(57)【要約】【課題】ガラス基板上の有機コンタミネーションを簡便に評価することが可能な手段による評価工程を備える磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。【解決手段】ガラス基板の鏡面研磨処理工程と洗浄処理工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、少なくとも前記洗浄工程の後に、ガラス基板主表面上の有機コンタミネーションの量を評価する工程を有する。そしてこの有機コンタミネーションの評価工程は、フーリエ変換赤外分光分析法を用いて行う評価工程である。【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板の鏡面研磨処理工程と洗浄処理工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
少なくとも前記洗浄工程の後に、ガラス基板主表面上の有機コンタミネーションの量を評価する工程を有することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項２】
前記有機コンタミネーションの評価は、フーリエ変換赤外分光分析法を用いて行うことを特徴とする請求項１に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項３】
前記洗浄処理工程の前後におけるガラス基板主表面上の有機コンタミネーションの変化量を評価することを特徴とする請求項１又は２に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項４】
請求項１乃至３の何れか一に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により製造されたガラス基板であって、前記有機コンタミネーションの量が所定の基準値以下であると評価されたガラス基板上に、少なくとも磁性層を成膜することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハードディスクドライブ（HDD）などの磁気ディスク装置に搭載される磁気ディスクの製造方法又は、該磁気ディスクを製造するための磁気ディスク用ガラス基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ハードディスクドライブ（HDD）等の情報処理機器用記録媒体の一つとして磁気ディスクがある。磁気ディスクは、基板上に磁性層等の薄膜を形成して構成されたものであり、その基板としてはアルミ基板が用いられてきた。しかし、最近では、高記録密度化の追求に呼応して、アルミと比べて磁気ヘッドと磁気ディスクとの間隔をより狭くすることが可能なガラス基板の占める比率が次第に高くなってきている。また、ガラス基板表面は磁気ヘッドの浮上高さを極力下げることができるように、高精度に研磨して高記録密度化を実現している。
上述したように高記録密度化にとって必要な低フライングハイト（浮上量）化のために磁気ディスク表面の高い平滑性は必要不可欠である。磁気ディスク表面の高い平滑性を得るためには、結局、高い平滑性の基板表面が求められるが、もはや、高精度に基板表面を研磨するだけでは、磁気ディスクの高記録密度化を実現できない段階まできている。つまり、いくら、高精度に研磨しても基板上に異物が付着していては高い平滑性は得られない。勿論、従来から異物の除去はなされていたが、従来では許容されていた基板上の異物が、今日の高密度化のレベルでは問題視される状況にある。
【０００３】
高い平滑性を有するガラス基板は、酸化セリウム系研磨剤を使った精密研磨によって得ることが可能である。しかし、酸化セリウム系研磨剤による研磨工程の後、通常の洗浄では除去できない突起異物が残ることで、表面粗さの低減ができないという問題がある。この突起異物は研磨砥粒が基板上に残留して形成されている場合が多い。
付着した酸化セリウム砥粒により形成された突起異物を除去する技術として、例えば情報記録媒体用ガラス基板の技術分野においては、酸化セリウム砥粒を用いた研磨の後に、硫酸洗浄を行うことが提案されている（下記特許文献１）。
【０００４】
【特許文献１】特開２０００−３４８３３８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
最近、ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）では60Gbit／inch２以上の情報記録密度が要求されるようになってきた。これは一つに、HDDが従来のコンピュータ用記憶装置としてのニーズに加えて、携帯電話やナビゲーションシステム、デジタルカメラ等に搭載されるようになってきたことと関係がある。
これらの新規用途の場合、HDDを搭載する筐体スペースがコンピュータに比べて著しく小さいので、HDDを小型化する必要がある。このためには、HDDに搭載する磁気ディスクの径を小径化する必要がある。例えば、コンピュータ用途では３．５インチ型や２．５インチ型の磁気ディスクを用いることが出来たが、上記新規用途の場合では、これよりも小径の、例えば０．８インチ型〜１．８インチ型などの小径磁気ディスクが用いられる。このように磁気ディスクを小径化した場合であっても一定以上の情報容量を格納させる必要があるので、勢い、情報記録密度の向上に拍車がかかることになる。
【０００６】
また、限られたディスク面積を有効に利用するために、従来のCSS（Contact Start and Stop）方式に代えてLUL（Load Unload：ロードアンロード）方式のHDDが用いられるようになってきた。LUL方式では、ＨＤＤの停止時には、磁気ヘッドを磁気ディスクの外に位置するランプと呼ばれる傾斜台に退避させておき、起動動作時には磁気ディスクが回転開始した後に、磁気ヘッドをランプから磁気ディスク上に滑動させ、浮上飛行させて記録再生を行なう。停止動作時には磁気ヘッドを磁気ディスク外のランプに退避させたのち、磁気ディスクの回転を停止する。この一連の動作はLUL動作と呼ばれる。LUL方式HDD用の磁気ディスクでは、CSS方式のような磁気ヘッドとの接触摺動用領域（CSS領域）を設ける必要がなく、記録再生領域を拡大させることができ、高情報容量化にとって好ましいからである。
このような状況の下で情報記録密度を向上させるためには、磁気ヘッドの浮上量を低減させることにより、スペーシングロスを限りなく低減する必要がある。１平方インチ当り６０ギガビット以上の情報記録密度を達成するためには、磁気ヘッドの浮上量は１０ｎｍ以下にする必要がある。LUL方式ではCSS方式と異なり、磁気ディスク面上にＣＳＳ用の凸凹形状を設ける必要が無く、磁気ディスク面上を極めて平滑化することが可能となる。よってLUL方式用磁気ディスクでは、CSS方式に比べて磁気ヘッド浮上量を一段と低下させることができるので、記録信号の高S/N比化を図ることができ、磁気ディスク装置の高記録容量化に資することができるという利点もある。
【０００７】
最近のLUL方式の導入に伴う、磁気ヘッド浮上量の一段の低下により、10nm以下の極低浮上量においても、磁気ディスクが安定して動作することが求められるようになってきた。
このように、磁気ディスクの記録容量は年々増加の一途をたどっており、それに伴って磁気ヘッドの浮上量も１０ｎｍを切るまでに至っている。この領域では磁気ディスク上のごく小さな欠陥（ディフェクト）でも信頼性に多大な影響を及ぼす。これまで、磁気ディスク及びそのガラス基板表面の清浄度は、ＯＳＡ（Optical Surface Analyzer）に代表される光学系表面分析装置による欠陥検査によって評価されてきた。とりわけ近年、磁気ディスクは面内磁気記録方式から垂直磁気記録方式に移行しており、磁気ディスクの大容量化、それに伴うフライングハイトの低下が強く要求されている。よって、従来のＯＳＡでは最早評価できないような欠陥の評価が要求されている。なお、上記ＯＳＡは非常に優秀な分析装置であるが、欠陥の検出感度を上げすぎると、本来欠陥ではないものまで欠陥（擬似欠陥）として検出してしまうという不具合もある。
【０００８】
現状では、磁気ディスクに対する厳しいスペック要求があるにもかかわらず、そのスペックを評価する有効な手段はほとんど知られていない。
磁気ディスク製造工程において、信頼性は最も重要なファクターである。信頼性の評価には、磁気ディスク表面の凹凸やパーティクルなど異物付着の状態を検査する方法がある。磁気ディスクの検査方法としては、グライド（Glide）検査、Certify検査を実施するのが一般的であるが、中には検査後に磁性膜そのものが剥れてしまう（膜剥れ）ものも確認されている。また、高温高湿状態（例えば９０℃、９０％ＲＨ）においた信頼性試験においても、膜下の異物が膨張し、磁性膜が膨れ上がってしまい、その部分に磁気ヘッドが衝突して膜剥れ（膜破壊、膜破損）やヘッド墜落などの問題を引き起こしてしまうことが確認されている。
【０００９】
本発明者の検討によると、上記の膜剥れ、膜膨れの原因と一つとして、磁気ディスクの基板であるガラス基板上への有機系のコンタミネーションの付着があることが判明した。その根源としてガラス基板の搬送や雰囲気中からの付着、洗浄剤に含まれる有機物、洗浄後の乾燥工程における有機溶媒の付着等が挙げられる。これらガラス基板上に付着した有機コンタミネーションは、従来のＯＳＡ等の光学系表面分析装置では確認が困難なものが多く、現状では例えば洗浄前後のコンタミ変化量評価を行うといったことも不可能である。
【００１０】
ただし、本発明者の検討によれば、以下に示すようなサンプルを破壊する手法によって評価することは一応可能であると考えられる。つまり、評価するガラス基板を破砕して密閉系に封止する。当該系を２００℃以上に加熱すると、有機物が燃焼し二酸化炭素となって系中に放出される。系中のガスをキャリアガスとともにＧＣ−ＭＳ試験機（ガスクロマトグラフィとマススペクトルの二種の装置の複合装置）に通すと、二酸化炭素のシグナルが観測され、そのシグナル面積から二酸化炭素ガス量、すなわち有機コンタミネーションの量を定量することが可能である。
しかし、このような評価方法によると、たとえ有機コンタミネーション量を評価できたとしても、最早そのガラス基板は製品として使用できないことはいうまでもなく、また全数検査を行うことも不可能である。さらに、例えば洗浄効果を確認するために、ガラス基板上の有機コンタミネーション量が洗浄の前後でどの程度変化したのかを評価するといったことも不可能である。
【００１１】
以上の事情から、磁気ディスクを製造した場合の磁性膜の膜剥れ、膜膨れ等を引き起こす要因となるガラス基板上の有機コンタミネーションをガラス基板の製造段階で簡便に評価することができればその有用性は極めて高いことは明らかである。
本発明は以上の課題を解決すべくなされたものであって、ガラス基板上の有機コンタミネーションを簡便に評価することが可能な手段による評価工程を備える磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、又は該製造方法によって製造され、上記評価工程により有機コンタミネーションが所定の基準値以下であると評価されたガラス基板を利用した磁気ディスクの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者は上記課題を解決すべく鋭意検討の結果、本発明を完成した。
すなわち、本発明は以下の構成を有する発明である。
（発明の構成１）
ガラス基板の鏡面研磨処理工程と洗浄処理工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、少なくとも前記洗浄工程の後に、ガラス基板主表面上の有機コンタミネーションの量を評価する工程を有することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。
【００１３】
（発明の構成２）
前記有機コンタミネーションの評価は、フーリエ変換赤外分光分析法を用いて行うことを特徴とする構成１に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。
（発明の構成３）
前記洗浄処理工程の前後におけるガラス基板主表面上の有機コンタミネーションの変化量を評価することを特徴とする構成１又は２に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。
【００１４】
（発明の構成４）
構成１乃至３の何れか一に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により製造されたガラス基板であって、前記有機コンタミネーションの量が所定の基準値以下であると評価されたガラス基板上に、少なくとも磁性層を成膜することを特徴とする磁気ディスクの製造方法である。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、ガラス基板上の有機コンタミネーションを簡便に評価することが可能な手段による評価工程を備えることにより、磁気ディスク用ガラス基板の製造段階で、磁気ディスクを製造した場合の磁性膜の膜剥れ、膜膨れ等を引き起こす要因となるガラス基板上の有機コンタミネーションを簡便に評価することができるので、その有用性は極めて高い。
また、上述の本発明による製造方法によって製造され、上記評価工程により有機コンタミネーションが所定の基準値以下であると評価されたガラス基板を利用した磁気ディスクの製造方法により、信頼性の高い磁気ディスクを提供することができる。
【発明の実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明の実施の形態を詳述する。
本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、ガラス基板の鏡面研磨処理工程と洗浄処理工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、少なくとも前記洗浄工程の後に、ガラス基板主表面上の有機コンタミネーションの量を評価する工程を有することを特徴とするものである。
すなわち、本発明によれば、ガラス基板上の有機コンタミネーションを簡便に評価することが可能な手段による評価工程を備えることにより、磁気ディスク用ガラス基板の製造段階で、磁気ディスクを製造した場合の磁性膜の膜剥れ、膜膨れ等を引き起こす要因となるガラス基板上の有機コンタミネーションの量を簡便に評価することができる。
【００１７】
本発明においては、上記有機コンタミネーションの評価は、具体的な手段としてフーリエ変換赤外分光分析法を用いて行うのが最も好適である。
ここで、上記フーリエ変換赤外分光分析法（以下「ＦＴＩＲ」と略称する）について説明する。
分子を構成する原子間には結合が存在し、互いに引き合ったり離れたりするなどの分子運動を繰り返している。この運動を振動と呼び、その振動数は原子の種類によって固有の振動数を与える。例えば、二酸化炭素では、１６００カイザー（ｃｍ−１）付近に鋭い吸収をもつが、これは二酸化炭素を構成する炭素と酸素の振動数が丁度１６００カイザーであるためその光エネルギーを吸収することによる。その結果、検出器には最初照射した光よりも光量の落ちた光が入ることになり、結果的に１６００カイザー付近にシグナルが観測される。ＦＴＩＲは全波長の光（本発明の目的には通常は４０００カイザーから４００カイザーの範囲が好適である）を試料に照射することで測定速度を速めることができる。
【００１８】
本発明においては、予め、製造工程においてガラス基板表面上に付着し得る種類の有機コンタミネーションに特異的なシグナルを指定して、試料（ガラス基板）表面をＦＴＩＲにて測定することにより、測定したガラス基板表面上に実際に存在する有機コンタミネーションの量を評価することができる。ただし、ＦＴＩＲのシグナル強度は量に比例しないため、相対的な評価となる。ＦＴＩＲによる測定は全表面測定（フルサーフェーススキャン）または表面の一部測定の総和であっても、特定のシグナル領域にヒットした回数の総和であってもよい。
また、ＦＴＩＲによる全表面測定（フルサーフェーススキャン）または表面の一部測定にて目的シグナルのあった部分をマッピングすることにより、ガラス基板上におけるディフェクトマッピングの作製が可能である。
【００１９】
このように本発明における上記有機コンタミネーションの評価を具体的な手段としてフーリエ変換赤外分光分析法を用いて行うのが最も好適である理由としては、評価対象のガラス基板に対して非破壊で測定できるため繰り返し測定が可能であること、非接触で測定できるため測定後のガラス基板は良品であればそのまま良品として使用できること、比較的短時間で簡便に測定できること、ガラス基板の全数測定も可能であること、などがあげられる。
【００２０】
本発明による有機コンタミネーションの評価工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法によれば、次のような効果を奏する。
（１）磁気ディスク用ガラス基板の製造段階で、磁気ディスクを製造した場合の磁性膜の膜剥れ、膜膨れ等を引き起こす要因となるガラス基板上の有機コンタミネーションの量を簡便に評価することができる。
（２）予めガラス基板上の有機コンタミネーションの量を評価した磁気ディスク製造用のガラス基板を提供できる。
（３）ガラス基板の洗浄工程の前後における有機コンタミネーションの変化量を評価することができ、これにより例えば洗浄工程における洗浄効果の評価を行うことができる。
（４）ガラス基板上の有機コンタミネーションを評価できることにより、場合によっては洗浄工程（洗浄方法）の見直し等、コンタミの低減策を講じることによって、更に清浄度の高い磁気ディスク用ガラス基板を提供できる。
【００２１】
上述の本発明による製造方法によって製造され、上記評価工程により有機コンタミネーションが所定の基準値以下であると評価されたガラス基板を利用して磁気ディスクを製造することにより、磁性膜の膜剥れ、膜膨れ、磁気ヘッド接触による信号落ち込み、ヘッド墜落等の発生を著しく低減でき、長期間使用しても故障が無く信頼性の高い磁気ディスクを提供することができる。上記の基準値としては、磁性膜の膜剥れなどの後発的な問題が発生しないようなレベルを適宜設定すればよい。
【００２２】
本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、少なくともガラス基板の鏡面研磨処理工程と洗浄処理工程を含む。
本発明においては、ガラス基板の鏡面研磨に利用する研磨剤は特に限定されないが、例えば希土類酸化物を主成分とする研磨剤が挙げられる。取り分け、酸化セリウムを主成分として含む酸化セリウム系研磨剤であることが好ましく挙げられる。
【００２３】
本発明における鏡面研磨の方法は特に限定されるものではないが、例えば、ガラス基板と研磨布を接触させ、研磨剤を供給しながら、前記研磨布とガラス基板とを相対的に移動させて、ガラス基板の表面を鏡面状に研磨すればよい。研磨布としては研磨パッドを用いることができる。研磨パッドとしては、軟質ポリッシャの研磨パッドであることが好ましい。研磨パッドの硬度はアスカーＣ硬度で、６０以上８０以下とすることが好適である。研磨パッドのガラス基板との当接面は、発泡ポアが開口した発泡樹脂、取り分け発泡ポリウレタンとすることがこのましい。研磨剤に含有される研磨砥粒の平均粒径は０．１μｍ以上１μｍ以下とすることができる。このようにして研磨を行うと、ガラス基板の表面を平滑な鏡面状に研磨することができる。
【００２４】
本発明においては、ガラス基板を構成するガラスは、アモルファスのアルミノシリケートガラスとすることが好ましい。このようなガラス基板は表面を鏡面研磨することにより平滑な鏡面に仕上げることができる。このようなアルミノシリケートガラスとしては、ＳｉＯ2が５８重量％以上７５重量％以下、Ａｌ2Ｏ3が５重量％以上２３重量％以下、Ｌｉ2Ｏが３重量％以上１０重量％以下、Ｎａ2Ｏが４重量％以上１３重量％以下を主成分として含有するアルミノシリケートガラス（ただし、リン酸化物を含まないアルミノシリケートガラス）を用いることができる。例えば、ＳｉＯ2 が６２重量％以上７５重量％以下、Ａｌ2Ｏ3が５重量％以上１５重量％以下、Ｌｉ2 Ｏが４重量％以上１０重量％以下、Ｎａ2 Ｏが４重量％以上１２重量％以下、ＺｒＯ2が５．５重量％以上１５重量％以下を主成分として含有するとともに、Ｎａ2Ｏ／ＺｒＯ2 の重量比が０．５以上２．０以下、Ａｌ2Ｏ3 ／ＺｒＯ2 の重量比が０．４以上２．５以下であるリン酸化物を含まないアモルファスのアルミノシリケートガラスとすることができる。なお、ＣａＯやＭｇＯといったアルカリ土類金属酸化物を含まないガラスであることが望ましい。このようなガラスとしては、ＨＯＹＡ株式会社製のＮ５ガラス（商品名）を挙げることができる。
【００２５】
本発明においては、洗浄処理後のガラス基板の表面は、最大粗さＲｍａｘが６ｎｍ以下である鏡面とされることが好ましい。このような鏡面状態は、鏡面研磨処理と洗浄処理をこの順で行うことにより実現することができる。
【００２６】
洗浄処理工程の後に、化学強化処理を施してもよい。化学強化処理の方法としては、例えば、ガラス転移点の温度を超えない温度領域、例えば摂氏３００度以上４００度以下の温度で、イオン交換を行う低温型イオン交換法などが好ましい。化学強化処理とは、溶融させた化学強化塩とガラス基板とを接触させることにより、化学強化塩中の相対的に大きな原子半径のアルカリ金属元素と、ガラス基板中の相対的に小さな原子半径のアルカリ金属元素とをイオン交換し、ガラス基板の表層に該イオン半径の大きなアルカリ金属元素を浸透させ、ガラス基板の表面に圧縮応力を生じさせる処理のことである。化学強化処理されたガラス基板は耐衝撃性に優れているので、例えばモバイル用途のＨＤＤに搭載するのに特に好ましい。化学強化塩としては、硝酸カリウムや硝酸ナトリウムなどのアルカリ金属硝酸を好ましく用いることができる。
【００２７】
また、洗浄処理工程の後に、テープ研磨処理を行うことができる。最近では、磁気ディスクの情報記録密度を向上させる目的で、磁気ディスクの磁性層に対して、ディスクの円周方向に沿う磁気異方性を付与する場合がある。ディスクの円周方向とは即ち磁気ヘッドの移動方向であるので、この方向に沿って磁気異方性が付与されていると、高記録密度化に資するからである。ディスク状ガラス基板の表面にテープ研磨処理を行うことにより、ディスクの円周方向に配向する筋状の筋からなるテクスチャを形成することができる。このテクスチャ処理が施されたガラス基板上に磁性層を形成すると、ディスクの円周方向に磁気異方性を生じせしめることができる。このテクスチャ処理は、研磨テープとガラス基板とを接触させ、研磨テープとガラス基板とを相対的に移動させることにより、ガラス基板の表面にテクスチャが形成される。
【００２８】
本発明において磁気ディスクは、本発明による磁気ディスク用ガラス基板の上に少なくとも磁性層を形成して製造される。磁性層の材料としては、異方性磁界の大きな六方晶系であるＣｏＰｔ系強磁性合金を用いることができる。磁性層の形成方法としてはスパッタリング法、例えばＤＣマグネトロンスパッタリング法によりガラス基板の上に磁性層を成膜する方法を用いることができる。またガラス基板と磁性層との間に、下地層を介挿することにより磁性層の磁性グレインの配向方向や磁性グレインの大きさを制御することができる。例えば，Ｃｒ系合金など立方晶系下地層を用いることにより、例えば磁性層の磁化容易方向を磁気ディスク面に沿って配向させることができる。この場合、面内磁気記録方式の磁気ディスクが製造される。また、例えば、ＲｕやＴｉを含む六方晶系下地層を用いることにより、例えば磁性層の磁化容易方向を磁気ディスク面の法線に沿って配向させることができる。この場合、垂直磁気記録方式の磁気ディスクが製造される。下地層は磁性層同様にスパッタリング法により形成することができる。
【００２９】
また、本発明においては、磁性層の上に、保護層、潤滑層をこの順に形成するとよい。保護層としてはアモルファスの水素化炭素系保護層が好適である。例えばプラズマＣＶＤ法により保護層を形成することができる。保護層の膜厚としては、３０オングストロームから８０オングストロームが好ましい。また、潤滑層としては、パーフルオロポリエーテル化合物の主鎖の末端に官能基を有する潤滑剤を用いることができる。取り分け、極性官能基として水酸基を末端に備えるパーフルオロポリエーテル化合物を主成分とすることが好ましい。潤滑層の膜厚は５オングストロームから１５オングストロームとすることが好ましい。潤滑層はディップ法により塗布形成することができる。
本発明のガラス基板を用いて得られる高信頼性の磁気ディスクは、携帯電話やナビゲーションシステム、デジタルカメラなどのモバイル機器に搭載されるハードディスクドライブ用磁気ディスクとして特に好ましい。
【実施例】
【００３０】
以下、実施例を挙げて磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法を更に詳細に説明する。
以下の（１）荒ずり工程、（２）端面鏡面研磨工程、（３）ラッピング工程、（４）第一研磨工程、（５）第二研磨工程（主表面鏡面研磨工程）、（６）洗浄工程（鏡面研磨後洗浄工程）を経て磁気ディスク用ガラス基板を製造した。
【００３１】
（１）荒ずり工程
まず、プレス法で成型したガラスディスクを、比較的粗いダイヤモンド砥石で研削加工した。次いで、上記砥石よりも粒度の細かいダイヤモンド砥石で上記ガラスディスクの両面を研削加工した。これにより、ガラス基板表面の表面粗さをＲｍａｘ（ＪＩＳＢ０６０１で測定）で１０μｍ程度に仕上げた。次に、円筒状の砥石を用いてディスク状のガラス基板の中心部に孔を開けてドーナツ状のガラス基板とした。
【００３２】
（２）端面鏡面研磨工程
次いで、ブラシ研磨により、ガラス基板を回転させながらガラス基板の端面の表面粗さを、Ｒｍａｘで１μｍ、Ｒａで０．３μｍ程度に鏡面研磨した。研磨剤としては酸化セリウム研磨剤を用いた。その後ガラス基板の表面を水洗浄した。
（３）ラッピング工程
次に、ガラス基板にラッピング処理を施した。このラッピング工程は、寸法精度及び形状精度の向上を目的としている。ラッピング処理は、ラッピング装置を用いて行い、砥粒の粒度を＃４００、＃１０００と替えて２回行った。
【００３３】
（４）第一研磨工程
次に、第一研磨工程を施した。この第一研磨工程は、上述したラッピング工程で残留した傷や歪みの除去を目的とするもので、研磨装置を用いて行った。詳しくは、ポリウレタン製の硬質研磨パッドを用い、研磨剤としては酸化セリウム研磨剤を用いた。上記第一研磨工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、純水、純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。
（５）第二研磨工程（主面鏡面研磨工程）
次に、第一研磨工程で使用したのと同様の研磨装置を用い、研磨パッドを硬質研磨パッドから軟質研磨パッドに替えて、第二研磨工程を実施した。この第二研磨工程で行う処理は、上述した第一研磨工程で得られた平坦な主表面を維持しつつ、例えば主表面の表面粗さＲｍａｘが６ｎｍ程度以下である平滑な鏡面に仕上げる鏡面研磨処理である。研磨パッドはアスカーＣ硬度で７２の軟質研磨パッドを用いた。研磨液は、酸化セリウム研磨剤を純水に分散させた研磨液とした。
【００３４】
（６）洗浄工程（鏡面研磨後洗浄工程）
この洗浄工程は、鏡面研磨工程で鏡面に仕上げられたガラス基板の表面に残留する研磨剤を除去するための洗浄工程である。硫酸を含む洗浄液を作製し、この洗浄液を用いて洗浄処理を行った。約５分間、この洗浄液（約４０℃）に浸漬させた。
この洗浄処理を終えたガラス基板の主表面の縦５μｍ、横５μｍの正方形領域の表面粗さを原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）で測定したところ、Ｒｍａｘで４．０ｎｍ、Ｒａで０．４ｎｍであった。
【００３５】
以上のようにして磁気ディスク用ガラス基板（サンプルＡ）を製造した。
また、上記洗浄工程における洗浄条件を緩やかにした以外は同様にして磁気ディスク用ガラス基板（サンプルＢ）を製造した。
以上のサンプルＡとサンプルＢについて、ＦＴＩＲによる有機コンタミネーションの評価を行った。その結果、サンプルＡについては、有機コンタミネーションに由来する2800〜3000カイザーのシグナルは顕著に観測されなかったが、サンプルＢについては2800〜3000カイザーの大きな吸収が観測された。したがって、サンプルＢのガラス基板表面には有機コンタミネーションが付着していることが判明した。
なお、参考例として、ＯＳＡとＧＣ−ＭＳを用いて同様の評価を行ったところ、サンプルＡについてはいずれの方法でも良品と判断されたが、サンプルＢについては、ＯＳＡでは良品、ＧＣ−ＭＳでは不良と判断された。つまり、ＯＳＡでは確認できない有機コンタミをＦＴＩＲでは評価可能である。ＧＣ−ＭＳでも評価可能であるが、サンプルを破壊的に評価するため、繰り返し測定は不可能であり、評価の再現性を得ることはできない。ＦＴＩＲによれば繰り返し測定も可能であり、評価再現性も得られる。
【００３６】
次に、上述した工程を経て得られた磁気ディスク用ガラス基板のサンプルＡとサンプルＢのそれぞれに、ＤＣマグネトロン型スパッタリング装置を用いて、ＮｉＴａの第１下地層、Ｒｕの第２下地層、ＣｏＣｒＰｔＢ磁性層を順次成膜し、次いでプラズマＣＶＤ法により水素化炭素保護層を４０オングストロームの膜厚で成膜し、ディップ法によりアルコール変性パーフルオロポリエーテル潤滑剤を１０オングストロームの膜厚で塗布成膜して磁気ディスクを製造した。この磁気ディスクは垂直磁気記録方式用の磁気ディスクである。
【００３７】
以上のようにして得られた磁気ディスクについて、所定のグライドテスト（ディスク上でスライダの浮上を保証する高さ（グライドハイト）が定められた基準値以下であることを確認するテスト）、サーティファイ（Certify）テスト（記録媒体の記録領域全面をヘッドにより記録再生を行い、媒体欠陥による記録不能を検出するテスト）、及び高温高湿テスト（９０℃、９０％ＲＨの条件下に７２時間放置）を行った結果、サンプルＡを基板として用いた磁気ディスクはいずれの試験にも合格した。一方、サンプルＢを基板として用いた磁気ディスクはいずれの試験にも不合格であった。これは、サンプルＢの基板表面の有機コンタミネーションの付着が原因であると考えられるが、本発明のＦＴＩＲによる評価はそのまま磁気ディスク評価においても結果が反映されており、本発明の有用性が立証されている。