(57)【要約】【課題】より簡便な構成で同等の散乱効果等が得られる発光装置を提供する。【解決手段】本発明の発光装置は、発光層６０を含む複数の薄膜２０，２１，２２，２３，７０，６０，５５，５０，３３，４３，４２，４１が積層されてなる発光装置であって、前記薄膜のいずれかの界面に、指向性を有した散乱機能を発現するうねり構造３１を具備することを特徴とする。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光層を含む複数の薄膜が積層されてなる発光装置であって、
前記薄膜のいずれかの界面に、指向性を有した散乱機能を発現するうねり構造を具備することを特徴とする発光装置。
【請求項２】
前記うねり構造が、ランダムに配設された複数の凹凸により構成され、当該凹凸が滑らかな表面を具備してなることを特徴とする請求項１に記載の発光装置。
【請求項３】
前記うねり構造が、隣接する凸部間の距離が３００ｎｍ〜１２００ｎｍの範囲で構成されてなることを特徴とする請求項２に記載の発光装置。
【請求項４】
前記うねり構造が、隣接する凸部間の距離が前記発光層における発光色のスペクトルピーク波長の−２５０ｎｍ〜＋２５０ｎｍの範囲で構成されてなることを特徴とする請求項２に記載の発光装置。
【請求項５】
前記うねり構造が、凸頂部と凹底部の間の高さが５０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲で構成されてなることを特徴とする請求項２ないし４のいずれか１項に記載の発光装置。
【請求項６】
前記うねり構造が、前記薄膜の界面の全面積の３０％以上を占めることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項に記載の発光装置。
【請求項７】
発光層を含む複数の薄膜が積層されてなり、前記薄膜のいずれかの界面に、指向性を有した散乱機能を発現するうねり構造を具備する発光装置の製造方法であって、
メソポーラスシリカをスピンコート法により成膜し、前記うねり構造を形成するうねり構造形成工程を含むことを特徴とする発光装置の製造方法。
【請求項８】
前記うねり構造形成工程において、前記メソポーラスシリカからなる膜が１０ｎｍ〜３００ｎｍとなるように成膜条件を設計することを特徴とする請求項７に記載の発光装置の製造方法。
【請求項９】
前記うねり構造形成工程は、固形分濃度３ｗｔ％〜８ｗｔ％のシリコンアルコキシドの溶液を、１５００ｒｐｍ〜４０００ｒｐｍの回転数でスピンコートする工程と、真空中で３００℃〜４００℃、０．５時間〜５時間の焼成を行う工程と、を含むことを特徴とする請求項７又は８に記載の発光装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項１ないし６のいずれか１項に記載の発光装置を備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、発光装置、発光装置の製造方法、及び電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
携帯電話機、パーソナルコンピュータやＰＤＡ（Personal Digital Assistants）等の電子機器に使用される表示装置や、デジタル複写機やプリンタなどの画像形成装置における露光用ヘッドとして、有機エレクトロルミネッセンス装置（以下、有機ＥＬ装置と称する。）等の発光装置が注目されている。この種の発光装置としては、発光層を含む様々な屈折率の薄膜が複数積層されてなる多層構造を有したものが知られている。
【０００３】
発光層の屈折率は材料によっても異なるが、概ね５５０ｎｍにおいて１．５５〜２．３程度であり、空気（ｎ＝１．０）やガラス（ｎ＝１．５）よりも大きいのが一般的である。したがって、高い屈折率層が発光した光は、視認者がいる空気層（ｎ＝１．０）に到達するまでに、１回以上、屈折率が高い層から低い層へ入射する界面を通過し、そこで大部分の光は界面の全反射により基板横方向に伝播する導波モードとなってしまい、表示に寄与できない場合がある。
【０００４】
そこで、従来、積層された薄膜のいずれかの界面に凹凸構造や、微細な周期構造を形成して、散乱効果、回折効果、フォトニック結晶効果を発現し、発光光の全反射量を抑え、放射モードとなる光を増やす技術が知られている（特許文献１又は２参照）。
【０００５】
【特許文献１】特開２００１−７６８６４号公報
【特許文献２】特開２００４−２２４３８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１に開示された技術では、ガラス基板上に凹凸を形成して光の閉じ込めを回避しており、光取り出し効率の向上を図っている。具体的には、犠牲酸化膜により凹凸を形成するものとしている。また、特許文献２に開示された技術では、トップエミッション構造において、下側基板の反射層が凹凸を有しており、凹凸を平坦化する層の屈折率が発光層の屈折率よりも大きいものとしている。このような従来技術では、微細構造の形成や構造物の上部を平坦化させるために煩雑な工程を必要としている。本発明は、より簡便な構成で同等の散乱効果等が得られる構成を提供することを目的としており、また、本発明は、より簡便な工程で、同等の散乱効果等が得られる方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明の発光装置は、発光層を含む複数の薄膜が積層されてなる発光装置であって、前記薄膜のいずれかの界面に、指向性を有した散乱機能を発現するうねり構造を具備することを特徴とする。
【０００８】
このような発光装置によると、指向性散乱を有するうねり構造を発光装置のいずれかの層界面に形成することで、従来のように屈折率の高い層と低い層との界面で全反射されていた光を減らし、空気中に放射される光を増加させることが可能となる。
【０００９】
前記うねり構造が、ランダムに配設された複数の凹凸により構成され、当該凹凸が滑らかな表面（つまり角のない凹凸構造）を具備してなるものとすることができる。
【００１０】
このようなうねり構造の採用により、指向性散乱を一層確実に実現することが可能となる。
【００１１】
前記うねり構造が、隣接する凸部間の距離が３００ｎｍ〜１２００ｎｍの範囲で構成されてなるものとすることができる。
【００１２】
このように隣接凸部間距離を可視光の波長程度で構成することで、各色の光を好適に散乱させることが可能となる。隣接凸部間距離が３００ｎｍ未満の場合は近紫外光を最も強く指向性散乱させ、可視光を指向性散乱する機能を有さない構造となり、上記効果が得られない場合があり、１２００ｎｍを超えると近赤外光を最も強く指向性散乱させ、可視光を指向性散乱する機能を有さない構造構造となり、上記効果が得られない場合がある。
【００１３】
前記うねり構造が、隣接する凸部間の距離が前記発光層における発光色のスペクトルピーク波長の−２５０ｎｍ〜＋２５０ｎｍの範囲で構成されてなるものとすることができる。
【００１４】
このように隣接凸部間距離を発光色のスペクトルピーク波長の−２５０ｎｍ〜＋２５０ｎｍの範囲で構成すると、当該色光を好適に散乱させることが可能となる。隣接凸部間距離が発光色のスペクトルピーク波長の−２５０ｎｍ未満の場合は発光スペクトルのいずれの波長においても、指向性散乱が発現せず、上記効果が得られないとなる場合があり、＋２５０ｎｍを超えると、同じく発光スペクトルのいずれの波長においても、指向性散乱が発現せず、上記効果が得られないとなる場合がある。
【００１５】
前記うねり構造が、凸頂部と凹底部の間の高さが５０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲で構成されてなるものとすることができる。
【００１６】
このように凸頂部と凹底部の間の高さが５０ｎｍ未満の場合は十分な散乱を実現できない場合があり、５００ｎｍを超えると、例えば別部材の平坦化膜等を形成する等の平坦化処理が困難となる場合がある。
【００１７】
前記うねり構造が、前記薄膜の界面の全面積の３０％以上を占めるものとすることができる。
【００１８】
このようなうねり構造の採用により、指向性散乱を一層確実に実現することが可能となる。うねり構造の占有面積が、薄膜界面の全面積の３０％未満の場合には光を十分に散乱させることができない場合がある。
【００１９】
次に、上記課題を解決するために、本発明の発光装置の製造方法は、発光層を含む複数の薄膜が積層されてなり、前記薄膜のいずれかの界面に、指向性を有した散乱機能を発現するうねり構造を具備する発光装置の製造方法であって、メソポーラスシリカをスピンコート法により成膜し、前記うねり構造を形成するうねり構造形成工程を含むことを特徴とする。
【００２０】
このような製造方法によると、メソポーラスシリカ膜からなるうねり構造を簡便に形成することが可能となり、ひいては指向性散乱機構を簡便に実現することが可能となる。
【００２１】
前記うねり構造形成工程において、前記メソポーラスシリカからなる膜が１０ｎｍ〜３００ｎｍとなるように成膜条件を設計することができる。
【００２２】
このような膜厚となるように設計することで、形成されるうねり構造は、凸頂部と凹底部の間の高さが５０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲となり、上述した本発明の効果を好適に発現することが可能となる。
【００２３】
前記うねり構造形成工程は、固形分濃度３ｗｔ％〜８ｗｔ％のシリコンアルコキシドの溶液を、１５００ｒｐｍ〜４０００ｒｐｍの回転数でスピンコートする工程と、真空中で３００℃〜４００℃、０．５時間〜５時間の焼成を行う工程と、を含むことを特徴とする。
【００２４】
このような工程を採用することで、うねり構造を簡便且つ確実に形成することが可能となる。つまり、本発明ではうねり構造の形成工程において、スピンコート法で供給する溶液の濃度、成膜時の回転数、及び焼成条件を上記範囲とすることで、所望のうねり構造を確実に形成することが可能となるのである。
【００２５】
次に、上記課題を解決するために、本発明の電子機器は、上記発光装置を備えることを特徴とする。このような電子機器は、視認性に優れた表示を当該発光装置により実現することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、本発明を詳しく説明する。
【００２７】
なお、この実施の形態は、本発明の一部の態様を示すものであり、本発明を限定するものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。また、以下に示す各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材ごとに縮尺を異ならせてある。
（有機ＥＬパネル）
まず、本発明の発光装置に係る有機ＥＬパネルの実施形態を説明する。
【００２８】
図１は、有機ＥＬパネル１の配線構造を示す模式図である。
【００２９】
本実施形態の有機ＥＬパネル１は、スイッチング素子として薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor、以下ＴＦＴと称する。）を用いたアクティブマトリクス方式のもので、複数の走査線１０１…と、各走査線１０１に対して直角に交差する方向に延びる複数の信号線１０２…と、各信号線１０２に並列に延びる複数の電源線１０３…とからなる配線構成を有し、走査線１０１…と信号線１０２…との各交点付近に画素Ｘ…を形成したものである。
【００３０】
もちろん本発明の技術的思想に沿えば、ＴＦＴなどを用いるアクティブマトリクスは必須ではなく、単純マトリクス向けの基板を用いて本発明を実施し、単純マトリクス駆動しても全く同じ効果が得られる。
【００３１】
信号線１０２には、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン及びアナログスイッチを備えるデータ線駆動回路１００が接続されている。また、走査線１０１には、シフトレジスタ及びレベルシフタを備える走査線駆動回路８０が接続されている。
【００３２】
更に、画素Ｘの各々には、走査線１０１を介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング用ＴＦＴ（スイッチング素子）１１２と、このスイッチング用ＴＦＴ１１２を介して信号線１０２から供給される画素信号を保持する保持容量１１３と、該保持容量１１３によって保持された画素信号がゲート電極に供給される駆動用ＴＦＴ（スイッチング素子）１２３と、この駆動用ＴＦＴ１２３を介して電源線１０３に電気的に接続したときに該電源線１０３から駆動電流が流れ込む画素電極（第１電極）２３と、当該画素電極２３と陰極（第２電極）５０との間に挟み込まれた発光機能層１１０とが設けられている。
【００３３】
次に、本実施形態の有機ＥＬパネル１の具体的な態様を、図２及び図３を参照して説明する。ここで、図２は有機ＥＬパネル１の構成を模式的に示す平面図である。図３は有機ＥＬパネル１を構成する有機ＥＬ素子の単位画素群を模式的に示す断面図である。
【００３４】
まず、図２を参照し、有機ＥＬパネル１の構成を説明する。
【００３５】
図２は、基板２０上に形成された各種配線，ＴＦＴ，画素電極，各種回路によって、発光機能層１１０を発光させる有機ＥＬパネル１を示す図である。
【００３６】
図２に示すように、有機ＥＬパネル１は、電気絶縁性を備える基板２０と、スイッチング用ＴＦＴ１１２に接続された画素電極２３が基板２０上にマトリックス状に配置されてなる画素Ｘ（図１参照）と、少なくとも画素Ｘ上に位置する平面視ほぼ矩形の画素部３（図２中一点鎖線枠内）とを備えて構成されている。
【００３７】
なお、本実施形態において画素部３は、中央部分の実表示領域４（図中二点鎖線枠内）と、実表示領域４の周囲に配置されたダミー領域５（一点鎖線および二点鎖線の間の領域）とに区画されている。
【００３８】
実表示領域４においては、赤色発光（Ｒ）、緑色発光（Ｇ）、及び青色発光（Ｂ）で各々発光する、赤色画素ＸＲ、緑色画素ＸＧ、及び青色画素ＸＢが紙面左右方向に規則的に配置されている。また、各色画素ＸＲ，ＸＧ，ＸＢの各々は、紙面縦方向において同一色で配列しており、所謂ストライプ配置を構成している。また、各色画素ＸＲ，ＸＧ，ＸＢの各々は、先述のＴＦＴ１１２，１２３の動作に伴って、ＲＧＢの各色で発光する発光機能層１１０を備えた構成となっている。そして、各色画素ＸＲ，ＸＧ，ＸＢが一つのまとまりとなって、単位画素群Ｐｘ（後述）が構成されており、当該単位画素群ＰｘはＲＧＢの発光を混色させてフルカラー表示を行うようになっている。従って、単位画素群Ｐｘがマトリクス状に配置されることで構成された実表示領域４においては、フルカラーの画像を表示するようになっている。
【００３９】
また、実表示領域４の図２中両側には、走査線駆動回路８０、８０が配置されている。この走査線駆動回路８０、８０は、ダミー領域５の下層側に位置して設けられている。
【００４０】
また、実表示領域４の図２中上方側には検査回路９０が配置されており、この検査回路９０はダミー領域５の下層側に配置されて設けられている。この検査回路９０は、有機ＥＬパネル１の作動状況を検査するための回路であって、例えば検査結果を外部に出力する検査情報出力手段（不図示）を備え、製造途中や出荷時における有機ＥＬパネル１の品質、欠陥の検査を行うことができるように構成されている。
【００４１】
走査線駆動回路８０および検査回路９０の駆動電圧は、所定の電源部から駆動電圧導通部（不図示）を介して印加されている。また、これら走査線駆動回路８０及び検査回路９０への駆動制御信号および駆動電圧は、有機ＥＬパネル１の作動制御を司る所定のメインドライバなどから駆動制御信号導通部（不図示）及び駆動電圧導通部（不図示）を介して送信および印加されるようになっている。なお、この場合の駆動制御信号とは、走査線駆動回路８０および検査回路９０が信号を出力する際の制御に関連するメインドライバなどからの指令信号である。
【００４２】
（有機ＥＬ素子の第１実施形態）
次に、図３を参照し、有機ＥＬパネル１を構成する有機ＥＬ素子の第１実施形態について、当該有機ＥＬ素子の単位画素群の構造を説明する。
【００４３】
なお、図３においては、有機ＥＬ素子を構成する画素電極２３，発光機能層１１０，及び陰極５０について詳述し、画素電極２３には駆動用ＴＦＴ１２３が接続されているものとする。また、画素電極２３は、赤色画素ＸＲ、緑色画素ＸＧ、青色画素ＸＢの各々に形成されているものとし、図１に示したように駆動用ＴＦＴ１２３によって画素毎に発光させるようになっている。
【００４４】
図３に示すように、有機ＥＬ素子（有機ＥＬ装置）１Ａの単位画素群Ｐｘは、基板２０上に、画素電極２３及び陰極５０に挟持された発光機能層１１０を備えている。また、基板２０に対向配置されたカラーフィルタ基板４０が設けられ、各電極２３，５０及び発光機能層１１０は、基板２０と、カラーフィルタ基板４０の間に配置されている。当該基板２０とカラーフィルタ基板４０の間は、シール材３２に囲まれた領域に充填剤３３が充填された領域とされている。
【００４５】
また、発光機能層１１０は、赤色画素ＸＲ、緑色画素ＸＧ、及び青色画素ＸＢの各々について、異なる発光材料を有しており、赤色Ｒ、緑色Ｇ、青色Ｂの各色を発光するようになっている。また、発光機能層１１０から発光した光は、カラーフィルタ基板４０を透過して出射するようになっている。従って、本実施形態の有機ＥＬ素子１Ａ（有機ＥＬパネル１）は、トップエミッション型を構成している。
【００４６】
基板２０は、透明性基板であり、本実施形態ではガラス基板を用いている。ガラス基板材料は、５５０ｎｍの波長を有する光に対して１．５４の屈折率を有している。また、基板２０上には薄膜のアルミニウム層からなる反射層２１が形成され、発光機能層１１０から発せられた光をカラーフィルタ基板４０側に反射させている。なお、反射層２１上には保護層２２が形成され、当該保護層２２上に陽極としての画素電極２３が形成されている。
【００４７】
画素電極２３は、ＩＴＯ（Indium-Tin Oxide）やＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）、或いは、酸化スズ、酸化インジウムと酸化亜鉛との複合酸化物等の透明導電膜である。本実施形態では、ＩＴＯ膜を採用している。当該ＩＴＯ膜は、５５０ｎｍの波長を有する光に対して１．８２の屈折率を有している。
【００４８】
このような画素電極２３の形成方法としては、スパッタ法によって基板２０上の全面（実際には保護層２２を介して全面）に透明導電膜を製膜した後に、レジストマスクを介在させたウエットエッチング処理を行うことで、赤色画素ＸＲ、緑色画素ＸＧ、及び青色画素ＸＢの各々に対応させて画素電極２３がパターニング形成される。
【００４９】
発光機能層１１０は、画素電極２３上に形成された正孔輸送層（発光機能層）７０と、当該正孔輸送層７０上に形成された有機ＥＬ層（発光機能層）６０と、当該有機ＥＬ層６０上に形成された電子輸送層（発光機能層）５５とを含む積層体により構成されている。
【００５０】
正孔輸送層７０は、有機ＥＬ層６０に正孔を輸送／注入する機能を有する層膜である。このような正孔輸送層７０の形成材料としては、高分子材料では特に３，４−ポリエチレンジオシチオフェン／ポリスチレンスルフォン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）の分散液、即ち、分散媒としてのポリスチレンスルフォン酸に３，４−ポリエチレンジオキシチオフェンを分散させ、さらにこれを水に分散させた分散液が好適に用いられる。
【００５１】
なお、正孔輸送層７０の形成材料としては、前記のものに限定されることなく種々のものが使用可能である。例えば、ポリスチレン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレンやその誘導体などを、適宜な分散媒、例えば前記のポリスチレンスルフォン酸に分散させたものなどが使用可能である。低分子材料では、銅フタロシアニン、ｍ−ＭＴＤＡＴＡ、ＴＰＤ、α−ＮＰＤなど、通常の正孔注入材料を蒸着法にて用いることができる。
【００５２】
有機ＥＬ層６０を形成するための材料としては、蛍光あるいは燐光を発光することが可能な公知の発光材料が用いられる。また、赤色画素ＸＲ、緑色画素ＸＧ、及び青色画素ＸＢの各々に有機ＥＬ層６０Ｒ，６０Ｇ，６０Ｂを設けることで、フルカラー表示が可能な有機ＥＬ素子１Ａとなる。
【００５３】
有機ＥＬ層６０（６０Ｒ，６０Ｇ，６０Ｂ）の形成材料として具体的には、高分子材料としては（ポリ）フルオレン誘導体（ＰＦ）、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリフェニレン誘導体（ＰＰ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）、ポリチオフェン誘導体、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）などのポリシラン系などが好適に用いられる。また、これらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素などの高分子系材料や、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等の低分子材料をドープして用いることもできる。低分子材料としては、Ａｌｑ３、ＤＰＶＢｉなどのホスト材料、これにナイルレッド、ＤＣＭ、ルブレン、ぺリレン、ローダミンなどをドープして、またはホスト単独で、蒸着法にて用いることができる。また、赤色の有機ＥＬ層６０Ｒの形成材料としては例えばＭＥＨＰＰＶ（ポリ（３−メトキシ６−（３−エチルヘキシル）パラフェニレンビニレン）を、緑色の有機ＥＬ層６０Ｇの形成材料としては例えばポリジオクチルフルオレンとＦ８ＢＴ（ジオクチルフルオレンとベンゾチアジアゾールの交互共重合体）の混合溶液を、青色の有機ＥＬ層６０Ｂの形成材料としては例えばポリジオクチルフルオレンを用いる場合がある。
【００５４】
電子輸送層５５は、有機ＥＬ層６０に電子を輸送／注入する機能を有する層膜である。このような電子輸送層５５の形成材料としては、例えば、ＬｉＦやＳｒＦ2等のアルカリ土類金属やアルカリ金属の化合物が採用される。
【００５５】
陰極５０は、画素電極２３に対向する対向電極である。当該陰極５０は、有機ＥＬ層６０上に設けられた低仕事関数の金属からなる第１陰極と、該第１陰極上に設けられて該第１陰極を保護する第２陰極とからなるものである。第１陰極を形成する低仕事関数の金属としては、特に仕事関数が３．０ｅＶ以下の金属であるのが好ましく、具体的にはＣａ（仕事関数；２．６ｅＶ）、Ｓｒ（仕事関数；２．１ｅＶ）、Ｂａ（仕事関数；２．５ｅＶ）が好適に用いられる。第２陰極は、第１陰極を覆って酸素や水分などからこれを保護するとともに、陰極５０全体の導電性を高めるために設けられたものである。本実施形態の有機ＥＬ素子１Ａは、カラーフィルタ基板４０側から発光光を取り出すトップエミッション型であるから陰極５０は透光性を有するものである。
【００５６】
次に、画素電極２３と陰極５０との間に各色の発光機能層１１０を含む有機ＥＬ素子１Ａは、薄膜封止層５１によって封止されている。また、この薄膜封止層５１上には、シール材３２によって囲まれた領域に充填剤３３を介してカラーフィルタ基板４０が形成されている。カラーフィルタ基板４０は、当該有機ＥＬ装置１の視認側に配設される基板４１と、該基板４１上に配設された指向性散乱層３５と、該指向性散乱層３５上に配設されたカラーフィルタ層４２と、カラーフィルタ層４２を覆うオーバーコート層４３とを有して構成されている。
【００５７】
基板４１は、透明性基板であり、本実施形態ではガラス基板を用いている。ガラス基板材料は、５５０ｎｍの波長を有する光に対して１．５４の屈折率を有している。また、指向性散乱層３５は、メソポーラスシリカ膜からなり、表層にはうねり構造３１が形成されている。うねり構造３１は、指向性を有した散乱機能を発現可能とされており、図４及び図５に示すように、ランダムに配設された複数の凹凸（凸部３１ａ、凹部３１ｂ）により構成され、当該凹凸は滑らかな表面を具備している。
【００５８】
ここで、うねり構造３１において、隣接する凸部３１ａ，３１ａ間の距離は図４に示すように３００ｎｍ〜１２００ｎｍの範囲で構成されており、また、凸部３１ａの頂部と凹部３１ｂの底部の間の高さは図５に示すように５０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲で構成されている。このような範囲の凸部間距離及び高さを有したうねり構造３１により、指向性を備えた散乱機能を好適に発現することが可能となっている。なお、うねり構造３１は指向性散乱層３５の全面積の３０％以上を占めている。
【００５９】
このような指向性散乱層３５を備えることで、可視光領域に指向性散乱機能が発現し、上記うねり構造３１が指向性散乱層３５の全面積の３０％未満の場合には、可視光領域で十分な指向性散乱が発現されない場合がある。また、凸部３１ａの頂部と凹部３１ｂの底部の間の高さが５００ｎｍを超えると、当該うねり構造３１を平坦化する場合には、平坦化層にクラックが生じ、パネルの信頼性に不備をきらす場合がある。
【００６０】
指向性散乱層３５上には、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の各色のカラーフィルタ層４２が形成され、さらにカラーフィルタ層４２を覆うオーバーコート層４３が形成されている。以上の基板４１、指向性散乱層３５、カラーフィルタ層４２、オーバーコート層４３によりカラーフィルタ基板４０が構成されている。
【００６１】
なお、上記の構成を有する単位画素群Ｐｘにおいては、赤色画素ＸＲ、緑色画素ＸＧ、及び青色画素ＸＢの相互間にバンク（隔壁）が形成されていてもよい。この場合、高分子材料からなる発光機能層を液滴吐出法によって形成することができる。また、バンクは、無機材料からなるバンクと、有機材料からなる有機バンクによって構成されていることが好ましい。また、無機バンクの表面には親液性が付与され、有機バンクの表面には撥液性が付与されていることが好ましい。これによって、液滴吐出法によって発光機能層１１０を形成する際に、バンク間に液滴を留めることができる。また、上記の発光機能層１１０は、低分子材料から構成されていてもよい。この場合、発光機能層はマスク蒸着法を用いて形成されるので、バンクを形成する必要がない。また、低分子系の発光機能層としては、正孔輸送層や電子注入バッファ層が含まれていることが好ましい。
【００６２】
このように構成された有機ＥＬ素子１Ａにおいては、画素電極２３と陰極５０の間に電流が流れると、有機ＥＬ層６０（６０Ｂ，６０Ｇ，６０Ｒ）は発光し、発光光は陰極５０を介してカラーフィルタ基板４０側から出射したり、基板２０側に形成された反射層２１で反射してから陰極５０を介してカラーフィルタ基板４０側から出射したりする。このとき、カラーフィルタ基板４０には指向性散乱層３５が形成されているため、発光光が好適に散乱し、視角を広げることが可能とされている。
【００６３】
図６は、指向性散乱層３５に対して様々な角度（０°、１５°、３０°、６０°）から光（４５０ｎｍ）を入射し、透過における指向性散乱光を検出した結果を示すものである。横軸は受光角度（°）を示し、縦軸は検出強度（ａ．ｕ．）を示している。また、図７は、指向性散乱層３５に対して様々な角度（０°、１５°、３０°、６０°）から光（４５０ｎｍ）を入射し、反射における指向性散乱光を検出した結果を示すものである。横軸は受光角度（°）を示し、縦軸は検出強度（ａ．ｕ．）を示している。なお、図６及び図７において、透過では入射方向の検出強度を１として規格化し、反射では正反射方向の検出強度を１として規格化した。
【００６４】
このように本実施形態で用いた指向性散乱層３５によると、青色の波長近辺において、透過及び反射のそれぞれで入射光もしくは反射光方向に対して±２５°に指向性散乱による検出ピークが確認された。うねり構造３１により、このような指向性散乱が実現され、規則的な周期を具備した凹凸構造を形成したときの回折効果とは異なり、入射光角度が変化しても、ほぼ同じ角度に入射光の一部が同じ指向性をもって散乱する。
【００６５】
なお、上記実施形態では、指向性散乱による検出ピークは、入射光もしくは反射光方向に対して±２５°としたが、うねりの深さの平均値を変化させることによって、指向性散乱光の角度を制御することができる。図８は、４５０ｎｍにおけるうねり構造３１の深さと指向性散乱の角度との関係を示したものである。このようにうねり構造３１の深さの平均値を変化させることによって、指向性散乱角度は様々なものとなり得る。
【００６６】
一方、図９は、指向性散乱層３５に対して様々な角度（０°、１５°、３０°、６０°）から光（５５０ｎｍ）を入射し、透過における指向性散乱光を検出した結果を示すものである。横軸は受光角度（°）を示し、縦軸は検出強度（ａ．ｕ．）を示している。また、図１０は、指向性散乱層３５に対して様々な角度（０°、１５°、３０°、６０°）から光（５５０ｎｍ）を入射し、反射における指向性散乱光を検出した結果を示すものである。横軸は受光角度（°）を示し、縦軸は検出強度（ａ．ｕ．）を示している。なお、図９及び図１０において、透過では入射方向の検出強度を１として規格化し、反射では正反射方向の検出強度を１として規格化した。
【００６７】
このように本実施形態で用いた指向性散乱層３５によると、緑色の波長近辺においても、透過及び反射のそれぞれで指向性散乱による検出ピークが確認され、指向性散乱が得られた。しかしながら緑色の波長近辺と比較すると、青色の波長近辺における方が、より高い指向性散乱が得られた。
【００６８】
また、図１１は、指向性散乱層３５に対して様々な角度（０°、１５°、３０°、６０°）から光（６５０ｎｍ）を入射し、透過における指向性散乱光を検出した結果を示すものである。横軸は受光角度（°）を示し、縦軸は検出強度（ａ．ｕ．）を示している。また、図１２は、指向性散乱層３５に対して様々な角度（０°、１５°、３０°、６０°）から光（６５０ｎｍ）を入射し、反射における指向性散乱光を検出した結果を示すものである。横軸は受光角度（°）を示し、縦軸は検出強度（ａ．ｕ．）を示している。なお、図１１及び図１２において、透過では入射方向の検出強度を１として規格化し、反射では正反射方向の検出強度を１として規格化した。
【００６９】
このように本実施形態で用いた指向性散乱層３５によると、赤色の波長近辺においても、透過及び反射のそれぞれで指向性散乱による検出ピークが確認され、指向性散乱が得られた。しかしながら赤色の波長近辺と比較すると、青色の波長近辺における方が、より高い指向性散乱が得られた。
【００７０】
つまり、本実施形態で用いた指向性散乱層３５は、青色、緑色、赤色において、指向性散乱が得られており、赤の画素ＸＲ、緑の画素ＸＧ、青の画素ＸＢにおいて、光取出効率の問題を軽減できる。また、上記の波長の短い青色の領域において指向性散乱の効率が大きく、特に高い指向性散乱効果が得られ、青色の光取出効率を大きく改善できるため、パネルの色温度を高く出来る。
【００７１】
また、具体的な比較については後述の第４実施形態で述べているが、指向性散乱層３５においては、さまざまな角度をもって出射する光の方向が変化するため、指向性散乱層３５を備えない有機ＥＬ装置に比して各色での正面と斜めから見たときの色シフトが少なくなる効果も得られる。特に、指向性散乱機能は、波長が短いほど大きな効果を得ることができるので、広角から見たときに色変化が輝度変化として視認されやすい青色において色シフトを大きく低減させることができる。そのため、広角から見たときのホワイトバランスも改善できる。
【００７２】
（有機ＥＬ素子の第２実施形態）
次に、図１３を参照し、有機ＥＬパネル１を構成する有機ＥＬ素子の第２実施形態について、当該有機ＥＬ素子の単位画素群の構造を説明する。
【００７３】
なお、図１３は、有機ＥＬ素子の第１実施形態を示した図３に対応する図面で、図３において示した符号と同一の符号については、特に説明のない限り、同一構成、同一部材よりなるものとする。
【００７４】
第２実施形態の有機ＥＬ素子１Ｂにおいては、カラーフィルタ基板４０の構成が第１実施形態の有機ＥＬ素子１Ａと異なっている。具体的には、カラーフィルタ基板４０は、ガラス材料等の透光性部材からなる基板４１と、基板４１上に形成されたカラーフィルタ層４２（４２Ｂ，４２Ｇ，４２Ｒ）と、該カラーフィルタ層４２を覆う形で形成された指向性散乱層３５と、該指向性散乱層３５上に形成されたオーバーコート層４３とを備えて構成されている。
【００７５】
この場合も、指向性散乱層３５はうねり構造３１を備え、好適な指向性散乱を実現しており、光取出効率とパネルの色温度の問題を軽減できるものとされている。
【００７６】
（有機ＥＬ素子の第３実施形態）
次に、図１４を参照し、有機ＥＬパネル１を構成する有機ＥＬ素子の第３実施形態について、当該有機ＥＬ素子の単位画素群の構造を説明する。
【００７７】
なお、図１４は、有機ＥＬ素子の第１実施形態を示した図３に対応する図面で、図３において示した符号と同一の符号については、特に説明のない限り、同一構成、同一部材よりなるものとする。
【００７８】
第３実施形態の有機ＥＬ素子１Ｃにおいては、カラーフィルタ基板４０の構成が第１実施形態の有機ＥＬ素子１Ａと異なっている。具体的には、カラーフィルタ基板４０は、ガラス材料等の透光性部材からなる基板４１と、基板４１上に形成されたカラーフィルタ層４２（４２Ｂ，４２Ｇ，４２Ｒ）と、該カラーフィルタ層４２を覆う形で形成されたオーバーコート層４３と、該オーバーコート層４３上に形成された指向性散乱層３５とを備えて構成されている。
【００７９】
この場合も、指向性散乱層３５はうねり構造３１を備え、好適な指向性散乱を実現しており、光取出効率、視角及びパネルの色温度の問題を軽減できるものとされている。
【００８０】
（有機ＥＬ素子の第４実施形態）
次に、図１５を参照し、有機ＥＬパネル１を構成する有機ＥＬ素子の第４実施形態について、当該有機ＥＬ素子の単位画素群の構造を説明する。
【００８１】
なお、図１５は、有機ＥＬ素子の第１実施形態を示した図３に対応する図面で、図３において示した符号と同一の符号については、特に説明のない限り、同一構成、同一部材よりなるものとする。
【００８２】
第４実施形態の有機ＥＬ素子１Ｄにおいては、カラーフィルタ基板４０の構成が第１実施形態の有機ＥＬ素子１Ａと異なっている。具体的には、カラーフィルタ基板４０は、ガラス材料等の透光性部材からなる基板４１と、基板４１上に形成されたカラーフィルタ層４２（４２Ｂ，４２Ｇ，４２Ｒ）と、該カラーフィルタ層４２を覆う形で形成されたオーバーコート層４３とを備える一方、基板４１のカラーフィルタ層４２とは異なる面側（他面側）に指向性散乱層３５を備えて構成されている。
【００８３】
この場合も、指向性散乱層３５はうねり構造３１を備え、好適な指向性散乱を実現しており、光取出効率、視角及びパネルの色温度の問題を軽減できるものとされている。
【００８４】
なお、第１実施形態〜第４実施形態のそれぞれにおいて、カラーフィルタ層４２、オーバーコート層４３は、塗布法（スピンコート法等）、若しくは真空薄膜作成法（スパッタ、蒸着法等）を利用して形成される。
【００８５】
従来のように指向性散乱層３５を備えないか、凹凸構造を周期的に形成した散乱層を備える場合では、発光機能層から発せられた光は全反射条件によりガラス基板内を導波して光取出効率が低下する。しかしながら指向性散乱層３５を備える本実施形態に係る有機ＥＬ装置１では、横方向に伝播していた光の一部が全反射以下の角度に指向性をもって散乱されるため、基板外部に放出され、取出効率が上昇し、同じ電流密度で駆動させたときの空気中に放射されるエネルギーの総量を増加させることができる。図１６は、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）全ての色を点灯させて白を表示したときの電流密度に対する視認者側の空気中に放射されるエネルギーのグラフである。このグラフからも分かるように、本実施形態に係る有機ＥＬ装置１（実施例）は、指向性散乱層３５を具備しない比較例と比べて、同じ電流密度でエネルギーの取出効率を上昇させることができた。
【００８６】
また、さまざまな角度をもって出射する光の方向が変化するため、指向性散乱層３５を備える本実施形態に係る有機ＥＬ装置１（実施例）は、指向性散乱層３５を備えない比較例よりも各色での正面と斜めから見たときの色シフトが少なくなる効果も得られる。特に、指向性散乱機能は、波長が短いほど大きな効果を得ることができるので、広角から見たときに色変化が輝度変化として視認されやすい青色において、より上記のような効果を得ることができ、青の色シフトを大きく低減させることができる。そのため、広角から見たときのホワイトバランスも改善できる。
【００８７】
図１７は、青色の画素ＸＢのみを点灯させ、０°方向と４５°方向から観察した色度を測定した結果を示す表である。指向性散乱層３５を備える本実施形態に係る有機ＥＬ装置１（実施例）は、指向性散乱層３５を備えない比較例よりも色シフトを大きく低減できていることが分かる。
【００８８】
また、図１８は、赤色、緑色、青色全てを点灯し、白を表示させたときの０°方向と４５°方向から観察した色度を測定した結果を示す表である。指向性散乱層３５を備える本実施形態に係る有機ＥＬ装置１（実施例）は、白表示の場合でも、指向性散乱層３５を備えない比較例よりも色シフトを大きく低減できていることが分かる。
【００８９】
上記各実施形態では、カラーフィルタ基板４０のいずれかの層にうねり構造３１を有する指向性散乱層３５を形成しているが、画素電極２３が形成された基板２０側（つまり発光機能層１１０が形成された基板側）のいずれかの層において、同様のうねり構造３１を備える指向性散乱層３５を形成するものとしてもよい。
【００９０】
（有機ＥＬ素子の第５実施形態）
次に、図１９を参照し、有機ＥＬパネル１を構成する有機ＥＬ素子の第５実施形態について、当該有機ＥＬ素子の単位画素群の構造を説明する。
【００９１】
なお、図１９は、有機ＥＬ素子の第１実施形態を示した図３に対応する図面で、図３において示した符号と同一の符号については、特に説明のない限り、同一構成、同一部材よりなるものとする。
【００９２】
第５実施形態の有機ＥＬ素子１Ｅは、発光機能層１１０で発せられた光が画素電極２３を備える基板２０側から出射するボトムエミッション型の有機ＥＬ素子である。
【００９３】
有機ＥＬ素子１Ｅは、ガラス等の透光性材料からなる基板２０上に指向性散乱層３５を備え、該指向性散乱層３５上に保護層２２を介して画素電極２３が所定のパターンで画素ＸＢ，ＸＧ，ＸＲ毎に形成されている。指向性散乱層３５は、上述した各実施形態と同様にうねり構造３１を有し、指向性散乱機能を備えたものである。
【００９４】
画素電極２３上には、正孔輸送層７０、有機ＥＬ層６０、電子輸送層５５を含む発光機能層１１０、陰極５０が形成され、これら画素電極２３から陰極５０までの積層体を覆う封止層５１が保護層２２上に形成されている。なお、有機ＥＬ層６０は、青色有機ＥＬ層６０Ｂ、緑色有機ＥＬ層６０Ｇ、赤色有機ＥＬ層６０Ｒがそれぞれ各画素ＸＢ，ＸＧ，ＸＲ毎にパターン形成されてなるものである。
【００９５】
ここで、有機ＥＬ素子１Ｅはボトムエミッション型であるため、画素電極２３は透光性を有する導電材料、例えばＩＴＯ（インジウム錫酸化物）からなる一方、陰極５０は光反射性を有する導電材料、例えばアルミニウムからなるものとされている。
【００９６】
このような本実施形態の有機ＥＬ素子１Ｅにおいても、指向性散乱層３５はうねり構造３１を備え、好適な指向性散乱を実現しており、光取出効率とパネルの色温度の問題および視角の問題を軽減できるものとされている。
【００９７】
（有機ＥＬ素子の第６実施形態）
次に、図２０を参照し、有機ＥＬパネル１を構成する有機ＥＬ素子の第６実施形態について、当該有機ＥＬ素子の単位画素群の構造を説明する。
【００９８】
なお、図２０は、有機ＥＬ素子の第１実施形態を示した図３に対応する図面で、図３において示した符号と同一の符号については、特に説明のない限り、同一構成、同一部材よりなるものとする。
【００９９】
第６実施形態の有機ＥＬ素子１Ｆは、発光機能層１１０で発せられた光が画素電極２３を備える基板２０側から出射するボトムエミッション型の有機ＥＬ素子である。
【０１００】
有機ＥＬ素子１Ｆは、ガラス等の透光性材料からなる基板２０上に保護層２２を備え、該保護層２２上に指向性散乱層３５を備えて構成されている。そして、指向性散乱層３５上に画素電極２３、発光機能層１１０、陰極５０からなる積層体、及び封止剤５１が形成されている。指向性散乱層３５は、上述した各実施形態と同様にうねり構造３１を有し、指向性散乱機能を備えたものである。ここで、有機ＥＬ素子１Ｆはボトムエミッション型であるため、画素電極２３は透光性を有する導電材料、例えばＩＴＯ（インジウム錫酸化物）からなる一方、陰極５０は光反射性を有する導電材料、例えばアルミニウムからなるものとされている。
【０１０１】
このような本実施形態の有機ＥＬ素子１Ｆにおいても、指向性散乱層３５はうねり構造３１を備え、好適な指向性散乱を実現しており、光取出効率とパネルの色温度の問題および視角の問題を軽減できるものとされている。
【０１０２】
（有機ＥＬ素子の第７実施形態）
次に、図２１を参照し、有機ＥＬパネル１を構成する有機ＥＬ素子の第７実施形態について、当該有機ＥＬ素子の単位画素群の構造を説明する。
【０１０３】
なお、図２１は、有機ＥＬ素子の第１実施形態を示した図３に対応する図面で、図３において示した符号と同一の符号については、特に説明のない限り、同一構成、同一部材よりなるものとする。
【０１０４】
第７実施形態の有機ＥＬ素子１Ｇは、発光機能層１１０で発せられた光が画素電極２３を備える基板２０側から出射するボトムエミッション型の有機ＥＬ素子である。
【０１０５】
有機ＥＬ素子１Ｇは、ガラス等の透光性材料からなる基板２０上に保護層２２を備える一方、基板２０の保護層２２が形成された面とは反対側（基板２０の他面側）に指向性散乱層３５を備えて構成されている。そして、保護層２２上に画素電極２３、発光機能層１１０、陰極５０からなる積層体、及び封止剤５１が形成されている。指向性散乱層３５は、上述した各実施形態と同様にうねり構造３１を有し、指向性散乱機能を備えたものである。ここで、有機ＥＬ素子１Ｇはボトムエミッション型であるため、画素電極２３は透光性を有する導電材料、例えばＩＴＯ（インジウム錫酸化物）からなる一方、陰極５０は光反射性を有する導電材料、例えばアルミニウムからなるものとされている。
【０１０６】
このような本実施形態の有機ＥＬ素子１Ｇにおいても、指向性散乱層３５はうねり構造３１を備え、好適な指向性散乱を実現しており、光取出効率とパネルの色温度の問題および視角の問題を軽減できるものとされている。
【０１０７】
（指向性散乱層３５の形成方法）
上記各実施形態で用いた指向性散乱層３５は、以下のような方法により形成することができる。具体的には、メソポーラスシリカよりなる薄膜を１０ｎｍ〜２３０ｎｍ（例えば１５０ｎｍ）の厚みに形成することでうねり構造３１を得るものとしている。ここでは、固形分濃度約５％のシリコンアルコキシドの溶液を２５００ｒｐｍの回転数で３０秒間スピンコートし、その後、真空中で３５０℃、１時間の焼成プロセスを経て、メソポーラスシリカ膜を得るものとした。このような方法で形成されるメソポーラスシリカ膜は、うねり構造３１を備え、指向性散乱機能を発現するものとなった。
【０１０８】
なお、うねり構造３１の凸部間距離、凸頂部及び凹底部間高さを上述した範囲に設計するためには、シリコンアルコキシド溶液の固形分濃度を３ｗｔ％〜８ｗｔ％とし、スピンコートの回転数を１５００ｒｐｍ〜４０００ｒｐｍに設計するのが好ましい。また、焼成温度は３００℃〜４００℃、焼成時間は０．３時間〜５時間とするのが好ましい。
【０１０９】
上記のような方法の他にも、例えば有機材料、無機材料、有機無機ハイブリッド材料により形成した塗布膜に対して所定時間（例えば数十秒）のプラズマ処理を施すことで、当該塗布膜にうねり構造を付与することもできる。
【０１１０】
また、形成した塗布膜に対して、０．１μｍ〜１０μｍのスラリー剤を懸濁した溶液を用いて研磨することで、当該塗布膜にうねり構造を付与することもできる。
【０１１１】
さらに、蒸着法若しくはスパッタ法によってうねり構造を付与することもできる。成膜レートを概ね１００ｎｍ／ｓとした速めのレートにおいて、真空成膜方法で膜を作成すると、クラスターが発生するため、上記のようなうねり構造を発生させることが可能となる。
【０１１２】
その他にも、ナノスケールサイズの樹脂を埋め込む、若しくは埋め込んだ後に同等の屈折率を有するコート剤を塗布する、等の方法によりうねり構造を付与することもできる。
【０１１３】
なかでも、メソポーラスシリカ材料を用いた場合、スピンコートなどの塗布プロセスと、焼成プロセスのみを通し、比較的工程の負担が少ないため、特に好ましい。
【０１１４】
（有機ＥＬ素子の第８実施形態）
上記実施形態の有機ＥＬパネル１は、フルカラー表示を可能とすべく、青色画素ＸＢ、緑色画素ＸＧ、赤色画素ＸＲを含むものとしたが、例えば図２２に示すように、単色ボトムエミッション方式の有機ＥＬパネルに対しても本発明の構成を採用することが可能である。図２２は、単色ボトムエミッション方式の有機ＥＬ素子１Ｈの断面構成を示す模式図である。なお、図２２は、第１実施形態の有機ＥＬ素子を示した図３に対応する図面で、図３において示した符号と同一の符号については、特に説明のない限り、同一構成、同一部材よりなるものとする。
【０１１５】
第８実施形態の有機ＥＬ素子１Ｈは、単一の有機ＥＬ層６０を含み、単色（ここでは青色）の光を発光可能な発光機能層１１０で発せられた光が画素電極２３を備える基板２０側から出射する単色ボトムエミッション型の有機ＥＬ素子である。
【０１１６】
有機ＥＬ素子１Ｈは、ガラス等の透光性材料からなる基板２０上に指向性散乱層３５を備え、該指向性散乱層３５上に保護層２２を介して陽極２３が形成されている。指向性散乱層３５は、上述した各実施形態と同様にうねり構造３１を有し、指向性散乱機能を備えたものである。
【０１１７】
陽極２３上には、正孔輸送層７０、有機ＥＬ層６０、電子輸送層５５を含む発光機能層１１０、及び陰極５０が形成され、これら陽極２３から陰極５０までの積層体を覆う封止層５１が保護層２２上に形成されている。なお、有機ＥＬ層６０は、青色の光を発光可能な有機ＥＬ材料からなるものである。ここで、有機ＥＬ素子１Ｈはボトムエミッション型であるため、画素電極２３は透光性を有する導電材料、例えばＩＴＯ（インジウム錫酸化物）からなる一方、陰極５０は光反射性を有する導電材料、例えばアルミニウムからなるものとされている。このような本実施形態の有機ＥＬ素子１Ｈにおいても、指向性散乱層３５はうねり構造３１を備え、好適な指向性散乱を実現しており、光取出効率と視角の問題を軽減できるものとされている。
【０１１８】
ここで、当該第８実施形態の有機ＥＬ素子１Ｈの指向性散乱層３５が備えるうねり構造３１は、発光色の発光波長範囲において最も強く指向性散乱を発現する構成とされている。図２３は、有機ＥＬ層６０の発光色のスペクトルピークを示すグラフである。本実施形態では、うねり構造３１は、ランダムな凹凸構造を有し、うねりの周期の平均値が概ね発光色のスペクトルピーク波長の±２５０ｎｍの範囲内とされている。すなわち、本実施形態の有機ＥＬ層６０の発光ピーク波長は４２０ｎｍであるため、うねりの周期の平均値は１７０ｎｍ〜６７０ｎｍに設計されている。
【０１１９】
このように構成された有機ＥＬ素子１Ｈにおいては、画素電極２３と陰極５０の間に電流が流れると、有機ＥＬ層６０は発光し、発光光（青色光）は陽極２３を介して基板２０側から出射したり、陰極５０で反射してから陽極２３を介して基板２０側から出射したりする。このとき、基板２０上には指向性散乱層３５が形成されているため、発光光が好適に散乱し、視角を広げることが可能とされている。
【０１２０】
図２４（ａ）は、指向性散乱層３５に対して様々な角度（０°、１５°、３０°、６０°）から光（波長４２０ｎｍ）を入射し、透過における指向性散乱光を検出した結果を示すものである。横軸は受光角度（°）を示し、縦軸は検出強度（ａ．ｕ．）を示している。また、図２４（ｂ）は、指向性散乱層３５に対して様々な角度（０°、１５°、３０°、６０°）から光（４２０ｎｍ）を入射し、反射における指向性散乱光を検出した結果を示すものである。横軸は受光角度（°）を示し、縦軸は検出強度（ａ．ｕ．）を示している。なお、図２４（ａ）及び（ｂ）において、透過では入射方向の検出強度を１として規格化し、反射では正反射方向の検出強度を１として規格化した。
【０１２１】
このように本実施形態で用いた指向性散乱層３５によると、青色の波長近辺において、透過及び反射のそれぞれで入射光もしくは反射光方向に対して±２５°に指向性散乱による検出ピークが確認され、うねりの周期の平均が概ね波長と一致するとき、強い指向性散乱が現れた。このようなうねり構造３１により指向性散乱が実現され、規則的な周期を具備した凹凸構造を形成したときの回折効果とは異なり、入射光角度が変化しても、ほぼ同じ角度に入射光の一部が同じ指向性をもって散乱する。
【０１２２】
また、図２５（ａ）は、入射光波長４２０ｎｍ、５５０ｎｍ、６８０ｎｍのそれぞれで、うねりの周期を変化させたときの透過特性を示す図で、図２５（ｂ）は、同じく入射光波長４２０ｎｍ、５５０ｎｍ、６８０ｎｍのそれぞれで、うねりの周期を変化させたときの反射特性を示す図である。図２５（ａ）及び（ｂ）において、横軸はうねりの周期の平均値で、縦軸は検出した指向性散乱された光の絶対強度を示している。
【０１２３】
なお、うねりの周期の異なる形状は、メソポーラスシリカの形成膜厚を８０ｎｍ〜２００ｎｍまで変化させることによって形成可能である。例えば、概ね膜厚１３０ｎｍでメソポーラスシリカ層を形成すると、うねりの周期は５００ｎｍ〜１０５０ｎｍとなり、周期の平均を約６５０ｎｍとして形成することができる。
【０１２４】
入射光波長４２０ｎｍ、５５０ｎｍ、６８０ｎｍで、指向性散乱光が検出できたうねりの周期の平均値は、各々１７０ｎｍ〜６７０ｎｍ、３００ｎｍ〜８００ｎｍ、４３０ｎｍ〜９３０ｎｍであり、入射光波長に対して、−２５０ｎｍ〜＋２５０ｎｍの範囲であった。なお、上記実施形態では、指向性散乱による検出ピークは、入射光もしくは反射光方向に対して±２５°としたが、うねりの深さの平均値を変化させることによって、指向性散乱光の角度を制御することができる。
【０１２５】
（有機ＥＬ素子の第９実施形態）
次に、図２６を参照し、有機ＥＬパネルを構成する有機ＥＬ素子の第９実施形態について、当該有機ＥＬ素子の断面構造を説明する。
【０１２６】
なお、図２６は、有機ＥＬ素子の第１実施形態を示した図３に対応する図面で、図３において示した符号と同一の符号については、特に説明のない限り、同一構成、同一部材よりなるものとする。
【０１２７】
第９実施形態の有機ＥＬ素子１Ｉは、発光機能層１１０で発せられた光が画素電極２３を備える基板２０側から出射するボトムエミッション型の有機ＥＬ素子である。
【０１２８】
有機ＥＬ素子１Ｉは、ガラス等の透光性材料からなる基板２０上に保護層２２を備え、該保護層２２上に指向性散乱層３５を備えて構成されている。そして、指向性散乱層３５上に画素電極２３、単色（青色）の発光機能層１１０、陰極５０からなる積層体、及び封止剤５１が形成されている。指向性散乱層３５は、上述した各実施形態と同様にうねり構造３１を有し、指向性散乱機能を備えたものである。ここで、有機ＥＬ素子１Ｉはボトムエミッション型であるため、画素電極２３は透光性を有する導電材料、例えばＩＴＯ（インジウム錫酸化物）からなる一方、陰極５０は光反射性を有する導電材料、例えばアルミニウムからなるものとされている。
【０１２９】
このような本実施形態の有機ＥＬ素子１Ｉにおいても、指向性散乱層３５はうねり構造３１を備え、好適な指向性散乱を実現しており、光取出効率と視角の問題を軽減できるものとされている。
【０１３０】
（有機ＥＬ素子の第１０実施形態）
次に、図２７を参照し、有機ＥＬパネルを構成する有機ＥＬ素子の第１０実施形態について、当該有機ＥＬ素子の断面構造を説明する。
【０１３１】
なお、図２７は、有機ＥＬ素子の第１実施形態を示した図３に対応する図面で、図３において示した符号と同一の符号については、特に説明のない限り、同一構成、同一部材よりなるものとする。
【０１３２】
第１０実施形態の有機ＥＬ素子１Ｊは、発光機能層１１０で発せられた光が画素電極２３を備える基板２０側から出射するボトムエミッション型の有機ＥＬ素子である。
【０１３３】
有機ＥＬ素子１Ｊは、ガラス等の透光性材料からなる基板２０上に保護層２２を備える一方、基板２０の保護層２２が形成された面とは反対側（基板２０の他面側）に指向性散乱層３５を備えて構成されている。そして、保護層２２上に画素電極２３、発光機能層１１０、陰極５０からなる積層体、及び封止剤５１が形成されている。指向性散乱層３５は、上述した各実施形態と同様にうねり構造３１を有し、指向性散乱機能を備えたものである。ここで、有機ＥＬ素子１Ｊはボトムエミッション型であるため、画素電極２３は透光性を有する導電材料、例えばＩＴＯ（インジウム錫酸化物）からなる一方、陰極５０は光反射性を有する導電材料、例えばアルミニウムからなるものとされている。
【０１３４】
このような本実施形態の有機ＥＬ素子１Ｊにおいても、指向性散乱層３５はうねり構造３１を備え、好適な指向性散乱を実現しており、特に青の画素ＸＢにおいて光取出効率と視角の問題を軽減できるものとされている。
【０１３５】
なお、上記第８及び第９実施形態のように、うねり構造３１上に保護層２２若しくは陽極２３を形成する場合、うねりの深さが非常に小さいため、クラックの発生などを起こさず、その上部に層構造を形成することが可能である。また、視認者側の表面に（つまり封止層５１上に）うねり構造３１を具備した指向性散乱層３５を形成することもできる。なお、各第８〜第１０実施形態の有機ＥＬ素子が具備する指向性散乱層３５についても、上述したようなメソポーラスシリカ膜を薄膜にて成膜することにより形成することができる。
【０１３６】
（有機ＥＬ素子の第１１実施形態）
次に、図２８を参照し、有機ＥＬパネルを構成する有機ＥＬ素子の第１１実施形態について、当該有機ＥＬ素子の単位画素群の構造を説明する。
【０１３７】
なお、図２８は、有機ＥＬ素子の第１実施形態を示した図３に対応する図面で、図３において示した符号と同一の符号については、特に説明のない限り、同一構成、同一部材よりなるものとする。
【０１３８】
第１１実施形態の有機ＥＬ素子１Ｋは、発光機能層１１０で発せられた光が画素電極２３を備える基板２０側から出射するボトムエミッション型の有機ＥＬ素子である。また、発光機能層１１０は、青色有機ＥＬ層６０Ｂ、緑色有機ＥＬ層６０Ｇ、赤色有機ＥＬ層６０Ｒが各画素毎にパターン形成されてなり、フルカラー表示が可能とされている。なお、青色の発光スペクトルピーク波長は４４０ｎｍ、緑色の発光スペクトルピーク波長は５２０ｎｍ、赤色の発光スペクトルピーク波長は６３０ｎｍである。
【０１３９】
有機ＥＬ素子１Ｋは、ガラス等の透光性材料からなる基板２０上に指向性散乱層３５を備え、該指向性散乱層３５を含む基板２０上に保護層２２が形成されている。また、保護層２２上には画素電極２３、発光機能層１１０、陰極５０からなる積層体、及び封止剤５１が形成されている。なお、有機ＥＬ素子１Ｋはボトムエミッション型であるため、画素電極２３は透光性を有する導電材料、例えばＩＴＯ（インジウム錫酸化物）からなる一方、陰極５０は光反射性を有する導電材料、例えばアルミニウムからなるものとされている。
【０１４０】
ここで、指向性散乱層３５は、各色の画素毎にそれぞれ青色指向性散乱層３５Ｂ、緑色指向性散乱層３５Ｇ、赤色指向性散乱層３５Ｒとしてパターン形成され、各指向性散乱層３５Ｂ，３５Ｇ，３５Ｒがそれぞれ異なるうねり構造３１Ｂ，３１Ｇ，３１Ｒを具備している。具体的には、青色画素の青色指向性散乱層３５Ｂにおいては、うねり構造３１Ｂのうねりの周期が概ね２００ｎｍ〜６９０ｎｍで、うねりの周期の平均値が概ね４５０ｎｍとされている。緑色画素の緑色指向性散乱層３５Ｇにおいては、うねり構造３１Ｇのうねりの周期が概ね２７０ｎｍ〜７７０ｎｍで、うねりの周期の平均値が概ね５１０ｎｍとされている。赤色画素の赤色指向性散乱層３５Ｒにおいては、うねり構造３１Ｒのうねりの周期が概ね４００ｎｍ〜９８０ｎｍで、うねりの周期の平均値が概ね６５０ｎｍとされている。
【０１４１】
このような各指向性散乱層３５Ｂ，３５Ｇ，３５Ｒは、例えばそれぞれメソポーラスシリカ膜が１７５ｎｍ、１５５ｎｍ、１３５ｎｍの厚みとなって形成されるように、アルコキシシラン溶液を数回に分けてスピン、フレキソ印刷、若しくはインクジェット法等を利用することによって形成することができる。
【０１４２】
このような本実施形態の有機ＥＬ素子１Ｋにおいても、パターニングされてなる指向性散乱層３５Ｂ，３５Ｇ，３５Ｒはうねり構造３１Ｂ，３１Ｇ，３１Ｒを備え、好適な指向性散乱を実現しており、光取出効率と視角の問題を軽減できるものとされている。具体的には、指向性散乱層３５を具備しない有機ＥＬ素子に比して、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色を点灯させ白を表示させた際に、１．５倍のエネルギーを視認者のいる空気層に取り出すことができた。
【０１４３】
なお、本実施形態では、各色画素全てに色の波長に対応するうねり構造を具備した指向性散乱層を形成したが、パネルの色味を改善するために、取出効率を特に上げたい色がある場合、その画素に対応する部分にのみ、選択的に指向性散乱層３５を形成するものとしてもよい。
【０１４４】
また、フルカラー有機ＥＬパネルにおいて、特に取出効率を上げたい色が一色である場合、その色に対応したうねり構造を具備する指向性散乱層３５を基板全面に形成した場合にも、当該色については選択的に光取出効率を向上させることが可能である。
【０１４５】
また、各色の指向性散乱層３５Ｂ，３５Ｇ，３５Ｒを形成する界面としては、図２８のような基板２０と保護層２２の界面に限らず、例えば図２９のように保護層２２と陽極２３の界面、図３０のように基板２０の外面（保護層２２の形成面とは異なる面）に、各指向性散乱層３５Ｂ，３５Ｇ，３５Ｒを形成するものとしてもよい。
【０１４６】
（有機ＥＬ素子の第１２実施形態）
次に、図３１を参照し、有機ＥＬパネルを構成する有機ＥＬ素子の第１２実施形態について、当該有機ＥＬ素子の断面構造を説明する。
【０１４７】
なお、図３１は、有機ＥＬ素子の第１実施形態を示した図３に対応する図面で、図３において示した符号と同一の符号については、特に説明のない限り、同一構成、同一部材よりなるものとする。
【０１４８】
第１２実施形態の有機ＥＬ素子１Ｎは、発光機能層１１０で発せられた光が陰極５０側に形成されたカラーフィルタ基板４０側から出射するトップエミッション型の有機ＥＬ素子である。特に、発光機能層１１０は青色の単色有機ＥＬ層６０から構成されており、当該有機ＥＬ素子１Ｎは、単色のトップエミッション方式とされている。つまり、単一の有機ＥＬ層６０を含み、単色（ここでは青色）の光を発光可能な発光機能層１１０で発せられた光が青色のカラーフィルタ層４２Ｂを備える基板４０側から出射する単色トップエミッション型の有機ＥＬ素子である。
【０１４９】
有機ＥＬ素子１Ｎは、ガラス等の透光性材料からなる基板２０上に反射層２１を備え、該反射層２１上に保護層２２を介して陽極２３が形成されている。陽極２３上には、正孔輸送層７０、有機ＥＬ層６０、電子輸送層５５を含む発光機能層１１０、及び陰極５０が形成され、これら陽極２３から陰極５０までの積層体を覆う封止層５１が保護層２２上に形成されている。封止層５１上にはシール剤３２で囲まれた領域に充填された充填剤３３が配設され、その上方にカラーフィルタ基板４０が形成されている。
【０１５０】
カラーフィルタ基板４０は、基板４１と、該基板４１の内面側（充填剤３３側）に配設された指向性散乱層３５と、指向性散乱層３５の内面側に配設された青色カラーフィルタ層４２Ｂと、カラーフィルタ層４２Ｂを含む指向性散乱層３５の内面側に配設されたオーバーコート層４３とを備えて構成されている。
【０１５１】
このような本実施形態の有機ＥＬ素子１Ｎにおいても、指向性散乱層３５はうねり構造３１を備え、好適な指向性散乱を実現しており、光取出効率と視角の問題を軽減できるものとされている。本実施形態の場合、うねりの深さが非常に小さいため、クラックの発生などを起こさず、その上部に層構造を形成することが可能である。
【０１５２】
また、カラーフィルタ基板４０のなかで指向性散乱層３５を形成する界面としては、図３１のような基板４１とカラーフィルタ層４２Ｂの界面に限らず、例えば図３２に示す有機ＥＬ素子１Ｏのようにオーバーコート層４３と充填剤３３の界面に配設したり、図３３に示す有機ＥＬ素子１Ｐのように基板４１の外面側（充填剤３３とは異なる面側）に配設したりできる。或いは図３４に示す有機ＥＬ素子１Ｑのように、カラーフィルタ層４２Ｂとオーバーコート層４３との界面に配設してもよい。
【０１５３】
以上、本発明の発光装置の実施形態を幾つか説明したが、本発明はこのような形態に限るものではない。
【０１５４】
例えば、上記実施形態の発光装置は、基板４１とカラーフィルタ層４２の界面にうねり構造３１を具備する指向性散乱層３５を備えるが、当該指向性散乱層３５は、その他各薄膜の界面に配設することができる。具体的には、基板２０、反射層２１、保護層２２、陽極２３、正孔輸送層７０、発光層６０、電子輸送層５５、陰極５０、充填剤３３、オーバーコート層４３、カラーフィルタ層４２、基板４１のいずれかの界面に配設することができる。
【０１５５】
例えば有機ＥＬ層（発光層）を低分子有機ＥＬの白色表示とし、２層以上の発光層を積層した場合にも本発明の構成を適用できる。この場合に指向性散乱層を形成する界面は、上記実施形態と同様に特に限定されない。
【０１５６】
ここで、発光スペクトルピークが２以上ある場合、それぞれのピーク波長に合わせた構成を有するうねり構造（つまり、うねりの周期が各ピーク波長の±２５０ｎｍのもの）を具備する指向性散乱層を２層以上重ねることで、光取出効率を高めることができ、好適に視角を広げることも可能となる。また、どちらか一方のスペクトルピーク波長のみに対応するうねり構造（つまり、うねりの周期が当該ピーク波長の±２５０ｎｍのもの）を具備する指向性散乱層を設けた場合でも、約１．２倍〜１．５倍のエネルギーを視認者側の空気層に取り出すことができる。
【０１５７】
また、３ピークの場合も同様で、それぞれのピーク波長に合わせた構成を有するうねり構造（つまり、うねりの周期が各ピーク波長の±２５０ｎｍのもの）を備えた指向性散乱層をそれぞれ形成する、若しくは任意の２つのピーク波長に合わせた構成を有するうねり構造（つまり、うねりの周期が各ピーク波長の±２５０ｎｍのもの）を備えた指向性散乱層をそれぞれ形成する、若しくは任意の１つのピーク波長に合わせた構成を有するうねり構造（つまり、うねりの周期が当該ピーク波長の±２５０ｎｍのもの）を備えた指向性散乱層を形成することで、本発明に係る効果を発現することもできる。
【０１５８】
なお、２ピークの発光スペクトルにおいて、特に緑色の発光強度がもともと少なく、パネルの演色機能が不足する場合がある。この場合、発光強度の弱い色の波長に対応するうねり構造（つまり、うねりの周期が当該ピーク波長の±２５０ｎｍのもの）を形成することで、発光強度の少ない色の発光を選択的に効率よく空気層に取り出すことができ、パネルの演色性を高めるように利用することも可能である。
【０１５９】
また、図３に示したようなトップエミッションフルカラーの有機ＥＬ素子に対して、発光スペクトルピーク波長に対応したうねり構造（つまり、うねりの周期が当該ピーク波長の±２５０ｎｍのもの）を形成することもできる。マトリクス状に配置される画素において、マスク蒸着による発光材料の塗り分けで形成したり、白色発光をマイクロキャビティの使用により創出したり、発光材料を塗り分けしてマイクロキャビティを併用していても、同じように散乱効果が得られる。具体的には、青色の発光スペクトルピーク４６５ｎｍ、緑色のスペクトルピーク５２５ｎｍ、赤色のスペクトルピーク６３０ｎｍの発光材料を使用し、各色画素に対応するマトリクス位置にうねり構造を形成することができる。ここで、青色部分にはうねり周期が概ね２００ｎｍ〜７３０ｎｍで、うねり周期の平均値が概ね４５０ｎｍとなるように、また緑色部分にはうねり周期が概ね３００ｎｍ〜７７５ｎｍで、うねり周期の平均値が概ね５５０ｎｍとなるように、また赤色部分にはうねり周期が概ね４００ｎｍ〜９８０ｎｍで、うねり周期の平均値が概ね６５０ｎｍとなるようにうねり構造を形成することができる。この場合、赤色、緑色、青色画素のそれぞれを点灯させ、白を表示させた場合に、うねり構造を具備しない場合の１．６２倍のエネルギーを視認者のいる空気層に取り出すことができる。
【０１６０】
なお、このような構造は、メソポーラスシリカ膜が１７０ｎｍ、１４０ｎｍ、１３５ｎｍの厚みとなって形成されるように、アルコキシシラン溶液を数回に分けてスピン、もしくはフレキソ印刷、もしくはインクジェット法を採用することによって形成することができる。この場合、例として概ね４０ｎｍ〜２００ｎｍ程度の膜厚でメソポーラスシリカを形成することにより、可視光領域に指向性散乱を発現する構造を形成することができる。例えば、膜厚１１０ｎｍ〜１４０ｎｍにおいて赤、膜厚１４０ｎｍ〜１５９ｎｍにおいて緑、膜厚１６０ｎｍ〜２３０ｎｍにおいて青の波長領域での指向性散乱を発現するうねり構造を形成することができた。
【０１６１】
また、各色の画素全てに色の波長に対応する構造を形成するほか、パネルの色味を改善するために、取出効率を特に上げたい色がある場合、その画素に対応する部分にのみ選択的にうねり構造を形成するものとしてもよい。また、フルカラーディスプレイでも特に取出効率を上げたい色が一色である場合、その色のスペクトルピーク波長に対応するうねり周期を有するうねり構造を基板全面に形成してもよい。
（電子機器）
次に、本発明の電子機器について説明する。
【０１６２】
電子機器は、上述した有機ＥＬパネル１を表示部として有したものであり、具体的には図３５に示すものが挙げられる。
【０１６３】
図３５（ａ）は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図３５（ａ）において、携帯電話１０００は、上述した有機ＥＬパネル１を用いた表示部１００１を備える。
【０１６４】
図３５（ｂ）は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図３５（ｂ）において、時計１１００は、上述した有機ＥＬパネル１を用いた表示部１１０１を備える。
【０１６５】
図３５（ｃ）は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図３５（ｃ）において、情報処理装置１２００は、キーボードなどの入力部１２０１、上述した有機ＥＬパネル１を用いた表示部１２０２、情報処理装置本体（筐体）１２０３を備える。
【０１６６】
図３５（ａ）〜図３５（ｃ）に示すそれぞれの電子機器は、上述した有機ＥＬパネル（有機ＥＬ装置）１を有した表示部１００１，１１０１，１２０２を備えているので、表示部を構成する有機ＥＬ装置の高輝度化を実現すると共に、色シフトが抑制されたものとなる。
【図面の簡単な説明】
【０１６７】
【図１】本発明の有機ＥＬ装置に係る有機ＥＬパネルの配線構造を示す模式図。
【図２】本発明の有機ＥＬ装置に係る有機ＥＬパネルの構成を模式的に示す平面図。
【図３】本発明の第１実施形態に係る有機ＥＬ素子の構成を模式的に示す断面図。
【図４】第１実施形態に係る有機ＥＬ素子が備えるうねり構造の構成を模式的に示す平面図。
【図５】第１実施形態に係る有機ＥＬ素子が備えるうねり構造の構成を模式的に示す側面図。
【図６】第１実施形態に係る指向性散乱層の透過における指向性散乱光（４５０ｎｍ）の検出結果を示す図。
【図７】第１実施形態に係る指向性散乱層の反射における指向性散乱光（４５０ｎｍ）の検出結果を示す図。
【図８】４５０ｎｍにおけるうねり構造の深さと指向性散乱の角度との関係を示す表。
【図９】第１実施形態に係る指向性散乱層の透過における指向性散乱光（５５０ｎｍ）の検出結果を示す図。
【図１０】第１実施形態に係る指向性散乱層の反射における指向性散乱光（５５０ｎｍ）の検出結果を示す図。
【図１１】第１実施形態に係る指向性散乱層の透過における指向性散乱光（６５０ｎｍ）の検出結果を示す図。
【図１２】第１実施形態に係る指向性散乱層の反射における指向性散乱光（６５０ｎｍ）の検出結果を示す図。
【図１３】本発明の第２実施形態に係る有機ＥＬ素子の構成を模式的に示す断面図。
【図１４】本発明の第３実施形態に係る有機ＥＬ素子の構成を模式的に示す断面図。
【図１５】本発明の第４実施形態に係る有機ＥＬ素子の構成を模式的に示す断面図。
【図１６】第１実施形態に係る有機ＥＬ素子において、白を表示したときの電流密度に対する視認者側の空気中に放射されるエネルギーのグラフ。
【図１７】第１実施形態に係る有機ＥＬ素子において、青色の画素ＸＢのみを点灯させ、０°方向と４５°方向から観察した色度を測定した結果を示す表。
【図１８】第１実施形態に係る有機ＥＬ素子において、白を表示させたときの０°方向と４５°方向から観察した色度を測定した結果を示す表。
【図１９】本発明の第５実施形態に係る有機ＥＬ素子の構成を模式的に示す断面図。
【図２０】本発明の第６実施形態に係る有機ＥＬ素子の構成を模式的に示す断面図。
【図２１】本発明の第７実施形態に係る有機ＥＬ素子の構成を模式的に示す断面図。
【図２２】本発明の第８実施形態に係る有機ＥＬ素子の構成を模式的に示す断面図。
【図２３】有機ＥＬ層の発光色のスペクトルピークを示すグラフ。
【図２４】第９実施形態に係る指向性散乱層の透過（ａ）および反射（ｂ）における指向性散乱光（６５０ｎｍ）の検出結果を示す図。
【図２５】異なる入射光波長について、うねりの周期を変化させたときの透過特性（ａ）および反射特性（ｂ）を示す図。
【図２６】本発明の第９実施形態に係る有機ＥＬ素子の構成を模式的に示す断面図。
【図２７】本発明の第１０実施形態に係る有機ＥＬ素子の構成を模式的に示す断面図。
【図２８】本発明の第１１実施形態に係る有機ＥＬ素子の構成を模式的に示す断面図。
【図２９】有機ＥＬ素子のその他の変形例の構成を模式的に示す断面図。
【図３０】有機ＥＬ素子のその他の変形例の構成を模式的に示す断面図。
【図３１】本発明の第１２実施形態に係る有機ＥＬ素子の構成を模式的に示す断面図。
【図３２】有機ＥＬ素子のその他の変形例の構成を模式的に示す断面図。
【図３３】有機ＥＬ素子のその他の変形例の構成を模式的に示す断面図。
【図３４】有機ＥＬ素子のその他の変形例の構成を模式的に示す断面図。
【図３５】本発明の有機ＥＬ装置を備える電子機器を示す図。
【符号の説明】
【０１６８】
２０…基板、２１…反射層、２２…保護層、２３…陽極（画素電極）、３１…うねり構造、３３…充填剤、３５…指向性散乱層、４０…カラーフィルタ基板、４１…基板、４２…カラーフィルタ層、４３…オーバーコート層、５０…陰極（対向電極）、５５…電子輸送層、６０…発光層、７０…正孔輸送層。
【図１】
2008210819.tif 000003
【図２】
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【図３】
2008210819.tif 000005
【図４】
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【図５】
2008210819.tif 000007
【図６】
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【図７】
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【図８】
2008210819.tif 000010
【図９】
2008210819.tif 000011
【図１０】
2008210819.tif 000012
【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【手続補正書】
【提出日】平成20年7月3日(2008.7.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
赤色発光を行う赤色画素と、緑色発光を行う緑色画素と、青色発光を行う青色画素と、を有する発光装置であって、
基板上に形成された発光層と、
前記発光層の光射出側に配置され、前記発光層から出射された光を指向性散乱させるランダムに配設された複数の凹凸を有する指向性散乱層と、
を備え、
前記指向性散乱層は、前記赤色画素に配置された第１指向性散乱層と、前記緑色画素に配置された第２指向性散乱層と、前記青色画素に配置された第３指向性散乱層と、を含み、
前記第１指向性散乱層に含まれる前記凹凸と、前記第２指向性散乱層に含まれる前記凹凸と、前記第３指向性散乱層に含まれる前記凹凸とは、形状が互いに異なることを特徴とする発光装置。
【請求項２】
請求項１に記載の発光装置であって、
前記第１指向性散乱層に含まれる前記凹凸と、前記第２指向性散乱層に含まれる前記凹凸と、前記第３指向性散乱層に含まれる前記凹凸とは、隣り合う凸部間の距離が互いに異なることを特徴とする発光装置。
【請求項３】
請求項２に記載の発光装置であって、
前記第１指向性散乱層と、前記第２指向性散乱層と、前記第３指向性散乱層とは、厚さが互いに異なることを特徴とする発光装置。
【請求項４】
赤色発光を行う赤色画素と、緑色発光を行う緑色画素と、青色発光を行う青色画素と、を有する発光装置であって、
基板上に形成された発光層と、
前記発光層の光射出側に配置され、前記発光層から出射された光を指向性散乱させるランダムに配設された複数の凹凸を有する指向性散乱層と、
を備え、
前記凹凸は、前記赤色画素、前記緑色画素、前記青色画素のうち一色の画素にのみ配置されていることを特徴とする発光装置。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか一項に記載の発光装置であって、
前記発光層の光射出側に配置されたカラーフィルタを備え、
前記指向性散乱層は、前記発光層と前記カラーフィルタとの間に配置されていることを特徴とする発光装置。
【請求項６】
請求項１から４のいずれか一項に記載の発光装置であって、
前記発光層は、前記赤色画素に配置された赤色発光層と、前記緑色画素に配置された緑色発光層と、前記青色画素に配置された青色発光層と、を含むことを特徴とする発光装置。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか一項に記載の発光装置を備えることを特徴とする電子機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明の発光装置は、赤色発光を行う赤色画素と、緑色発光を行う緑色画素と、青色発光を行う青色画素と、を有する発光装置であって、基板上に形成された発光層と、前記発光層の光射出側に配置され、前記発光層から出射された光を指向性散乱させるランダムに配設された複数の凹凸を有する指向性散乱層と、を備え、前記指向性散乱層は、前記赤色画素に配置された第１指向性散乱層と、前記緑色画素に配置された第２指向性散乱層と、前記青色画素に配置された第３指向性散乱層と、を含み、前記第１指向性散乱層に含まれる前記凹凸と、前記第２指向性散乱層に含まれる前記凹凸と、前記第３指向性散乱層に含まれる前記凹凸とは、形状が互いに異なることを特徴とする。
上記発光装置においては、前記第１指向性散乱層に含まれる前記凹凸と、前記第２指向性散乱層に含まれる前記凹凸と、前記第３指向性散乱層に含まれる前記凹凸とは、隣り合う凸部間の距離が互いに異なることが好ましい。
上記発光装置においては、前記第１指向性散乱層と、前記第２指向性散乱層と、前記第３指向性散乱層とは、厚さが互いに異なることが好ましい。
また、本発明の発光装置は、赤色発光を行う赤色画素と、緑色発光を行う緑色画素と、青色発光を行う青色画素と、を有する発光装置であって、基板上に形成された発光層と、前記発光層の光射出側に配置され、前記発光層から出射された光を指向性散乱させるランダムに配設された複数の凹凸を有する指向性散乱層と、を備え、前記凹凸は、前記赤色画素、前記緑色画素、前記青色画素のうち一色の画素にのみ配置されていることを特徴とする。
上記発光装置においては、前記発光層の光射出側に配置されたカラーフィルタを備え、前記指向性散乱層は、前記発光層と前記カラーフィルタとの間に配置されていることが好ましい。
上記発光装置において、前記発光層は、前記赤色画素に配置された赤色発光層と、前記緑色画素に配置された緑色発光層と、前記青色画素に配置された青色発光層と、を含むことが好ましい。