Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月14日(2013.2.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
輪郭成形された複合構造物を製作する方法であって：
層スタック（５０）を形成するためにマトリックス樹脂を含む複合チャージを積層するステップであって、実質的に一定の幅を有する単向性の繊維プリプレグ層セグメント（１１８）の少なくとも一つの層を積層することを含み、層セグメントを隣り合わせに重なり合った状態で配置することと、層セグメント（１１８）の長手方向の中央線（１９４）を構造物の輪郭線に対して極配向に位置合わせすることとを含む積層ステップと、
ドレープ成形プロセスを用いて複合チャージを実質的に構造物の形状に成形するステップであって、
層スタックを成形マンドレル上に配置することと、
複合チャージの層スタック内で繊維を加熱することと、
マトリックス樹脂の粘度を低下させることと、
層スタックの下で張力を維持することと、
マトリックス樹脂の粘度を低下させた結果として、層スタック（５０）内で繊維を滑動させることと、
束ねること、広げること、又は成形マンドレル（８０）上に繊維を再配置することを含む、繊維を再配置することと、
を含む成形ステップと、
成形したチャージを硬化させるステップと
を含む方法。
【請求項２】
マンドレルが上部表面（８０ａ）と、半径（ｒ）を有する輪郭形成された表面（８０ｂ）とを有し、層スタック（５０）が、層スタックの外側縁部（５０ａ）が輪郭形成された表面（８０ｂ）を通過して延びるように配置され、且つ、前記成形ステップが、
真空バッグ（８８）を層スタックと成形マンドレル（８０）の上に配置することと、
真空バッグ（８８）内で真空を引き、それによって層スタック（５０）に圧力を加え、輪郭形成された表面（８０ｂ）に対して縁部がほぼ平坦になるまで縁部を湾曲させ、輪郭形成された表面の半径（ｒ）とほぼ同一の半径を有した構造物の形状に成形することと
を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記成形ステップがさらに、
積層シェルフ（８６）を提供することと、
層スタック（５０）が成形マンドレル（８０）上に配置されたときに、層スタックの外側縁部（５０ａ）が積層シェルフ（８６）を有する輪郭形成された表面を通過して延びる場合、前記外側縁部を支持することと
を含む、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
積層シェルフ（８６）が移動した後、前記積層シェルフが真空バッグ（８８）を、その真空引きの間、部分的に支持する、請求項２又は３に記載の方法。
【請求項５】
成形済み構造体を、上部表面（１０６ａ）と、前記成形済み構造体を支持する第２表面（１０６ｂ）と、前記第２表面の反対端で前記上部表面から下向きに延びる第３表面（１０６ｃ）とを有する第２成形マンドレル（１０６）上に、層スタックの外側縁部（５０ｂ）が前記第３表面（１０６ｃ）を通過して延びるように配置するステップと、
成形マンドレル（１０６）上に外側縁部（５０ｂ）を高温ドレープ成形して外側翼弦（３８）を形成するステップと
を含む第２成形ステップをさらに含む、請求項１から４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
フッ素化エチレンプロピレン（ＦＥＰ）の層（１２３）が、成形マンドレル（１０６）の縁部と層スタック（５０）との間に配置され、層スタックの外側縁部（５０ａ）の端部から離間したブロック（１１２）上にドレープ成形される、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
成形済み構造体の半径を維持するように、輪郭形成された増圧器（１２０）を層スタック（５０）上に配置するステップをさらに含む、請求項５又は６に記載の方法。
【請求項８】
層セグメントを隣り合わせの状態に配置することが、層セグメントが配置されている時に、層セグメント間の重なり量を実質的に一定に保つことを含む、請求項１から７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
層を積層することが、ある長さの複合テープから層セグメントをカットすることを含む、請求項１から８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
テープをカットすることが、ある長さのテープを構造物の輪郭線におおむね一致する角度でカットすることを含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
層セグメントの極配向に起因して、隣接している層セグメント間に間隙ができ、層を積層することが、さらに、間隙を実質的に最小限に抑えることを含む、請求項１から１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
構造物の輪郭線とおおむね一致するように、層セグメントの縁部をトリミングするステップをさらに含む、請求項１から１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
層セグメントを配置し、中央線を位置合わせすることが、自動制御されたテープ適用ヘッドによって実施される、請求項１から１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
請求項１から１３のいずれか一項に記載の方法によって製作される輪郭成形された複合構造物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
この開示の具体的な実施例はここで説明および記載されてきたが、上述したように、この開示の精神および範囲から逸脱することがなければ多くの変更がなされ得る。したがって、この開示の範囲は、上述した具体的な実施例の開示によって限定されるべきではない。そうではなく、この開示は特許請求の範囲への参照によって全体的に決定されるべきである。
また、本発明は以下に記載する態様を含む。
（態様１）
輪郭成形された複合構造物を製作する方法であって：
複合チャージを積層することであって、実質的に一定の幅を有する単向性の繊維プリプレグ層セグメントの少なくとも一つの層を積層することを含み、層セグメントを隣り合わせに重なり合った状態で配置することと、層セグメントの長手方向の中央線を構造物の輪郭線に対して極配向に位置合わせすることとを含むこと、
複合チャージを実質的に構造物の形状に成形すること、及び
成形したチャージを硬化させること
を含む方法。
（態様２）
層セグメントを隣り合わせの状態に配置することが、層セグメントが配置されている時に、層セグメント間の重なり量を実質的に一定に保つことを含む、態様１に記載の方法。
（態様３）
層を積層することが、ある長さの複合テープから層セグメントをカットすることを含む、態様１に記載の方法。
（態様４）
テープをカットすることが、ある長さのテープを構造物の輪郭線におおむね一致する角度でカットすることを含む、態様３に記載の方法。
（態様５）
層セグメントの極配向に起因して、隣接している層セグメント間に間隙ができ、層を積層することが、さらに、間隙を実質的に最小限に抑えることを含む、態様１に記載の方法。
（態様６）
構造物の輪郭線とおおむね一致するように、層セグメントの縁部をトリミングすることをさらに含む、態様１に記載の方法。
（態様７）
層セグメントを配置し、中央線を位置合わせすることが、自動制御されたテープ適用ヘッドによって実施される、態様１に記載の方法。
（態様８）
層を積層することが、ある長さの複合繊維テープからセグメントをカットすることによって層セグメントを製造することを含む、態様１に記載の方法。
（態様９）
態様１に記載の方法によって製作される輪郭成形された複合構造物。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月19日(2013.2.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体吐出装置であって、
流体流のための複数の流体通路及び前記複数の流体通路に流体連結された複数のノズルを有する基板と、
前記基板に隣接する室を有するハウジング構成部と、
前記基板の上部に配置され、前記複数の流体通路内の流体が前記複数のノズルから吐出されるようにする複数のアクチュエータと、
前記室内で前記複数のアクチュエータの少なくとも一部に接触して前記少なくとも一部を覆い、前記複数のアクチュエータの電気部品を前記流体吐出装置内の流体又は湿気から保護する保護層と、
前記室内にあり前記保護層より吸湿力が高い吸湿層と、
を備える流体吐出装置。
【請求項２】
前記複数のアクチュエータは圧電アクチュエータである、請求項１に記載の流体吐出装置。
【請求項３】
前記複数のアクチュエータの全体が前記室内にある、請求項１に記載の流体吐出装置。
【請求項４】
複数の集積回路要素を更に備え、前記複数の集積回路要素は複数のトランジスタを含み前記室内にある、請求項１に記載の流体吐出装置。
【請求項５】
前記ハウジング構成部はインターポーザである、請求項１に記載の流体吐出装置。
【請求項６】
前記吸湿層は前記ハウジング構成部の底面に取り付けられる、請求項１に記載の流体吐出装置。
【請求項７】
前記吸湿層の長さ及び幅が前記室の長さ及び幅と略等しい、請求項１に記載の流体吐出装置。
【請求項８】
前記保護層はフォトレジストを含む、請求項１に記載の流体吐出装置。
【請求項９】
前記吸湿層は乾燥剤を含む、請求項１に記載の流体吐出装置。
【請求項１０】
前記乾燥剤は、シリカゲル、硫酸カルシウム、塩化カルシウム、モンモリナイト粘土、モレキュラーシーブ、ゼオライト、アルミナ、臭化カルシウム、塩化リチウム、アルカリ土類酸化物、炭酸カリウム、硫酸銅、塩化亜鉛及び臭化亜鉛からなる群から選択される、請求項９に記載の流体吐出装置。
【請求項１１】
前記吸湿層は、紙、プラスチック及び有機材料からなる群から選択される、請求項１に記載の流体吐出装置。
【請求項１２】
前記プラスチックは、ナイロン６、ナイロン６６及び酢酸セルロースからなる群から選択される、請求項１１に記載の流体吐出装置。
【請求項１３】
前記有機材料は、澱粉及びポリイミドからなる群から選択される、請求項１１に記載の流体吐出装置。
【請求項１４】
前記インターポーザは、前記インターポーザの底面に開口を有する少なくとも一つの流体供給通路を有し、前記複数の流体通路は、前記基板の上面に少なくとも一つの流体入口を有し、前記インターポーザの前記底面の前記開口の周囲の一部は、前記開口の周囲で前記基板の前記上面の一部に当接して前記流体供給通路を前記入口に流体連結し、前記流体供給通路及び前記入口の周囲における前記インターポーザと前記基板との間の接触面は、少なくとも部分的に封止される、請求項５に記載の流体吐出装置。
【請求項１５】
前記吸湿層は前記複数のアクチュエータに接触しない、請求項１に記載の流体吐出装置。
【請求項１６】
複数の流体流路及び複数のアクチュエータを有する基板を備え、各アクチュエータは連関する流体流路のノズルから流体を吐出させるように構成されている、流体吐出モジュールと、
複数のトランジスタを含み、前記基板と別の複数のマイクロチップであり、前記複数のアクチュエータの上方に配置されて前記流体吐出モジュールの前記基板に取り付けられる複数の集積回路要素と、
前記流体吐出モジュールの上方に空隙を形成するように配置され、前記空隙を吸湿材を含む室に連結する流路を有する、ハウジングと、
を備える流体吐出装置。
【請求項１７】
前記複数の集積回路要素は前記空隙内にある、請求項１６に記載の流体吐出装置。
【請求項１８】
前記複数のアクチュエータは前記空隙内にある、請求項１６に記載の流体吐出装置。
【請求項１９】
前記吸湿材は乾燥剤を含む、請求項１６に記載の流体吐出装置。
【請求項２０】
前記乾燥剤は、シリカゲル、硫酸カルシウム、塩化カルシウム、モンモリナイト粘土、モレキュラーシーブ、ゼオライト、アルミナ、臭化カルシウム、塩化リチウム、アルカリ土類酸化物、炭酸カリウム、硫酸銅、塩化亜鉛及び臭化亜鉛からなる群から選択される、請求項１９に記載の流体吐出装置。
【請求項２１】
前記吸湿層は、紙、プラスチック及び有機材料からなる群から選択される、請求項１６に記載の流体吐出装置。
【請求項２２】
前記プラスチックは、ナイロン６、ナイロン６６及び酢酸セルロースからなる群から選択される、請求項２１に記載の流体吐出装置。
【請求項２３】
前記有機材料は、澱粉及びポリイミドからなる群から選択される、請求項２１に記載の流体吐出装置。
【請求項２４】
前記流体吐出モジュールと電気通信するフレキシブル回路要素を更に備え、前記室は前記フレキシブル回路要素に取り付けられる、請求項１６に記載の流体吐出装置。
【請求項２５】
複数の流体流路及び複数のアクチュエータを有する基板を備え、各アクチュエータは連関する流体流路のノズルから流体を吐出させるように構成されている、流体吐出モジュールと、
前記流体吐出モジュールに取り付けられる複数の集積回路要素と、
前記流体吐出モジュールの上方に空隙を形成するように配置され、前記空隙を吸湿材を含む室に連結する流路を有する、ハウジングと、
を備え、
前記流路は更に前記室から外気に連結される、流体吐出装置。
【請求項２６】
複数の流体流路及び複数のアクチュエータを有する基板を備え、各アクチュエータは連関する流体流路のノズルから流体を吐出させるように構成されている、流体吐出モジュールと、
前記流体吐出モジュールに取り付けられる複数の集積回路要素と、
前記複数の集積回路要素の上方に空隙を形成するように配置され、前記空隙を湿度センサによって起動されるように構成されたポンプに連結する流路を有する、ハウジングと、
を備える流体吐出装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月6日(2013.2.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プリンター、顔料着色剤を含有するインク組成物、カルボキシレート含有アニオン性ポリマーおよびインクを受容する乾燥記録媒体供給体を備えるインクジェット印刷システムであって、該乾燥記録媒体供給体が多価金属カチオンおよびリガンドの錯体を含むインク受容層を保持する支持体を含み、該錯体が安定定数ｌｏｇ Ｋ、０．３〜６．０を有し、リガンド／多価金属カチオンのモル比が中和塩の化学量論比を越えることを特徴とするインクジェット印刷システム。
【請求項２】
リガンド／多価金属カチオンのモル比が中和塩の化学量論比を２の割合で越える請求項１記載のシステム。
【請求項３】
リガンドで錯体化された二価金属をインク受容層に含み、該錯体が安定定数ｌｏｇ Ｋ０．３〜６．０を有し、リガンド／多価金属カチオンのモル比が中和塩の化学量論比を越えることからなるインク受容層を保持する支持体を含むインクジェット媒体を製造する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月15日(2013.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリマー支持体を含み、当該ポリマー支持体の少なくとも一部が熱転写可能な材料によりコーティングされており、当該熱転写可能な材料が、ポリマーバインダー及び光安定剤を含み、当該光安定剤がヒンダードアミンから誘導されたＮ−オキシルラジカルであり、当該Ｎ−オキシルラジカルが下記式：
【化１】
2012519097.tif 000001
（式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ5 及びＲ6 は、直鎖又は分岐Ｃ1〜Ｃ6アルキル又はアルケンからそれぞれ独立に選ばれ、Ｒ3 及びＲ4 は、Ｈ、ＯＨ、ＯＲ、ＣＯＯＨ又はＣＯＯＲ（式中、Ｒは直鎖又は分岐Ｃ1〜Ｃ6アルキル又はアルケンである）からそれぞれ独立に選ばれる）
により表され、６００以下の分子量を有する、熱転写可能な供与体要素。
【請求項２】
Ｎ−オキシルラジカル光安定剤が、
【化２】
2012519097.tif 000002
である、請求項１に記載の供与体要素。
【請求項３】
熱転写可能なポリマーバインダー及び光安定剤を含み、当該光安定剤がヒンダードアミンから誘導されたＮ−オキシルラジカルであり、当該Ｎ−オキシルラジカルが下記式：
【化３】
2012519097.tif 000003
（式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ5 及びＲ6 は、直鎖又は分岐Ｃ1〜Ｃ6アルキル又はアルケンからそれぞれ独立に選ばれ、Ｒ3 及びＲ4 は、Ｈ、ＯＨ、ＯＲ、ＣＯＯＨ又はＣＯＯＲ（式中、Ｒは直鎖又は分岐Ｃ1〜Ｃ6アルキル又はアルケンである）からそれぞれ独立に選ばれる）
により表され、６００以下の分子量を有する、熱転写可能なオーバーコート材料。
【請求項４】
さらに、式Ｉ：
【化４】
2012519097.tif 000004
（式中、ｎは１０〜１００である）
から選ばれる少なくとも１種の樹脂、スチレン／アリルアルコールコポリマー、及びそれらの組み合わせを含む、請求項３に記載のオーバーコート材料。
【請求項５】
受容体要素を保護オーバーコート材料でコーティングする方法であって、
請求項１又は２に記載の供与体要素を受容体要素と接触させること、及び
供与体要素から受容体要素に保護オーバーコート材料を転写させるのに十分な熱又は圧力を加えること、
を含む、方法。
【請求項６】
請求項１又は２に記載の供与体要素の少なくとも一部と接触した受容体要素を含むサーマル転写集成体。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月25日(2013.2.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
切削工具を形成するべくその上に切削インサートを設置するために適合された切削工具ホルダであって、前記切削工具ホルダが、ベースによって画定されたインサート座と、前記ベースから延びて前記切削インサートを受け入れるように適合されたインサート座スペースを画定する少なくとも１つの側壁とを備え、前記インサート座は、前記ベースから前記インサート座の中に延びる支持要素をさらに備え、少なくとも作動時に、締結部材は、前記インサート座と係合可能であり、且つ前記切削インサートが前記インサート座上に設置されることを可能にするように適合された設置位置と前記インサート座内に前記切削インサートを固定するために適合された固定位置との間で前記インサート座に対して変位可能であり、前記固定位置において、前記支持要素と前記締結部材が、前記インサート座スペースの１５％以上を共に構成する、切削工具ホルダ。
【請求項２】
前記切削工具が、その中心軸を中心として第１の方向に回転するように適合され、前記支持要素が、前記ベースと概して垂直な且つ前記第１の方向に面する第１の側壁と、前記第１の壁から前記第１の方向とは反対の方向に前記第１の壁に対し鋭角θをなして延びる第２の側壁と共に形成され、前記第１の側壁と前記第２の側壁との両方が、前記切削インサートとの同時係合のために適合される、請求項１に記載の切削工具ホルダ。
【請求項３】
前記切削インサートが前記切削工具ホルダ上に設置されるときに、前記切削インサートに前記支持要素と前記締結部材との両方の少なくとも一部を同時に受け入れるように適合されたキャビティが形成される、切削工具を形成するべく請求項１又は２に記載の切削工具ホルダ上に設置するために適合された切削インサート。
【請求項４】
前記切削インサートが、前記切削工具ホルダ上に設置され且つその中に固定され、前記切削インサートの前記キャビティが、その中に前記支持要素と前記締結要素との両方の少なくとも一部を受け入れる、請求項１又は２に記載の切削工具ホルダと請求項３に記載の切削インサートとを備える切削工具。
【請求項５】
前記切削工具がその中心軸を中心として第１の方向に回転するように適合され、前記切削インサートが前記切削工具ホルダ上に設置されるときに、前記締結部材は、概して前記中心軸に沿った方向に前記切削インサート上に力Ｆ１をかけるように適合され、前記力Ｆ１は、前記切削インサートを前記支持要素に押し当て、これにより前記切削インサート上に前記中心軸と概して垂直な方向に力Ｆ２をかけるように適合され、２つの前記力Ｆ１及びＦ２の結果として得られる力ＦＴが、前記中心軸と垂直な且つ前記第１の方向とは反対の方向のものである、請求項４に記載の切削工具。
【請求項６】
切削工具を形成するべく切削工具ホルダ上に設置するために適合された切削インサートであって、前記切削インサートが、上面と下面との間に延びる少なくとも１つの側壁と共に前記上面及び前記下面を有し、且つ中心軸に沿って前記上面と前記下面との間に延びる中央キャビティと共に形成され、前記キャビティが、前記切削インサートが前記切削工具ホルダ上に設置されるときに、前記キャビティ内に固定要素を受け入れるために適合され、前記キャビティが、前記切削インサートの全体積の１５％以上を占める、切削インサート。
【請求項７】
前記上面又は前記下面と概して平行に見た各断面において、前記キャビティの寸法Ｄと前記切削インサート全体の寸法Ｔとの間の比Ｄ／Ｔが、前記寸法Ｄと前記寸法Ｔとの両方が前記少なくとも１つの側面と垂直な且つ前記中心軸を通る方向に沿ってとられるとき、０．４以上である、請求項６に記載の切削インサート。
【請求項８】
前記切削インサートが前記切削工具ホルダ上に設置されるときに、前記第１の固定部が前記切削工具ホルダの支持要素と係合するために適合され、前記第２の固定部が前記切削工具ホルダの締結部材と同時に係合するために適合されるように、前記キャビティが、第１の固定部と前記第１の部分とは反対側の第２の固定部と共に形成された内面を有する、請求項６又は７に記載の切削インサート。
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月1日(2013.3.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
往復刃鋸に備わる単一のチャックに一方の端部が連結され、自由端となる他方の端部が往復刃鋸による駆動を受け往復運動する往復刃鋸ブレードであって、
第１端部及び第２端部を有する鋸身と、
鋸身の第１端部にあり往復刃鋸のチャックに連結し合う第１小身と、
鋸身の第２端部にありやはり往復刃鋸のチャックに連結し合う第２小身と、
方向性無しで、鋸身の第１端部付近から第２端部付近に亘る略均一な鋸目と、
を備え、往復刃鋸のチャックに第１小身を連結すると鋸身の第１端部がその往復刃鋸に固定される一方第２小身が本ブレードの自由端を占めその往復刃鋸による駆動で往復運動させうるようになり、また往復刃鋸のチャックに第２小身を連結すると鋸身の第２端部がその往復刃鋸に固定される一方第１小身が本ブレードの自由端を占めその往復刃鋸による駆動で往復運動させうるようになり、
本ブレードは、一方の端部のみが往復刃鋸のチャックに連結し、他方の端部が自由端であり往復運動させうる状態において、ワークピースを切断するのに十分に硬く、
第１小身または第２小身の少なくとも１つは、鋸目を過ぎて鋸身それぞれの端部から延びる往復刃鋸ブレード。
【請求項２】
請求項１記載の往復刃鋸ブレードであって、その略均一な鋸目がグリットで形成された鋸目である往復刃鋸ブレード。
【請求項３】
請求項１記載の往復刃鋸ブレードであって、個々の小身が、小身本体と、小身本体からブレード長手方向に沿い外方に延びる小幅な小身茎と、を有し、本ブレードの対応する端部からブレード長手方向に沿い外方に延びる往復刃鋸ブレード。
【請求項４】
請求項１記載の往復刃鋸ブレードであって、第１小身又は第２小身の少なくとも１つの一部又は全体を容易に除去できるように構成された溝または切取線の少なくとも１つが形成された往復刃鋸ブレード。
【請求項５】
請求項４記載の往復刃鋸ブレードであって、除去された部分が鋸身の自由端を形成する往復刃鋸ブレード。
【請求項６】
請求項４記載の往復刃鋸ブレードであって、小身を除去するとブレードの先端が生じるようその溝または切取線の少なくとも１つが形成された往復刃鋸ブレード。
【請求項７】
請求項１記載の往復刃鋸ブレードであって、ブレードには、さらに、第２小身の外方へと延びる尖頭部分が形成されており、第２小身と尖頭部分の間にある溝または切取線の少なくとも１つがブレードから尖頭部分を容易に除去できるように構成され、手作業を通じ対応する溝または切取線の少なくとも１つの位置でブレードから尖頭部分を切り取ると、使用可能な第２小身がそこに現れる往復刃鋸ブレード。
【請求項８】
請求項７記載の往復刃鋸ブレードであって、第１端及び第２端の少なくとも１つには、さらに、鋸身の第１端部及び第２端部の少なくとも１つの上でそれぞれの小身より内寄りを占める１本又は複数本の第２溝または切取線が形成されており、手作業を通じ対応する第２溝または切取線の少なくとも１つの位置でブレードからそれぞれの小身を切り取ると、突端がそこに現れる往復刃鋸ブレード。
【請求項９】
往復刃鋸に備わる単一のチャックに一方の端部が連結され、自由端となる他方の端部が往復刃鋸による駆動を受け往復運動する往復刃鋸ブレードであって、
第１端部及び第２端部を有する鋸身と、
鋸身の第１端部にあり往復刃鋸のチャックに連結すると鋸身の第１端部が往復刃鋸に可動実装され第２端部が自由端となる第１手段と、
鋸身の第２端部にあり往復刃鋸のチャックに連結すると鋸身の第２端部が往復刃鋸に可動実装され第１端部が自由端となる第２手段と、
方向性無しで、第１手段第２手段間に略均一な切断縁をもたらす第３手段と、
を備え、往復刃鋸のチャックに第１手段を連結すると鋸身の第１端部が往復刃鋸に固定される一方その往復刃鋸による駆動で往復運動させうる自由端が第２手段によって形成され、また往復刃鋸のチャックに第２手段を連結すると鋸身の第２端部が往復刃鋸に固定される一方その往復刃鋸による駆動で往復運動させうる自由端が第１手段によって形成され、
本ブレードは、一方の端部のみが往復刃鋸のチャックに連結し、他方の端部が自由端であり往復運動させうる状態において、ワークピースを切断するのに十分に硬く、
第１手段または第２手段の少なくとも１つは、第３手段を過ぎて鋸身それぞれの端部から延びる往復刃鋸ブレード。
【請求項１０】
請求項９記載の往復刃鋸ブレードであって、本ブレードから手作業でその手段を切り取るとその切取線と同じかたちの突端が現れるよう、第１端部または第２端部の１つまたは両方の第１手段の少なくとも１つが形成された往復刃鋸ブレード。
【請求項１１】
請求項９記載の往復刃鋸ブレードであって、第２手段の外方に向かって延びる尖頭部分が形成され、少なくとも１つの手段は、本ブレードから尖頭部分を切り取ると使用可能な第２手段が現れる往復刃鋸ブレード。
【請求項１２】
（ｉ）鋸身、第１端部及び第２端部、鋸身の第１端部に位置する第１小身、鋸身の第２端部に位置する第２小身、並びに鋸身の第１端部付近から第２端部付近に亘る略均一な鋸目を備え、往復刃鋸で使用可能な往復刃鋸ブレードであって、一方の端部のみが往復刃鋸のチャックに連結し、他方の端部が自由端であり往復運動させうる状態において、ワークピースを切断するのに十分に硬く、第１小身または第２小身の少なくとも１つは、鋸目を過ぎて鋸身それぞれの端部から延びる往復刃鋸ブレードを準備するステップと、
（ｉｉ）往復刃鋸ブレードの第１小身を往復刃鋸のチャックに装着する一方第２小身で往復刃鋸ブレードに第１自由端を発生させるステップと、
（ｉｉｉ）往復刃鋸ブレードの第１自由端を往復刃鋸による駆動で往復運動させるステップと、
（ｉｖ）往復刃鋸ブレードの第１小身を往復刃鋸のチャックから外しその第１小身で往復刃鋸ブレードに第２自由端を発生させる一方往復刃鋸ブレードの第２小身を往復刃鋸のチャックに装着するステップと、
（ｖ）往復刃鋸ブレードの第２自由端を往復刃鋸による駆動で往復運動させるステップと、
を有する方法。
【請求項１３】
請求項１２記載の方法であって、
そのステップ（ｉｉｉ）が、鋸目のうち第１小身寄りに位置する第１領域がワークピースに接触し第２領域に比べ高速で摩耗するステップを含み、
そのステップ（ｖ）が、鋸目のうち第２小身寄りに位置する第２領域がワークピースに接触し摩耗するステップを含む方法。
【請求項１４】
請求項１２記載の方法であって、準備される往復刃鋸ブレードが、略均一なグリット鋸目を有する方法。
【請求項１５】
請求項１４記載の方法であって、往復刃鋸ブレードの押し・引き両ストローク間でワークピースへの切断作用の及ぼし方が略同一な方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月30日(2013.9.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検体の皮膚から、および／または該皮膚の下から採血するデバイスであって、該デバイスは、
流体輸送器と、
真空チャンバであって、該デバイスが該皮膚に適用される前に大気圧よりも小さい内圧を有する、真空チャンバと、
陰圧が該被検体の該皮膚に印加されると、該流体輸送器を通して該被検体から採られた血液を受容する、該真空チャンバとは別の貯蔵チャンバと
を備える、デバイス。
【請求項２】
前記流体輸送器は、１本以上の極微針を備える、請求項１に記載のデバイス。
【請求項３】
前記極微針のうちの少なくともいくつかは、中実である、請求項２に記載のデバイス。
【請求項４】
前記極微針のうちの少なくともいくつかは、中空である、請求項２または３のうちのいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項５】
前記真空チャンバは、前記デバイスが前記被検体に使用される時点の前に大気圧よりも小さい内圧を有する事前同梱真空チャンバである、請求項１〜４のうちのいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項６】
前記デバイスは、内蔵式である、請求項１〜５のうちのいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項７】
前記被検体は、人間である、請求項１〜６のうちのいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項８】
前記デバイスは、少なくとも６本の極微針を備える、請求項１に記載のデバイス。
【請求項９】
前記デバイスは、少なくとも１０本の極微針を備える、請求項８に記載のデバイス。
【請求項１０】
前記極微針のうちの少なくともいくつかは、中実である、請求項８または９のうちのいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項１１】
前記極微針のうちの少なくともいくつかは、中空である、請求項８〜１０のうちのいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項１２】
前記血液内に含有される被分析物と反応することが可能である、前記貯蔵チャンバ内に含有される反応実体をさらに備え、該被分析物との該反応実体の生成物は、決定可能である、請求項１に記載のデバイス。
【請求項１３】
前記生成物は、前記デバイスの少なくとも一部分を分析することが可能な外部装置によって決定可能である、請求項１２に記載のデバイス。
【請求項１４】
前記反応実体は、タンパク質を含む、請求項１２または１３のうちのいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項１５】
前記反応実体は、抗体を含む、請求項１２〜１４のうちのいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項１６】
前記反応実体は、酵素を含む、請求項１２〜１５のうちのいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項１７】
前記被分析物との前記反応実体の前記生成物は、蛍光の変化として決定可能である、請求項１２〜１６のうちのいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項１８】
前記被分析物との前記反応実体の前記生成物は、電気的性質の変化として決定可能である、請求項１２〜１７のうちのいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項１９】
前記被分析物との前記反応実体の前記生成物は、光学的性質の変化として決定可能である、請求項１２〜１８のうちのいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項２０】
前記被分析物との前記反応実体の前記生成物は、磁気的性質の変化として決定可能である、請求項１２〜１９のうちのいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項２１】
前記被分析物は、グルコースを含む、請求項１２〜２０のうちのいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項２２】
前記被分析物は、酸素を含む、請求項１２〜２１のうちのいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項２３】
前記被分析物は、イオンである、請求項１２〜２２のうちのいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項２４】
前記デバイス内に含有される血液内のカリウムイオンを決定することが可能であるカリウムセンサをさらに備える、請求項１に記載のデバイス。
【請求項２５】
前記貯蔵チャンバの中への血流を制御することが可能な流量コントローラをさらに備える、請求項１に記載のデバイス。
【請求項２６】
前記流量コントローラは、膜を備える、請求項２５に記載のデバイス。
【請求項２７】
前記流量コントローラは、弁を備える、請求項２５または２６のうちのいずれか一項に記載のデバイス。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成25年2月28日(2013.2.28)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面が少なくとも１つの第１の界面活性剤で疎水化された少なくとも１つの粒子Ｐと、表面が少なくとも１つの第２の界面活性剤で疎水化された少なくとも１つの磁性粒子ＭＰとからなる凝集塊であって、少なくとも１つの第１の界面活性剤として、一般式（Ｉ）
Ａ−Ｚ  （Ｉ）
〔式中、
Ａは、直鎖状または分枝鎖状のＣ3〜Ｃ30アルキル、Ｃ3〜Ｃ30ヘテロアルキル、置換されていないかまたは置換されたＣ6〜Ｃ30アリール、置換されていないかまたは置換されたＣ6〜Ｃ30ヘテロアルキル、Ｃ6〜Ｃ30アラルキルから選択され、および
Ｚは、陰イオン性基−（Ｘ）n−ＰＯ32-、−（Ｘ）n−ＰＯ2Ｓ2-、−（Ｘ）n−ＰＯＳ22-、−（Ｘ）n−ＰＳ32-、−（Ｘ）n−ＰＳ2-、−（Ｘ）n−ＰＯＳ-、−（Ｘ）n−ＰＯ2-、−（Ｘ）n−ＰＯ32-、−（Ｘ）n−ＣＯ2-、−（Ｘ）n−ＣＳ2-、−（Ｘ）n−ＣＯＳ-、−（Ｘ）n−Ｃ（Ｓ）ＮＨＯＨ、−（Ｘ）n−Ｓ-からなる群から選択され、この場合Ｘは、Ｏ、Ｓ、ＮＨ、ＣＨ2からなる群から選択され、ｎは、０、１または２であり、および場合によっては陽イオンは、水素、ＮＲ4+、但し、この場合Ｒは互いに独立に水素および／またはＣ1〜Ｃ8アルキルであるものとし、アルカリ金属またはアルカリ土類金属からなる群から選択される〕で示される化合物が使用され、および少なくとも１つの第２の界面活性剤が、一般式（ＩＩＩ）
Ｂ−Ｙ  （ＩＩＩ）
［式中、
Ｂは、直鎖状または分枝鎖状のＣ3〜Ｃ30アルキル、Ｃ3〜Ｃ30ヘテロアルキル、置換されていないかまたは置換されたＣ6〜Ｃ30アリール、置換されていないかまたは置換されたＣ6〜Ｃ30ヘテロアルキル、Ｃ6〜Ｃ30アラルキルから選択され、および
Ｙは、一般式（ＩＩＩ）の化合物を少なくとも１つの磁性粒子ＭＰに結合する１つの基である〕で示される化合物から選択される、上記凝集塊。
【請求項２】
少なくとも１つの粒子Ｐが少なくとも１つの金属化合物および／または炭を含有する、請求項１記載の凝集塊。
【請求項３】
少なくとも１つの磁性粒子ＭＰが、磁性金属およびその混合物、磁性金属の強磁性合金およびその混合物、磁性酸化鉄、一般式（ＩＩ）
Ｍ2+xＦｅ2+1-xＦｅ3+2Ｏ4  （ＩＩ）
〔式中、Ｍは、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｚｎおよびこれらの混合物から選択され、および
ｘは、１以下である〕で示される立方晶フェライト、六方晶フェライトおよびその混合物からなる群から選択される、請求項１または２記載の凝集塊。
【請求項４】
それぞれ全凝集塊に対して、表面が少なくとも１つの第１の界面活性剤で疎水化された少なくとも１つの粒子Ｐは、１０〜９０質量％であり、および表面が少なくとも１つの第２の界面活性剤で疎水化された少なくとも１つの磁性粒子ＭＰは、１０〜９０質量％であり、この場合総和は、それぞれ１００質量％である、請求項１から３までのいずれか１項に記載の凝集塊。
【請求項５】
請求項１から４までのいずれか１項に記載の凝集塊の製造法であって、少なくとも１つの第１の界面活性剤で疎水化された粒子Ｐと少なくとも１つの第２の界面活性剤で疎水化された磁性粒子ＭＰとを接触させ、凝集塊を得ることを含む、請求項１から４までのいずれか１項に記載の凝集塊の製造法。
【請求項６】
粒子Ｐおよび他の成分を含有する混合物から粒子Ｐを分離するための請求項１から５までのいずれか１項に記載の凝集塊の使用方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１１】
本発明による凝集塊の１つの好ましい実施態様において、少なくとも１つの粒子Ｐは、少なくとも１つの金属化合物および／または炭を含有する。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１８】
少なくとも１つの第１の界面活性剤として、好ましくは一般式（Ｉ）
Ａ−Ｚ  （Ｉ）
〔式中、
Ａは、直鎖状または分枝鎖状のＣ3〜Ｃ30アルキル、Ｃ3〜Ｃ30ヘテロアルキル、置換されていないかまたは置換されたＣ6〜Ｃ30アリール、置換されていないかまたは置換されたＣ6〜Ｃ30ヘテロアルキル、Ｃ6〜Ｃ30アラルキルから選択され、および
Ｚは、一般式（Ｉ）の化合物を少なくとも１つの粒子Ｐに結合する１つの基である〕で示される化合物が使用される。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３６】
一般に、当業者に公知の全ての磁性物質および磁性粒子ＭＰとしての物質を使用することができる。１つの好ましい実施態様において、少なくとも１つの磁性粒子ＭＰは、磁性金属、例えば鉄、コバルト、ニッケルおよびこれらの混合物、磁性金属の強磁性合金、例えばＮｄＦｅＢ、ＳｍＣｏおよびこれらの混合物、磁性酸化鉄、例えば磁鉄鉱、磁赤鉄鉱、一般式（ＩＩ）
Ｍ2+xＦｅ2+1-xＦｅ3+2Ｏ4  （ＩＩ）
〔式中、Ｍは、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｚｎおよびこれらの混合物から選択され、およびｘは、１以下である〕で示される立方晶フェライト、六方晶フェライト、例えばＭＦｅ6Ｏ19、但し、この場合Ｍは、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａおよびこれらの混合物であるものとし、からなる群から選択される。磁性粒子ＭＰは、付加的に例えばＳｉＯ2からなる外層を有していてよい。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４４】
本発明による凝集塊中に存在する少なくとも１つの磁性粒子ＭＰは、表面が少なくとも１つの第２の界面活性剤で疎水化されている。好ましくは、少なくとも１つの第２の界面活性剤は、一般式（ＩＩＩ）
Ｂ−Ｙ  （ＩＩＩ）
［式中、
Ｂは、直鎖状または分枝鎖状のＣ3〜Ｃ30アルキル、Ｃ3〜Ｃ30ヘテロアルキル、置換されていないかまたは置換されたＣ6〜Ｃ30アリール、置換されていないかまたは置換されたＣ6〜Ｃ30ヘテロアルキル、Ｃ6〜Ｃ30アラルキルから選択され、および
Ｙは、一般式（ＩＩＩ）の化合物を少なくとも１つの磁性粒子ＭＰに結合させる基である〕で示される化合物から選択される。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月25日(2013.2.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】レーザ加工システム
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レンズと、
目標試料の支持部と、
ビーム軸に沿って伝播するレーザビームであって、前記レーザビームの焦点域を形成する前記レンズを透過して伝播し、前記支持部に置かれた前記目標試料の作業表面上に入射する前記レーザビームと、
前記支持部が動作可能に接続された多軸位置決めシステムであって、前記レーザビームと前記目標試料とを互いに対して前記作業表面の選択された位置に移動させる前記多軸位置決めシステムと、
前記レンズを支持し、推進力に応じて、前記ビーム軸に沿って前記レンズの移動を案内して、前記作業表面に対して前記レーザビームの前記焦点域を調節する少なくとも１つのたわみ部を有するアッセンブリと、を備えることを特徴とするレーザ加工システム。
【請求項２】
前記ビーム軸に沿った移動を案内され、前記レンズに動作可能に接続されて、前記推進力を加えて前記ビーム軸に沿って前記レンズを移動させ、これにより前記作業表面に対して前記レーザビームの前記点焦域を調節する移動自在部材を含むレンズフォーサをさらに備えることを特徴とする請求項１に記載のレーザ加工システム。
【請求項３】
前記レンズフォーサは、前記移動自在部材の移動を制御する音声コイルアクチュエータを備えることを特徴とする請求項２に記載のレーザ加工システム。
【請求項４】
前記少なくとも１つのたわみ部は、前記レンズを支持し、水平方向において互いに垂直に延びるＸ軸およびＹ軸に沿ったハウジングの反対側の平行な垂直方向に延びるＺ軸方向に位置する複数のたわみ部を備えることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のレーザ加工システム。
【請求項５】
前記少なくとも１つのたわみ部は、垂直方向に延びるＺ軸に沿った短いストロークの移動を可能にしつつ、グループとして動作して、水平方向に互いに垂直に延びるＸ軸及びＹ軸に沿った移動に対して前記レンズを支持する複数のたわみ部をさらに備え、
前記各たわみ部は、互いに同一であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のレーザ加工システム。
【請求項６】
前記少なくとも１つのたわみ部は、垂直方向に延びる断面積が縮小された第１と第２の平行な細長い水平方向に延びるビームの少なくとも１つのセットを有する前記たわみ部の一対のビーム部をさらに備え、
前記平行な細長いビームの各セットが、前記推進力に応じてＺ軸方向への移動を可能にすることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載のレーザ加工システム。
【請求項７】
前記少なくとも１つのたわみ部は、断面積が拡大された第１と第２の垂直方向に延びる細長い支持部材の少なくとも１つのセットを有する前記たわみ部の指示部をさらに備え、
前記第１と第２の細長い支持部材が、互いに垂直方向に離隔し、前記第１と第２の支持部材の間に延びた前記第１と第２の平行な細長いビームと互いに接続されることを特徴とする請求項６に記載のレーザ加工システム。
【請求項８】
前記少なくとも１つのたわみ部は、垂直方向に延びる断面積が縮小された少なくとも第３と第４の平行な細長い水平方向に延びるビームを有する第２の一対のビーム部をさらに備え、
前記平行な細長い各セットが、前記推進力に応じて、Ｚ軸方向の移動を可能にすることを特徴とする請求項７に記載のレーザ加工システム。
【請求項９】
前記少なくとも１つのたわみ部は、断面積が拡大された第３と第４の支持部材の少なくとも１つのセットを有する前記たわみ部の第２の指示部をさらに備え、
前記第３と第４の支持部材が、互いに対して対向する関係の垂直方向に離隔したＬ字状構成であり、前記支持部材の対応する１つから延びる細長いビームの１つを通して互いに接続され、各ビームが、前記第２の支持部材の対向端に接続されることを特徴とする請求項８に記載のレーザ加工システム。
【請求項１０】
前記レンズフェーサと前記レンズの間でバッファとして動作して、前記レンズフェーサの前記移動自在部材により前記レンズに加えられた前記案内移動から、前記レンズフェーサの前記移動自在部材の案内移動を分離する分離たわみ装置をさらに備えることを特徴とする請求項２〜９のいずれか一項に記載のレーザ加工システム。
【請求項１１】
前記分離たわみ装置は、前記ビーム軸に沿って硬く、前記ビーム軸を横断する平面において弾性を有することを特徴とする請求項１０に記載のレーザ加工システム。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月20日(2013.2.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
DEFB-126をコードする核酸の部分配列
2012519003.tif 000001
内の個体のDEFB-126対立遺伝子を決定する工程を含む、該個体が不妊症の高いリスクを有するかどうかを判定するための方法であって、該部分配列内の位置6〜10における5個の連続するシトシン「CCCCC」の存在が正常な生殖能を示し、該部分配列の位置6〜10内の3個以下の連続するシトシン「CCC」の存在が不妊症の高い確率を示す、方法。
【請求項２】
前記部分配列が
2012519003.tif 000002
であり、該部分配列内の位置11〜15における5個の連続するシトシン「CCCCC」の存在が正常な生殖能を示し、該部分配列の位置11〜15内の3個以下の連続するシトシン「CCC」の存在が不妊症の高い確率を示す、請求項1記載の方法。
【請求項３】
前記個体がヒトである、請求項1記載の方法。
【請求項４】
前記個体が雄性である、請求項1記載の方法。
【請求項５】
前記核酸がDNAである、請求項1記載の方法。
【請求項６】
前記核酸がRNAである、請求項1記載の方法。
【請求項７】
DEFB-126をコードする前記核酸が配列番号：4に対して少なくとも95％の配列同一性を共有する、請求項1記載の方法。
【請求項８】
前記DEFB-126対立遺伝子が、DEFB-126をコードする核酸の部分配列
2012519003.tif 000003
内の対立遺伝子を識別する一つまたは複数のポリヌクレオチドを使用する増幅反応によって検出される、請求項1記載の方法。
【請求項９】
前記増幅反応が、ポリメラーゼ連鎖反応（PCR）、鎖置換増幅（SDA）、核酸配列ベース増幅（NASBA）、ローリングサークル増幅（RCA）、T7ポリメラーゼ媒介増幅、T3ポリメラーゼ媒介増幅およびSP6ポリメラーゼ媒介増幅からなる群より選択される、請求項8記載の方法。
【請求項１０】
前記DEFB-126対立遺伝子が、DEFB-126をコードする核酸の部分配列
2012519003.tif 000004
内の対立遺伝子を識別する一つまたは複数のポリヌクレオチドを使用するハイブリダイゼーションによって検出される、請求項1記載の方法。
【請求項１１】
前記DEFB-126対立遺伝子が、DEFB-126の部分配列を配列決定することによって検出され、該部分配列が、核酸配列
2012519003.tif 000005
を含む、請求項1記載の方法。
【請求項１２】
前記DEFB-126対立遺伝子が制限酵素断片長多型によって検出される、請求項1記載の方法。
【請求項１３】
前記DEFB-126対立遺伝子が蛍光共鳴エネルギー移動（FRET）によって検出される、請求項1記載の方法。
【請求項１４】
個体から生物学的試料を得る工程、および該試料中のDEFB-126ポリペプチドの存在を決定する工程を含む、該個体が不妊症の高い確率を有するかどうかを判定する方法であって、DEFB-126ポリペプチドの存在が正常な生殖能を示し、DEFB-126ポリペプチドの非存在が不妊症の高い確率を示す方法。
【請求項１５】
配列番号：12に対して少なくとも95％の配列同一性を共有するDEFB-126ポリペプチドが正常な生殖能を示す、請求項14記載の方法。
【請求項１６】
配列番号：6に対して少なくとも95％の配列同一性を共有するDEFB-126ポリペプチドが正常な生殖能を示す、請求項14記載の方法。
【請求項１７】
C末端アミノ酸配列PVSPTG（配列番号：3）を有するDEFB-126ポリペプチドが正常な生殖能を示す、請求項14記載の方法。
【請求項１８】
配列番号：16に対して少なくとも95％の配列同一性を共有するDEFB-126ポリペプチドが不妊症の高い確率を示す、請求項14記載の方法。
【請求項１９】
n=1〜50であるC末端アミノ酸配列
2012519003.tif 000006
を有するDEFB-126ポリペプチドが不妊症の高い確率を示す、請求項14記載の方法。
【請求項２０】
前記DEFB-126ポリペプチドが、該ポリペプチドのC末端に特異的に結合する抗体を使用して決定される、請求項14記載の方法。
【請求項２１】
前記DEFB-126ポリペプチド変異体が、ELISA、免疫沈降、イムノアフィニティークロマトグラフィー、タンパク質アレイ、レクチン結合、等電点電気泳動またはウエスタンブロットによって決定される、請求項20記載の方法。
【請求項２２】
個体が不妊症の高い確率を有するかどうかを判定するためのキットであって、部分配列
2012519003.tif 000007
内の該個体のDEFB-126対立遺伝子を識別する少なくとも一つのポリヌクレオチドと、該部分配列内の位置6〜10における5個の連続するシトシン「CCCCC」の存在が正常な生殖能を示すことおよび該部分配列の位置6〜10内の3個以下の連続するシトシン「CCC」の存在が不妊症の高い確率を示すことを述べている使用説明書とを含む、キット。
【請求項２３】
個体が不妊症の高い確率を有するかどうかを判定するためのキットであって、DEFB-126ポリペプチドを認識する少なくとも一つの抗体と、DEFB-126ポリペプチドの存在が正常な生殖能を示すことおよびDEFB-126ポリペプチドの非存在が不妊症の高い確率を示すことを述べている使用説明書とを含む、キット。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月26日(2013.2.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板；
前記基板の少なくとも一部の上に配置された導電層；
前記導電層上に配置された、内部に空隙を有する誘電体層；および
前記空隙内に配置されたセンシング層
を備え、
前記導電層と接触した前記センシング層の領域が、センサロット内でおよそ５％未満のセンサ間変動係数を有する、
検体センサ。
【請求項２】
前記変動係数が、センサロット内でおよそ３％未満であることを特徴とする請求項１記載の検体センサ。
【請求項３】
前記導電層と接触した前記センシング層の領域上に配置された膜をさらに備え、
前記膜が、センサロット内でおよそ５％未満のセンサ間変動係数を有する、規定厚さを有することを特徴とする請求項１記載の検体センサ。
【請求項４】
前記変動係数が、センサロット内でおよそ３％未満であることを特徴とする請求項３記載の検体センサ。
【請求項５】
前記導電層と接触した前記センシング層の領域上に配置された前記膜が、実質的に均一の厚さを有することを特徴とする請求項３記載の検体センサ。
【請求項６】
前記導電層と接触した前記センシング層の領域上に配置された前記膜が、実質的に一様分布を有することを特徴とする請求項３記載の検体センサ。
【請求項７】
前記膜が、低い酸素透過性を有することを特徴とする請求項３記載の検体センサ。
【請求項８】
前記導電層と接触した前記センシング層の領域が、前記センサの活性化領域を実質的に画成することを特徴とする請求項１記載の検体センサ。
【請求項９】
前記空隙が、前記導電層の遠位部上に位置することを特徴とする請求項１記載の検体センサ。
【請求項１０】
前記センシング層と接触する前記導電層が、 前記検体センサの作用電極の少なくとも一部を画成することを特徴とする請求項１記載の検体センサ。
【請求項１１】
前記導電層が、ガラス状炭素、グラファイト、銀、塩化銀、白金、パラジウム、白金イリジウム、チタニウム、金または、イリジウムのうち１種類以上を含むことを特徴とする請求項１記載の検体センサ。
【請求項１２】
前記誘電体層が、光画像形成性のポリマー材料を含むことを特徴とする請求項１記載の検体センサ。
【請求項１３】
前記誘電体層が、前記導電層上および前記基板の少なくとも一部に配置された光画像形成性のフィルムを含むことを特徴とする請求項１記載の検体センサ。
【請求項１４】
前記空隙が、光リソグラフィ法によって形成されることを特徴とする請求項１記載の検体センサ。
【請求項１５】
前記空隙上に配置されたグルコース流制限層、干渉層または生体適合層のうち１つ以上をさらに備えることを特徴とする請求項１記載の検体センサ。
【請求項１６】
前記導電層と接触した前記センシング層の領域が、約０．０１ｍｍ2〜約１．０ｍｍ2であることを特徴とする請求項１記載の検体センサ。
【請求項１７】
前記導電層と接触した前記センシング層の領域が、約０．０４ｍｍ2〜約０．３６ｍｍ2であることを特徴とする請求項１記載の検体センサ。
【請求項１８】
前記基板上の前記導電層と接触した前記センシング層の表面積が、実質的に一定であることを特徴とする請求項１記載の検体センサ。
【請求項１９】
前記誘電体層に形成された前記空隙の寸法が実質的に一定であることを特徴とする請求項１記載の検体センサ。
【請求項２０】
検体センサであって、
遠位部を有する基板；
前記基板の遠位部の少なくとも一部の上に配置された導電層；
前記導電層上に配置され、内部に空隙を有し、かつ、前記空隙の位置が、前記基板の遠位部と一致する、誘電体層；および
前記空隙内に配置されたセンシング層であって、前記導電層と接触した前記センシング層の領域が、センサロット内でおよそ５％未満のセンサ間変動係数を有するセンシング層
を備え、
前記基板の遠位部が、所定の時間、間質液との流体連通を維持する、
検体センサ。
【請求項２１】
前記所定の時間が約３日間以上であることを特徴とする請求項２０記載の検体センサ。
【請求項２２】
前記導電層と接触した前記センシング層の領域が、所定の時間にわたり前記間質液と流体連通する前記検体センサの作用電極の少なくとも一部を画成することを特徴とする請求項２０記載の検体センサ。
【請求項２３】
前記検体センサが、前記導電層と接触した前記センシング層の領域上に配置された膜をさらに備え、
前記膜が、前記センサロット内でおよそ５％未満のセンサ間変動係数を有する規定厚さを有することを特徴とする請求項２０記載の検体センサ。
【請求項２４】
前記導電層と接触した前記センシング層の領域上に配置された前記膜が、実質的に均一の厚さを有することを特徴とする請求項２３記載の検体センサ。
【請求項２５】
前記導電層と接触した前記センシング層の領域上に配置された前記膜が、実質的に一様分布を有することを特徴とする請求項２３記載の検体センサ。
【請求項２６】
前記基板上の前記導電層と接触した前記センシング層の表面積が、前記センサロットにおけるセンサ間で実質的に一定であることを特徴とする請求項２０記載の検体センサ。
【請求項２７】
前記誘電体層に形成された前記空隙の寸法が、前記センサロットにおけるセンサ間で実質的に一定であることを特徴とする請求項２０記載の検体センサ。
【請求項２８】
前記空隙上に配置されたグルコース流制限層、干渉層または生体適合層のうち１つ以上をさらに備えることを特徴とする請求項２０記載の検体センサ。
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月1日(2013.3.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
歯の髄室および１又は複数の根管内の歯髄のすべてまたはかなりの部分を、象牙質、歯、または他の隣接する組織のいずれかの温度を約５℃を超えて上昇させることを回避するように、前記髄質に導入されたヒドロキシル基を含有する液体中で著しい熱を発生させずに、前記液体中に又は前記液体との混合物として歯髄物質に分解するためのレーザシステムであって、
約０．１Ｗから約１．５Ｗの出力レベル、約１００ナノ秒から約１０００マイクロ秒のパルス持続時間、約２Ｈｚから約２５Ｈｚのパルス周波数、および約１０から約４０秒のサイクル時間でパルス駆動されるレーザ光線源（１２）と、
前記レーザ光線源に結合された細長い光ファイバ（１４）であって、該光ファイバの先端部分（２０）に前記レーザ光線を伝達するように構成され、前記先端部分の表面のほぼ全体が、該先端部分（２０）から前記レーザ光線が略全方向に放射されるように、被覆されておらず、前記細長い光ファイバの少なくとも先端部分（２０）が前記髄室内の前記液体にほぼ浸漬される、前記細長い光ファイバと、
を備えたレーザシステム。