(57)【要約】【課題】  原子間力顕微鏡を用いた物理的な欠陥除去装置で加工探針先端キャラクタリゼーションとダイヤモンド探針追加工と探針に付着した加工屑除去を可能にする。【解決手段】  加工用ダイヤモンド探針１の先端のキャラクタリゼーションが必要なときは使用している加工用ダイヤモンド探針1の先端を水蒸気雰囲気下での高加速電圧の高分解能走査電子顕微鏡観察を行う。加工用ダイヤモンド探針1の先端が磨耗している場合や探針先端形状の変更が必要な場合は水蒸気量と電子ビーム4の電流量を増やして電子ビーム4を必要な領域のみ選択照射して加工用ダイヤモンド探針先端を加工する。加工用ダイヤモンド探針1に加工屑が強く付着していて除去が必要な場合はフッ化キセノン雰囲気下で電子ビーム4を加工用ダイヤモンド探針先端についた加工屑のみに選択照射して除去する。【選択図】    図１
2008145242.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原子間力顕微鏡と走査電子顕微鏡を複合した加工装置において、該原子間力顕微鏡の加工用ダイヤモンド探針の先端を、水蒸気雰囲気下で、走査電子顕微鏡にて10〜30kVの加速電圧の電子ビームを照射して観察することを特徴とする原子間力顕微鏡の加工用ダイヤモンド探針観察方法。
【請求項２】
請求項１記載の原子間力顕微鏡の加工用ダイヤモンド探針観察方法で加工用ダイヤモンド探針を観察した後、前記水蒸気の量と電子ビームの電流量を増やして前記加工用ダイヤモンド探針先端を所望の形状に加工することを特徴とする原子間力顕微鏡の加工用ダイヤモンド探針加工方法。
【請求項３】
請求項１記載の原子間力顕微鏡の加工用ダイヤモンド探針観察方法で該加工用ダイヤモンド探針を観察した時に、加工用ダイヤモンド探針の先端が磨耗していると判断した時は、前記水蒸気量と電子ビームの電流量を増やして前記磨耗した加工用のダイヤモンド探針先端を再先鋭化することを特徴とする原子間力顕微鏡の加工用ダイヤモンド探針加工方法。
【請求項４】
請求項１記載の原子間力顕微鏡の加工用ダイヤモンド探針観察方法で観察してダイヤモンド探針に加工屑がついていると判断した時に、フッ化キセノン雰囲気下で電子ビームを前記加工用ダイヤモンド探針先端についた加工屑に照射して除去することを特徴とする原子間力顕微鏡の加工用ダイヤモンド探針加工方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は原子間力顕微鏡と走査電子顕微鏡を複合した装置の加工用ダイヤモンド探針先端のキャラクタリゼーション（ここで、キャラクタリゼーションとは、所望の性能が得られるような形状になっているか評価することを意味する）とダイヤモンド探針追加工と探針に付着した加工屑除去に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体集積回路の微細化の進展に伴い、パターン転写の原版であるフォトマスク上のパターンも微細化が進んでいる。フォトマスクは原版であるため、欠陥があると転写されるもの全てに欠陥が作り込まれてしまうことになるため、無欠陥であることが求められている。マスク加工プロセス上どうしても欠陥が発生してしまうため、レーザーを用いて欠陥の修正がおこなわれてきた。しかしパターンが微細化されると修正しなければならない欠陥も小さくなり、レーザーではこのような微細欠陥に対応できないため、最近では集束イオンビーム(FIB)を用いた修正が標準的に使用されるようになってきている。黒欠陥や白欠陥はFIBのガス支援エッチングやFIB-CVD遮光膜で修正されている。FIB欠陥修正装置も微細化の進展に伴い像分解能や縮小投影露光装置の短波長化によりガリウム注入による透過率低下の許容範囲が厳しくなったために限界がきており、限界を乗り越える技術が求められている。更なる高分解能化とFIBにつきもののガリウム注入による透過率低下を避けるために電子ビームを用いた欠陥修正装置(非特許文献1)や原子間力顕微鏡(AFM)を用いて被加工材質(欠陥)よりも硬い探針で黒欠陥を物理的に除去する技術(スクラッチ加工)が実用化されている(非特許文献2)。電子ビームを用いた欠陥修正装置では白欠陥は容易に修正できるが、黒欠陥は実用上難しい場合が存在する。一方原子間力顕微鏡を用いた物理的な除去装置では黒欠陥は修正できるが、原理上白欠陥は修正できない。
【０００３】
原子間力顕微鏡を用いた物理的な除去装置では加工探針としてダイヤモンドを先鋭化したものが用いられている。ダイヤモンドでも黒欠陥を除去修正しているうちに探針磨耗や探針に付着した加工屑のため除去能力が低下する。加工探針先端のキャラクタリゼーションは再現性のある良好な黒欠陥除去を行う上で重要となってきている。電子ビームを用いた欠陥修正装置と原子間力顕微鏡を用いた物理的な欠陥除去装置を複合した装置では電子ビームによるin-situ加工探針先端キャラクタリゼーションも原理的には可能である。
【非特許文献１】K. Edinger, H. Becht, J. Bihr, V. Boegli, M. Budach, T. Hofmann, H. P. Coops, P. Kuschnerus, J. Oster, P. Spies, and B. Weyrauch, J. Vac. Sci. Technol. B22 2902-2906(2004)
【非特許文献２】Y. Morikawa, H. Kokubo, M. Nishiguchi, N. Hayashi, R. White, R. Bozak, and L. Terrill,Proc. of SPIE 5130 520-527(2003)
【非特許文献３】A. Liukkonen, Scanning 19 411(1997)
【非特許文献４】J. Taniguchi, I. Miyamamoto, N. Ohno, and S. Honda, Jpn. J. Appl. Phys. 35 6574-6578(1996)
【非特許文献５】J. Taniguchi, I. Miyamamoto, N. Ohno, K. Kanatani, M. Komuro and S. Honda, Jpn. J. Appl. Phys. 36 7691-7695(1997)
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
原子間力顕微鏡と走査電子顕微鏡を複合した加工装置において、走査電子顕微鏡で、先鋭化された探針先端を観察するときには、探針の素材であるダイヤモンドの導電性が乏しいため、通常チャージアップしないように2kV以下の加速電圧で観察が行われていた。ところが、この加速電圧ではワーキングディスタンスを短くしない限り高分解能観察は難しく、又特別な探針取付冶具を用意しなければならなかった。またワーキングディスタンスを短くした場合には、通常対物レンズより上方に設けられる二次電子検出器で検出する時に、チャージアップしたイメージになり易く、チャージアップしないためには更に加速電圧を下げる必要があり、チャージアップしない条件では高分解能な像を得るのが難しかった。対物レンズより下方に検出器を設けた場合には、チャージアップは軽減されるが、ワーキングディスタンスが短い場合にはS/Nの低い像しか得られない。又、電子ビームを用いた欠陥修正装置とAFMを用いた物理的な除去装置を複合した場合には、二次電子検出器の位置やワーキングディスタンスの制限が厳しく従来の観察方法の適用も難しいという問題もある。
【０００５】
最近100〜1000Paの低真空でも高分解能観察ができる環境制御型の走査顕微鏡技術が発展してきており、水や窒素を真空チャンバ内に流しながら電子ビームを照射することにより、セラミックや生体試料のような絶縁物でも高加速電圧でチャージアップなしに高分解能な観察が行えるようになってきている(例えば非特許文献3)。
【０００６】
また電子ビームはアシストエッチングガスの選択により化学的な効果でエッチングすることが可能である。水素または酸素雰囲気化で電子ビームを照射することにより、ダイヤモンドを加工できることが知られている(非特許文献4および5)。水蒸気雰囲気化でも水素または酸素と同様の除去効果が期待できる。またフッ化キセノン雰囲気下では電子ビーム照射でCrやMoSiやガラスの除去も可能であることが知られている。
【０００７】
本発明は、白欠陥修正と黒欠陥修正を同一装置内で行なうことができる、電子ビームを用いた欠陥修正装置と原子間力顕微鏡を用いた物理的な欠陥除去装置を複合した装置において、上記した電子ビームの観察加工における特性を利用し、原子間力顕微鏡の加工用ダイヤモンド探針を高分解能で観察し、劣化あるいは加工屑が付着しているときには、ダイヤモンド探針へのダメージを低減させて、ダイヤモンド探針を加工し先鋭化、あるいはゴミを除去することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明における原子間力顕微鏡の加工用ダイヤモンド探針観察方法は、原子間力顕微鏡と走査電子顕微鏡を複合した加工装置において、該原子間力顕微鏡の加工用ダイヤモンド探針の先端を、水蒸気雰囲気下で、走査電子顕微鏡にて10〜30kVの加速電圧の電子ビームを照射して観察することを特徴とする。
【０００９】
また、上記原子間力顕微鏡の加工用ダイヤモンド探針観察方法で加工用ダイヤモンド探針を観察した後、前記水蒸気の量と電子ビームの電流量を増やして前記加工用ダイヤモンド探針先端を所望の形状に加工することを特徴とする。
【００１０】
また、上記原子間力顕微鏡の加工用ダイヤモンド探針観察方法で該加工用ダイヤモンド探針を観察した時に、加工用ダイヤモンド探針の先端が磨耗していると判断した時は、前記水蒸気量と電子ビームの電流量を増やして前記磨耗した加工用のダイヤモンド探針先端を再先鋭化することを特徴とする。
【００１１】
さらに、上記原子間力顕微鏡の加工用ダイヤモンド探針観察方法で該加工用ダイヤモンド探針を観察した時に、ダイヤモンド探針に加工屑がついていると判断した時に、フッ化キセノン雰囲気下で電子ビームを前記加工用ダイヤモンド探針先端についた加工屑に照射して除去することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
電子ビームによる水蒸気の電離でチャージアップが緩和され、ダイヤモンド探針先端をチャージアップで分解能が低下することなく観察できる。プライマリービームが水蒸気で散乱され分解能が低下するが加速電圧を上げることで回避でき、高分解能観察が可能になる。
【００１３】
水蒸気量と電子ビームの電流量を増やすことで、ダイヤモンドを酸化しエッチングすることができる。所望の位置に選択照射することにより、ダイヤモンド探針を所望の形状に加工することができる。また、磨耗したダイヤモンド探針に対しては、その先端の再先鋭化することができる。高アスペクト形状が必要な場合などにも所望形状に加工することができる。
【００１４】
電子ビームによるフッ化キセノンガスアシストエッチングは、ダイヤモンド探針にダメージを与えることなく、探針先端に付着した加工屑である被加工材料のMoSiまたはCrのみを除去することができる。
【００１５】
電子ビームでダイヤモンド探針の観察から加工まで行なうので、上記したように高分解能観察ができ、従って高精度な加工ができ、またダメージの少ない加工が、簡便にできる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下に本発明の実施例について図面を用いて詳細に説明する。
【００１７】
ガス導入系を備え電子ビームを用いた欠陥修正が可能な走査電子顕微鏡と走査探針で物理的な欠陥除去が可能な原子間力顕微鏡を複合した装置に欠陥のあるマスクを導入する。黒欠陥は被加工材質(CrまたはMoSi)よりも硬い例えばダイヤモンドでできた探針と捩れ難い硬いカンチレバーを有する原子間力顕微鏡により余剰部分を物理的な除去で取り除いて修正し、白欠陥はナフタレンやフェナントレン等の炭素含有物質ガス雰囲気化で電子ビームを欠陥領域のみ選択照射して電子ビームCVDで遮光膜を必要な高さまで堆積し修正を行う。
【００１８】
黒欠陥を除去する加工探針は、使用しているうちに磨耗や加工屑の付着によりイメージング分解能や除去能力が低下する。このような場合探針を交換すべきかどうか判断するためにも、また能力低下の原因を知るためにも加工探針先端のキャラクタリゼーションが必要となる。
【００１９】
図１に、本発明で加工用ダイヤモンド探針先端のキャラクタリゼーションを行う場合を説明する概略断面図を示す。図1に示すように加工探針先端のキャラクタリゼーションは、まず、ピエゾスキャナー8を駆動することにより、原子間力顕微鏡の加工用ダイヤモンド探針1をＸＹ方向に移動して電子ビーム4が照射できる位置に移動させた後、探針回転機構2で、カンチレバー7を介して加工用ダイヤモンド探針1を180°反転させ、電子ビーム4が当てられる向きに向ける。
【００２０】
この状態でガス導入系３から100〜1000Paの水蒸気を真空チャンバ内に導入する。原子間力顕微鏡の加工用のダイヤモンド探針1の先端に、水蒸気雰囲気下で10〜30kVの高加速電圧で電子ビームを照射して、加工用ダイヤモンド探針１の高分解能走査電子顕微鏡観察を行い加工用ダイヤモンド探針１の先鋭度を評価判断する。電子ビーム4により電離された水蒸気で発生した電荷を中和して、チャージアップを防止し、分解能を低下させることなく観察することができる。高加速電圧で使用することにより電子ビームを絞ることができ、水蒸気による電子ビームの散乱による電子ビームの広がりを抑えることができる。
【００２１】
図2に、本発明で磨耗した加工用ダイヤモンド探針先端の再先鋭化を行う場合を説明する概略断面図を示す。
【００２２】
加工探針が磨耗している場合、除去能力やイメージング分解能を改善するためには、加工探針の再先鋭化が必要になる。探針先端の加工が必要な場合には、図2に示すように上記キャラクタリゼーションの場合と同様に、加工用ダイヤモンド探針1を電子ビーム4が照射できる位置に移動させた後、探針回転機構2でダイヤモンド探針1を180°反転させ、電子ビーム4が当てられる向きに向ける。100〜1000Paの水蒸気雰囲気化で高分解観察を行い、再先鋭化するために加工する領域を決めた後、水蒸気量と電子ビームの電流量を観察の場合よりも増やして必要な領域のみ電子ビーム4を選択照射し、電子ビームガスアシストエッチングにより原子間力顕微鏡の加工用ダイヤモンド探針1の先端を再先鋭化する。
【００２３】
図3に、本発明で加工用ダイヤモンド探針先端形状を加工により所望の形状に変更する場合を説明する概略断面図を示す。
【００２４】
垂直に近い断面加工やアスペクト比の高い刃先形状で所望の領域を加工するためには、探針形状の変更が必要となる。図3に示すようにこの場合も加工用ダイヤモンド探針1を電子ビーム4が照射できる位置に移動させた後、探針回転機構2でダイヤモンド探針1を180°反転させ、電子ビーム4が当てられる向きに向ける。100〜1000Paの水蒸気雰囲気化で高分解観察を行い、加工する領域を決めた後、水蒸気量と電子ビームの電流量を観察の場合よりも増やして必要な領域のみ電子ビームを選択照射し、電子ビームガスアシストエッチングにより原子間力顕微鏡の加工用ダイヤモンド探針1の先端を所望の形状例えば、ダイヤモンド探針１のカンチレバーの先端部側の面を垂直な刃先形状、あるいはアスペクト比の高い刃先形状に加工する。
【００２５】
図4に、本発明で加工用ダイヤモンド探針先端に付着した加工屑を除去する場合を説明する概略断面図を示す。
【００２６】
加工探針に被加工材料であるMoSiまたはCrが加工屑として強く付着していて除去能力またはイメージング分解能が良くない場合には探針に付着した加工屑の除去が必要になる。図4に示すようにこの場合も加工用ダイヤモンド探針1を電子ビーム4が照射できる位置に移動させた後、探針回転機構2でダイヤモンド探針1を180°反転させ、電子ビーム4が当てられる向きに向ける。100〜1000Paの水蒸気雰囲気化で高分解観察を行い、加工屑5を除去する領域を決めた後、水蒸気をパージし、フッ化キセノンガス導入系6に切り替えて、フッ化キセノン雰囲気下で電子ビーム4を原子間力顕微鏡の加工用ダイヤモンド探針1の先端についた加工屑5のみに選択照射して加工屑を除去する。加工屑が複数ある場合には各々の加工屑を電子ビーム4の選択照射で除去する。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明で加工用ダイヤモンド探針先端キャラクタリゼーションを行う場合を説明する概略断面図である。
【図２】本発明で磨耗した加工用ダイヤモンド探針先端の再先鋭化を行う場合を説明する概略断面図である。
【図３】本発明で加工用ダイヤモンド探針先端形状を加工により所望の形状に変更する場合を説明する概略断面図である。
【図４】本発明で加工用ダイヤモンド探針先端に付着した加工屑を除去する場合を説明する概略断面図である。
【符号の説明】
【００２８】
１  加工用ダイヤモンド探針
２  探針回転機構
３  ガス導入系(水蒸気)
４  電子ビーム
５  加工屑
６  ガス導入系(フッ化キセノン)
７  カンチレバー
８  ピエゾスキャナー
【図１】
2008145242.tif 000003
【図２】
2008145242.tif 000004
【図３】
2008145242.tif 000005
【図４】
2008145242.tif 000006