(57)【要約】【課題】本発明の目的は、全体として輝度ムラの少ない電界発光装置を提供することにある。また、他の目的は、電界発光装置に意図的に輝度ムラを付与することで、グラデーション等視覚効果のある照明、また、特定パターンの表示機能を付与した電界発光装置を提供することにある。【解決手段】透明若しくは半透明な第１電極と、第２電極を有し、前記第１電極と第２電極との間に少なくとも発光層を有する電界発光装置において、前記第２電極の発光層側の面内の反射率が分布を有することを特徴とする電界発光装置。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明若しくは半透明な第１電極と、第２電極を有し、前記第１電極と第２電極との間に少なくとも発光層を有する電界発光装置において、前記第２電極の発光層側の面内の反射率が分布を有することを特徴とする電界発光装置。
【請求項２】
前記第２電極に反射率の異なる少なくとも２種の材料を用いて、第２電極の発光層側の面内に反射率の異なる領域を設け、面内の反射率が分布を有するようにしたことを特徴とする請求項１に記載の電界発光装置。
【請求項３】
前記第１電極と第２電極の間に前記発光層を含む有機層を有し、前記有機層の膜厚が不均一であって、第２電極の発光層側の面内の平均反射率が、有機層の平均膜厚より膜厚が厚い有機層の領域において、有機層の残りの領域におけるよりも高いことを特徴とする請求項１又は２に記載の電界発光装置。
【請求項４】
前記第１電極は１つ以上の給電部を有し、発光面内において前記給電部から最も近い位置をＡ、前記給電部から最も離れた位置をＣ、ＡとＣの中間位置をＢとしたとき、前記第２電極の発光層側の面のＡＢ間の平均反射率がＢＣ間の平均反射率よりも高くなることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の電界発光装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の電界発光装置であって、均一な輝度を有することを特徴とする電界発光装置。
【請求項６】
前記第２電極の前記発光層側の面の反射率を段階的に変化させることによりグラデーションの照明効果を有することを特徴とする請求項１又は２に記載の電界発光装置。
【請求項７】
第２電極の前記発光層側の面内の反射率に所定の分布をもたせることで、特定パターンの表示機能を付与することを特徴とする請求項１又は２に記載の電界発光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、無機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）や有機ＥＬなどの電界発光装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
電界発光素子は電界を印加することにより、発光性物質が発光する原理を利用した自発光素子である。有機電界発光素子についてはＴａｎｇによる積層型素子による低電圧駆動有機電界発光素子の報告以来、盛んに研究が行われている。
【０００３】
有機電界発光装置は、たとえば図１に示すように透明のガラス基板上に積層された陽極と発光層を有する有機層、陰極より構成される。陽極と陰極の間に電界を印加することにより有機層が発光する。有機層で発光した光は、一般的には陽極に透明電極であるＩＴＯを用いて陽極側から取り出す。しかし、ＩＴＯは抵抗率が大きいために給電部から遠くなるに従い電圧が降下する。それにより、有機層に印加される電圧は給電部から遠くなるに従い降下し、そのため給電部付近では明るく、給電部遠方では暗くなるといった輝度ムラが生じる。これを回避するために、特許文献１においては発光面の外周部に、ＩＴＯよりも低抵抗率を有する金属で補助電極を形成する技術が公知である。しかし、大きなパネルになるほど、外周部からのＩＴＯの電圧降下の影響が大きく面内輝度ムラが十分に抑制するのは困難である。
【０００４】
また、蒸着によって有機層を形成する場合、蒸着源と基板の距離、角度等の違いにより基板中に有機層膜厚に違いが生じる。蒸発源に近いほど膜厚が厚く、遠くなるほど膜厚は薄くなる。有機層の膜厚が異なると、一定の電圧で駆動した場合、厚い部分と薄い部分では有機層にかかる電界強度が異なってしまい、厚い部分は暗く薄い部分は明るい発光となり、面内に輝度ムラを生じる。
【０００５】
以上のように種々の理由により生じる輝度ムラは無機ＥＬについても事情は同じである。
【０００６】
また、電界発光装置の面内の輝度ムラを抑制する要望がある一方で、照明用としての用途を考えた場合、有機電界発光装置の面内に、あえて所定の輝度ムラを付与することにより、例えば、グラデーション等の視覚効果を有する照明等を開発する要望がある。
【特許文献１】特開平１０−２１４６８４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
従って、本発明の目的は、全体として輝度ムラの少ない電界発光装置を提供することにある。また、他の目的は、電界発光装置に意図的に輝度ムラを付与することで、グラデーション等視覚効果のある照明、また、特定パターンの表示機能を付与した電界発光装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の上記課題は以下の手段により達成される。
【０００９】
１．透明若しくは半透明な第１電極と、第２電極を有し、前記第１電極と第２電極との間に少なくとも発光層を有する電界発光装置において、前記第２電極の発光層側の面内の反射率が分布を有することを特徴とする電界発光装置。
【００１０】
２．前記第２電極に反射率の異なる少なくとも２種の材料を用いて、第２電極の発光層側の面内に反射率の異なる領域を設け、面内の反射率が分布を有するようにしたことを特徴とする前記１に記載の電界発光装置。
【００１１】
３．前記第１電極と第２電極の間に前記発光層を含む有機層を有し、前記有機層の膜厚が不均一であって、第２電極の発光層側の面内の平均反射率が、有機層の平均膜厚より膜厚が厚い有機層の領域において、有機層の残りの領域におけるよりも高いことを特徴とする前記１又は２に記載の電界発光装置。
【００１２】
４．前記第１電極は１つ以上の給電部を有し、発光面内において前記給電部から最も近い位置をＡ、前記給電部から最も離れた位置をＣ、ＡとＣの中間位置をＢとしたとき、前記第２電極の発光層側の面のＡＢ間の平均反射率がＢＣ間の平均反射率よりも高くなることを特徴とする前記１〜３のいずれか１項に記載の電界発光装置。
【００１３】
５．前記１〜４のいずれか１項に記載の電界発光装置であって、均一な輝度を有することを特徴とする電界発光装置。
【００１４】
６．前記第２電極の前記発光層側の面の反射率を段階的に変化させることによりグラデーションの照明効果を有することを特徴とする前記１又は２に記載の電界発光装置。
【００１５】
７．第２電極の前記発光層側の面内の反射率に所定の分布をもたせることで、特定パターンの表示機能を付与することを特徴とする前記１又は２に記載の電界発光装置。
【発明の効果】
【００１６】
本発明により、電界発光装置の輝度ムラを抑制でき、また、特定の視覚効果をもつ発光、表示を行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下に本発明を実施するための最良の形態について説明するが、本発明はこれにより限定されない。
【００１８】
本発明は輝度ムラの少ない電界発光装置、あるいは視覚効果を有する電界発光装置に関する。電界発光装置には無機の発光層を有する無機ＥＬ素子を用いるもの、また有機化合物からなる発光層を有する有機ＥＬ素子を用いるものがあるが、本発明は、いずれか一方に限定されるものではないが、以下、主に有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子を例として本発明を説明する。よって、以下、電界発光装置を有機ＥＬ素子とも標記することがある。
【００１９】
図１に電界発光装置（有機ＥＬ素子）の１例を示す。
【００２０】
通常、電界発光装置は発光面内に輝度ムラが存在する。
【００２１】
図１は、電界発光装置の断面図であり、基板１上に、第１電極２、発光層を含む有機層３、第２電極４が積層された構成を有している。例えば、第１電極はＩＴＯからなる陽極、第２電極は陰極である。
【００２２】
電極間に電圧を印加して発光させた際に、第１電極２（ＩＴＯからなる陽極）においては、ＩＴＯの抵抗率が大きいため、陽極補助電極２ａを給電部としたとき、陽極補助電極２ａから遠くなるに従い電圧が降下する現象が起こる。そのため、発光層を含む有機層の膜厚が一定である場合、電極の給電部付近では発光が明るく給電部から離れると暗くなるといった輝度の違いが生じる。図２に電圧降下による輝度ムラを示す。尚、給電部とは電源との接続をとる接続端子となる箇所をいう。図２の例では、陽極補助電極２ａは金属から形成されておりこれを給電部としている。従って、陽極補助電極２ａを設けた辺に沿った方向で電圧降下は生じないが、補助電極を設けた辺側から反対側の辺にかけての方向においては電圧降下がやはり発生する。
【００２３】
給電部から離れるに従い電圧が降下する現象を回避するため発光面の外周部全体に、ＩＴＯよりも低い抵抗率を有する金属を用いて補助電極を形成する技術が知られている。
【００２４】
しかしながら、大きなパネルになるほど、給電部がある外周部からのＩＴＯの電圧降下の影響が大きく面内輝度ムラを十分に抑制するのは困難となる。
【００２５】
陰極４については、通常金属等からなる抵抗率が小さい電極であるため陰極給電部４ａから遠くなってもそれ程電圧降下を引き起こす要因とならない。しかしながら、発光面積が大きい場合やＩＴＯと同じく抵抗率が大きい場合には問題となる。
【００２６】
また、発光ムラの別の原因としては、発光層等有機層の蒸着ムラによるものがある。
【００２７】
蒸着によって発光層、又、発光層を含む有機層を形成する場合、蒸着源と基板の距離、角度等の違いにより基板中に発光層や有機層の膜厚に違いが生じる。蒸発源に近いほど膜厚が厚く、遠くなるほど膜厚は薄くなる。発光層や発光層を含む有機層の膜厚が異なる場合、前記給電部からの距離による電圧降下がなく一定の電圧で駆動した場合、厚い部分と薄い部分では有機層にかかる電界強度が異なってしまい、厚い部分は暗く薄い部分は明るい発光になる。
【００２８】
以上のように、電界発光装置においては種々の理由により発光面内において輝度ムラが生じるという問題がある。説明のために輝度ムラの要因として上記の例を挙げたが、上記に限定はされない。
【００２９】
本発明は、電界発光装置における発光面内における輝度ムラを補償するために、第２電極である陰極の発光側の面内の反射率を調整して、面内輝度ムラを抑制するものである。
【００３０】
本発明においては、発光面内における輝度ムラを補償するため、陰極の発光層側に反射率の異なる２種類以上の材料を配置して、陰極の発光層側の面の材質の違いによって反射率の分布をもたせるものである。陰極の発光層側に反射率の高い材料と反射率の低い材料からなる膜を配置すると、反射率が高い材料からなる領域ほど取り出される光が多く輝度が大きくなる。反射電極である陰極の発光層側の面内にこのような反射率分布をつくることで面内の輝度ムラが抑制される。
【００３１】
これを利用し発光面内における輝度ムラを抑制する本発明の好ましい形態を示す。
【００３２】
例えば、前記図２の如く、電界発光装置において、陰極の発光層側の反射率が面内で一様となるように陰極を蒸着し形成したとき、有機層の膜厚ムラがなくとも、陽極における電圧降下のため面内上部が輝度低く（暗く）下部が高い（明るい）という面内輝度ムラが生じる。尚、図示される電界発光素子では陽極給電部には金属の補助電極２ａが接合されており、図で左右方向の電圧降下はない。
【００３３】
本発明においては、この面内輝度ムラを抑制するため、陰極の反射率を調整する。図３（１）、（２）に陰極の発光層側の反射率の調整により、電極材料の抵抗による輝度ムラを補償する例を示した。陰極において、反射率の高い材料からなる領域が電圧降下の大きい紙面で上部にあたる領域において密になるように、例えば、マスク法を用いて高反射率材料を蒸着形成し、その後に低反射率の材料を蒸着する。勿論マスク法を用いて低反射率材料を蒸着形成した後低反射率の材料を蒸着する逆の方法でもよい。電圧降下の大きい紙面で上部において、低反射率領域４２に比べ高反射率領域４１の密度が高くなっている。図３（１）には電界発光素子ガラス基板側から陰極の発光層側面をみた図を示し、図３（２）には図３（１）のａ−ａ′断面を示した。尚、図において、１は基板、２はＩＴＯからなる陽極、３は発光層又は発光層を含む有機層であり、４は低反射率領域４２、高反射率領域４１を含んだ陰極である。
【００３４】
このとき陰極以外の構成が同様であるならば、前記の面内輝度ムラを抑制することが可能となる。
【００３５】
このように、陰極の反射率に分布をもたせることで陰極の反射率が一様とした場合に、ＩＴＯの電圧降下により発光面内に発生する輝度ムラを抑制することが可能である。
【００３６】
また、前記のように、有機電界発光装置において、有機層を蒸着で形成する場合、基板を基板中心を回転軸として回転させながら蒸着しても、蒸発源からの距離が遠い基板周囲領域においては膜厚が薄く中央部では厚くなる。従って、電界発光素子を形成したとき厚い部分と薄い部分では有機層にかかる電界強度が異なってしまい、中央部（厚い部分）は暗く周辺部（薄い部分）は明るい発光になる。
【００３７】
このような膜厚分布による発光ムラの補償は、図４に示すように、陰極の発光層側の内面の反射率分布を、中央部において高くすることで行うことができる。即ち、低反射率材料と高反射率材料を用いて、中央部に高反射率材料で形成した領域（高反射率領域４１）の面積割合を多く、周辺領域で低反射率材料で形成した領域（低反射率領域４２）の面積割合を多く形成すればよい。前記同様に、高反射率材料をマスクを用いて所望のパターンに形成した後、低反射率材料によりその上に重ねて蒸着を行う。
【００３８】
図４（１）は、透明基板面側から陰極面をみた図を示し、（２）はｂ−ｂ′断面を示す。
【００３９】
このように、本発明においては、反射電極である陰極の発光層側の反射率を調整して輝度ムラの補償を行うことができる。
【００４０】
従って、本発明は、透明若しくは半透明な第１電極と、第２電極を有し、前記第１電極と第２電極との間に少なくとも発光層を有する電界発光装置において、前記第２電極の発光層側の面内の反射率が分布を有することを特徴とする電界発光装置である。
【００４１】
前記第２電極の発光層側の面内の反射率が分布を有するために、本発明においては、第２電極を反射率の異なる少なくとも２種の材料を用いて形成し、第２電極の発光層側の面内に反射率の異なる領域を設ける。
【００４２】
このように第２電極である陰極（反射電極）の反射率の分布を変えることで、発光ムラの補償を行うことができる。
【００４３】
その一つ形態として、有機層の膜厚が不均一であることによる発光ムラを補償して均一な輝度を有する電界発光素子とするためには、第２電極の発光層側の面内の平均反射率が、有機層の平均膜厚より膜厚が厚い有機層の領域において、有機層の残りの領域におけるよりも高い様に反射率分布を作製する。これにより前記の如く、発光層、又発光層を有する有機層の膜厚による輝度ムラを補償することができる。
【００４４】
「有機層の平均膜厚」とは、発光面内の有機層の厚さの平均値である。
【００４５】
有機層の平均膜厚は、有機層の発光部端部より５ｍｍ内側から縦横５ｍｍ間隔でメッシュ状に測定点を選び、それぞれを測定した平均値である。測定方法は、大塚電子製分光反射率測定機により分光反射率を測定し、反射率カーブのフィッティングによって膜厚を計算する。
【００４６】
「有機層の平均膜厚より膜厚が厚い領域」とは発光面内において「有機層の平均膜厚」よりも有機層の膜厚が厚い領域のことであり、発光面内の有機層の任意の点における膜厚は上記の方法によって測定することができる。
【００４７】
このようにして測定した有機層の平均膜厚より膜厚が厚い領域において、本発明においては、第２電極の発光層側の面の平均反射率を、残りの領域における平均反射率よりも高くすることにある。
【００４８】
反射率は大塚電子製分光反射率測定機を用い測定する。
【００４９】
「有機層の平均膜厚より膜厚が厚い領域での第２電極の発光層側の面の平均反射率」とは、例えば、図５に電界発光装置（有機ＥＬ素子）において有機層が膜厚ムラを有する場合の断面図を示したが、Ａで示す領域が有機層の平均膜厚よりも膜厚が厚い領域であるとき、この領域に対応する第２電極４の領域Ａ′の反射率の平均値である。
【００５０】
「残りの領域」とは、Ａで示されていない領域、言い換えれば有機層の膜厚が平均膜厚よりも薄い領域（図５のＢ）に対応する第２電極４の領域Ｂ′であり、「残りの領域での平均反射率」とは、残りの領域（第２電極のＢ′に該当する領域）内での反射率の平均値である。
【００５１】
尚、第２電極の発光層側の面の反射率は、透明基板側から陰極形成した後、測定してもよいが、有機層の膜厚変動等があり、正確には、基板上に、同じ方法を用いて、同じ膜厚で第２電極を形成して、透明基板側から反射率を測定する。位置決めを行うことで対応する有機ＥＬ素子における第２電極（陰極）の有機層側の所定の点における反射率を知ることが出来る。
【００５２】
均一な発光とするには、膜厚の差によってもたらされる輝度差に比例し反射率を変化させれば好ましい。尚、均一な輝度とは、発光面全体のうち最大輝度に対する最小輝度の割合が８５％以内にあるものをいう（輝度変動が±７．５％以内）。
【００５３】
また、電極材料、例えば、ＩＴＯによる第１電極の電圧降下に起因する輝度の低下を補償するには、発光面内において第１電極の給電部に最も近い位置をＡ、前記給電部から最も離れた位置をＣ、ＡとＣの中間位置をＢとしたとき、前記第２電極の発光層側の面のＡＢ間の平均反射率がＢＣ間の平均反射率よりも高くなる様に調整する。尚、発光面におけるＡ、Ｂ、Ｃの各点は陽極の電位勾配に沿ってとるものとする。
【００５４】
図６（１）は、有機電界発光装置の第１電極２（陽極）側からみた概略平面図である。このとき、発光面内において陽極側の給電部である補助電極２ａに最も近い位置はＡ、給電部から最も離れた位置はＣ、ＡＣ間の中間位置がＢとなる。この場合、陽極には補助電極２ａがあるので給電部は補助電極２ａでありこれに最も近いＡで表される線上にあり、またＢ、Ｃも然りである。最も近いといってもＡ及びＢは発光部端部から５ｍｍの点をとる。図５（１）の場合にはＡ、Ｂ、Ｃ上にある点なら何処をとってもよいが、給電部が、小さいとき又、給電端子等であるときには電位勾配に沿って各点Ａ、Ｂ、Ｃをとる。
【００５５】
図６（１）は、第１電極２（陽極）の一端に補助電極２ａが配置された例を示したが、図６（２）、（３）はそれぞれ、第１電極２（陽極）の補助電極２ａが電極の両端及び、外周全体に設けられた例を示す。それぞれの場合に各Ａ、Ｂ、Ｃ点は図に示す様になる。
【００５６】
このとき、第２電極４の発光層側の面のＢＣ間の平均反射率がＡＢ間の平均反射率よりも高くなるように高反射領域及び低反射領域を配置してやれば輝度ムラ補償を行うことができる。これも電位の低下とは逆に反射率を挙げてやれば好ましい。
【００５７】
図３また図４では、反射率の高い材料からなる領域はストライプ状に表記しているが、本発明はこれに限定されるものではなく、ドット状のもの、連続的に反射率を変化させたもの等も含まれ、第２電極の発光層側の面の反射率が分布を有していればよい。
【００５８】
また、多数個のパネルを大きなマザー基板から作製する場合、陰極発光層側の反射率を一様として陰極を蒸着形成すると、各パネルの面内の輝度分布はそれぞれ異なることがある。それぞれのパネルの輝度ムラに応じて陰極即ち第２電極の発光層側の反射率をコントロールすることにより面内輝度ムラを抑制することが可能である。
【００５９】
以上の説明は、面内輝度ムラが十分小さいという仮定で説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００６０】
本発明を利用した他の実施形態の１つとしては、グラデーション等の視覚効果、また、文字、印章、更には、図形、デザイン、模様、絵柄等特定パターンの表示機能を電界発光装置に付与する形態を挙げることができる。
【００６１】
例えば、陰極の反射率を一様としたとき面内輝度ムラが十分に小さい場合、陰極以外の構成は同様にして、陰極について、例えば、図４のように高反射率の材料からなる領域を中央部に多く配置する。それにより、図７のような中央部の明るいグラデーションをもつ有機ＥＬ素子を作製できる。逆に、高反射率領域と低反射領域を逆に配置すれば、中央部が暗く周辺が明るいグラデーションを付与することが出来る。
【００６２】
また、他の形態として、図８のように、有機ＥＬ素子において、陰極の反射率の差を利用して、輝度差で表徴、徽章等、特定の模様の表示機能を付与した形態がある。
【００６３】
以上、本発明は有機ＥＬ素子を用いて電界発光装置を説明したが、本発明は有機ＥＬ素子を用いた電界発光装置に限定されるものではない。無機電界発光装置に関しても透明性電極ではない電極の反射率を面内で変化させることにより、同様の効果が得られる。
【００６４】
陰極に用いられる反射率の異なる電極材料としてはアルミニウム、銀、クロム、モリブデン等の金属を用いることができるが、本発明において、蒸着層の反射率により選択して用いることができる。例えば、アルミニウム蒸着層を陰極材料として用いたとき、反射率は、８５％〜９０％程度、また、モリブデン蒸着層は６０％程度であり、それぞれ高反射率電極材料、低反射率電極材料として用いることができるがこれには限定されない。反射率は可視光波長３６０〜７００ｎｍ間の分光反射率から平均の反射率を求める。
【００６５】
また、以下に、本発明において、有機ＥＬ素子を構成する各要素について述べる。
【００６６】
正孔注入・輸送層に用いられる有機材料としては、フタロシアニン誘導体、ヘテロ環アゾール類、芳香族三級アミン類、ポリビニルカルバゾール、ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルホン酸（ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ）などに代表される導電性高分子等の高分子材料が用いられる。
【００６７】
また、発光層に用いられる有機材料としては、例えば、４，４′−ジカルバゾリルビフェニル、１，３−ジカルバゾリルベンゼン等のカルバゾール系発光材料、（ジ）アザカルバゾール類、１，３，５−トリピレニルベンゼンなどのピレン系発光材料に代表される低分子発光材料、ポリフェニレンビニレン類、ポリフルオレン類、ポリビニルカルバゾール類などに代表される高分子発光材料などが挙げられる。これらのうちで、発光材料として好ましいものは分子量１００００以下の低分子系発光材料である。
【００６８】
また発光層中、発光材料には、好ましくは０．１〜２０質量％程度のドーパントが含まれてもよく、ドーパントとしては、ペリレン誘導体、ピレン誘導体等公知の蛍光色素、また、りん光色素、例えば、トリス（２−フェニルピリジン）イリジウム、ビス（２−フェニルピリジン）（アセチルアセトナート）イリジウム、ビス（２，４−ジフルオロフェニルピリジン）（ピコリナート）イリジウム、などに代表されるオルトメタル化イリジウム錯体等の錯体化合物がある。
【００６９】
電子注入・輸送層に用いられる有機材料としては、８−ヒドロキシキノリナートリチウム、ビス（８−ヒドロキシキノリナート）亜鉛等の金属錯体化合物もしくは以下に挙げられる含窒素五員環誘導体がある。即ち、オキサゾール、チアゾール、オキサジアゾール、チアジアゾールもしくはトリアゾール誘導体が好ましい。具体的には、２，５−ビス（１−フェニル）−１，３−オキサゾール、２，５−ビス（１−フェニル）−１，３−チアゾール、２，５−ビス（１−フェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−（４′−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−（４″−ビフェニル）１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（１−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、１，４−ビス［２−（５−フェニルオキサジアゾリル）］ベンゼン、１，４−ビス［２−（５−フェニルオキサジアゾリル）−４−ｔｅｒｔ−ブチルベンゼン］、２−（４′−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−（４″−ビフェニル）−１，３，４−チアジアゾール、２，５−ビス（１−ナフチル）−１，３，４−チアジアゾール、１，４−ビス［２−（５−フェニルチアジアゾリル）］ベンゼン、２−（４′−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−（４″−ビフェニル）−１，３，４−トリアゾール、２，５−ビス（１−ナフチル）−１，３，４−トリアゾール、１，４−ビス［２−（５−フェニルトリアゾリル）］ベンゼン等が挙げられる。
【００７０】
因みに陽極に使用される導電性材料としては、銀、金、白金、パラジウム等及びそれらの合金、酸化スズ、酸化インジウム、ＩＴＯ等の酸化金属、さらにはポリチオフェンやポリピロール等の有機導電性樹脂が用いられる。
【００７１】
また、陰極に使用される導電性物質としては、マグネシウム、アルミニウム等、合金としては、マグネシウム／銀、リチウム／アルミニウム等が代表例として挙げられる。
【００７２】
第２電極としてのアルミニウム蒸着層は反射率８５％〜９０％程度あるが、例えばモリブデン、クロムを用いると反射率は６０％程度であり、これらを用いてパターニングすれば低反射率領域、及び高反射率領域を第２電極上に形成できる。
【００７３】
また、基板として用いられる基材としては、ガラス基板及び透明性樹脂フィルムがある。厚さ１００μｍ〜２ｍｍ程度の厚みを有するものが使用される。透明性樹脂フィルムとしては、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体、ポリメチルメタアクリレート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルサルフォン、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリウレタン、ポリイミド、ポリエーテルイミド等が挙げられるが限定されない。
【実施例】
【００７４】
以下、好ましい実施の形態について説明するが、本発明はこれにより限定されるものではない。
【００７５】
（好ましい実施の形態１）：図９に模式図で作製プロセスを示した。
【００７６】
図９に示したように、１００×１００ｍｍ、厚み１．０ｍｍのＩＴＯ（厚み２００ｎｍ）付きガラス基板を用いて、有機ＥＬパネルが基板中央部に１つとれる様、ＩＴＯをパターニングして、陽極（発光サイズ５０ｍｍ×５０ｍｍ）および補助電極部を形成した（図９（１））。基板１、陽極２、補助電極部２ａ。
【００７７】
次いで、この基板を市販の真空蒸着装置の基板ホルダーに固定し、それぞれ真空蒸着装置内の蒸着用るつぼの各々に、有機層各層の構成材料を最適の量充填した。蒸着は真空度４×１０-4Ｐａまで減圧し、基板およびアノード端子部と発光領域以外を覆うシャドーメタルマスクを基板中心を軸として回転させつつ、蒸着源から基板までの距離を調整して、基板中央部と周辺部での蒸着膜の膜厚変化が少ない条件で以下の有機層３を、基板中央部でトータルの膜厚で１３０ｎｍとなるよう順次積層した（図８（２））。蒸着源と基板周辺部及び中央部との距離差が無視できる条件で蒸着したことで実質的に膜厚変化のない有機層が得られた。各有機層の構成及び膜厚を以下に示した。
【００７８】
正孔注入層（ＰＥＤＯＴ：４０ｎｍ）／正孔輸送層（α−ＮＰＤ：２０ｎｍ）／発光層（ＣＢＰ、Ｉｒ（ｐｐｙ）3（６％）：３０ｎｍ）／正孔阻止層（ＢＡｌｑ：１０ｎｍ）／電子輸送層（Ａｌｑ3：３０ｎｍ）／ＬｉＦ（０．５ｎｍ）
尚、ＰＥＤＯＴ：ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ、Ｂａｙｅｒ社製、Ｂａｙｔｒｏｎ  Ｐ  Ａｌ  ４０８３
【００７９】
【化１】
2008235164.tif 000002
【００８０】
有機層の厚みを測定した結果、基板中央部においては１３０ｎｍ、周辺部でも１２９ｎｍの膜厚でありほぼ一定とみなせる厚さであった。
【００８１】
有機層蒸着後、さらに、アルミニウムを、給電部から遠くなるに従ってストライプ数を増やしたストライプ（２ｍｍ×略５０ｍｍ）状マスクパターンを密着させて蒸着しアルミニウムストライプパターン（厚み８０ｎｍ）を作製した（図９（３））。
【００８２】
次いで、モリブデンを陰極として発光部全面に蒸着した（厚み１００ｎｍ）（図９（４））。
【００８３】
アルミニウム層からなるストライプ状領域は、給電側（陽極給電部に近い発光部端部から５ｍｍの点Ａ）から反対側Ｃ（陽極光部端部から５ｍｍの点）まで、密度（本数）をあげて、反対側Ｃでは殆どがアルミニウム電極となるように配置した。中間点をＢとしたとき、ＡＢ間、ＢＣ間の平均反射率はそれぞれで６５％、８０％（可視光波長平均）となるようストライプの本数（密度）を調整した（図９）。
【００８４】
このようにして、陰極層の反射率分布をもたせた有機ＥＬ素子１を作製した。
【００８５】
次に、有機層までの形成は全て同様に行って、アルミニウムを全面に蒸着形成し（厚み１５０ｎｍ）、有機ＥＬ素子２を作製した。
【００８６】
それぞれの素子に厚さ７０μｍのＰＥＴフィルムを重ね接着剤を用い密着封止して各給電部にそれぞれ電源端子を接続して７Ｖの電圧をかけて発光させた。５０ｍｍ×５０ｍｍの発光部は緑色に発光した。給電部に近いＡ点での輝度に対する、反対側末端部Ｂ点での輝度の比をとり、輝度ムラを比較したところ、として、陰極をアルミニウム（厚み１００ｎｍ）のみで作製した素子２（比較）は、輝度比が、０．７５であり、一方、アルミニウムとモリブデンにより反射率に傾斜をもたせた陰極を有する有機ＥＬ素子１は、輝度比が０．８５となり、均一な発光を示した。
【００８７】
（好ましい実施の形態２）：図１０
１００×１００ｍｍ、厚み１．０ｍｍのＩＴＯ（厚み２００ｎｍ）付きガラス基板を用いて、有機ＥＬパネルが基板中央部に１つとれる様、ＩＴＯをパターニングして、陽極（発光サイズ５０ｍｍ×５０ｍｍ）を形成した。陽極形成後、陽極周囲長において電位変動がないよう陽極周囲を取り囲むように金属アルミニウム（厚み１００ｎｍ）を蒸着して補助電極２ａを形成した（図１０（１））。
【００８８】
次いで、この基板を市販の真空蒸着装置の基板ホルダーに固定し、それぞれ真空蒸着装置内の蒸着用るつぼの各々に、有機層各層の構成材料を最適の量充填した。蒸着は真空度４×１０-4Ｐａまで減圧し、基板およびアノード端子部と発光領域以外を覆うシャドーメタルマスクを基板中心を軸として回転させつつ、以下の有機層３を順次積層した。蒸着源と基板間の距離の関係から、基板周辺部と中央部とで膜厚変動を生じた。即ち、中心部においては、有機層トータルで１３０ｎｍであったが、周辺部では（発光端部から５ｍｍの点）、１２０ｎｍであった。
【００８９】
正孔注入層（ＰＥＤＯＴ：４０ｎｍ）／正孔輸送層（α−ＮＰＤ：２０ｎｍ）／発光層（ＣＢＰ、Ｉｒ（ｐｐｙ）3（６％）：３０ｎｍ）／正孔阻止層（ＢＡｌｑ：１０ｎｍ）／電子輸送層（Ａｌｑ3：３０ｎｍ）／ＬｉＦ（０．５ｎｍ）
尚、ＰＥＤＯＴ：ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ、Ｂａｙｅｒ社製、Ｂａｙｔｒｏｎ  Ｐ  Ａｌ  ４０８３
次いで陰極を作製した。先ず、中央部の膜厚の増加に比例して陰極の反射率が増加するよう、同心円状に、また中心部にゆくほど太いストライプを形成するように、マスクパターンを密着させてアルミニウム（厚み８０ｎｍ）を蒸着形成した（図１０（３））。次いでマスクを除きアルミニウム層の上から発光面全面にモリブデンの蒸着層を作製し（厚み１００ｎｍ）、有機ＥＬ素子を作製した（図１０（４））。
【００９０】
陰極に高反射率領域（アルミニウム蒸着部分）、低反射率領域（モリブデン蒸着部分）からなる同心円状のパターンが形成された。中央部の有機層の膜厚が平均膜厚より大きい領域に対応する陰極の領域の平均反射率パターンを測定したところ、中央部分はアルミニウムの領域面積が大きく、平均反射率で８０％（可視光波長平均）であった。又、それ以外の周囲部分の反射率は平均で６５％（可視光波長平均）であった。
【００９１】
また、比較として、電極をアルミニウムの蒸着層（１５０ｎｍ）とした以外は同様に作製した有機ＥＬ素子を作製した。
【００９２】
厚さ７０μｍのＰＥＴフィルムを重ね接着剤を用い密着封止して各給電部をそれぞれ電源端子に接続して７Ｖの電位をかけて発光させた。５０ｍｍ×５０ｍｍの発光部は緑色に発光した。
【００９３】
膜厚の厚い、中央部での輝度に対する、周辺部での輝度の比をとり、それぞれ輝度ムラを比較したところ、陰極をアルミニウム（厚み１００ｎｍ）のみで作製したもの（比較）は、輝度比が、０．７８であり、一方、アルミニウムとモリブデンにより中央部の反射率を高くして反射率に傾斜をもたせた陰極を有する有機ＥＬ素子は、輝度比が０．９２となり、輝度がより均一であった。
【００９４】
（好ましい実施の形態３）
好ましい実施の形態２と同様に補助電極を形成した基板を用いて、好ましい実施の形態１と同様に、有機層まで作製した。中央部においては１３０ｎｍの厚み、周囲においては１２９ｎｍの厚みと、膜厚差が殆どない有機層が同様に得られた。
【００９５】
次いで、陰極の作製おいて、発光部中央部分に開口部（図８）をもつマスクパターンを密着させた後、アルミニウム層（８０ｎｍ）を蒸着により形成した。続いて、マスクを外してモリブデン蒸着層を全面に形成した（１００ｎｍ）。中央部が反射率の高いアルミニウムで形成された陰極が形成された。
【００９６】
同様に、厚さ７０μｍのＰＥＴフィルムを重ね接着剤を用い密着封止して各給電部をそれぞれ電源端子に接続して７Ｖの電位をかけて発光させた。５０ｍｍ×５０ｍｍの緑色の発光部のうち、中央部にマスクパターン開口部通りの周囲よりも輝度の高い領域が形成された。
【００９７】
以上のごとく、本発明により、陰極の反射率を制御することで、蒸着ムラや、電極の抵抗による電圧降下等種々の原因による輝度ムラに対し、これを緩和して輝度ムラの少ない電界発光装置を提供することができる。また意図的に、電界発光装置に輝度ムラを付与して、グラデーション等の視覚効果を有する、特定パターンの表示機能を付与することもできる。
【図面の簡単な説明】
【００９８】
【図１】電界発光装置の１例を示す断面図である。
【図２】電圧降下による輝度ムラを例示する図である。
【図３】電極材料の抵抗による輝度ムラの補償を行う例を示す図である。
【図４】膜厚分布による発光ムラの補償を行う例を示す図である。
【図５】有機ＥＬ素子において有機層が膜厚ムラを有する場合の断面図を示す。
【図６】有機電界発光装置の第１電極側からみた概略平面図である。
【図７】中央部の明るいグラデーションをもつ有機ＥＬ素子の１例である。
【図８】輝度差で特定の模様の表示機能を付与した有機ＥＬ素子の１例である。
【図９】本発明の有機ＥＬ素子の作製プロセスを示す模式図である。
【図１０】本発明の有機ＥＬ素子の作製プロセスを示す模式図である。
【符号の説明】
【００９９】
１  基板
２  第１電極（陽極）
２ａ  陽極補助電極
３  有機層
４  第２電極（陰極）
４ａ  陰極給電部
【図１】
2008235164.tif 000003
【図２】
2008235164.tif 000004
【図３】
2008235164.tif 000005
【図４】
2008235164.tif 000006
【図５】
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【図６】
2008235164.tif 000008
【図７】
2008235164.tif 000009
【図８】
2008235164.tif 000010
【図９】
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【図１０】
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