(57)【要約】【課題】光学系装置用成形体の製造原料である成形時の流動性に優れた樹脂組成物、光学系用途において、線膨張係数が充分低く、表面平滑性、耐熱性等に優れ、可視光領域全体にわたっての高い反射率、高い結像精度を示すことができる光学反射鏡、該光学反射鏡を搭載してなる電子機器等に好適に用いることができる光学系装置用成形体、その製造方法及び用途を提供する。【解決手段】無機成分と有機樹脂とを含有する樹脂組成物であって、上記無機成分は、アスペクト比が異なる２種以上の繊維状無機成分である樹脂組成物。【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
無機成分と有機樹脂とを含有する樹脂組成物であって、
該無機成分は、アスペクト比が異なる２種以上の繊維状無機成分である
ことを特徴とする樹脂組成物。
【請求項２】
前記無機成分は、平均繊維径１〜２０μｍでアスペクト比が２以上、２０未満の短繊維状無機成分、及び、平均繊維径０．０５〜１．５μｍでアスペクト比が２０以上の長繊維状無機成分を含有し、該短繊維状無機成分と該長繊維状無機成分との配合質量比が２０／８０〜８０／２０である
ことを特徴とする請求項１記載の樹脂組成物。
【請求項３】
前記樹脂組成物は、その全量を１００質量％とすると、無機成分を６０質量％以上含有するものである
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の樹脂組成物。
【請求項４】
前記有機樹脂は、熱硬化性樹脂である
ことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の樹脂組成物。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の樹脂組成物から形成される
ことを特徴とする光学系装置用成型体。
【請求項６】
請求項５に記載の光学系装置用成型体に、金属層を有してなることを特徴とする金属層含有光学系装置用成型体。
【請求項７】
請求項５に記載の光学系装置用成型体、及び、請求項６記載の金属層含有光学系装置用成型体の少なくとも一つを用いてなる
ことを特徴とする光学反射鏡。
【請求項８】
請求項７に記載の光学反射鏡を搭載してなることを特徴とする電子機器。
【請求項９】
無機成分と有機樹脂とを含有する樹脂組成物から形成される光学系装置用成型体であって、
該光学系装置用成型体は、波長４００〜７００ｎｍにおける光反射率が２０％以上であり、表面粗度が２０ｎｍ以下である
ことを特徴とする光学系装置用成型体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、樹脂組成物、光学系装置用成型体、その製造方法及び用途に関する。より詳しくは、光学系用途において、例えば、光学反射鏡、該光学反射鏡を搭載してなる電子機器等に好適に用いることができる光学系装置用成型体の製造原料である樹脂組成物、光学系装置用成型体、その製造方法及び用途に関する。
【背景技術】
【０００２】
樹脂組成物成型体は、例えば、機械部品材料、電気・電子部品材料、自動車部品材料、土木建築材料等として工業的に有用なものであり、特に、光学系用途において、有効活用が期待されている。例えば、特定の無機材料から作製され、表面に薄膜が形成された入れ子を備えた金型組立体、及び、該金型組立体を用いて熱可塑性樹脂に基づき成型品を製造する方法が開示されている（例えば、特許文献１参照）。成型時、離型不良が発生せず、転写性に優れるとされている。また、特定の樹脂成型用金型を使用して、結晶性樹脂を充填する成型方法が開示されている（例えば、特許文献２参照）。離型性良く成型することができる等とされている。しかしながら、樹脂組成物の成型時の流動性及び樹脂組成物成型体の表面平滑性、耐熱性を優れたものとするための工夫の余地があった。
【０００３】
光学系用途の一例として、デジタルスチルカメラ（ＤＳＣ）・デジタルビデオカメラ（ＤＶＣ）・液晶プロジェクタ・プロジェクションＴＶ・カメラ付き携帯電話等に用いられる反射鏡としては、従来は石英製のものが用いられてきた。石英は有機材料と比較して比重が高く、また成型に際して溶融させることが必要である上に、反射面の光学鏡面処理のための煩雑な研磨工程を経なければならず、製造コストが高価である。そのため搭載部品の軽量化および製造コストの低減を目標にプラスチック化の検討が始まっている。プラスチックを用いた反射鏡においては、プラスチック成型の際に光学研磨された型枠を用い、表面を成型時に転写することで表面平滑性を得ることが行われている。このような反射鏡としては、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）系やシクロオレフィン系のエンプラ材料を用いて、表面粗さを５ｎｍ以下の鏡面とする光学反射鏡、及び、該光学反射鏡を成型する射出成型用金型が開示されている（例えば、特許文献３参照。）。しかしながら、このようなエンプラ材料を用いた場合、線膨張係数低下のために無機成分を材料に配合した無機成分配合組成物で成型すると、分子量が大きいために型枠のナノオーダーでの荒れに追随できず、表面粗度が粗くなる場合があり、また可視光領域全体にわたって高い反射率を示すことができない可能性があり、光反射鏡等として好適に用いられるものとするための工夫の余地があった。
【特許文献１】特開平１１−３４０６８号公報（第２−４、７、１７−１８頁）
【特許文献２】特開２００５−３４２９２２号公報（第２、５頁）
【特許文献３】特開２００５−１１５１６５号公報（第２頁）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、光学系装置用成型体の製造原料である成型時の流動性に優れた樹脂組成物、光学系用途において、線膨張係数が充分低く、表面平滑性、耐熱性等に優れ、可視光領域全体にわたっての高い反射率、高い結像精度を示すことができる光学反射鏡、該光学反射鏡を搭載してなる電子機器等に好適に用いることができる光学系装置用成型体、その製造方法及び用途を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者等は、光学系装置用成型体を形成するための樹脂組成物について種々検討したところ、無機成分と有機樹脂とを含有する樹脂組成物が優れた物性を発揮することに着目し、該無機成分が、アスペクト比が異なる２種以上の繊維状無機成分とすると、樹脂組成物が流動性に優れるうえに、このような樹脂組成物から形成される光学系装置用成型体が、線膨張係数が充分低く、表面平滑性及び耐熱性に優れ、可視光領域全体にわたっての高い反射率、高い結像精度を示すことができ、上記課題をみごとに解決することができることに想到した。また、上記無機成分が、平均繊維径１〜２０μｍでアスペクト比が２以上、２０未満の短繊維状無機成分、及び、平均繊維径０．０５〜１．５μｍでアスペクト比が２０以上の長繊維状無機成分を含有し、該短繊維状無機成分と該長繊維状無機成分との配合質量比が２０／８０〜８０／２０であるものとすると、更に本発明の好ましい効果を発揮することができることを見いだした。更に、上記樹脂組成物が、その全量を１００質量％とすると、無機成分を６０質量％以上含有するものとすることにより、形成される光学系装置用成型体の耐熱性等の物性を更に高めることができることを見いだし、上記有機樹脂が、熱硬化性樹脂であるものとすると、成型用の型を用いて形成する際に型への追随がよく、種々の光学系用途に好適に用いることができる成型体となり、更に本発明の効果を発揮することができることを見いだした。そして、上述の樹脂組成物から形成される光学系装置用成型体が、上述した本発明の好ましい効果を発揮することを見いだした。また、上記光学系装置用成型体に、金属層を有してなる金属層含有光学系装置用成型体とすることにより、低い線膨張係数、優れた表面平滑性、耐熱性等の本発明の好ましい効果を充分に発揮することができることを見いだした。そして、上述の光学系装置用成型体、又は、金属層含有光学系装置用成型体を用いてなる光学反射鏡、上記光学反射鏡を搭載してなる電子機器が光学系において好適に適用することができることも見いだし、更に、無機成分と有機樹脂とを含有する樹脂組成物から形成される光学系装置用成型体であって、該光学系装置用成型体は、波長４００〜７００ｎｍにおける光反射率が２０％以上であり、表面粗度が２０ｎｍ以下である光学系装置用成型体が、線膨張係数が充分低いものであり、表面平滑性及び耐熱性に優れ、可視光領域全体にわたっての高い反射率、高い結像精度を示すことができる等の本発明の効果を発揮することができることも見いだし、本発明に到達したものである。
【０００６】
すなわち本発明は、無機成分と有機樹脂とを含有する樹脂組成物であって、上記無機成分は、アスペクト比が異なる２種以上の繊維状無機成分である樹脂組成物である。
本発明はまた、無機成分と有機樹脂とを含有する樹脂組成物から形成される光学系装置用成型体であって、上記光学系装置用成型体は、波長４００〜７００ｎｍにおける光反射率が２０％以上であり、表面粗度が２０ｎｍ以下である光学系装置用成型体でもある。
以下に本発明を詳述する。
【０００７】
本発明の樹脂組成物は、無機成分と有機樹脂とを含有するものであって、該無機成分は、アスペクト比が異なる２種以上の繊維状無機成分であるものである。
本発明の樹脂組成物において、繊維状無機成分を充填剤として用いるために、成型時においては型枠内部での流動方向に配向する。上記充填剤は、一般に、繊維長に分布があり、繊維径が一定であるものである。すなわち、上記充填剤は、繊維長に分布があり、繊維径が一定であるものであることが好ましい。
アスペクト比が異なる２種以上の繊維状無機成分を含有することにより、アスペクト比が異なる２種以上の繊維状無機化合物をキャビティー面に沿って流動させることで、キャビティー面に対して垂直方向に最密充填し（図１ｃ参照）、キャビティー面に平行方向には等方的に配置する（図１ｂ参照）。これにより樹脂成分がキャビティー面に滲出しやすくなり、キャビティー面の転写性が向上する。この結果、本発明の樹脂組成物は、成型時の樹脂組成物の流動性が充分なものであるうえに、樹脂組成物から形成される成型体が、線膨張係数が充分低く、表面平滑性及び耐熱性に優れるうえ、可視光領域全体にわたって高い光反射率、高い結像精度を有するといった優れた光学特性を有するものとすることができる。
上記アスペクト比が異なる２種以上の繊維状無機成分は、アスペクト比が異なる２種の繊維状無機成分であることが最も好ましい。上記アスペクト比は、繊維系無機成分については、平均繊維径に対する平均繊維長の比で表され、球状の無機成分については、１で表される。
上記「キャビティー面」とは、本明細書中、型枠のキャビティーを構成する面であって、成型時に成型品表面となる面をいう。キャビティー面は、水平方向に位置するものであることが好ましい。また上記「キャビティー面に対して垂直方向に最密充填する」とは、２種類以上の平均繊維径の充填剤が型枠内の樹脂組成物の流動方向に沿って、キャビティー面と平行に配向し、キャビティー面に対して垂直な面において、高い密度で積み重なること又は集まることをいう。必ずしも、いわゆる「最密充填」するものではなく、本発明の作用効果を発揮するのに充分に高い密度であればよい。
【０００８】
寸法精度を上げるために一般的な充填剤を高含有量で充填した場合、一般的な充填剤は概して球状であるため、成型時の組成物の流動特性によらず３次元方向で、例えば最密充填となるように密に充填することになる。このとき、光学系用途に用いる成型体表面に表面露出するといった問題が生じるおそれがある。このため、樹脂組成物／型枠界面の何れの部分にも充填剤表面が露出し、キャビティー面の転写性が大幅に低下する。充填剤を数ｎｍ〜数十ｎｍの微細な粒子を用いて露出をできるだけ少なくした場合にも、成型体表面に充填剤が表面露出して曇った外観の成型体となるおそれがあり、可視光領域の波長の光を均一に反射できなくなるおそれがある。
【０００９】
表面硬度の高い材質で表面粗度をできるだけ小さくした型を用いれば、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂を問わず型枠の表面形状が転写されて表面精度の高い成型体が得られると考えられてきたが、一般的な充填剤を高含有量で充填すると、高い圧力で成型した場合でも得られる成型体に改善が見られない場合がある。
また上記無機化合物がアスペクト比が１種のみの繊維状無機化合物である場合、該繊維状無機化合物は、垂直方向に充分に最密充填してキャビティー面に平行方向には等方的に配置することができず、熱膨張係数、表面平滑性を充分に低いものとすることができない。
例えば、樹脂組成物がアスペクト比の低い繊維状無機成分のみを含有するものとすると、樹脂組成物から形成される成型体表面に無機成分が露出しやすくなり、成型時の転写性が充分なものとならないうえに、成型体の表面平滑性や、光反射率、結像精度等の光学特性が劣ったものとなり、曇った外観の成型体となるおそれがある。また樹脂組成物がアスペクト比の高い繊維状無機成分のみを含有するものとすると、該無機成分は流動面と平行な面に配向するため成型体表面への無機成分の露出を抑えることができるものの、流動性の低下等の弊害が生じることになる。
【００１０】
上記樹脂組成物は、その全量を１００質量％とすると、無機成分を６０質量％以上含有するものであることが好ましい。
６０質量％未満であると、線膨張係数を充分には小さくすることができなくなるおそれがある。また、上記範囲とすることにより、樹脂組成物を硬化させるときに生じるブリードや光学系装置用成型体（光学系装置用成型体）の破損等を抑制することが可能となる。無機成分の含有量としてより好ましくは、６５質量％以上であり、更に好ましくは、７０質量％以上である。
【００１１】
上記無機成分の平均粒径は、アスペクト比が２以上のものであることが好ましい。
上記無機成分がアスペクト比２以下の無機成分を含有するものであると、樹脂組成物から形成される光学系装置用成型体に反り等が発生し、外観が劣ることになるおそれがある。
【００１２】
上記無機成分は、平均繊維径１〜２０μｍでアスペクト比が２以上、２０未満の短繊維状無機成分、及び、平均繊維径０．０５〜１．５μｍでアスペクト比が２０以上の長繊維状無機成分を含有し、上記短繊維状無機成分と上記長繊維状無機成分との配合質量比が２０／８０〜８０／２０であるものが好ましい。
上記無機成分が平均繊維径１〜２０μｍでアスペクト比が２以上、２０未満の短繊維状無機成分、及び、平均繊維径０．０５〜１．５μｍでアスペクト比が２０以上の長繊維状無機成分を含有することにより、より充分に無機成分をキャビティー面に対して垂直方向に最密充填し、キャビティー面に平行方向には等方的に配置させることができるため、成型時の樹脂組成物の流動性を充分なものとしながら、光学系用途において、線膨張係数が充分低く、表面平滑性、耐熱性等に優れた光学系装置用成型体を成型することができることになる。
上記短繊維状無機成分と長繊維状無機成分との配合質量比は、２５／７５〜７５／２５であることがより好ましい。
上記短繊維状無機成分と長繊維状無機成分とは、１種のものであってもよいし、２種以上のものであってもよい。すなわち、本発明の樹脂組成物の好ましい形態としては、無機成分と有機樹脂とを含有する樹脂組成物であって、上記無機成分は、平均繊維径１〜２０μｍでアスペクト比が２以上、２０未満の短繊維状無機成分、及び、平均繊維径０．０５〜１．５μｍでアスペクト比が２０以上の長繊維状無機成分を含有し、上記短繊維状無機成分と上記長繊維状無機成分との配合質量比が２０／８０〜８０／２０であるものである。
【００１３】
上記平均繊維径及び平均繊維長は、例えば、電子顕微鏡観察、細孔電気抵抗法、レーザー回折散乱法、動的光散乱法により粒径分布を求めることができる。
【００１４】
本発明の樹脂組成物は、無機成分の含有量、平均繊維径、アスペクト比が上述した範囲にあるものが好適であり、このような範囲とすることで、本発明の樹脂組成物から形成される光学系装置用成型体の線膨張率を一定に保つことができ、該光学系装置用成型体のＴｇ（ガラス転移温度）以下の線膨張率α１とＴｇ以上の線膨張率α２の差を小さくすることができる。
このように、上記無機成分は、平均繊維径１〜２０μｍでアスペクト比が２以上、２０未満の短繊維状無機成分、及び、平均繊維径０．０５〜１．５μｍでアスペクト比が２０以上の長繊維状無機成分を含有し、該短繊維状無機成分と該長繊維状無機成分との配合質量比が２０／８０〜８０／２０である樹脂組成物もまた、本発明の好ましい形態の一つである。
【００１５】
上記短繊維状無機成分は、例えば、炭素繊維、ガラス繊維、炭化ケイ素繊維、ポロン繊維、又は、アルミナ繊維等が好ましい。これらの短繊維状無機成分は、一種又は二種以上が適宜用いられる。
中でも、安価で入手でき、主成分が酸化ケイ素であり、線膨張係数がこれらの中で最も小さい点で、ガラス繊維が最も好ましい。
ガラス繊維は、従来のＥガラス繊維やＣガラス繊維等の強化用繊維と同等の紡糸性、機械的強度等を有しつつ、樹脂成型品の補強効果が高いことから、ガラス繊維として用いることが好ましい。
【００１６】
上記ガラス繊維は、従来公知のガラス長繊維の紡糸方法を用いて得ることができる。例えば、溶融炉でガラス原料を連続的にガラス化してフォアハースに導き、フォアハースの底部にプッシングを取り付けて紡糸するダイレクトメルト（ＤＭ）法、又は、溶融したガラスをマーブル、カレット、棒状に加工してから再溶融して紡糸する再溶融法等の各種の方法を用いてガラスを繊維化することができる。ガラス繊維の径は特に限定されないが、１〜２０μｍのものが好ましく用いられる。１μｍよりも細い場合には、ガラス繊維と樹脂との接触面積が増大して乱反射の原因となり、成型品の透明性が低下する場合がある。２０μｍよりも太い場合には、ガラス繊維の強度が弱くなり、結果として成型品の強度が低下する場合がある。更に好ましくは、５〜１５μｍである。
【００１７】
ガラス繊維の中でも最も好適なのはミルドファイバーである。ミルドファイバーは、従来公知のミルドファイバーの製造方法を用いて得ることができる。例えば、ガラス繊維のストランドをハンマーミルやボールミルで粉砕することにより得られており、粉末状であるため従来の充填剤と同様のハンドリングで取り扱えるためである。また、成型品外観も繊維状の模様が転写されることなく、光学用途に好適に使用できる。ミルドファイバーの繊維径及びアスペクト比は特に限定されないが、平均繊維径は１〜２０μｍ、アスペクト比は２〜１５０のものが好ましく用いられる。アスペクト比が２以上、２０未満のものが更に好ましい。
【００１８】
市販されているミルドファイバーとしては、例えば、日東紡社製  商品名「ＰＦシリーズ」、セントラル硝子社製  商品名「ＥＦＤＥシリーズ」「ＥＦＨシリーズ」、旭ファイバーガラス社製  商品名「ＭＦシリーズ」などが挙げられる。
【００１９】
上記長繊維状無機成分は、一般式ａＡｘＯｙ・ｂＢ２Ｏ３（ここでａ及びｂはそれぞれ１〜９の数、Ａは１〜３価の金属元素、ｘ及びｙはｘ＝２、ｙ＝１もしくはｘ＝ｙ＝１もしくはｘ＝２、ｙ＝３）で示されるホウ酸金属塩系ウィスカ、一般式ｐＭｖＯｗ・ｑＳｉＯ２・ｒＨ２Ｏ（ここで１≦ｐ≦３、１≦ｑ≦３、０≦ｒ≦１０の実数及びｖ及びｗはｖ＝２、ｗ＝１もしくはｖ＝ｗ＝１もしくはｖ＝２、ｗ＝３、Ｍは上記Ａに同じ）で示されるケイ酸塩系ウィスカ、又は、一般式Ｋ２Ｏ・ｎ（ＴｉＯ２−ｓ）（式中ｎ、ｓはそれぞれ２≦ｎ≦１２、０≦ｓ＜１の実数を示す）もしくは一般式Ｋ２Ｏ・ｎ（ＴｉＯ２−ｌ）（式中ｎ、ｌはそれぞれ２≦ｎ≦１２、０＜ｔ＜２の実数を示す）で表されるチタン酸金属塩系ウィスカであることが好ましい。
これらの長繊維状無機成分は、一種又は二種以上が適宜用いられる。
【００２０】
上記長繊維状無機成分は、具体例としては、天然物系では、例えばセピオライト、ウォラストナイト、アスベスト、スラグ繊維等があり、人工物系では、例えばゾノライト、エレスタダイト、石膏繊維、ホウ酸アルミニウム、炭酸カルシウム、炭化ケイ素、窒化ケイ素、チタン酸カリウム、塩基性硫酸マグネシウム、酸化亜鉛、グラファイト、マグネシア、硫酸カルシウム、ホウ酸マグネシウム、二ホウ化チタン、ケイ酸カルシウム、α−アルミナ、クリソタイル等のウィスカが挙げられる。これらの繊維状無機充填剤は、一種又は二種以上が適宜用いられる。
これらのうちセピオライト、ウォラストナイト、ホウ酸金属塩系ウィスカ、炭酸カルシウムウィスカー、又は、炭化ケイ素ウィスカーが好適である。中でも、安価で入手でき、マトリックス樹脂との親和性が高く、組成物の粘度が低下し、線膨張係数が低い点で、ホウ酸金属塩系ウィスカが最も好適である。
【００２１】
上記ホウ酸金属塩系ウィスカは、一般式ａＡｘＯｙ・ｂＢ２Ｏ３（ここでａ及びｂはそれぞれ１〜９の数、Ａは１〜３価の金属元素、ｘ及びｙはｘ＝２、ｙ＝１もしくはｘ＝ｙ＝１もしくはｘ＝２、ｙ＝３）で示され、Ａとしては例えばＭｇ、Ｃａ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ
、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｇａ、Ｓｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｐｂ、Ｂａ、Ｗ、Ｌｉ等を挙げることができる。なかでも例えばＡがＡｌであるホウ酸アルミニウムウィスカー、ＡがＭｇであるホウ酸マグネシウムウィスカー、ＡがＮｉであるホウ酸ニッケルウィスカーなどが好ましい。
【００２２】
上記ホウ酸アルミニウムウィスカーとしては、さらに好ましいものとして、９Ａｌ２Ｏ３・２Ｂ２Ｏ３又は式２Ａｌ２Ｏ３・Ｂ２Ｏ３で示されるものを例示することができる。これらのウィスカはいずれも白色針状結晶であり、例えば、アルミニウム水酸化物及びアルミニウム無機塩のなかから選ばれる少なくとも１つのアルミニウム供給成分と、ホウ素の酸化物、酸素酸及びアルカリ金属塩の中から選ばれる少なくとも１つのホウ素供給成分とを、好ましくはアルカリ金属の硫酸塩、塩化物及び炭酸塩の中から選ばれる少なくとも１つの溶融剤の存在下にて、６００〜１２００℃の範囲の焼成温度に加熱して反応、育成させることにより容易に製造される。式９Ａｌ２Ｏ３・２Ｂ２Ｏ３で示されるホウ酸アルミニウムウィスカーは、真比重２．９３〜２．９５、融点１４２０〜１４６０℃であり、焼成温度９００〜１２００℃にて製造されたものが好ましい。また、式２Ａｌ２Ｏ３・Ｂ２Ｏ３で示されるホウ酸アルミニウムウィスカーは真比重２．９２〜２．９４、融点１０３０〜１０７０℃であり、焼成温度６００〜１０００℃にて製造されたものが好ましい。
現在、市販されているホウ酸アルミニウムウィスカーとしては、例えば、式９Ａｌ２Ｏ３・２Ｂ２Ｏ３で示されるもの（四国化成工業株式会社製、商品名「アルボレックスＧ」）があり、このものの平均繊維径は０．５〜１μｍ、平均繊維長は１０〜３０μｍである。また必要に応じ上記９Ａｌ２Ｏ３・２Ｂ２Ｏ３を酸化雰囲気または還元雰囲気中にて１２００〜１４００℃の温度で加熱することにより、ホウ酸成分の一部を脱離させた繊維も使用することができる。本発明に使用することのできるホウ酸マグネシウムウィスカーとしては、より具体的には式２ＭｇＯ・Ｂ２Ｏ３で示されるものを例示できるこのウィスカは、白色針状結晶で、例えば、マグネシウムの酸化物、水酸化物及び無機酸塩の中から選ばれる少なくとも１つのマグネシウム供給成分と、ホウ素の酸化物、酸素酸、及びそのアルカリ金属塩の中から選ばれる少なくとも１つのホウ素供給成分とを、好ましくはハロゲン化ナトリウム及びハロゲン化カリウムの中から選ばれる少なくとも１つの溶融剤の存在下にて、６００〜１０００℃の焼成温度に加熱して、反応、育成させることにより、容易に製造される。式２ＭｇＯ・Ｂ２Ｏ３で示されるホウ酸アルミニウムウィスカーとしては、真比重２．９０〜２．９２、融点１３２０〜１３６０℃のものが好ましい。
【００２３】
これらのホウ酸アルミニウムウィスカーやホウ酸マグネシウムウィスカーは、平均繊維径０．０５〜５μｍ、平均繊維長２〜１００μｍのものが製造可能であり、いずれも本発明に使用可能であるが、製造の容易さから、平均繊維径０．０５〜１．５μｍ、アスペクト比が２０以上のものが好ましく用いられる。
【００２４】
組成物の用途でイオン性不純物などの混入を特に嫌わない場合は、天然系ウィスカとして例えば、一般式ｐＭｖＯｗ・ｑＳｉＯ２・ｒＨ２Ｏ（ここで１≦ｐ≦３、１≦ｑ≦３、０≦ｒ≦１０の実数及びｖ及びｗはｖ＝２、ｗ＝１もしくはｖ＝ｗ＝１もしくはｖ＝２、ｗ＝３、Ｍは上記Ａに同じ）で示されるケイ酸塩系ウィスカを好適に用いることもできる。ケイ酸塩系ウィスカとしては、ＣａＯ・ＳｉＯ２（ワラストナイト）、６ＣａＯ・６ＳｉＯ２・Ｈ２Ｏ（ゾノトライト）、３Ａｌ２Ｏ３・２ＳｉＯ２（ムライト）、２ＺｎＯ・ＳｉＯ２（ケイ酸亜鉛）、２ＭｇＯ・３ＳｉＯ２・３．５Ｈ２Ｏ（セピオライト）、３ＭｇＯ・２ＳｉＯ２・２Ｈ２Ｏ（クリソタイル）等を挙げることができる。なかでも特に好ましいものとしてＣａＯ・ＳｉＯ２で示されるワラストナイト及び６ＣａＯ・６ＳｉＯ２・Ｈ２Ｏで示されるゾノトライト等を例示できる。ワラストナイトは天然に産出する白色針状結晶であり、形状としては繊維状のものや塊状のものを問わず、そのまま又は粉砕、分級したものを使用することができ、また合成したものであってもよい。繊維状物は、粉砕方法及び産地によりアスペクト比に差異を生じるが、一般にアスペクト比の大きなβ型のワラストナイトが補強性能の点から望ましい。目的物の機械的性質及び熱的特性の向上のためには、アスペクト比が６以上の成分を６０重量％以上、好ましくは８０重量％以上含有しており、且つ繊維径５μｍ以下の成分を８０重量％以上、好ましくは９５重量％以上含有している細くて長いワラストナイトを使用するのがよい。例えば、アスペクト比が１０以上の成分を６０重量％以上含有していても、繊維径６μｍ以上の成分を８０重量％以上含有しているような太くて長いワラストナイトの場合は、樹脂との混練中に折れやすく、機械的性質及び熱的特性を兼備させることは困難である。
【００２５】
現在市販されているワラストナイトにも上記水準を満たすものがあり、このものの平均繊維径は２．０μｍ、平均繊維長は２５μｍであり、繊維径が５μｍ以下の成分が９５重量％以上で且つアスペクト比が６以上の成分が９０重量％以上であるため、補強性能や表面平滑性に極めて優れている。一方、ゾノトライトは化学組成６ＣａＯ・６ＳｉＯ２・Ｈ２Ｏで示される繊維状ケイ酸カルシウムであり、既に平均繊細径０．５〜１μｍ、平均繊維長２〜５μｍ、アスペクト比２〜１５のものが合成されている。できるだけアスペクト比の大きい（６以上が好ましい）ものが、機械的物性及び耐熱性（熱変形温度）を向上する効果に優れているため望ましい。
【００２６】
本発明の樹脂組成物において、上記有機樹脂は、熱硬化性樹脂であることが好ましい。
上記有機樹脂を熱硬化性樹脂とすることにより、成型用の型を用いて形成する際に型への追随がよく、種々の光学系用途に好適に用いることができる成型体を形成することができ、本発明の好ましい効果を更に充分に発揮することができる。
【００２７】
本発明はまた、上記樹脂組成物から形成される光学系装置用成型体でもある。
上記光学系装置用成型体は、光学系装置用成型体全体を１００質量％として、無機成分を６０質量％以上含有するものであることが好ましい。６０質量％未満であると、線膨張係数を充分には小さくすることができなくなるおそれがある。また、上記範囲とすることにより、樹脂組成物を硬化させるときに生じるブリードや光学系装置用成型体（光学系装置用成型体）の破損等を抑制することが可能となる。無機成分の含有量としてより好ましくは、６５質量％以上であり、更に好ましくは、７０質量％以上である。
【００２８】
上記光学系装置用成型体に含まれる繊維状無機成分及び有機樹脂の好ましい種、含有量、形状等としては、本明細書中に記載の樹脂組成物に含有される無機成分及び有機樹脂の好ましい種、含有量、形状等と同様である。
【００２９】
上記光学系装置用成型体は、表面粗度が５０ｎｍ以下のものであることが好ましい。表面粗度が５０ｎｍを超えると、例えば、光学反射鏡等として用いた場合に、反射が繰り返されることにより、適切な像を得ることができないおそれがある。より好ましくは、３０ｎｍ以下であり、更に好ましくは、２０ｎｍ以下であり、特に好ましくは、１５ｎｍ以下であり、最も好ましくは、１０ｎｍ以下である。
【００３０】
上記光学系装置用成型体は、また、ガラス転移温度以下の温度領域での線膨張係数が４０ｐｐｍ以下であることが好ましい。本発明の光学系装置用成型体は、例えば、光学反射鏡等として用いた場合に、被写体の再現性を充分なものとし、適切な像を得ることができるという効果を有するが、熱曝露等により加温された場合であっても、ガラス転移温度以下の温度領域での線膨張係数が一定値以下であることにより、線膨張係数が成型体の変形と関連するため、反射面の変形が充分に抑制され、所望する適切な像を得るという効果が得られることになる。すなわち、膨張係数が４０ｐｐｍを超えると、熱曝露等により加温された場合に容易に膨張し、光学系装置用成型体が変形することになり、形状の変化が望まれない用途に用いることが困難となる可能性がある。例えば、光学反射鏡等として用いた場合に、特に光源の近傍に位置する場合は光源からの発熱により膨張し、反射面の形状が著しく変化して、被写体の再現性が充分でなく、適切な像を得ることができないおそれがある。より好ましくは、３０ｐｐｍ以下であり、更に好ましくは、２０ｐｐｍ以下である。光学反射鏡として特に好ましくは、光学反射鏡が有する金属箔（金属層、金属膜等の反射作用を有する物質を言う。）と同程度の線膨張係数である。
【００３１】
本発明の光学系装置用成型体において、上記ガラス転移温度は、６０℃以上であることが好ましい。６０℃以上とすることで、例えば、光学系装置用成型体を電化製品等のように、使用により発熱し４０〜５０℃となるような用途においても、α１領域でのみ変化することとなり、長時間使用しても光学系装置用成型体にゆがみや歪み等が生じることがなく、成型体の形状を維持することが品質上重要である用途、例えば、球面形状を維持することが必要である光学反射鏡等として好適に用いることができる。上記ガラス転移温度としてより好ましいは、８０℃以上であり、更に好ましくは、１００℃以上である。
【００３２】
本発明の光学系装置用成型体は、例えば、樹脂組成物を型枠に流し込み、１００〜３５０℃で保持する工程を含む製造方法により、得ることができる。
型枠は、表面の平滑性に優れ、光反射率の高い光学系装置用成型体が得られる点で、型枠の表面粗度が微細である方が好ましく、具体的には、３０ｎｍ以下が好ましく、更に２０ｎｍ以下、特に１０ｎｍ以下が好ましい。
上記表面粗度が３０ｎｍ以下である型枠を用いると、光学系装置用成型体の４００〜７００ｎｍにおける光反射率を１５％以上にすることができる。光反射率としては、１８％以上であることが好ましく、２０％であることがより好ましい。
【００３３】
上記型枠としては、表面粗度が３０ｎｍ以下のものである限り、材質、製法等に特に制限されないが、表面粗度が３０ｎｍ以下に研磨された型枠であることが好ましく、より好ましくは、光学研磨された金型であることが好ましい。例えば、上述した３０ｎｍ以下に研磨された型枠を用いて、本発明の樹脂組成物を硬化させて光学系装置用成型体を製造することにより、該成型体を大量生産することができ、製造コストを大幅に削減することができる。
【００３４】
上記型枠の材料としては、ＳＵＳ、ジルコニア（ＺｒＯ2）、ＺｒＯ2−ＣａＯ、ＺｒＯ2−Ｙ2Ｏ3、ＺｒＯ2−ＭｇＯ、ＺｒＯ2−ＳｉＯ2、Ｋ2Ｏ−ＴｉＯ2、アルミナ（Ａｌ2Ｏ3）、Ａｌ2Ｏ3−ＴｉＣ、Ｔｉ3Ｎ2、３Ａｌ2Ｏ3−２ＳｉＯ2、ＭｇＯ−ＳｉＯ2、２ＭｇＯ−ＳｉＯ2、ＭｇＯ−Ａｌ2Ｏ3−ＳｉＯ2、チタニア、タングステンカーバイド、メノウ、窒化珪素、並びに、ソーダガラス、石英ガラス、耐熱ガラス及び結晶化ガラス等のガラスからなる群から選択された少なくとも１種から作製されていることが好ましく、中でも、ＳＵＳ、ジルコニア（ＺｒＯ2）、石英ガラス、結晶化ガラスが好ましい。
【００３５】
また、成型時に成型品表面となるところは、上述の型枠の材料の他に、ＴｉＮ、ＴｉＡｌＮ、ＴｉＣ、ＣＢＮ（立方晶窒化ホウ素）、ＢＮ、アモルファスダイヤモンド、ＣｒＮ、Ｃｒ及びＮｉからなる群から選択される少なくとも１種を用いることができる。上記ＴｉＮ、ＴｉＡｌＮ、ＴｉＣ、ＣＢＮ（立方晶窒化ホウ素）、ＢＮ、アモルファスダイヤモンド、ＣｒＮ、Ｃｒ及びＮｉからなる群から選択される少なくとも１種は、熱可塑性樹脂に基づいて成型体を成型する際に特に好ましい。中でも、アモルファスダイヤモンド、ＴｉＮ、ＣｒＮが好ましい。上記成型時に成型品表面となるところは、上述の材料によって型枠上に薄膜を形成するものであってもよい。薄膜は、少なくとも一層形成されていればよく、多層であってもよい。更には、例えばＴｉＮ層を型枠の表面に形成し、その上にアモルファスダイヤモンドやＣｒＮ等の薄膜を形成してもよい。また、ＳｉＯ２層を型枠の表面に形成し、その上にアモルファスダイヤモンドやＴｉＮ、ＣｒＮ等の薄膜を形成してもよい。
【００３６】
型枠の表面に薄膜を形成する方法としては、常圧ＣＶＤ法、減圧ＣＶＤ、熱ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法、光ＣＶＤ法、レーザーＣＶＤ法等の化学的気相成長法（ＣＶＤ法）、真空蒸着法やスパッタ法、イオンプレーティング法、イオンビーム蒸着法、ＩＶＤ法（イオン・ベーパー・デポジション法）等の物理的気相成長法（ＰＶＤ法）を挙げることができる。
【００３７】
上記型枠の形状としては、得られる光学系装置用成型体の形状であればよく、光学系装置用成型体を例えば光学反射鏡として用いる場合は、成型体の表面が球面、非球面、平面の形状であることが好ましい。アルミナ、ジルコニア、タングステンカーバイド等の金属酸化物や金属炭化物等のセラミックス材料は、一般に表面硬度が高く、線膨張係数が低く、成型時の熱履歴による変形が小さいという利点があるために、光学研磨しやすく、キャビティとして光学系装置用成型体に必要な表面粗度を実現しやすい点で好ましい。
【００３８】
本発明の光学系装置用成型体としては、本発明の樹脂組成物を、硬化剤を用いて熱硬化することにより、光学系装置用成型体とすることができる。硬化剤としては、例えば、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水メチルヘキサヒドロフタル酸、無水ピロメリット酸、メチルナジック酸等の酸無水物類；フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ビスフェノールＡノボラック樹脂、ジシクロペンタジエンフェノール樹脂、フェノールアラルキル樹脂、テルペンフェノール樹脂等の種々のフェノール樹脂類；種々のフェノール類とヒドロキシベンズアルデヒド、クロトンアルデヒド、グリオキザール等の種々のアルデヒド類との縮合反応で得られる多価フェノール樹脂等の各種のフェノール樹脂類；ＢＦ３錯体、スルホニウム塩類、イミダゾール類等の１種又は２種以上を用いることができる。
上記硬化剤の使用量としては特に限定されないが、例えば、本発明の樹脂組成物１００質量部に対し、下限が０．０５質量部、上限が１０質量部であることが好適である。より好ましくは、下限が０．１質量部、上限が５質量部である。
【００３９】
上記硬化（成型）においてはまた、硬化促進剤を用いることができ、例えば、２，４−ジアミノ−６−〔２’−メチルイミダゾリル−（１’）〕−エチル−ｓ−トリアジン・イソシアヌル付加物、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルへキサノエート等の１種又は２種以上が好ましい。また、トリフェニルホスフィン、トリブチルヘキサデシルホスフォニウムブロマイド、トリブチルホスフィン、トリス（ジメトキシフェニル）ホスフィン等の有機リン化合物等の１種又は２種以上が好適である。なお、硬化促進剤の使用量としては、本発明の作用効果を損なわない範囲内で適宜設定すればよい。
【００４０】
上記硬化促進剤としては、上述の有機リン化合物に加えて、２−メチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール等のイミダゾール類；２，４，６−トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール、ベンジルメチルアミン、ＤＢＵ（１，８−ジアザビシクロ〔５．４．０〕−７−ウンデセン）、ＤＣＭＵ（３−（３，４−ジクロロフェニル）−１，１−ジメチル尿素）等のアミン類、トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリス（ジメトキシフェニル）ホスフィン等の有機リン化合物等を好適に用いることができる。
また上記充填剤、難燃剤は、上述したものと同様のものが使用できる。
なお、硬化（成型）条件に関し、硬化温度としては、下限は７０℃、上限は２００℃であることが好ましい。より好ましくは、下限が８０℃、上限が１８０℃である。また、硬化時間としては、下限が１時間、上限が１５時間であることが好ましい。より好ましくは、下限が５時間、上限が１０時間である。
【００４１】
本発明はまた、光学系装置用成型体に、金属層を有してなる金属層含有光学系装置用成型体でもある。本発明の光学系装置用成型体は、線膨張係数が低く、例えば、金属層と同程度の線膨張係数とすることもできる。更に、本発明の光学系装置用成型体は、優れた表面平滑性、耐熱性を有することから、各種用途に好適に用いることができる。
上記金属層は、通常は、上記光学系装置用成型体の表面に形成され、金属膜、金属箔等と呼ばれることになるが、必要に応じて、光学系装置用成型体の内部に形成されてもよい。
上記金属層を構成する金属成分としては、アルミニウム、クロム、ニッケル、金、銀、プラチナ、銅、更にそれらの合金が挙げられる。
上記金属層含有光学系装置用成型体において、金属成分の金属層を形成していればよく、その形成方法は特に限定されないが、例えば、蒸着、金属箔の接着、無電解メッキ、電解メッキなどが挙げられる。
【００４２】
上記光学系装置用成型体の形状としては、用途に応じて適宜設定することができ、例えば、球面状、非球面状、平面状、異形品等が挙げられる。上記光学系装置用成型体としてはまた、フィルム、シート、ペレット等の形態も挙げられる。
【００４３】
本発明は更に、上記光学系装置用成型体、及び、上記金属層含有光学系装置用成型体の少なくとも一つを用いてなる光学反射鏡でもある。光学反射鏡においては、表面平滑性、低線膨張係数及び耐熱性を有することが、反射が繰り返されても適切な画像を得るために必要であるが、本発明の光学系装置用成型体は、上記特性を有するものであり、光学反射鏡として好適である。具体的には、光学反射鏡は、通常球面であり、表面粗度が５０ｎｍ以下のものであることが好ましく、３０ｎｍ以下のものがより好ましく、２０ｎｍ以下のものが更に好ましく、１５ｎｍ以下のものが特に好ましい。このような形状のものとするために、従来用いられていた石英やアモルファスガラスでは、個々の製品ごとにｎｍオーダーの精度で研磨する工程が必要であるのに対し、本発明の光学系装置用成型体を用いた場合には、例えば、上述した５０ｎｍ以下に研磨された型枠を用いることで、大量生産することができ、製造コストを大幅に削減することができる。
【００４４】
上記光学反射鏡としては、本発明の光学系装置用成型体を用いてなるものであればよいが、該光学系装置用成型体に金属層を有してなる金属層含有光学系装置用成型体であることが好ましい。
【００４５】
本発明はそして、上記光学反射鏡を搭載してなる電子機器でもある。本発明の光学反射鏡は、樹脂組成物から形成された光学系装置用成型体を用いて成るものであり、このような光学系装置用成型体を用いることで、デバイス自体、更に、電子機器を軽量化、小型化することができ、レンズ、プロジェクター等として好適に用いることができる。従来これらの用途に用いられていた石英やアモルファスガラスでは、比重が３〜５程度であるのに対し、上記光学系装置用成型体では、比重が１．０〜１．５程度であるため、大幅な軽量化が実現できる。また、上述したように、光学反射鏡を安価に製造することができることから、該光学反射鏡を搭載してなる電子機器においても、製造コストを削減することができる。
上記電子機器としては、デジタルスチルカメラ（ＤＳＣ）、デジタルビデオカメラ（ＤＶＣ）、液晶プロジェクター、プロジェクションＴＶ、カメラ付き携帯電話、コピー機・スキャナー用ポリゴンミラー等が好適である。
【００４６】
以下に、上記有機樹脂について、詳述する。
上記有機樹脂として好適に用いられる上記熱硬化性樹脂としては、グリシジル基及び／又はエポキシ基含有化合物が更に好ましい。
上記グリシジル基及び／又はエポキシ基含有化合物は、グリシジル基及び／又はエポキシ基を有するものであればよく、このような構成の組成物とすることで、例えば、成型用の型を用いて形成する際に、型へ追随しやすく、成型用の型の表面の荒れ、光沢の鈍化等を生じるおそれが少なく、優れた表面平滑性を発揮することができる。更に、得られる光学系装置用成型体は、外観上反りやクラックといった脆さがなく、種々の用途に好適に用いることができる。上記樹脂組成物としては、上記有機樹脂以外にその他の化合物等を含んでいてもよく、特に、フェノール化合物を含んでいてもよい。上記フェノール化合物と、有機樹脂とを含む樹脂組成物を、以下「フェノール化合物含有樹脂組成物」ともいう。
【００４７】
上記グリシジル基及び／又はエポキシ基含有化合物としては、例えば、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ・ビスフェノールＦ・ビスフェノールＳ等のビスフェノール類とエピハロヒドリン（エピクロロヒドリン等）との縮合反応により得られるエピビスタイプグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ・ビスフェノールＦ・ビスフェノールＳ等のビスフェノール類とエピハロヒドリンとの縮合反応により得られるエピビスタイプグリシジルエーテル型エポキシ樹脂を、ビスフェノールＡ・ビスフェノールＦ・ビスフェノールＳ等のビスフェノール類と更に付加反応させることにより得られる高分子量エピビスタイプグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；フェノール・クレゾール・キシレノール・ナフトール・レゾルシン・カテコール・ビスフェノールＡ・ビスフェノールＦ・ビスフェノールＳ等のフェノール類とホルムアルデヒド・アセトアルテヒド・プロピオンアルデヒド・ベンズアルデヒド・ヒドロキシベンズアルデヒド・サリチルアルデヒド・ジシクロペンタジエン・テルペン・クマリン・パラキシリレングリコールジメチルエーテル・ジクロロパラキシリレン・ビスヒドロキシメチルビフェニル等を縮合反応させて得られる多価フェノール類を更にエピハロヒドリンと縮合反応することにより得られるノボラック・アラルキルタイプグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；テトラメチルビフェノール・テトラメチルビスフェノールＦ・ハイドロキノン・ナフタレンジオール等とエピハロヒドリンとの縮合反応により得られる芳香族結晶性エポキシ樹脂、及び、更に上記ビスフェノール類やテトラメチルビフェノール・テトラメチルビスフェノールＦ・ハイドロキノン・ナフタレンジオール等を付加反応させることにより得られる芳香族結晶性エポキシ樹脂の高分子量体；上記ビスフェノール類やテトラメチルビフェノール・テトラメチルビスフェノールＦ・ハイドロキノン・ナフタレンジオール等の芳香族骨格を水素化した脂環式グリコール類やエチレングリコール・ジエチレングリコール・トリエチレングリコール・テトラエチレングリコール・ＰＥＧ６００・プロピレングリコール・ジプロピレングリコール・トリプロピレングリコール・プロピルグリコール・プロピレングリコール・ＰＰＧ・グリセロール・ジグリセロール・テトラグリセロール・ポリグリセロール・トリメチロールプロパン及びその多量体・ペンタエリスリトール及びその多量体・グルコース、フルクトース、ラクトース、マルトース等の単／多糖類とエピハロヒドリンとの縮合反応により得られる脂肪族グリシジルエーテル型エポキシ樹脂；（３，４−エポキシシクロヘキサン）メチル３'，４'−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート等のエポキシシクロへキサン骨格を有するエポキシ樹脂；テトラヒドロフタル酸・ヘキサヒドロフタル酸・安息香酸とエピハロヒドリンとの縮合反応により得られるグリシジルエステル型エポキシ樹脂；水添ビスフェノールやグリコール類とエピハロヒドリンとの縮合反応によって得られるグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；ヒダントインやシアヌール酸、メラミン、ベンゾグアナミンとエピハロヒドリンとの縮合反応により得られる室温で固形の３級アミン含有グリシジ���エーテル型エポキシ樹脂；ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂等の芳香族多環式エポキシ樹脂等が挙げられる。また、これらのエポキシ樹脂と多塩基酸類及び／又はビスフェノール類との付加反応によって分子中にエポキシ基を有する化合物であってもよい（以下、この化合物も含めて「エポキシ樹脂」と称する場合がある）。これらは１種単独で又は２種以上を混合して用いることができる。中でも、表面平滑性、低膨張性、耐熱性等に優れた光学系装置用成型体を目的とする場合は、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂等の芳香族多環式エポキシ樹脂がより好適に用いられ、光照射時の外観劣化抑制を目的とする場合には、上記脂肪族グリシジルエーテル型エポキシ樹脂やエポキシシクロヘキサン骨格を有するエポキシ樹脂がより好適に用いられる。
【００４８】
上記有機樹脂は、熱可塑性樹脂であってもよく、通常使用されている熱可塑性樹脂を用いることができる。具体的には、非晶性の熱可塑性樹脂として、ポリスチレン樹脂、ＡＢＳ樹脂、ＡＥＳ樹脂、ＡＳ樹脂等のスチレン系樹脂；メタクリル樹脂；ポリカーボネート樹脂；変性ＰＰＥ樹脂；ポリアリレート樹脂を挙げることができる。また、結晶性の熱可塑性樹脂として、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂等のポリオレフィン系樹脂；ポリアミド６、ポリアミド６６、ポリアミドＭＸＤ６等のポリアミド系樹脂；ポリオキシメチレン（ポリアセタール）樹脂；ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）樹脂、ポリブチレンエチレンテレフタレート（ＰＢＴ）樹脂等のポリエステル系樹脂；ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）樹脂；ポリスルホン樹脂；ポリエーテルスルホン樹脂；ポリエーテルイミド樹脂；ポリアミドイミド樹脂を挙げることができる。
【００４９】
上記有機樹脂の樹脂組成物に対する割合としては、樹脂組成物１００質量部に対し２０質量部以上、より好ましくは３０質量部以上含んでなることが好ましい。
本発明の樹脂組成物としては、フェノール化合物を含んでいてもよい。フェノール化合物含有樹脂組成物は、フェノール化合物と、有機樹脂とを含んでなるものであり、フェノール化合物の含有量としては、樹脂組成物１００質量部に対し２０質量部以上、より好ましくは３０質量部以上含んでなることが好ましい。
【００５０】
本発明の樹脂組成物は、有機樹脂、フェノール化合物、無機成分の各成分を、それぞれ１種又は２種以上を用いてもよく、また、これらの３成分の他に更に他の成分を含んでもよいが、３成分の合計量が、樹脂組成物全体を１００質量％とすると、７０質量％以上であることが好適である。より好ましくは、８０質量％以上である。
【００５１】
上記フェノール化合物含有樹脂組成物において、上述した３成分のそれぞれの含有割合としては特に限定されず、後述する種々の特性等に応じて適宜設定すればよいが、上記フェノール化合物含有樹脂組成物中に含有されるフェノール化合物、有機樹脂及び無機成分の質量比（フェノール化合物／有機樹脂／無機成分）としては、例えば、５〜３０／５〜３０／６０〜９０であることが好適である。
【００５２】
本発明のフェノール化合物としては、フェノール性水酸基を少なくとも１つ有する芳香族骨格同士が、炭素数が２以上の有機骨格を介して結合してなる構造を有するものであってもよく、上記フェノール化合物がこのような構造を有するものである形態は、本発明の好適な形態の１つである。上記フェノール化合物がこのような構造を有することにより、構造上の特徴に起因して光学系装置用成型体の難燃性や絶縁性等が大幅に向上し、より多くの用途に好適なものとすることが可能となる。
上記フェノール化合物において、芳香族骨格とは、フェノール性水酸基を少なくとも１つ有する芳香環である。この芳香族骨格は、フェノール型等の構造を有する部位であり、フェノール型、ハイドロキノン型、ナフトール型、アントラセノール型、ビスフェノール型、ビフェノール型等が好適である。中でもフェノール型が好ましい。また、これらフェノール型等の構造を有する部位は、アルキル基、アルキレン基、アラルキル基、フェニル基、フェニレン基等によって適宜置換されていてもよい。
【００５３】
上記フェノール化合物としては、例えば、フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、ｏ−エチルフェノール、ｐ−エチルフェノール、混合クレゾール、ｐ−ヒドロキシエチルフェノール、ｐ−ｎ−プロピルフェノール、ｏ−イソプロピルフェノール、ｐ−イソプロピルフェノール、混合イソプロピルフェノール、ｏ−ｓｅｃ−ブチルフェノール、ｍ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノ−ル、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２−アリルフェノール、ペンチルフェノール、ｐ−オクチルフェノール、ｐ−ノニルフェノール、２，３−ジメチルフェノール、２，４−ジメチルフェノール、２，６−ジメチルフェノール、３，４−ジメチルフェノール、２，４−ジ−ｓ−ブチルフェノール、３，５−ジメチルフェノール、２，６−ジ−ｓ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール、３−メチル−４−イソプロピルフェノール、３−メチル−５−イソプロピルフェノール、３−メチル−６−イソプロピルフェノール、２−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール、２−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール等のフェノール性水酸基を少なくとも１つ有する化合物；カテコール、レゾルシン、ビフェノール、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＳ、ビスフェノールＦ、フェニルフェノール、α−ナフトール、β−ナフトール等のフェノール性水酸基を２個以上有する化合物等が挙げられる。中でも、フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール又はｐ−クレゾール、カテコール、フェニルフェノール、β−ナフトール等が好適に用いられる。これらは単独で又は２種以上を混合して用いることができる。
【００５４】
上記フェノール化合物において、有機骨格とは、フェノール化合物を構成する芳香環骨格同士を結合し、炭素原子を必須とする部位を意味するものである。また、炭素数が２以上の有機骨格としては、環構造を有することが好適である。環構造とは、脂肪族環、芳香族環等といった環を有する構造であり、環としては、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環等が好ましい。上記有機骨格としてはまた、トリアジン環、フォスファゼン環等の窒素原子を含有する環構造及び／又は芳香環を有することが好ましく、中でもトリアジン環及び／又は芳香環を有することが特に好ましい。
なお、上記フェノール化合物は、上記以外の芳香族骨格や有機骨格を有していてもよく、また、フェノール性水酸基を少なくとも１つ有する芳香族骨格同士が、炭素数が１の有機骨格（メチレン）を介して結合してなる構造を同時に有していてもよい。
【００５５】
上記フェノール化合物としては、有機骨格として窒素原子を含有する環構造を有する場合には窒素原子含有率の下限が１質量％、上限が５０質量％であることが好ましい。この範囲外であると、難燃性や耐熱性等の光学系装置用成型体物性をより向上させることができないおそれがある。より好ましくは、下限が３質量％、上限が３０質量％であり、更に好ましくは、下限が５質量％、上限が２０質量％である。
なお、窒素原子含有率とは、フェノール化合物を１００質量％としたときのフェノール化合物を構成する窒素原子の質量割合である。
【００５６】
上記フェノール化合物としてはまた、フェノール性水酸基を少なくとも１つ有する芳香族骨格を形成する化合物（以下、「芳香族骨格を形成する化合物」ともいう。）と、炭素数が２以上の有機骨格を形成する化合物（以下、「有機骨格を形成する化合物」ともいう。）とを必須成分とする反応原料によって製造されるものであることが好適である。
上記反応原料とは、芳香族骨格を形成する化合物と、有機骨格を形成する化合物とを必須成分とし、必要により用いられる他の化合物を含み、また、反応を行うために必要により用いられる溶剤等を含む混合物を意味する。なお、芳香族骨格を形成する化合物、及び、有機骨格を形成する化合物はそれぞれ１種又は２種以上を用いることができる。
上記芳香族骨格を形成する化合物としては、芳香族環に１個又は２個以上のフェノール性水酸基が結合する化合物であればよく、１個又は２個以上の水酸基以外の置換基が結合していてもよい。具体的には、上述したフェノール性水酸基を少なくとも１つ有する化合物や、フェノール性水酸基を２個以上有する化合物等が挙げられる。
【００５７】
上記有機骨格を形成する化合物としては、（１）α−ヒドロキシアルキル基、α−アルコキシアルキル基及びα−アセトキシアルキル基のいずれかを有する芳香族系化合物、（２）不飽和結合を有する化合物、（３）アルデヒド、ケトン等のカルボニル基を有する化合物、（４）これら特定の活性基又は活性部位を２種類以上有する化合物、（５）アミノ基、ヒドロキシアルキルアミノ基及びジ（ヒドロキシアルキル）アミノ基のいずれかを有する化合物等が好適である。
上記（１）の芳香族系化合物としては、ｐ−キシリレングリコール、ｐ−キシリレングリコールジメチルエーテル、ｐ−ジアセトキシメチルベンゼン、ｍ−キシリレングリコール、ｍ−キシリレングリコールジメチルエーテル、ｍ−ジアセトキシメチルベンゼン、ｐ−ジヒドロキシイソプロピルベンゼン、ｐ−ジメトキシイソプロピルベンゼン、ｐ−ジアセトキシイソプロピルベンゼン、トリヒドロキシメチルベンゼン、トリヒドロキシイソプロピルベンゼン、トリメトキシメチルベンゼン、トリメトキシイロプロピルベンゼン、４，４'−ヒドロキシメチルビフェニル、４，４'−メトキシメチルビフェニル、４，４'−アセトキシメチルビフェニル、３，３'−ヒドロキシメチルビフェニル、３，３'−メトキシメチルビフェニル、３，３'−アセトキシメチルビフェニル、４，４'−ヒドロキシイソプロピルビフェニル、４，４'−メトキシイソプロピルビフェニル、４，４'−アセトキシイソプロピルビフェニル、３，３'−ヒドロキシイソプロピルビフェニル、３，３'−メトキシイソプロピルビフェニル、３，３'−アセトキシイソプロピルビフェニル、２，５−ヒドロキシメチルナフタレン、２，５−メトキシメチルナフタレン、２，５−アセトキシメチルナフタレン、２，６−ヒドロキシメチルナフタレン、２，６−メトキシメチルナフタレン、２，６−アセトキシメチルナフタレン、２，５−ヒドロキシイソプロピルナフタレン、２，５−メトキシイソプロピルナフタレン、２，５−アセトキシイソプロピルナフタレン、２，６−ヒドロキシイソプロピルナフタレン、２，６−メトキシイソプロピルナフタレン、２，６−アセトキシイソプロピルナフタレン等が好適である。
【００５８】
上記（２）の不飽和結合を有する化合物としては、ジビニルベンゼン、ジイソプロペニルベンゼン、トリビニルベンゼン、トリイソプロペニルベンゼン、ジシクロペンタジエン、ノルボルネン、テルペン類等が好適である。
上記（３）のカルボニル基を有する化合物としては、炭素数１５以下の各種アルデヒド類又はケトン類が好適であり、ベンズアルデヒド、オクタナール、シクロヘキサノン、アセトフェノン、ヒドロキシベンズアルデヒド、ヒドロキシアセトフェノン、クロトンアルデヒド、シンナムアルデヒド、グリオキザール、グルタルアルデヒド、テレフタルアルデヒド、シクロヘキサンジアルデヒド、トリシクロデカンジアルデヒド、ノルボルナンジアルデヒド、スベルアルデヒド等が好ましい。
上記（４）の特定の活性基又は活性部位を２種類以上有する化合物において、カルボニル基と不飽和結合とを有する化合物としては、イソプロペニルベンズアルデヒド、イソプロペニルアセトフェノン、シトロネラール、シトラール、ペリルアルデヒド等が好適である。
また、α−ヒドロキシアルキル基又はα−アルコキシアルキル基と、不飽和結合とを有する化合物としては、ジヒドロキシメチルスチレン、ジヒドロキシメチルα−メチルスチレン、ジメトキシメチルスチレン、ジメトキシメチルα−メチルスチレン、ヒドロキシメチルジビニルベンゼン、ヒドロキシメチルジイソプロピルベンゼン、メトキシメチルジビニルベンゼン、メトキシメチルジイソプロピルベンゼン等が好適である。
【００５９】
上記（５）のアミノ基、ヒドロキシアルキルアミノ基、及び、ジ（ヒドロキシアルキル）アミノ基のいずれかを有する化合物としては、メラミン、ジヒドロキシメチルメラミン、トリヒドロキシメチルメラミン、アセトグアナミン、ジヒドロキシメチルアセトグアナミン、テトラヒドロキシメチルアセトグアナミン、ベンゾグアナミン、ジヒドロキシメチルベンゾグアナミン、テトラヒドロキシメチルベンゾグアナミン等のトリアジン類、尿素、ジヒドロキシメチル尿素、テトラヒドロキシメチル尿素等の尿素及びその誘導体、エチレンジアミン、ジヒドロキシメチルエチレンジアミン、テトラヒドロキシメチルエチレンジアミン、ヘキサエチレンジアミン、ジヒドロキシメチルヘキサエチレンジアミン、テトラヒドロキシメチルヘキサエチレンジアミン、ｐ−キシリレンジアミン、ｐ−ジヒドロキシメチルアミノベンゼン、ｍ−キシリレンジアミン、ｍ−ジヒドロキシメチルアミノベンゼン等のアミン類、４，４'−オキシジアニリン、４，４'−オキシジヒドロキシメチルアニリン、４，４'−メチレンジアニリン、４，４'−メチレンジヒドロキシメチルアニリン等のアニリン類等が好適である。これらの中でも、メラミン、ベンゾグアナミン、アセトグアナミン等のトリアジン骨格を有する化合物等が好ましい。
【００６０】
上記反応原料としては、芳香族骨格を形成する化合物（以下、「原料Ａ」ともいう。）と、上記（１）〜（５）のうちの少なくともいずれか１種の有機骨格を形成する化合物（以下、原料Ｂともいう）とを必須成分とすることが好ましい。より好ましくは、原料Ａと、上記（１）〜（４）のうちの少なくともいずれか１種の有機骨格を形成する化合物（以下、原料Ｂ１ともいう）と、上記（５）の有機骨格を形成する化合物（以下、原料Ｂ２ともいう）とを必須成分とすることである。この場合の反応原料の反応順序としては、反応開始前に原料Ａ、原料Ｂ１及び原料Ｂ２をあらかじめ混合させておき、原料Ａと原料Ｂ１との反応が完結する前に原料Ｂ２を反応させることが好ましく、例えば、原料Ａと原料Ｂ１と原料Ｂ２とを同時に反応させるか、又は、一段階目に原料Ａと原料Ｂ２とを反応させた後、二段階目に更に原料Ｂ１を反応させることが好ましい。これにより、難燃性をより確実に向上させることができ、また、電子材料等の成型材料や接着剤、塗料等に好適に適用することができるものとなる。より好ましくは、一段階目に原料Ａと原料Ｂ２とを反応させた後、二段階目に更に原料Ｂ１を反応させることである。
【００６１】
上記フェノール化合物を製造するときに用いる原料Ａと原料Ｂとの配合モル比としては、下限が１／１、上限が１０／１であることが好ましい。１／１よりも原料Ａが少ないと、樹脂組成物の製造の際にゲル化するおそれがあり、１０／１よりも原料Ａが多いと、難燃性等の物性が発現しにくくなるおそれがある。より好ましくは、樹脂組成物が高温度で高強度を発揮することが可能となることから、下限が１．３／１、上限が８／１である。更に好ましくは、下限が１．８／１、上限が５／１である。
【００６２】
上記フェノール化合物としては更に、上記反応原料を触媒の存在下に反応させてなるものであることが好ましい。フェノール化合物の製造に用いることができる触媒としては、上記反応原料を反応させることができるものであればよい。
上記触媒において原料Ｂ１を反応させる場合には、酸触媒としては、塩酸、硫酸、リン酸、パラトルエンスルホン酸、メタンスルホン酸等の無機酸や有機スルホン酸の他、三フッ化ホウ素若しくはその錯体、トリフルオロメタンスルホン酸、ヘテロポリ酸等の超強酸、活性白土、合成ゼオライト、スルホン酸型イオン交換樹脂、パーフルオロアルカンスルホン酸型イオン交換樹脂等の固体酸触媒等が好適である。
上記原料Ｂ１を反応させる場合の触媒の使用量としては、それぞれの酸強度によって適宜設定されるが、原料Ｂ１を１００質量部とすると、下限が０．００１質量部、上限が１００質量部であることが好ましい。これらの範囲で均一系となるような触媒としては、トリフルオロメタンスルホン酸、メタンスルホン酸、三フッ化ホウ素等が好ましく、これらの使用量としては、下限が０．００１質量部、上限が５質量部であることが好ましい。不均一系のイオン交換樹脂や活性白土等の使用量としては、下限が１質量部、上限が１００質量部であることが好ましい。
【００６３】
上記触媒において原料Ｂ２を反応させる場合には、塩基性触媒としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム等のアルカリ金属やアルカリ土類金属の水酸化物及びこれらの酸化物、アンモニア、１〜３級アミン類、ヘキサメチレンテトラミン、炭酸ナトリウム等が好適であり、酸触媒としては、塩酸、硫酸、スルホン酸等の無機酸、シュウ酸、酢酸等の有機酸、ルイス酸、酢酸亜鉛等の２価金属塩等が好適である。また、本発明の樹脂組成物が電気電子材料用のエポキシ樹脂硬化剤として使用される場合には、金属等の無機物が触媒残渣として残ることは好ましくないことから、塩基性触媒としてはアミン類、酸性の触媒としては有機酸を使用するのが好ましい。
また、原料Ｂ２の反応後に必要に応じて、中和、水洗して塩類等の不純物を除去することが好ましい。なお、触媒としてアミン類を使用した場合には中和、水洗等の不純物除去は行わないことが望ましい。
【００６４】
上記フェノール化合物は、原料Ａにおける芳香環と、原料Ｂにおける置換基とが縮合して得られることになるが、この際にフェノール化合物と共にカルボン酸やアルコール、水等が副生することになる。このように副生するカルボン酸やアルコール、水は、反応中や反応後に減圧下で留去したり、溶媒との共沸等の操作を行ったりすることにより煩雑な工程を必要とすることなく反応生成物から容易に取り除くことが可能である。なお、反応生成物とは、上記のように反応させることにより得られるものすべてを含む混合物を意味し、フェノール化合物や副生するカルボン酸やアルコール、水の他に、必要に応じて用いられる触媒や後述する溶媒等を含むことになる。
【００６５】
上記フェノール化合物の製造での反応条件において、反応温度としては、副生するカルボン酸や、アルコール、水等が揮発して留去される温度とすることが好ましく、例えば、下限が１００℃、上限が２４０℃とすることが好ましい。より好ましくは、下限が１１０℃、上限が１８０℃であり、更に好ましくは、下限が１３０℃、上限が１６０℃である。このように、フェノール化合物の製造では、カルボン酸等が副生することになるが、反応生成物から容易に取り除くことが可能である。また、反応時間としては、使用する原料、触媒の種類や量、反応温度等に依存するが、原料Ａと原料Ｂとの反応が実質的に完結するまで、すなわちカルボン酸やアルコール、水が生じなくなるまでとすることが好ましく、下限が３０分、上限が２４時間とすることが好ましい。より好ましくは、下限が１時間、上限が１２時間である。
【００６６】
上記フェノール化合物の製造における反応方法としては、溶媒の存在下で反応を行ってもよく、溶媒としては、原料Ａと原料Ｂとの反応に不活性な有機溶媒を用いることが好ましく、メタノール、エタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類；トルエン、キシレン、モノクロルベンゼン、ジクロルベンゼン等の芳香族炭化水素類；酢酸エチル；エチレングリコールモノメチルエーテル；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等を用いることができる。溶媒を用いることにより、原料を溶媒中に溶解させて均質化することができる。また、原料Ｂ１を反応させる場合には無溶媒で反応を行うことが好ましい。
上記フェノール化合物の製造において、反応生成物からカルボン酸、アルコール、水等の副生物や溶媒を取り除く場合、０．１〜１０ｋＰａの減圧下、上記温度で蒸留することにより留去させることが好適である。このとき、未反応のフェノール類も留去されることもあるため、反応が実質的に完結した後に行うことが好ましい。
【００６７】
上記原料Ｂのうちの（３）の化合物として、各種アルデヒド類を用いると、いわゆるフェノール樹脂が得られる。フェノール類とアルデヒド類を、酸触媒の存在下で公知の方法によって反応させるとノボラック型フェノール樹脂となり、アルカリ触媒の存在下で、公知の方法によって反応させるとレゾール型フェノール樹脂となる。これらのフェノール樹脂も使用することができる。また、原料Ａに対し、原料Ｂのうちのアルデヒド類（（３）の化合物）と、原料Ｃのうちのトリアジン類とを反応させて得られる「トリアジン環含有多価フェノール」は、難燃性に優れており、樹脂組成物の成分として好適に用いられる。
【００６８】
本発明の光学系装置用成型体を形成する樹脂組成物に酸化防止剤を配合し、加熱時の酸化劣化を防止し着色の少ない硬化物（光学系装置用成型体）とすることが好ましい。使用できる酸化防止剤は、フェノール系、硫黄系、リン系酸化防止剤を使用でき、本発明の樹脂組成物１００質量部中に０．０１〜１０質量部配合される。使用できる酸化防止剤の例としては、以下のような酸化防止剤が挙げられる。
モノフェノール類；２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−エチルフェノール、ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート等。
ビスフェノール類；２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、３，９−ビス−[１，１−ジメチル−２−｛β−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝エチル]−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン等。
高分子型フェノール類；１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、テトラキスー［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、ビス［３，３’−ビス−（４’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチルフェニル）ブチリックアシッド］グリコールエステル、１，３，５−トリス（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンジル）−Ｓ−トリアジン−２，４，６−（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）トリオン、トコフェノール等。
【００６９】
硫黄系酸化防止剤としては、以下のものが好適である。
ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート等。
【００７０】
リン系酸化防止剤としては、以下のものが好適である。
ホスファイト類；トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、ジイソデシルペンタエリスリトールホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス（オクタデシル）ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ホスファイト、ビス［２−ｔ−ブチル−６−メチル−４−｛２−（オクタデシルオキシカルボニル）エチル｝フェニル］ヒドロゲンホスファイト等。
オキサホスファフェナントレンオキサイド類；９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキサイド、１０−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキサイド、１０−デシ口キシ−９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキサイド等が挙げられる。これらの酸化防止剤はそれぞれ単独で使用できるが、フェノール系／硫黄系又はフェノール系／リン系と組み合わせて使用することが特に好ましい。
【００７１】
本発明の樹脂組成物は、紫外線吸収剤を混合して用いてもよい。このような紫外線吸収剤を有する形態は、本発明の光学系装置用成型体を光学反射鏡や該光学反射鏡を搭載してなる電子機器に用いる場合に好適に用いることができる。
本発明の樹脂組成物１００質量部中に、紫外線吸収剤を０．０１〜１０質量部配合し、更に耐光性を向上させることができる。配合できる紫外線吸収剤は、一般のプラスチック用常外線吸収剤を使用でき、例としては次のものが挙げられる。
フェニルサリシレート、ｐ−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、ｐ−オクチルフェニルサリシレート等のサリチル酸類、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン等のベンゾフェノン類、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアソール、２−｛（２’−ヒドロキシ−３’，３”，４”，５”，６”−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５’−メチルフェニル｝ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール類、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）[｛３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシフェニル｝メチル]ブチルマロネート等のヒンダートアミン類。
【００７２】
本発明の樹脂組成物には、必要に応じて次の成分（任意成分）を添加配合することができる。これらの任意成分は本発明の樹脂組成物１００質量部に対して、０．０１〜３０質量部配合される。
【００７３】
（１）粉末状の補強剤や充填剤、例えば、酸化アルミニウム、酸化マグネシウムなどの金属酸化物、微粉末シリカ、溶融シリカ、結晶シリカなどのケイ素化合物、ガラスビーズ等の透明フィラー、水酸化アルミニウムなどの金属水酸化物、その他、カオリン、マイカ、石英粉末、グラファイト、ニ硫化モリブデン等。これらの配合は、本発明のエポキシ組成物の透明性を損なわない範囲で配合され、本発明の組成物１００質量部に対して、１０〜１００質量部が適当である。
（２）着色剤又は顔料、例えば、二酸化チタン、モリブデン赤、紺青、群青、カドミウム黄、カドミウム赤及び有機色素等。
【００７４】
（３）イオン吸着体
（４）カップリング剤
（５）多価アルコール又はその重縮合物
エポキシ基・グリシジル基の総モル数に対して０．１〜５．０当量の多価アルコール又はその重縮合体を含んでもよい。多価アルコールには、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリメチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、グリセロール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール等を用いることができる。これらの多価アルコール又はその重縮合体を添加することにより、得られる樹脂組成物の可撓性をさらに向上することができる。
【００７５】
（６）さらに、エポキシ光学系装置用成型体の性質を改善する目的で種々の硬化性モノマー、オリゴマー及び合成樹脂を配合することができる。例えば、脂肪族エポキシ等のエポキシ樹脂用希釈剤、ジオール又はトリオール類、ビニルエーテル類、オキセタン化合物、フッ素樹脂、アクリル樹賭、シリコーン樹脂等の１種又は２種以上の組み合わせを挙げることができる。これらの化合物及び樹脂類の配合割合は、本発明の樹脂組成物の本来の性質を損なわない範囲の量、すなわち本発明の組成物１００質量部に対して、５０質量部以下が好ましい。
【００７６】
本発明の樹脂組成物には、吸湿性、線膨張係数低減、熱伝導性向上及び強度向上のために無機充填剤を配合することが好ましい。無機充填剤としては、例えば、溶融シリカ、結晶シリカ、アルミナ、ジルコン、珪酸カルシウム、炭酸カルシウム、チタン酸カリウム、炭化珪素、窒化珪素、窒化アルミ、窒化ホウ素、ベリリア、ジルコニア、ジルコン、フォステライト、ステアタイト、スピネル、ムライト、チタニア等の粉体、又は、これらを球形化したビーズ、ガラス繊維等が挙げられる。更に、難燃効果のある無機充填剤としては水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、硼酸亜鉛、モリブデン酸亜鉛等が挙げられる。これらの無機充填剤は単独で用いても２種以上を組み合わせて用いてもよい。上記無機充填剤の中で、線膨張係数低減の観点からは溶融シリカが、高熱伝導性の観点からはアルミナが好ましく、充填剤形状は成型時の流動性及び金型摩耗性の点から球形が好ましい。無機質充填剤の配合量は、成型性、吸湿性、線膨張係数の低減及び強度向上の観点から、本発明の樹脂組成物１００質量部に対して７０質量部以上が好ましく、１００〜１０００質量部がより好ましく、２００〜９５０質量部が更に好ましい。７０質量部未満では耐リフロー性が低下する傾向があり、９５０質量部を超えると流動性が不足する傾向がある。
【００７７】
本発明はまた、無機成分と有機樹脂とを含有する樹脂組成物から形成される光学系装置用成型体であって、上記光学系装置用成型体は、波長４００〜７００ｎｍにおける光反射率が２０％以上であり、表面粗度が２０ｎｍ以下である光学系装置用成型体でもある。
上記光学装置用成型体は、表面粗度が１５ｎｍ以下であることがより好ましく、１０ｎｍ以下であることが更に好ましい。
上記光学装置用成型体は、本発明の製造方法、又は、本発明の製造方法と本明細書中に記載の好ましい形態との組み合わせにより製造することができる。
上記光学装置用成型体は、光学系用途において、線膨張係数が充分低く、表面平滑性、耐熱性等に優れ、可視光領域全体にわたっての高い反射率、高い結像精度を示すことができ、本発明の好ましい効果を発揮することができるものである。
【００７８】
本発明の樹脂組成物の好ましい用途例としては、デジタルスチルカメラ（ＤＳＣ）、デジタルビデオカメラ（ＤＶＣ）、液晶プロジェクター、プロジェクションテレビ・カメラ付き携帯電話などに用いられるミラー部品、コンパクト・ディスク・リードオンリーメモリ（ＣＤＲＯＭ）、デジタル・バーサタイル・ディスク・リードオンリーメモリ（ＤＶＤＲＯＭ）、コンパクト・ディスク・レコーダブル（ＣＤＲ）、デジタル・バーサタイル・ディスク・レコーダブル・−Ｒ規格（ＤＶＤ−Ｒ）、デジタル・バーサタイル・ディスク・レコーダブル・＋Ｒ規格（ＤＶＤ＋Ｒ）、コンパクト・ディスク・リライタブル（ＣＤＲＷ）、デジタル・バーサタイル・ディスク・リライタブル・−Ｒ規格（ＤＶＤ−ＲＷ）、デジタル・バーサタイル・ディスク・リライタブル・＋Ｒ規格（ＤＶＤ＋ＲＷ）、デジタル・バーサタイル・ディスク・ランダムアクセスメモリ（ＤＶＤＲＡＭ）等のシャーシーやキャビネット、光ピックアップスライドベース等の光学機器機構部品、光ファイバ用コネクタフェルール、光ファイバーアレイ、レーザービームプリンター内部部品、インクジェットプリンター内部部品、コピー機内部部品、自動車ランプ部品、自動車エンジンルーム内部部品などが挙げられる。
【発明の効果】
【００７９】
本発明の光学系装置用成型体は、上述の構成よりなり、光学系用途において、線膨張係数が充分低く、表面平滑性、耐熱性等に優れ、可視光領域全体にわたっての高い反射率、高い結像精度を示すことができるのであり、光学反射鏡、該光学反射鏡を搭載してなる電子機器等に好適に用いることができるものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００８０】
以下に実施例を掲げて本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」は「質量部」を、「％」は「質量％」を意味するものとする。
【００８１】
合成例１
ガスインレット、ディーンスタークトラップ、攪拌捧付きの４つ口１Ｌフラスコにベンゾグアナミン３８７．８ｇ、３７％ホルムアルデヒド溶液２５２．０ｇ、ジエタノールアミン４．３ｇをプロピレングリコールモノメチルエーテル２５８．３ｇに窒素気流中で溶解させ、１００℃まで昇温した。１００℃付近から留去しはじめた生成水をトラップに捕集しながら１２０℃まで昇温した。水を３１２ｇ回収したところで水の生成が終了したので、フェノール３９１．５ｇを投入し再び１２０℃まで昇温した。１２０℃付近から再び留去しはじめた生成水をトラップに捕集しながら１６０℃まで昇温した。水を９２．１ｇ回収したところで水の生成が終了し、その後１６０℃を保持しながら減圧下で未反応フェノールを留去した。冷却後フェノール樹脂系硬化剤Ａを得た。回収量は５９０ｇ、フェノール樹脂系硬化剤Ａの分子量はＭｎ＝６５６、Ｍｗ＝１２９５であった。
【００８２】
合成例２
ガスインレット、ディーンスタークトラップ、攪拌捧付きの４つ口１Ｌフラスコにフェノール６８６．５ｇ、パラキシレンジメチルエーテル３０３．５ｇ、イオン交換樹脂（商品名「アンバーリスト  １５  ドライ」、オルガノ社製）９．９ｇを仕込み、窒素気流中で昇温を開始した。１４０℃付近から留去しはじめた生成メタノールをトラップに捕集しながら１５０℃まで昇温した。生成メタノールを１００ｇ回収したところでメタノールの生成が終了し、１００℃付近まで冷却後、イオン交換樹脂を加圧ろ過器に濾紙（定性濾紙Ｎｏ．２、ＡＤＶＡＮＴＥＣ社製）を装着してろ過し、フェノール樹脂系硬化剤Ｂを得た。回収量は８３５．５ｇだった。その後、ガスインレット、ディーンスタークトラップ、攪拌捧付きの４つ口１Ｌフラスコにろ過したフェノール樹脂系硬化剤Ｂ８３０ｇを仕込み、窒素気流中で昇温を開始した。１５０℃付近から留去しはじめた未反応フェノールをトラップに捕集しながら１６０℃まで昇温し、１６０℃を保持しながら減圧下で未反応フェノールを留去した。冷却後フェノール樹脂系硬化剤Ｃを得た。回収量は４３２ｇ、フェノール樹脂系硬化剤Ｃの分子量はＭｎ＝５９８、Ｍｗ＝７９１であった。
【００８３】
合成例３
重合缶中にＮＭＰ９３０ｇとＮａ２Ｓ・５Ｈ２Ｏ（Ｎａ２Ｓとして４６．０７質量％を含む）４２３ｇ仕込み、徐々に２０３℃迄昇温して水１７０ｇを留出させた。水４ｇ及びＮＭＰ４３ｇを追加し、次いでパラジクロロベンゼン３７０ｇを仕込んだ。２２０℃で５時間重合させた後、水１３５ｇを追加し２５５℃で４．５時間重合させた。冷却後、反応液を目開き０．１ｍｍのスクリーンで篩分して粒状ポリマーを分割し、アセトン洗、水洗を行って粒状ポリマーを得た。この粒状ポリマーの約半分をそのまま乾燥してポリマーＡを得た。このポリマーは融点２８３℃、溶融粘度６００ポイズであった。残余の粒状ポリマーをｐＨ＝１の塩酸水溶液に浸漬して４０℃で３０分間攪拌しながら処理し、アンモニア水で中和した後、水で洗浄し、乾燥してポリマーＢを得た。
【００８４】
〔コンパウンドの調製例とコンパウンド硬化物物性〕
（１）  下記表１の配合比で混練してコンパウンドを得る。
１）フェノール樹脂系硬化剤Ａ、フェノール樹脂系硬化剤Ｃ、ＨＥ１００Ｃ−１０、ＨＥ９１０−１０、ＭＥＨ−８０００Ｈ、ＥＰＰＮ−５０１Ｈ及びＪＥＲ６３０からなる群から選択される少なくとも１種を含んだコンパウンドの場合
コンパウンドの調製条件：
用いる混練機：加熱型ロール混練機
混練条件：ロール表面温度  ７５℃、ロール圧  ３〜５ＭＰａ、混練時間  ３０分
２）ポリマーＢを含んだコンパウンドの場合
コンパウンドの調製条件：
予備配合：ヘンシェルミキサーを用い、ポリマーＢ、表面処理剤、離型剤Ｂを混合し、最後にガラス繊維Ｂを加えてタンブラーミキサーで混合した。
（２）上記（１）で調製したコンパウンドを２枚の型にはさんでプレス成型して厚さ１ｍｍの平板を得る。型としては表面粗度Ｒａ＝６ｎｍのガラス平板を用いた。
１）フェノール樹脂系硬化剤Ａ、フェノール樹脂系硬化剤Ｃ、ＨＥ１００Ｃ−１０、ＨＥ９１０−１０、ＭＥＨ−８０００Ｈ、ＥＰＰＮ−５０１Ｈ及びＪＥＲ  ６３０からなる群から選択される少なくとも１種を含んだコンパウンドの場合
プレス条件（圧縮成型機）：１８０℃×５ＭＰａ×１０分
プレス成型後、型から取り外し、窒素雰囲気に置換したオーブン中で１８０℃×７時間＋２００℃×１時間の条件でポストキュア処理した。
２）ポリマーＢを含んだコンパウンドの場合
予備配合した混合物を同方向二軸混練押出機にて混練。
混練条件：シリンダー温度  ３２０℃  混練時間  ３分
混練後、射出成型にて成型した。
射出成型条件：金属温度１４５℃×３０秒
平板から試験片を取り出し、ＴＭＡ測定（使用機器：島津製作所社製、ＴＭＡ５０）を実施した。
ＴＭＡ測定条件
測定範囲：３５℃〜２００℃  加熱速度：５℃／ｍｉｎ
目標荷重：−１．０ｇ（定速荷重モード）
ＣＴＥ１：４０℃〜ＴＧ以下領域の熱線膨張係数
ＣＴＥ２、ＴＧ〜２００℃領域の熱線膨張係数
【００８５】
〔表面粗度の測定方法〕
触針式表面形状測定装置  Ｄｅｋｔａｋ６Ｍ（ＵＬＶＡＣ社製）を用いて測定した。測定長：１ｍｍ、サンプリング数５００点、触針圧５ｍｇとした。
【００８６】
〔光反射率の測定方法〕
成型品をイオンスパッタリング（使用機器：ＨＩＴＡＣＨＩ社製、イオンスパッタ  Ｅ−１０１０）し、光反射率測定（使用機器：島津製作所社製、Ｓｏｌｉｄ  Ｓｐｅｃ−３７００）を実施した。
鏡面反射率測定条件
光反射率測定条件：θ＝５°、測定波長範囲：４００〜７００ｎｍ
スリット幅５．０ｎｍ、光源切替波長３１０．００ｎｍ、検出器ユニット：積分球
【００８７】
【表１】
2008144119.tif 000002
【００８８】
ＨＥ１００Ｃ−１０：フェノールアラルキル樹脂（エア・ウォーター社製）
ＨＥ９１０−１０：フェノールとホルマリンとｏ−ヒドロキシフェニルアルデヒドの共縮合物（エア・ウォーター社製）
ＭＥＨ−８０００Ｈ：２−アリルフェノールとホルマリンの縮合物（明和化成社製）
ＥＰＰＮ−５０１Ｈ：トリスフェノール型エポキシ樹脂（日本化薬社製）
ＪＥＲ  ６３０：ｐ−（Ｎ，Ｎ’−ジグリシジルアミノ）フェニルグリシジルエーテル（ジャパン  エポキシ  レジン社製）
ガラス繊維Ａ：ＰＦ  Ｅ−００１（平均繊維径１０μｍ、平均繊維長３０μｍ、日東紡社製）
ガラス繊維Ｂ：０６ＭＷ２−２０（平均繊維径１３μｍ、平均繊維長６０μｍ、旭ファイバーグラス社製）
ガラス繊維Ｃ：ＥＦＨ−７５−０１（平均繊維径１０μｍ、平均繊維長７５μｍ、セントラル硝子社製）
ウィスカＡ：ホウ酸アルミニウムウィスカ  ＹＳ−３Ａ（平均繊維径１μｍ、平均繊維長３０μｍ、四国化成工業社製）
ウィスカＢ：ティスモＮ（平均繊維径０．４μｍ、平均繊維長１５μｍ、大塚化学社製）
溶融シリカ：ＦＢ−８Ｓ（平均粒径６．２μｍ、アスペクト比１、電気化学工業社製）
シリカ粒子：ＳＯ−Ｃ１（平均粒径０．３μｍ、アスペクト比１、アドマテックス社製）
表面処理剤：ＫＢＭ−９０３（γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、信越シリコーン社製）
硬化促進剤：Ｕ−ＣＡＴ  ＳＡ  ８３１（１，８−ジアザビシクロ（５．０．４）ウンデセン−７のフェノール樹脂塩、サンアプロ社製）
離型剤Ａ：ＭｏｌｄＷｉｚ  ＩＮＴ−１８３６（有機フォスフェイト共重合体の誘導体、グリセリド及び合成樹脂の混合物、ＡＸＥＬ社製）
離型剤Ｂ：ネオペンチルグリコールジステアリルエステル
カーボンブラック：Ｐｒｉｎｔｅｘ  ２５（デグサ社製）
表１の各実施例・比較例の樹脂組成物について各構成成分ごとに示される値は、樹脂組成物の総量を２００．００質量部としたときの各構成成分の質量（質量部）を表す。各構成成分の質量（質量部）は、四捨五入したものであり、総和が２００．００とならないことがある。
〔光反射率測定結果〕
光反射率の測定結果を図３及び表２に示す。
【００８９】
【表２】
2008144119.tif 000003
【００９０】
〔結果〕
実施例１、実施例６、比較例１及び比較例２と比較例３を比べると熱硬化性樹脂で出来ている成型品の方が硬化物物性・成型品外観・光反射率ともに良好な結果となった。
実施例１、比較例１、比較例２のコンパウンド組成の違いはフィラーの形状・ガラス繊維／ウィスカの割合である。溶融シリカを使用した場合はＣＴＥ（熱膨張係数）の結果は比較的良好だが、成型品が反るという問題が発生する。フィラーを溶融シリカ（粒子）からガラス繊維に変えると成型品は反らなくなるがＣＴＥが大きくなり、且つ、表面粗度Ｒａも悪化した。しかしながら、実施例１のようにガラス繊維にウィスカを混ぜて併用するとＣＴＥ・表面粗度Ｒａともに下がり、光反射率も比較例２の溶融シリカ系より高くなる結果となった。
実施例１、実施例２、実施例３を比べるとウィスカの種類が変わっても（実施例１と実施例２を比較）表面粗度Ｒａに変化はなかったが、ＣＴＥに関しては悪化した。またガラス繊維の種類が変わる（実施例１と実施例３を比較）と表面粗度Ｒａも変化したが、比較例２の溶融シリカ系より良好な結果となり、ＣＴＥに関しては実施例１より若干悪化した。ガラス繊維に関してはガラス繊維Ａの方が好ましいことが分かる。
実施例１、実施例４及び実施例５を比べるとガラス繊維／ウィスカの配合比が一定でフィラー含有量が変化しても表面粗度Ｒａはほぼ同じような結果となり、ＣＴＥに関してはフィラー含有量が大きくなるにつれ小さくなる結果となった。また、このことは、ガラス繊維とウィスカ以外に第３成分としてシリカ粒子を少し加えた系を示している実施例１２と実施例１３を比較しても同様な結果となった。補足説明すると、実施例１２と実施例１３の違いは、ガラス繊維／ウィスカ／シリカ粒子の配合比が等しく且つフェノール樹脂系硬化剤、エポキシ樹脂等も同じ種類の系であり、フィラー含有量だけが変化した実施例である。
実施例１及び実施例６はフェノール樹脂系硬化剤の種類が違うだけの実施例であり、実施例１及び実施例６を比べるとＣＴＥに関しては実施例１の方が若干低くなっており、表面粗度Ｒａに関しては実施例１より実施例６の方が若干高めとなる結果となった。鏡面反射率に関しては実施例１と実施例６を比較すると実施例１のほうが若干良い結果となったが、実施例６は比較例２よりも表面粗度Ｒａが低く、鏡面反射率は高くなる結果となった。
実施例６と実施例７はガラス繊維とウィスカの配合比だけが違う実施例であるが、実施例６と実施例７を比較すると、ウィスカの割合を多くするとＣＴＥが若干低くなり、表面粗度Ｒａはほぼ等しい値になった。また、このことはガラス繊維とウィスカ以外に第３成分としてシリカ粒子を少し加えた系でも、ウィスカの割合を多くすると同様にＣＴＥが小さくなり、表面粗度Ｒａも同等以下の若干低い結果となった。
最後に実施例１１と実施例１２はフィラー含有量が等しく同じ樹脂成分系でフィラー成分にシリカ粒子を添加しているかしていないかの違いである。具体的には、実施例１１がガラス繊維／ウィスカ／シリカ粒子＝７０／３０／０で、実施例１２がガラス繊維／ウィスカ／シリカ粒子＝６３／２７／１０であり、ガラス繊維とウィスカの配合比が７／３であることには違いない系である。これらの二つの実施例を比較するとシリカ粒子を添加した実施例１２の方がＣＴＥは高くなる結果となったが、表面粗度Ｒａに関してはほぼ同等の結果となった。
【００９１】
上述した実施例及び比較例から、次のようにいえることがわかった。すなわち、実施例１と比較例１とを比較すると、樹脂組成物に含有される無機成分が、１種の無機成分からアスペクト比が異なる２種以上の繊維状無機成分となることにより、ＣＴＥ１が２６．４ｐｐｍから１８．７ｐｐｍに低減し、ＣＴＥ２が７１．６ｐｐｍから６３．９ｐｐｍに低減し、表面粗度が２１．４ｎｍから８．７ｎｍに低減し、また光反射率が４００ｎｍ〜７００ｎｍの波長領域においてより高いものとなり、これらの実施例においては、本発明の効果が顕著に現れることになる。このような共重合体は、例えば、光学反射鏡として使用されることにより、可視光領域全体にわたっての高い反射率、高い結像精度を示すことができ、種々の温度条件下で繰り返し使用することが可能となる。
【００９２】
なお、上述した実施例及び比較例から、無機成分と有機樹脂とを含有する樹脂組成物であって、上記無機成分は、アスペクト比が異なる２種以上の繊維状無機成分である樹脂組成物であれば、光学系用途において、線膨張係数が充分低く、表面平滑性、耐熱性等に優れ、可視光領域全体にわたっての高い反射率、高い結像精度を示すことができる機構、すなわち、キャビティー面に対して垂直方向に最密充填することができる機構は同様であるといえる。
なお、上述した実施例では、無機成分として、ガラス繊維及びウィスカを用いているが、「無機成分と有機樹脂とを含有する樹脂組成物であって、上記無機成分は、アスペクト比が異なる２種以上の繊維状無機成分である」形態である限り、本発明の効果を生じさせる作用機構は同様である。すなわち、キャビティー面に対して垂直方向に最密充填するところに本発明の本質的特徴があり、このような無機成分の条件が同様の特徴を有するものであれば、この実施例で示されるような効果を奏することができる。したがって、ガラス繊維、ウィスカ以外の繊維状無機成分であっても、本発明の効果（性能）を発揮することができる。少なくとも、ガラス繊維及びウィスカを使用する場合においては、上述した実施例及び比較例で充分に本発明の有利な効果が立証され、本発明の技術的意義が裏付けられている。
【図面の簡単な説明】
【００９３】
【図１】図１は、本発明の光学系装置用成型体の製造に用いる型枠の一例を示す横断面図（図１ａ）、上面図（図１ｂ）、及び、キャビティー面に対して垂直方向に最密充填している繊維状無機成分の一例を示す図（図１ｃ）である。
【図２】図２は、本発明の光学系装置用成型体の製造に用いる型枠の一例を示す斜視図及び側面図である。
【図３】図３は、本発明の光学系装置用成型体の波長４００〜７００ｎｍの光に対する光反射率（％）を示す図である。
【符号の説明】
【００９４】
１：樹脂組成物の流動方向
２：樹脂組成物投入口
３：キャビティー
４：型枠の上型
５：型枠の下型
６：無機成分
７：平均繊維径の小さな無機成分
８：平均繊維径の大きな無機成分
９：ガラス板
１０：成型品
１１：テフロン（登録商標）枠
【図１】
2008144119.tif 000004
【図２】
2008144119.tif 000005
【図３】
2008144119.tif 000006