(57)【要約】【課題】磁気ディスク用ガラス基板の内周端面研磨において、ガラス基板の内孔の公差と真円度を向上させつつ、作業時間の短縮を図る。【解決手段】中心に内孔を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、ワークホルダ１００に積層された複数のガラス基板１０の中心軸と、ガラス基板１０の連通した内孔を研磨する研磨手段２０３の回転軸とが一致するように、内周端面研磨装置１のテーブル２０１にワークホルダ１００を固定する工程と、テーブル２０１および研磨手段２０３を回転させてガラス基板１０の内周端面を研磨する工程とを含むことを特徴とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
中心に内孔を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、
ワークホルダに積層された複数の前記ガラス基板の中心軸と、前記ガラス基板の連通した内孔を研磨する研磨手段の回転軸とが一致するように、内周端面研磨装置のテーブルにワークホルダを固定する工程と、
前記テーブルおよび研磨手段を回転させてガラス基板の内周端面を研磨する工程とを含むことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項２】
前記内周端面研磨装置のテーブルにワークホルダを固定する工程は、
前記ワークホルダを内周端面研磨装置のテーブルに載置する工程と、
前記テーブルに設けられた固定手段により積層されたガラス基板の中心軸と直交する方向に前記ワークホルダを固定する工程と、を含むことを特徴とする請求項１記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項３】
中心に内孔を有する磁気ディスク用ガラス基板の内周端面研磨装置において、
複数枚のガラス基板を積層した状態で保持したワークホルダを支持するテーブルと、
ガラス基板の連通した内孔に挿入されて回転することにより該ガラス基板の内周端面を研磨する研磨手段と、
研磨部位にスラリーを供給するスラリー供給手段とを有し、
さらに前記テーブルは、積層されたガラス基板の中心軸と直交する方向にワークホルダを位置決め固定する固定手段を備え、
前記固定手段は、ワークホルダを、積層されたガラス基板の中心軸と前記研磨手段の回転軸とが一致するように固定することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の内周端面研磨装置。
【請求項４】
前記固定手段は、ワークホルダの下方に突出した突起部を、積層されたガラス基板の中心軸と直交する方向に位置決め固定することを特徴とする請求項３記載の磁気ディスク用ガラス基板の内周端面研磨装置。
【請求項５】
前記固定手段は、全周方向からワークホルダの突起部を圧迫することにより、積層されたガラス基板の中心軸と前記研磨手段の回転軸とを一致させて固定することを特徴とする請求項４記載の磁気ディスク用ガラス基板の内周端面研磨装置。
【請求項６】
前記固定手段は、ワークホルダの突起部に少なくとも２方向から当接する位置決め部材と、ワークホルダの突起部を前記位置決め部材に付勢する付勢手段とを備えることを特徴とする請求項４記載の磁気ディスク用ガラス基板の内周端面研磨装置。
【請求項７】
前記固定手段は、ワークホルダの突起部の外周面に形成された雄ねじ部と嵌合する雌ねじ部を備えていることを特徴とする請求項４記載の磁気ディスク用ガラス基板の内周端面研磨装置。
【請求項８】
中心に内孔を有する磁気ディスク用ガラス基板の内周端面研磨装置において、
複数枚のガラス基板を積層した状態で保持したワークホルダを支持するテーブルと、
ガラス基板の連通した内孔に挿入されて回転することにより該ガラス基板の内周端面を研磨する研磨手段と、
研磨部位にスラリーを供給するスラリー供給手段とを有し、
さらに前記テーブルは、ワークホルダを位置決め固定する固定手段を備え、
前記固定手段は、ワークホルダの下方に突出した突起部を全周方向から圧迫することにより、ワークホルダを、積層されたガラス基板の中心軸と前記研磨手段の回転軸とが一致するように固定することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の内周端面研磨装置。
【請求項９】
請求項１または請求項２記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により得られたガラス基板の表面に、少なくとも磁性層を形成することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気ディスク用ガラス基板の内周端面の研磨に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、情報化技術の高度化に伴い、情報記録技術、特に磁気記録技術は著しく進歩している。磁気記録媒体のひとつであるＨＤＤ（ハードディスクドライブ）等の磁気記録媒体用基板としては、アルミニウム基板が広く用いられてきた。しかし磁気ディスクの小型化、薄板化、および高密度記録化に伴い、アルミニウム基板に比べ基板表面の平坦性および基板強度に優れたガラス基板に徐々に置き換わりつつある。
【０００３】
また、磁気記録技術の高密度化に伴い、磁気ヘッドの方も薄膜ヘッドから、磁気抵抗型ヘッド（ＭＲヘッド）、大型磁気抵抗型ヘッド（ＧＭＲヘッド）へと推移してきており、磁気ヘッドの基板からの浮上量が８ｎｍ程度にまで狭くなってきている。このため磁気ディスク面上に凹凸形状があると磁気ヘッドが衝突するクラッシュ障害や、空気の断熱圧縮または接触により加熱して読み出しエラーを生じるサーマルアスペリティ障害を生じる場合がある。上記のような状況において、従来からも、基板端面の平滑性についての重要性が認められていた。特許文献１（特開平１０−１５４３２１号公報）では、基板の外周および内周端面を鏡面に到るまで研磨することにより、基板端面におけるパーティクルの発生や吸着を防止し、上記問題を解決できるとしている。
【０００４】
ガラス基板の内周端面を研磨するための構成としては、特許文献２（特開平１１−２２１７４２号公報）に記されているような回転ブラシによる研磨方法が知られている。この従来の研磨方法は、円盤状のガラス基板１を積層して円柱状とし、連通した内孔に回転ブラシ５０を挿入し、研磨液（スラリー）を供給しながらガラス基板１と回転ブラシ５０とをそれぞれ回転させることによって、内周端面を研磨するものである。
【特許文献１】特開平１０−１５４３２１号公報
【特許文献２】特開平１１−２２１７４２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
最近では、記録密度をより一層向上させるために、垂直磁気記録方式が採用されつつある。この垂直磁気記録媒体の場合には、面内磁気記録方式の場合と比べて、ガラス基板の影響がより顕著に現れやすい。このため、ガラス基板としては、より一層の低粗さと平坦度、形状の精度が求められる。なかでも、ハードディスクの読み書き速度の向上のために磁気ディスクの回転速度は速くなる傾向にあり、磁気ディスクの回転の重心は極めて重要である。このため内孔（内周端面）の寸法公差の小ささや真円度の高さ、ひいてはスピンドルとのはめあい公差の小ささについて、より一層の精度が求められている。
【０００６】
一方、近年は特に携帯電話やデジタルカメラ、携帯型音楽再生機などにも小型のハードディスクが搭載される要請があり、磁気ディスクには一層の小型化、高記録密度化、および低コスト化が求められている。
【０００７】
ここで、ガラス基板の内周端面を研磨するにあたり、生産コストの低減を図るためには、研磨の際の作業時間を短縮することが考えられる。しかし、高精度に加工するためにはワーク（ガラス基板）の研磨装置に対する取り付けも高精度に行う必要があり、それに応じた作業時間が必要となってしまう。また作業時間短縮と同様に、研磨の際に積層する枚数を増加させることも考えられる。例えば今まで１００枚ずつ積層して研磨していたところを、３００枚ずつ積層して研磨すれば、単純には１／３のタクト（処理時間）で生産をすることが可能となる。しかし、積層枚数を増加させるほどに、公差や真円度は低下してしまう傾向にある。
【０００８】
そこで本発明は、ガラス基板の内孔の公差と真円度を向上させつつ、作業時間の短縮を図ることが可能な磁気ディスク用ガラス基板の内周端面研磨装置、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、および磁気ディスクの製造方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の発明者らは、上記問題について鋭意検討した結果、内周研磨をする際にガラス基板を保持したワークホルダがテーブルに対して偏心したり傾いたりしていると、内孔の公差や真円度が低下してしまうことを突き止めた。特に傾いていると、積層枚数を増加させた際に公差等の低下が著しくなってしまう。そして、この問題を解決するために研磨工程を検討した結果、ワークホルダを内周端面研磨装置に固定する段階において、ワークホルダの中心軸と研磨手段の中心軸とを一致させる固定手段を用いることにより、これらの一致の度合いを向上させることができると共に、作業時間の短縮を図ることができることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１０】
すなわち上記課題を解決するために、本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法の代表的な構成は、中心に内孔を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、ワークホルダに積層された複数のガラス基板の中心軸と、ガラス基板の連通した内孔を研磨する研磨手段の回転軸とが一致するように、内周端面研磨装置のテーブルにワークホルダを固定する工程と、テーブルおよび研磨手段を回転させてガラス基板の内周端面を研磨する工程とを含むことを特徴とする。
【００１１】
上記構成によれば、ワークホルダを研磨装置のテーブルに固定するだけで、ガラス基板の中心軸と研磨手段の回転軸とを一致させることができる。従ってガラス基板の内孔の公差と真円度を向上させつつ、作業時間の短縮を図ることができる。
【００１２】
内周端面研磨装置のテーブルにワークホルダを固定する工程は、ワークホルダを内周端面研磨装置のテーブルに載置する工程と、テーブルに設けられた固定手段により積層されたガラス基板の中心軸と直交する方向にワークホルダを固定する工程と、を含んでいてもよい。
【００１３】
本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の内周端面研磨装置の代表的な構成は、中心に内孔を有する磁気ディスク用ガラス基板の内周端面研磨装置において、複数枚のガラス基板を積層した状態で保持したワークホルダを支持するテーブルと、ガラス基板の連通した内孔に挿入されて回転することにより該ガラス基板の内周端面を研磨する研磨手段と、研磨部位にスラリーを供給するスラリー供給手段とを有し、さらにテーブルは、積層されたガラス基板の中心軸と直交する方向にワークホルダを位置決め固定する固定手段を備え、固定手段は、ワークホルダを、積層されたガラス基板の中心軸と研磨手段の回転軸とが一致するように固定することを特徴とする。
【００１４】
固定手段は、ワークホルダの下方に突出した突起部を、積層されたガラス基板の中心軸と直交する方向に位置決め固定する構成としてもよい。または、全周方向からワークホルダの突起部を圧迫することにより、積層されたガラス基板の中心軸と前記研磨手段の回転軸とを一致させて固定してもよい。または、ワークホルダの突起部に少なくとも２方向から当接する位置決め部材と、ワークホルダの突起部を位置決め部材に付勢する付勢手段とを備えていてもよい。または、ワークホルダの突起部の外周面に形成された雄ねじ部と嵌合する雌ねじ部を備えていてもよい。固定手段の具体的な構成の例である。
【００１５】
本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の内周端面研磨装置の他の代表的な構成は、中心に内孔を有する磁気ディスク用ガラス基板の内周端面研磨装置において、複数枚のガラス基板を積層した状態で保持したワークホルダを支持するテーブルと、ガラス基板の連通した内孔に挿入されて回転することにより該ガラス基板の内周端面を研磨する研磨手段と、研磨部位にスラリーを供給するスラリー供給手段とを有し、さらに前記テーブルは、ワークホルダを位置決め固定する固定手段を備え、前記固定手段は、ワークホルダの下方に突出した突起部を全周方向から圧迫することにより、ワークホルダを、積層されたガラス基板の中心軸と前記研磨手段の回転軸とが一致するように固定することを特徴とする。
【００１６】
本発明に係る磁気ディスクの代表的な構成は、上記磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により得られたガラス基板の表面に、少なくとも磁性層を形成することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、ガラス基板の内孔の公差と真円度を向上させつつ、作業時間を短縮し、また内周研磨の際の積層枚数を増加させることにより生産コストを低減させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の内周端面研磨装置、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、および磁気ディスクの製造方法の実施形態について説明する。図１は内周端面研磨装置を説明する図、図２〜図５は固定手段を説明する図、図６は参考のための内周端面研磨装置の構成を示す図である。なお、以下の実施形態に示す具体的な寸法、形状、材質、その他の数値などは発明の理解を容易とするための例示に過ぎず、特に断る場合を除き、本発明を限定するものではない。
【００１９】
図１に示す研磨装置１は、複数枚のガラス基板の内周端面を研磨する装置である。研磨装置１は、ワークホルダ１００を支持して回転するテーブル２０１と、ガラス基板の内周端面を研磨する研磨手段の例としてのブラシ２０３とを備えている。テーブル２０１は土台２０２に対して回転可能に構成されている。さらに後述するように、テーブル２０１は、積層されたガラス基板１０の中心軸と直交する方向にワークホルダ１００を位置決め固定する固定手段２００を備えている。
【００２０】
ブラシ２０３はワークホルダ１００に保持されたガラス基板１０の内孔に挿通されている。ブラシ２０３のブラシ軸２０４は上端が駆動軸２０５によって回転駆動され、下端がブラシ下端支持部２０６によって回転可能に支持されている。そしてブラシ２０３は回転駆動されながら上下方向にも揺動されることにより、ガラス基板１０の内周端面を研磨する。研磨の際には、研磨部位にスラリー供給手段の例としてのノズル２０７から研磨砥粒を混入したスラリーを供給する。なお、本実施形態においてはテーブル２０１およびブラシ２０３の両方が回転する構成としているが、テーブルまたはブラシのいずれか一方のみが回転する構成としてもよい。
【００２１】
ワークホルダ１００は、中心に内孔を有する磁気ディスク用ガラス基板を積層して保持している。ガラス基板１０は複数枚（例えば１００〜３００枚）が積層され、内孔が連通した状態で下側支持部１０１と上側支持部１０４との間で挟持されている。下側支持部１０１の下方には、突起部１０７が突出して形成されている。突起部１０７は、本実施形態においては管状体であって、内孔にブラシ２０３または２０６を配置可能となっている。
【００２２】
固定手段２００の上面はテーブル２０１の回転中心に対して直交している。ワークホルダ１００の下側支持部１０１の下面（突起部１０７以外の部分）は、ワークホルダ１００の中心軸（すなわち積層されたガラス基板の中心軸）に対して直交している。従って、固定手段２００の上にワークホルダ１００を載置することによって、ワークホルダ１００の中心軸とテーブル２０１の回転中心は平行となる。なお、ブラシ２０３の回転軸は、テーブル２０１の回転中心に対して平行となっている。
【００２３】
図２は固定手段２００の一例としてのブッシュ２１０を示す図である。ブッシュ２１０は、本体２１１のうち小径の段部２１１ａをテーブル２０１の穴２０１ａに挿入され、ボルト２０９などの締結具によってテーブル２０１に固定されている。ブッシュ２１０の中心には内孔２１０ａが形成されており、ワークホルダ１００の下側支持部１０１の突起部１０７を挿入される。
【００２４】
図３に示すように、ブッシュ本体２１１にはねじ穴２１２が設けられ、ネジ２１３が外部から回転可能に取り付けられている。ネジ２１３の内部の空間２１４には流動性を有する圧力媒体（例えばオイル）が充填されており、空間２１４は内孔２１０ａを形成するスリーブ２１６と本体２１１との隙間２１５へと通じている。スリーブ２１６は弾性を有し、隙間２１５から受ける圧力によって変位する。従って、ネジ２１３を回転させて移動することにより、空間２１４、隙間２１５内の圧力媒体を介してスリーブ２１６を変位させ、内孔２１０ａの径を変化させることができる。
【００２５】
ワークホルダ１００は作業ごとに交換されるものであるが、ブッシュ２１０は研磨装置１に固定的に設けられているものである。ブッシュ２１０のはテーブル２０１の回転中心に対して直交している。ブッシュの内孔２１０ａの中心軸は、テーブル２０１の回転中心と同軸になっている。
【００２６】
このようなブッシュ２１０を用いたことにより、ネジ２１３を回転させるだけで突起部１０７を全周方向から圧迫し、積層されたガラス基板の中心軸と直交する方向に位置決め固定することができる。このとき、突起部１０７がテーブル２０１の回転中心からずれていたとしても、全周方向から同様の圧力で締め付けるため、ワークホルダ１００を平行移動させて位置を補正することができ、テーブル２０１の回転中心とワークホルダ１００の中心軸（すなわち積層されたガラス基板１０の中心軸）とを一致させることができる。すなわち、作業員による位置調整を要することなく、ワークホルダ１００を固定しつつ同時に機械的に芯出しをすることができる。
【００２７】
図６は、参考のための内周端面研磨装置の構成を示す図である。図６においては、固定手段２００を設けておらず、下側支持部１０１をボルト２０８等によって直接的にテーブル２０１に固定する構成となっている。下側支持部１０１の下部には突起部１０７が設けられており、テーブル２０１の穴２０１ａに対して所定のはめあい公差をもって嵌合されている。
【００２８】
図６の構成にあっては、作業員がまずボルト２０８を軽く締め、テーブル２０１を回転させながらワークホルダ１００の位置を微調整し、芯が出ていることを確認してからボルト２０８を最終的に締め付ける。この位置調整には平均的に５分程度かかり、また締め方によってはワークホルダ１００に傾きを生じてしまっていた。さらにその精度は、作業員の技能によるところも大きかった。
【００２９】
しかし本実施形態の構成によれば、ワークホルダ１００を固定すれば必然的にワークホルダ１００の回転軸とテーブル２０１の回転中心とが一致するため、位置調整にかかる時間は全く不要となり、作業時間の短縮を図ることができ、生産コストを低減させることができる。また締め付け方によるワークホルダ１００の傾きも生じることがなく、ワークホルダ１００へのガラス基板１０の積層枚数を増加させても、ガラス基板が傾いてしまうことを確実に防止できる。従って、ガラス基板の内孔の公差と真円度を向上させつつ、一度に研磨できる枚数を増加させることによっても、生産コストを低減させることができる。
【００３０】
なお、図６の構成において突起部１０７とテーブルの穴２０１ａのはめあい公差は５０μｍ程度であって、従来までのガラス基板に要求される内孔（内周端面）の加工精度に対しては足りていた。しかし上記課題の項にて説明した如く、内孔（内周端面）の寸法公差の小ささや真円度の高さ、ひいてはスピンドルとのはめあい公差の小ささに高い精度が要求されるようになってきている。本発明はこのような高精度の加工を実現する一端を担うものであって、今後のガラス基板の製造方法として極めて有益である。
【００３１】
図４は固定手段２００の他の一例として、ワークホルダ１００の突起部に当接する位置決め部材２２０と、付勢手段の例としてのスイングクランプ２２１を設けた構成である。図４（ａ）において、位置決め部材２２０の上面はテーブル２０１の回転中心に対して直交しており、この上にワークホルダ１００を載置することによって、ワークホルダ１００の中心軸とテーブル２０１の回転中心は平行となる。図４（ｂ）に示すように、位置決め部材２２０の内孔２２０ａには、一方側に突起部１０７に当接する２つの当接突起２２０ｂを設けており、突起部１０７をはさんで他方側には移動当接部２２０ｃを備えている。
【００３２】
スイングクランプ２２１はテーブル２０１上に取り付けられており、レバー２２１ａを回転させることによってカム２２１ｂが回転する。カム２２１ｂには長穴が設けられており、移動当接部２２０ｃが摺動可能に接続されている。従って、レバー２２１ａを回転させることによって移動当接部２２０ｃが突起部１０７に対して進退し、当接突起２２０ｂに突起部１０７を付勢して固定、または付勢解除して固定解除することができる。
【００３３】
ここで当接突起２２０ｂは、突起部１０７が付勢された状態で、テーブル２０１の回転中心とワークホルダ１００の中心軸（すなわち積層されたガラス基板１０の中心軸）とが一致する形状に形成されている。すなわち、図４の構成にあっても、ワークホルダ１００を固定しつつ同時に機械的に芯出しをすることができる。
【００３４】
図５は固定手段２００の他の一例として、ネジ構造を用いて求心固定する構成を示している。図５においてホルダ受け部材２２４は雌ねじ部２２４ａを備えており、一方、ワークホルダ１００の突起部１０７の外周面には雄ねじ部１０７ａが形成されている。なお、研磨装置１の固定手段というときはホルダ受け部材２２４のみを指し、雄ねじ部１０７ａおよび突起部１０７は含まない。
【００３５】
ホルダ受け部材２２４の上面はテーブル２０１の回転中心に対して直交している。従って、ワークホルダ１００を回転させて雄ねじ部１０７ａと雌ねじ部２２４ａを螺合させ、突起部１０７の下面がホルダ受け部材２２４の上面と当接するとき、ワークホルダ１００の中心軸とテーブル２０１の回転中心は平行となる。このとき、ネジ構造は締結されるとき雄ねじが雌ねじの中心にくることが保証される。すなわち、図５の構成にあっても、ワークホルダ１００を固定しつつ同時に機械的に芯出しをすることができる。
【００３６】
上記説明した如く、本発明の構成によれば、ワークホルダ１００を研磨装置１のテーブル２０１に固定するだけで、ガラス基板１０の中心軸とテーブル２０１の回転中心とを一致させることができる。従って容易かつ確実にガラス基板１０の内孔の公差と真円度を向上させつつ、作業時間を短縮して生産コストを低減させることができる。
【００３７】
［実施例］
以下に、本発明を適用した磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクの製造方法について実施例を説明する。この磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクは、０．８インチ型ディスク（内径６ｍｍ、外径２１．６ｍｍ、板厚０．３８１ｍｍ）、１．０インチ型ディスク（内径７ｍｍ、外径２７．４ｍｍ、板厚０．３８１ｍｍ）、１．８インチ型磁気ディスク（内径１２ｍｍ、外径４８ｍｍ、板厚０．５０８ｍｍ）などの所定の形状を有する磁気ディスクとして製造される。また、２．５インチ型ディスクや３．５インチ型ディスクとして製造してもよい。
【００３８】
（１）形状加工工程および第１ラッピング工程
本実施例に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法においては、まず、板状ガラスの表面をラッピング（研削）加工してガラス母材とし、このガラス母材を切断してガラスディスクを切り出す。板状ガラスとしては、様々な板状ガラスを用いることができる。この板状ガラスは、例えば、溶融ガラスを材料として、プレス法やフロート法、ダウンドロー法、リドロー法、フュージョン法など、公知の製造方法を用いて製造することができる。これらのうち、プレス法を用いれば、板状ガラスを廉価に製造することができる。板状ガラスの材質としては、アモルファスガラスやガラスセラミクス（結晶化ガラス）を利用できる。板状ガラスの材料としては、アルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス、ボロシリケートガラス等を用いることができる。特にアモルファスガラスとしては、化学強化を施すことができ、また主表面の平坦性及び基板強度において優れた磁気ディスク用基板を供給することができるという点で、アルミノシリケートガラスを好ましく用いることができる。
【００３９】
本実施例においては、溶融させたアルミノシリケートガラスを上型、下型、胴型を用いたダイレクトプレスによりディスク形状に成型し、アモルファスの板状ガラスを得た。なお、アルミノシリケートガラスとしては、ＳｉＯ２：５８〜７５重量％、Ａｌ２Ｏ３：５〜２３重量％、Ｌｉ２Ｏ：３〜１０重量％、Ｎａ２Ｏ：４〜１３重量％を主成分として含有する化学強化ガラスを使用した。
【００４０】
次に、この板状ガラスの両主表面をラッピング加工し、ディスク状のガラス母材とした。このラッピング加工は、遊星歯車機構を利用した両面ラッピング装置により、アルミナ系遊離砥粒を用いて行った。具体的には、板状ガラスの両面に上下からラップ定盤を押圧させ、遊離砥粒を含む研削液を板状ガラスの主表面上に供給し、これらを相対的に移動させてラッピング加工を行った。このラッピング加工により、平坦な主表面を有するガラス母材を得た。
【００４１】
（２）切り出し工程（コアリング、フォーミング、チャンファリング）
次に、ダイヤモンドカッタを用いてガラス母材を切断し、このガラス母材から円盤状のガラス基板を切り出した。次に、円筒状のダイヤモンドドリルを用いて、このガラス基板の中心部に内孔を形成し、円環状のガラス基板とした（コアリング）。そして内周端面および外周端面をダイヤモンド砥石によって研削し、所定の面取り加工を施した（フォーミング、チャンファリング）。
【００４２】
（３）第２ラッピング工程
次に、得られたガラス基板の両主表面について、第１ラッピング工程と同様に、第２ラッピング加工を行った。この第２ラッピング工程を行うことにより、前工程である切り出し工程や端面研磨工程において主表面に形成された微細な凹凸形状を予め除去しておくことができ、後続の主表面に対する研磨工程を短時間で完了させることができるようになる。
【００４３】
（４）端面研磨工程
次に、ガラス基板の外周端面について、ブラシ研磨方法により、鏡面研磨を行った。このとき、研磨砥粒としては、酸化セリウム砥粒を含むスラリー（遊離砥粒）を用いた。
【００４４】
内周端面については、上述したように複数のガラス基板１０を積層保持させたワークホルダ１００を内周端面研磨装置１のテーブル２０１に載置する。テーブル２０１に設けられた固定手段２００により積層されたガラス基板１０の中心軸と直交する方向にワークホルダ１００を固定して、積層されたガラス基板の中心軸と研磨手段の回転軸とを一致させる。そしてガラス基板１０の連通した内孔にブラシ２０３を挿入して、ノズル２０７よりスラリーを供給しつつ、テーブル２０１およびブラシ２０３を回転させてガラス基板１０の内周端面を研磨した。
【００４５】
そして、端面研磨工程を終えたガラス基板を水洗浄した。この端面研磨工程により、ガラス基板の端面は、ナトリウムやカリウムの析出の発生を防止できる鏡面状態に加工された。特に内周端面は、２００〜３００枚ほどの多数枚を積層して研磨した場合であっても、内孔の公差や真円度が低下することなく良好な状態であった。
【００４６】
（５）主表面研磨工程
主表面研磨工程として、まず第１研磨工程を施した。この第１研磨工程は、前述のラッピング工程において主表面に残留したキズや歪みの除去を主たる目的とするものである。この第１研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、硬質樹脂ポリッシャを用いて、主表面の研磨を行った。研磨剤としては、酸化セリウム砥粒を用いた。
【００４７】
この第１研磨工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。
【００４８】
次に、主表面研磨工程として、第２研磨工程を施した。この第２研磨工程は、主表面を鏡面状に仕上げることを目的とする。この第２研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、軟質発泡樹脂ポリッシャを用いて、主表面の鏡面研磨を行った。研磨剤としては、第１研磨工程で用いた酸化セリウム砥粒よりも微細な酸化セリウム砥粒を用いた。
【００４９】
この第２研磨工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。なお、各洗浄槽には、超音波を印加した。
【００５０】
（６）化学強化工程
次に、前述のラッピング工程および研磨工程を終えたガラス基板に、化学強化を施した。化学強化は、硝酸カリウム（６０％）と硝酸ナトリウム（４０％）を混合した化学強化溶液を用意し、この化学強化溶液を４００℃に加熱しておくとともに、洗浄済みのガラス基板を３００℃に予熱し、化学強化溶液中に約３時間浸漬することによって行った。この浸漬の際には、ガラス基板の表面全体が化学強化されるようにするため、複数のガラス基板が端面で保持されるように、ホルダに収納した状態で行った。
【００５１】
このように、化学強化溶液に浸漬処理することによって、ガラス基板の表層のリチウムイオンおよびナトリウムイオンが、化学強化溶液中のナトリウムイオンおよびカリウムイオンにそれぞれ置換され、ガラス基板が強化される。ガラス基板の表層に形成された圧縮応力層の厚さは、約１００μｍ乃至２００μｍであった。
【００５２】
化学強化処理を終えたガラス基板を、２０℃の水槽に浸漬して急冷し、約１０分間維持した。そして、急冷を終えたガラス基板を、約４０℃に加熱した濃硫酸に浸漬して洗浄を行った。さらに、硫酸洗浄を終えたガラス基板を純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）の各洗浄槽に順次浸漬して洗浄した。
【００５３】
上記の如く、第１ラッピング工程、切り出し工程、端面研磨工程、第２ラッピング工程、第１および第２研磨工程、ならびに化学強化工程を施すことにより、平坦、かつ、平滑な、高剛性の磁気ディスク用ガラス基板を得た。
【００５４】
（７）磁気ディスク製造工程
上述した工程を経て得られたガラス基板の両面に、ガラス基板の表面にＣｒ合金からなる付着層、ＣｏＴａＺｒ基合金からなる軟磁性層、Ｒｕからなる下地層、ＣｏＣｒＰｔ基合金からなる垂直磁気記録層、水素化炭素からなる保護層、パーフルオロポリエーテルからなる潤滑層を順次成膜することにより、垂直磁気記録ディスクを製造した。なお、本構成は垂直磁気ディスクの構成の一例であるが、面内磁気ディスクとして磁性層等を構成してもよい。
【００５５】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施例について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【産業上の利用可能性】
【００５６】
本発明は、磁気ディスク用ガラス基板の内周端面研磨装置、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、および磁気ディスクの製造方法として利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】内周端面研磨装置を説明する図である。
【図２】固定手段を説明する図である。
【図３】固定手段を説明する図である。
【図４】固定手段を説明する図である。
【図５】固定手段を説明する図である。
【図６】参考のための内周端面研磨装置の構成を示す図である。
【符号の説明】
【００５８】
１     …研磨装置
１０   …ガラス基板
１００  …ワークホルダ
１０１  …下側支持部
１０４  …上側支持部
１０７  …突起部
１０７ａ  …雄ねじ部
２００  …固定手段
２０１  …テーブル
２０１ａ  …穴
２０２  …土台
２０３  …ブラシ
２０７  …ノズル
２０８  …ボルト
２０９  …ボルト
２１０  …ブッシュ
２１０ａ  …内孔
２１１  …本体
２１１ａ  …段部
２１２  …ねじ穴
２１３  …ネジ
２１４  …空間
２１５  …隙間
２１６  …スリーブ
２２０  …位置決め部材
２２０ａ  …内孔
２２０ｂ  …当接突起
２２０ｃ  …移動当接部
２２１  …スイングクランプ
２２１ａ  …レバー
２２１ｂ  …カム
２２４  …ホルダ受け部材
２２４ａ  …雌ねじ部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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