(57)【要約】【課題】チャック用駆動部、洗浄用駆動部によって生ずる異物による弊害を少なくする。【解決手段】前後を仕切る仕切り部材２を介して前室である洗浄室、乾燥室４にインデックステーブル10を設ける。インデックステーブル10にはチャック25を備える。チャック25の駆動部たる第1のモータ25Ｃを前記仕切り部材２を介して後室である機械室５に設ける、チャック25の駆動部たる第1のモータ25Ｃを前記仕切り部材２を介して前記機械室５に設けることにより、第1のモータ25Ｃの作動に伴う塵や汚れなどが洗浄室３側に発生することはなく、このためにこのような塵や汚れなどの異物が洗浄、或いは洗浄後の基板Ｄに付着することはなくなる。また洗浄装置の洗浄用駆動部を仕切り部材２を介して機械室５に設けることにより、洗浄用駆動部の作動に伴う塵や汚れなどが洗浄室３側に発生することはなくなる。【選択図】図６
2008021342.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
前後を仕切る仕切り部材を介して前室と後室を設けた機枠の前記前室に、基板の供給側と、該供給側に隣接するインデックステーブルと、該インデックステーブルに設けられチャック用駆動部を備えた基板保持用チャックと、該インデックステーブルに隣接する基板の排出側と、前記供給側を始端とし前記インデックステーブルを介して前記排出側を終端とする基板搬送案内路と、該基板搬送案内路に沿って移動する搬送用基板保持手段を備えたハードディスク基板の洗浄・乾燥装置において、前記チャック用駆動部を前記仕切り部材を介して前記後室に設けることを特徴とするハードディスク基板の洗浄・乾燥装置。
【請求項２】
前後を仕切る仕切り部材を介して前室と後室を設けた機枠の前記前室に、基板の供給側と、該供給側に隣接する基板洗浄用インデックステーブルと、該基板洗浄用インデックステーブルに設けられ基板保持用チャックと、該インデックステーブルに隣接する基板の排出側と、前記洗浄用インデックステーブルに対応して設けられる洗浄用駆動部を備えた洗浄装置と、前記供給側を始端とし前記インデックステーブルを介して前記排出側を終端とする基板搬送案内路と、該基板搬送案内路に沿って移動する搬送用基板保持手段を備えたハードディスク基板の洗浄・乾燥装置において、前記洗浄用駆動部を前記仕切り部材を介して前記後室に設けることを特徴とするハードディスク基板の洗浄・乾燥装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子装置等に使用されるハードディスクの基板を洗浄し乾燥させるハードディスク基板の洗浄・乾燥装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種のものとして基板の供給側と、インデックステーブルを備えた基板洗浄部と、同じくインデックステーブルを備えた基板乾燥部と、基板の排出側を一列に並べ、供給側と基板洗浄部との間、基板洗浄部と基板乾燥部との間、さらに基板乾燥部と排出側との間にそれぞれ基板搬送案内路を設けて、供給側の基板を基板の保持手段によって順次排出側に搬送することにより基板を連続的に洗浄、乾燥を行うものが知られている（例えば特許文献１）。
【０００３】
この従来技術では図９に示すように、基板の保持手段101は夫々基板を保持していない状態と仮定する。保持手段102が、マガジン103１枚の基板を取り出し、基板受取位置M1にある保持手段101まで基板Ｄを搬送する。保持手段101は例えば３個の基板保持具101Ａ,101Ｂ,101Ｃを夫々外側にずらして基板Ｄを受け取り、基板Ｄを回転可能に保持する。その後、洗浄用のインデックステーブル104が矢印105の方向に90度ごとに回転し、保持手段101は夫々第１，２基板洗浄位置M２，Ｍ３及び基板取出位置M４となる。保持手段101が第１基板洗浄位置M１になると、基板洗浄器106が移動し、基板Ｄの両面、内周、外周の夫々を図示しない洗浄具を用いて中性洗剤によりスクラブ洗浄する。基板Ｄは回転自由に保持されているので、図示しないスポンジパッドの回転により"ならい回転をする。基板受取位置M1において基板の受取が完了し且つ第１基板洗浄位置M2で基板の洗浄が終了すると、基板洗浄器106はインデックステーブル104の回転に支障がない位置に待避し、インデックステーブル104が矢印105の方向に90度回転する。この回転により、保持手段101は夫々第２基板洗浄位置M3、第１基板洗浄位置M2、基板受取位置M1となる。第１の基板洗浄器106と同様の構成の第２の基板洗浄器107は、市水或いは純水により基板を更に洗浄する。この間に、基板洗浄器106は第２の基板Ｄを中性洗剤により洗浄し、基板受取位置M1にある保持手段101は基板Ｄを受け取っている。基板Ｄの受け取り、第１及び第２の基板洗浄が完了すると、インデックステーブル104は更に90度回転する。基板取出位置M4にきた基板Ｄは例えば純水のシャワーリンスを受けた後、基板搬送手段108により取り外され、基板乾燥室109に運ばれる。このようにして、基板洗浄室110は複数の基板Ｄを順次洗浄して次段の基板乾燥室109に送り出す。乾燥室109にはインデックステーブル110を有し、矢印111の方向に回転可能である。インデックステーブル110には、基板Ｄの保持手段112が設けられ、夫々、基板受取位置N1、第１乾燥位置N2、第２乾燥位置N3、基板取出位置N4にある。保持手段112は夫々基板Ｄの内周壁の３点で基板を固定して保持するように例えば３個の基板保持具112Ａ,112Ｂ,112Ｃを備えている。113は基板Ｄを遠心力で乾燥させる際の水滴飛散防止用の壁である。
【０００４】
そして、第１枚目の基板Ｄ（第１の基板）が基板受取位置N1にある保持手段101に取り付けられると、インデックステーブル104は矢印105の方向に90度回転し、保持手段101は夫々N2,N3,N4,N1で示す基板処理位置になる。第１基板乾燥位置N2に移動した第１の基板Ｄに付着した水分は高速回転により除去される（スピン乾燥）。第１基板乾燥位置N2でのスピン乾燥が終了し且つ第２枚目の基板Ｄが保持手段112に取り付けられると、インデックステーブル110は更に90度回転し、保持手段112は夫々N3,N2,N1,N4で示す基板処理位置になる。第２乾燥位置N3において更にスピン乾燥を受けるが、保持手段112は夫々図示しないスピン乾燥用のモータを備えている。次に、インデックステーブル110が更に90度回転し、保持手段112は夫々N4,N3,N2,N1で示す基板処理位置になり、基板Ｄは搬送手段114により搬出される。このようにして、基板洗浄部から送られてくる複数の洗浄済み基板を順次受け取って乾燥処理を行なう。
【０００５】
さらに、従来技術においては図９（Ｂ）示したように基板洗浄装置106は、３種類の洗浄具106Ａ，106Ｂ，106Ｃを備えている。洗浄具106Ａは基板Ｄの片面を洗浄するパッド状の洗浄具（例えばスポンジパッド）であり、他の面を洗浄する同様の洗浄具は基板Ｄの背後にあるため図示していない。つまり、２個のパッド状の洗浄具106Ａで基板Ｄを挟んでその表面を洗浄する。洗浄具106Ｂ，106Ｃは例えばローラ状の洗浄具であり、基板Ｄの外周及び内周を洗浄するためのものである。このために保持手段101は夫々基板Ｄを例えば10cm乃至15cm程度インデックステーブル104から離して保持するようになっている。
【特許文献１】特開平３−９３０４０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
このような洗浄・乾燥装置においては、多数個のディスクを掴むチャック、例えば洗浄室においてはスクラブチャック、乾燥室ではスピンチャックを駆動するチャック用駆動部や、洗浄室において洗浄ブラシを駆動する洗浄用駆動部は、仕切り部材の正面の洗浄室側、乾燥室側に配置されていた。
【０００７】
そしてチャック用駆動部、洗浄用駆動部が仕切り部材の前方、ずなわち洗浄室、乾燥室側に配置されている場合には、それぞれの駆動部から発生する塵、汚れにより洗浄室、乾燥室が汚染されてしまう可能性があった。
【０００８】
解決しようとする問題点は、基板保持用チャックを備えたインデックステーブルが設けられたハードディスク基板の洗浄・乾燥装置において、チャック用駆動部、洗浄用駆動部もよって生ずる異物による弊害を少なくすることにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
請求項１の発明は、前後を仕切る仕切り部材を介して前室と後室を設けた機枠の前記前室に、基板の供給側と、該供給側に隣接するインデックステーブルと、該インデックステーブルに設けられチャック用駆動部を備えた基板保持用チャックと、該インデックステーブルに隣接する基板の排出側と、前記供給側を始端とし前記インデックステーブルを介して前記排出側を終端とする基板搬送案内路と、該基板搬送案内路に沿って移動する搬送用基板保持手段を備えたハードディスク基板の洗浄・乾燥装置において、前記チャック用駆動部を前記仕切り部材を介して前記後室に設けることを特徴とするハードディスク基板の洗浄・乾燥装置である。
【００１０】
請求項２の発明は、前後を仕切る仕切り部材を介して前室と後室を設けた機枠の前記前室に、基板の供給側と、該供給側に隣接する基板洗浄用インデックステーブルと、該基板洗浄用インデックステーブルに設けられ基板保持用チャックと、該インデックステーブルに隣接する基板の排出側と、前記洗浄用インデックステーブルに対応して設けられる洗浄用駆動部を備えた洗浄装置と、前記供給側を始端とし前記インデックステーブルを介して前記排出側を終端とする基板搬送案内路と、該基板搬送案内路に沿って移動する搬送用基板保持手段を備えたハードディスク基板の洗浄・乾燥装置において、前記洗浄用駆動部を前記仕切り部材を介して前記後室に設けることを特徴とするハードディスク基板の洗浄・乾燥装置である。
【発明の効果】
【００１１】
請求項１の発明によれば、チャック用駆動部の作動に伴う塵や汚れなどが前室側に発生することはなくなる。
【００１２】
請求項２の発明によれば、洗浄用駆動部の作動に伴う塵や汚れなどが前室側に発生することはなくなる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本発明における好適な実施の形態について、添付図面を参照して説明する。尚、以下に説明する実施の形態は、特許請求の範囲に記載された本発明の内容を限定するものではない。また、以下に説明される構成の全てが、本発明の必須要件であるとは限らない。
【実施例１】
【００１４】
図１乃至図５は実施例１を示しており、ハードディスク基板Ｄの洗浄・乾燥装置は、図１に示すように箱型ケース状の機枠１を板状の仕切り部材２を介して前方には洗浄室３を、さらにその一側には乾燥室４を形成し、さらに機枠１の後方には仕切り部材２を介して制御機器等を収容する機械室５が形成されている。そして前方には一側へ向けて横並びに、基板Ｄの供給側６である洗浄・乾燥前の基板Ｄを複数枚収納するマガジンと、該供給側６の一側に隣接し基板洗浄部を形成するための洗浄用基板保持手段７を備えた基板洗浄用インデックステーブル８と、該基板洗浄用インデックステーブル８の一側に隣接し基板乾燥部を形成するための乾燥用基板保持手段９を備えた基板乾燥用インデックステーブル10と、該基板乾燥用インデックステーブル10の一側に隣接する基板Ｄの排出側11たるマガジンを設けている。尚、基板Ｄは円板状であって、中心に貫通孔が形成されている。
【００１５】
そして、基板洗浄用インデックステーブル８と基板乾燥用インデックステーブル10はそれぞれ裏側にあるモータ８Ａによって回動できるようになっている。
【００１６】
さらに、機枠１の上部に供給側６方向の上方、実施例では基板洗浄用インデックステーブル８側の上方を始端12Ａとし基板洗浄用インデックステーブル８の上方と基板乾燥用インデックステーブル10の上方を介して、排出側11方向の上方、実施例では基板乾燥用インデックステーブル10の上方を終端12Ｂとする基板搬送案内路12がレールによって設けられている。そして、この基板搬送案内路12には、基板Ｄを掴み或いは離して１枚づつ或いは複数枚づつ搬送する搬送用基板保持手段13，14，15が設けられている。実施例では１枚づつ搬送する場合を示している。
【００１７】
そして、搬送用基板保持手段13，14，15は、供給側４に設けられる１次側基板保持手段13と、該１次側基板保持手段13よりも前記排出側11に設けられる２次側基板保持手段14と、１次側基板保持手段13と２次側基板保持手段14との間に設けられる中間基板保持手段15とを備え、これら１次側基板保持手段13、２次側基板保持手段14、中間基板保持手段15は連結部材16を介して一体的に設けられるものであって、連結部材16は基板搬送案内路12に沿うように横長に設けられると共に、基板搬送案内路12の長手方向に沿って移動可能に設けられている。そして、連結部材16の供給側６寄りの前側に１次側基板保持手段13が第１のアーム16Ａを介して設けられている。この第１のアーム16Ａは下向きに配置されるものであって、その先端に１次側基板保持手段13が後方へ向けて設けられている。同様に、連結部材16の排出側11寄りに２次側基板保持手段14が第２のアーム16Ｂを介して設けられ、連結部材16の１次側基板保持手段13と２次側基板保持手段14との間に第３のアーム16Ｃを介して中間基板保持手段15が設けられている。尚、１次側基板保持手段13、２次側基板保持手段14及び中間基板保持手段15は後述する基板受取・取出位置Ｌ１，Ｍ１に基板Ｄに対して正面側で対向可能に移動できるようになっている。
【００１８】
そして、連結部材16の横向き方向の中央の後側には、後方に突設する第４のアーム17を介して基板搬送案内路12に摺動自在に設けられるモータ（図示せず）駆動の搬送駆動手段たる単一の摺動部18が一体的に設けられている。
【００１９】
前記基板洗浄用インデックステーブル８は、中心軸８Ｂを中心として矢印Ａの方向に回転可能であり、図示の実施例では、洗浄用基板保持手段７は第1乃至第3の洗浄用基板保持用チャック21，22，23を周方向に等間隔に有する。第1乃至第3の洗浄用基板保持用チャック21，22，23により基板Ｄを回転可能に保持する。 そして、第1乃至第3の洗浄用基板保持用チャック21，22，23は、夫々、基板受取・取出位置Ｌ１、第1の基板洗浄位置Ｌ２、第２の基板洗浄位置Ｌ３にあり、軸８Ｂを中心として基板Ｄを断続的に回転可能に保持している。基板受取・取出位置Ｌ１は、基板Ｄの受取位置と取出位置を同一個所で兼用したもので基板Ｄを受取るか或いは取出できるようになっており、インデックステーブル８の上部に配置されている。第1の基板洗浄位置Ｌ２、第２の基板洗浄位置Ｌ３はインデックステーブル８の左右に配置される。そして、第１の基板洗浄位置Ｌ２、第２の基板洗浄位置Ｌ３では、洗浄具24Ａ，24Ｂが対応して設けられている。尚、洗浄具24は例えば基板Ｄを洗浄するパッド状のもの（例えばスポンジパッド）などを備えて２個のパッド状のもので基板Ｄを挟んで基板の表面を洗浄する。
【００２０】
従って、インデックステーブル８が１２０度ごとに回転することにより基板受取・取出位置Ｌ１、第1の基板洗浄位置Ｌ２、第２の基板洗浄位置Ｌ３に、第1乃至第3の洗浄用基板保持手段21，22，23が順次配置され、基板受取・取出位置Ｌ１においては基板Ｄが受取され、第1の基板洗浄位置Ｌ２、第２の基板洗浄位置Ｌ３においては洗浄され、そして洗浄された基板Ｄは再び基板受取・取出位置Ｌ１に配置されて取出されるようになっている。
【００２１】
前記基板乾燥用インデックステーブル10は、矢印Ｂの方向に回転可能であり、このインデックステーブル10上には、乾燥用基板保持手段９として第1乃至第３の乾燥用基板保持用チャック25，26，27を周方向に等間隔に有する。第1乃至第３の乾燥用基板保持用チャック25，26，27は、夫々、基板受取・取出位置Ｍ１、第１の基板乾燥位置Ｍ２、第２の基板乾燥位置Ｍ３にあり、基板Ｄを回転可能に保持している。基板受取・取出位置Ｍ１は、基板Ｄの受取位置と取出位置を同一個所で兼用したもので基板Ｄを受取るか或いは取出できるようになっており、インデックステーブル10の上部に配置されている。第1の基板乾燥位置Ｍ２、第２の基板乾燥位置Ｍ３においては、基板Ｄを高速回転して基板Ｄを遠心力で乾燥させるものであり、そのために乾燥用基板保持用チャック25，26，27の外側には水滴飛散防止用の壁28が設けられている。
【００２２】
従って、インデックステーブル10が１２０度（３６０度／位置の数３）ごとに回転することにより回転することにより基板受取・取出位置Ｍ１、第１の基板乾燥位置Ｍ２、第２の基板乾燥位置Ｍ３に、第1乃至第３の乾燥用基板保持用チャック25，26，27が順次配置され、基板受取・取出位置Ｍ１においては基板Ｄが受取され、第１の基板乾燥位置Ｍ２、第２の基板乾燥位置Ｍ３においてはスピン乾燥され、そして乾燥された基板Ｄは再び基板受取・取出位置Ｍ１に配置されて取出されるようになっている。
【００２３】
さらに、前記基板搬送案内路12は、基板洗浄用インデックステーブル８及び基板乾燥用インデックステーブル10の真上よりも後方へ後退して設けられている。実施例では基板Ｄを所定方向に移動するための基板搬送案内路12は仕切り部材２の上部に横向きに設けられた断面が箱形形状のレールであって、開口部19を仕切り部材２に臨ませるように洗浄室３、乾燥室４側に開口しており、この開口部19の内外を第４のアーム17が貫通している。また基板搬送案内路12は開口部19を除いて仕切り部材２に対して密封しており、このように洗浄室３、乾燥室４に開口部19以外は連通しないようにほぼ密封された基板搬送案内路12を摺動部18が摺動するようになっている。
【００２４】
そして、１次側基板保持手段13と中間基板保持手段15との一側横向き方向の長さＸ１と、中間基板保持手段15と２次側基板保持手段14との間の一側横向き方向の長さＸ２と、供給側６と基板洗浄用インデックステーブル８の基板受取・取出位置Ｌ１間の一側横向き方向の搬送長さＸ３と、基板洗浄用インデックステーブル８の基板受取・取出位置Ｌ１と基板乾燥用インデックステーブル10の基板受取・取出位置Ｍ１間の一側横向き方向の搬送長さＸ４と、基板乾燥用インデックステーブル10の基板受取・取出位置Ｍ１と排出側11間の一側横向き方向の搬送長さＸ５を同じに形成している（Ｘ１＝Ｘ２＝Ｘ３＝Ｘ４＝Ｘ５）。
【００２５】
さらに、基板洗浄用インデックステーブル８の背面にはインデックステーブル８を回動するためのモータ８Ａを備えた駆動装置のほぼ中央部が仕切り部材２に取り付けられて、洗浄室３側にやや突設している。
【００２６】
さらに、基板Ｄを挟むようにして洗浄する左右一対に配置される洗浄装置24には基板Ｄを前後方向で挟んで洗浄するための洗浄具24Ａ，24Ｂが後側、前側に設けられる。洗浄具24Ａは基板Ｄの後面を洗浄する例えばスポンジパッドであり、洗浄具24Ｂは前面を洗浄する同様のものである。そして、これら洗浄具24Ａ，24Ｂは真ん中に配置される基板Ｄに対して進退自在に設けられる。この移動のために洗浄具24Ａは後部アーム24Ｃを介してシリンダー型の洗浄用駆動部24Ｄに接続されて進退可能に設けられ、一方洗浄具24Ｂは前部アーム24Ｅを介してシリンダー型の洗浄用駆動部24Ｆに接続されて進退可能に設けられている。この洗浄用駆動部24Ｄ，24Ｆは仕切り部材２の後方、すなわち機械室５側に設置されており、このために後部アーム24Ｃ，24Ｅは仕切り部材２より洗浄室３側に向けて突設している。
【００２７】
また、基板乾燥用インデックステーブル10は仕切り部材２に回動自在に設けられており、この基板乾燥用インデックステーブル10の前面に第1乃至第３の乾燥用基板保持用チャック25，26，27が設けられるものであって、チャック25，26，27はインデックステーブル10の軸線Ｚを中心として放射３方向に等間隔で設けられたものであって、軸線Ｚ上に第1乃至第３の中継伝動軸25Ａ，26Ａ，27Ａが同軸状にぞれぞれ軸受25Ｂ，26Ｂ，27Ｂを介して回動自在に設けられている。そして、仕切り部材２の後側、すなわち機械室５に設けたチャック用駆動部である第1のモータ25Ｃ、さらには第２及び３のモータ（いずれも図示せず）が設けられている。そして、第1のモータ25Ｃのモータ軸に設けた駆動側プーリ25Ｄと第1の中継伝動軸25Ａの基端側プーリ25Ｅとに第１の駆動側ベルト25Ｆを掛け渡し、さらに、インデックステーブル10に軸受け25Ｇを介して回動自在に設けたチャック25の回転中心軸25Ｈと第1の中継伝動軸25Ａの先端側プーリ25Ｉとを第１の従動側ベルト25Ｊを掛け渡しする。第1の中継伝動軸25Ａの先端には円状の板部25Ｌが軸線を第1の中継伝動軸25Ａのものと同一軸線となって設けられている。これにより、第1のモータ25Ｃの回転力は、駆動側プーリ25Ｄ、第１の駆動側ベルト25Ｆ、基端側プーリ25Ｅ、第1の中継伝動軸25Ａ、先端側プーリ25Ｉ、第１の従動側ベルト25Ｊを介して、回転中心軸25Ｈに伝達され、これにより板部25Ｌが回転駆動されてチャック25に保持された基板Ｄをスピン乾燥することができる。同様に、チャック26，27においても、第２，３のモータ（図示せず）の回転力は、第２，３の駆動側プーリ（図示せず）、第２，３の駆動側ベルト（図示せず）、第２，３の基端側プーリ26Ｅ，27Ｅ、第２，３の中継伝動軸26Ａ，27Ａ、第２，３の先端側プーリ26Ｉ，27Ｉ、第２，３の従動側ベルト26Ｊ，27Ｊを介して、それぞれチャック26，27の回転中心軸（図示せず）に伝達され、これによりチャック26，27に保持された基板Ｄをスピン乾燥することができる。尚、図６において第１の従動側ベルト25Ｊ及び第２，３の従動側ベルト26Ｊ，27Ｊはチャック25，26，27方向に向かって３方向に向けて設けられるものであるが、説明のためにベルト25Ｊ， 26Ｊ，27Ｊは平行に図示している。
【００２８】
また、基板乾燥用インデックステーブル10の前面に設けられた前記第1の乾燥用基板保持用チャック25の先端の３方には基板Ｄを保持するための爪部25Ｔが前方に突設している。図６においては爪部25Ｔは１箇所のみ図示しており、この爪部25Ｔの基端側と基板乾燥用インデックステーブル10との間には、チャック25を囲む覆い体25Ｋが設けられている。この覆い体25Ｋは回転中心軸25Ｈの軸線とほぼ同一軸線状に設けられる円状の筒部（符号25Ｋで示した部分）とその先端に設けられる円状の板部25Ｌによって形成されている。そして、筒部の一端は基板乾燥用インデックステーブル10の前面に接続し、一方筒部の他端は板部25Ｌに接続して、内部を密封状にしている。尚、他のチャック26，27も同様に覆い体25Ｋが設けられている。
【００２９】
さらに、図７に示すように第1の乾燥用基板保持用チャック25において、爪部25Ｔの軸線上に温風Ｗの空気路31を形成すると共に、この空気路31の基端に空気源31Ａを接続すると共に、先端には基板Ｄ方向に向けた噴出口32Ｂを設けている。第２、３の乾燥用基板保持用チャック26，27においても同様に空気路31が設けられている。
【００３０】
次に、前記構成の作用について説明する。予め供給側６には洗浄前の基板Ｄが供給されている。そして、図１に示すように摺動部18が基板搬送案内路12に従って移動することにより連結部材16と一体的な１次側基板保持手段13を供給側６に対向するように対応させ、中間基板保持手段15を基板洗浄用インデックステーブル８における基板受取・取出位置Ｌ１にある第1の洗浄用基板保持手段21に対向するように対応させ、２次側基板保持手段14を基板乾燥用インデックステーブル10における基板受取・取出位置Ｍ１にある第1の乾燥用基板保持手段25に対向するように対応させる。そして、１次側基板保持手段13により供給側６の基板Ｄを取出し、さらに２次側基板保持手段14により基板受取・取出位置Ｌ１の基板Ｄを取出し  中間基板保持手段15により基板受取・取出位置Ｍ１の基板Ｄを取出す。
【００３１】
次に摺動部18が基板搬送案内路12を一側に長さＸ１分移動すると、第１のアーム16Ａ、第２のアーム16Ｂ、第３のアーム16Ｃを介して１次側基板保持手段13、２次側基板保持手段14、中間基板保持手段15も移動してこれらは基板受取・取出位置Ｌ１、基板受取・取出位置Ｍ１、排出側11に対向するように対応する。これにより１次側基板保持手段13によって供給側６の基板Ｄを基板受取・取出位置Ｌ１に受け取る。２次側基板保持手段14、中間基板保持手段15によってそれぞれ基板受取・取出位置Ｌ１、基板受取・取出位置Ｍ１の基板Ｄを受け取る。そして、インデックステーブル８が回転することにより基板受取・取出位置Ｌ１にあった基板Ｄは第1の基板洗浄位置Ｌ２、第２の基板洗浄位置Ｌ３において洗浄され、そして洗浄された基板Ｄは再び基板受取・取出位置Ｌ１に位置する。同様に、インデックステーブル10が回転することにより基板受取・取出位置Ｍ１にあった基板Ｄは第１の基板乾燥位置Ｍ２、第２の基板乾燥位置Ｍ３においてスピン乾燥され、そして乾燥された基板Ｄは再び基板受取・取出位置Ｍ１に位置する。
【００３２】
このような基板Ｄの洗浄、乾燥の間に、摺動部18が基板搬送案内路12を他側に長さＸ１分移動すると、第１のアーム16Ａ、第２のアーム16Ｂ、第３のアーム16Ｃを介して１次側基板保持手段13、２次側基板保持手段14、中間基板保持手段15も移動してこれらは供給側６、基板受取・取出位置Ｌ１、基板受取・取出位置Ｍ１に対向するように対応する。そして、１次側基板保持手段13、中間基板保持手段15、２次側基板保持手段14を介して再び供給側６の基板Ｄは基板受取・取出位置Ｌ１へ、基板受取・取出位置Ｌ１にある洗浄された基板Ｄは基板受取・取出位置Ｍ１へ、基板受取・取出位置Ｍ１の乾燥された基板Ｄは排出側11へ同時に搬送される。このようにして基板Ｄは順次搬送されて洗浄、乾燥が繰り返される。尚、１次側基板保持手段13、中間基板保持手段15、２次側基板保持手段14における一側横向き方向ではなく、基板Ｄを着脱するため前後方向の移動についてはその記載を省略する。
【００３３】
そして、スピン乾燥時は、第1のモータ25Ｃの回転力は、駆動側プーリ25Ｄ、第１の駆動側ベルト25Ｆ、基端側プーリ25Ｅ、第1の中継伝動軸25Ａ、先端側プーリ25Ｉ、第１の従動側ベルト25Ｊを介して、回転中心軸25Ｈに伝達され、これにより板部25Ｌが回転駆動されてチャック25に保持された基板Ｄをスピン乾燥することができる。さらに、このスピン乾燥の際に、空気源31Ａから供給された温風Ｗが噴出口32Ｂより基板Ｄに向けて噴出して基板Ｄの表面を乾燥することができる。
【００３４】
以上のように、前記実施例によれば、前後を仕切る仕切り部材２を介して前室である洗浄室３及び乾燥室４と、後室である機械室５を設けた機枠１の洗浄室３及び乾燥室４に、基板の供給側６と、該供給側６に隣接するインデックステーブル８と、該インデックステーブル８に設けられチャック用駆動部21Ａを備えた基板保持用チャック21と、該インデックステーブル８に隣接する基板の排出側11と、前記供給側６を始端とし前記インデックステーブル８を介して前記排出側11を終端とする基板搬送案内路12と、該基板搬送案内路12に沿って移動する搬送用基板保持手段14を備えたハードディスク基板の洗浄・乾燥装置において、前記チャック用駆動部たる第1のモータ25Ｃ、さらには第２及び３のモータ（いずれも図示せず）を前記仕切り部材２を介して前記機械室５に設けることにより、第1のモータ25Ｃ、さらには第２及び３のモータの作動に伴う塵や汚れなどが洗浄室３側に発生することはなく、このためにこのような塵や汚れなどの異物が洗浄、或いは洗浄後の基板Ｄに付着することはなくなる。
【００３５】
さらに、洗浄装置24の洗浄用駆動部24Ｄ，24Ｆを仕切り部材２を介して機械室５に設けることにより、洗浄用駆動部24Ｄ，24Ｆの作動に伴う塵や汚れなどが洗浄室３側に発生することはなく、このためにこのような塵や汚れなどの異物が洗浄、或いは洗浄後の基板Ｄに付着することはなくなる。
【実施例２】
【００３６】
図８は実施例２を示しており、前記実施例１と同一部分には同一符号を付し、その詳細な説明を省略する。実施例２は基板Ｄを２個づつ搬送して、洗浄、乾燥を行う場合を示しており、洗浄用インデックステーブル８には、各基板受取・取出位置Ｌ１、第1の基板洗浄位置、第２の基板洗浄位置にそれぞれ、左右一対の洗浄用基板保持手段７が設けられており、これらの洗浄用基板保持手段７のうちの左右一対の基板保持用チャック21は、内側チャック21Ｉと外側チャック21Ｏを備えており、そして、内側チャック21Ｉは内側用回動アーム41の先端に回動自在に設けられ、内側用回動アーム41の基端41Ａは洗浄用インデックステーブル８に回動可能に接続している。外側チャック21Ｏは外側用回動アーム42の先端に回動自在に設けられ、外側用回動アーム42の基端42Ａは、リンク部材43の先端43Ｂに回動自在に接続されると共に、このリンク部材43の基端43Ａは洗浄用インデックステーブル８に回動可能に接続している。そして、リンク部材43の中間部に駆動用リンク44の先端44Bが接続すると共に、駆動用リンク44の基端44Ａは洗浄用インデックステーブル８に回動自在に接続されている。この駆動用リンク44は左右一対に設けられており、それらの基端44Ａは同一軸線上に配置されており、さらにこれら基端44Ａには共通モータ45のモータ軸（図示せず）が接続している。尚、モータ軸と基端44Ａ間には減速ギア装置などの中継手段が設けられていてもよい。
【００３７】
したがって、共通モータ45が作動することにより、左右一対のリンク部材43が同時に矢印方向に回動し、この回動により左右一対の外側用回動アーム42も同時に矢印方向に回動して基板Ｄを保持することができる。このように、単独の共通モータ45によって左右一対の外側チャック21Ｏを作動することにより、基板Ｄを２個づつ洗浄するような場合であっても、構造の複雑化がなされることはない。
【産業上の利用可能性】
【００３８】
以上のように本発明に係るハードディスク基板の洗浄・乾燥装置は、各種の用途に適用できる。また、基板洗浄用インデックステーブルと基板乾燥用インデックステーブルとを１台で兼用するようなものでもよい。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明の実施例１を示す作動前の概略正面図である。
【図２】本発明の実施例１を示す作動後の概略正面図である。
【図３】本発明の実施例１を示す概略側断面図である。
【図４】本発明の実施例１を示す基板の保持手段を示しており、図３（Ａ）は洗浄用基板保持手段の概略正面図であり、図３（Ｂ）は乾燥用基板保持手段の概略正面図、図３（Ｃ）は搬送用基板保持手段の斜視図である。
【図５】本発明の実施例１を示すチャック用駆動部まわりの側断面図である。
【図６】本発明の実施例１を示す乾燥用インデックステーブルの要部の断面図である。
【図７】本発明の実施例１を示す基板を保持するための爪部の側面図である。
【図８】本発明の実施例２を示す概略正面図である。
【図９】従来技術を示し、図９（Ａ）は概略正面図、図９（Ｂ）は洗浄装置の断面図である。
【符号の説明】
【００４０】
１  機枠
２  仕切り部材
３  洗浄室（前室）
５  機械室（後室）
６  供給側
８  インデックステーブル
12  基板搬送案内路
14  搬送用基板保持手段
25  乾燥用基板保持用チャック
25Ｃ  第1のモータ（チャック用駆動部）
24  洗浄装置
24Ｄ，24Ｆ  洗浄用駆動部
11  排出側
Ｄ  基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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