(57)【要約】【課題】浮上量を低減させることができるヘッドスライダを提供する。【解決手段】ヘッドスライダ２１では、後方空気軸受け面４５は基準面３３から第２高さＨ２に規定される。後方空気軸受け面４５にはヘッド素子４９が埋め込まれる。その一方で、前方空気軸受け面４３は基準面３３から第２高さＨ２より高い第１高さＨ１に規定される。後方空気軸受け面４５と前方空気軸受け面４３との間には基準面３３から高さ方向に所定の距離が確保される。後方空気軸受け面４５からヘッド素子４９が突き出しても、ヘッド素子４９および記録媒体の接触はできる限り回避される。しかも、ヘッド素子４９および記録媒体の間でこれまで通りの距離が維持されれば、前方空気軸受け面４３はこれまで以上に十分に記録媒体に接近することができる。その結果、ヘッドスライダ２１の浮上量は低減されることができる。ヘッドスライダ２１の浮上姿勢は安定する。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基準面を規定するスライダ本体と、スライダ本体の空気流入端側に配置され、スライダ本体の基準面から第１高さで前方空気軸受け面を規定するフロントレールと、スライダ本体の空気流出端側に配置され、スライダ本体の基準面から第１高さよりも低い第２高さで後方空気軸受け面を規定するリアレールと、後方空気軸受け面に埋め込まれるヘッド素子とを備えることを特徴とするヘッドスライダ。
【請求項２】
請求項１に記載のヘッドスライダにおいて、前記スライダ本体の空気流出端側で前記リアレールの両側に配置され、前記スライダ本体の基準面から第１高さで補助後方空気軸受け面を規定する１対のリアサイドレールを備えることを特徴とするヘッドスライダ。
【請求項３】
請求項１に記載のヘッドスライダにおいて、前記スライダ本体の空気流出端側で前記リアレールの両側に配置され、前記スライダ本体の基準面から第１高さよりも低く第２高さよりも高い第３高さで補助後方空気軸受け面を規定する１対のリアサイドレールを備えることを特徴とするヘッドスライダ。
【請求項４】
請求項１に記載のヘッドスライダにおいて、前記前方空気軸受け面および前記補助後方空気軸受け面は、空気流入端から空気流出端に向かうにつれて前記基準面に近づく仮想平面内で広がることを特徴とするヘッドスライダ。
【請求項５】
請求項１に記載のヘッドスライダにおいて、前記スライダ本体上に第１膜厚で形成されて前記前方空気軸受け面を規定する第１保護膜と、第１膜厚よりも小さい第２膜厚で前記スライダ本体上に形成されて前記後方空気軸受け面を規定し、前記ヘッド素子に覆い被さる第２保護膜とを備えることを特徴とするヘッドスライダ。
【請求項６】
基準面を規定するスライダ本体と、スライダ本体の空気流入端側に配置され、スライダ本体の基準面から第１高さで前方空気軸受け面を規定するフロントレールと、スライダ本体の空気流出端側に配置され、スライダ本体の基準面から第１高さで後方空気軸受け面を規定するリアレールと、後方空気軸受け面から外れた位置で、スライダ本体の基準面から第１高さよりも低い第２高さでリアレールに埋め込まれるヘッド素子とを備えることを特徴とするヘッドスライダ。
【請求項７】
請求項６に記載のヘッドスライダにおいて、前記スライダ本体の空気流出端側で前記リアレールの両側に配置され、前記スライダ本体の基準面から第１高さで補助後方空気軸受け面を規定する１対のリアサイドレールを備えることを特徴とするヘッドスライダ。
【請求項８】
請求項６に記載のヘッドスライダにおいて、前記スライダ本体の空気流出端側で前記リアレールの両側に配置され、前記スライダ本体の基準面から第１高さよりも低い第３高さで補助後方空気軸受け面を規定する１対のリアサイドレールを備えることを特徴とするヘッドスライダ。
【請求項９】
基準面を規定するスライダ本体と、スライダ本体の空気流入端側に配置され、スライダ本体の基準面から第１高さで前方空気軸受け面を規定するフロントレールと、スライダ本体の空気流出端側に配置され、スライダ本体の基準面から第１高さよりも低い第２高さで後方空気軸受け面を規定するリアレールと、後方空気軸受け面から外れた位置で、スライダ本体の基準面から第２高さよりも低い第３高さでリアレールに埋め込まれるヘッド素子とを備えることを特徴とするヘッドスライダ。
【請求項１０】
請求項９に記載のヘッドスライダにおいて、前記スライダ本体の空気流出端側で前記リアレールの両側に配置され、前記スライダ本体の基準面から第２高さで補助後方空気軸受け面を規定する１対のリアサイドレールを備えることを特徴とするヘッドスライダ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えばハードディスク駆動装置（ＨＤＤ）といった記録媒体駆動装置に組み込まれるヘッドスライダに関する。
【背景技術】
【０００２】
例えばＨＤＤの浮上ヘッドスライダにはフロントレールやリアレールが形成される。リアレールの空気軸受け面にはヘッド素子すなわち電磁変換素子が組み込まれる。電磁変換素子の磁気コイルに供給される書き込み電流に基づき電磁変換素子から磁束が漏れ出る。こうして漏れ出る磁束は磁気ディスクに作用する。こうして磁気ディスクには磁気情報が書き込まれる。
【特許文献１】特許第２７８６１１９号公報
【特許文献２】特許第２９５１１６４号公報
【特許文献３】特許第２７９０１１４号公報
【特許文献４】国際公開第２００２／８２４４２号パンフレット
【特許文献５】特許第３５８５５６３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
電磁変換素子は、浮上ヘッドスライダのアルミナ膜内に埋め込まれる。磁気コイルに電流が供給されると、磁気コイルの発熱に基づきアルミナ膜は膨張する。電磁変換素子は空気軸受け面から磁気ディスクに向かって突き出る。電磁変換素子および磁気ディスクの接触の回避にあたって、大きな浮上量が必要とされる。電磁変換素子は高い密度で磁気情報を書き込むことができない。
【０００４】
本発明は、上記実状に鑑みてなされたもので、浮上量を低減させることができるヘッドスライダを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記目的を達成するために、第１発明によれば、基準面を規定するスライダ本体と、スライダ本体の空気流入端側に配置され、スライダ本体の基準面から第１高さで前方空気軸受け面を規定するフロントレールと、スライダ本体の空気流出端側に配置され、スライダ本体の基準面から第１高さよりも低い第２高さで後方空気軸受け面を規定するリアレールと、後方空気軸受け面に埋め込まれるヘッド素子とを備えることを特徴とするヘッドスライダが提供される。
【０００６】
こういったヘッドスライダでは、後方空気軸受け面は基準面から第２高さに規定される。後方空気軸受け面にはヘッド素子が埋め込まれる。その一方で、前方空気軸受け面は基準面から第２高さより高い第１高さに規定される。後方空気軸受け面と前方空気軸受け面との間には基準面から高さ方向に所定の距離が確保される。後方空気軸受け面からヘッド素子が突き出しても、ヘッド素子および記録媒体の接触はできる限り回避される。
【０００７】
しかも、前述されるように、前方空気軸受け面は後方空気軸受け面よりも高く規定される。したがって、ヘッド素子および記録媒体の間でこれまで通りの距離が維持されれば、前方空気軸受け面はこれまで以上に十分に記録媒体に接近することができる。その結果、ヘッドスライダの浮上量は低減されることができる。ヘッドスライダの浮上姿勢は安定する。
【０００８】
ヘッドスライダは、スライダ本体の空気流出端側でリアレールの両側に配置され、スライダ本体の基準面から第１高さで補助後方空気軸受け面を規定する１対のリアサイドレールを備えてもよい。その一方で、ヘッドスライダは、スライダ本体の空気流出端側でリアレールの両側に配置され、スライダ本体の基準面から第１高さよりも低く第２高さよりも高い第３高さで補助後方空気軸受け面を規定する１対のリアサイドレールを備えてもよい。
【０００９】
こうしたヘッドスライダでは、補助後方空気軸受け面は後方空気軸受け面よりも高く規定される。後方空気軸受け面からヘッド素子が突き出しても、ヘッド素子および記録媒体の接触はできる限り回避される。しかも、補助後方空気軸受け面はこれまで以上に記録媒体に接近することができる。
【００１０】
前方空気軸受け面および補助後方空気軸受け面は、空気流入端から空気流出端に向かうにつれて基準面に近づく仮想平面内で広がればよい。こうしたヘッドスライダによれば、ヘッドスライダにピッチ角が規定されても、前方空気軸受け面および記録媒体の間の距離と、補助後方空気軸受け面および記録媒体の間の距離とは等しく設定されることができる。前方空気軸受け面および補助後方空気軸受け面は記録媒体に一層十分に接近することができる。
【００１１】
以上のようなヘッドスライダは、スライダ本体上に形成されて後方空気軸受け面を規定し、ヘッド素子に覆い被さる保護膜を備えればよい。その一方で、ヘッドスライダは、スライダ本体上に第１膜厚で形成されて前方空気軸受け面を規定する第１保護膜と、第１膜厚よりも小さい第２膜厚でスライダ本体上に形成されて後方空気軸受け面を規定し、ヘッド素子に覆い被さる第２保護膜とを備えてもよい。こうした第１および第２保護膜の膜厚が制御されれば、第１高さや第２高さは簡単に制御されることができる。
【００１２】
第２発明によれば、基準面を規定するスライダ本体と、スライダ本体の空気流入端側に配置され、スライダ本体の基準面から第１高さで前方空気軸受け面を規定するフロントレールと、スライダ本体の空気流出端側に配置され、スライダ本体の基準面から第１高さで後方空気軸受け面を規定するリアレールと、後方空気軸受け面から外れた位置で、スライダ本体の基準面から第１高さよりも低い第２高さでリアレールに埋め込まれるヘッド素子とを備えることを特徴とするヘッドスライダが提供される。
【００１３】
こういったヘッドスライダでは、前方空気軸受け面および後方空気軸受け面は基準面から第１高さに規定される。リアレールには、後方空気軸受け面から外れた位置で、第１高さよりも低い第２高さでヘッド素子が埋め込まれる。ヘッド素子と後方空気軸受け面との間には基準面から高さ方向に所定の距離が確保される。リアレールからヘッド素子が突き出しても、ヘッド素子および記録媒体の接触はできる限り回避される。
【００１４】
しかも、前述されるように、前方空気軸受け面および後方空気軸受け面はヘッド素子よりも高く規定される。したがって、ヘッド素子および記録媒体の間でこれまで通りの距離が維持されれば、前方空気軸受け面および後方空気軸受け面はこれまで以上に十分に記録媒体に接近することができる。その結果、ヘッドスライダの浮上量は低減されることができる。ヘッドスライダの浮上姿勢は安定する。
【００１５】
ヘッドスライダは、スライダ本体の空気流出端側でリアレールの両側に配置され、スライダ本体の基準面から第１高さで補助後方空気軸受け面を規定する１対のリアサイドレールを備えてもよい。その一方で、ヘッドスライダは、スライダ本体の空気流出端側でリアレールの両側に配置され、スライダ本体の基準面から第１高さよりも低い第３高さで補助後方空気軸受け面を規定する１対のリアサイドレールを備えてもよい。
【００１６】
こうしたヘッドスライダでは、補助後方空気軸受け面はヘッド素子よりも高く規定される。リアレールからヘッド素子が突き出しても、ヘッド素子および記録媒体の接触はできる限り回避される。しかも、補助後方空気軸受け面はこれまで以上に記録媒体に接近することができる。
【００１７】
後方空気軸受け面および補助後方空気軸受け面は、空気流入端から空気流出端に向かって前後方向に規定されるスライダ本体の中心線からスライダ本体の側端に向かうにつれて基準面に近づいてもよい。こうしたヘッドスライダによれば、ヘッドスライダにロール角が規定されても、後方空気軸受け面や補助後方空気軸受け面は記録媒体に接近することができる。
【００１８】
こういったヘッドスライダは、スライダ本体上に形成されてヘッド素子に覆い被さる保護膜を備えればよい。その一方で、ヘッドスライダは、スライダ本体上に第１膜厚で形成されて後方空気軸受け面を規定する第１保護膜と、第１膜厚よりも小さい第２膜厚でスライダ本体上に形成されて、ヘッド素子に覆い被さる第２保護膜とを備えてもよい。
【００１９】
第３発明によれば、基準面を規定するスライダ本体と、スライダ本体の空気流入端側に配置され、スライダ本体の基準面から第１高さで前方空気軸受け面を規定するフロントレールと、スライダ本体の空気流出端側に配置され、スライダ本体の基準面から第１高さよりも低い第２高さで後方空気軸受け面を規定するリアレールと、後方空気軸受け面から外れた位置で、スライダ本体の基準面から第２高さよりも低い第３高さでリアレールに埋め込まれるヘッド素子とを備えることを特徴とするヘッドスライダが提供される。
【００２０】
こういったヘッドスライダでは、前方空気軸受け面は基準面から第１高さに規定される。後方空気軸受け面は基準面から第１高さよりも低い第２高さに規定される。リアレールには、後方空気軸受け面から外れた位置で、第２高さよりも低い第３高さでヘッド素子が埋め込まれる。ヘッド素子と前方空気軸受け面や後方空気軸受け面との間には基準面から高さ方向に所定の距離が確保される。リアレールからヘッド素子が突き出しても、ヘッド素子および記録媒体の接触はできる限り回避される。
【００２１】
しかも、前述されるように、前方空気軸受け面および後方空気軸受け面はヘッド素子よりも高く規定される。したがって、ヘッド素子および記録媒体の間でこれまで通りの距離が維持されれば、ヘッドスライダにピッチ角が規定されても、前方空気軸受け面および後方空気軸受け面はこれまで以上に十分に記録媒体に接近することができる。その結果、ヘッドスライダの浮上量は低減される。ヘッドスライダの浮上姿勢は安定する。
【００２２】
ヘッドスライダは、スライダ本体の空気流出端側でリアレールの両側に配置され、スライダ本体の基準面から第２高さで補助後方空気軸受け面を規定する１対のリアサイドレールを備えてもよい。リアサイドレールの補助後方空気軸受け面はヘッド素子よりも高く規定される。リアレールからヘッド素子が突き出しても、ヘッド素子および記録媒体の接触はできる限り回避される。しかも、補助後方空気軸受け面はこれまで以上に記録媒体に接近することができる。
【００２３】
前方空気軸受け面、後方空気軸受け面および補助後方空気軸受け面は、空気流入端から空気流出端に向かうにつれて基準面に近づく仮想平面内で広がってもよい。こうしたヘッドスライダによれば、ヘッドスライダでピッチ角が規定されても、前方空気軸受け面および記録媒体の間の距離と、補助後方空気軸受け面および記録媒体の間の距離と、補助後方空気軸受け面および記録媒体の間の距離とは等しく設定されることができる。前方空気軸受け面や後方空気軸受け面、補助後方空気軸受け面は記録媒体に一層十分に接近することができる。
【００２４】
その一方で、後方空気軸受け面および補助後方空気軸受け面は、空気流入端から空気流出端に向かって前後方向に規定されるスライダ本体の中心線からスライダ本体の側端に向かうにつれて基準面に近づいてもよい。同時に、前方空気軸受け面、後方空気軸受け面および補助後方空気軸受け面は、空気流入端から空気流出端に向かうにつれて基準面に近づいてもよい。
【００２５】
以上のようなヘッドスライダは、前述と同様に、スライダ本体上に形成されてヘッド素子に覆い被さる保護膜を備えてもよい。その一方で、ヘッドスライダは、スライダ本体上に第１膜厚で形成されて表面で後方空気軸受け面を規定する第１保護膜と、第１膜厚よりも小さい第２膜厚でスライダ本体上に形成されて、ヘッド素子に覆い被さる第２保護膜とを備えてもよい。
【発明の効果】
【００２６】
以上のように本発明によれば、浮上量を低減させることができるヘッドスライダが提供されることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下、添付図面を参照しつつ本発明の一実施形態を説明する。
【００２８】
図１は記録媒体駆動装置の一具体例すなわちハードディスク駆動装置（ＨＤＤ）１１の内部構造を概略的に示す。このＨＤＤ１１は、例えば平たい直方体の内部空間を区画する箱形の筐体本体１２を備える。筐体本体１２は例えばアルミニウムといった金属材料から鋳造に基づき成形されればよい。筐体本体１２には蓋体すなわちカバー（図示されず）が結合される。カバーと筐体本体１２との間で収容空間は密閉される。カバーは例えばプレス加工に基づき１枚の板材から成形されればよい。
【００２９】
収容空間には、記録ディスクとしての１枚以上の磁気ディスク１３が収容される。磁気ディスク１３はスピンドルモータ１４の回転軸に装着される。スピンドルモータ１４は例えば５４００ｒｐｍや７２００ｒｐｍ、１００００ｒｐｍ、１５０００ｒｐｍといった高速度で磁気ディスク１３を回転させることができる。
【００３０】
収容空間にはキャリッジ１５がさらに収容される。キャリッジ１５はキャリッジブロック１６を備える。キャリッジブロック１６は、垂直方向に延びる支軸１７に回転自在に連結される。キャリッジブロック１６には、支軸１７から水平方向に延びる複数のキャリッジアーム１８が区画される。キャリッジブロック１６は例えば押し出し成形に基づきアルミニウムから成型されればよい。
【００３１】
個々のキャリッジアーム１８の先端には、キャリッジアーム１８から前方に延びるヘッドサスペンション１９が取り付けられる。ヘッドサスペンション１９の前端には磁気ディスク１３の表面に向かって所定の押し付け力が作用する。ヘッドサスペンション１９の前端には浮上ヘッドスライダ２１が固定される。
【００３２】
浮上ヘッドスライダ２１にはヘッド素子すなわち電磁変換素子（図示されず）が搭載される。この電磁変換素子は、例えば、薄膜コイルパターンで生成される磁界を利用して磁気ディスク１３に情報を書き込む薄膜磁気ヘッドといった書き込み素子と、スピンバルブ膜やトンネル接合膜の抵抗変化を利用して磁気ディスク１３から情報を読み出す巨大磁気抵抗効果（ＧＭＲ）素子やトンネル接合磁気抵抗効果（ＴＭＲ）素子といった読み出し素子とで構成されればよい。
【００３３】
磁気ディスク１３の回転に基づき磁気ディスク１３の表面で気流が生成されると、気流の働きで浮上ヘッドスライダ２１には正圧すなわち浮力および負圧が作用する。浮力および負圧とヘッドサスペンション１９の押し付け力とが釣り合うことで磁気ディスク１３の回転中に比較的に高い剛性で浮上ヘッドスライダ２１は浮上し続けることができる。
【００３４】
キャリッジブロック１６にはボイスコイルモータ（ＶＣＭ）２２が連結される。ＶＣＭ２２の働きでキャリッジブロック１６は支軸１７回りで回転することができる。こうしたキャリッジブロック１６の回転に基づきキャリッジアーム１８の揺動は実現される。浮上ヘッドスライダ２１の浮上中に支軸１７回りでキャリッジアーム１８が揺動すると、浮上ヘッドスライダ２１は半径方向に磁気ディスク１３の表面を横切ることができる。こうした浮上ヘッドスライダ２１の移動に基づき電磁変換素子は目標記録トラックに対して位置決めされることができる。
【００３５】
ヘッドサスペンション１９の先端には、ヘッドサスペンション１９の先端から前方に延びるロードタブ２３が固定される。ロードタブ２３はキャリッジアーム１８の揺動に基づき磁気ディスク１３の半径方向に移動することができる。ロードタブ２３の移動経路上には磁気ディスク１３の外側でランプ部材２４が配置される。ランプ部材２４の先端は最外周記録トラックの外側で非データゾーンに向き合わせられる。ランプ部材２４およびロードタブ２３は協働でいわゆるロードアンロード機構を構成する。ランプ部材２４は例えば硬質プラスチック材料から成型されればよい。
【００３６】
図２は本発明の第１実施形態に係る浮上ヘッドスライダ２１の構造を概略的に示す。この浮上ヘッドスライダ２１は、平たい直方体に形成されるスライダ本体３１を備える。スライダ本体３１は媒体対向面すなわち浮上面３２で磁気ディスク１３に向き合う。浮上面３２には平坦な基準面すなわちベース面３３が規定される。磁気ディスク１３が回転すると、スライダ本体３１の前端から後端に向かって浮上面３２には気流３４が作用する。スライダ本体３１は、例えばＡｌ２Ｏ３−ＴｉＣ（アルチック）製の母材３５と、この母材３５の空気流出側端面に積層されるＡｌ２Ｏ３（アルミナ）膜３６とで構成されればよい。
【００３７】
スライダ本体３１の浮上面３２では気流３４の上流端側すなわち空気流入端側でベース面３３から１筋のフロントレール３７が立ち上がる。フロントレール３７はベース面３３の空気流入端に沿って気流３４を横切る左右方向に延びる。同様に、気流３４の下流端側すなわち空気流出端側ではベース面３３から１対のリアサイドレール３８、３８が立ち上がる。リアサイドレール３８はベース面３３の縁に沿って配置される。リアサイドレール３８同士の間ではベース面３３からリアセンターレール３９が立ち上がる。リアセンターレール３９はベース面３３の空気流出端から空気流入側に向かって前後方向に延びる。
【００３８】
フロントレール３７には、ベース面３３から立ち上がる２筋のサイドレール４１、４１が接続される。サイドレール４１、４１はベース面３３の縁に沿ってフロントレール３７からリアサイドレール３８、３８に向かってそれぞれ前後方向に延びる。サイドレール４１、４１は対応するリアサイドレール３８、３８の手前で途切れる。こうしてサイドレール４１と対応のリアサイドレール３８との間には気流の逃げ道が確保される。
【００３９】
同様に、フロントレール３７には、ベース面３３から立ち上がる１筋のセンターレール４２が接続される。センターレール４２はサイドレール４１、４１同士の間でフロントレール３７からリアセンターレール３９に向かって前後方向に延びる。センターレール４２はリアセンターレール３９の手前で途切れる。サイドレール４１、４１およびセンターレール４２は相互に平行に延びればよい。
【００４０】
フロントレール３７の頂上面には前方空気軸受け面４３が規定される。同様に、リアサイドレール３８の頂上面には補助後方空気軸受け面４４が規定される。リアセンターレール３９の頂上面には後方空気軸受け面４５が規定される。空気軸受け面４３、４４、４５の空気流入端は段差４６、４７、４８でレール３７、３８、３９の頂上面に接続される。スライダ本体３１には前述の電磁変換素子４９が搭載される。この電磁変換素子４９はスライダ本体３１のアルミナ膜３６内に埋め込まれる。電磁変換素子４９の読み出しギャップや書き込みギャップはリアセンターレール３９の後方空気軸受け面４５で露出する。
【００４１】
リアセンターレール３９には電磁変換素子４９に隣接してヒータ（図示されず）が組み込まれる。こういったヒータの熱はアルミナ膜３６の膨張を促す。アルミナ膜３６の膨張に応じて電磁変換素子４９はリアセンターレール３９上で突き出る。こうして読み出しギャップや書き込みギャップの浮上高さは調整されることができる。
【００４２】
磁気ディスク１３が回転すると、磁気ディスク１３の表面に沿って気流３４が生成される。このとき、補助後方空気軸受け面４４および後方空気軸受け面４５に比べて前方空気軸受け面４３で大きな正圧すなわち浮力が生成される。こうして浮上ヘッドスライダ２１が磁気ディスク１３の表面から浮上すると、浮上ヘッドスライダ２１はピッチ角αの傾斜姿勢で維持される。ここで、ピッチ角αとは、気流３４の流れ方向に沿ったスライダ本体３１の前後方向の傾斜角をいう。
【００４３】
その一方で、磁気ディスク１３の回転中、キャリッジアーム１８の揺動に基づき浮上ヘッドスライダ２１は例えば磁気ディスク１３の半径方向に移動する。このとき、スライダ本体３１の側面には気流が作用する。その結果、浮上ヘッドスライダ２１ではロール角βの傾斜姿勢が確立される。ここで、ロール角βとは、気流３４の流れ方向に直交するスライダ本体３１の幅方向の傾斜角をいう。
【００４４】
図３に示されるように、浮上ヘッドスライダ２１では、前方空気軸受け面４３および補助後方空気軸受け面４４、４４がベース面３３から最も高く設定される。図４に示されるように、前方空気軸受け面４３はベース面３３から第１高さＨ１に規定される。フロントレール３７は、スライダ本体３１上に区画される前方台座５１と、第１膜厚で前方台座５１に形成される第１保護膜５２とから構成される。第１保護膜５２の表面で前述の前方空気軸受け面４３が規定される。第１保護膜５２には例えばＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）が用いられればよい。
【００４５】
その一方で、後方空気軸受け面４５は、ベース面３３から第１高さＨ１よりも低い第２高さＨ２に規定される。リアセンターレール３９は、スライダ本体３１に区画される後方台座５３と、第１膜厚よりも小さい第２膜厚で後方台座５３上に形成される第２保護膜５４とから構成される。第２保護膜５４の表面で前述の後方空気軸受け面４５が規定される。第２保護膜５４には、第１保護膜５２と同様に、例えばＤＬＣが用いられればよい。リアセンターレール３９上で第２保護膜５４は電磁変換素子４９の前端に覆い被さる。
【００４６】
図５に示されるように、補助後方空気軸受け面４４は、前方空気軸受け面４３と同様に、ベース面３３から第１高さＨ１に規定される。したがって、前方空気軸受け面４３および補助後方空気軸受け面４４は、ベース面３３から第１高さＨ１でベース面３３に平行に広がる仮想平面（図示されず）内で広がる。リアサイドレール３８は、スライダ本体３１上に区画される側方台座５５と、第１膜厚で側方台座５５上に形成される第３保護膜５６とから構成される。第３保護膜５６の表面で補助後方空気軸受け面４４が規定される。第３保護膜５６には例えばＤＬＣが用いられればよい。
【００４７】
ベース面３３から前方台座５１、後方台座５３および側方台座５５の高さは等しく設定される。したがって、第１高さＨ１と第２高さＨ２との差は第１および第３保護膜５２、５６の膜厚と第２保護膜５４の膜厚との差に一致する。ここで、例えば電磁変換素子４９の磁気コイルに供給される電流に基づき磁気コイルは発熱する。磁気コイルの熱はアルミナ膜３６の膨張を促す。その結果、電磁変換素子４９はリアセンターレール３９上で突き出る。第１および第３保護膜５２、５６の膜厚と第２保護膜５４の膜厚との差は、例えば電磁変換素子４９の最大突き出し量に等しく設定されればよい。
【００４８】
以上のような浮上ヘッドスライダ２１では、後方空気軸受け面４５はベース面３３から第２高さＨ２に規定される。後方空気軸受け面４５には電磁変換素子４９が埋め込まれる。その一方で、前方空気軸受け面４３や補助後方空気軸受け面４４、４４はベース面３３から第２高さＨ２より高い第１高さＨ１に規定される。後方空気軸受け面４５と前方空気軸受け面４３や補助後方空気軸受け面４４、４４との間にはベース面３３から高さ方向に所定の距離が確保される。アルミナ膜３６の膨張に基づき電磁変換素子４９が突き出しても、電磁変換素子４９および磁気ディスク１３の接触はできる限り回避される。
【００４９】
しかも、前述されるように、前方空気軸受け面４３や補助後方空気軸受け面４４、４４は後方空気軸受け面４５の第２高さＨ２よりも高い第１高さＨ１で規定される。電磁変換素子４９および磁気ディスク１３の間でこれまで通りの距離が維持されれば、前方空気軸受け面４３や補助後方空気軸受け面４４、４４はこれまで以上に磁気ディスク１３に接近することができる。その結果、浮上ヘッドスライダ２１の浮上量は低減されることができる。浮上ヘッドスライダ２１の浮上姿勢は安定する。加えて、電磁変換素子４９には第２保護膜５４が覆い被さる。第２保護膜５４の働きで電磁変換素子の腐食は回避される。
【００５０】
次に、以上のような浮上ヘッドスライダ２１の製造方法を簡単に説明する。まず、アルチック製のウエハにアルミナ膜が積層される。アルミナ膜内には電磁変換素子が形成される。その後、ウエハからウエハバーが切り出される。切り出された後、ウエハバーの切断面には浮上面が形作られる。浮上面の形成にあたって、図６に示されるように、ウエハバー５７およびアルミナ膜５８の平坦面にはＤＬＣ膜５９が前述の第１膜厚で形成される。ＤＬＣ膜５９の表面には前述の前方空気軸受け面４３および補助後方空気軸受け面４４、４４の形成領域でＤＬＣ膜６１が形成される。
【００５１】
図７に示されるように、所定の領域にフォトレジスト膜６２が形成される。フォトレジスト膜６２の輪郭の外側でウエハバー５７およびアルミナ膜５８は削り出される。削り出しにあたって例えばミリングが用いられる。フロントレール３７やリアセンターレール３９が削り出される。こうして、図８に示されるように、ウエハバー５７の切断面には浮上面３２が形作られる。ＤＬＣ膜５９、６１で第１保護膜５２が形成される。ＤＬＣ膜５９で第２保護膜５４が形成される。その後、ウエハバー５７からスライダ本体３１は切り出される。こうして浮上ヘッドスライダ２１は製造される。
【００５２】
こうした製造方法によれば、ＤＬＣ膜５９、６１はウエハバー５７およびアルミナ膜５８の平坦面上に形成される。ＤＬＣ膜５９、６１の膜厚は第１〜第３保護膜５２、５４、５６の膜厚に一致する。その結果、ＤＬＣ膜５９、６１の膜厚の調整に基づき第１高さＨ１や第２高さＨ２は簡単に制御されることができる。すなわち、ベース面３３から前方空気軸受け面４３や後方空気軸受け面４５、補助後方空気軸受け面４４の高さは簡単に調整されることができる。こうした製造方法は例えば浮上ヘッドスライダ２１の設計変更に簡単に対応することができる。
【００５３】
図９に示されるように、前述の浮上ヘッドスライダ２１に代えて、ＨＤＤ１１には浮上ヘッドスライダ２１ａが組み込まれてもよい。この浮上ヘッドスライダ２１ａでは、ベース面３３から前方空気軸受け面４３が最も高く設定される。図１０に示されるように、補助後方空気軸受け面４４、４４は、ベース面３３から第１高さＨ１より低い第３高さＨ３に規定される。後方空気軸受け面４５は前述の第２高さＨ２に規定されればよい。第３高さＨ３は第２高さＨ２よりも高く規定される。その他、前述の浮上ヘッドスライダ２１と均等な構成や構造には同一の参照符号が付される。
【００５４】
こうした浮上ヘッドスライダ２１ａによれば、前述と同様に、後方空気軸受け面４５と前方空気軸受け面４３や補助後方空気軸受け面４４、４４との間にはベース面３３から高さ方向に所定の距離が確保される。したがって、アルミナ膜３６の膨張に基づき電磁変換素子４９が突き出しても、電磁変換素子４９および磁気ディスク１３の接触はできる限り回避される。
【００５５】
しかも、前方空気軸受け面４３や補助後方空気軸受け面４４は後方空気軸受け面４５よりも高く規定される。電磁変換素子４９および磁気ディスク１３の間でこれまで通りの距離が維持されれば、前方空気軸受け面４３や補助後方空気軸受け面４４、４４はこれまで以上に磁気ディスク１３に接近することができる。加えて、前方空気軸受け面４３は補助後方空気軸受け面４４、後方空気軸受け面４５よりも高く規定される。ピッチ角αが確立されても、前方空気軸受け面４３は磁気ディスク１３の表面に十分に接近することができる。浮上ヘッドスライダ２１ａの浮上量は低減される。浮上ヘッドスライダ２１ａの浮上姿勢は安定する。
【００５６】
こうした浮上ヘッドスライダ２１ａの製造にあたって、例えば前述のフォトレジスト膜６２の厚みが調整されればよい。例えば前方空気軸受け面４３上には第１厚みのフォトレジスト膜６２が形成されればよい。同時に、例えば補助後方空気軸受け面４４上には第１厚みより小さい第２厚みのフォトレジスト膜６２が形成されればよい。こうして第１〜第３保護膜５２、５４、５６の膜厚の差が実現される。第１〜第３保護膜５２、５４、５６の膜厚の差に基づき第１〜第３高さＨ１、Ｈ２、Ｈ３の差が実現される。フォトレジスト膜６２の厚みの調整にあたって、例えばフォトレジスト材料に実施される露光の度合いが調整されればよい。いわゆるハーフトーンマスクが用いられればよい。
【００５７】
図１１に示されるように、前述の浮上ヘッドスライダ２１ａでは、前方空気軸受け面４３および補助後方空気軸受け面４４、４４は、スライダ本体３１の空気流入端から空気流出端に向かうにつれてベース面３３に近づく仮想平面６３内で広がってもよい。仮想平面６３とベース面３３に平行な仮想平面６４との交差角θは前述のピッチ角αに合わせ込まれればよい。第１高さＨ１や第３高さＨ３はベース面３３から前方空気軸受け面４３や補助後方空気軸受け面４４の最大高さで規定されればよい。その他、前述の浮上ヘッドスライダ２１と均等な構成や構造には同一の参照符号が付される。
【００５８】
こうした浮上ヘッドスライダ２１ａでは、前述と同様に、後方空気軸受け面４５と前方空気軸受け面４３や補助後方空気軸受け面４４、４４との間にはベース面３３から高さ方向に所定の距離が確保される。アルミナ膜３６の膨張に基づき電磁変換素子４９が突き出しても、電磁変換素子４９および磁気ディスク１３の接触はできる限り回避される。
【００５９】
しかも、前方空気軸受け面４３や補助後方空気軸受け面４４は後方空気軸受け面４５よりも高く規定される。電磁変換素子４９および磁気ディスク１３の間でこれまで通りの距離が維持されれば、前方空気軸受け面４３や補助後方空気軸受け面４４、４４はこれまで以上に磁気ディスク１３に接近することができる。加えて、浮上ヘッドスライダ２１ａが磁気ディスク１３上でピッチ角αの浮上姿勢を確立すると、図１２に示されるように、前方空気軸受け面４３と磁気ディスク１３との距離、および、補助後方空気軸受け面４４と磁気ディスク１３との距離は等しく設定されることができる。ピッチ角αが確立されても、前方空気軸受け面４３は磁気ディスク１３に十分に接近することができる。浮上ヘッドスライダ２１ａの浮上量は低減される。浮上ヘッドスライダ２１ａの浮上姿勢は安定する。
【００６０】
こうした浮上ヘッドスライダ２１ａの製造にあたって、例えば前述のフォトレジスト膜６２の厚みが調整されればよい。予め大きな膜厚で第１および第３保護膜５２、５６が形成される。第１および第３保護膜５２、５６上にはフォトレジスト膜６２が形成される。フォトレジスト膜６２の膜厚は、例えば空気流入端から空気流出端に向かうにつれて減少すればよい。こうしたフォトレジスト膜６２に基づき第１および第３保護膜５２、５６は形成されることができる。こうして浮上ヘッドスライダ２１ａは製造される。
【００６１】
図１３は本発明の第２実施形態に係る浮上ヘッドスライダ２１ｂの構造を概略的に示す。この浮上ヘッドスライダ２１ｂでは、前方空気軸受け面４３、補助後方空気軸受け面４４、４４および後方空気軸受け面４５がベース面３３から最も高く設定される。図１４に示されるように、前方空気軸受け面４３および後方空気軸受け面４５はベース面３３から第１高さＨ１に規定される。電磁変換素子４９は、後方空気軸受け面４５から外れた位置でベース面３３から第１高さＨ１よりも低い第２高さＨ２でリアセンターレール３９に埋め込まれる。
【００６２】
リアセンターレール３９は、前述の後方台座５３と、第１膜厚で後方台座５３上に形成される第１保護膜７１と、第１膜厚より小さい第２膜厚で後方台座５３上に形成される第２保護膜７２とから構成される。第１保護膜７１の表面で後方空気軸受け面４５が規定される。リアセンターレール３９上で第２保護膜７２は電磁変換素子４９の前端に覆い被さる。第１および第２保護膜７１、７２には例えばＤＬＣが用いられればよい。
【００６３】
図１５に示されるように、後方空気軸受け面４５および補助後方空気軸受け面４４、４４はベース面３３から第１高さＨ１に規定される。したがって、前方空気軸受け面４３、補助後方空気軸受け面４４および後方空気軸受け面４５は、ベース面３３から第１高さＨ１でベース面３３に平行に広がる仮想平面（図示されず）内で広がる。前述と同様に、第１高さＨ１および第２高さＨ２の差は電磁変換素子４９の最大突き出し量に等しく設定されればよい。その他、前述の浮上ヘッドスライダ２１、２１ａと均等な構成や構造には同一の参照符号が付される。
【００６４】
こうした浮上ヘッドスライダ２１ｂによれば、前方空気軸受け面４３、補助後方空気軸受け面４４、４４および後方空気軸受け面４５はベース面３３から第１高さＨ１に規定される。後方空気軸受け面４５から外れた位置でリアセンターレール３９には第１高さＨ１より低い第２高さＨ２で電磁変換素子４９が埋め込まれる。電磁変換素子４９の前端と前方空気軸受け面４３、補助後方空気軸受け面４４、４４および後方空気軸受け面４５との間にはベース面３３から高さ方向に所定の距離が確保される。アルミナ膜３６の膨張に基づき電磁変換素子４９が突き出しても、電磁変換素子４９および磁気ディスク１３の接触はできる限り回避される。
【００６５】
しかも、前方空気軸受け面４３、補助後方空気軸受け面４４、４４および後方空気軸受け面４５は電磁変換素子４９の第２高さＨ２よりも高い第１高さＨ１に規定される。電磁変換素子４９および磁気ディスク１３の間でこれまで通りの距離が維持されれば、前方空気軸受け面４３、補助後方空気軸受け面４４、４４および後方空気軸受け面４５はこれまで以上に磁気ディスク１３に接近することができる。その結果、浮上ヘッドスライダ２１ｂの浮上量は低減される。浮上ヘッドスライダ２１ｂの浮上姿勢は安定する。加えて、電磁変換素子４９には第２保護膜７２が覆い被さる。第２保護膜７２の働きで電磁変換素子の腐食は回避される。
【００６６】
図１６に示されるように、前述の浮上ヘッドスライダ２１ｂでは、第１保護膜７１の空気流出端は空気流入端に向かって窪んでもよい。こうして電磁変換素子４９から第１保護膜７１まで所定の距離が確保される。本発明者の検証によれば、電磁変換素子４９の突き出し領域は、電磁変換素子４９から空気流入端に向かって所定の距離にわたって広がる。したがって、電磁変換素子４９から第１保護膜７１まで所定の距離が確保されれば、第１保護膜７１の突き出しは回避されることができる。第１保護膜７１すなわち後方空気軸受け面４５の外側で確実に電磁変換素子４９は突き出ることができる。
【００６７】
その一方で、図１７に示されるように、前述の浮上ヘッドスライダ２１ｂでは、補助後方空気軸受け面４４はベース面３３から第１高さＨ１よりも低い第３高さＨ３に規定されてもよい。第３高さＨ３は前述の第２高さＨ２よりも高く設定されればよい。こうして補助後方空気軸受け面４４、４４の高さは後方空気軸受け面４５よりも低く規定される。その結果、ロール角βに基づき補助後方空気軸受け面４４で浮上ヘッドスライダ２１ｂが最も磁気ディスク１３に近づいても、後方空気軸受け面４５は十分に磁気ディスク１３に接近することができる。浮上ヘッドスライダ２１ｂの浮上量は低減される。その他、前述の浮上ヘッドスライダ２１、２１ａと均等な構成や構造には同一の参照符号が付される。
【００６８】
その一方で、図１８に示されるように、前述の浮上ヘッドスライダ２１ｂでは、前方空気軸受け面４３、補助後方空気軸受け面４４および後方空気軸受け面４５は、空気流入端から空気流出端に向かって前後方向に規定されるスライダ本体３１の中心線ＣＬからスライダ本体３１の側端に向かうにつれてベース面３３に近づいてもよい。中心線ＣＬはベース面３３で空気流入端のスライダ幅方向中央位置と空気流出端のスライダ幅方向中央位置とを結ぶ。図１９に示されるように、前方空気軸受け面４３は、ベース面３３に平行な仮想平面７３に所定の交差角θで交差する仮想平面７４、７４に沿って規定される。交差角θはロール角βに合わせ込まれればよい。
【００６９】
同様に、図２０に示されるように、補助後方空気軸受け面４４、４４および後方空気軸受け面４５は仮想平面７４、７４に沿って規定される。この浮上ヘッドスライダ２１ｂが磁気ディスク１３上でロール角βの浮上姿勢を確立すると、図２１に示されるように、補助後方空気軸受け面４４と磁気ディスク１３との距離、および、後方空気軸受け面４５の一部と磁気ディスク１３との距離は等しく設定されることができる。こうして後方空気軸受け面４５は十分に磁気ディスク１３に接近することができる。電磁変換素子４９は磁気ディスク１３に接近することができる。その他、前述の浮上ヘッドスライダ２１、２１ａと均等な構成や構造には同一の参照符号が付される。
【００７０】
図２２は本発明の第３実施形態に係る浮上ヘッドスライダ２１ｃの構造を概略的に示す。この浮上ヘッドスライダ２１ｃでは、前方空気軸受け面４３がベース面３３から最も高く設定される。図２３に示されるように、前方空気軸受け面４３はベース面３３から第１高さＨ１に規定される。後方空気軸受け面４５はベース面３３から第１高さＨ１よりも低い第２高さＨ２に規定される。後方空気軸受け面４５から外れた位置でリアセンターレール３９には第２高さＨ２より低い第３高さＨ３で電磁変換素子４９が埋め込まれる。図２４に示されるように、補助後方空気軸受け面４４、４４は後方空気軸受け面４５と同様に第２高さＨ２に規定される。その他、前述の浮上ヘッドスライダ２１、２１ａ、２１ｂと均等な構成や構造には同一の参照符号が付される。
【００７１】
こうした浮上ヘッドスライダ２１ｃによれば、後方空気軸受け面４５はベース面３３から第２高さＨ２に規定される。後方空気軸受け面４５から外れた位置でリアセンターレール３９には第２高さＨ２より低い第３高さＨ３で電磁変換素子４９が埋め込まれる。電磁変換素子４９の前端と後方空気軸受け面４５との間にはベース面３３から高さ方向に所定の距離が確保される。アルミナ膜３６の膨張に基づき電磁変換素子４９が突き出しても、電磁変換素子４９および磁気ディスク１３の接触はできる限り回避される。
【００７２】
しかも、前方空気軸受け面４３、補助後方空気軸受け面４４、４４および後方空気軸受け面４５は電磁変換素子４９よりも高く規定される。電磁変換素子４９および磁気ディスク１３の間でこれまで通りの距離が維持されれば、前方空気軸受け面４３、補助後方空気軸受け面４４、４４および後方空気軸受け面４５はこれまで以上に磁気ディスク１３に接近することができる。加えて、前方空気軸受け面４３は補助後方空気軸受け面４４、４４および後方空気軸受け面４５よりも高く規定される。ピッチ角αが確立されても、前方空気軸受け面４３は磁気ディスク１３に十分に接近することができる。浮上ヘッドスライダ２１ｃの浮上量は低減されることができる。浮上ヘッドスライダ２１ｃの浮上姿勢は安定する。その他、この浮上ヘッドスライダ２１ｃでは、前述と同様に、第１保護膜７１の空気流出端が空気流入端に向かって窪んでもよい。
【００７３】
図２５に示されるように、前述の浮上ヘッドスライダ２１ｃでは、前方空気軸受け面４３、補助後方空気軸受け面４４、４４および後方空気軸受け面４５は、スライダ本体３１の空気流入端から空気流出端に向かうにつれてベース面３３に近づく仮想平面６３内で広がってもよい。仮想平面６３とベース面３３に平行な仮想平面６４との交差角θは前述のピッチ角αに合わせ込まれればよい。第１高さＨ１や第２高さＨ２はベース面３３から前方空気軸受け面４３や後方空気軸受け面４５、補助後方空気軸受け面４４の最大高さで規定されればよい。その他、前述の浮上ヘッドスライダ２１、２１ａ、２１ｂと均等な構成や構造には同一の参照符号が付される。
【００７４】
こうした浮上ヘッドスライダ２１ｃでは、電磁変換素子４９の前端と後方空気軸受け面４５との間にはベース面３３から高さ方向に所定の距離が確保される。アルミナ膜３６の膨張に基づき電磁変換素子４９が突き出しても、電磁変換素子４９および磁気ディスク１３の接触はできる限り回避される。
【００７５】
しかも、前方空気軸受け面４３、補助後方空気軸受け面４４、４４および後方空気軸受け面４５は電磁変換素子４９よりも高く規定される。電磁変換素子４９および磁気ディスク１３の間でこれまで通りの距離が維持されれば、前方空気軸受け面４３、補助後方空気軸受け面４４、４４および後方空気軸受け面４５はこれまで以上に磁気ディスク１３に接近することができる。加えて、浮上ヘッドスライダ２１ｃが磁気ディスク１３上でピッチ角αの浮上姿勢を確立すると、前方空気軸受け面４３と磁気ディスク１３との距離、後方空気軸受け面４５と磁気ディスク１３との距離、および、補助後方空気軸受け面４４と磁気ディスク１３との距離は等しく設定されることができる。その結果、前方空気軸受け面４３は磁気ディスク１３に十分に接近することができる。浮上ヘッドスライダ２１ｃの浮上量は低減される。浮上ヘッドスライダ２１ｃの浮上姿勢は安定する。こうした浮上ヘッドスライダ２１ｃでは、前述と同様に、第１保護膜７１の空気流出端は空気流入端に向かって窪んでもよい。
【００７６】
その一方で、図２６に示されるように、前述の浮上ヘッドスライダ２１ｃでは、前方空気軸受け面４３は、スライダ本体３１の中心線ＣＬからスライダ本体３１の側端に向かうにつれてベース面３３に近づいてもよい。同様に、図２７に示されるように、補助後方空気軸受け面４４および後方空気軸受け面４５は、スライダ本体３１の中心線ＣＬからスライダ本体３１の側端に向かうにつれてベース面３３に近づいてもよい。その他、前述の浮上ヘッドスライダ２１、２１ａ、２１ｂと均等な構成や構造には同一の参照符号が付される。
【００７７】
その他、浮上ヘッドスライダ２１ｃでは、図２８および図２９に示されるように、前方空気軸受け面４３、補助後方空気軸受け面４４および後方空気軸受け面４５が、スライダ本体３１の中心線ＣＬからスライダ本体３１の側端に向かうにつれてベース面３３に近づくと同時に、スライダ本体３１の空気流入端から空気流出端に向かうにつれてベース面３３に近づいてもよい。前方空気軸受け面４３および後方空気軸受け面４５上に規定される稜線は前述の仮想平面６３内で延びればよい。こうした浮上ヘッドスライダ２１ｃによれば、前述と同様の作用効果が実現されることができる。
【００７８】
（付記１）  基準面を規定するスライダ本体と、スライダ本体の空気流入端側に配置され、スライダ本体の基準面から第１高さで前方空気軸受け面を規定するフロントレールと、スライダ本体の空気流出端側に配置され、スライダ本体の基準面から第１高さよりも低い第２高さで後方空気軸受け面を規定するリアレールと、後方空気軸受け面に埋め込まれるヘッド素子とを備えることを特徴とするヘッドスライダ。
【００７９】
（付記２）  付記１に記載のヘッドスライダにおいて、前記スライダ本体の空気流出端側で前記リアレールの両側に配置され、前記スライダ本体の基準面から第１高さで補助後方空気軸受け面を規定する１対のリアサイドレールを備えることを特徴とするヘッドスライダ。
【００８０】
（付記３）  付記１に記載のヘッドスライダにおいて、前記スライダ本体の空気流出端側で前記リアレールの両側に配置され、前記スライダ本体の基準面から第１高さよりも低く第２高さよりも高い第３高さで補助後方空気軸受け面を規定する１対のリアサイドレールを備えることを特徴とするヘッドスライダ。
【００８１】
（付記４）  付記３に記載のヘッドスライダにおいて、前記前方空気軸受け面および前記補助後方空気軸受け面は、空気流入端から空気流出端に向かうにつれて前記基準面に近づく仮想平面内で広がることを特徴とするヘッドスライダ。
【００８２】
（付記５）  付記１に記載のヘッドスライダにおいて、前記スライダ本体上に形成されて前記後方空気軸受け面を規定し、前記ヘッド素子に覆い被さる保護膜を備えることを特徴とするヘッドスライダ。
【００８３】
（付記６）  付記１に記載のヘッドスライダにおいて、前記スライダ本体上に第１膜厚で形成されて前記前方空気軸受け面を規定する第１保護膜と、第１膜厚よりも小さい第２膜厚で前記スライダ本体上に形成されて前記後方空気軸受け面を規定し、前記ヘッド素子に覆い被さる第２保護膜とを備えることを特徴とするヘッドスライダ。
【００８４】
（付記７）  基準面を規定するスライダ本体と、スライダ本体の空気流入端側に配置され、スライダ本体の基準面から第１高さで前方空気軸受け面を規定するフロントレールと、スライダ本体の空気流出端側に配置され、スライダ本体の基準面から第１高さで後方空気軸受け面を規定するリアレールと、後方空気軸受け面から外れた位置で、スライダ本体の基準面から第１高さよりも低い第２高さでリアレールに埋め込まれるヘッド素子とを備えることを特徴とするヘッドスライダ。
【００８５】
（付記８）  付記７に記載のヘッドスライダにおいて、前記スライダ本体の空気流出端側で前記リアレールの両側に配置され、前記スライダ本体の基準面から第１高さで補助後方空気軸受け面を規定する１対のリアサイドレールを備えることを特徴とするヘッドスライダ。
【００８６】
（付記９）  付記７に記載のヘッドスライダにおいて、前記スライダ本体の空気流出端側で前記リアレールの両側に配置され、前記スライダ本体の基準面から第１高さよりも低い第３高さで補助後方空気軸受け面を規定する１対のリアサイドレールを備えることを特徴とするヘッドスライダ。
【００８７】
（付記１０）  付記９に記載のヘッドスライダにおいて、前記後方空気軸受け面および前記補助後方空気軸受け面は、空気流入端から空気流出端に向かって前後方向に規定される前記スライダ本体の中心線から前記スライダ本体の側端に向かうにつれて前記基準面に近づくことを特徴とするヘッドスライダ。
【００８８】
（付記１１）  付記７に記載のヘッドスライダにおいて、前記スライダ本体上に形成されて前記ヘッド素子に覆い被さる保護膜を備えることを特徴とするヘッドスライダ。
【００８９】
（付記１２）  付記７に記載のヘッドスライダにおいて、前記スライダ本体上に第１膜厚で形成されて前記後方空気軸受け面を規定する第１保護膜と、第１膜厚よりも小さい第２膜厚で前記スライダ本体上に形成されて、前記ヘッド素子に覆い被さる第２保護膜とを備えることを特徴とするヘッドスライダ。
【００９０】
（付記１３）  基準面を規定するスライダ本体と、スライダ本体の空気流入端側に配置され、スライダ本体の基準面から第１高さで前方空気軸受け面を規定するフロントレールと、スライダ本体の空気流出端側に配置され、スライダ本体の基準面から第１高さよりも低い第２高さで後方空気軸受け面を規定するリアレールと、後方空気軸受け面から外れた位置で、スライダ本体の基準面から第２高さよりも低い第３高さでリアレールに埋め込まれるヘッド素子とを備えることを特徴とするヘッドスライダ。
【００９１】
（付記１４）  付記１３に記載のヘッドスライダにおいて、前記スライダ本体の空気流出端側で前記リアレールの両側に配置され、前記スライダ本体の基準面から第２高さで補助後方空気軸受け面を規定する１対のリアサイドレールを備えることを特徴とするヘッドスライダ。
【００９２】
（付記１５）  付記１４に記載のヘッドスライダにおいて、前記前方空気軸受け面、前記後方空気軸受け面および前記補助後方空気軸受け面は、空気流入端から空気流出端に向かうにつれて前記基準面に近づく仮想平面内で広がることを特徴とするヘッドスライダ。
【００９３】
（付記１６）  付記１４に記載のヘッドスライダにおいて、前記後方空気軸受け面および前記補助後方空気軸受け面は、空気流入端から空気流出端に向かって前後方向に規定される前記スライダ本体の中心線から前記スライダ本体の側端に向かうにつれて前記基準面に近づくことを特徴とするヘッドスライダ。
【００９４】
（付記１７）  付記１６に記載のヘッドスライダにおいて、前記前方空気軸受け面、前記後方空気軸受け面および前記補助後方空気軸受け面は、空気流入端から空気流出端に向かうにつれて前記基準面に近づくことを特徴とするヘッドスライダ。
【００９５】
（付記１８）  付記１３に記載のヘッドスライダにおいて、前記スライダ本体上に形成されて前記ヘッド素子に覆い被さる保護膜を備えることを特徴とするヘッドスライダ。
【００９６】
（付記１９）  付記１３に記載のヘッドスライダにおいて、前記スライダ本体上に第１膜厚で形成されて表面で前記後方空気軸受け面を規定する第１保護膜と、第１膜厚よりも小さい第２膜厚で前記スライダ本体上に形成されて、前記ヘッド素子に覆い被さる第２保護膜とを備えることを特徴とするヘッドスライダ。
【図面の簡単な説明】
【００９７】
【図１】記録媒体駆動装置の一具体例すなわちハードディスク駆動装置（ＨＤＤ）の内部構造を概略的に示す平面図である。
【図２】本発明の第１実施形態に係る浮上ヘッドスライダの構造を概略的に示す斜視図である。
【図３】第１実施形態に係る浮上ヘッドスライダの構造を概略的に示す平面図である。
【図４】図３の４−４線に沿った端面図である。
【図５】図３の５−５線に沿った端面図である。
【図６】ウエハバーおよびアルミナ膜上にＤＬＣ膜が形成される様子を概略的に示す端面図である。
【図７】ＤＬＣ膜上にフォトレジスト膜が形成される様子を概略的に示す端面図である。
【図８】浮上面が形作られる様子を概略的に示す端面図である。
【図９】一変形例に係る浮上ヘッドスライダの構造を概略的に示す平面図である。
【図１０】図９の１０−１０線に沿った端面図である。
【図１１】他の変形例に係る浮上ヘッドスライダの構造を概略的に示す端面図である。
【図１２】磁気ディスク上で浮上ヘッドスライダが浮上する様子を概略的に示す端面図である。
【図１３】本発明の第２実施形態に係る浮上ヘッドスライダの構造を概略的に示す平面図である。
【図１４】図１３の１４−１４線に沿った端面図である。
【図１５】図１３の１５−１５線に沿った端面図である。
【図１６】一変形例に係る浮上ヘッドスライダの構造を概略的に示す平面図である。
【図１７】図５に対応し、他の変形例に係る浮上ヘッドスライダの構造を概略的に示す端面図である。
【図１８】他の変形例に係る浮上ヘッドスライダの構造を概略的に示す平面図である。
【図１９】図１８の１９−１９線に沿った端面図である。
【図２０】図１８の２０−２０線に沿った端面図である。
【図２１】磁気ディスク上で浮上ヘッドスライダが浮上する様子を概略的に示す端面図である。
【図２２】本発明の第３実施形態に係る浮上ヘッドスライダの構造を概略的に示す平面図である。
【図２３】図２２の２３−２３線に沿った端面図である。
【図２４】図２２の２４−２４線に沿った端面図である。
【図２５】一変形例に係る浮上ヘッドスライダの構造を概略的に示す端面図である。
【図２６】一変形例に係る浮上ヘッドスライダの構造を概略的に示す端面図である。
【図２７】一変形例に係る浮上ヘッドスライダの構造を概略的に示す端面図である。
【図２８】他の一変形例に係る浮上ヘッドスライダの構造を概略的に示す端面図である。
【図２９】他の一変形例に係る浮上ヘッドスライダの構造を概略的に示す端面図である。
【符号の説明】
【００９８】
２１  ヘッドスライダ（浮上ヘッドスライダ）、３１  スライダ本体、３３  基準面（ベース面）、３７  フロントレール、３８  リアサイドレール、３９  リアレール、４３  前方空気軸受け面、４５  後方空気軸受け面、４９  ヘッド素子（電磁変換素子）、４４  補助後方空気軸受け面、５２  第１保護膜、５４  第２保護膜、５２、５４、５６、７１、７２  保護膜、６３  仮想平面、ＣＬ  中心線。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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