(57)【要約】【課題】突起の高さを低くし、着色画素間の溝をなくし、着色画素間の膜厚段差を小さくし、オーバーコート層を設けず液晶表示装置に用いても、液晶分子の転傾などによる表示不良などのない廉価なカラーフィルタを製造する製造方法、カラーフィルタを提供する。【解決手段】ガラス基板５０上に樹脂ブラックマトリックス５１を形成し、樹脂ブラックマトリックス上で隣接する着色画素６２の周縁部が重なるように着色画素を形成し、研磨により着色画素の突起６３の高さを０．５μｍ以下とする。周縁部の重なり量Ｗ１２が０μｍ以上である。色間の膜厚段差が０．２μｍ以下である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板上に少なくとも、樹脂ブラックマトリックス、着色画素を順次に形成するカラーフィルタの製造方法において、
１）前記ガラス基板上に樹脂ブラックマトリックスを形成し、
２）該樹脂ブラックマトリックス上で隣接する着色画素の周縁部が重なるように着色画素を形成し、
３）研磨処理によって、上記重なりにより生じた着色画素の突起（盛り上がり）の高さを０．５μｍ以下とすることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項２】
前記着色画素の周縁部の重なり量が０μｍ以上であることを特徴とする請求項１記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項３】
前記着色画素の色間の膜厚段差が０．２μｍ以下であることを特徴とする請求項１又は請求項２記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載のカラーフィルタの製造方法を用いて製造したことを特徴とする横電界方式（ＩＰＳ方式）のカラーフィルタ。
【請求項５】
請求項４記載のカラーフィルタを用いて製造したことを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置用カラーフィルタに関するものであり、特に、樹脂ブラックマトリックスを用いたカラーフィルタの製造にて、オーバーコート層を設けずに廉価に製造するカラーフィルタの製造方法、及び廉価なカラーフィルタに関する。
【背景技術】
【０００２】
表示装置において、カラー表示、反射率の低減、コントラストの改善、分光特性制御などの目的にカラーフィルタを用いることは、有用な手段となっている。
この表示装置に用いるカラーフィルタは、多くの場合、カラーフィルタは画素として形成されて使用される。この表示装置に用いるカラーフィルタの画素を形成する方法としては、フォトリソグラフィ法が広く用いられている。
【０００３】
図４は、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの一例を模式的に示した平面図である。また、図５は、図４に示すカラーフィルタのＸ−Ｘ’線における断面図である。
図４、及び図５に示すように、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタは、ガラス基板（５０）上にブラックマトリックス（５１）、着色画素（５２）、透明導電膜（５４）が順次に形成されたものである。
図４、及び図５はカラーフィルタを模式的に示したもので、着色画素（５２）は１２個表されているが、実際のカラーフィルタにおいては、例えば、対角１７インチの画面に数百μｍ程度の着色画素が多数個配列されている。
【０００４】
ブラックマトリックス（５１）は、遮光性を有するマトリックス状のものであり、着色画素（５２）は、例えば、赤色、緑色、青色のフィルタ機能を有するものである。
ブラックマトリックスは、カラーフィルタの着色画素の位置を定め、大きさを均一なものとし、また、表示装置に用いられた際に、好ましくない光を遮蔽し、表示装置の画像をムラのない均一な、且つコントラストを向上させた画像にする機能を有している。
【０００５】
このブラックマトリックスの形成は、ガラス基板（５０）上にブラックマトリックスの材料としてのクロム（Ｃｒ）、酸化クロム（ＣｒＯX ）などの金属、もしくは金属化合物を薄膜状に成膜し、成膜された薄膜上に、例えば、ポジ型のフォトレジストを用いてエッチングレジストパターンを形成し、次に、成膜された金属薄膜の露出部分のエッチング及びエッチングレジストパターンの剥膜を行い、Ｃｒ、ＣｒＯX などの金属薄膜からなるブラックマトリックス（５１）を形成するといった方法がとられている。
【０００６】
或いは、ガラス基板（５０）上に、ブラックマトリックス形成用の黒色感光性樹脂を用いてフォトリソグラフィ法によってブラックマトリックス（５１）を形成するといった方法がとられている。
この図４、及び図５に示すブラックマトリックス（５１）は、ガラス基板（５０）上に、ブラックマトリックス形成用の黒色感光性樹脂を用いてフォトリソグラフィ法によって形成された例であり、樹脂を用いて形成されたブラックマトリックスを樹脂ブラックマトリックス（５１）と称している。
【０００７】
また、着色画素（５２）は、この樹脂ブラックマトリックス（５１）が形成されたガラス基板（５０）上に、例えば、顔料などの色素を分散させたネガ型の感光性着色樹脂組成物を用いたフォトリソグラフィ法によって、すなわち、感光性着色樹脂組成物の塗布膜へのフォトマスクを介した露光、現像処理によって着色画素として形成されたものである。赤色、緑色、青色の着色画素は順次に形成されている。
着色画素（５２）の膜厚は、着色画素の色特性によって異なり、１．０μｍ〜３．０μｍ程度のものである。
【０００８】
また、透明導電膜（５４）の形成は、樹脂ブラックマトリックス（５１）、着色画素（５２）が形成されたガラス基板（５０）上に、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）を用いスパッタ法によって透明導電膜を形成するといった方法がとられている。
【０００９】
樹脂ブラックマトリックス（５１）は、例えば、テレビなどのように、高輝度なバックライトを用いた際に、クロムなどの金属薄膜をブラックマトリックスとして用いたときに起こる液晶表示装置での内部反射を抑制するために、金属薄膜よりも低反射性の樹脂ブラックマトリックスが要望される場合、或いは、例えば、ＩＰＳ（Ｉｎ  Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式に用いたときに起こる液晶表示装置での電界の乱れを抑制するために、高絶縁性を有する樹脂ブラックマトリックスが要望される場合などに採用されていた。しかし、ブラックマトリックスは、クロムなどの金属を用いたブラックマトリックスから、次第に樹脂ブラックマトリックスへと移行が進んでいる。
【００１０】
カラーフィルタを大量に製造する際には、一基の液晶表示装置に対応したカラーフィルタを大サイズのガラス基板に面付けした状態で製造する。例えば、対角１７インチのカラーフィルタを６５０ｍｍ×８５０ｍｍ程度の大サイズのガラス基板に４面付けして製造する。
ガラス基板が大サイズ化するに伴い、ブラックマトリックスの材料としてクロムなどの金属を用い真空装置で薄膜を成膜するブラックマトリックスよりも、黒色感光性樹脂を用いてフォトリソグラフィ法によって形成する樹脂ブラックマトリックスの方が価格的に有利なものとなり、次第に樹脂ブラックマトリックスへと移行が進んでいる。また、環境に配慮してクロムなどの金属を用いることを回避する傾向にある。
【００１１】
樹脂ブラックマトリックス（５１）は、クロムなどの金属薄膜を用いたブラックマトリックスのように、膜厚１００ｎｍ〜２００ｎｍ程度の薄膜では遮光のための充分な濃度を得ることはできず、例えば、１．０μｍ〜１．５μｍ程度の厚さにして必要な高濃度を得るようにしている。
樹脂ブラックマトリックス（５１）は、１．０μｍ〜１．５μｍ程度の厚さを有するために、クロムなどの金属薄膜を用いたブラックマトリックスに比較して線幅の微細なブラックマトリックスを形成する際には不利なものとなる。
【００１２】
また、樹脂ブラックマトリックスの膜厚が、１．０μｍ〜１．５μｍ程度と厚くなると、図５に示すように、樹脂ブラックマトリックス（５１）上にその周縁部を重ねて形成された着色画素（５２）は、その周縁部が樹脂ブラックマトリックス（５１）の端部上にて突起（盛り上がり）（５３）となる。
【００１３】
図６は、図５に示す突起（５３）の近傍を拡大した断面図である。図６に示すように、例えば、膜厚（Ｔ３）１．３μｍ程度、幅（Ｗ）２０μｍ程度の樹脂ブラックマトリックス（５１）が設けられ、着色画素（５２Ｒ、５２Ｇ）の膜厚（Ｔ１、Ｔ２）を１．８μｍ程度とするカラーフィルタにおいては、突起（盛り上がり）（５３）の高さ（Ｈ）は、０．５μｍ以上となることがある。
また、例えば、樹脂ブラックマトリックス（５１）の膜厚が１．５μｍ程度で、着色画素（５２）の膜厚が２．０μｍ程度では、突起（盛り上がり）（５３）の高さ（Ｈ）は、１．０μｍ以上となることがある。
【００１４】
樹脂ブラックマトリックス（５１）の端部上での、このような突起（盛り上がり）（５
３）や、樹脂ブラックマトリックス（５１）上における赤色着色画素（５２Ｒ）と緑色着色画素（５２Ｇ）間に生じた溝（Ｍ）や、赤色着色画素（５２Ｒ）の膜厚（Ｔ１）と緑色着色画素（５２Ｒ）の膜厚（Ｔ２）間の膜厚段差（膜厚差）（ΔＴ、ΔＴ＝Ｔ１〜Ｔ２）などが形成されたカラーフィルタを液晶表示装置に用いると、液晶分子の転傾などにより表示不良或いは画素周辺部の光漏れなど表示品質に悪影響を及ぼすことになる。
例えば、突起（盛り上がり）（５３）の高さ（Ｈ）では、概ね０．５μｍ以上の場合に表示品質に支障をきたす。
【００１５】
特に、横電界方式（ＩＰＳ方式）の液晶表示装置は、主として複屈折効果により表示を行うモードであるため、基板間のギャップが変化した場合、複屈折が最適値からズレるため着色が発生し表示品質を低下させる。つまり、基板間のギャップの面内バラツキが表示特性の面内ムラとして視認される。
従って、上記樹脂ブラックマトリックス（５１）の端部上の突起（５３）、或いは着色画素（５２）上の異物などの影響を避けて、面内ムラのない表示を得るために、ＩＰＳ方式の液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの場合には平坦化処理として、オーバーコート層の形成が行われる。
【００１６】
しかし、実際の作業では透明樹脂によるオーバーコート層は、塗布ムラや異物の発生などで収率に支障をきたしている。また、昨今、液晶表示装置の低価格化が著しく、その部材であるカラーフィルタに対しても低価格化の要望は強い。オーバーコート層に関しては、オーバーコート層の収率向上、オーバーコート層の工程簡略、オーバーコート層の削除などの課題が挙げられる。
尚、図３は、ブラックマトリックスの材料としてクロムなどの金属薄膜が用いられたブラックマトリックスの一例を示す断面図である。図３に示すように、このブラックマトリックスの膜厚は１００ｎｍ〜２００ｎｍ程度であるので、ブラックマトリックス（５１）の端部上にて突起（盛り上がり）の影響は殆どない。
【特許文献１】特開２００６−２２７２９５号公報
【特許文献２】特開２００６−２２７２９６号公報
【特許文献３】特開平９−１８９８９９号公報
【特許文献４】特開２００５−３５７８２８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１７】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、ガラス基板上に樹脂ブラックマトリックス、着色画素を順次に形成するカラーフィルタの製造方法において、突起（盛り上がり）の高さを低いものとし、着色画素間の溝をなくし、また着色画素間の膜厚段差を小さなものとし、オーバーコート層を設けずに液晶表示装置に用いても、液晶分子の転傾などにより表示不良或いは画素周辺部の光漏れなど表示品質に支障をきたさない廉価なカラーフィルタを製造することのできるカラーフィルタの製造方法を提供することを課題とするものである。
また、上記カラーフィルタの製造方法を用いて製造した廉価なカラーフィルタ、及び該カラーフィルタを用いて製造した液晶表示装置を提供することを課題とする。
【００１８】
これにより、表示品質に支障をきたす突起（盛り上がり）、溝、膜厚段差のないカラーフィルタの製造が可能となる。従って、従来、表示品質に支障をきたす突起（盛り上がり）などが形成された際に行われてきたオーバーコート層の形成などカラーフィルタの平坦化処理は不要なものとなる。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
本発明は、ガラス基板上に少なくとも、樹脂ブラックマトリックス、着色画素を順次に形成するカラーフィルタの製造方法において、
１）前記ガラス基板上に樹脂ブラックマトリックスを形成し、
２）該樹脂ブラックマトリックス上で隣接する着色画素の周縁部が重なるように着色画素を形成し、
３）研磨処理によって、上記重なりにより生じた着色画素の突起（盛り上がり）の高さを０．５μｍ以下とすることを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
【００２０】
また、本発明は、上記発明によるカラーフィルタの製造方法において、前記着色画素の周縁部の重なり量が０μｍ以上であることを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
【００２１】
また、本発明は、上記発明によるカラーフィルタの製造方法において、前記着色画素の色間の膜厚段差が０．２μｍ以下であることを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
【００２２】
また、本発明は、請求項１〜３のいずれか１項に記載のカラーフィルタの製造方法を用いて製造したことを特徴とする横電界方式（ＩＰＳ方式）のカラーフィルタである。
【００２３】
また、本発明は、請求項４記載のカラーフィルタを用いて製造したことを特徴とする液晶表示装置である。
【発明の効果】
【００２４】
本発明は、ガラス基板上に樹脂ブラックマトリックスを形成し、樹脂ブラックマトリックス上で隣接する着色画素の周縁部が重なるように着色画素を形成し、研磨処理によって、上記重なりにより生じた着色画素の突起（盛り上がり）の高さを０．５μｍ以下とする、或いは更に、着色画素の周縁部の重なり量が０μｍ以上であり、着色画素の周縁部の重なり量が０μｍ以上であるので、突起（盛り上がり）の高さは低いものとなり、着色画素間の溝はなくなり、また着色画素間の膜厚段差は小さなものとなる。従って、オーバーコート層を設けずに液晶表示装置に用いても、液晶分子の転傾などにより表示不良或いは画素周辺部の光漏れなど表示品質に支障をきたさない廉価なカラーフィルタを製造することのできるカラーフィルタの製造方法となる。
【００２５】
また、本発明は、上記カラーフィルタの製造方法を用いて製造したカラーフィルタであるので、表示品質に支障をきたす突起（盛り上がり）、溝、膜厚段差のない廉価なカラーフィルタとなる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下に本発明のカラーフィルタの製造方法及びカラーフィルタの実施の形態について詳細に説明する。
図１（ａ）〜（ｂ）は、本発明によるカラーフィルタの製造方法の実施例を説明する断面図である。図１（ａ）は、ガラス基板（５０）上に樹脂ブラックマトリックス（５１）、着色画素が順次に形成された段階を示す断面図である。
着色画素は、赤色着色画素（６２Ｒ）、緑色着色画素（６２Ｇ）、青色着色画素（６２Ｂ）の順に形成されたものである。
【００２７】
図１（ａ）に示すように、第１色目の赤色着色画素（６２Ｒ）は、赤色着色画素（６２
Ｒ）と隣接する緑色着色画素（６２Ｇ）との間の樹脂ブラックマトリックス（５１）上に、その周縁部を重ねて形成されており、この樹脂ブラックマトリックス（５１）上に形成された赤色着色画素（６２Ｒ）の周縁部上に、第２色目の緑色着色画素（６２Ｇ）の周縁部が重なるように形成されている。
この赤色着色画素（６２Ｒ）の周縁部上に、緑色着色画素（６２Ｇ）の周縁部が重なった部分には突起（盛り上がり）（６３）が生じている。
【００２８】
また、緑色着色画素（６２Ｇ）の青色着色画素（６２Ｂ）側の周縁部は、緑色着色画素（６２Ｇ）と隣接する青色着色画素（６２Ｂ）との間の樹脂ブラックマトリックス（５１）上に、その周縁部を重ねて形成されており、この樹脂ブラックマトリックス（５１）上に形成された緑色着色画素（６２Ｇ）の周縁部上に、第３色目の青色着色画素（６２Ｂ）の周縁部が重なるように形成されている。
この重なった部分には突起（盛り上がり）（６３）が生じている。
【００２９】
また、青色着色画素（６２Ｂ）の赤色着色画素（６２Ｒ）側の周縁部は、青色着色画素（６２Ｂ）と隣接する赤色着色画素（６２Ｒ）との間の樹脂ブラックマトリックス（５１）上に形成された赤色着色画素（６２Ｒ）の周縁部上に、第３色目の青色着色画素（６２Ｂ）の周縁部が重なるように形成され、この重なった部分には突起（盛り上がり）（６３）が生じている。
図１（ｂ）は、続いて、研磨処理が施された段階を示す断面図である。図１（ｂ）に示すように、研磨処理によって、研磨後の突起（盛り上がり）（６３’）の高さ（Ｈ１２）は、研磨前の突起（盛り上がり）（６３）の高さ（Ｈ１１）より低いものとなっている（Ｈ１２＜Ｈ１１）。
【実施例】
【００３０】
以下に実施例により本発明を具体的に説明する。
＜実施例１＞
ガラス基板（５０）上に、膜厚１．５μｍの樹脂ブラックマトリックス（５１）を形成した。次に、図１（ａ）に示すように、膜厚（Ｔ１１）２．０μｍの着色画素を赤色着色画素（６２Ｒ）、緑色着色画素（６２Ｇ）、青色着色画素（６２Ｂ）の順に形成した。樹脂ブラックマトリックス（５１）上での着色画素の周縁部の重なり量（Ｗ１１）は２．０μｍとした。この際、突起（盛り上がり）（６３）の高さ（Ｈ１１）は１．４８μｍであった。
【００３１】
次に、研磨処理を施し、研磨後の突起（盛り上がり）（６３’）の高さ（Ｈ１２）を０．２μｍとした。この際、着色画素の周縁部の重なり量（Ｗ１２）は、２．０μｍであり、着色画素（６２Ｒ、６２Ｇ、６２Ｂ）の色間の膜厚段差（ΔＴ１２）は０．１μｍであった。
【００３２】
上記により得られたカラーフィルタを用いて作製した液晶表示装置の表示品質は、液晶分子の転傾などによる表示不良、及び画素周辺部の光漏れはなく良好なものであった。実施例１における突起（盛り上がり）の高さは０．２μｍといった小さな値であり、また、前記図６に示すような着色画素間の溝（Ｍ）はなく、また、着色画素間の膜厚段差（ΔＴ１２）は０．１μｍといった小さな値である。すなわち、従来行われてきたオーバーコート層の形成は不要なものとなる。
【００３３】
＜実施例２＞
ガラス基板（５０）上に、膜厚１．５μｍの樹脂ブラックマトリックス（５１）を形成した。次に、図１（ａ）に示すように、膜厚（Ｔ１１）２．０μｍの着色画素を赤色着色画素（６２Ｒ）、緑色着色画素（６２Ｇ）、青色着色画素（６２Ｂ）の順に形成した。樹脂
ブラックマトリックス（５１）上での着色画素の周縁部の重なり量（Ｗ１１）は６．０μｍとした。この際、突起（盛り上がり）（６３）の高さ（Ｈ１１）は１．６０μｍであった。
【００３４】
次に、研磨処理を施し、研磨後の突起（盛り上がり）（６３’）の高さ（Ｈ１２）を０．５μｍとした。この際、着色画素の周縁部の重なり量（Ｗ１２）は、６．０μｍであり、着色画素（６２Ｒ、６２Ｇ、６２Ｂ）の色間の膜厚段差（ΔＴ１２）は０．１μｍであった。
上記により得られたカラーフィルタを用いて作製した液晶表示装置の表示品質は、液晶分子の転傾などによる表示不良、及び画素周辺部の光漏れはなく良好なものであった。
【００３５】
＜比較例１＞
図２（ａ）〜（ｂ）は、比較例１を説明する断面図である。図２（ａ）は、ガラス基板（５０）上に樹脂ブラックマトリックス（５１）、着色画素が順次に形成された段階を示す断面図である。
着色画素は、赤色着色画素（６２Ｒ）、緑色着色画素（６２Ｇ）、青色着色画素（６２Ｂ）の順に形成されたものである。
【００３６】
図２（ａ）に示すように、第１色目の赤色着色画素（６２Ｒ）は、赤色着色画素（６２Ｒ）と隣接する緑色着色画素（６２Ｇ）との間の樹脂ブラックマトリックス（５１）上に、その周縁部を重ねて形成されており、この樹脂ブラックマトリックス（５１）上に形成された赤色着色画素（６２Ｒ）の周縁部側面上に、第２色目の緑色着色画素（６２Ｇ）の周縁部が重なるように形成されている。
この赤色着色画素（６２Ｒ）の周縁部上に、緑色着色画素（６２Ｇ）の周縁部が重なった部分は突起（盛り上がり）ではなく、凹状（６５）となっている。
【００３７】
また、緑色着色画素（６２Ｇ）の青色着色画素（６２Ｂ）側の周縁部は、緑色着色画素（６２Ｇ）と隣接する青色着色画素（６２Ｂ）との間の樹脂ブラックマトリックス（５１）上に、その周縁部を重ねて形成されており、この樹脂ブラックマトリックス（５１）上に形成された緑色着色画素（６２Ｇ）の周縁部側面上に、第３色目の青色着色画素（６２Ｂ）の周縁部が重なるように形成されている。
この重なった部分は凹状（６５）となっている。
【００３８】
また、青色着色画素（６２Ｂ）の赤色着色画素（６２Ｒ）側の周縁部は、青色着色画素（６２Ｂ）と隣接する赤色着色画素（６２Ｒ）との間の樹脂ブラックマトリックス（５１）上に形成された赤色着色画素（６２Ｒ）の周縁部側面上に、第３色目の青色着色画素（６２Ｂ）の周縁部が重なるように形成され、この重なった部分は凹状（６５）となっている。
【００３９】
図２（ｂ）は、続いて、研磨処理が施された段階を示す断面図である。図２（ｂ）に示すように、研磨処理によって、研磨後の突起（盛り上がり）（６３’）の高さ（Ｈ２２）は、研磨前の突起（盛り上がり）（６３）の高さ（Ｈ２１）より低いものとなっている（Ｈ２２＜Ｈ２１）。
しかし、前記凹状（６５）の部分は、着色画素間の溝（Ｍ）となり、樹脂ブラックマトリックス（５１）の表面が露出した状態になっている。
【００４０】
比較例１では、ガラス基板（５０）上に、膜厚１．５μｍの樹脂ブラックマトリックス（５１）を形成した。次に、図２（ａ）に示すように、膜厚（Ｔ２１）２．０μｍの着色画素を赤色着色画素（６２Ｒ）、緑色着色画素（６２Ｇ）、青色着色画素（６２Ｂ）の順に形成した。樹脂ブラックマトリックス（５１）上での着色画素の周縁部の重なり量（Ｗ
２１）は、１．０μｍとした。この際、樹脂ブラックマトリックス（５１）上での突起（盛り上がり）（６３）の高さ（Ｈ２１）は０．５μｍであった。
【００４１】
次に、研磨処理を施し、研磨後の突起（盛り上がり）（６３’）の高さ（Ｈ２２）を０．２μｍとした。この際、着色画素（６２Ｒ、６２Ｇ、６２Ｂ）の色間の膜厚段差（ΔＴ２２）は０．２μｍであった。
上記により得られたカラーフィルタを用いて作製した液晶表示装置の表示品質は、液晶分子の転傾などによる表示不良、及び画素周辺部の光漏れが発生し良好なものではなかった。
【００４２】
＜比較例２＞
比較例２は、実施例１と同様に図１に示す構造のカラーフィルタを作製した。実施例１との相違点は、着色画素の周縁部の重なり量（Ｗ１１）は３．０μｍ、及び研磨後の突起（盛り上がり）（６３’）の高さ（Ｈ１２）を０．６μｍとした点である。この際、着色画素の色間の膜厚段差（ΔＴ１２）は０．２μｍであった。
得られたカラーフィルタを用いて作製した液晶表示装置の表示品質は、液晶分子の転傾などによる表示不良、及び画素周辺部の光漏れが発生し良好なものではなかった。
【００４３】
＜比較例３＞
比較例３は、実施例１と同様に図１に示す構造のカラーフィルタを形成した。実施例１との相違点は、着色画素の周縁部の重なり量（Ｗ１１）は３．０μｍ、及び研磨後の突起（盛り上がり）（６３’）の高さ（Ｈ１２）を０．１μｍとした点である。この際、着色画素の色間の膜厚段差（ΔＴ１２）は０．３μｍであった。
得られたカラーフィルタを用いて作製した液晶表示装置の表示品質は、液晶分子の転傾などによる表示不良、及び画素周辺部の光漏れが発生し良好なものではなかった。
【００４４】
上記実施例の評価結果を表１に示す。表１中、符号○は表示品質が良好であること、符号×は表示品質が不良であることを表している。
【００４５】
【表１】
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【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】（ａ）は、ガラス基板上に樹脂ブラックマトリックス、着色画素が順次に形成された段階を示す断面図である。（ｂ）は、続いて、研磨処理が施された段階を示す断面図である。
【図２】（ａ）は、比較例１を説明する断面図であり、ガラス基板上に樹脂ブラックマトリックス、着色画素が順次に形成された段階を示す断面図である。（ｂ）は、続いて、研磨処理が施された段階を示す断面図である。
【図３】クロムなどの金属薄膜が用いられたブラックマトリックスの一例を示す断面図である。
【図４】液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの一例を模式的に示した平面図である。
【図５】図４に示すカラーフィルタのＸ−Ｘ’線における断面図である。
【図６】図５に示す突起の近傍を拡大した断面図である。
【符号の説明】
【００４７】
５０・・・ガラス基板
５１・・・樹脂ブラックマトリックス
５２・・・着色画素
５２Ｒ・・・赤色着色画素
５２Ｇ・・・緑色着色画素
５３・・・突起（盛り上がり）
５４・・・透明導電膜
６２・・・本発明における着色画素
６２Ｒ・・・本発明における赤色着色画素
６２Ｇ・・・本発明における緑色着色画素
６２Ｂ・・・本発明における青色着色画素
６３・・・本発明における突起（盛り上がり）
６３’・・・本発明における研磨後の突起
６５・・・比較例１における着色画素の周縁部が重なった部分の凹状
Ｈ・・・突起（盛り上がり）の高さ
Ｈ１１・・・本発明における突起（盛り上がり）の高さ
Ｈ１２・・・研磨後の突起（盛り上がり）の高さ
Ｈ２１・・・比較例１における突起（盛り上がり）の高さ
Ｈ２２・・・比較例１における研磨後の突起（盛り上がり）の高さ
Ｍ・・・着色画素間に生じた溝
Ｔ１、Ｔ２、Ｔ１１、Ｔ２１・・・着色画素の膜厚
Ｔ３・・・樹脂ブラックマトリックスの膜厚
Ｔ１２、Ｔ２２・・・研磨後の着色画素の膜厚
ΔＴ・・・着色画素間の膜厚段差（膜厚差）
Ｗ・・・樹脂ブラックマトリックスの幅
Ｗ１１、Ｗ２１・・・着色画素の周縁部の重なり量
Ｗ１２、Ｗ２２・・・研磨後の着色画素の周縁部の重なり量
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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