(57)【要約】【課題】ロード／アンロード機構を有する磁気ディスク装置において、磁気ヘッドスライダのロード時の磁気ディスクとの接触や、暴走時の非定常的な磁気ディスクとの衝突によって、磁気ディスク面にスクラッチが発生したり、ヘッドクラッシュが発生する。【解決手段】スライダ１の軸受面８の空気流入端側に流入側浅溝面３ａが形成され、その後方に１対の流入側浮上面２ａ，２ｂが形成されている。その後方の両サイドに、空気流出端近くまで伸びたサイドレール浅溝面６が形成され、空気流出端側の中央部に磁気ヘッド５を備えたセンター浮上面２ｃが形成されている。センター浮上面２ｃの流入側にはセンター浅溝面３ｂが形成されている。軸受面８の中央部には深溝面４が形成されている。サイドレール浅溝面６の流出側に、流入側浮上面２ａ，２ｂ及びセンター浮上面２ｃと同じ高さで小面積のサイドパッド７が形成されている。【選択図】図１
2008257828.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
空気流入端と、空気流出端と、軸受面とを有し、前記軸受面が空気流入端側に形成された流入側浅溝面と、前記流入側浅溝面の流出側の左右に形成された一対の流入側浮上面と、空気流出端側の中央部に形成された磁気ヘッドを備えるセンター浮上面と、前記センター浮上面の流入側に形成されたセンター浅溝面と、前記一対の流入側浮上面の流出側から空気流出端側に伸び、後端が前記センター浮上面に達しない一対のサイドレール浅溝面と、前記軸受面の中央部に形成された深溝面とを有し、前記一対のサイドレール浅溝面の少なくとも磁気ディスクと対向した際に内周側となるサイドレール浅溝面の後端側に、前記流入側浮上面及びセンター浮上面と同一面で、浮上量に影響を与ない程度の面積のパッドを有することを特徴とする磁気ヘッドスライダ。
【請求項２】
前記パッドの面積が、２６００μｍ２以上４０００μｍ２以下であることを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項３】
前記パッドの空気流入方向の長さが６５μｍ以上８０μｍ以下、幅が４０μｍ以上５０μｍ以下であることを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項４】
前記一対のサイドレール浅溝面の両方の後端側に、前記流入側浮上面及びセンター浮上面と同一面で、浮上量に影響を与ない程度の面積のパッドを有することを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項５】
前記パッドの面積が、２６００μｍ２以上４０００μｍ２以下であることを特徴とする請求項４記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項６】
前記パッドの空気流入方向の長さが６５μｍ以上８０μｍ以下、幅が４０μｍ以上５０μｍ以下であることを特徴とする請求項４記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項７】
前記軸受面の空気流出端の両側のコーナーに、第２の深溝面を有することを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項８】
空気流入端と、空気流出端と、軸受面とを有し、前記軸受面が空気流入端側に形成された流入側浅溝面と、前記流入側浅溝面の流出側の左右に形成された一対の流入側浮上面と、空気流出端側の中央部に形成された磁気ヘッドを備えるセンター浮上面と、前記センター浮上面の流入側に形成されたセンター浅溝面と、前記一対の流入側浮上面の流出側から空気流出端側に伸び、後端が前記センター浮上面に達しない一対のサイドレール浅溝面と、前記軸受面の中央部に形成された深溝面とを有し、前記一対のサイドレール浅溝面のうちの少なくとも磁気ディスクと対向した際に内周側となるサイドレール浅溝面の後端側と、前記流入側浅溝面の両コーナーに、前記流入側浮上面及びセンター浮上面と同一面で、浮上量に影響を与ない程度の面積のパッドを有することを特徴とする磁気ヘッドスライダ。
【請求項９】
前記パッドの面積が、２６００μｍ２以上４０００μｍ２以下であることを特徴とする請求項８記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項１０】
前記パッドの空気流入方向の長さが６５μｍ以上８０μｍ以下、幅が４０μｍ以上５０μｍ以下であることを特徴とする請求項８記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項１１】
前記一対のサイドレール浅溝面の両方の後端側に、前記流入側浮上面及びセンター浮上面と同一面で、浮上量に影響を与ない程度の面積のパッドを有することを特徴とする請求項８記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項１２】
前記パッドの面積が、２６００μｍ２以上４０００μｍ２以下であることを特徴とする請求項１１記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項１３】
前記パッドの空気流入方向の長さが６５μｍ以上８０μｍ以下、幅が４０μｍ以上５０μｍ以下であることを特徴とする請求項１１記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項１４】
前記軸受面の空気流出端の両側のコーナーに、第２の深溝面を有することを特徴とする請求項８記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項１５】
磁気ディスクと、
空気流入端と、空気流出端と、軸受面とを有し、前記軸受面が空気流入端側に形成された流入側浅溝面と、前記流入側浅溝面の流出側の左右に形成された一対の流入側浮上面と、空気流出端側の中央部に形成された磁気ヘッドを備えるセンター浮上面と、前記センター浮上面の流入側に形成されたセンター浅溝面と、前記一対の流入側浮上面の流出側から空気流出端側に伸び、後端が前記センター浮上面に達しない一対のサイドレール浅溝面と、前記軸受面の中央部に形成された深溝面とを有し、前記一対のサイドレール浅溝面の少なくとも前記磁気ディスクの内周側となるサイドレール浅溝面の後端側に、前記流入側浮上面及びセンター浮上面と同一面で、浮上量に影響を与ない程度の面積のパッドを有する磁気ヘッドスライダと、
前記磁気ヘッドスライダが退避し、磁気記録あるいは再生の際に前記磁気ディスクにロードする傾斜面を有するランプ機構と、
を有することを特徴とする磁気ディスク装置。
【請求項１６】
前記パッドの面積が、２６００μｍ２以上４０００μｍ２以下であることを特徴とする請求項１５記載の磁気ディスク装置。
【請求項１７】
前記パッドの空気流入方向の長さが６５μｍ以上８０μｍ以下、幅が４０μｍ以上５０μｍ以下であることを特徴とする請求項１５記載の磁気ディスク装置。
【請求項１８】
前記一対のサイドレール浅溝面の両方の後端側に、前記流入側浮上面及びセンター浮上面と同一面で、浮上量に影響を与ない程度の面積のパッドを有することを特徴とする請求項１５記載の磁気ディスク装置。
【請求項１９】
前記パッドの面積が、２６００μｍ２以上４０００μｍ２以下であることを特徴とする請求項１８記載の磁気ディスク装置。
【請求項２０】
前記軸受面の空気流出端の両側のコーナーに、第２の深溝面を有することを特徴とする請求項１５記載の磁気ディスク装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、記録媒体面上を微小な隙間で浮上もしくは間歇接触しながら浮上する磁気ヘッドスライダに係り、特に、ロード／アンロード機構を備えた磁気ディスク装置に好適な磁気ヘッドスライダ及び磁気ディスク装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在の磁気ディスク装置には、特許文献１に記載された基本構成の磁気ヘッドスライダが使用されている。図１７にこの磁気ヘッドスライダの斜視図を、図１８に平面図を示す。スライダ１０１の軸受面は、浮上面１０２（１０２ａ，１０２ｂ，１０２ｃ）と、浮上面１０２より僅かの深さの段差を持たせた浅溝面１０４（１０４ａ，１０４ｂ，１０４ｃ）と、浅溝面１０４よりさらに浮上面１０２から深く掘られた深溝面１０５より構成されている。浮上面１０２は流入側で浅溝面１０４ａの後方に位置する左右一対の流入側浮上面１０２ａ，１０２ｂと、流出端で磁気ヘッド１０３を搭載するセンターパッド１０２ｃよりなる。深溝面１０５は、流入側の浅溝面１０４ａ、流入側浮上面１０２ａ，１０２ｂ、サイドの浅溝レール１０４ｂで囲まれた負圧溝である。本構成では、浅溝面と浮上面によるステップ空気軸受作用により、磁気ディスクからスライダを浮上させる浮上力が発生し、同時に深溝面１０５で負圧が発生する。正圧・負圧併用により、適切な空気軸受剛性を確保し、スライダを安定に浮上させると同時に、センターパッド１０２ｃの磁気ヘッド１０３をディスクに対し、再接近点とすることができ、ヘッド特性的に好適な形状と言える。現在広く使われているスライダは、長さLx=1.25mm、幅Ly=1.0mm、厚さLz=0.3mmのものである。
【０００３】
また、磁気ヘッドスライダのロード/アンロード方式の磁気ディスク装置のうち、磁気ディスクの回転数が7200rpm、10krpm、15krpm等の高速回転の装置では、ローディング時、スライダが磁気ディスク面に接触した時の磁気ディスク面のダメージが大きい。この対策の例として、特許文献２に記載のスライダがある。このスライダは、切断加工で生じたコーナーが、直接、磁気ディスク面と接触するのを避けるため、スライダの流出端の両サイドに、浮上面より僅かの段差を持たせた浅溝面で構成したランディングパッドを設けている。これによりスライダの流出端コーナーが磁気ディスクと接触するとき、スライダと磁気ディスクの接触箇所をランディングパッドに限定することができ、スライダの切断部コーナーが接触した場合に比べて、接触応力を大幅に低減できるものである。
【０００４】
【特許文献１】米国特許第５７７７８２５号明細書
【特許文献２】特開２００２−２１６３２８号公報
【特許文献３】特開２００２−２３０７３２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、上記構成のスライダを採用しても、高速回転のロード・アンロード方式の磁気ディスク装置において、ロード時、磁気ディスクとヘッドの接触後、すぐに安定浮上できない場合、磁気ディスクのローディングゾーンの内側のデータゾーンにスクラッチが発生するのを防止することができない。この原因として、ランディングパッドやサイドレールを形成する浅溝面の表面形状がある。浅溝面は通常イオンミリング（IM）加工によって形成する。表面は数ｎｍの表面粗さあり、また、僅かの量のミリング残りが発生する。ミリング残りはコンタミ等がマスクの役目をして、本来加工されるべき所が微小な丘となり加工欠陥となる。ミリング残りは面積が小さいので、磁気ディスクと接触すると、微小面積での接触となり、ディスク表面の接触応力が高くなり、媒体損傷（スクラッチ）を発生させて、情報を消失する。今後、磁気的スペーシングは減少傾向にあり、媒体の保護膜も薄膜化傾向にある。当然、媒体表面の強度が低下し、媒体スクラッチがより発生しやすくなり、信頼性を低下させる。
【０００６】
ヘッドとディスクの接触は、ヘッドローディング時の他にも、ヘッドのインスタビリティによりヘッド出力異常が発生し、サーボ情報を取り込むことができず、ヘッドポジションを認識できなくなり、暴走したときにも発生する可能性がある。
【０００７】
ヘッドとディスクの接触する機会が増加した場合、浅溝面で構成したランディングパッド、浅溝レールでの接触では、円板スクラッチによるメディア損傷が増加し、信頼性を低下させることになる。そこで、ヘッドとディスクの接触時の接触点の構成を変えることにより、接触応力を低減するスライダが必要となった。
【０００８】
軸受面に５つのパッド、すなわち流入側パッドを２個、流出端側にセンターパッドを１個、サイドレール流出端近傍にサイドパッドを２個設け、十分な正圧を発生させる例（例えば特許文献３）もあるが、流出端近傍に正圧を発生させるパッドを設けると、スライダの幅方向の平面度のばらつきや、ディスク面の振動や半径方向うねりで、センターパッド素子位置の浮上量が大きく変動する欠点があり、流出端に近づけて設けることは好ましくない。
【０００９】
本発明の目的は前述の従来の問題点を解決することにあり、磁気ディスクに接触しても、磁気ディスクにスクラッチを発生させることがなく、かつ浮上量変動の少ない浮上安定性に優れた磁気ヘッドスライダを提供することである。
本発明の他の目的は、ロード／アンロード機構を有する磁気ディスク装置において、磁気ディスクにスクラッチが発生するのを防止し、ヘッドクラッシュを防止することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するために、本発明の磁気ヘッドスライダにおいては、軸受面に流入側浅溝面と、一対の流入側浮上面と、磁気ヘッドを備えるセンター浮上面と、一対のサイドレール浅溝面と、深溝面とを有し、前記一対のサイドレール浅溝面の少なくとも磁気ディスクと対向した際に内周側となるサイドレール浅溝面の後端側に、流入側浮上面及びセンター浮上面と同一面で、浮上量に影響を与ない程度の面積のパッドを有する。
前記パッドの面積は、２６００μｍ２以上４０００μｍ２以下であることが望ましい。
また、前記パッドの空気流入方向の長さは６５μｍ以上８０μｍ以下、幅は４０μｍ以上５０μｍ以下であることが望ましい。
さらに、前記軸受面の空気流出端の両側のコーナーに、第２の深溝面を有することが望ましい。
さらに、前記流入側浅溝面の両コーナーに、流入側浮上面及びセンター浮上面と同一面で、浮上量に影響を与ない程度の面積のパッドを有することが望ましい。
【００１１】
上記他の目的を達成するために、本発明の磁気ディスク装置においては、軸受面に流入側浅溝面と、一対の流入側浮上面と、磁気ヘッドを備えるセンター浮上面と、一対のサイドレール浅溝面と、深溝面とを有し、前記一対のサイドレール浅溝面の少なくとも磁気ディスクと対向した際に内周側となるサイドレール浅溝面の後端側に、流入側浮上面及びセンター浮上面と同一面で、浮上量に影響を与ない程度の面積のパッドを有する磁気ヘッドスライダと、磁気ヘッドスライダによって磁気記録あるいは再生が行われる磁気ディスクと、磁気ヘッドスライダが退避し、磁気記録あるいは再生の際に磁気ディスクにロードするための傾斜面を有するランプ機構と、を有する。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、磁気ディスクに接触しても、磁気ディスクにスクラッチを発生させることがなく、かつ浮上量変動の少ない浮上安定性に優れた磁気ヘッドスライダを実現することができる。また、ロード／アンロード機構を有する磁気ディスク装置において、磁気ディスクにスクラッチが発生するのを防止し、ヘッドクラッシュを防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下本発明の好適な実施形態を図１から図１６を参照しながら詳細に説明する。まず、図１６を用いて本発明の磁気ヘッドスライダが搭載される磁気ディスク装置の概略構成を説明する。磁気ディスク装置５０は、ランチボックス型のベース１０２を有し、ベース１０２にはスピンドルモータ１０４と、軸受ユニット１１０と、ＶＣＭ磁気回路１１６が取り付けられている。スピンドルモータ１０４には、磁気ディスク１０６が保持され、磁気ディスク１０６はスピンドルモータ１０４によって回転駆動される。軸受ユニット１１０には、ヘッドアーム１１２とＶＣＭコイル１１４が支持され、ＶＣＭコイル１１４はＶＣＭ磁気回路１１６の磁界中に置かれる。ＶＣＭコイル１１４とＶＣＭ磁気回路１１６とで、軸受ユニット１１０を回転させるアクチュエータを構成している。ヘッドアーム１１２にはロードビーム１１８が取り付けられ、ロードビーム１１８にはジンバル１２０が取り付けられ、ジンバル１２０には、磁気ヘッドスライダ１００が保持されている。ロードビーム１１８の先端にはロードタブ１１６が形成されている。ロードビーム１１８にジンバル１２０が取り付けられたバネ部材がサスペンションであり、サスペンションにジンバルを介して磁気ヘッドスライダ１が取り付けられた構成体がヘッドジンバルアセンブリである。ヘッドジンバルアセンブリは、軸受ユニット１１０と共に回転し、磁気ヘッドスライダ１を磁気ディスク１０６の半径方向に移動させる。
【００１４】
磁気ヘッドスライダ１００は、ロードビーム１１８によって磁気ディスク面への押し付け荷重を与えられ、１０ｎｍ程度あるいは１０ｎｍ以下の浮上量で磁気ディスク上を浮上する。磁気ヘッドスライダ１００はロードビーム１１８とともにアクチュエータによって磁気ディスク１０６の半径方向にシーク動作し、磁気ディスク面全体で記録再生を行う。磁気ヘッドスライダ１００は、装置の停止時あるいは読み書き命令が一定時間無い時に、ロードタブ１１６を介して磁気ディスク１０６上から引き離され、ランプ機構１２２に待避する。
【００１５】
図１は実施例による磁気ヘッドスライダの平面図、図２は図１のＸ−Ｘ線断面図である。また、図３は図１の斜視図である。磁気ヘッドスライダ１００は、図１、図２及び図３に示すごとく、空気軸受の効果を適用して浮上力を発生させるため、スライダ１の軸受面８（図２参照）の空気流入端側に流入側浅溝面３ａが形成され、その後方に浅溝面３ａに隣接して１対の流入側浮上面２ａ，２ｂが形成されている。流入側浮上面２ａ，２ｂの後方の両サイドに、空気流出端近くまで伸びたサイドレール浅溝面６が形成されている。スライダ１の空気流出端側の幅方向中央部にセンター浮上面２ｃが形成され、磁気ヘッド５を搭載している。センター浮上面２ｃの流入側にはセンター浅溝面３ｂが形成されている。流入側浅溝面３ａ、流入側浮上面２ａ，２ｂ、サイドレール浅溝面６、センター浅溝面３ｂで囲まれた軸受面８の中央に深溝面４が形成されている。サイドレール浅溝面６の流出側に、流入側浮上面２ａ，２ｂ及びセンター浮上面２ｃと同じ高さで小面積のサイドパッド（以下、小サイドパッドと称す）７が形成されている。小サイドパッド７は、浮上面２ａ，２ｂ，２ｃの正圧力に対して、無視できる程度に小さい正圧力しか発生しない小面積のパッドである。磁気ヘッド５は、スライダ１の素子形成面（流出端面）に、薄膜プロセスで形成された記録素子と、再生素子で構成されている。
【００１６】
本実施例の磁気ヘッドスライダ１００は、スライダ長さＬｘは1.25 mm、スライダ幅Ｌｙは1.0mm、厚さＬｚは0.3mmであり、浮上面（２ａ，２ｂ，２ｃ）から浅溝面（３ａ，３ｂ，６）までの深さｄ１は約200nm、浮上面から深溝面４までの深さｄ２は約1700nmである。流入側浅溝面３ａは流入端から流入側浮上面２ａ，２ｂまでの長さが、スライダ１の両サイド側で長くなるように形成されている。
【００１７】
ここで、図４及び図５を参照して、上記磁気ヘッドスライダ１００の製造方法の概略と小サイドパッド７の形成方法について説明する。図４は、磁気ヘッドスライダ１００の製造工程図である。素子形成工程４１では、アルミナとチタンカーバイドの焼結体（Al2O3-TiC）等からなるセラミックのウェハ上に、スパッタ等の薄膜成膜技術とフォトリソグラフィを用いて、磁気ヘッド素子を形成する。その後、基板切断工程４２において、研削砥石やワイヤソー等の切断技術によって、ウェハを一列ずつ切り出し、複数の磁気ヘッド素子が連結した状態のローバーと称すブロックにする。軸受面研磨工程４３では、ローバーを治具に固定し、軸受面を研磨定盤に押し付け、研磨加工を行う。次に、最終軸受面研磨工程４４において、軸受面の最終仕上げ研磨を行う。この最終軸受面研磨工程は、軸受面の表面粗さを所定の値に仕上げる工程である。具体的には、図５に示すように、ローバー２５を研磨治具２０に貼り付け、回転する研磨定盤２３に所定の力で押しつけ、研磨治具２０を研磨定盤２３の半径方向に揺動させ、研磨液２７を研磨定盤２３上に滴下させながら、所定の加工量（例えば５０ｎｍ）を除去する。軸受面の最終研磨が終了した後に、浮上面形成工程４５において、軸受面に浮上面、浅溝面、小サイドパッド、深溝面をイオンミリングやＲＩＥ等のドライ加工により形成する。具体的には、ローバー２５を治具に固定し、軸受面の表面にレジストを塗布し、露光・現像したのちに、浮上面、小サイドパッド以外の部分をドライ加工により除去する。その後軸受面上に残ったレジストを剥離する。レジスト塗布からレジスト剥離までのプロセスを２回繰り返すことにより、図２に示す軸受面８が形成される。最後に、切断工程４６において、ローバー２５を切断位置でダイシングやワイヤソーで切断して、個々の磁気ヘッドスライダ１００にする。
【００１８】
上記磁気ヘッドスライダ１００を磁気ディスク面に対向させると、浮上浅溝面３ａと流入側浮上面２ａ，２ｂの構成により、磁気ディスクの回転による空気流が圧縮されて空気軸受効果により浮上力を発生する。一方、深溝面４では、逆に空気流が拡大して、負圧力を発生する。この空気軸受による力とサスペンションから印加される荷重とが釣り合ったところで、磁気ヘッドスライダ１００は浮上する。浮上量は磁気ヘッド部で１０ｎｍかそれ以下である。
【００１９】
図６を参照して磁気ヘッドスライダのロード時の姿勢を説明する。磁気ディスクが回転すると、磁気ヘッドスライダはサスペンションの先端に設けられたロードタブがランプ機構の傾斜角を持ったランプ部を滑走し、ディスク面にロードする。磁気ヘッドスライダはサスペンションのスライダ取り付け部の姿勢角に依存した姿勢で磁気ディスクに接触する。磁気ヘッドスライダの姿勢が磁気ディスク面とほぼ平行であれば、接触せずに安定浮上を実現できるが、通常は角度を持ってロードするため、スライダの内周側の流出端側でディスクと接触し、その後浮上する。接触してから、浮上するまでの挙動に時間がかかると、磁気ヘッドスライダはディスクのロードゾーンから、データゾーンに移動し、接触時の接触応力が大きいと磁気ディスクにスクラッチを発生し、最悪の場合は、データ消失が発生する。
【００２０】
本実施例の磁気ヘッドスライダ１００におけるサイドレール浅溝面６に形成された小サイドパッド７は、上記のとおりラップ加工等で仕上げられた浮上面（２ａ，２ｂ，２ｃ）と同じ表面のため、表面の粗さが小さく滑らかな面であり、浅溝加工面で問題となる粗さや、ミリング残り等がないため、磁気ディスクとの接触時の接触応力の過度の上昇を抑えることができる。図７に、サイドレール浅溝面６にミリング残り３０があった場合の概念図を示す。ミリング残り３０があっても、ミリング残り３０よりも高い小サイドパッド７があるため、接触時に磁気ディスクとの接触を小サイドパッド７に特定することができるため、磁気ディスクに円板スクラッチが発生するのを防止することができる。
【００２１】
また、小サイドパッド７は、流入側浮上面２ａ，２ｂ、センターパッド浮上面２ｃに比べて小面積に形成されており、このパッドにより発生する正圧力は僅かであり浮上量への影響は小さい。図８に小サイドパッド７の面積と空気軸受作用による浮上量の変化との関係を示す。小サイドパッド７の面積2600μm2（幅40μm、長さ65μm）の場合、浮上量の増加は0.3nm程度と大変小さいことが判る。これは、小サイドパッド７に発生する正圧が小さく、他の浮上面に対して影響が小さいことを意味している。従って流出端の両サイドにセンターパッドと同程度のパッド（浮上面）を設けた場合に問題となる、スライダの幅方向の平面度の大小や、磁気ディスクの半径方向うねりによる、センターパッドのヘッド素子部の浮上量の変動が生じないため、浮上特性のばらつき増加の問題も回避できる。図８から小サイドパッド７の面積は、2600μm2以上4000μm2以下であることが望ましい。この場合、幅は40μm以上50μm以下、長さは65μm以上80μm以下とするのが好適である。
【００２２】
図９（ａ）に浮上状態の磁気ヘッドスライダを側面から見た図を、図９（ｂ）に空気流出端側から見た図を示す。図９（ｃ）は、小サイドパッド７を設ける長手方向位置を示す図である。図１０に、小サイドパッド７の長手方向位置とスライダの最小浮上量の関係を、サスペンションのスライダ支持部のロール方向姿勢角（RSA）についてまとめた関係図を示す。図１０から、小サイドパッド７を流出端サイド位置（LP）に設けると、僅かのRSA値で、最小浮上位置は小サイドパッド７に移り、その後は急速に浮上量が低下する。小サイドパッド位置を流出端から適当な距離、例えばｑ３点、ｑ２点、ｑ１点へと離すことによって、RSA公差内で浮上中に小サイドパッド位置が最小浮上位置にならないようにすることができる。したがって、磁気ヘッドスライダの安定浮上を実現することができる。
【００２３】
以上の説明のとおり、実施例による磁気ヘッドスライダによれば、磁気ディスクに接触しても、磁気ディスクにスクラッチをつけることがなく、浮上量の変動が少なく安定した浮上特性を呈することができる。
【００２４】
図１１に上記実施例の変形例１による磁気ヘッドスライダ２００の平面図を示し、図１２に斜視図を示す。この磁気ヘッドスライダ２００は、上記実施例の磁気ヘッドスライダ１００の空気流出端の両サイドコーナーに、第２の深溝面９を設けたものである。この構成によって、上記実施例の効果に加え、スライダ１が幅方向に大きく傾いた場合においても、スライダ１が磁気ディスクに接触するときの接触点を、小サイドパッド７に限定することができるため、円板スクラッチ、ヘッドクラッシュを防止でき、より高い信頼性を確保することができる。
【００２５】
図１３に変形例２による磁気ヘッドスライダ３００の平面図を示す。この磁気ヘッドスライダ３００は、上記実施例の磁気ヘッドスライダ１００の空気流出端の両サイドコーナーに第２の深溝面９を設けると共に、流入側浅溝面３aの両サイドに浮上面２ａ，２ｂと同一面の小面積の流入端パッド１０を設けたものである。流入端パッド１０の面積は、小サイドパッド７と同じで良く、2600μm2以上4000μm2以下である。また、幅は40μm以上50μm以下、長さは65μm以上80μm以下である。この構成によって、ロード時や暴走時の非定常衝撃で、スライダ１の流入端側が磁気ディスクに衝突した場合、流入端パッド１０を接触させることができるため、円板スクラッチやヘッドクラッシュを防止できる効果がある。勿論、変形例１と同様の効果を有する。
【００２６】
図１４に変形例３による磁気ヘッドスライダ４００の平面図を示す。この磁気ヘッドスライダ４００は、変形例２による磁気ヘッドスライダ３００と同様に、流出端の両サイドコーナーに第２の深溝面９を設けると共に、流入側浅溝面３aの両サイドに浮上面２ａ，２ｂと同一面の流入端パッド１０を設けたものであるが、流入側パッド１０は流入側浅溝面３ａの境界まで達している。これにより、スライダ１の流入端側が磁気ディスクに接触する場合の接触点を、より確実に流入端パッド１０とすることができるので、信頼性がさらに向上する効果がある。
【００２７】
図１５に変形例４による磁気ヘッドスライダ５００の平面図を示す。この磁気ヘッドスライダ５００は、磁気ディスク装置に搭載した場合、内周側となるサイドレール浅溝面６ａにのみ小サイドパッド７を形成したものである。ロード時、内周側サイドレール浅溝面６ａが先に磁気ディスクに接近するため、内周側の接触頻度が高くなるが、本構成によれば内周側サイドレール浅溝面６ａの小サイドパッド７が接触するので、磁気ディスクの接触ダメージを大幅に軽減し、ヘッドクラッシュを回避することができる。この構成においても、上記実施例と同様の効果がある。なお、この変形例４の構成に、上記変形例２で説明した流入端パッド１０を設けても良い。
【００２８】
上記実施例及び各変形例の磁気ヘッドスライダとして、スライダ長さＬｘ＝1.25 mm、スライダ幅Ｌｙ＝1.0mm、厚さＬｚ＝0.3mmのものを例示したが、さらに小型のスライダあるいは大型のスライダに適用することもできる。
【００２９】
以上説明したように、本発明の実施例及び各変形例による磁気ヘッドスライダは、スライダのサイドレール流出端側に浮上面と同じ高さの小さなパッドを設けることによって、ロード時等の接触に起因した円板スクラッチ及びヘッドクラッシュを防止できるので、これらの磁気ヘッドスライダを搭載した磁気ディスク装置の信頼性を向上することができる。特に磁気ディスクの回転速度が大きな高速回転の磁気ディスク装置に適用すると、より大きな効果を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】本発明の実施例による磁気ヘッドスライダの浮上面の平面図である。
【図２】図１のＸ−Ｘ線断面図である。
【図３】図１に示す磁気ヘッドスライダの浮上面の斜視図である。
【図４】磁気ヘッドスライダの製造方法の概略工程図である。
【図５】ローバー状態の磁気ヘッドスライダの軸受面研磨方法を説明するための図である。
【図６】磁気ヘッドスライダのロード動作を説明するための図である。
【図７】サイドレール浅溝面のイオンミリング残りと小サイドパッドの高さの関係を示す図である。
【図８】小サイドパッドの面積と空気軸受作用による浮上量の変化の関係を示す図である。
【図９】スライダの浮上姿勢と、小サイドパッドの位置を示す図である。
【図１０】小サイドパッドの長手方向位置とスライダの最小浮上量の関係を、サスペンションのスライダ支持部のロール方向姿勢角（RSA）についてまとめた関係図である。
【図１１】変形例１による磁気ヘッドスライダの平面図である。
【図１２】図１１に示す磁気ヘッドスライダの浮上面の斜視図である。
【図１３】変形例２による磁気ヘッドスライダの平面図である。
【図１４】変形例３による磁気ヘッドスライダの平面図である。
【図１５】変形例４による磁気ヘッドスライダの平面図である。
【図１６】実施例あるいは各変形例による磁気ヘッドスライダを搭載した磁気ディスク装置の鳥瞰図である。
【図１７】従来技術による磁気ヘッドスライダの浮上面の斜視図である。
【図１８】図１７に示す磁気ヘッドスライダの浮上面の平面図である。
【符号の説明】
【００３１】
１…スライダ、２ａ、２ｂ…流入側浮上面、２ｃ…センター浮上面、３ａ…流入側浅溝面、３ｂ…センター浅溝面、４…深溝面、５…磁気ヘッド、６…サイドレール浅溝面、７…小サイドパッド、８…軸受面、９…第２深溝面、１０…流入端パッド、３０…ミリング残り、１００，２００，３００，４００，５００…磁気ヘッドスライダ、１０６…磁気ディスク。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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