(57)【要約】【課題】粉粒体を高温高湿気体で加熱処理しても結露させることなく袋詰などすることができる構造の粉粒体処理装置を提供する。【解決手段】加熱処理室ＷＣ内で粉粒体ＰＤが高温高湿気体により加熱処理され、これで高温高湿となった粉粒体ＰＤが乾燥処理室ＤＣ内で低湿気体により乾燥される。このため、高温高湿気体により加熱処理した粉粒体ＰＤを結露させることなく袋詰などすることができる。【選択図】図１
2008281310.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
粉粒体を加熱処理するための粉粒体処理装置であって、
上下方向と軸心方向が略平行な回転体状に形成されている加熱処理室に前記粉粒体が搬入される加熱処理機構と、
所定温度かつ所定湿度の高温高湿気体を生成する高湿生成部と、
前記高温高湿気体を回転体状の前記加熱処理室内に噴射して前記粉粒体とともに略水平に旋回させる高湿噴射機構と、
上下方向と軸心方向が略平行な回転体状に形成されている乾燥処理室に前記加熱処理室から前記粉粒体が搬入される乾燥処理機構と、
所定湿度の低湿気体を生成する乾燥生成部と、
前記低湿気体を回転体状の前記乾燥処理室内に噴射して前記粉粒体とともに略水平に旋回させる乾燥噴射機構と、
を有する粉粒体処理装置。
【請求項２】
前記乾燥生成部は、所定温度かつ所定湿度の高温低湿気体と低温低湿気体とを生成し、
前記乾燥噴射機構は、前記高温低湿気体を前記乾燥処理室の上部に噴射するとともに前記乾燥処理室の下部に前記低温低湿気体を噴射する請求項１に記載の粉粒体処理装置。
【請求項３】
前記乾燥生成部は、前記高湿生成部で生成された前記高温高湿気体を除湿することで前記高温低湿気体を生成するとともに前記高温低湿気体を冷却することで前記低温低湿気体を生成する請求項２に記載の粉粒体処理装置。
【請求項４】
前記乾燥処理室は、下部が上部より半径方向で幅狭に形成されており、
前記乾燥噴射機構は、前記乾燥処理室の幅広の上部に前記高温低湿気体を噴射するとともに幅狭の下部に前記低温低湿気体を噴射する請求項２または３に記載の粉粒体処理装置。
【請求項５】
前記乾燥処理機構は、小径円筒部材が大径円筒部材の内部に同軸状に配置された二重構造に形成されており、
前記乾燥処理室は、前記小径円筒部材の外周面と前記大径円筒部材の内周面との間隙で円環状に形成されている請求項２ないし４の何れか一項に記載の粉粒体処理装置。
【請求項６】
前記乾燥処理機構は、前記大径円筒部材の内部で前記小径円筒部材の下部の外周面上に中径円筒部材が同軸状に装着されており、
前記乾燥噴射機構は、前記乾燥処理室の上部で前記大径円筒部材と前記小径円筒部材との間隙に前記高温低湿気体を噴射するとともに前記乾燥処理室の下部で前記小径円筒部材と前記中径円筒部材との間隙に前記低温低湿気体を噴射する請求項５に記載の粉粒体処理装置。
【請求項７】
前記乾燥処理機構は、上下方向と軸心方向が略平行な回転体状の乾燥処理室の下面が開口されており、
前記乾燥処理室の下面の開口から搬出される前記粉粒体を上面が開口したフィルタパックに袋詰する粉粒体袋詰機構を、さらに有する請求項１ないし６の何れか一項に記載の粉粒体処理装置。
【請求項８】
粉粒体を高温高湿気体で加熱処理する粉粒体処理装置の乾燥処理ユニットであって、
上下方向と軸心方向が略平行な回転体状に形成されている乾燥処理室に加熱処理された前記粉粒体が搬入される乾燥処理機構と、
所定湿度の低湿気体を生成する乾燥生成部と、
前記低湿気体を回転体状の前記乾燥処理室内に噴射して前記粉粒体とともに略水平に旋回させる乾燥噴射機構と、
を有する乾燥処理ユニット。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、粉粒体を加熱処理するための粉粒体処理装置に関し、特に、高温高湿気体で粉粒体を撹拌して加熱処理する粉粒体処理装置、その乾燥処理ユニット、に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、高温気体で粉粒体を撹拌して加熱処理する粉粒体処理装置が、食品からなる粉粒体の殺菌や乾燥などに利用されている。このような粉粒体処理装置の一従来例を図７を参照して以下に説明する。
【０００３】
ここで例示する粉粒体処理装置１０は、上下方向と軸心方向が略平行な円筒形の加熱処理室１１が形成されている加熱処理機構１２と、所定温度の高温気体を生成する高温生成部１３と、加熱処理室１１の内部に上方から粉粒体ＰＤを導入する粉粒体噴射機構１４と、加熱処理室１１の内部に下方から高温気体を導入する気体導入機構１５と、を有する。
【０００４】
より詳細には、加熱処理室１１の底部には、気体導入機構１５により高温気体が導入される多数の開口孔が形成されている。その開口孔が加熱処理室１１の軸心を中心に一方に回転する方向に傾斜している。
【０００５】
なお、加熱処理室１１の上端には、高温気体の排気管１６も配管されている。この排気管１６にはサイクロン機構１７も挿入されている。また、加熱処理機構１２の底部側方には、粉粒体ＰＤの搬出口１８も形成されており、この搬出口１８には開閉扉１９も設置されている。
【０００６】
この粉粒体処理装置１０では、加熱処理室１１に下面から導入される高温気体が旋回する。そこに上方から粉粒体ＰＤが導入される。このため、旋回しながら上方に噴射される高温気体により粉粒体ＰＤは撹拌されながら加熱処理される。
【０００７】
なお、加熱処理された粉粒体ＰＤは、開閉扉１９の開放により加熱処理室１１の底部から外部に搬出される。また、加熱処理室１１に導入された高温気体は上部の排気管１６により外部に排気される。このとき、排気される高温気体に混入している粉粒体ＰＤは、サイクロン機構１７により遠心分離される。
【０００８】
現在、上述のような粉粒体処理装置として各種の提案がある(例えば、特許文献１〜３参照)。
【特許文献１】特公昭４７−４９８５４号公報
【特許文献２】特開２００１−２７６５９８号公報
【特許文献３】特開２００６−１１２７１０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
上述した粉粒体処理装置１０では、旋回しながら上方に噴射される高温気体により粉粒体ＰＤを撹拌することで粉粒体ＰＤを加熱処理している。しかし、このように旋回しながら上方に噴射される高温気体により粉粒体ＰＤを撹拌しても、実際には粉粒体ＰＤを高効率に加熱処理することは困難である。
【００１０】
そこで、本出願人は粉粒体を高温高湿気体とともに旋回させることにより、粉粒体を高効率に加熱処理する粉粒体処理装置を発明した(図示せず)。この粉粒体処理装置は、公知ではない先行技術として出願されている(特願２００６−２９８５５０号，特願２００６−２９８５５７号)。
【００１１】
しかし、高温高湿気体により加熱処理された粉粒体ＰＤは、当然ながら高温高湿となっているために結露しやすい。例えば、上述のように高温高湿気体により加熱処理された粉粒体ＰＤをフィルタパックに袋詰する場合、フィルタパックの内部で粉粒体ＰＤが結露する不具合が発生しやすい。
【００１２】
また、もしも前述の粉粒体処理装置１０の高温気体を高温高湿気体とした場合、やはり粉粒体ＰＤが冷却の過程で結露するため、粉粒体ＰＤが排気管１６やサイクロン機構１７の内面に固着することが予測される。
【００１３】
本発明は上述のような課題に鑑みてなされたものであり、粉粒体を高温高湿気体で加熱処理しても結露させることなく袋詰などすることができる構造の粉粒体処理装置、その乾燥処理ユニット、を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明の粉粒体処理装置は、粉粒体を加熱処理するための粉粒体処理装置であって、上下方向と軸心方向が略平行な回転体状に形成されている加熱処理室に粉粒体が搬入される加熱処理機構と、所定温度かつ所定湿度の高温高湿気体を生成する高湿生成部と、高温高湿気体を回転体状の加熱処理室内に噴射して粉粒体とともに略水平に旋回させる高湿噴射機構と、上下方向と軸心方向が略平行な回転体状に形成されている乾燥処理室に加熱処理室から粉粒体が搬入される乾燥処理機構と、所定湿度の低湿気体を生成する乾燥生成部と、低湿気体を回転体状の乾燥処理室内に噴射して粉粒体とともに略水平に旋回させる乾燥噴射機構と、を有する。
【００１５】
従って、本発明の粉粒体処理装置では、回転体状の加熱処理室内で粉粒体を高温高湿気体とともに旋回させる。このため、加熱処理室内で粉粒体が高温高湿気体により加熱処理される。これで高温高湿となった粉粒体が、乾燥処理室内で低湿気体とともに旋回される。このため、乾燥処理室内で粉粒体が低湿気体により乾燥される。
【００１６】
本発明の乾燥処理ユニットは、粉粒体を高温高湿気体で加熱処理する粉粒体処理装置の乾燥処理ユニットであって、上下方向と軸心方向が略平行な回転体状に形成されている乾燥処理室に加熱処理された粉粒体が搬入される乾燥処理機構と、所定湿度の低湿気体を生成する乾燥生成部と、低湿気体を回転体状の乾燥処理室内に噴射して粉粒体とともに略水平に旋回させる乾燥噴射機構と、を有する。
【００１７】
なお、本発明の各種の構成要素は、必ずしも個々に独立した存在である必要はなく、複数の構成要素が一個の部材として形成されていること、一つの構成要素が複数の部材で形成されていること、ある構成要素が他の構成要素の一部であること、ある構成要素の一部と他の構成要素の一部とが重複していること、等でもよい。
【００１８】
また、本発明で云う高温とは、いわゆる常温よりも充分に高く加熱された温度であり、粉粒体の加熱処理に利用される所定範囲の温度を意味している。同様に、高湿とは、通常の雰囲気より充分に高く加湿した湿度であり、粉粒体の加熱処理に利用される所定範囲の湿度を意味している。
【００１９】
また、本発明で云う低温とは、いわゆる常温よりも充分に低く冷却された温度であり、加熱処理された粉粒体を結露しない状態に冷却できる所定範囲の温度を意味している。同様に、低湿とは、通常の雰囲気より充分に低く除湿した湿度であり、加熱処理された粉粒体を結露しない状態に除湿できる所定範囲の湿度を意味している。
【発明の効果】
【００２０】
本発明の粉粒体処理装置では、加熱処理室内で粉粒体が高温高湿気体により加熱処理され、これで高温高湿となった粉粒体が乾燥処理室内で低湿気体により乾燥される。このため、加熱処理した粉粒体を結露させることなく袋詰などすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
本発明の実施の一形態を図１ないし図４を参照して以下に説明する。ただし、本実施の形態に関して前述した一従来例と同一の部分は、同一の名称および符号を使用して詳細な説明は省略する。
【００２２】
本実施の形態の粉粒体処理装置１００は、粉粒体ＰＤを加熱処理する。このため、粉粒体処理装置１００は、図１に示すように、上下方向と軸心方向が略平行な回転体状に形成されている加熱処理室ＷＣに粉粒体搬入機構１３０が形成されている加熱処理機構１１０と、所定温度かつ所定湿度の高温高湿気体を生成する高湿生成部１２０と、加熱処理室ＷＣの内部に粉粒体ＰＤを搬入する粉粒体搬入機構１３０と、高温高湿気体を回転体状の加熱処理室ＷＣ内に噴射して粉粒体ＰＤとともに略水平に旋回させる高湿噴射機構１４０と、上下方向と軸心方向が略平行な回転体状の乾燥処理室ＤＣが形成されている乾燥処理機構１５０と、所定湿度の低湿気体を生成する乾燥生成部１６０と、加熱処理室ＷＣから搬出される粉粒体ＰＤを乾燥処理室ＤＣに搬入する粉粒体搬送機構１７０と、低湿気体を回転体状の乾燥処理室ＤＣ内に噴射して粉粒体ＰＤとともに略水平に旋回させる乾燥噴射機構１８０と、を有する。
【００２３】
より詳細には、本実施の形態の粉粒体処理装置１００では、加熱処理機構１１０は、図１および図２に示すように、小径円筒部材１１１が大径円筒部材１１２の内部に同軸状に配置された二重構造に形成されている。
【００２４】
このため、加熱処理室ＷＣは、小径円筒部材１１１の外周面と大径円筒部材１１２の内周面との間隙で円環状に形成されている。小径円筒部材１１１と大径円筒部材１１２とは円盤状の天板１１３で連結されている。
【００２５】
このため、小径円筒部材１１１と大径円筒部材１１２とは上端が閉止されている。大径円筒部材１１２の下部は円錐状に縮径されている。この円錐状に縮径された大径円筒部材１１２の下部に小径円筒部材１１１の下端が開口したまま内側から対向している。
【００２６】
また、小径円筒部材１１１の上部には複数の貫通孔１１４が形成されている。このため、小径円筒部材１１１の内部と外部の加熱処理室ＷＣとは、下端開口と上部の貫通孔１１４とで連通されている。
【００２７】
高湿生成部１２０は、周囲の空気を吸入して加熱するとともに加湿することにより、高温高湿気体を生成する。この高湿生成部１２０は、例えば、貯留した水の表面にバーナーにより火炎を３０°〜４５°の角度で噴射することにより、１５０℃〜２５０℃の高温高湿気体を生成する(図示せず)。なお、このような高湿生成部１２０は、例えば、特開平８−１９６４２４号公報に開示されている。
【００２８】
図１に示すように、高湿生成部１２０には、高湿噴射機構１４０の四本の送気管１４１がブロア１４２を経由して配管されている。そして、この高湿噴射機構１４０の四本の送気管１４１が、図２に示すように、加熱処理機構１１０の加熱処理室ＷＣの内周面に、上方から下方まで螺旋状に順番に配管されている。
【００２９】
粉粒体搬入機構１３０は、粉粒体ＰＤを保持して給送するホッパ１３１を有する。ただし、このホッパ１３１は、上述のように加熱処理機構１１０に螺旋状に配管されている四本の送気管１４１の最上位の一本に連結されている。
【００３０】
このため、粉粒体ＰＤは、高温高湿気体とともに加熱処理室ＷＣの内周面に所定の回転方向に最上位の送気管１４１から噴射される。そして、これより下方に螺旋状に配管されている三本の送気管１４１からは加熱処理室ＷＣの内周面に上述の回転方向に高温高湿気体のみが噴射される。
【００３１】
乾燥処理機構１５０は、図１および図３および図４に示すように、加熱処理機構１１０と同様に、小径円筒部材１５１が大径円筒部材１５２の内部に同軸状に配置された二重構造に形成されており、乾燥処理室ＤＣは、小径円筒部材１５１の外周面と大径円筒部材１５２の内周面との間隙で円環状に形成されている。
【００３２】
その小径円筒部材１５１と大径円筒部材１５２も円盤状の天板１５３で連結されている。このため、小径円筒部材１５１と大径円筒部材１５２とは上端が閉止されている。また、小径円筒部材１５１の上部には複数の貫通孔１５４が形成されている。
【００３３】
なお、乾燥処理機構１５０も、大径円筒部材１５２の下部が上部より縮径されることで乾燥処理室ＤＣの下部が上部より半径方向で幅狭に形成されている。ただし、乾燥処理機構１５０の大径円筒部材１５２の下部の縮径は、加熱処理機構１１０の大径円筒部材１１２の下部の縮径に比較して微少である。
【００３４】
そして、乾燥処理機構１５０では、大径円筒部材１５２の内部で小径円筒部材１５１の下部の外周面上に中径円筒部材１５６が同軸状に装着されている。この中径円筒部材１５６の下端は小径円筒部材１５１の下端より微少に上方に開口している。
【００３５】
そして、この中径円筒部材１５６と小径円筒部材１５１との下端は、大径円筒部材１５２の縮径された下部の内側に開口している。このため、小径円筒部材１５１の内部と外部の乾燥処理室ＤＣとは、下端開口と上部の貫通孔１５４とで連通されている。
【００３６】
粉粒体搬送機構１７０は、送気管１７１とブロア１７２からなり、加熱処理機構１１０の下端開口と乾燥処理機構１５０の上部側面とに配管されている。ただし、この粉粒体搬送機構１７０の送気管１７１も、乾燥処理室ＤＣの内周面に所定の回転方向に配管されている。
【００３７】
乾燥生成部１６０は、除湿機構１６１と冷却機構１６２とを有する。除湿機構１６１は、高湿生成部１２０で生成された高温高湿気体を除湿することで高温低湿気体を生成する。冷却機構１６２は、高湿生成部１２０と除湿機構１６１とで生成された高温低湿気体を冷却することで低温低湿気体を生成する。
【００３８】
乾燥噴射機構１８０は、複数の送気管１８１とブロア１８２により、乾燥処理室ＤＣの幅広の上部に高温低湿気体を噴射するとともに、幅狭の下部に低温低湿気体を噴射する。
【００３９】
ただし、低湿気体を乾燥処理室ＤＣの上部で大径円筒部材１５２と小径円筒部材１５１との間隙からなる乾燥処理室ＤＣの幅広の上部に高温低湿気体を噴射するとともに、乾燥処理室ＤＣの下部で小径円筒部材１５１と中径円筒部材１５６との間隙から乾燥処理室ＤＣの幅狭の下部に低温低湿気体を噴射する。
【００４０】
なお、乾燥噴射機構１８０は、三本の送気管１８１が乾燥処理室ＤＣの内面に上述の回転方向に配管されており、粉粒体搬送機構１７０の送気管１７１と乾燥噴射機構１８０の三本の送気管１８１とが、乾燥処理室ＤＣの内周面に、上方から下方まで螺旋状に順番に配管されている。
【００４１】
また、乾燥処理機構１５０は、下部が縮径されているものの加熱処理機構１１０に比較して大径に開口されている。そして、この開口には粉粒体袋詰機構１９０が下方から対向している。この粉粒体袋詰機構１９０は、乾燥処理機構１５０から搬出される粉粒体ＰＤを、上面が開口したフィルタパックＦＰに袋詰する。
【００４２】
このため、粉粒体袋詰機構１９０は、上面が開口したフィルタパックＦＰを保持するパック保持機構１９１、保持されたフィルタパックＦＰを順次発送して乾燥処理機構１５０の下面開口に対向させるパック移動機構(図示せず)、乾燥処理機構１５０に対向されたフィルタパックＦＰの内部を減圧するパック減圧機構１９２、等からなる。
【００４３】
上述のような構成において、本実施の形態の粉粒体処理装置１００では、粉粒体ＰＤが高温高湿気体により加熱処理室ＷＣで加熱処理される。この加熱処理により高温高湿となった粉粒体ＰＤが、高温低湿気体により乾燥処理室ＤＣで乾燥処理される。
【００４４】
さらに、この乾燥処理により高温低湿となった粉粒体ＰＤが低温低湿気体により冷却処理されてから、フィルタパックＦＰに袋詰される。このため、加熱処理した粉粒体ＰＤを結露させることなくフィルタパックＦＰに袋詰することができる。
【００４５】
しかも、本実施の形態の粉粒体処理装置１００では、上述のように加熱処理する粉粒体ＰＤが、高温高湿気体とともに加熱処理室ＷＣの内周面に接線と略平行かつ略水平な方向に噴射されることで、粉粒体ＰＤが高温高湿気体とともに加熱処理室ＷＣの内部を旋回する。
【００４６】
このため、粉粒体ＰＤと高温高湿気体との移動方向が相反しないので、高温高湿気体による粉粒体ＰＤの挙動を均一とすることができる。従って、多量の微細な粉粒体ＰＤでも均一に加熱処理することができる。
【００４７】
さらに、加熱処理機構１１０の加熱処理室ＷＣが円筒形に形成されている。このため、粉粒体ＰＤが高温高湿気体とともに円滑に旋回することができ、旋回しながら徐々に下方に移動することができる。
【００４８】
特に、加熱処理機構１１０は、小径円筒部材１１１が大径円筒部材１１２の内部に同軸状に配置された二重構造に形成されている。このため、加熱処理室ＷＣが円環状に形成されており、極めて円滑に粉粒体ＰＤを高温高湿気体とともに旋回させることができる。
【００４９】
しかも、この加熱処理室ＷＣの下部は下方に先鋭な円錐形に形成されている。このため、加熱処理室ＷＣの上部への噴射による高温高湿気体の旋回の下部での速度低下を防止することができ、加熱処理された粉粒体ＰＤを簡単かつ確実に搬出することができる。
【００５０】
さらに、加熱処理室ＷＣには、複数の高湿噴射機構１４０が配管されている。このため、複数の箇所から加熱処理室ＷＣに噴射される高温高湿気体により、粉粒体ＰＤを良好に旋回させつつ加熱処理することができる。
【００５１】
しかも、図１および図２に示すように、高湿噴射機構１４０の四本の送気管１４１が、加熱処理室ＷＣの軸心方向と円周方向とで分散された位置に配置されている。このため、円筒形の加熱処理室ＷＣの内部全域で高温高湿気体により粉粒体ＰＤを均等に旋回させることができ、加熱処理室ＷＣの内部全域で高温高湿気体により粉粒体ＰＤを均等に加熱処理することができる。
【００５２】
特に、高温高湿気体とともに粉粒体ＰＤを噴射する送気管１４１より、高温高湿気体のみを噴射する送気管１４１が下方に位置している。このため、前述のように徐々に落下する粉粒体ＰＤを、高温高湿気体により良好に旋回させながら加熱処理することができる。
【００５３】
さらに、高湿噴射機構１４０の四本の送気管１４１が、加熱処理室ＷＣの内周面に上方から下方まで螺旋状に順番に配管されている。このため、上述のように徐々に落下する粉粒体ＰＤを、円筒形の加熱処理室ＷＣの内部全域で高温高湿気体により均等に旋回させながら均等に加熱処理することができる。
【００５４】
さらに、小径円筒部材１１１の内部空間は、上部の貫通孔１１４と下部の開口とで加熱処理室ＷＣに連通されている。このため、小径円筒部材１１１の内部と外部とに温度差や気圧差が発生することが防止されている。
【００５５】
そして、上述のように高温高湿気体で乾燥処理された粉粒体ＰＤは乾燥処理室ＤＣの内部に供給され、高温低湿気体とともに乾燥処理室ＤＣの内部を旋回する。このため、粉粒体ＰＤと高温低湿気体との移動方向が相反しないので、多量の微細な粉粒体ＰＤでも均一に乾燥処理することができる。
【００５６】
しかも、乾燥処理機構１５０の乾燥処理室ＤＣが円筒形に形成されている。このため、粉粒体ＰＤが高温低湿気体とともに円滑に旋回することができ、旋回しながら徐々に下方に移動することができる。
【００５７】
特に、乾燥処理機構１５０は、小径円筒部材１５１が大径円筒部材１５２の内部に同軸状に配置された二重構造に形成されている。このため、乾燥処理室ＤＣが円環状に形成されており、極めて良好に粉粒体ＰＤを高温低湿気体とともに旋回させることができる。
【００５８】
さらに、乾燥処理室ＤＣには、複数の乾燥噴射機構１８０が配管されている。このため、複数の箇所から乾燥処理室ＤＣに噴射される高温低湿気体により、粉粒体ＰＤを良好に旋回させつつ乾燥処理することができる。
【００５９】
しかも、図１および図３および図４に示すように、粉粒体搬送機構１７０の送気管１７１と乾燥噴射機構１８０の上位の三本の送気管１８１とが、乾燥処理室ＤＣの軸心方向と円周方向とで分散された位置に配置されている。
【００６０】
このため、円筒形の乾燥処理室ＤＣの内部全域で高温低湿気体により粉粒体ＰＤを均等に旋回させることができ、乾燥処理室ＤＣの内部全域で高温低湿気体により粉粒体ＰＤを均等に乾燥処理することができる。
【００６１】
特に、粉粒体搬送機構１７０の送気管１７１が乾燥噴射機構１８０の三本の送気管１８１より下方に位置している。このため、前述のように徐々に落下する粉粒体ＰＤを、高温低湿気体により良好に旋回させながら乾燥処理することができる。
【００６２】
さらに、粉粒体搬送機構１７０の送気管１７１と乾燥噴射機構１８０の三本の送気管１８１とが、乾燥処理室ＤＣの内周面に上方から下方まで螺旋状に順番に配管されている。
【００６３】
このため、上述のように徐々に落下する粉粒体ＰＤを、円筒形の乾燥処理室ＤＣの内部全域で高温低湿気体により均等に旋回させながら均等に乾燥処理することができる。特に、乾燥処理室ＤＣの上部に三本の送気管１８１から噴射される低湿気体は高温なので、粉粒体ＰＤを加熱しながら乾燥処理することができる。
【００６４】
さらに、小径円筒部材１５１の内部空間は、上部の貫通孔１５４と下部の開口とで乾燥処理室ＤＣに連通されている。このため、小径円筒部材１５１の内部と外部とに温度差や気圧差が発生することが防止されている。
【００６５】
そして、乾燥処理室ＤＣの下部には低温低湿気体が噴射される。このため、粉粒体ＰＤを、乾燥して常温などに冷却された状態で乾燥処理室ＤＣの下部開口から外部に搬出することができる。
【００６６】
しかも、乾燥処理機構１５０の大径円筒部材１５２は下部が縮径されており、そこに低温低湿気体が噴射される。このため、乾燥処理室ＤＣが幅狭となって流速が上昇した状態の粉粒体ＰＤに低温低湿気体が噴射されるので、粉粒体ＰＤを高効率に冷却することができる。
【００６７】
特に、小径円筒部材１５１の下部に中径円筒部材１５６が装着されており、この中径円筒部材１５６の内部に低温低湿気体が噴射される。このため、低温低湿気体を噴射する送気管１８１が一本でも、円環状に旋回している低温低湿気体を良好に生成することができる。
【００６８】
しかも、中径円筒部材１５６の下端開口が小径円筒部材１５１の下端より上方に位置している。このため、高温低湿気体とともに円環状に旋回している粉粒体ＰＤに、同一方向で円環状に旋回している低温低湿気体を内側から合流させることができる。従って、多量の粉粒体ＰＤを均等に迅速に冷却することができる。
【００６９】
しかも、乾燥生成部１６０は、高湿生成部１２０で生成された高温高湿気体を除湿機構１６１で除湿することで高温低湿気体を生成し、高湿生成部１２０と除湿機構１６１とで生成された高温低湿気体を冷却機構１６２で冷却することで低温低湿気体を生成する。
【００７０】
このため、高温低湿気体と低温低湿気体とを良好な効率で生成することができる。特に、低温低湿気体を雰囲気から直接に生成することなく高温高湿気体から生成しているので、完全に滅菌された状態に低温低湿気体を生成することができる。
【００７１】
さらに、粉粒体袋詰機構１９０は、パック保持機構１９１によりフィルタパックＦＰを上面が開口した状態で保持し、このような状態で乾燥処理機構１５０の下面開口に対向するフィルタパックＦＰの内部をパック減圧機構１９２で減圧する。
【００７２】
このため、乾燥処理機構１５０の下面開口から低湿気体とともに噴射される粉粒体ＰＤを漏出させることなく迅速にフィルタパックＦＰに収容することができるので、粉粒体ＰＤを良好に乾燥した状態でフィルタパックＦＰに袋詰することができる。
【００７３】
しかも、本実施の形態の粉粒体処理装置１００では、加熱処理機構１１０と乾燥処理機構１５０とが同等な構造に形成されている。このため、加熱処理機構１１０と乾燥処理機構１５０とで各種の部品を共用するようなことができ、粉粒体処理装置１００の生産性を向上させることができる。
【００７４】
なお、本発明は上記形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で各種の変形を許容する。例えば、上記形態では加熱処理室ＷＣや乾燥処理室ＤＣの上部が円筒形で下部が円錐形であることを例示した。
【００７５】
しかし、加熱処理室ＷＣや乾燥処理室ＤＣの全体が円筒形や円錐形に形成されていてもよい。さらに、加熱処理室の全体が球形に形成されていることや、下部が半球形などに形成されていることも不可能ではない。
【００７６】
また、全体的に粉粒体と高温高湿気体との旋回を阻害しない回転体状に形成されていればよいので、例えば、平面形状が十二角形となる形状などに形成されていてもよい(何れも図示せず)。
【００７７】
さらに、上記形態では加熱処理機構１１０や乾燥処理機構１５０が、小径円筒部材１１１，１５１と大径円筒部材１１２，１５２との二重構造に形成されていることを例示した。しかし、加熱処理機構や乾燥処理機構が、大径円筒部材のみからなる一重構造に形成されていてもよい。
【００７８】
また、上記形態では大径円筒部材１５２の内部で小径円筒部材１５１の下部に中径円筒部材１５６が装着されており、この中径円筒部材１５６の内部に低温低湿気体が噴射されることを例示した。
【００７９】
しかし、図５に例示する粉粒体処理装置２００のように、低温低湿気体が乾燥処理機構２１０の大径円筒部材２１１の内部に直接に噴射されてもよい。この場合、やはり低温低湿気体が噴射される大径円筒部材２１１の下部が縮径されており、その内面に粉粒体ＰＤの旋回方向に対応した接線方向で低温低湿気体が噴射されることがよい。
【００８０】
また、上記形態では大径円筒部材１１２，１５２の下部が縮径されることで、加熱処理室ＷＣと乾燥処理室ＤＣとの下部が幅狭とされて流速の低下が防止されていることを例示した。しかし、小径円筒部材の下部が拡径されることで、加熱処理室ＷＣと乾燥処理室ＤＣとの下部が幅狭とされていてもよい(図示せず)。
【００８１】
さらに、上記形態では加熱処理機構１１０と乾燥処理機構１５０とが完全に別個に形成されていて粉粒体搬送機構１７０の配管で連結されていることを例示した。しかし、図６に例示する粉粒体処理装置２２０のように、加熱処理機構２２１と乾燥処理機構２２２とが上下に一体に形成されていることも不可能ではない。
【００８２】
また、上記形態では高湿噴射機構１４０や乾燥噴射機構１８０が噴射する高温高湿気体や高温低湿気体や低温低湿気体の流量が一定であることを想定した。しかし、これらの流量の一部ないし全部を可変自在とし、加熱処理や乾燥処理の度合を調整できるようにしてもよい。
【００８３】
なお、当然ながら、上述した実施の形態および複数の変形例は、その内容が相反しない範囲で組み合わせることができる。また、上述した実施の形態および変形例では、各部の構造などを具体的に説明したが、その構造などは本願発明の機能を満足する範囲で各種に変更することができる。
【図面の簡単な説明】
【００８４】
【図１】本発明の実施の形態の粉粒体処理装置の全体構造を示す模式図である。
【図２】粉粒体処理装置の加熱処理機構の組立構造を示す分解斜視図である。
【図３】粉粒体処理装置の乾燥処理機構の組立構造を示す分解斜視図である。
【図４】乾燥処理機構の構造を示す二面図である。
【図５】一の変形例の粉粒体処理装置の全体構造を示す模式図である。
【図６】他の変形例の粉粒体処理装置の全体構造を示す模式図である。
【図７】一従来例の粉粒体処理装置の全体構造を示す模式図である。
【符号の説明】
【００８５】
１０    粉粒体処理装置
１１    加熱処理室
１２    加熱処理機構
１３    高温生成部
１４    粉粒体噴射機構
１５    気体導入機構
１６    排気管
１７    サイクロン機構
１８    搬出口
１９    開閉扉
１００    粉粒体処理装置
１１０    加熱処理機構
１１１    小径円筒部材
１１２    大径円筒部材
１１３    天板
１１４    貫通孔
１２０    高湿生成部
１３０    粉粒体搬入機構
１３１    ホッパ
１４０    高湿噴射機構
１４１    送気管
１４２    ブロア
１５０    乾燥処理機構
１５１    小径円筒部材
１５２    大径円筒部材
１５３    天板
１５４    貫通孔
１５６    中径円筒部材
１６０    乾燥生成部
１６１    除湿機構
１６２    冷却機構
１７０    粉粒体搬送機構
１７１    送気管
１７２    ブロア
１８０    乾燥噴射機構
１８１    送気管
１８２    ブロア
１９０    粉粒体袋詰機構
１９１    パック保持機構
１９２    パック減圧機構
２００    粉粒体処理装置
２１０    乾燥処理機構
２１１    大径円筒部材
２２０    粉粒体処理装置
２２１    加熱処理機構
２２２    乾燥処理機構
ＤＣ    乾燥処理室
ＦＰ    フィルタパック
ＰＤ    粉粒体
ＷＣ    加熱処理室
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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