(57)【要約】【課題】オン抵抗を大幅に低減することが可能な新しい動作原理に基づく半導体装置を提供する。【解決手段】この半導体装置５０は、ｎ型エピタキシャル層２に形成され、埋め込み電極５が形成されたトレンチ３と、ｎ型エピタキシャル層２の上面側の所定領域に形成され、Ｙ方向に断続的に延びるｐ+型不純物領域２ａとを備えている。このｐ+型不純物領域２ａの断続部分２１ａからは、低濃度領域が露出しており、この露出された低濃度領域とソース電極７とによりショットキーバリアダイオードが形成されている。また、トレンチ３とｐ+型不純物領域２ａとの間の領域がチャネル（電流通路）９となるように構成されており、この領域を空乏層で塞ぐことによって、チャネル９を流れる電流が遮断される一方、トレンチ３の周辺の空乏層を消滅させることによって、チャネル９を介して電流が流れるように構成されている。【選択図】図１
2008306095.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一導電型の半導体層と、
前記半導体層に形成されたトレンチと、
前記トレンチの内部に第１絶縁膜を介して形成された埋め込み電極と、
前記半導体層の上面側の所定領域に、平面的に見て、前記トレンチと所定の間隔を隔てて形成され、前記埋め込み電極とは別個に電圧が印加される逆導電型の不純物領域と、
前記半導体層の一部とショットキー接触するように形成された金属層とを備え、
前記トレンチと前記不純物領域との間の領域がチャネルとなり、
前記トレンチの周辺に形成される空乏層と前記不純物領域の周辺に形成される空乏層とで、前記チャネルを塞ぐことにより、前記チャネルを流れる電流が遮断される一方、前記トレンチの周辺の空乏層を消滅させることにより、前記チャネルを介して電流が流れるように構成されていることを特徴とする、半導体装置。
【請求項２】
前記トレンチは、前記半導体層の上面と平行な所定方向に延びるように複数形成されており、
前記複数のトレンチは、平面的に見て、前記不純物領域を挟むように、互いに所定の間隔を隔てて配列されていることを特徴とする、請求項１に記載の半導体装置。
【請求項３】
前記不純物領域は、互いに隣り合うトレンチ間の各々の領域に配置されるように、複数形成されており、
前記不純物領域の少なくとも１つは、前記トレンチに沿った方向に、断続的に延びるように形成されていることを特徴とする、請求項２に記載の半導体装置。
【請求項４】
前記複数の不純物領域の各々は、前記トレンチに沿った方向に断続的に延びるように形成されていることを特徴とする、請求項３に記載の半導体装置。
【請求項５】
前記金属層は、前記半導体層の上面上に、前記半導体層の一部とショットキー接触する一方、前記不純物領域とはオーミック接触するように形成されていることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載の半導体装置。
【請求項６】
前記金属層は、少なくとも、前記半導体層の上面と接触するバリアメタル層を含むことを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項に記載の半導体装置。
【請求項７】
前記埋め込み電極の上面上には、第２絶縁膜が形成されており、
前記第２絶縁膜は、その上面が前記半導体層の上面と同一面となるように前記トレンチ内に形成されていることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１項に記載の半導体装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、半導体装置に関し、特に、スイッチング機能を有する半導体装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、スイッチング機能を有する半導体装置として、ＭＯＳＦＥＴ（Ｍｅｔａｌ  Ｏｘｉｄｅ  Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ  Ｆｉｅｌｄ  Ｅｆｆｅｃｔ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）が知られている（たとえば、特許文献１参照）。この特許文献１には、一導電型の半導体層に形成されたトレンチにゲート電極が埋め込まれたトレンチゲート型のＭＯＳＦＥＴ（半導体装置）が開示されている。
【０００３】
図１１は、上記特許文献１に開示された従来のＭＯＳＦＥＴ（半導体装置）の構造を示した断面図である。図１１を参照して、従来のＭＯＳＦＥＴでは、ｎ+型の半導体基板１０１の上面上に、エピタキシャル層１０２が形成されている。このエピタキシャル層１０２には、半導体基板１０１側から順に、ｎ-型不純物領域（ドレイン領域）１０２ａ、ｐ型不純物領域１０２ｂおよびｎ+型不純物領域（ソース領域）１０２ｃが形成されている。
【０００４】
また、エピタキシャル層１０２には、ｎ+型不純物領域１０２ｃおよびｐ型不純物領域１０２ｂを貫通してｎ-型不純物領域１０２ａの途中の深さにまで達するトレンチ１０３が形成されている。このトレンチ１０３の内部には、ゲート絶縁膜１０４を介して、ゲート電極１０５が形成されている。また、エピタキシャル層１０２の上面上の所定領域には、トレンチ１０３の開口を塞ぐ層間絶縁膜１０６が形成されている。
【０００５】
また、エピタキシャル層１０２の上面上には、層間絶縁膜１０６を覆うように、ソース電極１０７が形成されている。また、半導体基板１０１の裏面（下面）上には、ドレイン電極１０８が形成されている。
【０００６】
上記のように構成された従来のＭＯＳＦＥＴでは、ゲート電極１０５に対する印加電圧を変化させることによりオン／オフの制御が行われる。具体的には、ゲート電極１０５に対して所定の正電位を印加すると、ｐ型不純物領域１０２ｂの少数キャリア（電子）がトレンチ１０３側に引き寄せられることによって、ｎ-型不純物領域（ドレイン領域）１０２ａとｎ+型不純物領域（ソース領域）１０２ｃとを接続するような反転層１０９が形成される。これにより、反転層１０９を介して、ソース電極１０７とドレイン電極１０８との間に電流を流すことができる。その結果、ＭＯＳＦＥＴがオン状態となる。すなわち、従来のＭＯＳＦＥＴでは、ｎ-型不純物領域（ドレイン領域）１０２ａとｎ+型不純物領域（ソース領域）１０２ｃとを接続するように形成される反転層１０９をチャネルとして機能させている。
【０００７】
その一方、ゲート電極１０５に対する所定の正電位の印加を解除すると、反転層（チャネル）１０９が消滅するので、ソース電極１０７とドレイン電極１０８との間における電流の流れを遮断することができる。その結果、ＭＯＳＦＥＴがオフ状態となる。
【０００８】
【特許文献１】特開２００１−７１４９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、図１１に示した従来の構造では、オン時に形成される反転層（チャネル）１０９が非常に薄いため、反転層（チャネル）１０９を流れる電流に対する抵抗を低減するのが困難であるという不都合がある。その結果、オン抵抗の改善を図るのが困難であるという問題点がある。
【００１０】
この発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、この発明の目的は、オン抵抗を大幅に低減することが可能な新しい動作原理に基づく半導体装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を達成するために、この発明の一の局面による半導体装置は、一導電型の半導体層と、半導体層に形成されたトレンチと、トレンチの内部に第１絶縁膜を介して形成された埋め込み電極と、半導体層の上面側の所定領域に、平面的に見て、トレンチと所定の間隔を隔てて形成され、埋め込み電極とは別個に電圧が印加される逆導電型の不純物領域と、半導体層の一部とショットキー接触するように形成された金属層とを備えている。そして、トレンチと不純物領域との間の領域がチャネルとなり、トレンチの周辺に形成される空乏層と不純物領域の周辺に形成される空乏層とで、チャネルを塞ぐことにより、チャネルを流れる電流が遮断される一方、トレンチの周辺の空乏層を消滅させることにより、チャネルを介して電流が流れるように構成されている。なお、本発明の半導体層は、半導体基板を含む。
【００１２】
この一の局面による半導体装置では、上記のように、一導電型の半導体層に、第１絶縁膜を介して埋め込み電極が内部に設けられたトレンチと、平面的に見て、トレンチと所定の間隔を隔てて配置された逆導電型の不純物領域とを形成するとともに、トレンチの周辺に形成される空乏層と不純物領域の周辺に形成される空乏層とで、チャネルを塞ぐことにより、チャネルを流れる電流を遮断する一方、トレンチの周辺の空乏層を消滅させることにより、チャネルを介して電流が流れるように構成することによって、トレンチの周辺に形成される空乏層の形成状態は埋め込み電極に対する印加電圧に応じて変化するので、埋め込み電極に対する印加電圧を制御することにより、オフ状態（チャネルを流れる電流が遮断される状態）からオン状態（チャネルを介して電流が流れる状態）への切り替えを行うことができるとともに、その逆の切り替えも行うことができる。すなわち、半導体装置にスイッチング機能を持たせることができる。そして、上記した構成では、オン時において、トレンチと不純物領域との間の領域における空乏層が形成されていない領域の全てをチャネル（電流通路）として機能させることができるので、非常に薄い反転層をチャネル（電流通路）として機能させる従来の半導体スイッチ装置（ＭＯＳＦＥＴ）と比べて、チャネルを流れる電流に対する抵抗を大幅に低減することが可能となる。これにより、従来の半導体スイッチ装置（ＭＯＳＦＥＴ）と比べて、オン抵抗を大幅に低減することができる。
【００１３】
また、一の局面による半導体装置では、上記のように、半導体層の上面側の所定領域に、平面的に見て、トレンチと所定の間隔を隔てて形成されるとともに、埋め込み電極とは別個に電圧が印加される逆導電型の不純物領域を備えることによって、不純物領域に電圧が印加された状態にしておくことにより、不純物領域の周辺には常に電界が働いている状態にしておくことができるので、その電界によって、不純物領域の周辺に常に空乏層が形成された状態にしておくことができる。一方、空乏層によってチャネルが塞がれた状態（オフ状態）では、トレンチの周辺に形成される空乏層の一部と、不純物領域の周辺に形成される空乏層の一部とが重なった状態となっているので、トレンチの周辺に形成される空乏層の一部は、不純物領域の周辺に働く電界中に位置した状態となっている。このため、オフ状態からオン状態に切り替える際に、不純物領域の周辺に働く電界に逆らって、トレンチの周辺に形成された空乏層を消滅させなければならなくなるので、オフ状態からオン状態に切り替える際の閾値電圧（チャネルを流れる電流の遮断が解除されてオン状態になる時の埋め込み電極に対する印加電圧）が高くなる。その結果、オン／オフ制御時において、外来ノイズによる誤動作が発生し易くなるのを抑制することができる。なお、上記した構成では、不純物領域と半導体層との境界部分にｐｎ接合が形成されるので、この不純物領域に電圧を印加することによって、不純物領域の周辺に形成される空乏層を大きくすることができる。すなわち、ｐｎ接合によって形成される空乏層は、電圧依存性が高いので、不純物領域に電圧を印加することによって、不純物領域の周辺に形成される空乏層を大きくすることができる。このため、トレンチの周辺に形成される空乏層と不純物領域の周辺に形成される空乏層とで、チャネルを塞ぐ際に、トレンチの周辺に形成される空乏層の一部と、不純物領域の周辺に形成される空乏層の一部とが重なる領域を大きくすることができる。これにより、閾値電圧を容易に高くすることができる。
【００１４】
さらに、一の局面による半導体装置では、上記のように、半導体層の一部とショットキー接触するように形成された金属層を備えることによって、半導体装置にショットキーバリアダイオードを形成することができるので、閾値電圧を高くするために、半導体層に逆導電型の不純物領域を形成したとしても、スイッチング特性を向上させることができる。すなわち、半導体層に逆導電型の不純物領域を形成することによって、内部にｐｎダイオード（内蔵ダイオード）が形成される一方、上記のように構成することによって、内部に形成されたｐｎダイオード（内蔵ダイオード）と極性を同じくして並列にショットキーバリアダイオードを形成することができる。このショットキーバリアダイオードは、多数キャリアを利用するため、少数キャリアを利用するｐｎダイオード（内蔵ダイオード）に比べて、逆回復時間が速い。このため、半導体装置の逆回復時間を向上させることができるので、閾値電圧を高くしながら、スイッチング特性を向上させることができる。
【００１５】
上記一の局面による半導体装置において、好ましくは、トレンチは、半導体層の上面と平行な所定方向に延びるように複数形成されており、複数のトレンチは、平面的に見て、不純物領域を挟むように、互いに所定の間隔を隔てて配列されている。このように構成すれば、トレンチと不純物領域との間の領域を複数箇所に形成することができるので、トレンチと不純物領域との間の領域の平面積を大きくすることができる。このため、チャネルの平面積を大きくすることができるので、チャネルに流れる電流量を大きくすることができる。これにより、容易に、チャネルに流れる電流に対する抵抗を大幅に低減することができるので、オン抵抗をより大幅に低減することができる。
【００１６】
この場合において、好ましくは、不純物領域は、互いに隣り合うトレンチ間の各々の領域に配置されるように、複数形成されており、不純物領域の少なくとも１つは、トレンチに沿った方向に、断続的に延びるように形成されている。このように構成すれば、半導体層の不純物濃度を低くすることにより、半導体層の上面における不純物領域の断続部分から半導体層の不純物濃度の低い領域を露出させることができるので、この領域と金属層とを接触させることにより、容易に、金属層を半導体層とショットキー接触させることができる。これにより、半導体装置にショットキーバリアダイオードを容易に形成することができるので、容易に、スイッチング特性を向上させることができる。
【００１７】
さらに、この場合において、複数の不純物領域の各々を、トレンチに沿った方向に断続的に延びるように形成することができる。
【００１８】
上記一の局面による半導体装置において、好ましくは、金属層は、少なくとも、半導体層の上面と接触するバリアメタル層を含む。このように構成すれば、金属層を、半導体層と良好にショットキー接触させることができるので、半導体装置にショットキーバリアダイオードをより容易に形成することができる。これにより、さらに容易に、スイッチング特性を向上させることができる。
【００１９】
上記一の局面による半導体装置において、好ましくは、金属層は、半導体層の上面上に、半導体層の一部とショットキー接触する一方、不純物領域とはオーミック接触するように形成されている。このように構成すれば、容易に、ｐｎダイオード（内蔵ダイオード）と極性を同じくして並列にショットキーバリアダイオードを形成することができる。
【００２０】
上記一の局面による半導体装置において、埋め込み電極の上面上に、第２絶縁膜を形成するとともに、この第２絶縁膜を、その上面が半導体層の上面と同一面となるようにトレンチ内に形成することができる。
【発明の効果】
【００２１】
以上のように、本発明によれば、オン抵抗を大幅に低減することが可能な新しい動作原理に基づく半導体装置を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、本発明を具体化した実施形態を図面に基づいて説明する。
【００２３】
図１は、本発明の一実施形態による半導体装置の一部を示した断面斜視図であり、図２は、図１に示した本発明の一実施形態による半導体装置の一部を示した平面図である。図３は、図２の８０−８０線に沿った断面図であり、図４は、図１に示した本発明の一実施形態による半導体装置の等価回路図である。まず、図１〜図４を参照して、本発明の一実施形態による半導体装置５０の構造について説明する。なお、本実施形態の半導体装置５０は、ノーマリオフ型のスイッチ装置として機能するように構成されている。また、図４では、便宜上、ＭＯＳＦＥＴで一般的に用いられている回路記号を用いて、本実施形態による半導体装置５０の等価回路を図示している。
【００２４】
本実施形態の半導体装置５０は、図１に示すように、ｎ+型シリコン基板１の上面上に、約１μｍ〜約１０μｍの厚みを有するｎ型シリコンからなるｎ型エピタキシャル層２が形成されている。ｎ+型シリコン基板１には、後述するドレイン電極８との間で良好なオーミック接触を得るために、ｎ型不純物が高濃度（たとえば、約１×１０20ｃｍ-3）で導入されている。また、ｎ型エピタキシャル層２には、ｎ型不純物がｎ+型シリコン基板１よりも低い濃度（たとえば、約５×１０15ｃｍ-3〜約１×１０18ｃｍ-3）で導入されている。なお、ｎ+型シリコン基板１およびｎ型エピタキシャル層２は、本発明の「一導電型の半導体層」の一例である。
【００２５】
また、ｎ型エピタキシャル層２は、その厚み方向に掘られた複数のトレンチ３を有している。この複数のトレンチ３は、ｎ型エピタキシャル層２の所定領域が、その上面（主表面）側からエッチングされることによって形成されている。すなわち、複数のトレンチ３の各々の開口端は、ｎ型エピタキシャル層２の上面側に位置している。また、複数のトレンチ３は、図１および図２に示すように、その各々がｎ型エピタキシャル層２の上面に対して平行な所定方向（Ｙ方向）に沿って延びるように細長状に形成されている。
【００２６】
また、複数のトレンチ３は、ｎ型エピタキシャル層２の上面に対して平行で、かつ、トレンチ３が延びる方向（Ｙ方向）と直交する方向（Ｘ方向）に互いに所定の間隔を隔てて配列されている。さらに、複数のトレンチ３の各々の溝深さは、図１に示すように、ｎ型エピタキシャル層２の厚み（約１μｍ〜約１０μｍ）よりも小さくなるように、約０．５μｍ〜約５μｍに設定されている。また、複数のトレンチ３の各々のＸ方向の幅は、約０．１μｍ〜約１μｍに設定されている。
【００２７】
また、複数のトレンチ３の各々の内部には、ｎ型エピタキシャル層２を構成するｎ型シリコンを熱酸化処理することによって得られるシリコン酸化膜４が、約１０ｎｍ〜約１００ｎｍの厚みで形成されている。なお、シリコン酸化膜４は、本発明の「第１絶縁膜」の一例である。
【００２８】
また、複数のトレンチ３の各々の内面上には、シリコン酸化膜４を介して、ｐ型ポリシリコンからなる埋め込み電極（ゲート電極）５が形成されている。この複数の埋め込み電極５の各々は、対応するトレンチ３の途中の深さまで埋め込まれている。また、複数のトレンチ３の各々において、埋め込み電極５が埋め込まれていない残りの部分（埋め込み電極５よりも上方の部分）には、シリコン酸化膜からなる層間絶縁膜６が形成されている。この層間絶縁膜６は、埋め込み電極（ゲート電極）５と後述するソース電極７との間で絶縁を行うために設けられている。また、複数の層間絶縁膜６の各々の厚みは、対応するトレンチ３において、埋め込み電極５が埋め込まれていない残りの部分（埋め込み電極５よりも上方の部分）の深さと同じになるように設定されている。したがって、複数の層間絶縁膜６の各々の上面は、ｎ型エピタキシャル層２の上面に対して同一面となっている。なお、層間絶縁膜６は、本発明の「第２絶縁膜」の一例である。
【００２９】
ここで、本実施形態では、ｎ型エピタキシャル層２の上面側の所定領域に、ｐ型不純物が導入されたｐ+型不純物領域２ａが形成されている。なお、ｐ+型不純物領域２ａは、本発明の「逆導電型の不純物領域」の一例である。このｐ+型不純物領域２ａは、図１および図２に示すように、上記したトレンチ３に沿って断続的に延びるように形成されている。このため、ｎ型エピタキシャル層２の上面には、断続的に延びるｐ+型不純物領域２ａの各々の断続部分２１ａから、低濃度領域（ｎ型エピタキシャル層２のｎ型不純物濃度の低い領域）が露出される。そして、図１および図３に示すように、ｎ型エピタキシャル層２の上面に露出された低濃度領域は、後述するソース電極７とショットキー接触するように構成されている。なお、ｐ+型不純物領域２ａが断続的に延びるように形成されることによって、低濃度領域が露出された領域２１ｂは、ｎ型エピタキシャル層２の上面に複数設けられている。
【００３０】
また、本実施形態では、図１および図２に示すように、ｐ+型不純物領域２ａの厚み（イオン注入による拡散後の深さ）は、約０．５μｍ〜約１０μｍに設定されているとともに、ｐ+型不純物領域２ａのＸ方向の幅は、約０．１μｍ〜約２μｍに設定されている。なお、ｐ+型不純物領域２ａの具体的な不純物濃度は、たとえば、約１×１０17ｃｍ-3〜約１×１０20ｃｍ-3である一方、後述するソース電極７との間で良好なオーミック接触を得るために、少なくとも、ｐ+型不純物領域２ａの上面側の部分には、ｐ型不純物が高濃度で導入されている。
【００３１】
また、本実施形態では、断続的に延びるように形成されたｐ+型不純物領域２ａは、ｎ型エピタキシャル層２に複数形成されている。この複数のｐ+型不純物領域２ａの各々は、平面的に見て、トレンチ３と交互に配列されている。すなわち、ｐ+型不純物領域２ａの各々は、上記したトレンチ３間に挟まれるようにｎ型エピタキシャル層２の所定領域に配置されている。このため、ｎ型エピタキシャル層２の上面では、ｐ+型不純物領域２ａの断続部分２１ａ（低濃度領域が露出した領域２１ｂ）が分散された状態となっている。また、ｐ+型不純物領域２ａの各々は、隣り合うトレンチ３と所定の間隔（たとえば、約０．０５μｍ〜約０．４μｍ）を隔てて配置されている。
【００３２】
なお、本実施形態による半導体装置５０では、ｎ型エピタキシャル層２にｐ+型不純物領域２ａが形成されることによって、ｐｎ接合が形成されるので、このｐｎ接合によって、内部にｐｎダイオード（内蔵ダイオード）（図３および図４参照）が形成されている。
【００３３】
また、図１に示すように、ｎ型エピタキシャル層２の上面側の部分（互いに隣り合う、トレンチ３とｐ+型不純物領域２ａとの間の各領域の上端部）には、ｎ型エピタキシャル層２の上面に低濃度領域が露出しないように、ｎ型不純物が高濃度でイオン注入された高濃度領域２ｂが形成されている。このｎ型エピタキシャル層２の高濃度領域２ｂの濃度は、後述するソース電極７との間で良好なオーミック接触を得ることが可能なように設定されており、ｎ型エピタキシャル層２の他の部分（低濃度領域）よりも高くなっている。また、ｎ型エピタキシャル層２の高濃度領域２ｂの厚み（イオン注入による拡散後の深さ）は、層間絶縁膜６の厚みよりも小さくなるように設定されている。すなわち、ｎ型エピタキシャル層２の高濃度領域２ｂの下端部は、埋め込み電極５の上端部よりも上方に位置している。
【００３４】
また、ｎ型エピタキシャル層２の上面上には、複数のトレンチ３の各々の開口端を覆うように、ソース電極７が形成されている。このソース電極７は、ＴｉＮなどから構成される下層側（ｎ型エピタキシャル層２側）のバリアメタル層７ａと、上層側のＡｌ層７ｂとから構成されている。また、ｎ+型シリコン基板１の下面（裏面）上には、複数の金属層を含む多層構造体からなるドレイン電極８が形成されている。このドレイン電極８は、ｎ+型シリコン基板１に対してオーミック接触している。
【００３５】
ここで、本実施形態では、ソース電極７は、ｎ型エピタキシャル層２の高濃度領域２ｂ（互いに隣り合う、トレンチ３とｐ+型不純物領域２ａとの間の各領域の上端部）とｐ+型不純物領域２ａとにオーミック接触するように構成されている。これにより、ｐ+型不純物領域２ａは、ソース電極７と同電位となるように電圧が印加される。このように構成すれば、ソース電極７に対する印加電圧を制御することにより、ｐ+型不純物領域２ａの周辺に空乏層を形成することが可能となる。
【００３６】
また、本実施形態では、図３および図４に示すように、ソース電極７と低濃度領域が露出した領域２１ｂとがショットキー接触することにより、ショットキーバリアダイオードが形成されている。このショットキーバリアダイオードは、図４に示すように、上記したｐｎダイオード（内蔵ダイオード）と極性を同じくして並列に形成されている。なお、ソース電極７は、本発明の「金属層」の一例である。
【００３７】
また、本実施形態では、図３に示すように、ｐ+型不純物領域２ａにおける各々の断続部分２１ａのＹ方向の距離Ｌは、ｐ+型不純物領域２ａの周辺に空乏層を形成した時に、この空乏層によって、断続部分２１ａの領域を塞ぐことが可能な距離に構成されている。これにより、ショットキーバリアダイオードが形成された際に、ショットキーバリアダイオードのリーク電流の発生が抑制される。
【００３８】
上記した構成では、ソース電極７とドレイン電極８との間に電圧を印加した場合に、ソース電極７とドレイン電極８との間を流れる電流（ｎ型エピタキシャル層２の厚み方向に流れる電流）は、ｎ型エピタキシャル層２の互いに隣り合う、トレンチ３とｐ+型不純物領域２ａとの間の各領域を通過することになる。すなわち、上記した構成では、ｎ型エピタキシャル層２の互いに隣り合う、トレンチ３とｐ+型不純物領域２ａとの間の各領域がチャネル（電流通路）９として機能することになる。
【００３９】
また、トレンチ３内にそれぞれ形成された埋め込み電極（ゲート電極）５は、ソース電極７には電気的に接続されておらず、ｐ+型不純物領域２ａとは別個に電圧が印加されるように構成されている。
【００４０】
図５〜図７は、本発明の一実施形態による半導体装置の動作を説明するための断面図である。なお、図５には、スイッチ装置として機能する半導体装置がオフ状態となっている場合を図示しており、図６および図７には、スイッチ装置として機能する半導体装置がオン状態となっている場合を図示している。次に、図５〜図７を参照して、本実施形態のスイッチ装置として機能する半導体装置５０の動作について説明する。
【００４１】
なお、以下の説明では、ソース電極７に負電位（−）が印加され、ドレイン電極８に正電位（＋）が印加されているとする。
【００４２】
まず、図５および図６に示すように、ソース電極７およびドレイン電極８の各々に負電位（−）および正電位（＋）が印加されると、ｐ+型不純物領域２ａがソース電極７に電気的に接続されているために、ｐ+型不純物領域２ａに対して負電位が印加されることになる。このため、ｐ+型不純物領域２ａの周辺には、多数キャリアが減少した領域（空乏層）１０ａが形成される。一方、ｐ+型不純物領域２ａは、ｎ型エピタキシャル層２とは逆導電型（ｐ+型）であるため、ｐ+型不純物領域２ａとｎ型エピタキシャル層２とによってｐｎ接合が形成される。このため、ｐ+型不純物領域２ａの周辺に形成された空乏層１０ａは、電圧依存性が高くなるので、ソース電極７およびドレイン電極８に、それぞれ、負電位（−）および正電位（＋）が印加されると、ｐ+型不純物領域２ａの周辺に形成された空乏層１０ａは、ｎ+型シリコン基板１の厚み方向（電圧が加わる方向）に延びるように広がった状態となる。
【００４３】
そして、スイッチ装置として機能する半導体装置５０をオフ状態にする場合には、図５に示すように、埋め込み電極（ゲート電極）５に対して負電位（−）を印加する。これにより、埋め込み電極（ゲート電極）５が埋め込まれたトレンチ３の周辺にも空乏層１０ｂが形成される。
【００４４】
この際、トレンチ３とｐ+型不純物領域２ａとの間の領域において、トレンチ３およびｐ+型不純物領域２ａの各々の周辺に形成された空乏層１０の一部が互いに重なることにより、空乏層１０ａおよび１０ｂが互いに連結された状態となる。これにより、トレンチ３とｐ+型不純物領域２ａとの間の領域が空乏層１０ａおよび１０ｂによって塞がれる。すなわち、ｎ型エピタキシャル層２のチャネル９が空乏層１０ａおよび１０ｂによって塞がれるので、ｎ型エピタキシャル層２のチャネル９における電流（ソース電極７とドレイン電極８との間を流れる電流）の流れを遮断することができる。その結果、ｎ型エピタキシャル層２のチャネル９をオフ状態にすることが可能となる。
【００４５】
また、スイッチ装置として機能する半導体装置５０をオン状態にする場合には、図６に示すように、埋め込み電極（ゲート電極）５に対して正電位（＋）を印加する。この場合、ｐ+型不純物領域２ａの周辺では、図５に示した空乏層１０ａが形成された状態のまま保持される一方、トレンチ３の周辺では、図５に示した空乏層１０ｂが消滅する。すなわち、ｎ型エピタキシャル層２のチャネル９のトレンチ３側の部分を塞いでいた空乏層１０ｂが消滅するので、ｎ型エピタキシャル層２のチャネル９のトレンチ３側の部分を介して電流を流すことができる。その結果、ｎ型エピタキシャル層２のチャネル９をオン状態にすることが可能となる。
【００４６】
この際、ｐ+型不純物領域２ａの周辺には、空乏層１０ａを形成するための電界が働いているため、ｐ+型不純物領域２ａの周辺に働く電界に逆らって、トレンチ３の周辺に形成された空乏層１０ｂを消滅させる必要がある。このため、ｎ型エピタキシャル層２のチャネル９をオン状態にするのに必要な電圧（閾値電圧）を高くすることが可能となる。
【００４７】
そして、ｎ型エピタキシャル層２のチャネル９がオン状態になると、ソース電極７とドレイン電極８との間の電圧が低くなるので、図７に示すように、ｐ+型不純物領域２ａの周辺に形成された空乏層１０ａが小さくなる。すなわち、ｐ+型不純物領域２ａの周辺に形成された空乏層１０ａは電圧依存性が高いので、ｎ型エピタキシャル層２のチャネル９がオン状態になることによってソース電極７とドレイン電極８との間の電圧が低くなると、空乏層１０ａが小さくなる。これにより、チャネル９における電流が流れる領域が大きくなる。一方、埋め込み電極（ゲート電極）５に対して正電位（＋）が印加されると、ｎ型エピタキシャル層２の多数キャリアである電子がトレンチ３の周辺に引き寄せられるので、トレンチ３の周辺には、比較的電流が流れやすい層である蓄積層（多数キャリアである電子が蓄積された層）１１が形成される。これにより、本実施形態による半導体装置５０では、ｎ型エピタキシャル層２のチャネル９のトレンチ３側の部分を介して電流を流す場合でも、電流を流れ易くすることが可能となる。
【００４８】
図８および図９は、本発明の一実施形態による半導体装置のショットキーバリアダイオードが形成されている領域の動作を説明するための断面図である。なお、図８には、半導体装置のショットキーバリアダイオードが形成されている領域に逆方向バイアスが印加されている状態を図示しており、図９には、半導体装置のショットキーバリアダイオードが形成されている領域に順方向バイアスが印加されている状態を図示している。続いて、図８および図９を参照して、本実施形態による半導体装置５０のショットキーバリアダイオードが形成されている領域の動作について説明する。
【００４９】
まず、アノード電極（ソース電極）７とカソード電極（ドレイン電極）８との間に逆方向バイアスが印加されると、ｐ+型不純物領域２ａがアノード電極（ソース電極）７に電気的に接続されているため、ｐ+型不純物領域２ａに対して負電位が印加される。したがって、ｐ+型不純物領域２ａの周辺は、常に多数キャリアが減少した状態となっている。すなわち、ｐ+型不純物領域２ａの周辺には、空乏層１０（１０ａ）が形成された状態となっている。
【００５０】
この際、ショットキーバリアダイオードが形成されている領域は、ｐ+型不純物領域２ａの周辺に形成された空乏層１０ａによって塞がれた状態となるので、ショットキーバリアダイオードにおけるリーク電流の発生が抑制される。
【００５１】
また、図９に示すように、アノード電極（ソース電極）７とカソード電極（ドレイン電極）８との間に順方向バイアスが印加されると、ｐ+型不純物領域２ａがアノード電極（ソース電極）７に電気的に接続されているため、ｐ+型不純物領域２ａに対して正電位が印加されることになる。このため、ｐ+型不純物領域２ａの周辺に形成された空乏層１０ａ（図８参照）が消滅する。これにより、ショットキーバリアダイオードが形成されている領域（ショットキーバリアダイオード）を介して、図９中の矢印方向に電流が流れる。
【００５２】
なお、本実施形態による半導体装置５０は、図１０に示すように、ＤＣ／ＤＣコンバータを構成する部品の一部として用いることができる。ここで、図１０中の符号１２は、コイルであり、符号１３は、コンデンサである。
【００５３】
本実施形態では、上記のように、ｎ型エピタキシャル層２に、シリコン酸化膜４を介して埋め込み電極５が内部に設けられたトレンチ３と、平面的に見て、トレンチ３と所定の間隔を隔てて配置されたｐ+型不純物領域２ａとを形成するとともに、ｐ+型不純物領域２ａの周辺に形成される空乏層１０ａとトレンチ３の周辺に形成される空乏層１０ｂとで、チャネル９を塞ぐことにより、チャネル９を流れる電流を遮断する一方、トレンチ３の周辺の空乏層１０ｂを消滅させることにより、チャネル９を介して電流が流れるように構成することによって、トレンチ３の周辺に形成される空乏層１０ｂの形成状態は埋め込み電極５に対する印加電圧に応じて変化するので、埋め込み電極５に対する印加電圧を制御することにより、オフ状態（チャネル９を流れる電流が遮断される状態）からオン状態（チャネル９を介して電流が流れる状態）への切り替えを行うことができるとともに、その逆の切り替えも行うことができる。すなわち、半導体装置５０にスイッチング機能を持たせることができる。そして、上記した構成では、オン時において、トレンチ３とｐ+型不純物領域２ａとの間の領域の空乏層１０が形成されていない領域の全てをチャネル（電流通路）として機能させることができるので、非常に薄い反転層をチャネル（電流通路）として機能させる従来の半導体スイッチ装置（ＭＯＳＦＥＴ）と比べて、チャネル９を流れる電流に対する抵抗を大幅に低減することが可能となる。これにより、従来の半導体スイッチ装置（ＭＯＳＦＥＴ）と比べて、オン抵抗を大幅に低減することができる。
【００５４】
また、本実施形態では、ｎ型エピタキシャル層２の上面側の所定領域に、平面的に見て、トレンチ３と所定の間隔を隔てて形成されるとともに、埋め込み電極５とは別個に電圧が印加されるｐ+型不純物領域２ａを備えることによって、ｐ+型不純物領域２ａに電圧が印加された状態にしておくことにより、ｐ+型不純物領域２ａの周辺には常に電界が働いている状態にしておくことができるので、その電界によって、ｐ+型不純物領域２ａの周辺に常に空乏層１０ａが形成された状態にしておくことができる。一方、空乏層１０によってチャネル９が塞がれた状態（オフ状態）では、ｐ+型不純物領域２ａの周辺に形成される空乏層１０ａの一部と、トレンチ３の周辺に形成される空乏層１０ｂの一部とが重なった状態となっているので、トレンチ３の周辺に形成される空乏層１０ｂの一部は、ｐ+型不純物領域２ａの周辺に働く電界中に位置した状態となっている。このため、オフ状態からオン状態に切り替える際に、ｐ+型不純物領域２ａの周辺に働く電界に逆らって、トレンチ３の周辺に形成された空乏層１０ｂを消滅させなければならなくなるので、オフ状態からオン状態に切り替える際の閾値電圧（チャネル９を流れる電流の遮断が解除されてオン状態になる時の埋め込み電極５に対する印加電圧）が高くなる。その結果、オン／オフ制御時において、外来ノイズによる誤動作が発生し易くなるのを抑制することができる。なお、上記した構成では、ｐ+型不純物領域２ａとｎ型エピタキシャル層２との境界部分にｐｎ接合が形成されるので、このｐ+型不純物領域２ａに電圧を印加することによって、ｐ+型不純物領域２ａの周辺に形成される空乏層１０ａを大きくすることができる。すなわち、ｐｎ接合によって形成される空乏層１０ａは、電圧依存性が高いので、ｐ+型不純物領域２ａに電圧を印加することによって、ｐ+型不純物領域２ａの周辺に形成される空乏層１０ａを大きくすることができる。このため、ｐ+型不純物領域２ａの周辺に形成される空乏層１０ａとトレンチ３の周辺に形成される空乏層１０ｂとで、チャネル９を塞ぐ際に、ｐ+型不純物領域２ａの周辺に形成される空乏層１０ａの一部と、トレンチ３の周辺に形成される空乏層１０ｂの一部とが重なる領域を大きくすることができる。これにより、閾値電圧を容易に高くすることができる。
【００５５】
また、本実施形態では、ｐ+型不純物領域２ａを、トレンチ３に沿って断続的に延びるように形成することによって、ｎ型エピタキシャル層２の上面に低濃度領域（ｎ型エピタキシャル層２のｎ型不純物濃度の低い領域）を露出させることができるので、ｎ型エピタキシャル層２の上面上にソース電極７を形成することにより、ソース電極７と低濃度領域が露出した領域２１ｂとをショットキー接触させることができる。このため、低濃度領域が露出した領域２１ｂにショットキーバリアダイオードを形成することができるので、閾値電圧を高くするために、ｎ型エピタキシャル層２にｐ+型不純物領域２ａを形成したとしても、スイッチング特性を向上させることができる。すなわち、ｎ型エピタキシャル層２にｐ+型不純物領域２ａを形成することによって、内部にｐｎダイオード（内蔵ダイオード）が形成される一方、上記のように構成することによって、内部に形成されたｐｎダイオード（内蔵ダイオード）と極性を同じくして並列にショットキーバリアダイオードを形成することができる。このショットキーバリアダイオードは、多数キャリアを利用するため、少数キャリアを利用するｐｎダイオード（内蔵ダイオード）に比べて、逆回復時間が速い。このため、半導体装置５０の逆回復時間を向上させることができるので、閾値電圧を高くしながら、スイッチング特性を向上させることができる。
【００５６】
また、本実施形態では、ソース電極７を、ＴｉＮなどから構成される下層側（ｎ型エピタキシャル層２側）のバリアメタル層７ａと、上層側のＡｌ層７ｂとから構成することによって、ソース電極７を、低濃度領域が露出した領域２１ｂに良好にショットキー接触させることができるので、半導体装置５０に良好なショットキーバリアダイオードを容易に形成することができる。
【００５７】
なお、今回開示された実施形態は、すべての点で例示であって制限的なものでないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した実施形態の説明ではなく特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲と均等の意味および範囲内での全ての変更が含まれる。
【００５８】
たとえば、上記実施形態では、ｎ+型シリコン基板上に形成されたｎ型エピタキシャル層にトレンチおよびｐ+型不純物領域などを形成した例を示したが、本発明はこれに限らず、ｎ+型シリコン基板（半導体基板）上にｎ型エピタキシャル層を形成することなく、直接ｎ+型シリコン基板（半導体基板）にトレンチおよびｐ+型不純物領域などを形成してもよい。また、ｎ+型シリコン基板上に形成されたｎ型エピタキシャル層にトレンチおよびｐ+型不純物領域などを形成した後、ｎ+型シリコン基板を研磨等で除去するようにしてもよい。
【００５９】
また、上記実施形態では、ソース電極を、ｐ+型不純物領域の断続部分から露出する低濃度領域とショットキー接触するように構成した例を示したが、本発明はこれに限らず、ソース電極は、ｎ型エピタキシャル層の一部とショットキー接触するように構成されていればよい。
【００６０】
また、上記実施形態では、トレンチの溝深さがｎ型エピタキシャル層の厚みよりも小さくなるように構成したが、本発明はこれに限らず、トレンチがｎ型エピタキシャル層を貫通してｎ+型シリコン基板にまで達するように構成してもよい。すなわち、トレンチの溝深さを、１２μｍ程度に構成してもよい。
【００６１】
また、上記実施形態では、基板にシリコン基板を用いた例を示したが、本発明はこれに限らず、ＳｉＣなどから構成される基板（半導体基板）を用いるようにしてもよい。
【００６２】
また、上記実施形態では、シリコン基板をｎ+型に構成するとともに、そのシリコン基板の上面上に形成されるエピタキシャル層をｎ型に構成した例を示したが、本発明はこれに限らず、シリコン基板をｐ型（ｐ+型）に構成するとともに、そのシリコン基板の上面上に形成されるエピタキシャル層をｐ型に構成してもよい。すなわち、各導電型を、上記実施形態による半導体装置とは、逆の導電型にしてもよい。
【００６３】
また、上記実施形態では、埋め込み電極を、導電化されたポリシリコンから構成した例を示したが、本発明はこれに限らず、埋め込み電極は、金属材料から構成してもよい。
【００６４】
また、上記実施形態では、埋め込み電極の上面上に形成された層間絶縁膜を、その上面がエピタキシャル層の上面と同一面となるように形成した例を示したが、本発明はこれに限らず、埋め込み電極の上面上に形成された層間絶縁膜を、その上面がエピタキシャル層の上面から突出するように形成してもよいし、その上面がエピタキシャル層の上面よりも下方（トレンチ内部側）に位置するように形成してもよい。
【００６５】
また、上記実施形態では、エピタキシャル層の厚みを、約１μｍ〜約１０μｍに構成した例を示したが、本発明はこれに限らず、エピタキシャル層の厚みは、上記した厚み以外の厚みであってもよい。すなわち、エピタキシャル層の厚みは、製造される半導体装置に求められる最終的な電気的特性によって設定すればよい。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】本発明の一実施形態による半導体装置の一部を示した断面斜視図である。
【図２】図１に示した本発明の一実施形態による半導体装置の一部を示した平面図である。
【図３】図２の８０−８０線に沿った断面図である。
【図４】図１に示した本発明の一実施形態による半導体装置の等価回路図である。
【図５】本発明の一実施形態による半導体装置の動作を説明するための断面図である。
【図６】本発明の一実施形態による半導体装置の動作を説明するための断面図である。
【図７】本発明の一実施形態による半導体装置の動作を説明するための断面図である。
【図８】本発明の一実施形態による半導体装置のショットキーバリアダイオードが形成されている領域の動作を説明するための断面図である。
【図９】本発明の一実施形態による半導体装置のショットキーバリアダイオードが形成されている領域の動作を説明するための断面図である。
【図１０】本発明の一実施形態による半導体装置を用いたＤＣ／ＤＣコンバータの一例を示した回路図である。
【図１１】特許文献１に開示された従来のＭＯＳＦＥＴ（半導体装置）の構造を示した断面図である。
【符号の説明】
【００６７】
１              ｎ+型シリコン基板
２              ｎ型エピタキシャル層（一導電型の半導体層）
２ａ            ｐ+型不純物領域（逆導電型の不純物領域）
２ｂ            高濃度領域
３              トレンチ
４              シリコン酸化膜（第１絶縁膜）
５              埋め込み電極
６              層間絶縁膜（第２絶縁膜）
７              ソース電極（金属層）
７ａ            バリアメタル層
７ｂ            Ａｌ層
８              ドレイン電極
９              チャネル
１０            空乏層
１１            蓄積層
２１ａ          断続部分
２１ｂ          低濃度領域が露出した領域
５０            半導体装置
【図１】
2008306095.tif 000003
【図２】
2008306095.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2008306095.tif 000009
【図８】
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【図９】
2008306095.tif 000011
【図１０】
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【図１１】
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