(57)【要約】【課題】３つの電極で２つの放電空間を形成するプラズマ処理装置において、中央の電極を確実に固定する。【解決手段】中央電極２１の一側に第１外側電極２２Ｌを配置し、反対側に第２外側電極２２Ｒを配置する。第１外側電極２２Ｌの中央側の面を第１誘電部材３２Ｌで覆い、第２外側電極２２Ｒの中央側の面を第２誘電部材３２Ｒで覆う。誘電部材３２Ｌ，３２Ｒに複数の凸部３２ｆを形成し、これら凸部３２ｆを中央電極２１に当て、中央電極２１を挟み付ける。隣り合う凸部３２ｆ，３２ｆが放電空間３２ｅになる。【選択図】図１
2008257920.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理ガスを、第１、第２の放電空間に導入して噴き出し、前記２つの放電空間の外部の被処理物に接触させるプラズマ処理装置において、
中央電極と、
前記中央電極の一側に配置された第１の外側電極と、
前記中央電極の他側に配置された第２の外側電極と、
前記第１外側電極の中央電極との対向面を覆うとともに前記中央電極との間に前記第１放電空間を形成する固体誘電体からなる第１誘電部材と、
前記第２外側電極の中央電極との対向面を覆うとともに前記中央電極との間に前記第２放電空間を形成する固体誘電体からなる第２誘電部材と、を備え、
前記第１誘電部材に前記中央電極側へ突出する第１凸部が形成され、
前記第２誘電部材に前記中央電極側へ突出する第２凸部が形成され、
前記第１凸部と第２凸部が、前記中央電極に両側から当てられていることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項２】
前記第１誘電部材と第２誘電部材とが、締め付け手段にて互いに接近方向に締め付けられ、前記第１凸部と第２凸部とが、前記中央電極に両側から押し当てられていることを特徴とする請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項３】
前記第１凸部が、前記第１放電空間に処理ガスを導入する側から噴き出す側へ延びていることを特徴とする請求項１又は２に記載のプラズマ処理装置。
【請求項４】
前記第１凸部が、その延び方向と直交する方向に間隔を置いて複数設けられ、隣り合う２つの第１凸部どうしの間が、前記第１放電空間となることを特徴とする請求項３に記載のプラズマ処理装置。
【請求項５】
前記第１、第２誘電部材が、前記中央電極より前記処理ガスを導入する側へ突出され、この突出部分どうしの間に共通導入路が画成され、この共通導入路が、処理ガス源に連なるとともに前記第１、第２放電空間の両方に連なっていることを特徴とする請求項３又は４に記載のプラズマ処理装置。
【請求項６】
前記中央電極の周縁に設けられた固体誘電体からなる中央誘電部材を、さらに備え、
前記中央誘電部材が、前記中央電極と略同じ厚さを有し、前記中央電極と共に前記第１、第２誘電部材によって両側から挟持されていることを特徴とする請求項１〜５の何れかに記載のプラズマ処理装置。
【請求項７】
前記中央誘電部材が、前記中央電極の少なくとも処理ガス噴出し側の縁に設けられていることを特徴とする請求項６に記載のプラズマ処理装置。
【請求項８】
前記第１、第２誘電部材の何れか一方に、前記中央電極の周縁に添う枠部が設けられていることを特徴とする請求項１〜５の何れかに記載のプラズマ処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、処理ガスを放電空間でプラズマ化し、放電空間の外部の被処理物に接触させるプラズマ処理装置に関し、特に、３つの電極の間に２つの放電空間が形成されるプラズマ処理装置に関する
【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、３つの電極を有するプラズマ処理装置が記載されている。３つの電極は左右に並べられている。中央の電極には電源が接続され、左右の２つの電極はアースされている。これら３つの電極の間に２つの放電空間が形成されている。
【特許文献１】特開２００３−３３８３９９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
上掲文献のような３つの電極を並べた構造では、中央の電極の両側に電界が印加され、更に放電で両側面が熱を帯びる。中央電極を、このような電界や熱応力に十分耐え得るように固定するのは容易でなかった。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
上記課題を解決するために、本発明は、処理ガスを、第１、第２の放電空間に導入して噴き出し、前記２つの放電空間の外部の被処理物に接触させるプラズマ処理装置において、
中央電極と、
前記中央電極の一側に配置された第１の外側電極と、
前記中央電極の他側に配置された第２の外側電極と、
前記第１外側電極の中央電極との対向面を覆うとともに前記中央電極との間に前記第１放電空間を形成する固体誘電体からなる第１誘電部材と、
前記第２外側電極の中央電極との対向面を覆うとともに前記中央電極との間に前記第２放電空間を形成する固体誘電体からなる第２誘電部材と、を備え、
前記第１誘電部材に前記中央電極側へ突出する第１凸部が形成され、
前記第２誘電部材に前記中央電極側へ突出する第２凸部が形成され、
前記第１凸部と第２凸部が、前記中央電極に両側から当てられていることを特徴とする。
この特徴構成によれば、第１誘電部材と第２誘電部材によって中央電極を両側から押さえ、中央電極が電界や熱応力によって第１外側電極の側又は第２外側電極の側へ変形したり変位したりするのを防止することができる。
【０００５】
前記第１誘電部材と第２誘電部材とが、締め付け手段にて互いに接近方向に締め付けられていることが好ましい。これにより、第１、第２凸部を中央電極の両側に押し当てることができ、電界や熱応力による中央電極の変形や変位を一層確実に防止することができる。
【０００６】
前記第１凸部が、前記第１放電空間に処理ガスを導入する側から噴き出す側へ延びていてもよい。これにより、第１放電空間内の処理ガス流を第１凸部に沿って噴き出し方向側へ案内することができる。また、前記第２凸部が、前記第２放電空間に処理ガスを導入する側から噴き出す側へ延びていてもよい。これにより、第２放電空間内の処理ガス流を第２凸部に沿って噴き出し方向側へ案内することができる。
【０００７】
前記第１凸部が、その延び方向と直交する方向に間隔を置いて複数設けられ、隣り合う２つの第１凸部どうしの間が、前記第１放電空間となることが好ましい。また、前記第２凸部が、その延び方向と直交する方向に間隔を置いて複数設けられ、隣り合う２つの第２凸部どうしの間が、前記第２放電空間となることが好ましい。これにより、中央電極の変形や変位を一層確実に防止することができる。
【０００８】
前記第１、第２誘電部材が、前記中央電極より前記処理ガスを導入する側へ突出され、この突出部分どうしの間に共通導入路が画成され、この共通導入路が、処理ガス源に連なるとともに前記第１、第２放電空間の両方に連なっていることが好ましい。これによって、処理ガス導入路を第１、第２放電空間に対し別々に設ける必要がなく、ガス導入構造の簡素化を図ることができる。
【０００９】
前記中央電極の周縁に設けられた固体誘電体からなる中央誘電部材を、さらに備えることが好ましい。これによって、中央電極の周縁部からの異常放電を防止することができる。
前記中央誘電部材が、前記中央電極と略同じ厚さを有し、前記中央電極と共に前記第１、第２誘電部材によって両側から挟持されていることが好ましい。これによって、中央誘電部材のための別途の保持構造が不要になる。
前記中央誘電部材が、前記中央電極の少なくとも処理ガス噴出し側の縁に設けられていることがより好ましい。これによって、被処理物への異常放電を確実に防止することができる。
【００１０】
前記第１、第２誘電部材の何れか一方に、前記中央電極の周縁に添う枠部が設けられていてもよい。これにより、中央電極を、枠部によって正確に位置決めし保持することができる。
【００１１】
本発明は、大気圧近傍下（略常圧）でのプラズマ処理に好適である。ここで、ほぼ大気圧近傍（略常圧）とは、１．０１３×１０4〜５０．６６３×１０4Ｐａの範囲を言い、圧力調整の容易化や装置構成の簡易化を考慮すると、１．３３３×１０4〜１０．６６４×１０4Ｐａが好ましく、９．３３１×１０4〜１０．３９７×１０4Ｐａがより好ましい。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、第１誘電部材と第２誘電部材によって中央電極を両側から押さえ、中央電極が電界や熱応力によって第１外側電極の側又は第２外側電極の側へ変形したり変位したりするのを防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
図１は、本発明の第１実施形態を示したものである。図において、符号１は、大気圧プラズマ処理装置の三枚電極ユニットであり、符号Ｗは、三枚電極ユニット１の下側に配置される被処理物である。被処理物Ｗは、例えばフラットパネルディスプレイ用のガラス基板や半導体基板等である。
【００１４】
三枚電極ユニット１は、３つの電極２１，２２，２２と、３つのホルダ（誘電部材）３１，３２，３２と、これら電極２１，２２，２２及びホルダ３１，３２，３２を囲む外筐１０を備えている。外筐１０は、上側のキャップ部材１１と、側板１２と、端板１３（図３）で構成されている。これら部材１１，１２，１３は、ユニレート（登録商標）などの耐腐食性の樹脂で構成されている。
【００１５】
図１及び図２に示すように、キャップ部材１１は、長手方向を前後方向（図１の紙面と直交する方向、図２の上下方向）に向けた直方体形状になっている。キャップ部材１１は、後記ホルダ３１，３２，３２の上に被さり、ボルト１４で連結されている。キャップ部材１１のボルト挿通孔１１ｇは、長軸を左右に向けた長孔になっている。
【００１６】
キャップ部材１１は、一端面から長手方向に延びるヘッダ路１１ａと、このヘッダ路１１ａの延び方向に等ピッチで設けられた複数の分岐路１１ｂとを有し、ガス導入部材として提供されている。
処理ガス源２からガス供給路２ａが延び、ヘッダ路１１ａの一端部に接続されている。処理ガス源２には、処理目的に応じたガス種が蓄えられている。ヘッダ路１１ａの他端部は、キャップ部材１１の内部の中途部に位置し、閉止されている。
各分岐路１１ｂは、ヘッダ路１１ａから下方へ延び、キャップ部材１１の下面に達して開口されている。
【００１７】
図１及び図３に示すように、３つの電極のうち１つの電極２１は、薄い四角形の板状をなし、三枚電極ユニット１の中央部に長手方向を前後方向に向けて垂直に配置されている。中央の電極２１の厚さは、例えば２ｍｍ程度である。中央電極２１の表面には固体誘電体層が設けられていない。
電源（図示せず）からの給電ピン２３が、キャップ部材１１を貫通して、中央の電極２１に接続されている。これにより中央の電極２１が、ホット電極になっている。
【００１８】
他の２つの電極２２，２２が、中央電極２１の左右外側に配置されている。これら左右の電極２２，２２を互いに区別するときは、左側の電極２２には符号に「Ｌ」を付し、右側の電極２２には符号に「Ｒ」を付すことにする。一方（例えば左側）の電極２２Ｌが、「第１外側電極」を構成し、他方（例えば右側）の電極２２Ｒが、「第２外側電極」を構成している。２つの外側電極２２，２２は、互いに同一の厚板形状をなし、長手方向を前後方向に向け幅方向を垂直に向けて配置されている。
外側電極２２の厚さ（左右方向の寸法）は、中央電極２１の厚さより大きい。外側電極２２の上下方向の寸法は、中央電極２１の上下方向の寸法より大きい。
各外側電極２２は、図示しないアース線を介して電気的に接地され、アース電極を構成している。
【００１９】
上記３つのホルダ３１，３２，３２は、それぞれアルミナなどの固体誘電体のセラミックで構成されている。これらホルダ３１，３２，３２が、３つの電極２１，２２，２２に一対一に対応している。
【００２０】
図４に示すように、中央の電極２１に対応するホルダ３１（中央誘電部材）は、底辺部３１ｃ（処理ガス噴出し側部）と、前後一対の側辺部３１ｄとを一体に有し、上辺が開口された「凹」字形状の薄い平板状になして、中央電極２１の周縁を部分的に囲んでいる。中央ホルダ３１の底辺部３１ｃが、中央電極２１の下端縁に添っている。図３に示すように、ホルダ３１の前後の側辺部３１ｄが、電極２１の前後の端縁に添っている。側辺部３１ｄの上端部は、電極２１より上に突出されている。ホルダ３１の厚さは、中央電極２１と同じ大きさ（例えば２ｍｍ程度）になっている。図１及び図３に示すように、中央電極２１と中央ホルダ３１の左面どうしが面一になり、右面どうしが面一になっている。
【００２１】
左右の２つのホルダ３２，３２は、ほぼ左右対称になっている。これら左右のホルダ３２，３２及びその構成要素を互いに区別するときは、左側のものには符号に「Ｌ」を付し、右側のものには符号に「Ｒ」を付すことにする。一方（例えば左側）のホルダ３２Ｌが、「第１誘電部材」を構成し、他方（例えば右側）のホルダ３２Ｒが、「第２誘電部材」を構成している。
【００２２】
左右の各ホルダ３２は、垂直な放電側板部３２ａと、この放電側板部３２ａの上下の端部から他方のホルダとは反対側に水平に突出する上板部３２ｂ及び下板部３２ｃを有し、コ字状の断面をなしている。放電側板部３２ａは薄く、上下の板部３２ｂ，３２ｃは厚い。
【００２３】
左側のホルダ３２Ｌの内部に左側の電極２２Ｌが収容されている。放電側板部３２ａＬが、電極２２Ｌの中央電極２１との対向面を覆っている。上板部３２ｂＬが、電極２２Ｌの上面に宛がわれている。下板部３２ｃＬが、電極２２Ｌの下面に宛がわれている。
同様に、右側のホルダ３２Ｒの内部に右側の電極２２Ｒが収容されている。放電側板部３２ａＲが、電極２２Ｒの中央電極２１との対向面を覆い、上板部３２ｂＲが、電極２２Ｒの上面に宛がわれ、下板部３２ｃＲが、電極２２Ｒの下面に宛がわれている。
【００２４】
左右の各ホルダ３２の中央電極２１との対向面には、複数の条溝３２ｅが形成されている。条溝３２ｅは、ホルダ３２の高さ方向の全体にわたって上下に延び、ホルダ３２の上端面と下端面にそれぞれ達して開口されている。複数の条溝３２ｅは、前後に間隔を置いて平行に配置されている。隣り合う条溝３２ｅと条溝３２ｅの間は、凸条３２ｆになっている。凸条３２ｆは、放電側板部３２ａを含むホルダ３２の高さ方向の全体にわたって上下（処理ガスの導入側から噴き出し側）に延びている。凸条３２ｆは、ホルダ３２と一体をなしている。
一方のホルダ３２Ｌの凸条３２ｆＬは「第１凸部」を構成し、他方のホルダ３２Ｒの凸条３２ｆＲは「第２凸部」を構成している。
放電側板部３２ａの条溝３２ｅの部分の厚さは、１ｍｍ程度である。放電側板部３２ａの条溝３２ｅと条溝３２ｅの間の凸条３２ｆの部分の厚さは、２ｍｍ程度である。
【００２５】
図１及び図４に示すように、左側のホルダ３２Ｌの四隅と、中央のホルダ３１の四隅と、右側のホルダ３２Ｒの四隅とが、それぞれボルト３３（締め付け手段）で連ねられ、左右のホルダ３２Ｌ，３２Ｒが互いに接近する方向に締め付けられている。ホルダ３２Ｌ，３１には、ボルト３３を通す挿通孔３２ｇ，３１ｇがそれぞれ形成されている。ホルダ３２Ｒには、ボルト３３の先端部がねじ込まれる雌ネジ孔３２ｈが形成されている。ボルト３３がホルダ３２Ｒをも貫通するようにし、このボルト３３の先端部にナットをねじ込んで締め付けるようにしてもよい。
【００２６】
上記の締め付けによって、図１に示すように、左側のホルダ３２Ｌの各凸条３２ｆＬが、中央電極２１の左面に押し当てられるとともに、右側のホルダ３２Ｒの各凸条３２ｆＲが、中央電極２１の右面に押し当てられている。これによって、中央電極２１が、左右のホルダ３２，３２によって両側から挟み付けられ、固定されている。
また、図２に示すように、左右のホルダ３２，３２の前後方向の両端部が、中央ホルダ３１の側辺部３１ｄに左右両側から押し当てられるとともに、図１に示すように、左右のホルダ３２，３２の各凸条３２ｆの下側部分が、ホルダ３１の底辺部３１ｃに左右両側から押し当てられている。これによって、中央ホルダ３１が、左右のホルダ３２，３２によって両側から挟み付けられ、固定されている。
【００２７】
図１に示すように、左右のホルダ３２，３２の上側部は、中央電極２１より上（ガス導入側）に突出して位置している。これら左右のホルダ３２，３２の上側部（突出部分）どうしの間に共通導入路３２ｉが画成されている。共通導入路３２ｉの上端部に、キャップ部材１１の分岐路１１ｂが連なっている。共通導入路３２ｉの下端部に、左右両方のホルダ３２Ｌ，３２Ｒの各条溝３２ｅＬ，３２ｅＲが連なっている。中央のホルダ３１の側辺部３１ｄの上側部が、共通導入路３２ｉの前後の縁部を画成している。
【００２８】
上記のように構成されたプラズマ処理装置により被処理物Ｗを表面処理する方法を説明する。
処理ガス源２からの処理ガスを、ガス供給路２ａを介してヘッダ路１１ａに供給する。処理ガスは、ヘッダ路１１ａ内を下流側へ流れながら順次分岐路１１ｂを経て共通導入路３２ｉに導入される。さらに、処理ガスは、共通導入路３２ｉから左右両側の各条溝３２ｅＬ，３２ｅＲに導入され、条溝３２ｅＬ，３２ｅＲ内を下方へ流れる。
【００２９】
併行して、図示しない電源から給電ピン２３を介して中央のホット電極２１に電圧を供給する。これにより、中央電極２１と左側のアース電極２２Ｌとの間、及び中央電極２１と右側のアース電極２２Ｒとの間にそれぞれ電界が印加され、大気圧グロー放電が生成される。このとき、各ホルダ３２の放電側板部３２ａは、電極２２の表面に配置されるべき安定放電のための固体誘電体層としての役目を担う。中央ホルダ３１の底辺部３１ｃによって、中央電極２１から被処理物Ｗにアーク等の異常放電が落ちるのを防止することができる。
一方（例えば左側）のホルダ３２Ｌの各条溝３２ｅＬにおける電極２１と重なる部分は、「第１放電空間」となる。他方（例えば右側）のホルダ３２Ｒの各条溝３２ｅＲにおける電極２１と重なる部分は、「第２放電空間」となる。これにより、条溝３２ｅ内において、処理ガスがプラズマ化（分解、励起、活性化、ラジカル化、イオン化を含む）される。
このプラズマ化された処理ガスが、条溝３２ｅから下方へ噴き出される。この処理ガスが被処理物Ｗに接触し、表面処理がなされる。
【００３０】
三枚電極ユニット１によれば、中央電極２１を左右のホルダ３２，３２によって両側から挟持でき、確実に固定することができる。これによって、中央電極２１が、両側に作用する電界や熱応力によって変形したり変位したりするのを防止できる。ひいては、第１、第２放電空間３２ｅの厚さを一定に維持することができる。
【００３１】
次に、本発明の他の実施形態を説明する。以下の実施形態において既述の形態と重複する構成に関しては、図面に同一符号を付して説明を省略する。
凸条３２ｆは、ホルダ３２の少なくとも中央電極３１と対向する部分に設けられていればよく、必ずしもホルダ３２の上下方向の全長にわたって延びている必要はない。
例えば、図５に示す実施形態では、ホルダ３２の上側部分と下側部分だけに、第１、第２凸部として短い凸条３２ｆａ，３２ｆｂが上下に延びるように形成されている。上側の凸条３２ｆａどうしの間に短い条溝３２ｅａが形成されている。下側の凸条３２ｆｂどうしの間に短い条溝３２ｅｂが形成されている。上側の凸部３２ｆａの下端部が、図５において二点鎖線で示す中央電極３１の上側部に当たるようになっている。下側の凸部３２ｆｂの上端部が、中央電極３１の下側部に当たるようになっている。
【００３２】
ホルダ３２の中央電極３１を向く面における、上側の凸部３２ｆａと下側の凸部３２ｆｂとの間は、中間凹部３２ｋになっている。中間凹部３２ｋの上端部は、上側の条溝３２ｅａに連なり、中間凹部３２ｋの下端部は、下側の条溝３２ｅｂに連なっている。
【００３３】
処理ガスは、上側の各条溝３２ｅａを通り、中間凹部３２ｋにおいて合流されるとともにプラズマ化される。したがって、処理ガスを、各条溝３２ｅａに必ずしも正確に均等に分配して導入する必要はない。中間凹部３２ｋ内でプラズマ化された処理ガスは、下側の条溝３２ｅｂを通り、噴出される。
【００３４】
何れか一方のホルダ３２と中央ホルダ３１とが一体化されていてもよい。
例えば、図６に示す実施形態では、ホルダ３２Ｒの他方のホルダ３２Ｌ（図示せず）との対向面の両側部に、一対の枠部３２１が、ホルダ３２Ｌの側へ突出するように一体形成されている。各枠部３２１は、ホルダ３２Ｒの側部に沿って上下に延びる側枠部３２１ａと、この側枠部３２１ａの下端部から内側へ向けてＬ字状に折曲する下枠部３２１ｂとを有している。下枠部３２１ｂは、側枠部３２１ａから最も端部側の条溝３２ｅの近くまで延びている。
側枠部３２１ａは、第１実施形態（図１〜図４）における中央ホルダ３１の側辺部３１ｄに相当し、下枠部３２１ｂは、中央ホルダ３１の底辺部３１の一部分に相当する。
【００３５】
一対の枠部３２１内に中央電極３１が嵌め込まれるようになっている。側枠部３２１ａの内側の端面に中央電極３１の側縁が添えられ、下枠部３２１の上端面に中央電極３１の下縁の両端部が載せられるようになっている。
これによって、中央電極３１をホルダ３２に対し正確に位置決めし、保持することができる。
別途、中央ホルダ３１が不要であり、部品点数の削減を図ることができる。
【００３６】
ホルダ３１，３２は、それぞれ一体物である必要はなく、複数のパーツを組み合わせることにより構成されるようになっていてもよい。
例えば、図７に示す実施形態では、中央ホルダ３１の底辺部３１ｃと両側の側辺部３１ｄ，３１ｄとが互いに別々の固体誘電体の板で構成されている。これら３つの辺部３１ｃ，３１ｄ，３１ｄは、互いに接着剤で接着されていてもよく、接着されずに分離可能になっており、両側のホルダ３２Ｌ，３２Ｒを締め付けることによって挟持されるようになっていてもよい。
【００３７】
図８に示す実施形態では、ホルダ３２Ｒの放電側板部３２ａと、上板部３２ｂと、下板部３２ｃが、互いに別体になっている。放電側板部３２ａの上端部の裏面に上板部３２ｂが接着剤にて接着されている。放電側板部３２ａの下端部の裏面に下板部３２ｃが接着剤にて接着されている。
【００３８】
本発明は、上記実施形態に限定されるものでなく、種々の改変をなすことができる。
例えば、左右のホルダ３２，３２の締め付け手段は、クランプでもよい。
３つのホルダ３１，３２Ｌ，３２Ｒを、締め付け手段に代えて接着剤にて互いに接着することにしてもよい。さらには、ホルダ３１，３２と電極２１，２２Ｌ，２２Ｒとを接着することにしてもよい。
第１凸部、第２凸部は、必ずしも線状である必要はなく、スポット状の突起であってもよい。スポット状の突起からなる第１、第２凸部は、誘電部材３２の放電側板部３２ａ上に規則的に点在されていてもよい。
第１、第２ホルダ３２の上下の板部３２ｂ，３２ｃを省略し、放電側板部３２ａだけで第１、第２誘電部材が構成されるようにしてもよい。
中央ホルダ３１の一対の側辺部３１ｄ，３１ｄを省略し、底辺部３１ｃ（処理ガス噴出し側部）だけで中央誘電部材が構成されるようにしてもよい。
中央ホルダ３１を省略し、左右のホルダ３２，３２の周縁部どうしが互いに当接するようになっていてもよい。
各電極２１，２２Ｌ，２２Ｒの長手方向の長さ（前後方向の寸法）は、被処理物Ｗの幅（前後方向の寸法）に応じて設定すればよい。
【００３９】
図１〜図４の第１実施形態では、左右の凸条３２ｆＬ，３２ｆＲの前後方向の位置、ピッチ、本数が互いに一致していたが、前後にずれていたりピッチや本数が互いに異なっていたりしてもよい。
図５の実施形態では、上下の凸条３２ｆａ，３２ｆｂの前後方向の位置、ピッチ、本数が互いに一致していたが、前後にずれていたりピッチや本数が互いに異なっていたりしてもよい。
図６の実施形態において、枠部３２１を側枠部３２１ａだけで構成し、下枠部３２１ｂを省略することにしてもよい。中央電極３１をホルダ３２に接着する場合などは、下枠部３２１ｂは無くてもよい。
図６の実施形態は、右側の第２ホルダ３２Ｒに枠部３２１を設けたものであるが、左側の第１ホルダ３１Ｌに枠部３２１を一体形成することにしてもよい。
図８の実施形態は、右側の第２ホルダ３２Ｒについて示したものであるが、左側の第１ホルダ３２Ｌについても同様に、３つの板部３２ａ，３２ｂ，３２ｃが互いに別体になっていてもよい。
図８の実施形態において、別体の板部３２ａ，３２ｂ，３２ｃが、接着剤に代えてネジにて互いに接合されるようになっていてよい。
中央電極２１の表面に溶射等で固体誘電体層を設けることにしてもよい。
本発明は、洗浄、表面改質（親水化、撥水化等）、エッチング、成膜などの種々の表面処理に適用可能である。大気圧近傍下でのプラズマ処理に限られず、真空下でのプラズマ処理にも適用可能である。
【産業上の利用可能性】
【００４０】
この発明は、例えばフラットパネルディスプレイ用のガラス基板や半導体基板の製造工程における表面処理に適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】本発明の第１実施形態に係る大気圧プラズマ処理装置の三枚電極ユニットを、図３のI-I線に沿って示す正面断面図である。
【図２】図１のII-II線に沿う、上記三枚電極ユニットの平面断面図である。
【図３】図１のIII-III線に沿う、上記三枚電極ユニットの平面断面図である。
【図４】上記三枚電極ユニット（外筐を除く）の分解斜視図である。
【図５】第１、第２凸部の変形例に係る第２実施形態を示し、三枚電極ユニットのホルダを正視した図である。
【図６】中央電極の保持構造の変形例に係る第３実施形態を示す斜視図である。
【図７】中央ホルダの変形例に係る第４実施形態を示し、上記中央ホルダを正視した図である。
【図８】左右のホルダの変形例に係る第５実施形態を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００４２】
１        大気圧プラズマ処理装置の三枚電極ユニット
Ｗ        被処理物
２１      中央電極
２２Ｌ    第１外側電極
２２Ｒ    第２外側電極
３１      中央ホルダ（中央誘電部材）
３１ｃ    中央誘電部材の処理ガス噴出し側部
３２Ｌ    第１ホルダ（第１誘電部材）
３２Ｒ    第２ホルダ（第２誘電部材）
３２ａ    放電側板部
３２ｅＬ    条溝（第１放電空間）
３２ｅＲ    条溝（第２放電空間）
３２ｆＬ    凸条（第１凸部）
３２ｆＲ    凸条（第２凸部）
３３      ボルト（締め付け手段）
３２ｉ    共通導入路
３２１    枠部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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