(57)【要約】      （修正有）【課題】空間光変調器（ＳＬＭ）を使用して（非球形）光学表面のヌルテストを実行するシステムおよび方法を提供する。【解決手段】システムは干渉計、光学素子、およびＳＬＭを含む。干渉計は電磁放射を提供する。光学素子は電磁放射を調整して第一放射ビームおよび第二放射ビームを提供する。ＳＬＭは第一放射ビームの波面を成形して光学表面に対応する成形波面にする。成形波面は光学表面に入射しそれによって調整される。光学表面の形状は、光学表面によってマッピングされた成形波面と第二放射ビームとの干渉によって生じる干渉縞パターンに基づいて解析される。システムは、光学表面に対応するヌルコレクタ設計をＳＬＭのための命令に変換する光学設計モジュールも含むことができる。【選択図】図３
2008145419.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電磁放射を提供する干渉計と、
第一放射ビームおよび第二放射ビームを提供するために前記電磁放射を調整する光学素子と、
前記第一放射ビームの波面を成形して光学表面に対応する成形波面になるようにする空間光変調器（ＳＬＭ）とを備え、前記成形波面が、前記光学表面に入射しそれによって調整され、そして、前記光学表面の形状が、前記光学表面によってマッピングされた前記成形波面と前記第二放射ビームとの干渉によって生じる干渉縞パターンに基づいて解析される、
光学表面をテストするシステム。
【請求項２】
さらに、前記光学表面に対応するヌルコレクタ設計を前記ＳＬＭへの命令に変換する光学設計モジュールを備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記光学素子が、前記第一放射ビームを前記ＳＬＭにフォーカスするフォーカス光学系である、請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
さらに、前記干渉縞パターンを解析する解析モジュールを備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項５】
さらに、前記光学表面に結合された補助光学系を備え、前記補助光学系も前記成形波面を調整する、請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
前記第一放射ビームの前記波面を成形する前に、前記ＳＬＭが光の波面を成形して、前記補助光学系に位置合わせする、請求項５に記載のシステム。
【請求項７】
前記ＳＬＭが前記光学表面によって調整された前記成形波面を減衰させて、前記干渉縞パターンの縞の低いコントラストを補償する、請求項１に記載のシステム。
【請求項８】
前記ＳＬＭが前記第一放射ビームの波面を成形して、前記干渉計のエラーを補償し、光学表面に対応する成形波面にする、請求項１に記載のシステム。
【請求項９】
前記光学表面が凹状表面、凸状表面、反射性表面、または透過性表面である、請求項１に記載のシステム。
【請求項１０】
前記干渉計がフィゾ干渉計、トワイマン・グリーン干渉計、またはマッハ・ツェンダ干渉計のうち１つを備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項１１】
第一放射ビームおよび第二放射ビームを提供し、
前記第一放射ビームの波面を空間光変調器（ＳＬＭ）で成形して前記光学表面に対応する成形波面にし、
前記成形波面を前記光学表面で調整し、
前記光学表面によって調整された前記成形波面と前記第二放射ビームとの干渉に基づいて干渉縞パターンを生成し、
前記干渉縞パターンに基づいて前記光学表面の形状を解析することを含む、
光学表面をテストする方法。
【請求項１２】
さらに、前記光学表面に対するヌルコレクタ設計を前記ＳＬＭのための命令に変換することを含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
さらに、フォーカス光学系で前記第一放射ビームを前記ＳＬＭにフォーカスすることを含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
さらに、解析モジュールを使用することにより、前記干渉縞パターンに基づいて前記光学表面の前記形状を解析することを含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１５】
さらに、補助光学系で前記成形波面を調整することを含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１６】
前記第一放射ビームの波面を成形する前に、前記方法が、
前記ＳＬＭを使用して前記補助光学系を位置合わせすること
を含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
さらに、前記光学表面によって調整された前記成形波面を減衰させて、前記干渉縞パターンの縞の低いコントラストを補償することを含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１８】
前記成形するステップが、
空間光変調器（ＳＬＭ）で前記第一放射ビームの波面を成形して、前記第一放射ビームのエラーを補償し、前記光学表面に対応する成形波面にすることを含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１９】
前記成形するステップが、
空間光変調器（ＳＬＭ）で前記第一放射ビームの波面を成形して、光学表面に対応する成形波面にすることを含み、前記光学表面が凹状表面、凸状表面、反射性表面、または透過性表面である、請求項１１に記載の方法。
【請求項２０】
第一放射ビームおよび第二放射ビームを提供する干渉計と、
前記第一放射ビームの波面を成形して光学表面に対応する成形波面にする空間光変調器（ＳＬＭ）とを備え、前記成形された波面が、前記光学表面に入射しそれによって調整され、そして、前記光学表面の前記形状が、前記光学表面によってマッピングされた前記成形波面と前記第二放射ビームとの干渉によって生じる干渉縞パターンに基づいて解析される、
光学表面をテストするシステム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
[0001]  本発明は概ね光学系に、特に光学表面のテストに関する。
【背景技術】
【０００２】
[0002]  ヌルコレクタ(null corrector)とは、球形光学表面または非球形光学表面などの光学表面の分析に使用できる器具である。典型的なヌルコレクタは干渉計、基準光学系（１つまたは複数のミラーおよび／または１つまたは複数のレンズなど）、およびテスト光学表面を含む。干渉計はテストビームおよび基準ビームを提供する。テストビームは基準光学系によって調整され、次にテスト光学表面に入射する。テスト光学表面が「理想的」である（つまり所定の仕様内で作製された）場合、基準光学系によって調整されたビームが（ほぼ）垂直入射でテスト表面に当たる。（ほぼ）垂直入射でテスト光学表面に当たる波面を、本明細書では「ヌル波面」("null wavefront")と呼ぶ。テスト光学表面はさらに、テストビームを調整する。その後に、テストビームは干渉計に再入して、基準ビームと干渉し、その結果、干渉縞パターンになる。干渉図形に基づいて、テスト光学表面を解析し、所定の仕様内で作製されたか判断することができる。
【０００３】
[0003]  ヌルコレクタは、従来通りの光学素子または回折光学素子を使用して構築することができる。従来通りの光学素子は、屈折素子、反射素子および／または屈折素子と反射素子との組合せを含む。屈折および／または反射光学素子を含むヌルコレクタは、精度および使用できる非球面のタイプに関して制限がある。回折ヌルコレクタは通常、多くの異なるタイプの非球面光学表面をテストすることができ、通常は従来通りの光学素子を含むヌルコレクタより正確である。回折ヌルコレクタは、テストされている光学表面に対応するヌル波面を生成するように構成された回折格子を含む。
【０００４】
[0004]  ヌルコレクタの問題は、製造費が高価なことである。典型的なヌルコレクタは、特定の非球形の輪郭を解析するように設計される。元々解析用に設計されたもの以外、光学表面のテストにヌルコレクタを使用できることは稀である。ヌルコレクタに関連する臨時費用は、ヌルコレクタによって解析される光学素子の費用及び出荷スケジュールを大幅に増大させる。非球形光学表面は通常、ヌルコレクタを使用して解析されるので、典型的な非球形系の光学設計は、全球形の光学設計より作製の費用および時間がかかる。したがって、非球形系光学設計は通常、全球形光学設計と比較して優れた光学品質を有し、費用およびスケジュールのせいで通常、顧客は全球形光学設計を選択する。
【０００５】
[0005]  非球形系の光学設計に伴う典型的な高い費用およびスケジュールの遅れを回避するために、ソフトウェアに基づくヌルコレクタを使用して、非球形光学素子をテストしている。このようなソフトウェアに基づくヌルコレクタでは、干渉計に入る前に非球面の効果が相殺されない。むしろ、収差波面が干渉計を通して伝播することができる。完璧に作製された非球面が干渉計内に引き起こすエラーの量は、光線追跡プログラムを使用し、実際に測定される波面から引くことによって計算される。実際の波面と予想される波面との差は、解析中の非球形光学表面の表面エラーの尺度として使用される。しかし、この技術は、限られた範囲の非球面でしか働かない。というのは、非球面による収差は、干渉計システムを伝播する光線を周辺で暗くさせ、それによって光学表面全体の解析を妨げるからである。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
[0006]  以上を考慮し、必要とされているのは、様々な形状の光学表面をテストするために再使用できる改良型の回折ヌルコレクタである。このような改良型の回折ヌルコレクタは、回折ヌルコレクタの作製費用を削減できねばならない。さらに、このような改良型の回折ヌルコレクタは、回折ヌルコレクタの光学系で発生する予想外のエラーまたは問題を補償できねばならない。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
[0007]  本発明の実施形態は、空間光変調器（ＳＬＭ）を使用して非球形波面を生成する回折ヌルコレクタを提供することにより、上記で識別した要求に適合する。このような回折ヌルコレクタは、ＳＬＭを使用する回折ヌルコレクタを使用して、ほぼ全ての輪郭の非球形光学表面を解析できるので、作製費用を削減することができる。さらに、ＳＬＭのピクセルの作動状態を変動できるので、ＳＬＭを使用する回折ヌルコレクタは、回折ヌルコレクタの光学系で発生する予想外のエラーまたは問題を補償することができる。
【０００８】
[0008]  本発明のある実施形態によれば、干渉計、光学素子およびＳＬＭを含む光学表面のテストシステムが提供される。干渉計は、電磁放射を提供する。光学素子は、電磁放射を調整して第一放射ビームおよび第二放射ビームを提供する。ＳＬＭは、第一放射ビームの波面を成形して光学表面に対応する成形波面とする。成形波面は、光学表面に入射しそれによって調整される。光学表面の形状は、光学表面によってマッピングされた成形波面と第二放射ビームとの干渉によって生じる干渉縞パターンに基づいて解析される。このシステムは、光学表面に対応するヌルコレクタの設計をＳＬＭのための命令に変換する光学設計モジュールも含んでよい。
【０００９】
[0009]  本発明の別の実施形態によれば、以下のステップを含む光学表面のテスト方法が提供される。第一放射ビームおよび第二放射ビームを提供する。第一放射ビームの波面をＳＬＭで成形して光学表面に対応する成形波面とする。成形波面を光学表面で調整する。光学表面で調整した成形波面と第二放射ビームとの干渉に基づいて干渉縞パターンを生成する。干渉縞パターンに基づいて光学表面の形状を解析する。この方法は、光学表面に対応するヌルコレクタの設計をＳＬＭのための命令に変換することも含んでよい。
【００１０】
[0010]  さらなる形態では、ＳＬＭピクセルの作動状態に関連する残留位置エラーがあれば、全てキャリブレーションすることができる。この例では、ＳＬＭを使用して非球形波面を生成するのではなく、ＳＬＰピクセルは、非球形波面を生成するように設定される。非球形波面の利点は、その波面の絶対キャリブレーションが相対的に簡単に実行できることである。このキャリブレーションに基づき、ヌルテストに使用される回折格子パターンを生成するモジュールに、データを組み込むことができる。このようなキャリブレーション技術を使用するヌルテストは、このようなキャリブレーション技術を一切含まないヌルテストと比較して、高い精度を有する。
【００１１】
[0011]  本発明のある実施形態によりＳＬＭを使用する回折ヌルコレクタは、従来通りのヌルコレクタより有利な幾つかの例を有する。例えば、ＳＬＭを使用するヌルコレクタは、ヌルコレクタの構築に関連する費用およびスケジュールの遅延を削減することができる。というのは、このような回折ヌルコレクタを使用して、様々な形状の光学表面を解析できるからである。
【００１２】
[0012]  別の例として、ＳＬＭ上に、回折位置合わせ素子を追加せずに補助光学系を位置合わせ可能にする回折格子パターンを生成することができる。というのは、ＳＬＭ上の回折格子パターンをほぼリアルタイムで変更できるからである。補助光学系を位置合わせした後、ＳＬＭ上の回折格子パターンを変更して、非球形光学表面を解析するヌル波面を生成することができる。必要に応じて、ＳＬＭ上のピクセルＳＬＭ上のピクセルをヌルパターンから元の位置合わせパターンへと調節することができ、したがってテストシステムの位置合わせを監視することができる。
【００１３】
[0013]  さらなる例として、ＳＬＭを使用する回折ヌルコレクタは、ＳＬＭのグレイスケーリング機能を使用することによって、低い干渉縞のコントラストを補償することができる。干渉計内のテストビームと基準ビームの振幅の差が、干渉縞のコントラストを低下させることがある。ＳＬＭから出る電磁放射の振幅は、「グレイスケーリング」("gray scaling")と呼ばれる技術を使用して調節することができる。このようなグレイスケーリング技術を使用して、テストビームの振幅を調節し、基準ビームと一致させ、それによってヌルテスト中に最大の干渉縞のコントラストを確保することができる。
【００１４】
[0014]  本発明のさらなる特徴および利点、さらに本発明の様々な実施形態の構造および動作について、添付図面に関連して以下で詳細に説明する。本発明は、本明細書で説明する特定の実施形態に制限されないことが分かる。このような実施形態は、本明細書では例示のためにのみ提示されている。本明細書に含まれる教示に基づいて、当業者には追加の実施形態が明白になる。
【００１５】
[0015]  本明細書に組み込まれ、その一部を形成する添付図面は本発明を例示し、説明とともに本発明の原理を説明し、当業者が本発明を使用できるようにする働きをする。
【００１６】
[0028]  本発明の特徴および利点は、図面と関連して以下の詳細な説明を考察することで、さらに明白になる。図面では、同様の参照文字は全体を通して対応する要素を識別する。図面では、同様の参照番号は全体的に同一で、機能的に類似し、かつ／または構造的に類似する要素を示す。要素が最初に表れる図面を、対応する基準番号の左端の桁で示す。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
Ｉ．序文
Ａ．概要
[0029]  本発明の実施形態は、ＳＬＭを使用する回折ヌルコレクタ、およびこのような回折ヌルコレクタを使用する方法を対象としている。本発明のある実施形態による例示的回折ヌルコレクタは、非球形光学表面のテストに使用される。この実施形態では、干渉計が電磁放射のテストビームをＳＬＭに提供する。テストビームは、テストされている非球形光学表面に名目上、光学共役するＦ数(F-number)を有するようにフォーカスされる。実施形態では、テストビームはＳＬＭによってフォーカスすることができる。テストビームは最初にＳＬＭに入射する。ＳＬＭのピクセルを選択的にオン／オフに切り換えて、非球形光学表面のヌルテストになる波面形状を生成する回折格子パターンを提供する。ピクセルは、例えば以下でさらに詳細に説明するようにピクセルの傾斜および／またはピストン動作によって、オン／オフに切り換えることができる。
【００１８】
[0030]  ヌルコレクタは、各光線が垂直入射で光学表面に当たるように、入力ビームを構成する光線の方向を変化させる。光学表面が（実質的に）完璧である場合、光学表面に入射する各光線は、正確に干渉計へと路を引き返す。通常、特定のヌルコレクタは、特定の光学表面をテストするように作製される。このようなヌルコレクタは通常、他の光学表面の使用には使用することができない。というのは、このような他の光学表面には、垂直になるように光線を再誘導できないからである。対照的に、本発明のある実施形態による回折ヌルコレクタは、再使用して様々な形状の非球形光学表面のヌルテストを提供することができる。というのは、様々な形状の光学表面に垂直になるように、ＳＬＭピクセルを調節して、光線を再誘導することができるからである。その結果、本発明のある実施形態によるヌルコレクタには、典型的な回折ヌルコレクタに対して幾つかの利点がある。例えば、本発明のある実施形態によりＳＬＭを使用するヌルコレクタは、典型的なヌル修正機の構築に伴う費用およびスケジュールの遅延を削減することができる。
【００１９】
[0031]  ヌルテストを実行するためにＳＬＭ上に所望の回折格子パターンを生成するために、光学設計モジュールを使用する。典型的な回折ヌルコレクタでは、設計モジュールを使用して、テストされている非球形光学表面に対応するリソグラフィマスクを書く。本発明のある実施形態による設計モジュールは、リソグラフィマスクを書くのではなく、ＳＬＭのピクセルの命令を生成するために使用される。回折ヌルコレクタの設計の終了直後に、所望の回折格子パターンがＳＬＭ上にあることが可能であり、非球形光学表面のテストを開始することができる。
【００２０】
[0032]  実施形態では、ＳＬＭは正確なヌルテスト形状を生成しない。むしろこの実施形態では、ＳＬＭを使用して、非球形を補償し、ソフトウェアヌルを使用して、残留エラーを修正する。
【００２１】
Ｂ．定義
[0033]  本明細書で使用する「空間光変調器」（Spatial Light Modulator ＳＬＭ）という用語は、基板のターゲット部分（テストされている非球形光学表面など）に所望のパターンを生成できるように、入射放射ビームにパターン付与された断面を与えるために使用することができる任意のデバイスを指すものと広義に解釈されたい。ＳＬＭは反射性デバイスでも透過性デバイスでもよい。特定の種類のＳＬＭの例、つまりプログラマブルミラーアレイおよび回折格子ライトバルブは、本明細書では例示の目的のみで検討され、制限的ではない。しかし、本発明はプログラマブルミラーアレイまたは回折格子ライトバルブに制限されない。本明細書に含まれる説明に基づき、当業者には、他のタイプの反射性ＳＬＭ、透過性ＳＬＭ、またはその組合せを使用して本発明を実現する方法が理解される。
【００２２】
[0034]  実施形態では、プログラマブルミラーアレイ(programmable mirror array)は、粘弾性制御層（つまり相当の粘性と弾性特性の組合せを有する表面）および反射性表面を有するマトリクスアドレス可能表面を備えることができる。こうした装置の基本的原理は、例えば反射面のアドレスされた区域は入射光を回折光として反射するが、アドレスされていない区域は入射光を非回折光として反射するといったことである。アドレス指定は、バイナリであるか、複数の中間角度のうち任意の１つまたは複数を通して実行することができる。適切なフィルタを使用することにより、非回折光を反射ビームからフィルタで除去し、回折光のみを基板に到達させることが可能である。この方法において、ビームはマトリクスアドレス可能表面のアドレスパターンに従ってパターン形成される。
【００２３】
[0035]  別の実施形態では、回折格子ライトバルブ(grating light valve)を使用して、回折光をフィルタで除去し、非回折光を基板に到達させることができる。この実施形態では、回折光学ＭＥＭＳデバイス(diffractive optical MEMS device)のアレイも、対応する方法で使用することができる。各回折光学ＭＥＭＳデバイスは、入射光を回折光として反射する回折格子を形成するために、相互に対して変形可能な複数の反射性リボンを含むことができる。
【００２４】
[0036]  さらなる実施形態は、微小なミラーのマトリクス配列を使用するプログラマブルミラーアレイを含み、そのミラーの各々は、適した局部電界を適用することによって、もしくは圧電起動手段を用いることによって、軸線を中心に個々に傾斜可能である。この場合も、ミラーはマトリクスアドレス可能であり、したがってアドレスされたミラーはアドレスされていないミラーとは異なる方向に入射の放射線ビームを反射する。このようにして、反射されたビームはマトリクスアドレス可能ミラーのアドレスパターンに従いパターン化される。必要とされるマトリクスアドレス指定は適切な電子手段を用いて実行することができる。一例では、ミラーのグループを一緒に調整して、単一の「ピクセル」としてアドレスすることができる。この例では、照明システムの光学素子は光のビームを形成することができ、したがって各ビームはミラーの個々のグループに入る。これをディジタルミラーデバイスと呼ぶことがある。
【００２５】
[0037]  本明細書で「１つの実施形態」、「ある実施形態」、「例示的実施形態」などと言及する場合、それは説明される実施形態が特定の形体、構造または特徴を含むことができるが、全ての実施形態が必ずしも特定の形体、構造または特徴を含まないことが分かる。さらに、このような文言は必ずしも同じ実施形態を指さない。さらに、特定の形体、構造、または特徴をある実施形態と関連して説明する場合は、このような形体、構造、または特徴を他の実施形態と関連して実行することが、当業者の知識にあることが提示される。
【００２６】
ＩＩ．回折ヌルコレクタ(Diffractive Null Correctors)
[0038]  本発明の実施形態について詳細に説明する前に、回折ヌルコレクタを概観しておくと助けになる。上述したように、典型的なヌルコレクタは干渉計、基準光学系（１つまたは複数のミラーおよび／または１つまたは複数のレンズなど）、およびテスト光学表面を含む。ヌルコレクタで使用できる例示的干渉計はトワイマン・グリーン干渉計(Twyman-Green interferometer)、フィゾ干渉計(Fizeau interferometer)、マッハ・ツェンダ干渉計(Mach-Zehnder interferometer)、または当業者に明白であるような別のタイプの干渉計を含むが、それに制限されない。光学表面を解析するためにヌルコレクタを使用する実際の方法は、ヌルコレクタに含まれる特定の干渉計によって決定される。
【００２７】
[0039]  図１は、光学表面の解析に使用できる例示的フィゾ干渉計１００を示す。フィゾ干渉計１００はレーザ１０１、ビームコンバイナ１０３、および結像レンズ１１１を含む。動作時には、レーザ１０１はレーザ光の形態で電磁放射を提供する。レーザ光は透過球１０５および基準表面１０７に向かって誘導される。透過球１０５は、コネチカット州MiddlefieldのZygo Corporationが製造するような透過球でよい。基準表面１０７で、レーザ光の一部（本明細書では基準ビームと呼ぶ）が反射してビームコンバイナ１０３に戻り、レーザ光の一部（本明細書ではテストビームと呼ぶ）がテストミラー１０９へと透過する。ある実施形態では、レーザ光の約４パーセントが反射して、ビームコンバイナ１０３に戻る。基準ビームは、ビームコンバイナ１０３によって結像レンズ１１１へと誘導される。テストビームは、基準表面１０７によって調整され、次にテストミラー１０９に入射する。
【００２８】
[0040]  テストミラー１０９が理想的である場合、基準表面１０５によって調整されたビームは、（ほぼ）垂直入射でテストミラー１０９に当たるはずである。テストミラー１０９はさらにテストビームを調整する。その後、テストビームは透過して戻り、基準表面１０７および透過球１０５を通過してから、ビームコンバイナ１０３に当たる。テストビームは、ビームコンバイナ１０３に入射した後、結合レンズ１１１によって集束し、基準ビームと干渉して、干渉図形１１１３になるか、さらに一般的には干渉縞パターンになる。図２Ａおよび図２Ｂは、以下で検討する例示的干渉縞パターンを示す。干渉図形１１３に基づいて、テストミラー１０９を解析することができる。
【００２９】
[0041]  図２Ａは、例示的干渉図形１１３などの例示的干渉縞パターン２００を示す。干渉縞パターンは、２つの回折格子を通過する電磁放射の干渉の結果生じる干渉パターンである。図２Ａに示すように、干渉パターンは明るい縞と暗い縞を含む。明るい縞は、２つの回折格子を通過する電磁放射の強め合う干渉によって引き起こされる。暗い縞は、２つの回折格子を通過する電磁放射の弱め合う干渉によって引き起こされる。２つの回折格子が同一の直線回折格子ではない場合、干渉縞パターンは直線の等間隔の縞で構成されない。
【００３０】
[0042]  図２Ｂは、干渉縞パターンの一部の単純化した図を示し、テスト光学表面の解析にこのパターンを使用できる方法を示す。図２Ｂには、明るい縞２２０ａ、２２０ｂの理想的セットおよび明るい縞２１０ａ、２１０ｂの実際のセットが描かれている。明るい縞２２０は、基準光学系によって調整された電磁放射が垂直入射でテスト光学表面に当たった場合に、干渉縞パターンの一部がそのように見えるべきかを、これらの線が描くという意味で「理想的」である。つまり、テスト光学表面は所定の仕様内で作製される。明るい縞２１０は、干渉縞パターンの実際の明るい縞を描いている。
【００３１】
[0043]  理想的な明るい縞２２０からの実際の明るい縞２１０の偏差を、テスト光学表面の断面高さにおける量的エラーの尺度として使用することができる。特に、テスト光学表面の表面高さエラーｈは、下式によって与えられる。
【数１】
2008145419.tif 000003
ここでλは電磁放射の波長を表し、Δは理想的な明るい縞２２０ａと２２０ｂの間の距離を表し、Ｓは理想的な明るい縞２２０ａからの実際の明るい縞２１０ａの最大偏差を表す。
【００３２】
ＩＩＩ．本発明の実施形態によりＳＬＭを使用する例示的な回折ヌルコレクタ
[0044]  本発明のある実施形態によるＳＬＭに基づく回折性テスト光学系は、ミラー、レンズ、および光学システムのテストに使用することができる。このようなＳＬＭは"Set-and-Forget"設計である。ＳＬＭの回折格子パターンは用途毎に調整され、したがってマスクレスリソグラフィシステムでよくあるように、ＳＬＭピクセルの作動状態を変更する必要はない。ＳＬＭピクセルの作動状態は比較的単純にすることができる。というのは、グレイスケール効果を生成するために、作動状態の迅速な調節が必要ないからである。ＳＬＭピクセルの作動状態は、例えば本明細書でさらに詳細に説明するように、ピクセルの傾斜および／またはピストン動作によって調節することができる。本発明のある実施形態によりグレイスケーリング効果を使用し、例えば干渉図形の縞のコントラストを改善することができる。例では、テストされている表面またはシステムによって調整されている電磁放射の量と一致させるために、ＳＬＭによって回折される電磁放射の量を調節することによって、縞のコントラストが改善される。
【００３３】
[0045]  リソグラフィで生産される回折ヌルコレクタには、通常、約４から１００μｍの回折格子周期範囲が使用される。現在作製されているＳＬＭは、例えば約２×２μｍしかないピクセルを含むことがある。ＳＬＭからの回折次数のエネルギ量は、ＳＬＭ上に生成される回折格子パターンを調節することによって（つまり、任意の１つの時間にオン／オフであるピクセルを調節することによって）調節することができる。したがって、現在作製されているＳＬＭを、本発明のある実施形態によりＳＬＭを使用する回折ヌルコレクタに使用することができる。
【００３４】
[0046]  ＳＬＭピクセルは、図１１Ａおよび図１１Ｂで個々に示すように、ＳＬＭピクセルの傾斜および／またはピストン動作によってオン／オフに切り換えることができる。図１１Ａおよび図１１Ｂは両方とも、ＳＬＭピクセル１１０２、可撓性マウント１１０４、および電極１１０６、１１０８の側面図を示す。図１１Ａに示すように、ＳＬＭピクセル１１０２と電極１１０６の間に静電位を与えて、ＳＬＭピクセル１１０２を傾斜させることができる。図１１Ｂに示すように、ＳＬＭピクセル１１０２と両方の電極１１０６および１１０８の間に静電位を与えて、ＳＬＭピクセル１１０２を（上または下方向に）ピストン動作させることができる。図１１Ａおよび図１１Ｂに示す実施形態では、可撓性マウント１１０４は、ＳＬＭピクセル１１０２が傾斜かつ／またはピストン動作できるように構成される。ＳＬＭピクセル１１０２が傾斜かつ／またはピストン動作できるように可撓性マウント１１０４を製造する方法は、当技術分野で知られている。
【００３５】
[0047]  本発明のある実施形態によりＳＬＭを使用する回折ヌルコレクタは、凹状光学表面、凸状光学表面、またはその組合せ（望遠鏡、カメラ、または他の何らかの光学システム）のテストに使用することができる。以下では、凹状光学表面および凸状光学表面のヌルテストを実行するためにＳＬＭを使用する回折ヌルコレクタを使用する例について、さらに詳細に説明する。
【００３６】
[0048]  これらの例は、例示のためにのみ提示され、制限的ではない。これらの例では、テストされている光学表面で電磁放射を反射させることによって、ヌルテストを実行する。しかし、本発明はこのような反射性の実施形態に制限されない。本明細書に含まれる説明に基づいて、当業者にはＳＬＭを使用する回折ヌルコレクタを実現する方法が理解され、ヌルテストは、テストされている光学表面に電磁放射を透過させることによって実行される。ＳＬＭを使用を使用する反射性回折ヌルコレクタと透過性回折ヌルコレクタの両方が、本発明の精神および範囲に含まれるよう想定されることを理解されたい。
【００３７】
Ａ．本発明の実施形態により凹状非球形光学表面を解析する例示的回折ヌルコレクタの構成
[0049]  図３は、回折ヌルコレクタ３００を使用して凹状非球面３０７をテストする実施形態を示すブロック図を示す。回折ヌルコレクタ３００は、干渉計３０１、フォーカス光学系３０３、ＳＬＭ３０５、および光学設計モジュール３１１を含む。干渉計３０１は、フィゾ干渉計、トワイマン・グリーン干渉計、またはマッハ・ツェンダ干渉計などの当業者に明白な任意のタイプの干渉計でよい。ある実施形態では、干渉計３０１は、図１に示すようなフィゾ干渉計である。代替実施形態では、干渉計３０１は、図５に示すようなトワイマン・グリーン干渉計、図６に示すようなアテニュエータを含むフィゾ干渉計、または図７に示すようなマッハ・ツェンダ干渉計でよい。
【００３８】
[0050]  フォーカス光学系３０３は当業者に明白であるように単一のレンズ、レンズの集まりでよく、ミラーおよび他の光学素子でよい。フォーカス光学系３０３は、電磁放射を、テストされている光学表面３０７に対応するＦ数にフォーカスするように機能する。このようなフォーカス光学系は、当業者によく知られている。例えば、フォーカス光学系３０３は、コネチカット州MiddlefieldのZygo Corporationが製造するような透過球を備えてよい。
【００３９】
[0051]  ＳＬＭ３０５は、複数の個々に制御可能な素子またはピクセルを備える。各ピクセルは、電磁放射を反射（透過）するような構成である。ＳＬＭ３０５のピクセルの状態を変更して、反射（透過）する電磁放射の量を調節することができる。例示的なＳＬＭピクセルの状態はオン、オフ、またはオンとオフの中間状態であり、中間状態を以降では「グレイトーン」("graytone")と呼ぶ。オン状態では、ＳＬＭピクセルは最大量の電磁放射を反射（透過）する。オフ状態では、ＳＬＭピクセルは電磁放射を反射（透過）しない。ＳＬＭピクセルのグレイトーンは、オン状態より少ないが、オフ状態より多い電磁放射の量を反射（透過）する。図８は、ＳＬＭ３０５のある区間８０１を示し、オンまたはオフ状態のＳＬＭピクセルを示す。ＳＬＭ３０５の区間８０１の影がないボックスは、オン状態のピクセルを表し、影のあるボックスはオフ状態のピクセルを表す。
【００４０】
[0052]  ある実施形態では、ＳＬＭ３０５は、フォーカス光学系３０３から出る電磁放射のＦ数も変化させることができる。通常、解析されている光学表面に正確に対応するＦ数を有する電磁ビームを提供するには、複数の光学素子（透過球など）が必要である。しかしこの実施形態では、１つの光学素子（透過球）を使用することができる。というのは、解析されている光学表面に対応するように、ＳＬＭ３０５を使用してＦ数を修正できるからである。
【００４１】
[0053]  光学設計モジュール３１１は２つの機能を果たす。第一に、光学表面３０７のヌルテストを実行するために必要な回折格子を決定する。つまり、回折格子に入射する入力光線が、テスト光学表面に入射するように回折される。テスト光学表面が理想的である場合、回折した光線は垂直入射でテスト光学表面に当たる。第二に、光学設計モジュール３１１は、ヌルテストを実行するために必要な回折構成に関する情報をＳＬＭ３０５の命令に変換する。命令は、光学表面３０７のヌルテストを実行するために、どのＳＬＭピクセルをオンに切り換え、どのＳＬＭピクセルをオフに切り換えるか制御する。光学設計モジュール３１１は、当業者に明白であるように、ソフトウェア、ハードウェア、ファームウェア、またはその組合せで実現することができる。
【００４２】
[0054]  次に、回折ヌルコレクタ３００の動作について説明する。図３を参照すると、干渉計３０１が電磁放射のビームを提供する。ビームはフォーカス光学系３０３に誘導される。フォーカス光学系３０３で、電磁放射のビームの一部（本明細書では基準ビームと呼ぶ）が反射して干渉計３０１に戻り、電磁放射のビームの一部（本明細書ではテストビームと呼ぶ）がフォーカス光学系３０３を透過する。フォーカス光学系３０３を透過したテストビームは、ＳＬＭ３０５に誘導される球面波となる。光学設計モジュール３１１は、ＳＬＭ３０５に命令を与えて、どのピクセルをオンに切り換え、どのピクセルをオフに切り換えるか制御し、回折格子パターンとなる。球面波がＳＬＭ３０５に当たった後、ＳＬＭ３０５上の回折格子パターンによって非球面波が生成される。回折格子パターンによって生成された非球面波は、ほぼ垂直入射で光学表面３０７へと誘導されるテストビームの光線となる。
【００４３】
[0055]  光学表面３０７で調整された後、光線は反射して、ＳＬＭ３０５上の回折格子パターンに戻る。回折格子パターンで、非球形波面はＳＬＭ３０５によって再パターン化され、次に干渉計３０１に再び入り、ここで干渉パターンが生成される。凹状光学表面３０７がエラーを有する場合、凹状光学表面３０７から反射した光線は、電磁放射の基準ビームからの光線とは異なる路を進む。異なる路は光路差（「ＯＰＤ」）を生成し、その結果、干渉パターンは図２Ａに示す干渉縞パターンと同様に歪められる。測定したＯＰＤエラーを使用して、図２Ｂに関して上述したのと同様の方法で凹状光学表面３０７を解析する。
【００４４】
[0056]  ある実施形態では、干渉パターンに基づいて光学表面３０７を解析する解析モジュール３１５に、干渉計３０１を結合する。干渉パターンを解析する解析モジュールは、当業者に知られている。解析モジュール３１５は、ソフトウェア、ファームウェア、ハードウェア、またはその組合せで実現することができる。解析は、例えば表面を所定の仕様に一致させるために凹状光学表面３０７を研磨する方法を決定するために使用することができる。
【００４５】
[0057]  典型的なヌルコレクタでは、アテニュエータを使用して、解析されている高度に反射性の光学表面（望遠鏡のミラーなど）から反射する電磁放射を減衰する。しかし、典型的なヌル修正機とは異なり、本発明のある実施形態による回折ヌルコレクタでは、このようなアテニュエータは必要ない。例えば、ある実施形態では、回折ヌルコレクタ３００が、ＳＬＭ３０５のグレイスケーリング技術を使用することにより、光学表面３０７から反射した電磁放射を減衰する。別の実施形態では、上述したキャリブレーション技術を使用して、ＳＬＭ３０５のピクセルの作動状態をキャリブレーションすることができる。さらなる実施形態では、ＳＬＭ３０５のピクセルの作動状態を調節して、回折ヌルコレクタ３００の素子によって引き起こされるエラーを補償することができる。このようなエラーは、当業者には明白であるように、干渉計３０１、フォーカス光学系３０３、または回折ヌルコレクタ３００に含まれる別の素子によって引き起こされることがある。
【００４６】
Ｂ．本発明の実施形態により凸状非球形光学表面を解析する例示的回折ヌルコレクタの構成
[0058]  図４は、回折ヌルコレクタ３００を使用して凸状非球面４０７をテストする実施形態を示すブロック図を示す。図４に示す実施形態では、回折ヌルコレクタ３００は干渉計３０１、フォーカス光学系３０３、ＳＬＭ３０５、および光学設計モジュール３１１を含む。また、回折ヌルコレクタ３００は、テストされている凸状光学表面４０７に関連する補助光学系４０９を含んでよい。
【００４７】
[0059]  図４に示す回折ヌルコレクタ３００の実施形態は、図３に示した実施形態と同様の方法で機能するが、補助光学系４０９を使用することができる。凸状光学表面４０７がＳＬＭ３０５より小さい場合、凸状光学表面４０７は補助光学系４０９なしでテストすることができる。しかし、凸状光学表面４０７がＳＬＭ３０５より大きい場合、ＳＬＭ３０５からの回折電磁放射を凸状光学表面４０７に入射させるために、補助光学系４０９が必要である。補助光学系４０９は波面の形状を変化させるので、これは回折ヌルコレクタの設計プロセスに含まれる。ＳＬＭ３０５上の回折格子パターンと補助光学系４０９の組合せにより、垂直入射（近く）で凸状光学表面４０７に当たる非球形波面の形状が生成される。ある実施形態では、ＳＬＭ３０５上の回折パターンを使用して、上述したように補助光学系４０９を位置合わせする。
【００４８】
[0060]  本発明のある実施形態によりＳＬＭを使用する回折ヌルコレクタには、他のタイプの干渉計を使用してもよい。例えば、図５はテストミラー５０９の解析に使用される例示的トワイマン・グリーン干渉計５００の図を示す。トワイマン・グリーン干渉計５００はレーザ５０１、ビームスプリッタ５０３、結像レンズ５１１、および透過球５０７を含む。トワイマン・グリーン干渉計５００は、上述した干渉計１００と実質的に同様の方法で動作する。例えば基準ミラー５０５を使用し、干渉図形５０３に基づいてテストミラー５０９を解析することができる。ある実施形態では、トワイマン・グリーン干渉計５００がヌルコレクタ３００内で干渉計３０１として働く。
【００４９】
[0061]  図６は、テストミラー６０９の解析に使用される別の例示的フィゾ干渉計６００の図を示す。フィゾ干渉計６００はレーザ６０１、ビームスプリッタ６０３、および結像レンズ６１１を含む。アテニュエータ６０５は、テストミラー６０９の高度に反射性の表面から反射する電磁放射を減衰する。アテニュエータ６０５による電磁放射の減衰を除き、フィゾ干渉計６００は上述した干渉計１００と実質的に同様の方法で動作する。例えば、基準表面６０７および透過球６０５を使用し、干渉図形６１３に基づいてテストミラー６０９を解析することができる。ある実施形態では、フィゾ干渉計６００がヌルコレクタ３００内で干渉計３０１として働く。
【００５０】
[0062]  図７は、サンプルの光学表面７０７の解析に使用される例示的マッハ・ツェンダ干渉計７００の図を示す。マッハ・ツェンダ干渉計７００はレーザ７０１、ビームスプリッタ７０３、ビームコンバイナ７１７、結像レンズ７１３、および反射性光学表面７０９を含む。動作時には、レーザ７０１がレーザ光の形態で電磁放射のビームを提供する。レーザ光のビームは、ビームスプリッタ７０３によってテストビームと基準ビームに分割される。テストビームは、（上述したＳＬＭ３０５と同様に）ＳＬＭを使用７０５へと誘導され、次にサンプル光学表面７０７を透過し、それによって調整される。基準ビームは反射性光学表面７０９へと誘導される。次に、テストビームと基準ビームは第二ビームスプリッタ７１７によって組み合わせられる。組み合わせたビームは結像レンズ７１３によって集束され、その結果、干渉図形７１５になる。サンプル光学表面７０７は、上述し、当技術分野でよく知られているように、干渉図形７１５に基づいて解析することができる。ある実施形態では、マッハ・ツェンダ干渉計７００が本発明のある実施形態によりヌルコレクタ内で使用される干渉計として働く。
【００５１】
ＩＶ．本発明の実施形態により（非球形）光学表面を解析する例示的方法
[0063]  図９は、本発明のある実施形態により非球形光学表面を解析する方法９００を示すブロック図を示す。方法９００は、図３に示す回折ヌルコレクタ３００の構成、図４に示す回折ヌルコレクタ３００の構成、または当業者に明白であるような何らかの他の構成によって実現することができる。
【００５２】
[0064]  方法９００は、第一および第二電磁放射ビームを提供するステップ９１０で開始する。ある実施形態では、図３に関して上述したように、第一ビームはフォーカス光学系３０３から反射する電磁放射の一部であり、第二ビームはフォーカス光学系３０３を透過する電磁放射の一部である。第一および第二ビームは、例えばレーザ光または同様の電磁放射源のビームでよい。
【００５３】
[0065]  ステップ９２０で、電磁放射の第一ビームをＳＬＭで成形して、テストされている光学表面に対応する成形波面を生成する。第一ビームの成形に使用するＳＬＭは、図３および図４に示したＳＬＭ３０７、または当業者に明白であるような何らかの他のＳＬＭでよい。テストされている光学表面は凹状、凸状、反射性、透過性、球形、非球形などでよい。
【００５４】
[0066]  ステップ９３０で、ＳＬＭからの成形波面を、テストされている光学表面によって調整する。例えば、成形波面は、（図３および図４に示すように）光学表面で反射することができる。別の例では、成形波面は、（例えば図７に示すように）テストされている光学表面を透過することができる。
【００５５】
[0067]  ステップ９４０で、（ｉ）テストされている光学表面によって調整された成形波面と、（ｉｉ）電磁放射の第二ビームとの干渉に基づいて、干渉縞パターンを生成する。例えば、干渉縞パターンは、図２Ａに示した干渉縞パターンと同様でよい。
【００５６】
[0068]  ステップ９５０で、ステップ９４０にて生成した干渉縞パターンに基づき、光学表面の形状を解析する。上述したように、干渉縞パターンに基づいて光学表面を解析する方法は、当業者によく知られている。例えば、解析モジュール３１５で干渉縞パターンを解析することができる。
【００５７】
Ｖ．本発明による例示的なコンピュータの実現
[0069]  本発明の態様（例えば干渉計３０１、ＳＬＭ３０５、解析モジュール３１５、および光学設計モジュール３１１）は、ハードウェア、ソフトウェアまたはその組合せを使用して実現することができ、１つまたは複数のコンピュータシステムまたは他の処理システム内で実現することができる。本発明の実施形態によって実行される操作を、（通常は人間のオペレータが実行する知的動作に関連する）追加または比較などに関して言及してきたが、本明細書で説明され、本発明の一部を形成する動作のいずれでも、人間のオペレータのこのような能力は必要なく、大部分のケースでは望ましくもない。本発明の動作は、機械の動作である。本発明の動作を実行するために有用な機械は、汎用デジタルコンピュータまたは同様のデバイスを含む。
【００５８】
[0070]  実際に１つの実施形態では、本発明の実施形態は干渉計３０１、ＳＬＭ３０５、解析モジュール３１５、および光学設計モジュール３１１に関連する機能の全てまたは一部を実行することができる１つまたは複数のコンピュータシステムを指向する。コンピュータシステム１０００の例が、図１０に図示されている。
【００５９】
[0071]  コンピュータシステム１０００は、プロセッサ１００４などの１つまたは複数のプロセッサを含む。プロセッサ１００４は、汎用プロセッサ（ＣＰＵなど）または専用プロセッサ（ＧＰＵなど）でよい。プロセッサ１００４は、通信基盤１００６（例えば通信バス、クロスオーババー、またはネットワーク）に接続される。この例示的コンピュータシステムに関して、様々なソフトウェアの実施形態について説明する。その説明を読むと、他のコンピュータシステムおよび／またはアーキテクチャを使用して本発明を実現する方法が当業者には明白になる。
【００６０】
[0072]  コンピュータシステム１０００は、ディスプレイユニット１０３０に表示するためにグラフィクス、テキストおよび他のデータを通信基盤１００６から（または図示されていないフレームバッファから）転送するディスプレイインタフェース１００２を含んでよい。
【００６１】
[0073]  コンピュータシステム１０００は、メインメモリ１００８、好ましくはランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）も含み、補助メモリ１０１０も含んでよい。補助メモリ１０１０は、例えばハードディスクドライブ１０１２および／または可換型（リムーバブル）ストレージドライブ１０１４を含んでよく、これはフロッピー（登録商標）ディスクドライブ、磁気テープドライブ、光ディスクドライブなどを表す。可換型ストレージドライブ１０１４は、よく知られている方法で可換型（リムーバブル）ストレージユニット１０１８に読み書きする。可換型ストレージユニット１０１８は、可換型ストレージドライブ１０１４によって読み書きされるフロッピー（登録商標）ディスク、磁気テープ、光ディスクなどを表す。認識されるように、可換型ストレージユニット１０１８は、コンピュータソフトウェアおよび／またはデータを記憶するコンピュータで使用可能な記憶媒体を含む。
【００６２】
[0074]  代替実施形態では、補助メモリ１０１０は、コンピュータプログラムまたは他の命令をコンピュータシステム１０００にロードできるようにする他の同様のデバイスを含んでよい。このようなデバイスは、例えば可換型ストレージユニット１０２２およびインタフェース１０２０を含む。その例は（ビデオゲームデバイス内に見られるような）プログラムカートリッジおよびカートリッジインタフェース、（イレーサブルプログラマブルリードオンリーメモリ（ＥＰＲＯＭ）またはプログラマブルリードオンリーメモリ（ＰＲＯＭ）などの）リムーバブルメモリチップ、および関連するソケット、およびソフトウェアおよびデータを可換型（リムーバブル）ストレージユニット１０２２からコンピュータシステム１０００へと伝送できるようにする他の可換型ストレージユニット１０２２およびインタフェース１０２０を含む。
【００６３】
[0075]  コンピュータシステム１０００は、通信インタフェース１０２４も含んでよい。通信インタフェース１０２４は、ソフトウェアおよびデータをコンピュータシステム１０００と外部デバイスとの間で伝送できるようにする。通信インタフェース１０２４の例はモデム、（イーサネット（登録商標）カードなどの）ネットワークインタフェース、通信ポート、パソコンメモリカード国際協会（ＰＣＭＣＩＡ）のスロットおよびカードなどを含む。通信インタフェース１０２４を介して伝送されるソフトウェアおよびデータは信号１０２８の形態であり、これは通信インタフェース１０２４が受信可能である電子信号、電磁信号、光信号または他の信号でよい。信号１０２８は、通信路（例えばチャネル）１０２６を介して通信インタフェース１０２４に提供される。このチャネル１０２６は信号１０２８を搬送し、線またはケーブル、光ファイバ、電話線、セルラリンク、無線周波（ＲＦ）リンクおよび他の通信チャネルを使用して実現することができる。
【００６４】
[0076]  本書では、「コンピュータプログラム媒体」および「コンピュータ使用可能媒体」という用語を、概ね可換型ストレージドライブ１０１４、ハードディスクドライブ１０１２内にインストールされたハードディスク、および信号１０２８などの媒体を指すために使用する。これらのコンピュータプログラム製品は、コンピュータシステム１０００にソフトウェアを提供する。本発明は、このようなコンピュータプログラム製品を指向する。
【００６５】
[0077]  コンピュータプログラム（コンピュータ制御論理とも呼ばれる）は、メインメモリ１００８および／または補助メモリ１０１０に記憶される。コンピュータプログラムは、通信インタフェース１０２４を介して受信することもできる。このようなコンピュータプログラムは、実行されると、本明細書で検討するようにコンピュータシステム１０００が本発明の形体を実行できるようにする。特に、コンピュータプログラムは、実行されると、プロセッサ１００４が本発明の形体を実行できるようにする。したがって、このようなコンピュータプログラムはコンピュータシステム１０００の制御プログラムを表す。
【００６６】
[0078]  ソフトウェアを使用して本発明を実現するある実施形態では、ソフトウェアをコンピュータプログラム製品に記憶し、可換型ストレージドライブ１０１４、ハードドライブ１０１２または通信インタフェース１０２４を使用して、コンピュータシステム１０００にロードすることができる。制御論理（ソフトウェア）は、プロセッサ１００４によって実行されると、プロセッサ１００４に本明細書で説明するような本発明の機能を実行させる。
【００６７】
[0079]  別の実施形態では、本発明を、例えば特定用途向け集積回路（Application Specific Integrated Circuits ＡＳＩＣ）などのハードウェア構成要素を使用して主にハードウェアで実行する。本明細書で説明した機能を実行するようにハードウェア状態機械を実現することは、当業者には明白である。
【００６８】
[0080]  さらに別の実施形態では、ハードウェアとソフトウェアの両方の組合せを使用して、本発明を実現する。
【００６９】
ＶＩ．結論
[0081]  課題を解決するための手段および要約の項目ではなく、発明を実施するための最良の形態の項目が、請求の範囲の解釈に使用されるものであることを認識されない。課題を解決するための手段および要約の項目は、本発明の発明者が想定した本発明の例示的実施形態のうち１つまたは複数を述べているが、全部を述べたものではなく、したがって本発明および請求の範囲をいかなる意味でも制限するものではない。
【図面の簡単な説明】
【００７０】
【図１】[0016]  光学表面のテストに利用できる例示のフィゾ干渉計の線図を示す。
【図２Ａ】[0017]  表面の解析に使用できる例示の干渉縞パターンを示す。
【図２Ｂ】[0018]  光学表面の解析に回折縞パターンを使用できる方法を示す。
【図３】[0019]  本発明の実施形態により凹（非球）面を解析するように構成されたＳＬＭを使用する回折ヌルコレクタを示すブロック図である。
【図４】[0020]  本発明の実施形態により凸（非球）面を解析するように構成されたＳＬＭを使用する回折ヌルコレクタを示すブロック図である。
【図５】[0021]  本発明の実施形態により光学表面のテストに使用できる例示のトワイマン・グリーン干渉計の線図を示す。
【図６】[0022]  本発明の実施形態により高い反射性の光学表面のテストに使用できる別の例示のフィゾ干渉計の線図を示す。
【図７】[0023]  本発明の実施形態による光学表面のテストに使用できる例示のマッハ・ツェンダ干渉計の線図を示す。
【図８】[0024]  本発明の実施形態により回折格子パターンを生成するために傾斜した（オン／オフ）マイクロミラーを示す例示的ＳＬＭの部分の図を示す。
【図９】[0025]  本発明の実施形態により光学表面を解析する方法を示すブロック図を示す。
【図１０】[0026]  本発明の実施形態を実現できる例示的コンピュータシステムのブロック図を示す。
【図１１Ａ】[0027]  本発明の実施形態によるＳＬＭピクセルの傾斜および配置を示すブロック図を示す。
【図１１Ｂ】[0027]  本発明の実施形態によるＳＬＭピクセルの傾斜および配置を示すブロック図を示す。
【図１】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１Ａ】
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【図１１Ｂ】
2008145419.tif 000016
【外国語明細書】
2008145419000001.pdf