【手続補正書】
【提出日】平成25年8月26日(2013.8.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
歯の根管の尖部の位置を決定する装置であって、以下の構成要素：
（ａ）患者の歯の根管中に挿入可能であるように成形される第１の電極、及び前記患者の別の身体部分、又は前記患者の口腔粘膜若しくは手と接触して設置されるように成形される第２の電極、
（ｂ）該第１の電極と該第２の電極との間に異なる周波数を有する連続した少なくとも４個の電圧信号を発生することが可能である周波数掃引発生器、
（ｃ）前記周波数掃引発生器によって発生される該電圧信号に対応する該第１の電極と該第２の電極との間のインピーダンスを測定することが可能である測定機器、
（ｄ）計算ユニットであって、
該周波数掃引発生器によって発生される該電圧信号を制御することと、
該測定機器から得られるそれぞれのインピーダンス値を読み取ることと、
前記インピーダンス値から前記第１の電極と前記歯尖部との間の距離を計算することと
が可能であり、以下の工程：
（ｉ）周波数速度γで第１の周波数掃引を実施して、各々の発生される電圧信号に対して該それぞれのインピーダンス値及び該インピーダンス測定の時点を記録する、実施して記録する工程と、
（ｉｉ）（ｉ）において記録される該インピーダンス値から前記第１の電極と前記歯尖部との間の距離を決定する工程
（ここで、
工程（ｉｉ）は、以下の工程：
（ｉｉｉ）該第１の周波数掃引から得られる該インピーダンス値に対して第１の曲線をフィッティングさせる工程であって、前記第１の曲線が、該第１の周波数掃引時のどの時点が該第１の掃引のどのそれぞれのインピーダンス値と相関するかを規定する、フィッティングさせる工程と、
（ｉｖ）第２の曲線をえる工程と
（iV-1）それは、（ｉ）と同様に、該周波数速度γと異なる周波数速度βで第２の周波数掃引を実施し、該第２の周波数掃引から得られる該インピーダンス値に対して第２の曲線をフィッティングさせる工程であって、前記第２の曲線が、該第２の周波数掃引時のどの時点が該第２の周波数掃引のどのそれぞれのインピーダンス値と相関するかを規定する、フィッティングさせる工程を含み、若しくは  
（iV-2）それは、（ｉｉｉ）において得られる該第１の曲線からの該インピーダンス値及び該時点値を外挿することによってえられる、
（ｖ）該第１の曲線と該第２の曲線との間の差異である第３の曲線を得る工程と、
（ｖｉ）時点ｔｍａｘで記録される最大のインピーダンス差異ΔＲｍａｘである該第３の曲線の最大値を見出し、任意に、ｔ＝０とｔ＝ｔｍａｘとの間における該第３の曲線の下の面積Ｆを決定する、見出し任意に決定する工程と、
（ｖｉｉ）決定されるｔｍａｘ値及びΔＲｍａｘ値並びに任意にＦ値を使用して、前記歯根管の尖部と前記第１の電極との間の距離ｘを決定する工程と
を含む）
とを含む方法を実施することが可能であるハードウェアを含む、計算ユニット、並びに
（ｅ）任意に、前記計算される距離を出力することが可能である出力機器
を含む、歯の根管の尖部の位置を決定する装置。
【請求項２】
周波数掃引発生器が、オシレータ及び任意にアッテネータを含む、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
測定機器が、前記第１の電極と前記第２の電極との間で測定される電圧波形を増幅する増幅器を含む、請求項１又は２に記載の装置。
【請求項４】
測定機器が、該測定される電圧波形を整流する整流器を含む、請求項３に記載の装置。
【請求項５】
第１の周波数掃引及び第２の周波数掃引に対して、同数のインピーダンス測定値を取得する、請求項１〜４のいずれか一項に記載の装置。
【請求項６】
第１の周波数掃引及び／又は第２の周波数掃引において使用される周波数が、１０Ｈｚ〜４０ｋＨｚの周波数を含む、又は１４Ｈｚ〜１０ｋＨｚの周波数を含む周波数範囲から選択される、請求項１〜５のいずれか一項に記載の装置。
【請求項７】
第１の周波数掃引及び／又は第２の周波数掃引が、０．６秒未満で、又は０．１秒未満で完了する、請求項１〜６のいずれか一項に記載の装置。
【請求項８】
第２の周波数掃引が、以下の式：
【数１】
2013517022.tif 000001
（式中、ｔは時間であり、ｗβ（ｔ）は時間依存性の周波数関数であり、ｗ０は掃引の出発周波数であり、βは周波数速度であり、ｎは任意の実数である）
による周波数を選択することによって実施される、請求項１〜７のいずれか一項に記載の装置。
【請求項９】
第１の周波数掃引が、以下の式：
【数２】
2013517022.tif 000002
（式中、ｔは時間であり、ｗγ（ｔ）は時間依存性の周波数関数であり、ｗ０は掃引の出発周波数であり、γは周波数速度であり、ｎは任意の実数である）
による周波数を選択することによって実施される、請求項１〜８のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１０】
掃引速度β及び掃引速度γが、比率ｕ＝β／γが４〜８の値となるように選択される、請求項１〜９のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１１】
第１の電極が、ニードル電極若しくはリーマー電極、又は１０ｍｍ〜５０ｍｍの長さを有するニードル電極若しくはリーマー電極である、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１２】
第２の電極が、該患者の口腔粘膜と接触することが可能であるリップ電極、及び／又はハンドヘルド式電極である、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１３】
歯根管の尖部の位置を決定する方法であって、以下の工程：
（ａ）患者の歯の根管に位置する第１の電極、及び前記患者の別の身体部分、又は前記患者の口腔粘膜若しくは手と接触する第２の電極を準備する工程と、
（ｂ）第１の高速の周波数掃引を実施する工程であって、
各々の個々のインピーダンス測定値に対してどの時点で該測定値を取得したかに留意しながら、該第１の電極及び該第２の電極を使用して並びに１０Ｈｚ〜４０ｋＨｚの周波数から選択される周波数を使用して、第１の一連の少なくとも４個の電気的インピーダンス測定値を得ること
を含む、第１の高速の周波数掃引を実施する工程と、
（ｃ）第２のより低速の周波数掃引を実施する工程であって、
（ｉ）各々の個々のインピーダンス測定値に対してどの時点で該測定値を取得したかに留意しながら、該第１の電極及び該第２の電極を使用して並びに工程（ｂ）において規定されるものと本質的に同じ周波数範囲を使用して、ただし工程（ｂ）より低速で連続した個々のインピーダンス測定値を測定して、第２の一連の少なくとも４個の電気的インピーダンス測定値を得ること、又は
（ｉｉ）工程（ｂ）において得られるインピーダンスデータ組から該第２の低速の周波数掃引の該インピーダンス測定値を外挿すること
を含む、第２のより低速の周波数掃引を実施する工程と、
（ｄ）工程（ｂ）において得られるインピーダンスデータ組を工程（ｃ）において得られるインピーダンスデータ組と比較して、ｔｍａｘ及びΔＲｍａｘを決定する、比較する工程であって、ｔｍａｘは、工程（ｂ）においてｔｍａｘで測定される又はｔｍａｘに対応するインピーダンスと工程（ｃ）においてｔｍａｘで測定される又はｔｍａｘに対応するインピーダンスとの間のインピーダンス差異ΔＲｍａｘが最大となる、両方の周波数掃引における共通の時点である、比較する工程と、
（ｅ）決定されるｔｍａｘ値及びΔＲｍａｘ値を使用して、前記歯根管の尖部と前記第１の電極との間の距離ｘを決定する工程と
を含む、歯根管の尖部の位置を決定する方法。