Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月17日(2009.2.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、前記基材の一方の面に形成された第１のシリコーン離型層と、基材の他方の面に形成された第２のシリコーン離型層と、前記第２のシリコーン離型層上に、離型可能に積層された感圧転写層とを含む感圧転写テープであって、同じアクリル系粘着剤に対する、第１のシリコーン離型層の、剥離速度３００ｍｍ／ｍｉｎでの剥離力Ｆ１と、第２のシリコーン離型層の、剥離速度３００ｍｍ／ｍｉｎでの剥離力Ｆ２とが、式(a)：
１．４≦Ｆ２／Ｆ１≦７．５      (a)
を満足することを特徴とする感圧転写テープ。
【請求項２】
前記アクリル系粘着剤に対する、第１のシリコーン離型層の、剥離速度１０００ｍｍ／ｍｉｎでの剥離力Ｆ３と、第２のシリコーン離型層の、剥離速度１０００ｍｍ／ｍｉｎでの剥離力Ｆ４とが、式(b)：
１．４≦Ｆ４／Ｆ３≦７．５      (b)
を満足すると共に、第２のシリコーン離型層の剥離力Ｆ２、Ｆ４が、式(c)：
Ｆ４／Ｆ２≦１．２      (c)
を満足する請求項１記載の感圧転写テープ。
【請求項３】
第１および第２のシリコーン離型層が、式(1)：
【化１】
2007246557.tif 000001
〔式中、Ｒ１は、炭素数１〜５の鎖状アルキル基を示す。〕
で表されるシラン化合物を含んでいる請求項１または２記載の感圧転写テープ。
【請求項４】
式(1)で表されるシラン化合物が、式(2)：
【化２】
2007246557.tif 000002
で表されるビニルトリアセトキシシランである請求項３記載の感圧転写テープ。
【請求項５】
第１および第２のシリコーン離型層が、式(2)で表されるビニルトリアセトキシシランと、式(3)：
【化３】
2007246557.tif 000003
で表されるγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランとを、重量比で７／３〜４／６の割合で含んでいる請求項４記載の感圧転写テープ。
【請求項６】
第１および第２のシリコーン離型層を形成するシリコーン系樹脂の架橋密度が調整されて、剥離力Ｆ１、Ｆ２が式(a)を満足している請求項１ないし５のいずれかに記載の感圧転写テープ。
【請求項７】
感圧転写層が粘着層であって、前記粘着層が、第２のシリコーン離型層上に、不連続にパターン形成されている請求項１ないし６のいずれかに記載の感圧転写テープ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
〔式中、Ｒ１は、炭素数１〜５の鎖状アルキル基を示す。〕
で表されるシラン化合物を含んでいる場合には、両シリコーン離型層のもとになる、バインダとしてシリコーン系樹脂を含む塗剤の、基材表面への濡れ性を向上して、前記基材の表面に、ムラのない均一な塗膜と、前記塗膜を架橋させたシリコーン離型層とを形成することができると共に、形成したシリコーン離型層の、基材への密着性を向上することができる。
前記シラン化合物としては、請求項４に記載したように式(2)で表されるビニルトリアセトキシシランが挙げられる。また、先に説明した効果をより一層、良好に発現させることを考慮すると、請求項５に記載したように式(2)で表されるビニルトリアセトキシシランと、式(3)で表されるγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランとを、重量比で７／３〜４／６の割合で併用するのがさらに好ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
第１および第２のシリコーン離型層の剥離力Ｆ１、Ｆ２を、前記式(a)を満足する範囲内となるように調整するためには、前記両シリコーン離型層の硬さを個別に調整すればよく、そのためには、請求項６に記載したように、前記シリコーン離型層を形成する主体であるバインダとしてのシリコーン系樹脂の架橋密度を調整すればよい。
また、第１および第２のシリコーン離型層の剥離力Ｆ２〜Ｆ４を、前記式(b)(c)を満足する範囲内となるように調整するためには、やはり両シリコーン離型層の硬さを個別に調整すればよく、そのためには、前記シリコーン離型層を形成する主体であるバインダとしてのシリコーン系樹脂の架橋密度を調整すればよい。
感圧転写層が、感圧転写粘着テープの、感圧転写性を有する粘着層である場合、前記粘着層は、転写終了時の糸引きを防止することを考慮すると、請求項７に記載したように、第２のシリコーン離型層上に、不連続にパターン形成されているのが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月19日(2009.2.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＪＩＳ  Ｋ６９２０−２に従って、９８％硫酸にて測定した相対粘度が２．７以下の低分子量ポリアミド樹脂（Ａ）１００質量部に対して、少なくとも２個の重合性官能基を有する有機化合物（Ｂ）１〜１０質量部、粒子径が０．１〜２０μｍのタルク、窒化ホウ素から選ばれる少なくとも１種類以上の充填材（Ｃ）１００〜５０００ｐｐｍ、リン系熱安定剤（D）０．０１〜１０質量部からなる樹脂組成物を、所望の形状に射出成形した後、照射架橋して得られる２３℃、９８％硫酸に実質的に不溶解である厚み１０ｍｍ以下のポリアミド樹脂成形品。
【請求項２】
所望の形状に射出成形した後、アニール処理（窒素雰囲気下１８０℃で４時間）後、照射架橋して得られる請求項１に記載のポリアミド樹脂成形品。
【請求項３】
（Ｃ）タルク、窒化ホウ素から選ばれる少なくとも１種以上の充填材（Ｃ）の粒子径が２〜８μｍであることを特徴とする請求項１または２に記載のポリアミド樹脂成形品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
すなわち、本発明は以下の通りである。
［１］ＪＩＳ  Ｋ６９２０−２に従って、９８％硫酸にて測定した相対粘度が２．７以下の低分子量ポリアミド樹脂（Ａ）１００質量部に対して、少なくとも２個の重合性官能基を有する有機化合物（Ｂ）１〜１０質量部、粒子径が０．１〜２０μｍのタルク、窒化ホウ素から選ばれる少なくとも１種類以上の充填材（Ｃ）１００〜５０００ｐｐｍ、リン系熱安定剤（Ｄ）０．０１〜１０質量部からなる樹脂組成物を、所望の形状に射出成形した後、照射架橋して得られる２３℃、９８％硫酸に実質的に不溶解である厚み１０ｍｍ以下のポリアミド樹脂成形品、
［２］所望の形状に射出成形した後、アニール処理（窒素雰囲気下１８０℃で４時間）後、照射架橋して得られるポリアミド樹脂成形品、
［３］  （Ｃ）タルク、窒化ホウ素から選ばれる少なくとも１種以上の充填材（Ｃ）の粒子径が２〜８μｍであることを特徴とする請求項１または２に記載のポリアミド樹脂成形品。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月9日(2009.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリアミド成分（Ａ）１００質量部に対して、アパタイト成分（Ｂ）０．１〜３０質量部、ヒンダードフェノール類（Ｃ）０．０１〜５．０質量部、およびヒンダードアミン類（Ｄ）０．０１〜５．０質量部を含有し、ヒンダードフェノール類（Ｄ）に対し、ヒンダードアミン類（Ｅ）が１．１〜５倍であることを特徴とするポリアミド樹脂組成物。
【請求項２】
請求項１に記載のポリアミド樹脂組成物から得られることを特徴とする成形品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、ポリアミド樹脂に特定量のアパタイト型化合物を含有させた特定のポリアミド樹脂複合体に、特定の安定剤を配合したポリアミド樹脂組成物により、上記課題を解決できることを見出し、本発明に至った。
すなわち本発明は、
（１）ポリアミド成分（Ａ）１００質量部に対して、アパタイト成分（Ｂ）０．１〜３０質量部、ヒンダードフェノール類（Ｃ）０．０１〜５．０質量部、およびヒンダードアミン類（Ｄ）０．０１〜５．０質量部を含有し、ヒンダードフェノール類（Ｄ）に対し、ヒンダードアミン類（Ｅ）が１．１〜５倍であることを特徴とするポリアミド樹脂組成物。
（２）上記（１）に記載のポリアミド樹脂組成物から得られることを特徴とする成形品。
である
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月9日(2009.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリアミド６６とポリアミド６からなり、かつ末端がモノカルボン酸あるいはモノアミンで１〜７０（ミリ当量／Ｋｇ）封鎖されている共重合ポリアミド成分（Ａ）１００質量部に対して、アパタイト化合物（Ｂ）０．１〜３０質量部、共重合ポリアミド成分（Ａ）以外のポリアミド成分（Ｃ）から一種以上選ばれたポリアミド成分１０〜１０００質量部からなるポリアミド複合体１００質量部に対し、強化フィラー（Ｄ）５〜２５０質量部、ヒンダードフェノール類（Ｅ）０．０１〜５．０質量部、ヒンダードアミン類（Ｆ）０．０１〜５．０質量部を含有し、ヒンダードフェノール類（Ｄ）に対し、ヒンダードアミン類（Ｅ）が１．１〜５倍である事を特徴とするポリアミド樹脂組成物。
【請求項２】
ポリアミド成分（Ｃ）が、ポリアミド６６またはポリアミド６である事を特徴とする請求項１に記載のポリアミド樹脂組成物。
【請求項３】
強化フィラー（Ｄ）が、ガラス繊維である事を特徴とする請求項１または２に記載のポリアミド樹脂組成物。
【請求項４】
請求項１〜３いずれかに記載のポリアミド樹脂組成物から得られることを特徴とする成形品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、ポリアミド樹脂に特定量のアパタイト化合物を含有させた特定のポリアミド樹脂複合体に、特定の安定剤を配合したポリアミド樹脂組成物により、上記課題を解決できることを見出し、本発明に至った。
すなわち本発明は、
（１）ポリアミド６６とポリアミド６からなり、かつ末端がモノカルボン酸あるいはモノアミンで１〜７０（ミリ当量／Ｋｇ）封鎖されている共重合ポリアミド成分（Ａ）１００質量部に対して、アパタイト化合物（Ｂ）０．１〜３０質量部、共重合ポリアミド成分（Ａ）以外のポリアミド成分（Ｃ）から一種以上選ばれたポリアミド成分１０〜１０００質量部からなるポリアミド複合体１００質量部に対し、強化フィラー（Ｄ）５〜２５０質量部、ヒンダードフェノール類（Ｅ）０．０１〜５．０質量部、ヒンダードアミン類（Ｆ）０．０１〜５．０質量部を含有し、ヒンダードフェノール類（Ｄ）に対し、ヒンダードアミン類（Ｅ）が１．１〜５倍含有する事を特徴とするポリアミド樹脂組成物。
（２）ポリアミド成分（Ｃ）が、ポリアミド６６またはポリアミド６である事を特徴とする（１）に記載のポリアミド樹脂組成物。
（３）強化フィラー（Ｄ）が、ガラス繊維である事を特徴とする（１）または（２）に記載のポリアミド樹脂組成物。
（４）（１）〜（３）いずれかに記載のポリアミド樹脂組成物から得られることを特徴とする成形品。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月2日(2008.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（I）
【化１】
2007246474.tif 000001
〔式中、Ａは下式
【化２】
2007246474.tif 000002
{式中、
Ｒ1及びＲ2は同一又は異なって、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲン原子、ハロアルキル基、アルキルオキシ基、ハロアルキルオキシ基、シアノ基、ニトロ基を；
Ｒ3及びＲ4は同一又は異なって、水素原子又はアルキル基を示し、又はＲ3及びＲ4は互いに結合してシクロアルキル基を形成し；
Ｒ5は水素原子又はアルキル基を；
Ｒ6は水素原子又はアルキル基を；
Ｒ7はアルキル基、ハロアルキル基又はアリール基を；
Ｑは酸素原子又は硫黄原子を示す。なお、前記基のうち、アルキル基、アリール基は、それぞれ置換基を有していてもよい。}を示し；
ｎは１〜５の整数を；
Ｙは酸素原子、硫黄原子、−ＮＲ8−、−ＣＯＮＲ8−、−ＮＲ8ＣＯ−又はＮＨＣＯＮＲ8−（式中、Ｒ8は水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキルアルキル基、アリールアルキル基、アリールアルケニル基、アリールオキシアルキル基又はヘテロアリールアルキル基を示す。）を；
Ｚはアリール基、ヘテロアリール基、アリールアルキル基、ヘテロアリールアルキル基又はシクロアルキル基を示す。
なお、前記基のうち、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキルアルキル基、アリールアルキル基、アリールアルケニル基、アリールオキシアルキル基又はヘテロアリールアルキル基は、それぞれ置換基を有していてもよい。〕で表されるベンゼン誘導体若しくはその薬剤上許容される塩又はそれらの水和物若しくは溶媒和物。
【請求項２】
請求項１に記載のベンゼン誘導体若しくはその薬学上許容される塩又はそれらの水和物若しくは溶媒和物を有効成分として含有する高脂血症の予防及び／又は治療薬。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月16日(2009.3.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
配列番号１０の配列を有するペプチド。
【請求項２】
配列番号１０の配列を有するペプチドを提示した抗原提示細胞。
【請求項３】
配列番号１０の配列を有するペプチドを含有する癌ワクチン。
【請求項４】
配列番号１０の配列を有するペプチドを提示した抗原提示細胞を含有する癌ワクチン。
【請求項５】
配列番号１０の配列を有するペプチドを提示した抗原提示細胞によって誘導され、ＳＯＸ６を発現する細胞を認識するＴ細胞を含有する癌ワクチン。
【請求項６】
ＳＯＸ６を発現する癌細胞に対する癌ワクチンであることを特徴とする請求項３〜５のいずれかに記載の癌ワクチン。
【請求項７】
グリオーマに対する癌ワクチンであることを特徴とする請求項３〜５のいずれかに記載の癌ワクチン。
【請求項８】
肝癌、肺癌、膵癌、食道癌、メラノーマ、前立腺癌、乳癌、腎癌、または白血病に対する癌ワクチンであることを特徴とする請求項３〜５のいずれかに記載の癌ワクチン。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月9日(2009.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
取付具１７の下端側には、ビール弁４を下方に押し下げるための押下部１７１が設けられている。そして、押下部１７１の上方には、支持突起１７２と支持板１７３が設けられている。押下部１７１、支持突起１７２、支持板１７３がガス弁３を傾斜状態で支持する支持部を構成している。支持板１７３は、板状のばね材からなるものであり、ガス弁３を弾性的に支持する。
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月10日(2009.2.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）ポリイミド前駆体および／またはポリベンゾオキサゾール前駆体、（ｂ）金属化合物粒子、および（ｃ）熱酸発生剤を含有することを特徴とする樹脂組成物。
【請求項２】
（ａ）ポリイミド前駆体およびポリベンゾオキサゾール前駆体の総量１００重量部に対して、（ｂ）金属化合物粒子を５〜５００重量部、および（ｃ）熱酸発生剤を０．１〜３０重量部含有することを特徴とする請求項１記載の樹脂組成物。
【請求項３】
さらに（ｄ）ナフトキノンジアジド化合物を含有することを特徴とする請求項１に記載の樹脂組成物。
【請求項４】
（ａ）ポリイミド前駆体およびポリベンゾオキサゾール前駆体の総量１００重量部に対して、（ｂ）金属化合物粒子を５〜５００重量部、（ｃ）熱酸発生剤を０．１〜３０重量部、および（ｄ）ナフトキノンジアジド化合物を１〜５０重量部含有することを特徴とする請求項３記載の樹脂組成物。
【請求項５】
（ａ）ポリイミド前駆体および／またはポリベンゾオキサゾール前駆体が、一般式（１）で表される構造単位を主成分とすることを特徴とする請求項１〜４いずれか記載の樹脂組成物。
【化１】
2007246651.tif 000001
（式中、Ｒ１は炭素数２以上の２価〜８価の有機基、Ｒ２は炭素数２以上の２価〜６価の有機基、Ｒ３は各々独立に水素または炭素数１〜２０の１価の有機基を示す。ｎは３〜１００００の範囲、ｍは０〜２の整数、ｐおよびｑは０〜４の整数を示す。）
【請求項６】
（ｃ）熱酸発生剤が１２０℃〜４００℃の熱処理によって分解し酸を発生する化合物であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか記載の樹脂組成物。
【請求項７】
少なくとも請求項３〜６のいずれかに記載の樹脂組成物を基材上に塗布し、熱酸発生剤の分解温度未満の温度で乾燥して塗膜を形成する工程、フォトマスクを介して露光する工程、アルカリ現像液で現像する工程をこの順に有するパターンの形成方法。
【請求項８】
請求項７に記載の方法で形成されたパターンを、熱酸発生剤の分解温度以上の温度で加熱して得られる耐熱性樹脂のレリーフパターン。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
市販されている金属化合物粒子としては、酸化スズ−酸化チタン複合粒子の”オプトレイクＴＲ−５０２”、”オプトレイクＴＲ−５０４”、酸化ケイ素−酸化チタン複合粒子の”オプトレイクＴＲ−５０３”、”オプトレイクＴＲ−５１２”、”オプトレイクＴＲ−５１３”、”オプトレイクＴＲ−５１４”、”オプトレイクＴＲ−５１５”、酸化チタン粒子の”オプトレイクＴＲ−５０５”、（以上、商品名、触媒化成工業（株）製）、酸化ジルコニウム粒子（（株）高純度化学研究所製）、酸化スズ−酸化ジルコニウム複合粒子（触媒化成工業（株）製）、酸化スズ粒子（（株）高純度化学研究所製）等が挙げられる。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月2日(2009.3.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明では、以下に示す条件（ａ）又は（ｂ）の少なくとも一方を満たす潤滑油基油（以下、単に「本発明にかかる潤滑油基油」という。）が用いられる。なお、本発明にかかる潤滑油基油は、条件（ａ）又は（ｂ）の少なくとも一方を満たすものであればよいが、条件（ａ）及び条件（ｂ）の双方を満たすことがより好ましい。
（ａ）飽和分を９０質量％以上含有し、且つ該飽和分に占める環状飽和分の割合が１０〜４０質量％であること。
（ｂ）下記式（１）で表される条件を満たすこと。
１．４４０≦ｎ２０−０．００２×ｋｖ１００≦１．４５３    （１）
［式中、ｎ２０は潤滑油基油の２０℃における屈折率を示し、ｋｖ１００は潤滑油基油の１００℃における動粘度（ｍｍ２／ｓ）を示す。］
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月12日(2009.3.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フッ素ゴム１００重量部に対し、平均比表面積２００ｍ２／ｇ以上のシリカ粉末５〜２０重量部と、平均粒径０．１〜２μｍの金属炭酸塩粉末及び／又は金属ケイ酸塩粉末を合計で１〜７０重量部と、酸化亜鉛粉末１〜１５重量部が配合されている電気絶縁組成物。
【請求項２】
上記フッ素ゴムがフッ化ビニリデン系３元共重合体であることを特徴とする請求項１記載の電気絶縁組成物。
【請求項３】
フッ素ゴム１００重量部に対し、平均比表面積２００ｍ２／ｇ以上のシリカ粉末５〜２０重量部が配合されている電気絶縁組成物。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか１項記載の電気絶縁組成物からなる被覆を備えている電線。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記目的を達成するべく、本発明の請求項１によるフッ素ゴム１００重量部に対し、平均比表面積２００ｍ２／ｇ以上のシリカ粉末５〜２０重量部と、平均粒径０．１〜２μｍの金属炭酸塩粉末及び／又は金属ケイ酸塩粉末を合計で１〜７０重量部と、酸化亜鉛粉末１〜１５重量部が配合されていることを特徴とするものである。
又、請求項２による電気絶縁組成物は、上記フッ素ゴムがフッ化ビニリデン系３元共重合体であることを特徴とするものである。
又、請求項３による電気絶縁組成物は、電気絶縁組成物は、フッ素ゴム１００重量部に対し、平均比表面積２００ｍ２／ｇ以上のシリカ粉末５〜２０重量部が配合されていることを特徴とするものである。
又、請求項４による電線は、請求項１乃至請求項３のいずれか１項記載の電気絶縁組成物からなる被覆を備えているものである。
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月18日(2009.5.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
アクリル系共重合体の構成成分である前記単量体混合物は、更に分子内に架橋性官能基を有する単量体を含むことが好ましい。架橋性官能基としては、例えば、ヒドロキシル基、アミド基、アミノ基、カルボキシル基、又は炭素−炭素不飽和結合などを挙げることができる。ヒドロキシル基、アミド基、アミノ基又はカルボキシル基は架橋剤と反応して架橋するものであり、炭素−炭素不飽和結合は、それら相互の付加反応により架橋するものである。分子内に架橋性官能基を有する単量体の例としては、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシブチルなどの（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル；アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミドなどのアクリルアミド類；（メタ）アクリル酸モノメチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸モノエチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸モノメチルアミノプロピル、（メタ）アクリル酸モノエチルアミノプロピルなどの（メタ）アクリル酸モノアルキルアミノアルキル；アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸などのエチレン性不飽和カルボン酸などが挙げることができる。これらの単量体は単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。炭素−炭素不飽和結合を有する基の例としては、（メタ）アクリロイル基が挙げられる。メッシュ状金属箔の腐食を抑制する観点から、架橋性官能基を有する単量体は酸成分を含まないものが好ましく、（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルが特に好ましい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
前記の窒素含有ビニル単量体としては、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、Ｎ−ビニルカプロラクタム、アクリロイルモルホリン、アクリル酸ジメチルアミノエチル、又はアクリロイルピペリジン等を挙げることができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
また、前記のアクリル系共重合体を架橋剤によって架橋することが好ましい。架橋剤としては、例えば、ポリイソシアナート化合物、金属キレート化合物、エポキシ化合物などが挙げられるが、ポリイソシアナート化合物が好ましい。ポリイソシアナート化合物としては、例えば、トリレンジイソシアナートもしくはその水素化物、トリレンジイソシアナートとトリメチロールプロパンとのアダクト体、トリフェニルメタントリイソシアナート、メチレンビス−ジ−フェニルイソシアナートもしくはその水素化物、ヘキサメチレンジイソシアナート、ヘキサメチレンジイソシアナートとトリメチロールプロパンとのアダクト体、キシリレンジイソシアナート、キシレンジイソシアナートとトリメチロールプロパンとのアダクト体、４，４’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアナート、あるいはこれらの重合物のように、分子内に２個以上のイソシアナート基を有するものを用いることができる。架橋剤の使用量は特に限定されないが、通常アクリル系共重合体１００質量部に対し、０．０１〜１０質量部である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
更に、本発明の粘着剤には、近赤外線吸収剤、ネオン光カット剤、染料、又は顔料などを含有させることにより、プラズマディスプレイからの各種光線、例えば、近赤外線又はネオン光の放出を防止ないし軽減することができる。
近赤外線吸収剤の例としては、シアニン系、チオール系、金属錯体系、アゾ化合物、ポリメチン系、ジフェニルメタン系、トリフェニルメタン系、キノン系又はジイモニウム塩系などの色素が挙げられ、プラズマディスプレイから放出される近紫外線の波長に併せて通常２種類以上を使用することができる。ネオン光カット剤としては、例えば、シアニン系、スクアリウム系、アゾメチン系、キサンテン系、又はオキソノール系の化合物を用いることができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
［物性評価］
（１）銅メッシュ積層フィルムの製造
以下の物性評価に用いる電磁波遮蔽フィルムとしての銅メッシュ積層フィルムを以下の方法で製造した。
すなわち、厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム〔東洋紡績(株)製「コスモシャインＡ４１００」〕と、片面を黒化処理した厚み１０μｍの銅箔〔古河サーキットフォイル(株)製、品番：ＢＷ−Ｓ〕とを準備した。ポリウレタン樹脂からなる接着剤〔武田薬品工業(株)製、タケラックＡ３１０（主剤）／タケネートＡ１０（硬化剤）／酢酸エチル＝１２／１／２１の質量比で混合〕にて、前記銅箔の黒化処理面とは反対側の表面と前記ポリエチレンテレフタレートフィルムとを貼合し、ポリエチレンテレフタレートフィルム／接着剤層／銅箔の構成の積層体とした。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月13日(2009.1.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）高分子量スチレン系ブロックコポリマーを少なくとも含有する樹脂組成物１００重量部に対して、（Ｂ）無機系充填剤を１０〜２００重量部含有することを特徴とするホットメルト組成物。
【請求項２】
接着後に接着層を切断および／または切削する被着体に対して使用されることを特徴とする、請求項１記載のホットメルト組成物からなる接着剤組成物。
【請求項３】
請求項１記載のホットメルト組成物を用いて被着体を接着後、接着層を切断および／または切削することを特徴とする加工方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
（Ａ）高分子量スチレン系ブロックコポリマーを少なくとも含有する樹脂組成物１００重量部に対して、（Ｂ）無機系充填剤を１０〜２００重量部含有することを特徴とするホットメルト組成物により前記課題を解決できた。
前記ホットメルト組成物によって切削加工時の刃への付着を抑制できた機構は明らかではないが、摩擦熱による高温下でのホットメルト組成物の性状特性、刃への濡れ性、または一旦刃に付着した場合の離型性などを改良できたためだと推察される。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月13日(2009.1.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
次に、 図１に示す摺動樹脂組成物１の製造方法について図２を参照して説明する。図２において、まず、図２（Ａ）に示すように、ＰＴＦＥ２０〜４０容量％と、比重７以上のＰＴＦＥ移着膜形成効果のある粉末状の金属１０〜３０容量％と、残部がＰＡＩ樹脂を有機溶剤で溶かして各充填剤が均一に混合された所望の粘度に調整したワニス状の樹脂組成物層３をＰＥＴフィルム４上に塗工する。図示の場合、ワニス状にした樹脂組成物層３は、約１ｍｍ程度の厚さで塗工される。また、ワニスの粘度が１〜２０Ｐａ・ｓの範囲となるように無機カルシウムを５〜２０容量％を添加してもよい。その後、図２（Ｂ）に示すように、１００〜１５０℃の温度で２０〜６０分乾燥して有機溶剤を揮発させると共に比重７以上の金属が自然に沈降して金属濃度に勾配ができるように乾燥させて摺動樹脂組成物１を得る。この得られた摺動樹脂組成物の厚みは、０．３ｍｍである。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月1日(2009.9.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも、モノアゾ系着色剤及び該モノアゾ系着色剤に対して０．１〜２０質量％のロジン化合物を含有する顔料組成物と、結着樹脂と、ワックスとを含有するトナーであって、
２３℃において、前記トナーをｎ−ヘキサン中に１５ｍｇ／ｃｍ３の濃度で分散させ、該トナー中のワックスを１分間抽出して得られる抽出液中のワックス濃度が、０．０８０〜０．５００ｍｇ／ｃｍ３の範囲であることを特徴とするトナー。
【請求項２】
前記モノアゾ系着色剤が下記構造式（１）で示されるモノアゾ系マゼンタ着色剤を含むことを特徴とする請求項１に記載のトナー。
【化１】
2006235302.tif 000001
【請求項３】
前記モノアゾ系着色剤が、少なくとも前記構造式（１）で示される２種類以上のモノア
ゾ系マゼンタ着色剤を含有することを特徴とする請求項２に記載のトナー。
【請求項４】
前記顔料組成物が、前記構造式（１）で示される２種類以上のモノアゾ系マゼンタ着色剤を含有する固溶体顔料組成物であることを特徴とする請求項２又は３に記載のトナー。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
（３）前記モノアゾ系着色剤が、少なくとも前記構造式（１）で示される２種類以上のモノアゾ系マゼンタ着色剤を含有することを特徴とする（２）のトナー。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
（４）前記顔料組成物が、前記構造式（１）で示される２種類以上のモノアゾ系マゼンタ着色剤を含有する固溶体顔料組成物であることを特徴とする（２）又は（３）のトナー。
【手続補正書】
【提出日】平成21年8月11日(2009.8.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】マスクブランク用透明基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、露光用マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
主表面が精密研磨された透明基板を準備する準備工程と、
露光装置のマスクステージに当接する上記透明基板の上記主表面における所定領域内に設けられた複数の測定点の基準面からの高さ情報を、当該主表面の表面形態情報として取得する表面形態情報取得工程と、
この表面形態情報取得工程で得た表面形態情報と、当該透明基板の上記主表面に当接する領域を含む上記マスクステージの形状情報とに基づき、当該透明基板を上記露光装置にセットしたときにおける複数の上記測定点の基準面からの高さ情報をシミュレーションして得るシミュレーション工程と、
このシミュレーション工程により得た基準面からの高さ情報に基づき、露光用マスクの転写領域を含む所定領域における最大値と最小値との差を求めて、露光装置に当該透明基板をセットしたときの当該透明基板の平坦度を算出する平坦度算出工程と、
この平坦度算出工程で算出した平坦度が仕様に適合するか否かを判定する判定工程と、を有することを特徴とするマスクブランク用透明基板の製造方法。
【請求項２】
上記表面形態情報取得工程で表面形態情報を取得する主表面の所定領域は、露光装置のマスクステージが上記主表面に当接する領域を含むように設定したものであることを特徴とする請求項１に記載のマスクブランク用透明基板の製造方法。
【請求項３】
上記表面形態情報取得工程で表面形態情報を取得する主表面の所定領域は、透明基板の面取面から０ｍｍを超え３ｍｍ以下の周縁部領域を除いた領域とすることを特徴とする請求項２に記載のマスクブランク用透明基板の製造方法。
【請求項４】
主表面が精密研磨された透明基板を準備する準備工程と、
露光装置のマスクステージに当接する上記透明基板の上記主表面における所定領域内に設けられた複数の測定点の基準面からの高さ情報を、当該主表面の表面形態情報として取得する表面形態情報取得工程と、
この表面形態情報取得工程で得た表面形態情報と、当該透明基板の上記主表面に当接する領域を含む上記マスクステージの形状情報とに基づき、当該透明基板を上記露光装置にセットしたときにおける複数の上記測定点の基準面からの高さ情報をシミュレーションして得るシミュレーション工程と、
このシミュレーション工程により得た基準面からの高さ情報に基づき、露光用マスクの転写領域を含む所定領域における最大値と最小値との差を求めて、露光装置に当該透明基板をセットしたときの当該透明基板の平坦度を算出する平坦度算出工程と、
この平坦度算出工程で算出した平坦度が仕様に適合するか否かを判定する判定工程と、
上記主表面の平坦度が仕様に適合すると判定された上記透明基板の当該主表面上にマスクパターンとなる薄膜を形成する薄膜形成工程と、を有することを特徴とするマスクブランクの製造方法。
【請求項５】
上記表面形態情報取得工程で表面形態情報を取得する主表面の所定領域は、露光装置のマスクステージが上記主表面に当接する領域を含むように設定したものであることを特徴とする請求項４に記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項６】
上記表面形態情報取得工程で表面形態情報を取得する主表面の所定領域は、透明基板の面取面から０ｍｍを超え３ｍｍ以下の周縁部領域を除いた領域とすることを特徴とする請求項５に記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項７】
上記薄膜形成工程の実施時および／または実施後に、薄膜の膜応力を低減させる膜応力制御工程を実施することを特徴とする請求項４乃至６のいずれかに記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項８】
上記膜応力制御工程は、上薄膜を１５０℃以上に加熱処理することで実施することを特徴とする請求項７に記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項９】
上記透明基板における薄膜が形成される側の主表面の表面形状は、この主表面の高さが当該主表面の中心領域から周縁部へ向かって漸次低くなる形状であることを特徴とする請求項４乃至８のいずれかに記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項１０】
請求項４乃至９のいずれかに記載のマスクブランクの製造方法によって得られたマスクブランクにおける薄膜をパターニングして透明基板上に薄膜パターンを形成して露光用マスクを製造することを特徴とする露光用マスクの製造方法。
【請求項１１】
請求項１０に記載の露光用マスクによって得られた露光用マスクを露光装置のマスクステージにセットし、半導体基板に形成されているレジスト膜に前記露光用マスクのマスクパターンを転写することにより、半導体デバイスを製造することを特徴とする半導体デバイスの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月19日(2009.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】発光装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
走査線と、
データ線と、
第１の電源線と、
第２の電源線と、
第３の電源線と、
前記第１の電源線に第１の電極が電気的に接続された第１の発光素子と、
前記第２の電源線に第１の電極が電気的に接続され、前記第１の発光素子が有する第２の電極と第２の電極が電気的に接続された第２の発光素子と、
前記走査線にゲートが電気的に接続され、ソースまたはドレインの一方が前記データ線に接続された第１のトランジスタと、
前記第１のトランジスタのソースまたはドレインの他方とゲートが電気的に接続され、前記第３の電源線にソースまたはドレインの一方が電気的に接続され、他方が前記第１の発光素子の第２の電極及び前記第２の発光素子の第２の電極に電気的に接続された第２のトランジスタと、を有することを特徴とする発光装置。
【請求項２】
走査線と、
データ線と、
第１の電源線と、
第２の電源線と、
前記第１の電源線に第１の電極が電気的に接続された第１の発光素子と、
前記第２の電源線に第１の電極が電気的に接続された第２の発光素子と、
前記走査線にゲートが電気的に接続され、ソースまたはドレインの一方が前記データ線に電気的に接続された第１のトランジスタと、
前記第１のトランジスタのソースまたはドレインの他方とゲートが電気的に接続され、前記第１の電源線及び前記第１の発光素子が有する第１の電極にソースまたはドレインの一方が電気的に接続され、他方が前記第２の発光素子の第２の電極に電気的に接続された第２のトランジスタと、
前記第１のトランジスタのソースまたはドレインの他方とゲートが電気的に接続され、前記第２の電源線及び前記第２の発光素子にソースまたはドレインの一方が電気的に接続され、他方が前記第１の発光素子の第２の電極に電気的に接続された第３のトランジスタと、を有することを特徴とする発光装置。
【請求項３】
第１の走査線と、
第２の走査線と、
データ線と、
第１の電源線と、
第２の電源線と、
前記第１の電源線に第１の電極が電気的に接続された第１の発光素子と、
前記第２の電源線に第１の電極が電気的に接続された第２の発光素子と、
前記走査線にゲートが電気的に接続され、ソースまたはドレインの一方が前記データ線に電気的に接続された第１のトランジスタと、
前記第１のトランジスタのソースまたはドレインの他方とゲートが電気的に接続され、前記第１の電源線及び前記第１の発光素子が有する第１の電極にソースまたはドレインの一方が電気的に接続され、他方が前記第２の発光素子の第２の電極に電気的に接続された第２のトランジスタと、
前記第１のトランジスタのソースまたはドレインの他方とゲートが電気的に接続され、前記第２の電源線及び前記第２の発光素子にソースまたはドレインの一方が電気的に接続され、他方が前記第１の発光素子の第２の電極に電気的に接続された第３のトランジスタと、
前記第２のトランジスタのゲートに第１の電極が電気的に接続され、第２の電極に前記第２のトランジスタのソースまたはドレインの一方が電気的に接続された第１の容量素子と、
前記第３のトランジスタのゲートに第１の電極が電気的に接続され、第２の電極に前記第３のトランジスタのソースまたはドレインの一方が電気的に接続された第２の容量素子と、
前記第２の走査線と、前記第１のトランジスタのソースまたはドレインの他方とに電気的に接続され、前記第１の容量素子または前記第２の容量素子に保持された前記電圧を消去する消去用素子を有することを特徴とする発光装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、前記第１の発光素子または前記第２の発光素子のいずれか一方に順バイアス電圧が印加されると共に、他方には、逆バイアス電圧が印加されること特徴とする発光装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月28日(2009.1.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のソースデータフレームからホログラフィックステレオグラムを生成する画像処理方法において、
上記複数のソースデータフレームを複数のセクションに分割するステップと、
上記複数のセクションをマッピングし、複数のプリディストーション画像を生成するステップと、
上記複数のプリディストーション画像の飽和のばらつきを補償するステップと、
上記複数のプリディストーション画像を圧縮し、複数のホログラフィック要素を生成するステップと、
上記複数のホログラフィック要素をホログラフィック記録媒体に記録し、上記ホログラフィックステレオグラムを生成するステップとを有する画像処理方法。
【請求項２】
上記複数のプリディストーション画像の１つ以上の画素に補償アルゴリズムを適用することによって、該複数のプリディストーション画像を補償するステップを更に有する請求項１記載の画像処理方法。
【請求項３】
上記補償アルゴリズムは、上記複数のホログラフィック要素が上記ホログラフィック記録媒体に記録されるとき、上記複数のプリディストーション画像の１つ以上の画素を調整し、後の飽和度のばらつきを少なくとも部分的に補償することを特徴とする請求項２記載の画像処理方法。
【請求項４】
上記複数のプリディストーション画像の１つ以上の画素に１つ以上の減衰率を適用することを特徴とする請求項２又は３記載の画像処理方法。
【請求項５】
上記画素に適用される減衰率は、上記ホログラフィック記録媒体に記録される複数のホログラフィック要素のゼロではない画素値の予測される最低のレベルに画素値を小さくすることを特徴とする請求項４記載の画像処理方法。
【請求項６】
第２のホログラフィックステレオグラムの複数のプリディストーション画像の複数の画素の平均画素値と、該第２のホログラフィックステレオグラムから再生された画像の明度との間に基準関係を確立するステップを更に有する請求項１乃至５いずれか１項記載の画像処理方法。
【請求項７】
上記基準関係は、色グラデーションを有する一連の基準ソースデータフレームから決定されることを特徴とする請求項６記載の画像処理方法。
【請求項８】
上記基準関係は、
（ａ）上記色グラデーションを有する一連の基準ソースデータフレームを生成するステップと、
（ｂ）上記一連の基準ソースデータフレームを分割及びマッピングし、一組のプリディストーション画像を生成するステップと、
（ｃ）上記一組のプリディストーション画像を圧縮し、一組のホログラフィック要素を生成するステップと、
（ｄ）上記一組のホログラフィック要素を第２のホログラフィック記録媒体に記録し、第２のホログラフィックステレオグラムを生成するステップと、
（ｅ）上記第２のホログラフィックステレオグラムから再生された画像の明度を測定するステップと、
（ｆ）上記第２のホログラフィックステレオグラムから再生された画像の明度に対して、上記一組のプリディストーション画像の画素の平均画素値のグラフをプロットするステップとによって確立されることを特徴とする請求項６記載の画像処理方法。
【請求項９】
上記第２のホログラフィック記録媒体は、上記ホログラフィック記録媒体と同じ種類の媒体であることを特徴とする請求項８記載の画像処理方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月28日(2008.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】表示装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１のトランジスタと、前記第１のトランジスタと極性が異なる第２のトランジスタと、発光素子と、容量素子と、を画素に有する表示装置であって、
前記第１のトランジスタにおける、ゲートは前記容量素子の一方の電極と、ソースまたはドレインの一方は第１の配線と、ソースまたはドレインの他方は前記発光素子の一方の電極と、それぞれ電気的に接続され、
前記第２のトランジスタにおける、ゲートは前記第１のトランジスタのゲートと、ソースまたはドレインの一方は前記発光素子の一方の電極と、ソースまたはドレインの他方は前記発光素子の他方の電極と、それぞれ電気的に接続され、
前記容量素子における、他方の電極は前記第１の配線と電気的に接続されていることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記表示装置は、第３のトランジスタを有し、
前記第３のトランジスタにおける、ゲートは第２の配線と、ソースまたはドレインの一方は前記第１および第２のトランジスタのゲートと、ソースまたはドレインの他方は第３の配線と、それぞれ電気的に接続されていることを特徴とする表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月28日(2008.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電極及び電界発光層を有する発光素子と、
ソース、ドレイン、及びチャネル形成領域を含む活性層を有するトランジスタと、
前記トランジスタのソースまたはドレインの一方に電気的に接続された電源線と、
前記発光素子の電極と、前記トランジスタのソースまたはドレインの他方とを電気的に接続する配線とを有し、
前記電極は、前記配線と電気的に接続される領域の近傍に、前記配線と電気的に接続される領域に比較して幅が細い領域を有することを特徴とする表示装置。
【請求項２】
請求項１において、前記電極の幅が細い領域の幅は３μｍ以下であることを特徴とする表示装置。
【請求項３】
請求項１または２において、前記電極の幅が細い領域は、当該電極において最も幅が細いことを特徴とする表示装置。
【請求項４】
電極及び電界発光層を有する発光素子と、
ソース、ドレイン、及びチャネル形成領域を含む活性層を有するトランジスタと、
前記トランジスタのソースまたはドレインの一方に電気的に接続された電源線と、
前記発光素子の電極と、前記トランジスタのソースまたはドレインの他方とを電気的に接続する配線とを有し、
前記配線は、前記電極と電気的に接続される第１の領域と、前記トランジスタのソースまたはドレインの他方と電気的に接続される第２の領域と、前記第１の領域と前記第２の領域の間に形成された第３の領域とを有し、
前記第３の領域は、前記第１の領域及び前記第２の領域に比較して幅が細いことを特徴とする表示装置。
【請求項５】
請求項４において、前記第３の領域の幅は３μｍ以下であることを特徴とする表示装置。
【請求項６】
電極及び電界発光層を有する発光素子と、
ソース、ドレイン、及びチャネル形成領域を含む活性層を有するトランジスタと、
前記トランジスタのソースまたはドレインの一方に電気的に接続された電源線と、
前記発光素子の電極と、前記トランジスタのソースまたはドレインの他方とを電気的に接続する配線と、
ゲート配線とを有し、
前記活性層は、前記配線と重なる第１の領域と、前記ゲート配線と重なる第２の領域と、前記電源線と重なる第３の領域と、前記配線、前記ゲート配線、及び前記電源線に重ならない第４の領域とを有し、
前記第４の領域は、前記第１乃至第３の領域に比較して幅が細いことを特徴とする表示装置。
【請求項７】
請求項６において、前記第４の領域の幅は３μｍ以下であることを特徴とする表示装置。
【請求項８】
電極及び電界発光層を有する発光素子と、
ソース、ドレイン、及びチャネル形成領域を含む活性層を有するトランジスタと、
前記トランジスタのソースまたはドレインの一方に電気的に接続された電源線と、
前記発光素子の電極と、前記トランジスタのソースまたはドレインの他方とを電気的に接続する配線とを有し、
前記電源線は、前記トランジスタのソースまたはドレインの一方と電気的に接続される領域の近傍に、前記トランジスタのソースまたはドレインの一方と電気的に接続される領域に比較して幅が細い領域を有することを特徴とする表示装置。
【請求項９】
請求項８において、前記電源線の幅が細い領域の幅は３μｍ以下であることを特徴とする表示装置。
【請求項１０】
請求項８または９において、前記電源線の幅が細い領域は、当該電源線において最も幅が細いことを特徴とする表示装置。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれか一において、前記トランジスタの活性層は、非晶質半導体膜または結晶性半導体膜であることを特徴とする表示装置。
【請求項１２】
請求項１乃至１１のいずれか一において、前記トランジスタはトップゲート型またはボトムゲート型であることを特徴とする表示装置。
【請求項１３】
請求項１乃至１２のいずれか一に記載の表示装置は、エレクトロルミネッセンス表示装置であることを特徴とする表示装置。
【請求項１４】
請求項１乃至１３のいずれか一に記載の表示装置が組み込まれたことを特徴とする電子機器。
【請求項１５】
請求項１４において、前記電子機器は、テレビジョン装置、ビデオカメラ、デジタルカメラ、ナビゲーションシステム、音響再生装置、コンピュータ、ゲーム機器、携帯情報端末、携帯電話機、電子書籍、画像再生装置のいずれか一であることを特徴とする電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月27日(2009.7.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
結着樹脂、着色剤及び離型剤を少なくとも含有するトナー粒子を有するトナーであって、
該トナーの損失正接（ｔａｎδ）が７０℃以上１１０℃未満に極小値１及び極大値１を有し、１４０℃以上２００℃未満に極大値２を有し、
該トナーの１４０℃における損失弾性率Ｇ”（１４０℃）が、
１．０×１０4ｄＮ／ｍ2≦Ｇ”（１４０℃）≦２．０×１０5ｄＮ／ｍ2
であり、
該結着樹脂の主たる成分がビニル系共重合体であることを特徴とするトナー。
【請求項２】
前記トナーの損失正接に関して、極小値１となる温度は極大値１となる温度よりも高く、極小値１は８０℃以上１１０℃未満の温度範囲にあり、極大値１は７０℃以上１００℃未満の温度範囲にあることを特徴とする請求項１に記載のトナー。
【請求項３】
前記トナーの平均円形度（Ｓ）が、
０．９６０≦Ｓ≦０．９９５
であることを特徴とする請求項１又は２に記載のトナー。
【請求項４】
前記結着樹脂１００質量部に対する前記離型剤の含有量（Ａ）が、
２質量部≦Ａ≦２０質量部
であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載のトナー。
【請求項５】
前記トナー粒子が水中で形成されることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載のトナー。
【請求項６】
外部より電圧を印加された帯電部材を用いて静電潜像担持体を帯電する帯電工程；帯電された静電潜像担持体に静電潜像を形成する潜像形成工程；トナー規制部材によってトナー担持体上のトナー層を規制するトナー層形成工程；トナー担持体の表面に担持されているトナー層によって静電潜像を現像してトナー像を静電潜像担持体上に形成する現像工程；トナー像を中間転写体を介して、あるいは介さずに転写材に転写する転写工程；転写材上のトナー像を定着する定着工程を少なくとも有する画像形成方法であって、
該トナーは結着樹脂、着色剤及び離型剤を少なくとも含有するトナー粒子を有し、
該トナーの損失正接（ｔａｎδ）が７０℃以上１１０℃未満に極小値１および極大値１を有し、１４０℃以上２００℃未満に極大値２を有し、
該トナーの１４０℃における損失弾性率Ｇ”（１４０℃）が、
１．０×１０4ｄＮ／ｍ2≦Ｇ”（１４０℃）≦２．０×１０5ｄＮ／ｍ2
であり、
該結着樹脂の主たる成分がビニル系共重合体であることを特徴とする画像形成方法。
【請求項７】
前記トナーが請求項２乃至５のいずれかに記載のトナーであることを特徴とする請求項６に記載の画像形成方法。
【請求項８】
トナーを用いた画像形成方法に用いられるトナー及び該トナーを収容しているトナー容器を有するプロセスカートリッジであって、
該トナーは結着樹脂、着色剤及び離型剤を少なくとも含有するトナー粒子を有し、
該トナーの損失正接（ｔａｎδ）が７０℃以上１１０℃未満に極小値１および極大値１を有し、１４０℃以上２００℃未満に極大値２を有し、
該トナーの１４０℃における損失弾性率Ｇ”（１４０℃）が、
１．０×１０4ｄＮ／ｍ2≦Ｇ”（１４０℃）≦２．０×１０5ｄＮ／ｍ2
であり、
該結着樹脂の主たる成分がビニル系共重合体であることを特徴とするプロセスカートリッジ。
【請求項９】
前記トナーが請求項２乃至５のいずれかに記載のトナーであることを特徴とする請求項８に記載のプロセスカートリッジ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本出願に係る発明の目的は、異なる種類の転写材を用いた場合でも定着速度および定着温度を変更すること無く、グロスを好適な範囲に維持した画像が得られるトナー、及び該トナーを用いる画像形成方法及び該トナー及び該トナーを収容しているトナー容器を有するプロセスカートリッジを提供することにある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１２】
図３は、本発明の画像形成方法を実施するトナー及び該トナーを収容しているトナー容器を有するプロセスカートリッジおよび現像装置の一例の概略構成図であり、図３において、１０は静電潜像担持体（感光体ドラム）１に接触して直接帯電を行う一次帯電部材である帯電ローラー、１１〜１３はバイアス電源、１５は紙などの転写材、１６は転写部材、１７は定着用加圧ローラー、１８は定着用加熱ローラー、１９はクリーナーであり、図２と同じ部材には同じ符号を付した。