【手続補正書】
【提出日】平成21年9月28日(2009.9.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
イメージング装置（６０）のための永久磁石アセンブリ（１１）であって、
第１の表面（１７）と、イメージング装置の撮像ボリューム（６５）に対面するように適合させた階段状の第２の表面（１９）とを有する永久磁石本体（１５）を備えており、前記階段状の第２の表面は少なくとも４つのステップ（２１、２３、２５、２７）を含んでおり、
前記永久磁石本体（１５）が、
前記少なくとも１層の軟磁性材料に取り付けられた第１の主表面（４１）と、該第１の表面の反対側にあり、少なくとも３つのステップ（２１、２３、２５）を有する第２の主表面（４２）とを有する円筒状の基礎セクション（３１）と、
前記基礎セクションの第２の主表面（４２）の外側部分に取り付けられた中空のリング・セクション（３５）とを備え、
前記基礎セクション（３１）の第１及び第２の表面（４１、４２）と、前記中空リング・セクションの第１及び第２の表面（４８、４９）は、該磁石アセンブリの磁場の方向（２０）と実質的に直交するように配列されていること、
前記基礎セクション（３５）は少なくとも２層の永久磁石ブロック（５４）を備えていること、
前記基礎セクションの第２の主表面にあるステップ（２１、２３、２５）のうちの少なくとも２つが前記第２の表面（４２）になるように機械加工されており、
前記基礎セクション（３５）は少なくとも２層の永久磁石ブロック（５４）を備え、
前記少なくとも１層の軟磁性材料は、前記永久磁石本体（１５）の実質的に平坦な前記第１の主表面（４１）に取り付けられ、
前記基礎セクション（３１）の第１及び第２の表面（４１、４２）と、前記中空リング・セクションの第１及び第２の表面（４８、４９）は、該磁石アセンブリの磁場の方向（２０）と実質的に直交するように配列され、
前記永久磁石本体の前記階段状の第２の撮像表面は、前記中空リング・セクションの前記第２の表面と、該リング・セクションによって覆われていない前記基礎セクションの前記第２の表面の一部分と、を備えており、
該中空リング・セクションの第２の主表面（４９）は、１つのポケットを形成するように前記基礎セクションの第２の主表面（４２）の隣接部分の上に少なくとも０．０５メートルだけ延びている、
永久磁石アセンブリ（１１）。
【請求項２】
前記基礎セクション（３１）の前記少なくとも３つのステップ（２１、２３、２５）の高さは、０．０３メートル未満である、請求項１に記載のアセンブリ。
【請求項３】
イメージング装置（６０）のための永久磁石アセンブリ（１１）であって、
第１の表面（１７）と、イメージング装置の撮像ボリューム（６５）に対面するように適合させた階段状の第２の表面（１９）とを有する永久磁石本体（１５）を備えており、
前記階段状の第２の表面の中央ステップ（２１）は１つの突起部を備えており、
前記永久磁石本体（１５）が、
前記少なくとも１層の軟磁性材料に取り付けられた第１の主表面（４１）と、該第１の表面の反対側にあり、少なくとも３つのステップ（２１、２３、２５）を有する第２の主表面（４２）とを有する円筒状の基礎セクション（３１）と、
前記基礎セクションの第２の主表面（４２）の外側部分に取り付けられた中空のリング・セクション（３５）とを備え、
前記基礎セクション（３１）の第１及び第２の表面（４１、４２）と、前記中空リング・セクションの第１及び第２の表面（４８、４９）は、該磁石アセンブリの磁場の方向（２０）と実質的に直交するように配列されていること、
前記基礎セクション（３５）は少なくとも２層の永久磁石ブロック（５４）を備えていること、
前記基礎セクションの第２の主表面にあるステップ（２１、２３、２５）のうちの少なくとも２つが前記第２の表面（４２）になるように機械加工されており、
前記基礎セクション（３５）は少なくとも２層の永久磁石ブロック（５４）を備え、
前記少なくとも１層の軟磁性材料は、前記永久磁石本体（１５）の実質的に平坦な前記第１の主表面（４１）に取り付けられ、
前記基礎セクション（３１）の第１及び第２の表面（４１、４２）と、前記中空リング・セクションの第１及び第２の表面（４８、４９）は、該磁石アセンブリの磁場の方向（２０）と実質的に直交するように配列され、
前記永久磁石本体の前記階段状の第２の撮像表面は、前記中空リング・セクションの前記第２の表面と、該リング・セクションによって覆われていない前記基礎セクションの前記第２の表面の一部分と、を備えており、
該中空リング・セクションの第２の主表面（４９）は、１つのポケットを形成するように前記基礎セクションの第２の主表面（４２）の隣接部分の上に少なくとも０．０５メートルだけ延びており、
前記基礎セクション（３１）の前記少なくとも３つのステップ（２１、２３、２５）の高さは、０．０３メートル未満である、永久磁石アセンブリ（１１）。
【請求項４】
前記永久磁石本体（１５）がＲＭＢ永久磁石材料を含んでおり、
ここで、Ｒは少なくとも１種の希土類元素を含み、かつＭは少なくとも１種の遷移金属を含むことを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載のアセンブリ。
【請求項５】
前記ＲＭＢ永久磁石材料が、１３〜１９原子百分率のＲ；４〜２０原子百分率のホウ素；並びに残部Ｍを含み、
前記Ｒが、５０％を超えるプラセオジム、０．１〜１０原子百分率のＣｅ、Ｙ及びＬａの少なくとも１種、及び残部のＮｄを含み、
前記Ｍが、鉄を含み、
前記少なくとも１層の軟磁性材料が、Ｆｅ−Ｓｉ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ａｌ、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｖ、Ｆｅ−Ｃｒ−Ｎｉ、もしくは非晶質のＦｅベースまたはＣｏベースの合金の任意の１層または複数層を備える請求項４に記載のアセンブリ。
【請求項６】
前記ポケットに配置された複数のシムをされに含む、請求項１乃至５のいずれかに記載のアセンブリ。
【請求項７】
前記階段状の第２の表面（１９）は複数のリング（２１、２３、２５、２７）を備えること、
前記中央ステップ（２１）は中実の中央リングを備えること、
外側のステップ（２３、２５、２７）は複数の中空のリングを備えること、
前記中実の中央リング（２１）は、該中実中央リングに隣接する第１の中空リング（２３）の高さと比べてより大きいが、その他の複数の中空リング（２５、２７）高さと比べてより小さいような高さを有すること、
を特徴とする請求項３に記載のアセンブリ。
【請求項８】
イメージング装置（１０）のための永久磁石アセンブリ（１１）であって、第１の表面（１７）と、イメージング装置の撮像ボリューム（６５）に対面するように適合させた階段状の第２の表面（１９）とを有する永久磁石本体（１５）を備えており、前記階段状の第２の表面は少なくとも４つのステップ（２１、２３、２５、２７）を含んでおり、
移動可能永久磁石本体（２２、２６）が前記永久磁石本体（１５）の前記第２の表面（１９）を基準として移動可能である永久磁石アセンブリ（１１）。
【請求項９】
前記階段状の第２の表面の中央ステップ（２１）は１つの突起部を備えている、請求項９に記載のアセンブリ（１１）。
【請求項１０】
イメージング装置（１０）のための永久磁石アセンブリ（１１）であって、第１の表面（１７）と、イメージング装置の撮像ボリューム（６５）に対面するように適合させた階段状の第２の表面（１９）とを有する永久磁石本体（１５）を備えており、前記階段状の第２の表面の中央ステップ（２１）は１つの突起部を備えおり、
移動可能永久磁石本体（２２、２６）が前記永久磁石本体（１５）の前記第２の表面（１９）を基準として移動可能である永久磁石アセンブリ（１１）。