Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月15日(2009.10.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
乗員の身体を拘束するエアバッグと、
前記エアバッグ内に収納されガスを噴出して前記エアバッグを膨張させるガス発生器とを有するエアバッグ装置であって、
前記エアバッグは、
所定の形状に裁断した基布を、前記エアバッグを膨張させるガス発生器を包むように折り曲げ、その端部を重ね合わせて綴じることにより、縫製を全く行わないでほぼ密閉する空間を内部に形成した
ことを特徴とするエアバッグ装置。
【請求項２】
請求項１記載のエアバッグ装置において、
前記エアバッグの前記基布は一枚である
ことを特徴とするエアバッグ装置。
【請求項３】
請求項１又は２記載のエアバッグ装置において、
前記エアバッグは、
前記基布の重ね合わせ位置に前記ガス発生器を支持する支持部材を挿通させるための挿通孔を設け、この挿通孔に前記支持部材を挿通することにより前記基布の端部を綴じる
ことを特徴とするエアバッグ装置。
【請求項４】
請求項３記載のエアバッグ装置において、
前記エアバッグの前記挿通孔は、
丸穴形状に加工されている
ことを特徴とするエアバッグ装置。
【請求項５】
請求項４記載のエアバッグ装置において、
前記エアバッグは、
前記丸穴形状の前記挿通孔の周囲に、円形縫製部を備える
ことを特徴とするエアバッグ装置。
【請求項６】
乗員の身体を拘束するエアバッグと、
前記エアバッグ内に収納されガスを噴出して前記エアバッグを膨張させるガス発生器とを有するエアバッグ装置であって、
前記エアバッグは、
所定の形状に裁断した基布を、前記エアバッグを膨張させるガス発生器を包むように折り曲げ、その端部を重ね合わせて綴じ、かつ、縫合による結合部を最小限にする部分的縫製を行い、ほぼ密閉する空間を内部に形成した
ことを特徴とするエアバッグ装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】エアバッグ装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、自動車等の車両に装備されるエアバッグ装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明の目的は、製造時の手間を大幅に低減することができるエアバッグ装置を提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
前記目的を達成するために、第１の発明は、乗員の身体を拘束するエアバッグと、前記エアバッグ内に収納されガスを噴出して前記エアバッグを膨張させるガス発生器とを有するエアバッグ装置であって、前記エアバッグは、所定の形状に裁断した基布を、前記エアバッグを膨張させるガス発生器を包むように折り曲げ、その端部を重ね合わせて綴じることにより、縫製を全く行わないでほぼ密閉する空間を内部に形成したことを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
第４の発明は、前記エアバッグの前記挿通孔は、丸穴形状に加工されていることを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
第５の発明は、前記エアバッグは、前記丸穴形状の前記挿通孔の周囲に、円形縫製部を備えることを特徴とする。
挿通穴を丸穴形状とし、その周囲を円形縫製することにより、丸穴の内周縁を強化することができる。
前記目的を達成するために、第６の発明は、乗員の身体を拘束するエアバッグと、前記エアバッグ内に収納されガスを噴出して前記エアバッグを膨張させるガス発生器とを有するエアバッグ装置であって、前記エアバッグは、所定の形状に裁断した基布を、前記エアバッグを膨張させるガス発生器を包むように折り曲げ、その端部を重ね合わせて綴じ、かつ、縫合による結合部を最小限にする部分的縫製を行い、ほぼ密閉する空間を内部に形成したことを特徴とする。
本願第６発明では、上記本願第１発明と同様、所定の形状に裁断した基布を折り曲げてガス発生器を包み込み、その端部の重ね合わせ位置を、例えば当該重ね合わせ位置に設けた挿通孔にガス発生器を支持する支持部材を挿通することによって綴じることにより、ガス発生器の収容空間をほぼ密閉状態に維持できるエアバッグを構成することが可能となる。これにより、縫合による結合部を大幅に減縮することができ、製造時の縫合工程を大幅に縮減することができる。したがって、製造時の手間を大幅に低減することができる。またその結果、製造コストを低減することができる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月23日(2009.10.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板と、該半導体基板に設けられたＭＥＭＳ構造体及び半導体素子と、
を有するＭＥＭＳ・半導体複合回路の製造方法において、
前記ＭＥＭＳ構造体を構成する下部ＭＥＭＳ構造層を形成する下層形成工程と、
前記下層形成工程の後に、前記半導体素子を構成する素子絶縁膜と、前記下部ＭＥＭＳ構造層の上層に前記ＭＥＭＳ構造体を形成するために用いる犠牲層と、が形成される第１形成工程と、
前記犠牲層に接するように前記ＭＥＭＳ構造体を構成する上部ＭＥＭＳ構造層が形成され、かつ、前記素子絶縁膜上に前記半導体素子を構成する素子電極層が形成される第２形成工程と、
前記第２形成工程の後に、前記犠牲層が除去されることにより前記上部ＭＥＭＳ構造層が動作可能に構成されるリリース工程と、
を具備し、
前記第１形成工程では、前記下部ＭＥＭＳ構造層の表面が熱酸化されて前記犠牲層が形成されるとともに、前記半導体基板の表面が熱酸化されて前記素子絶縁膜が形成されることを特徴とするＭＥＭＳ・半導体複合回路の製造方法。
【請求項２】
前記半導体基板は単結晶半導体よりなり、前記下部ＭＥＭＳ構造層は、前記半導体基板を構成する半導体素材と同じ基本素材で構成された多結晶半導体よりなることを特徴とする請求項１に記載のＭＥＭＳ・半導体複合回路の製造方法。
【請求項３】
前記下部ＭＥＭＳ構造層は前記半導体基板の前記素子絶縁膜の形成領域と異なる不純物濃度を有することを特徴とする請求項１又は２に記載のＭＥＭＳ・半導体複合回路の製造方法。
【請求項４】
前記第１形成工程には二以上の前記素子絶縁膜を形成する段階が設けられ、前記犠牲層は前記二以上の段階の少なくとも一の前記段階において形成される前記素子絶縁膜と同時に形成されることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載のＭＥＭＳ・半導体複合回路の製造方法。
【請求項５】
前記犠牲層は前記二以上の段階のうち複数の段階においてそれぞれ形成される絶縁膜が積層されることにより形成されることを特徴とする請求項４に記載のＭＥＭＳ・半導体複合回路の製造方法。
【請求項６】
前記第２形成工程には、前記上部ＭＥＭＳ構造層及び前記素子電極層を多結晶シリコンにより形成する段階と、前記上部ＭＥＭＳ構造層及び前記素子電極層に金属を拡散させて金属シリサイド化する段階と、が設けられることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載のＭＥＭＳ・半導体複合回路の製造方法。
【請求項７】
前記第２形成工程の後に、前記半導体素子の不純物領域を形成する工程をさらに具備することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載のＭＥＭＳ・半導体複合回路の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月16日(2009.10.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
上記公差をｈ４の範囲内とすると、例えば、直径が３ｍｍの工具においては公差ｈ４は−３μｍから０μｍの範囲であり、この公差の下限を−３μｍとすれば、実作業での締め代の狙いを４μｍとした際に、最低限１μｍの締め代が得られ、必要な締め付け力が確保でき、また、上限を０μｍとすれば、焼き嵌めの工程において、締め代をその上限の７μｍに抑えることができるためである。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月16日(2009.10.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録媒体搬送機構と、入力データに基づいて記録媒体に画像を記録する記録ヘッドと、記録処理を行った時の記録不良を検出する記録不良検出部と、これらを制御する制御部と、を備えた画像記録装置において、
少なくとも１つの搬送部に対向して前記記録ヘッドと記録不良検出部が配置され、前記記録ヘッドと記録不良検出部は、同一の連結部材に固定され、該連結部材は前記記録媒体搬送機構の固定部材に固定されていることを特徴とする画像記録装置。
【請求項２】
前記連結部材は、前記記録媒体搬送機構の固定部材であることを特徴とする請求項１記載の画像記録装置。
【請求項３】
前記記録媒体搬送機構上に搬送される記録媒体の端部位置を検出する位置センサを有し、該検出された端部位置の位置情報に基づいて前記同一の連結部材に固定された前記記録ヘッドと記録不良検出部とを一体で、前記記録媒体搬送機構に対して主走査方向に移動制御することを特徴とする請求項１記載の画像記録装置。
【請求項４】
前記位置センサは、前記記録不良検出部であることを特徴とする請求項３記載の画像記録装置。
【請求項５】
前記記録媒体搬送機構は円筒状のドラムであることを特徴とする請求項１記載の画像記録装置。
【請求項６】
記録媒体を支持すると共に記録媒体を搬送する回転可能なドラムと、
記録媒体の幅に亘って記録領域を有する記録ヘッドと、
画像記録時の記録不良を検出する記録不良検出部と、
を有し、前記記録ヘッドに対して記録媒体を搬送することで画像記録を行う画像記録装置において、
前記記録ヘッドと前記記録不良検出部とは、同一の連結部材に固定されると共に、
前記記録ヘッドは記録媒体搬送方向上流側に、また前記記録不良検出部は記録媒体搬送方向下流側に、それぞれ前記ドラムに対向するように配置され、
前記連結部材は、前記ドラムが回転可能になるように支持する固定部材に固定されることを特徴とする画像記録装置。
【請求項７】
前記ドラム上に支持される記録媒体の幅方向端部の位置を検出する位置センサと、
同一の連結部材を記録媒体の幅方向に移動させることによって、前記記録ヘッドと前記記録不良検出部とを一体で記録媒体幅方向に移動させうる駆動部と、
を有し、
前記位置センサによって検出された記録媒体の端部の位置情報に基づいて、前記駆動部は前記記録ヘッドと前記記録不良検出部を前記記録媒体の幅方向において常に同じ位置に位置づけることを特徴とする請求項６記載の画像記録装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月22日(2009.7.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
緊急時にステアリングホイールのパッドの上面を破断し、前記パッド内に収納されているエアバッグが前記ステアリングホイールのリム部内側を通過して乗員の正面で展開するエアバッグ装置であって、
前記エアバッグ装置は前記エアバッグに膨張用ガスを供給するインフレータと、前記インフレータのガス出口と前記エアバッグとを連結するノズル部を備えており、
前記エアバッグは、前記パッド内に収納された状態では、前記ノズル部先端の前記エアバッグへのガス導出部に対し該ガス導出部の下側にあって下方から巻き上げられた下側ロール部と、
前記ガス導出部に対し該ガス導出部の上側にあって前記下側ロール部の少なくとも一部を上側から包み込んでいる上側ロール部とを有していることを特徴とするエアバッグ装置。
【請求項２】
前記ノズル部先端の前記エアバッグへのガス導出部が、前記エアバッグの展開時に、前記リム部の内周側と突き当たる位置にあることを特徴とする請求項１に記載のエアバッグ装置。
【請求項３】
前記エアバッグの展開時に、前記エアバッグの展開力によって切断される展開制御用縫製部を前記エアバッグの下部に有することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のエアバッグ装置。
【請求項４】
前記展開制御用縫製部は、その下方に非縫製部を有することを特徴とする請求項３に記載のエアバッグ装置。
【請求項５】
前記インフレータにはプラスチックプレートが取付けられ、当該プラスチックプレートの長い方の片が前記ノズル部を構成する上側パネル側になるように、当該インフレータが前記ノズル部に固定されることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のエアバッグ装置。
【請求項６】
次の各工程よりなることを特徴とするエアバッグ装置におけるエアバッグのパッド内への収納折りたたみ方法
（工程１）エアバッグ保護用のプラスチックプレートを取付けた前記インフレータを前記エアバッグの前記ノズル部の端に挿入し固定する、
（工程２）前記インフレータを前記ノズル部に固定したのち、前記エアバッグを裏返し前記インフレータを固定した前記ノズル部を位置させた面と反対側の面に前記エアバッグのフロントパネル側を出す、
（工程３）前記エアバッグに固定した前記ノズル部の左端近傍で右側に折り返す、
（工程４）右側に１度折り返したのち、折り返されて重ね合った右側の部分を前記ノズル部の右端近傍で逆方向左側へ折り返す、
（工程５）所定の大きさになるまで上記折り返しを繰り返した後、太い棒状になったエアバッグの下端を上方に巻き上げて下側ロール部を形成する、
（工程６）工程５で巻き上げた部分の反対側を一度内側に折りたたんだのち、前記下側ロール部の上にこれを上から抱き込むよう巻き込んで上側ロール部を形成する。
【請求項７】
次の各工程よりなることを特徴とするエアバッグ装置におけるエアバッグのパッド内への収納折りたたみ方法
（工程１）エアバッグ保護用のプラスチックプレートを取付けた前記インフレータを前記エアバッグの前記ノズル部の端に挿入し固定する、
（工程２）前記インフレータを前記ノズル部に固定したのち、前記エアバッグを裏返し前記インフレータを固定した前記ノズル部を位置させた面と反対側の面に前記エアバッグのフロントパネル側を出す、
（工程３）前記エアバッグに固定した前記ノズル部の右端近傍で左側に折り返す、
（工程４）左側に１度折り返したのち、折り返されて重ね合った左側の部分を前記ノズル部の左端近傍で逆方向右側へ折り返す、
（工程５）所定の大きさになるまで上記折り返しを繰り返した後、太い棒状になったエアバッグの下端を上方に巻き上げて下側ロール部を形成する、
（工程６）工程５で巻き上げた部分の反対側を一度内側に折りたたんだのち、前記下側ロール部の上にこれを上から抱き込むよう巻き込んで上側ロール部を形成する。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月22日(2009.7.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
緊急時にステアリングホイールのパッドの上面を破断し、エアバッグがステアリングホイールのリム部内側を通過して乗員の正面で展開するエアバッグ装置であって、
インフレータと、前記インフレータと前記エアバッグとを連結するノズル部と、前記エアバッグの展開形状を規制するテザーとを備え、
前記ノズル部のガス導出部は、前記エアバッグの展開時に、前記ステアリングホイールのリム部の乗員側トップ表面を含む平面よりもさらに乗員側に位置し、
前記テザーは、前記エアバッグの展開時に、その一端が、前記ノズル部内にあって前記インフレータと前記ステアリングホイールのリム部の乗員側トップ表面を含む平面との間で接続されており、前記テザーの他端は、前記エアバッグの乗員と対向する面内で、前記パッドの上面の延長線上の位置付近に接続されることを特徴とするエアバッグ装置。
【請求項２】
前記エアバッグの下部に、前記エアバッグの展開時に膨張展開する前記エアバッグの力によって切断される展開制御用縫製部を有することを特徴とする請求項１に記載のエアバッグ装置。
【請求項３】
前記展開制御用縫製部は、その下部に非縫製部を有することを特徴とする請求項２に記載のエアバッグ装置。
【請求項４】
前記テザーは、前記一端で前記インフレータ側に結合される部分と、前記他端で前記エアバッグのフロントパネル側に接続される部分とを有し、それらが重なる部分で縫製結合されていることを特徴とする請求項１に記載のエアバッグ装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月3日(2009.7.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
少なくともＢ２Ｏ３と、Ｋ２Ｏと、Ｌｎ２Ｏ３（Ｌｎは希土類金属より選ばれた一種類以上）を含み、Ｂ２Ｏ３の含有量が５０重量％以上９５重量％以下であり、Ｌｎ２Ｏ３の含有量が０．２重量％以上１０重量％以下である事を特徴とする、ガラス組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
Ｌｎ２Ｏ３がＬａ２Ｏ３、Ｎｄ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、Ｇｄ２Ｏ３、Ｃｅ２Ｏ３、Ｓｍ２Ｏ３のいずれかである事を特徴とする、請求項１記載のガラス組成物。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
本発明は、少なくともＢ２Ｏ３と、Ｋ２Ｏと、Ｌｎ２Ｏ３（Ｌｎは希土類金属より選ばれた一種類以上）を含み、Ｂ２Ｏ３の含有量が５０重量％以上９５重量％以下であり、Ｌｎ２Ｏ３の含有量が０．２重量％以上１０重量％以下である事を特徴とする、低軟化点ガラス組成物である。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月26日(2009.10.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シートを積載するためのシート積載手段と、
前記シート積載手段上にシートを搬送するシート搬送手段と、
前記シート積載手段上のシートの搬送方向先端の位置を規制するシート先端規制手段と、
前記シート先端規制手段をシート搬送方向に移動させる制御手段と、を有し、
前記制御手段は、前記シート積載手段上に第１のシートと、前記第１のシートよりインデックス部の長さ分シート搬送方向の長さが長い第２のシートとを前記インデックス部がシート搬送方向後端となる状態で重ねて積載する際に、前記シート先端規制手段を前記第１のシートを前記第２のシートが無い状態で積載するための規制位置から前記第２のシートを積載するための規制位置へ移動させることを特徴とするシート積載装置。
【請求項２】
シートに画像を形成する画像形成装置と、前記画像形成装置から排出されたシートを受け取って積載するシート積載装置と、を有する画像形成システムであって、前記シート積載装置として、請求項１に記載のシート積載装置を有することを特徴とする画像形成システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記目的を達成するための本発明の代表的な構成は、シートを積載するためのシート積載手段と、前記シート積載手段上にシートを搬送するシート搬送手段と、前記シート積載手段上のシートの搬送方向先端の位置を規制するシート先端規制手段と、前記シート先端規制手段をシート搬送方向に移動させる制御手段と、を有し、前記制御手段は、前記シート積載手段上に第１のシートと、前記第１のシートよりインデックス部の長さ分シート搬送方向の長さが長い第２のシートとを前記インデックス部がシート搬送方向後端となる状態で重ねて積載する際に、前記シート先端規制手段を前記第１のシートを前記第２のシートが無い状態で積載するための規制位置から前記第２のシートを積載するための規制位置へ移動させることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明によれば、シート積載手段上に第１のシートと、前記第１のシートよりインデックス部の長さ分シート搬送方向の長さが長い第２のシートとを前記インデックス部がシート搬送方向後端となる状態で積載した際に、第２のシートのインデックス部が正しく認識でき、ユーザの使い勝手の低下を防止することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成21年6月26日(2009.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
長期の原料輸送配船計画を立案する配船計画立案装置と、
短期の原料輸送配船計画を作成する配船計画調整装置と、
各工場の工場別原料輸送配船計画を調整する工場別荷役調整装置と、
を備え、
前記配船計画立案装置は、輸送船データに割り当てるべき輸送銘柄データを決定し、該決定された輸送銘柄データを輸送船データに割り当てて、該割り当てた輸送船データの各工場における入船タイミングデータを長期の原料輸送配船計画データとし、
前記配船計画調整装置は、前記長期の原料輸送配船計画データを入力して、工場毎の入船及び船毎の航海に関するタイミング情報を表示するとともに、修正入力を受付けて前記短期の原料輸送配船計画データとし、該短期の原料輸送配船計画情報から在庫推移の予測データ及び早出・滞船料データを計算して表示し、
前記工場別荷役調整装置は、前記短期の原料輸送配船計画のうちの各工場ごとの工場別原料輸送配船計画データを入力して、各工場における入船に関するタイミングデータを表示するとともに、修正入力を受付け、該修正入力に基づいて在庫推移の予測データ及び早出・滞船料データを計算して表示し、工場別原料輸送配船計画データを作成することを特徴とする原料輸送配船計画システム。
【請求項２】
前記配船計画調整装置は、前記工場別荷役調整装置で作成された前記工場別原料輸送配船計画データを入力して短期の原料輸送配船計画データを調整することを特徴とする請求項１記載の原料輸送配船計画システム。
【請求項３】
前記工場別荷役調整装置は、各工場毎の地域制約条件や設備制約条件に関するデータを入力することを特徴とする請求項１または２記載の原料輸送配船計画システム。
【請求項４】
請求項１〜３の何れかに記載の原料輸送配船計画システムを用いて原料輸送配船計画を立案する方法であって、
前記工場別荷役調整装置が、前記短期の原料輸送配船計画データに基づいて、工場別原料輸送配船計画を修正するステップと、
前記配船計画調整装置が、前記修正された工場別原料輸送配船計画データに基づいて、前記短期の原料輸送配船計画を修正するステップと
を繰り返し、短期の原料配船計画を立案することを特徴とする原料配船立案方法。  
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明に係る原料輸送配船計画システムは、長期の原料輸送配船計画を立案する配船計画立案装置と、短期の原料輸送配船計画を作成する配船計画調整装置と、各工場の工場別原料輸送配船計画を調整する工場別荷役調整装置とを備える。
前記配船計画立案装置は、輸送船データに割り当てるべき輸送銘柄データを決定し、該決定された輸送銘柄データを輸送船データに割り当てて、該割り当てた輸送船データの各工場における入船タイミングデータを長期の原料輸送配船計画データとする。
前記配船計画調整装置は、前記長期の原料輸送配船計画データを入力して、工場毎の入船及び船毎の航海に関するタイミング情報を表示するとともに、修正入力を受付けて前記短期の原料輸送配船計画データとし、該短期の原料輸送配船計画情報から在庫推移の予測データ及び早出・滞船料データを計算して表示する。
前記工場別荷役調整装置は、前記短期の原料輸送配船計画のうちの各工場ごとの工場別原料輸送配船計画データを入力して、各工場における入船に関するタイミングデータを表示するとともに、修正入力を受付け、該修正入力に基づいて在庫推移の予測データ及び早出・滞船料データを計算して表示し、工場別原料輸送配船計画データを作成する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明に係る原料輸送配船計画システムにおいて、前記配船計画調整装置は、前記工場別荷役調整装置で作成された前記工場別原料輸送配船計画データを入力して短期の原料輸送配船計画データを調整する。
また、本発明に係る原料輸送配船計画システムにおいて、前記工場別荷役調整装置は、各工場毎の地域制約条件や設備制約条件に関するデータを入力する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、本発明に係る原料配船立案方法は、上記の原料輸送配船計画システムを用いて原料輸送配船計画を立案する方法であって、
前記工場別荷役調整装置が、前記短期の原料輸送配船計画データに基づいて、工場別原料輸送配船計画を修正するステップと、
前記配船計画調整装置が、前記修正された工場別原料輸送配船計画データに基づいて、前記短期の原料輸送配船計画を修正するステップと
を繰り返し、短期の原料配船計画を立案する。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月30日(2009.10.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料溶液中の測定対象成分を検知するために用いられる成分測定装置において、
その一端側に接続端子部が設けられ、配線が形成された基板と、水晶片の一面側及び他面側に各々励振電極が形成されると共に、一面側の励振電極に試料溶液中の測定対象成分を検知するための吸着層が設けられ、前記基板上に当該基板と平行にかつ他面側の励振電極が試料溶液の収容領域から区画された空間に臨むように当該空間を塞いだ状態で前記基板に保持された水晶振動子と、前記各励振電極に電気的に接続された水晶片上の各導出電極と前記基板の配線とを電気的に接続するための導電性接着剤と、前記水晶振動子の一面側の上方空間を囲み、前記吸着層に接する試料溶液の収容領域を形成すると共に試料液の注入口が上面に形成されたケースと、を含む水晶センサと、
この水晶センサに電気的に接続される発振回路を含む測定器本体と、
この測定器本体に横方向に配列して設けられ、前記吸着層が上を向いた状態で複数の水晶センサが夫々独立して着脱自在に差し込まれる接続端子部を構成する複数の差込口と、を備え、
水晶振動子の固有振動数の測定結果に基づいて試料溶液中の測定対象成分の有無及び測定対象成分の濃度の少なくとも一方を測定することを特徴とする成分測定装置。
【請求項２】
前記基板には前記励振電極よりも広い孔部が形成され、前記励振電極は前記孔部と上下に重なる位置に設けられていることを特徴とする請求項１記載の成分測定装置。
【請求項３】
前記測定器本体の前記複数の差込口に夫々差し込まれた水晶センサを外部からシールドするための蓋体を備え、
前記水晶センサは、前記蓋体と前記測定器本体の外面とにより覆われることを特徴とする請求項１記載の成分測定装置。
【請求項４】
前記測定器本体の差込口は、測定器本体の側面に設けられ、
前記蓋体は、前記測定器本体に装着された状態で、水晶センサの上面、両側部及び下面を覆うように構成されていることを特徴とする請求項３記載の成分測定装置。
【請求項５】
前記蓋体は、前記測定器本体の側面部に沿って水平に伸びる軸の回りに回転自在に設けられ、前記複数の水晶センサを覆う位置と試料溶液を注液できるように水晶センサが露出する位置との間で開閉するように構成されていることを特徴とする請求項４記載の成分測定装置。
【請求項６】
前記蓋体の内側は、複数の水晶センサを独立して覆うように複数に区画され、かつ各区画領域が互いにシールドされるように構成されていることを特徴とする請求項３記載の成分測定装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は、試料溶液中の測定対象成分を検知するために用いられる成分測定装置において、
その一端側に接続端子部が設けられ、配線が形成された基板と、水晶片の一面側及び他面側に各々励振電極が形成されると共に、一面側の励振電極に試料溶液中の測定対象成分を検知するための吸着層が設けられ、前記基板上に当該基板と平行にかつ他面側の励振電極が試料溶液の収容領域から区画された空間に臨むように当該空間を塞いだ状態で前記基板に保持された水晶振動子と、前記各励振電極に電気的に接続された水晶片上の各導出電極と前記基板の配線とを電気的に接続するための導電性接着剤と、前記水晶振動子の一面側の上方空間を囲み、前記吸着層に接する試料溶液の収容領域を形成すると共に試料液の注入口が上面に形成されたケースと、を含む水晶センサと、
この水晶センサに電気的に接続される発振回路を含む測定器本体と、
この測定器本体に横方向に配列して設けられ、前記吸着層が上を向いた状態で複数の水晶センサが夫々独立して着脱自在に差し込まれる接続端子部を構成する複数の差込口と、を備え、
水晶振動子の固有振動数の測定結果に基づいて試料溶液中の測定対象成分の有無及び測定対象成分の濃度の少なくとも一方を測定することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
前記基板には前記励振電極よりも広い孔部が形成され、前記励振電極は前記孔部と上下に重なる位置に設けられていても良い。  
前記測定器本体の前記複数の差込口に夫々差し込まれた水晶センサを外部からシールドするための蓋体を備え、
前記水晶センサは、前記蓋体と前記測定器本体の外面とにより覆われていても良い。
前記測定器本体の差込口は、測定器本体の側面に設けられ、
前記蓋体は、前記測定器本体に装着された状態で、水晶センサの上面、両側部及び下面を覆うように構成されていても良い。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
前記蓋体は、前記測定器本体の側面部に沿って水平に伸びる軸の回りに回転自在に設けられ、前記複数の水晶センサを覆う位置と試料溶液を注液できるように水晶センサが露出する位置との間で開閉するように構成されていても良い。
前記蓋体の内側は、複数の水晶センサを独立して覆うように複数に区画され、かつ各区画領域が互いにシールドされるように構成されていても良い。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月13日(2009.1.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークピースの領域の状態を表わすトランスジューサ信号を発生するためのトランスジューサと、
前記トランスジューサ信号を第２信号と比較するための回路と、
前記比較に応答して前記トランスジューサ信号に含まれた情報を受け取るための電気的回路と、
を備えた装置。
【請求項２】
前記比較に応答して前記トランスジューサ信号に含まれた前記情報を記憶するためのメモリを更に備えた、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記トランスジューサ信号は、アナログ信号であり、そして前記メモリは、前記トランスジューサ信号をアナログ形態で記憶する、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記トランスジューサ信号は、アナログ信号であり、前記装置は、更に、前記アナログ信号をデジタル形態に変換するアナログ／デジタルコンバータを備え、前記メモリは、前記トランスジューサ信号をデジタル形態で記憶する、請求項２に記載の装置。
【請求項５】
前記トランスジューサは、前記ワークピースから反射された光を受け取るための検出器であり、そして前記電気的回路は、プロセッサである、請求項２に記載の装置。
【請求項６】
前記トランスジューサは、磁気ディスク読み取り−書き込みヘッドである、請求項２に記載の装置。
【請求項７】
前記電気的回路により受け取られた情報に対応する前記表面上の位置を識別する位置情報を記憶するための第２ メモリを更に備えた、請求項２に記載の装置。
【請求項８】
前記ワークピースはプラッターであり、該プラッターは回転され、前記装置は、更に、前記ワークピースの前記領域に光を当てるための光源を備え、前記トランスジューサ信号は、前記ワークピースから反射された光に対応し、前記情報は、前記光が前記プラッター
に当たるところの前記プラッター上の位置に関する位置情報を含み、そして前記第２メモリは、前記比較に応答して前記位置情報を記憶する、請求項７に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月13日(2009.1.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の光学路が延びている材料ブロックを備え、
前記光学路の少なくとも１ つは、レーザ光源からのレーザ光を、検査されるべきワークピースに通信するための入力光学路を含み、そして
前記光学路の少なくとも１ つは、前記ワークピースから反射された光を検出器へ通信するための出力光学路を含む、
というようにした装置。
【請求項２】
前記ブロックはモノリシック材料ブロックである、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記入力光学路内にあって、前記光を前記ワークピースへ集中させるための１つ以上のレンズと、
前記出力光学路内にあって、前記ワークピースによって反射された光を収集するための１つ以上のレンズと、
前記出力光学路からの光を前記検出器に集中させるための１つ以上のレンズと、
を更に備えた請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記ブロックは、反射光を関連検出器に通信するための複数の出力経路を備えた、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記光学路の少なくとも１つにおいて光を反射するための１つ以上のミラーを更に備えた、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記光学路の少なくとも１つをコーティングする光吸収材料を更に備えた、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記装置は、光を集中及び／又は収集するための１つ以上のレンズを備え、これら１つ以上のレンズには、反射防止層がコーティングされる、請求項１に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月13日(2009.1.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源からの光を受け取りそしてその光をワークピースへ通信するための少なくとも１つの入力経路と、
光を受け取りそしてそれに応答して信号を発生するための光検出器と、
前記ワークピースから反射された光を受け取りそしてその光を前記検出器へ通信するための少なくとも１つの出力経路と、
を備え、前記少なくとも１つの出力経路又は少なくとも１つの入力経路の少なくとも一方が、漂遊光を吸収し及び／ 又は捕獲するための光吸収層を含むようにした装置。
【請求項２】
前記装置は、材料のモノリシックブロックを備え、前記入力及び出力経路は、前記材料
ブロックを経て延びて光を通信し、前記光吸収層は、前記経路の少なくとも１つに設けられる、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記経路の１つの中にチューブを更に備え、このチューブが前記光吸収層を含む、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記光吸収層は、前記材料をアノード処理することにより形成される、請求項２に記載の装置。
【請求項５】
前記ワークピースはプラッターである、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
光源からの光を受け取りそしてその光をワークピースへ通信するための少なくとも１つの入力経路と、
前記ワークピースから反射された光を受け取りそしてその光を前記検出器へ通信するための少なくとも１つの出力経路と、
前記経路の少なくとも１つの中にあって、前記少なくとも１つの前記経路における漂遊光を減少又は排除するための１つ以上のマスクであって、前記漂遊光は、前記ワークピースに欠陥が存在しなくても生じる光の成分であり、前記欠陥の結果として前記少なくとも１つの前記経路の前記１ つに生じる光に実質的に影響を及ぼさないような１ つ以上のマスクと、
を備えた装置。
【請求項７】
前記ワークピースはプラッターである、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
光源からの光を受け取りそしてその光をワークピースへ通信するための少なくとも１つ
の入力経路と、
前記ワークピースから反射された光を受け取りそしてその光を前記検出器へ通信するための少なくとも１つの出力経路と、
前記少なくとも１つの出力経路内にあって、漂遊光が前記検出器に到達するのを最小にするか又は防止するための少なくとも１つのマスクと、
を備えた装置。
【請求項９】
前記ワークピースはプラッターであり、前記装置は、更に、前記出力経路からの光を前
記検出器に集中させるためのレンズを備え、前記マスクは、前記レンズと前記検出器との
間の虹彩である、請求項８に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月8日(2009.1.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流出物の試料を燃焼させるために構成されたバーナーアセンブリであって、燃焼した前記試料が少なくとも１つの励起分子を放出する、バーナーアセンブリと、
前記励起分子に対応する複数の選択された光学波長を通過させるように構成された交換可能な選択的光学フィルタであって、前記複数の選択された光学波長が３３５から４０５ナノメートル（ｎｍ）である選択的光学フィルタと、
前記励起分子の濃度を定量するように構成された光電子増倍管と、
を備えている、炎光光度検出器。
【請求項２】
前記選択的光学フィルタが、励起した硫黄Ｓ２分子に関連する広帯域波長を通過させるように構成されている、請求項１に記載の炎光光度検出器。
【請求項３】
流出物の試料を燃焼させるために構成されたバーナーアセンブリであって、燃焼した前記試料が少なくとも１つの励起分子を放出する、バーナーアセンブリと、
前記励起分子に対応する複数の選択された光学波長を通過させるように構成された交換可能な選択的光学フィルタであって、前記複数の選択された光学波長が５２０から５８０ナノメートル（ｎｍ）である選択的光学フィルタと、
前記励起分子の濃度を定量するように構成された光電子増倍管と、
を備えている、炎光光度検出器。
【請求項４】
前記選択的光学フィルタが、励起したリンＨＰＯ分子に関連する広帯域波長を通過させるように構成されている、請求項３に記載の炎光光度検出器。
【請求項５】
流出物の試料を燃焼させるために構成されたバーナーアセンブリであって、燃焼した前記試料が少なくとも１つの励起分子を放出する、バーナーアセンブリと、
前記励起分子に対応する複数の選択された光学波長を通過させるように構成された交換可能な選択的光学フィルタであって、前記複数の選択された光学波長が３３５から４０５ナノメートル（ｎｍ）、および、５２０から５８０ナノメートル（ｎｍ）である選択的光学フィルタと、
前記励起分子の濃度を定量するように構成された光電子増倍管と、
を備えている、炎光光度検出器。
【請求項６】
前記選択的光学フィルタが、励起した硫黄Ｓ２分子および励起したリンＨＰＯ分子に関連する広帯域波長を通過させるように構成されている、請求項５に記載の炎光光度検出器。
【請求項７】
前記選択的光学フィルタが、３３５から３８０ナノメートル（ｎｍ）の波長領域で透過性を有しており、３８５から４００ナノメートル（ｎｍ）の波長領域で非透過性を有しており、４０５から４２５ナノメートル（ｎｍ）の波長領域で透過性を有していることを特徴とする請求項１、２、５または６に記載の炎光光度検出器。
【請求項８】
前記選択的光学フィルタが、３３５から３７５ナノメートル（ｎｍ）の波長領域で透過性を有していることを特徴とする請求項１、２、５または６に記載の炎光光度検出器。
【請求項９】
前記選択的光学フィルタが、３３５から３７５ナノメートル（ｎｍ）の波長領域で透過性を有しており、かつ、５２０から５４０ナノメートル（ｎｍ）の波長領域で透過性を有していることを特徴とする請求項５または６に記載の炎光光度検出器。
【請求項１０】
前記選択的光学フィルタが、５２５から５８０ナノメートル（ｎｍ）の波長領域で透過性を有していることを特徴とする請求項３、４、５または６に記載の炎光光度検出器。
【請求項１１】
前記選択的光学フィルタが、５２０から５４０ナノメートル（ｎｍ）の波長領域で透過性を有していることを特徴とする請求項３、４、５または６に記載の炎光光度検出器。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月24日(2008.12.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原子炉内の冷却液流路の濡れ部分を画成する導電性表面（１００ａ、１００ｂ）上の荷電微粒子堆積を減少させるために、
導電性表面を準備するステップと、
前記導電性表面を、第１の有機金属性前駆体化合物を分解して前記導電体表面上に実質的に連続なベース絶縁層を形成するに十分な条件下で、前記前駆体化合物に曝すことによってベース絶縁層（１０２）を形成するベース絶縁層形成ステップと、
前記導電性表面を、前記第１の有機金属性前駆体化合物と異なる第２の有機金属製前駆体化合物を分解して前記導電体表面上に実質的に連続な外側絶縁層を形成するに十分な条件下で、前記第２の有機金属製前駆体化合物に曝すことによって、前記ベース絶縁層（１０２）とは異なる外側絶縁層（１０４）を形成する外側絶縁層形成ステップとを、
具備する荷電微粒子堆積削減方法であって、
前記ベース絶縁層形成ステップは、
前記導電性表面を、約４００℃と約５００℃の間の第１の堆積温度と約２０ｍＴｏｒｒまたはそれ以下の第１の堆積圧力に維持するＣＶＤプロセスを使用して前記ベース絶縁層（１０２）を形成するステップと、
前記ベース絶縁層を、約４００℃と約５００℃の間の第２の堆積温度と約２０ｍＴｏｒｒまたはそれ以下の第２の堆積圧力に維持するＣＶＤプロセスを使用して外側絶縁層（１０４）を形成するステップと、
を含み、
前記ベース絶縁層（１０２）がＴｉＯ２、Ｔａ２Ｏ５、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、ＳｒＢｉ２、Ｔａ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、ＨｆＯ２、ＢａＯ、ＳｒＯ、ＳｒＴｉＯ３、ＰｂＴｉＯ３とＰｂＺｒＯ３からなる群から選択される第１の絶縁材料から本質的に構成され、かつ、約０．１μｍと約２μｍの間のベース層厚さを有し、
前記外側絶縁層（１０４）がＴｉＯ２、Ｔａ２Ｏ５、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、ＳｒＢｉ２、Ｔａ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、ＨｆＯ２、ＢａＯ、ＳｒＯ、ＳｒＴｉＯ３、ＰｂＴｉＯ３とＰｂＺｒＯ３からなる群から選択される第２の絶縁材料から本質的に構成され、かつ、約０．５μｍと約３μｍの間の外側層厚さを有する、ことを特徴とする荷電微粒子堆積減少方法。
【請求項２】
さらに、前記ベース絶縁層（１０２）と外側絶縁層（１０４）とをＣＶＤ処理法を用いて形成することを特徴とする請求項の減少方法
【請求項３】
請求項１記載の減少方法であって、
ＡＬＤプロセスを使用して前記ベース絶縁層（１０２）を形成するステップと、
前記ＣＶＤプロセスを使用して前記外側絶縁層（１０４）を形成するステップとをさらに含むことを特徴とする減少方法。
【請求項４】
請求項１記載の減少方法であって、
前記ベース絶縁層（１０２）が、原子層堆積（ＡＬＤ）、化学気相成長（ＣＶＤ）、物理的気相成長（ＰＶＤ）、プラズマ強化物理的気相成長（ＰＥＰＶＤ）、スパッタリング、プラズマスプレー被覆（ＡＰＳ、ＶＰＳおよびＬＰＰＳ）および高速フレーム溶射（ＨＶＯＦ）プロセスからなる群から選択される方法を使用して形成され、
前記外側絶縁層（１０４）が、原子層堆積（ＡＬＤ）、化学気相成長（ＣＶＤ）、物理的気相成長（ＰＶＤ）、プラズマ強化物理的気相成長（ＰＥＰＶＤ）、スパッタリング、電気アークスプレー（ＥＡＳ）、プラズマスプレー被覆（ＡＰＳ、ＶＰＳおよびＬＰＰＳ）および高速フレーム溶射（ＨＶＯＦ）のプロセス群から選択される方法を使用して形成されることを特徴とする減少方法。
【請求項５】
前記ベース絶縁層（１０２）が本質的にＴａ２Ｏ５からなり、かつ、約０．１μｍと約２μｍの間のベース層厚さを有し、
前記外側絶縁層（１０４）が本質的にＴｉＯ２からなり、かつ、約０．５μｍと約３μｍの間の外側層厚さを有することを特徴とする請求項２に記載の減少方法。
【請求項６】
原子炉内の冷却液流路を画成する装置であって、
電気的に導電性であり、冷却液流路の部分を画成するように構成される表面（１００ａ、１００ｂ）を有するベース材料（１００）と、
前記表面上に形成される実質的に連続であるベース絶縁層（１０２）と、
前記ベース絶縁層上に実質的に連続に形成され前記冷却液流路の濡れ部分を画成する導電性表面外側絶縁層（１０４）とを備え、
前記ベース絶縁層（１０２）がＴｉＯ２、Ｔａ２Ｏ５、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、ＳｒＢｉ２、Ｔａ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、ＨｆＯ２、ＢａＯ、ＳｒＯ、ＳｒＴｉＯ３、ＰｂＴｉＯ３とＰｂＺｒＯ３からなる群から選択される第１の絶縁材料から本質的に構成され、かつ、約０．１μｍと約２μｍの間のベース層厚さを有し、前記外側絶縁層（１０４）がＴｉＯ２、Ｔａ２Ｏ５、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、ＳｒＢｉ２、Ｔａ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、ＨｆＯ２、ＢａＯ、ＳｒＯ、ＳｒＴｉＯ３、ＰｂＴｉＯ３とＰｂＺｒＯ３からなる群から選択される第２の絶縁材料から本質的に構成され、かつ、約０．５μｍと約３μｍの間の外側層厚さを有することを特徴とする装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
これまでは、入口混合器の内側表面から「汚れ」層を取り除く清掃方法が提案されてきた。これらの方法は、燃料プール内で清掃するために、入口混合器を原子炉から取り外す必要がある。これは通常、そのときに必要な補修が実行される原子炉の定期的な計画停止時に行われる。自由流電位差に暴露される入口混合器表面上に、荷電微粒子の静電気的堆積を減少させるために、電気回路を使用する方法も米国特許第５４４４７４７号で提案されてきている。この方法は、入口混合器の表面電位差を、その部品の内部導電性表面に対する正味フラックスを最小化させるように調整し、それによって微粒子の堆積を減少させる能動素子フィードバックループを有するＤＣ回路を使用する。しかしながら、この方法の実施は相当な注意と保守を要し、再循環システムの全体的な複雑性を増大させる。
【特許文献１】米国特許  ４，２９７，１５０
【特許文献２】米国特許  ４，８２８，７９０
【特許文献３】米国特許  ５，１３７，６８３
【特許文献４】米国特許  ５，１４７，５９７
【特許文献５】米国特許  ６，２５４，３４１
【特許文献６】米国特許  ６，４１６，８７０
【特許文献７】米国特許公開  ２００２−０１０１９５２１
【特許文献８】米国特許  ６，５５１，７１９
【特許文献９】米国特許  ６，６３０，２０２
【特許文献１０】米国特許  ６，６３３，６２３
【手続補正書】
【提出日】平成21年1月9日(2009.1.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エッチング処理システム内で基板のエッチング深度を測定する機器であって、
前記エッチング処理システムのメインフレームと結合した測定セルと、
前記測定セルの底部と結合したエッチング深度測定器具と、
を備え、前記測定セルの底部における開口部により、前記エッチング深度測定器具と前記基板の間を光ビームが通過することが可能である、機器。
【請求項２】
前記基板を前記測定セルへ移送するために前記メインフレーム内に配置した基板移送ロボットを更に備え、
前記基板移送ロボットは、前記基板を保持するためのロボットブレードを有し、このロボットブレードは、光ビームが前記基板の裏側を照射することを可能にするための開口部を有する、請求項１に記載の機器。
【請求項３】
前記ロボットブレードの前記開口部が円形又は四角形である、請求項２に記載の機器。
【請求項４】
前記ロボットブレードが、前記エッチング深度測定器具のキャリブレーションに使用されるキャリブレーションパッドを備える、請求項２に記載の機器。
【請求項５】
前記ロボットブレードが、前記基板の表面を、前記エッチング深度測定器具から発光された光ビームに対して垂直に位置決めするための回転および傾斜機能を有する、請求項２に記載の機器。
【請求項６】
エッチング処理システム内で基板のエッチング深度を測定するための機器であって、
前記エッチング処理システムのメインフレームと結合し、該メインフレームと共に前記エッチング処理システムの真空側に位置する測定セルと、
前記測定セルの底部と結合したエッチング深度測定器具と、
前記基板を前記測定セルへ移送するための、前記メインフレーム内に配置された基板移送ロボットと、
を備え、
前記測定セルの底部における開口部により、前記エッチング深度測定器具と前記基板の間を光ビームが通過することが可能であり、
前記基板移送ロボットは、前記基板を保持するためのロボットブレードを有し、このロボットブレードは、光ビームが前記基板の裏側を照射することを可能にするための開口部を有する、機器。
【請求項７】
前記ロボットブレードの開口部が四角形である、請求項６に記載の機器。
【請求項８】
前記ロボットブレードが、前記エッチング深度測定器具のキャリブレーションに使用するキャリブレーションパッドを備える、請求項６に記載の機器。
【請求項９】
前記キャリブレーションパッドがベアシリコンを備える、請求項８に記載の機器。
【請求項１０】
前記ロボットブレードが、前記基板の表面を、前記エッチング深度測定器具から発光された光ビームに対して垂直に位置決めするための回転および傾斜機能を有する、請求項６に記載の機器。
【請求項１１】
前記メインフレームと結合したエッチングリアクタを更に備え、前記基板移送ロボットが、前記エッチングリアクタと前記測定セルとの間で基板を移送するように構成されている、請求項６に記載の機器。
【請求項１２】
前記エッチング深度測定器具が、光学的に透明な層を有する基板を検査するように構成されている、請求項６に記載の機器。
【請求項１３】
交互位相シフトマスクを準備する方法であって、
ａ）基板をエッチング処理チャンバ内に配置するステップであって、前記基板が光学的に透明な材料で作られており、且つ、前記基板が、第１のパターン化された不透明な層と、第２のパターン化されたフォトレジスト層とを前記光学的に透明な材料の上に有するステップと、
ｂ）石英を第１のエッチング深度までエッチングするステップと、
ｃ）前記基板を、基板移送チャンバと結合した測定セルへ移送するステップと、
ｄ）前記測定セルの底部に結合したエッチング深度測定器具によって、前記基板の裏側からエッチング深度を測定し、次のエッチングのエッチング時間を決定するステップと、
ｅ）前記基板をエッチング処理チャンバに戻すステップと、
ｆ）前記エッチング深度の測定によって決定されたエッチング時間だけエッチングするステップと、
ｇ）前記基板を前記測定セルへ移送するステップと、
ｈ）前記測定セルの底部に結合したエッチング深度測定器具によって、前記基板の裏側からエッチング深度を測定し、次のエッチングのエッチング時間を決定するステップと、
ｉ）目標のエッチング深度に達するまで“ｅ”から“ｈ”までを繰り返すステップと、を備える方法。
【請求項１４】
前記エッチング深度測定が、前記基板の裏側から反射された光ビームを集光することによって実行される、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
エッチング処理システム内で基板のエッチング深度を測定する機器であって、
前記エッチング処理システムのメインフレームと結合した測定セルと、
前記測定セルの底部と結合したエッチング深度測定器具と、
前記測定セルの頂部と結合したＣＤ測定器具と、
前記基板を前記測定セルへ移送するための、前記メインフレーム内に配置された基板移送ロボットと、
を備え、
前記測定セルの底部における開口部により、前記エッチング深度測定器具と前記基板の間を光ビームが通過することが可能であり、
前記測定セルの頂部における開口部によって、光ビームが前記ＣＤ測定器具と前記基板の間を通過することが可能であり、
前記基板移送ロボットは、前記基板を保持するためのロボットブレードを有し、このロボットブレードは、光ビームが前記基板を照射することを可能にするための開口部を有する、機器。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月31日(2008.12.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
鋼板、非鉄金属板、樹脂板、フィルム状組成物、及びガラス板等の清掃、研削、研磨、表面処理、洗浄、バリ取りに使用されるブラシロールにおいて、前記ブラシロールは、少なくとも、芯材あるいは基台、及び毛材から構成され、前記毛材はポリトリメチレンテレフタレート繊維、あるいはポリトリメチレンテレフタレート繊維と異種繊維から構成されてあることを特徴とするブラシロール。
【請求項２】
請求項１記載の構成よりなるブラシロールにおいて、前記毛材はポリトリメチレンテレフタレート繊維と異種繊維とがブラシロールの長手方向及び／又は周方向に交互に表われるように形成されてあることを特徴とするブラシロール。
【請求項３】
請求項１又は２記載の構成よりなるブラシロールにおいて、前記毛材の少なくとも１本以上は、毛先に近くなる程、断面積が大から小に徐変することを特徴とするブラシロール。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか１項に記載の構成よりなるブラシロールにおいて、前記毛材の毛丈に段差が形成されてあることを特徴とするブラシロール。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか１項に記載の構成よりなるブラシロールにおいて、前記毛材の少なくとも１本以上の断面が、多角形に形成されてあることを特徴とするブラシロール。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか１項に記載の構成よりなるブラシロールにおいて、前記毛材の少なくとも１本以上が撚り状体に形成されてあることを特徴とするブラシロール。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか１項に記載の構成よりなるブラシロールにおいて、前記毛材の少なくとも１本以上に先割れ部が形成されてあることを特徴とするブラシロール。
【請求項８】
請求項１から７のいずれか１項に記載の構成よりなるブラシロールにおいて、前記毛材の少なくとも１本以上に屈折部、あるいは屈曲部が形成されてあることを特徴とするブラシロール。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、第２の課題解決手段は、ブラシロールを構成するブラシ毛材はポリトリメチレンテレフタレート繊維と異種繊維とがブラシロールの長手方向及び／又は周方向に交互に表われるように形成されてあるものである。