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【手続補正書】
【提出日】平成25年5月29日(2013.5.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発酵液に異なる酵素製剤を順に添加し、保温・酵素加水分解する発酵液の酵素処理ステップ（1）と、
ステップ（1）酵素処理後の発酵液にセルラーゼ、リゾチーム及びプロテアーゼを順に添加し、固体・液体を分離する発酵液の凝集ステップ（2）と、
ステップ（2）に得られた凝集生成物を改めて溶解し、かつ高温アルカリによって脱アシル基を処理する脱アシル基処理ステップ（3）と、
ステップ（3）に得られた脱アシル基溶液を濾過処理し、清澄化低次アシル基ジェランゴム溶液を得る脱アシル溶液の清澄化処理ステップ（4）と、
ステップ（4）に得られたジェランゴム脱アシル基清澄化溶液に、アルカリ金属塩を添加することによりゲルを形成し、かつ圧搾・脱水する清澄化脱アシル基ジェランゴム溶液脱水処理ステップ（5）と、
ステップ（5）に得られたジェランゴムを小さな粒子に細かく刻んで、イオン交換工程によりジェランゴムにおける二価陽イオンを大分除去し、処理後の溶液を圧搾して脱水し、脱水後のジェランゴムを低級アルコールに浸漬させて撹拌・濾過するイオン交換・脱色処理ステップ（6）と、
ステップ（6）に得られたジェランゴム固体材料を乾燥かつ粉砕し、ペレット化する乾燥・粉砕ステップ（7）と、を含むことを特徴とする高溶解性を有する低次アシル基ジェランゴムのポスト抽出方法。
【請求項２】
セルラーゼの濃度が500 ppm〜2000ppmであり、酵素加水分解の温度が40℃〜50℃であり、酵素加水分解の時間が4h〜8hであり、リゾチームの濃度が50 ppm〜300ppmであり、酵素加水分解の温度が30℃〜40℃であり、酵素加水分解の時間が2h〜4hであり、プロテアーゼの濃度が100 ppm〜1000ppmであり、酵素加水分解の温度が30℃〜40℃であり、酵素加水分解の時間が1h〜5hであることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
セルラーゼの濃度が1000ppm〜1500ppmであり、酵素加水分解の温度が43℃〜45℃であり、酵素加水分解の時間が5h〜6hであり、リゾチームの濃度が100ppm〜200ppmであり、酵素加水分解の温度が35℃〜37℃であり、酵素加水分解時間が2.5h〜3.5hであり、プロテアーゼの濃度が300ppm〜500ppmであり、酵素加水分解の温度が30℃〜35℃であり、酵素加水分解の時間が2h〜3hであることを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】
プロテアーゼが中性プロテアーゼ又はアルカリ性プロテアーゼであることを特徴とする請求項２又は３に記載の方法。
【請求項５】
ステップ（2）に用いられる酸／キレート剤／低級アルコール混合体系における酸が無機酸又は有機酸であることを特徴とする請求項1に記載の方法。
【請求項６】
酸が無機酸であることを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
無機酸が塩酸、硫酸、リン酸から選ばれた1種又は2種以上であることを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項８】
酸が塩酸であることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】
有機酸がギ酸、酢酸、クエン酸、リンゴ酸、酒石酸から選ばれた1種又は2種以上であることを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項１０】
用いられる酸／キレート剤／低級アルコール混合体系におけるキレート剤がクエン酸ナトリウム、クエン酸カリウム、ヘキサメタリン酸ソーダ、メタリン酸カリウム、ピロリン酸ナトリウム、トリポリリン酸カリウムから選ばれた1種又は2種以上であることを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項１１】
前記キレート剤がクエン酸ナトリウム又はヘキサメタリン酸ソーダであることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記キレート剤がクエン酸ナトリウムであることを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
用いられる酸／キレート剤／低級アルコール混合体系における低級アルコールがエタノール、イソプロパノール、ブタノールから選ばれた1種又は2種以上であることを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項１４】
用いられる低級アルコールがエタノール及びイソプロパノールから選ばれることを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記脱アシル基処理ステップ（3）がステップ（2）に製造し得られた凝集生成物を分解した後、その10倍〜20倍の重量の脱イオン水に溶解し、温度を80℃〜90℃に上げ、十分に撹拌して完全に溶解するステップ（3.1）と、
ステップ（3.1）に得られたジェランゴム溶液にアルカリを添加し、pH値を9.5〜11の範囲に調整し、温度を85℃〜90℃の範囲に、時間を10h〜15hに保つステップ（3.2）と、
ステップ（3.2）に得られた脱アシル基ジェランゴム溶液に酸を添加し、pH値を中性に調整するステップ（3.3）と、を備えることを特徴とする請求項1に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月29日(2013.5.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発酵液の温度を80℃〜90℃に上げ、酸化防止剤を添加するとともに、アルカリを添加してpH値を調整し、アシル基を脱する発酵液の脱アシル基処理ステップ（1）と、
ステップ（1）の発酵液に他種酵素製剤を添加することにより、発酵液における不溶性の不純物と菌糸体断片をできるだけ除去する発酵液の酵素処理ステップ（2）と、
ステップ（2）酵素処理後の発酵液に、水溶性のアルカリ金属を添加して凝集してからpH値をアルカリ性に調整し、固体・液体を分離することにより、発酵液の水及び色素を大分除去し、ジェランゴム粗生成物を得る発酵液の凝集ステップ（3）と、
ステップ（3）に得られたジェランゴム粗生成物を清澄化処理し、清澄化された低次アシル基ジェランゴム溶液を得るジェランゴム清澄化処理ステップ（4）と、
ステップ（4）に得られたジェランゴム脱アシル基清澄化溶液に、アルカリ金属イオンを添加することによってゲルを生成し、固体・液体を分離する脱アシル基ジェランゴム溶液脱水処理ステップ（5）と、
ステップ（5）に得られたジェランゴムを小さな粒子に細かく刻んで、キレート工程によりジェランゴムにおける二価陽イオン又は多価陽イオンを大分除去し、徹底的な脱色効果を達するために、少し圧搾乾燥した後のジェランゴムを低級アルコールに浸漬させて撹拌・濾過するキレート及び脱色処理ステップ（6）と、
ステップ（6）に得られたジェランゴムを圧搾乾燥し、固体材料を乾燥かつ粉砕し、高透明度低次アシル基清型ジェランゴム製品を得る乾燥粉砕ステップ（7）と、を含むことを特徴とする低次アシル基ジェランゴムのポスト抽出方法。
【請求項２】
発酵液の温度を80℃〜90℃に上げ、酸化防止剤を添加するとともに、アルカリを添加してpH値を調整し、アシル基を脱する発酵液の脱アシル基処理ステップ（1）と、
ステップ（1）の発酵液に他種酵素製剤を添加することにより、発酵液における不溶性の不純物と菌糸体断片をできるだけ除去する発酵液の酵素処理ステップ（2）と、
ステップ（2）酵素処理後の発酵液に、水溶性のアルカリ金属を添加して凝集してからpH値をアルカリ性に調整し、固体・液体を分離することにより、発酵液の水及び色素を大分除去し、ジェランゴム粗生成物を得る発酵液の凝集ステップ（3）と、
ステップ（3）に得られたジェランゴム粗生成物を清澄化処理し、清澄化された低次アシル基ジェランゴム溶液を得るジェランゴム清澄化処理ステップ（4）と、
ステップ（4）に得られたジェランゴム脱アシル基清澄化溶液に、アルカリ金属イオンを添加することによってゲルを生成し、固体・液体を分離する脱アシル基ジェランゴム溶液脱水処理ステップ（5）と、
ステップ（5）に得られたジェランゴムを小さな粒子に細かく刻んで、イオン交換工程によりジェランゴムにおける二価陽イオンを大分除去し、徹底的な脱色効果を達するために少し圧搾乾燥した後のジェランゴムを低級アルコールに浸漬させて撹拌・濾過するイオン交換及び脱色処理ステップ（6）と、
ステップ（6）に得られたジェランゴムに適当な量のキレート剤／酸系を添加することにより、ジェランゴムを用いる過程に超過添加可能な二価陽イオンをキレートするとともに、pH値の相対的な安定性を保ち、均一に撹拌する適当な量のキレート剤／酸系を配合するステップ（6′）と、
ステップ（6′）に得られたジェランゴム固体材料を乾燥かつ粉砕し、高透明度の低次アシル基清型ジェランゴム製品を得る乾燥粉砕ステップ（7）と、を含むことを特徴とする組織培養基に用いられる低次アシル基ジェランゴムのポスト抽出方法。
【請求項３】
ステップ（1）に脱アシル基後に酸を添加してpH値を中性に調整し、温度を40℃以下にすることを特徴とする請求項1又は２に記載の方法。
【請求項４】
ステップ（1）に添加する酸化防止剤はアスコルビン酸、エリソルビン酸ナトリウム、ピロ亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カリウム、硫酸水素カリウム、システインから選ばれた1種又は2種以上であり、濃度が100〜300ppmであることを特徴とする前記請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
ステップ（1）に添加したpH調整用のアルカリはNaOH、KOH、Na2CO3、K2CO3から選ばれた1種又は2種以上であることを特徴とする前記請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
ステップ（1）にアルカリを用いてpH値を9.5〜11の範囲に調整することを特徴とする前記請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
ステップ（1）に、pH調整用のアルカリを先に10%濃度の溶液にすることを特徴とする前記請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
ステップ（1）に温度を85℃〜90℃の間にすることを特徴とする前記請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
ステップ（1）に、pH調整用の酸が無機酸又は有機酸であることを特徴とする前記請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
無機酸が塩酸、硫酸、リン酸から選ばれた1種又は2種以上であることを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
有機酸がギ酸、酢酸、クエン酸、リンゴ酸、酒石酸から選ばれた1種又は2種以上であることを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
ジェランゴムを含む酵素液の温度を80〜90℃に上げ、酸化防止剤を酵素液に添加し、アルカリを添加してpH値を調整することにより、アシル基ジェランゴムを得ることを特徴とするジェランゴムのアシル基を脱する方法。
【請求項１３】
脱アシル基ジェランゴムにある酸化防止剤の用途。
【請求項１４】
酸化防止剤がアスコルビン酸、エリソルビン酸ナトリウム、ピロ亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カリウム、硫酸水素カリウム、システインからなる群より選ばれることを特徴とする請求項１３に記載の用途。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月19日(2013.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）少なくとも１つの硬化性オリゴマー又はポリマーポリシラザンと、（ｂ）少なくとも１つのフルオロケミカル化合物とを含む組成物であって、
前記少なくとも１つの硬化性オリゴマー又はポリマーポリシラザンは、
ケイ素−窒素結合、ケイ素−水素結合、炭素−炭素二重結合、窒素−水素結合、及びこれらの組み合わせから選択される少なくとも１つの化学的反応性部位を含み、
前記少なくとも１つのフルオロケミカル化合物は、
（１）少なくとも１つの有機フッ素又はヘテロ有機フッ素部分、及び
（２）少なくとも１つの前記化学的反応性部位を通して前記硬化性オリゴマー又はポリマーポリシラザンと反応することができる少なくとも１つの官能基、を含む、組成物。
【請求項２】
（ａ）少なくとも１つの硬化性オリゴマー又はポリマーポリシラザンと（ｂ）少なくとも１つのフルオロケミカル化合物とを含む組成物であって、
前記少なくとも１つの硬化性オリゴマー又はポリマーポリシラザンは、ケイ素−窒素結合、ケイ素−水素結合、炭素−炭素二重結合、窒素−水素結合、及びこれらの組み合わせから選択される少なくとも１つの化学的反応性部位を含み、前記ポリシラザンは、以下の一般式を有する構造単位を含む主鎖を有し、
−［Ｓｉ（Ｒａ）（Ｒｂ）−Ｎ（Ｒｃ）］−
式Ｉ
（式中、各前記Ｒａ及び各前記Ｒｂは、水素、アルキル、アルケニル、アリール、及びこれらの組み合わせから選択され、各前記Ｒｃは水素である）、
前記少なくとも１つのフルオロケミカル化合物は、
（１）ペルフルオロアルキル、ペルフルオロアルキレン、ペルフルオロエーテル、及びペルフルオロポリエーテルから選択される少なくとも１つの有機フッ素又はヘテロ有機フッ素部分、並びに
（２）少なくとも１つの前記化学的反応性部位を通して前記硬化性オリゴマー又はポリマーポリシラザンと反応することができる少なくとも１つの官能基であって、イソシアナト、イソチオシアナト、エポキシド、アミノ、オキサゾリノ、ヒドロキシル、メルカプト、ビニル、及び加水分解性シリル基、及びこれらの組み合わせから選択される官能基、を含む、組成物。
【請求項３】
（ａ）（１）及び（２）を組み合わせる工程と、
（１）ケイ素−窒素結合、ケイ素−水素結合、炭素−炭素二重結合、窒素−水素結合、及びこれらの組み合わせから選択される少なくとも１つの化学的反応性部位を含む、少なくとも１つの硬化性オリゴマー又はポリマーポリシラザン、
（２）（ｉ）及び（ｉｉ）を含む、少なくとも１つのフルオロケミカル化合物、
（ｉ）少なくとも１つの有機フッ素又はヘテロ有機フッ素部分、
（ｉｉ）前記少なくとも１つの化学的反応性部位を通して前記硬化性オリゴマー又はポリマーポリシラザンと反応することができる少なくとも１つの官能基、
（ｂ）前記オリゴマー又はポリマーポリシラザン及び前記フルオロケミカル化合物を反応させて又は反応を誘導して、少なくとも１つの硬化性有機フッ素変性ポリシラザンを形成する工程と、
を含む、方法。
【請求項４】
請求項３に記載の方法によって調製される、硬化性有機フッ素変性ポリシラザン。
【請求項５】
前記硬化性有機フッ素変性ポリシラザンが硬化されている、請求項４に記載の硬化性有機フッ素変性ポリシラザン。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月19日(2013.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）少なくとも１つの主表面を有する少なくとも１つの基材を用意する工程と、
（ｂ）（１）及び（２）を組み合わせる工程と、
（１）ケイ素−窒素結合、ケイ素−水素結合、炭素−炭素二重結合、窒素−水素結合、及びこれらの組み合わせから選択される少なくとも１つの化学的反応性部位を含む、少なくとも１つの硬化性オリゴマー又はポリマーポリシラザン、
（２）（ｉ）及び（ｉｉ）を含む、少なくとも１つのフルオロケミカル化合物、
（ｉ）少なくとも６個の全フッ素化炭素原子を含む少なくとも１つの有機フッ素又はヘテロ有機フッ素部分、
（ｉｉ）少なくとも１つの前記化学的反応性部位を通して前記硬化性オリゴマー又はポリマーポリシラザンと反応することができる少なくとも１つの官能基、
（ｃ）前記硬化性オリゴマー又はポリマーポリシラザンと前記フルオロケミカル化合物とを反応させて又は反応を誘導して、少なくとも１つの硬化性有機フッ素変性ポリシラザンを形成する工程と、
（ｄ）前記硬化性オリゴマー若しくはポリマーポリシラザンと前記フルオロケミカル化合物、又は前記硬化性有機フッ素変性ポリシラザンを、前記基材の少なくとも１つの前記主表面の少なくとも一部に塗布する工程と、
（ｅ）前記硬化性有機フッ素変性ポリシラザンを硬化させて表面処理を形成する工程と、を含む、方法。
【請求項２】
前記ポリシラザンが、以下の一般式を有する構造単位を含む主鎖を有する、請求項１に記載の方法：
−［Ｓｉ（Ｒａ）（Ｒｂ）−Ｎ（Ｒｃ）］−
式Ｉ
（式中、各前記Ｒａ、各前記Ｒｂ、及び各前記Ｒｃは、独立して、水素、有機基、ヘテロ有機基、又はこれらの組み合わせである）。
【請求項３】
前記フルオロケミカル化合物が、以下の一般式によって表される分類のうちの１つである、請求項１に記載の方法：
Ｒｆ−（Ｙ−Ｘ）ｖ
（式中、Ｒｆは、一価若しくは多価の直鎖、分枝、脂環式、若しくは芳香族の、フッ素化若しくは全フッ素化された有機若しくはヘテロ有機基、又はこれらの組み合わせであり、各Ｙは、独立して、共有結合、又は二価の直鎖、分枝、脂環式、若しくは芳香族の、有機若しくはヘテロ有機連結基、又はこれらの組み合わせであり、各Ｘは、独立して、求電子基又は求核基であり、ｖは、Ｒｆの価数に等しい正の整数である）。
【請求項４】
（ａ）少なくとも１つの主表面を有する少なくとも１つの基材を用意する工程と、
（ｂ）（１）及び（２）を組み合わせる工程と、
（１）ケイ素−窒素結合、ケイ素−水素結合、炭素−炭素二重結合、窒素−水素結合、及びこれらの組み合わせから選択される少なくとも１つの化学的反応性部位を含む、少なくとも１つの硬化性オリゴマー又はポリマーポリシラザンであって、以下の一般式を有する構造単位を含む主鎖を有するポリシラザン、
−［Ｓｉ（Ｒａ）（Ｒｂ）−Ｎ（Ｒｃ）］−
式Ｉ
（式中、各前記Ｒａ及び各前記Ｒｂは、水素、アルキル、アルケニル、アリール、及びこれらの組み合わせから選択され、各前記Ｒｃは水素である）、
（２）（ｉ）及び（ｉｉ）を含む、少なくとも１つのフルオロケミカル化合物、
（ｉ）少なくとも６個の全フッ素化炭素原子を含むペルフルオロアルキル、ペルフルオロアルキレン、ペルフルオロエーテル、及びペルフルオロポリエーテルから選択される少なくとも１つの有機フッ素又はヘテロ有機フッ素部分、
（ｉｉ）少なくとも１つの前記化学的反応性部位を通して前記硬化性オリゴマー又はポリマーポリシラザンと反応することができる少なくとも１つの官能基であって、イソシアナト、イソチオシアナト、エポキシド、アミノ、オキサゾリノ、ヒドロキシル、メルカプト、ビニル、及び加水分解性シリル基、及びこれらの組み合わせから選択される官能基、
（ｃ）前記硬化性オリゴマー又はポリマーポリシラザンと前記フルオロケミカル化合物とを反応させて又は反応を誘導して、少なくとも１つの硬化性有機フッ素変性ポリシラザンを形成する工程と、
（ｄ）前記硬化性オリゴマー若しくはポリマーポリシラザンと前記フルオロケミカル化合物、又は前記硬化性有機フッ素変性ポリシラザンを、前記基材の少なくとも１つの前記主表面の少なくとも一部に塗布する工程と、
（ｅ）前記硬化性有機フッ素変性ポリシラザンを硬化させて表面処理を形成する工程と、を含む、方法。
【請求項５】
少なくとも１つの主表面を有する少なくとも１つの基材を含む物品であって、前記基材が、少なくとも１つの前記主表面の少なくとも一部に、請求項１に記載の方法によって調製された表面処理を有する物品。
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月30日(2013.5.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マトリックスと、
該マトリックス内に配置される複数の蛍光性ナノ粒子と、を含む、透明蛍光構造体であって、該蛍光性ナノ粒子が複数の基材ナノ粒子と蛍光性分子とを含み、該蛍光性ナノ粒子のそれぞれが、
表面を有する基材ナノ粒子と、
各蛍光性分子が該基材ナノ粒子の表面上の反応性結合部位に直接的に結合している、蛍光を発する１つ以上の蛍光性分子と、を含み、
該蛍光性分子が、該蛍光性分子の自己消光を少なくとも低減するように該基材ナノ粒子間に分布している、透明蛍光構造体。
【請求項２】
前記マトリックスが粉末の形態であり、かつ前記マトリックスが織布又は不織布の繊維ウェブ、スクリム、シート、層、紙、布地、布、又はこれらの任意の組み合わせの形態である、請求項１に記載の構造体。
【請求項３】
液体と、
少なくとも１つの高分子要素であって、該高分子要素が該液体に溶解されている、該液体中に別の相として懸濁されている、又はその両方である高分子要素と、
該液体に分散されている蛍光性ナノ粒子と、を含む、蛍光性ナノ粒子／マトリックス前駆体分散体であって、
該分散体が、該液体を除去することにより、該液体を固化させることにより、又はこれらの組み合わせにより、請求項１又は２に記載の蛍光構造体に形成できる、蛍光性ナノ粒子／マトリックス前駆体分散体。
【請求項４】
液体と、
少なくとも１つの高分子要素であって、該高分子要素が該液体に溶解されている、該液体中に別の相として懸濁されている、又はその両方である、高分子要素と、
該液体に分散されている基材ナノ粒子と、
該液体に分散されている蛍光性分子と、を含む、蛍光性ナノ粒子／マトリックス前駆体分散体であって、
該分散体が、該液体を除去することにより、該液体を固化させることにより、又はこれらの組み合わせにより、請求項１又は２に記載の蛍光構造体に形成できる、蛍光性ナノ粒子／マトリックス前駆体分散体。
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月9日(2013.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コモノマー分布定数が、４５より大きく４００までであることを特徴とするエチレン系ポリマー組成物であり、該組成物が炭素1,000,000個当たり合計１２０個未満の不飽和単位を有する、エチレン系ポリマー組成物。
【請求項２】
炭素１０００個当たり０．０１から３個の長鎖分枝を含む、請求項１に記載のポリマー組成物。
【請求項３】
ＺＳＶＲが、少なくとも２である、請求項１に記載のポリマー組成物。
【請求項４】
炭素1,000,000個当たり１２０個未満のビニリデン不飽和単位を有することをさらに特徴とする、請求項３に記載のポリマー。
【請求項５】
二峰性分子量分布を有する、請求項１に記載のポリマー組成物。
【請求項６】
多峰性ＭＷＤを有する、請求項１に記載のポリマー組成物。
【請求項７】
請求項１に記載の組成物を含む、製造物品。
【請求項８】
ＤＳＣの単一融解ピークをさらに含む、請求項１に記載のポリマー組成物。
【請求項９】
請求項１に記載の組成物および少なくとも１種の天然または合成ポリマーを含む、熱可塑性配合物。
【請求項１０】
少なくとも部分的に架橋（少なくとも５％ゲル化）されている、請求項１に記載の組成物。
【請求項１１】
３５℃から１２０℃の温度範囲において、パージを除いて、単峰性または二峰性の分布を含むコモノマー分布プロファイルを有する、請求項１に記載の組成物。
【請求項１２】
約１７，０００から約２２０，０００のＭｗを含む、請求項１に記載のポリマー組成物。
【請求項１３】
（Ａ）第１の反応器または多段階反応器の第１の部分において、第１の触媒の存在下で、エチレン、および場合により、１つ又は複数のα−オレフィンを重合して半結晶性のエチレン系ポリマーを形成するステップ、および
（Ｂ）少なくとも１個の他の反応器または多段階反応器の後の部分において、有機金属触媒を含む第２の触媒の存在下で、新たに供給したエチレンと場合により１つ又は複数のα−オレフィンを反応させることによりエチレン系ポリマー組成物を形成するステップ
を含み、
（Ａ）および（Ｂ）の触媒は同一でも異なっていてもよく、
それぞれは、下式に対応する多価のアリールオキシエーテルの金属錯体である、重合方法：
【化２】
2012532218.tif 000001
（式中、Ｍ３はＴｉ、ＨｆまたはＺｒ、好ましくは、Ｚｒであり、
Ａｒ４は、各出現時独立して、置換Ｃ９〜２０アリール基であり、置換基が、各出現時独立して、アルキル、シクロアルキル、およびアリール基、ならびにハロ、トリヒドロカルビルシリルおよびハロヒドロカルビル置換されたこれらの誘導体からなる群から選択され、但し、少なくとも１つの置換基はそれが結合しているアリール基と共平面性を有しておらず、
Ｔ４は、各出現時独立して、Ｃ２〜２０のアルキレン、シクロアルキレンもしくはシクロアルケニレン基、または不活性に置換されているこれらの誘導体であり、
Ｒ２１は、各出現時独立して、水素、ハロ、水素を数に含めずに５０個までの原子を有するヒドロカルビル、トリヒドロカルビルシリル、トリヒドロカルビルシリルヒドロカルビル、アルコキシまたはジ（ヒドロカルビル）アミノ基であり、
Ｒ３は、各出現時独立して、水素、ハロ、水素を数に含めずに５０個までの原子を有するヒドロカルビル、トリヒドロカルビルシリル、トリヒドロカルビルシリルヒドロカルビル、アルコキシもしくはアミノであり、あるいは同一のアリーレン環上の２個のＲ３基が一緒になって、または同一もしくは異なるアリーレン環上のＲ３およびＲ２１基が一緒になって、２カ所でアリーレン基に結合している２価のリガンド基を形成するまたは２個の異なるアリーレン環を結び合わせており、
ＲＤは、各出現時独立して、ハロ、または水素を数に含めずに２０個までの原子を有するヒドロカルビルもしくはトリヒドロカルビルシリル基であり、または２個のＲＤ基が一緒になって、ヒドロカルビレン、ヒドロカルバジイル、ジエン、またはポリ（ヒドロカルビル）シリレン基である）。
【請求項１４】
少なくとも１層のフィルム層の形態である、請求項８に記載の製造物品。
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月28日(2013.5.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材表面の改質方法であって、該方法は：
コロイド状のシリカ、コロイド状のジルコニア、コロイド状のアルミナ、コロイド状のセリア、コロイド状のスズ酸化物又はコロイド状の二酸化チタンを含む無機ナノ粒子であって、共有結合を介して表面に結合した官能基を含む無機ナノ粒子（ここで、前記官能基は：
アミン基、保護アミン基又はこれらの組み合わせ；
アミン反応性基；及び
任意の親水基を含む）と、
任意の界面活性剤と、
水及び存在する場合には液体媒質の総重量に基づいて３０重量％以下の有機溶媒を含む液体媒質と、を含むコーティング組成物を基材に適用することと、
前記コーティング組成物を乾燥させて、前記基材上に親水性コーティングを形成することと、を含み、
ここで、前記コーティングされた基材は、曇り防止性、反射防止性、洗浄容易性及び静電気防止性からなる群から選択される少なくとも１つの性質において、コーティングされていない基材と比較して、改善を示す、方法。
【請求項２】
コーティング組成物であって、
コロイド状のシリカ、コロイド状のジルコニア、コロイド状のアルミナ、コロイド状のセリア、コロイド状のスズ酸化物又はコロイド状の二酸化チタンを含む無機ナノ粒子であって、共有結合を介して表面に結合した官能基を含む無機ナノ粒子（ここで、前記官能基は：
アミン基、保護アミン基又はこれらの組み合わせ；
アミン反応性基；及び
任意の親水基を含む）と、
任意の界面活性剤と、
水及び存在する場合には液体媒質の総重量に基づいて３０重量％以下の有機溶媒を含む液体媒質と、を含み、
ここで、前記コーティング組成物は、コーティングし、乾燥させると、親水性コーティングを基材にもたらし、曇り防止性、反射防止性、洗浄容易性及び反射防止性からなる群から選択される少なくとも１つの性質において、コーティングされていない基材と比較して、改善を有する、コーティング組成物。
【請求項３】
親水性コーティングでコーティングされた少なくとも１つの表面の少なくとも一部分を含む基材を含む物品であって、ここで、前記親水性コーティングは、ナノ粒子に共有結合した官能基の反応により形成された共有化学結合を介して連結した１つ以上のタイプのナノ粒子を含む樹枝状ネットワークを含み、前記ナノ粒子は、コロイド状のシリカ、コロイド状のジルコニア、コロイド状のアルミナ、コロイド状のセリア、コロイド状のスズ酸化物又はコロイド状の二酸化チタンを含み、前記官能基は、アミン基、保護アミン基又はこれらの組み合わせとアミン反応性基とを含み、前記コーティングされた基材は、曇り防止性、反射防止性、洗浄容易性及び静電気防止性からなる群から選択される少なくとも１つの性質において、コーティングされていない基材と比較して、改善を示す、物品。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月24日(2013.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリマーおよび繊維を含む密度Ｄｃの複合物品を作るための方法であって、
−  前記ポリマーをディスクリファイニングして、不規則なマイクロファイバ構造がそこから伸びている不規則な外周を有するフレークを生成するステップであって、前記ポリマーが軟化温度を有するステップと；
−  繊維とポリマーの合計組成に基づいて約１質量％〜約５０質量％の繊維と約５０質量％〜約９９質量％のフレークを水溶液中に共分散して、スラリーを生成するステップと；−  前記スラリーを揺動スクリーンに補給するステップと；
−  水を除去して、Ｄｃより小さいＤｍという密度を有する整列したマットを提供するステップと；
−  複数の前記整列マットを整列した形で高さ方向に積重ねて、第１のマットを提供するステップと；
−  前記軟化温度より高い温度まで前記第１のマット全体を加熱しながら、Ｄｍの１．１倍超でＤｃの０．９９９倍未満の圧縮密度まで前記第１のマットを緻密化して、先行圧密されたマットを提供するステップと；
−  前記先行圧密されたマットの少なくとも一部分を前記軟化温度より低い温度まで冷却して、圧密されたマットを提供するステップと；
−  複数の前記圧密されたマットを高さ方向に積重ねて、未圧密物品を提供するステップと；
−  前記高さを圧縮し、前記軟化温度よりも高い温度まで前記未圧密物品全体を加熱することによって前記未圧密物品を圧密して、圧密物品を提供するステップと；
−  前記軟化温度よりも低い温度まで前記圧密物品の少なくとも一部分を冷却して、前記複合物品を提供するステップと、
を含む方法。
【請求項２】
前記ポリマーが、ペルフルオロ（ビニルプロピルエーテル）、ヘキサフルオロプロピレン、クロロトリフルオロエチレン、エチレン、プロピレンおよびそれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記繊維が、ガラス、黒鉛、炭素；フッ素化黒鉛；アラミド、窒化ホウ素；炭化ケイ素；ポリエステル；およびポリアミドからなる群から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記繊維が短繊維である、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
請求項１に記載の方法により製造された物品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７４】
全ての部分は、別段の指摘のないかぎり、質量部分である。
次に、本発明の態様を示す。
１．ポリマーおよび繊維を含む密度Ｄｃの複合物品を作るための方法であって、
−  前記ポリマーをディスクリファイニングして、不規則なマイクロファイバ構造がそこから伸びている不規則な外周を有するフレークを生成するステップであって、前記ポリマーが軟化温度を有するステップと；
−  繊維とポリマーの合計組成に基づいて約１質量％〜約５０質量％の繊維と約５０質量％〜約９９質量％のフレークを水溶液中に共分散して、スラリーを生成するステップと；−  前記スラリーを揺動スクリーンに補給するステップと；
−  水を除去して、密度を有する整列したマットを提供するステップと；
−  複数の前記整列マットを整列した形で高さ方向に積重ねて、第１のマットを提供するステップと；
−  前記軟化温度より高い温度まで前記第１のマット全体を加熱しながら、Ｄｍの１．１倍超でＤｃの０．９９９倍未満の圧縮密度まで前記第１のマットを緻密化して、先行圧密されたマットを提供するステップと；
−  前記先行圧密されたマットの少なくとも一部分を前記軟化温度より低い温度まで冷却して、圧密されたマットを提供するステップと；
−  複数の前記圧密されたマットを高さ方向に積重ねて、未圧密物品を提供するステップと；
−  前記高さを圧縮し、前記軟化温度よりも高い温度まで前記未圧密物品全体を加熱することによって前記未圧密物品を圧密して、圧密物品を提供するステップと；
−  前記軟化温度よりも低い温度まで前記圧密物品の少なくとも一部分を冷却して、前記複合物品を提供するステップと、
を含む方法。
２．前記ポリマーが、フルオロポリマー、および、テトラフルオロエチレン、炭素原子３〜１４個のペルフルオロ（アルコキシアルカン）の反復単位またはモノマーを含むポリマーからなる群から選択される、上記１に記載の方法。
３．前記ポリマーが、ペルフルオロ（ビニルプロピルエーテル）、ヘキサフルオロプロピレン、クロロトリフルオロエチレン、エチレン、プロピレンおよびそれらの組み合わせからなる群から選択される、上記２に記載の方法。
４．前記スラリーが前記繊維とポリマーの前記合計組成に基づいて約２０質量％の繊維と約８０質量％のフレークとを含む、上記１に記載の方法。
５．前記繊維が、ガラス、黒鉛、炭素；フッ素化黒鉛；アラミド、窒化ホウ素；炭化ケイ素；ポリエステル；およびポリアミドからなる群から選択される、上記１に記載の方法。
６．前記繊維が短繊維である、上記５に記載の方法。
７．前記加熱しながらの緻密化ステップが、プラテンプレス、加熱式プラテンプレス、高温ローラー、赤外線熱または高温ベルトプレスを用いて実施される、上記１に記載の方法。
８．緻密化または加熱ステップまたはその両方が、バッチ式、ステップ式、不連続または連続プロセスによって行なわれる、上記１に記載の方法。
９．前記加熱しながらの緻密化ステップが、加熱されたベルトプレスを用いて実施される、上記３に記載の方法。
１０．上記１、４または５に記載の方法により製造された物品。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月26日(2013.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）約７０ｗｔ％〜約９０ｗｔ％の熱可塑性ポリマーと；
（ｂ）約１０〜約３０ｗｔ％の細断炭素繊維と；
（ｃ）ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、コポリビニルアルコール、酢酸コポリビニル、酢酸コポリビニルアルコールおよびカルボキシメチルセルロースナトリウムからなる群から選択されたサイズ剤０．００１〜約１０％と、
を含み、かつさらに（ｄ）組合せた形で１グラムあたり２０００ナノモル未満のナトリウム、カリウム、カルシウムおよびアルミニウムを含んでいてよい、半導体製造の部品である物品であって、（ａ）、（ｂ）および（ｃ）の各々における前記ｗｔ％が前記部品の合計重量に基づくものである、物品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７３】
全ての部分は、別段の指摘のないかぎり、質量部分である。
次に、本発明の態様を示す。
1.（ａ）約７０ｗｔ％〜約９０ｗｔ％の熱可塑性ポリマーと；
（ｂ）約１０〜約３０ｗｔ％の細断炭素繊維と；
（ｃ）ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、コポリビニルアルコール、酢酸コポリビニル、酢酸コポリビニルアルコールおよびカルボキシメチルセルロースナトリウムからなる群から選択されたサイズ剤０．００１〜約１０％と、
を含み、かつさらに（ｄ）組合せた形で１グラムあたり２０００ナノモル未満のナトリウム、カリウム、カルシウムおよびアルミニウムを含んでいてよい、半導体製造の部品である物品であって、（ａ）、（ｂ）および（ｃ）の各々における前記ｗｔ％が前記部品の合計重量に基づくものである、物品。
2.  前記熱可塑性ポリマーがコポリ（テトラフルオロエチレン−ペルフルオロ［プロピルビニルエーテル］）を含む、上記１に記載の物品。
3.  前記物品が半導体製造の清浄用部品である、上記１または２に記載の物品。
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月14日(2013.5.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体入口および流体出口を有する制御弁であって、前記制御弁は、前記弁を通る流体の流れを制御するように、前記流体入口と前記流体出口との間に可動に位置付けられる弁体を備える、制御弁と、
前記弁体を移動させるための作動器であって、前記作動器は、作動器筐体と、前記作動器筐体内に搭載されたダイアフラムであって、前記ダイアフラムは、前記作動器筐体を少なくとも２つの室に分割し、前記室のうち少なくとも１つは作動器通気孔を含み、かつ前記室のうち少なくとも１つは作動器制御流体入口を含む、ダイアフラムと、前記ダイアフラムおよび前記弁体に接続された弁ステムであって、前記弁ステムは、前記ダイアフラムの移動に応答して前記弁体を移動させるように配設される、弁ステムと、を備える、作動器と、
位置決め装置制御流体入口、制御流体通気孔、および制御ラインを備える位置決め装置であって、前記制御ラインは、前記制御流体入口に接続される、位置決め装置と、を備え、
前記作動器通気孔は、前記作動器通気孔を通して流れ条件を検出する能力があるフロースイッチに接続され、前記フロースイッチは前記位置決め装置に通信的に接続される、制御弁組立体。
【請求項２】
前記制御流体通気孔が前記作動器通気孔に接合される、請求項１に記載の制御弁組立体。
【請求項３】
前記位置決め装置が、制御流体ラインでの制御流体漏出と前記ダイアフラムでの制御流体漏出とを区別し、且つ制御流体の漏出が検出されたときに、中央制御器に警報を送信するように配設され、かつ、前記中央制御器に送信された前記警報が、流体漏出の種類を識別する情報を含む、請求項２に記載の制御弁組立体。
【請求項４】
前記位置決め装置が、前記フロースイッチの位置について前記フロースイッチを調査することにより、前記作動器通気孔を通して流れ条件を決定するように配設される、請求項１に記載の制御弁組立体。
【請求項５】
前記フロースイッチが、有線接続、無線接続、無線周波数接続、および赤外線接続のうち１つを介して前記位置決め装置に接続される、請求項１に記載の制御弁組立体。
【請求項６】
前記制御流体が気体である、請求項１に記載の制御弁組立体。
【請求項７】
前記制御流体通気孔および前記作動器通気孔の両方が、前記制御流体通気孔が前記作動器通気孔に接合する場所の下流の大気に通気される、請求項２に記載の制御弁組立体。
【請求項８】
前記フロースイッチが前記作動器通気孔と前記制御流体通気孔との間に位置付けられる、請求項２に記載の制御弁組立体。
【請求項９】
前記フロースイッチの開位置が、前記作動器通気孔を通る低い流れ条件を示す、請求項１に記載の制御弁組立体。
【請求項１０】
前記フロースイッチの閉位置が、前記作動器通気孔を通る低い流れ条件を示す、請求項１に記載の制御弁組立体。
【請求項１１】
更に、前記作動器通気孔に接続される、第２の制御ラインを備えた、請求項１に記載の制御弁組立体。
【請求項１２】
前記位置決め装置が前記フロースイッチを備える、請求項１１に記載の制御弁組立体。
【請求項１３】
前記フロースイッチが受動フロースイッチである、請求項１に記載の制御弁組立体。
【請求項１４】
制御弁組立体内の故障モードを判定する方法であって、
制御流体の漏出を検出する工程と、
作動器通気孔に接続されたフロースイッチを調査し、前記フロースイッチの位置を判定する工程と、
前記フロースイッチが開いているかまたは閉じているかを判定する工程と、
前記フロースイッチの前記位置に基づいて、前記作動器通気孔を通る流れ条件を判定する工程と、
弁ステムが移動しているかどうかを判定する工程と、
前記弁ステムが運動している場合に、前記フロースイッチをその後調査する前に、ある期間にわたり待機する工程と、
前記フロースイッチが前記作動器通気孔を通る低い流れ条件を示す場合に、制御ライン漏出警報を出力する工程と、
前記フロースイッチが前記作動器通気孔を通る高い流れ条件を示し、かつ前記弁ステムが運動していない場合に、ダイアフラム漏出警報を出力する工程と、
を含む、方法。
【請求項１５】
前記期間がおおよそ５秒である、請求項１４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年7月1日(2013.7.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
セラミック相のゾルをめっき液又は電解液に添加することを含む、基板上に金属−セラミック複合コーティングを製造する方法。
【請求項２】
めっき又はコーティングの開始前に、前記めっき液又は電解液中でのセラミック相の微小粒子の形成及び／又はセラミック相の粒子の凝集を実質的に避けるよう調節されたゾル添加率で、一定量の前記ゾルを前記溶液又は電解液に添加することを含む、請求項１に記載のめっき又はコーティング方法。
【請求項３】
めっき又はコーティングを行っている間に、前記めっき液又は電解液中での、セラミック相の微小粒子の形成及び／又はセラミック相の粒子の凝集を実質的に避けるよう調節されたゾル添加率で、セラミック相をゾルとしてめっき液に添加することを含む、請求項１又は２に記載のめっき又はコーティング方法。
【請求項４】
前記めっき液１Ｌ当たりゾル０．５〜１００ｍｌの率の前記ゾルを添加することを含む、請求項１から３のいずれか１項に記載のめっき又はコーティング方法。
【請求項５】
前記めっき液１Ｌ当たりゾル１．２５〜２５ｍｌの率の前記ゾルを添加することを含む、請求項１から３のいずれか１項に記載のめっき又はコーティング方法。
【請求項６】
前記ゾルを、前記めっき液又は電解液１Ｌ当たり約０．０２ｍｌ未満の率で添加するステップを含む、請求項１から５のいずれか１項に記載のめっき又はコーティング方法。
【請求項７】
金属−セラミックコーティングが主として結晶構造で基板上に形成する、請求項１から６のいずれか１項に記載のめっき又はコーティング方法。
【請求項８】
前記セラミック相が、Ｔｉ、Ｗ、Ｓｉ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｙ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｐｂ、Ｃｏ若しくは希土類元素の単一又は混合酸化物、炭化物、窒化物、ケイ酸塩、ホウ化物である、請求項１から７のいずれか１項に記載のめっき又はコーティング方法。
【請求項９】
前記セラミック相が、ＴｉＯ2、ＡｌＯ2、ＺｒＯ2、又はＳｉＣを含む、請求項１から７のいずれか１項に記載のめっき又はコーティング方法。
【請求項１０】
前記セラミック相以外の前記コーティングが、Ｎｉ、Ｎｉ−Ｐ、Ｎｉ−Ｗ−Ｐ、Ｎｉ−Ｃｕ−Ｐ、Ｎｉ−Ｂ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｄを含む、請求項１から９のいずれか１項に記載のめっき又はコーティング方法。
【請求項１１】
前記セラミック相以外の前記コーティングが、Ｎｉ、Ｎｉ−Ｐ、又はＮｉ−Ｂを含む、請求項１から９のいずれか１項に記載のめっき又はコーティング方法。
【請求項１２】
前記基板が、金属基板である、請求項１から１１のいずれか１項に記載のめっき又はコーティング方法。
【請求項１３】
前記基板が、鋼、Ｍｇ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｍｏ、Ｐｂ、又はこれらの合金を含む、請求項１から１１のいずれか１項に記載のめっき又はコーティング方法。
【請求項１４】
前記セラミック相の分子が、前記ゾル中に網目構造で存在する、請求項１から１３のいずれか１項に記載のめっき又はコーティング方法。
【請求項１５】
無電解めっき又はコーティング工程である、請求項１から１４のいずれか１項に記載のめっき又はコーティング方法。
【請求項１６】
前記溶液が、還元剤として、次亜リン酸ナトリウム、水素化ホウ素ナトリウム、ホルムアルデヒド、デキストロース、ロッシェル塩、グリオキサール、又は硫酸ヒドラジンを含む、請求項１５に記載のめっき又はコーティング方法。
【請求項１７】
ガルバニックめっき工程である、請求項１から１５のいずれか１項に記載のめっき又はコーティング方法。
【請求項１８】
前記めっき電流が、１０ｍＡ／ｃｍ2〜３００ｍＡ／ｃｍ2の範囲にある、請求項１７に記載のめっき又はコーティング方法。
【請求項１９】
前記めっき電流が、２０ｍＡ／ｃｍ2〜１００ｍＡ／ｃｍ2の範囲にある、請求項１７に記載のめっき又はコーティング方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月4日(2013.6.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリコンを実質的に含有しない、ナノ構造の合金粒子を作製する方法であって、ミリング媒体を含有するペブルミル内で、ミルベースをミリングし、前記ナノ構造の合金粒子を用意する工程であって、前記ミルベースが、スズと、炭素又は遷移金属のうちの少なくとも１つとを含み、前記ナノ構造の合金粒子が、寸法が５０ナノメートルを超える結晶性ドメインを実質的に含まない、工程を含む、方法。
【請求項２】
リチウムイオン電気化学セルのための負電極を作製する方法であって、
ペブルミル内でミルベースをミリングする工程であって、前記ミルベースが、
スズと、
炭素又は遷移金属のうちの少なくとも１つとを含み、前記ナノ構造の合金粒子が、寸法が５０ナノメートルを超える結晶性ドメインを実質的に含まない、工程と、
前記ナノ構造の合金粒子を、ポリマー結合剤を含むスラリー中に分散させる工程と、
前記スラリーを金属カレントコレクタ上にコーティングする工程と、を含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年4月23日(2013.4.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
８．０％未満〜約４．０％のソリディティを含み、少なくとも１．４０の有効繊維直径の実際の繊維直径に対する比率を含むスパンボンドウェブであって、捲縮繊維、間隙が形成された繊維、及び二成分繊維が実質的に存在しない、スパンボンドウェブ。
【請求項２】
複数の対向して面するひだを含む濾材と、前記濾材の縁部に沿って存在する周辺枠とを更に含む、自己支持型のひだ付けしたフィルターであって、前記濾材は、８．０％未満〜約４．０％のソリディティを含み、少なくとも１．４０の有効繊維直径の実際の繊維直径に対する比率を含むスパンボンドウェブを含み、前記スパンボンドウェブには捲縮繊維、間隙が形成された繊維、及び二成分繊維が実質的に存在しない、自己支持型のひだ付けしたフィルター。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月28日(2013.6.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７７】
“Ｄ”に関連する更なる実施形態が図７に示されていて、つまりフローパターンの組み合わせ“Ｅ”であるが、図７に示されており、ここでもまた、カソードガス流が、アノードガス側でだけでなく、カソードガス側においても、第一のセルが第二のセルと直列に連結されるように再分配されている。しかしながら、組み合わせ“Ｅ”では、両方のセルが、組み合わせ“Ｅ”が総じて、内部並行フロー、インターコネクト対向フロー、アノードガス再分配及びカソードフロー再分配を有するように、内部並行フローを有する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８８】
図１９及び図２０は、平均セル電圧を、アノードガスとしての天然ガス“ｎｇ”及び水素ガス“ｈ２”の両方について、別々に示されたフローパターンの組み合わせに関してボルトで（Ｙ軸に）示している。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１１】
前記スタックが、第一のセル及び隣接する第二のセルの少なくとも一組を含み、その際、少なくとも１つの第一のセルが、該第一のセルが対向フローを内在的に有するように、第二の方向においけるアノードガスフロー及び該第アノードガスフローに対して実質的に対向する第一の方向におけるカソードガスを有し、該少なくとも１つの隣接する第二のセルが、その少なくとも１つの第二のセルが内在的に並行フロー（“Ｃ”）を有するように、前記第一の方向におけるアノードガスフロー及び前記第一の方向におけるカソードガスフローを有する、請求項１〜３のいずれか一つに記載のセルスタック。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月24日(2013.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気化学的セル（１）の製造方法であって、該電気化学的セル（１）は、被覆体（２）内部に収容されている少なくとも１つの電極積重物を備え、前記被覆体（２）は、少なくとも２つの被覆体部品（３）から形成されており、該被覆体部品（３）は、それぞれ少なくとも１つのシーム面（５）を備え、該シーム面（５）で前記被覆体部品（３）は、少なくとも部分的に互いに当接可能であり、以下の方法ステップ、すなわち、
‐規定された量の添加シール剤（９）を、少なくとも間接的に、少なくとも１つの前記被覆体部品（３）の前記シーム面（５）の画定された部分（８）に取着するステップと、
‐１つの前記被覆体部品（３）のシーム面（５）を、別の１つの前記被覆体部品（３）のシーム面（５）に着設するステップと、
‐続いて前記シーム面（５）に熱を加えるステップと、
を備え、
前記添加シール剤（９）は、電流導体（７）の少なくとも導体短辺（１０）と少なくとも間接的に接触するように導入されることを特徴とする電気化学的セル（１）の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月20日(2013.6.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つのガルバニセルを備えた二次電池、特にリチウムイオン二次電池のための充電制御システムであって、
前記ガルバニセルは、少なくとも２つの電極と少なくとも１つのセパレータとを有し、前記セパレータは、境界温度よりも低い温度で安定するコーティングを有している充電制御システムにおいて、
前記充電制御システムに配設された温度センサが設けられており、前記温度センサは前記ガルバニセルの温度を測定し、
前記充電制御システムは、前記セルの温度が前記境界温度に達した場合に、絶対充電電流を減少させるか、または略もしくは完全に遮断するように調整されていることを特徴とする充電制御システム。
【請求項２】
請求項１に記載の充電制御システムを有する二次電池のための電池マネジメントシステム。
【請求項３】
前記ガルバニセルの電極は活性層を有しており、前記活性層は好ましくはリン酸塩化合物、特にリン酸鉄リチウム、または金属酸化物、特に金属ニッケル、マンガン、およびコバルトの金属酸化物を有していることを特徴とする請求項１に記載の充電制御システムを有する二次電池。
【請求項４】
少なくとも２つの電極と少なくとも１つのセパレータとを有し、前記セパレータは特に１８０℃までの温度において、特に略構造的な損害を受けることがない、請求項３に記載の二次電池のためのガルバニセル。
【請求項５】
二次電池、特に請求項３に記載の二次電池であって、前記二次電池は少なくとも１つのガルバニセルを有しており、前記ガルバニセルは少なくとも２つの電極と少なくとも１つのセパレータとを有し、前記セパレータは、境界温度よりも低い温度で安定するコーティングを有している二次電池、の高速充電プロセスを実施するための方法において、
‐前記ガルバニセルの温度を測定するステップと、
‐前記セル温度が前記境界温度に達した場合に、絶対充電電流を減少させるか、または略もしくは完全に遮断するステップと、
を有することを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月3日(2013.6.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
感光性ペーストを空気中で焼成することで形成される電極であって、前記ペーストが、銅粉末、ホウ素粉末およびガラスフリットを含む無機構成成分と、光重合開始剤、モノマーおよび有機ビヒクルを含む有機構成成分とを含み、銅粉末の平均粒度が２．５μｍ以下であり、銅粉末とホウ素粉末の総量に基づくホウ素粉末の含有量が８〜２５重量％である、電極。
【請求項２】
プラズマディスプレイパネル用の電極の製造方法であって、
銅粉末、ホウ素粉末およびガラスフリットを含む無機構成成分と、光重合開始剤、モノマーおよび有機ビヒクルを含む有機構成成分とを含み、前記銅粉末の平均粒度が２．５μｍ以下であり、銅粉末とホウ素粉末の総量に基づくホウ素粉末の含有量が８〜２５重量％である感光性ペーストを塗布するステップと；
前記塗布した感光性ペーストを乾燥させるステップと；
前記乾燥した感光性ペーストを露光するステップと；
前記露光した感光性ペーストを現像するステップと；
前記現像した感光性ペーストを空気中で焼成して電極パターンを形成するステップと、
を含む方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９３】
【表１】
2012532420.tif 000001
本発明は以下の実施の態様を含むものである。
１．感光性ペーストを空気中で焼成することで形成される電極であって、前記ペーストが、銅粉末、ホウ素粉末およびガラスフリットを含む無機構成成分と、光重合開始剤、モノマーおよび有機ビヒクルを含む有機構成成分とを含み、銅粉末の平均粒度が２．５μｍ以下であり、銅粉末とホウ素粉末の総量に基づくホウ素粉末の含有量が８〜２５重量％である、電極。
２．前記ホウ素粉末の平均粒度が３μｍ以下であり、前記電極のフィルム厚が１〜４μｍである、前記１に記載の電極。
３．プラズマディスプレイパネル用に使用され、体積抵抗率が１．６×１０−４Ω・ｃｍである、前記１に記載の電極。
４．プラズマディスプレイパネル用の電極の製造方法であって、
銅粉末、ホウ素粉末およびガラスフリットを含む無機構成成分と、光重合開始剤、モノマーおよび有機ビヒクルを含む有機構成成分とを含み、前記銅粉末の平均粒度が２．５μｍ以下であり、銅粉末とホウ素粉末の総量に基づくホウ素粉末の含有量が８〜２５重量％である感光性ペーストを塗布するステップと；
前記塗布した感光性ペーストを乾燥させるステップと；
前記乾燥した感光性ペーストを露光するステップと；
前記露光した感光性ペーストを現像するステップと；
前記現像した感光性ペーストを空気中で焼成して電極パターンを形成するステップと、
を含む方法。
５．前記ホウ素粉末の平均粒度が３μｍ以下であり、前記電極のフィルム厚が１〜４μｍである、前記４に記載の電極の製造方法。
６．前記無機構成成分の含有量に関して前記モノマーの含有量が８〜３５重量％である、前記４に記載の電極の製造方法。
７．前記感光性ペースト中の［無機構成成分重量］／［有機構成成分重量］比が１．２〜３．５であり、ここで前記無機構成成分重量は前記無機構成成分の総重量を意味し、前記有機構成成分重量は溶媒を除いた前記有機構成成分の総重量を意味し、かつ［モノマー重量］／［無機構成成分重量］比が０．１〜０．３である、前記４に記載の電極の製造方法。