(57)【要約】【課題】基板の洗浄を行っているときに、基板の端面に付着している汚れが基板の表面に転移して拡散されることを防止することを目的とする。【解決手段】基板Ｓを搬送するローラ搬送体１の上下には基板Ｓを擦動動作により洗浄を行うブラシユニット１２Ａ、１２Ｂが設けられている。基板Ｓのうち先端面ＳＡと表面ＳＢとの間で洗浄度に変化を持たせ、先端面ＳＡの洗浄度を表面ＳＢの洗浄度よりも低くするために、先端面ＳＡを擦動するときにはブラシユニット１２Ａ、１２Ｂの回転速度を低速にし、表面ＳＢを擦動するときにはブラシユニット１２Ａ、１２Ｂの回転速度を高速にする。先端面ＳＡの洗浄度を低くしているため、先端面ＳＡに付着している汚れが基板Ｓの表面ＳＢに転移して拡散することを抑制できる。【選択図】  図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を搬送する搬送手段と、
前記搬送手段により搬送される基板を擦動することにより洗浄する洗浄手段と、
前記搬送手段により搬送される基板の表面と先端面とで洗浄度を変化させ、前記表面よりも低い洗浄度で前記先端面を洗浄するように前記洗浄手段を制御する制御手段と、を有する洗浄装置。
【請求項２】
前記洗浄手段は、回転駆動手段の駆動力により回転して基板を擦動することにより洗浄する回転式擦動部材であり、
前記制御手段は、前記搬送手段を搬送される基板のうち、前記先端面が前記洗浄手段に突入する際には前記回転式擦動部材の回転速度を低速にし、前記表面に前記洗浄手段が接触を開始した後には前記回転式擦動部材の回転速度を高速に制御する、ことを特徴とする請求項１記載の洗浄装置。
【請求項３】
前記洗浄手段は、回転駆動手段の駆動力により回転して基板を擦動動作により洗浄する回転式擦動部材であり、
前記制御手段は、前記搬送手段を搬送される基板のうち、前記先端面が前記洗浄手段に突入する際には前記回転式擦動部材の回転を停止し、前記表面に前記洗浄手段が接触を開始した後には前記回転式擦動部材を回転させる制御を行う、ことを特徴とする請求項１記載の洗浄装置。
【請求項４】
前記制御手段は、前記搬送手段を搬送される基板のうち、前記先端面が前記洗浄手段の配置位置に進入を開始するまでは前記洗浄手段を基板から離間させ、進入開始後は前記洗浄手段を基板に接触させる制御を行う、ことを特徴とする請求項１記載の洗浄装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のうち何れか１項に記載の洗浄装置を有するフラットパネルディスプレイの製造装置。
【請求項６】
請求項５記載のフラットパネルディスプレイの製造装置により製造されたフラットパネルディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板を洗浄するときに用いられる洗浄装置であって、特に基板の部位によって条件を変化させて洗浄を行う洗浄装置、この洗浄装置を適用したフラットパネルディスプレイの製造装置及びこのフラットパネルディスプレイの製造装置により製造されたフラットパネルディスプレイに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイの主要構成部品としてＴＦＴ基板及びカラーフィルタ基板がある。例えば、ＴＦＴ基板はガラス基板に所定の回路パターンを形成するために、感光剤の塗布工程や現像工程、エッチング工程等の種々の処理が繰り返し行われる。基板は搬送手段により順次各処理を行う処理装置を搬送されている間に各種の処理が行われる。各処理においては、前段の処理から後段の処理に移行するときに、適宜搬送されている基板に対して洗浄処理を施す。
【０００３】
プロセス処理が行われる基板は水平方向または基板搬送方向あるいは搬送方向と直交する方向に傾斜させて搬送され、搬送手段の上下に位置する部位に洗浄手段を設けて、洗浄液を供給しながら、基板の表裏両面を洗浄するようにしている。一般的に洗浄手段は、例えばロールブラシ等の回転式の擦動部材を用いて、基板の表面及び裏面を洗浄するようにしている。
【０００４】
プロセス処理が行われる基板は逐次的に各工程の処理が行われ、搬送手段には多数の基板が搬送されている。このため、１つの洗浄手段により、多数の基板が洗浄されることになるが、洗浄手段は回転擦動により基板に付着した汚れを洗浄するため、基板を洗浄する度に洗浄手段に汚れが蓄積していく。そして、洗浄手段に付着した汚れが、次の基板の洗浄を行うときに転移され、基板の洗浄度が低下する等の問題がある。
【０００５】
このため、定期的に洗浄手段としてのロールブラシのメンテナンスを行うものが特許文献１及び特許文献２に開示されている。特許文献１は、ロールブラシに付着した異物を毛先払い部材に接触させて除去を行い、ロールブラシの洗浄を行わないときには、ロールブラシと毛払い部材とが接触しない位置に相対移動させている。また、特許文献２は、上下に配置されたロールブラシのブラシ毛を相互に接触する間隔で配置し、基板搬出後に相互にブラシ毛を接触させて、ブラシ毛に付着している微粒子を払い除くメンテナンスを行っている。
【特許文献１】特開２００１−５４７６５号公報
【特許文献２】特開平７−６９８７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、基板の洗浄という場合、対象とする汚れに応じて洗浄方式を変えるのが一般的である。基板の汚れの代表的なものとしては、基板の表面への有機物の付着があり、これは有機汚れと呼ばれるものである。また、基板の表面における微小な異物の付着があり、これはパーティクル汚れと呼ばれるものである。通常は、有機汚れにはスクラブ洗浄が適しており、パーティクル汚れには超音波洗浄が適している。従って、特許文献１や特許文献２のロールブラシのような擦動手段により直接的に擦って行われる洗浄は、スクラブ洗浄となり、対象となる汚れは有機汚れとなる。
【０００７】
基板には有機汚れもパーティクル汚れも付着することがあり、この場合にはスクラブ洗浄と超音波洗浄との両方の洗浄を行う。インラインで洗浄を行う場合には、超音波で加振した先浄水のシャワーを基板に噴射して超音波洗浄を行い、その後にブラシ等を用いたスクラブ洗浄を行うことが望ましい。一方、所定のプロセス処理後に行われる洗浄としては、スクラブ洗浄のみとなし、超音波洗浄を行わない。つまり、パーティクル汚れが除去された後には、超音波洗浄を行わずに、ロールブラシを用いたスクラブ洗浄を行うことが一般的である。
【０００８】
ところで、超音波洗浄は基板の表面を加振して行うものであり、パーティクル汚れに対する作用は基板の表面に対して有効であり、基板の四周の端面に対しては必ずしも十分な洗浄ができるものではない。このために、基板の端面にはパーティクル汚れが残存している場合がある。ただし、基板の端面に多少の異物が付着していても、液晶ディスプレイとして構成したときには、格別な支障を来たさないため、あえて端面を高精度に洗浄することはしない。
【０００９】
従って、スクラブ洗浄を行う場合には、できるだけ基板の端面を擦動しないようにすることが望ましい。つまり、水平方向または基板搬送方向あるいは搬送方向と直交する方向に傾斜させて搬送される基板に対して、ロールブラシと基板とが最初に接触する部位は基板の端面であり、この端面にパーティクル汚れが付着していると、擦動によりパーティクル汚れがローブラシに巻き込まれてしまう。そして、巻き込まれたパーティクル汚れは、基板の表面を擦動しているときに再び付着してしまうことがある。つまり、基板端面に付着していたパーティクル汚れが、ロールブラシを介して間接的に基板表面に転移して拡散してしまうことになる。また、前述したように、ロールブラシによる洗浄は、有機汚れの除去を主目的とするものであり、ロールブラシにパーティクル汚れが付着すると、本来的なロールブラシの主目的である有機汚れの除去という機能が著しく低下することになる。
【００１０】
そして、特許文献１では毛払い部材を用いてロールブラシの汚れを除去し、特許文献２ではロールブラシ同士を接触させて汚れを除去するメンテナンスを行っているが、これらは、基板を洗浄している間に行われるメンテナンスではなく、基板搬出後に独立に行われるメンテナンス作業において行われるものである。そうすると、基板の洗浄を行っている最中にはメンテナンス作業は行われず、ロールブラシを媒介として基板端面のパーティクル汚れが基板表面に拡散することを防止することはできない。
【００１１】
そこで、本発明は、基板の洗浄を行っているときに、基板の端面に付着している汚れが基板の表面に転移して拡散されることを防止することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
以上の課題を解決するため、本発明の請求項１の洗浄装置は、  基板を搬送する搬送手段と、前記搬送手段により搬送される基板を擦動することにより洗浄する洗浄手段と、  前記搬送手段により搬送される基板の表面と先端面とで洗浄度を変化させ、前記表面よりも低い洗浄度で前記先端面を洗浄するように前記洗浄手段を制御する制御手段と、を有している。
【００１３】
基板の表面の洗浄度は高くして、先端面の洗浄度を低くすることにより、先端面に付着した汚れが洗浄手段に付着することを抑制することができ、洗浄手段を介して間接的に先端面の汚れが表面に転移して拡散することを防止することができる。先端面の洗浄度を低くするために、基板が洗浄手段の配設位置に突入するときに洗浄手段による先端面の擦動を行わないか、または最小限の擦動とする。そして、基板の先端面は切断によって形成されるため、先端面には主に切断粉等のパーティクルが付着する。このため、先端面の洗浄度を低くすることにより、先端面に付着しているパーティクルが表面全体に拡散することを防止できる。なお、先端面とは、基板と洗浄手段とが最初に接触する端面のことをいう。
【００１４】
先端面を擦動しないか、または最小限の擦動とすることにより、先端面に付着している汚れは依然として付着したままであるが、この部位に汚れが付着していたとしても大きな影響はない。つまり、液晶ディスプレイを構成する基板は、表示領域を構成する表面は洗浄度を高くしなければならないが、先端面は表示領域を構成しないため、表面ほどは洗浄度を高くする必要がない。また、洗浄を行った後に、基板を所定の形状に整えるときには、先端面を含む一定領域が切断されて不要部材となるため、この場合は先端面を積極的に擦動する必要はない。つまり、請求項１の洗浄装置では、基板のうち高度な洗浄度が要求される表面を集中的に擦動し、表面ほどの洗浄度が要求されない先端面の洗浄度を擦動しないか、または最小限の擦動とすることにより、先端面の汚れが表面に拡散することを防止できる。
【００１５】
そして、請求項１の洗浄装置では、表面と先端面とで洗浄度を変化させているため、処理効率性という点でも有利な効果を奏する。つまり、先端面の洗浄度を積極的に低くしているため、洗浄手段に蓄積する汚れを抑制することができ、メンテナンス回数を少なくすることができる。このため、全体としての処理の効率性の向上に資する。また、メンテナンスを行う毎に洗浄手段も消耗していくため、メンテナンス回数を抑制することにより、洗浄手段の消耗を抑制することができる。
【００１６】
本発明の請求項２の洗浄装置は、請求項１記載の洗浄装置において、前記洗浄手段は、回転駆動手段の駆動力により回転して基板を擦動することにより洗浄する回転式擦動部材であり、前記制御手段は、前記搬送手段を搬送される基板のうち、前記先端面が前記洗浄手段に突入する際には前記回転式擦動部材の回転速度を低速にし、前記表面に前記洗浄手段が接触を開始した後には前記回転式擦動部材の回転速度を高速に制御する、ことを特徴とする。
【００１７】
回転式擦動部材を用いて洗浄する場合、先端面の回転速度を低速にしているため、先端面の擦動は最小限に抑制される。このため、先端面はそれほど擦動されないことから、先端面に付着した汚れが基板全体に拡散することはない。一方、表面を洗浄するときには回転式擦動部材の回転速度は高速になっているため、この部位は十分に擦動されて、洗浄度を高くすることができる。また、先端面において回転式擦動部材の回転速度は低速になっているものの、完全に停止してはいない。そうすると、端面の部位から表面の部位に洗浄が移行するときに、回転速度を迅速に高速にすることができる。このため、基板表面のエッジ近傍の部位についても、迅速に回転速度を高速にできることから、エッジ近傍の部位についても十分に擦動することができる。
【００１８】
また、基板端面に付着する汚れとしては、先端面から若干浮いている付着強度がそれほど強くない汚れもある。このような汚れをそのままにしておくと、洗浄工程を経た後の工程において、先端面から剥がれて表面に付着してしまう可能性がある。従って、表面に付着した汚れを再度洗浄することができない場合もあるため、強力にこびりついた汚れはともかく、先端面から浮いている汚れは除去しておいたほうが好ましい。この観点からも、先端面においても、回転式擦動部材は低速回転をしているため、低速回転によって先端面から浮いている汚れを除去することができる。
【００１９】
本発明の請求項３の洗浄装置は、請求項１記載の洗浄装置において、前記洗浄手段は、回転駆動手段の駆動力により回転して基板を擦動動作により洗浄する回転式擦動部材であり、前記制御手段は、前記搬送手段を搬送される基板のうち、前記先端面が前記洗浄手段に突入する際には前記回転式擦動部材の回転を停止し、前記表面に前記洗浄手段が接触を開始した後には前記回転式擦動部材を回転させる制御を行う、ことを特徴とする。
【００２０】
請求項３の洗浄装置では、先端面と表面とで洗浄度に差を持たせるために、先端面の部位においては回転式擦動部材の回転を停止させている。これにより、先端面に付着している汚れが基板全体に転移して拡散することを防止できる。回転式擦動部材の回転が停止しているため、基板の先端面における擦動は殆ど行われないため（回転はしていないものの、回転式擦動部材と基板とは接触状態にあり、完全に擦動が行われていないわけではない）、先端面の汚れの拡散防止効果をより高いものにすることができる。
【００２１】
本発明の請求項４の洗浄装置は、請求項１記載の洗浄装置において、前記制御手段は、前記搬送手段を搬送される基板のうち、前記先端面が前記洗浄手段の配置位置に進入を開始するまでは前記洗浄手段を基板から離間させ、進入開始後は前記洗浄手段を基板に接触させる制御を行う、ことを特徴とする。
【００２２】
請求項４の洗浄装置では、洗浄部位が先端面の場合には洗浄手段を基板から離間させて非接触状態としているため、先端面の汚れは一切洗浄手段に付着しない。このため、先端面の汚れの拡散防止効果という点では最大限、その効果を発揮する。
【００２３】
本発明の請求項５のフラットパネルディスプレイの製造装置は、請求項１乃至４のうち何れか１項に記載の洗浄装置を有している。以上の洗浄装置を適用できる製造装置としては種々あるが、例えばフラットパネルディスプレイの製造装置がある。また、本発明の請求項６のフラットパネルディスプレイは、請求項５記載のフラットパネルディスプレイの製造装置により製造されたフラットパネルディスプレイである。
【００２４】
回転式擦動部材としては、回転駆動する回転軸にナイロン毛等からなるブラシを装着したブラシユニットを適用することができる。また、ブラシに代えて、例えばスポンジ等も適用できる。そして、洗浄される基板は、基本的には表裏両面が洗浄されるため、回転式擦動部材は搬送路に上下２箇所に設けられる。ただし、表面又は裏面の何れかの面を洗浄する場合には、上部又は下部の何れか一方に回転式擦動部材を設けてもよい。
【００２５】
洗浄される基板としては、液晶ディスプレイの構成部品となるＴＦＴ基板の他にも、カラーフィルタ基板についても適用できる。また、ＥＬディスプレイやプラズマディスプレイ等に用いられる基板にも適用できる。
【発明の効果】
【００２６】
本発明は、基板の先端面と表面とで洗浄度に変化を持たせ、先端面の擦動を最小限度にすることで、先端面に付着している汚れが基板表面に転移して拡散することを抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。最初に、第１の実施形態について説明する。第１の実施形態は、基板の先端面と表面とで洗浄度に変化を持たせるために、回転式擦動部材の回転速度を変化させている。一方、第２の実施形態は、先端面と表面とにおいて、回転式擦動部材を基板に対して接触状態又は非接触状態にすることにより、洗浄度に変化を持たせている。
【００２８】
＜本発明の第１の実施形態＞
最初に、第１の実施形態について説明する。図１には、搬送手段の概略構成を示している。搬送手段はローラ搬送体１から構成されている。ローラ搬送体１は、駆動軸２と複数のローラ３とが多段になって構成され、複数のローラ３は駆動軸２の軸線方向に所定の間隔で配置されている。駆動軸２は図示しない回転駆動手段に接続されて等速回転する構成を採っており、基板Ｓはローラ３上を等速に水平搬送されていく。ローラ搬送体１は前段の処理工程から後段の処理工程に接続され、基板Ｓはローラ搬送体１に搬送されて順次処理が施される。なお、ここでは基板は水平搬送としているが、基板の搬送方向あるいは搬送方向と直交する方向に傾斜させて搬送するものであってもよい。
【００２９】
洗浄装置は、回転軸１０とブラシ１１とを有するブラシユニット１２により主に構成される。ブラシ１１は例えばナイロン毛やスポンジ等を円筒形状に植設することにより形成され、回転軸１０の回転によりブラシ１１が回転する。ブラシ１１を設けた部位は基板Ｓの幅寸法よりも広くなっており、水平搬送される基板Ｓにブラシ１１を押し当てて回転することによって、基板Ｓの移動中に全体がブラシ１１により擦動されることになる。
【００３０】
図２に示すように、洗浄手段としてのブラシユニット１２は前後のローラ搬送体１、１の間において上下に設けられ（上部のブラシユニットを１２Ａ、下部のブラシユニットを１２Ｂとする）、基板Ｓの表裏両面に対して擦動を行って洗浄する。各ブラシユニット１２Ａ、１２Ｂは回転軸１０の両端が軸受ブロック１３に回転自在に支えられており、回転軸１０の一端は支持部材により支持されるモータ１４に連結されている。また、図示はしていないが、洗浄液供給手段により洗浄液を基板Ｓとブラシユニット１２Ａ、１２Ｂとの接触部位に供給しながら洗浄が行われる。
【００３１】
図１に戻って、モータ１４は回転速度制御装置１５に接続され、回転速度制御装置１５は基板検出装置１６に接続される。回転速度制御装置１５はモータ１４の回転速度を制御する部材であり、基板検出装置１６はローラ搬送体１を搬送される基板Ｓの通過を検出する装置である。図示はしていないが、基板検出装置１６は投光部と受光部とを具備し、投光部から投射される位置に受光部を配置する。投光部又は受光部のうち何れか一方をローラ搬送体１の上部に、他方を下部に配置する。投光部と受光部との間に基板Ｓがある場合とない場合とで、受光の態様が変化するため、これにより基板Ｓの通過を検出することができる。なお、透過式のセンサに換えて反射式のセンサを使用してもよい。また、ここでは、光によって基板Ｓの通過を検出しているが、例えば電気的な手段や機械的な手段等の他の手段により通過を検出するものであってもよい。
【００３２】
基板検出装置１６は基板Ｓの通過を検出したときには、その旨の信号を回転速度制御装置１５に出力する。回転速度制御装置１５は、基板検出装置１６からの信号に基づいて、モータ１４の回転速度を制御する。図３を参照して、モータ１４の回転速度制御の態様について説明する。
【００３３】
基板Ｓのうち先端面ＳＡの洗浄度を低くするために、この部位の擦動を最小限に抑制する。このため、先端面ＳＡでのブラシユニット１２Ａ、１２Ｂの回転速度を低速にする制御を行っている。そこで、基板Ｓの通過を基板検出装置１６が検出し、回転速度制御装置１５がその旨の信号を入力したときに、回転速度制御装置１５はモータ１４の回転速度を低速（速度ＶＳ）にする制御を行う。基板検出装置１６とブラシユニット１２Ａ、１２Ｂとの間には所定間隔が存在するため、基板検出装置１６が基板Ｓを検出したときに、即時に回転速度を低速にするのではなく、基板Ｓの先端面ＳＡがブラシユニット１２Ａ、１２Ｂに突入するタイミングで、モータ１４の回転速度を低速にする制御を行う。
【００３４】
先端面ＳＡとブラシユニット１２Ａ、１２Ｂとが接触したときには、この部位での擦動を最小限に抑制する。基板Ｓはローラ搬送体１により搬送されているため、次にブラシユニット１２Ａ、１２Ｂと基板Ｓとが接触する部位、つまり表面ＳＢの洗浄が行われる。表面ＳＢのほぼ全面に対して洗浄度を高くしなければならないため、回転速度制御装置１５はモータ１４の回転速度を速度ＶＦにする制御を行う。速度ＶＳから速度ＶＦに切り替えるタイミングは、回転速度制御装置１５がモータ１４を速度ＶＳにしてから所定時間経過後である。この所定時間は、等速で基板Ｓを搬送しているローラ搬送体１の搬送速度と先端面ＳＡの基板搬送方向の長さとから求めることができる。
【００３５】
先端面ＳＡから表面ＳＢに洗浄が移行するときには、回転速度を低速（速度ＶＳ）から高速（速度ＶＦ）に切り替えているが、速度差があるため、瞬時に速度が切り替わらない。一方、基板Ｓはローラ搬送体１を等速に搬送されているため、速度を切り替えている最中には、表面ＳＢのエッジ近傍の若干の部分は速度ＶＦで洗浄されず、従って本来的な洗浄度と同等な洗浄度を得られてはいない。しかし、先端面ＳＡにおいても、ブラシユニット１２Ａ、１２Ｂの回転速度は低速であるものの、回転はしているため、速度ＶＳと速度ＶＦとの速度差はそれほど大きいものではない。このため、スムーズに且つ迅速に速度を切り替えることができるため、前記の若干の部分の領域は極めて狭小な領域となり、基板の洗浄度という観点からはそれほど影響を与えるものではない。また、当該領域は、画素の表示領域を構成せず、基板を保持する枠体の領域となるため、表面ＳＡほどの洗浄度は要求されない。従って、先端面ＳＡにおいて、ブラシユニット１２Ａ、１２Ｂの回転速度を低速にしても、特段の問題は起こらない。
【００３６】
以上のように、基板Ｓの先端面ＳＡと表面ＳＢとで、ブラシユニット１２Ａ、１２Ｂの回転速度をＶＳとＶＦとで変化させることにより、表面ＳＢの洗浄度を先端面ＳＡの洗浄度よりも高くなるように制御しているため、先端面ＳＡの汚れが基板Ｓの全体に拡散することを防止することができる。また、ブラシユニット１２Ａ、１２Ｂに余計な汚れが付着することを抑制でき、ブラシユニット１２Ａ、１２Ｂの消耗を抑制することができる。
【００３７】
ところで、先端面ＳＡにおいてモータ１４の回転速度を低速（回転速度ＶＳ）としているが、モータ１４の回転を停止させてもよい。この場合は、先端面ＳＡにおいては殆ど擦動が行われない（モータ１４は回転を停止しているが、ブラシユニット１２Ａ、１２Ｂと基板Ｓとは接触しているため、完全に擦動が行われないということではない）ため、先端面ＳＡと表面ＳＢとで洗浄度をさらに変化させることができる。このため、汚れの拡散防止効果をさらに高めることができる。
【００３８】
＜本発明の第２の実施形態＞
次に、本発明の第２の実施形態について説明する。前述した第１の実施形態では、モータ１４の回転速度に変化を持たせていたが、本実施形態では、ブラシユニット１２Ａ、１２Ｂの昇降制御を行う。このため、昇降制御を行う各部材を具備した洗浄装置を、図４及び図５に示す。図４はブラシユニット１２Ａ、１２Ｂが離間している状態を、図５はブラシユニット１２Ａ、１２Ｂが近接している状態を示している。図４及び図５において、回転軸１０、ブラシ１１、ブラシユニット１２Ａ、１２Ｂ、軸受ブロック１３、モータ１４、基板検出装置１６は、前述した第１の実施形態と同一であるため、説明を省略する。
【００３９】
図４及び図５において、軸受ブロック１３はリニアガイド２１に沿って上下方向に変位可能な構成を採用している。軸受ブロック１３が上下方向に変位可能となっているため、ブラシユニット１２Ａ、１２Ｂも上下に変位し、基板Ｓに対して近接・離間することが可能になる。軸受ブロック１３には夫々水平部と垂直部とを有する支持アーム２２が連結され、支持アーム２２の水平部には軸受ブロック１３が連結され、垂直部にはカムフォロワローラ２３が取り付けられている。また、カムフォロワローラ２３はカム板２４の外周に形成されているカム面を転動するようになっている。
【００４０】
ブラシユニット１２Ａ及び１２Ｂの両側のカム板２４、２４の間は連結軸２５により連結されており、この連結軸２５にはカム駆動モータ２６が取り付けられている。従って、カム駆動モータ２６の回転駆動により連結軸２５が回転し、これに伴いカム板２４も回転する。図中に示すように、両連結軸２５及びカム板２４は、相互に干渉しない位置関係となるように、ブラシユニット１２Ａ側と、１２Ｂ側とでは、夫々支持アーム２２の水平部の方向を反対方向にしている。カム駆動モータ２６は昇降制御装置２７に接続され、昇降制御装置２７は、図１で説明した基板検出装置１６の受光部に接続される。昇降制御装置２７は、基板検出装置１６から基板Ｓを検出した旨の信号を入力したときには、カム駆動モータ２６の回転を制御する。
【００４１】
前述したように、基板Ｓの先端面ＳＡと表面ＳＢとで、洗浄度に差を持たせる。本実施形態では、先端面ＳＡがブラシユニット１２Ａ、１２Ｂの配設位置に進入を開始するまでは、図４に示すように、ブラシユニット１２Ａ、１２Ｂを基板Ｓから離間させて非接触状態にする。一方、進入開始後は、図５に示すように、ブラシユニット１２Ａ、１２Ｂを基板Ｓに近接させて非接触状態にする。非接触状態の場合には、その部位の擦動は行われず、接触状態の場合には、その部位の擦動が行われる。これにより、洗浄度に変化を持たせることができる。
【００４２】
具体的には、基板検出装置１６が基板Ｓを検出したときに、昇降制御装置２７にその旨の信号を出力し、昇降制御装置２７は所定時間後にカム駆動モータ２６を回転させる制御を行う。カム駆動モータ２６が回転すると、回転するカム板２４に沿って、カムフォロワローラ２３が上昇・下降し、これに伴い回転軸１０が上昇・下降する。このとき、回転軸１０は基板Ｓから離間する方向にブラシユニット１２Ａが上昇、ブラシユニット１２Ｂが下降する。これにより、ブラシユニット１２Ａ、１２Ｂは、基板Ｓと非接触状態になり、先端面ＳＡの擦動は完全に行われない。
【００４３】
次に、基板Ｓの進入開始後は、昇降制御装置２７はカム駆動モータ２６を逆回転する制御を行う。この回転駆動力により、ブラシユニット１２Ａは下降し、ブラシユニット１２Ｂは上昇するため、基板Ｓに近接して接触状態となる。このため、ブラシユニット１２Ａ、１２Ｂにより、表面ＳＢの擦動が行われる。
【００４４】
以上により、ブラシユニット１２Ａ、１２Ｂを昇降動作させる制御を行うことにより、ブラシユニット１２Ａ、１２Ｂと基板Ｓとを接触状態・非接触状態に制御できる。前述した第１の実施形態と比較して、先端面ＳＡの部位においては、ブラシユニット１２Ａ、１２Ｂと先端面ＳＡとが非接触状態となるため、先端面ＳＡに付着している汚れがブラシユニット１２Ａ、１２Ｂに付着することはなく、先端面ＳＡの汚れの拡散防止効果をさらに高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】洗浄装置を説明する図である。
【図２】ブラシユニットを説明する図である。
【図３】ブラシユニットが基板を洗浄する説明図である。
【図４】第２の実施形態におけるブラシユニット同士が離間している状態を説明する図である。
【図５】第２の実施形態におけるブラシユニット同士が近接している状態を説明する図である。
【符号の説明】
【００４６】
１    ローラ搬送体            １０    回転軸
１１    ブラシ                １２Ａ    ブラシユニット
１２Ｂ    ブラシユニット        １４    モータ
１５    回転速度制御装置        １６    基板検出装置
２６    カム駆動モータ        ２７    昇降制御装置
Ｓ    基板                ＳＡ    先端面
ＳＢ    表面                
【図１】
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【図２】
2008296088.tif 000004
【図３】
2008296088.tif 000005
【図４】
2008296088.tif 000006
【図５】
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