【手続補正書】
【提出日】平成20年12月22日(2008.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
赤外線検知素子を収容する第１収容部材と、
前記第１収容部材に対して環状の接合部をもって接合された赤外線透過性を有する第２収容部材とを備え、
前記第１収容部材側の接合部に環状の第１メタライズ層が形成されるとともに、前記第２収容部材側の接合部に環状の第２メタライズ層が形成され、当該第１メタライズ層と第２メタライズ層とが溶着金属によって気密接合されることにより、前記赤外線検知素子が真空封入された赤外線検知器であって、
前記第１収容部材における前記第１メタライズ層と前記第２収容部材における前記第２メタライズ層とのどちらか一方の近傍に形成され、前記第１メタライズ層と前記第２メタライズ層とのどちらか他方に少なくとも一部がラップする第３のメタライズ層を備え、
前記第１メタライズ層と前記第２メタライズ層とが、前記溶着金属によって不純物を介さずに気密接合されたことを特徴とする赤外線検知器。
【請求項２】
前記第１メタライズ層と前記第２メタライズ層とが、前記第３メタライズ層に予め配置された前記溶着金属によって不純物を介さずに気密接合されたことを特徴とする請求項１に記載の赤外線検知器。
【請求項３】
前記第３メタライズ層を複数備えたことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の赤外線検知器。
【請求項４】
前記第３メタライズ層が、前記近傍に形成された第１メタライズ層と第２メタライズ層とのどちらか一方と互いに高さの異なる平行平面上に形成されたことを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか一項に記載の赤外線検知器。
【請求項５】
第１収容部材と赤外線透過性を有する第２収容部材とによって真空封止された内部空間に赤外線検知素子を収容した赤外線検知器の製造方法であって、
前記第１収容部材の前記第２収容部材が接合される接合部に、環状の第１メタライズ層を形成する第１メタライズ層形成工程と、
前記第２収容部材の前記第１収容部材が接合される接合部に、環状の第２メタライズ層を形成する第２メタライズ層形成工程と、
前記第１収容部材における前記第１メタライズ層と前記第２収容部材における前記第２メタライズ層とのどちらか一方の近傍に、前記第１メタライズ層と前記第２メタライズ層とのどちらか他方に少なくとも一部がラップする非環状の第３メタライズ層を形成する第３メタライズ層形成工程と、
前記第３メタライズ層に溶融した溶着金属を配置する溶着金属予備配置工程と、
真空雰囲気で前記第１収容部材と前記第２収容部材とを加熱状態で接触させることで、前記近傍に形成された前記第１メタライズ層と前記第２メタライズ層とのどちらか一方に前記溶着金属を移動させる溶着金属移動工程と、
真空雰囲気で前記溶着金属を冷却して前記第１収容部材と前記第２収容部材とを気密接合する収容部材封止工程と
を含むことを特徴とする赤外線検知器の製造方法。
【請求項６】
前記第３メタライズ層形成工程において、前記第３メタライズ層を複数形成したことを特徴とする請求項５に記載の赤外線検知器の製造方法。
【請求項７】
前記第３メタライズ層形成工程において、前記第３メタライズ層を、前記近傍に形成された第１メタライズ層と第２メタライズ層とのどちらか一方と互いに高さの異なる平行平面上に形成したことを特徴とする請求項５または請求項６に記載の赤外線検知器の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明の赤外線検知器では、赤外線検知素子を収容する第１収容部材と、前記第１収容部材に対して環状の接合部をもって接合された赤外線透過性を有する第２収容部材とを備え、前記第１収容部材側の接合部に環状の第１メタライズ層が形成されるとともに、前記第２収容部材側の接合部に環状の第２メタライズ層が形成され、当該第１メタライズ層と第２メタライズ層とが溶着金属によって気密接合されることにより、前記赤外線検知素子が真空封入された赤外線検知器であって、前記第１収容部材における前記第１メタライズ層と前記第２収容部材における前記第２メタライズ層とのどちらか一方の近傍に形成され、前記第１メタライズ層と前記第２メタライズ層とのどちらか他方に少なくとも一部がラップする第３のメタライズ層を備え、前記第１メタライズ層と前記第２メタライズ層とが、前記溶着金属によって不純物を介さずに気密接合された構成とする（請求項１）。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、前記第１メタライズ層と前記第２メタライズ層とが、前記第３メタライズ層に予め配置された前記溶着金属によって不純物を介さずに気密接合されるように構成し（請求項２）、あるいは前記第３メタライズ層を複数備えるように構成するとよく（請求項３）、前記第３メタライズ層が、前記近傍に形成された第１メタライズ層と第２メタライズ層とのどちらか一方と互いに高さの異なる平行平面上に形成されるように構成してもよい（請求項４）。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、本発明の赤外線検知器の製造方法では、第１収容部材と赤外線透過性を有する第２収容部材とによって真空封止された内部空間に赤外線検知素子を収容した赤外線検知器の製造方法であって、前記第１収容部材の前記第２収容部材が接合される接合部に、環状の第１メタライズ層を形成する第１メタライズ層形成工程と、前記第２収容部材の前記第１収容部材が接合される接合部に、環状の第２メタライズ層を形成する第２メタライズ層形成工程と、前記第１収容部材における前記第１メタライズ層と前記第２収容部材における前記第２メタライズ層とのどちらか一方の近傍に、前記第１メタライズ層と前記第２メタライズ層とのどちらか他方に少なくとも一部がラップする非環状の第３メタライズ層を形成する第３メタライズ層形成工程と、前記第３メタライズ層に溶融した溶着金属を配置する溶着金属予備配置工程と、真空雰囲気で前記第１収容部材と前記第２収容部材とを加熱状態で接触させることで、前記近傍に形成された前記第１メタライズ層と前記第２メタライズ層とのどちらか一方に前記溶着金属を移動させる溶着金属移動工程と、真空雰囲気で前記溶着金属を冷却して前記第１収容部材と前記第２収容部材とを気密接合する収容部材封止工程とを含む構成とする（請求項４）。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明によれば、第１メタライズ層または第２メタライズ層の近傍に第３メタライズ層を形成しておくという簡単な構成を採用した上で、溶着金属を予備配置する際の留め用として第３メタライズ層を利用し、真空雰囲気で第１収容部材と第２収容部材とを加熱押圧することにより、表面の酸化膜を破り出た純粋な溶着金属を、親和性の高い第１メタライズ層と第２メタライズ層との側に移動させるとともに、毛細管現象によって両メタライズ層間を移動して全周に行き渡らせることが可能となる。これにより、封止部に不純物を含まない気密信頼性の高い赤外線検知器が得られる。また、溶着金属を全周に余盛りして切削する必要がないので、溶着金属のロスが少なくなるとともに、溶着金属を配置するためのベイキング工程や、余盛りした溶着金属の切削工程、切削表面のスクラブ工程を行う必要がなくなり、製造工程も簡略化される。このように、材料ロスおよび不良品発生率の低減ならびに工程の簡略化により、低コストで気密信頼性の高い赤外線検知器を製造することができる。（請求項５）
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、第３メタライズ層を複数形成することにより、１箇所にのみ形成した場合と比べて、溶着金属を環状の第１メタライズ層および第２メタライズ層の全周に容易且つ短時間に行き渡ることが可能な赤外線検知器が得られる。また予備配置する溶着金属の大きさが小さくて済むため、溶着金属を溶融させるのに要する時間が短縮される他、加熱温度を極力低く抑えて赤外線検知素子にダメージが加わることが防止された赤外線検知器が得られる。（請求項６）
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、第３メタライズ層とこれに近接するメタライズ層との高さに差がつけられることにより、留め用として利用された高さの低い第３メタライズ層に配置された溶着金属が、封止用として利用された高いメタライズ層に少量で行き渡るようになり、溶着金属の材料投入量が低減されるとともに、溶着金属を容易且つ短時間に封止用のメタライズ層に行き渡させることが可能な赤外線検知器が得られる。また、高さに差をつけてメタライズ層を分割することにより、第３メタライズ層とこれに近接するメタライズ層との間に平面的な間隔を設ける必要がなくなり、より小型化された赤外線検知器が得られる。（請求項７）
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
赤外線検知器１の製造するために、まず、セラミック容器４の赤外線透過窓材５が接合される接合部に、環状の容器側メタライズ層６を形成する（第１メタライズ層形成工程）。また、前記工程に平行して、セラミック容器４における容器側メタライズ層６の近傍に、４つの補助メタライズ層８ａ〜８ｄを形成する（第３メタライズ層形成工程）。この際、各補助メタライズ層８ａ〜８ｄの一部が後述する窓側メタライズ層７とラップするように配置する。更に、これらに平行して、赤外線透過窓材５のセラミック容器４が接合される接合部に、環状の窓側メタライズ層７を形成する（第２メタライズ層形成工程）。容器側メタライズ層６と窓側メタライズ層７とは、溶着金属９によってセラミック容器４と赤外線透過窓材５とを封止する目的に利用され、補助メタライズ層８は、セラミック容器４と赤外線透過窓材５とを接合する前に、溶融した溶着金属９を予備的に配置する目的に利用される。