(57)【要約】【課題】ミラー面が平滑であり、且つ圧電膜に特性の不均一な部分が生じた場合でも、特性の不均一な部分の影響を低減できる構成の可変形ミラーを提供する。【解決手段】可変形ミラー６は、基板７と、基板７上に配置される下部電極膜８と、下部電極膜８上に配置される圧電膜９と、圧電膜９上に配置される上部電極膜１０と、上部電極膜１０上に配置される絶縁層１１と、絶縁層１１上に配置されるミラー膜１２とで構成されている。上部電極膜１０は、５つの分割電極膜（図示せず）に分かれており、楕円形状の第１分割電極を取り囲むように、４つの第２分割電極が配置されている。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧電膜と該圧電膜を挟む第１電極膜及び第２電極膜とから成る駆動部と、前記第１電極膜と接して前記駆動部を支持する基板と、を備え、
前記駆動部の駆動により、ミラー膜を変形させる可変形ミラーにおいて、
前記第１電極膜と前記第２電極膜のうち少なくとも一方は、複数の分割電極に分割され、
前記駆動部は、前記ミラー膜の主たる変形を行う部分と、前記ミラー膜の変形の微調整を行う部分とから成ることを特徴とする可変形ミラー。
【請求項２】
前記分割電極は、第１分割電極と、該第１分割電極の周りに１つ以上配置される第２分割電極と、から成ることを特徴とする請求項１に記載の可変形ミラー。
【請求項３】
前記第２分割電極は偶数個であることを特徴とする請求項２に記載の可変形ミラー。
【請求項４】
前記第１分割電極は楕円形状に形成され、前記第２分割電極は前記第１分割電極を取り囲むように配置されることを特徴とする請求項２又は請求項３に記載の可変形ミラー。
【請求項５】
前記第２電極膜は前記複数の分割電極に分割され、
前記第２電極膜の前記圧電膜と接する面の裏面には、平滑な面を有する絶縁層が形成され、
前記絶縁層の前記第２電極膜と接する面の裏面に存在する前記平滑な面には、前記ミラー膜が形成されることを特徴とする請求項１から請求項４のうちのいずれか１項に記載の可変形ミラー。
【請求項６】
請求項１から請求項４のうちのいずれか１項に記載の可変形ミラーを備えることを特徴とする光ピックアップ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光ピックアップ装置等に備えられる鏡面形状を変形できる可変形ミラーに関し、より詳細には、薄膜を積層した構造の可変形ミラーの構成に関する。また、本発明は、そのような可変形ミラーを備えた光ピックアップ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
光ピックアップ装置を使って、ＣＤ（コンパクトディスク）やＤＶＤ（デジタル多用途ディスク）等の光ディスクの情報を読み書きする際、光ピックアップ装置の光軸とディスク面の関係は、垂直であることが理想である。しかし、実際にディスクが回転している際、この関係は常に垂直というわけではない。このため、ＣＤやＤＶＤ等の光ディスクでは、ディスク面が光軸に対して傾いた時に、レーザ光の光路が曲げられて波面収差（主にコマ収差）が発生する。また、光ピックアップ装置で再生する光ディスクを交換した際に、光ディスクの基板の厚さが変化すると、波面収差（主に球面収差）が発生する。
【０００３】
このような波面収差が発生した場合、光ディスク上に照射されたレーザ光のスポット位置は正しい位置からずれるため、波面収差が許容値を超えると、情報の正しい読み書きができないという問題が発生する。このため、従来から、可変形ミラーを用いて波面収差の補正が行われており、様々な可変形ミラーが提案されている。
【０００４】
例えば、特許文献１においては、図５に示すように、基板１０１上に下部電極１０２、圧電体１０３、上部電極１０４、１０５、弾性体１０６が形成され、基板１０１の裏側に設けられるキャビティ部１０７に反射膜１０８が形成される可変形ミラーが提案されている。また、特許文献２においても、特許文献１の場合と下部電極が分割され、反射ミラー膜が弾性体上に形成されている点は異なるが、その他の点は特許文献１と同様の可変形ミラーが提案されている。
【０００５】
更に、特許文献３では、図６に示すように、シリコン基板２０１上に、第２電極膜２０２、圧電膜２０３、第１電極膜２０４、弾性板膜２０５、反射ミラー膜２０６が順に積層された構造の可変形ミラーが提案されている。
【０００６】
しかしながら、特許文献１や特許文献２で提案される可変形ミラーは、基板をエッチング処理した後に、エッチング処理をした面に反射ミラー膜を形成する構成であるために、ミラーの平滑性が十分でなく、その結果、特許文献１や特許文献２の構成の可変形ミラーを光ピックアップ装置に用いた場合、収差の補正が正確にできないという問題が発生する。
【０００７】
また、特許文献１〜３の構成の可変形ミラーでは、基板上の広い範囲に渡って圧電膜を形成する構成となっているが、このように圧電膜を広い領域に形成する場合、圧電膜の特性をムラなく均一に形成するのは非常に難しいため、圧電膜の一部に特性が不均一な部分が発生する可能性が高い。そして、圧電膜に、このような特性の不均一な部分が形成されると、圧電膜を駆動してミラーを変形させた時に所望のミラー形状が得られない場合があり、この場合、可変形ミラーを光ピックアップ装置中に備えても、収差の補正を正確にできないという問題が発生する。
【特許文献１】特開２００５−３２２８６号公報
【特許文献２】特開２００５−９２９８７号公報
【特許文献３】特開２００４−３４７７５３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
以上の問題点に鑑み、本発明の目的は、圧電膜に特性の不均一な部分が生じた場合でも、特性の不均一な部分の影響を低減できる構成の可変形ミラーを提供することである。また、本発明の他の目的は、前述の目的を達成しつつ、平滑なミラー面を得ることが可能な可変形ミラーを提供することである。更に、本発明の他の目的は、ミラーを所望の形状に変形できる可変形ミラーを備えることにより、収差の補正を正確に行える光ピックアップ装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するために本発明は、圧電膜と該圧電膜を挟む第１電極膜及び第２電極膜とから成る駆動部と、前記第１電極膜と接して前記駆動部を支持する基板と、を備え、前記駆動部の駆動により、ミラー膜を変形させる可変形ミラーにおいて、前記第１電極膜と前記第２電極膜のうち少なくとも一方は、複数の分割電極に分割され、前記駆動部は、前記ミラー膜の主たる変形を行う部分と、前記ミラー膜の変形の微調整を行う部分とから成ることを特徴としている。
【００１０】
また、本発明は、上記構成の可変形ミラーにおいて、前記分割電極は、第１分割電極と、該第１分割電極の周りに１つ以上配置される第２分割電極と、から成ることを特徴としている。
【００１１】
また、本発明は、上記構成の可変形ミラーにおいて、前記第２分割電極は偶数個であることを特徴としている。
【００１２】
また、本発明は、上記構成の可変形ミラーにおいて、前記第１分割電極は楕円形状に形成され、前記第２分割電極は前記第１分割電極を取り囲むように配置されることを特徴としている。
【００１３】
また、本発明は、上記構成の可変形ミラーにおいて、前記第２電極膜は前記複数の分割電極に分割され、前記第２電極膜の前記圧電膜と接する面の裏面には、平滑な面を有する絶縁層が形成され、前記絶縁層の前記第２電極膜と接する面の裏面に存在する前記平滑な面には、前記ミラー膜が形成されることを特徴としている。
【００１４】
また、本発明は、上記構成の可変形ミラーを備える光ピックアップ装置であることを特徴としている。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の第１の構成によれば、可変形ミラーは、第１電極膜と第２電極膜のうちの少なくとも一方を分割電極とすることで、可変形ミラーが備える駆動部の機能を、ミラー膜の主たる変形を行う部分と、ミラー膜の変形の微調整を行う部分と、に分けている。このため、第１電極膜と第２電極膜とに挟まれる圧電膜に圧電特性が不均一な部分がある場合でも、各分割電極に印加する電圧を調整することで所望のミラー形状を得ることが可能となる。
【００１６】
また、本発明の第２の構成によれば、上記第１の構成の可変形ミラーにおいて、例えば、駆動部の第１分割電極を有する部分をミラー膜の主たる変形を行う部分とし、駆動部の第２分割電極を含む部分をミラー膜の変形の微調整を行う部分とすることで、所望のミラー形状を得やすい。
【００１７】
また、本発明の第３の構成によれば、上記第２の構成の可変形ミラーにおいて、例えば、駆動部の第２分割電極を含む部分をミラー膜の変形の微調整を行う部分とした場合に、所望のミラー形状を得るための調整がし易い。
【００１８】
また、本発明の第４の構成によれば、上記第２又は第３の構成の可変形ミラーにおいて、第１分割電極を楕円形状とすることで、光軸に対して傾斜してミラーを配置した場合に、ミラー形状を所望の形状に近づけることが可能となり、更に、第１分割電極を取り囲むように第２分割電極を配置しているために、圧電膜に特性不均一な部分があっても、不均一な特性をカバーして、所望のミラー形状を得やすい。
【００１９】
また、本発明の第５の構成によれば、上記第１から第３のいずれかの構成の可変形ミラーにおいて、平滑な面にミラー膜を形成することが、容易に達成できる。このため、所望のミラー形状を得やすい。更に、可変形ミラーが薄膜で形成されるために、低電圧駆動が可能となる。
【００２０】
また、本発明の第６の構成によれば、上記第１から第５のいずれかの構成の可変形ミラーを備える光ピックアップ装置において、ミラー面が平滑であり、また、圧電膜の特性の不均一な部分の影響を低減できる可変形ミラーを備えることが可能であり、収差の補正を正確に行うことが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下に本発明の実施形態を、図面を用いて説明する。なお、ここで示す実施形態は一例であり、本発明はここに示す実施形態に限定されるものではない。
【００２２】
図１は、本発明の可変形ミラーを備える光ピックアップ装置の光学系を示す概略図である。図１において、光ピックアップ装置１は、ＣＤ、ＤＶＤ、大容量の高品位ＤＶＤである青色ＤＶＤなどの光記録媒体２３上にレーザビームを照射して反射光を受光することにより光記録媒体２３の信号記録面に記載された情報を読み取ったり、光記録媒体２３上に光ビームを照射して記録面に情報を書き込んだりすることを可能とする装置である。光ピックアップ装置１は、例えば、レーザ光源２と、コリメートレンズ３と、ビームスプリッタ４と、１／４波長板５と、可変形ミラー６と、対物レンズ２０と、集光レンズ２１と、受光部２２と、を備えている。
【００２３】
レーザ光源２は、所定の波長のレーザビームを出射する半導体レーザダイオードである。例えば、ＣＤ用には７８５ｎｍ、ＤＶＤ用には６５０ｎｍ、青色ＤＶＤ用には４０５ｎｍの波長のレーザビームを出射できる半導体レーザダイオードが使用される。なお、本実施形態では１つのレーザ光源２から出射されるレーザビームの波長は１種類であるが、複数の波長のレーザビームを出射できるレーザ光源を用いても構わない。レーザ光源２を出射されたレーザビームは、コリメートレンズ３に送られる。
【００２４】
コリメートレンズ３は、レーザ光源２より出射されたレーザビームを平行光に変換するレンズである。ここで、平行光とは、レーザ光源２から出射されたレーザビームの全ての光路が光軸とほぼ平行である光をいう。コリメートレンズ３を透過した平行光は、ビームスプリッタ４に送られる。
【００２５】
ビームスプリッタ４は、コリメートレンズ３を透過してきたレーザビームを透過すると共に、光記録媒体２３で反射されたレーザビームをさらに反射して受光部２２へと導く。ビームスプリッタ４を透過したレーザビームは、１／４波長板５に送られる。
【００２６】
１／４波長板５は、ビームスプリッタ４と協働して光アイソレータとして機能する。１／４波長板５を透過したレーザビームは、可変形ミラー６に送られる。
【００２７】
可変形ミラー６は、例えば、レーザ光源２から出射されるレーザビームの光軸と４５°傾けられており、１／４波長板５を透過してきたレーザビームを反射して対物レンズ２０へと導く。また、可変形ミラー６に備えられるミラー面を変形して、レーザビームの波面収差の補正をも行う。なお、可変形ミラー６の構成の詳細については後述する。
【００２８】
対物レンズ２０は、可変形ミラー６で反射されたレーザビームを光記録媒体２３の内部に形成された情報記録面上に集光させる。
【００２９】
光記録媒体２３上で反射されたレーザビームは、対物レンズ２０を透過して、可変形ミラー６で反射される。そして、可変形ミラー６で反射されたレーザビームは、１／４波長板５を透過し、ビームスプリッタ４で反射されて、集光レンズ２１に送られる。集光レンズ２１は、光記録媒体２３から反射されてきたレーザビームを受光部２２に集光する。
【００３０】
受光部２２は、レーザビームを受光後、光情報を電気信号に変換して、例えば、図示しない光ディスク装置等に備えられるＲＦアンプ等に出力する。この電気信号は、記録面に記録されているデータの再生情報と、光ピックアップ装置１自体及び対物レンズ２０の位置制御に必要な情報（サーボ情報）などを含む。
【００３１】
次に、本実施形態における可変形ミラー６の構成の詳細について説明する。図２は、本実施形態の光ピックアップ装置１が備える可変形ミラー６の構成を示す図で、図２(ａ)は、可変形ミラー６をミラー面側から見た場合の概略正面図、図２（ｂ）は、図２（ａ）のＡＡ線における概略断面図、図２（ｃ）は、図２（ａ）の可変形ミラー６を裏から見た図である。
【００３２】
図２に示すように、本実施形態における可変形ミラー６は、基板７と、基板７上に配置される下部電極膜８（第１電極膜）と、下部電極膜８上に配置される圧電膜９と、圧電膜９上に配置される上部電極膜１０（第２電極膜）と、上部電極膜１０上に配置される絶縁層１１と、絶縁層１１上に配置されるミラー膜１２とを備えている。そして、下部電極膜８と圧電膜９と上部電極膜１０とは、駆動部１３を形成する。
【００３３】
基板７は、駆動部１３と絶縁層１１とミラー膜１２とを支持する役割を果たす。基板７には、空洞部７ａが形成されており、駆動部１３が駆動してミラー膜１２を変形しやすい構造となっている。なお、空洞部７ａは、例えば、厚い板状に構成される基板７の一部をエッチング処理する等により形成される。本実施形態においては、空洞部７ａは、下部電極膜８が剥き出しになるまで処理されているが、下部電極膜８を剥き出しとせず、基板７の薄い層を残すように加工しても構わない。
【００３４】
また、本実施形態においては、空洞部７ａの形状を楕円形状としているが、これに限定される趣旨ではなく、本発明の目的を逸脱しない範囲で変形可能である。例えば、空洞部７ａの形状を矩形状等にしても構わない。また、基板７の形状についても、本実施形態では矩形状であるが、これに限らず円形状でも、多角形状等でも構わない。
【００３５】
基板７に用いる材料としては、ガラスやセラミックス等の絶縁体が挙げられるが、特に制限はない。ただし、圧電膜９の圧電特性を良好とするために、例えばシリコンや酸化マグネシウム等の材料で基板７を構成するのが好ましい。また、基板７に絶縁性の材料を用いない場合には、基板７と下部電極膜８との間に、絶縁性の材料で形成される絶縁層を設ける必要がある。
【００３６】
図３は、本実施形態の可変形ミラー６における下部電極膜８の構成を示す概略平面図である。なお、図３は基板７上に下部電極膜８のみが形成された状態を示している。下部電極膜８は、楕円形状に分割されることなく形成される。そして、下部電極膜８は、駆動回路（図示せず）へと接続される第１の電極端子１４と、引き回し線１５によって結線されている。
【００３７】
なお、図３の８ａで示す部分は、上部電極膜１０の引き回し線１７ａを配線できるように、下部電極膜８は配置されていない。また、下部電極膜８の形状は、本実施形態の形状に限らず、本発明の目的を逸脱しない範囲で変更可能である。例えば、下部電極膜８を矩形状等にしても構わない。また、下部電極膜８を分割する構成としても構わない。
【００３８】
上部電極膜１０は、下部電極膜８と組になって、下部電極膜８と上部電極膜１０との間に挟まれる圧電膜９に電圧を印加する役割を果たす。上部電極膜１０は、図４に示すように、５つの分割電極膜１０ａ〜１０ｅに分かれており、楕円形状の第１分割電極１０ａを取り囲むように、４つの第２分割電極１０ｂ〜１０ｅが配置されている。
【００３９】
第１分割電極１０ａの楕円は、楕円形状に形成されるミラー膜１２の中心と同一に構成されており、その大きさはミラー膜１２より小さく形成されている。また、第２分割電極１０ｂ〜１０ｅの向かい合う電極（１０ｂと１０ｄ、１０ｃと１０ｅ）は対称に配置されている。第１分割電極１０ａと第２分割電極１０ｂ〜１０ｅのそれぞれは、駆動回路（図示せず）へと接続される第２の電極端子１６ａ〜１６ｅに引き回し線１７ａ〜１７ｅによって結線されている。
【００４０】
なお、上部電極膜１０を分割することにより、各分割電極１０ａ〜１０ｅと下部電極膜８との間に挟まれる圧電膜９に対して、異なる電圧を供給することが可能となる。このため、各分割電極膜１０ａ〜１０ｅと下部電極膜８に挟まれる圧電膜９の変形量や変形方向を制御可能となり、ミラー膜１２を所望の形状に変形することが可能となる。
【００４１】
下部電極膜８と上部電極膜１０を構成する材料としては、導電性の高い金属が用いられ、例えば、Ａｕ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｐｔ、Ｉｒ、それらの合金等の低抵抗の材料が用いられる。ただし、可変形ミラー６の作製工程において、高温で処理する工程が存在する場合には、高温に強い材料を用いるのが好ましい。下部電極膜８及び上部電極膜１０の形成方法としては、例えば、スパッタリング法、蒸着法等が使用されるが、薄膜形成ができればよく、特に薄膜形成の手法に限定はない。なお、下部電極膜８と上部電極膜１０とは、同じ材料で形成しても構わないし、別々の材料で形成しても構わない。
【００４２】
圧電膜９は、下部電極膜８の上に下部電極膜８と同一の形状で形成される。圧電膜９は下部電極膜８と上部電極膜１０の間に電圧が印加されると、その極性に応じて伸縮を行い、その結果、ミラー膜１２を変形させる。なお、後述するように、本実施形態においては、駆動部１３のうち、下部電極膜８と、第１分割電極１０ａと、下部電極膜８と第１分割電極１０ａとの間に挟まれる圧電膜９と、で形成される部分は、ミラー膜１２の主たる変形を行う部分に該当する。また、駆動部１３のうち、下部電極膜８と、第２分割電極１０ｂ〜１０ｅと、下部電極膜８と第２分割電極１０ｂ〜１０ｅとの間に挟まれる圧電膜９と、で形成される部分は、ミラー膜１２の変形の微調整を行う部分に該当する。
【００４３】
圧電膜９を構成する材料としては、例えば、ＰＺＴ（チタン酸ジルコン酸鉛、Ｐｂ（ＺｒxＴｉ1-x）Ｏ3）が用いられるが、その他の圧電セラミックスを用いても構わない。また、ポリフッ化ビニリデンのような圧電高分子等を用いても構わない。ただし、圧電定数が高く、電圧を印加したときの変位が大きい圧電体がより好ましい。
【００４４】
圧電膜９の形成方法としては、例えば、スパッタリング法、蒸着法、化学蒸着法（ＣＶＤ法）、ゾルゲル法、エアロゾルデポジション法(ＡＤ法)等があるが、薄膜形成ができればよく、特に薄膜形成の手法に限定はない。
【００４５】
絶縁層１１は、上部電極膜１０の上に、上部電極膜１０を覆うように形成されている。絶縁層１１が存在しているために、ミラー膜１２を導電性の材料で形成する場合でも、ミラー膜１２のサイズを上部電極膜１０の形状に左右されずに設計できる。また、本実施形態のように上部電極膜１０が分割される場合でも、絶縁層１１を挟んでミラー膜１２を形成するために、ミラー膜１２を平滑に形成することが可能となる。
【００４６】
絶縁層１１を構成する材料としては、例えば、ポリイミド、エポキシ等の樹脂が用いられる。絶縁層１１の形成方法としては、例えば、液状のエポキシ樹脂を塗布し、その後、焼成する等の方法が用いられる。
【００４７】
ミラー膜１２はレーザ光源２（図１参照）から出射されたレーザビームや、光記録媒体２３（図１参照）から反射されてきたレーザビームを反射する役割を果たす。また、圧電膜９の伸縮により、ミラー膜１２は所望の形状に変形されて、光ピックアップ装置１（図１参照）において発生する球面収差、コマ収差等の収差を補正する役割を果たす。なお、本実施形態においては、ミラー膜１２の形状を楕円形状に形成しているが、必ずしもこの形状に限定されず、矩形状、円形状等にしても構わない。
【００４８】
ミラー膜１２を構成する材料としては、高反射率を有する材料が好ましく、例えば、Ａｕ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｃｒ等の金属膜や、それらの合金膜等が用いられる。また、ミラー膜１２は複数の膜を重ね合わせて形成しても構わない。ミラー膜１２の形成方法としては、例えば、スパッタリング法、蒸着法等が使用されるが、薄膜形成ができればよく、特に薄膜形成の手法に限定はない。
【００４９】
以上のように構成される本実施形態における可変形ミラー６の製造方法の一例を説明する。まず、平板上の基板７の一方に、下部電極膜８、圧電膜９、上部電極膜１０の順に、上述したようにスパッタリング法等を用いて薄膜を形成する（第１〜第３工程）。次に、上部電極膜１０の上に、液状の樹脂を塗布し、焼成することによって絶縁層１１を形成する（第４工程）。
【００５０】
次に、基板７の下部電極膜８から絶縁層１１までを形成した面と反対側の面を、ドライエッチング手法を用いて、下部電極膜８が剥き出しになるまで加工する（第５工程）。この後、絶縁層１１の上にミラー膜１２を、スパッタリング法等を用いて形成する（第６工程）。更に、基板７上に、下部電極膜８及び上部電極膜１０用の配線をパターニングする（第７工程）。なお、可変形ミラー６の製造方法は、他の方法で形成しても構わないのは言うまでもない。
【００５１】
次に、本実施形態の可変形ミラー６において、圧電膜９の特性に不均一な部分がある場合に、ミラー膜１２の形状を所望の形状に変形させるために行う、上部電極膜１０に印加する電圧の調整について、一例を用いて説明する。ここでは、本実施形態の可変形ミラー６を備える光ピックアップ装置１を用いて、球面収差の補正を行う場合を例に説明する。
【００５２】
本実施形態の光ピックアップ装置１に備えられる可変形ミラー６には、図１に示すようにレーザ光源２から出射されるレーザビームが斜めに入射する。このような場合に、可変形ミラー６を用いて球面収差の補正を行うためには、単に球面状にミラー膜１２を変形しても球面収差の補正ができない。このために、圧電膜９を変形する電極の形状は、楕円形状とするのが好適であるとされる。
【００５３】
この点、本実施形態の上部電極膜１０の分割電極である第１分割電極１０ａは、楕円形に形成されており、この第１分割電極１０ａと下部電極８との間に電圧を印加すれば、通常は、ミラー膜１２が所望の形状となる。しかし、圧電膜９に特性の不均一な部分が存在すると、ミラー膜１２が所望の形状とならない場合がある。圧電膜９の特性の不均一な部分は微細な領域としてのみ発生する場合が多く、第１分割電極の周囲に小さな力を負荷することにより、圧電膜９の特性が不均一であることによる変形されたミラー形状の欠陥を補うことが可能となる。
【００５４】
このため、第１分割電極１０ａの周りに第２分割電極１０ｂ〜１０ｅを４つ配置し、いずれか一つ以上について電圧を印加することのより、ミラー膜１２について所望の変形が得られていない部分の変形を調整する構成としている。なお、第２分割電極について、本実施形態ではその数を４つとしているが、その数は特に限定されるものではない。ただし、偶数である方がミラーの変形の微調整を均等に行い易く好ましい。
【００５５】
また、ここでは、第１分割電極１０ａと下部電極膜８との間に挟まれる圧電膜９の特性に不均一な部分がある場合について、第２分割電極１０ｂ〜１０ｅを用いて、ミラー膜１２の変形の微調整を行う構成を示したが、これに限る趣旨ではない。すなわち、例えば、可変形ミラー６を用いて、球面収差とは異なる収差（コマ収差等）の補正を行う場合には、第２電極膜１０ｂ〜１０ｅのいずれか一つ以上と下部電極膜８との間に挟まれる圧電膜９の特性に不均一な部分がある場合に、第１分割電極１０ａを用いて、ミラー膜１２の変形の微調整を行う等しても構わない。
【００５６】
更に、上部電極膜１０と下部電極膜８との構成は、本実施形態の構成に限定されるものではなく、本発明の目的を逸脱しない範囲で種々の変形が可能である。すなわち、第１分割電極１０ａを円形や矩形状等としても構わないし、第２分割電極を図４における１０ｂと１０ｄのみとする構成等としても構わない。また、本実施形態の構成において、上部電極膜１０と下部電極膜８の構成を逆の構成等としても構わない。
【００５７】
その他、本実施形態においては、本発明の可変形ミラー６を光ピックアップ装置１に備える構成を示したが、本発明の可変形ミラー６はその他の光学装置（例えば、デジタルカメラやプロジェクタ等に備えられる光学装置）に適用しても構わない。
【産業上の利用可能性】
【００５８】
本発明は、圧電膜と圧電膜を挟む第１電極膜及び第２電極膜とから成る駆動部と、第１電極膜と接して駆動部を支持する基板と、を備え、駆動部の駆動により、ミラー膜を変形させる可変形ミラーにおいて、第１電極膜と第２電極膜のうち少なくとも一方は、複数の分割電極に分割され、駆動部は、ミラー膜の主たる変形を行う部分と、ミラー膜の変形の微調整を行う部分とから成ることとする。
【００５９】
このため、第１電極膜と第２電極膜とに挟まれる圧電膜に圧電特性が不均一な部分がある場合でも、各分割電極に印加する電圧を調整することで所望のミラー形状を得ることが可能となる。
【００６０】
また、上記の可変形ミラーにおいて、第２電極膜を複数の分割電極に分割し、第２電極膜の圧電膜と接する面の裏面に、平滑な面を有する絶縁層を形成し、絶縁層の第２電極膜と接する面の裏面に存在する平滑な面に、ミラー膜を形成する構成とすることにより、ミラーを所望の形状にし易い構成を容易に実現できる。
【００６１】
また、本発明の可変形ミラーを収差補正ミラーとして備える光ピックアップ装置は、収差補正ミラーのミラー面を所望の形状とし易いために、収差の補正を正確に行うことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】は、本実施形態の光ピックアップ装置の光学系を示す概略図である。
【図２】は、本実施形態の光ピックアップ装置が備える可変形ミラーの構成を示す概略図である。
【図３】は、本実施形態の可変形ミラーにおける下部電極膜の構成を示す概略平面図である。
【図４】は、本実施形態の可変形ミラーにおける上部電極膜の構成を示す概略平面図である。
【図５】は、従来の可変形ミラーの構成を示す図である。
【図６】は、従来の可変形ミラーの構成を示す図である。
【符号の説明】
【００６３】
１                      光ピックアップ装置
６                      可変形ミラー
７                      基板
８                      下部電極膜（第１電極膜）
９                      圧電膜
１０                    上部電極膜（第２電極膜）
１０ａ                  第１分割電極
１０ｂ〜１０ｅ          第２分割電極
１１                    絶縁層
１２                    ミラー膜
１３                    駆動部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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