(57)【要約】【課題】  磁気媒体としてサーボパターンが形成されたときに所望のパターンを得られるパターンを有したスタンパ、そのスタンパの製造方法、さらにはノイズを生ずることが少ないサーボパターンが形成された磁気ディスクを提供する。【解決手段】  少なくともサーボ領域とデータ領域を有し、前記サーボ領域内乃至データ領域内が非磁性部によって分離乃至凹凸によって区分されている磁気記録媒体の製造をインプリント法で行う際に用いるスタンパにおいて、前記スタンパが円周方向に凹みがある凸パターンを有する。【選択図】      図１
2008021361.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくともサーボ領域とデータ領域を有し、前記サーボ領域内乃至データ領域内が非磁
性部によって分離乃至凹凸によって区分されている磁気記録媒体の製造をインプリント法
で行う際に用いるスタンパにおいて、
前記スタンパが円周方向に凹みがある凸パターンを有する
ことを特徴とするスタンパ。
【請求項２】
前記円周方向に凹みがある凸パターンが円周方向に連続して配置されている
ことを特徴とする請求項１に記載のスタンパ。
【請求項３】
前記円周方向に凹みがある凸パターンが半径方向側に連続して配置されている  ことを
特徴とする請求項１に記載のスタンパ。
【請求項４】
前記円周方向に凹みがある凸パターンが当該パターンの円周方向の辺の長さの３倍以下
の距離だけ離れて円周方向に配置されている
ことを特徴とする請求項１乃至請求項３に記載のスタンパ。
【請求項５】
少なくとも感光性樹脂が塗布された基板が載置されるステージを１水平方向に移動させ
る移動機構と、前記ステージを回転させる回転機構とを備えた電子線描画装置を用いて前
記感光性樹脂に電子線を照射して１のビットパターンに相当する部位を内周から外周にか
けて乃至外周から内周にかけて複数の周回によって描画し、現像し、現像後当該基板を電
鋳する工程を含むスタンパの製造方法において、
前記１のビットパターンに相当する部位を形成するための露光について各周回の露光時
間を内外周間で順に減少および順に増加させる
ことを特徴とするスタンパ製造方法。
【請求項６】
前記１のビットパターンに相当する部位における各周回の露光を、周回毎にステージが
ある角度位置に居る時点を基準として内外周間で順に遅く開始させ、また、順に早く開始
させる
ことを特徴とする請求項５に記載のスタンパ製造方法。
【請求項７】
前記１のビットパターンに相当する部位における各周回の露光を、周回毎にステージが
ある角度位置に居る時点を基準として内外周間で順に早く終了させ、また、順に遅く終了
させる
ことを特徴とする請求項５乃至請求項６に記載のスタンパ製造方法。
【請求項８】
請求項５乃至請求項７に記載のスタンパ製造方法において、電子線を照射する命令乃至
電子線をブランキングする命令としてのデータ文字が複数使用されている
ことを特徴とするスタンパ製造方法。
【請求項９】
前記電子線を照射する命令乃至電子線をブランキングする命令としてのデータ文字が、
ある基準の１の電子線を照射する命令乃至電子線をブランキングする命令としてのデータ
文字が電子線を照射する時間乃至電子線をブランキングする時間に対して、その何倍かの
時間を照射乃至ブランキングするものとして他の電子線を照射する命令乃至他の電子線を
ブランキングする命令としてのデータ文字が定義されている
ことを特徴とする請求項８に記載のスタンパ製造方法。
【請求項１０】
前記電子線を照射する命令乃至電子線をブランキングする命令としてのデータ文字が１
文字で定義されていることを特徴とする請求項８乃至請求項９に記載のスタンパ製造方法
。
【請求項１１】
請求項１乃至請求項４に記載のスタンパを用いてまたは請求項５乃至請求項１０に記載
のスタンパ製造方法によって作製された磁気記憶媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、スタンパおよびその製造方法さらにはそれを用いた磁気記録媒体に関する
。
【背景技術】
【０００２】
ハードディスクの高密度化に対する技術潮流のなかで、磁気信号を発する磁性部領域が
非磁性部によって区分けされたいわゆるディスクリート型の媒体構造が提案されている。
【０００３】
データゾーンおよびサーボゾーンを有するディスクリート型の媒体の記録再生システム
が特許文献１に記載されているが、そのディスクリート型の媒体がどのような手法で作製
されるのかは明示されていない。
【０００４】
一方、特許文献２には、ナノインプリントリソグラフィと呼ばれる２００ｎｍ以下のモ
ールドパターンをフィルムに転写する技術が記載されている。
また、特許文献３にはディスクリート型の磁気ディスクのパターンをインプリント法に
よって転写する技術が記載されている。この特許文献３においては、媒体パターンは電子
線リソグラフィ技術により作製された原盤からおこしたスタンパによって形成することが
示されているが、その電子線リソグラフィの描画手法やスタンパのパターンについて、ま
たはスタンパのパターンとインプリントを経て得られた媒体パターンとの関連性について
は述べられていない。
【０００５】
一般に、磁気ディスク装置では、筐体の内部に、ドーナツ型の円盤形状の磁気ディスク
と、磁気ヘッドを含むヘッドスライダと、ヘッドスライダを支持するヘッドサスペンショ
ンアッセンブリと、ボイスコイルモータ（ＶＣＭ）と、回路基板とを備える。
【０００６】
磁気ディスク内部は、輪切りされた同心円状のトラックに区分され、そのトラックが一
定角度毎に区切られたセクタを有し、磁気ディスクはスピンドルモータに取り付けられて
回転され、磁気ヘッドにより各種のディジタルデータが記録・再生される。そのため円周
方向にユーザーデータトラックが配される一方、位置制御のためのサーボマークが各トラ
ックを跨ぐ方向に配される。サーボマークの中にはプリアンブル部、アドレス部、バース
ト部などの領域を含む。また、これらの領域に加えてギャップ部を含んでいることもある
。
【０００７】
インプリント方式でディスクリート型の磁気ディスクを作製するためのスタンパ原盤に
おいてはユーザーデータトラック領域およびサーボ領域の双方を同時に形成することが望
まれる。さもないと後からどちらかを付加するという、位置合わせが困難で、複雑な工程
を経ることとなるからである。
【０００８】
原盤の作製においてはそのパターンを水銀ランプ、紫外線、電子線、エックス線等の化
学線によって感光性樹脂を露光して形成することが出来るが、同心円を描く必要があるこ
とから、偏向がかけられる電子線での描画が好ましい。また、トラックピッチがサブミク
ロンであるというハードディスクパターンのような細かなパターンを精度良く繋ぐ必要が
ある。このため、電子ビームによって描画している時はステージを静止しておき、１つの
フィールド内の全パターンを描画し終えると次のフィールドまでステージを移動するステ
ップアンドリピート方式よりもステージが連続して移動する方式の方が望ましい。
【０００９】
同心円を描くことができる電子線描画装置のうち、図５に示すようにステージを１水平
方向に移動させる移動機構と、ステージを回転させる回転機構とを有するステージ連続移
動方式の電子線描画装置を用いることが好ましい。
【００１０】
この電子線描画装置において、ステージに載置された基板上の感光性樹脂に対して上記
移動軸上の１点からスポットビームを当てて電子線露光する場合は、電子線になにも外力
を与えないで偏向させないと、基板の回転中心と、電子線照射位置までの距離が時間とと
もに大きくなるので、図６に示すように螺旋を描くことになる。このため、電子線露光工
程において１回転毎に偏向強度（偏向量）を次第に変化させながら電子線を偏向させるこ
とにより、図７に示すように同心円を描くことができる。
【００１１】
前述のサーボマークのうち、バースト部やアドレス部においては、円周方向の辺と半径
方向乃至磁気ヘッドが取りつけられたアーム先端が動作する軌跡の法線方向の辺からなる
長方形乃至平行四辺形のパターンを用い、それら長方形乃至平行四辺形のパターンの集合
体としてバースト部やアドレス部を形成することができる。ここで長方形というときには
正方形をも含み、また、長方形乃至平行四辺形において円周方向の辺が円周に沿うために
極僅かな曲率を有していることや、半径位置の極僅かな差異のために内周側の辺と外周側
の辺の長さが極僅かに異なることは無視するものとする。
【００１２】
しかしながら、このような長方形乃至平行四辺形の四角いパターンを少なくともポジ型
感光性樹脂が塗布された基板が載置されるステージを１水平方向に移動させる移動機構と
、前記ステージを回転させる回転機構とを備えた電子線描画装置（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｂ
ｅａｍ  Ｒｅｃｏｒｄｅｒ：以下、ＥＢＲという）を用いて描画しようとしても、その中
央部が露光の重なりや後方散乱の影響等により太って樽のような形状になったり、露光後
現像して得られた原盤を電鋳して、スタンパを得、そのスタンパを用いてインプリントし
て磁気ディスク媒体を作製しても、媒体においてはその四角いはずのパターンがさらに太
る形状劣化を生じてしまい磁気信号が正しく得られなかったりノイズが多くなったりする
問題を生じていた。
【特許文献１】特開２００４−１１０８９６号公報
【特許文献２】米国特許第５，７７２，９０５号公報
【特許文献３】特開２００３−１５７５２０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
サーボパターンが露光やインプリントにおいて形状劣化を生じてしまう結果、磁気信号
が正しく得られなかったりノイズが多くなったりする問題を生じる。
また、そもそもEBRを用いて描画・現像した原盤パターンにおいて、四角く描くべきパ
ターンが、露光の重なりによりその中央部が太ってしまう問題があり、電鋳インプリント
等の工程を経たときに、上記問題をさらに増大させるという問題が生じていた。
【００１４】
本発明は、上記事情を考慮してなされたものであって、磁気媒体としてサーボパターン
が形成されたときに所望のパターンを得られるパターンを有したスタンパを提供すること
、およびそのスタンパの製造方法を提供すること、さらにはノイズを生ずることが少ない
サーボパターンが形成された磁気ディスクを提供すること、を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明の第１の態様によるスタンパは、少なくともサーボ領域とデータ領域を有し、前
記サーボ領域内乃至データ領域内が非磁性部によって分離乃至凹凸によって区分されてい
る磁気記録媒体の製造をインプリント法で行う際に用いるスタンパにおいて、前記スタン
パが円周方向に凹みがある凸パターンを有することを特徴とする。
【００１６】
なお、前記円周方向に凹みがある凸パターンが円周方向に連続して配置されていてもよ
く、半径方向側に連続して配置されていてもよい。半径方向側とは、半径方向のものに限
らず、磁気ヘッドが取りつけられたアーム先端が動作する軌跡の法線方向に沿ったような
ものも含むものとする。また、当該パターンが当該パターンの円周方向の辺の長さの３倍
以下の距離だけ離れて円周方向に配置されていてもよい。
【００１７】
また、本発明の第２の態様によるスタンパ製造方法は、少なくとも感光性樹脂が塗布さ
れた基板が載置されるステージを１水平方向に移動させる移動機構と、前記ステージを回
転させる回転機構とを備えた電子線描画装置を用いて前記感光性樹脂に電子線を照射して
１のビットパターンに相当する部位を内周から外周にかけて乃至外周から内周にかけて複
数の周回によって描画し、現像し、現像後当該基板を電鋳する工程を含むスタンパの製造
方法において、前記１のビットパターンに相当する部位を形成するための露光について各
周回の露光時間を内外周間で順に減少および順に増加させることを特徴とする。感光性樹
脂はポジ型レジストでもネガ型レジストでも、露光によって酸が発生する材料（以下、酸
発生材という）を含む化学増幅型でも非化学増幅型でも構わないが、非化学増幅型のポジ
型レジストなどが、電子線に対する感度が良好で、解像度も良く好ましい。他にもＰＭＭ
Ａ（ポリメチルメタクリレート）やノボラック樹脂などを主成分とする材料を用いること
ができる。また、ドライエッチング耐性は問わない。
【００１８】
ここでポジ型感光性樹脂を用いて、当該１のビットパターン部を露光する場合には内周
から乃至外周から順次周回毎に露光時間を減少させ、中央部に達した後、順次周回毎に露
光時間を増加させることが望ましく、そのビットパターン中央を露光する周回の際の露光
時間が当該１のビットパターンに相当する部位を露光する複数の周回の中で最短であるこ
とが円周方向の線対称性を担保する観点から望ましい。さらに、前記１のビットパターン
に相当する部位における各周回の露光を、周回毎にステージがある角度位置に居る時点を
基準として内外周間で順に遅く開始させ、中央部に達した後、順に早く開始させたり、前
記１のビットパターンに相当する部位における各周回の露光を、周回毎にステージがある
角度位置に居る時点を基準として内外周間で順に早く終了させ、中央部に達した後、順に
遅く終了させたりすると、当該パターンが半径方向にも線対称性とすることができる点で
望ましい。ただしパターンがアーム軌跡の法線方向に沿う場合等はそのための時間ずれは
上述の説明とは別途に扱うものとする。
【００１９】
ネガ型感光性樹脂を用いて、当該１のビットパターン部形成のためにその周囲を露光す
る場合には内周から乃至外周から順次周回毎に露光時間を増加させ、中央部に達した後、
順次周回毎に露光時間を減少させること等により同様のことが行える。
【００２０】
さらに、カッティングパターンを制御するための信号の作成を簡便で扱いやすいものと
するため、電子線を照射する命令乃至電子線をブランキングする命令としてのデータ文字
が複数使用されていることが望ましく、さらに、前記電子線を照射する命令乃至電子線を
ブランキングする命令としてのデータ文字が、ある基準の１の電子線を照射する命令乃至
電子線をブランキングする命令としてのデータ文字が電子線を照射する時間乃至電子線を
ブランキングする時間に対しその何倍かの時間を照射乃至ブランキングするものとして他
の電子線を照射乃至ブランキングする命令としてのデータ文字が定義されていることが望
ましい。また、前記電子線を照射乃至ブランキングする命令としてのデータ文字が１文字
で定義されていてもよい。
【００２１】
本発明の第３の態様による磁気ディスク媒体は、上述のスタンパを用いて乃至スタンパ
製造方法によって作製されたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００２２】
以上述べたように、この発明によれば、磁気ディスク媒体において精細かつ矩形のパタ
ーンを形成することができ、磁気記録媒体の信号エラーやノイズを低減することが可能と
なる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
（実施形態）
本発明の実施形態によるスタンパについて図１を参照して説明する。
図１にはスタンパの各部における凸型パターンの上面図例を示している。バーストマー
クとして左側のような四角いパターンを並べられていてもよく、アドレスマークとして右
側のような所々繋がったり離れたりした四角いパターンが存在してもよい。また内周から
外周にかけて、アーム軌跡に沿うようにパターンが並んでいても良い。
【００２４】
バーストマークやアドレスマークの他のパターンやギャップをサーボ領域内に有してい
ても構わないし、ディスクリートトラック部がセクタのうちの多くを占めていても構わな
いし、セクタ数にも制限はない。スタンパの形状は円盤形状であっても、ドーナツ型形状
であっても、その他の形状であっても構わない。
【００２５】
スタンパの厚みは０．１ｍｍ以上２ｍｍ以下であることが望ましい。あまり薄いと強度
が得られないこととなるし、必要以上に厚いと電鋳に時間を要することとなったり、膜厚
差が大きくなったりするからである。スタンパのサイズは媒体より大きいことが好ましい
が、そのサイズは方式上特に限定されるものではない。
【００２６】
しかしながら、電子線による描画時間が過剰なものにならないようパターンを有する部
位が３．５インチ以下であることが望ましい。さらにインプリント時に用いるプレス能力
が過大なものにならないために、同２．５インチ以下であることが望ましい。より好まし
くは量産性の観点から、電子線描画時間が相対的に短く、インプリント時の圧力が相対的
に低く済む０．８５インチや１インチ、１．８インチといった、パターンを有する部位が
１．８インチ以下のサイズであることが望ましい。
【００２７】
本実施形態におけるスタンパは、インプリント法で行うディスクリート磁気記録媒体の
製造方法に用いられるものであって、例えば図３に示すような磁性体加工型のディスクリ
ート磁気記録媒体（Ｍａｇｎｅｔｉｃ  ｆｉｌｍ−ｐａｔｔｅｒｎｅｄ  Ｄｉｓｃｒｅｔ
ｅ  ｔｒａｃｋ  ｍｅｄｉａ）または、図４に示すような基板加工型のディスクリート磁
気記録媒体（Ｓｕｂｓｔｒａｔｅ−ｐａｔｔｅｒｎｅｄ  Ｄｉｓｃｒｅｔｅ  ｔｒａｃｋ
ｍｅｄｉａ）に用いる。
【００２８】
スタンパが円周方向に凹みがある凸パターンを特定の部位に有していればよく、円周方
向に連続して配置されていてもよく、半径方向側に連続して配置されていてもよく、当該
パターンの円周方向の辺の長さの３倍以下の距離だけ離れて円周方向に配置されていても
よい。
【００２９】
また、円周方向の凹みは特にその大きさを必要とするものではなく、平行より若干凹ん
でいる程度でもよい。
スタンパが円周方向に凹みを有していることによって、この様に狭い間隔で連続的にパ
ターンが並ぶ場合にも矩形性が良い精細なパターンを磁気ディスク媒体上に形成できる。
このような凹みを有する凸パターンでレジスト膜を図３乃至図４に示すようにインプリン
トし、媒体を得ると、媒体でのパターンが従来問題を生じていたときのように丸に近い形
状とならず、磁気信号も良好に得られる。
【００３０】
本実施形態のスタンパ製造方法は、図５のように基板上に感光性樹脂が塗布された基板
が載置されるステージを１水平方向に移動させる移動機構と、このステージを回転させる
回転機構とを備えた電子線描画装置を用いて前記感光性樹脂に電子線を照射して１のビッ
トパターンに相当する部位を内周から外周にかけて乃至外周から内周にかけて複数の周回
によって描画し、現像し、現像後当該基板を電鋳する工程を含むスタンパの製造方法にお
けるものである。
【００３１】
その工程は図２に示すとおりであり、例えば感光性樹脂にポジ型のものを用い前記１の
ビットパターンに相当する部位を露光し、現像してパターンを形成する場合、その露光に
ついて各周回の露光時間を内外周間で順に減少および順に増加させることができる。
【００３２】
図８（ａ）で示すように、従来はθ１からθ２の間までを各周一律に露光していたため
その露光時間が一定で、露光の重なりにより太りが生じてしまっていたが、図８（ｂ）の
ようにθ１からθ２の間までの露光時間を調整すれば、現像後、凹みのあるパターンを得
ることができる。このとき、感光性樹脂（レジスト）パターン４ａの膜厚はレジストパタ
ーン４ａの凹部の形状が充分に保たれる程度の厚さとする。
【００３３】
パターンを得るまでの工程は図２で示す（ａ）から（ｃ）の工程である。なお、現像の
前にポストベーク工程を含んでいても良く、現像の後、リンス工程を含んでいても良い。
【００３４】
なお、この露光は、周回毎にステージがある角度位置に居る時点を基準として内外周間
で順に遅く開始させ、また、順に早く開始させたり、内外周間で順に早く終了させ、また
、順に遅く終了させたりすることができ、円周方向の前後においてそれぞれ凹みを持った
パターンを形成することができる。
【００３５】
また、このスタンパ製造方法において、電子線を照射する命令乃至電子線をブランキン
グする命令としてのデータ文字を複数使用し、それらを１文字で定義することができる。
【００３６】
すなわち、例えば、１６進数を扱える信号処理系を用いる場合において、電子線を出さ
ない場合を「０」という文字で命令し、ある基準時間電子線を出す場合を「１」という文
字で命令し、その他電子線を出す場合を「２，３，４，・・・・，ｄ，ｅ」等で定義し、
さらに前記「１」という文字で命令における電子線を出す時間に対し、「２」という文字
による命令の場合はその９７％の時間電子線を出し、「３」という文字による命令の場合
はその９４％の時間電子線を出し、「ｂ」という文字による命令の場合はその７０％の時
間電子線を出すというように定め、周回毎にそれらを変化させ、適切な時間露光すること
ができる。なお、前周と変化させない周回があっても構わない。
【００３７】
このようにすることで、カッティングのための信号を簡便に作成することができる。な
お、１のビットパターンに相当する部位は形状を滑らかなものとする観点から、６周以上
の周回数によって描画形成されることが望ましく、１データトラックあたり１０周以上の
周回数によって描画形成されることがより好ましい。
【００３８】
パターンを得た後は、電鋳によってＮｉ膜８を、レジストパターン４ａの凹部を充分埋
め込み、所望の膜厚となるように形成し（図２（ｅ）参照）、次に、Ｎｉ膜８をレジスト
４ａおよび基板２から剥離し、Ｎｉからなるスタンパ８を形成する（図２（ｆ）参照）。
なお、このとき、スタンパ８についたレジストを除去するため、酸素ＲＩＥ（反応性イオ
ンエッチング）等を行う。
【００３９】
本実施形態の磁気ディスク媒体は上述のスタンパを用いてまたは上述のスタンパ製造方
法によって作製された磁気ディスク媒体である。
媒体を得るための工程としては、図３（ａ）に示すように、基板１０上に記録層となる
磁性層１２が形成され、この磁性層１２上にレジスト１４が塗布された磁気ディスク媒体
基板を用意する。
【００４０】
この磁気ディスク媒体基板上に塗布されたレジスト１４に、上述のスタンパ８を用いて
インプリントし（図３（ａ）参照）、スタンパ８のパターンをレジスト１４に転写する（
図３（ｂ）参照）。
【００４１】
次に、レジスト１４に転写されたパターンをマスクとしてレジスト１４をエッチングし
、レジストパターン１４ａを形成する（図３（ｃ）参照）。
その後、このレジストパターン１４ａをマスクとして磁性層１２をイオンミリングする
（図３（ｄ）参照）。
その後、レジストパターン１４をドライエッチングないし薬液によって除去し、ディス
クリートな磁性層１２ａが形成される（図３（ｅ）参照）。
次に、全面に保護膜１６を形成し（図３（ｆ）参照）、磁気ディスク媒体を完成する。
このような磁気ディスクは信号エラーやノイズの少ない媒体として機能する。
本実施形態のスタンパ製造方法を用いてパターンを形成する基板の形状は特に限定され
るものではないが、円盤形状のもの、例えばシリコンウエハーなどが好ましい。
【００４２】
ここで、円盤にノッチやオリフラがあっても構わない。他に基板としては、ガラス基板
、Ａｌ系合金基板、セラミック基板、カーボン基板、化合物半導体基板などを用いること
ができる。
【００４３】
ガラス基板には、アモルファスガラスまたは結晶化ガラスを用いることができる。アモ
ルファスガラスとしては、ソーダライムガラス、アルミノシリケートガラスなどがある。
結晶化ガラスとしては、リチウム系結晶化ガラスなどがある。
【００４４】
セラミック基板としては、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、窒化珪素などを主成
分とする焼結体や、これらの焼結体を繊維強化したものなどを用いることができる。化合
物半導体基板としては、ＧａＡｓ，ＡｌＧａＡｓなどがある。
【００４５】
磁気ディスク媒体形状はその方式上、円盤形状、特にドーナツ型形状が好ましいが、そ
のサイズは方式上特に限定されるものではない。しかしながら、電子線による描画時間が
過剰なものにならないよう３．５インチ以下であることが望ましい。
【００４６】
さらにインプリント時に用いるプレス能力が過大なものにならないために、２．５イン
チ以下であることが望ましい。より好ましくは量産性の観点から、電子線描画時間が相対
的に短く、インプリント時の圧力が相対的に低く済む０．８５インチや１インチ、１．８
インチといった、１．８インチ以下のサイズであることが望ましい。また、磁気ディスク
媒体として使用される面が片面であっても両面であっても構わない。
【００４７】
磁気ディスク媒体内部は、輪切りされた同心円状のトラックに区分され、そのトラック
が一定角度毎に区切られたセクタを有し、磁気ディスクはスピンドルモータに取り付けら
れて回転され、ヘッドにより各種のディジタルデータが記録・再生される。そのため円周
方向にユーザーデータトラックが配される一方、位置制御のためのサーボマークが各トラ
ックを跨ぐ方向に配される。
【００４８】
サーボマークの中にはプリアンブル部、トラックまたはセクタ番号情報が書きこまれた
アドレス部、トラックに対するヘッドの相対位置検出のためのバースト部などの領域を含
む。また、これらの領域に加えてギャップ部を含んでいることもある。
【００４９】
トラックピッチは記録密度向上の観点からより狭いものが要求される。１つのトラック
においてもユーザーデータ領域部の分離部となる非磁性部とデータの記録領域となる磁性
部を形成したり、対応するサーボ領域のアドレスビットを形成したり、バーストマークな
どを形成したりする必要があるため、カッティングに際しては数周〜数十周で１トラック
を形成するように描画することが求められる。
【００５０】
ここで、構成するカッティング周回が少ないと形状分解能が低くなり、パターン形状が
良好に反映できなくなるし、カッティング周回数が多いと制御信号が複雑化・大容量化す
る問題があるので、６周以上３６周以下の周回数で１トラックが形成されることが望まし
く、また、約数を多く持つ数字の周回数であることが、パターン配置設計上有利である。
【００５１】
また、露光されるフィルムの感度は通常面内で均一であるから、電子線描画装置のステ
ージは線速度を一定に保ちながら回転することが望ましい。
例えば、１ユーザーデータ領域のトラックが３００ｎｍのピッチからなる場合に、１２
周のカッティングで１トラックを形成しようとすると、カッティング・トラックピッチは
３００÷１２＝２５ｎｍとなる。カッティング・トラックピッチは露光不足のエリアや、
現像残りを無くすため、ビーム径以下であることが望ましい。
【００５２】
電子線描画装置のステージと電子ビームを走査する光学系とそれらを動作させる信号に
ついては、少なくとも、ブランキングさせる地点とその信号と半径方向および回転方向の
移動制御のステージ動作信号とが同期していることが必要である。
【００５３】
次に、本発明の実施例を説明する。
（実施例１）
本発明の実施例１による磁気ディスク媒体を図２および図３を参照して説明する。
電子銃、コンデンサレンズ、対物レンズ、ブランキング電極および偏向器を備えたＺｒ
Ｏ／Ｗ熱電界放射型の電子銃エミッターを有する加速電圧５０ｋＶの電子線描画装置を用
いた。
【００５４】
一方、日本ゼオン社製のレジストＺＥＰ−５２０をアニソールで２倍に希釈し、０．２
μｍのメンブランフィルタでろ過後、ＨＭＤＳ処理した８インチシリコンウエハー基板２
にスピンコートした後、２００℃で３分間プリベークして、膜厚が０．１μｍのレジスト
４を形成した（図２（ａ）参照）。
【００５５】
この基板２を上記電子線描画装置内の所定位置に装置の搬送系によって搬送し、真空の
もと、以下の条件の同心円型パターンを得るべく露光を行った（図２（ｂ）参照）。
【００５６】
露光部分半径：４．８ｍｍ〜１０．２ｍｍ
セクタ数／トラック：１５０
ビット数／セクタ：４０００
トラックピッチ：３００ｎｍ
送り量：２０ｎｍ
１トラック当たりの露光周回数：１５周
１バーストマーク当たりの露光周回数：１０周
ここで1回転する間に徐々に増加しながら偏向強度を強めて同心円を描いた。
なお、アドレス部にはプリアンブルパターン、バーストパターン、セクタおよびトラッ
クアドレスパターン、ギャップパターンを含んでいた。
また、トラック部がセクタの９割のエリアを占めていた。バーストパターンの露光部に
おいて、両端は「１」という信号で露光を命令し、その内側（２周目と９周目）は「２」
という信号で露光を命令し、さらにその内側（３周目と８周目）は「３」という信号で露
光を命令し、その他（４周目〜７周目）は「４」という信号で露光を命令し、「２」は「
１」の９５％の時間を、「３」は「１」の９０％の時間を、「４」は「１」の８５％の時
間を露光するように各命令が定義し、その短縮時間については描画前方および後方を等し
く短縮した。
【００５７】
ここでパターンを形成するための信号と露光装置のステージ駆動系へ送る信号と電子ビ
ームの偏向制御は同期させて発生できる信号源を用いた。露光中はステージを線速度５０
０ｍｍ／ｓのＣＬＶ（Ｃｏｎｓｔａｎｔ  Ｌｉｎｅａｒ  Ｖｌｅｏｃｉｔｙ）で回転させ
るとともに、回転半径方向にもステージを移動させた。
【００５８】
露光後、上記シリコンウエハー基板２を現像液（例えば、ＺＥＤ−Ｎ５０（日本ゼオン
社製））に９０秒間浸漬して現像し、その後、リンス液（例えば、ＺＭＤ−Ｂ（日本ゼオ
ン社製））に９０秒間浸漬してリンスを行い、エアーブローにより乾燥させ、凹凸あるレ
ジスト原盤が作製できた（図２（ｃ）参照）。
【００５９】
そのレジスト原盤上にスパッタリング法によっての導電膜６を形成した。ターゲットに
は純ニッケルを使用し、８×１０−３Ｐａ迄真空引きした後、アルゴンガスを導入して１
Ｐａに調整されたチャンバー内で４００ＷのＤＣパワーをかけて４０秒間スパッタリング
させて、３０ｎｍの導電膜を得た（図２（ｄ）参照）。
【００６０】
導電膜６のついたレジスト原盤をスルファミン酸ニッケルメッキ液（昭和化学（株）製
、ＮＳ−１６０）を使用し、９０分間電鋳した（図２（ｅ）参照）。
電鋳浴条件は次の通りである。
スルファミン酸ニッケル：６００ｇ／Ｌ
ホウ酸：４０ｇ／Ｌ
界面活性剤（ラウリル硫酸ナトリウム）：０.１５ｇ／Ｌ
液の温度：５５℃
Ｐ.Ｈ：４.０
電流密度：２０Ａ／ｄｍ２
電鋳膜８の厚さは３００μｍであった。この後、レジスト原盤から電鋳膜８を剥離する
ことにより、導電膜６及び電鋳膜８及びレジスト残渣を備えたスタンパ８を得た（図２（
ｆ）参照）。
【００６１】
レジスト残渣を酸素プラズマアッシング法で除去した。酸素プラズマアッシングは酸素
ガスを１００ｍｌ/ｍｉｎで導入し４Ｐａの真空に調整されたチャンバー内で１００Ｗで
２０分間プラズマアッシングを行なった。導電膜及び電鋳膜を備えたファザースタンパ８
を得た。その後、得られたスタンパ８の不要部を金属刃で打ち抜くことによりインプリン
ト用スタンパ８とした。
【００６２】
スタンパ８をアセトンで１５分間超音波洗浄をした後、インプリント時の離型性を高め
るため、フルオロアルキルシラン＜ＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＭｅ）３＞
（ＧＥ東芝シリコーン株式会社製、ＴＳＬ８２３３）をエタノールで５％に希釈した溶液
で３０分浸し、ブロアーで溶液をとばした後に、１２０℃で１時間アニールした。
【００６３】
一方、被加工材基板として、０．８５インチドーナツ型ガラス基板１０上に磁気記録層
１２をスパッタリング法で形成し、この記録層１２上にノボラック系レジスト（ローム・
アンド・ハース製、Ｓ１８０１）１４を回転数３８００ｒｐｍでスピンコータした（図３
（ａ）参照）。
【００６４】
その後、上述のスタンパ８を２０００ｂａｒで１分間プレスすることによって、レジス
ト１４にそのパターンを転写した（図３（ｂ）参照）。パターンが転写されたレジスト１
４を５分間ＵＶ照射した後、１６０℃で３０分間加熱した。
【００６５】
以上のようにインプリントされた基板１０をＩＣＰ（誘導結合プラズマ）エッチング装
置を用い、２ｍＴｏｒｒのエッチング圧下で酸素ＲＩＥを行い（図３（ｃ）参照）、続い
てＡｒイオンミリングで記録層１２をエッチングした（図３（ｄ）参照）。
【００６６】
磁性層１２のエッチング後、レジストからなるエッチングマスク１４ａを剥離するため
、４００Ｗ、１Ｔｏｒｒで酸素ＲＩＥを行った。エッチングマスク１４ａの剥離後、保護
膜１６としてＣＶＤ（化学気相成膜法）で３ｎｍ厚のＤＬＣ（Ｄｉａｍｏｎｄ  Ｌｉｋｅ
Ｃａｒｂｏｎ）を成膜し、さらに、潤滑剤をディップ法で１ｎｍ厚となるように塗布し
た。
【００６７】
このようにインプリントおよび加工された媒体のなかから抜き取り検査を行ったところ
、バースト部の形状が矩形性良く形成されていた。また、磁気記録装置に組み込んで信号
を検出したところ、良好なバースト信号を得て、ヘッドの位置制御が適切に行えた。
【００６８】
（実施例２）
次に、本発明の実施例２による磁気記録異媒体の製造方法を図４を参照して説明する。
本実施例の製造方法によって製造される磁気記録媒体は、基板加工型の磁気記録媒体（
Ｓｕｂｓｔｒａｔｅ−ｐａｔｔｅｒｎｅ  Ｄｉｓｃｒｅｔｅ  ｔｒａｃｋ  ｍｅｄｉａ）
である。
【００６９】
まず、インプリントスタンパを、図２（ａ）乃至図２（ｆ）に示した手法と同様の手法
を用い、特に図２（ｂ）においては本発明の描画方法にて作製する。
次に、以下のようにインプリントリソグラフィー法を用いて凹凸加工基板を作製する。
図４（ａ）に示すように、基板６０上にインプリント用のレジスト６１を塗布する。続い
て、図４（ｂ）に示すように、基板６０上のレジスト６１にスタンパ３０を対向させ、圧
力をかけてレジスト６１にスタンパ３０を押し付けてスタンパ３０の表面の凸部パターン
をレジスト６１の表面に転写する。その後、スタンパを取り外す。これにより、レジスト
６１に凹凸パターンが形成されたレジストパターン６１ａとなる（図４（ｂ）参照）。
【００７０】
次に、レジストパターン６１ａをマスクとして基板６０をエッチングすることにより、
凹凸パターンが形成された基板６１ａを得る。その後、レジストパターン６１ａを除去す
る（図４（ｃ）参照）。
【００７１】
続いて、図４（ｄ）に示すように、基板６１ａ上に垂直記録に適した材料からなる磁性
膜６３を成膜する。このとき、基板６０ａの凸部に成膜された磁性膜が凸部磁性体部６３
ａとなり、基板６０ａの凹部に成膜された磁性膜が凹部磁性体部６３ｂとなる。
【００７２】
なお、磁性膜６３として、軟磁性下地層と強磁性記録層との積層膜とすることが好まし
い。さらに磁性膜６３上にカーボンからなる保護膜６５を設け、さらに潤滑剤を塗布する
ことにより、磁気記録媒体を作製する。
【００７３】
図３（ｆ）に述べた磁性体加工型の磁気記録媒体（Ｍａｇｎｅｔｉｃ  ｆｉｌｍ−ｐａ
ｔｔｅｒｎｅｄ  Ｄｉｃｒｅｔｅ  ｔｒａｃｋ  ｍｅｄｉａ）の磁性体部位と非磁性体部
位が、それぞれ本実施例の凸部磁性体部６３ａと凹部磁性体部６３ｂに相当する。磁気記
録装置中での両者の機能は同じである。
【００７４】
（比較例）
バースト部における各周の露光の調整を以外は実施例１と同様に磁気記録媒体を製作し
た。
このようにインプリントおよび加工された媒体のなかから抜き取り検査を行ったところ
、バースト部の形状が若干丸みを帯びていた。また、磁気記録装置に組み込んで信号を検
出したところ、良好なバースト信号のＳ／Ｎが低く、ヘッドの位置制御が行えないトラブ
ルが、特に内周において起こった。
【図面の簡単な説明】
【００７５】
【図１】本発明の一実施形態のスタンパパターン上面図。
【図２】本発明の一実施形態によるスタンパ製造方法を用いてディスクリート型の磁気記録媒体を製造した場合の製造工程断面図。
【図３】本発明の一実施形態によるスタンパ乃至スタンパ製造方法を用いて、本発明の一実施形態のディスクリート型の磁気記録媒体を製造した場合の製造工程断面図。
【図４】本発明の別な実施形態によるスタンパ乃至スタンパ製造方法を用いて、本発明の一実施形態のディスクリート型の磁気記録媒体を製造した場合の製造工程断面図。
【図５】ステージ連続移動方式の電子線描画装置のステージの動きと電子線との関係を示す図。
【図６】電子線を偏向させない場合の露光例を示す図。
【図７】同心円を描くために電子線を偏向させた場合の露光例を示す図。
【図８】バーストパターンを描く際の露光例を示す図。
【符号の説明】
【００７６】
２…基板、４…レジスト、４ａ…レジストパターン、６…導電膜、
８…スタンパ、１０…基板、１２…磁性層（記録層）、１４…レジスト
１６…保護膜、６０…基板、６１…レジスト、３０…スタンパ、
６３…磁性膜、６５…保護膜
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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