Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月27日(2009.2.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試薬を収納するための試薬架設部を複数備え、装置内の所定の位置に夫々配設され夫々独立して取り出し可能な複数の試薬ラック、
反応容器を搬送するためのローダ、
ローダに保持された反応容器に検体を分注するための検体ピペット、
試薬ラックに収納された試薬であって、ローダに保持された反応容器に分注された各検体に対する測定依頼項目の各試薬を、当該試薬の架設位置に移動して分取し各反応容器に分注する試薬ピペット、および
反応容器に分注された検体および測定依頼項目の試薬からなる測定試料を測定する測光部、を備えた自動分析装置であって、
該自動分析装置は、測定依頼に対応して、ローダに保持された反応容器への検体ピペットによる検体の分注、試薬ピペットによる測定依頼項目の試薬の分注、および測光部による測定試料の測定を自動的に実行し、
前記自動実行中に、操作者が試薬の交換のために測定依頼項目に係る試薬が架設された試薬ラックを前記自動実行中の装置から取り出す場合に、当該自動分析装置は、操作者の取出し指示入力により当該試薬ラックの測定依頼項目に係る試薬の試薬ピペットによる分取を中断し、それ以外の試薬ラックに架設された試薬を用いて前記自動実行を行うことを特徴とする自動分析装置。
【請求項２】
装置から取出され試薬交換された前記試薬ラックが、操作者により再セットされた場合に、中断された当該試薬ラックの測定依頼項目に係る試薬の試薬ピペットによる分取を再開する請求項１に記載の自動分析装置。
【請求項３】
再セットされた前記試薬ラックに架設された試薬の登録を受け付ける試薬情報登録画面を表示するための表示部を備えることを特徴とする請求項２に記載の自動分析装置。
【請求項４】
試薬の交換のために取出された前記試薬ラックに架設された測定依頼項目に係る試薬と同一種類の試薬が、前記それ以外の試薬ラックに架設されている場合に、その同一種類の試薬を用いて前記自動実行を行うことを特徴とする請求項１に記載の自動分析装置。
【請求項５】
ローダに反応容器を供給するための反応容器供給装置をさらに備えることを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載の自動分析装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は上記の目的を達成するためになされたもので、試薬を収納するための試薬架設部を複数備え、装置内の所定の位置に夫々配設され夫々独立して取り出し可能な複数の試薬ラック、反応容器を搬送するためのローダ、ローダに保持された反応容器に検体を分注するための検体ピペット、試薬ラックに収納された試薬であって、ローダに保持された反応容器に分注された各検体に対する測定依頼項目の各試薬を、当該試薬の架設位置に移動して分取し各反応容器に分注する試薬ピペット、および  反応容器に分注された検体および測定依頼項目の試薬からなる測定試料を測定する測光部、を備えた自動分析装置であって、
該自動分析装置は、測定依頼に対応して、ローダに保持された反応容器への検体ピペットによる検体の分注、試薬ピペットによる測定依頼項目の試薬の分注、および測光部による測定試料の測定を自動的に実行し、前記自動実行中に、操作者が試薬の交換のために測定依頼項目に係る試薬が架設された試薬ラックを前記自動実行中の装置から取り出す場合に、当該自動分析装置は、操作者の取出し指示入力により当該試薬ラックの測定依頼項目に係る試薬の試薬ピペットによる分取を中断し、それ以外の試薬ラックに架設された試薬を用いて前記自動実行を行うことを特徴とする自動分析装置を提供するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
以下、測定の流れを説明すると、サンプラーにセットされた採血管の血漿は検体ピペットで吸引されて、一次取込部にセットされたキュベットに分注される。その取り込まれた検体は、加温ローダ１にセットされたキュベットに分注され、その際必要ならば希釈液も分注される。加温ローダ１では検体が所定時間プレインキュベーションされる。そして、加温部キャッチャーがその検体をキュベットごと取出し、必要な際は反応準備試薬が試薬ピペットにて添加されて、加温部２に移され、加温部２で所定時間プレインキュベーションされる。そして、検出部キャッチャーがその検体をキュベットごと取出し、反応開始試薬を添加して、キャッチャーに備えられた揺動部がキュベットを揺動して試料を混和し、本体左側奥に備えられた測光部の所定の孔にキュベットをセットして測定がする。そのようにして測定されたキュベットは測定が終了した順に廃棄部キャッチャーによって取出され、廃棄ベルトにて廃棄される。このようにして、測定項目によって反応条件が異なる項目もランダムアクセス的に測定してゆく。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
その測定結果に応じてリフレクトテストをする際には、一次取込部に保管されているキュベットから再度その検体を分注して測定を行うことができる。この一次取込部は試料をプレインキュベーションする加温ローダ１とは別であるので、加温することなく検体を保管しておくことができる。そして、リフレクトテストが不要であると測定結果によって判定されれば、その検体が分注されたキュベットは加温部キャッチャーによって廃棄される。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月22日(2009.1.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体ウェーハの不均一性を検出する方法であって、
ウェーハ表面を有するウェーハを含む半導体を設けるステップと、
プローブ先端を有する非振動接触電位差センサを設けるステップと、
前記ウェーハ表面と連通する照射エネルギ源を設けるステップと、
可変照射を提供する機構を設けるステップと、
前記非振動接触電位差センサプローブ先端の近傍に位置するサンプリングエリアを含む前記ウェーハ表面のエリアで前記照射エネルギを指向するステップと、
前記半導体の前記表面が照射される間に、前記非振動接触電位差センサに対して横方向にかつ平行に前記ウェーハ表面を連続的に走査するステップと、
前記センサプローブ先端が前記ウェーハ表面にわたって横方向に連続的に走査するとき、前記センサプローブ先端と前記ウェーハ表面との間で、前記非振動接触電位差における変化を表すセンサデータを生成するステップと、
不均一性を表すパターンを検出するために、前記非振動接触電位差センサデータを処理するステップと、を含み、
前記不均一性は、化学的不均一性、物理的不均一性、電気的不均一性およびそれらの組み合わせからなる群から選択される、方法。
【請求項２】
前記可変照射エネルギは、変化する強度、変化する光スペクトルおよび前記ウェーハ表面に対する変化する入射角度の少なくとも１つを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記照射エネルギは、前記半導体ウェーハのバンドギャップより大きいエネルギを有する光の波長を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記照射エネルギは、前記半導体のバンドギャップより小さいエネルギを有する光の波長を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記不均一性は、半導体ドーピング密度の変動を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記不均一性は、前記半導体における汚染を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記汚染は、前記半導体の前記ウェーハ表面における金属または有機汚染を含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記不均一性は、表面化学作用における変動を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記照射エネルギ源はレーザを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記非振動接触電位差センサの前記プローブ先端は、前記照射エネルギの波長に対して透過性である、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記非振動接触電位差センサの前記プローブ先端は、前記プローブ先端の下のエリアの照射を可能にするように成形される、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記半導体は、照射エネルギの少なくとも一部の波長に対して透過性である膜を被覆するステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記不均一性は、前記透過性膜の上もしくは内部の電荷を含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記スペクトルまたは前記照射エネルギの強度が走査間で変更される場合に、前記ウェーハ表面を少なくとも２回連続的に走査するステップと、前記複数の走査から前記非振動接触電位差センサデータを処理して、前記不均一性を表すパターンを検出するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
前記非振動接触電位差センサデータの処理は、１回の走査の結果と、第２の走査の結果との間の差を計算することを含み、前記各走査は異なる照射状態でなされる、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
半導体ウェーハの不均一性を検出するためのシステムであって、
ウェーハ表面を有する半導体ウェーハを収容するように適合される半導体取付表面と、
プローブ先端を有し、前記取り付けられた半導体ウェーハに隣接して位置決め可能であり、前記半導体ウェーハとの間での相対移動が可能である非振動接触電位差センサと、
前記表面とコミュニケーションする照射エネルギ源であって、角度によって指向可能であり、かつ可変である照射エネルギを提供する照射エネルギ源と、
前記非振動接触電位差センサプローブ先端の近傍に位置しているサンプリングエリアを含む前記ウェーハ表面のエリアが前記照射エネルギ源によって照射される間において、前記センサプローブ先端が前記半導体表面にわたって横方向にかつ平行に連続的に走査するときに、非振動接触電位差データを生成する前記センサと、
前記センサからの前記非接触電位差センサデータを受信して、不均一性を表すパターンを検出するように前記データを処理するプロセッサと、
を備えるシステム。
【請求項１７】
前記不均一性は、化学的不均一性、物理的不均一性、電気的不均一性およびそれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項１６に記載のシステム。
【請求項１８】
前記可変照射エネルギは、変化する強度、変化するスペクトルおよび前記ウェーハ表面に対する変化する入射角度を有する、請求項１６に記載のシステム。
【請求項１９】
前記照射エネルギは、前記半導体ウェーハのバンドギャップより大きいエネルギを有する光の波長を含む、請求項１６に記載のシステム。
【請求項２０】
前記照射エネルギは、前記半導体のバンドギャップより小さいエネルギを有する光の波長を含む、請求項１６に記載のシステム。
【請求項２１】
前記不均一性は、半導体ドーピング密度の変動を含む、請求項１６に記載のシステム。
【請求項２２】
前記不均一性は、前記半導体における汚染を含む、請求項１６に記載のシステム。
【請求項２３】
前記汚染は、前記半導体の前記ウェーハ表面における金属または有機汚染を含む、請求項２２に記載のシステム。
【請求項２４】
前記不均一性は、表面化学作用における変動を含む、請求項１６に記載のシステム。
【請求項２５】
前記照射エネルギ源はレーザを含む、請求項１６に記載のシステム。
【請求項２６】
前記非振動接触電位差センサの前記プローブ先端は、前記照射エネルギの波長に対して透過性である、請求項１６に記載の方法。
【請求項２７】
前記非振動接触電位差センサの前記プローブ先端は、前記プローブ先端の下のエリアの照射を可能にするように成形される、請求項１６に記載のシステム。
【請求項２８】
前記半導体は、照射エネルギの少なくとも一部の波長に対して透過性である膜を被覆するステップを含む、請求項１６に記載のシステム。
【請求項２９】
前記欠陥は、前記透過性膜の上もしくは内部の電荷を含む、請求項２８に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月28日(2008.10.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一方の面から入射した光を透過させる板状の本体部と、
前記本体部の他方の面側に設けられ、前記本体部を透過した光を分光して前記一方の面側に反射する分光部と、
前記一方の面側に設けられ、前記分光部によって分光されて反射された光を検出する光検出素子と、
前記一方の面上に形成され、前記本体部に入射する光が通過するスリット、及び前記光検出素子に入射する光が通過する開口部を有する吸光層と、
を備えることを特徴とする分光モジュール。
【請求項２】
前記一方の面側には、前記光検出素子と電気的に接続された配線が設けられていることを特徴とする請求項１記載の分光モジュール。
【請求項３】
前記吸光層は、前記一方の面と前記配線との間に設けられていることを特徴とする請求項２記載の分光モジュール。
【請求項４】
前記吸光層の表面は粗面とされていることを特徴とする請求項３記載の分光モジュール。
【請求項５】
前記一方の面側には、前記配線と電気的に接続されたフレキシブル基板が設けられていることを特徴とする請求項２〜４の何れか一項記載の分光モジュール。
【請求項６】
前記本体部は、積層された少なくとも２枚の透光性板を有していることを特徴とする請求項１〜５の何れか一項記載の分光モジュール。
【請求項７】
隣り合う前記透光性板同士の間の所定の領域には、光を吸収する吸光膜が設けられていることを特徴とする請求項６記載の分光モジュール。
【請求項８】
一方の面から入射した光を透過させる板状の本体部と、
前記本体部の他方の面側に設けられ、前記本体部を透過した光を分光して前記一方の面側に反射する分光部と、
前記一方の面側に設けられ、前記分光部によって分光されて反射された光を検出する光検出素子と、を備える分光モジュールを製造するための分光モジュールの製造方法であって、
複数の前記本体部を含むウェハの一方の面側に複数の前記光検出素子を設けると共に、前記ウェハの他方の面側に複数の前記分光部を設けた後、前記ウェハをダイシングして、前記分光モジュールを製造することを特徴とする分光モジュールの製造方法。
【請求項９】
一方の面から入射した光を透過させる板状の本体部と、
前記本体部の他方の面側に設けられ、前記本体部を透過した光を分光して前記一方の面側に反射する分光部と、
前記一方の面側に設けられ、前記分光部によって分光されて反射された光を検出する光検出素子と、を備える分光モジュールを製造するための分光モジュールの製造方法であって、
前記本体部となる一方の透光性板に前記光検出素子を設けると共に、前記本体部となる他方の透光性板に前記分光部を設けた後、前記一方の透光性板と前記他方の透光性板とを貼り合わせて、前記分光モジュールを製造することを特徴とする分光モジュールの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月25日(2009.6.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークを搬送する回転搬送ユニットと、この回転搬送ユニットにワークを供給する供給ユニットと、前記回転搬送ユニット上のワークを走査するＣＣＤカメラと、これら回転搬送ユニット、供給ユニットおよびＣＣＤカメラが載置される機台とから構成される部品検査装置において、
前記回転搬送ユニットおよびＣＣＤカメラは、前記機台の上面の一部に弾性部材を介して載置されるベース板に載置されていることを特徴とする部品検査装置。
【請求項２】
前記供給ユニットは、弾性部材を介して機台の上面に載置されることを特徴とする請求項１に記載の部品検査装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は、ワークを搬送する回転搬送ユニットと、この回転搬送ユニットにワークを供給する供給ユニットと、前記回転搬送ユニット上のワークを走査するＣＣＤカメラと、これら回転搬送ユニット、供給ユニットおよびＣＣＤカメラが載置される機台とから構成される部品検査装置において、前記回転搬送ユニットおよびＣＣＤカメラは、前記機台の上面の一部に弾性部材を介して載置されるベース板に載置されていることを特徴とする。また、前記供給ユニットは、弾性部材を介して機台の上面に載置されることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成21年8月4日(2009.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
微小物体を採取するプローブと、
前記プローブ上の微小物体を加熱気化または分解気化するためのレーザ光を発生させるレーザ発振器と、
気化した前記微小物体を分析する分析部を備える試料分析装置において、
前記微小物体近傍へ前記レーザ光を照射することにより、前記微小物体を加熱気化または熱分解気化し、気化した物質を分析することを特徴とする試料分析装置。
【請求項２】
請求項１において、
採取した前記微小物体を支持する前記プローブの先端又は先端付近に対物レンズ等で集光した前記レーザ光を照射し、前記レーザ光のエネルギーにより温度上昇したプローブ先端又は先端付近からの熱伝導により微小物体を加熱気化または熱分解気化し、気化した前記微小物体を前記分析部に導入し分析することを特徴とする試料分析装置。
【請求項３】
請求項１または２において、
前記レーザ光のレーザ集光径内に分析対象物である前記微小物体の全部又は一部が入らないことを特徴とする試料分析装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかにおいて、
前記プローブの材料をシリコンとすることを特徴とする試料分析装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかにおいて、
前記分析部に質量分析装置を用いることを特徴とする試料分析装置。
【請求項６】
請求項５において、
前記質量分析装置のイオン源近傍まで前記プローブを導入できる機構と、
前記質量分析装置の外壁にレーザ照射用の窓を備え、
導入した前記プローブに前記窓を介して前記レーザ光を照射できることを特徴とする試料分析装置。
【請求項７】
請求項１〜４のいずれかにおいて、
前記分析部にガスクロマトグラフ質量分析装置を使うことを特徴とする試料分析装置。
【請求項８】
請求項７において、
ガスクロマトグラフ用カラムとしてキャピラリーカラムを備え、
キャピラリーカラム試料導入口に前記プローブを装着し、装着した前記プローブの先端に前記レーザ光を照射できるようにしたことを特徴とする試料分析装置。
【請求項９】
請求項1〜８において、
前記プローブとして、AFMまたはSTMの探針を用いることを特徴とする試料分析装置。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれにおいて、
前記プローブ及び採取した前記微小物体を観察する為の観察機構を備えることを特徴とする試料分析装置。
【請求項１１】
プローブに微小物体を採取する工程と、
レーザ光を照射し、採取した前記プローブ上の微小物体を加熱気化または分解気化する工程と、
気化した前記微小物体を分析する工程とを含む試料分析方法において、
前記微小物体近傍へ前記レーザ光を照射することにより、前記微小物体を加熱気化または熱分解気化し、気化した物質を分析することを特徴とする試料分析方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年10月28日(2008.10.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光を透過させる本体部と、
前記本体部の所定の面から前記本体部に入射した光を分光して前記所定の面側に反射する分光部と、
前記所定の面上に支持され、前記分光部によって分光されて反射された光を検出する光検出素子と、を備え、
前記光検出素子は、前記本体部に入射する光が通過する光通過開口を有し、前記光通過開口には、前記本体部に入射する光を導光する光学素子が配置されており、
前記所定の面上には、前記本体部に入射する光が通過する第１の光通過孔、及び前記光検出素子の光検出部に入射する光が通過する第２の光通過孔を有する光吸収層が形成されていることを特徴とする分光モジュール。
【請求項２】
前記光学素子の光入射端面は、前記光検出素子から突出していることを特徴とする請求項１記載の分光モジュール。
【請求項３】
前記光通過開口は、前記所定の面の反対側に形成された凹部、及び前記凹部の底面に形成された貫通孔を有し、
前記光学素子は、前記凹部に配置されていることを特徴とする請求項１又は２記載の分光モジュール。
【請求項４】
前記光学素子は、その光出射端面が前記第１の光通過孔と対向した状態で前記光吸収層に当接していることを特徴とする請求項１又は２記載の分光モジュール。
【請求項５】
前記光学素子は、光ファイバであることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項記載の分光モジュール。
【請求項６】
前記光ファイバは、バンドルファイバであることを特徴とする請求項５記載の分光モジュール。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月26日(2009.1.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  放電空間を介して対向する一対の基板の内、少なくとも一方の基板上に導電性電極と蛍光体層を順次積層した構造を有し、前記蛍光体層に不純物原子が含まれた、ＳｉＣを主成分とするウィスカーが混合されていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】  前記不純物原子が窒素イオンまたは金属であることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】  前記ウィスカーが０．１重量％以上６０重量％以下含まれていることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】  前記ウィスカーが針状粒子またはテトラポット状粒子またはメッシュ状粒子であることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項５】  請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法において、基板上に導電性電極を形成し、前記導電性電極と平行に前記基板上に隔壁を形成し、前記隔壁間に不純物原子を含むウィスカーと蛍光体粉末を混合し、インク吐出法によって塗布することによって蛍光体層を形成することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月16日(2008.12.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技機前面部を構成する遊技機前面体と、
周方向に周回すると共に該周方向に複数種の絵柄が配列された複数の周回体及び同周回体を周方向に周回させる駆動手段をケース部材に収容してなる周回体ユニットと、
前記遊技機前面体に設けられ前記周回体の絵柄を透視可能とする透視部と、
前記各周回体の回転を開始させるべく操作される始動操作手段と、
前記各周回体の回転を停止させるべく操作される停止操作手段と
を備え、
前記始動操作手段が操作されたことに基づいて前記各周回体の回転が開始され、停止後の停止絵柄に応じて遊技者に特典を付与するようにした遊技機において、
前記遊技機前面体の背面側に設けられ、前記周回体ユニットが所定の設置箇所に配置されるベース体と、
弾性力を有し、前記ベース体に前記周回体ユニットを仮止めする仮止め手段と
を備え、
前記仮止め手段は、前記ベース体に後方から前記設置箇所に向けて前記周回体ユニットが近づけられることにより当該周回体ユニットとベース体との間で押圧されて退避し、前記設置箇所に前記周回体ユニットが配置されると弾性力により元の位置に復帰して前記周回体ユニットの後方への移動を規制するよう位置決めされていることを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記仮止め手段は、前記周回体ユニットと前記ベース体との間で押圧されて撓み可能な板バネ部と、前記周回体ユニットの後方への移動を規制する規制部とを備えたことを特徴とする請求項１に記載の遊技機。
【請求項３】
前記ベース体の背面には、同背面から後方へ突出し、前記周回体ユニットが載置される載置部が設けられていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の遊技機。
【請求項４】
前記ケース部材には、その底面から下方へ突出し、前記載置部に載置されることでその載置された位置を支点として前記周回体ユニットの前記設置箇所へ向けた傾動を可能とする突出部が設けられており、
さらに、前記周回体ユニットの上部が仮止めされるように前記仮止め手段が設けられていることを特徴とする請求項３に記載の遊技機。
【請求項５】
前記載置部には、上方へと起立し前記突出部の前方にて同突出部と当接する当接部が設けられていることを特徴とする請求項４に記載の遊技機。
【請求項６】
前記突出部と前記当接部とを介して前記ベース体に前記周回体ユニットが固定されていることを特徴とする請求項５に記載の遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月13日(2009.10.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
３次元画像データを所定の回転軸を中心として投影角度の異なる複数の投影画像を作成する画像処理手段と、前記画像処理に必要な指令を受け付ける入力手段と、前記投影画像を表示する表示手段とを備えた画像処理装置において、
前記画像処理手段は、前記投影処理に必要なパラメータと、複数の３次元画像データに対し同一のパラメータを用いて投影処理を行う一括処理モードを設定する手段を備え、前記一括処理モードにおいて、前記設定されたパラメータを用いて前記複数の３次元画像データの投影処理を行い、複数の投影画像を合成して前記表示装置に表示させることを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記パラメータは、投影角度の増分を含むことを特徴とする請求項１記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記パラメータは、投影処理の回転軸の、画像データの座標軸に対する角度、オフセット値を含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
核磁気共鳴により被検体を撮像する撮像手段と、前記撮像手段に対し前記被検体を相対移動する移動手段と、前記撮像手段および移動手段を制御し、前記被検体の広範囲の領域を複数の領域に分けて撮像を行う制御手段と、前記複数の領域の撮像によってそれぞれ得られた測定データから３次元画像データを作成すると共に前記３次元画像データを処理する画像処理手段とを備えた磁気共鳴イメージング装置において、
前記画像処理手段として、請求項１ないし３いずれか１項に記載の画像処理装置を備えたことを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
【請求項５】
前記複数の３次元画像データは、マルチステーション撮影によって取得された被検体の体軸方向に並ぶ画像データであることを特徴とする請求項４記載の磁気共鳴イメージング装置。
【請求項６】
前記複数の３次元画像データは、血管撮像によって取得された被検体の血管画像であることを特徴とする請求項４または５に記載の磁気共鳴イメージング装置。
【請求項７】
３次元画像データを所定の回転軸を中心として投影角度の異なる複数の投影画像を作成する画像処理方法において、
投影処理に必要なパラメータを設定するステップと、
複数の３次元画像データに対し、設定された同一のパラメータを用いてそれぞれ投影処理を行うステップと、
複数の投影画像を合成するステップとを備えたことを特徴とする画像処理方法。
【請求項８】
複数の３次元画像データを記憶する手段と、
前記３次元画像データから投影像を取得する手段と、
前記投影像を作成するための投影パラメータの設定を受付ける手段と、
前記投影像を表示する手段と、
を備えた画像処理装置において、
前記投影像取得手段は、前記設定された投影パラメータを前記複数の３次元画像データ間で共有して、該複数の３次元画像データの各々から投影像をそれぞれ作成することを特徴とする画像処理装置。
【請求項９】
(ａ)複数の３次元画像データを取得して記憶するステップと、
(ｂ)投影パラメータを設定するステップと、
(ｃ)前記設定された投影パラメータを用いて、前記記憶された３次元画像データの一つから投影像を作成するステップと、
(ｄ)前記記憶された３次元画像データを変えて前記ステップ(ｃ)を繰り返すステップと、
を有する画像処理方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月2日(2009.10.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電力の需給計画を管理支援するシステムであって、
社外通信ネットワークを介して複数の特定規模電気事業者（以下、「ＰＰＳ」という。）の装置からそれぞれ送られてくるＰＰＳの需要電力および供給電力の記録されたＰＰＳ需給計画ファイルを受信する需給計画ファイル受信確認手段と、
受信した複数の前記ＰＰＳ需給計画ファイルに基づいて予め定められた作成断面ごとにＰＰＳの需要電力および供給電力をそれぞれ集計して、ＰＰＳ需要電力合計値およびＰＰＳ供給電力合計値を算出し、電力会社の自社需要電力および自社供給電力に前記ＰＰＳ需要電力合計値および前記ＰＰＳ供給電力合計値をそれぞれ合算して、エリア需要電力およびエリア供給電力からなるエリア需給計画を算出する需給計画集計手段と、
前記エリア需給計画に基づいて、エリアごとの供給力の判定を行う需給計画内容判定手段と、
を備えたことを特徴とする需給計画管理支援システム。
【請求項２】
前記算出した前記作成断面ごとのエリア需給計画を書面化する需給計画書面化手段を備えたことを特徴とする請求項１に記載の需給計画管理支援システム。
【請求項３】
前記予め定められた作成断面は、期間により異なることを特徴とする請求項１または２に記載の需給計画管理支援システム。
【請求項４】
前記需給計画内容判定手段は、前記エリア供給電力から前記エリア需要電力を減じた値が予め定めた値未満の場合は、予め定めた宛先に通知を行うことを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一に記載の需給計画管理支援システム。
【請求項５】
前記需給計画ファイル受信確認手段は、予め定めた日時までに前記ＰＰＳ需給計画ファイルが届いているかを判定し、前記ＰＰＳ需給計画ファイルが届いていないＰＰＳを特定し、前記特定したＰＰＳの装置に対して通知を行うことを特徴とする請求項１ないし４のいずれか一に記載の需給計画管理支援システム。
【請求項６】
前記需給計画ファイル受信確認手段による通知は、電子メール、電話、ＦＡＸ、または、予め定めた特定の通知手段で行うことを特徴とする請求項５に記載の需給計画管理支援システム。
【請求項７】
前記需給計画集計手段によって算出されたエリア需給計画を予め定めた宛先に通信ネットワークを介して通知する需給計画結果通知手段を備えたことを特徴とする請求項１ないし６のいずれか一に記載の需給計画管理支援システム。
【請求項８】
前記需給計画結果通知手段による通知は、電子メール、ＵＲＬ（Universal Resource Locator）、ＦＡＸ、または、予め定めた特定の通知手段で行うことを特徴とする請求項７に記載の需給計画管理支援システム。
【請求項９】
前記需給計画結果通知手段は、算出した需給計画を特定の通信プロトコルにて可読性を有するように改変し、前記通信プロトコルにて通信ネットワークを介して閲覧可能とすることを特徴とする請求項７に記載の需給計画管理支援システム。
【請求項１０】
前記通信プロトコルはＨＴＴＰ（Hypertext Transfer Protocol）、ＨＴＴＰＳ（Hypertext Transfer Protocol Security）、ＦＴＰ（File Transfer Protocol）、ＳＦＴＰ（Secure FTP）、および、ＦＴＰＳ（FTP over SSL/TLS）のうち、少なくとも一つであることを特徴とする請求項９に記載の需給計画管理支援システム。
【請求項１１】
電力の需給計画を管理支援する方法であって、
社外通信ネットワークを介して複数のＰＰＳの装置からそれぞれ送られてくるＰＰＳの需要電力および供給電力の記録されたＰＰＳ需給計画ファイルを受信する需給計画ファイル受信ステップと、
受信した複数の前記ＰＰＳ需給計画ファイルに基づいて予め定められた作成断面ごとにＰＰＳの需要電力および供給電力をそれぞれ集計して、ＰＰＳ需要電力合計値およびＰＰＳ供給電力合計値を算出し、電力会社の自社需要電力および自社供給電力に前記ＰＰＳ需要電力合計値および前記ＰＰＳ供給電力合計値をそれぞれ合算して、エリア需要電力およびエリア供給電力からなるエリア需給計画を算出する需給計画集計ステップと、
前記エリア需給計画に基づいて、エリアごとの供給力の判定を行う需給計画内容判定ステップと、
を含むことを特徴とする需給計画管理支援方法。
【請求項１２】
前記需給計画内容判定ステップは、前記エリア供給電力から前記エリア需要電力を減じた値が予め定めた値未満の場合は、予め定めた宛先に通知を行い、
前記需給計画ファイル受信ステップは、予め定めた日時までに前記ＰＰＳ需給計画ファイルが届いているかを判定し、前記ＰＰＳ需給計画ファイルが届いていないＰＰＳを特定し、前記特定したＰＰＳの装置に対して通知を行うことを特徴とする請求項１１に記載の需給計画管理支援システム。
【請求項１３】
電力の需給計画を管理支援するコンピュータ上で動作するプログラムであって、
社外通信ネットワークを介して複数のＰＰＳの装置からそれぞれ送られてくるＰＰＳの需要電力および供給電力の記録されたＰＰＳ需給計画ファイルを受信する需給計画ファイル受信処理と、
受信した複数の前記ＰＰＳ需給計画ファイルに基づいて予め定められた作成断面ごとにＰＰＳの需要電力および供給電力をそれぞれ集計して、ＰＰＳ需要電力合計値およびＰＰＳ供給電力合計値を算出し、電力会社の自社需要電力および自社供給電力に前記ＰＰＳ需要電力合計値および前記ＰＰＳ供給電力合計値をそれぞれ合算して、エリア需要電力およびエリア供給電力からなるエリア需給計画を算出する需給計画集計処理と、
前記エリア需給計画に基づいて、エリアごとの供給力の判定を行う需給計画内容判定処理と、
を含むことを特徴とする需給計画管理支援プログラム。
【請求項１４】
前記需給計画内容判定処理は、前記エリア供給電力から前記エリア需要電力を減じた値が予め定めた値未満の場合は、予め定めた宛先に通知を行い、
前記需給計画ファイル受信処理は、予め定めた日時までに前記ＰＰＳ需給計画ファイルが届いているかを判定し、前記ＰＰＳ需給計画ファイルが届いていないＰＰＳを特定し、前記特定したＰＰＳの装置に対して通知を行うことを特徴とする請求項１３に記載の需給計画管理支援プログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
図３に、本実施の形態における電力の需給計画の作成断面、作成の期限、および、作成する内容を表す表を示す。電力の需給計画対象者は図３に示す期限の日時までに、１〜２年度までの年間計画、翌月から翌々月までの月間計画、翌週から翌々週までの週間計画、および、翌日の計画を作成し、提出しなければならない。その後、電力の需給の担当者は、受信した電力の需給計画を記載したＰＰＳ需給計画ファイルを用いて図３に示す作成断面にて電力の需給計画を作成する。また、提出の方法として電子メールに添付するなどの方法がある。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月25日(2008.12.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撒水又は浸漬、蒸煮、放冷等の原料処理工程を経て製麹可能となされた製麹原料に種麹を接種することにより固体麹を製造する方法において、種麹の接種後、製麹原料の品温が上昇するまで製麹原料を静置し、製麹原料の品温上昇後に製麹原料を常にあるいは少なくとも１〜１０分間隔で間欠的に攪拌することを特徴とする固体麹の製造方法。
【請求項２】
少なくとも製麹工程において、回転ドラムが用いられ、前記製麹原料の攪拌が、ドラムの回転により生じる原料層の傾斜面からの落下により行われる請求項１に記載の固体麹の製造方法。
【請求項３】
前記ドラムの回転が、１回転／３０〜９０秒に設定されている請求項２に記載の固体麹の製造方法。
【請求項４】
製麹工程において、上下複数段に設置されたコンベアが用いられ、前記製麹原料の攪拌が、上段のコンベアから下段のコンベアへの製麹原料の落下により行われる請求項１に記載の固体麹の製造方法。
【請求項５】
前記コンベアは、搬送速度が２００〜４００ｃｍ／分であって、上段のコンベアから下段のコンベアへの製麹原料の落下が１〜５分ごとに行われるものと設定され、かつ上段のコンベアと下段のコンベアとの落差が２０〜８０ｃｍに設定されている請求項４に記載の固体麹の製造方法。
【請求項６】
前記製麹原料の攪拌が、製麹棚攪拌方式により行われる請求項１に記載の固体麹の製造方法。
【請求項７】
前記製麹原料の攪拌が、回転円盤攪拌方式により行われる請求項１に記載の固体麹の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年8月7日(2009.8.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技に関する制御を司る制御基板、及び該制御基板を収容する基板ケースを有する制御装置と、
遊技機本体の背面に設けられ、前記制御装置を前記基板ケースと前記遊技機本体の背面とを離間させた状態で装着し、その基板ケースと遊技機本体の背面との間に空間領域を形成する台座部材と、
前記空間領域に設けられ当該空間領域を細分化するスペーサ部材と、
前記台座部材に前記スペーサ部材を固定する固定手段と、を備え、
前記台座部材に装着された前記制御装置によって前記固定手段が隠されていることを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記固定手段は、前記台座部材に形成された孔部に前記台座部材を挟んで前記スペーサ部材とは反対側から差し入れられて一部が前記スペーサ部材側に突出し、その突出部にて前記スペーサ部材に形成された被係止部に係止される係止部材であり、
前記制御装置が前記台座部材に装着されることで、前記係止部材において前記台座部材を挟んで前記スペーサ部材とは反対側の部位が隠されていることを特徴とする請求項１に記載の遊技機。
【請求項３】
前記スペーサ部材は、多数のリブを有し格子状に形成された格子状部材であり、前記空間領域に前記リブが遊技機前後方向に延びる向きとなるようにして設けられて前記空間領域が細分化されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の遊技機。
【請求項４】
前記スペーサ部材は透明材料により形成され、当該スペーサ部材の内部が視認可能になっていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月23日(2009.3.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
適応的動き補償フレーム間予測を行うことにより得た予測画像と、復号化された予測誤差情報とから画像を復元する動画像復号化装置であって、
既に復号化された映像信号を記憶しておくためのフレームメモリと、
予測モード情報および動きベクトルを含むサイド情報を復号するサイド情報復号化部と、
画像フレームを複数の処理領域に分割し、前記動きベクトルを用いて前記処理領域毎に複数の動き補償フレーム間予測方式により、前記フレームメモリに記憶された映像信号から前記予測モード情報に応じて予測画像を生成する予測部と
を備え、前記予測部は、
前記処理領域に対し、ブロック移動による予測方式を用いて前記予測画像を生成する第１の予測モードと、
前記処理領域に対し、アフィン変換による予測方式を用いて前記予測画像を生成する第２の予測モードと、
を有し、
所定の処理領域において前記第１の予測モードが用いられ、前記所定の処理領域に隣接する処理領域において前記第２の予測モードが用いられた場合に、前記隣接する処理領域の動きベクトルを用いることによって、前記所定の処理領域の動きベクトルを少ない情報量で復号することを特徴とする動画像復号化装置。
【請求項２】
動画像符号化装置により符号化されたデータを入力し、複数の動き補償フレーム間予測方式を用いて画像フレームを復号化する動画像復号化装置であって、
画像フレームの動きベクトルを復号化する動きベクトル復号化部と、
前記画像フレームを複数の領域に分割した領域毎に、前記動きベクトルと前記複数の予測方式のそれぞれに対応する予測画像を生成する予測部と、
前記複数の予測方式から一の予測方式を選択する情報および前記動きベクトルを示す情報を復号化するサイド情報復号化部とを備え、
前記符号化されたデータは、前記動画像符号化装置に入力された画像フレームを複数の領域に分割した領域の動きベクトルと、該領域に対して複数の予測方式から選択した一の予測方式を示すサイド情報とを含み、
前記サイド情報は、前記動画像符号化装置において、符号化対象領域に隣接する領域に対し該符号化対象領域とは異なる予測方式が決定された場合に、該隣接領域の動きベクトルを用いることによって、符号化対象領域の動きベクトルに要するサイド情報量を少なくしたものであり、
前記サイド情報復号化部は、復号化対象領域に隣接する領域に対し該復号化対象領域とは異なる予測方式が決定された場合に、該隣接領域の動きベクトルを用いることによって、復号化対象領域の動きベクトルを復号化することを特徴とする動画像復号化装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】動画像復号化装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
本願発明は、適応的動き補償フレーム間予測を行うことにより得た予測画像と、復号化された予測誤差情報とから画像を復元する動画像復号化装置であって、既に復号化された映像信号を記憶しておくためのフレームメモリと、予測モード情報および動きベクトルを含むサイド情報を復号するサイド情報復号化部と、画像フレームを複数の処理領域に分割し、前記動きベクトルを用いて前記処理領域毎に複数の動き補償フレーム間予測方式により、前記フレームメモリに記憶された映像信号から前記予測モード情報に応じて予測画像を生成する予測部とを備え、前記予測部は、前記処理領域に対し、ブロック移動による予測方式を用いて前記予測画像を生成する第１の予測モードと、前記処理領域に対し、アフィン変換による予測方式を用いて前記予測画像を生成する第２の予測モードと、を有し、所定の処理領域において前記第１の予測モードが用いられ、前記所定の処理領域に隣接する処理領域において前記第２の予測モードが用いられた場合に、前記隣接する処理領域の動きベクトルを用いることによって、前記所定の処理領域の動きベクトルを少ない情報量で復号することを特徴とする。
また、本願発明は、動画像符号化装置により符号化されたデータを入力し、複数の動き補償フレーム間予測方式を用いて画像フレームを復号化する動画像復号化装置であって、画像フレームの動きベクトルを復号化する動きベクトル復号化部と、前記画像フレームを複数の領域に分割した領域毎に、前記動きベクトルと前記複数の予測方式のそれぞれに対応する予測画像を生成する予測部と、前記複数の予測方式から一の予測方式を選択する情報および前記動きベクトルを示す情報を復号化するサイド情報復号化部とを備え、前記符号化されたデータは、前記動画像符号化装置に入力された画像フレームを複数の領域に分割した領域の動きベクトルと、該領域に対して複数の予測方式から選択した一の予測方式を示すサイド情報とを含み、前記サイド情報は、前記動画像符号化装置において、符号化対象領域に隣接する領域に対し該符号化対象領域とは異なる予測方式が決定された場合に、該隣接領域の動きベクトルを用いることによって、符号化対象領域の動きベクトルに要するサイド情報量を少なくしたものであり、前記サイド情報復号化部は、復号化対象領域に隣接する領域に対し該復号化対象領域とは異なる予測方式が決定された場合に、該隣接領域の動きベクトルを用いることによって、復号化対象領域の動きベクトルを復号化することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月10日(2009.11.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１のノード（１３２）から同期プリアンブルを有する通信信号を送信するステップと、
前記第１のノードと少なくとも１つの第２のノードとの間の通信の同期をとる（１３２）ために、少なくとも１つの第２のノードの局部クロックを前記同期プリアンブルに従って設定するステップと、
前記第１のノードと少なくとも１つの第２のノードとの間で、追加のプリアンブルなしに、特別なスイッチポイントが生じる（１３６）まで後続のデータ通信を交換する（１３４）ステップと、
前記特別なスイッチポイントが生じた（１３６）後は、データ通信に続く減少した時間同期正確度の期間を利用する情報を交換する（１３８）ステップと、
を含む通信（１３０）の方法。
【請求項２】
残余時間同期期間中に生じる情報交換（１３８）を開始するため残余スイッチポイント（１３６）をノードに発行するステップと、
前記残余スイッチポイントに応答して各ノードのスケジュールタイマを開始する（６０２）ステップと、
受信されたスケジュールの選択スケジュールエントリおよび各ノードのスケジュールタイマに基づいて各ノードでアクティビティを実行する（６０４）ステップと、
を含む残余時間同期期間中のノード間通信の方法（１３０、６００）。
【請求項３】
通信ノードのクロック動作に適合される局部クロック（３０６）と、
通信信号を選択的に送信および受信するように適合される送信器／受信器回路（３１６、３１８、３２０）と、
前記局部クロックを別の通信ノードからの受信通信信号に同期させて、前記通信ノード間で通信を確立するように適合される同期回路（３０５）と、
前記送信器／受信器回路（３１６、３１８、３２０）および前記同期回路（３０５）を制御し、前記通信信号を処理し、ある期間の間、前記局部クロック（３０６）を再同期化することなく前記通信ノード間の通信を行い、特別なスイッチポイントに応答して情報を交換するように適合されている制御回路（３１４）と、
を含む通信ノード（３００）。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月12日(2008.12.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶接トーチの先端からワイヤを突出させてこれをアークにより溶融させながら該溶接トーチを開先左右倣い及び開先上下倣いさせるようにして開先の延在方向に沿って移動させ、それにより前記開先にビードを形成する溶接システムにおいて、
前記ワイヤ及び前記アークを撮像する撮像装置と、
前記撮像した映像を画像処理して前記ワイヤの突出長さを抽出する画像処理手段と、
前記抽出したワイヤの突出長さを一定長に維持するよう制御することにより前記開先上下倣いを行う制御手段と、を備えた自動アーク溶接システム。
【請求項２】
前記撮像装置は、前記撮像を前記溶接トーチの前記開先の延在方向に沿った移動方向における前方でかつ上方から行う、請求項１に記載の自動アーク溶接システム。
【請求項３】
前記制御手段は、現在の前記ワイヤの先端位置の高さと現在における前記開先左右倣いのためのデータとに基づいて溶接速度を制御する、請求項１に記載の自動アーク溶接システム。
【請求項４】
前記画像処理手段は、前記画像処理において前記アークの高輝度部の形状の特徴を抽出し、
前記制御手段は、前記抽出した形状の特徴に基づいて前記開先左右倣いを行う、請求項３に記載の自動アーク溶接システム。
【請求項５】
溶接トーチの先端からワイヤを突出させてこれをアークにより溶融させながら該溶接トーチを開先左右倣い及び開先上下倣いさせるようにして開先の延在方向に沿って移動させ、それにより前記開先にビードを形成する溶接方法において、
前記ワイヤ及び前記アークを撮像するステップと、
前記撮像した映像を画像処理して前記ワイヤの突出長さを抽出するステップと、
前記抽出したワイヤの突出長さを一定長に維持するよう制御することにより前記開先上下倣いを行うステップと、を含む自動アーク溶接方法。
【請求項６】
前記撮像を前記溶接トーチの前記開先の延在方向に沿った移動方向における前方でかつ上方から行う、請求項５に記載の自動アーク溶接方法。
【請求項７】
現在の前記ワイヤの先端位置の高さと現在における前記開先左右倣いのためのデータとに基づいて溶接速度を制御する、請求項５に記載の自動アーク溶接方法。
【請求項８】
前記画像処理において前記アークの高輝度部の形状の特徴を抽出し、
前記抽出した形状の特徴に基づいて前記開先左右倣いを行う、請求項７に記載の自動アーク溶接方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
前記制御手段は、現在の前記ワイヤの先端位置の高さと現在における前記開先左右倣いのためのデータとに基づいて溶接速度を制御してもよい。このような構成とすると、好適に積層ビード高さ一定制御を行うことができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
現在の前記ワイヤの先端位置の高さと現在における前記開先左右倣いのためのデータとに基づいて溶接速度を制御してもよい。このような構成とすると、好適に積層ビード高さ一定制御を行うことができる。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月17日(2008.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技機前面部に設けられ遊技球を貯留する球受け皿と、球受け皿に貯留された遊技球を取り込む取込装置とを備え、
取込装置により予め定められた数の遊技球が取り込まれた場合に遊技の開始が許容される遊技機において、
前記球受け皿には前記取込装置に向けて遊技球を整列させて案内する出口通路を設けるとともに、
出口通路にて遊技球が積み重なるのを防止すべく出口通路の上面開放側を覆う規制体を設け、
さらに、前記球受け皿における周壁部の上縁を介して前記規制体が吊り下げ支持されるように支持手段を設けたことを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記出口通路を前記球受け皿の奥側領域に設け、
前記周壁部のうち少なくとも左右の両側壁部、及び奥壁部を介して前記規制体が吊り下げ支持されるように前記支持手段を設けたことを特徴とする請求項１に記載の遊技機。
【請求項３】
絵柄を可変表示する絵柄表示装置と、前記遊技機前面部に設けられ前記絵柄表示装置における絵柄の可変表示を視認可能とする窓部と、前記絵柄の可変表示を開始させるべく操作される始動操作手段と、前記絵柄の可変表示を停止させるべく操作される停止操作手段とを備え、
前記取込装置により予め定められた数の遊技球が取り込まれ、且つ前記始動操作手段が操作された場合に前記絵柄の可変表示を開始し、前記停止操作手段の操作後における停止絵柄に応じて前記球受け皿に所定数の遊技球を払い出すよう構成し、
さらに、前記出口通路が前記窓部よりも奥側となるように前記球受け皿を配置するとともに、前記取込装置を前記窓部よりも奥側に配置し、
前記遊技機前面部における前記奥壁部よりも前方に位置する部位を介して前記規制体が吊り下げ支持されるように前記支持手段を設けたことを特徴とする請求項２に記載の遊技機。
【請求項４】
前記遊技機前面部を構成する遊技機前面体を備え、
前記球受け皿の奥壁部と前記窓部との間にて前記遊技機前面体の背面側への開放空間が形成されないように両者の間を、前記規制体により、又は前記規制体及び前記支持手段により遮蔽したことを特徴とする請求項３に記載の遊技機。
【請求項５】
前記球受け皿には、その左右方向の一端側に払出装置から払い出される遊技球の球入口を有するとともに、他端側に前記出口通路を左右方向に延びるように設け、
出口通路と同出口通路が設けられた側の前記球受け皿の側壁部との間を離間させ、
その離間された位置にある前記奥壁部を介して前記規制体が吊り下げ支持されるように前記支持手段を設けたことを特徴とする請求項２乃至４のいずれか１に記載の遊技機。
【請求項６】
前記出口通路と同出口通路が設けられた側の前記球受け皿の側壁部との間を遊技球１個分以上離間させ、
前記球受け皿におけるその離間された領域に前記周壁部の上縁よりも低位であって前記球受け皿の球貯留領域に連通される球退避領域を設けたことを特徴とする請求項５に記載の遊技機。
【請求項７】
前記球受け皿は遊技機前方に膨出し、
遊技に際して操作される操作手段、又は遊技に関する情報を表示する表示手段の少なくとも一方が設置される設置領域を、前記球受け皿における前記出口通路及び前記球退避領域の前方に設けるとともに、
設置された前記操作手段又は前記表示手段を保護する保護体を前記設置領域に設け、
前記保護体の上面を介して、前記球退避領域を前記球貯留領域と連通させたことを特徴とする請求項６に記載の遊技機。