(57)【要約】【課題】反射屈折光学系を備えた投影露光装置において変倍を行うとき、投影されるパターン像の歪やコントラスト低下を小さくすること。【解決手段】反射体Ｒ、第３のレンズ群Ｌ３、反射ミラーＭＩは支持台１１上に取り付けられ、支持台１１は、ズーム駆動用ガイド６ａに沿って、レンズＬ１，Ｌ２の光軸方向に移動可能である。変倍しないときには、第１のレンズＬ１から反射ミラーＭＩまでと、反射ミラーＭＩから第２のレンズＬ２までの光学素子は、反射ミラーＭＩ、レンズ群Ｌ３の光軸に対して対称に配置されており、マスクＭのパターン像は等倍でワークＷ上に投影される。変倍する際には、反射光学ユニット１０全体を、同図上下方向に移動させる。これにより、歪やコントラストを良好に保ちながら投影像の倍率を変化させることができる。【選択図】          図１
2008026695.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源から放射される露光光により、マスクに形成されたパターンを、投影光学手段を介してワークに投影し露光する投影露光装置において、
上記投影光学手段は、
上記露光光の方向を変える第１反射面および第２反射面を所定角度に設けた反射体と、上記第１反射面で反射した露光光を上記第２反射面に反射する反射ミラーと、該反射ミラーと上記反射体の間に設置される複数のレンズとを備えた反射光学ユニットと、
上記反射体の第１反射面の光入射側に、上記反射体から離間して配置された第１のレンズと、
上記反射体の第２反射面の光出射側に、上記反射体から離間して配置された第２のレンズと、
上記反射光学ユニットを、上記第１のレンズと上記第２のレンズとの間で支持し、上記第１のレンズおよび第２のレンズの光軸方向に対して平行に移動させる反射光学ユニット移動機構とを備えた
ことを特徴とする投影露光装置。
【請求項２】
光源から放射される露光光により、マスクに形成されたパターンを、投影光学手段を介してワークに投影し露光する投影露光装置において、
上記投影光学手段は、
上記露光光の方向を変える第１反射面および第２反射面を所定角度に設けた反射体と、上記第１反射面で反射した露光光を上記第２反射面に反射する反射ミラーと、該反射ミラーと上記反射体の間に設置される複数のレンズとを備えた反射光学ユニットと、
上記反射体の第１反射面の光入射側に、上記反射体から離間して配置された第１のレンズと、
上記反射体の第２反射面の光出射側に、上記反射体から離間して配置された第２のレンズと、
上記第１のレンズとマスクと上記第２のレンズとワークとを支持し、上記第１のレンズとマスクと上記第２のレンズとワークとを、上記第１のレンズおよび第２のレンズの光軸方向に対して平行に移動させる移動機構とを備えた
ことを特徴とする投影露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プリント基板や液晶基板等の基板の製造に用いられる露光装置に関し、特に、マスクに形成されたパターンを、等倍で基板に投影する投影露光装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
フォトレジストなどの感光材料を塗布した基板表面に、所定のパターンを露光装置により露光し、その後エッチング工程により基板上にパターンを形成するフォトリソグラフィ法が種々の分野で広く応用されており、プリント配線基板や液晶基板等も露光装置を用いて製造されている。
従来、プリント配線基板、液晶パネル、液晶用のカラーフィルタなどの電子回路等のパターンを露光形成する装置の一つとして、パターンが形成されたマスクを介し、所定波長の紫外線（露光光）を照射し、投影光学系によりマスクのパターンとほぼ等倍のパターン像をワークに投影して露光処理する投影露光装置が用いられる。
投影光学系には、投影レンズのみで構成される投影光学系と、反射ミラーとレンズとを組み合わせた反射屈折光学系、反射ミラーのみで構成された反射光学系がある。
レンズに対して反射ミラーを使用すると色収差が低減できるメリットがある。しかし、反射ミラーのみの反射光学系の場合、光照射エリアがスリット状に限定され、広い面積を一括して露光することが難しい。反射ミラーとレンズとを組み合わせた反射屈折光学系の場合、投影光学系に比べて色収差を低減し、反射光学系よりも広い面積を露光できるという利点がある。
【０００３】
投影露光装置においては、被投影面に配置される基板の温度変化による伸縮や、他工程における倍率誤差を補正するため、投影倍率を変更しなければならない場合がある。反射屈折光学系を備えた投影露光装置において、投影倍率を変更する技術として特許文献１と特許文献２がある。
特許文献１，２ともマスクのパターンを基板上に等倍で投影することができる反射屈折光学系である。上記特許文献の光学系は、主に、露光光の方向を変える第１反射面および第２反射面を所定角度に設けた反射体（特許文献１では１２・特許文献２では４、以下同じ）、反射体の第１反射面で反射した露光光を第２反射面に反射する反射ミラー（１４・６）、該反射ミラーと反射体の間に設置される複数のレンズ（１３・５）、反射体の第１反射面の光入射側に、反射体から離間して配置された第１のレンズ（１１・３）、反射体の第２反射面の光出射側に、反射体から離間して配置された第２のレンズ（１５・２）から構成されている。
投影倍率を変更する方法として、特許文献１では、第１のレンズ１１または第２のレンズ１５の少なくとも一方を光軸方向に移動させることが示され、また特許文献２では、第１のレンズ３と第２のレンズ５を一組として光軸方向に移動させることが示されている。
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−２９２３４
【特許文献２】特開２００４−３５４９１０
【非特許文献１】「光学技術シリーズ７  フーリエ結像論」小瀬輝次  協立出版株式会社１９９年９月１５日  初版３刷発行
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
図４に本実験で使用した反射屈折光学系の概略構成を示す。
マスクＭには回路等のパターンが形成され、このパターン像は、不図示の光源から放射される露光光により、この反射屈折光学系を介し、等倍でワークＷ上に投影される。
反射屈折光学系は、第１のレンズＬ１、反射体Ｒ、第３のレンズ（群）Ｌ３、反射ミラーＭＩ、第２のレンズＬ２を備えている。反射体Ｒには、入射する光を、ほぼ直角に折り返す、第１の反射面Ｒ１と第２の反射面Ｒ２が形成されている。
マスクＭを通過した露光光は、第１のレンズＬ１に入射し、反射体Ｒの第１の反射面Ｒ１により反射され、第３のレンズ（群）Ｌ３を通過し、反射ミラーＭに入射して反射され、再び第３のレンズ（群）Ｌ３を通過し、反射体Ｒの第２の反射面Ｒ２により反射され、第２のレンズＬ２を通過して、ワークＷに投影される。
【０００６】
第１のレンズＬ１から反射ミラーＭＩまでと、反射ミラーＭＩから第２のレンズＬ２までの光学素子は、対称に配置されることで、一部の収差が打ち消され光学性能が向上するという利点があり、この時、マスクＭに対するワークＷの投影倍率が等倍である。
しかしながら、マスクのパターン像が投影されるワークは、温度変化や前工程の処理のために伸縮が生じることがある。そのような場合、ワークに形成されているパターンもそれにつれて伸縮するので、ワークのパターン上に新しいパターンを露光する際には、伸縮したワークのパターンの大きさに合せて、倍率を変更して（変倍して）投影することがある。変倍の程度は０．１％程度である。
上記したように、特許文献１，２では反射屈折光学系の変倍方法について、第１のレンズＬ１と第２のレンズＬ２の一方、または両方を光軸方向に移動することが提案されている。
対称性を有する等倍光学系において、変倍を行う一つの手段として、光学系の対称性を崩すという方法がある。第１のレンズＬ１および／または第２のレンズＬ２を移動させると、マスクＭから反射ミラーＭＩまでと、反射ミラーＭＩからワークＷまでの光学的対称性が崩れるので、これを利用して投影像の倍率を変化させる（変倍する）というものである。
【０００７】
ここで、第１のレンズＬ１と第２のレンズＬ２を一組として同一方向に移動させる場合と、第１のレンズＬ１または第２のレンズＬ２のいずれか一方のみを移動させる場合との違いを簡単に説明する。
第１のレンズＬ１または第２のレンズＬ２のいずれか一方のみを移動させる場合、倍率が変化すると同時にピント位置もずれるため、別途ピント調整が必要になる。
一方、第１のレンズＬ１と第２のレンズＬ２を一組として同一方向に移動させる場合、第１のレンズＬ１が移動することで変化するピントの変化量と、第２のレンズＬ２が移動することで変化するピント量とが補い合うので、ピントがずれないで倍率が変化する。
【０００８】
ここで上記のように光学系の対称性を崩して変倍を行う場合、対称性により打ち消されていた収差が発生するなどの理由から、投影後の歪（歪曲収差）の発生やコントラストの低下（解像度の低下）が生じる。そこで、これらの光学性能の劣化を抑えるべく、発明者は反射屈折光学系の変倍について検討を重ねた結果、第１のレンズＬ１と第２のレンズＬ２を移動させて変倍を行うと、投影像の歪が大きくなり、またコントラストが低下する傾向があることを見出した。
本発明は上記問題点を解決するためになされたものであって、その課題は、反射屈折光学系を備えた投影露光装置において変倍を行うとき、投影されるパターン像の歪やコントラスト低下を小さくすることである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明においては、上記課題を次のように解決する。
（１）露光光の方向を変える第１反射面および第２反射面を所定角度に設けた反射体と、上記第１反射面で反射した露光光を上記第２反射面に反射する反射ミラーと、該反射ミラーと上記反射体の間に設置される複数のレンズとを備えた反射光学ユニットと、上記反射体の第１反射面の光入射側に、上記反射体から離間して配置された第１のレンズと、上記反射体の第２反射面の光出射側に、上記反射体から離間して配置された第２のレンズから構成される投影光学手段を備えた投影露光装置おいて、上記反射光学ユニットを一体として、固定した第１のレンズと第２のレンズの間で光軸方向に移動させる移動機構を設ける。
（２）上記反射光学ユニットと、上記反射体の第１反射面の光入射側に、上記反射体から離間して配置された第１のレンズと、上記反射体の第２反射面の光出射側に、上記反射体から離間して配置された第２のレンズから構成される投影光学手段を有する投影露光装置において、上記第１のレンズとマスクと上記第２のレンズとワークとを支持し、上記第１のレンズとマスクと上記第２のレンズとワークとを、上記第１のレンズおよび第２のレンズの光軸方向に対して平行に移動させる移動機構とを設ける。
【発明の効果】
【００１０】
本発明においては、反射体、反射ミラーおよび反射ミラーと反射体の間に設置される複数のレンズから構成されるユニット（反射光学ユニット）、あるいは、第１のレンズとマスクと上記第２のレンズとワークとから構成されるユニットを一体として、第１、第２のレンズの光軸方向に移動させるようにしたので、反射屈折光学系において変倍を行う場合、歪みとコントラストの低下を、第１のレンズと第２のレンズを移動させる場合に比べて小さくすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
図１に本発明の第１の実施例を示す。同図（ａ）は本発明の実施例の投影露光装置の全体構成を示し、同図（ｂ）は本実施例で使用される投影光学手段の構成を示す。
本実施例の投影光学手段は前記図４に示したものと同様の構成を有し、図１（ｂ）に示すように第１のレンズＬ１、反射体Ｒ、第３のレンズ（群）Ｌ３、反射ミラーＭＩ、第２のレンズＬ２を備えている。反射体Ｒには、入射する光を、ほぼ直角に折り返す、第１の反射面Ｒ１と第２の反射面Ｒ２が形成されている。
図１（ａ）において、光照射部１には、露光波長を含む光を（以下、露光光と略する）放射する光源、例えば超高圧水銀ランプや、ランプからの光を反射する反射ミラー等の光学素子が設けられ、露光光を出射する。
回路等のパターンを形成したマスクＭは、マスクステージ２に保持され、マスクＭに形成されたパターン（以下、マスクパターン）が露光されるワークＷは、ワークステージ３上に載置され保持される。ワークステージ３にはＸＹＺθ移動機構３ａが設けられ、ワークステージ上のワークＷは、ＸＹＺθ方向に移動可能である。
【００１２】
マスクステージ２とワークステージ３の間には、マスクパターンをワークＷ上に投影する投影光学手段が設けられている。
投影光学手段は、図１（ｂ）に示したものであり、大きくは、マスクステージの光出射側に設けられた第１のレンズＬ１、ワークステージの光入射側に設けられた第２のレンズＬ２、第１のレンズと第２のレンズの間に設けられた反射光学ユニット１０（ズームユニット）の３つの部分に分けられる。
さらに、反射光学ユニット１０（ズームユニット）は、図１（ｂ）に示すように、反射体Ｒ、第３のレンズ群（複数の場合が多いが単数の場合もある。その場合は第３のレンズとなる）Ｌ３、反射ミラーＭＩを備えている。反射体Ｒは、具体的には例えばプリズムであり、入射する光をほぼ直角に折り返す、第１の反射面Ｒ１と第２の反射面Ｒ２が形成されている。なお、ここでは反射体Ｒから構成される部分をＡユニット、第３レンズＬ３、反射ミラーＭＩから構成される部分をＢユニットという。
【００１３】
反射光学ユニット１０（ズームユニット）を構成する反射体Ｒと、第３のレンズ群Ｌ３、反射ミラーＭＩからなるＡユニット＋Ｂユニットは反射光学ユニット支持台１１上に取り付けられ、反射光学ユニット支持台１１は、ズーム駆動用ガイド６ａに沿って、Ｚ方向（レンズＬ１，Ｌ２の光軸方向、同図の矢印方向）に移動可能である。変倍する際には、制御部４がズーム駆動アクチュエータ５（支持体駆動機構）を駆動し、反射光学ユニット１０（ズームユニット）全体を、同図上下方向に移動させる。
第１のレンズＬ１と第２のレンズＬ２は、反射光学ユニットから離間して設けられ、フレーム６に固定されており移動しない。なお、第１のレンズＬ１と第２のレンズＬ２は、それぞれ複数のレンズにより構成されていても良い。
変倍しないときには、第１のレンズＬ１から反射ミラーＭＩまでと、反射ミラーＭＩから第２のレンズＬ２までの光学素子は、反射ミラーＭＩ、レンズ群Ｌ３の光軸に対して、対称に配置されており、マスクのパターン像は等倍でワーク上に投影される。
【００１４】
本実施例の装置は次のように動作する。
（１）露光が行なわれるワークＷがワークステージ３上に載置され、真空吸着等により保持される。
ワークＷは複数の露光領域に分割されており、ＸＹＺθ移動機構３ａによりワークステージ３が移動し、ワークＷの最初に露光される領域が、投影光学手段によりマスクパターンが投影される領域に移動する。
（２）マスクとワークの位置合せが行なわれる。具体的には、マスクに形成された複数のアライメントマーク（マスクマーク）と、ワークに形成された複数のワークアライメントマーク（ワークマーク）が、不図示のアライメント顕微鏡により検出され、両者が所定の位置関係になるように、ワークまたはマスクを移動する。
（３）上記位置合せにおいて、アライメント顕微鏡がワークマークを検出する際にワークマーク間距離を測定し、これをマスクマーク間距離やワークマーク間距離の設計値と比較することで、どの程度ワークが伸縮しているか、即ちどの程度変倍させるかを計算することができる。
【００１５】
（４）通常、温度変化や前工程の処理においてワークに生じる伸縮は０．１％程度であり、ワークに伸縮が生じている場合は、それに合せて投影するマスクパターン像の倍率を変更（変倍）する。
０．１％の変倍を実現するためには、反射光学ユニット１０（ズームユニット）をマスクＭとワークＷを結ぶ軸（Ｚ軸）方向に数ｍｍ程度動かすことで可能であり、反射光学ユニット１０（ズームユニット）をズーム駆動アクチュエータ５によりＺ駆動させる。
（５）投影像を大きくするためには反射光学ユニット１０（ズームユニット）を上方へ上げる方向に動かす。投影像を小さくするためには逆に反射光学ユニット１０（ズームユニット）を下方へ下げる方向に動かす。
なお、所望する変倍量に対する反射光学ユニット１０の移動量（即ち、何％変倍させるためには、反射光学ユニット１０を何ミリ移動させるか）については、あらかじめ露光装置の組み立て調整段階で測定を行い、その関係を装置の制御部４に記憶させておく。そして、制御部４にどの程度変倍させるかを入力すれば、制御部が自動的に反射光学ユニットを移動させるようにしておく。
【００１６】
（６）反射光学ユニット１０（ズームユニット）移動終了後、光照射部１から露光光を出射する。光照射部１から出射した露光光は、マスクステージ２に保持されたマスクＭに入射する。
マスクＭを通過した光は、露光光は、第１のレンズＬ１に入射し、反射体Ｒの第１の反射面Ｒ１により反射され、第３のレンズ（群）Ｌ３を通過し、反射ミラーＭＩに入射して反射され、再び第３のレンズ（群）Ｌ３を通過し、反射体Ｒの第２の反射面Ｒ２により反射され、第２のレンズＬ２を通過して、マスクパターンはワークＷの所定の領域に、ワークの伸縮に合せて倍率が変えられて投影され露光される。
（７）ＸＹＺθ移動機構３ａによりワークステージ３が移動し、ワークＷの分割された複数の領域にマスクパターンが露光される。投影像の倍率は、分割された領域ごとにアライメントマークを検出することで調整変更しても良いし、１枚のワーク内では同じ変倍量で複数の領域を露光しても良い。
なお、光照射領域が大きくなると、反射光学ユニット１０（ズームユニット）は大きくまた重くなり、一体として移動させることが難しくなることがある。そのような場合は、反射光学ユニット１０をＡユニット、Ｂユニットに分割し、それぞれに駆動機構を設け、ＡユニットとＢユニットを、それぞれ同期を取って移動させるようにしても良い。
【００１７】
本実施例の投影露光装置は上記構成を有しており、変倍を行う場合、従来例のように第１のレンズＬ１および／または第２のレンズＬ２を移動させるのではなく、第１のレンズＬ１と第２のレンズＬ２は固定し、その間に配置されている反射体Ｒ、第３のレンズ（群）Ｌ３、反射ミラーＭＩから構成される反射光学ユニット１０を一体として第１のレンズＬ１と第２のレンズＬ２の光軸方向に移動させる。
反射光学ユニット１０を移動させることにより、マスクＭから反射ミラーＭＩまでと、反射ミラーＭＩからワークＷまでの光学的対称性が崩れるので、これを利用して投影像の倍率を変化させる。
【００１８】
ここでは、本発明のように第１のレンズＬ１と第２のレンズＬ２は固定し、反射光学ユニットを第１のレンズＬ１と第２のレンズＬ２の光軸方向に移動させる方式をＡ方式と呼び、従来例のように反射光学ユニットを固定し、第１のレンズＬ１と第２のレンズＬ２を一体として光軸方向に移動させる方式をＢ方式と呼ぶこととし、このＡ方式とＢ方式で、倍率を０．１％変更したときの投影像の歪（歪曲収差）とコントラスト（解像力）の違いについて比較した。
なお、歪（歪曲収差）とは、マスクに形成されたパターンをどれだけ忠実に投影像として再現できるかを示す尺度である。歪（歪曲収差）の測定は、光学設計を行うソフトウェアを用いた光線追跡により、マスクパターンに対する投影像の形状の変化量（投影像を平行移動回転移動させても補うことができないゆがみの寸法）として求めた。
また、コントラスト（解像力）とは、投影像の白黒（明暗）の度合いのことであり、光学系が、マスクパターンのコントラストを投影像にどれだけ忠実に伝達できるかを表したＭＴＦ（ＭｏｄｕｌａｔｉｏｎＴｒａｎｓｆｅｒＦｕｎｃｔｉｏｎ）と呼ばれる特性から求めた。ＭＴＦは、光学設計者には良く知られた特性であり、例えば非特許文献１に記載されている。
【００１９】
図２は上記Ａ方式とＢ方式で投影像に発生する歪の大きさおよびコントラストを比率により示したものである。
有効エリアおよびＮＡの異なる３種類の投影光学手段（サンプルＮｏ．１〜Ｎｏ．３）について示しており、変倍時性能は、歪発生量比とコントラスト比で表している。なお、第１のレンズＬ１と第２のレンズＬ２は、光学系の対称性を保つため、同じ特性を有するレンズである。
歪発生量比はＡ方式により投影像に発生する歪の大きさをＢ方式で生じる歪の大きさで割った値（Ａ方式による歪／Ｂ方式による歪）である。
Ａ，Ｂ方式において投影像に生じる歪の量が同じであれば、その値は１になる。値が１より大きければ、Ａ方式により変倍すると、Ｂ方式により変倍した場合よりも歪が大きくなり、また、値が１より小さければ、Ａ方式のほうがＢ方式よりも歪が小さいということを表す。
【００２０】
コントラスト比はＡ方式により変倍を行ったときの投影像のコントラストを、Ｂ方式で変倍を行ったときの投影像のコントラストで割った値（Ａ方式によるコントラスト／Ｂ方式によるコントラスト）である。
Ａ，Ｂ方式において投影像のコントラストが同じであれば、その値は１になる。値が１より大きければ、Ａ方式により変倍すると、Ｂ方式により変倍した場合よりもコントラストが高く良好な投影像がえられるということであり、また、値が１より小さければ、Ａ方式のほうがＢ方式よりもコントラストが低く劣った投影像になるということを表す。
【００２１】
図２からわかるように、Ａ方式による歪／Ｂ方式による歪の値は１以下となり、Ａ方式により変倍したほうが、Ｂ方式により変倍した場合よりも歪が小さくなる。また、Ａ方式によるコントラスト／Ｂ方式によるコントラストの値は１以上となり、Ａ方式により変倍したほうが、Ｂ方式により変倍した場合よりも投影像のコントラストが高くなる。
この結果に基づけば、Ａ方式、即ち、第１のレンズＬ１と第２のレンズＬ２は固定し、その間の反射体Ｒ、第３のレンズ（群）Ｌ３、反射ミラーＭＩを一体として、第１のレンズＬ１と第２のレンズＬ２の光軸方向に移動させて変倍したほうが、歪やコントラストの良好な投影像が得られる。
なお、第１のレンズＬ１と第２のレンズＬ２は、１枚のレンズではなく、複数のレンズで、一枚の凸レンズと同様の光学特性を有するように構成しても、同様の結果が得られる。
なお、Ａ方式の変倍方式においても、等倍時の対称基準である反射ミラーＭＩに対して、マスクＭ側の移動により生じるピントの変化量と、ワークＷ側の移動により生じるピントの変化量とが補い合うので、ピントのずれを発生させることなく変倍が可能である。
【００２２】
図３に本発明の第２の実施例を示す。本実施例は、反射体Ｒ、第３のレンズ群Ｌ３、反射ミラーＭＩから構成される反射光学手段１０を固定し、マスクＭ、第１のレンズＬ１、第２のレンズＬ２、ワークＷを一体に支持し、マスクＭ、第１のレンズＬ１、第２のレンズＬ２、ワークＷとを、上記第１のレンズＬ１および第２のレンズＬ２の光軸方向に平行に移動させるように構成したものであり、その他の構成は第１の実施例と同様である。
図３において、反射光学ユニット１０を構成する反射体Ｒと第３のレンズ群Ｌ３は反射光学ユニット支持台１１上に取り付けられ、反射光学ユニット支持台１１は基台等に固定されている。
また、フレーム６には、マスクＭが取り付けられたマスクステージ２と、ワークＷが載置されたワークステージ、第１のレンズＬ１と第２のレンズＬ２が固定されている。反射光学ユニット支持台１１とフレーム６の間、およびフレーム６と固定部分の間にはズーム駆動用ガイド６ａが設けられ、フレーム６は、ズーム駆動用ガイド６ａに沿って、Ｚ方向（レンズＬ１，Ｌ２の光軸方向、同図の矢印方向）に移動可能である。
【００２３】
変倍する際には、制御部４がズーム駆動アクチュエータ５を駆動し、上記フレーム６全体を、同図上下方向に移動させる。
変倍しないときには、第１のレンズＬ１から反射ミラーＭＩまでと、反射ミラーＭＩから第２のレンズＬ２までの光学素子は、反射ミラーＭＩ、レンズ群Ｌ３の光軸に対して、対称に配置されており、マスクのパターン像は等倍でワーク上に投影される。
また、変倍を行う場合には、フレーム６をＺ軸方向に動かし、マスクＭ、第１のレンズＬ１と第２のレンズＬ２、ワークＷを一体で第１のレンズＬ１と第２のレンズＬ２の光軸方向に移動させる。
これにより、マスクＭから反射ミラーＭＩまでと、反射ミラーＭＩからワークＷまでの光学的対称性が崩れるので、投影像を変えることができる。
なお、上記において、マスクＭ、第１のレンズＬ１、第２のレンズＬ２、ワークＷを一体に支持し、マスクＭ、第１のレンズＬ１、第２のレンズＬ２、ワークＷを一体で移動させるように説明したが、マスクＭ、第１のレンズＬ１、第２のレンズＬ２、ワークＷを別個に支持し、各々に移動機構を取り付け、同じ方向に同じ距離だけ同期して移動するように構成しても良い。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明の第１の実施例を示す図である。
【図２】本発明と従来例の装置における歪発生量比とコントラスト比を示す図である。
【図３】本発明の第２の実施例を示す図である。
【図４】反射屈折光学系の概略構成を示す図である。
【符号の説明】
【００２５】
１    光照射部
２    マスクステージ
３    ワークステージ
３ａ  ＸＹＺθ移動機構
４    制御部
５    ズーム駆動アクチュエータ
６    フレーム
６ａ  ズーム駆動用ガイド
１０  反射光学ユニット
１１  反射光学ユニット支持台
Ｌ１  第１のレンズ
Ｌ２  第２のレンズ
Ｌ３  第３のレンズ（群）
Ｍ    マスク
Ｗ    ワーク
Ｒ    反射体
【図１】
2008026695.tif 000003
【図２】
2008026695.tif 000004
【図３】
2008026695.tif 000005
【図４】
2008026695.tif 000006