【手続補正書】
【提出日】平成21年11月9日(2009.11.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部に基板が配置される真空容器と、
前記基板と対向する前記真空容器の上部開口に配置され、前記真空容器によって下面が支持される環状の外周部と、平面視で前記外周部によって囲まれた領域の中央に位置する中央部と、前記中央部から前記外周部まで放射状に延びる複数の梁部とを備え、前記外周部、前記中央部、及び前記梁部で囲まれた領域が窓部を構成する梁状構造物と、
前記梁状構造物の上面に下面が支持される誘電体板と、
前記誘電体板の上面側に配置され、高周波電力が投入されるプラズマ発生のためのコイルと、
前記梁状構造物の前記上面と前記誘電体板の前記下面との間に介在する弾性部材と、
前記梁状構造物の前記外周部に配置された斜め下向きの外周部ガス導入口と
を備えることを特徴とする、プラズマ処理装置。
【請求項２】
前記弾性部材は前記梁状構造物の前記上面に形成された溝に収容されていることを特徴とする、請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項３】
前記梁状構造物の放射状に延びる複数の前記梁部は、平面視で前記コイルを構成する導電体と直交する方向に延びることを特徴とする、請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項４】
前記誘電体板は円板状であり、かつ
前記梁状構造物は、円環状の前記外周部と、一定幅を有する長方形状の前記梁部とを備えることを特徴とする、請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項５】
少なくともその一部が前記梁状構造物に形成され、プロセスガス供給源からのプロセスガスを前記外周部ガス導入口に供給して前記真空容器内に噴出させるガス供給路をさらに備える請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項６】
前記ガス供給路は、前記梁状構造物の前記外周部に形成され、内周壁側が前記外周部ガス導入口と連通し、かつ外周壁側が前記プロセスガス供給源側と連通する環状ガス流路を含み、
前記環状ガス流路内に設けられ、前記環状ガス流路内を前記内周壁側の吐出空間と、前記外周壁側の供給空間とに仕切り、かつ前記吐出空間と前記供給空間とを連通させる複数の連通孔が間隔をあけて形成されている仕切り壁をさらに備える、請求項５に記載のプラズマ処理装置。
【請求項７】
前記梁状構造物の前記外周部に交換可能に取り付けられ、前記外周部ガス導入口が形成された外周側導入口部材をさらに備える、請求項５に記載のプラズマ処理装置。
【請求項８】
前記梁状構造物の前記中央部は、前記基板の中央部分の上方に位置し、
前記梁状構造物の前記中央部に配置され、前記ガス流路を介して前記プロセスガス供給源から供給される前記プロセスガスを前記基板の前記中央部分に向けて下向きに噴出する中央部ガス導入口をさらに備える、請求項５に記載のプラズマ処理装置。
【請求項９】
前記梁状構造物の前記中央部の下面に交換可能に取り付けられ、前記中央部ガス導入口が形成された中央部導入口部材をさらに備える、請求項８に記載のプラズマ処理装置。
【請求項１０】
前記梁状構造物の前記梁部の下面に配置され、前記ガス流路を介して前記プロセスガス供給源から供給される前記プロセスガスを前記基板に向けて下向きに噴射する梁部ガス導入口をさらに備える、請求項５に記載のプラズマ処理装置。
【請求項１１】
前記梁状構造物及び誘電体板を冷却する冷却機構を備えることを特徴とする、請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項１２】
前記冷却機構は、前記梁状構造物に形成された冷媒流路と、前記冷媒流路中に温調された冷媒を循環させる冷媒循環装置とを備えることを特徴とする、請求項１１に記載のプラズマ処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は、内部に基板が配置される真空容器と、前記基板と対向する前記真空容器の上部開口に配置され、前記真空容器によって下面が支持される環状の外周部と、平面視で前記外周部によって囲まれた領域の中央に位置する中央部と、前記中央部から前記外周部まで放射状に延びる複数の梁部とを備え、前記外周部、前記中央部、及び前記梁部で囲まれた領域が窓部を構成する梁状構造物と、前記梁状構造物の上面に下面が支持される誘電体板と、前記誘電体板の上面側に配置され、高周波電力が投入されるプラズマ発生のためのコイルと、前記梁状構造物の前記上面と前記誘電体板の前記下面との間に介在する弾性部材と、前記梁状構造物の前記外周部に配置された斜め下向きの外周部ガス導入口とを備えることを特徴とする、プラズマ処理装置を提供する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
前記弾性部材は前記梁状構造物の前記上面に形成された溝に収容されていることが好ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
前記梁状構造物の前記梁部は、平面視で前記コイルを構成する導電体と直交する方向に延びることが好ましい。梁状構造物の梁部がコイルの導体と直交する方向に延びているので、高周波電力が投入されたコイルが発生する電磁界に対する梁状構造物の電磁気的な影響を抑制でき、結果的に高周波パワーの投入損失の低減を図ることができる。特に、梁状構造物の梁部の本数と、コイルを構成する導電体の本数が一致することが好ましい。これにより電磁界の対称性が向上するので、梁部の存在に起因する投入損失をさらに低減できる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
少なくともその一部が前記梁状構造物に形成され、プロセスガス供給源からのプロセスガスを前記外周部ガス導入口に供給して前記真空容器内に噴出させるガス供給路をさらに備えることが好ましい。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
さらに、前記ガス供給路は、前記梁状構造物の前記外周部に形成され、内周壁側が前記外周部ガス導入口と連通し、かつ外周壁側が前記プロセスガス供給源側と連通する環状ガス流路を含み、前記環状ガス流路内に設けられ、前記環状ガス流路内を前記内周壁側の吐出空間と、前記外周壁側の供給空間とに仕切り、かつ前記吐出空間と前記供給空間とを連通させる複数の連通孔が間隔をあけて形成されている仕切り壁をさらに備えることが好ましい。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
前記梁状構造物の前記梁部の下面に配置され、前記ガス流路を介して前記プロセスガス供給源から供給される前記プロセスガスを前記基板に向けて下向きに噴射する梁部ガス導入口をさらに設けてもよい。梁状構造物の外周部に設けられた外周側ガス導入口と、梁状構造物の梁部に設けられた梁部ガス導入口との両方からプロセスガスを真空容器に導入することにより、基板上でのガス流量の均一化を図ることができる。外周部ガス導入口や中央部ガス導入口を設けずに、梁部ガス導入口のみを設けても、比較的均一な基板上のガス流量の分布が得られる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
前記梁状構造物及び誘電体板を冷却する冷却機構を備えることが好ましい。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
具体的には、前記冷却機構は、前記梁状構造物に形成された冷媒流路と、前記冷媒流路中に温調された冷媒を循環させる冷媒循環装置とを備える。