(57)【要約】【課題】本発明は、処理液による処理領域を選択することができ、さらに処理液の省液化を図ることができる液処理方法を提供することを主目的とする。【解決手段】本発明は、被処理基板と、上記被処理基板に対して、表面張力により処理液を保持可能な距離に配置された対向部材とを用い、上記被処理基板および上記対向部材の間に、上記処理液を供給することにより、上記被処理基板の表面を処理することを特徴とする液処理方法を提供することにより、上記課題を解決する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理基板と、前記被処理基板に対して、表面張力により処理液を保持可能な距離に配置された対向部材とを用い、
前記被処理基板および前記対向部材の間に、前記処理液を供給することにより、前記被処理基板の表面を処理することを特徴とする液処理方法。
【請求項２】
前記処理液が、前記被処理基板の表面を現像する現像液であることを特徴とする請求項１に記載の液処理方法。
【請求項３】
前記被処理基板が、基板と、前記基板上に形成され、露光による潜像パターンが形成された露光後樹脂層とを有することを特徴とする請求項２に記載の液処理方法。
【請求項４】
前記被処理基板が、基板と、前記基板上に形成され、ポジ型感光性樹脂を含有する感光性樹脂層とを有し、
前記対向部材が、前記感光性樹脂層を露光する露光装置であり、
前記感光性樹脂層を露光する露光処理と、露光による潜像パターンが形成された露光後樹脂層を現像する現像処理と、を同時に行うことを特徴とする請求項２に記載の液処理方法。
【請求項５】
前記対向部材が、前記処理液と接する表面に光触媒を有することを特徴とする請求項２に記載の液処理方法。
【請求項６】
前記対向部材が、加熱機能を有することを特徴とする請求項２に記載の液処理方法。
【請求項７】
前記処理液が、前記被処理基板の表面に機能層を形成する機能層形成用塗工液であることを特徴とする請求項１に記載の液処理方法。
【請求項８】
前記機能層形成用塗工液が、感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成用塗工液、感熱性樹脂層を形成する感熱性樹脂層形成用塗工液、または離型層を形成する離型層形成用塗工液であることを特徴とする請求項７に記載の液処理方法。
【請求項９】
前記処理液が、前記被処理基板の表面を洗浄する洗浄液であることを特徴とする請求項１に記載の液処理方法。
【請求項１０】
前記被処理基板が、基板と、前記基板上に形成され、現像液により現像された現像後樹脂層とを有することを特徴とする請求項９の液処理方法。
【請求項１１】
前記被処理基板が、インプリント用テンプレートであることを特徴とする請求項９に記載の液処理方法。
【請求項１２】
被処理基板を保持する被処理基板保持手段と、前記被処理基板に対して、表面張力により処理液を保持可能な距離に配置された対向部材と、前記被処理基板および前記対向部材の間に前記処理液を供給する処理液供給手段と、を有することを特徴とする液処理装置。
【請求項１３】
前記被処理基板および前記対向部材の間に供給された前記処理液を回収する処理液回収手段を有することを特徴とする請求項１２に記載の液処理装置。
【請求項１４】
前記被処理基板および前記対向部材の間に供給された前記処理液を噴霧して除去する噴霧除去手段を有することを特徴とする請求項１２または請求項１３に記載の液処理装置。
【請求項１５】
基板上に感光性樹脂層形成用塗工液を塗工する感光性樹脂塗工工程と、
前記感光性樹脂層形成用塗工液により形成された感光性樹脂層を露光する露光工程と、
前記露光工程により形成された露光後樹脂層を現像する現像工程と、
前記現像工程により形成された現像後樹脂層を洗浄する洗浄工程と、
を有するパターン形成体の製造方法であって、
前記感光性樹脂塗工工程、前記現像工程および前記洗浄工程の少なくとも一つの工程を、請求項１に記載の液処理方法により行うことを特徴とするパターン形成体の製造方法。
【請求項１６】
前記露光工程と、前記現像工程とを同時に行うことを特徴とする請求項１５に記載のパターン形成体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、処理液による処理領域を選択することができ、さらに処理液の省液化を図ることができる液処理方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来の現像方法の一つとして、スピナによる現像が知られている。例えば特許文献１〜５には、スピナによる現像に関する技術が開示されているが、このスピナによる現像には以下のような問題があった。すなわち、スピナによる現像は、基本的には被処理基板の全面を処理する方法であり、所望の領域を選択的に現像することには不向きであった。また、スピナによる現像は、遠心力を利用して現像する方法であるため、被処理基板の形状等によっては現像ムラが発生する可能性があり、製品の歩留まりを下げる原因となっていた。さらには、スピナによる現像は、大量の現像液を必要とするため、製造コストを上昇させるといった問題があった。そのため、所望の領域を現像ムラなく少量の現像液で現像する方法等が望まれている。
【０００３】
一方、従来の露光方法の一つとして、液浸露光という手法が知られている。液浸露光とは、ステッパーの投影レンズ等と被処理基板との間を、液体で満たすことによって、より解像度の高い露光を行う技術である。例えば特許文献６および７には、液浸露光に関する技術が開示されている。従来の液浸露光においては、上述したように、主に解像度の高い露光を行うことを目的としたものであって、露光後に別の現像装置を用いて現像を行うことが一般的であった。すなわち、投影レンズおよび被処理基板の間に満たされる液体は、解像度を向上させる機能を有しているに過ぎず、その他の機能については何ら開示がされていなかった。また、例えば特許文献８には、洗浄装置付モールド装置に関する技術が開示されている。
【特許文献１】特開昭５２−１４９９７８号公報
【特許文献２】特開昭５４−１０２１２３号公報
【特許文献３】特公昭６２−５５１３２号公報
【特許文献４】特公昭６０−５３３０５号公報
【特許文献５】ＷＯ９９／０４９５０４号
【特許文献６】特公昭６３−４９８９３号公報
【特許文献７】特開平６−１２４８７３号公報
【特許文献８】特開平１１−１３８５６０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、処理液による処理領域を選択することができ、さらに処理液の省液化を図ることができる液処理方法を提供することを主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決するために、本発明においては、被処理基板と、上記被処理基板に対して、表面張力により処理液を保持可能な距離に配置された対向部材とを用い、上記被処理基板および上記対向部材の間に、上記処理液を供給することにより、上記被処理基板の表面を処理することを特徴とする液処理方法を提供する。
【０００６】
本発明によれば、表面張力を利用して被処理基板を処理する方法であるため、所望の領域を選択的に処理することができる。さらに、通常、被処理基板と対向部材との間隔は、非常に狭くなるため、処理液の省液化を図ることができ、製造コストの低減を図ることができる。
【０００７】
上記発明においては、上記処理液が、上記被処理基板の表面を現像する現像液であることが好ましい。少ない現像液で所望の領域を現像することができるからである。
【０００８】
上記発明においては、上記被処理基板が、基板と、上記基板上に形成され、露光による潜像パターンが形成された露光後樹脂層とを有することが好ましい。既に露光された露光後樹脂層を有する被処理基板を用いることで、容易に露光後樹脂層の現像を行うことができるからである。
【０００９】
上記発明においては、上記被処理基板が、基板と、上記基板上に形成され、ポジ型感光性樹脂を含有する感光性樹脂層とを有し、上記対向部材が、上記感光性樹脂層を露光する露光装置であり、上記感光性樹脂層を露光する露光処理と、露光による潜像パターンが形成された露光後樹脂層を現像する現像処理と、を同時に行うことが好ましい。露光処理および現像処理を同時に行うことにより、より少ない工程数で、パターン形成体を得ることができるからである。
【００１０】
上記発明においては、上記対向部材が、上記処理液と接する表面に光触媒を有することが好ましい。例えば現像終了後に、断片状の感光性樹脂等の異物が対向部材の表面に付着した場合に、光触媒に光を照射することで、異物等を除去することができるからである。
【００１１】
上記発明においては、上記対向部材が、加熱機能を有することが好ましい。例えば処理液の温度を調整したり、対向部材の表面を乾燥したり、被処理基板を加熱したりすることができるからである。
【００１２】
上記発明においては、上記処理液が、上記被処理基板の表面に機能層を形成する機能層形成用塗工液であることが好ましい。少ない塗工液で所望の領域に機能層を形成することができるからである。
【００１３】
上記発明においては、上記機能層形成用塗工液が、感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成用塗工液、感熱性樹脂層を形成する感熱性樹脂層形成用塗工液、または離型層を形成する離型層形成用塗工液であることが好ましい。所望の領域に、感光性樹脂層、感熱性樹脂層、または離型層を形成することができるからである。
【００１４】
上記発明においては、上記処理液が、上記被処理基板の表面を洗浄する洗浄液であることが好ましい。少ない洗浄液で所望の領域を洗浄することができるからである。
【００１５】
上記発明においては、上記被処理基板が、基板と、上記基板上に形成され、現像液により現像された現像後樹脂層とを有することが好ましい。既に現像された現像後樹脂層を有する被処理基板を用いることで、容易に現像後樹脂層の洗浄を行うことができるからである。
【００１６】
上記発明においては、上記被処理基板が、インプリント用テンプレートであることが好ましい。インプリント後に付着した異物等を除去することができるからである。
【００１７】
また本発明においては、被処理基板を保持する被処理基板保持手段と、上記被処理基板に対して、表面張力により処理液を保持可能な距離に配置された対向部材と、上記被処理基板および上記対向部材の間に上記処理液を供給する処理液供給手段と、を有することを特徴とする液処理装置を提供する。
【００１８】
本発明によれば、表面張力を利用して被処理基板を処理できるため、所望の領域を選択的に処理することができる。さらに、通常、被処理基板と対向部材との間隔は、非常に狭くなるため、処理液の省液化を図ることができ、製造コストの低減を図ることができる。
【００１９】
上記発明においては、上記被処理基板および上記対向部材の間に供給された上記処理液を回収する処理液回収手段を有することが好ましい。処理液回収手段を設けることにより、処理液の飛散防止や再利用を図ることができるからである。
【００２０】
上記発明においては、上記被処理基板および上記対向部材の間に供給された上記処理液を噴霧して除去する噴霧除去手段を有することが好ましい。噴霧除去手段を設けることにより、処理液の除去を迅速に行うことができるからである。
【００２１】
また本発明においては、基板上に感光性樹脂層形成用塗工液を塗工する感光性樹脂塗工工程と、上記感光性樹脂層形成用塗工液により形成された感光性樹脂層を露光する露光工程と、上記露光工程により形成された露光後樹脂層を現像する現像工程と、上記現像工程により形成された現像後樹脂層を洗浄する洗浄工程と、を有するパターン形成体の製造方法であって、上記感光性樹脂塗工工程、上記現像工程および上記洗浄工程の少なくとも一つの工程を、上述した液処理方法により行うことを特徴とするパターン形成体の製造方法を提供する。
【００２２】
本発明によれば、表面張力を利用するため、所望の領域を選択的に処理することができ、用いられる処理液の省液化を図ることができ、製造コストの低減を図ることができる。また、同一被処理基板面内で処理条件を変えることができるので、従来の全面を一括で処理する方法と異なり、面内で特性が不均一な被処理基板においても、各々の場所の特性に最適な処理条件を選ぶことができる。例えば、現像処理において面内中心部と外周部で膜厚の異なる感光性樹脂層を、現像時間を変えて現像して現像後のパターン形状を均一にすることができる。
【００２３】
上記発明においては、上記露光工程と、上記現像工程とを同時に行うことが好ましい。効率良くパターン形成体を得ることができるからである。
【発明の効果】
【００２４】
本発明においては、表面張力を用いることで、被処理基板の特定の領域に、選択的に現像、塗布、洗浄等の処理を図ることができるという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下、本発明の液処理方法、液処理装置およびパターン形成体の製造方法について詳細に説明する。
【００２６】
Ａ．液処理方法
まず、本発明の液処理方法について説明する。本発明の液処理方法は、被処理基板と、上記被処理基板に対して、表面張力により処理液を保持可能な距離に配置された対向部材とを用い、上記被処理基板および上記対向部材の間に、上記処理液を供給することにより、上記被処理基板の表面を処理することを特徴とするものである。
【００２７】
本発明によれば、表面張力を利用して被処理基板を処理する方法であるため、所望の領域を選択的に処理することができる。さらに、通常、被処理基板と対向部材との間隔は、非常に狭くなるため、処理液の省液化を図ることができ、製造コストの低減を図ることができる。また、上述したように、従来の液浸露光は、主に解像度を高くすることを主目的とするものであり、投影レンズと被処理基板との間に満たされる液体としては、主として純水等が用いられてきた。これに対して、本発明の液処理方法は、被処理基板と対向部材との間に、例えば現像液、塗工液および洗浄液等の処理液を用いることで、処理領域の選択化や処理液の省液化を図ったものである。また、従来のスピナによる現像と比較すると、本発明の液処理方法は、被処理基板等を回転させる必要が無いため、現像ムラの発生を抑制することができるという利点を有する。
【００２８】
次に、本発明の液処理方法について図面を用いて説明する。図１は、本発明の液処理方法の一例を示す説明図である。図１に示される液処理方法は、被処理基板１と、被処理基板１に対して、表面張力により処理液を保持可能な距離に配置された対向部材２とを用い（図１（ａ））、被処理基板１および対向部材２の間に、処理液３を供給することにより、被処理基板１の表面を処理する方法である。
【００２９】
本発明においては、被処理基板と対向部材とを、表面張力により処理液を保持可能な距離をあけて配置する。「表面張力により処理液が保持可能な距離」とは、水平に保持された被処理基板および対向部材の間に処理液を供給した場合に、表面張力の影響により、その処理液が、被処理基板および対向部材の間に保持することができる距離をいう。実際に用いられる被処理基板、対向部材および処理液を用いて試験を行うことにより、「表面張力により処理液が保持可能な距離」に該当するか否かを判断することができる。被処理基板と対向部材との距離としては、用いられる処理液の種類等により異なるものであり、特に限定されるものではないが、例えば１０ｍｍ以下であることが好ましい。また、被処理基板と対向部材との距離は、処理中に固定であっても良く、可変であっても良い。
【００３０】
本発明においては、通常、対向部材が処理液と接触する接触面積が、処理液が被処理基板に処理を施す処理面積と一致する。上記接触面積としては、特に限定されるものではないが、例えば０．２５ｃｍ２〜１５ｃｍ２の範囲内であることが好ましい。対向部材と処理液との接触面積が上記範囲内であれば、現像ムラの発生をさらに抑制することができるからである。
【００３１】
本発明においては、被処理基板および対向部材の間隙に処理液を供給することにより、被処理基板の表面を処理するが、その際、所定量の処理液を間隙に保持した状態で被処理基板の表面を処理しても良く、処理液を間隙に流通させて被処理基板の表面を処理しても良い。処理液を保持させるか、流通させるか等については、用いられる被処理基板の種類等を考慮して適宜選択することが好ましい。また、本発明の液処理方法においては、供給した処理液の回収を行ったり、供給した処理液の噴霧除去を行ったりしても良い。その詳細については、後述する「Ｂ．液処理装置」で説明する。
【００３２】
本発明の液処理方法は、被処理基板と対向部材とを特定の間隔で配置し、その間隙に処理液を供給することにより、被処理基板の表面を処理する方法であれば特に限定されるものではないが、具体的には、処理液が被処理基板の表面を現像する現像液である実施態様（第一実施態様）、処理液が被処理基板の表面に機能層を形成する機能層形成用塗工液である実施態様（第二実施態様）、および処理液が被処理基板の表面を洗浄する洗浄液である実施態様（第三実施態様）等を挙げることができる。また、これらの方法を組み合わせることもできる。
以下、本発明の液処理方法について、実施態様ごとに説明する。
【００３３】
１．第一実施態様
本発明の液処理方法における第一実施態様は、上記処理液が、上記被処理基板の表面を現像する現像液である態様である。本実施態様によれば、少ない現像液で所望の領域を現像することができる。
【００３４】
次に、本実施態様の液処理方法について図面を用いて説明する。図２は、本実施態様の液処理方法の一例を説明する説明図である。図２に示される液処理方法は、基板４と、基板４上に形成され、既に露光による潜像パターンが形成された露光後樹脂層６とを有する被処理基板１を用意し（図２（ａ））、この被処理基板１に対して、表面張力により処理液を保持可能な距離に対向部材２を配置し（図２（ｂ））、被処理基板１および対向部材２の間に処理液として現像液３ａを供給し（図２（ｃ））、露光後樹脂層６を現像する方法である（図２（ｄ））。
【００３５】
図３は、本実施態様の液処理方法の他の例を説明する説明図である。図３に示される液処理方法は、基板４と、基板４上に形成され、ポジ型感光性樹脂を含有する感光性樹脂層５とを有する被処理基板１を用意し（図３（ａ））、この被処理基板１に対して、表面張力により処理液を保持可能な距離に、感光性樹脂層５を露光する露光装置の投影レンズ（対向部材２）を配置し（図３（ｂ））、被処理基板１および対向部材２の間に処理液として現像液３ａを供給し、同時にエネルギーＡを照射することにより、露光処理および現像処理を同時に行い（図３（ｃ））、感光性樹脂層５を露光現像する方法である（図３（ｄ））。
以下、本実施態様に用いられる、被処理基板、対向部材および現像液等について説明する。
【００３６】
（１）被処理基板
まず、本実施態様に用いられる被処理基板について説明する。本実施態様に用いられる被処理基板は、現像液により現像されるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、基板と、上記基板上に形成され、露光による潜像パターンが形成された露光後樹脂層とを有するものを挙げることができる。既に露光された露光後樹脂層を有する被処理基板を用いることで、容易に露光後樹脂層の現像を行うことができる。
【００３７】
上記基板としては、現像液に対する耐性を有するものであれば特に限定されるものではないが、例えば、石英およびソーダライムガラス等のガラス；シリコン（Ｓｉ）、窒化ガリウム（ＧａＮ）およびガリウム砒素（ＧａＡｓ）等の半導体；ニッケル（Ｎｉ）およびアルミニウム（Ａｌ）等の金属；窒化シリコン（ＳｉＮ）、酸化シリコン（ＳｉＯ２）および炭化シリコン（ＳｉＣ）等のセラミックス；ダイヤモンド、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）、グラシーカーボンおよび立方晶窒化ホウ素（ＣＢＮ）等を挙げることができる。中でも、石英およびシリコン（Ｓｉ）がより好ましく、石英が特に好ましい。
上記基板の厚みとしては、特に限定されるものではないが、通常、５０μｍ〜５００μｍ程度である。
【００３８】
上記露光後樹脂層は、通常、感光性樹脂を含有する感光性樹脂層に対して、所定のパターンの露光を行うことにより得られるものである。上記感光性樹脂は、感光するものであれば、ポジ型感光性樹脂であっても良く、ネガ型感光性樹脂であっても良い。上記ポジ型感光性樹脂としては、例えば、フェノールエポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド、シクロオレフィン等を挙げることができる。具体的には、ＩＰ３５００（ＴＯＫ社製）、ＰＦＩ２７（住友化学社製）、ＺＥＰ７０００（ゼオン社製）等を挙げることができる。一方、ネガ型感光性樹脂としては、例えば、アクリル樹脂等を挙げることができる。具体的には、ポリグリシジルメタクリレート（ＰＧＭＡ）、化学増幅型のＳＡＬ６０１（シプレ社製）等を挙げることができる。
上記露光後樹脂層の厚みとしては、特に限定されるものではないが、通常１０ｎｍ〜１０μｍ程度である。
【００３９】
また、本実施態様に用いられる被処理基板の他の例として、基板と、上記基板上に形成され、ポジ型感光性樹脂を含有する感光性樹脂層とを有するものを挙げることができる。このような被処理基板を用いた場合であって、さらに、後述するように対向部材が露光装置である場合においては、露光処理および現像処理を同時に行うことができるという利点を有する。
【００４０】
すなわち、本実施態様においては、上記被処理基板が、基板と、上記基板上に形成され、ポジ型感光性樹脂を含有する感光性樹脂層とを有し、上記対向部材が、上記感光性樹脂層を露光する露光装置であり、上記感光性樹脂層を露光する露光処理と、露光による潜像パターンが形成された露光後樹脂層を現像する現像処理と、を同時に行うことが好ましい。露光処理および現像処理を同時に行うことにより、より少ない工程数で、パターン形成体を得ることができるからである。なお、このような被処理基板を用いた場合における液処理方法の具体例については、上記図３で説明した内容と同様である。さらに、用いられる基板やポジ型感光性樹脂層についても、上記で説明した内容と同様であるので、ここでの説明は省略する。
【００４１】
（２）対向部材
次に、本実施態様に用いられる対向部材について説明する。本実施態様に用いられる対向部材は、上記被処理基板に対して、表面張力により処理液を保持可能な距離に配置されるものである。
【００４２】
上記対向部材が処理液と接する表面（処理液接触部）の材料としては、現像液に対する耐性を有するものであれば特に限定されるものではないが、例えば、石英およびソーダライムガラス等のガラス；シリコン（Ｓｉ）、窒化ガリウム（ＧａＮ）およびガリウム砒素（ＧａＡｓ）等の半導体；ニッケル（Ｎｉ）およびアルミニウム（Ａｌ）等の金属；窒化シリコン（ＳｉＮ）、酸化シリコン（ＳｉＯ２）および炭化シリコン（ＳｉＣ）等のセラミックス；ダイヤモンド、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）、グラシーカーボンおよび立方晶窒化ホウ素（ＣＢＮ）等を挙げることができる。
【００４３】
本実施態様においては、上記対向部材が、用いられる処理液等に特定の作用を及ぼす機能部材であることが好ましい。上記機能部材としては、特に限定されるものではないが、具体的には、露光装置、処理液と接する表面に光触媒を有するもの、加熱機能を有するもの、処理液と接する表面に処理液の流路を有するもの、およびこれらを組み合わせたもの等を挙げることができる。
【００４４】
上記対向部材が露光装置である場合、上述したように、露光前の感光性樹脂層を備えた被処理基板に対して、露光処理および現像処理を同時に行うことができる。また、例えば後述する光触媒を活性化させることもできる。上記対向部材が露光装置である場合、通常、露光装置の投影レンズと、被処理基板との間に、現像液が供給される。本実施態様に用いられる露光装置については、所望のパターンで感光性樹脂層を露光できるものであれば特に限定されるものではなく、一般的な露光装置をそのまま用いることができる。
【００４５】
上記対向部材が、処理液と接する表面に光触媒を有するものである場合、例えば現像終了後に、断片状の感光性樹脂等の異物が対向部材の表面に付着した場合に、光触媒に光を照射することで、異物等を除去することができる。上記光触媒は、対向部材の表面に薄膜状に形成されたものであっても良く、バインダを用いて対向部材の表面に固定化されたものであっても良い。上記光触媒の材料としては、光の照射により酸化力を発揮することができるものであれば特に限定されるものではないが、例えば二酸化チタン等を挙げることができる。
【００４６】
さらに、上記対向部材が、処理液と接する表面に光触媒を有するものである場合は、上記対向部材が、光を透過する透明部材であることが好ましい。対向部材に光を照射することで、光触媒を活性化させることができるからである。また、上述したように、例えば上記対向部材が露光装置である場合は、投影レンズを介して光照射を行うことで、光触媒を活性化させることができる。なお、上記対向部材が透明部材でない場合であっても、反射光等を利用して光触媒を活性化することができる。
【００４７】
上記対向部材が、加熱機能をするものである場合、例えば処理液の温度を調整したり、対向部材の表面を乾燥したり、被処理基板を加熱したりすることができる。例えば現像後にレジストをベーク／フローすることも可能である。加熱機能を有する対向部材としては、特に限定されるものではないが、具体的にはホットプレート等を挙げることができる。
【００４８】
上記対向部材が、処理液と接する表面に処理液の流路を有するものである場合、処理液（現像液）の流れを制御することができるという利点を有する。
【００４９】
（３）現像液
本実施態様に用いられる現像液としては、上記露光後樹脂層等を現像することができるものであれば特に限定されるものではなく、一般的な現像液を用いることができる。本実施態様においては、現像液の種類を、使用する感光性樹脂等の種類に応じて適宜選択することが好ましい。なお、上記露光後樹脂層等を現像した後に、純水等により現像液を流すリンス処理を行っても良い。
【００５０】
２．第二実施態様
本発明の液処理方法における第二実施態様は、上記処理液が、上記被処理基板の表面に機能層を形成する機能層形成用塗工液である態様である。本実施態様によれば、少ない塗工液で所望の領域に機能層を形成することができる。
【００５１】
次に、本実施態様の液処理方法について図面を用いて説明する。図４は、本実施態様の液処理方法の一例を説明する説明図である。図４に示される液処理方法は、石英製の被処理基板１を用意し（図４（ａ））、この被処理基板１に対して、表面張力により処理液を保持可能な距離に対向部材２を配置し（図４（ｂ））、被処理基板１および対向部材２の間に、処理液として感光性樹脂を含有する塗工液３ｂを供給し（図４（ｃ））、被処理基板１上に、感光性樹脂層５を形成する方法である（図４（ｄ））。
【００５２】
図５は、本実施態様の液処理方法の他の例を説明する説明図である。図５に示される液処理方法は、石英製のインプリント用テンプレート（被処理基板１）を用意し（図５（ａ））、この被処理基板１に対して、表面張力により処理液を保持可能な距離に対向部材２を配置し（図５（ｂ））、被処理基板１および対向部材２の間に、処理液として離型剤を含有する塗工液３ｂを供給し（図５（ｃ））、インプリント用テンプレートの表面に離型層８を形成する方法である（図５（ｄ））。
以下、本実施態様に用いられる、被処理基板、対向部材および機能層形成用塗工液等について説明する。
【００５３】
（１）被処理基板
まず、本実施態様に用いられる被処理基板について説明する。本実施態様に用いられる被処理基板は、後述する機能層を形成することができるものであれば特に限定されるものではない。例えば、機能層として感光性樹脂層を形成する場合は、被処理基板として、例えば上記「１．第一実施態様」に記載した基板等を用いることができる。また、機能層として離型層を形成する場合は、被処理基板として、インプリント用テンプレート等を用いることができる。インプリント用テンプレートの材料についても、上記「１．第一実施態様」に記載した基板に用いられる材料と同様の材料を用いることができる。
【００５４】
（２）対向部材
次に、本実施態様に用いられる対向部材について説明する。本実施態様に用いられる対向部材は、上記被処理基板に対して、表面張力により処理液を保持可能な距離に配置されるものである。なお、上記対向部材が処理液と接する表面（処理液接触部）の材料については、上記「１．第一実施態様」に記載した内容と同様であるので、ここでの説明は省略する。
【００５５】
本実施態様においては、上記対向部材が、用いられる処理液等に特定の作用を及ぼす機能部材であることが好ましい。上記機能部材としては、特に限定されるものではないが、具体的には、露光装置、処理液と接する表面に光触媒を有するもの、加熱機能を有するもの、処理液と接する表面に処理液の流路を有するもの、およびこれらを組み合わせたもの等を挙げることができる。上記機能部材の具体的な説明については、上記「１．第一実施態様」に記載した内容と同様であるので、ここでの説明は省略する。
【００５６】
上記対向部材が露光装置である場合であって、処理液として、感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成用塗工液を用いた場合においては、感光性樹脂層形成処理および露光処理を連続的に行うことができるという利点を有する。すなわち、本実施態様においては、上記処理液が、感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成用塗工液であり、上記対向部材が、上記感光性樹脂層を露光する露光装置であり、上記感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成処理と、上記感光性樹脂層を露光する露光処理と、を連続的に行うことが好ましい。なお、上記の場合においては、ポジ型感光性樹脂およびネガ型感光性樹脂のどちらを使用しても良い。また、上記対向部材が露光装置である場合、後述する光触媒を活性化することもできる。
【００５７】
上記対向部材が、処理液と接する表面に光触媒を有するものである場合、例えば、被処理基板上に機能層が形成された後に、光触媒に光を照射することにより、機能層と対向部材との剥離を容易にすることができる。また、対向部材の表面に異物が付着した場合に、光触媒に光を照射することで、異物等を除去することができる。
【００５８】
上記対向部材が、加熱機能をするものである場合、例えば処理液の温度を調整したり、対向部材の表面を乾燥したり、被処理基板を加熱したりすることができる。また例えば、処理液として感熱性樹脂を含有する塗工液を用い、機能層として感熱性樹脂層を形成した場合には、対向部材の機能により、感熱性樹脂層を熱硬化させたり、熱分解させたりすることができる。
【００５９】
上記対向部材が、処理液と接する表面に処理液の流路を有するものである場合、処理液（機能層形成用塗工液）の流れを制御することができるという利点を有する。
【００６０】
また、本実施態様においては、上記対向部材がインプリント装置であっても良い。その場合、通常、インプリント装置のモールドが光硬化性樹脂層等と接触する。つまり、上記対向部材がインプリント装置である場合であって、処理液として、光硬化性樹脂層を形成する光硬化性樹脂層形成用塗工液を用いた場合においては、光硬化性樹脂層形成処理および光硬化処理を連続的に行うことができるという利点を有する。すなわち、本実施態様においては、上記処理液が、光硬化性樹脂層を形成する光硬化性樹脂層形成用塗工液であり、上記対向部材が、上記光硬化性樹脂層をインプリントするインプリント装置であり、上記光硬化性樹脂層を形成する光硬化性樹脂層形成処理と、上記光硬化性樹脂層をインプリントするインプリント処理と、を連続的に行うことが好ましい。また、上記対向部材がインプリント装置である場合、後述する光触媒を活性化することもできる。
【００６１】
（３）機能層形成用塗工液
次に、本実施態様に用いられる機能層形成用塗工液について説明する。本実施態様に用いられる機能層形成用塗工液は、被処理基板上に機能層を形成するために用いられる塗工液である。
機能層形成用塗工液としては、特に限定されるものではないが、例えば感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成用塗工液、感熱性樹脂層を形成する感熱性樹脂層形成用塗工液、および離型層を形成する離型層形成用塗工液、融点以上の温度のガラスや金属等を挙げることができる。
【００６２】
感光性樹脂層形成用塗工液は、通常、感光性樹脂と、溶媒とを含有する。上記感光性樹脂は、ポジ型感光性樹脂であっても良く、ネガ型感光性樹脂であっても良い。上記感光性樹脂については、上記「１．第一実施態様」に記載した内容と同様であるので、ここでの説明は省略する。上記溶媒は、感光性樹脂を分散、溶解することができるものであれば特に限定されるものではない。
【００６３】
感光性樹脂層形成用塗工液の粘度としては、被処理基板と対向基板との間に供給できれば特に限定されるものではないが、例えば１ｍＰａ・ｓ〜６０ｍＰａ・ｓの範囲内、中でも２ｍＰａ・ｓ〜２０ｍＰａ・ｓの範囲内であることが好ましい。
【００６４】
一方、感熱性樹脂層形成用塗工液は、通常、感熱性樹脂と、溶媒とを含有する。上記感熱性樹脂としては、具体的には、熱硬化性樹脂および熱可塑性樹脂等を挙げることができる。上記熱硬化性樹脂としては、例えばフッ素系ポリマー等を挙げることができる。具体的には、オプスター(商品名、ＪＳＲ社製)等を挙げることができる。上記熱可塑性樹脂としては、例えばオレフィン系熱可塑性エラストマ等を挙げることができる。具体的にはエクセリンク(商品名、ＪＳＲ社製)等を挙げることができる。上記溶媒は、感熱性樹脂を分散、溶解することができるものであれば特に限定されるものではない。
【００６５】
感熱性樹脂層形成用塗工液の粘度としては、被処理基板と対向基板との間に供給できれば特に限定されるものではないが、例えば１ｍＰａ・ｓ〜６０ｍＰａ・ｓの範囲内、中でも２ｍＰａ・ｓ〜２０ｍＰａ・ｓの範囲内であることが好ましい。
【００６６】
また、離型層形成用塗工液は、通常、離型剤と、溶媒とを有する。上記離型剤としては、例えば、オプツール(ダイキン工業社製)、ＫＰ−８０１Ｍ(信越化学社製)、シリコーンオイル、リン酸エステル系化合物、フッ素系化合物等を挙げることができる。上記シリコーンオイルとしては、例えば、エポキシ変性シリコーンオイル、アルキル変性シリコーンオイル、アミノ変性シリコーンオイル、フッ素変性シリコーンオイル、フェニル変性シリコーンオイル、エポキシ・ポリエーテル変性シリコーンオイル、ビニル変性シリコーンオイル、ハイドロジェン変性シリコーンオイル等を挙げることができる。上記溶媒は、離型剤を分散、溶解することができるものであれば特に限定されるものではない。
【００６７】
離型層形成用塗工液の粘度としては、被処理基板と対向基板との間に供給できれば特に限定されるものではないが、例えば０．１ｍＰａ・ｓ〜１０ｍＰａ・ｓの範囲内、中でも０．１ｍＰａ・ｓ〜１ｍＰａ・ｓの範囲内であることが好ましい。
【００６８】
３．第三実施態様
本発明の液処理方法における第三実施態様は、上記処理液が、上記被処理基板の表面を洗浄する洗浄液である態様である。本実施態様によれば、少ない洗浄液で所望の領域を洗浄することができる。
【００６９】
次に、本実施態様の液処理方法について図面を用いて説明する。図６は、本実施態様の液処理方法の一例を説明する説明図である。図６に示される液処理方法は、基板４と、基板４上に形成され、現像液により現像された現像後樹脂層７とを有する被処理基板１を用意し（図６（ａ））、この被処理基板１に対して、表面張力により処理液を保持可能な距離に対向部材２を配置し（図６（ｂ））、被処理基板１および対向部材２の間に処理液として洗浄液３ｃを供給し（図６（ｃ））、現像後樹脂層７を洗浄する方法である（図６（ｄ））。
【００７０】
図７は、本実施態様の液処理方法の他の例を説明する説明図である。図７に示される液処理方法は、まず、異物等が付着した石英製のインプリント用テンプレート（被処理基板１）を用意し（図７（ａ））、この被処理基板１に対して、表面張力により処理液を保持可能な距離に対向部材２を配置し（図７（ｂ））、被処理基板１および対向部材２の間に、処理液として洗浄液３ｃを供給し（図７（ｃ））、インプリント用テンプレートの表面に付着した異物等を除去する方法である（図７（ｄ））。
以下、本実施態様に用いられる、被処理基板、対向部材および現像液等について説明する。
【００７１】
（１）被処理基板
まず、本実施態様に用いられる被処理基板について説明する。本実施態様に用いられる被処理基板は、洗浄を目的とする基板であれば特に限定されるものではない。上記被処理基板としては、例えば、基板と、上記基板上に形成され、現像液により現像された現像後樹脂層とを有するものを挙げることができる。既に現像された現像後樹脂層を有する被処理基板を用いることで、容易に現像後樹脂層の洗浄を行うことができる。
【００７２】
上記現像後樹脂層は、通常、露光による潜像パターンを有する露光後樹脂層を現像液で現像することにより得られるものである。露光後樹脂層および現像液について、ならびに上記基板については、上記「１．第一実施態様」に記載した内容と同様であるので、ここでの説明は省略する。
【００７３】
また、本実施態様に用いられる被処理基板の他の例として、インプリント用テンプレートを挙げることができる。インプリント用テンプレートについては、上記「２．第二実施態様」に記載した内容と同様であるので、ここでの説明は省略する。
【００７４】
（２）対向部材
次に、本実施態様に用いられる対向部材について説明する。本実施態様に用いられる対向部材は、上記被処理基板に対して、表面張力により処理液を保持可能な距離に配置されるものである。なお、上記対向部材が処理液と接する表面（処理液接触部）の材料については、上記「１．第一実施態様」に記載した内容と同様であるので、ここでの説明は省略する。
【００７５】
本実施態様においては、上記対向部材が、用いられる処理液等に特定の作用を及ぼす機能部材であることが好ましい。上記機能部材としては、特に限定されるものではないが、具体的には、露光装置、処理液と接する表面に光触媒を有するもの、加熱機能を有するもの、処理液と接する表面に処理液の流路を有するもの、およびこれらを組み合わせたもの等を挙げることができる。上記機能部材の具体的な説明については、上記「１．第一実施態様」に記載した内容と同様であるので、ここでの説明は省略する。
【００７６】
上記対向部材が露光装置である場合、例えば紫外線を照射することで、洗浄能力を向上させることができる。また、上記対向部材が処理液と接する表面に光触媒を有するものである場合、例えば対向部材の表面に異物が付着した場合に、光触媒に光を照射することで、異物等を除去することができる。また、上記対向部材が加熱機能をするものである場合、例えば処理液の温度を調整したり、対向部材の表面を乾燥したり、被処理基板を加熱したりすることができる。また、上記対向部材が、処理液と接する表面に処理液の流路を有するものである場合、処理液（洗浄液）の現像液の流れを制御することができる。
【００７７】
（３）洗浄液
本実施態様に用いられる洗浄液としては、上記被処理基板の表面を洗浄することができるものであれば特に限定されるものではなく、一般的な洗浄液を用いることができる。本実施態様においては、洗浄液の種類を、使用する被処理基板の種類に応じて適宜選択することが好ましい。
【００７８】
４．その他
本発明の液処理方法は、上述した液処理方法を組み合わせたものであっても良い。本発明においては、基板上に感光性樹脂層形成用塗工液を塗工する感光性樹脂塗工処理と、上記感光性樹脂層形成用塗工液により形成された感光性樹脂層を露光する露光処理と、上記露光処理により形成された露光後樹脂層を現像する現像処理と、上記現像処理により形成された現像後樹脂層を洗浄する洗浄処理と、からなる群から選択される少なくとも２種類以上の処理を組み合わせることが好ましい。
【００７９】
具体的には、感光性樹脂塗工処理および露光処理を組み合わせる方法；感光性樹脂塗工処理、露光処理および現像処理を組み合わせる方法；感光性樹脂塗工処理、露光処理、現像処理および洗浄処理を組み合わせる方法；露光処理および現像処理を組み合わせる方法；露光処理、現像処理および洗浄処理を組み合わせる方法；現像処理および洗浄処理を組み合わせる方法等を挙げることができる。なお、例えば複数のノズル等を用いて多種類の処理液を供給することにより、上述した連続的な処理液の供給を容易に行うことができる。また、複数の処理を組み合わせるとは、各処理を連続的に行う場合、および各処理を同時に行う場合の両者を含む。
【００８０】
Ｂ．液処理装置
次に、本発明の液処理装置について説明する。本発明の液処理装置は、被処理基板を保持する被処理基板保持手段と、上記被処理基板に対して、表面張力により処理液を保持可能な距離に配置された対向部材と、上記被処理基板および上記対向部材の間に上記処理液を供給する処理液供給手段と、を有することを特徴とするものである。
【００８１】
本発明によれば、表面張力を利用して被処理基板を処理できるため、所望の領域を選択的に処理することができる。さらに、通常、被処理基板と対向部材との間隔は、非常に狭くなるため、処理液の省液化を図ることができ、製造コストの低減を図ることができる。
【００８２】
次に、本発明の液処理装置について図面を用いて説明する。図８は、本発明の液処理装置を説明する説明図である。図８（ａ）に示される液処理装置は、被処理基板１を保持する平板状の被処理基板保持手段１１と、被処理基板１に対して、表面張力により処理液を保持可能な距離に配置された対向部材２と、被処理基板１および対向部材２の間に処理液３を供給する処理液供給手段１２と、を有するものである。さらに、本発明においては、図８（ｂ）に示すように、液処理装置が、被処理基板１および対向部材２の間に供給された処理液３を回収する処理液回収手段１３を有していても良い。
【００８３】
本発明における被処理基板保持手段は、被処理基板を保持することができる手段であれば特に限定されるものではない。また、被処理基板保持手段は、対向部材に対して所定の間隔を設けることができれば、水平方向、鉛直方向、およびその他任意の方向に移動可能な移動手段を有していても良い。
【００８４】
本発明における対向部材は、上記被処理基板に対して、表面張力により処理液を保持可能な距離に配置されるものである。本発明における対向部材については、上記「Ａ．液処理装置」に記載した内容と同様であるので、ここでの説明は省略する。特に、本発明においては、上記対向部材が、用いられる処理液等に特定の作用を及ぼす機能部材であることが好ましい。上記機能部材としては、特に限定されるものではないが、具体的には、露光装置、処理液と接する表面に光触媒を有するもの、加熱機能を有するもの、およびこれらを組み合わせたもの等を挙げることができる。また、上記対向部材は、被処理基板に対して所定の間隔を設けることができれば、水平方向、鉛直方向、およびその他任意の方向に移動可能な移動手段を有していても良い。特に、本発明においては、用いられる処理液の粘度等により、被処理基板と対向基板との間隔が変動するため、上記対向部材は、鉛直方向に移動可能な移動手段を有していることが好ましい。
【００８５】
本発明における処理液供給手段は、被処理基板および対向部材の間に処理液を供給することができる手段であれば特に限定されるものではないが、具体的には、ノズル等を挙げることができる。さらに、本発明の液処理装置は、上記処理液供給手段を複数備えていることが好ましい。処理液供給手段を複数備えていることにより、複数の処理液を連続的に供給することができるからである。
【００８６】
本発明の液処理装置は、さらに、上記被処理基板および上記対向部材の間に供給された上記処理液を回収する処理液回収手段を有することが好ましい。処理液回収手段を設けることにより、処理液の飛散防止や再利用を図ることができるからである。
【００８７】
本発明の液処理装置は、さらに、上記被処理基板および上記対向部材の間に供給された上記処理液を噴霧して除去する噴霧除去手段を有することが好ましい。噴霧除去手段を設けることにより、処理液の除去を迅速に行うことができるからである。上記噴霧除去手段としては、例えばブロワー等を挙げることができる。
【００８８】
本発明の液処理装置を用いて行われる液処理、およびその他の部材等については、上記「Ａ．液処理方法」に記載した内容と同様であるので、ここでの説明は省略する。また、本発明の液処理装置は、例えば現像装置、液浸露光現像装置、塗布装置または洗浄装置であることが好ましい。
【００８９】
Ｃ．パターン形成体の製造方法
次に、本発明のパターン形成体の製造方法について説明する。本発明のパターン形成体の製造方法は、基板上に感光性樹脂層形成用塗工液を塗工する感光性樹脂塗工工程と、上記感光性樹脂層形成用塗工液により形成された感光性樹脂層を露光する露光工程と、上記露光工程により形成された露光後樹脂層を現像する現像工程と、上記現像工程により形成された現像後樹脂層を洗浄する洗浄工程と、を有するパターン形成体の製造方法であって、上記感光性樹脂塗工工程、上記現像工程および上記洗浄工程の少なくとも一つの工程を、上述した液処理方法により行うことを特徴とするものである。
【００９０】
本発明によれば、表面張力を利用するため、所望の領域を選択的に処理することができ、用いられる処理液の省液化を図ることができ、製造コストの低減を図ることができる。
【００９１】
本発明における感光性樹脂塗工工程、露光工程、現像工程および洗浄工程の各工程で行われる処理については、上記「Ａ．液処理方法」に記載した内容と同様であるので、ここでの説明は省略する。また、本発明に用いられる部材についても同様に、上記「Ａ．液処理方法」に記載した内容と同様であるので、ここでの説明は省略する。
【００９２】
本発明においては、上述した各工程を組み合わせることが好ましい。具体的には、感光性樹脂塗工工程および露光工程を組み合わせること；感光性樹脂塗工工程、露光工程および現像工程を組み合わせること；感光性樹脂塗工工程、露光工程、現像工程および洗浄工程を組み合わせること；露光工程および現像工程を組み合わせること；露光工程、現像工程および洗浄工程を組み合わせること；現像工程および洗浄工程を組み合わせること等を挙げることができる。詳細については、上記「Ａ．液処理方法」に記載した内容と同様であるので、ここでの説明は省略する。本発明においては、特に、上記露光工程と、上記現像工程とを同時に行うことが好ましい。効率良くパターン形成体を得ることができるからである。
【００９３】
本発明により得られるパターン形成体は、基板と、上記基板に形成された樹脂層とを有するものである。本発明により得られるパターン形成体は、例えばマイクロレンズ付基板、インプリント用テンプレート、および光学素子等として用いることができる。
【００９４】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と、実質的に同一の構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなる場合であっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【００９５】
以下、実施例を用いて、本発明をさらに具体的に説明する。
［実施例１］
本実施例においては、露光後の感光性樹脂層を有する被処理基板の現像を行った。以下、図２を参考にして説明を行う。
まず、６インチ石英基板（基板４）の上に、感光性樹脂層形成用塗工液ＩＰ３５００（ＴＯＫ社製）を６００ｎｍの膜厚で塗布し、Ｌ／Ｓ（ラインアンドスペース）２００ｎｍのパターンで露光を行い、基板４および露光後樹脂層６を有する被処理基板１を得た（図２（ａ））。次に、被処理基板１に対して１ｍｍの距離に、ガラス製の平坦な対向部材２を配置した（図２（ｂ））。その後、処理液３ａとしてＩＰ３５００用現像液を用意し、この処理液３ａを露光後樹脂層６および対向部材２の間に供給、回収することにより被処理基板１の現像を行った（図２（ｃ））。次に、上記処理液３ａと同様に、純水を供給、回収することにより、被処理基板１に付着した現像液を洗い流した。その結果、所望の領域のみ選択的に良好な現像ができることが確認された（図２（ｄ））。
【００９６】
［実施例２］
本実施例においては、液浸露光前の感光性樹脂層を有する被処理基板を用い、液浸露光および現像を同時に行った。以下、図３を参考にして説明を行う。
まず、６インチ石英基板（基板４）の上に、感光性樹脂層形成用塗工液ＩＰ３５００（ＴＯＫ社製）を６００ｎｍの膜厚で塗布し、基板４および感光性樹脂層５を有する被処理基板１を得た（図３（ａ））。次に、被処理基板１に対して１ｍｍの距離に、感光性樹脂層５を液浸露光する液浸露光装置の投影レンズ（対向部材２）を配置した（図３（ｂ））。その後、処理液３ａとしてＩＰ３５００用現像液を用意し、この処理液３ａを感光性樹脂層５および対向部材２の間に供給、回収しつつ、液浸露光装置によりＬ／Ｓ（ラインアンドスペース）２００ｎｍのパターンで液浸露光（エネルギーＡの照射）を行うことにより、被処理基板１の液浸露光および現像を同時に行った（図３（ｃ））。その結果、所望の領域のみ選択的に良好な液浸露光および現像が行われたことが確認された（図３（ｄ））。
【００９７】
［実施例３］
本実施例においては、光硬化性樹脂層の形成と、光硬化性樹脂層のインプリントとを連続的に行った。以下、図９を参考にして説明を行う。
まず、６インチ石英基板を用意し被処理基板１とした（図９（ａ））。次に、被処理基板１に対して１μｍの距離に、インプリント装置のモールド（対向部材２、Ｌ／Ｓ＝２００ｎｍ）を配置した（図９（ｂ））。処理液３ｂとして、光硬化性樹脂層形成用塗工液オプスター(ＪＳＲ社製)を用意し、この処理液３ｂを被処理基板１および対向部材２の間に供給することにより、被処理基板１および対向部材２の間を光硬化性樹脂層形成用塗工液で充填し、光硬化性樹脂層５ａを形成した（図９（ｃ））。その後、インプリント装置にて露光（エネルギーＡの照射）を行うことにより、光硬化性樹脂層５ａを硬化させた（図９（ｄ））。その結果、被処理基板１上に、硬化後樹脂層５ａ´が形成され、所望の領域のみ選択的にパターンが得られることが確認された（図９（ｅ））。
【００９８】
［実施例４］
本実施例においては、パターン面に異物が付着したインプリント用モールドの洗浄と乾燥を同時に行った。以下、図７を参考にして説明を行う。
まず、インプリント後のモールドを用意し、被処理基板１とした（図７（ａ））。次に、被処理基板１に対して１ｍｍの距離に、加熱機能を持つガラス製の平坦な対向部材２を配置した（図７（ｂ））。その後、処理液３ｃとして硫酸過水を用意し、この処理液３ｃを被処理基板１および対向部材２の間に供給、回収することにより、被処理基板１を洗浄した（図７（ｃ））。その後連続して、上記処理液３ｃと同様に、純水を供給、回収することにより、被処理基板１に付着した硫酸過水を洗い流した（図７（ｃ））。その後、対向部材２を加熱し、被処理基板１を乾燥させた。その結果、所望の領域のみ選択的に洗浄、乾燥することができた（図７（ｄ））。
【００９９】
［実施例５］
本実施例においては、光硬化性樹脂層の形成と、対向部材の異物除去を同時に行った。以下、図１０を参考にして説明を行う。
まず、６インチ石英基板を用意し被処理基板１とした（図１０（ａ））。次に、被処理基板１に対して１μｍの距離に、ＴｉＯ２からなる光触媒層９を有する石英基板（対向部材２）を配置した（図１０（ｂ））。処理液３ｂとして、光硬化性樹脂層形成用塗工液オプスター（ＪＳＲ社製）を用意し、この処理液３ｂを被処理基板１および対向部材２の間に供給することにより、被処理基板１および対向部材２の間を光硬化性樹脂層形成用塗工液で充填し、光硬化性樹脂層５ａを形成した（図１０（ｃ））。その後、対向部材２を介して露光（エネルギーＡの照射）を行うことにより、光硬化性樹脂層５ａを硬化させると同時に、光触媒効果で対向部材２の表面の洗浄を行った（図１０（ｄ））。その結果、被処理基板１上に硬化後樹脂層５ａ´を形成でき、同時に、対向部材２の表面を洗浄できることが確認された（図１０（ｅ））。
【０１００】
［実施例６］
本実施例においては、熱硬化性樹脂の塗布とベークを同時に行った。以下、図１１を参考にして説明を行う。
まず、６インチ石英基板を用意し被処理基板１とした（図１１（ａ））。次に、被処理基板１に対して、加熱機能を持つＳｉ基板（対向部材２）を配置した（図１１（ｂ））。その後、処理液３ｂとして、熱硬化性樹脂オプスター（ＪＳＲ社製）を用意し、この処理液３ｂを被処理基板１および対向部材２の間に供給することにより、被処理基板１および対向部材２の間を熱硬化性樹脂で充填し、熱硬化性樹脂層１０を形成した（図１１（ｃ））。その後、対向部材２を加熱（エネルギーＡの付与）することにより、熱硬化性樹脂層１０を硬化させた（図１１（ｄ））。その後、対向部材２を冷却後、硬化後樹脂層１０´から被処理基板１から引き剥がした結果、所望の領域のみ選択的にパターンが得られることが確認された（図１１（ｅ））。
【図面の簡単な説明】
【０１０１】
【図１】本発明の液処理方法の一例を説明する説明図である。
【図２】本発明の液処理方法の他の例を説明する説明図である。
【図３】本発明の液処理方法の他の例を説明する説明図である。
【図４】本発明の液処理方法の他の例を説明する説明図である。
【図５】本発明の液処理方法の他の例を説明する説明図である。
【図６】本発明の液処理方法の他の例を説明する説明図である。
【図７】本発明の液処理方法の他の例を説明する説明図である。
【図８】本発明の液処理装置を説明する説明図である。
【図９】本発明の液処理方法の実施例３を説明する説明図である。
【図１０】本発明の液処理方法の実施例５を説明する説明図である。
【図１１】本発明の液処理方法の実施例６を説明する説明図である。
【符号の説明】
【０１０２】
１  …  被処理基板
２  …  対向部材
３  …  処理液
４  …  基板
５  …  感光性樹脂層
６  …  露光後樹脂層
７  …  現像後樹脂層
８  …  離型層
９  …  光触媒層
１０  …  熱硬化性樹脂層
１１  …  被処理基板保持手段
１２  …  処理液供給手段
１３  …  処理液回収手段
【図１】
2008235784.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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