(57)【要約】【課題】  ブラックマトリクスパターンの歪みに追随し、２層目以降のパターンを高い位置合せ精度で形成することを可能とするカラーフィルタの描画方法を提供すること。【解決手段】  基板上のアライメントマークを読み取り、各ショットのブラックマトリクスパターンの歪みの程度を示す歪みデータを得る工程、及び複数の露光ヘッドを備えるスキャニング露光装置を用い、スキャニング方向に移動する露光ステージ上の基板上に２層目以降のパターンを形成するためのスキャン露光を行う工程を具備し、２層目以降のパターンを形成するための露光を、各ショットのブラックマトリクスパターンの歪みデータに応じて、露光ステージをスキャニング方向に直交する方向に移動させつつ行うことにより、２層目以降のパターンを、スキャニング方向に直交する方向において、歪みデータ毎に分割して補正することを特徴とする。【選択図】図１
2008009159.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上にブラックマトリクスパターンをステップ露光してブラックマトリクスパターンを形成するとともに、その各ショットのブラックマトリクスパターンの外側に複数のアライメントマークを形成する工程、
前記基板上のアライメントマークを読み取り、各ショットのブラックマトリクスパターンの歪みの程度を示す歪みデータを得る工程、及び
複数の露光ヘッドを備えるスキャニング露光装置を用い、スキャニング方向に移動する露光ステージ上の前記基板上に２層目以降のパターンを形成するためのスキャン露光を行う工程
を具備するカラーフィルタの描画方法において、
前記２層目以降のパターンを形成するための露光を、前記各ショットのブラックマトリクスパターンの歪みデータに応じて、前記露光ステージをスキャニング方向に直交する方向に移動させつつ行うことにより、前記２層目以降のパターンを、スキャニング方向に直交する方向において、歪みデータ毎に分割して補正することを特徴とするカラーフィルタの描画方法。
【請求項２】
基板上にブラックマトリクスパターンをステップ露光してブラックマトリクスパターンを形成するとともに、その各ショットのブラックマトリクスパターンの外側に複数のアライメントマークを形成する工程、
前記基板上のアライメントマークを読み取り、各ショットのブラックマトリクスパターンの歪みの程度を示す歪みデータを得る工程、及び
複数の露光ヘッドを備えるスキャニング露光装置を用い、スキャニング方向に移動するステージ上の前記基板上に２層目以降のパターンを形成するためのスキャン露光を行う工程
を具備するカラーフィルタの描画方法において、
前記２層目以降のパターンを形成するための露光を、前記各ショットのブラックマトリクスパターンの歪みデータに応じて、前記複数の露光ヘッド全体をスキャニング方向に直交する方向に移動させつつ行うことにより、前記２層目以降のパターンを、スキャニング方向に直交する方向において、歪みデータ毎に分割して補正することを特徴とするカラーフィルタの描画方法。
【請求項３】
基板上にブラックマトリクスパターンをステップ露光してブラックマトリクスパターンを形成するとともに、その各ショットのブラックマトリクスパターンの外側に複数のアライメントマークを形成する工程、
前記基板上のアライメントマークを読み取り、各ショットのブラックマトリクスパターンの歪みの程度を示す歪みデータを得る工程、及び
複数の露光ヘッドを備えるスキャニング露光装置を用い、スキャニング方向に移動するステージ上の前記基板上に２層目以降のパターンを形成するためのスキャン露光を行う工程
を具備するカラーフィルタの描画方法において、
前記２層目以降のパターンを形成するための露光を、前記各ショットのブラックマトリクスパターンの歪みデータに応じて、前記露光ステージの移動速度を変化させつつ行うことにより、前記２層目以降のパターンを、スキャニング方向において、歪みデータ毎に分割して補正することを特徴とするカラーフィルタの描画方法。
【請求項４】
基板上にブラックマトリクスパターンをステップ露光してブラックマトリクスパターンを形成するとともに、その各ショットのブラックマトリクスパターンの外側に複数のアライメントマークを形成する工程、
前記基板上のアライメントマークを読み取り、各ショットのブラックマトリクスパターンの歪みの程度を示す歪みデータを得る工程、及び
複数の露光ヘッドを備えるスキャニング露光装置を用い、スキャニング方向に移動するステージ上の前記基板上に２層目以降のパターンを形成するためのレーザショットパルスによるスキャン露光を行う工程
を具備するカラーフィルタの描画方法において、
前記２層目以降のパターンを形成するための露光を、前記各ショットのブラックマトリクスパターンの歪みデータに応じて、前記レーザショットパルスのオフ時間を変化させつつ行うことにより、前記２層目以降のパターンを、スキャニング方向において、歪みデータ毎に分割して補正することを特徴とするカラーフィルタの描画方法。
【請求項５】
基板上にブラックマトリクスパターンをステップ露光してブラックマトリクスパターンを形成するとともに、その各ショットのブラックマトリクスパターンの外側に複数のアライメントマークを形成する工程、
前記基板上のアライメントマークを読み取り、各ショットのブラックマトリクスパターンの歪みの程度を示す歪みデータを得る工程、及び
複数の露光ヘッドを備えるスキャニング露光装置を用い、スキャニング方向に移動するステージ上の前記基板上に２層目以降のパターンを形成するためのスキャン露光を行う工程
を具備するカラーフィルタの描画方法において、
前記２層目以降のパターンを形成するための露光を、前記各ショットのブラックマトリクスパターンの歪みデータに応じて、前記複数の露光ヘッド全体をスキャニング方向に移動させつつ行うことにより、前記２層目以降のパターンを、スキャニング方向において、歪みデータ毎に分割して補正することを特徴とするカラーフィルタの描画方法。
【請求項６】
前記ブラックマトリクスパターンの外側の複数のアライメントマークに代えて、前記各ショットのブラックマトリクスパターン自体の複数の部分をアライメントマークとして利用することを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のカラーフィルタの描画方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラーフィルタの描画方法に係り、特に、大型のカラー液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの製造におけるブラックマトリクス形成後の２層目のパターンの補正に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、大型のカラー液晶表示装置に用いられる大型のカラーフィルタの製造において、フォトリソグラフィー工程における課題として、原寸大の大型露光マスクを用いる一括露光方式では大型露光マスク作製のためのコストが大きいことがある。これを解決するため、露光ヘッドを複数個搭載した露光機を用い、それぞれの露光ヘッドに対となる小型露光マスクを用いて、スキャニング露光を行う、大型露光マスクを必要としない露光方法が開発されている。このような露光方法は、例えば、特許文献１及び特許文献２に記載されている。
【０００３】
しかし、ステップアンドリピート方式の露光方法で形成したブラックマトリクス（１層目）は、１回のショット露光ごとにパターン歪みが生ずるという問題がある。例えば、２層目以降のパターンを複数のヘッドを有するスキャニング露光（描画）装置で形成する場合、図８に示すように、基板３１上に、４点のアライメントマークＭを付して、ピッチ補正を行っているが、それだけではブラックマトリクスパターン３２の歪みに合わせて２層目以降のパターンを形成するための正確な露光を行うことができない。例えば、基板３１上に６ショットのブラックマトリクスパターン３２が形成されている場合、上下４つのブラックマトリクスパターン３２については、４点のアライメントマークＭの存在のため、歪を考慮して２層目以降のパターン形成のための露光を行うことができるが、中央部の２つのブラックマトリクスパターン３２については、アライメントマークＭが存在しないため、ブラックマトリクスパターン３２の歪は何ら考慮されない。
【特許文献１】特開２０００−３４７０２０号公報
【特許文献２】特開２００５−３３１５４２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、以上のような事情の下になされ、ステップ露光により形成されたブラックマトリクスパターンの歪みに追随して２層目以降のパターンを高い位置合せ精度で形成することを可能とするカラーフィルタの描画方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決するため、本発明の第１の態様は、基板上にブラックマトリクスパターンをステップ露光してブラックマトリクスパターンを形成するとともに、その各ショットのブラックマトリクスパターンの外側に複数のアライメントマークを形成する工程、前記基板上のアライメントマークを読み取り、各ショットのブラックマトリクスパターンの歪みの程度を示す歪みデータを得る工程、及び複数の露光ヘッドを備えるスキャニング露光装置を用い、スキャニング方向に移動する露光ステージ上の前記基板上に２層目以降のパターンを形成するためのスキャン露光を行う工程を具備するカラーフィルタの描画方法において、前記２層目以降のパターンを形成するための露光を、前記各ショットのブラックマトリクスパターンの歪みデータに応じて、前記露光ステージをスキャニング方向に直交する方向に移動させつつ行うことにより、前記２層目以降のパターンを、スキャニング方向に直交する方向において、歪みデータ毎に分割して補正することを特徴とするカラーフィルタの描画方法を提供する。
【０００６】
本発明の第２の態様は、基板上にブラックマトリクスパターンをステップ露光してブラックマトリクスパターンを形成するとともに、その各ショットのブラックマトリクスパターンの外側に複数のアライメントマークを形成する工程、前記基板上のアライメントマークを読み取り、各ショットのブラックマトリクスパターンの歪みの程度を示す歪みデータを得る工程、及び複数の露光ヘッドを備えるスキャニング露光装置を用い、スキャニング方向に移動するステージ上の前記基板上に２層目以降のパターンを形成するためのスキャン露光を行う工程を具備するカラーフィルタの描画方法において、前記２層目以降のパターンを形成するための露光を、前記各ショットのブラックマトリクスパターンの歪みデータに応じて、前記複数の露光ヘッド全体をスキャニング方向に直交する方向に移動させつつ行うことにより、前記２層目以降のパターンを、スキャニング方向に直交する方向において、歪みデータ毎に分割して補正することを特徴とするカラーフィルタの描画方法を提供する。
【０００７】
本発明の第３の態様は、基板上にブラックマトリクスパターンをステップ露光してブラックマトリクスパターンを形成するとともに、その各ショットのブラックマトリクスパターンの外側に複数のアライメントマークを形成する工程、前記基板上のアライメントマークを読み取り、各ショットのブラックマトリクスパターンの歪みの程度を示す歪みデータを得る工程、及び複数の露光ヘッドを備えるスキャニング露光装置を用い、スキャニング方向に移動するステージ上の前記基板上に２層目以降のパターンを形成するためのスキャン露光を行う工程を具備するカラーフィルタの描画方法において、前記２層目以降のパターンを形成するための露光を、前記各ショットのブラックマトリクスパターンの歪みデータに応じて、前記露光ステージの移動速度を変化させつつ行うことにより、前記２層目以降のパターンを、スキャニング方向において、歪みデータ毎に分割して補正することを特徴とするカラーフィルタの描画方法を提供する。
【０００８】
本発明の第４の態様は、基板上にブラックマトリクスパターンをステップ露光してブラックマトリクスパターンを形成するとともに、その各ショットのブラックマトリクスパターンの外側に複数のアライメントマークを形成する工程、前記基板上のアライメントマークを読み取り、各ショットのブラックマトリクスパターンの歪みの程度を示す歪みデータを得る工程、及び複数の露光ヘッドを備えるスキャニング露光装置を用い、スキャニング方向に移動するステージ上の前記基板上に２層目以降のパターンを形成するためのレーザショットパルスによるスキャン露光を行う工程を具備するカラーフィルタの描画方法において、前記２層目以降のパターンを形成するための露光を、前記各ショットのブラックマトリクスパターンの歪みデータに応じて、前記レーザショットパルスのオフ時間を変化させつつ行うことにより、前記２層目以降のパターンを、スキャニング方向において、歪みデータ毎に分割して補正することを特徴とするカラーフィルタの描画方法を提供する。
【０００９】
本発明の第５の態様は、基板上にブラックマトリクスパターンをステップ露光してブラックマトリクスパターンを形成するとともに、その各ショットのブラックマトリクスパターンの外側に複数のアライメントマークを形成する工程、前記基板上のアライメントマークを読み取り、各ショットのブラックマトリクスパターンの歪みの程度を示す歪みデータを得る工程、及び複数の露光ヘッドを備えるスキャニング露光装置を用い、スキャニング方向に移動するステージ上の前記基板上に２層目以降のパターンを形成するためのスキャン露光を行う工程を具備するカラーフィルタの描画方法において、前記２層目以降のパターンを形成するための露光を、前記各ショットのブラックマトリクスパターンの歪みデータに応じて、前記複数の露光ヘッド全体をスキャニング方向に移動させつつ行うことにより、前記２層目以降のパターンを、スキャニング方向において、歪みデータ毎に分割して補正することを特徴とするカラーフィルタの描画方法を提供する。
【００１０】
以上の本発明の第１〜第５の態様に係るカラーフィルタの描画方法において、前記ブラックマトリクスパターンの外側の複数のアライメントマークに代えて、前記各ショットのブラックマトリクスパターン自体の複数の部分をアライメントマークとして利用することができる。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、ステップ露光により形成したブラックマトリクスパターン上に、複数の露光ヘッドを備える露光装置によりスキャニング露光を行い、２層目以降のパターンを形成する際に、各ショットのブラックマトリクスパターンに歪みがある場合でも、その歪みに応じて、露光ステージ又は露光ヘッドをスキャニング方向とは直交する方向に移動させ、或いは露光ステージの移動速度やレーザショットパルスのオフ時間を変化させ、露光ヘッドをスキャニング方向に微小移動させることにより、各ショットのブラックマトリクスパターンの歪みに追随して、２層目以降のパターンを補正し、所定のパターンを高い位置合せ精度で形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、発明を実施するための最良の形態について、図面を参照して説明する。
【００１３】
図９は、本発明の一実施形態に係るカラーフィルタの描画方法に用いる露光装置を示す斜視図である。図９において、ステージ２１上に配置された基板１の被露光領域上に、小型マスク２２を介して複数の露光ヘッド３が、一定の方向に平行に並置されている。これらの露光ヘッド３の下を基板がＹ方向にスキャン移動し、レーザ発振機４１から送られたレーザ光４２が露光ヘッド３及び小型マスク２２を通して基板１上の被露光領域へ照射され、露光が行われる。
【００１４】
この露光装置には、基板１に付されたアライメントマークＭ（例示のため、基板の４隅にのみ形成されているが、実際には各ショイットのブラックマトリクスパターン毎に２つ形成されている。）を読み取るためのアライメントカメラ１３、及びステージ２１に形成されたアライメントマーク１７を読み取るためのステージ−ヘッドキャリブレーションカメラ１５が配置されている。
【００１５】
図１０は、露光ヘッドの光路を示す図である。レーザ発振機（図示せず）から送られたレーザ光４２は、ビームスプリッター４３により他の露光ヘッドに送られるレーザ光と分割され、第１のミラー・レンズ系４４、小型マスク２２、第２のミラー・レンズ系４５、シールガラス４６を介して基板１上の被露光領域へ照射される。
【００１６】
本発明は、各ショットのブラックマトリクスパターンの歪みに追従して、２層目以降のパターン形成のための露光を行うものである。なお、２層目以降のパターンとしては、ＲＧＢの着色パターン、ＭＶＡ、フォトスペーサー等があるが、以下の実施形態では、ＲＧＢの着色パターンを形成する場合について説明する。
【００１７】
図１は、本発明の第１の実施形態に係るカラーフィルタの描画方法を説明するための図である。本実施形態は、各ショットのブラックマトリクスパターンの歪みに追従して、スキャニング方向と直交する方向における２層目以降のパターンの補正を行うものである。
【００１８】
図１に示すように、露光ステージ上に載置された大型ガラス基板１上に、ステップ露光法を用いて、６回のショットで６つのブラックマトリクスパターン２を形成する。その際、各ショット毎に、ブラックマトリクスパターン２の外側に、２つ以上（図では２つ）のアライメントマークＭ１，Ｍ２を形成する。図中、参照符号３は露光ヘッドを示す。
【００１９】
次に、このようにして形成されたブラックマトリクスパターン２上に、複数の露光ヘッド３を横一列に配置したヘッドガントリー（図示せず）を備える露光装置を用い、ＲＧＢパターンを形成する。ＲＧＢパターンの形成のための露光は、ヘッドガントリーの下を、ガラス基板１が載置された露光ステージをスキャン移動させつつ、２つのアライメントマーク毎に３つに分割露光することにより行われる。
【００２０】
その際、ヘッドガントリーに取り付けられたカメラ（図示せず）によりアライメントマークＭ１，Ｍ２を読み取ることにより、各ショット毎のブラックマトリクスパターン２の歪みの程度を把握した上で、それに追随させてＲＧＢパターンを形成する。
【００２１】
即ち、ＲＧＢパターンの形成のための露光を、アライメントマークＭ１，Ｍ２を読み取ることにより得たブラックマトリクスパターン２の歪みのデータに対応して、基板１が載置される露光ステージをスキャニング方向に直交する方向（図中、矢印の方向）に微小移動させつつ行う。その結果、スキャニング方向に直交する方向におけるブラックマトリクスパターン２の歪みに追従して補正された、ＲＧＢパターンの形成のための露光を行うことができる。なお、図１において、参照符号４は、ＲＧＢパターンの領域を示す。
【００２２】
図１では、各ショット毎に２つのアライメントマークを用い、ＲＧＢパターンを３つに分割して補正したが、更にアライメントマークの数を増加し、更に細かく分割補正をすることも可能である。また、各ショット毎にアライメントマークの数を増加し、それらの間で平均化処理した値で補正することも可能である。
【００２３】
図２は、本発明の第２の実施形態に係るカラーフィルタの描画方法を説明するための図である。本実施形態は、第１の実施形態と同様、各ショットのブラックマトリクスパターンの歪みに追従して、スキャニング方向と直交する方向における２層目以降のパターンの補正を行うものである。
【００２４】
図２に示すように、露光ステージ上に載置された大型ガラス基板１上に、ステップ露光法を用いて、６回のショットで６つのブラックマトリクスパターン２を形成し、各ショット毎に、ブラックマトリクスパターン２の外側に、２つ以上（図では２つ）のアライメントマークＭ１，Ｍ２を形成することは、第１の実施形態と同様である。
【００２５】
次に、このようにして形成されたブラックマトリクスパターン２上に、２つのアライメントマーク毎に３つに分割露光してＲＧＢパターンを形成するが、その際、アライメントマークＭ１，Ｍ２を読み取ることにより、各ショットごとのブラックマトリクスパターン２の歪みの程度を把握した上で分割露光し、ＲＧＢパターンを形成する。
【００２６】
即ち、ＲＧＢパターンの形成のための露光を、アライメントマークＭ１，Ｍ２を読み取ることにより得たブラックマトリクスパターン２の歪みのデータに対応して、露光ヘッド全体、即ちヘッドガントリー５をスキャニング方向に直交する方向（図中、矢印の方向）に微小移動させつつ行う。その結果、スキャニング方向に直交する方向におけるブラックマトリクスパターン２の歪みに追従して補正された、ＲＧＢパターンの形成のための露光を行うことができる。
【００２７】
図２では、各ショット毎に２つのアライメントマークを用い、ＲＧＢパターンを３つに分割して補正したが、更にアライメントマークの数を増加し、更に細かく分割補正をすることも可能である。また、各ショット毎にアライメントマークの数を増加し、それらの間で平均化処理した値で補正することも可能である。
【００２８】
図３は、本発明の第３の実施形態に係るカラーフィルタの描画方法を説明するための図である。本実施形態は、各ショットのブラックマトリクスパターンの歪みに追従して、スキャニング方向における２層目以降のパターンの補正を行うものである。
【００２９】
図３に示すように、露光ステージ上に載置された大型ガラス基板１上に、ステップ露光法を用いて、６回のショットで６つのブラックマトリクスパターン２を形成し、各ショット毎に、ブラックマトリクスパターン２の外側に、２つ以上（図では２つ）のアライメントマークＭ１，Ｍ２を形成することは、第１の実施形態と同様である。
【００３０】
次に、このようにして形成されたブラックマトリクスパターン２上にＲＧＢパターンを形成するが、その際、アライメントマークＭ１，Ｍ２を読み取ることにより、各ショットごとのブラックマトリクスパターン２の歪みの程度を把握した上で、２つのアライメントマーク毎に３つに分割露光し、ＲＧＢパターンを形成する。
【００３１】
即ち、ＲＧＢパターン形成のための露光前に、スキャニング方向における露光ステージの位置を、アライメントマークＭ１，Ｍ２を読み取ることにより得たブラックマトリクスパターン２の歪みのデータに基づき補正し、同時に露光時間が一定の分割露光毎に露光開始位置と完了位置を算出し、露光ステージのスキャニング速度を補正する。
【００３２】
例えば、図３に示す例では、６つのブラックマトリクスパターンのうち、スキャニング方向前方（図では上部）の２つのブラックマトリクスパターンは理想格子であるブラックマトリクスパターンであり、中央部の２つのブラックマトリクスパターンは大きい２つのブラックマトリクスパターンであり、スキャニング方向後方（図では下部）の２つのブラックマトリクスパターンは小さいブラックマトリクスパターンである。
【００３３】
このようなブラックマトリクスパターンにおいて、露光開始位置と完了位置、即ち、２つのアライメントマーク間の間隔が広い（ブラックマトリクスパターン２のサイズが大きい−中央のブラックマトリクスパターン）場合には、露光ステージのスキャニング速度を速くし、２つのアライメントマーク間の間隔が狭い（ブラックマトリクスパターン２のサイズが小さい−後方のブラックマトリクスパターン）場合には、露光ステージのスキャニング速度を遅くするように補正を行う。
【００３４】
その結果、スキャニング方向におけるブラックマトリクスパターン２の歪みに追従して補正された、ＲＧＢパターンの形成のための露光を行うことができる。
【００３５】
図４は、本発明の第４の実施形態に係るカラーフィルタの描画方法を説明するための図である。本実施形態は、第３の実施形態と同様、各ショットのブラックマトリクスパターンの歪みに追従して、スキャニング方向における２層目以降のパターンの補正を行うものである。
【００３６】
図４に示すように、露光ステージ上に載置された大型ガラス基板１上に、ステップ露光法を用いて、６回のショットで６つのブラックマトリクスパターン２を形成し、各ショット毎に、ブラックマトリクスパターン２の外側に、２つ以上（図では２つ）のアライメントマークＭ１，Ｍ２を形成することは、第１の実施形態と同様である。
【００３７】
次に、このようにして形成されたブラックマトリクスパターン２上にＲＧＢパターンを形成するが、その際、アライメントマークＭ１，Ｍ２を読み取ることにより、各ショットごとのブラックマトリクスパターン２の歪みの程度を把握した上で、２つのアライメントマーク毎に３つに分割露光し、ＲＧＢパターンを形成する。
【００３８】
即ち、ＲＧＢパターン形成のための露光前に、スキャニング方向における露光ステージの位置を、アライメントマークＭ１，Ｍ２を読み取ることにより得たブラックマトリクスパターン２の歪みのデータに基づき補正し、同時に分割露光毎に露光開始位置と完了位置を算出し、レーザショットパルスのオフ時間を補正する。
【００３９】
例えば、２つのアライメントマーク間の間隔が広い場合、即ち、理想格子に対してブラックマトリクスパターンが大きい（中央部のブラックマトリクスパターン）場合には、レーザショットパルスのオフ時間を長くし、２つのアライメントマーク間の間隔が狭い場合、即ち、理想格子に対してブラックマトリクスパターンが小さい（後方のブラックマトリクスパターン）場合には、レーザショットパルスのオフ時間を短くする。なお、露光ステージの速度は一定である。
【００４０】
その結果、スキャニング方向におけるブラックマトリクスパターン２の歪みに追従して補正された、ＲＧＢパターンの形成のための露光を行うことができる。
【００４１】
図５は、本発明の第５の実施形態に係るカラーフィルタの描画方法を説明するための図である。本実施形態は、第３の実施形態と同様、各ショットのブラックマトリクスパターンの歪みに追従して、スキャニング方向における２層目以降のパターンの補正を行うものである。
【００４２】
図５に示すように、露光ステージ上に載置された大型ガラス基板１上に、ステップ露光法を用いて、６回のショットで６つのブラックマトリクスパターン２を形成し、各ショット毎に、ブラックマトリクスパターン２の外側に、２つ以上（図では２つ）のアライメントマークＭ１，Ｍ２を形成することは、第１の実施形態と同様である。
【００４３】
次に、このようにして形成されたブラックマトリクスパターン２上にＲＧＢパターンを形成するが、その際、アライメントマークＭ１，Ｍ２を読み取ることにより、各ショットごとのブラックマトリクスパターン２の歪みの程度を把握した上で、２つのアライメントマーク毎に３つに分割露光し、ＲＧＢパターンを形成する。
【００４４】
即ち、露光ステージのスキャニング中に、スキャニング方向における露光ステージの位置を、アライメントマークＭ１，Ｍ２を読み取ることにより得たブラックマトリクスパターン２の歪みのデータに基づき補正し、同時に分割露光毎に露光開始位置と完了位置を算出し、それに対応して露光ヘッド全体をスキャニング方向又はそれと逆方向に微小移動させる。
【００４５】
例えば、２つのアライメントマーク間の間隔が広い場合、即ち、理想格子に対してブラックマトリクスパターンが大きい場合（中央部のブラックマトリクスパターン）には、露光ヘッド全体をスキャニング方向に微小移動させ、２つのアライメントマーク間の間隔が広い場合、即ち、理想格子に対してブラックマトリクスパターンが小さい（後方のブラックマトリクスパターン）場合には、露光ヘッド全体をスキャニング方向と逆方向に微小移動させる。
【００４６】
その結果、スキャニング方向におけるブラックマトリクスパターン２の歪みに追従して補正された、ＲＧＢパターンの形成のための露光を行うことができる。
【００４７】
図６は、ＲＧＢパターンの露光領域４を示すが、破線で示す領域は、露光ヘッドを微小移動させない場合であり、露光ヘッドをスキャニング方向とは逆方向に微小移動させることにより、露光領域は実線で示す領域に縮小する。
【００４８】
以上、各ショットのブラックマトリクスパターンの外部に２つのアライメントマークを形成した場合について説明したが、本発明はこれに限らず、例えば、ブラックマトリクスパターンの外部にアライメントマークを形成せず、ブラックマトリクスパターン自体の一部をアライメントマークとして利用することも可能である。そのような例を図７に示す。
【００４９】
図７（ａ）は、黒色格子状のブラックマトリクスパターン２の一部を示すが、その部分Ａを拡大した図７（ｂ）に示すように、ブラックマトリクスパターン２のコーナー部Ｂをアライメントマークとみなし、カメラに取り付けられたレチクルのパターンＰと合わせることにより、ブラックマトリクスパターンの歪みを測定することができる。なお、アライメントマークとみなす部分は、ブラックマトリクスパターンのコーナー部に限定されないが、ブラックマトリクスパターンの歪みを把握する上では、検出が容易な部位であるコーナー部が好ましい。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】本発明の第１の実施形態に係るＲＧＢパターンの補正を説明する図。
【図２】本発明の第２の実施形態に係るＲＧＢパターンの補正を説明する図。
【図３】本発明の第３の実施形態に係るＲＧＢパターンの補正を説明する図。
【図４】本発明の第４の実施形態に係るＲＧＢパターンの補正を説明する図。
【図５】本発明の第５の実施形態に係るＲＧＢパターンの補正を説明する図。
【図６】露光ヘッドを微小移動させることによるＲＧＢパターン領域の変化を示す図。
【図７】ブラックマトリクスパターンのコーナー部をアライメントマークとして用い、基板アライメントカメラのパターンと合わせた状態を示す図。
【図８】従来の大型ガラス基板上にステップ露光法を用いてブラックマトリクスパターン及びアライメントマークが形成された状態を示す上面図。
【図９】本発明の一態様に係るカラーフィルタの描画方法に用いる露光装置を示す斜視図。
【図１０】図９に示す露光ヘッドの光路を示す図。
【符号の説明】
【００５１】
１，        ３１…大型ガラス基板、２，３２…ブラックマトリクスパターン、３…露光ヘッド、４…露光領域、５…ヘッドガントリー、１３…アライメントカメラ、１５…ステージ−ヘッドキャリブレーションカメラ、４１…レーザ発振機、４２…レーザ光、４３…ビームスプリッター、４４…第１のミラー・レンズ系、４５…第２のミラー・レンズ系、４６…シールガラス。
【図１】
2008009159.tif 000003
【図２】
2008009159.tif 000004
【図３】
2008009159.tif 000005
【図４】
2008009159.tif 000006
【図５】
2008009159.tif 000007
【図６】
2008009159.tif 000008
【図７】
2008009159.tif 000009
【図８】
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【図９】
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【図１０】
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