(57)【要約】【課題】光透過層に用いられる材料を最適化することで、簡易な構造で環境変化に対しても反り量の少ない光記録媒体を提供する。【解決手段】本発明の光記録媒体５０によれば、光透過層７を形成する紫外線硬化樹脂に相対分子質量Ｍｒが１０００≦Ｍｒ≦１１００の範囲を満たすようなプロピレンオキサイド付加ビスフェノールＡ短鎖ジオールエチレングリコールウレタンアクリレートを用いることで、光記録媒体５０の耐候性後の反り量を小さくすることができる。また、光透過層７を形成する紫外線硬化樹脂を構成するプロピレンオキサイド付加ビスフェノールＡ短鎖ジオールエチレングリコールウレタンアクリレートの組成比を２０ｗｔ％〜３０ｗｔ％の範囲とすることで、光記録媒体５０の耐候性後の反り量を小さくすることができる。【選択図】図１
2008059670.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、前記基板の一面側に形成されて情報信号を記録し得る機能層からなる情報層と、
前記情報層上に形成されてプロピレンオキサイド付加ビスフェノールＡ短鎖ジオールエチレングリコールウレタンアクリレートを含む紫外線硬化樹脂からなる光透過層と、を有し、
前記紫外線硬化樹脂を構成するプロピレンオキサイド付加ビスフェノールＡ短鎖ジオールエチレングリコールウレタンアクリレートの相対分子質量Ｍｒが
１０００≦Ｍｒ≦１１００であることを特徴とする光記録媒体。
【請求項２】
前記紫外線硬化樹脂を構成するプロピレンオキサイド付加ビスフェノールＡ短鎖ジオールエチレングリコールウレタンアクリレートの組成比が
２０ｗｔ％〜３０ｗｔ％であることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
【請求項３】
前記紫外線硬化樹脂からなる前記光透過層の弾性率Ｋが、１５ＭＰａ≦Ｋ≦４０ＭＰａであることを特徴とする請求項２記載の光記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は外部からレーザ光を照射することにより情報信号の再生もしくは記録を行うための光記録媒体に関し、特に、このレーザ光が照射される面に形成される光透過層の材料を最適化することで光記録媒体の反りを低減した光記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
デジタル化した情報信号の記録媒体としては、記録容量、ランダムアクセス性、可搬性、価格等の面から、外部からレーザ光を照射することによって情報信号の記録再生等が行われる光記録媒体が産業用から民生用まで広く普及している。これら、光記録媒体としては、ＣＤ（Ｃｏｍｐａｃｔ  Ｄｉｓｃ）、ＤＶＤ（Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｖａｒｓａｔｉｌｅ  Ｄｉｓｃ）等の再生専用型、ＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−Ｒ等の１回のみ記録が可能な追記型、ＣＤ−ＲＷ、ＤＶＤ−ＲＷ、ＤＶＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−ＲＡＭ等の何回でも記録が可能な書き換え型、更には大容量の光記録媒体としてＢＤ（Ｂｌｕ−ｒａｙ  Ｄｉｓｃ）等、様々なものが開発されている。
【０００３】
これら光記録媒体においては、近年の情報通信及び画像処理技術の急速な発展に伴い、更なる記録容量の向上が要求されている。光記録媒体の記録容量を向上させる主な手法としては、情報信号が記録される情報層を複数形成する手法の他に、情報層のグルーブ及びランド等のトラックピッチやピット等を微細化し、情報層における記録密度を高めることで光記録媒体の高容量化を図る手法がある。
【０００４】
上記のような手法を用いて記録密度が向上した光記録媒体としては、例えば情報層を構成する凹凸パターンを最短ピット長０．１６μｍ、トラックピッチ０．３２μｍにまで微細化したものがあり、このような高密度の光記録媒体は、直径１２０ｍｍの光記録媒体に２Ｔ系の信号方式で２２ギガバイト〜２７ギガバイトもの高い記録容量を得ることができる。
【０００５】
案内溝やピット等を微細化し情報層における記録密度を高める手法においては、微細化した案内溝やピット等に合わせて照射するレーザ光のスポット径も小径化する必要がある。レーザ光のスポット径を小径化するためには、レーザ光の短波長化やレーザ光を照射するための対物レンズの開口数ＮＡを大きくすることが一般的に行われている。
【０００６】
対物レンズの開口数ＮＡを大きくした場合、照射するレーザ光の光軸に対して光記録媒体の情報層が垂直からずれたときに生じるコマ収差が、対物レンズの開口数ＮＡの３乗に比例して急激に増大する。このコマ収差を低減するためは、レーザ光が光記録媒体に入射する際の入射面から情報層までの距離を短くし、コマ収差の発生量そのものを抑制することが効果的である。
【０００７】
しかしながら、従来の光記録媒体では基板の一方の面に情報層を形成しもう一方の平坦な面を入射面としており、この構成では基板の厚さが入射面から情報層までの距離に相当するため、入射面から情報層までの距離を短くするためには基板を薄く形成する必要がある。このような薄い基板に精度良く微細な凹凸パターンを形成することは極めて困難であり、従来の射出成型法等では作製することが技術的に難しい。従って、高密度の光記録媒体ではレーザ光の入射面は基板の平坦な面側からではなく、基板の情報層が形成された面側から行われる。このため、情報層上に形成される保護層として、情報層を保護する機能とレーザ光を透過する機能とを兼ね備えた光透過層が形成されることとなる。
【０００８】
この構成によれば、光透過層の厚さが入射面から情報層までの距離に相当するため、光透過層はレーザ光の波長や対物レンズの開口数ＮＡ等により所定の厚みに設定される必要がある。例えば、前述の最短ピット長が０．１６μｍ、トラックピッチ０．３２μｍの案内溝等を有する２２ギガバイト〜２７ギガバイトの高密度の光記録媒体では、波長λが４０５ｎｍの青色レーザ光と開口数ＮＡが０．８５の対物レンズとを用いているために、光透過層の厚さは９０μｍ〜１１０μｍに設定されなければならない。
【０００９】
しかしながら、光透過層の厚みが９０μｍ〜１１０μｍまで厚くなると、光記録媒体の使用環境、保存環境における温度、湿度等の長期的、短期的な環境変化によって生じる光透過層の反りが顕著となり、この光透過層の反りに伴って光記録媒体全体の反り量も増大してしまう。このため、却ってレーザ光の光軸に対して光記録媒体の情報層が垂直からずれることとなり、良好な記録再生を行うことができないという問題がある。
【００１０】
上記の問題を解決するために、下記［特許文献１］に開示された光ディスクに関する発明では、光記録媒体（光ディスク）を形成する二つの基板を金属もしくは樹脂製の補強板を介して接合することで、環境変化に対する光記録媒体の反りの抑制を行っている。
【００１１】
また、下記［特許文献２］に開示された光ディスクに関する発明では、図６に示すように、基板１の一方の面上に各機能層２ａ〜２ｄで構成される光記録層２と、樹脂保護層３と、基板１のもう一方の面にハードコート層４とが形成され、このハードコート層４を最適化し光記録媒体（光ディスク）を予め所定量湾曲させることで、環境変化に伴う光記録媒体の全体の反り量を規格内に抑えている。
【００１２】
【特許文献１】特開平６−１２７０１号公報
【００１３】
【特許文献２】特開平５−３０７７７２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
しかしながら、［特許文献１］、［特許文献２］に開示された発明では、光記録媒体の反りを抑制するための補強板やハードコート層を形成する必要があり、光記録媒体の構造が複雑化するため更なる改善が望まれる。
【００１５】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、光透過層に用いられる材料を最適化することで、簡易な構造で環境変化に対しても反り量の少ない光記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明は、
基板１と、前記基板１の一面側に形成されて情報信号を記録し得る機能層からなる情報層６と、
前記情報層６上に形成されてプロピレンオキサイド付加ビスフェノールＡ短鎖ジオールエチレングリコールウレタンアクリレートを含む紫外線硬化樹脂からなる光透過層７と、を有し、
前記紫外線硬化樹脂を構成するプロピレンオキサイド付加ビスフェノールＡ短鎖ジオールエチレングリコールウレタンアクリレートの相対分子質量Ｍｒが
１０００≦Ｍｒ≦１１００であることを特徴とする光記録媒体５０を提供することにより、上記課題を解決する。
【００１７】
また、前記紫外線硬化樹脂を構成するプロピレンオキサイド付加ビスフェノールＡ短鎖ジオールエチレングリコールウレタンアクリレートの組成比が
２０ｗｔ％〜３０ｗｔ％であることを特徴とする上記の光記録媒体５０を提供することにより、上記課題を解決する。
【００１８】
更に、前記紫外線硬化樹脂からなる前記光透過層７の弾性率Ｋが、１５ＭＰａ≦Ｋ≦４０ＭＰａであることを特徴とする上記の光記録媒体５０を提供することにより、上記課題を解決する。
【発明の効果】
【００１９】
本発明に係る光記録媒体によれば、上記の構成により、
光透過層に用いられる材料を最適化することで、構造を複雑化することなく環境変化に対しても反り量の少ない光記録媒体を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
本発明に係る光記録媒体の実施の形態について図面に基づいて説明する。図１は本発明に係る光記録媒体の模式断面図である。図２はプロピレンオキサイド付加ビスフェノールＡ短鎖ジオールエチレングリコールウレタンアクリレートの相対分子質量と光記録媒体の反り量との関係を示す図である。図３はプロピレンオキサイド付加ビスフェノールＡ短鎖ジオールエチレングリコールウレタンアクリレートの相対分子質量と紫外線硬化樹脂膜の弾性率との関係を示す図である。図４はプロピレンオキサイド付加ビスフェノールＡ短鎖ジオールエチレングリコールウレタンアクリレートの組成比と光記録媒体の反り量との関係を示す図である。図５はプロピレンオキサイド付加ビスフェノールＡ短鎖ジオールエチレングリコールウレタンアクリレートの組成比と紫外線硬化樹脂膜の弾性率との関係を示す図である。
【００２１】
図１に示される光記録媒体５０の基板１の一方の面上には、同心円状もしくは螺旋状にピット列や案内溝が凹凸パターン５として射出成型法などの従来の方法により形成される。また、基板１の凹凸パターン５上に機能層を成膜することで情報層６が形成され、更に情報層６上には情報層６を保護すると共にレーザ光を透過する光透過層７が形成される。
【００２２】
基板１の材料としては、ポリカーボネート、ポリメチル・メタクリレート、ポリスチレン、ポリカーボネート・ポリスチレン共重合体、ポリビニルクロライド、脂環式ポリオレフィン、ポリメチルペンテン等の各種熱可塑性樹脂や熱硬化樹脂、紫外線硬化樹脂及び可視光硬化樹脂を含む各種放射線硬化樹脂等の合成樹脂を用いることができるが、中でも成形が容易であることから特にポリカーボネートを用いることが好ましい。
【００２３】
凹凸パターン５上に形成される機能層は、光記録媒体５０が再生専用型の光記録媒体の場合は、例えばＡｌ（アルミニウム）等の光に対して高反射率を示す反射膜が成膜される。また、光記録媒体５０が書き換え型の光記録媒体の場合は、例えばＧｅ（ゲルマニウム）−Ｓｂ（アンモチン）−Ｔｅ（テルル）合金等の相変化材料からなる記録膜と、ＺｎＳ（硫化亜鉛）−ＳｉＯ２（酸化珪素）等の誘電体からなる誘電体膜、Ａｌ等の金属からなる反射膜等の複数の膜が機能層として成膜される。更に、機能層にはこれらの膜に加え、拡散防止膜、熱拡散膜、光学調整膜、透過率向上膜等を必要に応じて適宜成膜しても良い。尚、これらの機能層の成膜にはスパッタリング法や蒸着法などの従来の成膜方法が用いられる。
【００２４】
光透過層７は後述する材料からなる紫外線硬化樹脂で形成される。光透過層７は、スピンコート法などの従来の方法により、所定の厚みの紫外線硬化樹脂層を情報層６上に形成した後、紫外線の照射により硬化させることで形成することができる。
【００２５】
光記録媒体５０には光透過層７側からレーザ光が照射され、光透過層７を通して情報層６にレーザ光が到達する。光記録媒体５０が再生専用型の光記録媒体の場合には、照射されたレーザ光は情報層６にて反射され、その反射光の強度が情報層６のピットの有無で異なることを利用して記録された情報信号の再生を行う。
【００２６】
また、光記録媒体５０が書き換え型の光記録媒体の場合には、記録する情報信号に応じて照射する記録レーザ光のパワーを２段階に変えることで、情報層６を構成する記録膜の相を結晶相もしくは非結晶相に変化させ情報信号の記録を行う。また、記録された情報信号を再生する場合には、記録レーザ光よりも強度の低いレーザ光を情報層６に照射して、その反射光の強度が結晶相と非結晶相とで異なることを利用して記録された情報信号の再生を行う。
【００２７】
次に、光透過層７を形成する紫外線硬化樹脂に関する詳細な説明を行う。
【００２８】
図２に本発明に係る紫外線硬化樹脂を構成するプロピレンオキサイド付加ビスフェノールＡ短鎖ジオールエチレングリコールウレタンアクリレートの相対分子質量と光記録媒体の反り量との関係を示す。
【００２９】
尚、図２における試料の作製及び測定は次のように行った。先ず、直径１２０ｍｍ厚み０．６ｍｍのポリカーボネート製の基板１に、機能層として３ｎｍのＡｕ（金）反射膜を成膜し情報層６とした。このとき、マイクロメータを用いて基板１の半径５３ｍｍの位置の高さの値と半径２０ｍｍの位置の高さの値とを測定し、半径５３ｍｍの位置の高さの値から半径２０ｍｍの位置の高さの値を引くことで基板形成後の反り量を得た。
【００３０】
次に、相対分子質量がそれぞれ異なるプロピレンオキサイド付加ビスフェノールＡ短鎖ジオールエチレングリコールウレタンアクリレートを３０ｗｔ％、プロピレンオキサイド付加ジアクリレートを３０ｗｔ％、フェノキシアクリレートを４０ｗｔ％、の組成比で調製した後、その混合物の重量に対して光開始剤としてのヒドロキシシルフェニルケトンを４ｗｔ％添加して紫外線硬化樹脂を得た。この紫外線硬化樹脂を基板１の情報層６上にスピンコーターを用いて塗布した後、１０００ｍＪの紫外線を照射することで硬化させ、厚さ約１００μｍの光透過層７を形成することで光記録媒体５０を得た。得られた光記録媒体５０の半径５３ｍｍの位置の高さの値と半径２０ｍｍの位置の高さの値とを測定し、半径５３ｍｍの位置の高さの値から半径２０ｍｍの位置の高さの値を引くことで光透過層形成後の反り量を得た。また、得られた光透過層形成後の反り量から基板形成後の反り量を引いた値を初期反り量とした。
【００３１】
次に、得られた光記録媒体５０に環境変化による光記録媒体への変化を調べるための耐候性試験（温度８０℃、湿度８５％、９６時間）を行った。この耐候性試験後の光記録媒体５０の半径５３ｍｍの位置の高さの値と半径２０ｍｍの位置の高さの値とを測定し、半径５３ｍｍの位置の高さの値から半径２０ｍｍの位置の高さの値を引くことで耐候性試験後の光記録媒体の反り量を得た。また、得られた耐候性試験後の光記録媒体の反り量から初期反り量を引いた値を耐候性後反り量とした。更に、耐候性試験後の光記録媒体の反り量から基板形成後の反り量を引いた値、即ち初期反り量と耐候性後反り量との和を全反り量とした。
【００３２】
図２より、初期反り量（図２中○印）はプロピレンオキサイド付加ビスフェノールＡ短鎖ジオールエチレングリコールウレタンアクリレートの相対分子質量が大きくなるにつれ減少するのに対し、耐候性後反り量（図２中△印）は相対分子質量が１０００〜１５００の範囲で急激に増大することがわかる。従って、初期反り量と耐候性後反り量の和である全反り量（図２中□印）も、耐候性後反り量と同様に、相対分子質量が１０００〜１５００の範囲で急激に増大することがわかる。ここで全反り量の上限を、光記録媒体の耐候性後反り量の限界値である±２００μｍより小さい１２０μｍと設定すれば、この反り量を満たすようなプロピレンオキサイド付加ビスフェノールＡ短鎖ジオールエチレングリコールウレタンアクリレートの相対分子質量Ｍｒの範囲は１１００≧Ｍｒの範囲となる。尚、プロピレンオキサイド付加ビスフェノールＡ短鎖ジオールエチレングリコールウレタンアクリレートはウレタン骨格を形成するモノマーの分子量の関係上、相対分子質量が１０００に満たないものは調製することが難しい。これらのことから、光透過層７を形成する紫外線硬化樹脂に、相対分子質量Ｍｒが１０００≦Ｍｒ≦１１００の範囲を満たすプロピレンオキサイド付加ビスフェノールＡ短鎖ジオールエチレングリコールウレタンアクリレートを用いることで、光記録媒体５０の耐候性後反り量を１２０μｍ以下の小さい値に抑えることができる。
【００３３】
次に、図３に本発明に係る紫外線硬化樹脂を構成するプロピレンオキサイド付加ビスフェノールＡ短鎖ジオールエチレングリコールウレタンアクリレートの相対分子質量と紫外線硬化樹脂膜の弾性率との関係を示す。
【００３４】
尚、図３における試料の作製及び測定は次のように行った。図２と同様にして紫外線硬化樹脂を調製し、これを基板上に塗布した後に１０００ｍＪの紫外線を照射することで硬化させ、厚み約１００μｍの紫外線硬化樹脂膜を形成した。この紫外線硬化樹脂膜を基板から剥離し、幅１ｃｍの長方形となるように裁断し試験片とした。この試験片の両端を試験片の長さが２．５ｃｍとなるように引張り試験機の試料取り付け部に挟み込み、６０℃の雰囲気中で試験片が破断するときの引張り強度を測定した。このようにして得られた試験片の引張り強度と試験片の寸法とから紫外線硬化樹脂膜の弾性率を算出した。
【００３５】
図３から、プロピレンオキサイド付加ビスフェノールＡ短鎖ジオールエチレングリコールウレタンアクリレートの相対分子質量が１０００〜１５００の範囲で、紫外線硬化樹脂膜の弾性率は急激に減少することがわかる。尚、プロピレンオキサイド付加ビスフェノールＡ短鎖ジオールエチレングリコールウレタンアクリレートの相対分子質量Ｍｒの範囲が１０００≦Ｍｒ≦１１００のときの紫外線硬化樹脂膜の弾性率Ｋは３５ＭＰａ≦Ｋ≦４０ＭＰａの範囲にある。
【００３６】
次に、図４に本発明に係る紫外線硬化樹脂を構成するプロピレンオキサイド付加ビスフェノールＡ短鎖ジオールエチレングリコールウレタンアクリレートの組成比と光記録媒体の反り量との関係を示す。
【００３７】
尚、図４における紫外線硬化樹脂は次のような組成比にて作製した。相対分子質量が１０００のプロピレンオキサイド付加ビスフェノールＡ短鎖ジオールエチレングリコールウレタンアクリレートの組成比を２０ｗｔ％、３０ｗｔ％、４０ｗｔ％、と変化させ、残りをプロピレンオキサイド付加ジアクリレートとフェノキシアクリレートとで調製した。このとき、プロピレンオキサイド付加ジアクリレートとフェノキシアクリレートの重量比は３：４で固定した。調製された混合物の重量に対して光開始剤としてのヒドロキシシルフェニルケトンを４ｗｔ％添加して紫外線硬化樹脂を得た。図４における試料は上記の紫外線硬化樹脂を用い、図２と同様にして作製した。また、作製された光記録媒体５０の各段階での反り量を、図２と同様に測定することで、初期反り量、耐候性後反り量、及び全反り量を得た。
【００３８】
図４より、初期反り量（図４中○印）及び、耐候性後反り量（図４中△印）はともにプロピレンオキサイド付加ビスフェノールＡ短鎖ジオールエチレングリコールウレタンアクリレートの組成比が多くなるにつれ増加傾向を示すことがわかる。よって、初期反り量と耐候性後反り量の和である全反り量（図４中□印）もプロピレンオキサイド付加ビスフェノールＡ短鎖ジオールエチレングリコールウレタンアクリレートの組成比が多くなるにつれ増加傾向を示す。ここで全反り量の上限を、図２同様１２０μｍと設定すれば、この反り量を満たすようなプロピレンオキサイド付加ビスフェノールＡ短鎖ジオールエチレングリコールウレタンアクリレートの組成比は３３ｗｔ％以下の範囲となる。尚、プロピレンオキサイド付加ビスフェノールＡ短鎖ジオールエチレングリコールウレタンアクリレートの組成比が２０ｗｔ％に満たないものは完全に硬化しないため、光透過層７の材料として用いることはできない。これらのことから、光透過層７を形成する紫外線硬化樹脂を構成するプロピレンオキサイド付加ビスフェノールＡ短鎖ジオールエチレングリコールウレタンアクリレートの組成比を２０ｗｔ％〜３０ｗｔ％の範囲とすることで、光記録媒体５０の耐候性後反り量を１２０μｍ以下の小さい値に抑えることができる。
【００３９】
次に、図５に本発明に係る紫外線硬化樹脂を構成するプロピレンオキサイド付加ビスフェノールＡ短鎖ジオールエチレングリコールウレタンアクリレートの組成比と紫外線硬化樹脂膜の弾性率との関係を示す。尚、図５における試料の作製及び測定は、図４と同様にして紫外線硬化樹脂を調製し、これを図３と同様にして試験片を作製、引張り強度を測定した後、弾性率を算出した。
【００４０】
図５から、プロピレンオキサイド付加ビスフェノールＡ短鎖ジオールエチレングリコールウレタンアクリレートの組成比が増加するにつれ、紫外線硬化樹脂膜の弾性率は急激に増加することがわかる。尚、プロピレンオキサイド付加ビスフェノールＡ短鎖ジオールエチレングリコールウレタンアクリレートの組成比の範囲が２０ｗｔ％〜３０ｗｔ％のときの紫外線硬化樹脂膜の弾性率Ｋは１５ＭＰａ≦Ｋ≦４０ＭＰａの範囲にある。
【実施例１】
【００４１】
射出成型法を用いて、トラックピッチ０．３２μｍの案内溝が凹凸パターン５として一面側に形成された、直径１２０ｍｍ、厚み１．１ｍｍのポリカーボネート製の基板１を作製した。次に、基板１の凹凸パターン５上に機能層として、Ａｌ合金からなる厚み１００ｎｍの反射膜、ＺｎＳ−ＳｉＯ２からなる厚み２５ｎｍの第１誘電体膜、ＧｅＳｂＴｅからなる厚み２０ｎｍの記録膜、ＺｎＳ−ＳｉＯ２からなる厚み１００ｎｍの第２誘電体膜、を順次スパッタ装置を用いて成膜し情報層６を形成した。
【００４２】
次に、相対分子質量が１０００のプロピレンオキサイド付加ビスフェノールＡ短鎖ジオールエチレングリコールウレタンアクリレートを３０ｗｔ％、プロピレンオキサイド付加ジアクリレートを３０ｗｔ％、フェノキシアクリレートを４０ｗｔ％、の組成比で調製した後、その混合物の重量に対して光開始剤としてのヒドロキシシルフェニルケトンを４ｗｔ％添加して紫外線硬化樹脂を得た。次に、基板１の情報層６が形成された面の内周部分に、上記の紫外線硬化樹脂を所定量同心円状に塗布した。次に、紫外線硬化樹脂が塗布された基板１を約７００ｒｐｍの回転数で高速回転することで、紫外線硬化樹脂を基板１の情報層６上に均一に広げ紫外線硬化樹脂層を形成した。その後、１０００ｍＪの紫外線を照射することで紫外線硬化樹脂層を硬化させ厚み１００μｍの光透過層７を形成した。これにより、単層の情報層６を有する高密度の光記録媒体５０を得た。
【００４３】
得られた光記録媒体５０に温度８０℃、湿度８５％、９６時間の条件の耐候性試験を行った後、マイクロメータを用いて光記録媒体５０の半径５３ｍｍの位置の高さの値と半径２０ｍｍの位置の高さの値とを測定し、半径５３ｍｍの位置の高さの値から半径２０ｍｍの位置の高さの値を引くことで、光記録媒体５０の反り量を測定した。この結果、耐候性試験後の光記録媒体５０の反り量は１２０μｍ以下の値である１００μｍであった。
【００４４】
以上のことから本発明の光記録媒体５０は、光透過層７を形成する紫外線硬化樹脂に、相対分子質量Ｍｒが１０００≦Ｍｒ≦１１００の範囲を満たすようなプロピレンオキサイド付加ビスフェノールＡ短鎖ジオールエチレングリコールウレタンアクリレートを用いることで、光記録媒体５０の耐候性後の反り量を小さくすることができる。
【００４５】
また、光透過層７を形成する紫外線硬化樹脂を構成するプロピレンオキサイド付加ビスフェノールＡ短鎖ジオールエチレングリコールウレタンアクリレートの組成比を２０ｗｔ％〜３０ｗｔ％の範囲とすることで、光記録媒体５０の耐候性後の反り量を小さくすることができる。
【００４６】
これらのことから、本発明の光記録媒体５０によれば、光透過層７の形成に用いられる紫外線硬化樹脂の材料を最適化することで、構造を複雑化することなく環境変化に対しても反り量の少ない光記録媒体５０を得ることができる。
【００４７】
尚、本例においては、情報層６が単層の例を用いたが、情報層を複数有する光記録媒体に関しても適応が可能であることに加え、再生専用型、書き換え型の光記録媒体のみならず、追記型の光記録媒体、光磁気記録媒体にも適用することが可能である。更に、本発明は本発明の要旨を逸脱しない範囲で変更して実施することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】本発明に係る光記録媒体の模式断面図である。
【図２】プロピレンオキサイド付加ビスフェノールＡ短鎖ジオールエチレングリコールウレタンアクリレートの相対分子質量と光記録媒体の反り量との関係を示す図である。
【図３】プロピレンオキサイド付加ビスフェノールＡ短鎖ジオールエチレングリコールウレタンアクリレートの相対分子質量と紫外線硬化樹脂膜の弾性率との関係を示す図である。
【図４】プロピレンオキサイド付加ビスフェノールＡ短鎖ジオールエチレングリコールウレタンアクリレートの組成比と光記録媒体の反り量との関係を示す図である。
【図５】プロピレンオキサイド付加ビスフェノールＡ短鎖ジオールエチレングリコールウレタンアクリレートの組成比と紫外線硬化樹脂膜の弾性率との関係を示す図である。
【図６】従来の光記録媒体の模式断面図である。
【符号の説明】
【００４９】
１    基板
５    凹凸パターン
６    情報層
７    光透過層
５０    光記録媒体
【図１】
2008059670.tif 000003
【図２】
2008059670.tif 000004
【図３】
2008059670.tif 000005
【図４】
2008059670.tif 000006
【図５】
2008059670.tif 000007
【図６】
2008059670.tif 000008