(57)【要約】【課題】カイロ包材などに適用し得る、ガスのバリア性能を低下させ、一方で水蒸気のバリア性能に優れるガスバリア性フィルムおよび該ガスバリア性フィルムの製造方法を提供する。【解決手段】真空チャンバー２４２内で、るつぼ２４７に有する蒸着源２４８にエレクトロンビーム１２０を照射することにより蒸着源２４８を蒸発させ、コーティングドラム２４６上に案内された基材フィルム２０１の上に蒸発した蒸着源２４８による無機酸化物の蒸着膜２０を形成し、蒸着源２４８へのエレクトロンビーム１２０の入射位置より前方であって、るつぼ２４７の蒸着源２４８が接する内側壁面１４０を、蒸着源２４８が接する内側底面１５０の接線ｌに対して３０°〜６０°の間の角度θで傾斜させて設ける。【選択図】図３
2008144240.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空チャンバー内で、るつぼに有する蒸着源にエレクトロンビームを照射することにより前記蒸着源を蒸発させ、コーティングドラム上に案内された基材フィルムの上に前記蒸発した蒸着源による無機酸化物の蒸着膜を形成して成るガスバリア性フィルムの製造方法において、
前記蒸着源への前記エレクトロンビームの入射位置より前方であって、前記るつぼの前記蒸着源が接する内側壁面を、前記蒸着源が接する内側底面の接線に対して３０°〜６０°の間の角度で傾斜させて設けることを特徴とするガスバリア性フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記るつぼの傾斜させた前記内側壁面の上部に、前記エレクトロンビームとは異なるラインで照射した別ラインのエレクトロンビームを反射させ、該エレクトロンビームの反射電子により、前記コーティングドラム上の、前記蒸着膜を形成して成るガスバリア性フィルムに、複数の微細な空孔を設けることを特徴とする、請求項１に記載のガスバリア性フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記別ラインのエレクトロンビームを、前記蒸着源への前記エレクトロンビームの入射位置と、前記るつぼ内側壁面上部への前記別ラインのエレクトロンビームの反射位置との距離が２０ｃｍになるように、前記エレクトロンビームのラインからスキャンさせてエレクトロンビームガンのエレクトロンビーム照射口より照射することを特徴とする、請求項１および２に記載のガスバリア性フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記無機酸化物の蒸着膜は、酸化アルミニウムなどの無機酸化物の蒸着膜である、請求項１〜３に記載のガスバリア性フィルムの製造方法。
【請求項５】
真空チャンバー内で、るつぼに有する蒸着源にエレクトロンビームを照射することにより前記蒸着源を蒸発させ、コーティングドラム上に案内された基材フィルムの上に前記蒸発した蒸着源による無機酸化物の蒸着膜を形成して成るガスバリア性フィルムにおいて、
前記蒸着源への前記エレクトロンビームの入射位置より前方であって、前記るつぼの前記蒸着源が接する内側壁面を、前記蒸着源が接する内側底面の接線に対して３０°〜６０°の間の角度で傾斜させた前記内側壁面の上部に、前記エレクトロンビームとは異なるラインで照射した別ラインのエレクトロンビームを反射させ、該エレクトロンビームの反射電子により、前記コーティングドラム上の、前記蒸着膜を形成して成るガスバリア性フィルムに、複数の微細な空孔を設けた、カイロ包材などに用いるガスバリア性フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空チャンバー内で、るつぼに有する蒸着源にエレクトロンビームを照射することにより蒸着源を蒸発させ、コーティングドラム上に案内された基材フィルムの上に蒸発した蒸着源による無機酸化物の蒸着膜を形成して成るガスバリア性蒸着フィルムの製造方法に関し、より詳細には、蒸着源へのエレクトロンビームの入射位置より前方であって、るつぼの蒸着源が接する内側壁面を、蒸着源が接する内側底面の接線に対して３０°〜６０°の間の角度で傾斜させて設けることに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、飲食品、化成品、雑貨品、その他を充填包装する包装用材料としては、内容物の変質、変色、その他を防止するために、酸素ガスや水蒸気等の透過を遮断、阻止する、種々の形態からなるバリア性積層材が開発され、提案されている。このようなバリア性積層材の用途として、例えばレトルト用パウチがあり、一般には、温度１１０〜１３０℃位、圧力１〜３Ｋｇｆ／ｃｍ2・Ｇで約２０〜６０分間程度の殺菌工程を経る。このようなレトルト条件下で使用するバリア性積層材として、例えば２軸延伸ポリエステルフィルムやナイロンフィルムなどを基材フィルムに用いて、酸化アルミや酸化珪素膜などを蒸着加工した透明のガスバリア性フィルムがあり、温度・湿度の影響が無く、高度なガスバリア性を有するものとして多用されている。また、例えば、真空槽内で、アクリル系樹脂などの有機物層から成る高分子フィルムの少なくとも片面に、反応ガスとして酸素や窒素を用いて２Ｗ／ｃｍ2のスパッタ電力を放電し、Ｓｉターゲット上にプラズマを発生させ、高分子フィルム上にＳｉＯｘＮｙなどの無機物層を形成させることで、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示素子等にも適用し得る、透明性および酸素や水蒸気などのバリア性を有し、かつ表面平滑性の優れたガスバリア性フィルムが得られる（特許文献１）ものもある。
【特許文献１】特開２００４−１４４２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかし、このような従来のガスバリア性フィルムでは、酸素などのガスおよび水蒸気双方のバリア性に優れているため、例えば、カイロ包材などのように、水蒸気への高いバリア性は従来通り必要であるのに対して、酸素などのガスへの、高いバリア性は従来に比べてあまり必要としないようなガスバリア性能に選択性を有する包材に、このような従来のガス、水蒸気双方のバリア性に優れるフィルムを用いても、カイロの内容物である酸化鉄粉や木粉、バーミキュライト、塩分などの発熱体の発熱を抑えてしまい、その機能を十分に発揮させることができないという問題があった。
【０００４】
従って、この発明の目的は、カイロ包材などに適用し得る、ガスのバリア性能を低下させ、一方で水蒸気のバリア性能に優れるガスバリア性フィルムおよび該ガスバリア性フィルムの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
このため請求項１に記載の発明は、真空チャンバー内で、るつぼに有する蒸着源にエレクトロンビームを照射することにより前記蒸着源を蒸発させ、コーティングドラム上に案内された基材フィルムの上に前記蒸発した蒸着源による無機酸化物の蒸着膜を形成して成るガスバリア性フィルムの製造方法において、前記蒸着源への前記エレクトロンビームの入射位置より前方であって、前記るつぼの前記蒸着源が接する内側壁面を、前記蒸着源が接する内側底面の接線に対して３０°〜６０°の間の角度で傾斜させて設けることを特徴とする。
【０００６】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載のガスバリア性フィルムの製造方法において、前記るつぼの傾斜させた前記内側壁面の上部に、前記エレクトロンビームとは異なるラインで照射した別ラインのエレクトロンビームを反射させ、該エレクトロンビームの反射電子により、前記コーティングドラム上の、前記蒸着膜を形成して成るガスバリア性フィルムに、複数の微細な空孔を設けることを特徴とする。
【０００７】
請求項３に記載の発明は、請求項１および２に記載のガスバリア性フィルムの製造方法において、前記別ラインのエレクトロンビームを、前記蒸着源への前記エレクトロンビームの入射位置と、前記るつぼ内側壁面上部への前記別ラインのエレクトロンビームの反射位置との距離が２０ｃｍになるように、前記エレクトロンビームのラインからスキャンさせてエレクトロンビームガンのエレクトロンビーム照射口より照射することを特徴とする。
【０００８】
請求項４に記載の発明は、請求項１〜３に記載のガスバリア性フィルムの製造方法において、前記無機酸化物の蒸着膜は、酸化アルミニウムなどの無機酸化物の蒸着膜である。
【０００９】
請求項５に記載の発明は、真空チャンバー内で、るつぼに有する蒸着源にエレクトロンビームを照射することにより前記蒸着源を蒸発させ、コーティングドラム上に案内された基材フィルムの上に前記蒸発した蒸着源による無機酸化物の蒸着膜を形成して成るガスバリア性フィルムにおいて、前記蒸着源への前記エレクトロンビームの入射位置より前方であって、前記るつぼの前記蒸着源が接する内側壁面を、前記蒸着源が接する内側底面の接線に対して３０°〜６０°の間の角度で傾斜させた前記内側壁面の上部に、前記エレクトロンビームとは異なるラインで照射した別ラインのエレクトロンビームを反射させ、該エレクトロンビームの反射電子により、前記コーティングドラム上の、前記蒸着膜を形成して成るガスバリア性フィルムに、複数の微細な空孔を設けた、カイロ包材などに用いるガスバリア性フィルムである。
【発明の効果】
【００１０】
請求項１に記載の発明によれば、真空チャンバー内で、るつぼに有する蒸着源にエレクトロンビームを照射することにより蒸着源を蒸発させ、コーティングドラム上に案内された基材フィルムの上に蒸発した蒸着源による無機酸化物の蒸着膜を形成して成るガスバリア性フィルムの製造方法において、蒸着源へのエレクトロンビームの入射位置より前方であって、るつぼの、蒸着源が接する内側壁面を、蒸着源が接する内側底面の接線に対して３０°〜６０°の間の角度で傾斜させて設けるので、別途反射部材を用いることなく蒸着フィルムに微細な空孔を形成するために適した角度を有する、るつぼの内側壁面上部にエレクトロンビームを反射させることができる。従って、簡単な構成から成るガスバリア性フィルムの製造方法を提供することができる。
【００１１】
請求項２に記載の発明によれば、るつぼの傾斜させた内側壁面の上部に、エレクトロンビームとは異なるラインで照射した別ラインのエレクトロンビームを反射させ、このエレクトロンビームの反射電子により、コーティングドラム上の、蒸着膜を形成して成るガスバリア性フィルムに、複数の微細な空孔を設けるので、別途開孔機器を設ける必要がなく、蒸着膜形成後のガスバリア性フィルムに、酸素分子が通過し易い複数の微細な空孔を効率よく設けることができる。従って、簡単な構成で作業効率を向上させ、かつカイロ包材などに適用し得る、ガスのバリア性能を低下させ、一方で水蒸気のバリア性能に優れるガスバリア性フィルムの製造方法を提供することができる。
【００１２】
請求項３に記載の発明によれば、別ラインのエレクトロンビームを、蒸着源へのエレクトロンビームの入射位置と、るつぼ内側壁面上部への別ラインのエレクトロンビームの反射位置との距離が２０ｃｍになるように、エレクトロンビームのラインからスキャンさせてエレクトロンビームガンのエレクトロンビーム照射口より照射するので、基材フィルム上に蒸着膜を形成させた蒸着フィルムに、酸素分子が通過し易い複数の微細な空孔を確実、かつ効率よく設けることができる。従って、作業効率がよい、ガスのバリア性能を低下させ、一方で水蒸気のバリア性能に優れるガスバリア性フィルムの製造方法を提供することができる。
【００１３】
請求項４に記載の発明によれば、無機酸化物の蒸着膜は、酸化アルミニウムなどの無機酸化物の蒸着膜であるので、内容物が透視できる透明性および水蒸気などの通過を遮断ンできる高いガスバリア性に優れたフィルムの製造方法を提供することができる。
【００１４】
請求項５に記載の発明によれば、真空チャンバー内で、るつぼに有する蒸着源にエレクトロンビームを照射することにより蒸着源を蒸発させ、コーティングドラム上に案内された基材フィルムの上に蒸発した蒸着源による無機酸化物の蒸着膜を形成して成るガスバリア性フィルムにおいて、蒸着源へのエレクトロンビームの入射位置より前方であって、るつぼの蒸着源が接する内側壁面を、蒸着源が接する内側底面の接線に対して３０°〜６０°の間の角度で傾斜させた内側壁面の上部に、エレクトロンビームとは異なるラインで照射した別ラインのエレクトロンビームを反射させ、このエレクトロンビームの反射電子により、コーティングドラム上の、蒸着膜を形成して成るガスバリア性フィルムに、複数の微細な空孔を設けた、カイロ包材などに用いるガスバリア性フィルムであるので、別途反射部材や開孔機器を設ける必要がなく、蒸着膜形成後のガスバリア性フィルムに、酸素分子が通過し易い複数の微細な空孔を効率よく設けることができる。従って、簡単な構成で作業効率を向上させ、かつカイロ包材などに適用し得る、ガスのバリア性能を低下させ、一方で水蒸気のバリア性能に優れるガスバリア性フィルムを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
本発明の第一は、２軸延伸のポリエステルフィルムもしくはポリアミドフィルムを基材フィルムとし、前記基材フィルムの面に無機酸化物の蒸着膜を設けたガスバリア性フィルムに、さらに複数の微細な空孔を設けたガスバリア性フィルムである。以下、本発明を詳細に説明する。
【００１６】
フィルムの層構成として、本発明のガスバリア性フィルムは、図１（ａ）に示すように、ポリエステルフィルムもしくはポリアミドフィルムなどの基材フィルム(１０)と無機酸化物の蒸着膜(２０)とを有する。更に、図１（ｂ）に示すように、ポリエステルフィルムもしくはポリアミドフィルム(１０)および蒸着膜（２０）上にそれぞれ表面処理層（１０’）、（２０’）を有していても良い。
【００１７】
本発明で使用する基材フィルムは、化学的ないし物理的強度に優れ、無機酸化物の蒸着膜を製膜化する条件等に耐え、また、その無機酸化物の蒸着膜の膜特性を損なうことなく良好に保持し得ることができる基材フィルムであり、温度２５℃、相対湿度５０％での動摩擦係数が０．４以下、より好ましくは０．３以下、ヘイズが６．０％以下、より好ましくは３．０％以下、アッシュテスト性能が１５ｍｍ以下であり、少なくも一方の表面の表面粗さが１０００ｎｍ以下、より好ましくは１０〜２００ｎｍの２軸延伸のポリエステルフィルムもしくはポリアミドフィルムである。
【００１８】
このようなポリアミドフィルムとしては、脂肪族ポリアミドであっても、芳香族ポリアミドであっても、これらを混合した組成物であってもよい。好ましいポリアミドの具体例としては、ポリカプロアミド（ナイロン６）、ポリ‐ε‐アミノへプタン酸（ナイロン７）、ポリ‐ε‐アミノノナン酸（ナイロン９）、ポリウンデカンアミド（ナイロン１１）、ポリラウリンラクタム（ナイロン１２）、ポリエチレンジアミンアジパミド（ナイロン２・６）、ポリテトラメチレンアジパミド（ナイロン４・６）、ポリヘキサメチレンアジパミド（ナイロン６・６）、ポリヘキサメチレンセバカミド（ナイロン６・１０）、ポリヘキサメチレンドデカミド（ナイロン６・１２）、ポリオクタメチレンドデカミド（ナイロン６・１２）、ポリオクタメチレンアジパミド（ナイロン８・６）、ポリデカメチレンアジパミド（ナイロン１０・６）、ポリデカメチレンセバカミド（ナイロン１０・１０）、ポリドデカメチレンドデカミド（ナイロン１２・１２）、メタキシレンジアミン‐６ナイロン（ＭＸＤ６）などを挙げることができ、これらを主成分とする共重合体であってもよく、その例としては、カプロラクタム／ラウリンラクタム共重合体、カプロラクタム／ヘキサメチレンジアンモニウムアジぺート共重合体、ラウリンラクタム／ヘキサメチレンジアンモニウムアジぺート共重合体、ヘキサメチレンジアンモニウムアジぺート／ヘキサメチレンジアンモニウムセバケート共重合体、エチレンジアンモニウムアジぺート／ヘキサメチレンジアンモニウムアジぺート共重合体、カプロラクタム／ヘキサメチレンジアンモニウムアジぺート／ヘキサメチレンジアンモニウムセバケート共重合体などを挙げることができる。これらのポリアミドには、フィルムの柔軟性改質成分として、芳香族スルホンアミド類、ｐ‐ヒドロキシ安息香酸、エステル類などの可塑剤や低弾性率のエラストマー成分やラクタム類を配合することも有効である。
【００１９】
また、基材フィルムは、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂のほか、ポリエチレン系樹脂あるいはポリプロピレン系樹脂等のポリオレフィン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリロニトリルースチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、アクリロニトリル−ブタジェン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、ポリ（メタ）アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリビニルアルコ−ル系樹脂、エチレン−ビニルエステル共重合体ケン化物、ポリウレタン系樹脂、アセタール系樹脂、セルロース系樹脂、その他等の各種の樹脂のフィルムを使用することができる。本発明においては、上記の樹脂のフィルムの中でも、特に、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、または、ポリアミド系樹脂のフィルムを使用することが好ましいものである。なお、基材フィルムは、上記樹脂の未延伸フィルムや一軸方向または二軸方向に延伸したフィルムなどのいずれのものでも使用することができる。
【００２０】
本発明において、上記各種の樹脂のフィルムとしては、例えば、上記の各種の樹脂の１種ないしそれ以上を使用し、押出法、キャスト成形法、Ｔダイ法、切削法、インフレーション法、その他等の製膜化法を用いて、上記の各種の樹脂を単独で製膜化する方法、あるいは、２種以上の各種の樹脂を使用して多層共押し出し製膜化する方法、更には、２種以上の樹脂を使用し、製膜化する前に混合して製膜化する方法等により、各種の樹脂のフィルムを製造し、更に、要すれば、例えば、テンター方式、あるいは、チューブラー方式等を利用して１軸ないし２軸方向に延伸してなる各種の樹脂のフィルムを使用することができる。
【００２１】
本発明において、各種の樹脂のフィルムの膜厚としては、６〜２０００μｍ位、より好ましくは、９〜１００μｍ位が望ましい。なお、上記各種の樹脂の１種ないしそれ以上を使用し、その製膜化に際して、例えば、フィルムの加工性、耐熱性、耐候性、機械的性質、寸法安定性、抗酸化性、滑り性、離形性、難燃性、抗カビ性、電気的特性、強度、その他等を改良、改質する目的で、種々のプラスチック配合剤や添加剤等を添加することができ、その添加量としては、極く微量から数十％まで、その目的に応じて、任意に添加することができる。そして、一般的な添加剤としては、例えば、滑剤、架橋剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、充填剤、補強剤、帯電防止剤、顔料、その他等を使用することができ、更には、改質用樹脂等も使用することができる。
【００２２】
本発明において、上記基材フィルムの一方の面に無機酸化物の蒸着膜を形成するが、予め基材フィルムに表面処理をおこなってもよい。これによって基材フィルムと無機酸化物の蒸着膜との密着性を向上させることができる。なお、このような表面処理としては、コロナ放電処理、オゾン処理、酸素ガスもしくは窒素ガス等を用いた低温プラズマ処理、グロー放電処理、化学薬品等を用いて処理する酸化処理、その他前処理などがある。
【００２３】
また、本発明で使用する基材フィルムの表面に、予め、プライマーコート剤、アンダーコート剤、アンカーコート剤、あるいは、蒸着アンカーコート剤等を任意に塗布し、表面処理とすることもできる。なお、前記コート剤としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリエチレンあるいはポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂あるいはその共重合体ないし変性樹脂、セルロース系樹脂、その他ビヒクルを主成分とする樹脂組成物を使用することができる。
【００２４】
このような表面処理の中でも、特に、コロナ処理やプラズマ処理を行うことが好適である。例えばプラズマ処理としては、気体をアーク放電により電離させることにより生じるプラズマガスを利用して表面改質を行なうプラズマ処理がある。プラズマガスとしては、上記のほかに、アルゴンガス、ヘリウムガス等の無機ガスを使用することができる。例えば、後記する化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜を形成する直前に、インラインでプラズマ処理を行うことにより、基材フィルムの表面の水分、塵などを除去すると共にその表面の平滑化、活性化、その他表面処理を可能とすることができる。また、蒸着後に、プラズマ処理を行い、蒸着層とその上に積層される他の層との密着性を向上することもできる。なお、プラズマ処理としては、プラズマ出力、プラズマガスの種類、プラズマガスの供給量、処理時間、その他の条件を考慮してプラズマ放電処理を行うことが好ましい。また、プラズマを発生する方法としては、直流グロー放電、高周波放電、マイクロ波放電、その他の装置を使用することができる。また、大気圧プラズマ処理法によりプラズマ処理を行なうこともできる。
【００２５】
次いで、無機酸化物の蒸着膜としては、例えば、物理気相成長法、化学気相成長法またはこれらを複合して、無機酸化物の蒸着膜の１層からなる単層膜あるいは２層以上からなる多層膜または複合膜を形成して製造することができる。本発明での物理気相成長法として、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ−ティング法、イオンクラスタービーム法等の物理気相成長法（Ｐｈｙｓｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法、ＰＶＤ法）などにより無機酸化物の蒸着膜を形成することができる。具体的には、金属または金属の酸化物を原料とし、これを加熱して蒸気化したものを基材フィルムの一方の上に蒸着する真空蒸着法、または、原料として金属または金属の酸化物を使用し、酸素を導入して酸化させて基材フィルムの一方の上に蒸着する酸化反応蒸着法、更に酸化反応をプラズマで助成するプラズマ助成式の酸化反応蒸着法等を用いて蒸着膜を形成することができる。なお、蒸着材料の加熱方式としては、例えば、抵抗加熱方式、高周波誘導加熱方式、エレクトロンビーム加熱方式（ＥＢ）等にて行うことができる。物理気相成長法による無機酸化物の薄膜を形成する方法について、本願発明の特徴である巻き取り式真空蒸着装置の一例を示す概略的構成図を示す図２を参照して説明する。
【００２６】
まず、巻き取り式真空蒸着装置２４１の真空チャンバー２４２の中で、巻き出しロール２４３から図中矢印方向で繰り出す基材フィルム２０１は、ガイドロール２４４、２４５を介して、冷却したコーティングドラム２４６に案内される。上記の冷却したコーティングドラム２４６上に案内された基材フィルム２０１の上に、コーティングドラム２４６の下方に備えられたるつぼ２４７内に有する例えば、金属アルミニウム、あるいは、酸化アルミニウム等の蒸着源２４８の中央近傍の表層面に、後述するエレクトロンビームガン１００のエレクトロンビーム照射口１１０よりエレクトロンビーム１２０を照射し、蒸着源２４８を上方のコーティングドラム２４６側に加熱蒸発させ、更に、必要であれば酸素ガス吹出口２４９より噴出させた酸素ガス等を供給しながら、マスク２５０、２５０を介して、例えば、酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜が、後述するコーティングドラム２４６上を移動中の位置ｃに位置する基材フィルム２０１の上に成膜され、ガスバリア性フィルム２０２が形成される。
【００２７】
ここで、るつぼ２４７は、図３に示すように、蒸着源２４８へのエレクトロンビーム１２０の入射位置ａより前方であって、るつぼ２４７の、蒸着源２４８が接する内側壁面１４０が、蒸着源２４８が接する内側底面１５０の接線ｌに対して３０°〜６０°の間の角度θで傾斜させて設けられる。なお、前記内側壁面１４０の傾斜は、エレクトロンビーム１２０の入射位置ａより前方に限定されず、内側壁面全てを内側底面１５０の接線に対して３０°〜６０°の間の角度θで傾斜させて設けてもよい。
【００２８】
そして、蒸着源２４８へのエレクトロンビーム１２０の入射位置ａから前方距離ｒが２０ｃｍになる、前記るつぼ２４７の傾斜させた内側壁面１４０の上部位置ｂに向けてスキャンさせたエレクトロンビームガン１００のエレクトロンビーム照射口１１０より照射したエレクトロンビーム１３０を前記上部位置ｂで、上方のコーティングドラム２４６側に反射させ、このエレクトロンビーム１３０の反射二次電子により、コーティングドラム２４６上を移動し、位置ｄに位置する蒸着膜が形成されたガスバリア性フィルム２０２に、図示しない複数の微細な空孔が設けられる。この蒸着膜が形成されたガスバリア性フィルム２０２に設けられた微細な空孔は、エレクトロンビーム１３０が、るつぼ２４７の内側底面１５０の接線ｌに対して３０°〜６０°の間の角度θで傾斜させたエレクトロンビーム１２０の入射位置ａより前方の内側壁面１４０の上部位置ｂに反射したその二次電子により開孔したサイズであり、この空孔サイズは、酸素分子をより多く通過させ易くする。一方でこの空孔サイズは、酸素分子よりもやや小さい水分子は、液体である水が温度や圧力の影響により気体である水蒸気となることで、窒素や酸素など他のガス分子を取り込んで籠型のマクロ分子構造を形成するため、酸素分子よりも大きくなった水蒸気の水分子の通過を阻むことから、上記の方法で設けた空孔によって、水蒸気のバリア性能に優れるとともに、一方で酸素ガスのバリア性能を低下させたガスバリア性フィルムにすることができる。
【００２９】
なお、このときの操作条件として、真空チャンバー２４２内における蒸着チャンバー内の真空度：２．０×１０-4ｍｂａｒ、エレクトロンビームの電力：２５ｋＷ、コーティングドラム２４６の温度：−１５℃、基材フィルム２０１や蒸着膜が形成されたガスバリア性フィルム２０２などが図中の矢印方向へ進むフィルムライン速度：５４０ｍ／ｍｉｎなどの条件で処理されるが、これら数値に限定されず、諸条件により操作条件が適宜変更される。
【００３０】
そして、上記において、複数の微細な空孔が設けられたガスバリア性フィルム２０２を、ガイドロール２５１、２５２を介して送り出し、巻き取りロール２５３に巻き取ると、カイロ包材などに適用し得る、酸素ガスなどガスのバリア性能を低下させ、一方で水蒸気のバリア性能に優れるガスバリア性フィルム２０３を得ることができる。なお、上記巻き取り式真空蒸着装置を用いて、まず第１層の無機酸化物の蒸着膜を形成し、次いで、その上に無機酸化物の蒸着膜を更に形成し、または、上記巻き取り式真空蒸着装置を２連に連接し、連続的に、無機酸化物の蒸着膜を形成して、２層以上の多層膜からなる無機酸化物の蒸着膜を形成してもよい。
【００３１】
ところで、金属または無機酸化物の蒸着膜としては、基本的には、金属の酸化物を蒸着した薄膜であればよく、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、ケイ素（Ｓｉ）、マグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃａ）、カリウム（Ｋ）、スズ（Ｓｎ）、ナトリウム（Ｎａ）、ホウ素（Ｂ）、チタン（Ｔｉ）、鉛（Ｐｂ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、イットリウム（Ｙ）等の金属の酸化物の蒸着膜を使用することができる。好ましくは、アルミニウム（Ａｌ）、ケイ素（Ｓｉ）等の金属の酸化物の蒸着膜を挙げることができる。よって、上記の金属の酸化物の蒸着膜は、ケイ素酸化物、アルミニウム酸化物、マグネシウム酸化物等のように金属酸化物と称することができ、その表記は、例えば、ＳｉＯX、ＡｌＯX、ＭｇＯX等のようにＭＯX（ただし、式中、Ｍは、金属元素を表し、Ｘの値は、金属元素によってそれぞれ範囲がことなる。）で表される。
【００３２】
また、上記のＸの値の範囲としては、ケイ素（Ｓｉ）は０を超え２以下、アルミニウム（Ａｌ）は０を超え１．５以下、マグネシウム（Ｍｇ）は０を超え１以下、カルシウム（Ｃａ）は０を超え１以下、カリウム（Ｋ）は０を超え０．５以下、スズ（Ｓｎ）は０を超え２以下、ナトリウム（Ｎａ）は０を超え０．５以下、ホウ素（Ｂ）は０を超え１、５以下、チタン（Ｔｉ）は０を超え２以下、鉛（Ｐｂ）は０を超え１以下、ジルコニウム（Ｚｒ）は０を超え２以下、イットリウム（Ｙ）は０を超え１．５以下の範囲である。上記においてＸ＝０の場合は完全な金属であり、Ｘの範囲の上限は、完全に酸化した値である。本発明において、Ｍとしてケイ素やアルミニウムが好ましく、その際これらのＸの値は、ケイ素（Ｓｉ）は１．０〜２．０、アルミニウム（Ａｌ）は０．５〜１．５の範囲である。なお、無機酸化物の蒸着膜の膜厚は、使用する金属や金属の酸化物の種類等によって異なるが、例えば、５０〜２０００Å、好ましくは、１００〜１０００Åの範囲内で任意に選択することができる。また、無機酸化物の蒸着膜としては、使用する金属または金属の酸化物としては、１種または２種以上の混合物で使用し、異種の材質で混合した無機酸化物の蒸着膜を構成することもできる。
【００３３】
更に、本発明では、例えばプラズマ化学気相成長法、低温プラズマ化学気相成長法、熱化学気相成長法、光化学気相成長法等の化学気相成長法（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法、ＣＶＤ法）等の化学気相成長法でも行えるが、物理気相成長法と化学気相成長法の両者を併用して異種の無機酸化物の蒸着膜の２層以上からなる複合膜を形成して使用することもできる。この異種の無機酸化物の蒸着膜の２層以上からなる複合膜としては、まず、基材フィルムの上に、化学気相成長法により、緻密で柔軟性に富み、比較的にクラックの発生を防止し得る無機酸化物の蒸着膜を設け、次いで、該無機酸化物の蒸着膜の上に、物理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜を設けて、２層以上からなる複合膜からなる無機酸化物の蒸着膜を構成することが好ましいものである。上記とは逆に、基材フィルムの上に、先に、物理気相成長法により、無機酸化物の蒸着膜を設け、次に、化学気相成長法により、緻密で、柔軟性に富み、比較的にクラックの発生を防止し得る無機酸化物の蒸着膜を設けて、２層以上からなる複合膜からなる無機酸化物の蒸着膜を構成することもできる。
【００３４】
次いで、本発明のガスバリア性フィルムは、更に、上記無機酸化物の蒸着膜またはその表面処理面に、更にプライマー層、ラミネート接着剤層、印刷層、ヒートシール層などを任意に設けることができる。まず、プライマー層としては、たとえば、シランカップリング剤と充填剤とを含むポリウレタン系樹脂組成物によるコーティング薄膜が例示できる。該コーティング薄膜に使用するシランカップリング剤としては、二元反応性を有する有機官能性シランモノマ−類を使用することができ、例えば、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルートリス（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、β−（３、４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルシリコ−ンの水溶液等の１種ないしそれ以上を使用することができる。
【００３５】
上記のようなシランカップリング剤は、その分子の一端にある官能基、通常、クロロ、アルコキシ、または、アセトキシ基等が加水分解し、シラノール基（ＳｉＯＨ）を形成し、これが、無機酸化物の蒸着膜に含まれるケイ素など活性な基と、例えば、水酸基等の官能基と何らかの作用、例えば、脱水縮合反応等の反応を起こして、蒸着層上にシランカップリング剤が共有結合等で修飾され、更に、シラノール基自体の前記蒸着層への吸着や水素結合等により強固な結合を形成する。他方、シランカップリング剤の他端にあるビニル、メタクリロキシ、アミノ、エポキシ、あるいは、メルカプト等の有機官能基が、そのシランカップリング剤の薄膜の上に形成される、例えば、本発明のガスバリア性フィルムに積層され得るラミネート用接着剤層、アンカーコート剤層、その他の層を構成する物質と反応して強固な結合を形成することができる。これにより、ラミネート用接着剤層、アンカーコート剤層等を介して、蒸着層やその上に形成される表面処理層と他の層とが強固に密接着してラミネート強度を高めることができる。
【００３６】
充填剤としては、例えば、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、アルミナホワイト、シリカ、タルク、ガラスフリット、樹脂粉末、その他等のものを使用することができる。これは、ポリウレタン系樹脂組成物について、その粘度等を調整し、そのコーティング適性等を高めるものである。ポリウレタン系樹脂としては、具体的には、例えば、多官能イソシアネートとヒドロキシル基含有化合物との反応により得られるポリマー、具体的には、例えば、トリレンジイソシアナート、ジフェニルメタンジイソシアナート、ポリメチレンポリフェニレンポリイソシアナート等の芳香族ポリイソシアナート、あるいは、ヘキサメチレンジイソシアナート、キシリレンジイソシアナート等の脂肪族ポリイソシアナート等の多官能イソシアネートと、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリアクリレートポリオール等のヒドロキシル基含有化合物との反応により得られる一液ないし二液型ポリウレタン系樹脂を使用することができる。本発明では、上記したポリウレタン系樹脂を使用することにより、ラミネート加工性や製袋加工性を向上させ、後加工時における無機酸化物の薄膜のクラック等の発生を防止することができる。
【００３７】
上記のポリウレタン系樹脂組成物としては、ポリウレタン系樹脂、１〜３０質量％に対し、シランカップリング剤、０．０５〜１０質量％位、好ましくは、０．１〜５質量％位、充填剤０．１〜２０質量％位、好ましくは、１〜１０質量％位の割合で添加し、更に、必要ならば、安定剤、硬化剤、架橋剤、滑剤、紫外線吸収剤、その他等の添加剤を任意に添加し、溶媒、希釈剤等を加えて充分に混合してポリウレタン系樹脂組成物を調整する。上記ポリウレタン系樹脂組成物は、例えば、ロールコート、グラビアコート、ナイフコート、デップコート、スプレイコート、その他のコーティング法で無機酸化物の薄膜の上にコーティングし、しかる後コーティング膜を乾燥させて溶媒、希釈剤等を除去して、本発明にかかるガスバリア性フィルムとすることができる。なお、本発明において、ポリウレタン系樹脂組成物によるプライマー層の厚さとしては、例えば、０．０１〜５０μｍ位、好ましくは、０．１〜５μｍ位が望ましい。
【００３８】
また、ラミネート用接着剤としては、ポリ酢酸ビニル系接着剤、アクリル酸のエチル、ブチル、２−エチルへキシルエステルなどのホモポリマーもしくはこれらとメタクリル酸メチル、アクリロニトリル、スチレンなどとの共重合体などからなるポリアクリル酸エステル系接着剤、シアノアクリレート系接着剤、エチレンと酢酸ビニル、アクリル酸エチル、アクリル酸、メタクリル酸などのモノマーとの共重合体などからなるエチレン共重合体系接着剤、セルロース系接着剤、ポリエステル系接着剤、ポリアミド系接着剤、ポリイミド系接着剤、尿素樹脂またはメラミン樹脂などからなるアミノ樹脂系接着剤、フェノール樹脂系接着剤、エポキシ系接着剤、ポリウレタン系接着剤、反応型（メタ）アクリル酸系接着剤、クロロプレンゴム、ニトリルゴム、スチレン−ブタジエンゴムなどからなる無機系接着剤、シリコーン系接着剤、アルカリ金属シリケート、低融点ガラスなどからなる無機系接着剤、その他の接着剤を使用することができる。
【００３９】
より好ましくは、例えば、トリレンジイソシアナート、ジフェニルメタンジイソシアナート、ポリメチレンポリフェニレンポリイソシアナートなどの芳香族ポリイソシアナート、またはヘキサメチレンジイソシアナート、キシリレンジイソシアナートなどの脂肪族ポリイソシアナート等の多官能イソシアナートと、ポリエーテル系ポリオール、ポリエステル系ポリオール、ポリアクリレートポリオール、その他のヒドロキシル基含有化合物との反応によって得られるポリエーテルポリウレタン系樹脂、ポリエステル系ポリウレタン系樹脂、ポリアクリレートポリウレタン系樹脂を主成分とするものである。これらによれば、柔軟性と屈曲性に富む薄膜を形成することができ、その引っ張り伸長度を向上させ、無機酸化物からなるバリア性薄膜層に対し、柔軟性、屈曲性などを有する被膜として作用し、ラミネート加工、印刷加工などの加工適性を向上させ、無機酸化物からなるバリア性薄膜層へのクラックなどの発生を回避することができる。上記ラミネート用接着剤からなるラミネート接着剤層は、ＪＩＳ規格Ｋ７１１３に基づいて、１００〜３００％の引っ張り伸長度を有することが好ましい。
【００４０】
これらの接着剤の組成系は、水性型、溶液型、エマルジョン型、分散型などのいずれの組成物形態でもよく、その性状はフィルム、シート状、粉末状、固形状などのいずれでもよい。更に、反応機構として、化学反応型、溶剤揮発型、熱溶着型、熱圧型などのいずれでもよい。また、ラミネート用接着剤の使用量には特に限定はないが、一般には、０．１〜１０ｇ／ｍ2（乾燥状態）である。上記ラミネート用接着剤は、ロールコート、グラビアコート、キスコートその他のコート法や印刷法によって行うことができる。
【００４１】
そして、上記ガスバリア性フィルムを形成するいずれかの層の間に所望の印刷模様層を形成することができる。上記の印刷模様層としては、例えば、上記のプライマー層の上に、通常のグラビアインキ組成物、オフセットインキ組成物、凸版インキ組成物、スクリーンインキ組成物、その他のインキ組成物を使用し、例えば、グラビア印刷方式、オフセット印刷方式、凸版印刷方式、シルクスクリーン印刷方式、その他の印刷方式を使用し、例えば、文字、図形、絵柄、記号、その他からなる所望の印刷絵柄を形成することにより構成することができる。
【００４２】
上記インキ組成物について、インキ組成物を構成するビヒクルとしては、例えば、ポリエチレン系樹脂、塩素化ポリプロピレン系樹脂などのポリオレフィン系樹脂、ポリ（メタ）アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリスチレン系樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、フッ化ビニリデン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、ポリブタジエン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、アルキッド系樹脂、エポキシ系樹脂、不飽和ポリエステル系樹脂、熱硬化型ポリ（メタ）アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、尿素系樹脂、ポリウレタン系樹脂、フェノール系樹脂、キシレン系樹脂、マレイン酸樹脂、ニトロセルロース、エチルセルロース、アセチルブチルセルロース、エチルオキシエチルセルロースなどの繊維素系樹脂、塩化ゴム、環化ゴムなどのゴム系樹脂、石油系樹脂、ロジン、カゼインなどの天然樹脂、アマニ油、大豆油などの油脂類、その他の樹脂の１種ないし２種以上の混合物を使用することができる。
【００４３】
本発明において、上記のようなビヒクルの１種ないし２種以上を主成分とし、これに、染料・顔料などの着色剤の１種ないし２種以上を加え、さらに必要ならば、充填剤、安定剤、可塑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤などの光安定剤、分散剤、増粘剤、乾燥剤、滑剤、帯電防止剤、架橋剤、その他の添加剤を任意に添加し、溶剤、希釈剤などで充分に混練してなる各種の形態からなるインキ組成物を使用することができる。
【００４４】
印刷層は、文字、図形、記号、絵柄、模様等の所望の印刷絵柄を表刷り印刷しても、あるいは裏刷り印刷してもよく、全面印刷でも、部分印刷でもよい。
【００４５】
本発明では、前記蒸着層上にヒートシールを押出し形成によって積層することができる。ヒートシール層を押出し形成する際に、前記蒸着層上にアンカーコート剤を介してヒートシール層を形成することが好ましい。使用するアンカーコート剤としては、イソシアネート系（ウレタン系）、ポリエチレンイミン系、ポリブタジエン系、有機チタン系、その他のアンカーコーティング剤が例示できる。より好ましくは、例えば、トリレンジイソシアナート、ジフェニルメタンジイソシアナート、ポリメチレンポリフェニレンポリイソシアナートなどの芳香族ポリイソシアナート、またはヘキサメチレンジイソシアナート、キシリレンジイソシアナートなどの脂肪族ポリイソシアナート等の多官能イソシアナートと、ポリエーテル系ポリオール、ポリエステル系ポリオール、ポリアクリレートポリオール、その他のヒドロキシル基含有化合物との反応によって得られるポリエーテルポリウレタン系樹脂、ポリエステル系ポリウレタン系樹脂、ポリアクリレートポリウレタン系樹脂を主成分とするものである。
【００４６】
これらによれば、柔軟性と屈曲性に富む薄膜を形成することができ、その引っ張り伸長度を向上させ、無機酸化物からなるバリア性薄膜層に対し、柔軟性、屈曲性などを有する被膜として作用し、ラミネート加工、印刷加工などの加工適性を向上させ、無機酸化物からなるバリア性薄膜層へのクラックなどの発生を回避することができ、バリア性フィルムとヒートシール層との密接着性を向上させ、無機酸化物からなるバリア性薄膜層へのクラックの発生を防止し、ラミネート強度を向上させることができる。本発明においては、アンカーコート剤を、例えば、ロールコート、グラビアコート、ナイフコート、デップコート、スプレイコート、その他のコーティング法でコーティングし、溶剤、希釈剤等を乾燥して、本発明にかかるアンカーコート剤によるアンカーコート剤層を形成することができる。アンカーコート剤の塗布量としては、０．１〜５ｇ／ｍ2（乾燥状態）位が望ましい。また、上記アンカーコート剤からなるアンカーコート剤層は、ＪＩＳ規格Ｋ７１１３に基づいて、１００〜３００％の引っ張り伸長度を有することが好ましい。
【００４７】
本発明のガスバリア性フィルムに積層できるヒートシール層としては、熱によって溶融し相互に融着し得る各種のヒートシール性を有するポリオレフィン系樹脂等を使用することができる。具体的には、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、直鎖状（線状）低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマー樹脂、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレン−メタクリル酸共重合体、メタロセン触媒を使用して重合したエチレン−α・オレフィン共重合体、ポリプロピレン、エチレン−メタクリル酸メチル共重合体、エチレン−プロピレン共重合体、メチルペンテンポリマー、ポリブテンポリマー、ポリエチレンまたはポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂をアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、フマール酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸で変性した酸変性ポリオレフィン樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリ（メタ）アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂等の樹脂からなる１種以上のフィルムもしくはシートまたは塗布膜などを使用することができる。ヒートシール層は、上記樹脂の１種からなる単層でも多層でもよく、ヒートシール層の厚さとしては、１５〜１３０μｍである。１５μｍを下回ると炭素含有酸化珪素の蒸着膜に擦り傷やクラックを発生する場合がある。
【００４８】
本発明のガスバリア性フィルムを使用して成型物を製造することができる。例えば、本発明のガスバリア性フィルムに、更にプライマー層、ラミネート用接着剤層、ヒートシール層を積層して積層材となし、包装用容器とすることができる。たとえば、該積層材の内層のヒートシール性フィルムの面を対向させて、それを折り重ねるか、或いはその二枚を重ね合わせ、更にその周辺端部をヒートシールしてシール部を設けて袋体を構成することができる。その製袋方法としては、上記の積層材を、その内層の面を対向させて折り曲げるか、あるいはその二枚を重ね合わせ、更にその外周の周辺端部を、例えば、側面シール型、二方シール型、三方シール型、四方シール型、封筒貼りシール型、合掌貼りシール型（ピロ−シール型）、ひだ付シール型、平底シール型、角底シール型、その他等のヒートシール形態によりヒートシールして、本発明にかかる種々の形態の包装用容器を製造することができる。また、例えば、自立性包装袋（スタンディングパウチ）等も製造することが可能であり、更に、本発明においては、積層材を使用してチューブ容器等も製造することができる。
【００４９】
ヒートシールの方法としては、例えば、バ−シール、回転ロ−ルシール、ベルトシール、インパルスシール、高周波シール、超音波シール等の公知の方法で行うことができる。なお、本発明においては、上記のような包装用容器には、例えば、ワンピースタイプ、ツウーピースタイプ、その他等の注出口、あるいは開閉用ジッパー等を任意に取り付けることができる。また、その形状は、角形容器、丸形等の円筒状の紙缶等のいずれのものでも製造することができる。
【００５０】
このような包装用容器は、種々の飲食品、接着剤、粘着剤等の化学品、化粧品、医薬品、ケミカルカイロ等の雑貨品、その他等の物品の充填包装に使用されるものである。本発明においては、酸素などのガスのバリア性能を低下させ、一方で水蒸気のバリア性能に優れるガスバリア性フィルムであるため、特に、例えばカイロなどとして好適に使用することができる。
【００５１】
次に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、これらの実施例は何ら本発明を制限するものではない。
【００５２】
実施例１
一方にコロナ処理面を有する厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエステルフィルムを使用し、これを図２に示す、るつぼに入れたアルミニウムへのエレクトロンビームの入射位置より前方であって、該るつぼのアルミニウムが接する内側壁面を、アルミニウムが接する内側底面の接線に対して４５°傾斜させて設けたるつぼを備えるエレクトロンビーム物理蒸着装置に装着した。次に、エレクトロンビーム物理蒸着装置内における蒸着チャンバー内の真空度を２．０×１０-4ｍｂａｒ、巻き取りチャンバー内の真空度を２．０×１０-2ｍｂａｒ程度に減圧し、フィルムの搬送速度を５４０ｍ／ｍｉｎとして、酸素ガスを供給しながら電力を２５ｋｗとしたエレクトロンビームを、まず、るつぼ中のアルミニウムに照射することにより前記アルミニウムを蒸発させ、コーティングドラム上に案内された２軸延伸ポリエステルフィルムのコロナ処理面上に、前記蒸発したアルミニウムによる膜厚３０ｎｍの酸化アルミニウムの蒸着膜を形成させ、次いで、るつぼ中のアルミニウムへのエレクトロンビームの入射位置から前方距離が２０ｃｍになる、るつぼの傾斜させた内側壁面の上部位置にエレクトロンビーム照射口が向くように、該エレクトロンビーム照射口をスキャンさせ、該るつぼの傾斜させた内側壁面の上部位置に向けて該エレクトロンビーム照射口より照射したエレクトロンビームを反射させ、該エレクトロンビームの反射二次電子により、コーティングドラム上の、酸化アルミニウムの蒸着膜を形成させた２軸延伸ポリエステルフィルムに、さらに複数の微細な空孔を設ける。次に、前記条件で得られた複数の微細な空孔を有する酸化アルミニウムの蒸着膜を形成した２軸延伸ポリエステルフィルム上に、２液硬化型ポリウレタン系ラミネート用接着剤を形成し、厚さ６０μｍの低密度ポリエチレンフィルムをドライラミネートして積層体にし、ガスバリア性フィルム１を製造した。
【００５３】
実施例２
るつぼのアルミニウムが接する内側壁面を、アルミニウムが接する内側底面の接線に対して３０°傾斜させて設けた以外は、実施例１と同様にしてガスバリア性フィルム２を製造した。
【００５４】
実施例３
るつぼのアルミニウムが接する内側壁面を、アルミニウムが接する内側底面の接線に対して６０°傾斜させて設けた以外は、実施例１と同様にしてガスバリア性フィルム３を製造した。
【００５５】
比較例１
るつぼのアルミニウムが接する内側壁面を、アルミニウムが接する内側底面の接線に対して１５°傾斜させて設けた以外は、実施例１と同様にしてガスバリア性フィルム４を製造した。
【００５６】
比較例２
るつぼのアルミニウムが接する内側壁面を、アルミニウムが接する内側底面の接線に対して７０°傾斜させて設けた以外は、実施例１と同様にしてガスバリア性フィルム５を製造した。
【００５７】
評価方法
実施例１〜３、比較例１〜２で製造したガスバリア性フィルムを用い、ガスバリア性の評価を行った。このガスバリア性は、酸素透過度および水蒸気透過度により評価した。その結果を表１に示す。なお、酸素透過度の測定は、温度２３℃、湿度９０％ＲＨの条件で、米国、モコン（ＭＯＣＯＮ）社製の測定機〔機種名、オクストラン（ＯＸ−ＴＲＡＮ２／２０）〕にて測定した。また、水蒸気透過度の測定は、温度４０℃、湿度９０％ＲＨの条件で、米国、モコン（ＭＯＣＯＮ）社製の測定機〔機種名、パ−マトラン（ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ３／３１）〕にて測定した。なお、表１において、酸素透過度の単位は、〔ｃｃ／ｍ2／ｄａｙ・２３℃・９０％ＲＨ〕であり、水蒸気透過度の単位は、〔ｇ／ｍ2／ｄａｙ・４０℃・９０％ＲＨ〕である。
【００５８】
【表１】
2008144240.tif 000003
【００５９】
結果
（１）上記の実施例および比較例から、るつぼのアルミニウムが接する内側壁面を、アルミニウムが接する内側底面の接線に対して３０°〜６０°の範囲の角度で傾斜させて設けた場合には、酸素透過度が２３〜８６ｃｃ／ｍ2／ｄａｙとなり、前記るつぼ内側壁面の傾斜角度を１５°もしくは７０°に傾斜させて設けた場合よりも酸素透過度が１０倍以上高くなり、酸素ガスに対するバリア性が低下する、と判明した。
【００６０】
（２）上記の実施例および比較例から、前記るつぼ内側壁面の傾斜角度を１５°もしくは７０°に傾斜させて設けた場合の水蒸気透過度が２．１〜２．３ｃｃ／ｍ2／ｄａｙであるのに比べて、前記るつぼ内側壁面の傾斜角度を３０°〜６０°の範囲の角度で傾斜させて設けた場合には、水蒸気透過度が１．３〜１．６ｃｃ／ｍ2／ｄａｙに若干低下し、水蒸気に対するバリア性が向上する、と判明した。
【００６１】
従って、前記るつぼ内側壁面の傾斜角度を、３０°〜６０°の範囲で傾斜させれば、水蒸気バリア性を確保しつつ、酸素をより透過可能にすることが判明した。
【産業上の利用可能性】
【００６２】
本発明によるガスバリア性フィルムは、特に、酸素透過性が改良され、かつ水蒸気バリア性に優れ、カイロなどの包材に有用である。
【図面の簡単な説明】
【００６３】
【図１】本発明のガスバリア性フィルムの一例を説明する、基材フィルムと無機酸化物の蒸着膜とを有するガスバリア性フィルム（ａ）、基材フィルムおよび蒸着膜上にそれぞれ表面処理層を有するガスバリア性フィルム（ｂ）の断面側面図である。
【図２】巻き取り式真空蒸着装置の一例を示す概略的構成図である。
【図３】巻き取り式真空蒸着装置におけるるつぼ付近を拡大した側面模式図である。
【符号の説明】
【００６４】
１０，２０１    基材フィルム
２０    無機酸化物の蒸着膜
１００    エレクトロンビームガン
１１０    エレクトロンビーム照射口
１２０，１３０    エレクトロンビーム
１４０    内側壁面
１５０    内側底面
２０２    ガスバリア性フィルム
２４１    巻き取り式真空蒸着装置
２４２    真空チャンバー
２４３    巻き出しロール
２４６    コーティングドラム
２４７    るつぼ
２４８    蒸着源
２４９    酸素ガス吹出口
ａ    入射位置
ｂ    上部位置
ｃ，ｄ    位置
ｌ    接線
ｒ    前方距離
θ    角度
【図１】
2008144240.tif 000004
【図２】
2008144240.tif 000005
【図３】
2008144240.tif 000006