(57)【要約】【目的】繰り返し使用後にも、トナーが現像担持体上で充分に摩擦帯電され、偏りのない均一な層として担持され搬送されることができ、かつ、現像履歴に応じた現像能力の差の生じない円筒状現像剤担持体を提供すること。  更には過酷な環境に耐えうる強靭な現像担持体を提供すること。【構成】均一に粗面化された導電性基体表面上にニッケル−燐めっき被膜、またはニッケル-ホウ素めっき被膜、または燐濃度の異なるニッケル−燐めっき複層被膜、またはニッケル−燐めっきおよびニッケル-ホウ素めっきの複層被膜を形成し、繰り返し使用後でも表面の磨耗が少なくトナーの搬送性が維持され、良好な画像を提供する。【選択図】図９
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
均一に粗面化された導電性基体の表面にめっき被膜を有し、その被膜表面のビッカース硬度が３３０以上である現像剤担持体。
【請求項２】
前記ビッカース硬度が５００〜１３００である請求項１記載の現像剤担持体。
【請求項３】
前記導電性基体が鉄系金属材料を主要材料とする請求項１または２に記載の現像剤担持体。
【請求項４】
前記めっき被膜が無電解めっき法により形成されるニッケル-燐の組成からなるめっき被膜であり、このめっき被膜中の燐の濃度が０．１〜１３．０wt%であり、前記めっき被膜の膜厚が１〜８μｍである請求項１〜３のいずれか一項に記載の現像剤担持体。
【請求項５】
前記燐の濃度が０．１〜７．７wt%である請求項４記載の現像剤担持体。
【請求項６】
前記めっき被膜が無電解めっき法により形成されるニッケル-ホウ素の組成からなるめっき被膜であり、このめっき被膜中のホウ素の濃度が０．１〜２．５wt%であり、前記めっき被膜の膜厚は１〜８μｍである請求項１〜３のいずれか一項に記載の現像剤担持体。
【請求項７】
前記ホウ素の濃度が０．１〜１.６wt%である請求項６記載の現像剤担持体。
【請求項８】
前記めっき被膜は無電解めっき法により形成される、燐濃度の異なる複数のニッケル-燐のめっき被膜を有し、かつ前記導電性基体の表面に形成される第１のめっき被膜における燐濃度が０．１〜１３．０wt%であり、当該第１のめっき被膜の膜厚が１μｍ以上であり、この第１のめっき被膜の上に形成される第２のめっき被膜における燐濃度が０．１〜１３．０wt%であり、当該第２のめっき被膜の膜厚が０．５μｍ以上である請求項１〜３のいずれか一項に記載の現像剤担持体。
【請求項９】
前記第１のめっき被膜における燐濃度が８．０〜１３．０wt%である請求項８記載の現像剤担持体。
【請求項１０】
前記第１のめっき被膜の膜厚が１〜７．５μｍである請求項８または９記載の現像剤担持体。
【請求項１１】
前記第２のめっき被膜における燐濃度が０．１〜７．７wt%である請求項８〜１０に記載の現像剤担持体。
【請求項１２】
前記第２のめっき被膜の膜厚が０．５〜７．０μｍである請求項８〜１１のいずれか一項に記載の現像剤担持体。
【請求項１３】
前記めっき被膜はニッケル-燐組成の第１のめっき被膜と、ニッケル-ホウ素組成の第２のめっき被膜とを有し、かつ導電性基体の表面に形成される第１のめっき被膜における燐濃度が０．１〜１３．０wt%であり、当該第１のめっき被膜の膜厚が１μｍ以上であり、この第１のめっき被膜の上に形成される第２のめっき被膜におけるホウ素の濃度が０．１〜２．５wt%であり、当該第２のめっき被膜の膜厚が０．５μｍ以上である請求項１〜３のいずれか一項に記載の現像剤担持体。
【請求項１４】
前記第１のめっき被膜における燐濃度が８．０〜１３．０wt%である請求項１３記載の現像剤担持体。
【請求項１５】
前記第１のめっき被膜の膜厚が１〜７．５μｍである請求項１３または１４記載の現像剤担持体。
【請求項１６】
前記第２のめっき被膜におけるホウ素の濃度が０．１〜１.６wt%である請求項１３〜１５のいずれか一項に記載の現像剤担持体。
【請求項１７】
前記第２のめっき被膜の膜厚が０．５〜７．０μｍである請求項１３〜１６のいずれか一項に記載の現像剤担持体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真方式のプリンター、複写機、ファクシミリなどの電子写真装置に搭載される現像剤担持体に関する。
【背景技術】
【０００２】
レーザープリンタ、ＬＥＤプリンター、普通紙複写機などの電子写真装置は、いわゆるカールソンプロセスにより画像形成が行われる。カールソンプロセスは、光導電機能を有する感光層を備えた円筒状感光体の周表面上に配置された帯電、露光、トナー現像、転写、除電などの部材による電子写真プロセスを一サイクルとして、紙などに転写されたトナー画像を定着することにより出力する画像形成方法である。
【０００３】
このプロセスで、前記帯電、露光により感光体の表面に形成された静電潜像は次のトナー現像により静電潜像が顕像化される際に、現像器内のトナーは円筒状現像剤担持体、すなわち現像スリーブを介して静電気力を利用して感光体表面近傍に担持、搬送されて感光体表面の前記潜像を現像する。このような現像方法で良好な画像を得るには現像スリーブ上のトナーが現像スリーブ上に偏りがなく、均一な層として担持され搬送されることが極めて重要である。
【０００４】
また、現像剤担持体上のトナー層は厚すぎても、薄すぎても現像の濃度の点で良好な画像は期待できない。このために現像剤担持体上のトナーの厚みを規制する部材を別途備える必要があるものの、現像スリーブの表面にトナーを偏りなく均一に分布させるには、その表面状態も重要である。このような表面状態としては、必ずしも平滑面がベストではなく、適切な大きさの凹凸を設けて担持体とトナーの間に適度な摩擦力を設けるようにした方が良いとされている。しかし、この凹凸は繰り返し使用の過程で摩耗して徐々に画像が劣化するという問題があるので、耐摩耗性の向上が求められている。その実例を図１〜図４に示す。図１は現像剤担持体初期の表面のＳＥＭ観察像である。担持体基体の表面はサンドブラスト法などにより適切なディンプル形状に仕上げられ、ディンプル形状を維持するように、その上にめっき被膜が形成されている。図２は担持体表面近傍の断面をＳＥＭで観察した像である。基体の断面形状を、そのままめっき被膜が再現している。一方図３、４はそれぞれ４千枚印刷した後の担持体表面および断面形状のＳＥＭ観察像である。磨耗によりディンプル形状が損なわれている様子が分かる。このときの印刷された画像濃度は初期の画像濃度に比べて薄く、またかすれている。よって、繰り返し使用に対して、磨耗の少ないめっき層の形成が必要不可欠である。めっき層として、クロムめっき、パラジウム燐めっき、ニッケルめっき等各種材料が検討・適用されているが、電子写真用プリンターとして要求される繰り返し寿命を充分に満足するものは得られていない。
【０００５】
また現像剤担持体表面と感光体表面との間隙寸法を高精度に維持することが必要である。この間隙寸法が変動すると画像品質も変動する。従って繰り返し使用しても寸法安定性の良い材料が求められる。現像剤担持体基体にはアルミニウムも採用されているが、表面のビッカース硬度は約７０Ｈｖと低く、繰り返し使用される過程で現像担持体表面に摺動摩擦を与えるブレードや、トナーによって現像剤担持体表面が磨耗し表面の凹凸形状が平坦な形状になる。その結果トナーへの摩擦帯電機能低下、搬送性の低下による印字濃度低下の画像障害をもたらす。またアルミニウムは機械的強度が弱いので繰り返し使用過程において寸法が変化し、感光体表面との間隙寸法が変化し画像障害を生じる。これらの課題を解決するにはアルミニウムよりも高硬度、高強度な材料が望まれる。この観点から鉄材がアルミニウムよりも高硬度、かつ安価であり、検討されてきた。
【０００６】
但し、担持体基体の材料に鉄を採用する場合、鉄はそのままでは錆びてしまい、使用できなくなるので、表面を防錆処理する必要がある。防錆処理にはクロムめっきもあるが対環境、対安全の観点から好ましくない。またパラジウム-燐めっきは高価で経済性がよくない。ニッケル系めっきに関しては、前記の要求である高い表面硬度を満たすニッケルめっき膜の形成が必要である。
【０００７】
また、今後、電子写真装置へのより一層の安定性・信頼性・強靭性が求められるものと予想される。その一環として、上述した繰り返し使用に伴う画像安定性の向上のみでなく、過酷な使用・保存・輸送環境にも耐えうる強固な現像担持体の開発が望まれている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
以上説明した問題点に鑑みて、本発明は、繰り返し使用過程においても担持体表面のめっき被膜がトナーやブレードとの摺動摩擦で表面の凹凸形状を崩すことなく、トナーが現像剤担持体上で充分に摩擦帯電され、偏りのない均一な層として担持され搬送されることができ、かつ、現像履歴に応じた現像能力の差の生じない現像剤担持体を提供することを目的とする。
【０００９】
更には過酷な環境に耐えうる強靭な現像担持体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は上述の課題を克服することを目的としてなされた発明である。  
請求項１、２に記載の発明によれば、均一に粗面化された導電性現像剤担持体表面上にめっき被膜を形成し、その表面ビッカース硬度が３３０以上、好適には５００〜１３００である現像剤担持体とすることにより、前記繰り返し寿命の向上が達成される。
請求項３に記載の発明によれば、前記導電性基体が鉄系金属材料を主要材料とする請求項１または２に記載の現像剤担持体とすることにより、前記繰り返し寿命の向上が達成される。
【００１１】
さらに、請求項４、５に記載の発明によれば、請求項１〜３記載のめっき被膜は無電解めっき法により形成されるニッケル-燐の組成とし、燐の濃度を０．１〜１３．０wt%、好適には０．１〜７.７wt%とし、膜厚は１〜８μmとすることにより、前記繰り返し寿命の向上が達成される。
また、請求項６、７に記載の発明によれば、めっき被膜を無電解めっき法により形成されるニッケル-ホウ素とし、ホウ素の濃度が０．１〜２．５wt%、好適には０．１〜１.６wt%とし、膜厚を１〜８μmとすることにより、前記繰り返し寿命の向上が達成される。
【００１２】
加えて、請求項８，９，１０，１１，１２に記載の発明によれば、めっき被膜は無電解めっき法により形成される燐濃度の異なるニッケル−燐めっき層の積層構造とする。そして、導電性基体の表面に形成される第１層目のめっき被膜中の燐濃度を０．１〜１３．０wt%、好適には８．０〜１３．０wt%、、膜厚を１μm〜７．５μｍとし、この第１層上に形成する第２層の被膜中燐濃度を０．１〜１３wt%、好適には０．１〜７．７wt%、膜厚を０．５μｍ以上とすることにより、前記繰り返し寿命の向上が図れるとともに、過酷な環境下の使用等に耐えうる強靭な現像担持体を得ることができる。
【００１３】
さらに、請求項１３，１４，１５，１６，１７に記載の発明によれば、基体の表面にニッケル-燐組成のめっき層１を形成した後、その上にニッケル-ホウ素のめっき層２を形成する。そして、導電性基体の表面に形成される第１層目のめっき被膜における膜中燐濃度を０．１〜１３．０wt%、好適には８．０〜１３．０wt%、膜厚を１μｍ以上、好適には１〜７．５μmとし、この第１層のめっき層の上に形成される第２層目のめっき被膜におけるホウ素の濃度を０．１〜２．５wt%、好適には０．１〜１．６wt%、膜厚を０．５μm以上、好適には０．５〜７．０μmにすることにより、前記繰り返し寿命の向上が図れるとともに、過酷な環境下の使用に耐えうる強靭な現像担持体を得ることができる。
【００１４】
なお、請求項８乃至１７に記載の発明は、めっき被膜として第１のめっき被膜と第２のめっき被膜とを導電性基体上に少なくとも有することを特徴とするものであり、導電性基体上に他の層を有する現像剤担持体を排除するものではない。また、上記濃度の単位は重量百分率（ｗｔ％）である。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、繰り返し使用後にも、トナーが現像担持体上で充分に摩擦帯電され、偏りのない均一な層として担持され搬送されることができ、かつ、現像履歴に応じた現像能力の差の生じない円筒状現像剤担持体を提供することができる。具体的には、均一に粗面化された導電性基体表面上に、所定の燐濃度および膜厚を有するニッケル−燐めっき被膜、または所定のホウ素濃度および膜厚を有するニッケル-ホウ素めっき被膜を設けることにより繰り返し使用後でも表面の磨耗が少なく、トナーの搬送性が維持され、良好な画像を提供できる。
【００１６】
またニッケル-ホウ素めっき被膜、または燐濃度の異なるニッケル−燐めっき複層被膜、またはニッケル−燐めっきおよびニッケル-ホウ素めっきの複層被膜を形成することにより、繰り返し使用後でも表面の磨耗が少なくトナーの搬送性が維持され、良好な画像を提供するとともに過酷な環境に耐えうる現像担持体を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
図５は本発明にかかる現像剤担持体１の斜視図、図６、図７は現像剤担持体１の一部拡大断面図である。
本発明にかかる現像担持体１は図５の斜視図に示すように、直径１８ｍｍのスリーブ形状の導電性基体１の両側に軸支部を備えた形状を有し、材質はＪＩＳ規格のＳＴＫＭ１１Ａ、ＳＴＫＭ１３Ａ、ＳＵＭ２２、ＳＵＭ２４Ｌ等の鉄系材料が用いられる。この直径は搭載する装置により、適宜異なる直径としてもよい。通常は１０〜２５mmの範囲の直径にされることが多い。前記鉄の組成はこの例ではＳＴＫＭ１１Ａ材を用いたが、その他の組成でもよい。次に、平均粒径４４μｍ以下（#６００番）の球状ガラスビーズを用いて、導電性基体１表面のブラスト処理を行い、平均表面粗さＲｚを６．０〜７．０μｍとする。平均粗さが７．０μｍより大きいとトナーが凹凸の凹部に残るようになり、６．０μｍより小さいと平滑すぎて、トナーの摩擦帯電が不充分になり、トナー濃度が不充分になるなど適切な画像濃度が得られないという問題が生じる。さらにトナーのすべりが生じてトナー層に偏りができ易く均一な層になりがたいという問題もある。
【００１８】
次に前述のような所定の大きさの凹凸が形成された導電性基体１の表面に無電解めっき法により、めっき層２２、３１，３２を形成する。めっきの組成、および膜厚は課題を解決するための手段で述べた通りである。
【実験例】
【００１９】
繰り返し印刷過程において、ブレード、トナーとの摺動摩擦により現像剤担持体表面が磨耗するが、それによりトナーの搬送性が低下し、画像濃度が低下する。実験データ図８はそのことを表している。このとき現像剤担持体表面凹凸の印刷前１０点平均粗さＲｚが６．０μｍであった。図８の横軸は繰り返し印刷過程で現像剤担持体のめっき被膜が磨耗する時のＲｚの減少量ΔＲｚを表している。めっき被膜磨耗量の増大、すなわちΔＲｚの増大と共に画像濃度が減少していることが分かる。画像濃度はマクベス濃度計で評価した。画像濃度が１．３以下になると市場では受け入れられないレベルである。従って画像濃度１．３以上となる現像剤担持体表面めっき被膜のΔＲｚ１．１以下が市場の要求品質である。
【００２０】
図９は繰り返し印刷枚数がそれぞれ１０，０００枚、２０，０００枚、３０，０００枚、４０，０００枚、５０，０００枚のときのめっき表面ビッカース硬度Ｈｖとめっき被膜表面粗さ減少量ΔＲｚの関係を示す。市場で要求される画像濃度を確保するためには図８においてΔＲｚが１．１μｍであるから、それを図９に当てはめると、めっき被膜の表面ビッカース硬度は印刷３０，０００枚以下ではＨｖ３３０以上、印刷４０，０００枚以下ではＨｖ５００以上、印刷５０，０００枚以下ではＨｖ５９０以上が必要である。１現像ユニットあたり３０，０００枚以下が要求印刷枚数である一般のプリンターなら、図９よりビッカース硬度が３３０以上あれば十分である。一方、市場は１現像ユニットあたり４０，０００枚以上の印刷枚数を要求するカラー機やタンデム型が普及しつつあり、図９よりビッカース硬度は５００以上が必要である。
【００２１】
図１０はニッケル-燐めっき被膜における燐の濃度とめっき被膜表面のビッカース硬度の関係を表す。図９における繰り返し印刷過程のけるめっき被膜磨耗量ΔＲｚとめっき被膜表面ビッカース硬度Ｈｖの関係を当てはめると、市場で要求される画像濃度を確保するためには、印刷３０，０００枚以下では燐濃度１３重量％以下、印刷４０，０００枚以下では燐濃度８．５重量％以下であることが必要である。
【００２２】
一方、無電解めっきによってめっき被膜を形成した後に、３００℃、１時間熱処理を施すと図１３に示すように、更にめっき被膜表面のビッカース硬度を高めることができる。これはめっき被膜の組織、或いは結晶性が熱処理によって変化を生じることに起因している。
図１１はニッケル-ホウ素めっき被膜における燐の濃度とめっき被膜表面のビッカース硬度の関係を表す。図９における繰り返し印刷過程のけるめっき被膜磨耗量ΔＲｚとめっき被膜表面ビッカース硬度Ｈｖの関係を当てはめると、市場で要求される画像濃度を確保するためには、印刷３０，０００枚以下ではホウ素濃度２．５重量％以下、印刷４０，０００枚以下では燐濃度１．５重量％以下であることが必要である。
【００２３】
一方、無電解めっきによってめっき被膜を形成した後に、２５０℃、１時間熱処理を施すと図１４に示すように、更にめっき被膜表面のビッカース硬度を高めることができる。これはめっき被膜の組織、或いは結晶性が熱処理によって変化を生じることに起因している。
図１２はニッケル-燐めっき膜、およびニッケル-ホウ素めっき膜の各膜厚とめっき膜表面の１０点平均粗さＲｚの関係を示す。Ｒｚが６．０〜７．０μｍにおいて良好なトナー搬送性が得られる。従って図１２より最適な膜厚は８μｍ以下になる。
以下に具体的な実施例を示す。
実施例１
図５の構造を有する、直径１８ｍｍ、長さ３１４ｍｍのＳＴＫＭ１１Ａ材からなる両端に把持部を備えた支持体表面を、平均粒径４４μm以下（#６００番）の球状ガラスビーズを用いてサンドブラスト処理し、当該支持体表面の平均粗さＲｚを６．３μｍに調整した。次に、無電解めっき法により、当該指示体表面に燐濃度１３wt%のニッケル−燐被膜を４μｍ形成した。
実施例２
燐濃度を１０wt%とした以外は全て実施例１と同一の現像担持体を作製した。
実施例３
燐濃度を８．５wt%とした以外は全て実施例１と同一の現像担持体を作製した。
実施例４
燐濃度を２．５wt%とした以外は全て実施例１と同一の現像担持体を作製した。
実施例５
ニッケル−燐皮膜の膜厚を８μｍとした以外は全て実施例１と同一の現像担持体を作製した。
実施例６
図５の構造を有する、直径１８ｍｍ、長さ３１４ｍｍのＳＴＫＭ１１Ａ材からなる両端に把持部を備えた支持体表面を、平均粒径４４μm以下（#６００番）の球状ガラスビーズを用いてサンドブラスト処理し、当該支持体表面の平均粗さＲｚを６．４μｍに調整した。次に、無電解めっき法により、当該指示体表面にホウ素濃度２wt%のニッケル−ホウ素被膜を４μｍ形成した。
実施例７
ホウ素濃度を１．５wt%とした以外は全て実施例６と同一の現像担持体を作製した。
実施例８
ホウ素濃度を０．５wt%とした以外は全て実施例６と同一の現像担持体を作製した。
実施例９
ニッケル−ホウ素被膜の膜厚を８μｍとした以外は全て実施例６と同一の現像担持体を作製した。
比較例１
燐濃度を１４wt%とした以外は全て実施例１と同一の現像担持体を作製した。
比較例２
ニッケル−燐被膜の膜厚を１０μｍとした以外は全て実施例１と同一の現像担持体を作製した。
比較例３
ホウ素濃度を３wt%とした以外は全て実施例６と同一の現像担持体を作製した。
比較例４
ニッケル−ホウ素被膜の膜厚を１０μｍとした以外は全て実施例６と同一の現像担持体を作製した。
上記現像担持体について以下の評価を実施した。
・  硬度測定
ビッカース硬度計にて表面硬度を測定。
・  印字試験
市販の電子写真カラープリンタにかかる現像担持体を搭載したのちトナーを充填し、それぞれ初期、３０，０００枚印字後、４０，０００枚印字後の黒ベタ印字画像濃度を測定。
表１に結果を示す
下表の結果および前記図８〜１４により、表面ビッカース硬度が３３０以上、好適には５００〜１３００である現像剤担持体とすることにより、繰り返し寿命の向上が達成される
また、めっき被膜は無電解めっき法により形成されるニッケル-燐の組成とし、燐の濃度を０．１〜１３．０wt%、好適には０．１〜７.７wt%とし、膜厚は１〜８μmとすることにより、繰り返し寿命の向上が達成される。
【００２４】
また、めっき被膜を無電解めっき法により形成されるニッケル-ホウ素とし、ホウ素の濃度が０．１〜２．５wt%、好適には０．１〜１.６wt%とし、膜厚を１〜８μmとすることにより、繰り返し寿命の向上が達成される。
【００２５】
【表１】
2008009059.tif 000003
実施例１０
図５の構造を有する、直径１８ｍｍ、長さ３１４ｍｍのＳＴＫＭ１１Ａ材からなる両端に把持部を備えた支持体表面を、平均粒径４４μm以下（#６００番）の球状ガラスビーズを用いてサンドブラスト処理し、当該支持体表面の平均粗さＲｚを６．３μｍに調整した。次に、無電解めっき法により、当該指示体表面に燐濃度１３wt%の第１のニッケル−燐被膜を３．５μｍ形成した後、ついで燐濃度３wt%の第２のニッケル-燐被膜を０．５μｍ形成した。
実施例１１
図５の構造を有する、直径１８ｍｍ、長さ３１４ｍｍのＳＴＫＭ１１Ａ材からなる両端に把持部を備えた支持体表面を、平均粒径４４μm以下（#６００番）の球状ガラスビーズを用いてサンドブラスト処理し、当該支持体表面の平均粗さＲｚを６．４μｍに調整した。次に、無電解めっき法により、当該指示体表面に燐素濃度１３wt%のニッケル−燐被膜を３．５μｍ形成した後、ついでホウ素濃度１．５wt%のニッケル-ホウ素被膜を０．５μｍ形成した。
比較例５      
燐濃度を３wt%とした以外は全て実施例５と同一の現像担持体を作製した。
比較例６      
ホウ濃度を１.５wt%とした以外は全て実施例９と同一の現像担持体を作製した。
上記現像担持体について以下の評価を実施した。
・  塩水噴霧試験
JIS  Z２３７１に基づき上記現像担持体サンプルを使用して実施。
【００２６】
３０分置きに目視で外観を観察し、錆の発生するまでの時間を評価した。
・  印字試験
市販の電子写真カラープリンタにかかる現像担持体を搭載したのちトナーを充填し、それぞれ初期、３０，０００枚印字後、４０，０００枚印字後の黒ベタ印字画像濃度を測定。
表２に結果を示す。表および、図８〜１４の結果より
燐濃度の異なるニッケル−燐めっき層の積層構造において、導電性基体の表面に形成される第１層目のめっき被膜中の燐濃度を０．１〜１３．０wt%、好適には８．０〜１３．０wt%、、膜厚を１〜７．５μｍとし、この第１層上に形成する第２層の被膜中燐濃度を０．１〜１３wt%、好適には０．１〜７．７wt%、膜厚を０．５μｍ以上とすることにより、繰り返し寿命の向上が図れるとともに、過酷な環境下の使用等に耐えうる強靭な現像担持体を得ることができる。
【００２７】
また、基体の表面にニッケル-燐組成のめっき層１を形成した後、その上にニッケル-ホウ素のめっき層２を形成し、導電性基体の表面に形成される第１層目のめっき被膜における膜中燐濃度を０．１〜１３．０wt%、好適には８．０〜１３．０wt%、膜厚を１μｍ以上、好適には１〜７．５μmとし、この第１層のめっき層の上に形成される第２層目のめっき被膜におけるホウ素の濃度を０．１〜２．５wt%、好適には０．１〜１．６wt%、膜厚を０．５μm以上、好適には０．５〜７．０μmにすることにより、繰り返し寿命の向上が図れるとともに、過酷な環境下の使用に耐えうる強靭な現像担持体を得ることができる。
【００２８】
【表２】
2008009059.tif 000004
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】現像剤担持体初期の表面のＳＥＭ像
【図２】現像剤担持体初期の断面のＳＥＭ像
【図３】現像剤担持体４千枚印刷後の表面のＳＥＭ像
【図４】現像剤担持体４千枚印刷後の断面のＳＥＭ像
【図５】本発明にかかる現像剤担持体の斜視図
【図６】本発明にかかる現像剤担持体の一部拡大断面図
【図７】本発明にかかる他の現像剤担持体の一部拡大断面図
【図８】めっき被膜表面粗さ減少量と画像濃度の関係
【図９】めっき被膜表面硬度とめっき被膜表面粗さ減少量の関係
【図１０】ニッケル-燐めっきの燐濃度とめっき被膜表面硬度の関係
【図１１】ニッケル-ホウ素めっきのホウ素濃度とめっき被膜表面硬度の関係
【図１２】めっき膜厚とめっき表面１０点平均粗さＲｚの関係
【図１３】熱処理後のニッケル-燐めっきの燐濃度とめっき被膜表面硬度の関係
【図１４】熱処理後のニッケル-ホウ素めっきのホウ素濃度とめっき被膜表面硬度の関係
【符号の説明】
【００３０】
１    現像剤担持体
２    現像剤担持体断面模式図
２１  導電性基体
２２  単層ニッケル-燐めっき被膜、または、単層ニッケル-ホウ素めっき被膜
３１  第１のめっき被膜（組成  ニッケル-燐）
３２  第２のめっき被膜（組成  第１の被膜と異なる組成比のニッケル-燐、または、ニッケル-ホウ素）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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