Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月21日(2013.2.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一つの真空チャンバー内の真空を実現する方法であり、方法は、
複数の真空チャンバーを備えている設備を設けることを備えており、各真空チャンバーは、共有真空システムに接続されており、共有真空システムは、
複数のターボ分子ポンプを備えており、各ターボ分子ポンプは対応真空チャンバーに別々に接続されており、さらに、
少なくとも一つの共通フォアポンプと、
前記少なくとも一つの共通フォアポンプを前記複数のターボ分子ポンプのおのおのに接続するための一つ以上のパイプを備えている配管系を備えており、配管系は、前記配管系内の流れをコントロールする複数の流量調節器を備えており、方法はさらに、
ポンプ吸引のための少なくとも一つの選択された真空チャンバーを選択することと、
前記共有真空チャンバーによって前記少なくとも一つの選択された真空チャンバーを別々にポンプ吸引することを備えている、少なくとも一つの真空チャンバー内の真空を実現する方法。
【請求項２】
前記少なくとも一つの選択された各真空チャンバーを別々にポンプ吸引することは、
第一のポンプ吸引段階において、選択された真空チャンバーを連帯的に第一の圧力値をもつ圧力にポンプ吸引するために前記少なくとも一つの共通フォアポンプを作動させることと、
第二のポンプ吸引段階において、前記選択された真空チャンバーを別々に第二の圧力値をもつ圧力にポンプ吸引するために前記選択された真空チャンバーの前記ターボ分子ポンプを作動させることを備えている、請求項１の方法。
【請求項３】
前記第一のポンプ吸引段階は、前記少なくとも一つの共通フォアポンプによって前記選択された真空チャンバーから気体と蒸気を直接的に除去することを備えている、請求項２の方法。
【請求項４】
前記第二のポンプ吸引段階は、前記少なくとも一つの共通フォアポンプによって前記選択された真空チャンバーの前記ターボ分子ポンプの出口圧力を所定圧力値よりも低く維持することを備えている、請求項３の方法。
【請求項５】
前記少なくとも一つのターボ分子ポンプを作動させた後の所定時刻に前記少なくとも一つの共通フォアポンプを停止させることをさらに備えている、請求項２の方法。
【請求項６】
前記真空システムは、各チャンバーの中またはそれに接して入れられた極低温表面を冷却するための共有極低温ポンプシステムをさらに備えている、先行請求項のいずれか一つに記載の方法。
【請求項７】
前記方法は、排気中のチャンバー内の圧力が所定しきい値よりも低い圧力値に達したときに真空への動作の第三の段階において前記極低温ポンプシステムを作動させることをさらに備えている、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
選択された真空チャンバーから前記ターボ分子ポンプを分離するための流量調節器を閉じることと、前記ターボ分子ポンプを停止させることをさらに備えている、先行請求項のいずれか一つに記載の方法。
【請求項９】
リソグラフィシステムであり、
複数の真空チャンバーと、
各真空チャンバーに接続された、前記真空チャンバーを排気するために用意された共有真空システムを備えており、前記共有真空システムは、
複数のターボ分子ポンプを備えており、各ターボ分子ポンプは対応真空チャンバーに別々に接続されており、さらに、
少なくとも一つの共通フォアポンプと、
前記少なくとも一つの共通フォアポンプを前記複数のターボ分子ポンプのおのおのに接続するための一つ以上のパイプを備えている配管系を備えており、前記配管系は、前記配管系内の流れをコントロールする複数の流量調節器を備えており、さらに、
前記流量調節器と前記フォアポンプと前記複数のターボ分子ポンプと信号連絡しているコントロールシステムを備えており、前記コントロールシステムは、ポンプ吸引のための少なくとも一つの真空チャンバーの選択と前記少なくとも一つの選択された真空チャンバーの別々のポンプ吸引用をコントロールするように構成されている、リソグラフィシステム。
【請求項１０】
前記コントロールシステムは、
第一のポンプ吸引段階において、選択された真空チャンバーを連帯的に第一の圧力値をもつ圧力にポンプ吸引するために前記少なくとも一つの共通フォアポンプを作動させるとともに、
第二のポンプ吸引段階において、前記選択された真空チャンバーを別々に第二の圧力値をもつ圧力にポンプ吸引するために前記選択された真空チャンバーの前記ターボ分子ポンプを作動させるように構成されている、請求項９に記載のシステム。
【請求項１１】
前記共有真空システムは、クライオポンプシステムをさらに備えており、前記クライオポンプシステムは、一つ以上の冷却液リザーバーまたは冷却ユニットと、複数の極低温表面構造体と、前記冷却液リザーバーまたは冷却ユニットを前記極低温表面構造体に接続している冷却ラインを備えており、前記極低温表面構造体は、前記リソグラフィシステムの前記複数の真空チャンバーに分配されている、請求項９または１０に記載のシステム。
【請求項１２】
前記クライオポンプシステムは、一つ以上の極低温表面構造体に向かうまたはそこから遠ざかる前記冷却ラインを介した冷却液の移動をコントロールするための一つ以上の流量調節デバイスをさらに備えている、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１３】
少なくとも一つの真空チャンバーは、紫外スペクトルの放射を発するための一つ以上の発光ダイオードを備えている、請求項９〜１２のいずれか一つのシステム。
【請求項１４】
少なくとも一つの真空チャンバーは、前記チャンバーの中への紫外放射の結合を可能にするための専用壁部を備えるように用意されている、請求項９〜１３のいずれか一つのシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月12日(2013.2.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式(I)の第VIII因子誘導体
【化１】
2012518029.tif 000001
[式中、
BはC2〜C10アルキレンを表し、
mは0または1〜19の整数を表し、nは1〜20の整数を表し、mとnの合計は1〜20であり、
Pは、第VIII因子のグルタミン残基の側鎖からm+n個のカルバモイル基を除去することによって得られた、第VIII因子のモノラジカルまたはポリラジカルを表し、
Mは、第VIII因子誘導体の血漿内半減期を増大させる部分(M1)またはレポーター部分(M2)を表す]
または薬学的に許容されるその塩。
【請求項２】
前記部分M1が、1つまたは複数のポリエチレングリコール(PEG)部分、ポリペプチドまたは血漿タンパク質バインダーを含む、請求項1に記載の第VIII因子誘導体。
【請求項３】
前記ペプチドが、アルブミン、またはその抗体もしくは断片である、請求項2に記載の第VIII因子誘導体。
【請求項４】
前記血漿タンパク質バインダーがアルブミンバインダーである、請求項2に記載の第VIII因子誘導体。
【請求項５】
前記部分M1がポリエチレングリコール(PEG)部分を含む、請求項2に記載の第VIII因子誘導体。
【請求項６】
前記部分M2が、ビオチン、蛍光マーカーまたは放射性同位体を含む、請求項1に記載の第VIII因子誘導体。
【請求項７】
mが0または1〜9の整数を表し、nが1〜10の整数を表し、mとnの合計が1〜10である、請求項1から6のいずれか一項に記載の第VIII因子誘導体。
【請求項８】
BがC2〜C6アルキレンを表す、請求項1から7のいずれか一項に記載の第VIII因子誘導体。
【請求項９】
BがC2〜C4アルキレンを表し、
mが0または1〜5の整数を表し、nが1〜6の整数を表し、mとnの合計が1〜6であり、
Mが、ポリエチレングリコール(PEG)部分および/またはアルブミンバインダーを含む部分(M1)を表す、
請求項1に記載の第VIII因子誘導体。
【請求項１０】
BがC2〜C4アルキレンを表し、
mが0または1〜5の整数を表し、nが1〜6の整数を表し、mとnの合計が1〜6であり、
Mが、ビオチンまたは蛍光マーカーを含む部分(M2)を表す、
請求項1に記載の第VIII因子誘導体。
【請求項１１】
BがC3アルキレンを表す、請求項9または10に記載の第VIII因子誘導体。
【請求項１２】
請求項1から11のいずれか一項に記載の第VIII因子誘導体および薬学的に許容される担体または賦形剤を含む、医薬組成物。
【請求項１３】
請求項1から11のいずれか一項に記載の第VIII因子誘導体からなる、ヒトまたは動物の身体の治療剤。
【請求項１４】
血友病Aの治療に使用するための、請求項13に記載の治療剤。
【請求項１５】
血友病Aの治療のための医薬品の製造における、請求項1から11のいずれか一項に記載の第VIII因子誘導体の使用。
【請求項１６】
式(II)の第VIII因子誘導体
【化２】
2012518029.tif 000002
[式中、
BはC2〜C10アルキレンを表し、
qは1〜20の整数を表し、
P’は、第VIII因子のグルタミン残基の側鎖からq個のカルバモイル基を除去することによって得られた、第VIII因子のモノラジカルまたはポリラジカルを表す]
または薬学的に許容されるその塩。
【請求項１７】
第VIII因子を、トランスグルタミナーゼの存在下で、式(III)の化合物
H2N-O-B-O-NH2(III)
[式中、Bは請求項1または8から11のいずれか一項に記載の通りである]
と反応させるステップを含む、請求項16に記載の式(II)の第VIII因子誘導体を調製する方法。
【請求項１８】
トランスグルタミナーゼが、ストレプトマイセス・モバラエンス(Streptomyces mobaraense)のトランスグルタミナーゼである、請求項17に記載の方法。
【請求項１９】
請求項16に記載の式(II)の第VIII因子誘導体を、式(IV)のアルデヒド
【化３】
2012518029.tif 000003
[式中、Mは請求項1から6、9または10のいずれか一項に記載の通りである]
と反応させるステップを含む、請求項1から11のいずれか一項に記載の式(I)の第VIII因子誘導体を調製する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月14日(2012.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
官能化基材の製造法であって、
１）間隙表面及び外側表面を有する多孔質ベース基材を提供する工程と、
２）（ａ）少なくとも１つの（メタ）アクリレート基、及び少なくとも１つの追加のエチレン性不飽和フリーラジカル重合性基を有する少なくとも１つのグラフトモノマーと、任意に（ｂ）少なくとも１つのエチレン性不飽和フリーラジカル重合性基及び親水性基を有する１つ以上の追加のモノマーと、連鎖移動剤と、を含み、（ａ）及び／又は（ｂ）のモノマーのうち少なくとも１つが親水性である第１の溶液で、前記多孔質ベース基材を飽和する工程と、
３）前記多孔質ベース基材の前記表面に結合したグラフト化ポリマーを含む第１の官能化基材を形成するために、前記飽和した多孔質ベース基材を調整された量のガンマ線に曝露する工程と、を含む、製造方法。
【請求項２】
前記モノマー（ａ）がポリ（アルキレンオキシド）ジアクリレートを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
少なくとも１つの（メタ）アクリレート基、及び少なくとも１つの追加のエチレン性不飽和フリーラジカル重合性基を有する少なくとも１つのグラフトモノマーを有する前記モノマー（ａ）が、前記多孔質ベース基材にグラフト化するための第１の（メタ）アクリレート基と、（ａ）及び／又は（ｂ）モノマーと引き続いて重合するための第２のメタクリレート基と、を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記第１の溶液が、（ｂ）フリーラジカル重合性基と親水性基とを有する１つ以上の追加のモノマーを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記モノマー溶液が、
（ａ）１〜１０重量％の（ａ）モノマーと、
（ｂ）１〜１０重量％の（ｂ）モノマーと、
（ｃ）０．０２〜０．１５重量％の連鎖移動剤と、
（ｅ）溶媒と、を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記「（ａ）」モノマーが、式：
Ｚ−Ｑ−（ＣＨ（Ｒ１）−ＣＨ２−Ｏ）ｎ−Ｃ（Ｏ）−ＣＲ３＝ＣＨ２、ＩＩであって、
式中、Ｚはアクリレート又は非アクリレートの重合性エチレン性不飽和基であり、
Ｒ３はＨ又はＣＨ３であり、
Ｒ１は、Ｈ又はＣ１〜Ｃ４アルキル基であり、ｎは２〜１００であり、Ｑは共有結合「−」、−Ｏ−、−ＮＲ１−、−ＣＯ２−、及び−ＣＯＮＲ１から選択される二価結合基であり、ここでＲ１は、Ｈ又はＣ１〜Ｃ４アルキルである、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
間隙表面及び外側表面を有する多孔質ベース基材と、前記多孔質ベース基材の表面から延在するグラフト化ポリマーと、を含み、前記ポリマーが、
（ａ）少なくとも１つの（メタ）アクリレート基及び少なくとも１つの追加のエチレン性不飽和フリーラジカル重合性基を有する少なくとも１つのグラフトモノマーと、
任意に（ｂ）少なくとも１つのエチレン性不飽和フリーラジカル重合性基及び親水性基を有する１つ以上の追加のモノマーと、（ｃ）連鎖移動剤と、の共重合モノマー単位を含み、
（ａ）、及び／又は（ｂ）モノマーのうち少なくとも１つが親水性であり、前記ポリマーの平均重合度が２〜２５０である、物品。
【請求項８】
前記多孔質ベース基材の前記表面から延在するグラフト化親水性基を更に含む、請求項７に記載の物品。
【請求項９】
前記ポリマーがグラフト化ポリ（アルキレンオキシド）ジアクリレートを含んだ、請求項７に記載の物品。
【請求項１０】
前記多孔質ベース基材がエチレン−トリクロロフルオロエチレン（ＥＣＴＦＥ）多孔質ベース基材である、請求項７に記載の物品。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月28日(2013.1.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ａ）少なくとも１つのゴム非含有有機熱可塑性ポリマー、
Ｂ）Ｂ．１）外皮としてのビニル（コ）ポリマーおよび
Ｂ．２）コアとしてのエラストマー
から成る少なくとも１つの粉末状グラフトポリマーであって、
ここで、１０，０００ｐｐｍ以下の残存揮発性有機化合物（ＶＯＣ）含有量を有するグラフトポリマー、
Ｃ）ゴム非含有ビニル（コ）ポリマーＣ．１およびペレット形態のゴム変性ビニル（コ）ポリマーＣ．２からなる群の少なくとも１つのポリマーから選択される任意のさらなるポリマー樹脂、
Ｄ）成分Ａ、ＢおよびＣとは異なる任意の常套の市販のポリマー添加剤
を含有する衝撃性改良ポリマー組成物を、
（ｉ）（工程（ｉ）で製造されるこの混合物に関して）２〜４０重量％の水含有量を有する混合物を、
使用される全量または一部の成分Ｂ、
任意に全量または一部の成分Ａ、Ｃおよび／またはＤ、
および（Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄの全組成物＝１００重量部に関して）０．４〜７重量部の水
から製造し、
（ｉｉ）工程（ｉ）から得られた各成分の全量を含有する、または工程（ｉ）後に得られた組成物の成分Ａ〜Ｄの一部を含有する混合物を、混練ユニット内で、熱および／または機械的エネルギーを印加することによって、２００℃〜３５０℃の温度に加熱し、これによって溶融、混合し、互いに分散させ、次に混練ユニットの揮発分除去ゾーンで揮発分除去し、
ここで、混練ユニットは溶融および混合ゾーンまたは溶融および混合一体型ゾーンを備え、
ここで、工程（ｉ）から得られた混合物は混練ユニット内に、別にしておいた、組成物の残りの量の成分Ａ〜Ｄと共に、溶融ゾーンの上流のゾーンで、完全にまたは任意に各場合部分的に計量添加されてもよく、場合によっては、溶融ゾーンの下流のゾーンで、混練ユニットの投入ゾーンに計量添加された組成物成分の事前混合溶融物内に直接計量添加されてもよく、
ここで、多くとも８００ｍｂａｒの絶対圧力ｐａｂｓを混練ユニットの揮発分除去ゾーンで確立し、
（ｉｉｉ）工程（ｉｉ）から得られた溶融物を、混練ユニットから排出された時点で冷却することによって再固化することで
製造する方法。
【請求項２】
工程（ｉ）で、（Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄの全組成物＝１００重量部に関して）０．２〜７重量部の水を添加する請求項１による方法。
【請求項３】
工程（ｉｉ）で、組成物の溶融物が、方法工程（ｉ）で製造された混合物からの水と接触している間の平均滞留時間が、多くとも９０秒に制限される請求項１による方法。
【請求項４】
方法工程（ｉ）において、
（工程（ｉ）で製造されるこの混合物に関して）５〜３２重量％の水含有量を有する混合物を、
使用される全量または一部の成分Ｂ、
任意に全量または一部の成分Ａ、Ｃおよび／またはＤ、
および（Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄの全組成物＝１００重量部に関して）０．７〜５重量部の水
から製造する請求項１による方法。
【請求項５】
方法工程（ｉ）において、
（成分Ａ〜Ｄ全体＝１００重量部に関して）５〜１５重量部の成分Ｂ、
（成分Ａ〜Ｄ全体＝１００重量部に関して）０〜５重量部の粉末状成分Ｄおよび、
本工程（ｉ）で製造される混合物に関して８〜２５重量部の水
から成る混合物が製造される請求項１による方法。
【請求項６】
１０〜９５重量部の成分Ａ、
３〜６０重量部の成分Ｂ、
０〜６０重量部の成分Ｃおよび
０〜３０重量部の成分Ｄ
（ここで、成分Ａ〜Ｄの全重量部＝１００重量部）
を含有する衝撃性改良ポリマー組成物を製造する請求項１による方法。
【請求項７】
４０〜８０重量部の成分Ａ、
５〜３０重量部の成分Ｂ、
５〜３５重量部の成分Ｃおよび
０．５〜１０重量部の成分Ｄ
（ここで、成分Ａ〜Ｄの全重量部＝１００重量部）
を含有する衝撃性改良ポリマー組成物を製造する請求項１による方法。
【請求項８】
成分Ａとして、４０〜８０重量部のポリカーボネート、ポリエステルカーボネート、ポリエステルから成る群から選択される少なくとも１つのポリマー、
成分Ｂとして、５〜３０重量部のＡＢＳグラフトポリマーまたはＭＢＳグラフトポリマーから成る群から選択される少なくとも１つのグラフトポリマー、
５〜３５重量部の成分Ｃおよび
０．５〜１０重量部の成分Ｄ
（ここで、成分Ａ〜Ｄの全重量部＝１００重量部）
を含有する衝撃性改良ポリマー組成物を、
（ｉ）（成分Ａ〜Ｄ全体＝１００重量部に関して）５〜１５重量部の成分Ｂ、
（成分Ａ〜Ｄ全体＝１００重量部に関して）０〜５重量部の粉末状成分Ｄおよび、
この工程（ｉ）で製造される混合物に関して８〜２５重量部の水
から成る混合物を製造し、
（ｉｉ）工程（ｉ）から得られた各成分の全量を含有する、または工程（ｉ）後に得られた組成物の成分Ａ〜Ｄの一部を含有する混合物を、二軸性押出し成形機内で、熱および／または機械的エネルギーを印加することによって、２３０℃〜３００℃の温度に加熱し、これによって溶融、混合し、互いに分散させ、次に減圧を印加することによって揮発分除去し、
ここで、混練ユニットは、各場合少なくとも１つの任意に一体型された溶融および混合ゾーンと、少なくとも１つの揮発分除去ゾーンを備え、
ここで、工程（ｉ）から得られた混合物は混練ユニット内に、組成物の残りの量の成分Ａ〜Ｄと共に、溶融ゾーンの上流のゾーンで完全に計量添加され、
ここで、多くとも５００ｍｂａｒの絶対圧力ｐａｂｓを混練ユニットの揮発分除去ゾーンで確立し、
ここで、組成物の溶融物が、工程（ｉ）で製造された混合物からの水と接触している間の平均滞留時間が、多くとも６０秒に制限され、
（ｉｉｉ）工程（ｉｉ）から得られた溶融物を、混練ユニットから排出された時点で冷却することによって再固化することで
製造する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月10日(2013.1.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（Ｉ）で表わされる構造単位を有することを特徴とするポリウレタンポリ尿素の水性分散液：
【化１】
2012518064.tif 000001
［式中、
Ｒ'は（ＣＨ２）ｎＯおよび（ＣＨ２）ｎ、（式中、ｎは１〜１０の整数を示す)を示し
Ｒ''は（ＣＨ２）ｎＯおよび（ＣＨ２）ｎ、(式中、ｎは１〜１０の整数を示す)を示し、
Ｒ'''はＨ、ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３-、ＣＨ３、ＣＨ２ＣＨ３、シクロヘキシルまたはＣＨ２ＣＨ２ＯＨを示す］。
【請求項２】
下記成分ａ）〜ｇ）を構成成分として含有することを特徴とする、請求項１に記載のポリウレタンポリ尿素の水性分散液：
ａ）２以上の官能価を有する１種以上のポリイソシアネート化合物、
ｂ）４００〜８０００ｇ／モルのモル質量（Ｍｎ）と１.５〜６の官能価を有する１種以上のポリヒドロキシ化合物、
ｃ）４００ｇ／モル未満のモル質量と２〜４の官能価を有する、所望による１種以上のポリヒドロキシ化合物、
ｄ）１種以上の、非イオン性のイソシアネート反応性親水化剤、
ｅ）１種以上の、イソシアネート反応性の潜在的イオン性親水化剤、
ｆ）３２〜４００ｇ／モルのモル質量と１〜３の官能価を有する、１種以上のポリアミン、および
ｇ）２以上のエポキシド官能価を有する、１種以上のイソシアネート反応性ポリエポキシド化合物。
【請求項３】
成分ｂ）が、ブタンジオールおよび／またはネオペンチルグリコールおよび／またはヘキサンジオールおよび／またはエチレングリコールおよび／またはジエチレングリコールと、アジピン酸および／またはフタル酸および／またはイソフタル酸に基づくポリエステルポリオールであることを特徴とする、請求項２に記載のポリウレタンポリ尿素の水性分散液。
【請求項４】
成分ｇ）が、２〜４のエポキシド官能価と１のイソシアネート反応性官能価を有することを特徴とする、請求項２に記載のポリウレタンポリ尿素の水性分散液。
【請求項５】
成分ｇ）が、２のエポキシド官能価と１のイソシアネート反応性官能価を有することを特徴とする、請求項２に記載のポリウレタンポリ尿素の水性分散液。
【請求項６】
下記の工程（１）〜（３）を含む、請求項１に記載のポリウレタンポリ尿素の水性分散液の調製方法：
（１）イソシアネート基およびエポキシ基を含有するポリウレタンプレポリマーを、成分ａ)、ｂ)、ｃ)、ｄ)、ｅ)およびｇ)を反応させることによって調製し、（２）得られたポリウレタンプレポリマーを、ＮＨ２-官能性および／またはＮＨ-官能性成分ｅ)およびｆ）を用いて連鎖延長させ、次いで、（３）得られた連鎖延長物を水性相へ分散させる。
【請求項７】
木材、プラスチック、金属、ガラス、織物、皮革、紙および繊維に適用される塗料組成物の調製における、請求項１に記載のポリウレタンポリ尿素の水性分散液の使用。
【請求項８】
熱的に自己架橋する１Ｋ系の製造における、請求項１に記載のポリウレタンポリ尿素の水性分散液の使用。
【請求項９】
２Ｋ系の製造における、請求項１に記載のポリウレタンポリ尿素の水性分散液の使用。
【請求項１０】
請求項１に記載のポリウレタンポリ尿素の水性分散液を含有する１Ｋ系。
【請求項１１】
水溶性または水分散性の架橋剤、例えば、親水性ポリイソシアネート、ポリアミン、ポリエポキシドまたはメラミンと共に、請求項１に記載のポリウレタンポリ尿素の水性分散液を含有する２Ｋ系。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月1日(2013.2.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）  ３ないし６個の（メタ）アクリレート基を有するポリオール  ポリ（メタ）アクリレートモノマーから選ばれる少なくとも一つのモノマーと、
ｂ）  少なくとも３つのエポキシ基を有するポリオール  ポリグリシジルエーテルから選ばれる少なくとも一つのモノマーと、
ｃ）  少なくとも一つの二官能性モノマーと、
ｄ）  少なくとも一つのフリーラジカル光開始剤と、
ｅ）  少なくとも一つの陽イオン光開始剤とを含む硬化可能なコーティング組成物であって、
エポキシ当量に対するアクリレート当量のモル比が３：１ないし４：１であり、
上記組成物が、シリカおよび、シラン基を有するモノマーを含んでいないことを特徴とする硬化可能なコーティング組成物。
【請求項２】
上記ポリオール  ポリ（メタ）アクリレートモノマーが、ペンタエリスリトール  トリ−および／またはテトラアクリレート、ジペンタエリスリトール  ヘキサアクリレート、およびそれらの混合物、から選ばれることを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
上記ポリオール  ポリグリシジルエーテルが、ポリオール  トリグリシジルエーテルであることを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
上記ポリオール  ポリグリシジルエーテルが、トリメチロールプロパン  トリグリシジルエーテルであることを特徴とする請求項３に記載の組成物。
【請求項５】
上記二官能性モノマーが、少なくとも一つのポリオール  ジ（メタ）アクリレート、少なくとも一つのポリオール  ジグリシジルエーテル、またはそれらの混合物を含んでいることを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
上記二官能性モノマーが、ポリオール  ジ（メタ）アクリレートからなるグループから選ばれることを特徴とする請求項５に記載の組成物。
【請求項７】
上記二官能性モノマーが２つのポリオール  ジ（メタ）アクリレートを含み、そのうちの少なくとも一つがアルカンジオール  ジ（メタ）アクリレートであり、そのうちの少なくとも一つがポリエチレングリコール  ジ（メタ）アクリレートであることを特徴とする請求項６に記載の組成物。
【請求項８】
上記二官能性モノマーが、
１，６  ヘキサンジオール  ジアクリレートと、
少なくとも３つのエチレングリコール単位を有する少なくとも一つのポリエチレングリコール  ジ（メタ）アクリレートとの、
混合物を含んでいることを特徴とする請求項７に記載の組成物。
【請求項９】
上記組成物におけるエポキシモノマーに対する、ポリオール  ジ（メタ）アクリレートモノマーを含めた上記ポリオール  ポリ（メタ）アクリレートモノマーの全量の重量比が、２：１ないし３：１であり、好ましくは２．４：１ないし２．６：１であることを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項１０】
実質的に溶媒を含んでいないことを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項１１】
少なくとも一つの界面活性剤、少なくとも一つのスリップ剤、またはそれらの混合物を含むことを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項１２】
ａ）  基板の少なくとも一つの表面に、請求項１に記載の組成物を作用させるステップと、
ｂ）  上記組成物を硬化させて、上記基板に、コーティングされた表面を形成するステップとを有することを特徴とする物品の製造方法。
【請求項１３】
少なくとも一つの色素を上記コーティングされた表面の中へ吸収するステップをさらに有することを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
上記基板が、完成の、またはほぼ完成の、眼科用レンズであることを特徴とする請求項１２または１３に記載の方法。
【請求項１５】
請求項１２または１３に記載の方法により得られる物品。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月13日(2013.2.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１４】
ダプトマイシンを精製する方法であって、
ａ）ダプトマイシンを含む発酵ブロスを１つまたは複数の浄化工程に供する工程、
ｂ）工程ａ）の溶液を陰イオン交換クロマトグラフィーカラムに注入する工程、
ｃ）工程ｂ）の溶液を逆相クロマトグラフィーカラムに注入する工程、
ｄ）任意選択で工程ｃ）の溶液をさらに逆相クロマトグラフィーカラムに少なくとも１回注入する工程、
ｄ）工程ｄ）で得られた溶液を１つまたは複数のろ過工程に供する工程、および
ｅ）ｄ）のろ液を凍結乾燥させ、精製されたダプトマイシンの粉末を得る工程を含み、
工程ｃ）及び任意選択で工程ｄ）における溶出バッファーは水溶性アルコールである方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月13日(2013.2.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＥＧＦＲ遺伝子の増幅を有する腫瘍〔該腫瘍の細胞は、ＥＧＦＲ遺伝子の多数のコピーを含有する〕における、およびトランケートされたバージョンのＥＧＦＲ受容体ｄｅ２−７を発現する腫瘍におけるＥＧＦＲに結合することができる単離された抗体であって、配列番号：１３のアミノ酸配列から成るｄｅ２−７ＥＧＦＲ接合点ペプチドに結合しないものであり；ヒト野生型ＥＧＦＲの配列番号：１４の配列内のエピトープに結合するものであり；重鎖および軽鎖を含み、該重鎖の可変領域が、配列番号：４４、４５および４６に示すアミノ酸配列を有するポリペプチド結合ドメイン領域を含み、ならびに該軽鎖の可変領域が、配列番号：４９、５０および５１に示すアミノ酸配列を有するポリペプチド結合ドメイン領域を含むものである、抗体。
【請求項２】
前記重鎖が配列番号：１６４に示す可変領域を含み、および前記抗体の前記軽鎖が配列番号：１６６に示す可変領域を含む、請求項１に記載の単離された抗体。
【請求項３】
前記重鎖が配列番号：４３に示す定常領域を含み、および前記軽鎖が配列番号：４８に示す定常領域を含む、請求項１または請求項２に記載の単離された抗体。
【請求項４】
抗体Ｆ（ａｂ’）２、ｓｃＦｖ断片、ダイアボディー、トリアボディーまたはテトラボディーの形態である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の単離された抗体。
【請求項５】
検出可能または機能性標識をさらに含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載の単離された抗体。
【請求項６】
前記検出可能または機能性標識が、共有結合で付けられる薬物である、請求項５に記載の単離された抗体。
【請求項７】
前記標識が、放射性標識である、請求項５に記載の単離された抗体。
【請求項８】
ＰＥＧ化されている、請求項１〜３のいずれか１項に記載の単離された抗体。
【請求項９】
ＥＧＦＲが異常発現される又はＥＧＦＲがトランケートされたタンパク質形態で発現される腫瘍の診断のためのキットであって、請求項１〜８のいずれか１項に記載の単離された抗体を含み、試薬および／または使用のための説明書を任意に含む、腫瘍診断用キット。
【請求項１０】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の単離された抗体を含む、医薬組成物。
【請求項１１】
化学療法薬、抗ＥＧＦＲ抗体、放射免疫療法薬、およびこれらの組み合わせから成る群より選択される抗癌剤をさらに含む、請求項１０に記載の医薬組成物。
【請求項１２】
前記化学療法薬が、チロシンキナーゼ阻害剤、リン酸化カスケード阻害剤、翻訳後調節物質、細胞成長または分裂阻害剤（例えば、抗有糸分裂剤）、シグナル伝達阻害剤、およびこれらの組み合わせから成る群より選択される、請求項１１に記載の医薬組成物。
【請求項１３】
哺乳動物における癌を治療および／または予防する方法で使用するための、請求項１０〜１２のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項１４】
前記癌が、膠芽腫、髄芽腫、髄膜腫、新生物性星状細胞種、および新生物性動静脈奇形から成る群より選択される脳内在性の癌である、請求項１３に記載の使用のための医薬組成物。
【請求項１５】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の単離された抗体をコードする組換えＤＮＡ分子で形質転換された単細胞宿主であって、Ｅ．コリ（Ｅ．ｃｏｌｉ）、シュードモナス（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ）、バチルス（Ｂａｃｉｌｌｕｓ）、ストレプトマイセス（Ｓｔｒｅｐｔｏｍｙｃｅｓ）、酵母、ＣＨＯ、ＹＢ／２０、ＮＳＯ、ＳＰ２／０、Ｒ１．１、Ｂ−Ｗ、Ｌ−Ｍ、ＣＯＳ  １、ＣＯＳ  ７、ＢＳＣ１、ＢＳＣ４０、およびＢＭＴ１０細胞、植物細胞、昆虫細胞、ならびにヒト細胞（組織培養でのもの）から成る群より任意に選択される、単細胞宿主。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月4日(2013.2.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液状のインジウムアルコキシド含有組成物であって、
−  少なくとも１種のインジウムアルコキシド並びに
−  少なくとも３種の溶媒Ｌ1、Ｌ2及びＬ3
を包含する液状のインジウムアルコキシド含有組成物において、溶媒Ｌ1が、乳酸エチル、アニソール、テトラヒドロフルフリルアルコール、酢酸ブチル、エチレングリコールジアセテート及び安息香酸エチルから成る群から選択されており、かつ双方の溶媒Ｌ2とＬ3との沸点の差がＳＡＴＰ条件下で少なくとも３０℃であることを特徴とする、液状のインジウムアルコキシド含有組成物。
【請求項２】
前記溶媒Ｌ1が、乳酸エチル、アニソール、テトラヒドロフルフリルアルコール及び酢酸ブチルから成る群から選択されていることを特徴とする、請求項１記載の組成物。
【請求項３】
前記少なくとも１種のインジウムアルコキシドが、少なくとも１個のＣ1〜Ｃ15−アルコキシ基又はＣ1〜Ｃ15−オキシアルキルアルコキシ基を有するインジウム（ＩＩＩ）アルコキシドであることを特徴とする、請求項１又は２記載の組成物。
【請求項４】
前記インジウム（ＩＩＩ）アルコキシドが、インジウムイソプロポキシドであることを特徴とする、請求項３記載の組成物。
【請求項５】
前記インジウムアルコキシドが、前記組成物中で、前記組成物の全体の質量に対して、１〜１５質量％の割合で、特に有利には２〜１０質量％の割合で、極めて有利には２．５〜７．５質量％の割合で存在することを特徴とする、請求項１から４までのいずれか１項記載の組成物。
【請求項６】
前記溶媒Ｌ2及びＬ3が有機溶媒であり、それらは互いに無関係に、アルコール、ポリアルコール、エステル、アミン、ケトン又はアルデヒドから成る群から選択されていることを特徴とする、請求項１から５までのいずれか１項記載の組成物。
【請求項７】
Ｌ2の沸点がＳＡＴＰ条件下で３０〜１２０℃であり、かつＬ3の沸点がＳＡＴＰ条件下で１２０〜３００℃であることを特徴とする、請求項１から６までのいずれか１項記載の組成物。
【請求項８】
Ｌ2が、イソプロパノール、メタノール、エタノール、アセトン、トルエン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、メチルエチルケトン、クロロホルム及びエチレングリコールジメチルエーテルから成る群から選択されていることを特徴とする、請求項１から７までのいずれか１項記載の組成物。
【請求項９】
Ｌ3が、テトラヒドロフルフリルアルコール、酢酸ブチル、ジエチレングリコール、アニソール、エチレングリコールジアセテート、安息香酸エチル及び乳酸エチルから成る群から選択されていることを特徴とする、請求項１から８までのいずれか１項記載の組成物。
【請求項１０】
前記組成物が２種の溶媒のイソプロパノール及びジエチレングリコールを包含することを特徴とする、請求項１から９までのいずれか１項記載の組成物。
【請求項１１】
Ｌ2の割合が、前記組成物の全体の質量に対して３０〜９５質量％であり、かつＬ3の割合が、前記組成物の全体の質量に対して０．５〜７０質量％であることを特徴とする、請求項１から１０までのいずれか１項記載の組成物。
【請求項１２】
前記組成物が少なくとも３種の溶媒のイソプロパノール、酢酸ブチル及び乳酸エチルを有することを特徴とする、請求項１から１１までのいずれか１項記載の組成物。
【請求項１３】
なお少なくとも１種の更なる金属アルコキシドを有することを特徴とする、請求項１から１２までのいずれか１項記載の組成物。
【請求項１４】
前記少なくとも１種の金属アルコキシドの割合が、前記組成物の全体の質量に対して０．０１〜７．５質量％であることを特徴とする、請求項１３記載の組成物。
【請求項１５】
前記少なくとも１種のインジウムアルコキシドを、前記少なくとも３種の溶媒の混合物と混合することを特徴とする、請求項１から１４までのいずれか１項記載の液状のインジウムアルコキシド含有組成物の製造法。
【請求項１６】
前記少なくとも１種のインジウムアルコキシドと少なくとも１種の溶媒を包含する組成物を他の１種以上の溶媒と混合することを特徴とする、請求項１から１４までのいずれか１項記載の液状のインジウムアルコキシド含有組成物の製造法。
【請求項１７】
半導体構造を製造するための、請求項１から１４までのいずれか１項記載の組成物の使用。
【請求項１８】
電子素子を製造するための、殊に（薄膜）トランジスタ、ダイオード又は太陽電池を製造するための、請求項１から１４までのいずれか１項記載の組成物の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月3日(2012.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリコン基板内のビア内に高純度の銅を電着し、スルーシリコンビア（ＴＳＶ）を形成するプロセスであって、
約１．５ミクロン〜約３０ミクロンの範囲の内部幅寸法、約５ミクロン〜約４５０ミクロンの深さ、及び少なくとも３：１の深さ：幅アスペクト比を有する内面を備える、少なくとも１つのビアを含むシリコン基板を設けるステップ、
オプションで、前記ビアの前記内面上に誘電体層を形成するステップ、
前記ビアの前記内面上に、又は前記誘電体層が存在するときには前記誘電体層上に、銅が前記シリコン基板内に拡散することを阻止する障壁層を形成するステップ、
前記障壁層上に、後続の銅の電解析出のための十分なコンダクタンスを得るように、前記ビアの前記内面に十分な厚さ及びカバレッジの基礎金属層を形成するステップ、
不溶性の寸法的に安定な陽極及び銅金属の材料源を含み、前記基礎金属層が陰極として接続される電解銅めっきシステムにおいて、酸、銅イオンの発生源、第一鉄イオン及び／又は第二鉄イオンの発生源、及び析出した銅の物理−機械的特性を制御するための少なくとも１つの添加剤を含む電解槽内に、前記シリコン基板を浸漬するステップ、及び
前記不溶性の寸法的に安定な陽極と前記基礎金属層との間を、高純度の銅を電着してＴＳＶを形成するのに十分な時間の間電流が流れるように、前記陽極と前記基礎金属層との間に電圧を印加するステップを含み、
前記銅金属の発生源からの銅イオンを溶解することによって電着されることになる付加的な銅イオンを提供するために、前記槽内でＦｅ２＋／Ｆｅ３＋レドックス系が確立される、シリコン基板内のビア内に高純度の銅を電着し、スルーシリコンビアを形成するプロセス。
【請求項２】
前記電圧を印加するステップが、前記高純度の銅を電着し、前記ビアを完全に充填するのに有効である、請求項１に記載のプロセス。
【請求項３】
前記電圧を印加するステップが、前記高純度の銅を電着し、前記ビアの内側を、ＴＳＶとしての役割を果たすことができるのに十分な厚みで覆う銅を形成するのに有効である、請求項１に記載のプロセス。
【請求項４】
前記析出した高純度の銅が、内部応力がないか、又は後続の処理において結果として前記シリコン基板の撓みを生じないレベルの内部応力を含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項５】
前記析出した銅が、実質的に空隙がなく、かつ銅以外の含有物を含まない、請求項１〜４のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項６】
前記基礎金属層が、無電解めっき法、物理堆積法、化学気相成長法、又はプラズマ化学気相成長法のうちの１つ又は複数によって前記障壁層上に形成される、請求項１〜５のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項７】
前記基礎金属層が、約０．０２ミクロン〜約０．５ミクロンの範囲内の厚みを有する、請求項１〜６のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項８】
前記電解槽において、
前記酸が、約５０ｇ／ｌ〜約３５０ｇ／ｌの範囲内の濃度の硫酸であり、
前記銅イオンの発生源が、約２０ｇ／ｌ〜約２５０ｇ／ｌの範囲内の濃度の硫酸銅五水和物であり、
前記第一鉄イオン及び／又は前記第二鉄イオンの発生源が、約１ｇ／ｌ〜約１２０ｇ／ｌの範囲内の濃度の硫酸第一鉄七水和物及び／又は硫酸第二鉄九水和物であり、
前記少なくとも１つの添加物が、酸素含有高分子化合物、有機硫黄化合物、チオ尿素化合物及び高分子フェナゾニウム化合物のうちの１つ又は複数を含む、請求項１〜７のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項９】
前記電圧が、パルス電流又はパルス電圧で印加される、請求項１〜８のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項１０】
前記電圧が、順方向電流パルス及び逆方向電流パルスを含む両極性パルスによって形成された逆パルスの形で印加される、請求項９に記載のプロセス。
【請求項１１】
前記逆方向電流パルスの持続時間が、約１ミリ秒〜約２０ミリ秒に調整される、請求項１０に記載のプロセス。
【請求項１２】
前記順方向電流パルスの持続時間が、約１０ミリ秒〜約２００ミリ秒に調整される、請求項１０又は１１に記載のプロセス。
【請求項１３】
加工物表面における前記順方向電流パルスのピーク電流密度が、最大約１５Ａ／ｄｍ２までに調整される、請求項１０〜１２のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項１４】
加工物表面における前記逆方向電流パルスのピーク電流密度が、最大約６０Ａ／ｄｍ２までに調整される、請求項１０〜１３のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項１５】
第１の電流パルスが、第２の電流パルスに対して約１８０°だけシフトされる、請求項１０〜１４のいずれか一項に記載のプロセス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
一実施形態では、障壁層は、障壁層としての役割を果たすことに加えて、誘電体の役割もする誘電体材料でもある材料である。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月4日(2013.2.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体の酸化インジウム膜の製造法であって、その際、
−  基材を、
−  以下のａ）、ｂ）を包含する液状の無水組成物
ａ）少なくとも１種のインジウムアルコキシド及び
ｂ）少なくとも１種の溶媒
でコーティングし、任意に乾燥し、かつ２５０℃より高い温度で熱的に処理する、半導体の酸化インジウム膜の製造法。
【請求項２】
前記インジウムアルコキシドが、インジウム（ＩＩＩ）アルコキシドであることを特徴とする、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記インジウム（ＩＩＩ）アルコキシドが、少なくとも１個のＣ1〜Ｃ15−アルコキシ基又はＣ1〜Ｃ15−オキシアルキルアルコキシ基、有利には少なくとも１個のＣ1〜Ｃ10−アルコキシ基又はＣ1〜Ｃ10−オキシアルキルアルコキシ基を有するアルコキシドであることを特徴とする、請求項２記載の方法。
【請求項４】
前記インジウム（ＩＩＩ）アルコキシドが、一般式Ｉｎ（ＯＲ）3［式中、ＲはＣ1〜Ｃ15−アルキル基又はＣ1〜Ｃ15−アルキルオキシアルキル基、更にずっと有利にはＣ1〜Ｃ10−アルキル基又はＣ1〜Ｃ10−アルキルオキシアルキル基である］のアルコキシドであることを特徴とする、請求項３記載の方法。
【請求項５】
前記インジウム（ＩＩＩ）アルコキシドが、Ｉｎ（ＯＲ）3、Ｉｎ（ＯＣＨ3）3、Ｉｎ（ＯＣＨ2ＣＨ3）3、Ｉｎ（ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ3）3、Ｉｎ（ＯＣＨ（ＣＨ3）2）3又はＩｎ（Ｏ（ＣＨ3）3）3、有利にはＩｎ（ＯＣＨ（ＣＨ3）2）3であることを特徴とする、請求項４記載の方法。
【請求項６】
前記インジウムアルコキシドが、前記組成物の全体の質量に対して、１〜１５質量％の割合で、特に有利には２〜１０質量％の割合で、極めて有利には２．５〜７．５質量％の割合で存在することを特徴とする、請求項１から５までのいずれか１項記載の方法。
【請求項７】
前記少なくとも１種の溶媒が、非プロトン性又は弱プロトン性の溶媒であることを特徴とする、請求項１から６までのいずれか１項記載の方法。
【請求項８】
前記少なくとも１種の溶媒が、イソプロパノール、テトラヒドロフルフリルアルコール、ｔ−ブタノール又はトルエンであることを特徴とする、請求項７記載の方法。
【請求項９】
前記組成物が１ｍＰａ・ｓ〜１０Ｐａ・ｓの粘度を有することを特徴とする、請求項１から８までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１０】
前記基材が、ガラス、シリコン、二酸化シリコン、金属酸化物若しくは遷移金属酸化物又は高分子材料から成ることを特徴とする、請求項１から９までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１１】
前記コーティングを、印刷法、噴霧法、回転コーティング法又は浸漬法により行うことを特徴とする、請求項１から１０までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１２】
熱的な処理を２５０℃〜３６０℃の温度で行うことを特徴とする、請求項１から１１までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１３】
請求項１から１２までのいずれか１項記載の方法によって製造可能な酸化インジウム膜。
【請求項１４】
電子素子を製造するための、殊に（薄膜）トランジスタ、ダイオード又は太陽電池を製造するための、請求項１３記載の少なくとも１種の酸化インジウム膜の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月8日(2013.2.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記に示す化合物を含むことを特徴とする医薬組成物：
【化１】
2012518007.tif 000001
。
【請求項２】
前記組成物が、下記に示す化合物を含む、請求項１記載の医薬組成物：
【化２】
2012518007.tif 000002
。
【請求項３】
前記組成物が、下記に示す化合物を含む、請求項１記載の医薬組成物：
【化３】
2012518007.tif 000003
。
【請求項４】
疼痛を治療するための医薬を製造するための、下記に示す化合物を含む医薬組成物の使用：
【化４】
2012518007.tif 000004
。
【請求項５】
疼痛が、慢性疼痛である、請求項４記載の使用。
【請求項６】
慢性疼痛が、神経因性疼痛である、請求項５記載の使用。
【請求項７】
慢性疼痛が、線維筋痛症を伴う疼痛である、請求項５記載の使用。
【請求項８】
慢性疼痛が、異痛である、請求項５記載の使用。
【請求項９】
疼痛が、内臓痛である、請求項４記載の使用。
【請求項１０】
前記医薬が、鎮静作用を伴わずに疼痛を治療するための医薬である、請求項４記載の使用。
【請求項１１】
前記組成物が、下記に示す化合物を含む、請求項４記載の使用：
【化５】
2012518007.tif 000005
。
【請求項１２】
前記組成物が、下記に示す化合物を含む、請求項４記載の使用：
【化６】
2012518007.tif 000006
。
【請求項１３】
内臓痛が、間質性膀胱炎又は尿路感染症を伴うものである、請求項９記載の使用。
【請求項１４】
疼痛が、頭痛である、請求項４記載の使用。
【請求項１５】
頭痛が、偏頭痛である、請求項１４記載の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成25年1月21日(2013.1.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｃ．ディフィシル（C. difficile）感染の予防または処置において使用するためのヒツジ抗体を含む抗体組成物であって、前記抗体はＣ．ディフィシル毒素に結合する、前記抗体組成物。
【請求項２】
抗体がポリクローナル抗体である、請求項１記載の抗体組成物。
【請求項３】
抗体が、Ｃ．ディフィシル毒素Ａ、Ｃ．ディフィシル毒素ＢおよびＣ．ディフィシル二元毒素からなる群より選択される少なくとも１つのＣ．ディフィシル毒素に結合する、請求項１〜２のいずれか記載の抗体組成物。
【請求項４】
抗体がＣ．ディフィシル毒素ＡおよびＣ．ディフィシル毒素Ｂに結合する、請求項３記載の抗体組成物。
【請求項５】
抗体がＣ．ディフィシル毒素ＡおよびＣ．ディフィシル二元毒素に結合する、請求項３記載の抗体組成物。
【請求項６】
抗体がＣ．ディフィシル毒素ＢおよびＣ．ディフィシル二元毒素に結合する、請求項３記載の抗体組成物。
【請求項７】
Ｃ．ディフィシル毒素が、以下の群：毒素タイプ０、毒素タイプＩＩＩおよび毒素タイプＶから選択される毒素Ａである、請求項１〜５のいずれか記載の抗体組成物。
【請求項８】
Ｃ．ディフィシル毒素が、以下の群：毒素タイプ０、毒素タイプＩＩＩおよび毒素タイプＶから選択される毒素Ｂである、請求項１〜３、請求項４または請求項６のいずれか記載の抗体組成物。
【請求項９】
請求項１〜８記載の抗体組成物を、薬学的に許容される担体、賦形剤および／または塩から選択された少なくとも１つの成分と一緒に含む、非経口投与のための、薬学的組成物。
【請求項１０】
Ｃ．ディフィシル感染の予防または処置のための方法であって、前記方法は、請求項１〜８記載の抗体組成物または請求項９記載の薬学的組成物を投与することを含む、前記方法。
【請求項１１】
請求項１〜８記載の抗体組成物において使用するための、または請求項９記載の薬学的組成物において使用するための、ヒツジ抗体を生産する方法であって、前記ヒツジ抗体は、Ｃ．ディフィシル毒素またはそのフラグメントを含む免疫原に応答してヒツジによって誘発される、前記方法。
【請求項１２】
請求項１〜７記載の抗体組成物において使用するための、または請求項８記載の薬学的組成物において使用するためのヒツジ抗体を生産する方法であって、前記方法は、（ｉ）Ｃ．ディフィシル毒素またはそのフラグメントを含む免疫原をヒツジに投与する工程、（ｉｉ）ヒツジにおける抗体の生成のために十分な時間をかける工程、そして（ｉｉｉ）ヒツジから抗体を得る工程を含む、前記方法。
【請求項１３】
免疫原がＣ．ディフィシルトキソイドである、請求項１１または請求項１２記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年12月6日(2012.12.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
界面活性剤、炭酸ナトリウム及び酒石英を含む固体状の界面活性剤製品。
【請求項２】
界面活性剤を総組成物の１０重量％〜３０重量％の量で含む、請求項１に記載の界面活性剤製品。
【請求項３】
界面活性剤を総組成物の２０重量％〜３０重量％の量で含む、請求項２に記載の界面活性剤製品。
【請求項４】
界面活性剤を総組成物の２２．５重量％〜２７．５重量％の量で含む、請求項３に記載の界面活性剤製品。
【請求項５】
界面活性剤がラウレス硫酸ナトリウム、コカミドジエタノールアミン、ラウリルベタイン及びそれらの混合物からなる群から選択される、請求項１〜４のいずれかに記載の界面活性剤製品。
【請求項６】
炭酸ナトリウムを総組成物の３５重量％〜６０重量％の量で含む、請求項１〜５のいずれかに記載の界面活性剤製品。
【請求項７】
炭酸ナトリウムを総組成物の４０重量％〜５０重量％の量で含む、請求項６に記載の界面活性剤製品。
【請求項８】
酒石英を総組成物の２０重量％〜３０重量％の量で含む、請求項１〜７のいずれかに記載の界面活性剤製品。
【請求項９】
酒石英を総組成物の２５重量％〜３０重量％の量で含む、請求項８に記載の界面活性剤製品。
【請求項１０】
酒石英を総組成物の２７重量％〜２９重量％の量で含む、請求項９に記載の界面活性剤製品。
【請求項１１】
界面活性剤を２５％の量で、炭酸ナトリウムを４５％の量で、酒石英を２８％の量で含む、請求項１〜１０のいずれかに記載の界面活性剤製品。
【請求項１２】
精油、野菜、ビタミン、香料、着色剤、装飾用品及びそれらの混合物からなる群から選択される１又は２以上の美容的に許容される添加物をさらに含む、請求項１〜１１のいずれかに記載の界面活性剤製品。
【請求項１３】
装飾用品が花、果物、野菜、それらの一部及びそれらの混合物からなる群から選択される、請求項１２に記載の界面活性剤製品。
【請求項１４】
１又は２以上の美容的に許容される添加物を総組成物の０．２重量％〜３重量％の量でさらに含む、請求項１〜１３のいずれかに記載の界面活性剤製品。
【請求項１５】
浴用気泡剤である、請求項１〜１３のいずれかに記載の界面活性剤製品。
【請求項１６】
シャンプーである、請求項１〜１３のいずれかに記載の界面活性剤製品。
【請求項１７】
シャワージェルである、請求項１〜１３のいずれかに記載の界面活性剤製品。
【請求項１８】
歯磨き粉である、請求項１〜１３のいずれかに記載の界面活性剤製品。
【請求項１９】
洗顔料である、請求項１〜１３のいずれかに記載の界面活性剤製品。
【請求項２０】
ｉ）界面活性剤、炭酸ナトリウム及び酒石英を含む混合物を調製するステップと；
ii）ステップｉ）の前記混合物を固体化させるステップと
を含む、請求項１〜１９に記載の界面活性剤製品の製造方法。
【請求項２１】
ステップｉ）の混合物が所定の形状に固体化される、請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
ステップｉ）の混合物と、請求項１２に記載の１又は２以上の美容的に許容される添加物とを混合するステップをさらに含む、請求項２０又は２１に記載の方法。
【請求項２３】
請求項２０〜２２のいずれかに記載の方法によって得られた又は得ることができる製品。
【請求項２４】
使用者のぬれた皮膚を、請求項１〜１９に記載の界面活性剤製品と接触させることを含む美容方法。