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【手続補正書】
【提出日】平成21年6月15日(2009.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に第１領域と第２領域とが液晶表示装置の１つの画素内で少なくとも１回以上交互に形成された垂直配向膜を形成し、
大気圧状態で前記垂直配向膜の前記第１領域に第１噴射条件で第１プラズマガスを噴射し、
大気圧状態で前記垂直配向膜の前記第２領域に第２噴射条件で第２プラズマガスを噴射することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記第１及び第２プラズマガスの噴射方向は、前記基板に対して一定の角度を有して噴射し、前記第１噴射条件による前記第１プラズマガスの噴射と前記第２噴射条件による前記第２プラズマガスの噴射は、前記第１及び前記第２プラズマガスの噴射方向と前記基板の移動方向がなす角度が互いに異なる角度条件で行われる噴射であることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３】
前記第１噴射条件による前記第１プラズマガスの噴射と前記第２噴射条件による前記第２プラズマガスの噴射は、前記第１及び前記第２プラズマガスがそれぞれ噴射される放出部と前記基板との間の距離が互いに異なる距離条件で行われる噴射であるか、又は前記第１及び前記第２プラズマガスの噴射時間が互いに異なる時間の条件で行われる噴射であることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記第１噴射条件は前記第１プラズマガスと前記基板とがなす第１角度、前記第１プラズマガスが噴射される放出部と前記基板との間の第１距離、及び単位面積当たり前記第１プラズマガスの第１噴射時間を含み、
前記第２噴射条件は、前記第２プラズマガスと前記基板とがなす第２角度、前記第２プラズマガスが噴射される放出部と前記基板との間の第２距離、及び単位面積当たり前記第２プラズマガスの第２噴射時間を含み、
前記第１及び前記第２角度、前記第１及び前記第２距離、及び前記第１及び前記第２噴射時間のうち、少なくとも一つの噴射条件は互いに異なることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項５】
画素電極を含む下部基板上に第１垂直配向膜を形成し、大気圧状態で前記第１垂直配向膜の第１領域に第１噴射条件を有するプラズマガスを噴射し、且つ大気圧状態で前記第１垂直配向膜の第２領域に第２噴射条件を有するプラズマガスを噴射して下部基板を形成し、
共通電極を含む上部基板上に第２垂直配向膜を形成し、大気圧状態で前記第２垂直配向膜の第３領域に第３噴射条件を有するプラズマガスを噴射し、且つ大気圧状態で前記第２垂直配向膜の第４領域に第４噴射条件を有するプラズマガスを噴射して上部基板を形成し、
前記下部基板と前記上部基板との間に液晶分子を介在させ、
前記第１領域と前記第２領域は前記下部基板上に交互に形成される領域で、前記第３領域と前記第４領域は前記上部基板上に交互に形成される領域で、前記第１領域と前記第３領域は対向して位置して、前記第２領域と前記第４領域は対向して位置することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項６】
前記下部基板は、複数の信号ラインによって形成される複数の画素領域を含み、前記第１領域及び前記第２領域は前記各画素領域内に形成され、前記第１領域及び前記第２領域の各配向方向は互いに同じであり、前記信号ラインに平行であるか、又は前記信号ラインに対して傾斜して形成されていることを特徴とする請求項５記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項７】
前記下部基板は、複数の信号ラインによって形成される複数の画素領域を含み、前記第１領域及び前記第２領域は前記各画素領域内に形成され、前記第１領域及び前記第２領域の各配向方向は互いに同じであり、前記信号ラインに対して傾斜して形成されており、一つのピクセル列での前記第１領域及び前記第２領域の各配向方向は、隣接した他のピクセル列での前記第１領域及び前記第２領域の各配向方向と異なることを特徴とする請求項５記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項８】
前記下部基板は、複数の信号ラインによって形成される複数の画素領域を含み、前記第１領域及び前記第２領域は前記各画素領域内に形成され、各画素は、第１配向方向を有する第１部分と第２配向方向を有する第２部分を有し、前記第１配向方向及び前記第２配向方向は互いに同じであり、前記信号ラインに対して傾斜して形成されていることを特徴とする請求項５記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項９】
基板上に垂直配向膜を形成し、
前記垂直配向膜が形成された前記基板上に第１領域を露出させるマスクを具備し、
大気圧状態で前記垂直配向膜の前記第１領域にプラズマガスを噴射し、
大気圧状態で前記垂直配向膜全体にプラズマガスを噴射することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１０】
前記垂直配向膜の前記第１領域へのプラズマガスの噴射は、
第１マスクを利用して前記第１領域内の第１サブ領域にプラズマガスを噴射し、
第２マスクを利用して前記第１領域内の第２サブ領域にプラズマガスを噴射し、
前記第１サブ領域と前記第２サブ領域は、前記垂直配向膜上に交互に形成されることを特徴とする請求項９記載の液晶表示装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月19日(2009.2.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
また、アミン誘導体を用いた電子写真感光体が、耐オゾンに優れていると報告されている（例えば、特許文献１参照）。しかし、該報告例による感光体は、蛍光灯等の外部の光に曝露されると、電気特性が悪化する。又、正孔輸送材料としてアミン誘導体を用いる事が報告されているが（例えば、特許文献２参照）、該感光体は移動度が遅い、また帯電性が悪いという欠点を有している。
また、通常感光体は複写機やレーザプリンタ内部において遮光された状態で使用されるが、マシン組立時や、例えば紙詰まりが起こりマシン内から取り出す際には感光体は必然的に外部光に曝されることになる。この外部光の光強度は、マシン内での画像形成のための露光強度に比較すると断然強いため、感光体に対しては大きなダメージを与えることになる。これは感光体が光に曝されることにより、感光体内部に大量の電荷トラップが生成し、多くの場合残留電位の大幅な上昇につながるためである。  電荷トラップが生じるメカニズムについてはよく判っていないところであるが、例えば電荷輸送材料自身が露光された光を吸収することにより励起され、その励起状態から緩和する際に、元の基底状態には戻らず、途中のエネルギー状態を持つ別の構造に変化してしまい、それが電荷トラップの要因となる場合や、電荷輸送層中の成分（電荷輸送物質単独の場合あるいは電子吸引性物質を含む場合は電荷輸送物質との間で形成される弱い電荷移動錯体など）が直接励起され電荷キャリアペアを生成し、それらが原因となると考えられている。
外光によるダメージを抑えるためには、例えばマシン組立時には照明をより影響の少ない黄色灯を用いたり、マシン内部を開ける際には感光体への光暴露をできるだけ少なくするため、遮光板を設けるなどして対処されている。一方で、感光体自身も例えば、光暴露時の残留電位の増加を抑制するため、電荷輸送層に電子吸引性物質を添加したり、酸化防止剤を添加するなどの検討がなされているが、これらによっても残留電位上昇の防止効果は十分でなく、またその他の特性に対する副作用が大きくなるなどの問題があった。
さらには、近年の電子写真プロセスの高速化に伴い、高感度化、高速応答化が必須となっている。このうち、高感度化のためには、電荷発生物質の最適化だけでなく、それとのマッチングの良好な電荷輸送物質の開発が必要であり、高速応答化のためには、高移動度かつ露光時に十分な低残留電位を示す電荷輸送物質の開発が必要である。
【特許文献１】特開平３−１７２８５２号公報
【特許文献２】特開平１０−１６８４４７号公報
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
【化５】
2007052408.tif 000001
一般式（１）に示すアミン化合物の製造法の一つとしては、アミン化合物と、ハロゲン化合物を塩基条件下で反応させる。より具体的には下記（式１）、または（式２）で示される反応により製造することができる。（以下式において、Ｘはハロゲン原子を示す）
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
なお、感光層には成膜性、可撓性、塗布性、耐汚染性、耐ガス性、耐光性などを向上させるために周知の酸化防止剤、可塑剤、紫外線吸収剤、電子吸引性化合物、レベリング剤などの添加物を含有させても良い。
単層型感光体の場合には、上記のような配合比の電荷輸送媒体中に、さらに前出の電荷発生物質が分散される。その場合の電荷発生物質の粒子径は充分小さいことが必要であり、好ましくは１μｍ以下より好ましくは０．５μｍ以下で使用される。感光層内に分散される電荷発生物質の量は少なすぎると充分な感度が得られず、多すぎると帯電性の低下、感度の低下などの弊害があり、例えば好ましくはバインダー樹脂１００重量部に対して、０．５〜５０重量％の範囲で、より好ましくは１〜２０重量％の範囲で使用される。単層型感光層の膜厚は通常５〜１００μｍ、より好ましくは１０〜５０μｍで使用される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６７】
１  電子写真感光体 
２  帯電装置 
３  露光装置 
４  現像装置 
４１  現像槽 
４２  アジテータ 
４３  供給ローラ 
４４  現像ローラ 
４５  規制部材
５  転写装置 
６  クリーニング装置 
７  定着装置 
７１  上部定着部材 
７２  下部定着部材 
７３  加熱装置
【手続補正書】
【提出日】平成21年4月6日(2009.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
顔料を含有する感光性組成物の除去液であって、
（１）脂環式ケトン類を９９〜３０質量％および
（２）アルキレングリコールモノアルキルエーテル類およびアルコール類から選ばれる少なくとも１種の化合物を１〜７０質量％
含有することを特徴とする感光性組成物除去液。
【請求項２】
顔料を含有する感光性組成物の除去液であって、
（１）脂環式ケトン類を８０〜３０質量％、
（２）アルキレングリコールモノアルキルエーテル類およびアルコール類から選ばれる少なくとも１種の化合物を６０〜１０質量％および
（３）酢酸エステル類を４０〜１０質量％
含有することを特徴とする感光性組成物除去液。
【請求項３】
脂環式ケトン類が、シクロヘキサノン、シクロペンタノンおよびメチルシクロヘキサノンからなる群から選ばれる少なくとも１種である請求項１または２に記載の感光性組成物除去液。
【請求項４】
アルキレングリコールモノアルキルエーテル類が、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、３−メトキシブタノールおよび３−メチル−３−メトキシブタノールからなる群から少なくとも１種であり、アルコール類が、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノールおよびｔ−ブタノールからなる群から選ばれる少なくとも１種である請求項１〜３のいずれかに記載の感光性組成物除去液。
【請求項５】
酢酸エステル類が、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｎ−アミル、酢酸イソアミルおよび酢酸ｓｅｃ−アミルからなる群から選ばれる少なくとも１種である請求項２〜４のいずれかに記載の感光性組成物除去液。
【請求項６】
顔料を含有するアクリル系感光性組成物の除去に用いられる請求項１〜５のいずれかに記載の感光性組成物除去液。
【請求項７】
感光前の顔料を含有する感光性組成物の除去に用いられる請求項１〜６のいずれかに記載の感光性組成物除去液。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載の感光性組成物除去液を用いて顔料を含有する感光性組成物を除去する工程を有する感光性組成物塗布装置の洗浄方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月10日(2009.7.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
音声合成処理に用いる辞書の生成方法であって、
音声波形データに基づいて得られるスペクトル補正用の補正フィルタを、該補正フィルタより少ないデータ量又は計算量でフィルタリング処理が実行可能となるように近似することにより代替フィルタを生成する第１生成工程と、
前記補正フィルタと前記代替フィルタの差を補償するフィルタを前記音声波形データに対して作用させることによって修正波形データを生成する第２生成工程と、
前記第１生成工程で生成された代替フィルタおよび前記第２生成工程で生成された修正波形データを前記辞書の一部として格納する格納工程とを備えることを特徴とする音声合成用辞書生成方法。
【請求項２】
前記代替フィルタは、前記補正フィルタのインパルス応答からＦＩＲフィルタを生成し、該ＦＩＲフィルタを予め定めた次数で打ち切って得られたフィルタであることを特徴とする請求項１に記載の音声合成用辞書生成方法。
【請求項３】
前記代替フィルタは、前記補正フィルタよりも次数が低いことを特徴とする請求項１に記載の音声合成用辞書生成方法。
【請求項４】
前記代替フィルタは、前記補正フィルタのフィルタ係数をベクトル量子化して得られたフィルタであることを特徴とする請求項１又は２に記載の音声合成用辞書生成方法。
【請求項５】
音声合成処理に用いる辞書を生成する装置であって、
音声波形データに基づいて得られるスペクトル補正用の補正フィルタを、該補正フィルタより少ないデータ量又は計算量でフィルタリング処理が実行可能となるように近似することにより代替フィルタを生成する第１生成手段と、
前記補正フィルタと前記代替フィルタの差を補償するフィルタを前記音声波形データに対して作用させることによって修正波形データを生成する第２生成手段と、
前記第１生成手段で生成された代替フィルタおよび前記第２生成手段で生成された修正波形データを前記辞書の一部として格納する格納手段とを備えることを特徴とする音声合成用辞書生成装置。
【請求項６】
請求項１乃至４のいずれか１項に記載の音声合成用辞書生成方法をコンピュータに実行させるための制御プログラム。
【請求項７】
請求項６に記載の制御プログラムを格納したことを特徴とする記憶媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記の目的を達成するための本発明による音声合成用辞書生成方法は、
音声合成処理に用いる辞書の生成方法であって、
音声波形データに基づいて得られるスペクトル補正用の補正フィルタを、該補正フィルタより少ないデータ量又は計算量でフィルタリング処理が実行可能となるように近似することにより代替フィルタを生成する第１生成工程と、
前記補正フィルタと前記代替フィルタの差を補償するフィルタを前記音声波形データに対して作用させることによって修正波形データを生成する第２生成工程と、
前記第１生成工程で生成された代替フィルタおよび前記第２生成工程で生成された修正波形データを前記辞書の一部として格納する格納工程とを備える。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、上記の目的を達成するための本発明による音声合成用辞書生成装置は、
音声合成処理に用いる辞書を生成する装置であって、
音声波形データに基づいて得られるスペクトル補正用の補正フィルタを、該補正フィルタより少ないデータ量又は計算量でフィルタリング処理が実行可能となるように近似することにより代替フィルタを生成する第１生成手段と、
前記補正フィルタと前記代替フィルタの差を補償するフィルタを前記音声波形データに対して作用させることによって修正波形データを生成する第２生成手段と、
前記第１生成手段で生成された代替フィルタおよび前記第２生成手段で生成された修正波形データを前記辞書の一部として格納する格納手段とを備える。
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月13日(2008.11.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板間に誘電異方性が負の液晶を含む液晶層を挟持した液晶表示装置であって、
表示単位を構成するドット領域内において、前記一対の基板のうち一方の基板側には第１の誘電体突起が形成され、他方の基板側には前記第１の誘電体突起と平面方向で重ならない位置に第２の誘電体突起が形成され、
前記第１の誘電体の誘電率をεt1、前記第２の誘電体の誘電率をεt2、前記液晶の長軸方向の誘電率をε//、短軸方向の誘電率をε⊥としたときに、εt1＞ε//、及びεt2＞ε//の関係を有していることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載の液晶表示装置において、前記第１の誘電体突起の誘電率と、前記第２の誘電体突起の誘電率とが互いに異なることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
請求項１又は２のいずれかにに記載の液晶表示装置を備えたことを特徴とする電子機器
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月8日(2009.5.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
前記センサは、有形部品に連動する磁石の運動を検出する。磁石は、センサの面に接近していることが好ましく、一般に、設計上許容される空間を制限するシャフトに機械的に締結されている。更に、温度、湿度、または振動に起因して、ネジ、クランプ、接着部、または成形品が故障することがある。
【特許文献１】米国特許明細書第５８３１５９６
【手続補正書】
【提出日】平成21年8月6日(2009.8.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
導電体に誘導電流が誘起されることにより発熱する誘導加熱方式の像加熱装置に用いられる励磁コイルユニットであって、
絶縁被覆のない導線により形成されたコイルと、
前記コイルの導線間に入り込んで導線に接触した状態でコイルを覆う耐熱絶縁材と、を有することを特徴とする誘導加熱方式の像加熱装置に用いられる励磁コイルユニット。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１０】
導電性の回転部材と、
絶縁被覆のない導線で形成されたコイル及び該コイルの導線間に入り込んで導線に接触した状態でコイルを覆う耐熱絶縁材を有するとともに、該コイルに通電して磁界を発生させることにより前記導電性の回転部材に渦電流を誘起する励磁コイルユニットと、
を備えることを特徴とする誘導加熱方式の像加熱装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
前記目的を達成するための本発明においては、導電体に誘導電流が誘起されることにより発熱する誘導加熱方式の像加熱装置に用いられる励磁コイルユニットであって、絶縁被覆のない導線により形成されたコイルと、前記コイルの導線間に入り込んで導線に接触した状態でコイルを覆う耐熱絶縁材と、を有することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
本発明における誘導加熱方式の像加熱装置は、導電性の回転部材と、絶縁被覆のない導線で形成されたコイル及び、該コイルの導線間に入り込んで導線に接触した状態でコイルを覆う耐熱絶縁材を有し、該コイルに通電して磁界を発生することにより前記導電性の回転部材に渦電流を誘起する励磁コイルユニットと、を備えることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月4日(2009.2.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３９】
（比較製造例１）
−シアンインクの作製−
製造例１において、グリコールエーテル化合物としてのエチレングリコールモノヘキシルエーテルの代わりに１，３−ブタンジオールを用いた以外は、製造例１と同様にして、比較製造例１のシアンインクを作製した。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４０】
（比較製造例２）
−マゼンタインクの作製−
製造例２において、グリコールエーテル化合物としてのエチレングリコールモノヘキシルエーテルの代わりに１，３−ブタンジオールを用いた以外は、製造例２と同様にして、比較製造例２のマゼンタインクを作製した。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４１】
（比較製造例３）
−イエローインクの作製−
製造例３において、グリコールエーテル化合物としてのエチレングリコールモノヘキシルエーテルの代わりに１，３−ブタンジオールを用いた以外は、製造例３と同様にして、比較製造例３のイエローインクを作製した。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４２】
（比較製造例４）
−ブラックインクの作製−
製造例４において、グリコールエーテル化合物としてのエチレングリコールモノヘキシルエーテルの代わりに１，３−ブタンジオールを用いた以外は、製造例４と同様にして、比較製造例４のブラックインクを作製した。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月9日(2009.11.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）ノズルから液体を吐出させるための動作をする素子と、
（Ｂ）前記素子を動作させるための第１駆動パルスを含んだ第１駆動信号を生成する第１駆動信号生成部であって、
（Ｂ１）第１デジタルデータをアナログ変換した第１アナログ信号を出力する第１デジタルアナログ変換器と、
（Ｂ２）前記第１アナログ信号の電流を増幅する電流増幅回路とを有し、
（Ｂ３）前記電流増幅回路を介して電流増幅された前記第１アナログ信号を、前記第１駆動信号として出力する、第１駆動信号生成部と、
（Ｃ）前記素子を動作させるための第２駆動パルスであって電圧の振幅が前記第１駆動パルスにおける電圧の振幅よりも小さい第２駆動パルスを含んだ第２駆動信号を生成する第２駆動信号生成部であって、
（Ｃ１）第２デジタルデータをアナログ変換した第２アナログ信号を出力する第２デジタルアナログ変換器を有し、
（Ｃ２）前記第２アナログ信号を、電流増幅回路を介することなく前記第２駆動信号として出力する、第２駆動信号生成部と、
（Ｄ）を有する、液体吐出装置。
【請求項２】
請求項１に記載の液体吐出装置であって、
前記第１デジタルアナログ変換器は、
前記第１デジタルデータをアナログ変換することにより、前記第１アナログ信号よりも低い電圧の、第１増幅前アナログ信号を生成する第１デジタルアナログ変換回路と、
前記第１増幅前アナログ信号の電圧増幅を行うことで、前記第１アナログ信号を生成する、第１電圧増幅回路と、を有する液体吐出装置。
【請求項３】
請求項１から請求項２の何れかに記載の液体吐出装置であって、
液体の吐出量に応じて、前記第１駆動パルス及び前記第２駆動パルスの中から必要なパルスを選択し、前記素子へ印加する印加制御部を有する液体吐出装置。
【請求項４】
請求項３に記載の液体吐出装置であって、
前記第２駆動パルスは、
前記液体の増粘を抑制する際に前記素子に印加される増粘抑制パルスであり、
前記印加制御部は、
液体を吐出させない指令に基づいて、前記増粘抑制パルスを、対応する素子に印加する、液体吐出装置。
【請求項５】
請求項４に記載の液体吐出装置であって、
前記第２駆動信号は、
複数の前記増粘抑制パルスを有し、
前記印加制御部は、
液体を吐出させない指令に基づいて、前記複数の増粘抑制パルスの中から特定の増粘抑制パルスを選択して、対応する素子に印加する、液体吐出装置。
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月13日(2008.11.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
工作機械の加工主軸ヘッドに交換自在に装着されるツールホルダーであって、
ツールホルダーは、ハウジングと、ハウジングの中央部に配置されるテーパーシャンク部を有する駆動主軸と、駆動主軸に平行に配置されてベアリングにより支持される駆動軸と、駆動主軸と駆動軸を伝達する歯車機構と、駆動軸の先端に設けられるツールと、ハウジングの外周部に配設される４本のプルスタッドを備え、
工作機械の加工主軸ヘッドは、テーパーシャンク穴を有する加工主軸と、加工主軸を支持するベアリングと、加工主軸の周囲に配置される４基のコレットチャックを備え、コレットチャックは、ツールホルダーに設けられた４本のプルスタッドを把持することによりツールホルダーを保持し、
ツールホルダーのハウジングは、４本のプルスタッドが工作機械の加工主軸ヘッド側に設けられた４基のコレットチャックに把持されることにより加工主軸ヘッドに剛性高く保持されるとともに、駆動主軸は軸受けにより支持されてはおらず、工作機械の加工主軸に挿入されることにより加工主軸側のベアリングにより支持されることを特徴とするツールホルダー。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
上記目的を達成するために、本発明の工作機械の加工主軸ヘッドに交換自在に装着されるツールホルダーは、ハウジングと、ハウジングの中央部に配置されるテーパーシャンク部を有する駆動主軸と、駆動主軸に平行に配置されてベアリングにより支持される駆動軸と、駆動主軸と駆動軸を伝達する歯車機構と、駆動軸の先端に設けられるツールと、ハウジングの外周部に配設される４本のプルスタッドを備え、工作機械の加工主軸ヘッドは、テーパーシャンク穴を有する加工主軸と、加工主軸を支持するベアリングと、加工主軸の周囲に配置される４基のコレットチャックを備え、コレットチャックは、ツールホルダーに設けられた４本のプルスタッドを把持することによりツールホルダーを保持する。
そして、ツールホルダーのハウジングは、４本のプルスタッドが工作機械の加工主軸ヘッド側に設けられた４基のコレットチャックに把持されることにより加工主軸ヘッドに剛性高く保持されるとともに、駆動主軸は軸受けにより支持されてはおらず、工作機械の加工主軸に挿入されることにより加工主軸側のベアリングにより支持されるものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成20年11月28日(2008.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インクを吐出するための記録ヘッドを記録媒体に対して走査させながら前記記録ヘッドから記録媒体にインクを吐出して記録を行うための記録データを生成するための画像処理方法であって、
前記記録ヘッドの走査方向における前記記録媒体の幅を示す情報あるいは記録幅を示す情報に応じて、記録に使用するインクの使用量を異ならせる処理を行うことにより、前記記録データを生成する処理工程、
を有したことを特徴とする画像処理方法。
【請求項２】
前記インクは、ポリマーを含有する第１の顔料インクと、前記第１の顔料インクよりもポリマーの含有割合が少ない第２の顔料インクを含み、
前記処理工程では、前記記録幅が第１の記録幅より大きい第２の記録幅のとき、第１の顔料インクの使用量を、前記第１の記録幅のときの第１の顔料インクの使用量より少なくする処理を行うことを特徴とする請求項１に記載の画像処理方法。
【請求項３】
前記処理工程では、前記記録幅が所定幅より大きいとき、第１の顔料インクの使用量をゼロとする処理を行うことを特徴とする請求項２に記載の画像処理方法。
【請求項４】
前記第１の顔料インクと前記第２の顔料インクは、同系色であることを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の画像処理方法。
【請求項５】
前記処理工程では、画像信号値に応じてインクの使用量を定めた色分解テーブルであって、複数の異なる記録媒体の幅あるいは複数の異なる記録幅に対応した複数の色分解テーブルを用いて、前記使用するインクの使用量を異ならせる処理を行うことを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の画像処理方法。
【請求項６】
インクを吐出するための記録ヘッドを記録媒体に対して走査させながら前記記録ヘッドから記録媒体にインクを吐出して記録を行うインクジェット記録装置であって、
記録に際して記録ヘッドが走査する範囲の長さである記録幅の情報に応じて、記録に使用するインクの使用量を異ならせる処理を行う手段、
を具えたことを特徴とするインクジェット記録装置。
【請求項７】
コンピュータに読取られることにより、該コンピュータを、インクを吐出するための記録ヘッドを記録媒体に対して走査させながら前記記録ヘッドから記録媒体にインクを吐出して記録を行うための記録データを生成する画像処理装置として機能させるプログラムであって、該機能は、
前記記録ヘッドの走査方向における前記記録媒体の幅を示す情報あるいは記録幅を示す情報に応じて、記録に使用するインクの使用量を異ならせる処理を行うことにより、前記記録データを生成する手段、
を有したことを特徴とするプログラム。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年10月9日(2009.10.9)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
走査電子顕微鏡(SEM)を利用して試料の構造要素のアンダカットを測定するための方法であって、
ある入射角の一次電子ビームで前記構造要素を照射するステップ、
前記一次電子ビームの前記入射角を一組の角度にわたって変更するステップ、
前記一組の角度におけるそれぞれの入射角に対して、前記構造要素の第１の側壁と反対側の第２の側壁からの散乱電子のピーク強度を測定するステップ、
前記第１の側壁と前記第２の側壁の前記ピーク強度の比率における勾配の不連続を前記入射角の関数として求めるステップを含み、
測定されるアンダカット角が、前記不連続の発生が確認された入射角に対応する、
方法。
【請求項２】
前記一組の角度が、より大きな入射角で前記一次電子ビームが前記構造要素の側壁に直接衝突するように配向されている請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記不連続が、前記一次電子ビームが前記側壁に直接衝突し始める時に生じる請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記求めるステップが、コンピューター導入プロセスを利用して実行される請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記強度がピークの高さに基づいて測定される請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記強度が積分されたピーク面積に基づいて測定される請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記入射角が一次電子ビームを傾斜させることによって変更される請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記入射角が試料台を傾斜させることによって変更される請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記SEMが、半導体ウェーハの検査のための電子ビーム(eビーム)検査装置を含む請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記eビーム検査装置が、臨界寸法を測定するために構成されているSEM(CD-SEM)を含む請求項１０に記載の方法。
【請求項１１】
走査電子顕微鏡(SEM)を利用して試料上の構造要素のアンダカットを測定するための方法であって、
ある入射角の一次電子ビームで前記構造要素を照射するステップ、
複数の検出器により、一組の散乱角における前記構造要素の第１の側壁と反対側の第２の側壁からの散乱電子のピーク強度を測定するステップ、
前記第１の側壁と前記第２の側壁の前記ピーク強度の比率における勾配の不連続を前記散乱角の関数として求めるステップを含み、
測定されるアンダカット角が、前記不連続の発生が確認された検出角度に対応する、
方法。
【請求項１２】
異なる散乱角の散乱電子を区別するために不均一な抽出用電界を適用するステップをさらに含む請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記複数の検出器が、前記構造要素の側壁が、より大きな検出角における検出器の直接的な照準線内にあるように配向されている請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記不連続が、直接的な照準線を有さない第１の検出器と直接的な照準線を有する第２の検出器の間で生じる請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記求めるステップが、コンピューター導入プロセスを利用して実行される請求項１１に記載の方法。
【請求項１６】
試料上の構造要素のアンダカットを測定するための走査電子顕微鏡(SEM)であって、
ある入射角の一次電子ビームで前記構造要素を照射するための電子照射システム、
前記一次電子ビームの前記入射角を一組の角度にわたって変更するための機構、
前記一組の角度におけるそれぞれの入射角に対して、前記構造要素の第１の側壁と反対側の第２の側壁からの散乱電子のピーク強度を測定するための検出器、
前記第１の側壁と前記第２の側壁の前記ピーク強度の比率における勾配の不連続を前記入射角の関数として求めるためのプロセッサーを含み、
測定されるアンダカット角が、前記不連続の発生が確認された入射角に対応する、
走査電子顕微鏡。
【請求項１７】
前記入射角を変更するための機構が、前記試料に対して前記一次電子ビームを傾けるための調整可能な電磁石レンズシステムを含む請求項１６に記載の走査電子顕微鏡。
【請求項１８】
前記入射角を変更するための機構が、前記一次電子ビームに対して前記試料を傾けるための傾斜可能な試料台を含む請求項１６に記載の走査電子顕微鏡。
【請求項１９】
試料上の構造要素のアンダカットを測定するための装置であって、
ある入射角の一次電子ビームで前記構造要素を照射するための手段、
前記一次電子ビームの前記入射角を一組の角度にわたって変更するための手段、
前記一組の角度におけるそれぞれの入射角に対して、前記構造要素の第１の側壁と反対側の第２の側壁からの散乱電子のピーク強度を測定するための手段、
前記第１の側壁と前記第２の側壁の前記ピーク強度の比率における勾配の不連続を前記入射角の関数として求めるための手段を含み、
測定されるアンダカット角が、前記不連続の発生が確認された入射角に対応する、
装置。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３４】
代替的な実施態様においては、ある範囲の角度における電子の検出を、アンダカット角を測定するのに使用することができる。そのような実施態様は、異なる散乱角における多数の電子検出器と、異なる散乱角における散乱電子を区別するための不均一な抽出用電界の適用を含む。多数の検出器は、大きな検出角度において、対象となる側壁が検出器の照準線内に直に入るように配向され、それによって直接的な照準線のない第1の検出器により検出されるビーム強度と、直接的な照準線を有する第2の検出器により検出されるビーム強度との間に不連続が生じる。この場合、測定されたアンダカット角は、不連続の発生が確認される検出角度に対応する。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】図面
【訂正対象項目名】図８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【図８】
2004132956.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成21年8月25日(2009.8.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
図４は、スプラグ式の噛み込み機構式一方向クラッチ機構であり、スプラグ３８が保持具４０によって一定間隔で保持され、ばね体４２により、スプラグ３８が回転部材３０の内径面と非回転部材８の外周面に接触するように付勢されている。ここで、回転部材３０が図４中、時計方向に回転すると、回転部材３０とスプラグ３８との接触圧及びスプラグ３８と非回転部材８との接触圧によってスプラグ３８は起立方向に回転し、径寸法が大きくなる為、回転部材３０とスプラグ３８との接触圧及びスプラグ３８と非回転部材８との接触圧が大きくなり、回転部材３０は非回転部材８に対して回転方向にロックされる。又、回転部材３０が図４中、反時計方向に回転すると、回転部材３０とスプラグ３８との接触圧及びスプラグ３８と非回転部材８との接触圧によってスプラグ３８は倒れる方向に回転し、径方向寸法が小さくなる為、回転部材３０とスプラグ３８との接触圧及びスプラグ３８と非回転部材８との接触圧が小さくなり、回転部材３０は非回転部材８に対して回転方向にフリー状態となり、回転伝達が遮断される。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月21日(2009.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱交換器及び圧縮機を含む冷媒回路からの冷媒の漏洩を検出する冷媒漏洩検出装置であって、
所定の判定時間内の前記熱交換器の最高温度と最低温度との第１の温度差が第１判定温度よりも小さい場合に冷媒回路から冷媒が漏洩していると判断するとともに、
前記冷媒回路内で冷媒を流通させるための前記圧縮機の回転数又は所定時間内の回転量に応じて、前記判定時間又は第１判定温度を補正することを特徴とする冷媒漏洩検出装置。
【請求項２】
第１の温度差が第１判定温度よりも小さく、かつ、前記判定時間経過時の前記熱交換器の温度と前記冷媒回路周辺の温度との第２の温度差が第２判定温度よりも小さい場合に冷媒回路から冷媒が漏洩していると判断することを特徴とする請求項１に記載の冷媒漏洩検出装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の冷媒漏洩検出装置と、
熱交換器及び圧縮機を含む冷媒回路とを備えることを特徴とする空気調和機。
【請求項４】
熱交換器及び圧縮機を含む冷媒回路からの冷媒の漏洩を検出する冷媒漏洩検出方法であって、
所定の判定時間内の前記熱交換器の最高温度と最低温度との第１の温度が第１判定温度よりも小さい場合に冷媒回路から冷媒が漏洩していると判断するステップと、
前記冷媒回路内で冷媒を流通させるための前記圧縮機の回転数又は所定時間内の回転量に応じて、前記判定時間又は第１判定温度を補正するステップとを備えることを特徴とする冷媒漏洩検出方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月11日(2009.5.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）の一般式で表されるベタイン系界面活性剤と、水酸基価が１〜２であり炭素数が４〜６である直鎖状飽和脂肪族アルコールを０．２５〜５．００重量％含有することを特徴とするインク組成物。
［化１］
2009024178.tif 000001
【請求項２】
ベタイン系界面活性剤に対する、水酸基価が１〜２であり炭素数が４〜６である直鎖状飽和脂肪族アルコールの含有割合が、重量比で、１：３〜１：０．４であることを特徴とする請求項１に記載のインク組成物。
【請求項３】
前記直鎖状飽和脂肪族アルコールが、１−ブチルアルコール、２−ブチルアルコール、１−ペンチルアルコール、２−ペンチルアルコール、３−ペンチルアルコール、１−ヘキシルアルコール、１，２−ヘキサンジオールから選ばれる一種以上であることを特徴とする請求項１または２に記載のインク組成物。
【請求項４】
前記直鎖状飽和脂肪族アルコールが、炭素数が５又は６である請求項１〜３の何れか一項に記載のインク組成物。
【請求項５】
前記直鎖状飽和脂肪族アルコールが、１−ペンチルアルコール、２−ペンチルアルコール、３−ペンチルアルコール、１−ヘキシルアルコール、１，２−ヘキサンジオールから選ばれる一種以上であることを特徴とする請求項４に記載のインク組成物。
【請求項６】
インク組成物の液滴を吐出し、該液滴を記録媒体に付着させて記録を行うインクジェット記録方法において用いられることを特徴とする請求項１〜５の何れか一項に記載のインク組成物。
【請求項７】
インクジェット記録方法が、圧電素子の機械的変形によりインク滴を形成するインクジェットヘッドを用いた記録方法であることを特徴とする請求項６に記載のインク組成物。
【請求項８】
請求項１〜７の何れかに記載のインク組成物を充填したインクカートリッジ。
【請求項９】
インクジェット記録方法であって、インク組成物として請求項１〜８の何れか一項に記載のインク組成物を使用すること、または請求項８のインクカートリッジを使用することを特徴とするインクジェット記録方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】インク組成物、インクカートリッジ、これらを用いた記録方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
すなわち、本発明の構成は以下の通りである。
（１）下記式（１）の一般式で表されるベタイン系界面活性剤と、水酸基価が１〜２であり炭素数が４〜６である直鎖状飽和脂肪族アルコールを０．２５〜５．００重量％含有することを特徴とするインク組成物。
［化１］
2009024178.tif 000002
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
（２）ベタイン系界面活性剤に対する、水酸基価が１〜２であり炭素数が４〜６である直鎖状飽和脂肪族アルコールの含有割合が、重量比で、１：３〜１：０．４であることを特徴とする前記（１）に記載のインク組成物
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
（３）水酸基価が１〜２であり炭素数が４〜６である直鎖状飽和脂肪族アルコールが、１−ブチルアルコール、２−ブチルアルコール、１−ペンチルアルコール、２−ペンチルアルコール、３−ペンチルアルコール、１−ヘキシルアルコール、１，２−ヘキサンジオールから選ばれる一種以上であることを特徴とする前記（１）または（２）の何れか一つに記載のインク組成物。
（４）前記直鎖状飽和脂肪族アルコールは、炭素数が５又は６であることを特徴とする前記（１）〜（３）の何れか一つに記載のインク組成物。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
（５）前記直鎖状飽和脂肪族アルコールが、１−ペンチルアルコール、２−ペンチルアルコール、３−ペンチルアルコール、１−ヘキシルアルコール、１，２−ヘキサンジオールから選ばれる一種以上であることを特徴とする前記（４）に記載のインク組成物。
（６）インク組成物の液滴を吐出し、該液滴を記録媒体に付着させて記録を行うインクジェット記録方法において用いられることを特徴とする前記（１）〜（５）の何れか一つに記載のインク組成物。
（７）インクジェット記録方法が、圧電素子の機械的変形によりインク滴を形成するインクジェットヘッドを用いた記録方法であることを特徴とする前記（６）に記載のインク組成物。
（８）前記（１）〜（７）の何れか一つに記載のインク組成物を充填したインクカートリッジ。
（９）インクジェット記録方法であって、インク組成物として前記（１）〜（８）の何れか一つに記載のインク組成物を使用すること、または前記（８）のインクカートリッジを使用することを特徴とするインクジェット記録方法。
【手続補正書】
【提出日】平成20年12月26日(2008.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マンネンタケ子実体、カワラタケ子実体及びチクセツニンジンの根を含む原料の水抽出物と前記原料の水・アルコール混液の抽出物とを組み合わせた、高脂血症の予防又は治療用の薬剤。
【請求項２】
前記原料は、マンネンタケ子実体、カワラタケ子実体及びチクセツニンジンの根を質量比１０：５：３で含有する、請求項１に記載の薬剤。
【請求項３】
インシュリン非依存性の糖尿病患者又はそのハイリスク者の高脂血症の予防又は治療用である、請求項１又は２に記載の薬剤。
【請求項４】
前記水・アルコール混液は、アルコール濃度が５０ｖ／ｖ％以下である、請求項１〜３のいずれかに記載の薬剤。
【請求項５】
高脂血症の予防又は治療用の薬剤の製造方法であって、
マンネンタケ子実体、カワラタケ子実体及びチクセツニンジンの根を質量比で１０：５：３で含有する原料の水抽出物を準備する工程と、
前記原料の水・アルコール混液を準備する工程と、
を備える、製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年7月8日(2009.7.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
真空チャンバに導入したスパッタリングガス中でターゲット表面からスパッタ蒸発した成膜粒子を基材の表面に堆積させて皮膜を形成するスパッタリング装置であって、
回転自在とされた円筒状ターゲットを有し、前記円筒状ターゲットの内側に設けられ、前記円筒状ターゲットの長さ方向に沿って配置された磁場発生部材を有するスパッタ蒸発源の一対と、
前記一対のスパッタ蒸発源のそれぞれの円筒状ターゲットをカソードとしてこれらに放電電力を供給するスパッタ電源を備え、
前記一対のスパッタ蒸発源は、それぞれの円筒状ターゲットが平行ないし略平行に対向して配置され、それぞれのスパッタ蒸発源に設けられた磁場発生部材は前記一対の円筒状ターゲットの表面を通り、互いに引き合う向きの磁力線を形成する磁場を発生させる、スパッタリング装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の第１形態に係るスパッタリング装置は、真空チャンバに導入したスパッタリングガス中でターゲット表面からスパッタ蒸発した成膜粒子を基材の表面に堆積させて皮膜を形成するスパッタリング装置であって、回転自在とされた円筒状ターゲットを有し、前記円筒状ターゲットの内側に設けられ、前記円筒状ターゲットの長さ方向に沿って配置された磁場発生部材を有するスパッタ蒸発源の一対と、前記一対のスパッタ蒸発源のそれぞれの円筒状ターゲットをカソードとしてこれらに放電電力を供給するスパッタ電源を備え、前記一対のスパッタ蒸発源は、それぞれの円筒状ターゲットが平行ないし略平行に対向して配置され、それぞれのスパッタ蒸発源に設けられた磁場発生部材は前記一対の円筒状ターゲットの表面を通り、互いに引き合う向きの磁力線を形成する磁場を発生させる。
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月6日(2009.2.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
キャリア帯域幅を複数のサブキャリアに分割することと、
１つ以上のモバイル局が、選択された少なくとも１つのサブキャリア上における同時送信を少なくとも受信するため選択されるように、前記所与のキャリア帯域幅内からの前記複数のサブキャリアの少なくとも選択された１つの上に対応する複数アンテナからの同時送信を少なくとも受信するために複数のモバイル局を選択することと、
前記複数のサブキャリアを、少なくとも２つの前記サブキャリアを有する各サブセットと共に複数のサブセットに構成すること、及び
前記サブセット内からの少なくとも１つの前記サブキャリアに関連した少なくとも１つの選択された基準に基づいて、少なくとも１つの前記サブセット内の前記サブキャリア各々を選択するためにモバイル局を決定すること
を備える、通信方法。
【請求項２】
第１通信を選択されたモバイル局に送信するために前記複数のアンテナの第１アンテナを使用することと、第２通信を選択されたモバイル局に送信するために前記複数のアンテナの第２アンテナを使用することとを備える、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記モバイル局の第１モバイル局が、前記第１通信を実際に受信し、前記モバイル局の第２モバイル局が、前記第２通信を実際に受信するように、前記複数のアンテナからの送信を制御するために、分散型複数アンテナ・スケジューリングを使用することを備える、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
少なくとも選択されたサブキャリアについて、少なくとも２つのモバイル局のそれぞれに送信することに関連付けられる電力レベルを決定することと、
前記送信を受信する最大組合せ送信データ率を有する前記モバイル局を選択することとを備える、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記同時送信を送信するＭ本のアンテナが存在し、前記サブセットのそれぞれについて帯域幅内から各Ｍ番目のサブキャリアを取ることによって、前記サブセットを構成することを備える、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
複数の隣接サブキャリアを各サブセットに構成することを備える、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記モバイル局のそれぞれが、帯域幅全体を使用する、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記複数のモバイル局を選択することが、前記帯域幅全体にわたって選択時間間隔中に前記送信を受信するために、合計率を最大にするモバイル局を選択することを備える、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記キャリア帯域幅が、直交周波数分割多重化に従って、前記複数のサブキャリアに構成される、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記モバイル局を選択するために複数のパイロットを用いることを備え、前記パイロットは互いに直交する、請求項５に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年2月2日(2009.2.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
制限を有するセッションを開始するコンピュータシステムにおける方法であって、
前記セッションに対する制限の表示を受信することであって、前記制限は、被勧誘者が前記セッションに参加するように誰を勧誘することができるかを制限すること、または前記制限は、前記セッションのメッセージに対して前記被勧誘者が実行できる動作を制限すること、
前記制限を有する前記セッションに参加するための勧誘を勧誘者から被勧誘者に送信すること、
該被勧誘者が前記セッションに参加する意図があること、および前記被勧誘者が前記セッションに対する前記制限を守る意図があるか否か、の表示を前記被勧誘者から受信すること、および
セッションに対する前記制限を前記被勧誘者が守る意図がある場合に、前記被勧誘者との間に前記セッションを構築すること
を備えることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記セッションは、ＳＩＰ（Session Initiation Protocol）を使用して開始されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記制限は、ＳＤＰ（Session Description Protocol）に適合する属性として表示されることを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記表示を前記被勧誘者から前記受信することは、前記属性を有するＳＩＰ（Session Initiation Protocol）のＯＫのメッセージを受信することを含むことを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記セッションは、インスタント・メッセージ・セッションであることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記制限の前記表示を前記勧誘者から受信することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記勧誘者が関連付けられている企業のポリシーに基づいて、前記制限の前記表示を受信することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項８】
制限を有するセッションを構築するためにコンピュータシステムを制御する命令を含む、コンピュータで読み込み可能な記録媒体であって、前記制限は、被勧誘者が前記セッションに参加するように誰を勧誘することができるかを制限すること、または前記制限は、前記セッションのメッセージに対して前記被勧誘者が実行できる動作を制限すること、前記命令は、
前記制限を有する前記セッションに参加するための勧誘者からの勧誘を被勧誘者により受信すること、
該被勧誘者が前記セッションに対する前記制限を守る意図があるか否かを判定すること、
前記被勧誘者が前記セッションに対する前記制限を守る意図がある場合に、前記被勧誘者が前記セッションに参加する意図があること、および前記セッションに対する前記制限を守る意図があること、の表示を前記被勧誘者から前記勧誘者に送信すること、および
前記制限を有する前記セッションを前記勧誘者との間に構築すること
を実行することを特徴とするコンピュータで読み込み可能な記録媒体。
【請求項９】
前記構築することは、前記セッションに対する前記制限に不整合ないかなる動作をも前記被勧誘者が行うことを回避することを含むことを特徴とする請求項８に記載のコンピュータで読み込み可能な記録媒体。
【請求項１０】
前記判定することは、前記セッションに対する前記制限を自身が執行することができるか否かをクライアントコンポーネントが判定することを含むことを特徴とする請求項８に記載のコンピュータで読み込み可能な記録媒体。
【請求項１１】
前記判定することは、前記セッションに対する前記制限を前記被勧誘者が守る意図があるか否かを前記被勧誘者が表示することを含むことを特徴とする請求項８に記載のコンピュータで読み込み可能な記録媒体。
【請求項１２】
前記セッションは、ＳＩＰ（Session Initiation Protocol）を使用して開始されることを特徴とする請求項８に記載のコンピュータで読み込み可能な記録媒体。
【請求項１３】
前記制限は、ＳＤＰ（Session Description Protocol）に適合する属性として表示されることを特徴とする請求項８に記載のコンピュータで読み込み可能な記録媒体。
【請求項１４】
前記セッションは、インスタント・メッセージ・セッションであることを特徴とする請求項８に記載のコンピュータで読み込み可能な記録媒体。
【請求項１５】
セッションに対する制限を執行するためにサーバを制御する命令を含むコンピュータで読み込み可能な記録媒体であって、前記制限は、被勧誘者が前記セッションに参加するように誰を勧誘することができるかを制限すること、または前記制限は、前記セッションのメッセージに対して前記被勧誘者が実行できる動作を制限すること、前記命令は、
前記制限を有する前記セッションに参加するための被勧誘者への勧誘を勧誘者から受信すること、
前記セッションに対する前記制限を記録すること、
前記セッションのメッセージを前記被勧誘者から受信すること、
前記メッセージが前記セッションに対する前記制限と整合しているか否かを判定すること、および
前記メッセージが、前記セッションに対する前記制限と整合していないと判定された場合には、前記メッセージを廃棄すること
を実行することを特徴とするコンピュータで読み込み可能な記録媒体。
【請求項１６】
前記廃棄することは、前記セッションに対する前記制限と整合していないメッセージを前記被勧誘者が送信したということを前記被勧誘者に通知することを含むことを特徴とする請求項１５に記載のコンピュータで読み込み可能な記録媒体。
【請求項１７】
前記セッションは、ＳＩＰ（Session Initiation Protocol）を使用して開始されることを特徴とする請求項１５に記載のコンピュータで読み込み可能な記録媒体。
【請求項１８】
前記サーバは、プロキシサーバであることを特徴とする請求項１７に記載のコンピュータで読み込み可能な記録媒体。