【手続補正書】
【提出日】平成21年8月12日(2009.8.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板内に微細流路とマイクロポンプ室が形成されているマイクロ全分析システムにおいて、該マイクロポンプ室に光線によりガスを発生する材料（光増感剤及びアゾ化合物の双方を含む材料を除く）であって光が照射されると分解しガスを発生させる化合物を含む材料が充填されており、
マイクロポンプ室内の光線によりガスを発生する材料に光線を導くように光線を透過させる光線透過窓が形成されていることを特徴とするマイクロ全分析システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の詳細な説明】
【発明の名称】マイクロ全分析システム
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マイクロ全分析システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
最近、医療診断を患者の近傍で行うベッドサイド診断、大気や水や土壌中の環境汚染材料のモニタリング、食品の安全性検査等現場において短時間に安価に診断したり分析する技術のニーズは非常に高くなってきている。
【０００３】
例えば、従来、高価且つ大型の装置を必要とした分析を、持ち運び可能な小型の分析装置が代替できれば、大病院にしか設置できなかった分析装置を開業医でも設置、利用することが可能になり、診断結果を患者に簡便に早期にフィードバックすることが可能になる。
【０００４】
又、高齢者の健康指標を高齢者の家族が測定し、その健康指標数値を在宅管理したり、病院に定期的に送信して病院で管理することにより在宅医療環境がより優れたものとなる。
【０００５】
又、環境ホルモン、ダイオキシン等の環境汚染材料を、高価且つ大型装置を使用することなく、簡易測定することができれば、簡単且つ安価に環境診断することができる。更に、持ち運び可能な小型の分析装置を用いて現場で環境汚染材料を分析することができれば、よりきめ細かい安全環境を供出することができる。
【０００６】
このような測定を簡易に行うために、基板内又は基板上に微細流路、輸液ディバイス、反応槽、電気泳動カラム、膜分離機構、液体クロマトグラフカラム、キャピラリーガスクロマトグラフィー（ＣＧＣ）、誘導型プラズマ（ＩＣＰ）、質量分析計（ＭＳ）、電気化学的測定装置等が内臓されたマイクロ全分析システムの研究が盛んになされている。
【０００７】
上記マイクロ全分析システムにおいては、試料や反応液等の液体を輸送するための輸液ディバイスとしては一般にマイクロポンプが使用されている。
【０００８】
マイクロポンプとしては、例えば、ダイヤフラムと、該ダイヤフラムを往復変位させる駆動手段と、前記ダイヤフラムで一部が画成された圧力室と、前記ダイヤフラムの変位計測手段と、該変位計測手段で検出した値に基づいて前記ダイヤフラムの変位を制御する制御手段とを備えてなるダイヤフラムポンプ（例えば、特許文献１参照。）が挙げられる。
【０００９】
又、異なるマイクロポンプとしては、ピストンとハウジングを相対的に移動させる第１のアクチュエータと、このピストンの少なくとも一部を収納し軸方向に貫通した空間を有するシリンダと、このシリンダとハウジングを相対的に移動させる第２のアクチュエータと、前記ピストン、前記シリンダ、前記ハウジングで形成されるポンプ室と、このポンプ室と外部とを連絡する流体の吸入口と吐出口より構成される流体供給装置（例えば、特許文献２参照。）、微細流路上に電気浸透流を発生させる方法による送液媒体の送液を行うポンプ（例えば、特許文献３参照。）、電極および配線以外の全ての材質を加工性の良い高分子樹脂で形成することが可能であり、極限的に微小化することも容易なマイクロポンプとして水素ポンプ（例えば、特許文献４参照。）等が挙げられる。
【特許文献１】特開２００１−１３２６４６号公報
【特許文献２】特開２００２−０２１７１５号公報
【特許文献３】特開平１０−１００８８号公報
【特許文献４】ＵＳＰ３，４８９，６７０号公報
【００１０】
しかし、上記マイクロポンプは、構造が複雑であり、濃縮部や検出部を作成する労力に比べてポンプの作成労力が非常に大きい等の欠点があった。特に、使い捨てのマイクロ全分析システムにおいて使用するにはコストが高く実用には供し得なかった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明の目的は、上記欠点に鑑み、マイクロポンプ室が形成されているマイクロ全分析システムであって、容易且つ安価に製造しうるマイクロ全分析システムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明のマイクロ全分析システムは、基板内に微細流路とマイクロポンプ室が形成されているマイクロ全分析システムにおいて、該マイクロポンプ室に光線によりガスを発生する材料（光増感剤及びアゾ化合物の双方を含む材料を除く）であって光が照射されると分解しガスを発生させる化合物を含む材料が充填されており、マイクロポンプ室内の光線によりガスを発生する材料に光線を導くように光線を透過させる光線透過窓が形成されていることを特徴とする。
【００１３】
本発明で使用される基板の素材は、特に限定されるものではなく、例えば、従来から使用されている、ガラス、石英、シリコン等の無機材料、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等が挙げられる。
【００１４】
上記無機材料は精度、加工性等が優れており、例えば、半導体微細加工技術において広く用いられている光リソグラフィー技術を利用すれば、ガラスやシリコン基板上にミクロンオーダーの溝を自在に形成することができる。
【００１５】
上記熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリ乳酸系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂等が挙げられ、耐酸性、耐アルカリ性を有する熱可塑性樹脂であるポリオレフィン系樹脂やポリアクリル系樹脂が好ましい。
【００１６】
又、熱硬化性樹脂は、前駆体が液状のため、転写金型の形状をより忠実に転写するという利点があり、低い線膨張率、低い成形収縮率を示すので有利に用いることができる。このような熱硬化樹脂としては、コストや易取扱い性の点から、エポキシ樹脂を有利に用いることができる。
【００１７】
本発明のマイクロ全分析システムでは、基板内に微細流路とマイクロポンプ室が形成されており、マイクロポンプ室に光線によりガスを発生する材料が充填されている。この光線によりガスを発生する材料に光線を照射して、ガスを発生させ、発生したガスが微細流路を通ってポンプとして作用する。
【００１８】
従って、本発明のマイクロ全分析システムでは、マイクロポンプ室に光線が効率よく照射できるように、マイクロポンプ室内の光線によりガスを発生する材料に光線を導くように光線を透過させる光線透過窓が形成されている。
【００１９】
光線透過窓の形成は公知の任意に方法が採用されてよく、例えば、基板のマイクロポンプ室に通じる部位を透明なガラス、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等で形成する方法が挙げられる。
【００２０】
上記光線によりガスを発生する材料は、光線によりガスを発生する材料（光増感剤及びアゾ化合物の双方を含む材料を除く）であって光が照射されると分解しガスを発生させる化合物を含む材料である。上記光線によりガスを発生する材料は、流出してマイクロ全分析システムによる測定の邪魔にならないようにマイクロポンプ室に固定されているのが好ましい。
【００２１】
本発明で使用される光線によりガスを発生する材料は、ガスの発生速度、発生温度等を制御するために、分解促進剤、分解遅延剤、光増感剤等を含有していてもよい。
【００２２】
上記分解促進剤としては、光線によりガスを発生する材料に光線を照射した際に光線によりガスを発生する材料の分解を促進しうるものであれば特に限定されず、例えば、無機過酸化物；有機過酸化物；硫酸鉄、硝酸ナトリウム、ナフテン酸コバルト等の重金属化合物、蓚酸、リノレイン酸、アスコルビン酸等のカルボン酸類；ハイドロキノン、酸化錫等が挙げられる。
【００２３】
上記無機過酸化物としては、例えば、過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸アンモニウム、過塩素酸カリウム、過塩素酸ナトリウム、過塩素酸アンモニウム、過ヨウ素酸カリウム等が挙げられる。
【００２４】
上記有機過酸化物としては、１０時間半減期温度が１００℃以上のものが好ましく、例えば、Ｐ−メンタンハイドロキシパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロキシパーオキサイド、１，１，３，３−テトラメチルブチルハイドロキシパーオキサイド、クメンハイドロキシパーオキサイド、ｔ−ヘキシルハイドロキシパーオキサイド、ｔ−ブチルハイドロキシパーオキサイド等のハイドロキシパーオキサイド；ジクミルパーオキサイド、α，α’−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ−ｍ−イソプロピルベンゼン）、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキシン−３等のジアルキルパーオキサイド；１，１−ビス（ｔ−ヘキシルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ヘキシルパーオキシ）シクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロドデカン、２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタン、ｎ−ブチル−４，４−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）バレレート、２，２−ビス（４，４−ジ−ｔ−ブチルパーオキシシクロヘキシル）プロパン等のパーオキシケタール；ｔ−ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシマレイン酸、ｔ−ブチルパ−オキシ−３，５、５−トリメチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシラウレート、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ｍ−トルイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔ−ヘキシルパーオキシベンゾエート、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ｍ−ベンゾイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ビス−ｔ−ブチルパーオキシイソフタレート、ｔ−ブチルパーオキシアリルモノカーボネート等のパーオキシエステル等が挙げられる。
【００２５】
分解促進剤を光線によりガスを発生する材料に添加すると、光線によりガスを発生する材料の分解が促進されるが、分解促進剤として上記無機過酸化物又は有機過酸化物を添加すると、光線によりガスを発生する材料の分解残渣である炭化物の発生を抑止できるので好ましく、有機過酸化物は灰分残渣の発生も抑止できるのでより好ましい。
【００２６】
上記分解遅延剤としては、光線によりガスを発生する材料に光線を照射した際に光線によりガスを発生する材料の分解を遅延しうるものであれば特に限定されず、例えば、メルカプト化合物、アミン化合物、有機錫、有機ホウ素等が挙げられる。
【００２７】
上記メルカプト化合物としては、例えば、プロパンチオール、ブタンチオール、ペンタンチオール、１−オクタンチオール、ドデカンチオール、シクロペンタンチオール、シクロヘキサンチオール、１，３−プロパンジチオール等が挙げられる。
【００２８】
上記アミン化合物としては、例えば、プロピルアミン、ブチルアミン、ヘキシルアミン、ドデシルアミン、イソプロピルアミン、ヘキサメチレンジアミン、シクロヘキシルアミン、ベンジルアミン、アニリン、メチルアニリン等が挙げられる。
【００２９】
上記有機錫としては、例えば、ジメチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジオクテート、ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ビス（２，４−ペンタンジオン）、ジラウリル錫ジラウレート等が挙げられる。
【００３０】
上記有機ホウ素としては、例えば、トリメチルボレート、トリプロピルボレート、トリブチルボレート、トリメトキシボロキシン、トリメチレンボレート等が挙げられる。
【００３１】
上記光線によりガスを発生する化合物としては、例えば、光線により分解してガスを発生する化合物が挙げられる。
【００３２】
上記光線により分解してガスを発生する化合物としては、例えば、アゾジカルボンアミド、アゾビスイソブチロニトリル、アゾジカルボン酸バリウム塩、２，２−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、２．２−アゾビス（２−シクロプロピルプロピオニトリル）、２，２−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、１，１−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）等のアゾ化合物、ヒドラドジカルボンアミド、ニトロソグアニジン、ｐ，ｐ’−オキシビスベンゼンスルホニルセミカルバジド、ベンゼンスルホニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジニトロソペンタメチレンテトラミン、トルエンスルホニルヒドラジド、４，４−オキシビス（ベンゼンスルホニルヒドラジド）等が挙げられ、アゾ化合物が好適に使用される。
【００３３】
上記光増感剤としては、光線によりガスを発生する材料に光線を照射した際に光線によりガスを発生する材料の分解を促進しうるものであれば特に限定されず、例えば、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、α−ヒドロキシ−α，α’−ジメチルアセトフェノン、メトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノンなどのアセトフェノン誘導体化合物；ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテルなどのベンゾインエーテル系化合物；ベンジルジメチルケタールなどのケタール誘導体化合物；ハロゲン化ケトン；アシルホスフィンオキシド；アシルホスフォナート；２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−１−ブタノン、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキシド、ビス（η５−シクロペンタジエニル）ビス（ペンタフルオロフェニル）チタニウム、ビス（η５−シクロペンタジエニル）ビス［２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピリ−１−イル）フェニル］チタニウム、アントラセン、ペリレン、コロネン、テトラセン、ベンズアントラセン、フェノチアジン、フラビン、アクリジン、ケトクマリン、チオキサントン誘導体、ベンゾフェノン、アセトフェノン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン等が挙げられる。これらの増感剤は、単独で用いられても良いし、２種類以上が併用されても良い。
【００３４】
上記分解促進剤、分解遅延剤、光線によりガスを発生する化合物及び光増感剤の添加量は、特に限定されるものではなく、使用形態に応じて適宜決定されればよいが、一般に、光線によりガスを発生する材料１００重量部に対し０．１〜１０重量部である。
【００３５】
上記光線によりガスを発生する材料には、本発明の課題達成を阻害しない範囲で必要に応じて、例えば、増粘剤、物性調整剤、増量剤、酸化防止剤（老化防止剤）、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、着色剤等が添加されていても良い。
【００３６】
上記増粘剤は、光線によりガスを発生する材料との相溶性の良い高分子化合物が好ましく、例えば、（メタ）アクリル系樹脂、ポリビニルアルコール誘導体、ポリ酢酸ビニル、ポリスチレン誘導体、ポリエステル類、ポリエーテル類、ポリオレフィン類、ポリウレタン類、ポリアミド類、天然ゴム、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリイソブテン、ＮＢＲ、ＳＢＳ、ＳＩＳ、ＳＥＢＳ、水添ＮＢＲ、水添ＳＢＳ、水添ＳＩＳ、水添ＳＥＢＳ等や、これらの共重合体や官能基変性体等が挙げられる。
【００３７】
上記物性調整剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ，Ｎ’−ビス−［３−（トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス−［３−（トリエトキシシリル）プロピル］エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス−［３−（トリメトキシシリル）プロピル］ヘキサエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス−［３−（トリエトキシシリル）プロピル］ヘキサエチレンジアミンなどのシランカップリング剤や、チタンカップリング剤、アルミニウムカップリング剤等が挙げられる。
【００３８】
上記増量剤としては、例えば、タルク、クレー、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、無水珪素、含水珪素、珪酸カルシウム、二酸化チタン、カーボンブラック等の無機充填剤が挙げられる。
【００３９】
又、光線によりガスを発生する材料は、熱可塑性樹脂と光線によりガスを発生する化合物からなる樹脂組成物であってもよい。
【００４０】
上記熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−１−ブテン共重合体、エチレン−１−ペンテン共重合体、エチレン−１−ヘキセン共重合体、エチレン−４−メチル−１−ペンテン共重合体、エチレン−１−ヘプテン共重合体、エチレン−１−オクテン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エステル共重合体、エチレン−スチレン共重合体、プロピレン−スチレン共重合体、プロピレン−エチレン−ブテン共重合体、プロピレン−スチレン−エチレン−ブタジエン共重合体、エチレン−塩化ビニル共重合体、エチレン−プロピレン−ジエン共重合体等のオレフィン系樹脂；ポリメチル（メタ）アクリレート、ポリエチル（メタ）アクリレート、ポリブチル（メタ）アクリレート、ポリ２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート−ビニルピロリドン共重合体、エチル（メタ）アクリレート−ビニルピロリドン共重合体等の（メタ）アクリル系樹脂、ポリビニルアルコール誘導体、酢酸ビニル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、天然ゴム、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリイソブテン、ＮＢＲ、ＳＢＳ、ＳＩＳ、ＳＥＢＳ、水添ＮＢＲ、水添ＳＢＳ、水添ＳＩＳ、水添ＳＥＢＳ等や、これらの共重合体や官能基変性体等が挙げられる。
【００４１】
光線によりガスを発生する化合物としては、前述の光線によりガスを発生する化合物があげられ、アゾ化合物が好ましい。
【００４２】
上記光線によりガスを発生する化合物の添加量は、特に限定されるものではなく、使用形態に応じて適宜決定されればよいが、一般に、熱可塑性樹脂１００重量部に対し０．１〜１０重量部である。
【００４３】
上記樹脂組成物には、前述の増粘剤、物性調整剤、増量剤、酸化防止剤（老化防止剤）、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、着色剤等が本発明の課題達成を阻害しない範囲で必要に応じて、添加されていても良い。
【００４４】
本発明で使用される光線によりガスを発生する材料は、常態では安定であり、光線を照射することにより、分解してガスを発生する。
【００４５】
光線によりガスを発生する材料は、光を照射することにより分解し、消滅してガスを発生するが、光源としては、特に限定されず、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、発光ダイオード（ＬＥＤ）、全固体レーザー、エキシマレーザー、冷陰極線管、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプ、ナトリウムランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、蛍光灯、太陽光、電子線照射装置等が挙げられる。これらの光源は、単独で用いられても良いし、２種類以上が組み合わされて用いられても良い。
【００４６】
次に、本発明のマイクロ全分析システムを図面を参照して説明する。図１は、本発明のマイクロ全分析システムの一例を示す平面図であり、図２は、マイクロポンプ室付近の断面図である。
【００４７】
マイクロ全分析システムは上部基板８と下部基板９よりなり、上部基板８と下部基板９の間には、試料貯留槽１、試薬貯留槽２、反応液貯留槽３、マイクロポンプ室４、４、４、混合槽５、検出部６及び廃液貯留槽７が内蔵されている。
【００４８】
試料貯留槽１には試料を注入するための、開口された微細流路１１が連通され、試薬貯留槽２には試薬を注入するための、開口された微細流路２１が連通され、反応液貯留槽３には反応液を注入するための、開口された微細流路３１が連通されている。
【００４９】
マイクロポンプ室４は上面に透明な光線透過窓８１が形成されており、内部に光線によりガスを発生する材料１０が充填されている。又、マイクロポンプ室４は微細流路４１、４２、４３により、試料貯留槽１、試薬貯留槽２又は反応液貯留槽３に連通されている。
【００５０】
即ち、光線透過窓８１から光線を、光線によりガスを発生する材料１０に照射することにより、発生したガスを試料貯留槽１、試薬貯留槽２又は反応液貯留槽３に送りポンプとして作用する。
【００５１】
又、異なる光線によりガスを発生する材料１０として、ビーカーに、フリーラジカル重合法によって得られた数平均分子量エチルアクリレート−ビニルピロリドン共重合体（重量比９５：５）５０重量部、テトラヒドロフラン５０重量部、アゾビスイソブチロニトリル（和光純薬社製）１０重量部及びジエチルチオキサントン（日本化薬社製、商品名「ＤＥＴＸ」）５重量部を供給し、混合して、テトラヒドロフラン溶液を得、得られたテトラヒドロフラン溶液をマイクロポンプ室４が略一杯になるように塗布し、空気中で乾燥して光線によりガスを発生する材料を形成した。
【００５２】
試料貯留槽１と混合槽５及び試薬貯留槽２と混合槽５はそれぞれ微細流路１２，２２で連通されており、混合槽５と検出部６及び反応液貯留槽３と検出部６はそれぞれ微細流路５１，３２で連通されている。又、検出部６と廃液貯留槽７は微細流路６１で連通されており、廃液貯留槽７には廃液を排出するための、開口された微細流路７１が連通されている。
【００５３】
上記マイクロ全分析システムで測定する方法を説明する。先ず、試料貯留槽１に試料をマイクロシリンジ等で微細流路１１から注入し、試薬貯留槽２に試薬をマイクロシリンジ等で微細流路２１から注入し、反応液貯留槽３に反応液をマイクロシリンジ等で微細流路３１から注入し各微細流路１１、２１、３１を密閉する。
【００５４】
尚、光線によりガスを発生する材料をマイクロポンプ室に充填したマイクロ全分析システムにおいては、太陽光線や環境光線による感光する懸念がある場合には、光線によりガスを発生する材料の光感度を落とすように設計したり、マイクロ全分析システムを使用するまで、光透過窓を遮光シールや遮光フィルム等で遮光させることによって、光線によりガスを発生する材料がガスを発生しないようにするのが好ましい。
【００５５】
次に、試料貯留槽１及び試薬貯留槽２に連通したマイクロポンプ室４、４の光線透過窓８１から光線を、光線によりガスを発生する材料１０に照射し、ガスを発生させ、発生したガスを試料貯留槽１及び試薬貯留槽２に送り、試料貯留槽１及び試薬貯留槽２中の試料及び試薬を混合槽５に送り混合槽５内で混合する。
【００５６】
更に、ガスを発生させて混合された試料及び試薬を混合槽５から検出部６に送ると共に、反応液貯留槽３に連通したマイクロポンプ室４の光線透過窓８１から光線を、光線によりガスを発生する材料１０に照射し、ガスを発生させ、発生したガスを反応液貯留槽３に送り、反応液貯留槽３中の反応液を検出部６に送る。
【００５７】
検出部６内に、試料、試薬及び反応液が送られ、測定材料を測定する。測定終了した混合液は、更に光線によりガスを発生する材料１０にガスを発生させ、廃液として廃液貯留槽７に供給され貯留又は微細流路７１から排出される。
【００５８】
上記検出部６に設置される検出装置としては、従来からマイクロ全分析システムに使用されている任意の検出装置が挙げられ、例えば、質量分析計（ＭＳ）；ボルタンメトリ法、ストリッピングボルタンメトリ法、アンペロメトリ法、ポテンシオメトリー法、クーロンメトリ法等の電気化学的測定装置；光学的測定装置等が挙げられる。
【００５９】
又、上記マイクロ全分析システムには、従来からマイクロ全分析システムに使用されている試料を反応させるための反応槽；電気泳動カラム、膜分離機構、液体クロマトグラフカラム、キャピラリーガスクロマトグラフィー（ＣＧＣ）、誘導型プラズマ（ＩＣＰ）等の試料を濃縮・分離するための濃縮・分離装置；溶離液槽等が内蔵されていてもよい。
【００６０】
又、上記マイクロ全分析システムの例は一体に形成されているが、上記マイクロポンプ室、試料貯留槽、試薬貯留槽、反応液貯留槽、溶離液槽、反応槽、濃縮・分離装置、検出部等が異なる基板内に形成され、組み合わされて使用されてもよい。
【発明の効果】
【００６１】
本発明のマイクロ全分析システムの構成は上述の通りであり、容易にマイクロポンプ室を形成することができ、容易且つ安価に製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】本発明のマイクロ全分析システムの一例を示す平面図である。
【図２】マイクロポンプ室付近の断面図である。
【符号の説明】
【００６３】
１      試料貯留槽
２      試薬貯留槽
３      反応液貯留槽
４      マイクロポンプ室
５      混合槽
６      検出部
７      廃液貯留槽
８      上部基板
９      下部基板
１０    光線によりガスを発生する材料
８１    光線透過窓