(57)【要約】【課題】補償光学技術に利用される可変形状鏡システムの波面の補正の自由度を高める。【解決手段】ミラー５０１が配置された中電極基板５２２の上側および下側の両方に、中電極基板５２２に駆動力を与えて中電極基板５２２と共にミラー５０１の形状を変化させる駆動手段を設ける。【選択図】図１(b)
2008281683.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の面と前記第１の面の裏面である第２の面とを備える平面状の支持体と、
前記第１の面に配置された反射面と、
前記第１の面側から前記支持体に駆動力を与えて前記支持体と共に前記反射面の形状を変化させる表面駆動手段と、
前記第２の面側から前記支持体に駆動力を与えて前記支持体と共に前記反射面の形状を変化させる裏面駆動手段と、を有することを特徴とする可変形状鏡システム。
【請求項２】
前記裏面駆動手段が、
前記２の面に配置された裏面電極と、
前記２の面側に前記裏面電極と対向して配置された裏面駆動電極と、
前記裏面電極と前記裏面駆動電極との間に電圧を印加して前記駆動力を発生させる裏面電圧印加手段と、を有することを特徴とする請求項１に記載の可変形状鏡システム。
【請求項３】
前記表面駆動手段が、
前記第１の面に配置された表面電極と、
前記第１の面側に前記表面電極と対向して配置された表面駆動電極と、
前記表面電極と前記表面駆動電極との間に電圧を印加して前記駆動力を発生させる表面電圧印加手段と、を有することを特徴とする請求項２に記載の可変形状鏡システム。
【請求項４】
前記表面駆動手段が、
前記第１の面に配置された圧電体と、
前記圧電体に電圧を印加して前記駆動力を発生させる圧電電圧印加手段と、を有することを特徴とする請求項２に記載の可変形状鏡システム。
【請求項５】
前記圧電体が前記反射面を周回して配置されていることを特徴とする請求項４に記載の可変形状鏡システム。
【請求項６】
前記支持体と、前記裏面駆動電極と、前記表面駆動電極とのいずれか２つの間が、スペーサを介して絶縁されていることを特徴とする請求項３に記載の可変形状鏡システム。
【請求項７】
前記支持体と前記裏面駆動電極との間が、スペーサを介して絶縁されていることを特徴とする請求項４または５に記載の可変形状鏡システム。
【請求項８】
前記スペーサがガラスからなることを特徴とする請求項６または７に記載の可変形状鏡システム。
【請求項９】
前記支持体が、シリコンまたはシリコンの化合物からなることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の可変形状鏡システム。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか１項に記載の可変形状鏡システムを有することを特徴とする眼底観察装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、天体望遠鏡や眼底観察装置等に用いられる補償光学系を構成する可変形状鏡システムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
現在、眼科用機器として、様々な光学機器が使用されている。中でも、眼を観察する光学機器として、前眼部撮影機、眼底カメラ、共焦点レーザー走査検眼鏡（Scanning Laser Ophthalmoscope：ＳＬＯ）、光干渉断層撮像装置（Optical Coherence Tomography：ＯＣＴ）等、様々な機器が使用されている。
【０００３】
観察対象である眼球は、角膜・房水・水晶体・硝子体・網膜からなり、４枚貼り合わせレンズと見ることもできる。しかし、角膜や水晶体の屈折率が一様でない等の理由から、元来、眼球は収差を有しており、また、その収差が眼球の観察の妨げになることがある。
【０００４】
眼科用光学機器において、補償光学技術が利用されている。補償光学技術は、例えば眼球の収差を補正するために、波面の乱れを補正する技術である。具体的には、補償光学技術では、まず、シャック・ハルトマン法を用いた波面センサで波面の傾きを検知する。次に、波面の傾きを打ち消すように電圧を印加して可変形状鏡システムの反射面の形状を変化させて、波面の傾きを補正し、眼の収差の補正を行う。
【０００５】
上述の補償光学技術を、眼底観察に利用した例として、特許文献１があり、ここでは、補償光学系を用いた眼底観察装置を構成している。具体的には、被検眼の光学特性を測定し、その測定データに基づき、可変形状鏡システムの反射面の形状を調整している。また、可変形状鏡システムを駆動するための電圧変化テンプレートを用意し、該可変形状鏡システムの応答速度を改善することを特徴としている。
【特許文献１】特開２００５−２２１５７９号公報（図１、図１３）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、最近の眼底観察装置においては、観察像のさらなる高解像度化を図ることが要求されている。そのためには、従来の可変形状鏡システムを改善し、波面を補正する自由度をさらに高めていくことが課題となっている。
【０００７】
そこで、本発明の目的は、補償光学技術に利用される可変形状鏡システムの波面の補正の自由度を高めることにある。
【０００８】
また、本発明の他の目的は、上記可変形状鏡システムを眼底観察装置に用いることで、該眼底観察装置の高解像度化を図ることにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するために本発明の可変形状鏡システムは、第１の面と前記第１の面の裏面である第２の面とを備える平面状の支持体と、前記第１の面に配置された反射面と、前記第１の面側から前記支持体に駆動力を与えて前記支持体と共に前記反射面の形状を変化させる表面駆動手段と、前記第２の面側から前記支持体に駆動力を与えて前記支持体と共に前記反射面の形状を変化させる裏面駆動手段と、を有することを特徴としている。
【００１０】
上記目的を達成するために本発明の眼底観察装置は、前記可変形状鏡システムを有することを特徴としている。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の可変形状鏡システムによれば、反射面が配置された支持体の表裏の両方に駆動手段を有しているため、反射面の上への移動、下への移動、および変形を独立に制御することが容易になり、波面を補正する自由度を高めることができるという効果が得られる。
【００１２】
本発明の眼底観察装置によれば、波面の補正の自由度が高い上記の可変形状鏡システムを有しているため、解像度の高い観察像を容易に得ることができるという効果が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下に、本発明を実施するための最良の形態について図面を参照して説明する。
【００１４】
［第１の実施形態］（静電）
＜可変形状鏡システムの構造＞
まず、図１を用いて、本実施形態の可変形状鏡システム５００の構造について説明する。図１(a)は可変形状鏡システム５００の上面図を、図１(b)は図１(a)におけるＡ−Ａ’断面図を、それぞれ示している。なお、図１(b)では、理解が容易なように、縦方向の寸法を誇張して記載している。
【００１５】
本実施形態の可変形状鏡システム５００は、大きくは、下電極基板５２３、中電極基板５２２、上電極基板５２１が、順に、スペーサ５２５，５２４を介して積層された構造となっている。また、上電極基板５２１、中電極基板５２２、下電極基板５２３のそれぞれの間は電気的に絶縁されている。
【００１６】
ここでは、上電極基板５２１、スペーサ５２４、中電極基板５２２、スペーサ５２５、下電極基板５２３の厚さはそれぞれ、２００μｍ、２０μｍ、１μｍ、２０μｍ、２００μｍとなっている。ここで、スペーサ５２４、中電極基板５２２、スペーサ５２５の厚さは、ミラー５０１の駆動時の変形量を決定する重要な値である。
【００１７】
上電極基板５２１は、表面駆動電極となる上駆動電極５３１ａ，５３１ｂを有している。中電極基板５２２は、第１の面となる表面と第２の面となる裏面とを備える平面状の支持体であり、変形可能である。また、中電極基板５２２は、表面電極となる中駆動電極５３２ａ、裏面電極となる中駆動電極５３２ｂ、および反射面となるミラー５０１を有している。下電極基板５２３は、裏面駆動電極となる下駆動電極５３３ａ，５３３ｂを有している。また、上電極基板５２１は円形状の開口５０４を有しており、ミラー５０１を露出させている。ミラー５０１の大きさは直径１０ｍｍである。また、下電極基板５２３は絶縁膜５２６により表面（上面）が電気的に絶縁されている。ここでは、中電極基板５２２は、表面に中駆動電極５３２ａが、裏面（下面）に中駆動電極５３２ｂが、それぞれ配置されている。
【００１８】
ここでは、中電極基板５２２の第１の面側（表面側）に中駆動電極５３２ａに対向して上駆動電極５３１ａ，５３１ｂが、第２の面側（裏面側）に中駆動電極５３２ｂに対向して下駆動電極５３３ａ，５３３ｂが、それぞれ配置されている点に特徴がある。
【００１９】
中駆動電極５３２ａ，５３２ｂはアース５０４および電気配線５０５を介して電気的に接地されている。また、上駆動電極５３１ａ，５３１ｂは、表面電圧印加手段となる上電圧印加部５０２に電気配線５０５を介して接続されている。これにより、上電圧印加部５０２から、中駆動電極５３２ａと上駆動電極５３１ａ，５３１ｂとの間に、任意の電圧を印加して、ミラー５０１の形状を変化させる駆動力を発生させることができる。また、下駆動電極５３３ａ，５３３ｂは、裏面電圧印加手段となる下電圧印加部５０３に電気配線５０５を介して接続されている。これにより、下電圧印加部５０３から、中駆動電極５３２ｂと下駆動電極５３３ａ，５３３ｂとの間に、任意の電圧を印加して、ミラー５０１の形状を変化させる駆動力を発生させることができる。なお、ここでは、電気配線５０５は上駆動電極５３１ａ，５３１ｂから直接取り出すように記載したが、上電極基板５２１上に形成しても良い。
【００２０】
ここでは、上電極基板５２１およびスペーサ５２５はガラス、スペーサ５２４および下電極基板５２３はシリコン、中電極基板５２２および絶縁膜５２６は二酸化シリコン、からそれぞれなる。また、ミラー５０１は例えば反射率の高い金属であるＡｌ等からなる。また、電気配線５０５はＡｕやＡｌ等の低電気抵抗な金属からなる。
【００２１】
なお、ここでは、中駆動電極５３２ａ、上駆動電極５３１ａ，５３１ｂ、および上電圧印加部５０２が、中電極基板５２２の表面側から中電極基板５２２に駆動力を与えて中電極基板５２２と共にミラー５０１の形状を変化させる表面駆動手段を構成する。また、中駆動電極５３２ｂ、下駆動電極５３３ａ，５３３ｂ、および下電圧印加部５０３が、中電極基板５２２の裏面側から中電極基板５２２に駆動力を与えて中電極基板５２２と共にミラー５０１の形状を変化させる裏面駆動手段を構成する。
【００２２】
次に、図１(b)および(c)を用いて、上駆動電極５３１ａ，５３１ｂについて詳細に説明する。図１(c)は図１(b)におけるＢ−Ｂ’断面を下側から見た図である。
【００２３】
上駆動電極は開口５０６を周回するように円周状に形成されており、外側の５３１ａと内側の５３１ｂとからなる。ここでは、上駆動電極５３１ａ，５３１ｂは、円周状のものを二重に形成しているが、これより多くても少なくても良いし、また、５３１ａが必ずしも閉じていなくても良い。また、５３１ａと５３１ｂとは、それぞれが電気的に独立しており、異なる電位を与えることが可能なように電気配線５０５により配線されている（不図示）。
【００２４】
次に、図１(b)および(d)を用いて、中駆動電極５３２ａについて詳細に説明する。図１(d)は図１(b)におけるＢ−Ｂ’断面を上側から見た図である。
【００２５】
中駆動電極５３２ａはミラー５０１を周回するように円周状に形成されている。また、中駆動電極５３２ａは電気配線５０５およびアース５０４を介して電気的に接地されている（不図示）。
【００２６】
次に、図１(b)および(e)を用いて、中駆動電極５３２ｂについて詳細に説明する。図１(e)は図１(b)におけるＣ−Ｃ’断面を下側から見た図である。
【００２７】
中駆動電極５３２ｂはミラー５０１の裏側に円状に形成されている。また、中駆動電極５３２ｂは電気配線５０５およびアース５０４を介して電気的に接地されている。
【００２８】
次に、図１(b)および(f)を用いて、下駆動電極５３３ａ，５３３ｂについて詳細に説明する。図１(f)は図１(b)におけるＣ−Ｃ’断面を上側から見た図である。
【００２９】
下駆動電極は扇形状の５３３ａと円状の５３３ｂとからなる。ここでは、５３３ａは、扇形状のものを三重に形成し、これを４つ有している。また、５３３ａの中心角は８５度とする。また、５３３ｂはミラー５０１の中心の略下側の点を中心として、下電極基板５２３上に形成されている。また、５３３ｂは該中心については円状に形成されている。また、５３３ａと５３３ｂとはそれぞれ、電気的に独立しており、異なる電位を与えることが可能なように電気配線５０５により配線されている。また、ここでは、電気配線５０５は下駆動電極５３３ａ，５３３ｂから直接取り出すように記載したが、下電極基板５２３上に形成しても良い。また、５３３ａの中心角や何重か等の設計値は所望の仕様にあわせて設定する。また、ここでは、下駆動電極５３３ａを扇形としたが、所望のミラー５０１の形状にあわせて、設計する必要があり、六角形状や四角形状も用いることができる。
【００３０】
＜可変形状鏡システムの動作＞
次に、図２を用いて、上記構成の可変形状鏡システム５００の動作について説明する。なお、図２(a)には全ての構成要素を図示したが、図２(b)および(c)では電気配線５０５や電圧印加手段５０２，５０３等を、説明を簡単にするため、省いた。
【００３１】
可変形状鏡システム５００において、中駆動電極５３２ａの電位を０Ｖとし、上駆動電極５３１ａ，５３１ｂに正または負の電位を与える。すると、中駆動電極５３２ａと上駆動電極５３１ａ，５３１ｂとの間に静電引力が働き、中駆動電極５３２ａが上駆動電極５３１ａ，５３１ｂに引き寄せられ、図２(a)に示すように、ミラー５０１が上方に移動する。
【００３２】
また、中駆動電極５３２ｂの電位を０Ｖとし、下駆動電極５３３ａ，５３３ｂに正または負の電位を与える。すると、中駆動電極５３２ｂと下駆動電極５３３ａ，５３３ｂとの間に静電引力が働き、中駆動電極５３２ｂが下駆動電極５３３ａ，５３３ｂに引き寄せられ、図２(b)に示すように、ミラー５０１が下方に移動する。
【００３３】
また、上駆動電極５３１ａ，５３１ｂおよび下駆動電極５３３ａ，５３３ｂに印加する電圧を工夫することで、図２(c)に示すように、ミラー５０１の形状を変形させることができる。
【００３４】
上述したように本実施形態においては、ミラー５０１が配置された中電極基板５２２の上側および下側の両方に、電極間の静電力を利用した駆動手段を設けている。このため、電極間の静電力によって、図２(a)および(b)に示したように、ミラー５０１を上下方向に移動することができ、また、図２(c)に示したように、ミラー５０１の形状を変形することができる。すなわち、ミラー５０１の上への移動、下への移動、および変形を独立に制御することが容易になり、波面を補正する自由度を高めることが可能になる。ここで、上駆動電極５３１ａ，５３１ｂと下駆動電極５３３ａ，５３３ｂとに与える電位は±２００Ｖ以内である。
【００３５】
また、本実施形態においては、静電力による駆動を利用することにより、簡単な構成で可変形状鏡システム５００を実現することができる。
【００３６】
また、本実施形態においては、中電極基板５２２と、上駆動電極５３１ａ，５３１ｂおよび下駆動電極５３３ａ，５３３ｂと、の間がスペーサ５２４，５２５を介して絶縁されている。このため、電極間の寸法を、簡単な構成で一定に保つことができる。
【００３７】
また、本実施形態においては、スペーサ５２４，５２５はガラスからなることが好ましい。これによれば、ガラスは高精度に加工することが可能なため、電極間の寸法を高精度に規定することができる。また、ガラスには陽極接合が利用可能なため、簡単な作製手段で可変形状鏡システム５００を実現することができる。
【００３８】
また、本実施形態においては、中電極基板５２２はシリコンまたはシリコンの化合物からなることが好ましい。これにより、中電極基板５２２を容易に薄膜化することが可能になり、変形の大きな可変形状鏡システム５００を実現することができる。
【００３９】
［第２の実施形態］（圧電）
＜可変形状鏡システムの構造＞
まず、図３を用いて、本実施形態の可変形状鏡システム５００の構造について説明する。図３(a)は可変形状鏡システム５００の上面図を、図３(b)は図３(a)におけるＡ−Ａ’断面図を、それぞれ示している。なお、図３(b)では、理解が容易なように、縦方向の寸法を誇張して記載している。
【００４０】
本実施形態の可変形状鏡システム５００は、大きくは、下電極基板５２３、スペーサ５２５、中電極基板５２２、スペーサ５２４が、順に、積層された構造となっている。また、中電極基板５２２と下電極基板５２３との間は電気的に絶縁されている。
【００４１】
ここでは、スペーサ５２４、中電極基板５２２、スペーサ５２５、下電極基板５２３の厚さはそれぞれ、２００μｍ、１μｍ、２０μｍ、２００μｍとなっている。ここで、中電極基板５２２、スペーサ５２５の厚さは、ミラー５０１の剛性および駆動時の変形量を決定する重要な値である。
【００４２】
中電極基板５２２は、第１の面となる表面と第２の面となる裏面とを備える平面状の支持体であり、変形可能である。また、中電極基板５２２は、圧電体となる圧電素子５４１、裏面電極となる中駆動電極５３２ｂ、および反射面となるミラー５０１を有している。下電極基板５２３は、裏面駆動電極となる下駆動電極５３３ａ，５３３ｂを有している。また、ミラー５０１の大きさは直径１０ｍｍである。下電極基板５２３は絶縁膜５２６により表面（上面）が電気的に絶縁されている。ここでは、中電極基板５２２は、裏面（下面）に中駆動電極５３２ｂが配置されている。
【００４３】
ここでは、中電極基板５２２の表面に圧電素子５４１が配置され、また、中電極基板５２２の第１の面側（表面側）に中駆動電極５３２ｂに対向して下駆動電極５３３ａ，５３３ｂが配置されている点に特徴がある。なお、圧電素子５４１はミラー５０１を周回するように形成されている。
【００４４】
中駆動電極５３２ｂはアース５０４および電気配線５０５を介して電気的に接地されている。また、圧電素子５４１は、圧電電圧印加手段となる圧電電圧印加部５４２に電気配線５０５を介して接続されている。これにより、圧電電圧印加部５４２から圧電素子５４１に任意の電圧を印加して、ミラー５０１の形状を変化させる駆動力を発生させることができる。また、下駆動電極５３３ａ，５３３ｂは、裏面電圧印加手段となる下電圧印加部５０３に電気配線５０５を介して接続されている。これにより、下電圧印加部５０３から、中駆動電極５３２ｂと下駆動電極５３３ａ，５３３ｂとの間に、任意の電圧を印加して、ミラー５０１の形状を変化させる駆動力を発生させることができる。なお、ここでは、電気配線５０５は圧電素子５４１から直接取り出すように記載したが、中電極基板５２２上に形成しても良い。
【００４５】
ここでは、スペーサ５２５はガラス、スペーサ５２４および下電極基板５２３はシリコン、中電極基板５２２および絶縁膜５２６は二酸化シリコン、からそれぞれなる。また、ミラー５０１は例えば反射率の高い金属であるＡｌ等からなる。また、電気配線５０５はＡｕやＡｌ等の低電気抵抗な金属からなる。圧電素子５４１はＰＺＴ（チタン酸ジルコン酸鉛）やＺｎＯ（酸化亜鉛）からなり、ここではモノモルフ構造を形成している。また、圧電素子５４１の厚さ方向に電位差が発生するように電気配線５０５と圧電電圧印加部５４２とを接続し、電位差がある場合には圧電素子５４１の半径方向に伸縮を行うように分極処理され、配置されていることを特徴としている。
【００４６】
なお、ここでは、圧電素子５４１および圧電電圧印加部５４２が、中電極基板５２２の表面側から中電極基板５２２に駆動力を与えて中電極基板５２２と共にミラー５０１の形状を変化させる表面駆動手段を構成する。また、中駆動電極５３２ｂ、下駆動電極５３３ａ，５３３ｂ、および下電圧印加部５０３が、中電極基板５２２の裏面側から中電極基板５２２に駆動力を与えて中電極基板５２２と共にミラー５０１の形状を変化させる裏面駆動手段を構成する。
【００４７】
＜可変形状鏡システムの動作＞
次に、図３(c)を用いて、上記構成の可変形状鏡システム５００の動作について説明する。なお、図３(b)には全ての構成要素を図示したが、図３(c)では電気配線５０５や電圧印加手段５０３，５４２等を、説明を簡単にするため、省いた。
【００４８】
可変形状鏡システム５００において、圧電電圧印加部５４２を用いて、圧電素子５４１の表裏面に電位差を与えると、圧電素子５４１が半径方向に縮んで、図３(c)に示すようにミラー５０１が上方に移動する。
【００４９】
上述したように本実施形態においては、ミラー５０１が配置された中電極基板５２２の上側に、圧電素子５４１を利用した駆動手段を設け、下側に、電極間の静電力を利用した駆動手段を設けている。このため、圧電素子５４１の伸縮によってミラー５０１を上下方向に移動することができ、また、下駆動電極５３３ａ，５３３ｂと中駆動電極５３２ｂとの静電力によってミラー５０１の形状を変形することができる。すなわち、ミラー５０１の上への移動、下への移動、および変形を独立に制御することが容易になり、波面を補正する自由度を高めることが可能になる。
【００５０】
また、本実施形態においては、圧電素子５４１を利用するため、低電圧での駆動が可能になり、簡単な構成の可変形状鏡システム５００を実現することができる。
【００５１】
また、本実施形態においては、中電極基板５２２と下駆動電極５３３ａ，５３３ｂとの間がスペーサ５２５を介して絶縁されている。このため、電極間の寸法を、簡単な構成で一定に保つことができる。
【００５２】
また、本実施形態においては、スペーサ５２５はガラスからなることが好ましい。これによれば、ガラスは高精度に加工することが可能なため、電極間の寸法を高精度に規定することができる。また、ガラスには陽極接合が利用可能なため、簡単な作製手段で可変形状鏡システム５００を実現することができる。
【００５３】
また、本実施形態においては、中電極基板５２２はシリコンまたはシリコンの化合物からなることが好ましい。これにより、中電極基板５２２を容易に薄膜化することが可能になり、変形の大きな可変形状鏡システム５００を実現することができる。
【００５４】
［第３の実施例］（眼底観察装置）
次に、図４を用いて、本実施形態の眼底観察装置を６０１について説明する。図４は眼底観察装置６０１の概念図を示している。
【００５５】
眼底観察装置６０１は補償光学系６１２を有し、さらに補償光学系６１２が第１または第２の実施形態のいずれかに記載した可変形状鏡システム５００を有することを特徴としている。ここでは、眼底観察装置６０１は眼底観察のための光学系として一般的に共通に使用されるものを示している。具体的には、眼底観察装置６０１は、前眼部撮影機、眼底カメラ、共焦点レーザー走査検眼鏡、光干渉断層撮像装置等に利用される。
【００５６】
眼底観察装置６０１においては、光源６０２から出る入射光６１３（実線）がスプリットミラー６０７により反射して、観察対象である眼球６０３に入射する。そして、眼球６０３からの反射光６１４（破線）が、可変形状鏡システム５００を反射して、光センサ６０６に入射し、観察像が得られる構成となっている。ここでは、入射光６１３と反射光６１４の矢印の向きはそれぞれの光の進む方向を示している。具体的には、光センサ６０６には、フォトダイオードやフォトダイオードのアレイを用いる。
【００５７】
次に、眼底観察装置６０１における補償光学系６１２の構成について説明する。補償光学系６１２は、主に、波面の位相を補正する可変形状鏡システム５００と、波面の位相を測定する波面センサ６０５とからなる。さらに、反射光６１４を波面センサ６０５に導くためのスプリットミラー６０８と、波面センサ６０５で得られた位相に従って、可変形状鏡システム５００を制御するコントローラ６０４とが設けられている。
【００５８】
次に、補償光学系６１２を含めた眼底観察装置６０１の動作について説明する。光源６０２から出る入射光６１３はスプリットミラー６０７にて反射し、眼球６０３に到達する。しかし、眼球６０３からの反射光６１４の波面６１０は、眼球の屈折率のばらつき等の理由で波面６１０の位相が揃っていない。反射光６１４は可変形状鏡システム５００にて反射し、次にスプリットミラー６０８にて、反射光６１４の一部が波面センサ６０４に入射し、反射光６１４の波面の位相を測定する。コントローラ６０４は測定した位相から反射光６１４の波面の位相が揃うように可変形状鏡システム５００を制御する。結果として、レンズ（或いはレンズ群）６０９を通して、補正した波面６１１を有する反射光６１４が、光センサ６０６に入射することになり、解像度の高い観察像が得られる。また、本発明の可変形状鏡システム５００は波面の補正の自由度が高いため、解像度の高い観察像を容易に得ることが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１（ａ）】本発明の第１の実施形態の可変形状鏡システムの上面図である。
【図１（ｂ）】図１(a)におけるＡ−Ａ’断面図である。
【図１（ｃ）】図１(b)におけるＢ−Ｂ’断面を下側から見た図である。
【図１（ｄ）】図１(b)におけるＢ−Ｂ’断面を上側から見た図である。
【図１（ｅ）】図１(b)におけるＣ−Ｃ’断面を下側から見た図である。
【図１（ｆ）】図１(b)におけるＣ−Ｃ’断面を上側から見た図である。
【図２（ａ）】本発明の第１の実施形態の可変形状鏡システムの動作を説明する図である。
【図２（ｂ）】本発明の第１の実施形態の可変形状鏡システムの動作を説明する図である。
【図２（ｃ）】本発明の第１の実施形態の可変形状鏡システムの動作を説明する図である。
【図３（ａ）】本発明の第２の実施形態の可変形状鏡システムの上面図である。
【図３（ｂ）】図３(a)におけるＡ−Ａ’断面図である。
【図３（ｃ）】本発明の第２の実施形態の可変形状鏡システムの動作を説明する図である。
【図４】本発明の第３の実施形態の眼底観察装置の概念図である。
【符号の説明】
【００６０】
５００    可変形状鏡システム
５０１    ミラー
５０２    上電圧印加部
５０３    下電圧印加部
５０４    アース
５０５    電気配線
５０６    開口
５２１    上電極基板
５２２    中電極基板
５２３    下電極基板
５２４，５２５    スペーサ
５２６    絶縁膜
５３１ａ，５３１ｂ    上駆動電極
５３２ａ，５３２ｂ    中駆動電極
５３３ａ，５３３ｂ    下駆動電極
５４１    圧電素子
５４２    圧電電圧印加部
６０１    眼底観察装置
６０２    光源
６０３    眼球
６０４    コントローラ
６０５    波面センサ
６０６    光センサ
６０７，６０８    スプリットミラー
６０９    レンズ（或いはレンズ群）
６１０，６１１    波面
６１２    補償光学系
６１３    入射光
６１４    反射光
【図１（ａ）】
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【図１（ｂ）】
2008281683.tif 000004
【図１（ｃ）】
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【図１（ｄ）】
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【図１（ｅ）】
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【図１（ｆ）】
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【図２（ａ）】
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【図２（ｂ）】
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【図２（ｃ）】
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【図３（ａ）】
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【図３（ｂ）】
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【図３（ｃ）】
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【図４】
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