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【手続補正書】
【提出日】平成21年2月12日(2009.2.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
家具の可動部品のためのダンパー装置（１）であって、
当該ダンパー装置は、
ハウジング（２）と、
そのハウジング（２）の中に配置されたシリンダー（３）と、
当該シリンダーの中にスライド可能な状態で取り付けられているピストンロッド（５）を伴うピストン（４）とを備えており、
前記ハウジング（２）に少なくとも１つのギヤ（６）が取り付けられており、前記ギヤ（６）は、前記ハウジング（２）に対する前記シリンダー（３）の位置調節と、前記ハウジング（２）に対する前記ピストンロッド（５）のためのストッパー（７）の位置調節との少なくとも一方を行う操作エレメント（９）を備えており、
前記操作エレメント（９）が、前記シリンダー（３）の縦軸を基準としてハウジング（２）の横に可動状態で取り付けられていることを特徴とするダンパー装置。
【請求項２】
前記操作エレメント（９）が回転可能な状態で取り付けられていることを特徴とする請求項１に記載のダンパー装置。
【請求項３】
前記ギヤ（６）が可動状態で取り付けられている２以上の部品を備えていることを特徴とする請求項１又は２に記載のダンパー装置。
【請求項４】
前記操作エレメント（９）が、ねじ回しで位置調節可能であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のダンパー装置。
【請求項５】
前記ギヤ（６）が、前記操作エレメント（９）の回転運動を、前記シリンダー（３）の線形運動と前記ピストンロッド（５）のための前記ストッパー（７）の線形運動の少なくとも一方に変換することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のダンパー装置。
【請求項６】
前記操作エレメント（９）の回転軸が、前記シリンダー（３）の縦軸に対して横方向に位置することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載のダンパー装置。
【請求項７】
前記ギヤ（６）が、少なくとも１つのウォーム（１４）を備えていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載のダンパー装置。
【請求項８】
前記ウォーム（１４）が、少なくとも１つの歯（１１）、又は少なくとも１つの螺旋形に設けられたねじ山を備えていることを特徴とする請求項７に記載のダンパー装置。
【請求項９】
前記ウォーム（１４）に、複数のねじ山ピッチが形成されていることを特徴とする請求項７又は８に記載のダンパー装置。
【請求項１０】
前記ピストンロッド（５）のための前記ストッパー（７）が、前記ウォーム（１４）によって形成されていることを特徴とする請求項７乃至９のいずれか１項に記載のダンパー装置。
【請求項１１】
前記ギヤ（６）が、少なくとも１つのウォームホイールを備えていることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載のダンパー装置。
【請求項１２】
前記操作エレメント（９）が、ウォームホイールによって形成されていることを特徴とする請求項１１に記載のダンパー装置。
【請求項１３】
前記ウォーム（１４）の軸（１２）と前記ウォームホイールの軸（１３）が、ほぼ９０°をなすことを特徴とする請求項１１又は１２に記載のダンパー装置。
【請求項１４】
前記ストッパー（７）が、カップ形であることを特徴とする請求項１乃至１３のいずれか１項に記載のダンパー装置。
【請求項１５】
前記ストッパー（７）が少なくとも１つの動作域限定エレメント（１６）を備えており、好ましくは、当該動作域限定エレメント（１６）がリング状であり、当該動作域限定エレメント（１６）が前記ハウジング（２）に対する前記ストッパー（７）の内側最終ポジションで、前記ハウジング（２）に配置又は形成されたカウンターストッパー（１６’）と密着することを特徴とする請求項１乃至１４のいずれか１項に記載のダンパー装置。
【請求項１６】
前記ストッパー（７）が窪み（１５）を備えており、この窪み（１５）は、前記ピストンロッド（５）の自由な末端を収容するために設けられていることを特徴とする請求項１乃至１５のいずれか１項に記載のダンパー装置。
【請求項１７】
前記シリンダー（３）が２つの部品から形成されており、前記ピストン（４）を収める内側シリンダーがそこにかぶせられたスリーブ（８）に包まれていることを特徴とする請求項１乃至１６のいずれか１項に記載のダンパー装置。
【請求項１８】
前記内側シリンダー又は前記スリーブ（８）に、第１の突起（２１）が配置又は形成されており、前記第１の突起（２１）は、前記ハウジング（２）に対して前記シリンダー（３）又は前記スリーブ（８）の外側最終ポジションに配置又は形成されている第２の突起と接して相互作用することを特徴とする請求項１７に記載のダンパー装置。
【請求項１９】
前記シリンダー（３）に、流体が充填されており、前記流体はオイル又は空気であることを特徴とする請求項１乃至１８のいずれか１項に記載のダンパー装置。
【請求項２０】
前記シリンダー（３）の内部に力を蓄える装置が配置されており、前記装置はバネであることを特徴とする請求項１乃至１９のいずれか１項に記載のダンパー装置。
【請求項２１】
前記ハウジング（２）に対して前記シリンダー（３）を位置調節するための第１の位置調節装置（１８）が設けられており、更に、前記ピストンロッド（５）のための前記ストッパー（７）を位置調節するために、前記第１の位置調節装置（１８）とは異なる第２の位置調節装置（１９）が設けられていることを特徴とする請求項１乃至２０のいずれか１項に記載のダンパー装置。
【請求項２２】
前記第１の位置調節装置（１８）は、好ましくはウォームギヤによって形成されており、これにより前記ハウジング（２）に対する前記シリンダー（３）の位置を変化させることができることを特徴とする請求項２１に記載のダンパー装置。
【請求項２３】
前記第２の位置調節装置（１９）がネジ（２０）によって形成されており、このネジによって前記シリンダー（３）に対する前記ピストンロッド（５）の位置を変化させることができることを特徴とする請求項２１又は２２に記載のダンパー装置。
【請求項２４】
前記ネジ（２０）が前記シリンダー（３）の正面に支持されており、前記ネジ（２０）を前記ハウジング（２）の外部から操作できることを特徴とする請求項２３に記載のダンパー装置。
【請求項２５】
前記ハウジング（２）が少なくとも１つの固定フランジ（１０）を備えており、固定のために当該固定フランジ（１０）を、家具の部品に固定できることを特徴とする請求項１乃至２４のいずれか１項に記載のダンパー装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月19日(2009.2.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
［記録ユニット］
本発明にかかる記録ユニットは、前記した本発明のインクセットを構成する複数のインクを収容するインク収容部と、該インクを吐出するためのインクジェット記録ヘッドとを具備してなる。記録ユニットは、上述のようにヘッドとインクカートリッジとが別体となったものに限らず、図３に示すような、それらが一体になったものにも好適に用いられる。図３において、７０は記録ユニットであり、この中にはインクを収容したインク収容部、例えば、インク吸収体が収納されており、かかるインク吸収体中のインクが複数オリフィスを有するヘッド部７１からインク滴として吐出される構成になっている。インク吸収体の材料はポリウレタン又はポリプロピレンを用いることが好ましい。又、インク吸収体を用いず、インク収容部が内部にバネ等を仕込んだインク袋であるような構造でもよい。７２はカートリッジ内部を大気に連通させるための大気連通口である。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月27日(2009.3.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記の成分からなる混合物を反応させることにより製造された組成物：
（ａ）アルキル又はアルケニル置換基の平均分子量が４５０乃至５０００であるアルキル又はアルケニルコハク酸誘導体、および
（ｂ）下記式のジアミノナフチル化合物：
【化１】
2006283026.tif 000001
（式中、Ｒ1およびＲ2は独立に、水素およびＣ1-10アルキルからなる群より選ばれ、そしてＲ3は水素、ヒドロキシル、Ｃ1-6アルキルまたはＣ1-6アルコキシである）
ただし、（ａ）と（ｂ）とのモル比は１：１．５乃至１：３である。
【請求項２】
アルキル又はアルケニル置換基の平均分子量が４５０乃至２５００である請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
アルキル又はアルケニル置換基の平均分子量が５５０乃至１３００である請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
アルキル又はアルケニルコハク酸誘導体が、不飽和酸性試薬とポリアルキレンとを強酸の存在下で反応させることにより製造されたものである請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
ポリアルキレンが、当初はメチレン異性体を５０％以上含むが、不飽和酸性試薬との反応の前に強酸で処理されて５０％以下のポリアルキレンがメチルビニリデン末端基を有するようにされたものである請求項４に記載の組成物。
【請求項６】
ポリアルキレンがポリイソブチレンである請求項４に記載の組成物。
【請求項７】
アルケニルコハク酸誘導体が、無水マレイン酸とＭnが４５０乃至３０００のポリイソ
ブチレンとの熱反応により製造されたものである請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
Ｒ1が水素である請求項１に記載の組成物。
【請求項９】
Ｒ2が水素である請求項８に記載の組成物。
【請求項１０】
Ｒ3が水素である請求項９に記載の組成物。
【請求項１１】
ジアミノナフチル化合物が、ナフタレン−１，５−ジアミン、ナフタレン−１，６−ジアミン、ナフタレン−１，７−ジアミンおよびナフタレン−１，８−ジアミンからなる群より選ばれる請求項９に記載の組成物。
【請求項１２】
ジアミノナフチル化合物が、ナフタレン−２，６−ジアミンおよびナフタレン−２，７−ジアミンからなる群より選ばれる請求項９に記載の組成物。
【請求項１３】
Ｒ3が、ヒドロキシル、Ｃ1-6アルキルまたはＣ1-6アルコキシである請求項１に記載の
組成物。
【請求項１４】
Ｒ3が、水素またはＣ1-6アルキルである請求項１に記載の組成物。
【請求項１５】
（ａ）と（ｂ）とのモル比が、１：１．７乃至１：２．５である請求項１に記載の組成物。
【請求項１６】
（ａ）と（ｂ）とのモル比が、１：２である請求項１５に記載の組成物。
【請求項１７】
該混合物をさらにモリブデン化合物またはホウ素化合物から選ばれた酸性試薬と反応させることを含む請求項１に記載の組成物。
【請求項１８】
下記の成分を含む潤滑油組成物：
１）潤滑粘度の油、および
２）下記の成分を反応させる方法により製造された多機能生成物：
（ａ）アルキル又はアルケニル置換基の平均分子量が４５０乃至５０００であるアルキル又はアルケニルコハク酸誘導体、および
（ｂ）下記式のジアミノナフチル化合物：
【化２】
2006283026.tif 000002
（式中、Ｒ1およびＲ2は独立に水素およびＣ1-10アルキルからなる群より選ばれ、そしてＲ3は水素、ヒドロキシル、Ｃ1-6アルキルまたはＣ1-6アルコキシである）
ただし、（ａ）と（ｂ）とのモル比は１：１．５乃至１：３である。
【請求項１９】
組成物の全質量に基づき０．０１乃至１０質量％の多機能生成物を含む請求項１８に記載の潤滑油組成物。
【請求項２０】
組成物が、組成物の全質量に基づき０．５乃至５質量％の多機能生成物を含む請求項１９に記載の潤滑油組成物。
【請求項２１】
さらに、下記の成分を含む請求項２０に記載の潤滑油組成物：
３）無灰分酸剤、
４）清浄剤、
５）金属ジアルキルジチオリン酸塩。
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月19日(2009.2.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インク中におけるカーボンブラックの含有量が異なる３種のブラックインクが少なくとも組み合わされてなるインクセットにおいて、
上記３種のブラックインクが、カーボンブラックの含有量が最も多いブラックインクＢｋ１、カーボンブラックの含有量が最も少ないライトブラックインクＬｋ２、及び、カーボンブラックの含有量が上記ブラックインクＢｋ１よりも少なく且つ上記ライトブラックインクＬｋ２よりも多いライトブラックインクＬｋ１であり、
上記ブラックインクＢｋ１、ライトブラックインクＬｋ１、及びライトブラックインクＬｋ２は、それぞれ樹脂を含有してなり、
上記ブラックインクＢｋ１及びライトブラックインクＬｋ２におけるカーボンブラックの含有量比（Ｂｋ１／Ｌｋ２）が、３．５以上９．０以下であり、
上記ライトブラックインクＬｋ１及び上記ライトブラックインクＬｋ２におけるカーボンブラックの含有量比（Ｌｋ１／Ｌｋ２）が、２．０以上４．０以下であり、
更に、上記ブラックインクＢｋ１におけるカーボンブラックの含有量が、ブラックインクＢｋ１全質量を基準として、２．５質量％以上４．５質量％以下であることを特徴とするインクセット。
【請求項２】
前記ブラックインクＢｋ１中におけるカーボンブラックの含有量が、ブラックインクＢｋ１全質量を基準として、２．５質量％以上４．０質量％以下である請求項１に記載のインクセット。
【請求項３】
前記２種のカーボンブラックの含有量比（Ｂｋ１／Ｌｋ２）が、３．５以上７．５以下である請求項１又は２に記載のインクセット。
【請求項４】
前記２種のカーボンブラックの含有量比（Ｌｋ１／Ｌｋ２）が、２．０以上３．０以下である請求項１乃至３の何れか１項に記載のインクセット。
【請求項５】
前記ライトブラックインクＬｋ１が、更に有機顔料を含有する請求項１乃至４の何れか１項に記載のインクセット。
【請求項６】
前記ライトブラックインクＬｋ２が、更に有機顔料を含有する請求項１乃至５の何れか１項に記載のインクセット。
【請求項７】
前記ライトブラックインクＬｋ１中におけるカーボンブラックの含有量が、ライトブラックインクＬｋ１全質量を基準として、０．５６質量％以上４．５質量％未満である請求項１乃至６の何れか１項に記載のインクセット。
【請求項８】
前記ライトブラックインクＬｋ２中におけるカーボンブラックの含有量が、ライトブラックインクＬｋ２全質量を基準として、０．２８質量％以上１．２９質量％未満である請求項１乃至７の何れか１項に記載のインクセット。
【請求項９】
インクをインクジェット記録方式で吐出し、記録媒体に少なくとも３種のインクを付与して記録を行うインクジェット記録方法において、上記インクに、請求項１乃至８の何れか１項に記載のインクセットを構成する少なくとも３種のブラックインクを用いることを特徴とするインクジェット記録方法。
【請求項１０】
さらに、記録媒体にインクを付与する順番が、印字パスの往路及び復路で異なる請求項９に記載のインクジェット記録方法。
【請求項１１】
インクを収容するインク収容部を備えたインクカートリッジにおいて、インク収容部に収容されたインクが、請求項１乃至８の何れか１項に記載のインクセットを構成する少なくとも３種のブラックインクであることを特徴とするインクカートリッジ。
【請求項１２】
インクを収容するインク収容部と、インクを吐出するための記録ヘッドとを備えた記録ユニットにおいて、インク収容部に収容されたインクが、請求項１乃至８の何れか１項に記載のインクセットを構成する少なくとも３種のブラックインクであることを特徴とする記録ユニット。
【請求項１３】
インクを収容するインク収容部と、インクを吐出するための記録ヘッドとを備えたインクジェット記録装置において、上記インクが、請求項１乃至８の何れか１項に記載のインクセットを構成する少なくとも３種のブラックインクであることを特徴とするインクジェット記録装置。
【請求項１４】
インク中におけるカーボンブラックの含有量が異なる少なくとも３種のブラックインクを組み合わせて用い、これらのインクを記録媒体に付与して画像を形成する画像形成方法において、
上記３種のブラックインクが、カーボンブラックの含有量が最も多いブラックインクＢｋ１、カーボンブラックの含有量が最も少ないライトブラックインクＬｋ２、及び、カーボンブラックの含有量が上記ブラックインクＢｋ１よりも少なく且つ上記ライトブラックインクＬｋ２よりも多いライトブラックインクＬｋ１であり、
上記ブラックインクＢｋ１、ライトブラックインクＬｋ１、及びライトブラックインクＬｋ２が、それぞれ樹脂を含有し、
上記ブラックインクＢｋ１及びライトブラックインクＬｋ２におけるカーボンブラックの含有量比（Ｂｋ１／Ｌｋ２）が、３．５以上９．０以下であり、
上記ブラックインクＬｋ１及びライトブラックインクＬｋ２におけるカーボンブラックの含有量比（Ｌｋ１／Ｌｋ２）が、２．０以上４．０以下であり、
更に、上記ブラックインクＢｋ１におけるカーボンブラックの含有量が、ブラックインクＢｋ１全質量を基準として、２．５質量％以上４．５質量％以下であることを特徴とする画像形成方法。
【請求項１５】
さらに、記録媒体にインクを付与する順番が、印字パスの往路及び復路で異なる請求項１４に記載の画像形成方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月21日(2009.1.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
ここで、遅延時間をＤΔｔ２とすると、遅延時間ＤΔｔ２は、図５に示すファーストクロックＦＣＬＫ０〜ＦＣＬＫ２７０を切り換えることにより得られる。すなわち、システムクロックが例えばＦＣＬＫ０から次のＦＣＬＫ９０に切り換えられると位相が１／４遅れ方向にシフトし、その遅延時間は１／４×（ＣＬＫｒ）となる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2007208392.tif 000001
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５】
2007208392.tif 000002
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図９】
2007208392.tif 000003
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１０】
2007208392.tif 000004
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１１】
2007208392.tif 000005
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１２】
2007208392.tif 000006
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月26日(2009.3.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】リソグラフィ投影装置、基板取り扱いシステムおよびデバイス製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
−放射線の投影ビームを共有する放射線システムと、
−パターン形成手段を支持する支持構造とを備え、パターン形成手段が、所望のパターンに従って投影ビームにパターン形成する働きをし、さらに、
−基板を保持する基板テーブルと、
−パターン形成したビームを基板の標的部分に投影する投影システムと、
−前記投影システムの最終要素と、基板テーブル上に配置されたオブジェクト間の空間を液体で少なくとも部分的に充填する液体供給システムとを備え、
前記基板テーブルが、さらに、前記投影システムとオブジェクトの間で中間プレートを支持し、オブジェクトと接触しない支持表面を備えることを特徴とするリソグラフィ投影装置。
【請求項２】
前記液体供給システムが、前記中間プレートと前記オブジェクト間の空間を液体で充填するために液体供給孔を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記基板テーブルが、さらに、ビームを感知する透過像センサを備え、前記中間プレートが、前記センサと前記投影システムの間に配置される、請求項１または２に記載の装置。
【請求項４】
前記液体供給システムが、前記投影システムの最終要素を前記中間プレート間の空間を液体で充填するために投影システム液体供給システムを含む、請求項１、２または３に記載の装置。
【請求項５】
前記中間プレートが、装置の光軸に対して直角の面に、前記オブジェクトより大きい断面積を有し、したがって前記オブジェクトの縁を全て、前記中間プレートで覆うことができる、請求項１から４いずれか１項に記載の装置。
【請求項６】
−放射線の投影ビームを共有する放射線システムと、
−パターン形成手段を支持する支持構造とを備え、パターン形成手段が、所望のパターンに従って投影ビームにパターン形成する働きをし、さらに、
−基板を保持する基板テーブルと、
−パターン形成したビームを基板の標的部分に投影する投影システムと、
−前記投影システムの最終要素と、基板テーブル上に配置されたオブジェクト間の空間を液体で少なくとも部分的に充填する液体供給システムとを備える装置で、
さらに、
−前記空間の境界の少なくとも一部に沿って、前記投影システムの最終要素と前記基板テーブルの間に延在する液体供給システムの部材と、
−前記基板テーブルから延在し、前記部材と前記投影システムの前記最終要素との間に配置された毛管とを備えることを特徴とするリソグラフィ投影装置。
【請求項７】
前記毛管がチューブである、
請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記毛管が多孔質膜で形成される、
請求項７に記載の装置。
【請求項９】
前記毛管の内部コーティングが疎水性である、
請求項６から８いずれか１項に記載の装置。
【請求項１０】
さらに、前記空間内の前記液体と前記毛管との間に電位差を与える手段を備える、
請求項６から９いずれか１項に記載の装置。
【請求項１１】
撮像すべき前記オブジェクトが基板またはセンサである、
請求項１から１０いずれか１項に記載の装置。
【請求項１２】
前記縁密封部材、または前記第１または第２のさらなる縁密封部材を、前記オブジェクトの周囲で前記オブジェクトに接着する、
請求項１から１１いずれか１項に記載の装置。
【請求項１３】
リソグラフィ装置の基板取り扱いシステムであって、
基板を保持するように構築された基板テーブルと、
基板テーブルを囲む周囲構造と、
基板のレベルパラメータを求めるように構成されたセンサと、
少なくとも周囲構造の表面に対して直角の方向で、基板テーブルおよび周囲構造を相対的に移動させるように構成したアクチュエータと、
レベルパラメータを使用して基板テーブルおよび周囲構造を相対的に移動させて、基板テーブル上に保持された場合に基板の表面が周囲構造の表面とほぼ同一レベルの位置になるようにアクチュエータを駆動するように構成した制御装置とを有するシステム。
【請求項１４】
センサが、基板の表面と周囲構造の表面とのレベル差を測定するように構成されたレベル差センサを有し、レベルパラメータがレベル差を有する、請求項１３に記載のシステム。
【請求項１５】
レベル差センサが、リソグラフィ装置の平坦さ測定位置に設けられ、レベル差センサ、基板を保持する基板テーブル、またはその両方が、基板の縁部を走査するように構成される、請求項１４に記載のシステム。
【請求項１６】
センサが、基板テーブルで保持された場合に基板の表面のレベルを測定するように構成され、レベルパラメータが基板の表面のレベルを有する、請求項１３〜１５のいずれかに記載のシステム。
【請求項１７】
センサが、基板上の複数の個別位置で基板のレベルパラメータを求めるように構成される、請求項１３〜１６のいずれかに記載のシステム。
【請求項１８】
アクチュエータが複数のアクチュエータを有し、複数のアクチュエータがそれぞれ、制御装置によって個々に駆動されるように構成される、請求項１７に記載のシステム。
【請求項１９】
複数のアクチュエータがそれぞれ、制御装置によって駆動されて、周囲構造の表面に対して基板テーブルを、複数の個別位置で基板テーブルで保持されている基板の表面が周囲構造の表面とほぼ同一レベルになる位置へと移動させる、請求項１８に記載のシステム。
【請求項２０】
デバイス製造方法であって、
基板テーブルを囲む周囲構造の表面に対して基板テーブルを、基板テーブル上に保持された基板の表面が周囲構造の表面とほぼ同一レベルにある位置に位置決めすることと、
パターン形成した放射線ビームを基板に投影することとを含む方法。
【請求項２１】
光学素子を使用してパターン形成したビームを投影する、請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
光学素子が浸漬流体リザーバを有する、請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
さらに、基板のレベルパラメータを求めることと、基板テーブルの位置決めにレベルパラメータを使用することとを含む、請求項２０〜２２のいずれかに記載の方法。
【請求項２４】
レベルパラメータが、基板の表面と周囲構造の表面とのレベル差、又は基板テーブルで保持された場合の基板表面のレベルを有する、請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
周囲構造の表面に対する基板テーブルを、複数の個別位置で基板テーブルで保持されている基板の表面が周囲構造の表面とほぼ同一レベルである位置に位置決めすることを含む、請求項２０〜２４のいずれかに記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月9日(2009.11.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多数のゲートラインと、
前記ゲートラインと交差する多数のソースラインと、
前記多数のソースラインおよびゲートラインによって定義される多数の画素領域にそれぞれ提供される多数の画素電極、および
前記多数のゲートラインの何れか一つと接続されたゲート電極、前記多数のソースラインの何れか一つと接続されたソース電極および前記多数の画素電極の一つと接続されたドレーン電極を含み、前記多数の画素電極それぞれに提供される多数の薄膜トランジスタを含み、
活性層が前記多数の薄膜トランジスタそれぞれの前記ソース電極およびドレーン電極の間に提供されたチャネル領域内で露出され、
前記活性層は、前記チャネル領域から延長されて前記チャネル領域の外側に突出するとき、前記活性層は、前記ソースラインの幅の３０％以下の長さで突出し、
前記多数のソース電極は、前記対応するソースラインから延長された第１突出部および第２突出部を含み、前記第１突出部は、前記ゲート電極の縁と部分的に重畳され、第１突出部の長さは、第２突出部の長さより短い薄膜トランジスタ基板。
【請求項２】
前記第１突出部の長さは、前記第２突出部の長さと異なり、
前記第１突出部と前記ゲート電極との間の重畳面積は、前記第２突出部と前記ゲート電極との間の重複面積と異なる請求項１に記載の薄膜トランジスタ基板。
【請求項３】
前記ゲート電極は、前記ドレーン電極の方向に前記ゲート電極の一部を突出させた突起部を含み、前記突起部は、前記ドレーン電極の縁と部分的に重複する請求項１又は２に記載の薄膜トランジスタ基板。
【請求項４】
前記ドレーン電極は、前記画素電極と接続されるドレーンコンタクトホールを含み、前記ドレーンコンタクトの下部には光遮断部が提供される請求項１から３のいずれか１つに記載の薄膜トランジスタ基板。
【請求項５】
前記多数のソース電極それぞれは、前記ソースラインと実質的にＵ字−形状を形成するために対応するソースラインから延長された第１突出部および第２突出部を含み、前記ドレーン電極の一部は、前記第１突出部および第２突出部の間の領域内に延長され、
前記第１突出部の長さは、前記第２突出部の長さと異なり、
前記第１突出部と前記ゲート電極との間の重複面積は、前記第２突出部と前記ゲート電極との間の重複面積と異なる請求項１から４のいずれか１つに記載の薄膜トランジスタ基板。
【請求項６】
前記ソース電極は、ゲート電極と部分的に重複する第１突出部および第２突出部とこれらを接続する接続部を含み、前記接続部と前記第１突出部および第２突出部と前記ゲート電極の重複面積は、前記ドレーン電極と前記ゲート電極の重複面積と同一である請求項１から５のいずれか１つに記載の薄膜トランジスタ基板。
【請求項７】
多数のゲートラインと、
前記ゲートラインと交差する多数のソースラインと、
前記多数のソースラインおよびゲートラインによって定義される多数の画素領域にそれぞれ提供される多数の画素電極、および
前記多数のゲートラインの何れか一つと接続されたゲート電極、前記多数のソースラインの何れか一つと接続されたソース電極および前記多数の画素電極の一つと接続されたドレーン電極を含み、前記多数の画素電極それぞれに提供される多数の薄膜トランジスタを含み、
前記ドレーン電極は、前記ゲート電極の両側の縁に延長される第１突出部および第２突出部と前記第１突出部および第２突出部を互いに接続する接続部を含み、
前記第１突出部は、前記ゲート電極の縁と部分的に重複し、前記第１突出部の長さは、前記第２突出部の長さより短い薄膜トランジスタ基板。
【請求項８】
多数のゲートラインと、
前記ゲートラインと交差する多数のソースラインと、
前記多数のソースラインおよびゲートラインによって定義される多数の画素領域にそれぞれ提供される多数の画素電極、および
前記多数のゲートラインの何れか一つと接続されたゲート電極、前記多数のソースラインの何れか一つと接続されたソース電極および前記多数の画素電極の一つと接続されたドレーン電極を含み、前記多数の画素電極それぞれに提供される多数の薄膜トランジスタを含み、
前記ゲート電極は、前記ドレーン電極の方向に前記ゲート電極の一部を突出させた突起部を含み、前記突起部は、前記ドレーン電極の縁と部分的に重複し、
活性層は、前記ソースライン、前記ソース電極および前記ドレーン電極の下部に形成され、
前記活性層は、前記多数の薄膜トランジスタそれぞれのソースおよびドレーン電極の間に提供されるチャネル領域内で露出し、
前記多数のソース電極それぞれは、前記ソースラインと実質的にＵ字−形状を形成するために対応するソースラインから延長された第１突出部および第２突出部を含み、前記ドレーン電極の一部は、前記第１突出部および第２突出部の間の領域内に延長され、
前記突起部は、第１および第２突起を含み、前記第１突起は、前記ドレーン電極の一縁と部分的に重複し、前記第２突起は、前記ドレーン電極の他縁と部分的に重複する薄膜トランジスタ基板。
【請求項９】
多数のゲートラインと、
前記ゲートラインと交差する多数のソースラインと、
前記多数のソースラインおよびゲートラインによって定義される多数の画素領域にそれぞれ提供される多数の画素電極、および
前記多数のゲートラインの何れか一つと接続されたゲート電極、前記多数のソースインの何れか一つと接続されたソース電極および前記多数の画素電極の一つと接続されたドレーン電極を含み、前記多数の画素電極それぞれに提供される多数の薄膜トランジスタを含み、
前記ドレーン電極は、前記画素電極と接続されるドレーンコンタクトホールを含み、前記ドレーンコンタクトの下部には光遮断部が提供され、
前記ソース電極は、前記ゲート電極の両側の縁に延長される第１突出部および第２突出部と前記第１突出部および第２突出部を互いに接続する接続部を含み、
前記ドレーン電極の一部は、前記第１突出部および第２突出部の間の領域内に延長され、
活性層が前記ソース電極およびドレーン電極の間に提供されたチャネル領域内で露出し、
前記活性層がチャネル領域の外側に突出するとき、前記活性層は、前記ソースラインの幅の３０％以下の長さで突出し、
前記光遮断部は、前記ゲート電極と同一の平面上に提供される薄膜トランジスタ基板。
【請求項１０】
多数のゲートラインと、
前記ゲートラインと交差する多数のソースラインと、
前記多数のソースラインおよびゲートラインによって定義される多数の画素領域にそれぞれ提供される多数の画素電極、および
前記多数のゲートラインの何れか一つと接続されたゲート電極、前記多数のソースラインの何れか一つと接続されたソース電極および前記多数の画素電極の一つと接続されたドレーン電極を含み、前記多数の画素電極それぞれに提供される多数の薄膜トランジスタを含み、
前記ソース電極は、前記ゲート電極と部分的に重複する第１突出部および第２突出部とこれらを接続する接続部を含み、
前記接続部および前記第１突出部および第２突出部と前記ゲート電極の重複面積は、前記ドレーン電極と前記ゲート電極の重複面積と同一である薄膜トランジスタ基板。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月22日(2009.6.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
研磨面を有する研磨テーブルと、
ポリッシング対象物である基板を保持するトップリングとを備えるポリッシング装置であって、
前記トップリングは、トップリング本体を備え、
前記トップリング本体内には、前記基板と当接する弾性パッドと、該弾性パッドを支持し、絶縁性材料からなる支持部材とを備え、
前記ポリッシング装置は、前記基板が前記トップリングに保持された状態で、渦電流を用いて前記基板に形成された薄膜の膜厚を測定することを特徴とするポリッシング装置。
【請求項２】
前記支持部材は、フッ素系樹脂またはセラミックスからなることを特徴とする請求項１記載のポリッシング装置。
【請求項３】
前記弾性パッドは、前記支持部材の下面を覆うことにより空間を形成し、該空間には、前記弾性パッドに当接する中心部当接部材および外側当接部材が設けられ、前記弾性パッド、中心部当接部材、外側当接部材はいずれもゴム材から形成されていることを特徴とする請求項２記載のポリッシング装置。
【請求項４】
前記中心部当接部材および外側当接部材はそれぞれ圧力室を形成し、前記それぞれの圧力室には流体路が連通されていることを特徴とする請求項３記載のポリッシング装置。
【請求項５】
前記弾性パッドと前記支持部材により形成された空間には流体路が連通されていることを特徴とする請求項４記載のポリッシング装置。
【請求項６】
前記空間、前記中心部当接部材および前記外側当接部材により形成された圧力室に連通されたそれぞれの流体路には、温度制御された流体が供給されることを特徴とする請求項５記載のポリッシング装置。
【請求項７】
基板をトップリング本体により保持するとともに基板の外周縁をリテーナリングで保持して基板を研磨面に押圧する基板保持装置に用いる弾性パッドであって、
前記弾性パッドは、チャッキングプレートの外周部に固定されて取り付けられる外周部と、基板に接触する接触部とを備え、前記チャッキングプレートとの間に圧力室を形成し、
前記弾性パッドと前記チャッキングプレートは、前記トップリング本体および前記リテーナリングに対して移動可能であり、
前記圧力室は複数の圧力室に分割され、前記複数の圧力室は加圧流体の圧力を調整可能なレギュレータに各々個別に接続され、前記弾性パッドは前記複数の圧力室の圧力を個別に制御することによって基板を前記研磨面に押圧するようになっていることを特徴とする弾性パッド。
【請求項８】
基板をトップリング本体により保持して研磨面に押圧する基板保持装置に用いるゴム材からなる加圧シートであって、
前記加圧シートは、前記トップリング本体内に収容されたホルダーリングと前記トップリング本体との間に張設され、
前記トップリング本体と前記ホルダーリングと該ホルダーリングに保持されるチャッキングプレートとともに、前記トップリング本体の内部に、圧縮空気源に接続される圧力室を形成するようになっていることを特徴とする加圧シート。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明は、基板をトップリング本体により保持するとともに基板の外周縁をリテーナリングで保持して基板を研磨面に押圧する基板保持装置に用いる弾性パッドであって、前記弾性パッドは、チャッキングプレートの外周部に固定されて取り付けられる外周部と、基板に接触する接触部とを備え、前記チャッキングプレートとの間に圧力室を形成し、前記弾性パッドと前記チャッキングプレートは、前記トップリング本体および前記リテーナリングに対して移動可能であり、前記圧力室は複数の圧力室に分割され、前記複数の圧力室は加圧流体の圧力を調整可能なレギュレータに各々個別に接続され、前記弾性パッドは前記複数の圧力室の圧力を個別に制御することによって基板を前記研磨面に押圧するようになっていることを特徴とする。
本発明は、基板をトップリング本体により保持して研磨面に押圧する基板保持装置に用いるゴム材からなる加圧シートであって、前記加圧シートは、前記トップリング本体内に収容されたホルダーリングと前記トップリング本体との間に張設され、前記トップリング本体と前記ホルダーリングと該ホルダーリングに保持されるチャッキングプレートとともに、前記トップリング本体の内部に、圧縮空気源に接続される圧力室を形成するようになっていることを特徴とする。
本発明は、ポリッシング対象物である基板を保持して研磨面に押圧する基板保持装置において、上記基板を保持するトップリング本体と、上記基板に当接する弾性パッドと、該弾性パッドを支持する支持部材とを備え、上記支持部材の下面には上記弾性パッドに当接する弾性膜を備えた当接部材を取付け、上記弾性パッドと上記支持部材との間に形成される空間の内部には、上記当接部材の内部に形成される第１の圧力室と該当接部材の外部に形成される第２の圧力室とを有し、上記当接部材の内部に形成される第１の圧力室と、上記当接部材の外部に形成される第２の圧力室とにそれぞれ流体又は真空を独立に供給する供給源を備えてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月9日(2009.10.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
参照信号として、空間多重されたパイロットサブキャリア信号を生成する参照信号生成手段と、
マルチキャリア変調された受信信号から、空間多重されたパイロットサブキャリア信号を抽出する空間多重パイロットサブキャリア抽出手段と、
前記参照信号生成手段により得られた参照信号と、前記空間多重パイロットサブキャリア抽出手段により得られた空間多重されたパイロットサブキャリア信号とを比較することで受信信号の位相誤差を検出し当該位相誤差を補償する位相補償手段と、
を具備する無線通信装置。
【請求項２】
空間多重されたパイロットサブキャリア信号のレプリカ信号を生成する空間多重パイロットサブキャリアレプリカ生成手段と、
受信信号に含まれる既知のパイロット信号を用いてパイロットサブキャリアのチャネル推定値を算出するパイロットサブキャリアチャネル推定手段と、
を具備し、
前記参照信号生成手段は、
前記レプリカ信号に対して、前記チャネル推定値に応じたチャネル変動を付与して前記参照信号を生成する
請求項１に記載の無線通信装置。
【請求項３】
前記位相補償手段は、前記パイロットサブキャリアチャネル推定手段により得られたチャネル推定値を補償し、
前記位相補償手段により補償されたチャネル推定を用いて、空間多重された受信信号を分離する
請求項２に記載の無線通信装置。
【請求項４】
前記位相補償手段は、前記空間多重されたパイロットサブキャリア信号の位相関係に応じて、前記位相誤差を重み付けして求める
請求項１に記載の無線通信装置。
【請求項５】
前記参照信号生成手段は、
空間多重されたパイロットサブキャリア信号のレプリカ信号を生成する空間多重パイロットサブキャリアレプリカ生成手段と、
受信信号に含まれる既知のパイロット信号を用いてパイロットサブキャリアのチャネル推定値を算出するパイロットサブキャリアチャネル推定手段と、
を具備し、
前記位相補償手段は、
前記パイロットサブキャリアチャネル推定手段の出力及び前記パイロットサブキャリアレプリカ生成手段の出力を基に、前記空間多重されたパイロットサブキャリアから１つのパイロットサブキャリア以外の他の空間多重パイロットサブキャリア成分を干渉成分として除去し、当該干渉成分を除去したパイロットサブキャリアに対して、前記パイロットサブキャリアレプリカ生成手段の出力を参照信号とした位相誤差補償を行う干渉除去パイロットサブキャリア位相補償手段である
請求項１に記載の無線通信装置。
【請求項６】
パイロットサブキャリア信号のレプリカ信号を生成するパイロットサブキャリアレプリカ生成手段と、
受信信号に含まれる既知のパイロット信号を用いてパイロットサブキャリアのチャネル推定値を算出するパイロットサブキャリアチャネル推定手段と、
前記チャネル推定値を用いて、空間多重された受信信号を分離する信号分離手段と、
前記信号分離手段によって得られた分離信号から既知のパイロットサブキャリア信号を抽出し、抽出したパイロットサブキャリア信号と前記レプリカ信号とを比較することで位相回転を検出し補償する位相補償手段と、
前記位相補償手段により検出された位相回転を基に前記チャネル推定値を更新するチャネル推定値更新手段と、
前記復号処理手段により得られた復号結果に対して、前記更新されたチャネル推定値を用いて反復復号処理を施す反復復号処理手段と、
を具備する無線通信装置。
【請求項７】
前記反復復号処理手段は、
前記復号処理手段の出力を再変調する再変調手段と、
前記再変調手段により得られた信号に対して前記チャネル推定値更新手段により更新されたチャネル推定値に応じたチャネル変動を付与し、当該チャネル変動を付与した再変調信号を用いて受信信号から干渉成分を除去する干渉キャンセル手段と、
を具備する請求項６に記載の無線通信装置。
【請求項８】
前記反復復号処理手段は、
前記パイロットサブキャリアレプリカ生成手段により得られたパイロットサブキャリアレプリカ信号を基準として、前記干渉キャンセル手段の出力信号に含まれるパイロットサブキャリア信号の位相回転を検出し、当該検出結果に基づいて、前記干渉キャンセル手段の出力信号に含まれるデータサブキャリア信号を位相補償する干渉除去パイロットサブキャリア位相補償手段を、さらに具備する
請求項７に記載の無線通信装置。
【請求項９】
前記位相補償手段により検出された位相回転に基づく位相回転を受信信号に与えることで受信信号を位相補償する乗算手段を、さらに具備し、
前記反復復号処理手段は、前記復号処理手段により得られた復号結果と、前記乗算手段により位相補償された受信信号とを用いて、反復復号処理を行う、
請求項６に記載の無線通信装置。
【請求項１０】
前記反復復号手段は、
初回復号時において、
前記再変調手段が、前記復号処理手段の出力に含まれるパイロットサブキャリア信号を再変調し、
前記干渉キャンセル手段が、前記再変調手段により得られたパイロットサブキャリア信号に対して前記チャネル推定値更新手段により更新されたチャネル推定値に応じたチャネル変動を付与し、当該チャネル変動を付与したパイロットサブキャリア信号の再変調信号を用いて受信パイロットサブキャリア信号から干渉成分を除去し、
前記干渉除去パイロットサブキャリア位相補償手段が、前記パイロットサブキャリアレプリカ生成手段により得られたパイロットサブキャリアレプリカ信号を基準として、前記干渉キャンセル手段により得られたパイロットサブキャリア信号の位相回転を検出し、当該検出結果を前記チャネル推定値更新手段に送出して当該検出結果に応じてチャネル推定値を更新させ、
反復復号時において、
前記再変調手段が、前記復号処理手段の出力に含まれるデータサブキャリア信号を再変調し、
前記干渉キャンセル手段が、前記再変調手段により得られたデータサブキャリア信号に対して前記チャネル推定値更新手段により更新されたチャネル推定値に応じたチャネル変動を付与し、当該チャネル変動を付与したデータサブキャリア信号の再変調信号を用いて受信データサブキャリア信号から干渉成分を除去する
請求項８に記載の無線通信装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月6日(2009.2.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
もし、周波数帯が一部で重複しているＪ３−ＩＦ信号及びＪ４−ＩＦ信号を個別に送信するなら、周波数帯が重複しない２波のミリ波信号が必要であり、再送信装置２には、ミリ波送信信号処理部を２台、受信装置４にはミリ波受信信号処理部を２台設ける必要があり、多くの周波数帯を利用することになるし、多くのミリ波送信信号処理部とミリ波受信信号処理部とが必要になる。これに対し、この伝送装置では、周波数帯が一部で重複しているＪ３−ＩＦ信号及びＪ４−ＩＦ信号を再送信しているにも拘わらず、再送信に使用している周波数帯は１波のミリ波信号のみである。従って、周波数帯の有効利用が図れ、かつ、比較的高価なミリ波送信信号処理部１６及びミリ波受信信号処理部３４は、それぞれ１台ずつ設置するだけでよい。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月27日(2009.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮像画像の複数のＡＦ領域において焦点状態を検出し、少なくとも１のＡＦ領域において焦点が合うよう制御する焦点調節手段と、撮像された画像を表示するよう制御する表示制御手段とを有し、本露光操作において撮像された画像を記憶媒体に記憶する撮像装置において、
ユーザーが操作可能な操作手段と、
前記表示制御手段は、前記本露光後、撮像画像を表示する際、撮像画像に対応する第１の画像のほか、当該撮像画像において前記複数のＡＦ領域のうち焦点が合うよう制御されたＡＦ領域に対応する第２の画像を表示するよう制御するとともに、前記操作手段の操作に応じて前記第２の画像を切り換えるよう制御することを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記撮像画像と前記焦点が合うよう制御されたＡＦ領域に対応する画像とを一部重ねて表示することを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記撮像画像と前記焦点が合うよう制御されたＡＦ領域に対応する画像とを重ならないよう表示することを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項４】
前記撮像画像の一部を当該撮像画像の画素数を変えずに、前記焦点が合うよう制御されたＡＦ領域に対応する画像として表示することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項５】
前記焦点が合うよう制御されたＡＦ領域に対応する画像を前記撮像画像のどの位置に対応するかを撮影者が視認できる指標を当該撮像画像に重畳して表示することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項６】
前記焦点が合うよう制御されたＡＦ領域に対応する画像は一旦前記表示手段を前記撮像画像のどの位置に対応するかを撮影者が視認できる指標を当該撮像画像に重畳して表示することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項７】
前記複数のＡＦ領域のいずれにおいても焦点を調節できない場合は、予め決められた領域を前記表示制御手段により表示するよう制御することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項８】
前記表示制御手段は、前記本露光後、撮像画像を表示する際、撮像画像に対応する第１の画像のほか、当該撮像画像において前記複数のＡＦ領域のうち焦点が合うよう制御されたＡＦ領域に対応する第２の画像を表示するよう制御するとともに、前記操作手段の操作に応じて前記第２の画像を検出された顔の位置に切り換えるよう制御することを特徴とする請求項１及至７のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項９】
撮像画像の複数のＡＦ領域において焦点状態を検出し、少なくとも１のＡＦ領域において焦点が合うよう制御する焦点調節手段と、撮像された画像を表示するよう制御する表示制御手段とを有し、本露光操作において撮像された画像を記憶媒体に記憶する撮像装置において、
前記本露光後、前記複数のＡＦ領域に対応する画像を順次表示するよう指示する第１の操作手段と、
前記本露光後、前記複数のＡＦ領域にかかわらず表示する画像を指示する第２の操作手段とを有することを特徴とする撮像装置。
【請求項１０】
撮像画像の複数のＡＦ領域において焦点状態を検出し、少なくとも１のＡＦ領域において焦点が合うよう制御する焦点調節手段と、撮像された画像を表示するよう制御する表示制御手段と、ユーザーが操作可能な操作手段とを有し、本露光操作において撮像された画像を記憶媒体に記憶する撮像装置の制御方法において、
前記本露光後、撮像画像を表示する際、撮像画像に対応する第１の画像のほか、当該撮像画像において前記複数のＡＦ領域のうち焦点が合うよう制御されたＡＦ領域に対応する第２の画像を表示するよう制御するとともに、前記操作手段の操作に応じて前記第２の画像を切り換えるよう制御することを特徴とする制御方法。
【請求項１１】
撮像画像の複数のＡＦ領域において焦点状態を検出し、少なくとも１のＡＦ領域において焦点が合うよう制御する焦点調節手段と、撮像された画像を表示するよう制御する表示制御手段とを有し、本露光操作において撮像された画像を記憶媒体に記憶する撮像装置の制御方法において、
前記本露光後、前記複数のＡＦ領域に対応する画像を順次表示するよう指示する第１の操作ステップと、
前記本露光後、前記複数のＡＦ領域にかかわらず表示する画像を指示する第２の操作ステップとを有することを特徴とする制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本願開示の技術思想は、上記課題を解決するもので、その一つの側面は、撮像画像の複数のＡＦ領域において焦点状態を検出し、少なくとも１のＡＦ領域において焦点が合うよう制御する焦点調節手段と、撮像された画像を表示するよう制御する表示制御手段とを有し、本露光操作において撮像された画像を記憶媒体に記憶する撮像装置において、ユーザーが操作可能な操作手段と、前記表示制御手段は、前記本露光後、撮像画像を表示する際、撮像画像に対応する第１の画像のほか、当該撮像画像において前記複数のＡＦ領域のうち焦点が合うよう制御されたＡＦ領域に対応する第２の画像を表示するよう制御するとともに、前記操作手段の操作に応じて前記第２の画像を切り換えるよう制御する。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月11日(2008.12.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
スピーカユニット１０３の前面から得られる音波ＳＷＦは、図５に示すように、ベース筐体１０１の下面側から外部に放射される。また、このスピーカユニット１０３の背面から得られる音波ＳＷＢは、図５に示すように、開口部１０４およびパイプ１０２の内部を通って、パイプ１０２の上端部側から外部に放射される。この場合、パイプ１０２は共鳴管として機能し、低域成分の増強が図られる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
また、上述したようにパイプ１０２は音波により加振可能な程度に軽くかつ薄くされているので、その内部を通る音波（空気の粗密）ＳＷＢによりこのパイプ１０２の管壁が加振される。このような音波による加振のため、パイプ１０２の管壁はその音波ＳＷＢに対応して振動し、図５に示すように、このパイプ１０２の外面全体から外部に、上述したスピーカユニット１０３の駆動に係る音声信号に対応した音波ＳＷＳが放射される。