(57)【要約】【課題】液晶表示装置の光学補償に有用な、新規なポリマーフィルムを提供する。【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される少なくとも１種の化合物を含み、且つ下記数式（１）を満足することを特徴とするポリマーフィルムである。  数式（１）Rth(550)/Re(550)>10   式中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍにおける面内のレターデーション値（単位：ｎｍ）、及びＲｔｈ（λ）は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。2008281680.tif 000028式中、Ａ1及びＡ2は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子又は置換基を表。）、−Ｓ−及び−ＣＯ−からなる群から選ばれる基を表し；Ｚは、ベンゾ縮環又はナフト縮環を形成するのに必要な有機残基を表し；Ｒ1は各々独立に置換基を表し；ｍは０〜４の整数であり、Ｒ2及びＲ3は各々独立に、水素原子又はハメットの置換基定数σp値が０より大きい電子求引性の置換基を表し、Ｒ2とＲ3とが結合して環を形成してもよい。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（Ｉ）で表される少なくとも１種の化合物を含み、且つ下記数式（１）を満足することを特徴とするポリマーフィルム。
数式（１）Rth(550)/Re(550)>10 
（式中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍにおける面内のレターデーション値（単位：ｎｍ）、及びＲｔｈ（λ）は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。）
【化１】
2008281680.tif 000026
（式中、Ａ1及びＡ2は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子又は置換基を表。）、−Ｓ−及び−ＣＯ−からなる群から選ばれる基を表し；Ｚは、ベンゾ縮環又はナフト縮環を形成するのに必要な有機残基を表し；Ｒ1は各々独立に置換基を表し；ｍは０〜４の整数であり、Ｒ2及びＲ3は各々独立に、水素原子又はハメットの置換基定数σp値が０より大きい電子求引性の置換基を表し、Ｒ2とＲ3とが結合して環を形成してもよい。）
【請求項２】
前記一般式（Ｉ）中のＲ2及びＲ3がそれぞれ、下記で表される置換基もしくは５又は６員環のヘテロ環基であることを特徴とする請求項１に記載のポリマーフィルム。
【化２】
2008281680.tif 000027
（式中、Ｒ4及びＲ5はそれぞれ、水素原子又は置換基であって、Ｒ4とＲ5とが結合して環を形成してもよい。）
【請求項３】
下記数式（２）、（３）及び（４）を満たすことを特徴とする請求項１又は２に記載のポリマーフィルム。
数式（２）：６０≦Ｒｔｈ（５５０）≦３００
数式（３）：１．１＜Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）＜２．０
数式（４）：０．８＜Ｒｔｈ（６５０）／Ｒｔｈ（５５０）＜１．０
（式中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍにおける面内のレターデーション値（単位：ｎｍ）、及びＲｔｈ（λ）は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。）
【請求項４】
セルロースアシレートを主成分として含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のポリマーフィルム。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載のポリマーフィルムからなる、又は含むことを特徴とする位相差板。
【請求項６】
偏光膜と、請求項１〜４のいずれか１項に記載の位相差板とを少なくとも有することを特徴とする偏光板。
【請求項７】
液晶セルと、少なくとも一つの偏光子と、液晶セルと該偏光子との間に配置された請求項１〜５のいずれか１項に記載のポリマーフィルムとを少なくとも有する液晶表示装置。
【請求項８】
液晶セルと、その両側に配置された二つの偏光子とを有する液晶表示装置であって、一方の偏光子と前記液晶セルとの間に請求項１〜５のいずれか１項に記載のポリマーフィルムを有し、他方の偏光子と液晶セルとの間に下記数式（７）〜（９）を満たす位相差フィルムを有することを特徴とする液晶表示装置。
数式（７）：  ９０ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜１２０ｎｍ
数式（８）：  １００ｎｍ＜Ｒｔｈ（５５０）＜１５０ｎｍ
数式（９）：  ΔＲｅ＞０
（式（７）及び式（８）中、式中、Ｒｅ（λ）及びＲｔｈ（λ）は波長λｎｍにおける面内のレターデーション値及び膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）であり、また式（９）中、ΔＲｅは波長６３０ｎｍ及び波長４５０ｎｍの光における膜厚方向のレターデーション値の差（Ｒｅ（６３０）−Ｒｅ（４５０））である。）
【請求項９】
ＶＡモードであることを特徴とする請求項７又は８に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポリマーフィルム、並びに該ポリマーフィルムを用いた偏光板及び液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
Ｃプレートは、垂直配向（ＶＡ）モードの液晶表示装置の黒表示時の光学補償等に利用されている。ＶＡモードの液晶表示装置は、コントラストが高いという利点があるが、一方、視覚によってコントラスト及び色味変化（カラーシフト）が大きいという問題もある。この問題を解決するためには、光学補償に利用しているＣプレートの光学特性の波長分散、特に厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）の波長分散を、順分散に調整する必要がある。
【０００３】
ポリマーフィルムのＲｔｈを調整する方法の一例として、フィルム中に低分子化合物を添加する方法がある。
例えば、特許文献１及び２には、所望のレターデーションを光学フィルムに付与し得るレターデーション上昇剤として、１，３，５−トリアジン環を有する化合物が提案されている。
また、特許文献３には、Ｒｔｈの波長分散性が所定の関係式を満足するように制御されたセルロースアシレートフィルムが提案されている。
【特許文献１】欧州特許出願公開０９１１６５６Ａ２号明細書
【特許文献２】特開２００３−３４４６５５号公報
【特許文献３】特開２００６−３０９３７公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、ＶＡモードの液晶表示装置の黒表示時の理想的な光学補償には、高いＲｔｈと、しかもそのＲｔｈが順分散であることが要求され、従来のＲｔｈ調整方法ではこの要求に応えるのに十分ではない。
本発明は、液晶表示装置の光学補償に有用な、新規なポリマーフィルム、並びに該ポリマーフィルムを利用した新規な位相差板及び偏光板を提供することを課題とする。
また、本発明は、面内レターデーションＲｅの絶対値と比較して、厚み方向のレターデーションＲｔｈの絶対値が大きく、しかもそのＲｔｈの波長分散が可視光域において順分散性を示すポリマーフィルム、及び該ポリマーフィルムを有し、黒表示時の視野角に依存したカラーシフトが軽減された液晶表示装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
前記課題を解決するための手段は以下の通りである。
［１］  下記一般式（Ｉ）で表される少なくとも１種の化合物を含み、且つ下記数式（１）を満足することを特徴とするポリマーフィルム。
数式（１）Rth(550)/Re(550)>10 
（式中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍにおける面内のレターデーション値（単位：ｎｍ）、及びＲｔｈ（λ）は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。）
【化１】
2008281680.tif 000002
（式中、Ａ1及びＡ2は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子又は置換基を表。）、−Ｓ−及び−ＣＯ−からなる群から選ばれる基を表し；Ｚは、ベンゾ縮環又はナフト縮環を形成するのに必要な有機残基を表し；Ｒ1は各々独立に置換基を表し；ｍは０〜４の整数であり、Ｒ2及びＲ3は各々独立に、水素原子又はハメットの置換基定数σp値が０より大きい電子求引性の置換基を表し、Ｒ2とＲ3とが結合して環を形成してもよい。）
【０００６】
［２］  前記一般式（Ｉ）中のＲ2及びＲ3がそれぞれ、下記で表される置換基もしくは５又は６員環のヘテロ環基であることを特徴とする［１］のポリマーフィルム。
【化２】
2008281680.tif 000003
（式中、Ｒ4及びＲ5はそれぞれ、水素原子又は置換基であって、Ｒ4とＲ5とが結合して環を形成してもよい。）
【０００７】
［３］  下記数式（２）、（３）及び（４）を満たすことを特徴とする［１］又は［２］のポリマーフィルム。
数式（２）：６０≦Ｒｔｈ（５５０）≦３００
数式（３）：１．１＜Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）＜２．０
数式（４）：０．８＜Ｒｔｈ（６５０）／Ｒｔｈ（５５０）＜１．０
（式中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍにおける面内のレターデーション値（単位：ｎｍ）、及びＲｔｈ（λ）は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。）
［４］  セルロースアシレートを主成分として含むことを特徴とする［１］〜［３］のいずれかのポリマーフィルム。
［５］  ［１］〜［４］のいずれかのポリマーフィルムからなる、又は含むことを特徴とする位相差板。
［６］  偏光膜と、［１］〜［４］のいずれかの位相差板とを少なくとも有することを特徴とする偏光板。
［７］  液晶セルと、少なくとも一つの偏光子と、液晶セルと該偏光子との間に配置された［１］〜［５］のいずれかのポリマーフィルムとを少なくとも有する液晶表示装置。
［８］  液晶セルと、その両側に配置された二つの偏光子とを有する液晶表示装置であって、一方の偏光子と前記液晶セルとの間に［１］〜［５］のいずれかのポリマーフィルムを有し、他方の偏光子と液晶セルとの間に下記数式（７）〜（９）を満たす位相差フィルムを有することを特徴とする液晶表示装置。
数式（７）：  ９０ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜１２０ｎｍ
数式（８）：  １００ｎｍ＜Ｒｔｈ（５５０）＜１５０ｎｍ
数式（９）：  ΔＲｅ＞０
（式（７）及び式（８）中、式中、Ｒｅ（λ）及びＲｔｈ（λ）は波長λｎｍにおける面内のレターデーション値及び膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）であり、また式（９）中、ΔＲｅは波長６３０ｎｍ及び波長４５０ｎｍの光における膜厚方向のレターデーション値の差（Ｒｅ（６３０）−Ｒｅ（４５０））である。）
［９］  ＶＡモードであることを特徴とする［７］又は［８］の液晶表示装置。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、液晶表示装置の光学補償に有用な、新規なポリマーフィルム、並びに該ポリマーフィルムを利用した新規な位相差板及び偏光板を提供することができる。
また、本発明によれば、面内レターデーションＲｅの絶対値と比較して、厚み方向のレターデーションＲｔｈの絶対値が大きく、しかもそのＲｔｈの波長分散が可視光域において順分散性を示すポリマーフィルム、及び該ポリマーフィルムを有し、黒表示時の視野角に依存したカラーシフトが軽減された液晶表示装置を提供することができる。
【発明の実施の形態】
【０００９】
以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書では、数値について「〜」とは、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
また、本明細書において、Ｒｅ（λ）及びＲｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のレターデーション及び厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。
【００１０】
測定されるフィルムが１軸又は２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
尚、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の式（１１）及び式（１２）よりＲｔｈを算出することもできる。
【００１１】
【数１】
2008281680.tif 000004
注記：
式中、Ｒｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値をあらわす。
ｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。
【００１２】
測定されるフィルムが１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ  ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−５０度から＋５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
【００１３】
ここで平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ  ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示すると、セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）などが挙げられる。
これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨによりｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出することができる。
【００１４】
以下本発明について詳細に説明する。
［ポリマーフィルム］
本発明のポリマーフィルムは、下記数式（１）を満足する。
数式（１）：Rth(550)/Re(550)>10
本発明では、下記一般式（Ｉ）で表される化合物を添加することによって、延伸工程を経ずにポリマーフィルムを製造することで、ポリマーフィルムの面内レターデーションＲｅの絶対値と比較して、厚み方向のレターデーションＲｔｈの絶対値が大きく、しかもその波長分散性を可視光域において順分散性（短波長側で値が大きくなる性質）とすることを可能としている。本発明のポリマーフィルムのRth(550)/Re(550)は、１５以上であるのが好ましく、２０以上であるのがより好ましい。
なお、本発明のポリマーフィルムには、延伸処理を施された態様も勿論含まれるが、延伸処理を施されていない態様が好ましい。但し、製造工程において把持されつつ搬送されること等によって必然的に所定の方向に外力がかかり、その作用によって延伸される程度のものは、ここでいう延伸処理には含まれないものとする。具体的には、本発明では、延伸倍率が１０％以下（より好ましくは５％以下）の延伸フィルムは、未延伸フィルムと同様に好ましい。
【００１５】
本発明のポリマーフィルムは、ＶＡモードの液晶表示装置の黒表示時の光学補償に利用される、いわゆるＣプレートの代替として用いるのに適する。ＶＡモードの液晶表示装置の黒表示時の光学補償に用いる場合は、本発明のポリマーフィルムのＲｔｈは、下記式（２）を満足しているのが好ましい。
数式（２）：６０≦Ｒｔｈ（５５０）≦３００
さらに、ＶＡモードの液晶表示装置の黒表示時のカラーシフトをより軽減するためには、ポリマーフィルムのＲｔｈの波長分散が、下記数式（３）及び（４）を満足しているのがより好ましい。
数式（３）：１．１＜Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）＜２．０
数式（４）：０．８＜Ｒｔｈ（６５０）／Ｒｔｈ（５５０）＜１．０
本発明では、下記一般式（Ｉ）で表される化合物を添加することにより、上記数式（１）〜（４）の全てを満足するポリマーフィルムの提供を可能としている。
【００１６】
（一般的（１）で表される化合物）
本発明のポリマーフィルムは、下記一般式（Ｉ）で表される化合物の少なくとも一種を含有することを特徴とする。下記一般式（Ｉ）で表される化合物は、フィルムに添加されることにより、フィルムのＲｔｈの絶対値を上昇させるとともに、Ｒｔｈの波長分散性を順分散性とする性質を有する。
【００１７】
【化３】
2008281680.tif 000005
【００１８】
式中、Ａ1及びＡ2は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子又は置換基を表す）、−Ｓ−及び−ＣＯ−からなる群から選ばれる基を表す。Ｚは、ベンゾ縮環又はナフト縮環を形成するのに必要な有機残基を表す。Ｒ1は各々独立に置換基を表す。ｍは０〜４の整数である。Ｒ2及びＲ3は、各々独立に、水素原子又はハメットの置換基定数σp値が０より大きい電子求引性の置換基を表す。
【００１９】
一般式（Ｉ）中、Ａ1及びＡ2は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子又は置換基）、−Ｓ−及び−ＣＯ−からなる群から選ばれる基を表す。好ましくは−Ｏ−、−ＮＲ−又は−Ｓ−であり、さらに好ましくは−ＮＲ−又は−Ｓ−である。ヘテロ環を形成する（Ａ1、Ａ2）の具体的な組み合わせとしては、（Ｓ、Ｓ）、（Ｓ、ＮＲ）、（Ｏ、ＮＲ）、（ＮＲ、ＮＲ）が挙げられ、好ましくは、（Ｓ、Ｓ）、（Ｓ、ＮＲ）、（Ｏ、ＮＲ）、より好ましくは、（Ｓ、Ｓ）、（Ｓ、ＮＲ）、最も好ましくは、（Ｓ、ＮＲ）である。Ｒが表す置換基の例としては下記の置換基群から選択される置換基が挙げられる。
【００２０】
置換基群：
ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基（好ましくは炭素数１〜３０のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換又は無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基）、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換又は無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５〜３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル基）、
【００２１】
アルケニル基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルケニル基、例えば、ビニル基、アリル基）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換又は無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３〜３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル基）、ビシクロアルケニル基（置換又は無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５〜３０の置換又は無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル基）、アルキニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキニル基、例えば、エチニル基、プロパルギル基）、
【００２２】
アリール基（好ましくは炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリール基、例えばフェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基）、ヘテロ環基（好ましくは５又は６員の置換又は無置換の、芳香族又は非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、さらに好ましくは、炭素数３〜３０の５又は６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基）、
【００２３】
シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３〜２０のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のヘテロ環オキシ基、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基）、アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ基、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ基）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換又は無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基）、
【００２４】
アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアニリノ基、例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基）、アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ基）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換又は無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基）、
【００２５】
スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０〜３０の置換又は無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ基）、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールスルホニルアミノ基、例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基）、メルカプト基、アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルチオ基、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールチオ基、例えば、フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換のヘテロ環チオ基、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ基、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ基）、
【００２６】
スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜３０の置換又は無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ−（Ｎ’−フェニルカルバモイル）スルファモイル基）、スルホ基、アルキル及びアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルフィニル基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ｐ−メチルフェニルスルフィニル基）、アルキル及びアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルホニル基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニル基）、
【００２７】
アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７〜３０の置換又は無置換のアリールカルボニル基、例えば、アセチル基、ピバロイルベンゾイル基）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換又は無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル基、ｏ−クロロフェノキシカルボニル基、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル基、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシカルボニル基）、アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル基）、カルバモイル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のカルバモイル基、例えば、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基）、
【００２８】
アリール及びヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールアゾ基、炭素数３〜３０の置換又は無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ基、ｐ−クロロフェニルアゾ基、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ基）、イミド基（好ましくは、Ｎ−スクシンイミド基、Ｎ−フタルイミド基）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、メチルフェノキシホスフィノ基）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、ジエトキシホスフィニル基）、ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ基）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基）、及びシリル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換又は無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基）。
【００２９】
上記の置換基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去りさらに上記の基で置換されていてもよい。そのような官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられる。その例としては、メチルスルホニルアミノカルボニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル基、アセチルアミノスルホニル基、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。
【００３０】
Ｒは好ましくは、炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数３〜３０の置換又は無置換のシクロアルキル基、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルケニル基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリール基あるいは５又は６員の置換又は無置換の、芳香族又は非芳香族のヘテロ環基であり、より好ましくは、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数３〜２０の置換又は無置換のシクロアルキル基、炭素数２〜２０の置換又は無置換のアルケニル基であり、さらに好ましくは、炭素数１〜１５のアルキル基、炭素数３〜１５の置換又は無置換のシクロアルキル基、炭素数２〜１５の置換又は無置換のアルケニル基である。
【００３１】
一般式（Ｉ）において、Ｚは、式中記載の−Ｃ＝Ｃ−又は＝Ｃ−Ｃ＝とともにベンゾ縮環又はナフト縮環を形成する。ただし、下記の点線はＡ1又はＡ2と結合することを表す。
【００３２】
一般式（Ｉ）において、Ｒ1は置換基であり、複数存在する場合は、同一でも異なっていてもよく、環を形成してもよい。例としては上記Ｒの例があげられる。
Ｒ1は好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、シアノ基、アミノ基であり、さらに好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、シアノ基、アルコキシ基、又はアシルオキシ基であり、よりさらに好ましくは、アルコキシ基又はアシルオキシ基である。尚、上記置換基で、アルキル基を有するものはC1〜C10の鎖状であることが好ましい。Ｒ1として最も好ましくは、C1〜C10のアルキル鎖を有する、アルコキシ基又はアシルオキシ基である。
Ｒ1が複数存在し、互いに環を形成する場合、好ましくは５から８員環であり、さらに好ましくは５，６員環である。もっとも好ましくは６員環である。
【００３３】
ｍはＲ1の置換数を表し、Ｚの構造により、取り得る数は変化するが、最小は０であり、最大は４である。ｍはＲ1の置換数を表し、Ｚの構造により、取り得る数は変化するが、最小は０であり、最大は４である。mは2以下であることが好ましく、0、すなわち、式中のZは無置換のベンゼン縮環又はナフト縮環であるのがより好ましい。
【００３４】
Ｒ2及びＲ3は各々独立に置換基を表し、Ｒ2とＲ3とが結合して環を形成してもよい。例としては上記Ｒの例があげられる。Ｒ2及びＲ3は好ましくは、水素原子又はハメットの置換基定数σp値が０より大きい電子求引性の置換基であることが好ましく、水素原子又はσp値が０〜１．５の電子求引性の置換基であることがより好ましく、下記に示す置換基のいずれか、もしくは５又は６員環のヘテロ環基であることがさらに好ましい。
【００３５】
【化４】
2008281680.tif 000006
【００３６】
Ｒ4及びＲ5はそれぞれ、水素原子又は置換基であり、Ｒ4とＲ5とが結合して環を形成してもよい。例としては上記Ｒの例があげられる。
【００３７】
Ｒ4は好ましくは、炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数３〜３０の置換又は無置換のシクロアルキル基、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルケニル基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリール基あるいは５又は６員の置換又は無置換の、芳香族又は非芳香族のヘテロ環基であり、より好ましくは、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数３〜２０の置換又は無置換のシクロアルキル基、炭素数２〜２０の置換又は無置換のアルケニル基であり、さらに好ましくは、炭素数１〜１５のアルキル基、炭素数３〜１５の置換又は無置換のシクロアルキル基、炭素数２〜１５の置換又は無置換のアルケニル基である。Ｒ5は好ましくは、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数３〜１０の置換又は無置換のシクロアルキル基、炭素数２〜１０の置換又は無置換のアルケニル基、炭素数６〜１０の置換又は無置換のアリール基あるいは５又は６員の置換又は無置換の、芳香族又は非芳香族のヘテロ環基であり、より好ましくは、水素原子、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８の置換又は無置換のシクロアルキル基、炭素数２〜８の置換又は無置換のアルケニル基であり、さらに好ましくは、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数２〜４の置換又は無置換のアルケニル基である。
なお、ハメットの置換基定数のσpに関しては、例えば、稲本直樹著「ハメット則−構造と反応性−」（丸善）、日本化学会編「新実験化学講座１４  有機化合物の合成と反応Ｖ」２６０５頁（丸善）、仲谷忠雄著「理論有機化学解説」２１７頁（東京化学同人）、ケミカル  レビュー，９１巻，１６５〜１９５頁（１９９１年）等の成書に詳しく解説されている。
【００３８】
以下に、一般式（Ｉ）で表される化合物の具体例を示すが、本発明は以下の具体例によって何ら限定されることはない。下記化合物に関しては、指定のない限り括弧（  ）内の数字にて例示化合物（Ｘ）と示す。
【００３９】
【化５】
2008281680.tif 000007
【００４０】
【化６】
2008281680.tif 000008
【００４１】
【化７】
2008281680.tif 000009
【００４２】
前記一般式（Ｉ）で表される化合物の合成は、既知の方法を参照して行うことができる。例えば、例示化合物（１）は、下記スキームに従って合成することができる。
【００４３】
【化８】
2008281680.tif 000010
【００４４】
本発明に用いられる前記一般式（１）で表される化合物の分子量は、１００〜１５００であることが好ましく、２５０〜８００であることがより好ましい。
【００４５】
本発明のポリマーフィルム中における前記一般式（Ｉ）で表される化合物の含有量については特に制限はなく、所望とする光学特性に応じて決定することができる。Ｒｔｈの発現及びその波長分散性の制御のためには、一般的には、主成分として併用されるポリマーの質量に対して、０．１〜２０質量％であるのが好ましく、０．５〜１６質量％であるのがより好ましく、１〜１２質量％であるのがさらに好ましく、１〜８質量％であるのがよりさらに好ましい。
【００４６】
（ポリマー）
本発明のポリマーフィルムは、主成分としてポリマーの少なくとも１種を含有する。ポリマーの種類については特に制限はされない。フィルム成形性が良好であること等から、セルロースアシレート、ポリカーボネート、及び環状ポリオレフィンが好ましい。なお、「主成分として」とは、ポリマーフィルムの原料である組成物のうち５０質量％以上を占めていることを意味するものとする。
【００４７】
・セルロースアシレート
セルロースアシレートは、セルロース、又はセルロースを原料として生物的あるいは化学的に官能基を導入して得られるセルロース骨格を有する化合物をいう。
セルロースアシレート原料のセルロースとしては、綿花リンタや木材パルプ（広葉樹パルプ，針葉樹パルプ）などがあり、何れの原料セルロースから得られるセルロースアシレートでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。これらの原料セルロースについての詳細な記載は、例えば「プラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂」（丸澤、宇田著、日刊工業新聞社、１９７０年発行）や発明協会公開技報２００１−１７４５（７頁〜８頁）に記載のセルロースを用いることができ特に限定されるものではない。本発明に用いるセルロースアシレートの例には、セルローストリアシレート、セルロースアシレートプロピオネート等が含まれる。異なる２種類以上のセルロースアシレートを混合して用いてもよい。
【００４８】
本発明に用いるセルロースアシレートは、セルロースの水酸基をアセチル基及び炭素原子数が３以上のアシル基で置換して得られたセルロースの混合脂肪酸エステルであって、セルロースの水酸基への置換度が下記数式（ａ）及び（ｂ）を満足するセルロースアシレートであることが好ましい。
数式（ａ）：２．０≦Ａ＋Ｂ≦３．０
数式（ｂ）：０＜Ｂ
ここで、式中Ａ及びＢはセルロースの水酸基に置換されているアシル基の置換度を表し、Ａはアセチル基の置換度、またＢは炭素原子数３以上のアシル基の置換度である。
【００４９】
セルロースを構成するβ−１，４結合しているグルコース単位は、２位、３位及び６位に遊離の水酸基を有している。セルロースアシレートは、これらの水酸基の一部又は全部をアシル基によりエステル化した重合体（ポリマー）である。アシル置換度は、２位、３位及び６位のそれぞれについて、セルロースがエステル化している割合（１００％のエステル化は置換度１）を意味する。したがって、セルロースの２位、３位及び６位のすべてが１００％エステル化した場合、置換度は最大の３となる。
【００５０】
本発明に用いるセルロースアシレートの重合度は、粘度平均重合度で１８０〜７００であることが好ましく、セルロースアセテートにおいては１８０〜５５０が好ましく、１８０〜４００がより好ましく、１８０〜３５０が特に好ましい。重合度が高すぎるとセルロースアシレートのドープ溶液の粘度が高くなり、流延によりフィルム作製が困難になる。重合度が低すぎると作製したフィルムの強度が低下してしまう。平均重合度は、宇田らの極限粘度法（宇田和夫、斉藤秀夫著，「繊維学会誌」，第１８巻，第１号，１０５〜１２０頁，１９６２年）により測定できる。特開平９−９５５３８号公報に詳細に記載されている。
また、セルロースアシレートの分子量分布はゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって評価され、その多分散性指数Ｍｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）が小さく、分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜３．０であることが好ましく、１．０〜２．０であることがより好ましく、１．０〜１．６であることが特に好ましい。
【００５１】
低分子成分が除去されると、平均分子量（重合度）が高くなるが、粘度は通常のセルロースアシレートよりも低くなるため有用である。低分子成分の少ないセルロースアシレートは、通常の方法で合成したセルロースアシレートから低分子成分を除去することにより得ることができる。低分子成分の除去は、セルロースアシレートを適当な有機溶媒で洗浄することにより実施できる。なお、低分子成分の少ないセルロースアシレートを製造する場合、酢化反応における硫酸触媒量を、セルロース１００質量部に対して０．５〜２５質量部に調整することが好ましい。硫酸触媒の量を上記範囲にすると、分子量部分布の点でも好ましい（分子量分布の均一な）セルロースアシレートを合成することができる。セルロースアシレートの製造時に使用される際には、その含水率は２質量％以下であることが好ましく、さらに好ましくは１質量％以下であり、特には０．７質量％以下の含水率を有するセルロースアシレートである。一般に、セルロースアシレートは、水を含有しており２．５〜５質量％が知られている。このセルロースアシレートの含水率にするためには、乾燥することが必要であり、その方法は目的とする含水率になれば特に限定されない。これらのセルロースアシレートは、その原料綿や合成方法は発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて７頁〜１２頁に詳細に記載されている。
セルロースアシレートは置換基、置換度、重合度、分子量分布など前述した範囲であれば、単独あるいは２種類以上のセルロースアシレートを混合して用いることができる。
【００５２】
・ポリカーボネート
本発明に使用可能なポリカーボネートの例としては、下記式（Ａ）で示される繰り返し単位及び下記式（Ｂ）で示される繰り返し単位からなり、上記式（Ａ）で表される繰り返し単位が全体の８０〜３０ｍｏｌ％を占めるポリカーボネート共重合体が挙げられる。
【００５３】
【化９】
2008281680.tif 000011
【００５４】
上記式（Ａ）において、Ｒ1a〜Ｒ8aはそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子及び炭素数１〜６の炭化水素基から選ばれる。かかる炭素数１〜６の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基、シクロヘキシル基等のアルキル基、フェニル基等のアリール基が挙げられる。この中で、水素原子、メチル基が好ましい。
【００５５】
Ｘは下記式（Ｘ）であり、Ｒ9a及びＲ10aはそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子又は炭素数１〜３のアルキル基である。炭素数１〜３のアルキル基としては上記したものと同じものを挙げることができる。
【００５６】
【化１０】
2008281680.tif 000012
【００５７】
【化１１】
2008281680.tif 000013
【００５８】
上記式（Ｂ）において、Ｒ11a〜Ｒ18aはそれぞれ独立に水素原子、ハロン原子及び炭素数１〜２２の炭化水素基から選ばれる。かかる炭素数１〜２２の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基、シクロヘキシル基等の炭素数１〜９のアルキル基、フェニル基、ビフェニル基、ターフェニル基等のアリール基が挙げられる。この中で、水素原子、メチル基が好ましい。
【００５９】
Ｙは下記式群であり、Ｒ19a〜Ｒ21a、Ｒ23a及びＲ24aはそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子及び炭素数１〜２２の炭化水素基から選ばれる少なくとも１種の基である。かかる炭化水素基については、上記したものと同じものを挙げることができる。Ｒ22a及びＲ25aはそれぞれ独立に炭素数１〜２０の炭化水素基から選ばれ、かかる炭化水素基としてはメチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、シクロヘキシレン基、フェニレン基、ナフチレン基、ターフェニレン基が挙げられる。Ａｒ1〜Ａｒ3としてはフェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜１０のアリール基を挙げられる。
【００６０】
【化１２】
2008281680.tif 000014
【００６１】
上記ポリカーボネート共重合体としては、下記式（Ｃ）で示される繰り返し単位３０〜６０ｍｏｌ％、と、下記式（Ｄ）で示される繰り返し単位７０〜４０ｍｏｌ％とからなるポリカーボネート共重合体が好ましい。
【００６２】
【化１３】
2008281680.tif 000015
【００６３】
【化１４】
2008281680.tif 000016
【００６４】
さらに好ましくは上記式（Ｃ）で示される繰り返し単位４５〜５５ｍｏｌ％と上記式（Ｄ）で示される繰り返し単位５５〜４５ｍｏｌ％とからなるポリカーボネート共重合体である。
【００６５】
上記式（Ｃ）においてＲ26a及びＲ27aはそれぞれ独立に水素原子又はメチル基であり、取り扱い性の点から好ましくはメチル基である。
【００６６】
上記式（Ｄ）においてＲ28a及びＲ29aはそれぞれ独立に水素原子又はメチル基であり、経済性、フィルム特性等から水素原子が好ましい。
【００６７】
前記ポリカーボネート共重合体の中でも、上記したフルオレン骨格を有するポリカーボネート共重合体が好ましい。このフルオレン骨格を有するポリカーボネート共重合体としては、例えば、上記式（Ａ）で表わされる繰り返し単位と上記式（Ｂ）で表わされる繰り返し単位とからなる異なる組成比のポリカーボネート共重合体のブレンド体が好ましく、上記式（Ａ）の含有率はポリカーボネート共重合体全体の８０〜３０ｍｏｌ％が好ましく、より好ましくは７５〜３５ｍｏｌ％であり、さらに好ましくは７０〜４０ｍｏｌ％である。
【００６８】
上記共重合体は、上記式（Ａ）及び（Ｂ）で表わされる繰り返し単位をそれぞれ２種類以上組み合わせたものでもよい。
【００６９】
ここで上記モル比は、ポリマーフィルムを構成するポリカーボネートバルク全体に対するモル比で、例えば核磁気共鳴（ＮＭＲ）装置により求めることができる。
【００７０】
上記したポリカーボネート共重合体は公知の方法によって製造し得る。ポリカーボネートはジヒドロキシ化合物とホスゲンとの重縮合による方法、溶融重縮合法等が好適に用いられる。
【００７１】
上記ポリカーボネート共重合体の極限粘度は０．３〜２．０ｄｌ／ｇであることが好ましい。０．３未満では脆くなり機械的強度が保てないといった問題があり、２．０を超えると溶液粘度が上がりすぎるため溶液製膜においてダイラインの発生等の問題や、重合終了時の精製が困難になるといった問題がある。
【００７２】
また、本発明のポリマーフィルムの製造には、前記ポリカーボネート共重合体と、その他の高分子化合物との組成物（ブレンド体）を用いてもよい。この場合、該高分子化合物としては、光学的に透明である必要があることから前記ポリカーボネート共重合体と相溶できるもの、又は、各々の高分子の屈折率が略等しいことが好ましい。その他の高分子の具体例としては、スチレン−マレイン酸無水物コポリマーなどが挙げられ、ポリカーボネート共重合体と高分子化合物との組成比は、ポリカーボネート共重合体８０〜３０質量％、高分子化合物体２０〜７０質量％、好ましくはポリカーボネート共重合体８０〜４０質量％、高分子化合物体２０〜６０質量％である。ブレンド体の場合も、上記ポリカーボネート共重合体の繰り返し単位はそれぞれ２種類以上組み合わせてもよい。またブレンド体の場合、相溶性ブレンドが好ましいが、完全に相溶しなくても成分間の屈折率を合わせれば成分間の光散乱を抑え、透明性を向上させることが可能である。なお、ブレンド体は、３種類以上の材料を組合わせてもよく、複数種類のポリカーボネート共重合体とその他の高分子化合物とを組合わせることができる。
ポリカーボネート共重合体の質量平均分子量は、１，０００〜１，０００，０００、好ましくは５，０００〜５００，０００である。その他の高分子化合物の質量平均分子量は、５００〜１００，０００、好ましくは１，０００〜５０，０００である。
【００７３】
・環状ポリオレフィン
本発明のポリマーフィルムの製造には、環状オレフィン構造を有する重合体樹脂（以下、「環状ポリオレフィン系樹脂」あるいは「環状ポリオレフィン」ともいう）を用いてもよい。この例には、（１）ノルボルネン系重合体、（２）単環の環状オレフィンの重合体、（３）環状共役ジエンの重合体、（４）ビニル脂環式炭化水素重合体、及び（１）〜（４）の水素化物などがある。前記環状ポリオレフィンの好ましい例としては、下記一般式（Ｖ）で表される繰り返し単位を少なくとも１種以上含む付加（共）重合体環状ポリオレフィン、及び必要に応じて下記一般式（ＶＩ）で表される繰り返し単位の少なくとも１種以上を更に含んでなる付加（共）重合体環状ポリオレフィンである。また、一般式（ＶＩＩ）で表される環状繰り返し単位を少なくとも１種含む付加（共）重合体（開環（共）重合体も含む）も好適に使用することができる。また、一般式（ＶＩＩ）で表される繰り返し単位を少なくとも一種に、必要に応じて一般式（ＶＩ）で表される繰り返し単位の少なくとも１種以上を更に含んでなる付加（共）重合体環状ポリオレフィンも好ましく使用することができる。
【００７４】
【化１５】
2008281680.tif 000017
【００７５】
【化１６】
2008281680.tif 000018
【００７６】
【化１７】
2008281680.tif 000019
【００７７】
式中、ｍは０〜４の整数を表す。Ｒ1〜Ｒ6は水素原子又は炭素数１〜１０の炭化水素基、Ｘ1〜Ｘ3及びＹ1〜Ｙ3は、水素原子、炭素数１〜１０の炭化水素基、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換された炭素数１〜１０の炭化水素基、−（ＣＨ2）nＣＯＯＲ11、−（ＣＨ2）nＯＣＯＲ12、−（ＣＨ2）nＮＣＯ、−（ＣＨ2）nＮＯ2、−（ＣＨ2）nＣＮ、−（ＣＨ2）nＣＯＮＲ13Ｒ14、−（ＣＨ2）nＮＲ13Ｒ14、−（ＣＨ2）nＯＺ、−（ＣＨ2）nＷ、又はＸ1とＹ1、Ｘ2とＹ2あるいはＸ3とＹ3から構成された（−ＣＯ）2Ｏ、（−ＣＯ）2ＮＲ15を示す。なお、Ｒ11，Ｒ12，Ｒ13，Ｒ14，Ｒ15は水素原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、Ｚは炭化水素基又はハロゲンで置換された炭化水素基、ＷはＳｉＲ16pＤ3-p（Ｒ16は炭素数１〜１０の炭化水素基、Ｄはハロゲン原子−ＯＣＯＲ16又は−ＯＲ16、ｐは０〜３の整数を示す）、ｎは０〜１０の整数を示す。
【００７８】
Ｘ1〜Ｘ3、Ｙ1〜Ｙ3の置換基に分極性の大きい官能基を導入することにより、光学フィルムの厚さ方向レターデーション（Ｒｔｈ）をより大きくすることができる。ノルボルネン系付加（共）重合体は、特開平１０−７７３２号、特表２００２−５０４１８４号、ＵＳ２００４２２９１５７Ａ１号あるいはＷＯ２００４／０７０４６３Ａ１号等の各公報に開示されている。ノルボルネン系多環状不飽和化合物同士を付加重合する事によって得られる。また、必要に応じ、ノルボルネン系多環状不飽和化合物と、エチレン、プロピレン、ブテン、ブタジエン、イソプレンのような共役ジエン；エチリデンノルボルネンのような非共役ジエン；アクリロニトリル、アクリル酸、メタアクリル酸、無水マレイン酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、マレイミド、酢酸ビニル、塩化ビニルなどの線状ジエン化合物とを付加重合することもできる。このノルボルネン系付加（共）重合体は、三井化学（株）よりアペルの商品名で発売されており、ガラス転移温度（Ｔｇ）の異なる例えばＡＰＬ８００８Ｔ（Ｔｇ７０℃）、ＡＰＬ６０１３Ｔ（Ｔｇ１２５℃）あるいはＡＰＬ６０１５Ｔ（Ｔｇ１４５℃）などのグレードがある。ポリプラスチック（株）よりＴＯＰＡＳ８００７、同６０１３、同６０１５などの商品名でペレットが発売されている。更に、Ｆｅｒｒａｎｉａ社よりＡｐｐｅａｒ３０００が発売されている。
【００７９】
ノルボルネン系重合体水素化物は、特開平１−２４０５１７号、特開平７−１９６７３６号、特開昭６０−２６０２４号、特開昭６２−１９８０１号、特開２００３―１５９７６７号、特開２００４―３０９９７９号等の各公報に開示されているように、多環状不飽和化合物を付加重合あるいはメタセシス開環重合したのち水素添加することにより作られる。本発明に用いるノルボルネン系重合体において、Ｒ2〜Ｒ6は水素原子又は−ＣＨ3が好ましく、Ｘ3及びＹ3は水素原子、Ｃｌ、−ＣＯＯＣＨ3が好ましく、その他の基は適宜選択される。このノルボルネン系樹脂は、ＪＳＲ（株）からアートン（Ａｒｔｏｎ）ＧあるいはアートンＦという商品名で発売されており、また日本ゼオン（株）からゼオノア（Ｚｅｏｎｏｒ）ＺＦ１４、ＺＦ１６、ゼオネックス（Ｚｅｏｎｅｘ）２５０あるいはゼオネックス２８０という商品名で市販されており、これらを使用することができる。
【００８０】
（他の添加剤）
本発明のポリマーフィルムには、所望により、他の添加剤を添加してもよい。添加剤の例には、紫外線防止剤、可塑剤、劣化防止剤、微粒子、光学特性調整剤などが含まれる。添加剤は、固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点や沸点において特に限定されるものではない。例えば２０℃以下と２０℃以上の紫外線吸収剤を混合して用いたり、同様に可塑剤を混合して用いたりすることができ、例えば特開２００１−１５１９０１号公報などに記載されている。
【００８１】
・紫外線吸収剤
紫外線吸収剤としては、目的に応じ任意の種類のものを選択することができ、サリチル酸エステル系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾエート系、シアノアクリレート系、ニッケル錯塩系等の吸収剤を用いることができ、好ましくはベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸エステル系である。
【００８２】
ベンゾフェノン系紫外線吸収剤の例として、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−アセトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジ−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジ−ヒドロキシ−４，４’−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−メタクリロキシ）プロポキシベンゾフェノン等を挙げることができる。
【００８３】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール等を挙げることができる。
【００８４】
サリチル酸エステル系としては、フェニルサリシレート、ｐ−オクチルフェニルサリシレート、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルサリシレート等を挙げることができる。
【００８５】
これら例示した紫外線吸収剤の中でも、特に２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジ−ヒドロキシ−４，４’−メトキシベンゾフェノン、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾールが特に好ましい。
【００８６】
紫外線吸収剤は、吸収波長の異なる複数の吸収剤を複合して用いることが、広い波長範囲で高い遮断効果を得ることができるので好ましい。液晶用紫外線吸収剤は、液晶の劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、且つ、液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。特に好ましい紫外線吸収剤は、先に上げたベンゾトリアゾール系化合物やベンゾフェノン系化合物、サリチル酸エステル系化合物である。中でも、ポリマーとしてセルロースアシレートを用いる場合は、ベンゾトリアゾール系化合物は、セルロースアシレートに対する不用な着色が少ないことから、好ましい。
【００８７】
また、紫外線吸収剤については、特開昭６０−２３５８５２号、特開平３−１９９２０１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号、同６−１１８２３３号、同６−１４８４３０号、同７−１１０５６号、同７−１１０５５号、同７−１１０５６号、同８−２９６１９号、同８−２３９５０９号、特開２０００−２０４１７３号の各公報に記載の化合物も用いることができる。
【００８８】
紫外線吸収剤の添加量は、主成分であるポリマーに対し０．００１〜５質量％が好ましく、０．０１〜１質量％がより好ましい。添加量が０．００１質量％以上であれば添加効果が十分に発揮されうるので好ましく、添加量が５質量％以下であればフィルム表面への紫外線吸収剤のブリードアウトを抑制できるので好ましい。
【００８９】
また紫外線吸収剤は、ポリマー溶解時に同時に添加してもよいし、溶解後のドープに添加してもよい。特にスタティックミキサ等を用い、流延直前にドープに紫外線吸収剤溶液を添加する形態が、分光吸収特性を容易に調整することができるので好ましい。
【００９０】
・劣化防止剤
劣化防止剤は、セルローストリアセテート等のポリマーが劣化、分解するのを防止することができる。劣化防止剤としては、ブチルアミン、ヒンダードアミン化合物（特開平８−３２５５３７号公報）、グアニジン化合物（特開平５−２７１４７１号公報）、ベンゾトリアゾール系ＵＶ吸収剤（特開平６−２３５８１９号公報）、ベンゾフェノン系ＵＶ吸収剤（特開平６−１１８２３３号公報）などの化合物が挙げられる。
【００９１】
・可塑剤
可塑剤としては、リン酸エステル、カルボン酸エステルであることが好ましい。リン酸エステル系可塑剤としては、例えばトリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）、トリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ビフェニルジフェニルホスフェート（ＢＤＰ）、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等；カルボン酸エステル系可塑剤としては、例えばジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）、ジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）、Ｏ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴＢ）、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、トリアセチン、トリブチリン、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等を挙げることができ、可塑剤はこれら例示の可塑剤から選ばれたものであることがより好ましい。さらに、前記可塑剤が、（ジ）ペンタエリスリトールエステル類、グリセロールエステル類、ジグリセロールエステル類であることが好ましい。
【００９２】
・剥離促進剤
剥離促進剤としては、クエン酸のエチルエステル類が例として挙げられる。
・赤外吸収剤
さらに赤外吸収剤としては例えば特開２００１−１９４５２２号公報に記載されているものが挙げられる。
・染料
また、色相調整のための染料を添加してもよい。染料の含有量は、セルロースアシレート等のポリマーに対する質量割合で１０〜１０００ｐｐｍが好ましく、５０〜５００ｐｐｍが更に好ましい。この様に染料を含有させることにより、セルロースアシレートフィルム等の本発明のポリマーフィルムのライトパイピングが減少でき、黄色味を改良することができる。これらの化合物は、ポリマー溶液の調製の際に、ポリマーや溶媒と共に添加してもよいし、溶液調製中や調製後に添加してもよい。またインライン添加する紫外線吸収剤液に添加してもよい。特開平５−３４８５８号公報に記載の染料を用いることができる。
【００９３】
・マット剤微粒子
本発明のポリマーフィルムには、マット剤として微粒子を添加してもよい。添加可能な微粒子としては、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子はケイ素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化ケイ素が好ましい。二酸化ケイ素の微粒子は、１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上であるものが好ましい。１次粒子の平均径が５〜１６ｎｍと小さいものがフィルムのヘイズを下げることができより好ましい。見かけ比重は９０〜２００ｇ／リットル以上が好ましく、１００〜２００ｇ／リットル以上がさらに好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。
【００９４】
これらの微粒子は、通常平均粒子径が０．１〜３．０μｍの２次粒子を形成し、これらの微粒子はフィルム中では、１次粒子の凝集体として存在し、フィルム表面に０．１〜３．０μｍの凹凸を形成させることができる。２次平均粒子径は０．２μｍ以上１．５μｍ以下が好ましく、０．４μｍ以上１．２μｍ以下がさらに好ましく、０．６μｍ以上１．１μｍ以下が最も好ましい。なお１次、２次粒子径はフィルム中の粒子を走査型電子顕微鏡で観察し、粒子に外接する円の直径をもって粒径とした。また、場所を変えて粒子２００個を観察し、その平均値をもって平均粒子径としてもよい。
【００９５】
二酸化ケイ素の微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上、いずれも商品名、日本アエロジル（株）社製）などの市販品を使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上、いずれも商品名、日本アエロジル（株）社製）の商品名で市販されており、使用することができる。
【００９６】
これらの中でアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖが、１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上である二酸化ケイ素の微粒子であり、光学フィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数をさげる効果が大きいため特に好ましい。
【００９７】
２次平均粒子径の小さな粒子を有するポリマーフィルムを得るために、微粒子の分散液を調製する際にいくつかの手法が考えられる。例えば、溶剤と微粒子を撹拌混合した微粒子分散液をあらかじめ作成し、この微粒子分散液を別途用意した少量のポリマー溶液に加えて撹拌溶解し、さらにメインのポリマードープ液と混合する方法がある。この方法は二酸化ケイ素微粒子の分散性がよく、二酸化ケイ素微粒子が更に再凝集しにくい点で好ましい調製方法である。他にも、溶剤に少量のポリマーを加え、撹拌溶解した後、これに微粒子を加えて分散機で分散を行いこれを微粒子添加液とし、この微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合する方法もある。本発明はこれらの方法に限定されないが、二酸化ケイ素微粒子を溶剤などと混合して分散するときの二酸化ケイ素の濃度は５〜３０質量％が好ましく、１０〜２５質量％が更に好ましく、１５〜２０質量％が最も好ましい。分散濃度が高い方が添加量に対する液濁度は低くなり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。最終的なポリマーのドープ溶液中でのマット剤の添加量は１ｍ2あたり０．０１〜１．０ｇが好ましく、０．０３〜０．３ｇが更に好ましく、０．０８〜０．１６ｇがよりさらに好ましい。
使用される溶剤は低級アルコール類としては、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等が挙げられる。低級アルコール以外の溶媒としては特に限定されないが、ポリマーフィルムの製膜時に用いられるドープ等の調製に用いられる溶剤が好ましい。
【００９８】
添加剤の添加量については特に制限されず、本発明の効果を損なわない範囲であればよい。ポリマーとしてセルロースアシレートを用いる場合は、分子量が３０００以下の化合物の総量は、セルロースアシレート重量に対して５〜４５％であることが好ましい。より好ましくは１０〜４０％であり、さらに好ましくは１５〜３０％である。これらの化合物としては、前記一般式（Ｉ）で表される化合物、紫外線防止剤、可塑剤、劣化防止剤、微粒子、剥離剤、赤外吸収剤などであり、分子量としては３０００以下が好ましく、２０００以下がより好ましい。これら化合物の総量が５％以下であると、セルロースアシレート単体の性質が出やすくなり、例えば、温度や湿度の変化に対して光学性能や物理的強度が変動しやすくなるなどの問題がある。またこれら化合物の総量が４５％以上であると、セルロースアシレートフィルム中に化合物が相溶する限界を超え、フィルム表面に析出してフィルムが白濁（フィルムからの泣き出し）しやすくなる。
【００９９】
（ポリマーフィルムの製造方法）
本発明のポリマーフィルムは、前記ポリマーと、前記一般式（Ｉ）で表される化合物と、所望により添加される他の添加剤と、を含有するポリマー組成物を、フィルム状に成形することで製造できる。本発明のポリマーフィルムは、ソルベントキャスト法を利用して製造してもよい。ソルベントキャスト法では、セルロースアシレート等のポリマーを有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフィルムを製造する。主溶媒として好ましく用いられる有機溶媒は、炭素原子数が３〜１２のエステル、ケトン、エーテル、及び炭素原子数が１〜７のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒が好ましい。ハロゲン化炭化水素のハロゲンは、塩素であることが好ましい。ハロゲン化炭化水素の水素原子が、ハロゲンに置換されている割合は、２５〜７５モル％であることが好ましく、３０〜７０モル％であることがより好ましく、３５〜６５モル％であることがさらに好ましく、４０〜６０モル％であることがよりさらに好ましい。ジクロロメタンが特に好ましい主溶媒である。エステル、ケトン及び、エーテルは、環状構造を有していてもよい。エステル、ケトン及びエーテルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−及び−ＣＯＯ−）のいずれかを二つ以上有する化合物も、主溶媒として用いることができ、例えば、アルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。二種類以上の官能基を有する主溶媒の場合、その炭素原子数はいずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。ハロゲン系溶媒７５〜８９質量部に対してアルコール系溶媒１１〜２５質量部の混合溶媒が好ましい。アルコールは一価であることが好ましい。アルコールの炭化水素部分は、直鎖であっても、分岐を有していても、環状であってもよい。炭化水素部分は、飽和脂肪族炭化水素であることが好ましい。メタノールが特に好ましい。
【０１００】
ポリマーとしてセルロースアシレートを用いる場合は、塩素系のハロゲン化炭化水素を主溶媒としてもよいし、発明協会公開技報２００１−１７４５（１２頁〜１６頁）に記載されているように、非塩素系溶媒を主溶媒としてもよく特に限定されるものではない。
【０１０１】
その他、溶媒は、その溶解方法も含め以下の特許文献に開示されており、例えば、特開２０００−９５８７６号、特開平１２−９５８７７号、特開平１０−３２４７７４号、特開平８−１５２５１４号、特開平１０−３３０５３８号、特開平９−９５５３８号、特開平９−９５５５７号、特開平１０−２３５６６４号、特開平１２−６３５３４号、特開平１１−２１３７９号、特開平１０−１８２８５３号、特開平１０−２７８０５６号、特開平１０−２７９７０２号、特開平１０−３２３８５３号、特開平１０−２３７１８６号、特開平１１−６０８０７号、特開平１１−１５２３４２号、特開平１１−２９２９８８号、特開平１１−６０７５２号、特開平１１−６０７５２号などの各公報に記載されているものが挙げられる。これらの特許文献は、溶液物性や共存させる共存物質についても記載しており参考にすることができる。
【０１０２】
以下、セルロースアシレートフィルムの製造方法を例として、ソルベントキャスト法により本発明のポリマーフィルムを製造する方法を具体的に説明するが、下記の方法に限定されるものではない。
・溶解工程
セルロースアシレート溶液（ドープ）の調製は、その溶解方法は特に限定されず、室温でもよくさらには冷却溶解法あるいは高温溶解方法、さらにはこれらの組み合わせで実施される。セルロースアシレート溶液の調製、さらには溶解工程に伴う溶液濃縮、ろ過の各工程に関しては、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて２２頁〜２５頁に詳細に記載されている製造工程が好ましく用いられる。
【０１０３】
セルロースアシレート溶液のドープ透明度としては８５％以上であることが好ましい。より好ましくは８８％以上であり、さらに好ましくは９０％以上である。セルロースアシレートドープ溶液に各種の添加剤が十分に溶解していることを確認することができる。具体的なドープ透明度の算出方法としては、ドープ溶液を１ｃｍ角のガラスセルに注入し、分光光度計（ＵＶ−３１５０、商品名、島津製作所社製）で５５０ｎｍの吸光度を測定することができ、溶媒のみをあらかじめブランクとして測定しておき、ブランクの吸光度との比からセルロースアシレート溶液の透明度を算出することができる。
【０１０４】
・流延、乾燥、巻き取り工程
次に、調製したドープを、流延製膜する。従来セルローストリアセテートフィルム製造に供する溶液流延製膜方法及び溶液流延製膜装置を利用することができる。
具体的には、溶解機（釜）から調製されたドープ（セルロースアシレート溶液）を貯蔵釜で一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調製をする。ドープをドープ排出口から、例えば回転数によって高精度に定量送液できる加圧型定量ギヤポンプを通して加圧型ダイに送り、ドープを加圧型ダイの口金（スリット）からエンドレスに走行している流延部の金属支持体の上に均一に流延され、金属支持体がほぼ一周した剥離点で、生乾きのドープ膜（ウェブとも呼ぶ）を金属支持体から剥離する。得られるウェブの両端をクリップで挟み、幅保持しながらテンターで搬送して乾燥し、続いて得られたフィルムを乾燥装置のロール群で機械的に搬送し乾燥を終了して巻き取り機でロール状に所定の長さに巻き取る。テンターとロール群の乾燥装置との組み合わせはその目的により変わる。セルロースアシレートフィルムの主な用途である、電子ディスプレイ用の光学部材である機能性保護膜やハロゲン化銀写真感光材料に用いる溶液流延製膜方法においては、溶液流延製膜装置の他に、下引層、帯電防止層、ハレーション防止層、保護層等のフィルムへの表面加工のために、塗布装置が付加されることが多い。これらについては、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて２５頁〜３０頁に詳細に記載されており、流延（共流延を含む）、金属支持体、乾燥、剥離などに分類され好ましく用いることができる。
【０１０５】
乾燥後得られるセルロースアシレートフィルム等のポリマーフィルムの膜厚は、使用目的によって異なり、通常、５〜５００μｍの範囲であることが好ましく、更に２０〜３００μｍの範囲が好ましく、特に３０〜１５０μｍの範囲が好ましい。また、光学用、特にＶＡ液晶表示装置用としては、４０〜１１０μｍであることが好ましい。フィルム厚さの調整は、所望の厚さになるように、ドープ中に含まれる固形分濃度、ダイの口金のスリット間隙、ダイからの押し出し圧力、金属支持体速度等を調節すればよい。
【０１０６】
以上のようにして得られる、セルロースアシレートフィルム等のポリマーフィルムの幅は０．５〜３ｍが好ましく、より好ましくは０．６〜２．５ｍ、さらに好ましくは０．８〜２．２ｍである。長さは、１ロール当たり１００〜１００００ｍで巻き取るのが好ましく、より好ましくは５００〜７０００ｍであり、さらに好ましくは１０００〜６０００ｍである。巻き取る際、少なくとも片端にナーリングを付与するのが好ましく、ナーリングの幅は３ｍｍ〜５０ｍｍが好ましく、より好ましくは５ｍｍ〜３０ｍｍ、高さは０．５〜５００μｍが好ましく、より好ましくは１〜２００μｍである。これは片押しであっても両押しであってもよい。
【０１０７】
フィルムの幅方向のＲｅ値のばらつきは、±５ｎｍであることが好ましく、±３ｎｍであることが更に好ましい。また幅方向のＲｔｈ値のバラツキは±１０ｎｍが好ましく、±５ｎｍであることが更に好ましい。また、長さ方向のＲｅ値、及びＲｔｈ値のバラツキも、幅方向のバラツキの範囲内であることが好ましい。
【０１０８】
製造されたポリマーフィルムには、所望により、表面処理を施してもよい。表面処理を行うと、各機能層（例えば、下塗層、バック層、偏光層等）との接着の向上を達成することができる。例えばグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸又はアルカリ処理を利用することができる。ここでいうグロー放電処理とは、１０-3〜２０Ｔｏｒｒの低圧ガス下でおこる低温プラズマでもよく、更にまた大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。プラズマ励起性気体とは上記のような条件においてプラズマ励起される気体をいい、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類及びそれらの混合物などがあげられる。これらについては、詳細が発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて３０頁〜３２頁に詳細に記載されており、本発明において好ましく用いることができる。
【０１０９】
アルカリ鹸化処理は、ポリマーフィルムを鹸化液の槽に直接浸漬する方法、又は鹸化液をポリマーフィルムに塗布する方法により実施することが好ましい。塗布方法としては、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、バーコーティング法及びＥ型塗布法を挙げることができる。アルカリ鹸化処理塗布液の溶媒は、鹸化液をセルロースアシレートフィルムに対して塗布するために、濡れ性がよく、また鹸化液溶媒によってポリマーフィルム表面に凹凸を形成させずに、面状を良好なまま保つ溶媒を選択することが好ましい。具体的には、アルコール系溶媒が好ましく、イソプロピルアルコールが特に好ましい。また、界面活性剤の水溶液を溶媒として使用することもできる。アルカリ鹸化塗布液のアルカリは、上記溶媒に溶解するアルカリが好ましく、ＫＯＨ、ＮａＯＨがさらに好ましい。鹸化塗布液のｐＨは１０以上が好ましく、１２以上がさらに好ましい。アルカリ鹸化時の反応条件は、室温で１秒以上５分以下が好ましく、５秒以上５分以下がさらに好ましく、２０秒以上３分以下が特に好ましい。アルカリ鹸化反応後、鹸化液塗布面を水洗あるいは酸で洗浄したあと水洗することが好ましい。
【０１１０】
本発明のポリマーフィルムには、様々な用途がある。中でも、液晶表示装置の光学補償フィルムとして用いると特に効果がある。なお、光学補償フィルムとは、一般に液晶表示装置に用いられ、位相差を補償する光学材料のことを指し、位相差板、光学補償シートなどと同義である。光学補償フィルムは複屈折性を有し、液晶表示装置の表示画面の着色を取り除いたり、視野角特性を改善したりする目的で用いられる。
本発明のポリマーフィルムは、単独で位相差板として、種々のモードの液晶表示装置の光学補償に利用することができる。また、他の複屈折性ポリマーフィルム、液晶組成物からなる光学異方性層等との積層体として、同様に利用することができる。また、偏光膜の保護フィルムとして利用し、楕円偏光板として、液晶表示装置に用いることもできる。その他、用途に応じて、例えば、帯電防止層、硬化樹脂層（透明ハードコート層）、反射防止層、易接着層、防眩層、光学補償層、配向層、液晶層などの機能層と積層してもよい。これらの機能層及びその材料としては、界面活性剤、滑り剤、マット剤、帯電防止層、ハードコート層などが挙げられ、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて３２頁〜４５頁に詳細に記載されており好ましく用いることができる。
【０１１１】
［偏光板］
本発明はまた、本発明のポリマーフィルムと、偏光膜（偏光子）とを少なくとも有する偏光板にも関する。本発明のポリマーフィルムは、偏光膜の保護フィルムであってもよい。偏光膜に保護フィルムとして貼り合せる場合は、ポリマーフィルムの表面をアルカリ処理するのが好ましい。アルカリ処理の代わりに特開平６−９４９１５号、特開平６−１１８２３２号に記載されているような易接着加工を施してもよい。
偏光膜については特に制限されず、一般的な偏光膜、例えば、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜などを用いることができる。
【０１１２】
本発明のポリマーフィルムの表面処理面と、偏光膜とを貼り合わせるのに使用される接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックス等が挙げられる。
【０１１３】
偏光板は、一般的には、偏光膜及びその両面を保護する保護フィルムで構成されている。本発明のポリマーフィルムを偏光膜の両面の保護フィルムとして用いてもよいし、一方の保護フィルムとして用いてもよい。本発明のポリマーフィルムを偏光膜の一方の保護フィルムとして有する偏光板を、液晶セルに貼り合せる際は、本発明のポリマーフィルムが、液晶セル側になる様に貼り合せるのが好ましい。偏光膜の他方の表面に貼り合せる保護フィルムについては特に制限されず、セルロースアシレートフィルム等、種々のポリマーフィルムを用いることができる。偏光板には、さらに、偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護するためのプロテクトフィルムやセパレートフィルムが貼合されていてもよい。また、液晶表示装置の表示側最表面の偏光板である場合は、さらに、透明ハードコート層、防眩層、反射防止層等が貼合されていてもよい。
【０１１４】
［液晶表示装置］
本発明はまた、本発明のポリマーフィルム及び／又は本発明の偏光板を有する液晶表示装置に関する。
本発明のポリマーフィルムを光学補償フィルムとして用いる場合、偏光子の透過軸と、本発明のポリマーフィルムからなる光学補償フィルムの遅相軸との角度は、光学補償の対象となる液晶セルの表示モードに応じて決定される。
液晶表示装置は、例えば、二枚の電極基板の間に液晶を担持してなる液晶セル、その両側に配置された二枚の偏光素子、及び該液晶セルと該偏光素子との間に少なくとも一枚の光学補償フィルムを配置した構成を有している。
液晶セルの液晶層は、例えば、二枚の基板の間にスペーサーを挟み込んで形成した空間に液晶を封入して形成することができる。透明電極層は、例えば、導電性物質を含む透明な膜として基板上に形成することができる。液晶セルには、例えば、さらにガスバリアー層、ハードコート層あるいは（透明電極層の接着に用いる）アンダーコート層（下塗り層）を設けてもよい。これらの層は、基板上に設けることができる。液晶セルの基板は、一般に５０μｍ〜２ｍｍの厚さにすることが好ましい。
【０１１５】
本発明の液晶表示装置の表示モードについては特に制限はない。ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＡＦＬＣ（Ａｎｔｉ−ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）、及びＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）のいずれであってもよい。また、上記表示モードを配向分割した表示モードを利用したものであってもよい。また、透過型、反射型、半透過型のいずれの液晶表示装置のいずれの態様であってもよい。
【０１１６】
本発明の液晶表示装置の一例の構成を示す模式図を図１に示す。図１の液晶表示装置は、一対の偏光子１１、１２の間に液晶セル１３を有し、偏光子１１と液晶セル１３との間に本発明のポリマーフィルムである第１の光学異方性層１４、及び偏光子１２と液晶セルとの間に第２の光学異方性層１５を有する。第１及び第２の光学異方性層１４、１５はそれぞれ、偏光子１１、１２の保護フィルムとしても利用されていてもよい。液晶セル１３が、ＶＡモードの液晶セルである場合は、第１の光学異方性層１４は、上記数式（１）〜（４）の全てを満足し、且つ第２の光学異方性層は、下記式（７）〜（９）の全てを満足しているのが好ましい。
９０ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜１２０ｎｍ              ・・・式（７）
１００ｎｍ＜Ｒｔｈ（５５０）＜１５０ｎｍ          ・・・式（８）
ΔＲｅ＞０              ・・・式（９）
式（９）中、ΔＲｅは波長６３０ｎｍ及び波長４５０ｎｍの光における膜厚方向のレターデーション値の差（Ｒｅ（６３０）−Ｒｅ（４５０））である。
上記式を満足する保護フィルムを配置することで、黒表示時に斜め方向（例えば、図１中の矢印の方向）から観測した場合に生じるカラーシフトをより軽減することができる。
【０１１７】
本発明の液晶表示装置の表示モードとして特に制限はないが、例えば下記のような表示モードの液晶表示装置を採用することができる。
（ＴＮ型液晶表示装置）
ＴＮモードの液晶セルとＴＮ型液晶表示装置については、古くからよく知られている。ＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開平３−９３２５号、特開平６−１４８４２９号、特開平８−５０２０６号、特開平９−２６５７２号の各公報に記載がある。また、モリ（Ｍｏｒｉ）他の論文（Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｖｏｌ．３６（１９９７）ｐ．１４３や、Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｖｏｌ．３６（１９９７）ｐ．１０６８）に記載がある。
【０１１８】
（ＳＴＮ型液晶表示装置）
一般的にＳＴＮ型液晶表示装置では、液晶セル中の棒状液晶性分子が９０〜３６０度の範囲にねじられており、棒状液晶性分子の屈折率異方性（Δｎ）とセルギャップ（ｄ）との積（Δｎｄ）が３００〜１５００ｎｍの範囲にある。ＳＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開２０００−１０５３１６号公報に記載がある。
【０１１９】
（ＶＡ型液晶表示装置）
本発明の液晶表示装置の表示モードとしてはＶＡモードが特に好ましい。
ＶＡモードの液晶表示装置は、例えば特開平１０−１２３５７６号公報に記載されているような配向分割された方式を利用したものであってもよい。
【０１２０】
（ＩＰＳ型液晶表示装置及びＥＣＢ型液晶表示装置）
本発明のポリマーフィルムは、ＩＰＳモード及びＥＣＢモードの液晶セルを有するＩＰＳ型液晶表示装置及びＥＣＢ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体、又は偏光板の保護膜としても特に有利に用いることができる。これらのモードは黒表示時に液晶材料が略平行に配向する態様であり、電圧無印加状態で液晶分子を基板面に対して平行配向させて、黒表示する。これらの態様において本発明のポリマーフィルムを用いた偏光板は色味の改善、視野角拡大、コントラストの良化に寄与する。この態様においては、液晶セルの上下の前記偏光板の保護膜のうち、液晶セルと偏光板との間に配置された保護膜（セル側の保護膜）に本発明のポリマーフィルムを用いた偏光板を少なくとも片側一方に用いることが好ましい。更に好ましくは、偏光板の保護膜と液晶セルの間に光学異方性層を配置し、配置された光学異方性層のレターデーションの値を、液晶層のΔｎ・ｄの値の２倍以下に設定するのが好ましい。
【０１２１】
（ＯＣＢ型液晶表示装置及びＨＡＮ型液晶表示装置）
本発明のポリマーフィルムは、ＯＣＢモードの液晶セルを有するＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮモードの液晶セルを有するＨＡＮ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体としても有利に用いられる。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートには、レターデーションの絶対値が最小となる方向が光学補償シートの面内にも法線方向にも存在しないことが好ましい。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートの光学的性質も、光学的異方性層の光学的性質、支持体の光学的性質及び光学的異方性層と支持体との配置により決定される。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開平９−１９７３９７号公報に記載がある。また、モリ（Ｍｏｒｉ）他の論文（Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｖｏｌ．３８（１９９９）ｐ．２８３７）に記載がある。
【０１２２】
（反射型液晶表示装置）
本発明のポリマーフィルムは、ＴＮ型、ＳＴＮ型、ＨＡＮ型、ＧＨ（Ｇｕｅｓｔ−Ｈｏｓｔ）型の反射型液晶表示装置の光学補償シートとしても有利に用いることができる。これらの表示モードは古くからよく知られている。ＴＮ型反射型液晶表示装置については、特開平１０−１２３４７８号、ＷＯ９８／４８３２０号、特許第３０２２４７７号の各公報に記載がある。反射型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、ＷＯ００／６５３８４号に記載がある。
【０１２３】
（その他の液晶表示装置）
本発明のポリマーフィルムは、ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ  Ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）モードの液晶セルを有するＡＳＭ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体としても有利に用いることができる。ＡＳＭモードの液晶セルは、セルの厚さが位置調整可能な樹脂スペーサーにより維持されているとの特徴がある。その他の性質は、ＴＮモードの液晶セルと同様である。ＡＳＭモードの液晶セルとＡＳＭ型液晶表示装置については、クメ（Ｋｕｍｅ）他の論文（Ｋｕｍｅ  ｅｔ  ａｌ．，ＳＩＤ  ９８  Ｄｉｇｅｓｔ  １０８９（１９９８））に記載がある。
【０１２４】
（ハードコートフィルム、防眩フィルム、反射防止フィルム）
本発明のポリマーフィルムは、又はハードコートフィルム、防眩フィルム、反射防止フィルムへの適用が好ましく実施できる。ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、ＥＬ等のフラットパネルディスプレイの視認性を向上する目的で、本発明のポリマーフィルムの片面又は両面にハードコート層、防眩層、反射防止層の何れかあるいは全てを付与することができる。このような防眩フィルム、反射防止フィルムとしての望ましい実施態様は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）の５４頁〜５７頁に詳細に記載されている。
【０１２５】
（写真フィルム支持体）
本発明のポリマーフィルムは、ハロゲン化銀写真感光材料の支持体としても適用でき、該特許文献に記載されている各種の素材や処方さらには処理方法が適用できる。それらの技術については、特開２０００−１０５４４５号公報にカラーネガティブに関する記載が詳細に挙げられており、本発明のポリマーフィルムが好ましく用いられる。またカラー反転ハロゲン化銀写真感光材料の支持体としての適用も好ましく、特開平１１−２８２１１９号公報に記載されている各種の素材や処方さらには処理方法が適用できる。
【０１２６】
（透明基板）
本発明のポリマーフィルムは、液晶表示装置の液晶セルガラス基板の代替、すなわち駆動液晶を封入する透明基板としても用いることができる。
液晶を封入する透明基板はガスバリアー性に優れる必要があることから、必要に応じて本発明のポリマーフィルムの表面にガスバリアー層を設けてもよい。ガスバリアー層の形態や材質は特に限定されないが、本発明のポリマーフィルムの少なくとも片面にＳｉＯ2等を蒸着したり、あるいは塩化ビニリデン系ポリマーやビニルアルコール系ポリマーなど相対的にガスバリアー性の高いポリマーのコート層を設ける方法が考えられ、これらを適宜使用できる。
また液晶を封入する透明基板として用いるには、電圧印加によって液晶を駆動するための透明電極を設けてもよい。透明電極としては特に限定されないが、本発明のポリマーフィルムの少なくとも片面に、金属膜、金属酸化物膜などを積層することによって透明電極を設けることができる。中でも透明性、導電性、機械的特性の点から、金属酸化物膜が好ましく、なかでも酸化スズを主として酸化亜鉛を２〜１５％含む酸化インジウムの薄膜が好ましく使用できる。これら技術の詳細は例えば、特開２００１−１２５０７９号公報や特開２０００−２２７６０３号公報などに公開されている。
【実施例】
【０１２７】
以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。
［実施例１：ポリマーフィルム作製と評価］
下記のセルロースアセテート溶液組成の各成分をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
（セルロースアセテート溶液組成）
酢化度６０．９％のセルロースアセテート                  １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤）                      ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）              ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                          ３１８質量部
メタノール（第２溶媒）                                    ４７質量部
【０１２８】
別のミキシングタンクに、下記表に示す添加剤を表中に記載した量（セルロースアシレート１００質量部に対する質量部）、メチレンクロライド８７質量部、及びメタノール１３質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション制御剤溶液を調製した。
セルロースアセテート溶液４７４質量部に、レターデーション制御剤溶液３６質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。
【０１２９】
得られたドープを、バンド流延機を用いて流延し、セルロースアセテートフィルム（厚さ：８０μｍ）を製造した。作製したセルロースアセテートフィルム（光学補償シート）について、エリプソメーター（Ｍ−１５０、商品名、日本分光（株）製）を用いて、４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍにおけるＲｔｈレターデーション値を測定した。
【０１３０】
＜Ｒｔｈ、Ｒｅの測定＞
ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨを用いて、前述の方法により求めた。結果を表１に示す。
【０１３１】
【表１】
2008281680.tif 000020
【０１３２】
【化１８】
2008281680.tif 000021
【０１３３】
表１の結果から、式（Ｉ）の化合物を添加した実施例のポリマーフィルムは、いずれもＲｅ値の上昇はほとんどなく、Ｒｔｈが大幅に上昇していることが理解できる。また、そのＲｔｈの波長分散性は、いずれも順分散であり、しかもその順分散の程度が、上記数式（３）及び（４）を満足する、即ち、ＶＡモードの液晶表示装置の光学補償用として好ましい範囲に調整されていることが理解できる。
一方、特許文献２に開示されているＲｔｈ調整剤である比較化合物１を添加したポリマーフィルム（試料Ｎｏ．２、３、４）では、Ｒｔｈの波長分散性が、数式（３）及び（４）を満足していないことが理解できる。
【０１３４】
［実施例２：偏光板の作製と評価］
（偏光板の作製）
上記で作製した位相差フィルム１０１（比較例用）の表面をアルカリ鹸化処理した。１．５規定の水酸化ナトリウム水溶液に５５℃で２分間浸漬し、室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．１規定の硫酸を用いて中和した。再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。続いて、厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して厚さ２０μｍの偏光膜を得た。ポリビニルアルコール（クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として、前記のアルカリ鹸化処理した位相差フィルム試料１０１と、同様のアルカリ鹸化処理したフジタックＴＤ８０ＵＬ（富士フイルム社製）を用意し、これらの鹸化した面が偏光膜側となるようにして偏光膜を間に挟んで貼り合わせ、位相差フィルム１０１とＴＤ８０ＵＬが偏光膜の保護フィルムとなっている偏光板１０１を得た。
同様にして本発明のポリマーフィルムである位相差フィルム試料１０２〜１０８を用いて、偏光板を作製した。以下これら偏光板を、偏光板１０２〜１０８という。また、ＴＤ８０ＵＬのみで作成した偏光板を偏光板１００という。これら偏光板はいずれも十分な偏光性能を示した。
【０１３５】
［光学フィルム２０１の作製］
下記表中に記載の割合となるように、各成分を混合して、セルロースアシレート溶液をそれぞれ調製した。各セルロースアシレート溶液を、バンド流延機を用いて流延し、得られたウェブをバンドから剥離し、その後、下記表に記載の条件でそれぞれフィルムの長手方向に対し横方向に延伸した。延伸後、乾燥して、表３中に記載の厚みのセルロースアシレートフィルム２０１を作製した。
【０１３６】
【表２】
2008281680.tif 000022
【０１３７】
【化１９】
2008281680.tif 000023
【０１３８】
得られたセルロースアシレートフィルムの光学特性を前述の方法によって測定した。結果を下記表３に示す。
【０１３９】
【表３】
2008281680.tif 000024
【０１４０】
［偏光板２０１の作製］
上記で作製した位相差フィルム２０１の表面をアルカリ鹸化処理した。１．５規定の水酸化ナトリウム水溶液に５５℃で２分間浸漬し、室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．１規定の硫酸を用いて中和した。再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。続いて、厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して厚さ２０μｍの偏光膜を得た。ポリビニルアルコール（クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として、前記のアルカリ鹸化処理した位相差フィルム試料２０１と、同様のアルカリ鹸化処理したフジタックＴＤ８０ＵＬ（富士フイルム社製）を用意し、これらの鹸化した面が偏光膜側となるようにして偏光膜を間に挟んで貼り合わせ、位相差フィルム２０１とＴＤ８０ＵＬが偏光膜の保護フィルムとなっている偏光板２０１を得た。
【０１４１】
［実施例３］
［液晶表示装置の作製］
ＶＡモードの液晶ＴＶ（ＬＣ３７−ＧＥ２、シャープ（株）製）の表裏の偏光板及び位相差フィルムを剥して実装用の液晶セルとして用いた。図１の構成で、偏光子１１及び第１の光学異方性層１４として偏光板１０１を、液晶セル１３として上記のＶＡ液晶セル、偏光子１２及び第２の光学異方性層１５として偏光板２０１を用い、それぞれを粘着剤を用いて貼り合わせて液晶表示装置００１を作製した。この際、偏光板１０１の位相差フィルム試料１０１が液晶セル１３側になるように、また偏光板２０１の位相差フィルム試料２０１が液晶セル１３側になるように貼り合わせた。
同様の作製方法で、図１の構成で、偏光子１１及び第１の光学異方性層１４として偏光板１０２〜１０７を、液晶セル１３として上記のＶＡ液晶セル、偏光子１２及び第２の光学異方性層１５として偏光板２０１を用いて液晶表示装置００２〜００７を作製した。
【０１４２】
（パネルの色味視野角評価）
上記作製したＶＡモードの液晶表示装置００１〜００７について、図１中の偏光子２側（即ち、偏光板１００側）にバックライトを設置し、各々について黒表示におけるカラーシフト（斜め方向（図１中の矢印の方向等）から見た際の色味変化）の効果を目視で確認した。結果を表２に示す。表中の○△×は、カラーシフトを目視で判断した評価結果であり、○はカラーシフトが著しく改善されたもの、△はカラーシフトがやや改善されたもの、×はカラーシフト改善効果がほとんど得られなかったものを表す。
【０１４３】
【表４】
2008281680.tif 000025
【０１４４】
表２の結果から明らかなように、一般式（Ｉ）で表される化合物を含有する本発明のポリマーフィルムを用いて作製した偏光板を備えた液晶表示装置（装置Ｎｏ．００２〜００４）においては、比較例の液晶表示装置（装置Ｎｏ．００１）に比べて、カラーシフト（斜め方向から見た際の色味変化）が軽減されていることが明らかとなった。
【図面の簡単な説明】
【０１４５】
【図１】本発明の液晶表示装置の一例の構成を示す模式図である。
【符号の説明】
【０１４６】
１１、１２  偏光子
１３    液晶セル
１４    第１の光学異方性層
１５    第２の光学異方性層
【図１】
2008281680.tif 000029