(57)【要約】【課題】  支持体表面の欠陥の被覆、感光層の塗工性向上、支持体と感光層との接着性向上、感光層の電気的破壊に対する保護、帯電性の向上、支持体から感光層への電荷注入性の改良を図るために、支持体上に下地層、中間層、感光層をこの順に設けてなる電子写真感光体であっても、帯電スジの発生が抑制された電子写真感光体を提供することである。【解決手段】  支持体上に下地層及び中間層を有する積層感光体において下地層が導電性無機粒子（酸素欠損型酸化スズ被覆粒子）及び導電性ポリマー（ポリピロール、ポリアニリン、ポリチオフェン）を含有する。【選択図】  図１
2008026480.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に下地層、中間層、感光層を少なくとも有する積層感光体において下地層が少なくとも導電性粒子及び導電性ポリマーを含有することを特徴とする電子写真感光体。
【請求項２】
導電性ポリマーがポリピロール、ポリアニリン、ポリチオフェン及びこれらの誘導体から選ばれる1種または2種以上のポリマーであることを特徴とする請求項１の電子写真感光体。
【請求項３】
導電性粒子が、酸素欠損型酸化スズで被覆された無機粒子であることを特徴とする請求項1〜２の電子写真感光体。
【請求項４】
導電性粒子が、酸素欠損型酸化スズで被覆された酸化チタンまたは硫酸バリウムであることを特徴とする請求項1〜２の電子写真感光体。
【請求項５】
導電性ポリマーが溶剤に可溶なポリマーであることを特徴とする請求項１〜４の電子写真感光体。
【請求項６】
下地層の上の中間層がポリアミド樹脂を有することを特徴とする請求項1〜5の電子写真感光体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体、電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、有機光導電性物質を用いた電子写真感光体（有機電子写真感光体）の研究開発が盛んに行われている。
【０００３】
電子写真感光体は、基本的には、支持体と該支持体上に設けられた感光層とから構成されている。しかしながら、現状は、支持体表面の欠陥の被覆、感光層の塗工性向上、支持体と感光層との接着性向上、感光層の電気的破壊に対する保護、帯電性の向上、支持体から感光層への電荷注入性の改良などのために、支持体と感光層との間に各種層を設けることが多い。したがって、支持体と感光層との間に設けられる層には、被覆性、接着性、機械的強度、導電性、電気的バリア性などの多くの機能が要求される。
【０００４】
支持体と感光層との間に設けられる層としては、従来、以下のタイプのものが知られている。
【０００５】
（ｉ）導電性材料を含有しない樹脂層。
【０００６】
（ｉｉ）導電性材料を含有した樹脂層。
【０００７】
（ｉｉｉ）上記（ｉｉ）の層の上に、上記（ｉ）の層を積層したもの。
【０００８】
上記（ｉ）の層は、導電性材料を含有しないため、層の抵抗が高い。しかも、表面平滑化処理が施されていない支持体表面の欠陥を被覆するためには、その厚さ（膜厚）を厚くしなければならない。
【０００９】
しかしながら、抵抗が高い上記（ｉ）の層の膜厚を厚くすると、初期および繰り返し使用時の残留電位が高くなるという問題が生じる。
【００１０】
したがって、上記（ｉ）の層の実用化のためには、支持体表面の欠陥を少なくし、かつ、その膜厚を薄くする必要がある。
【００１１】
一方、上記（ｉｉ）の層は、導電性粒子などの導電性材料を樹脂中に分散した層であり、層の抵抗を小さくすることが可能であるため、層の膜厚を厚くして、導電性の支持体や非導電性の支持体（樹脂製の支持体など）の表面の欠陥を被覆することが可能である。
【００１２】
しかしながら、上記（ｉｉ）の層の膜厚を厚くする場合は、薄くする上記（ｉ）の層に比べて、層に十分な導電性を付与する必要があるため、上記（ｉｉ）の層は体積抵抗率の低い層となり、そのため、低温低湿から高温高湿の幅広い環境条件において、画像欠陥の原因となる支持体、上記（ｉｉ）の層から感光層への電荷注入を阻止するためには、電気的バリア性を有する層を上記（ｉｉ）の層と感光層との間に別途設けることが好ましい。電気的バリア性を有する層とは、上記（ｉ）の層のように、導電性粒子を含有しない樹脂層である。
【００１３】
つまり、支持体と感光層との間に設けられる層は、上記（ｉ）の層と上記（ｉｉ）の層とを積層した上記（ｉｉｉ）の構成であることが好ましい。
【００１４】
上記（ｉｉｉ）の構成は、複数の層を形成する必要があるため、それだけ工程が増えるが、支持体表面の欠陥の許容範囲が大きくなるため、支持体の使用許容範囲が大幅に広がり、生産性の向上が図れるという利点がある。
【００１５】
また、押し出し工程および引き抜き工程を含む製造方法により製造されるアルミニウム管や、押し出し工程およびしごき工程を含む製造方法により製造されるアルミニウム管は、表面切削することなく無切削管として良好な寸法精度や表面平滑性が得られるうえ、コスト的にも有利な電子写真感光体用の支持体として用いられているが、これらの無切削のアルミニウム管の表面にはササクレ状の凸状欠陥が生じやすく、このような支持体の表面欠陥の隠蔽の観点からも、上記（ｉｉｉ）の構成が好ましい。
【００１６】
（ｉｉ）の層に用いる導電性材料としては、各種の金属、金属酸化物、カーボン、導電性ポリマーなどがある。
【００１７】
この中で、導電性ポリマーとしては、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリアセチレン、ポリピロール及びポリフェニレンビニレン等があげられる。特開平5-204181号公報（特許文献４）に、ポリアニリンを（ｉｉ）の層に用いる技術が開示されている。しかし、所望の導電性によっては単独の使用では十分ではない場合が多い。この他にもポリピロール、ポリチオフェンなどが上げられるが（ｉｉ）の層に用いた場合の効果としてはポリアニリンと同様である。
【００１８】
また、導電性粒子としては、金属粒子、金属酸化物粒子、等が挙げられる。なかでも抵抗特性に優れる酸化スズ（以下、ＳｎＯ２）には、通常の粉体抵抗率１０４〜１０６Ω・ｃｍのものから、ＳｎＯ２の導電性材料の製造時に、酸化アンチモンなどのスズとは異なる価数の金属の化合物や非金属元素などを混合して（ドープして）、粉体抵抗率を１／１０００〜１／１０００００に小さくしたものや、構成元素を増やさずにノンドープでＳｎＯ２の抵抗をアンチモンドープと同程度に小さくした酸素欠損型ＳｎＯ２の導電性材料がある。
【００１９】
酸素欠損型ＳｎＯ２に関連する先行技術として、例えば、特開平０７−２９５２４５号公報（特許文献１）には、酸素欠損型ＳｎＯ２を（ｉｉ）の層に用いる技術が開示されており、特開平０６−２０８２３８号公報（特許文献２）には、硫酸バリウム粒子に酸素欠損型ＳｎＯ２を被覆して、ＳｎＯ２だけを用いる場合よりも分散性を向上させる技術が開示されており、特開平１０−１８６７０２号公報（特許文献３）には、酸素欠損型ＳｎＯ２の実施形態までは開示されていないものの、分散性を向上させるために、硫酸バリウム粒子を用いて、その上に白色度を向上させるために、酸化チタン（ＴｉＯ２）を被覆し、さらにその上に導電性を付与するために、ＳｎＯ２を被覆する技術が開示されている。
【００２０】
また、近年、電子写真感光体に接触配置した帯電部材（接触帯電部材）に電圧を印加し、電子写真感光体を帯電する接触帯電方式を採用した電子写真装置が広く普及している。特に、ローラー形状の接触帯電部材（帯電ローラー）を電子写真感光体の表面に接触させ、これに直流電圧に交流電圧を重畳した電圧を印加することにより電子写真感光体の帯電を行う方式（ＡＣ／ＤＣ接触帯電方式）、あるいは、これに直流電圧のみの電圧を印加することにより電子写真感光体の帯電を行う方式（ＤＣ接触帯電方式）が主流となっている。
【００２１】
ＡＣ／ＤＣ接触帯電方式の場合、直流電源および交流電源が必要となり、電子写真装置自体のコストアップを招く、直流電圧のみの電圧を用いる場合に比べて、電子写真装置のサイズが大きくなる、交流電流を多量に消費することによって接触帯電部材および電子写真感光体の耐久性が低下する、などのデメリットがある。
【００２２】
したがって、電子写真装置のコスト削減および小型化ならびに高耐久性を考慮すると、ＤＣ接触帯電方式がより好ましいといえる。
【００２３】
しかしながら、ＤＣ接触帯電方式を採用した電子写真装置は、ＡＣ／ＤＣ接触帯電方式を採用した電子写真装置に比べて、帯電時の電子写真感光体の表面電位の均一性（帯電均一性）が劣るため、ハーフトーン画像などで帯電ムラに起因する電子写真感光体の長手方向（周方向に直交する方向）のスジムラ状の不良画像（以下「帯電スジ」ともいう）が問題となりやすい。
【００２４】
この課題に関して、帯電部材の面から改良の提案がなされており、均一性を向上させる方法として、抵抗分布の均一化、表面性向上が検討されている。例えば、前者については、接触帯電部材表面層中の導電性物質の分散を向上させる、体積固有抵抗が比較的低い樹脂を接触帯電部材表面層の結着材料に用いる、接触帯電部材を構成する各層の膜厚を均一に調整する等の方策が挙げられる。後者については、接触帯電部材表面層にレベリング剤を添加する、接触帯電部材弾性層の表面性を向上させる等の方策がある。また、表面性に関しては、接触帯電部材の最外層の表面粗さを５μｍ以下とすることで直流電圧のみを印加して被帯電体を帯電処理する場合でも均一帯電性が得られるという提案（特許文献５参照）や、接触帯電部材の表面粗さをＪＩＳ規格Ｂ−０６０１にもとづいて測定した十点平均表面粗さＲｚｊｉｓで２０μｍ以下とすることにより、帯電電位の均一性を常に確保し良好画像が得られるとの提案（特許文献６参照）がある。
【００２５】
上記提案により、初期的な帯電均一性の向上はほぼ図られたが、帯電均一性の安定化（長期使用に伴い接触帯電部材表面に現像剤や紙粉等の汚損物質が付着するが、その際部分的な付着ムラや大量付着を発生し、それが原因で帯電均一性が低下することがある。）という面では不十分なのが現状である。
【００２６】
この長期使用における帯電均一性の安定化という課題に対して、さらに帯電部材の表面粗さを調節することによって、改良を行う提案がなされている。例えば、帯電部材の表面粗さを制御することにより帯電均一性を確保する技術（特許文献７、８参照）や、帯電部材の表面粗さと感光体表面摩擦係数を制御することにより帯電均一性を確保する技術（特許文献９参照）がある。
【００２７】
一般的に帯電部材の表面粗さは、小さい方が長期使用に伴う帯電部材表面への汚損物質の付着を抑制できることが知られている。また、表面粗さが大きすぎると、帯電部材表面形状に起因した帯電不良によりポチ等の画像不良が発生する場合がある。これらの観点からみれば、帯電部材の表面粗さは小さい方が好ましい。
【００２８】
電子写真装置の高速化、高画質化の要求はより一層高まっており、特に、出力画像のカラー化（フルカラー化）により、ハーフトーン画像やベタ画像が出力されることが多くなっており、それらの高品質化への要求は年々高まる一方である。
【００２９】
例えば、出力画像１枚の中での濃度、色味などの均一性、さらには連続通紙での安定性が重視され、白黒プリンターや白黒複写機の許容範囲に比べると、格段に厳しくなってきている。特に、ＤＣ接触帯電方式を採用した電子写真装置では、露光（像露光）の履歴によるゴーストや、転写による帯電メモリー（転写帯電メモリー）など、電子写真プロセスの１サイクルの履歴が次サイクルでの電子写真感光体の帯電電位ムラとなりやすく、その結果として出力画像に濃度ムラが生じてしまう。
【００３０】
そこで通常は、前露光手段などの除電手段を搭載することにより、電子写真プロセス１サイクルごとの履歴を無くし、電子写真感光体の表面電位のムラを無くす対策が採られている。
【特許文献１】特開平０７−２９５２４５号公報
【特許文献２】特開平０６−２０８２３８号公報
【特許文献３】特開平１０−１８６７０２号公報
【特許文献４】特開平５−２０４１８１号公報
【特許文献５】特開平５−３４１６２０号公報
【特許文献６】特開平８−２８６４６８号公報
【特許文献７】特開２００４−０６１６４０号公報
【特許文献８】特開２００４−３０９９１１号公報
【特許文献９】特開２００４−０３８０５６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００３１】
しかしながら、前露光手段などの除電手段を搭載する電子写真装置に上記（ｉｉｉ）の構成を有する電子写真感光体を用いた場合、帯電スジが非常に発生しやすく、特に低温低湿環境下、さらにはサイクルタイムが早い場合において帯電スジの発生が顕著であり、その対策が望まれている。
【００３２】
本発明の目的は、支持体表面の欠陥の被覆、感光層の塗工性向上、支持体と感光層との接着性向上、感光層の電気的破壊に対する保護、帯電性の向上、支持体から感光層への電荷注入性の改良を図るために、支持体上に下地層、中間層、感光層をこの順に設けてなる電子写真感光体であっても、帯電スジの発生が抑制された電子写真感光体を提供することである。本発明においては、下地層が（ｉｉ）の層に、中間層が（ｉ）の層に相当する。
【００３３】
また、本発明の目的は、このような電子写真感光体を有する、帯電スジの発生しない優れた画像を継続して形成し得るプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００３４】
本発明は、支持体上に下地層、中間層、感光層をこの順に設けてなる電子写真感光体であって、該下地層が導電性無機粒子及び導電性ポリマーを含有することを特徴とする電子写真感光体である。
【００３５】
また、本発明は、上記電子写真感光体と、該電子写真感光体の表面を帯電するための帯電手段、電子写真感光体の表面の静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成するための現像手段、電子写真感光体の表面のトナー像を転写材に転写するための転写手段、および、転写後に該電子写真感光体の表面に残留するトナーをクリーニングするためのクリーニング手段からなる群より選択される少なくとも１つの手段とを一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であることを特徴とするプロセスカートリッジである。
【００３６】
また、本発明は、上記電子写真感光体、該電子写真感光体の表面を帯電するための帯電手段、該帯電手段により帯電された電子写真感光体の表面に露光によって静電潜像を形成するための露光手段、該露光手段により形成された電子写真感光体の表面の静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成するための現像手段、および、該現像手段により形成された電子写真感光体の表面のトナー像を転写材に転写するための転写手段を有することを特徴とする電子写真装置である。
【発明の効果】
【００３７】
本発明によれば、支持体表面の欠陥の被覆、感光層の塗工性向上、支持体と感光層との接着性向上、感光層の電気的破壊に対する保護、帯電性の向上、支持体から感光層への電荷注入性の改良を図るために、支持体上に下地層、中間層、感光層をこの順に設けてなる電子写真感光体であっても、帯電スジの発生が抑制された電子写真感光体を提供することができる。
【００３８】
また、本発明によれば、このような電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３９】
以下、本発明をより詳細に説明する。
【００４０】
上述のとおり、本発明の電子写真感光体は、支持体上に下地層、中間層、感光層をこの順に設けてなる電子写真感光体である。そして、該下地層は結着樹脂および導電性無機粒子及び導電性ポリマーを含有する。
【００４１】
また、本発明では、導電性粒子として、金属粒子、金属酸化物、などが挙げられるが、酸素を欠損させることにより低抵抗化（粉体抵抗率で１／１００００）を図ったＳｎＯ２を被覆した無機粒子を用いるのがより好ましい。無機粒子としては、タルク、クレー、炭酸カルシウム、シリカ、アルミナなどの無機顔料などが上げられるが、硫酸バリウム、酸化チタンが特に好ましい。酸素欠損型ＳｎＯ２は、アンチモンなどの異元素をドープしたＳｎＯ２に比べてリユース性に優れる。また、低湿環境下での抵抗率の上昇や高湿下での抵抗率の低下が少なく、環境安定性にも優れている。
【００４２】
また、芯材粒子を用いることで、下地層における導電性粒子の分散性の向上を図ることができる。導電性粒子として酸素欠損型ＳｎＯ２のみを用いて下地層用塗布液を作製した場合、特に酸素欠損型ＳｎＯ２の含有比率が高い場合に、酸素欠損型ＳｎＯ２の凝集が発生しやすい。
【００４３】
また、芯材粒子としてＴｉＯ２粒子またはＢａＳＯ４粒子を用いると、酸素欠損型ＳｎＯ２の酸素欠損部位と粒子表面の酸化物部位の親和力により、酸素欠損型ＳｎＯ２の被覆層と芯材の結合が強化されるからであり、また、酸素欠損型ＳｎＯ２の酸素欠損部位が保護される。酸素欠損型は、ドープ型と異なり、酸素存在下で酸化して酸素欠損部位が消失し、導電性が低下（粉体抵抗率が増加）してしまう場合がある。
【００４４】
なお、酸素欠損型ＳｎＯ２を被覆したＴｉＯ２粒子の製造方法（酸素欠損型ＳｎＯ２を作製する方法やＴｉＯ２粒子に酸素欠損型ＳｎＯ２を被覆する方法）は、特開平０７−２９５２４５号公報や特開平０４−１５４６２１号公報に開示されている。
【００４５】
また、酸素欠損型ＳｎＯ２を被覆したＴｉＯ２粒子またはＢａＳＯ４粒子を下地層に含有させる導電性粒子として用いた場合、帯電スジの発生を抑制するためには、該下地層の体積抵抗率が１．０×１０１１Ω・ｃｍ以下であることが、好ましい。
【００４６】
該導電性粒子の平均粒径は０．１０〜1．0μｍであることが好ましい。
【００４７】
本発明で用いられる導電性ポリマーとしてはポリアニリン、ポリチオフェン、ポリアセチレン、ポリピロール及びポリフェニレンビニレン等が挙げられるが、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリピロールが特に好ましい。導電性ポリマーを用いることで、導電性粒子間の電荷がスムースになること、さらには、中間層との界面での電荷移動が導電性粒子のみを用いた場合より大きく向上するため本発明の効果が得られるものと考えられる。
【００４８】
本発明で用いるポリアニリンは、アニリンの化学酸化重合により合成することが可能で、ポリアニリンの例としては、下記一般式（a）のように示すようにキノジイミン構造、及びｐ−フェニレンジアミン構造のブロック重合体がある。ポリアニリンは、ｐ−フェニレンジアミン構造がある比率以上に存在した場合、分子鎖間の水素結合を弱めるため可溶性になると考えられ、溶解可能な比率のものを用いることが好ましい。
【００４９】
【化１】
2008026480.tif 000003
またポリアニリンはドーピングにより高い導電性を持つことが知られており、これは、ポリアニリン中のキノジイミン構造にドーパントとして硫酸、フッ酸、過塩素酸などの酸をドーピングすることにより、あるいは、ｐ−フェニレンジアミン構造に酸化ドーピングすることにより得られると考えられる。この場合のポリアニリンの構造は、ポリアニリンの合成条件や、ドーピングによる酸化・還元反応、酸・塩基反応により様々な構造を示し、簡単な構造式を示すことは難しく、そのため、本発明で用いるポリアニリンは前記一般式（１）により限定されるものではなく、アニリンの化学酸化重合により得られるアニリンの重合体を示すものである。本発明に用いるポリアニリンの分子量は特に制限はないが、有機溶剤に対する溶解性、結着樹脂との相溶性を考慮して、重量平均分子量が１×１０3 〜１×１０7 が好ましい。
【００５０】
本発明で用いるポリチオフェンは、下記式（ｂ）で示される。
【００５１】
【化２】
2008026480.tif 000004
式中R1、R2は水素原子、置換されても良いアルキル基、置換されても良いアリール基、オキシアルキル基、カルボン酸、スルホン酸等の酸、カルボン酸エチル、カルボン酸ブチル等の酸エステルを示す。またR1、R2がアルキレンやオキシアルキレン等で結合された環状構造であっても良い。また、有機スルホン酸などのドーパントを有していても良い。
【００５２】
本発明で用いるポリピロールは、下記式（ｃ）で示される。
【００５３】
【化３】
2008026480.tif 000005
式中R1、R2は水素原子、置換されても良いアルキル基、置換されても良いアリール基、オキシアルキル基、カルボン酸、スルホン酸等の酸、カルボン酸エチル、カルボン酸ブチル等の酸エステルを示す。またR1、R2がアルキレンやオキシアルキレン等で結合された環状構造であっても良い。また、有機スルホン酸などのドーパントを有していても良い。
【００５４】
以下にこれらの具体例を示すがこれらに限定されるものではない。
【００５５】
【化４】
2008026480.tif 000006
これらの導電性ポリマーは一種のみであっても２種以上を併用してもよい。さらに２種以上の構成単位を有する共重合体であっても良い。
【００５６】
本発明において、下地層は、導電性無機粒子及び導電性ポリマーを結着樹脂および溶剤とともに分散して得られる下地層用塗布液を支持体上に塗布し、これを乾燥させることによって形成することができる。分散方法としては、ペイントシェーカー、サンドミル、ボールミル、液衝突型高速分散機などを用いた方法が挙げられる。
【００５７】
下地層用塗布液に用いる溶剤としては、メタノール、エタノール、イソプロパノールなどのアルコールや、アセトン、メチルエチルケトン、シクロへキサノンなどのケトンや、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテルや、酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステルや、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素などが挙げられる。
【００５８】
支持体の表面欠陥を隠蔽するという観点から、下地層の膜厚は１０〜２５μｍであることが好ましく、特には１５〜２０μｍであることがより好ましい。
【００５９】
なお、本発明において、下地層を含む電子写真感光体の各層の膜厚は、（株）フィッシャーインストルメンツ社製のＦＩＳＨＥＲＳＣＯＰＥ  ｍｍｓで測定した。
【００６０】
下地層の結着樹脂としては、フェノール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアミド酸樹脂、ポリビニールアセタール樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル樹脂などが挙げられる。これらは１種または２種以上用いることができる。また、各種樹脂の中でも、他層へのマイグレーション（溶け込み）の抑制、支持体への密着性、導電性粒子の分散性・分散安定性、成膜後の耐溶剤性などの観点から、下地層の結着樹脂は硬化性樹脂が好ましく、特には熱硬化性樹脂がより好ましい。具体的には、熱硬化性フェノール樹脂、ポリウレタン樹脂などが好ましい。
【００６１】
また、導電性ポリマーと結着樹脂の比率は結着樹脂に対し導電性ポリマーが0.1〜99.9ｗｔ％であることが好ましい。また、導電性粒子（Ｐ）と樹脂成分（Ｂ：導電性ポリマー＋結着樹脂）との質量比（Ｐ／Ｂ）は、１／１〜６／１であることが好ましい。質量比（Ｐ／Ｂ）が小さすぎると、下地層の体積抵抗率を下げることが難しくなり、質量比（Ｐ／Ｂ）が大きすぎると、導電性無機粒子の結着が難しくなり、クラックが発生しやすくなる。本発明の導電性ポリマーとの併用が無ければこのマージンはさらに狭くなる。下地層の導電材料が導電性無機粒子のみの場合と導電性ポリマーを併用した場合では下地層の体積抵抗率はさほど変わらないが、中間層との界面における電荷の注入性については、下地層の導電材料が導電性無機粒子のみの場合より導電性ポリマーを併用した場合のほうが良好である為と考えられる。
【００６２】
また、下地層表面で反射した光が干渉して出力画像に干渉縞が発生することを抑制するために、下地層に、結着樹脂および平均粒径０．１０〜０．６０μｍの酸素欠損型ＳｎＯ２を被覆したＴｉＯ２粒子に加えて、下地層表面を粗面化するための表面粗し付与材を添加することも可能である。表面粗し付与材としては、平均粒径１〜３μｍの樹脂粒子が好ましく、例えば、硬化性ゴム、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アルキド樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂、アクリル−メラミン樹脂などの硬化性樹脂の粒子などが挙げられる。これらの中でも、凝集しにくいシリコーン樹脂の粒子が好ましい。樹脂粒子の比重（０．５〜２）は、酸素欠損型ＳｎＯ２を被覆したＴｉＯ２粒子の比重（４〜７）に比べて小さいため、下地層形成時に効率的に該下地電層の表面を粗面化することができる。ただし、下地層中の表面粗し付与材の含有量が多いほど、下地層の体積抵抗率が上昇する傾向にあるため、下地層の体積抵抗率を上記範囲に収めるためには、下地層中の表面粗し付与材の含有量は、下地層中の結着樹脂に対して１５〜２５質量％であることが好ましい。
【００６３】
また、下地層の表面性を高めるためにレベリング剤を添加してもよく、また、下地層の隠蔽性を向上させるために、顔料粒子を下地層に含有させてもよい。
【００６４】
下地層から感光層への電荷注入を阻止するために、電気的バリア性を有する中間層を下地層と感光層との間に設ける必要がある。
【００６５】
中間層は、結着樹脂を含有する中間層用塗布液を導電層上に塗布し、これを乾燥させることによって形成することができる。
【００６６】
中間層の結着樹脂としては、ポリビニルアルコール、ポリビニルメチルエーテル、ポリアクリル酸類、メチルセルロース、エチルセルロース、ポリグルタミン酸、カゼイン、でんぷんなどの水溶性樹脂や、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアミド酸樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリグルタミン酸エステル樹脂などが挙げられる。電気的バリア性を効果的に発現させるためには、また、塗工性、密着性、耐溶剤性、抵抗などの観点から、中間層の結着樹脂は熱可塑性樹脂が好ましい。具体的には、熱可塑性ポリアミド樹脂などが好ましい。ポリアミド樹脂としては、溶液状態で塗布できるような低結晶性または非結晶性の共重合ナイロンなどが好ましい。また、中間層の膜厚は０．１〜２μｍであることが好ましい。
【００６７】
また、中間層において電荷（キャリア）の流れが滞らないようにするために、中間層には、電子輸送物質（アクセプターなどの電子受容性物質）を含有させてもよい。
【００６８】
次に、本発明の電子写真感光体の構成について説明する。
【００６９】
図１に示すように、本発明の電子写真感光体は、支持体１０１上に導電層１０２、中間層１０３、感光層１０４（電荷発生層１０４１、電荷輸送層１０４２）をこの順に有する電子写真感光体である。
【００７０】
感光層は、電荷輸送物質と電荷発生物質を同一の層に含有する単層型感光層１０４であっても（図１（ａ）参照）、電荷発生物質を含有する電荷発生層１０４１と電荷輸送物質を含有する電荷輸送層１０４２とに分離した積層型（機能分離型）感光層であってもよいが、電子写真特性の観点からは積層型感光層が好ましい。また、積層型感光層には、支持体１０１側から電荷発生層１０４１、電荷輸送層１０４２の順に積層した順層型感光層（図１（ｂ）参照）と、支持体１０１側から電荷輸送層１０４２、電荷発生層１０４１の順に積層した逆層型感光層（図１（ｃ）参照）があるが、電子写真特性の観点からは順層型感光層が好ましい。
【００７１】
また、感光層１０４（電荷発生層１０４１、電荷輸送層１０４２）上に、保護層１０５を設けてもよい（図１（ｄ）参照）。
【００７２】
支持体としては、導電性を有するもの（導電性支持体）が好ましく、例えば、アルミニウム、アルミニウム合金、ステンレスなどの金属製の支持体を用いることができる。アルミニウム、アルミニウム合金の場合は、押し出し工程および引き抜き工程を含む製造方法により製造されるアルミニウム管や、押し出し工程およびしごき工程を含む製造方法により製造されるアルミニウム管や、これらを切削、電解複合研磨（電解作用を有する電極と電解質溶液による電解および研磨作用を有する砥石による研磨）、湿式または乾式ホーニング処理したものも用いることができる。また、アルミニウム、アルミニウム合金、酸化インジウム−酸化スズ合金などを真空蒸着によって被膜形成された層を有する上記金属製支持体や樹脂製支持体（ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、フェノール樹脂、ポリプロピレン、ポリスチレン樹脂など）を用いることもできる。また、カーボンブラック、酸化スズ粒子、酸化チタン粒子、銀粒子などの導電性粒子を樹脂や紙に含浸した支持体や、導電性結着樹脂を有するプラスチックなどを用いることもできる。
【００７３】
導電層の電荷（キャリア）をアースに流すためには、導電性の支持体の体積抵抗率は、また、支持体の表面が導電性を付与するために設けられた層である場合その層の体積抵抗率は、１．０×１０１０Ω・ｃｍ以下であることが好ましく、特には１．０×１０６Ω・ｃｍ以下であることがより好ましい。
【００７４】
なお、支持体が非導電性の支持体である場合には、本発明の電子写真感光体の導電層からアースを取る構成を採る必要がある。
【００７５】
支持体上には下地層が設けられ、下地層上には中間層が設けられる。下地層および中間層に関しては上述のとおりである。
【００７６】
中間層上には感光層が設けられる。
【００７７】
本発明の電子写真感光体に用いられる電荷発生物質としては、例えば、モノアゾ、ジスアゾ、トリスアゾなどのアゾ顔料や、金属フタロシアニン、非金属フタロシアニンなどのフタロシアニン顔料や、インジゴ、チオインジゴなどのインジゴ顔料や、ペリレン酸無水物、ペリレン酸イミドなどのペリレン顔料や、アンスラキノン、ピレンキノンなどの多環キノン顔料や、スクワリリウム色素や、ピリリウム塩およびチアピリリウム塩や、トリフェニルメタン色素や、セレン、セレン−テルル、アモルファスシリコンなどの無機物質や、キナクリドン顔料や、アズレニウム塩顔料や、シアニン染料や、キサンテン色素や、キノンイミン色素や、スチリル色素や、硫化カドミウムや、酸化亜鉛などが挙げられる。これらの中でも、特にオキシチタニウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニンなどの金属フタロシアニンが好ましい。
【００７８】
感光層が積層型感光層である場合、電荷発生層に用いる結着樹脂としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、ブチラール樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ジアリルフタレート樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、フェノール樹脂、シリコーン樹脂、ポリスルホン樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂などが挙げられる。これらは単独、混合または共重合体として１種または２種以上用いることができる。
【００７９】
電荷発生層は、電荷発生物質を結着樹脂および溶剤と共に分散して得られる電荷発生層用塗布液を塗布し、これを乾燥させることによって形成することができる。分散方法としては、ホモジナイザー、超音波、ボールミル、サンドミル、アトライター、ロールミルなどを用いた方法が挙げられる。電荷発生物質と結着樹脂との割合は、１０：１〜１：１０（質量比）の範囲が好ましく、特には３：１〜１：１（質量比）の範囲がより好ましい。
【００８０】
電荷発生層用塗布液に用いる溶剤は、使用する結着樹脂や電荷発生物質の溶解性や分散安定性から選択されるが、有機溶剤としてはアルコール、スルホキシド、ケトン、エーテル、エステル、脂肪族ハロゲン化炭化水素、芳香族化合物などが挙げられる。
【００８１】
電荷発生層用塗布液を塗布する際には、例えば、浸漬塗布法（浸漬コーティング法）、スプレーコーティング法、スピンナーコーティング法、ローラーコーティング法、マイヤーバーコーティング法、ブレードコーティング法などの塗布方法を用いることができる。
【００８２】
また、電荷発生層の膜厚は５μｍ以下であることが好ましく、特には０．１〜２μｍであることがより好ましい。
【００８３】
また、電荷発生層には、種々の増感剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤などを必要に応じて添加することもできる。また、電荷発生層において電荷（キャリア）の流れが滞らないようにするために、電荷発生層には、電子輸送物質（アクセプターなどの電子受容性物質）を含有させてもよい。
【００８４】
本発明の電子写真感光体に用いられる電荷輸送物質としては、トリアリールアミン化合物、ヒドラゾン化合物、スチリル化合物、スチルベン化合物、ピラゾリン化合物、オキサゾール化合物、チアゾール化合物、トリアリルメタン化合物などが挙げられる。
【００８５】
感光層が積層型感光層である場合、電荷輸送層に用いる結着樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、スチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリフェニレンオキシド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、アルキド樹脂、不飽和樹脂などが挙げられる。特には、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリスチレン樹脂、スチレン−アクリロニトリル共重合体樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ジアリルフタレート樹脂などが好ましい。これらは単独、混合または共重合体として１種または２種以上用いることができる。
【００８６】
電荷輸送層は、電荷輸送物質と結着樹脂を溶剤に溶解して得られる電荷輸送層用塗布液を塗布し、これを乾燥させることによって形成することができる。電荷輸送物質と結着樹脂との割合は、２：１〜１：２（質量比）の範囲が好ましい。
【００８７】
電荷輸送層用塗布液に用いる溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン、酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタンなどのエーテル、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素、クロロベンゼン、クロロホルム、四塩化炭素などのハロゲン原子で置換された炭化水素などが用いられる。
【００８８】
電荷輸送層用塗布液を塗布する際には、例えば、浸漬塗布法（浸漬コーティング法）、スプレーコーティング法、スピンナーコーティング法、ローラーコーティング法、マイヤーバーコーティング法、ブレードコーティング法などの塗布方法を用いることができる。
【００８９】
電荷輸送層の膜厚は５〜４０μｍであることが好ましく、特には１０〜２０μｍであることが帯電均一性の観点からより好ましい。
【００９０】
また、電荷輸送層には、酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤などを必要に応じて添加することもできる。
【００９１】
感光層が単層型感光層である場合、該単層型感光層は、上記電荷発生物質および上記電荷輸送物質を上記結着樹脂および上記溶剤と共に分散して得られる単層型感光層用塗布液を塗布し、これを乾燥させることによって形成することができる。
【００９２】
また、感光層上には、該感光層を保護することを目的とした保護層を設けてもよい。保護層は、上述した各種結着樹脂を溶剤に溶解して得られる保護層用塗布液を塗布し、これを乾燥させることによって形成することができる。
【００９３】
保護層の膜厚は０．５〜１０μｍであることが好ましく、特には１〜５μｍであることが好ましい。
【００９４】
以下に、具体的な実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明する。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例中の「部」は「質量部」を意味する。
【００９５】
＜下地層用塗布液の作製例＞
（下地層用塗布液Ａの作製）
導電性粒子としての酸素欠損型ＳｎＯ２を被覆したＴｉＯ２粒子（粉体抵抗率１００Ω・ｃｍ、ＳｎＯ２の被覆率（質量比率）は４０％）５５部、結着樹脂としてのフェノール樹脂（商品名：プライオーフェンＪ−３２５、大日本インキ化学工業（株）製、樹脂固形分６０％）２９．２部、構造例1のポリアニリン（Mw：32000）7.3部、溶剤としてのメトキシプロパノール３５部を、直径１ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミルで３時間分散して、分散液を調整した。
【００９６】
この分散液における酸素欠損型ＳｎＯ２を被覆したＴｉＯ２粒子の平均粒径は0.36μｍであり、粒度分布における0.10〜0.40μｍの割合は61.2%であった。
この分散液に、表面粗し付与材としてのシリコーン樹脂粒子（商品名：トスパール（登録商標）１２０、ＧＥ東芝シリコーン（株）製、平均粒径２μｍ）３．９部、レベリング剤としてのシリコーンオイル（商品名：ＳＨ２８ＰＡ、東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製）０．００１部を添加して攪拌し、塗布液Ａを調整した。
【００９７】
（下地層用塗布液Ｂの作製）
構造例１のポリアニリンを構造例２のポリチオフェン（Mw：12000）に変更した以外は下地層用塗布液Ａと同様の操作で塗布液Ｂを作製した。この分散液における酸素欠損型ＳｎＯ２を被覆したＴｉＯ２粒子の平均粒径は0.35μｍであり、粒度分布における0.10〜0.40μｍの割合は65.9%であった。
【００９８】
（下地層用塗布液Ｃの作製）
構造例１のポリアニリンを構造例５のポリチオフェン（Mw：28000）に変更した以外は下地層用塗布液Ａと同様の操作で塗布液Cを作製した。この分散液における酸素欠損型ＳｎＯ２を被覆したＴｉＯ２粒子の平均粒径は0.37μｍであり、粒度分布における0.10〜0.40μｍの割合は58.7%であった。
【００９９】
（下地層用塗布液Ｄ）
構造例１のポリアニリンを構造例８のポリピロール（Mw：24000）に変更した以外は下地層用塗布液Ａと同様の操作で塗布液Dを作製した。この分散液における酸素欠損型ＳｎＯ２を被覆したＴｉＯ２粒子の平均粒径は0.35μｍであり、粒度分布における0.10〜0.40μｍの割合は63.2%であった。
【０１００】
（下地層用塗布液Ｅの作製）
構造例１のポリアニリンを構造例１０と１１共重合のポリピロール（共重合比5：5、Mw：24000）に変更した以外は下地層用塗布液Ａと同様の操作で塗布液Eを作製した。この分散液における酸素欠損型ＳｎＯ２を被覆したＴｉＯ２粒子の平均粒径は0.32μｍであり、粒度分布における0.10〜0.40μｍの割合は61.9%であった。
【０１０１】
（下地層用塗布液Ｆの作製）
酸素欠損型ＳｎＯ２を被覆したＴｉＯ２粒子（粉体抵抗率１００Ω・ｃｍ、ＳｎＯ２の被覆率（質量比率）は４０％）を酸素欠損型ＳｎＯ２を被覆したBaSO４粒子（粉体抵抗率120Ω・ｃｍ、ＳｎＯ２の被覆率（質量比率）は50％）に変更した以外は下地層用塗布液Ａと同様の操作で塗布液Fを作製した。この分散液における酸素欠損型ＳｎＯ２を被覆したBaSO４粒子の平均粒径は0. 28μｍであり、粒度分布における0.10〜0.40μｍの割合は87.2%であった。
【０１０２】
（下地層用塗布液Ｇの作製）
構造例１のポリアニリンを構造例５のポリチオフェン（Mw：28000）に変更した以外は下地層用塗布液Fと同様の操作で塗布液Gを作製した。この分散液における酸素欠損型ＳｎＯ２を被覆したＴｉＯ２粒子の平均粒径は0.34μｍであり、粒度分布における0.10〜0.40μｍの割合は81.3%であった。
【０１０３】
（下地層用塗布液Ｈの作製）
構造例１のポリアニリンを構造例１０と１１共重合のポリピロール（共重合比5：5、Mw：24000）に変更した以外は下地層用塗布液Fと同様の操作で塗布液Hを作製した。この分散液における酸素欠損型ＳｎＯ２を被覆したＴｉＯ２粒子の平均粒径は0.36μｍであり、粒度分布における0.10〜0.40μｍの割合は78.2%であった。
【０１０４】
（下地層用塗布液Ｉの作製）
構造例１のポリアニリンの添加量を18.2部に、フェノール樹脂（商品名：プライオーフェンＪ−３２５、大日本インキ化学工業（株）製、樹脂固形分６０％）１８．３部に変更した以外は下地層用塗布液Ａと同様の操作で塗布液Ｉを作製した。この分散液における酸素欠損型ＳｎＯ２を被覆したＴｉＯ２粒子の平均粒径は0.31μｍであり、粒度分布における0.10〜0.40μｍの割合は75.4%であった。
【０１０５】
（下地層用塗布液Ｊの作製）
構造例１のポリアニリンを構造例２のポリチオフェン（Mw：12000）に変更した以外は下地層用塗布液Ｉと同様の操作で塗布液Ｊを作製した。この分散液における酸素欠損型ＳｎＯ２を被覆したＴｉＯ２粒子の平均粒径は0.35μｍであり、粒度分布における0.10〜0.40μｍの割合は78.3%であった。
【０１０６】
（下地層用塗布液Ｋの作製）
構造例１のポリアニリンを構造例５のポリチオフェン（Mw：28000）に変更した以外は下地層用塗布液Ｉと同様の操作で塗布液Ｋを作製した。この分散液における酸素欠損型ＳｎＯ２を被覆したＴｉＯ２粒子の平均粒径は0.35μｍであり、粒度分布における0.10〜0.40μｍの割合は59.8%であった。
【０１０７】
（下地層用塗布液Ｌの作製）
構造例１のポリアニリンを構造例８のポリピロール（Mw：24000）に変更した以外は下地層用塗布液Ｉと同様の操作で塗布液Ｌを作製した。この分散液における酸素欠損型ＳｎＯ２を被覆したＴｉＯ２粒子の平均粒径は0.30μｍであり、粒度分布における0.10〜0.40μｍの割合は80.0%であった。
【０１０８】
（下地層用塗布液Ｍの作製）
構造例１のポリアニリンを構造例１０と１１共重合のポリピロール（共重合比5：5、Mw：24000）に変更した以外は下地層用塗布液Ｉと同様の操作で塗布液Ｋを作製した。この分散液における酸素欠損型ＳｎＯ２を被覆したＴｉＯ２粒子の平均粒径は0.33μｍであり、粒度分布における0.10〜0.40μｍの割合は78.0%であった。
【０１０９】
（下地層用塗布液Ｎの作製）
結着樹脂としてのフェノール樹脂（商品名：プライオーフェンＪ−３２５、大日本インキ化学工業（株）製、樹脂固形分６０％）２９．２部、具体例1のポリアニリン（Mw：32000）7.3部、溶剤としてのメトキシプロパノール３５部を、溶解した、さらに、表面粗し付与材としてのシリコーン樹脂粒子（商品名：トスパール（登録商標）１２０、ＧＥ東芝シリコーン（株）製、平均粒径２μｍ）３．９部、レベリング剤としてのシリコーンオイル（商品名：ＳＨ２８ＰＡ、東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製）０．００１部を添加して攪拌し、塗布液Ｎを調整した。
【０１１０】
（下地層用塗布液Ｏの作製）
構造例１のポリアニリンを構造例５のポリチオフェン（Mw：28000）に変更した以外は下地層用塗布液Ｎと同様の操作で塗布液Ｏを作製した。
【０１１１】
（下地層用塗布液Ｐの作製）
構造例１のポリアニリンを構造例１０と１１共重合のポリピロール（共重合比5：5、Mw：24000）に変更した以外は下地層用塗布液Ｎと同様の操作で塗布液Ｐを作製した。
【０１１２】
＜電子写真感光体の作製例＞
（電子写真感光体１の作製）
押し出し・引き抜き工程により製造された、長さ２６０．５ｍｍ、直径３０ｍｍのアルミニウムシリンダー（ＪＩＳ−Ａ３００３、アルミニウム合金）を支持体とした。
【０１１３】
下地層用塗布液Ａを、２３℃、６０％ＲＨ環境下で、支持体上に浸漬塗布し、これを３０分間１４０℃で乾燥・熱硬化させることによって、膜厚が１５μｍの下地層を形成した。
【０１１４】
次に、下地層上に、Ｎ−メトキシメチル化ナイロン（商品名：トレジン（登録商標）ＥＦ−３０Ｔ、帝国化学産業（株）製）４．５部および共重合ナイロン樹脂（アミラン（登録商標）ＣＭ８０００、東レ（株）製）１．５部を、メタノール６５部／ｎ−ブタノール３０部の混合溶媒に溶解して得られた中間層用塗布液を浸漬塗布し、これを１０分間１００℃で乾燥させることによって、膜厚が０．６μｍの中間層を形成した。
【０１１５】
次に、ＣｕＫα特性Ｘ線回折におけるブラッグ角（２θ±０．２°）の７．５°、９．９°、１６．３°、１８．６°、２５．１°、２８．３°に強いピークを有する結晶形のヒドロキシガリウムフタロシアニン１０部、ポリビニルブチラール（商品名：エスレック（登録商標）ＢＸ−１、積水化学工業（株）製）５部およびシクロヘキサノン２５０部を、直径１ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミル装置で１時間分散し、次に、酢酸エチル２５０部を加えて電荷発生層用塗布液を調製した。
【０１１６】
この電荷発生層用塗布液を、中間層上に浸漬塗布し、これを１０分間１００℃で乾燥させることによって、膜厚が０．１６μｍの電荷発生層を形成した。
【０１１７】
次に、下記式で示される構造を有するアミン化合物１０部、および、
【０１１８】
【化５】
2008026480.tif 000007
ポリカーボネート樹脂（商品名：Ｚ４００、三菱エンジニアリングプラスチックス（株）製）１０部を、ジメトキシメタン３０部／クロロベンゼン７０部の混合溶媒に溶解して、電荷輸送層用塗布液を調製した。
【０１１９】
この電荷輸送層用塗布液を、電荷発生層上に浸漬塗布し、これを３０分間１２０℃で乾燥させることによって、膜厚が１８μｍの電荷輸送層を形成した。
【０１２０】
このようにして、電荷輸送層が表面層である電子写真感光体１を作製した。
【０１２１】
（電子写真感光体２の作製）
下地性層用塗布液を下地性層用塗布液Ｂに変えた以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体２を作製した。
【０１２２】
（電子写真感光体３の作製）
下地性層用塗布液を下地性層用塗布液Ｃに変えた以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体３を作製した。
【０１２３】
（電子写真感光体４の作製）
下地性層用塗布液を下地性層用塗布液Ｄに変えた以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体４を作製した。
【０１２４】
（電子写真感光体５の作製）
下地性層用塗布液を下地性層用塗布液Ｅに変えた以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体５を作製した。
【０１２５】
（電子写真感光体６の作製）
下地性層用塗布液を下地性層用塗布液Ｆに変えた以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体６を作製した。
【０１２６】
（電子写真感光体７の作製）
下地性層用塗布液を下地性層用塗布液Ｇに変えた以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体７を作製した。
【０１２７】
（電子写真感光体８の作製）
下地性層用塗布液を下地性層用塗布液Ｈに変えた以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体８を作製した。
【０１２８】
（電子写真感光体９の作製）
下地性層用塗布液を下地性層用塗布液Ｉに変えた以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体９を作製した。
【０１２９】
（電子写真感光体１０の作製）
下地性層用塗布液を下地性層用塗布液Ｊに変えた以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体１０を作製した。
【０１３０】
（電子写真感光体１１の作製）
下地性層用塗布液を下地性層用塗布液Ｋに変えた以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体１１を作製した。
【０１３１】
（電子写真感光体１２の作製）
下地性層用塗布液を下地性層用塗布液Ｌに変えた以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体１２を作製した。
【０１３２】
（電子写真感光体１３の作製）
導電性層用塗布液を導電性層用塗布液Ｍに変えた以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体１３を作製した。
【０１３３】
（電子写真感光体１４の作製）
下地層の膜厚を９μｍに変えた以外は、電子写真感光体3の作製と同様にして電子写真感光体１４を作製した。
【０１３４】
（電子写真感光体１５の作製）
下地層の膜厚を１０μｍに変えた以外は、電子写真感光体5の作製と同様にして電子写真感光体１５を作製した。
【０１３５】
（電子写真感光体１６の作製）
下地層の膜厚を２０μｍに変えた以外は、電子写真感光体７の作製と同様にして電子写真感光体１６を作製した。
【０１３６】
（電子写真感光体１７の作製）
下地層の膜厚を２８μｍに変えた以外は、電子写真感光体５の作製と同様にして電子写真感光体18を作製した。
【０１３７】
（電子写真感光体１８の作製）
電子写真感光体5の作製において、電荷輸送層の結着樹脂を下記式で示される繰り返し構造単位を有するポリアリレート樹脂（粘度平均分子量（Ｍｖ）：５５０００）
【０１３８】
【化６】
2008026480.tif 000008
に変更した以外は、電子写真感光体5と同様にして電子写真感光体を作製した。また、上記式で示される繰り返し構造単位を有するポリアリレート樹脂は、テレフタル酸構造とイソフタル酸構造とのモル比（テレフタル酸構造：イソフタル酸構造）が５０：５０（モル比）のものである。
【０１３９】
なお、粘度平均分子量（Ｍｖ）の測定方法は以下のとおりである。
【０１４０】
まず、試料０．５ｇをメチレンクロライド１００ｍｌに溶解し、改良Ｕｂｂｅｌｏｈｄｅ型粘度計を用いて、２５℃における比粘度を測定した。次に、この比粘度から極限粘度を求め、Ｍａｒｋ−Ｈｏｕｗｉｎｋの粘度式により、粘度平均分子量（Ｍｖ）を算出した。粘度平均分子量（Ｍｖ）は、ＧＰＣ（ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー）により測定されるポリスチレン換算値とした。
【０１４１】
（電子写真感光体１９の作製）
電荷輸送層の膜厚を１０μｍに変更した以外は、電子写真感光体18の作製と同様にして電子写真感光体19を作製した。
【０１４２】
（電子写真感光体２０の作製）
電荷輸送層の膜厚を２５μｍに変更した以外は、電子写真感光体18の作製と同様にして電子写真感光体20を作製した。
【０１４３】
（電子写真感光体２１の作製）
下地層用塗布液を下地層用塗布液Ｎに変えた以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体２１を作製した。
【０１４４】
（電子写真感光体２２の作製）
下地層用塗布液を下地層用塗布液Ｏに変えた以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体２２を作製した。
【０１４５】
（電子写真感光体２３の作製）
下地層用塗布液を下地層用塗布液Ｐに変えた以外は、電子写真感光体１の作製と同様にして電子写真感光体２３を作製した。
【０１４６】
（実施例１〜２０および比較例１〜３）
上記のとおり作製した本発明の電子写真感光体を、１５℃、１０％ＲＨの環境下にて、ヒューレットパッカード社製レーザービームプリンターのレーザージェット４７００に装着して、初期と５０００枚通紙耐久後の画像の評価を行った。詳しくは以下のとおりである。
【０１４７】
レーザービームプリンターのレーザージェット４７００のシアン色用のプロセスカートリッジに作製した電子写真感光体を装着して、シアンのプロセスカートリッジのステーションに装着し、評価を行った。プロセスカートリッジの帯電部材はヒューレットパッカード社製Q2670Aのものと交換した。通紙時は各色の印字率２％の文字画像をレター紙にて２０秒毎に１枚出力する間欠モードでフルカラープリント操作を行い、５０００枚の画像出力を行った。
【０１４８】
そして、評価開始時と５０００枚終了時に３枚（１ドット桂馬パターンのハーフトーン画像）の画像評価用のサンプルを出力した。なお、画像の評価は、帯電スジ、干渉縞、の評価を行った。
【０１４９】
画像の評価の基準は以下のとおりである。
【０１５０】
帯電スジの有無は、桂馬パターンのハーフトーン画像から、Ａ：帯電スジが全くなし、Ｂ：帯電スジがほとんどなし、Ｃ：帯電スジがわずかに観測される、Ｄ：帯電スジが観測される、Ｅ：帯電スジがはっきりわかる、とし、３枚の平均レベルとした。
【０１５１】
干渉縞の有無は、桂馬パターンのハーフトーン画像から、Ａ：干渉縞が全くなし、Ｃ：干渉縞がわずかに観測される、Ｄ：干渉縞が観測される、とし、３枚の平均レベルとした。
【０１５２】
結果を表１に示す。
【０１５３】
【表１】
2008026480.tif 000009
以上の結果からわかるように、本発明によれば、支持体表面の欠陥の被覆、感光層の塗工性向上、支持体と感光層との接着性向上、感光層の電気的破壊に対する保護、帯電性の向上、支持体から感光層への電荷注入性の改良を図るために、支持体上に下地層、中間層、感光層をこの順に設けてなる電子写真感光体であっても、帯電スジの発生が抑制された電子写真感光体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１５４】
【図１】本発明の電子写真感光体の層構成の例を示す。
【符号の説明】
【０１５５】
１０１  支持体
１０２  下地層
１０３  中間層
１０４  感光層
１０４１  電荷発生層
１０４２  電荷輸送層
１０５  保護層
【図１】
2008026480.tif 000010