(57)【要約】      （修正有）【課題】ジベンゾイルメタン誘導体と、特定のアリ-ルアルキルアミドまたはエステル化合物との組合せを含む化粧品組成物及び、放射線に関して、特定のアリールアルキルアミドまたはエステル化合物により、少なくとも1種のジベンゾイルメタン誘導体を光安定化する。【解決手段】化粧品として許容される担体中にジベンゾイルメタン誘導体タイプの少なくとも1種のUV遮断剤を含む組成物における、特定のアリールアルキルアミドまたはエステル化合物の、UV-A光線に関する前記組成物の有効性を改善する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
化粧品として許容される媒体において、ジベンゾイルメタン誘導体タイプの少なくとも1種のUV-A遮断剤および次式(I)、(II)または(III)の少なくとも1種のアリールアルキルアミドまたはエステル化合物を含む組成物
【化１】
2008001706.tif 000026
[式中、
-R1は、直鎖または分枝C1〜C4アルキル基であり、
-aは、0〜2であり、
-mは、0〜4であり、
-bは、1または2であり、
-R2は、H、直鎖または分枝C1〜C20アルキルまたはアセチル基であり、
-R3は、独立にHまたはメチルであり、
-pは、0〜4であり、
-qは、0〜3であり、
-Xは、O、NHまたはNR5であり、
-Yは、CHまたはNであり、
-R4およびR5は、直鎖または分枝C1〜C20アルキル基であり、
式(III)に対しては、Y=CH、R3=H、m=0、p=2の場合には、aは0以外であり、R1はメチル以外であるという条件を有する]。
【請求項２】
式(I)の化合物が、以下の生成物(a)から(k):
【化２】
2008001706.tif 000027
2008001706.tif 000028
から選択される、請求項1に記載の組成物。
【請求項３】
式(II)の化合物が、以下の生成物(l)から(r):
【化３】
2008001706.tif 000029
2008001706.tif 000030
から選択される、請求項1に記載の組成物。
【請求項４】
式(III)の化合物が、以下の生成物(s)から(x):
【化４】
2008001706.tif 000031
2008001706.tif 000032
から選択される、請求項1に記載の組成物。
【請求項５】
次式(I)、(II)または(III)の1種または複数のアリールアルキルアミドまたはエステル化合物が、組成物の総量に対して0.01から20重量%の範囲の割合で存在する、請求項1から4のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項６】
ジベンゾイルメタン誘導体が、次式:
【化５】
2008001706.tif 000033
の4-(tert-ブチル)-4'-メトキシジベンゾイルメタンまたはブチルメトキシジベンゾイルメタンである、請求項1から5のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項７】
1種または複数のジベンゾイルメタン誘導体が、組成物の総量に対して0.01から10重量%で変化する含量で存在する、請求項1から6のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項８】
水溶性または脂溶性であるか、または通常使用される化粧品溶剤に不溶性である、UV-Aおよび/またはUV-B領域において活性である他の有機または無機UV遮断剤をさらに含むことを特徴とする、請求項1から7のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項９】
追加の有機UV遮断剤が、アンスラニレート、ケイ皮誘導体、サリチル誘導体、樟脳誘導体、ベンゾフェノン誘導体、β,β-ジフェニルアクリレート誘導体、トリアジン誘導体、ベンゾトリアゾール誘導体、ベンザルマロネート誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、イミダゾリン、ビス-ベンゾアゾリル誘導体、p-アミノ安息香酸(PABA)誘導体、メチレンビス(ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール)誘導体、ベンゾキサゾール誘導体、遮断ポリマーおよび遮断シリコーン、α-アルキルスチレンから得られる二量体、4,4-ジアリールブタジエン、およびこれらの混合物から選択される、請求項8に記載の組成物。
【請求項１０】
追加の無機UV遮断剤が、被覆されていても被覆されていなくともよい金属酸化物から形成される顔料であることを特徴とする、請求項8に記載の組成物。
【請求項１１】
皮膚の人工日焼けおよび/または褐色化用の少なくとも1種の薬剤をさらに含むことを特徴とする、請求項1から10のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１２】
水中油型エマルジョンまたは油中水型エマルジョンの形態で提供されることを特徴とする、請求項1から11のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１３】
皮膚、唇、爪、髪、まつげ、眉毛および/または頭皮を化粧処理するための製品の製造における、請求項1から12のいずれか一項に規定された組成物の使用。
【請求項１４】
請求項1から13のいずれか一項に規定されたジベンゾイルメタン誘導体タイプの少なくとも1種のUV-A遮断剤のUV放射線に関する化学的安定性を改善する方法であって、前記ジベンゾイルメタン誘導体を請求項1から13に規定された式(I)、(II)または(III)の少なくとも1種のアリールアルキルアミドまたはエステル化合物と組み合わせることを特徴とする方法。
【請求項１５】
化粧品として許容される担体中に、請求項1から14のいずれか一項に規定された少なくとも1種のジベンゾイルメタン誘導体を含む組成物における、請求項1から14に規定された式(I)、(II)または(III)の少なくとも1種のアリールアルキルアミドまたはエステル化合物の、UV-A光線に関する前記組成物の有効性を改善することを目的とする使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ジベンゾイルメタン誘導体と、式(I)、(II)または(III)の特定のアリールアルキルアミドまたはエステル化合物との組合せを含む化粧品組成物に関し、この定義を、以下に示す。
【０００２】
また、本発明は、放射線に関して、式(I)、(II)または(III)の少なくとも1種の特定のアリールアルキルアミドまたはエステル化合物により、少なくとも1種のジベンゾイルメタン誘導体を光安定化する方法に関する。
【０００３】
また、本発明は、化粧品として許容される担体中にジベンゾイルメタン誘導体タイプの少なくとも1種の遮断剤を含む組成物における、式(I)、(II)または(III)の前記特定のアリールアルキルアミドまたはエステル化合物の、UV-A光線に関する前記組成物の有効性を改善することを目的とする使用に関する。
【背景技術】
【０００４】
280nmと400nmの間の波長を有する光放射線が、人体表皮の褐色化を可能にし、さらに詳しくは、名称UV-B放射線の下に知られている、280nmと320nmの間の波長を有する光線が、紅斑および自然日焼けの発生に有害であり得る皮膚熱傷を生じることが知られている。これらの理由で、および美的理由で、皮膚の色をこれによって制御する目的のために、この自然日焼けを制御する手段に対する持続的な要求が存在する。したがって、このUV-B放射線を遮断することが望ましい。
【０００５】
また、皮膚の褐色化を生じる320nmと400nmの間の波長を有するUV-A光線は、特に敏感な皮膚または太陽放射線に頻繁に曝される皮膚の場合に、皮膚に有害な変化をもたらす可能性がある。UV-A光線は、特に、皮膚の弾性の喪失および皺の外観をもたらし、早期の皮膚老化をもたらす。UV-A光線は、紅斑反応の誘発を促進、または一部の対象においてこの反応を強め、日焼けによる皮膚の炎症または光アレルギー反応の原因にすらなり得る。したがって、皮膚の自然の弾性の保持などの美的および化粧的理由で、例えば、人々は、自分達の皮膚へのUV-A光線の影響を制御することをますます望んでいる。したがって、UV-A放射線を遮断することも望ましい。
【０００６】
UV放射線に対して皮膚またはケラチン性の物質に保護を与える目的で、UV-A領域において活性であり、UV-B領域において活性である有機遮断剤を含む抗日光組成物が、一般に使用される。これらの遮断剤の大部分は脂溶性である。
【０００７】
この点に関して、UV-A遮断剤の特に有利な一群は、現在ジベンゾイルメタン誘導体、特に4-(tert-ブチル)-4'-メトキシジベンゾイルメタンからなり、これはこれらが、固有の吸光度を示すからである。これらのジベンゾイルメタン誘導体は、UV-A領域において活性である遮断剤としてそれ自体よく知られており、特にフランス特許出願FR-A-2326405およびFR-A-2440933、ならびに欧州特許出願EP-A-0114607に開示されており、さらに、4-(tert-ブチル)-4'-メトキシジベンゾイルメタンは、DSM Nutritional Productsによって商標「Parsol 1789」の下に、現在販売に供されている。
【０００８】
不都合なことに、ジベンゾイルメタン誘導体は、紫外線(特にUV-A放射線)に比較的に敏感な生成物であって、換言すると、より詳しくは紫外線の作用の下に多少急速に分解する不利な傾向を示すことがわかった。したがって、本来曝されることが意図されている紫外線を考えると、ジベンゾイルメタン誘導体の光化学的安定性のこの実質的欠如は、太陽に長時間暴露する間の持続的な保護を保障することができず、それ故、UV光線に対して皮膚の効果的保護を得るためには、使用者によって規則的および短い時間間隔で繰り返し使用を行うことが必要である。
【０００９】
EP717982において、アミド化合物が、さらに詳しくは次の構造の化合物N,N-ジエチル-3-メチルベンズアミドなどのアミド油が、ジベンゾイルメタン誘導体についての光安定化効果を有することが知られている:
【００１０】
【化１】
2008001706.tif 000002
【００１１】
または、次式のエチルN-ブチルおよびN-アセチルアミノプロピオネート:
【００１２】
【化２】
2008001706.tif 000003
【００１３】
この問題を解決するために、特許出願EP1618870において、アリールアルキルベンゾエート誘導体、特にISPによって名称X-Tend226(登録商標)の下に販売されている商業製品などの2-エチルフェニルベンゾエートを使用することが、すでに用意されている。しかし、UV放射線に暴露した後のジベンゾイルメタン誘導体の光安定性のレベルは、依然として不十分である。
【特許文献１】フランス特許出願FR-A-2326405
【特許文献２】フランス特許出願FR-A-2440933
【特許文献３】欧州特許出願EP-A-0114607
【特許文献４】EP717982
【特許文献５】出願EP1618870
【特許文献６】特許US5624663
【特許文献７】特許EP669323
【特許文献８】特許US2463264
【特許文献９】出願US5237071
【特許文献１０】出願US5166355
【特許文献１１】出願GB2303549
【特許文献１２】出願DE19726184
【特許文献１３】出願EP893119
【特許文献１４】特許出願EP0832642
【特許文献１５】特許出願EP1027883
【特許文献１６】特許出願EP1300137
【特許文献１７】特許出願DE10162844
【特許文献１８】出願WO93/04665
【特許文献１９】特許出願DE19855649
【特許文献２０】出願EP0967200
【特許文献２１】出願DE19746654
【特許文献２２】出願DE19755649
【特許文献２３】出願EP-A-1008586
【特許文献２４】出願EP1133980
【特許文献２５】出願EP133981
【特許文献２６】特許US6225467
【特許文献２７】出願WO2004/085412
【特許文献２８】特許出願WO06/035000
【特許文献２９】特許出願WO06/034982
【特許文献３０】特許出願WO06/034991
【特許文献３１】特許出願WO06/035007
【特許文献３２】特許出願WO2006/034992
【特許文献３３】特許出願WO2006/034985
【特許文献３４】WO-A-92/06778
【特許文献３５】FR2315991
【特許文献３６】FR2416008
【特許文献３７】特許US4077441
【特許文献３８】特許US4850517
【非特許文献１】「Symmetrical Triazine Derivatives」IP.COM Journal、IP COM INC、WEST HENRIETTA、NY、US (2004年9月20日)
【非特許文献２】Cosmetics & Toiletries、1990年2月、105巻、53〜64頁
【非特許文献３】Bangham、Standish and Watkins、J.Mol.Biol.、13巻、238頁(1965)
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
実際は、本出願会社は、後に詳細に定義される式(I)、(II)または(III)の特定のアリールアルキルアミドまたはエステル化合物の有効量と、上に述べたジベンゾイルメタン誘導体とを組み合わせることによって、実質的および顕著なやり方で、これらの同じジベンゾイルメタン誘導体の光化学的安定性およびUV-A領域における効力をさらに改善できることを、驚くことには今回発見したばかりである。このような組合せを含む組成物は、また使用後に、UV遮断剤のさらに均質な分布をもたらす。
【００１５】
これらの発見が、本発明の基礎を形成する。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
したがって、本発明の主題の1つによれば、組成物が、
(a)ジベンゾイルメタン誘導体タイプの少なくとも1種のUV-A遮断剤、および
(b)その定義が以下に示される、式(I)、(II)または(III)の少なくとも1種のアリールアルキルアミドまたはエステル化合物
を含むことを特徴とする、化粧品として許容される担体中に少なくとも1種のUV遮断系を含む組成物が、今回提供される。
【００１７】
また、本発明の他の主題は、ジベンゾイルメタン誘導体タイプの少なくとも1つのUV-A遮断剤の、UV放射線に関する化学的安定性を改善する方法に関し、この方法は、その定義が以下に示される、式(I)、(II)または(III)の少なくとも1種の特定のアリールアルキルアミドまたはエステル化合物と、前記ジベンゾイルメタン誘導体とを組み合わせることにある。
【００１８】
最後に、本発明の他の主題は、UV-A光線に関して前記組成物の効力を改善する目的で、化粧品として許容される担体中に少なくとも1種のジベンゾイルメタン誘導体を含む組成物における式(I)、(II)または(III)の特定のアリールアルキルアミドまたはエステル化合物の使用である。
【００１９】
本発明の他の特性値、特徴および利点は、以下の詳細な記載を読めば明らかになるであろう。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
用語「化粧品として許容される」は、皮膚および/またはこの表面身体上の成長に適合することを意味するものと理解され、これは、心地よい色彩、心地よい香りおよび心地よい感触を示し、消費者にこの組成物の使用を思い止まらせ易い、許容されない不快(ひりひりすること、皮膚のひきつり、赤斑)を生じない。
【００２１】
ジベンゾイルメタン誘導体の中では、限定を意味することなく、特に次のものが挙げられる:
-2-メチルジベンゾイルメタン
-4-メチルジベンゾイルメタン
-4-イソプロピルジベンゾイルメタン
-4-(tert-ブチル)ジベンゾイルメタン
-2,4-ジメチルジベンゾイルメタン
-2,5-ジメチルジベンゾイルメタン
-4,4'-ジイソプロピルジベンゾイルメタン
-4,4'-ジメトキシジベンゾイルメタン
-4-(tert-ブチル)-4'-メトキシジベンゾイルメタン
-2-メチル-5-イソプロピル-4'-メトキシジベンゾイルメタン
-2-メチル-5-(tert-ブチル)-4'-メトキシジベンゾイルメタン
-2,4-ジメチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン
-2,6-ジメチル-4-(tert-ブチル)-4'-メトキシジベンゾイルメタン
【００２２】
上記のジベンゾイルメタン誘導体の中では、特にMerckによって「Eusolex 8020」の名称の下に販売されている4-イソプロピルジベンゾイルメタンが使用され、以下の式に対応する:
【００２３】
【化３】
2008001706.tif 000004
【００２４】
DSM Nutoritional Productsによって「Parsol 1789」の商標の下に売り出されている-4-(tert-ブチル)-4'-メトキシジベンゾイルメタンまたはブチルナトキシジベンゾイルメタンの使用が極めて特に好ましく、この遮断剤は、以下の式に対応する:
【００２５】
【化４】
2008001706.tif 000005
【００２６】
1種または複数のジベンゾイルメタン誘導体は、組成物の総量に対して好ましくは0.01から10重量%、さらに好ましくは0.1から6重量%で変化する含量において本発明による組成物中に存在することができる。
【００２７】
本発明によるアリールアルキルアミドまたはエステルは、以下の一般式(I)、(II)または(III)に対応するものから選択される:
【００２８】
【化５】
2008001706.tif 000006
【００２９】
[式中、
-R1は、直鎖または分枝C1〜C4アルキル基であり、
-aは、0〜2であり、
-mは、0〜4であり、
-bは、1または2であり、
-R2は、H、直鎖または分枝C1〜C20アルキルまたはアセチル基であり、
-R3は、独立にHまたはメチルであり、
-pは、0〜4であり、
-qは、0〜3であり、
-Xは、O、NHまたはNR5であり、
-Yは、CHまたはNであり、
-R4およびR5は、直鎖または分枝C1〜C20アルキル基であり、
式(III)に対しては、Y=CH、R3=H、m=0、p=2の場合には、aは0以外であり、R1はメチル以外であるという条件を有する]。
【００３０】
式(I)、(II)または(III)において、アルキル基の中で、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、tert-ブチル、2-エチルヘキシル、ドデシルまたはヘキサデシル基を特に挙げることができる。
【００３１】
式(I)のアミド化合物の中で、さらに特定すれば以下の化合物(a)から(k)が、使用される。
【００３２】
【化６】
2008001706.tif 000007
2008001706.tif 000008
【００３３】
式(II)のアミド化合物の中で、さらに特定すれば以下の化合物(l)から(r)が、使用される。
【００３４】
【化７】
2008001706.tif 000009
2008001706.tif 000010
【００３５】
式(III)のアリールアルキルエステル化合物の中で、さらに特定すれば以下の化合物(s)から(x)が、使用される。
【００３６】
【化８】
2008001706.tif 000011
2008001706.tif 000012
【００３７】
式(III)のエステル化合物は、例えば濃硫酸などの酸触媒の存在下で、例えばトルエンなどの溶剤媒体中において、以下のスキームに従って式(2)の酸誘導体を式(3)のアルコールと反応させることによって調製することができる:
【００３８】
【化９】
2008001706.tif 000013
【００３９】
基R1、R2、R3、a、b、mおよびpは、上と同一の意味を有する。
【００４０】
式(I)のアミド化合物は、例えばトリエチルアミンなどのHCl捕捉剤の存在下で、例えばアセトニトリルなどの溶剤媒体中において、以下のスキームに従って式(3)の酸塩化物を式(4)のエステルアミンと反応させることによって調製することができる:
【００４１】
【化１０】
2008001706.tif 000014
【００４２】
基R1、R2、R3、a、mおよびpは、上と同一の意味を有する。
【００４３】
式(II)のアミド化合物は、例えば濃硫酸などの酸触媒の存在下で、例えばトルエンなどの溶剤媒体中において、以下のスキームに従って式(5)の酸誘導体を式(6)のアルコールと反応させることによって調製することができる:
【００４４】
【化１１】
2008001706.tif 000015
【００４５】
式(I)、(II)または(III)の1種または複数のアリールアルキルアミドまたはエステル化合物は、一般に組成物の総量に対して0.01と20重量%の間の含量において、好ましくは0.1と10重量%の間の含量において組成物中に存在することができる。
【００４６】
本発明によれば、式(I)、(II)または(III)の1種または複数の化合物は、所与の組成物中のジベンゾイルメタン誘導体の光安定性の著しい顕著な改善を得ることを可能にするために十分な量において使用される。使用されるべき光安定剤のこの最低量は、組成物中に最初に存在するジベンゾイルメタンの量により、および組成物に対して選択される化粧品として許容される媒体の性質により変化し得る。これは、光安定性を測定する通常の試験を使用して困難なく求めることができる。
【００４７】
さらに、本発明による組成物は、UV-Aおよび/またはUV-B領域において活性である他の追加の有機または無機UV遮断剤を含むことができ、これらは、水溶性または脂溶性であるか、または通常使用される化粧品溶剤に不溶性である。
【００４８】
追加の有機UV遮断剤は、特にアンスラニレート、桂皮誘導体、サリチル誘導体、樟脳誘導体、ベンゾフェノン誘導体、β,β-ジフェニルアクリレート誘導体、トリアジン誘導体、ベンゾトリアゾール誘導体、ベンズアルマロネート、特に特許US5624663に引用されているもの、ベンズイミダゾール誘導体、イミダゾリン、特許EP669323および特許US2463264に記載されているなどのビス-ベンゾアゾリル誘導体、p-アミノ安息香酸(PABA)誘導体、出願US5237071、出願US5166355、出願GB2303549、出願DE19726184および出願EP893119に記載されているなどのメチレンビス(ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール)誘導体、特許出願EP0832642、特許出願EP1027883、特許出願EP1300137、特許出願DE10162844に記載されているなどのベンズオキサゾール誘導体、特に出願WO93/04665に記載されているものなどの遮断ポリマーおよび遮断シリコーン、特許出願DE19855649に記載されてものなどのα-アルキルスチレンから得られるダイマー、出願EP0967200、出願DE19746654、出願DE19755649、出願EP-A-1008586、出願EP1133980および出願EP133981に記載されているなどの4,4-ジアリールブタジエン、およびこれらの混合物から選択される。
【００４９】
追加の有機UV遮断剤の例として、それらのINCI名称の下に示されているものを挙げることができる。
【００５０】
para-アミノ安息香酸誘導体:
PABA、
エチルPABA、
エチルジヒドロキシプロピルPABA、
エチルヘキシルジメチルPABA、ISPによって名称「Escalol 507」の下に特に販売されている、
グリセリルPABA、
PEG-25PABA、BASFによって名称「UvinulP25」の下に販売されている。
【００５１】
サリチル誘導体:
ホモサレート、Rona/EM Industriiesによって名称「Eusolex HMS」の下に販売されている、
エチルヘキシルサリチレート、Haarmann and Reimerによって名称「Neo Heliopan OS」の下に販売されている、
ジプロピレングリコールサリシレート、Scherによって名称「Dipsal」の下に販売されている、
TEAサリチレート、Haarmann and Reimerによって名称「Neo Heliopan TS」の下に販売されている。
【００５２】
桂皮誘導体:
エチルヘキシルメトキシシンナメート、Hoffmann-LaRocheによって商標名称「Parsol MCX」の下に特に販売されている、
イソプロピルメトキシシンナメート、
イソアミルメトキシシンナメート、Haarmann and Reimerによって商標「Neo Heliopan E 1000」の下に販売されている、
シノキサート、
DEAメトキシシンナメート、
ジイソプロピルメチルシンナメート、
グリセリルエチルヘキサノエートジメトキシシンナメート。
【００５３】
β,β-ジフェニルアクリレート誘導体:
オクトクリレン、BASFによって商標「Uvinul N539」の下に特に販売されている、
エトクリレン、BASFによって商標「Uvinul N735」の下に特に販売されている。
【００５４】
ベンゾフェノン誘導体:
ベンゾフェノン-1、BASFによって商標「Uvinul 400」の下に販売されている、
ベンゾフェノン-2、BASFによって商標「Uvinul D50」の下に販売されている、
ベンゾフェノン-3、またはオキシベンゾン、BASFによって商標「Uvinul M40」の下に販売されている、
ベンゾフェノン-4、BASFによって商標「Uvinul MS40」の下に販売されている、
ベンゾフェノン-5、
ベンゾフェノン-6、Norquayによって商標「Helisorb 11」の下に販売されている、
ベンゾフェノン-8、American Cyanamidによって商標「Spectra-Sorb UV-24」の下に販売されている、
ベンゾフェノン-9、BASFによって商標「Uvinul DS-49」の下に販売されている、
ベンゾフェノン-12、
n-ヘキシル2-(4-ジエチルアミノ-2-ヒドロキシベンゾイル)ベンゾエート。
【００５５】
ベンジリデン樟脳誘導体:
3-ベンジリデン樟脳、Chimexによって名称「Mexoryl SD」の下に製造されている、
4-メチルベンジリデン樟脳、Merckによって名称「Eusolex 6300」の下に販売されている、
ベンジリデン樟脳スルホン酸、Chimexによって名称「Mexoryl SL」の下に製造されている、
樟脳ベンザルコニウムメトスルフェート、Chimexによって名称「Mexoryl SO」の下に製造されている、
テレフタリリデンジカンファースルホン酸、Chimexによって名称「Mexoryl SX」の下に製造されている、
ポリアクリルアミドメチルベンジリデン樟脳、Chimexによって名称「Mexoryl SW」の下に製造されている。
【００５６】
フェニルベンズイミダゾール誘導体:
フェニルベンズイミダゾールスルホン酸、Merckによって商標「Eusolex 232」の下に特に販売されている、
ジナトリウムフェニルジベンズイミダゾールテトラスルホネート、Haarmann and Reimerによって商標「Neo Heliopan AP」の下に販売されている。
【００５７】
フェニルベンゾトリアゾール誘導体:
ドロメチゾールトリシロキサン、Rhodia Chimieによって名称「Silatrizole」の下に販売されている、
メチレンビス-ベンゾトリアダゾールテトラメチルブチルフェノール、Fairmount Chemicalによって商標「Mixxim BB100」の下に固体形態において販売されているか、または、Ciba Specialty Chemicalsによって商標「Tinosorb M」の下に水性分散液の微粉砕された形態において販売されている。
【００５８】
トリアジン誘導体:
ビス-エチルヘキシルフェノールメトキシフェノールトリアジン、Ciba-Geigyによって商標「Tinosorb S」の下に販売されている、
エチルヘキシルトリアゾン、BASFによって商標「Uvinul T150」の下に特に販売されている、
ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、Sigma 3Vによって商標「Uvasorb HEB」の下に販売されている、
2,4,6-トリス(ジネオペンチル4'-アミノベンザルマロネート)-s-トリアジン、
2,4,6-トリス(ジイソブチル4'-アミノベンザルマロネート)-s-トリアジン、
特許US6225467、出願WO2004/085412(化合物6および9参照のこと)、または「Symmetrical Triazine Derivatives」IP.COM Journal、IP COM INC、WEST HENRIETTA、NY、US(2004年9月20日)に記載されている、対称トリアジン遮断剤、特に、2,4,6-トリス(ビフェニル)-1,3,5,-トリアジン(とりわけ、2,4,6-トリス(ビフェニル4-イル)-1,3,5,-トリアジン)および2,4,6-トリス(ターフェニル)-1,3,5,-トリアジン、これらは、再度特許出願WO06/035000、特許出願WO06/034982、特許出願WO06/034991、特許出願WO06/035007、特許出願WO2006/034992、特許出願WO2006/034985に取り上げられている。
【００５９】
アンスラニル誘導体:
メンチルアンスラニレート、HaarmannおよびReimerによって商標「Neo Heliopan MA」の下に販売されている。
【００６０】
イミダゾリン誘導体:
エチルヘキシルジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリンプロピオネート。
【００６１】
ベンザルマロネート誘導体:
ジネオペンチル4'-メトキシベンズマロネート、
Hoffmann-LaRocheによって商標「Parsol SLX」の下に販売されているポリシリコーン-15などのベンザルマロネート官能基を含むポリオルガノシロキサン。
【００６２】
4,4-ジアリールブタジエン誘導体:
1,1-ジカルボキシ(2,2'-ジメチルプロピル)-4,4-ジフェニルブタジエン。
【００６３】
ベンズオキサゾール誘導体:
2,4-ビス[5-1(ジメチルプロピル)ベンズオキサゾール-2-イル-(4-フェニル)イミノ]-6-(2-エチルヘキシル)イミノ-1,3,5-トリアジン、Sigma 3VによってUvasorb K2Aの名称の下に販売されている、およびこれらの混合物。
【００６４】
好ましい追加の有機光保護剤は:
エチルヘキシルナトキシシンナメート、
ホモサレート、
エチルヘキシルサリチレート、
オクトクリレン、
フェニルベンズイミダゾールスルホン酸、
ベンゾフェノン-3、
ベンゾフェノン-4、
ベンゾフェノン-5、
n-ヘキシル2-(4-ジエチルアミノ-2-ヒドロキシベンゾイル)ベンゾエート、
4-メチルベンジリデン樟脳、
テレフタリリデンジ樟脳スルホン酸、
ジナトリウムフェニルジベンズイミダゾールテトラスルホネート、
メチレンビス-ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール、
エチルヘキシルトリアゾン、
ビス-エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、
ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
2,4,6-トリス(ジネオペンチル4'-アミノベンザルマロネート)-s-トリアジン、
2,4,6-トリス(ジイソブチル4'-アミノベンザルマロネート)-s-トリアジン、
2,4,6-トリス(ビフェニル4-イル)-1,3,5-トリアジン、
2,4,6-トリス(ターフェニル)-1,3,5-トリアジン、
ドロメトリゾールトリシロキサン、
ポリシリコーン-15、
ジネオペンチル4'-メトキシベンザルマロネート、
1,1-ジカルボキシ(2,2'-ジメチルプロピル)-4,4-ジフェニルブタジエン、
2,4-ビス[5-1(ジメトキシプロピル)ベンズオキサゾール-2-イル-(4-フェニル)イミノ]-6-(2-エチルヘキシル)イミノ-1,3,5-トリアジン、
およびこれらの混合物から選択される。
【００６５】
無機UV遮断剤は、金属酸化物から形成される、被覆されていても、いなくともよい顔料から選択され、顔料は、一般に5nmと100nmの間、好ましくは10nmと50nmの間の、主粒子の平均サイズを有し、例えば酸化チタンから形成された顔料(ルチルおよび/またはアナターゼ形態において無定形または結晶性)、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムまたは酸化セリウム、これらは、全てそれ自体よく知られたUV光保護剤である。
【００６６】
顔料は、被覆されていても、いなくともよい。
【００６７】
被覆された顔料は、例えば「Cosmetics & Toiletries、1990年2月、105巻、53〜64頁」に記載されているなどの化合物、アミノ酸、蜜蝋、脂肪酸、脂肪アルコール、アニオン性界面活性剤、レシチン、脂肪酸のナトリウム、カリウム、亜鉛、鉄またはアルミニウム塩、金属アルコキシド(チタンまたはアルミニウムアルコキシド)、ポリエチレン、シリコーン、蛋白質、(コラーゲン、エラスチン)、アルカノールアミン、シリコン酸化物、金属酸化物またはナトリウムヘキサメタホスフェートによる化学的、電子的、メカノケミカルおよび/または機械的性質をもつ1種または複数の表面処理を施された顔料である。
【００６８】
知られた方法では、シリコーンは、オルガノシリコンポリマーまたはオリゴマーであり、適切な官能性シランの重合および/またはポリ縮合によって得られる、種々の分子量を有する直鎖もしくは環式および分枝もしくは架橋構造を含み、シリコン原子が酸素原子(シロキサン結合)を介して互いに結合しており、場合によって置換された炭化水素基が、炭素原子を介して前記シリコン原子に直接結合している、主単位の繰り返しから本質的に構成される。
【００６９】
また、用語「シリコーン」は、これらの調製に必要なシラン、特にアルキルシランを包含する。
【００７０】
本発明に適する顔料の被覆に使用されるシリコーンは、好ましくはアルキルシラン、ポリジアルキルシロキサンおよびポリアルキルヒドロシロキサンからなる群から選択される。さらにより好ましくは、シリコーンはオクチルトリメチルシラン、ポリジメチルシロキサンおよびポリメチルヒドロソロキサンからなる群から選択される。
【００７１】
勿論、金属酸化物から形成された顔料は、シリコーンによりこれらを処理する前に、他の表面処理剤により、特に酸化セリウム、アルミナ、シリカ、アルミニウム化合物、シリコン化合物またはこれらの混合物により処理されていてもよい。
【００７２】
被覆顔料は、より詳しくは、以下で被覆された酸化チタンである:
-シリカ、Ikeda製の製品「Sunveil」およびMerck製の製品「Eusolex T-AVO」など、
-シリカおよび酸化鉄、Ikeda製の製品「Sunveil F」など、
-シリカおよびアルミナ、Tayca製の製品「Microtitanium Dioxide MT 500 SA」および「Microtitanium Dioxide MT 100 SA」、Tioxide製の「Tioveil」およびRhodia製の「Mirasun TiW60」など、
-アルミナ、Ishihara製の「Tipaque TTO-55(B)」および「Tipaque TTO-55(A)」およびKemira製の「UVT 14/4」など、
-アルミナおよびステアリン酸アルミニウム、Taica製の製品「Microtitanium Dioxide MT 100 TV、MT 100 TX、MT 100 ZまたはMT-01」、およびUniqema製の「Solaveil CT-10 W」、「Solaveil CT100」および「Solaveil CT200」など、
-シリカ、アルミナおよびアルギン酸、Tayca製の製品「MT-100AQ」など、
-シリカおよびアルミニウムラウレート、Tayca製の製品「Microtitanium Dioxide MT 100 S」など、
-酸化鉄およびステアリン酸鉄、Tayca製の製品「Microtitanium Dioxide MT 100 F」など、
-酸化亜鉛およびステアリン酸亜鉛、Tayca製の製品「BR351」など、
-シリカおよびアルミナ、およびシリコーンで処理されたもの、Tayca製の製品「Microtitanium Dioxide MT 600 SAS」、「Microtitanium Dioxide MT 500 SAS」または「Microtitanium Dioxide MT 100 SAS」など、
-シリカ、アルミナおよびステアリン酸アルミニウム、およびシリコーンで処理されたもの、Titan Kogyo製の製品「STT-30-DS」など、
-シリカおよびシリコーンで処理されたもの、Kemira製の製品「UV-Titan X 195」またはTayca製の製品「SMT-100 WRS」など、
-アルミナおよびシリコーンで処理されたもの、Ishihara製の製品「Tipaque TTO-55(S)」またはKemira製の「UV Titan M 262」など、
-トリエタノールアミン、Titan Kogyo製の製品「STT-65-S」など、
-ステアリン酸、Ishihara製の製品「Tipaque TTO-55(C)」など、
-ナトリウムヘキサメタホスフェート、Tayca製の製品「Microtitanium Dioxide MT 150 W」など。
【００７３】
シリコーンで処理された他の酸化チタンは、好ましくはオクチルトリメチルシランで処理されたTiO2であり、Degussa Silicesによって商標「T 805」の下に販売されているなどの、個々の粒子の平均サイズが25と40nmの間にあるものであり、ポリジメチルシロキサンで処理されたTiO2であり、Cardreによって商標「70250 Cardre UF TiO2S13」の下に販売されているなどの、個々の粒子の平均サイズが21nmであるものであり、ポリジメチルヒドロシロキサンで処理されたアナターゼ/ルチルTiO2であり、Color Techniquesによって商標「Microtitanium Dioxyde USP Grade hydro phobic」の下に販売されているなどの、個々の粒子の平均サイズが25nmであるものである。
【００７４】
非被覆酸化チタン顔料は、例えば、Taycaによって商標「Microtitanium Dioxide MT 500 B」または「Microtitanium Dioxide MT600 B」の下に、Degussaによって名称「P 25」の下に、Wackerによって名称「Oxyde de titane transparent PW」の下に、Miyoshi Kaseiによって名称「UFTR」の下に、Tomennによって名称「ITS」の下に、Tioxideによって名称「Tioveil AQ」の下に販売されている。
【００７５】
非被覆酸化亜鉛顔料には、例えば、
-Sunsmartによって名称「Z-cote」の下に販売されているもの、
-Elementisによって名称「Nanox」の下に販売されているもの、
-Nanophase Technologiesによって名称「Nanogard WCD 2025」の下に販売されているものがある。
【００７６】
被覆酸化亜鉛顔料には、例えば、
-Sunsmartによって名称「Z-cote HP1」の下に販売されているもの(ジメチコーンにより被覆されているZnO)、
-Toshibiによって名称「Oxide zinc CS-5」の下に販売されているもの(ポリメチルヒドロシロキサンにより被覆されたZnO)、
-Nanophase Technologiesによって名称「Nanogard Zinc Oxide FN」の下に販売されているもの(Finsolv TN、C12〜C15アルキルベンゾエート中の40%分散液として)、
-Daitoによって名称「Daitopersion Zn-30」および「Daitopersion Zn-50」の下に販売されているもの(シリカにより被覆された亜鉛ナノオキシドの30%または50%およびポリメチルヒドロシロキサンを含む、オキシエチレン化ポリジメチルシロキサン/シクロポリメチルシロキサン中の分散液)、
-Daikinによって名称「NFD Ultrafine ZnO」の下に販売されているもの(パーフルオロアルキルのホスフェートおよびシクロペンタシロキサン中の分散液としてパーフルオロアルキルエチルをベースとするコポリマーにより被覆されたZnO)、
-Shin-Etsuによって名称「SPD-Z1」の下に販売されているもの(シクロジメチルシロキサン中に分散液されたシリコーングラフト化アクリルポリマーにより被覆されたZnO)、
-ISPによって名称「Escalol Z100」の下に販売されているもの(エチルヘキシルメトキシシンナメート/PVP-ヘキサデシンコポリマー/メチコーン混合物中に分散されたアルミナ処理ZnO)、
-Fuji Pigmentよって名称「Fuji ZnO-SMS-10」の下に販売されているもの(シリカおよびポリメチルシルセスキオキサンにより被覆されたZnO)、
-Elementisよって名称「Nanox Gel TN」の下に販売されているもの(ヒドロキシステアリン酸ポリ縮合物と共に、C12〜C15アルキルベンゾエート中で55%に分散されたZnO)がある。
【００７７】
非被覆セリウム酸化物顔料は、例えばRhone-Poulencによって名称「Colloidal Cerium Oxide」の下に販売されている。
【００７８】
非被覆酸化鉄顔料は、例えばArnaudによって名称「Nanogard WCD 2006 (FE 45B)」、「Nanogard Iron FE 45 BL AQ」、「Nanogard FE 45R AQ」、「Nanogard WCD 2006 (FE 45R)」の下に、またはMitsubishiによって名称「TY-220」の下に販売されている。
【００７９】
被覆酸化鉄顔料は、例えば、Arnaudによって名称「Nanogard WCD 2008 (FE 45B FN)」、「Nanogard WCD 2009 (FE 45B 556)」、「Nanogard FE 45 BL 345」または「Nanogard FE 45 BL」の下に、またはBASFによって名称「Oxyde de fertransparent」の下に販売されている。
【００８０】
また、金属酸化物の混合物、特にIkedaによって名称「Sunveil A」の下に販売されている、シリカにより被覆された二酸化チタンおよびシリカにより被覆された二酸化セリウムの等量の混合物を含む二酸化チタンおよび二酸化セリウムの混合物、ならびにKemiraによって販売されている製品「M261」などの、二酸化チタンと、アルミナにより、シリカにより、およびシリコーンにより被覆された二酸化亜鉛との混合物、Kemiraによって販売されている製品「M211」などの、二酸化チタンと、アルミナにより、シリカにより、およびグリセロールにより被覆された二酸化亜鉛との混合物が挙げられる。
【００８１】
追加の光保護剤は、一般に本発明による組成物中に、組成物の総量に対して0.01〜20重量%の範囲の、好ましくは組成物の総量に対して0.1〜10重量%の範囲の割合で存在する。
【００８２】
また、本発明による組成物は、皮膚の人工日焼けおよび/または褐色着色用の薬剤(自己日焼け剤)、およびより詳細にはジヒドロキシアセトン(DHA)を含む。これらは、好ましくは組成物の総量に対して0.1から10重量%の範囲の量において存在する。
【００８３】
本発明による水性組成物は、さらに、脂肪物質、有機溶剤、イオン性または非イオン性ならびに親水性または親油性増粘剤、柔軟剤、湿潤剤、乳白剤、安定化剤、皮膚軟化剤、シリコーン、消泡剤、芳香剤、防腐剤、アニオン性、カチオン性、非イオン性、対イオン性または両性界面活性剤、活性成分(active principles)、充填材、ポリマー、噴射剤、塩基性化または酸性化剤、または化粧品および/または皮膚科学的分野において通常使用される任意の他の成分から特に選択された通常の化粧品助剤を含むことができる。
【００８４】
脂肪物質は、上に定義された非極性ワックス以外の、油またはワックス、またはこれらの混合物から構成し得る。用語「油」は、周囲温度において液体である化合物を意味すると理解される。用語「ワックス」は、周囲温度において固体または実質上固体であり、一般に35℃を超える融点を有する化合物を意味すると理解される。
【００８５】
油として、鉱油(流動パラフィン);植物油(扁桃、マカデミア、クロフサスグリ種子またはホホバ油);パーヒドロスクアレンなどの合成油、脂肪アルコール、脂肪アミド(Ajinomotoによって「Eldew SL-205」の名称の下に販売されているイソプロピルラウロイルサルコシネートなどの)、脂肪酸またはエステル(Witcoによって商標「Finsolv TN」または「Witconol TN」の下に販売されているC12〜C15アルキルベンゾエート、オクチルパルミテート、イソプロピルラノレート、Cognisによって名称「Cetiol CC」の下に販売されている、カプリン/カプリル酸のトリグリセリドを含むトリグリセリド、またはジカプリリルカーボネートなどの)、またはオキシエチレン化またはオキシプロピレン化脂肪エステルおよびエーテル;シリコーン油(シクロメチコーン、ポリジメチルシロキサンまたはPDMS);フッ素化油;またはポリアルキレンを挙げることができる。
【００８６】
ワックス状化合物として、カルナウバワックス、蜜蝋、水素化ヒマシ油、Sasolによって名称Cirebelle 303の下に販売されているものなどのポリエチレンワックスおよびポリメチレンワックスを挙げることができる。
【００８７】
有機溶剤の中には、低級アルコールおよびポリオールを挙げることができる。後者は、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ジプロピレングリコールまたはジエチレングリコールなどのグリコールおよびグリコールエーテルから選択することができる。
【００８８】
親水性増粘剤として、Carbopols(Carbomers)およびPemulens(アクリレート/C10〜C30-アルキルアクリレートコポリマー)などのカルボキシビニルポリマー;例えば、Seppicによって、名称Sepigel 305(CTFA呼称:ポリアクリルアミド/C13〜14イソパラフィン/Laureth 7)またはSimugel 600(CTFA呼称:アクリルアミド/ナトリウムアクリロイルジメチルタウレートコポリマー/イソヘキサデカン/ポリソルベート80)の下に販売されている架橋コポリマーなどのポリアクリルアミド;Hoechstによって商標「Hostacerin AMPS」の下に販売されているポリ(2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸)などの、2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸の場合によって架橋されたおよび/または中和されたポリマーおよびコポリマー(CTFA呼称:アンモニウムポリアクリロイルジメチルタウレート)、またはSeppicによって販売されているSimugel 800(CTFA呼称:ナトリウムポリアクロイルジメチルタウレート/ポリソルベート80/ソルビタンオレエート);Seppicによって販売されているSimugel NSおよびSepinov EMT 10などの2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸およびヒドロキシエチルアクリレートのコポリマー;ヒロロキシエチルセルロースなどのセルロース誘導体;ポリサッカライドおよび特にキサンタンゴムなどのゴム;およびこれらの混合物を挙げることができる。
【００８９】
親油性増粘剤として、Landecによって名称「Intelimer IPA 13-1」および「Intelimer IPA 13-6」の下に販売されているポリ(C10〜C30アルキルアクリレート)などの合成ポリマー、またはBentone名称の下に販売されている製品などの、ヘクトライトおよびこの誘導体などの改質クレーを挙げることができる。
【００９０】
活性成分の中には、
-ビタミン(A、C、E、K、PPなど)およびこれらの誘導体または前駆物質、単独または混合物として;
-汚染に対抗する薬剤および/または遊離基に対抗する薬剤;
-色素消失剤および/または前駆顔料着色剤;
-坑グリケーション剤;
-鎮痛剤;
-NOシンターゼ阻害剤;
-皮膚または表皮高分子の合成を刺激するおよび/またはこれらの分解を防止する薬剤;
-線繊芽細胞の増殖を刺激する薬剤;
-ケラチン合成細胞の増殖を刺激する薬剤;
-筋肉緩和剤;
-引き締め剤;
-艶消し剤;
-表皮剥離剤;
-剥離剤;
-保湿剤;
-抗炎症剤;
-細胞のエネルギー代謝に作用する薬剤;
-防虫剤;
-物質Pまたは物質CRGP拮抗体;
-脱毛に対抗する、および/または髪の再生のための薬剤;
-坑皺剤
を挙げることができる。
【００９１】
勿論、当業者は、上記の追加の任意選択の1種または複数の化合物および/またはこれらの量を、本発明による組成物に本質的に付随する有利な特性が、想定された1回または複数の添加によって、不利に影響されない、または実質上不利に影響されないように選択するよう注意するであろう。
【００９２】
本発明による組成物は、当業者にはよく知られた技法によって調製することができる。組成物を、クリームまたは乳液などの単一または複合(O/W、W/O、O/W/OまたはW/O/W)エマルジョンの、またはクリームゲルの形態で;水性ゲルの形態で;ローションの形態で、特に提供することができる。組成物を場合によって、エアゾールとして包装し、泡または噴霧形態で提供することができる。
【００９３】
好ましくは、本発明による組成物は、水中油型または油中水型エマルジョンの形態で提供される。
【００９４】
一般に、エマルジョンは、両性、アニオン性、カチオン性または非イオン性乳化剤から選択された少なくとも1種の、単独または混合物として使用される乳化剤を含む。乳化剤は、得られるべきエマルジョン(W/OまたはO/Wエマルジョン)により適切に選択される。
【００９５】
また、エマルジョンは、例えば充填材、またはゲル化または増粘化ポリマーなどの安定剤の他のタイプを含むことができる。
【００９６】
W/Oエマルジョンの調製に使用することができる乳化界面活性剤として、例えば、ソルビタン、グリセロールまたは糖アルキルエステルまたはエーテル;ジメチコーンコポリオール、例えばDow Corningによって名称「DC 5225C」の下に販売されているシクロメチコーンおよびジメチコーンコポリオールの混合物などのシリコーン界面活性剤、およびDow Corningによって名称「Dow Corning 5200 Formulation Aid」の下に販売されている、ラウリルメチコーンコポリオールなどのアルキルジメチコーンコポリオール、Goldschmidtによって名称Abil EM 90Rの下に販売されている製品などのセチルジメチコーンコポリオール、およびGoldschmidtによって名称Abil WE 09の下に販売されている、セチルジメチコーンコポリオール、ポリグリセロール(4モル)イソステアレートおよびヘキシルラウレートの混合物を挙げることができる。また、有利には、ポリオールアルキルエステルからなる群から選択することができる1種または複数の共乳化剤をここに添加することが可能である。
【００９７】
ポリオールアルキルエステルとして、ICIによって名称Arlacel P135下に販売されている製品など、PEG-30ジポリヒドロキシステアレートなどのポリエチレングリコールエステルを特に挙げることができる。
【００９８】
グリセロールおよび/またはソルビタンのエステルとして、例えば、Goldschmidtによって名称Isolan GI 34の下に販売されている製品などのポリグリセロールイソステアレート;ICIによって名称Arlacel 987の下に販売されている製品などのソルビタンイソステアレート;ICIによって名称Arlacel 986の下に販売されている製品などのグリセロールソルビタンイソステアレート、およびこれらの混合物を挙げることができる。
【００９９】
O/Wエマルジョンに対しては、例えば乳化剤として、脂肪酸およびグリセロールのオキシアルキレン化(さらに詳しくは、ポリオキシエチレン化)エステルなどの非イオン乳化剤;脂肪酸およびソルビタンのオキシアルキレン化エステル;例えばICIによって名称Arlacel 165の下に販売されているPEG-100ステアレート/グリセリルステアレート混合物などのオキシアルキレン化(オキシエチレン化および/またはオキシプロピレン化)脂肪酸エステル;オキシアルキレン化(オキシエチレン化および/またはオキシプロピレン化)脂肪アルコールエーテル;スクロースステアレートなどの糖エステル;例えばHenkelによって、それぞれ名称Plantaren 2000およびPlantaren 1200下に販売されているデシルグルコシドおよびラウリルグルコシドなどの脂肪アルコールおよび糖のエーテル、特にアルキルポリグルコシド(APG)、例えば名称Montanov 68の下にSeppicによって、名称Tegocare CG90の下にGoldschmidtによっておよび名称Emulgade KE3302の下にHenkelによって販売されている、場合によってセテアリルアルコールとの混合物としてのセテアリルグルコシド、および例えばSeppicによって、名称Montanov 202の下に販売されている、アラキジルおよびベヘニルアルコールとアラキジルグルコシドの混合物の形態のアラキジルグルコシドを挙げることができる。本発明の特定の実施形態によれば、対応する脂肪アルコールとの、上に定義されたアルキルポリグリコシドの混合物は、例えば文献WO-A-92/06778に開示されている自己乳化組成物の形態であってよい。
【０１００】
他のエマルジョン安定剤の中で、より詳細には、イソフタル酸またはスルホイソフタル酸のポリマー、特にフタレート/スルホイソフタレート/グリコールコポリマー、例えばEastman Chemicalによって名称「Eastman AQ polymer」(AQ35S、AQ38S、AQ55S、AQ48 Ultra)の下に販売されているジエチレングリコール/フタレート/イソフタレート/1,4-シクロヘキサンジメタノールコポリマー(INCI呼称:Polyester-5)が使用される。
【０１０１】
エマルジョンが使用される場合、エマルジョンの水相は、知られた方法(Bangham、Standish and Watkins、J.Mol.Biol.、13巻、238頁(1965)、FR2315991およびFR2416008)により調製される非イオン性小胞分散液を含むことができる。
【０１０２】
本発明による組成物は、特に頭皮を含む皮膚、唇および/または髪の化粧用処理において、特に皮膚、唇および/または髪を保護および/または手入れするための、および/または皮膚および/または唇をメークアップするための、多数の処理において用途を有する。
【０１０３】
本発明の他の主題は、皮膚、唇、爪、髪、まつげ、眉毛および/または頭皮の化粧用処理のための製品の、特にケア製品、日光防護製品およびメークアップ製品の製造において、上に定義された本発明による組成物の使用から構成される。
【０１０４】
本発明による化粧品組成物は、例えばメークアップ製品として使用することができる。
【０１０５】
本発明による化粧品組成物は、例えば、乳液、比較的スムースなクリーム、クリームゲルまたはペーストなどの、液体から半液体粘度を有する顔および/または身体用のケア製品および/または日光防護製品として使用することができる。組成物は、場合によって、エアゾールに包装することができ、および泡またはスプレー形態において提供することができる。
【０１０６】
本発明によれば、揮発性液体ローションの形態の本発明による組成物は、圧力装置による微細粒子の形態において皮膚または髪に使用される。本発明による装置は、当業者によく知られており、非エアゾールポンプ、または噴射剤として圧搾空気を使用する噴射剤およびエアゾールポンプを含むエアゾール容器である「噴霧器」を含む。噴霧器は、特許US4077441および特許US4850517(この記載の内容の構成部分を形成する)に開示されている。
【０１０７】
本発明によるエアゾールとして包装された組成物は、一般に例えばヒドロフッ素化化合物、ジクロロジフルオロメタン、ジフルオロエタン、ジメチルエーテル、イソブタン、n-ブタン、プロパンまたはトリクロロフルオロメタンなどの通常の噴射剤を含む。これらは、好ましくは組成物の総量に対して15〜50重量%の範囲の量において存在する。
【０１０８】
本発明を例示する具体的であるが決して限定はしない実施例をここに示す。
【０１０９】
合成例
(実施例)
(実施例1)
1,3-ジメチルブチル(ベンゾイルアミノ)アセテートの調製
【０１１０】
【化１２】
2008001706.tif 000016
【０１１１】
トルエン100ml中の、馬尿酸(8g、0.0446モル)、4-メチル-2-ペンタノール(6.8ml、0.0536モル)および98%硫酸(0.41ml、0.00446モル)の混合物を80℃において17時間加熱する。4-メチル-2-ペンタノール(6.8ml、0.0536モル)および98%硫酸(0.41ml、0.00446モル)の第2の添加を実施し、反応混合物を7時間還流させる。反応混合物を減圧下に蒸発乾固する。残渣を酢酸エチル中に取り込み、水で2回洗浄する。単離された有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥させる。濾過し、溶剤を蒸発後に、得られた黄色油をシリカ(溶出剤:ヘプタン/EtOAc 80:20)上でクロマトグラフにかけて、淡黄色油の形態の実施例1の化合物の清澄な部分、3g(22%収率)を得る。
【０１１２】
(実施例2)
2-エチルヘキシル(ベンゾイルアミノ)アセテートの調製
【０１１３】
【化１３】
2008001706.tif 000017
【０１１４】
トルエン20ml中の、馬尿酸(6.25g、0.0349モル)、2-エチル-1-ヘキサノール(6ml、0.0384モル)および98%硫酸(0.18ml、0.00349モル)の混合物を17時間、加熱還流する。反応混合物を減圧下に蒸発乾固する。残渣を酢酸エチル中に取り込み、水で2回洗浄する。単離された有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥させる。濾過し、溶剤を蒸発後に、得られた黄色油をシリカ(溶出剤:CH2Cl2)上でクロマトグラフにかけて、淡黄色油の形態の実施例2の化合物の清澄な部分、8.8g(87%収率)を得る。
【０１１５】
(実施例3)
2-エチルヘキシル[(3-フェニルプロパノイル)アミノ]アセテートの調製
【０１１６】
【化１４】
2008001706.tif 000018
【０１１７】
第1段階:2-エチルヘキシルアミノアセテートの調製
トルエン20ml中の、グリシン(4.36g、0.0582モル)、2-エチル-1-ヘキサノール(10ml、0.0639モル)および98%硫酸(0.311ml、0.00581モル)の混合物を17時間、加熱還流する。得られた懸濁液にトルエン50mlを添加し、濃硫酸0.5mlを添加し、合わせた混合物を24時間還流させる。反応混合物を減圧下に蒸発乾固する。残渣をシリカ(溶出剤:CH2Cl2/MeOH 98:2)上でクロマトグラフにかけて、オレンジ色油の形態の2-エチルヘキシルアミノアセテートの清澄な部分、7g(87%収率)を得る。これをそのまま以下の段階で使用する。
【０１１８】
第2段階:実施例3の製品の調製
塩化オキザリル3.4ml(0.0384モル)を、無水アセトニトリル20mlおよび無水DMF1mlの混合物中に溶解された3-フェニルプロパノイル酸(4.18g、0.032モル)に、0℃において15分間の間に添加する。この混合物を実験室温度において3時間撹拌させた。減圧下で溶剤を蒸発させ、得られた黄色油をアセトニトリル20ml中に取り込む。-5℃に冷却させ、アセトニトリル10mlに溶解した前の段階からの製品(6g、0.032モル)を滴下しながら導入した後に、ジイソプロピルエチルアミン16mlを入れる。この反応混合物を17時間撹拌する。反応混合物を減圧下に蒸発乾固する。残渣を酢酸エチル中に取り込み、飽和塩化ナトリウムで、および水で2回洗浄する。単離された有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥させる。濾過し、溶剤を蒸発させた後に、得られたオレンジ色油をシリカ(溶出剤:ヘプタン/EtOAc 90:10)上でクロマトグラフにかけて、淡黄色油の形態の実施例3の化合物の清澄な部分、3.25g(31%収率)を得る。
【０１１９】
(実施例4)
N-(2-エチルヘキシル)3-フェニル-N-(2-フェニルエチル)プロパンアミドの調製
【０１２０】
【化１５】
2008001706.tif 000019
【０１２１】
第1段階:N-(2-エチルヘキシル)-N-(2-フェニルエチル)アミンの調製
無水THF16mlに溶解した2-エチル-1-ヘキシルアミン(4g、0.0309モル)を、無水THF10ml中の水素化ナトリウム(油中50%で1.49g)の懸濁液に、0℃において15分間の間に添加し、次いで、この混合物を実験室温度において1時間放置する。無水THF60mlに溶解した2-ブロモエチルベンゼン(5.1ml、0.037モル)を引き続き実験室温度において15分間の間に添加する。この反応混合物を実験室温度において19時間、次いで、80℃において24時間放置する。冷却後に、水100mlを注意深く添加し、CH2Cl2 3×150mlで抽出を実施する。この有機相を飽和NaCl溶液で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、次いで反応混合物を減圧下に蒸発乾固する。得られ黄色油をシリカ(溶出剤:ヘプタン/EtOAc 50:50)上でクロマトグラフにかけて、淡黄色油の形態のN-(2-エチルヘキシル)-N-(2-フェニルエチル)アミンの清澄な部分、3.4g(47%収率)を得る。これを以下の段階において使用する。
【０１２２】
第2段階:実施例4の生成物の調製
塩化オキザリル1.5ml(0.0145モル)を、無水アセトニトリル10mlおよび無水DMF0.5mlの混合物中に溶解されたジヒドロ桂皮酸(2.2g、0.0145モル)に、0℃において10分間の間に添加する。この混合物を実験室温度において3時間撹拌させた。溶剤を減圧下で蒸発させ、得られたオレンジ色油をアセトニトリル20ml中に取り込む。-5℃に冷却させ、アセトニトリル10mlおよびジイソプロピルエチルアミン7.2mlに溶解した前の段階からの製品(3.4g、0.0145モル)を滴下しながら同時に導入する。この反応混合物を17時間撹拌する。反応混合物を減圧下に蒸発乾固する。残渣を酢酸エチル中に取り込み、飽和塩化ナトリウムで、および水で2回洗浄する。単離された有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥させる。濾過し、溶剤を蒸発させた後に、得られた褐色油をシリカ(溶出剤:ヘプタン/EtOAc 90:10)上でクロマトグラフにかけて、淡黄色油の形態の実施例4の化合物の清澄な部分、3.98g(73%収率)を得る。
【０１２３】
(実施例5)
2-フェニルエチル3,4-ジメチルベンゾエートの調製
【０１２４】
【化１６】
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【０１２５】
トルエン170ml中の3,4-ジメチル安息香酸(16.53g、0.11モル)、2-フェニルエタノール(15.8ml、0.132モル)および98%硫酸(0.6ml、0.011モル)の混合物を80℃において20時間加熱する。褐色反応混合物を水で洗浄する。有機相を分離した後に、溶剤を減圧下に蒸発させる。残渣をヘプタン/AcOET 97:3混合物中に取り入れ、シリカ床を通して濾過する。清澄な部分を単離した後および溶剤を蒸発させた後に、実施例5の化合物20.2g(72%収率)が、淡黄色油の形態において得られる。
【０１２６】
(実施例6)
ビス(2-フェニルエチル)ピリジン-2,4-ジカルボキシレートの調製
【０１２７】
【化１７】
2008001706.tif 000021
【０１２８】
トルエン60ml中に溶解した2,4-ピリジンジカルボン酸(6g、0.0359モル)、2-フェニルエタノール(10.16ml、0.085モル)および濃硫酸0.6mlの混合物を80℃において15時間加熱する。溶剤を減圧下に蒸発させた後に、得られた粘性のある黄色油をジクロロメタン中に溶解し、シリカ床により精製する。溶剤を蒸発させた後に、実施例6生成物の清澄な部分5.8g(43%収率)が、白色固体の形態において得られる。
【０１２９】
(配合例7〜9)
以下の組成物を調製し、次いで、4-(tert-ブチル)-4'-メトキシジベンゾイルメタンの光安定性を、組成物のそれぞれに対して評価した。
【０１３０】
【表１】
2008001706.tif 000022
【０１３１】
測定方法
それぞれの配合に対して、3個の試験試料および3個の対照試料を調製した。配合の2mg/cm2をスパチュラを使用してポリ(メチルメタクリレート)シート上に堆積される。
【０１３２】
試験シートを、9.5×10-3W/cm2のUV-Aフラックスおよび5.43×10-4W/cm2のUV-Bフラックスを有するキセノンランプを備えたHeraeus Suntestに38分間曝す。対照試料を暗所において同一時間および同一温度(38〜40)で貯蔵する。
【０１３３】
この時間の終わりに、この遮断剤を、それぞれのシートをメタノール50gに浸漬すことによって、および良好な抽出をもたらすためにシートを15分間超音波にかけることによって抽出する。得られた溶液をHPLCおよびUV分光分析によって分析する。
【０１３４】
試験されたそれぞれの配合に対して、暴露後の残存4-(tert-ブチル)-4'-メトキシジベンゾイルメタンのレベルを、未暴露光学濃度(OD)に対する暴露試料の光学濃度(OD)の比として示す。採用された位置は、ブチルメトキシジベンゾイルメタンに対応する吸収極大:λmax=358nmである。
【０１３５】
得られた結果を以下の表1に要約する。
【０１３６】
【表２】
2008001706.tif 000023
【０１３７】
式(I)(化合物a)または(II)(化合物I)のアリールアルキルアミド化合物が存在する際のジベンゾイルメタンの光安定性の改善が、イソプロピルN-ラウロイルサルコシネート(Eldew SL-205、Ajinomoto)(従来技術のアミド化合物)に比較して観察される。
【０１３８】
(配合例10〜12)
以下の組成物を調製し、次いで、4-(tert-ブチル)-4'-メトキシジベンゾイルメタンの光安定性を、組成物のそれぞれに対して前記実施例7〜9に示した方法により評価した。
【０１３９】
【表３】
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【０１４０】
得られた結果を以下の表1に要約する。
【０１４１】
【表４】
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【０１４２】
アリールアルキルエステル(化合物(s)または(v))が存在する際のジベンゾイルメタンの光安定性の実質的改善が、2-エチルフェニルベンゾアート(X-Tend 226(登録商標)、ISP)に比較して観察される。
【外国語明細書】
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