(57)【要約】【課題】被加熱物から発生した蒸気による結露した水滴を、簡単な構成かつ安価なコストで、高周波加熱装置の置き台上に滴下しない高周波加熱装置を提供する。【解決手段】被加熱物から発生した蒸気を高周波加熱装置外に排出するための排気口３の下側に、高周波加熱装置の外側方向に、突出した突出部１１などを設け、突出部１１などは、前記排気口Ｂ３から結露した水滴が滴下する下側に水平面、もしくは凹形状、もしくは段上の水平面、もしくは段上の凹形状を備えることにより、滴下する水滴を受ける事ができ、高周波加熱装置外に結露した水滴１３が出ても、この水滴が置き台上に滴下するのを防止できる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被加熱物を収納する加熱室と、加熱室に高周波電波を放射する高周波発生装置と、高周波発生装置を収納する機械室と、機械室を冷却する冷却ファンと、被加熱物から発生した蒸気を高周波加熱装置外に排出するための排気口とを備え、前記排気口の下側には高周波加熱装置の外側方向に突出した突出部を設けて、前記被加熱物から発生した蒸気が結露して前記排気口から滴下する水滴を受ける構成とした高周波加熱装置。
【請求項２】
高周波加熱装置の外装板に排気口を設けるとともに突出部を一体形成した請求項１記載の高周波加熱装置。
【請求項３】
高周波加熱装置の外装板に排気口を設けるとともに当該排気口の下部に外装板とは別部品からなる突出部を取り付けた請求項１記載の高周波加熱装置。
【請求項４】
突出部は外装板の外方側に向かって最外方端を構成する請求項１〜３のいずれか１項記載の高周波加熱装置。
【請求項５】
突出部の水滴を受ける部分は階段状の水平面とした請求項１〜３のいずれか１項記載の高周波加熱装置。
【請求項６】
突出部の水滴を受ける部分は凹形状とした請求項１〜３のいずれか１項記載の高周波加熱装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は高周波加熱装置の結露対策に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来の高周波加熱装置の一例を図６に示す（例えば、特許文献１参照）。図６は、特許文献１に記載された従来の高周波加熱装置の側面の要部断面図を示すものである。図６に示すように、被加熱物を収納する加熱室１外に空気を排出するための排気口２と、空気を高周波加熱装置の外に排出するための排気口Ｂ３とを備えた排気ダクト４が、加熱室１の天板５上に区画形成されており、かつ、上記天板５の排気ダクト４に臨む位置に、当該排気ダクト４内で結露した水を一時的に溜める水溜め部６を一体に凹陥形成している。
【特許文献１】特開２００３−７４８７３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
前記、従来の高周波加熱装置は、長時間にわたる加熱調理を行った場合でも、被加熱物から発生した蒸気による結露した水滴を高周波加熱装置外に出さないことを目的としている。しかしながら、前記従来の構成では、排気ダクトが必要で、コスト的に不利である。また、構成上、排気ダクトを設けることが出来ない高周波加熱装置では使用不可能であるという課題を有していた。
【０００４】
本発明は、高周波加熱装置外に結露した水滴が出ても、高周波加熱装置を置いている置き台上に滴下しなければ、ユーザーにとって、全く問題無いと言う観点から、前記従来の課題を解決するもので、簡単な構成で水滴が置き台上に滴下するのを防止できる高周波加熱装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
前記従来の課題を解決するために、本発明の高周波加熱装置は、被加熱物を収納する加熱室と、加熱室に高周波電波を放射する高周波発生装置と、高周波発生装置を収納する機械室と、機械室を冷却する冷却ファンと、被加熱物から発生した蒸気を高周波加熱装置外に排出するための排気口とを備え、前記排気口の下側には高周波加熱装置の外側方向に突出した突出部を設けて、前記被加熱物から発生した蒸気が結露して前記排気口から滴下する水滴を受ける構成としたものである。
【０００６】
これによって、排気ダクトが無くても、結露した水滴が置き台上に滴下する事はなくなるものである。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の高周波加熱装置は、排気ダクトが無くても、結露した水滴が置き台上に滴下する事はなくなり、排気ダクトのないタイプにも適用できるとともに安価に提供でき、家庭用、業務用等の高周波加熱装置として有用なものとなる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
第１の発明は、被加熱物を収納する加熱室と、加熱室に高周波電波を放射する高周波発生装置と、高周波発生装置を収納する機械室と、機械室を冷却する冷却ファンと、被加熱物から発生した蒸気を高周波加熱装置外に排出するための排気口とを備え、前記排気口の下側には高周波加熱装置の外側方向に突出した突出部を設けて、前記被加熱物から発生した蒸気が結露して前記排気口から滴下する水滴を受ける構成としてあり、排気ダクトが無
くても、結露した水滴が置き台上に滴下するのを防止することができるとともに排気ダクト不要であるから安価に提供できる。
【０００９】
第２の発明は、高周波加熱装置の外装板に排気口を設けるとともに突出部を一体形成した構成としてあり、外装板に突出部を一体形成するので別途部品を必要とせず、更なるコストダウンを図って安価に提供することができる。
【００１０】
第３の発明は、高周波加熱装置の外装板に排気口を設けるとともに当該排気口の下部に外装板とは別部品からなる突出部を取り付けた構成としてあり、突出部を一体形成するものに比べ突出部の形状自由度が向上して水滴を確実に受け止めるものとすることができる。
【００１１】
第４の発明は、突出部は外装板の外方側に向かって最外方端を構成するようにしてあり、装置本体の背面を壁に当接させて配置するようなことがあってもこの突出部が壁に当たって排気口と壁との間の空間を確保するから、蒸気や熱気等の排気性能を良好に維持することができる。
【００１２】
第５の発明は、突出部の水滴を受ける部分を階段状の水平面としてあり、突出部を外装板と一体成形する場合の工数を削減しして更なるコストダウンを図りつつ寄り多くの水滴を溜めることができる。
【００１３】
第６の発明は、突出部の水滴を受ける部分は凹形状として有り、滴下する結露水を確実に受け止めて溜めることができる。
【００１４】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。なお、この実施の形態によって本発明が限定されるものではない。
【００１５】
（実施の形態１）
図１は、本発明の実施の形態１における高周波加熱装置を側面から見た要部断面図、図２は同正面から見た要部断面図、図３は同背面から見た要部背面図である。
【００１６】
図１、図２及び図３において、この高周波加熱装置は、被加熱物を収納する加熱室１と、加熱室１に高周波電波を放射する高周波発生装置７と、高周波発生装置７を収納する機械室８と、高周波発生装置などを冷却するための冷却ファン９と、加熱室１内に空気を取り入れるための吸気口１０と、取り入れた空気を加熱室１の外に排出するための排気口２と、排気口２から排出された空気を高周波加熱装置の外に排出するための排気口Ｂ３と、排気口Ｂ３の下側に位置し、かつ高周波加熱装置の外方向に突出した突出部１１から構成されている。上記突出部１１は排気口Ｂ３を形成した外装板１５と同一部品で構成され、水滴を受け止めるための水平面を持つように絞り加工してあるとともに、その後方側端は外装板１５の最外方端となるように突出させてある。
【００１７】
以上のように構成された高周波加熱装置について、以下その動作、作用を説明する。
【００１８】
高周波加熱装置が動作すると、高周波発生装置７と冷却ファン９が動作し、被加熱物１２が温まり、蒸気が発生してくる。吸気口１０から取り込まれた空気は、被加熱物１２から発生した蒸気と一緒に、排気口２から加熱室１外に出て、排気口Ｂ３から高周波加熱装置の外に排出される。排気口Ｂ３は外気に触れているので、排気口Ｂ３から排出される蒸気を含んだ空気より低い温度であり、蒸気を含んだ空気は、この排気口Ｂ３で結露し、水滴１３が発生する。調理時間が長い程、水滴１３は多くなり、排気口Ｂ３の下側に滴下を始める。滴下する水滴１３は、最終的に突出部１１の水平面まで落ちるが、水平面に水滴
１３は受け止められて溜まり、それ以上下側には滴下せず、高周波調理器を置いた台上に滴下することは無い。突出部１１の水平面の面積により、溜められる水滴１３の量が決まってくるので、食材、調理時間、環境温度などを考慮し、突出部１１の水平面の面積を決定しなければならない。
【００１９】
また、上記突出部１１は外方側に向かって最外方端を構成しているから、装置本体を壁などに当接させて設けた場合などにこの突出部１１が壁に当たって排気口３と壁との間の空間を確保することになり、排気口３がふさがれたりすることがなくなって蒸気や熱気を確実に排気することができる。
【００２０】
また、前記構成では、排気口Ｂ３と突出部１１とは一つの部品である外装板１５に一体形成してあるから、別途部品を必要とせず、コストダウンが図れるものである。
【００２１】
なお、上記突出部１１は同一部品で構成されているが、これに限ったものではなく、別の部品で構成(図示せず)し、これを取り付けても、同様な効果が得られる。この場合は突出部の形状の自由度が高まり、水滴を確実に受け止める形状とすることが容易に可能となる。
【００２２】
また、前記構成では、突出部１１が水平面を持つように絞り加工されているが、同図右側に記載しているようにこの突出部１１Ｂは凹形状にすることもでき、これにより、加工の工数は増えるが、より多くの水滴１３を溜める事が出来る。
【００２３】
（実施の形態２）
図４は本発明の実施の形態２における高周波加熱装置を側面から見た要部断面図、図２は同正面から見た要部断面図、図５は同背面から見た要部背面図である。
【００２４】
この実施の形態２が先の実施の形態１と異なる点は、突出部１４の水滴を受ける部分が階段状に水平面を持つように絞り加工されている点である。その他は実施の形態１と同様であり、同一図番を付与して説明は省略する。
【００２５】
この実施の形態２の高周波加熱装置では突出部１４の水滴を受ける部分の水平面が階段状になっているので、実施の形態１よりも水滴１３の流れる経路長が長くなり、かつ、水滴１３が突出部Ｃ１４に溜まり易くなり、簡単かつ容易に形成できる形状でありながらより多くの水滴を受け止めることが可能となる。
【００２６】
この実施の形態２においても図４の横に記載しているように突出部１４Ｂの水滴を受ける部分を凹形状としてこれを階段状に設けても良いし、また、別体品で構成して取り付けるようにしても良いものである。
【産業上の利用可能性】
【００２７】
以上のように、本発明にかかる高周波加熱装置は、排気ダクトが無くても、結露した水滴が置き台上に滴下する事はなくなり、排気ダクトのないタイプにも適用できるとともに安価に提供でき、より水滴の多いスチーム機能付き高周波加熱装置などに好適であり、幅広く応用が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明の実施の形態１における高周波加熱装置を側面から見た要部断面図
【図２】同正面から見た要部断面図
【図３】同背面から見た要部背面図
【図４】本発明の実施の形態２における高周波加熱装置を側面から見た要部断面図
【図５】同背面から見たの要部背面図
【図６】従来の高周波加熱装置を側面から見た要部断面図
【符号の説明】
【００２９】
３  排気口Ｂ
１１  突出部
１１Ｂ  突出部Ｂ
１３  水滴
１４  突出部Ｃ
１４Ｂ  突出部Ｄ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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