(57)【要約】【課題】レンズの球面収差の影響を考慮した正確な被測定物の位置測定を可能にする共焦点光学装置及びその方法を提供する。【解決手段】被測定物に光を照射しつつ、被測定物に対する光の合焦位置を光軸方向に順次相対的に移動させながら、被測定物からの反射光を検出器で検出することにより得られた、移動に伴う検出データの分布に基づいて、被測定物の高さを算出する共焦点光学装置１が与えられる。当該共焦点光学装置１は、移動に伴う検出データの分布を記憶する第１の記憶手段３と、第１の記憶手段３に記憶した検出データの分布を自由曲線で近似する曲線近似手段５と、近似された自由曲線の頂点位置に基づいて、被測定物の高さを算出する算出手段２とを備えたことを特徴とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被測定物に光を照射しつつ、前記被測定物に対する前記光の合焦位置を光軸方向に順次相対的に移動させながら、前記被測定物からの光を検出器で検出することにより得られた、移動に伴う検出データの分布に基づいて、前記被測定物の高さを算出する共焦点光学装置であって、
前記移動に伴う検出データの分布を記憶する第１の記憶手段と、
前記第１の記憶手段に記憶した前記検出データの分布を自由曲線で近似する曲線近似手段と、
前記近似された自由曲線の頂点位置に基づいて、前記被測定物の高さを算出する算出手段と、
を備えたことを特徴とする共焦点光学装置。
【請求項２】
前記自由曲線として光学系の収差を考慮した基準分布データを記憶する第２の記憶手段を備え、
前記曲線近似手段は、前記基準分布データを前記検出データの分布にフィッティングさせて曲線近似処理することを特徴とする請求項１に記載の共焦点光学装置。
【請求項３】
前記自由曲線は、スプライン曲線である、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の共焦点光学装置。
【請求項４】
前記被測定物は、表面特性の異なる複数の領域を含み、
前記基準分布データは、前記被測定物の前記領域ごとに決定されて、前記第２の記憶手段に記憶される、
ことを特徴とする請求項２又は３に記載の共焦点光学装置。
【請求項５】
前記基準分布データは、領域内のひとつの画素に対する基準分布データを、領域内の他の画素の検出データに対してフィッティング処理することにより、逐次更新される、
ことを特徴とする請求項４に記載の共焦点光学装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、物体からの反射光を検出器で検出し、該検出器による検出データの分布に基づいて物体の高さを示す合焦位置を算定する共焦点光学装置に関し、特に、被測定物の高さを正確に算出する共焦点光学装置及び算出方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、被測定物の表面形状を測定する際に、該被測定物に対して光を照射しつつ、光軸方向に順次移動し、その反射光の強度に基づいて被測定物の表面の高さを求める共焦点光学装置が知られている。
【０００３】
従来の共焦点光学装置では、光源から照射された光はコンデンサレンズで平行光となった後、投光ピンホールに入射する。該投光ピンホールを通過した出射光は、ビームスプリッタ、レンズ群を介して被測定物に照射される。照射された光は被測定物の表面で反射し、ビームスプリッタで分波される。反射光の結像が、投光ピンホールと共役な位置に設けられた受光ピンホールを通過する際の光量が検出器で検出される。
【０００４】
この場合、投光ピンホールから出射された出射光が被測定物の表面で合焦したならば、検出器が検出する検出信号が極大となるため、レンズ群又は被測定物を光軸方向（以下、Ｚ方向という）に移動させることにより、被測定物の高さを検出することができる。
【０００５】
検出器の検出信号強度と対物レンズのＺ方向の移動量と間には、一定の関係（以下、Ｉ−Ｚ特性という）が存在する。すなわち、対物レンズをＺ方向に移動すると、検出信号の強度が徐々に増加し、ある位置ＺＰで、検出器の出力強度が最大値ＩＰとなり、その後徐々に検出信号の強度が低下する。このＺＰの位置が被測定物表面における出射光の合焦位置であり、該ＺＰが被測定物の真の高さとなる。
【０００６】
被測定物の表面に凹凸が存在する場合には、被測定物をＺ方向に垂直な方向に走査するか、又は、投光ピンホール、受光ピンホール及び検出器を２次元的に配置することにより、被測定物の表面形状を精密に測定することができる。
【０００７】
従来、被測定物の高さを求めるには、被測定物を一通り移動して、検出信号を取得し、かかる検出信号をすべてメモリ内に格納していた。しかし、この方法では、すべての検出信号の取得には長い時間を要する。また、その信号データを格納するための大容量のメモリが必要となる。さらに、取得した検出信号は離散値であるため、検出信号強度の最大値Ｉｍを有するＺｍが被測定物の本来の高さＺｐと必ずしも一致するとは限らない。
【０００８】
これらの問題を解決するために、例えば、検出データの基準分布のピーク部分を示すｎ個の基準データを第１メモリ手段に記憶させ、検出器が連続して検出したｎ個の検出データを第２メモリ手段に記憶させ、第１メモリ手段に記憶させたｎ個の基準データと、第２メモリ手段に記憶させたｎ個の検出データに基づいて、ｎ個の検出データがその分布のピーク部分となる蓋然性を示すピーク度数を算出し、そのピーク度数に基づいて、被測定物の高さを示す合焦位置を特定する方法が存在する（例えば、特許文献１）。
【特許文献１】特開平１０−２８１７４３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
上記特許文献１に示す方法は、ピーク位置を曲線近似処理により算出している。具体的には、ピークデータ記憶部に記憶したピークデータに基づいて、Ｉ−Ｚ特性の２次曲線近似を行う。
【００１０】
しかし、この方法では、レンズ収差等の影響により、正確なピーク位置の検出はできない。それは、曲線近似の際に、２次曲線近似を行っているためである。理論的には、Ｉ−Ｚ特性はピーク位置に関して左右対称の形になるため、特許文献１に記載の２次曲線近似でも十分なはずである。しかしながら、現実には、レンズの球面収差、色収差、コマ収差、非点収差、像面湾曲等の収差の影響により、Ｉ−Ｚ特性はピーク位置に関して左右非対称の形になる。よって、２次曲線近似をした場合、ピーク位置が実際の位置と一致せず、高精度な高さ測定をすることができない。
【００１１】
したがって、本発明の目的は、レンズの球面収差等の影響を考慮した正確な被測定物の高さ測定を可能にする共焦点光学装置及びその方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記目的を達成するために、本発明の一実施形態に係る共焦点光学装置は、被測定物に光を照射しつつ、被測定物に対する光の合焦位置を光軸方向に順次相対的に移動させながら、被測定物からの光を検出器で検出することにより得られた、移動に伴う検出データの分布に基づいて、被測定物の高さを算出する。当該共焦点光学装置は、移動に伴う検出データの分布を記憶する第１の記憶手段と、第１の記憶手段に記憶した検出データの分布を自由曲線で近似する曲線近似手段と、近似された自由曲線の頂点位置に基づいて、被測定物の高さを算出する算出手段とを備えたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、レンズの球面収差等の影響を考慮した正確な被測定物の位置測定を可能にする共焦点光学装置及びその方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。
【００１５】
［第１の実施の形態］
図１は、本発明の第１の実施の形態に係る、共焦点光学装置の全体構成を示すブロック図である。
【００１６】
図１に示すように、本実施の形態に係る共焦点光学装置１は、共焦点光学部１０、及び演算処理部２０とから構成される。共焦点光学部１０の詳細は図２に示されている。図２に示すように、共焦点光学部１０は、キセノン光源、水銀光源等の光源３０を含む。光源３０から出射される光の光路上に、光源３０とともに光学系を形成するレンズ３１と、ビームスプリッタ３２とが配置されている。ビームスプリッタ３２の反射光路上には、セクショニング効果を有するニポウディスク３３と、対物レンズ３４と、被測定物３５とが直列に配置されている。被測定物３５からの反射光のビームスプリッタ３２の透過光路上には、直列に、レンズ３６と、ビームスプリッタ３７と、ＣＣＤ検出器アレイ３８が配置されている。ビームスプリッタ３７の反射光路上には、接眼レンズ３９が配置されている。ニポウディスク３３は円板形状を有し、モータ４０の軸に連結されており、このモータ４０により一定の回転速度で回転する。ＣＣＤ検出器３８アレイには、演算処理を行うコンピュータ（図１の演算処理部２０）が接続されている。
【００１７】
上記の装置構成において、光源３０から出射された光は、レンズ３１を通って平行光となり、ビームスプリッタ３２で反射され、一定の速度で回転するニポウディスク３３に入射する。ニポウディスク３３のピンホールを通過した光は、対物レンズ３４を通じて被測定物３５に投影される。被測定物３５から反射した光は、対物レンズ３４を通じて、ニポウディスク３３に投影される。投影された像のうち、焦点の合っている部分はピンホールを通過し、さらにビームスプリッタ３２を透過してレンズ３６、ビームスプリッタ３７を介して、ＣＣＤ検出器アレイ３８で撮像される。ビームスプリッタ３７で反射された光は接眼レンズ３９を通じて直接またはモニター（図示せず）を介して見ることができる。
【００１８】
コンピュータの駆動指令により、共焦点光学部１０が一体となって、被測定物３５に対して移動する。他に、共焦点光学部１０を固定して被測定物３５を移動してもよく、被測定物３５を固定して対物レンズ３４のみがＺ方向に移動してもよい。
【００１９】
ニポウディスク３３の複数のピンホールを同時に通過した光は、ニポウディスク３３を回転させることにより被測定物３５の測定面全体を高速で走査する。Ｚ方向への共焦点光学部１０全体の移動の開始において、最初の１画面を取得し、取得したＣＣＤ検出器アレイ３８での画像データをＺ位置情報と共に検出データ記憶部３に記憶する。次いで、所定ピッチでＺ移動を行い、同様に、ニポウディスク３３の回転による走査で得られた第２番目の画面を取得し、取得した画像データと共にそのＺ位置情報を検出データ記憶部３に記憶する。所定のＺ範囲について上記操作を繰り返し行い、所定枚数の画面を取得する。こうして、測定面内での位置（ｘ，ｙ）ごとに、同一点での画素ごとのＺ位置についての画像データ、すなわち、画素ごとのＩ−Ｚ強度列データを得ることができる。
【００２０】
次に、演算処理部２０について説明する。図１に示すように、演算処理部２０は、ピーク算出処理部２、検出データ記憶部３、モデルＩ−Ｚ記憶部４、及び曲線近似処理部５から構成される。演算処理部２０は、具体的には、ＣＰＵ６、メモリ７、インターフェイス８等を含むコンピュータから成る。ＣＰＵ６は、ピーク算出処理部２及び曲線近似処理部５を形成して構成され、メモリ７は、検出データ記憶部３及びモデルＩ−Ｚ記憶部４を形成して構成される。
【００２１】
上記したように、共焦点光学部１０は、例えば、被測定物３５の測定面に対して、共焦点光学部１０全体をＺ方向に移動しながら、被測定物３５に平行光を照射し、該被測定物３５の表面で反射した反射光の結像をニポウディスク３３のピンホールアレイと共役関係にある位置に設けたＣＣＤ検出器アレイ３８で検出する。ＣＣＤ検出器アレイ３８は、検出画素ごとのＺ方向に対する強度信号Ｓ１を出力する。
【００２２】
ピーク算出処理部２は、インターフェイス８を介して、Ｚ方向への共焦点光学部１０全体の移動に伴ってＣＣＤ検出器アレイ３８からの測定面全体の画像信号データＳ１を受信し、それを検出データ記憶部３に記憶する。ピーク算出処理部２は、測定面の位置（ｘ，ｙ）での同一点の画素ごとの画像データとＺ位置情報を読み出し、画素ごとのＩ−Ｚ強度列曲線を得る。このＩ−Ｚ強度列曲線のピークのＺ位置を、高さとして算出する。
【００２３】
検出データ記憶部３は、ＣＣＤ検出器アレイ３８で検出した各画素のＩ−Ｚ強度列データを記憶する。記憶するデータのサンプル数は任意に設定可能であるが、使用するメモリ容量を減少させるため、ピーク位置周辺の数十個程度が好ましい。検出データ記憶部３は、１回の撮像で、すべての画素のＩ−Ｚ強度列データを記憶する。被測定物３５の二次元走査により、新しく撮像されるたびに、Ｉ−Ｚ強度列データが更新される。
【００２４】
モデルＩ−Ｚ記憶部４は、以下の式（２）で定義されるスプライン曲線を記憶する。本実施の形態では、事前に、収差を考慮したモデルＩ−Ｚ強度列を自由曲線（スプライン曲線）として、モデルＩ−Ｚ記憶部４に記憶しておく。
【００２５】
曲線近似処理部５は、各画素のＩ−Ｚ強度列のピーク位置周辺の局所データを用いて、以下の式（２）に示す３次スプライン補間を用いて、フィッティングを行う処理部である。フィッティングは、最小自乗法により、以下の式（１）で定義される評価関数を評価することによって行う。本実施の形態では、３次スプライン曲線は、被測定物全体にわたってひとつのものが使用される。すなわち、本実施の形態にかかるピーク算出方法は、被測定物表面全体にわたって、Ｉ−Ｚ強度列のピーク形状が同様であるような場合に適用されるものである。モデルＩ−Ｚ記憶部４に予め記憶された３次スプライン曲線は、収差を考慮した、Ｉ−Ｚピークに関して左右非対称な曲線である。Ｉ−Ｚ強度列測定データをスプライン補間して、このモデルのスプライン曲線とフィッティングすることにより得られた曲線は、あるピーク値をもつ。このピーク値のＺ位置がレンズ収差を考慮した、被測定物の真の高さを示す。
【００２６】
次に、本実施の形態に係る被測定物の高さ位置算出方法について、詳細に説明する。図３は、本実施の形態に係る高さ位置算出方法を示すフローチャートである。
【００２７】
図３に示すように、本実施の形態に係る高さ位置測定方法では、まず、共焦点光学部１０全体をＺ方向に移動する（ステップ１）。次に、ＣＣＤ検出器アレイ３８でＺ方向の移動ごとの測定面全体の画像データを測定する（ステップ２）。次に、取得した画像データと共にＺ位置情報を検出データ記憶部３に記憶する（ステップ３）。以上の処理を、共焦点光学部１０全体をＺ方向へ所定ピッチで移動するたびに繰り返し行う（ステップ４）。移動が終了したら、検出データ記憶部３の内容に基づいて、フィッティング処理を行い（ステップ５）、被測定物３５の高さを正確に算出する（ステップ６）。
【００２８】
続いて、ステップ５のフィッティング処理について図４及び図５を参照しながら詳細に説明する。図４は本実施の形態に係るフィッティング処理のフローチャートである。まず、上記したように、収差を予め考慮したモデルＩ−Ｚスプライン曲線を自由曲線として、モデルＩ−Ｚ記憶部４に記憶する（ステップ２０）。次に、３次スプライン補間を使って、フィッティング処理を行う。フィッティング処理は、曲線近似処理部５において実行される。
【００２９】
図５（Ａ）及び（Ｂ）は、フィッティング処理の模式図である。ここに示すフィッティング処理は、一例に過ぎず、他のフィッティング方法を使用することもできる。また、図５は、説明の都合上、Ｉ−Ｚ強度列のピーク付近領域のみを示している。
【００３０】
本実施の形態に係るフィッティング処理は、以下の式（２）に示す３次スプライン補間を使って、以下の式（１）に示す評価関数が最小になるようなパラメータを算出することにより行う。
【００３１】
【数１】
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【００３２】
【数２】
2008292391.tif 000004
上記、式（１）において、ＳＰiは、ｉ番目の３次スプラインの式を示し、Ｉi+kはｉ＋ｋ番目の強度列を示している。ｓはスプライン補間式（２）の強度スケールを示す。ｋは、ある画素のＩ−Ｚ強度列をスプライン曲線に当てはめたときのスタート位置（整数値）を示す。ｕは、Ｉ−Ｚ強度列を、Ｚ方向移動のピッチ間の間隔（サブピッチ）でスプライン補間したときの強度列のＺ位置と補間するＺ位置との間隔を示す値である。ｕの値は、０．０≦ｕ＜１．０の関係を満たす。また、ak、bk、ck、dkは任意の定数を示す。
【００３３】
図４に戻って説明を続ける。パラメータｕ，ｓ，ｋの初期値として、ｕ０，ｓ０，ｋ０を与える（ステップ２１）。これらのパラメータ初期値ｕ０，ｓ０，ｋ０は、モデルＩ−Ｚ記憶部４にあらかじめ記憶させておく。次に、検出データ記憶部３に記憶したＩ−Ｚ強度列を読み出し、上記式（２）の３次スプライン補間を実行して、式（１）の評価関数を計算する（ステップ２２）。評価関数の評価は、例えば、最小自乗法を使って行うことができるが、これ以外の方法を使うこともできる。計算の結果、評価関数Ｅの値が最小でない場合には、パラメータｕ，ｓ，ｋの値を更新する（ステップ２３）。更新したパラメータｕ，ｓ，ｋを使って評価関数Ｅを再び計算する。この処理を、評価関数Ｅが最小となるまで繰り返し実行する。評価関数Ｅが最小となったとき、パラメータｕ，ｓ，ｋを確定する。確定したパラメータｕ，ｓ，ｋを、モデルＩ−Ｚ記憶部４に記憶する。この確定したパラメータｕ，ｓ，ｋは隣接する他の画素のフィッティング処理の際の初期値として使用されてもよい。そうすることにより、フィッティングの計算時間を短縮することが可能である。以上のフィッティング処理は、ソフトウエアによりコンピュータ内部のＣＰＵで実行される。原則として、フィッティングは、撮像した画素ごとに実行されるが、隣接する画素についてインテレーションを行うことにより、ＣＰＵでの処理時間を短縮することも可能である。こうして得られたベストフィット曲線データ（図５（Ｂ））が、ピーク算出処理部２に送られる。
【００３４】
最後に、ピーク算出処理部２で、当該画素の正確な高さ位置を決定する（ステップ６）。具体的には、ベストフィット曲線の導関数を取ることにより、ピークの正確なＺ位置を決定する。このＺ位置が収差を考慮した被測定物３５の正確な高さとなる。
【００３５】
以上の処理を、全位置（ｘ，ｙ）について実行することにより、被測定物３５全体の正確な高さマップを得ることができる。
【００３６】
本実施の形態によれば、レンズ収差による測定誤差が解消されて、被測定物の正確な高さを決定することができる。
【００３７】
［第２の実施の形態］
次に、本発明の第２の実施の形態について説明する。本実施の形態は、例えば、被測定物の材質が表面全体で一様ではないような場合に、高さを正確に測定するための共焦点光学測定方法である。本実施の形態で使用する共焦点光学装置は、モデルＩ−Ｚ記憶部４にオンラインでモデルＩ−Ｚ強度列が転送されるように構成されている以外は、第１の実施の形態と同じなので説明を省略する。
【００３８】
図６は、被測定物３５の表面の特性が部分的に変化している様子を概念的に示したものである。被測定物３５は、領域１から領域３により構成され、それぞれの領域は、例えば材質が違うために表面特性が異なっている。図６において、説明の都合上、被測定物３５の表面は３つの領域に分割され、かつ、各領域は矩形で描かれているが、任意の数及び任意の形状の領域に分割されてもよい。
【００３９】
本実施の形態は、モデルＩ−Ｚ強度列をオンラインで推定する点で、第１の実施の形態と異なる。上記したように、第１の実施の形態では、モデルＩ−Ｚ曲線はひとつであった。言い換えれば、第１の実施の形態は、表面特性が一定で、ピーク形状がほぼ同一であると近似できる場合に適用される共焦点光学測定方法である。これに対して、本実施の形態は、領域ごとに表面特性が異なるため、領域ごとにモデルＩ−Ｚ強度列をオンラインで推定し、それに基づいて領域ごとに正確な高さ情報を得るための共焦点光学測定方法である。
【００４０】
続いて、本実施の形態に係る共焦点光学測定方法について詳細に説明する。図７は、本実施の形態に係る共焦点測定方法を示すフローチャートである。図７に示すように、本実施の形態に係る方法では、まず、被測定物３５の表面を複数の領域に分割し（ステップ１０１）、測定すべき各領域のモデルＩ−Ｚ強度列を推定する（ステップ１０２）。以下で詳細に説明するように、各領域に対するモデルＩ−Ｚ強度列が推定された後、共焦点光学部１０全体をＺ方向に移動し（ステップ１０３）、移動ごとにＣＣＤ検出器アレイ３８で被測定物３５の測定面全体の画像データを測定し（ステップ１０４）、取得した画像データと共にＺ方向位置情報を検出データ記憶部３に記憶する（ステップ１０５）。以上の処理を、Ｚ方向へ移動するたびに繰り返し（ステップ１０６）、移動が終了したら、検出データ記憶部３の内容に基づいて、フィッティング処理を行い（ステップ１０７）、被測定物３５の高さを正確に算出する（ステップ１０８）。これを全ての領域について繰り返す（ステップ１０９）。
【００４１】
まず、ステップ１０１における、被測定物３５の表面を領域分割する方法について詳細に説明する。領域分割には、２つの方法がある。ひとつは、被測定物３５全面に対して、大まかなピーク算出を行い、そのピーク位置を仮の高さ情報（Ｚ値）として、その高さ情報に基づいて領域分割を行うものである。もうひとつは、座標ｉ，ｊ間のＩ−Ｚ強度列の差を基準に領域分割を行うものである。具体的には、座標ｉでのＩ−Ｚ強度列をＩｋｉとし、座標ｊでのＩ−Ｚ強度列をＩｋｊとすると、強度列の違いはΣ｜Ｉｋｉ−Ｉｋｊ｜と定義できる。この値に基づいて、領域分割を行う。
【００４２】
次に、ステップ１０２における、オンラインでのモデルＩ−Ｚ強度列の推定処理について、図８及び図９を参照しながら詳細に説明する。図８は、ステップ１０２における、モデルＩ−Ｚ強度列の推定処理のフローチャートである。図９（Ａ）から（Ｃ）は、モデルＩ−Ｚ強度列の推定処理の模式図である。まず、ステップ１０１で領域分割された各領域の中央付近のひとつの画素について、Ｉ−Ｚ強度を測定し、ピーク付近の例えば３０ポイント程度を３次スプライン補間したものを初期モデルＩ−Ｚ強度列とする（ステップ２０１）。スプライン補間の際には、上記した式（２）と同じ式を使用する。次に、領域内の他の画素の強度列を測定し、ピーク付近をスプライン補間し（図９（Ａ））、上で求めた初期モデルＩ−Ｚ強度列にフィッティングする（ステップ２０２）（図９（Ｂ））。ベストフィットさせて、強度の平均をとり、モデルＩ−Ｚ強度列を更新する（ステップ２０３）（図９（Ｃ））。続いて、同じ領域内の別の画素のＩ−Ｚ強度列を測定し、更新したモデルＩ−Ｚ強度列にフィッティングして、ベストフィットさせて、強度の平均をとり、モデルＩ−Ｚ強度列をさらに更新する。この処理を領域内の所定数の画素に対して実行する（ステップ２０４）。こうして、ノイズ等によるエラーが解消されて、高精度なモデルＩ−Ｚ強度列を得ることができる。以上の処理を、領域分割した各領域に対して実行する。得られたモデルＩ−Ｚ強度列データはリアルタイムで、モデルＩ−Ｚ記憶部４に送られ、そこに記憶されて、領域ごとの各画素のピーク算出に使用される。
【００４３】
図７のステップ１０３からステップ１０８までは、第１の実施の形態のステップ１からステップ６に対応するので説明を省略する。
【００４４】
本実施の形態によれば、表面特性の異なる被測定物について、レンズ収差による測定誤差が解消されて、被測定物の高さを正確に決定することができる。
【００４５】
［その他］
以上、発明の実施の形態を説明したが、本発明はこれらに限定されるものではなく、発明の趣旨を逸脱しない範囲内において、種々の変更、追加等が可能である。例えば、補間方法として、３次スプライン補間を使用したが、より高次のスプライン補間を使用することが可能である。また、スプライン曲線以外に、ベジェ曲線などの他の曲線を使用することもできる。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係る共焦点光学装置を示すブロック図である。
【図２】本発明の第１の実施の形態に係る共焦点光学装置の光学部を略示したものである。
【図３】本発明の第１の実施の形態に係る高さ算出方法のフローチャートである。
【図４】本発明の第１の実施の形態に係るフィッティング処理のフローチャートである。
【図５】本発明の第１の実施の形態に係るフィッティングの模式図である。
【図６】本発明の第２の実施の形態に係る領域分割の概念図である。
【図７】本発明の第２の実施の形態に係る高さ算出方法のフローチャートである。
【図８】本発明の第２の実施の形態に係るモデルＩ−Ｚ強度列の更新方法のフローチャートである。
【図９】本発明の第２の実施の形態に係るモデルＩ−Ｚ強度列の更新の模式図である。
【符号の説明】
【００４７】
１・・・共焦点光学装置、    ２・・・ピーク算出処理部、    ３・・・検出データ記憶部、  ４・・・モデルＩ−Ｚ記憶部、  ５・・・曲線近似処理部、  ６・・・ＣＰＵ、  ７・・・メモリ、  ８・・・インターフェイス、  １０・・・共焦点光学部、  ２０・・・演算処理部、  ３８・・・ＣＣＤ検出器アレイ
【図１】
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【図２】
2008292391.tif 000006
【図３】
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【図４】
2008292391.tif 000008
【図５】
2008292391.tif 000009
【図６】
2008292391.tif 000010
【図７】
2008292391.tif 000011
【図８】
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【図９】
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