(57)【要約】      （修正有）【課題】液浸リソグラフィシステムで使用されるレンズのinsituクリーニングのためのシステムおよび方法を提供する。【解決手段】露光ゾーン内に液体の流れを生成する液浸液供給デバイス２３０および液浸液放出デバイスを含むシャワーヘッドと、液浸液に接触した投影光学システムの部分をクリーニングガスによってクリーニングするクリーニングデバイスとを含む液浸リソグラフィ装置が提供される。クリーニングデバイスは、露光ゾーンに入るクリーニングガスの流れを生成するガス供給デバイス２５０およびガス放出デバイス２６０を含む。液浸リソグラフィシステムの露光ゾーンに液浸流体を提供する液浸流体シャワーヘッドを有する液浸リソグラフィシステム内で、最終レンズ要素１３６をinsituクリーニングする。【選択図】図２
2008235872.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エネルギ源と、
投影光学システムと、
上に置かれた基板を動かすステージと、
前記投影光学システムと前記基板の間に液体の流れを生成する液浸液供給デバイスおよび液浸液放出デバイスを含むシャワーヘッドと、
前記液浸液に接触した前記投影光学システムの部分をクリーニングガスによってクリーニングするクリーニングデバイスと、
を含む液浸リソグラフィ装置。
【請求項２】
前記クリーニングデバイスが、
ガス供給デバイスと、
ガス放出デバイスとを含み、前記ガス供給デバイスが、前記投影光学システムと前記ステージの間にクリーニングガスの流れを生成する、
請求項１に記載の液浸リソグラフィ装置。
【請求項３】
前記ガス供給デバイスがオゾン生成ユニットを備える、請求項２に記載の液浸リソグラフィ装置。
【請求項４】
前記ガス供給デバイスおよびガス放出デバイスが前記シャワーヘッドに取り付けられる、請求項２に記載の液浸リソグラフィ装置。
【請求項５】
前記ガス供給デバイスが、前記液浸液供給デバイスに配置されたガス供給ベント、および前記液浸液放出デバイスに配置されたガス放出ベントを含む、請求項４に記載の液浸リソグラフィ装置。
【請求項６】
前記クリーニングデバイスがさらに、クリーニングプロセス中に液浸液に曝されている前記投影光学レンズシステムの部分を照明する紫外線光源を備える、請求項２に記載の液浸リソグラフィ装置。
【請求項７】
前記紫外線光源は、クリーニングガスが前記投影光学システムと前記ステージの間を流れている間に、クリーニングすべき前記投影光学システム要素に当たる紫外線光を送る、請求項６に記載の液浸リソグラフィ装置。
【請求項８】
前記ウェーハステージが、前記紫外線光源からの光をクリーニングすべき表面に送れるようにする領域を含む。請求項６に記載の液浸リソグラフィ装置。
【請求項９】
ウェーハステージが、紫外線光源からの光を反射して、前記紫外線光源からの光をクリーニングすべき表面に送れるようにする前記ウェーハステージの領域に通すミラーを含む、請求項６に記載の液浸リソグラフィ装置。
【請求項１０】
前記エネルギ源は、クリーニングガスが前記投影光学システムと前記ステージの間を流れている間に、前記投影光学システム要素に当たる紫外線光を送る、請求項６に記載の液浸リソグラフィ装置。
【請求項１１】
前記クリーニングガスが空気、酸素増強空気または酸化希ガスを含む、請求項１に記載の液浸リソグラフィ装置。
【請求項１２】
さらに、最終レンズ要素を通って送られたエネルギドーズレベルを感知して、最終レンズ要素のクリーニングが必要か判断するドーズセンサを備える、請求項１に記載の液浸リソグラフィ装置。
【請求項１３】
前記ドーズセンサが前記ステージに配置される、請求項１２に記載の液浸リソグラフィ装置。
【請求項１４】
最終レンズ要素を通して送られたエネルギドーズレベルを感知して、前記最終レンズ要素のクリーニングが必要か判断するドーズセンサと、
前記最終レンズ要素に当たる紫外線光を生成する紫外線ランプと、
を備える液浸リソグラフィウェーハステージ。
【請求項１５】
さらに、前記紫外線ランプからの光を前記最終レンズ要素に反射するミラーシステムを備える、請求項１４に記載の液浸リソグラフィウェーハステージ。
【請求項１６】
液浸リソグラフィシステムの露光ゾーンに液浸流体を提供する液浸流体シャワーヘッドを有する液浸リソグラフィシステム内で、最終レンズ要素をinsituクリーニングする方法であって、
（ａ）前記シャワーヘッドおよび前記露光ゾーンから前記液浸流体を排出し、
（ｂ）クリーニングガスを、前記シャワーヘッドを通して、前記液浸流体に曝された前記最終レンズ要素表面の向こう側まで送り、
（ｃ）前記最終レンズ要素が乾燥した後、前記最終レンズ要素から除去された汚染物質からデブリを生成するステップ（ｂ）にて送られている前記クリーニングガスが存在する状態で、前記最終レンズ要素を紫外線光に曝し、
（ｄ）前記最終レンズ要素から、ステップ（ｃ）にて発生した前記デブリを洗い流す
ことを含む方法。
【請求項１７】
さらに、ステップ（ａ）とステップ（ｂ）の間に、乾燥ガスを、前記シャワーヘッドを通して、前記液浸流体に曝された前記最終レンズ要素表面の向こう側まで送るステップを含む、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記クリーニングガスが空気、酸素増強空気、酸化希ガス、またはオゾンを含む、請求項１６に記載の方法。
【請求項１９】
ステップ（ｂ）および（ｃ）の継続時間が、前記最終レンズ要素に累積したデブリの厚さに基づいて、数秒から数時間の範囲である、請求項１６に記載の方法。
【請求項２０】
前記最終レンズ要素を紫外線光に曝すことが、前記液浸リソグラフィシステムを通して前記紫外線光を送ることを含む、請求項１６に記載の方法。
【請求項２１】
前記最終レンズ要素を紫外線光に曝すことが、前記最終レンズ要素の下から前記紫外線光を送ることを含む、請求項１６に記載の方法。
【請求項２２】
液浸リソグラフィシステムの露光ゾーンに液浸流体を提供する液浸流体シャワーヘッドを有する液浸リソグラフィシステム内で、最終レンズ要素をinsituクリーニングする方法であって、
（ａ）前記シャワーヘッドおよび前記露光ゾーンから前記液浸流体を排出し、
（ｂ）前記最終レンズ要素を乾燥し、
（ｃ）クリーニングガスを、前記シャワーヘッドを通して、前記最終レンズ要素から除去された汚染物質からデブリを生成する前記液浸流体に曝された前記最終レンズ要素の向こう側まで送り、
（ｄ）ステップ（ｃ）にて発生したデブリを前記最終レンズ要素から洗い流す
ことを含む方法。
【請求項２３】
前記クリーニングガスがオゾンを含む、請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
ステップ（ｂ）および（ｃ）の継続時間が、前記最終レンズ要素に累積したデブリの厚さに基づいて、数秒から数時間の範囲である、請求項２２に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
[0001]  本発明は液浸リソグラフィに、特に液浸リソグラフィシステムにおけるinsituレンズクリーニングのための方法を提供することに関する。
【背景技術】
【０００２】
[0002]  リソグラフィは、基板の表面にフィーチャを生成するために使用するプロセスである。このような基板は、フラットパネルディスプレイ（例えば液晶ディスプレイ）、半導体ウェーハ、回路基板、様々な集積回路、印刷ヘッド、マクロ／ナノ流体基板などの製造に使用できるものを含むことができる。リソグラフィ中に、基板ステージ上に配置された基板は、リソグラフィ装置内に配置された露光光学系によって、基板の表面に投影される像に露光される。
【０００３】
[0003]  投影された像は、基板の表面に配置されたフォトレジストなどの層の性質に変化を生じさせる。これらの変化は、露光中に基板に投影されたフィーチャに対応する。露光後に、層をエッチングするか、他の方法で処理して、パターン付き層を生成することができる。パターンは露光中に基板に投影されるこれらのフィーチャに対応する。次に、パターン付き層を使用して、導電層、半導体層または絶縁層などの基板内の下にある構造層の露光部分を除去するか、さらに処理する。このプロセスを、所望のフィーチャが基板の表面、または様々な層に形成されるまで、他のステップとともに繰り返す。
【０００４】
[0004]  液浸リソグラフィの分野では、露光作業は、投影光学系の最終レンズ要素と基板の間の通常水である液浸液とともに実行される。最終レンズ要素の表面は、溶剤を使用して定期的に手作業でクリーニングされる。除去される残留物は通常、処理中の基板上のフォトレジストを紫外線で露光することによるレジスト浸出に伴う処理から生じる。このレンズクリーニング方法は、レンズを通常は取り外さなければならないので、時間がかかる。さらに、この方法は、新しい液浸リソグラフィ露光システムにはそれほど適切ではない。新しい液浸リソグラフィシステムは、屈折率が高い液浸流体を使用する。屈折率が高い液浸流体は有機質で、紫外線露光で分解して、炭素付着物を生成し、これは手作業では容易にはレンズ表面からクリーニングされない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
[0005]  必要とされているのは、屈折率が高い液浸流体とともに動作する液浸リソグラフィシステムで使用されるレンズのinsituクリーニングのための方法である。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
[0006]  本発明は、エネルギ源と、投影光学システムと、上に置かれた基板を動かすステージと、投影光学システムと基板の間に液体の流れを生成する液浸液供給デバイスおよび液浸液放出デバイスを含むシャワーヘッドと、液浸液に接触した投影光学システムの部分をクリーニングガスによってクリーニングするクリーニングデバイスとを含む液浸リソグラフィ装置を対象にする。実施形態では、クリーニングデバイスはガス供給デバイスおよびガス放出デバイスを含む。ガス供給デバイスは、投影光学システムの最終レンズ要素とステージの間にクリーニングガスの流れを生成する。最終レンズ要素は液浸流体と接触し、ウェットレンズ要素と呼ぶこともできる。実施形態では、装置は最終レンズ要素のクリーニングが必要な時を判断するドーズセンサを含むウェーハステージを含む。ウェーハステージは、紫外線光源、またはクリーニングされている最終レンズ要素の表面に紫外線光を反射するために使用される１つまたは複数のミラーも含むことができる。実施形態では、システムのエネルギ源は、クリーニング用紫外線光を提供する。
【０００７】
[0007]  本発明は、液浸リソグラフィシステムの露光ゾーンに液浸流体を提供する液浸流体シャワーヘッドを有する液浸リソグラフィシステム内にて最終レンズ要素をinsituクリーニングする方法も提供する。方法は、最終レンズ要素にクリーニングが必要であることを判断することを含む。この判断をすると、液浸流体がシャワーヘッドおよび露光ゾーンから排出される。次に、クリーニングガスが、シャワーヘッドを通して、液浸流体に曝された最終レンズ要素表面の向こう側までにわたって送られる。あるいは、ガスはシャワーヘッド以外の手段を通ることができる。最終レンズ要素がクリーニングガスに曝されている間、最終レンズ要素は、紫外線光にも曝されている。紫外線光が存在する状態で、クリーニングガスがウェットレンズの表面の汚染物質と反応し、レンズから汚染物質／デブリを除去する。反応によって蒸発したデブリは、流れるクリーニングガスによって掃き取られ、それによって最終レンズ要素をクリーニングする。
【０００８】
[0008]  別の実施形態では、ガスデリバリシステム内でオゾンを発生する。このような実施形態では、オゾンおよび他のガス、例えば酸素および窒素を含むクリーニングガス混合物が、ガスデリバリシステム内で生成される。次に、ガス混合物が、クリーニングのためにウェットレンズ要素へと届けられる。この実施形態では、紫外線光源が必要ない。
【０００９】
[0009]  本発明は、最終レンズ要素を損傷せず、レンズの取外しおよび再配置という骨の折れる作業も必要としない最終レンズ要素のinsituクリーニングのための効率的なシステムおよび方法を提供する。
【００１０】
[00010]  本発明を添付図面を参照しながら説明する。図面では、同様の参照番号は同一の、または機能的に類似した要素を示す。要素が最初に現れた図が、対応する参照番号の最左桁で示される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
[00016]  本明細書では本発明を特定の用途の例示的実施形態に関して説明しているが、本発明がそれに制限されないことを理解されたい。本明細書で与えられる教示に触れた当業者には、その範囲内で追加的な変更、応用および実施形態、ならびに本発明が極めて有用となる追加の領域が認識される。
【００１２】
[00017]  液浸リソグラフィシステムでは、投影光学システムの出口窓と加工中の基板表面との間の空間に液体が注入される。図１は、液浸リソグラフィシステム１００のブロック図である。システム１００はエネルギ源１１０、パターンジェネレータ１２０、および投影光学システム１３０を含む。エネルギ源１１０は、加工中の基板１５０などの基板にパターンを生成するために使用されるエネルギ露光ドーズを生成する。パターンジェネレータ１２０は、基板１５０に生成すべきパターンを生成する。
【００１３】
[00018]  投影光学システム１３０は光学要素１３２、光学要素１３４、および出口ＰＯＳ要素または最終レンズ要素とも呼ばれる光学要素１３６を含む。投影光学システム１３０は、エネルギ源１１０によって提供されたエネルギを調節して、これを基板１５０に適切に集束し、所望のパターンを生成する。
【００１４】
[00019]  基板１５０は、ウェーハステージ１６０の表面に固定される。ウェーハステージ１６０は、リソグラフィ機械に機械的に結合され、パターンが生成されている基板の区域に応じて、投影光学系の下方で基板の位置を調節するように動く。当業者に知られているように、投影光学系は数とタイプの両方で、広範囲の光学要素を有することができる。投影光学システム１３０は、例示的目的で単純化した例が提供され、本発明の範囲を制限するものではない。
【００１５】
[00020]  液浸液１４０は、露光ゾーンと呼ばれる基板１５０と最終レンズ要素１３６との間の空間を充填する。液浸リソグラフィシャワーヘッド（図示せず）は、加工中の基板の区域全体に液浸液１４０の流れを提供する。時間が経過すると、紫外線露光プロセスおよび液浸液の不純物の結果である付着物が、最終レンズ要素１３６の表面に形成される。これらの付着物は、液浸リソグラフィ装置の性能を損ない、定期的にクリーニングする必要がある。
【００１６】
[00021]  レンズ要素１３６のレンズ表面のクリーニングは、重大な難問を提起する。例えば、クリーニングプロセスは、レンズを損傷してはならない。残念ながら、多くのクリーニング溶液は、レンズ要素に使用される材料にとって腐食性であり、レンズ表面を荒らす。また、レンズ要素はツール内に埋め込まれるので、クリーニング温度が高くなりすぎてはならない。これらの制限があるので、レンズを清浄に維持するには、最終レンズ要素間の距離を調節し、液浸流体の高い流量を維持して、デブリがレンズ表面に沈殿するのを防止するなど、細心の注意が要る。また、紫外線透過率を高く維持するために、液浸流体の精製も実行される。これらのステップはデブリおよび紫外線で活性化した付着物を減少させることができるが、無くなることはない。したがって、往々にしてクリーニングのためにレンズ要素にアクセスするか、外さねばならず、これも望ましくない。というのは、レンズを外し、交換するために時間がかかり、取り外しプロセス中にレンズを損傷する可能性が高まるからである。
【００１７】
[00022]  最近の研究で、過酸化水素とオゾンを試験して、その組合せが有機汚染物質を酸化できるか調べた。研究は、酸化体が汚染物質を除去するには弱すぎるという結論になった。研究は、イオンおよびアニオンを含む様々な種類の界面活性剤も試みたが、明快な改善はなかったいうことも示した。Changその他のDevelopment of Cleaning Process for Immersion Lithography（Proc. of SPIE, Vol. 6154 (2006)）（「Changの研究」）を参照されたい。
【００１８】
[00023]  「Liquid Immersion Optical Tool Method for Cleaning Liquid Immersion Optical Tool, and Method for Manufacturing Semiconductor Device」と題され、２００５年９月２日にHigashikiによって出願された米国特許出願第１１／２１７，４６４号は、クリーニング溶液を使用して最終レンズ要素をクリーニングする装置について説明している。クリーニング溶液が最終レンズ要素を通過し、レンズからデブリをクリーニングする。オゾン水、イオン化水、炭酸水、または過酸化水などの機能水を、クリーニング溶液として使用する。あるいは、酸をクリーニング溶液として使用する。また、水蒸気を使用してクリーニングを実行することができる。Higashikiの特許出願の段落３９。超音波、噴射水またはキャビテーションジェットを使用して、クリーニング溶液中に空隙を生成し、クリーニングすべき区域を溶液が通過するにつれ、洗浄作用を提供することができる。専門のノズルを使用する。同上の段落４０−４１。クリーニングプロセスがすすぎプロセスを通して終了すると、クリーニング溶液が排出される。同上の段落４８。
【００１９】
[00024]  Higashikiの特許出願およびChangの研究結果に記載された上記のシステムとは対照的に、本発明は紫外線で活性化した酸素に基づいたガスのクリーニングプロセス(ultra-violet activated oxygen based gaseous cleaning process)を使用して、レンズ１３６のウェットレンズ表面に吸着した付着物を定期的に除去することによって、レンズ１３６などの最終レンズ要素のクリーニングに対処する。Higashikiの特許出願の場合のように、クリーニング溶液を使用するのではなく、本発明は、紫外線光によって活性化した酸素に基づいたガスを使用して、クリーニング作用を提供する。
【００２０】
[00025]  図２は、本発明の実施形態による液浸リソグラフィ装置２００の線図を提供する。液浸リソグラフィ装置１００の場合のように、液浸リソグラフィ装置２００はエネルギ源１１０、パターンジェネレータ１２０、および投影光学システム１３０を含む。エネルギ源１１０は、加工中の基板１５０などの基板にパターンを生成するために使用されるエネルギ露光ドーズを生成する。パターンジェネレータ１２０は、基板１５０に生成すべきパターンを生成する。
【００２１】
[00026]  液浸リソグラフィ装置２００は、最終レンズ要素１３６と基板１５０の間に液体１４０の流れを生成する液浸液供給デバイス２３０および液浸液放出デバイス２４０も含む。液浸液１４０は供給管２１０を通って流れ、露光ゾーンと呼ばれる最終レンズ要素１３６と基板１５０の間の区域を横切って、放出管２２０を通って出て、液浸液放出デバイス２４０に入る。液浸液供給デバイス２３０、液浸液放出デバイス２４０、供給管２１０および放出管２２０は、シャワーヘッドの主な要素を示すためのものである。本発明は、記載されたようなシャワーヘッドでの使用に制限されず、当業者は、本明細書の教示に基づいて、本発明を他のタイプのシャワーヘッド設計で使用可能にすることができる。実施形態では、液浸液供給デバイス２３０と液浸液排出デバイス２４０のいずれか、または両方が、クリーニングプロセスを実行する場合のための準備で、液浸液を完全に排出するベントまたは他の手段を含む。
【００２２】
[00027]  液浸リソグラフィ装置２００は、投影光学システムの一部をクリーニングするクリーニングデバイスも含む。クリーニングデバイスは、ガス供給デバイス２５０およびガス放出デバイス２６０を含む。ガス供給デバイス２５０は、最終レンズ要素１３６とステージ１６０の間にクリーニングガスの流れを生成する。この実施形態では、ガス供給デバイス２５０は、ガス供給管（図示せず）を取り付けることができるベントである。同様に、ガス放出デバイス２６０は、クリーニングガスを除去するために、ガス放出管（図示せず）を取り付けることができるベントである。ガス供給デバイス２５０およびガス放出デバイス２６０は、ガスの流れを生成できる任意のタイプのデバイスまたは装置を含むことができる。クリーニングガスは、例えば空気、酸素増強空気(oxygen enhanced air)または酸化希ガス(oxygenated noble gases)を含むことができる。
【００２３】
[00028]  代替実施形態、または追加特徴がある実施形態では、ガス供給デバイス２５０が、Absolute Systems, Inc.が製造したAE13MC Concentration Unitなどのオゾンジェネレータに結合される。ガス供給デバイス２５０は、これでクリーニングガスを最終レンズ要素１３６の向こう側まで押しやる。この実施形態では、クリーニングのために紫外線光源が必要ではない。別の実施形態では、放電を使用して、オゾンを発生させることができる。ガス供給デバイス２５０とガス放出デバイス２６０の一方または両方が、シャワーヘッド内に含まれる。ガス供給デバイス２５０とガス放出デバイス２６０の一方または両方を、シャワーヘッドに取り付けることができる。
【００２４】
[00029]  基板１５０は、ウェーハステージ２０５の表面に固定される。ウェーハステージ２０５は、リソグラフィ機械に機械的に結合され、パターンが生成されている基板の区域に応じて、投影光学系の下方で基板の位置を調節するように動く。他の実施形態では、ウェーハステージ２０５を以下で検討するように、ウェーハステージ１６０またはウェーハステージ４０５で置換することができる。
【００２５】
[00030]  また、実施形態ではウェーハステージ２０５がドーズセンサ２７０および紫外線光源２８０を含む。ドーズセンサ２７０は、最終レンズ要素１３６の下方に配置して、レンズのクリーニングが必要か判断することができる。ドーズセンサ２７０は、投影光学系１３０を通して送られ、受け取ったエネルギを感知する。感知したエネルギが特定の閾値より低い、または露光ゾーンの均一性が許容可能なレベルより下まで劣化した場合、レンズクリーニングの表示が提供される。閾値は、エネルギ源１１０のタイプ、エネルギドーズ、投影光学システム１３０および使用されている液浸流体のタイプによって変化する。
【００２６】
[00031]  紫外線光源２８０は、クリーニングプロセス中に最終レンズ要素１３６の部分の照明に使用される紫外線光を生成する。クリーニングプロセスを開始すると、ウェーハステージ１６０は、紫外線光源２８０がクリーニング中の区域の下方に配置されるように配置される。ウェーハステージ１６０は、紫外線光が最終レンズ要素１３６に当たることができるようにする透明な表面の開口を含む。実施形態では、エネルギ源１１０は、クリーニングを支持するために必要な紫外線光を提供することができる。
【００２７】
[00032]  図４を参照すると、ウェーハステージ４０５も液浸リソグラフィ装置２００の実施形態で、ウェーハステージ２０５の代替物として使用することができる。ウェーハステージ４０５を使用すると、紫外線光源４２０が紫外線光を、ウェーハステージ４０５の底部に装着されているミラー４１０に送る。ミラー４１０は、紫外線光を誘導して、クリーニング中の光学要素、通常は最終レンズ要素１２６に当てる。
【００２８】
[00033]  図５は、本発明の実施形態により液浸リソグラフィシステム内で最終レンズ要素をinsituクリーニングする方法５００のフローチャートを提供する。方法５００はステップ５１０で開始する。ステップ５１０で、最終レンズ要素はクリーニングが必要であるという指示を判断する。以上で検討したように、炭素付着物が、最終レンズ要素の表面に堆積している。１つの実施形態では、ドーズセンサ２７０などのドーズセンサを使用して、最終レンズ要素１３６などの最終レンズ要素にクリーニングが必要であるか、判断することができる。あるいは、液浸流体のタイプおよび流体処理装置のクリーニングに基づいて、最終レンズ要素をクリーニングする時であるかを判断することができる。
【００２９】
[00034]  ステップ５２０で、液浸流体を排出する。例えば、液浸流体１４０は、液浸液供給デバイス２３０および液浸液放出デバイス２４０から排出することができる。実施形態では、液浸液放出デバイスは、クリーニングプロセスの準備で液浸液を完全に排出するベントまたは他の手段を含む。
【００３０】
[00035]  ステップ５３０で、クリーニングガスを最終レンズ要素の向こう側まで通す。実施形態では、クリーニングガスは、空気、酸素増強空気または酸化希ガスを含むことができる。クリーニングガス供給デバイス２５０は、クリーニングガスを例えば最終レンズ要素１３５とウェーハステージ２０５の間の区域に強制的に入れる。クリーニングガス放出デバイス２４０は、最終レンズ要素１３５を越えて押しやられているガスを受ける。実施形態では、ガス放出デバイス２４０は、クリーニングガスを抽出する真空を含むことができる。外部ガスポンプおよび真空を、ガス供給デバイス２３０およびガス放出デバイス２４０に取り付けることができる。実施形態では、ガス供給デバイス２３０およびガス放出デバイス２４０は、外部供給および放出装置に結合されたベントである。クリーニングプロセス中に最終レンズ要素を紫外線光に露光する前に、最終レンズ要素を乾燥しなければならない。実施形態では、ステップ５３０は、最終レンズ要素が乾燥していることを保証するのに必要なほど十分長く行われる。代替実施形態では、ステップ５２０の後で、ステップ５３０にてクリーニングガスを導入する前に、別個の乾燥ガスを最終レンズ要素の向こう側まで通す。乾燥ガスは、クリーニングすべき最終レンズ要素の表面が乾燥していることを保証するのに必要なほど十分長い時間、最終レンズ要素の向こう側まで送られる。乾燥は、数秒から数時間の間で実行することができる。継続時間は可能な限り短いことが望ましく、レンズおよび／または乾燥プロセスに敏感な周囲のフィーチャに損傷を引き起こさないことが好ましい。
【００３１】
[00036]  ステップ５４０で、乾燥している最終レンズ要素を、最終レンズ要素を通るクリーニングガスが存在する状態で、紫外線光に露光する。ステップ５３０および５４０の継続時間は、最終レンズ要素に累積したデブリの厚さに基づいて、数秒から数時間の範囲でよい。紫外線光がクリーニングガス中の酸素に及ぼす作用は、オゾンを生成することであり、これは最終レンズ要素の表面に形成された誘起／炭素付着物を除去する。ステップ５４０の間に、オゾンまたは他のクリーニングガスによってデブリを蒸発させ、ＣＯ2および水蒸気を生成する。紫外線光は、エネルギ源１１０によって、紫外線光源２８０によって、または紫外線光源４２０によって生成することができる。
【００３２】
[00037]  代替的または追加的特徴がある別の実施形態では、ガスデリバリシステムによってオゾンを生成する。一例のオゾン生成システムは、例えばAbsolute Systems, Inc.が製造したAE13MC Concentration Unitである。ガスデリバリシステムは、通常酸素、窒素およびオゾンを組み合わせたクリーニングガス混合物を生成する。クリーニングガス混合物は、炭素付着物除去率および安全性に基づいて決定される。
【００３３】
[00038]  実施形態では、オゾンが活性腐食剤であるので、オゾン濃度は可能な限り高い。通常、オゾンの濃度は、オゾンが最終レンズ要素のクリーニングに効果的であるが、オゾンに対して敏感なレンズの周囲の他の特徴を損傷しないように選択される。クリーニングガスはクリーニングすべき最終レンズ要素の表面を通過させられ、このクリーニングガスの通過は有機／炭素付着物を除去する。したがって、レンズに接触するようにクリーニングガスが最終レンズ要素上を流れる継続時間は、汚染付着物を除去するのに十分である。継続時間は、オゾンによって損傷されるような周囲の特徴に損傷が生じないように制限される。クリーニングガスを使用するクリーニングの継続時間は、クリーニングガスに対して敏感な特長によって決定される。継続時間は、最終レンズ要素に累積し得る付着物の厚さによって決定される。継続時間は、数秒から数時間続いてよい。継続時間は、可能な限り短いことが望ましい。
【００３４】
[00039]  この実施形態では、紫外線光源は必要ないことがある。というのは、ガスデリバリシステムでオゾンが生成されるからである。
【００３５】
[00040]  ステップ５５０で、以前のステップで蒸発したデブリを、流れるクリーニングガスによって洗い流す。ステップ５６０で、方法５００が終了する。クリーニングプロセスの後、液浸液を液浸液供給デバイス２３０および液浸液放出デバイス２４０に再導入する。
【００３６】
結論
[00041]  本発明の例示的実施形態を提示してきた。本発明は、これらの例に制限されない。これらの例は、制限ではなく、例示のために提示されたものである。代替物（本明細書で説明したものの等価物、拡張、変形、逸脱など）が、本明細書に含まれる教示に基づいて、当業者には明白になる。このような代替物は、本発明の範囲および精神に含まれる。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】[00011]  液浸リソグラフィシステムのブロック図である。
【図２】[00012]  本発明の実施形態による液浸リソグラフィシステムのブロック図である。
【図３】[00013]  本発明の実施形態により、最終レンズ要素のクリーニングのために紫外線光源が配置された液浸リソグラフィシステムのブロック図である。
【図４】[00014]  本発明の実施形態により、最終レンズ要素のクリーニングのために紫外線光を反射するようミラーが配置された液浸リソグラフィシステムのブロック図である。
【図５】[00015]  本発明の実施形態により、事前較正（プレキャリブレーション）した収差情報を使用して液浸リソグラフィシステムの露光ゾーン全体で液浸流体の露光エネルギの加熱効果を補償する方法のフローチャートである。
【図１】
2008235872.tif 000003
【図２】
2008235872.tif 000004
【図３】
2008235872.tif 000005
【図４】
2008235872.tif 000006
【図５】
2008235872.tif 000007
【外国語明細書】
2008235872000001.pdf