(57)【要約】      （修正有）【課題】パターン付き媒体の注型構造に損傷を起こすことのないインプリントリソグラフィ装置および方法を提供することである。【解決手段】インプリントリソグラフィ装置は、インプリントアクチュエータ３４に作動自在に接続したインプリントテンプレート３０を含む。インプリントアクチュエータは、テンプレートをインプリント軸線３３に沿って変位させて、テンプレートをインプリント可能な媒体と接触させるように駆動可能である。インプリント可能な媒体３１からテンプレートを剥離する間に、インプリント軸線に対して実質的に垂直である軸線に沿って、テンプレートに対してアクチュエータを実質的に自由に変位できるように構成された軸受部３８を介して、テンプレートをアクチュエータに接続する。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
インプリントアクチュエータに作動自在に接続されたインプリントテンプレートを含むインプリントリソグラフィ装置であって、
前記インプリントアクチュエータは、インプリント軸線に沿って前記テンプレートを変位させ、前記テンプレートをインプリント可能な媒体に接触させるように駆動可能であり、
前記テンプレートは、前記インプリント可能な媒体から前記テンプレートを剥離する間に、前記インプリント軸線に対して実質的に垂直である軸線に沿って、前記テンプレートに対して前記アクチュエータを実質的に自由に変位できるように構成された軸受部を介して前記アクチュエータに接続される、装置。
【請求項２】
前記軸受部が気体軸受部である、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記気体軸受部が、前記アクチュエータまたは前記テンプレートに関連する高圧流路を介して高圧気体を供給する、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記気体軸受部が、前記アクチュエータまたは前記テンプレートに関連する低圧流路を介して供給された低圧気体によって予め負荷が加えられている、請求項３に記載の装置。
【請求項５】
前記高圧流路および前記低圧流路が両方とも、前記アクチュエータまたは前記テンプレートに関連する、請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記高圧流路が、前記高圧流路に関連する前記アクチュエータまたは前記テンプレートの周囲に前記低圧流路よりも近接して配置される、請求項４に記載の装置。
【請求項７】
前記インプリント可能な媒体から前記テンプレートを剥離した後、前記インプリント軸線に対して実質的に垂直である軸線に沿って、前記テンプレートに対する前記アクチュエータの変位を制限するように構成された少なくとも１つの位置リミッタをさらに備える、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
前記軸受部が、前記テンプレートを前記インプリント可能な媒体に接触させるために前記テンプレートを前記インプリント軸線に沿って変位させる間に、前記インプリント軸線に対して実質的に垂直の軸線に沿った前記アクチュエータの前記テンプレートに対する変位を実質的に防止するように構成される、請求項１に記載の装置。
【請求項９】
前記軸受部が磁気軸受部である、請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
前記磁気軸受部が、同じ極性の位置合わせされた第１の対の磁石を提供し、前記磁石の前記対の１つが前記アクチュエータおよび前記テンプレートの各々と関連する、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
前記磁気軸受部が、反対の極性の位置合わせされた第２の対の磁石によって予め負荷が加えられ、前記磁石の前記対の１つが前記アクチュエータおよび前記テンプレートの各々と関連する、請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記インプリント可能な媒体から前記テンプレートを剥離した後、前記インプリント軸線に対して実質的に垂直の該軸線に沿った前記アクチュエータの前記テンプレートに対する変位を制限するように構成された少なくとも１つの位置リミッタをさらに備える、請求項９に記載の装置。
【請求項１３】
前記軸受部が流体膜軸受部である、請求項１に記載の装置。
【請求項１４】
前記流体が水である、請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
前記流体膜軸受部に予め負荷が加えられるように低圧気体を供給するために、前記アクチュエータまたは前記テンプレートと関連する低圧流路をさらに備える、請求項１３に記載の装置。
【請求項１６】
前記軸受部が、線ばねおよび板ばねからなるグループから選択された少なくとも１つのばねを備える、請求項１に記載の装置。
【請求項１７】
前記軸受部が少なくとも２つのばねを備え、各ばねが前記アクチュエータとの第１の接触点および前記テンプレートとの第２の接触点を有し、前記インプリント可能な媒体から前記テンプレートを剥離する間、前記第１の接触点間の間隔が前記第２の接触点間の間隔と実質的に同じである、請求項１６に記載の装置。
【請求項１８】
前記軸受部が少なくとも２つのばねを備え、各ばねが前記アクチュエータとの第１の接触点および前記テンプレートとの第２の接触点を有し、前記インプリント可能な媒体から前記テンプレートを剥離する間、前記接合部接触点間の間隔が前記接触点間の間隔と実質的に同じであり、前記テンプレートを前記インプリント可能な媒体と接触させるために前記テンプレートを前記インプリント軸線に沿って変位させる間、第１の接触点間の間隔が第２の接触点間の間隔より大きい、請求項１６に記載の装置。
【請求項１９】
テンプレートをインプリント可能な媒体に接触させるように、インプリント軸線に沿ってインプリントテンプレートを変位させるためにインプリントアクチュエータを駆動すること、および、
前記インプリント可能な媒体から前記テンプレートを剥離すること
を含み、
前記テンプレートは、前記インプリント可能な媒体から前記テンプレートを剥離する間に、前記インプリント軸線に対して実質的に垂直である軸線に沿って、前記テンプレートに対して前記アクチュエータを実質的に自由に変位できるように構成された軸受部を介して前記アクチュエータに接続される、インプリントリソグラフィの方法。
【請求項２０】
前記軸受部が気体軸受部であり、前記方法がさらに、前記アクチュエータまたは前記テンプレートに関連する高圧流路を介して高圧気体を供給することを含む、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記気体軸受部に予め負荷を加えるように、前記アクチュエータまたは前記テンプレートに関連する低圧流路を介して低圧気体を供給することをさらに含む、請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
前記インプリント可能な媒体から前記テンプレートを剥離した後、前記インプリント軸線に対して実質的に垂直の該軸線に沿った前記アクチュエータの前記テンプレートに対する変位を制限することをさらに含む、請求項１９に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
[0001]  本発明はインプリントリソグラフィに関する。
【背景技術】
【０００２】
[0002]  リソグラフィでは、所与の基板領域上にあるフィーチャの密度を上げるために、リソグラフィパターン内のフィーチャのサイズを縮小したいという要求が常にある。フォトリソグラフィでは、フィーチャの小型化への取り組みの結果、液浸リソグラフィおよび極端紫外線（ＥＵＶ）リソグラフィなどの技術が開発されているが、これは多少費用がかかる。
【０００３】
[0003]  潜在的に費用が削減され、益々関心を集めているフィーチャ小型化の方法は、いわゆるインプリントリソグラフィで、これは通常、パターンを基板に転写するために「スタンプ（stamp）」を使用することを含む。インプリントリソグラフィの１つの特徴は、フィーチャの解像度が、例えばフォトリソグラフィのように放射源の波長または投影システムの開口数によって制限されるのではなく、スタンプ（テンプレートとも呼ばれる）上のパターン密度によって制限されることがあることである。インプリントリソグラフィには主に３つのアプローチがあり、その例が図１ａから図１ｃに概略的に図示されている。
【０００４】
[0004]  図１ａは、往々にしてマイクロコンタクトプリンティングと呼ばれるタイプのインプリントリソグラフィの例を示している。マイクロコンタクトプリンティングは、分子１１（通常はチオールなどのインク）の層をテンプレート１０（通常はポリジメチルシロキサンのテンプレート）から、基板１２と平坦化および転写層１２’とによって支持されたレジスト層１３へと転写することを含む。テンプレート１０は、その表面上にフィーチャのパターンを有し、分子層がフィーチャ上に配置されている。テンプレートをレジスト層に押しつけると、分子１１の層がレジストに転写される。テンプレートを外した後、転写された分子層に覆われていないレジストの領域が基板までエッチングされるように、レジストがエッチングされる。マイクロコンタクトプリンティングに関するさらなる情報については、例えば米国特許第６，１８０，２３９号を参照されたい。
【０００５】
[0005]  図１ｂは、いわゆるホットインプリントリソグラフィ（またはホットエンボス）の例を示している。典型的なホットインプリントプロセスでは、テンプレート１４を、基板１２の表面に注型されている熱硬化性または熱可塑性ポリマ樹脂１５にインプリントする。樹脂は、例えばスピンコーティングし、基板表面に、または図示の例のように平坦化および転写層１２’にベーキングすることができる。熱硬化性ポリマ樹脂を使用する場合は、テンプレートに接触すると、樹脂がテンプレート上に規定されたパターンフィーチャに流入できるほど十分に流動可能であるような温度まで、樹脂を加熱する。次に、樹脂の温度を上昇させ、固化して所望のパターンに不可逆的に適応するように、樹脂を熱硬化（架橋）する。これで、テンプレートを除去し、パターン付き樹脂を冷却させることができる。熱可塑性ポリマ樹脂の層を使用しているホットインプリントリソグラフィでは、テンプレートでインプリントする直前に自由に流動可能な状態であるように、熱可塑性樹脂を加熱する。熱可塑性樹脂は、樹脂のガラス転移温度より非常に高い温度まで加熱してよい。テンプレートを流動可能な樹脂に押しつけ、次にテンプレートが所定の位置にある状態で、ガラス転移温度まで冷却して、パターンを硬化させる。その後、テンプレートを除去する。パターンは、樹脂の残留層から浮き上がったフィーチャで構成され、次にこれを適切なエッチングプロセスで除去し、パターンフィーチャのみを残すことができる。ホットインプリントリソグラフィプロセスで使用される熱可塑性ポリマ樹脂の例は、ポリ（メチルメタクリレート）、ポリスチレン、ポリ（ベンジルメタクリレート）またはポリ（シクロヘキシルメタクリレート）である。ホットインプリントに関するさらなる情報については、例えば米国特許第４，７３１，１５５号および米国特許第５，７７２，９０５号を参照されたい。
【０００６】
[0006]  図１ｃは、ＵＶインプリントリソグラフィの例を示し、これは透明なテンプレート、およびレジストとしてＵＶ硬化性液体を使用することを含む（本明細書では、「ＵＶ」という用語は便宜上使用され、レジストを硬化するのに適切な任意の化学線を含むと解釈されたい）。ＵＶ硬化性液体は、ホットインプリントリソグラフィに使用されている熱硬化性および熱可塑性樹脂よりも粘度が低いことが多く、その結果、テンプレートのパターンフィーチャを充填するために、これより非常に速く動くことができる。図１ｂのプロセスと同様の方法で、石英テンプレート１６をＵＶ硬化性樹脂１７に適用する。しかし、ホットインプリントのように熱または温度の周期変動を使用するのではなく、石英テンプレートを通して樹脂に適用されるＵＶ光で樹脂を硬化することにより、パターンを凝固させる。テンプレートを除去した後、転写した分子層に覆われていないレジストの領域が、基板までエッチングされるように、レジストをエッチングする。ＵＶインプリントリソグラフィを通して基板にパターンを与える特定の方法が、いわゆるステップアンドフラッシュインプリントリソグラフィ（ＳＦＩＬ）であり、これは、ＩＣ製造で従来使用されている光学的ステッパと同様の方法にて、小さいステップで基板にパターンを与えるために使用される。ＵＶインプリントに関するさらなる情報については、例えば米国公開特許出願第２００４−０１２４５６６号、米国特許第６，３３４，９６０号、ＰＣＴ特許公開第ＷＯ０２／０６７０５５、および「Mold-assisted nanolithography: A process for reliable pattern replication」と題したJ. Haismaの記事（J. Vac. Sci. Technol. B14(6)、１９９６年１１／１２月）を参照されたい。
【０００７】
[0007]  以上のインプリント技術を組み合わせることも可能である。例えば米国公開特許出願第２００５−０２７４６９３号を参照されたい。これは、レジストの加熱とＵＶ硬化の組合せについて言及している。
【０００８】
[0008]  熱硬化性／熱可塑性ポリマ樹脂１５またはＵＶ硬化性樹脂１７などのインプリント可能な媒体がインプリントされたら、インプリントされたパターンを損傷せずに、テンプレートを媒体から剥離しなければならない。損傷は、媒体の強度を超えた応力を媒体内に導入することによって引き起こされることがある。例えば、往々にしてあることだが、テンプレートを媒体から剥離するためにこれに作用する力の方向が、インプリントされた媒体の表面に完全に垂直ではない場合、テンプレートが横方向に動き、インプリントされたパターンの注型構造を損傷することがある。
【０００９】
[0009]  図２ａは、基板２２上に支持されてパターンが与えられたインプリント可能な媒体２１からインプリントテンプレート２０を剥離するための理想化された機構を示す。テンプレート２０を媒体２１に接触させて、所定のパターンをインプリントし、その後に矢印Ａの方向で媒体２１からテンプレート２０を剥離するように、テンプレート２０がインプリントアクチュエータ２４によってインプリント軸線２３に沿って線形変位する。図２に示す理想的な状態では、インプリント軸線２３が媒体２１のパターン付き表面２５に対して垂直であり、したがって媒体２１からテンプレート２０を剥離しても、パターン付き媒体２１の注型構造２６に損傷を引き起こさない。
【００１０】
[00010]  図２ｂは、インプリント可能な媒体２１からテンプレート２０を剥離する実際的な機構を示している。通常、実際にはインプリントアクチュエータ２４は、媒体２１からテンプレート２０を剥離する間に、テンプレート２０をインプリント軸線２３に沿って完璧に直線状には変位させることができない。アクチュエータ２４は通常、インプリント軸線２３に対して角度的に片寄った剥離軸線２７に沿って、テンプレート２０を変位させる。その結果、テンプレート２０の横方向への変位が生じ、媒体２１の剥離中に、テンプレート２０が矢印Ｂの方向に動いてしまう。テンプレート２０はもはや、媒体２１のパターン付き表面２５に対して垂直に変位していないので、パターン付き媒体２１の注型構造２６が損傷されることがある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
[00011]  例えば、本技術分野に関連する問題を克服または緩和するインプリントリソグラフィ装置および方法を提供することが望ましい。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
[00012]  本発明の態様によれば、インプリントアクチュエータに作動自在に接続されたインプリントテンプレートを含むインプリントリソグラフィ装置が提供される。インプリントアクチュエータは、インプリント軸線に沿ってテンプレートを変位させ、テンプレートをインプリント可能な媒体に接触させるように駆動可能である。テンプレートは、インプリント可能な媒体からテンプレートを剥離する間に、インプリント軸線に対して実質的に垂直である軸線に沿って、テンプレートに対してアクチュエータを実質的に自由に変位できるように構成された軸受部を介してアクチュエータに接続される。
【００１３】
[00013]  本発明の態様によれば、テンプレートをインプリント可能な媒体に接触させるように、インプリント軸線に沿ってインプリントテンプレートを変位させるためにインプリントアクチュエータを駆動すること、および、インプリント可能な媒体からテンプレートを剥離することを含むインプリントリソグラフィの方法が提供される。テンプレートは、インプリント可能な媒体からテンプレートを剥離する間に、インプリント軸線に対して実質的に垂直である軸線に沿って、テンプレートに対してアクチュエータを実質的に自由に変位できるように構成された軸受部を介してアクチュエータに接続される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
[00024]  図３は、パターンが与えられて基板３２上に支持されたインプリント可能な媒体３１からインプリントテンプレート３０を剥離する間の、本発明の実施形態によるインプリントリソグラフィ装置を概略的に示している。図２ａおよび図２ｂに示した装置と同じ方法で、テンプレート３０を媒体３１と接触させ、注型構造３６で構成された媒体３１上にパターン付き表面３５を提供するように、インプリントアクチュエータ３４によってテンプレート３０をインプリント軸線３３に沿って直線状に変位させる。図３に示した装置は、真空を事前に装填した空気軸受部３８がアクチュエータ３４をテンプレートに作動自在に接続するという点で、図２ａおよび図２ｂの装置とは異なる。空気軸受部３８は、アクチュエータ３４とテンプレート３０の間に基本的に摩擦がない接触部を提供し、それによってアクチュエータ３４は、インプリント可能な媒体３１からテンプレート３０を剥離する間に、テンプレート３０に対して矢印Ｄの方向へと横向きに実質的に自由に変位することができる。空気軸受部３８は、アクチュエータ３４が、テンプレート３０に面内力を加えずに、テンプレート３０に対して、インプリント軸線３３と一致する剥離軸線３７に沿って直線状に引っ張り力を加えることができるように構成される。この方法で、アクチュエータ３４は、インプリント可能な媒体３１がテンプレート３０を正確なｘｙＲZ位置（つまり面内位置）に維持するのと同時に、テンプレート３０が媒体３１から十分に剥離されるまで、テンプレート３０を剥離する力を与える。
【００１５】
[00025]  剥離した後、テンプレート３０はｘｙＲZ位置に限定されないので、アクチュエータ３４に対するテンプレート３０の横向きの変位を制限するために、位置リミッタ（図示せず）を設ける。
【００１６】
[00026]  テンプレート３０のｘｙＲZ位置（つまり面内位置）が、アクチュエータ３４によって与えられる引っ張り力ではなく、インプリント可能な媒体３１によって制御されている場合は、テンプレート３０の横向きの変位を回避することができる。そのためには、テンプレート３０の剥離中に媒体３１に余分な応力が一切導入されないように、アクチュエータ３４のｘｙＲZ剛性（つまり面内剛性）が可能な限りゼロに近くなければならない。
【００１７】
[00027]  図４ａから図４ｄは、図３に示した空気軸受部３８およびテンプレート３０の構造の詳細を概略的に示している。図４ａには、空気軸受部３８およびテンプレート３０の側面図が図示され、図４ｂは、空気軸受部３８の平面図を提供する。空気軸受部３８は、低圧領域４１を囲む高圧領域４０を備える。
【００１８】
[00028]  「高圧」という用語は、大気圧ｐaより高い圧力に関係すると理解されたい。「低圧」という用語は、大気圧ｐaより低い圧力に関係すると理解されたい。低圧領域４１は実質的に真空でよい。
【００１９】
[00029]  図４ｃを参照すると、空気軸受部３８は、高圧領域４０を提供するように高圧ガスＰs（例えば空気）を提供する高圧流路４２が接続されたハウジング３９を備える。低圧領域４１は、ハウジング３９に接続された低圧流路（図示せず）を介してハウジング３９の窪んだ内部区間４３に低圧ガス（例えば空気）を供給することによって提供される。ハウジング３９は、任意の都合のよいサイズおよび形状でよいが、例えば幅が約３０ｍｍでよく、窪んだ内部区間４３は、例えば幅が約２４ｍｍでよい。
【００２０】
[00030]  次に図４ｄを参照すると、高圧領域４０と低圧領域４１の適切な平衡を維持することにより、アクチュエータ３４がテンプレート３０に引っ張り力を与え、それと同時にハウジング３９とテンプレート３０との直接接触を防止できることを保証するように、テンプレート３０から空気軸受部ハウジング３９までの間隔ｈを慎重に制御することができる。
【００２１】
[00031]  軸受部の負荷容量は、軸受部が耐えることができる最大負荷である。単なる例示により、５バールの供給圧力ｐsで、上述した高圧および低圧領域の例示的寸法を使用すると、軸受部の負荷容量は下式の通りである。
【数１】
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【００２２】
[00032]  真空の事前負荷は、負荷容量の５０％に選択される。つまり２２．６８Ｎである。高圧および低圧領域の所与の寸法で、これは、中央の真空供給部で獲得できる現実的な値の０．６バール（＝０．４バール低圧）という真空レベルを使用することによって実現することができる。
【００２３】
[00033]  （２の安全係数で）最大の引っ張り力は（４５．３６−２２．６８）／２＝１１．３４Ｎである。この最大力は、真空圧を低下させることによって事前負荷を増加させ、さらに増加させることができる。真空圧をさらに低下させるには、中央の真空供給部ではなく真空ポンプを使用することができる。例えば、真空圧を０．６バールから０．２バールへと低下させると、事前負荷が２２．６８Ｎから４６．０８Ｎへと増加し、これによって最大引っ張り力を増加させることができる。事前負荷の力は、軸受部がテンプレートと接触しないことを保証するために、軸受部の負荷容量を超えてはならない。さらに、インプリント中に、事前負荷の力と（インプリントを作成する）押す力との和が、軸受部の負荷容量を超えてはならない。
【００２４】
[00034]  別の実施形態では、空気軸受部の代わりに、またはそれに加えて、磁気軸受部を設ける。磁気軸受部は、同じ極性の位置合わせされた第1の対の磁石を提供し、磁石の対の１つが、アクチュエータおよびテンプレートの各々と関連する。磁気軸受部は、反対の極性の位置合わせされた第２の対の磁石によって事前に負荷が与えられ、磁石の第２の対の１つが、アクチュエータおよびテンプレートの各々と関連する。
【００２５】
[00035]  図５は、インプリントリソグラフィ装置の別の実施形態を示している。図５に示す実施形態では、第一の実施形態の空気軸受部３８（図３から図４ｄに図示）の代わりに流体膜５８（例えば水を含む）があり、これもインプリント可能な媒体５１からテンプレート５０を矢印Ｅの方向に剥離する間に、テンプレート５０に対してアクチュエータ５４が実質的に自由に横向きに変位できるようにする。媒体５１は基板５２に支持されている。流体膜５８は、媒体５１のパターン付き表面５５の注型構造５６に損傷を与えるような面内力をテンプレート５０に加えずに、アクチュエータ５４がテンプレート５０を剥離軸線５７（インプリント軸線５３と一致する）に沿って直線状に引っ張れるような適切な物理的特性を有する。剥離した後、テンプレート５０はｘｙＲＺ方向に限定されないので、アクチュエータ５４に対するテンプレート５０の横向きの変位を制限するために、位置リミッタ（図示せず）を設ける。
【００２６】
[00036]  特定の用途では、流体膜軸受部５８への低圧、または真空、事前負荷（図示せず）を使用することが望ましい。
【００２７】
[00037]  図６および図７は、インプリントリソグラフィ装置の別の実施形態を示している。図６および図７に示す実施形態では、第一の実施形態の空気軸受部３８（図３から図４ｄに図示）の代わりに線ばね６８（板ばねまたは折り曲げた板ばねも使用することができる）の形態のバイアス（付勢）手段があり、これはインプリント可能な媒体６１からテンプレート６０を矢印Ｆの方向に剥離する間に、テンプレート６０に対してアクチュエータ６４が実質的に自由に横向きに変位できるようにする。媒体６１は基板６２に支持されている。媒体は、パターンが与えられると、注型構造６６を含むパターン付き表面６５を有する。図６および図７には２つの線ばね６８が見えるが、任意の適切な数の線ばね６８を使用してよいことが認識される。例えば、２つ、３つ、４つまたはそれ以上の線ばね６８を使用してよい。３つの線ばね６８を使用することが特に好ましい。
【００２８】
[00038]  ばね系の軸受部６８は空気軸受部３８より、および場合によっては流体膜軸受部５８より大きい面内合成を呈することができるが、面内合成はそれでも、実際にはアクチュエータ６４がテンプレート６０に対して実質的に自由に横向きに変位できるように十分小さいことが認識される。面内剛性は、線または板ばね６８の長さを短縮することによって、さらに低下させることができる。
【００２９】
[00039]  図７は、パターンを与える前に、テンプレート６０がインプリント軸線６３に沿ってインプリント可能な媒体６１に向かって矢印Ｇの方向に変位する間の図６に示した装置を示す。
【００３０】
[00040]  テンプレートの位置決め精度を達成するために、軸受部の面内剛性は、テンプレートの剥離中に必要な低い面内剛性とは対照的に、比較的高くなければならない。その結果、軸受部の面内剛性は、テンプレートの配置中の高い精度を生じるための非常に高い値から、テンプレートの剥離中はインプリント可能な媒体内の応力を小さくする非常に低い値へと切り換えねばならない。例えば、上述した実施形態のように気体軸受部を使用する場合、剛性の切り換えは、テンプレート３０が低圧（好ましくは真空）事前負荷によって空気軸受部３８へとクランプされるように、高圧ガスを低下させるか、完全にオフに切り換えることによって達成することができる。上述した実施形態のようにばね系軸受部６８を使用する場合は、インプリント可能な媒体６１に接触するテンプレート６０の表面６９に、またはそれに隣接して仮想回転ポイントを生成するように、テンプレートと接触する端部よりアクチュエータと接触する端部の方が間隔が大きいよう、ばね６８の相対的方向を変化させることができる（矢印Ｈで表す）。この場合、テンプレート６０のｘ、ｙまたはｚを中心とする回転が自由な状態のまま、軸受部６８の面内剛性を増加させ、テンプレート６０がインプリント可能な媒体６１に対して自動的に配向されるようにする。
【００３１】
[00041]  以上の実施形態は単に例示によって提示され、請求の範囲で定義される本発明から逸脱することなく、以上の実施形態を様々に改造できることが、当業者には認識される。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１ａ】[00014]  マイクロコンタクト印刷インプリントリソグラフィの例を概略的に示した図である。
【図１ｂ】[00015]  ホットインプリントリソグラフィの例を概略的に示した図である。
【図１ｃ】[00016]  ＵＶインプリントリソグラフィの例を概略的に示した図である。
【図２ａ】[00017]  パターンを与えた後にインプリント可能な媒体からテンプレートを剥離する理想的な機構を概略的に示した図である。
【図２ｂ】[00018]  パターンを与えた後にインプリント可能な媒体からテンプレートを剥離する実際的な機構を概略的に示した図である。
【図３】[00019]  インプリント可能な媒体からテンプレートを剥離する間のインプリントリソグラフィ装置の実施形態を概略的に示した図である。
【図４】[00020]  図４ａから図４ｄは、図３の装置のさらに詳細なフィーチャを概略的に示した図である。
【図５】[00021]  インプリント可能な媒体からテンプレートを剥離する間のインプリントリソグラフィ装置の実施形態を概略的に示した図である。
【図６】[00022]  インプリント可能な媒体からテンプレートを剥離する間のインプリントリソグラフィ装置のインプリントリソグラフィ装置の実施形態を概略的に示した図である。
【図７】[00023]  テンプレートをインプリント可能な媒体に向かって変位させる間の図６のインプリントリソグラフィ装置の実施形態を概略的に示した図である。
【図２ａ】
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【図２ｂ】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
2008306171.tif 000008
【図６】
2008306171.tif 000009
【図７】
2008306171.tif 000010
【図１ａ】
2008306171.tif 000011
【図１ｂ】
2008306171.tif 000012
【図１ｃ】
2008306171.tif 000013
【外国語明細書】
2008306171000001.pdf