(57)【要約】【課題】  地紋元画像と複数種の地紋パターンを合成し地紋画像を生成する処理において、地紋元画像の一部を変更し地紋画像を生成する際、処理の効率化と高画質化の両立を図る。【解決手段】  地紋生成領域全部を対象にする通常モードと地紋元画像変更領域を対象にする一部変更モードの間で、地紋画像データを生成する動作を切り替え、通常モードで作成した地紋画像の一部を変更したいとき、各地紋生成器１０２〜１０５に地紋元画像変更領域を指示し一部変更モードで変更部分だけの地紋画像データを生成させ、処理の効率化を図る。その際、通常モードの動作時に変更位置の地紋パターン位置情報を保持し、一部変更モードの設定に反映させ、変更によりパターンずれが起きることはなく、画質の低下が生じない。【選択図】      図４
2008235972.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
地紋元画像と地紋パターンを合成することにより地紋画像を生成する画像処理装置であって、
地紋パターンを記憶する地紋パターン記憶手段と、
処理対象画像面上の地紋画像生成領域に対応して、前記地紋パターン記憶手段の地紋パターンにおける地紋生成開始位置を設定する地紋パターン設定手段と、
前記地紋パターン設定手段の設定に従って、地紋元画像との合成に用いる地紋パターンを生成する手段を有したことを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載された画像処理装置において、
地紋画像の生成領域を指示する領域指示手段を有し、
前記地紋パターン設定手段は、前記領域指示手段によって指示された生成領域に基づいて、前記地紋パターン記憶手段の地紋パターンにおける地紋生成開始位置の設定値を算出する手段を備えたことを特徴とする画像処理装置。
【請求項３】
基本単位パターンがそれぞれ異なる長さを持つ複数種の地紋パターンを用いる請求項１又は２に記載された画像処理装置において、
前記地紋パターン記憶手段に前記複数種の地紋パターンにおける各パターン長の最小公倍数の地紋パターンを記憶したことを特徴とする画像処理装置。
【請求項４】
請求項１又は３に記載された画像処理装置において、
地紋画像の生成領域を指示する領域指示手段と、
地紋画像の生成領域と、前記地紋パターン記憶手段の地紋パターンにおける地紋生成開始位置との関係を示すテーブルを記憶するテーブル記憶手段を有し、
前記地紋パターン設定手段は、前記領域指示手段によって指示された生成領域により前記テーブル記憶手段のテーブルを参照し、設定する地紋パターンにおける地紋生成開始位置を取得する手段を備えたことを特徴とする画像処理装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれかに記載された画像処理装置において、
前記地紋パターン設定手段による地紋生成開始位置の設定があるか、否かを判定する設定有無判定手段を有し、
前記地紋パターンを生成する手段は、前記設定有無判定手段によって設定があることが判定されたことを条件に、設定に従った生成を行うようにしたことを特徴とする画像処理装置。
【請求項６】
コンピュータを請求項１乃至４のいずれかに記載された画像処理装置における前記地紋パターン設定手段及び前記地紋パターンを生成する手段として機能させるためのプログラム。
【請求項７】
コンピュータを請求項５に記載された画像処理装置における前記地紋パターン設定手段、前記地紋パターンを生成する手段及び前記設定有無判定手段として機能させるためのプログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、オリジナル画像に付加される地紋画像を生成する画像処理装置に関し、より詳細には、地紋元画像と前景、背景、マスク、不正コピーガード等の地紋パターンを合成し、地紋画像を生成する画像処理装置及び該地紋画像を生成する処理を実行するためのプログラムに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、作成した印刷物が不正にコピーされ、機密文書の漏洩、証明書や証券の偽造等に繋がることを抑止するための対策として、不正から護るべきオリジナル画像に地紋画像を付加・合成する技術が知られている。
【０００３】
こうした目的を持って合成される地紋画像の生成処理の従来例として、下記特許文献１を挙げることができる。
特許文献１には、潜像パターン、背景パターンの２つのパターンと、カモフラージュ領域指定画像、潜像背景領域指定画像の２つの画像の最小公倍数から地紋の繰り返しの最小単位を作り、これをタイル状に繰り返し並べることでより大きな地紋画像を生成する方法が示され、この方法により、高速、かつ、省メモリで地紋画像が生成できる、としている。
【特許文献１】特開２００５−９４３２６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記特許文献１に例示した従来技術により、地紋元画像、即ち地紋パターン（前景、背景、マスク、不正コピーガード等、地紋種類によりパターンが異なる）を埋め込む元になる画像が大きな場合、例えばページ全体に大きな文字を地紋として打ちたい場合に、地紋生成モジュールが必要とするメモリ量を少なくし、処理の効率化が図られる。
【０００５】
ただ、処理の効率化という観点では、次のような場合には、未だ十分とはいえない。即ち、ページ全体を占める地紋元画像の一部を変更するだけの地紋画像を作りたい、という要求に対し、従来では、変更のない部分の地紋も含め、全部を最初から作り直す、という方法によっている。このため、例えば、ページごとに一部のみ変更した地紋を打ちたい場合には、ページごとに地紋画像全部を生成しなければならないため、一部の変更であるからといって、出力に掛かる時間に変わりがなく、処理効率の点で問題を残している。
【０００６】
なお、この一部の変更に係る問題の対策として、ページ全部に対する処理法をそのまま、変更する部分に適用し、変更部分の地紋画像を作成することが考えられる。しかしながら、この方法による場合、それぞれサイズが異なり、数種類あるパターンについて、全体画像の一部としてのつながりを意識せずに作成することになるので、画質の低下は否めない。
【０００７】
本発明は、上記した従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、発明が解決すべき課題は、地紋元画像と、基本単位パターンよりなる複数種の地紋パターンを合成し、地紋画像を生成する画像処理において、地紋元画像の一部を変更して地紋画像を生成する際に、処理の効率化と高画質化の両立を図ることにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
請求項１の発明は、地紋元画像と地紋パターンを合成することにより地紋画像を生成する画像処理装置であって、地紋パターンを記憶する地紋パターン記憶手段と、処理対象画像面上の地紋画像生成領域に対応して、前記地紋パターン記憶手段の地紋パターンにおける地紋生成開始位置を設定する地紋パターン設定手段と、前記地紋パターン設定手段の設定に従って、地紋元画像との合成に用いる地紋パターンを生成する手段を有したことを特徴とする。
請求項２の発明は、請求項１に記載された画像処理装置において、地紋画像の生成領域を指示する領域指示手段を有し、前記地紋パターン設定手段は、前記領域指示手段によって指示された生成領域に基づいて、前記地紋パターン記憶手段の地紋パターンにおける地紋生成開始位置の設定値を算出する手段を備えたことを特徴とする。
請求項３の発明は、基本単位パターンがそれぞれ異なる長さを持つ複数種の地紋パターンを用いる請求項１又は２に記載された画像処理装置において、前記地紋パターン記憶手段に前記複数種の地紋パターンにおける各パターン長の最小公倍数の地紋パターンを記憶したことを特徴とする。
請求項４の発明は、請求項１又は３に記載された画像処理装置において、地紋画像の生成領域を指示する領域指示手段と、地紋画像の生成領域と、前記地紋パターン記憶手段の地紋パターンにおける地紋生成開始位置との関係を示すテーブルを記憶するテーブル記憶手段を有し、前記地紋パターン設定手段は、前記領域指示手段によって指示された生成領域により前記テーブル記憶手段のテーブルを参照し、設定する地紋パターンにおける地紋生成開始位置を取得する手段を備えたことを特徴とする。
請求項５の発明は、請求項１乃至４のいずれかに記載された画像処理装置において、前記地紋パターン設定手段による地紋生成開始位置の設定があるか、否かを判定する設定有無判定手段を有し、前記地紋パターンを生成する手段は、前記設定有無判定手段によって設定があることが判定されたことを条件に、設定に従った生成を行うようにしたことを特徴とする。
請求項６の発明は、コンピュータを請求項１乃至４のいずれかに記載された画像処理装置における前記地紋パターン設定手段及び前記地紋パターンを生成する手段として機能させるためのプログラムである。
請求項７の発明は、コンピュータを請求項５に記載された画像処理装置における前記地紋パターン設定手段、前記地紋パターンを生成する手段及び前記設定有無判定手段として機能させるためのプログラムである。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によると、地紋元画像の一部のみ変更したい場合には、変更した部分のみ地紋スタンプ画像を作り直し、先に生成した地紋スタンプ画像の一部を置き換えるという方法を採ることができるので、従来の地紋画像全体を生成し直す方法に比べて、処理が効率化され、しかも、地紋画像を高画質に保つことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明の実施形態に係る画像処理装置を以下に説明する。
本発明の画像処理装置は、不正コピーから護るべき画像に付加する地紋画像（以下、「地紋スタンプ画像」と記す）を生成する処理を行う装置であり、護るべき画像を生成する装置に組み込んで利用される。組み込む実施装置としては、例えば、文書等を作成・編集するＰＣ（Personal Computer）、複写機、ＭＦＰ（Multi-Function Peripherals：複合機）等の装置があるが、これらに限定されず、記録媒体（印刷用紙）に出力可能なデータを生成する機能を有する装置であれば、どのような装置でもよい。
【００１１】
図１は、この実施形態に係る画像処理装置の概略構成を示す。
図１に示す装置は、地紋画像の生成及び処理対象画像への付加に係る要部構成のみを示すもので、地紋スタンプ画像を生成する地紋生成器１００と、処理対象画像として地紋スタンプが施されるオリジナル画像と地紋スタンプ画像を合成する合成器２００と、合成した画像データを出力する画像データ出力器３００よりなる。
なお、本画像処理装置は、画像の出力処理要求に応じて、画像データを処理するので、図１に示されていないが、画像処理システム全体を制御する主制御部を有し、主制御部が画像データの出力処理プロセスの一環として、処理対象画像への地紋スタンプを行う。従って、図１に示す地紋生成器１００、合成器２００及び画像データ出力器３００における動作に必要な処理条件の設定及び画像データ等の供給は、主制御部が処理要求に応じて行う。
【００１２】
地紋生成器１００は、地紋元画像と地紋パターンを合成することにより地紋スタンプ画像を生成する。なお、上記地紋パターンにおける“パターン”は、画素（ドット）の並びであり、この実施形態では、Ｘ，Ｙの２次元方向に並ぶものとする。
地紋元画像は、低解像度（例えば、１５０ dpi ）でメモリ等に描画される２値（ON／OFF）の画像（後記の図２に関する説明、参照）で、画像が形成されるON位置に、下記前景・背景パターンを地紋パターンとして埋め込む。
【００１３】
また、地紋パターンは、この実施形態では、次の４種類のパターンを用いる。
・前景パターン：通称「浮き出る地紋」と呼ばれ、用紙に印刷出力後、コピーに掛けると、スキャナ読取りができる大きさのドットの並びで表したパターンであり、最小単位を予めメモリ上に用意する。
・背景パターン：通称「消える地紋」と呼ばれ、用紙に印刷した後、コピーに掛けると、スキャナ読取りができない大きさのドットの並びで表したパターンであり、最小単位を予めメモリ上に用意する。
・マスクパターン：前景・背景パターンが打たれていることを視認し難くするための背景模様であり、最小単位を予めメモリ上に用意する。また、省メモリ化のため低解像度で持つ。
・不正コピーガードパターン：用紙に印刷出力後、コピーに掛けると、スキャナ読取りができ、不正コピーを検知するためのパターンであり、最小単位を予めメモリ上に用意する。このパターンの検知結果によって、塗りつぶし、出力停止等を行う。
【００１４】
地紋元画像と地紋パターンを合成することにより生成される地紋スタンプ画像の概念を図２及び図３の例を参照して説明する。
本実施形態では、地紋スタンプ画像を生成する際、ページ全部をいっぺんに生成する処理モード（以下、「通常モード」と記す）と、先に生成した地紋スタンプ画像の一部を変更画像で置き換えるという処理方法とすべく、変更部分だけを生成する処理モード（以下、「一部変更モード」と記す）を切替えて行うことができるようにする。
【００１５】
図２は、通常動作によって生成される地紋スタンプ画像の１例を示す。
図２の右側には、地紋元画像が、「ＣＯＰＹ」と形成された画像部分をONとする２値画像で描かれている。また、同図の左側には、地紋スタンプ画像が示されており、図中の網目部分が地紋生成領域情報により設定される。
１ページ分の画像出力データは、主走査（ X ）方向のライン単位で、副走査（ Y ）方向にラインを切替えながら処理されるので、地紋生成領域は、走査開始位置（ X1 ， Y1 ）と走査終了位置（ X2 ， Y2 ）で定義される。この地紋生成領域内で地紋パターンが設定に従い埋め込まれる。
【００１６】
従って、例えば、地紋パターンとして、前景パターンが設定されていると、地紋元画像によって「ＣＯＰＹ」と形成された画像部分に、浮き出る地紋を生成する前景パターンが埋め込まれる。また、マスクパターンが地紋生成領域の全面に設定されると、図２の左側に示すように、網目部分にマスクが掛けられ、この画像データを用いて印刷をすると、「ＣＯＰＹ」が視認できないような出力結果を得ることができる。
【００１７】
図３は、一部変更モードによる地紋スタンプ画像の１例を示す。
図３の右側には、先に通常モードで生成した地紋スタンプ画像に用いた地紋元画像を示しており、その一部である同図中「０００１」の斜線で示した「１」を含む領域が変更部分で、その部分を変更後に、図３の左側に示す「２」とする場合の例である。
この場合には、図３の左側に示す「２」を含む斜線で示した領域を地紋元画像変更領域情報により設定して、その部分のみを地紋元画像として、地紋スタンプ画像を生成する。変更部分の地紋生成領域は、走査開始位置（ X3 ， Y3 ）と走査終了位置（ X4 ， Y4 ）で定義される。この地紋生成領域内の地紋元画像「２」へ地紋パターンが埋め込まれる。
通常モード及び一部変更モードのいずれの動作も、地紋を付加した出力画像データの処理要求が行われる際、設定可能な処理条件の一つとして選択され、図示しない主制御部によって指示される。
【００１８】
次に、図１における地紋生成器１００について、内部構成を示す図４に基づいて詳細に説明する。
本実施形態では、地紋スタンプ画像は、設定された地紋生成領域内で、地紋元画像と地紋パターンを合成することにより生成するので、図４の構成に示すように、地紋合成器１０６への入力段に、地紋元画像変倍器１０１、前景地紋生成器１０２、背景地紋生成器１０３、マスク地紋生成器１０４及び不正コピーガード地紋生成器１０５を設ける。
【００１９】
地紋元画像変倍器１０１は、入力された地紋元画像をオリジナル画像と同じ解像度に変換し、所定の単位（例えば、６４ bit ）ずつ地紋合成器１０６に出力する。
前景地紋生成器１０２は、入力された最小単位の前景パターンを地紋元画像と同じ単位（例えば、６４ bit ）ずつ地紋合成器１０６に出力する。
背景地紋生成器１０３は、入力された最小単位の背景パターンを地紋元画像と同じ単位（例えば、６４ bit ）ずつ地紋合成器１０６に出力する。
【００２０】
マスク地紋生成器１０４は、入力された最小単位のマスクパターンをオリジナル画像と同じ解像度に変換し、地紋元画像と同じ単位（例えば、６４ bit ）ずつ地紋合成器１０６に出力する。
不正コピーガード地紋生成器１０５は、入力された最小単位の不正コピーガードパターンをオリジナル画像と同じ解像度に変換し、地紋元画像と同じ単位（例えば、６４ bit ）ずつ地紋合成器１０６に出力する。
また、本実施形態では、一部変更モードの動作により地紋を生成するので、上記地紋生成器１０２〜１０５は、それぞれ変更領域を示す地紋元変更領域情報を受け、各パターン上の開始位置情報を求め、その情報を保持する。
【００２１】
地紋合成器１０６は、地紋を付加した出力画像データの処理要求が行われる際、ユーザによって指示される地紋の種類（上記４種の地紋パターンの選択、パターンにおける通常／反転の選択等）によって、入力された地紋元画像の地紋生成領域内で合成処理を行い、地紋スタンプ画像を出力する。
なお、図１における合成器２００及び画像データ出力器３００は、本実施形態の主要部ではなく、既存の技術を適用することにより実施することができるので、詳細な説明はしない。
【００２２】
次に、上記した地紋生成器１００（図４）の動作を図５に示すフローを参照して、説明する。なお、図５に示すフローは、通常モードと一部変更モードに共通の動作フローである。
地紋を付加した出力画像データの処理要求が発行されると、地紋スタンプ画像を生成する処理を開始し、まず、ユーザが指示する地紋生成条件に従い、ページ全部、或いは変更した部分のみの地紋元画像を生成する（ステップＳ１０１）。ここで生成される地紋元画像は、画像が形成される位置をON とする２値のデータで表され（図２、図３の地紋元画像、参照）、メモリに書き込まれる。
【００２３】
また、地紋元画像の変倍、前景地紋、背景地紋、マスク地紋及び不正コピーガード地紋の各地紋パターンの生成及び地紋元画像と地紋パターンを合成する地紋合成を通常モード、或いは一部変更モードで実行するために必要な設定を行う。この設定は、地紋元画像変倍器１０１、各地紋生成器１０２〜１０５及び地紋合成器１０６への制御パラメータの設定（ステップＳ１０２）、並びに前景地紋、背景地紋、マスク地紋及び不正コピーガード地紋の各地紋パターンのうち、要求に従い必要な地紋パターンの設定（ステップＳ１０３）を行う。
【００２４】
次に、上記設定に従って、地紋元画像変倍器１０１、前景地紋生成器１０２、背景地紋生成器１０３、マスク地紋生成器１０４及び不正コピーガード地紋生成器１０５のうちの必要な処理部を同時に動作させ、地紋を生成する（ステップＳ１０４）。なお、各地紋生成器１０２〜１０５に共通の動作フローについては、後記で実施例を示し詳述する。
地紋の生成がすめば、生成した地紋元画像と地紋パターンを合成する地紋合成を行う（ステップＳ１０６）。ただ、地紋元画像変倍器１０１及び各地紋生成器１０２〜１０５は、同時に並行して処理するので、必要なデータが全部揃ったことを確認して（ステップＳ１０５-YES）、処理を開始する。
【００２５】
地紋合成は、各地紋生成器１０２〜１０５からの地紋パターンデータと、地紋元画像変倍器１０１からの地紋元画像データが、同じ単位（例えば、６４ bit ）ずつ地紋合成器１０６に入力されてくるので、例えば、通常地紋の場合は、地紋元画像が１のところに、前景地紋パターンとマスク地紋パターンのＡＮＤを出力し、地紋元画像が０のところには、背景地紋パターンとマスク地紋パターンのＡＮＤを出力したものを合成出力とする。
出力結果として得られる地紋スタンプ画像をメモリに書き込み（ステップＳ１０７）、地紋生成器１００における動作フローを終了する。
【００２６】
地紋生成器１００は、上記の動作により地紋スタンプ画像を生成する。生成された地紋スタンプ画像は、オリジナル画像と同じ解像度の画像データとして、出力される。ここに、通常モードでは、画像全体が生成されているので、直ちに合成器２００（図１、参照）に出力され、オリジナル画像と合成される。また、一部変更モードでは、先に全体画像として生成し、保存されている画像の一部を一部変更モードで生成した画像部分で置き換える（例えば、上書をする）操作を行った後、合成器２００（図１、参照）に出力され、オリジナル画像と合成される。
合成器２００では、地紋スタンプ画像は、オリジナル画像と合成され、地紋を付加した出力画像データとなり、画像データ出力器３００を通して、利用装置に出力される。
【００２７】
ここで、上記した地紋生成器１００の動作フローにおける各地紋生成器１０２〜１０５に共通の地紋生成動作（図５のステップＳ１０４）を図６〜８に示すフローを参照して、詳細に説明する。
この地紋生成動作として、地紋生成動作（ I ）〜（ III ）の３実施形態を例示する。いずれも、動作モードを通常モードと一部変更モードの間で切り替え、地紋合成器１０６に出力する地紋画像データを生成する。
【００２８】
地紋生成動作（ I ）と（ II ）の相違は、一部変更モードを検知する方法が異なり、前者は、一部変更モードの指示を直接検知する方法で、後者は一部変更モードの動作に要するパターン位置情報の存在により検知する方法を採用する。
また、地紋生成動作（ III ）は、一部変更モードの動作に要するパターン位置情報をテーブル参照方式で取得する方法を採用する。
以下、地紋生成動作（ I ）〜（ III ）を順に、対応して示す図６〜８のフロー図に基づいて説明する。
【００２９】
「地紋生成動作（ I ）」
この実施形態は、一部変更モードの指示を直接検知し、動作モードの切り替えをする。一部変更モードの指示は、主制御部（図示せず）が、この動作モードであることを認識し、認識結果に従ったフラグ操作を行う、という方法を採ることができる。即ち、動作モードを指示するユーザ操作、或いは、指示されたパターン生成条件におけるパターン位置情報（地紋パターンにおける地紋生成開始位置）の設定等の存在を検出し、この検出結果をもとに設定された動作モードを認識する手段を備え、この手段の認識結果に従い、立てられるフラグにより動作モードを検知することができる。
【００３０】
図６に示すフローを参照して、各地紋生成器１０２〜１０５における地紋生成動作（ I ）を説明する。
地紋生成に必要な生成条件の設定（図５のステップＳ１０２、参照）及び前景地紋、背景地紋、マスク地紋及び不正コピーガード地紋の各地紋パターンのうち、要求された地紋パターンの設定（図５のステップＳ１０３、参照）が、前段で行われているので、この設定に従って、この地紋生成動作フローが開始される。
【００３１】
フローが開始されると、まず、主制御部（図示せず）が認識している動作モードをフラグによって検知する。ここでは、一部変更モードである場合に立てられるフラグを検知することにより、一部変更か、通常かの動作モードを判断する（ステップＳ２０１）。
この判断結果により、通常動作モードと一部変更モードに分岐し、それぞれのフローに従い動作を進める。
【００３２】
通常モードであれば（ステップＳ２０１-NO）、先ず、地紋パターンを格納しているメモリからパターンを読み込む（ステップＳ２０２）。ここに、地紋パターンは、メモリの所定の記憶場所に、パターンの最小単位を画素（ドット）の並び、即ちＸ，Ｙの２次元の並びに従って格納されている。
通常モードの場合、記憶場所の先頭から、Ｘ，Ｙの２次元の並びに従って１ライン分のパターンが順に読み込まれる。なお、後記する一部変更モードでは、地紋元画像変更位置に応じて、読み込むパターンの先頭画素の位置（読み込み開始位置）が変わるので、地紋元画像変更位置に対応する地紋パターン位置、つまりパターンの記憶場所を示す位置情報（ xi ， yi ）を保持しておき、一部変更モードの初期設定において、指示する。
次いで、このパターンデータに対し、解像度が地紋元画像と同じ解像度になっていない場合があるマスク地紋、不正コピーガード地紋の各地紋パターンのようなデータに対して、変倍処理を施し、同じ解像度のデータにする（ステップＳ２０３）。
【００３３】
処理対象の画像は、主走査（ X ）方向のラインを単位として画素（ドット）を生成し、この処理を副走査（ Y ）方向にラインを切替えながら行うことによって、１ページ分の画像データとして処理される。また、地紋生成領域は、走査開始位置（ X1 ， Y1 ）と走査終了位置（ X2 ， Y2 ）で定義される（図２、参照）。
従って、地紋パターンは、上記走査方式に従い、各ラインの画素値（0,1）を画素単位で決めていく作成方法により生成するので、１ページ分の処理対象画像に対する走査が開始された後、走査位置（ X , Y ）が処理すべき領域であるかを設定された地紋生成領域により判断し、地紋生成領域である場合に、次の処理ステップへ進む（ステップＳ２０４-YES）。
【００３４】
地紋生成領域であれば、パターンを作成すべき走査位置であるから、地紋パターンを作成し、出力する（ステップＳ２０７）。
ただ、このフローでは、一部変更モードの地紋生成に必要なデータを保持するために次の動作を行う。即ち、走査位置（ X , Y ）が地紋元画像変更位置として設定された走査位置（ X3 ， Y3 ）であるか、否かをチェックする（ステップＳ２０５）。
ここで、走査位置（ X , Y ）が地紋元画像変更位置（ X3 ， Y3 ）であれば、この走査位置の地紋パターン（画素の並び）を一部変更モードで生成する地紋パターンに引き継ぐために、最小単位を画素のＸ，Ｙの並びで格納されている地紋パターンの記憶場所における位置情報（ xi ， yi ）を保持する（ステップＳ２０６）。
【００３５】
保持したパターン位置情報（ xi ， yi ）は、上記のパターン読み込みで述べたように、一部変更モードの初期値に用いるようにする。このようにすることで、今、通常モードで生成している地紋パターンを一部変更モードにおいて生成する変更部分のパターンに引き継ぎ、変更によりパターンずれが起きないようにすることができる。
なお、上記したように、通常モードの動作フローにおいて、パターン位置情報（ xi ， yi ）を保持するＳ２０６のステップは、通常モードにリンクして、一部変更モードの動作を行うことが予定されている場合の動作である。
従って、通常モードを単独で行う場合には、ステップＳ２０６をスルーする。また、走査位置（ X , Y ）が地紋元画像変更位置として設定された走査位置（ X3 ， Y3 ）ではない場合にも、ステップＳ２０６をスルーする。
【００３６】
ステップＳ２０７における地紋パターンを作成し、出力するステップでは、走査位置（ X , Y ）が地紋生成領域に達した場合に、その位置の地紋パターンのデータとして、先に読み込まれた１ライン分の地紋パターンの先頭画素を当てる。また、続いて行われる下記のフローに示すように、走査位置（ X ）を１ずつ進めながら、パターンデータを１画素ずつ生成するループ処理を行うので、走査位置（ X ）の歩進に連れて、１ライン分の地紋パターンにおける画素の並びを順に当て、地紋パターンを作成していく。
ただ、出力の仕方は、地紋元画像変倍器１０１からの地紋元画像データが、例えば、６４ bit の単位で地紋合成器１０６に入力されるので、１画素ずつ生成する地紋パターンデータを同じ６４ bit 単位つなげて出力する。
【００３７】
次いで、走査位置（ X , Y ）が走査終了位置（ X2 ， Y2 ）に達したか、否かをチェックし（ステップＳ２０８）、終了位置に達していれば、このフローを終了する。
他方、終了位置に達していなければ、走査位置（ X ）がＥＯＬ（End Of Line）に達したか、否かをチェックし（ステップＳ２０９）、達していなければ、X カウンタ値をアップし（ステップＳ２１０）、走査位置（ X ）を１進めた後、地紋元画像変更位置のチェックを行うステップＳ２０５以降の手順を繰り返す。
【００３８】
また、ＥＯＬに達していれば（ステップＳ２０９-YES）、Y カウンタ値をアップし、つまりラインを切り替え、かつ X カウンタ値を０とすることにより、ラインの先頭にセットし、地紋パターンを格納している所定の記憶場所から、このラインのパターンを読み込むステップＳ２０２以降の手順を繰返す。
以上のフローにより通常モードの動作が行われる。
【００３９】
ステップＳ２０１で一部変更モードであれば（ステップＳ２０１-YES）、このモードのフローに従う動作を行う。
一部変更モードでは、地紋元画像変更領域として既定された領域（図３、参照）の地紋パターンデータを作成するだけでよい。つまり、このデータを作成するためには、最小単位を画素のＸ，Ｙの並びで格納されている地紋パターンの記憶場所からパターンを読み込むための設定（下記に詳述）と、地紋パターンデータの作成範囲を指示する値が設定されればよい。
【００４０】
そこで、このフローでは、まず、初期設定を行う（ステップＳ２２１）。
この初期設定は、地紋元画像変更領域の走査位置を指示するX カウンタ及び Y カウンタの設定と、上記した地紋パターンの記憶場所からパターンを読み込むための先頭画素の位置（読み込み開始位置）の設定を行う。
前者は、例えば、地紋元画像変更領域の設定（図３、参照）に従い、走査開始位置（ X3 ， Y3 ）と走査終了位置（ X4 ， Y4 ）をそれぞれ設定値とすることができる。
【００４１】
後者は、この一部変更モードの動作を上記した通常モードの動作とリンクさせ、例えば、２ページ目を上記した通常モードで行う１ページ目の動作にリンクさせて行う場合、１ページ目を処理するときに、パターン位置情報（ xi ， yi ）を保持するステップＳ２０６を通す。このステップを経て、保持された当該パターン位置情報（ xi ， yi ）が、一部変更モードを適用する２ページ目に対し、このステップで行う地紋作成に用いる地紋パターンを指定するために、設定される。
なお、一部変更モードの動作を、通常モードの動作とリンクさせずに、単独で行わせる場合には、別途、指示された設定を行うことによって、実施できる。
【００４２】
次に、最小単位を画素のＸ，Ｙの並びで格納されている地紋パターンの記憶場所からパターンを読み込む（ステップＳ２２２）。この読み込みを行う際、初期設定においてパターン位置情報（ xi ， yi ）として設定された位置を先頭にして、先頭位置から、Ｘ，Ｙの２次元の並びに従って１ライン分のパターンを順に読み込む。
次いで、このパターンデータに対し、解像度が地紋元画像と同じ解像度になっていない場合があるマスク地紋、不正コピーガード地紋の各地紋パターンのようなデータに対して、変倍処理を施し、同じ解像度のデータにする（ステップＳ２２３）。
【００４３】
処理対象の画像は、主走査（ X ）方向のラインを単位として画素を生成し、この処理を副走査（ Y ）方向にラインを切替えながら、走査開始位置（ X3 ， Y3 ）と走査終了位置（ X4 ， Y4 ）で設定された地紋元画像変更領域の地紋パターンデータとして処理し、出力する（ステップＳ２２４）。
なお、この（ X , Y ）走査方式に従って行う地紋パターンデータの作成手順は、上記通常モードにおけるのと同様である。つまり、通常モードにおけるステップＳ２０７〜Ｓ２１１の動作と、一部変更モードにおけるステップＳ２２４〜Ｓ２２８の動作は、基本的に変わりがない。従って、上記の説明を参照することとして、ここでは、記載を省略する。
【００４４】
ステップＳ２２４における地紋パターンを作成し、出力するステップでは、走査位置（ X , Y ）が地紋元画像変更領域の走査開始位置（ X3 ， Y3 ）にあれば、その位置の地紋パターンのデータとして、先に読み込まれた１ライン分の地紋パターンの先頭画素を当てる。一部変更モードの動作では、この先頭画素は、初期設定でパターン位置情報（ xi ， yi ）として設定された画素の並びに従う。よって、通常モードで生成している地紋パターンを一部変更モードにおいて生成する変更部分のパターンに引き継ぎ、変更によりパターンずれが起きることはなく、画質の低下が生じない。
【００４５】
また、引き続き、走査位置（ X ）を１ずつ進めながら、地紋パターンデータを１画素ずつ生成するループ処理を行うので、走査位置（ X ）の歩進に連れて、読み込んだ１ライン分の地紋パターンにおける画素の並びを順に当て、地紋パターンを作成していく。
ただ、出力の仕方は、地紋元画像変倍器１０１からの地紋元画像データが、例えば、６４ bit の単位で地紋合成器１０６に入力されるので、１画素ずつ生成する地紋パターンデータを同じ６４ bit 単位つなげて出力する。
以上のフローにより一部変更モードの動作が行われる。
【００４６】
「地紋生成動作（ II ）」
この実施形態は、通常モードと一部変更モードの間で、地紋画像データを生成する動作を切り替える点で、上記地紋生成動作（ I ）と同じである。
ただ、切り替えを上記地紋生成動作（ I ）で行った、一部変更モードを認識し、認識結果をフラグで示す方法によらず、各地紋生成器１０２〜１０５に対して発行された地紋生成の処理要求に設定された条件に示された情報をもとに、地紋生成動作フローの開始時に動作モードを判断する。
【００４７】
図７は、地紋生成動作（ II ）のフローを示す。図７のフローは、図６に示した地紋生成動作（ I ）のフローと対比すると明らかであるが、フローの開始時に、一部変更か、通常かの動作モードを判断し、動作を分岐するステップＳ３０１が異なるだけで、これ以外は同じ動作手順を有する。つまり、初段で動作モードが、通常か、一部変更かを判断し、その結果に従って、通常モードでは、地紋生成領域全部を対象に地紋生成を行い（図２、参照），また、一部変更モードでは、地紋元画像変更領域を対象に変更部分だけの地紋生成を行う（図３、参照）それぞれのモードの動作手順は、同じである。
従って、それぞれのモードに分岐した後の同一の動作手順については、図６に示した地紋生成動作（ I ）の上記した説明を参照することとして、ここでは、記載を省略する。
【００４８】
ステップＳ３０１における動作モードの判断は、一部変更モードの動作に必要なパターン位置情報が存在するか、否かに拠る。
このパターン位置情報は、通常モードの動作において、走査位置（ X , Y ）が地紋元画像変更位置（ X3 ， Y3 ）に達したときに（ステップＳ３０５-YES）、ステップＳ３０６で得たパターン位置情報である。つまり、この走査位置における地紋パターン（画素の並び）を格納した記憶場所の位置情報（ xi ， yi ）である。この位置情報（ xi ， yi ）を保持しておき、一部変更モードにおけるパターン読み込みの開始位置の指定に用いることで、通常モードで生成している地紋パターンを一部変更モードにおいて生成する変更部分のパターンに引き継ぎ、変更によりパターンずれが起きないようにすることができる。
【００４９】
よって、このパターン位置情報が保持されているか、いないかによって、動作モードを判断することができ、モード切り替えを行うことができる。
このパターン位置情報が存在するか、否かに拠り動作モードを判断する方法は、各地紋生成器１０２〜１０５側で、受け取った地紋生成の処理要求に指示された条件を検知することが可能で、地紋生成動作（ I ）のフラグ方式に比べ、処理を簡略化できる。
【００５０】
「地紋生成動作（ III ）」
この実施形態は、通常モードと一部変更モードの間で、地紋画像データを生成する動作を切り替える点で、上記地紋生成動作（ I ）と同じである。
ただ、一部変更モードに切り替えた後、始めに行う初期設定におけるパターン位置情報の設定を地紋生成動作（ III ）では、テーブル参照方式とし、上記地紋生成動作（ I ）における、通常モードの動作で取得し、保持したパターン位置情報を引き継ぐ方式に代えるものである。
【００５１】
図８に示すフローを参照して、各地紋生成器１０２〜１０５におけるこの実施形態の地紋生成動作（ III ）を説明する。
地紋生成に必要な生成条件の設定（図５のステップＳ１０２、参照）及び前景地紋、背景地紋、マスク地紋及び不正コピーガード地紋の各地紋パターンのうち、要求された地紋パターンの設定（図５のステップＳ１０３、参照）が、前段で行われているので、この設定に従って、この地紋生成動作フローが開始される。
【００５２】
フローが開始されると、まず、主制御部（図示せず）が認識している動作モードをフラグによって検知する。ここでは、一部変更モードである場合に立てられるフラグを検知することにより、一部変更か、通常かの動作モードを判断する（ステップＳ４０１）。
この判断結果により、通常動作モードと一部変更モードに分岐し、それぞれのフローに従い動作を進める。
【００５３】
通常モードであれば（ステップＳ４０１-NO）、先ず、地紋パターンを格納しているメモリからパターンを読み込む（ステップＳ４０２）。ここに、地紋パターンは、メモリの所定の記憶場所に、パターンの最小単位を画素（ドット）の並び、即ちＸ，Ｙの２次元の並びに従って格納されている。
通常モードの場合、記憶場所の先頭から、Ｘ，Ｙの２次元の並びに従って１ライン分のパターンが順に読み込まれる。なお、後記する一部変更モードでは、地紋元画像変更位置に応じて、読み込むパターンの先頭画素の位置（読み込み開始位置）が変わるので、地紋元画像変更位置に対応する地紋パターン位置、つまりパターンの記憶場所を示す位置情報（ xi ， yi ）を保持しておき、一部変更モードの初期設定において、指定する。
次いで、このパターンデータに対し、解像度が地紋元画像と同じ解像度になっていない場合があるマスク地紋、不正コピーガード地紋の各地紋パターンのようなデータに対して、変倍処理を施し、同じ解像度のデータにする（ステップＳ４０３）。
【００５４】
処理対象の画像は、主走査（ X ）方向のラインを単位として画素（ドット）を生成し、この処理を副走査（ Y ）方向にラインを切替えながら行うことによって、１ページ分の画像データとして処理される。また、地紋生成領域は、走査開始位置（ X1 ， Y1 ）と走査終了位置（ X2 ， Y2 ）で定義される（図２、参照）。
従って、地紋パターンは、上記走査方式に従い、各ラインの画素値（0,1）を画素単位で決めていく作成方法により生成するので、１ページ分の処理対象画像に対する走査が開始された後、走査位置（ X , Y ）が処理すべき領域であるかを設定された地紋生成領域により判断し、地紋生成領域である場合に、次の処理ステップへ進む（ステップＳ４０４-YES）。
【００５５】
地紋生成領域であれば、パターンを作成すべき走査位置であるから、地紋パターンを作成し、出力する（ステップＳ４０５）。
このステップでは、走査位置（ X , Y ）が地紋生成領域に達した場合に、その位置の地紋パターンのデータとして、先に読み込まれた１ライン分の地紋パターンの先頭画素を当てる。また、続いて行われる下記のフローに示すように、走査位置（ X ）を１ずつ進めながら、パターンデータを１画素ずつ生成するループ処理を行うので、走査位置（ X ）の歩進に連れて、１ライン分の地紋パターンにおける画素の並びを順に当て、地紋パターンを作成していく。
ただ、出力の仕方は、地紋元画像変倍器１０１からの地紋元画像データが、例えば、６４ bit の単位で地紋合成器１０６に入力されるので、１画素ずつ生成する地紋パターンデータを同じ６４ bit 単位つなげて出力する。
【００５６】
次いで、走査位置（ X , Y ）が走査終了位置（ X2 ， Y2 ）に達したか、否かをチェックし（ステップＳ４０６）、終了位置に達していれば、このフローを終了する。
他方、終了位置に達していなければ、走査位置（ X ）がＥＯＬ（End Of Line）に達したか、否かをチェックし（ステップＳ４０９）、達していなければ、X カウンタ値をアップし（ステップＳ４１０）、走査位置（ X ）を１進めた後、次の画素の地紋パターンを作成し、出力するステップＳ４０５以降の手順を繰り返す。
【００５７】
また、ＥＯＬに達していれば（ステップＳ４０９-YES）、Y カウンタ値をアップし、つまりラインを切り替え、かつ X カウンタ値を０とすることにより、ラインの先頭にセットし、地紋パターンを格納している所定の記憶場所から、このラインのパターンを読み込むステップＳ４０２以降の手順を繰返す。
以上のフローにより通常モードの動作が行われる。
【００５８】
ステップＳ４０１で一部変更モードと判断されれば（ステップＳ４０１-YES）、このモードのフローに従う動作を行う。
一部変更モードでは、地紋元画像変更領域として既定された領域（図３、参照）の地紋パターンデータを作成するだけでよい。つまり、このデータを作成するためには、地紋パターンデータの作成範囲を指示する領域情報と、最小単位を画素のＸ，Ｙの並びで格納されている地紋パターンの記憶場所からパターンを読み込むための読み込み開始位置が設定されればよい。
【００５９】
そこで、このフローでは、まず、初期設定を行う（ステップＳ４２１）。
この初期設定は、地紋元画像変更領域の走査位置を指示するX カウンタ及び Y カウンタの設定と、上記した地紋パターンの記憶場所からパターンを読み込むための先頭画素の位置（読み込み開始位置）の設定を行う。
前者は、地紋元画像変更領域の設定（図３、参照）に従い、走査開始位置（ X3 ， Y3 ）と走査終了位置（ X4 ， Y4 ）をそれぞれ設定値とすることができる。
【００６０】
後者は、地紋元画像変更領域を定義する走査開始位置（ X3 ， Y3 ）に対応する地紋パターンの読み込み開始位置との関係を定めたテーブルを予め作成しておき、このテーブルを参照することにより得ることができる。
走査位置（ X ， Y ）と画素のＸ，Ｙの並びで表される地紋パターンの関係は、決められており、最小単位を画素のＸ，Ｙの並びで格納されている地紋パターンの記憶場所も決まっている。従って、地紋元画像変更領域の走査開始位置（ X3 ， Y3 ）に対応する、地紋パターンの画素位置、つまり地紋パターンの読み込み開始位置は、予めこの関係を定めたテーブルで用意できる。
よって、この初期設定ステップでは、地紋生成の処理要求に指示された走査開始位置（ X3 ， Y3 ）により上記関係テーブルを参照し、対応する地紋パターンの読み込み開始位置（ xi ， yi ）を設定することができる。
【００６１】
次に、最小単位を画素のＸ，Ｙの並びで格納されている地紋パターンの記憶場所からパターンを読み込む（ステップＳ４２２）。この読み込みを行う際、初期設定で地紋パターンの読み込み開始位置（ xi ， yi ）として設定された位置を先頭にして、先頭位置から、Ｘ，Ｙの２次元の並びに従って１ライン分のパターンを順に読み込む。
次いで、このパターンデータに対し、解像度が地紋元画像と同じ解像度になっていない場合があるマスク地紋、不正コピーガード地紋の各地紋パターンのようなデータに対して、変倍処理を施し、同じ解像度のデータにする（ステップＳ４２３）。
【００６２】
処理対象の画像は、主走査（ X ）方向のラインを単位として画素を生成し、この処理を副走査（ Y ）方向にラインを切替えながら、走査開始位置（ X3 ， Y3 ）と走査終了位置（ X4 ， Y4 ）で設定された地紋元画像変更領域の地紋パターンデータとして処理し、出力する（ステップＳ４２４）。
なお、この（ X , Y ）走査方式に従って行う、地紋パターンデータの作成手順は、上記通常モードにおけるのと同様である。つまり、通常モードにおけるステップＳ４０５〜Ｓ４１１の動作と、一部変更モードにおけるステップＳ４２４〜Ｓ４２８の動作は、基本的に変わりがない。従って、上記の説明を参照することとして、ここでは、記載を省略する。
【００６３】
ステップＳ４２４における地紋パターンを作成し、出力するステップでは、走査位置（ X , Y ）が地紋元画像変更領域の走査開始位置（ X3 ， Y3 ）にあれば、その位置の地紋パターンのデータとして、先に読み込まれた１ライン分の地紋パターンの先頭画素を当てる。一部変更モードの動作では、この先頭画素は、初期設定で地紋パターンの読み込み開始位置（ xi ， yi ）として設定された画素の並びに従う。よって、通常モードで生成している地紋パターンを一部変更モードにおいて生成する変更部分のパターンに引き継ぎ、変更によりパターンずれが起きることはなく、画質の低下が生じない。
【００６４】
また、引き続き、走査位置（ X ）を１ずつ進めながら、地紋パターンデータを１画素ずつ生成するループ処理を行うので、走査位置（ X ）の歩進に連れて、読み込んだ１ライン分の地紋パターンにおける画素の並びを順に当て、地紋パターンを作成していく。
ただ、出力の仕方は、地紋元画像変倍器１０１からの地紋元画像データが、例えば、６４ bitの単位で地紋合成器１０６に入力されるので、１画素ずつ生成する地紋パターンデータを同じ６４ bit 単位つなげて出力する。
以上のフローにより一部変更モードの動作が行われる。
【００６５】
ところで、上記の各地紋生成器１０２〜１０５の地紋生成動作（図６〜８のフロー、参照）では、地紋生成に用いる地紋パターンとして、最小単位パターンを持つ例を示した。
この最小単位パターンを持つ方式では、パターンを格納するためのメモリ容量が少なくてすむ利点がある。ただ、各地紋生成器１０２〜１０５側の処理では、地紋生成プロセスでメモリに格納されたこの地紋パターンを読み込む際に、指定する記憶場所が、それぞれ長さの異なるパターンを最小単位で持つために、ばらばらになってしまう。このため、処理が煩雑になり、処理負担が大きくなる。
【００６６】
そこで、最小単位で持っていた各地紋パターンに代え、各パターン長の最小公倍数の長さでパターンを持つようにする。
このようにすることで、地紋生成プロセスでメモリに格納された各地紋パターンを読み込む際に、異なる種類の地紋でも、同じ記憶場所を指定することができ、処理手順を共通にすることが可能になり、処理の煩雑さを回避し、処理負担を軽減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６７】
【図１】本発明の実施形態に係る画像処理装置の概略構成を示す。
【図２】地紋生成領域全部を対象にする通常動作によって生成される地紋スタンプ画像の１例を示す。
【図３】地紋元画像変更領域を対象にする一部変更動作によって生成される地紋スタンプ画像の１例を示す。
【図４】地紋生成器の内部構成を示す。
【図５】図１の地紋生成器の動作フローを示す。
【図６】図４の各地紋生成器の地紋生成動作（ I ）のフローを示す。
【図７】図４の各地紋生成器の地紋生成動作（ II ）のフローを示す。
【図８】図４の各地紋生成器の地紋生成動作（ III ）のフローを示す。
【符号の説明】
【００６８】
１００・・地紋生成器、１０１・・地紋元画像変倍器、１０２・・前景地紋生成器、１０３・・背景地紋生成器、１０４・・マスク地紋生成器、１０５・・不正コピーガード地紋生成器、１０６・・地紋合成器、２００・・合成器、３００・・画像データ出力器。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
2008235972.tif 000007
【図６】
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【図７】
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【図８】
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