(57)【要約】【課題】簡単・コンパクトな構成でありながら高精度の安定した信号が得られる、複数波長・１レンズタイプの光ピックアップを提供する。【解決手段】３波長・１レンズタイプの光ピックアップであって、対物レンズ９を移動させるアクチュエータ１０を備え、対物レンズ９と半導体レーザ１ａ，１ｂとの間の光路中に、透過率特性の異なる複数の膜パターンを有する開口制限フィルタ８を備え、アクチュエータ可動子１０ａに対物レンズ９と開口制限フィルタ８を有する。膜パターンは、２波長のレーザビームを透過率の違いで開口制限する開口制限用膜パターンと、断面形状が楕円形を成す３波長のレーザビームに対してその楕円長軸を含む領域での透過光量を低下させるリム強度補正用膜パターンと、から成る。開口制限フィルタは、膜パターンを透明基板上に形成して成るものであり、透明基板の表面に開口制限用膜パターンが形成されており、透明基板の裏面にリム強度補正用膜パターンが形成されている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
発振波長の異なる３つのレーザ光源と１つの対物レンズとで使用波長の異なる３種類の光ディスクに対応する、３波長・１レンズタイプの光ピックアップであって、
前記対物レンズを移動させるアクチュエータを備え、前記対物レンズとレーザ光源との間の光路中に、透過率特性の異なる複数の膜パターンを有する開口制限フィルタを備え、前記アクチュエータの可動子に前記対物レンズと前記開口制限フィルタを有し、前記膜パターンが、２つの波長のレーザビームを透過率の違いで開口制限する開口制限用膜パターンと、断面形状が楕円形を成す３つの波長のレーザビームに対してその楕円長軸を含む領域での透過光量を低下させるリム強度補正用膜パターンと、から成り、前記開口制限フィルタが前記膜パターンを透明基板上に形成して成るものであり、前記透明基板の表面に前記開口制限用膜パターンが形成されており、前記透明基板の裏面に前記リム強度補正用膜パターンが形成されていることを特徴とする光ピックアップ。
【請求項２】
発振波長の異なる複数のレーザ光源と１つの対物レンズとで使用波長の異なる複数の光ディスクに対応する、複数波長・１レンズタイプの光ピックアップであって、
前記対物レンズとレーザ光源との間の光路中に、透過率特性の異なる複数の膜パターンを有する開口制限フィルタを備え、前記膜パターンが、少なくとも２つの波長のレーザビームを透過率の違いで開口制限する開口制限用膜パターンと、断面形状が楕円形を成すレーザビームに対してその楕円長軸を含む領域での透過光量を低下させるリム強度補正用膜パターンと、から成ることを特徴とする光ピックアップ。
【請求項３】
前記開口制限フィルタが前記膜パターンを透明基板上に形成して成るものであり、前記透明基板の表面に前記開口制限用膜パターンが形成されており、前記透明基板の裏面に前記リム強度補正用膜パターンが形成されていることを特徴とする請求項２記載の光ピックアップ。
【請求項４】
前記開口制限フィルタが前記膜パターンを透明基板上に形成して成るものであり、前記透明基板の片面に前記開口制限用膜パターンと前記リム強度補正用膜パターンが形成されていることを特徴とする請求項２記載の光ピックアップ。
【請求項５】
さらに前記対物レンズを移動させるアクチュエータを備え、そのアクチュエータの可動子に前記対物レンズと前記開口制限フィルタを有することを特徴とする請求項２〜４のいずれか１項に記載の光ピックアップ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光ピックアップに関するものであり、例えば、ＣＤ(compact disc)，ＤＶＤ(digital versatile disc)，ＢＤ(Blu-ray Disc等：青色レーザビームを用いる高密度光ディスク)等の複数の光ディスクに対応した光ピックアップに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
例えば、１つの対物レンズで使用波長の異なる３つの光ディスク(例えば、ＣＤ，ＤＶＤ，ＢＤ)に対応する、３波長・１レンズタイプの光ピックアップにおいては、各波長に応じてレーザビームを開口制限する必要がある。また、いずれの光ディスクからも十分な再生信号が得られるようにするために、対物レンズで形成されるビームスポットを径の小さい円形にする必要がある。開口制限に関しては、対物レンズのレンズ面に輪帯状の回折格子を形成して、ＣＤに対しては不要領域の光を回折させるＤＶＤ／ＣＤ対応の光ピックアップが知られているが、３波長に対応しようとすると光学性能の高い対物レンズが必要になる。スポット形状に関しては、レーザビームを楕円ビームから円形ビームに変換するビーム整形素子を用いて、リム強度(すなわち、対物レンズに入射する光束の周辺強度比)の補正を行う光ピックアップが知られているが、ビーム整形素子の使用は光学系の大型化を招いてしまう。
【０００３】
上記のような問題を解決するため、従来より様々なタイプの光ピックアップが提案されている。例えば、特許文献１，２には開口制限部にリム強度補正機能を持たせた２波長・１レンズタイプの光ピックアップが提案されており、特許文献３にはビームスプリッタにリム強度補正機能を持たせた３波長・１レンズタイプの光ピックアップが提案されている。
【特許文献１】特開平９−１０６５６６号公報
【特許文献２】特開２００３−９１８５７号公報
【特許文献３】特開２００４−２３４８１８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１，２で提案されている構成を３波長・１レンズタイプの光ピックアップに適用しようとすると、構成が大きく複雑化してしまい、光学性能の低下や光学系全体の大型化を招いてしまう。また、特許文献３で提案されている光ピックアップにおいて、各波長の開口制限を行おうとすると、やはり構成が大きく複雑化してしまい、光学性能の低下や光学系全体の大型化を招いてしまう。
【０００５】
本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであって、その目的は、簡単かつコンパクトな構成でありながら高精度の安定した信号が得られる、複数波長・１レンズタイプの光ピックアップを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するために、第１の発明の光ピックアップは、発振波長の異なる３つのレーザ光源と１つの対物レンズとで使用波長の異なる３種類の光ディスクに対応する、３波長・１レンズタイプの光ピックアップであって、前記対物レンズを移動させるアクチュエータを備え、前記対物レンズとレーザ光源との間の光路中に、透過率特性の異なる複数の膜パターンを有する開口制限フィルタを備え、前記アクチュエータの可動子に前記対物レンズと前記開口制限フィルタを有し、前記膜パターンが、２つの波長のレーザビームを透過率の違いで開口制限する開口制限用膜パターンと、断面形状が楕円形を成す３つの波長のレーザビームに対してその楕円長軸を含む領域での透過光量を低下させるリム強度補正用膜パターンと、から成り、前記開口制限フィルタが前記膜パターンを透明基板上に形成して成るものであり、前記透明基板の表面に前記開口制限用膜パターンが形成されており、前記透明基板の裏面に前記リム強度補正用膜パターンが形成されていることを特徴とする。
【０００７】
第２の発明の光ピックアップは、発振波長の異なる複数のレーザ光源と１つの対物レンズとで使用波長の異なる複数の光ディスクに対応する、複数波長・１レンズタイプの光ピックアップであって、前記対物レンズとレーザ光源との間の光路中に、透過率特性の異なる複数の膜パターンを有する開口制限フィルタを備え、前記膜パターンが、少なくとも２つの波長のレーザビームを透過率の違いで開口制限する開口制限用膜パターンと、断面形状が楕円形を成すレーザビームに対してその楕円長軸を含む領域での透過光量を低下させるリム強度補正用膜パターンと、から成ることを特徴とする。
【０００８】
第３の発明の光ピックアップは、上記第２の発明において、前記開口制限フィルタが前記膜パターンを透明基板上に形成して成るものであり、前記透明基板の表面に前記開口制限用膜パターンが形成されており、前記透明基板の裏面に前記リム強度補正用膜パターンが形成されていることを特徴とする。
【０００９】
第４の発明の光ピックアップは、上記第２の発明において、前記開口制限フィルタが前記膜パターンを透明基板上に形成して成るものであり、前記透明基板の片面に前記開口制限用膜パターンと前記リム強度補正用膜パターンが形成されていることを特徴とする。
【００１０】
第５の発明の光ピックアップは、上記第２〜第４のいずれか１つの発明において、さらに前記対物レンズを移動させるアクチュエータを備え、そのアクチュエータの可動子に前記対物レンズと前記開口制限フィルタを有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明に係る複数波長・１レンズタイプの光ピックアップは、対物レンズとレーザ光源との間の光路中に、透過率特性の異なる複数の膜パターンを有する開口制限フィルタを備え、前記膜パターンが、少なくとも２つの波長のレーザビームを透過率の違いで開口制限する開口制限用膜パターンと、断面形状が楕円形を成すレーザビームに対してその楕円長軸を含む領域での透過光量を低下させるリム強度補正用膜パターンと、から成っているので、複数の波長についてビームスポットを十分に絞り込めるとともに、部品点数の削減が可能になる。また、リム強度補正のためにビーム整形素子を使用したり十分な光学倍率を確保したりする場合に比べて、光学系全体をより小さく構成することができる。したがって、簡単かつコンパクトな構成でありながら高精度の安定した信号を得ることが可能である。
【００１２】
透明基板の表面に開口制限用膜パターンを形成し、透明基板の裏面にリム強度補正用膜パターンを形成することにより、開口制限フィルタを構成すれば、膜パターンの種類が少なくて済むため成膜工数を削減することができる。透明基板の片面に開口制限用膜パターンとリム強度補正用膜パターンを形成することにより、開口制限フィルタを構成すれば、光ピックアップを組み立てる際の開口制限フィルタの組み込み作業等が容易になる。また、アクチュエータの可動子に対物レンズと開口制限フィルタを有する構成すれば、対物レンズと開口制限フィルタとの位置精度を高く保つことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明に係る光ピックアップの実施の形態等を、図面を参照しつつ説明する。図１に、光ピックアップの光学構成例を示す。この光ピックアップは、発振波長の異なる３つのレーザ光源(赤色／赤外の２波長半導体レーザ１ａに搭載されている２つ光源と青色の半導体レーザ１ｂに搭載されている１つ光源とから成る。)と１つの対物レンズ９とで、使用波長の異なる３種類の光ディスクＤＫに対応する、３波長・１レンズタイプの光ピックアップであり、３種類の光ディスクＤＫのいずれに対しても情報の記録／再生を行うことが可能な構成になっている。
【００１４】
ここで想定している３種類の光ディスクＤＫとは、例えば、青色レーザ対応(波長４０５ｎｍ)の第１の光ディスク(青色レーザビームを用いる高密度光ディスク；基板厚０．１ｍｍ，ＮＡ＝０．８５)，赤色レーザ対応(波長６５０ｎｍ)の第２の光ディスク(ＤＶＤ；基板厚０．６ｍｍ，ＮＡ＝０．６〜０．６５)，赤外レーザ対応(波長７８０ｎｍ)の第３の光ディスク(ＣＤ；基板厚１．２ｍｍ，ＮＡ＝０．４５〜０．５)である。ただし、その使用波長はこれらに限るものではない。また、その適用対象も光ディスクに限らず、光ディスク以外の光情報記録媒体に対しても本発明は適用可能である。
【００１５】
図１に示す光ピックアップにおいて、１ａは赤色／赤外の２波長半導体レーザ、１ｂは青色の半導体レーザ、２ａは赤色／赤外レーザ用のグレーティング、２ｂは青色レーザ用のグレーティング、３はダイクロイックプリズム、４はビームスプリッタ、５はコリメートレンズ、６は立ち上げミラー、７は液晶素子、８は開口制限フィルタ、９は対物レンズ、１０はアクチュエータ、１０ａはアクチュエータ可動子、１１はシリンドリカルレンズ、１２は光検出器である。この光ピックアップの光学構成を光路に沿って以下に説明する。
【００１６】
半導体レーザ１ａから出射した赤色レーザビーム又は赤外レーザビームは、トラッキング・エラーを検出するためのグレーティング２ａを通過した後、ダイクロイックプリズム３を透過する。半導体レーザ１ｂから出射した青色レーザビームは、トラッキング・エラーを検出するためのグレーティング２ｂを通過した後、ダイクロイックプリズム３で反射される。ダイクロイックプリズム３を射出したレーザビームは、その一部がビームスプリッタ４を透過し、コリメートレンズ５で平行光となる。コリメートレンズ５を射出したレーザビームは、立ち上げミラー６で反射された後、収差補正用の液晶素子７を透過し、開口制限フィルタ８を透過した後、対物レンズ９で集光されて光ディスクＤＫの記録面に到達し結像する。
【００１７】
情報再生時に光ディスクＤＫの記録面で反射されたレーザビームは、対物レンズ９，開口制限フィルタ８及び液晶素子７を順に通過した後、立ち上げミラー６で反射される。そして、コリメートレンズ５を透過し、ビームスプリッタ４で反射されて、フォーカシング・エラーを検出(サーボ信号生成)するためのシリンドリカルレンズ１１を通過した後、光検出器１２の受光面に到達し結像する。光検出器１２は、受光したレーザビームの光情報を電気信号として出力する。
【００１８】
図１に示す光ピックアップは、フォーカシング，トラッキング等の際に、対物レンズ９を移動させるためにアクチュエータ１０を備えている。そのアクチュエータ１０の一部を成して移動するのが、アクチュエータ可動子１０ａである。光ピックアップに内蔵されているアクチュエータ可動子１０ａは、液晶素子７，開口制限フィルタ８，対物レンズ９，レンズホルダー(不図示)等で構成されている。つまり、対物レンズ９を保持するレンズホルダーに、液晶素子７，開口制限フィルタ８及び対物レンズ９が一体的に設けられた構成になっている。
【００１９】
液晶素子７は、球面収差を補正するための光学素子である。液晶素子７の光入射範囲は、対物レンズ９の光軸を中心とする略円形状の複数の電極パターンで領域分割されている。液晶素子７に電圧を印加することにより各電極パターン上の液晶の屈折率を変えると、領域毎に透過光の位相が変化する。その位相変化を調整することによって球面収差を補正することができる。一般に、光ディスクの高密度化に対応するために使用光の短波長化や対物レンズの高ＮＡ(numerical aperture)化を図ろうとすると、光ディスクの透過層厚さのバラツキによる球面収差の発生が問題となる。その球面収差は、収差補正用の液晶素子７を用いることによって補正可能である。そして、対物レンズ９と共に液晶素子７もアクチュエータ可動子１０ａに搭載すれば、対物レンズ９と液晶素子７との位置関係が常に一定に保たれるため、液晶素子７の電極パターンと対物レンズ９の光軸との位置ズレによる収差補正能力の低下を回避することができる。
【００２０】
開口制限フィルタ８は、透過率特性の異なる複数の膜パターンを有しており、その膜パターンは、赤色と赤外の２つの波長のレーザビームを透過率の違いで開口制限する開口制限用膜パターンと、断面形状が楕円形を成すレーザビームに対してその楕円長軸を含む領域での透過光量を低下させるリム強度補正用膜パターンと、から成っている。前述したように、３波長・１レンズタイプの光ピックアップにおいては、各波長に応じてレーザビームを開口制限する必要がある。また、３種類の光ディスクＤＫのいずれからも十分な再生信号が得られるようにするために、対物レンズ９で形成されるビームスポットを径の小さい円形にする必要がある。こういった点から、高精度の安定した信号が得られるようにするため、図１の光ピックアップに用いられている開口制限フィルタ８は、レーザビームに対して開口制限する機能と共に、リム強度を補正する機能を有する構成になっている。
【００２１】
図２に、開口制限フィルタ８の具体例１を示す。図２(ａ)は具体例１の表面側外観を示しており、図２(ｂ)は具体例１の裏面側外観を示している。また、図２(ｃ)は図２(ａ)におけるｘ−ｘ’線断面を示している。開口制限フィルタ８の具体例１は、膜パターンを透明基板８Ｓ上に形成して成るものであり、透明基板８Ｓの表面に開口制限用膜パターンＢ，Ｄ，Ｃが形成されており、透明基板８Ｓの裏面にリム強度補正用膜パターンＮが形成されている。開口制限フィルタ８の透過率設定は膜設計により行われる。その透過率設定の一例を表１に示す。
【００２２】
【表１】
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【００２３】
液晶素子７から射出したレーザビームは、図２(ａ)に示す表面側又は図２(ｂ)に示す裏面側から開口制限フィルタ８に入射する。青色レーザビームは、開口制限用膜パターンＢ，Ｄ，Ｃをいずれも透過率９５％で透過するため、開口制限フィルタ８では開口制限されず、リム強度補正用膜パターンＮによるリム強度補正のみが行われる。リム強度補正用膜パターンＮは長方形状を成しており、断面形状が楕円形を成す青色レーザビームの楕円長軸に対して平行、かつ、楕円中心を含むように配置されている。したがってリム強度補正用膜パターンＮは、青色レーザビームの楕円長軸を含む領域での透過光量を更に７０％にまで低下させるように作用する。
【００２４】
赤色レーザビームは、開口制限用膜パターンＤ，Ｃをいずれも透過率９５％で透過するが、開口制限用膜パターンＢをほとんど透過しない(透過率２％以下)。このため赤色レーザビームは、開口制限用膜パターンＤ，Ｃから成る円形状の透過領域に開口制限されることになる。赤外レーザビームは、開口制限用膜パターンＣを透過率９５％で透過するが、開口制限用膜パターンＢ，Ｄをほとんど透過しない(透過率２％以下)。このため赤外レーザビームは、開口制限用膜パターンＣから成る円形状の透過領域に開口制限されることになる。長方形状を成すリム強度補正用膜パターンＮは、断面形状が楕円形を成す赤色レーザビームと赤外レーザビームの各楕円長軸に対して平行、かつ、楕円中心を含むように配置されている。したがってリム強度補正用膜パターンＮは、赤色レーザビームと赤外レーザビームのそれぞれについて、楕円長軸を含む領域での透過光量を更に７０％にまで低下させるように作用する。
【００２５】
３波長の各レーザビームについて、上記のように楕円長軸を含む領域で光量を低下させると、そのリム強度が相対的に高くなるため、対物レンズ９で形成されるビームスポットを径の小さい円形にすることができる。したがって、簡単かつコンパクトな構成でありながら精度の高い安定した信号を得ることが可能である。しかも、部品点数の削減や光学系全体の小型化にも寄与することができる。
【００２６】
開口制限フィルタ８は、図１に示すように、対物レンズ９の直近に配置するのが好ましい。また、開口制限フィルタ８をアクチュエータ可動子１０ａに一体化するのが更に好ましい。対物レンズ９と共に開口制限フィルタ８もアクチュエータ可動子１０ａに搭載すれば、対物レンズ９と開口制限フィルタ８との位置関係が常に一定に保たれるため、開口制限フィルタ８の膜パターンと対物レンズ９の光軸との位置ズレによる、開口制限・リム強度補正の能力低下を回避することができる。
【００２７】
リム強度補正用膜パターンＮは、青色レーザビームと赤色／赤外レーザビームとで同じ方向ではなく、例えば、９０°回転していてもよい。つまり、それぞれのレーザビームの楕円の向きに合わせるように、リム強度補正用膜パターンＮを配置してもよい。例えば、青色レーザビームと赤色／赤外レーザビームとで、入射するビームの楕円の向きが直交する場合、十文字状にリム強度補正用膜パターンＮを形成して、それぞれの波長に応じた膜特性に設定するようにすればよい。
【００２８】
リム強度補正用膜パターンＮを対応波長に分けて配置してもよい。例えば、透明基板８Ｓの一方の面に開口制限用膜パターンＢ，Ｄ，Ｃと青色波長用のリム強度補正用膜パターンを設け、透明基板８Ｓの他方の面に赤色／赤外用のリム強度補正用膜パターンを設けてもよい。また、波長によりそれぞれに異なった透過率に膜設計してもよい。例えば、開口制限用膜パターンＣはどの波長に対しても同じ透過率になっているが、膜設計により透過率を落とす度合いを変えてもよい。例えば、赤色波長に対してのみ透過率を低く設定してもよい。
【００２９】
図３に、開口制限フィルタ８の具体例２を示す。図３(ａ)は具体例２の表面側外観を示しており、図３(ｂ)は図３(ａ)におけるｘ−ｘ’線断面を示している。開口制限フィルタ８の具体例２は、膜パターンを透明基板８Ｓ上に形成して成るものであり、透明基板８Ｓの片面に開口制限用膜パターンＢ，Ｄ，Ｃと(開口制限用膜パターンとしても機能する)リム強度補正用膜パターンＢＮ，ＤＮ，ＣＮが形成されている。具体例２についても、その透過率設定は膜設計により行われる。その透過率設定の一例を表２に示す。
【００３０】
【表２】
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【００３１】
液晶素子７から射出したレーザビームは、膜パターンが形成されている表面側又は膜パターンが形成されていない裏面側から開口制限フィルタ８に入射する。青色レーザビームは、開口制限用膜パターンＢ，Ｄ，Ｃをいずれも透過率９５％で透過するため、開口制限フィルタ８では開口制限されず、リム強度補正用膜パターンＢＮ，ＤＮ，ＣＮによるリム強度補正のみが行われる。リム強度補正用膜パターンＢＮ，ＤＮ，ＣＮは長方形状を成しており、断面形状が楕円形を成す青色レーザビームの楕円長軸に対して平行、かつ、楕円中心を含むように配置されている。したがってリム強度補正用膜パターンＢＮ，ＤＮ，ＣＮは、青色レーザビームの楕円長軸を含む領域での透過光量を６７％(＝９５×０．７％)にまで低下させるように作用する。
【００３２】
赤色レーザビームは、開口制限用膜パターンＤ，Ｃをいずれも透過率９５％で透過するが、開口制限用膜パターンＢをほとんど透過しない(透過率２％以下)。このため赤色レーザビームは、開口制限用膜パターンＤ，Ｃから成る円形状の透過領域に開口制限されることになる。赤外レーザビームは、開口制限用膜パターンＣを透過率９５％で透過するが、開口制限用膜パターンＢ，Ｄをほとんど透過しない(透過率２％以下)。このため赤外レーザビームは、開口制限用膜パターンＣから成る円形状の透過領域に開口制限されることになる。長方形状を成すリム強度補正用膜パターンＢＮ，ＤＮ，ＣＮは、断面形状が楕円形を成す赤色レーザビームと赤外レーザビームの各楕円長軸に対して平行、かつ、楕円中心を含むように配置されている。したがって、リム強度補正用膜パターンＢＮ，ＤＮ，ＣＮは、赤色レーザビームについて、楕円長軸を含む領域での透過光量を２％以下，６７％(＝９５×０．７％)，６７％(＝９５×０．７％)にまでそれぞれ低下させるように作用し、赤外レーザビームについて、楕円長軸を含む領域での透過光量を２％以下，２％以下，６７％(＝９５×０．７％)にまでそれぞれ低下させるように作用する。なお、リム強度補正用膜パターンＢＮ，ＤＮ，ＣＮは、開口制限用膜パターンとしても機能する。
【００３３】
３波長の各レーザビームについて、上記のように楕円長軸を含む領域で光量を低下させると、前記具体例１と同様、そのリム強度が相対的に高くなるため、対物レンズ９で形成されるビームスポットを径の小さい円形にすることができる。したがって、簡単かつコンパクトな構成でありながら精度の高い安定した信号を得ることが可能である。しかも、部品点数の削減や光学系全体の小型化にも寄与することができる。また、具体例１と具体例２は同じ機能を有しているが、具体例１の場合、４種類の膜を形成する必要があり、具体例２の場合、６種類の膜を形成する必要がある。したがって、具体例１の方が成膜工程数が少なくて済むが、具体例２の方が透明基板８Ｓの同一面に対する成膜のみで済み、組み立て作業等も容易である。
【００３４】
上述したように、本実施の形態の３波長・１レンズタイプの光ピックアップは、対物レンズ９と半導体レーザ１ａ，１ｂとの間の光路中に、透過率特性の異なる複数の膜パターンを有する開口制限フィルタ８を備えている。図２に示す具体例１では、膜パターンが、少なくとも２つの波長のレーザビームを透過率の違いで開口制限する開口制限用膜パターンＢ，Ｄ，Ｃと、断面形状が楕円形を成すレーザビームに対してその楕円長軸を含む領域での透過光量を低下させるリム強度補正用膜パターンＮと、から成っており、図３に示す具体例２では、膜パターンが、少なくとも２つの波長のレーザビームを透過率の違いで開口制限する開口制限用膜パターンＢ，Ｄ，Ｃ，ＢＮ，ＤＮ，ＣＮと、断面形状が楕円形を成すレーザビームに対してその楕円長軸を含む領域での透過光量を低下させるリム強度補正用膜パターンＢＮ，ＤＮ，ＣＮと、から成っている。したがって、いずれの具体例１，２を用いた場合でも、３波長についてビームスポットを十分に絞り込めるとともに、部品点数の削減が可能になる。また、リム強度補正のためにビーム整形素子を使用したり十分な光学倍率を確保したりする場合に比べて、光学系全体をより小さく構成することができる。したがって、簡単かつコンパクトな構成でありながら精度の高い安定した信号を得ることが可能である。
【００３５】
具体例１のように、透明基板８Ｓの表面に開口制限用膜パターンＢ，Ｄ，Ｃを形成し、透明基板の裏面にリム強度補正用膜パターンＮを形成することにより、開口制限フィルタ８を構成すれば、膜パターンの種類が少なくて済むため成膜工数を削減することができる。具体例２のように、透明基板８Ｓの片面に開口制限用膜パターンＢ，Ｄ，Ｃ，ＢＮ，ＤＮ，ＣＮとリム強度補正用膜パターンＢＮ，ＤＮ，ＣＮを形成することにより、開口制限フィルタ８を構成すれば、光ピックアップを組み立てる際の開口制限フィルタ８の組み込み作業等が容易になる。また前述したように、アクチュエータ可動子１０ａに対物レンズ９と開口制限フィルタ８を有する構成すれば、対物レンズ９と開口制限フィルタ８との位置精度を高く保つことができる。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】光ピックアップの一実施の形態を示す模式図。
【図２】開口制限フィルタの具体例１の外観及び断面を示す図。
【図３】開口制限フィルタの具体例２の外観及び断面を示す図。
【符号の説明】
【００３７】
１ａ，１ｂ    半導体レーザ(レーザ光源)
８    開口制限フィルタ
Ｂ，Ｄ，Ｃ    膜パターン(開口制限用膜パターン)
Ｎ    膜パターン(リム強度補正用膜パターン)
ＢＮ，ＤＮ，ＣＮ    膜パターン(開口制限用膜パターン，リム強度補正用膜パターン)
９    対物レンズ
１０    アクチュエータ
１０ａ    アクチュエータ可動子
ＤＫ    光ディスク
【図１】
2008097769.tif 000005
【図２】
2008097769.tif 000006
【図３】
2008097769.tif 000007