(57)【要約】【課題】ＣＣＦ層への入射効率を高めた有機ＥＬ素子及びその製造方法を提供する。【解決手段】支持基板上に、少なくとも下部電極と、有機ＥＬ層と上部電極を順次有する有機ＥＬ素子であって、前記有機ＥＬ層が少なくとも発光層を含み、前記発光層が発光性有機材料と、該発光性有機材料よりも屈折率の低い材料との混合層であることを特徴とする有機ＥＬ素子、及び前記有機ＥＬ層が少なくとも発光層を含み、前記発光層を発光性有機材料と、該発光性有機材料よりも屈折率の低い材料とを共蒸着により形成することを特徴とする前記有機ＥＬ素子の製造方法。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持基板上に、少なくとも下部電極と、有機ＥＬ層と上部電極を順次有する有機ＥＬ素子であって、前記有機ＥＬ層が少なくとも発光層を含み、前記発光層が発光性有機材料と、該発光性有機材料よりも屈折率の低い材料との混合層であることを特徴とする有機ＥＬ素子。
【請求項２】
前記発光性有機材料よりも屈折率の低い材料が、ＭｇＦ２、ＣｅＦ３、ＬｉＦ、ＮａＦ、ＣｓＦ、Ａｌ２Ｏ３及びＳｉＯ２から選ばれる１種以上であることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ素子。
【請求項３】
支持基板上に少なくとも下部電極と、有機ＥＬ層と上部電極を順次有する有機ＥＬ素子を製造する製造方法であって、前記有機ＥＬ層が少なくとも発光層を含み、前記発光層を発光性有機材料と、該発光性有機材料よりも屈折率の低い材料とを共蒸着により形成することを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項４】
前記発光性有機材料よりも屈折率の低い材料が、ＭｇＦ２、ＣｅＦ３、ＬｉＦ、ＮａＦ、ＣｓＦ、Ａｌ２Ｏ３及びＳｉＯ２から選ばれる１種以上であることを特徴とする請求項３に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ素子及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
図１に従来の色変換フィルタ層（ＣＣＦ）を用いた有機ＥＬ素子の模式図を示す（例えば、特許文献１参照。）。
【０００３】
この有機ＥＬ素子はガラス基板（屈折率ｎ＝１．０）の上に色変換フィルタ層（ＣＣＦ）（屈折率ｎ＝１．５）、オーバーコート層（ＯＣＬ）（屈折率ｎ＝１．５）、パッシベーション層（ＰＬ）（屈折率ｎ＝１．４）、例えばＩｎ−Ｚｎ酸化物（屈折率ｎ＝２．０）などの下部電極（ＩＺＯ）、正孔注入層（ＨＩＬ）、正孔輸送層（ＨＴＬ）、有機発光層（ＥＭＬ）、電子輸送層（ＥＴＬ）（ＨＩＬ〜ＥＴＬの屈折率ｎ＝２．０）、例えばＡｌからなる上部電極が順次積層されてなる。図１では色変換フィルタ層（ＣＣＦ）がカラーフィルタ層（ＣＦ）と色変換層（ＣＣＭ）の積層体からなる場合のものを示している。
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−２５５１２４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
図１に示すように、従来の有機ＥＬ素子の場合、有機発光層〜ＩＺＯの屈折率がＰＬの屈折率より高い。古典光学の法則により、屈折率ｎ１の媒体からｎ２の媒体に光が入射するとき、光の入射角ｉ１と出射角ｉ２と次の関係が成り立つ。
ｎ１＞ｎ２の場合、ｉ１＜ｉ２
ここで、入射角ｉ１がある角度以上になると、光は媒体ｎ１からｎ２に入射せず、界面で反射する（全反射）。全反射する角度のうち最小の角度が臨界角である。
【０００６】
すなわち、有機発光層から出た光のうち、入射角が臨界角以上の光は屈折率が低いＰＬ層との界面で全反射し、入射角が臨界角より小さい光のみＰＬ層に入射する。ＯＣＬ、ＣＣＦ層はＰＬ層よりも屈折率が高いので、ＰＬ層に入射した光は界面で全反射することなくＣＣＦ層に到達する。従って、少なくともＩＺＯ層とＰＲ層の界面で全反射する分ＣＣＦ層に入射する光量が減少する。
【０００７】
従って、従来の有機ＥＬ素子は発光層からＣＣＦ層への光の入射効率が悪く、輝度が低いという問題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
このような状況に鑑み、本発明の目的はＣＣＦ層への入射効率を高めた有機ＥＬ素子及びその製造方法を提供することにある。
【０００９】
すなわち、本発明の有機ＥＬ素子は、支持基板上に、少なくとも下部電極と、有機ＥＬ層と上部電極を順次有する有機ＥＬ素子であって、前記有機ＥＬ層が少なくとも発光層を含み、前記発光層が発光性有機材料と、該発光性有機材料よりも屈折率の低い材料との混合層であることを特徴とする。
【００１０】
また、本発明の有機ＥＬ素子の製造方法は、支持基板上に少なくとも下部電極と、有機ＥＬ層と上部電極を順次有する有機ＥＬ素子を製造する製造方法であって、前記有機ＥＬ層が少なくとも発光層を含み、前記発光層を発光性有機材料と、該発光性有機材料よりも屈折率の低い材料とを共蒸着により形成することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明により、従来の有機ＥＬ素子に比べ、発光層からの光のＣＣＦへの入射効率を高め、よってより高輝度の有機ＥＬ素子を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本発明においては、支持基板上に少なくとも下部電極と有機ＥＬ層と上部電極をこの順に有している。
【００１３】
図２は本発明の有機ＥＬ素子の一例を示す模式図である。図２に示す有機ＥＬ素子は、ガラス基板の上に色変換フィルタ層（ＣＣＦ）、オーバーコート層（ＯＣＬ）、パッシベーション層（ＰＬ）、下部電極（ＩＺＯ）、正孔注入層（ＨＩＬ）、正孔輸送層（ＨＴＬ）、有機発光層（ＥＭＬ）、電子輸送層（ＥＴＬ）、上部電極が順次積層されてなる。
【００１４】
色変換フィルタ層（ＣＣＦ）は、カラーフィルタ層（ＣＦ）、色変換層（ＣＣＭ）、およびカラーフィルタ層と色変換層との積層体の総称である。図２においては、色変換フィルタ層（ＣＣＦ）としてカラーフィルタ層（ＣＦ）と色変換層（ＣＣＭ）の積層体からなるものを示している。
【００１５】
すなわち、本発明において、支持基板は、ガラス基板などの透明基板の上に色変換フィルタ層（ＣＣＦ）、オーバーコート層（ＯＣＬ）、パッシベーション層（ＰＬ）をこの順に積層したものが好ましい。
【００１６】
透明基板としては、有機ＥＬディスプレイパネルに用いられるものであればどのようなものも用いることができ、特に限定されるものではない。透明基板の素材例としてはガラス、セラミックスあるいはポリエチレンテレフタレート、ポリスルホン、ポリカーボネート等を例示できる。
【００１７】
カラーフィルタ層（ＣＦ）は、当該技術において知られている任意の色素をマトリクス樹脂に分散した材料（たとえば、液晶ディスプレイ用カラーフィルタ材料）を用いて形成することができる。
【００１８】
色変換層（ＣＣＭ）は、有機ＥＬ層で発光される近紫外領域ないし可視領域の光、特に青色ないし青緑色領域の光を吸収して、異なる波長の可視光へと波長分布変換を行う層である。
【００１９】
色変換層に使用される染料または顔料には有機蛍光色素がある。例えば、有機ＥＬ層から発せられる青色から青緑色領域の光を吸収して、赤色領域の蛍光を発する蛍光色素には、例えば以下のような有機蛍光色素がある。すなわち、ローダミンＢ、ローダミン６Ｇ、ローダミン３Ｂ、ローダミン１０１、ローダミン１１０、スルホローダミン、べ一シックバイオレット１１、べーシックレッド２などのローダミン系色素、シアニン系色素、１−エチル−２−［４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１３−ブタジエニル］−ピリジウム−パークロレート（ピリジン１）などのピリジン系色素、あるいはオキサジン系色素などである。さらに、各種染料（直接染料、酸性染料、塩基性染料、分散染料など）も所望の蛍光を発することができれば使用することができる。有機ＥＬ層から発せられる青色ないし青緑色領域の光を吸収して、緑色領域の蛍光を発する蛍光色素には、例えば以下のような有機蛍光色素がある。すなわち、３−（２−ベンゾチアゾリル）−７−ジエチルアミノクマリン（クマリン６）、３−（２’−ベンゾイミダゾリル）−７−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノクマリン（クマリン７）、３−（２’−Ｎ−メチルベンゾイミダゾリル）−７−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノクマリン（クマリン３０）、２，３，５，６−１Ｈ，４Ｈ−テトラヒドロ−８−トリフルオロメチルキノリジン（９，９ａ，１−ｇｈ）クマリン（クマリン１５３）などのクマリン系色素、または、クマリン色素系染料であるべーシックイエロー５１、さらにはソルベントイエロー１１、ソルベントイエロー１１６などのナフタルイミド系色素などである。さらに、各種染料（直接染料、酸性染料、塩基性染料、分散染料など）も所望の蛍光を発することができれば使用することができる。
【００２０】
また、上記有機蛍光色素を、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、アルキッド樹脂、芳香族スルホンアミド樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂およびこれらの樹脂混合物などに予め練り込んで顔料化して、有機蛍光顔料としてもよい。
【００２１】
この色変換フィルタ層（ＣＣＦ）はパターン化されている。
【００２２】
ここで、色変換フィルタ層がパターン化されているとは、１つまたは複数の色変換フィルタ層が形成されており、該色変換フィルタ層のそれぞれが複数の部分に分割されていることを意味する。このようなパターンの一例としてラインパターンを挙げることができる。
【００２３】
オーバーコート層（ＯＣＬ）は、透明支持基板上に設けられたパターン化された色変換フィルタ層のためにできた表面の凹凸を実質的に解消し平坦にするための層であり、当該技術に知られている任意の材料により形成することができる。好ましくは、ポリイミドまたはアクリル樹脂から形成される。
【００２４】
パッシベーション層は、例えば、ＳｉＯｘ、ＳｉＮｘ、ＳｉＮｘＯｙ、ＡｌＯｘ、ＴｉＯｘ、ＴａＯｘ、ＺｎＯｘ等の無機酸化物、無機窒化物等の材料を使用できる。また、イミド変性シリコーン樹脂や、無機金属化合物（ＴｉＯ、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２等）をアクリル、ポリイミド、シリコーン樹脂等の中に分散した材料などのポリマー材料も用いることができる。
【００２５】
下部電極は、ラインパターン状に互いに電気的に分離された複数の導電層からなり、これらの導電層は色変換層のそれぞれに対応する位置に設けられている。この下部電極は有機ＥＬ層で発光した光の取り出し側の電極にあたるため、透明導電性材料からなる膜が用いられる。この透明性導電材料は、可視光の領域である３８０〜７８０ｎｍの波長において８０％以上の透過率を有することが望ましい。このような透明導電性材料としてＩＴＯ（インジウム−酸化錫）またはＩＺＯ（Ｉｎ−Ｚｎ酸化物）が好ましく用いられる。
【００２６】
下部電極の上には有機ＥＬ層が設けられている。有機ＥＬ層は、陽極及び陰極に電圧が印加されることによって生じる正孔及び電子が再結合することによって発光する有機発光層を少なくとも含み、必要に応じて正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層および／または電子注入層を含有する。
【００２７】
すなわち、有機ＥＬ層は（Ａ）有機発光層のみからなってもよく、下部電極（陽極）側から、
（Ｂ）正孔注入輸送層／有機発光層
（Ｃ）有機発光層／電子注入輸送層
（Ｄ）正孔注入輸送層／有機発光層／電子注入輸送層
（Ｅ）正孔注入層／正孔輸送層／有機発光層／電子注入輸送層
などの構成となっていてもよい。
【００２８】
正孔注入輸送層は陽極より注入された正孔を有機発光層に伝達する機能を有し、電子注入輸送層は陰極より注入された電子を有機発光層に伝達する機能を有する。この正孔注入輸送層を陽極と有機発光層の間に介在させることによって、より低い電圧で多くの正孔が有機発光層に注入され、有機発光層に陰極または電子注入層あるいは電子輸送層より注入された電子は正孔注入輸送層が電子を輸送しないので正孔注入輸送層と有機発光層との界面に蓄積され、発光効率が上がることが知られている。
【００２９】
有機ＥＬ層の上には上部電極の導電層が設けられている。
【００３０】
上部電極は互いに分離され、電気的に絶縁されたラインパターン状の複数列の導電層からなる電極である。この複数列の導電層は下部電極の導電層と直交する方向に伸びている。
【００３１】
なお、下部電極、上部電極、および下部電極の導電層と上部電極の導電層との交差領域にある有機発光層を含む有機ＥＬ層で画素が構成される。この画素が複数個配列することにより表示部分が形成される。下部電極および上部電極を表示部から基板周囲へ延長して形成した接続部分を介して、外部駆動回路と表示部とを接続することにより、表示装置が構成される。
【００３２】
発光層は発光性有機材料と低屈折率材料との混合層からなる。
【００３３】
発光性有機材料としては、ベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、べンゾオキサゾール系などの蛍光増白剤、金属キレート化オキソニウム化合物、スチリルベンゼン系化合物、芳香族ジメチリディン系化合物などが好ましく使用される。あるいはまた、ホスト化合物（ジスチリルアリーレン化合物、ＴＰＤ、アルミニウムトリス（８−キノリノラート）（Ａｌｑ３など））にドーパント（ペリレン、キナクリドン類、ルブレンなど）を添加することによって、種々の波長域の光を発する有機発光層を形成してもよい。これらの有機材料の屈折率は２．０程度である。
【００３４】
低屈折率材料としては、屈折率１．２〜１．９の無機材料が用いられ、このような無機材料の具体例としてＭｇＦ２（ｎ＝１．３８−１．４）、ＣｅＦ３（ｎ＝１．６３）、ＬｉＦ（ｎ＝１．３）、ＮａＦ（ｎ＝１．３４）、ＣｓＦ（ｎ＝１．４８）、Ａｌ２Ｏ３（ｎ＝１．６０−１．７０）及びＳｉＯ２（ｎ＝１．４６−１．５０）などを挙げることができる。
【００３５】
発光性有機物と低屈折率材料の混合層とすることにより発光層の屈折率を１．２〜１．９程度にまで低下させることができる。
【００３６】
正孔注入層としては、銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）などのフタロシアニン類、インダンスレン系化合物などを用いることができる。正孔輸送層は、ＴＰＤ、Ｎ，Ｎ′−ビス（１−ナフチル）−Ｎ，Ｎ′−ジフェニルビフェルアミン（α−ＮＰＤ）、４，４′，４″−トリス（Ｎ−３−トリル−Ｎ−フェニルアミン）トリフェニルアミン（ｍ−ＭＴＤＡＴＡ）、Ｎ，Ｎ，Ｎ′−テトラビフェニル−４，４′−ビフェニレンジアミン（ＴＢＰＢ）などのトリアリールアミン系材料を含む公知の材料を用いることができる。
【００３７】
電子輸送層は、２−（４−ビフェニル）−５−（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール（ＰＢＤ）のようなオキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、トリアジン誘導体、フェニルキノキサリン類、アルミニウムのキノリノール錯体（例えばＡｌｑ３）などを用いることができる。
【００３８】
以下に本発明の有機ＥＬ素子の製造方法につき説明する。
【００３９】
支持基板は有機ＥＬ素子に用いられる公知の材料を用い、公知の方法で形成すればよい。
【００４０】
（第１電極形成工程）
ＩＴＯ、Ｉｎ−Ｚｎ酸化物、ＡＴＯ等をスパッタ法等の方法で成膜し、フォトリソグラフ法によりレジストをパターンニングした後にエッチングを行うことによりラインパターン状の導電層を形成できる。
【００４１】
（分離壁形成工程）
第１電極形成工程で形成された第１電極の上に、前記第１電極の導電層に対して直角方向に伸びる分離壁を形成する。
【００４２】
分離壁形成にあたっては、所定のパターンを形成できる方法であればどのような方法も採用できるが、パターニングの容易さなどからネガ型のフォトレジストを用いたフォトリソグラフ法を用いることが好ましい。
【００４３】
分離壁は第１電極の上に直接形成してもよいが、第１電極の上に設けた絶縁膜を介して設けてもよい。絶縁膜を設ける場合はその上に分離壁を形成するように、分離壁と同様のパターンとするのが好ましい。
【００４４】
この絶縁膜には、アクリレート等のネガ型のフォトレジストやポリイミド材料、ノボラック樹脂等を用いることができる。
【００４５】
（有機ＥＬ層形成工程）
ＥＬ層の形成方法としては、例えば、蒸着法、スピンコート法、キャスト法、ＬＢ法などの公知の方法を採用することができる。また、樹脂などの結着材とともに溶剤に溶かして溶液とした後、スピンコート法などで成膜してもよい。これらの方法の中では、蒸着法が好ましく、抵抗加熱蒸着装置などを用いて、真空を破らずに各層を順次成膜すればよい。
【００４６】
（上部電極形成工程）
例えば、リチウム、ナトリウム等のアルカリ金属、カリウム、カルシウム、マグネシウム、ストロンチウムなどのアルカリ土類金属、またはこれらのフッ化物等からなる電子注入性の金属、その他の金属との合金や化合物などの材料を用い、有機ＥＬ層形成に続き、そのまま真空を破らずに加熱蒸着装置を用いて蒸着し、次いでそのまま上部電極は、例えばＡｌ、Ａｇ、Ｍｏ、Ｗ、Ｎｉ、Ｃｒなどの高反射率の金属または合金を蒸着することにより得られる。
【００４７】
得られた下部電極と、有機ＥＬ層と上部電極をその上に順次有する支持基板は、封止工程に供され、封止された有機ＥＬ発光素子となる。封止工程では上部電極を形成した後に、酸化シリコンや、酸化窒化シリコンなどの無機膜を連続的に形成する方法や、ガラス板、ＳＵＳ板、ポリカーボネートなどのフィルムを、ＵＶ硬化樹脂や熱硬化樹脂などを用いて基板と接着させる方法を用いることができる。封止の条件は従来の通りである。
【実施例】
【００４８】
以下に実施例により本発明についてさらに説明するが、その説明は本発明を限定するものではなく、本発明の要旨を逸脱しない限り種々変更可能であることは言うまでもない。
【００４９】
（実施例１）
ガラス基板上に、青色フィルタ材料をスピンコート法を用いて塗布し、フォトリソグラフ法によりパターニングを実施し、ラインパターンを有する青色フィルタを得た。
【００５０】
蛍光色素としてクマリン６を溶剤のプロピレングリコールモノエチルアセテート（ＰＧＭＥＡ）に溶解した。得られた溶液に光重合性樹脂を加えて溶解させ、塗布液を得た。この塗布液を、先に青色フィルタのパターンを形成した基板の上にスピンコート法を用いて塗布し、フォトリソグラフ法によりパターニングを実施し、ラインパターンを有する緑色変換層を得た。
【００５１】
蛍光色素としてクマリン６、ローダミン６Ｇ、ベーシックバイオレット１１をＰＧＭＥＡに溶解した。得られた溶液に光重合性樹脂を加えて溶解させ、塗布液を得た。この塗布液を、先に青色フィルタおよび緑色変換層のパターンを形成した透明基板の上にスピンコート法を用いて塗布し、フォトリソグラフ法によりパターニングを実施し、ラインパターンを有する赤色変換層を得、青色フィルタ、緑色変換層及び赤色変換層を有する色変換層を形成した。
【００５２】
この色変換層の上に、ＵＶ硬化型樹脂をスピンコート法にて塗布し、高圧水銀灯で照射して、塗布したＵＶ硬化型樹脂を硬化させた。得られたオーバーコート層の膜厚は８μｍであり、変換層のパターンの変形はなく、オーバーコート層の上面は平坦であった。
【００５３】
次に、パッシベーション層として、ＲＦマグネトロンスパッタ法により、室温で酸化ケイ素膜をオーバーコート層の上に厚み３００ｎｍで形成した。スパッタターゲットにはＳｉを用い、スパッタガスとしてＡｒと酸素の混合ガスを用いた。
【００５４】
こうして製造した、パッシベーション層の上に、下部電極／正孔注入層／正孔輸送層／有機発光層／電子輸送層／上部電極の構成とした有機ＥＬ素子を形成した。
【００５５】
すなわち、まず、パッシベーション層の上にＩｎ−Ｚｎ酸化物（ＩＺＯ）を全面成膜した。からなるラインパターンの導電層をパッシベーション層の上に室温でＤＣスパッタ法により形成した。スパッタターゲットにはＩｎ−Ｚｎ酸化物ターゲット（Ｉｎ２Ｏ３−１０％ＺｎＯ）を用い、スパッタガスとしてＡｒを用い、０．３Ｐａの圧力下で、１００Ｗ（２０ｎｍ／ｍｉｎ）のスパッタパワーを印加して成膜した。次に、フォトリソグラフ法にてパターニングを行い、それぞれの色の発光部に位置するストライプパターンを有する下部電極を形成した。パターニング後、１５０℃での乾燥処理、室温及び１５０℃でのＵＶ処理を行った。
【００５６】
この基板上に７室型蒸着装置を用いて有機ＥＬ層の成膜を行った。成膜に際しては真空槽内を１×１０−５まで減圧した。蒸発源は抵抗加熱式で加熱蒸発させた。るつぼ材質は蒸発源の種類に応じて石英、Ｍｏ、ＢＮ、ＰＢＮを用いた。正孔注入層、正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層、上部電極を真空を破らずに順次成膜した。各有機材料の蒸着レートは０．２〜０．４ｎｍ／ｓとした。正孔注入層としてＣｕＰｃを６０ｎｍ蒸着し、正孔輸送層としてはＴＢＰＢを２０ｎｍ蒸着した。有機発光層としては、ＤＰＶＢｉ（ｎ＝２．０）とＭｇＦ２（ｎ＝１．３８−１．４）とを蒸着膜における体積比４：１、膜厚２５ｎｍとなるように共蒸着した。電子輸送層はＡｌｑを２０ｎｍ蒸着した。続いてメタルマスクを用いて上記下部電極のラインパターンに対して直交する方向に延在するラインパターンの、厚さ１ｎｍのＬｉＦと厚さ１００ｎｍのＡｌからなる上部電極を蒸着により形成した。有機発光層の屈折率は１．８８であった。
【００５７】
作成した素子は大気中に暴露せず、グローブボックス内乾燥窒素雰囲気（酸素および水分濃度ともに１０ｐｐｍ以下）下において、封止ガラスとＵＶ硬化接着剤を用いて封止した。封止内部にはゲッター剤として酸化カルシウムを塗布した。
【００５８】
こうして得られた有機ＥＬ素子の特性を評価した。その結果を表１に示す。
【００５９】
（比較例１）
有機発光層として、ＭｇＦ２を用いずに、ＤＰＶＢｉのみを用いて膜厚２５ｎｍとなるように蒸着した以外は実施例１と同様にして有機ＥＬ素子を形成した。その特性を実施例１の結果とともに表１に示す。
【００６０】
（実施例２）
有機発光層として、ＤＰＶＢｉとＭｇＦ２とを蒸着膜における体積比９：１、膜厚２５ｎｍとなるように共蒸着した以外は実施例１と同様にして有機ＥＬ素子を形成した。有機発光層の屈折率は１．９４であった。有機ＥＬ素子の特性を実施例１の結果とともに表１に示す。
【００６１】
（実施例２）
有機発光層として、ＤＰＶＢｉとＣｅＦ３（ｎ＝１．６３）とを蒸着膜における体積比４：１、膜厚２５ｎｍとなるように共蒸着した以外は実施例１と同様にして有機ＥＬ素子を形成した。有機発光層の屈折率は１．９２であった。有機ＥＬ素子の特性を実施例１の結果とともに表１に示す。
【００６２】
【表１】
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【００６３】
表１から、低屈折率成分を共蒸着せずＤＰＶＢｉのみを蒸着して有機発光層を形成した比較例１の有機ＥＬ素子に比べて、有機発光層に低屈折材料を共蒸着した実施例１〜３の有機ＥＬ素子は高い輝度を示している。これは、有機発光層からＨＴＬ，ＨＩＬ，ＩＺＯを経由してＰＬにはいるときの臨界角が大きくなり、ＣＣＦに入射する光が増加したため効率が向上したためと考えられる。
【産業上の利用可能性】
【００６４】
本発明によれば、従来のＣＣＦを用いた有機ＥＬ素子に比べて高輝度の有機ＥＬ素子を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６５】
【図１】従来のＣＣＦを用いた有機ＥＬ素子の模式図
【図２】本発明の有機ＥＬ素子の模式図
【図１】
2008021872.tif 000004
【図２】
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