(57)【要約】【課題】基材との密着性、強度、撥水性、耐白化性等に優れた低屈折率の透明被膜を形成することができ、加えて基材あるいは下層表面の形状を反映した透明被膜、例えば下層の表面が種々の凹凸を有する場合はその凹凸と同様の凹凸を表面に有する透明被膜を形成することができ、このため反射防止性能、防弦性能等にも優れた透明被膜の形成に好適に使用可能な透明被膜形成用塗料を提供する。【解決手段】低屈折率微粒子とマトリックス形成成分と重合開始剤と溶媒とからなる透明被膜形成塗料であって、(i)低屈折率微粒子がシランカップリング剤で処理されており、該表面処理された低屈折率微粒子の屈折率が１．２０〜１．４５の範囲にあり、該低屈折率微粒子の濃度が固形分として０．１〜１０重量％の範囲にあり、(ii)マトリックス形成成分がシリコーン系樹脂および／またはアクリル系樹脂であり、マトリックス形成成分の濃度が固形分として０．５〜２０重量％の範囲にあることを特徴とする透明被膜形成用塗料。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
低屈折率微粒子とマトリックス形成成分と重合開始剤と溶媒とからなる透明被膜形成塗料であって、
(i)低屈折率微粒子がシランカップリング剤で処理されており、
該表面処理された低屈折率微粒子の屈折率が１．２０〜１．４５の範囲にあり、
該低屈折率微粒子の濃度が固形分として０．１〜１０重量％の範囲にあり、
(ii)マトリックス形成成分がシリコーン系樹脂および／またはアクリル系樹脂であり、マトリックス形成成分の濃度が固形分として０．５〜２０重量％の範囲にあることを特徴とする透明被膜形成用塗料。
【請求項２】
(ii)前記マトリックス形成成分は、シリコーン系樹脂が３官能以上のシリコーン系樹脂モノマーが重合した樹脂および／またはアクリル系樹脂が３官能以上のアクリル系樹脂モノマーが重合した樹脂であることを特徴とする請求項１に記載の透明被膜形成用塗料。
【請求項３】
(ii)前記マトリックス形成成分が、シリコーン系樹脂が（メタ）アクリロイル基を有するシリコーン系樹脂および／またはアクリル系樹脂が（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリル系樹脂であることを特徴とする請求項２に記載の透明被膜形成用塗料。
【請求項４】
(ii)前記マトリックス形成成分が、さらに、撥水化剤として２官能以下の樹脂モノマーが重合した樹脂を含み、該樹脂が（メタ）アクリロイル基を有するシリコーン系樹脂、（メタ）アクリロイル基を有するフッ素系樹脂、（メタ）アクリロイル基を有する長鎖アルキル樹脂、シロキサン系アクリル樹脂から選ばれる１種以上であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の透明被膜形成用塗料。
【請求項５】
さらに、応力緩和剤として、
(i)マトリックスがシリコーン系樹脂の場合に、２官能および／または3官能アクリル系樹脂モノマー、
(ii)マトリックスがアクリル系樹脂の場合に、２官能アクリル系樹脂モノマー
がそれぞれ重合したアクリル系樹脂を含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の透明被膜形成用塗料。
【請求項６】
前記重合開始剤がホスフィン系重合開始剤またはカチオン系光重合開始剤を含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の透明被膜形成用塗料。
【請求項７】
前記溶媒が５０〜１００℃に沸点有する溶媒(A)と１００超〜２００℃に沸点を有する
溶媒(B)との混合溶媒であり、
混合溶媒中の溶媒(A)の割合が５０〜９０重量％の範囲にあり、溶媒(B)の割合が１０〜５０重量％の範囲にあることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の透明被膜形成用塗料。
【請求項８】
(i)低屈折率粒子が表面処理される前記シランカップリング剤が（メタ）アクロイル基、
エポキシ基（グリシド基）、ウレタン基、アミノ基、フルオロ基から選ばれる１種または２種以上の官能基を有するシランカップリング剤であることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の透明被膜形成用塗料。
【請求項９】
基材と、基材上に請求項１〜８のいずれかに記載の透明被膜形成用塗料を用いて形成された透明被膜とからなる透明被膜付基材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、低屈折率微粒子とマトリックス形成成分と重合開始剤と溶媒とからなる透明被膜形成塗料および基材と、基材上に該透明被膜形成用塗料を用いて形成された透明被膜とからなる透明被膜付基材とに関する。
【０００２】
詳しくは、基材との密着性、強度、撥水性、耐白化性等に優れた低屈折率の透明被膜を形成することができ、加えて基材あるいは下層表面の形状を反映した透明被膜、例えば下層の表面が種々の凹凸を有する場合はその凹凸と同様の凹凸を表面に有する透明被膜を形成することができ、このため反射防止性能、防弦性能等にも優れた透明被膜の形成に好適に用いることのできる透明被膜形成用塗料および透明被膜付基材とに関する。
【背景技術】
【０００３】
従来より、ガラス、プラスチックシート、プラスチックレンズ等の基材表面の反射を防止するため、基材表面に反射防止膜を形成することが知られており、たとえば、コート法、蒸着法、ＣＶＤ法等によって、フッ素樹脂、フッ化マグネシウムのような低屈折率の物質の被膜をガラスやプラスチックの基材表面に形成したり、シリカ微粒子等の低屈折率微粒子を含む塗布液を基材表面に塗布して、反射防止被膜を形成する方法が知られている（たとえば、特開平７-１３３１０５号公報（特許文献１）など参照）。このとき、反射防
止性能を高めるために反射防止被膜の下層に高屈折率の微粒子等を含む高屈折率膜を形成することも知られている。さらに、防弦性を付与するために反射防止膜表面に凹凸を形成することが行われている。
【特許文献１】特開平７-１３３１０５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、従来の方法では塗料の濃度、粘度、溶媒、塗布方法、乾燥条件等の許容範囲が小さく、基材との密着性、強度、透明性、耐白化性等に優れるとともに所望の反射防止性能、防弦性能を有する透明被膜を再現性よく形成することが困難であった。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは、このような問題点に鑑み鋭意検討した結果、特定のシランカップリング剤で処理した低屈折率微粒子を所定濃度で含み、特定の組み合わせからなるマトリックス形成成分を含む塗布液を用いると、基材との密着性、強度、撥水性、耐白化性に優れた低屈折率の透明被膜を形成することができ、加えて表面に凹凸を有する下層膜上に透明被膜を形成した場合、透明被膜表面が平坦化することなく下部の凹凸と同様の凹凸を有する透明被膜形成することができることを見出して本発明を完成するに至った。
【０００６】
本発明の構成要件は以下の通りである。
[1]低屈折率微粒子とマトリックス形成成分と重合開始剤と溶媒とからなる透明被膜形成
塗料であって、
[請求項１]
低屈折率微粒子とマトリックス形成成分と重合開始剤と溶媒とからなる透明被膜形成塗料であって、
(i)低屈折率微粒子がシランカップリング剤で処理されており、
該表面処理された低屈折率微粒子の屈折率が１．２０〜１．４５の範囲にあり、
該低屈折率微粒子の濃度が固形分として０．１〜１０重量％の範囲にあり、
(ii)マトリックス形成成分がシリコーン系樹脂および／またはアクリル系樹脂であり、マ
トリックス形成成分の濃度が固形分として０．５〜２０重量％の範囲にあることを特徴とする透明被膜形成用塗料。
[2](ii)前記マトリックス形成成分は、シリコーン系樹脂が３官能以上のシリコーン系樹
脂モノマーが重合した樹脂および／またはアクリル系樹脂が３官能以上のアクリル系樹脂モノマーが重合した樹脂である[1]の透明被膜形成用塗料。
[3](ii)前記マトリックス形成成分が、シリコーン系樹脂が（メタ）アクリロイル基を有
するシリコーン系樹脂および／またはアクリル系樹脂が（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリル系樹脂である[2]の透明被膜形成用塗料。
[4](ii)前記マトリックス形成成分が、さらに、撥水化剤として２官能以下の樹脂モノマ
ーが重合した樹脂を含み、該樹脂が（メタ）アクリロイル基を有するシリコーン系樹脂、（メタ）アクリロイル基を有するフッ素系樹脂、（メタ）アクリロイル基を有する長鎖アルキル樹脂、シロキサン系アクリル樹脂から選ばれる１種以上である[1]〜[3]の透明被膜形成用塗料。
[5]さらに、応力緩和剤として、
(i)マトリックスがシリコーン系樹脂の場合に、２官能および／または3官能アクリル系樹脂モノマー、
(ii)マトリックスがアクリル系樹脂の場合に、２官能アクリル系樹脂モノマー
がそれぞれ重合したアクリル系樹脂を含む[1]〜[4]の透明被膜形成用塗料。
[6]前記重合開始剤がホスフィン系重合開始剤またはカチオン系光重合開始剤を含む[1]〜[5]の透明被膜形成用塗料。
[7]前記溶媒が５０〜１００℃に沸点有する溶媒(A)と１００超〜２００℃に沸点を有する溶媒(B)との混合溶媒であり、
混合溶媒中の溶媒(A)の割合が５０〜９０重量％の範囲にあり、溶媒(B)の割合が１０〜５０重量％の範囲にある[1]〜[6]の透明被膜形成用塗料。
[8](i)低屈折率粒子が表面処理される前記シランカップリング剤が（メタ）アクロイル基、エポキシ基（グリシド基）、ウレタン基、アミノ基、フルオロ基から選ばれる１種または２種以上の官能基を有するシランカップリング剤である[1]〜[7]の透明被膜形成用塗料。
[9]基材と、基材上に[1]〜[8]の透明被膜形成用塗料を用いて形成された透明被膜とから
なる透明被膜付基材。
【発明の効果】
【０００７】
本発明は、基材との密着性、強度、撥水性、耐白化性に優れた低屈折率の透明被膜を形成することができ、加えて表面に凹凸を有する基板または下層膜上に透明被膜を形成した場合、透明被膜表面が平坦化することなく下部の凹凸と同様の凹凸を有する透明被膜を形成することのできる透明被膜形成用塗布液を提供することができる。
【０００８】
また、該透明被膜形成用塗料を用いて基材上に形成された透明被膜は屈折率が低く、必用に応じて表面に凹凸を持たせることもできることから反射防止性能、防弦性能、明所コントラストに優れ、このためＬＣＤディスプレィ、プラズマディスプレィ、プロジェクションディスプレィ、ＥＬディスプレィ、ＣＲＴディスプレィ等に好適に用いることが可能な透明被膜付基材を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、先ず、本発明に係る透明被膜形成用塗料について具体的に説明する。
透明被膜形成用塗料
本発明に係る透明被膜形成塗料は、低屈折率微粒子とマトリックス形成成分と重合開始剤と溶媒とからなる。
低屈折率微粒子
本発明ではシランカップリング剤またはアクリル酸エステルなどで表面処理された低屈
折率微粒子が使用される。
【００１０】
用いられる低屈折率微粒子の平均粒子径は２０〜５００ｎｍ、さらには４０〜１００ｎｍの範囲にあることが好ましく、屈折率は１．１５〜１．４０の範囲にあることが好ましい。
【００１１】
低屈折率微粒子としては、低屈折率のものであれば特に制限はなく、ＳiＯ2、Ａl2Ｏ3
、ＴiＯ2、ＺrＯ2、ＳnＯ2およびＣeＯ2 等の無機酸化物またはこれらの複合酸化物、例
えば、ＳiＯ2−Ａl2Ｏ3、ＴiＯ2−Ａl2Ｏ3、ＴiＯ2−ＺrＯ2、ＳiＯ2−ＴiＯ2、ＳiＯ2−ＴiＯ2−Ａl2Ｏ3等の微粒子などが使用されるが、本願出願人の出願による特開平７−１
３３１０５号公報、ＷＯ００／３７３５９号公報、特開２００１−２３３６１１号公報、特開２００３−１９２９９４号公報に開示されたシリカ粒子は、内部に空洞を有するシリカ系微粒子は屈折率が低く、コロイド領域の微粒子であり、分散性等に優れているので好適に採用することができる。
【００１２】
具体的には、該微粒子は細孔を有する外殻の内部に空洞が形成されてなる中空球状であり、該空洞内に該微粒子調製時の溶媒および／または気体を包含してなるシリカ系微粒子が好適である。通常外殻の厚さが１ｎｍ〜５０ｎｍの範囲にあり、且つ平均粒子径の１／５０〜１／５の範囲にあるものが望ましい。また、外殻層は、通常シリカのみからなるものであってもよく、また、上記例示したような透明性の他の酸化物(ＭＯX)を含む場合Ｍ
ＯX／ＳiＯ2が、０.０００１〜０.２にあるものが、透明性が高いので好適である。
【００１３】
シランカップリング剤としては、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β-メトキシエトキシ）シラン、3,3,3-トリフルオロプロピル
トリメトキシシラン、メチル-3,3,3-トリフルオロプロピルジメトキシシラン、β-（3,4-エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシメチルトリメト
キシシラン、γ-グリシドキシメチルトリエキシシラン、γ-グリシドキシエチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシエチルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ-（β-グリシ
ドキシエトキシ）プロピルトリメトキシシラン、γ-（メタ）アクリロオキシメチルトリ
メトキシシラン、γ-（メタ）アクリロオキシメチルトリエキシシラン、γ-（メタ）アクリロオキシエチルトリメトキシシラン、γ-（メタ）アクリロオキシエチルトリエトキシ
シラン、γ-（メタ）アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン、γ-（メタ）アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン、γ-（メタ）アクリロオキシプロピルトリエトキシ
シラン、γ-（メタ）アクリロオキシプロピルトリエトキシシラン、ブチルトリメトキシ
シラン、イソブチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラオクチルトリエトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、3-ウレイドイソプロピルプロピルトリエトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリメトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリエトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリイソプロポキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−β（
アミノエチル）γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ-フェニル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、トリメチルシラノー
ル、メチルトリクロロシラン等が挙げられる。
【００１４】
なかでも、シランカップリング剤が（メタ）アクロイル基、エポキシ基（グリシド基）、ウレタン基、アミノ基、フルオロ基から選ばれる１種以上の官能基を有するシランカップリング剤は低屈折率微粒子との反応性に優れており、効率的に表面処理を行うことができ、得られる表面処理した低屈折率微粒子は塗料中および透明被膜中での分散性に優れている。また、表面処理した低屈折率微粒子は後述するマトリックス形成成分との反応性に優れ、このため透明性、強度、耐摩耗性等に優れた透明被膜を得ることができる。
【００１５】
また、低屈折率微粒子は疎水性を有する多官能アクリル酸エステル樹脂で処理されたものも好適に用いることができる。
疎水性を有する多官能アクリル酸エステル樹脂としてはペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルメテクリレート、イソデシルメテクリレート、n-ラウリルアクリレート、ｎ−ステアリルアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、パーフルオロオクチルエチルメタクリレート、トリフロロエチルメタクリレート、ウレタンアクリレート等が挙げられる。
【００１６】
低屈折率微粒子の表面処理方法としては、例えば、シリカ系微粒子のアルコール分散液に前記したシランカップリング剤を所定量加え、これに水を加え、必要に応じてシランカップリング剤の加水分解用触媒として酸またはアルカリを加えて有機珪素化合物を加水分解する方法が挙げられる。前記した疎水性を有する多官能アクリル酸エステル樹脂を使用する場合、シリカ系微粒子のアルコール分散液に多官能アクリル酸エステル樹脂を分散っさせて、多官能アクリル酸エステルを低屈折率微粒子表面に付着させたのち、熱的にあるいは別途加えておいた重合開始剤によりアクリル酸エステルを重合させて低屈折率微粒子の粒子表面を被覆する。
【００１７】
ついで、有機溶媒に置換することによって表面処理した低屈折率微粒子の有機溶媒分散液を得ることができる。有機溶媒としては、後述する溶媒を用いることが好ましい。
このときの低屈折率微粒子とシランカップリング剤または疎水性を有する多官能アクリル酸エステル樹脂との重量比（シランカップリング剤または疎水性を有する多官能アクリル酸エステル樹脂の固形分としての重量／低屈折率微粒子の重量）は低屈折率微粒子の平均粒子径によっても異なるが０.０５〜１さらには０.１〜０．５の範囲にあることが好ましい。前記重量比が小さい場合は、極性溶媒中での分散性、安定性が低く、塗料の安定性が不充分となり、塗料中で低屈折率微粒子が凝集したり、膜を形成した際に膜が白化したり、基材との密着性、被膜の硬度が不充分となることがある。前記重量比が１を大きすぎると、用いるマトリックス形成成分の種類によっても異なるが、疎水性が高くなり過ぎて塗料中で表面処理した低屈折率微粒子が凝集することがあり、膜を形成した際に膜が白化したり、基材との密着性、被膜の硬度が不充分となることがある。また、低屈折率微粒子より屈折率の高い表面処理剤が多いために表面処理した低屈折率微粒子の屈折率が高くなり、得られる透明被膜の屈折率が上昇し、反射防止性能、コントラスト等が向上しない場合がある。
【００１８】
表面処理後の低屈折率微粒子の平均粒子径は実質的に変化しないか若干大きくなる程度である（処理量による）が、処理前の低屈折微粒子に比べて著しく低屈折率微粒子の平均粒子径が大きくなると、処理量が多すぎてしまい、微粒子の屈折率を損なう場合がある。
【００１９】
本発明に用いる低屈折率微粒子、表面処理した低屈折率微粒子の粒子径の測定方法は、低屈折率微粒子および表面処理した低屈折率微粒子を透過型電子顕微鏡写真（ＴＥＭ）撮
影し、粒子１００個についてノギスで粒子径を測定し、倍率を考慮して粒子径を計算し、その平均値として求める。
【００２０】
表面処理後の低屈折率微粒子の屈折率は１．２０〜１．４５、さらには１．２０〜１．３５の範囲にある。
表面処理を行うと屈折率は高くなる傾向にあるので、屈折率を前記範囲の下限未満とすることは困難である。屈折率が高いものでは、基材あるいは下層膜の屈折率にもよるが反射防止性能が不充分となったり、透明被膜の反射率が高いために明所コントラストが不充分となることがある。
【００２１】
本発明に用いる低屈折率微粒子、表面処理した低屈折率微粒子の屈折率の測定方法は、（１）低屈折率微粒子あるいは表面処理した低屈折率微粒子分散液をエバポレーターに採り、分散媒を蒸発させる。
（２）これを１２０℃で乾燥し、粉末とする。
（３）屈折率が既知の標準屈折液を２，３滴ガラス板上に滴下し、これに上記粉末を混合する。
（４）上記（３）の操作を種々の標準屈折液で行い、混合液が透明になったときの標準屈折液の屈折率を粒子の屈折率とする。
【００２２】
透明被膜形成用塗料中の表面処理した低屈折率微粒子の濃度は固形分として０．１〜1
０重量％、さらには０．２〜５重量％、特に０．５〜３．０重量％の範囲にあることが好ましい。濃度が小さいと、屈折率の低い透明被膜が得られず、透明被膜の反射率が高くなり反射防止性能が不充分であったり、明所コントラストが不充分となったりすることがある。粒子の濃度が高すぎると、塗布性が低下して均一な透明被膜の形成が困難となったり、表面の平滑性がなくなったり透明被膜の内部に空隙が形成され、光の散乱を引き起こしたり、透明被膜のヘーズ値が高くなることがあり、さらに耐擦傷性が不充分となることがある。
【００２３】
マトリックス形成成分
本発明にはマトリックス形成成分として、シリコーン系樹脂および／またはアクリル系樹脂が用いられる。
【００２４】
[シリコーン系樹脂]
シリコーン系樹脂としては、（メタ）アクリル系樹脂と、グリシドキシ基または（メタ）アクリロキシ基などの官能基を有する有機珪素化合物との共重合物およびその加水分物、あるいは別々にラジカル重合や加水分解を行ったものの混合物、さらには、メチル系シリコーン樹脂、メチルフェニル系シリコーン樹脂、アクリル変性シリコーン樹脂、エポキシ変性シリコーン樹脂が使用される。
【００２５】
前記官能基を有する有機珪素化合物としては、γ-グリシドキシメチルトリメトキシシ
ラン、γ-グリシドキシメチルトリエキシシラン、γ-グリシドキシエチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシエチルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−（β−グリシドキ
シエトキシ）プロピルトリメトキシシラン、γ-（メタ）アクリロオキシメチルトリメト
キシシラン、γ-（メタ）アクリロオキシメチルトリエキシシラン、γ-（メタ）アクリロオキシエチルトリメトキシシラン、γ-（メタ）アクリロオキシエチルトリエトキシシラ
ン、γ-（メタ）アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン、γ-（メタ）アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン、γ-（メタ）アクリロオキシプロピルトリエトキシシラ
ン、γ-（メタ）アクリロオキシプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。
【００２６】
これらのシリコーン樹脂のなかでも、３官能以上のシリコーン系樹脂モノマーが重合した樹脂が好ましい。このようなシリコーン系樹脂は反応性官能基（結合手）を多く持ち、このためマトリックス形成用樹脂成分同士、表面処理した低屈折率微粒子との結合が強固となり、強度、耐摩耗性に優れた透明被膜を形成することができる。
【００２７】
本発明では、官能基として（メタ）アクリロイル基を有するシリコーン系樹脂はマトリックス形成用樹脂成分同士、および表面処理した低屈折率微粒子との結合が強固となるので好ましい。
【００２８】
（メタ）アクリロイル基を有するシリコーン系樹脂としては、信越化学工業(株)製のシリコーン溶液：製品名：Ｘ−１２−２４００、ＧＥ東芝シリコーン(株)製のシリコーンコート液：製品名：ＵＶＨＣ１１０１等が挙げられる。これらは４官能のシリコーン系樹脂である。
[アクリル系樹脂]
アクリル系樹脂としては、ジペンタエスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、イソデシルメテクリレート、n-ラウリルアクリレート、ｎ−ステアリルアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、パーフルオロオクチルエチルメタクリレート、トリフロロエチルメタクリレート、ウレタンアクリレート等が挙げられる。
【００２９】
アクリル系樹脂は、３官能以上のアクリル系樹脂モノマーが重合した樹脂であることが好ましい。このようなアクリル系樹脂は反応性官能基（結合手）を多く持ち、このため樹脂同士、表面処理した低屈折率微粒子との結合が強固となり、強度、耐摩耗性に優れた透明被膜を形成することができる。
【００３０】
本発明では、なかでも官能基が（メタ）アクリロイル基を有するアクリル系樹脂は、反応性が強く樹脂同士、および表面処理した低屈折率微粒子との結合が強固となるので好ましい。
【００３１】
（メタ）アクリロイル基を有するアクリル系樹脂としては、共栄社化学製：製品名：ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ（ジペンタエスリトールヘキサアクリレート）、共栄社化学製：製品名：ライトアクリレートＤＰＥ−４Ａ（ペンタエスリトールテトラアクリレート）等が挙げられる。
【００３２】
透明被膜形成用塗料中に含まれるマトリックス形成成分の濃度は、固形分として０．５〜２０重量％、さらには０．８〜１０重量％の範囲にあることが好ましい。
マトリックス形成成分の濃度が小さすぎると、透明被膜の厚みが不充分となることがあり、このため繰り返し塗布した場合は均一な膜厚が得にくく透明被膜の外観にムラを生じることがある。
【００３３】
マトリックス形成成分の濃度が高すぎると、膜厚が厚くなりすぎてしまい、均一な膜厚が得にくく透明被膜の外観にムラを生じることがある。特に、基材あるいは下層膜の表面に凹凸を有する基材を用い、防弦性を有する透明被膜を形成する場合は透明被膜形成用塗料中のマトリックス形成成分の濃度が固形分として１．０〜３．０重量％の範囲にあることが好ましい。この範囲にあると基材あるいは下層膜の表面の凹凸をほぼ忠実に反映した
表面に凹凸を有する透明被膜を形成することができる。
【００３４】
また、前記した粒子に対して、マトリックス形成成分の量は、得られる透明被膜中のマトリックス成分の含有量が固形分として３０〜９９重量％、さらには４０〜９８重量％の範囲となり、表面処理した低屈折率微粒子の量は、得られる透明被膜中の表面処理した低屈折率微粒子の含有量が固形分として１〜７０重量％、さらには２〜６０重量％の範囲となるように用いる。
【００３５】
この量比にあれば、本発明の目的である、マトリックス形成基材との密着性、強度、撥水性、耐白化性に優れた低屈折率の透明被膜を形成することができ、加えて表面に凹凸を有する下層膜上に透明被膜を形成した場合、透明被膜表面が平坦化することなく下部の凹凸と同様の凹凸を有する透明被膜を形成することができる。
［撥水化剤］
本発明では塗料中にさらに、撥水化剤として２官能以下の樹脂モノマーが重合した樹脂が含まれていてもよい。該樹脂が（メタ）アクリロイル基を有するシリコーン系樹脂、（メタ）アクリロイル基を有するフッ素系樹脂）、（メタ）アクリロイル基を有する長鎖アルキル樹脂、シロキサン系アクリル樹脂から選ばれる１種以上であることが好ましい。
【００３６】
このような樹脂を用いると、前記マトリックス成分と相溶性が低く、透明被膜の表層に位置するようになり、このため透明被膜の表面で撥水性（水滴の接触角が90度以上）が発現し、指紋、皮脂、汗などの汚れが付着することを防止でき、付着しても容易に拭取りことができる。
【００３７】
（メタ）アクリロイル基を有するシリコーン系樹脂としては、ポリシロキサンの片端末に（メタ）アクリロイル基を付けたもの等が挙げられ、例えば、信越化学工業製の変性シリコーンオイル：商品名：Ｘ−２４−８２０１（官能基当量２１００）、Ｘ−２２−１７４−ＤＸ（官能基等量４６００）、Ｘ−２４−８２０１、Ｘ−２２−２４２６（官能基当量１２０００）等は好適に用いることができる。
【００３８】
（メタ）アクリロイル基を有する長鎖アルキル樹脂としては、新中村工業製：製品名：ＮＫエステルＡ−ＮＯＤ−Ｎ（1,9-ノナンジオールジアクリレート）、新中村工業製：製品名：ＮＫエステルＡ−ＤＯＤ（1,10-デカンジオールジアクリレート）等は好適に用い
ることができる。
【００３９】
シロキサン系アクリル樹脂としては、ポリシロキサンの片端末にウレタンアクリレートなどのアクリル樹脂を結合させた樹脂、例えば、日本合成化学（株）製の紫外線硬化型樹脂：商品名：紫光ＵＴ−３８４１）等は好適に用いることができる。
【００４０】
透明被膜形成用塗料中の撥水化剤の含有量は、マトリックス形成成分に対し固形分として０．１〜１０重量％、さらには０．５〜５重量％の範囲にあることが好ましい。
撥水化剤の含有量が少ない場合は、撥水性の他、耐指紋付着性やマジックインキハジキ性など防汚性の効果が得られにくい。また含有量が多すぎても、被膜表面に露出しすぎて（ブリードアウト）、ムラ、白化等の外観異常や被膜の硬度が不充分となることがある。［応力緩和剤］
さらに、応力緩和剤を含んでいてもよい。
(i)マトリックスがシリコーン系樹脂の場合に、２官能および／または3官能アクリル系樹脂モノマー、
(ii)マトリックスがアクリル系樹脂の場合に、２官能アクリル系樹脂モノマー
がそれぞれ重合したアクリル系樹脂を含むことが望ましい。
【００４１】
２官能アクリル系樹脂としては、トリシクロデカンジメチロールジアクリレート、ビスフェノールジアクリレート、イソシアヌルジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレンジアクリレート、１，１０−デカンジオールジアクリレート、１，６ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジアクリレート、変性ビスフェノールＡジアクリレート、ブタンジオールジメタクレート、ジエチレングリコールジメタクレート、ヘキサンジオールジメタクレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、ビスフェノールＡエトキシジメタクリレート等が挙げられる。
【００４２】
また、３官能アクリル系樹脂としては、ペンタエリスリトールトリアクリレート、イソシアヌルトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパンエトキシトリアクリレート、グリセリンプロポキシトリアクリレート等が挙げられる。
【００４３】
透明被膜形成用塗料中の応力緩和剤の含有量はマトリックス形成成分に対し固形分として０．０５〜１０重量％、さらには０．１〜４重量％の範囲にあることが好ましい。
応力緩和剤の含有量が少ないと、基材が可撓性を有するフィルム等の場合、湾曲（カーリング）することがあり、応力緩和剤の含有量が多いと、透明被膜の硬度が不充分となることがある。
［重合開始剤］
本発明の透明被膜形成用塗料には重合開始剤が含まれている。
【００４４】
重合開始剤としては前記マトリックス形成成分を重合、硬化させることができれば特に制限はなく、樹脂によって適宜選択し、従来公知の重合開始剤を用いることができる。
例えば、アシルホスフィンオキシド類、アセトフェノン類、プロピオフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類等の重合開始剤の他、カチオン系光重合開始剤等が挙げられる。本発明ではアシルホスフィンオキシド類のホスフィン系光重合開始剤または光カチオン系重合開始剤が好適に用いられる。なかでも、ホスフィン系光重合開始剤を用いると、塗料を長期に保存しても安定性を損なうことがなく、着色することがなく、また硬化させた後に透明被膜が着色することもない。このとき、ホスフィン系光重合開始剤は他のアセトフェノン類、プロピオフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類等の重合開始剤と混合して用いることもできる。ホスフィン系光重合開始剤としては、例えば、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオイサイド（ビーエーエスエフジャパン（株）製：ルシリンＴＰＯ）等が挙げられる。
【００４５】
また、カチオン系光重合開始剤は、他の重合開始剤と異なり酸素の影響を受けることがないため窒素雰囲気下等でＵＶ照射を行う必要がなく、空気中でＵＶ照射を行うことができる点、好適に採用することができる。光カチオン系重合開始剤としては、旭電化（株）製：製品名：アデカオプトマーＳＰ−１７０、チバスペシャリティ（株）製：製品名：ＩＲＵＧＡＣＵＲＥ２５０、日本曹達（株）製：製品名：ＣＩ−１３７０等が挙げられる。
【００４６】
塗料中の重合開始剤の含有量は、マトリックス形成成分の種類によっても異なるが、マトリックス形成成分および重合開始剤を固形分としたとき、マトリックス形成成分の０．１〜２０重量％、さらには０．５〜１０重量％の範囲にあることが好ましい。
【００４７】
重合開始剤の含有量が少ないと、塗膜の硬化が不充分となることがあり、また多すぎて
も、塗料の安定性が不充分となり、得られる透明被膜の硬度が不充分となることがある。［溶媒］
本発明に用いる溶媒としては前記した成分を溶解あるいは分散できるものであれば特に制限はなく、従来公知の溶媒を用いることができる。
【００４８】
具体的には、メタノール、エタノール、プロパノール、2-プロパノール（ＩＰＡ）、ブタノール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、エチレングリコール、ヘキシレングリコール、イソプロピルグリコールなどのアルコール類；酢酸メチルエステル、酢酸エチルエステル、酢酸ブチルなどのエステル類；ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセチルアセトン、アセト酢酸エステルなどのケトン類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、トルエン、シクロヘキサノン、イソホロン等が挙げられる。
【００４９】
なかでもエステル類やケトン類などカルボニル基を有する溶媒は好適に用いることができる。カルボニル基を有する溶媒が含まれていると、表面処理した低屈折率微粒子が均一に分散するとともに塗料の安定性がよく、均一性、基材あるいは他の被膜との密着性、強度等に優れるとともに、凹凸を有する透明被膜を形成する場合に下層の凹凸と対応した凹凸を有する透明被膜を再現性よく形成することができる。
【００５０】
これらは単独で使用してもよく、また２種以上混合して使用することもできるが、本発明では沸点の異なる２種以上の溶媒を混合して用いることが好ましい。
本発明では、前記溶媒で５０〜１００℃に沸点を有する溶媒(A)と１００超〜２００℃
に沸点を有する溶媒(B)との混合溶媒であり、混合溶媒中の溶媒(A)の割合が５０〜９０重量％の範囲にあり、溶媒(B)の割合が１０〜５０重量％の範囲にあることが好ましい。
【００５１】
溶媒(A)としては、メタノール、エタノール、プロパノール、2-プロパノール（ＩＰＡ
）、などのアルコール類；酢酸メチルエステル、酢酸エチルエステル、酢酸ブチルなどのエステル類；アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類、トルエン等が挙げられる。これらは単独で使用してもよく、また２種以上混合して使用してもよい。
【００５２】
溶媒(B)としては、ブタノール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、テト
ラヒドロフルフリルアルコール、エチレングリコール、ヘキシレングリコール、イソプロピルグリコールなどのアルコール類；ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル類；メチルイソブチルケトン、アセチルアセトン、アセト酢酸エステルなどのケトン類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、トルエン、シクロヘキサノン、イソホロン等が挙げられる。これらは単独で使用してもよく、また２種以上混合して使用してもよい。
【００５３】
混合溶媒中の溶媒(A)の割合が多いと、塗膜の乾燥が速すぎて透明被膜が緻密にならな
いことがあり硬度や耐擦傷性が不充分となることがある。また、塗料が撥水化剤を含む場合は、撥水化剤が溶剤(B)に溶解したまま透明被膜の上層に移動する前に乾燥して膜中に
偏析し、撥水化効果が不充分となることがある。
【００５４】
混合溶媒中の溶媒(A)の割合が少なすぎると、他方の溶媒(B)が多すぎてしまい、塗膜の
乾燥が遅くなり、平坦化がすすむために基材あるいは下層膜の表面の凹凸をほぼ忠実に反映した表面に凹凸を有する透明被膜を形成することができない場合がある。
【００５５】
混合溶媒中の溶媒(B)のさらに好ましい割合は２０〜４０重量％の範囲の範囲である。
透明被膜形成用塗料中の溶媒の割合は概ね７０〜９９重量％、さらには８０〜９８重量％の範囲にあることが好ましい。
【００５６】
本発明に係る透明被膜形成用塗料を用いて透明被膜を形成する方法として従来公知の方法を採用することができる。
具体的には、透明被膜形成用塗料をディップ法、スプレー法、スピナー法、ロールコート法、バーコート法、グラビア印刷法、マイクログラビア印刷法等の周知の方法で基材に塗布し、乾燥し、紫外線照射、加熱処理等常法によって硬化させることによって透明被膜を形成することができる。
【００５７】
また、反射防止性能に加えて防弦性を有する透明被膜を形成するには、基材あるいは下層膜表面に凹凸を有する従来公知の基材あるいは下層膜付基材を用い、本発明の透明被膜形成用塗料の内、極性溶媒が前記した低沸点溶媒と高沸点溶媒との混合溶媒からなり、マトリックス形成成分の固形分としての濃度が１〜３重量％の範囲にある塗料を塗布し、乾燥し、紫外線照射により硬化させればよい。このときの塗布方法はマイクログラビア印刷法が推奨される。
透明被膜付基材
発明に係る透明被膜付基材は、基材と、基材上に前記透明被膜形成用塗料を用いて形成された透明被膜とからなることを特徴としている。
【００５８】
基材
基材としては、トリアセチルセルロースフィルム、ジアセチルセルロースフィルム、アセテートブチレートセルロースフィルム等のセルロース系基材、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系基材、
ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、環状ポリオレフィンフィルム等のポリオレフィン系基材、ナイロン−６、ナイロン−６６等のポリアミド系基材等の他、ポリアクリル系フィルム、ポリウレタン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエーテウフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、アクリロニトリルフィルム等の基材が挙げられる。また、このような基材上に、他の被膜が形成された被膜付基材を用いこともできる。
【００５９】
他の被膜としては、ハードコート膜、導電性膜、高屈折率膜、あるいはこれらの機能を併せ持つ従来公知の被膜が挙げられる。また、必要に応じて表面に凹凸を有する基材、他の被膜が形成された被膜付基材を用いると防弦性能を有する透明被膜付基材が得られる。
【００６０】
透明被膜
透明被膜は、前記した塗料から形成され、表面処理された低屈折率微粒子とマトリックス成分と重合開始剤と、必要に応じて撥水化剤、応力緩和剤とからなっている。
【００６１】
表面処理された低屈折率微粒子は前記したものと同じ物である。
マトリックス成分は、前記したシリコーン系樹脂および／またはアクリル系樹脂が重合・固化したものである。
【００６２】
透明被膜中の表面処理した低屈折率微粒子の含有量は固形分として５〜７０重量％、さらには１０〜６０重量％、特に３０〜５０重量％の範囲にあることが好ましい。この範囲
にあれば、屈折率が高く、反射防止性能が高く、しかも明所コントラストも優れた透明被膜を形成でき、しかも、被膜が均一であり、また、表面の平滑性にもすぐれ、光の散乱を引き起こすこともなく、透明被膜のヘーズ値を低くすることができ、さらには耐擦傷性にも優れた透明被膜を形成できる。
【００６３】
透明被膜中のマトリックス成分の含有量は固形分として３０〜９５重量％、さらには４０〜９０重量％の範囲にあることが好ましい。マトリックス成分の含有量がこの範囲にあれば、基材との密着性や耐擦傷性が高く、しかも屈折率が低く、反射防止性能にも優れた透明被膜を形成できる。
【００６４】
撥水化剤は、前記マトリックス成分と相溶性が低いため、透明被膜の表層に位置し、このため透明被膜の表面で撥水性（水滴の接触角が90度以上）を発現して、指紋、皮脂、汗などの汚れが付着することを防止でき、付着しても容易に拭取りことができる。
【００６５】
透明被膜中の撥水化剤の含有量は、マトリックス成分に対し固形分０．１〜１０重量％、
さらには０．５〜５重量％の範囲にあることが好ましい。この範囲にあれば、充分な撥水性を付与でき、耐指紋付着性やマジックインキハジキ性など防汚性の効果が高く、しかもブリードアウト、ムラ、白化等の外観異常や被膜の硬度が不充分となることもない。
【００６６】
透明被膜中に含まれる応力緩和剤は、前記した２官能および／または3官能（メタ）ア
クリル系樹脂が重合したものである。
透明被膜中の応力緩和剤の含有量は、マトリックス形成成分に対し固形分として０．０５〜１０重量％、さらには０．１〜４重量の範囲にあることが好ましい。この範囲にあれば、基材の湾曲（カーリング）も抑制でき、透明被膜の硬度を高くすることができる。
【００６７】
透明被膜には前記重合開始剤が含まれている。かかる重合開始剤は、前記した、マトリックス成分、応力緩和剤を重合するために使用される。重合後は透明被膜中に残存している。
【００６８】
透明被膜中の重合開始剤の残存量は重合開始剤の種類、使用量、マトリックス成分の種類等によっても異なるが、できるだけ少ないことが好ましく、固形分としてマトリックス成分の２０重量％以下、さらには１０重量％以下、特に５重量％以下であることが好ましい。この範囲にあれば、透明被膜の色調に影響することもない。
【００６９】
本発明に係る透明被膜の膜厚は、用途によっても異なるが概ね１０〜５００ｎｍ、さらには２０〜３００ｎｍ、特に５０〜２００ｎｍの範囲にあることが好ましい。
透明被膜の膜厚が低い場合、反射防止性能、強度等が不充分となることがある。また、透明被膜の膜厚が高すぎると、フレネルの原理から外れた膜厚となる場合があり、反射防止性能が不充分となったり、明室コントラストが低下し、このため画面が白味を帯びることがある。また、ペットフィルム等の基材ではカーリング（湾曲あるいは反り）を生じる場合がある。
【００７０】
本発明に係る透明被膜付基材は、前記した透明被膜形成用塗料を基材上に塗布し、乾燥し、硬化させることによって製造することができる。
塗布方法としては、記塗料をディップ法、スプレー法、スピナー法、ロールコート法、バーコート法、グラビア印刷法、マイクログラビア印刷法等の周知の方法で基材に塗布乾燥し、熱硬化性樹脂の場合は硬化させた後、加熱処理を行い、紫外線硬化樹脂の場合は、紫外線４００ｍＪ／ｃｍ2程度で照射して硬化することによって形成することができる。
【００７１】
さらに、本発明の透明被膜付基材には、基材と前記透明被膜との間および／または透明被膜上に、前記透明被膜と異なる他の被膜を設けることができる。また、他の被膜の反対側の基材上に前記透明被膜を設けることもできる。
【００７２】
また、基材あるいは透明被膜の下層膜はアンチグレア性能を付与するために表面に凹凸を有していてもよい。
他の被膜としては、従来公知のハードコート膜、高屈折率膜、導電性膜、アンチグレア膜、赤外線遮蔽膜、紫外線遮蔽膜等が挙げられる。
【００７３】
本発明に係る透明被膜形成用塗料を用いて基材上に形成された透明被膜は屈折率が低く、必用に応じて表面に凹凸を持たせることもできることから反射防止性能、防弦性能、明所コントラストに優れ、必要に応じて導電性膜を設けることによって帯電防止性能、電磁波遮蔽性能を付与することができる。このためＬＣＤディスプレィ、プラズマディスプレィ、プロジェクションディスプレィ、ＥＬディスプレィ、ＣＲＴディスプレィ等に好適に用いることのできる透明被膜付基材を提供することができる。
【００７４】
（実施例）
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
[実施例1]
帯電防止膜形成用塗料(EC-1)の調製
五酸化アンチモン微粒子分散液（触媒化成工業（株）製；ＥＬＣＯＭ  Ｖ−４５６０；平均粒子径２０ｎｍ、Ｓｂ2Ｏ5濃度３０．５重量％、分散媒：イソプロパノ−ル、粒子屈折率１．６０）１００ｇにγ-メタアクリロオキシプロピルトリメトキシシラン１．８８
ｇ（信越シリコ−ン株製：KBM−５０３、ＳｉO2成分８１．２％）を混合し超純水を３．
１ｇ添加し５０℃で２０時間攪拌し表面処理して五酸化アンチモン微粒子ゾルを得た（固形分３０．５％）。この表面処理した五酸化アンチモン微粒子ゾル２９．５１ｇとジヘキサエリスリトールトリアセテート（共栄社化学（株）製：ＤＰＥ−６Ａ）１８．９ｇ、と１．６−ヘキサンジオールジアクリレート（共栄社化学（株）製；ライトアクリレート１．６ＨＸ−Ａ）２．１ｇに光重合開始剤（ビ−エ−エスエフジャパン（株））製：ルシリンＴＰＯ、ＩＰＡで固形分濃度１０％に溶解）８．４ｇおよびイソプロパノ−ル２０．５ｇとエチレングリコールモノブチルエーテル２０．５ｇとを充分に混合して高屈折率でハードコート機能を併せ持つ帯電防止膜形成用塗料(EC-1)を調製した。
透明被膜形成用塗料(ARL-1)の調製
表面処理した低屈折率微粒子分散液（LP-1）の調製
中空シリカ微粒子分散液(触媒化成工業（株）製；カタロイド特殊品、平均粒子径６０
ｎｍ、固形分２０．５重量％、ＩＰＡ分散品、粒子屈折率１．２０)１００ｇにメタクリ
ルトリメトキシシラン（表面処理剤Ａ（以後同じ）、信越化学（株）製；ＫＢＭ−５０３、ＳｉO2成分８１．２重量％）２．５２ｇを加え、５０℃で１５時間加熱撹拌して固形分濃度２２．５重量％の表面処理した低屈折率微粒子分散液(LP-1)を調製した。得られた表面処理した低屈折率微粒子の屈折率は１．２４であり平均粒子径は６０ｎｍであった。
【００７５】
表面処理した低屈折率微粒子分散液(LP-1)６．６７ｇにシリコーン系樹脂（シリコーン系樹脂Ａ（以後同じ）、信越化学（株）製：Ｘ−１２−２４００、固形分濃度２８．５重量％）４．７４ｇと応力緩和剤用アクリル系樹脂１,６−ヘキサンジオールジアクリレー
ト（共栄社化学（株）製；ライトアクリレート１．６ＨＸ−Ａ（応力緩和剤a（以後同じ
））０．１５ｇと撥水化剤用反応性シリコンオイル（信越化学（株）；Ｘ−２２−１７４ＤＸ、ＩＰＡで固形分濃度１０重量％に溶解（撥水化剤a（以後同じ））０．３ｇと光重
合開始剤（ビ−エ−エスエフジャパン（株））製：ルシリンＴＰＯ：ＩＰＡ（重合開始剤a・p系）で固形分濃度１０重量％に溶解）０．９ｇと、イソプロピルアルコール５８．２
４ｇ、メチルイソブチルケトン１５ｇ、イソプロピルグリコール９ｇ、エチレングリコールモノブチルエーテル５ｇ（混合溶媒ａ）を混合して、固形分濃度３.０重量％の透明被
膜形成用塗料(ARL-1)を調製した。
透明被膜付基材（ARF-1）の作製
帯電防止膜形成用塗料(EC-1)を、ＴＡＣフィルム（厚さ８０μｍ）にバーコーター法（＃１０）で塗布し、８０℃で１２０秒間乾燥した後、６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射
して硬化させて帯電防止膜を形成した。帯電防止膜の膜厚は３μｍであった。
【００７６】
ついで、透明被膜形成用塗料(ARL-1)をバーコーター法（＃４）で塗布し、８０℃で１
２０秒間焼成した後、６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して硬化させて透明被膜膜付基
材(ARF-1)を作製した。このときの透明被膜の膜厚は１００ｎｍであった。
【００７７】
得られた透明被膜膜付基材(ARF-1)の表面抵抗を、表面抵抗計（三菱化学（株）製：ハ
イレスタ）にて測定し結果を表1に示した。また、透明被膜の一部を垂直に切断し、断面
についてレーザー顕微鏡（キーエンス株式会社：VE-3000)を用いて平均膜厚を測定した。
【００７８】
全光線透過率およびヘーズをヘーズメーター（日本電色（株）製１３２５Ａ）により測定し結果を表1に示した。
反射率及び積分反射率は、分光光度計（日本分光（株）製：Ｕ−ｖｅｓｔ）にて測定し、波長４００〜７００ｎｍでのボトム反射率として表示し結果を表1に示した。
撥水性は被膜の上に水滴を落とし被膜との接触角を測定し結果を表1に示した。
【００７９】
さらに、鉛筆硬度、耐擦傷性及び密着性を以下の方法および評価基準で評価し、結果を表１に示した。
鉛筆硬度の測定
ＪＩＳ−Ｋ−５４００に準じて鉛筆硬度試験器により測定した。
【００８０】
耐擦傷性の測定
＃００００スチールウールを用い、荷重５００ｇ／ｃｍ2で１０回摺動し、膜の表面を
目視観察し、以下の基準で評価し、結果を表に示した。
【００８１】
評価基準：
筋条の傷が認められない    ：◎
筋条に傷が僅かに認められる：○
筋条に傷が多数認められる  ：△
面が全体的に削られている  ：×
密着性の測定
ＪＩＳ−Ｋ−５４００に準じて測定した。
[実施例２]
透明被膜形成用塗料(ARL-2)の調製
表面処理した低屈折率微粒子分散液(LP-2)の調製
中空シリカ微粒子分散液(触媒化成工業（株）製；カタロイド特殊品、平均粒子径６０
ｎｍ、固形分２０．５％、ＩＰＡ分散品、粒子屈折率１．２０)１００ｇにγ-メタアクリロオキシプロピルトリメトキシシラン（表面処理剤A,信越化学（株）製；ＫＢＭ−５０３、ＳｉO2成分８１．２％）１．２６ｇを加え、５０℃で１５時間加熱撹拌して固形分２１．５重量％の表面処理した低屈折率微粒子分散液(LP-2)を調製した。得られた表面処理した低屈折率微粒子の屈折率は１．２２であり平均粒子径は６０ｎｍであった。
【００８２】
表面処理し低屈折率微粒子分散液(LP-2)６．９８ｇにシリコーン系樹脂（シリコーン系樹脂A,信越化学（株）製：Ｘ−１２−２４００、固形分濃度２８．５重量％）４．７４ｇ
とアクリル系樹脂１．６−ヘキサンジオールジアクリレート（応力緩和剤a、共栄社化学
（株）製；ライトアクリレート１．６ＨＸ−Ａ）０．１５ｇと反応性シリコンオイル（撥水化剤Ａ、信越化学（株）；Ｘ−２２−１７４ＤＸ、ＩＰＡで固形分濃度１０重量％に溶解）０．３ｇと光重合開始剤（ビ−エ−エスエフジャパン（株））製：ルシリンＴＰＯ：ＩＰＡで固形分濃度１０重量％に溶解）０．９ｇとイソプロピルアルコール５７．９３ｇ、メチルイソブチルケトン１５ｇ、イソプロピルグリコール７ｇ、エチレングリコールモノブチルエーテル７ｇ（混合溶媒a）を混合して、固形分濃度３.０重量％の透明被膜形成用塗料(ARL-2)を調製した。
透明被膜付基材(ARF-2)の作製
実施例１と同様にして帯電防止膜形成用塗料(EC-1)を、ＴＡＣフィルム（厚さ８０μｍ）にバーコーター法（＃１０）で塗布し、８０℃で１２０秒間乾燥した後、６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して硬化させて帯電防止膜を形成した。
【００８３】
ついで、透明被膜形成用塗料(ARL-2)をバーコーター法（＃４）で塗布し、８０℃で１
２０秒間焼成した後、６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して硬化させて透明被膜付基材(ARF-2)を作製した。このときの透明被膜の膜厚は１００ｎｍであった。
得られた透明被膜付基材(ARF-2)について実施例１と同様に表面抵抗、全光線透過率、ヘ
ーズ、反射率、積分反射率、接触角、膜厚、鉛筆硬度、耐擦傷性及び密着性を測定し、結果を表１に示した。
[実施例3]
透明被膜形成用塗料(ARL-3)の調製
表面処理した低屈折率微粒子分散液(LP-3)の調製
中空シリカ微粒子分散液(触媒化成工業（株）製；カタロイド特殊品、平均粒子径６０ｎ
ｍ、固形分２０．５重量％、ＩＰＡ分散品、粒子屈折率１．２０)１００ｇにγ--メタア
クリロオキシプロピルトリメトキシシラン（表面処理剤A,信越化学（株）製；ＫＢＭ−５０３、ＳｉO2成分８１．２重量％）５．０５ｇを加え、５０℃で１５時間加熱撹拌して固形分２４．６重量％の表面処理した低屈折率微粒子分散液(LP-3)を調製した。得られた表面処理した低屈折率微粒子の屈折率は１．２８であり平均粒子径は６０ｎｍであった。
【００８４】
この表面処理した低屈折率微粒子分散液(LP-3)６．１ｇにシリコーン系樹脂（シリコーン樹脂A,信越化学（株）製：Ｘ−１２−２４００、固形分濃度２８．５重量％）４．７４ｇとアクリル系樹脂トリプロピレンジアクリレート（応力緩和剤b、東亞合成（株）製；
アロニックスＭ−２２０）０．１５ｇと反応性シリコンオイル（撥水化剤a、信越化学（
株）；Ｘ−２２−１７４ＤＸ、ＩＰＡで固形分濃度１０重量％に溶解）０．３ｇと光重合開始剤（ビ−エ−エスエフジャパン（株））製：ルシリンＴＰＯ：ＩＰＡで固形分濃度１０重量％に溶解）０．９ｇとイソプロピルアルコール５８．８１ｇ、メチルイソブチルケトン１５ｇ、イソプロピルグリコール９ｇ、エチレングリコールモノブチルエーテル５ｇを混合（混合溶媒a）して、固形分濃度３.０重量％の透明被膜形成用塗料(ARL-3)を調製
した。
透明被膜付基材（ARF-3）の作製
実施例１と同様にして帯電防止膜形成用塗料(EC-1)を、ＴＡＣフィルム（厚さ８０μｍ）にバーコーター法（＃１０）で塗布し、８０℃で１２０秒間乾燥した後、６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して硬化させて帯電防止膜を形成した。
【００８５】
ついで、透明被膜形成用塗料(ARL-3)をバーコーター法（＃４）で塗布し、８０℃で１
２０秒間焼成した後、６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して硬化させて透明被膜付基材(ARF-3)を作製した。このときの透明被膜の膜厚は１００ｎｍであった。
【００８６】
得られた透明被膜付基材(ARF-3)について実施例１と同様に表面抵抗、全光線透過率、
ヘーズ、反射率、積分反射率、接触角、膜厚、鉛筆硬度、耐擦傷性及び密着性を測定し、
結果を表１に示した。
【００８７】
[実施例4]
透明被膜形成用塗料(ARL-4)の調製
実施例１と同様にして調製した低屈折率微粒子分散液(LP-1)１．３３ｇにシリコーン系樹脂（信越化学（株）製：Ｘ−１２−２４００、固形分濃度２８．５重量％）２．２１ｇとアクリル系樹脂トリプロピレンジアクリレート（応力緩和剤b）東亞合成（株）製；ア
ロニックスＭ−２２０）０．０７ｇと反応性シリコンオイル（撥水化剤b、信越化学（株
）；Ｘ−２２−２４２６、ＩＰＡで固形分濃度１０重量％に溶解）０．２８ｇと光重合開始剤（ビ−エ−エスエフジャパン（株））製：ルシリンＴＰＯ：ＩＰＡで固形分濃度１０重量％に溶解）０．７ｇとイソプロピルアルコール６６．４１ｇ、メチルイソブチルケトン１５ｇ、イソプロピルグリコール９ｇ、エチレングリコールモノブチルエーテル５ｇを混合（混合溶媒a）して、固形分濃度１.０重量％の透明被膜形成用塗料(ARL-4)を調製し
た。
【００８８】
透明被膜付基材(ARF-4)の作製
実施例１と同様にして帯電防止膜形成用塗料(EC-1)を、ＴＡＣフィルム（厚さ８０μｍ）にバーコーター法（＃１０）で塗布し、８０℃で１２０秒間乾燥した後、６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して硬化させて帯電防止膜を形成した。
ついで、透明被膜形成用塗料(ARL-4)をバーコーター法（＃１０）で塗布し、８０℃で１
２０秒間焼成した後、６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して硬化させて透明被膜付基材(ARF-4)を作製した。このときの透明被膜の膜厚は１００ｎｍであった。
得られた透明被膜付基材(ARF-4)について実施例１と同様に表面抵抗、全光線透過率、ヘ
ーズ、反射率、積分反射率、接触角、膜厚、鉛筆硬度、耐擦傷性及び密着性を測定し、結果を表１に示した。
【００８９】
[実施例5]
透明被膜形成用塗料(ARL-5)の調製
実施例１と同様にして調製した低屈折率微粒子分散液(LP-1)１５．５６ｇにシリコーン系樹脂（信越化学（株）製：Ｘ−１２−２４００、固形分濃度２８．５重量％）４．７４ｇとアクリル系樹脂１．６−ヘキサンジオールジアクリレート（応力緩和剤a,共栄社化学（株）製；ライトアクリレート１．６ＨＸ−Ａ）０．１５ｇと反応性シリコーンオイル（撥水化剤ｂ、信越化学（株）；Ｘ−２２−２４２６、ＩＰＡで固形分濃度１０重量％に溶解）０．３ｇと光重合開始剤（ビ−エ−エスエフジャパン（株））製：ルシリンＴＰＯ：ＩＰＡで固形分濃度１０重量％に溶解）０．４５ｇとイソプロピルアルコール５０．２５ｇ、メチルイソブチルケトン１５ｇ、イソプロピルグリコール９ｇ、エチレングリコールモノブチルエーテル５ｇを混合（混合溶媒a）して、固形分濃度５.０重量％の透明被膜形成用塗料(ARL-5)を調製した。
【００９０】
透明被膜付基材(ARF-5)の作製
実施例１と同様にして帯電防止膜形成用塗料(EC-1)を、ＴＡＣフィルム（厚さ８０μｍ）にバーコーター法（＃１０）で塗布し、８０℃で１２０秒間乾燥した後、６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して硬化させて帯電防止膜を形成した。
【００９１】
ついで、透明被膜形成用塗料(ARL-5)をバーコーター法（＃３）で塗布し、８０℃で１
２０秒間焼成した後、６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して硬化させて透明被膜付基材(ARF-5)を作製した。このときの透明被膜の膜厚は１００ｎｍであった。
得られた透明被膜付基材(ARF-5)について実施例１と同様に表面抵抗、全光線透過率、ヘ
ーズ、反射率、積分反射率、接触角、膜厚、鉛筆硬度、耐擦傷性及び密着性を測定し、結果を表１に示した。
【００９２】
[実施例6]
透明被膜形成用塗料(ARL-6)の調製
実施例１において、撥水化剤用反応性シリコンオイル０．３ｇをイソプロピルアルコール０．３ｇに代えた以外は実施例１と同様にして透明被膜形成用塗料(ARL-6)を調製した
。
透明被膜付基材(ARF-6)の作製
実施例１と同様にして帯電防止膜形成用塗料(EC-1)を、ＴＡＣフィルム（厚さ８０μｍ）にバーコーター法（＃１０）で塗布し、８０℃で１２０秒間乾燥した後、６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して硬化させて帯電防止膜を形成した。
【００９３】
ついで、透明被膜形成用塗料(ARL-6)をバーコーター法（＃４）で塗布し、８０℃で１
２０秒間焼成した後、６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して硬化させて透明被膜付基材(ARF-6)を作製した。このときの透明被膜の膜厚は１００ｎｍであった。
【００９４】
得られた透明被膜付基材(ARF-6)について実施例１と同様に表面抵抗、全光線透過率、
ヘーズ、反射率、積分反射率、接触角、膜厚、鉛筆硬度、耐擦傷性及び密着性を測定し、結果を表１に示した。
【００９５】
[実施例7]
透明被膜形成用塗料(ARL-7)の調製
実施例１において、応力緩和用アクリル樹脂０．１５ｇをイソプロピルアルコール０．１５ｇに代えた以外は実施例１と同様にして透明被膜形成用塗料(ARL-7)を調製した。
透明被膜付基材(ARF-7)の作製
施例１と同様にして帯電防止膜形成用塗料(EC-1)を、ＴＡＣフィルム（厚さ８０μｍ）にバーコーター法（＃１０）で塗布し、８０℃で１２０秒間乾燥した後、６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して硬化させて帯電防止膜を形成した。
【００９６】
ついで、透明被膜形成用塗料(ARL-7)をバーコーター法（＃４）で塗布し、８０℃で１
２０秒間焼成した後、６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して硬化させて透明被膜付基材(ARF-7)を作製した。このときの透明被膜の膜厚は１００ｎｍであった。
【００９７】
得られた透明被膜付基材(ARF-7)について実施例１と同様に表面抵抗、全光線透過率、
ヘーズ、反射率、積分反射率、接触角、膜厚、鉛筆硬度、耐擦傷性及び密着性を測定し、結果を表１に示した。
【００９８】
[実施例8]
透明被膜形成用塗布液(ARL-8)の調製
実施例１において、撥水化剤用反応性シリコンオイル０．３ｇと応力緩和剤用アクリル樹脂０．１５ｇをイソプロピルアルコール０．４５ｇに代えた以外は実施例１と同様にして透明被膜形成用塗料(ARL-8)を調製した。
透明被膜付基材(ARF-8)の作製
実施例１と同様にして帯電防止膜形成用塗料(EC-1)を、ＴＡＣフィルム（厚さ８０μｍ）にバーコーター法（＃１０）で塗布し、８０℃で１２０秒間乾燥した後、６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して硬化させて帯電防止膜を形成した。
【００９９】
ついで、透明被膜形成用塗料(ARL-8)をバーコーター法（＃４）で塗布し、８０℃で１
２０秒間焼成した後、６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して硬化させて透明被膜付基材(ARF-8)を作製した。このときの透明被膜の膜厚は１００ｎｍであった。
【０１００】
得られた透明被膜付基材(ARF-8)について実施例１と同様に表面抵抗、全光線透過率、
ヘーズ、反射率、積分反射率、接触角、膜厚、鉛筆硬度、耐擦傷性及び密着性を測定し、結果を表１に示した。
【０１０１】
[実施例9]
表面処理した低屈折率微粒子分散液(LP-4)の調製
中空シリカ微粒子分散液(触媒化成工業（株）製；カタロイド特殊品、平均粒子径６０
ｎｍ、固形分２０重量％、ＩＰＡ分散品、粒子屈折率１．２０)１００ｇにγ-アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン（表面処理剤B,信越化学（株）製；ＫＢＭ−５１０３、ＳｉO2成分８１．２重量％）２．５２ｇを加え、５０℃で１５時間加熱撹拌して固形分２２．５重量％の表面処理した低屈折率微粒子分散液(LP-4)を調製した。得られた表面処理した低屈折率微粒子の屈折率は１．２４であり平均粒子径は６０ｎｍであった。
透明被膜形成用塗料(ARL-9)の調製
表面処理した低屈折率微粒子分散液(LP-4)６．６６ｇにアクリル樹脂ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（マトリックス形成成分、共栄社化学（株）製：ＤＰＥ−６Ａ）１．３５ｇとアクリル系樹脂１．６−ヘキサンジオールジアクリレート（応力緩和剤A,共栄社化学（株）製；ライトアクリレート１．６ＨＸ−Ａ）０．１５ｇと反応性シリコンオイル（撥水化剤a、信越化学（株）；Ｘ−２２−１７４ＤＸ、ＩＰＡで固形分濃度１０
重量％に溶解）０．３ｇと光重合開始剤（ビ−エ−エスエフジャパン（株））製：ルシリンＴＰＯ：トルエンで固形分濃度１０重量％に溶解）０．６ｇと、（チバスプシャリティ(株)製イルガキュア１８４、トルエンで溶解、固形分濃度１０重量％）０．３ｇとイソプロピルアルコール６０．６４ｇ、メチルイソブチルケトン１０ｇ、プロピレングリコールモンプロピルエーテル１０ｇ、エチレングリコールモノブチルエーテル１０ｇを混合（混合溶媒b）して、固形分濃度３.０重量％の透明被膜形成用塗料(ARL-9)を調製した。
透明被膜付基材(ARF-9)の作製
実施例１と同様にして帯電防止膜形成用塗料(EC-1)を、ＴＡＣフィルム（厚さ８０μｍ）にバーコーター法（＃１０）で塗布し、８０℃で１２０秒間乾燥した後、６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して硬化させて帯電防止膜を形成した。
【０１０２】
ついで、透明被膜形成用塗料(ARL-9)をバーコーター法（＃４）で塗布し、８０℃で１
２０秒間焼成した後、６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して硬化させて透明被膜付基材(ARF-9)を作製した。このときの透明被膜の膜厚は１００ｎｍであった。
【０１０３】
得られた透明被膜付基材(ARF-9)について実施例１と同様に表面抵抗、全光線透過率、
ヘーズ、反射率、積分反射率、接触角、膜厚、鉛筆硬度、耐擦傷性及び密着性を測定し、結果を表１に示した。
【０１０４】
[実施例10]
下層膜形成用塗布液(AG-1)の調製
シリカ微粒子（触媒化成工業株(製)：シリカマイクロビードＰ−４００、平均粒子径径１．５μｍ）４０ｇを水/メタタノール＝1：1混合溶媒１６０ｇに分散させ、これにメタ
クリルトリメトキシシラン（信越化学(株)製：ＫＢＭ−５０３）０.７３ｇを加え５０℃
で１５時間加熱撹拌し、ついで分離した後、１００℃で乾燥して表面処理したシリカ微粒子を得た。
【０１０５】
ついで、ジペンタエリストリルヘキサアクリレート(共栄社化学株式会社製：ライトア
クリレートＤＰＥ−６Ａ)９ｇに表面処理したシリカ微粒子１ｇと光重合開始剤(チバ・スペシャリティー・ケミカルズ製：イルガキュア１８４)０．３６ｇおよび２-プロパノール／プロピレングリコールモノエチルエーテル＝９／１を３９．６４ｇ加え１５分間超音波分散機で分散して防弦性を有する下層膜形成用塗布液(AG-1)を得た。
下層膜付基材(AGF-1)の作製
下層膜形成用塗布液(AG-1)を、ＴＡＣフィルム（厚さ８０μｍ）にバーコーター法（＃８）で塗布し、８０℃で１２０秒間乾燥した後、６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して
硬化させ、表面に凹凸を有する下層膜付基材(AGF-1)を形成した。
【０１０６】
この下層膜付基材(AGF-1)について、この被膜の一部を垂直に切断し、被膜の断面につ
いてレーザー顕微鏡（キーエンス株式会社製：ＶＥ−３０００）を用いて平均膜厚、凸部の高さ（Ｔ1）、凹部の高さ（Ｔ2）を測定し、結果を表１に示した。
透明被膜付基材(ARF-10)の作製
下層膜付基材(AGF-1)の上に、実施例１と同様にして調製した透明被膜形成用塗料(ARL-1)を透明被膜の平均膜厚が１００ｎｍとなるようにバーコーター法（＃３）で塗布し、８０℃で１２０秒間乾燥した後、６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して硬化させて透明被
膜付基材(ARF-10)を作製した。
【０１０７】
得られた透明被膜付基材(ARF-10)について、前記方法で、平均膜厚、凸部の高さ（Ｔ3
）、凹部の高さ（Ｔ4）を測定し、結果を表１に示した。
また、実施例１と同様に表面抵抗、全光線透過率、ヘーズ、反射率、積分反射率、鉛筆硬度、耐擦傷性、密着性および防眩性を測定し、結果を表１に示した。
【０１０８】
防眩性の測定
塗布した裏面をつや消し黒スプレーで黒くし、1ｍはなれたところの蛍光灯の光の反射
光を目視で観察し、以下の基準で評価し結果を表1に示した。
【０１０９】
評価基準：
蛍光灯が見えない    ：◎
蛍光灯のふちがわずかに見える。：○
蛍光灯のふちがはっきり見える。  ：△
蛍光灯のふちがはっきり見えまぶしい。  ：×
【０１１０】
[実施例11] 
透明被膜付基材(ARF-11)の作製
実施例１０と同様にして作製した下層膜付基材(AGF-1)の上に、実施例９で調製した透
明被膜形成用塗料(ARL-9)を透明被膜の平均膜厚が１００ｎｍとなるようにバーコーター
法（＃３）で塗布し、８０℃で１２０秒間乾燥した後、６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照
射して硬化させて透明被膜付基材(ARF-11)を作製した。
【０１１１】
得られた透明被膜付基材(ARF-11)について実施例10と同様、表面抵抗、全光線透過率、ヘーズ、反射率、積分反射率、平均膜厚、凸部の高さ（Ｔ3）、凹部の高さ（Ｔ4）、鉛筆硬度、耐擦傷性、密着性および防眩性を測定し、結果を表１に示した。
[比較例1]
透明被膜膜形成用塗料(ARL-R1)の調製
中空シリカ微粒子分散液(触媒化成工業（株）製：カタロイド特殊品、平均粒子径６０
ｎｍ、固形分２０．５重量％、ＩＰＡ分散品、粒子屈折率１．２０)７．３２ｇに、シリ
コーン系樹脂（マトリックス形成成分のシリコーン樹脂A、信越化学（株）製：Ｘ−１２
−２４００、固形分濃度２８．５重量％）４．７４ｇと応力緩和剤用アクリル系樹脂：１．６−ヘキサンジオールジアクリレート（応力緩和剤a、共栄社化学（株）製；ライトア
クリレート１．６ＨＸ−Ａ）０．１５ｇと撥水化剤用反応性シリコンオイル（信越化学（株）；Ｘ−２２−１７４ＤＸ、ＩＰＡで固形分濃度１０重量％に溶解）０．３ｇと光重合開始剤（ビ−エ−エスエフジャパン（株））製：ルシリンＴＰＯ：ＩＰＡで固形分濃度１０重量％に溶解）０．９ｇとイソプロピルアルコール５８．８９ｇ、メチルイソブチルケ
トン１５ｇ、イソプロピルグリコール９ｇ、エチレングリコールモノブチルエーテル５ｇを混合して、固形分濃度３.０重量％の透明被膜膜形成用塗料(ARL-R1)を調製した。
透明被膜付基材(ARF-R1)の作製
実施例１と同様にして帯電防止膜形成用塗料(EC-1)を、ＴＡＣフィルム（厚さ８０μｍ）にバーコーター法（＃１０）で塗布し、８０℃で１２０秒間乾燥した後、６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して硬化させて帯電防止膜を形成した。
【０１１２】
ついで、透明被膜形成用塗料(ARL-R1)をバーコーター法（＃４）で塗布し、８０℃で１２０秒間乾燥した後、６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して硬化させて透明被膜付基材(ARF-R1)を作製した。このときの透明被膜の膜厚は１００ｎｍであった。
【０１１３】
得られた透明被膜付基材(ARF-R1)について実施例１と同様に表面抵抗、全光線透過率、ヘーズ、反射率、積分反射率、接触角、膜厚、鉛筆硬度、耐擦傷性及び密着性を測定し、結果を表１に示した。
[比較例２] 
透明被膜膜形成用塗料(ARL-R2)の調製
比較例１において、撥水化剤用反応性シリコンオイル０．３ｇと応力緩和剤用アクリル樹脂０．１５ｇをイソプロピルアルコール０．４５ｇに代えた以外は比較例１と同様にして透明被膜形成用塗料(ARL-R2)を調製した。
透明被膜付基材(ARF-R2)の作製
実施例１と同様にして帯電防止膜形成用塗料(EC-1)を、ＴＡＣフィルム（厚さ８０μｍ）にバーコーター法（＃１０）で塗布し、８０℃で１２０秒間乾燥した後、６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して硬化させて帯電防止膜を形成した。
ついで、透明被膜形成用塗料(ARL-R2)をバーコーター法（＃４）で塗布し、８０℃で１２０秒間乾燥した後、６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して硬化させて透明被膜付基材(ARF-R2)を作製した。このときの透明被膜の膜厚は１００ｎｍであった。
【０１１４】
得られた透明被膜付基材(ARF-R2)について実施例１と同様に表面抵抗、全光線透過率、ヘーズ、反射率、積分反射率、接触角、膜厚、鉛筆硬度、耐擦傷性及び密着性を測定し、結果を表１に示した。
[比較例3]
透明被膜形成用塗料(ARL-R3)の調製
中空シリカ微粒子分散液(触媒化成工業（株）製：カタロイド特殊品、平均粒子径６０
ｎｍ、固形分２０．５重量％、ＩＰＡ分散品、粒子屈折率１．２０)７．３２ｇにアクリ
ル系樹脂ジヘキサエリスリトールトリアセテート（表面処理剤A,共栄社化学（株）製：ＤＰＥ−６Ａ）１．３５ｇとアクリル系樹脂１．６−ヘキサンジオールジアクリレート（応力緩和剤a、共栄社化学（株）製；ライトアクリレート１．６ＨＸ−Ａ）０．１５ｇと、
反応性シリコンオイル（信越化学（株）；Ｘ−２２−１７４ＤＸ、ＩＰＡで固形分濃度１０重量％に溶解）０．３ｇと光重合開始剤（ビ−エ−エスエフジャパン（株））製：ルシリンＴＰＯ：トルエンで固形分濃度１０％重量に溶解）０．６ｇ光重合開始剤と（チバスプシャリティ(株)製イルガキュア１８４、トルエンで溶解、固形分濃度１０重量％）０．３ｇと、イソプロピルアルコール５９．９８ｇ、メチルイソブチルケトン１０ｇ、プロピレングリコールモンプロピルエーテル１０ｇ、エチレングリコールモノブチルエーテル１０ｇを混合（混合溶媒b）して、固形分濃度３.０重量％の透明被膜形成用塗料(ARL-R3)を調製した。
透明被膜付基材(ARF-R3)の作製
実施例１と同様にして帯電防止膜形成用塗料(EC-1)を、ＴＡＣフィルム（厚さ８０μｍ）にバーコーター法（＃１０）で塗布し、８０℃で１２０秒間乾燥した後、６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して硬化させて帯電防止膜を形成した。
【０１１５】
ついで、透明被膜形成用塗料(ARL-R3)をバーコーター法（＃４）で塗布し、８０℃で１２０秒間焼成した後、６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して硬化させて透明被膜付基材(ARF-R3)を作製した。このときの透明被膜の膜厚は１００ｎｍであった。
【０１１６】
得られた透明被膜付基材(ARF-R3)について実施例１と同様に表面抵抗、全光線透過率、ヘーズ、反射率、積分反射率、接触角、膜厚、鉛筆硬度、耐擦傷性及び密着性を測定し、結果を表１に示した。
[比較例4]
透明被膜形成用塗料(ARL-R4)の調製
実施例１と同様にして調製した低屈折率微粒子分散液(LP-1)６．６７ｇにポリエステル系樹脂（マトリックス形成成分、ポリエステル、東洋紡（株）製：バイロナールＭＤ−１２００、固形分濃度３４重量％）４．４１ｇと反応性シリコンオイル（撥水化剤a,信越化学（株）；Ｘ−２２−２４２６、ＩＰＡで固形分濃度１０重量％に溶解）０．３ｇとレベリング剤（楠本化成（株）製ディスパロンＮＳＨ−８４３０ＨＦ、固形分濃度１０重量％）０．５ｇとイソプロピルアルコール７８．１２ｇ、エチレングリコールモノエチルエーテル１０ｇを混合して、固形分濃度３．０重量％の透明被膜形成用塗料(ARL-4R)を調製した。
透明被膜付基材(ARF-R4)の作製
ついで、透明被膜形成用塗料(ARL-4R)をバーコーター法（＃４）で塗布し、１００℃で１２０秒間焼成して硬化させて透明被膜付基材(ARF-4R)を作製した。このときの透明被膜の膜厚は１００ｎｍであった。
【０１１７】
得られた透明被膜付基材(ARF-4R)について実施例１と同様に表面抵抗、全光線透過率、ヘーズ、反射率、積分反射率、接触角、膜厚、鉛筆硬度、耐擦傷性及び密着性を測定し、結果を表１に示した。
[比較例5]
透明被膜付基材(ARF-R5)の作製
実施例１０と同様にして下層膜付基材(AGF-1)を作製した。この下層膜付基材(AGF-1)について、この被膜（１）の一部を垂直に切断し、被膜の断面についてレーザー顕微鏡（キーエンス株式会社製：ＶＥ-3000）を用いて平均膜厚、凸部の高さ（Ｔ1）、凹部の高さ（Ｔ2）を測定し、結果を表１に示した。
【０１１８】
ついで、比較例１と同様にして調製した透明被膜形成用塗料(ARL-R1)を透明被膜の平均膜厚が１００ｎｍとなるようにバーコーター法（＃３）で塗布し、８０℃で１２０秒間乾燥した後、６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して硬化させて透明被膜付基材(ARF-R5)を
作製した。
【０１１９】
得られた透明被膜付基材(ARF-R6)について上記下層膜付基材(AGF-1)と同様に、この被
膜の一部を垂直に切断し、被膜の断面についてレーザー顕微鏡（キーエンス株式会社製：ＶＥ-3000）を用いて平均膜厚、凸部の高さ（Ｔ3）、凹部の高さ（Ｔ4）を測定し、結果
を表１に示した。
【０１２０】
また、実施例１０と同様に表面抵抗、全光線透過率、ヘーズ、反射率、積分反射率、平均膜厚、凸部の高さ（Ｔ3）、凹部の高さ（Ｔ4）、鉛筆硬度、耐擦傷性、密着性および防眩性を測定し、結果を表１に示した。
[比較例6]
透明被膜付基材(ARF-R6)の作製
実施例１０と同様にして下層膜付基材(AGF-1)を作製した。この下層膜付基材(AGF-1)について、この被膜（１）の一部を垂直に切断し、被膜の断面についてレーザー顕微鏡（キーエンス株式会社製：ＶＥ-3000）を用いて平均膜厚、凸部の高さ（Ｔ1）、凹部の高さ（
Ｔ2）を測定し、結果を表１に示した。
【０１２１】
ついで、比較例３で調製した透明被膜形成用塗料(ARL-R3)を透明被膜の平均膜厚が１００ｎｍとなるようにバーコーター法（＃３）で塗布し、８０℃で１２０秒間乾燥した後、６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して硬化させて透明被膜付基材(ARF-R6)を作製した。
得られた透明被膜付基材(ARF-R6)について上記下層膜付基材(AGF-1)と同様に、この被膜
の一部を垂直に切断し、被膜の断面についてレーザー顕微鏡（キーエンス株式会社製：ＶＥ-3000）を用いて平均膜厚、凸部の高さ（Ｔ3）、凹部の高さ（Ｔ4）を測定し、結果を
表１に示した。
【０１２２】
また、実施例１０と同様に表面抵抗、全光線透過率、ヘーズ、反射率、積分反射率、平均膜厚、凸部の高さ（Ｔ3）、凹部の高さ（Ｔ4）、鉛筆硬度、耐擦傷性、密着性および防眩性を測定し、結果を表１に示した。
[比較例7]
透明被膜付基材(ARF-R7)の作製
実施例１０と同様にして下層膜付基材(AGF-1)を作製した。この下層膜付基材(AGF-1)について、この被膜（１）の一部を垂直に切断し、被膜の断面についてレーザー顕微鏡（キーエンス株式会社製：ＶＥ-3000）を用いて平均膜厚、凸部の高さ（Ｔ1）、凹部の高さ（Ｔ2）を測定し、結果を表１に示した。
【０１２３】
ついで、比較例４で調製した透明被膜形成用塗料(ARL-R4)を透明被膜の平均膜厚が１００ｎｍとなるようにバーコーター法（＃３）で塗布し、８０℃で１２０秒間乾燥した後、６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して硬化させて透明被膜付基材(ARF-R7)を作製した。
得られた透明被膜付基材(ARF-R7)について上記下層膜付基材(AGF-1)と同様に、この被膜
の一部を垂直に切断し、被膜の断面についてレーザー顕微鏡（キーエンス株式会社製：ＶＥ-3000）を用いて平均膜厚、凸部の高さ（Ｔ3）、凹部の高さ（Ｔ4）を測定し、結果を
表１に示した。
また、実施例１０と同様に表面抵抗、全光線透過率、ヘーズ、反射率、積分反射率、平均膜厚、凸部の高さ（Ｔ3）、凹部の高さ（Ｔ4）、鉛筆硬度、耐擦傷性、密着性および防眩性を測定し、結果を表１に示した。
【０１２４】
【表１】
2008001869.tif 000002