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項５】
前記第１プリズム素子及び前記第２プリズム素子の屈折率は、前記傾斜面を界面として接する素材の屈折率より低いことを特徴とする請求項１から４の何れか一項に記載の電気光学装置。
【請求項６】
前記第２プリズム素子は、第３プリズム素子と、該第３プリズム素子よりも前記対向基板の外側に配置された第４プリズム素子とを有し、
前記第３プリズム素子の傾斜面及び前記法線が互いになす角度は、前記第４プリズム素子の傾斜面及び前記法線が互いになす角度よりも小さい
ことを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項７】
請求項１から６の何れか一項に記載の電気光学装置を具備してなることを特徴とするプロジェクタ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明に係る電気光学装置は上記課題を解決するために、複数の画素が配列されてなる表示領域を有する電気光学装置であって、前記複数の画素の各々に対応して設けられた画素電極及びスイッチング用ＴＦＴを有するＴＦＴアレイ基板と、前記複数の画素に対応して設けられた第１プリズム素子及び第２プリズム素子を有する対向基板と、前記ＴＦＴアレイ基板及び前記対向基板間に狭持された液晶層とを備え、前記第１プリズム素子は、前記対向基板の中央領域に位置する第１領域に配置されており、前記第２プリズム素子は、前記第１領域の外側に位置する第２領域に配置されており、前記第１プリズム素子及び前記第２プリズム素子は、前記電気光学装置の法線に対して傾斜した傾斜面を各々有しており、前記第２プリズム素子の傾斜面及び前記法線が互いになす角度は、前記第１プリズム素子の傾斜面及び前記法線が互いになす角度よりも小さい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明に係る電気光学装置によれば、電気光学パネルは、例えば画素スイッチング用ＴＦＴが形成されたＴＦＴアレイ基板と、当該ＴＦＴアレイ基板に対向配置された対向基板と、これら基板に挟持された液晶層等の電気光学物質層とを備えて構成されている。ＴＦＴは、画素毎に設けられており、ＴＦＴアレイ基板上において、開口領域を互いに隔てる非開口領域に形成されている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
第２プリズム素子は、画像表示領域たる表示領域において、複数の画素に含まれる一の画素に対応して配置された第１プリズム素子より外側、即ち中央領域に位置する第１領域より外側に位置する周辺領域である第２領域に配置されている。したがって、第１プリズム素子には、電気光学パネルの法線に沿った平行光がランプ光源等の光源から入射する一方、第２プリズム素子には、第１プリズム素子より相対的に斜めに入射する光量が多くなる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
そこで、本発明に係る電気光学装置によれば、第２プリズム素子は、第２プリズム素子の傾斜面が、第１プリズム素子の傾斜面より急峻となるように形成されている。ここで、「急峻」とは、例えば電気光学パネルの法線となす角度が、第１プリズム素子の傾斜面が当該法線となす角度より小さくなるように形成されていることを意味する。したがって、第１プリズム素子に入射する光源光は、第１プリズム素子に対応する画素の開口領域に集光されると共に、第２プリズム素子に入射する光源光は、第２プリズム素子の傾斜面によって全反射される。第２プリズム素子の傾斜面によって全反射された光は、当該第２プリズム素子に対応した画素の開口領域に出射され、各遮光膜間の隙間に斜めに入射する光が低減される。したがって、非開口領域に第２プリズム素子によって反射された光が画素スイッチング用ＴＦＴに照射されることを低減でき、光リーク電流による電気光学パネルの誤動作を低減できる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明に係る電気光学装置の一態様では、前記第１プリズム素子及び前記第２プリズム素子は、前記対向基板の前記液晶層側の面に形成された凹部に、前記対向基板の屈折率よりも低い屈折率を有する樹脂を充填し、該樹脂を硬化することで形成されている。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
この態様によれば、第１プリズム素子及び第２プリズム素子を容易且つ確実に形成することが可能である。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明に係る電気光学装置の他の態様では、前記対向基板には、前記複数の画素の開口部の少なくとも一部を規定する遮光膜が形成されており、前記第１プリズム素子及び前記第２プリズム素子は、平面視において、前記遮光膜と重なる領域に形成されている。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
この態様によれば、例えば、画素スイッチング用ＴＦＴ等の半導体素子に対する遮光性を高めることが可能である。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
本発明に係る電気光学装置の他の態様では、前記第２プリズム素子は、第３プリズム素子と、該第３プリズム素子よりも前記対向基板の外側に配置された第４プリズム素子とを有し、前記第３プリズム素子の傾斜面及び前記法線が互いになす角度は、前記第４プリズム素子の傾斜面及び前記法線が互いになす角度よりも小さい。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
この態様によれば、第２プリズム素子に入射する光の大部分を開口領域に集光でき、光利用効率を高めることが可能である。