(57)【要約】【課題】垂直磁気記録媒体の軟磁性下地層の磁壁に起因するノイズを低減する。【解決手段】基板上に軟磁性層と磁性層とが積層形成されてなる円盤状の垂直磁気記録媒体(10)に対して垂直方向の直流磁界を印加する初期磁化工程と、初期磁化工程後の垂直磁気記録媒体(10)に対し、当該垂直磁気記録媒体の中心から外側に向かう半径方向に、１００[Ｏｅ]から逆磁区核形成磁界Ｈｎの以下値の面内磁界をかけて磁気的なクリーニングを行う初期磁化クーニング工程とを実施する。その後、マスター媒体を密着させ、初期磁化工程と逆方向の転写磁界を印加することで磁気転写を行う。上記初期磁化クリーニングに代えて、又はこれと組み合わせて、転写工程の後、若しくは転写工程と同時に、半径方向に、１００[Ｏｅ]からＨｎの以下値の面内磁界をかけて磁気的なクリーニングを実施してもよい。【選択図】    図１１
2008257753.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に軟磁性層と磁性層とが積層形成されてなる円盤状の垂直磁気記録媒体に対して垂直方向の直流磁界を印加することにより初期磁化を行う初期磁化工程と、
前記初期磁化工程後の前記垂直磁気記録媒体に対し、当該垂直磁気記録媒体の中心から外側に向かう半径方向に、１００[Ｏｅ]から前記磁性層の逆磁区核形成磁界Ｈｎの以下値の面内磁界をかける初期磁化クーニング工程と、
前記初期磁化クリーニング工程後の前記垂直磁気記録媒体に対して、転写用の情報信号に対応する凹凸パターンを有するマスター媒体を重ね合わせ、前記垂直磁気記録媒体に前記凹凸パターンを密着させる密着工程と、
前記垂直磁気記録媒体と前記マスター媒体を密着させた状態で磁界を印加し、前記情報信号を前記垂直磁気記録媒体の前記磁性層に磁気転写する転写工程と、
を有することを特徴とする磁気転写方法。
【請求項２】
基板上に軟磁性層と磁性層とが積層形成されてなる円盤状の垂直磁気記録媒体に対して垂直方向の直流磁界を印加することにより初期磁化を行う初期磁化工程と、
前記初期磁化工程後の前記垂直磁気記録媒体に対して、転写用の情報信号に対応する凹凸パターンを有するマスター媒体を重ね合わせ、前記垂直磁気記録媒体に前記凹凸パターンを密着させる密着工程と、
前記垂直磁気記録媒体と前記マスター媒体を密着させた状態で前記初期磁化工程と逆方向の垂直磁界を印加して、前記情報信号を前記垂直磁気記録媒体の前記磁性層に磁気転写する転写工程と、
前記転写工程後の前記垂直磁気記録媒体に対し、当該垂直磁気記録媒体の中心から外側に向かう半径方向に、１００［Ｏｅ］から前記磁性層の逆磁区核形成磁界Ｈｎの以下値の面内磁界をかける転写後クリーニング工程と、
を有することを特徴とする磁気転写方法。
【請求項３】
基板上に軟磁性層と磁性層とが積層形成されてなる円盤状の垂直磁気記録媒体に対して垂直方向の直流磁界を印加することにより初期磁化を行う初期磁化工程と、
前記初期磁化工程後の前記垂直磁気記録媒体に対して、転写用の情報信号に対応する凹凸パターンを有するマスター媒体を重ね合わせ、前記垂直磁気記録媒体に前記凹凸パターンを密着させる密着工程と、
前記垂直磁気記録媒体と前記マスター媒体を密着させた状態で前記初期磁化工程と逆方向の垂直磁界を印加して、前記情報信号を前記垂直磁気記録媒体の前記磁性層に磁気転写する工程と同時に、前記垂直磁気記録媒体に対し、当該垂直磁気記録媒体の中心から外側に向かう半径方向に、１００［Ｏｅ］から前記磁性層の逆磁区核形成磁界Ｈｎの以下値の面内磁界をかける工程を実施する転写中クーニング工程と、
を有することを特徴とする磁気転写方法。
【請求項４】
基板上に軟磁性層と磁性層とが積層形成されてなる円盤状の垂直磁気記録媒体に対して、当該垂直磁気記録媒体の垂線を０度としたとき、当該垂線から円周方向に±５０度の範囲で傾きを持たせた斜め方向の磁界を印加することにより初期磁化を行う初期磁化工程と、
前記初期磁化後の前記垂直磁気記録媒体に対して、転写用の情報信号に対応する凹凸パターンを有するマスター媒体を重ね合わせ、前記垂直磁気記録媒体に前記凹凸パターンを密着させる密着工程と、
前記垂直磁気記録媒体と前記マスター媒体を密着させた状態で磁界を印加し、前記情報信号を前記垂直磁気記録媒体の前記磁性層に磁気転写する転写工程と、
を有することを特徴とする磁気転写方法。
【請求項５】
基板上に軟磁性層と磁性層とが積層形成されてなる円盤状の垂直磁気記録媒体に対して垂直方向の成分を有する直流磁界を印加することにより初期磁化を行う初期磁化工程と、
前記初期磁化工程後の前記垂直磁気記録媒体に対して、転写用の情報信号に対応する凹凸パターンを有するマスター媒体を重ね合わせ、前記垂直磁気記録媒体に前記凹凸パターンを密着させる密着工程と、
前記垂直磁気記録媒体と前記マスター媒体を密着させた状態で、前記初期磁化工程と逆方向の垂直方向の成分を有する磁界を印加して、前記情報信号を前記垂直磁気記録媒体の前記磁性層に磁気転写する転写工程と、を有し、
前記転写工程は、前記垂直磁気記録媒体の垂線を０度としたとき、当該垂線から円周方向に±５０度の範囲で傾きを持たせた斜め方向の磁界を印加することを特徴とする磁気転写方法。
【請求項６】
請求項１乃至５の何れか１項に記載の磁気転写方法によりサーボ信号情報が記録されたことを特徴とする磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気転写方法及びこれにより作製された磁気記録媒体に係り、特に、記録磁化の方向が媒体面に垂直な垂直磁気記録方式の磁気記録媒体（磁気ディスク）にサーボ情報等の磁気情報パターンを磁気転写する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、磁気記録再生装置は、小型でかつ大容量を実現するために、記録密度の高密度化の傾向にあり、特に、代表的な磁気記憶装置であるハードディスクドライブ（ＨＤＤ）の分野では、技術の進歩が急激である。
【０００３】
このような情報量の増加に伴い、多くの情報を記録することができる大容量で、安価で、かつ、好ましくは短時間で必要な箇所が読み出せる、いわゆる高速アクセスが可能な高密度磁気記録媒体が望まれている。これらの高密度磁気記録媒体は、情報記録領域が狭トラックで構成されており、狭いトラック幅において正確に磁気ヘッドを走査させて高いＳ／Ｎで信号を再生するために、いわゆるトラッキングサーボ技術が大きな役割を担っている。このトラッキングサーボを行うためにセクターサーボ方式が広く採用されている。
【０００４】
セクターサーボ方式とは、磁気ディスク等の磁気記録媒体のデータ面に、一定角度等で正しく配列されたサーボフィールドに、トラック位置決めのためのサーボ信号や、そのトラックのアドレス情報信号、再生クロック信号等のサーボ情報を記録しておき、磁気ヘッドが、このサーボフィールドを走査してサーボ情報を読み取り自らの位置を確認しつつ修正する方式である。
【０００５】
サーボ情報は、磁気記録媒体の製造時にプリフォーマットとして予め磁気記録媒体に記録する必要があり、現在は専用のサーボ記録装置を用いてプリフォーマットが行われている。現在用いられているサーボ記録装置は、例えばトラックピッチの７５％程度のヘッド幅を有する磁気ヘッドを備え、磁気ヘッドを磁気ディスクに近接させた状態で、磁気ディスクを回転させつつ、１／２トラック毎に磁気ディスクの外周から内周に移動させつつサーボ信号を記録する。そのため、１枚の磁気ディスクのプリフォーマット記録に長時間を要し、生産効率の点で問題があり、コストアップの要因となっている。
【０００６】
このため、特許文献１、２では、プリフォーマットを正確にかつ効率的に行う方法として、サーボ情報に対応したパターンが形成されているマスター記録媒体の情報を磁気記録媒体に磁気転写する方法が開示されている。
【０００７】
この磁気転写は、転写用磁気ディスク等の磁気記録媒体（スレーブ媒体）に転写すべき情報に応じて凹凸パターンからなる転写パターンを有するマスター記録媒体を用い、このマスター記録媒体と磁気記録媒体とを密着させた状態で、記録用磁界を印加することにより、マスター記録媒体の凹凸パターンにより記録されている情報（例えばサーボ情報）に対応する磁気パターンを磁気記録媒体に磁気的に転写するものである。この方法では、マスター記録媒体と磁気記録媒体との相対的な位置を変化させることなく静的に記録を行うことができ、正確なプリフォーマット情報の記録が可能であり、しかも記録に要する時間も極めて短時間であるという利点を有している。
【０００８】
特許文献１は記録される磁化の向きが媒体面と平行な面内磁気記録方式の磁気転写技術を開示しており、特許文献２は記録される磁化の向きが媒体面と垂直な垂直磁気記録方式の磁気転写技術を開示している。
【０００９】
垂直磁気記録方式は、面内磁気記録方式に比べて、記録密度の大幅な向上が期待できるため、近時の更なる高記録密度化の要望に伴い、垂直磁気記録技術の開発が進められ、実用化に至っている。
【特許文献１】特開２００３−２７２１４２号公報
【特許文献２】特開２００１−２９７４３５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、垂直磁気記録媒体は、記録層（磁性層）の下層に形成される軟磁性下地層（裏打ち層ともいう。）の磁壁に起因する磁界がノイズとして重畳されるという課題がある。
【００１１】
また、垂直磁気記録媒体に対してサーボ情報等を磁気転写する場合、記録層の保磁力Ｈｃ付近の磁界を印加することが行われているが、一層の高記録密度化のためには、より高い保磁力Ｈｃが必要になり、これに適した高い転写磁界を印加する装置を用意することが必要となる。したがって、低い転写磁界で高品質に転写できる技術が望まれる。
【００１２】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、垂直磁気記録媒体の軟磁性下地層に起因するノイズを低減し、良好な再生信号を得ることができる磁気転写方法及びこれにより作製された磁気記録媒体を提供することを目的とする。また、本発明は、垂直磁気記録媒体に対して低い転写磁界で高品質に転写できる磁気転写方法及びこれにより作製された磁気記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
前記目的を達成するために、本発明に係る磁気転写方法（発明１）は、基板上に軟磁性層と磁性層とが積層形成されてなる円盤状の垂直磁気記録媒体に対して垂直方向の直流磁界を印加することにより初期磁化を行う初期磁化工程と、前記初期磁化工程後の前記垂直磁気記録媒体に対し、当該垂直磁気記録媒体の中心から外側に向かう半径方向に、１００［Ｏｅ］から前記磁性層の逆磁区核形成磁界Ｈｎの以下値の面内磁界をかける初期磁化クーニング工程と、前記初期磁化クリーニング工程後の前記垂直磁気記録媒体に対して、転写用の情報信号に対応する凹凸パターンを有するマスター媒体を重ね合わせ、前記垂直磁気記録媒体に前記凹凸パターンを密着させる密着工程と、前記垂直磁気記録媒体と前記マスター媒体を密着させた状態で磁界を印加し、前記情報信号を前記垂直磁気記録媒体の前記磁性層に磁気転写する転写工程と、を有することを特徴とする。
【００１４】
また、本発明による他の磁気転写方法（発明２）は、基板上に軟磁性層と磁性層とが積層形成されてなる円盤状の垂直磁気記録媒体に対して垂直方向の直流磁界を印加することにより初期磁化を行う初期磁化工程と、前記初期磁化工程後の前記垂直磁気記録媒体に対して、転写用の情報信号に対応する凹凸パターンを有するマスター媒体を重ね合わせ、前記垂直磁気記録媒体に前記凹凸パターンを密着させる密着工程と、前記垂直磁気記録媒体と前記マスター媒体を密着させた状態で前記初期磁化工程と逆方向の垂直磁界を印加して、前記情報信号を前記垂直磁気記録媒体の前記磁性層に磁気転写する転写工程と、前記転写工程後の前記垂直磁気記録媒体に対し、当該垂直磁気記録媒体の中心から外側に向かう半径方向に、１００［Ｏｅ］から前記磁性層の逆磁区核形成磁界Ｈｎの以下値の面内磁界をかける転写後クリーニング工程と、を有することを特徴とする。
【００１５】
更に本発明の他の磁気転写方法（発明３）は、基板上に軟磁性層と磁性層とが積層形成されてなる円盤状の垂直磁気記録媒体に対して垂直方向の直流磁界を印加することにより初期磁化を行う初期磁化工程と、前記初期磁化工程後の前記垂直磁気記録媒体に対して、転写用の情報信号に対応する凹凸パターンを有するマスター媒体を重ね合わせ、前記垂直磁気記録媒体に前記凹凸パターンを密着させる密着工程と、前記垂直磁気記録媒体と前記マスター媒体を密着させた状態で前記初期磁化工程と逆方向の垂直磁界を印加して、前記情報信号を前記垂直磁気記録媒体の前記磁性層に磁気転写する工程と同時に、前記垂直磁気記録媒体に対し、当該垂直磁気記録媒体の中心から外側に向かう半径方向に、１００［Ｏｅ］から前記磁性層の逆磁区核形成磁界Ｈｎの以下値の面内磁界をかける工程を実施する転写中クーニング工程と、を有することを特徴とする。
【００１６】
また、前記目的を達成するために、本発明（発明４）は、基板上に軟磁性層と磁性層とが積層形成されてなる円盤状の垂直磁気記録媒体に対して、当該垂直磁気記録媒体の垂線を０度としたとき、当該垂線から円周方向に±５０度の範囲で傾きを持たせた斜め方向の磁界を印加することにより初期磁化を行う初期磁化工程と、前記初期磁化後の前記垂直磁気記録媒体に対して、転写用の情報信号に対応する凹凸パターンを有するマスター媒体を重ね合わせ、前記垂直磁気記録媒体に前記凹凸パターンを密着させる密着工程と、前記垂直磁気記録媒体と前記マスター媒体を密着させた状態で磁界を印加し、前記情報信号を前記垂直磁気記録媒体の前記磁性層に磁気転写する転写工程と、を有することを特徴とする磁気転写方法を提供する。
【００１７】
更に他の本発明（発明５）は、基板上に軟磁性層と磁性層とが積層形成されてなる円盤状の垂直磁気記録媒体に対して垂直方向の成分を有する直流磁界を印加することにより初期磁化を行う初期磁化工程と、前記初期磁化工程後の前記垂直磁気記録媒体に対して、転写用の情報信号に対応する凹凸パターンを有するマスター媒体を重ね合わせ、前記垂直磁気記録媒体に前記凹凸パターンを密着させる密着工程と、前記垂直磁気記録媒体と前記マスター媒体を密着させた状態で、前記初期磁化工程と逆方向の垂直方向の成分を有する磁界を印加して、前記情報信号を前記垂直磁気記録媒体の前記磁性層に磁気転写する転写工程と、を有し、前記転写工程は、前記垂直磁気記録媒体の垂線を０度としたとき、当該垂線から円周方向に±５０度の範囲で傾きを持たせた斜め方向の磁界を印加することを特徴とする。
【００１８】
上述した各発明１〜５の構成は適宜組み合わせて実施する態様も可能である。
【００１９】
また、本発明は上記の発明１〜５の何れか１項に記載の磁気転写方法によりサーボ信号情報が記録されたことを特徴とする垂直磁気記録媒体を提供する。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、軟磁性下地層に起因するノイズを低減できるため、記録再生等の精度を向上させることができ、エラーの少ない高品質の垂直磁気記録媒体を製造することが可能である。また、本発明によれば、転写時の印加磁界の低減が可能であり、従来よりも低磁界で高精度に磁気転写することができ、磁界印加装置の小規模化や低消費電力化を達成できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、添付図面にしたがって本発明の好ましい実施の形態について詳説する。
【００２２】
初めに、図１を用いて垂直磁気記録の磁気転写技術を概説する。図１は垂直磁気記録の磁気転写方法の工程を示す概要図である。同図において、符号１０は被転写用の磁気ディスクとしてのスレーブディスク（「垂直磁気記録媒体」に相当）、符号２０はマスター媒体としてのマスターディスクを表す。
【００２３】
まず、図１（ａ）に示すように、スレーブディスク１０に垂直方向の直流磁界（Ｈｉ）をかけて初期磁化を行い（初期磁化工程）、その後、図１（ｂ）のように、マスターディスク２０とスレーブディスク１０を密着させ（密着工程）、両ディスク１０，２０を密着させた状態で、図１（ｃ）のように、初期磁化の際とは逆方向の磁界（Ｈｄ）を印加することにより磁気転写を行う（転写工程）。
【００２４】
〔転写用磁気ディスク（スレーブディスク）の説明〕
本例で用いるスレーブディスク１０は、円盤状の基板の表面の片面或いは、両面に垂直磁化膜からなる磁性層が形成されたものであり、具体的には、高密度ハードディスク等が挙げられる。
【００２５】
図２にスレーブディスク１０の断面模式図を示す。図２に示すように、スレーブディスク１０は、ガラスなど非磁性の基板１２上に、軟磁性層（軟磁性下地層；ＳＵＬ）１３、非磁性層（中間層）１４、磁性層（垂直磁気記録層）１６が順次積層形成された構造からなり、磁性層１６の上は更に保護層１８と潤滑層１９とで覆われている。なお、ここでは、基板１２の片面に磁性層１６を形成した例を示すが、基板１２の表裏両面に磁性層を形成する態様も可能である。
【００２６】
円盤状の基板１２は、ガラスやＡｌ（アルミニウム）等の非磁性材料から構成されており、この基板１２上に軟磁性層１３を形成した後、非磁性層１４と、磁性層１６を形成する。
【００２７】
軟磁性層１３は、磁性層１６の垂直磁化状態を安定させ、記録再生時の感度を向上させるために有益である。軟磁性層１３に用いられる材料は、ＣｏＺｒＮｂ、ＦｅＴａＣ、ＦｅＺｒＮ、ＦｅＳｉ合金、ＦｅＡｌ合金、パーマロイなどＦｅＮｉ合金、パーメンジュールなどのＦｅＣｏ合金等の軟磁性材料が好ましい。この軟磁性層１３は、ディスクの中心から外側に向かって半径方向に（放射状に）磁気異方性が付けられている。
【００２８】
軟磁性層１３の厚さは、５０ｎｍ〜２０００ｎｍであることが好ましく、８０ｎｍ〜４００ｎｍであることが更に好ましい。
【００２９】
非磁性層１４は、後に形成する磁性層１６の垂直方向の磁気異方性を大きくする等の理由により設けられる。非磁性層１４に用いられる材料は、Ｔｉ（チタン）、Ｃｒ（クロム）、ＣｒＴｉ、ＣｏＣｒ、ＣｒＴａ、ＣｒＭｏ、ＮｉＡｌ、Ｒｕ（ルテニウム）、Ｐｄ（パラジウム）等が好ましい。非磁性層１４は、スパッタリング法により上記材料を成膜することにより形成される。非磁性層１４の厚さは、１０ｎｍ〜１５０ｎｍであることが好ましく、２０ｎｍ〜８０ｎｍであることが更に好ましい。
【００３０】
磁性層１６は、垂直磁化膜により形成されており、この磁性層１６に情報が記録される。磁性層１６に用いられる材料は、Ｃｏ（コバルト）、Ｃｏ合金（ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＣｒ、ＣｏＰｔＣｒＴａ、ＣｏＰｔＣｒＮｂＴａ、ＣｏＣｒＢ、ＣｏＮｉ等）、Ｆｅ、Ｆｅ合金（ＦｅＣｏ、ＦｅＰｔ、ＦｅＣｏＮｉ等）等が好ましい。これらの材料は、磁束密度が大きく、成膜条件や組成を調整することにより垂直の磁気異方性を有している。磁性層１６は、スパッタリング法により上記材料を成膜することにより形成される。磁性層１６の厚さは、１０ｎｍ〜５００ｎｍであることが好ましく、２０ｎｍ〜２００ｎｍであることが更に好ましい。
【００３１】
本実施の形態では、スレーブディスク１０の基板１２として、外形６５ｍｍの円盤状のガラス基板を用い、スパッタリング装置のチャンバー内にガラス基板を設置し、１．３３×１０−５Ｐａ（１．０×１０−７Ｔｏｒｒ）まで減圧した後、チャンバー内にＡｒ（アルゴン）ガスを導入し、チャンバー内にあるＣｏＺｒＮｂターゲットを用い、同じくチャンバー内の基板の温度を室温として，８０ｎｍ厚のＳＵＬ第１層をスパッタリング成膜する。次にその上に、チャンバー内にあるＲｕターゲットを用いて０.８ｎｍのＲｕ層をスパッタリング成膜する。さらにその上に、ＣｏＺｒＮｂターゲットを用い、８０ｎｍ厚のＳＵＬ第２層をスパッタリング成膜する。こうしてスパッタ成膜されたＳＵＬを、半径方向に５０Ｏｅ以上の磁場を印加した状態で２００℃まで昇温し室温に冷却する。
【００３２】
次に、ＣｒＴｉターゲットを用い、基板温度が２００℃の条件の下で放電させることによりスパッタリング成膜をおこなう。これによりＣｒＴｉからなる非磁性層１４を６０ｎｍ成膜する。
【００３３】
この後、上記と同様にＡｒガスを導入し、同じチャンバー内にあるＣｏＣｒＰｔターゲットを用い、同じく基板温度が２００℃の条件の下で放電させることによりスパッタリング成膜をおこなう。これによりＣｏＣｒＰｔからなる磁性層１６を２５ｎｍ成膜する。
【００３４】
以上のプロセスにより、ガラス基板に、軟磁性層、非磁性層と磁性層が成膜された転写用磁気ディスク（スレーブディスク）１０を作製した。
【００３５】
〔スレーブディスクの初期磁化〕
次に、形成したスレーブディスク１０の初期磁化を行う。図１（ａ）で説明したとおり、スレーブディスク１０の初期磁化（直流磁化）は、スレーブディスク１０の表面に対し垂直に直流磁界を印加することができる装置（不図示の磁界印加手段）により初期化磁界Ｈｉを発生させることにより行う。具体的には、初期化磁界Ｈｉとしてスレーブディスク１０の保磁力Ｈｃ以上の強度の磁界を発生させることにより行う。この初期磁化工程により、図３に示すように、スレーブディスク１０の磁性層１６について、ディスク面と垂直な一方向に初期磁化Ｐｉさせる。尚、この初期磁化工程は、スレーブディスク１０を磁界印加手段に対し相対的に回転させることにより行ってもよい。
【００３６】
また、本発明の実施形態では、この初期磁化の工程に続いて、上記の垂直方向の磁界印加後に、ディスク面と平行な半径方向に磁界（弱磁界）をかける工程が付加される。詳細は後述するが、この半径方向への弱磁界印加工程により、軟磁性層１３の磁化を揃え、磁壁の発生を抑制する。
【００３７】
〔マスターディスクの説明〕
次に、マスター記録媒体であるマスターディスク２０について説明する。
【００３８】
最初にマスターディスク２０の製造方法について図４に基づき説明する。本実施の形態では、プレス原盤を用いるため、最初に、プレス原盤の作製工程について説明する。
【００３９】
図４（ａ）に示すように、表面が平滑なガラスや石英ガラスからなる円形の基板３０上に、フォトレジストをスピンコーター等により塗布し、プリベーク後に、この円形の基板３０を回転させながら、記録する信号に対応して変調したレーザ光（或いは電子ビーム）をフォトレジストに照射し、フォトレジストの略全面に所定のパターンを露光する。その後、露光した基板３０を現像液に浸漬することにより、フォトレジストの露光された部分が除去され、基板３０上の所定の領域にフォトレジスト層３１が形成されたガラス原盤３２が作製される。
【００４０】
次に、図４（ｂ）に示すように、ガラス原盤３２上のフォトレジスト層３１が形成されている面の表面に、Ｎｉメッキ（電鋳）を行うことにより、表面にポジ状の凹凸パターンを有するＮｉ原盤３３を所定の厚さまで形成する。この後、このＮｉ原盤３３をガラス原盤３２から剥離する。
【００４１】
このＮｉ原盤３３をスタンパー用のプレス原盤（金型）として用いることも可能であるが、必要に応じてこのＮｉ原盤３３に凹凸パターン上に軟磁性層、保護膜等を被覆してスタンパー用のプレス原盤（金型）とする。このように軟磁性層、保護膜等を形成することにより、その後に作製する転写用磁気ディスクの磁気特性が向上するからである。
【００４２】
Ｎｉ原盤３３を構成する材料としては、Ｎｉ及びＮｉ合金が主に用いられる。このＮｉ原盤３３を形成する方法としては、先に説明した無電解メッキ等によるメッキ法の他、スパッタリングやイオンプレーティングといった真空成膜法によっても作製することが可能である。また、上記真空成膜を行った後、電解メッキ等を行うことによっても作製可能である。尚、基板３０上に塗布されるレジストはポジ型、ネガ型のどちらでも使用可能であるが、ポジ型とネガ型では、露光パターンが反転することに注意する必要がある。
【００４３】
次に、図４（ｃ）に示すように、剥離したＮｉ原盤３３をプレス原盤として、射出成型等により樹脂基板３７を作製する。樹脂基板３７の樹脂材料としては、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体などの塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィン及びポリエステルなどが挙げられる。これらの樹脂材料の中では、耐湿性、寸法安定性及び価格などの点から、現在のところポリカーボネートが好ましい。
【００４４】
射出成型により樹脂基板３７を形成した場合、成型品である樹脂基板３７にバリ等が生じる場合があるが、このようなバリ等はバーニシュ又は研磨加工により除去する。
【００４５】
また、射出成型以外の方法により樹脂基板３７を形成する方法として、紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂などを使用する方法もある。この場合、プレス原盤に紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂をスピンコート、バーコート等の手法により塗布した後、紫外線或いは電子線を照射することにより硬化させた後、プレス原盤より剥離することにより樹脂基板６７が形成される。
【００４６】
以上の工程により、図４（ｄ）に示すように。高さが、３０〜１５０［ｎｍ］の突起状パターン（凹凸パターン）が形成された樹脂基板３７が形成される。
【００４７】
樹脂基板３７を製造するためのＮｉ原盤３３の製造方法については、これ以外の方法であってもよい。上記以外の方法の一例を図５に基づき説明する。
【００４８】
表面が平滑な略円形のＳｉ基板４０上に、フォトレジストをスピンコーター等により塗布し、プリベーク後に、このＳｉ基板４０を回転させながら、記録する信号に対して変調したレーザ光（或いは電子ビーム）をフォトレジストに照射し、フォトレジストの略全面について所定のパターンを露光する。その後、露光したＳｉ基板７０を現像液に浸漬させ、フォトレジストの露光された部分を除去することにより、図５（ａ）に示すように、Ｓｉ基板４０上の所定の領域にフォトレジスト層４１が形成されたものが作製される。
【００４９】
次に、図５（ｂ）に示すように、Ｓｉ基板４０のフォトレジスト層４１が形成された面について、ＲＩＥ（Reactive Ion Etching）等によるドライエッチングを行う。具体的には、フォトレジスト層４１が形成されたＳｉ基板４０をＲＩＥ装置の減圧チャンバー内に設置した後、ＲＩＥ装置の減圧チャンバーを減圧した後、減圧チャンバー内に塩素（Ｃｌ２）ガスを導入し、ＲＦ電力を印加しプラズマを発生させることにより行った。ＲＩＥでは、フォトレジスト層４１に対しＳｉ基板４０が選択的にエッチングされるため、Ｓｉ基板４０のフォトレジスト層４１の形成されていない領域のみエッチングがなされる。この後、Ｓｉ基板４０上のフォトレジスト層４１を有機溶剤等により除去することにより、表面に凹凸パターンの形成されたＳｉ基板４０が作製される。
【００５０】
この後、図５（ｃ）に示すように、Ｓｉ基板４０の凹凸パターンの形成された面にスパッタリングにより金属材料等からなる導電膜を成膜し、更に、Ｎｉ電鋳を行うことにより、Ｎｉ原盤４３を形成する。
【００５１】
この後、図５（ｄ）に示すように、Ｓｉ基板４０から剥離することによりＮｉ原盤４３が作製される。ここで作製されるＮｉ原盤４３は、図４（ｂ）において作製されるＮｉ原盤３３と同様のものであり、図４（ｃ）で説明した方法と同様の方法により、射出成型により樹脂基板３７の作製をすることができるものである。
【００５２】
次に、このように形成された樹脂基板３７について、図６（ａ）に示すように、樹脂基板３７の突起状パターンの形成されている面にスピンコーター等によりフォトレジスト４５を塗布し、フォトレジスト４５を硬化させる。具体的には、フォトレジスト４５がネガレジストである場合には、紫外線等を照射して重合させる。一方、ポジレジストである場合には、ベーキング処理を行って重合させる。フォトレジスト４５はスピンコーター等では均一に広がるため、樹脂基板３７の表面の突起状パターンである凸部では薄く、それ以外の凹部では厚く形成される。
【００５３】
この後、図６（ｂ）に示すように、酸素ガスを導入したアッシングを行うことにより、フォトレジスト４５の表面の一部を除去する。具体的には、樹脂基板３７の突起状パターンの表面が露出したところで、アッシングを停止する。アッシングでは、厚さ方向に均等にフォトレジスト４５が除去されるが、樹脂基板３７の突起状パターンの凸部の表面が露出しても、凹部ではフォトレジスト４５が厚く形成されているため、この領域のフォトレジスト４５は残存している。
【００５４】
この後、図６（ｃ）に示すように、樹脂基板３７のフォトレジスト４５の形成された面に、軟磁性体からなる磁性膜４７をメッキあるいは真空蒸着等による成膜をおこなう。磁性膜４７を構成する材料は、保磁力Ｈｃが４８ｋＡ／ｍ（≒６００Ｏｅ）以下の軟磁性材料により構成されていることが好ましい。具体的には、Ｃｏ、Ｃｏ合金（ＣｏＮｉ、ＣｏＮｉＺｒ、ＣｏＮｂＴａＺｒ等）、Ｆｅ、Ｆｅ合金（ＦｅＣｏ、ＦｅＣｏＮｉ、ＦｅＮｉＭｏ、ＦｅＡｌＳｉ、ＦｅＡｌ、ＦｅＴａＮ）、Ｎｉ、Ｎｉ合金（ＮｉＦｅ）等が挙げられる。特に好ましいのは、磁気特性からＦｅＣｏ、ＦｅＣｏＮｉである。又、磁性膜５４の厚さは、４０ｎｍ〜３２０ｎｍの範囲が好ましく、特に、１００ｎｍ〜３００ｎｍの範囲が更に好ましい。磁性膜４７は、上記材料のターゲットを用いスパッタリングや無電解メッキ等により形成される。
【００５５】
この後、リフトオフによりフォトレジスト４５上に形成されている磁性膜４７の除去をおこなう。具体的には、磁性膜４７が成膜された基板３７を有機溶剤等に浸漬させることにより、フォトレジスト４５の上に形成された磁性膜４７が、フォトレジスト４５とともに除去される。
【００５６】
以上のプロセスにより、図６（ｄ）に示すように、凸領域の上面に磁性層４８が設けられた凹凸パターンの形成されたマスターディスク２０が作製される。このように形成されたマスターディスク２０上の凹凸パターンは、凹領域のトラック方向（周方向）の幅がＳａ、凸領域のトラック方向（周方向）の幅がＬａからなるものであり、本実施の形態では、Ｌａに対するＳａの幅（Ｓａ／Ｌａ）が、１．３〜１．９倍、好ましくは、１．４５〜１．７５倍となるように作製されている。
【００５７】
図７はマスターディスク２０の上面図である。同図に示されるように、マスターディスク２０の表面には、凹凸パターンからなるサーボパターン５２が形成される。また、図には示さないが、マスターディスク２０表面の磁性層４８（図６（ｄ）参照）の上にダイヤモンドライクカーボン等の保護膜や、更に、保護膜上に潤滑剤層を設けてもよい。
【００５８】
マスターディスク２０は、スレーブディスク１０と密着させるが、密着させた際に磁性層４８が傷つきやすく、マスターディスク２０として使用できなくなってしまうことを防止するためである。また、潤滑剤層は、スレーブディスク１０との接触の際に生じる摩擦による傷の発生などを防止し、耐久性を向上させる効果がある。
【００５９】
具体的に、保護膜として、厚さが５〜３０ｎｍのダイヤモンドライクカーボン膜を形成し、更にその上に潤滑剤層を形成した構成が好ましい。また、磁性層４８と、保護膜との密着性を強化するため、磁性層４８上にＳｉ等の密着強化層を形成し、その後に保護膜を形成してもよい。
【００６０】
〔密着工程〕
次に、上記工程により作製したマスターディスク２０と、初期磁化工程後のスレーブディスク１０とを図１（ｂ）のように重ね合わせて両者を密着させる工程（密着工程）を行う。
【００６１】
図１（ｂ）に示すように密着工程では、マスターディスク２０の突起状パターン（凹凸パターン）の形成されている面と、スレーブディスク１０の磁性層１６の形成されている面とを所定の押圧力で密着させる。
【００６２】
スレーブディスク１０には、マスターディスク２０に密着させる前に、グライドヘッド、研磨体等により、表面の微少突起又は付着塵埃を除去するクリーニング処理（バーニッシング等）が必要に応じて施される。
【００６３】
尚、密着工程は、図１（ｂ）に示すように、スレーブディスク１０の片面のみにマスターディスク２０を密着させる場合と、両面に磁性層が形成された転写用磁気ディスクについて、両面からマスターディスクを密着させる場合とがある。後者の場合では、両面を同時転写することができる利点がある。
【００６４】
〔磁気転写工程〕
次に、図１（ｃ）に基づき磁気転写工程を説明する。
【００６５】
上記密着工程によりスレーブディスク１０とマスターディスク２０とを密着させたものについて、不図示の磁界印加手段により初期化磁界Ｈｉの向きと反対方向に記録用磁界Ｈｄを発生させる。記録用磁界Ｈｄを発生させることにより生じた磁束がスレーブディスク１０とマスターディスク２０に進入することにより磁気転写が行われる。
【００６６】
本実施の形態では、記録用磁界Ｈｄの大きさは、スレーブディスク１０の磁性層１６を構成する磁性材料のＨｃと略同じ値である。
【００６７】
磁気転写は、スレーブディスク１０及びマスターディスク２０を密着させたものを不図示の回転手段により回転させつつ、磁界印加手段によって記録用磁界Ｈｄを印加し、マスターディスク２０に記録されている突起状のパターンからなる情報をスレーブディスク１０の磁性層１６に磁気転写する。尚、この構成以外にも、磁界印加手段を回転させる機構を設け、スレーブディスク１０及びマスターディスク２０に対し、相対的に回転させる手法であってもよい。
【００６８】
磁気転写工程における、スレーブディスク１０とマスターディスク２０の断面の様子を図８に示す。同図に示すように、基板３７表面に突起状のパターンが形成され、その上に磁性層４８が形成されたマスターディスク２０とスレーブディスク１０とが密着した状態においては、マスターディスク２０の凸領域では、マスターディスク２０の磁性層４８とスレーブディスク１０の磁性層１６とが接触している。
【００６９】
このため、記録用磁界Ｈｄを印加すると、磁束Ｇは、マスターディスク２０の凸領域、即ち、マスターディスク２０の磁性層４８とスレーブディスク１０の磁性層１６とが接触している領域では強く、記録用磁界Ｈｄにより、マスターディスク２０の磁性層４８の磁化向きが記録用磁界Ｈｄの方向に揃い、スレーブディスク１０の磁性層１６に磁気情報が転写される。一方、マスターディスク２０の凹領域、即ち、マスターディスク２０の磁性層４８が形成されていない領域では、マスターディスク２０の磁性層４８が存在しないため、記録用磁界Ｈｄの印加によって生じる磁束Ｇは弱く、スレーブディスク１０の磁性層１６の磁化向きが変わることはなく、初期磁化の状態を保ったままである。
【００７０】
図９は、磁気転写に用いられる磁気転写装置について詳細に示したものである。磁気転写装置は、コア６２にコイル６３が巻きつけられた電磁石からなる磁界印加手段６０を有するものであり、このコイル６３に電流を流すことによりギャップ６４において、密着させたマスターディスク２０とスレーブディスク１０の磁性層１６に対し垂直に磁界を発生する構造になっている。発生する磁界の向きは、コイル６３に流す電流の向きによって変えることができる。従って、この磁気転写装置によって、スレーブディスク１０の初期磁化を行うことも、磁気転写を行うことも可能である。この磁気転写装置により初期磁化させた後、磁気転写を行う場合には、磁界印加手段６０のコイル６３に、初期磁化したときにコイル６３に流した電流の向きと逆向きの電流を流す。これにより、初期磁化の際の磁化向きとは反対の向きに記録用磁界を発生させることができる。磁気転写は、スレーブディスク１０及びマスターディスク２０を密着させたものを回転させつつ、磁界印加手段６０によって記録用磁界Ｈｄを印加し、マスターディスク２０に記録されている突起状のパターンからなる情報をスレーブディスク１０の磁性層１６に磁気転写するため、不図示の回転手段が設けられている。尚、この構成以外にも、磁界印加手段６０を回転させる機構を設け、スレーブディスク１０及びマスターディスク２０に対し、相対的に回転させる手法であってもよい。
【００７１】
本実施の形態では、記録用磁界Ｈｄは、本実施の形態に用いられるスレーブディスク１０の磁性層１６の保磁力Ｈｃの７５〜１０５％、好ましくは、８５〜９５％の強度の磁界を印加することにより磁気転写を行う。
【００７２】
更に、本発明の実施形態では、上記の垂直磁気転写工程に続いて、または、この垂直磁気転写工程と同時に、ディスクの半径方向に磁界（１００［Ｏｅ］から当該スレーブディスク１０における磁性層１６の逆磁区核形成磁界Ｈｎ以下値の弱磁界）をかける工程が付加される。詳細は後述するが、この半径方向への弱磁界印加工程により、転写後のスレーブディスク１０を磁気的にクリーン化し、軟磁性層１３の磁化を揃え、磁壁の影響による信号品質の劣化を抑制する。なお、スレーブディスク１０の初期磁化工程後に付加される弱磁界印加工程（「初期磁化クリーニング工程」という。）と、垂直磁気転写工程後又はこれと同時に行われるＨｎ以下の弱磁界印加工程（「転写後クリーニング工程」又は「転写中クリーニング工程」という。）とは、何れか一方の工程を実施してもよいし、両方の工程を実施してもよい。
【００７３】
磁気転写工程の後に「転写後クリーニング工程」を実施する場合には、上述の磁気転写工程の後に、スレーブディスク１０をマスターディスク２０から取り外し、スレーブディスク１０単体で「転写後クリーニング工程」を実施する。
【００７４】
一方、磁気転写工程と同時に「転写中クリーニング工程」を実施する場合には、スレーブディスク１０をマスターディスク２０と重ねた状態これらの工程を実施し、その後にスレーブディスク１０をマスターディスク２０から取り外す。
【００７５】
これにより、スレーブディスク１０の磁性層１６には、サーボ信号等の磁気パターンの情報が、初期磁化Ｐｉの反対向きの磁化となる記録磁化Ｐｄとして記録される（図１０参照）。
【００７６】
なお、本発明の実施に際して、マスターディスク２０の基板３７に形成された突起状のパターンは、図６（ｄ）で説明したポジパターンと反対のネガパターンであってもよい。この場合、初期化磁界Ｈｉの方向及び記録用磁界Ｈｄの方向を各々逆方向にすることにより、スレーブディスク１０の磁性層１６に、同様の磁化パターンを磁気転写することができるからである。また、本実施の形態では、磁界印加手段は、電磁石の場合について説明したが、同様に磁界が発生する永久磁石を用いても良い。
【００７７】
以下、本発明を用いた磁気転写方法の実施形態のバリエーションについて説明する。
【００７８】
〔第１形態〕
図１１（ａ）に示すように、まず、スレーブディスク１０単体で（マスターディスク２０を重ね合わせていない状態で）、当該スレーブディスク１０の垂直方向に初期化磁界Ｈｉ（直流磁界）を印加し、初期磁化を行う。この初期磁化工程の後に、図１１（ｂ）に示すように、ディスクの半径方向（中心から外周に向かう方向）に１００[Ｏｅ]から磁性層１６のＨｎ以下値の面内磁界を印加し、スレーブディスク１０を磁気的にクリーン化する。なお、この初期磁化クリーニング工程も、上記初期磁化工程と同様に、マスターディスク２０を重ね合わせていない状態で実施される。
【００７９】
ディスクの半径方向に磁界を印加する手段として、例えば、磁石を斜めにすることで、半径方向の磁界成分を含む磁場を印加する方法がある。或いはまた、図１２に示すように、らせん（渦巻線）状に電線６５を配置し、その上にディスクを置き（らせんの中心とディスクの中心を一致させて載置）、電線６５に電流を流すことで半径方向に磁界を印加する装置を用いる態様もある。
【００８０】
上記の初期磁化クリーニング工程後、図１（ｂ），（ｃ）で説明したように、マスターディスク２０を重ね合わせ（密着工程）、初期磁化工程と逆方向の垂直磁界を印加して垂直磁気転写を行う（転写工程）。
【００８１】
図１３は、図１１（ａ），（ｂ）で説明した工程によって得られるスレーブディスク１０の模式図である。図１３（ａ）は平面図、図１３（ｂ）は図１３（ａ）中のｂ−ｂ’線に沿う断面図である。ただし、図１３（ｂ）では説明の便宜上、軟磁性層１３と磁性層１６のみを示した。
【００８２】
図１３に示したように、軟磁性層１３は、ディスクの中心から外側に向かう半径方向に（放射状に）一様に磁化される。また、磁性層１６はディスクの垂直方向（上向き）に一様に磁化される。
【００８３】
比較参考のために、図１１（ｂ）で説明した初期磁化クリーニング工程を実施しない場合（図１１（ａ）の初期磁化工程のみを実施した場合）の結果を図１４に示す。
【００８４】
図１４は、ディスクを円周方向に沿う切断面で切断したときの断面模式図である。すなわち、図１４の横方向はディスク円周方向を表す。図１４に示すように軟磁性層１３は、紙面垂直手前に向かう磁化成分（○の中に・の記号）と紙面垂直奥に向かう磁化成分（○の中に×の記号）が混在しており、これら逆方向の磁化成分の境界（磁壁）に対応する位置の磁性層１６内にディスク垂直方向の磁界成分（符号６６Ａ，６６Ｂ）が生じる。この磁界成分はノイズとなり信号品質が劣化する原因となる。
【００８５】
図１１〜図１３で説明した初期磁化クリーニング工程を行うことで、軟磁性層１３の磁化が揃い（図１３（ｂ）、上記磁壁に起因するノイズ発生を防止することができる。
【００８６】
なお、図１１（ａ）の初期磁化工程と図１１（ｂ）の初期化磁化クリーニング工程を同時に実施する態様も可能である。
【００８７】
この第１形態による効果の実証実験の結果を図１５の表に示す。実験は、垂直方向の初期化磁界として５０００［Ｏｅ］を印加して初期化した後、半径方向に印加する磁界を０〜４０００［Ｏｅ］の範囲で変化させて、スレーブディスクの磁気的クリーン化処理を行った。実験に用いたスレーブディスクの記録層のＨｃは３０００［Ｏｅ］である。そして、円周方向に５０−３００ｎｍ，半径方向に５０〜ｎｍの凹凸パターンを放射状に設けたマスターディスクを用いて、同パターンをスレーブディスクに磁気転写後、これを再生して再生信号出力の再生信号ノイズを測定した。なお、再生信号出力は比較例1-1の出力で規格化した。
【００８８】
スレーブディスクのサーボ信号の評価を行うための構成について以下に説明する。
【００８９】
スレーブディスクはスピンドルモータの軸に取り付けられ、所定の速度（回転数）で回転されるようになっている。スレーブディスクの表面に所定のフライングハイトで近接して磁気ヘッドが設けられる。この磁気ヘッドは、ポジショナにより所定の位置に移動可能となっている。この磁気ヘッドは、記録・再生を行うためのものである。
【００９０】
また、磁気ヘッドには、シンクロスコープ(オシロスコープ)が接続されており、磁気ヘッドからのリード信号波形がシンクロスコープ(オシロスコープ)のディスプレイに表示されるようになっている。このシンクロスコープ(オシロスコープ)には、更にスピンドルモータが接続されており、スピンドルモータの回転子が所定の回転角にあるときに出力するインデックス信号がトリガ信号として入力されるようになっている。
【００９１】
図１５の表に示したとおり、垂直磁界による初期化磁化を印加後に、半径方向に１００〜Ｈｎ［Ｏｅ］の磁界を印加したものについて（実施例1-1〜1-7）、再生信号ノイズの低減が確認された。また、半径方向にＨｃを超える磁界を印加すると（比較例1-3）、再生信号ノイズが再び増加する傾向が認められた。
【００９２】
ここでは、Ｈｎが３０００［Ｏｅ］の磁性層を例示したが、他の磁性材料について同様の傾向を示し、Ｈｎを超える磁界を印加すると再生信号ノイズが増加する。
【００９３】
〔第２形態〕
図１６は、転写処理後に磁気的なクリーニングを実施する形態を示す説明図である。スレーブディスク１０について、既述した初期磁化工程の後、または、初期磁化工程及び初期磁化クリーニング工程を実施した後に、マスターディスク２０を重ね合わせ（密着工程）、図１６（ａ）に示すように、初期磁化工程と逆方向の垂直磁界を印加して垂直磁気転写を実施する（転写工程）。この後、図１６（ｂ）に示すように、ディスクの半径方向（中心から外周に向かう方向）に１００[Ｏｅ]から磁性層１６のＨｎ以下値の面内磁界を印加し、スレーブディスク１０を磁気的にクリーン化する。なお、この初期磁化クリーニング工程も、上記初期磁化工程と同様に、マスターディスク２０を重ね合わせていない状態で実施される。本例ではスレーブディスク１０単体で初期磁化クリーニング工程を実施するが、マスターディスク２０と重ねた状態で実施することも可能である。
【００９４】
図１７は、図１１（ａ），（ｂ）で説明した工程によって得られるスレーブディスク１０の断面模式図である。なお、図１７はディスク円周方向の断面を示す。図示のように、磁気転写によりマスターディスク２０の凸部２０Ａに対応する位置の磁性層１６の磁化が転写磁界と同じ方向に反転する（符号７０で示す下向き矢印方向の磁化となる）。また、マスターディスク２０の凹部２０Ｂに対応する位置は、初期磁化の方向を保持する（符号７２で示す上向き矢印方向の初期磁化を保持する）。
【００９５】
軟磁性層１３は、ディスク円周方向に一様の磁化されており、磁壁に起因するノイズが発生せず、良好な信号品質を達成できる。
【００９６】
比較参考のために、図１６（ｂ）で説明した転写後クリーニング工程を実施しない場合（図１１（ｂ）の初期磁化クリーニング工程も実施しない場合）の結果を図１８に示す。
【００９７】
図１８に示すように、この場合、軟磁性層１３は、紙面垂直手前に向かう磁化成分（○の中に・の記号）と紙面垂直奥に向かう磁化成分（○の中に×の記号）が混在しており、これら逆方向の磁化成分の境界（磁壁）に対応する位置の磁性層１６内にディスク垂直方向の磁界成分（符号７６Ａ，７６Ｂ）が生じる。この磁界成分はノイズとなり信号品質が劣化する原因となる。
【００９８】
この第２形態による効果の実証実験の結果を図１９の表に示す。実験は、第１形態の実験と同様のスレーブディスクを用い、垂直方向の初期化磁界として５０００［Ｏｅ］を印加して初期化した後、第１形態の実験と同様のマスターディスクを用いて、転写磁界５０００［Ｏｅ］でスレーブディスクに磁気転写後、半径方向に印加する磁界を０〜４０００［Ｏｅ］の範囲で変化させて、転写後クリーニングを実施した。その後、これを再生して再生信号出力と再生信号ノイズを測定した。
【００９９】
図１９の表に示したとおり、転写磁界を印加後に、半径方向に１００〜Ｈｎ［Ｏｅ］の磁界を印加したものについて（実施例2-1〜2-7）、再生信号ノイズの低減が確認された。また、半径方向にＨｎを超える磁界を印加すると（比較例2-3）、再生信号ノイズが再び増加する傾向が認められた。
【０１００】
〔第３形態〕
図２０は、転写と同時に磁気的なクリーニング（転写中クリーニング）を実施する形態を示す説明図である。スレーブディスク１０について、既述した初期磁化工程の後、または、初期磁化工程及び初期磁化クリーニング工程を実施した後に、マスターディスク２０を重ね合わせ（密着工程）、図２０に示すように、初期磁化工程と逆方向の垂直磁界を印加して垂直磁気転写を実施すると同時に、ディスクの半径方向（中心から外周に向かう方向）に１００[Ｏｅ]から磁性層１６のＨｎ以下値の面内磁界を印加し、スレーブディスク１０を磁気的にクリーン化する。この第３形態の結果は、既述した第２形態の結果と同等である（図１７参照）。
【０１０１】
この第３形態による効果の実証実験の結果を図２１の表に示す。実験は、第１形態の実験と同様のスレーブディスクを用い、垂直方向の初期化磁界として５０００［Ｏｅ］を印加して初期化した後、第１形態の実験と同様のマスターディスクを用いて、垂直方向に転写磁界５０００［Ｏｅ］を印加すると同時に、０〜４０００［Ｏｅ］の範囲で磁界を変化させながら半径方向に磁界を印加し、転写中クリーニングを実施した。その後、これを再生して再生信号出力と再生信号ノイズを測定した。
【０１０２】
図２１の表に示したとおり、転写磁界を印加と同時に、半径方向に１００〜Ｈｎ［Ｏｅ］の磁界を印加したものについて（実施例3-1〜3-7）、再生信号ノイズの低減が確認された。また、半径方向にＨｃを超える磁界を印加すると（比較例3-3）、再生信号ノイズが再び増加する傾向が認められた。
【０１０３】
〔第４形態〕
第１形態によって初期磁化および初期磁化クリーニングを実施した後のスレーブディスク１０を用い、第２形態で説明した方法で転写および転写後クリーニングを実施してもよい。
【０１０４】
〔第５形態〕
第１形態によって初期磁化および初期磁化クリーニングを実施した後のスレーブディスク１０を用い、第３形態で説明した方法で転写と同時に転写中クリーニングを実施してもよい。
【０１０５】
〔第６形態〕
図２２は、初期磁化を行う際に、媒体の垂線に対して一定の角度範囲で傾斜した磁界を印加することで初期磁化を行う形態を示す説明図である。
【０１０６】
図２２に示すように、媒体の垂線を０度とした時、円周方向に一定の角度範囲（好ましくは、±５０度の範囲）で傾きを持たせた磁界を印加することでスレーブディスクの初期磁化を行う工程を実施してもよい。
【０１０７】
図２３は図２２に示した初期磁化の工程に用いる磁界印加装置の要部構成図である。図２３に示すとおり、この磁界印加装置８０は、スレーブディスク１０の厚さ方向におけるギャップを有するコア８２にコイル８３が巻き付けられた電磁石装置であり、ディスクの円周（接線方向）に角度Ｐの大きさで傾けることが可能である。
【０１０８】
スレーブディスク１０は不図示のディスクホルダーに保持され、不図示の回転移動機構によりディスク中心を回転軸として面内方向（矢印θ方向）に回転移動する。なお、スレーブディスク１０をθ方向に回転させる態様に代えて、静止しているスレーブディスク１０に対して、磁界印加装置８０を円周方向（矢印θ方向）に回転移動させる構造を採用してもよい。
【０１０９】
図２３のような構成により、コア８２のギャップ間に発生する磁界（磁力線Ｇ）はスレーブディスク１０の垂線に対して角度Ｐの斜め方向から印加され、スレーブディスク１０と磁界印加装置８０の相対的な回転移動（θ方向回転）により、図２２で説明した傾き磁界による初期磁化が行われる。
【０１１０】
図２４は、図２３の構成においてスレーブディスク１０に印加される磁界を模式的に示した図であり、図２３の矢印Ｃ方向から見た図となっている。図２４のように、スレーブディスク１０の垂直方向に対して磁力線Ｇを角度Ｐで傾斜させると、磁力線Ｇの水平成分Ｇｈ、及び垂直成分Ｇｐが同時に印加される。
【０１１１】
このような円周方向への傾き磁界の印加によって初期磁化を行うことにより、垂直磁界によって初期磁化を実施した場合と比較して、その後の転写磁界を印加する際に、低い転写磁界で信号品位の良い磁気転写が行える（高いＳ／Ｎの転写信号を得ることができる）ことが見出された。
【０１１２】
垂直記録の磁性層は、垂直方向に磁界をかけることによって磁化反転させることが一般的であるが、磁化方向を反転させるための外部磁場の臨界曲線（アステロイド曲線）が示すように、アステロイド曲線の内側にある状態から外側の状態に変化させる際、磁化容易方向の磁界と、これに直交する磁化困難方向の磁界の２方向成分による合成磁界を用いることにより、従来の垂直転写磁界よりも低い磁界の大きさで磁化を反転させることができる。
【０１１３】
この第６形態による効果の実証実験の結果を図２５の表に示す。実験は、第１形態の実験と同様のスレーブディスクを用い、初期化磁界５０００［Ｏｅ］の円周方向磁界角度を０〜６０度（deg）の範囲で変化させながら初期磁化を行い、その後第１形態の実験と同様のマスターディスクを用いて、垂直方向に転写磁界５０００［Ｏｅ］を印加して転写を行った。その後、これを再生して再生信号出力と再生信号ノイズを測定した。なお、垂線を基準としてどちらの方向の傾斜を＋角度（−角度）と設定するかについては任意性があるため、ここでは図２３で示した角度Ｐを＋角度として取り扱った。
【０１１４】
図２５の表に示したとおり、円周方向の磁界角度の増加とともに再生信号出力が向上し（実施例6-1〜6-8）、その改善傾向は円周方向磁界角度が５０度まで確認された（実施例6-8）。円周方向磁界角度が５０度を超えると、再生信号出力が低下する傾向が確認された（比較例6-2）。なお、実施例6-1〜6-8における再生信号ノイズは、比較例6-1と対比すると僅かに増加しているが、再生信号出力がそれ以上に向上しており、Ｓ／Ｎは向上している。
【０１１５】
〔第７形態〕
図２６は、マスターディスクとスレーブディスクを重ね合わせて、初期磁化と逆方向の磁界を印加する磁気転写を行う際に、媒体の垂線に対して一定の角度範囲で傾斜した磁界を印加することで転写を行う形態を示す説明図である。
【０１１６】
図２６に示すように、媒体の垂線を０度とした時、円周方向に一定の角度範囲（好ましくは、±５０度の範囲）で傾きを持たせた磁界を印加することで転写を行う工程を実施してもよい。
【０１１７】
図２６に示した転写工程に用いる磁界印加装置としては、図２３で説明したものと同様の装置を適用できる。ただし、印加する磁界の方向が逆になる。
【０１１８】
このような円周方向への傾き磁界の印加によって転写を行うことにより、垂直方向の磁界の印加による転写を実施した場合と比較して、低い転写磁界で信号品位の良い磁気転写が行える（高いＳ／Ｎの転写信号を得ることができる）ことが見出された。
【０１１９】
この第７形態による効果の実証実験の結果を図２７の表に示す。実験は、第１形態の実験と同様のスレーブディスクを用い、垂直方向の初期化磁界として５０００［Ｏｅ］を印加して初期化した後、第１形態の実験と同様のマスターディスクを用いて、５０００［Ｏｅ］の転写磁界で円周方向磁界角度を０〜６０度の範囲で変化させて、転写を実施した。その後、これを再生して再生信号出力と再生信号ノイズを測定した。
【０１２０】
図２７の表に示したとおり、円周方向の磁界角度の増加とともに再生信号出力が向上し（実施例7-1〜7-8）、その改善傾向は円周方向磁界角度が５０ｄｅｇまで確認された（実施例7-8）。円周方向磁界角度が５０度を超えると、再生信号出力が低下する傾向が確認された（比較例7-2）。なお、実施例7-1〜7-8 における再生信号ノイズは、比較例7-1と対比すると僅かに増加しているが、再生信号出力がそれ以上に向上しており、Ｓ／Ｎは向上している。
【０１２１】
〔第８形態〕
第６形態によって初期磁化を実施した後のスレーブディスク１０を用い、第７形態で説明した方法で磁気転写を実施しても良い。
【０１２２】
〔第９形態〕
第１形態によって初期磁化を実施した後のスレーブディスク１０に対して、第７形態で説明した方法で磁気転写を実施してもよい。
【０１２３】
〔第１０形態〕
第６形態によって初期磁化を実施した後のスレーブディスク１０を用い、第２形態で説明した方法で磁気転写を実施しても良い。
【０１２４】
〔第１１形態〕
第６形態によって初期磁化を実施した後のスレーブディスク１０を用い、第３形態で説明した方法で磁気転写を実施してもよい。
【０１２５】
〔第１２形態〕
第１形態によって初期磁化を実施する際に、垂直方向磁界による初期磁化工程に代えて、第６形態で説明した傾き（垂直方向に対して円周方向に傾き)を持たせた初期磁化を実施してもよい。
【０１２６】
〔第１３形態〕
第２形態における磁気転写を実施する際に、垂直方向磁界による転写工程に代えて、第７形態で説明した傾き(垂直方向に対して円周方向に傾き)を持たせた磁気転写を実施してもよい。
【０１２７】
〔第１４形態〕
第１２形態によって初期磁化を実施した後のスレーブディスク１０を用い、第１３形態の方法で磁気転写を実施し、その後さらに第２形態で説明した転写後のクリーニング（半径方向への弱磁界の印加）を実施してもよい。
【０１２８】
以上説明したように、本発明の実施形態によれば、初期磁化工程の後、又は初期磁化工程と同時に実施される磁気的なクリーニング処理、或いは、転写工程後又は転写工程と同時に実施される磁気的なクリーニング処理、若しくはこれらの組み合わせにより、軟磁性下地層に起因するノイズを効果的に低減でき、記録再生等の精度を向上させることができる。これにより、エラーの少ない高品質の垂直磁気記録媒体を製造することが可能である。
【０１２９】
また、本発明の実施態様によれば、初期磁化の際に印加する磁界の方向、または転写の際に印加する磁界の方向、若しくはこれらの両方について、媒体面の垂線（０度から）円周方向に一定の角度範囲で傾きを持たせ、磁性層の磁化困難軸方向の成分を含んだ磁界を印加する構成にしたので、磁化容易軸方向の成分のみの磁界を印加する構成と比較して、低い磁界で磁化反転を起こすことができる。これにより、従来よりも低磁界で高精度に磁気転写することができ、磁界印加装置の小規模化や低消費電力化を達成できる。
【０１３０】
上述した本発明の実施形態に係る方法により製造された垂直磁気記録媒体は、例えば、ハードディスク装置等の磁気記録再生装置に組み込まれて使用される。これにより、サーボ精度が高く、良好な記録再生特性の高記録密度磁気記録再生装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【０１３１】
【図１】本発明の実施形態における磁気転写方法の工程の概要図
【図２】スレーブディスクの模式断面図
【図３】初期磁化工程後の磁性層（記録層）の磁化方向を示した模式断面図
【図４】マスターディスクの形成方法を示す工程図
【図５】マスターディスクの別の形成方法を示す工程図
【図６】マスターディスクの形成方法の工程図
【図７】マスターディスクの平面図
【図８】磁気転写工程の説明図
【図９】磁気転写工程に用いる磁界印加装置の概略構成図
【図１０】磁気転写工程後の磁性層の磁化方向を示した断面模式図
【図１１】第１形態による初期磁化工程及び初期磁化クリーニング工程の説明図
【図１２】ディスクの半径方向に磁界を印加する装置の構成例の説明図
【図１３】第１形態による初期磁化クリーニングの結果得られるスレーブディスクの説明図
【図１４】第１形態による初期磁化クリーニングを実施しない場合の比較例におけるスレーブディスクの断面模式図
【図１５】第１形態の効果を示す実験結果のデータをまとめた図表
【図１６】第２形態による転写工程及び転写後クリーニング工程の説明図
【図１７】第２形態による転写後クリーニングの結果得られるスレーブディスクの説明図
【図１８】第２形態による転写後クリーニングを実施しない場合の比較例におけるスレーブディスクの断面模式図
【図１９】第２形態の効果を示す実験結果のデータをまとめた図表
【図２０】第３形態による転写中クリーニング工程の説明図
【図２１】第３形態の効果を示す実験結果のデータをまとめた図表
【図２２】第６形態による斜め磁界を用いた初期磁化工程の説明図
【図２３】斜め磁界を印加するための磁界印加装置の概要図
【図２４】図２３の矢印Ｃ方向から見た磁界方向を示す図
【図２５】第６形態の効果を示す実験結果のデータをまとめた図表
【図２６】第７形態による斜め磁界を用いた転写工程の説明図
【図２７】第７形態の効果を示す実験結果のデータをまとめた図表
【符号の説明】
【０１３２】
１０…スレーブディスク、２０…マスターディスク、１２…基板、１３…軟磁性層、１６…磁性層、６０…磁界印加手段、６２…コア、６３…コイル、８０…磁界印加装置、Ｈｉ…初期化磁界、Ｈｄ…記録用磁界
【図１】
2008257753.tif 000003
【図２】
2008257753.tif 000004
【図３】
2008257753.tif 000005
【図４】
2008257753.tif 000006
【図５】
2008257753.tif 000007
【図６】
2008257753.tif 000008
【図７】
2008257753.tif 000009
【図８】
2008257753.tif 000010
【図９】
2008257753.tif 000011
【図１０】
2008257753.tif 000012
【図１１】
2008257753.tif 000013
【図１２】
2008257753.tif 000014
【図１３】
2008257753.tif 000015
【図１４】
2008257753.tif 000016
【図１５】
2008257753.tif 000017
【図１６】
2008257753.tif 000018
【図１７】
2008257753.tif 000019
【図１８】
2008257753.tif 000020
【図１９】
2008257753.tif 000021
【図２０】
2008257753.tif 000022
【図２１】
2008257753.tif 000023
【図２２】
2008257753.tif 000024
【図２３】
2008257753.tif 000025
【図２４】
2008257753.tif 000026
【図２５】
2008257753.tif 000027
【図２６】
2008257753.tif 000028
【図２７】
2008257753.tif 000029