(57)【要約】【課題】基材上に成型加工が可能で、且つ、高い全光線反射率を示し、さらに光をより強く均一に反射できる光拡散性を有する反射材料およびその製造方法を提供する。【解決手段】本発明の光拡散反射材料は、基材表面の少なくとも一部に少なくとも２層以上の複数層からなる被覆層を有し、前記複数層の内、最表面の光拡散層に非金属板状フィラーを含有し、且つ、前記最上層と基材との間に挟まれた層の内、最も厚い可視光反射層にルチル型酸化チタンを含有することを特徴とすることで高い光拡散性を有する反射材を提供する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材表面の少なくとも一部に、少なくとも２層以上の複数層からなる被覆層を有し、
前記複数層の内、最表面の光拡散層に非金属板状フィラーを含有し、且つ、前記光拡散層と前記基材との間に挟まれた層の内、最も厚い可視光反射層にルチル型酸化チタンを含有することを特徴とする、光拡散反射材料。
【請求項２】
前記光拡散層の膜厚が、３μｍ以上２０μｍ以下であることを特徴とする、請求項１記載の光拡散反射材。
【請求項３】
前記可視光反射層が、フッ素樹脂にルチル型酸化チタンが分散された層であることを特徴とする、請求項１記載の光拡散反射材料。
【請求項４】
前記ルチル型酸化チタンは、前記フッ素樹脂中に体積比で２０〜３５％含有されていることを特徴とする、請求項３記載の光拡散反射材料。
【請求項５】
前記可視光反射層が、バインダーとルチル型酸化チタンとルチル型酸化チタンより低屈折率の粒子とからなり、前記可視光反射層中のルチル型酸化チタンの濃度が、３５体積％以上６５体積％以下であることを特徴とする、請求項１記載の光拡散反射材料。
【請求項６】
光沢測定装置で入射角、受光角とも６０°で装置校正した後、受光角のみを５５°にしたとき、前記被覆層の光沢度の測定値が７％以上であり、５５５ｎｍの波長における拡散反射光と正反射光を合わせた光の反射率が８０％以上であることを特徴とする、請求項１記載の光拡散反射材料。
【請求項７】
基材表面の少なくとも一部に被覆層を有してなる光拡散反射材料であって、
光沢測定装置で入射角、受光角とも６０°で装置校正した後、受光角のみを５５°にしたとき、前記被覆層の光沢度の測定値が７％以上であり、５５５ｎｍの波長における拡散反射光と正反射光を合わせた光の反射率が８０％以上であることを特徴とする、光拡散反射材料。
【請求項８】
前記基材は、金属板であることを特徴とする、請求項１又は７に記載の光拡散反射材料。
【請求項９】
基材表面の少なくとも一部に、フッ素樹脂にルチル型酸化チタンを含有する下層を塗装により形成し、前記下層の上に非金属板状フィラーを含有する最表層を塗装により形成することを特徴とする、光拡散反射材料の製造方法。
【請求項１０】
請求項１〜８のいずれかに記載の光拡散反射材料を使用した電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射光の拡散性に優れた光拡散反射材料とその製造方法、及び電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
照明器具、ＡＶ機器、電子機器、モバイル機器、液晶テレビ、プラズマディスプレイ等は、可視光線を発することで、周囲を明るくする、光信号を伝える、もしくは光画像を映し出す等の機能を有している。これらの機器では、反射板を設けて、この反射板に光を反射させることで、光の輝度を向上させる、光の方向を変える等を行っているものもある。そのため、反射板に光が反射したときに光量低下を避けるために、反射板表面には高い可視光線反射率が要求される。従来、反射板表面の反射率を高める手段として、金属を研磨して鏡面にする、反射率の高い白色系の塗料を塗装する等が行われていた。また、新日本製鐵（株）カタログ「ビューコート（登録商標）」には、予め白色塗料を塗布した照明器具反射板用プレコート鋼板等も公開されている。
【０００３】
また、例えば、特許文献１では、基材フィルムの片表面に金属薄膜層、無機微粒子を含有する樹脂層を順次積層し、当該金属薄皮膜層がアルミニウムからなり、無機微粒子を含有する樹脂層を構成する無機微粒子の屈折率ｎｆと同層を構成する樹脂の屈折率ｎｂとがｎｆ−ｎｂ≧０．４とすることで、液晶表示装置の反射板として優れた光反射フィルムの技術が開示されている。さらに、例えば、特許文献２では、液晶ディスプレイのバックパネル用として、アルミニウム板上に樹脂１００質量部に対してルチル型酸化チタン１５０〜３００質量部を含有する膜厚５０〜１００μｍの下塗り層と、該下塗り層上に、樹脂１００質量部に対してルチル型酸化チタンを１００〜２５０質量部含有し、光沢が１５以下で、且つ膜厚１０〜３０μｍの上塗り層を形成させた液晶ディスプレイのバックパネル用の高拡散反射塗装金属板の技術が開示されている。
【０００４】
【特許文献１】特開平１０−７３０号公報
【特許文献２】特開２００２−１７２７３５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、近年では、照明器具反射板や液晶ディスプレイ等の電気製品に用いる反射板は、電気製品の構造やデザインが複雑化し、これに伴い、反射板も様々な形状に成形加工して使用するニーズが高まってきており、それと同時により強く均一に光を反射することが要求されている。ところが、上記特許文献１に記載された技術のように、基材にフィルムを用いた場合は、予め金属薄皮膜層や無機微粒子を含有する樹脂層を積層させたフィルムを目的の形状に成形することは困難であり、予めフィルムを目的の形状に成形した後に金属薄皮膜層や無機微粒子を含有する樹脂層を積層させる必要がある。但し、反射板の成形形状が複雑な場合、加工部分で皮膜を均一な膜厚に積層させることが困難である。一方、上記特許文献２に記載された技術では、下塗り層と上塗り層をアルミニウム板上に予め塗布させた後に成形加工することはできるが、一般的なプレコート塗装ラインでの塗装では、１回で当該膜厚の下塗り層（５０〜１００μｍ）を塗装することは非常に困難であり、２回以上の重ね塗りが必要となるため、生産性が低い等の欠点がある。
【０００６】
したがって、電気製品の構造上やデザイン上の理由で、反射板を成形加工して使用しなければならないこと、反射板の生産性を考えると、特許文献１や特許文献２等に記載された反射板を使用することは困難であった。
【０００７】
また、電気製品の構造やデザインの複雑化により、電気機器の構造に合わせて反射板を組み込まなくてはならないため、反射光の方法を制御するための加工ができない場合があり、単純に反射率が高いだけの反射板では、均一な発光面を得られないことがあった。
【０００８】
本発明は、上記現状に鑑み、基材上に成型加工が可能で、且つ、高い全光線反射率を示し、さらに反射方向を制御するための被覆層を形成することで、均一に強く光を反射できる光拡散反射材料とその製造方法、及びこの光拡散反射材料を使用した電子機器を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、基材に高全光線反射率であると同時に反射光の角度による強度を制御する被覆層を形成することで、均一で強く光を反射できる反射板を作成できることを見出し、かかる知見を基に本発明を完成させたものであって、本発明がその要旨とするのは、以下のとおりである。
（１）  基材表面の少なくとも一部に、少なくとも２層以上の複数層からなる被覆層を有し、前記複数層の内、最表面の光拡散層に非金属板状フィラーを含有し、且つ、前記光拡散層と前記基材との間に挟まれた層の内、最も厚い可視光反射層にルチル型酸化チタンを含有することを特徴とする、光拡散反射材料。
（２）  前記光拡散層の膜厚が、３μｍ以上２０μｍ以下であることを特徴とする、（１）記載の光拡散反射材。
（３）  前記可視光反射層が、フッ素樹脂にルチル型酸化チタンが分散された層であることを特徴とする、（１）記載の光拡散反射材料。
（４）  前記ルチル型酸化チタンは、前記フッ素樹脂中に体積比で２０〜３５％含有されていることを特徴とする、（３）記載の光拡散反射材料。
（５）  前記可視光反射層が、バインダーとルチル型酸化チタンとルチル型酸化チタンより低屈折率の粒子とからなり、前記可視光反射層中のルチル型酸化チタンの濃度が、３５体積％以上６５体積％以下であることを特徴とする、（１）記載の光拡散反射材料。
（６）  光沢測定装置で入射角、受光角とも６０°で装置校正した後、受光角のみを５５°にしたとき、前記被覆層の光沢度の測定値が７％以上であり、５５５ｎｍの波長における拡散反射光と正反射光を合わせた光の反射率が８０％以上であることを特徴とする、（１）記載の光拡散反射材料。
（７）  基材表面の少なくとも一部に被覆層を有してなる光拡散反射材料であって、光沢測定装置で入射角、受光角とも６０°で装置校正した後、受光角のみを５５°にしたとき、前記被覆層の光沢度の測定値が７％以上であり、５５５ｎｍの波長における拡散反射光と正反射光を合わせた光の反射率が８０％以上であることを特徴とする、光拡散反射材料。
（８）  前記基材は、金属板であることを特徴とする、（１）又は（７）に記載の光拡散反射材料。
（９）  基材表面の少なくとも一部に、フッ素樹脂にルチル型酸化チタンを含有する下層を塗装により形成し、前記下層の上に非金属板状フィラーを含有する最表層を塗装により形成することを特徴とする、光拡散反射材料の製造方法。
（１０）  （１）〜（８）のいずれかに記載の光拡散反射材料を使用した電子機器。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、基材上に成型加工が可能で、且つ、高い全光線反射率を示し、さらに反射方向を制御するための被覆層を形成することで、光をより強く均一に反射できる光拡散反射材料を提供できるようになった。このように、光をより強く均一に反射できることにより、光源の数を減らしたり、照射強度を弱くしたりしても、従来と同等の照度で均一性も保持することができる照明器具を作成できるようになった。したがって、本発明は極めて産業上の価値の高い発明であると言える。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。本発明では、基材表面に高全光線反射率かつ反射光の角度による強度を制御する被覆層を形成することで、強く、均一に光を反射することに成功した。
【００１２】
本発明では、少なくとも２層の被覆層を有し、それぞれの被覆層に役割を分担させることで、高全光線反射率と反射光の角度による強度の最適化を両立している。具体的に最表層により、反射光の角度による強度を制御し、その内部の層（下層）により、高全光線反射率を実現している。全光線反射率が高いものを反射板に用いると、光の効率が良くなり、全光線反射率が８０％以上にすると、光のロスを少なくすることができる。また、反射光の角度による強度を制御すると、反射板の形状に制約があったり、照明の数が少なく、照明の間隔が広かったりする場合でも、均一な発光強度を持った面を得られる。具体的には、図１のように、複数の光源が並べられ、その背面に反射板があり、反射板の形状を光源の形状、他の電子部品とのスペース的な兼ね合いで、反射部分を波型に形状する等ができず、平板で用いなくてはならない場合、光沢測定装置で入射角、受光角とも６０°で装置校正し、受光角のみを５５°にしたとき光沢度の測定値が７％以上であると良い。これは、図１のように、正反射のみが強い基材を反射板Ｄとして用いると、光源Ａから発せられた光は、光源Ｂとの中間であり、光源から最も離れて暗くなり易い場所であるＣ点で反射した場合、光源Ｂで光が吸収されてしまう。そのため、Ｃ点を照らす光は、効率が低くなってしまい、Ｃ点を明るくすることができない。また、正反射を抑えた、低光沢な基材を反射板に用いても、図２のように、光源Ａ’、Ｂ’からの入射光に近い方向への反射光強度が強くなるような凹凸が形成された反射板Ｄ’を用いると、光源Ａ’、Ｂ’周辺のみが明るくなってしまい、Ｃ’点は暗くなってしまう。それに対して、本発明のように正反射近傍の角度における反射光強度（反射光の角度による強度）を高くすることで、全体的に明るくでき、光源の数を少なくしても、均一な輝度を有する発光面を得ることができる。そのため、全光線反射率８０％以上と、光沢測定装置で入射角、受光角とも６０°で装置校正し、受光角のみを５５°にしたとき光沢度の測定値が７％以上と言う条件を両立できると、均一に強い光を反射できるため、照明の数を減らしたり、出力を下げたりしても、照明の数を減らしたり、出力を下げたりしていないものと同等の明るさを得ることができる。
【００１３】
高い全光線反射率を得るためには、全光線反射特性の高い被覆層をなるべく厚く形成する方が有利であるが、反射光の角度による強度を制御するための最表層は特に厚くする必要は無く、反射光の角度による強度を制御するのに必要な構造を組み込むことが可能な膜厚が確保されていれば良い。そのため、最表層の膜厚としては、２０μｍ以下であると好ましく、最表層の役割を反射光の角度による強度の制御に特化させて、その他の部分で高全光線反射率化を図るのであれば、１０μｍ以下であることがより好ましい。但し、反射光の角度による強度を制御するには、平均膜厚で、３μｍ以上の膜厚が無いと、構造的に難しく、平均膜厚は３μｍ以上あると好ましい。
【００１４】
最表層による反射光の角度による強度を制御する手法としては、いずれも特に限定されるものではなく、反射光の角度による強度が所望になるように表面にテクスチャーを形成しても良いが、最表層に非金属板状フィラーを含有させることで反射光の角度による強度を制御すると、テクスチャーのように押し潰されることも無く、好ましい。
【００１５】
また、本発明で、非金属板状フィラーとは特に限定されるものではないが、一般にパール顔料として使用されているものを使用して良く、マイカ、アルミナフレーク、シリカフレーク、酸化チタンフレーク、ガラスフレーク等が挙げられ、さらに、これら板状フィラーの表面に、酸化チタン等の高屈折率無機物質、アルミニウム等の金属でコーティングを施しているものでも構わない。これらのフィラーは、より可視光吸収が少なく、光を強く反射するものが良く、高屈折率無機物質パール顔料として市販されているものの内、シルバー、シルバーパール、ホワイト、ホワイトパールとされているものであれば、特に問題無く使用することができる。
【００１６】
酸化チタンでコーティングされたマイカ（以下、チタンマイカ）としては、その構造は、酸化チタンの平均膜厚が７５ｎｍ以下であれば、特定の可視光域波長を反射、透過せず、特定の色を示さない。特に、チタンマイカによる着色を気にする場合は、酸化チタンの厚さを６５ｎｍ以下にするとよい。基材となるマイカは、天然マイカでも合成マイカでも特に限定するものではないが、価格を重視するのであれば、天然マイカを選択すればよく、より高全光線反射率を狙うのであれば、天然マイカより不純物が少なく白色度も高い合成マイカを用いるとよい。コーティングの酸化チタンは、アナターゼ型のもの、ルチル型のものでも良く、可視光の吸収量を考えるならアナターゼ型酸化チタン、光触媒による被覆層の劣化を考える場合や、板状フィラー表面でより強く光を反射することを考えるのであれば、ルチル型酸化チタンを選択すればよい。具体的には、メルク社製「Ｉｒｉｏｄｉｎ（登録商標）」、トピー社製「ＰＤＭ」シリーズ、ＳＫＹ  ＣＨＥＭＩＣＡＬ社製の「ＳＫＹパール」、日本光研工業社製の「パールグレイズ／ＰＥＡＲＬ−ＧＬＡＺＥ（登録商標）」、「アルティミカ／ＵＬＴＩＭＩＣＡ（登録商標）」、「ロナパール／Ｒｏｎａ（登録商標）  Ｐｅａｒｌ」、「プロミネンス／ＰＲＯＭＩＮＥＮＣＥ（登録商標）」エンゲルハード社製「ＭａｇｎａＰｅａｒｌ（登録商標）」等を用いることができる。また、これらチタンマイカの酸化チタン表面に、酸化チタンによる光触媒作用を抑えるため、又は、塗料への分散性を高めるため、コーティングを施したものを用いてもよい。
【００１７】
アルミナフレークとしては、特に限定されるものではないが、無垢のアルミナフレークや、メルク社製の「Ｘｉｒａｌｌｉｃ（登録商標）」のように酸化チタン等の高屈折率素材で被覆されたものを用いることができる。また、その酸化チタンの表面に、酸化チタンによる光触媒作用を抑えるため、又は、塗料への分散性を高めるために、コーティングを施したもの等を用いてもよい。
【００１８】
シリカフレークとしては、特に限定されるものではないが、無垢のシリカフレークや、メルク社製の「Ｃｏｌｏｒｓｔｒｅａｍ（登録商標）」のように酸化チタンなどの高屈折率素材で被覆されたものを用いることができる。また、その酸化チタンの表面に、酸化チタンによる光触媒作用を抑えるため、又は、塗料への分散性を高めるために、コーティングを施したもの等を用いてもよい。
【００１９】
ガラスフレークとしては、特に限定されるものではないが、無垢のガラスフレークや、日本板硝子社製「マイクログラス・メタシャイン（登録商標）」のように、酸化チタン等の高屈折率素材で被覆されたものや、金属で被覆されたものを用いることができる。また、その酸化チタンでコーティングしたものは、酸化チタンによる光触媒作用を抑えるため、又は、塗料への分散性を高めるために、コーティングを施したもの等を用いてもよい。
【００２０】
酸化チタンフィラーとしては、無垢の酸化チタンフィラーを用いてもよいし、先述の酸化チタンにより被覆されたマイカのマイカ部分のみを酸やアルカリで溶解し、空気層を内部に形成した板状酸化チタンフィラー等を用いることができる。また、その酸化チタンの表面に、酸化チタンによる光触媒作用を抑えるため、又は、塗料への分散性を高めるために、コーティングを施したもの等を用いてもよい。
【００２１】
また、フィラーのサイズとしては、特に限定されるものではないが、あまり小さいと反射の方向性に対する影響が小さくなり、あまり大きいと最上層から突き出してしまうため、平均粒径は３〜２５μｍ、さらに好ましくは５〜２０μｍが好ましい。
【００２２】
最表層と基材との間の被覆層については、高全光線反射率が達成できる被覆層であれば、特に限定されるものでは無いが、フッ素樹脂のように屈折率の低い樹脂にルチル型酸化チタンのように高屈折率の顔料を含有したものを形成すると良い。これは被覆層のバインダーと顔料の屈折率差が大きいと、バインダーと顔料との界面における反射率が高くなるためである。
【００２３】
フッ素樹脂にルチル型酸化チタンを含有させた被覆層は、厚くした方が高全光線反射率を得易いため、最表層を除く総膜厚の内７０％以上がフッ素樹脂にルチル型酸化チタンを含有させた被覆層であると良く、最表層を除く総膜厚の８０％以上がフッ素樹脂にルチル型酸化チタンを含有させた被覆層であると、さらに好ましい。
【００２４】
フッ素樹脂としては、何れも特に限定されるものではないが、ポリフルオロエチレン系のポリテトラフルオロエチレン、ポリトリフルオロエチレン、ポリジフルオロエチレンや、ポリヘキサフルオロプロピレン、ポリバーフロロアルキルビニルエーテル構造を分子鎖中に持つものであれば良く、これらの構造やビニルエーテル、ビニルエステル等との共重合体であったり、アクリル樹脂をブレンドしたものであっても良い。フッ化ビニリデン単独重合体の場合は、アクリル樹脂と混合して用いるのが一般的である。具体的には、旭硝子社製「ルミフロン（登録商標）」、日本ペイント社製「デュフロン（登録商標）」、３Ｍ社製「ダイオニン」、大日本インキ化学工業社製「フルオネート（登録商標）」、ダイキン社製「ゼッフル（登録商標）」、東亞合成社製「ザフロン（登録商標）」等を用いることができる。
【００２５】
また、これらの樹脂は、必要に応じて一般に公知の架橋剤、例えば、イソシアネートやメラミン樹脂で架橋させても良い。イソシアネートも、一般に市販されているもの、例えば、住化バイエル社製「スミジュール（登録商標）」、「デスモジュール（登録商標）」シリーズ、三井武田ケミカル社製「タケネート（登録商標）」シリーズ等を使用することができる。メラミン樹脂も、一般に市販されているもの、例えば、三井サイテック社製「サイメル（登録商標）」、「マイコート（登録商標）」シリーズ、大日本インキ化学工業社製「ベッカミン（登録商標）」、「スーパーベッカミン（登録商標）」シリーズ等を使用することができる。
【００２６】
また、本発明で主樹脂とは、被覆層のバインダーとなる成分の内、質量比で５０％以上のものを言う。これらの樹脂が主成分であるかどうかは、赤外分光、核磁気共鳴スペクトル、質量分析等を組み合わせることで確認することができる。
【００２７】
本発明の高い全光線反射率を有する光拡散反射材料は、主に可視光を反射することを目的としているため、人の目の感度が高いとされている波長域の全光線反射率が高いことが重要である。人の目は、個人差はあるものの、３８０〜７８０ｎｍの波長の光を感受することができ、その感度のピークは５５５ｎｍ付近にある。そのため、５５５ｎｍを中心とした波長の光を強く反射する必要がある。顔料として用いるルチル型酸化チタンの平均粒径は、小さい方が同一体積では表面積が広くなり、反射界面が広くなることになるため、全光線反射率も高くなるが、顔料の粒径が小さくなり過ぎると、長い波長の光が透過してしまう。そのため、なるべく反射界面を広くし、可視光を強く反射するには、ルチル型酸化チタンの平均粒径を２００〜４００ｎｍとすると好ましく、さらに好ましくは２５０〜３５０ｎｍのものが良い。
【００２８】
ここでのルチル型酸化チタンの平均粒径は、確認したい部分を電子顕微鏡により１００００倍で観察し、視野中に映し出されるルチル型酸化チタンの内、数で粒径の小さい方から２０％と粒径の大きい方から５％を除いた残りのルチル型酸化チタンの粒径の相加平均値である。また、ルチル型酸化チタンを、シリカ、アルミナ、ジルコニア、酸化亜鉛、酸化アンチモン、有機物等でコーティングを施したものを使用しても良い。具体的には、石原産業社製「タイペーク（登録商標）」シリーズ、富士チタン社製「ＴＡ」シリーズ、テイカ社製「ＴＩＴＡＮＩＸ（登録商標）」シリーズ等を用いることができる。本発明におけるルチル型酸化チタンは、何れも同様ものを用いれば良い。
【００２９】
また、ルチル型酸化チタンの濃度は、特に限定されるものではないが、体積比で２０％以上にすると高い光の拡散性が得られるが、３５％を超えると加工性が低下する傾向にある。さらに、３５％超の濃度では、顔料の単位体積当たりの数が増えることにより、樹脂、顔料界面が増えると言う高全光線反射率化に向かう効果だけでなく、顔料同士が凝集し、顔料の表面が樹脂に接さない部分ができることにより、一顔料粒子当たり反射に有効な面積が小さくなると言う高全光線反射化に不利な効果も現れるため、高顔料濃度化に対する全光線反射率の上昇率が低くなることから２０〜３５ｖｏｌ％であると良い。特に高いレベルの全光線反射率を狙うのであれば、ルチル型酸化チタン濃度を２５ｖｏｌ％以上にすると良く、特に高い加工性を狙うのであれば、ルチル型酸化チタン濃度を３０ｖｏｌ％以下にすると良い。
【００３０】
高加工性を狙うのであれば、先に述べたように顔料濃度を２０〜３５ｖｏｌ％にすると良いが、高加工性よりも高全光線反射率化を狙うのであれば、より高顔料濃度にしても良い。しかし、先に述べたとおり、ルチル型酸化チタン濃度を３５ｖｏｌ％超にすると、顔料の凝集により、高顔料濃度化に対する全光線反射率の上昇率が低くなる。これを解消するには、ルチル型酸化チタンと共に、ルチル型酸化チタンよりも屈折率の低い、低屈折率顔料を含有させると良い。これは、ルチル型酸化チタンと共に低屈折率顔料を含有させると、顔料が凝集する際に、ルチル型酸化チタンと共に低屈折率顔料も共に凝集し、ルチル型酸化チタン同士が直接接して凝集するのを抑制できるため、ルチル型酸化チタンの表面が有効に反射に使われるようになるためである。
【００３１】
ルチル型酸化チタンの濃度については、高くすることで高全光線反射率は得られるが、低屈折率顔料を含有させても、一定以上の濃度では全光線反射率の上昇率が低くなること、また、被覆層が脆くなってしまうことから、６５ｖｏｌ％以下にした方が良い。特に、ルチル型酸化チタン濃度が、３５ｖｏｌ％以上、５０ｖｏｌ％以下では、低屈折率顔料の含有により、ルチル型酸化チタン濃度に対する全光線反射率の上昇率が高くなり、好ましい。
【００３２】
ルチル型酸化チタンと共に含有させることで、より高全光線反射率を高められる低屈折率顔料としては、ルチル型酸化チタンよりも低屈折率のものであれば、特に限定されるものではないが、ルチル型酸化チタンとの屈折率差が１以上あると特に好ましく、さらに、可視光に強い吸収が無く、粉末状態では、白色を呈するものが良い。通常、体質顔料と呼ばれているものは、これら条件を満たしており、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化亜鉛、シリカ等の無機粒子を用いることができる。また、それ以外にも、樹脂粉末等も用いることができる。樹脂粉末としてはいずれも特に限定されるものではないが、アクリル、ポリエステル、また、樹脂の中では最も低屈折率のＰＴＦＥの粉末等を用いてもよい。
【００３３】
低屈折率顔料の形態としては、特に限定されるものではなく、真球型、楕円球型、星型、針状、板状等を用いることができるが、それらの中でも内部が中空になっているものは、通常の物質の中で最も屈折率の低い空気との界面を被覆層内に形成できるため、より好ましい。
【００３４】
低屈折率顔料の粒径としては、特に限定されるものではないが、ルチル型酸化チタン同士の凝集を抑制できなくてはならないため、ルチル型酸化チタンより余り大き過ぎても、小さ過ぎても効果を発揮し難く、０．１μｍ（１００ｎｍ）以上１．３μｍ（１３００ｎｍ）以下であると良い。より好ましくは、０．２μｍ（２００ｎｍ）以上１．１μｍ（１１００ｎｍ）であると、ルチル型酸化チタンの距離が適度に広げられ良い。
【００３５】
低屈折率顔料の役割は、ルチル型酸化チタンの凝集を抑制することなので、少量であっても含有した分だけ効果を発揮できるため、下限の濃度については全く限定する必要が無いが、その中でも、効果が分かり易い範囲は、（低屈折率顔料の体積÷ルチル型酸化チタンの体積）が１／２５以上のときで、より高い効果を求める場合は、（低屈折率顔料の体積÷ルチル型酸化チタンの体積）が１／１０以上であれば良い。
【００３６】
低屈折率顔料単独の濃度については、特に上限を定める必要は無いが、低屈折率顔料含有の目的が、低屈折率顔料による全光線反射率の向上ではなく、ルチル型酸化チタンの凝集を抑制すると言う、ルチル型酸化チタンの性能を最大限に発揮させることなので、低屈折率顔料の濃度は余り高過ぎない方が良く、（低屈折率顔料の体積÷ルチル型酸化チタンの体積）が１／２以下であると良い。
【００３７】
このルチル型酸化チタンと低屈折率顔料を含有する系では、ルチル型酸化チタンの表面を効率良く利用できるため、バインダーとして用いる樹脂がフッ素樹脂でなくても、高い全光線反射率が得られる。また、顔料濃度が比較的高いため、樹脂による被覆層の保持力が重要になる。そのため、塗料用樹脂としてさまざまな物性のものが開発されている、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂等の樹脂や、これらに各種架橋剤、可塑剤等を調合したものを用いると良い。
【００３８】
ここでのルチル型酸化チタンの体積濃度は、次のようにして測定することができる。一つは、まず、測定目的の層のみを削り取る。削り取った面積Ａ１及び深さＤ１から、塗膜の体積Ｖ１をＶ１＝Ａ１×Ｄ１として求める。次に、削り取った塗膜を５００℃で１時間加熱し、バインダー成分を分解させる。残った部分をルチル型酸化チタンと考えることができる。そのルチル型酸化チタンの体積Ｖｔ１を液体に浸漬する等の方法で測定しても良いが、その質量Ｍｔ１を測定し、一般的なルチル型酸化チタン顔料の密度は３８００〜４２００ｋｇ・ｍ−３程度なので、ルチル型酸化チタン顔料の密度を４０００ｋｇ・ｍ−３として、体積Ｖｔ１をＶｔ１＝Ｍｔ１÷４０００ｋｇ・ｍ−３として求めても良い。このように求めた塗膜の体積Ｖ１、ルチル型酸化チタンの体積Ｖｔ１から、ルチル型酸化チタンの体積濃度Ｃｔ１は、Ｃｔ１＝Ｖｔ１÷Ｖ１×１００（ｖｏｌ％）として求めることができる。
【００３９】
もう一つは、被覆面に対して垂直な面で光拡散反射材料をカットし、その断面を光学顕微鏡、電子顕微鏡で確認するか、まず、光拡散反射材料の厚さをマイクロメータで測定し、その後、被覆層を剥離して、再度、同じ場所の厚さをマイクロメータで測定し、その差から被覆層の膜厚Ｔ２を求める等の方法で確認する。任意の面積Ａ２だけ被覆層を剥離する。剥離した被覆層をるつぼで５００℃、１時間加熱する。残った灰分に含まれる酸化チタンの質量Ｍｔ２を求める。ルチル型酸化チタン顔料の一般的な密度は４０００ｋｇ・ｍ−３程度なので、被覆層の体積Ｖ２（＝Ａ２×Ｔ２）中のルチル型酸化チタンの体積Ｖｔ２は、Ｖｔ２＝Ｍｔ２÷４０００と計算することができる。このように求めた被覆層の体積、ルチル型酸化チタンの体積から、被覆層全体の平均ルチル型酸化チタンの濃度Ｃｔ２は、Ｃｔ２＝Ｖｔ２÷Ｖ２×１００（ｖｏｌ％）と求めることができる。次に、被覆層の膜厚方向の元素分布をＧＤＳ（グロー放電発光分光分析装置）や被覆層断面のＥＭＰＡ（電子線マイクロアナライザ）等で確認する。その元素分布と先に求めた平均ルチル型酸化チタン濃度から、各深さ、各層におけるルチル型酸化チタン濃度を求めることができる。また、有機分加熱分解による有機分と無機分の質量比の確認はＴＧ（熱重量分析）によって行っても良い。
【００４０】
低屈折率顔料を含む系の場合、低屈折率顔料のルチル型酸化チタンに対する体積比は、低屈折率顔料が無機顔料であれば、ルチル型酸化チタンの体積濃度を求めるのと同様の操作により求めることができ、ルチル型酸化チタンとの区別は、加熱残分の内、ルチル型酸化チタンは溶解せず、低屈折率顔料のみを溶解する酸等の薬品を用い、低屈折率顔料のみを溶解し、溶解残分と加熱残分の質量差から低屈折率顔料の質量を求めることができ、それと低屈折率顔料の密度から、低屈折率顔料の体積を求めることができる。
【００４１】
低屈折率顔料が樹脂ビーズのように電子線の透過性がルチル型酸化チタンと全く異なる場合は、被覆層の断面を走査型電子顕微鏡で観察するか、被覆層をミクロトーム等で薄く削り取り、それを透過型電子顕微鏡で観察する方法がある。具体的には、視野内に認められるルチル型酸化チタンと低屈折率顔料の数を数えることで求めることができる。但し、数が少ないと、誤差が大きくなるため、最低、ルチル型酸化チタンが１００個以上の範囲で数を数える必要がある。
【００４２】
また、低屈折率顔料の電子線透過性がルチル型酸化チタンと余り差が無く、走査型電子顕微鏡や透過型電子顕微鏡では低屈折率顔料とルチル型酸化チタンの違いが分かり難いものの場合は、その断面における元素組成を確認し、その組成から、ルチル型酸化チタン、その他の低屈折率顔料の比率を求めることができる。元素組成は、ＥＰＭＡ（電子線マイクロアナライザ）、ＧＤＳ（グロー放電発光分光分析装置）等で確認してよい。
【００４３】
最表層のバインダーとしては、特に限定されるものでは無いが、光の反射を目的として使用されるため、耐候性の高いものを用いると好ましい。そのため、最表層のバインダーとしても、フッ素樹脂を用いることが好ましい。フッ素樹脂としては、先に述べたものと同様のものを用いることができる。
【００４４】
また、可視光反射層の顔料濃度を高くすることで、全光線反射率を高めている場合は、最表層には、反射光の角度による強度を制御することと同時に、被覆層の保護の役割が要求される。その場合は、可視光反射層が脆い分、最表層には伸びが要求される。その場合は、塗料用樹脂として多く使われており、物性を選択し易い、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂や、ゴム等、エラストマー状の樹脂等を用いることができる。
【００４５】
最表層にもなるべく高い光の拡散性を付与したい場合は、最表層にもルチル型酸化チタンを含有させても良い。ルチル型酸化チタンの濃度は、余り高くすると金属が接触した際にルチル型酸化チタンにより金属が磨耗し、黒く着色してしまうことがあるため、３５％以下にすることが好ましく、特に高面圧で金属と摩擦するような場合は、３０％以下にすることが好ましい。
【００４６】
被覆層の総膜厚としては、特に限定されるものではないが、高全光線反射率にするためには膜厚が厚い方が良いため５０μｍ以上であると好ましいが、余り厚くしても膜厚による効果が飽和し、膜厚を厚くするためにかかるコストに比べて効果が得難くなること、膜厚を厚くすると加工部や切断した場合の切断端部で高い密着性の確保が難しくなること、また、通常の連続塗装ライン被覆層を形成する場合、一回の塗装で５０μｍ以上の被覆層を形成するのは容易ではなく、２コート２ベークのラインで、１００μｍを超える膜厚を形成するの困難であること等から、５０〜１００μｍにすることが好ましい。
【００４７】
本発明の光拡散反射材料の基材としては、特に限定されるものではないが、金属板を用いると、基材へ被覆層を形成した後に加工成型が容易であり、好適である。金属板としてもいずれも特に限定されるものではないが、鋼板、ステンレス板、アルミニウム板、亜鉛板、銅板、また、これらの合金板等が挙げられ、さらに、これらの金属板上にめっき処理した金属が挙げられる。この内、鋼板上にめっき処理した例として、溶融亜鉛めっき鋼板、電気亜鉛めっき鋼板、合金化溶融亜鉛めっき鋼板、アルミニウムめっき鋼板、アルミニウム−亜鉛合金めっき鋼板、亜鉛−アルミニウム−マグネシウム合金めっき鋼板、亜鉛−アルミニウム−マグネシウム−シリコン合金めっき鋼板、亜鉛−マグネシウム合金めっき鋼板、錫めっき鋼板、鉛めっき鋼板、クロムめっき鋼板等の各種めっき鋼板等が挙げられる。また、これら金属板に、化成処理を施したものに処理を施すこともできる。化成処理としては、一般に公知の化成処理、例えば、塗布クロメート処理、電解クロメート処理、りん酸亜鉛処理や近年開発されている６価クロムを含まないクロメートフリー処理等を使用することができる。
【００４８】
本発明の高い全光線反射率を有する光拡散反射材料の製造方法としては、塗装により容易に製造することができる。例えば、フッ素樹脂にルチル型酸化チタンを含有させ、塗装できるように溶剤で希釈したような塗料を塗装することで全光線反射性の高い被覆層を形成し、その上に、最表層として非金属板状フィラーが含有された反射光の角度による強度を制御する層を塗装しても良い。全光線反射性の高い層は複数回に分けて塗装しても良いし、全光線反射性の高い被覆層の下に、プライマー層を塗装により形成しても良い。このように被覆層を塗装により形成すれば、被覆層をフィルムとして別に作成した場合、フィルム作成と基材への貼り付けと言った複数の工程が必要であるのに対し、基材上に直接被覆層を形成でき、工程を少なくすることができると言ったメリットがある。塗装方法は、特に限定されるものではなく、ロール塗工、ローラーカーテン塗工、カーテンフロー塗工、エアスプレー塗工、刷毛塗り塗工、ダイコーター塗工、浸漬塗工、インクジェット塗工等の通常の方法が挙げられる。
【００４９】
各層は、それぞれの塗料を順次塗布、焼き付けて、積層しても良いが、硬化前の状態で積層されたものを同時に焼き付けても、両方の方法を組み合わせてもよい。例えば、全光線反射性の高い層と最表層とを同時に焼き付けると、可視光反射層の下にプライマー層を形成した場合や可視光反射層を厚塗りするため、二度に分けて塗装した場合でも焼き付け工程が２回で良いため、通常３層を別々に焼き付けるなら、連続塗装ラインで比較的ライン上の長いスペースを取る焼き付け工程の設備を３つ設置しなくてはならないか、２つしか焼き付け工程を持たないラインでは２回ラインを通さないといけないのに対して、同時に焼き付けをすると、焼き付け装置が２つ設置されていれば１回ラインを通すだけで良いため生産性を高めることができ好ましい。塗料状態で積層する方法は、特には限定されるものではないが、大きく二つある。一つは各層を別々に塗布する方法で、一つは複数の層を同時に塗布する方法である。各層を別々に塗布する場合、下層の塗装は上述のような通常の塗装方法で構わないが、上層の塗装は、未硬化の下層に大きな衝撃を加えない方法で塗布することが好適である。下層に大きな衝撃を加えてしまう方法で塗装をすると、上層と下層が混ざってしまう。上層の塗装方法としては、下層を激しく乱さない方法であれば、特に限定されるものではないが、ローラーカーテン塗工、カーテンフロー塗工、エアスプレー塗工、ダイコーター塗工、浸漬塗工、インクジェット塗工等が挙げられる。複数の層を同時に塗布する場合、各層が塗布時に混ざらない必要がある。塗装方法としては、特に限定されるものではないが、多層スライドカーテン塗工等の方法が挙げられる。このような方法で多層を同時に焼き付けると、同時に焼き付けた層間の密着性が高くなり好ましい。
【００５０】
本発明による光拡散反射材料を使用した電気電子機器では、この光拡散反射材料が可視光域で高い全光線反射率を持ち、さらに反射光の角度による強度を制御できるため、同一光源の場合はこれまでよりも均一で明るく、これまでより光源の数を少なくしたり、投入電力を少なくしたりしても、均一で明るい発光面を確保することができる。このような特性を生かすことができる電気電子機器は何れも特に限定されるものではなく、照明器具、電飾、ＡＶ機器、モバイル機器、各種ディスプレイ等が挙げられるが、液晶ディスプレイのバックライト反射板、内飾看板内の反射板等に用いると、均一で明るい発光面が得られ好ましい。
【実施例】
【００５１】
実施例に基づき、本発明をさらに説明する。
【００５２】
まず、評価方法について説明する。
１）  全光線反射率測定
島津製作所社製の分光光度計「ＵＶ２６５」に、積分球反射付属装置を取り付けたものを用い、基準板としては硫酸バリウム粉末を押し固めたものを用いた。評価は、人の目の感度が最も高い波長である５５５ｎｍにおける全光線反射率については、８０％、９０％を基準とし、９５％以上のものを優、９０％以上９５％未満のものを良、８０％以上９０％未満のものを可、８０％未満のものを不可とした。
２）  正反射近傍の光沢度の測定
ＪＩＳ  Ｋ  ５４００に規格された鏡面光沢度の測定で、入射角と受光角を共に６０°として測定して装置を校正し、受光角度のみを５５°にずらして光沢度を測定し、その測定値が７％以上の場合を良、５％以上７％未満の場合を可、５％未満の場合を不可として評価した。
３）  照明器具の輝度測定
図３及び図４に本実施例で使用した実験装置の概要を示す。光拡散反射材料を図３及び図４に示すような長手方向の両端部が上面側に折り曲げられた形状に成形し、反射板１とした。その中に市販の蛍光灯照明器具２を２本並べて取り付け、その上に、すりガラスで形成されたカバー３を取り付けた。そのカバー３の中央部分（以下、「輝度測定部」と言う。）４と中央部分４から１５ｍｍ外側にずらした部分（以下、「輝度の均一性比較測定部」と言う。）５の輝度を、測定点から垂直に５００ｍｍ離れたところに輝度計６を設置して、測定した。なお、本実験では、輝度計６としてはトプコン社製ＢＭ−９を用い、測定角を１°とし、蛍光灯照明器具２としては、１６形ランプ出力１６Ｗの蛍光灯を用いた。
輝度の均一性の評価は、新日本製鐵（株）カタログ「ビューコート（登録商標）」に紹介されている白色塗料を塗布した照明器具反射板用プレコート鋼板で作成した反射板（以下、既存の反射板と称す）の輝度の均一性を測定し、それに対する相対値で評価した。
測定方法は、カバーの輝度測定部４と輝度測定部４から１５ｍｍずらした輝度の均一性比較測定部５の二箇所の輝度を測定し、輝度の均一度＝１００−（［輝度の均一性比較測定部５の輝度］−［輝度測定部４の輝度］）／［輝度測定部４の輝度］×１００と定義し、さらに既存の反射板に対する輝度の均一性＝［評価サンプルを反射板としたものの輝度の均一度］／［既存の反射板を反射板としたものの輝度の均一度］×１００％と定義し、既存の反射板に対する輝度の均一性１０５％以上の場合を良、１０１％以上１０５％未満の場合を可、１０１％未満の場合を不可として評価した。
【００５３】
光拡散反射材料の基材としては、電気亜鉛めっき鋼板にクロメート処理を施したものを用いた。被覆層は各層を塗料化したものを塗布後、焼き付け硬化することで形成した。
【００５４】
被覆層のバインダーとしては、フッ素樹脂、ポリエステル樹脂を用いた。フッ素樹脂としては、市販の３フッ化エチレン系樹脂である旭硝子社製「ルミフロン（登録商標）ＬＦ５５２」を用いた。架橋剤には市販のＨＤＩ（ヘキサメチレンジイソシアネート）をベースとしたブロック化イソシアネートである住化バイエルウレタン社製「スミジュール（登録商標）ＢＬ３１７５」をＯＨ／ＮＣＯ＝１：１等量で混合し、さらに、三井武田ケミカル社製反応触媒「ＴＫ−１」を樹脂固形質量分に対して０．０５質量％添加することで、フッ素系クリア塗料を得た。ポリエステル樹脂としては、市販の有機溶剤可溶型／非晶性ポリエステル樹脂である東洋紡績社製「バイロン（登録商標）ＧＫ１４０」を有機溶剤（ソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したもの）に溶解したものを用いた。架橋剤には市販のヘキサ−メトキシ−メチル化メラミンである三井サイテック社製の「サイメル（登録商標）３０３」をポリエステル樹脂の固形分１００質量部に対して１５質量部添加し、更に、市販の酸性触媒である三井サイテック社製の「キャタリスト（登録商標）６００３Ｂ」を０．５質量部添加することで、ポリエステル系クリア塗料を得た。
【００５５】
ルチル型酸化チタンとしては、平均粒径２８０ｎｍである石原産業社製「タイペーク（登録商標）ＣＲ９５」を用いた。
【００５６】
光拡散層に含有させる板状フィラーには、パールマイカ、ガラスフレークを用い、パールマイカとしては、シルバータイプのメルク社製「Ｉｒｉｏｄｉｎ  Ｉｒｉｏｄｉｎ（登録商標）１１１  Ｒｕｔｉｌｅ  Ｆｉｎｅ  Ｓａｔｉｎ」、ガラスフレークとしては、日本板硝子社製「マイクログラス（登録商標）メタシャイン（登録商標）」のシルバーシリーズ、を用いた。
【００５７】
可視光反射層に含有させる低屈折率顔料としては、樹脂中空ビーズ、シリカを用い、中空ビーズとしては、架橋スチレン−アクリルからなる、平均外径０．３０μｍ（３００ｎｍ）、平均内径０．２０μｍ（２００ｎｍ）、密度０．７６ｇ・ｃｍ−３のＪＳＲ社製の「ＳＸ８６６（Ａ）」、シリカとしては、平均粒径１．０μｍの林化成製の「ＳＱ−ＰＬ２」を用いた。
【００５８】
（実施例１）
実施例１では、下層に可視光反射層として、フッ素樹脂クリア塗料固形分の７０体積部に対して、ルチル型酸化チタンを３０体積部含有させて塗料を調合し、塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を、焼き付け硬化後の膜厚が２０μｍになるようにバーコートで基材に塗装し、最高到達板温２１０℃で焼き付けた。次に、中層も可視光反射層として、フッ素樹脂クリア塗料固形分の７０体積部に対して、ルチル型酸化チタンを３０体積部含有させて塗料を調合し、塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を、焼き付け硬化後の膜厚が３０μｍになるようにバーコートで基材に塗装し、最高到達板温２１０℃で焼き付けた。さらに、上層に光拡散層として、フッ素樹脂クリア塗料固形分の９７．５体積部に対して、パールマイカを２．５体積部含有させて塗料を調合し、塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を、焼き付け硬化後の膜厚が３μｍになるようにバーコートで基材に塗装し、最高到達板温２３０℃で焼き付けた。
【００５９】
（実施例２）
実施例２は、実施例１の光拡散層である上層の膜厚が５μｍになるように作成した。
【００６０】
（実施例３）
実施例３は、実施例１の光拡散層である上層の膜厚が１０μｍになるように作成した。
【００６１】
（実施例４）
実施例４は、実施例１の光拡散層である上層の膜厚が１５μｍになるように作成した。
【００６２】
（実施例５）
実施例５は、実施例１の光拡散層である上層の膜厚が２０μｍになるように作成した。
【００６３】
（実施例６）
実施例６は、実施例１の中層用塗料を焼き付け硬化後の膜厚が３０μｍになるようにバーコートで光拡散層として基材に塗装し、さらに、実施例１の上層用塗料を焼き付け硬化後の膜厚が１０μｍになるようにブレードコーターで光拡散層として基材に塗装し、２層同時に最高到達板温２３０℃で焼き付けた。
【００６４】
（実施例７）
実施例７は、実施例１の上層をフッ素樹脂クリア塗料固形分の９９．０体積部に対して、パールマイカを１．０体積部含有させて塗料を調合し、塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を、焼き付け硬化後の膜厚が１０μｍになるようにバーコートで基材に塗装し、最高到達板温２３０℃で焼き付け光拡散層とした。
【００６５】
（実施例８）
実施例８では、実施例１の上層をフッ素樹脂クリア塗料固形分の９５．０体積部に対して、パールマイカを５．０体積部含有させて塗料を調合し、塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を、焼き付け硬化後の膜厚が１０μｍになるようにバーコートで基材に塗装し、最高到達板温２３０℃で焼き付け光拡散層とした。
【００６６】
（実施例９）
実施例９では、実施例１の上層をフッ素樹脂クリア塗料固形分の９０．０体積部に対して、パールマイカを１０．０体積部含有させて塗料を調合し、塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を、焼き付け硬化後の膜厚が１０μｍになるようにバーコートで基材に塗装し、最高到達板温２３０℃で焼き付け光拡散層とした。
【００６７】
（実施例１０）
実施例１０では、実施例１の上層をフッ素樹脂クリア塗料固形分の９０．０体積部に対して、ルチル型酸化チタンを５．０体積部、パールマイカを５．０体積部含有させて塗料を調合し、塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を、焼き付け硬化後の膜厚が１０μｍになるようにバーコートで基材に塗装し、最高到達板温２３０℃で焼き付け光拡散層とした。
【００６８】
（実施例１１）
実施例１１では、実施例１の上層をフッ素樹脂クリア塗料固形分の９７．５体積部に対して、ガラスフレークを２．５体積部含有させて塗料を調合し、塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を、焼き付け硬化後の膜厚が１０μｍになるようにバーコートで基材に塗装し、最高到達板温２３０℃で焼き付け光拡散層とした。
【００６９】
（実施例１２）
実施例１２では、実施例１の上層をポリエステル樹脂クリア塗料固形分の９７．５体積部に対して、パールマイカを２．５体積部含有させて塗料を調合し、塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を、焼き付け硬化後の膜厚が１０μｍになるようにバーコートで基材に塗装し、最高到達板温２３０℃で焼き付け光拡散層とした。
【００７０】
（実施例１３）
実施例１３は、実施例３の下層をポリエステル素樹脂クリア塗料固形分の７０体積部に対して、ルチル型酸化チタンを３０体積部含有させて塗料を調合し、塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を、焼き付け硬化後の膜厚が２０μｍになるようにバーコートで基材に塗装し、最高到達板温２１０℃で焼き付けたものとした。
【００７１】
（実施例１４）
実施例１４は、実施例３の下層を省略したものとした。
【００７２】
（実施例１５）
実施例１５は、実施例３の可視光反射層である中層を２０μｍとなるようにバーコートで基材に塗装し、最高到達板温２１０℃で焼き付けたものとした。
【００７３】
（実施例１６）
実施例１６は、実施例３の可視光反射層である中層を２５μｍとなるようにバーコートで基材に塗装し、最高到達板温２１０℃で焼き付けたものとした。
【００７４】
（実施例１７）
実施例１７は、実施例３の可視光反射層である中層を３５μｍとなるようにバーコートで基材に塗装し、最高到達板温２１０℃で焼き付けたものとした。
【００７５】
（実施例１８）
実施例１８では、下層として、ポリエステル樹脂クリア塗料固形分の７０体積部に対して、ルチル型酸化チタンを３０体積部含有させて塗料を調合し、塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を、焼き付け硬化後の膜厚が２０μｍになるようにバーコートで基材に塗装し、最高到達板温２１０℃で焼き付けた。次に、中層に可視光反射層として、ポリエステル樹脂クリア塗料固形分の５５体積部に対して、ルチル型酸化チタンを４０体積部、シリカを５体積部含有させて塗料を調合し、塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を、焼き付け硬化後の膜厚が３０μｍになるようにバーコートで基材に塗装し、最高到達板温２１０℃で焼き付けた。さらに、上層に光拡散層として、フッ素樹脂クリア塗料固形分の９９体積部に対して、パールマイカを１体積部含有させて塗料を調合し、塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を、焼き付け硬化後の膜厚が１０μｍになるようにバーコートで基材に塗装し、最高到達板温２３０℃で焼き付けた。
【００７６】
（実施例１９）
実施例１９は、実施例１８のシリカを中空ビーズにしたものとした。
【００７７】
（実施例２０）
実施例２０は、実施例１８の可視光反射層である中層を、ポリエステル樹脂クリア塗料固形分の６０体積部に対して、ルチル型酸化チタンを３５体積部、シリカを５体積部含有させて塗料を調合し、塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を、焼き付け硬化後の膜厚が３０μｍになるようにバーコートで基材に塗装し、最高到達板温２１０℃で焼き付けたものとした。
【００７８】
（実施例２１）
実施例２１は、実施例１８の可視光反射層である中層を、ポリエステル樹脂クリア塗料固形分の４５体積部に対して、ルチル型酸化チタンを５５体積部、シリカを５体積部含有させて塗料を調合し、塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を、焼き付け硬化後の膜厚が３０μｍになるようにバーコートで基材に塗装し、最高到達板温２１０℃で焼き付けたものとした。
【００７９】
（実施例２２）
実施例２２は、実施例１８の可視光反射層である中層を、フッ素樹脂クリア塗料固形分の４５体積部に対して、ルチル型酸化チタンを５５体積部、シリカを５体積部含有させて塗料を調合し、塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を、焼き付け硬化後の膜厚が３０μｍになるようにバーコートで基材に塗装し、最高到達板温２１０℃で焼き付けたものとした。
【００８０】
（実施例２３）
実施例２３は、実施例１８の下層をフッ素樹脂クリア塗料固形分の７０体積部に対して、ルチル型酸化チタンを３０体積部含有させて塗料を調合し、塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を、焼き付け硬化後の膜厚が２０μｍになるようにバーコートで基材に塗装し、最高到達板温２１０℃で焼き付け、可視光反射層としたものとした。
【００８１】
（実施例２４）
実施例２４は、実施例２３の可視光反射層である中層をフッ素樹脂クリア塗料固形分の５５体積部に対して、ルチル型酸化チタンを４０体積部、シリカを５体積部含有させて塗料を調合し、塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を、焼き付け硬化後の膜厚が３０μｍになるようにバーコートで基材に塗装し、最高到達板温２１０℃で焼き付けたものとした。
【００８２】
（比較例１）
比較例１では、実施例１の光拡散層である上層を形成しないものを作成した。
【００８３】
（比較例２）
比較例２では、実施例１の上層を、フッ素樹脂クリア塗料を、塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を、焼き付け硬化後の膜厚が１０μｍになるようにバーコートで基材に塗装し、最高到達板温２３０℃で焼き付けた。
【００８４】
（比較例３）
比較例３では、フッ素樹脂クリア塗料固形分の９９体積部に対して、パールマイカを１体積部含有させて塗料を調合し、塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を、焼き付け硬化後の膜厚が３０μｍになるようにバーコートで基材に塗装し、最高到達板温２３０℃で焼き付けた。
【００８５】
各実施例及び比較例の全光線反射率、正反射近傍の光沢度、既存の反射板に対する輝度の均一性の評価結果を表１に示した。
【００８６】
【表１】
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【００８７】
実施例１〜２４は、全光線反射率、正反射近傍の光沢度、既存の反射板に対する輝度の均一性の何れの評価とも良好な結果であった。
【００８８】
比較例１、２は、全光線反射率は良好な結果であったが、正反射近傍の光沢度が低く、既存の反射板に対する輝度の均一性も低くなった。
【００８９】
比較例３は、正反射近傍の光沢度は良好な結果を示したが、全光線反射率が低く、既存の反射板に対する輝度の均一性も低くなった。
【００９０】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【図面の簡単な説明】
【００９１】
【図１】輝度測定装置の一例を示す断面模式図である。
【図２】図１の輝度測定装置を上部から見た模式図である。
【図３】本発明の実施例で使用した照明器具の輝度測定の実験装置を側面から見た模式図である。
【図４】本発明の実施例で使用した照明器具の輝度測定の実験装置を上部から見た模式図である。
【符号の説明】
【００９２】
Ａ      光源
Ｂ      光源
Ｃ      反射板上の光源Ａ、Ｂからの距離が等しい点
Ｄ      反射板
Ａ’      光源
Ｂ’      光源
Ｃ’      反射板上の光源Ａ、Ｂからの距離が等しい点
Ｄ’      反射板
１      反射板
２      蛍光灯照明器具
３      カバー
４      輝度測定部
５      輝度の均一性比較測定部
６      輝度計
【図１】
2008145942.tif 000003
【図２】
2008145942.tif 000004
【図３】
2008145942.tif 000005
【図４】
2008145942.tif 000006