(57)【要約】      （修正有）【課題】画像表示装置の表示品位を更に拡大し、さらに安価で、製造時にばらつきのない光拡散フィルムを提供すること。また光学フィルムを具備する偏光板、及び画像表示装置を提供すること。【解決手段】透明支持体１上に透光性樹脂を含有する少なくとも１層のハードコート層２を有し、該ハードコート層の少なくとも１層に少なくとも１種の透光性有機樹脂粒子３を含有する光学フィルムであって、前記透光性有機樹脂粒子の表面が金属酸化物で被覆されている光学フィルム。【選択図】図１
2008026883.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明支持体上に透光性樹脂を含有する少なくとも１層のハードコート層を有し、該ハードコート層の少なくとも１層に少なくとも１種の透光性有機樹脂粒子を含有する光学フィルムであって、前記透光性有機樹脂粒子の表面が金属酸化物で被覆されている光学フィルム。
【請求項２】
前記透光性有機樹脂粒子の表面を被覆する金属酸化物がシリカである請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
前記透光性有機樹脂粒子がメラミン樹脂である請求項１または２のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項４】
前記透光性有機樹脂粒子の平均粒径が２．５μｍ以下である請求項１〜３のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項５】
前記透光性有機樹脂粒子のＣＶ値（粒径の標準偏差／平均粒径）が１０％未満である請求項１〜４のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項６】
前記ハードコート層の屈折率よりも前記透光性有機樹脂粒子の屈折率が高く、その差が０．１０以上である請求項１〜５のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項７】
前記光学フィルムの内部へイズが２０％以上８０％未満である請求項１〜６のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項８】
前記光学フィルムの表面へイズが３％未満である請求項１〜７のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項９】
前記光学フィルムのＲａ（２乗平均粗さ）が０．０７μｍ未満である請求項１〜８のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項１０】
前記ハードコート層の厚みが５μｍ以上である請求項１〜９のいずれかに記載の光学フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明における光学フィルムは、コンピュータ、ワードプロセッサ、テレビジョン等の画像表示に用いるディスプレイ装置（ＣＲＴ、ＰＤＰ、ＥＬＤ、ＳＥＤ、ＬＣＤ、等）表示素子に関し、詳しくは視角特性および視認性の向上を図る安価な光拡散フィルム、それを用いた偏光板、及び表示装置、特に液晶表示装置（ＬＣＤ）に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に液晶表示装置は、偏光フィルムと液晶セルから構成されている。
ＴＮモードＴＦＴ液晶表示装置においては、光学補償フィルムを偏光フィルムと液晶セルの間に挿入し、表示品位の高い液晶表示装置が実現されている。
ところが、上記液晶表示装置は、パネルの下方向の階調反転が生じるという問題が残っていた。さらには、外光の写り込みによる表示品位の問題やさらに、視角による色味変化という問題が解決されていなかった。
【０００３】
これらの問題を解決するために、特許文献１のように、拡散剤を樹脂フィルム内部に含有する光拡散フィルムの前方散乱光強度を適度に設計すると共に、後方散乱光強度を非常に少なくすることで、明るさ及び高解像度化の点で有利であると共に、広視野角化を実現することができる。
【０００４】
ただし、この方法を具体的手段として実施するには、バインダーに高価なＺｒＯ２微粒子と拡散剤を含有させる方法や、光拡散層を２層重ね塗りすることが必要であり、高価なものとなり、かつ大量生産が困難であった。
【０００５】
安価な光拡散フィルムに関しては、特許文献２のように、拡散剤として低屈折率の層を被覆している粒子を使用する方法が挙げられる。この方法を具体的手段として実施するには、粒子とバインダーの間に空気層を導入することが必要であり、空気層の厚みを精密に制御しないと、光散乱性が変わるため、安定製造が困難であった。
【特許文献１】特表２００５−５０５０１９号公報
【特許文献２】特開平１１−１６０５０５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、前述の通り、光散乱層を用いて液晶表示装置の、特に液晶性化合物からなる光学異方性層により広視野角化された液晶表示装置の表示品位を更に拡大し、さらに安価で、製造時にばらつきのない光拡散フィルムを提供することにある。また、本発明の他の目的は、前記光学フィルムを具備する偏光板、及び表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者は、鋭意検討の結果、以下の構成の光学フィルムにより本発明の上記目的が達成されることを見出した。
【０００８】
（１）透明支持体上に透光性樹脂を含有する少なくとも１層のハードコート層を有し、該ハードコート層の少なくとも１層に少なくとも１種の透光性有機樹脂粒子を含有する光学フィルムであって、前記透光性有機樹脂粒子の表面が金属酸化物で被覆されている光学フィルム。
（２）前記透光性有機樹脂粒子の表面を被覆する金属酸化物がシリカである前記１に記載の光学フィルム。
（３）前記透光性有機樹脂粒子がメラミン樹脂である前記１又は２に記載の光学フィルム。
（４）前記透光性有機樹脂粒子の平均粒径が２．５μｍ以下である前記１〜３のいずれかに記載の光学フィルム。
（５）前記透光性有機樹脂粒子のＣＶ値（粒径の標準偏差／平均粒径）が１０％未満である前記１〜４のいずれかに記載の光学フィルム。
（６）前記ハードコート層の屈折率よりも前記透光性有機樹脂粒子の屈折率が高く、その差が０．１０以上である前記１〜５のいずれかに記載の光学フィルム。
（７）前記光学フィルムの内部へイズが２０％以上８０％未満である前記１〜６のいずれかに記載の光学フィルム。
（８）前記光学フィルムの表面へイズが３％未満である前記１〜７のいずれかに記載の光学フィルム。
（９）前記光学フィルムのＲａ（２乗平均粗さ）が０．０７μｍ未満である前記１〜８のいずれかに記載の光学フィルム。
（１０）前記ハードコート層の厚みが５μｍ以上である前記１〜９のいずれかに記載の光学フィルム。
（１１）前記光学フィルムが、平均粒径の異なる少なくとも２種類の透光性粒子を含み、そのうち少なくとも１種が平均粒径２．５μｍ以下の前記透光性有機樹脂粒子であり、少なくとも１種が平均粒径３μｍ以上の透光性粒子であり、平均粒径２．５μm以下の前記透光性有機樹脂粒子の単位面積当たりの個数が、平均粒径３μｍ以上の該透光性粒子の単位面積当たりの個数の３倍以上である前記１〜１０のいずれかに記載の光学フィルム。
（１２）さらに最外層として低屈折率層を有し、前記低屈折率層は隣接する層の屈折率よりも低い屈折率を有する前記１〜１１のいずれかに記載の光学フィルム。
（１３）４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの波長領域での、５°鏡面反射率の平均値をＡ、積分反射率の平均値をＢとしたとき、Ｂが３％以下であり、Ｂ−Ａが１．５％以下である前記１〜１２のいずれかに記載の光学フィルム。
（１４）前記低屈折率層中に前記低屈折率層の層厚の１５％以上１５０％以下の粒径の微粒子を少なくとも1種含有する前記１２又は１３に記載の光学フィルム。
（１５）前記微粒子の少なくとも１種が中空状の微粒子である前記１４に記載の光学フィルム。
（１６）前記低屈折率層が塗布により形成され、前記低屈折率層を形成する塗布液が、紫外線（ＵＶ）硬化、および／または熱硬化できる官能基を有する透光性樹脂を少なくとも１種含む前記１２〜１５のいずれかに記載の光学フィルム。
（１７）前記低屈折率層が塗布により形成され、前記低屈折率層を形成する塗布液が少なくとも２種以上の透光性樹脂を含み、そのうち少なくとも１種の透光性樹脂が紫外線（ＵＶ）硬化できる官能基を有し、これとは異なる少なくとも１種の透光性樹脂が熱硬化できる官能基を有している前記１２〜１６のいずれかに記載の光学フィルム。
（１８）前記低屈折率層が塗布により形成され、前記低屈折率層を形成する塗布液が少なくとも２種以上の透光性樹脂を含み、そのうち少なくとも１種の透光性樹脂が紫外線（ＵＶ）硬化できる官能基とフッ素基を有し、これとは異なる少なくとも１種の透光性樹脂がフッ素基を持たず、紫外線（ＵＶ）硬化できる官能基を有している前記１６又は１７に記載の光学フィルム。
（１９）前記低屈折率層を形成する塗布液中に、さらに、少なくとも１種の重合開始剤、および／または、少なくとも1種の熱硬化できる架橋剤を含んでなる前記１６〜１８のいずれかに記載の光学フィルム。
（２０）前記低屈折率層を形成する塗布液中に、さらに、少なくとも１種の熱硬化を促進する硬化触媒を含む前記１９に記載の光学フィルム。
（２１）少なくともいずれか１層に、少なくとも一種のフッ素系レベリング剤、及び／又は少なくとも一種のシリコーン系レベリング剤を含んでなる前記１〜２０のいずれかに記載の光学フィルム。
（２２）全層にシリカ材料を含有する前記１〜２１のいずれかに記載の光学フィルム。
（２３）２５℃６０％ＲＨ環境下で測定した前記光学フィルム表面の純水による接触角が９０°以上である前記１〜２２のいずれかに記載の光学フィルム。
（２４）２５℃６０％ＲＨ環境下で測定した前記光学フィルム表面の動摩擦係数が０．３以下である前記１〜２３のいずれかに記載の光学フィルム。
（２５）ポリエチレンテレフタレートに対する２５℃６０％ＲＨ環境下で測定した垂直剥離帯電量が−５００ｐｃ（ピコクーロン）／cm2〜＋５００ｐｃ（ピコクーロン）／cm2である前記１〜２４のいずれかに記載の光学フィルム。
（２６）２５℃６０％ＲＨ環境下で測定した表面抵抗値が１×１０１１Ω／□未満である前記１〜２５のいずれかに記載の光学フィルム。
（２７）偏光子を２枚の保護フィルムで挟んでなる偏光板であって、該偏光板の一方の保護フィルムが前記１〜２６のいずれかに記載の光学フィルムである偏光板。
（２８）前記光学フィルムがある側と反対側の保護フィルムが液晶性化合物からなる光学異方性層を有している前記２７に記載の偏光板。
（２９）前記１〜２６のいずれかに記載の光学フィルム、又は前記２７又は２８に記載の偏光板を具備する画像表示装置。
（３０）前記画像表示装置がＴＮ方式、ＶＡ方式、ＩＰＳ方式、又はＯＣＢ方式のいずれかから選択されるＴＦＴ液晶表示装置である前記２９に記載の画像表示装置。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の光学フィルムは、画像表示装置の、〔１〕表示品位をさらに拡大し、〔２〕安価で、〔３〕製造時に光散乱特性のばらつきが小さいことを可能にすることができた。本発明の光学フィルムを具備した画像表示装置は、視野角の拡大が図れ、視角変化によるコントラスト低下、階調または黒白反転および色相変化等がほとんど発生することがない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明を詳細に説明する。なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「（数値１）〜（数値２）」という記載は「（数値１）以上（数値２）以下」の意味を表す。また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」との記載は、「アクリレート及びメタクリレートの少なくともいずれか」の意味を表す。「（メタ）アクリル酸」等も同様である。
【００１１】
［光学フィルムの構成］
本発明の光学フィルムは、透明支持体上に透光性樹脂を含んでなる少なくとも一層のハードコート層を有する。図１を参照に、本発明の光学フィルムについて説明する。
図１は、本発明の光学フィルムの好ましい実施形態を模式的に示す概略断面図である。
図１（Ａ）の光学フィルムは、透明支持体（１）上に、一層のハードコート層（２）を有し、最外層に、隣接するハードコート層（２）の屈折率よりも低い屈折率の低屈折率層（４）を有する。ハードコート層（２）には、有機樹脂粒子（３）が含有される。
ハードコート層は複数層で形成されていても好ましく、図１（Ｂ）の光学フィルムは、透明支持体（１）上に、２層のハードコート層（透明支持体側から、ハードコート層（６）、ハードコート層（５））を有し、最外層に低屈折率層（４）が積層される。金属酸化物粒子は最外層である低屈折率層側のハードコート層（５）に含有されることが好ましい。
【００１２】
（ハードコート層）
本発明におけるハードコート層の屈折率は、反射防止性のフィルムを得るための光学設計から、屈折率が１．４８〜２．００の範囲にあることが好ましく、より好ましくは１．４８〜１．６０であり、更に好ましくは１．４８〜１．５５である。本発明では、ハードコート層の上に低屈折率層が少なくとも１層あるので、屈折率がこの範囲より小さ過ぎると反射防止性が低下し、大き過ぎると反射光の色味が強くなる傾向がある。
【００１３】
本発明においては、ハードコート層の屈折率よりも後述の透光性の有機樹脂粒子の屈折率が高く、その差は好ましくは０．０７以上０．２０以下、より好ましく０．１０以上０．１８以下、最も好ましくは０．１３以上０．１６以下である。屈折率差が０．０７を下回ると、所望の内部ヘイズを得るために大量の粒子が必要となり、透明基材への接着性および塗工適性が悪化し、また、屈折率差が０．２０を上回ると、透過光の散乱角度が広がりすぎて、正面コントラスト低下につながり好ましくない。
一方、ハードコート層の屈折率が透光性の有機樹脂粒子の屈折率より高く、その差が前記範囲であっても、本発明の効果は得られるが、この場合は、ハードコート層の屈折率を上げる必要になり、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３等の高屈折率微粒子（数ｎｍ〜数十ｎｍ）や、高屈折率モノマーを大量にハードコート層に入れる必要が生じ、価格上昇の点で好ましくない。
【００１４】
ここで、ハードコート層の屈折率は、アッベ屈折計で直接測定するか、分光反射スペクトルや分光エリプソメトリーを測定するなどして定量評価できる。前記透光性有機樹脂粒子の屈折率は、屈折率の異なる２種類の溶媒の混合比を変化させて屈折率を変化させた溶媒中に透光性粒子を等量分散して濁度を測定し、濁度が極小になった時の溶媒の屈折率をアッベ屈折計で測定することで測定される。
【００１５】
ハードコート層の膜厚は、フィルムに充分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、ハードコート層の厚さは通常５μｍ以上とし、好ましくは７μｍ以上、最も好ましくは１０μｍ以上である。
また、ハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
さらに、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
【００１６】
本発明にかかるハードコート層は、電離放射線硬化性化合物の架橋反応、重合反応により形成される。すなわち、バインダーとして電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含む塗布組成物を透明支持体上に塗布し、多官能モノマーや多官能オリゴマーを架橋反応、又は、重合反応させることにより形成する。電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光（紫外線）、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
【００１７】
光重合性官能基を有する光重合性多官能モノマーの具体例としては、ネオペンチルグリコールアクリレート、１，６−ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート等の多価アルコールの(メタ）アクリル酸ジエステル類；２，２−ビス｛４−（アクリロキシ・ジエトキシ）フェニル｝プロパン、２−２−ビス｛４−（アクリロキシ・ポリプロポキシ）フェニル｝プロパン等のエチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類；等を挙げることができる。
【００１８】
さらにはエポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類も、光重合性多官能モノマーとして、好ましく用いられる。中でも、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。さらに好ましくは、１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能モノマーが好ましい。具体的には、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、１，２，４−シクロヘキサンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールトリアクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールペンタアクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリアクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサトリアクリレート等が挙げられる。本明細書において、「（メタ）アクリレート」、「（メタ）アクリル酸」、「（メタ）アクリロイル」は、それぞれ「アクリレートまたはメタクリレート」、「アクリル酸またはメタクリル酸」、「アクリロイルまたはメタクリロイル」を表す。
【００１９】
多官能モノマーバインダーとしては、各層の屈折率を制御するために、屈折率の異なるモノマーを用いることが出来る。特に高屈折率モノマーの例としては、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４’−メトキシフェニルチオエーテル等が含まれる。また、例えば特開２００５−７６００５号、同２００５−３６１０５号に記載されたデンドリマーや、例えば特開２００５−６０４２５号記載のようなノルボルネン環含有モノマーを用いることもできる。
【００２０】
多官能モノマーや多官能オリゴマーのバインダー、は二種類以上を併用してもよい。これらのエチレン性不飽和基を有するバインダーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
光重合性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの重合反応には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤と光カチオン重合開始剤が好ましく、特に好ましいのは光ラジカル重合開始剤である。
【００２１】
本発明にはバインダーとして、ポリマーあるいは架橋しているポリマーを併用して用いることができる。架橋しているポリマーはアニオン性基を有するのが好ましい。架橋しているアニオン性基を有するポリマーは、アニオン性基を有するポリマーの主鎖が架橋している構造を有する。
【００２２】
ポリマーの主鎖の例には、ポリオレフィン（飽和炭化水素）、ポリエーテル、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミン、ポリアミドおよびメラミン樹脂が含まれる。ポリオレフィン主鎖、ポリエーテル主鎖およびポリウレア主鎖が好ましく、ポリオレフィン主鎖およびポリエーテル主鎖がさらに好ましく、ポリオレフィン主鎖が最も好ましい。
ポリオレフィン主鎖は飽和炭化水素からなる。ポリオレフィン主鎖は、例えば、不飽和重合性基の付加重合反応により得られる。ポリエーテル主鎖は、エーテル結合（-Ｏ-）によって繰り返し単位が結合している。ポリエーテル主鎖は、例えば、エポキシ基の開環重合反応により得られる。ポリウレア主鎖は、ウレア結合（-ＮＨ-ＣＯ-ＮＨ-）によって、繰り返し単位が結合している。ポリウレア主鎖は、例えば、イソシアネート基とアミノ基との縮重合反応により得られる。ポリウレタン主鎖はウレタン結合（-ＮＨ-ＣＯ-Ｏ-）によって、繰り返し単位が結合している。ポリウレタン主鎖は、例えば、イソシアネート基と、水酸基（Ｎ-メチロール基を含む）との縮重合反応により得られる。ポリエステル主鎖は、エステル結合（-ＣＯ-Ｏ-）によって繰り返し単位が結合している。ポリエステル主鎖は、例えば、カルボキシル基（酸ハライド基を含む）と水酸基（Ｎ-メチロール基を含む）との縮重合反応により得られる。ポリアミン主鎖はイミノ結合（-ＮＨ-）によって、繰り返し単位が結合している。ポリアミン主鎖は、例えば、エチレンイミン基の開環重合反応により得られる。ポリアミド主鎖は、アミド結合（-ＮＨ-ＣＯ-）によって、繰り返し単位が結合している。ポリアミド主鎖は、例えば、イソシアネート基とカルボキシル基（酸ハライド基を含む）との反応により得られる。メラミン樹脂主鎖は、例えば、トリアジン基（例、メラミン）とアルデヒド（例、ホルムアルデヒド）との縮重合反応により得られる。なお、メラミン樹脂は、主鎖そのものが架橋構造を有する。
【００２３】
アニオン性基は、ポリマーの主鎖に直接結合させるか、又は連結基を介して主鎖に結合させる。アニオン性基は、連結基を介して側鎖として主鎖に結合させることが好ましい。
アニオン性基の例としては、カルボン酸基（カルボキシル）、スルホン酸基（スルホ）およびリン酸基（ホスホノ）などが挙げられ、スルホン酸基およびリン酸基が好ましい。
アニオン性基は塩の状態であってもよい。アニオン性基と塩を形成するカチオンは、アルカリ金属イオンであることが好ましい。また、アニオン性基のプロトンは解離していてもよい。
アニオン性基とポリマーの主鎖とを結合する連結基は、-ＣＯ-、-Ｏ-、アルキレン基、アリーレン基、およびこれらの組合せから選ばれる二価の基であることが好ましい。
【００２４】
架橋構造は二以上の主鎖を化学的に結合（好ましくは共有結合）するものであるが、三以上の主鎖を共有結合することが好ましい。架橋構造は、-ＣＯ-、-Ｏ-、-Ｓ-、窒素原子、リン原子、脂肪族残基、芳香族残基およびこれらの組合せから選ばれる二価以上の基からなることが好ましい。
【００２５】
架橋しているアニオン性基を有するポリマーは、アニオン性基を有する繰り返し単位と、架橋構造を有する繰り返し単位とを有するコポリマーであることが好ましい。コポリマー中のアニオン性基を有する繰り返し単位の割合は、２〜９６質量％であることが好ましく、４〜９４質量％であることがさらに好ましく、６〜９２質量％であることが最も好ましい。繰り返し単位は、二以上のアニオン性基を有していてもよい。コポリマー中の架橋構造を有する繰り返し単位の割合は、４〜９８質量％であることが好ましく、６〜９６質量％であることがさらに好ましく、８〜９４質量％であることが最も好ましい。
【００２６】
架橋しているアニオン性基を有するポリマーの繰り返し単位は、アニオン性基と架橋構造の双方を有していてもよい。また、その他の繰り返し単位（アニオン性基も架橋構造もない繰り返し単位）が含まれていてもよい。
その他の繰り返し単位としては、アミノ基または四級アンモニウム基を有する繰り返し単位およびベンゼン環を有する繰り返し単位が好ましい。アミノ基または四級アンモニウム基は、アニオン性基と同様に無機粒子の分散状態を維持する機能を有する。なお、アミノ基、四級アンモニウム基およびベンゼン環は、アニオン性基を有する繰り返し単位あるいは架橋構造を有する繰り返し単位に含まれていても同様の効果が得られる。
アミノ基または四級アンモニウム基を有する繰り返し単位では、アミノ基または四級アンモニウム基は、ポリマーの主鎖に直接結合させるか、あるいは連結基を介して主鎖に結合させる。アミノ基または四級アンモニウム基は、連結基を介して側鎖として、主鎖に結合させることが好ましい。アミノ基または四級アンモニウム基は、二級アミノ基、三級アミノ基または四級アンモニウム基であることが好ましく、三級アミノ基または四級アンモニウム基であることがさらに好ましい。二級アミノ基、三級アミノ基または四級アンモニウム基の窒素原子に結合する基は、アルキル基であることが好ましく、炭素原子数が１〜１２のアルキル基であることが好ましく、炭素原子数が１〜６のアルキル基であることがさらに好ましい。四級アンモニウム基の対イオンは、ハライドイオンであることが好ましい。アミノ基または四級アンモニウム基とポリマーの主鎖とを結合する連結基は、-ＣＯ-、-ＮＨ-、-Ｏ-、アルキレン基、アリーレン基、およびこれらの組合せから選ばれる二価の基であることが好ましい。架橋しているアニオン性基を有するポリマーが、アミノ基または四級アンモニウム基を有する繰り返し単位を含む場合、その割合は０．０６〜３２質量％であることが好ましく、０．０８〜３０質量％であることがさらに好ましく、０．１〜２８質量％であることが最も好ましい。
【００２７】
ハードコート層のバインダーには、ハードコート層の屈折率を制御する目的で、高屈折率モノマーまたはＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＳiＯ2などの無機粒子、或いは両者を加えることができる。無機粒子には屈折率を制御する効果に加えて、架橋反応による硬化収縮を抑える効果もある。本発明では、ハードコート層形成後において、前記多官能モノマーおよび／又は高屈折率モノマー等が重合して生成した重合体、その中に分散された無機粒子を含んでバインダーと称する。
【００２８】
ハードコート層のヘイズは、反射防止フィルムに付与させる機能によって異なる。
表面の反射率を抑える機能に加えて、ハードコート層の表面散乱にて、防眩機能を付与する場合は、表面ヘイズが７％以下であることが好ましく、５％以下であることがより好ましく、３％未満であることが最も好ましい。
また、ハードコート層の内部散乱により液晶パネルの模様や色ムラ、輝度ムラ、ギラツキなどを見難くしたり、散乱により視野角を拡大する機能を付与する場合は、内部ヘイズ値（全ヘイズ値から表面ヘイズ値を引いた値）は２０％〜８０％であることが好ましく、更に好ましくは３５％〜７５％であり、最も好ましくは５０％〜７０％である。
本発明のフィルムは、目的に応じて表面ヘイズ及び内部ヘイズを自由に設定可能である。
【００２９】
また、ハードコート層の表面凹凸形状については、画像の鮮明性を維持する目的で、クリアな表面を得る為には、表面粗さを示す特性のうち、例えば中心線平均粗さ（Ｒａ）を０．１０μｍ以下とすることが好ましい。Ｒａは、より好ましくは０．０７μｍ以下であり、更に好ましくは０．０５μｍ未満である。本発明のフィルムにおいては、フィルムの表面凹凸にはハードコート層の表面凹凸が支配的であり、ハードコート層の中心線平均粗さを調節することにより、反射防止フィルムの中心線平均粗さを上記範囲とすることができる。
【００３０】
（透光性粒子）
本発明のハードコート層には、防眩性（表面散乱性）や内部散乱性を付与するため、透光性有機樹脂粒子を用いる。
【００３１】
本発明のハードコート層中の透光性有機樹脂粒子は、粒子表面が金属酸化物で被覆された透光性有機樹脂粒子が好ましく用いられる。金属酸酸化物で表面を被覆すると、耐候性が良化し、有機溶媒中で分散しやすくなる。金属酸化物の具体例としては、ＺｒＯ２、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＳｎＯ２、Ｓｂ２Ｏ３などがあるが、特にＳｉＯ２は安価であるため好ましい。表面被覆ＳｉＯ２としては、平均粒径５〜７０ｎｍのコロイダルシリカを特開２００２−３２７０３６号公開の方法で被覆することができる。粒子表面の金属酸化物の被覆層の厚みは、４００ｎｍ以下が好ましい。
【００３２】
透光性有機樹脂粒子はポリメチルメタクリレート粒子（屈折率１．４９）、架橋ポリ（アクリル−スチレン）共重合体粒子（屈折率１．５４）、メラミン樹脂粒子（屈折率１．５７〜１．６５）、ポリカーボネート粒子（屈折率１．５７）、ポリスチレン粒子（屈折率１．６０）、架橋ポリスチレン粒子（屈折率１．６１）、ポリ塩化ビニル粒子（屈折率１．６０）、ベンゾグアナミン−メラミンホルムアルデヒド粒子（屈折率１．６８）等が用いられる。
【００３３】
これらの粒子の中から選ばれた各透光性有機樹脂粒子の屈折率にあわせてバインダーの屈折率を調整することにより、本発明の内部ヘイズ、表面ヘイズ、中心線平均粗さを達成することができる。
３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーを主成分としたバインダー（硬化後の屈折率が１．５０〜１．５３）を使用する場合、ベンゾグアナミン−メラミンホルムアルデヒド粒子（屈折率１．６８）やメラミンホルムアルデヒド粒子（屈折率１．６５）からなる透光性粒子を組み合わせて用いることが好ましく、特にバインダーとシリカで表面を被覆したメラミン樹脂粒子（屈折率が１．６５）との組合せが好ましい。
【００３４】
上記のような透光性有機樹脂粒子の場合には、バインダー中、沈降防止のためにシリカ等の無機フィラーを添加してもよい。なお、無機フィラーは添加量が増す程、透光性有機樹脂粒子の沈降防止に有効であるが、塗膜の透明性に悪影響を与える。従って、好ましくは、粒径０．５μｍ以下の無機フィラーを、バインダーに対して塗膜の透明性を損なわない程度に、０．１質量％未満程度含有させるとよい。
【００３５】
透光性有機樹脂粒子の平均粒径は０．５〜７μｍが好ましく、より好ましくは１．０〜５．０μｍ、更に好ましくは１．２〜２．５μｍである。平均粒径が０．５μｍ未満であると、光の散乱角度分布が広角にまで広がるため、ディスプレイの文字ボケを引き起こしたりするため、好ましくない。一方、７μｍを超えると、添加する層の膜厚を厚くする必要が生じ、カールやコスト上昇といった問題が生じる。
【００３６】
また、粒子径の異なる２種以上の透光性粒子を併用して用いてもよい。平均粒径２．５μｍ以下単位面積当たりの透光性有機樹脂粒子数と平均粒径３μｍ以上の透光性粒子数の比は、好ましくは３倍以上、より好ましくは５倍以上である。平均粒径３μｍ以上の透光性粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径の透光性有機樹脂粒子で表面のザラツキ感を低減することが可能である。３μｍ以上の透光性粒子は有機粒子であっても、無機粒子であってもよい。無機粒子としては、珪素、ジルコニウム、チタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも一つ金属の酸化物、具体例としては、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＳｎＯ２、Ｓｂ２Ｏ３、ＩＴＯ等が挙げられる。その他ＢａＳＯ４、ＣａＣＯ３、タルクおよびカオリンなどが含まれる。
【００３７】
前記透光性有機樹脂粒子は、添加層全固形分中に５〜４０質量％含有されるように配合される。より好ましくは５〜２５質量％、更に好ましくは７〜２０質量％である。３質量％未満であると、添加効果が不足し、４０質量％を超えると、画像ボケや表面の白濁やギラツキ等の問題が生じる。
【００３８】
また、透光性有機樹脂粒子の塗布量は、好ましくは３０〜２５００ｍｇ／ｍ２、より好ましくは１００〜２４００ｍｇ／ｍ２、更に好ましくは６００〜２３００ｍｇ／ｍ２である。
【００３９】
本発明に係る有機樹脂粒子の圧縮強度は２kgf/mm2〜１０kgf/mm2が好ましく、４kgf/mm2〜９kgf/mm2がより好ましく、５kgf/mm2〜８kgf/mm2がさらに好ましい。この範囲であると膜硬度増加への寄与もあり、かつ脆性悪化による粒子破壊も起こりにくい。
圧縮強度は粒子径が１０％変形するときの圧縮強度をいう。粒径が１０％変形するときの圧縮強度とは、粒子圧縮強度（Ｓ１０強度）であり、島津製作所製微小圧縮試験機ＭＣＴW２０１を用いて樹脂粒子単体を１ｇｆの荷重まで圧縮試験を行ない、粒子径が１０％変形したときの荷重と圧縮前の粒子径とを次式に導入して得られる値である。
Ｓ１０強度（kgf/mm2）＝２．８×荷重(kgf)／｛（π×粒子径（mm）×粒子径（mm））
【００４０】
＜透光性粒子調製、分級法＞
【００４１】
本発明に係る透光性粒子の製造法は、懸濁重合法、乳化重合法、ソープフリー乳化重合法、分散重合法、シード重合法等を挙げることができ、いずれの方法で製造されてもよい。これらの製造法は、例えば「高分子合成の実験法」（大津隆行、木下雅悦共著、化学同人社）１３０頁及び１４６頁から１４７頁の記載、「合成高分子」１巻、ｐ．２４６〜２９０、同３巻、ｐ．１〜１０８等に記載の方法、及び特許第２５４３５０３号明細書、同第３５０８３０４号明細書、同第２７４６２７５号明細書、同第３５２１５６０号明細書、同第３５８０３２０号明細書、特開平１０−１５６１号公報、特開平７−２９０８号公報、特開平５−２９７５０６号公報、特開２００２−１４５９１９号公報等に記載の方法を参考にすることができる。
【００４２】
透光性粒子の粒度分布はヘイズ値と拡散性の制御、塗布面状の均質性から単分散性粒子が好ましい。粒子径の均一さを表すＣＶ値（粒径の標準偏差／平均粒径）は１０％未満が好ましく、より好ましくは０％〜８％、更に好ましくは０％〜５％以下である。さらに、平均粒子径よりも２０％以上粒子径が大きな粒子を粗大粒子と規定した場合、この粗大粒子の割合は全粒子数の１％以下であることが好ましく、より好ましくは０．１％以下であり、さらに好ましくは０．０１％以下である。このような粒度分布を持つ粒子は、調製または合成反応後に、分級することも有力な手段であり、分級の回数を上げることやその程度を強くすることで、望ましい分布の粒子を得ることができる。
分級には風力分級法、遠心分級法、沈降分級法、濾過分級法、静電分級法等の方法を用いることが好ましい。
なお、ＣＶ値の測定は、コールターカウンター法の様な既存の粒子分布測定機により粒子分布を測定し、測定された分布を粒径の標準偏差に換算する。平均粒径は得られた粒子分布から算出し、ＣＶ値を求める。
【００４３】
［低屈折率層］
本発明の低屈折率層には含フッ素共重合体化合物を好ましく用いることが出来る。含フッ素ビニルモノマーとしてはフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ(商品名、大阪有機化学製）やＲ−２０２０（商品名、ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。これらの含フッ素ビニルモノマーの組成比を上げれば屈折率を下げることができるが、皮膜強度は低下する。本発明では共重合体のフッ素含率が２０〜６０質量％となるように含フッ素ビニルモノマーを導入することが好ましく、より好ましくは２５〜５５質量％の場合であり、特に好ましくは３０〜５０質量％の場合である。
【００４４】
架橋反応性付与のための構成単位としては主として以下の（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）で示される単位が挙げられる。
（Ａ）：グリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテルのように分子内にあらかじめ自己架橋性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位、
（Ｂ）：カルボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等）の重合によって得られる構成単位、
（Ｃ）：分子内に上記（Ａ）、（Ｂ）の官能基と反応する基とそれとは別に架橋性官能基を有する化合物を、上記（Ａ）、（Ｂ）の構成単位と反応させて得られる構成単位、（例えばヒドロキシル基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で合成できる構成単位）が挙げられる。
【００４５】
上記（Ｃ）の構成単位は該架橋性官能基が光重合性基であることが好ましい。ここに、光重合性基としては、例えば（メタ）アクリロイル基、アルケニル基、シンナモイル基、シンナミリデンアセチル基、ベンザルアセトフェノン基、スチリルピリジン基、α-フェニルマレイミド基、フェニルアジド基、スルフォニルアジド基、カルボニルアジド基、ジアゾ基、ｏ-キノンジアジド基、フリルアクリロイル基、クマリン基、ピロン基、アントラセン基、ベンゾフェノン基、スチルベン基、ジチオカルバメート基、キサンテート基、１，２，３-チアジアゾール基、シクロプロペン基、アザジオキサビシクロ基などを挙げることができ、これらは１種のみでなく２種以上であってもよい。これらのうち、（メタ）アクリロイル基およびシンナモイル基が好ましく、特に好ましくは（メタ）アクリロイル基である。
【００４６】
光重合性基含有共重合体を調製するための具体的な方法としては、下記の方法を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
ａ．水酸基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、（メタ）アクリル酸クロリドを反応させてエステル化する方法、
ｂ．水酸基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、イソシアネート基を含有する(メタ）アクリル酸エステルを反応させてウレタン化する方法、
ｃ．エポキシ基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、（メタ）アクリル酸を反応させてエステル化する方法、
ｄ．カルボキシル基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、エポキシ基を含有する含有（メタ）アクリル酸エステルを反応させてエステル化する方法。
尚、上記光重合性基の導入量は任意に調節することができ、塗膜面状安定性・無機粒子共存時の面状故障低下・膜強度向上などの点からカルボキシル基やヒドロキシル基等を一定量残すことも好ましい。
【００４７】
本発明に有用な共重合体では上記含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位および側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位以外に、基材への密着性、ポリマーのＴｇ（皮膜硬度に寄与する）、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜他のビニルモノマーを共重合することもできる。これらのビニルモノマーは目的に応じて複数を組み合わせてもよく、合計で共重合体中の０〜６５モル％の範囲で導入されていることが好ましく、０〜４０モル％の範囲であることがより好ましく、０〜３０モル％の範囲であることが特に好ましい。
【００４８】
併用可能なビニルモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸２‐ヒドロキシエチル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル等）、スチレン誘導体（スチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン、ｐ−メトキシスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、不飽和カルボン酸類（アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等）、アクリルアミド類（Ｎ、Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類（Ｎ、Ｎ−ジメチルメタクリルアミド）、アクリロニトリル等を挙げることができる。
【００４９】
本発明で特に有用な含フッ素ポリマーは、パーフルオロオレフィンとビニルエーテル類またはビニルエステル類のランダム共重合体である。特に単独で架橋反応可能な基（（メタ）アクリロイル基等のラジカル反応性基、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合性基等）を有していることが好ましい。これらの架橋反応性基含有重合単位はポリマーの全重合単位の５〜７０ｍｏｌ％を占めていることが好ましく、特に好ましくは３０〜６０ｍｏｌ％の場合である。好ましいポリマーについては、特開２００２−２４３９０７号、特開２００２−３７２６０１号、特開２００３−２６７３２号、特開２００３−２２２７０２号、特開２００３−２９４９１１号、特開２００３−３２９８０４号、特開２００４−４４４４、特開２００４−４５４６２号に記載のものを挙げることができる。
【００５０】
また本発明の含フッ素ポリマーには防汚性を付与する目的で、ポリシロキサン構造が導入されていることが好ましい。ポリシロキサン構造の導入方法に制限はないが例えば特開平６−９３１００号、特開平１１−１８９６２１号、同１１−２２８６３１号、特開２０００−３１３７０９号の各公報に記載のごとく、シリコーンマクロアゾ開始剤を用いてポリシロキサンブロック共重合成分を導入する方法、特開平２−２５１５５５号、同２−３０８８０６号の各公報に記載のごとくシリコーンマクロマーを用いてポリシロキサングラフト共重合成分を導入する方法が好ましい。特に好ましい化合物としては、特開平１１−１８９６２１号の実施例１、２、及び３のポリマー、又は特開平２−２５１５５５号の共重合体Ａ−２及びＡ−３を挙げることができる。これらのポリシロキサン成分はポリマー中の０．５〜１０質量％であることが好ましく、特に好ましくは１〜５質量％である。
【００５１】
本発明に好ましく用いることのできるポリマーの好ましい分子量は、質量平均分子量が５０００以上、好ましくは１００００〜５０００００、最も好ましくは１５０００〜２０００００である。平均分子量の異なるポリマーを併用することで塗膜面状の改良や耐傷性の改良を行うこともできる。
【００５２】
上記のポリマーに対しては特開平１０−２５３８８号公報および特開２０００−１７０２８号公報に記載のごとく適宜重合性不飽和基を有する硬化剤を併用してもよい。また、特開２００２−１４５９５２号に記載のごとく含フッ素の多官能の重合性不飽和基を有する化合物との併用も好ましい。多官能の重合性不飽和基を有する化合物の例としては、前記ハードコート層で述べた多官能モノマーを挙げることができる。これら化合物は、特にポリマー本体に重合性不飽和基を有する化合物を用いた場合に耐擦傷性改良に対する併用効果が大きく好ましい。
【００５３】
低屈折率層の屈折率は、１．２０〜１．４６であることが好ましく、１．２５〜１．４２であることがより好ましく、１．３０〜１．３８であることが特に好ましい。
【００５４】
低屈折率層の厚さは、５０〜１５０ｎｍであることが好ましく、７０〜１２０ｎｍであることがさらに好ましい。
【００５５】
本発明の低屈折率層に好ましく用いることのできる微粒子について説明する。
微粒子の塗設量は、１ｍｇ／ｍ2〜１００ｍｇ／ｍ2が好ましく、より好ましくは５ｍｇ／ｍ2〜８０ｍｇ／ｍ2、更に好ましくは１０ｍｇ／ｍ2〜７０ｍｇ／ｍ2である。少なすぎると、耐擦傷性の改良効果が減り、多すぎると、低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、外観や積分反射率が悪化する。該微粒子は、低屈折率層に含有させることから、低屈折率であることが望ましい。
【００５６】
具体的には、金属酸化物微粒子、中空の金属酸化物微粒子、あるいは中空の有機樹脂微粒子であって、低屈折率のものがあることが好ましい。例えば、シリカまたは中空シリカの微粒子が挙げられる。低屈折率層に用いる微粒子の平均粒径は、低屈折率層の厚みの１５％以上１５０％以下が好ましく、より好ましくは２５％以上１００％以下、更に好ましくは３５％以上７０％以下である。即ち、低屈折率層の厚みが１００ｎｍであれば、微粒子の粒径は１５ｎｍ以上１５０ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは２５ｎｍ以上１００ｎｍ以下、更に好ましくは、３５ｎｍ以上６０ｎｍ以下である。耐擦傷性の強化を図るためには、光学フィルム全層に金属酸化物粒子が含まれていることが好ましく、最も好ましくは、光学フィルム全層にシリカ粒子が含まれていることが好ましい。
【００５７】
上記のような、（中空）シリカ微粒子の粒径が小さすぎると、耐擦傷性の改良効果が少なくなり、大きすぎると低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、外観、積分反射率が悪化する。（中空）シリカ微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子でも、凝集粒子（この場合は、２次粒子径が、低屈折率層の層厚の１５％〜１５０％であることが好ましい）でも構わない。また、２種類以上の複数の粒子（種類、あるいは粒径）を用いても構わない。粒子の形状は、球径が最も好ましいが、不定形であっても問題無い。
【００５８】
低屈折率層の屈折率を低下させるために、中空のシリカ微粒子を用いることが特に好ましい。該中空シリカ微粒子は屈折率が１．１５〜１．４０、より好ましくは１．１７〜１．３５、さらに好ましくは１．１７〜１．３０である。ここでの屈折率は粒子全体としての屈折率を表し、中空シリカ粒子を形成している外殻のシリカのみの屈折率を表すものではない。この時、粒子内の空腔の半径をａ、粒子外殻の半径をｂとすると、空隙率ｘは下記数式（I）で算出される。
【００５９】
(数式 Ｉ）    ｘ＝（４πａ3／３）／（４πｂ3／３）×１００
【００６０】
空隙率ｘは、好ましくは１０〜７０％、さらに好ましくは２０〜６０％、最も好ましくは３０〜６０％である。中空のシリカ粒子をより低屈折率に、より空隙率を大きくしようとすると、外殻の厚みが薄くなり、粒子の強度としては弱くなるため、耐擦傷性の観点から１．１５未満の低屈折率の粒子は好ましくない。なお、これら中空シリカ粒子の屈折率はアッベ屈折率計（アタゴ（株）製）にて測定をおこなった。
【００６１】
本発明においては、防汚性向上の観点から、更に、低屈折率層表面の表面自由エネルギーを下げることが好ましい。具体的には、含フッ素化合物やポリシロキサン構造を有する化合物を低屈折率層に使用することが好ましい。
【００６２】
ポリシロキサン構造を有する添加剤としては、反応性基含有ポリシロキサン（例えばＫＦ−１００Ｔ，Ｘ−２２−１６９ＡＳ，ＫＦ−１０２，Ｘ−２２−３７０１ＩＥ，Ｘ−２２−１６４Ｂ，Ｘ−２２−５００２，Ｘ−２２−１７３Ｂ，Ｘ−２２−１７４Ｄ，Ｘ−２２−１６７Ｂ，Ｘ−２２−１６１ＡＳ（以上商品名、信越化学工業社製）、ＡＫ−５，ＡＫ−３０，ＡＫ−３２（以上商品名、東亜合成社製）、サイラプレーンＦＭ０７２５，サイラプレーンＦＭ０７２１（以上商品名、チッソ社製）等）を添加するのも好ましい。また、特開２００３−１１２３８３の表２、表３に記載のシリコーン系化合物も好ましく使用できる。これらのポリシロキサンは低屈折率層全固形分の０．１〜１０質量％の範囲で添加されることが好ましく、特に好ましくは１〜５質量％の場合である。
【００６３】
［ハードコート層および／または低屈折率層に含有される成分］
(オルガノシラン化合物）
本発明の光学フィルムを構成する層のうちの少なくとも１層は、その層内に、オルガノシラン化合物の加水分解物および／またはその部分縮合物の少なくとも一種の成分、いわゆるゾル成分（以降このように称する場合もある）を含有することが耐擦傷性の点で好ましい。特に、低屈折率層を有する光学フィルムにおいては、反射防止性能と耐擦傷性を両立させるために、低屈折率層にゾル成分を含有させることが特に好ましい。このゾル成分は、塗布後、乾燥、加熱工程で縮合して硬化物を形成し、上記低屈折率層のバインダーの一部となる。また、該硬化物が重合性不飽和結合を有する場合、活性光線の照射により３次元構造を有するバインダーが形成される。
【００６４】
オルガノシラン化合物は、下記一般式１で表されるものが好ましい。
一般式１：（Ｒ１）ｍ−Ｓｉ（Ｘ）４−ｍ
上記一般式１において、Ｒ1は置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基を表す。アルキル基としては、炭素数１〜３０のアルキル基か好ましく、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは１〜６のものである。アルキル基の具体例として、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ヘキシル、デシル、ヘキサデシル等が挙げられる。アリール基としてはフェニル、ナフチル等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。
Ｘは、水酸基または加水分解可能な基を表し、例えばアルコキシ基（炭素数１〜５のアルコキシ基が好ましい。例えばメトキシ基、エトキシ基等が挙げられる）、ハロゲン原子(例えばＣｌ、Ｂｒ、Ｉ等）、及びＲ２ＣＯＯ（Ｒ２は水素原子または炭素数１〜６のアルキル基が好ましい。例えばＣＨ３ＣＯＯ、Ｃ２Ｈ５ＣＯＯ等が挙げられる）で表される基が挙げられ、好ましくはアルコキシ基であり、特に好ましくはメトキシ基またはエトキシ基である。
ｍは１〜３の整数を表し、好ましくは１〜２である。
【００６５】
Ｘが複数存在するとき、複数のＸはそれぞれ同じであっても異なっていても良い。Ｒ1に含まれる置換基としては特に制限はないが、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素等）、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基（メチル、エチル、ｉ−プロピル、プロピル、ｔ−ブチル等）、アリール基（フェニル、ナフチル等）、芳香族ヘテロ環基（フリル、ピラゾリル、ピリジル等）、アルコキシ基（メトキシ、エトキシ、ｉ−プロポキシ、ヘキシルオキシ等）、アリールオキシ（フェノキシ等）、アルキルチオ基（メチルチオ、エチルチオ等）、アリールチオ基（フェニルチオ等）、アルケニル基（ビニル、１−プロペニル等）、アシルオキシ基（アセトキシ、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ等）、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（フェノキシカルボニル等）、カルバモイル基（カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−オクチルカルバモイル等）、アシルアミノ基（アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、アクリルアミノ、メタクリルアミノ等）等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。
Ｒ1は置換アルキル基もしくは置換アリール基であることが好ましい。
また、下記一般式２で表されるビニル重合性の置換基を有するオルガノシラン化合物も好ましい。
【００６６】
【化１】
2008026883.tif 000003
【００６７】
上記一般式２において、Ｒ２は水素原子、メチル基、メトキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、または塩素原子を表す。アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。水素原子、メチル基、メトキシ基、メトキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、および塩素原子が好ましく、水素原子、メチル基、メトキシカルボニル基、フッ素原子、および塩素原子が更に好ましく、水素原子およびメチル基が特に好ましい。
Ｙは単結合もしくは＊−ＣＯＯ−**、*−ＣＯＮＨ−**または*−Ｏ−**を表し、単結合、*−ＣＯＯ−**および*−ＣＯＮＨ−**が好ましく、単結合および*−ＣＯＯ−**が更に好ましく、*−ＣＯＯ−**が特に好ましい。*は＝Ｃ（Ｒ２）−に結合する位置を、**はＬに結合する位置を表す。
【００６８】
Ｌは２価の連結鎖を表す。具体的には、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基（例えば、エーテル、エステル、アミドなど）を有する置換もしくは無置換のアルキレン基、内部に連結基を有する置換もしくは無置換のアリーレン基が挙げられ、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基を有するアルキレン基が好ましく、無置換のアルキレン基、無置換のアリーレン基、内部にエーテルあるいはエステル連結基を有するアルキレン基が更に好ましく、無置換のアルキレン基、内部にエーテルあるいはエステル連結基を有するアルキレン基が特に好ましい。置換基は、ハロゲン、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アリール基等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。
【００６９】
ｌ（ｌ＝１００−ｍの数式を満たす数を表す）およびｍはモル比率を表わし、ｍは０〜５０の数を表す。ｍは０〜４０の数がより好ましく、０〜３０の数が特に好ましい。
Ｒ３〜Ｒ６は、ハロゲン原子、水酸基、無置換のアルコキシ基、もしくは無置換のアルキル基が好ましい。Ｒ３〜Ｒ５は塩素原子、水酸基、無置換の炭素数１〜６のアルコキシ基がより好ましく、水酸基、炭素数１〜３のアルコキシ基が更に好ましく、水酸基もしくはメトキシ基が特に好ましい。
Ｒ６は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、または塩素原子を表す。アルキル基はメチル基、エチル基など、アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。水素原子、メチル基、メトキシ基、メトキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、および塩素原子が好ましく、水素原子、メチル基、メトキシカルボニル基、フッ素原子、および塩素原子が更に好ましく、水素原子およびメチル基が特に好ましい。Ｒ７は前述の一般式１のＲ１と同義であり、水酸基もしくは無置換のアルキル基がより好ましく、水酸基もしくは炭素数１〜３のアルキル基が更に好ましく、水酸基もしくはメチル基が特に好ましい。
【００７０】
一般式１の化合物は２種類以上を併用しても良い。特に一般式２の化合物は一般式１の化合物の少なくとも１種類を出発原料として合成される。以下に一般式１の化合物および一般式２で表される化合物の出発原料の具体例を示すが、限定されるものではない。
【００７１】
【化２】
2008026883.tif 000004
【００７２】
【化３】
2008026883.tif 000005
【００７３】
【化４】
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【００７４】
【化５】
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【００７５】
【化６】
2008026883.tif 000008
【００７６】
【化７】
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【００７７】
【化８】
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【００７８】
M-48  メチルトリメトキシシラン
【００７９】
これらのうち、重合性基を含有するオルガノシランとしては（Ｍ−１）、（Ｍ−２）、及び（Ｍ−２５）が特に好ましい。
本発明の効果を得るためには、オルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物における前記ビニル重合性基を含有するオルガノシランの含有量は、３０質量％〜１００質量％が好ましく、５０質量％〜１００質量％がより好ましく、７０質量％〜９５質量％が更に好ましい。前記ビニル重合性基を含有するオルガノシランの含有量が３０質量％より少ないと、固形分が生じたり、液が濁ったり、ポットライフが悪化したり、分子量の制御が困難（分子量の増大）であったり、重合性基の含有量が少ないために重合処理を行った場合の性能（例えば反射防止膜の耐傷性）の向上が得られにくいために好ましくない。一般式２で表される化合物を合成する場合は、前記ビニル重合性基を含有するオルガノシランとして（Ｍ−１）、（Ｍ−２）、ビニル重合性基を有さないオルガノシランとして（Ｍ−１９）〜（Ｍ−２１）および（Ｍ−４８）の中からそれぞれ１種をそれぞれ上記の量を組み合わせて用いると好ましい。
【００８０】
本発明のオルガノシランの加水分解物およびその部分縮合物の少なくともいずれかは塗布品性能の安定化のためには揮発性を抑えることが好ましく、具体的には、１０５℃における１時間当たりの揮発量が５質量％以下であることが好ましく、３質量％以下であることがより好ましく、１質量％以下であることが特に好ましい。
【００８１】
本発明に用いられるゾル成分は上記オルガノシランを加水分解および／または部分縮合することにより調製される。
加水分解縮合反応は加水分解性基（Ｘ）１モルに対して０．０５〜２．０モル、好ましくは０．１〜１．０モルの水を添加し、本発明に用いられる触媒の存在下、２５〜１００℃で、撹拌することにより行われる。
【００８２】
本発明のオルガノシランの加水分解物およびその部分縮合物の少なくともいずれかにおいて、ビニル重合性基を含有するオルガノシランの加水分解物およびその部分縮合物いずれかの重量平均分子量は、分子量が３００未満の成分を除いた場合に、４５０〜２００００が好ましく、５００〜１００００がより好ましく、５５０〜５０００が更に好ましく、６００〜３０００が更に好ましい。
【００８３】
オルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物における分子量が３００以上の成分のうち、分子量が２００００より大きい成分は１０質量％以下であることが好ましく、５質量％以下であることがより好ましく、３質量％以下であることが更に好ましい。１０質量％より多く含有すると、そのようなオルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物を含有する硬化性組成物を硬化させて得られる硬化皮膜は、透明性や基板との密着性が劣る場合がある。
【００８４】
ここで、重量平均分子量及び分子量は、ＴＳＫgel ＧＭＨxL、ＴＳＫgel Ｇ4000ＨxL、ＴＳＫgel Ｇ2000ＨxL（何れも東ソー(株)製の商品名）のカラムを使用したＧＰＣ分析装置により、溶媒ＴＨＦ、示差屈折計検出によるポリスチレン換算で表した分子量であり、含有量は、分子量が３００以上の成分のピーク面積を１００％とした場合の、前記分子量範囲のピークの面積％である。
分散度（重量平均分子／数平均分子量）は３．０〜１．１が好ましく、２．５〜１．１がより好ましく、２．０〜１．１が更に好ましく、１．５〜１．１が特に好ましい。
【００８５】
本発明のオルガノシランの加水分解物および部分縮合物の29Ｓｉ−ＮＭＲ分析により一般式１のＸが−ＯＳｉの形で縮合している状態を確認できる。
この時、Ｓｉの３つの結合が−ＯＳｉの形で縮合している場合（Ｔ３）、Ｓｉの２つの結合が−ＯＳｉの形で縮合している場合（Ｔ２）、Ｓｉの１つの結合が−ＯＳｉの形で縮合している場合（Ｔ１）、Ｓｉが全く縮合していない場合を（Ｔ０）とした場合に縮合率αは
数式（II）：α＝（Ｔ３×３＋Ｔ２×２＋Ｔ１×１）／３／（Ｔ３＋Ｔ２＋Ｔ１＋Ｔ０）で表され、縮合率は０．２〜０．９５が好ましく、０．３〜０．９３がより好ましく、０．４〜０．９がとくに好ましい。
０．１より小さいと加水分解や縮合が十分でなく、モノマー成分が増えるため硬化が十分でなく、０．９５より大きいと加水分解や縮合が進みすぎ、加水分解可能な基が消費されてしまうため、バインダーポリマー、樹脂基板、無機微粒子などの相互作用が低下してしまい、これらを用いても効果が得られにくくなる。
【００８６】
本発明で用いるオルガノシラン化合物の加水分解物および部分縮合物について詳細を説明する。
オルガノシランの加水分解反応、それに引き続く縮合反応は、一般に触媒の存在下で行われる。触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸類；シュウ酸、酢酸、酪酸、マレイン酸、クエン酸、ギ酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等の有機酸類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等の無機塩基類；トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基類；トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム、テトラブチルチタネート、ジブチル錫ジラウレート等の金属アルコキシド類；Ｚｒ、ＴｉまたはＡｌなどの金属を中心金属とする金属キレート化合物等；ＫＦ、ＮＨ４Ｆなどの含Ｆ化合物が挙げられる。
上記触媒は単独で使用しても良く、或いは複数種を併用しても良い。
【００８７】
オルガノシランの加水分解・縮合反応は、無溶媒でも、溶媒中でも行うことができるが成分を均一に混合するために有機溶媒を用いることが好ましく、例えばアルコール類、芳香族炭化水素類、エーテル類、ケトン類、エステル類などが好適である。
溶媒はオルガノシランと触媒を溶解させるものが好ましい。また、有機溶媒が塗布液あるいは塗布液の一部として用いることが工程上好ましく、含フッ素ポリマーなどのその他の素材と混合した場合に、溶解性あるいは分散性を損なわないものが好ましい。
【００８８】
このうち、アルコール類としては、例えば１価アルコールまたは２価アルコールを挙げることができ、このうち１価アルコールとしては炭素数１〜８の飽和脂肪族アルコールが好ましい。
これらのアルコール類の具体例としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、sec−ブチルアルコール、tert−ブチルアルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテルなどを挙げることができる。
【００８９】
また、芳香族炭化水素類の具体例としては、ベンゼン、トルエン、キシレンなどを、エーテル類の具体例としては、テトラヒドロフラン、ジオキサンなど、ケトン類の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどを、エステル類の具体例としては、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸プロピレンなどを挙げることができる。
これらの有機溶媒は、１種単独であるいは２種以上を混合して使用することもできる。該反応における固形分の濃度は特に限定されるものではないが通常１％〜１００％の範囲である。
【００９０】
オルガノシランの加水分解性基１モルに対して０．０５〜２モル、好ましくは０．１〜１モルの水を添加し、上記溶媒の存在下あるいは非存在下に、そして触媒の存在下に、２５〜１００℃で、撹拌することにより行われる。
本発明においては、一般式Ｒ３ＯＨ（式中、Ｒ３は炭素数１〜１０のアルキル基を示す）で表されるアルコールと一般式Ｒ４ＣＯＣＨ２ＣＯＲ５(式中、Ｒ４は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｒ５は炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０のアルコキシ基を示す)で表される化合物とを配位子とした、Ｚｒ、ＴｉまたはＡｌから選ばれる金属を中心金属とする少なくとも１種の金属キレート化合物の存在下で、２５〜１００℃で撹拌することにより加水分解を行うことが好ましい。
もしくは触媒に含フッ素化合物を使用する場合、含フッ素化合物が完全に加水分解・縮合を進行させる能力が有るため、添加する水量を選択することにより重合度が決定でき、任意の分子量の設定が可能となるので好ましい。すなわち、平均重合度Ｍのオルガノシラン加水分解物／部分縮合物を調製するためには、Ｍモルの加水分解性オルガノシランに対して（Ｍ−１）モルの水を使用すれば良い。
【００９１】
金属キレート化合物は、一般式Ｒ３ＯＨ（式中、Ｒ３は炭素数１〜１０のアルキル基を示す）で表されるアルコールとＲ４ＣＯＣＨ２ＣＯＲ５（式中、Ｒ４は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｒ５は炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０のアルコキシ基を示す）で表される化合物とを配位子とした、Ｚｒ、Ｔｉ、Ａｌから選ばれる金属を中心金属とするものであれば特に制限なく好適に用いることができる。この範疇であれば、２種以上の金属キレート化合物を併用しても良い。本発明に用いられる 金属キレート化合物は、一般式Ｚｒ（ＯＲ３）ｐ１（Ｒ４ＣＯＣＨＣＯＲ５）ｐ２、Ｔｉ（ＯＲ３）ｑ１（Ｒ４ＣＯＣＨＣＯＲ５）ｑ２、およびＡｌ（ＯＲ３）ｒ１（Ｒ４ＣＯＣＨＣＯＲ５）ｒ２で表される化合物群から選ばれるものが好ましく、前記オルガノシラン化合物の加水分解物および部分縮合物の縮合反応を促進する作用をなす。
金属キレート化合物中のＲ３およびＲ４は、同一または異なってもよく炭素数１〜１０のアルキル基、具体的にはエチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、sec −ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、フェニル基などである。また、Ｒ５は、前記と同様の炭素数１〜１０のアルキル基のほか、炭素数１〜１０のアルコキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、sec −ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基などである。また、 金属キレート化合物中のｐ１、ｐ２、ｑ１、ｑ２、ｒ１、およびｒ２は、それぞれｐ１＋ｐ２＝４、ｑ１＋ｑ２＝４、ｒ１＋ｒ２＝３となる様に決定される整数を表す。
【００９２】
これらの金属キレート化合物の具体例としては、トリ−ｎ−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジ−ｎ−ブトキシビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ｎ−ブトキシトリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（ｎ−プロピルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（アセチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（エチルアセトアセテート）ジルコニウムなどのジルコニウムキレート化合物；ジイソプロポキシ・ビス（エチルアセトアセテート）チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス（アセチルアセテート）チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス（アセチルアセトン）チタニウムなどのチタニウムキレート化合物；ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、ジイソプロポキシアセチルアセトナートアルミニウム、イソプロポキシビス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、イソプロポキシビス（アセチルアセトナート）アルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、トリス（アセチルアセトナート）アルミニウム、モノアセチルアセトナート・ビス（エチルアセトアセテート）アルミニウムなどのアルミニウムキレート化合物などが挙げられる。
これらの金属キレート化合物のうち好ましいものは、トリ−ｎ−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジイソプロポキシビス（アセチルアセトナート）チタニウム、ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウムである。これらの金属キレート化合物は、１種単独であるいは２種以上混合して使用することができる。また、これらの金属キレート化合物の部分加水分解物を使用することもできる。
【００９３】
金属キレート化合物は、前記オルガノシラン化合物に対し、好ましくは０．０１〜５０質量％、より好ましくは０．１〜５０質量％、さらに好ましくは０．５〜１０質量％の割合で用いられる。金属キレート化合物が上記範囲で用いられることによりオルガノシラン化合物の縮合反応が早く、塗膜の耐久性が良好であり、オルガノシラン化合物の加水分解物および部分縮合物と金属キレート化合物を含有してなる組成物の保存安定性が良好である。
【００９４】
本発明に用いられる塗布液には、上記ゾル成分および金属キレート化合物を含む組成物に加えて、β−ジケトン化合物およびβ−ケトエステル化合物の少なくともいずれかが添加されることが好ましい。以下にさらに説明する。
本発明で使用されるのは、一般式Ｒ４ＣＯＣＨ2ＣＯＲ５で表されるβ−ジケトン化合物およびβ−ケトエステル化合物の少なくともいずれかであり、本発明に用いられる組成物の安定性向上剤として作用するものである。すなわち、前記金属キレート化合物（ジルコニウム、チタニウムおよびアルミニウム化合物の少なくともいずれかの化合物）中の金属原子に配位することにより、これらの金属キレート化合物によるオルガノシラン化合物の加水分解物および部分縮合物の縮合反応を促進する作用を抑制し、得られる組成物の保存安定性を向上させる作用をなすものと考えられる。β−ジケトン化合物およびβ−ケトエステル化合物を構成するＲ４およびＲ５は、前記金属キレート化合物を構成するＲ４およびＲ５と同様である。
【００９５】
このβ−ジケトン化合物およびβ−ケトエステル化合物の具体例としては、アセチルアセトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸−ｎ−プロピル、アセト酢酸−ｉ−プロピル、アセト酢酸−ｎ−ブチル、アセト酢酸−sec-ブチル、アセト酢酸−ｔ−ブチル、２，４−ヘキサン−ジオン、２，４−ヘプタン−ジオン、３，５−ヘプタン−ジオン、２，４−オクタン−ジオン、２，４−ノナン−ジオン、５−メチル−ヘキサン−ジオンなどを挙げることができる。これらのうち、アセト酢酸エチルおよびアセチルアセトンが好ましく、特にアセチルアセトンが好ましい。これらのβ−ジケトン化合物およびβ−ケトエステル化合物は、１種単独でまたは２種以上を混合して使用することもできる。本発明においてβ−ジケトン化合物およびβ−ケトエステル化合物は、金属キレート化合物１モルに対し好ましくは２モル以上、より好ましくは３〜２０モル用いられる。２モル未満では得られる組成物の保存安定性に劣るおそれがあり好ましいものではない。
【００９６】
上記オルガノシラン化合物の加水分解物および部分縮合物の含有量は、比較的薄膜である反射防止層の場合は少なく、厚膜であるハードコート層や防眩層の場合は多いことが好ましい。含有量は効果の発現、屈折率、膜の形状・面状等を考慮すると、含有層（添加層）の全固形分の０．１〜５０質量％が好ましく、０．５〜３０質量％がより好ましく、１〜１５質量％が最も好ましい。
【００９７】
前記ビニル重合性基を含有するオルガノシラン化合物の加水分解物および／または部分縮合物を用いる時には、光分解性の開始剤を併用することが好ましい。これらの開始剤骨格については後述する開始剤の項で例示した化合物がある。
【００９８】
（重合開始剤）
＜光開始剤＞
光ラジカル重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類（特開２００１−１３９６６３号等）、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。
アセトフェノン類の例には、２，２−ジメトキシアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、１−ヒドロキシ−ジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキシ−ジメチル−ｐ−イソプロピルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４−メチルチオ−２−モルフォリノプロピオフェノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン、４−フェノキシジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチル−ジクロロアセトフェノン、が含まれる。
【００９９】
ベンゾイン類の例には、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、２，４−ジクロロベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノンおよびｐ−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメチルアミノベンゾフェノン（ミヒラーケトン）、３，３’、４、４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノンなどが含まれる。
【０１００】
ボレート塩としては、例えば、特許第２７６４７６９号、特開２００２−１１６５３９号等の各公報、および、Ｋｕｎｚ，Ｍａｒｔｉｎ“Ｒａｄ  Ｔｅｃｈ’９８．Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇ  Ａｐｒｉｌ  １９〜２２頁，１９９８年，Ｃｈｉｃａｇｏ”等に記載される有機ホウ酸塩記載される化合物があげられる。例えば、前記特開２００２−１１６５３９号明細書の段落番号［００２２］〜［００２７］記載の化合物が挙げられる。またその他の有機ホウ素化合物としては、特開平６−３４８０１１号公報、特開平７−１２８７８５号公報、特開平７−１４０５８９号公報、特開平７−３０６５２７号公報、特開平７−２９２０１４号公報等の有機ホウ素遷移金属配位錯体等が具体例として挙げられ、具体例にはカチオン性色素とのイオンコンプレックス類が挙げられる。
【０１０１】
ホスフィンオキシド類の例には、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれる。
活性エステル類の例には１、２−オクタンジオン、１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、スルホン酸エステル類、環状活性エステル化合物などが含まれる。
具体的には特開２０００−８００６８記載の実施例記載化合物１〜２１が特に好ましい。
オニウム塩類の例には、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩が挙げられる。
【０１０２】
活性ハロゲン類としては、具体的には、若林  等の“Ｂｕｌｌ  Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ  Ｊａｐａｎ”４２巻、２９２４頁（１９６９年）、米国特許第３，９０５，８１５号明細書、特開平５−２７８３０号、Ｍ．Ｐ．Ｈｕｔｔ“Ｊｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ”１巻（３号），（１９７０年）等に記載の化合物が挙げられ、特に、トリハロメチル基が置換したオキサゾール化合物：ｓ−トリアジン化合物が挙げられる。より好適には、少なくとも一つのモノ、ジまたはトリハロゲン置換メチル基がｓ−トリアジン環に結合したｓ−トリアジン誘導体が挙げられる。具体的な例にはＳ−トリアジンやオキサチアゾール化合物が知られており、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−スチリルフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３−Ｂｒ−４−ジ（エチル酢酸エステル）アミノ）フェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−トリハロメチル−５−（ｐ−メトキシフェニル）−１，３，４−オキサジアゾールが含まれる。具体的には特開昭５８−１５５０３のｐ１４〜ｐ３０、特開昭５５−７７７４２のｐ６〜ｐ１０、特公昭６０−２７６７３のｐ２８７記載のＮｏ．１〜Ｎｏ．８、特開昭６０−２３９７３６のｐ４４３〜ｐ４４４のＮｏ．１〜Ｎｏ．１７、ＵＳ−４７０１３９９のＮｏ．１〜１９などの化合物が特に好ましい。
【０１０３】
上記活性ハロゲン類の具体例は以下の通りである。
【０１０４】
【化９】
2008026883.tif 000011
【０１０５】
【化１０】
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【０１０６】
【化１１】
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【０１０７】
【化１２】
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【０１０８】
【化１３】
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【０１０９】
【化１４】
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【０１１０】
無機錯体の例にはビス（η5−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウムが挙げられる。
クマリン類の例には３−ケトクマリンが挙げられる。
【０１１１】
これらの開始剤は単独でも混合して用いても良い。
「最新ＵＶ硬化技術」，（株）技術情報協会，１９９１年，ｐ．１５９、及び、「紫外線硬化システム」加藤清視著、平成元年、総合技術センター発行、ｐ．６５〜１４８にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
【０１１２】
市販の光ラジカル重合開始剤としては、日本化薬（株）製のＫＡＹＡＣＵＲＥ（ＤＥＴＸ−Ｓ，ＢＰ−１００，ＢＤＭＫ，ＣＴＸ，ＢＭＳ，２−ＥＡＱ，ＡＢＱ，ＣＰＴＸ，ＥＰＤ，ＩＴＸ，ＱＴＸ，ＢＴＣ，ＭＣＡなど）、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製のイルガキュア（６５１，１８４，５００，８１９，９０７，３６９，１１７３，１８７０，２９５９，４２６５，４２６３など）、サートマー社製のＥｓａｃｕｒｅ（ＫＩＰ１００Ｆ，ＫＢ１，ＥＢ３，ＢＰ，Ｘ３３，ＫＴ０４６，ＫＴ３７，ＫＩＰ１５０，ＴＺＴ）等およびそれらの組み合わせが好ましい例として挙げられる。
【０１１３】
光重合開始剤は、多官能モノマー１００質量部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲である。
【０１１４】
＜光増感剤＞
光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、ミヒラーケトンおよびチオキサントン、などを挙げることができる。
更にアジド化合物、チオ尿素化合物、メルカプト化合物などの助剤を１種以上組み合わせて用いてもよい。
市販の光増感剤としては、日本化薬（株）製のＫＡＹＡＣＵＲＥ（ＤＭＢＩ，ＥＰＡ）などが挙げられる。
【０１１５】
＜熱開始剤＞
熱ラジカル開始剤としては、有機あるいは無機過酸化物、有機アゾ及びジアゾ化合物等を用いることができる。
具体的には、有機過酸化物として過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロぺルオキシド、無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等、アゾ化合物として２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）、２，２’−アゾビス（プロピオニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサンカルボニトリル）等、ジアゾ化合物としてジアゾアミノベンゼン、ｐ−ニトロベンゼンジアゾニウム等が挙げられる。
【０１１６】
（架橋剤（架橋性化合物））
本発明を構成するモノマーあるいはポリマーバインダ−が単独で十分な硬化性を有しない場合には、架橋性化合物を配合することにより、必要な硬化性を付与することができる。特に低屈折率層に含有させることが有効である。
例えばポリマー本体に水酸基を含有する場合には、各種アミノ化合物を硬化剤として用いることが好ましい。架橋性化合物として用いられるアミノ化合物は、例えば、ヒドロキシアルキルアミノ基及びアルコキシアルキルアミノ基のいずれか一方又は両方を合計で２個以上含有する化合物であり、具体的には、例えば、メラミン系化合物、尿素系化合物、ベンゾグアナミン系化合物、グリコールウリル系化合物等を挙げることができる。
【０１１７】
メラミン系化合物は、一般にトリアジン環に窒素原子が結合した骨格を有する化合物として知られているものであり、具体的には、メラミン、アルキル化メラミン、メチロールメラミン、アルコキシ化メチルメラミン等を挙げることができるが、１分子中にメチロール基及びアルコキシ化メチル基のいずれか一方又は両方を合計で２個以上有するものが好ましい。具体的には、メラミンとホルムアルデヒドとを塩基性条件下で反応させて得られるメチロール化メラミン、アルコキシ化メチルメラミン、又はそれらの誘導体が好ましく、特に硬化性樹脂組成物に良好な保存安定性が得られる点、及び良好な反応性が得られる点で、アルコキシ化メチルメラミンが好ましい。架橋性化合物として用いられるメチロール化メラミン及びアルコシ化メチルメラミンには特に制約はなく、例えば、文献「プラスチック材料講座［８］ユリア・メラミン樹脂」（日刊工業新聞社）に記載されている方法で得られる各種の樹脂状物の使用も可能である。
【０１１８】
また、尿素系化合物としては、尿素の他、ポリメチロール化尿素その誘導体であるアルコキシ化メチル尿素、ウロン環を有するメチロール化ウロン及びアルコキシ化メチルウロン等を挙げることができる。そして、尿素誘導体等の化合物についても、上記の文献に記載されている各種樹脂状物の使用が可能である。
【０１１９】
(硬化触媒）
本発明のフィルムには、硬化を促進する硬化触媒として電離放射線または熱の照射によりラジカルや酸を発生する硬化触媒を使用することができる。
【０１２０】
＜熱酸発生剤＞
本発明の光学フィルムの一例として、加熱することで、含フッ素ポリマーの水酸基と、この水酸基と架橋できる硬化剤との架橋反応で膜を硬化させることができる。この系では酸により硬化が促進される為、硬化性樹脂組成物に、酸性物質を添加することが望ましいが、通常の酸を添加すると塗布液中でも架橋反応が進行してしまい、故障（ムラ、ハジキなど）の原因となる可能性もあり、従って、熱硬化系で保存安定性と硬化活性を両立するために、加熱により酸を発生する化合物を硬化触媒として添加することがより好ましい。
【０１２１】
硬化触媒は、酸と有機塩基からなる塩であることが好ましい。酸としては、スルホン酸、ホスホン酸、カルボン酸など有機酸や硫酸、リン酸のような無機酸が挙げられ、ポリマーに対する相溶性の観点から有機酸がより好ましく、スルホン酸、ホスホン酸が更に好ましく、スルホン酸が最も好ましい。好ましいスルホン酸としては、ｐ−トルエンスルホン酸（ＰＴＳ）、ベンゼンスルホン酸（ＢＳ）、ｐ−ドデシルベンゼンスルホン酸（ＤＢＳ）、ｐ−クロロベンゼンスルホン酸（ＣＢＳ）、１，４−ナフタレンジスルホン酸（ＮＤＳ）、メタンスルホン酸（ＭｓＯＨ）、ノナフルオロブタン−１−スルホン酸（ＮＦＢＳ）などが挙げられ、何れも好ましく用いることができる（(  )内は略称）。
【０１２２】
硬化触媒は、酸と組み合わせる有機塩基の塩基性および沸点によって大きく変化する。以下にそれぞれの観点から本発明で好ましく用いられる硬化触媒について説明する。
【０１２３】
有機塩基の塩基性が低い方が加熱時の酸発生効率が高く、硬化活性の観点からは好ましいが、塩基性が低すぎると保存安定性が不十分になる。従って、適度な塩基性を有する有機塩基を用いることが好ましい。塩基性の指標として共役酸のｐＫａを用いて表すと、本発明で用いる有機塩基のｐＫａは５．０〜１１．０であることが好ましく、６．０〜１０．５であることがより好ましく、６．５〜１０．０であることがさらに好ましい。有機塩基のｐＫａの値は水溶液中での値が化学便覧  基礎編（改訂５版、日本化学会編、丸善、２００４年）第２巻のII−３３４〜３４０頁に記載があるので、その中から適当なｐＫａを有する有機塩基を選ぶことができる。また、該文献に記載がなくても構造上適当なｐＫａを有すると推定できる化合物も好ましく用いることができる。下表１に該文献に記載の適当なｐＫａを有する化合物を示すが、本発明に好ましく用いることができる化合物はこれらに限定されるものではない。
【０１２４】
【表１】
2008026883.tif 000017
【０１２５】
有機塩基の沸点が低い方が加熱時の酸発生効率が高く、硬化活性の観点からは好ましい。従って、適度な沸点を有する有機塩基を用いることが好ましい。塩基の沸点としては、１２０℃以下であることが好ましく、８０℃以下であることがより好ましく、７０℃以下であることがさらに好ましい。
【０１２６】
本発明で好ましく用いることができる有機塩基としては例えば以下の化合物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。(  )内は沸点を示す。
ｂ−３：ピリジン（１１５℃）、ｂ−１４：４−メチルモルホリン（１１５℃）、ｂ−２０：ジアリルメチルアミン（１１１℃）、ｂ−１９：トリエチルアミン（８８．８℃）、ｂ−２１：ｔ−ブチルメチルアミン（６７〜６９℃）、ｂ−２２：ジメチルイソプロピルアミン（６６℃）、ｂ−２３：ジエチルメチルアミン（６３〜６５℃）、ｂ−２４：ジメチルエチルアミン（３６〜３８℃）、ｂ−１８：トリメチルアミン（３〜５℃）。
【０１２７】
酸触媒として用いる時には、前記酸と有機塩基からなる塩を単離して用いても良いし、酸と有機塩基を混合して溶液中で塩を形成させ、その溶液を用いても良い。また、酸、有機塩基とも１種類だけで用いても良いし、複数種類のものを混合して用いても良い。酸と有機塩基を混合して用いる時には、酸と有機塩基の当量比が１：０．９〜１．５となるように混合することが好ましく、１：０．９５〜１．３であることがより好ましく、１：１．０〜１．１であることが好ましい。
【０１２８】
熱酸発生剤の市販されている材料としては、キャタリスト４０４０、キャタリスト４０５０、キャタリスト６００、キャタリスト６０２、キャタリスト５００、キャタリスト２９６−９、以上日本サイテックインダストリーズ（株）製、やＮＡＣＵＲＥシリーズ１５５、１０５１、５０７６、４０５４ＪやそのブロックタイプのＮＡＣＵＲＥシリーズ２５００、５２２５、Ｘ４９−１１０、３５２５、４１６７以上キング社製などが挙げられる。
【０１２９】
この熱酸発生剤の使用割合は、硬化性樹脂組成物１００質量部に対して、好ましくは０．０１〜１０質量部、好ましくは０．１〜５質量部、さらに好ましくは０．２〜３質量部である。添加量がこの範囲であると、硬化性樹脂組成物の保存安定性が良好で塗膜の耐擦傷性も良好なものとなる。
【０１３０】
＜感光性酸発生剤、光酸発生剤＞
更に光重合開始剤として用いることができる光酸発生剤について詳述する。
酸発生剤としては、光カチオン重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、またはマイクロレジスト等に使用されている公知の酸発生剤等、公知の化合物およびそれらの混合物等が挙げられる。また、酸発生剤としては、例えば、有機ハロゲン化化合物、ジスルホン化合物、オニウム化合物等が挙げられ、これらのうち有機ハロゲン化合物、ジスルホン化合物の具体例は、前記ラジカルを発生する化合物の記載と同様のものが挙げられる。
感光性酸発生剤としては、例えば、（１）ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ピリジニウム塩等の各種オニウム塩；（２）β−ケトエステル、β−スルホニルスルホンとこれらのα−ジアゾ化合物等のスルホン化合物；（３）アルキルスルホン酸エステル、ハロアルキルスルホン酸エステル、アリールスルホン酸エステル、イミノスルホネート等のスルホン酸エステル類；（４）スルホンイミド化合物類；（５）ジアゾメタン化合物類；を挙げることができる。
オニウム化合物としては、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、イミニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、アルソニウム塩、セレノニウム塩等が挙げられる。中でも、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、イミニウム塩が、光重合開始の光感度、化合物の素材安定性等の点から好ましい。例えば特開２００２−２９１６２号明細書の段落番号［００５８］〜［００５９］に記載の化合物等が挙げられる。
【０１３１】
感光性酸発生剤の使用割合は、硬化性樹脂組成物１００質量部に対して、好ましくは０．０１〜１０質量部、さらに好ましくは０．１〜５質量部である。
その他、具体的な化合物や使用法として、例えば特開２００５―４３８７６号記載の内容などを用いることができる。
【０１３２】
本発明の光学フィルムにおいて、前記低屈折率層は塗布により形成することができ、前記低屈折率層を形成する塗布液に、皮膜形成成分として、紫外線（ＵＶ）硬化、および／または熱硬化できる官能基を有する透光性樹脂を少なくとも一種有していることが好ましい（紫外線（ＵＶ）硬化、および／または熱硬化できる官能基を有する透光性樹脂として好ましくは前述の含フッ素共重合体やオルガノシラン化合物等である）。
【０１３３】
また、本発明の光学フィルムにおいて、前記低屈折率層を形成する塗布液に、皮膜形成成分として、少なくとも２種以上の透光性樹脂を含み、そのうち少なくとも１種の透光性樹脂が紫外線（ＵＶ）硬化できる官能基を有し、これとは異なる少なくとも１種の透光性樹脂が熱硬化できる官能基を有していることが更に好ましい。加えて、前記低屈折率層を形成する塗布液中に少なくとも１種の重合開始剤、および、少なくとも1種の熱硬化できる架橋剤を含んでいることがなお好ましい。さらに加えて、前記低屈折率層中に、熱硬化を促進する硬化触媒を含んでいることがなおいっそう好ましい（重合開始剤、熱硬化できる架橋剤、および熱硬化を促進する硬化触媒は、前述のものが好ましく使用できる）。
また、本発明の光学フィルムにおいて、前記低屈折率層を形成する塗布液中に含まれる、少なくとも紫外線（ＵＶ）硬化できる官能基を有する透光性樹脂と、少なくとも１種の重合開始剤の重量の総和を、少なくとも1種の熱硬化できる官能基を有する透光性樹脂と、少なくとも１種の熱硬化できる架橋剤の重量の総和で除した値が、０．０５〜０．１９であることが、耐擦傷性とコストの点で好ましい。より好ましくは０．１０〜０．１９、更に好ましくは０．１５〜０．１９である。０．０５を下回ると、耐擦傷性の点で好ましくなく、０．２０を越えると、ＵＶ硬化成分の比率が大きくなるため、ＵＶ硬化時の重合効率を高めるための工程条件（ＵＶ硬化時の窒素パージ、膜面温度アップ、等）の付加がより必要になってくる。窒素パージによる、ＵＶ硬化時の酸素濃度は１０００ｐｐｍ以下が好ましく、５００ｐｐｍ以下がより好ましく、１００ｐｐｍ以下が更に好ましく、５０ｐｐｍ以下が最も好ましい。また、ＵＶ硬化時の膜面温度は、５０℃以上が好ましく、７０℃以上がより好ましく、９０℃以上が更に好ましい。あまり温度を高くしすぎると、支持体が軟化し、ハンドリング（搬送）不良を起こすようになるため、上限温度はこれで決定される。
【０１３４】
(レベリング剤）
本発明の少なくとも１層のハードコート層に、面状改良（ムラ防止）を目的として各種のレベリング剤を使用することが好ましい。さらに、本発明の低屈折率層に、同じく、ムラ防止を目的として各種のレベリング剤を使用することが好ましい。レベリング剤としては、具体的にはフッ素系レベリング剤、又はシリコーン系レベリング剤が好ましく、特にフッ素系レベリング剤とシリコーン系レベリング剤の両方を併用することはムラ防止能が高くより好ましい。また、全層にレベリング剤が使用されることがより好ましい。
また、レベリング剤は、低分子化合物よりもオリゴマーやポリマーであることが好ましい。レベリング剤を添加すると、塗布された液膜の表面にレベリング剤が速やかに偏在し、膜乾燥後もレベリング剤がそのまま表面に偏在することになるので、レベリング剤を添加したハードコート層や低屈折率層の膜の表面エネルギーは、レベリング剤によって低下する。
従って、ハードコート層のムラを防止するという観点からはハードコート層の表面エネルギーが低いことが好ましい。ハードコート層の表面エネルギー（γｓｖ：単位、ｍＪ／ｍ２）とはＤ．Ｋ．Ｏｗｅｎｓ：Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，１３，１７４１（１９６９）を参考に、防眩性ハードコート層上で実験的に求めた純水Ｈ２Ｏとヨウ化メチレンＣＨ２Ｉ２のそれぞれの接触角θＨ２Ｏ、θＣＨ２Ｉ２から以下の連立方程式（１）（２）より求めたγｓｄとγｓｈの和で表される値γｓｖ（＝γｓｄ＋γｓｈ）で定義する防眩性ハードコート層の表面張力のエネルギー換算値である。（ｍＮ／ｍ単位をｍＪ／ｍ２単位としたもの）サンプルは測定する前に所定の温湿度条件で一定時間以上調湿を行うことが必要である。この際の温度は２０℃〜２７℃、湿度は５０ＲＨ％〜６５ＲＨ％の範囲であることが好ましく、調湿時間は２時間以上であることが好ましい。
（１）１＋cosθH2O＝２√γsd（√γH2Od／γH2Ov）＋２√γsh（√γH2Oh／γH2Ov）
（２）１＋cosθCH2I2＝２√γsd（√γCH2I2d／γCH2I2v）＋２√γsh（√γCH2I2h／γCH2I2v）
ここで、γH2Od＝21.8°、γH2Oh=51.0°、γH2Ov=72.8°、γCH2I2d＝49.5°、γCH2I2h=1.3°、γCH2I2v=50.8°である。
【０１３５】
ハードコート層の好ましい表面エネルギーは、４５ｍＪ／ｍ2以下の範囲であり、２０〜４５ｍＪ／ｍ2の範囲がより好ましく、２０〜４０ｍＪ／ｍ2の範囲がさらに好ましい。ハードコート層の表面エネルギーを４５ｍＪ／ｍ2以下とすることにより、ハードコート層のムラが生じにくいという効果が得られる。
ただし、ハードコート層の上にさらに低屈折率層などの上層を塗布する場合には、レベリング剤は上層へ溶出することが好ましく、ハードコート層の上層塗布液の溶媒（例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、シクロヘキサノン、等）でハードコート層を浸漬、洗い流しした後のハードコート層の表面エネルギーは、むしろ高いことが好ましく、表面エネルギー３５〜７０ｍＪ／ｍ2であることが好ましい。
【０１３６】
以下ではハードコート層のレベリング剤として好ましいフッ素系レベリング剤について説明する。シリコーン系レベリング剤については後述する。
【０１３７】
フッ素系レベリング剤としては、フルオロ脂肪族基を有する重合体が好ましく、さらに下記（ｉ）のモノマーに相当する繰り返し単位（重合単位）の重合体、又は下記（ｉ）のモノマーに相当する繰り返し単位（重合単位）および下記（ｉｉ）のモノマーに相当する繰り返し単位（重合単位）を含むアクリル樹脂、メタアクリル樹脂、及びこれらに共重合可能なビニル系モノマーとの共重合体が有用である。このような単量体としては、ＰｏｌｙｍｅｒＨａｎｄｂｏｏｋ２ｎｄ  ｅｄ．，Ｊ．Ｂｒａｎｄｒｕｐ，Ｗｉｌｅｙ  ｌｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ（１９７５）Ｃｈａｐｔｅｒ  ２，Ｐａｇｅ  １〜４８３記載のものを用いることが出来る。
例えばアクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類等から選ばれる付加重合性不飽和結合を１個有する化合物等をあげることができる。
【０１３８】
（ｉ）下記一般式Ａで表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー
【０１３９】
【化１５】
2008026883.tif 000018
【０１４０】
上記一般式Ａにおいて、Ｒ1は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、水素原子、メチル基が好ましい。Ｘは酸素原子、イオウ原子または−Ｎ（Ｒ12）−を表し、酸素原子または−Ｎ（Ｒ12）−がより好ましく、酸素原子が更に好ましい。Ｒ12は水素原子または置換基を有しても良い炭素数１〜８のアルキル基を表し、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基がより好ましく、水素原子またはメチル基が更に好ましい。Ｒfは−ＣＦ3または−ＣＦ2Ｈを表す。
一般式Ａ中のｍは１〜６の整数を表し、１〜３がより好ましく、１であることが更に好ましい。
一般式Ａ中のｎは１〜１１の整数を表し、１〜９がより好ましく、１〜６が更に好ましい。Ｒfは−ＣＦ2Ｈが好ましい。
またフッ素系ポリマー中に一般式Ａで表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーから誘導される重合単位が２種類以上構成成分として含まれていても良い。
【０１４１】
（ｉｉ）上記（ｉ）と共重合可能な下記一般式Ｂで示されるモノマー
【０１４２】
【化１６】
2008026883.tif 000019
【０１４３】
上記一般式Ｂにおいて、Ｒ13は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。Ｙは酸素原子、イオウ原子または−Ｎ（Ｒ15）−を表し、酸素原子または−Ｎ（Ｒ15）−がより好ましく、酸素原子が更に好ましい。Ｒ15は水素原子または炭素数１〜８のアルキル基を表し、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基がより好ましく、水素原子またはメチル基が更に好ましい。
Ｒ14は、置換基を有しても良い炭素数１〜６０の直鎖、分岐状、あるいは環状のアルキル基、または置換基を有していても良い芳香族基（例えば、フェニル基またはナフチル基）を表す。該アルキル基はポリ（アルキレンオキシ）基を含んでも良い。さらに、炭素数１〜２０の直鎖、分岐状あるいは環状のアルキル基がより好ましく、炭素数１〜１０の直鎖、分岐状のアルキル基が極めて好ましい。
【０１４４】
以下、好ましいフッ素系ポリマーの具体的な構造例を示すがこの限りではない。なお、式中の数字は各モノマー成分のモル比率を示す。Ｍｗは質量平均分子量を表す。
【０１４５】
【化１７】
2008026883.tif 000020
【０１４６】
【化１８】
2008026883.tif 000021
【０１４７】
【化１９】
2008026883.tif 000022
【０１４８】
フッ素系ポリマーを構成するフルオロ脂肪族基含有モノマーの重合単位の量は、１０質量％を超えることが好ましく、５０〜１００質量％であることがより好ましく、ハードコート層のムラを防止するという観点を重視すれば、７５〜１００質量％であることが最も好ましく、ハードコート層の上に低屈折率層を塗布する場合は、５０〜７５質量％であることが最も好ましい。（該フッ素系ポリマーを構成する全重合単位で記載した）
【０１４９】
次に、シリコーン系レベリング剤について、説明する。
シリコーン系レベリング剤としては、エチレングリコール、プロピレングリコール等のオリゴマー等の各種の置換基で、側鎖、主鎖の末端が変性されたポリジメチルシロキサン等が挙げられ、信越化学社製のＫＦ−９６、Ｘ−２２−９４５などがある。その他、疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン界面活性剤も好ましく用いることができる。
【０１５０】
これらの非イオン活性剤の具体例としては、例えば、日本ユニカー（株）製、シリコーン界面活性剤 ＳＩＬＷＥＴ Ｌ−７７、Ｌ−７２０、Ｌ−７００１、Ｌ−７００２、Ｌ−７６０４、Ｙ−７００６、ＦＺ−２１０１、ＦＺ−２１０４、ＦＺ−２１０５、ＦＺ−２１１０、ＦＺ−２１１８、ＦＺ−２１２０、ＦＺ−２１２２、ＦＺ−２１２３、ＦＺ−２１３０、ＦＺ−２１５４、ＦＺ−２１６１、ＦＺ−２１６２、ＦＺ−２１６３、ＦＺ−２１６４、ＦＺ−２１６６、ＦＺ−２１９１があり、さらにＳＵＰＥＲＳＩＬＷＥＴ ＳＳ−２８０１、ＳＳ−２８０２、ＳＳ−２８０３、ＳＳ−２８０４、ＳＳ−２８０５等が挙げられる。
【０１５１】
また、これら、疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン系の界面活性剤の好ましい構造としては、ジメチルポリシロキサン構造部分とポリオキシアルキレン鎖が交互に繰り返し結合した直鎖状のブロックコポリマーであることが好ましく、特開平６−４９４８６号が参考にできる。
【０１５２】
これらの具体例としては、例えば、日本ユニカー（株）製、シリコーン界面活性剤 ＡＢＮ ＳＩＬＷＥＴ ＦＺ−２２０３、ＦＺ−２２０７、ＦＺ−２２０８等が挙げられる。
塗布液に対する上記含フッ素系レベリング剤、シリコーン系レベリング剤の添加量は、０．００１質量％〜１．０質量％であることが好ましく、より好ましくは０．０１質量％〜０．２質量％である。
【０１５３】
(低屈折率層の塗布液溶剤)
本発明の光学フィルムの低屈折率層の塗布液溶剤は、低屈折率層の乾燥ムラを抑えるため、沸点１２０℃以下の低沸点溶剤を、低屈折率層の塗布液溶剤全質量の５０質量％〜１００質量％、好ましくは７０質量％〜１００質量％、さらに９０質量％〜１００質量％含んでいることが好ましい。後述する本発明試料の低屈折率層の溶剤組成を上記のように変えることで、低屈折率層の面状評価にて、この効果が確認できた。具体的な塗布液溶剤としては、低屈折率層中の含フッ素ポリマーの溶解性が良い、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエンが代表例である。
【０１５４】
（ハードコート層の増粘剤）
ハードコート層には、塗布液の粘度を調整するために増粘剤を用いてもよい。
増粘させることにより、含有する粒子の沈降を抑えたり、ムラ防止の効果を期待できる。ここでいう増粘剤とは、それを添加することにより液の粘度が増大するものを意味し、添加することにより塗布液の粘度が上昇する大きさとして好ましくは０．０５〜５０ｃＰであり、さらに好ましくは１〜５０ｃＰであり、最も好ましくは２〜５０ｃＰである。
増粘剤として用いられる高分子ポリマーは、フッ素原子および／または珪素原子を実質的に含まないことが好ましい。ここでいう「実質的に」とは高分子ポリマー質量中フッ素原子および／または珪素原子の含有量が０．１質量％以下、好ましくは０．０１質量％以下という意味である。
【０１５５】
このような増粘剤としては高分子ポリマーが好ましく、具体的に以下のものが挙げられるが、これに限定されない。
ポリアクリル酸エステル
ポリメタクリル酸エステル
ポリビニルアセテート
ポリビニルプロピオネート
ポリビニルブチレート
ポリビニルブチラール
ポリビニルホルマール
ポリビニルアセタール
ポリビニルプロパナール
ポリビニルヘキサナール
ポリビニルピロリドン
セルロースアセテート
セルロースプロピオネート
セルロースアセテートブチレート
この中で、特にポリメタクリル酸エステル（具体的にはポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エチル）、ポリビニルアセテート、ポリビニルプロピオネート、セルロースプロピオネート、セルロースアセテートブチレートが好ましい。
また、これらの質量平均分子量としては１０万〜１００万のものが好ましい。
【０１５６】
この他にも特開平８−３２５４９１号記載のスメクタイト、フッ素四珪素雲母、ベントナイト、シリカ、モンモリロナイト及びポリアクリル酸ソーダ、特開平１０−２１９１３６エチルセルロース、ポリアクリル酸、有機粘土など、公知の粘度調整剤やチキソトロピー性付与剤を使用することが出来る。
【０１５７】
［透明支持体］
本発明の光学フィルムの透明支持体としては、プラスチックフィルムを用いることが好ましい。プラスチックフィルムを形成するポリマーとしては、セルロースエステル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、代表的には富士フイルム社製ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ，ＴＤ８０ＵＦなど）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、ポリスチレン、ポリオレフィン、ノルボルネン系樹脂（アートン：商品名、ＪＳＲ社製）、非晶質ポリオレフィン（ゼオネックス：商品名、日本ゼオン社製）、などが挙げられる。このうちトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、が好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。また、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素を実質的に含まないセルロースアシレートフィルムおよびその製造法については発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、以下公開技報２００１−１７４５号と略す）に記載されており、ここに記載されたセルロースアシレートも本発明に好ましく用いることができる。支持体の厚みは、薄手化ニーズへの対応と、ハンドリング（搬送適性）より、２０〜２００μｍが好適であり、好ましくは３０〜１００μｍであり、さらに好ましくは３５〜９０μｍ、最も好ましくは４０〜８０μｍである。
【０１５８】
［光学フィルムの特性］
本発明の表面ヘイズ、内部ヘイズについて、詳述する。［１］ＪＩＳ−Ｋ７１３６に準じて、得られた光学フィルムの全ヘイズ値（Ｈ）を測定する。［２］光学フィルムの表面および裏面にシリコーンオイルを数滴添加し、厚さ１ｍｍのガラス板（ミクロスライドガラス品番Ｓ９１１１、ＭＡＴＳＵＮＡＭＩ製）を２枚用いて裏表より挟んで、完全に２枚のガラス板と得られた光学フィルムを密着し、表面ヘイズを除去した状態でヘイズを測定し、別途測定したガラス板２枚の間にシリコーンオイルのみを挟みこんで測定したヘイズを引いた値をフィルムの内部ヘイズ（Ｈｉ）として算出した。［３］上記［１］で測定した全ヘイズ（Ｈ）から上記［２］で算出した内部ヘイズ（Ｈｉ）を引いた値をフィルムの表面ヘイズ（Ｈｓ）として算出する。
【０１５９】
本発明の光学フィルム表面の、２５℃６０％ＲＨ環境下で測定した、純水に対する接触角は９０゜以上であることが防汚性の点で好ましい。更に好ましくは９５゜以上であり、特に好ましくは１００゜以上である。また、偏光板加工時に必要となる鹸化処理（後述）前後での接触角の変化が５°以下が好ましく、更に好ましくは３°以下であり、最も好ましくは１°以下である。
【０１６０】
本発明の光学フィルムの、ポリエチレンテレフタレートに対する、２５℃６０％ＲＨ環境下で測定した垂直剥離帯電量は、−５００ｐｃ（ピコクーロン）／cm2〜＋５００ｐｃ(ピコクーロン）／cm2であることが、防塵性の点で好ましい。好ましくは、−２００ｐｃ（ピコクーロン）／cm2〜＋２００ｐｃ（ピコクーロン）／cm2、さらに好ましくは、−１００ｐｃ（ピコクーロン）／cm2〜＋１００ｐｃ（ピコクーロン）／cm2である。なお、垂直剥離帯電量は以下の通りである。
【０１６１】
測定サンプルを予め２５℃６０％ＲＨの環境下で２時間以上放置しておく。測定装置は、測定サンプルを置く台と相手のフィルムを保持して測定サンプルに上から圧着と剥離を繰り返せるヘッドからなり、このヘッドにポリエチレンテレフタレートを装着する。測定部分を除電した後、ヘッドを測定サンプルに圧着させ、剥離させることを繰り返し、１回目の剥離時と、５回目の剥離時の帯電量の値を読み、これを平均する。サンプルを変えて３サンプルでこれを繰り返し、全てを平均したものを垂直剥離帯電量とする。
【０１６２】
また、低屈折率層の構成材料のうち、少なくとも１種が含フッ素材料からなる光学フィルムの場合、上記垂直剥離帯電量の好ましい範囲に収めるためには、光電子スペクトル強度比Ｆ／Ｃが０．５〜５、好ましくは０．５〜３、さらに０．５〜２であることが好ましい。また、垂直剥離帯電量の調整として、フッ素同様に表面配向性の高いシリコーンを含有させることが好ましく、結果、光電子スペクトル強度比Ｓｉ／Ｃが０．０５〜０．５、好ましくは０．１〜０．５、さらに０．２〜０．５であることが好ましい。尚、Ｆ／Ｃ（＝Ｆ１ｓ／Ｃ１ｓ）、Ｓｉ／Ｃ（＝Ｓｉ２ｐ／Ｃ１ｓ）は以下で測定された値である。
【０１６３】
島津製作所（株）製ＥＳＣＡ-３４００（真空度１×１０−５Ｐａ、Ｘ線源；ターゲットＭｇ、電圧１２ｋＶ、電流２０ｍＡ）で光学フィルムの最表面のＳｉ２ｐ、Ｆ１ｓ、Ｃ１ｓの光電子スペクトルを測定した。
【０１６４】
更に防塵性を強化するためには、本発明の光学フィルムの表面抵抗値を１×１０１１Ω／□未満、好ましくは１×１０１０Ω／□未満、更に好ましくは１×１０９Ω／□未満にするとよい。尚、表面抵抗値の測定方法は後述する。本発明の光学フィルムには導電性を付与するために、各種の導電性粒子を用いることができる。導電性粒子は、金属の酸化物または窒化物から形成することが好ましい。金属の酸化物または窒化物の例には、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛および窒化チタンが含まれる。酸化錫および酸化インジウムが特に好ましい。導電性無機粒子は、これらの金属の酸化物または窒化物を主成分とし、さらに他の元素を含むことができる。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量(質量％）が多い成分を意味する。他の元素の例には、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐ、Ｓ、Ｂ、Ｎｂ、Ｉｎ、Ｖおよびハロゲン原子が含まれる。酸化錫および酸化インジウムの導電性を高めるために、Ｓｂ、Ｐ、Ｂ、Ｎｂ、Ｉｎ、Ｖおよびハロゲン原子を添加することが好ましい。Ｓｂを含有する酸化錫（ＡＴＯ）およびＳｎを含有する酸化インジウム（ＩＴＯ）が特に好ましい。ＡＴＯ中のＳｂの割合は、３〜２０質量％であることが好ましい。ＩＴＯ中のＳｎの割合は、５〜２０質量％であることが好ましい。
【０１６５】
帯電防止層に用いる導電性無機粒子の一次粒子の平均粒子径は、１〜１５０ｎｍであることが好ましく、５〜１００ｎｍであることがさらに好ましく、５〜７０ｎｍであることが最も好ましい。形成される帯電防止層中の導電性無機粒子の平均粒子径は、１〜２００ｎｍであり、５〜１５０ｎｍであることが好ましく、１０〜１００ｎｍであることがさらに好ましく、１０〜８０ｎｍであることが最も好ましい。導電性無機粒子の平均粒子径は、粒子の質量を重みとした平均径であり、光散乱法や電子顕微鏡写真により測定できる。
導電性無機粒子の比表面積は、１０〜４００ｍ２／ｇであることが好ましく、２０〜２００ｍ２／ｇであることがさらに好ましく、３０〜１５０ｍ２／ｇであることが最も好ましい。
【０１６６】
導電性無機粒子を表面処理してもよい。表面処理は、無機化合物または有機化合物を用いて実施する。表面処理に用いる無機化合物の例には、アルミナおよびシリカが含まれる。シリカ処理が特に好ましい。表面処理に用いる有機化合物の例には、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤およびチタネートカップリング剤が含まれる。シランカップリング剤が最も好ましい。二種類以上の表面処理を組み合わせて実施してもよい。
導電性無機粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状あるいは不定形状であることが好ましい。
【０１６７】
二種類以上の導電性粒子を特定の層内あるいはフィルムとして併用してもよい。帯電防止層中の導電性無機粒子の割合は、２０〜９０質量％であることが好ましく、２５〜８５質量％であることが好ましく、３０〜８０質量％であることがさらに好ましい。また、導電性無機粒子は、分散物の状態で帯電防止層の形成に使用することができる。
表面抵抗値の測定方法は、サンプルフィルムを予め２５℃６０％ＲＨの環境下で２時間以上放置しておく。この後、塗布層側の表面抵抗を、超絶縁抵抗／微小電流計ＴＲ８６０１(（株）アドバンテスト製)で測定した。
【０１６８】
本発明の光学フィルムの動摩擦係数は、０．３以下が耐擦傷性向上（応力集中防止）の点で好ましい。より好ましくは、０．２以下、更に好ましくは０．１以下である。動摩擦係数の測定方法は以下の通りである。
【０１６９】
測定サンプルを予め２５℃６０％ＲＨの環境下で２時間以上放置しておく。この後、ＨＥＩＤＯＮ−１４動摩擦測定器により、５ｍｍφステンレス鋼球、荷重１００ｇ、速度６０ｃｍ／分にて測定した値を用いた。
【０１７０】
本発明の光学フィルムにおいて、４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの波長領域での、５°鏡面反射率の平均値をＡ、積分反射率の平均値をＢとしたとき、Ｂが３％以下であり、Ｂ−Ａが１．５％以下であることが、明室環境下での黒表示の締まりや明室コントラスト向上の点で好ましい。Ｂは２％以下がより好ましく、さらに１％以下が好ましい。また、Ｂ−Ａは１％以下がより好ましく、さらに０．５％以下が好ましい。５°鏡面反射率と積分反射率の平均値の測定は以下の通りである。
【０１７１】
鏡面反射率の測定は、分光光度計“Ｖ−５５０”［日本分光（株）製］にアダプター“ＡＲＶ−４７４”を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における出射角−５゜の鏡面反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均の鏡面反射率を算出した。積分反射率の測定は、分光光度計“Ｖ−５５０”［日本分光（株）製］にアダプター“ＩＬＶ−４７１”を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における積分反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均の積分反射率を算出した。
【０１７２】
［光学フィルムの作製方法］
本発明の光学フィルムは以下の方法で形成することができるがこれらに制限されない。
【０１７３】
(塗布液の調製）
まず、各層を形成するための成分を含有した塗布液が調製される。その際、溶剤の揮発量を最小限に抑制することにより、塗布液中の含水率の上昇を抑制できる。塗布液中の含水率は５％以下が好ましく、２％以下がより好ましい。溶剤の揮発量の抑制は、各素材をタンクに投入後の攪拌時の密閉性を向上すること、移液作業時の塗布液の空気接触面積を最小化すること等で達成される。また、塗布中、或いはその前後に塗布液中の含水率を低減する手段を設けてもよい。
【０１７４】
(濾過）
塗布に用いる塗布液は、塗布前に濾過することが好ましい。濾過のフィルタは、塗布液中の成分が除去されない範囲でできるだけ孔径の小さいものを使うことが好ましい。濾過には絶対濾過精度が０．１〜５０μｍのフィルタが用いられ、さらには絶対濾過精度が０．１〜４０μｍであるフィルタを用いることが好ましく用いられる。フィルタの厚さは、０．１〜１０ｍｍが好ましく、更には０．２〜２ｍｍが好ましい。その場合、濾過圧力は１．５ＭＰａ以下、より好ましくは１．０ＭＰａ以下、更には０．２ＭＰａ以下で濾過することが好ましい。
濾過フィルタ部材は、塗布液に影響を及ぼさなければ特に限定されない。具体的には、前記した無機化合物の湿式分散物の濾過部材と同様のものが挙げられる。
また、濾過した塗布液を、塗布直前に超音波分散して、脱泡、分散物の分散保持を補助することも好ましい。
【０１７５】
(塗布前の処理）
本発明で使用する支持体は、塗布前に、ベース変形の矯正のための加熱処理、あるいは、塗工性改良や塗設層との接着性改良のための表面処理を施すことが好ましい。表面処理の具体的方法としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理または紫外線照射処理が挙げられる。また、特開平７−３３３４３３号公報に記載のように、下塗り層を設けることも好ましく利用される。
【０１７６】
さらに、塗布が行われる前工程としての除塵工程に用いられる除塵方法として、特開昭５９−１５０５７１号公報に記載のフィルム表面に不織布や、ブレード等を押しつける方法、特開平１０−３０９５５３号公報に記載の清浄度の高い空気を高速で吹き付けて付着物をフィルム表面から剥離させ、近接した吸い込み口で吸引する方法、特開平７−３３３６１３号公報に記載される超音波振動する圧縮空気を吹き付けて付着物を剥離させ、吸引する方法（伸興社製、ニューウルトラクリーナー等）等の乾式除塵法が挙げられる。
また、洗浄槽中にフィルムを導入し、超音波振動子により付着物を剥離させる方法、特公昭４９−１３０２０号公報に記載されているフィルムに洗浄液を供給したあと、高速空気の吹き付け、吸い込みを行う方法、特開２００１−３８３０６号に記載のように、ウェブを液体でぬらしたロールで連続的に擦った後、擦った面に液体を噴射して洗浄する方法等の湿式除塵法を用いることができる。このような除塵方法の内、超音波除塵による方法もしくは湿式除塵による方法が、除塵効果の点で特に好ましい。
また、このような除塵工程を行う前に、フィルム支持体上の静電気を除電しておくことは、除塵効率を上げ、ゴミの付着を抑える点で特に好ましい。このような除電方法としては、コロナ放電式のイオナイザ、ＵＶ、軟Ｘ線等の光照射式のイオナイザ等を用いることができる。除塵、塗布前後のフィルム支持体の帯電圧は、１０００Ｖ以下が望ましく、好ましくは３００Ｖ以下、特に好ましくは、１００Ｖ以下である。
【０１７７】
フィルムの平面性を保持する観点から、これら処理においてセルロースアシレートフィルムの温度をＴｇ以下、具体的には１５０℃以下とすることが好ましい。
本発明のフィルムを偏光板の保護フィルムとして使用する場合のようにセルロースアシレートフィルムを偏光膜と接着させる場合には、偏光膜との接着性の観点から、酸処理またはアルカリ処理、すなわちセルロースアシレートに対するケン化処理を実施することが特に好ましい。
接着性などの観点から、セルロースアシレートフィルムの表面エネルギーは、５５ｍＮ／ｍ以上であることが好ましく、６０ｍＮ／ｍ以上７５ｍＮ／ｍ以下であることが更に好ましく、上記表面処理により調整することができる。
【０１７８】
(塗布）
本発明のフィルムの各層は以下の塗布方法により形成することができるが、この方法に制限されない。
ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（ダイコート法）(米国特許２６８１２９４号、ＷＯ２００５／１２３２７４号明細書参照）、マイクログラビアコート法等の公知の方法が用いられ、その中でもマイクログラビアコート法、ダイコート法が好ましい。
【０１７９】
本発明で用いられるマイクログラビアコート法とは、直径が約１０〜１００ｍｍ、好ましくは約２０〜５０ｍｍで全周にグラビアパターンが刻印されたグラビアロールを支持体の下方に、かつ支持体の搬送方向に対してグラビアロールを逆回転させると共に、該グラビアロールの表面からドクターブレードによって余剰の塗布液を掻き落として、定量の塗布液を前記支持体の上面が自由状態にある位置におけるその支持体の下面に塗布液を転写させて塗工することを特徴とするコート法である。ロール形態の透明支持体を連続的に巻き出し、該巻き出された支持体の一方の側に、少なくともハードコート層乃至フッ素含有オレフィン系重合体を含む低屈折率層の内の少なくとも一層をマイクログラビアコート法によって塗工することができる。
【０１８０】
マイクログラビアコート法による塗工条件としては、グラビアロールに刻印されたグラビアパターンの線数は５０〜８００本／インチが好ましく、１００〜３００本／インチがより好ましく、グラビアパターンの深度は１〜６００μｍが好ましく、５〜２００μｍがより好ましく、グラビアロールの回転数は３〜８００ｒｐｍであることが好ましく、５〜２００ｒｐｍであることがより好ましく、支持体の搬送速度は０．５〜１００ｍ／分であることが好ましく、１〜５０ｍ／分がより好ましい。
【０１８１】
本発明のフィルムを高い生産性で供給するために、エクストルージョン法（ダイコート法）が好ましく用いられる。
ダイコート法は前計量方式であるために安定した膜厚の確保が容易である。低塗布量の塗布液に対して、該塗布方式は高速で膜厚安定性良く塗布が可能である。他の塗布方式でも塗布は可能であるが、ディップコート法は液受け槽中の塗布液振動が不可避であり、段状のムラが発生しやすい。リバースロールコート法では、塗布に関連するロールの偏芯やたわみにより段状のムラが発生しやすい。また、これらの塗布方式は後計量方式であるため、安定した膜厚の確保が困難である。前記ダイコート法を用い、２５ｍ／分以上で塗布することが生産性の面から好ましい。
【０１８２】
(乾燥)
本発明のフィルムは、支持体上に直接又は他の層を介して塗布された後、溶剤を乾燥するために加熱されたゾーンにウェブで搬送されることが好ましい。
溶剤を乾燥する方法としては、各種の知見を利用することができる。具体的な知見としては特開２００１−２８６８１７号、同２００１−３１４７９８号、同２００３−１２６７６８号、同２００３−３１５５０５号、同２００４−３４００２号などが挙げられる。
乾燥ゾーンの温度は２５℃〜１４０℃が好ましく、乾燥ゾーンの前半は比較的低温であり、後半は比較的高温であることが好ましい。但し、各層の塗布組成物に含有される溶剤以外の成分の揮発が始まる温度以下であることが好ましい。例えば、紫外線硬化樹脂と併用される市販の光ラジカル発生剤のなかには１２０℃の温風中で数分以内にその数１０％前後が揮発してしまうものもあり、また、単官能、２官能のアクリレートモノマー等は１００℃の温風中で揮発が進行するものもある。そのような場合には、前記のように各層の塗布組成物に含有される溶剤以外の成分の揮発が始まる温度以下であることが好ましい。
【０１８３】
また、各層の塗布組成物を支持体上に塗布した後の乾燥風は、前記塗布組成物の固形分濃度が１〜５０％の間は塗膜表面の風速が０．１〜２ｍ／秒の範囲にあることが、乾燥ムラを防止するために好ましい。
また、各層の塗布組成物を支持体上に塗布した後、乾燥ゾーン内で支持体の塗布面とは反対の面に接触する搬送ロールと支持体との温度差が０℃〜２０℃以内とすると、搬送ロール上での伝熱ムラによる乾燥ムラが防止でき、好ましい。
【０１８４】
(硬化）
本発明の光学フィルムは溶剤の乾燥の後に、ウェブで電離放射線および／または熱により各塗膜を硬化させるゾーンを通過させ、塗膜を硬化することができる。本発明における電離放射線種は特に制限されるものではなく、皮膜を形成する硬化性組成物の種類に応じて、紫外線、電子線、近紫外線、可視光、近赤外線、赤外線、Ｘ線などから適宜選択することができが、紫外線、電子線が好ましく、特に取り扱いが簡便で高エネルギーが容易に得られるという点で紫外線が好ましい。
紫外線反応性化合物を光重合させる紫外線の光源としては、紫外線を発生する光源であれば何れも使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。また、ＡｒＦエキシマレーザ、ＫｒＦエキシマレーザ、エキシマランプまたはシンクロトロン放射光等も用いることができる。このうち、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプを好ましく利用できる。
【０１８５】
また、電子線も同様に使用できる。電子線としては、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００ｋｅＶ、好ましくは１００〜３００ｋｅＶのエネルギーを有する電子線を挙げることができる。
【０１８６】
照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は１０ｍＪ／ｃｍ２以上が好ましく、更に好ましくは、５０ｍＪ／ｃｍ２〜１００００ｍＪ／ｃｍ２であり、特に好ましくは、５０ｍＪ／ｃｍ２〜２０００ｍＪ／ｃｍ２である。その際、ウェブの幅方向の照射量分布は中央の最大照射量に対して両端まで含めて５０〜１００％の分布が好ましく、８０〜１００％の分布がより好ましい。
【０１８７】
本発明では、支持体上に積層された少なくとも一層を、電離放射線を照射しかつ電離放射線照射開始から０．５秒以上の間、膜面温度５０℃以上に加熱した状態で、酸素濃度１０００ｐｐｍ、好ましくは５００ｐｐｍ、さらに好ましくは、１００ｐｐｍ、最も好ましくは５０ｐｐｍ以下の雰囲気で電離放射線を照射する工程によって硬化することが好ましい。
また電離放射線照射と同時および／または連続して、低酸素濃度の雰囲気で加熱されることも好ましい。
特に最外層であり、かつ膜厚が薄い低屈折率層がこの方法で硬化されることが好ましい。硬化反応が熱で加速され、物理強度、耐薬品性に優れた皮膜を形成することができる。
【０１８８】
電離放射線を照射する時間については０．７秒以上６０秒以下が好ましく、０．７秒以上１０秒以下がより好ましい。０．５秒以下では、硬化反応が完了することができず、十分な硬化を行うことができない。また長時間低酸素条件を維持することは、設備が大型化し、多量の不活性ガスが必要であり好ましくない。
【０１８９】
酸素濃度を１０００ｐｐｍ以下にする手法としては、大気を別の気体で置換することが好ましく、特に好ましくは窒素で置換（窒素パージ）することである。
【０１９０】
不活性ガスを、電離放射線による硬化反応が行なわれる電離放射線照射室（「反応室」ともいう）に供給し、かつ反応室のウェッブ入口側にやや吹き出す条件にすることで、ウェッブ搬送にともなう導搬エアーを排除し反応室の酸素濃度を有効に下げられるとともに、酸素による硬化阻害の大きい極表面の実質の酸素濃度を効率よく低減することができる。反応室のウェッブ入口側での不活性ガスの流れの方向は、反応室の給気、排気のバランスを調整することなどで制御できる。
不活性ガスをウェッブ表面に直接吹き付けることも、導搬エアーを除去する方法として好ましく用いられる。
【０１９１】
また前記反応室の前に前室を設け、事前にウェッブ表面の酸素を排除することで、より硬化を効率よく進めることができる。また電離放射線反応室または前室のウェッブ入口側を構成する側面は、不活性ガスを効率的に使用するために、ウェッブ表面とのギャップは０．２〜１５ｍｍが好ましく、より好ましくは、０．２〜１０ｍｍとするのがよく、０．２〜５ｍｍとするのがもっとも好ましい。しかし、ウェッブを連続製造するには、ウェッブを接合して繋げていく必要があり、接合には接合テープなどで貼る方法が広く用いられている。このため、電離放射線反応室または前室の入口面とウェッブのギャップをあまり狭くすると、接合テープなど接合部材が引っかかる問題が生じる。このためギャップを狭くするためには、電離放射線反応室または前室の入口面の少なくとも一部を可動とし、接合部が入るときは接合厚み分ギャップを広げるのが好ましい。この実現のためには、電離放射線反応室または前室の入口面を進行方向前後に可動にしておき、接合部が通過する際に前後に動いてギャップを広げるやり方や、電離放射線反応室または前室の入口面をウェッブ面に対し、垂直方向に可動にし、接合部が通過する際に上下に動いてギャップを広げるやり方を取ることができる。
【０１９２】
紫外線照射は、構成する複数の層それぞれに対して１層設ける毎に照射してもよいし、積層後照射してもよい。あるいはこれらを組み合わせて照射してもよい。生産性の点から、多層を積層後、紫外線を照射することが好ましい。
【０１９３】
本発明では、支持体上に積層された少なくとも一層を複数回の電離放射線により硬化することができる。この場合、少なくとも２回の電離放射線が酸素濃度１０００ｐｐｍを超えることのない連続した反応室で行われることが好ましい。複数回の電離放射線照射を同一の低酸素濃度の反応室で行うことにより、硬化に必要な反応時間を有効に確保することができる。
特に高生産性のため製造速度をあげた場合には、硬化反応に必要な電離放射線のエネルギーを確保するために複数回の電離放射線照射が必要となる。
【０１９４】
また、硬化率（１００−残存官能基含率）が１００％未満のある値となった場合、その上に層を設けて電離放射線および／または熱により硬化した際に下層の硬化率が上層を設ける前よりも高くなると、下層と上層との間の密着性が改良され、好ましい。
【０１９５】
(ハンドリング）
本発明のフィルムを連続的に製造するために、ロール状の支持体フィルムを連続的に送り出す工程、塗布液を塗布・乾燥する工程、塗膜を硬化する工程、硬化した層を有する支持体フィルムを巻き取る工程が行われる。
ロール状のフィルム支持体からフィルム支持体がクリーン室に連続的に送り出され、クリーン室内で、フィルム支持体に帯電している静電気を静電除電装置により除電し、引き続きフィルム支持体上に付着している異物を、除塵装置により除去する。引き続きクリーン室内に設置されている塗布部で塗布液がフィルム支持体上に塗布され、塗布されたフィルム支持体は乾燥室に送られて乾燥される。乾燥した塗布層を有するフィルム支持体は乾燥室から硬化室へ送り出され、塗布層に含有されるモノマーが重合して硬化する。さらに、硬化した層を有するフィルム支持体は硬化部へ送られ硬化を完結させ、硬化が完結した層を有するフィルム支持体は巻き取られてロール状となる。
【０１９６】
上記工程は、各層の形成毎に行ってもよいし、塗布部−乾燥室−硬化部を複数設けて、各層の形成を連続的に行うことも可能である。
本発明のフィルムを作成するためには、前記したように塗布液の精密濾過操作と同時に、塗布部における塗布工程および乾燥室で行われる乾燥工程が高い清浄度の空気雰囲気下で行われ、かつ塗布が行われる前に、フィルム上のゴミ、ほこりが充分に除かれていることが好ましい。塗布工程および乾燥工程の空気清浄度は、米国連邦規格２０９Ｅにおける空気清浄度の規格に基づき、クラス１０（０．５μｍ以上の粒子が３５３個／（立方メートル）以下）以上であることが望ましく、更に好ましくはクラス１（０．５μｍ以上の粒子が３５．５個／（立方メートル）以下）以上であることが望ましい。また、空気清浄度は、塗布−乾燥工程以外の送り出し、巻き取り部等においても高いことがより好ましい。
【０１９７】
（鹸化処理）
本発明のフィルムを２枚の偏光膜の表面保護フィルムの内の一方として用いて偏光板を作製する際には、偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化することで、接着面における接着性を改良することが好ましい。
【０１９８】
ａ．アルカリ液に浸漬する法
アルカリ液の中にフィルムを適切な条件で浸漬して、フィルム全表面のアルカリと反応性を有する全ての面を鹸化処理する手法であり、特別な設備を必要としないため、コストの観点で好ましい。アルカリ液は、水酸化ナトリウム水溶液であることが好ましい。好ましい濃度は０．５〜３ｍｏｌ／Ｌであり、特に好ましくは１〜２ｍｏｌ／Ｌである。好ましいアルカリ液の液温は３０〜７５℃、特に好ましくは４０〜６０℃である。
前記の鹸化条件の組合せは比較的穏和な条件同士の組合せであることが好ましいが、フィルムの素材や構成、目標とする接触角によって設定することができる。
アルカリ液に浸漬した後は、フィルムの中にアルカリ成分が残留しないように、水で十分に水洗したり、希薄な酸に浸漬してアルカリ成分を中和することが好ましい。
【０１９９】
鹸化処理することにより、塗布層を有する表面と反対の表面が親水化される。偏光板用保護フィルムは、透明支持体の親水化された表面を偏光膜と接着させて使用する。
親水化された表面は、ポリビニルアルコールを主成分とする接着層との接着性を改良するのに有効である。
鹸化処理は、塗布層を有する側とは反対側の透明支持体の表面の水に対する接触角が低いほど、偏光膜との接着性の観点では好ましいが、一方、浸漬法では同時に塗布層を有する表面から内部までアルカリによるダメージを受ける為、必要最小限の反応条件とすることが重要となる。アルカリによる各層の受けるダメージの指標として、反対側の表面の透明支持体の水に対する接触角を用いた場合、特に透明支持体がトリアセチルセルロースであれば、好ましくは１０度〜５０度、より好ましくは３０度〜５０度、さらに好ましくは４０度〜５０度となる。５０度以上では、偏光膜との接着性に問題が生じる為、好ましくない。一方、１０度未満では、フィルムが受けるダメージが大きすぎる為、物理強度を損ない、好ましくない。
【０２００】
ｂ．アルカリ液を塗布する方法
上述の浸漬法における各膜へのダメージを回避する手段として、適切な条件でアルカリ液を塗布層を有する表面と反対側の表面のみに塗布、加熱、水洗、乾燥するアルカリ液塗布法が好ましく用いられる。なお、この場合の塗布とは、鹸化を行う面に対してのみアルカリ液などを接触させることを意味し、塗布以外にも噴霧、液を含んだベルト等に接触させる、などによって行われることも含む。これらの方法を採ることにより、別途、アルカリ液を塗布する設備、工程が必要となるため、コストの観点では（１）の浸漬法に劣る。一方で、鹸化処理を施す面にのみアルカリ液が接触するため、反対側の面にはアルカリ液に弱い素材を用いた層を有することができる。例えば、蒸着膜やゾル−ゲル膜では、アルカリ液によって、腐食、溶解、剥離など様々な影響が起こるため、浸漬法では設けることが望ましくないが、この塗布法では液と接触しないため問題なく使用することが可能である。
【０２０１】
前記（１）、（２）のどちらの鹸化方法においても、ロール状の支持体から巻き出して各層を形成後に行うことができるため、フィルム製造工程の後に加えて一連の操作で行っても良い。さらに、同様に巻き出した支持体からなる偏光板との張り合わせ工程もあわせて連続で行うことにより、枚葉で同様の操作をするよりもより効率良く偏光板を作成することができる。
【０２０２】
ｃ．ラミネートフィルムで保護して鹸化する方法
前記（２）と同様に、塗布層がアルカリ液に対する耐性が不足している場合に、最終層まで形成した後に該最終層を形成した面にラミネートフィルムを貼り合せてからアルカリ液に浸漬することで最終層を形成した面とは反対側のトリアセチルセルロース面だけを親水化し、然る後にラミネートフィルムを剥離することができる。この方法でも、塗布層へのダメージなしに偏光板保護フィルムとして必要なだけの親水化処理をトリアセチルセルロースフィルムの最終層を形成した面とは反対の面だけに施すことができる。前記（２）の方法と比較して、ラミネートフィルムが廃棄物として発生する半面、特別なアルカリ液を塗布する装置が不要である利点がある。
【０２０３】
ｄ．中途層まで形成後にアルカリ液に浸漬する方法
下層層まではアルカリ液に対する耐性があるが、上層のアルカリ液に対する耐性不足である場合には、下層まで形成後にアルカリ液に浸漬して両面を親水化処理し、然る後に上層を形成することもできる。製造工程が煩雑になるが、たとえば、ハードコート層とフッ素含有ゾルーゲル膜の低屈折率層とからなるフィルムにおいて、親水基を有する場合にはハードコート層と低屈折率層との層間密着性が向上する利点がある。
【０２０４】
ｅ．予め鹸化済のトリアセチルセルロースフィルムに塗布層を形成する方法
トリアセチルセルロースフィルムを予めアルカリ液に浸漬するなどして鹸化し、何れか一方の面に直接または他の層を介して塗布層を形成してもよい。アルカリ液に浸漬して鹸化する場合には、鹸化により親水化されたトリアセチルセルロース面との層間密着性が悪化することがある。そのような場合には、鹸化後、塗布層を形成する面だけにコロナ放電、グロー放電等の処理をすることで親水化面を除去してから塗布層を形成することで対処できる。また、塗布層が親水性基を有する場合には層間密着が良好なこともある。
【０２０５】
［偏光膜の作製］
本発明のフィルムは、偏光膜およびその片側ないし両側に配置された保護フィルムとして使用し、偏光膜として使用することができる。
一方の保護フィルムとして、本発明のフィルムを用い、他方の保護フィルムには、通常のセルロースアセテートフィルムを用いてもよいが、上述の溶液製膜法で製造され、且つ１０〜１００％の延伸倍率でロールフィルム形態における巾方向に延伸したセルロースアセテートフィルムを用いることが好ましい。
更には、本発明の偏光板において、片面が本発明の光学フィルムであるのに対して他方の保護フィルムが液晶性化合物からなる光学異方性層を有する光学補償フィルムであることが好ましい。
【０２０６】
偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。
光学フィルムの透明支持体やセルロースアセテートフィルムの遅相軸と偏光膜の透過軸とは、実質的に平行になるように配置する。
【０２０７】
偏光板の生産性には保護フィルムの透湿性が重要である。偏光膜と保護フィルムは水系接着剤で貼り合わせられており、この接着剤溶剤は保護フィルム中を拡散することで、乾燥される。保護フィルムの透湿性が高ければ、高いほど乾燥は早くなり、生産性は向上するが、高くなりすぎると、液晶表示装置の使用環境（高湿下）により、水分が偏光膜中に入ることで偏光能が低下する。
保護フィルムの透湿性は、透明支持体やポリマーフィルム（および重合性液晶化合物）の厚み、自由体積、親疎水性、等により決定される。
本発明のフィルムを偏光板の保護フィルムとして用いる場合、透湿性は１００〜１０００ｇ／ｍ２・２４ｈｒｓであることが好ましく、３００〜７００ｇ／ｍ２・２４ｈｒｓであることが更に好ましい。
透明支持体の厚みは、製膜の場合、リップ流量とラインスピード、あるいは、延伸、圧縮により調整することができる。使用する主素材により透湿性が異なるので、厚み調整により好ましい範囲にすることが可能である。
透明支持体の自由体積は、製膜の場合、乾燥温度と時間により調整することができる。
この場合もまた、使用する主素材により透湿性が異なるので、自由体積調整により好ましい範囲にすることが可能である。
透明支持体の親疎水性は、添加剤により調整することが出来る。上記自由体積中に親水的添加剤を添加することで透湿性は高くなり、逆に疎水性添加剤を添加することで透湿性を低くすることができる。
上記透湿性を独立に制御することにより、光学補償能を有する偏光板を安価に高い生産性で製造することが可能となる。
【０２０８】
偏光膜としては公知の偏光膜や、偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜から切り出された偏光膜を用いてもよい。偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜は以下の方法により作成される。
即ち、連続的に供給されるポリマーフィルムの両端を保持手段により保持しつつ張力を付与して延伸した偏光膜で、少なくともフィルム幅方向に１．１〜２０．０倍に延伸し、フィルム両端の保持装置の長手方向進行速度差が３％以内であり、フィルム両端を保持する工程の出口におけるフィルムの進行方向と、フィルムの実質延伸方向のなす角が、２０〜７０゜傾斜するようにフィルム進行方向を、フィルム両端を保持させた状態で屈曲させてなる延伸方法によって製造することができる。特に４５°傾斜させたものが生産性の観点から好ましく用いられる。
【０２０９】
ポリマーフィルムの延伸方法については、特開２００２−８６５５４号公報の段落００２０〜００３０に詳しい記載がある。
偏光子の２枚の保護フィルムのうち、本発明の光学フィルム以外のフィルムが、光学異方層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであることも好ましい。光学補償フィルム（位相差フィルム）は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。
光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開２００１−１０００４２号公報に記載されている光学補償フィルムが好ましい。
【０２１０】
［本発明の使用形態］
本発明の光学フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に用いられる。本発明に従う光学フィルムは、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）または陰極管表示装置（ＣＲＴ）など公知のディスプレイ上に用いることが出来る。
【０２１１】
［液晶表示装置］
本発明の光学フィルム、偏光板は、液晶表示装置等の画像表示装置に有利に用いることができ、ディスプレイの最表層に用いることが好ましい。
一般的に、液晶表示装置は、液晶セルおよびその両側に配置された二枚の偏光板を有し、液晶セルは、二枚の電極基板の間に液晶を担持している。さらに、光学異方性層が、液晶セルと一方の偏光板との間に一枚配置されるか、あるいは液晶セルと双方の偏光板との間に二枚配置されることもある。
【０２１２】
液晶セルは、ＴＮモード、ＶＡモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモードまたはＥＣＢモードであることが好ましい。
【０２１３】
（ＴＮモード）
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、さらに６０〜１２０゜にねじれ配向している。
ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
【０２１４】
（ＶＡモード）
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。
ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ  ｏｆ  Ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。
【０２１５】
（ＯＣＢモード）
ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルであり、米国特許第４５８３８２５号、同５４１０４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）液晶モードと呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。
【０２１６】
（ＩＰＳモード）
ＩＰＳモードの液晶セルは、ネマチック液晶に横電界をかけてスイッチングする方式であり、詳しくはＰｒｏｃ．ＩＤＲＣ（Ａｓｉａ  Ｄｉｓｐｌａｙ’９５），ｐ．５７７−５８０及び同ｐ．７０７−７１０に記載されている。
【０２１７】
（ＥＣＢモード）
ＥＣＢモードの液晶セルは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向している。ＥＣＢモードは、最も単純な構造を有する液晶表示モードの一つであって、例えば特開平５−２０３９４６号公報に詳細が記載されている。
【０２１８】
［液晶表示装置以外のディスプレイ］
（ＰＤＰ）
プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、一般に、ガス、ガラス基板、電極、電極リード材料、厚膜印刷材料、蛍光体により構成される。ガラス基板は、前面ガラス基板と後面ガラス基板の二枚である。二枚のガラス基板には電極と絶縁層を形成する。後面ガラス基板には、さらに蛍光体層を形成する。二枚のガラス基板を組み立てて、その間にガスを封入する。
プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、既に市販されている。プラズマディスプレイパネルについては、特開平５−２０５６４３号、同９−３０６３６６号の各公報に記載がある。
【０２１９】
前面板をプラズマディスプレイパネルの前面に配置することがある。前面板はプラズマディスプレイパネルを保護するために充分な強度を備えていることが好ましい。前面板は、プラズマディスプレイパネルと隙間を置いて使用することもできるし、プラズマディスプレイ本体に直貼りして使用することもできる。プラズマディスプレイパネルのような画像表示装置では、光学フィルムをディスプレイ表面に直接貼り付けることができる。また、ディスプレイの前に前面板が設けられている場合は、前面板の表側（外側）または裏側(ディスプレイ側)に光学フィルムを貼り付けることもできる。
【０２２０】
（タッチパネル）
本発明の光学フィルムは、特開平５−１２７８２２号公報、特開２００２−４８９１３号公報等に記載されるタッチパネルなどに応用することができる。
【０２２１】
（有機ＥＬ素子）
本発明の光学フィルムは、有機ＥＬ素子等の基板（基材フィルム）や保護フィルムとして用いることができる。
本発明の光学フィルムを有機ＥＬ素子等に用いる場合には、特開平１１−３３５６６１号、特開平１１−３３５３６８号、特開２００１−１９２６５１号、特開２００１−１９２６５２号、特開２００１−１９２６５３号、特開２００１−３３５７７６号、特開２００１−２４７８５９号、特開２００１−１８１６１６号、特開２００１−１８１６１７号、特開２００２−１８１８１６号、特開２００２−１８１６１７号、特開２００２−０５６９７６号等の各公報記載の内容を応用することができる。また、特開２００１−１４８２９１号、特開２００１−２２１９１６号、特開２００１−２３１４４３号の各公報記載の内容と併せて用いることが好ましい。
【実施例】
【０２２２】
以下、本発明の実施例を示すがこれに示す限りではない。
【０２２３】
【表２】
2008026883.tif 000023
【０２２４】
ハードコート層塗布液のＨＣ-１〜ＨＣ-３については、上記の表に従って調製した。表中の数字は質量％の表記になっている。尚、ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートの混合物[日本化薬（株）製]、酸化ジルコニア分散物含有ハードコート塗布液：ゼソライトＺ７４０４、メチルイソブチルケトン／メチルエチルケトン溶液：９０／１０質量％、[ＪＳＲ（株）製]、ＰＭＭＡ粒子：ＭＸＳ１５０Ｈ３ＣＦ、粒径１．５μm、ＣＶ値９％[綜研化学（株）製]、スチレン粒子：ＳＸ１３０、粒径１．５μｍ、ＣＶ値９％[綜研化学（株）製]、シリカ被覆メラミン樹脂粒子：２０００Ｍ、粒径２．０μｍ、ＣＶ値４％、[日産化学（株）製]、イルガキュア１８４：重合開始剤、[チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製]である。上記を十分に混合した各液を、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、ハードコート層塗布液ＨＣ−１〜ＨＣ−３を調製した。
【０２２５】
(ハードコート層の塗設)
特開２００３−２１１０５２号の図１に記載されたスロットダイコーターを用いて、８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士フイルム（株）製）をロール形態で巻き出して、ハードコート層塗布液ＨＣ−１を、１６ｇ／ｍ2の塗布量になるように塗布し、３０℃で１５秒間、９０℃で２０秒間乾燥の後、さらに窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量５０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ７μｍのハードコート層を有した光学フィルム（比較例試料１）を作製し、巻き取った。
【０２２６】
また、上記ＨＣ−１のＰＭＭＡ粒子を７．５質量％から３．５質量％、８．５質量％に変える以外、比較例試料１と全く同じようにハードコート層付き光学フィルムを作製した。これら試料を、それぞれ比較例試料２、３とする。
【０２２７】
ハードコート層塗布液ＨＣ−１の替わりにハードコート層塗布液ＨＣ−２を用いて比較例試料１と同じようにハードコート層付き光学フィルムを作製した。該試料を、比較例試料４とする。また、上記ＨＣ−２のスチレン粒子８．１質量％から１０質量％、４．５質量％に変える以外、比較例試料１と全く同じようにハードコート層付き光学フィルムを作製した。これら試料をそれぞれ比較例試料５、６とする。また、比較例試料４のスチレン粒子を、ポリジビニルベンゼン系粒子（粒径３．０μｍ、ＣＶ値５％（ＳＰ２０３）［積水化学工業（株）製］に変える以外、全く同じように作製した試料を比較例試料７とする。
ハードコート層塗布液ＨＣ−３を、上記比較例試料１と同じようにハードコート層付き光学フィルムを作製した。該試料を実施例試料１とする。上記ＨＣ−３のシリカ被覆メラミン樹脂粒子５．８質量％から４．４質量％、４．８質量％に変える以外、実施例試料１と全く同じようにハードコート層付き光学フィルムを作製した。これら試料を、実施例試料２、３とする。また、上記実施例試料１のシリカ被覆メラミン樹脂粒子を、粒径３．５μｍ、ＣＶ値４％（３５００Ｍ）、粒径６．５μｍ、ＣＶ値８％（６５００Ｍ）［共に日産化学（株）製］、ベンゾグアナミン・メラミン樹脂粒子、（粒子径４．０μｍ、ＣＶ値７％（エポスターＧＰ−Ｈ４０）、ベンゾグアナミン・メラミン樹脂粒子、（粒子径２．０μｍ、ＣＶ値３０％（エポスターＭＳ）［共に日本触媒（株）製］に変える以外、全く同じように作製した試料をそれぞれ実施例試料４、実施例試料５、比較例試料８、比較例試料９とする。実施例試料１のシリカ被覆メラミン樹脂粒子の半分を、粒径３．５μｍ、ＣＶ値４％（３５００Ｍ）に置換した以外、全く同じように作製した試料を実施例試料６とする。
【０２２８】
(内部へイズ)
［１］ＪＩＳ−Ｋ７１３６に準じて、得られた光学フィルムの全ヘイズ値（Ｈ）を測定する。
［２］光学フィルムの表面および裏面にシリコーンオイルを数滴添加し、厚さ１ｍｍのガラス板（ミクロスライドガラス品番Ｓ９１１１、ＭＡＴＳＵＮＡＭＩ製）を２枚用いて裏表より挟んで、完全に２枚のガラス板と得られた光学フィルムを密着し、表面ヘイズを除去した状態でヘイズを測定し、別途測定したガラス板２枚の間にシリコーンオイルのみを挟みこんで測定したヘイズを引いた値をフィルムの内部ヘイズ（Ｈｉ）として算出した。［３］上記［１］で測定した全ヘイズ（Ｈ）から上記［２］で算出した内部ヘイズ（Ｈｉ）を引いた値をフィルムの表面ヘイズ（Ｈｓ）として算出した。
【０２２９】
(表面粗さ)
粗さ曲線が中心線から絶対値偏差の平均値Ｒａの測定は、ＪＩＳ−Ｂ０６０１に準じて行った。
(ざらつき感の評価)
トリアセチルセルロースのＴＡＣ-ＴＤ８０Ｕ（富士フイルム（株）製、厚み８０μｍ）で作製した偏光板と、本発明の光学フィルムで作製した偏光板とをクロスニコルで貼りあわせ、検査用サンプルを作製した後、１０００ｌｕｘの明室にて、光学フィルム側表面のざらつき感（突起の粗密感）を目視評価（反射検査）した。詳しくは下表３に記載した。
ざらつき感非常に良好（非常にキメが細かい）：  ◎
ざらつき感良好：  ○
ざらつき感まずまず：  ○△
ざらつき感、やや気になる：  △
ざらつき感、問題：  ×
（密着性評価）
フィルムの層間、あるいは支持体と塗布層との密着性は以下の方法により評価することが出来る。
塗布層を有する側の表面にカッターナイフで碁盤目状に縦１１本、横１１本の切り込みを１ｍｍ間隔で入れて合計１００個の正方形の升目を刻み、日東電工（株）製のポリエステル粘着テープ（ＮＯ．３１Ｂ）を圧着し、２４時間放置後引き剥がす試験を同じ場所で繰り返し３回行い、剥がれの有無を目視で観察する。
１００個の升目中、剥がれが２升以内          ：  ○
１００個の升目中、剥がれが３以上１０升以内  ：  △
１００個の升目中、剥がれが１１升以上、問題  ：  ×
【０２３０】
【表３】
2008026883.tif 000024
【０２３１】
表３からわかるように、シリカ被覆した粒子を使用した場合、内部ヘイズの非常に高いフィルムを得ることが可能である。さらに、耐候性が良化している。また、ざらつき感を良好にするためには、Ｒａ値は０．１０μｍ未満が好ましく、０．０７μｍ未満がさらに好ましく、０．０５μｍ未満が最も好ましい。
【０２３２】
次に、実施例試料２、３について、各々のハードコート層に用いているフッ素系レベリング剤ＦＰ−７に対し、（１）ＦＰ−７を除去する、（２）ＦＰ−７を除去し、ＦＰ-７の変わりに、フッ素系レベリング剤ＦＰ−８６を同量用いる。（３）ＦＰ-７を除去し、ＦＰ-７の変わりに、シリコーン系レベリング剤Ｘ−２２−９４５(信越化学（株）製)を同量用いる。（４）ＦＰ-７を半分量とし、シリコーンレベリング剤Ｘ−２２−９４５を、ＦＰ-７の半分量追添する、の４種の処方に変えた以外は全く同様に作製した光学フィルムの外観面状を評価した。尚、外観面状については、下記の通りである。
【０２３３】
(外観面状の評価)
トリアセチルセルロースのＴＡＣ-ＴＤ８０Ｕ（富士フイルム（株）製、厚み８０μｍ）で作製した偏光板と、本発明の光学フィルムで作製した偏光板とをクロスニコルで貼りあわせ、検査用サンプルを作製した後、室内を暗室にし、スタンド式３波長蛍光灯にて、光学フィルム側表面の外観面状を目視評価（反射検査）した。
【０２３４】
実施例試料２、３は非常に良好な面状であったのに対し、（１）にした各試料群は面状が劣り、好ましいものではなかった。一方、（２）あるいは（３）にした各試料群は、実施例試料２、３同様、面状は良好であり優れた光学フィルムであった。また、フッ素系レベリング剤とシリコーン系レベリング剤を併用した、（４）の試料群は、面状が１ランクさらに向上しており、非常に優れた光学フィルムであった。
【０２３５】
(低屈折率層の塗設)［ゾル液（ａ）の調製］
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器内において、メチルエチルケトン１１９質量部、３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン“ＫＢＭ−５１０３”｛信越化学工業(株)製｝１０１質量部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート３質量部を加え混合したのち、イオン交換水３０質量部を加え、６０℃で４時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液（ａ）を得た。ゾル液（ａ）の質量平均分子量は１６００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００質量％であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。最終的にはメチルエチルケトン溶液で作製し、固形分濃度２９重量％であった。
【０２３６】
[低屈折率層塗布液の調製]
低屈折率層塗布液ＬＮ-１〜ＬＮ-９については、下記の表に従って調製した。表中の数字は質量部の表記になっている。
【０２３７】
【表４】
2008026883.tif 000025
【０２３８】
上記の各々の塗布液を、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して低屈折率層塗布液（ＬＮ−１〜９）を調製した。
【０２３９】
上記の各々の塗布液の作製に使用した化合物を以下に示す。“ＪＴＡ−１１３”：熱架橋性の、シリコーン部位含有の含フッ素ポリマー溶液、屈折率１．４４、固形分濃度６質量％、溶剤メチルエチルケトン、固形分のうち、熱架橋性シリコーン部位含有の含フッ素ポリマー７８質量％、メラミン系架橋剤２０質量％、パラトルエンスルフォン酸塩２質量％、ＪＳＲ（株）製、“Ｐ−３”：特開平２００４−４５４６２号公報に記載の含フッ素共重合体（Ｐ−３）、質量平均分子量約５００００、固形分濃度２３．８質量％、溶剤メチルエチルケトン、“ＭＥＫ−ＳＴ”のシリカ粒子分散液、平均粒径１５ｎｍ、固形分濃度３０質量％、分散溶剤メチルエチルケトン、日産化学（株）製、“ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ”：シリカ粒子分散液、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０質量％、分散溶剤メチルエチルケトン、日産化学（株）製、“本明細書〔化12〕に記載の２１化合物溶液”：固形分濃度２質量％、溶剤メチルエチルケトン、“ＭＰ−トリアジン”：光重合開始剤、（株）三和ケミカル製、“ＲＭＳ−０３３”：反応性シリコーン樹脂、Ｇｅｌｅｓｔ社製、さらに後述する中空シリカ分散液は、「中空シリカ分散液」：ＣＳ−６０、分散溶剤イソプロピルアルコール、触媒化成工業（製）、屈折率１．３１、平均粒径６０ｎｍ、シェル厚み１０nm、の中空シリカ粒子に「ＫＢＭ−５１０３（信越化学（株）製シランカップリング剤）」を表面修飾した中空シリカ粒子分散液（表面修飾率：対中空シリカ３０質量％）であり、固形分濃度１８．２質量％の分散液である。
本明細書〔表１〕に記載のｂ−１３化合物は、Ｎ−エチルモルホリンである。
本明細書〔化12〕に記載の２１化合物は下記化合物である。
【０２４０】
【化２０】
2008026883.tif 000026
【０２４１】
（低屈折率層の塗設−１）
本発明の各種ハードコート層を塗設した後、さらに、上記低屈折率層用塗布液ＬＮ-１〜ＬＮ-８については、バーコーターにて、低屈折率層の乾燥膜厚が９５ｎｍになるようにウエット塗布し、続いて、１２０℃で１５０秒間乾燥の後、更に１００℃で８分間乾燥させてから、窒素パージにより、酸素濃度１００ｐｐｍの雰囲気下で２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量１１０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射し、低屈折率層を形成させて巻き取った。
（低屈折率層の塗設−２）
本発明の各種ハードコート層を塗設した後、さらに、上記低屈折率層用塗布液ＬＮ-９については、ダイコーターにて、低屈折率層の乾燥膜厚が９５ｎｍになるようにウエット塗布し、続いて、１２０℃で７０秒間乾燥の後、さらに窒素パージにより、酸素濃度１００ｐｐｍの雰囲気下で２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、低屈折率層を形成させて巻き取った。
【０２４２】
実施例試料１〜６、比較例試料１の各ハードコート層上に、上記のＬＮ−６塗布液を上記の低屈折率層塗設方法に従って塗設した以外は、実施例試料１〜６、及び比較例試料１と全く同様に試料を作製した。これらを、実施例試料１０１〜１０６、比較例試料１０１とした。また、トリアセチルセルロースのＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ（富士フイルム（株）製）を比較例試料１０２とした。
【０２４３】
（斜め方向視野角）
ＶＡ方式液晶セルを使用した液晶表示装置（２０”ＴＶ：LC-20AX5、シャープ(株)製）に設けられている視認側の偏光板を剥がし、代わりに本発明の光学フィルムの偏光板を、塗布面を視認側にして、裏面を粘着剤を介して貼り付ける。液晶表示装置を白表示にして、測定機（“ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ  １６０Ｄ”ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、液晶テレビの正面からの方位方向４５°の極角方向でコントラスト比測定し、コントラスト比が２０以下になる角度を測定した。
【０２４４】
【表５】
2008026883.tif 000027
【０２４５】
表５からわかるように、いずれの光学フィルムを用いても、視野角が広くすることができる。また、実施例試料１０１〜１０６は高価な酸化ジルコニア分散物を使用した比較例試料１０１と同様に視野角を広くすることができる。特に実施例試料１０６は液晶表示装置を白表示した時の色味が無いため、好ましい。
【０２４６】
実施例試料１０２において、（１）ハードコート層中にＭＥＫ−ＳＴ（平均粒径１０〜２０ｎｍ、固形分濃度３０質量％のＳｉＯ２ゾルのメチルエチルケトン分散物、[日産化学（株）製]を加え、ハードコートの屈折率を１．４４に調製した。樹脂粒子との屈折率差は０．２１であった。本フィルムをＶＡ方式液晶セルを使用した液晶表示装置（２０”ＴＶ：LC-20AX5、シャープ(株)製）に設けられている視認側の偏光板を剥がし、代わりに本発明の光学フィルムの偏光板を、塗布面を視認側にして、裏面を粘着剤を介して貼り付ける。液晶表示装置を白／黒表示にして、測定機（“ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ  １６０Ｄ”ＥＬＤＩＭ社製）を用いてコントラスト（白輝度と黒輝度の比）を測定すると、実施例試料１０２に対し、コントラストが１５％低下した。ハードコート層と樹脂粒子の屈折率差は０．２０以下が好ましい。
【０２４７】
実施例試料１０３において、（１）ハードコート層中の樹脂粒子の量を増減させる(表面ヘイズを調整)、（２）下記に記載の二酸化チタン微粒子をハードコート層に追添し、ハードコート層の屈折率を上げる（ハードコート層の屈折率を調整。二酸化チタン充填量で屈折率ｎは調整できる）、（３）低屈折率層中のＪＴＡ−１１３とゾル（ａ）の混合比を変える（低屈折率層の屈折率を調整）、（４）低屈折率層中のシリカ微粒子を前記中空シリカ微粒子に置き換える（低屈折率層の屈折率を調整）、（５）さらに前記中空シリカ微粒子の使用量を増やす（低屈折率層の屈折率を調整）、以外は実施例試料１０３と全く同様に作製した試料を実施例試料２０１〜２１９とする。詳しくは下表６に記載する。
【０２４８】
二酸化チタン微粒子としては、コバルトを含有し、かつ水酸化アルミニウムと水酸化ジルコニウムを用いて表面処理を施した二酸化チタン微粒子（ＭＰＴ−１２９Ｃ、石原産業(株)製、ＴｉＯ２：Ｃｏ３Ｏ４：Ａｌ２Ｏ３：ＺｒＯ２＝９０．５：３．０：４．０：０．５重量比）を使用した。この二酸化チタン微粒子２５７．１質量部に、下記分散剤４１．１質量部、およびシクロヘキサノン７０１．８質量部を添加してダイノミルにより分散し、重量平均径７０ｎｍの二酸化チタン分散液を調製し、本発明のハードコート層塗布液に入れて、処方量を調整した。
【０２４９】
【化２１】
2008026883.tif 000028
【０２５０】
(反射率)
鏡面反射率の測定は、分光光度計“Ｖ−５５０”［日本分光（株）製］にアダプター“ＡＲＶ−４７４”を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における出射角−５゜の鏡面反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均の鏡面反射率を算出した。積分反射率の測定は、分光光度計“Ｖ−５５０”［日本分光（株）製］にアダプター“ＩＬＶ−４７１”を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における積分反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均の積分反射率を算出した。
【０２５１】
（黒表示の黒しまり）
ＶＡ方式液晶セルを使用した液晶表示装置（２０”ＴＶ：LC-20AX5、シャープ(株)製）に設けられている視認側の偏光板を剥がし、代わりに本発明の光学フィルムの偏光板を、塗布面を視認側にして、裏面を粘着剤を介して貼り付ける。１０００ｌｕｘの明室にて、液晶表示装置を黒表示にして、目視により評価し、下記判定をおこなった。
２０点満点で評価。２０点は外光による白茶け感がまったく感じられず、黒表示としては申し分なし。一方、５点未満は外光による白茶け感が強すぎて、黒表示として許容外。
【０２５２】
【表６】
2008026883.tif 000029
【０２５３】
表６からわかるように、本発明試料において、Ｂが３％以下であり、Ｂ−Ａが１．５％以下であることが、明室環境下での黒表示時の黒の締まりを良好にする光学フィルムが提供できる。さらに、Ｂは２％以下がより好ましく、１％以下がいっそう好ましい。また、Ｂ−Ａは１％以下がより好ましく、０．５％以下がいっそう好ましいことがわかる。
【０２５４】
実施例試料１０３において、ＬＮ−６塗布液を、ＬＮ−１〜５、７〜９塗布液に変え、前記の低屈折率層塗設方法に従って塗設した以外は、実施例試料１０３と全く同様に作製した試料を実施例試料３０１〜３０５、実施例試料３０７〜３０９とした。また、ＬＮ−６塗布液において、低屈折率層中に含まれるシリカ微粒子のサイズを４５ｎｍから９５ｎｍ（低屈折率層の厚みの１００％）、１４５ｎｍ（低屈折率層の厚みの１５０％）、１６０ｎｍ（低屈折率層の厚みの１６０％）、に変更する（塗布液名；ＬＮ−６１、ＬＮ−６２、ＬＮ−６３とする）以外は実施例試料１０３と全く同様に作製した試料を実施例試料３１０〜３１２とした。詳しくは下表７に記載した。
【０２５５】
(スチールウール擦り耐性＜耐擦傷性（ii）＞)
ラビングテスターを用いて、以下の条件で擦り試験を行うことで、光学フィルムの耐擦傷性を評価することができる。
評価環境条件：２５℃、６０％ＲＨ、擦り材：スチールウール（日本スチールウール（株）製、グレードＮｏ．＃００００）、試料と接触するテスターの擦り先端部（１ｃｍ×１ｃｍ）に巻いてバンド固定、移動距離（片道）：１３ｃｍ、擦り速度：１３ｃｍ／秒、荷重：５００ｇ／cm2、先端部接触面積：１ｃｍ×１ｃｍ、擦り回数：１０往復。
【０２５６】
擦り終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、反射光にて、擦った部分（の傷）と、擦っていない部分とを目視で比較し評価判定（１０点満点）した。１０点は、傷が全く見えないものとした。２点以下は耐擦傷性としてあまり好ましくない。
【０２５７】
【表７】
2008026883.tif 000030
【０２５８】
実施例試料３１２のスチールウール擦り耐性はやや低下傾向となり、これはシリカ微粒子の粒径が低屈折率層の厚みの１６０％となったため、低屈折率層内にシリカ微粒子が保持されにくくなったものと考えられる。
【０２５９】
表７から以下がわかる。本発明の光学フィルムにおいて、（１）低屈折率層中に、低屈折率層の層厚の１５％以上１５０％以下の粒径の微粒子を含有する、（２）低屈折率層を構成する少なくとも１種の透光性樹脂が紫外線（ＵＶ）硬化、および／または熱硬化できる官能基を有している、（３）低屈折率層が少なくとも２種以上の透光性樹脂からなり、そのうち少なくとも１種の透光性樹脂が紫外線（ＵＶ）硬化できる官能基を有し、これとは異なる少なくとも１種の透光性樹脂が熱硬化できる官能基を有している、（４）低屈折率層中に、さらに、少なくとも１種の重合開始剤、および、少なくとも1種の熱硬化できる架橋剤を含んでいる、（５）低屈折率層中に、さらに、熱硬化を促進する硬化触媒を含んでいる、ことで、いっそう耐擦傷性の優れた光学フィルムを提供できる。（５）の効果は、ＬＮ-８塗布液中に含まれる、本明細書［表１］記載のｂ−１３化合物（Ｎ−エチルモルホリン）を、本明細書［表１］記載のｂ−１９化合物（トリエチルアミン）に変えても同様の効果を確認できた。
【０２６０】
また、低屈折率層中に含まれる、少なくとも１種の紫外線（ＵＶ）硬化できる官能基を有する透光性樹脂と、少なくとも１種の重合開始剤の重量の総和を、少なくとも1種の熱硬化できる官能基を有する透光性樹脂と、少なくとも１種の熱硬化できる架橋剤の重量の総和で除した値（Ｘ）は、ＬＮ-５が０．２４（実施例試料３０５）、ＬＮ-６が０．１８(実施例試料１０３)、ＬＮ-７が０．１６（実施例試料３０７）であるが、このような調整方法で、（Ｘ）を０〜０．３の範囲で振った低屈折率層塗布液を作製し、それ以外は実施例試料１０３、等と全く同様に作製した試料（実施例試料試料４０１〜４１０）を評価したところ、下記の表８の結果が得られ、本発明の光学フィルムにおける（Ｘ）は、０．０５〜０．１９が好ましく、０．１０〜０．１９がより好ましく、０．１５〜０．１９がさらに好ましいことがわかった。
【０２６１】
【表８】
2008026883.tif 000031
【０２６２】
実施例試料３０９において、低屈折率層塗布液ＬＮ-９塗布液中のＲＭＳ-０３３量を増減する以外は、実施例試料３０９と全く同様に作製した試料を実施例試料５０１〜５０８とする。詳しくは下記表９に記載する。
【０２６３】
(防汚性の評価）
得られた光学フィルムに対し、防汚性の良否の指標として、（１）マジック汚れと、（２）指紋汚れ、の除去性を評価した（（１）マジック汚れ除去性；黒色のマッキーケア極細（ＺＥＢＲＡ（株）製）を用いて、光学フィルム上に書いて、丸１日放置した後、ティッシュペーパーで拭き取り除去性を評価。（２）指紋汚れ除去性；光学フィルムに指を押し付け、指紋を付着させた後、丸一日放置した後、ティッシュペーパーで拭き取り除去性を評価）。６点満点で、６点は軽く拭くだけで、簡単にマジックや指紋が拭き取れる最高レベルとした。
【０２６４】
また、各々の光学フィルム表面に、純水を滴下して接触角を測定し、防汚性との対応を調べた。
【０２６５】
【表９】
2008026883.tif 000032
【０２６６】
表９からわかるように、本発明の光学フィルムの純水接触角が９０°以上であることが防汚性の点で好ましく、９５°以上であることがより好ましく、さらに好ましくは１００°以上であり、最も好ましくは１０５°以上であった。本発明の光学フィルムの接触角を所望の範囲に調整することで、非常に良好な防汚性を有する光学フィルムを提供できる。
【０２６７】
次に、実施例試料３０５において、低屈折率層塗布液ＬＮ-５塗布液中に、さらにＫＦ−９６（１０ｃｓ）[シリコーンオイル、信越化学（株）製]を追添する以外、実施例試料３０５と全く同様に作製した試料を実施例試料６０１〜６０６とする。また、実施例試料１０３において、低屈折率層塗布液ＬＮ-６塗布液中に、さらにＫＦ−９６（１０ｃｓ）[シリコーンオイル、信越化学（株）製]を追添する以外、実施例試料１０３と全く同様に作製した試料を実施例試料６０７〜６０８とする。また、前記の実施例試料３０９、および前記の実施例試料５０２、５０４、５０６、５０７、５０８を準備した。これらの光学フィルムに対し、スチールウール擦り耐性評価を行った。詳しくは下記表１０に記載した。
【０２６８】
(動摩擦係数の測定）
本発明の光学フィルムを予め２５℃６０％ＲＨの環境下で２時間以上放置しておく。この後、ＨＥＩＤＯＮ−１４動摩擦測定器により、５ｍｍφステンレス鋼球、荷重１００ｇ、速度６０ｃｍ／分にて測定した値を用いた。
【０２６９】
【表１０】
2008026883.tif 000033
【０２７０】
表１０からわかるように、本発明の光学フィルムの動摩擦係数が０．３以下であることが好ましく、０．２以下がより好ましく、０．１以下が最も好ましい。本発明の光学フィルムの動摩擦係数を所望の範囲に調整することで、非常に良好な耐擦傷性を有する光学フィルムを提供できる。
【０２７１】
次に、本発明の光学フィルムに対し、防塵性の評価を行った。防塵性の評価は下記の通りである。
【０２７２】
(防塵性の評価）
本発明の光学フィルムに対し、光学フィルムを２５℃６０％ＲＨで２時間調湿した後、そのままの環境下で、除電機にて除電し（ゼロキャンセル）、その後、乾いたティッシュペーパーで強く一定の力で２０回擦り、次に、別に用意したティッシュペーパー屑を光学フィルム上にふりかけた。その後、光学フィルム面を机に垂直に立てて、光学フィルムの端面を机の上で３回たたき、ティッシュペーパー屑の落ち方（防塵性）を評価した。１０点満点で評価し、１０点は、全くティッシュペーパー屑がつかない最高のレベルとした。
【０２７３】
(帯電防止層用塗布液の調整）
市販の透明帯電防止用塗料「ペルトロンＣ−４４５６Ｓ−７」（固形分濃度４５％、日本ペルノックス（株）製）を本発明の帯電防止層用塗布液として用いた（但し、本発明の帯電防止層は、これに限るものではない）。Ｃ−４４５６Ｓ−７は分散剤を用いて分散された導電性微粒子ＡＴＯを含有する透明帯電防止層用塗料である。この塗料による塗膜の屈折率は１．５５であった。
【０２７４】
(帯電防止層の塗設）
後述する本発明の光学フィルムのハードコート層と低屈折率層との間に上記透明帯電防止層を塗設した。塗設方法は、前記帯電防止層用塗布液をマイクログラビア塗布方式で塗布し、３０℃で１５秒間、９０℃で２０秒間乾燥の後、さらに窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量５０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して硬化させ、厚さ１．２μｍの透明帯電防止層を設けた。
【０２７５】
(表面抵抗値の測定）
本発明の光学フィルムの塗布層側の表面抵抗を、超絶縁抵抗／微小電流計ＴＲ８６０１(（株）アドバンテスト製）を用いて測定した。測定サンプルに対しては、予め２５℃６０％ＲＨの環境下で２時間以上放置しておく。表記は、Ω／□のオーダー表記とした。
【０２７６】
(垂直剥離帯電量の測定）
上記表面抵抗値の測定と同様、測定サンプルを予め２５℃６０％ＲＨの環境下で２時間以上放置しておく。測定装置は、測定サンプルを置く台と相手のフィルムを保持して測定サンプルに上から圧着と剥離を繰り返せるヘッドからなり、このヘッドにポリエチレンテレフタレートを装着する。測定部分を除電した後、ヘッドを測定サンプルに圧着させ、剥離させることを繰り返し、１回目の剥離時と、５回目の剥離時の帯電量の値を読み、これを平均する。サンプルを変えて３サンプルでこれを繰り返し、全てを平均したものを垂直剥離帯電量とする。
【０２７７】
実施例試料１０３のハードコート層と低屈折率層との間に、前記帯電防止層を塗設する以外は実施例試料１０３と全く同様に作製した試料を実施例試料７０２とし、さらに、実施例試料７０２の帯電防止層中のＡＴＯの量を増減させて表面抵抗値を変える以外は、実施例試料７０２試料と全く同様に作製した試料を実施例試料７０１、７０３〜７０５とした。また、前記の実施例試料３０９、および前記の実施例試料５０１、５０２、５０４、５０５、５０６、５０７、５０８を準備し、光学フィルムの表面抵抗値、垂直剥離帯電量、防塵性を評価した。詳細は下記表１１に記載する。
【０２７８】
【表１１】
2008026883.tif 000034
【０２７９】
表１１からわかるように、防塵性に優れる光学フィルムを得るためには、本発明の光学フィルムにおいて、２５℃６０％ＲＨでの垂直剥離帯電量の絶対値が、５００ｐｃ（ピコクーロン）／cm2以下が好ましく、より好ましくは、２００ｐｃ（ピコクーロン）／cm2以下であり、さらに好ましくは、１００ｐｃ（ピコクーロン）／cm2以下である。更にいっそう防塵性を強化するためには、本発明の光学フィルムの表面抵抗値を１×１０１１Ω／□未満、より好ましくは１×１０１０Ω／□未満、更に好ましくは１×１０９Ω／□未満にすることで達成できる。
【０２８０】
次に、実施例試料１０３の低屈折率層の溶剤組成を下記表１２に示すように変える以外、実施例試料１０３と全く同様に作製した試料を実施例試料８０１〜８３１とする。
【０２８１】
（低屈折率層の乾燥ムラの評価)
トリアセチルセルロースのＴＡＣ-ＴＤ８０Ｕ（富士フイルム（株）製、厚み８０μｍ）で作製した偏光板と、本発明の光学フィルムで作製した偏光板とをクロスニコルで貼りあわせ、検査用サンプルを作製した後、室内を暗室にし、スタンド式３波長蛍光灯にて、光学フィルム側表面の外観面状を目視評価（反射検査）した。１５満点で評価した。全く乾燥ムラが見えないレベルを１５点とした。
【０２８２】
【表１２】
2008026883.tif 000035
【０２８３】
沸点：メチルエチルケトン（８０℃）、メチルイソブチルケトン（１１３℃）、トルエン（１１１℃）、ブチルメチルケトン（１２７℃）、シクロヘキサノン（１５６℃）。
【０２８４】
表１２からわかるように、本発明の光学フィルムにおいて、低屈折率層の塗布液に含まれる溶剤のうち、沸点１２０℃以下の溶剤が、前記低屈折率層の塗布液溶剤の全質量の５０質量％〜１００質量％にすることで、低屈折率層の乾燥ムラ（面状）を良化することができ、より好ましくは、全質量の７０質量％〜１００質量％であり、最も好ましくは、全質量の９０質量％〜１００質量％である。このようにすることで、非常に優れた外観面状の光学フィルムを提供できた。
【０２８５】
（光学異方性層を有する偏光板での評価）
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。実施例試料１０３に鹸化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、実施例試料１０３の透明基材フィルム（セルローストリアセテート）が偏光膜側となるように偏光膜の片側に貼り付けた。また、下記の光学補償フィルム（ＫＨ−０１）をセルロースアセテートフィルムが偏光膜側になるようにポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の反対側に貼り付けた。偏光膜の透過軸とＫＨ−０１の遅相軸とは平行になるように配置した。このようにして光拡散層付き偏光板（ＨＫＨ−０１）を作製した。
【０２８６】
（ＫＨ−０１の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
【０２８７】
─────────────────────────────────
セルロースアセテート溶液組成
─────────────────────────────────
酢化度６０．９％のセルロースアセテート １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ３００質量部
メタノール（第２溶媒） ５４質量部
１−ブタノール（第３溶媒） １１質量部
─────────────────────────────────
【０２８８】
別のミキシングタンクに、波長分散制御として下記のレターデーション上昇剤２５質量部、メチレンクロライド８０質量部およびメタノール２０質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液を調製した。セルロースアセテート溶液４９３質量部にレターデーション上昇剤溶液７質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。レターデーション上昇剤の添加量は、セルロースアセテート１００質量部に対して、１．５質量部であった。
【０２８９】
【化２２】
2008026883.tif 000036
【０２９０】
得られたドープを、バンド流延機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が４０℃となってから、１分乾燥し、剥ぎ取った後、１４０℃の乾燥風で、残留溶剤量が０．３質量％のセルロースアセテートフィルム（厚さ：９０μｍ）を製造した。作製したセルロースアセテートフィルム（ＣＡＦ−０１）について、光学特性を測定した結果、Ｒｅレターデーション値は５ｎｍ、Ｒthレターデーション値は８０ｎｍであった。尚、光学特性は、エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、波長５５０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション値を測定した。
【０２９１】
作製したセルロースアセテートフィルムを、１．５Ｎの水酸化カリウム／（水／ＩＰＡ／ＰＧ＝１４／８６／１５ｖｏｌ％）を５ｃｃ／ｍ2 塗布し、約１０秒間６０℃に保持した後、フィルム表面に残った水酸化カリウムを水洗し、乾燥した。このセルロースアセテートフィルムの表面エネルギーを接触角法により求めたところ、６３ｍＮ／ｍであった。このセルロースアセテートフィルム上に、下記の組成の塗布液を＃１６のワイヤーバーコーターで２８ｍｌ／ｍ2 塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥した。次に、セルロースアセテートフィルムの長手方向と平行な方向に、形成した膜にラビング処理を実施した。
【０２９２】
─────────────────────────────────
配向膜塗布液組成
─────────────────────────────────
下記の変性ポリビニルアルコール １０質量部
水 ３７１質量部
メタノール １１９質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤） ０．５質量部
─────────────────────────────────
【０２９３】
【化２３】
2008026883.tif 000037
【０２９４】
（光学異方性層の形成）
配向膜上に、下記の円盤状（液晶性）化合物４１．０１ｇ、エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）４．０６ｇ、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５５１−０．２、イーストマンケミカル社製）０．９０ｇ、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）０．２３ｇ、光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）１．３５ｇ、増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．４５ｇを、１０２ｇのメチルエチルケトンに溶解した塗布液を、＃３．６のワイヤーバーで塗布した。これを１３０℃の恒温ゾーンで２分間加熱し、円盤状化合物を配向させた。次に、６０℃の雰囲気下で１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、１分間ＵＶ照射し円盤状化合物を重合させた。その後、室温まで放冷した。このようにして、光学異方性層を形成し、光学補償シート（ＫＨ−０１）を作製した。波長５５０ｎｍで測定した光学異方性層のＲｅレターデーション値は４３ｎｍであった。また、円盤面と第１透明支持体面との間の角度（傾斜角）は平均で４２゜であった。
【０２９５】
【化２４】
2008026883.tif 000038
【０２９６】
ＴＮ型液晶セルを使用した液晶表示装置（６Ｅ−Ａ３、シャープ（株）製）に設けられている一対の偏光板を剥がし、代わりに偏光板（ＨＫＨ−０１）を、ＫＨ−０１が液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側に貼り付けた。またバックライト側には、下記偏光板（ＨＫＨ−Ｈ１）を貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸と、バックライト側の偏光板の透過軸とは、Ｏモードとなるように配置した。作製した液晶表示装置について、測定機（EZ-Contrast１６０D、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）までの８段階で視野角を測定した。結果を第１３表に示す。
【０２９７】
また、光拡散層付き偏光板（ＨＫＨ−０１）の光学補償フィルム（ＫＨ−０１）の代わりに、市販のセルローストリアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士フイルム（株）製）に貼り付けた偏光板（ＨＫＨ−Ｈ１）を作製し、光拡散層付き偏光板（ＨＫＨ−０１）の評価と同様に測定した。結果を第１３表に示す。
【０２９８】
【表１３】
2008026883.tif 000039
【０２９９】
（註）黒側の階調反転： Ｌ１とＬ２との間の反転
【０３００】
光拡散層付き偏光板（ＨＫＨ−０１）の光学補償フィルム（ＫＨ−０１）の支持体を特開２００６−０３０９３７号公報に記載のフィルムに変更しても、同様の効果を示した。
【図面の簡単な説明】
【０３０１】
【図１】本発明の光学フィルムの構成を模式的に示す概略断面図である。
【符号の説明】
【０３０２】
１  支持体
２  ハードコート層
３  粒子
４  低屈折率層
５  ハードコート層第２層
６  ハードコート層第１層
【図１】
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