(57)【要約】【目的】描画処理の効率化を促進する描画装置を提供することを目的とする。【構成】本発明の一態様の描画装置１００は、電子ビーム２００を照射する電子銃２０１と、試料１０１を載置するＸＹステージ１０５と、ビームを偏向させる偏向器２０８と、ショットデータを生成するショットデータ生成部１１０と、ショットデータを一時的に格納するバッファ１７６と、所定の領域分のショットデータがバッファ１７６に格納された後、ショットデータに基づいて描画時間分布データを生成する描画時間分布データ生成部１７４と、描画時間分布データに基づいてステージの移動速度分布を算出するステージ速度算出部１２０と、ステージの移動速度分布が算出された後、バッファ１７６からショットデータを入力し、ショットデータに含まれるパターンが描画されるように偏向器２０８を制御する偏向制御部１３０と、を備えたことを特徴とする。【選択図】図１
2008182073.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
荷電粒子ビームを照射する照射部と、
試料を載置して所定の方向に移動するステージと、
前記荷電粒子ビームを偏向させる偏向器と、
描画データを入力し、前記描画データを変換して装置内部フォーマットのショットデータを生成するショットデータ生成部と、
前記ショットデータを一時的に格納するバッファと、
前記試料の描画面における所定の領域分のショットデータが前記バッファに格納された後、前記バッファに格納されたショットデータに基づいて描画時間分布データを生成する描画時間分布データ生成部と、
前記描画時間分布データに基づいて前記所定の領域を描画する際の前記ステージの移動速度分布を算出するステージ速度算出部と、
前記ステージの移動速度分布が算出された後、前記バッファから前記ショットデータを入力し、前記ステージの移動速度分布に従って移動する前記ステージ上の前記所定の領域に入力されたショットデータに含まれるパターンが描画されるように前記偏向器を制御する偏向制御部と、
を備えたことを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項２】
前記描画装置は、複数の前記バッファを備え、
前記ショットデータ生成部は、第１番目の領域分のショットデータから順に生成し、
前記複数のバッファのうち、１つのバッファが、第ｎ番目の領域分のショットデータを格納し、他のバッファが、第ｎ＋１番目の領域分のショットデータを格納し、
前記ステージ速度算出部は、先に格納が完了したバッファに格納されたショットデータの領域から順にステージの移動速度分布を算出することを特徴とする請求項１記載の荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項３】
前記第ｎ番目の領域分のショットデータとして、前記試料の描画面を仮想分割した複数の描画単位領域のいずれかの描画単位領域における前半部の領域分のショットデータが用いられ、
前記第ｎ＋１番目の領域分のショットデータとして、後半部の領域分のショットデータが用いられることを特徴とする請求項２記載の荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項４】
前記ステージ速度算出部は、前記前半部の領域分の前記ステージの移動速度分布に分布する最後の速度を前記後半部の領域分の描画時間分布データに基づいて補正することを特徴とする請求項３記載の荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項５】
前記ステージ速度算出部は、前記前半部の領域分の描画時間分布データと、前記後半部の領域分の描画時間分布データの代わりにとなる仮の描画時間分布データとを入力し、両データに基づいて、前記前半部の領域分の前記ステージの移動速度分布を算出することを特徴とする請求項３記載の荷電粒子ビーム描画装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、荷電粒子ビーム描画装置に関する。例えば、電子ビームを可変成形させながら試料に電子ビームを照射する電子ビーム描画装置及びその装置の描画方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの微細化の進展を担うリソグラフィ技術は半導体製造プロセスのなかでも唯一パターンを生成する極めて重要なプロセスである。近年、ＬＳＩの高集積化に伴い、半導体デバイスに要求される回路線幅は年々微細化されてきている。これらの半導体デバイスへ所望の回路パターンを形成するためには、高精度の原画パターン（レチクル或いはマスクともいう。）が必要となる。ここで、電子線（電子ビーム）描画技術は本質的に優れた解像性を有しており、高精度の原画パターンの生産に用いられる。
【０００３】
図１６は、従来の可変成形型電子線描画装置の動作を説明するための概念図である。
可変成形型電子線描画装置（ＥＢ（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  ｂｅａｍ）描画装置）は、以下のように動作する。第１のアパーチャ４１０には、電子線４３２を成形するための矩形例えば長方形の開口４１１が形成されている。また、第２のアパーチャ４２０には、開口４１１を通過した電子線４３２を所望の矩形形状に成形するための可変成形開口４２１が形成されている。荷電粒子ソース４３０から照射され、開口４１１を通過した電子線４３２は、偏向器により偏向される。そして、可変成形開口４２１の一部を通過して、ステージ上に搭載された試料４４０に照射される。また、ステージは、描画中、所定の一方向（例えば、Ｘ方向とする）に連続的に移動する。すなわち、開口４１１と可変成形開口４２１との両方を通過できる矩形形状が、連続的に移動するステージ上に搭載された試料４４０の描画領域に描画される。開口４１１と可変成形開口４２１との両方を通過させ、任意形状を作成する方式を可変成形方式という。
【０００４】
ここで、例えばＸ方向に連続的に移動するステージ上に搭載された試料４４０を描画する場合には、遅くても描画前までにステージの移動速度を決定する必要がある。従来、まず、予め、実際の描画を行なわないでシステムのプログラムだけを実行させるダミー描画を行なう。そして、ダミー描画の結果に基づいてステージの移動速度を決定していた。そして、ステージの移動速度が決定した後に、システムの設定をダミー描画から実際の描画モジュールへと切り替える。これにより漸く実際の描画プロセスを開始することができる。そして、実際の描画プロセスでは、描画データから描画単位領域となるある描画ストライプ分のショットデータを生成する。その後、求めたステージ速度でステージを移動させながらショットデータに従ってこの描画ストライプの領域を描画していく。しかしながら、この従来の手法では、描画プロセスとは別にダミー描画を予め行なっておく必要があった。
【０００５】
ここで、ステージの移動速度とは直接関係ないが、ダミー描画に関連する技術として、電子ビーム描画における演算処理機能をチェックする方法の技術が文献に開示されている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平１０−２４２０２７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
以上のように、描画プロセスとは並行処理のできないステージ速度の算出時間が別に必要であった。よって、描画時間のスループットを低下させていた。そこで、ステージ速度の算出と描画プロセスとを並行しながら実行すべく諸所の検討を行なった。以下に、公に知られてはいないが、本願発明を想到するに至るまでの過程で想到した構成について説明する。
【０００７】
図１７は、描画装置の構成を示す概念図である。
図１７における描画装置３００では、試料３１１の描画領域を短冊状のストライプ領域に仮想分割して描画を行なう。以下の説明の中で、実際に描画する際のストライプ領域を描画ストライプと呼ぶ。また、ステージ速度を算出するために別途仮想分割されるストライプ領域を速度最適化ストライプと呼ぶ。まず、ショットデータ生成部３１０では、描画領域を速度最適化ストライプに仮想分割する。そして、速度最適化ストライプに仮想分割された領域のデータを先行処理する。そして、速度最適化ストライプのショットデータをまず生成する。そして、速度最適化ストライプのショットデータから描画時間分布データを生成する。そして、描画時間分布データがステージ速度算出部３２０に送られ蓄えられる。ショットデータ生成部３１０において描画ストライプのステージ速度を算出するために必要な範囲の速度最適化ストライプの処理が完了した後、ステージ速度算出部３２０では、描画ストライプと同一の領域の描画時間分布データを抽出する。そして、ステージ速度を算出する。次に、ショットデータ生成部３１０が描画ストライプのショットデータの生成を開始するとこのショットデータは偏向制御部３３０に送られ始める。ステージ制御部３４０にステージ移動の開始を指示するとＸＹステージ３０５が動きはじめ、描画範囲がビームの偏向領域に達すると描画が開始される。すなわち、電子銃３０１から電子ビーム３０２が照射される。そして、偏向制御部３３０で制御された偏向信号をアンプ３１５で増幅して、偏向器３０８で電子ビーム３０２を所望する位置に偏向する。また、電子ビーム３０２は対物レンズ３０７で焦点を合わされ、移動しているＸＹステージ３０５上の試料３１１に到達する。
【０００８】
図１８は、２重描画を行う場合のストライプの構成例を示す図である。
図１８では２重描画の一例を示している。速度最適化ストライプ５０１，５０２，５０５，５０８，５１１により構成される層が１層ある。また、２重描画用にずらし有りの層の描画ストライプ５０３，５０６，５０９，５１２，５１４，５１６がある。また、ずらし無しの層の描画ストライプ５０４，５０７，５１０，５１３，５１５が１層ある。各速度最適化ストライプは、ずらし無しの層の各描画ストライプとちょうど重なる領域となる。この層の各ストライプのステージ速度を算出する場合は該当する１ストライプ分のショット分布データを用いる。ずらし有りのストライプ５０３，５０６，５０９，５１２，５１４，５１６のステージ速度を算出する場合は、２つの速度最適化ストライプにまたがっているため、２つの該当する速度最適化ストライプの処理が完了しないとステージ速度を算出することができない。例えば、ストライプ５０６のステージ速度を算出する場合は、速度最適化ストライプ５０１，５０２の処理が終了している必要がある。ここで、かかる手法での問題点を以下に説明する。
【０００９】
図１９は、２重描画を行う場合のストライプ処理の順序を示す図である。
まず、最初に、ショットデータ生成部３１０が、速度最適化ストライプ５０１の処理を行う。そして、次に、ショットデータ生成部３１０が速度最適化ストライプ５０２の処理を開始する。そして、同時に、ステージ速度が算出可能となった描画ストライプ５０３のショットデータの生成を開始する。そして、生成された描画ストライプ５０３のショットデータが偏向制御部３３０に出力される。他方、ステージ速度算出部３２０では、ショットデータ生成部３１０が速度最適化ストライプ５０２の処理を開始すると共に描画ストライプ５０３のステージ速度の算出を行なう。そして、描画ストライプ５０３のステージ速度の算出が完了後算出されたステージ速度に基づいてステージ移動が行われると同時に、偏向制御部３３０では偏向信号が出力され、描画ストライプ５０３の描画が行われる。続いて、描画ストライプ５０４のステージ速度の算出が完了後、描画ストライプ５０４のショットデータの生成が開始され、算出されたステージ速度に基づいてステージ移動が行われると同時に、偏向制御部３３０に出力される。偏向制御部３３０では偏向信号が出力され、描画ストライプ５０４の描画が行われる。描画ストライプ５０３，５０４の描画が完了し、ショットデータ生成部３１０において速度最適化ストライプ５０２の処理が終わると、ショットデータ生成部３１０が、速度最適化ストライプ５０５の処理を開始する。それと共に、ステージ速度が算出可能となった描画ストライプ５０６のショットデータの生成を開始する。そして、生成された描画ストライプ５０６のショットデータが偏向制御部３３０に出力される。他方、ステージ速度算出部３２０では、ショットデータ生成部３１０が速度最適化ストライプ５０５の処理を開始すると共に、速度最適化ストライプ５０１，５０２に跨った描画ストライプ５０６のステージ速度の算出が可能となる。そして、描画ストライプ５０６のステージ速度の算出を行なう。そして、描画ストライプ５０６のステージ速度の算出が完了後算出されたステージ速度に基づいてステージ移動が行われると同時に、偏向制御部３３０では偏向信号が出力され、描画ストライプ５０６の描画が行われる。続いて、速度最適化ストライプ５０２と同じ描画ストライプ５０７のステージ速度の算出を行う。描画ストライプ５０７のステージ速度の算出が完了後算出されたステージ速度に基づいてステージ移動が行われると同時に、偏向制御部３３０では偏向信号が出力され、描画ストライプ５０７の描画が行われる。このような手順で描画ストライプ５１６まで処理が終われば描画完了になる。この方式では上述したように速度最適化ストライプと描画ストライプの処理の間に依存関係がある。
【００１０】
図２０は、２重描画を行う場合にヌル（ＮＵＬＬ）ストライプが存在した場合のストライプの構成例を示す図である。
図２１は、２重描画を行う場合にＮＵＬＬストライプが存在した場合のストライプ処理の順序を示す図である。
ＮＵＬＬストライプとは、描画するための図形が存在しないストライプ領域を示す。図２０において、速度最適化ストライプ５０８までは図１８〜図１９と同じだが、描画ストライプ５０９には描画パターンが存在しない、この場合、描画ストライプ５０９の処理はスキップされて描画ストライプ５１０が前倒しで描画が開始されることになる。しかし、その次の描画ストライプ５１２は速度最適化ストライプ５０５と速度最適化ストライプ５０８にまたがっているため速度最適化ストライプ５０８の処理が完了しないとステージ速度の算出を行うことができない。そのため、完了待ちという待機時間が必要となる。そのため、描画処理に無駄な時間が生じてしまう。その結果、描画装置のスループットを低下させてしまうといった問題があった。
【００１１】
そこで、本発明は、かかる問題点を克服し、描画処理の効率化を促進する描画装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の一態様の荷電粒子ビーム描画装置は、
荷電粒子ビームを照射する照射部と、
試料を載置して所定の方向に移動するステージと、
荷電粒子ビームを偏向させる偏向器と、
描画データを入力し、描画データを変換して装置内部フォーマットのショットデータを生成するショットデータ生成部と、
ショットデータを一時的に格納するバッファと、
試料の描画面における所定の領域分のショットデータがバッファに格納された後、バッファに格納されたショットデータに基づいて描画時間分布データを生成する描画時間分布データ生成部と、
描画時間分布データに基づいて所定の領域を描画する際のステージの移動速度分布を算出するステージ速度算出部と、
ステージの移動速度分布が算出された後、バッファからショットデータを入力し、ステージの移動速度分布に従って移動するステージ上の所定の領域に入力されたショットデータに含まれるパターンが描画されるように偏向器を制御する偏向制御部と、
を備えたことを特徴とする。
【００１３】
ステージ速度算出用の領域を描画用の領域とは別に仮想分割しないで、まず、描画用の領域のショットデータを作成する。そして、そのショットデータに基づいてステージの移動速度分布を算出する。ＮＵＬＬ領域（ＮＵＬＬストライプ）が存在した場合には、描画用のショットデータが存在しないのでステージの移動速度分布も算出されない。よって、待機時間を生じさせないようにすることができる。
【００１４】
また、描画装置は、複数のバッファを備え、
ショットデータ生成部は、第１番目の領域分のショットデータから順に生成し、
複数のバッファのうち、１つのバッファが、第ｎ番目の領域分のショットデータを格納し、他のバッファが、第ｎ＋１番目の領域分のショットデータを格納し、
ステージ速度算出部は、先に格納が完了したバッファに格納されたショットデータの領域から順にステージの移動速度分布を算出すると好適である。
【００１５】
特に、第ｎ番目の領域分のショットデータとして、試料の描画面を仮想分割した複数の描画単位領域のいずれかの描画単位領域における前半部の領域分のショットデータが用いられ、
第ｎ＋１番目の領域分のショットデータとして、後半部の領域分のショットデータが用いられると好適である。
【００１６】
さらに、ステージ速度算出部は、前半部の領域分のステージの移動速度分布に分布する最後の速度を後半部の領域分の描画時間分布データに基づいて補正すると好適である。
【００１７】
また、ステージ速度算出部は、前半部の領域分の描画時間分布データと、後半部の領域分の描画時間分布データの代わりにとなる仮の描画時間分布データとを入力し、両データに基づいて、前半部の領域分のステージの移動速度分布を算出すると好適である。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、ＮＵＬＬ領域が存在した場合でも待機時間を生じさせないようにすることができる。その結果、描画時間を短縮することができるので、スループットを向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、実施の形態では、荷電粒子ビームの一例として、電子ビームを用いた構成について説明する。但し、荷電粒子ビームは、電子ビームに限るものではなく、イオンビーム等の荷電粒子を用いたビームでも構わない。
【００２０】
実施の形態１．
図１は、実施の形態１における描画装置の構成を示す概念図である。
図１において、描画装置１００は、荷電粒子ビーム描画装置の一例である。また、描画装置１００は、可変成形型の描画装置の一例でもある。そして、描画装置１００は、電子ビーム２００を用いて試料１０１に所定のパターンを描画する。ここで、描画装置１００は、描画部１５０と制御部１６０を備えている。描画部１５０は、描画室１０３及び電子鏡筒１０２を備えている。電子鏡筒１０２内には、電子銃２０１、照明レンズ２０２、第１のアパーチャ２０３、投影レンズ２０４、偏向器２０５、第２のアパーチャ２０６、対物レンズ２０７、偏向器２０８が配置されている。描画室１０３内には、ＸＹステージ１０５が配置され、ＸＹステージ１０５上に描画される試料１０１が載置される。制御部１６０は、磁気ディスク装置１１２、ショットデータ生成部１１０、ステージ速度算出部１２０、偏向制御部１３０、ステージ制御部１４０、転送制御部１７０、描画制御部１８０、ショットデータ生成処理制御部１９０を有している。磁気ディスク装置１１２、ショットデータ生成部１１０、ステージ速度算出部１２０、偏向制御部１３０、ステージ制御部１４０、転送制御部１７０、描画制御部１８０、ショットデータ生成処理制御部１９０は、図示していないバスを介して互いに接続されている。そして、転送制御部１７０内には、制御部１７２、描画時間分布データ生成部１７４、バッファ１７６，１７８が配置されている。また、偏向制御部１３０は、アンプ１１５を介して偏向器２０８に接続されている。磁気ディスク装置１１２内には描画データが格納されている。この描画データが装置内部フォーマットのショットデータに変換され、そして、ショットデータに従ってパターンが描画されていくことになる。
【００２１】
ここで、「〜部」で記載した各構成内は、それぞれ、電気的な回路によるハードウェアにより実施させても構わない。或いは、電気的な回路によるハードウェアとソフトウェアとの組み合わせにより実施させても構わない。或いは、かかるハードウェアとファームウェアとの組み合わせでも構わない。ソフトウェア或いはファームウェアを用いる場合には、該当する構成内に、制御コンピュータとなるＣＰＵが配置される。また、ＣＰＵにより演算された結果等の出入力データを記憶するメモリ等の記憶装置が配置される。図１では、本実施の形態１を説明する上で必要な構成部分について記載している。描画装置１００にとって、通常、必要なその他の構成が含まれても構わない。
【００２２】
次にデータ処理の流れを説明する。ここで、図１の制御部１６０内では、実線でデータの流れを示し、点線で制御信号の流れを示している。ショットデータ生成処理制御部１９０がショットデータ生成部１１０にショット生成開始指示を送る。すると、ショットデータ生成部１１０は、磁気ディスク装置１１２からある描画ストライプを描画するために必要なだけの描画データを入力する。ここで、描画データは、複数のファイルで構成される。よって、必要なファイルを入力すればよい。また、描画するにあたって、試料１０１の描画領域は、短冊状の複数の描画ストライプに仮想分割される。描画ストライプは、描画単位領域となる。そして、描画ストライプ毎に描画処理が行なわれる。描画データを入力すると、ショットデータ生成部１１０は、ショットデータの生成を開始し、生成されたショットデータは転送制御部１７０内のバッファ１７６或いはバッファ１７８に一時的に蓄積される。その際、ショットデータ生成部１１０は、第１番目の領域分のショットデータから順に生成していく。１つのバッファが、第ｎ番目の領域分のショットデータを格納し、他のバッファが、第ｎ＋１番目の領域分のショットデータを格納する。装置内部フォーマットのショットデータは、ショットデータ生成部１１０により描画データが変換されて生成される。転送制御部１７０内では、描画時間分布データ生成部１７４が、生成されたショットデータから描画時間分布データを生成する。そして、生成された描画時間分布データは、ショットデータと共にバッファ１７６或いはバッファ１７８に一時的に蓄積される。そして、描画ストライプのショットデータの生成が完了する毎に、ショットデータ生成部１１０は、ショットデータ生成処理制御部１９０にストライプデータ生成完了通知を送る。
【００２３】
ショットデータ生成処理制御部１９０は、描画開始可能であれば描画制御部１８０にストライプデータ生成完了通知を送る。描画制御部１８０は、ストライプデータ生成完了通知を受けたのち、ステージ速度算出部１２０にステージ速度算出指示を送る。
【００２４】
すると、ステージ速度算出部１２０は、転送制御部１７０内のバッファ１７６或いはバッファ１７８から生成された描画時間分布データを読み出し、その描画ストライプのステージ速度分布（プロファイル）を算出する。そして、ステージ速度算出部１２０は、ステージ制御部１４０にステージ速度分布を設定し、速度プロファイル設定完了通知を描画制御部１８０に送る。ステージ速度算出部１２０は、先に格納が完了したバッファに格納されたショットデータの領域から順にステージの移動速度分布を算出する。
【００２５】
次に、描画制御部１８０は偏向制御部１３０にショット開始指示を送ると共に、ステージ制御部１４０にステージ移動開始指示を送る。偏向制御部１３０にショット開始指示が送信されると転送制御部１７０からショットデータを読み出す。このようにして、ショットデータが偏向制御部１３０に転送される。一方で、ステージ制御部１４０によりＸＹステージ１０５の移動が開始される。そして、偏向器２０８で偏向可能な領域内に入った後、該当する描画ストライプの描画が開始される。
【００２６】
他方、描画部１５０では以下のように動作する。電子ビーム２００は、電子銃２０１から照射される。そして、電子銃２０１から出た電子ビーム２００は、照明レンズ２０２により矩形例えば長方形の穴を持つ第１のアパーチャ２０３全体を照明する。ここで、電子ビーム２００をまず矩形例えば長方形に成形する。そして、第１のアパーチャ２０３を通過した第１のアパーチャ像の電子ビーム２００は、投影レンズ２０４により第２のアパーチャ２０６上に投影される。かかる第２のアパーチャ２０６上での第１のアパーチャ像の位置は、偏向器２０５によって制御される。その結果、ビーム形状と寸法を変化させることができる。そして、第２のアパーチャ２０６を通過した第２のアパーチャ像の電子ビーム２００は、対物レンズ２０７により焦点を合わせる。そして、電子ビーム２００は、偏向制御部１３０から出力され、アンプ１１５で増幅された信号に制御された偏向器２０８により偏向される。そして、偏向された電子ビーム２００は、移動しているＸＹステージ１０５上の試料１０１に照射される。
【００２７】
そして、偏向制御部１３０は描画単位領域となる描画ストライプのストライプエンドを検出したらストライプエンド検出通知を描画制御部１８０に送る。また、転送制御部１７０内の制御部１７２は、偏向制御部１３０に描画中のストライプのショットデータの転送を完了したら、ショットデータ生成部１１０にバッファ１７６或いはバッファ１７８の描画が完了したことをショットデータ転送完了通知で知らせる。この通知によって、ショットデータ生成部１１０は転送制御部１７０内のバッファの状態を知ることができる。
【００２８】
以上のように、ショットデータ生成部１１０は、描画ストライプ内のデータを先行処理し、ショットデータを生成する。そして、生成されたショットデータは転送制御部１７０に出力され、バッファ内に蓄えられる。描画ストライプのショットデータの生成が完了したら、転送制御部１７０では描画時間分布データを作成し、ステージ速度算出部１２０に送る。ステージ速度算出部１２０では転送制御部１７０から送られた描画時間分布データからステージ速度を算出する。他方、転送制御部１７０から描画ストライプのショットデータが偏向制御部１３０に送られ始める。ステージ制御部１４０にステージ移動の開始を指示するとＸＹステージ１０５が動きはじめ、描画範囲がビームの偏向領域に達すると描画が開始される。
【００２９】
図２は、実施の形態１における２重描画を行う場合のストライプの構成例を示す図である。
図２では、２重描画の例を示している。２重描画用にずらし有りの層の描画ストライプ１，３，５，７，９，１１と、ずらし無しの層の描画ストライプ２，４，６，８，１０がそれぞれ１層ある。図１８等で説明した速度最適化ストライプは無くなり、描画ストライプのショットデータを生成した結果から、ステージ速度を算出するために必要な描画時間の分布データを作成する。描画時間分布は、例えば、次のように生成することができる。まず、描画ストライプを例えばｘ方向に所定の幅で分割する。そして、複数のコンパートメント（ＣＰＭ）７０を想定する。そして、各ＣＰＭ７０内を描画するショットのショット時間と各ショット時のアンプ１１５のセトリング時間の合計となる描画時間を算出する。ショット時間は、ショットデータに含まれるビームの照射時間を用いればよい。またセトリング時間は、ショットデータの座標から偏向距離の変化量を求め、算出することができる。このようにして、所定の間隔で区切られたＣＰＭ７０毎の描画時間を算出することで、描画時間分布データ（ＣＰＭデータ）を生成することができる。
【００３０】
図３は、図２のストライプ構成において２重描画を行う場合のストライプ処理の順序を示す図である。
ショットデータ生成部１１０は、描画ストライプ１のショット生成を行いバッファ１７６に溜めておく。生成が完了したら、次の描画ストライプ２のショット生成を開始すると共に、描画時間分布データ生成部１７４が描画ストライプ１の描画時間分布データを作成する。そして、ステージ速度算出部１２０が描画ストライプ１のステージ速度を算出したら描画ストライプ１の描画を開始する。このように描画ストライプ１１まで処理が終われば描画完了になる。実施の形態１では、常に描画ストライプのショット生成を先行し、生成が完了してからステージ速度を算出し、ストライプ描画を行う。ここで、ステージ速度の算出は、ＣＰＭ７０毎の描画時間をＣＰＭ７０の幅で除することで求めることができる。また、前後のステージ速度の差Ｖが大きすぎると、前の速度から後の速度に移行する際にＸＹステージ１０５が追従できなくなる場合がある。そこで、ステージ速度の算出にあたっては、ＸＹステージ１０５が追従可能な速度で分布するように速度を算出すると好適である。例えば、予め、速度差Ｖの最大値を設定しておき、その範囲内になるように早い側の速度を頭打ちさせればよい。
【００３１】
図４は、実施の形態１における２重描画を行う場合にＮＵＬＬストライプが存在した場合のストライプの構成例を示す図である。
図５は、図４のストライプ構成において２重描画を行う場合のストライプ処理の順序を示す図である。
描画ストライプ４までは図２と同じだが、描画ストライプ５には描画パターンが存在しない。この場合、描画ストライプ５の処理はスキップ（省略）されて描画ストライプ６の処理が前倒しで開始される。そのため、待機時間が発生しない。このように、ショット生成から描画まですべてが前倒しになり、描画時間全体も短縮される。
【００３２】
また、実施の形態１の構成では、上述したようなＮＵＬＬデータが発生した場合でも描画がストップしないという効果の他にも以下のような効果も達成する。速度最適化ストライプを用いた構成で多重描画をおこなった場合、多重描画のためのストライプずらしの他に、サブフィールドずらしも行われる。これによりランダムなノイズやビーム偏向位置の誤差などによって生じるビーム位置のばらつきを低減することができる。サブフィールド（ＳＦ）は、ストライプをさらに小さく分割した小領域である。ＳＦは、多段偏向器を用いる際の副偏向領域となる。このサブフィールドずらしの結果、サブフィールドのグリッドが変わる。そのため、ストライプ境界のサブフィールドの所属に影響を与えることがある。その結果、描画時間の分布に誤差が生じる。例えば２重描画では１層は最適化ストライプと同じものになるが、もう１層はサブフィールドのグリッドが変わる。そして、描画１層分の速度最適化ストライプで、２層分の速度分布を求めるために、このような誤差要因が生じる。これに対して、実施の形態１では、実際に使用する描画ストライプのショットデータそのものから描画時間の分布を求めるためこのような誤差を生じさせない。
【００３３】
図６は、実施の形態１におけるバッファの使用の仕方の一例を示す図である。
一方のバッファにはショット生成中のショットデータを格納していて、他方のバッファには生成完了したショットデータが蓄えられている。図６（ａ）では、バッファ１７６にはショット生成中のショットデータを順次格納していて、バッファ１７８には既に生成完了したショットデータが蓄えられている。そして、既に生成完了しているバッファ１７８からは、ショットデータから抽出した描画時間分布データ（ＣＰＭデータ）をステージ速度算出部１２０に送り、ステージ速度算出部１２０がステージ速度のプロファイルを生成する。そして、ステージ速度のプロファイルデータがステージ制御部１４０に設定される。その後、ステージ制御部１４０と偏向制御部１３０の描画条件が整うと、設定されたステージ速度プロファイルに基づいてステージ移動が開始され、偏向制御部１３０はバッファ１７８からショットデータを読み出し、ストライプ描画が開始される。そして、バッファ１７８に格納されたデータ分の描画が終了すると、今度は、図６（ｂ）に示すように、バッファ１７６に次の描画領域のショットデータが格納完了している。逆に、バッファ１７８には新たなショット生成中のショットデータを順次格納していく。そして、今度は、既に生成完了しているバッファ１７６からショットデータから抽出した描画時間分布データ（ＣＰＭデータ）をステージ速度算出部１２０に送り、ステージ速度算出部１２０がステージ速度のプロファイルを生成する。そして、ステージ速度のプロファイルデータがステージ制御部１４０に設定される。その後、ステージ制御部１４０と偏向制御部１３０の描画条件が整うと、設定されたステージ速度プロファイルに基づいてステージ移動が開始され、偏向制御部１３０はバッファ１７６からショットデータを読み出し、ストライプ描画が開始される。
【００３４】
図７は、実施の形態１におけるバッファに１ストライプ分のデータが収まる場合の転送制御部におけるバッファの使い方の一例を示す図である。
図７（ａ）では、最初のショットデータ生成の先行処理の状態を表している。バッファ１７６に生成中のストライプ１のショットデータを蓄積中で、まだ描画は開始できない。図７（ｂ）では、バッファ１７６に最初のストライプ１のショットデータ格納が完了し、描画が開始されている。また、バッファ１７８には次のストライプ２のショットデータの蓄積が始まっている。図７（ｃ）では、ストライプ１の描画は完了し、ストライプ２の描画が開始されている。また、ストライプ３のショットデータの生成が開始されバッファ１７６にショットデータを蓄積している。図７の例では１つのバッファに１ストライプのデータが収められているが、複数のストライプデータが１つのバッファに格納されていてもかまわない。
【００３５】
図８は、実施の形態１におけるバッファに１ストライプ分のデータが収まらない場合の転送制御部におけるバッファの使い方の一例を示す図である。
図８（ａ）では、最初のショットデータ生成の先行処理の状態を表している。バッファ１７６に生成中のストライプ１の前半部のショットデータを蓄積中で、まだ描画は開始できない。図８（ｂ）では、バッファ１７６に最初のストライプ１の前半部のショットデータの格納が完了し、描画が開始されている。また、バッファ１７８にはストライプ１の後半部のショットデータの蓄積が始まっている。図８（ｃ）では、ストライプ１の前半部の描画が完了し、ストライプ１の後半部の描画が開始されている。また、ストライプ２のショットデータの生成が開始されバッファ１７６にショットデータを蓄積している。図８の例では１つのストライプを２つに分けているが、さらに多くの分割が行われても同様の処理で対処することができる。
【００３６】
図９は、実施の形態１におけるバッファに１ストライプ分のデータが収まらない場合のステージ速度算出部における速度プロファイルの再評価の一例について示す図である。
図９（ａ）では、１つ目のバッファ１７６に収まったストライプ前半部のショットデータからＣＰＭデータ２０を抽出し、生成した速度プロファイル３０を示している。図９（ｂ）では、もう一方のバッファ１７８に収まったストライプ後半部のショットデータからＣＰＭデータ２２を抽出して生成した速度プロファイル３２を表している。図９（ｃ）では、上述した速度プロファイル３０と速度プロファイル３２を別々に生成し、単純につなぎ合わせた場合を示している。このように別々に生成したプロファイルを単につなぎ合わせると、前半部と後半部の速度プロファイルの境界部分で速度差Ｖが大きくなる。そのため、実際にはＸＹステージ１０５が追従できないような速度プロファイルになってしまう可能性がある。
【００３７】
そこで、図９（ｄ）に示すように、ステージ速度算出部１２０は、仮にストライプの前半部で速度プロファイル３０を作成しておき、後半部のショトデータの生成が完了した時点で、前半部と後半部とを合わせたＣＰＭデータ２４を使用して速度プロファイル３１を再生成する。その場合には、ＸＹステージ１０５が追従できるように前半部の最後の速度を追従可能な速度に補正する。図９（ｄ）では、速度Ｖ１だけ減速させることで追従可能な場合を示している。そして、ステージ速度算出部１２０は、ステージ制御部１４０に速度プロファイル３０から速度プロファイル３１への変更指示を送る。ステージ制御部１４０は、このような速度プロファイルの変更指示を受けたら描画移動中のＸＹステージ１０５を停止することなく、速度プロファイルを切り替えて描画を継続する。以上のように構成することで、ＸＹステージ１０５の追従不可による描画停止を防止することができる。
【００３８】
図１０は、実施の形態１における後半部のショトデータの生成が間に合う場合の速度プロファイルの切り替え処理を説明するための図である。
まず、ステージ制御部１４０には、ストライプ前半部の速度プロファイル３０がステージ速度算出部１２０から設定される。ストライプ描画開始指示を受けたら、この前半部の速度プロファイル３０に応じてステージ移動を行わなくてはならない。前半部のストライプ描画移動を行っているうちに、後半部のショット生成が完了すると、ステージ速度算出部１２０が前半部と後半部を合わせた速度プロファイル３１を生成し、ステージ制御部１４０に設定する。速度プロファイルが更新されていたら、新しい速度プロファイル３１に切り替えて、ステージ移動を継続する。このように、前半部の最後の速度に移行する前に切り替えが行なわれれば、複数のバッファに分割されたストライプの描画においてもステージ移動は連続的に行われバッファの切り替えによる描画動作の一時的な中断は発生しない。しかしながら、後半部のショトデータの生成が間に合わない場合もあり得る。
【００３９】
図１１は、実施の形態１における後半部のショトデータの生成が間に合わない場合の速度プロファイルの追加処理を説明するための図である。
図１１に示すように、後半部のショットデータの生成に時間がかかり、前半部の描画動作が終了してＸＹステージ１０５が停止してしまった場合は、停止状態から、再スタートする。この場合には、ステージ速度算出部１２０が、本来の後半部の速度プロファイル３２を生成する。そして、ステージ制御部１４０は、停止位置から描画を継続させればよい。その際、ＸＹステージ１０５は、加速するための距離分だけ停止位置より前に戻った位置から移動を開始すると好適である。
【００４０】
以上のように、後半部のショトデータの生成が間に合う場合も間に合わない場合もそれぞれ対応することができる。速度プロファイルの切り替えは、ステージ制御部１４０が自動的に選択し切り替えればよい。この選択は、例えば、ステージ制御部１４０が前半部の最後の速度に移行する前に速度プロファイルの変更指示を受信したか否かで選択すればよい。以上のように構成することで、何らかの原因で処理能力が低下してショット生成に時間がかかり速度プロファイルを設定する前にストライプ前半部のステージ移動が完了し、ＸＹステージ１０５が停止しても、ＸＹステージ１０５を再スタートして描画動作を行なうことができる。
【００４１】
実施の形態２．
実施の形態１で説明したように、１つの描画ストライプのショットデータが複数のバッファに分かれる場合がある。そして、そのときに、そのストライプのすべての分布データがそろわない段階でステージ速度のプロファイルを作成し、描画を開始しなければならない場合がある。この場合、前半部の描画時間分布データのみで速度プロファイルを作成すると、後半部の描画時間分布が考慮されていないため、後半部分の描画時間分布データがそろった後に作成する場合と異なる速度プロファイルになる場合がある。その場合、既に描画を開始している部分の速度プロファイルにも影響の範囲が及ぶ可能性がある。すでにステージ位置が影響範囲に到達している場合、後から作成した速度プロファイルとの間に大きな速度差があると、前半部と後半部の境界で追従不能となり、再スタートといったリカバー動作などが発生する可能性がある。そのため、後半部の影響を小さくすることが望ましい。そこで、実施の形態２では、描画前描画時間評価部を設け、不足部分の描画時間の分布データを補って、速度プロファイルを作成する。これにより、後ろの部分の速度プロファイルを作成したときの影響を小さくする。
【００４２】
図１２は、実施の形態２における描画装置の構成を示す概念図である。
図１２において、制御部１６０は、図１の構成に、さらに、描画前描画時間評価部１２２を有している。その他の点は、図１と同様である。そして、描画前描画時間評価部１２２は、磁気ディスク装置１１２から描画データを読み出す。そして、描画前描画時間評価部１２２は、描画に先立ちすべての描画ストライプの簡易描画時間分布データを事前に作成する。例えば、簡易描画時間分布データは、描画データをストライプに相当するサイズに分割し、それぞれのストライプ領域を、さらにＣＰＭ領域に分割して、各ＣＰＭ領域に含まれる図形をショットデータサイズに分割することでショット数を見積もれば、ショット当たりの照射時間から、それぞれのＣＰＭ領域のおおよその描画時間を見積もることができる。簡易描画時間分布データは、仮の描画時間分布データとなる。転送制御部１７０で描画直前に作成する描画時間分布データはショット時間、セトリング時間などをあらかじめ区切ったＣＰＭ領域毎に振り分けて計算するため非常に精度が高い。しかし、１つの描画ストライプ分のショットデータが複数のバッファに跨った場合には、描画開始時に１ストライプ分すべての描画時間分布データがそろっていない。一方、描画前描画時間評価部１２２で事前に計算した簡易描画時間分布データは簡易的に求めているため若干精度は落ちるが、１ストライプすべての分布データをそろえることができる。
【００４３】
図１３は、実施の形態２におけるバッファの使用の仕方の一例を示す図である。
図１３（ａ）において、先行処理で、バッファ１７６にショットデータを溜めながら、他方のバッファ１７８のショットデータを描画する。その際、描画の前にステージ速度算出部１２０に描画時間分布データを転送する。一方、描画前描画時間評価部１２２で予め計算した仮の描画時間分布データも描画前描画時間評価部１２２からステージ速度算出部１２０に出力しておく。１ストライプ分のショットデータが１つのバッファに収まった場合は、精度の高い描画時間分布データを用いて速度プロファイルを作成すればよい。しかし、複数のバッファに分かれてしまい、１ストライプ分の描画時間分布データが存在しない場合は、描画前描画時間評価部１２２で簡易的に求めた仮の描画時間分布データで不足分を補う。ここでは、バッファ１７８に１つのストライプの前半部のデータが格納されていた場合を示している。
【００４４】
ここで、低い速度から高い速度に変化する場合、もし、ＸＹステージ１０５が追従できなくても設定速度より低いだけなので描画停止に至ることはない。逆に高い速度から低い速度に変化する場合にＸＹステージ１０５が追従できないと設定速度より実際の速度が速くなり、描画停止に至る可能性が高くなる。したがって簡易的に求めたショット時間分布データには、あらかじめ安全係数を掛けて速度が遅めになるように調整しておくと好適である。
【００４５】
図１４は、実施の形態２における１ストライプのショットデータが２つのバッファに分かれた場合の速度プロファイルの生成手順を示している。
図１４（ａ）では、バッファ１７８から得られた描画時間分布データ（ＣＰＭデータ）は前半部のＣＰＭデータ２０しかないが、仮の描画時間分布データ（ＤＷＳデータ）４４は１ストライプ分そろっている。仮の描画時間分布データ４４は、前半部の仮の描画時間分布データ４０と後半部の仮の描画時間分布データ４２で構成される。これらの分布データの分割サイズをあらかじめそろえておけば、図１４（ｂ）に示すように、前半部の高精度のＣＰＭデータ２０の後に、仮の描画時間分布データ４２で補って１ストライプ分の分布データをそろえることができる。ステージ速度算出部１２０は、この組み合わせの分布データから速度プロファイル５０を算出する。この場合、仮の描画時間分布データ４２は、簡易分布データであるため、前半部のＣＰＭデータ２０に比べて誤差が含まれている。そのため、最大誤差がショット時間が短い方向に出た場合速度が速くなりすぎ描画停止、再スタートといったリカバーの可能性が高まる。よって、仮の描画時間分布データ４２は、あらかじめ安全係数を掛けて速度が遅めになるように調整しておくと良い。このようにして求めた速度プロファイル５０のうち、図１４（ｄ）に示すように、前半部の後端部分の速度を除いた速度プロファイル５１をステージ制御部１４０に設定する。最後の速度を外した理由は、後半部のＣＰＭデータ２２がそろった時点で速度プロファイルを作成したとき、高精度のショット分布と簡易ショット分布の境界部分は若干変わる可能性が残されている。そのため、後半部分がそろった時点で設定するためにここでは設定しない。
【００４６】
そして、バッファ１７８に格納されたデータ分の描画が終了すると、今度は、図１３（ｂ）に示すように、バッファ１７８に次のショットデータを溜めながら、バッファ１７６のショットデータを描画する。すなわち、バッファ１７６に１つのストライプの後半部のデータが格納されていた場合を示している。後半部のショットデータがバッファ１７６にたまった時点で、描画時間分布データ生成部１７４は後半部のＣＰＭデータ２２を作成する。この時点で既にストライプ前半の描画は開始されている。そして、ＣＰＭデータ２２が作成された時点で、図１４（ｅ）に示すように前半部と後半部の描画時間分布データがそろったので精度の高い１ストライプ全体の速度プロファイルを作成することができる。しかしながら、既に前半部分は描画中であり、速度プロファイルを変更することはできない。そこで、図１４（ｆ）に示すように、ステージ制御部１４０へ設定済みの速度プロファイル５１は変えないという制約条件のもとで、ステージ速度算出部１２０が後半部の速度プロファイル５３を作成する。そして、図１４（ｇ）に示すように、残りの速度プロファイル５３をステージ制御部１４０に設定する。
【００４７】
図１５は、実施の形態２における１ストライプのショットデータが２つのバッファに分かれた場合の速度プロファイルの生成手順の他の例を示す図である。
図１５（ａ）では、バッファ１７８から得られたＣＰＭデータ２０は前半部分しかないが、仮の描画時間分布データ（ＤＷＳ）は１ストライプ分そろっている。上述したように、仮の描画時間分布データ４４は、前半部の仮の描画時間分布データ４０と後半部の仮の描画時間分布データ４２で構成される。ステージ速度算出部１２０は、この仮の描画時間分布データ４２から最もショット密度が濃い部分の描画時間４３を抽出する。そして、後半部分はすべてこのショット密度であると仮定する。そして、すべてのＣＰＭが描画時間４３であるとした後半部の仮の描画時間分布データ４５を仮定する。そして、図１５（ｃ）に示すように、このＣＰＭデータ２０と仮の描画時間分布データ４５との組み合わせから速度プロファイル６０を作成する。この場合、仮の描画時間４３は、簡易データであるため、上述したように、あらかじめ安全係数を掛けて速度が遅めになるように調整しておくと良い。そして、図１５（ｄ）に示すように、この速度プロファイル６０のうち、後端部分を外した速度プロファイル６１をステージ制御部１４０に設定する。ここでも高精度の後半部のＣＰＭデータがそろった時点で残りを設定するのが望ましい。
【００４８】
そして、後半部のショットデータがバッファ１７６にたまった時点で、描画時間分布データ生成部１７４は後半部のＣＰＭデータ２２を作成する。この時点で既にストライプ前半の描画は開始されている。そして、ＣＰＭデータ２２が作成された時点で、図１５（ｅ）に示すように前半部と後半部の描画時間分布データがそろったので精度の高い１ストライプ全体の速度プロファイルを作成することができる。しかしながら、既に前半部分は描画中であり、速度プロファイルを変更することはできない。そこで、図１５（ｆ）に示すように、ステージ制御部１４０へ設定済みの速度プロファイル６１は変えないという制約条件のもとで、ステージ速度算出部１２０が後半部の速度プロファイル６３を作成する。そして、図１５（ｇ）に示すように、残りの速度プロファイル６３をステージ制御部１４０に設定する。
【００４９】
以上のように、構成することで、前半部分の設定速度を低めに設定することになる。このストライプのスループットは低下するかもしれないが、予め境界部分のステージ速度を低めに設定しておくことで描画停止及び再スタートに至る可能性を低下させることができる。
【００５０】
ここで、さらに簡略化し、描画前描画時間評価部１２２が、システム設計上、最もショット密度が濃い場合を想定した描画時間を後半部の仮の描画時間分布データとして生成しておいても良い。そして、この後半部の仮の描画時間分布データを組合せて前半部分の速度プロファイルを生成してもよい。この場合は、さらに速度プロファイルは遅い設定になる可能性があるが、境界部分の描画停止及び再スタートといったリカバーの発生をさらに回避することができる。ストライプが複数のバッファに分かれることがまれな現象であり描画全体に占める割合が大きくなければ、ある程度スループットを犠牲にしてもリカバーの発生を回避したい場合には有効である。
【００５１】
以上の説明において、「〜部」と記載したものの処理内容或いは動作内容は、コンピュータで動作可能なプログラムにより構成してもよい。或いは、ハードウェアにより構成しても構わない。或いは、ソフトウェアとなるプログラムだけではなく、ハードウェアとソフトウェアとの組み合わせにより実施させても構わない。或いは、ファームウェアとの組み合わせでも構わない。また、プログラムにより構成される場合、プログラムは、磁気ディスク装置、磁気テープ装置、ＦＤ、或いはＲＯＭ（リードオンリメモリ）等の記録媒体に記録される。
【００５２】
また、図１或いは図１２において、「〜部」は、さらに、図示していないバスを介して、記憶装置の一例となるＲＡＭ（ランダムアクセスメモリ）、ＲＯＭ、磁気ディスク（ＨＤ）装置、入力手段の一例となるキーボード（Ｋ／Ｂ）、マウス、出力手段の一例となるモニタ、プリンタ、或いは、入力出力手段の一例となる外部インターフェース（Ｉ／Ｆ）、ＦＤ、ＤＶＤ、ＣＤ等に接続されていても構わない。
【００５３】
以上、具体例を参照しつつ実施の形態について説明した。しかし、本発明は、これらの具体例に限定されるものではない。
【００５４】
また、装置構成や制御手法等、本発明の説明に直接必要しない部分等については記載を省略したが、必要とされる装置構成や制御手法を適宜選択して用いることができる。例えば、描画装置１００を制御する制御部構成については、記載を省略したが、必要とされる制御部構成を適宜選択して用いることは言うまでもない。
【００５５】
その他、本発明の要素を具備し、当業者が適宜設計変更しうる全てのサブフィールド分割方法、ステージ速度決定方法、荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法は、本発明の範囲に包含される。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】実施の形態１における描画装置の構成を示す概念図である。
【図２】実施の形態１における２重描画を行う場合のストライプの構成例を示す図である。
【図３】図２のストライプ構成において２重描画を行う場合のストライプ処理の順序を示す図である。
【図４】実施の形態１における２重描画を行う場合にＮＵＬＬストライプが存在した場合のストライプの構成例を示す図である。
【図５】図４のストライプ構成において２重描画を行う場合のストライプ処理の順序を示す図である。
【図６】実施の形態１におけるバッファの使用の仕方の一例を示す図である。
【図７】実施の形態１におけるバッファに１ストライプ分のデータが収まる場合の転送制御部におけるバッファの使い方の一例を示す図である。
【図８】実施の形態１におけるバッファに１ストライプ分のデータが収まらない場合の転送制御部におけるバッファの使い方の一例を示す図である。
【図９】実施の形態１におけるバッファに１ストライプ分のデータが収まらない場合のステージ速度算出部における速度プロファイルの再評価の一例について示す図である。
【図１０】実施の形態１における後半部のショトデータの生成が間に合う場合の速度プロファイルの切り替え処理を説明するための図である。
【図１１】実施の形態１における後半部のショトデータの生成が間に合わない場合の速度プロファイルの追加処理を説明するための図である。
【図１２】実施の形態２における描画装置の構成を示す概念図である。
【図１３】実施の形態２におけるバッファの使用の仕方の一例を示す図である。
【図１４】実施の形態２における１ストライプのショットデータが２つのバッファに分かれた場合の速度プロファイルの生成手順を示している。
【図１５】実施の形態２における１ストライプのショットデータが２つのバッファに分かれた場合の速度プロファイルの生成手順の他の例を示す図である。
【図１６】従来の可変成形型電子線描画装置の動作を説明するための概念図である。
【図１７】描画装置の構成を示す概念図である。
【図１８】２重描画を行う場合のストライプの構成例を示す図である。
【図１９】２重描画を行う場合のストライプ処理の順序を示す図である。
【図２０】２重描画を行う場合にヌル（ＮＵＬＬ）ストライプが存在した場合のストライプの構成例を示す図である。
【図２１】２重描画を行う場合にＮＵＬＬストライプが存在した場合のストライプ処理の順序を示す図である。
【符号の説明】
【００５７】
１，２，３，４，５，６，７，８，９，１０，１１  描画ストライプ
２０，２２，２４  ＣＰＭデータ
３０，３１，３２，５０，５１，５３，６０，６１，６３  速度プロファイル
４０，４２，４４，４５  仮の描画時間分布データ
４３  描画時間
７０  ＣＰＭ
１００，３００  描画装置
１０１，３１１，４４０  試料
１０２  電子鏡筒
１０３  描画室
１０５，３０５  ＸＹステージ
１１０，３１０  ショットデータ生成部
１１２  磁気ディスク装置
１１５，３１５  アンプ
１２０，３２０  ステージ速度算出部
１２２  描画前描画時間評価部
１３０，３３０  偏向制御部
１４０，３４０  ステージ制御部
１５０  描画部
１６０  制御部
１７０  転送制御部
１７２  制御部
１７４  描画時間分布データ生成部
１７６，１７８  バッファ
１８０  描画制御部
１９０  ショットデータ生成処理制御部
２００，３０２  電子ビーム
２０１，３０１  電子銃
２０２  照明レンズ
２０３，４１０  第１のアパーチャ
２０４  投影レンズ
２０５，２０８，３０８  偏向器
２０６，４２０  第２のアパーチャ
２０７，３０７  対物レンズ
４１１  開口
４２１  可変成形開口
４３０  荷電粒子ソース
４３２  電子線
５０１，５０２，５０５，５０８，５１１  速度最適化ストライプ
５０３，５０４，５０６，５０７，５０９，５１０  描画ストライプ
５１２，５１３，５１４，５１５，５１６  描画ストライプ
【図１】
2008182073.tif 000003
【図２】
2008182073.tif 000004
【図３】
2008182073.tif 000005
【図４】
2008182073.tif 000006
【図５】
2008182073.tif 000007
【図６】
2008182073.tif 000008
【図７】
2008182073.tif 000009
【図８】
2008182073.tif 000010
【図９】
2008182073.tif 000011
【図１０】
2008182073.tif 000012
【図１１】
2008182073.tif 000013
【図１２】
2008182073.tif 000014
【図１３】
2008182073.tif 000015
【図１４】
2008182073.tif 000016
【図１５】
2008182073.tif 000017
【図１６】
2008182073.tif 000018
【図１７】
2008182073.tif 000019
【図１８】
2008182073.tif 000020
【図１９】
2008182073.tif 000021
【図２０】
2008182073.tif 000022
【図２１】
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