(57)【要約】      （修正有）【課題】電磁波シールド性、耐久性に優れたディスプレイ用光学フィルタを提供すること。【解決手段】透明基板１１、その上に設けられた電磁波シールド材１２、及び電磁波シールド材１２上に設けられた機能性フィルム１３を含むディスプレイ用光学フィルタであって、機能性フィルム１３は、周囲に電磁波シールド材１２が露出するように設けられており、そして機能性フィルム１３の端部から、露出した電磁波シールド材１２に導電性粘着テープ１５が貼付され、且つ電磁波シールド材１２上の導電性粘着テープ１５がローレット加工処理されていることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。【選択図】図１
2008177222.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板、その上に設けられた電磁波シールド材、及び電磁波シールド材上に設けられた機能性フィルムを含むディスプレイ用光学フィルタであって、
機能性フィルムは、周囲に電磁波シールド材が露出するように設けられており、そして機能性フィルムの端部から、露出した電磁波シールド材に導電性粘着テープが貼付され、且つ電磁波シールド材上の導電性粘着テープがローレット加工処理されていることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項２】
機能性フィルムが、近赤外線吸収フィルムであり、且つ透明基板の電磁波シールド材の設けられていない側の表面に反射防止フィルム又は防眩フィルムが設けられている請求項１に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項３】
機能性フィルムが、反射防止・近赤外線吸収複合フィルム又は防眩・近赤外線吸収複合フィルムである請求項１に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項４】
導電性粘着テープが透明基板の電磁波シールド材の設けられていない側の表面まで貼付されている請求項３に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項５】
電磁波シールド材と機能性フィルムとの間に粘着層が設けられている請求項１〜４のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項６】
電磁波シールド材が導電性メッシュである請求項１〜５のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項７】
電磁波シールド材が導電性繊維メッシュである請求項１〜６のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項８】
透明基板、電磁波シールド材、及び機能性フィルムの形状が矩形である請求項１〜７のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項９】
透明基板がガラス板である請求項１〜８のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１０】
プラズマディスプレイパネル用フィルタである請求項１〜９のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１１】
透明基板の上に、表面に電磁波シールド材と機能性フィルムとを、この順で且つ透明基板の周囲に電磁波シールド材が露出するように積層する工程、
機能性フィルムの端部から、露出した電磁波シールド材に導電性粘着テープを貼付する工程、及び
電磁波シールド材上の導電性粘着テープをローレット加工する工程
を含むディスプレイ用光学フィルタの製造方法。
【請求項１２】
透明基板、その上に設けられた電磁波シールド材及び電磁波シールド材の設けられていない側の表面に設けられた機能性フィルムを含むディスプレイ用光学フィルタであって、
電磁波シールド材の端部に導電性粘着テープが貼付され、且つ電磁波シールド材上の導電性粘着テープがローレット加工処理されていることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１３】
電磁波シールド材が、透明フィルムとその上に形成された電磁波シールド材とからなる電磁波シールドフィルムであり、その透明フィルムと透明基板との間で接着されている請求項１２に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１４】
機能性フィルムが、反射防止・近赤外線吸収複合フィルム又は防眩・近赤外線吸収複合フィルムである請求項１２又は１３に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１５】
機能性フィルムが、反射防止フィルム又は防眩フィルムであり、且つ電磁波シールド材の導電性粘着テープの設けられていない領域に近赤外線吸収フィルムが設けられている請求項１２又は１３に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１６】
導電性粘着テープが透明基板の機能層の表面まで貼付されている請求項１２〜１５のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１７】
請求項１〜９及び請求項１３〜１６のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするディスプレイ。
【請求項１８】
請求項１〜９及び請求項１３〜１６のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電磁波シールド性光透過窓材等のディスプレイ用光学フィルタ、特に良好な電磁波シールド性と、反射防止性、防眩性及び／又は近赤外線遮蔽性とを備え、かつ光透過性で、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の前面フィルタ等として有用なディスプレイ用光学フィルタに関する。また、本発明は、このディスプレイ用光学フィルタを備えたＰＤＰ等の表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ディスプレイは大画面表示が主流となり、大画面表示デバイスとして、液晶ディスプレイと共にＰＤＰが一般的になってきている。ＰＤＰは液晶ディスプレイに比べて応答速度が早い等の利点を有する。しかしながら、このＰＤＰでは画像表示のため発光部に高周波パルス放電を行っているため、不要な電磁波の輻射や赤外線リモコン等の誤動作の原因ともなる赤外線の輻射のおそれがあり、このため、これらを防止する目的で、ＰＤＰに対して、導電性を有する種々のＰＤＰフィルタ（電磁波シールド性光透過窓材）が提案されている。この電磁波シールド性光透過窓材で用いられる導電性材料としての電磁波シールド材としては、例えば、(1)金属銀を含む透明導電薄膜、(2)金属線又は導電性繊維を網状にした導電性メッシュ、(3)透明フィルム上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けたもの、(4)透明フィルム上に導電性インクをメッシュ状に印刷したもの、等が知られている。一般に、(2)の導電性メッシュの電磁波シールド性が高いことが知られている。
【０００３】
さらに、従来のＰＤＰを初めとした大型ディスプレイでは、反射防止又は防眩フィルムや近赤外線カットフィルム等の種々のフィルムが貼り合わされている。
【０００４】
上記ＰＤＰフィルタにおいては、例えば、特許文献１（特開平１１−７４６８３号公報）には、２枚の透明基板の間に導電性メッシュを介在させて、透明接着樹脂で接合一体化してなる電磁波シールド性光透過窓材が記載されている。
【０００５】
さらに上記電磁波シールド材による電磁波シールド性を良好なものとするために、電磁波シールド材、例えば導電性メッシュ、をＰＤＰ本体に接地（アース）する必要があることから、２枚の透明基板間から電磁波シールド材を外部にはみ出させ、上記光透過窓材積層体の裏側に回り込ませて接地するか、２枚の透明基板間に該電磁波シールド材に接触するように導電性粘着テープを挟み込む必要がある。しかしながら、このような方法では、積層工程における上記作業が煩雑であるとの問題がある。
【０００６】
また、特許文献２（特開２００１−１４２４０６号公報）には、１枚の透明基板と、電磁波シールド材と、最表層の反射防止又は防眩フィルムと、近赤外線カットフィルムとが積層一体化されてなる積層体を備え、該透明基板の端面及び表裏の縁部にまたがって導電性粘着テープが付着され、該導電性粘着テープと該電磁波シールド材の縁部（端部）とが導電性粘着剤によって付着されている電磁波シールド性光透過積層フィルムが記載されている。
【０００７】
【特許文献１】特開平１１−７４６８３号公報
【特許文献２】特開２００１−１４２４０６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
特許文献２のＰＤＰフィルタにおいては、アースをとるために、特許文献１における電磁波シールド材を外部にはみ出させる等の煩雑な工程はなくなり、改善されている。即ち、透明基板の端面及び表裏の縁部にまたがって導電性粘着テープが付着され、導電性粘着テープと電磁波シールド材の縁部（端部）とが導電性粘着テープによって付着することにより行われる。
【０００９】
しかしながら、製造上のバラツキ等により、電磁波シールド材と導電性粘着テープとの接触が十分でないＰＤＰフィルタが屡々観察され、この場合、電磁波シールド材と導電性粘着テープとの接触面に圧力が加わっていないとこれらの間の接触抵抗が増大し、アースを良好にとることができず、電磁波シールド性が低下する恐れがある。即ち、このようなフィルタが装着されたディスプレイは、長期使用或いは搬送等により、電磁波シールド材と導電性粘着テープとの間の密着性が低下することが懸念される。特に、ディスプレイの画面の大型化に伴い、その重量の影響から電磁波シールド材と導電性粘着テープとの間の密着性が低下する傾向にある。
【００１０】
従って、本発明は、電磁波シールド性及び耐久性に優れたディスプレイ用光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１１】
また、本発明は、電磁波シールド性、反射防止性、防眩性、近赤外遮断性、そして耐久性に優れたディスプレイ用光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１２】
さらに、本発明は、上記優れた特性の光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされたディスプレイを提供することを目的とする。
【００１３】
さらにまた、本発明は、上記優れた特性の光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされたＰＤＰを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明は、
透明基板、その上に設けられた電磁波シールド材、及び電磁波シールド材の上に設けられた機能性フィルムを含むディスプレイ用光学フィルタであって、
機能性フィルムは、周囲に電磁波シールド材が露出するように設けられており、そして機能性フィルムの端部から、露出した電磁波シールド材に導電性粘着テープが貼付され、且つ電磁波シールド材上の導電性粘着テープがローレット加工処理されていることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ、
にある。
【００１５】
本発明のディスプレイ用光学フィルタの好適態様は以下の通りである。
（１）機能性フィルムが、近赤外線吸収フィルムであり、且つ透明基板の反対面に反射防止フィルム又は防眩フィルムが設けられている。この構成においては、汎用の反射防止フィルムを、近赤外線吸収フィルム及び透明基板等の屈折率を大きく調整せずに使用することができる。
（２）機能性フィルムが、反射防止・近赤外線吸収複合フィルムである。この場合、一般に、導電性粘着テープが透明基板の裏面まで貼付されている。貼り付け工程少なく、生産性に優れている。
（３）電磁波シールド材が導電性メッシュである。
（４）電磁波シールド材が導電性繊維メッシュである、優れた電磁波シールド性が得られる。
（５）電磁波シールド材と機能性フィルムとの間に粘着層が設けられている。電磁波シールド材として導電性繊維メッシュを用いた場合は、粘着層はエチレン酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）からなる層であることが好ましい。
（６）透明基板がガラス板である。
（７）反射防止フィルムは、透明フィルム上に設けられたハードコート層、或いはハードコート層及びハードコート層より屈折率の低い低屈折率層からなる。後者はより良好な反射防止性が得られる。
（８）防眩フィルムの表面は、０．００５〜０．３００μｍの表面粗さ（Ｒａ）を有する。これにより、良好な防眩性を得ることができる。
（９）反射防止・近赤外線吸収複合フィルム又は防眩・近赤外線吸収複合フィルムは、一般に、上記反射防止フィルム又は防眩フィルムの裏面に近赤外線吸収層が設けられている。複合フィルムの透明基板への貼付は、透明基板と近赤外線吸収層側を粘着層を介して接着することにより行われる。
（１０）透明基板、電磁波シールド材、及び機能性フィルムの形状が矩形である。
（１１）プラズマディスプレイパネル用フィルタである。
【００１６】
本発明の上記ディスプレイ用光学フィルタは、下記の本発明の製造方法により有利に得ることができる：
透明基板の上に、表面に電磁波シールド材と機能性フィルムとを、この順で粘着層を介して且つ透明基板の周囲に電磁波シールド材が露出するように積層する工程、
機能性フィルムの端部から、露出した電磁波シールド材に導電性粘着テープを貼付する工程、及び
電磁波シールド材上の導電性粘着テープをローレット加工する工程
を含むディスプレイ用光学フィルタの製造方法。
【００１７】
前記ディスプレイ用光学フィルタの好適態様は、上記製造方法にも適用することができる。
【００１８】
また、本発明は、
透明基板、その上に設けられた電磁波シールド材及び電磁波シールド材の設けられていない側の表面に設けられた機能性フィルムを含むディスプレイ用光学フィルタであって、
電磁波シールド材の端部に導電性粘着テープが貼付され、且つ電磁波シールド材上の導電性粘着テープがローレット加工処理されていることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタにもある。
【００１９】
本発明のディスプレイ用光学フィルタの好適態様は以下の通りである。
（１）電磁波シールド材が、透明フィルムとその上に形成された電磁波シールド材とからなる電磁波シールドフィルムであり、その透明フィルムと透明基板との間で接着されている。
（２）機能性フィルムが、反射防止・近赤外線吸収複合フィルム又は防眩・近赤外線吸収複合フィルムである。
（３）機能性フィルムが、反射防止フィルム又は防眩フィルムであり、且つ電磁波シールド材の導電性粘着テープの設けられていない領域に近赤外線吸収フィルムが設けられている。
（４）導電性粘着テープが透明基板の機能層の表面まで貼付されている。
【００２０】
さらに、本発明は、
上記のディスプレイ用光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするディスプレイ；及び
上記のディスプレイ用光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするプラズマディスプレイパネルにもある。
【発明の効果】
【００２１】
本発明のディスプレイ用光学フィルタでは、電磁波シールド材の上に反射防止性又は防眩性及び／又は近赤外線遮蔽性等を有する機能性フィルムが周囲に電磁波シールド材が露出するように設けられ、その露出した電磁波シールド材に導電性粘着テープが貼付され且つ電磁波シールド材上の導電性粘着テープがローレット加工処理されている。これにより、電磁波シールド材と導電性粘着テープとの密着性が向上し、これらの間の接触状態が極めて緊密となることから、長期に亘り良好なアースを保証することができる。
【００２２】
従って、本発明のディスプレイ用光学フィルタは長期に亘り良好なアースが保証されるので、良好な電磁波シールド性を長期に亘って保持することができる光学フィルタということができる。特にディスプレイの大型化に伴い、光学フィルタの面積も増大するため、ディスプレイの筐体枠のフィルタに対する締め付け力が落ちる傾向となり、電磁波シールド材と導電性粘着テープとの密着性も低下し易くなるため、本発明の光学フィルタは有用である。
【００２３】
また、このような本発明のディスプレイ用光学フィルタは、電磁波シールド性光透過窓材、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）のみならず、ブラウン管（ＣＲＴ）ディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機ＥＬ（電界発光）ディスプレイ、表面電界型ディスプレイ（ＳＥＤ）を含む電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ）等の各種ディスプレイに対して電磁波遮蔽、帯電防止、反射防止、防眩性等の各種機能が優れた光学フィルタということができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
本発明の電磁波シールド性に優れたディスプレイ用光学フィルタについて、以下に詳細に説明する。
【００２５】
本発明のディスプレイ用光学フィルタにおける基本構成の１例を描いた概略の部分断面図を図１に示す。図１では、断面のほぼ右半分を示している。図１のディスプレイ用光学フィルタは矩形状である。図１において、透明基板１１の一方の表面に、電磁波シールド材１２が設けられ、さらにその上に粘着層１４を介して反射防止・近赤外線吸収複合フィルム１３が設けられている。反射防止・近赤外線吸収複合フィルム１３は、防眩・近赤外線吸収複合フィルムでも良い。反射防止・近赤外線吸収複合フィルム１３は、電磁波シールド材１２より内側に設けられ、このため電磁波シールド材１２が透明基板１１の周囲において露出している。そしてこの露出した電磁波シールド材１２を覆い、且つ反射防止・近赤外線吸収複合フィルム１３の端部、及び透明基板の側部、さらに透明基板の裏面まで覆うように、導電性粘着テープ１５が貼付されている。導電性粘着テープ１５は、透明基板１１の裏面まで覆わなくても良いが、裏面まで覆うことにより表裏どちらの面でも電極をとることができる。また裏面まで覆わない場合でも、露出した電磁波シールド材１２と反射防止・近赤外線吸収複合フィルム１３の端部を少なくとも覆う必要がある。特に、電磁波シールド材１２として繊維メッシュの場合、固定されない繊維メッシュは浮遊し易いため、安定した電極を得るために反射防止・近赤外線吸収複合フィルム１３まで覆う必要がある。一方、エッチングメッシュ、印刷メッシュの場合は、反射防止・近赤外線吸収複合フィルム１３まで覆わなくても良い。
【００２６】
さらに、本発明では、露出した電磁波シールド材１２を覆う導電性粘着テープ１５の表面が、ローレット加工処理がなされている。ローレット加工処理された領域はＫ１で示されている。Ｋ１は一般に１ｍｍ以上である。ローレット加工領域Ｋ１では、導電性粘着テープ１５、電磁波シールド材１２及び粘着層１４が、一体化され、且つ表面に凹凸が形成されている。これにより、電磁波シールド材と導電性粘着テープとの密着性が向上し、従って、長期に亘り良好なアースを保証することができる。また表面に凹凸により、アースのためのディスプレイの金属カバー等との接触を有利にすることも可能である。透明基板１１と電磁波シールド材１２との間に、電磁波シールド材１２の密着性を改善するために中間層を設けても良い。
【００２７】
上記のローレット加工は、周知の技術であり、例えば、ローレット駒、ローレットホルダ等の工具を旋盤等に据え付けて、これを回転させながら工作物（本発明では上記Ｋの領域）の表面に所望の刻み目（例、ななこ目、すじ目、斜目、）を形成する加工である。ローレット加工は、一般に押転造によるものであるが、切削式を用いても良い。本発明では、刻み目の凹部の深さは、５０〜５０００μｍ、特に１００〜９００μｍが好ましい。また目を形成する凹部の間隔は、０．２５４〜２５ｍｍ、特に０．７４〜１．５８ｍｍが好ましい。
【００２８】
また、上記ローレット加工は、裁縫用のローレットを用いて行っても良い。この場合、加工幅（上記Ｋ１）、凹部の間隔は一定で無くても良い。また凹部の間隔は上記範囲より広くても良い。
【００２９】
上記反射防止・近赤外線吸収複合フィルム１３の好ましい構成の１例を描いた概略断面図を図２に示す。透明フィルム２１の一方の表面に、ハードコート層２７Ｈ及び低屈折率層２７Ｌ等の反射防止層がこの順で設けられ、透明フィルム２１の他方の表面に、近赤外線吸収層２６が設けられている。近赤外線吸収層２６上に粘着層が設けられても良い。また低屈折率層２７Ｌ上に保護層が設けられても良い。反射防止層は、防眩層でも良く、この場合は、防眩・近赤外線吸収複合フィルムとなる。
【００３０】
本発明のディスプレイ用光学フィルタにおける別の基本構成の１例を描いた概略部分断面図を図３に示す。図３では、断面のほぼ右半分を示している。図３において、透明基板３１の一方の表面に、電磁波シールド材３２が設けられ、その上に粘着層３４を介して近赤外線吸収フィルム３６が設けられ、さらに透明基板３１の他方の表面に、反射防止フィルム３７が設けられている（好ましくは粘着層を介して）。近赤外線吸収フィルム３６は、電磁波シールド材３２より内側に設けられ、このため電磁波シールド材３２が透明基板３１の周囲において露出している。そしてこの露出した電磁波シールド材３２を覆い、且つ近赤外線吸収フィルム３６の端部を覆うように、導電性粘着テープ３５が貼付されている。導電性粘着テープ３５透明基板の側部、さらに反射防止フィルム３７の端部まで覆っても良い。
【００３１】
さらに、本発明では、露出した電磁波シールド材３２を覆う導電性粘着テープ３５の表面が、ローレット加工処理がなされている。ローレット加工処理された領域はＫ１で示されている。ローレット加工領域Ｋ３では、導電性粘着テープ３５、電磁波シールド材３２及び粘着層３４が、一体化され、且つ表面に凹凸が形成されている。これにより、電磁波シールド材と導電性粘着テープとの密着性が向上し、従って、長期に亘り良好なアースを保証することができる。また表面に凹凸により、アースのためのディスプレイの金属カバー等との接触を有利にすることも可能である。
【００３２】
上記近赤外線吸収フィルム３６の好ましい構成の１例を描いた概略断面図を図４に示す。透明フィルム４１の表面に、近赤外線吸収層４６が設けられている。近赤外線吸収層４６上に粘着層が設けられても良い。透明フィルム４１の裏面に、色素の種類が異なる（即ち吸収波長の異なる）近赤外線吸収層を設けても良い。
【００３３】
上記反射防止フィルム３７の好ましい構成の１例を描いた概略断面図を図５に示す。透明フィルム５１の表面に、ハードコート層５７Ｈ及び低屈折率層５７Ｌ等の反射防止層がこの順で設けられている。低屈折率層５７Ｌ上に保護層が設けられても良い。
【００３４】
本発明のディスプレイ用光学フィルタの別の１例を描いた概略の部分断面図を図６に示す。図６では、断面のほぼ右半分を示している。図６のディスプレイ用光学フィルタは矩形状である。図６において、透明基板６１の一方の表面に、反射防止・近赤外線吸収複合フィルム６３が設けられ、透明基板６１の他方の表面に、透明フィルム６２Ｂ上に電磁波シールド材６２Ａが形成された電磁波シールドフィルム６２が設けられ（一般に粘着剤を用いて）、さらに電磁波シールド材６２Ａの端部に導電性粘着テープ６５が貼付されている。そして電磁波シールド材６２Ａを覆う導電性粘着テープ６５の表面が、ローレット加工処理がなされている。ローレット加工処理された領域はＫ１で示されている。導電性粘着テープ６５は透明基板の側部まで、或いはさらに透明基板の反射防止・近赤外線吸収複合フィルム６３側まで覆うように貼付されていても良い。反射防止・近赤外線吸収複合フィルム６３は、防眩・近赤外線吸収複合フィルムでも良い。
【００３５】
さらに、本発明のディスプレイ用光学フィルタの別の１例を描いた概略の部分断面図を図７に示す。図７では、断面のほぼ右半分を示している。図７のディスプレイ用光学フィルタは矩形状である。図７において、透明基板７１の一方の表面の端部近傍を除く領域に、反射防止・近赤外線吸収複合フィルム７３が設けられ、透明基板７１の他方の表面に、透明フィルム７２Ｂ上に電磁波シールド材７２Ａが形成された電磁波シールドフィルム７２が設けられ、さらに電磁波シールド材７２Ａの端部、透明基板の側部、さらに透明基板の反射防止・近赤外線吸収複合フィルム７３側の表面まで覆うように貼付されている。そして電磁波シールド材７２Ａを覆う導電性粘着テープ７５の表面が、ローレット加工処理がなされている。ローレット加工処理された領域はＫ１で示されている。反射防止・近赤外線吸収複合フィルム７３は、防眩・近赤外線吸収複合フィルムでも良い。
【００３６】
さらにまた、本発明のディスプレイ用光学フィルタの別の１例を描いた概略の部分断面図を図８に示す。図８では、断面のほぼ右半分を示している。図８のディスプレイ用光学フィルタは矩形状である。図８において、透明基板８１の一方の表面の端部近傍を除く領域に、反射防止フィルム８３が設けられ、透明基板７１の他方の表面に、透明フィルム８２Ｂ上に電磁波シールド材８２Ａが形成された電磁波シールドフィルム８２が設けられ、さらに電磁波シールド材８２Ａの端部、透明基板の側部、さらに透明基板の反射防止フィルム８３側まで覆うように貼付されている。そして電磁波シールド材８２Ａを覆う導電性粘着テープ８５の表面が、ローレット加工処理がなされている。導電性粘着テープ８５で覆われていない電磁波シールド材８２Ａ上には、近赤外線吸収フィルム８７が設けられている（一般に粘着剤を介して設けられる）。ローレット加工処理された領域はＫ１で示されている。反射防止フィルム８３は、防眩フィルムでも良い。
【００３７】
電磁波シールド材１２、３２は、例えば、メッシュ状の金属層又は金属含有層、又は塗工層、或いは金属酸化物層（誘電体層）、又は金属酸化物層と金属層との交互積層膜である。メッシュ状の金属層又は金属含有層は、一般に、金属繊維層（導電性繊維メッシュ）であるか、エッチングにより、又は印刷法により形成された層である。これにより低抵抗値を得られやすい。メッシュ状の金属層又は金属含有層のメッシュの空隙が、一般に粘着層で埋められている。これにより透明性が向上する。電磁波シールド材（導電層）が、塗工層、例えば、ポリマー中に無機化合物の導電性粒子が分散された塗工層、或いは導電性ポリマーの塗工層でも良い。本発明では、導電性繊維メッシュが好ましい。優れた電磁波シールド性を示す。
【００３８】
反射防止層は、一般に低屈折率層２７Ｌ，５７Ｌである。即ち、ハードコート層２７Ｈ，５７Ｈとその上に設けられた低屈折率層２７Ｌ，５７Ｌとの複合膜により反射防止効果を示す。この低屈折率層とハードコート層との間に高屈折率層を設けても良い。これにより反射防止機能は向上する。
【００３９】
また反射防止層は設けなくても良く、ハードコート層のみであっても良い。ハードコート層、反射防止層は、いずれも塗工により形成されていることが、生産性、経済性の観点から好ましい。
【００４０】
近赤外線吸収層２６，４６は、ＰＤＰのネオン発光等の不要な光を遮断する機能を有する。一般に８００〜１２００ｎｍに吸収極大を有する色素を含む層である。近赤外線吸収層２６，４６上に設けられる粘着層は、一般にディスプレイへの容易に装着するために設けられている。粘着層の上に剥離シートを設けても良い。
【００４１】
上述の本発明のディスプレイ用光学フィルタは、基本的には、透明基板の上に、表面に電磁波シールド材と機能性フィルムとを、この順で粘着層を介して、透明基板の周囲に電磁波シールド材が露出するように積層する工程、機能性フィルムの端部から、露出した電磁波シールド材に導電性粘着テープを貼付する工程、及び電磁波シールド材上の導電性粘着テープをローレット加工する工程を、順に実施することにより有利に得ることができる。即ち、透明基板は、一般にガラス板であり、これに各機能性フィルムを貼り付け、そして露出した電磁波シールド材に導電性粘着テープを貼付し、貼付された導電性粘着テープの表面をローレット加工することにより本発明の光学フィルタを得ることができる。
【００４２】
粘着層を硬化させる場合は、加熱又は光照射して架橋し、積層体を一体化させる。粘着層とテープの粘着剤層の硬化をまとめて行うことも可能である。
【００４３】
本発明のディスプレイ用光学フィルタに使用される材料について以下に詳細に説明する。
【００４４】
透明基板は、その材料としては、透明（「可視光に対して透明」を意味する。）であれば特に制限はないが、一般にガラス板（特にフロートガラス）である。プラスチック板も使用することができる。プラスチック板の材料としては、例えば、ポリエステル｛例、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート｝、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、トリアセテート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等を挙げることができる。
【００４５】
透明基板の厚さとしては、光学フィルタの用途等によっても異なるが、一般に０．１〜１０ｍｍ、特に１〜４ｍｍが好ましい。
【００４６】
各機能性フィルムの透明フィルムは、上記プラスチック板の材料を使用することができる。厚さは、一般に１０〜１０００μｍ、特に２０〜５００μｍが好ましい。
【００４７】
本発明の電磁波シールド材（導電層）は、得られる光学フィルタの表面抵抗値が、一般に１０Ω／□以下、好ましくは０．５Ω／□以下、特に０．２Ω／□以下となるように設定される。０．５Ω／□以下とすることにより特にＰＤＰ用光学フィルタの電磁シールド性を確保できる。
【００４８】
電磁波シールド材としては金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属を網状にしたもの（導電性繊維メッシュ）、透明フィルム上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けたもの（導電性金属メッシュ）、透明フィルム上に導電性インクをメッシュ状に印刷したもの、等を挙げることができる。
【００４９】
導電性メッシュの場合、メッシュとしては、金属繊維及び／又は金属被覆有機繊維よりなる線径１μｍ〜１ｍｍ、開口率５０〜９５％のものが好ましい。より好ましい線径は１０〜５００μｍ、開口率は６０〜９５％である。なお、導電性メッシュの開口率とは、当該導電性メッシュ（外枠がある場合はそれを除いた領域）の投影面積における開口部分が占める面積割合を言う。導電性メッシュとして、上記金属繊維及び／又は金属被覆有機繊維を用いる場合は、粘着層としては、後述するＥＶＡ層を設けることが好ましい。繊維の固定が容易である。
【００５０】
導電性繊維メッシュを構成する金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、チタン、タングステン、錫、鉛、鉄、銀、炭素或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、アルミニウムが用いられる。
【００５１】
金属被覆有機繊維の有機材料としては、ポリエステル、ナイロン、塩化ビニリデン、アラミド、ビニロン、セルロース等が用いられる。
【００５２】
金属箔等の導電性の箔をパターンエッチングしたもの（導電性金属メッシュ）場合、金属箔の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、鉄、真鍮、或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、ニッケルが用いられる。
【００５３】
金属箔の厚さは、薄過ぎると取り扱い性やパターンエッチングの作業性等の面で好ましくなく、厚過ぎると得られるガラスの厚さに影響を及ぼしたり、エッチング工程の所要時間が長くなることから、１〜２００μｍ程度とするのが好ましい。
【００５４】
エッチングパターンの形状には特に制限はなく、例えば四角形の孔が形成された格子状の金属箔や、円形、六角形、三角形又は楕円形の孔が形成されたパンチングメタル状の金属箔等が挙げられる。また、孔は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。この金属箔の投影面における開口部分の面積割合は、２０〜９５％であることが好ましい。
【００５５】
或いは、導電性メッシュを、透明フィルムに導電性インキをパターン印刷して形成しても良い。次のような導電性インキを用い、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法、静電印刷法等により透明基板の表面に印刷することができる。
【００５６】
一般に、粒径１００μｍ以下のカーボンブラック粒子、或いは銅、アルミニウム、ニッケル等の金属又は合金の粒子等の導電性材料の粒子を５０〜９０重量％濃度にＰＭＭＡ、ポリ酢酸ビニル、エポキシ樹脂等のバインダ樹脂に分散させたものである。このインクは、トルエン、キシレン、塩化メチレン、水等の溶媒に適当な濃度に希釈または分散させて透明基板の板面に印刷により塗布し、その後必要に応じ室温〜１２０℃で乾燥させ基板上に塗着させる。上記と同様の導電性材料の粒子をバインダ樹脂で覆った粒子を静電印刷法により直接塗布し熱等で固着させる。
【００５７】
このようにして形成される印刷膜の厚さは、薄過ぎると電磁波シールド性が不足するので好ましくなく、厚過ぎると得られるフィルタの厚さに影響を及ぼすことから、０．５〜１００μｍ程度とするのが好ましい。
【００５８】
このようなパターン印刷によれば、パターンの自由度が大きく、任意の線径、間隔及び開口形状の導電性メッシュを形成することができ、従って、所望の電磁波遮断性と光透過性を有するプラスチックフィルムを容易に形成することができる。
【００５９】
導電性メッシュのパターン印刷の形状には特に制限はなく、例えば四角形の開口部が形成された格子状の印刷膜や、円形、六角形、三角形又は楕円形の開口部が形成されたパンチングメタル状の印刷膜等が挙げられる。また、開口部は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。この印刷膜の投影面における開口部分の面積割合は、２０〜９５％であることが好ましい。
【００６０】
塗工による電磁波シールド材としては、ポリマー中に無機化合物の導電性粒子が分散された塗工層を挙げることができる。
【００６１】
導電性粒子を構成する無機化合物としては、例えば、アルミニウム、ニッケル、インジウム、クロム、金、バナジウム、スズ、カドミウム、銀、プラチナ、銅、チタン、コバルト、鉛等の金属、合金；或いはＩＴＯ、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ、いわゆるインジウムドープ酸化スズ）、酸化スズ−酸化アンチモン（ＡＴＯ、いわゆるアンチモンドープ酸化スズ）、酸化亜鉛−酸化アルミニウム（ＺＡＯ；いわゆるアルミニウムドープ酸化亜鉛）等の導電性酸化物等を挙げることができる。特に、ＩＴＯが好ましい。平均粒径は１０〜１００００ｎｍ、特に１０〜５０ｎｍが好ましい。
【００６２】
ポリマーの例としては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、マレイン酸樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、ポリイミド樹脂、含ケイ素樹脂等を挙げることができる。さらに、これらの樹脂のうち熱硬化性樹脂であることが好ましい。
【００６３】
或いは、ポリマーは後述するハードコート層に使用される紫外線硬化性樹脂を用いることが特に好ましい。
【００６４】
上記塗工による電磁波シールド材の形成は、ポリマー（必要により溶剤を用いて）中に上記導電性微粒子を混合等により分散させて塗工液を作製し、この塗工液を、透明フィルム上に塗工し、適宜乾燥、硬化させる。熱可塑性樹脂を用いた場合は、塗工後乾燥することにより、熱硬化型の場合は、乾燥、熱硬化することにより得られる。紫外線硬化性樹脂を用いた場合は、塗工後、必要に応じて乾燥し、紫外線照射することにより得られる。
【００６５】
上記塗工形成された電磁波シールド材の厚さとしては、０．０１〜５μｍ、特に０．０５〜３μｍが好ましい。前記厚さが、０．０１μｍ未満であると電磁波シールド性又は帯電防止性が充分でないことがあり、一方５μｍを超えると、得られるフィルムの透明性を低下させる場合がある。
【００６６】
本発明の電磁波シールド材は、塗工により形成される導電性ポリマーの層でも良い。例えば、ポリアセチレン、ポリフェニレン、ポリフェニレンビニレン、ポリアセン、ポリフェニルアセチレン、ポリナフタレン等の炭化水素系ポリマー；ポリピロール、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリエチレンビニレン、ポリアズレン、ポリイソチアナフテン等のヘテロ原子含有ポリマーを挙げることができる。ポリピロール、ポリチオフェンが好ましい。上記導電性ポリマーの電磁波シールド材の厚さとしては、０．０１〜５μｍ、特に０．０５〜３μｍが好ましい。前記厚さが、０．０１μｍ未満であると、電磁波シールド性又は帯電防止性が充分でないことがあり、一方５μｍを超えると、得られるフィルムの透明性を低下させる場合がある。
【００６７】
電磁波シールド材を気相成膜法により形成する場合（金属酸化物層）、その形成方法としては、特に制限はないが、スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着等の気相製膜法や、印刷、塗工等が挙げることができるが、気相製膜法（スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着）が好ましい。前記の無機化合物を用いて導電層を形成することができる。電磁波シールド材を気相成膜法で形成した場合は、その厚さは、３０〜５００００ｎｍ、特に５０ｎｍ程度が好ましい。
【００６８】
電磁波シールド材上に、さらに金属メッキ層を、導電性を向上させるためは設けても良い。金属メッキ層は、公知の電解メッキ法、無電解メッキ法により形成することができる。メッキに使用される金属としては、一般に銅、銅合金、ニッケル、アルミ、銀、金、亜鉛又はスズ等を使用することが可能であり、好ましくは銅、銅合金、銀、又はニッケルであり、特に経済性、導電性の点から、銅又は銅合金を使用することが好ましい。
【００６９】
また、防眩性能を付与させても良い。この防眩化処理を行う場合、（メッシュ）導電層の表面に黒化処理を行っても良い。例えば、金属膜の酸化処理、クロム合金等の黒色メッキ、黒又は暗色系のインクの塗布等を行うことができる。
【００７０】
また電磁波シールド材は、誘電体層（金属酸化物）と金属層との交互積層膜でも良い。特に、誘電体層／金属層／誘電体層／金属層／誘電体層の５層以上の積層体が好ましい。例えば、ＩＴＯ等の金属酸化物の誘電体層とＡｇ等の金属層との交互積層体（例、ＩＴＯ／銀／ＩＴＯ／銀／ＩＴＯの積層体）を挙げることができる。
【００７１】
上記透明導電膜は、物理蒸着法または化学蒸着法により成膜することができる。物理蒸着法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、レーザーアブレーション法が挙げられるが、一般的にはスパッタリング法で成膜するのが好ましい。化学蒸着法としては、常圧ＣＶＤ法、減圧ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法が挙げられる。
【００７２】
前記中間層を形成する材料は、アクリル樹脂（好ましくはアクリル樹脂ポリオール等のＯＨ基を有するアクリル樹脂）、ポリエステル樹脂（好ましくはポリエステル樹脂ポリオール等のＯＨ基を有するポリエステル樹脂）、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、スチレン−マレイン酸グラフトポリエステル樹脂、アクリルグラフトポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等を挙げることができる。アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂が好ましく、特にアクリル樹脂ポリオール、ポリエステル樹脂ポリオールが好ましい。これらは熱可塑性樹脂でも熱硬化性樹脂でも良いが、熱硬化性樹脂が好ましい。
【００７３】
熱硬化性樹脂の場合、好ましい樹脂としては、ＯＨ基を有するアクリル樹脂及び／又はポリエステル樹脂と硬化剤であるポリイソシアネートとの組合せ、エポキシ樹脂と硬化剤である酸無水物、ポリアミン等との組合せを挙げることができる。特に、ポリエステル樹脂とポリイソシアネートの組合せが好ましい。
【００７４】
本発明の反射防止フィルム又は反射防止・近赤外線吸収フィルムにおいては、反射防止効果は、透明フィルム上に設けられたハードコート層とその上に設けられた低屈折率層との複合膜により、或いはハードコート層と低屈折率層との間にさらに高屈折率層が設けられた複合膜により得られる。反射防止効果は、ハードコート層のみであっても得ることができる。
【００７５】
ハードコート層としては、アクリル樹脂層、エポキシ樹脂層、ウレタン樹脂層、シリコーン樹脂層等を挙げることができ、通常その厚さは１〜５０μｍ、好ましくは１〜１０μｍである。熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂のいずれでもよいが、紫外線硬化性樹脂が好ましい。
【００７６】
熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、レゾルシノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フラン樹脂、シリコーン樹脂などを挙げることができる。
【００７７】
紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルポリエトキシ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、フェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンモノ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジプロポキシジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリス〔（メタ）アクリロキシエチル〕イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートモノマー類；ポリオール化合物（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオール、トリメチロールプロパン、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、１，４−ジメチロールシクロヘキサン、ビスフェノールＡポリエトキシジオール、ポリテトラメチレングリコール等のポリオール類、前記ポリオール類とコハク酸、マレイン酸、イタコン酸、アジピン酸、水添ダイマー酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の多塩基酸又はこれらの酸無水物類との反応物であるポリエステルポリオール類、前記ポリオール類とε−カプロラクトンとの反応物であるポリカプロラクトンポリオール類、前記ポリオール類と前記、多塩基酸又はこれらの酸無水物類のε−カプロラクトンとの反応物、ポリカーボネートポリオール、ポリマーポリオール等）と有機ポリイソシアネート（例えば、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４′−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４′−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，２′−４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等）と水酸基含有（メタ）アクリレート（例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキサン−１，４−ジメチロールモノ（メタ）アクリ��ート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート等）の反応物であるポリウレタン（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応物であるビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートオリゴマー類等を挙げることができる。これら化合物は１種又は２種以上、混合して使用することができる。これらの紫外線硬化性樹脂を、熱重合開始剤とともに用いて熱硬化性樹脂として使用してもよい。
【００７８】
紫外線硬化性樹脂の光重合開始剤として、紫外線硬化性樹脂の性質に適した任意の化合物を使用することができる。例えば、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１などのアセトフェノン系、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系、イソプロピルチオキサントン、２−４−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系、その他特殊なものとしては、メチルフェニルグリオキシレートなどが使用できる。特に好ましくは、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１、ベンゾフェノン等が挙げられる。これら光重合開始剤は、必要に応じて、４−ジメチルアミノ安息香酸のごとき安息香酸系叉は、第３級アミン系などの公知慣用の光重合促進剤の１種または２種以上を任意の割合で混合して使用することができる。また、光重合開始剤のみの１種または２種以上の混合で使用することができる。特に１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア１８４）が好ましい。
【００７９】
光重合開始剤の量は、樹脂組成物に対して０．１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％である。
【００８０】
ハードコート層とするには、上記の紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）の内、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリス〔（メタ）アクリロキシエチル〕イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等の硬質の多官能モノマーを主に使用することが好ましい。
【００８１】
高屈折率層は、ポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）中に、ＩＴＯ、ＡＴＯ、Ｓｂ2Ｏ5、Ｓｂ2Ｏ3、ＳｂＯ2、Ｉｎ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＺｎＯ、ＺｒＯ2、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ2等の導電性金属酸化物微粒子（無機化合物）が分散した層とすることが好ましい。金属酸化物微粒子としては、平均粒径１０〜１００００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍのものが好ましい。特にＩＴＯ（特に平均粒径１０〜５０ｎｍのもの）が好ましい。屈折率を１．６４以上としたものが好適である。膜厚は一般に１０〜５００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜２００ｎｍである。
【００８２】
なお、この高屈折率層の屈折率を１．６４以上とすることにより反射防止フィルムの表面反射率の最小反射率を１．５％以内にすることができ、１．６９以上、好ましくは１．６９〜１．８２とすることにより反射防止フィルムの表面反射率の最小反射率を１．０％以内にすることができる。
【００８３】
低屈折率層は、シリカ、フッ素樹脂等の微粒子、好ましくは中空シリカを１０〜６０重量％（好ましくは１０〜５０質量％）がポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）中に分散した層（硬化層）であることが好ましい。この低屈折率層の屈折率は、１．４０〜１．５１が好ましい。この屈折率が１．５１超であると、反射防止フィルムの反射防止特性が低下する。膜厚は一般に１０〜５００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜２００ｎｍである。
【００８４】
中空シリカとしては、平均粒径１０〜１００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍ、比重０．５〜１．０、好ましくは０．８〜０．９のものが好ましい。
【００８５】
ハードコート層は、可視光線透過率が８５％以上であることが好ましい。高屈折率層及び低屈折率層の可視光線透過率も、いずれも８５％以上であることが好ましい。
【００８６】
反射防止層が上記３層より構成される場合、例えば、ハードコート層の厚さは２〜２０μｍ、高屈折率層の厚さは７５〜２００ｎｍ、低屈折率層の厚さは７５〜２００ｎｍであることが好ましい。
【００８７】
反射防止フィルムは、透明フィルム上にハードコート層及び反射防止層の各層を形成することにより得られる。各層の形成には、前記の通り、ポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）に必要に応じ上記の微粒子等を配合し、得られた塗工液を塗工し、次いで乾燥、必要により熱硬化させるか、或いは塗工後、必要により乾燥し、紫外線を照射する。この場合、各層を１層ずつ塗工し硬化させてもよく、全層を塗工した後、まとめて硬化させてもよい。
【００８８】
塗工の具体的な方法としては、アクリル系モノマー等を含む紫外線硬化性樹脂をトルエン等の溶媒で溶液にした塗工液をグラビアコータ等によりコーティングし、その後乾燥し、次いで紫外線により硬化する方法を挙げることができる。このウェットコーティング法であれば、高速で均一に且つ安価に成膜できるという利点がある。このコーティング後に例えば紫外線を照射して硬化することにより密着性の向上、膜の硬度の上昇という効果が得られる。
【００８９】
紫外線硬化の場合は、光源として紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レーザー光等を挙げることができる。照射時間は、ランプの種類、光源の強さによって一概には決められないが、数秒〜数分程度である。また、硬化促進のために、予め積層体を４０〜１２０℃に加熱し、これに紫外線を照射してもよい。
【００９０】
反射防止層は、上記のように塗工により形成することが好ましいが、気相成膜法により形成しても良い。通常、高屈折率層及び低屈折率層を、物理蒸着法または化学蒸着法により成膜することができる。物理蒸着法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、レーザーアブレーション法が挙げられるが、一般的にはスパッタリング法で成膜するのが好ましい。化学蒸着法としては、常圧ＣＶＤ法、減圧ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法が挙げられる。
【００９１】
高屈折率層及び低屈折率層等の組合せの例としては、下記のものを挙げることができる。
【００９２】
（ａ） 高屈折率層／低屈折率層の順で各１層ずつ、合計２層に積層したもの、（ｂ） 高屈折率層／低屈折率層を２層ずつ交互に、合計４層に積層したもの、（ｃ） 中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層の順で各１層ずつ、合計３層に積層したもの、（ｄ） 高屈折率層／低屈折率層の順で各層を交互に３層ずつ、合計６層に積層したもの。高屈折率層としては、ＩＴＯ（スズインジウム酸化物）又はＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＳｎＯ2、ＺｒＯ等の薄膜を採用することができる。また、低屈折折率層としては、ＳｉＯ2、ＭｇＦ2、Ａｌ2Ｏ3等の屈折率が１．６以下の薄膜を用いることができる。
【００９３】
上記高屈折率層及び低屈折率層等は、物理蒸着法または化学蒸着法により成膜することができる。物理蒸着法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、レーザーアブレーション法が挙げられるが、一般的にはスパッタリング法で成膜するのが好ましい。化学蒸着法としては、常圧ＣＶＤ法、減圧ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法が挙げられる。
【００９４】
本発明の防眩フィルム又は防眩・近赤外線吸収フィルムにおいては、防眩効果は、透明フィルム上に設けられた以下の防眩層により得られる。
【００９５】
防眩層の材料としては、形成された防眩層が、ＰＤＰ等の前面にフィルタとして用いた際に、外光の反射を低減可能であれば特に制限はないが、例えば、黒又は暗色系インキ等を好適に挙げることができる。黒又は暗色系インキとしては、例えば、インキの溶剤が水である場合には、カーボンブラック等の無機顔料、有機顔料、油性染料、分散染料等のほか、ウレタン樹脂、アクリル樹脂等の樹脂に、顔料を分散させた加工顔料等を挙げることができる。これらの中でも、ウレタン樹脂、アクリル樹脂等の樹脂に、顔料を分散させた加工顔料が特に好ましい。また、電磁波のシールド性がより優れることから、防眩層が導電性となるよう導電性物質を用いるのが特に好ましい。
【００９６】
防眩層の形成方法としては、特に制限はなく、印刷、塗布、蒸着等の公知の形成方法を挙げることができる。これらの中でも、より好適に防眩層を形成可能な点で、印刷により形成するのが好ましく、前記パターン及び透明基板を全て覆うように全面ベタにより印刷するのが特に好ましい。また、溶剤の浸透性を良くするために、細かいドット状に印刷して形成するのも好ましい。
【００９７】
防眩層の表面は、０．００５〜０．３００μｍの表面粗さ（Ｒａ）を有することが好ましい。これにより、良好な防眩性を得られやすい。また防眩層の厚さは、１０〜１０００ｎｍが好ましく、１０〜１００ｎｍが特に好ましい。厚さが、１０ｎｍ未満であると、光の反射防止効果が充分でないことがある一方、１０００ｎｍを超えると、パターンを除去するのが困難となり、また斜視した際の見かけ上の開口率が低下することがある。
【００９８】
このような防眩層は、反射防止層の上に設けても良い。
【００９９】
近赤外線吸収フィルム又は反射防止・近赤外線吸収フィルムにおける近赤外線吸収層の設置は、一般に、透明フィルムの表面に色素等を含む層（近赤外線吸収層）が形成することにより得られる。近赤外線吸収層は、例えば上記色素及びバインダ樹脂又は紫外線硬化性又は電子線硬化性の樹脂を含む塗工液を塗工、必要により乾燥、そして硬化させることにより得られる。フィルムとして使用する場合は、一般に近赤外線カットフィルムであり、例えば色素等を含有するフィルムである。色素としては、一般に８００〜１２００ｎｍの波長に吸収極大を有するもので、例としては、フタロシアニン系色素、金属錯体系色素、ニッケルジチオレン錯体系色素、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、ポリメチン系色素、アゾメチン系色素、アゾ系色素、ポリアゾ系色素、ジイモニウム系色素、アミニウム系色素、アントラキノン系色素、を挙げることができ、特にシアニン系色素又はスクアリリウム系色素が好ましい。これらの色素は、単独又は組み合わせて使用することができる。バインダ樹脂の例としては、アクリル樹脂等の熱可塑性樹脂を挙げることができる。
【０１００】
本発明では、近赤外線吸収層に、ネオン発光の吸収機能を付与することにより色調の調節機能を持たせても良い。このために、ネオン発光の吸収層を設けても良いが、近赤外線吸収層にネオン発光の選択吸収色素を含有させても良い。
【０１０１】
ネオン発光の選択吸収色素としては、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、アントラキノン系色素、フタロシアニン系色素、ポリメチン系色素、ポリアゾ系色素、アズレニウム系色素、ジフェニルメタン系色素、トリフェニルメタン系色素を挙げることができる。このような選択吸収色素は、５８５ｎｍ付近のネオン発光の選択吸収性とそれ以外の可視光波長において吸収が小さいことが必要であるため、吸収極大波長が５７５〜５９５ｎｍであり、吸収スペクトル半値幅が４０ｎｍ以下であるものが好ましい。
【０１０２】
また、近赤外線やネオン発光の吸収色素を複数種組み合わせる場合、色素の溶解性に問題がある場合、混合による色素間の反応ある場合、耐熱性、耐湿性等の低下が認められる場合には、すべての近赤外線吸収色素を同一の層に含有させる必要はなく、別の層に含有させても良い。
【０１０３】
また、光学特性に大きな影響を与えない限り、さらに着色用の色素、紫外線吸収剤、酸化防止剤等を加えても良い。
【０１０４】
本発明の光学フィルタの近赤外線吸収特性としては、８５０〜１０００ｎｍの透過率を、２０％以下、さらに１５％するのが好ましい。また選択吸収性としては、５８５ｎｍの透過率が５０％以下であることが好ましい。特に前者の場合には、周辺機器のリモコン等の誤作動が指摘されている波長領域の透過度を減少させる効果があり、後者の場合は、５７５〜５９５ｎｍにピークを持つオレンジ色が色再現性を悪化させる原因であることから、このオレンジ色の波長を吸収させる効果があり、これにより真赤性を高めて色の再現性を向上させたものである。
【０１０５】
近赤外線吸収層の層厚は、０．５〜５０μｍが一般的である。
【０１０６】
導電性粘着テープ１５，３５としては、金属箔の一方の面に、導電性粒子を分散させた粘着剤層を設けたものであって、この粘着剤層には、アクリル系、ゴム系、シリコーン系粘着剤や、エポキシ系、フェノール系樹脂に硬化剤を配合したものを用いることができる。
【０１０７】
粘着剤層に分散させる導電性粒子としては、電気的に良好な導体であればよく、種々のものを使用することができる。例えば、銅、銀、ニッケル等の金属粉体、このような金属で被覆された樹脂又はセラミック粉体等を使用することができる。また、その形状についても特に制限はなく、りん片状、樹枝状、粒状、ペレット状等の任意の形状をとることができる。
【０１０８】
この導電性粒子の含有量は、粘着剤層を構成するポリマーに対し０．１〜１５容量％であることが好ましく、また、その平均粒径は０．１〜１００μｍであることが好ましい。このように、含有量及び粒径を規定することにより、導電性粒子の凝縮を防止して、良好な導電性を得ることができるようになる。
【０１０９】
導電性粘着テープの基材となる金属箔としては、銅、銀、ニッケル、アルミニウム、ステンレス等の箔を用いることができ、その厚さは、一般に１〜１００μｍの範囲である。
【０１１０】
粘着剤層は、この金属箔に、粘着剤と導電性粒子とを所定の割合で均一に混合したものをロールコーター、ダイコーター、ナイフコーター、マイカバーコーター、フローコーター、スプレーコーター等により塗工することにより容易に形成することができる。
【０１１１】
この粘着剤層の厚さは、一般に１〜５０μｍの範囲である。
【０１１２】
本発明の粘着層１４，３４は、機能性フィルムを透明基板（或いはディスプレイ表示面）に接着するための層であり、接着機能を有するものであればどのような樹脂でも使用することができる。本発明の粘着層の材料としては、例えば、ブチルアクリレート等から形成されたアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、ＳＥＢＳ（スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン）及びＳＢＳ（スチレン／ブタジエン／スチレン）等の熱可塑性エラストマー（ＴＰＥ）を主成分とするＴＰＥ系粘着剤及び接着剤；さらにエチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、アクリル樹脂（例、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エチル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸メチル共重合体、金属イオン架橋エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体）、部分鹸化エチレン−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル化エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−酢酸ビニル−（メタ）アクリレート共重合体等のエチレン系共重合体；ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シリコーン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂を挙げることができる（なお、「（メタ）アクリル」は「アクリル又はメタクリル」を示す。）。特に、ブチルアクリレート等から形成されたアクリル系粘着剤、エポキシ樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）、ゴム系粘着剤、ＳＥＢＳ（スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン）及びＳＢＳ（スチレン／ブタジエン／スチレン）等の熱可塑性エラストマー（ＴＰＥ）を主成分とするＴＰＥ系粘着剤及び接着剤等が好ましい。良好な接着性が得られやすいのはアクリル樹脂系粘着剤、エポキシ樹脂である。
【０１１３】
その層厚は、一般に５〜５００μｍ、特に１０〜１００μｍの範囲が好ましい。光学フィルタは、一般に上記粘着層を機能性フィルムに加熱圧着することによる装備することができる。
【０１１４】
上記粘着層の材料として、ＥＶＡ（特に金属繊維メッシュの接着に好適）を使用する場合、ＥＶＡとしては酢酸ビニル含有量が５〜５０重量％、好ましくは１５〜４０重量％のものが使用される。酢酸ビニル含有量が５重量％より少ないと透明性に問題があり、また４０重量％を超すと機械的性質が著しく低下する上に、成膜が困難となり、フィルム相互のブロッキングが生じ易い。
【０１１５】
架橋剤としては加熱架橋する場合は、有機過酸化物が適当であり、シート加工温度、架橋温度、貯蔵安定性等を考慮して選ばれる。使用可能な過酸化物としては、例えば２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジハイドロパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン−３；ジーｔ−ブチルパーオキサイド；ｔ−ブチルクミルパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン；ジクミルパーオキサイド；α，α’−ビス（ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン；ｎ−ブチル−４，４−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）バレレート；２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン；ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート；ベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシアセテート；２，５−ジメチル−２，５−ビス（第３ブチルパーオキシ）ヘキシン−３；１，１−ビス（第３ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン；１，１−ビス（第３ブチルパーオキシ）シクロヘキサン；メチルエチルケトンパーオキサイド；２，５−ジメチルヘキシル−２，５−ビスパーオキシベンゾエート；第３ブチルハイドロパーオキサイド；ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド；ｐ−クロルベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシイソブチレート；ヒドロキシヘプチルパーオキサイド；クロルヘキサノンパーオキサイド等を挙げることができる。これらの過酸化物は１種を単独で又は２種以上を混合して、通常ＥＶＡ１００重量部に対して、５質量部以下、好ましくは０．５〜５．０質量部の割合で使用される。
【０１１６】
有機過酸化物は通常ＥＶＡに対し押出機、ロールミル等で混練されるが、有機溶媒、可塑剤、ビニルモノマー等に溶解し、ＥＶＡのフィルムに含浸法により添加しても良い。
【０１１７】
なお、ＥＶＡの物性（機械的強度、光学的特性、接着性、耐候性、耐白化性、架橋速度など）改良のために、各種アクリロキシ基又はメタクリロキシ基及びアリル基含有化合物を添加することができる。この目的で用いられる化合物としてはアクリル酸又はメタクリル酸誘導体、例えばそのエステル及びアミドが最も一般的であり、エステル残基としてはメチル、エチル、ドデシル、ステアリル、ラウリル等のアルキル基の他、シクロヘキシル基、テトラヒドロフルフリル基、アミノエチル基、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル基などが挙げられる。また、エチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等の多官能アルコールとのエステルを用いることもできる。アミドとしてはダイアセトンアクリルアミドが代表的である。
【０１１８】
その例としては、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、グリセリン等のアクリル又はメタクリル酸エステル等の多官能エステルや、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、フタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、マレイン酸ジアリル等のアリル基含有化合物が挙げられ、これらは１種を単独で或いは２種以上を混合して、通常ＥＶＡ１００質量部に対して０．１〜２質量部、好ましくは０．５〜５質量部用いられる。
【０１１９】
ＥＶＡを光により架橋する場合、上記過酸化物の代りに光増感剤が通常ＥＶＡ１００質量部に対して５質量部以下、好ましくは０．１〜３．０質量部使用される。
【０１２０】
この場合、使用可能な光増感剤としては、例えばベンゾイン、ベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ジベンジル、５−ニトロアセナフテン、ヘキサクロロシクロペンタジエン、ｐ−ニトロジフェニル、ｐ−ニトロアニリン、２，４，６−トリニトロアニリン、１，２−ベンズアントラキノン、３−メチル−１，３−ジアザ−１，９−ベンズアンスロンなどが挙げられ、これらは１種を単独で或いは２種以上を混合して用いることができる。
【０１２１】
また、接着促進剤としてシランカップリング剤が併用される。このシランカップリング剤としては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。
【０１２２】
シランカップリング剤は、一般にＥＶＡ１００質量部に対して０．００１〜１０質量部、好ましくは０．００１〜５質量部の割合で１種又は２種以上が混合使用される。
【０１２３】
なお、本発明に係るＥＶＡ接着層には、その他、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤、着色剤等を少量含んでいてもよく、また、場合によってはカーボンブラック、疎水性シリカ、炭酸カルシウム等の充填剤を少量含んでも良い。
【０１２４】
上記粘着層は、例えばＥＶＡと上述の添加剤とを混合し、押出機、ロール等で混練した後、カレンダー、ロール、Ｔダイ押出、インフレーション等の成膜法により所定の形状にシート成形することにより製造される。
【０１２５】
反射防止層上には、保護層を設けても良い。保護層は、前記ハードコート層と同様にして形成することが好ましい。
【０１２６】
粘着層上に設けられる剥離シートの材料としては、ガラス転移温度が５０℃以上の透明のポリマーが好ましく、このような材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ナイロン４６、変性ナイロン６Ｔ、ナイロンＭＸＤ６、ポリフタルアミド等のポリアミド系樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリチオエーテルサルフォン等のケトン系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン等のサルフォン系樹脂の他に、ポリエーテルニトリル、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース、ポリスチレン、ポリビニルクロライド等のポリマーを主成分とする樹脂を用いることができる。これら中で、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリビニルクロライド、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートが好適に用いることができる。厚さは１０〜２００μｍが好ましく、特に３０〜１００μｍが好ましい。
【０１２７】
このようにして得られる本発明のディスプレイ用光学フィルタは、例えば、ディスプレイの筐体に単にはめ込むのみで極めて簡便かつ容易に筐体に組み込むことができる。また、導電性粘着テープを介して電磁波シールド材と筐体との良好な導通をその周縁部において均一にとることができる。このため、良好な電磁波シールド効果が得られる。また、近赤外線吸収フィルム又は反射防止・近赤外線吸収フィルムにより、良好な近赤外線遮断性が得られる。反射防止フィルム又は反射防止・近赤外線吸収フィルムにより、良好な反射防止効果が得られる。さらに、透明基板が１枚のみ用いられているので、薄く軽量である。また、この透明基板を透明フィルムで被覆しているので、透明基板の割れが防止されると共に、万一割れたときの透明基板の飛散が防止される。
【０１２８】
このような本発明のディスプレイ用光学フィルタ（電磁波シールド性光透過窓材）は、ＰＤＰの前面フィルタ等の各種ディスプレイ用光学フィルタとして、或いは、病院や研究室等の精密機器設置場所の窓材等としてきわめて好適である。
【実施例】
【０１２９】
以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【０１３０】
［実施例１］
＜ディスプレイ用光学フィルタの作製＞
透明基板として、厚さ２．５ｍｍのガラスを用いて以下の構成のディスプレイ用光学フィルタ（図１参照）を作製した。
【０１３１】
（反射防止・近赤外線吸収複合フィルムの作製）
厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム上に、ハードコート層形成用紫外線硬化型アクリル樹脂を塗工し、紫外線により硬化して厚さ５μｍのハードコート層を形成し、その上にグネトロンスパッタリング法で、酸化インジウム錫と二酸化ケイ素の交互積層体を計４層を形成して、反射防止層を設けた。
【０１３２】
反射防止層付きＰＥＴフィルムの裏面に、ジイモニウム系の近赤外線吸収材料をアクリル樹脂に分散させた混合物を塗工、乾燥して、厚さ５μｍの近赤外線吸収層を形成した。
【０１３３】
これにより反射防止・近赤外線吸収複合フィルムを得た。
【０１３４】
（導電性メッシュ）
導電性メッシュとしては、線径３０μｍの繊維を、１インチ当り１３５本の密度で縦横に編んだメッシュを、無電解めっき法でニッケル及び銅めっきしたものを用いた。
【０１３５】
（粘着層による積層）
粘着層として、厚さ０．２５ｍｍのＥＶＡ系膜を１枚使用した。導電メッシュをガラス板に載置し、その上にＥＶＡ系膜を介して導電メッシュより面積の小さい反射防止・近赤外線吸収複合フィルムを周囲に導電性メッシュが露出するように載置し、これらを積層した。
【０１３６】
これを真空熱プレス機にて、約１４０℃で２０分間加熱圧着し積層体とした。
【０１３７】
次いで、図１に示すように、導電性粘着テープを、積層体の複合フィルムの端部から、露出した導電性メッシュに導電性粘着テープ、そしてガラス板の裏面まで貼付した。
【０１３８】
その後、露出した導電性メッシュにローレット駒を用いてローレット加工を施し、ななこ目（凹部の深さが５００μｍ及び凹部間の間隔１０ｍｍ）を形成した。
【０１３９】
こうしてディスプレイ用光学フィルタを得た。
【０１４０】
［比較例１］
実施例１において、ローレット加工を施さなかった以外同様にしてディスプレイ用光学フィルタを得た。
【０１４１】
得られたディスプレイ用光学フィルタを下記のように評価した。
【０１４２】
［光学フィルタの評価］
（１）電気抵抗の測定
光学フィルタのガラス板の導電性メッシュが設けられていない側（裏面）の導電性粘着テープ（相対する２つの位置）に抵抗計（商品名：ｍΩＨｉ−Ｔｅｓｔｅｒ（ＭＣＰ−Ｔ６００）；日置電機（株）製）を接続して、抵抗値を測定した。
【０１４３】
上記結果を表１に示す。
【０１４４】
【表１】
2008177222.tif 000003
【０１４５】
実施例１で得られたローレット加工されたＰＤＰフィルタは、低い電気抵抗を示し、優れた電磁シールド性を示すものと考えられる。
【図面の簡単な説明】
【０１４６】
【図１】本発明の光学フィルタの基本構成の好ましい１例を示す概略断面図である。
【図２】反射防止・近赤外線吸収複合フィルムの好ましい構成の１例を描いた概略断面図である。
【図３】本発明の光学フィルタの基本構成の別の好ましい１例を示す概略断面図である。
【図４】近赤外線吸収フィルムの好ましい構成の１例を描いた概略断面図である。
【図５】反射防止フィルムの好ましい構成の１例を描いた概略断面図である。
【図６】本発明の光学フィルタの基本構成の別の１例を示す概略断面図である。
【図７】本発明の光学フィルタの基本構成の別の１例を示す概略断面図である。
【図８】本発明の光学フィルタの基本構成の別の１例を示す概略断面図である。
【符号の説明】
【０１４７】
１１、３１透明基板
２１、４１、５１  透明フィルム
１２、３２  電磁波シールド材
１３  反射防止・近赤外線吸収複合フィルム
１４、３４  粘着層
１５、３５  導電性粘着テープ
３６  近赤外線吸収フィルム
３７  反射防止フィルム
２７Ｈ、５７Ｈ  ハードコート層
２７Ｌ、５７Ｌ  低屈折率層
２６、４６  近赤外線吸収層
【図１】
2008177222.tif 000004
【図２】
2008177222.tif 000005
【図３】
2008177222.tif 000006
【図４】
2008177222.tif 000007
【図５】
2008177222.tif 000008
【図６】
2008177222.tif 000009
【図７】
2008177222.tif 000010
【図８】
2008177222.tif 000011