(57)【要約】 【課題】  上層部がゲル状あるいは半固形状になる廃液の回収作業を容易化することができる薬液廃液回収システムおよび方法を提供する。【解決手段】  コータ側廃液タンクＡ１１は、コータ側スピンナーカップ３から排出される第１の薬液を含む粘度４０ｃｐ以上の中高粘度の第１の廃液を貯留する。廃液移し変え用ポンプ１７は、コータ側廃液タンクＡ１１に貯留する第１の廃液を廃液搬送第１パイプ１８によって吸い出し、吸い出した第１の廃液を廃液搬送第２パイプ１９によってデベロッパ側廃液タンク１２に送給する。デベロッパ側廃液タンク１２は、デベロッパ側スピンナーカップ４から排出される第２の薬液を含む粘度１０ｃｐ以下の低粘度の第２の廃液を貯留する。コータ側廃液タンクＡ１１からデベロッパ側廃液タンク１２に送給された第１の廃液は、第２の廃液と混合して薄められ、粘度が低くなる。【選択図】      図１
2008177304.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体装置製造装置の塗布装置から排出され、第１の薬液を含み、かつ予め定める第１の粘度以上の粘度である第１の廃液を貯留する塗布装置用廃液貯留手段と、
塗布装置用廃液貯留手段に貯留される第１の廃液を送給する送給手段と
半導体装置製造装置の現像装置から排出され、第１の薬液を溶かす第２の薬液を少なくとも含み、かつ予め定める第１の粘度よりも予め定める粘度差分低い第２の粘度以下の粘度である第２の廃液に、送給手段によって送給される第１の廃液を混合させた第３の廃液を貯留する回収用廃液貯留手段とを含むことを特徴とする薬液廃液回収システム。
【請求項２】
前記予め定める第１の粘度は、４０ｍＰａ・ｓであり、
前記第２の粘度は、１０ｍＰａ・ｓであることを特徴とする請求項１に記載の薬液廃液回収システム。
【請求項３】
前記塗布装置用廃液貯留手段に貯留される第１の廃液の量が予め定める第１の貯留量以上であることを検出する上限検出手段と、
塗布装置用廃液貯留手段に貯留される第１の廃液の量が第１の貯留量未満である予め定める第２の貯留量以下であることを検出する下限検出手段と、
上限検出手段が塗布装置用廃液貯留手段に貯留される第１の廃液の量が第１の貯留量以上であることを検出すると、送給手段に送給を開始させ、下限検出手段が塗布装置用廃液貯留手段に貯留される第１の廃液の量が第２の貯留量以下であることを検出すると、送給手段に送給を停止させる制御手段とをさらに含むことを特徴とする請求項１または２に記載の薬液廃液回収システム。
【請求項４】
前記塗布装置用廃液貯留手段は、底面および側面によって構成される内周面を有する容器であり、
前記送給手段は、前記容器の前記側面に前記底面寄りの予め定める位置で接続され、前記容器から第１の廃液を排出するための排出用配管を含み、
前記容器の前記底面は、前記排出用配管が接続される前記側面に近接するにつれて下方に傾斜することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記載の薬液廃液回収システム。
【請求項５】
前記回収用廃液貯留手段は、前記現像装置に設けられる現像装置用廃液貯留容器であることを特徴とする請求項３または４に記載の薬液廃液回収システム。
【請求項６】
前記回収用廃液貯留手段は、前記現像装置に設けられる現像装置用廃液貯留容器とは異なる現像装置外廃液貯留容器であることを特徴とする請求項３または４に記載の薬液廃液回収システム。
【請求項７】
前記現像装置外廃液貯留容器は、前記第２の薬液が予め貯留されていることを特徴とする請求項６に記載の薬液廃液回収システム。
【請求項８】
半導体装置製造装置の塗布装置から排出され、第１の薬液を含み、かつ予め定める第１の粘度以上の粘度である第１の廃液を塗布装置用廃液タンクに貯留する塗布装置廃液貯留工程と、
塗布装置廃液貯留工程で貯留される第１の廃液を送給する送給工程と、
半導体装置製造装置の現像装置から排出され、第１の薬液を溶かす第２の薬液を少なくとも含み、かつ予め定める第１の粘度よりも予め定める粘度差分低い第２の粘度以下の粘度である第２の廃液に、送給工程で送給される第１の廃液を混合させた第３の廃液を回収用廃液タンクに貯留する回収用廃液貯留工程とを含むことを特徴とする薬液廃液回収方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、薬液の廃液を回収することができる薬液廃液回収システムおよび方法に関し、より詳細には、半導体装置製造装置において、塗布装置側の薬液の廃液を現像装置側の廃液タンクまたは外部の廃液タンクに排出することができる薬液廃液回収システムおよび方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の半導体装置製造装置の塗布装置（以下「コータ」という）側の薬液廃液タンクに貯留される廃液は、溶剤であることが多い。この溶剤は揮発性があるため、コータでは排気が行われる。排気が行なわれるので、廃液タンク内に貯留される廃液から揮発成分が蒸発し易く、廃液の上層部で廃液が固まる傾向にある。廃液タンク内に貯留される廃液は、中・高粘度の廃液であるため、さらに固まり易い。廃液が上層部にて固まり固形化していくので、廃液処理の作業性が悪くなっている。
【０００３】
図４は、半導体装置製造装置９に適用された第１の従来の技術による自動回収システム４０を正面から見た概略の構成を模式的に示す。図５は、図４に示した自動回収システム４０を側面から見た概略の構成を模式的に示す。自動回収システム４０は、コータ側廃液タンクＢ４１、コータ側廃液上限感知センサ１３、コータ側制御部４２、現像装置（以下「デベロッパ」という）側廃液タンク１２、デベロッパ側廃液上限感知センサ２１、およびデベロッパ側制御部２２を含む。
【０００４】
コータ側廃液タンクＢ４１は、半導体装置製造装置９のコータ側スピンナーカップ３から排出される薬液の廃液を貯留する。コータ側制御部４２は、コータ側廃液上限感知センサ１３から、コータ側廃液タンクＢ４１に貯留される廃液の量が一定量以上になったことを知らされると、図示しない報知手段によって、コータ側廃液タンクＢ４１に貯留される廃液の回収が必要であることを、装置管理者に知らせる。装置管理者は、報知手段によってコータ側廃液タンクＢ４１に貯留される廃液の回収が必要であることを知らされると、コータ側廃液タンクＢ４１を引き出して、廃液を輸送用の廃液タンクに移す。
【０００５】
デベロッパ側廃液タンク１２は、半導体装置製造装置９のデベロッパ側スピンナーカップ４から排出される薬液の廃液を貯留する。デベロッパ側制御部２２は、デベロッパ側廃液上限感知センサ２１からデベロッパ側廃液タンク１２に貯留される廃液が一定量以上になったことを知らされると、図示しない報知手段によって、デベロッパ側廃液タンク１２に貯留される廃液の回収が必要であることを、装置管理者に知らせる。装置管理者は、報知手段によってデベロッパ側廃液タンク１２に貯留される廃液の回収が必要であることを知らされると、デベロッパ側廃液タンク１２を取り外し、取り外したデベロッパ側廃液タンク１２内の廃液を輸送用の廃液タンクに移して回収する。
【０００６】
コータ側スピンナーカップ３から排出される薬液の廃液は、中粘度あるいは高粘度の廃液であり、廃液に含まれる揮発成分が蒸発すると、コータ側廃液タンクＢ４１に貯留される廃液の上層部がゲル状あるいは半固形状になる。デベロッパ側スピンナーカップ４から排出される薬液の廃液は、低粘度の廃液であり、デベロッパ側廃液タンク１２に貯留される廃液は、ゲル状あるいは半固形状になることはない。
【０００７】
第２の従来の技術として、液滴吐出装置がある。この液滴吐出装置は、第１液体とこれよりも粘度の低い第２液体とを選択的にヘッド部に供給可能とし、所定の処理が終了すると、ヘッド内部の第１液体を排出して低粘度の第２液体と置換することができる。したがって、休止期間後に再使用する場合でも、液体がヘッド内部で固形化することがなく、ヘッドの目詰まりを防止することができる。ヘッド内に充填された第２液体を吸引して排出するための廃液タンクを有するが、単に貯めておくためのものである（たとえば特許文献１および特許文献２参照）。
【０００８】
【特許文献１】特開２００３−３４４６４３号公報
【特許文献２】特開２００３−２８４９８４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、第１の従来の技術は、コータ側の廃液タンクに貯留される廃液の上層部が、揮発成分が蒸発してゲル状または半固形状になる。半導体装置製造装置から引き出したコータ側の廃液タンクから廃液の移し変えを行なう際、上層部がゲル状あるいは半固形状になっているために廃液は取り出しにくく、コータ側の廃液タンクに貯留される廃液の回収に手間がかかるという問題がある。さらに、廃液を取り出すときに廃液を床にこぼすと、こぼした廃液を掃除する必要があり、作業効率が悪くなる。第２の従来の技術は、液体がヘッド内部で固形化すること防止することはできるが、廃液タンクでの固形化を防止することはできない。
【００１０】
本発明の目的は、上層部がゲル状あるいは半固形状になり易い廃液の回収作業を容易化することができる薬液廃液回収システムおよび方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、半導体装置製造装置の塗布装置から排出され、第１の薬液を含み、かつ予め定める第１の粘度以上の粘度である第１の廃液を貯留する塗布装置用廃液貯留手段と、
塗布装置用廃液貯留手段に貯留される第１の廃液を送給する送給手段と
半導体装置製造装置の現像装置から排出され、第１の薬液を溶かす第２の薬液を少なくとも含み、かつ予め定める第１の粘度よりも予め定める粘度差分低い第２の粘度以下の粘度である第２の廃液に、送給手段によって送給される第１の廃液を混合させた第３の廃液を貯留する回収用廃液貯留手段とを含むことを特徴とする薬液廃液回収システムである。
【００１２】
本発明に従えば、塗布装置用廃液貯留手段によって、半導体装置製造装置の塗布装置から排出され、第１の薬液を含み、かつ予め定める第１の粘度以上の粘度である第１の廃液が貯留され、送給手段によって、塗布装置用廃液貯留手段に貯留される第１の廃液が送給され、回収用廃液貯留手段によって、半導体装置製造装置の現像装置から排出され、第１の薬液を溶かす第２の薬液を少なくとも含み、かつ予め定める第１の粘度よりも予め定める粘度差分低い第２の粘度以下の粘度である第２の廃液に、送給手段によって送給される第１の廃液を混合させた第３の廃液が貯留される。すなわち、塗布装置から排出される中高粘度の第１の廃液が、塗布装置用廃液貯留手段である。たとえば塗布装置側の廃液タンクから回収用廃液貯留手段であるたとえば現像装置側の廃液タンクに送給され、回収用廃液貯留手段では、送給された中高粘度の第１の廃液が第２の廃液に溶けて薄められ粘度が低くなるので、回収用廃液貯留手段で上層部がゲル状あるいは半固形状になることを防止し、上層部がゲル状あるいは半固形状になり易い廃液の回収作業を容易化することができる。
【００１３】
また本発明は、前記予め定める第１の粘度は、４０ｍＰａ・ｓであり、
前記第２の粘度は、１０ｍＰａ・ｓであることを特徴とする。
【００１４】
本発明に従えば、前記予め定める第１の粘度は、４０ｍＰａ・ｓであり、前記第２の粘度は、１０ｍＰａ・ｓであるので、回収用廃液貯留手段では、塗布装置用廃液貯留手段から送給される第１の廃液の粘度を、粘度１０ｍＰａ・ｓ以下の第２の廃液によって、４０ｍＰａ・ｓ未満に薄めることができる。
【００１５】
また本発明は、前記塗布装置用廃液貯留手段に貯留される第１の廃液の量が予め定める第１の貯留量以上であることを検出する上限検出手段と、
塗布装置用廃液貯留手段に貯留される第１の廃液の量が第１の貯留量未満である予め定める第２の貯留量以下であることを検出する下限検出手段と、
上限検出手段が塗布装置用廃液貯留手段に貯留される第１の廃液の量が第１の貯留量以上であることを検出すると、送給手段に送給を開始させ、下限検出手段が塗布装置用廃液貯留手段に貯留される第１の廃液の量が第２の貯留量以下であることを検出すると、送給手段に送給を停止させる制御手段とをさらに含むことを特徴とする。
【００１６】
本発明に従えば、上限検出手段によって、前記塗布装置用廃液貯留手段に貯留される第１の廃液の量が予め定める第１の貯留量以上であることが検出され、下限検出手段によって、塗布装置用廃液貯留手段に貯留される第１の廃液の量が第１の貯留量未満である予め定める第２の貯留量以下であることが検出され、制御手段によって、上限検出手段が塗布装置用廃液貯留手段に貯留される第１の廃液の量が第１の貯留量以上であることを検出すると、送給手段に送給を開始させ、下限検出手段が塗布装置用廃液貯留手段に貯留される第１の廃液の量が第２の貯留量以下であることを検出すると、送給手段に送給を停止させるので、人手を介入させることなく塗布装置用廃液貯留手段に貯留される第１の廃液の送給の開始および送給の停止を行うことができる。
【００１７】
また本発明は、前記塗布装置用廃液貯留手段は、底面および側面によって構成される内周面を有する容器であり、
前記送給手段は、前記容器の前記側面に前記底面寄りの予め定める位置で接続され、前記容器から第１の廃液を排出するための排出用配管を含み、
前記容器の前記底面は、前記排出用配管が接続される前記側面に近接するにつれて下方に傾斜することを特徴とする。
【００１８】
本発明に従えば、前記塗布装置用廃液貯留手段は、底面および側面によって構成される内周面を有する容器であり、前記送給手段によって、前記容器の前記側面に前記底面寄りに予め定める位置で接続され、前記容器から第１の廃液を排出するための排出用配管が含まれ、前記容器の前記底面は、前記排出用配管が接続される前記側面に近接するにつれて下方に傾斜するので、塗布装置用廃液貯留手段たとえば塗布装置側の廃液タンクに貯留される第１の廃液の上層部でゲル状になった部分を含む第１の廃液のほとんどを排出することができる。
【００１９】
また本発明は、前記回収用廃液貯留手段は、前記現像装置に設けられる現像装置用廃液貯留容器であることを特徴とする。
【００２０】
本発明に従えば、前記回収用廃液貯留手段は、前記現像装置に設けられる現像装置用廃液貯留容器であるので、従来現像装置側で用いている現像装置用廃液貯留容器たとえばデベロッパ側廃液タンクを流用することができる。
【００２１】
また本発明は、前記回収用廃液貯留手段は、前記現像装置に設けられる現像装置用廃液貯留容器とは異なる現像装置外廃液貯留容器であることを特徴とする。
【００２２】
本発明に従えば、前記回収用廃液貯留手段は、前記現像装置に設けられる現像装置用廃液貯留容器とは異なる現像装置外廃液貯留容器であるので、現像装置外廃液貯留容器に予め貯留する第２の薬液の粘度を、現像装置で用いる第２の薬液と異なる粘度にすることができる。
【００２３】
また本発明は、前記現像装置外廃液貯留容器は、前記第２の薬液が予め貯留されていることを特徴とする。
【００２４】
本発明に従えば、前記現像装置外廃液貯留容器は、前記第２の薬液が予め貯留されているので、現像装置外廃液貯留容器に予め貯留する第２の薬液として、現像装置で用いる第２の薬液を流用することができる。
【００２５】
また本発明は、半導体装置製造装置の塗布装置から排出され、第１の薬液を含み、かつ予め定める第１の粘度以上の粘度である第１の廃液を塗布装置用廃液タンクに貯留する塗布装置廃液貯留工程と、
塗布装置廃液貯留工程で貯留される第１の廃液を送給する送給工程と、
半導体装置製造装置の現像装置から排出され、第１の薬液を溶かす第２の薬液を少なくとも含み、かつ予め定める第１の粘度よりも予め定める粘度差分低い第２の粘度以下の粘度である第２の廃液に、送給工程で送給される第１の廃液を混合させた第３の廃液を回収用廃液タンクに貯留する回収用廃液貯留工程とを含むことを特徴とする薬液廃液回収方法である。
【００２６】
本発明に従えば、塗布装置廃液貯留工程では、半導体装置製造装置の塗布装置から排出され、第１の薬液を含み、かつ予め定める第１の粘度以上の粘度である第１の廃液を塗布装置用廃液タンクに貯留し、送給工程では、塗布装置廃液貯留工程で貯留される第１の廃液を送給し、回収用廃液貯留工程では、半導体装置製造装置の現像装置から排出され、第１の薬液を溶かす第２の薬液を少なくとも含み、かつ予め定める第１の粘度よりも予め定める粘度差分低い第２の粘度以下の粘度である第２の廃液に、送給工程で送給される第１の廃液を混合させた第３の廃液を回収用廃液タンクに貯留する。すなわち、塗布装置から排出される中高粘度の第１の廃液が、塗布装置側廃液タンクであるたとえば塗布装置側の廃液タンクから回収用廃液タンクであるたとえば現像装置側の廃液タンクに送給され、回収用廃液タンクでは、送給された中高粘度の第１の廃液が第２の廃液に溶けて薄められ粘度が低くなるので、回収用廃液タンクで上層部がゲル状あるいは半固形状になることを防止し、上層部がゲル状あるいは半固形状になり易い廃液の回収作業を容易化することができる。
【発明の効果】
【００２７】
本発明によれば、塗布装置から排出される中高粘度の第１の廃液が、塗布装置用廃液貯留手段であるたとえば塗布装置側の廃液タンクから回収用廃液貯留手段であるたとえば現像装置側の廃液タンクに送給され、回収用廃液貯留手段では、送給された中高粘度の第１の廃液が第２の廃液に溶けて薄められ粘度が低くなるので、回収用廃液貯留手段で上層部がゲル状あるいは半固形状になることを防止し、上層部がゲル状あるいは半固形状になり易い廃液の回収作業を容易化することができる。したがって、廃液の回収作業時間の短縮を図ることができる。さらに、塗布装置側の廃液タンクから廃液を回収する際に発生していた廃液を床にこぼすこともなくなり、こぼした廃液の掃除が不要になるので、作業効率を向上することができる。
【００２８】
また本発明によれば、回収用廃液貯留手段では、塗布装置用廃液貯留手段から送給される第１の廃液の粘度を、粘度１０ｍＰａ・ｓ以下の第２の廃液によって、４０ｍＰａ・ｓ未満に薄めることができるので、回収用廃液貯留手段では、塗布装置から送給された中高粘度の第１の廃液が固形化することはない。
【００２９】
また本発明によれば、人手を介入させることなく塗布装置用廃液貯留手段に貯留される第１の廃液の送給の開始および送給の停止を行うことができるので、塗布装置用廃液貯留手段に貯留される第１の廃液の送給を自動的に開始および停止することができる。
【００３０】
また本発明によれば、塗布装置用廃液貯留手段たとえば塗布装置側の廃液タンクに貯留される第１の廃液の上層部でゲル状になった部分を含む第１の廃液のほとんどを排出することができるので、塗布装置用廃液貯留手段に貯留する第１の廃液を効率よく回収用廃液貯留手段に送給することができる。
【００３１】
また本発明によれば、従来現像装置側で用いている現像装置用廃液貯留容器たとえばデベロッパ側廃液タンクを流用することができるので、塗布装置用廃液貯留手段たとえばコータ側廃液タンクおよびデベロッパ側廃液タンク以外に廃液タンクを薬液廃液システムに設ける必要がない。
【００３２】
また本発明によれば、現像装置外廃液貯留容器に予め貯留する第２の薬液の粘度を、現像装置で用いる第２の薬液と異なる粘度にすることができるので、塗布装置用廃液貯留手段から送給される第１の廃液の粘度をより効果的に低くすることができる粘度の薬液を用いることができる。
【００３３】
また本発明によれば、現像装置外廃液貯留容器に予め貯留する第２の薬液として、現像装置で用いる第２の薬液を流用することができるので、第１の薬液および第２の薬液のみを準備すればよい。
【００３４】
また本発明によれば、塗布装置から排出される中高粘度の第１の廃液が、塗布装置側廃液タンクであるたとえば塗布装置側の廃液タンクから回収用廃液タンクであるたとえば現像装置側の廃液タンクに送給され、回収用廃液タンクでは、送給された中高粘度の第１の廃液が第２の廃液に溶けて薄められ粘度が低くなるので、回収用廃液タンクで上層部がゲル状あるいは半固形状になることを防止し、上層部がゲル状あるいは半固形状になり易い廃液の回収作業を容易化することができる。したがって、本発明による薬液廃液回収方法を用いれば、廃液の回収作業時間の短縮を図ることができる。さらに、塗布装置側の廃液タンクから廃液を回収する際に発生していた廃液を床にこぼすこともなくなり、こぼした廃液の掃除が不要になるので、作業効率を向上することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３５】
図１は、本発明の実施の一形態である自動回収システム１０を正面から見た概略の構成を模式的に示す。図２は、図１に示した自動回収システム１０を側面から見た概略の構成を模式的に示す。薬液廃液回収システムである自動回収システム１０は、ウエハにレジストを塗布する塗布装置（以下「コータ」という）、およびウエハに塗布されたレジストにパターンを露光した後現像する現像装置（以下「デベロッパ」とい）を含む半導体装置製造装置１に組み込まれるシステムである。図１および図２に示した自動回収システム１０は、半導体装置製造装置１に組み込まれた状態を示している。薬液廃液回収方法は、自動回収システム１０によって処理される。
【００３６】
自動回収システム１０は、コータ側廃液タンクＡ１１、デベロッパ側廃液タンク１２、コータ側廃液上限感知センサ１３、廃液下限感知センサ１４、廃液移し変え制御ボックス１５、廃液移し変え用ポンプ１７、廃液搬送第１パイプ１８、廃液搬送第２パイプ１９、デベロッパ側廃液上限感知センサ２１、およびデベロッパ側制御部２２を含む。
【００３７】
コータ側廃液タンクＡ１１は、コータに含まれるコータ側スピンナーカップ３から排出される第１の薬液を含む第１の廃液を貯留するタンクである。コータ側廃液タンクＡ１１の内周面の底面は、廃液搬送第１パイプ１８が接続される側面に近接するにつれて下方に傾斜する。底面の傾きは、廃液搬送第１パイプ１８が接続される側の側面の高さを１００％としたとき、反対側の側面と底面とが接する位置が、廃液搬送第１パイプ１８が接続される側の側面と底面とが接する位置よりも、たとえば１２〜１４％高い位置となる傾きである。デベロッパ側廃液タンク１２は、デベロッパに含まれるデベロッパ側スピンナーカップ４から排出される第２の薬液を含む第２の廃液と、コータ側廃液タンクＡ１１から送給される第１の廃液とが混合した第３の廃液を貯留するタンクである。第１の薬液は、たとえばキシレンあるいは環化ゴムであり、第２の薬液は、第１の薬液の溶剤となりうる薬液であり、たとえば脂肪族炭化水素である。第１の廃液の粘度は、たとえば４０ｍＰａ・ｓ（以下「ｃｐ（センチポアズ）」を用いる）〜１００ｃｐの中粘度または１００ｃｐ以上の高粘度であり、第２の廃液の粘度は、たとえば１０ｃｐ以下の低粘度である。
【００３８】
コータ側廃液上限感知センサ１３は、第１の廃液の量がコータ側廃液タンクＡ１１に満杯になったときを１００％としたとき、たとえば第１の廃液の量が５０％以上になったことを検出するセンサであり、廃液下限感知センサ１４は、たとえば第１の廃液の量が１５％以下になったことを検出するセンサである。第１の廃液の量が１５％以下になったことを検出する高さ方向の位置は、たとえば廃液搬送第１パイプ１８が接続される側面においてその接続される接続部分の最上部の位置よりも２０ｍｍ高い位置である。さらに、コータ側廃液上限感知センサ１３が故障したときのために、第１の廃液の量が７０％以上になったことを検出する満杯センサを設けてもよい。コータ側廃液上限感知センサ１３、廃液下限感知センサ１４、および満杯センサは、たとえば透過センサあるいは静電容量センサによって構成される。
【００３９】
廃液移し変え制御ボックス１５は、コータ側廃液上限感知センサ１３から、コータ側廃液タンクＡ１１に貯留される第１の廃液の量が５０％以上になったことを知らされると、廃液移し変え用ポンプ１７に動作を開始させる。そして、廃液下限感知センサ１４から、コータ側廃液タンクＡ１１に貯留される第１の廃液の量が１５％以下になったことを知らされると、廃液移し変え用ポンプ１７に動作を停止させる。
【００４０】
廃液移し変え用ポンプ１７は、廃液搬送第１パイプ１８によってコータ側廃液タンクＡ１１に貯留する第１の廃液を吸い出し、吸い出した第１の廃液を廃液搬送第２パイプ１９によってデベロッパ側廃液タンク１２に送給する。廃液移し変え用ポンプ１７は、たとえばベローズポンプによって構成される。廃液搬送第１パイプ１８は、廃液移し変え用ポンプ１７がコータ側廃液タンクＡ１１に貯留される第１の廃液を吸い出すための配管であり、コータ側廃液タンクＡ１１の底面寄りの位置、たとえば底面から５〜１０ｍｍ程高い位置でコータ側廃液タンクＡ１１の側面に接続される。廃液搬送第２パイプ１９は、廃液移し変え用ポンプ１７によってコータ側廃液タンクＡ１１から吸い出された第１の廃液をデベロッパ側廃液タンク１２に送給するための配管である。
【００４１】
デベロッパ側廃液タンク１２に送給される第１の廃液は、デベロッパ側スピンナーカップ４から排出される第２の廃液と混合する。コータ側廃液タンクＡ１１から送給される中高粘度の第１の廃液は、デベロッパ側スピンナーカップ４から排出される低粘度の第２の廃液と混合するので、薄められて粘度が低くなり、第１の廃液と第２の廃液とが混合した第３の廃液は、ゲル状あるいは半固形状になることはない。
【００４２】
デベロッパ側廃液上限感知センサ２１は、デベロッパ側廃液タンク１２に貯留される第３の廃液の量がデベロッパ側廃液タンク１２に満杯になったときを１００％としたとき、たとえば第３の廃液の量が８５％以上になったことを検出するセンサである。デベロッパ側制御部２２は、デベロッパ側廃液上限感知センサ２１から、デベロッパ側廃液タンク１２に貯留される第３の廃液の量が８５％以上になったことを知らされると、図示しない報知手段によって、デベロッパ側廃液タンク１２に貯留される第３の廃液の回収が必要であることを、装置管理者に知らせる。装置管理者は、報知手段によってデベロッパ側廃液タンク１２に貯留される第３の廃液の回収が必要であることを知らされると、デベロッパ側廃液タンク１２を取り外し、取り外したデベロッパ側廃液タンク１２内の第３の廃液を、その廃液タンクまたは輸送用の廃液タンクに移して回収する。
【００４３】
デベロッパ側廃液タンク１２からの第３の廃液の回収を何回か行なううちに、コータ側廃液タンクＡ１１に半固形状の第１の廃液が残るが、その場合は、人手によって半固形状の第１の廃液を除去する。コータ側廃液タンクＡ１１に貯留されている第１の廃液は、ゲル状の廃液も含めてデベロッパ側廃液タンク１２に送給される。コータ側廃液タンクＡ１１に貯留されている第１の廃液をデベロッパ側廃液タンク１２に送給して、コータ側廃液タンクＡ１１をほぼ空にした後、半固形状の第１の廃液のみを除去すればよい。ゲル状あるいは半固形状の下側にある第１の廃液を汲みだす必要がないので、第１の廃液をこぼすことはない。半固形状の第１の廃液は、コータ側廃液タンクＡ１１がほぼ空になる度に除去する必要はなく、半固形状の第１の廃液の量が増えて、デベロッパ側廃液タンク１２への送給効率が悪くなったときに除去すればよい。
【００４４】
上述した実施の形態では、デベロッパ側廃液上限感知センサ２１は、第１の廃液の量が５０％以上になったことを検出するが、コータ側廃液タンクＡ１１に貯留されている廃液が半固形化するのに要する時間で貯留される量未満の量で検出するようにしてもよい。廃液移し変え用ポンプ１７は、ゲル状の第１の廃液も送給することができるので、コータ側廃液タンクＡ１１に貯留されている第１の廃液が半固形化する前に、コータ側廃液タンクＡ１１に貯留されている第１の廃液を送給すれば、コータ側廃液タンクＡ１１に貯留されている第１の廃液が半固形化することはなく、コータ側廃液タンクＡ１１での半固形状の第１の廃液の除去作業も不要になる。
【００４５】
上述した実施の形態では、コータ側廃液タンクＡ１１に貯留される中高粘度の第１の廃液をデベロッパ側廃液タンク１２に移したが、デベロッパ側スピンナーカップ４から排出される第２の廃液を、デベロッパ側廃液タンク１２に貯留した後、コータ側廃液タンクＡ１１に移して、コータ側廃液タンクＡ１１に貯留される中高粘度の第１の廃液の粘度を低くしてもよい。
【００４６】
図３は、本発明の実施の他の形態である自動回収システム３０を正面から見た概略の構成を模式的に示す。薬液廃液回収システムである自動回収システム３０は、コータおよびデベロッパを含む半導体装置製造装置２に組み込まれるシステムである。薬液廃液回収方法は、自動回収システム３０によって処理される。
【００４７】
自動回収システム３０は、コータ側廃液タンクＡ１１、コータ側廃液上限感知センサ１３、廃液下限感知センサ１４、廃液移し変え制御ボックス１５、廃液移し変え用ポンプ１７、廃液搬送第１パイプ１８、廃液搬送第３パイプ２０、外部排出用タンク３１、外部排出側廃液上限感知センサ３２、および外部排出側制御部３３を含む。図１に示した自動回収システム１０の構成要件と同じものには、同じ参照符号を付し、説明は重複を避けるために省略する。自動回収システム３０と、図１に示した自動回収システム１０との相違点は、デベロッパ側廃液タンク１２、デベロッパ側廃液上限感知センサ２１、およびデベロッパ側制御部２２を除き、代わりに外部排出用タンク３１、外部排出側廃液上限感知センサ３２、および外部排出側制御部３３を追加し、図１に示した廃液搬送第２パイプ１９を廃液搬送第３パイプ２０に換えたことである。
【００４８】
廃液搬送第３パイプ２０は、廃液移し変え用ポンプ１７によってコータ側廃液タンクＡ１１から吸い出された第１の廃液を外部排出用タンク３１に送給するための配管である。コータ側廃液タンクＡ１１に貯留されている第１の廃液は、廃液移し変え用ポンプ１７によって、デベロッパ側廃液タンク１２ではなく外部排出用タンク３１に送給される。
【００４９】
外部排出用タンク３１は、移動させることができるタンクで、複数用意されており、他の外部排出用タンク３１と交換することができる。各外部排出用タンク３１には、第２の薬液が予め貯留されている。たとえば外部排出用タンク３１が満杯になったときを１００％としたとき、１０〜２０％の量の第２の薬液が予め貯留されている。外部排出用タンク３１は、コータ側廃液タンクＡ１１から送給される第１の廃液が第２の薬液と混合した第３の廃液を貯留する。コータ側廃液タンクＡ１１から送給される第１の廃液は、外部排出用タンク３１に予め貯留されている第２の薬液と混合して薄められ、粘度が低くなる。第１の廃液の粘度は、たとえば４０ｃｐ〜１００ｃｐの中粘度または１００ｃｐ以上の高粘度であり、第２の薬液の粘度は、たとえば１０ｃｐ以下の低粘度である。
【００５０】
外部排出側廃液上限感知センサ３２は、第３の廃液の量が外部排出用タンク３１に満杯になったときを１００％としたとき、たとえば第３の廃液の量が８５％以上になったことを検出するセンサである。外部排出側廃液上限感知センサ３２は、たとえば透過センサあるいは静電容量センサによって構成される。
【００５１】
外部排出側制御部３３は、外部排出側廃液上限感知センサ３２から、外部排出用タンク３１に貯留される第３の廃液の量が８５％以上になったことを知らされると、図示しない報知手段によって、外部排出用タンク３１に貯留される第３の廃液の回収が必要であることを、装置管理者に知らせる。装置管理者は、報知手段によって外部排出用タンク３１に貯留される第３の廃液の回収が必要であることを知らされると、外部排出用タンク３１を新たな外部排出用タンク３１に入れ換えて、コータ側廃液タンクＡ１１から送給された第１の廃液が混合した第３の廃液を貯留する外部排出用タンク３１を回収する。外部排出用タンク３１では、コータ側廃液タンクＡ１１から送給された第１の廃液は、ゲル状化あるいは半固形化することがなく、第３の廃液の回収作業を容易に行うことができる。
【００５２】
このように、塗布装置用廃液貯留手段であるたとえばコータ側廃液タンクＡ１１によって、半導体装置製造装置の塗布装置から排出され、第１の薬液を含み、かつ予め定める第１の粘度以上の粘度である第１の廃液が貯留され、送給手段であるたとえば廃液移し変え用ポンプ１７、廃液搬送第１パイプ１８、および廃液搬送第２パイプ１９もしくは廃液搬送第３パイプ２０によって、塗布装置用廃液貯留手段に貯留される第１の廃液が送給され、回収用廃液貯留手段であるたとえばデベロッパ側廃液タンク１２または外部排出用タンク３１によって、半導体装置製造装置の現像装置から排出され、第１の薬液を溶かす第２の薬液を少なくとも含み、かつ予め定める第１の粘度よりも予め定める粘度差分低い第２の粘度以下の粘度である第２の廃液に、送給手段によって送給される第１の廃液を混合させた第３の廃液が貯留される。すなわち、塗布装置から排出される中高粘度の第１の廃液が、塗布装置用廃液貯留手段であるたとえば塗布装置側の廃液タンクから回収用廃液貯留手段であるたとえば現像装置側の廃液タンクに送給され、回収用廃液貯留手段では、送給された中高粘度の第１の廃液が第２の廃液に溶けて薄められ粘度が低くなるので、回収用廃液貯留手段で上層部がゲル状あるいは半固形状になることを防止し、上層部がゲル状あるいは半固形状になり易い廃液の回収作業を容易化することができる。したがって、廃液の回収作業時間の短縮を図ることができる。さらに、塗布装置側の廃液タンクから廃液を回収する際に発生していた廃液を床にこぼすこともなくなり、こぼした廃液の掃除が不要になるので、作業効率を向上することができる。
【００５３】
さらに、前記予め定める第１の粘度は、４０ｍＰａ・ｓであり、前記第２の粘度は、１０ｍＰａ・ｓであるので、回収用廃液貯留手段では、塗布装置用廃液貯留手段から送給される第１の廃液の粘度を、粘度１０ｍＰａ・ｓ以下の第２の廃液によって、４０ｍＰａ・ｓ未満に薄めることができる。したがって、回収用廃液貯留手段では、塗布装置から送給された中高粘度の第１の廃液が固形化することはない。
【００５４】
さらに、上限検出手段であるたとえばコータ側廃液上限感知センサ１３によって、前記塗布装置用廃液貯留手段に貯留される第１の廃液の量が予め定める第１の貯留量以上であることが検出され、下限検出手段であるたとえば廃液下限感知センサ１４によって、塗布装置用廃液貯留手段に貯留される第１の廃液の量が第１の貯留量未満である予め定める第２の貯留量以下であることが検出され、制御手段であるたとえば廃液移し変え制御ボックス１５によって、上限検出手段が塗布装置用廃液貯留手段に貯留される第１の廃液の量が第１の貯留量以上であることを検出すると、送給手段に送給を開始させ、下限検出手段が塗布装置用廃液貯留手段に貯留される第１の廃液の量が第２の貯留量以下であることを検出すると、送給手段に送給を停止させるので、人手を介入させることなく塗布装置用廃液貯留手段に貯留される第１の廃液の送給の開始および送給の停止を行うことができる。従って、塗布装置用廃液貯留手段に貯留される第１の廃液の送給を自動的に開始および停止することができる。
【００５５】
さらにまた、前記塗布装置用廃液貯留手段は、底面および側面によって構成される内周面を有する容器であり、前記送給手段によって、前記容器の前記側面に前記底面寄りに予め定める位置で接続され、前記容器から第１の廃液を排出するための排出用配管であるたとえば廃液搬送第１パイプ１８が含まれ、前記容器の前記底面は、前記排出用配管が接続される前記側面に近接するにつれて下方に傾斜するので、塗布装置用廃液貯留手段たとえば塗布装置側の廃液タンクに貯留される第１の廃液の上層部でゲル状になった部分を含む第１の廃液のほとんどを排出することができる。したがって、塗布装置用廃液貯留手段に貯留する第１の廃液を効率よく回収用廃液貯留手段に送給することができる。
【００５６】
さらに、前記回収用廃液貯留手段は、前記現像装置に設けられる現像装置用廃液貯留容器であるたとえばデベロッパ側廃液タンク１２であるので、従来現像装置側で用いている現像装置用廃液貯留容器たとえばデベロッパ側廃液タンクを流用することができる。したがって、塗布装置用廃液貯留手段であるたとえばコータ側廃液タンク、およびデベロッパ側廃液タンク以外に廃液タンクを薬液廃液システムに設ける必要がない。
【００５７】
さらにまた、前記回収用廃液貯留手段は、前記現像装置に設けられる現像装置用廃液貯留容器とは異なる現像装置外廃液貯留容器であるたとえば外部排出用タンク３１であるので、現像装置外廃液貯留容器に予め貯留する第２の薬液の粘度を、現像装置で用いる第２の薬液と異なる粘度にすることができる。したがって、塗布装置用廃液貯留手段から送給される第１の廃液の粘度をより効果的に低くすることができる粘度の薬液を用いることができる。
【００５８】
さらに、前記現像装置外廃液貯留容器は、前記第２の薬液が予め貯留されているので、現像装置外廃液貯留容器に予め貯留する第２の薬液として、現像装置で用いる第２の薬液を流用することができる。したがって、第１の薬液および第２の薬液のみを準備すればよい。
【００５９】
さらにまた、塗布装置廃液貯留工程では、半導体装置製造装置の塗布装置から排出され、第１の薬液を含み、かつ予め定める第１の粘度以上の粘度である第１の廃液を塗布装置用廃液タンクであるたとえばコータ側廃液タンクＡ１１に貯留し、送給工程では、塗布装置廃液貯留工程で貯留される第１の廃液を送給し、回収用廃液貯留工程では、半導体装置製造装置の現像装置から排出され、第１の薬液を溶かす第２の薬液を少なくとも含み、かつ予め定める第１の粘度よりも予め定める粘度差分低い第２の粘度以下の粘度である第２の廃液に、送給工程で送給される第１の廃液を混合させた第３の廃液を回収用廃液タンクであるたとえばデベロッパ側廃液タンク１２または外部排出用タンク３１に貯留する。すなわち、塗布装置から排出される中高粘度の第１の廃液が、塗布装置側廃液タンクであるたとえば塗布装置側の廃液タンクから回収用廃液タンクであるたとえば現像装置側の廃液タンクに送給され、回収用廃液タンクでは、送給された中高粘度の第１の廃液が第２の廃液に溶けて薄められ粘度が低くなるので、回収用廃液タンクで上層部がゲル状あるいは半固形状になることを防止し、上層部がゲル状あるいは半固形状になり易い廃液の回収作業を容易化することができる。したがって、本発明による薬液廃液回収方法を用いれば、廃液の回収作業時間の短縮を図ることができる。さらに、塗布装置側の廃液タンクから廃液を回収する際に発生していた廃液を床にこぼすこともなくなり、こぼした廃液の掃除が不要になるので、作業効率を向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】本発明の実施の一形態である自動回収システム１０を正面から見た概略の構成を模式的に示す。
【図２】図１に示した自動回収システム１０を側面から見た概略の構成を模式的に示す。
【図３】本発明の実施の他の形態である自動回収システム３０を正面から見た概略の構成を模式的に示す。
【図４】半導体装置製造装置９に適用された第１の従来の技術による自動回収システム４０を正面から見た概略の構成を模式的に示す。
【図５】図４に示した自動回収システム４０を側面から見た概略の構成を模式的に示す。
【符号の説明】
【００６１】
１，２，９  半導体装置製造装置
３  コータ側スピンナーカップ
４  デベロッパ側スピンナーカップ
１０，３０，４０  自動回収システム
１１，４１  コータ側廃液タンク
１２  デベロッパ側廃液タンク
１３  コータ側廃液上限感知センサ
１４  廃液下限感知センサ
１５  廃液移し変え制御ボックス
１７  排斥移し変え用ポンプ
１８  廃液搬送第１パイプ
１９  廃液搬送第２パイプ
２０  廃液搬送第３パイプ
２１  デベロッパ側廃液上限感知センサ
２２  デベロッパ側制御部
３１  外部排出用タンク
４２  コータ側制御部
【図１】
2008177304.tif 000003
【図２】
2008177304.tif 000004
【図３】
2008177304.tif 000005
【図４】
2008177304.tif 000006
【図５】
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