(57)【要約】【課題】流量が安定するまでの立上り期間が、薬液供給時間に占める割合が半分以上であるような洗浄プロセスにおいて、洗浄不足などの異常発生ウェハの検知や薬液供給時間を決定する洗浄装置を提供する。【解決手段】洗浄装置は、基盤への吐出部に薬液を供給する供給ラインに設けた流量計と、その供給ライン上のバルブを開く信号を与える制御部と、流量計の測定結果に基づいて、前記信号を与えてからの所定期間に対する薬液流量の積分値を求める手段と、薬液流量の積分値に対して予め定めた基準範囲外に、求めた積分値がある場合、当該基盤の洗浄についての警告をする警告手段とを備える。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基盤への吐出部に薬液を供給する供給ラインに設けた流量計と、
前記供給ライン上のバルブを開く信号を与える制御部と、
前記流量計の測定結果に基づいて、前記信号を与えてからの所定期間に対する薬液流量の積分値を求める手段と、
前記薬液流量の積分値に対して予め定めた基準範囲外に、求めた積分値がある場合、前記基盤の洗浄についての警告をする警告手段と
を備える洗浄装置。
【請求項２】
前記警告手段が、薬液流量に対して予め定めた基準範囲外に、前記流量計により得た薬液流量がある場合にも前記警告をする請求項１記載の洗浄装置。
【請求項３】
前記流量計の測定結果に基づいて、薬液流量の微分値を求める手段と、
求めた薬液流量の微分値に基づいて、前記所定期間の始期および終期を決定する手段と
をさらに備える請求項１記載の洗浄装置。
【請求項４】
基盤への吐出部に薬液を供給する供給ラインに設けた流量計と、
前記供給ライン上のバルブを開く信号を与える制御部と、
前記流量計の測定結果に基づいて、薬液流量の微分値を求める手段と、
求めた薬液流量の微分値に基づいて、前記バルブの開閉により生じる薬液流量の立上り期間、定常期間、および立下り期間を決定する手段と、
決定した立上り期間、定常期間、または立下り期間の長さが、前記立上り期間、定常期間、および立下り期間に対して予め定めた基準範囲外にある場合、前記基盤の洗浄についての警告をする手段と
を備える洗浄装置。
【請求項５】
基盤への吐出部に薬液を供給する供給ラインに設けた流量計と、
前記供給ライン上のバルブを開く信号を与える制御部と、
前記流量計の測定結果に基づいて、薬液流量の微分値を求める手段と、
求めた薬液流量の微分値に基づいて、前記バルブの開閉により生じる薬液流量の立上り期間および立下り期間を決定する手段と、
前記立上り期間および立下り期間における液体流量の微分値に対して予め定めた基準値を、決定した立上り期間または立下り期間における、求めた微分値の最小値または最大値が超えている場合、前記基盤の洗浄についての警告をする手段と
を備える洗浄装置。
【請求項６】
基盤への吐出部に薬液を供給する供給ラインに設けた流量計と、
前記供給ライン上のバルブを開く信号を与える制御部と、
前記流量計の測定結果に基づいて、薬液流量の微分値を求める手段と、
求めた薬液流量の微分値に基づいて、前記バルブの開閉により生じる薬液流量の立上り期間が経過してから立下り期間が開始するまでの定常期間を決定する手段と、
薬液流量に対して予め定めた基準範囲外に、決定した定常期間において前記流量計により得られた薬液流量がある場合、前記基盤の洗浄についての警告をする手段と
を備える洗浄装置。
【請求項７】
基盤への吐出部に薬液を供給する供給ラインに設けた流量計と、
前記供給ライン上のバルブを開く信号を与える制御部と、
前記流量計の測定結果に基づいて、前記信号を与えてからの薬液流量の積分値を求める手段とを備え、
前記制御部が、薬液流量の積分値に対して予め定めた基準値と、求めた薬液流量の積分値とに基づいて、前記バルブを閉じる信号を与える洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウェハなどを薬液、純水などを用いて洗浄する工程において、薬液などの流体の流量を測定し、基盤の洗浄性能を評価する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体ウェハなどの基盤に対し、薬液などを用いて洗浄する技術において、薬液の流量を監視し、流量低下および増加発生時にアラームを発報させる方法がある。
【０００３】
特許文献１に記載されている方法について、図１０を用いて説明する。複数台のウェットエッチング装置に対して薬液を供給する場合において、エッチング処理槽１０１には薬液供給ライン１０２が接続され、バルブ１０３により前記エッチング処理槽１０１への供給を制御している。前記供給ライン１０２に設置した流量計１０４、１０５を用いて薬液流量を測定し、信号ライン１０６、１０７を通して、それぞれの流量計１０４，１０５のデータを比較/判断回路１０８に転送する。前記比較/判断回路１０８からデータを転送し、モニター１０９にて各ウェットエッチング装置の薬液流量、使用量を表示する。前記比較/判断回路１０８にて流量を監視するとともに、薬液が流れた時間をあらかじめ定められた規格幅と比較、判断し、この規格幅を超えて薬液が流れている場合はアラームを発報する。
【特許文献１】特許第３０９３５１９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、近年の微細化に伴い、エッチングされる材料の厚さが薄くなることなどにより、薬液を供給する時間を短くする必要がある。薬液が投入されて、流量が安定するまでの立上り期間が、薬液供給時間に占める割合が半分以上という場合もある。このような場合、薬液流量の立上りプロファイルのばらつきはエッチング量や洗浄性能に大きく影響する。薬液ラインのバルブの開閉タイミングのずれや、薬液供給圧力の変動により、薬液流量が安定するまでの時間にはばらつきが発生し、このばらつきが洗浄性能を低下させる懸念がある。
【０００５】
従来の技術では、薬液が投入されて、流量が安定するまでの期間のばらつきが考慮されておらず、薬液供給時間が短く、流量が安定するまでの時間が薬液供給時間に占める割合が高い洗浄方法の場合、薬液の流量が立ち上がる期間の監視ができない課題がある。さらに、従来技術では、薬液の不足や浪費を検知することは可能であるが、洗浄性能を安定化させることはできない。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明では、薬液供給ラインに流量計を備え、その測定値を収集するモニタリングツールを備えた洗浄装置を用いるなどして、薬液供給時間における流量の積分値を算出し、その値を監視する。エラーバンドを設定し、外れた場合にはアラームを発報する。
【０００７】
さらに、瞬時流量の監視もあわせて行い、流量のエラーバンドを外れた場合は、アラームを発するようにしてもよい。積分値の監視のみでは、非常に短い時間内における一時的な流量の増加や落ち込みに対する検知能力が低くなるためである。一時的な流量増加や落ち込みは、洗浄されるウェハ表面のエッチング量の均一性の悪化につながり、洗浄性能を悪化させる。瞬時流量の監視もあわせて行うことにより、これを検知することが可能となる。
【０００８】
また、測定された流量値から、微分値を算出し、立上り時および定常時の流量変化量を監視する。立上り期間終了時の検出や、薬液吐出期間終了時の検出、流量安定時における一時的な流量増加や落ち込みを検知できる。
【０００９】
前述した積分値の監視に合わせて薬液流量の微分値の監視したり、微分値の監視に加えて流量安定時に瞬時流量の監視を行ったりしてもよい。
【００１０】
さらに、薬液供給時間を決定するエンドポイントとして薬液流量の積分値を用い、積分値がある設定値に達するまで薬液を供給することにより、薬液が投入されて、流量が安定するまでの立上り期間にばらつきが発生している状況でも常に、同じ量の薬液がウェハに対して吐出されるため、洗浄性能の安定が確保できる。
【発明の効果】
【００１１】
本発明のように、薬液流量値の積分値や微分値を算出し、監視に用いることで、薬液がウェハに対して吐出される洗浄時間が短い場合においても、薬液流量の立上り期間を含めた流量を監視できる。また、立上りタイミングなどのばらつきに対しても、積分値でエンドポイントをとることにより、同じ量の薬液がウェハに対して吐出されるため、常に安定した洗浄効果が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
（第１の実施の形態）
以下、本発明における第１の実施の形態について説明する。本実施の形態では、被洗浄基盤へ吐出する薬液の流量を測定し、常時モニターする。
【００１３】
本実施の形態における洗浄機構を図１に示す。この洗浄機構では、回転させた基盤１１に対して、薬液ライン１２を通して前記基盤１１の表面および裏面に薬液を吐出させる。前記基盤１１の表面および裏面に吐出するラインそれぞれに流量計１３，１４を備えており、前記流量計１３、１４に接続したモニタリングツール１６にて測定した流量値を常時モニターする。前記薬液ライン１２にはバルブ１５を備えており、基盤１１への薬液の吐出タイミングを制御する。バルブ１５を開く時間は、基盤１１を洗浄する条件において事前に設定され、その設定時間に従って制御部１７からバルブ１５に信号が与えられ、薬液が吐出部１８、１９から基盤１１へ吐出される。
【００１４】
図１の構成にて基盤１１を洗浄したときの流量計１３にて取得したデータの一例を図２に示す。経過時間に対する流量プロファイル２１では、薬液ライン１２のバルブ１５を開く信号を発してから実際に薬液が流れ出すまでの期間２２を経て、立上り期間２３、定常期間２４、立下り期間２５が続き、薬液の流量が０になる。立上り期間２３は、薬液が流れ出してから設定流量に到達するまでに要する時間であり、定常期間２４は薬液の流量が設定流量に到達してからバルブ１５を閉じるまでの期間であり、立下り期間２５は、バルブ１５を閉め、薬液流量が低下してから流量が０になるまでの期間である。
【００１５】
これらの期間２２乃至２５の長さは薬液の供給状況によって変化する。バルブ１５を開いてから薬液が流れ出すまでの期間２２の長さは、バルブ１５が開くタイミングのずれや薬液の供給圧力の変動などで変化する。立上り期間２３は、バルブ１５の開度のばらつきや薬液の供給圧力の変動などでその長さが変化する。定常期間２４は、立上り期間２３の変化に伴って変化する。立上り期間２３が長くなれば、その分短くなり、立上り期間２３が短くなれば、その分長くなる。立下り期間２５は、バルブ１５が閉まるタイミングのばらつきにより変化する。
【００１６】
近年の半導体製造工程における微細化に伴い、基盤表面および裏面の酸化膜をＨＦなどの薬液でエッチングすることにより洗浄する技術においては、エッチング量を少なく、かつ再現性を確保する必要がある。さらに、表面もしくは裏面に形成された酸化膜の膜厚が薄くなってきており、従来のエッチング時間では非エッチング膜に対するダメージが懸念される。このため、エッチング時間、すなわち薬液処理時間を短縮させる必要性が発生しており、従来では約３０ｓｅｃ以上であった薬液処理時間が１０ｓｅｃ前後になり、図２に示すように、立上り期間２３が薬液処理時間の約半分を占める。
【００１７】
さらに、前述したように、立上り期間２３はバルブ１５の開度のばらつきや薬液の供給圧力の変動などで変化する。図３は立上り期間の異なる３つの流量プロファイル３１乃至３３を示す。通常の流量プロファイル３１に対し、流量プロファイル３２では、バルブ１５が開くタイミングが早いか薬液の供給圧力が高いために立上りが早くなっている。流量プロファイル３３では、バルブ１５が開くタイミングが遅いか薬液の供給圧力が低いため立上りが遅くなっている。
【００１８】
上述のように薬液処理時間が短くなり立上り期間２３がその約半分を占める場合、立上り期間２３の変化は、基盤１１に吐出される薬液量全体の変動につながり、基盤１１の表面および裏面の酸化膜のエッチング量が変動し、洗浄性能のばらつきが発生する。
【００１９】
したがって、従来のように薬液流量が設定流量に到達してから流量値の監視を行うだけでは、洗浄性能が低下した場合の検知ができない。この問題に対し、薬液濃度を薄くして薬液処理時間を長くする方法や、薬液流量を低下させて薬液処理時間を長くする方法がある。
【００２０】
しかしながら、薬液処理時間を長くすると、洗浄装置そのものの処理能力に影響し、近年の処理時間短縮、製品リードタイムの短縮の要求に対応できない。また薬液流量を低下させる方法については、基盤１１の表面または裏面全体に薬液を均一に供給できない問題が発生し、結果として洗浄性能が低下する懸念がある。製品リードタイムの確保と洗浄性能を両立させるには、ある一定時間以下の薬液供給時間とある一定以上の薬液濃度および薬液流量が必要となる。
【００２１】
この実施の形態では、立上り期間２３が薬液処理時間の約半分を占めるなど立上り期間２３が基盤１１の洗浄結果に与える影響が大きい場合に対し、薬液流量の積分値を算出し、その積分値に対して事前に設定した基準値上限を上回るか基準値下限を下回った時に、洗浄された基盤を識別し、警報を発する。積分値の算出や警報は、図１におけるモニタリングツール１６で実施する。そのためのユニットを別個に設置してもよい。警報は、表示画面上に出力してもよいし、報知音として出力してもよい。
【００２２】
積分値を算出する期間には、図４の期間４１や図５の期間５１を採用することができる。期間４１は、基盤１１を洗浄する条件において事前に設定された薬液を供給する期間であり、この期間バルブが開いている。モニタリングツール１６は、バルブ１５を開閉するための制御信号から、この期間４１を特定することができる。また期間５１は、実際に薬液が流れ出してから薬液の流量が０になるまでの期間である。モニタリングツール１６は、流量計１３、１４により得られた薬液流量の値から、この期間５１を定めることができる。基盤１１に吐出される薬液全体の量を正確に把握し、監視するためには、期間５１について薬液の流量を積分する方がよい。
【００２３】
このように本実施の形態では、薬液流量の積分値を用いることにより、薬液流量の立上り期間を含めた監視が可能となり、基盤洗浄性能が低下したときの基盤を精度良く抽出できる。
（第２の実施の形態）
以下、本発明における第２の実施の形態について説明する。この実施の形態でも、図１の洗浄機構を用いることができる。
【００２４】
図６は薬液供給時に不具合が生じた場合の薬液流量プロファイルの一例を示す。前述の第１の実施の形態において、薬液供給時に発生したなんらかの不具合によって、例えば、設定流量の薬液が流れる定常期間において突発的に流量が乱れることがある。このような薬液流量プロファイルが得られた場合、算出された積分値は、事前に設定した基準範囲内にあっても、基盤に対する薬液の吐出状態が通常と異なるため、洗浄性能が確保できていない可能性がある。
【００２５】
本実施の形態では、モニタリングツール１６が、薬液流量の積分値を算出し、その積分値に対して事前に設定した基準値上限を上回るか基準値下限を下回った時に洗浄された基盤を識別し、警報するだけでなく、事前に設定した期間において、流量計１３、１４により得た流量値が事前に設定した基準値上限６１を上回るか基準値下限６２を下回った時にも洗浄された基盤を識別し警報を発する。
【００２６】
流量値を監視する期間は、薬液処理中の任意に設定できるが、薬液流量の立上り期間を考慮した遅延時間を設けた上で、設定することが必要である。例えばバルブ１５が開いてから予め見積もった立上り期間が経過するまでの遅延時間が経過してから、流量値が、基準値の範囲内であるか否かを監視する。
【００２７】
薬液流量の積分値の監視に流量値の監視を加えることで、積分値の差に現れない突発的な流量変動を検知することができ、それによって、さらに確実に、基盤洗浄性能が低下したときの基盤を抽出することができる。
（第３の実施の形態）
以下、本発明における第３の実施の形態について説明する。この実施の形態でも、図１の洗浄機構を用いることができる。この実施の形態では、モニタリングツール１６が薬液流量の積分値を求める代わりに、またはそれに加えて薬液流量の微分値を算出する。微分値の算出には、別にユニットを設置してもよい。
【００２８】
図７は薬液流量の微分値のプロファイルの一例を示す。このプロファイルは、図２で示した薬液流量プロファイルに対応するものである。薬液が流れ出した時点７１は、微分値のプロファイルが最初に急峻に立ち上がった時点である。薬液流量が設定流量に到達し立上り期間が終わった時点７２では、薬液流量の微分値は０に戻る。バルブ１５が閉まった時点７３から、薬液流量の微分値は急激に減少する。薬液流量がなくなり立下り期間が終了した時点７４では、薬液流量の微分値は再び０に戻る。
【００２９】
すなわち、薬液が流れ始めてから設定流量に到達するまでの立上り期間７５では、薬液流量の微分値は正の値を示し、薬液流量が設定流量に到達してからバルブ１５が閉まるまでの定常期間７６では、薬液流量の微分値はほぼ０になり、バルブ１５が閉まってから薬液流量が０になるまでの立下り期間７７では、薬液流量の値は負の値を示す。
【００３０】
この実施の形態において、モニタリングツール１６は、少なくともバルブ１５が開いてから薬液流量が０になるまでの期間について薬液流量の時間微分値を計算し、計算した微分値に基づいて、立上り期間７５、定常期間７６、および立下り期間７７を決定する。モニタリングツール１６は、これらの期間に対し事前にそれぞれ設定した基準値上限および基準値下限と、決定した期間７５乃至７７の長さとを比較し、期間７５乃至７７の長さが基準値上限を上回るか基準値下限を下回った時に、洗浄された基盤を識別し、警報を発する。期間７５乃至７７は、薬液流量の微分値に対する閾値によって定めることもできるし、二次微分値を求めることにより定めることもできる。
【００３１】
薬液流量の立上り期間７５の長さが事前に設定した基準値上限を上回ったときには、薬液流量の立上りが遅いことになる。逆に立上り期間７５の長さが事前に設定した基準値下限を下回ったときには、薬液流量の立上りが早いことになる。いずれも、基盤に対する全体薬液量が変化するために、基盤の洗浄性能が確保できていない懸念がある。
【００３２】
また、設定流量の薬液が流れる定常期間７６の長さが事前に設定した基準値上限を上回ったときには、設定流量での薬液の吐出時間が長いことになる。逆に定常期間７６の長さが事前に設定した基準値下限を下回ったときには、設定流量での薬液の吐出時間が短いことになる。いずれも、基盤に対する全体薬液量が変化するために、基盤の洗浄性能が確保できていない懸念がある。
【００３３】
さらに、薬液流量の立下り期間７７の長さが事前に設定した基準値上限を上回ったときには、薬液流量の立下りが遅いことになる。逆に立下り期間７７の長さが事前に設定した基準値下限を下回ったときには、薬液流量の立下りが早いことになる。いずれも、基盤に対する全体薬液量が変化するために、基盤の洗浄性能が確保できていない懸念がある。
【００３４】
このように薬液流量の微分値から薬液流量の立上り期間や定常期間、立下り期間の長さを監視することにより、基盤に吐出される全体薬液量の変化を検知することが可能であり、基盤洗浄性能が低下したときの基盤を精度良く抽出することができる。
（第４の実施の形態）
以下、本発明における第４の実施の形態について説明する。この実施の形態でも、図１の洗浄機構を用いることができる。第４の実施の形態では、第３の実施の形態と同様に、モニタリングツール１６が薬液流量の積分値を求める代わりに、またはそれに加えて薬液流量の微分値を算出する。微分値の算出には、別にユニットを設置してもよい。
【００３５】
この実施の形態において、モニタリングツール１６は、第３の実施の形態と同様に立上り期間７５および立下り期間７７を薬液流量の微分値にしたがって求める。そして、モニタリングツール１６は、その立上り期間７５における薬液流量の微分値の最大値７８を算出し、最大値７８が事前に設定した基準値上限を上回るか基準値下限を下回った時に洗浄された基盤を識別し警報を発する。最大値７８が基準値下限を下回ったときには、薬液流量の立上りの傾きが小さい、すなわち立上りが遅いと考えられる。逆に、最大値７８が基準値上限を上回ったときには、薬液流量の立上りの傾きが大きい、すなわち立上りが早いと考えられる。いずれも、基盤に対する全体薬液量が変化するため、基盤の洗浄性能が確保できていない懸念がある。
【００３６】
同様に、モニタリングツール１６が、薬液流量の立下り期間７７における微分値の最小値７９を算出し、その最小値７９が事前に設定基準値上限を上回るか基準値下限を下回ったときに洗浄された基盤を識別し、警報を発することができる。最小値７９が基準値上限を上回ったときには、薬液流量の立下りの傾きが小さい、すなわち立下りが遅いと考えられる。逆に、最小値７９が基準値下限を下回ったときには、薬液流量の立下りの傾きが大きい、すなわち立下りが早いと考えられる。いずれも、基盤に対する全体薬液量が変化するために、基盤の洗浄性能が確保できていない懸念がある。
【００３７】
このように薬液流量の微分値を用いて基盤洗浄性能の監視をすることにより、基盤に吐出される全体薬液量の変化を検知することが可能であり、基盤洗浄性能が低下したときの基盤を精度良く抽出できる。
（第５の実施の形態）
以下、本発明における第５の実施の形態について説明する。この実施の形態でも、図１の洗浄機構を用いることができる。第５の実施の形態では、第３および第４の実施の形態と同様に、モニタリングツール１６が薬液流量の積分値を求める代わりに、またはそれに加えて薬液流量の微分値を算出する。微分値の算出には、別にユニットを設置してもよい。
【００３８】
この実施の形態において、モニタリングツール１６は、第３の実施の形態と同様に、薬液流量の微分値にもとづいて、薬液流量の立上り期間、定常期間、および立下り期間を決定する。これらの期間は、例えば２次微分値を使ったゼロクロス法等で定めればよい。さらに、モニタリングツール１６は、立上り期間、および立下り期間について、第３の実施の形態または第４の実施の形態と同様に警報を発することができる。そして定常期間については、モニタリングツール１６が、流量計１３、１４により得られた薬液流量の値が事前に設定した基準値を上回るか基準値下限を下回った時に、洗浄された基盤を識別し、警報を発する。
【００３９】
図８は薬液流量のプロファイルと薬液流量値に対して設定した基準幅を示す。従来の薬液流量のみの監視では、薬液ラインのバルブが開くタイミングのばらつきや、薬液流量の立上り期間８１のばらつきにより、流量を監視する時間を短縮したりその基準幅を広げたりする必要があった。この実施の形態では、薬液流量の微分値に基づいて薬液流量の立上り終了時が精度良く抽出できるため、定常期間８２について設定する薬液流量の基準幅８４において、そのようなばらつきを考慮する必要がない。このため、設定流量が基盤に対して吐出されている全期間に対して、監視が可能であり、その監視幅８４を所望の洗浄性能が確保できるレベルにまで狭めることができる。
【００４０】
このように薬液流量の微分値から薬液流量の立上り終了時点や立下り開始時点を高精度に抽出して、設定流量を吐出している定常期間を定め、その定常期間において薬液流量の監視を行うことにより、洗浄性能が低下したときの基盤を精度良く抽出することができる。
（第６の実施の形態）
以下、本発明における第６の実施の形態について説明する。この実施の形態でも、図１の洗浄機構を用いることができる。第６の実施の形態では、モニタリングツール１６が薬液流量の積分値を求めるとともに、薬液流量の微分値を算出する。積分値や微分値の算出には、別にユニットを設置してもよい。
【００４１】
第１の実施の形態では、薬液流量の積分値を算出するための積分期間を、薬液流量の値から求めていた。第６の実施の形態では、モニタリングツール１６が、第３の実施の形態と同様に薬液流量の微分値を算出し、その微分値に基づいて、図７における薬液が流れ出した時点７１と立下り終了時点７４を抽出する。そして、モニタリングツール１６は、薬液が流れ出した時点７１から立下り終了時点７４までの期間を薬液流量の積分値の算出期間として定め、薬液流量の積分値を求める。その薬液流量の積分値にしたがって、第１の実施の形態と同様に警報を発する。
【００４２】
このように薬液流量の微分値を用いれば、実際に薬液が基盤に対して吐出されている期間を精度良く検出することができ、基盤に対して吐出された全体薬液量の算出精度が向上する。その結果、基盤洗浄性能が低下したときの基盤をより確実に抽出することが可能となる。
（第７の実施の形態）
以下、本発明における第７の実施の形態について説明する。この実施の形態でも、図１の洗浄機構を用いることができる。第７の実施の形態では、第１の実施の形態や第６の実施の形態と同様に、モニタリングツール１６が薬液流量の積分値を算出する。積分値の計算は、例えばバルブ１５が開いてからサンプリング時間が経過する度に行う。さらに制御部１７が、モニタリングツール１６により得られた薬液流量の積分値と、薬液流量の積分値に対して予め定めた基準値とに基づいてバルブ１５を閉じる信号を与える。積分値と基準値との比較も、サンプリング時間ごとに行う。そして制御部１７は、薬液流量の積分値がその基準値に達するまで薬液を吐出させる。順次計算される薬液流量の積分値が基準値に達したときバルブ１５を閉じる。
【００４３】
図９は薬液流量のプロファイルとバルブを閉じるタイミングを示す。通常の薬液の立上りであれば、基準値に達した時点９１でバルブ１５を閉じる。バルブ１５が開くタイミングの遅れなどにより立上りが遅れた場合でも、基準値に達するまで薬液を基盤に対して吐出し、基準値に達した時点９２でバルブ１５を閉じる。
【００４４】
このように薬液供給時間のエンドポイントとして薬液流量の積分値を使用し、事前に設定した基準値まで薬液を吐出することにより、薬液流量の立上りタイミングのばらつきに関わらず、常に一定量の薬液を基盤に対して吐出することができ、常に同じ洗浄結果を確保することが可能となる。
【００４５】
さらには、本発明の薬液供給時間を決定する方法をエンドポイントのプログラムおよび記録媒体として使用することにより、品種、工程に合わせてエンドポイントを検出することができる。
【産業上の利用可能性】
【００４６】
本発明に係る洗浄装置は、薬液の流量を測定し、流量の積分値や微分値を用いて洗浄プロセスの結果を評価するため、半導体ウェハを薬液洗浄する工程において、洗浄不足などの異常発生ウェハの検知や薬液供給時間を決定するエンドポイント機能として有用である。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】洗浄装置の構成図
【図２】薬液流量プロファイルの一例を示す図
【図３】薬液流量の立上りにばらつきが発生した時の薬液流量プロファイルの例を示す図
【図４】事前に設定された薬液を供給する期間を薬液流量の積分期間とした場合の薬液流量プロファイルの一例を示す図
【図５】薬液流量の立上り開始時点から薬液の立下り終了時点まで流量の積分期間とした場合の薬液流量プロファイルの一例を示す図
【図６】薬液流量に突発的な変動が発生した場合の薬液流量プロファイルの一例を示す図
【図７】薬液流量の微分値プロファイルの一例を示す図
【図８】薬液流量プロファイルと流量エラーバンド設定の一例を示す図
【図９】薬液流量の積分値が基準値に到達するまで薬液を供給した場合の薬液流量プロファイルの例を示す図
【図１０】従来の洗浄装置の構成図
【符号の説明】
【００４８】
１１  基盤
１２  薬液供給ライン
１３  基盤表面に供給する薬液ラインの流量計
１４  基盤裏面に供給する薬液ラインの流量計
１５  バルブ
１６  モニタリングツール
１７  制御部
１８  基盤表面に対する薬液の吐出部
１９  基盤裏面に対する薬液の吐出部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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