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【手続補正書】
【提出日】平成25年5月22日(2013.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ヒドロキシチロソールのＣ−ＣカップリングまたはＣ−Ｏ−Ｃカップリングのいずれかによって形成されるヒドロキシチロソールポリマー。
【請求項２】
前記ポリマーは、ダイマー、トリマーまたは、より大きなオリゴマーである、請求項１に記載のヒドロキシチロソールポリマー。
【請求項３】
前記ポリマーは、Ｃ−Ｃカップリングによって形成される、請求項１または２に記載のヒドロキシチロソールポリマー。
【請求項４】
次の構造：
【化１】
2013527126.tif 000001
を有する、請求項３に記載のヒドロキシチロソールポリマー。
【請求項５】
次の構造：
【化２】
2013527126.tif 000002
を有する、請求項３に記載のヒドロキシチロソールポリマー。
【請求項６】
ヒドロキシチロソールのＣ−ＣカップリングまたはＣ−Ｏ−Ｃカップリングのいずれかによって形成されるヒドロキシチロソールポリマーを含有する抗酸化剤組成物。
【請求項７】
前記ポリマーは、Ｃ−Ｃカップリングによって形成される、請求項６に記載の抗酸化剤組成物。
【請求項８】
前記ポリマーは、ヒドロキシチロソールダイマー、ヒドロキシチロソールトリマーおよび、より大きなヒドロキシチロソールオリゴマーの１つ以上である、請求項６または７に記載の抗酸化剤組成物。
【請求項９】
ヒトまたは動物の皮膚への使用に好適である、請求項６〜８のいずれかに記載の抗酸化剤組成物。
【請求項１０】
クリーム、ローションまたはスプレーの形態である、請求項８に記載の抗酸化剤組成物。
【請求項１１】
１種類以上の他の有効成分または賦形剤を含有する医薬の形態である、請求項６〜８のいずれかに記載の抗酸化剤組成物。
【請求項１２】
ヒドロキシチロソールのＣ−ＣカップリングまたはＣ−Ｏ−Ｃカップリングのいずれかによって形成されるヒドロキシチロソールポリマーの抗酸化剤の調製における使用。
【請求項１３】
前記ポリマーは、Ｃ−Ｃカップリングによって形成される、請求項１２に記載の使用。
【請求項１４】
ヒドロキシチロソールポリマーは、ヒドロキシチロソールダイマー、ヒドロキシチロソールトリマーまたは、より大きなヒドロキシチロソールオリゴマーである、請求項１２または１３に記載の使用。
【請求項１５】
ラッカーゼを触媒として用いてヒドロキシチロソールを重合化することを含む、ヒドロキシチロソールポリマーの調製方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
【化３】
2013527126.tif 000003
【手続補正書】
【提出日】平成25年8月16日(2013.8.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
細長い撚糸品を処理するための機械であって、回転可能に取り付けられた回転弓状体（１）であって前記撚糸品を撚る機能を果たす回転弓状体を有する、機械において、前記回転弓状体が、
長手方向軸（３）にほぼ沿う延長部であって、少なくとも所定セクションが湾曲した、延長部と、
横断面領域（４）により描かれ、前記長手方向軸（３）に対してほぼ直角に延在する横断面と、
前記長手方向軸（３）とほぼ平行に延在する長手方向溝部であって、当該長手方向溝部の横断面領域（１０）によって描かれる横断面を有し、前記撚糸品を当該回転弓状体（１）の当該長手方向溝部内で前記長手方向軸（３）の方向に移動可能に案内できる、長手方向溝部と、
を有し、
前記回転弓状体（１）が、繊維補強されたプラスチックからなり、中実本体部の外形として形成されており、
少なくとも１つの案内素子（２）が設けられ、前記案内素子が、前記長手方向溝部の少なくとも一部を被覆し、前記撚糸品を案内するように構成され、
前記横断面領域（４）が、楕円の基本形状を示すことを特徴とする機械。
【請求項２】
前記長手方向溝部の前記横断面領域（１０）の一部が、前記楕円の基本形状の第１半軸（５）と交差し、特に、前記楕円の基本形状の第２半軸（６）に対して対称であることを特徴とする請求項１に記載の機械。
【請求項３】
前記長手方向溝部の少なくとも一部の表面（１１）には、被覆部が設けられており、
前記被覆部が、摩耗低減及び／または摩擦低減材料からなることを特徴とする請求項１または２に記載の機械。
【請求項４】
前記長手方向溝部の少なくとも一部の表面（１１）には、スライドプレート（８）が設けられており、
前記スライドプレートの少なくとも一部が、摩耗低減及び／または摩擦低減材料からなることを特徴とする請求項１または２に記載の機械。
【請求項５】
少なくとも１つの前記案内素子（２）の少なくとも一部が、摩耗低減及び／または摩擦低減材料、特にセラミック材料からなることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の機械。
【請求項６】
少なくとも１つの前記案内素子（２）が、少なくとも１つの固定素子（１５）を用いて前記回転弓状体（１）に取り外し可能に付けられていることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の機械。
【請求項７】
周辺の閉塞した撚糸品案内凹所（１２）を有する全横断面領域が、前記湾曲した領域に形成されていることを特徴とする請求項６に記載の機械。
【請求項８】
少なくとも１つの固定素子（１５）が、全横断面領域内にほぼ配置されていることを特徴とする請求項６または７に記載の機械。
【請求項９】
前記回転弓状体（１）が、少なくとも２つの前記案内素子（２）を有し、
前記案内素子が、特に前記長手方向溝部の経路に沿わせるために、当該案内素子（２）において前記撚糸品を反らせる反らせ角度が２つの連続的な当該案内素子（２）において同一となるように、位置付けられていることを特徴とする請求項１から８のいずれか１項に記載の機械。
【請求項１０】
細長い撚糸品を処理するための請求項１から９のいずれか１項に記載の機械で使用される回転可能に取り付けられる回転弓状体（１）を製造するための方法であって、
前記撚糸品を撚る機能を果たす回転弓状体（１）が、
長手方向軸（３）にほぼ沿う延長部であって、少なくとも所定セクションが湾曲した、延長部と、
横断面領域（４）により描かれ、前記長手方向軸（３）に対してほぼ直角に延在する横断面と、
前記長手方向軸（３）とほぼ平行に延在する長手方向溝部であって、当該長手方向溝部の横断面領域（１０）によって描かれる横断面を有し、前記撚糸品を当該回転弓状体（１）の当該長手方向溝部内で前記長手方向軸（３）の方向に移動可能に案内できる、長手方向溝部と、
前記長手方向溝部の少なくとも一部を被覆し、前記撚糸品を案内するように構成された少なくとも１つの案内素子（２）と、
を有し、
前記長手方向溝部を有する前記回転弓状体（１）を、中実本体部の外形として繊維補強されたプラスチックから製造し、前記横断面領域（４）が、楕円の基本形状を示し、
少なくとも１つの前記案内素子（２）を、前記回転弓状体に接続することを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年8月1日(2013.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ロックアセンブリ（１０）であって、
（ｉ）プッシュボタン（４８）および
（ｉｉ）外部駆動ハンドル（４４）を含み、前記外部駆動ハンドル（４４）が前記プッシュボタンの周囲の回転運動に適合している
（ａ）前方部サブアセンブリ（２０）と、
（ｉ）シリンダ形状のケーシング（５４）および
（ｉｉ）前記シリンダ形状のケーシング（５４）に対する回転運動に適合しているスプロケットホイール（６６）を含み、かつ、前記前方部サブアセンブリ（２０）に対して作動可能に連結している
（ｂ）中間部サブアセンブリ（３０）と、
（ｉ）ハウジング（５８）、
（ｉｉ）前記ハウジング（５８）内部に取り付けるプリント基板（８０）および
（ｉｉｉ）前記ハウジング内部（５８）に取り付ける電気モータ（８６）を含み、かつ、前記中間部サブアセンブリ（３０）に対して作動可能に連結している
（ｃ）後方部サブアセンブリ（４０）と
を備えるロックアセンブリ（１０）。
【請求項２】
前記中間部サブアセンブリ（３０）はさらに、
（ｉｉｉ）前記外部駆動ハンドル（４４）からのトルクを転送して前記スプロケットホイール（６６）を回転させるためのスプロケットホイールシリンダであって、前記シリンダ形状のケーシング（５４）内部に少なくとも部分的に取り付けるスプロケットホイールシリンダ（１２０）と、
（ｉｖ）前記外部駆動ハンドルからの回転トルクを転送する位置セレクタ（１１０）であって、前記シリンダ形状のケーシング（５４）内に少なくとも部分的に位置する多角形凹部を有する位置セレクタ（１１０）と
を備える、請求項１に記載のロックアセンブリ（１０）。
【請求項３】
前記後方部サブアセンブリ（４０）はさらに、
（ｉｖ）回転トルクを転送し、直線力を転送するロッド（９４）であって、前記ハウジング（５８）内部に部分的に取り付けるロッド（９４）と、
（ｖ）前記ロッド（９４）に配置するマイクロスイッチつまみ（９２）と、
（ｖｉ）前記プリント基板（８０）に配置する少なくとも１つのマイクロスイッチ（８２）と
を備える、請求項１に記載のロックアセンブリ（１０）。
【請求項４】
前記後方部サブアセンブリ（４０）はさらに、
（ｖｉｉ）前記電気モータ（８６）に作動可能に連結するカム（８８）と、
（ｖｉｉｉ）前記電気モータ（８６）に作動可能に連結する電源（９０）と、
（ｉｘ）前記ロッド（９４）に配置する中空シリンダ（９８）と、
（ｘ）前記ロッド（９４）に配置する停止部材（１００）と、
（ｘｉ）前記停止部材（１００）に配置するフラップ（１０９）と
を備える、請求項３に記載のロックアセンブリ（１０）。
【請求項５】
前記後方部サブアセンブリ（４０）はさらに、
（ｘｉｉ）前記中空シリンダ（９８）に配置する突出素子（１０２）と、
（ｘｉｉｉ）前記停止部材（１００）に配置する手動アクチュエータの摘みハンドル（１０６）と、
（ｘｉｖ）前記ロッド（９４）に取り付ける付勢部材（１０８）と、
（ｘｖ）前記停止部材（１００）に配置する第１の多角形状突出素子（１１６）と、
（ｘｖｉ）前記停止部材（１００）に配置する第２の多角形状突出素子（１１８）と
を備える、請求項４に記載のロックアセンブリ（１０）。
【請求項６】
前記中間部サブアセンブリ（３０）はさらに、
（ｉｉｉ）前記外部駆動ハンドル（４４）からのトルクを転送して前記スプロケットホイール（６６）を回転させるためのスプロケットホイールシリンダであって、前記シリンダ形状のケーシング（５４）内部に少なくとも部分的に取り付けるスプロケットホイールシリンダ（１２０）と、
（ｉｖ）前記外部駆動ハンドルからの回転トルクを転送する位置セレクタ（１１０）であって、前記シリンダ形状のケーシング（５４）内に少なくとも部分的に位置する多角形凹部を有する位置セレクタ（１１０）と
を備えるロックアセンブリにおいて、
前記後方部サブアセンブリ（４０）はさらに、
（ｉｖ）回転トルクを転送し、直線力を転送するロッド（９４）であって、前記ハウジング（５８）内部に部分的に取り付けるロッド（９４）と、
（ｖ）前記ロッド（９４）に配置するマイクロスイッチつまみ（９２）と、
（ｖｉ）前記プリント基板（８０）に配置する少なくとも１つのマイクロスイッチ（８２）と、
（ｖｉｉ）前記電気モータ（８６）に作動可能に連結するカム（８８）と、
（ｖｉｉｉ）前記電気モータ（８６）に作動可能に連結する電源（９０）と、
（ｉｘ）前記ロッド（９４）に配置する中空シリンダ（９８）と、
（ｘ）前記ロッド（９４）に配置する停止部材（１００）と、
（ｘｉ）前記停止部材（１００）に配置するフラップ（１０９）と
を備える、請求項１に記載のロックアセンブリ（１０）。
【請求項７】
前記外部駆動ハンドル（４４）を回転させることにより、前記プリント基板（８０）から特定のマイクロスイッチ（８２）を選択し、前記プッシュボタン（４８）を押すことによって選択したマイクロスイッチ（８２）が作動し、ここで正しいコードを入力すると前記電気モータ（８６）が作動し、前記電気モータ（８６）によって駆動する前記カム（８８）は前記停止部材（１００）のフラップ（１０９）の方へ回転し、前記カム（８８）が前記停止部材（１００）のフラップ（１０９）と相互作用して停止部材を回転させることによって、前記停止部材（１００）から前記中空シリンダ（９８）を解放し、前記マイクロスイッチつまみ（９２）が前記外部駆動ハンドル（４４）の方向へ動くようにし、前記外部駆動ハンドル（４４）からのトルクを転送して前記スプロケットホイール（６６）を回転させるようにする、請求項６に記載のロックアセンブリ（１０）。
【請求項８】
ロックアセンブリ（１０）の操作方法であって、
（ａ）前記ロックアセンブリ（１０）の外部駆動ハンドル（４４）を少なくとも１つの所定位置に回転させるステップと、
（ｂ）前記ロックアセンブリ（１０）のプッシュボタン（４８）を所定のコードに従って少なくとも１回押して前記ロックアセンブリ（１０）の手動アクチュエータの摘みハンドル（１０６）が前記ロックアセンブリ（１０）の突出素子（１０２）を前記ロックアセンブリ（１０）の停止部材（１００）のスリット（１０７）に入るようにし、その結果、トルクが前記ロックアセンブリ（１０）のスプロケットホイール（６６）に転送されるステップと
を含む方法。
【請求項９】
請求項８に記載のロックアセンブリ（１０）の操作方法はさらに、
（ｃ）前記ロックアセンブリ（１０）の内部駆動ハンドル（６４）を引っ張るステップと、
（ｄ）前記ロックアセンブリ（１０）のマイクロスイッチつまみ（９２）を前記ロックアセンブリ（１０）のプリント基板（８０）の方に動かし、その結果、前記ロックアセンブリ（１０）の中空シリンダ（９８）が前記ロックアセンブリ（１０）の停止部材（１００）のスリット（１０７）に入り、前記停止部材（１００）の付勢手段（１０８）が停止部材（１００）を起動させる結果、前記ロックアセンブリ（１０）の第１の多角形状突出素子（１１６）が前記ロックアセンブリ（１０）のスプロケットホイールシリンダ（１２０）に係合するのを阻止されるため、トルクが前記スプロケットホイール（６６）に転送されないステップと
を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月10日(2013.6.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
増加した流入及び流出速度を実現するために適合され、外部容器からの流体を受け取るために適合された注入線からなり、排出線を通って補助液体を解放するために適合された液体分配装置であって、
解放前に流体を貯留し、圧力の一作用として上昇又は下降する液体高さを与える圧力室と、
前記圧力室に加圧媒体を供給するように配置された複数の加圧ポート及び前記圧力室から前記加圧媒体を解放するように配置された減圧ポートと、
位置によって前記圧力室内における液体の水位を検知するために適合された前記圧力室内の浮揚物部材と、
前記加圧ポートの開放及び閉鎖のための複数の加圧バルブと、前記減圧ポートの開放及び閉鎖のための複数の減圧バルブと、を有し、動作しているか又は動作していない後続の加圧バルブとの間及び／又は動作しているか又は動作していない後続の減圧バルブとの間で時間の遅れを与える遅れ供給配置を有する複合式バルブ作動アセンブリと、
前記浮揚物部材の位置との相関関係において前記複合式バルブ作動アセンブリを作動させるように適合された留め具要素を有するスナップ動作式バルブ作動機構と、
を有する液体分配装置。
【請求項２】
前記注入線の流れ係数を増大させるために逆止弁によって前記圧力室に接続され、液体が前記圧力室に流入する前に液体を蓄える緩衝室をさらに有する請求項１に記載の液体分配装置。
【請求項３】
前記装置は、前記液体が緩衝容器を満たす前に前記液体をろ過するために、前記緩衝容器と共に並んだろ過手段を含むことを特徴とする請求項２に記載の液体分配装置。
【請求項４】
前記装置は、外部の液体容器から前記装置への液体の流れを隔離するために適合された隔離バルブ手段を含むことを特徴とする請求項２または３に記載の液体分配装置。
【請求項５】
前記装置は、前記緩衝容器から前記圧力室へ前記圧力室の方向に流体が流れることを許容するように適合された液体注入逆止弁を含むことを特徴とする請求項２〜４のいずれか１項に記載の液体分配装置。
【請求項６】
前記複合式バルブ作動アセンブリは、加圧／汲み上げサイクルの間に加圧室の外側への圧力の解放を防止するために作動ディスクによって作動される減圧バルブ手段を含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の液体分配装置。
【請求項７】
前記前記複合式バルブ作動アセンブリは、前記加圧室への加圧媒体を制御するために適合された減圧バルブポート手段を含むことを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の液体分配装置。
【請求項８】
前記複合式バルブ作動アセンブリは、流入する加圧媒体を制御するために適合された加圧バルブ手段を含むことを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の液体分配装置。
【請求項９】
前記装置は、所望の位置において排出される流体を流し、逆流を防止するために適合された、前記圧力室と共に並び、前記排出手段の前方に嵌め込まれた液体排出逆止弁を含むことを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の液体分配装置。
【請求項１０】
前記装置は、加圧／汲み上げサイクルの間に閉じられた位置において減圧バルブの漏れに耐えうる据付を提供するために適合された弾性部材手段を含むことを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の液体分配装置。
【請求項１１】
前記装置は、所定の位置において作動ディスクと共に減圧バルブを保持するために適合された留め具手段を含むことを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の液体分配装置。
【請求項１２】
前記システムは、ポンプの充填時間を減少させる注入線の流れ係数を増大させるために緩衝容器が一又は２以上の複合式注入口と共に並び、分配サイクルの充填時間を減少させ、前記システムの分配容量を増大させるために緩衝容器が液体の注入線の逆止弁と共に並ぶことを含むことを特徴とする請求項２〜５のいずれか１項に記載の液体分配装置。
【請求項１３】
前記圧力室には、独立して取り付けられた複合式のバルブシートとして形成されてもよい単一のバルブシートに形成された複合式の加圧及び減圧ポートが設けられることを特徴とする請求項１〜１２のいずれか１項に記載の液体分配装置。
【請求項１４】
複合式加圧バルブは留め具要素の適切な方法を通じて時間の遅れを実現することを特徴とする請求項１〜１３のいずれか１項に記載の液体分配装置。
【請求項１５】
漏れに耐えうる接合部を提供するために独立して取り付けられた複合式のバルブシートとして形成されてもよい単一のバルブシートにおいて複合式の減圧バルブを据付けるために弾性部材が使用されることを特徴とする請求項１〜１４のいずれか１項に記載の液体分配装置。
【請求項１６】
様々な重量において据付ポートを提供することによって意図的に遅れを確保することを特徴とする請求項１３〜１５のいずれか１項に記載のバルブシート構造物。
【請求項１７】
構造物の釣り合いによって作動ディスクに力を及ぼすことを特徴とする請求項１３〜１６のいずれか１項に記載のバルブシートにおけるバルブ配置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月25日(2013.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一方では、空気が供給される少なくとも１つの圧縮機（１）と、前記圧縮機（１）を離れる圧縮空気を受け入れる燃焼チャンバ（５）と、駆動シャフト（１５）によって前記圧縮機（１）に機械的に接続され、前記燃焼チャンバ（５）で行われる燃料の燃焼により生じるガスによって駆動される少なくとも１つのジェネレータタービン（７）と、を備えるガスジェネレータを備え、さらに、前記ジェネレータタービン（７）を通してそれの通過後に前記燃焼により生じるガスが供給されるフリータービン（１１）であり、ガスジェネレータの駆動シャフト（１５）の延長上になくかつ減速ギヤボックス（１３）を介してターボシャフトエンジン動力を供給するパワーシャフト（１２）を駆動するフリータービン（１１）を備える、フリータービンのあるターボシャフトエンジンであって、ジェネレータタービン（７）がアキシャルタイプであり、燃焼チャンバ（５）がジェネレータタービンの軸の延長上にある、実質的に円筒形または円錐台形のチャンバであり、単一のインジェクタ（６）を備えることを特徴とする、ターボシャフトエンジン。
【請求項２】
パワーシャフト（１２）が、前記駆動シャフト（１５）に平行に方向付けられる、請求項１に記載のターボシャフトエンジン。
【請求項３】
減速ギヤボックスが、アクセサリギヤボックスと関連し、２つが、圧縮機（１）の空気入口と実質的に同じレベルで長手方向に配置される、請求項２に記載のターボシャフトエンジン。
【請求項４】
減速ギヤボックス／アクセサリギヤボックスのケーシング（１６）およびガスジェネレータのケーシング（１７）が、単一のケーシングに結合される、請求項３に記載のターボシャフトエンジン。
【請求項５】
燃焼チャンバ（５）が、ＬＰＰ（Ｌｅａｎ  Ｐｒｅｍｉｘｅｄ  Ｐｒｅｖａｐｏｒｉｚｅｄ（希薄予混合予蒸発））技術を取り入れたインジェクタ（６）を備える、請求項１に記載のターボシャフトエンジン。
【請求項６】
燃焼チャンバ（５）の出口が、圧縮機（１）に向かって方向付けられる、請求項１から５のいずれか一項に記載のターボシャフトエンジン。
【請求項７】
燃焼により生じるガスが、フリータービン（１１）の上流に配置される環状分配チャンバ（１０）の中に移送できるようにジェネレータタービン（７）の下流に配置される環状コレクタ（８）に収集される、請求項１から６のいずれか一項に記載のターボシャフトエンジン。
【請求項８】
ガスジェネレータが、高圧タービン（７）および低圧タービン（２７）と共に高圧圧縮機（１）および低圧圧縮機（２１）を備える多スプールジェネレータであり、前記タービンが、それぞれ高圧駆動シャフト（１５）および低圧駆動シャフト（２５）によって前記圧縮機を駆動し、フリータービン（１１）によって駆動されるパワーシャフト（１２）が、前記ジェネレータの高圧駆動シャフト（１５）の延長上になく、燃焼チャンバが、高圧駆動シャフト（１５）の延長上にある、請求項１から７のいずれか一項に記載のターボシャフトエンジン。
【請求項９】
低圧駆動シャフト（２５）が、中空であり、これを通過するパワーシャフト（１２）を有する、請求項８に記載のターボシャフトエンジン。
【請求項１０】
パワーシャフト（１２）および低圧駆動シャフト（２５）が同心である、請求項９に記載のターボシャフトエンジン。
【請求項１１】
高速オルタネータが取り付けられる、請求項１から１０のいずれか一項に記載のターボシャフトエンジン。
【請求項１２】
フリータービン（１１）を離れるガスと圧縮機（１）を離れる空気との間に、高温ガス／圧縮空気熱交換器が設けられる、請求項１から１１のいずれか一項に記載のターボシャフトエンジン。
【請求項１３】
請求項１から１２のいずれか一項に記載のターボシャフトエンジンによって推進される航空機。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月10日(2013.9.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ドリルステム用の二重ショルダねじ式工具接続継手において：
ａ．ピン外側ショルダとピン内側ショルダとの間に形成された外側ねじを有するピンであって、前記内側ショルダと前記外側ショルダとの間にノーズ部を有するピンと；
ｂ．ボックス外側ショルダとボックス内側ショルダとの間に形成された内側ねじを有するボックスと；
を具え、
前記内側ねじと前記外側ねじが互いに接続して構成されており、前記ボックスと前記ピンが共通のセンターラインと、及び前記ボックス外側ショルダに対して押圧されている前記ピン外側ショルダによって形成される主シールと接続しており、前記内側ねじと外側ねじが連結されたときに、前記ピン内側ショルダが前記ボックス内側ショルダに対して押圧され、前記接続継手が：
ａ．１フィートあたり０．６６６インチより大きく１フィート当たり１．０インチより小さいか、又は１フィート当たり１．０インチと同じテーパねじを有し；
ｂ．３３°乃至３９°のスタブフランク角と等しい荷重フランク角を有し；
ｃ．単円の一部の形状に形成されたルートを有し、前記円が前記スタブフランクと荷重フランクに接している；
前記外側ねじと前記内側ねじとによって特徴づけられる：
ことを特徴とする接続継手。
【請求項２】
請求項１に記載の接続継手において、前記外側ねじと前記内側ねじが１フィート当たり約０．８７５インチのテーパねじを有することを特徴とする接続継手。
【請求項３】
請求項１に記載の工具接続継手において、前記外側ねじと内側ねじが１フィート当たり１．０インチのテーパねじを有することを特徴とする工具接続継手。
【請求項４】
請求項１に記載の工具接続継手において、前記外側ねじと前記内側ねじが１フィート当たり０．７５インチのテーパねじを有することを特徴とする工具接続継手。
【請求項５】
請求項１に記載の工具接続継手において、前記ねじルートが少なくとも０．０６３インチであることを特徴とする工具接続継手。
【請求項６】
請求項５に記載の工具接続継手において、前記外側ねじと内側ねじが約３３°の荷重フランク角に等しいスタブフランク角を有することを特徴とする工具接続継手。
【手続補正書】
【提出日】平成25年8月19日(2013.8.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
純粋なキトサン繊維を工業的に製造するための紡糸液の製造方法であって、
シート状キトサン原料を選別して、不純物を除去するステップ（ａ）と、
選別したシート状キトサン原料を、紡糸液重量全体の３％−８％になるように秤取って攪拌槽に投入し、密封した後、真空引きを行うステップ（ｂ）と、
０．９％−６％酢酸溶液を加え、室温下で４０−６０分浸漬するステップ（ｃ）と、
攪拌槽内の圧力が５０００Ｐａ以下の条件下で、回転数が２６−６０回／分で等速攪拌を７．５−１９時間行った後、１−３時間静置して、紡糸液を得るステップ（ｄ）と、を含むことを特徴とする、純粋なキトサン繊維を工業的に製造するための紡糸液の製造方法。
【請求項２】
前記ステップ（ｄ）において、攪拌槽内の圧力が３０００Ｐａ以下であることを特徴とする、請求項１に記載の純粋なキトサン繊維を工業的に製造するための紡糸液の製造方法。
【請求項３】
前記シート状キトサン原料の脱アセチル化度が９２％以上、粘度が１０００ｍＰａ・ｓ以上であることを特徴とする、請求項１または２に記載の純粋なキトサン繊維を工業的に製造するための紡糸液の製造方法。
【請求項４】
前記シート状キトサン原料の脱アセチル化度が９５％以上、粘度が１５００ｍＰａ・ｓ以上であることを特徴とする、請求項１または２に記載の純粋なキトサン繊維を工業的に製造するための紡糸液の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】純粋なキトサン繊維を工業的に製造するための紡糸液の製造方法
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月11日(2013.10.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リチウムを含有する出発材料からリチウムを回収するための方法であって、前記出発材料を炭素と共に反応器内で加熱し、上記炭素を直接誘導加熱することを特徴とする方法。
【請求項２】
前記出発材料は、直接誘導加熱に適した炭素、特に非晶質炭素及び／又は黒鉛を含有すること、及び／又は、
前記出発材料に、直接誘導加熱に適した炭素、特に非晶質炭素及び／又は黒鉛が添加される、及び／又は、既に添加されていること
を特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記出発材料及び／又は前記出発材料に含まれるバルク材料は、リチウムイオンを含有する電池からの廃棄物を含むことを特徴とする、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
バルク材料を使用し、その５０重量％超が、３０ｍｍよりも大きい粒径、好ましくは５０〜１５０ｍｍの粒径を有することを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
１〜５０ｋＨｚ、特に１〜１０ｋＨｚ、特に２〜５ｋＨｚの周波数で誘導加熱を行うことを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記反応器内の最高温度を１１００〜３０００℃、特に１２００〜１８００℃、特に１２５０〜１５００℃に設定することを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
気相に変換されたリチウムを液体、特に水によって析出させること、及び／又は、
前記反応器の少なくとも１領域内に、水及び／又は水蒸気を霧化又は噴霧などして導入すること
を特徴とする、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法を行うための反応器であって、前記炭素を直接誘導加熱するのに適した誘導コイルを有することを特徴とする反応器。
【請求項９】
前記誘導コイルは、１００Ｋ／ｍ未満、特に５０Ｋ／ｍ未満、特に３０Ｋ／ｍ未満の半径方向温度勾配で前記出発材料を加熱するのに適していることを特徴とする、請求項８に記載の反応器。
【請求項１０】
前記反応器は、バルク材料の加熱に使用する周波数において前記誘導コイルにより生じた誘導電磁界が結合しないか、又は、少なくともほとんど結合しない高温耐熱性内壁を有すること、及び／又は、
内壁は、炭素、耐火性酸化物材料、耐火性非酸化物材料、及び、シャモットからなる群から選択される少なくとも１つの材料を含む裏張りを有し、前記裏張りは好ましくはクレイボンド黒鉛を含むこと
を特徴とする、請求項８又は９に記載の反応器。
【請求項１１】
軸方向に沿って上部領域、中央領域、及び、下部領域を有する反応器空間を有しており、特に、前記上部領域内にはバルク材料を導入でき、前記中央領域には、前記反応器の周りの少なくとも一部に伸長する前記誘導コイルが備えられ、前記下部領域内には、精製済みのバルク材料が蓄積し、そこから取り出されるように設計されていることを特徴とする、請求項８〜１０のいずれか一項に記載の反応器。
【請求項１２】
前記誘導コイルの領域の直径が５０ｃｍ超、特に７５ｃｍ超、特に１ｍ〜１．５ｍであることを特徴とする、請求項８〜１１のいずれか一項に記載の反応器。
【請求項１３】
セル型ホイールロック等のロードロックを有しており、それを介して、前記出発材料、特にバルク材料を前記反応器に供給でき、前記ロードロックは、前記反応器から気体、特にリチウムガスが無制限に漏れないようにするのに適していることを特徴とする、請求項８〜１２のいずれか一項に記載の反応器。
【請求項１４】
気相に移されたリチウムを水等の液体によって析出させるのに適した、スクラバー塔等のガススクラバーが前記反応器空間に接続されていること、及び／又は、
前記反応器空間の上部領域、中央領域、及び、下部領域の少なくとも１領域内に水及び／又は水蒸気を導入するのに適した少なくとも１つの注入装置が備えられていること
を特徴とする、請求項８〜１３のいずれか一項に記載の反応器。
【請求項１５】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法によって、特に請求項８〜１４のいずれか一項に記載の反応器を使用して、精製を行った炭素含有バルク材料の、燃料又は資源としての、例えば鉄鋼業での浸炭等のための使用。
【手続補正書】
【提出日】平成25年4月5日(2013.4.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
気体レーザシステムの、動作波長で動作する少なくとも１つの光増幅器の利得媒質にポンピングエネルギーを供給して該利得媒質内に反転分布を生じさせ、増幅光ビームを生成するステップと、
前記増幅光ビームを、前記気体レーザシステムに関連付けられた１又はそれ以上の光学部品に向けて方向付けるステップであって、前記増幅光ビームが方向付けられる各光学部品は、前記少なくとも１つの光増幅器の前記動作波長を包含する波長範囲を伴っている、ステップと、
ガイド波長を有するガイドレーザからのガイドレーザ・ビームを、前記光学部品に向けて方向付けるステップと、
前記方向付けられたガイドレーザ・ビームを用いて前記光学部品を光軸調整するステップと、
を含み、
前記ガイド波長は、前記動作波長とは異なり且つ前記増幅光ビームが方向付けられる前記光学部品の各々の前記波長範囲内にあることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記ガイドレーザ・ビームが前記光学部品に向けて前記増幅光ビームの経路を追跡するように、前記ガイドレーザ・ビームは前記ガイドレーザから前記光学部品に向けて方向付けられる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ガイド波長は前記動作波長とは異なるために、前記ガイドレーザ・ビームは前記気体レーザシステムの利得に実質的に寄与しないことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
１つ又はそれ以上の前記光学部品は前記気体レーザシステム内に存在することを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記ガイドレーザ・ビームを前記光学部品に向けて方向付けるステップは、前記ガイドレーザ・ビームを、前記気体レーザシステムを通して方向付けるステップを含むことを特徴とする、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記ガイドレーザ・ビームを前記光学部品に向けて方向付けるステップは、前記ガイドレーザ・ビームを、前記気体レーザシステムの裏側で前記反射鏡を通して方向付けるステップを含むことを特徴とする、請求項４に記載の方法。
【請求項７】
前記増幅光ビームを動作レーザビームになる程度まで増幅するステップをさらに含むことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
１つ又はそれ以上の前記光学部品は、前記気体レーザシステムと、前記動作レーザビームが向けられる標的位置との間に存在することを特徴とする、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記ガイドレーザ・ビームを用いて前記動作レーザビームを前記標的位置に対して光軸調整するステップをさらに含むことを特徴とする、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記動作レーザビームを光軸調整するステップは、前記ガイドレーザ・ビームを、前記１つ又はそれ以上の光学部品を通して前記標的位置に向けて方向付けるステップを含むことを特徴とする、請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
標的時間の間に前記標的位置に標的材料を供給するステップをさらに含み、
前記ガイドレーザ・ビームを前記標的位置に向けて方向付けるステップは、前記標的時間の時間外に前記ガイドレーザ・ビームを前記標的位置に向けて方向付けるステップを含むことを特徴とする、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
標的材料を前記標的位置に供給するステップをさらに含み、
前記動作レーザビームを前記標的位置に向けて方向付けるステップは、前記標的材料においてプラズマ生成を引き起こす、
ことを特徴とする、請求項７に記載の方法。
【請求項１３】
前記増幅光ビームを用いて前記光学部品を光軸調整するステップは、気体レーザシステムの初期セットアップ中に前記光学部品を光軸調整するステップを含むことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
前記増幅光ビームを用いて前記光学部品を光軸調整するステップは、気体レーザシステムのレーザ動作中に前記光学部品を光軸調整するステップを含むことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
光学部品を光軸調整するためのシステムであって、
各々が動作波長で動作し、各々が励起状態のときに増幅光ビームを生成する利得媒質を含む、１つ又はそれ以上の光増幅器を有する気体レーザシステムと、
各々が前記１又はそれ以上の光増幅器の前記動作波長を包含する波長範囲を伴う光学部品と、
ガイド波長を有するガイドレーザ・ビームを生成するガイドレーザと、
を備え、
前記ガイドレーザは、前記気体レーザシステムの前記１つ又はそれ以上の光増幅器の利得媒質が励起状態にある間に、前記ガイドレーザ・ビームが前記光学部品に向けて方向付けられるように配置され、
前記ガイド波長は前記動作波長とは異なり且つ前記増幅光ビームが方向付けられる前記光学部品の各々の前記波長範囲内にある、
ことを特徴とするシステム。
【請求項１６】
前記ガイドレーザ・ビームは前記増幅光ビームの経路を前記光学部品に向けて追跡する、請求項１５に記載のシステム。
【請求項１７】
前記ガイド波長は前記動作波長とは異なるために、前記ガイドレーザ・ビームは前記気体レーザシステムの利得に実質的に寄与しないことを特徴とする、請求項１５に記載のシステム。
【請求項１８】
前記気体レーザシステムは主発信器を有しないことを特徴とする、請求項１５に記載のシステム。
【請求項１９】
前記気体レーザシステムの前記１つ又はそれ以上の光増幅器は前記利得媒質としてＣＯ2を含むことを特徴とする、請求項１５に記載のシステム。
【請求項２０】
前記ガイドレーザ・ビームは、出力カップラが配置される表側とは異なる前記気体レーザシステムの裏側で光反射鏡の裏面を通して方向付けられることを特徴とする、請求項１５に記載のシステム。
【請求項２１】
前記光学部品は、１つ又はそれ以上の前記光増幅器の内部に存在することを特徴とする、請求項１５に記載のシステム。
【請求項２２】
前記ガイドレーザは同位体ＣＯ2気体レーザ又は約８１００ｎｍの波長で動作する量子カスケードレーザを含むことを特徴とする、請求項１５に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成25年4月5日(2013.4.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板処理に用いられるマスクであって、
第１のベース部と、
離間して配され、１以上の隙間を形成する複数のフィンガー部と、
を備えるマスク。
【請求項２】
前記複数のフィンガー部のそれぞれは、第１の端部および第２の端部を有し、
前記第１の端部は、前記第１のベース部上に配される、
請求項１に記載のマスク。
【請求項３】
前記複数のフィンガー部の前記第２の端部は、支持されていない、
請求項２に記載のマスク。
【請求項４】
前記マスクは、石英、グラファイト、サファイア、シリコン、炭化シリコンおよび窒化シリコンから選択される少なくとも１つの材料を含む、
請求項１に記載のマスク。
【請求項５】
基板を処理する装置であって、
目的とする種のイオンを含むイオンビームを発生させるイオン源と、
前記基板を収容するエンドステーションと、
前記イオン源および前記基板の間に配されるマスクと、
を備え、
前記基板および前記マスクの一方は、前記基板および前記マスクの他方に対して移動するように構成される、
装置。
【請求項６】
前記マスクは、前記イオンビームに対して特定の位置に位置決めされる、
請求項５に記載の装置。
【請求項７】
前記マスクは、前記基板の全高よりも短い、
請求項５に記載の装置。
【請求項８】
前記マスクの少なくとも一部は、前記イオンビームの全高よりも短い、
請求項５に記載の装置。
【請求項９】
前記イオンビームは、第１の部分および第２の部分を含み、
前記マスクは、互いに離間して配され、１以上の隙間を形成する複数のフィンガー部を有し、
前記複数のフィンガー部は、前記イオンビームの前記第１の部分の軌道中に配される、
請求項５に記載の装置。
【請求項１０】
前記複数のフィンガー部は、前記イオンビームの前記第２の部分の軌道中に配されない、
請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
前記イオンビームの前記第１の部分の高さは、前記イオンビームの前記第２の部分の高さと実質的に等しい、
請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記イオンビームの前記第１の部分の高さは、前記イオンビームの前記第２の部分の高さより大きい、
請求項１０に記載の装置。
【請求項１３】
前記イオンビームの前記第１の部分の高さと、前記イオンビームの前記第２の部分の高さとの比は、３：２である、
請求項１２に記載の装置。
【請求項１４】
前記イオンビームの前記第１の部分の高さは、前記イオンビームの前記第２の部分の高さより小さい、
請求項１０に記載の装置。
【請求項１５】
前記イオンビームの前記第１の部分の高さと、前記イオンビームの前記第２の部分の高さとの比は、２：３である、
請求項１４に記載の装置。
【請求項１６】
選択的なイオン注入を実施すべく、前記イオンビームの前記第１の部分からのイオンの一部が、前記１以上の隙間を通過して前記基板に注入される、
請求項１０に記載の装置。
【請求項１７】
ブランケット・イオン注入を実施すべく、前記イオンビームの前記第２の部分からのイオンが、前記基板に注入される、
請求項１０に記載の装置。
【請求項１８】
基板を処理する装置であって、
目的とする種のイオンを含むイオンビームを発生させるイオン源と、
前記基板を収容するエンドステーションと、
前記イオン源および前記基板の間に配されるマスクと、
を備え、
前記マスクは、互いに離間して配され、１以上の隙間を形成する複数のフィンガー部を有し、
前記複数のフィンガー部の高さ方向の長さは、前記イオンビームの全高よりも短い、
装置。
【請求項１９】
前記マスクおよび前記基板の少なくとも一方が、前記マスクおよび前記基板の他方に対して移動させられる、
請求項１８に記載の装置。
【請求項２０】
前記イオンビームは、前記イオンビームの対辺に配される第１の部分および第２の部分を含み、
前記イオンビームの前記第１の部分からのイオンが、前記基板上でブランケット・イオン注入を実施し、前記イオンビームの前記第２の部分からのイオンが、前記基板上で選択的なイオン注入を実施するように構成される、
請求項１８に記載の装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７６】
図１２は、本開示の他の実施形態に係る基板処理に用いられるマスクの他の例を示す。マスク１２５０は、複数の列を有する。複数の列のそれぞれは、１以上の開口を含んでよい。本実施形態において、マスク１２５０は、高さ方向１２１０に沿って、５つの横列１２５５ａ−１２５５ｅを備える。横列１２５５ａ−１２５５ｅのそれぞれには、幅方向１２１２に沿って、１以上の開口１２５６ａ−１２５６ｅが配されてよい。図１０に関連して説明したように、隣接する列に含まれる開口１２５６ａ−１２５６ｅは、不均一であってよい。例えば、隣接する列に含まれる開口１２５６ａ−１２５６ｅの大きさおよび配置が異なってよい。
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月5日(2013.3.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つのデータ記憶装置（１１２）及び少なくとも１つの演算処理装置（１１０）を含むコンピューティングクラウド（１０８）であって、
前記コンピューティングクラウドが、少なくとも１つのクライアント（１０２〜１０６）と接続し前記少なくとも１つのクライアントに関連するトラフィックを監視するように構成され、
前記コンピューティングクラウドが更に、前記クライアントの動作モードを決定し、前記監視しているトラフィックと前記動作モードに関連する予測トラフィックパターンとを比較し、前記比較に基づいてセキュリティ脅威を示しているか否か決定するように構成されるもの、を含むシステム。
【請求項２】
前記動作モードが、既知の動作モードリスト（６００）から選択されることと、動作モードそれぞれが、前記動作モードに関連する予測トラフィックパターンに関する特性の１つ以上を含むことと、を特徴とする請求項第１記載のシステム。
【請求項３】
前記コンピューティングクラウドが、前記クライアントに達するデータをフィルター処理するように構成され、前記コンピューティングクラウドによる前記データのフィルター処理が、スパム及びマルウェアが前記クライアントに達することを防ぐことと、前記クライアントへの不正アクセスを防ぐことと、の少なくとも１つを含む請求項第１項記載のシステム。
【請求項４】
複数の動作モードを定義するステップであって、動作モードそれぞれが、クライアント（１０２〜１０６）の予測トラフィックパターンの少なくとも１つと関連しているものと、
前記複数の動作モードをストアするステップと、
前記クライアントのトラフィックを監視するステップと、
前記クライアントの前記動作モードを決定するステップと、
前記クライアントの前記監視トラフィックと前記クライアントの前記動作モードに関連する前記予測トラフィックパターンとを比較するステップと、を含む方法。
【請求項５】
少なくとも１つの演算処理装置（１１０）及び少なくとも１つのデータ記憶装置（１１２）を含むコンピューティングクラウド（１０８）と、
前記コンピューティングクラウドを介しネットワークと接続されるクライアント（１０２〜１０６）とを含んでいて、
前記コンピューティングクラウドが、前記クライアントのセキュリティを維持するために前記クライアントのネットワークトラフィックを監視するように構成されていることを特徴とするシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月28日(2013.3.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バインダー樹脂と、
前記バインダー樹脂中に分散された熱電材料粒子と、
前記熱電材料粒子の表面上に支持された金属微粒子と、を含む、複合熱電材料。
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月25日(2013.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱電モジュールの一部を形成するための形状の熱電材料であって、湿気、酸素、化学薬品または熱による劣化を防止するために保護層でコーティングされている熱電材料において、金属、金属合金、半金属、半導体、グラファイト、グラフェン、グラファン、電気伝導性セラミックスまたはこれらの組合せの内側層と、セラミック材料またはセラミック材料とガラスとの混合物を含有し、金属を混合することができる外側層とでコーティングされている熱電材料。
【請求項２】
前記セラミック材料が、アルミナ、ジルコニア、チタニア、シリカ、ホウ素、ストロンチウム、バリウム、リン、鉛、テルル、ゲルマニウム、セレン、アンチモン、バナジウム、ハフニウム、タンタル、亜鉛、ランタン、イットリウム、マグネシウム、カルシウムの酸化物、またはこれらの混合物を含む、請求項１に記載の熱電材料。
【請求項３】
前記材料が、Ｎｉ、Ｍｏ、Ｗ、Ｆｅ、Ａｕ、Ｆｅ、Ｔｉ、Ｐｄ、Ａｌ、Ａｇ、Ｓｉまたはこれらの合金からなる群から選択される、請求項１または２に記載の熱電材料。
【請求項４】
前記保護層の厚さが１０ｎｍ〜５００μｍの範囲にある、請求項１から３のいずれか1項に記載の熱電材料。
【請求項５】
導電性接点によって直列に接続されている一連のｐ型およびｎ型の半導体を備える熱電モジュールであって、前記導電性接点は、抵抗表面層によって前記導電性接点から電気的に絶縁されている、熱伝導率が中程度の基板から高程度の基板と接触し、前記ｐ型およびｎ型の半導体の熱電材料が、請求項１から４のいずれか1項に記載の保護層でコーティングされている熱電モジュール。
【請求項６】
前記基板が金属、金属合金、半金属、半導体、グラファイト、セラミックスまたはこれらの組合せである、請求項５に記載の熱電モジュール。
【請求項７】
前記熱電材料が固体マトリックスに埋め込まれ、固定され、または挿入され、マトリックス材料は熱伝導率および電気伝導率が低く、好ましくはセラミックス、ガラス、雲母、エアロゲル、またはこれらの材料の組合せである、請求項５または６に記載の熱電モジュール。
【請求項８】
前記熱電材料に前記保護コーティング層を塗布するステップを含む、請求項１から４のいずれか1項に記載の熱電材料を作製する方法。
【請求項９】
請求項５から７のいずれか1項に記載の熱電モジュールを少なくとも１つ備える、ヒートポンプ、冷却器、冷蔵庫、（洗濯）乾燥機、熱源を利用するための発電機、熱エネルギーを電気エネルギーに変換するための発電機。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月22日(2013.2.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リソグラフィシステムのレチクルステージ上にパターニングデバイスをロードする方法であって、
高速交換デバイス（ＲＥＤ）を前記レチクルステージに極めて近接して位置決めすることであって、前記ＲＥＤはその上に前記パターニングデバイスが位置決めされている、ことと、
前記パターニングデバイスとの接触を始めるために前記レチクルステージを移動させることと、
前記レチクルステージと前記パターニングデバイスとが実質的に接触しかつ同一平面上にあるまで、第１の３自由度に適合するように前記パターニングデバイスを制御し、第２の３自由度に適合するように前記レチクルステージを制御することと
を含み、前記第１の３自由度と前記第２の３自由度は異なる、方法。
【請求項２】
前記レチクルステージと前記パターニングデバイスとが接触している間、前記レチクルステージと前記パターニングデバイスとの間の力を監視することをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
監視されている前記力が予め設定された閾値に達した場合、前記パターニングデバイスを前記レチクルステージに固定するためにクランプを起動させることをさらに含む、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記第１の３自由度に適合するように前記パターニングデバイスを制御することは、ｘ軸およびｙ軸に沿った並進ならびに前記ｘ軸および前記ｙ軸の両方と直角に規定されたｚ軸の周りの回転を制御することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
コンプライアントピンを含む動的マウントを用いて前記ＲＥＤ上の前記パターニングデバイスを位置決めすることをさらに含み、
前記動的マウントは前記第１の３自由度を可能にする、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記コンプライアントピンはピン屈曲部を含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記第２の３自由度に適合するように前記レチクルステージを制御することは、ｚ軸に沿った並進ならびにｘ軸およびｙ軸の周りの回転を制御することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
サーボアクチュエータを用いて前記レチクルステージの動きを制御することをさらに含む、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記レチクルステージと前記パターニングデバイスとが接触した後に前記サーボアクチュエータのゲインを減少させて前記第２の３自由度でのｘ軸およびｙ軸の周りの回転を可能にすることをさらに含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
リソグラフィシステムのレチクルステージ上にパターニングデバイスをロードするように構成された高速交換デバイス（ＲＥＤ）であって、
グリッパと、
前記グリッパ上のパターニングデバイスを位置決めするために前記グリッパに取り付けられたコンプライアントピンを含む動的マウントと
を含み、前記動的マウントは、前記パターニングデバイスが３コンプライアント自由度のみで移動することを可能にする、高速交換デバイス。
【請求項１１】
前記３コンプライアント自由度は、ｘ軸およびｙ軸に沿った並進ならびに前記ｘ軸および前記ｙ軸の両方と直角に規定されたｚ軸の周りの回転である、請求項１０に記載のＲＥＤ。
【請求項１２】
前記コンプライアントピンはピン屈曲部を含む、請求項１０に記載のＲＥＤ。
【請求項１３】
前記コンプライアントピンを用いて前記グリッパに結合された前記パターニングデバイスを支持するためのベースプレートをさらに含む、請求項１０に記載のＲＥＤ。
【請求項１４】
半導体デバイスをリソグラフィで製造するためのシステムであって、前記システムは、
レチクルステージと、
前記レチクルステージ上にパターニングデバイスをロードする高速交換デバイス（ＲＥＤ）とを含み、
前記ＲＥＤは、
グリッパと、
前記グリッパ上のパターニングデバイスを位置決めするために前記グリッパに取り付けられた動的マウントと
を含み、前記動的マウントは、前記パターニングデバイスが第１の３自由度のみで移動することを可能にする、システム。
【請求項１５】
前記第１の３自由度は、ｘ軸およびｙ軸に沿った並進ならびに前記ｘ軸および前記ｙ軸の両方と直角に規定されたｚ軸の周りの回転である、請求項１４に記載のシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】パターニングデバイスをロードする方法、高速交換デバイス、及び、半導体デバイスを製造するためのシステム