(57)【要約】【課題】基板裏面の洗い残しや基板汚染を無くし、吸引ラインやシール部の構造を簡単にし、駆動動力の低減を図れるようにする。【解決手段】基板Ｇを回転可能に保持する回転基台２と、回転基台と共に回転可能で、かつ回転基台に保持された基板の外周部を囲む、基板の表面の同一平面上に基板の表面上から連続する液膜を形成するための助走ステージ３と、回転基台に対して昇降移動可能で、かつ基板を吸着して保持する基板保持台４と、基板保持台に保持された基板の表面に沿って移動して基板に対する現像液の供給と吸引を同時に行うノズルヘッド５とを設ける。基板保持台が基板を吸着保持すると共に、第１及び第２の環状シール部材２５ａ，２５ｂを介して基板保持台と助走ステージ及び回転基台が密着して液貯留空間７を形成し、吸着保持の解除及び密着が解除された状態で、回転基台及び助走ステージと共に基板を回転可能にする。【選択図】        図１
2008177436.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理基板を回転可能に保持する回転基台と、
上記回転基台と共に回転可能で、かつ回転基台に保持された被処理基板の外周部を囲む、被処理基板の表面の同一平面上、若しくは、僅かに高い被処理基板の表面上から連続する液膜を形成するための外周板と、
上記回転基台に対して相対的に昇降移動可能で、かつ上記被処理基板を吸着して保持する基板保持台と、
上記基板保持台に保持された被処理基板の表面に沿って移動可能で、上記被処理基板に対する現像液の供給と吸引を同時に行うノズルヘッドと、を具備し、
上記基板保持台が被処理基板を吸着保持すると共に、シール部材を介して上記基板保持台と外周板が密着し、かつ基板保持台と上記回転基台が密着して液貯留空間を形成し、上記吸着保持の解除及び上記密着が解除された状態で、上記回転基台及び外周板と共に被処理基板を回転可能に形成してなる、ことを特徴とする現像処理装置。
【請求項２】
請求項１記載の現像処理装置において、
上記回転基台及び基板保持台に保持された被処理基板と液貯留空間に向かって洗浄液を供給する洗浄液供給手段を更に具備してなる、ことを特徴とする現像処理装置。
【請求項３】
請求項１又は２記載の現像処理装置において、
上記基板保持台は、外周板の裏面の全周に渡って密着可能な第１の環状シール部材と、回転基台の裏面の全周に渡って密着可能な第２の環状シール部材と、被処理基板の裏面に密着して被処理基板を吸着保持する吸着保持部と、を具備することを特徴とする現像処理装置。
【請求項４】
請求項３記載の現像処理装置において、
上記第１の環状シール部材及び第２の環状シール部材は、それぞれ密接対象となる外周板の裏面側及び回転基台の裏面側に向かって傾斜状に延在する可撓性を有するシール片を具備することを特徴とする現像処理装置。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかに記載の現像処理装置において、
上記基板保持台は、回転基台の回転軸を回転可能に貫挿する貫通孔を有する有底筒状の本体と、この本体の底部上に起立し、その頂面に被処理基板を吸引する吸引口を有する吸着保持部を具備し、上記本体の側壁頂面に第１の環状シール部材を設け、上記本体の底部における上記貫通孔の縁部に第２の環状シール部材を設けた、ことを特徴とする現像処理装置。
【請求項６】
請求項５記載の現像処理装置において、
上記吸着保持部における吸引口形成部を水平平坦状に形成し、上記吸引口形成部を除く頂面を内方端部から外方端部に向かって下り勾配状に形成してなる、ことを特徴とする現像処理装置。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれかに記載の現像処理装置において、
上記基板保持台の底部に排液口を設けると共に、底面を上記排液口側に向かって下り勾配状に形成してなる、ことを特徴とする現像処理装置。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれかに記載の現像処理装置において、
上記基板保持台における液貯留空間を形成する底部の下面に振動子を配設すると共に、この振動子に超音波発振器を接続してなる、ことを特徴とする現像処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、例えばレチクル等のフォトマスク用ガラス基板に現像液を供給して処理を施す現像処理装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般に、例えば、半導体デバイスやレチクル等の基板の製造プロセスにおけるフォトリソグラフィー工程では、基板上にレジスト液を塗布してレジスト膜を形成するレジスト塗布処理，基板上のレジスト膜に対し所定のパターンの露光を行う露光処理，露光処理後の基板上に現像液を供給して基板上のレジスト膜を現像する現像処理等が行われている。
【０００３】
従来のこの種の現像処理装置においては、ノズルヘッドが現像液の吐出と吸引を行うため、いわゆる泡噛み現象を防止するために、回転可能な回転基台と共に回転可能で、かつ基板保持部材に保持された基板の外周部を囲む基板の表面の同一平面上に基板の表面上から連続する液膜を形成するための外周板例えば助走ステージとを具備する装置が知られている。
【０００４】
また、基板の受け渡しを考慮して、基板と外周板との間には隙間が設けられ、基板の表面と助走ステージの表面に液膜を形成するときに、隙間から液体が流出することが懸念されるために、基板保持部材は、基板の外周部の全周に渡って基板の外周部の裏面に密着して基板を吸着保持し、更に基板保持部材の一部が基板の外側面との間に隙間に開口し液体が滞留する溝を形成するように構成されている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００５−２３６１８９号公報（特許請求の範囲、図５）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、従来のこの種の現像処理装置においては、処理中に、基板裏面と基板保持部材とが常に接触しているため、基板裏面と基板保持部材の接触部を洗浄することができないという問題があった。また、液膜を保持するために基板保持部材の一部で基板の周囲を囲むため、その部分に現像液の残渣等が蓄積し、それが起因して基板が汚染する虞があった。また、回転部に吸引ラインを取り付ける必要があるため、回転基台と基板保持部材内への吸引ラインの這い回しや回転部と非回転部のシールが難しい。この場合、一般にシール部材は例えばＯリングが使用されるため、Ｏリングを均一に押圧するためのシールの調整が煩雑な上、Ｏリングを定期的に交換する必要があった。更には、回転基台と基板保持部材を同時に回転するため、回転部の重量が嵩み、大きな動力のモータを使用する必要があり、また、Ｏリングの摩擦による発熱を除去する機構を設ける必要があった。
【０００６】
この発明は、上記事情に鑑みなされたもので、基板裏面の洗い残しや基板汚染を無くすと共に、吸引ラインやシール部の構造を簡単にし、かつ駆動動力の低減を図れるようにした現像処理装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するため、請求項１記載の発明は、被処理基板を回転可能に保持する回転基台と、  上記回転基台と共に回転可能で、かつ回転基台に保持された被処理基板の外周部を囲む、被処理基板の表面の同一平面上、若しくは、僅かに高い被処理基板の表面上から連続する液膜を形成するための外周板と、  上記回転基台に対して相対的に昇降移動可能で、かつ上記被処理基板を吸着して保持する基板保持台と、  上記基板保持台に保持された被処理基板の表面に沿って移動可能で、上記被処理基板に対する現像液の供給と吸引を同時に行うノズルヘッドと、を具備し、  上記基板保持台が被処理基板を吸着保持すると共に、シール部材を介して上記基板保持台と外周板が密着し、かつ基板保持台と上記回転基台が密着して液貯留空間を形成し、上記吸着保持の解除及び上記密着が解除された状態で、上記回転基台及び外周板と共に被処理基板を回転可能に形成してなる、ことを特徴とする。
【０００８】
このように構成することにより、現像処理の際には、基板保持台が被処理基板を吸着保持すると共に、シール部材を介して基板保持台と外周板が密着し、かつ基板保持台と回転基台が密着して液貯留空間を形成し、この液貯留空間内に液を貯留して、基板表面と外周板表面に連続した液膜を形成することができる。また、吸着保持の解除及び密着が解除された状態で、回転基台及び外周板と共に被処理基板を回転することで、基板の裏面を含む洗浄処理及び乾燥処理を行うことができる。
【０００９】
この発明において、上記回転基台及び基板保持台に保持された被処理基板と液貯留空間に向かって洗浄液を供給する洗浄液供給手段を更に具備する方が好ましい（請求項２）。
【００１０】
このように構成することにより、洗浄液供給手段により現像処理時の液膜形成と洗浄処理時の洗浄液の供給を行うことができる。
【００１１】
また、上記基板保持台に、外周板の裏面の全周に渡って密着可能な第１の環状シール部材と、回転基台の裏面の全周に渡って密着可能な第２の環状シール部材と、被処理基板の裏面に密着して被処理基板を吸着保持する吸着保持部と、を設ける方が好ましい（請求項３）。この場合、上記第１の環状シール部材及び第２の環状シール部材は、Ｏリング等のシール部材であっても差し支えないが、好ましくは、それぞれ密接対象となる外周板の裏面側及び回転基台の裏面側に向かって傾斜状に延在する可撓性を有するシール片を具備するシール部材である方がよい（請求項４）。
【００１２】
このように構成することにより、基板保持台が被処理基板を吸着保持し、第１の環状シール部材によって外周板の裏面の全周に渡って密着し、かつ第２の環状シール部材によって回転基台の裏面の全周に渡って密着するので、気水密性の高い液貯留空間を形成することができる。この場合、第１の環状シール部材及び第２の環状シール部材は、それぞれ密接対象となる外周板の裏面側及び回転基台の裏面側に向かって傾斜状に延在する可撓性を有するので、Ｏリングに比べてシール部の接触面積を広くすることができると共に、調整を容易にすることができる。
【００１３】
また、この発明において、上記基板保持台は、回転基台の回転軸を回転可能に貫挿する貫通孔を有する有底筒状の本体と、この本体の底部上に起立し、その頂面に被処理基板を吸引する吸引口を有する吸着保持部を具備し、上記本体の側壁頂面に上記第１の環状シール部材を設け、上記本体の底部における上記貫通孔の縁部に上記第２の環状シール部材を設ける構造とすることができる（請求項５）。この場合、上記吸着保持部における吸引口形成部を水平平坦状に形成し、上記吸引口形成部を除く頂面を内方端部から外方端部に向かって下り勾配状に形成する方が好ましい（請求項６）。
【００１４】
このように構成することにより、回転部である回転基台と非回転部である基板保持台との間におけるシールを容易かつ確実にすることができる。この場合、吸着保持部における吸引口形成部を水平平坦状に形成し、吸引口形成部を除く頂面を内方端部から外方端部に向かって下り勾配状に形成することにより、吸着保持部の頂面に付着する液の液切りを容易にすることができる。
【００１５】
また、上記基板保持台の底部に排液口を設けると共に、底面を上記排液口側に向かって下り勾配状に形成する方が好ましい（請求項７）。
【００１６】
このように構成することにより、液貯留空間に貯留された液を、基板保持台の底部に設けられた排液口から排出することができると共に、底面に付着する液の液切りを容易にすることができる。
【００１７】
また、この発明において、上記基板保持台における液貯留空間を形成する底部の下面に振動子を配設すると共に、この振動子に超音波発振器を接続するようにしてもよい（請求項８）。
【００１８】
このように構成することにより、被処理基板の洗浄時に、振動子に超音波発振器からの適当な周波数の高周波電圧を印加して励振することにより、超音波振動が発生し、その超音波振動が液貯留空間内に貯留された液体を伝播して基板裏面に付着した現像液を除去することができる。
【発明の効果】
【００１９】
この発明によれば、上記のように構成されているので、以下のような優れた効果を奏する。
【００２０】
（１）請求項１記載の発明によれば、現像処理の際には、被処理基板を吸着保持する基板保持台と外周板が密着し、かつ基板保持台と回転基台が密着して液貯留空間を形成し、この液貯留空間内に液を貯留して、基板表面と外周板表面に連続した液膜を形成することができ、また、吸着保持の解除及び密着が解除された状態で、回転基台及び外周板と共に被処理基板を回転することで、基板の裏面を含む洗浄処理及び乾燥処理を行うことができる。したがって、基板裏面の洗い残しや基板汚染を無くすと共に、吸引ラインやシール部の構造を簡単にし、かつ駆動動力の低減を図ることができる。
【００２１】
（２）請求項２記載の発明によれば、洗浄液供給手段により現像処理時の液膜形成と洗浄処理時の洗浄液の供給を行うことができるので、上記（１）に加えて、更に現像処理及び洗浄処理の効率の向上を図ることができる。
【００２２】
（３）請求項３記載の発明によれば、基板保持台が被処理基板を吸着保持し、第１の環状シール部材によって外周板の裏面の全周に渡って密着し、かつ第２の環状シール部材によって回転基台の裏面の全周に渡って密着するので、上記（１），（２）に加えて、更に気水密性の高い液貯留空間を形成することができると共に、現像処理の効率の向上を図ることができる。この場合、第１の環状シール部材及び第２の環状シール部材は、それぞれ密接対象となる外周板の裏面側及び回転基台の裏面側に向かって傾斜状に延在する可撓性を有するので、Ｏリングに比べてシール部の接触面積を広くすることができると共に、調整を容易にすることができる（請求項４）。
【００２３】
（４）請求項５記載の発明によれば、回転部である回転基台と非回転部である基板保持台との間におけるシールを容易かつ確実にすることができるので、上記（１）〜（３）に加えて、更に吸引ラインやシール部の構造を簡単にすることができる。この場合、吸着保持部における吸引口形成部を水平平坦状に形成し、吸引口形成部を除く頂面を内方端部から外方端部に向かって下り勾配状に形成することにより、吸着保持部の頂面に付着する液の液切りを容易にすることができるので、洗浄処理後に残存する液の基板裏面への再付着等を防止することができる（請求項６）。
【００２４】
（５）請求項７記載の発明によれば、液貯留空間に貯留された液を、基板保持台の底部に設けられた排液口から排出することができると共に、底面に付着する液の液切りを容易にすることができるので、上記（１）〜（４）に加えて、更に洗浄処理後に残存する液の基板裏面への再付着等を確実に防止することができる。
【００２５】
（６）請求項８記載の発明によれば、被処理基板の洗浄時に、振動子に超音波発振器からの適当な周波数の高周波電圧を印加して励振することにより、超音波振動が発生し、その超音波振動が液貯留空間内に貯留された液体を伝播して基板裏面に付着した現像液を除去することができるので、上記（１）〜（５）に加えて、更に洗浄効率の向上を図ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、この発明の最良の形態について、添付図示に基づいて詳細に説明する。この実施形態では、この発明に係る現像処理装置を、フォトマスク用の被処理基板、例えばレチクル用のガラス基板に現像処理を施す現像処理装置に適用した場合について説明する。
【００２７】
図１は、この発明に係る現像処理装置の第１実施形態を示す概略縦断面図であり、図２は、上記現像処理装置の概略横断面図である。
【００２８】
この発明に係る現像処理装置は、ケーシング１を有し、このケーシング１内に、ガラス基板Ｇ（以下に基板Ｇという）を回転可能に保持する回転基台２と、この回転基台２と共に回転可能で、かつ回転基台２に保持された基板Ｇの外周部を囲む、基板Ｇの表面の同一平面上に基板Ｇの表面上から連続する液膜を形成するための外周板３（以下に助走ステージ３という）と、回転基台２に対して相対的に昇降移動可能で、かつ基板Ｇを吸着して保持する基板保持台４と、この基板保持台４に保持された基板Ｇの表面に沿って移動可能で、基板Ｇに対する現像液の供給と吸引を同時に行うノズルヘッド５と、を具備している。
【００２９】
また、上記回転基台２，助走ステージ３及び基板保持台４は、カップ６内に収容可能に形成されており、カップ６の外方側には、回転基台２及び基板保持台４に保持された基板Ｇと後述する液貯留空間７に向かって洗浄液（リンス液）例えば純水を供給する洗浄液供給手段８が配設されている。
【００３０】
この場合、上記回転基台２は、図４に示すように、回転軸１０に連結する円盤形基部１１の外周４箇所に水平支持片１２を延在し、水平支持片１２の先端に環状水平片１３を連結してなり、環状水平片１３の４箇所に立設される各第１の支持柱片１４の頂部に、それぞれ基板Ｇの角部を保持する一対の位置決めピン１５を立設してなる。また、環状水平片１３における第１の支持柱片１４と約４５度偏倚した４箇所には第２の支持柱片１６が立設され、各第２の支持柱片１６によって助走ステージ３が水平状態に支持されている。この回転基台２は回転軸１０を介してモータ等の回転駆動部１７に連結され、回転軸１０を中心軸として所定の回転速度で回転できる。
【００３１】
また、上記助走ステージ３は、図２に示すように、平面から見て円形の薄い板形状を有し、中央部に基板Ｇを収容する四角の開口部３ａが形成されている。このように助走ステージ３の外形を円形状に形成することにより、助走ステージ３を回転させた際に、助走ステージ３の外周部付近において乱流が形成されることを防止している。この場合、助走ステージ３は、基板Ｇの表面と同一平面上、若しくは、僅かに高い位置例えば２００〜４００μｍ高い位置に固定されている。これにより、基板Ｇの表面から助走ステージ３の表面に渡る同一平面上に連続した液膜を形成することができる。助走ステージ３の開口部３ａは，基板Ｇよりも僅かに大きく形成されており、基板保持台４に保持された基板Ｇと助走ステージ３との間には、基板Ｇの受け渡しのための隙間９が形成されている。
【００３２】
また、上記基板保持台４は、図５及び図６に示すように、回転基台２の回転軸１０を回転可能に貫挿する貫通孔２１を有する有底円筒状の本体２０と、この本体２０の底部２２上に起立し、その頂面２３ａに基板Ｇを吸引する吸引口２３ｂを有する吸着保持部２３を具備してなり、本体２０の円筒状の側壁２４の頂面２４ａには、後述する第１の環状シール部材２５ａを嵌合する第１の周溝２４ｂが設けられ、本体２０の底部２２における貫通孔２１の縁部には、後述する第２の環状シール部材２５ｂを嵌合する第２の周溝２４ｃが設けられている。なお、基板保持台４は、例えばシリンダやモータ機構等の昇降駆動機構４Ａによって回転基台２に対して相対的に昇降移動可能に形成されている。
【００３３】
上記基板保持台４の第１の周溝２４ｂ内に嵌合される第１の環状シール部材２５ａは、助走ステージ３の裏面の全周に渡って密着可能に形成され、第２の周溝２４ｃ内に嵌合される第２の環状シール部材２５ｂは、回転基台２の裏面の全周に渡って密着可能に形成されている。
【００３４】
この場合、上記第１の環状シール部材２５ａ及び第２の環状シール部材２５ｂは、例えば可撓性のあるＰＣＴＦＥ（ポリクロロトリフルオロエチレン），ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）等の樹脂，又は例えばシリコンを含有する耐薬性に優れたゴム材などが用いられており、それぞれ密接対象となる助走ステージ３の裏面側及び回転基台２の裏面側に向かって傾斜状に延在する可撓性を有するシール片２５ｃを具備している。このように、第１及び第２の環状シール部材２５ａ，２５ｂに助走ステージ３の裏面側及び回転基台２の裏面側に向かって傾斜状に延在する可撓性を有するシール片２５ｃを設けることによって、助走ステージ３の裏面及び回転基台２の裏面との接触面積を広くすることができると共に、調整を容易にすることができる。
【００３５】
また、上記吸着保持部２３は、図７に示すように、回転基台２の４本の水平支持片１２との干渉を回避すべく周方向に４分割に分けられて形成されており、各吸着保持部２３の頂面２３ａには、基板Ｇの角部に沿うスリット状の２個の吸引口形成部２３ｃが直交状に設けられている。この場合、各吸引口形成部２３ｃは、水平平坦状に形成されており、吸引口形成部２３ｃを除く頂面２３ａは、内方端部から外方端部に向かって下り勾配状の傾斜面２３ｄが形成されている。これにより、吸着保持部２３の頂面２３ａに付着する液の液切りを良好にすることができる。
【００３６】
また、基板保持台４の底部２２の１箇所には、排液口２６が設けられると共に、底部２２の底面２２ａが排液口２６側に向かって下り勾配状に形成されている。これにより、底部２２の底面２２ａに付着する液の液切りを良好にすることができる。
【００３７】
なお、基板保持台４の底部２２の適時位置には、バックリンスノズル７０から噴射されるリンス液例えば純水を流通する通路２２ｂが設けられている（図６参照）。
【００３８】
上記のように形成される基板保持台４によって基板Ｇを吸着保持すると共に、第１の環状シール部材２５ａを介して基板保持台４と助走ステージ３を密着し、かつ第２の環状シール部材２５ｂを介して基板保持台４と回転基台２を密着することで、液貯留空間７が形成される。また、基板保持台４による吸着保持の解除及び第１及び第２の環状シール部材２５ａ，２５ｂによる密着が解除された状態で、回転基台２及び助走ステージ３と共に基板Ｇが回転可能に形成される。したがって、基板保持台４を回転させずに回転基台２及び助走ステージ３を回転するので、回転駆動部１７の動力を小さくすることができる。
【００３９】
なお、基板保持台４における回転基台２との干渉を回避する基板Ｇの外周部に対応する３箇所には、垂直方向に貫通する貫通孔２７が設けられている。貫通孔２７内には、基板Ｇを支持して昇降させる支持ピン２８が昇降可能に貫挿されている。支持ピン２８は、例えばシリンダなどの昇降駆動部２９によって昇降自在であり、回転基台２上に突出して回転基台２に対する基板Ｇの受け渡しを行うことができる。
【００４０】
また、回転基台２と基板保持台４は、基板Ｇから飛散又は落下する液体を受け止め、回収するためのカップ６内に収容されている。カップ６は、回転基台２及び基板保持台４の側方と下方を覆うように、例えば下面が閉鎖され上面が開口した四角形の略筒状に形成されている。カップ６の下面には、例えば工場の排液部に連通した排出管６ａが接続されており、カップ６において回収した液体を現像処理装置の外部に排出できる。
【００４１】
また、図２に示すようにカップ６のＹ方向負方向（図２の左方向）側には、第１の待機部６１が設けられている。第１の待機部６１には、現像液及び洗浄液（リンス液）の供給と吸引を行うノズルヘッド５が待機可能になっている。ノズルヘッド５は、例えば少なくとも基板Ｇの辺の寸法と同じかそれよりも長い、Ｘ方向に沿った略直方体形状を有している。ノズルヘッド５は、門型のヘッドアーム５ｂに支持されており、ヘッドアーム５ｂが取り付けられた例えばボールねじとその回転モータ等からなる水平移動機構５ｃによって、第１の待機部６１から少なくともカップ６のＹ方向正方向（図２の右方向）側の端部付近まで水平移動（スキャン）可能に形成されている。また、ノズルヘッド５は、例えばヘッドアーム５ｂに取り付けられたシリンダ等の昇降機構（図示せず）によって上下方向にも移動可能に形成されている。
【００４２】
図３に示すように、ノズルヘッド５の下面５ａは、基板Ｇの表面と平行になるように水平に形成されている。ノズルヘッド５の下面５ａにおけるノズルヘッド５の進行方向であるＹ方向の中央部には、現像液吐出口３０が形成されている。現像液吐出口３０は、例えばノズルヘッド５の長手方向（Ｘ方向）に沿って例えば基板Ｇの辺より長いスリット状に形成されており、現像液を帯状に吐出できる。現像液吐出口３０は、ノズルヘッド５の内部に形成された第１の貯留部３１に連通しており、第１の貯留部３１は、現像液供給管３３を介して現像処理装置の外部に設置された現像液供給源３２に接続されている。現像液供給源３２は、現像液供給管３３を通じて所定の流量の現像液をノズルヘッド５に供給できる。ノズルヘッド５は、供給された現像液を第１の貯留部３１に一旦貯留して圧力調整し、その後現像液吐出口３０から均一に吐出できるようになっている。
【００４３】
ノズルヘッド５の下面５ａの現像液吐出口３０を挟んだ両側には、基板Ｇ上の現像液を吸引する現像液吸引口４０が開設されている。現像液吸引口４０は、例えば現像液吐出口３０と平行なスリット状に形成されている。現像液吸引口４０は、例えばノズルヘッド５の内部に形成された第２の貯留部４１に連通しており、第２の貯留部４１は、吸引管４３を介して現像処理装置１の外部に設置された吸引装置４２に接続されている。吸引装置４２は、吸引管４３を通じて所定の圧力で吸引できる。したがって、現像液吐出口３０から基板Ｇ上に供給された現像液を現像液吐出口３０の両側の現像液吸引口４０から所定の圧力で吸引できる。この結果、基板Ｇの表面上には、現像液吐出口３０から現像液吸引口４０に向かう現像液の流れを形成できる。
【００４４】
ノズルヘッド５の下面５ａの各現像液吸引口４０の更に外側には、それぞれ純水等のリンス液を吐出するリンス液吐出口５０が形成されている。リンス液吐出口５０は、例えば前記現像液吐出口３０に平行なスリット状に形成されており、リンス液をＸ方向に沿った帯状に吐出できる。リンス液吐出口５０は、ノズルヘッド５の内部に形成された第３の貯留部５１に連通しており、リンス液供給管５３を介して現像処理装置１の外部に設置されたリンス液供給源５２に接続されている。リンス液供給源５２は、リンス液供給管５３を通じて所定の流量のリンス液をノズルヘッド５に供給できる。ノズルヘッド５は、供給されたリンス液を第３の貯留部５１に一旦貯留して圧力調整し、その後リンス液吐出口５０から一様に吐出できる。
【００４５】
また、図２に示すように、カップ６のＹ方向正方向側には、第２の待機部６２が設けられている。第２の待機部６２には、洗浄液供給手段であるリンス液吐出ノズル８（以下にリンスノズル８という）が待機可能になっている。リンスノズル８は、例えば回転駆動軸８ａに取り付けられたノズルアーム８ｂの先端部に支持されており、回転駆動軸８ａの回転によって第２の待機部６２からカップ６内の基板Ｇの中心部上方まで移動できる。リンスノズル８は、リンス液供給管６４によって、例えば現像処理装置１の外部に設置されたリンス液供給源６３に接続されており、リンス液供給源６３から供給されたリンス液（純水）を下方に向けて吐出できる。
【００４６】
次に、上記のように構成される現像処理装置の現像処理について、図９に示す説明図及び図１０に示すフローチャートを参照して説明する。
【００４７】
まず、現像処理装置の外部の搬送アーム８０によって搬送された基板Ｇが現像処理装置に搬入されると、基板Ｇは、予め上昇していた支持ピン２８に受け渡され、支持ピン２８の下降によって回転基台２上に載置されると共に、位置決めピン１５によって位置決めされる（Ｓ−１；図９（ａ），（ｂ）参照）。
【００４８】
次に、基板保持台４が上昇して、吸着保持部２３が基板Ｇの裏面に当接した状態で、吸着保持部２３の吸引によって基板Ｇを吸着保持すると共に、第１の環状シール部材２５ａを介して基板保持台４と助走ステージ３が密着し、かつ第２の環状シール部材２５ｂを介して基板保持台４と回転基台２が密着して液貯留空間７を形成する（Ｓ−２，図９（ｃ）参照）。この状態で、リンスノズル８が基板Ｇの中心部上方まで移動して、純水を下方に向けて吐出して、液貯留空間７内にリンス液（純水）を貯留すると共に、基板Ｇ表面と助走ステージ３表面に液膜Ｌを形成して液張りする（Ｓ−３；図９（ｄ）参照）。このようにして、基板Ｇの表面の濡れ性を向上するプリウェット処理が行われる。液張り終了後、リンスノズル８は第２の待機部６２に戻る。
【００４９】
次に、第１の待機部６１に待機していたノズルヘッド５が基板ＧよりＹ方向負方向側の助走ステージ３上まで移動して、ノズルヘッド５のリンス液吐出口５０，現像液吐出口３０及び現像液吸引口４０のある下面５ａが助走ステージ３上に配置される。そして、ノズルヘッド５が下降し、スタート位置である助走ステージ３の表面に近接される。次に、リンス液吐出口５０からリンス液，現像吐出口３０から現像液を吐出し、現像液吸引口４０からそのリンス液と現像液を吸引しながらＹ方向正方向側に移動する（Ｓ−４；図９（ｅ）参照）。このとき、ノズルヘッド５の下面５ａと助走ステージ３の表面との間が常にリンス液と現像液で満たされており、ノズルヘッド５の下面５ａへの泡噛み現象が防止されている。ノズルヘッド５がＹ方向正方向側に進んで、基板Ｇの表面上を移動している時には，現像液吐出口３０から基板Ｇ上に吐出された現像液は、ノズルヘッド５の進行方向の前方側と後方側にある現像液吸引口４０から吸引され、基板Ｇの表面の一部の領域に帯状の現像液の流れが形成される。この現像液の流れによって基板Ｇの表面が現像される。現像によって生じた溶解生成物は直ちに現像液吸引口４０から排出される。
【００５０】
ノズルヘッド５は，例えば現像液の供給と吸引を連続的に行いながら、助走ステージ３のＹ方向正方向側の端部付近まで移動（スキャン）する。こうすることによって、現像液の流れが生じる領域が次第に移動し、基板Ｇの表面全体が現像される。ノズルヘッド５が助走ステージ３のＹ方向正方向側の端部付近まで移動すると、現像液及びリンス液の供給とその吸引が停止され、ノズルヘッド５は、第１の待機部２０に戻される。
【００５１】
上記のようにして現像処理が終了した後、液貯留空間７内に貯留された液（現像液とリンス液の混合液）は排液口２６から外部に排出される（Ｓ−５；図９（ｆ）参照）。続いて、基板保持台４による吸着保持が解除されて、基板保持台４が下降して、基板保持台４と助走ステージ３及び回転基台２との密着が解除される（Ｓ−６；図９（ｇ）参照）。
【００５２】
続いて、第２の待機部６２で待機していたリンスノズル８が基板Ｇの中心部上方まで移動し、回転基台２によって助走ステージ３と共に基板Ｇが回転される。リンスノズル８から回転された基板Ｇ上にリンス液が吐出されて基板Ｇが洗浄される（Ｓ−７；図９（ｈ）参照）。このとき、例えばバックリンスノズル７０からも洗浄液を吐出し、基板Ｇの裏面に洗浄液を供給してもよい。この洗浄処理時には、回転基台２及び助走ステージ３と基板保持台４とが非接触になっているので、基板Ｇ裏面における吸着保持部２３によって吸着されていた部分の洗浄を行うことができる。
【００５３】
上記のようにして、基板Ｇが所定時間洗浄された後，基板Ｇが高速回転され，基板Ｇが乾燥される（Ｓ−８；図９（ｉ）参照）。
【００５４】
基板Ｇが乾燥されると、再び支持ピン２８が上昇して基板Ｇを持ち上げ、現像処理装置の外部の搬送アーム８０によって基板処理装置の外部に搬出される。
【００５５】
以上の実施形態によれば、現像処理前に、液貯留空間７内に液を貯留すると共に、基板Ｇ表面及び助走ステージ３の表面に連続して液膜を形成するので、ノズルヘッド５による現像液の供給と吸引時に現像液内への泡噛みを防止できる。
【００５６】
また、液貯留空間７内に液が貯留（充満）された状態で、現像処理を行うので、基板Ｇ上の液体が基板Ｇの裏面側に回り込むことを防止できる。
【００５７】
しかも、洗浄処理時には、基板保持台４を基板Ｇ及び助走ステージ３から離した状態にするので、基板Ｇ裏面における吸着保持部２３によって吸着されていた部分の洗浄を行うことができる。その結果、基板Ｇ裏面の洗い残しや基板汚染を無くすことができる。また、吸引ラインやシール部の構造を簡単にし、かつ駆動動力の低減を図ることができる。
【００５８】
なお、上記実施形態では、洗浄処理時には、リンスノズル８から基板Ｇ表面に向かってリンス液を吐出すると共に、バックリンスノズル７０から基板Ｇの裏面に向かってリンス液を吐出して、基板Ｇの表裏面の洗浄を行う場合について説明したが、別の方法を用いて洗浄処理を行うようにしてもよい。図１１は、かかる一例を示すものであり、基板保持台４における液貯留空間７を形成する底部２２の下面に振動子１０１を配設すると共に、この振動子１０１を、超音波駆動電源１０２に接続する超音波発振器１００を接続した構造としてもよい。このように構成することにより、洗浄処理時に、振動子１０１に超音波発振器１００からの適当な周波数の高周波電圧を印加して励振することにより、超音波振動が発生し、その超音波振動が液貯留空間７内に貯留された液体を伝播して基板Ｇ裏面に付着した現像液を除去することができる（図１０のＳ−９参照）。
【００５９】
なお、図１１に示す第２実施形態において、その他の部分は第１実施形態と同じであるので、同一部分には同一符号を付して、説明は省略する。
【００６０】
なお、上記実施形態は、この発明の一例を示すものであり、この発明はこの例に限らず種々の態様を採りうるものである。例えば、この発明は、レチクル，ＬＣＤ，ＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）等の方形の基板に限られず，ウェハ等の円形の基板など他の基板にも適用できる。
【図面の簡単な説明】
【００６１】
【図１】この発明に係る現像処理装置の第１実施形態を示す概略縦断面図である。
【図２】上記現像処理装置の概略横断面図である。
【図３】この発明におけるノズルヘッドを示す断面図である。
【図４】この発明における回転基台の平面図（ａ）及び（ａ）のＩ部を示す拡大斜視図（ｂ）である。
【図５】この発明における基板保持台を示す平面図である。
【図６】図５のII−II線に断面図である。
【図７】この発明における基板保持台の吸着保持部を示す平面図（ａ）及び（ａ）のIII−III線に沿う拡大断面図（ｂ）である。
【図８】この発明における第１及び第２の環状シール部材を示す断面図である。
【図９】この発明に係る現像処理装置の処理工程を示す概略断面図である。
【図１０】この発明に係る現像処理装置の処理工程を示すフローチャートである。
【図１１】この発明に係る現像処理装置の第２実施形態の要部を示す概略縦断面図である。
【符号の説明】
【００６２】
Ｇ  ガラス基板（被処理基板）
２  回転基台
３  助走ステージ（外周板）
４  基板保持台
５  ノズルヘッド
７  液貯留空間
１７  回転駆動部
２０  本体
２２  底部
２２ａ  底面
２３  吸着保持部
２３ａ  頂面
２３ｂ  吸引口
２３ｃ  吸引口形成部
２３ｄ  傾斜面
２４  側壁
２５ａ  第１の環状シール部材
２５ｂ  第２の環状シール部材
２６  排液口
３０  現像液吐出口
４０  現像液吸引口
１００  超音波発信器
１０１  振動子
１０２  超音波駆動電源
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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