(57)【要約】【課題】ガラス基板の内孔の公差と真円度を向上させつつ、内周研磨の際の積層枚数を増加させることを可能とする。【解決手段】積層された複数枚のガラス基板１０を上板１０４と下板１０１とで挟み、上板１０４と下板１０１とを接続部１０２で接続することにより、積層された複数枚のガラス基板１０の位置を固定するワークホルダ１００を接続するためのワークホルダ用治具３００を用いて、複数枚のガラス基板１０の両端にある上板１０４と下板１０１とが互いに平行な状態を維持されるように、ワークホルダ１００の上板１０４と下板１０１との少なくとも一方を他方側に押圧し、上板１０４と下板１０１とを接続部１０５で接続し、上板１０４と下板１０１に挟持されてワークホルダ１００に固定されたガラス基板の端面を研磨する。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
積層された複数枚のガラス基板を上板と下板とで挟み、前記上板と下板とを接続部で接続することにより、前記積層された複数枚のガラス基板の位置を固定するワークホルダを接続するためのワークホルダ用治具を用いて、前記複数枚のガラス基板の両端にある上板と下板とが、互いに平行な状態を維持されるように、ワークホルダの上板と下板との少なくとも一方を他方側に押圧し、
前記上板と下板とを接続部で接続し、
前記上板と下板に挟持されてワークホルダに固定されたガラス基板の端面を研磨することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項２】
下側支持部と、該下側支持部と接続された上枠と、該上枠に締結固定される上側支持部とを備え、前記下側支持部と上側支持部との間に複数枚のガラス基板を積層した状態で保持するワークホルダにガラス基板を保持させるための治具であって、
前記ワークホルダを直立した状態で載置しうる架台と、
前記ワークホルダの上側支持部を前記下側支持部に向かって、当該上側支持部と下側支持部とが互いに平行な状態を維持されるように押圧する押圧部とを備えたことを特徴とするワークホルダ用治具。
【請求項３】
前記押圧部はエアシリンダーを備えることを特徴とする請求項１記載のワークホルダ用治具。
【請求項４】
下側支持部と、該下側支持部と接続された上枠と、該上枠に締結固定される上側支持部とを備え、中心の内孔にセンターシャフトを挿通して複数枚積層したガラス基板を前記下側支持部と上側支持部との間に保持するワークホルダにおいて、
前記センターシャフトと嵌合する嵌合穴を備えた位置決め部材を備え、
前記位置決め部材には前記センターシャフトの軸方向に延びるピンまたはボス穴を設け、
前記上側支持部には前記センターシャフトの軸方向に延びるボス穴またはピンを設け、
前記位置決め部材のピンまたはボス穴は、前記上側支持部のボス穴またはピンに挿抜可能であることを特徴とするワークホルダ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気ディスク用ガラス基板の内周端面の研磨に関する。なお、本件出願にいう上下方向は通常の使用態様における上下であって、必ずしも重力方向に対する上下方向ではない。
【背景技術】
【０００２】
近年、情報化技術の高度化に伴い、情報記録技術、特に磁気記録技術は著しく進歩している。磁気記録媒体のひとつであるＨＤＤ（ハードディスクドライブ）等の磁気記録媒体用基板としては、アルミニウム基板が広く用いられてきた。しかし磁気ディスクの小型化、薄板化、および高密度記録化に伴い、アルミニウム基板に比べ基板表面の平坦性および基板強度に優れたガラス基板に徐々に置き換わりつつある。
【０００３】
また、磁気記録技術の高密度化に伴い、磁気ヘッドの方も薄膜ヘッドから、磁気抵抗型ヘッド（ＭＲヘッド）、大型磁気抵抗型ヘッド（ＧＭＲヘッド）へと推移してきており、磁気ヘッドの基板からの浮上量が８ｎｍ程度にまで狭くなってきている。このため磁気ディスク面上に凹凸形状があると磁気ヘッドが衝突するクラッシュ障害や、空気の断熱圧縮または接触により加熱して読み出しエラーを生じるサーマルアスペリティ障害を生じる場合がある。上記のような状況において、従来からも、基板端面の平滑性についての重要性が認められていた。特許文献１（特開平１０−１５４３２１号公報）では、基板の外周および内周端面を鏡面に到るまで研磨することにより、基板端面におけるパーティクルの発生や吸着を防止し、上記問題を解決できるとしている。
【０００４】
ガラス基板の内周端面を研磨するための構成としては、特許文献２（特開平１１−２２１７４２号公報）に記されているような回転ブラシによる研磨方法が知られている。この従来の研磨方法は、円盤状のガラス基板１を積層して円柱状とし、連通した内孔に回転ブラシ５０を挿入し、研磨液を供給しながらガラス基板１と回転ブラシ５０とをそれぞれ回転させることによって、内周端面を研磨するものである。
【特許文献１】特開平１０−１５４３２１号公報
【特許文献２】特開平１１−２２１７４２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
最近では、記録密度をより一層向上させるために、垂直磁気記録方式が採用されつつある。この垂直磁気記録媒体の場合には、面内磁気記録方式の場合と比べて、ガラス基板の影響がより顕著に現れやすい。このため、ガラス基板としては、より一層の低粗さと平坦度、形状の精度が求められる。なかでも、ハードディスクの読み書き速度の向上のために磁気ディスクの回転速度は速くなる傾向にあり、磁気ディスクの回転の重心は極めて重要であるため、内孔（内周端面）の寸法公差の小ささや真円度の高さ、ひいてはスピンドルとのはめあい公差の小ささが求められる。
【０００６】
一方、近年は特に携帯電話やデジタルカメラ、携帯型音楽再生機などにも小型のハードディスクが搭載される要請があり、磁気ディスクには一層の小型化、高記録密度化、および低コスト化が求められている。
【０００７】
ここで、ガラス基板の内周端面を研磨するにあたり、生産コストを低廉化するためには、研磨の際に積層する枚数を増加させることが考えられる。例えば今まで１００枚ずつ積層して研磨していたところを、３００枚ずつ積層して研磨すれば、単純には１／３のタクト（処理時間）で生産をすることが可能となる。しかし、積層枚数を増加させるほどに、内孔の公差や真円度は低下してしまう傾向にある。
【０００８】
そこで本発明は、ガラス基板の内孔の公差と真円度を向上させつつ、内周研磨の際の積層枚数を増加させることが可能なワークホルダ用治具、ワークホルダ、および磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の発明者らは、上記問題について鋭意検討した結果、内周研磨をする際に積層した複数枚のガラス基板が傾いていると、内孔の公差や真円度が低下してしまうことを突き止めた。そして、この問題を解決するために研磨工程を検討した結果、ワークホルダにガラス基板を積層して保持させる段階において、ガラス基板の枚数が増えると、ガラス基板の中心軸とワークホルダの回転軸との一致の度合いが低下しやすいという事実を突き止めた。そして、ワークホルダの上側支持部を締結固定する際に、ガラス基板を直立した状態で保持しておくことによりガラス基板の中心軸とワークホルダの回転軸との一致の度合いを向上させることができることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１０】
すなわち上記課題を解決するために、本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法の代表的な構成は、積層された複数枚のガラス基板を上板と下板とで挟み、前記上板と下板とを接続部で接続することにより、前記積層された複数枚のガラス基板の位置を固定するワークホルダを接続するためのワークホルダ用治具を用いて、前記複数枚のガラス基板の両端にある上板と下板とが、互いに平行な状態を維持されるように、ワークホルダの上板と下板との少なくとも一方を他方側に押圧し、前記上板と下板とを接続部で接続し、前記上板と下板に挟持されてワークホルダに固定されたガラス基板の端面を研磨することを特徴とする。
【００１１】
本発明に係るワークホルダ用治具の代表的な構成は、下側支持部と、該下側支持部と接続された上枠と、該上枠に締結固定される上側支持部とを備え、下側支持部と上側支持部との間に複数枚のガラス基板を積層した状態で保持するワークホルダにガラス基板を保持させるための治具であって、ワークホルダを直立した状態で載置しうる架台と、ワークホルダの上側支持部を下側支持部に向かって、当該上側支持部と下側支持部とが互いに平行な状態を維持されるように押圧する押圧部とを備えたことを特徴とする。ここで、ワークホルダが直立しているということは、ワークホルダの回転軸と架台の載置面とが垂直となっていることを意味している。
【００１２】
上記構成によれば、ワークホルダにおいて上側支持部を締結固定する際に、積層したガラス基板を直立した状態で保持することができ、ガラス基板の中心軸とワークホルダの回転軸との一致の度合いを向上させることができる。
【００１３】
押圧部はエアシリンダーによって構成することができる。機構を簡略に構成することができ、また過剰に押圧力を印加してガラス基板を損傷させることを防止することができる。
【００１４】
また上記課題を解決するために、本発明に係るワークホルダの代表的な構成は、下側支持部と、該下側支持部と接続された上枠と、該上枠に締結固定される上側支持部とを備え、中心の内孔にセンターシャフトを挿通して複数枚積層したガラス基板を下側支持部と上側支持部との間に保持するワークホルダにおいて、センターシャフトと嵌合する嵌合穴を備えた位置決め部材を備え、位置決め部材にはセンターシャフトの軸方向に延びるピンまたはボス穴を設け、上側支持部にはセンターシャフトの軸方向に延びるボス穴またはピンを設け、位置決め部材のピンまたはボス穴は、上側支持部のボス穴またはピンに挿抜可能であることを特徴とする。
【００１５】
上記構成によれば、ワークホルダの上部において上側支持部とセンターシャフトとの位置精度を担保することができ、センターシャフトを抜き取りやすく、また位置決め部材を抜いて取り外すことにより内周研磨の際に上側支持部をも研磨してしまうことを防止することができる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、ガラス基板の内孔の公差と真円度を向上させつつ、内周研磨の際の積層枚数を増加させることができる。また作業性が向上し、ワークホルダにガラス基板を保持させるために必要な作業時間の短縮を図ることができる。さらにセンターシャフトを抜き取る際のガラス基板の損傷を防止し、生産性を向上させることができる。これらのことから、ガラス基板の品質の向上と、生産コストの低廉化を図ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
本発明に係るワークホルダ用治具、ワークホルダ、および磁気ディスク用ガラス基板の製造方法の実施形態について説明する。図１は内周端面研磨装置を説明する図、図２および図３はワークホルダを説明する図、図４はワークホルダ用治具を説明する図、図５はワークホルダ用治具を用いてガラス基板を保持する工程を説明する図、図６はワークホルダにガラス基板を保持させる際の作業を説明するフローチャートである。上記従来例と説明の重複する部分については同一の符号を付して説明を省略する。なお、以下の実施形態に示す具体的な寸法、形状、材質、その他の数値などは発明の理解を容易とするための例示に過ぎず、特に断る場合を除き、本発明を限定するものではない。
【００１８】
図１に示す研磨装置１は、複数枚のガラス基板の内周端面を研磨する装置である。複数枚のガラス基板１０を積層した状態で保持するワークホルダ１００は、ボルト２０８などの固定手段によってテーブル２０１に固定される。ガラス基板１０は複数枚（例えば１００〜３００枚）が積層され、下側支持部１０１と上側支持部１０４との間で挟持されている。テーブル２０１は土台２０２に対して回転可能に構成されている。テーブル２０１はワークホルダ１００を直立させた状態で載置可能であり、ワークホルダ１００はその回転軸（すなわち、ガラス基板の中心軸）とテーブル２０１の回転軸とを一致させた状態で固定される。なお「直立」とは、ワークホルダ１００の回転軸と土台２０２の載置面とが垂直となっていることを意味している。
【００１９】
ワークホルダ１００に保持されたガラス基板１０の内孔にはブラシ２０３が挿通されている。ブラシ２０３のブラシ軸２０４は上端が駆動軸２０５によって回転駆動され、下端がブラシ下端支持部２０６によって回転可能に支持されている。そしてブラシ２０３は回転駆動されながら上下方向にも揺動されることにより、ガラス基板１０の内周端面を研磨する。研磨の際には、ノズル２０７から研磨砥粒を混入したスラリーを供給する。
【００２０】
次に、図２〜図５および図６のフローチャートを用いて、ワークホルダ１００およびワークホルダ用治具の構成について説明しながら、あわせてワークホルダ１００にガラス基板を保持する工程について説明する。
【００２１】
図２（ａ）に示すセンターシャフト１１０は、ガラス基板１０の内孔とほぼ等しい径を有する主軸部１１０ａと、主軸部１１０ａよりも径の太い基底部１１０ｂとを備えている。そして基底部１１０ｂに乗せるように下部スペーサ１１１を挿通し、その上に複数枚のガラス基板１０の内孔を嵌合させつつ挿通し、積層する（Ｓ１０１）。ガラス基板１０同士の間には、傷付き防止のために不織布などからなるスペーサ１１３を介している。所定枚数のガラス基板１０を積層すると、最後（最上部）に上部スペーサ１１２を載置する。下部スペーサ１１１および上部スペーサ１１２は、例えばポリアセタールなどの樹脂で構成することができる。
【００２２】
図２（ｂ）に示すワークホルダ１００は、下側支持部１０１と、この下側支持部１０１に支柱１０２によって連結された上枠１０３と、上枠１０３に締結固定される上側支持部１０４とを備えている。すなわち下側支持部１０１から上枠までは固定的に構成されているが、上側支持部１０４はガラス基板１０を内部に格納してから締結する部材である。
【００２３】
下側支持部１０１は、下面１０１ａ（研磨装置１のテーブル２０１に当接する面）とワークホルダ１００の中心軸が垂直をなすように形成されている。また下側支持部１０１の中心にはセンターシャフト１１０の基底部１１０ｂと嵌合する穴１０１ｂが形成されている。穴１０１ｂの中心軸は、ワークホルダ１００の中心軸と同一軸となっている。
【００２４】
支柱１０２は、下側支持部１０１の下面１０１ａに対して垂直に固定されている。換言すれば、支柱１０２とワークホルダの中心軸は平行となっている。
【００２５】
上枠１０３は、図２（ｃ）に示すように、中心部にガラス基板を挿入可能な大きさの穴１０３ａが形成されている。また上側支持部１０４を締結するためのローレットボルト１０５と、位置決め部材１０６のピン１０６ｂを挿入するためのボス穴１０３ｂを備えている。
【００２６】
上側支持部１０４は、図２（ｄ）に示すように、中心部にブラシ２０３を挿入可能な大きさの穴１０４ａが形成されている。穴１０４ａの大きさは、ガラス基板１０の内孔の径より大きく、かつ外周の径より小さければよい。また上側支持部１０４には、ローレットボルト１０５によって締結するための変形穴１０４ｂを備えている。変形穴はローレットボルト１０５の頭を挿入しうる大径部分と、締結しうる小径の長孔部分とを備えており、ローレットボルト１０５を上枠１０３から取り外すことなく上側支持部１０４を取り付けることが可能となっている。また上側支持部１０４は、位置決め部材１０６のピン１０６ｂを挿入するためのボス穴１０４ｃを備えている。
【００２７】
位置決め部材１０６は、上側支持部１０４を締結固定する際に、センターシャフト１１０の上端を位置決めするものである。図２（ｅ）に示すように、位置決め部材１０６の中心にはセンターシャフトと嵌合する嵌合穴１０６ａが設けられ、上記ボス穴１０３ｂ、１０４ｃに挿抜可能なピン１０６ｂを下方に突出するように設けている。また位置決め部材１０６の上面には、後述するワークホルダ用治具のプッシャーが当接するための段部１０６ｃを備えている。位置決め部材１０６のピン１０６ｂをボス穴１０３ｂ、１０４ｃに挿通したとき、嵌合穴１０６ａに保持されたセンターシャフト１１０の中心軸は、ワークホルダ１００の中心軸と同一軸となる。
【００２８】
次に図３（ａ）に示すように、積層したガラス基板１０をセンターシャフト１１０を直立させて下側支持部１０１の上に載置する（Ｓ１０２）。すなわち、積層したガラス基板１０をワークホルダ１００の内部に挿入し、センターシャフト１１０の基底部１１０ｂを下側支持部１０１の穴１０１ｂに嵌合させる。そしてガラス基板１０の上に上側支持部１０４を載置する（Ｓ１０３）。このときローレットボルト１０５は変形穴１０４ｂの長孔部分に組み合わせるが、まだ締め付けず、緩んだ状態となっている。そして位置決め部材１０６を、嵌合穴１０６ａにセンターシャフト１１０を嵌合させつつ、ピン１０６ｂをボス穴１０３ｂ、１０４ｃに挿入する。
【００２９】
このようにしてワークホルダ１００は、図３（ｂ）に示すように、一連の部材が積み重ねられた状態となる。上記状態においてローレットボルト１０５を締め付けることによってガラス基板１０を固定するのであるが、このとき図４に示すワークホルダ用治具３００を用いる。
【００３０】
図４に示すワークホルダ用治具３００は、枠体３０１の下部にワークホルダ１００を直立した状態で載置しうる架台３０２を備え、枠体３０１の上部にワークホルダ１００の上側支持部１０４を下側支持部１０１に向かって押圧する押圧部３０３を備えている。ここで「直立」とは、ワークホルダ１００の中心軸が架台３０２の載置面（上面）に対して垂直となっていることを意味している。
【００３１】
押圧部３０３はエアシリンダーであって、プッシャー３０４をワークホルダ１００に対して進退可能となっている。プッシャー３０４は位置決め部材１０６を介して上側支持部１０４を押圧する構成となっており、位置決め部材１０６の段部１０６ｃに当接する。なお押圧部３０３による押圧方向（プッシャー３０４の移動方向）は、載置されたワークホルダ１００の中心軸と一致している。
【００３２】
そして図４に示すようにワークホルダ１００を架台３０２の上に載置し（Ｓ１０４）、図５（ａ）に示すように位置決め部材１０６（すなわち上側支持部１０４）を押圧部３０３によって下側支持部１０１に向かって押圧する（Ｓ１０５）。プッシャー３０４の下面と、これに当接する段部１０６ｃの上面とは、いずれもワークホルダ１００の中心軸に対して垂直となっている。従ってプッシャー３０４が位置決め部材１０６を押圧するとき、ガラス基板は全方向に均等に押圧される。ガラス基板１０の間にはさまれたスペーサ１１３はわずかに弾性を生じるため、積層されたガラス基板１０はその高さを圧縮される。この状態で作業者ローレットボルト１０５を回して、上側支持部１０４を上枠１０３に締結固定する（Ｓ１０６）。
【００３３】
そして図５（ｂ）に示すように、押圧部３０３による押圧を解除してから（Ｓ１０７）、ワークホルダ１００から位置決め部材１０６を取り外し、センターシャフト１１０を下方から抜き取る（Ｓ１０８）。押圧を解除すると、積層されたガラス基板１０はスペーサ１１３の弾性回復力によって全体として膨張するから下側支持部１０１と上側支持部１０４との間に強固に挟持される。そして、図１において説明した研磨装置１にワークホルダ１００を取り付け、積層されたガラス基板１０の内周端面を研磨する（Ｓ１０９）。
【００３４】
すなわち上記構成によれば、積層された複数枚のガラス基板１０を上板（上側支持部１０４）と下板（下側支持部１０１）とで挟み、上板と下板とを接続部（支柱１０２）で接続することにより、積層された複数枚のガラス基板１０の位置を固定するワークホルダ１００を接続するためのワークホルダ用治具３００を用いて、複数枚のガラス基板１０の両端にある上板と下板とが互いに平行な状態を維持されるように、ワークホルダ１００の上板と下板との少なくとも一方を他方側に押圧し、上板と下板とを接続部（ローレットボルト１０５）で接続し、上板と下板に挟持されてワークホルダ１００に固定されたガラス基板の端面を研磨する。
【００３５】
ここで、仮にワークホルダ用治具３００を用いなかった場合には、作業者が手作業にてローレットボルト１０５を締め付けることによってガラス基板１０を固定することとなる。しかしローレットボルト１０５は本実施例では３箇所（実際には４箇所の構成もある）設けられているため、均等に締め付けることは難しい。締め付け力に不均等があると、きつく締めた側に積層されたガラス基板が傾き、緩く締めた側の上側支持部１０４が浮く状態となる。このようにガラス基板に傾きが生じると、各部の寸法公差は極めて少なく設定されていることから、センターシャフト１１０を抜くことが極めて困難となってしまい、無理に引き抜けば割れや欠けなどの損傷を与えてしまう。そこでローレットボルト１０５を緩めに締めた状態で先にセンターシャフト１１０を引き抜き、さらにローレットボルト１０５を増し締めしてガラス基板を保持することも考えられるが、ガラス基板１０が傾いた状態となりやすく、研磨装置１にかけた場合に内孔の公差や真円度が低下してしまう原因となる。
【００３６】
これに対し、本実施形態のようにワークホルダ用治具３００を用いることにより、ワークホルダ１００において上側支持部１０４を締結固定する際に、積層したガラス基板１０を直立した状態で保持することができ、ガラス基板１０の中心軸とワークホルダ１００の回転軸との一致の度合いを向上させることができる。このためローレットボルト１０５を確実に締めた後であってもセンターシャフト１１０を容易に抜き取ることができると共に、ワークホルダ１００の中心軸とガラス基板の中心軸とを一致させることができる。
【００３７】
このことは、ガラス基板の枚数を増加させた場合にも全く同様に作用するため、枚数を増加させてもセンターシャフト１１０を容易に抜き取ることができ、ガラス基板の直立を確保することができる。従って一度の研磨工程で処理できるガラス基板の枚数を増やすことができ、作業効率を向上させ、生産コストを低減させることができる。
【００３８】
また、手作業の場合と比べて、平均的にワークホルダ１００でガラス基板を保持する作業は手作業では２〜３分かかるところ、本実施形態の構成では２０秒程度であり、作業時間の短縮を図ることができる。またセンターシャフト１１０を引き抜く際にガラス基板を損傷することがないため、生産効率と品質を向上することができる。
【００３９】
［実施例］
以下に、本発明を適用した磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクの製造方法について実施例を説明する。この磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクは、０．８インチ型ディスク（内径６ｍｍ、外径２１．６ｍｍ、板厚０．３８１ｍｍ）、１．０インチ型ディスク（内径７ｍｍ、外径２７．４ｍｍ、板厚０．３８１ｍｍ）、１．８インチ型磁気ディスク（内径１２ｍｍ、外径４８ｍｍ、板厚０．５０８ｍｍ）などの所定の形状を有する磁気ディスクとして製造される。また、２．５インチ型ディスクや３．５インチ型ディスクとして製造してもよい。
【００４０】
（１）形状加工工程および第１ラッピング工程
本実施例に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法においては、まず、板状ガラスの表面をラッピング（研削）加工してガラス母材とし、このガラス母材を切断してガラスディスクを切り出す。板状ガラスとしては、様々な板状ガラスを用いることができる。この板状ガラスは、例えば、溶融ガラスを材料として、プレス法やフロート法、ダウンドロー法、リドロー法、フュージョン法など、公知の製造方法を用いて製造することができる。これらのうち、プレス法を用いれば、板状ガラスを廉価に製造することができる。板状ガラスの材質としては、アモルファスガラスやガラスセラミクス（結晶化ガラス）を利用できる。板状ガラスの材料としては、アルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス、ボロシリケートガラス等を用いることができる。特にアモルファスガラスとしては、化学強化を施すことができ、また主表面の平坦性及び基板強度において優れた磁気ディスク用基板を供給することができるという点で、アルミノシリケートガラスを好ましく用いることができる。
【００４１】
本実施例においては、溶融させたアルミノシリケートガラスを上型、下型、胴型を用いたダイレクトプレスによりディスク形状に成型し、アモルファスの板状ガラスを得た。なお、アルミノシリケートガラスとしては、ＳｉＯ２：５８〜７５重量％、Ａｌ２Ｏ３：５〜２３重量％、Ｌｉ２Ｏ：３〜１０重量％、Ｎａ２Ｏ：４〜１３重量％を主成分として含有する化学強化ガラスを使用した。
【００４２】
次に、この板状ガラスの両主表面をラッピング加工し、ディスク状のガラス母材とした。このラッピング加工は、遊星歯車機構を利用した両面ラッピング装置により、アルミナ系遊離砥粒を用いて行った。具体的には、板状ガラスの両面に上下からラップ定盤を押圧させ、遊離砥粒を含む研削液を板状ガラスの主表面上に供給し、これらを相対的に移動させてラッピング加工を行った。このラッピング加工により、平坦な主表面を有するガラス母材を得た。
【００４３】
（２）切り出し工程（コアリング、フォーミング、チャンファリング）
次に、ダイヤモンドカッタを用いてガラス母材を切断し、このガラス母材から円盤状のガラス基板を切り出した。次に、円筒状のダイヤモンドドリルを用いて、このガラス基板の中心部に内孔を形成し、円環状のガラス基板とした（コアリング）。そして内周端面および外周端面をダイヤモンド砥石によって研削し、所定の面取り加工を施した（フォーミング、チャンファリング）。
【００４４】
（３）第２ラッピング工程
次に、得られたガラス基板の両主表面について、第１ラッピング工程と同様に、第２ラッピング加工を行った。この第２ラッピング工程を行うことにより、前工程である切り出し工程や端面研磨工程において主表面に形成された微細な凹凸形状を予め除去しておくことができ、後続の主表面に対する研磨工程を短時間で完了させることができるようになる。
【００４５】
（４）端面研磨工程
次に、ガラス基板の外周端面について、ブラシ研磨方法により、鏡面研磨を行った。このとき、研磨砥粒としては、酸化セリウム砥粒を含むスラリー（遊離砥粒）を用いた。
【００４６】
内周端面については、上述したようにワークホルダ１００にガラス基板１０を保持させて、図１に示した研磨装置１を用いて研磨を行った。このときの工程について図６に示すフローチャートに基づいて説明する。
【００４７】
すなわち、まず図２（ａ）に示すようにセンターシャフト１１０にガラス基板１０の内孔を挿通しつつ積層する（Ｓ１０１）。図３（ａ）に示すように積層したガラス基板１０をセンターシャフト１１０を直立させて下側支持部１０１の上に載置する（Ｓ１０２）。図３（ｂ）に示すようにガラス基板１０の上に上側支持部１０４を載置する（Ｓ１０３）。図４に示すようにワークホルダ１００を架台３０２の上に載置し（Ｓ１０４）、図５（ａ）に示すように上側支持部１０４を押圧部３０３によって下側支持部１０１に向かって押圧する（Ｓ１０５）。ローレットボルト１０５を回して、上側支持部１０４を上枠１０３に締結固定する（Ｓ１０６）。図５（ｂ）に示すように、押圧部３０３による押圧を解除してから（Ｓ１０７）、ワークホルダ１００から位置決め部材１０６を取り外し、センターシャフト１１０を下方から抜き取る（Ｓ１０８）。図１に示す研磨装置１にワークホルダ１００を取り付け、積層されたガラス基板１０の内周端面を研磨する（Ｓ１０９）。
【００４８】
そして、端面研磨工程を終えたガラス基板を水洗浄した。この端面研磨工程により、ガラス基板の端面は、ナトリウムやカリウムの析出の発生を防止できる鏡面状態に加工された。特に内周端面は、２００〜３００枚ほどの多数枚を積層して研磨した場合であっても、内孔の公差や真円度が低下することなく良好な状態であった。
【００４９】
（５）主表面研磨工程
主表面研磨工程として、まず第１研磨工程を施した。この第１研磨工程は、前述のラッピング工程において主表面に残留したキズや歪みの除去を主たる目的とするものである。この第１研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、硬質樹脂ポリッシャを用いて、主表面の研磨を行った。研磨剤としては、酸化セリウム砥粒を用いた。
【００５０】
この第１研磨工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。
【００５１】
次に、主表面研磨工程として、第２研磨工程を施した。この第２研磨工程は、主表面を鏡面状に仕上げることを目的とする。この第２研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、軟質発泡樹脂ポリッシャを用いて、主表面の鏡面研磨を行った。研磨剤としては、第１研磨工程で用いた酸化セリウム砥粒よりも微細な酸化セリウム砥粒を用いた。
【００５２】
この第２研磨工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。なお、各洗浄槽には、超音波を印加した。
【００５３】
（６）化学強化工程
次に、前述のラッピング工程および研磨工程を終えたガラス基板に、化学強化を施した。化学強化は、硝酸カリウム（６０％）と硝酸ナトリウム（４０％）を混合した化学強化溶液を用意し、この化学強化溶液を４００℃に加熱しておくとともに、洗浄済みのガラス基板を３００℃に予熱し、化学強化溶液中に約３時間浸漬することによって行った。この浸漬の際には、ガラス基板の表面全体が化学強化されるようにするため、複数のガラス基板が端面で保持されるように、ホルダに収納した状態で行った。
【００５４】
このように、化学強化溶液に浸漬処理することによって、ガラス基板の表層のリチウムイオンおよびナトリウムイオンが、化学強化溶液中のナトリウムイオンおよびカリウムイオンにそれぞれ置換され、ガラス基板が強化される。ガラス基板の表層に形成された圧縮応力層の厚さは、約１００μｍ乃至２００μｍであった。
【００５５】
化学強化処理を終えたガラス基板を、２０℃の水槽に浸漬して急冷し、約１０分間維持した。そして、急冷を終えたガラス基板を、約４０℃に加熱した濃硫酸に浸漬して洗浄を行った。さらに、硫酸洗浄を終えたガラス基板を純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）の各洗浄槽に順次浸漬して洗浄した。
【００５６】
上記の如く、第１ラッピング工程、切り出し工程、端面研磨工程、第２ラッピング工程、第１および第２研磨工程、ならびに化学強化工程を施すことにより、平坦、かつ、平滑な、高剛性の磁気ディスク用ガラス基板を得た。
【００５７】
（７）磁気ディスク製造工程
上述した工程を経て得られたガラス基板の両面に、ガラス基板の表面にＣｒ合金からなる付着層、ＣｏＴａＺｒ基合金からなる軟磁性層、Ｒｕからなる下地層、ＣｏＣｒＰｔ基合金からなる垂直磁気記録層、水素化炭素からなる保護層、パーフルオロポリエーテルからなる潤滑層を順次成膜することにより、垂直磁気記録ディスクを製造した。なお、本構成は垂直磁気ディスクの構成の一例であるが、面内磁気ディスクとして磁性層等を構成してもよい。
【００５８】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施例について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【産業上の利用可能性】
【００５９】
本発明は、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、特に内周端面の研磨において利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】内周端面研磨装置を説明する図である。
【図２】ワークホルダを説明する図である。
【図３】ワークホルダを説明する図である。
【図４】ワークホルダ用治具を説明する図である。
【図５】ワークホルダ用治具を用いてガラス基板を保持する工程を説明する図である。
【図６】ワークホルダにガラス基板を保持させる際の作業を説明するフローチャートである。
【符号の説明】
【００６１】
１     …研磨装置
１０   …ガラス基板
１００  …ワークホルダ
１０１  …下側支持部
１０１ａ  …下面
１０１ｂ  …穴
１０２  …支柱
１０３  …上枠
１０３ａ  …穴
１０３ｂ  …ボス穴
１０４  …上側支持部
１０４ａ  …穴
１０４ｂ  …変形穴
１０４ｃ  …ボス穴
１０５  …ローレットボルト
１０５ｂ  …変形穴
１０６  …位置決め部材
１０６ａ  …嵌合穴
１０６ｂ  …ピン
１０６ｃ  …段部
１１０  …センターシャフト
１１０ａ  …主軸部
１１０ｂ  …基底部
１１１  …下部スペーサ
１１２  …上部スペーサ
１１３  …スペーサ
２０１  …テーブル
２０２  …土台
２０３  …ブラシ
２０４  …ブラシ軸
２０５  …駆動軸
２０６  …ブラシ下端支持部
２０７  …ノズル
２０８  …ボルト
３００  …ワークホルダ用治具
３０１  …枠体
３０２  …架台
３０３  …押圧部
３０４  …プッシャー
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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