(57)【要約】【課題】希釈ガス設備を別途必要とせず、大容量の流量に対応する必要のない測定ガス希釈装置およびその方法ならびに水銀分析装置およびその方法により、装置の小型化とコストダウンを図ることを目的とする。【解決手段】測定ガス希釈装置１は、試料ガスの所定量を測定用ガスとして導入する測定用ガス流路１１と、試料ガスの所定量を希釈用ガスとして導入し希釈用ガスの流量を調節する希釈用ガス流量調節手段１１０および水銀を除去する水銀除去フィルタ１２０を有し、所定量の希釈ガスを生成する希釈ガス流路１３と、測定用ガス流路１１と希釈ガス流路１３とが接続され、測定ガスを生成する測定ガス流路１５と、測定用ガスの流量を調節する測定用ガス流量調節手段１００と、希釈用ガス流量調節手段１１０および測定用ガス流量調節手段１００を制御する流量制御手段１３０とを有する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料ガスの所定量が測定用ガスとして導入される測定用ガス流路と、
試料ガスの所定量が希釈用ガスとして導入される流路であって、前記希釈用ガスの流量を調節する希釈用ガス流量調節手段および前記希釈用ガス中に含有される水銀を除去する水銀除去フィルタを有し、所定量の希釈ガスを生成する希釈ガス流路と、
前記測定用ガス流路と前記希釈ガス流路とが接続され前記測定用ガスおよび前記希釈ガスが混合され、測定ガスを生成する測定ガス流路と、
前記測定用ガス流路の測定用ガスの流量を調節する測定用ガス流量調節手段、または前記測定ガスの流量を調節する測定ガス流量調節手段と、
前記希釈用ガス流量調節手段と、前記測定用ガス流量調節手段または測定ガス流量調節手段とを制御する流量制御手段と、
を有する測定ガス希釈装置。
【請求項２】
請求項１において、前記希釈ガス流路が前記測定用ガス流路から分岐して前記測定ガス流路に接続する分岐流路である測定ガス希釈装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の測定ガス希釈装置と、
水銀の分析線を放射する水銀ランプと、
前記測定ガスを内部に通過させるとともに、前記水銀の分析線を透過させる測定セルと、
前記測定セルを透過した水銀の分析線強度または前記測定セル中に存在する水銀から発生する水銀の蛍光強度を検出する検出器と、
前記検出器が検出した信号強度により測定ガス中の水銀の含有量を定量する定量手段と、
を有する水銀分析装置。
【請求項４】
試料ガス中に含有される水銀を水銀除去フィルタにより除去して希釈ガスを生成し、
試料ガスの所定量を測定用ガスとし、この所定量の測定用ガスと前記希釈ガスを混合して所定の希釈倍率の測定ガスを生成する測定ガス希釈方法。
【請求項５】
請求項４に記載の方法によって生成された測定ガスが内部を通過する測定セルに水銀ランプから放射される水銀ランプの発光線である分析線を透過させ、
前記測定セルを透過した水銀の分析線強度、または前記測定セル中に存在する水銀から発生する水銀の蛍光強度を検出器で検出し、
前記検出器で検出した信号強度により試料中の水銀の含有量を定量する水銀分析方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、原子吸光分析法または原子蛍光分析法によって、測定ガス中に含有される水銀を分析する場合に、測定ガスを希釈して測定する水銀分析装置およびその方法ならびに測定ガス希釈装置およびその方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から原子吸光分析法による水銀分析は、長年にわたり環境分析や品質管理分析などで広く使用されている（特許文献１）。また、原子蛍光分析法による水銀分析もかなり以前から使用されている。ゴミ焼却炉などの排ガスのオンライン分析では、排ガス中に含有される成分の濃度が高い場合、測定前に空気や窒素ガスなどの希釈ガスで試料ガスを希釈して測定している。
【特許文献１】特開２００１−３３４３４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかし、従来の装置や方法では、所定量の測定ガスに希釈倍率に応じた希釈ガスを混合させるため、別途、クリーンな希釈ガスを準備する必要があり、また希釈後の測定ガスの体積が数倍から数十倍に増加する。そのため、希釈ガス設備が別途必要であり、測定ガス流路、希釈ガス流路、流量調節手段などが大容量の流量に対応可能にしなければならず、装置が大型で装置の設置面積が大きくなり、また装置も高額になる。
【０００４】
本発明は前記従来の問題に鑑みてなされたもので、希釈ガス設備を別途必要とせず、大容量の流量に対応する必要のない測定ガス希釈装置およびその方法ならびに測定ガスを希釈して測定する水銀分析装置およびその方法を提供し、装置の小型化とコストダウンを図ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
前記目的を達成するために、本発明の第１構成にかかる測定ガス希釈装置は、試料ガスの所定量が測定用ガスとして導入される測定用ガス流路と、試料ガスの所定量が希釈用ガスとして導入される流路であって、前記希釈用ガスの流量を調節する希釈用ガス流量調節手段および前記希釈用ガス中に含有される水銀を除去する水銀除去フィルタを有し、所定量の希釈ガスを生成する希釈ガス流路と、前記測定用ガス流路と前記希釈ガス流路とが接続され前記測定用ガスおよび前記希釈ガスが混合され、測定ガスを生成する測定ガス流路と、前記測定用ガス流路の測定用ガスの流量を調節する測定用ガス流量調節手段、または前記測定ガスの流量を調節する測定ガス流量調節手段と、前記希釈用ガス流量調節手段と、前記測定用ガス流量調節手段または測定ガス流量調節手段とを制御する流量制御手段とを有する。
【０００６】
本発明の第１構成の装置によれば、希釈ガス設備を別途必要とせず、大容量の流量に対応する必要のない測定ガス希釈装置を提供し、装置の小型化とコストダウンを図ることができる。
【０００７】
本発明の第１構成の装置の好ましい実施形態では、前記希釈ガス流路が前記測定用ガス流路から分岐して前記測定ガス流路に接続する分岐流路である。
【０００８】
この構成によれば、試料ガスの導入口が１箇所にすることができるので、さらに装置の小型化とコストダウンを図ることができる。
【０００９】
本発明の第２構成にかかる水銀分析装置は、前記測定ガス希釈装置と、水銀の分析線を放射する水銀ランプと、前記測定ガスを内部に通過させるとともに、前記水銀の分析線を透過させる測定セルと、前記測定セルを透過した水銀の分析線強度または前記測定セル中に存在する水銀から発生する水銀の蛍光強度を検出する検出器と、前記検出器が検出した信号強度により測定ガス中の水銀の含有量を定量する定量手段とを有する。
【００１０】
本発明の第２構成の装置によれば、希釈ガス設備を別途必要とせず、大容量の流量に対応する必要はなく、測定ガスを希釈して測定する水銀分析装置を提供し、装置の小型化とコストダウンを図ることができる。
【００１１】
本発明の第３構成にかかる測定ガス希釈方法は、試料ガス中に含有される水銀を水銀除去フィルタにより除去して希釈ガスを生成し、試料ガスの所定量を測定用ガスとし、この所定量の測定用ガスと前記希釈ガスとを混合して所定の希釈倍率の測定ガスを生成する。
【００１２】
本発明の第３構成の方法によれば、希釈ガス設備を別途必要とせず、大容量の希釈ガスを取り扱うことがなく、操作が簡単で安価に試料ガスを希釈することができる。
【００１３】
本発明の第４構成にかかる水銀分析方法は、前記の第３構成の方法によって生成された測定ガスが内部を通過する測定セルに水銀ランプから放射される水銀ランプの発光線である分析線を透過させ、前記測定セルを透過した水銀の分析線強度、または前記測定セル中に存在する水銀から発生する水銀の蛍光強度を検出器で検出し、前記検出器で検出した信号強度により試料中の水銀の含有量を定量する。
【００１４】
本発明の第４構成の方法によれば、前記の第３構成の方法によって試料ガスを希釈して、生成した測定ガスを用いて水銀を分析するので、操作が簡単で安価に試料ガスを分析することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の第１実施形態である測定ガス希釈装置について説明する。図１に示すように、本測定ガス希釈装置１は、試料ガスの所定量を測定用ガスとして導入口１０から導入する測定用ガス流路１１と希釈ガス流路１３とが分岐する分岐部１２との間に測定用ガス流路１１の測定用ガスの流量を調節する測定用ガス流量調節手段１００、試料ガスの所定量を希釈用ガスとして分岐部１２から導入する希釈ガス流路１３に希釈用ガスの流量を調節する希釈用ガス流量調節手段１１０および希釈用ガス中に含有される水銀を除去する水銀除去フィルタ１２０を有し、測定用ガス流路１１と希釈ガス流路１３とが混合部１４で接続され測定用ガスおよび希釈ガスが混合され、測定ガスを生成する測定ガス流路１５を備え、導出口１６から測定ガスを導出する。
【００１６】
測定用ガス流路１１は、導入口１０→測定用ガス流量調節手段１００→分岐部１２→混合部１４の流路で形成される。希釈ガス流路１３は、分岐部１２→水銀除去フィルタ１２０→希釈用ガス流量調節手段１１０→混合部１４の流路で形成される。測定ガス流路１５は、混合部１４→導出口１６の流路で形成される。
【００１７】
測定用ガス流量調節手段１００は、空気ポンプ１０１およびマスフローメータ１０２を備え、導入口１０から試料ガスの所定量を導入するように流量制御手段１３０によって制御され試料ガス量を調節する。希釈用ガス流量調節手段１１０は、空気ポンプ１１１およびマスフローメータ１１２を備え、分岐部１２から試料ガスを導入し、所定量の希釈ガス量になるように流量制御手段１３０によって制御され希釈ガス量を調節する。流量制御手段１３０は空気ポンプ１０１、マスフローメータ１０２、空気ポンプ１１１およびマスフローメータ１１２を制御して所定量の所定希釈倍率の測定ガスを生成する。測定用ガス流量調節手段１００および希釈用ガス流量調節手段１１０は０．１〜１０リットル／分、好ましくは０．１〜２リットル／分の流量を調節する。希釈倍率は１〜１０倍、好ましくは２〜５倍に調節される。
【００１８】
水銀除去フィルタ１２０は、例えば石英ガラスで形成された円筒容器の入口と出口に石英ウールが詰められ、これらの石英ウールの中間に２０〜３０メッシュの粒状の金コーティングされたクロモソルブが充填されている。水銀除去剤である金コーティングクロモソルブに希釈用ガス中の水銀が吸着され、水銀が除去された希釈ガスが生成される。クロモソルブの粒径については上記に限らず、適宜に選択すればよい。水銀除去剤として、金コーティングした海砂や水銀専用粒状活性炭などを用いてもよい。
【００１９】
次に、本実施形態の測定ガス希釈装置１の動作について説明する。例えば、測定用ガス流量が１リットル／分、希釈ガス流量が０．８リットル／分の流量になるように流量制御手段１３０によって設定する。流量制御手段１３０によって、空気ポンプ１０１、マスフローメータ１０２、空気ポンプ１１１およびマスフローメータ１１２が稼動されると、例えば、ゴミ焼却炉の排気ガスである試料ガスが導入口１０から導入される。流量制御手段１３０によって測定用ガス流量調節手段１００が制御され、導入口１０→測定用ガス流量調節手段１００→分岐部１２の測定用ガス流路１１では、試料ガスである測定用ガスの流量が１リットル／分に調節される。
【００２０】
流量制御手段１３０によって希釈用ガス流量調節手段１１０が制御され、希釈ガス流路１３では、水銀除去フィルタ１２０を通過した希釈用ガスから水銀が除去され、生成された希釈ガスが０．８リットル／分の流量に調節される。このとき、分岐部１２→混合部１４の測定用ガス流路中の測定用ガス流量は０．２リットル／分の流量に調節される。０．８リットル／分の流量の希釈ガスと０．２リットル／分の流量の測定用ガスが混合部１４に導入、混合され、測定用ガスが５倍に希釈された測定ガスが生成される。生成された測定ガスは測定ガス流路１５を通り、導出口１６から導出する。
【００２１】
本実施形態では、測定用ガス流量調節手段１００は導入口１０と分岐部１２の間の流路に備えられているが、図２に示す測定ガス希釈装置２のように、混合部２４と導出口２６の間の測定ガス流路２５に測定ガス流量調節手段１４０と流量制御手段１５０を備えてもよい。また、図３に示す測定ガス希釈装置３のように、分岐部３２と混合部３４の間の測定用ガス流路３１に測定用ガス流量調節手段１００を備えてもよい。
【００２２】
本実施形態によれば、希釈ガス設備を別途必要とせず、大容量の流量に対応する必要のない測定ガス希釈装置を提供すると共に、試料ガスの導入口を１箇所にすることができるので、装置の小型化と大幅なコストダウンを図ることができる。
【００２３】
以下、本発明の第２実施形態である測定ガス希釈装置について説明する。図４に示すように、本測定ガス希釈装置４は、試料ガスの所定量を測定用ガスとして導入口４０から導入する測定用ガス流路４１と混合部４４との間に測定用ガス流路４１の測定用ガスの流量を調節する測定用ガス流量調節手段１００、試料ガスの所定量を希釈用ガスとして導入口４２から導入する希釈ガス流路４３に希釈用ガスの流量を調節する希釈用ガス流量調節手段１１０および希釈用ガス中に含有される水銀を除去する水銀除去フィルタ１２０を有し、測定用ガス流路４１と希釈ガス流路４３とが混合部４４で接続され測定用ガスおよび希釈ガスが混合され、測定ガスを生成する測定ガス流路４５を備え、導出口４６から測定ガスを導出する。
【００２４】
測定用ガス流路４１は、導入口４０→測定用ガス流量調節手段１００→混合部４４の流路で形成される。希釈ガス流路４３は、導入口４２→水銀除去フィルタ１２０→希釈用ガス流量調節手段１１０→混合部４４の流路で形成される。測定ガス流路４５は、混合部４４→導出口４６の流路で形成される。本実施形態では、試料ガスの導入口が測定用ガス導入口４０と希釈用ガス導入口４２の２箇所備えられている点で第１実施形態と異なっているが、測定用ガス流量調節手段１００、希釈用ガス流量調節手段１１０、流量制御手段１３０、水銀除去フィルタ１２０は、前記の第１実施形態と同様の構成である。
【００２５】
次に、本実施形態の測定ガス希釈装置４の動作について説明する。例えば、測定用ガス流量が０．２リットル／分、希釈ガス流量が０．８リットル／分の流量になるように流量制御手段１３０によって設定する。流量制御手段１３０によって、空気ポンプ１０１、マスフローメータ１０２、空気ポンプ１１１およびマスフローメータ１１２が稼動されると、例えば、ゴミ焼却炉の排気ガスである試料ガスが導入口４０および４２から導入される。流量制御手段１３０によって測定用ガス流量調節手段１００が制御され、導入口４０→測定用ガス流量調節手段１００→混合部４４の測定用ガス流路４１では、測定用ガス流量が０．２リットル／分に調節される。
【００２６】
流量制御手段１３０によって希釈用ガス流量調節手段１１０が制御され、希釈ガス流路４３では、水銀除去フィルタ１２０を通過した希釈用ガスから水銀が除去され、生成された希釈ガスが０．８リットル／分の流量に調節される。０．２リットル／分の流量の測定用ガスと０．８リットル／分の流量の希釈ガスが混合部４４に導入、混合され、測定用ガスが５倍に希釈された１リットル／分の流量の測定ガスが生成される。生成された測定ガスは測定ガス流路４５を通り、導出口４６から導出する。
【００２７】
本実施形態では、測定用ガス流量調節手段１００は導入口４０と混合部４４の間の流路に備えられているが、図５に示す測定ガス希釈装置２の変形例である測定ガス希釈装置５のように、混合部５４と導出口５６の間の測定ガス流路５５に測定ガス流量調節手段１４０と流量制御手段１５０を備えてもよい。
【００２８】
本実施形態によれば、希釈ガス設備を別途必要とせず、大容量の流量に対応する必要のない測定ガス希釈装置を提供するので、装置の小型化とコストダウンを図ることができる。
【００２９】
以下、本発明の第３実施形態である水銀分析装置について説明する。図６に示すように、本水銀分析装置６は、第１実施形態の変形例である測定ガス希釈装置２と水銀測定部８とを備え、水銀測定部８は、水銀の分析線である２５３．７ｎｍの紫外線を放射する水銀ランプ６１、測定ガスを導入する測定セル６２、水銀ランプ６１と測定セル６２の間にハーフミラー６７、ハーフミラー６７で反射した水銀ランプ６１からの２５３．７ｎｍの紫外線を検出する参照側検出器６５、測定セル６２を透過した水銀ランプ６１からの２５３．７ｎｍの紫外線を検出する試料側検出器６３、および検出器６３と６５で検出された信号を比較し、処理することにより測定ガス中の水銀濃度を定量する定量手段６４を備えており、測定ガス希釈装置２の測定ガス流量調節手段１４０は測定セル６２から測定ガスが導出する後段に備えられている。したがって、混合部２４→測定セル６２→測定ガス流量調節手段１４０→導出口２６の流路が測定ガス流路２５を形成する。
【００３０】
測定ガス希釈装置２の流量制御手段１５０と定量手段６４は電気的に接続されており、定量手段６４から測定ガスの測定値の信号が流量制御手段１５０に送信される。例えば、測定ガスの測定値が、フルスケールの９０％以上の値を示す場合には、流量制御手段１５０によって自動的に希釈倍率を大きくされる。
【００３１】
次に、本実施形態の水銀分析装置６の動作について説明する。例えば、測定ガス流量が１リットル／分、希釈ガス流量が０．８リットル／分の流量になるように流量制御手段１５０によって設定する。流量制御手段１５０によって、空気ポンプ１０１、マスフローメータ１０２、空気ポンプ１４１およびマスフローメータ１４２が稼動されると、例えば、ゴミ焼却炉の排気ガスである試料ガスが導入口２０から導入される。流量制御手段１５０によって測定ガス流量調節手段１４０が制御され、測定ガス流量が１リットル／分に調節される。
【００３２】
流量制御手段１５０によって希釈用ガス流量調節手段１００が制御され、希釈ガス流路２３では、水銀除去フィルタ１２０を通過した希釈用ガスから水銀が除去され、生成された希釈ガスが０．８リットル／分の流量に調節される。この流量制御により、導入口２０→分岐部２２の測定用ガス流路２１では、測定用ガス流量が１リットル／分に調節され、分岐部２２→混合部２４の測定用ガス流路２１では、０．２リットル／分の流量に調節される。０．８リットル／分の流量の希釈ガスと０．２リットル／分の流量の測定用ガスが混合部２４に導入、混合され、測定用ガスが５倍に希釈された測定ガスが生成される。生成された測定ガスは測定ガス流路２５を通り、測定セル６２に入る。
【００３３】
測定セル６２の入射窓に水銀ランプ６１から分析線である２５３．７ｎｍの紫外線が照射され、測定セル６２を透過し出射窓より出射した分析線強度を検出器６３が検出すると同時に、参照光が検出器６５によって検出されており、測定を開始すると、定量手段６４が信号処理を開始し、測定ガス中の水銀を定量する。本実施形態の水銀分析装置は原子吸光方式であり、水銀ランプ６１から照射される２５３．７ｎｍの紫外線は、測定セル６２中に存在する水銀量に応じて減光され分析線強度が減少する、その分析線強度の減少量に応じて水銀量を定量する。
【００３４】
前記では、測定ガス流量が１リットル／分、希釈ガス流量が０．８リットル／分の流量になるように流量制御手段１５０によって設定したが、測定ガス流量または測定用ガス流量と希釈倍率を設定してもよい。
【００３５】
測定値がフルスケールの９０％以上になった場合には、流量制御手段１５０によって、測定ガスが現在の希釈倍率の２倍になるように自動的に設定、希釈され、測定される。測定された結果、また測定値がフルスケールの９０％以上になる場合には、さらに例えば、３倍、５倍、１０倍などの希釈倍率に順次増大させて測定する。測定値がフルスケールの９０％未満になると、その希釈倍率が流量制御手段１５０により定量手段６４に送られ、その希釈倍率と測定値とを演算して試料ガス中の水銀量が定量される。
【００３６】
本実施形態によれば、希釈ガス設備を別途必要とせず、大容量の流量に対応する必要がなくなるので、水銀分析装置の小型化と大幅なコストダウンを図ることができる。
【００３７】
なお、本実施形態では、ダブルビーム方式の水銀分析装置について説明したが、本発明の信号処理手段はシングルビーム方式の水銀分析装置にも使用することができ、本実施形態と同様の作用効果を得ることができる。
【００３８】
以下、本発明の第４実施形態である水銀分析装置について説明する。図７に示すように、本水銀分析装置７は第３実施形態の変形例であり、水銀分析装置６に、還元反応器７０を測定ガス希釈装置２の導入口２０の前段階にさらに備えている。還元反応器７０は還元剤が容器内に充填されている。この還元剤の作用により試料ガス中に含有されている塩化第二水銀中の２価水銀を０価水銀（金属水銀）に還元する。したがって、本水銀分析装置７の場合の水銀除去フィルタは金属水銀を除去できる粒状活性炭や金コーティングされた海砂などの水銀除去剤が好ましい。
【００３９】
本実施形態の水銀分析装置７は、還元反応器７０によって試料ガス中の２価水銀が金属水銀に還元される作用以外は第３実施形態の水銀分析装置６と同様であるので、装置の動作説明は省略する。
【００４０】
第４実施形態によれば、第３実施形態と同様の作用効果を有するとともに、試料ガス中に２価水銀および０価水銀が含有されていても全水銀量を測定することができる。なお、流量制御手段１３０と１５０は装置と一体化されていても、外部コンピュータであってもよい。
【００４１】
次に、第５実施形態の測定ガス希釈方法について説明する。例えば、ゴミ焼却炉の排気ガスである試料ガスを空気ポンプやマスフローメータなどを用いて所定量を希釈ガス流路に導入し、試料ガス中に含有される水銀を第１実施形態で記載した金コーティングされたクロモソルブが充填されている水銀除去フィルタにより除去して希釈ガスを生成する。試料ガスの所定量を空気ポンプやマスフローメータなどを用いて測定用ガスとして測定用ガス流路に導入する。この所定量の測定用ガスと所定量の希釈ガスとを混合して所定の希釈倍率の測定ガスを生成する。
【００４２】
本実施形態によれば、希釈ガス設備を別途必要とせず、大容量の流量に対応する必要がなくなるので、操作が簡単になり大幅なコストダウンを図ることができる。
【００４３】
次に、第６実施形態の水銀分析方法について説明する。本実施形態の水銀分析方法は、第５実施形態の測定ガス希釈方法によって生成された測定ガスを、図６または図７に記載する水銀測定部８の測定セル６２に水銀ランプから放射される水銀ランプ６１の発光線である分析線を透過させ、測定セル６２を透過した水銀の分析線の強度を検出器６３で検出すると同時に、試料参照光が検出器６５によって検出されており、測定を開始すると、定量手段６４が信号処理を開始し、測定ガス中の水銀を定量する。
【００４４】
第６実施形態によれば、希釈ガス設備を別途必要とせず、大容量の流量に対応する必要がなくなるので、操作が簡単で大幅なコストダウンを図ることができる。
【００４５】
本発明において、測定ガスや測定用ガスが接触する各流路の配管内面やガス流量調節手段のガス流路内面については水銀が吸着しない材料で形成される必要がある。各流路の配管内面やガス流量調節手段のガス流路内面に水銀が吸着される場合には、図６〜８に示すように、測定セルの後段に測定ガス流量調節手段を配置する必要がある。
【００４６】
第３〜第６実施形態では、原子吸光方式の分析装置や分析方法について説明したが、原子蛍光方式の分析装置や分析方法であってもよい。水銀原子蛍光分析装置は、例えば、図６および７に示す水銀分析装置の水銀測定部８と異なり、図８の水銀測定部９に示すように、水銀ランプ８１から放射される分析線が入射しない位置であり、かつ測定セル８２に導入された測定ガス中に存在する水銀から発生する水銀の蛍光を検出できる位置に配置された検出器８３と、検出器８３が検出した水銀の蛍光強度により測定ガス中の水銀の含有量を定量する定量手段８４とを有している。原子蛍光分析方式の装置では、水銀ランプ８１から照射される２５３．７ｎｍの紫外線を測定セル８２中に存在する水銀に照射すると、測定セル８２中の水銀から蛍光が発生する。この発生した蛍光強度を検出する検出器８３の信号強度に応じて測定セル８２中の水銀量を定量する。水銀原子蛍光分析方法はこのような水銀原子蛍光分析装置を用いて分析する。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】本発明の第１実施形態である測定ガス希釈装置の概略ブロック図である。
【図２】同装置の変形例の概略ブロック図である。
【図３】同装置の他の変形例の概略ブロック図である。
【図４】本発明の第２実施形態である測定ガス希釈装置の概略ブロック図である。
【図５】同装置の変形例の概略ブロック図である。
【図６】本発明の第３実施形態である水銀分析装置の概略ブロック図である。
【図７】本発明の第４実施形態である水銀分析装置の概略ブロック図である。
【図８】本発明の第３実施形態である水銀分析装置の変形例の概略ブロック図である。
【符号の説明】
【００４８】
１、２、３、４、５  測定ガス希釈装置
６、７  水銀分析装置
１１、２１、３１、４１  測定用ガス用流路
１２、２２、３２  分岐部
１３、２３、４３  希釈ガス流路
１４、２４、３４、４４、５４  混合部
１５、２５、４５、５５、  測定ガス流路
６１、８１  水銀ランプ
６２、８２  測定セル
６３、８３  試料側検出器
６５  参照側検出器
６４  定量手段
１００  測定ガス用流量調節手段
１１０  希釈ガス流量調節手段
１４０  測定ガス流量調節手段
１２０  水銀除去フィルタ
１３０、１５０  流量制御手段
【図１】
2008292215.tif 000003
【図２】
2008292215.tif 000004
【図３】
2008292215.tif 000005
【図４】
2008292215.tif 000006
【図５】
2008292215.tif 000007
【図６】
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【図７】
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【図８】
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