(57)【要約】      （修正有）【課題】ビームスプリッタを用いて光の利用効率を低下させたり、台形プリズムのような複雑な光学部品を用いることなく、簡単な構成で、高精度の原点検出を行なう。【解決手段】反射スケール２０上に形成された入側原点パターン２６及び出側原点パターン２８と、前記反射スケール２０に関して、光源４２及び受光素子５０と同じ側に配置された反射スリット４６と、前記入側原点パターン２６を物体面とする入側テレセントリック光学系を構成する入側レンズ４４と、前記出側原点パターン２８を結像面とする出側テレセントリック光学系を構成する出側レンズ４８とを備え、前記入側テレセントリック光学系と出側テレセントリック光学系により、前記反射スリット４６の両側にテレセントリック光学系を構成する。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
原点パターンが形成された反射スケールと、
前記原点パターンに光を照射するための光源と、
前記原点パターンからの反射光を検出するための受光素子を有し、
前記反射スケール上の原点パターンを反射光で検出するようにされた反射型エンコーダにおいて、
前記反射スケール上に形成された入側原点パターン及び出側原点パターンと、
前記反射スケールに対して、光源及び受光素子と同じ側に配置された反射スリットと、
前記入側原点パターンを物体面とする入側テレセントリック光学系を構成する入側レンズと、
前記出側原点パターンを結像面とする出側テレセントリック光学系を構成する出側レンズとを備え、
前記入側テレセントリック光学系と出側テレセントリック光学系により、前記反射スリットの両側にテレセントリック光学系を構成したことを特徴とする反射型エンコーダ。
【請求項２】
前記光源、入側レンズ、出側レンズ及び受光素子が、同じ基板上に配設されていることを特徴とする請求項１に記載の反射型エンコーダ。
【請求項３】
前記入側レンズ、出側レンズが、共に、測定軸方向に結像するように配置されたシリンドリカルレンズとされていることを特徴とする請求項１又は２に記載の反射型エンコーダ。
【請求項４】
前記入側レンズと出側レンズが一体化されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の反射型エンコーダ。
【請求項５】
前記入側レンズ及び出側レンズの少なくともいずれか一方が、フレネルレンズとされていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の反射型エンコーダ。
【請求項６】
前記原点パターンが複数のパターンで構成されていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の反射型エンコーダ。
【請求項７】
前記入側原点パターンと出側原点パターンが一体化されていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の反射型エンコーダ。
【請求項８】
前記入側原点パターンと出側原点パターンの間に、インクリメンタルトラックが配設されていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の反射型エンコーダ。
【請求項９】
前記反射スリットが、幅広とされていることを特徴とする請求項１乃至８のいずれかに記載の反射型エンコーダ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、原点パターンが形成された反射スケールと、前記原点パターンに光を照射するための光源と、前記原点パターンからの反射光を検出するための受光素子を有し、前記反射スケール上の原点パターンを反射光で検出するようにされた反射型エンコーダに係り、特に、反射型インクリメンタルエンコーダで原点を検出する際に用いるのに好適な、複雑な光学部品を用いることなく、原点を高精度で検出することが可能な反射型エンコーダに関する。
【背景技術】
【０００２】
インクリメンタルエンコーダにおいては、原点パターンを設けて、例えば電源投入直後に該原点パターンを強制的に通過させることで検出位置を校正することが行なわれている。
【０００３】
エンコーダには透過型と反射型があるが、反射型エンコーダにおいて、反射スケール上の原点パターン（あるいは基準パターン）を反射光で検出する方法として、例えば特許文献１の図１１に対応する図１に示す方法が提案されている。
【０００４】
この方法において、光源５３からの光Ｌは、反射スケール５７上の原点パターンｒｍで反射されて、検出部の受光素子５９が配置されている面に原点パターン像ａ、ｂ、ｃを生成し、受光素子５９が原点信号を出力する。ここで、反射スケール５７上の原点パターンｒｍの検出軸ｘ方向の幅を狭くすると、原点信号の幅も狭くすることができるので、原点の検出精度を向上させることができる。
【０００５】
あるいは、特許文献２の図４に対応する図２に示す如く、反射スケール１０４上の原点パターンを、結像レンズ４１０と検出素子４４０で検出する方法も提案されている。図２において、２は光学読取り器、１０１はシャフト、１０２は、その軸受け、３１０は投光ＬＥＤ、３３０は投光回路、４０１はピンホール、４２０はハーフミラー、４３０は遮光板、４４０はフォトＩＣ、４５０は受光回路、４５１は信号処理部、４５２は出力回路である。
【０００６】
あるいは、特許文献３の図２に対応する図３に示す如く、透過スケール（移動板１）を挟んで受発光素子（光源２、受光素子３）と折り返し光学系（台形プリズム８）を配置し、光源２側のスリット像を、一度光学部品（８）内で焦平面１１上の中間像に変換し、その中間像を受光側のスリット５に投影して検出する方法も提案されている。図３において、４は投影手段、６は対物レンズ、７は結像レンズ、９はスリット物像、１０は、台形プリズム８の第１全反射面、１２は同じく第２全反射面、１３はスリット実像、１４は光軸である。
【０００７】
【特許文献１】特表２００４−５２０５９１号公報（図１１）
【特許文献２】特開２００５−１７０２３号公報（図４）
【特許文献３】特開平８−１８４４６５号公報（図２）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特許文献１に記載の方法では、原点パターンｒｍの幅が狭い場合には、光の拡散あるいは回折現象のために、受光素子５９が検出する検出パターン像が明瞭にならず、原点信号の幅が広くなってしまう。特に、反射スケール５７と検出部の間隔が離れているときには、鋭い明瞭な原点パターン像を得ることが困難であるという問題点を有する。
【０００９】
又、特許文献２に記載の方法では、投光ＬＥＤ３１０と結像レンズ４１０の間にビームスプリッタ（ハーフミラー４２０）があるので、投光（Ｌ１１）と受光（Ｌ１２）とで、それぞれ減衰してしまい、光の利用効率が悪い、という問題点を有する。
【００１０】
又、特許文献３に記載の方法では、ビームスプリッタが無いので光の利用効率は良いものの、台形プリズム等の複雑な光学部品が必要であり、又、反射スケールの検出には応用できないという問題点を有していた。
【００１１】
本発明は、前記従来の問題点を解消するべくなされたもので、ビームスプリッタを用いて光の利用効率を低下させたり、台形プリズムのような複雑な光学部品を用いることなく、簡単な構成で、原点の検出精度を向上することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の請求項１に係る発明は、原点パターンが形成された反射スケールと、前記原点パターンに光を照射するための光源と、前記原点パターンからの反射光を検出するための受光素子を有し、前記反射スケール上の原点パターンを反射光で検出するようにされた反射型エンコーダにおいて、前記反射スケール上に形成された入側原点パターン及び出側原点パターンと、前記反射スケールに対して、光源及び受光素子と同じ側に配置された反射スリットと、前記入側原点パターンを物体面とする入側テレセントリック光学系を構成する入側レンズと、前記出側原点パターンを結像面とする出側テレセントリック光学系を構成する出側レンズとを備え、前記入側テレセントリック光学系と出側テレセントリック光学系により、前記反射スリットの両側にテレセントリック光学系を構成することにより、前記課題を解決したものである。
【００１３】
又、請求項２に係る発明は、前記光源、入側レンズ、出側レンズ及び受光素子を、同じ基板上に配設して、構成を更に簡略化したものである。
【００１４】
又、請求項３に係る発明は、前記入側レンズ、出側レンズを、共に、測定軸方向に結像するように配置されたシリンドリカルレンズとしたものである。
【００１５】
又、請求項４に係る発明は、前記入側レンズと出側レンズを一体化して、構成を更に簡略化したものである。
【００１６】
又、請求項５に係る発明は、前記入側レンズ及び出側レンズの少なくともいずれか一方を、フレネルレンズとして、原点検出ユニットを小型化できるようにしたものである。
【００１７】
又、請求項６に係る発明は、前記原点パターンを複数のパターンで構成して、原点の検出精度を高めたものである。
【００１８】
又、請求項７に係る発明は、前記入側原点パターンと出側原点パターンを一体化して、原点検出ユニットの原点パターン長手方向の配置許容範囲を広げると共に、原点パターンを高精度で配置できるようにしたものである。
【００１９】
又、請求項８に係る発明は、前記入側原点パターンと出側原点パターンの間に、インクリメンタルトラックを配設して、モアレ変動の影響を受け難くしたものである。
【００２０】
又、請求項９に係る発明は、前記反射スリットを、幅広として、検出光量を増加できるようにし、ＳＮ比向上、あるいは、光源駆動電流削減、光源寿命向上を図ったものである。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、ビームスプリッタを用いて光の利用効率を低下させたり、台形プリズムのような複雑な光学部品を用いることなく、簡単な構成で、原点の検出精度を向上することができる。
【００２２】
即ち、光源から検出素子までの間の光路にビームスプリッタが無いので、検出光量が大きい。又、両側テレセントリック系を構成しているので、原点検出ユニットと反射スケールとの距離変動許容範囲が広い。更に、原点信号の原点幅が狭く、高精度の原点検出を行なうことができる。
【００２３】
特に、入側レンズ、出側レンズを共にシリンドリカルレンズとし、一体化した場合には、光学部品を削減できる。
【００２４】
又、シリンドリカルレンズの代わりに、フレネルシリンドリカルレンズを配置した場合には、平面光学部品なので小型化できる。
【００２５】
又、前記原点パターンを複数のパターンで構成した場合には、原点信号の検出精度を向上することができる。
【００２６】
又、反射スリットを幅広とした場合には、検出光量を増加することができ、光源駆動電流を削減して、光源寿命を向上することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下図面を参照して、本発明の実施形態を詳細に説明する。
【００２８】
本発明の第１実施形態は、図４に示す如く、インクリメンタル（ＩＮＣ）トラック２２、及び、入側原点パターン２６と出側原点パターン２８でなる原点トラック２４が形成された反射スケール２０と、前記ＩＮＣトラック２２に対向配置されるＩＮＣ検出ユニット３０と、前記原点トラック２４に対向配置される原点検出ユニット４０と、を有する。
【００２９】
前記ＩＮＣ検出ユニット３０には、前記ＩＮＣトラック２２に光を照射するためのＩＮＣ検出用光源３２と、前記ＩＮＣトラック２２からの反射光を検出するためのＩＮＣ検出素子３４とが搭載されている。
【００３０】
前記原点検出ユニット４０には、前記入側原点パターン２６に光を照射するための原点検出用光源４２と、前記入側原点パターン２６を物体面とする入側テレセントリック光学系を構成する入側シリンドリカルレンズ４４と、該入側シリンドリカルレンズ４４により集束された光を反射する反射スリット４６と、前記出側原点パターン２８を結像面とする出側テレセントリック光学系を構成する出側シリンドリカルレンズ４８と、前記出側原点パターン２８からの反射光を検出するための原点検出素子５０を有する。
【００３１】
前記原点検出ユニット４０の光学的な構成をＹＺ面から見た図を図５に、ＸＺ面から見た図を図６に示す。
【００３２】
前記原点パターン２６及び２８は、例えばガラススケールでなる反射スケール２０上に成膜されたクロム膜で形成されている。従って、原点パターン２６、２８に到達した光は反射される。
【００３３】
前記入側及び出側シリンドリカルレンズ４４、４８は、同じ焦点距離Ｆを持つレンズであり、Ｙ軸方向に並んで配置される。
【００３４】
ここで、原点検出用光源４２から出た光は、反射スケール２０上の入側原点パターン２６で反射され、入側シリンドリカルレンズ４４を通って反射スリット４６に到達した後、反射され、出側シリンドリカルレンズ４８を通って反射スケール２０上の出側原点パターン２８に到達した後、反射され、原点検出素子５０に到達する。そして、原点検出素子５０が、到達した光を原点信号として検出する。
【００３５】
なお、反射スケール２０が測定軸（Ｘ軸）方向に動いて、原点検出用光源４２や原点検出素子５０直下に原点パターンが存在しない状態になったときは、反射するべき原点パターンが存在しないので、光源４２からの光はガラススケール（２０）内に入射してしまい、原点検出素子５０までの光路を形成しない。
【００３６】
前記入側及び出側シリンドリカルレンズ４４、４８は、図６に示した如く、シリンドリカルレンズ４４、４８の主面と反射スケール２０上の原点パターン２６、２８の面との距離が、シリンドリカルレンズの焦点距離Ｆと同じであり、且つ、シリンドリカルレンズ４４、４８の主面と反射スリット４６間の距離も同じＦになるように配置される。
【００３７】
光路の構成を明らかにするために、反射スリット４６の幅Ｗｓと同じ透過スリット４６’が配置されているものとして展開すると、図７に示す如くとなる。
【００３８】
図７から明らかなように、入側原点パターン２６がある面から入側シリンドリカルレンズ４４の主面までの距離、入側シリンドリカルレンズ４４の主面から反射スリット４６を置き換えた透過スリット４６’までの距離、透過スリット４６’から出側シリンドリカルレンズ４８の主面までの距離、及び、出側シリンドリカルレンズ４８の主面から出側原点パターン２８がある面までの距離のいずれも、シリンドリカルレンズ４４、４８の焦点距離Ｆで構成されるので、入側原点パターン２６がある面を物体面、出側原点パターン２８がある面を結像面とする光学倍率１倍の両側テレセントリック光学系が構成される。
【００３９】
この両側テレセントリック光学系の開口数ＮＡ（Ｎumerical  Ａperture）は、シリンドリカルレンズの焦点距離Ｆとスリット幅Ｗｓから、次式で求められる。
【００４０】
ＮＡ＝Ｗｓ／（２Ｆ）        …（１）
【００４１】
従って、この両側テレセントリック光学系の焦点深度ＤＯＦ（Ｄepth  Ｏf  Ｆocus）は、光源４２からの光の波長をλとすると、次式で求められる。
【００４２】
ＤＯＦ＝λ／｛２（ＮＡ）２｝＝２λＦ２／Ｗｓ２        …（２）
【００４３】
ここで、λ＝６６０ｎｍ、Ｆ＝１０ｍｍ、Ｗｓ＝０．２ｍｍとすると、ＤＯＦ＝３．３ｍｍとなる。
【００４４】
これは、両側テレセントリック光学系の物体面と結像面である反射スケール２０のＺ軸方向の位置の変動が、これだけ大きい値で許容されることを示しており、反射スケール２０や検出部（４０）の組立が非常に容易となる。
【００４５】
次に、原点パターン２６、２８を搭載した反射スケール２０が測定軸方向に移動していくときの作用について、図８〜図１５を参照して詳細に説明する。
【００４６】
まず図８に示す如く、原点パターン２６、２８が、その幅Ｗに比べて光軸中心から十分大きな距離Ｘ１だけ離れた手前の位置にある状態（Ｘ＝Ｘ１≪−Ｗ）においては、入側原点パターン２６の像は、出側原点パターン２８が存在しない領域で結像している。従って、この状態においては、原点検出素子５０は、入側原点パターン２６からの光を検出しない。
【００４７】
ここで、入側原点パターン２６又は出側原点パターン２８が存在しない領域は、本実施形態のようなガラススケールでは光がガラススケールの内部に入射してしまう領域であり、金属スケールでは粗面であって光が乱反射する領域である。いずれも、原点検出素子５０までの光路は形成されず、原点検出素子５０は光を検出しない。
【００４８】
次に、図９に示す如く、原点パターン２６、２８が、その幅Ｗより大きな光軸中心からの距離Ｘ２まで近づいた状態（Ｘ＝Ｘ２＜−Ｗ）においても、図８と同様に、入側原点パターン２６の像は、出側原点パターン２８が存在しない領域で結像している。従って、この状態においても、原点検出素子５０は、入側原点パターン２６からの光を検出しない。
【００４９】
次に、図１０に示す如く、原点パターン２６、２８が、その幅Ｗの１／２の距離Ｘ３まで近付く（Ｘ＝Ｘ３＝−Ｗ／２）と、入側原点パターン２６の像は、出側原点パターン２８の横で結像する。しかし、この状態においては、未だ、原点検出素子５０は、入側原点パターン２６からの光を検出しない。
【００５０】
次に、図１１に示す如く、原点パターン２６、２８の中心線が、光軸中心まで原点パターン幅Ｗの１／４の距離Ｘ４の手前まで接近する（Ｘ＝Ｘ４＝−Ｗ／４）と、入側原点パターン２６の像が出側原点パターン２８の半分をカバーするように結像され、入側原点パターン２６の像の半分が出側原点パターン２８で反射されて、原点検出素子５０で検出される。
【００５１】
次に、図１２に示す如く、原点パターン２６、２８が更に光軸中心に近付き、原点パターン２６、２８の中心線が、光軸中心（Ｘ＝０）に一致すると、入側原点パターン２６の像が全て出側原点パターン２８に結像され、入側原点パターン２６の像が全て出側原点パターン２８で反射されて、原点検出素子５０で検出される。このとき、原点検出素子５０は最大出力となる。
【００５２】
次に、図１３に示す如く、原点パターン２６、２８の中心線が、光軸中心から原点パターン幅Ｗの１／４の距離Ｘ５だけ通り越す（Ｘ＝Ｘ５＝＋Ｗ／４）と、入側原点パターン２６の像が出側原点パターン２８の半分をカバーするように結像され、入側原点パターン２６の像の半分が出側原点パターン２８で反射されて、原点検出素子５０で検出される。
【００５３】
更に反射スケール２０が進行し、図１４に示す如く、原点パターン２６、２８の中心線が、光源中心から原点パターン幅Ｗの１／２の距離Ｘ６だけ通り越す（Ｘ＝Ｘ６＝＋Ｗ／２）と、入側原点パターン２６の像は、出側原点パターン２８の横で結像する。従って、この状態においては、原点検出素子５０は、入側原点パターン２６からの光を検出しなくなる。
【００５４】
更に反射スケール２０が進行すると、図１５に示す如く、図６と同様に、入側原点パターン２６の像は出側原点パターン２８が存在しない領域で結像するようになる。従って、この状態においては、原点検出素子５０は、入側原点パターン２６からの光を検出しない。
【００５５】
以上の作用により、原点検出素子５０は、原点パターン２６、２８が光軸に一致したときに最大信号を出力する。一致したときの最大出力をＶｐｐとし、その半分のレベルをＶｔｈとすると、原点検出素子５０の出力からは、原点パターンの半分の幅Ｗ／２の原点信号を得ることができる。
【００５６】
これは、図２に示した結像レンズによる検出による原点信号の原点幅が、一方は動かないので、原点パターン幅Ｗであることに対して１／２であり、原点を高精度で検出する上で有利である。
【００５７】
本実施形態においては、原点検出用光源３２、入側シリンドリカルレンズ４４、出側シリンドリカルレンズ４８及び原点検出素子５０が、同じ基板上に配設されているので、組立や調整が容易である。
【００５８】
なお、第１実施形態においては、入側シリンドリカルレンズ４４と出側シリンドリカルレンズ４８が別体とされていたが、図１６（ＩＮＣトラック及びＩＮＣ検出ユニットは図示省略）に示す第２実施形態の如く、両者を一体化することも可能である。
【００５９】
この第２実施形態によれば、光学部品の個数を削減することができ、組立を容易化することができる。
【００６０】
又、図１７に示す第３実施形態の如く、入側原点パターン２６と出側原点パターン２８を連結して一体化することも可能である。この場合には、原点検出ユニット４０のＹ軸方向の配設位置許容範囲を広げることができる。更に、入側原点パターン２６と出側原点パターン２８の位置ずれが生じ難くなり、原点パターンを高精度で配置できる。
【００６１】
前記第１乃至第３実施形態においては、いずれも、原点パターンが１つのパターン線で構成されていたが、図１８に示す第４実施形態の如く、１本線の原点パターンの代わりに、複数本のパターン線からなる原点パターン群２７、２９を設けることもできる。
【００６２】
ここで、複数のパターン線を不等ピッチで左右非対称となるように配置した場合には、図１９の展開図に詳細に示す如く、入側原点パターン群２７と出側原点パターン群２９の測定軸方向の向きを反転させる必要がある。
【００６３】
本実施形態においては、複数のパターン線から構成される原点パターン群を検出するので、原点検出の精度が向上する。
【００６４】
一方、図２０に展開図を示す第５実施形態の如く、入側原点パターン群２７と出側原点パターン群２９のパターン線を、パターン中心に対して左右対称であるように配置した場合には、入側原点パターン群２７と出側原点パターン群２９は、測定軸方向に同一パターンとすることができ、図２１に示す第６実施形態のように、入側原点パターン群２７と出側原点パターン群２９の各パターン線を連結して一体化することもできる。
【００６５】
なお、前記実施形態においては、いずれも、通常のシリンドリカルレンズが用いられていたが、図２２に示す第７実施形態のように、シリンドリカルレンズの代わりにフレネル・シリンドリカルレンズ４５、４９を配設することもできる。
【００６６】
本実施形態によれば、原点検出ユニット４０上に平面状の光学素子を配置できるので、小型化や組立容易化が実現できる。
【００６７】
又、前記実施形態においては、いずれも、（２）式により算出されるＤＯＦを大きくするべく、反射スリット４６の幅Ｗｓが狭くなっていたが、大きなＤＯＦが必要なく、小さいＤＯＦで良い場合には、図２３に示す第８実施形態の如く、その分だけスリットの幅Ｗｓを広げた幅広反射スリット４７を用いることができる。
【００６８】
本実施形態によれば、原点検出素子５０が検出する光量を増加させることができるので、ＳＮ比向上、あるいは、光源駆動電流削減、光源寿命向上が実現できる。
【００６９】
又、前記実施形態においては、いずれも、原点トラック２４がＩＮＣトラック２２の一方側に配置されていたが、図２４に示す第９実施形態の如く、反射スケール２０上で、原点トラック２４を、入側原点パターン２６で構成される入側原点トラック２４Ａと、出側原点パターン２８で構成される出側原点トラック２４Ｂに分けて、ＩＮＣトラック２２の両側に配置し、これに合わせて、一体化されたＩＮＣ／原点検出ユニット３６上で、原点検出用光源４２及び入側シリンドリカルレンズ４４と、出側シリンドリカルレンズ４８及び原点検出素子５０を、ＩＮＣ検出用光源３２とＩＮＣ検出素子３４を挟んで、配置することもできる。
【００７０】
本実施形態によれば、モアレ変動があっても原点がずれず、原点信号も低下しない。
【図面の簡単な説明】
【００７１】
【図１】特許文献１で提案された、原点パターンの検出方法を示す図
【図２】特許文献２で提案された、結像レンズによる検出方法を示す図
【図３】特許文献３で提案された、折り返し光学系による検出方法を示す図
【図４】本発明の第１実施形態の全体構成を示す斜視図
【図５】同じくＹＺ面から見た構成図
【図６】同じくＸＺ面から見た構成図
【図７】同じく反射スリットを透過スリットに置き換えて光路を展開して示す展開図
【図８】第１実施形態の動作を説明するための、原点パターンが光軸中心からＸ１（≪−Ｗ）離れている状態を示す展開図
【図９】同じく原点パターンが光軸中心からＸ２（＜−Ｗ）離れている状態を示す展開図
【図１０】同じく原点パターンが光軸中心からＸ３（＝−Ｗ／２）離れている状態を示す展開図
【図１１】同じく原点パターンが光軸中心からＸ４（＝−Ｗ／４）離れている状態を示す展開図
【図１２】同じく原点パターンが光軸中心（Ｘ＝０）に一致した状態を示す展開図
【図１３】同じく原点パターンが光軸中心からＸ５（＝＋Ｗ／４）離れた状態を示す展開図
【図１４】同じく原点パターンが光軸中心からＸ６（＝＋Ｗ／２）離れた状態を示す展開図
【図１５】同じく原点パターンが光軸中心からＸ７離れた状態を示す展開図
【図１６】本発明の第２実施形態の構成を示す斜視図
【図１７】同じく第３実施形態の構成を示す斜視図
【図１８】同じく第４実施形態の構成を示す斜視図
【図１９】第４実施形態の光路を展開して示す展開図
【図２０】本発明の第５実施形態の光路を展開して示す展開図
【図２１】同じく第６実施形態の構成を示す斜視図
【図２２】同じく第７実施形態の構成を示す斜視図
【図２３】同じく第８実施形態の構成を示す斜視図
【図２４】同じく第９実施形態の構成を示す斜視図
【符号の説明】
【００７２】
２０…反射スケール
２２…インクリメンタル（ＩＮＣ）トラック
２４、２４Ａ、２４Ｂ…原点トラック
２６…入側原点パターン
２７…入側原点パターン群
２８…出側原点パターン
２９…出側原点パターン群
３０…ＩＮＣ検出ユニット
３２…ＩＮＣ検出用光源
３４…ＩＮＣ検出素子
３６…ＩＮＣ／原点検出ユニット
４０…原点検出ユニット
４２…原点検出用光源
４４…入側シリンドリカルレンズ
４５…入側フレネル・シリンドリカルレンズ
４６…反射スリット
４７…幅広反射スリット
４８…出側シリンドリカルレンズ
４９…出側フレネル・シリンドリカルレンズ
５０…原点検出素子
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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