【誤訳訂正書】
【提出日】平成25年9月18日(2013.9.18)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
産業プロセスを制御するシステムにおいて、プロセス条件の計算式の正確さを判定する方法であって、
産業プロセス制御のワークステーションで、プロセス条件の参照式とシミュレーションデータを含むプロセス制御用の変数とを用いて計算したプロセス流体のプロセス条件の参照値を表す信号を生成する工程と、
産業プロセス制御のワークステーションで、前記プロセス制御用の変数の下で、前記プロセス条件の参照式を近似するプロセス条件の近似式を生成する工程であって、前記プロセス条件の近似式は、前記産業プロセス制御のワークステーションから離れた位置の産業用プロセスのトランスミッタによって計算されるトランスミッタの式である工程と、
前記プロセス条件の近似式に用いる係数を定める工程と、
産業プロセス制御のワークステーションで、前記プロセス条件の近似式と前記プロセス制御用の変数と前記近似式に用いる係数とに基づいて計算したプロセス流体のプロセス条件の近似値を表す信号を生成する工程と、
前記システムを調整するために、前記プロセス条件の近似値を表す信号を、プロセス条件の参照値を表す信号と対比し、前記プロセス条件の近似値の正確度信号を生成する工程とを含む方法。
【請求項２】
前記プロセス条件の参照値を表す信号と前記プロセス条件の近似値を表す信号との差が縮小するよう、前記プロセス条件の近似値を表す信号を再生成して前記プロセス条件の近似式に用いる係数を調整するために、前記正確度信号を用いる工程をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記プロセス条件の近似式に用いる調整された係数を、前記トランスミッタの式を再計算するために前記産業プロセス制御のワークステーションに接続されたプロセス制御ネットワークを介して、前記プロセストランスミッタ内の前記プロセストランスミッタの電子部品に伝送する工程をさらに含むことを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記プロセス条件の近似式に用いる係数は、前記プロセストランスミッタの電子部品が、前記プロセス制御ネットワークとオフライン状態にある間に調整されるようになっていることを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記プロセストランスミッタ内の前記プロセストランスミッタの電子部品がプロセス条件の近似値を表す信号を生成することを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記産業用プロセスのプロセストランスミッタの電子部品において、前記トランスミッタの式を用いて、前記プロセス制御用の変数、前記プロセス条件の近似式に用いる調整された係数、および検知されたプロセス変数に基づき、プロセス条件の近似値を計算する工程をさらに含むことを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記プロセス条件の参照式は、下記数４で表されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【数４】
2012504815.tif 000001
（ここで、Ｑmは質量流量（質量の単位／単位時間）、
Ｎは単位変換因子（単位は種々に変わる）、
Ｃdは排出係数（無次元数）、
Ｙ1はガス膨張因子（無次元数）、
Ｅはアプローチ因子の速度（無次元数）、
ｄはプライマリエレメントにおける絞り部の径（長さの単位）、
ρは密度（質量の単位／単位体積）、
ΔＰは差圧（力の単位／単位面積）である。）
【請求項８】
前記プロセス条件の近似式は、下記数５で表されることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【数５】
2012504815.tif 000002
（かっこ内に示す各変数を表す式は、それぞれの参照式を大まかに模して求める。）
【請求項９】
前記プロセス条件の近似式においてかっこ内に示す各変数を表す式は、カーブフィッティングを含む補間技法を用いて、それぞれの参照式を大まかに模して求めるようになっていることを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記プロセス条件の近似値を表す信号は浮動小数点数演算により、前記プロセス条件の参照値を表す信号は整数演算により、それぞれ生成されるようになっていることを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記プロセストランスミッタの電子部品は、前記プロセス制御ネットワークを介して給電を受け、前記プロセス制御ネットワークは、４〜２０ｍＡカレントループ、フィールドバス、プロフィバス（Ｐｒｏｆｉｂｕｓ）およびモドバス（Ｍｏｄｂｕｓ）からなる群より選択されるようになっていることを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項１２】
前記プロセス条件の参照値を表す信号の値と、前記プロセス条件の近似値を表す信号の値をメモリに保存する工程をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記プロセス条件の参照値を表す信号と前記プロセス条件の近似値を表す信号を対比したレポートを作成する工程をさらに含むことを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
さらに、前記プロセス制御用の変数は、プロセス変数のシミュレーションデータ、前記システムにおけるハードウエアのオリジナルパラメータ、産業プロセスの動作範囲、およびプロセス流体のパラメータのうち少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
前記正確度信号に基づいて、前記ハードウエアのオリジナルパラメータを代替パラメータに置き換える工程をさらに含むことを特徴とする請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記ハードウエアの前記代替パラメータは、オリフィスプレートおよびベンチュリからなる集合から選択されたプライマリエレメント、または産業用プロセストランスミッタに係り、前記ハードウエアの前記オリジナルパラメータとは異なる範囲を含むパラメータであることを特徴とする請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
プロセストランスミッタを遠隔操作しうるようになっている産業プロセス制御用のワークステーションであって、
プロセス制御ネットワークと接続する通信回路と、
プロセス制御用の変数を入力するためのユーザインターフェースと、
前記通信回路およびユーザインターフェースに接続し、プロセスのシミュレーションプロセス条件を決定するシミュレーションデータを含むプロセス制御用の変数の下で、プロセス条件の参照式を判定し、プロセス条件の参照式と前記プロセス制御用の変数に基づいて、プロセス条件の参照値を表し、前記シミュレーションプロセス条件を示す信号を生成し、前記プロセス制御用の変数と近似式に用いられ、前記プロセス制御ネットワークとはオフライン状態の産業プロセスのトランスミッタによって計算されたプロセス条件をエミュレートする前記プロセスのプロセス条件の近似値を決定する係数とを用いてプロセス条件の近似式を計算し、前記プロセス条件の参照式を近似するプロセス条件の近似式に用いられる係数、および前記プロセス制御用の変数に基づいて、プロセス条件の近似値を表す信号を生成するマイクロプロセッサとを備えるワークステーション。
【請求項１８】
前記マイクロプロセッサは、プロセス条件の近似値を表す信号を、プロセス条件の参照値を表す信号と対比するようになっていることを特徴とする請求項１７に記載のワークステーション。
【請求項１９】
前記マイクロプロセッサは、前記プロセス条件の参照値を表す信号の値と、前記プロセス条件の近似値を表す信号の値とをメモリに保存し、かつ前記プロセス条件の参照値を表す信号と前記プロセス条件の近似値を表す信号を対比したレポートを作成するようになっていることを特徴とする請求項１８に記載のワークステーション。
【請求項２０】
前記マイクロプロセッサは、前記プロセス条件の参照式を大まかに模するカーブフィッティングを含む補間技法を用いて、前記プロセス条件の近似式に用いられる係数をつくり出すようになっていることを特徴とする請求項１８に記載のワークステーション。
【請求項２１】
前記プロセス条件の参照式は下記数６により、前記プロセス条件の近似式は下記数７により、それぞれ表されることを特徴とする請求項２０に記載のワークステーション。
【数６】
2012504815.tif 000003
（ここで、Ｑmは質量流量（質量の単位／単位時間）、
Ｎは単位変換因子（単位は種々に変わる）、
Ｃdは排出係数（無次元数）、
Ｙ1はガス膨張因子（無次元数）、
Ｅはアプローチ因子の速度（無次元数）、
ｄはプライマリエレメントにおける絞り部の径（長さの単位）、
ρは密度（質量の単位／単位体積）、
ΔＰは差圧（力の単位／単位面積）である。）
【数７】
2012504815.tif 000004
（かっこ内に示す各変数を表す式は、それぞれの参照式を大まかに模して求める。）
【請求項２２】
前記マイクロプロセッサは、前記プロセス条件の参照値を表す信号と前記プロセス条件の近似値を表す信号との差を縮小させるように、前記プロセス条件の近似式に用いられる係数を調整するようになっていることを特徴とする請求項１８に記載のワークステーション。
【請求項２３】
前記プロセス条件の近似式に用いられる調整された係数は、前記通信回路とプロセス制御ネットワークを介して、前記プロセストランスミッタの電子部品に伝送され、かつこのプロセストランスミッタの電子部品により、前記プロセス制御用の変数および検知されたプロセス変数に基づいて、プロセス条件の近似式からプロセス条件の近似値を計算するために用いられるようになっていることを特徴とする請求項２２に記載のワークステーション。
【請求項２４】
前記マイクロプロセッサは、前記プロセス条件の近似値を表す信号が、プロセス条件の参照値を表す信号との対比において、ユーザが特定した正確さの範囲内に収まるように、前記プロセス条件の近似式に用いられる係数を調整するようになっていることを特徴とする請求項２２に記載のワークステーション。
【請求項２５】
産業プロセス制御システムであって、
プロセス制御ネットワークと、
前記プロセス制御ネットワークと接続されたプロセストランスミッタであって、
産業プロセスのプロセス変数を計測し、このプロセス変数の値を表すセンサ信号を生成するセンサ、および
前記センサと接続され、前記センサ信号を調整し、トランスミッタの係数を含むトランスミッタの式に基づくプロセス条件の近似値を表す信号を生成するとともに、このプロセス条件の近似値を表す信号と前記調整されたセンサ信号を、前記プロセス制御ネットワークを経由して伝送するようになっている回路モジュールを含むプロセストランスミッタと、
前記プロセストランスミッタから所定の距離を隔てた箇所に設置されるワークステーションであって、前記プロセス制御ネットワークに接続され、プロセス条件の参照式とシミュレーションプロセス条件を含むプロセス制御用の変数とに基づいてプロセス条件の参照値を表す信号、ならびにトランスミッタの式および前記プロセストランスミッタの回路モジュールで生成されるプロセス条件の近似式を、シミュレーションプロセス条件および近似値の係数を含む近似式を用いてエミュレートしてプロセス条件の近似値を表す信号を生成しうるデジタル式のプロセッサを含むワークステーションとを備える産業プロセス制御システム。
【請求項２６】
前記プロセス制御用の変数を入力しうるよう、前記デジタル式のプロセッサに接続されたユーザインターフェースをさらに備えることを特徴とする請求項２５に記載の産業プロセス制御システム。
【請求項２７】
前記プロセス条件の参照値を表す信号の値、前記プロセス条件の近似値を表す信号の値、およびプロセス条件をシミュレートした値を保存しうるメモリをさらに備えることを特徴とする請求項２６に記載の産業プロセス制御システム。
【請求項２８】
前記ワークステーションのプロセッサは、前記メモリに保存された値に基づくレポートを作成するようになっていることを特徴とする請求項２７に記載の産業プロセス制御システム。
【請求項２９】
前記ワークステーションのプロセッサは、前記プロセストランスミッタが前記プロセス制御ネットワークとオンライン状態にある間に、前記プロセス条件の参照値を表す信号の値と、前記プロセス条件をシミュレートした値とを対比するようになっていることを特徴とする請求項２７に記載の産業プロセス制御システム。
【請求項３０】
前記プロセス条件をシミュレートした値は、前記ワークステーションのプロセッサに提供されるシミュレーションデータを用いてつくり出されるようになっていることを特徴とする請求項２９に記載の産業プロセス制御システム。
【請求項３１】
前記ワークステーションのプロセッサは、前記プロセストランスミッタが前記プロセス制御ネットワークとオフライン状態にある間に、前記プロセス条件の参照値を表す信号と、前記プロセストランスミッタの回路モジュールが生成したプロセス条件の近似値を表す信号とを対比するようになっていることを特徴とする請求項２７に記載の産業プロセス制御システム。
【請求項３２】
前記ワークステーションのプロセッサは、前記トランスミッタの係数を係数の近似値に置き換えることを特徴とする請求項３１に記載の産業プロセス制御システム。
【請求項３３】
前記プロセス条件の参照式は、下記数８で表され、
【数８】
2012504815.tif 000005
（ここで、Ｑmは質量流量（質量の単位／単位時間）、
Ｎは単位変換因子（単位は種々に変わる）、
Ｃdは排出係数（無次元数）、
Ｙ1はガス膨張因子（無次元数）、
Ｅはアプローチ因子の速度（無次元数）、
ｄはプライマリエレメントにおける絞り部の径（長さの単位）、
ρは密度（質量の単位／単位体積）、
ΔＰは差圧（力の単位／単位面積）である。）
前記プロセス条件の近似式は、前記プロセス条件の参照式を大まかに模してつくり出され、
前記プロセス条件の近似値を表す信号は、浮動小数点数演算により生成され、
前記プロセス条件の参照値を表す信号は、整数演算により生成されるようになっていることを特徴とする請求項３２に記載の産業プロセス制御システム。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３７】
工程１０６においては、マイクロプロセッサ７０は、メモリ７６へ与えられたプロセス制御用の変数の入力データを用いて、プロセス条件の参照式から、プロセス条件の参照値を表す信号を生成する。プロセス条件の参照式（例えば方程式[１]）は、プロセス条件（プロセス流体Ｆの質量流量Ｑm等）の参照値を求めるために用いる。マイクロプロセッサ７０は、質量流量Ｑmの参照値を正確なものにするため、倍精度型の整数演算を行う。ワークステーション２０は、外部電源２２に接続されているため（図２参照）、マイクロプロセッサ７０は、必要に応じて、高速の演算を行いうる構成にすることができる。マイクロプロセッサ７０は、温度と圧力の予想される範囲、およびすでに設定されたプロセス制御用の変数の下、種々の補間手法を用いて、プロセス条件の近似式に現れる変数を与える多項式の形、およびこの多項式で用いる係数を定める。例えば、矢印１０８で示すように、放出係数[Ｃd]（方程式[３]により表される）は、カーブフィッティングにより求める。方程式[３]の形を決める際には、マイクロプロセッサ７０において、各変数を表す多項式で用いる複数の係数からなる組をつくる。方程式[３]の形を決めた後は、これをマイクロプロセッサ７０自身で使用するとともに、プロセストランスミッタ１２へも送る。