(57)【要約】【課題】短ピット形状の、隣接トラック上の長ピット露光ビームのエアリーリングの過剰露光による形状変化の影響を低減したピット形状形成を達成できる光ディスク原盤露光方法を実現する。【解決手段】フォトレジストを塗布したガラス基盤５に、記録すべきピット情報に基づいて変調されたレーザ光１を照射し、光ディスクの原盤を作製する光ディスク原盤露光装置であり、隣接するトラック上に形成される長ピットに応じて短ピットの露光ビーム強度を制御する。パルスジェネレータ１３から各トラックのフォーマット信号送出クロックＣＬＫをフォーマッタシステム１５に送出し、さらに短ピット露光ビーム強度制御回路１７にピット露光データ信号を送出し、回路１７から光変調器３にピット形成信号を送出することにより、短ピットを形成する。２は露光光学系、４はフォーカスアクチュエータである。【選択図】図１
2008097813.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フォトレジストを塗布したガラス基盤に、変調されたレーザ光を照射して短ピットを形成する際、該短ピットの記録対象のトラックに隣接する周回前の第１のトラックおよび周回後の第２のトラックにおける当該短ピットを形成すべき位置の隣接位置の長ピットの記録状況に応じて前記レーザ光のレーザパワーの制御を行う光ディスク原盤露光方法であって、
前記第１，第２のトラックのいずれか一方のみに長ピットが形成され他方には長ピットが形成されない場合は、前記第１，第２のトラックのいずれにも長ピットが形成されない場合のレーザ光のレーザパワーより所定量減じたレーザ光のレーザパワーで記録を行い、
前記第１，第２のトラックの双方に長ピットが形成される場合は、前記第１，第２のトラックのいずれにも長ピットが形成されない場合のレーザ光のレーザパワーより、前記所定量の２倍を減じたレーザ光のレーザパワーで記録を行うと共に、
前記レーザ光のレーザパワーの制御は、隣接するトラック上に形成される長ピットに対する短ピットの相対的位置関係に応じて短ピットのレーザ光強度を制御する
ことを特徴とする原盤露光方法。
【請求項２】
各トラック長が、フォーマット構成の最少単位の整数倍長あるいは有限数倍長であるＣＬＶディスクフォーマット露光方法に用いるパルスジェネレータであって、現トラックに対するＣＬＶ駆動制御時の、現トラックに対する露光データ信号送出クロックと１トラック前のトラックおよび１トラック後のトラックに対応した露光データ信号送出クロックを生成する手段を有することを特徴とするパルスジェネレータ。
【請求項３】
請求項２に記載のパルスジェネレータのクロックに入力し、現トラックの露光信号によって形成されるピット配置に同期して、１トラック前の露光信号および１トラック後の露光信号を生成する手段を有することを特徴とするフォーマッタシステム。
【請求項４】
請求項２に記載のパルスジェネレータおよび請求項３に記載のフォーマッタシステムから得られる、現トラックの露光データ信号と１トラック前の露光データ信号と１トラック後の露光データ信号に基づいて、隣接するトラック上に形成される長ピットに応じて短ピットの露光ビーム強度を制御する各トラック長がフォーマット構成の最少単位の整数倍長あるいは有限数倍長であることを特徴とするＣＬＶディスクフォーマットの原盤露光方法。
【請求項５】
請求項２に記載のパルスジェネレータおよび請求項３に記載のフォーマッタシステムおよびこれらによって得られる露光データ信号および隣接トラックの露光データ信号に基づいて露光ビーム強度制御行う回路を搭載したことを特徴とする原盤露光装置。
【請求項６】
請求項５に記載の原盤露光装置によって製作され、隣接するトラック上に形成される長ピットに応じて短ピットの露光ビーム強度が制御され、短ピットの形状補正された光ディスク原盤から得られる、各トラック長がフォーマット構成の最少単位の整数倍長あるいは有限数倍長であることを特徴とするＣＬＶディスクフォーマットを搭載したメディア。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光ディスク原盤露光装置における、光ディスク原盤露光方法および装置ならびに光ディスクメディアに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、大容量光ディスクメディアとして、ＤＶＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ−ＲＡＭ等が注目されている。ＤＶＤ規格においては、トラックピッチ：０．７４μｍ、最小ピット長：０．４μｍと、現行のＣＤ規格トラックピッチ：１．６μｍ、最小ピット長０．８７μｍに比べ約半分の微少構造のプリフォーマットを光ディスク原盤上に形成しなければならなくなっている。記憶容量の増大化への要求により、今後益々、狭ピッチ化、小ピット化が求められ、より高精度、高品質な光ディスクカッティングマシンが必要となってきている。
【０００３】
この様な状況のもとで、ＣＬＶフォーマットの光ディスク原盤の露光に際し、光ディスク原盤露光装置では、露光ビーム径（波長λ／開口数ＮＡ）を小さくする、すなわち露光レーザの波長（λ）を短くするか開口数（ＮＡ）を大きくするか、あるいは、超解像現象を利用して露光ビームの微少化を図る等のことが行われてきた。また、従来より、フォトレジストを塗布したガラス原盤上に露光で記録ピットを形成していく場合、記録データ長の長短の違いにより形成されるピット形状に差が生じ、再生したときの変調度の差を生じるとともに、ジッタが増えるという不具合があった。
【０００４】
例えば、特許文献１に記載の技術では、このような問題を解決するために、露光ピット長に応じて露光光の強度を制御して、長いピットも短いピットも同じ変調度となるようピット形成することを提案している。近年の高密度化は、形成されるピット間隔とトラックピッチを一層狭くしている。
【０００５】
また、特許文献２に記載の技術では、露光光のエアリーリングに関連し、トラック方向のピット密度に応じて露光ビームの強度と露光ピット長のエッジ位置を調整して、エアリーリングによる過剰露光を低減しピット記録信号通りのピットを形成し、再生信号におけるジッタの抑制を行っている。以上の２つの場合は、いずれも現在露光しているトラックのトラック方向の露光ビーム強度および露光光のエアリーリングによる過剰露光を問題としている。
【０００６】
また、特許文献３に記載の技術では、上記２つと違い、ピット列の両側にグルーブが配置された光ディスクフォーマットの光ディスク原盤露光に際し、ピットに隣接するグルーブの深さが深くなることを問題とし、ピットに隣接するグルーブの露光ビーム強度を制御することによって、グルーブ形状を制御している。
【０００７】
図１１は、現像条件一定で、露光ビーム強度と形成されるピット幅あるいはグルーブ幅の関係を模式的に示した図である。図１１からも明らかなように、露光ビーム強度と形成されるピットあるいは溝の幅は、露光ビーム強度が小さいうちは露光ビーム強度の増加に伴い増加する（図中‘Ａ領域‘）。すなわち、この領域で形成されるピットあるいはグルーブ幅は僅かな露光ビーム強度の変化でその形状が変わる。露光ビーム強度がある程度大きくなると（’Ｂ領域‘）露光ビーム強度が変化しても、ピットあるいはグルーブ幅はほとんど変わらない。
【０００８】
また、特許文献４、および特許文献５に記載の各技術では、明細書中で述べられるグルーブ形状は、いわゆる‘Ｖ溝’と言われるもので、図１１の‘Ａ領域’で形成される溝である。従って、隣接して形成されるピットを露光する露光ビームのエアリーリングによる僅かな過剰露光によってグルーブ形状に変化が生じてしまい、問題となった。
【０００９】
また、特許文献６に記載のピット露光装置では、プリフォーマット信号のパルス幅を予め設定された補正量で補正するパルス幅調整回路と、プリフォーマット信号の信号レベルを予め設定された補正量で補正する信号レベル調整回路とを備えている。すなわち、プリフォーマット信号がセクタマーク部（円形）である場合とＶＦＯ部（楕円形）である場合とで、補正量を異なる値に設定している。しかし、周回前と周回後のエアリーリングによるグループ形状の変化については何も述べていない。本発明が対象とする、短ピットと長ピットのピット列から成る高密度フォーマットにおいては、短ピットは、図１１の‘Ａ領域’、長ピットは‘Ｂ領域’で形成される。従って、短ピットの形状は、隣接トラック上のピット形成露光ビームのエアリーリングの影響を受け易く、長ピット形状は隣接トラックピットのエアリーリングの影響を受け難い。
【００１０】
図１２は、短ピット形状への隣接トラック長ピット配置の影響を示す説明図である。実際、図１２に示すように、短ピット、長ピットおよびその中間長ピットがランダムに配置される。図から明らかなように、隣接するトラックに長ピットが有るか無いかによって、形成される短ピットの形状が異なってくる。隣接トラックに長ピットが存在する場合、ピットは通常より大きく形成されてしまう。隣接トラックが露光された際のエアリーリングによる短ピットの過剰露光が一因と考えられる。このエアリーリングの影響は、超解像現象を用いた場合は更に顕著に現れてくる。
【００１１】
従来の課題は、このような、短ピットに対する隣接長ピットの露光ビームのエアリーリングによる過剰露光による短ピット形状変化を低減することである。さらに、隣接するピットパターンが不特定となるＣＬＶディスクフォーマット露光における、隣接する長ピットに対する短ピットに形状補正への対応が本発明の最終的な課題である。従来技術による対処法では、隣接トラック上の不特定パターンの影響に対応することは不可能である。
【００１２】
ここで、従来の光ディスク原盤露光装置の基本構成について説明しておく。図１３は、従来の光ディスクカッティングマシンの基本構成を示す図である。図１３において、１はフォトレジストを塗布したガラス原盤５を露光するための露光レーザ。２は露光レーザ１から出射されたレーザ光を整形し、フォーカスアクチュエータ４へ露光光を導く光学系。フォーカスアクチュエータ４は、入射した露光レーザ光を極小スポットに集光させ、絶えず、そのビームウエスト位置をフォトレジスト位置に保つようにフォーカス制御する。なお、フォーカス制御の為の光学系等は省略する。３は光変調器で、ガラス原盤５上にプリエンボスピットやグルーブを形成する信号を発生させるフォーマッタ１５からの信号Ｆoutに基づいて露光レーザ光の強度変調をする。フォーマッタ１５は、光ディスク原盤上に形成されるピット列に対応した露光データ信号を出力する。
【００１３】
１６はフォーマッタ１５を駆動するための基本クロックを発生する基本クロック発生器。ガラス原盤５は、エアスピンドルモータ６に吸着され回転させられる。これと同時に、フォーカスアクチュエータ４はエアスライダ８によって半径方向に移動させられる。また、７はエアスピンドルモータ６にとりつけられ、回転に応じパルス列を出力するエンコーダ。１４は、露光スポットの半径位置を検出するためのリニアエンコーダ（リニアスケール）である。
【００１４】
９，１１は、それぞれ、スライダ８およびスピンドル６を駆動するためのドライバ。１０，１２は、駆動系コントローラ（パルスジェネレータ）１３によって指示される移動および回転指令に対して、滑らかにそして精度良くスライダ８およびスピンドル６を追従させるための制御回路である。ここで、リニアスケール１４の値をプリセットするための絶対位置を検出するためのセンサは省略してある。また、光ディスクカッティングマシンは各種ディスクフォーマットに対応して、２ビーム露光、露光ビームの蛇行等々の設定が必要になるが、それらに要する各種露光光学系等は、本発明に直接関係しないので記載を省略した。
【００１５】
光変調器３は、従来では、ピット形成する／しないに対応した変調を行っていた。この光変調器３にピット形成する／しないに対応した電圧の中間的電圧を加えることにより、露光光強度を変化させることができ、ピット形状を変えることができる。
【００１６】
【特許文献１】特開平５−１３５４１２号公報
【特許文献２】特開平９−２５９４７７号公報
【特許文献３】特開平９−２６５６２７号公報
【特許文献４】特開平９−２５９４７７号公報
【特許文献５】特開平９−２６５６２７号公報
【特許文献６】特開平１０−６９６３７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１７】
前述のように、従来技術による対処法では、隣接トラック上の不特定パターンの影響に対応することは不可能である。従来の問題点は、このような、短ピットに対する隣接長ピットの露光ビームのエアリーリングによる過剰露光による短ピット形状変化を低減できないことである。さらに、重要な問題点は、隣接するピットパターンが不特定となるＣＬＶディスクフォーマット露光における、隣接する長ピットに対する短ピットに形状補正へ対応することができないことである。
【００１８】
本発明の第１の目的は、短ピット形状の、隣接トラック上の長ピット露光ビームのエアリーリングの過剰露光による形状変化の影響を低減したピット形状形成を達成できる光ディスク原盤露光方法を提供することにある。
【００１９】
本発明の第２の目的は、上記第１の目的を更に厳密に、短ピットと長ピットの相対的位置関係まで考慮して隣接トラック上の長ピット露光ビームのエアリーリングの過剰露光による形状変化の影響をより低減したピット形状形成を達成できる光ディスク原盤露光方法を提供することにある。
【００２０】
本発明の第３の目的は、上記第１あるいは第２の目的の光ディスク原盤露光方法をＣＬＶフォーマット露光に適応するにあたり、現トラックに対するＣＬＶ駆動時に、現トラックおよび隣接トラック上に配置されるピット列に対応した露光データ信号を送出可能なフォーマッタクロックを生成可能なパルスジェネレータを提供することにある。
【００２１】
本発明の第４の目的は、上記第１あるいは第２の目的の光ディスク原盤露光方法をＣＬＶフォーマット露光に適応するにあたり、現トラックに対するＣＬＶ駆動時に、現トラックおよび隣接トラック上に配置されるピット列に対応した露光データ信号を生成可能なフォーマッタシステムを提供することにある。
【００２２】
本発明の第５の目的は、上記第３の目的のパルスジェネレータおよび第４の目的のフォーマッタシステムを用いて得られる、現トラックおよび隣接トラック上のピット露光データ信号に基づいて、短ピット形状の、隣接トラック上の長ピット露光ビームのエアリーリングの過剰露光による形状変化の影響を低減したピット形状の形成を達成できる光ディスク原盤露光方法を提供することにある。
【００２３】
本発明の第６の目的は、上記第５の目的の光ディスク原盤露光方法を精度良く実現できる光ディスク原盤露光装置を提供することにある。
【００２４】
本発明の第７の目的は、上記第６の目的の光ディスク原盤露光装置によって作製される、露光ビームのエアリーリングの隣接トラックへの影響を低減したピット形状を形成した光ディスクメディアを市場に提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２５】
上記第１の目的を達成するため、本発明の光ディスク原盤露光方法は、フォトレジストを塗布したガラス基盤に、記録すべきピット情報に基づいて変調されたレーザ光を照射し、光ディスクの原盤を作製する光ディスク原盤露光方法において、隣接するトラック上に形成される長ピットに応じて短ピットの露光ビーム強度を制御することを特徴としている。
【００２６】
上記第２の目的を達成するため、本発明の光ディスク原盤露光方法は、隣接するトラック上に形成される長ピットに対する短ピットの相対的位置関係に応じて、短ピットの露光ビーム強度を制御することを特徴としている。
【００２７】
上記第３の目的を達成するため、本発明のパルスジェネレータは、上記記載の光ディスク露光方法で形成される各トラック長がフォーマット構成の最少単位の整数倍長あるいは有限数倍長であるＣＬＶディスクフォーマット露光方法において、現トラックに対するＣＬＶ駆動制御時の、現トラックに対する露光データ信号送出クロックと１トラック前のトラックおよび１トラック後のトラックに対応した露光データ信号送出クロックを生成することを特徴としている。
【００２８】
上記第４の目的を達成するため、本発明のフォーマッタシステムは、上記記載のパルスジェネレータのクロックに入力し、現トラックの露光信号によって形成されるピット配置に同期して、１トラック前の露光信号および１トラック後の露光信号が生成されることを特徴としている。
【００２９】
上記第５の目的を達成するため、本発明のＣＬＶディスクフォーマットの原盤露光方法は、上記記載のパルスジェネレータおよびフォーマッタシステムから得られる、現トラックの露光データ信号と１トラック前の露光データ信号と１トラック後の露光データ信号に基づいて、隣接するトラック上に形成される長ピットに応じて短ピットの露光ビーム強度を制御すること、そして、その場合に各トラック長がフォーマット構成の最少単位の整数倍長あるいは有限数倍長であることを特徴としている。
【００３０】
上記第６の目的を達成するため、本発明の光ディスク原盤露光装置は、上記記載のパルスジェネレータおよびフォーマッタシステムおよびこれらによって得られる露光データ信号および隣接トラックの露光データ信号に基づいて露光ビーム強度制御を行う回路を搭載したことを特徴としている。
【００３１】
上記第７の目的を達成するため、本発明のＣＬＶディスクメディアは、上記記載の光ディスク原盤露光装置によって製作され、隣接するトラック上に形成される長ピットに応じて短ピットの露光ビーム強度を制御し、短ピットの形状に補正された光ディスク原盤から得られる、各トラック長がフォーマット構成の最少単位の整数倍長あるいは有限数倍長であることを特徴とするＣＬＶディスクフォーマットを搭載したことを特徴としている。
【発明の効果】
【００３２】
以上説明したように、本発明によれば、次のように効果を奏する。
本発明の光ディスク原盤露光方法では、隣接トラックに配置される長ピットに応じて露光ビーム強度を制御するので、隣接トラック上の長ピット露光に影響されない最適な短ピット形状を形成できる。従って、本発明によれば、ＣＡＶディスクフォーマット露光における、隣接する長ピットに対する短ピットの形状補正も同様に可能である。
【００３３】
本発明の光ディスク原盤露光方法では、短ピットと隣接長ピットの相対位置関係を考慮した短ピット露光ビーム強度制御がおこなわれるので更に適正な短ピット形状を形成できる。従って、本発明によれば、ＣＡＶディスクフォーマット露光における、隣接する長ピットに対する短ピットの形状補正も同様に可能である。
【００３４】
パルスジェネレータでは、現トラックに対するＣＬＶ駆動時に、現トラックおよび隣接トラック上の露光ピットに対応したクロックを生成できるので、フォーマッタに対して、現トラックおよび隣接トラック上の露光データ信号送出クロックを供給することができる。
【００３５】
フォーマッタシステムでは、パルスジェネレータ出力を入力とし、現トラックに対し正確に隣接トラック上の露光ピットデータ信号を生成出来るので、実際に露光した時の現トラックと隣接トラックの短ピットと隣接長ピットの関係を得ることができる。
【００３６】
本発明の光ディスク原盤露光方法では、実際に連続露光中に在って、パルスジェネレータおよびフォーマッタシステムから得られる、露光中の現トラックにおける露光信号と１トラック前に露光した露光信号及び１トラック後に露光する露光信号を基に露光ビーム強度を制御出来るので、隣接トラック上のピット露光に影響されない最適なピット形状を連続して形成していくことができる。
【００３７】
光ディスク原盤露光装置では、パルスジェネレータおよびフォーマッタシステムを搭載し、これらから得られる露光データ信号および隣接トラックの露光データ信号に基づいて露光ビーム強度の制御を行う回路を搭載しているので、隣接長ピットに影響されない短ピットの露光ができる。
【００３８】
光ディスクメディアでは、短ピット形状が隣接長ピットの有り／無しに係わらず適正に形成されているので、短ピットの再生信号の変調度に差を生じる、あるいはジッタが増えるという不具合が解消される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３９】
以下、本発明の実施例を、図面により詳細に説明する。
図１は、第１の実施例を示す隣接トラック上のピット配置図である。図１においては、露光中のトラック（Ｎ）とそれに隣接するトラック（Ｎ−１、Ｎ＋１）上の短ピット（Ps1、Ps2、Ps3）と、これに隣接する長ピット（Pl-1、Pl-2、Pl+1）と、この時の短ピットの露光ビーム強度制御の例を示している。図中‘Ａ’は隣接トラックにピットが無い場合に適正なピット形状を形成する露光ビーム強度である。また、図中‘Ｂ’は隣接するトラックの一方に長ピットが配置される時、適正な短ピット形状とする為に、減少を必要とされる平均的露光ビーム強度量である。この場合、短ピットPs1は周回前に長ピットの影響があり、短ピットPs3は周回前と周回後の両方で長ピットの影響がある場合の本実施例の方法について説明する。
【００４０】
今、短ピット Ps１、Ps2、Ps3を露光しようとしているとすると、Ps1およびPs3の１トラック前の隣接位置には Pl-１およびPl-2という長ピットが既に露光されており、短ピット Ps１、Ps3が露光される領域は長ピットPl-１およびPl-2の露光時に、その露光ビームのエアリーリングによって露光されている。従って、この時点で、短ピットPs1を露光するときは露光ビーム強度を‘Ａ−Ｂ’に設定する。一方、短ピットPs3の露光に関しては、現時点から１トラック後、再び隣接長ピットPl+1によって過剰露光されることになるので‘Ａ−２Ｂ’の露光ビーム強度で露光する。Ps2については、隣接長ピットが無いので‘Ａ’の露光ビーム強度で露光する。このような露光ビーム強度制御を行うことにより、最終的に形成される短ピット Ps１、Ps2、Ps3は、隣接長ピットの露光ビームのエアリーリングによる過剰露光の影響を低減したピット形状として得ることができる。
【００４１】
図２は、第２の実施例を示す短ピット露光ビーム強度制御の説明図である。
図２では、露光中のトラック（Ｎ）とそれに隣接するトラック（Ｎ−１、Ｎ＋１）上の短ピット（Ps1、Ps2、Ps3）と、これに隣接する長ピット（Pl-1、Pl-2）と、この時の短ピットの露光ビーム強度制御の例を示している。図中‘Ａ’‘Ｂ’は前出の図１の説明と同じである。図２（ａ）では、図１と同じように、Ps3は周回後にも長ピットの影響を受けるため、Ps2に対しては、露光ビーム強度`Ａ’で露光し、Ps1に対しては、`2/3・Ａ'で露光し、Ps3に対しては、`1/3・Ａ'で露光している。
【００４２】
今、短ピット Ps１、Ps2、Ps3を露光しようとしているとすると、Ps2については前出と同様、露光ビーム強度‘Ａ’で露光する。Ps1及びPs3の露光ビーム強度は、本実施例では前出の露光ビーム強度制御とは異なる。図４（ｂ）が前出の第１の実施例であり、図４（ｃ）が本実施例による露光ビーム強度を示している。
図３、４は、第２の実施例の参考図である。図３，４に示されるように、短ピットPs1とPs3とそれぞれの隣接長ピットとの相対的位置関係をみると、Ps1は隣接長ピットPl-1のほぼ中央位置に配置され、Ps3は隣接長ピットPl-2のほぼ露光開始位置にある。この位置関係を考えた場合、一般的に短ピットが隣接長ピットの中央付近にある場合（Ps1）の方が、短ピットが隣接長ピットの前後端付近にある場合より長ピット露光ビームのエアリーリングによる短ピット形成領域への過剰露光量は大きくなる。なお、図３では、周回後に露光される長ピット列はない場合を考えている。
【００４３】
従って、短ピットが隣接長ピットの中央付近配置されるときは減少を必要とされる平均的露光ビーム強度量（‘Ｂ’）より若干多めに減少させる（図４中、‘Ｂ＋’＞‘Ｂ’である。）。また、短ピットが隣接長ピットの前後端付近にある場合は、減少を必要とされる平均的露光ビーム強度量（‘Ｂ’）より若干少な目に減少させる（図４中、‘Ｂ−’＜‘Ｂ’＞）（図４（ｃ）参照）。このような露光ビーム強度制御を行うことにより、最終的に形成される短ピット Ps１、Ps2、Ps3は、請求項１に記載の露光ビーム強度制御によって得られる短ピット形状よりも、更に、隣接長ピットの露光ビームのエアリーリングによる過剰露光の影響を低減したピット形状として得ることができる。
【００４４】
図５は、隣接トラック間のトラック長変化を示す図であり、図６は隣接トラック間の時間軸の変化を示す図である。
ＣＬＶディスクフォーマットでは、トラックに沿って１回転する毎にその線路長は‘２πＰ’（Ｐはトラックピッチ）ずつ長くなる。今、各トラックの長さを比べてみると図５に示すようになる。説明を簡単にする為に、図ではＮトラックの長さを‘２πＰ’長のｍ倍長としている。この時、Ｎ＋１トラックは‘２πＰ’長のｍ＋１倍長、Ｎ−１トラックは‘２πＰ’長にｍ―１倍長となる。以上のことを、今、ＮトラックにおいてＣＬＶ駆動動作を行っているとして、Ｎトラックからみて、同一時刻に隣接するＮ＋１およびＮ−１トラックとの時間関係は図６のようになる。すなわち、内周側は対応する時間が長く、外周側は対応する時間が短いことになる。
【００４５】
'２πＰ’長がフォーマット構成の最少単位（ｃｂ；チャンネルビット）相当でＮf0個であったとすると、Ｎトラックからみてトラック１回転の時間に、Ｎ−１トラックはＮトラックよりＮf0個少なく、Ｎ＋１トラックはＮトラックよりＮf0個多くフォーマットされていることになる。本実施例では、各トラック長がフォーマット構成の最少単位の整数倍長あるいは有限数倍長であるＣＬＶディスクフォーマットの露光方法に関する発明であるので、Ｎトラックにおける、ある半径位置におけるトラック長は‘１ｃｂ長’相当で整数個あるいは有限小数個として求まる。その値をここでＮt個とする。
【００４６】
図７は、本発明によるパルスジェネレータの構成図である。図７に示される、各トラックのフォーマッタクロック発生回路２３〜２５は、ＣＬＶ駆動を行っているＮトラックに対応したフォーマッタクロック発生回路２３〜２５においては、１ｃｂ相当の周波数の数倍の周波数を与えるパルスジェネレータ（基本クロック発生器）２２の基本クロック‘Ｆclk'を分周し、１トラックの 'ｃｂ’相当数Ｎｔ個のパルス列を生成する。１トラックあたりＮf0個多いパルス列を送出するＮ＋１トラックフォーマッタクロック発生回路２３では、Ｎトラックフォーマッタクロック発生回路２４において、Ｎｔ個のパルス列を生成したと同じパルスジェネレータの基本クロック‘Ｆclk'からＮｔ＋Ｎf0個のパルス列を生成する。
【００４７】
１トラックあたりＮf0個少ないパルス列を送出するＮ―１トラックフォーマッタクロック発生回路２５では、同様にＮｔ―Ｎf0個のパルス列を生成する。このように、パルスジェネレータの基本クロック‘Ｆclk'を用い、これを分周してＮt個、あるいはＮt＋Ｎf0 個あるいはＮt―Ｎf0個の分周パルスをえることは、うるう周期（Ｆclkの分周数を１増やしたり減らしたりさせて得られる周期）のパルスを混在させて生成することにより任意に実現できる。この各トラックに対応したフォーマッタクロック発生回路２３〜２５の出力を、それぞれＣＬＫn＋1，ＣＬＫn，ＣＬＫn−1とする。
【００４８】
第３の実施例では、それぞれのパルス列に１トラック相当の露光ピットデータ信号分のディレイをもたせた露光ピットデータ信号を載せて送出することにより、現在露光中のＮトラック上のピット露光データ信号と１トラック前に露光した露光データ信号と、１トラック後に露光する露光データ信号を得ることができることになる。
【００４９】
図８は、本発明によるフォーマッタシステムの構成図である。パルスジェネレータから得られる、Ｎトラックおよび、Ｎ＋１トラック、Ｎ−１トラックに対応した露光データ信号列に相当したパルス列を、それぞれ入力とするＮトラック露光ピットデータ信号発生回路３３、Ｎ＋１トラック露光ピットデータ信号発生回路３２、Ｎ−１トラック露光ピットデータ信号発生回路３４から構成され、Ｎ＋１トラック露光ピットデータ信号発生回路３２から順次１トラック毎に（スピンドルの回転毎に）それぞれ、露光ピットデータ信号出力を開始することにより、１トラック相当のディレイをもった露光ピットデータ信号列ＰＳｎ，ＰＳn＋1，ＰＳn −1が出力される
【００５０】
第４の実施例では、露光ピットデータＰＳnを実際にピットとして形成するに際して、フォーマッタシステムから同時に出力される、１トラック前の露光ピットデータ信号と１トラック後に露光する露光ピットデータ信号から、短ピットとその時の隣接長ピットデータ信号検出することにより、短ピット露光ビーム強度制御を実施することができる。
【００５１】
図９は、第５の実施例を示す短ピット露光ビーム強度制御回路の構成図である。
図９では、その前段に図８が、さらにその前段に図７が設けられている。
１トラック相当の露光データのディレイをもった露光ピットデータ信号列ＰＳｎ，ＰＳn＋1，ＰＳn−1を入力とし、これらのデータは一旦シフトレジスタ４１〜４３上に展開され、短ピット露光に際し、隣接露光ピットデータＰＳn＋1，ＰＳn−1上に長ピットデータがあるかどうかを検定し、それぞれの場合に応じて第１、２の実施例の構成動作で説明したような露光ビーム強度制御を施したピット露光信号Ｐoutを出力する。各シフトレジスタ４１〜４３のシフトクロックはＣＬＫn＋1，ＣＬＫn，ＣＬＫn−1、である。
【００５２】
図１０は、第６の実施例を示す光ディスク原盤露光装置の構成図である。
第３の実施例に記載のパルスジェネレータ、および第４の実施例に記載のフォーマッタシステム、およびこれらによって得られる露光データ信号および隣接トラックの露光データ信号に基づいて、露光ビーム強度制御を行う回路を搭載している。
これにより、短ピット露光時の隣接長ピットの有り無しによる短ピット露光ビーム強度制御をした短ピット露光が可能となる。
図１０において、図１３の従来の回路に比べて異なる点は、パルスジェネレータ１３からＣＬＫｎ−１，ＣＬＫｎ，ＣＬＫ＋１のフォーマット信号送出クロックがフォーマッタシステム１５に送出され、フォーマッタシステム１５からＰＳｎ−１，ＰＳｎ，ＰＳｎ＋１のピット露光データ信号が短ピット露光ビーム強度制御回路１７に送出され、そして、短ピット露光ビーム強度制御回路１７から光変調器３に変調信号が送出される点である。
【００５３】
図１０に示される光ディスク原盤露光装置によって作製される光ディスク原盤により作製される光ディスクメディアは、隣接長ピットがある場合は短ピット露光ビーム強度制御を行って露光が行われており、長ピットの露光ビームのエアリーリングの影響を低減した短ピット形状が形成されている。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】本発明の第１の実施例を示す隣接トラック上のピット配置図である。
【図２】本発明の第２の実施例を示す隣接長ピットを考慮した短ピット露光ビーム強度制御方法の説明図である。
【図３】同じく第２の実施例を示す隣接トラック上のピット配置図である。
【図４】同じく第２の実施例を示す隣接長ピットを考慮した短ピット露光ビーム強度制御方法の説明図である。
【図５】本発明の第３〜５の実施例を示す隣接トラック間のトラック長変化の説明図である。
【図６】同じく、ＮトラックにおけるＣＬＶ駆動動作時の隣接トラック間の時間軸の変化を示す図である。
【図７】同じく、本発明によるパルスジェネレータの構成図である。
【図８】本発明の第４の実施例を示すフォーマッタシステムの構成図である。
【図９】本発明の第５の実施例を示す短ピット露光ビーム強度制御回路の構成図である。
【図１０】本発明の第６の実施例を示す光ディスク原盤露光装置の構成図である。
【図１１】本発明が適用される露光ビーム強度とピットまたはグループ形態（幅）の関係を示す特性図である。
【図１２】短ピット形態への隣接トラック長ピット配置の影響を示す図である。
【図１３】従来の光ディスクカッティングマシンの構成図である。
【符号の説明】
【００５５】
Ps1, Ps2,Ps3：短ピット、P１-1,P1-2：長ピット、２１：コントローラ、２２：基本クロック発生器、３１：コントローラ、２３：Ｎ＋１トラック・フォーマッタクロック発生回路、２４：Ｎトラック・フォーマッタクロック発生回路、２５：Ｎ−１トラック・フォーマッタクロック発生回路、３２：Ｎ＋１トラック・露光ピットデータ信号発生回路、３３：Ｎトラック・露光ピットデータ信号発生回路、３４：Ｎ−１トラック・露光ピットデータ信号発生回路、４１，４２，４３：シフトレジスタ、４４：コントローラ、１：露光レーザ、２：露光光学系、３：光変調器、４：フォーカスアクチュエータ、５：ガラス原盤、６： エアスピンドルモータドライバ、７：エンコーダ、８：エアスライドモータ、９：スライドモータドライバ、１０：スライダ制御回路、１１：スピンドルモータドライバ、１２：スピンドル制御回路、１３：パルスジェネレータ、１４：リニアエンコーダ、１５：フォーマッタシステム、１６：基本クロック発生器、１７：短ピット露光ビーム強度制御回路。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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