(57)【要約】【課題】本発明は、各層の密着性が良好で、高温高湿雰囲気下においても位相差性の変動が少なく、さらに生産性に優れた位相差フィルムを提供することを主目的とする。【解決手段】本発明は、樹脂材料からなる透明基板と、上記透明基板上に形成され上記樹脂材料と、屈折率異方性を有する光学異方性材料とを含有する光学異方性層とを有し、光学的に負のＣプレートとしての性質を有する位相差フィルムであって、位相差フィルム中に残留する溶媒の量が２０ｍｇ／ｍ２以下であることを特徴とする位相差フィルムを提供することにより上記課題を解決するものである。【選択図】図１
2008009345.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂材料からなる透明基板と、前記透明基板上に形成され、前記樹脂材料および屈折率異方性を有する光学異方性材料を含有する光学異方性層とを有し、光学的に負のＣプレートとしての性質を有する位相差フィルムであって、
位相差フィルム中に残留する溶媒の量が２０ｍｇ／ｍ２以下であることを特徴とする、位相差フィルム。
【請求項２】
前記溶媒の沸点が１１０℃以上であることを特徴とする、請求項１に記載の位相差フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置の視野角補償フィルム等に用いられる位相差フィルムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、その省電力、軽量、薄型等といった特徴を有することから、従来のＣ
ＲＴディスプレイに替わり、近年急速に普及している。一般的な液晶表示装置は、図３に示すように、入射側の偏光板１０２Ａと、出射側の偏光板１０２Ｂと、液晶セル１０４とを有する。偏光板１０２Ａおよび１０２Ｂは、所定の振動方向の振動面を有する直線偏光（図中、矢印で模式的に図示）のみを選択的に透過させるように構成されたものであり、それぞれの振動方向が相互に直角の関係になるようにクロスニコル状態で対向して配置されている。また、液晶セル１０４は画素に対応する多数のセルを含むものであり、偏光板１０２Ａと１０２Ｂとの間に配置されている。
【０００３】
このような液晶表示装置は、上記液晶セルに用いられる液晶材料の配列形態により種々の駆動方式を用いたものが知られており、今日、普及している液晶表示装置の主たるものは、ＴＮ、ＳＴＮ、ＭＶＡ、ＩＰＳおよびＯＣＢ等に分類される。なかでも今日においては、上記ＭＶＡおよびＩＰＳの駆動方式を有するものが広く普及するに至っている。
【０００４】
一方、液晶表示装置は上述したような利点を有するが、その特有の問題点として視野角依存性の問題点がある。この視野角依存性の問題は、液晶表示装置を正面から見た場合と、斜め方向から見た場合とで、視認される画像の色味やコントラストが変化してしまう問題である。このような視野角特性の問題は、近年の液晶表示装置の大画面化に伴って、さらにその問題の重大性を増しつつある。
【０００５】
このような視野角依存性の問題を改善するため、現在までに様々な技術が開発されており、その代表的な方法として位相差フィルムを用いる方法がある。この位相差フィルムを用いる方法は、図３に示すように所定の光学特性を有する位相差フィルム３０を、液晶セル１０４と偏光板１０２Ｂとの間に配置することにより、視野角性の問題を改善する方法である。この方法は位相差フィルム３０を液晶表示装置に組み込むことのみで上記視野角依存性の問題点を改善できることから、簡便に視野角特性に優れた液晶表示装置を得る方法として広く用いられるに至っている。
【０００６】
上記位相差フイルムとしては、図４に示すように任意の透明基板４１上に配向膜４２を設け、さらに当該配向膜４２上に光学異方性材料を有する光学異方性層４３を形成し、上記配向膜４２の配向規制力により上記光学異方性材料を配向させて所望の屈折率異方性を発現させる構成を有するものが一般的である。このような位相差フイルムとしては、例えば特許文献１または特許文献２に、コレステリック規則性の分子構造を有する光学異方性層（複屈折性を示す光学異方性層）が用いられた位相差フイルムが開示されている。また、特許文献３には、円盤状化合物からなる光学異方性層（複屈折性を示す光学異方性層）が用いられた位相差フイルムが開示されている。
【０００７】
このような光学異方性層を用いる位相差フィルムは、上記光学異方性材料の配列形態を変更させることにより、屈折率異方性を任意に調整することができるという利点や、一般的に光学異方性材料は固有複屈折率が大きいため、上記屈折率異方性を発現しやすいという利点を有する。
しかしながら、その一方で、このような光学異方性層を有する位相差フィルムにおいては、上記透明基板と、上記光学異方性層との密着性が低いという問題点があった。
【０００８】
この点、特許文献４には、上記光学異方性層として、上記透明基板を構成する樹脂材料と光学異方性材料とを含有するものが用いられた位相差フィルムが開示されている。このような位相差フィルムは、上記透明基板を構成する樹脂材料が上記光学異方性層に含有されることにより、上記光学異方性層と、上記透明基板との密着性を向上することができるため、従来の位相差フィルムの欠点を克服した実用性の高い位相差フィルムとして着目されている。
【０００９】
ところで、上述したような光学異方性材料を含有する光学異方性層が用いられた位相差フィルムを製造する方法としては、通常、上記透明基板上に、光学異方性材料が溶媒に溶解された光学異方性層形成用塗工液を塗工し、上記光学異方性材料を配列させて光学異方性層を形成する方法が用いられる。このような方法は一般的に位相差フィルムを製造する方法として広く用いられているものではあるが、上記光学異方性層形成用塗工液に用いられた溶媒が製造された位相差フィルム中に残留すると、経時で上記残留溶媒が揮発することにより上記光学異方性層の位相差性が変化してしまうという問題点が指摘されている。特に高温高湿雰囲気下においては、上記残留溶媒が経時的に揮発しやすいことから、このような問題点が顕在化しつつある。
このため、上記のような方法で位相差フィルムを製造するに際しては、残留溶媒量をできるだけ少なくすることが求められている。
【００１０】
ここで、上記特許文献４に開示された位相差フィルムは、上記光学異方性層中に、上記基材を構成する樹脂が含有されることにより密着性に優れるという利点を有するものであるが、その一方で、光学異方性層中に含有される光学異方性材料は、上記樹脂材料との共存下において配列することが必要になるため、位相差フィルムの製造過程において上記光学異方性材料の配列に要する時間が長くなることが分かっている。このため、上記特許文献４に開示されたような位相差フィルムを製造する際には、上記光学異方性層形成用塗工液に用いられる溶媒として、沸点の高い溶媒を用い、溶媒の乾燥に要する時間を長くすることにより、上記光学異方性材料の配列時間を長くするような工夫が施されることが多い。このようなことから、特許文献４に開示されたような位相差フィルムを製造する過程においては、上記沸点の高い溶媒を光学異方性層中に残留させないようにするために、上記光学異方性材料を配列させた後、長時間の乾燥工程や、高温での乾燥工程を実施することにより、上記溶媒を十分に少なくすることが必要とされている。
【００１１】
しかしながら、上記残留溶媒量を十分に少なくするために長時間の乾燥工程を行うと、位相差フィルムの生産性が著しく低下し、またエネルギーコストも増大することから、工業的生産性が損なわれてしまうという問題点がある。また、高温での乾燥工程を実施すると、乾燥に伴うフィルムの収縮量が大きくなり、製造中の位相差フィルムにシワが生じてしまったり、また、製造される位相差フィルムのカールが大きくなってしまう等の問題点がある。
一方で、乾燥が不十分であると、製造される位相差フィルム中の残留溶媒量が多くなり、高温高湿雰囲気下における位相差性の経時的な変化量が、液晶表示装置の許容範囲よりも大きくなってしまうという問題点がある。
【００１２】
このようなことから、特許文献４に開示されたような位相差フィルムは、密着性に優れるという利点を有するものの、位相差性の耐久性と生産性とを両立することが困難であることから、実用性に欠けるという問題点があった。
【００１３】
【特許文献１】特開平３−６７２１９号公報
【特許文献２】特開平４−３２２２２３号公報
【特許文献３】特開平１０−３１２１６６号公報
【特許文献４】国際公開第２００６／０２８２１７号パンフレット
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、各層の密着性が良好で、高温高湿雰囲気下においても位相差性の経時的変動が少なく、さらに生産性に優れた位相差フィルムを提供することを主目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明者らは、本発明のような構成を有する位相差フィルムにおいて、位相差フィルム中の残留溶媒量と、高温高湿雰囲気下における位相差性の変化量との関係について鋭意検討した結果、上記残留溶媒量２０ｍｇ／ｍ２付近を境に、高温高湿雰囲気下における位相差性の変化量が顕著に低減されることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１６】
すなわち、上記課題を解決するために本発明は、樹脂材料からなる透明基板と、上記透明基板上に形成され、上記樹脂材料および屈折率異方性を有する光学異方性材料を含有する光学異方性層とを有し、光学的に負のＣプレートとしての性質を有する位相差フィルムであって、位相差フィルム中に残留する溶媒の量が２０ｍｇ／ｍ２以下であることを特徴とする位相差フィルムを提供する。
【００１７】
本発明によれば、位相差フィルム中に残留する溶媒量が２０ｍｇ／ｍ２以下であることにより、高温高湿雰囲気下において位相差フィルム中から溶媒が揮発することに起因する位相差性の変化量を少なくすることができる。このため、本発明によれば高温高湿雰囲気下においても位相差性の変動が少ない位相差フィルムを得ることができる。
また本発明によれば、位相差フィルム中に残留する溶媒量が２０ｍｇ／ｍ２であることにより、本発明の位相差フィルムを製造する工程において過度の乾燥工程が不要となるため、生産性に優れた位相差フィルムを得ることができる。
さらに本発明によれば、上記光学異方性層が上記透明基板を構成する樹脂材料を含有するものであることにより、上記光学異方性層と上記透明基板との密着性を向上することができる。
このようなことから本発明によれば、光学異方性層と透明基板との密着性が良好で、高温高湿雰囲気下においても位相差性の変動が少なく、さらに生産性に優れた位相差フィルムを得ることができる。
【００１８】
本発明においては、上記位相差フィルム中に残留する溶媒の沸点が１１０℃以上であることが好ましい。このような沸点の溶媒は位相差フィルム中に残留したとしても、高温高湿雰囲気下において揮発しにくいため、高温高湿雰囲気下において位相差性の変動がより少ない位相差フィルムを得ることができるからである。
【発明の効果】
【００１９】
本発明は、各層の密着性が良好で、高温高湿雰囲気下においても位相差性の経時的変動が少なく、さらに生産性に優れる位相差フィルムを得ることができるという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本発明の位相差フィルムについて詳細に説明する。
【００２１】
本発明の位相差フィルムは、樹脂材料からなる透明基板と、上記透明基板上に形成され、上記樹脂材料および屈折率異方性を有する光学異方性材料を含有する光学異方性層と、を有し、光学的に負のＣプレートとしての性質を有するものであって、位相差フィルム中に残留する溶媒の量が２０ｍｇ／ｍ２以下であることを特徴とするものである。
【００２２】
このような本発明の位相差フィルムについて図を参照しながら説明する。図１は本発明の位相差フィルムの一例を示す概略図である。図１に例示するように本発明の位相差フィルム１０は、樹脂材料からなる透明基板１と、上記透明基板１上に形成され、上記透明基板１を構成する樹脂材料、および、屈折率異方性を有する光学異方性材料を含有する光学異方性層２とを有するものである。
また、本発明の位相差フィルム１０は、位相差フィルム１０全体として、光学的に負のＣプレートとしての性質を有するものである。
このような例において、本発明の位相差フィルム１０は、位相差フィルム１０中に残留する溶媒量が２０ｍｇ／ｍ２以下であることを特徴とするものである。
【００２３】
従来、本発明のような、光学異方性層中に透明基板を構成する樹脂を含有する構成を有する位相差フィルムは、光学異方性層と透明基板との密着性に優れるという利点を有するが、その一方で、その製造過程において上記光学異方性材料の配列に要する時間が長くなるという面があった。このため、このような構成を有する位相差フィルムを製造する際には、乾燥に時間がかかる高沸点溶媒を含む光学異方性層形成用塗工液を用い、上記光学異方性材料の配列時間を長くするような工夫が施されることが多かった。
一方、位相差フィルム中の残留溶媒量が多いと、高温高湿雰囲気下において残量溶媒が経時的に揮発することに起因する位相差性の変化量が大きくなってしまうことから、上記位相差フィルムを製造する過程においては、上記高沸点溶媒を光学異方性層中に残留させないようにするため、長時間の乾燥工程や、高温での乾燥工程を実施することが必要とされていた。
しかしながら、残留溶媒量を十分に少なくするために長時間の乾燥工程を行うと、位相差フィルムの生産性が著しく低下し、またエネルギーコストも増大することから、工業的生産性が損なわれてしまうという問題があった。また、高温での乾燥工程を実施すると、乾燥に伴うフィルムの収縮量が大きくなり、製造中の位相差フィルムにシワが生じてしまったり、また、製造される位相差フィルムのカールが大きくなってしまう等の問題点があった。
このようなことから、従来、本発明のような構成を有する位相差フィルムは、密着性に優れるという利点を有するものの、高温高湿雰囲気下における位相差性の耐久性と、生産性との双方に優れた位相差フィルムを得ることが困難であった。
【００２４】
この点、本発明は、位相差フィルム中の残留溶媒量を２０ｍｇ／ｍ２以下とすることにより、上記位相差性の耐久性と生産性との両立を実現し、各層の密着性が良好で、高温高湿雰囲気下においても経時的に位相差性の変動が少なく、さらに生産性に優れる位相差フィルムを提供することを可能とするものである。
本発明によれば、位相差フィルム中に残留する溶媒量が２０ｍｇ／ｍ２以下であることにより、高温高湿雰囲気下において経時的に位相差フィルム中から溶媒が揮発することに起因する位相差性の変化量を少なくすることができる。このため、本発明によれば高温高湿雰囲気下においても経時的に位相差性の変動が少ない位相差フィルムを得ることができる。
また本発明によれば、位相差フィルム中に残留する溶媒量が２０ｍｇ／ｍ２であることにより、本発明の位相差フィルムを製造する工程において過度の乾燥工程が必要とされないため、生産性に優れた位相差フィルムを得ることができる。
さらに本発明によれば、上記光学異方性層が上記透明基板を構成する樹脂材料を含有することにより、上記光学異方性層と上記透明基板との密着性を向上することができる。
【００２５】
このようなことから本発明によれば、本発明のような構成を有する位相差フィルムであっても高温高湿雰囲気下においても経時的に位相差性の変動が少なく、さらに生産性に優れた位相差フィルムを得ることができる。
【００２６】
また、本発明の位相差フィルムは、残留溶媒量が２０ｍｇ／ｍ２以下であることにより、例えば、本発明の位相差フィルムの形態が、長尺に形成され、ロール状に巻き取られた形態である場合に、互いに重なり合った位相差フィルム同士が、望まれない密着をする「ブロッキング現象」を低減することができるという利点も有する。
【００２７】
さらに、本発明の位相差フィルムは、残留溶媒量が２０ｍｇ／ｍ２以下であることにより、例えば、上記光学異方性層に重合開始剤や重合禁止剤が含有されている場合に、上記重合開始剤が経時で揮散することによって、光学異方性層の黄色度が変化することを防止できるという利点や、上記重合禁止剤が経時で揮散することによって、光学異方性層の硬化度が変化することを防止できるという利点も有する。
【００２８】
本発明の位相差フィルムは、少なくとも上記透明基板、および、光学異方性層を有するものである。
以下、本発明の位相差フィルムに用いられる各構成について順に説明する。
【００２９】
１．光学異方性層
まず、本発明に用いられる光学異方性層について説明する。本発明に用いられる光学異方性層は、後述する透明基板を構成する樹脂材料と、屈折率異方性を有する光学異方性材料とを含有するものである。また、本発明に用いられる光学異方性層は、本発明の位相差フィルムに所望の位相差性を付与する機能を有するものである。
本発明においては光学異方性層に上記樹脂材料が含有されることにより、光学異方性層と、透明基板との密着性に優れた位相差フィルムを得ることができるのである。
【００３０】
また、本発明のような光学異方性材料を有する光学異方性層が用いられた位相差フィルムにおいては、従来、上記光学異方性材料を配列させるための配向層が用いられるのが一般的であった。しかしながら、本発明においては光学異方性層に上記樹脂材料を含有することにより、そのような配向層を用いなくても上記光学異方性材料を本発明の位相差フィルムに光学的に負のＣプレートとしての性質を付与できるように配列することが可能になる。このようなことから、本発明における光学異方性層に上記樹脂材料が含有されることは、上記配向層を不要とする結果となり、本発明の位相差フィルムを生産性に優れたものにできるという利点も有することになる。
以下、このような光学異方性層について詳細に説明する。
【００３１】
（１）光学異方性材料
本発明に用いられる光学異方性材料は、屈折率異方性を有するものである。
ここで、「屈折率異方性」とは、入射される光に対する屈折率が、光の入射方向によって異なることを意味するものである。
【００３２】
本発明に用いられる光学異方性材料は、光学異方性層に所望の位相差性を付与できるものであれば特に限定されるものではない。なかでも本発明においては、上記光学異方性材料として棒状化合物を用いることが好ましい。棒状化合物は規則的に配列させることにより優れた位相差性を発現できるため、本発明の位相差フィルムに所望の位相差性を付与することが容易になるからである。
ここで、本発明における「棒状化合物」とは、分子構造の主骨格が棒状となっているものを指す。
【００３３】
上記棒状化合物としては、分子量が比較的小さい化合物が好ましい。より具体的には、分子量が２００〜１２００の範囲内である化合物が好ましく、特に４００〜８００の範囲内である化合物が好適に用いられる。その理由は次の通りである。
すなわち、本発明に用いられる光学異方性層は、上記光学異方性材料と、後述する透明基板を構成する樹脂材料とを含有するものであるが、上記棒状化合物として分子量が比較的小さい化合物を用いることにより、上記光学異方性層において上記棒状化合物が上記樹脂材料と混合しやすくなるからである。
なお、上記棒状化合物として重合性官能基を有する材料を用いる場合、上記棒状化合物の分子量は、重合前のモノマーの分子量を示すものとする。
【００３４】
また、本発明に用いられる棒状化合物は、液晶性を示す液晶性材料であることが好ましい。液晶性材料は規則的に配列する特性を備えるため、このような液晶性材料を用いることにより、本発明の位相差フィルムに所望の位相差性を付与することが容易になるからである。
【００３５】
上記液晶性材料としては、本発明の位相差フィルムに所望の位相差性を付与できるものであれば特に限定されるものではない。このような液晶性材料としては、例えば、ネマチック相、コレステリック相、および、スメクチック相等の液晶相を示す材料を挙げることができる。本発明においてはこれらのいずれの液晶相を示す材料であっても好適に用いることができるが、なかでもネマチック相を示す液晶性材料を用いることが好ましい。ネマチック相を示す液晶性材料は、他の液晶相を示す液晶性材料と比較して規則的に配列させることが容易であるからである。
【００３６】
また、上記ネマチック相を示す液晶性材料としては、メソゲン両端にスペーサを有する材料を用いることが好ましい。メソゲン両端にスペーサを有する液晶性材料は柔軟性に優れるため、このような液晶性材料を用いることにより、本発明の位相差フィルムを透明性に優れたものにできるからである。
【００３７】
本発明に用いられる棒状化合物は、分子内に重合性官能基を有するものが好適に用いられ、なかでも３次元架橋可能な重合性官能基を有するものがより好適に用いられる。上記棒状化合物が重合性官能基を有することにより、上記棒状化合物を重合して固定することが可能になるため、配列安定性に優れ、位相差性の経時変化が生じにくい光学異方性層を得ることができるからである。
また、本発明においては上記重合性官能基を有する棒状化合物と、上記重合性官能基を有さない棒状化合物とを混合して用いてもよい。
なお、上記「３次元架橋」とは、液晶性分子を互いに３次元に重合して、網目（ネットワーク）構造の状態にすることを意味する。
【００３８】
上記重合性官能基としては、例えば、紫外線、電子線等の電離放射線、或いは熱の作用によって重合する重合性官能基を挙げることができる。これら重合性官能基の代表例としては、ラジカル重合性官能基、或いはカチオン重合性官能基等が挙げられる。さらにラジカル重合性官能基の代表例としては、少なくとも一つの付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が挙げられ、具体例としては、置換基を有するもしくは有さないビニル基、アクリレート基（アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基を包含する総称）等が挙げられる。また、上記カチオン重合性官能基の具体例としては、エポキシ基等が挙げられる。その他、重合性官能基としては、例えば、イソシアネート基、不飽和三重結合等が挙げられる。これらの中でもプロセス上の点から、エチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が好適に用いられる。
【００３９】
また、本発明における棒状化合物は液晶性を示す液晶性材料であって、末端に上記重合性官能基を有するものが特に好ましい。このような液晶材料を用いることにより、例えば、互いに３次元に重合して、網目（ネットワーク）構造の状態にすることができるため、列安定性を備え、かつ、光学特性の発現性に優れた光学異方性層を形成することができるからである。
なお、本発明においては片末端に重合性官能基を有する液晶性材料を用いた場合であっても、他の分子と架橋して配列安定化することができる。
【００４０】
本発明に用いられる棒状化合物の具体例としては、下記式（１）〜（６）で表される化合物を例示することができる。
【００４１】
【化１】
2008009345.tif 000003
【００４２】
ここで、化学式（１）、（２）、（５）および（６）で示される液晶性材料は、Ｄ.Ｊ.Ｂｒｏｅｒら、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．１９０,３２０１−３２１５（１９８９）、またはＤ.Ｊ.Ｂｒｏｅｒら、Ｍａｋｒｏｍｏｌ.Ｃｈｅｍ.１９０,２２５０（１９８９）に開示された方法に従い、あるいはそれに類似して調製することができる。また、化学式（３）および（４）で示される液晶性材料の調製は、ＤＥ１９５,０４,２２４に開示されている。
【００４３】
また、末端にアクリレート基を有するネマチック液晶性材料の具体例としては、下記化
学式（７）〜（１７）に示すものも挙げられる。
【００４４】
【化２】
2008009345.tif 000004
【００４５】
なお、本発明に用いられる上記棒状化合物は、１種類のみであってもよく、または、２種以上であってもよい。例えば、上記棒状化合物として、両末端に重合性官能基を１つ以上有する液晶性材料と、片末端に重合性官能基を１つ以上有する液晶性材料とを混合して用いると、両者の配合比の調整により重合密度（架橋密度）及び光学特性を任意に調整できる点から好ましい。
【００４６】
本発明における光学異方性層中に含有される光学異方性材料の含有量としては、本発明の位相差フィルムに所望の位相差性を付与できる範囲内であれば特に限定されるものではない。なかでも本発明においては４０質量％〜９０質量％の範囲内であることが好ましい。含有量が上記範囲よりも少ないと、本発明の位相差フィルムに所望の位相差性を付与することが困難となる可能性があるからである。また、含有量が上記範囲よりも多いと、光学異方性層と後述する透明基板との密着性が低下してしまう恐れがあるからである。
【００４７】
なお、上記光学異方性材料として重合性官能基を有する化合物を用いた場合、光学異方性層中に含有される光学異方性材料は、通常、上記重合性官能基を介して重合された重合物となる。
【００４８】
（２）樹脂材料
次に、本発明に用いられる樹脂材料について説明する。本発明に用いられる樹脂材料は、後述する透明基板を構成する樹脂材料と同一のものである。
本発明においては、上記光学異方性層にこのような樹脂材料を含有することにより、光学異方性層と、透明基板との密着性に優れた位相差フィルムを得ることができる。
【００４９】
ここで、本発明に用いられる樹脂材料については、後述する「２．透明基板」の項において詳述するため、ここでの説明は省略する。
【００５０】
本発明における光学異方性層に含有される樹脂材料の量としては、本発明の位相差フィルムにおいて、光学異方性層と後述する透明基板との密着性を所望の範囲にできる範囲内であれば特に限定されるものではない。なかでも本発明においては１０質量％〜６０質量％の範囲内であることが好ましい。上記含有量が上記範囲より多いと、本発明の位相差フィルムに所望の位相差性を付与することが困難となる可能性があるからである。また、上記範囲よりも少ないと光学異方性層と後述する透明基板との密着性が不十分となってしまう恐れがあるからである。
【００５１】
（３）光学異方性層
本発明に用いられる光学異方性層には、上記光学異方性材料および上記樹脂材料以外に他の化合物が含有されていてもよい。本発明に用いられる上記他の化合物としては、例えば、ポリジメチルシロキサン、メチルフェニルシロキサン、有機変性シロキサン等のシリコン形レベリング剤；ポリアルキルアクリレート、ポリアルキルビニルエーテル等の直鎖状重合物；フッ素系界面活性剤、炭化水素系界面活性剤等の界面活性剤；テトラフルオロエチレン等のフッ素系レベリング剤；光重合開始剤等を挙げることができる。
なかでも本発明においては、上記光学異方性材料として、光照射により重合する重合性官能基を有する棒状化合物を用いる場合に、上記他の化合物として光重合開始剤を含むことが好ましい。
【００５２】
本発明に用いられる光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミン）ベンゾフェノン、α−アミノ・アセトフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンズスベロン、メチレンアントロン、４−アジドベンジルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキサノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１，３−ジフェニル−プロパントリオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−３−エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、ミヒラーケトン、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、ｎ−フェニルチオアクリドン、４，４−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホスフィン、カンファーキノン、アデカ社製Ｎ１７１７、四臭化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイン、エオシン、メチレンブルー等の光還元性色素とアスコルビン酸やトリエタノールアミンのような還元剤との組み合わせ等を例示できる。本発明では、これらの光重合開始剤を１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００５３】
上記光重合開始剤の含有量としては、上記棒状化合物を所望の時間で重合できる範囲内であれば特に限定されないが、通常、上記棒状化合物１００重量部に対して、１重量部〜１０重量部の範囲内が好ましく、特に３重量部〜６重量部の範囲内が好ましい。
【００５４】
上記光重合開始剤を用いる場合には、光重合開始助剤を併用することができる。このような光重合開始助剤としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン等の３級アミン類や、２−ジメチルアミノエチル安息香酸、４−ジメチルアミド安息香酸エチル等の安息香酸誘導体を例示することができるが、これらに限られるものではない。
【００５５】
さらに本発明における上記光学異方性層には、本発明の目的を損なわない範囲内で、下記に示すような化合物を添加することができる。添加できる化合物としては、例えば、多価アルコールと１塩基酸または多塩基酸を縮合して得られるポリエステルプレポリマーに、（メタ）アクリル酸を反応させて得られるポリエステル（メタ）アクリレート；ポリオール基と２個のイソシアネート基を持つ化合物を互いに反応させた後、その反応生成物に（メタ）アクリル酸を反応させて得られるポリウレタン（メタ）アクリレート；ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ポリカルボン酸ポリグリシジルエステル、ポリオールポリグリシジルエーテル、脂肪族または脂環式エポキシ樹脂、アミノ基エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、ジヒドロキシベンゼン型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂と、（メタ）アクリル酸を反応させて得られるエポキシ（メタ）アクリレート等の光重合性化合物；アクリル基やメタクリル基を有する光重合性の液晶性化合物等が挙げられる。このような化合物を含有することにより本発明に用いられる上記光学異方性層の機械強度が向上し、安定性が改善される場合がある。
【００５６】
なお、本発明に用いられる光学異方性層の厚みとしては、上記光学異方性材料や、後述する透明基板の種類に応じて、本発明の位相差フィルムに所望の位相差性を付与することができる範囲内であれば特に限定されるものではない。なかでも本発明における上記光学異方性層の厚みは、通常、０．５μｍ〜２０μｍの範囲内であることが好ましい。
【００５７】
２．透明基板
次に、本発明に用いられる透明基板について説明する。本発明に用いられる透明基板は、樹脂材料からなるものである。
【００５８】
本発明に用いられる透明基板の透明度は、本発明の位相差フイルムに求める透明性等に応じて任意に決定すればよいが、通常、可視光領域における透過率が８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。
ここで、上記透明基板の透過率は、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１（プラスチックー透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。
【００５９】
また、本発明に用いられる透明基板は位相差性を有するものであってもよい。このとき、透明基板のレターデーション値としては、本発明の位相差フィルムに所望の位相差性を付与できる範囲内であれば特に限定されるものではない。なかでも本発明に用いられる透明基板は、５５０ｎｍにおけるレターデーション値が０ｎｍ〜５０ｎｍの範囲内であるものが好ましい。
ここで、上記レターデーション値（以下、単に「Ｒｅ」と称する場合がある。）は、透明基板の面内方向に於ける遅相軸方向の屈折率をｎｘ、面内方向に於ける進相軸方向の屈折率をｎｙ、透明基板の厚みをｄとしたときに、Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄで表される量である。そして、このようなＲｅは、例えば、王子計測機器株式会社製  ＫＯＢＲＡ−ＷＲを用い、平行ニコル回転法により測定することができる。
【００６０】
なお、本発明に用いられる透明基板のＲｅの波長依存性は、長波長側よりも短波長側のほうが値が大きい正分散であってもよく、または、長波長側よりも短波長側のほう値が小さい逆分散であってもよく、さらには、長波長側と短波長側とで値が変化しないフラット分散であってもよい。
なお、本発明における上記「正分散」は、波長４５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ４５０）と、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ５５０）との比（Ｒｅ４５０／Ｒｅ５５０）（以下、単に「Ｒｅ比」と称する場合がある。）が１よりも大きいことを意味し、また、本発明における上記「逆分散」は上記Ｒｅ比が１よりも小さいことを意味し、さらに、本発明における上記「フラット分散」は、上記Ｒｅ比が１であることを意味するものである。
【００６１】
また、本発明に用いられる透明基板は、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）が、０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲内であるものが好ましい。
ここで、上記厚み方向のレターデーション（以下、単に「Ｒｔｈ」と称する場合がある。）は、透明基板の面内における遅相軸方向の屈折率ｎｘと、面内の進相軸方向の屈折率ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚと、透明基板の厚みｄ（ｎｍ）とにより、Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄの式で表される値である。本発明における厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）の値は、例えば、王子計測機器(株)製  ＫＯＢＲＡ−ＷＲにより測定することができる。
【００６２】
さらに、本発明に用いられる透明基板の厚みは、本発明の位相差フイルムの用途等に応じて、必要な自己支持性が得られる範囲内であれば特に限定されるものではない。通常、板、シート、或いはフィルムと呼稱される様な各種の厚み形態のものから適宜選択出來る。なかでも本発明に用いられる透明基板の厚みは、１０μｍ〜１０００μｍの範囲内であることが好ましく、特に２０μｍ〜１２５μｍの範囲内であることが好ましく、さらには３０μｍ〜８０μｍの範囲内であることが好ましい。
透明基板の厚みが上記の範囲よりも薄いと、本発明の位相差フイルムに必要な自己支持性を付与できない場合があるからである。また、厚みが上記の範囲よりも厚いと、例えば、本発明の位相差フイルムを裁断加工する際に、加工屑が増加したり、裁断刃の磨耗が早くなってしまう場合があるからである。
【００６３】
このような透明基板を構成する樹脂材料としては、例えば、セルロース誘導体、シクロオレフィン系樹脂、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、アモルファスポリオレフィン、変性アクリル系ポリマー、ポリスチレン、エポキシ樹脂、ポリカーボネート、ポリエステル類等を挙げることができる。
なかでも本発明においては、上記樹脂材料としてセルロース誘導体またはシクロオレフィン系樹脂を用いることが好ましい。セルロース誘導体およびシクロオレフィン系樹脂は光学的等方性に優れるため、このような樹脂材料を用いることにより、本発明の位相差フィルムの光学特性の設計が容易になるからである。
【００６４】
上記セルロース誘導体としては、セルロースエステル類を用いることが好ましく、さらに、セルロースエステル類の中では、セルロースアシレート類を用いることが好ましい。セルロースアシレート類は工業的に広く用いられていることから、入手容易性の点において有利だからである。
【００６５】
上記セルロースアシレート類としては、炭素数２〜４の低級脂肪酸エステルが好ましい。低級脂肪酸エステルとしては、例えばセルロースアセテートのように、単一の低級脂肪酸エステルのみを含むものでもよく、また、例えばセルロースアセテートブチレートやセルロースアセテートプロピオネートのような複数の脂肪酸エステルを含むものであってもよい。
【００６６】
また本発明においては、上記低級脂肪酸エステルの中でもセルロースアセテートを特に好適に用いることができる。セルロースアセテートとしては、平均酢化度が５７．５〜６２．５％（置換度：２．６〜３．０）のトリアセチルセルロースを用いることが最も好ましい。トリアセチルセルロースは、比較的嵩高い側鎖を有する分子構造を有することから、このようなトリアセチルセルロースからなる透明基板を用いることにより、透明基板と上上記光学異方性層との密着性をより向上することできるからである。
ここで、酢化度とは、セルロース単位質量当りの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験方法）におけるアセチル化度の測定および計算により求めることができる。なお、トリアセチルセルロースフイルムを構成するトリアセチルセルロースの酢化度は、フィルム中に含まれる可塑剤等の不純物を除去した後、上記の方法により求めることができる。
【００６７】
一方、上記シクロオレフィン系樹脂としては、環状オレフィン（シクロオレフィン）からなるモノマーのユニットを有する樹脂であれば特に限定されるものではない。このような上記環状オレフィンからなるモノマーとしては、例えば、ノルボルネンや多環ノルボルネン系モノマー等を挙げることができる。
また、本発明に用いられるシクロオレフィン系樹脂としては、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）またはシクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）のいずれであっても好適に用いることができる
【００６８】
本発明に用いられるシクロオレフィン系樹脂は上記環状オレフィンからなるモノマーの単独重合体であってもよく、または、共重合体であってもよい。
【００６９】
また、本発明に用いられるシクロオレフィン系樹脂は、２３℃における飽和吸水率が１質量％以下であるもの好ましく、なかでも０．１質量％〜０．７質量％の範囲内であるものが好ましい。このようなシクロオレフィン系樹脂を用いることにより、本発明の位相差フィルムを吸水による光学特性の変化や寸法の変化がより生じにくいものとすることができるからである。
ここで、上記飽和吸水率は、上記吸水率は、ＡＳＴＭＤ５７０に準拠し２３℃の水中で１週間浸漬して増加重量を測定することにより求められる。
【００７０】
さらに、本発明に用いられるシクロオレフィン系樹脂は、ガラス転移点が１００℃〜２００℃の範囲内であるものが好ましく、特に１００℃〜１８０℃の範囲内であるものが好ましく、なかでも１００℃〜１５０℃の範囲内であるものが好ましい。ガラス転移点が上記範囲内であることにより、本発明の位相差フィルムを耐熱性および加工適性により優れたものにできるからである。
【００７１】
本発明に用いられるシクロオレフィン系樹脂からなる透明基板の具体例としては、例えば、Ｔｉｃｏｎａ社製  Ｔｏｐａｓ、ジェイエスアール社製  アートン、日本ゼオン社製  ＺＥＯＮＯＲ、日本ゼオン社製  ＺＥＯＮＥＸ、三井化学社製  アペル等を挙げることができる。
【００７２】
本発明における透明基板の構成は、単一の層からなる構成に限られるものではなく、複数の層が積層された構成を有してもよい。
また、複数の層が積層された構成を有する場合は、同一組成の層が積層されてもよく、また、異なった組成を有する複数の層が積層されてもよい。
【００７３】
３．その他の構成
本発明の位相差フィルムは、上記光学異方性層および上記透明基板以外に他の構成を有するものであってもよい。このような他の構成としては、本発明の位相差フィルムの用途等に応じて、本発明の位相差フィルムに所望の機能を付与できるものであれば特に限定されるものではない。
このような他の構成としては、例えば、ハードコート層、オーバーコート層、ＡＧ層、ＡＲ層等を挙げることができる。
【００７４】
４．位相差フィルム
本発明の位相差フィルムは、残留溶媒量が２０ｍｇ／ｍ２以下であること特徴とするものである。本発明の位相差フィルムの残留溶媒量は、２０ｍｇ／ｍ２以下であれば特に限定されるものではない。なかでも本発明においては上記残留溶媒量が１８ｍｇ／ｍ２以下であること好ましく、特に１５ｍｇ／ｍ２以下であることが好ましい。残留溶媒量が上記範囲であることにより、本発明の位相差フィルムを、より高温高湿雰囲気下における位相差層の変化量が少ないものとすることができるからである。
【００７５】
ここで、本発明における残留溶媒量とは、本発明の位相差フィルム全体に残留する溶媒の総量を意味するものとする。
なお、上記残留溶媒は、通常、上記位相差層が形成される際に用いられた溶媒や、上記透明基板が製膜される際に用いられた溶媒となる。
【００７６】
本発明における上記残留溶媒量は、ガスクロマトグラフィー法により、以下の条件で測定した値を用いるものとする。
＜測定器＞
島津製作所製ＧＣ−９Ａ（データ処理機：島津製作所製ＣＲ−４Ａ）
＜測定条件＞
サイズ１００ｍｍ×１００ｍｍの位相差フィルムをバイアル瓶に封入し、瓶を封入したものを、以下の条件で加温後、ガスクロマトグラフィーにより測定する。
・保温温度：１５０℃
・保温時間：１０分
・繰り返し回数：１
・カラム温度：１００℃
・気化室温度：１５０℃
・シリンジ温度：１５０℃
・検出器極性：２
・検出レンジ：２
・周期：５
【００７７】
また、本発明の位相差フィルム中に残留する溶媒は、特に限定されるものではないが、沸点が１１０℃以上のものが好ましい。このような沸点の溶媒は位相差フィルム中に残留したとしても、高温高湿雰囲気下において揮発しにくいため、高温高湿雰囲気下おいて位相差性の変動がより少ない位相差フィルムを得ることができるからである。
【００７８】
また、本発明の位相差フィルム中に残留する溶媒は、屈折率が１．３〜１．６の範囲内のものが好ましい。このような溶媒であれば、仮に経時で位相差フィルム中から揮散したとしても位相差性の変動を少なくすることができるからである。
【００７９】
このような残留溶媒としては、例えば、ベンゼン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等のケトン系溶媒；テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒：クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化アルキル系溶媒；酢酸メチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル系溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、およびジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒等を挙げることができる。
【００８０】
なお、本発明の位相差フィルムに残留する溶媒は、１種類の溶媒のみであってもよく、または、２種類以上の溶媒であってもよい。
【００８１】
本発明の位相差フィルムが有する位相差性としては、光学的に負のＣプレートとしての性質を示す範囲であれば特に限定されるものではない。
ここで、上記「光学的に負のＣプレートとしての性質」とは、本発明の位相差フィルムの面内における遅相軸方向の屈折率ｎｘと、面内の進相軸方向の屈折率ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚに、ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚ、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚ、または、ｎｙ＞ｎｘ＞ｎｚの関係が成立することを意味するものとする。
なかでも本発明の位相差フィルムはλ／４板としての性質、または、λ／２板としての性質を有することが好ましい。
ここで、上記「λ／４板としての性質を有する」とは、通常、レターデーションの絶対値が、入射光の波長の１／４の値を示すことを意味するものであるが、なかでも本発明の位相差フィルムは、波長５５０ｎｍにおけるレターデーションの絶対値が１２０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲内であることが好ましい。
また、上記「λ／２板としての性質を有する」とは、通常、レターデーションの絶対値が、入射光の波長の１／２の値を示すことを意味するものであるが、なかでも本発明の位相差フィルムは、波長５５０ｎｍにおけるレターデーションの絶対値が２５０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲内であることが好ましい。
ここで、上記Ｒｅの定義、および、測定方法については上記「２．透明基板」の項において説明したものと同様であるため、ここでの説明は省略する。
【００８２】
なお、本発明の位相差フィルムのＲｅの波長依存性は、長波長側よりも短波長側のほうが値が大きい（Ｒｅが波長の減少函数となる）正分散であってもよく、または、長波長側よりも短波長側のほう値が小さい（Ｒｅが波長の増加函数となる）逆分散であってもよく、さらには、長波長側と短波長側とで値が変化しないフラット分散であってもよい。ここで、上記「正分散」、「逆分散」、および、「フラット分散」については、上記「２．透明基板」の項において説明した内容と同様であるため、ここでの説明は省略する。
【００８３】
本発明の位相差フィルムの厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は、０ｎｍ＜Ｒｔｈ≦４００ｎｍの範囲内であることが好ましい。
ここで、上記厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は、面内における遅相軸方向の屈折率ｎｘと、面内の進相軸方向の屈折率ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚと、透明基板の厚みｄ（ｎｍ）とにより、Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄの式で表される値である。
ここで、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）の値は、例えば、王子計測機器(株)製  ＫＯＢＲＡ−ＷＲにより測定することができる。
【００８４】
本発明の位相差フィルムは、上記透明基板上に上記光学異方性層が形成された構成を有するものであるが、本発明において上記透明基板と、上記光学異方性層とが積層された態様としては、上記透明基板と上記光学異方性層とが独立した層として積層された態様であってもよく、または、上記透明基板と光学異方性層との間に明確な界面がなく、両者の間において上記光学異方性材料の含有量が連続的に変化するように積層された態様であってもよい。
【００８５】
このような上記透明基板と上記光学異方性層とが積層された態様について図を参照しながら説明する。図２は本発明の位相差フィルムにおいて、上記透明基板と上記光学異方性層とが積層された態様の一例を示す概略図である。図２に例示するように、本発明の位相差フィルム１０、１０’は、上記透明基板１と上記光学異方性層２とが独立した層として積層された態様であってもよく（図２（ａ））、または、上記透明基板１と光学異方性層２’との間に明確な界面がなく、両者の間において上記光学異方性材料の含有量（濃度）が連続的に変化するように積層された態様であってもよい（図２（ｂ））。
特に、図２（ａ）の様な２層が明確に分離した積層構成の場合は、通常は、光学異方性層２内に於ける上記光学異方性材料の含有量は厚み方向については一定値となるが、勿論、所望によっては、含有量を厚み方向の位置の函数とする（濃度勾配を持たせる）ことも出来る。
【００８６】
また、本発明の位相差フィルムは残留溶媒量が２０ｍｇ／ｍ２であることにより、高温高湿雰囲気下においても位相差性の変化量が少なく、位相差性の耐久性に優れるものとなるが、本発明の位相差フィルムが備える上記耐久性の程度は特に限定されるものではなく、本発明の位相差フィルムの用途に応じて適宜調整すればよい。
なかでも本発明の位相差フィルムは、温度４０℃以上の環境下において、２４時間以上放置した際の、上記Ｒｅおよび上記Ｒｔｈの変化量が４．５％未満であることが好ましく、特に０．０１％〜４％の範囲内であることが好ましく、さらに０．０１％〜３％の範囲内であることが好ましい。
【００８７】
また、本発明の位相差フィルムは、湿度５０％ＲＨ以上の環境下において、２４時間以上放置した際の、上記Ｒｅおよび上記Ｒｔｈの変化量が４．５％未満であることが好ましく、特に０．０１％〜４％の範囲内であることが好ましく、さらに０．０１％〜３％の範囲内であることが好ましい。
【００８８】
さらに、本発明の位相差フィルムは、温度−４０℃以上の環境下において、２４時間以上放置した際の、上記Ｒｅおよび上記Ｒｔｈの変化量が４．５％未満であることが好ましく、特に０．０１％〜４％の範囲内であることが好ましく、さらに０．０１％〜３％の範囲内であることが好ましい。
【００８９】
本発明の位相差フィルムの形態としては、本発明の位相差フィルムの用途等に応じて所望の形態とすることができる。したがって、例えば、長尺に形成され、ロール状に巻き取られた形態であってもよく、所定のサイズに切断加工されたシート状の形態であってもよい。
【００９０】
５．位相差フィルムの用途
本発明の位相差フィルムは、液晶表示装置に用いられる光学補償板、楕円偏光板、輝度向上板等として用いることができる。
【００９１】
本発明の位相差フィルムを液晶表示装置の光学補償板として用いる場合においては、本発明の位相差フィルムを単体で用いることも可能であり、また、本発明の位相差フィルムは、他の光学機能フィルムと積層して用いることも可能である。
【００９２】
本発明の位相差フィルムと、他の光学機能フィルムとを積層して用いる例としては、例えば、本発明の位相差フィルムをＡプレートと積層することによりＶＡ方式用光学補償フィルムとして用いることができる。また、本発明の位相差フィルムがＡプレートとしての性質を有する場合は、負のＣプレートと積層することによりＶＡ方式用光学補償フィルムとして用いることができる。さらに、本発明の位相差フィルムが光学的にＡプレートとしての性質を有する場合には、正のＣプレートと積層することにより、ＩＰＳ方式用光学補償フィルムとして用いることができる。
【００９３】
また、本発明の位相差フィルムは、本発明の位相差フィルム上に、ポジティブＣプレートと、コレステリック配列した液晶分子を含有する液晶層とをこの順で積層することにより、液晶表示装置用の輝度向上フィルムとして用いることも可能である。
【００９４】
さらに本発明の位相差フイルムは、偏光子と貼り合わせることにより、偏光板としての用途にも用いることができる。すなわち、偏光板は、通常、偏光子とその両表面に形成された偏光板保護フイルムとからなるものであるが、本発明においては、例えば、その一方の偏光板保護フイルムとして本発明の位相差フイルムを用いることにより、液晶表示装置の視野角補償機能を備える偏光板を得ることができる。
【００９５】
上記偏光子としては、特に限定されないが、例えばヨウ素系偏光子、二色性染料を用いる染料系偏光子やポリエン系偏光子などを用いることができる。ヨウ素系偏光子や染料系偏光子は、一般にポリビニルアルコールを用いて製造される。
【００９６】
６．位相差フィルムの製造方法
本発明の位相差フィルムの製造方法としては、上記構成を有する位相差フィルムを製造できる方法であれば特に限定されるものではない。このような製造方法としては、例えば、上記透明基板を用い、上記光学異方性材料、および、上記透明基板を構成する樹脂材料を溶解可能な溶媒を含有する光学異方性層形成用塗工液を、上記透明基板上に塗工することにより、上記透明基板上に光学異方性層を形成する方法を挙げることができる。
以下、本発明の位相差フィルムの製造方法の一例として、このような方法について説明する。
【００９７】
上記光学異方性層形成用塗工液に用いられる溶媒としては、後述する透明基板を構成する樹脂材料を溶解できるものであり、かつ、上記光学異方性材料を所望の濃度で溶解できるものであれば特に限定されない。このように上記溶媒として、透明基板を構成する樹脂材料および上記光学異方性材料を溶解できるものを用いることにより、透明基板上に光学異方性層形成用塗工液を塗布する際に、透明基板の表面を一部溶解することができるため、上記透明基板を構成する樹脂材料と、上記光学異方性材料とを含有する光学異方性層を形成することができるのである。
【００９８】
また、上記光学異方性層形成用塗工液に用いられる溶媒は、本発明の位相差フィルム中に残留する主な溶媒となる。したがって、上記溶媒としては、残留溶媒として本発明の位相差フィルム中に残留した際に、フィルム中から揮発しにくいもの、または、フィルム中から揮発することによって生じる位相差性の変化が少ないものを用いることが好ましい。このような観点から、上記溶媒としては沸点が１１０℃以上のものが好ましい。このような沸点の溶媒は位相差フィルム中に残留したとしても、高温高湿雰囲気下において揮発しにくいため、高温高湿雰囲気下おいて位相差性の変動がより少ない位相差フィルムを得ることができるからである。
【００９９】
また、上述した観点から上記溶媒としては、屈折率が１．３〜１．６の範囲内のものが好ましい。
【０１００】
このような溶媒としては、例えば、ベンゼン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等のケトン系溶媒；テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒：クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化アルキル系溶媒；酢酸メチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル系溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、およびジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒を挙げることができる。
なかでも本発明においては、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノンが好適に用いられる。
さらに、上記透明基板としてセルロース誘導体からなる透明基板を用いる場合は、上記溶媒としてシクロヘキサノン、または、メチルシクロヘキサノンを用いることが好ましい。
【０１０１】
なお、上記溶媒は、単一溶媒からなるものに限られるものではなく、複数の溶媒の混合溶媒であってもよい。このような混合溶媒の例としては、例えば、シクロヘキサノンとメチルエチルケトンの混合溶媒、および、シクロヘキサノンとアルコール系溶媒との混合溶媒等を挙げることができる。
【０１０２】
上記光学異方性層形成用塗工液に用いられる、光学異方性材料については、上記「１．光学異方性層」の項において説明したものと同様であるため、ここでの説明は省略する。
また、上記透明基板としては、上記「２．透明基板」の項において説明したものと同様であるため、ここでの説明は省略する。
【０１０３】
上記透明基板上に光学異方性層形成用塗工液を塗工する方法としては、上記透明基板上に、所定量の光学異方性層形成用塗工液を塗工できる方法であれば特に限定されるものではない。このような塗工方法としては、例えば、グラビアコート法、リバースコート法、ナイフコート法、ディップコート法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、ロールコート法、プリント法、浸漬引き上げ法、カーテンコート法、ダイコート法、キャスティング法、バーコート法、エクストルージョンコート法、Ｅ型塗布方法など挙げることができる。
【０１０４】
上記光学異方性層形成用塗工液の塗膜の乾燥方法は、製造される位相差フィルム中の残留溶媒量を２０ｍｇ／ｍ2以下とすることができる方法であれば特に限定されない。このような乾燥方法としては、例えば、加熱乾燥方法、減圧乾燥方法、ギャップ乾燥方法等、一般的に用いられる乾燥方法を用いることができる。また、本工程における乾燥方法は、単一の方法に限られず、例えば塗膜中に残留する溶媒量に応じて順次乾燥方式を変化させる等の態様により、複数の乾燥方式を採用してもよい。
【０１０５】
また、上記光学異方性材料として重合性官能基を有する化合物が用いられる場合、当該光学異方性材料は、上記光学異方性層形成用塗工液の塗膜が乾燥された後に重合されることになるが、このとき、光学異方性材料を重合する方法としては、上記光学異方性材料が有する重合性官能基の種類に応じて任意に決定すればよい。このような方法としては、通常、活性放射線の照射により重合させる方法が好適に用いられる。
【０１０６】
上記活性放射線としては、上記重合性材料を重合することが可能な放射線であれば特に限定されるものではないが、通常は装置の容易性等の観点から紫外光または可視光を使用することが好ましく、なかでも、波長が１５０〜５００ｎｍ、好ましくは２５０〜４５０ｎｍ、さらに好ましくは３００〜４００ｎｍの照射光を用いることが好ましい。
【０１０７】
この照射光の光源としては、低圧水銀ランプ（殺菌ランプ、蛍光ケミカルランプ、ブラックライト）、高圧放電ランプ（高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ）、ショートアーク放電ランプ（超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、水銀キセノンランプ）などが例示できる。中でも、メタルハライドランプ、キセノンランプ、高圧水銀ランプ灯等の使用が推奨される。また、照射強度は、光重合開始剤の含有量等によって適宜調整して照射することができる。
【０１０８】
また、本発明の位相差フィルムの製造に際しては、必要に応じて、透明基板上に光学異方性層を形成した後に、上記透明基板および上記光学異方性層を延伸する工程を実施してもよい。このとき、実施される延伸態様としては、一軸延伸であってもよく、または、二軸延伸であってもよい。
なお、上記延伸に際しては、通常、上記光学異方性層および透明基板をガラス転移温度以上、かつ、融点温度以下に加熱することが望ましい。
【０１０９】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と、実質的に同一の構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなる場合であっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【０１１０】
以下に実施例を示し、本発明についてさらに具体的に説明する。
【０１１１】
（１）実施例１
屈折率異方性材料として下記式で表される光重合性液晶化合物をシクロヘキサノンに１５質量％で溶解することにより光学異方性層形成用塗工液を調製した。
次に、透明基板として、ＴＡＣフィルム（商品名  ＫＣ４ＵＹＷ：コニカミノルタ社製）を用い、当該ＴＡＣフィルム上に上記光学異方性層形成用塗工液をバーコーティングにより塗布した。このとき、上記光学異方性層形成用塗工液の塗布量は、乾燥後の膜厚が４μｍとなるようにした。
【０１１２】
【化３】
2008009345.tif 000005
【０１１３】
次に、塗膜を４０℃で２分間、１１５℃で３０秒間加熱することにより、溶媒を除去するとともに、上記光重合性液晶化合物を、上記ＴＡＣフィルムを構成するトリアセチルセルロースと混合させた。
【０１１４】
次に、乾燥した塗膜に紫外線を照射することにより、上記光重合性液晶材料を固定化し、位相差フィルムを得た。
【０１１５】
作製した位相差フィルムを１０ｃｍ×１０ｃｍにカットし、さらに半分にカットすることで５ｃｍ×１０ｃｍの短冊状のサンプルを２枚作製した。その２枚の短冊状のサンプルを、丸めてバイアル瓶に詰め、ガスクロマトグラフィー法により位相差フィルム中の残留溶媒を測定したところ、９ｍｇ／ｍ２であった。
また、作製した位相差フィルムを温度９０℃のオーブン内に、２４時間以上放置した際の、前後のＲｅの変化量は１．３１％であった。
【０１１６】
（２）実施例２
塗膜の乾燥条件を、４０℃で２分間、および、１００℃で１分間としたこと以外は、実施例１と同様の方法により位相差フィルムを作製した。
【０１１７】
作製した位相差フィルム中の残留溶媒量を実施例１と同様の方法により測定したところ、１６ｍｇ／ｍ２であった。
また、作製した位相差フィルムを温度９０℃のオーブン内に、２４時間以上放置した際の、前後のＲｅの変化量は１．５２％であった。
【０１１８】
（３）実施例３
塗膜の乾燥条件を、４０℃で２分間、および、１００℃で３０秒間としたこと以外は、実施例１と同様の方法により位相差フィルムを作製した。
【０１１９】
作製した位相差フィルム中の残留溶媒量を実施例１と同様の方法により測定したところ、１８ｍｇ／ｍ２であった。
また、作製した位相差フィルムを温度９０℃のオーブン内に、２４時間以上放置した際の、前後のＲｅの変化量は１．５５％であった。
【０１２０】
（４）実施例４
塗膜の乾燥条件を、４０℃で２分間、および、９５℃で１分間としたこと以外は、実施例１と同様の方法により位相差フィルムを作製した。
【０１２１】
作製した位相差フィルム中の残留溶媒量を実施例１と同様の方法により測定したところ、１９ｍｇ／ｍ２であった。
また、作製した位相差フィルムを温度９０℃のオーブン内に、２４時間以上放置した際の、前後のＲｅの変化量は１．６０％であった。
【０１２２】
（５）比較例１
塗膜の乾燥条件を、４０℃で２分間、および、９０℃で１分間としたこと以外は、実施例１と同様の方法により位相差フィルムを作製した。
【０１２３】
作製した位相差フィルム中の残留溶媒量を実施例１と同様の方法により測定したところ、２２ｍｇ／ｍ２であった。
また、作製した位相差フィルムを温度９０℃のオーブン内に、２４時間以上放置した際の、前後のＲｅの変化量は４．５０％であった。
【０１２４】
（６）比較例２
塗膜の乾燥条件を、４０℃で２分間としたこと以外は、実施例１と同様の方法により位相差フィルムを作製した。
【０１２５】
作製した位相差フィルム中の残留溶媒量を実施例１と同様の方法により測定したところ、６５ｍｇ／ｍ２であった。
また、作製した位相差フィルムを温度９０℃のオーブン内に、２４時間以上放置した際の、前後のＲｅの変化量は６．６１％であった。
【図面の簡単な説明】
【０１２６】
【図１】本発明の位相差フィルムの一例を示す概略図である。
【図２】本発明の位相差フィルムの他の例を示す概略図である。
【図３】従来の液晶表示装置の一例を示す概略図である。
【図４】従来の位相差フィルムの一例を示す概略図である。
【符号の説明】
【０１２７】
１  …  透明基板
２、２’  …  光学異方性層
１０、１０’…  位相差フィルム
３０  …  位相差フィルム
１００  …  液晶表示装置
１０２Ａ、１０２Ｂ  …  偏光板
１０４  …  液晶セル
【図１】
2008009345.tif 000006
【図２】
2008009345.tif 000007
【図３】
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【図４】
2008009345.tif 000009