(57)【要約】 【課題】有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスを提供する。【解決手段】有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスの形成方法であって、少なくとも１つの薄膜トランジスタを有する第１基板を提供するステップ、前記第１基板上に発光ユニットを形成し、その上に凹溝を有する前記薄膜トランジスタに電気的接続されるステップ、前記発光ユニット上に第１保護層を形成するステップ、前記第１保護層上に前記凹溝に含まれる第２保護層を形成するステップ、及び前記第２保護層上に前記第１保護層に接触した第３保護層を形成するステップを含む方法。【選択図】図２Ｈ
2008177169.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスの形成方法であって、
少なくとも１つの薄膜トランジスタを有する第１基板を提供するステップ、
前記第１基板上に、その上に凹溝を有し前記薄膜トランジスタに電気的接続される発光ユニットを形成するステップ、
前記発光ユニット上に第１保護層を形成するステップ、
前記第１保護層上に前記凹溝に含まれる第２保護層を形成するステップ、及び
前記第２保護層上に前記第１保護層に接触した第３保護層を形成するステップを含む方法。
【請求項２】
前記第２保護層は、インクジェットプリント、またはスクリーン印刷で形成される請求項１に記載の方法。
【請求項３】
少なくとも１つの薄膜トランジスタを有する第１基板、
前記第１基板上に形成され、その上に凹溝が形成され前記薄膜トランジスタに電気的接続される発光ユニット、
前記発光ユニット上に形成された第１保護層、
前記第１保護層上に形成され、前記凹溝に含まれる第２保護層、及び
前記第２保護層上に形成され、前記第１保護層に接触した第３保護層を含む有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイス。
【請求項４】
前記第１保護層と前記第３保護層は、酸化ケイ素（ＳｉＯｘ）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、窒化アルミニウム（ＡＩＮ）、窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）、炭化ケイ素（ＳｉＣ）、または酸窒化ケイ素（ＳｉＯＮ）を含む請求項３に記載の有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイス。
【請求項５】
前記第２保護層は、エポキシ樹脂、またはアクリル含有ポリマーを含む請求項３に記載の有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイス。
【請求項６】
前記第３保護層に接触した第２保護層の上面の面積は、前記第１保護層に接触した前記第２保護層の底面の面積より大きい、または等しい請求項３に記載の有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイス。
【請求項７】
前記第１基板上に形成された画素領域を有する画素定義層、及び
前記画素定義層に設置された有機エレクトロルミネセンス層を更に含む請求項３に記載の有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイス。
【請求項８】
前記第２保護層の底面の幅は、前記有機エレクトロルミネセンス層の底面の幅より大きい、または等しい請求項７に記載の有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイス。
【請求項９】
前記画素領域の下の前記第１基板の一部に形成されたカラーフィルター層、及び
前記発光ユニットのその上に形成された前記第１基板の表面の上方に密封された第２基板を更に含む請求項７に記載の有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイス。
【請求項１０】
前記発光ユニットのその上に形成された前記第１基板の表面の上方に対応して密封された第２基板、
前記第２基板上に形成され、前記画素領域に対応するカラーフィルター層、及び
前記画素領域の下方の前記第１基板の一部に設置された反射層を更に含む請求項７に記載の有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネセンス（ＥＬ）ディスプレイデバイスに関し、特に、改善された防水機能を有する有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイス及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
例えば、冷陰極管（ＣＲＴ）ディスプレイまたは液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）などの従来のディスプレイに比べ、有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスは、改善された色、視野角、輝度と、減少されたサイズの利点を有する。よって、有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスへの需要は増加している。しかし、有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスは、湿気、例えば、電極と部品の酸化によって影響され易く、寿命を縮小する。よって、有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスの密封構造と製造が重要である。
【０００３】
図１は、有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスを表している。第１電極１２は、第１基板１０上に形成される。続いて、有機エレクトロルミネセンス層１４と第２電極１６が第１電極１２上に順次に形成され、続いて第２電極１６上に保護層１８を覆う。最後に、第２基板２０が第１基板１０上に設置される。前記デバイスの防水機能は、単一の保護層だけを用いているために劣る。また、保護層が増加された場合、デバイスの全体の厚さが増加される。
【０００４】
よって、厚さを増加することなく、改善された防水機能を有する有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスとその製造方法が必要である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスを提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスの実施例は、少なくとも１つの薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を有する第１基板、第１基板上に形成され、薄膜トランジスタに電気的接続される発光ユニット、発光ユニット上に形成された第１保護層、第１保護層上に形成された第２保護層、第２保護層上に形成され、第１保護層に接触した第３保護層を含む。有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスは、第１基板に密封され、第１基板と第２基板の間の発光ユニットを形成する第２基板を更に含む。
【０００７】
有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスは、第３保護層に接触した第２保護層の上面の面積が第１保護層に接触した第２保護層の底面の面積より大きい、または等しい領域を更に含む。
【０００８】
第３保護層に接触した第２保護層の上面の端部間の距離は、第１保護層に接触した第２保護層の下面の端部間の距離より大きい、または等しい距離を更に含む。
【０００９】
本発明は、有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスを形成する方法を更に提供する。前記方法は、少なくとも１つの薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を有する第１基板を提供するステップ、第１基板上に発光ユニットを形成し、薄膜トランジスタに電気的接続されるステップ、発光ユニット上に第１保護層を形成するステップ、第１保護層上に第２保護層を形成するステップと、第２保護層上に第３保護層を形成し、第１保護層に接触するステップを含む。前記方法は、インクジェットプリント、またはスクリーン印刷で形成された第２保護層を更に含む。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の実施例に基づいた有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスは、無機材料を含む第１保護層、有機材料を含む第２保護層と、無機材料を含む第３保護層が発光ユニット上に形成されることから、発光ユニットの中に湿気が侵入するのを効果的に防ぐ。また、無機材料を含む第１保護層と無機材料を含む第３保護層との間の応力がその間に形成された有機材料を含む第２保護層によって、軽減される。また、第２保護層は、発光ユニットの上方の凹溝にだけ形成されるため、製造コストが減少される。有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスの防水機能は、第２保護層が発光ユニットの上方の凹溝に形成されるため、有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスの全体の厚さを増加することなく改善される。よって、有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスの寿命が増加される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
本発明についての目的、特徴、長所が一層明確に理解されるよう、以下に実施形態を例示し、図面を参照にしながら、詳細に説明する。
【実施例】
【００１２】
図２Ａ〜２Ｈは、本発明の実施例１に基づいた有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスを形成する断面図を表している。この実施例では、カラーフィルターと薄膜トランジスタは、スイッチとして機能し、有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスの同じ基板上に設置されることができる。即ち、カラーフィルターは、薄膜トランジスタが形成されている基板上に形成されることができる。
【００１３】
図２Ａに示されるように、カラーフィルター２０４は、その上に形成された複数の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）２０２を有する第１基板２００上に形成される。第１基板２００は、例えばガラス、またはプラスチックのような透明材料である。可撓性透明基板は、第１基板２００にも用いることができる。
【００１４】
薄膜トランジスタ２０２は、スイッチとして機能し、ゲート電極２０２１、ソース電極２０２５と、ドレイン電極２０２３を含む。ゲート電極２０２１は、第１基板２００上に形成され、続いて、ソース電極２０２５とドレイン電極２０２３がゲート電極２０２１上に形成される。ゲート電極、ソース電極と、ドレイン電極は、従来の周知の方法によって形成されることができる。よって、簡易化のため、ここでは省略する。
【００１５】
図２Ａでは、誘電体層２０３が第１基板２００上に形成され、薄膜トランジスタ２０２を保護して隔絶するために覆う。１つの実施例では、誘電体層２０３、例えば、酸化ケイ素、窒化ケイ素、またはその他の適合する誘電材料が例えば、低温化学気相蒸着法（ＬＴＣＶＤ）、プラズマ気相成長法（ＰＥＣＶＤ）、または低圧化学気相蒸着（ＬＰＣＶＤ）などの化学気相蒸着（ＣＶＤ）によって形成されることができる。
【００１６】
図２Ａに示されるように、カラーフィルター２０４は、第１基板２００上の誘電体層２０３上に順次に形成される。１つの実施例では、カラーフィルター２０４は、薄膜トランジスタ２０２が形成されていない第１基板２００の一部に設置される。また、薄膜トランジスタ２０２は、例えば、ブラックマトリクス（ＢＭ）の遮蔽層となることができる。よって、遮蔽層は、有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスに形成される必要がなく、製造コストが減少されることができる。
【００１７】
いくつかの実施例では、赤色顔料、緑色顔料と、青色顔料を含むカラーフィルター２０４は、インクジェットプリント（ＩＪＰ）によって第１基板２００上に塗布される。続いてカラーフィルター２０４が焼き付けられる。カラーフィルター２０４は、有機カラーフォトレジスト、またはカラーフィルターとなる任意の適合する材料が好ましい。
【００１８】
図２Ｂは、オーバーコート層（ｏｖｅｒｃｏａｔ ｌａｙｅｒ）２０６が第１基板２００上に形成され、カラーフィルター２０４と薄膜トランジスタ２０２を覆い、第１基板２００の表面を平坦化する。オーバーコート層２０６は、スピンコーティングによって形成される感光材料が好ましい。オーバーコート層２０６は、続いて、フォトリソグラフィーとエッチングプロセスによってパターン化され、接触孔２０７を形成し、薄膜トランジスタ２０２のドレイン電極２０２３を露出する。
【００１９】
図２Ｂに示されるように、接触孔２０７が形成された後、第１電極２０８がオーバーコート層２０６上に形成され、接触孔２０７に延伸されて薄膜トランジスタ２０２のドレイン電極２０２３に電気的接続する。１つの実施例では、第１電極２０８は、例えばスパッタリングによって形成される、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）などの透明導電層が好ましい。続いて、フォトリソグラフィーとエッチングプロセスは、導電層をパターン化し、第１電極２０８を形成する。第１電極２０８は、第１基板２００上に形成されたカラーフィルター２０４上に対応して設置される。第１電極２０８は、続いて形成される発光ユニットの陽極となり、陽極電極と言われることができる。
【００２０】
図２Ｃでは、複数の開口２０９を有する画素定義層（ＰＤＬ）２１０は、第１基板２００上に形成され、画素領域２１２を形成する。第１電極２０８は、開口２０９によって露光される。１つの実施例では、例えば感光材料の画素定義層２１０は、第１基板２００上に形成され、例えば、スピンコーティングによって第１電極２０８を覆う。画素定義層２１０は、パターン化されて開口２０９を形成し、第１電極２０８を露出する。
【００２１】
注意するのは、画素領域２１２は、第１電極２０８とカラーフィルター２０４に対応して形成される。また、画素領域２１２の上面の端部間の距離は、画素領域２１２の底面の端部間の距離より大きい、または等しく、第１電極２０８と接触する。
【００２２】
図２Ｄでは、有機エレクトロルミネセンス層２１４が画素領域２１２内の第１電極２０８上に形成され、有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスの光源を提供する。１つの実施例では、有機エレクトロルミネセンス層２１４は、例えば、真空蒸着によって形成された青色発光層、赤色発光層と、緑色発光層の堆積層、または黄色発光材料（赤色発光材料）でドープされた青色発光層であることができ、有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスの白色光を提供する。もう１つの実施例では、有機エレクトロルミネセンス層２１４の形成前に、ホール注入層（図示していない）とホール輸送層（図示していない）が第１電極２０８上に順次に形成される。有機エレクトロルミネセンス層２１４が形成された後、電子輸送層（図示していない）と電子注入層（図示していない）が有機エレクトロルミネセンス層２１４上に形成される。
【００２３】
図２Ｅでは、第２電極２１６は、第１基板２００上に適合して形成され、画素定義層２１０と有機エレクトロルミネセンス層２１４を覆う。第２電極２１６、有機エレクトロルミネセンス層２１４と、画素領域２１２内の第１電極２０８は、発光ユニット２１７を構成し、第２電極２１６は、発光ユニット２１７の陰極電極となることができる。１つの実施例では、第２電極２１６は、例えば、アルミニウム、アルミニウム−リチウム合金、またはマグネシウム−銀合金であり、スパッタリング、電子ビーム蒸着、または熱蒸発によって形成される。
【００２４】
注意するのは、発光ユニット２１７は、第１電極２０８、有機エレクトロルミネセンス層２１４と、第２電極２１６を含み、カラーフィルター２０４上に設置される。電流が発光ユニット２１７に提供される間、第２電極２１６によって提供された電子は、有機エレクトロルミネセンス層２１４の第１電極２０８によって提供された孔と結合し、光を第１電極２０８、カラーフィルター２０４と、第１基板２００に透過して有機エレクトロルミネセンス素子の外側に放射する。
【００２５】
図２Ｆに示されるように、第１保護層２１８は、第２電極２１６上に適合して形成される。１つの実施例では、第１保護層２１８は、例えば真空蒸着、スパッタリング、またはプラズマ気相成長法（ＰＥＣＶＤ）によって形成されることができ、約０.１μｍ〜０.５μｍの間の厚さを有する。
【００２６】
好ましくは、第１保護層２１８は、例えば、金属酸化物、金属窒化物、金属炭化物、金属酸窒化物、またはその組み合わせの無機材料であることができる。金属酸化物は、酸化ケイ素（ＳｉＯｘ）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、またはその組み合わせが好ましい。金属酸窒化物は、窒化アルミニウム（ＡＩＮ）、窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）、またはその組み合わせが好ましい。金属炭化物は、炭化ケイ素（ＳｉＣ）であることができ、金属酸窒化物は、酸窒化ケイ素（ＳｉＯＮ）であることができる。
【００２７】
図２Ｆでは、続いて第２保護層２２０が発光ユニット２１７の上方の第１保護層２１８上に形成される。第２保護層２２０は、発光ユニット２１７の上方の凹溝２０９に設置される。いくつかの実施例では、第２保護層２２０は、インクジェットプリント（ＩＪＰ）によって第１保護層２１８上に塗布される。注意するのは、第２保護層２２０の上面と第１保護層２１８の上面は、第２保護層２２０が凹溝２０９に設置されることからほぼ平面である。
【００２８】
例えば、熱硬化、または光硬化の硬化ステップが続いて行われる。硬化ステップが第２保護層２２０の材料に基づいて選ばれる。例えば、仮に第２保護層２２０が熱硬化樹脂の場合、熱プロセスが第２保護層２２０を硬化させる。もう１つの実施例では、例えば、仮に第２保護層２２０が感光（光硬化性）材料の場合、紫外線、または可視光が第２保護層２２０を硬化させる。１つの実施例では、第２保護層２２０は、約１ｃＰ〜１０００ｃｐ間の粘度を有することができる。もう１つの実施例では、第２保護層２２０は、スクリーン印刷によって第１保護層２１８の上方の凹溝２１９に形成される。
【００２９】
第２保護層２２０は、好ましくは、光硬化材料、例えばエポキシ樹脂、またはアクリル含有ポリマーなどの熱硬化材料であることができる。注意するのは、第２保護層２２０の上面の端部間の距離は、第１保護層２１８に接触した第２保護層２２０の底面の端部間の距離より大きい、または等しい。第２保護層２２０の上面は、第２保護層２２０が発光ユニット２１７の上方の第１保護層２１８上に形成されることから、第１保護層２１８の上面とほぼ平面である。
【００３０】
図２Ｇでは、第３保護層２２２が第１基板２００上に形成され、第１保護層２１８の上面に接触する。いくつかの実施例では、第３保護層２２２は、真空蒸着、スパッタリング、またはプラズマ気相成長法（ＰＥＣＶＤ）によって第１保護層２１８と第２保護層２２０の表面上に形成されることができる。第３保護層２２２は、約０.１μｍ〜０.５μｍの間の厚さを有するのが好ましい。第３保護層２２２は、第１保護層２１８に類似した材料であることができるため、説明を省略する。
【００３１】
注意するのは、第３保護層２２２に接触した第２保護層２２０の上面の面積は、第１保護層２１８に接触した第２保護層２２０の底面の面積より大きい、または等しい。即ち、図２Ｇに示されるように、第３保護層２２２に接触した第２保護層２２０の上面の端部間の距離（図２Ｇに示す距離ｂ）は、第１保護層２１８に接触した第２保護層２２０の底面の端部間の距離（図２Ｇに示す距離ａ）より大きい、または等しい。また、第１保護層２１８に接触した第２保護層２２０の下端間の距離は、第１電極２０８に接触した有機エレクトロルミネセンス層２１４の下端間の距離（図２Ｇに示す距離ｃ）より大きい、または等しい。即ち、図２Ｇに示されるように、第２保護層２２０の底面の幅は、有機エレクトロルミネセンス層２１４の底面の幅より大きい、または等しい。
【００３２】
注意するのは、実施例１の第１保護層２１８、第２保護層２２０と、第３保護層２２２は、第２電極２１６と同じように透明材料を含むことが好ましい。
【００３３】
図２Ｈでは、第２基板２２８は、真空、または窒素、またはアルゴン含有環境下で密封剤２２６によって第１基板２００に対応して順次に設置される。また、緩衝層２２４がその間に形成されるため、本発明の実施例１の有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスの形成を完成する。第２基板２２８は、第１基板２２０に類似した材料であることができるが、しかし、封止板となるプラスチック薄膜、例えば、防水層を有するプラスチック薄膜も用いられることができる。密封剤２２６は、エポキシを含む接着剤が好ましい。
【００３４】
電流が発光ユニットに提供された時、第２電極より提供された電子は、有機エレクトロルミネセンス層の第１電極によって提供された孔に結合され、図２Ｈの矢印に示されるように、光を第１電極、カラーフィルターと、第１基板に放射し、有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスより射出する。
【００３５】
本発明の実施例に基づいた有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスは、無機材料を含む第１保護層、有機材料を含む第２保護層と、無機材料を含む第３保護層が発光ユニット上に形成されることから、発光ユニットの中に湿気が侵入するのを効果的に防ぐ。また、無機材料を含む第１保護層と無機材料を含む第３保護層との間の有機材料を含む第２保護層の形成は、第１と第３層間の応力を軽減する。第２保護層は、発光ユニットの上方の凹溝にだけ形成されるため、製造コストが減少される。有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスの防水機能は、第２保護層が発光ユニットの上方の凹溝に形成されるため、有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスの全体の厚さを増加することなく改善される。よって、有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスの寿命が増加される。
【００３６】
図３Ａ〜図３Ｆは、本発明の実施例２に基づいた有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスを形成する断面図を表している。実施例２では、カラーフィルターと薄膜トランジスタは、異なる基板上に設置される。
【００３７】
図３Ａでは、反射層３０６が複数の薄膜トランジスタ３０２を有する第１基板３００上に形成される。反射層３０６は、薄膜トランジスタ３０２が形成されていない第１基板の一部の上方に位置される。誘電体層３０３とオーバーコート層３０４は、第１基板３００上に順次に形成され、反射層３０６が形成される前に薄膜トランジスタ３０２を覆う。第１基板３００の上方の薄膜トランジスタ３０２、誘電体層３０３と、オーバーコート層３０４の形成と材料は、実施例１に類似することができる。いくつかの実施例では、例えばスパッタリング、または蒸着によって、金属層、例えばアルミニウムが第１基板３００の上方のオーバーコート層３０４上に形成される。続いて金属層がパターン化され、反射層３０６を薄膜トランジスタ３０２が形成されていない第１基板３００の一部に形成する。
【００３８】
図３Ａでは、第１電極３０８が反射層３０６上に形成され、接触孔３０７を通過することによって薄膜トランジスタ３０２のドレイン３０２１に電気的接続される。いくつかの実施例では、反射層３０６とオーバーコート層３０４の一部がパターン化されたフォトレジスト（図示していない）によってマスクされる。続いて、オーバーコート層３０４と誘電体層３０３の一部が除去され、薄膜トランジスタ３０２のドレイン３０２１を露出する。例えば、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）の透明誘電体層は、オーバーコート層３０４上に形成され、パターン化されたフォトレジストを除去した後、反射層３０６を覆う。次に、透明導電層がパターン化され、第１電極３０８を反射層３０６上に形成し、接触孔３０７を通過することによって薄膜トランジスタ３０２のドレイン３０２１に電気的接続する。第１電極３０８の形成と材料は、実施例１と類似していることが好ましい。第１電極は、続いて形成される発光ユニットの陽極として機能することができる。
【００３９】
図３Ｂでは、複数の開口３０９を有する画素定義層３１０は、第１基板３００上に形成され、画素領域３１２を形成する。反射層３０６の上方の第１電極３０８は、開口３０９によって露出される。好ましくは、画素領域２１２の上面の端部間の距離は、画素領域２１２の下面の端部間の距離より大きい、または等しい。画素定義層３１０の形成と材料は、実施例１と同じであることができるため、説明を省略する。
【００４０】
図３Ｃでは、有機エレクトロルミネセンス層３１４が画素領域３１２に形成され、続いて有機エレクトロルミネセンス層３１４と画素定義層３１０上の第２電極３１６を覆う。画素領域３１２の第１電極３０８、有機エレクトロルミネセンス層３１４と、第２電極３１６は、発光ユニット３１７を構成する。第１と第２電極３０８と３１６は、それぞれ陽極と陰極となる。有機エレクトロルミネセンス層３１４と第２電極３１６の形成と材料は、実施例１と同じであることができる。
【００４１】
図３Ｄに示されるように、第１保護層３１８が第２電極３１６上に形成され、続いて、発光ユニット３１７の上方に第１保護層３１８上に第２保護層３２０が形成される。好ましくは、第１保護層３１８は、真空蒸着、スパッタリング、またはプラズマ気相成長法（ＰＥＣＶＤ）によって、第２電極３１６上に形成された実施例１に類似した、例えば無機材料であることができる。第１保護層は、約０.１μｍ〜０.５μｍの間の厚さを有することが好ましい。  
【００４２】
いくつかの実施例では、例えば有機材料の第２保護層３２０がインクジェットプリント（ＩＪＰ）によって発光ユニット３１７の上方の第１保護層３１８上に塗布される。続いて、例えば熱硬化、または光硬化の硬化ステップが行われ、発光ユニット３１７の上方の凹溝３１９の保護層３２０を硬化させる。硬化ステップは、第２保護層３２０の材料に基づいて選択される。例えば、第２保護層３２０は、第２保護層３２０が熱硬化性樹脂の場合、熱処理によって硬化される。もう１つの実施例では、第２保護層３２０は、第２保護層２２０が感光材料の場合、紫外線、または可視光によって硬化される。１つの実施例では、第２保護層２２０は、約１ｃＰ〜１０００ｃｐ間の粘度を有することができる。もう１つの実施例では、第２保護層３２０は、スクリーン印刷によって発光ユニット３１７の上方の保護層３１０の凹溝３１９内に形成されることができる。注意するのは、第２保護層３２０の上面と第１保護層３１８の上面は、第２保護層２２０が凹溝３１９に設置されることからほぼ平面である。第２保護層２２０は、実施例１に類似した材料を含むことができるため、説明を省略する。
【００４３】
図３Ｅでは、例えば無機材料の第３保護層３２２は、第１基板３００上に形成され、第１保護層３１８と第２保護層３２０の表面に接触する。第３保護層３２２は、約０.１μｍ〜０.５μｍの間の厚さを有することが好ましい。第３保護層３２２の形成と材料は、実施例１と同じであることができる。
【００４４】
注意するのは、第３保護層３２２に接触した第２保護層３２０の上面の面積は、第１保護層３１８に接触した第２保護層３２０の下面の面積より大きい、または等しい。即ち、図３Ｅに示されるように、第３保護層３２２に接触した第２保護層３２０の上面の端部間の距離（図３Ｅに示す距離ｂ）は、第１保護層３１８に接触した第２保護層３２０の底面の端部間の距離（図３Ｅに示す距離ａ）より大きい、または等しい。また、第１保護層３１８に接触した第２保護層３２０の下端間の距離は、第１電極３０８に接触した有機エレクトロルミネセンス層３１４の下端間の距離（図３Ｅに示す距離ｃ）より大きい、または等しい。即ち、第２保護層３２０の底面の幅（図３Ｅに示す距離ａ）は、有機エレクトロルミネセンス層３１４の底面の幅（図３Ｅに示す距離ｃ）より大きい、または等しい。
【００４５】
図３Ｆでは、その上にカラーフィルター３３０を有する第２基板３２８が真空、または窒素、またはアルゴン含有環境下で密封剤３２６によって第１基板３００に対応して設置され、緩衝層３２４がその間に形成され、本発明の実施例２に基づいた有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスの形成を完成する。第２基板３２８は、第１基板３００に類似した材料、または防水層を有するプラスチック薄膜であることができる。密封剤３２６は、エポキシを含む接着剤が好ましい。カラーフィルター３３０は、画素領域の発光ユニットの上方に対応して設置され、例えばブラックマトリクスの遮蔽層３３２によって隔てられる。カラーフィルター３３０の形成、または材料は、実施例１に類似しているか、または当業者に知られた任意の形成、または材料であることができる。
【００４６】
電流が発光ユニットに提供された時、第２電極（陰極とも言われる）より提供された電子は、有機エレクトロルミネセンス層の第１電極（陽極とも言われる）によって提供された孔に結合され、図３Ｆの矢印に示されるように、光を第１電極、カラーフィルターと、第１基板に放射し、有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスより射出する。しかし、第１電極を通過した光の一部は、反射層によって反射され、上述の経路を経由して有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスより射出する。
【００４７】
本発明の実施例２に基づいた有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスは、発光ユニットの中に湿気が侵入することで電極が酸化するのを効果的に防ぐ。無機材料を含む第１保護層、有機材料を含む第２保護層と、無機材料を含む第３保護層が発光ユニット上に形成されるため、湿気の侵入を防ぐ。また、無機材料を含む第１保護層と無機材料を含む第３保護層との間の応力は、その間に有機材料を含む第２保護層を形成することで減少される。また、第２保護層は、発光ユニットの上方の凹溝にだけ形成されるため、製造コストが減少される。また、有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスの防水機能は、第２保護層が発光ユニットの上方の凹溝に形成されるため、有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスの厚さを増加することなく改善される。よって、有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスの寿命が増加される。
【００４８】
注意するのは、第１保護層、第２保護層と、第３保護層は、透明材料が好ましく、第２電極も透明材料であることができる。
【００４９】
図４は、本発明の実施例３に基づいた有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスの断面図を表している。実施例２と比較した違いは、カラーフィルターが第２保護層として機能することができる。よって、同じような素子と形成は、上述を参照することができる。
【００５０】
図４では、第１保護層４１８が第１電極４１０、有機エレクトロルミネセンス層４１４と、第２電極４１６が第１基板４００上に形成された後、第２電極４１６上に形成される。第１保護層４１８の形成と材料は、実施例２と類似することができる。有機カラーフォトレジストを含む第２保護層４２０は、発光ユニット４１７上に形成され、カラーフィルターとして機能する。第２保護層４２０は、上述のインクジェットプリント、またはスクリーン印刷で形成されることが好ましい。
【００５１】
続いて、第３保護層４２２が第２保護層４２０上に形成され、第２保護層４２０が形成された後、第１保護層４１８に接触する。最後に、図４に示されるように、第２基板４２８が密封剤４２６によって第１基板４００に密封され、    緩衝層４２４が第１基板４００と第２基板４２８の間に充填されて、本発明の実施例３に基づいた有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスを完成する。
【００５２】
注意するのは、カラーフィルターと遮蔽層が第２基板上に形成される必要がないため、製造のステップと用いられる材料のコストが減少される。無機材料を含む第１保護層間と無機材料を含む第３保護層の応力は、第２保護層が有機系フォトレジスト材料であることから減少される。注意するのは、実施例１の第２保護層は、保護層とカラーフィルターとして機能する有機カラーフォトレジストの材料であることができ、製造コストを減少するがここでは省略する。
【００５３】
以上、本発明の好適な実施例を例示したが、これは本発明を限定するものではなく、本発明の精神及び範囲を逸脱しない限りにおいては、当業者であれば行い得る少々の変更や修飾を付加することは可能である。従って、本発明が保護を請求する範囲は、特許請求の範囲を基準とする。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスの断面図を表している。
【図２Ａ】本発明の実施例１に基づいた有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスを形成する断面図を表している。
【図２Ｂ】本発明の実施例１に基づいた有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスを形成する断面図を表している。
【図２Ｃ】本発明の実施例１に基づいた有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスを形成する断面図を表している。
【図２Ｄ】本発明の実施例１に基づいた有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスを形成する断面図を表している。
【図２Ｅ】本発明の実施例１に基づいた有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスを形成する断面図を表している。
【図２Ｆ】本発明の実施例１に基づいた有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスを形成する断面図を表している。
【図２Ｇ】本発明の実施例１に基づいた有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスを形成する断面図を表している。
【図２Ｈ】本発明の実施例１に基づいた有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスを形成する断面図を表している。
【図３Ａ】本発明の実施例２に基づいた有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスを形成する断面図を表している。
【図３Ｂ】本発明の実施例２に基づいた有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスを形成する断面図を表している。
【図３Ｃ】本発明の実施例２に基づいた有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスを形成する断面図を表している。
【図３Ｄ】本発明の実施例２に基づいた有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスを形成する断面図を表している。
【図３Ｅ】本発明の実施例２に基づいた有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスを形成する断面図を表している。
【図３Ｆ】本発明の実施例２に基づいた有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスを形成する断面図を表している。
【図４】本発明の実施例３に基づいた有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイスの断面図を表している。
【符号の説明】
【００５５】
１０  第１基板
１２  第１電極
１４  有機エレクトロルミネセンス層
１６  第２電極
１８  保護層
２０  第２基板
２００  第１基板
２０２  薄膜トランジスタ
２０２１  ゲート電極
２０２３  ドレイン電極
２０２５  ソース電極
２０２５  ソース電極
２０３  誘電体層
２０４  カラーフィルター
２０６  オーバーコート層
２０７  接触孔
２０８  第１電極
２０９  開口
２１０  画素定義層
２１２  画素領域
２１４  有機エレクトロルミネセンス層
２１６  第２電極
２１７  発光ユニット
２１８  第１保護層
２１９  凹溝
２２０  第２保護層
２２２  第３保護層
２２４  緩衝層
２２６  密封剤
２２８  第２基板
３００  第１基板
３０２  薄膜トランジスタ
３０３  誘電体層
３０４  オーバーコート層
３０６  反射層
３０７  接触孔
３０８  第１電極
３０９  開口
３１０  画素定義層
３１２  画素領域
３１４  有機エレクトロルミネセンス層
３１６  第２電極
３１７  発光ユニット
３１８  第１保護層
３１９  凹溝
３２０  第２保護層
３２２  第３保護層
３２４  緩衝層
３２６  密封剤
３２８  第２基板
３３０  カラーフィルター
３３２  遮蔽層
４００  第１基板
４１０  第１電極
４１４  有機エレクトロルミネセンス層
４１６  第２電極
４１７  発光ユニット
４１８  第１保護層
４２０  第２保護層
４２２  第３保護層
４２４  緩衝層
４２８  第２基板
【図１】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図２Ｃ】
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【図２Ｄ】
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【図２Ｅ】
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【図２Ｆ】
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【図２Ｇ】
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【図２Ｈ】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図３Ｃ】
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【図３Ｄ】
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【図３Ｅ】
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【図３Ｆ】
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【図４】
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【外国語明細書】
2008177169000001.pdf