【手続補正書】
【提出日】平成25年10月23日(2013.10.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体サンプル内の分析物を検出するための方法であって、
ａ）測定領域及び参照領域を設けること、を含み、前記測定領域には前記分析物を結合するための受容体が与えられ、
前記方法は更に、
ｂ）前記測定領域及び前記参照領域に沿って進行するように、少なくとも１つの光ビームを設けること、
ｃ）少なくとも前記測定領域内に前記流体サンプルを提供すること、
ｄ）前記測定領域及び前記参照領域に沿って進行した後の前記少なくとも１つの光ビームによって提供される光パターンを、検出器によって検出すること、
ｅ）前記検出された光パターンから前記流体サンプル内の前記分析物の存在を導出すること、を含み、
前記ｃ）の前に、遮断流体が、前記測定領域及び前記参照領域に沿って提供される、流体サンプル内の分析物を検出するための方法。
【請求項２】
前記流体サンプルは、前記測定領域及び前記参照領域内に提供される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記測定領域及び前記参照領域に沿って進行した後の前記少なくとも１つの光ビームによって提供される参照光パターンを、前記検出器によって、前記ｃ）の前に検出することを含み、
前記ｄ）は、少なくとも前記測定領域内への前記流体サンプルの提供中又は提供後に少なくとも１回実施され、
前記ｅ）は、
前記参照光パターンの特性を、前記ｄ）で検出された前記光パターンの前記特性と比較し、該比較から前記分析物の存在を得ることを含む、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記光パターン及び前記参照光パターンの前記特性は、前記光パターンの空間周波数スペクトル内に周波数成分の位相を含み、該周波数成分は、前記測定領域に沿って進行した前記少なくとも１つの光ビームと前記参照領域に沿って進行した前記少なくとも１つの光ビームとの間の干渉からのものである、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
第２の参照領域が設けられ、
前記ｄ）は、前記参照領域と前記第２の参照領域との間の偏差を測定することを更に含み、
前記ｅ）は、前記参照領域と前記第２の参照領域との間の、前記ｄ）で測定された前記偏差から、乱れを推定し、該推定された乱れについて前記分析物の存在に関する前記情報を補正することを更に含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記ｃ）は、少なくとも前記第２の参照領域に沿って参照流体を提供することを更に含む請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記乱れは、前記測定領域と前記参照領域との間のドリフトを含み、
前記ｃ）の前に、第１のドリフトが、前記測定領域と前記参照領域との間で測定され、第２のドリフトが、前記参照領域と前記第２の参照領域との間で測定され、ドリフト関係が、前記第１のドリフトと前記第２のドリフトとの間で確定され、
前記測定領域と前記参照領域との間の前記ドリフトは、前記確定されたドリフト関係、及び前記参照領域と前記第２の参照領域との間の、前記ｄ）で測定された前記偏差から推定される、請求項５又は６に記載の方法。
【請求項８】
第３の参照領域が設けられ、
前記ｄ）は、前記第２の参照領域と前記第３の参照領域との間の偏差を測定することを更に含み、
ｅ）は、前記第２の参照領域と前記第３の参照領域との間の、前記ｄ）で測定された前記偏差から、更なる乱れを推定し、該推定された乱れについて前記参照領域と前記第２の参照領域との間の前記偏差を補正することを更に含む、請求項５〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
前記更なる乱れは、非特異的結合の効果を含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
第４の参照領域が設けられ、
前記ｄ）は、前記第３の参照領域と前記第４の参照領域との間の偏差を測定することを更に含み、
前記ｅ）は、前記第３の参照領域と前記第４の参照領域との間の、前記ｄ）で測定された前記偏差から、なお更なる乱れを推定し、該推定された乱れについて前記参照領域と前記第２の参照領域との間及び前記第２の参照領域と前記第３の参照領域との間の前記偏差を補正することを更に含む、請求項８又は９に記載の方法。
【請求項１１】
前記なお更なる乱れは、前記サンプル溶液と前記遮断流体及び／又は参照流体との間のバルク効果を含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記ｅ）は、測定曲線の初期傾斜を確定し、該確定された初期傾斜から前記分析物の存在を導出することを含む、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
前記測定曲線の前記初期傾斜は、該初期傾斜を異なる分析物濃度に関連付ける所定の較正データと比較される、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
除去プロセスによって前記受容体層から前記分析物の少なくとも一部を除去する更なるステップを含み、前記光パターンは、前記除去の前及び後に検出される、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
参照流体が、前記参照領域に沿って付着され、前記除去プロセスは、前記参照領域に沿って更に実施される、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記参照流体は、前記第２の参照領域に沿って更に付着され、前記除去プロセスは、前記第２の参照領域に沿って更に実施され、前記ｅ）は、前記参照領域と前記第２の参照領域との間で測定されたドリフトから前記測定領域と前記参照領域との間のドリフトを導出し、前記測定領域と前記参照領域との間の前記導出されたドリフトについて前記分析物の存在に関する情報を補正することを含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記光ビームは、少なくとも２つのスペクトル的に別個の波長範囲を含み、前記検出は、該波長範囲のそれぞれについて実施される、請求項１から１６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１８】
３つの別個の波長範囲が光ビームに含まれ、前記ｅ）は、前記波長のそれぞれについて、前記検出された光パターンから分析物結合、非特異的結合、及びバルク屈折率を確定することを含む、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記光ビームは、スーパーコンティニウム波長範囲を含み、前記ｅ）は、少なくとも前記測定領域のセンサー表面からナノメートル距離の、ごく近傍で起こる監視プロセスを含む、請求項１〜１８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２０】
少なくとも前記ｄ）は、前記光ビームの異なる偏光状態を利用して繰返され、前記検出は、各偏光状態について実施される、請求項１〜１９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２１】
前記測定領域及び前記参照領域から光の散乱を検出し、該検出された光散乱をｅ）において前記分析物の存在を導出するために、前記検出された光パターンと組合せることを更に含む、請求項１〜２０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２２】
前記測定領域及び前記参照領域を通って進行する光の空間強度分布を検出し、前記検出された局所強度分布を、前記ｅ）において前記分析物の存在を導出するために、前記検出された光パターンと組合せることを更に含む、請求項１〜２１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２３】
前記測定領域及び前記参照領域は、平面構造上に又は平面構造内に設けられる、請求項１から２２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２４】
前記流体サンプル及び／若しくは前記参照流体及び／若しくは前記遮断流体又は他の流体は、流体供給部によって前記測定領域及び前記参照領域の少なくとも一方の中に提供され、前記方法は、ホルダーによって前記平面構造及び前記流体供給部を保持し、該ホルダーによって該流体供給部を少なくとも前記測定領域に整列させることを含む、請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
少なくとも２つの測定領域が設けられ、該測定領域にはそれぞれ、それぞれの分析物を結合させるためのそれぞれの受容体が与えられる、請求項１〜２４のいずれか１項に記載の方法。