(57)【要約】【課題】優れた耐湿熱性を有する電子ディスプレイ用粘着剤層を提供する。【解決手段】炭素原子数１〜２０のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーと、カルボキシル基含有モノマーと、の共重合体および／または混合物を含む電子ディスプレイ用粘着剤組成物であって、  さらに、アルキレンオキシ基を有するモノマー、および、ヒドロキシル基含有（メタ）アクリル酸エステルモノマーを含むことを特徴とする電子ディスプレイ用粘着剤組成物。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーと、カルボキシル基含有モノマーと、の共重合体および／または混合物を含む電子ディスプレイ用粘着剤組成物であって、
さらに、アルキレンオキシ基を有するモノマー、および、ヒドロキシル基含有（メタ）アクリル酸エステルモノマーを含むことを特徴とする電子ディスプレイ用粘着剤組成物。
【請求項２】
前記アルキレンオキシ基を有するモノマーが、下記式（１）：
【化１】
2008001739.tif 000005
［但し、Ｒ1は、ヒドロキシル基、アルコキシル基、アリールオキシ基、アクリロイルオキシ基、またはメタクリロイルオキシ基を表し、Ｒ2は、置換または非置換のアルキレン基を表し、Ｒ3は、水素原子またはメチル基を表し、ｎは、エチレンオキサイドの平均付加モル数を示し、２〜３０の整数である。］で示されることを特徴とする請求項１に記載の電子ディスプレイ用粘着剤組成物。
【請求項３】
前記Ｒ1が、炭素原子数１〜１０のアルコキシル基、または、炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基である請求項２に記載の電子ディスプレイ用粘着剤組成物。
【請求項４】
前記Ｒ2が、エチレン基、または、−ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）−であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の電子ディスプレイ用粘着剤組成物。
【請求項５】
前記アルキレンオキシ基を有するモノマーが、フェノキシポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、および、トリプロピレングリコールジアクリレートよりなる群から選択される少なくとも１種であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に項に記載の電子ディスプレイ用粘着剤組成物。
【請求項６】
前記アルキレンオキシ基を有するモノマーの含有量が、前記共重合体および／または前記混合物の合計１００質量部に対して、０．５〜４０質量部であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の電子ディスプレイ用粘着剤組成物。
【請求項７】
前記ヒドロキシル基含有（メタ）アクリル酸エステルモノマーが、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、および４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートよりなる群から選択される少なくとも１種であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の電子ディスプレイ用粘着剤組成物。
【請求項８】
前記ヒドロキシル基含有（メタ）アクリル酸エステルモノマーの含有量が、前記共重合体および／または前記混合物の合計１００質量部に対して、０．１〜２０質量部であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の電子ディスプレイ用粘着剤組成物。
【請求項９】
前記アルキレンオキシ基を有するモノマーと前記ヒドロキシル基含有（メタ）アクリル酸エステルモノマーとの質量比が、０．０１：１〜４０：１であることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の電子ディスプレイ用粘着剤組成物。
【請求項１０】
（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーが、炭素原子数１〜２０のアルキル基を有する請求項１〜９のいずれか１項に記載の電子ディスプレイ用粘着剤組成物。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれかに記載の電子ディスプレイ用粘着剤組成物からなることを特徴とする電子ディスプレイ用粘着剤層。
【請求項１２】
請求項１１に記載のディスプレイ用粘着剤層を有することを特徴とする電子ディスプレイ用フィルタ。
【請求項１３】
プラズマディスプレイパネル用として用いられる請求項１２に記載の電子ディスプレイ用フィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アクリル系粘着剤を含む粘着剤組成物に関し、特に、各種電子ディスプレイに用いられるアクリル系粘着剤を含む粘着剤組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）、及びＣＲＴディスプレイなどの電子ディスプレイが、表示装置として広く普及している。
【０００３】
近年、電子ディスプレイは大画面表示が主流となり、次世代の大画面表示デバイスとしてＰＤＰが一般的になってきている。しかしながら、このＰＤＰでは表示のため発光部に高周波パルス放電を行っているため、不要な電磁波や赤外線の輻射の恐れがある。電磁波や赤外線は、人体への悪影響や、赤外線リモコンおよび精密機器等への誤動作の原因ともなり得る。
【０００４】
そこで、電磁波や赤外線を遮蔽するために、透明基板の一方の面に、透明導電層や近赤外線遮蔽層が設けられた電磁波シールド材が電子ディスプレイ用フィルタとして種々提案されている。この電磁波シールド材の透明導電層としては、例えば、（１）金属銀を含む透明導電薄膜が設けられた透明基板、（２）金属線又は導電性繊維を網状にした導電メッシュを設けた透明基板、（３）透明基板上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けたもの、（４）透明基板上に導電性インクをメッシュ状に印刷したもの、等が知られている。
【０００５】
電磁波シールド材の他にも、電子ディスプレイ用フィルタとしては、反射防止処理フィルム、反射防止処理ガラス、帯電防止ガラス、帯電防止フィルム、近赤外線吸収フィルム、カラーフィルターなどが提案されている。
【０００６】
これらの電子ディスプレイ用フィルタを、電子ディスプレイの最表面に貼着する際には、通常、粘着剤層を介して行われる。粘着剤層には、アクリル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ゴム系、シリコーン系などの粘着剤が用いられている。なかでも、粘着剤層には、接着性、透明性、耐候性などの点で優れているアクリル系粘着剤が多用されている。
【０００７】
また、ＰＤＰの前面表示ガラス部は非常に割れやすいため、外部に露出していると、わずかな衝撃でひびが入ったりする。しかしながら、前記粘着剤層を設けることにより、前記粘着剤層が外部からの衝撃を吸収して、ＰＤＰの前面表示ガラス部が割れるのを防止することが可能となる。
【０００８】
一方、電子ディスプレイの広範囲にわたる普及とともに、電子ディスプレイ用フィルタには過酷な使用条件下であっても十分な機能を発揮できることが求められている。しかしながら、従来のアクリル系粘着剤層では、高温高湿環境下で、吸湿して白濁や発泡を生じ易いという問題があった。このように、吸湿された水分は粘着剤層から抜けにくいため、白濁した粘着剤層を元の透明度に復元するのは困難である。さらに、高温高湿環境下から室温環境下に戻ると粘着剤層が吸湿した水分により結露を招く問題もあった。これらは、電子ディスプレイの外観性を低下するだけでなく、視認性の低下をも招く。
【０００９】
そのため、従来では、粘着剤として、アルキル（メタ）アクリレートを主成分とし且つカルボキシル基を有するビニルモノマーを含有するモノマーの共重合体にさらに他のモノマーやオリゴマーを添加したり（特許文献１および２）、所定の特性を有する粘着剤層を用いる（特許文献３および４）などの試みがなされている。
【００１０】
【特許文献１】特開２００５−１５５２４号公報
【特許文献２】特開２００２−３２７１６０号公報
【特許文献３】特開２００１−１２３１３６号公報
【特許文献４】特開２００４−２６３０８４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、上記特許文献１〜４による粘着剤層では、改善に限界があり、電子ディスプレイの高温高湿などの過酷な使用条件では依然として白濁を生じる場合があった。したがって、高温高湿環境下であっても、白濁などを生じない電子ディスプレイ用粘着剤層が求められている。
【００１２】
ゆえに、本発明は、優れた耐湿熱性を有する電子ディスプレイ用粘着剤層を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者は、上記課題に鑑み種々の検討を行った結果、従来一般的に用いられているアクリル系粘着剤に、アルキレンオキシ基を有するモノマー、および、ヒドロキシル基含有（メタ）アクリル酸エステルモノマーを、さらに含有させることにより粘着剤層の耐湿熱性が向上することを見出し、本発明をするにいたった。
【００１４】
すなわち、本発明は、（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーと、カルボキシル基含有モノマーと、の共重合体および／または混合物を含む電子ディスプレイ用粘着剤組成物であって、
さらに、アルキレンオキシ基を有するモノマー、および、ヒドロキシル基含有（メタ）アクリル酸エステルモノマーを含むことを特徴とする電子ディスプレイ用粘着剤組成物により上記課題を解決する。
【００１５】
本発明の電子ディスプレイ用粘着剤組成物の好ましい態様を以下に列記する。
【００１６】
（１）前記アルキレンオキシ基を有するモノマーが、下記式（１）：
【００１７】
【化１】
2008001739.tif 000002
【００１８】
［但し、Ｒ1は、ヒドロキシル基、アルコキシル基、アリールオキシ基、アクリロイルオキシ基、またはメタクリロイルオキシ基を表し、Ｒ2は、置換または非置換のアルキレン基を表し、Ｒ3は、水素原子またはメチル基を表し、ｎは、エチレンオキサイドの平均付加モル数を示し、２〜３０の整数である。］で示される。
【００１９】
（２）前記アルキレンオキシ基を有するモノマーが、フェノキシポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、および、トリプロピレングリコールジアクリレートよりなる群から選択される少なくとも１種である。
【００２０】
（３）前記アルキレンオキシ基を有するモノマーの含有量が、前記共重合体および／または前記混合物の合計１００質量部に対して、０．５〜４０質量部である。これにより、十分な耐湿熱性、接着性を有する粘着剤層を形成することができる。
【００２１】
（４）前記ヒドロキシル基含有（メタ）アクリル酸エステルモノマーが、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、および４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートよりなる群から選択される少なくとも１種である。
【００２２】
（５）前記ヒドロキシル基含有（メタ）アクリル酸エステルモノマーの含有量が、前記共重合体および／または前記混合物の合計１００質量部に対して、０．１〜２０質量部である。これにより、十分な耐湿熱性、接着性を有する粘着剤層を形成することができる。
【００２３】
（６）前記アルキレンオキシ基を有するモノマーと前記ヒドロキシル基含有（メタ）アクリル酸エステルモノマーとの質量比が、０．０１：１〜４０：１である。
【発明の効果】
【００２４】
本発明の粘着剤組成物は、（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーおよびカルボキシル基含有モノマーに、さらに、アルキレンオキシ基を有するモノマーおよびヒドロキシル基含有（メタ）アクリル酸エステルモノマーを含むことにより、接着性、透明性、および衝撃吸収性を低下させることなく、吸湿した水分により、経時的に発生するヘイズの上昇を顕著に抑えられた電子ディスプレイ用粘着剤層を形成することができる。
【００２５】
このような前記電子ディスプレイ用粘着剤層は、ＰＤＰなどの電子ディスプレイ用フィルタの貼着に好適に用いられ、表示部において良好な視認性を長期に亘って維持することができる電子ディスプレイを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
電子ディスプレイ用粘着剤層の耐湿熱性を向上させるには、アクリル系粘着剤として用いられるモノマーやポリマーの組成を調整するのが有効である。本発明では、アルキレンオキシ基を有するモノマー、および、ヒドロキシル基含有（メタ）アクリル酸エステルモノマーを用いることにより、耐湿熱性に優れる粘着剤層が得られることを見出した。
【００２７】
アルキレンオキシ基を有するモノマーが有するアルキレンオキシ基によれば、粘着剤層内に透過してきた水分を捕捉することができる。また、ヒドロキシル基含有（メタ）アクリル酸エステルモノマーも、ヒドロキシル基を有することにより優れた吸水性を有する。したがって、これらのモノマーによれば、粘着剤層に浸透した水分がベースポリマーの主鎖に影響を与えるのを抑制し、白濁や結露の発生を防止することが可能となり、耐湿熱性に優れる電子ディスプレイ用粘着剤層を形成することができる。
【００２８】
以下、本発明の電子ディスプレイ用粘着剤組成物について、より詳細に説明する。
【００２９】
本発明の粘着剤組成物は、（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーとカルボキシル基含有モノマーとの共重合体および／または混合物を含み、さらに、アルキレンオキシ基を有するモノマー、および、ヒドロキシル基含有（メタ）アクリル酸エステルモノマーを含む。
【００３０】
なお、本発明において、（メタ）アクリル酸とは、アクリル酸またはメタクリル酸の双方を意味する。
【００３１】
本発明の粘着剤組成物に用いられる少なくとも一個のアルキレンオキシ基を有するモノマーとしては、粘着性を有するものであれば、従来公知のものであればよく、特に制限されない。
【００３２】
アルキレンオキシ基を有するモノマーとして、好ましくは、下記式（１）：
【００３３】
【化２】
2008001739.tif 000003
【００３４】
［但し、Ｒ1は、ヒドロキシル基、アルコキシル基、アリールオキシ基、アクリロイルオキシ基、またはメタクリロイルオキシ基を表し、Ｒ2は、置換または非置換のアルキレン基を表し、Ｒ3は、水素原子またはメチル基を表し、ｎは、エチレンオキサイドの平均付加モル数を示し、２〜３０の整数である。］で示されるものが用いられる。
【００３５】
前記式（１）のＲ1におけるアルコキシル基としては、炭素原子数１〜１０のアルコキシル基が好ましく挙げられる。具体的には、エトキシ基、メトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、およびイソオクチロキシ基などが好ましく挙げられ、なかでも、エトキシ基およびメトキシ基が特に好ましく挙げられる。
【００３６】
前記式（１）のＲ1におけるアリールオキシ基としては、炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基が好ましく挙げられる。具体的には、フェノキシ基、ベンジルオキシ基、ナフトキシ基などが好ましく挙げられ、なかでも、フェノキシ基が特に好ましく挙げられる。
【００３７】
前記Ｒ1としては、透明度および接着性に優れる粘着剤層を形成できることから、炭素原子数１〜１０のアルコキシル基、または、炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、なかでもエトキシ基、メトキシ基、フェノキシ基が特に好ましく挙げられる。
【００３８】
前記式（１）のＲ2としては、置換または非置換のアルキレン基が用いられる。Ｒ2として、好ましくは、置換または非置換の、炭素原子数１〜４０、さらに炭素原子数１〜３０、特に炭素原子数１〜１５のアルキレン基が用いられる。具体的には、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基、デカメチレン基、ウンデカメチレン基、ドデカメチレン基、トリデカメチレン基、テトラデカメチレン基、ペンタデカメチレン基、ヘキサデカメチレン基、ヘプタデカメチレン基、オクタデカメチレン基などが好ましく挙げられる。
【００３９】
また、置換されたアルキレン基において、置換基としては、炭素原子数１〜１０のアルキル基が好ましく挙げられる。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基などが好ましく挙げられる。
【００４０】
前記Ｒ2としては、エチレン基、または、−ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）−が特に好ましく挙げられる。これらの基であれば、透明度および接着性に優れる粘着剤層を形成することができる。
【００４１】
前記式（１）において、ｎは、２〜３０の整数である。ｎは、好ましくは２〜２０、より好ましくは２〜１５の整数である。これにより、透明度の高い合わせ粘着剤層を形成することができる。
【００４２】
前記アルキレンオキシ基を有するモノマーとして、具体的には、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、プロポキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシブチル（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ブトキシエチルアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、が挙げられる。なかでも、高い吸水性を有することから、フェノキシポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート（エチレンオキサイドの平均付加モル数ｎ＝４〜２５）、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート（エチレンオキサイドの平均付加モル数ｎ＝４〜２５、好ましくは４〜１５）、トリプロピレングリコールジアクリレートが好ましく挙げられる。
【００４３】
本発明の粘着剤組成物において、アルキレンオキシ基を有するモノマーの含有量は、（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーとカルボキシル基含有モノマーとの共重合体および／または混合物の合計１００質量部に対して、好ましくは０．５〜４０質量部、より好ましくは１０〜３０質量部とするのがよい。前記含有量が、０．５質量部未満であると、十分な耐湿熱性を有する粘着剤層を形成することができない恐れがあり、４０質量部を超えると粘着剤組成物の粘度が向上して、塗工不良を生じる恐れがある。
【００４４】
次に、本発明の粘着剤組成物は、ヒドロキシル基含有（メタ）アクリル酸エステルモノマーを含む。前記ヒドロキシル基含有（メタ）アクリル酸エステルモノマーとしては、分子内に、少なくとも１個の（メタ）アクリロイルオキシ基と少なくとも１個のヒドロキシ基を有するヒドロキシ基含有（メタ）アクリル酸エステルであれば、特に限定されるものではない。
【００４５】
前記ヒドロキシル基含有（メタ）アクリル酸エステルモノマーとして、具体的には、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、５−ヒドロキシペンチル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとカプロラクトンの付加物、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートとカプロラクトンの付加物、トリメチロールプロパンジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等が挙げられる。これらは、一種単独で、または二種以上を併用して用いることができる。
【００４６】
これらの中でも、高い吸水性を有することから、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートが好ましい。
【００４７】
本発明の粘着剤組成物において、前記ヒドロキシル基含有（メタ）アクリル酸エステルモノマーの含有量が、（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーとカルボキシル基含有モノマーとの共重合体および／または混合物の合計１００質量部に対して、好ましくは０．１〜２０質量部、より好ましくは１〜２０質量部とするのがよい。前記含有量が０．１質量部未満であると、十分な耐湿熱性を有する粘着剤層を形成することができない恐れがあり、２０質量部を超えると粘着剤組成物の粘度が向上して、塗工不良を生じる恐れがある。
【００４８】
また、本発明の粘着剤組成物において、前記アルキレンオキシ基を有するモノマー（Ａ）と前記ヒドロキシル基含有（メタ）アクリル酸エステルモノマー（Ｂ）との質量比（Ａ：Ｂ）は、０．０１：１〜４０：１、好ましくは０．１：１〜２０：１、より好ましくは０．５：１〜１０：１とするのが好ましい。これにより、耐湿熱性により優れる粘着剤層を形成することができる。
【００４９】
次に、本発明の粘着剤組成物は、上述したアルキレンオキシ基を有するモノマー、および、ヒドロキシル基含有（メタ）アクリル酸エステルモノマーの他に、（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーと、カルボキシル基含有モノマーと、の共重合体および／または混合物を含む。これらのモノマーによれば、アルキレンオキシ基を有するモノマーおよびヒドロキシル基含有（メタ）アクリル酸エステルモノマーによって悪影響を受けることがなく、接着性、透明性、衝撃吸収性に優れる接着剤層を形成することができる。
【００５０】
（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーとしては、エステルを形成するアルコール成分のアルキル基の炭素原子数が、１〜２０、好ましくは１〜１８のものが用いられる。(メタ)アクリル酸エステルとして、具体的には、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸ペンチル、(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸２−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、(メタ)アクリル酸デシル、(メタ)アクリル酸ドデシル、(メタ)アクリル酸ミリスチル、(メタ)アクリル酸パルミチル、(メタ)アクリル酸ステアリルなどが挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００５１】
カルボキシル基含有モノマーとして、具体的には、（メタ）アクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸などが挙げられる。また、無水マレイン酸、無水イコタン酸など、カルボキシル基含有モノマーの酸無水物も、カルボキシル基含有モノマーとして用いることが可能である。
【００５２】
本発明の粘着剤組成物において、上述した（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーと、カルボキシル基含有モノマーとは、共重合体として用いられてもよく、混合物として用いられてもよい。また、前記粘着剤組成物は、上述した（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーと、カルボキシル基含有モノマーとの共重合体および混合物の双方を含んでいてもよい。
【００５３】
上述した（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーと、カルボキシル基含有モノマーとの共重合体において、共重合形態は、ランダム共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体のいずれであってもよい。
【００５４】
前記共重合体において、カルボキシル基含有モノマーの割合は、前記共重合体１００質量部に対して、好ましくは１〜１０質量部、より好ましくは３〜１０質量部とするのがよい。これにより、接着性、塗工性に優れる粘着剤層を得ることができる。
【００５５】
前記共重合体は、溶液重合法、乳化重合法、塊状重合法、紫外線照射による重合法など、公知の重合方法により得られる。重合に際して用いられる重合開始剤、連鎖移動剤などは、特に限定されず、公知乃至慣用のものの中から適宜選択して使用することができる。
【００５６】
重合開始剤としては、例えば、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４，４−トリメチルペンタン、ジメチル−２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオネート等のアゾ系重合開始剤；ベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ジクミルパーオキサイド、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロドデカン等の過酸化物系重合開始剤などが挙げられる。なお、溶液重合の場合は、油溶性の重合開始剤を用いることが好ましい。重合開始剤は、単独で又は２種以上組み合わせて使用することができる。重合開始剤の使用量は、通常の使用量であればよく、例えば、全モノマー成分１００質量部に対して０．０１〜１質量部程度の範囲から選択することができる。
【００５７】
また、連鎖移動剤としては、例えば、２−メルカプトエタノール、ラウリルメルカプタン、グリシジルメルカプタン、メルカプト酢酸、チオグリコール酸、チオグリコール酸２−エチルヘキシル、２，３−ジメチルカプト−１−プロパノール、α−メチルスチレンダイマーなどが挙げられる。
【００５８】
なお、溶液重合では、各種の一般的な溶剤を用いることができる。このような溶剤としては、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル等のエステル類；トルエン、ベンゼン等の芳香族炭化水素類；ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン等の脂肪族炭化水素類；シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類などの有機溶剤が挙げられる。溶剤は単独で又は２種以上組み合わせて使用することができる。
【００５９】
前記共重合体の重量平均分子量は、好ましくは５０万〜９０万、より好ましくは５５万〜８５万とするのがよい。重量平均分子量が、５０万未満であると十分な粘着性が得られない恐れがあり、９０万を超えると粘着剤組成物の粘度上昇によって塗工性が低下する恐れがある。
【００６０】
なお、本発明において、上記重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法により測定したポリスチレン換算の値とする。
【００６１】
また、上述した（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーと、カルボキシル基含有モノマーと、の混合物において、カルボキシル基含有モノマーの含有量は、（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマー１００質量部に対して、好ましくは１〜２０質量部、より好ましくは２〜１０質量部、とするのがよい。前記含有量が、１質量部未満では、十分な粘着性が得られない恐れがあり、２０質量部を超えると粘着剤組成物の粘度上昇によって塗工性が低下する恐れがある。
【００６２】
本発明の粘着剤組成物において、（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーと、カルボキシル基含有モノマーと、の共重合体および混合物を用いる場合、前記共重合体の含有量は、前記共重合体および前記混合物の合計１００質量部に対して、好ましくは５０〜９０質量部、より好ましくは７０〜８０質量部とするのがよい。
【００６３】
次に、本発明の粘着剤組成物は、重合開始剤をさらに含むのが好ましい。重合開始剤を添加し、上述した化合物および各モノマーを共重合させることにより、得られる粘着剤層の耐湿熱性をさらに向上させることが可能となる。
【００６４】
前記重合開始剤としては、特に制限されず、重合方法に応じて公知のものを用いればよい。具体的には、（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーとカルボキシル基含有モノマーとの共重合体において上述したものの他に、光重合開始剤などが用いられる。
【００６５】
前記光重合開始剤として、具体的には、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、α−ヒドロキシ−α，α’−ジメチルアセトフェノン、メトキシアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）−フェニル］−２−モルホリノプロパンなどのアセトフェノン系化合物、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、アニゾインメチルエーテルなどのベンゾインエーテル系化合物、２−メチル−２−ヒドロキシプロピオフェノンなどのα−ケトール系化合物、ベンジルジメチルケタールなどのケタール化合物、２−ナフタレンスルホニルクロリドなどの芳香族スルホニルクロリド系化合物、１−フェノン−１，１−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシムなどの光活性オキシム系化合物、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、３，３’一ジメチル−４−メトキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系化合物などが挙げられる。
【００６６】
本発明の粘着剤組成物において、前記重合開始剤の含有量は、（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーとカルボキシル基含有モノマーとの共重合体および／または混合物の合計１００質量部に対して、０．０５〜０．５質量部とするのが好ましい。
【００６７】
次に、本発明の粘着剤組成物は、架橋剤をさらに含んでいてもよい。架橋剤は、従来公知のものが用いられる。架橋剤としては、架橋剤としては加熱架橋する場合は、有機過酸化物が適当であり、シート加工温度、架橋温度、貯蔵安定性等を考慮して選ばれる。
【００６８】
使用可能な過酸化物としては、例えば２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジハイドロパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン−３；ジーｔ−ブチルパーオキサイド；ｔ−ブチルクミルパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン；ジクミルパーオキサイド；α，α’−ビス（ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン；ｎ−ブチル−４，４−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）バレレート；２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン；ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート；ベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシアセテート；２，５−ジメチル−２，５−ビス（第３ブチルパーオキシ）ヘキシン−３；１，１−ビス（第３ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン；１，１−ビス（第３ブチルパーオキシ）シクロヘキサン；メチルエチルケトンパーオキサイド；２，５−ジメチルヘキシル−２，５−ビスパーオキシベンゾエート；第３ブチルハイドロパーオキサイド；ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド；ｐ−クロルベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシイソブチレート；ヒドロキシヘプチルパーオキサイド；クロルヘキサノンパーオキサイド等を挙げることができる。これらの過酸化物は１種を単独で又は２種以上を混合して、通常ＥＶＡ１００重量部に対して、５質量部以下、好ましくは０．５〜５．０質量部の割合で使用される。
【００６９】
次に、本発明の粘着剤組成物にはその物性（機械的強度、接着性、光学的特性、耐熱性、耐湿熱性、耐候性、架橋速度）等の改良や調節のために、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、グリセリンなどのアクリル又はメタクリル酸エステルなどの多官能架橋助剤を用いることができる。多官能架橋助剤の含有量は、特に制限されず、例えば、（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーとカルボキシル基含有モノマーとの共重合体および／または混合物の合計１００質量部に対して、通常、０．００１〜２０質量部とすればよい。
【００７０】
本発明の粘着剤組成物は、上述した各材料を公知の方法で混練し、使用することができる。本発明の電子ディスプレイ用粘着剤組成物によれば、上述した通り、耐湿熱性、透明性に優れる粘着剤層を形成することができる。
【００７１】
前記粘着剤層は、使用態様として、製膜したフィルムとすることが、扱い易く、好適である。この場合、上述した接着剤組成物を、例えば、カレンダー、押出し機、プレス等でシューティングし、溶融状態のうちに、電子ディスプレイ用フィルタの片面もしくは両面、または、剥離シート等に貼り付けることによって製造することができる。
【００７２】
また、前記接着剤組成物をトルエン等の溶媒で溶解した後、電子ディスプレイ用フィルタの片面もしくは両面、または、剥離シート上に、塗布、乾燥させて製造することもできる。
【００７３】
粘着剤組成物の塗布は、例えば、グラビヤロールコーター、リバースロールコーター、キスロールコーター、ディップロールコーター、バーコーター、ナイフコーター、スプレーコーターなどを用いて行うことができる。また、前記剥離シートは、公知のものを使用でき、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）を主材としたものを挙げることができ、特にＰＥＴであることが好ましい。
【００７４】
粘着剤層は、塗布後の前記接着剤組成物を重合反応させることにより形成されるのがよい。これにより、粘着剤層の厚さを、十分な接着性、耐衝撃性を得るために、所定の厚さにすることができる。重合反応は、光重合反応、熱重合反応など、架橋剤の種類に応じて選択すればよい。
【００７５】
熱重合反応を行う場合、反応条件は、通常７０〜１７０℃、特に７０〜１５０℃で、２〜６０分、特に５〜３０分とすればよい。また、好ましくは０．０１〜５０ｋｇｆ／ｃｍ2、特に０．１〜２０ｋｇｆ／ｃｍ2の圧力条件下で行うことが推奨される。
【００７６】
光重合反応の場合は、光源として紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レーザー光等を挙げることができる。照射時間は、ランプの種類、光源の強さにより適宜調整することができ、通常、数十秒〜数十分程度とすることができる。
【００７７】
前記粘着剤層は、電子ディスプレイの最表面に、電磁波シールド材、反射防止処理フィルム、反射防止処理ガラス、帯電防止ガラス、帯電防止フィルム、および近赤外線吸収フィルム、カラーフィルター等を有する電子ディスプレイ用フィルタに好適に使用される。電子ディスプレイとしては、表面電界型ディスプレイ（ＳＥＤ）を含む電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）、及びＣＲＴディスプレイなどが挙げられる。
【００７８】
前記粘着剤層の厚さは、好ましくは５〜５００μｍ、より好ましくは１０〜３００μｍとするのがよい。前記粘着剤層の厚さが、５００μｍを超えると電子ディスプレイの薄型化が図れない恐れがあり、５μｍ未満であると十分な接着性、衝撃吸収性が得られない恐れがある。
【００７９】
本発明の組成物からなる粘着剤層を有する電子ディスプレイ用フィルタによれば、高湿の環境下であっても、耐湿熱性に優れ、白濁が起こり難く、長期間に亘って見易い表示画面が確保された電子ディスプレイを提供することが可能となる。また、粘着剤層が衝撃を吸収することにより、電子ディスプレイ用フィルタを電子ディスプレイに接着する際など、電子ディスプレイの前面表示ガラス部が外部からの衝撃により破損するのを防止することができる。
【００８０】
本発明の組成物からなる粘着剤層を有する電子ディスプレイ用フィルタは、従来公知の電子ディスプレイに用いることができる。なかでも、粘着剤層が優れる衝撃吸収性を有することから、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）に用いられるのが好ましい。
【００８１】
ＰＤＰに用いられる粘着性電子ディスプレイ用フィルタの構成としては、本発明の粘着剤層を有する以外は特に制限されない。好ましい形態としては、透明基板および電磁波シールド層を少なくとも有するディスプレイ用フィルタの片面または両面に上述した粘着剤層を有する粘着性電子ディスプレイ用フィルタが挙げられる。
【００８２】
前記粘着性電子ディスプレイ用フィルタの概略断面図を図１および２に示す。図１に示す粘着性電子ディスプレイ用フィルタは、透明基板１１と電磁波シールド層１２とからなるフィルタ本体の片面に粘着剤層１３が設けられた構成を有する粘着性電子ディスプレイ用フィルタの概略断面図である。また、図２は、透明基板２１と電磁波シールド層２２とからなるフィルタ本体の両面に粘着剤層２３が設けられた構成を有する粘着性電子ディスプレイ用フィルタの概略断面図である。
【００８３】
また、ＰＤＰに用いられる電子ディスプレイ用フィルタは、透明基板および電磁波シールド層の他に、さらに、反射防止層、近赤外線カット層、および色調補正フィルタ層を有していてもよい。このような電子ディスプレイ用フィルタである場合、本願発明の粘着剤層は、透明基板との接着のために電子ディスプレイ用フィルタの表面に配置される形態に限定されず、電磁波シールド層などの層同士を接着させるために各層の間に配置されてもよい。このような形態を有する電子ディスプレイ用フィルタの好ましい一実施形態を、図３に示す。
【００８４】
図３は、本発明の粘着剤層を有する電子ディスプレイ用フィルタの概略断面図である。図３において、第１の透明基板３１Ａの一方の表面に電磁波シールド層３２が設けられ、他方の表面に第１の粘着剤層３３Ａが設けられており、電磁波シールド層３２上には第２の粘着剤層３３Ｂを介して第２の透明基板３１Ｂ、その表面には反射防止膜３４が設けられている。ここで、電磁波シールド層３２は、メッシュ状であり、その間隙は接着剤層３３により埋められている。
【００８５】
なお、ＰＤＰに用いられる電子ディスプレイ用フィルタにおいて、接着剤層、透明基板、電磁波シールド層、反射防止層、色調補正フィルタ層、近赤外線カット層などの各層の積層の順序は、図１〜３に示す形態に限定されず、目的に応じて変更される。また、ディスプレイ用フィルタには、電磁波シールド機能を高めるために、ＰＤＰ本体のアース電極と接続するための電極を設けてもよい。
【００８６】
本発明の電子ディスプレイ用フィルタに使用される材料について以下に説明する。
【００８７】
前記透明基板の材料としては、透明（「可視光に対して透明」を意味する。）であれば特に制限はないが、一般にプラスチックフィルムが使用される。例えば、ポリエステル｛例、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート｝、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、トリアセテート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等を挙げることができる。これらの中でも、加工時の負荷（熱、溶剤、折り曲げ等）に対する耐性が高く、透明性が特に高い等の点で、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル樹脂及びポリカーボネート（ＰＣ）；特にＰＥＴ、ポリカーボネートＰＣ、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）が好ましい。中でも、ＰＥＴが、屈折率が高いので好ましい。またＰＥＴは、透明性、可撓性の点、そして引張強度、伸び率等の機械的特性、さらに絶縁耐電圧においても優れており、特に好適である。透明基板の厚さは、１μｍ〜５ｍｍ程度とすればよい。
【００８８】
電磁波シールド層は、塗工層であることが好ましいが、メッシュ（格子）状の電磁波シールド層も好ましい。或いは、気相成膜法により得られる層（金属酸化物（ＩＴＯ等）の透明導電薄膜）でも良い。さらに、ＩＴＯ等の金属酸化物の誘電体膜とＡｇ等の金属層との交互積層体（例、ＩＴＯ／銀／ＩＴＯ／銀／ＩＴＯの積層体）であっても良い。
【００８９】
メッシュ状の電磁波シールド層としては金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属を網状にしたもの、透明基板上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けたもの、透明基板上に導電性インクをメッシュ状に印刷したもの、等を挙げることができる。
【００９０】
メッシュ状の電磁波シールド層の場合、メッシュとしては、金属繊維及び／又は金属被覆有機繊維よりなる線径１μｍ〜１ｍｍ、開口率５０〜９５％のものが好ましい。より好ましくは、線径が１０〜５００μｍ、開口率が６０〜９５％である。なお、導電性メッシュの開口率とは、当該導電性メッシュ（外枠がある場合はそれを除いた領域）の投影面積における開口部分が占める面積割合を言う。
【００９１】
導電性メッシュを構成する金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、チタン、タングステン、錫、鉛、鉄、銀、炭素或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、アルミニウムが用いられる。
【００９２】
金属被覆有機繊維の有機材料としては、ポリエステル、ナイロン、塩化ビニリデン、アラミド、ビニロン、セルロース等が用いられる。
【００９３】
金属箔等の導電性の箔をパターンエッチングしたもの場合、金属箔の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、鉄、真鍮、或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、ニッケルが用いられる。
【００９４】
金属箔の厚さは、薄過ぎると取り扱い性やパターンエッチングの作業性等の面で好ましくなく、厚過ぎると得られるガラスの厚さに影響を及ぼしたり、エッチング工程の所要時間が長くなることから、１〜２００μｍ程度とするのが好ましい。
【００９５】
エッチングパターンの形状には特に制限はなく、例えば四角形の孔が形成された格子状の金属箔や、円形、六角形、三角形又は楕円形の孔が形成されたパンチングメタル状の金属箔等が挙げられる。また、孔は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。この金属箔の投影面における開口部分の面積割合は、２０〜９５％であることが好ましい。
【００９６】
或いは、メッシュ状の電磁波シールド層を、透明基板に導電性インキをパターン印刷して形成しても良い。次のような導電性インキを用い、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法、静電印刷法等により透明基板の表面に印刷することができる。
【００９７】
このようにして形成される印刷膜の厚さは、薄過ぎると電磁波シールド性が不足するので好ましくなく、厚過ぎると得られるフィルタの厚さに影響を及ぼすことから、０．５〜１００μｍ程度とするのが好ましい。
【００９８】
塗工による電磁波シールド層としては、ポリマー中に無機化合物の導電性粒子が分散された塗工層を挙げることができる。
【００９９】
導電性粒子を構成する無機化合物としては、例えば、アルミニウム、ニッケル、インジウム、クロム、金、バナジウム、スズ、カドミウム、銀、プラチナ、銅、チタン、コバルト、鉛等の金属、合金；或いはＩＴＯ、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ、いわゆるインジウムドープ酸化スズ）、酸化スズ−酸化アンチモン（ＡＴＯ、いわゆるアンチモンドープ酸化スズ）、酸化亜鉛−酸化アルミニウム（ＺＡＯ；いわゆるアルミニウムドープ酸化亜鉛）等の導電性酸化物等を挙げることができる。特に、ＩＴＯが好ましい。平均粒径は１０〜１００００ｎｍ、特に１０〜５０ｎｍが好ましい。
【０１００】
ポリマーの例としては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、マレイン酸樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、ポリイミド樹脂、含ケイ素樹脂等を挙げることができる。さらに、これらの樹脂のうち熱硬化性樹脂であることが好ましい。
【０１０１】
或いは、ポリマーは後述するハードコート層に使用される紫外線硬化性樹脂を用いることが特に好ましい。
【０１０２】
上記塗工による電磁波シールド層の形成は、ポリマー（必要により溶剤を用いて）中に上記導電性微粒子を混合等により分散させて塗工液を作製し、この塗工液を、透明基板上に塗工し、適宜乾燥、硬化させる。熱可塑性樹脂を用いた場合は、塗工後乾燥することにより、熱硬化型の場合は、乾燥、熱硬化することにより得られる。紫外線硬化性樹脂を用いた場合は、塗工後、必要に応じて乾燥し、紫外線照射することにより得られる。
【０１０３】
上記塗工形成された電磁波シールド層の厚さとしては、０．０１〜５μｍ、特に０．０５〜３μｍが好ましい。前記厚さが、０．０１μｍ未満であると電磁波シールド性又は帯電防止性が充分でないことがあり、一方５μｍを超えると、得られるフィルムの透明性を低下させる場合がある。
【０１０４】
本発明の電磁波シールド層は、塗工により形成される導電性ポリマーの層であることも好ましい。例えば、ポリアセチレン、ポリフェニレン、ポリフェニレンビニレン、ポリアセン、ポリフェニルアセチレン、ポリナフタレン等の炭化水素系ポリマー；ポリピロール、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリエチレンビニレン、ポリアズレン、ポリイソチアナフテン等のヘテロ原子含有ポリマーを挙げることができる。ポリピロール、ポリチオフェンが好ましい。上記導電性ポリマーの明電磁波シールド層の厚さとしては、０．０１〜５μｍが好ましい。
【０１０５】
電磁波シールド層を気相成膜法により形成する場合（金属酸化物層）、その形成方法としては、特に制限はないが、スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着等の気相製膜法や、印刷、塗工等が挙げることができるが、気相製膜法（スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着）が好ましい。前記の無機化合物を用いて電磁波シールド層を形成することができる。電磁波シールド層を気相成膜法で形成した場合は、その層厚は、３０〜５００００ｎｍ、特に５０ｎｍ程度が好ましい。
【０１０６】
電磁波シールド層上に、さらに金属メッキ層を、導電性を向上させるためは設けても良い。金属メッキ層は、公知の電解メッキ法、無電解メッキ法により形成することができる。メッキに使用される金属としては、一般に銅、銅合金、ニッケル、アルミ、銀、金、亜鉛又はスズ等を使用することが可能であり、好ましくは銅、銅合金、銀、又はニッケルであり、特に経済性、導電性の点から、銅又は銅合金を使用することが好ましい。
【０１０７】
また電磁波シールド層は、誘電体層（金属酸化物）と金属層との交互積層膜でも良い。特に、誘電体層／金属層／誘電体層／金属層／誘電体層の５層以上の積層体が好ましい。例えば、ＩＴＯ等の金属酸化物の誘電体層とＡｇ等の金属層との交互積層体（例、ＩＴＯ／銀／ＩＴＯ／銀／ＩＴＯの積層体）を挙げることができる。
【０１０８】
次に、反射防止膜は、一般に基板より屈折率の高いハードコート層とその上に設けられた低屈折層との複合膜であるか、好ましくは低屈折率層上にさらに高屈折率層が設けられた複合膜である。反射防止膜は透明基板より屈折率の高いハードコート層のみであっても、或いは低屈折率層のみであっても有効である。但し、透明基板の屈折率が低い場合、透明基板より屈折率の低いハードコート層とその上に設けられた高屈折層との複合膜、或いは高屈折率層上にさらに低屈折率層が設けられた複合膜としても良い。本発明の反射防止膜に近赤外線遮蔽機能を付与する場合は、上記ハードコート層等に近赤外線を吸収する後述する材料（例、色素）を混合及び／又は混練して導入するか、反射防止膜を形成するための透明基板に導入すればよい。
【０１０９】
ハードコート層としては、アクリル樹脂層、エポキシ樹脂層、ウレタン樹脂層、シリコン樹脂層等からなる層を挙げることができ、通常その層厚は１〜５０μｍ、好ましくは１〜１０μｍである。熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂のいずれでもよいが、紫外線硬化性樹脂が好ましい。
【０１１０】
熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、レゾルシノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フラン樹脂、シリコン樹脂などを挙げることができる。
【０１１１】
紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルポリエトキシ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、フェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンモノ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジプロポキシジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリス〔（メタ）アクリロキシエチル〕イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートモノマー類；ポリオール化合物（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオール、トリメチロールプロパン、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、１，４−ジメチロールシクロヘキサン、ビスフェノールＡポリエトキシジオール、ポリテトラメチレングリコール等のポリオール類、前記ポリオール類とコハク酸、マレイン酸、イタコン酸、アジピン酸、水添ダイマー酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の多塩基酸又はこれらの酸無水物類との反応物であるポリエステルポリオール類、前記ポリオール類とε−カプロラクトンとの反応物であるポリカプロラクトンポリオール類、前記ポリオール類と前記、多塩基酸又はこれらの酸無水物類のε−カプロラクトンとの反応物、ポリカーボネートポリオール、ポリマーポリオール等）と有機ポリイソシアネート（例えば、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４′−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４′−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，２′−４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等）と水酸基含有（メタ）アクリレート（例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキサン−１，４−ジメチロールモノ（メタ）アクリ��ート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート等）の反応物であるポリウレタン（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応物であるビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートオリゴマー類等を挙げることができる。これら化合物は１種又は２種以上、混合して使用することができる。これらの紫外線硬化性樹脂を、熱重合開始剤とともに用いて熱硬化性樹脂として使用してもよい。
【０１１２】
ハードコート層とするには、上記の紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）の内、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の硬質の多官能モノマーを主に使用することが好ましい。
【０１１３】
紫外線硬化性樹脂の光重合開始剤として、紫外線硬化性樹脂の性質に適した任意の化合物を使用することができる。例えば、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１、２，２−ジエトキシアセトフェノン等のアセトフェノン系、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系、イソプロピルチオキサントン、２−４−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系、その他特殊なものとしては、メチルフェニルグリオキシレートなどが使用できる。特に好ましくは、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１、ベンゾフェノン等が挙げられる。これら光重合開始剤は、必要に応じて、４−ジメチルアミノ安息香酸のごとき安息香酸系叉は、第３級アミン系などの公知慣用の光重合促進剤の１種または２種以上を任意の割合で混合して使用することができる。また、光重合開始剤のみの１種または２種以上の混合で使用することができる。特に１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア１８４）が好ましい。
【０１１４】
光重合開始剤の量は、樹脂組成物に対して０．１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％である。
【０１１５】
ハードコート層は、透明基板より屈折率が低いことが好ましく、上記紫外線硬化性樹脂を用いることにより一般に基板より低い屈折率を得られやすい。従って、透明基板としては、ＰＥＴ等の高い屈折率の材料を用いることが好ましい。このため、ハードコート層は、屈折率を、１．６０以下にすることが好ましい。膜厚は前記の通りである。
【０１１６】
高屈折率層は、ポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）中に、ＩＴＯ、ＡＴＯ、Ｓｂ2Ｏ3、ＳｂＯ2、Ｉｎ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ2等の導電性金属酸化物微粒子（無機化合物）が分散した層とすることが好ましい。金属酸化物微粒子としては、平均粒径１０〜１００００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍのものが好ましい。特にＩＴＯ（特に平均粒径１０〜５０ｎｍのもの）が好ましい。屈折率を１．６４以上としたものが好適である。膜厚は一般に１０〜５００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜２００ｎｍである。
【０１１７】
なお、高屈折率層が導電層である場合、この高屈折率層の屈折率を１．６４以上とすることにより反射防止フィルムの表面反射率の最小反射率を１．５％以内にすることができ、１．６９以上、好ましくは１．６９〜１．８２とすることにより反射防止フィルムの表面反射率の最小反射率を１．０％以内にすることができる。
【０１１８】
ハードコート層は、可視光線透過率が８５％以上であることが好ましい。高屈折率層及び低屈折率層の可視光線透過率も、いずれも８５％以上であることが好ましい。
【０１１９】
低屈折率層は、シリカ、フッ素樹脂等の微粒子、好ましくは中空シリカを１０〜４０重量％（好ましくは１０〜３０質量％）がポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）中に分散した層（硬化層）であることが好ましい。この低屈折率層の屈折率は、１．４５〜１．５１が好ましい。この屈折率が１．５１超であると、反射防止フィルムの反射防止特性が低下する。膜厚は一般に１０〜５００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜２００ｎｍである。
【０１２０】
中空シリカとしては、平均粒径１０〜１００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍ、比重０．５〜１．０、好ましくは０．８〜０．９のものが好ましい。
【０１２１】
反射防止膜が上記３層より構成される場合、例えば、ハードコート層の厚さは２〜２０μｍ、高屈折率層の厚さは７５〜９０ｎｍ、低屈折率層の厚さは８５〜１１０ｎｍであることが好ましい。
【０１２２】
反射防止膜の、各層を形成するには、前記の通り、ポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）に必要に応じ上記の微粒子を配合し、得られた塗工液を塗工し、次いで乾燥、必要により熱硬化させるか、或いは塗工後、必要により乾燥し、紫外線を照射する。この場合、各層を１層ずつ塗工し硬化させてもよく、全層を塗工した後、まとめて硬化させてもよい。
【０１２３】
塗工の具体的な方法としては、アクリル系モノマー等を含む紫外線硬化性樹脂をトルエン等の溶媒で溶液にした塗工液をグラビアコータ等によりコーティングし、その後乾燥し、次いで紫外線により硬化する方法を挙げることができる。このウェットコーティング法であれば、高速で均一に且つ安価に成膜できるという利点がある。このコーティング後に例えば紫外線を照射して硬化することにより密着性の向上、膜の硬度の上昇という効果が得られる。前記導電層も同様に形成することができる。
【０１２４】
紫外線硬化の場合は、光源として紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レーザー光等を挙げることができる。照射時間は、ランプの種類、光源の強さによって一概には決められないが、数秒〜数分程度である。また、硬化促進のために、予め積層体を４０〜１２０℃に加熱し、これに紫外線を照射してもよい。
【０１２５】
本発明の反射防止層は、上記のように塗工により形成することが好ましいが、気相成膜法により形成しても良い。通常、高屈折率層及び低屈折率層を、物理蒸着法または化学蒸着法により成膜することができる。物理蒸着法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、レーザーアブレーション法が挙げられるが、一般的にはスパッタリング法で成膜するのが好ましい。化学蒸着法としては、常圧ＣＶＤ法、減圧ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法が挙げられる。
【０１２６】
高屈折率層及び低屈折率層等の組合せの例としては、下記のものを挙げることができる。
【０１２７】
（ａ）高屈折率層／低屈折率層の順で各１層ずつ、合計２層に積層したもの、（ｂ）高屈折率層／低屈折率層を２層ずつ交互に、合計４層に積層したもの、（ｃ）中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層の順で各１層ずつ、合計３層に積層したもの、（ｄ）高屈折率層／低屈折率層の順で各層を交互に３層ずつ、合計６層に積層したもの。高屈折率層としては、ＩＴＯ（スズインジウム酸化物）又はＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＳｎＯ2、ＺｒＯ等の薄膜を採用することができる。また、低屈折折率層としては、ＳｉＯ2、ＭｇＦ2、Ａｌ2Ｏ3等の屈折率が１．６以下の薄膜を用いることができる。
【０１２８】
次に、近赤外線カット層は、一般に近赤外線カットフィルムであり、例えば、ベースフィルムの表面に、色素等を含む近赤外線カット層が形成されたものであるか、或いは色素等を含有するフィルムである。色素の例としては、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、アントラキノン系色素、フタロシアニン系色素、ポリメチン系色素、ポリアゾ系色素を挙げることができ、特にシアニン系色素又はスクアリリウム系色素が好ましい。これらの色素は、単独又は組み合わせて使用することができる。
【０１２９】
特に好ましい近赤外線カット層は、ベースフィルムの表面に、ジイモニウム系化合物と特定の銅錯体及び／又は銅化合物とを含む近赤外線カット層が形成されたものであり、この近赤外線カット層はベースポリマーにジイモニウム系化合物と銅錯体及び／又は銅化合物とを分散させ、適当な溶剤で希釈して濃度調整したコーティング液を透明基板の表面にコーティングし、コーティング膜を乾燥させることにより形成することができる。
【０１３０】
上記近赤外線カット層は、ベースフィルムに、２層以上の近赤外線カット層、好ましくは２種以上の近赤外線吸収剤の層で構成した層を設けても良く、この場合には、近赤外の幅広い波長域において著しく良好な近赤外線カット性能を得ることができ、有利である。
【０１３１】
２層以上の近赤外線カット層は、次のような構成をとることができる。
【０１３２】
ベースフィルム上に近赤外線カット層を形成した近赤外線カットフィルムと、ベースフィルム上に近赤外線カット層を形成した近赤外線カットフィルムとの併用；
ベースフィルムの一方の面に近赤外線カット層を形成し、他方の面にも近赤外線カット層を形成した近赤外線カットフィルム；
ベースフィルム上に近赤外線カット層と近赤外線カット層とを積層形成した近赤外線カットフィルム；
ベースフィルム上に近赤外線カット層を形成した近赤外線カットフィルム；
上記のいずれか２以上の組み合わせ。
【０１３３】
上記の構成において、近赤外線カット層のうちの一方をジイモニウム系化合物と銅錯体及び／又は銅化合物とを含む層とし、他方をこれとは異なる層とするのが好ましい。
【０１３４】
また、上記の構成において、近赤外線カット層をジイモニウム系化合物と銅錯体及び／又は銅化合物とを含む層とし、必要に応じて更に異なる近赤外線吸収剤を配合するのが好ましい。
【０１３５】
なお、本発明において、ジイモニウム系化合物と銅錯体及び／又は銅化合物とを含む層以外の近赤外線カット層として、次のようなものを１種又は２種以上を組み合わせて用いるのが、透明性を損なうことなく、良好な近赤外線カット性能（例えば８５０〜１２５０ｎｍなど近赤外の幅広い波長域において、近赤外線を十分に吸収する性能）を得られるので好ましい。
【０１３６】
（ａ）厚さ１００〜５０００ÅのＩＴＯのコーティング層、（ｂ）厚さ１００〜１００００ÅのＩＴＯと銀の交互積層体によるコーティング層、（ｃ）厚さ０．５〜５０μｍのニッケル錯体系とイモニウム系の混合材料を適当な透明のベースポリマーを用いて膜としたコーティング層、（ｄ）厚さ１０〜１００００μｍの２価の銅イオンを含む銅化合物を適当な透明のベースポリマーを用いて膜としたコーティング層、（ｅ）厚さ０．５〜５０μｍの有機色素系コーティング層。
【実施例】
【０１３７】
以下、本発明を実施例により説明する。本発明は、以下の実施例により制限されるものではない。
【０１３８】
（実施例１）
１．粘着剤組成物の調製
アクリル酸２−エチルヘキシルおよびアクリル酸の共重合体（共重合体１００質量部に対して、アクリル酸２−エチルヘキシル単位７８質量部、アクリル酸単位２質量部、重量平均分子量７０００００）２０質量部と、アクリル酸２−エチルヘキシルモノマーおよびアクリル酸モノマーの混合物（アクリル酸２−エチルヘキシルモノマー１００質量部に対して、アクリル酸モノマー２．５質量部）８０質量部と、からなる粘稠液体１００質量部に、重合開始剤として２，２−ジエトキシアセトフェノン２質量部、架橋助剤としてトリメチロールプロパンアクリレート０．１質量部、メトキシポリプロピレングルコールアクリレート３０質量部、および２−ヒドロキシブチルメタアクリレート１０質量部を混合し、十分に撹拌した。これにより、粘着剤組成物を調製した。
【０１３９】
２．評価
上記で調製した粘着剤組成物を、ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ１００μｍ）上に塗布し、その上にポリエステル系剥離シート（厚さ７５μｍ）を被せた後、６０ｍｊ／ｃｍ2の紫外線を１分間、照射して光重合反応を行った。これにより、厚さ２００μｍの粘着剤層を得た。
【０１４０】
次に、ポリエステル系剥離シートを剥離し、露出した粘着剤層をガラス板（厚さ２．５ｍｍ）に貼り付け、ＰＥＴ／粘着剤層／ガラス板の積層体(大きさ１００ｍｍ×１００ｍｍ)を得た。
【０１４１】
次に、上記で作製した積層体を、温度６０℃、湿度９０％ＲＨの環境下に、１２０時間、放置した後に、常温（２５℃）下で３０分間、放置した。そして、放置前と放置後の積層体について、ＪＩＳ  Ｋ  ７１０５（１９８１年）の手法に従ってヘイズ値（％）を測定した。この際、全自動直読ヘイズコンピューターＨＧＭ−２ＤＰ（スガ試験機株式会社製）を用いた。結果をまとめて表１に示す。
【０１４２】
（実施例２）
２−ヒドロキシブチルメタアクリレート１０質量部の代わりに、２−ヒドロキシプロピルメタアクリレート５質量部を用いた以外は、実施例１と同様にして粘着剤組成物および積層体を作製し、これを評価した。結果をまとめて表１に示す。
【０１４３】
（実施例３）
メトキシポリプロピレングルコールアクリレート３０質量部の代わりにトリプロピレングリコールジアクリレート２０質量部を用い、２−ヒドロキシブチルメタアクリレート１０質量部の代わりに２−ヒドロキシプロピルメタアクリレート１０質量部を用いた以外は、実施例１と同様にして粘着剤組成物および積層体を作製し、これを評価した。結果をまとめて表１に示す。
【０１４４】
（実施例４）
メトキシポリプロピレングルコールアクリレートの含有量を、０．３質量部とした以外は、実施例１と同様にして粘着剤組成物および積層体を作製し、これを評価した。結果をまとめて表１に示す。
【０１４５】
（実施例５）
２−ヒドロキシブチルメタアクリレートの含有量を、０．８質量部とした以外は、実施例１と同様にして粘着剤組成物および積層体を作製し、これを評価した。結果をまとめて表１に示す。
【０１４６】
（比較例１）
メトキシポリプロピレングルコールアクリレート、および、２−ヒドロキシブチルメタアクリレートを用いなかった以外は、実施例１と同様にして粘着剤組成物および積層体を作製し、これを評価した。結果をまとめて表１に示す。
【０１４７】
【表１】
2008001739.tif 000004
【０１４８】
表１から、本発明の粘着剤組成物によれば、高温高湿下で放置された後でも、高い透明度を維持することができ、耐湿熱性に優れる粘着剤層が得られていることが分かる。
【図面の簡単な説明】
【０１４９】
【図１】本発明の一実施形態であるプラズマディスプレイパネル用フィルタの概略断面図である。
【図２】本発明の一実施形態であるプラズマディスプレイパネル用フィルタの概略断面図である。
【図３】本発明の一実施形態であるプラズマディスプレイパネル用フィルタの概略断面図である。
【符号の説明】
【０１５０】
１１、２１、３１Ａ、３１Ｂ…透明基板、
１２、２２、３２…電磁波シールド層、
１３、２３、３３Ａ、３３Ｂ…粘着剤層、
１４、２４、３４…反射防止膜。
【図１】
2008001739.tif 000006
【図２】
2008001739.tif 000007
【図３】
2008001739.tif 000008