【手続補正書】
【提出日】平成25年5月10日(2013.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に材料を印刷するための方法であって：
ａ）バインダー、エチレン性不飽和化合物、および光開始剤を含有する光重合性組成物の層を含む感光性要素から凸版印刷フォームを提供する工程であって：
ｉ）前記光重合性層に隣接し、化学線に対して不透過性の領域を貫く複数の開口を有するｉｎ−ｓｉｔｕマスクを形成する工程であって、前記開口がインチ当たり２５０線以上のスクリーン線数解像度を有する工程と；
ｉｉ）不活性ガスおよび１９０，０００百万分率（ｐｐｍ）〜１００ｐｐｍの濃度の酸素を有する環境において、前記マスク開口を介して、前記光重合性層を化学線に露光する工程と；
ｉｉｉ）工程ｉｉ）から得られる要素を処理して、インチ当たり２５０線以上のスクリーン線数解像度を有する複数の浮出し面を有するレリーフ構造を形成する工程と
を含む工程と；
ｂ）前記複数の浮出し面に前記材料を塗布する工程と；
ｃ）前記材料を前記複数の浮出し面から前記基板に接触させ、それによって前記材料を前記基板に転写する工程と
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記マスク開口の解像度が、２５０線毎インチ（ＬＰＩ）、３００ＬＰＩ、３５０ＬＰＩ、４００ＬＰＩ、および６００ＬＰＩからなる群から選択されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
２５０線毎インチ以上のスクリーン線数解像度を有する複数の浮出し面を含むレリーフ構造を有するエラストマー層を有する凸版印刷フォームを作製するための方法であって：
ａ）バインダー、エチレン性不飽和化合物、および光開始剤を含む光重合性材料のエラストマー層を含む感光性要素を提供する工程と；
ｂ）前記光重合性層に隣接し、化学線に対して不透過性の領域を貫く複数の開口を有するｉｎ−ｓｉｔｕマスクを形成する工程であって、前記開口が、２５０線毎インチ以上のスクリーン線数解像度を有する工程と；
ｃ）不活性ガスおよび１９０，０００百万分率（ｐｐｍ）〜１００ｐｐｍの濃度の酸素を有する環境において、前記マスク開口を介して、前記光重合性層を化学線に露光する工程と；
ｄ）工程ｃ）から得られる要素を処理して、２５０線毎インチ以上のスクリーン線数解像度を有する複数の浮出し面を有するレリーフ構造を形成する工程と
を含むことを特徴とする方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１３】
これらの結果は、凸版印刷フォームにおいて、低い走査解像度で高い空間解像度（例えばインチ当たり４，０００走査線で４００／６００ＤＰＩ）の構造（すなわち、浮出し面要素）を正確に製造するのが困難であることを示した。また、好適な画像形成解像度を用いて、凸版印刷フォームの非常に高い空間解像度（６００ドット毎インチ）で小さい構造（約２１μｍ）を得ることができる。さらに、コーティング材料の層を印刷するのに十分である、凸版印刷フォームにおける浮出し面要素の構造を、本発明の方法を用いて得ることができる。
以下に、本発明の好ましい態様を示す。
［１］  基板上に材料を印刷するための方法であって：
ａ）バインダー、エチレン性不飽和化合物、および光開始剤を含有する光重合性組成物の層を含む感光性要素から凸版印刷フォームを提供する工程であって：
ｉ）前記光重合性層に隣接し、化学線に対して不透過性の領域を貫く複数の開口を有するｉｎ−ｓｉｔｕマスクを形成する工程であって、前記開口がインチ当たり２５０線以上のスクリーン線数解像度を有する工程と；
ｉｉ）不活性ガスおよび１９０，０００百万分率（ｐｐｍ）〜１００ｐｐｍの濃度の酸素を有する環境において、前記マスク開口を介して、前記光重合性層を化学線に露光する工程と；
ｉｉｉ）工程ｉｉ）から得られる要素を処理して、インチ当たり２５０線以上のスクリーン線数解像度を有する複数の浮出し面を有するレリーフ構造を形成する工程と
を含む工程と；
ｂ）前記複数の浮出し面に前記材料を塗布する工程と；
ｃ）前記材料を前記複数の浮出し面から前記基板に接触させ、それによって前記材料を前記基板に転写する工程と
を含むことを特徴とする方法。
［２］  前記接触工程が、前記基板上に前記材料の層を形成することを特徴とする［１］に記載の方法。
［３］  前記材料の層の２つ以上の領域を有するパターンが、前記基板上に形成されることを特徴とする［２］に記載の方法。
［４］  前記基板上の前記材料が、５０〜５０００オングストロームの厚さを有することを特徴とする［１］に記載の方法。
［５］  前記基板上の前記材料の層が、約２００〜１５００オングストロームの厚さを有することを特徴とする［２］に記載の方法。
［６］  前記マスクの前記開口が、全画素面積の２０〜８０％であるドット面積を有することを特徴とする［２］に記載の方法。
［７］  前記接触工程が、前記材料のグラフィック画像を前記基板上に形成し、前記グラフィック画像は、中間調の図、テキスト、線特徴、およびそれらの組合せからなる群から選択されることを特徴とする［１］に記載の方法。
［８］  前記レリーフ構造の前記複数の浮出し面のスクリーン線数解像度が、前記マスクのスクリーン線数解像度と同一または実質的に同一であることを特徴とする［１］に記載の方法。
［９］  前記マスク開口の解像度が、２５０線毎インチ（ＬＰＩ）、３００ＬＰＩ、３５０ＬＰＩ、４００ＬＰＩ、および６００ＬＰＩからなる群から選択されることを特徴とする［１］に記載の方法。
［１０］  前記浮出し面の解像度が、４００線毎インチ以上であることを特徴とする［１］に記載の方法。
［１１］  各浮出し面が、約１０〜約９０マイクロメートルの直径を有する上面を有することを特徴とする［１］に記載の方法。
［１２］  前記材料が液晶配列材料であることを特徴とする［１］に記載の方法。
［１３］  前記材料がポリイミドであることを特徴とする［１］に記載の方法。
［１４］  前記材料が、ワニス、インク、および接着剤からなる群から選択されることを特徴とする［１］に記載の方法。
［１５］  前記環境における酸素の濃度が、８０，０００ｐｐｍ以下であることを特徴とする［１］に記載の方法。
［１６］  前記不活性ガスが、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、およびそれらの組合せからなる群から選択されることを特徴とする［１］に記載の方法。
［１７］  化学線不透過性材料の層が、前記光重合性層上または前記光重合性層に隣接して配置され、工程ｉ）が、前記化学線不透過性層をレーザー放射線で像様露光して、前記ｉｎ−ｓｉｔｕマスクを形成する工程を含むことを特徴とする［１］に記載の方法。
［１８］  レーザー放射線での前記像様露光工程が、（ａ）前記光重合性層から前記化学線不透過性層を選択的に融除する工程、および（ｂ）前記化学線不透過性層の部分を前記光重合性層に選択的に転写する工程からなる群から選択されることを特徴とする［１７］に記載の方法。
［１９］  前記処理工程ｉｉｉ）が：
ａ）工程ｉｉ）の要素を、溶剤溶液、水溶液、半水溶液、および水からなる群から選択される少なくとも１種の洗浄溶液で処理する工程；および
ｂ）工程ｉｉ）の要素を、領域を溶融、流動、または軟化させるのに十分な温度に加熱し、前記領域を除去する工程
からなる群から選択されることを特徴とする［１］に記載の方法。
［２０］  ２５０線毎インチ以上のスクリーン線数解像度を有する複数の浮出し面を含むレリーフ構造を有するエラストマー層を有する凸版印刷フォームを作製するための方法であって：
ａ）バインダー、エチレン性不飽和化合物、および光開始剤を含む光重合性材料のエラストマー層を含む感光性要素を提供する工程と；
ｂ）前記光重合性層に隣接し、化学線に対して不透過性の領域を貫く複数の開口を有するｉｎ−ｓｉｔｕマスクを形成する工程であって、前記開口が、２５０線毎インチ以上のスクリーン線数解像度を有する工程と；
ｃ）不活性ガスおよび１９０，０００百万分率（ｐｐｍ）〜１００ｐｐｍの濃度の酸素を有する環境において、前記マスク開口を介して、前記光重合性層を化学線に露光する工程と；
ｄ）工程ｃ）から得られる要素を処理して、２５０線毎インチ以上のスクリーン線数解像度を有する複数の浮出し面を有するレリーフ構造を形成する工程と
を含むことを特徴とする方法。