(57)【要約】【課題】液状体の吐出不具合を低減することができる描画システム、液状体の描画方法、カラーフィルタの製造方法、有機ＥＬ素子の製造方法を提供すること。【解決手段】描画システム１は、複数のノズルが吐出特性に応じてランク付けされたノズル情報と、ワークと複数のノズルとの相対移動においてワーク上の画素領域ごとに掛かるノズルの配置を示す第１配置情報とが少なくとも格納された記憶部１４と、ノズル情報を基に第１配置情報を補正した第２配置情報を生成する配置情報生成部としての上位コンピュータ１１と、第１配置情報または第２配置情報のいずれかを選択して複数のノズルから画素領域ごとに液状体を液滴として吐出する液滴吐出装置１０と、を備えた。【選択図】図１
2008145625.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と複数のノズルとの相対移動に同期して、前記基板上の複数の画素領域に前記複数のノズルから機能性材料を含む液状体を吐出して画素構成要素を形成する描画システムであって、
前記複数のノズルが吐出特性に応じてランク付けされたノズル情報と前記相対移動において前記画素領域ごとに掛かるノズルの配置を示す第１配置情報とが少なくとも格納された記憶部と、
前記ノズル情報を基に前記第１配置情報を補正した第２配置情報を生成する配置情報生成部と、
前記第１配置情報または前記第２配置情報のいずれかを選択して前記複数のノズルから前記画素領域ごとに前記液状体を液滴として吐出する液滴吐出装置と、
を備えたことを特徴とする描画システム。
【請求項２】
前記ノズル情報は、前記複数のノズルが前記液滴の着弾位置ずれ、吐出量異常、吐出抜けの吐出特性に基づきランク付けされ、
前記第１配置情報が前記液滴を吐出するノズルの選択情報を含み、
前記配置情報生成部は、前記画素領域ごとにランク付けされた少なくとも１つのノズルを選択せず、他のノズルを選択して不足する前記液状体を吐出するように前記第１配置情報を補正した前記第２配置情報を生成することを特徴とする請求項１に記載の描画システム。
【請求項３】
前記着弾位置ずれが前記相対移動の方向と前記相対移動の方向に直交する方向とに区分され、
前記配置情報生成部は、前記着弾位置ずれの方向に対応して、前記基板に対する前記複数のノズルの相対的な吐出位置をずらすように前記第１配置情報を補正した前記第２配置情報を生成することを特徴とする請求項２に記載の描画システム。
【請求項４】
前記第１配置情報は、前記液滴を吐出する前記ノズルごとのエネルギー発生手段の駆動条件を含み、
前記配置情報生成部は、前記吐出量異常および前記着弾位置ずれのうち少なくとも一方の吐出特性を有するノズルがあれば、前記第１配置情報における当該ノズルの前記駆動条件を変えた第２配置情報を生成することを特徴とする請求項２に記載の描画システム。
【請求項５】
前記吐出量異常が前記液滴の着弾径の過大と過小とに区分され、
前記配置情報生成部は、前記着弾径の過大と過小とに対応して、前記第１配置情報における当該ノズルを駆動する前記エネルギー発生手段の駆動電圧を変えることを特徴とする請求項４に記載の描画システム。
【請求項６】
前記着弾位置ずれが少なくとも前記相対移動の方向におけるずれ量に応じてランク付けされ、
前記配置情報生成部は、前記ずれ量に応じて、前記第１配置情報における当該ノズルを駆動する前記エネルギー発生手段の吐出タイミングを変えることを特徴とする請求項４に記載の描画システム。
【請求項７】
前記ずれ量が前記相対移動の往動と復動とに対して順方向か逆方向かにより区分されていることを特徴とする請求項６に記載の描画システム。
【請求項８】
前記複数のノズルから着弾観察用被吐出物の上に吐出され着弾した前記液滴を観察して撮像する撮像機構と、
前記撮像機構により撮像された画像を画像情報に変換する画像処理部と、
前記画像情報から前記ノズル情報を生成するノズル情報生成部と、
をさらに備えたことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載の描画システム。
【請求項９】
前記着弾観察用被吐出物が記録紙であることを特徴とする請求項８に記載の描画システム。
【請求項１０】
前記撮像機構は前記基板の前記複数の画素領域を観察可能な状態に設けられ、
前記液状体が吐出描画された前記複数の画素領域のうち少なくとも１回の前記相対移動によって前記複数のノズルが掛かる前記画素領域を観察して撮像し、
得られた画像情報に基づいて前記ノズル情報生成部が不良ノズルを特定し、前記不良ノズルの情報に基づいて前記ノズル情報を更新することを特徴とする請求項８または９に記載の描画システム。
【請求項１１】
基板と複数のノズルとの相対移動に同期して、前記基板上の複数の画素領域に前記複数のノズルから機能性材料を含む液状体を吐出して画素構成要素を形成する液状体の描画方法であって、
前記複数のノズルを吐出特性に応じてランク付けしたノズル情報を生成するノズル情報生成工程と、
前記相対移動において前記画素領域ごとに掛かるノズルの配置を示す第１配置情報を前記ノズル情報に基づいて補正した第２配置情報を生成する配置情報生成工程と、
前記第１配置情報または前記第２配置情報のいずれかを選択して前記複数のノズルから前記画素領域ごとに前記液状体を液滴として吐出する描画工程と、
を備えたことを特徴とする液状体の描画方法。
【請求項１２】
前記ノズル情報生成工程では、前記複数のノズルを前記液滴の着弾位置ずれ、吐出量異常、吐出抜けの吐出特性に基づいてランク付けした前記ノズル情報を生成し、
前記第１配置情報が前記液滴を吐出するノズルの選択情報を含み、
前記配置情報生成工程では、ランク付けされた少なくとも１つのノズルを選択せず、他のノズルを選択して不足する前記液状体を吐出するように前記第１配置情報を補正した前記第２配置情報を生成することを特徴とする請求項１１に記載の液状体の描画方法。
【請求項１３】
前記ノズル情報生成工程では、前記着弾位置ずれが前記相対移動の方向と前記相対移動の方向に直交する方向とに区分され、
前記配置情報生成工程では、前記着弾位置ずれの方向に対応して、前記基板に対する前記複数のノズルの相対的な吐出位置をずらすように補正した前記第２配置情報を生成することを特徴とする請求項１１に記載の液状体の描画方法。
【請求項１４】
前記第１配置情報は、前記液滴を吐出する前記ノズルごとのエネルギー発生手段の駆動条件を含み、
前記配置情報生成工程では、前記吐出量異常および前記着弾位置ずれのうち少なくとも一方の吐出特性を有するノズルがあれば、前記第１配置情報における当該ノズルの前記駆動条件を変えた第２配置情報を生成することを特徴とする請求項１２に記載の液状体の描画方法。
【請求項１５】
前記ノズル情報生成工程では、前記吐出量異常が前記液滴の着弾径の過大と過小とに区分され、
前記配置情報生成工程では、前記着弾径の過大と過小とに対応して、前記第１配置情報における当該ノズルを駆動する前記エネルギー発生手段の駆動電圧を変えることを特徴とする請求項１４に記載の液状体の描画方法。
【請求項１６】
前記ノズル情報生成工程では、前記着弾位置ずれが少なくとも前記相対移動の方向におけるずれ量に応じてランク付けされ、
前記配置情報生成工程では、前記ずれ量に応じて、前記第１配置情報における当該ノズルを駆動する前記エネルギー発生手段の吐出タイミングを変えることを特徴とする請求項１４に記載の液状体の描画方法。
【請求項１７】
前記ずれ量が前記相対移動の往動と復動とに対して順方向か逆方向かにより区分されていることを特徴とする請求項１６に記載の液状体の描画方法。
【請求項１８】
前記ノズル情報生成工程は、前記複数のノズルから着弾観察用被吐出物の上に前記液状体を前記液滴として吐出し、着弾した前記液滴を観察して撮像することにより前記ノズル情報を入手する着弾観察工程を含むことを特徴とする請求項１１乃至１７のいずれか一項に記載の液状体の描画方法。
【請求項１９】
前記着弾観察用被吐出物が記録紙であることを特徴とする請求項１８に記載の液状体の描画方法。
【請求項２０】
前記描画工程により吐出描画された前記基板を観察する観察工程と、
前記観察工程により不良な前記画素構成要素が検出された場合には、当該画素構成要素を有する前記画素領域に掛かったノズルから不良ノズルを特定する不良ノズル特定工程と、
特定された不良ノズルの情報に基づいて前記ノズル情報を更新するノズル情報更新工程と、を備えたことを特徴とする請求項１１乃至１９のいずれか一項に記載の液状体の描画方法。
【請求項２１】
基板上に区画形成された複数の画素領域に少なくとも３色の着色層を有するカラーフィルタの製造方法であって、
請求項１１乃至２０のいずれか一項に記載の液状体の描画方法を用い、着色層形成材料を含む少なくとも３色の液状体を前記複数の画素領域に吐出描画する描画工程と、
吐出描画された前記液状体を固化して、前記少なくとも３色の着色層を形成する固化工程と、を備えたことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項２２】
基板上に区画形成された複数の画素領域に少なくとも発光層を有する有機ＥＬ素子の製造方法であって、
請求項１１乃至２０のいずれか一項に記載の液状体の描画方法を用い、発光層形成材料を含む液状体を前記複数の画素領域に吐出描画する描画工程と、
吐出描画された前記液状体を固化して、前記発光層を形成する固化工程と、を備えたことを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液滴吐出法を用いた描画システム、液状体の描画方法、カラーフィルタの製造方法、有機ＥＬ素子の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液滴吐出法を用いた描画システムとしては、記録媒体に格納されたデータに基づき、機能液滴吐出ヘッドをワークに対して相対的に移動させながら当該機能液滴吐出ヘッドに列設された複数のノズルから機能液滴を選択的に吐出させることにより、ワーク上の１以上のチップ形成領域に描画を行う描画システムが知られている（特許文献１）。
【０００３】
上記描画システムでは、記録媒体に格納された各ノズルの吐出パターンデータに基づき、ワークに対して機能液滴を吐出描画する。
【０００４】
上記吐出パターンデータは、少なくともワーク上のチップ形成領域の配置に関するチップ情報と、チップ形成領域における画素の配列に関する画素情報と、ワークに対する各ノズルの配置に関するノズル情報と、に基づいて生成される。
【０００５】
また、液状体の吐出不具合を検出する方法としては、液滴吐出ヘッドのノズルから吐出された液滴が被検査物に着弾して得られたドットの位置ずれを、簡単且つ迅速に検出することができるドットずれ検出方法およびドットずれ検出装置が知られている（特許文献２）。
【０００６】
【特許文献１】特開２００３−２７５６５０号公報
【特許文献２】特開２００６−１３０３８３号公報  頁７
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
液滴吐出法を用いてワーク上にカラーフィルタなどの画素構成要素を形成する場合、ノズルから安定的に液滴を吐出する必要がある。しかしながら、ノズルの目詰まりや吐出された液滴の着弾位置がずれる飛行曲がりなどの不具合が発生することがあり、常に安定的に吐出を行うことは難しい。上記特許文献２では、ドットずれ検出装置を液滴吐出装置に装備することが製品の歩留まり向上に寄与するとしている。しかしながら、実際に上記特許文献１のような描画システムに導入するにあたって効果的な導入の仕方については提案がなされていなかった。
【０００８】
本発明は、上記課題を考慮してなされたものであり、液状体の吐出不具合を低減することができる描画システム、液状体の描画方法、カラーフィルタの製造方法、有機ＥＬ素子の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の描画システムは、基板と複数のノズルとの相対移動に同期して、基板上の複数の画素領域に複数のノズルから機能性材料を含む液状体を吐出描画して画素構成要素を形成する描画システムであって、複数のノズルが吐出特性に応じてランク付けされたノズル情報と上記相対移動において画素領域ごとに掛かるノズルの配置を示す第１配置情報とが少なくとも格納された記憶部と、ノズル情報を基に第１配置情報を補正した第２配置情報を生成する配置情報生成部と、第１配置情報または第２配置情報のいずれかを選択して複数のノズルから画素領域ごとに液状体を液滴として吐出する液滴吐出装置と、を備えたことを特徴とする。
【００１０】
この構成によれば、液状体の吐出不具合が生ずるような吐出特性を有するノズルはノズル情報としてランク付けされる。配置情報生成部は記憶部に格納されたノズル情報に基づいて、ランク付けされたノズルがあれば、その吐出特性に応じて第１配置情報を補正することができる。したがって、液滴吐出装置はノズル情報を参照して第１配置情報または第２配置情報を選択して液状体を吐出することが可能となる。すなわち、液状体の吐出不具合を低減することが可能な描画システムを提供することができる。
【００１１】
上記ノズル情報は、複数のノズルが液滴の着弾位置ずれ、吐出量異常、吐出抜けの吐出特性に基づいてランク付けされ、第１配置情報が液滴を吐出するノズルの選択情報を含み、配置情報生成部は、画素領域ごとにランク付けされた少なくとも１つのノズルを選択せず、他のノズルを選択して不足する液状体を吐出するように第１配置情報を補正した第２配置情報を生成することを特徴とする。
【００１２】
上記相対移動によって画素領域ごとに掛かるノズルは、画素領域のサイズや複数のノズルの配置によって必ずしも同一とは限らない。この構成によれば、吐出された液滴の着弾位置ずれ、吐出量異常、吐出抜けが生ずるいずれかのノズルが画素領域に掛かった場合、少なくとも１つの当該ノズルを選択せずに、他のノズルを選択して不足分の液状体を吐出する。液滴の吐出量異常や吐出抜けが生ずるノズルがランク付けされるので、液状体の不足を低減して必要量を画素領域ごとに付与することが可能な描画システムを提供することができる。
【００１３】
上記着弾位置ずれが相対移動の方向と相対移動の方向に直交する方向とに区分され、配置情報生成部は、着弾位置ずれの方向に対応して、基板に対する複数のノズルの相対的な吐出位置をずらすように第１配置情報を補正した第２配置情報を生成することを特徴とする。
【００１４】
この構成によれば、着弾位置ずれが相対移動の方向と相対移動の方向に直交する方向とに区分さているため、各画素領域に対するノズルの相対的な吐出位置を着弾位置ずれの方向に対応して的確に補正することができる。
【００１５】
また、上記第１配置情報は、液滴を吐出するノズルごとのエネルギー発生部の駆動条件を含み、配置情報生成部は、吐出量異常および着弾位置ずれのうち少なくとも一方の吐出特性を有するノズルがあれば、第１配置情報における当該ノズルの駆動条件を変えた第２配置情報を生成するとしてもよい。液滴の吐出量や着弾位置ずれは、エネルギー発生手段の駆動条件を変えることにより調整が可能である。これによれば、配置情報生成部は、吐出量異常や着弾位置ずれが生ずるノズルがあれば、第１配置情報における当該ノズルの駆動条件を変えた第２配置情報を生成する。したがって、吐出不具合が生じるノズルをむやみに停止せずに、エネルギー発生手段の駆動条件を変えることによって本来の吐出特性あるいはそれに近づけた吐出特性を実現して画素領域ごとに必要量の液状体を付与することが可能な描画システムを提供することができる。
【００１６】
また、上記吐出量異常が液滴の着弾径の過大と過小とに区分され、配置情報生成部は、着弾径の過大と過小とに対応して、第１配置情報における当該ノズルを駆動するエネルギー発生手段の駆動電圧を変えることが好ましい。これによれば、配置情報生成部は、着弾径の過大と過小とに対応して、第１配置情報における当該ノズルを駆動するエネルギー発生手段の駆動電圧を変えるので、吐出量の過多、過少を補正して液状体を吐出描画することが可能な描画システムを提供することができる。
【００１７】
また、上記着弾位置ずれが少なくとも相対移動の方向におけるずれ量に応じてランク付けされ、配置情報生成部は、ずれ量に応じて、第１配置情報における当該ノズルを駆動するエネルギー発生手段の吐出タイミングを変えることが好ましい。これによれば、配置情報生成部は、ずれ量に応じてランク付けされたノズルの吐出タイミングを変えるので、吐出された液滴を着弾すべき画素領域内に着弾させることが可能な描画システムを提供することができる。
【００１８】
上記ずれ量が相対移動の往動と復動とに対して順方向か逆方向かにより区分されていることが好ましい。液滴の飛行曲がりが生ずる場合、曲がり方向が相対移動の往動と復動とに対して順方向か逆方向かにより着弾後のずれ量が変動する。これによれば、相対移動の往動と復動とに対して順方向か逆方向かにより区分されたずれ量に基づいて吐出タイミングを変えるので、飛行曲がりが生ずるノズルを往動と復動で使用しても、吐出された液滴を着弾すべき画素領域内に着弾させることができる。
【００１９】
上記複数のノズルから着弾観察用被吐出物の上に吐出され着弾した液滴を観察して撮像する撮像機構と、撮像機構により撮像された画像を画像情報に変換する画像処理部と、画像情報からノズル情報を生成するノズル情報生成部と、をさらに備えることが好ましい。これによれば、着弾した液滴の画像を画像情報に変換する画像処理部を備えているので、吐出不具合としての吐出抜けはもとより、着弾位置ずれ、吐出量異常に起因して変動する着弾径を数値データとして入手することができる。したがって、配置情報生成部は、より正確に第１配置情報を補正した第２配置情報を生成することができる。また、描画システムとは別にこれらの構成を設けて着弾観察する場合に比べて、画像処理の誤差を少なくすることができる。
【００２０】
また、上記着弾観察用被吐出物が記録紙であることが好ましい。これによれば、記録紙を用いることにより、液滴が着弾する表面の界面張力などの影響を受け難く、より正確に着弾径や着弾位置ずれの情報を得ることができる。
【００２１】
上記撮像機構は基板の複数の画素領域を観察可能な状態に設けられ、液状体が吐出描画された複数の画素領域のうち、少なくとも１回の相対移動によって複数のノズルが掛かる画素領域を観察して撮像し、得られた画像情報に基づいてノズル情報生成部が不良ノズルを特定し、不良ノズルの情報に基づいてノズル情報を更新することが好ましい。複数のノズルの吐出特性は、ノズルの使用頻度、寿命などにより常に一定とは限らない。これによれば、基板の画素領域ごとに吐出描画された液状体を観察して吐出不具合を生ずる不良ノズルを特定し、その情報に基づいてノズル情報が更新される。したがって、配置情報生成部は、最新のノズル情報に基づいて第１配置情報を補正した第２配置情報を生成することができる。すなわち、安定した吐出状態が得られる描画システムを提供することができる。
【００２２】
本発明の液状体の描画方法は、基板と複数のノズルとの相対移動に同期して、基板上の複数の画素領域に複数のノズルから機能性材料を含む液状体を吐出して画素構成要素を形成する液状体の描画方法であって、複数のノズルを吐出特性に応じてランク付けしたノズル情報を生成するノズル情報生成工程と、上記相対移動において画素領域ごとに掛かるノズルの配置を示す第１配置情報をノズル情報に基づいて補正した第２配置情報を生成する配置情報生成工程と、第１配置情報または第２配置情報のいずれかを選択して複数のノズルから画素領域ごとに液状体を液滴として吐出する描画工程と、を備えたことを特徴とする。
【００２３】
この方法によれば、ノズル情報生成工程では、吐出不具合が生ずるような吐出特性を有するノズルはランク付けされる。配置情報生成工程では、複数のノズルを吐出特性に応じてランク付けしたノズル情報に基づいて、第１配置情報を補正した第２配置情報を生成する。したがって、描画工程では、吐出不具合が生ずるノズルがあれば、補正された第２配置情報を選択して液状体を吐出することができる。すなわち、液状体の吐出不具合を低減することが可能な液状体の描画方法を提供することができる。
【００２４】
上記ノズル情報生成工程では、複数のノズルが液滴の着弾位置ずれ、吐出量異常、吐出抜けの吐出特性に基づいてランク付けしたノズル情報を生成し、第１配置情報が液滴を吐出するノズルの選択情報を含み、配置情報生成工程では、ランク付けされた少なくとも１つのノズルを選択せず、他のノズルを選択して不足する液状体を吐出するように第１配置情報を補正した第２配置情報を生成することを特徴とする。
【００２５】
上記相対移動によって画素領域ごとに掛かるノズルは、画素領域のサイズや複数のノズルの配置によって必ずしも同一とは限らない。この方法によれば、配置情報生成工程では、吐出された液滴の着弾位置ずれ、吐出量異常、吐出抜けが生ずるいずれかのノズルが画素領域に掛かった場合、少なくとも１つの当該ノズルを選択せずに、他のノズルを選択して不足分の液状体を吐出するように第１配置情報を補正した第２配置情報を生成する。液滴の吐出量異常や吐出抜けが生ずるノズルがランク付けされるので、画素領域ごとに液状体の不足を招くことなく必要量を付与することが可能な液状体の描画方法を提供することができる。
【００２６】
また、上記ノズル情報生成工程では、着弾位置ずれが相対移動の方向と相対移動の方向に直交する方向とに区分され、配置情報生成工程では、着弾位置ずれの方向に対応して、基板に対する複数のノズルの相対的な吐出位置をずらすように補正した第２配置情報を生成するとしてもよい。これによれば、着弾位置ずれが相対移動の方向と相対移動の方向に直交する方向とに区分さているため、各画素領域に対するノズルの相対的な吐出位置を着弾位置ずれの方向に対応して的確に補正することができる。
【００２７】
上記第１配置情報は、液滴を吐出するノズルごとのエネルギー発生手段の駆動条件を含み、配置情報生成工程では、吐出量異常および着弾位置ずれのうち少なくとも一方の吐出特性を有するノズルがあれば、第１配置情報における当該ノズルの駆動条件を変えた第２配置情報を生成することが好ましい。
【００２８】
液滴の吐出量や着弾位置は、エネルギー発生手段の駆動条件を変えることにより調整が可能である。これによれば、配置情報生成工程では、吐出量異常や着弾位置ずれが生ずるノズルがあれば、第１配置情報における当該ノズルの駆動条件を変えた第２配置情報を生成する。したがって、吐出不具合が生じるノズルをむやみに停止せずに、駆動条件を変えることによって本来の吐出特性あるいはそれに近づけた吐出特性を実現して画素領域ごとに必要量の液状体を付与することが可能な液状体の描画方法を提供することができる。
【００２９】
また、上記ノズル情報生成工程では、吐出量異常が液滴の着弾径の過大と過小とに区分され、配置情報生成工程では、着弾径の過大と過小とに対応して、第１配置情報における当該ノズルを駆動するエネルギー発生手段の駆動電圧を変えることが好ましい。これによれば、配置情報生成工程では、着弾径の過大と過小とに対応して、第１配置情報における当該ノズルを駆動するエネルギー発生手段の駆動電圧を変えるので、吐出量の過多、過少を補正して液状体を吐出描画することが可能な液状体の描画方法を提供することができる。
【００３０】
また、上記ノズル情報生成工程では、着弾位置ずれが少なくとも相対移動の方向におけるずれ量に応じてランク付けされ、配置情報生成工程では、ずれ量に応じて、第１配置情報における当該ノズルを駆動するエネルギー発生手段の吐出タイミングを変えることが好ましい。これによれば、配置情報生成工程では、ずれ量に応じてランク付けされたノズルの吐出タイミングを変えるので、吐出された液滴を着弾すべき画素領域内に着弾させることが可能な液状体の描画方法を提供することができる。
【００３１】
上記ずれ量が相対移動の往動と復動とに対して順方向か逆方向かにより区分されていることが好ましい。液滴の飛行曲がりが生ずる場合、曲がり方向が相対移動の往動と復動とに対して順方向か逆方向かにより着弾後のずれ量が変動する。これによれば、相対移動の往動と復動とに対して順方向か逆方向かにより区分されたずれ量に基づいて吐出タイミングを変えるので、飛行曲がりが生ずるノズルを往動と復動で使用しても、吐出された液滴を着弾すべき画素領域内に着弾させることができる。
【００３２】
また、上記ノズル情報生成工程は、複数のノズルから着弾観察用被吐出物の上に液状体を液滴として吐出し、着弾した液滴を観察して撮像することによりノズル情報を入手する着弾観察工程を含むことが好ましい。この方法によれば、着弾観察工程では、着弾観察用被吐出物の上に着弾した液滴を観察して撮像することによりノズル情報を入手するので、液滴の吐出抜けはもとより、着弾位置ずれ、吐出量異常に起因する着弾径の異常をより正確に把握することができる。
【００３３】
上記着弾観察用被吐出物が記録紙であることが好ましい。これによれば、記録紙を用いることにより、液滴が着弾する表面の界面張力などの影響を受け難く、より正確に着弾径や着弾位置ずれの情報を得ることができる。
【００３４】
さらには、上記描画工程により吐出描画された基板を観察する観察工程と、観察工程により不良な画素構成要素が検出された場合には、当該画素構成要素を有する画素領域に掛かったノズルから不良ノズルを特定する不良ノズル特定工程と、特定された不良ノズルの情報に基づいてノズル情報を更新するノズル情報更新工程と、を備えることが好ましい。複数のノズルの吐出特性は、ノズルの使用頻度、寿命などにより常に一定とは限らない。この方法によれば、観察工程では、基板の画素領域ごとに吐出描画された液状体を観察する。不良ノズル特定工程では、吐出不具合を生ずる不良ノズルを特定し、ノズル情報更新工程では、不良ノズルの情報に基づいてノズル情報が更新される。したがって、配置情報生成工程では、最新のノズル情報に基づいて第１配置情報を補正した第２配置情報を生成することができる。すなわち、安定した吐出状態が得られる液状体の描画方法を提供することができる。
【００３５】
本発明のカラーフィルタの製造方法は、基板上に区画形成された複数の画素領域に少なくとも３色の着色層を有するカラーフィルタの製造方法であって、上記発明の液状体の描画方法を用い、着色層形成材料を含む少なくとも３色の液状体を複数の画素領域に吐出描画する描画工程と、吐出描画された液状体を固化して、少なくとも３色の着色層を形成する固化工程と、を備えたことを特徴とする。
【００３６】
この方法によれば、吐出不具合を低減することができる上記発明の液状体の描画方法を用いているので、描画工程では、着色領域に必要量の液状体が付与され、固化工程では、乾燥後にほぼ一定の膜厚を有する着色層が得られる。すなわち、所望の光学特性を有すると共に、吐出不具合に起因する色ムラや混色などが少ないカラーフィルタを製造することができる。
【００３７】
本発明の有機ＥＬ素子の製造方法は、基板上に区画形成された複数の画素領域に少なくとも発光層を有する有機ＥＬ素子の製造方法であって、上記発明の液状体の描画方法を用い、発光層形成材料を含む液状体を複数の画素領域に吐出描画する描画工程と、吐出描画された液状体を固化して、発光層を形成する固化工程と、を備えたことを特徴とする。
【００３８】
この方法によれば、吐出不具合を低減することができる上記発明の液状体の描画方法を用いているので、描画工程では、発光層形成領域に必要量の液状体が付与され、固化工程では、乾燥後にほぼ一定の膜厚を有する発光層が得られる。すなわち、吐出不具合に起因する発光ムラや輝度ムラが少ない有機ＥＬ素子を製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３９】
（実施形態１）
本発明の実施形態は、基板上の複数の画素領域としての着色領域に複数色の着色層を有するカラーフィルタの製造方法を例に説明する。着色層は画素構成要素であり、複数のノズルから複数の画素領域に向けて機能性材料としての着色層形成材料を含む液状体を液滴として吐出描画して形成する。上記液状体を液滴として吐出描画する際には、次のような描画システムを用いた。
【００４０】
＜描画システム＞
図１は、描画システムの構成を示す概略図である。図１に示すように、本実施形態の描画システム１は、液状体を液滴として吐出する液滴吐出装置１０と、液滴吐出装置１０を統括的に制御する上位コンピュータ１１とを備えている。
【００４１】
上位コンピュータ１１には、液滴吐出装置１０を制御する制御プログラムや制御データなどの制御情報を入力するキーボードなどの入力部１２と、制御情報を表示可能な表示部１３と、制御情報を格納する記憶部１４とが接続されている。記憶部１４は、上位コンピュータ１１に内蔵されたハードディスクなどの記憶装置やメモリ、あるいは外付けされたサーバでもよい。
【００４２】
上位コンピュータ１１は、制御プログラムや制御データなどの制御情報を液滴吐出装置１０に送出するだけでなく、これらの制御情報を修正することもできる。また、記憶部１４には、ノズルごとの吐出状態を示すノズル情報と液状体を吐出描画する際の画素領域ごとに掛かるノズルの配置を示す第１配置情報とが格納されている。上位コンピュータ１１は、ノズル情報を参照して吐出不具合が生ずるノズルがあれば、当該ノズルの吐出特性に応じて第１配置情報を補正した第２配置情報を生成する配置情報生成部の機能を有している。また、ノズル情報を生成するノズル情報生成部としての機能を有している。詳細については後述する液状体の描画方法において説明する。
【００４３】
次に、液滴吐出装置１０について図２〜図７に基づいて説明する。図２は、液滴吐出装置の構成を示す概略斜視図である。
【００４４】
図２に示すように、液滴吐出装置１０は、ワークとしてのマザー基板Ｗを主走査方向（Ｘ軸方向）に移動させるワーク移動機構２０と、液滴吐出ヘッド５０（図３参照）を副走査方向（Ｙ軸方向）に移動させるヘッド移動機構３０とを備えている。
【００４５】
ワーク移動機構２０は、一対のガイドレール２１と、一対のガイドレール２１に沿って移動する移動台２２と、移動台２２上に回転機構としてのθテーブル６を介して配設されたマザー基板Ｗを載置するセットテーブル５とを備えている。移動台２２は、ガイドレール２１の内部に設けられたエアスライダとリニアモータ（図示せず）により主走査方向に移動する。セットテーブル５はマザー基板Ｗを吸着固定することが可能であると共に、θテーブル６によってマザー基板Ｗ内の基準軸を正確に主走査方向、副走査方向に合わせることが可能となっている。
【００４６】
ヘッド移動機構３０は、一対のガイドレール３１と、一対のガイドレール３１に沿って移動する２つの移動台３２，３３とを備えている。移動台３２には、回転機構７を介して吊設されたキャリッジ８が設けられている。キャリッジ８には、複数の液滴吐出ヘッド５０が搭載されたヘッドユニット９が取り付けられている。また、液滴吐出ヘッド５０に液状体を供給するための液状体供給機構（図示せず）と、複数の液滴吐出ヘッド５０の電気的な駆動制御を行うためのヘッドドライバ４８（図５参照）とが設けられている。移動台３２がキャリッジ８をＹ軸方向に移動させてヘッドユニット９をマザー基板Ｗに対して対向配置する。
【００４７】
移動台３３には、撮像機構としてのカメラ１５が搭載されている。カメラ１５は、移動台３３によってＹ軸方向に移動して、マザー基板Ｗの表面に着弾した液滴の着弾状態を観察して撮像することができる。必要により被写体を照明する照明装置を移動台３３に備えてもよい。
【００４８】
液滴吐出装置１０は、上記構成の他にも、ヘッドユニット９に搭載された複数の液滴吐出ヘッド５０のノズルの目詰まりの解消、ノズル面の異物や汚れの除去などのメンテナンスを行うメンテナンス機構が、複数の液滴吐出ヘッド５０を臨む位置に配設されているが図示省略した。
【００４９】
図３は液滴吐出ヘッドの構造を示す概略図である。同図（ａ）は概略分解斜視図、同図（ｂ）はノズル部の構造を示す断面図である。図３（ａ）および（ｂ）に示すように、液滴吐出ヘッド５０は、液滴Ｄが吐出される複数のノズル５２を有するノズルプレート５１と、複数のノズル５２がそれぞれ連通するキャビティ５５を区画する隔壁５４を有するキャビティプレート５３と、各キャビティ５５に対応するエネルギー発生手段としての振動子５９を有する振動板５８とが、順に積層され接合された構造となっている。
【００５０】
キャビティプレート５３は、ノズル５２に連通するキャビティ５５を区画する隔壁５４を有すると共に、このキャビティ５５に液状体を充填するための流路５６，５７を有している。流路５７は、ノズルプレート５１と振動板５８とによって挟まれ、出来上がった空間が、液状体が貯留されるリザーバの役目を果たす。
【００５１】
液状体は、液状体供給機構から配管を通じて供給され、振動板５８に設けられた供給孔５８ａを通じてリザーバに貯留された後に、流路５６を通じて各キャビティ５５に充填される。
【００５２】
図３（ｂ）に示すように、振動子５９は、ピエゾ素子５９ｃと、ピエゾ素子５９ｃを挟む一対の電極５９ａ，５９ｂとからなる圧電素子である。外部から一対の電極５９ａ，５９ｂに駆動電圧パルスが印加されることにより接合された振動板５８を変形させる。これにより隔壁５４で仕切られたキャビティ５５の体積が増加して、液状体がリザーバからキャビティ５５に吸引される。そして、駆動電圧パルスの印加が終了すると、振動板５８は元に戻り充填された液状体を加圧する。これにより、ノズル５２から液状体を液滴Ｄとして吐出できる構造となっている。ピエゾ素子５９ｃへ印加される駆動電圧パルスを制御することにより、それぞれのノズル５２に対して液状体の吐出制御を行うことができる。
【００５３】
液滴吐出ヘッド５０は、圧電素子（ピエゾ素子）を備えたものに限らない。振動板５８を静電吸着により変位させる電気機械変換素子を備えたものや、液状体を加熱してノズル５２から液滴Ｄとして吐出させる電気熱変換素子を備えたものでもよい。
【００５４】
図４は、ヘッドユニットにおける液滴吐出ヘッドの配置を示す概略平面図である。詳しくは、セットテーブル５に対向する側から見た図である。
【００５５】
図４に示すように、ヘッドユニット９は、複数の液滴吐出ヘッド５０が配設されるヘッドプレート９ａを備えている。ヘッドプレート９ａには、３つの液滴吐出ヘッド５０からなるヘッド群５０Ａと、同じく３つの液滴吐出ヘッド５０からなるヘッド群５０Ｂの合計６個の液滴吐出ヘッド５０が搭載されている。この場合、ヘッド群５０ＡのヘッドＲ１（液滴吐出ヘッド５０）とヘッド群５０ＢのヘッドＲ２（液滴吐出ヘッド５０）とは同種の液状体を吐出する。他のヘッドＧ１とヘッドＧ２、ヘッドＢ１とヘッドＢ２においても同様である。すなわち、３種の異なる液状体を吐出可能な構成となっている。
【００５６】
各液滴吐出ヘッド５０は、ほぼ等しい間隔（およそ１４０μｍのノズルピッチ）で配設された複数（１８０個）のノズル５２からなるノズル列５２ａを有している。ノズル５２の径はおよそ２０μｍである。１つの液滴吐出ヘッド５０によって描画可能な描画幅をＬ0とし、これをノズル列５２ａの有効長とする。以降、ノズル列５２ａとは、１８０個のノズル５２から構成されるものを指す。
【００５７】
この場合、ヘッドＲ１とヘッドＲ２は、主走査方向（Ｘ軸方向）から見て隣り合うノズル列５２ａ（ノズル列１Ａとノズル列１Ｂ）が主走査方向と直交する副走査方向（Ｙ軸方向）に１ノズルピッチを置いて連続するように主走査方向に並列して配設されている。したがって、同種の液状体を吐出するヘッドＲ１とヘッドＲ２の有効な描画幅Ｌ1は、描画幅Ｌ0の２倍となっている。ヘッドＧ１とヘッドＧ２、ヘッドＢ１とヘッドＢ２においても同様に主走査方向に並列して配置されている。
【００５８】
なお、液滴吐出ヘッド５０に設けられるノズル列５２ａは、１列に限らない。例えば、複数のノズル列５２ａを互いにずらして配設すれば実質的なノズルピッチが狭くなり、高精細に液滴Ｄを吐出することが可能となる。
【００５９】
次に液滴吐出装置１０の制御系について説明する。図５は、液滴吐出装置の制御系を示すブロック図である。液滴吐出装置１０の制御系は、液滴吐出ヘッド５０、ワーク移動機構２０、ヘッド移動機構３０等を駆動する各種ドライバを有する駆動部４６と、駆動部４６を含め液滴吐出装置１０を制御する制御部４とを備えている。また、カメラ１５が接続された画像処理部４９を備えている。
【００６０】
駆動部４６は、ワーク移動機構２０およびヘッド移動機構３０の各リニアモータをそれぞれ駆動制御する移動用ドライバ４７と、液滴吐出ヘッド５０を吐出制御するヘッドドライバ４８と、メンテナンス機構の各メンテ用ユニットを駆動制御するメンテナンス用ドライバ（図示省略）とを備えている。
【００６１】
制御部４は、ＣＰＵ４１と、ＲＯＭ４２と、ＲＡＭ４３と、Ｐ−ＣＯＮ４４とを備え、これらは互いにバス４５を介して接続されている。Ｐ−ＣＯＮ４４には、上位コンピュータ１１が接続されている。ＲＯＭ４２は、ＣＰＵ４１で処理する制御プログラム等を記憶する制御プログラム領域と、描画動作や機能回復処理等を行うための制御データ等を記憶する制御データ領域とを有している。
【００６２】
ＲＡＭ４３は、マザー基板Ｗに描画を行うための描画データを記憶する描画データ記憶部、マザー基板Ｗおよび液滴吐出ヘッド５０（実際には、ノズル列５２ａ）の位置データを記憶する位置データ記憶部等の各種記憶部を有し、制御処理のための各種作業領域として使用される。Ｐ−ＣＯＮ４４には、駆動部４６の各種ドライバ等や画像処理部４９が接続されており、ＣＰＵ４１の機能を補うと共に、周辺回路とのインタフェース信号を取り扱うための論理回路が構成されて組み込まれている。このため、Ｐ−ＣＯＮ４４は、上位コンピュータ１１からの各種指令等をそのままあるいは加工してバス４５に取り込むと共に、ＣＰＵ４１と連動して、ＣＰＵ４１等からバス４５に出力されたデータや制御信号を、そのままあるいは加工して駆動部４６に出力する。
【００６３】
そして、ＣＰＵ４１は、ＲＯＭ４２内の制御プログラムに従って、Ｐ−ＣＯＮ４４を介して各種検出信号、各種指令、各種データ等を入力し、ＲＡＭ４３内の各種データ等を処理した後、Ｐ−ＣＯＮ４４を介して駆動部４６等に各種の制御信号を出力することにより、液滴吐出装置１０全体を制御している。例えば、ＣＰＵ４１は、液滴吐出ヘッド５０、ワーク移動機構２０およびヘッド移動機構３０を制御して、液滴吐出ヘッド５０とマザー基板Ｗとを対向配置させ、液滴吐出ヘッド５０とマザー基板Ｗとの相対移動に同期して、各液滴吐出ヘッド５０の複数のノズル５２からマザー基板Ｗに液状体を液滴Ｄとして吐出して描画を行う。この場合、Ｘ軸方向へのマザー基板Ｗの移動に同期して液状体を吐出することを主走査と呼び、Ｙ軸方向に複数の液滴吐出ヘッド５０が搭載されたヘッドユニット９を移動させることを副走査と呼ぶ。本実施形態の液滴吐出装置１０は、主走査と副走査とを組み合わせて複数回繰り返すことにより液状体を吐出描画することができる。主走査は、液滴吐出ヘッド５０に対して一方向へのマザー基板Ｗの移動に限らず、マザー基板Ｗを往復させて行うこともできる。
【００６４】
また、ＣＰＵ４１は、ヘッド移動機構３０を駆動して移動台３３をＹ軸方向に移動させ、搭載されたカメラ１５をマザー基板Ｗと対向させる。そして、マザー基板Ｗの表面に着弾した液滴Ｄの状態を観察すると共に撮像する。マザー基板Ｗに対してカメラ１５を移動して観察する位置情報は、上位コンピュータ１１により生成され観察座標として予めＲＡＭ４３に入力されている。画像処理部４９はＰ−ＣＯＮ４４を介して上位コンピュータ１１と接続されている。上位コンピュータ１１は、カメラ１５が撮像し画像処理部４９によって変換された画像情報を表示部１３に表示することができ、オペレータは、液滴Ｄの着弾状態を確認することができる。
【００６５】
画像処理部４９は、撮像された液滴Ｄの着弾状態をビットマップデータに変換する。ＣＰＵ４１は、このビットマップデータから液滴Ｄの着弾位置ずれ量や着弾径を演算することができる。演算結果は、ＲＡＭ４３に書き込まれる。またほぼ同時にノズル情報として上位コンピュータ１１に送出され記憶部１４に格納される。ノズル５２が目詰まりを起こし、液滴Ｄが吐出されなかった場合も同様に画像認識され、ノズル情報として記憶部１４に格納される。詳細については後述する液状体の描画方法において説明する。
【００６６】
次に、図６、図７を参照して、液滴吐出ヘッドの吐出制御方法について説明する。図６は吐出制御の詳細を示すブロック図である。図６に示すように、制御部４は、ＣＰＵ４１、ＲＯＭ４２、ＲＡＭ４３、Ｐ−ＣＯＮ４４、バス４５の他に、駆動信号（ＣＯＭ）を生成する駆動信号生成回路７１と、クロック信号（ＣＫ）を生成する発信回路７２とを備えている。ヘッドドライバ４８は、シフトレジスタ７３と、ラッチ回路７４と、レベルシフタ７５と、スイッチ７６とを備え、液滴吐出ヘッド５０の各ノズル５２に対応する振動子５９に選択的に駆動信号（ＣＯＭ）を印加できるように構成されている。
【００６７】
上位コンピュータ１１は、描画対象面における液滴Ｄの配置をノズル５２の配置情報（第１配置情報および第２配置情報を含む）として表した制御データを制御部４に伝送する。配置情報は、マザー基板Ｗに対する複数のノズル５２の相対的な吐出位置、液滴Ｄを吐出するノズル５２の選択、液滴Ｄの吐出回数、液滴Ｄを吐出する際の駆動条件を含むものである。そして制御部４は、これらの制御データに基づいて、ノズルデータ信号（ＳＩ）や駆動信号（ＣＯＭ）を、ノズル列単位ごとに次のように生成する。
【００６８】
すなわち、ＣＰＵ４１は、制御データをデコードしてノズルごとのＯＮ／ＯＦＦ情報を含むノズルデータを生成する。また、駆動信号生成回路７１は、ＣＰＵ４１が算出したノズルデータに基づいて駆動信号（ＣＯＭ）の設定および生成を行う。
【００６９】
ノズルデータをシリアル信号化したノズルデータ信号（ＳＩ）は、クロック信号（ＣＫ）に同期してシフトレジスタ７３に伝送され、ノズル５２ごとのＯＮ／ＯＦＦ情報がそれぞれ記憶される。そして、ＣＰＵ４１で生成されたラッチ信号（ＬＡＴ）が各ラッチ回路７４に入力されることで、ノズルデータがラッチされる。ラッチされたノズルデータはレベルシフタ７５によって増幅され、ノズルデータが「ＯＮ」の場合には所定の電圧がスイッチ７６に供給される。また、ノズルデータが「ＯＦＦ」の場合には、スイッチ７６への電圧供給は行われない。
【００７０】
かくして、レベルシフタ７５で昇圧された電圧がスイッチ７６に供給されている間は、振動子５９に駆動信号（ＣＯＭ）が印加され、液滴Ｄがノズル５２から吐出される（図３参照）。
【００７１】
このような吐出制御は、ヘッドユニット９とマザー基板Ｗとの相対移動（主走査）に同期して、図７に示すように周期的に行われる。
【００７２】
図７は吐出制御の制御信号を示す図である。図７に示すように、駆動信号（ＣＯＭ）は、放電パルス２０１、充電パルス２０２、放電パルス２０３を有する一連のパルス群２００−１，２００−２…が中間電位２０４で接続された構成となっている。そして、一つのパルス群によって、次のように一つの液滴Ｄを吐出するようになっている。
【００７３】
すなわち、放電パルス２０１によって、電位レベルを上昇させると共に液状体をキャビティ５５（図３（ｂ）参照）内に引き込む。次に、急峻な充電パルス２０２によって、キャビティ５５内の液状体を急激に加圧し、液状体をノズル５２から押し出して液滴化する（吐出）。最後に放電パルス２０３によって、降下した電位レベルを中間電位２０４に戻すと共に、充電パルス２０２によって生じたキャビティ５５内の圧力振動（固有振動）を打ち消す。
【００７４】
駆動信号（ＣＯＭ）における電圧成分Ｖｃ，Ｖｈや時間成分（パルスの傾きやパルス間の接続間隔など）などは、吐出量や吐出安定性などに大きく関わっているパラメータであり、予め適切な設計を要するものである。この場合、ラッチ信号（ＬＡＴ）の周期は、液滴吐出ヘッド５０の固有周波数特性を考慮して２０ｋＨｚに設定されている。また、主走査における液滴吐出ヘッド５０とマザー基板Ｗとの相対移動速度（この場合、セットテーブル５をＸ軸方向に移動させる移動速度）が２００ｍｍ／秒に設定されている。したがって、吐出分解能が相対移動速度をラッチ周期で除したものとすれば、吐出分解能の単位が１０μｍとなる。すなわち、吐出分解能の単位でノズル５２ごとに吐出タイミングを設定することが可能である。言い換えればマザー基板Ｗの表面に１０μｍ単位の吐出間隔で液滴Ｄを配置することができる。なお、ラッチパルスの発生タイミングを移動台２２に備えられたエンコーダ（図示省略）が出力するパルスを基準とすれば、移動分解能の単位で吐出タイミングを制御することも可能である。
【００７５】
液滴吐出装置１０によれば、液滴吐出ヘッド５０のノズル５２ごとに、吐出量、吐出タイミングを変えて液状体を液滴Ｄとして吐出することが可能である。例えば、メンテナンス機構により液滴吐出ヘッド５０をメンテナンスしても回復しない飛行曲がりが生ずるノズル５２がある場合、当該ノズル５２に対する吐出制御の方法を変えることにより、飛行曲がりによる着弾位置のずれを補正することが可能である。
【００７６】
また、ノズル情報に吐出特性として目詰まりによる吐出抜け、着弾位置ずれ、吐出量異常が生ずるノズル５２が含まれる場合、上位コンピュータ１１は、これら吐出不具合が生じる不良ノズルを選択せずに、他の正常なノズルを選択して液状体を吐出するように第１配置情報を補正した第２配置情報を生成することができる。
【００７７】
ゆえに、このような描画システム１は、ヘッド移動機構３０によりヘッドユニット９をマザー基板Ｗと対向させ、ワーク移動機構２０による主走査に同期して、ヘッドユニット９に備えられた合計６個の液滴吐出ヘッド５０から必要量の液状体を液滴Ｄとして高い位置精度で吐出することが可能である。
【００７８】
次に、本実施形態の描画システム１を用いたカラーフィルタの製造方法について説明する。まず、カラーフィルタを有する電気光学装置としての液晶表示装置について簡単に説明する。図８は、液晶表示装置の構造を示す概略分解斜視図である。
【００７９】
図８に示すように、液晶表示装置５００は、ＴＦＴ（Thin  Film  Transistor）透過型の液晶表示パネル５２０と、液晶表示パネル５２０を照明する照明装置５１６とを備えている。液晶表示パネル５２０は、着色層を有するカラーフィルタ５０５を具備する対向基板５０１と、画素電極５１０に３端子のうちの１つが接続されたＴＦＴ素子５１１を有する素子基板５０８と、対向基板５０１と素子基板５０８とによって挟持された液晶（図示省略）とを備えている。また、液晶表示パネル５２０の外面側となる対向基板５０１と素子基板５０８の表面には、透過する光を偏向させる上偏光板５１４と下偏光板５１５とが配設される。
【００８０】
対向基板５０１は、透明なガラス等の材料からなり、液晶を挟む表面側に複数の画素領域としての着色領域をマトリクス状に区画する隔壁部としてのバンク５０４と、区画された複数の着色領域にＲＧＢ３色の着色層５０５Ｒ，５０５Ｇ，５０５Ｂとを備えている。バンク５０４は、Ｃｒなどの遮光性を有する金属あるいはその酸化膜からなるブラックマトリクスと呼ばれる下層バンク５０２と、下層バンク５０２の上（図面では下向き）に形成された有機化合物からなる上層バンク５０３とにより構成されている。また対向基板５０１は、バンク５０４とバンク５０４によって区画された着色層５０５Ｒ，５０５Ｇ，５０５Ｂとを覆う平坦化層としてのオーバーコート層（ＯＣ層）５０６と、ＯＣ層５０６を覆うように形成されたＩＴＯ（Indium  Tin  Oxide）などの透明導電膜からなる対向電極５０７とを備えている。カラーフィルタ５０５は後述するカラーフィルタの製造方法を用いて製造されている。
【００８１】
素子基板５０８は、同じく透明なガラス等の材料からなり、液晶を挟む表面側に絶縁膜５０９を介してマトリクス状に形成された画素電極５１０と、各画素電極５１０に対応して形成された複数のＴＦＴ素子５１１とを備えている。ＴＦＴ素子５１１の３端子のうち、画素電極５１０に接続されない他の２端子は、互いに絶縁された状態で画素電極５１０を囲むように格子状に配設された走査線５１２とデータ線５１３とに接続されている。
【００８２】
照明装置５１６は、光源として白色のＬＥＤ、ＥＬ、冷陰極管等を用い、これらの光源からの光を液晶表示パネル５２０に向かって出射することができる導光板や拡散板、反射板等の構成を備えたものであれば、どのようなものでもよい。
【００８３】
なお、液晶を挟む対向基板５０１と素子基板５０８の表面には、液晶の分子を一の方向に配列させるための配向膜がそれぞれ形成されているが、図示省略した。また、上偏光板５１４と下偏光板５１５は、視角依存性を改善する目的等で用いられる位相差フィルムなどの光学機能性フィルムと組み合わされたものでもよい。液晶表示パネル５２０は、アクティブ素子としてＴＦＴ素子に限らずＴＦＤ（Thin  Film  Diode）素子を有したものでもよく、さらには、少なくとも一方の基板にカラーフィルタを備えるものであれば、画素を構成する電極が互いに交差するように配置されるパッシブ型の液晶表示装置でもよい。
【００８４】
上記液晶表示装置５００は、カラーフィルタ５０５を備えた対向基板５０１がマトリクス状に複数区画形成されたマザー基板Ｗと、同じく素子基板５０８がマトリクス状に複数区画形成されたマザー基板とが液晶を挟んで接合された構造体を所定の位置で切断して取り出すことにより製造される。
【００８５】
＜カラーフィルタの製造方法＞
図９（ａ）〜（ｅ）は、カラーフィルタの製造工程を示す概略断面図である。上記のような３色の着色層５０５Ｒ，５０５Ｇ，５０５Ｂを有するカラーフィルタ５０５の製造方法は、対向基板５０１の表面にバンク５０４を形成する工程と、バンク５０４によって区画された着色領域Ａを表面処理する工程とを備えている。また、描画システム１を用いて表面処理された着色領域Ａに着色層形成材料を含む３種（３色）の液状体を液滴Ｄとして吐出する描画工程と、描画された液状体を乾燥して着色層５０５Ｒ，５０５Ｇ，５０５Ｂを形成する固化工程としての成膜工程とを備えている。さらにバンク５０４と着色層５０５Ｒ，５０５Ｇ，５０５Ｂとを覆うようにＯＣ層５０６を形成する工程と、ＯＣ層５０６を覆うようにＩＴＯからなる透明な対向電極５０７を形成する工程とを備えている。
【００８６】
バンク５０４を形成する工程では、図９（ａ）に示すように、まずブラックマトリクスとしての下層バンク５０２を対向基板５０１上に形成する。下層バンク５０２の材料は、例えば、Ｃｒ、Ｎｉ、Ａｌ等の不透明な金属、あるいはこれらの金属の酸化物等の化合物を用いることができる。下層バンク５０２の形成方法としては、蒸着法あるいはスパッタ法で上記材料からなる膜を対向基板５０１上に成膜する。膜厚は、遮光性が保たれる膜厚を選定された材料に応じて設定すればよい。例えば、Ｃｒならば、１００〜２００ｎｍが好ましい。そして、フォトリソグラフィ法により開口部５０２ａ（図８参照）に対応する部分以外の膜表面をレジストで覆い、上記材料に対応する酸等のエッチング液を用いて膜をエッチングする。これにより開口部５０２ａを有する下層バンク５０２が形成される。
【００８７】
次に上層バンク５０３を下層バンク５０２の上に形成する。上層バンク５０３の材料としては、アクリル系の感光性樹脂材料を用いることができる。また、感光性樹脂材料は、遮光性を有することが好ましい。上層バンク５０３の形成方法としては、例えば、下層バンク５０２が形成された対向基板５０１の表面に感光性樹脂材料をロールコート法やスピンコート法で塗布し、乾燥させて厚みがおよそ２μｍの感光性樹脂層を形成する。そして、着色領域Ａに対応した大きさで開口部が設けられたマスクを対向基板５０１と所定の位置で対向させて露光・現像することにより、上層バンク５０３を形成する方法が挙げられる。これにより対向基板５０１上に複数の着色領域Ａをマトリクス状に区画するバンク５０４が形成される。そして表面処理工程へ進む。
【００８８】
表面処理工程では、Ｏ2を処理ガスとするプラズマ処理とフッソ系ガスを処理ガスとするプラズマ処理とを行う。すなわち、着色領域Ａが親液処理され、その後感光性樹脂からなる上層バンク５０３の表面（壁面を含む）が撥液処理される。そして、描画工程へ進む。
【００８９】
描画工程では、図９（ｂ）に示すように、表面処理された各着色領域Ａのそれぞれに、対応する液状体８０Ｒ，８０Ｇ，８０Ｂを液滴Ｄとして吐出する。液状体８０ＲはＲ（赤色）の着色層形成材料を含むものであり、液状体８０ＧはＧ（緑色）の着色層形成材料を含むものであり、液状体８０ＢはＢ（青色）の着色層形成材料を含むものである。液滴吐出装置１０の液滴吐出ヘッド５０に各液状体８０Ｒ，８０Ｇ，８０Ｂを充填する。そして、ノズル５２の配置情報に基づいてヘッドユニット９とマザー基板Ｗとを相対移動させ、各液滴吐出ヘッド５０から各液状体８０Ｒ，８０Ｇ，８０Ｂを着色領域Ａに向けて吐出する主走査を行う。各液状体８０Ｒ，８０Ｇ，８０Ｂは、後述する液状体の描画方法を用いて吐出されるので、着色領域Ａの面積に応じて必要量が付与される。
【００９０】
次に成膜工程では、図９（ｃ）に示すように、吐出描画された各液状体８０Ｒ，８０Ｇ，８０Ｂを一括乾燥し、溶剤成分を除去して各着色層５０５Ｒ，５０５Ｇ，５０５Ｂを成膜する。乾燥方法としては、溶剤成分を均質に乾燥可能な減圧乾燥などの方法が望ましい。そして、ＯＣ層形成工程へ進む。
【００９１】
ＯＣ層形成工程では、図９（ｄ）に示すように、着色層５０５Ｒ，５０５Ｇ，５０５Ｂと上層バンク５０３とを覆うようにＯＣ層５０６を形成する。ＯＣ層５０６の材料としては、透明なアクリル系樹脂材料を用いることができる。形成方法としては、スピンコート法、オフセット印刷などの方法が挙げられる。ＯＣ層５０６は、着色層５０５Ｒ，５０５Ｇ，５０５Ｂが形成された対向基板５０１の表面の凹凸を緩和して、後にこの表面に膜付けされる対向電極５０７を平担化するために設けられている。また、対向電極５０７との密着性を確保するために、ＯＣ層５０６の上にさらにＳｉＯ2などの薄膜を形成してもよい。そして、透明電極形成工程へ進む。
【００９２】
透明電極形成工程では、図９（ｅ）に示すように、スパッタ法や蒸着法を用いてＩＴＯなどの透明電極材料を真空中で成膜して、ＯＣ層５０６を覆うように全面に対向電極５０７を形成する。
【００９３】
上記描画工程では、描画システム１を用いて、３種の異なる液状体８０Ｒ，８０Ｇ，８０Ｂをほぼ同時に吐出描画する。このような描画方法においては、必要量の液状体を対応する着色領域Ａに安定的に吐出することが求められる。例えば、ノズル５２の目詰まりや吐出される液滴Ｄの吐出量が変動すると着色領域Ａにおいて吐出ムラとなる。ノズル５２から吐出された液滴Ｄが飛行曲がりによって本来着弾すべき着色領域Ａに着弾せず、他の異なる液状体が付与されるべき着色領域Ａに着弾すると、異種の液状体同士が混じり合って所謂混色が発生する。これらの吐出不具合はカラーフィルタ５０５の製造における歩留りに影響する。また、液晶表示装置５００においては、吐出ムラや混色となった着色層５０５Ｒ，５０５Ｇ，５０５Ｂを有する画素は色ムラなどの不良画素となる。よって、これらの吐出不具合の発生を極力防止しなくてはならない。
【００９４】
ヘッドユニット９には、同種（同色）の液状体が充填された液滴吐出ヘッド５０が２個ずつ配置され、合計３６０個のノズル５２から同種の液状体の液滴Ｄが吐出される。液滴Ｄの吐出不具合が発生するごとに、メンテナンス機構によって各液滴吐出ヘッド５０のメンテナンスを実施していたのでは、マザー基板Ｗの流動が停止してカラーフィルタ５０５の製造における生産性を向上させることが難しい。本発明の液状体の描画方法は、このような課題を考慮してなされた。
【００９５】
＜液状体の描画方法＞
次に、本実施形態の液状体の描画方法について図１０〜図１５に基づいて説明する。図１０は、液状体の描画方法を示すフローチャートである。
【００９６】
図１０に示すように、本実施形態の液状体の描画方法は、着弾観察用被吐出物の上に着弾した液滴Ｄを観察する着弾観察工程としての着弾状態検査工程（ステップＳ１）と、着弾状態検査工程で得られたノズル情報を記憶部１４に書き込む工程（ステップＳ２）とを備えている。ノズル情報に吐出不具合が生ずるノズル５２（不良ノズル）があればこれに対応する画素リスト（着色領域Ａリスト）を生成する工程（ステップＳ３）と、不良ノズルをランク付けしたノズルリストを生成する工程（ステップＳ４）とを備えている。ノズルリストを参照して第１補正作業を適用する不良ノズルがあるか否か判定する工程（ステップＳ５）と、適用する不良ノズルがある場合に第１補正作業を行う工程（ステップＳ６）とを備えている。同じくノズルリストを参照して第２補正作業を適用する不良ノズルがあるか否か判定する工程（ステップＳ７）と、適用する不良ノズルがある場合に第２補正作業を行う工程（ステップＳ８）とを備えている。なお、第１補正作業および第２補正作業は、不良ノズルの吐出特性に応じて第１配置情報を補正する作業である。液状体の吐出描画を行う前に適切なノズル５２の配置情報を選択する工程（ステップＳ９）と、選択された配置情報に基づいて液状体の吐出描画を行う描画工程（ステップＳ１０）とを備えている。吐出描画されたマザー基板Ｗを観察する観察工程（ステップＳ１１）と、観察工程により不良画素があるか否か判定する工程（ステップＳ１２）とを備えている。
【００９７】
図１１（ａ）〜（ｄ）は着弾状態検査工程を説明する概略図である。図１０の着弾状態検査工程（ステップＳ１）では、図１１（ａ）に示すように、液滴吐出装置１０のセットテーブル５（図２参照）に着弾観察用被吐出物として記録紙１８を載置する。各液滴吐出ヘッド５０のノズル５２から同種（同色）の液滴ＤがＹ軸方向において仮想の直線上に着弾するように吐出する。具体的には、制御部４がヘッドユニット９とセットテーブル５とを相対移動させ、主走査方向（Ｘ軸方向）において、各ノズル列５２ａの吐出タイミングを変えることにより直線上に着弾させる。そして、カメラ１５を用いて記録紙１８上に着弾した液滴Ｄの着弾状態を観察する。例えば、赤色（Ｒ）の液状体８０Ｒを吐出するノズル列１Ａとノズル列１Ｂとから液滴Ｄを吐出して吐出状態に不具合がなければ、液滴Ｄは直線上に着弾する。また、液滴Ｄの吐出量が各ノズル５２においてほぼ同等ならば、着弾した各液滴Ｄの着弾径はほぼ同一となる。
【００９８】
図１１（ｂ）に示すように、例えば、ノズル列１Ａのあるノズル５２が目詰まりしていれば、液滴Ｄが吐出されない。すなわち、記録紙１８上において隙間が空いて液滴Ｄが着弾するので、吐出抜けが生ずるノズル５２（以降、吐出抜けノズルという）を検出（特定）することができる。
【００９９】
図１１（ｃ）に示すように、例えば、ノズル列１Ａとノズル列１Ｂとにおいて、主走査方向に飛行曲がりが生ずるノズル５２があれば、吐出された液滴Ｄが直線上からずれた位置に着弾する。このような着弾状態を撮像して画像処理することにより、ＣＰＵ４１がずれ量ΔＸ１，ΔＸ２を演算して着弾位置ずれが生ずるノズル５２（以降、着弾位置ずれノズルという）を検出（特定）することができる。当然のことながら着弾位置がＸ軸方向（主走査方向）に限らず斜めにずれることがある。よって、ずれ量は、Ｘ軸方向のずれ量とＹ軸方向のずれ量とに分けて算出される。また、飛行曲がりが生ずるノズル５２から吐出された液滴Ｄの着弾位置ずれは、液滴吐出ヘッド５０（複数のノズル５２）と被吐出物との相対移動の方向によってもずれ量が変化する。したがって、液滴吐出ヘッド５０が搭載されたヘッドユニット９に対して記録紙１８を主走査方向に往復させ、往動と復動とに分けて別の仮想直線上に液滴Ｄが着弾するように吐出して着弾状態を観察する。
【０１００】
図１１（ｄ）に示すように、例えば、ノズル列１Ａにおいて吐出量が過多なノズル５２があれば、着弾径Ｄ１が過大となる。ノズル列１Ｂにおいて吐出量が過少なノズル５２があれば、着弾径Ｄ２が過小となる。このような着弾状態を撮像して画像処理することにより、吐出量異常が生ずるノズル５２（以降、吐出量異常ノズルという）を検出（特定）することができる。そして、ステップＳ２へ進む。
【０１０１】
図１０のステップＳ２では、上位コンピュータ１１がステップＳ１で得られた不良ノズルとしての吐出抜けノズル、着弾位置ずれノズル、吐出量異常ノズルの情報をノズル情報として記憶部１４に書き込む。
【０１０２】
図１２は、ノズル情報の一例を示す表である。図１２に示すように、ノズル情報は、各ノズル５２に対して、吐出特性としての吐出抜け、着弾位置ずれ、着弾径の情報を含んでいる。この場合、吐出抜けの有無は、「１」が有、「０」が無として入力する。よって、ノズルＮｏが「Ｎ２」のノズル５２が吐出抜けになることを示している。
【０１０３】
着弾径は、所定の吐出量で液滴Ｄが吐出された場合を標準とし、これに対して過大と過小の２レベルに分けている。これは、吐出量を変化させる振動子５９の駆動電圧の設定レベルにリンクさせたものである。該当する場合を「１」とし、非該当の場合を「０」としている。いずれも「０」の場合は、標準の着弾径を示す。着弾径が過小よりもさらに小さい場合は、吐出抜けとして判断する。着弾径の過大、過小の設定は、液滴Ｄの標準吐出量がどのくらいか、また画素領域（着色領域Ａ）に液滴Ｄをいくつ吐出すれば必要量となるのかによって、液状体の必要量に及ぼす１滴あたりの吐出量の変動を考慮して設定する。したがって、過大と過小の２レベルに限らず、さらに設定レベルを増減させることも可能である。この場合は、ノズルＮｏの「Ｎ４」が過小であり、ノズルＮｏが「Ｎ５」が過大であることを示している。
【０１０４】
着弾位置ずれは、Ｘ軸方向（主走査方向）とＹ軸方向（副走査方向）のずれに区分されると共に、走査の方向に対して同方向にずれる場合を「＋」、反対方向にずれる場合を「−」として吐出分解能の単位（１０μｍ）でずれ量を入力する。この場合、ノズルＮｏが「Ｎ３」のノズル５２は、吐出された液滴Ｄが主走査方向に４０μｍずれて着弾することを示している。ノズルＮｏが「Ｎ６」のノズル５２は、吐出された液滴Ｄが主走査方向と反対方向に２０μｍずれて着弾することを示している。そして、ステップＳ３へ進む。
【０１０５】
図１０のステップＳ３では、上位コンピュータ１１が記憶部１４に格納されたノズル情報と第１配置情報とに基づいて、主走査によって不良ノズルが掛かる画素リスト（言い換えれば着色領域Ａのリスト）を生成する。画素リストの生成について図１３および図１４に基づいて説明する。
【０１０６】
図１３は、画素領域における液滴の配置の一例を示す概略平面図である。詳しくは、同図（ａ）は主走査における往動時の液滴の配置を示し、同図（ｂ）は主走査における復動時の液滴の配置を示す概略平面図である。
【０１０７】
図１３（ａ）に示すように、例えば、ヘッドユニット９とマザー基板Ｗとを主走査方向（Ｘ軸方向）に相対移動させる間に液滴Ｄを吐出し、バンク５０４により区画された画素領域としての着色領域Ａに配置する。この場合、往動時には、赤色（Ｒ）の液状体８０Ｒを吐出するノズル列１ＡのノズルＮ１〜ノズルＮ３が掛かる着色領域Ａには、それぞれ３回の吐出を行って、９滴の液滴Ｄを配置する。ノズルＮ４〜Ｎ６においても同様である。また、図１３（ｂ）に示すように、復動時には、先に配置した液滴Ｄの間に着弾するようにヘッドユニット９を副走査してノズル列１Ａの位置をずらし、着色領域Ａに掛かるノズルＮ１とノズルＮ２からそれぞれ３回吐出を行って、さらに６滴の液滴Ｄを配置する。これにより、着色領域Ａには２回の主走査を行って合計１５滴の液滴Ｄを配置する。他の異なる色（Ｇ，Ｂ）の着色領域Ａにおいても同様である。着色領域Ａに掛かるノズル５２の数は、当然ながら着色領域Ａの大きさとマザー基板Ｗ上における配置、ノズル５２のノズルピッチやノズル列５２ａの着色領域Ａに対する相対位置によって異なる。
【０１０８】
図１３（ａ）および（ｂ）は、液滴Ｄの配置を示すものであり、実際の着弾状態を示すものではない。言い換えれば、主走査の往動と復動とにおける着色領域Ａごとに掛かるノズル５２の配置を示すものである。
【０１０９】
図１４は、ノズルの配置情報とノズルリストを示す表である。詳しくは同図（ａ）は第１配置情報を示す表、同図（ｂ）はノズルリストを示す表、同図（ｃ）は補正された第２配置情報を示す表である。
【０１１０】
図１３（ａ）および（ｂ）に示した液滴Ｄの配置は、図１４（ａ）に示した第１配置情報に基づいている。第１配置情報は、着色領域Ａの画素Ｎｏ、ノズルＮｏ、ノズル選択（「１」選択、「０」非選択）、吐出回数、駆動電圧、吐出タイミングの情報を有している。また、これらは往動の走査１と復動の走査２とに分かれている。このような第１配置情報は、液状体８０Ｒ，８０Ｇ，８０Ｂごと、すなわち色ごとに予め作成される。駆動電圧は、図７に示したＶｃ，Ｖｈの電圧設定が標準の場合を「１」とした。電圧設定を変えることにより液滴Ｄの吐出量が変化するので、異なる電圧設定のレベルを他の数値にリンクさせておく。吐出タイミングは、標準を同じく「１」とし、早くする場合と遅くする場合とに分けた異なる吐出タイミングの設定を他の数値としてリンクさせておく。
【０１１１】
例えば、画素Ｎｏが「１Ｒ」の着色領域Ａに掛かるノズルＮｏが「Ｎ３」のノズル５２は、往動の走査１では選択されて、３回の吐出を標準の駆動電圧と吐出タイミングで行う。復動の走査２では、図１３（ｂ）に示すように「Ｎ３」のノズル５２がバンク５０４に掛かるので選択しない。同様に画素Ｎｏが「２Ｒ」の着色領域Ａに掛かるノズルＮｏが「Ｎ６」のノズル５２は、往動の走査１では選択されて、３回の吐出を標準の駆動電圧と吐出タイミングで行う。復動の走査２では、バンク５０４に掛かるので選択しない。
【０１１２】
このような第１配置情報は、複数のノズル５２の吐出特性が正常であることを前提としている。したがって、図１２に示すような吐出特性を有する場合、予め第１配置情報を補正（修正）して実際の吐出描画を行うほうが、メンテナンス機構により複数のノズル５２の回復を行うよりも効率的である。よって、上位コンピュータ１１は、主走査によって着色領域Ａごとに掛かるノズル５２の配置を示す第１配置情報と図１２に示した吐出不具合が生ずるノズル５２（不良ノズル）の情報を基に、不良ノズルが掛かる着色領域Ａ（画素）のリストを生成する。そして、ステップＳ４へ進む。
【０１１３】
図１０のステップＳ４では、不良ノズルが掛かる着色領域Ａにおいて、不良ノズルをランク付けする。この場合、図１４（ｂ）に示すように、吐出抜けノズルが最も高くランク１、続いて吐出量異常ノズルがランク２、着弾位置ずれノズルがずれ量に応じてランク３とランク４に位置付けした。具体的なランク付けの方法としては、例えば、不良ノズルに対して吐出特性別に評価点を与え、評価点の高い不良ノズルを高位にランク付けする方法が挙げられる。ステップＳ２からステップＳ４までに生成された情報を総括してノズル情報とする。すなわち、この場合、ステップＳ１からステップＳ４がノズル情報生成工程に該当する。
【０１１４】
吐出抜けノズルを選択しても液滴Ｄが吐出されないので、予め非選択とすることが望ましい。また、吐出量異常ノズルや着弾位置ずれノズルは、その不具合の程度により補正することが可能であり、複数のノズル５２を有効に使用するためには極力選択することが望ましい。しかし、吐出描画に用いる液滴吐出ヘッド５０の数が増すほど、ノズル５２を正常な吐出状態に維持することが困難になる。次ステップでは、不良ノズルがあってもそのランクに応じた第１配置情報の補正を行う。
【０１１５】
図１０のステップＳ５は、第１補正作業を適用する不良ノズルがあるか否かを判定する工程である。この場合、図１４（ｂ）のノズルリストから高位にランク付けされた不良ノズルを１つ選んだ。画素Ｎｏ「１Ｒ」ではランク１の吐出抜けノズル「Ｎ２」を、画素Ｎｏ「２Ｒ」ではランク１の不良ノズルがないので、ランク２の吐出異常ノズル「Ｎ５」を第１補正作業を適用する不良ノズルとした。すなわち、ランク１およびランク２に該当する不良ノズルを適用させた。
【０１１６】
図１０のステップＳ６は、第１補正作業を行う工程である。上位コンピュータ１１は、適用された不良ノズルを選択せず、他のノズル５２から不足する液滴Ｄを吐出するように第１配置情報を補正する。
【０１１７】
図１０のステップＳ７は、第２補正作業を適用する不良ノズルがあるか否かを判定する工程である。この工程では、振動子５９の駆動条件を変える不良ノズルがあるか否かを判定する。この場合、図１４（ｂ）のノズルリストから、画素Ｎｏ「１Ｒ」ではランク３の着弾位置ずれノズル「Ｎ３」と、画素Ｎｏ「２Ｒ」ではランク２の吐出量異常ノズル「Ｎ４」とランク４の着弾位置ずれノズル「Ｎ６」と、を第２補正作業を適用する不良ノズルとした。
【０１１８】
図１０のステップＳ８は、第２補正作業を行う工程である。上位コンピュータ１１は、適用された不良ノズルの振動子５９の駆動条件を変えて液滴Ｄを吐出するように第１配置情報を補正する。ノズル情報から画素Ｎｏ「１Ｒ」の着弾位置ずれノズル「Ｎ３」は、主走査方向に＋４０μｍ着弾位置がずれる。よって、吐出タイミングをずれ量に応じて早める。画素Ｎｏ「２Ｒ」の吐出量異常ノズル「Ｎ４」は、着弾径が過小であるので、吐出量が標準量となるように駆動電圧を上げた設定とする。着弾位置ずれノズル「Ｎ６」は、主走査方向に−２０μｍ着弾位置がずれる。よって、吐出タイミングをずれ量に応じて遅くする。そして、ステップＳ９へ進む。
【０１１９】
図１０のステップＳ９は、配置情報を選択する工程である。ノズル情報において不良ノズルがなければ、第１配置情報を選択する。実際には、複数のノズル５２のうち不良ノズルがある確率が高く、第１補正作業および第２補正作業により上位コンピュータ１１が第１配置情報を補正した第２配置情報を選択することになる。そして、ステップＳ１０へ進む。
【０１２０】
図１０のステップＳ１０は、選択された配置情報に基づいて液状体を吐出描画する描画工程である。図１５（ａ）および（ｂ）は、第２配置情報に基づいた液滴の配置の一例を示す概略平面図である。描画工程では、図１４（ｃ）の補正された第２配置情報に基づき、主走査の往動時には、図１５（ａ）に示すように、画素Ｎｏ「１Ｒ」では「Ｎ２」のノズル５２が選択されず、「Ｎ１」と「Ｎ３」のノズル５２から５回の吐出が行わる。着色領域Ａ内に５滴の液滴Ｄを配置する吐出タイミングを標準の「１」とし、着弾位置ずれノズル「Ｎ３」は、それよりも吐出開始が早い吐出タイミング「２」が補正により設定されている。同様に画素Ｎｏ「２Ｒ」では「Ｎ５」のノズル５２が選択されず、「Ｎ４」と「Ｎ６」のノズル５２から５回の吐出が行わる。吐出量異常ノズル「Ｎ４」は駆動電圧設定が高いレベル「２」に設定され、着弾位置ずれノズル「Ｎ６」は、吐出開始が遅い吐出タイミング「３」が設定されている。これにより画素Ｎｏ「１Ｒ」と「２Ｒ」にはそれぞれ１０滴の液滴Ｄが着弾する。
【０１２１】
主走査の復動時には、図１５（ｂ）に示すように、画素Ｎｏ「１Ｒ」では、「Ｎ１」のノズル５２のみが選択され、５回の吐出が行われる。画素Ｎｏ「２Ｒ］では、「Ｎ４」のノズル５２のみが選択され、５回の吐出が行われる。これにより、図１３（ｂ）に示した液滴Ｄの配置と同様に、各着色領域Ａにそれぞれ１５滴の液滴Ｄが配置される。すなわち、必要量の赤色の液状体８０Ｒが対応する着色領域Ａに付与される。他の緑色の液状体８０Ｇ、青色の液状体８０Ｂにおいても、同様に不良ノズルの吐出特性に対応して補正された第２配置情報に基づいて吐出描画が行われる。そして、ステップＳ１１へ進む。
【０１２２】
図１０のステップＳ１１は、観察工程である。図１６は、マザー基板の観察方法を説明する概略図である。図１６に示すように、マザー基板Ｗには、例えば、１つの液晶表示装置５００におけるカラーフィルタ５０５の配置領域を１チップ領域として、９つのチップ領域Ｃ１〜Ｃ９がマトリクス状に配置されているとする。各チップ領域Ｃ１〜Ｃ９には、Ｙ軸方向に同色の着色領域Ａがストライプ状に並んでいる。マザー基板Ｗの画素領域としての着色領域Ａを観察する方法として、上位コンピュータ１１が第１配置情報を基づいて観察座標を生成する。この場合、少なくとも１回の主走査において複数のノズル５２が掛かる３色の着色領域Ａを観察すればよい。観察座標すなわち観察領域は、チップ領域Ｃ１〜Ｃ９ごとに設定されている。
【０１２３】
ステップＳ１１では、上位コンピュータ１１は、制御部４に制御信号を送り、移動台３３とマザー基板Ｗとを相対移動させて、カメラ１５をチップ領域Ｃ１〜Ｃ９ごとの観察領域に移動させる。この場合、チップ領域Ｃ１からスタートし、チップ領域Ｃ２〜Ｃ９の順に観察領域を観察してゆく。観察ルートは、観察領域の設定に基づいて効率的に観察できるルートを設定すればよい。そして、ステップＳ１２へ進む。
【０１２４】
図１０のステップＳ１２では、各チップ領域Ｃ１〜Ｃ９の観察領域に不良画素があるか否かを判定する。色ムラや混色の不良画素があれば、不良画素の座標は、観察座標から特定される。そして、不良画素があれば、ステップＳ２へ進む。ノズル情報生成工程では、不良画素の情報（不良の内容、座標）から不良画素に掛かるノズル５２を特定し、これを不良ノズルとしてノズル情報を更新する。すなわち、不良ノズルの特定工程とノズル情報更新工程の機能を果たす。
【０１２５】
特に着弾位置ずれノズルは、ずれ量やずれ方向のバラツキを生ずるおそれがある。ノズル情報を更新する過程で、着弾位置ずれノズルの履歴をデータとして保存し、バラツキが大きい着弾位置ずれノズルは第１補正作業を適用する不良ノズルとすることが望ましい。
【０１２６】
このような液状体の描画方法によれば、不良ノズルの吐出特性に応じて第１配置情報が補正され、補正後の第２配置情報に基づいて液状体の吐出描画を行うので、必要量の液状体を画素領域（着色領域Ａ）ごとに付与することが可能である。
【０１２７】
上記実施形態１の効果は、以下の通りである。
（１）上記実施形態１の描画システム１は、複数のノズル５２が液滴Ｄの着弾位置ずれ、吐出量異常、吐出抜けの吐出特性の順に高位となるようにランク付けされたノズル情報が格納された記憶部１４と、ノズル情報を基に吐出特性に応じて第１配置情報を補正した第２配置情報を生成する配置情報生成部としての上位コンピュータ１１と、を備えている。したがって、不良ノズルを有していても液滴吐出装置１０により第２配置情報を選択して、複数のノズル５２から各画素領域（各着色領域Ａ）に必要量の液状体を液滴Ｄとして吐出描画することができる。
【０１２８】
（２）上記実施形態１の液状体の描画方法は、着弾状態検査工程で得られた液滴Ｄの正確な着弾情報を基にノズル情報を生成するノズル情報生成工程と、生成されたノズル情報を基に吐出特性に応じて第１配置情報を補正した第２配置情報を生成する配置情報生成工程としての第１補正作業工程および第２補正作業工程とを備えている。したがって、描画工程において、複数のノズル５２が不良ノズルを有していても第２配置情報を基に液状体の吐出描画を行えば、画素領域ごとに必要量の液状体を付与することができる。また、吐出描画されたマザー基板Ｗの画素領域を観察する工程と、観察によって不良画素が検出された場合には、不良画素の座標から不良ノズルを特定する工程と、特定された不良ノズルの情報に基づいてノズル情報を更新する工程とを備えている。したがって、最新のノズル情報に基づいて配置情報を生成することができるので、吐出不具合を低減して必要量の液状体を画素領域ごとに安定して付与することができる。
【０１２９】
（３）上記実施形態１のカラーフィルタの製造方法は、上記液状体の描画方法を用いているので、吐出不具合による不良画素の発生を低減し、必要量の液状体８０Ｒ，８０Ｇ，８０Ｂを液滴Ｄとして対応する着色領域Ａごとに吐出描画することができる。成膜工程では、ほぼ一定の膜厚を有する着色層５０５Ｒ，５０５Ｇ，５０５Ｂが得られる。したがって、色ムラや混色が低減されたカラーフィルタ５０５を歩留りよく製造することができる。このカラーフィルタ５０５を備えた対向基板５０１を用いれば、所望の光学特性を有する液晶表示装置５００を得ることができる。
【０１３０】
（実施形態２）
次に、実施形態１の描画システム１と液状体の描画方法とを適用した他の実施形態として、発光層を有する有機ＥＬ素子の製造方法について説明する。
【０１３１】
まず、有機ＥＬ素子を有する有機ＥＬ表示装置について簡単に説明する。図１７は、有機ＥＬ表示装置の要部構造を示す概略断面図である。図１７に示すように、有機ＥＬ表示装置６００は、有機ＥＬ素子としての発光素子部６０３を有する素子基板６０１と、素子基板６０１と空間６２２を隔てて封着された封止基板６２０とを備えている。また素子基板６０１は、素子基板６０１上に回路素子部６０２を備えており、発光素子部６０３は、回路素子部６０２上に重畳して形成され、回路素子部６０２により駆動されるものである。発光素子部６０３には、３色の発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂが画素領域としての発光層形成領域Ａに形成され、ストライプ状となっている。素子基板６０１は、３色の発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂに対応する３つの発光層形成領域Ａを１組の絵素とし、この絵素が素子基板６０１の回路素子部６０２上にマトリクス状に配置されたものである。有機ＥＬ表示装置６００は、発光素子部６０３からの発光が素子基板６０１側に出射するものである。
【０１３２】
封止基板６２０は、ガラス又は金属からなるもので、封止樹脂を介して素子基板６０１に接合されており、封止された内側の表面には、ゲッター剤６２１が貼り付けられている。ゲッター剤６２１は、素子基板６０１と封止基板６２０との間の空間６２２に侵入した水又は酸素を吸収して、発光素子部６０３が侵入した水又は酸素によって劣化することを防ぐものである。なお、このゲッター剤６２１は省略しても良い。
【０１３３】
素子基板６０１は、回路素子部６０２上に複数の画素領域としての発光層形成領域Ａを有するものであって、複数の発光層形成領域Ａを区画する隔壁部６１８と、複数の発光層形成領域Ａに形成された電極６１３と、電極６１３に積層された正孔注入／輸送層６１７ａとを備えている。また複数の発光層形成領域Ａ内に発光層形成材料を含む３種の液状体を付与して形成された発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂを有する発光素子部６０３を備えている。隔壁部６１８は、下層バンク６１８ａと発光層形成領域Ａを実質的に区画する上層バンク６１８ｂとからなり、下層バンク６１８ａは、発光層形成領域Ａの内側に張り出すように設けられて、電極６１３と各発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂとが直接接触して電気的に短絡することを防止するためにＳｉＯ2等の無機絶縁材料により形成されている。
【０１３４】
素子基板６０１は、例えばガラス等の透明な基板からなり、素子基板６０１上にシリコン酸化膜からなる下地保護膜６０６が形成され、この下地保護膜６０６上に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜６０７が形成されている。半導体膜６０７には、ソース領域６０７ａおよびドレイン領域６０７ｂが高濃度Ｐイオン打ち込みにより形成されている。なお、Ｐイオンが導入されなかった部分がチャネル領域６０７ｃとなっている。さらに下地保護膜６０６および半導体膜６０７を覆う透明なゲート絶縁膜６０８が形成され、ゲート絶縁膜６０８上にはＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等からなるゲート電極６０９が形成され、ゲート電極６０９およびゲート絶縁膜６０８上には透明な第１層間絶縁膜６１１ａと第２層間絶縁膜６１１ｂが形成されている。ゲート電極６０９は半導体膜６０７のチャネル領域６０７ｃに対応する位置に設けられている。また、第１層間絶縁膜６１１ａおよび第２層間絶縁膜６１１ｂを貫通して、半導体膜６０７のソース領域６０７ａ、ドレイン領域６０７ｂにそれぞれ接続されるコンタクトホール６１２ａ，６１２ｂが形成されている。そして、第２層間絶縁膜６１１ｂ上に、ＩＴＯ（Indium  Tin  Oxide）等からなる透明な電極６１３が所定の形状にパターニングされて配置され（電極形成工程）、一方のコンタクトホール６１２ａがこの電極６１３に接続されている。また、もう一方のコンタクトホール６１２ｂが電源線６１４に接続されている。このようにして、回路素子部６０２には、各電極６１３に接続された駆動用の薄膜トランジスタ６１５が形成されている。なお、回路素子部６０２には、保持容量とスイッチング用の薄膜トランジスタも形成されているが、図１７ではこれらの図示を省略している。
【０１３５】
発光素子部６０３は、陽極としての電極６１３と、電極６１３上に順次積層された正孔注入／輸送層６１７ａ、各発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂ（総称して発光層Ｌｕ）と、上層バンク６１８ｂおよび発光層Ｌｕを覆うように積層された陰極６０４とを備えている。正孔注入／輸送層６１７ａと発光層Ｌｕとにより発光が励起される機能層６１７を構成している。なお、陰極６０４と封止基板６２０およびゲッター剤６２１を透明な材料で構成すれば、封止基板６２０側から発光する光を出射させることができる。
【０１３６】
有機ＥＬ表示装置６００は、ゲート電極６０９に接続された走査線（図示省略）とソース領域６０７ａに接続された信号線（図示省略）とを有し、走査線に伝わった走査信号によりスイッチング用の薄膜トランジスタ（図示省略）がオンになると、そのときの信号線の電位が保持容量に保持され、該保持容量の状態に応じて、駆動用の薄膜トランジスタ６１５のオン・オフ状態が決まる。そして、駆動用の薄膜トランジスタ６１５のチャネル領域６０７ｃを介して、電源線６１４から電極６１３に電流が流れ、さらに正孔注入／輸送層６１７ａと発光層Ｌｕとを介して陰極６０４に電流が流れる。発光層Ｌｕは、これを流れる電流量に応じて発光する。有機ＥＬ表示装置６００は、このような発光素子部６０３の発光メカニズムにより、所望の文字や画像などを表示することができる。
【０１３７】
＜有機ＥＬ素子の製造方法＞
次に本実施形態の有機ＥＬ素子としての発光素子部の製造方法について図１８に基づいて説明する。図１８（ａ）〜（ｆ）は、発光素子部の製造方法を示す概略断面図である。なお、図１８（ａ）〜（ｆ）においては、素子基板６０１上に形成された回路素子部６０２は、図示を省略している。
【０１３８】
本実施形態の発光素子部６０３の製造方法は、素子基板６０１の複数の発光層形成領域Ａに対応する位置に電極６１３を形成する工程と、電極６１３に一部が掛かるように下層バンク６１８ａを形成し、さらに下層バンク６１８ａ上に実質的に発光層形成領域Ａを区画するように上層バンク６１８ｂを形成する隔壁部形成工程とを備えている。また上層バンク６１８ｂで区画された発光層形成領域Ａの表面処理を行う工程と、表面処理された発光層形成領域Ａに正孔注入／輸送層形成材料を含む液状体を付与して正孔注入／輸送層６１７ａを吐出描画する工程と、吐出された液状体を乾燥して正孔注入／輸送層６１７ａを成膜する工程とを備えている。また、正孔注入／輸送層６１７ａが形成された発光層形成領域Ａの表面処理を行う工程と、表面処理された発光層形成領域Ａに発光層形成材料を含む３種の液状体を吐出描画する描画工程と、吐出された３種の液状体を乾燥して発光層Ｌｕを成膜する固化工程とを備えている。さらに、上層バンク６１８ｂと発光層Ｌｕを覆うように陰極６０４を形成する工程を備えている。
【０１３９】
電極（陽極）形成工程では、図１８（ａ）に示すように、回路素子部６０２がすでに形成された素子基板６０１の発光層形成領域Ａに対応する位置に電極６１３を形成する。形成方法としては、例えば、素子基板６０１の表面にＩＴＯ等の透明電極材料を用いて真空中でスパッタ法あるいは蒸着法で透明電極膜を形成する。その後、フォトリソグラフィ法にて必要な部分だけを残してエッチングして電極６１３を形成する方法が挙げられる。また、フォトレジストで素子基板６０１を先に覆って、電極６１３を形成する領域が開口するように露光・現像する。そして開口部にＩＴＯ等の透明電極膜を形成し、残存したフォトレジストを除く方法でもよい。そして隔壁部形成工程へ進む。
【０１４０】
隔壁部形成工程では、図１８（ｂ）に示すように、素子基板６０１の複数の電極６１３の一部を覆うように下層バンク６１８ａを形成する。下層バンク６１８ａの材料としては、無機材料である絶縁性のＳｉＯ2（酸化珪素）を用いている。下層バンク６１８ａの形成方法としては、例えば、後に形成される発光層Ｌｕに対応して、各電極６１３の表面をレジスト等を用いてマスキングする。そしてマスキングされた素子基板６０１を真空装置に投入し、ＳｉＯ2をターゲットあるいは原料としてスパッタリングや真空蒸着することにより下層バンク６１８ａを形成する方法が挙げられる。レジスト等のマスキングは、後に剥離する。なお、下層バンク６１８ａは、ＳｉＯ2により形成されているため、その膜厚が２００ｎｍ以下であれば十分な透明性を有しており、後に正孔注入／輸送層６１７ａおよび発光層Ｌｕが積層されても発光を阻害することはない。
【０１４１】
続いて、各発光層形成領域Ａを実質的に区画するように下層バンク６１８ａの上に上層バンク６１８ｂを形成する。上層バンク６１８ｂの材料としては、後述する発光層形成材料を含む３種の液状体１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂの溶媒に対して耐久性を有するものであることが望ましく、さらに、フッソ系ガスを処理ガスとするプラズマ処理により撥液化できること、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、感光性ポリイミドなどといった有機材料が好ましい。上層バンク６１８ｂの形成方法としては、例えば、下層バンク６１８ａが形成された素子基板６０１の表面に感光性の上記有機材料をロールコート法やスピンコート法で塗布し、乾燥させて厚みがおよそ２μｍの感光性樹脂層を形成する。そして、発光層形成領域Ａに対応した大きさで開口部が設けられたマスクを素子基板６０１と所定の位置で対向させて露光・現像することにより、上層バンク６１８ｂを形成する方法が挙げられる。これにより下層バンク６１８ａと上層バンク６１８ｂとを有する隔壁部６１８が形成される。そして、表面処理工程へ進む。
【０１４２】
発光層形成領域Ａを表面処理する工程では、隔壁部６１８が形成された素子基板６０１の表面を、まずＯ2ガスを処理ガスとしてプラズマ処理する。これにより電極６１３の表面、下層バンク６１８ａの張り出し部および上層バンク６１８ｂの表面（壁面を含む）を活性化させて親液処理する。次にＣＦ4等のフッ素系ガスを処理ガスとしてプラズマ処理する。これにより有機材料である感光性樹脂からなる上層バンク６１８ｂの表面のみにフッ素系ガスが反応して撥液処理される。そして、正孔注入／輸送層形成工程へ進む。
【０１４３】
正孔注入／輸送層形成工程では、図１８（ｃ）に示すように、正孔注入／輸送層形成材料を含む液状体９０を発光層形成領域Ａに付与する。液状体９０を付与する方法としては、図１の描画システム１を用いる。液滴吐出ヘッド５０から吐出された液状体９０は、液滴Ｄとして素子基板６０１の電極６１３に着弾して濡れ拡がる。液状体９０は発光層形成領域Ａの面積に応じて必要量が液滴Ｄとして吐出される。そして乾燥・成膜工程へ進む。
【０１４４】
乾燥・成膜工程では、素子基板６０１を例えばランプアニール等の方法で加熱することにより、液状体９０の溶媒成分を乾燥させて除去し、電極６１３の下層バンク６１８ａにより区画された領域に正孔注入／輸送層６１７ａが形成される。本実施形態では、正孔注入／輸送層形成材料としてＰＥＤＯＴ（Polyethylene  Dioxy  Thiophene；ポリエチレンジオキシチオフェン）を用いた。なお、この場合、各発光層形成領域Ａに同一材料からなる正孔注入／輸送層６１７ａを形成したが、後に形成される発光層Ｌｕに対応して正孔注入／輸送層６１７ａの材料を発光層形成領域Ａごとに変えてもよい。そして次の表面処理工程へ進む。
【０１４５】
次の表面処理工程では、上記の正孔注入／輸送層形成材料を用いて正孔注入／輸送層６１７ａを形成した場合、その表面が、３種の液状体１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂに対して撥液性を有するので、少なくとも発光層形成領域Ａの領域内を再び親液性を有するように表面処理を行う。表面処理の方法としては、３種の液状体１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂに用いられる溶媒を塗布して乾燥する。溶媒の塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法等の方法が挙げられる。そして発光層Ｌｕの描画工程へ進む。
【０１４６】
発光層Ｌｕの描画工程では、図１８（ｄ）に示すように、描画システム１を用いて複数の液滴吐出ヘッド５０から複数の発光層形成領域Ａに発光層形成材料を含む３種の液状体１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂを付与する。液状体１００Ｒは発光層６１７Ｒ（赤色）を形成する材料を含み、液状体１００Ｇは発光層６１７Ｇ（緑色）を形成する材料を含み、液状体１００Ｂは発光層６１７Ｂ（青色）を形成する材料を含んでいる。各液状体１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂの発光層形成領域Ａへの付与は、上記実施形態１の液状体の描画方法を用いて行う。この場合、各液状体１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂは、それ自体で色の識別が困難である。そこで、液滴Ｄの着弾状態をカメラ１５で観察する方法として、紫外線を放出する照明装置を用いる。これにより、着弾後の液滴Ｄが紫外線によって励起され発光するので、着弾状態を観察して撮像することが可能となる。着弾状態検査工程で複数のノズル５２のノズル情報を入手し、ランク付けされたノズル情報に基づいて補正された第２配置情報を用いて各液状体１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂの吐出描画を行う。よって、吐出不具合が低減され必要量の各液状体１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂがそれぞれ対応する発光層形成領域Ａに液滴Ｄとして吐出描画される。そして、固化工程へ進む。
【０１４７】
固化工程では、図１８（ｅ）に示すように、吐出描画された各液状体１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂの溶媒成分を乾燥させて除去し、各発光層形成領域Ａの正孔注入／輸送層６１７ａに各発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂが積層されるように成膜化する。各液状体１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂが吐出描画された素子基板６０１の乾燥方法としては、溶媒の蒸発速度をほぼ一定とすることが可能な、減圧乾燥が好ましい。そして陰極形成工程へ進む。
【０１４８】
陰極形成工程では、図１８（ｆ）に示すように、素子基板６０１の各発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂと上層バンク６１８ｂの表面とを覆うように陰極６０４を形成する。陰極６０４の材料としては、Ｃａ、Ｂａ、Ａｌ等の金属やＬｉＦ等のフッ化物を組み合わせて用いるのが好ましい。特に発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂに近い側に仕事関数が小さいＣａ、Ｂａ、ＬｉＦの膜を形成し、遠い側に仕事関数が大きいＡｌ等の膜を形成するのが好ましい。また、陰極６０４の上にＳｉＯ2、ＳｉＮ等の保護層を積層してもよい。このようにすれば、陰極６０４の酸化を防止することができる。陰極６０４の形成方法としては、蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等が挙げられる。特に発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂの熱による損傷を防止できるという点では、蒸着法が好ましい。
【０１４９】
このようにして出来上がった素子基板６０１は、必要量の液状体１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂが対応する発光層形成領域Ａに付与され、成膜化後の膜厚がほぼ一定となった各発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂを有する。
【０１５０】
上記実施形態２の効果は、以下の通りである。
（１）上記実施形態２の発光素子部６０３の製造方法において、発光層Ｌｕの描画工程では、上記実施形態１の描画システム１と液状体の描画方法とを用いて素子基板６０１の発光層形成領域Ａに、必要量の各液状体１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂが液滴Ｄとして吐出描画される。したがって、成膜化後の膜厚がほぼ一定となった各発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂを有する発光素子部６０３を歩留りよく、且つ高い生産性を実現して製造することができる。
【０１５１】
（２）上記実施形態２の発光素子部６０３の製造方法により製造された素子基板６０１を用いれば、各発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂの膜厚がほぼ一定であるため、各発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂごとの抵抗がほぼ一定となる。よって、回路素子部６０２により発光素子部６０３に駆動電圧を印加して発光させると、各発光層６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂごとの抵抗ムラによる発光ムラや輝度ムラ等が低減される。すなわち、発光ムラや輝度ムラ等が少なく、見映えのよい表示品質を有する有機ＥＬ表示装置６００を提供することができる。
【０１５２】
以上、本発明の実施形態について説明したが、上記実施形態に対しては、本発明の趣旨から逸脱しない範囲で様々な変形を加えることができる。例えば上記実施形態以外の変形例は、以下の通りである。
【０１５３】
（変形例１）上記実施形態１の描画システム１において、液滴吐出装置１０のヘッドユニット９における液滴吐出ヘッド５０（ノズル列５２ａ）の配置は、これに限定されない。例えば、主走査方向（Ｘ軸方向）に対してノズル列５２ａが交差するように配置されていてもよい。これによれば、主走査方向から見たノズルピッチが狭くなり、副走査方向（Ｙ軸方向）により高精細に液滴Ｄを着弾させることができる。
【０１５４】
（変形例２）上記実施形態１の描画システム１において、記録紙１８上に液滴Ｄを着弾させ、着弾状態を撮像するカメラ１５、撮像した画像を画像処理する画像処理部４９は、描画システム１に装備しなくてもよい。例えば、カメラ１５や画像処理部４９を備えた着弾観察システムを設け、当該着弾観察システムから上位コンピュータ１１に画像情報をデータとして取り込んでもよい。
【０１５５】
（変形例３）上記実施形態１の描画システム１において、撮像機構としてのカメラ１５の構成は、これに限定されない。例えば、マザー基板Ｗの大きさや、チップ領域の面付け数によりカメラ１５を複数台設ける構成としてもよい。これによれば、よりスピーディーに観察を行うことができる。また、ヘッド移動機構３０の移動台３３にカメラ１５を搭載せず、カメラ１５をＹ軸方向に移動可能な状態で装備してもよい。
【０１５６】
（変形例４）上記実施形態１の描画システム１および液状体の描画方法において、記録紙１８上に液滴Ｄを着弾させる方法は、セットテーブル５に記録紙１８を載置する方法に限定されない。例えば、Ｙ軸方向に記録紙１８を載置する別のテーブルを設け、当該テーブルをＸ軸方向に移動可能としてもよい。これによれば、マザー基板Ｗへの吐出描画と並行して記録紙１８上に液滴Ｄを吐出させることができる。
【０１５７】
（変形例５）上記実施形態１の液状体の描画方法において、ノズル情報を入手する方法は、液滴Ｄの着弾状態を検査する方法に限定されない。例えば、ノズル列５２ａから吐出される液滴Ｄの飛行状態を観察することによって、少なくとも吐出抜けノズル、吐出量異常ノズルを特定することが可能である。
【０１５８】
（変形例６）上記実施形態１の液状体の描画方法は、これに限定されない。例えば、予めノズル情報は、データとして記憶部１４に格納しておけばよい。また、着弾状態検査工程は、１枚のマザー基板Ｗの吐出描画を行う都度実施しなくてもよい。例えば、作業開始時や各液滴吐出ヘッド５０のメンテナンスを実施した後など決められた時期に実施すれば、効果的にノズル情報を入手することができる。さらには、吐出描画されたマザー基板Ｗを観察する工程や不良画素の有無を判定する工程も必須ではない。
【０１５９】
（変形例７）上記実施形態１の液状体の描画方法において、第１配置情報および補正された第２配置情報は、これに限定されない。例えば、図１３（ａ）および（ｂ）では、複数回（２回）の主走査を行って着色領域Ａごとに１５滴の液滴Ｄを配置するように第１配置情報を構成した。これに対して、着色領域Ａに掛かるノズル５２からそれぞれ５滴の液滴Ｄを吐出して合計２５滴の液滴Ｄを配置する構成とする。そして、実際の吐出描画においては、各走査において着色領域Ａに掛かる少なくとも１つのノズル５２を非選択ノズルとするように第２配置情報を生成する。すなわち、ノズル情報に基づいて不良ノズルを非選択ノズルとする。これによれば、実施形態１と同様に各着色領域Ａに必要量（１５滴）の液状体を付与することができる。なお、このように主走査において画素領域ごとに所定のノズルを非選択とする場合、第１補正作業を適用して非選択としたノズルが第２補正作業により他の画素領域で選択ノズルとなることが考えられる。これでは、不良ノズルの駆動方法が複雑になるので、各補正作業を適用した不良ノズルのリストを作成し、相互に適用する不良ノズルが重複しないように調整することが好ましい。
【０１６０】
（変形例８）上記実施形態１の液状体の描画方法において、液滴Ｄの着弾位置ずれを補正する方法は、該当するノズルの吐出タイミングを変える方法に限定されない。例えば、主走査方向における着弾位置ずれならば、マザー基板Ｗと複数のノズル５２との相対移動における吐出開始位置を補正してもよい。また、着弾位置ずれは、主走査方向に限らず副走査方向にも発生する。その場合には、副走査方向におけるヘッドユニット９の位置を補正する方法が挙げられる。
【０１６１】
（変形例９）上記実施形態１のカラーフィルタの製造方法および上記実施形態２の有機ＥＬ素子の製造方法において、着色領域Ａおよび発光層形成領域Ａの配置は、ストライプ方式に限定されない。デルタ方式や、モザイク方式の配置であっても、上記実施形態１の液状体の描画方法を適用することができる。また、３色の着色層５０５Ｒ，５０５Ｇ，５０５Ｂに限定されず、ＲＧＢ３色に他色を加えた多色のカラーフィルタの製造方法においても適用可能である。
【０１６２】
（変形例１０）上記実施形態１の液状体の描画方法を適用可能なデバイスの製造方法は、カラーフィルタの製造方法、有機ＥＬ素子の製造方法に限定されない。例えば、図８の液晶表示装置５００や図１７の有機ＥＬ表示装置６００において、画素領域ごとに形成されるスイッチング素子の製造方法や画素電極の製造方法についても適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１６３】
【図１】描画システムの構成を示す概略図。
【図２】液滴吐出装置の構成を示す概略斜視図。
【図３】（ａ）および（ｂ）は液滴吐出ヘッドの構造を示す概略図。
【図４】ヘッドユニットにおける液滴吐出ヘッドの配置を示す概略平面図。
【図５】液滴吐出装置の制御系を示すブロック図。
【図６】吐出制御の詳細を示すブロック図。
【図７】吐出制御の制御信号を示す図。
【図８】液晶表示装置の構造を示す概略分解斜視図。
【図９】（ａ）〜（ｅ）はカラーフィルタの製造方法を示す概略断面図。
【図１０】液状体の描画方法を示すフローチャート。
【図１１】（ａ）〜（ｄ）は着弾状態検査工程を説明する概略図。
【図１２】ノズル情報の一例を示す表。
【図１３】（ａ）および（ｂ）は画素領域における液滴の配置の一例を示す概略平面図。
【図１４】（ａ）は第１配置情報を示す表、（ｂ）はノズルリストを示す表、（ｃ）は補正された第２配置情報を示す表。
【図１５】（ａ）および（ｂ）は第２配置情報に基づいた液滴の配置の一例を示す概略平面図。
【図１６】マザー基板の観察方法を説明する概略図。
【図１７】有機ＥＬ表示装置の要部構造を示す概略断面図。
【図１８】（ａ）〜（ｆ）は有機ＥＬ素子としての発光素子部の製造方法を示す概略断面図。
【符号の説明】
【０１６４】
１…描画システム、１０…液滴吐出装置、１１…ノズル情報生成部および配置情報生成部としての上位コンピュータ、１４…記憶部、１５…撮像機構としてのカメラ、１８…着弾観察用被吐出物としての記録紙、４９…画像処理部、５２…ノズル、５９…エネルギー発生手段としての振動子、８０Ｒ，８０Ｇ，８０Ｂ…着色層形成材料を含む液状体、１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂ…発光層形成材料を含む液状体、５０１…基板としての対向基板、５０５…カラーフィルタ、５０５Ｒ，５０５Ｇ，５０５Ｂ…画素構成要素としての着色層、６０１…基板としての素子基板、６０３…有機ＥＬ素子としての発光素子部、６１７Ｒ，６１７Ｇ，６１７Ｂ…画素構成要素としての発光層、Ａ…画素領域としての着色領域および発光層形成領域、Ｗ…基板としてのマザー基板。
【図１】
2008145625.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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