(57)【要約】【課題】反応収率が向上したマイクロアレイの製造方法を提供する。【解決手段】表面に酸分解性保護基により保護されており、オリゴマープローブ１６５とカップリングできる作用基１５０が固定されている基板１１０を提供し、基板１１０上に光酸発生剤を提供し、凸部及び凸部により囲まれた多数の凹部を備えるインプリント用テンプレートを凸部が基板１１０の上面に接したり近接するように配置する。基板１１０の上面、インプリント用テンプレートの凸部及び凹部により囲まれた多数の反応空間を定義し、反応空間を選択的に露光して光酸発生剤により露光された反応空間内で酸を生成し、生成された酸により反応空間内の作用基１５０を脱保護し、基板１１０上にオリゴマープローブ１６５を提供して脱保護された作用基１５０とカップリングすることを含むマイクロアレイの製造方法。【選択図】図１
2008026316.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面に酸分解性保護基により保護され、オリゴマープローブとカップリングできる作用基が固定されている基板を提供し、
前記基板上に光酸発生剤を提供し、
前記基板上に凸部及び前記凸部により囲まれた多数の凹部を備えるインプリント用テンプレートを前記凸部が前記基板の上面に接し、または近接するように配置し、前記基板の上面、前記インプリント用テンプレートの凸部及び凹部により囲まれた多数の反応空間を定義し、
少なくとも１つの前記反応空間を露光して前記光酸発生剤により露光された少なくとも１つの前記反応空間内で酸を生成し、生成された前記酸により少なくとも１つの前記反応空間内の前記作用基を脱保護し、
前記基板上にオリゴマープローブを提供して脱保護された前記作用基とカップリングすることを含むマイクロアレイの製造方法。
【請求項２】
前記インプリント用テンプレートは透光領域及び遮光領域を備え、
少なくとも１つの前記反応空間の露光は前記インプリント用テンプレートを光マスクとして用いて進行される請求項１に記載のマイクロアレイの製造方法。
【請求項３】
前記提供された基板はプローブセル分離領域により分離される多数のプローブセルアクティブが形成され、前記作用基は前記多数のプローブセルアクティブ上に固定されており、
前記インプリント用テンプレートは前記凸部が前記プローブセル分離領域での前記基板の上面に接し、または近接するように配置され、
前記反応空間を定義する前記基板の上面は前記プローブセルアクティブの上面であり、
前記反応空間は前記各プローブセルアクティブごとに１つずつ定義される請求項１に記載のマイクロアレイの製造方法。
【請求項４】
前記提供された基板は前記プローブセルアクティブ上に形成された前記作用基と結合されているリンカーをさらに含み、
前記作用基は前記リンカーを介して前記プローブセルアクティブ上に固定されている請求項３に記載のマイクロアレイの製造方法。
【請求項５】
前記提供された基板の前記プローブセル分離領域で前記基板は表面が直接露出されている請求項３に記載のマイクロアレイの製造方法。
【請求項６】
前記提供された基板の前記プローブセル分離領域の表面は前記基板上面に形成されたオリゴマープローブカップリングブロッキング膜表面、前記プローブセルアクティブ間を埋め込み、オリゴマープローブカップリングブロッキング特性を有する充填材表面、または前記プローブセルアクティブ間を埋め込む充填材上面に形成されたオリゴマープローブカップリングブロッキング膜表面を含む請求項３に記載のマイクロアレイの製造方法。    
【請求項７】
前記提供された基板は全面に多数の活性化されたプローブセル領域及び活性化された前記プローブセル領域を囲む非活性化された領域に区分されるプローブセルアクティブ膜が形成され、前記作用基は前記プローブセルアクティブ膜の多数の活性化された前記プローブセル領域及び非活性化された領域のすべてに固定されており、
前記インプリント用テンプレートは前記凸部が前記非活性化された領域での前記基板の上面に接し、または近接するように配置され、
前記反応空間を定義する前記基板の上面は前記活性化されたプローブセル領域での前記プローブセルアクティブ膜の上面であり、
前記反応空間は各活性化された前記プローブセル領域ごとに１つずつ定義される請求項１に記載のマイクロアレイの製造方法。
【請求項８】
前記提供された基板は前記プローブセルアクティブ膜上に形成された前記作用基と結合されているリンカーをさらに含み、
前記作用基は前記リンカーを介して前記プローブセルアクティブ膜上に固定されている請求項７に記載のマイクロアレイの製造方法。
【請求項９】
表面に酸分解性保護基により保護されて、ヌクレオチドホスホロアミダイトモノマーとカップリングできる作用基が固定されている基板を提供し、
前記基板上に光酸発生剤を提供し、
前記基板上に凸部及び前記凸部により囲まれた多数の凹部を備えるインプリント用テンプレートを前記凸部が前記基板の上面に接し、または近接するように配置し、前記基板の上面、前記インプリント用テンプレートの凸部及び凹部により囲まれた多数の反応空間を定義し、
少なくとも１つの前記反応空間を露光して前記光酸発生剤により露光された少なくとも１つの前記反応空間内で酸を生成し、前記生成された酸により少なくとも１つの前記反応空間内の前記作用基を脱保護し、
前記基板上にヌクレオチドホスホロアミダイトモノマーを提供して前記脱保護された作用基とカップリングすることを含むマイクロアレイの製造方法。
【請求項１０】
前記インプリント用テンプレートは透光領域及び遮光領域を備え、
少なくとも１つの前記反応空間の露光には前記インプリント用テンプレートを光マスクとして用いる請求項９に記載のマイクロアレイの製造方法。
【請求項１１】
前記提供された基板はプローブセル分離領域により分離される多数のプローブセルアクティブが形成され、前記作用基は前記多数のプローブセルアクティブ上に固定されており、
前記インプリント用テンプレートは前記凸部が前記プローブセル分離領域での前記基板の上面に接し、または近接するように配置され、
前記反応空間を定義する前記基板の上面は前記プローブセルアクティブの上面であり、
前記反応空間は前記各プローブセルアクティブごとに１つずつ定義される請求項９に記載のマイクロアレイの製造方法。
【請求項１２】
前記提供された基板は前記プローブセルアクティブ上に形成された前記作用基と結合されているリンカーをさらに含み、
前記作用基は前記リンカーを介して前記プローブセルアクティブ上に固定されている請求項１１に記載のマイクロアレイの製造方法。
【請求項１３】
前記提供された基板の前記プローブセル分離領域で前記基板は表面が直接露出している請求項１２に記載のマイクロアレイの製造方法。
【請求項１４】
前記提供された基板の前記プローブセル分離領域の表面は、前記基板上面に形成されたヌクレオチドホスホロアミダイトモノマーカップリングブロッキング膜表面、前記プローブセルアクティブ間を埋め込み、ヌクレオチドホスホロアミダイトモノマーカップリングブロッキング特性を有する充填材表面、または前記プローブセルアクティブ間を埋め込む充填材上面に形成されたヌクレオチドホスホロアミダイトモノマーカップリングブロッキング膜表面を含む請求項１２に記載のマイクロアレイの製造方法。
【請求項１５】
前記提供された基板は全面に多数の活性化されたプローブセル領域及び活性化された前記プローブセル領域を囲む非活性化された領域に区分されるプローブセルアクティブ膜が形成され、前記作用基は前記プローブセルアクティブ膜の前記多数の活性化されたプローブセル領域及び非活性化された領域のすべてに固定されており、
前記インプリント用テンプレートは前記凸部が前記非活性化された領域での前記基板の上面に接したり近接するように配置され、
前記反応空間を定義する前記基板の上面は前記活性化されたプローブセル領域での前記プローブセルアクティブ膜の上面であり、
前記反応空間は前記各活性化されたプローブセル領域ごとに１つずつ定義される請求項９に記載のマイクロアレイの製造方法。
【請求項１６】
前記提供された基板は前記プローブセルアクティブ膜上に形成された前記作用基と結合しているリンカーをさらに含み、
前記作用基は前記リンカーを介して前記プローブセルアクティブ膜上に固定されている請求項１５に記載のマイクロアレイの製造方法。
【請求項１７】
前記ヌクレオチドホスホロアミダイトモノマーのカップリング後に、
前記基板上に光酸発生剤を提供することから前記モノマーをカップリングすることまでを１サイクルにして、前記サイクルを１回以上繰り返すことをさらに含む請求項９に記載のマイクロアレイの製造方法。
【請求項１８】
前記各サイクルごとに互いに異なる塩基を有するヌクレオチドホスホロアミダイトモノマーがカップリングされる請求項１７に記載のマイクロアレイの製造方法。
【請求項１９】
前記カップリングされるヌクレオチドホスホロアミダイトモノマーはアデニン（Ａ）、グアニン（Ｇ）、チミン（Ｔ）、シトシン（Ｃ）及びウラシル（Ｕ）のいずれか１つの塩基を有するヌクレオチドホスホロアミダイトモノマーからなる群から選択される請求項１８に記載のマイクロアレイの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はマイクロアレイの製造方法に関し、より詳しくは反応収率が向上したマイクロアレイの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
最近、ゲノムプロジェクトが発展し、多様な有機体のゲノムヌクレオチド配列が明らかになることによってバイオポリマーマイクロチップ、その中でもマイクロアレイについての関心が増加している。マイクロアレイは、遺伝子発現分析、遺伝子型分析、ＳＮＰsのような突然変異および多形の検出、蛋白質およびペプチド分析、潜在的な薬のスクリーニング、新薬開発と製造などに広く使用されている。
【０００３】
現在広く使用されているマイクロアレイは光分解性保護基により保護されている作用基が固定されている基板上に光を照射して特定領域の保護基を脱基して作用基を露出した後、モノマーをインサイチュ（ｉｎ−ｓｉｔｕ）合成する方法で製造される。
【０００４】
ところが、光分解性保護基が光照射により除去されるには５０００ｍＪ以上のエネルギーが要求される。したがって、相対的に大きい露光量及び露光時間が要求されるので、工程時間の観点で不利になる。また、光分解性保護基の脱基反応で脱基された保護基が他の保護基の脱基反応を妨害し得る。さらにマイクロアレイの高集積化が進むことにより固定されている作用基間の間隔が狭くなって、前記のような脱基妨害はより深刻になり、これは反応収率の低下につながる。
【特許文献１】米国特開２００５−１７１３３４号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明が達成しようとする技術的課題は、工程時間を短縮し、反応収率が向上したマイクロアレイの製造方法を提供することである。
【０００６】
本発明の技術的課題は、以上で言及した技術的課題に制限されず、言及していないさらなる技術的課題は下記によって当業者に明確に理解できるものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記技術的課題を達成するための本発明の一実施形態によるマイクロアレイの製造方法は、表面に酸分解性保護基により保護されており、オリゴマープローブとカップリングできる作用基が固定されている基板を提供し、前記基板上に光酸発生剤を提供し、前記基板上に凸部及び前記凸部により囲まれた多数の凹部を備えるインプリント用テンプレートを前記凸部が前記基板の上面に接したり近接するように配置し、前記基板の上面、前記インプリント用テンプレートの凸部及び凹部により囲まれた多数の反応空間を定義し、前記反応空間を選択的に露光して前記光酸発生剤により露光された前記反応空間内で酸を生成し、前記生成された酸により前記反応空間内の前記作用基を脱保護し、前記基板上にオリゴマープローブを提供して前記脱保護された作用基とカップリングすることを含む。
【０００８】
前記技術的課題を達成するための本発明の他の実施形態によるマイクロアレイの製造方法は、表面に酸分解性保護基により保護され、ヌクレオチドホスホロアミダイトモノマーとカップリングできる作用基が固定されている基板を提供する。前記基板上に光酸発生剤を提供し、前記基板上に凸部及び前記凸部により囲まれた多数の凹部を備えるインプリント用テンプレートを前記凸部が前記基板の上面に接したり近接するように配置し、前記基板の上面、前記インプリント用テンプレートの凸部及び凹部により囲まれた多数の反応空間を定義する。前記反応空間を選択的に露光して前記光酸発生剤により露光された前記反応空間内で酸を生成し、前記生成された酸により前記反応空間内の前記作用基を脱保護し、前記基板上にヌクレオチドホスホロアミダイトモノマーを提供して前記脱保護された作用基とカップリングする。
【０００９】
その他、実施形態の具体的な事項は詳細な説明及び図面に含まれている。
（発明の効果）
【００１０】
本発明の実施形態によるマイクロアレイの製造方法によれば、相対的に少ない露光量で酸分解性保護基が脱基できる酸を生成することができる。これにより、露光時間が減少して工程時間が短縮できる。また、生成された酸が反応空間内で自由に移動できるので脱基反応収率に優れる。
【００１１】
さらに、選択された反応空間の間に酸の移動が制限されるので選択されない反応空間での脱基反応が防止される。これにより、ノイズが減少できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本発明の利点及び特徴、そしてそれらを達成する方法は添付する図面とともに詳細に後述する実施形態を参照すれば明確になる。しかし、本発明は以下に開示される実施形態に限定されず、相異なる多様な形態によって具現でき、単に本実施形態は本発明の開示を完全なものにし、本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者に発明の範疇を完全に知らせるために提供するものであって、本発明は請求項の範疇によってのみ定義される。
【００１３】
したがって、いくつかの実施形態においてよく知られている工程ステップ、よく知られている構造及びよく知られている技術は本発明が曖昧に解析されるのを避けるために具体的に説明しない。
【００１４】
本明細書で使用する用語は実施形態を説明するためであって、本発明を制限するためではない。本明細書において、単数型は文句で特に言及しない限り複数型も含む。明細書で使用する「含む」は言及する構成要素、ステップ、動作および／または素子以外の１つ以上の他の構成要素、ステップ、動作および／または素子の存在または追加を排除しない意味として使用する。そして、「および／または」は言及するアイテムの各々および１つ以上のすべての組合わせを含む。また、以下の明細書全体にわたって同じ参照符号は同じ構成要素を示す。
【００１５】
また、本明細書で記述する実施形態は本発明の理想的な例示図である断面図および／または概略図を参照して説明する。したがって、製造技術および／または許容誤差などによって例示図の形態が変形し得る。したがって、本発明の実施形態は示された特定形態に制限されず、製造工程によって生成される形態の変化も含む。また本発明に示された各図面において各構成要素は説明の便宜上、拡大または縮小して示す場合もある。
【００１６】
以下、添付する図面を参照して本発明の実施形態によるマイクロアレイの製造方法について説明する。
【００１７】
まず、本発明の実施形態による方法で製造されたマイクロアレイの構造について説明する。図１は本発明のいくつかの実施形態による方法で製造されたマイクロアレイの断面図である。
【００１８】
図１を参照する。マイクロアレイ１００は、基板１１０、基板１１０上に形成された多数のプローブセルアクティブ１２０、プローブセルアクティブ１２０上にカップリングされた多数のオリゴマープローブ１６５、多数のプローブセルアクティブ１２０を分離し、オリゴマープローブ１６５とカップリングされないプローブセル分離領域１３０を含む。
【００１９】
オリゴマーは共有結合した２つ以上のモノマーからなるポリマーであって、分子量がほぼ１０００以下のものをいうが、前記数値に限定されない。オリゴマーは約２ないし５００個のモノマー、好ましくは５ないし３０個のモノマーを含む。モノマーはマイクロアレイに固定されたプローブの種類によってヌクレオシド、ヌクレオチド、アミノ酸、ペプチドなどであり得る。
【００２０】
ヌクレオシド及びヌクレオチドは公知のプリン及びピリミジン塩基を含むだけでなく、メチル化されたプリンまたはピリミジン、アシル化されたプリンまたはピリミジンなどを含む。また、ヌクレオシド及びヌクレオチドは従来のリボース及びデオキシリボース糖を含むだけでなく、１つ以上のヒドロキシル基がハロゲン原子または脂肪族で置換されたり、エーテル、アミンなどの作用基が結合した変形された糖を含むことができる。
【００２１】
アミノ酸は自然で発見されるアミノ酸のＬ体、Ｄ体、および非キラルアミノ酸だけでなく、変形アミノ酸、またはアミノ酸類似体などであり得る。
【００２２】
ペプチドはアミノ酸のカルボキシル基と他のアミノ酸のアミノ基との間のアミド結合によって生成した化合物をいう。
【００２３】
したがって、オリゴマープローブ１６５は２つ以上のヌクレオシド、ヌクレオチド、アミノ酸、ペプチドなどからなり得る。
【００２４】
基板１１０は可撓性または剛性基板であり得る。適用される可撓性基板として、例えばポリアミド樹脂、ニトロセルロースなどのメンブレンまたはプラスチックフィルムなどがあり、剛性基板として、例えばシリコン基板、ソーダ石灰ガラスからなる透明ガラス基板などがある。シリコン基板または透明ガラス基板の場合は混成化過程中に非特異的結合がほとんど行われない。また、シリコン基板または透明ガラス基板は半導体素子の製造工程またはＬＣＤパネルの製造工程などで既に安定的に確立されて適用されている多様な薄膜の製造工程および写真エッチング工程などがそのまま適用できるという長所がある。
【００２５】
基板１１０上には多数のプローブセルアクティブ１２０が形成されている。プローブセルアクティブ１２０は混成化分析条件、例えばｐＨ６−９のリン酸またはトリスバッファと接触するとき加水分解されず、実質的に安定した物質で形成されるのが好ましい。例えば、プローブセルアクティブ１２０はＰＥ−ＴＥＯＳ膜、ＨＤＰ酸化膜、Ｐ−ＳｉＨ４酸化膜、熱酸化膜などのシリコン酸化膜、ハフニウムシリケート、ジルコニウムシリケートなどのシリケート、シリコン酸窒化膜、ハフニウム酸窒化膜、ジルコニウム酸窒化膜などの金属酸窒化膜、チタニウム酸化膜、タンタル酸化膜、アルミニウム酸化膜、ハフニウム酸化膜、ジルコニウム酸化膜、ＩＴＯなどの金属酸化膜、ポリイミド、ポリアミン、金、銀、銅、パラジウムなどの金属、またはポリスチレン、ポリアクリル酸、ポリビニルなどのポリマーで形成できる。製造工程の側面において半導体製造工程またはＬＣＤ製造工程で安定的に適用されている物質で形成されるのが好ましい。
【００２６】
プローブセルアクティブ１２０の表面の少なくとも一部はオリゴマープローブ１６５とカップリングされている。また、プローブセルアクティブ１２０表面の一部はオリゴマープローブ１６５またはオリゴマープローブ１６５のインサイチュ合成のためのモノマーとカップリングできる作用基１５０を含むことができる。プローブセルアクティブ１２０表面の作用基１５０はキャッピング基１５５により非活性キャッピングされたものであり得る。
【００２７】
プローブセルアクティブ１２０表面にカップリングされているオリゴマープローブ１６５はキャッピング基１５５と結合しない作用基１５０によりなり得る。オリゴマープローブ１６５またはモノマーとカップリングできる作用基１５０は、例えばヒドロキシル基、アルデヒド基、カルボキシル基、アミノ基、アミド基、チオール基、ハロ基、またはスルホン酸基などがある。
【００２８】
プローブセルアクティブ１２０表面でオリゴマープローブ１６５とのカップリングに寄与した作用基はリンカー１４０と共に提供されたものであり得る。リンカー１４０はプローブセルアクティブ１２０とオリゴマープローブ１６５のカップリングを介して、マイクロアレイ１００がターゲットサンプルと自由に相互作用するように、例えば混成化が生じるようにする空間的マージンを提供する。したがって、リンカー１４０分子はオリゴマープローブ１６５とターゲットサンプルの間の自由な相互作用を可能にするための十分な長さ、例えば６から５０原子を有することができる。
【００２９】
リンカー１４０はプローブセルアクティブ１２０とカップリングできるカップリング基とオリゴマープローブ１６５またはモノマーとカップリングできる作用基１５０を含む物質で形成できる。リンカー１４０は前記カップリング基によりプローブセルアクティブにカップリングされて固定されており、前記作用基１５０によりオリゴマープローブ１６５またはモノマーとカップリングされる。カップリングされない作用基１５０は前記のようにキャッピング基１５５により非活性キャッピングできる。
【００３０】
プローブセルアクティブ１２０がシリコン酸化膜、シリケートまたはシリコン酸窒化膜からなる場合、リンカー１４０のカップリング基はＳｉ（ＯＨ）基と反応してシロキサン（Ｓｉ−Ｏ）結合を生成し得るシリコン基を含むことができる。例えば、−Ｓｉ（ＯＭｅ）３、−ＳｉＭｅ（ＯＭｅ）２、−ＳｉＭｅＣｌ２、−ＳｉＭｅ（ＯＥｔ）２、−ＳｉＣｌ３、−Ｓｉ（ＯＥｔ）３であり得る。プローブセルアクティブ１２０が金属酸化膜からなる場合、リンカー１４０のカップリング基は金属アルコキシドまたは金属カルボン酸塩基を含むことができる。プローブセルアクティブ１２０がシリコン窒化膜、シリコン酸窒化膜、金属酸窒化膜、ポリイミドまたはポリアミンなどからなる場合、リンカー１４０のカップリング基は無水物、塩酸、アルキルハロゲン化物または塩化炭酸塩基を含むことができる。プローブセルアクティブ１２０が金属からなる場合、リンカー１４０のカップリング基は硫化物、セレン化物、ヒ化物、テルル化物、アンチモン化物基を含むことができる。プローブセルアクティブ１２０がポリマーからなる場合、リンカー１４０のカップリング基はアクリル基、スチリル基、ビニル基を含むことができる。
【００３１】
一方、プローブセルアクティブ１２０を構成する物質自体が前記作用基１５０を含む場合、リンカー１４０は省略できる。また、プローブセルアクティブ１２０を構成する物質自体が作用基１５０を含まない場合でも、リンカー１４０なしに表面処理により作用基１５０を直接提供できる。表面処理としては、例えばオゾン処理、酸処理、塩基処理などがある。したがって、リンカー１４０の形成は選択的である。
【００３２】
プローブセル分離領域１３０はカップリングされたオリゴマープローブ１６５を含まない領域である。プローブセル分離領域１３０で基板１１０は表面が直接露出されている。また、プローブセル分離領域１３０を基準に各プローブセルアクティブ１２０が分離されている。それぞれの分離されたプローブセルアクティブ１２０内には同一配列のオリゴマープローブ１６５がカップリングされている。互いに異なるプローブセルアクティブ１２０には異なる配列のオリゴマープローブ１６５がカップリングされている。
【００３３】
以下、図１に示されたマイクロアレイを製造する方法について説明する。
【００３４】
図２ないし図１０は本発明の一実施形態によるマイクロアレイの製造方法を説明するための中間ステップ構造物の断面図である。
【００３５】
図２を参照する。まず基板１１０上にプローブセルアクティブ形成用膜１２０ａを形成する。プローブセルアクティブ形成用膜１２０ａは、ＰＥ−ＴＥＯＳ膜、ＨＤＰ酸化膜、Ｐ−ＳｉＨ４酸化膜、熱酸化膜などのシリコン酸化膜、ハフニウムシリケート、ジルコニウムシリケートなどのシリケート、シリコン酸窒化膜、ハフニウム酸窒化膜、ジルコニウム酸窒化膜などの金属酸窒化膜、チタニウム酸化膜、タンタル酸化膜、アルミニウム酸化膜、ハフニウム酸化膜、ジルコニウム酸化膜、ＩＴＯなどの金属酸化膜、ポリイミド、ポリアミン、金、銀、銅、パラジウムなどの金属、またはポリスチレン、ポリアクリル酸、ポリビニルなどのポリマーで形成できる。プローブセルアクティブ形成用膜１２０ａの形成には半導体製造工程またはＬＣＤ製造工程で安定的に適用されている蒸着方法、例えば、ＣＶＤ、ＳＡＣＶＤ、ＬＰＣＶＤ、ＰＥＣＶＤ、スパッタリング、スピンコーティング、スリットコーティングなどの方法を適用することができる。
【００３６】
次いで、プローブセルアクティブ形成用膜１２０ａ上にフォトレジスト膜２００を形成した後、透明な物質からなるマスク本体４０１及びマスク本体４０１上に形成された遮光パターン４０２を含み、プローブセルアクティブ１２０を定義する光マスク４００を用いてフォトレジスト膜２００を露光する。
【００３７】
図３を参照する。露光されたフォトレジスト膜２００を現像してフォトレジストパターン２０１を形成した後、これをエッチングマスクとして用いてプローブセルアクティブ形成用膜１２０ａをエッチングして多数のプローブセルアクティブ１２０を形成する。このとき、プローブセルアクティブ形成用膜１２０ａがエッチングされて除去された領域は基板１１０の表面を露出して、多数のプローブセルアクティブ１２０を分離するプローブセル分離領域１３０になる。
【００３８】
図４を参照する。フォトレジストパターン２０１を除去してプローブセルアクティブ１２０を完成する。プローブセルアクティブ１２０がシリコン酸化膜からなる場合を例えて説明すれば、プローブセルアクティブ１２０の表面にはオリゴマープローブとカップリングできるＳｉＯＨが露出される。
【００３９】
図５を参照する。プローブセルアクティブ１２０自体が有している作用基であるＳｉＯＨよりオリゴマープローブまたはインサイチュ合成されてオリゴマープローブを構成するモノマーとのカップリング反応性が大きい作用基を導入する必要性がある場合、リンカー１４０を形成する。リンカー１４０は第１リンカー及び第２リンカーからなり得る。
【００４０】
まずプローブセルアクティブ１２０にはカップリングされて、プローブセル分離領域１３０の露出された基板１１０の表面にはカップリングされない第１リンカーをプローブセルアクティブ１２０の表面に形成する。第１リンカーは表面にＳｉＯＨ基よりオリゴマープローブまたはモノマーとカップリング反応性が良い作用基１５０、例えばＣＯＨ基を有する。
【００４１】
次いで、酸分解性保護基１５２が結合している第２リンカーを第１リンカー表面のＣＯＨ基にカップリングさせる。第２リンカーとしては酸分解性保護基１５２が結合されているホスホロアミダイトが使用できる。酸分解性保護基としては、例えばｔ−ＢＯＣ（ｔｅｒｔ−ｂｕｔｙｏｘｙｃａｒｂｏｎｙｌ）またはＤＭＴ（ｄｉｍｅｔｈｏｘｙｔｒｉｔｙｌ）基がある。
【００４２】
次いで、表面に露出されており、第２リンカーと結合しない多数の作用基であるＳｉＯＨ及びＣＯＨなどを非活性キャッピングしてオリゴマープローブのノイズとして作用しないようにする。非活性キャッピングは、例えばＳｉＯＨ及びＣＯＨ基をアセチル化させるキャッピング基１５５を含むキャッピング剤を使用して行う。その結果、図５に示すように酸分解性保護基１５２により保護されており、オリゴマープローブまたはモノマーとカップリングできる作用基１５０が結合されているリンカー１４０が完成する。
【００４３】
図６を参照する。基板１１０上に光酸発生剤（ＰＡＧ）を提供する。光酸発生剤としては、半導体製造工程またはＬＣＤ製造工程でフォトレジストや有機膜に含まれて使用されている物質を同様に使用することができる。光酸発生剤は、例えば光酸発生剤がＮ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）などのような有機溶媒に１０ないし５０％（ｗ／ｖ）で溶解されている溶液（以下、「ＰＡＧ溶液」という）の形態で提供できる。ＰＡＧ溶液１７０はディスペンスまたはスピンコーティングなどの方法で基板１１０上に提供される。
【００４４】
図７Ａはインプリント用テンプレートの加圧中の断面図であり、図７Ｂはインプリント用テンプレートの加圧後の断面図である。図７Ａ及び図７Ｂを参照する。ＰＡＧ溶液１７０が提供されている基板１１０上に凸部３０２、及び凸部３０２により囲まれた多数の凹部３０１を備えるインプリント用テンプレート３００を配置する。インプリント用テンプレート３００の凸部３０２のパターンは基板１１０のプローブセル分離領域１３０のパターンと実質的に同一であり、凹部３０１のパターンはプローブセルアクティブ１２０のパターンと実質的に同一であり得る。インプリント用テンプレート３００は、後続露光工程が前面露光で行われる場合は透明な物質からなるが、背面露光で行われる場合は透明度に制限されない。
【００４５】
次いで、インプリント用テンプレート３００を基板１１０側に加圧する。具体的には、インプリント用テンプレート３００の凸部３０２がプローブセル分離領域１３０の露出されている基板１１０の上面に対応するように整列し、凸部３０２が露出している基板１１０の上面に接したり近接するまで加圧する。その結果、基板１１０上にはプローブセルアクティブ１２０の上面、インプリント用テンプレート３００の凸部３０２及び凹部３０１により囲まれた多数の反応空間１８０が定義される。多数の反応空間１８０は各プローブセルアクティブ１２０ごとに１つずつ定義できる。一方、前記加圧によってプローブセル分離領域１３０上に位置していたＰＡＧ溶液１７０が図７Ａに示すように、プローブセルアクティブ領域１３０の隣の反応空間１８０側へ移動するようになる。
【００４６】
インプリント用テンプレート３００を凸部３０２が基板１１０の上面に接するように加圧する場合、各反応空間１８０は互いに空間的に完全に分離される。インプリント用テンプレート３００を凸部３０２が基板１１０の上面に近接するようにする場合には、インプリント用テンプレート３００の凸部３０２の末端と基板１１０の上面の間に離隔空間が残留する。ただし、この場合にも前記離隔空間を通じて、各反応空間１８０の間にＰＡＧ溶液１７０により生成される酸の流動がないかまたは微小な程度にインプリント用テンプレート３００の近接距離を調整するのが好ましい。
【００４７】
一方、反応空間１８０の高さｈ１はインプリント用テンプレート３００の凸部３０２の高さｈ２による。反応空間１８０の高さｈ１は後続する光酸発生及び酸による酸分解性保護基１５２の分解を容易にするために、例えば約５００ｎｍないし４０００ｎｍ、好ましくは１０００ｎｍないし２０００ｎｍの範囲であり得る。したがって、例えば露出している基板１１０の上面からプローブセルアクティブ１２０の上面までの高さが約１０００ｎｍ程度の場合、凸部３０２の高さｈ２は１５００ｎｍないし５０００ｎｍ、好ましくは２０００ｎｍないし３０００ｎｍの範囲であり得る。
【００４８】
図８を参照すれば、次いで、各反応空間１８０を選択的に露光する。
具体的に、インプリント用テンプレート３００が透明な物質からなる場合、図８に示すように、インプリント用テンプレート３００が配置されている基板１１０の上側に光マスク４１０を配置する。光マスク４１０は透明なマスク本体４１１及びマスク本体４１１上に形成された遮光パターン４１２を含む。遮光パターン４１２が遮らない露出領域は後続するオリゴマープローブまたはモノマーのカップリングターゲットになる反応空間１８０に対応するように整列される。図示していないが、基板が透明基板の場合、光マスクが基板の下側に配置できるのはもちろんである。
【００４９】
次いで、光マスク４１０を用いて反応空間１８０を露光する。その結果、露光された反応空間１８０内のＰＡＧ溶液１７０に溶解されている光酸発生剤が活性化されて酸Ｈ＋を生成する。このとき、光酸発生剤の活性に必要な露光量は、例えば３００ｍＪないし１０００ｍＪ程度であり、具体的には５００ｍＪであり得る。これは光分解性保護基の除去に要求される露光量である５０００ｍＪに比べてはるかに小さい。したがって、光分解性保護基を用いる場合より露光時間をはるかに短縮できることが理解できる。
【００５０】
光酸発生剤により生成された酸Ｈ＋は反応空間１８０内のリンカー１４０末端に結合している酸分解性保護基１５２を脱保護する。その結果、脱保護されたリンカー１４０の末端にオリゴマープローブまたはモノマーとカップリングできる作用基１５０が露出される。反応空間１８０はＰＡＧ溶液１７０で充填されていて、生成された酸Ｈ＋が反応空間１８０内を自由に移動できるので、脱基反応収率に優れる。
【００５１】
一方、各反応空間１８０は前記のように空間的に完全に分離されたり、酸Ｈ＋の流動がないかまたは微小であるため、後続するオリゴマープローブまたはモノマーのカップリングターゲットではない反応空間１８０は露光されず酸Ｈ＋が生成されないだけでなく、露光された反応空間１８０から酸Ｈ＋の流入がないかまたは微小である。したがって、カップリングのターゲットではない反応空間１８０ではプローブセルアクティブ１８０上のリンカー１４０の末端の作用基１５０が脱保護されない。
【００５２】
一方、前記光マスク４１０を用いた選択的露光の変形として、別の光マスクを配置せず、選択的露光能力がある露光機を用いて各反応空間を選択的に露光することもできる。
【００５３】
図９を参照すれば、次いで、インプリント用テンプレート３００を分離し、基板１１０上に残留するＰＡＧ溶液１７０を除去する。
【００５４】
図１０を参照すれば、次いで、リンカー１４０末端に露出された作用基１５０に所望するオリゴマープローブまたはモノマーをカップリングさせる。インサイチュでオリゴヌクレオチドプローブを合成する場合を例えて説明すれば、アデニン（Ａ）、グアニン（Ｇ）、チミン（Ｔ）、シトシン（Ｃ）やウラシル（Ｕ）のいずれか１つを塩基として有するヌクレオチドホスホロアミダイトモノマー１６０をカップリングさせる。図１０にはアデニン（Ａ）を塩基として有するヌクレオチドホスホロアミダイトモノマー１６０をカップリングする場合を示している。カップリングされるモノマーにまた他のモノマーを追加して合成する必要がある場合にはカップリングのために提供されるモノマーは酸分解性保護基１６２が結合されたヌクレオチドホスホロアミダイトモノマー１６０であり得る。
【００５５】
前記カップリングの結果、ターゲットとするプローブセルアクティブ１２０にアデニン（Ａ）を塩基として有し、酸分解性保護基１６２が結合されたヌクレオチドホスホロアミダイトモノマー１６０が固定される。このとき、ターゲットではないプローブセルアクティブ１２０では前記のようにリンカー１４０に結合された作用基１５０が脱保護されていないため、不要なヌクレオチドホスホロアミダイトモノマーの固定が防止される。したがって、固定されるオリゴマープローブの不良配列またはノイズを防止できる。      
【００５６】
次いで、カップリングに関与しない露出された作用基１５０をキャッピング基１５５を用いて非活性キャッピングし、ホスホロアミダイトと５’−ヒドロキシ基の間の結合により生成されたフォスフェイトトリエステルをフォスフェイト構造に変換するために酸化させる。非活性キャッピングには例えば、無水酢酸及び／またはＮ−メチルイミダゾールが使用できる。酸化には例えば、ヨードが使用できる。
【００５７】
一方、図１０で固定されているヌクレオチドホスホロアミダイトモノマー１６０は他のヌクレオチドホスホロアミダイトモノマーと共有または非共有結合でカップリングできる作用基１６１を含み、前記作用基１６１は酸分解性保護基１６２により保護されている。したがって、基板１１０の上面に形成された作用基を中心に説明すれば、酸分解性保護基１６２により保護された作用基１６１を含むヌクレオチドホスホロアミダイトモノマー１６０が固定されてプローブセルアクティブ１２０や、まだリンカー１４０の末端の作用基１５０が酸分解性保護基１６１により保護されているプローブセルアクティブ１２０や、ヌクレオチドホスホロアミダイトモノマーと結合できる作用基１６１，１５０が各々酸分解性保護基１６２，１５２により保護されている点は実質的に同一である。すなわち、図１０の構造物は基板１１０の上面に形成されたカップリングに係る作用基を基準とするとき、図５の構造物と実質的に同一である。
【００５８】
したがって、他の塩基を有するヌクレオチドホスホロアミダイトモノマーをカップリングするために行われる工程は図６ないし図１０を参照して説明した方法と実質的に同一であることを容易に理解することができる。また、図６ないし図１０のステップを引き続き繰り返せば、各プローブセルアクティブ１２０ごとに互いに異なる配列のオリゴヌクレオチドプローブが合成できることを容易に理解できる。
【００５９】
以下、図１１及び図１２を参照して、図１に示されているマイクロアレイを製造するための本発明の他の実施形態による方法について説明する。
【００６０】
図１１及び図１２は本発明の他の実施形態によるマイクロアレイの製造方法を説明するための中間ステップ構造物の断面図である。
【００６１】
図１１を参照する。図２ないし図６を参照して説明したことと同じ方法で基板１１０上にプローブセルアクティブ１２０及びプローブセル分離領域１３０を形成し、プローブセルアクティブ１２０上にリンカー１４０を形成した後に基板１１０上に光酸発生剤を提供する。
【００６２】
次いで、図１１に示すようにＰＡＧ溶液１７０上に凸部３１２、及び凸部３１２により囲まれた多数の凹部３１１を備えるインプリント用テンプレート３１０を配置する。本実施形態に適用されるインプリント用テンプレート３１０は本発明の一実施形態とは違って、インプリント用テンプレート３１０自体が透光領域及び遮光領域を備える。このためにインプリント用テンプレート３１０は例えば、透明な物質からなるテンプレート本体３１４及びテンプレート本体３１４上に形成された遮光パターン３１５を含むことができる。具体的に露光ターゲットになる反応空間１８０を定義する凹部３１１は透明なテンプレート本体３１４だけでなり、露光されない反応空間１８０を定義する凹部３１１は遮光物質またはテンプレート本体３１４の上または下に遮光物質からなる遮光パターン３１５を備える。インプリント用テンプレート３１０の凸部３１２自体は露光領域と関係ないのでどのような物質からなっても良いが、斜めに入射される光や、基板１１０上で反射した光が隣接する反応空間１８０に入射されてノイズとして作用するのを防止するように遮光物質からなるかまたは表面が遮光物質３１５でコーティングされる。
【００６３】
インプリント用テンプレート３１０が透光領域及び遮光領域を備えることに係るものを除いてはインプリント用テンプレート３１０の形状、大きさなどは本発明の一実施形態と同一である。
【００６４】
次いで、図１２を参照する。インプリント用テンプレート３１４を通じて各反応空間１８０を選択的に露光する。このとき、インプリント用テンプレート３１０自体が選択的露光のための光マスクの役割をするので、別途の光マスクまたは選択的露光能力がある露光機の使用は不要である。これにより、製造ステップが単純化され、製造コストを節減できる。
【００６５】
本実施形態は透光領域及び遮光領域を備えるインプリント用テンプレート３１０を用いた選択的露光だけで実質的に差があるので、選択的露光の結果は本発明の一実施形態と同一である。したがって、後続するヌクレオチドホスホロアミダイトモノマーカップリング工程も同一であることを容易に理解できる。
【００６６】
図１３は本発明の他のいくつかの実施形態による方法で製造されたマイクロアレイの断面図である。
【００６７】
図１３を参照する。本実施形態によるマイクロアレイ１０１はプローブセルアクティブ膜１２１及びその上に形成されているリンカー１４１が基盤１１０と物理的に分離されていない点が図１の実施形態と異なる。すなわち、別途のプローブセルアクティブパターンが形成されず、オリゴマープローブ１６５のカップリング有無によって多数の活性化されたプローブセル領域及び非活性化された領域１３１に区分されるだけである。非活性化された領域１３１ではオリゴマープローブ１６５がカップリングされず、リンカー１４１の末端には酸分解性保護基１５２により保護されている作用基１５０が固定されている。
【００６８】
図１４及び図１５は図１３のマイクロアレイの製造方法を説明するための中間ステップ構造物の断面図である。
【００６９】
図１４を参照する。別途のプローブセルアクティブ１２１のパターン形成なしに基板１１０上にプローブセルアクティブ膜１２１と、第１リンカー及び酸分解性保護基１５２が結合されている第２リンカーを順次に形成する。基板１１０上には領域の区分なしに酸分解性保護基１５２により保護されており、オリゴマープローブまたはモノマーとカップリングできる作用基１５０が固定されている。
【００７０】
図１５を参照する。基板１１０上に光酸発生剤を提供してインプリント用テンプレート３２０を凸部３２２がプローブセルアクティブ膜１２１の上面に接するように配置する。このとき、図８Ｂと同じ高さの反応空間を提供するための凸部３２２の高さｈ３はプローブセルアクティブ膜１２１の厚さだけ小さくなる。
【００７１】
一方、インプリント用テンプレート３２０の凸部３２２が接する基板１１０の上面にもオリゴマープローブまたはモノマーとカップリングできる作用基１５０が酸分解性保護基１５２により保護されているが、凸部３２２が接する領域は反応空間１８０を形成せずＰＡＧ溶液１７０の充填がないだけでなく、後続工程で露光されないので、ここでの作用基１５０は脱保護されない。したがって、別途のプローブセルアクティブ膜１２１のパターニングなしに非活性化された領域１３１が定義でき、非活性化された領域１３１でのノイズ発生がない。次いで、図９ないし図１１を参照して説明したことと実質的に同じ方法でマイクロアレイを製造する。説明していない符号「３２１」はインプリント用テンプレート３２０の凹部を示す。
【００７２】
本実施形態の変形例として、図１１に示されている遮光領域及び透光領域を備えるインプリント用テンプレートを適用する場合、後続の選択的露光時に光マスクの使用を省略することができるのはもちろんである。
【００７３】
図１６は本発明のまた他のいくつかの実施形態による方法で製造されたマイクロアレイの断面図である。
【００７４】
図１６を参照する。本実施形態によるマイクロアレイ１０２は基板１１０の全面に形成されたカップリングブロッキング膜１３２を含み、プローブセルアクティブ１２０がカップリングブロッキング膜１３２上に形成されている点が図１の実施形態と異なる。プローブセル分離領域１３０にはカップリングブロッキング膜１３２が露出されている。カップリングブロッキング膜１３２はフルオロシラン膜のようにフッ素基を含むフッ化物である。また、カップリングブロッキング膜１３２はシリサイド膜、ポリシリコン膜またはＳｉ、ＳｉＧｅなどのエピタキシャル膜であり得る。本実施形態ではプローブセル分離領域１３０でカップリングブロッキング膜１３２によりオリゴマープローブ１６５またはモノマーとカップリングされる作用基１５０が全くないため、ノイズ発生をより一層防止できる。
【００７５】
図１７及び図１８は図１６のマイクロアレイの製造方法を説明するための中間ステップ構造物の断面図である。
【００７６】
図１７を参照する。基板１１０上にカップリングブロッキング膜１３２、プローブセルアクティブ形成用膜１２０ａ、及びフォトレジスト膜２１０を順次に形成する。次いで、透明なマスク本体４２１及びマスク本体４２１上に形成された遮光パターン４２２を含み、プローブセルアクティブ１２０を定義する光マスク４２０を用いてフォトレジスト膜２１０を露光する。
【００７７】
図１８を参照する。露光されたフォトレジスト膜２１０を現像してフォトレジストパターン２１１を形成した後、これをエッチングマスクとして使用してプローブセルアクティブ形成用膜１２０ａをエッチングしてプローブセルアクティブ１２０を形成し、プローブセルアクティブ１２０間の露出された領域にはカップリングブロッキング膜１３２が露出してプローブセル分離領域１３０を定義するようにする。後続工程は図４ないし図１０または図１１及び図１２を参照して説明した方法と実質的に同一である。
【００７８】
図１９は本発明のまた他のいくつかの実施形態による方法で製造されたマイクロアレイの断面図である。
【００７９】
図１９を参照する。本実施形態によるマイクロアレイ１０３はプローブセル分離領域１３０にオリゴマープローブ１６５またはモノマーのカップリングブロッキング特性を有するカップリングブロッキング充填材１３４が充填されている点が図１の実施形態と異なる。カップリングブロッキング充填材１３４はフッ素基を含むフッ化物、ポリシリコン膜などであり得る。本実施形態の場合にもプローブセル分離領域１３０がカップリングブロッキング充填材１３４で充填されて表面にオリゴマープローブ１６５またはモノマーとカップリングされる作用基１５０が全くないため、ノイズ発生をより一層防止できる。
【００８０】
図２０は図１９のマイクロアレイの製造方法を説明するための中間ステップ構造物の断面図である。
【００８１】
図２０を参照する。図２ないし図４を参照して説明したように、プローブセルアクティブ１２０を形成した後、アクティブ１２０間を埋め込む充填膜１３４ａを形成する。充填膜１３４ａはオリゴマーカップリングのブロッキング特性を有し、ギャップ充填特性の良い膜、例えばフルオロシラン、ポリシリコンなどで形成できる。
【００８２】
次いで、図示していないが、充填膜１３４ａを化学機械研磨またはエッチバックなどで平坦化してプローブセルアクティブ１２０の表面が露出されるようにし、プローブセルアクティブ１２０間を充填するオリゴマープローブ１６５またはモノマーのカップリングブロッキング充填材１３４を完成する。後続工程は図５ないし図１０または図１１及び図１２を参照して説明した方法と実質的に同一である。
【００８３】
図２１は本発明のまた他のいくつかの実施形態による方法で製造されたマイクロアレイの断面図である。
【００８４】
図２１を参照する。本実施形態によるマイクロアレイ１０４はプローブセル分離領域１３０にプローブセルアクティブ１２０間を充填する充填材１３４及びその上に形成されたカップリングブロッキング膜１３８が形成されている。この場合、充填材１３４は必ずしもカップリングブロッキング特性を有する物質で形成される必要はない。本実施形態の場合にもプローブセル分離領域１３０が充填材１３４及びカップリングブロッキング膜１３８で覆われていて表面にオリゴマープローブ１６５またはモノマーとカップリングされる作用基１５０が全くないため、ノイズ発生をより一層防止できる。
【００８５】
図２２は図２１のマイクロアレイの製造方法を説明するための中間ステップ構造物の断面図である。
【００８６】
図２２を参照する。図２０を参照して説明したように、プローブセルアクティブ１２０を形成した後、アクティブ１２０間を埋め込む充填材１３４を形成する。次いで、基板１００全面にカップリングブロッキング膜１３８ａを形成する。
【００８７】
以後、図示していないが、プローブセルアクティブ１２０上面に形成されているカップリングブロッキング膜１３８ａを選択的に除去して充填材１３４とその上面のカップリングブロッキング膜１３８を完成する。充填材１３４をポリシリコン膜またはＳｉ、ＳｉＧｅなどのエピタキシャル膜で形成した後、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｔｉなどの金属膜でカップリングブロッキング膜１３８ａを形成、シリサイド化工程を経た後、未反応金属膜を除去することによって充填材１３４上面にだけカップリングブロッキング膜１３８を残留させることができる。後続工程は図５ないし図１０または図１１及び図１２を参照して説明した方法と実質的に同一である。
【００８８】
以上、添付する図面を参照して本発明の実施形態を説明したが、本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者は本発明がその技術的思想や必須的な特徴を変更せずに他の具体的な形態によって実施できることを理解することができる。したがって前述した実施形態はすべての面で例示的なものであって、限定的なものではないことを理解しなければならない。
【産業上の利用可能性】
【００８９】
本発明の実施形態によるマイクロアレイは、遺伝子発現分析、遺伝子型分析、ＳＮＰｓのような突然変異および多形の検出、蛋白質およびペプチド分析、潜在的な薬のスクリーニング、新薬開発と製造などに係わる技術分野に適用し得る。
【図面の簡単な説明】
【００９０】
【図１】本発明のいくつかの実施形態による方法で製造されたマイクロアレイの断面図である。
【図２】本発明の一実施形態によるマイクロアレイの製造方法を説明するための中間ステップ構造物の断面図である。
【図３】本発明の一実施形態によるマイクロアレイの製造方法を説明するための中間ステップ構造物の断面図である。
【図４】本発明の一実施形態によるマイクロアレイの製造方法を説明するための中間ステップ構造物の断面図である。
【図５】本発明の一実施形態によるマイクロアレイの製造方法を説明するための中間ステップ構造物の断面図である。
【図６】本発明の一実施形態によるマイクロアレイの製造方法を説明するための中間ステップ構造物の断面図である。
【図７Ａ】本発明の一実施形態によるマイクロアレイの製造方法を説明するための中間ステップ構造物の断面図である。
【図７Ｂ】本発明の一実施形態によるマイクロアレイの製造方法を説明するための中間ステップ構造物の断面図である。
【図８】本発明の一実施形態によるマイクロアレイの製造方法を説明するための中間ステップ構造物の断面図である。
【図９】本発明の一実施形態によるマイクロアレイの製造方法を説明するための中間ステップ構造物の断面図である。
【図１０】本発明の一実施形態によるマイクロアレイの製造方法を説明するための中間ステップ構造物の断面図である。
【図１１】本発明の他の実施形態によるマイクロアレイの製造方法を説明するための中間ステップ構造物の断面図である。
【図１２】本発明の他の実施形態によるマイクロアレイの製造方法を説明するための中間ステップ構造物の断面図である。
【図１３】本発明の他のいくつかの実施形態による方法で製造されたマイクロアレイの断面図である。
【図１４】図１３のマイクロアレイの製造方法を説明するための中間ステップ構造物の断面図である。
【図１５】図１３のマイクロアレイの製造方法を説明するための中間ステップ構造物の断面図である。
【図１６】本発明のまた他のいくつかの実施形態による方法で製造されたマイクロアレイの断面図である。
【図１７】図１６のマイクロアレイの製造方法を説明するための中間ステップ構造物の断面図である。
【図１８】図１６のマイクロアレイの製造方法を説明するための中間ステップ構造物の断面図である。
【図１９】本発明のまた他のいくつかの実施形態による方法で製造されたマイクロアレイの断面図である。
【図２０】図１９のマイクロアレイの製造方法を説明するための中間ステップ構造物の断面図である。
【図２１】本発明のまた他のいくつかの実施形態による方法で製造されたマイクロアレイの断面図である。
【図２２】図２１のマイクロアレイの製造方法を説明するための中間ステップ構造物の断面図である。
【符号の説明】
【００９１】
１１０：基板、１２０：プローブセルアクティブ、１３０：プローブセル分離領域、１４０：リンカー、１５０：作用基、１６５：オリゴマープローブ
【図１】
2008026316.tif 000003
【図２】
2008026316.tif 000004
【図３】
2008026316.tif 000005
【図４】
2008026316.tif 000006
【図５】
2008026316.tif 000007
【図６】
2008026316.tif 000008
【図７Ａ】
2008026316.tif 000009
【図７Ｂ】
2008026316.tif 000010
【図８】
2008026316.tif 000011
【図９】
2008026316.tif 000012
【図１０】
2008026316.tif 000013
【図１１】
2008026316.tif 000014
【図１２】
2008026316.tif 000015
【図１３】
2008026316.tif 000016
【図１４】
2008026316.tif 000017
【図１５】
2008026316.tif 000018
【図１６】
2008026316.tif 000019
【図１７】
2008026316.tif 000020
【図１８】
2008026316.tif 000021
【図１９】
2008026316.tif 000022
【図２０】
2008026316.tif 000023
【図２１】
2008026316.tif 000024
【図２２】
2008026316.tif 000025