(57)【要約】【課題】硬Ｘ線から軟Ｘ線のＸ線を集光し、あるいはＸ線の光路を変更するための超高精度なＸ線ミラー若しくはＸ線光学素子の姿勢、特にＸ線の入射角度を１μｒａｄ以下で一定に保つことが可能なＸ線ミラーの高精度姿勢制御法を提供する。【解決手段】光源Ｏと集光点Ｆを焦点とする楕円形状の反射面からなる集光面帯７が形成された縦方向集光ミラー５と横方向集光ミラーを互に垂直に配置したＫ−Ｂミラー配置とし、各集光ミラーの集光面帯の入射側端部と出射側端部の近傍に形成した一対の平面反射面９，１０でフレネルミラーをそれぞれ構成し、集光面帯による集光ビームに影響されない位置で各集光ミラーのフレネルミラーによる干渉縞１３を別々にモニターし、該干渉縞の変化を電気的に検出してその検出信号を各集光ミラーの姿勢制御用フィードバック信号として使用する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
硬Ｘ線から軟Ｘ線のＸ線を集光スポットが１００ｎｍ以下の高い空間分解能で集光させるためのＸ線ミラーの高精度姿勢制御法であって、光源と集光点を焦点とする楕円形状の反射面からなる集光面帯が形成された縦方向集光ミラーと横方向集光ミラーを互に垂直に配置したＫ−Ｂミラー配置とし、各集光ミラーの集光面帯の入射側端部と出射側端部の近傍に形成した一対の平面反射面でフレネルミラーをそれぞれ構成し、前記集光面帯による集光ビームに影響されない位置で各集光ミラーの前記フレネルミラーによる干渉縞を別々にモニターし、該干渉縞の変化を電気的に検出してその検出信号を各集光ミラーの姿勢制御用フィードバック信号として使用することを特徴とするＸ線ミラーの高精度姿勢制御法。
【請求項２】
前記縦方向集光ミラーと横方向集光ミラーのそれぞれに設けたフレネルミラーによる検出信号により、それぞれの入射角制御用のパルス駆動するモータ若しくはアクチュエータを制御してなる請求項１記載のＸ線ミラーの高精度姿勢制御法。
【請求項３】
前記フレネルミラーによる干渉縞を対象Ｘ線に対して感度のあるイメージングカメラでモニターし、集光スポットが最小のときの干渉縞を基準画像データとし、該基準画像データと現在の逐次画像データとの比較から検出信号を生成してなる請求項１又は２記載のＸ線ミラーの高精度姿勢制御法。
【請求項４】
前記フレネルミラーによる干渉縞を対象Ｘ線に対して感度のあるイメージングカメラでモニターし、集光スポットが最小のときの干渉縞を基準画像データとし、該基準画像データに対する逐次画像データの変化を検出し、該逐次画像データが基準画像データに対して許容範囲で一致するまで、前記モータ若しくはアクチュエータを駆動するパルス信号を生成してなる請求項２記載のＸ線ミラーの高精度姿勢制御法。
【請求項５】
前記イメージングカメラがＣＣＤカメラである請求項３又は４記載のＸ線ミラーの高精度姿勢制御法。
【請求項６】
前記イメージングカメラがピンフォールとフォトダイオードを組み合わせたＸ線検出器である請求項３又は４記載のＸ線ミラーの高精度姿勢制御法。
【請求項７】
硬Ｘ線から軟Ｘ線のＸ線を帯状の反射面帯で反射させて集光若しくは光路変更するためのＸ線ミラーの高精度姿勢制御法であって、前記Ｘ線ミラーの反射面帯の入射側端部と出射側端部の近傍に形成した一対の平面反射面でフレネルミラーを構成し、前記反射面帯で反射されたＸ線ビームに影響されない位置で前記フレネルミラーによる干渉縞をモニターし、該干渉縞の変化を電気的に検出してその検出信号をＸ線ミラーの姿勢制御用フィードバック信号として使用することを特徴とするＸ線ミラーの高精度姿勢制御法。
【請求項８】
硬Ｘ線から軟Ｘ線のＸ線を反射させて集光若しくは光路変更するために高精度姿勢制御が可能なＸ線ミラーであって、長手方向に帯状の反射面帯を形成するとともに、反射面帯の入射側端部と出射側端部の近傍にフレネルミラーを構成する一対の平面反射面を形成したことを特徴とするＸ線ミラー。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】  本発明は、Ｘ線ミラーの高精度姿勢制御法に係わり、更に詳しくは例えば放射光施設で用いられる硬Ｘ線から軟Ｘ線のＸ線を集光スポットが１００ｎｍ以下の高い空間分解能で集光させるためのＸ線ミラーの高精度姿勢制御法に関する。
【背景技術】
【０００２】  ＳＰｒｉｎｇ−８に代表される第三世代放射光施設において軟Ｘ線から硬Ｘ線までの様々な波長領域において、高輝度、低エミッタンス、高コヒーレンスという特徴を持つＸ線を利用することができるようになった。このことは蛍光Ｘ線分析や光電子分光、Ｘ線回折等の様々な分析の感度や空間分解能を飛躍的に向上させた。このような放射光を利用したＸ線解析やＸ線顕微法は高感度、高分解能であるだけでなく非破壊で観察が可能であるため、現在、医学、生物、材料学等の分野で利用されつつある。【０００３】  放射光施設において、Ｘ線を用いた様々な分析技術に高い空間分解能を付加するためには、集光されたＸ線ナノビームが必要となる。Ｘ線ナノビーム形成には、反射型ミラーを用いた方法が輝度と色収差がないという理由から最も優れた集光光学素子として認識されている。ここで、反射型ミラーを用いた集光光学系としては、Ｋ−Ｂ（Ｋｉｒｋｐａｔｒｉｃｋ  ａｎｄ  Ｂａｅｚ）ミラーが一般的に使用されている（特許文献１参照）。Ｋ−Ｂミラー配置は、光源と集光点を焦点とする楕円の形状が作り込まれた２枚の全反射ミラーで構成され、それぞれのミラーが、垂直、水平方向集光を担っている。【０００４】  反射型ミラーは、光源からのＸ線を全反射もしくは、多層膜により反射させることで一点に集光させる。ベストな集光状態を維持するためには、温度ドリフトなどによって変化する入射Ｘ線とミラーとの角度（入射角）を一定にさせる必要がある。放射光を用いた観察は多くの場合、長時間計測となるため、Ｘ線ミラーによる集光光学系を用いたＸ線顕微鏡の場合、集光ビームの状態を一定にする必要不可欠である。これまでは、温度環境を一定に保つことでの対応しかなく、Ｘ線ミラーを用いた集光光学系におけるおおきな欠点として挙げられていた。原理的には、回折や屈折を用いた集光方法に比べ、開口の大きさ、効率の点から優れているにもかかわらずこの欠点のため、Ｘ線ミラーによる集光方法は長時間観察には不向きとされていた。
【特許文献１】  特開平０８−２７１６９７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】  このように、高分解能Ｘ線顕微鏡を実現したり、Ｘ線による高精度な計測をするための反射型ミラーによる集光において、ミラーの初期アライメントと並び重要となるのは、ベストな集光状態を維持することである。例えば、１５ｋｅＶのＸ線をＫ−Ｂミラー配置により１００ｎｍ以下のレベルに集光するためのミラーでは、１μｒａｄ以下で一定に入射角度を保たなければならない。【０００６】  そこで、本発明が前述の状況に鑑み、解決しようとするところは、硬Ｘ線から軟Ｘ線のＸ線を集光し、あるいはＸ線の光路を変更するための超高精度なＸ線ミラー若しくはＸ線光学素子の姿勢、特にＸ線の入射角度を１μｒａｄ以下で一定に保つことが可能なＸ線ミラーの高精度姿勢制御法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】  本発明は、前述の課題解決のために、硬Ｘ線から軟Ｘ線のＸ線を集光スポットが１００ｎｍ以下の高い空間分解能で集光させるためのＸ線ミラーの高精度姿勢制御法であって、光源と集光点を焦点とする楕円形状の反射面からなる集光面帯が形成された縦方向集光ミラーと横方向集光ミラーを互に垂直に配置したＫ−Ｂミラー配置とし、各集光ミラーの集光面帯の入射側端部と出射側端部の近傍に形成した一対の平面反射面でフレネルミラーをそれぞれ構成し、前記集光面帯による集光ビームに影響されない位置で各集光ミラーの前記フレネルミラーによる干渉縞を別々にモニターし、該干渉縞の変化を電気的に検出してその検出信号を各集光ミラーの姿勢制御用フィードバック信号として使用することを特徴とするＸ線ミラーの高精度姿勢制御法を構成した（請求項１）。【０００８】  ここで、前記縦方向集光ミラーと横方向集光ミラーのそれぞれに設けたフレネルミラーによる検出信号により、それぞれの入射角制御用のパルス駆動するモータ若しくはアクチュエータを制御してなるのである（請求項２）。【０００９】  また、前記フレネルミラーによる干渉縞を対象Ｘ線に対して感度のあるイメージングカメラでモニターし、集光スポットが最小のときの干渉縞を基準画像データとし、該基準画像データと現在の逐次画像データとの比較から検出信号を生成してなることが好ましい（請求項３）。【００１０】  また、前記フレネルミラーによる干渉縞を対象Ｘ線に対して感度のあるイメージングカメラでモニターし、集光スポットが最小のときの干渉縞を基準画像データとし、該基準画像データに対する逐次画像データの変化を検出し、該逐次画像データが基準画像データに対して許容範囲で一致するまで、前記モータ若しくはアクチュエータを駆動するパルス信号を生成してなることもより好ましい（請求項４）。【００１１】  ここで、前記イメージングカメラがＣＣＤカメラであることも好ましい（請求項５）。あるいは、前記イメージングカメラがピンフォールとフォトダイオードを組み合わせたＸ線検出器であることも好ましい（請求項６）。【００１２】  そして、硬Ｘ線から軟Ｘ線のＸ線を帯状の反射面帯で反射させて集光若しくは光路変更するためのＸ線ミラーの高精度姿勢制御法であって、前記Ｘ線ミラーの反射面帯の入射側端部と出射側端部の近傍に形成した一対の平面反射面でフレネルミラーを構成し、前記反射面帯で反射されたＸ線ビームに影響されない位置で前記フレネルミラーによる干渉縞をモニターし、該干渉縞の変化を電気的に検出してその検出信号をＸ線ミラーの姿勢制御用フィードバック信号として使用することを特徴とするＸ線ミラーの高精度姿勢制御法を構成した（請求項７）。【００１３】  また、硬Ｘ線から軟Ｘ線のＸ線を反射させて集光若しくは光路変更するために高精度姿勢制御が可能なＸ線ミラーであって、長手方向に帯状の反射面帯を形成するとともに、反射面帯の入射側端部と出射側端部の近傍にフレネルミラーを構成する一対の平面反射面を形成したことを特徴とするＸ線ミラーを提供する（請求項８）。
【発明の効果】
【００１４】  以上にしてなる本発明のＸ線ミラーの高精度姿勢制御法は、硬Ｘ線から軟Ｘ線のＸ線を集光若しくは反射させるＸ線ミラーに、該Ｘ線ミラー本来の機能を果たす集光面帯や反射面帯を形成するとともに、入射側端部と出射側端部の近傍に形成した一対の平面反射面でフレネルミラーを構成したことにより、同一の光源から射出されたＸ線を集光若しくは反射させると同時に、フレネルミラーを構成する一対の平面反射面で反射させ、その結果得られたフレネル干渉縞をモニターし、該干渉縞の変化を電気的に検出してその検出信号をＸ線ミラーの姿勢制御用フィードバック信号として使用するので、Ｘ線ミラーの姿勢を高精度に制御することができる。また、本発明はＸ線ミラー本来の機能を使用しつつ、リアルタイムでＸ線ミラーの姿勢をモニターし、しかもそれを１μｒａｄ以下の高精度で補正することができるのである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】  先ず、本発明のＸ線ミラーの高精度姿勢制御法を適用するのに適した実施形態を図面に基づき詳細に説明する。図１は、ＳＰｒｉｎｇ−８や自由電子レーザー等の放射光発生装置１で作り出されたＸ線を、Ｋ−Ｂミラー配置からなるＸ線集光装置２によって集光する集光光学システムの概略図である。ここで、放射光発生装置１で作られたＸ線ビーム３は、スリット４を通した後、楕円形状の反射面が作り込まれた縦方向集光ミラー５と横方向集光ミラー６を互に垂直に配置したＫ−Ｂミラー配置としたＸ線集光装置２で集光される。【００１６】  前記縦方向集光ミラー５と横方向集光ミラー６は、Ｓｉ単結晶のブロックをナノメーターレベルの形状精度で加工し、それぞれ光源と集光点を焦点とする楕円形状の反射面からなる集光面帯７，８を中央部に形成し、反射面にＰｔを５０ｎｍの厚さでコーティングすることで、１５ｋｅＶのＸ線を４ｍｒａｄという大きな入射角で集光できる光学特性のものである。例えば、前記縦方向集光ミラー５と横方向集光ミラー６は長さが１００ｍｍで、Ｘ線顕微鏡システムの実用的な使用を考慮し、比較的長い１００ｍｍの作動距離を持ち、回折限界集光で５０ｎｍ以下の集光スポットを達成することができるものである。【００１７】  Ｘ線集光装置２のミラーアライメントにおいて、考慮する軸のうち入射角とはミラー中心での入射Ｘ線に対するミラー表面の角度であり、面内回転とはミラー中心の法線ベクトル周りの回転である。また、ミラー間垂直度は２枚のミラー中心にそれぞれ法線ベクトルを定義し、その二軸がなす角度から９０°を引いた値を指すことにする。【００１８】  光線追跡シミュレータを用いて入射角、ミラー間垂直度、面内回転における許容角度誤差を見積もった。光線追跡シミュレータによる許容角度誤差の算出は以下のように行った。先ず、回折限界における第一極小点間距離で定義されたビームサイズを以下の式により算出した。【００１９】  ｄ＝２．０λｆ／Ｄ
ここで、ｄは矩形開口に基づく回折波の第一極小点間距離、λはＸ線の波長、ｆは焦点距離、Ｄはミラー開口を示している。【００２０】  次に、光線追跡シミュレータを用いて角度誤差と最大幅で定義されるスポットサイズの関係を計算した。この時、光線追跡シミュレータで得られたスポットサイズが上式で得られたｄ以下となる範囲を許容される角度誤差と定義した。この結果、入射角のアライメントに要求される精度は、縦方向集光ミラー５で±０．７μｒａｄ、横方向集光ミラー６で±０．３μｒａｄであることが分かった。ミラー間垂直度での許容角度範囲は±４０μｒａｄであった。また、面内回転での許容角度範囲は縦方向集光ミラー５で±１３ｍｒａｄ、横方向集光ミラー６で±１６ｍｒａｄであり、面内回転は殆ど考慮しなくても良いことが分かった。【００２１】  光線追跡シミュレータによって得られる許容角度誤差は回折限界近傍においては実際より厳しく見積もられると予想される。このため、非常に厳しいアライメント精度が要求されている入射角においては、波動光学シミュレーションによって厳密に計算する。光線追跡シミュレータは、波長を無限小と近似しているため、回折限界近傍での集光ビームをこの方法で厳密に議論することはできない。それに対して、波動光学シミュレーションは、フレネル・キルヒホッフの回折積分を計算することによって反射ビームの強度分布プロファイルを計算することができる新しいシミュレータである。この波動光学シミュレーションの結果、入射角誤差とＦＷＨＭで表された集光径の関係が得られ、許容入射角度誤差を理想的な条件（理想的なミラー、理想的なミラーアライメント）で得られた最小スポットサイズが１２０％まで広がる角度範囲と定義すると、許容入射角度誤差は縦方向集光ミラー５で±１．５μｒａｄ、横方向集光ミラー６で±０．９μｒａｄであることが分かった。【００２２】  従って、前記Ｘ線集光装置２において、最も高精度な調節が必要なのはＸ線ミラーの入射角、その次がＸ線ミラー間垂直度であり、それぞれ高精度なアライメントが必要である。このように、Ｘ線ミラーの入射角は、１μｒａｄ以下の高精度のアライメント及び姿勢維持が要求される。そこで、本発明ではこのＸ線ミラーの入射角を高精度で姿勢制御する方法を提供するのである。【００２３】  集光状態は，放射光Ｘ線のミラーへの入射角度に敏感であり，光軸に対して１μｒａｄレベルでミラー姿勢を安定させる必要がある。楕円形状を有するＸ線ミラーの一部に２箇所の小型フレネルミラーを導入する複合ミラーを提案する。図１において、前記縦方向集光ミラー５の中央部位に形成した集光面帯７の入射側端部と出射側端部の近傍に形成した一対の平面反射面９，１０でフレネルミラーを構成している。ここで、フレネルミラーはフレネルの複鏡とも呼ばれる。同様に、前記横方向集光ミラー６の中央部位に形成した集光面帯８の入射側端部と出射側端部の近傍に形成した一対の平面反射面１１，１２でフレネルミラーを構成している。【００２４】  フレネルミラーとは、干渉縞を発生させることが可能な入射角度の違う一対の平面形状のミラーを言う。入射角度が変わると反射ビームの行き先が変わり、それをモニターすることも考えられるが、１×１０−７ｒａｄレベルでは、数メートル先でも数１００ｎｍの変化しかなく、位置をモニターするのはＣＣＤの分解能と検出器自身の温度ドリフトのため不可能である。一方、フレネル干渉縞は、０．１μｒａｄの角度の変化により１０μｍレベルの位置変化があるため、このフレネル干渉縞の変化をモニターすることにより、その位置情報を読み取ることでフィードバック可能である。【００２５】  図２は、本発明の原理を前記縦方向集光ミラー５に基づいて示している。Ｘ線光源Ｏから射出されたＸ線ビームは楕円の集光面帯７によって焦点Ｆに集光する。それと同時にＸ線光源Ｏから射出されたＸ線ビームは、フレネルミラーを構成する一対の平面反射面９，１０で反射し、そして両平面反射面９，１０で反射したＸ線が交差する位置でフレネル干渉縞１３が生じる。このフレネル干渉縞１３をモニターし、該干渉縞の変化を電気的に検出してその検出信号を集光ミラーの姿勢制御用フィードバック信号として使用するのである。【００２６】  図３は、入射角度と強度プロファイルの関係を示したものであり、理想の入射角に対して０．５μｒａｄずれるとピーク値は２／３になり、１μｒａｄレベルの角度変化で、集光ビームのプロファイルの形が大きく崩れていることがわかる。一方、図４はフレネル干渉縞と入射角度の変化を示したものである。この計算に用いたモデルは、Ｘ線ミラー（前記縦方向集光ミラー５）の長さが４００ｍｍ、それぞれ１０ｍｍ角の入射側平面反射面９と出射側平面反射面１０の間隔は３８０ｍｍ、両反射面の角度（フレネルミラーの角度）は３μｒａｄであり、Ｘ線の入射角度は１ｍｒａｄとした。この設計では、わずか０．０５μｒａｄの変化で、８μｍの位置変化があることがわかる。【００２７】  図５は、本発明に係るＸ線ミラーの概略図であり、前記縦方向集光ミラー５を例として示している。このＸ線ミラーはＳｉ単結晶のブロックの中央部に楕円形状等の所望形状の集光面帯７を、ナノレベル形状精度で形成したものである。そして、前記集光面帯７の入射側端部と出射側端部の近傍に一対の平面反射面９，１０を微小角度差を設けて形成し、両平面反射面９，１０でフレネルミラーを構成している。フレネル干渉縞は、前記両平面反射面９，１０の交線に平行に現れることになる。尚、本実施形態では、前記集光面帯７を楕円形状としたが、円筒面、放物面や平面、さらにはその他の光学的な機能面でもよい。何れにしても、Ｘ線ミラーに一体的に作り込まれたフレネルミラーで該Ｘ線ミラーの角度をモニターし、その姿勢を制御することができるのである。【００２８】  本実施形態では、Ｘ線光学素子の代表例としてＸ線ミラーを例示し、更にＸ線ミラーの代表例としてＫ−Ｂミラーを例示した。Ｘ線ミラーに一体的に作り込まれたフレネルミラーによる干渉縞をモニターして、そのＸ線ミラーの姿勢を高精度で制御するという本発明の技術思想はＸ線ミラーに限定されないことは明らかであり、広くＸ線光学素子に適用できるものである。つまり、前記集光面帯７は、帯状の反射面帯としてもよく、単に反射面帯でＸ線を反射させて光路変更だけでもよく、更に凸面形状として拡散若しくは拡大するものでもよい。また、前記集光面帯７若しくは反射面帯の反射面は、全反射��の他に多層膜でもよい。そして、本発明において、前記集光面帯７や反射面帯を帯状としたのは、もともとＸ線ビームがよく収束されており、不要な面まで高精度な加工をすることはないとの理由である。【００２９】  次に、図６〜図９に基づいて本発明をＫ−Ｂミラー配置に適用した実施形態を説明する。Ｋ−Ｂミラー配置によるＸ線集光装置２は、図６に示すように入射Ｘ線ビーム３を前記縦方向集光ミラー５の集光面帯７で反射させて縦方向に集光し、それを横方向集光ミラー６の集光面帯８で反射させて横方向に集光し、該縦方向集光ミラー５と横方向集光ミラー６の共通の焦点Ｆに集光する。【００３０】  そして、図７及び図８に示すように、前述のＫ−Ｂミラー配置でのＸ線の集光と並行して、前記縦方向集光ミラー５と横方向集光ミラー６のそれぞれに作り込まれたフラネルミラーによって発生したフレネル干渉縞をモニターする。この場合、入射Ｘ線ビーム３は広がりを持ってミラーに入射し、その一部若しくは大部分が縦方向集光ミラー５の集光面帯７で反射し、一部が集光面帯７を外れて側方に入射することを前提としている。つまり、図７に示すように、前記縦方向集光ミラー５の集光面帯７の入射側端部と出射側端部の近傍に形成した一対の平面反射面９，１０にもＸ線ビーム３が入射するようにしている。この一対の平面反射面９，１０はフレネルミラーを構成するので、それぞれの反射面で反射したＸ線は図中Ｖで交差し、この位置でフレネル干渉縞を形成する。【００３１】  同様に、図８に示すように、前記横方向集光ミラー６の集光面帯８の入射側端部と出射側端部の近傍に形成した一対の平面反射面１１，１２にも直接Ｘ線ビーム３が入射する。この一対の平面反射面１１，１２はフレネルミラーを構成するので、それぞれの反射面で反射したＸ線は図中Ｈで交差し、この位置でフレネル干渉縞を形成する。【００３２】  そして、図９に示すように、前記交差点Ｖに、対象Ｘ線に対して感度を有するイメージングカメラ１４を配置し、前記交差点Ｈに、Ｘ線に対して感度を有するイメージングカメラ１５を配置する。尚、前記交差点Ｖは、平面反射面９，１０が大きさを持っているので、その分だけ光軸方向に広がりを持っている。前記交差点Ｈも同様である。実際には、前記イメージングカメラ１４，１５は、前記交差点Ｖ，Ｈの近傍に光軸に直角にＸ線検出板を配置し、その背後に配置したＣＣＤカメラで検出板でのＸ線の強度分布が反映された画像を電子的な画像データとして取得する。そして、そのフレネル干渉縞の変化を電気的に検出してその検出信号を各集光ミラーの姿勢制御用フィードバック信号として使用し、前記縦方向集光ミラー５と横方向集光ミラー６の入射角制御用のパルス駆動するモータ若しくはアクチュエータ１６，１７を制御して、その入射角度を１μｒａｄ以下の精度で制御するのである。尚、前記イメージングカメラ１４，１５として、ピンフォールとフォトダイオードを組み合わせたＸ線検出器を用いてフレネル干渉縞の画像データを取得してもよい。【００３３】  具体的には、前記フレネルミラーによる干渉縞をイメージングカメラ１４，１５でモニターし、集光スポットが最小のときの干渉縞を基準画像データとし、該基準画像データと現在の逐��画像データとの比較から検出信号を生成する。更に具体的には、前記基準画像データに対する逐次画像データの変化を検出し、該逐次画像データが基準画像データに対して許容範囲で一致するまで、前記モータ若しくはアクチュエータ１６，１７を駆動するパルス信号を生成し、前記縦方向集光ミラー５と横方向集光ミラー６の姿勢をベストな状態で維持するのである。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】本発明を適用したＸ線集光装置の概略図である。
【図２】本発明の原理を説明するための説明図である。
【図３】Ｘ線の入射角度と集光プロファイルとの関係を示すグラフである。
【図４】フレネル干渉縞と入射角度との関係を示すグラフである。
【図５】本発明に係るＸ線ミラーの斜視図である。
【図６】Ｋ−Ｂミラー配置による集光光学系を示す簡略斜視図である。
【図７】縦方向フレネルミラー干渉光学系を示す簡略斜視図である。
【図８】横方向フレネルミラー干渉光学系を示す簡略斜視図である。
【図９】本発明によるＸ線ミラーの姿勢制御の概念を説明する全体簡略斜視図である。
【符号の説明】
【００３５】１  放射光発生装置
２  線集光装置
３  Ｘ線ビーム
４  スリット
５  縦方向集光ミラー
６  横方向集光ミラー
７  集光面帯
８  集光面帯
９  入射側平面反射面
１０  出射側平面反射面
１１  入射側平面反射面
１２  出射側平面反射面
１３  フレネル干渉縞
１４  イメージングカメラ
１５  イメージングカメラ
１６  モータ若しくはアクチュエータ
１７  モータ若しくはアクチュエータ
Ｏ  Ｘ線光源
Ｆ  焦点
Ｈ  交差点
Ｖ  交差点
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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