(57)【要約】【課題】  半導体製造工程から排出される排ガスに含まれる有害成分を、火炎により熱分解して浄化する浄化装置において、一般的に熱分解が困難な有害成分として知られているＣＦ４であっても、低濃度になるまで熱分解することが可能で、しかもサーマルノックス（ＮＯ、ＮＯ２）の発生、さらにＣＯ２の発生を抑制できる排ガスの浄化装置を提供する。【解決手段】  有害成分を熱分解する燃焼室、燃料ガスと空気を含むガスを燃焼室へ噴出するノズル、その外周側に排ガスと燃料ガスを含むガスを燃焼室へ噴出するノズル、及びさらにその外周側に酸素を含むガスを燃焼室へ噴出するノズルを備え、該３種類のノズルのガス噴出口における断面積が、前記の順で１：１．５〜１５：０．２〜２である浄化装置とする。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体製造工程から排出される排ガスに含まれる有害成分を、火炎により熱分解して浄化する浄化装置であって、有害成分を熱分解する燃焼室、燃料ガスと空気を含むガスを燃焼室へ噴出するノズル、その外周側に排ガスと燃料ガスを含むガスを燃焼室へ噴出するノズル、及びさらにその外周側に酸素を含むガスを燃焼室へ噴出するノズルを備え、該３種類のノズルのガス噴出口における断面積の比が、前記の順で１：１．５〜１５：０．２〜２であることを特徴とする排ガスの浄化装置。
【請求項２】
燃料ガスと空気を含むガスの噴出口、及び酸素を含むガスの噴出口は、排ガスと燃料ガスを含むガスの噴出口より燃焼室に突出した構成である請求項１に記載の排ガスの浄化装置。
【請求項３】
排ガスと燃料ガスを含むガスを燃焼室へ噴出するノズルは、噴出口の直前においてガスの溜部を有する構成である請求項１に記載の排ガスの浄化装置。
【請求項４】
燃料ガスと空気を含むガスを燃焼室へ噴出するノズル、及び排ガスと燃料ガスを含むガスを燃焼室へ噴出するノズルは、各々二重管の内側の流路及び外側の流路からなる構成である請求項１に記載の排ガスの浄化装置。
【請求項５】
排ガスと燃料ガスを含むガスを燃焼室へ噴出するノズル、及び酸素を含むガスを燃焼室へ噴出するノズルは、各々複数個備えられており、燃料ガスと空気を含むガスの噴出ノズルを中心点として、各々該中心点を中心とする円の円周上に等間隔で設けられた請求項１に記載の排ガスの浄化装置。
【請求項６】
排ガスと燃料ガスを含むガスを燃焼室へ噴出する複数のノズルは、互いに異なる種類の有害成分を含む排ガスを燃焼室へ噴出するためのノズルである請求項５に記載の排ガスの浄化装置。
【請求項７】
燃焼室の側面壁が、円筒、角筒、多角筒、またはこれらに類似する筒状の形状である請求項１に記載の排ガスの浄化装置。
【請求項８】
燃焼室の側面壁が、通気性及び断熱性を有する側面壁であり、該側面壁の外周に酸素を含むガスの流路が設けられた請求項１に記載の排ガスの浄化装置。
【請求項９】
燃焼室の排出側に、粉化物の除去部及び／または酸性ガスの除去部が設けられた請求項１に記載の有害ガスの浄化装置。
【請求項１０】
有害成分がハロゲン化炭素である請求項１に記載の排ガスの浄化装置。
【請求項１１】
有害成分がＣＦ４である請求項１に記載の排ガスの浄化装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体製造工程から排出される排ガスに含まれる有害成分を、火炎により熱分解して浄化する浄化装置に関する。さらに詳細には、一般的に熱分解が困難な有害成分として知られているＣＦ４であっても、低濃度になるまで熱分解することが可能で、しかもサーマルノックス（ＮＯ、ＮＯ２）の発生、さらにＣＯ２の発生を抑制できる排ガスの浄化装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年の半導体工業の発展とともに、半導体製造工程においては非常に多種のガスが使用されるようになってきている。しかし、これらのガスは人体及び環境にとって有害な物質が多く、工場外へ排出するに先立って浄化することが必須のこととなっている。これらのガスを燃焼させることにより分解処理する燃焼式浄化方法は、排ガスの組成や物性によらず適用することができる便利な方法であり、特に高濃度、大流量の場合は乾式浄化方法や湿式浄化方法と比較して効率的である。
【０００３】
燃焼式浄化方法により処理される排ガスは、プロパン、ＬＰＧ、ＬＮＧ等の燃料ガス、空気または酸素、必要に応じ不活性ガスと燃焼室において混合、燃焼し、無害な酸化物あるいは容易に無害化できる物質となり処理される。従来から使用されている一般的な燃焼式浄化装置は、排ガスに含まれる有害成分を熱分解するための燃焼室、処理対象の排ガス、燃料ガス、空気等の酸素含有ガスを燃焼室へ導入するための各配管（ノズル）、燃焼後のガスを燃焼室から排出するための排出口から構成されている。
【０００４】
【特許文献１】特開平１０−５４５３４号公報
【特許文献２】特開平１０−１１０９２６号公報
【特許文献３】特開２０００−３４２９３１号公報
【特許文献４】特表２００５−５２２６６０号公報
【特許文献５】特開２００６−１２２７９０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
燃焼式浄化方法においては、ＣＦ４の熱分解に必要な高温度にした場合、酸素及び窒素の共存下ではこれらが反応してサーマルノックス（ＮＯ、ＮＯ２）が生成する。ＮＯ、ＮＯ２は、酸性雨の原因となる汚染物質であり、燃焼式浄化方法により浄化されたガス中のＮＯ、ＮＯ２濃度は低いことが望ましい。さらに、燃料ガスを効率よく使用してＣＯ２の発生を抑制することが好ましい。
従って、本発明が解決しようとする課題は、一般的に熱分解が困難な有害成分として知られているＣＦ４であっても、低濃度になるまで熱分解することが可能で、しかもＮＯ、ＮＯ２の発生、さらにＣＯ２の発生を抑制できる排ガスの浄化装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、これらの課題を解決すべく鋭意検討した結果、半導体製造工程から排出される排ガスに含まれる有害成分を、火炎により熱分解して浄化する浄化装置において、有害成分を熱分解する燃焼室のほか、（１）燃料ガスと空気を含むガスを燃焼室へ噴出するノズル、その外周側に（２）排ガスと燃料ガスを含むガスを燃焼室へ噴出するノズル、及びさらにその外周側に（３）酸素を含むガスを燃焼室へ噴出するノズルを配置するとともに、該３種類のノズルのガス噴出口における断面積の比を特定の範囲の比に設定することにより、燃料ガスが効率よく消費され、ＣＦ４であっても低濃度になるまで熱分解することが可能で、しかもサーマルノックス（ＮＯ、ＮＯ２）の発生、さらにＣＯ２の発生を抑制できることを見出し本発明の排ガスの浄化装置に到達した。
【０００７】
すなわち本発明は、半導体製造工程から排出される排ガスに含まれる有害成分を、火炎により熱分解して浄化する浄化装置であって、有害成分を熱分解する燃焼室、燃料ガスと空気を含むガスを燃焼室へ噴出するノズル、その外周側に排ガスと燃料ガスを含むガスを燃焼室へ噴出するノズル、及びさらにその外周側に酸素を含むガスを燃焼室へ噴出するノズルを備え、該３種類のノズルのガス噴出口における断面積の比が、前記の順で１：１．５〜１５：０．２〜２であることを特徴とする排ガスの浄化装置である。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の排ガスの浄化装置は、火炎の原料となる燃料ガスの一部を分散して、火炎を噴出するノズルに近接したノズルから、排ガスとともに燃焼室へ噴出させるとともに、各ノズルのガス噴出口における断面積を特定の範囲の比に設定した構成なので、燃料ガスが効率よく消費される。その結果、熱分解処理の際には、必要以上にガスの温度が昇温することなくＣＦ４等の有害成分を効率よく熱分解することができ、酸素及び窒素の共存下でもサーマルノックス（ＮＯ、ＮＯ２）の発生を抑制できる。また、ＣＯ２の発生も抑制することができる。本発明の排ガスの浄化装置においては、半導体製造工程から排出される排ガスに含まれるＣＦ４を、条件によっては９９％以上の分解率で、しかもサーマルノックス（ＮＯ、ＮＯ２）の発生を３００ｐｐｍ以下に抑制して熱分解処理することも可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
本発明は、半導体製造工程から排出される排ガスに含まれる有害成分を、火炎により熱分解して浄化する浄化装置に適用される。
本発明の浄化装置で処理できる排ガスに含まれる有害成分としては、アルシン、ホスフィン、シラン、ジシラン、ジクロロシラン、ジボラン、セレン化水素、ゲルマン等の水素化物ガス、三フッ化ホウ素、三塩化ホウ素、四フッ化珪素、四塩化珪素、四塩化チタン、塩化アルミニウム、四フッ化ゲルマニウム、六フッ化タングステン等の酸性ガス、アンモニア、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、ヒドラジン等の塩基性ガス、パーフルオロカーボン、ヒドロフルオロカーボン等のハロゲン化炭素を例示することができる。
また、燃料ガスとしては、プロパンガス、天然ガス等を使用することができる。これらのガスは、必要に応じ窒素等の不活性ガスとともに用いられる。
【００１０】
以下、本発明の排ガスの浄化装置を、図１及び図２に基づいて詳細に説明するが、本発明はこれらにより限定されるものではない。
尚、図１は、本発明の排ガスの浄化装置の一例を示す垂直断面図である。また図２は、本発明の排ガスの浄化装置における各ノズルの配置例を示す水平断面図（排ガスと燃料ガスを含むガスの噴出口における水平断面図）である。
【００１１】
本発明の排ガスの浄化装置は、図１に示すように、有害成分を熱分解する燃焼室４、燃料ガスと空気を含むガスを燃焼室へ噴出するノズル（燃料ガスを燃焼させて火炎を噴出するノズル）１、その外周側に排ガスと燃料ガスを含むガスを燃焼室へ噴出するノズル２、及びさらにその外周側に酸素を含むガスを燃焼室へ噴出するノズル３を備え、該３種類のノズルのガス噴出口における断面積（ガスが通過する部分の断面積）の比が、ノズル１：ノズル２：ノズル３の比で１：１．５〜１５：０．２〜２である浄化装置である。
【００１２】
また、本発明の排ガスの浄化装置は、通常は燃焼室４の側面壁５が、円筒、角筒、多角筒、またはこれらに類似する筒状の形状である。燃料ガスと空気を含むガスを燃焼室へ噴出するノズル１、排ガスと燃料ガスを含むガスを燃焼室へ噴出するノズル２、及び酸素を含むガスを燃焼室へ噴出するノズル３は、通常は燃焼室の上部壁に配置される。これらのノズルの配置位置としては、ノズル１を中心として、その外周側にノズル２、さらにその外周側にノズル３が配置されるほかは特に制限はなく、例えば図２に示すような配置例を挙げることができる。尚、ノズル２及びノズル３は、通常は各々１〜１０個程度の範囲で分割して設けることができるが、このような場合の各ノズルの断面積は、各々のノズルの合計の断面積として計算される。
【００１３】
これらのノズルのガス噴出口における断面積（ガスが通過する部分の断面積）の比は、ノズル１：ノズル２：ノズル３の比で１：１．５〜１５：０．２〜２であり、各ノズルが前記の範囲外となるように設定されると、熱分解が困難なＣＦ４を熱分解処理する場合には分解率が低下し、サーマルノックス（ＮＯ、ＮＯ２）の発生が抑制できなくなる。また、この点について、分解率及びサーマルノックスは、各ノズルから噴出するガスの空筒線速度にも影響されるが、前記の断面積比の範囲を逸脱すると調整が困難となる。
【００１４】
また、燃料ガスと空気を含むガスを燃焼室へ噴出するノズル１の噴出口、及び酸素を含むガスを燃焼室へ噴出するノズル３の噴出口は、排ガスと燃料ガスを含むガスを燃焼室へ噴出するノズル２の噴出口より、通常は１〜２０ｍｍ、好ましくは２〜１０ｍｍ燃焼室４に突出するように配置される。ノズル１の噴出口の突出がノズル２の噴出口に比べて１ｍｍより小さい場合は、ノズル２内に火炎が入る虞があり、２０ｍｍより大きい場合は、有害成分の分解率が低下する不都合が生じる。また、酸素を含むガスを燃焼室へ噴出するノズル３の突出がノズル２の噴出口に比べて１ｍｍより小さい場合、２０ｍｍより大きい場合は、燃焼室内における燃焼が不安定になる虞がある。
【００１５】
さらに、排ガスと燃料ガスを含むガスを燃焼室へ噴出するノズル２は、図１に示すように、噴出口の直前においてガスの溜部を有する構成であることが好ましい。このような構成とすることにより、噴出の直前で排ガスと燃料ガスを含むガスが加熱されて、効率よく有害成分の熱分解が行なわれる。尚、ガスの溜部を設ける場合、噴出口の位置は燃料ガスと空気を含むガスを燃焼室へ噴出するノズル１に近接して設けることが好ましい。
【００１６】
尚、燃料ガスと空気を含むガスを燃焼室へ噴出するノズル１、及び排ガスと燃料ガスを含むガスを燃焼室へ噴出するノズル２は、図２（ａ）（ｂ）に示すように、各々二重管の内側の流路及び外側の流路からなる構成とすることもできる。また、排ガスと燃料ガスを含むガスを燃焼室へ噴出するノズル２、または酸素を含むガスを燃焼室へ噴出するノズル３を複数個に分けて設ける場合は、図２（ｂ）（ｃ）（ｄ）に示すように、通常は燃料ガスと空気を含むガスの噴出ノズル１を中心点として、各々該中心点を中心とする円の円周上に等間隔で設けられる。このような構成とした場合、ノズル２からは互いに異なる種類の有害成分を含む排ガスを、同時に燃焼室へ噴出することも可能である。
【００１７】
その他、本発明の排ガスの浄化装置においては、燃焼室４の側面壁５を、非通気性で断熱性を有する側面壁、あるいは通気性及び断熱性を有する側面壁とすることができる。有害成分の熱分解の際には、有害成分の種類によっては粉化物が生成するが、通気性及び断熱性を有する側面壁とした場合は、図１において矢印で示すような方向に酸素を含むガスを流すことにより、粉化物が燃焼室の側面壁に堆積することを抑制することができる。側面壁５の構成材料としては、有害成分に対する耐腐食性、熱分解温度に耐えられる耐熱性、及び断熱性があれば特に限定されることはないが、好ましい構成材料としては、セラミックを挙げることができる。セラミックの中では、アルミナ、シリカ、チタニア等が、耐熱性及び断熱性の点で好ましい。
【００１８】
前記のような構成にする場合、通常は側面壁５の外周全体にわたり、酸素含有ガス流路６が設けられる。酸素含有ガス流路６の幅は、通常は５〜２００ｍｍ、好ましくは１０〜１００ｍｍである。排ガスを処理する際には燃焼室の温度は５００〜１２００℃の高温になり、このような構成とすることにより、燃焼室の熱が外部に拡散することを防止できる。さらに、必要に応じて、酸素含有ガス流路６の外周に、前記と同様の目的のために、水路（図示しない）も設けることもできる。
【００１９】
本発明の排ガスの浄化装置においては、燃焼室の直前で燃料ガスと空気を含むガスが混合され燃焼するように設定される。燃料の燃焼の際には、火炎の先端が燃焼室に入ってもよいし入らなくてもよい。燃焼室へ噴出される際の燃焼ガスの温度は、通常は６００〜１５００℃程度である。また、燃焼室のガス圧力についても特に制限されることはなく、通常は常圧であるが、１０ＫＰａ（絶対圧力）のような減圧あるいは０．５ＭＰａ（絶対圧力）のような加圧下で処理することも可能である。
【００２０】
熱分解処理された後のガスは、大気に放出されるか、あるいは次の処理工程に送られるが、次の処理工程に送られるような場合、本発明の排ガスの浄化装置においては、このような処理工程を実施するための設備を併せて装備することも可能である。
図１の水槽１２及びスクラバーの設備は、本発明の排ガスの浄化装置により処理した排ガスについて、処理後のガスに含まれる粉化物の除去、及び新たに生成した有害成分（容易に無害化できる成分）の除去を行なうためのものであり、本発明においては必須の設備ではないが、これらの設備を備えることが好ましい。すなわち、燃焼室の排出側に、粉化物の除去部及び／または酸性ガスの除去部を設けた排ガスの浄化装置が好ましい。
【００２１】
例えば、本発明の排ガスの浄化装置により、アルシン、ホスフィン、シラン、ジボラン等の水素化物を処理した場合は、燃焼により各々ヒ素、リン、ケイ素、ホウ素等の固体粒子状酸化物が生成する。また、三フッ化ホウ素、三塩化ホウ素、四フッ化珪素、四塩化珪素、Ｃ２Ｆ６等のハロゲン化物を処理した場合は、新たに塩化水素、フッ化水素等の酸性ガス（容易に無害化できる成分）が生成する。図１の浄化装置においては、粉化物は主にスプレーノズル９からの散水、及び多孔板１４における捕捉により除去することが可能である。また、本発明の排ガスの浄化装置とスクラバー設備間の配管は、粉化物が容易に水槽１２へ洗い流されるようにスクラバー設備側に傾斜させることが好ましい。
【００２２】
本発明の排ガスの浄化装置に、水槽１２及びスクラバーの設備を結合した図１に示すような浄化装置を用いた場合、塩化水素、フッ化水素等の酸性ガスは、主に充填材１５により除去することが可能である。また、デミスター１６により水分も併せて除去することができる。尚、図１において、８は冷却配管、１０はフローメーター、１１はポンプ、１３は排水管、１７は熱分解後のガスを外部へ排出する排出口を表わす。
【００２３】
次に、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明がこれらにより限定されるものではない。
【実施例１】
【００２４】
（浄化装置の製作）
図１に示すような外壁がステンレス鋼（ＳＵＳ３１６）製の高さ２０００ｍｍの浄化装置を製作した。燃焼室の上部壁に設けた各ノズルの水平断面の構成は、図２（ｂ）に示す通りであり、燃料ガスと空気を含むガスを燃焼室へ噴出するノズル１（外径６０ｍｍ）、及び排ガスと燃料ガスを含むガスを燃焼室へ噴出する４個のノズル２（噴出口の外径１４５ｍｍ）は二重管構造である。また、その外周側の酸素を含むガスを燃焼室へ噴出する４個のノズル３の径は１９ｍｍであり、噴出ノズル１を中心とする円の円周上に等間隔で設けた。（各ノズルのガス噴出口における断面積の比は、ノズル１：ノズル２：ノズル３の比で１：４．７：０．４）また、ノズル１の噴出口及びノズル３の噴出口は、ノズル２の噴出口より５ｍｍ燃焼室に突出するように配置した。
【００２５】
燃焼室の側面壁としては、微多孔を有するシリカアルミナ製の円筒を用いた。この側面壁は、直径２００ｍｍ、長さ６００ｍｍ、厚さ２５ｍｍであり、直径１０〜１００μｍに相当する微多孔を有するものであった。さらにその外側の外壁は、内径３００ｍｍ、厚さ３ｍｍのステンレス鋼製の円筒を用いた。
酸素含有ガス流路は、側面壁と外壁により形成された環状の流路であり、これを上下方向に２個に区切った。酸素含有ガス導入口は、図２に示すように環状の流路の接線方向から導入されるように、各２個ずつ合計４個設定した。
浄化装置の右下部には、縦４００ｍｍ、横４００ｍｍ、高さ５００ｍｍの水槽を設置し、水槽の上部には、多孔板、ポリプロピレン樹脂を主材とする充填材、及びデミスターを有するスクラバーを設置した。また、浄化装置と水槽を、傾斜した配管で接続し、スプレーノズル、フローメーター、ポンプ等を接続して装置を完成した。
【００２６】
（浄化装置の熱分解試験）
水槽に深さが３５０ｍｍになるまで水を注入した後、ポンプ等を稼動してスプレーノズルから水を噴出させた。また、ノズル１からプロパンガス（流量１２Ｌ／ｍｉｎ）及び空気（流量２８５Ｌ／ｍｉｎ）を燃焼室へ導入してプロパンガスを燃焼させるとともに、４個のノズル３から酸素（流量１５Ｌ／ｍｉｎ（１個のノズル））を燃焼室に導入した。燃焼室の側面壁からも酸素（流量２１Ｌ／ｍｉｎ）及び窒素（流量７９Ｌ／ｍｉｎ）を熱分解室に導入した。
【００２７】
次に、４個のノズル２からＣＦ４（流量０．５Ｌ／ｍｉｎ（１個のノズル））、プロパンガス（流量３Ｌ／ｍｉｎ（１個のノズル））、及び窒素（流量５０Ｌ／ｍｉｎ（１個のノズル））を燃焼室に導入して、有害成分であるＣＦ４の熱分解処理を行なった。
ＣＦ４の熱分解処理は１００時間行ない、この間ＣＦ４の熱分解率及びサーマルノックス（ＮＯ、ＮＯ２）の発生状態を測定するために、約３０分間隔で排出口から排出するガスの一部をサンプリングし、これらの濃度を測定した。その結果、ＣＦ４の熱分解率は９９．１〜９９．３％であり、サーマルノックス（ＮＯ、ＮＯ２）の濃度は、２７０〜２８０ｐｐｍであった。
【実施例２】
【００２８】
実施例１の浄化装置の製作において、ノズル２の噴出口の外径を１０５ｍｍに変えたほかは実施例１と同様にして浄化装置を製作した。（各ノズルのガス噴出口における断面積の比は、ノズル１：ノズル２：ノズル３の比で１：２．０：０．４）
この浄化装置を用いたほかは、実施例１と同様にして熱分解試験を行なった。その結果、ＣＦ４の熱分解率は９６．３〜９７．０％であり、サーマルノックス（ＮＯ、ＮＯ２）の濃度は、４５０〜５００ｐｐｍであった。
【実施例３】
【００２９】
実施例１の浄化装置の製作において、ノズル２の噴出口の外径を１７５ｍｍに変えたほかは実施例１と同様にして浄化装置を製作した。（各ノズルのガス噴出口における断面積の比は、ノズル１：ノズル２：ノズル３の比で１：７．４：０．４）
この浄化装置を用いたほかは、実施例１と同様にして熱分解試験を行なった。その結果、ＣＦ４の熱分解率は９８．５〜９８．８％であり、サーマルノックス（ＮＯ、ＮＯ２）の濃度は、３６０〜４００ｐｐｍであった。
【実施例４】
【００３０】
実施例１の浄化装置の製作において、ノズル３の噴出口の外径を３６ｍｍに変えたほかは実施例１と同様にして浄化装置を製作した。（各ノズルのガス噴出口における断面積の比は、ノズル１：ノズル２：ノズル３の比で１：４．７：１．４）
この浄化装置を用いたほかは、実施例１と同様にして熱分解試験を行なった。その結果、ＣＦ４の熱分解率は９７．３〜９７．８％であり、サーマルノックス（ＮＯ、ＮＯ２）の濃度は、４８０〜５５０ｐｐｍであった。
【００３１】
［比較例１］
実施例１の浄化装置の製作において、ノズル２の噴出口の外径を９０ｍｍに変えたほかは実施例１と同様にして浄化装置を製作した。（各ノズルのガス噴出口における断面積の比は、ノズル１：ノズル２：ノズル３の比で１：１．２：０．４）
この浄化装置を用いたほかは、実施例１と同様にして熱分解試験を行なった。その結果、ＣＦ４の熱分解率は９２．２〜９４．５％であり、サーマルノックス（ＮＯ、ＮＯ２）の濃度は、６００〜７００ｐｐｍであった。
【００３２】
［比較例２］
実施例１と同様の浄化装置を用い、ノズル２から燃焼室へ導入するプロパンガスをノズル１に追加する変更を行ない、ノズル２からはＣＦ４及び窒素を燃焼室へ導入したほかは実施例１と同様の熱分解試験を行なった。
その結果、ＣＦ４の熱分解率は８０〜８５％であり、サーマルノックス（ＮＯ、ＮＯ２）の濃度は、４０００〜４５００ｐｐｍであった。
【００３３】
以上の結果から、本発明の排ガスの浄化装置は、一般的に熱分解が困難な有害成分として知られているＣＦ４であっても、低濃度になるまで熱分解することが可能で、しかもサーマルノックス（ＮＯ、ＮＯ２）の発生を抑制できることが確認された。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】本発明の排ガスの浄化装置の一例を示す垂直断面図
【図２】本発明の排ガスの浄化装置における各ノズルの配置例を示す水平断面図
【符号の説明】
【００３５】
１  燃料ガスと空気を含むガスを燃焼室へ噴出するノズル
２  排ガスと燃料ガスを含むガスを燃焼室へ噴出するノズル
３  酸素を含むガスを燃焼室へ噴出するノズル
４  燃焼室
５  側面壁
６  酸素含有ガス流路
７  酸素含有ガスの導入口
８  冷却配管
９  スプレーノズル
１０  フローメーター
１１  ポンプ
１２  水槽
１３  排水管
１４  多孔板
１５  充填材
１６  デミスター
１７  熱分解後のガスを外部へ排出する排出口
【図１】
2008292077.tif 000003
【図２】
2008292077.tif 000004