(57)【要約】【課題】ボビンを立てた場合においても、ボビンを簡易な機構にて保持できるようにするとともに、可撓性基板の筍状のずれ下がりを防止する。【解決手段】ボビン２の下端側には、ボビン２の外周に沿って端部側が細くなるように段差４を形成し、ボビン２の周囲には、段差４に受け止められるようにして保持リング５をはめ込むとともに、ボビン２の下端側には、ボビン２に巻き付けられた可撓性基板１を側面から受け止めるずれ下がり防止リング６を装着する。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
可撓性基板に成膜する成膜手段を有する成膜装置であって、
可撓性基板をその幅方向が鉛直面内となるようにして巻き出しボビンから巻き取りボビンに搬送する搬送手段を備え、
前記可撓性基板の巻き出しボビン、または巻き取りボビンの少なくとも一方のボビンが、少なくともボビンの下方に、ボビンの外周面よりも突出したリングを備えることを特徴とする成膜装置。
【請求項２】
前記リングが、前記ボビンの下端側の外周に沿って形成された段差に受け止められるようにして嵌め込まれた保持リングであることを特徴とする請求項１記載の成膜装置。
【請求項３】
前記リングが、前記可撓性基板の下方から受け止められるように前記ボビンの下端側の外周に沿って装着されるずれ下がり防止リングであることを特徴とする請求項１記載の成膜装置。
【請求項４】
前記リングが、前記ボビンの下端側の外周に沿って形成された段差に受け止められるようにして嵌め込まれた保持リングと、
前記可撓性基板の下方から受け止められるように前記ボビンの下端側の外周に沿って装着されるずれ下がり防止リングとを備えることを特徴とする請求項１記載の成膜装置。
【請求項５】
可撓性基板をその幅方向が鉛直面内となるように搬送する搬送手段と、
下端側の外周に沿って形成された段差に受け止められるようにして保持リングが嵌め込まれるとともに、端部の内周または外周に沿って端部側が細くなるようにテーパが形成された、巻き出しボビンまたは巻き取りボビンの少なくとも一方のボビンと、
前記可撓性基板が巻き付けられたボビンをテーパを介して保持するテーパコーンと、
前記可撓性基板に成膜する成膜手段とを備えることを特徴とする成膜装置。
【請求項６】
可撓性基板をその幅方向が鉛直面内となるように搬送する搬送手段と、
前記可撓性基板を下方から受け止められるように下端側の外周に沿ってずれ下がり防止リングが装着されるとともに、端部の内周または外周に沿って端部側が細くなるようにテーパが形成された、巻き出しボビンまたは巻き取りボビンの少なくとも一方のボビンと、
前記可撓性基板が巻き付けられたボビンをテーパを介して保持するテーパコーンと、
前記可撓性基板に成膜する成膜手段とを備えることを特徴とする成膜装置。
【請求項７】
可撓性基板をその幅方向が鉛直面内となるように搬送する搬送手段と、
下端側の外周に沿って形成された段差に受け止められるようにして保持リングが嵌め込まれるとともに、前記可撓性基板を下方から受け止められるように下端側の外周に沿ってずれ下がり防止リングが装着され、端部の内周または外周に沿って端部側が細くなるようにテーパが形成された、巻き出しボビンまたは巻き取りボビンの少なくとも一方のボビンと、
前記可撓性基板が巻き付けられたボビンをテーパを介して保持するテーパコーンと、
前記可撓性基板に成膜する成膜手段とを備えることを特徴とする成膜装置。
【請求項８】
前記成膜手段が、プラズマＣＶＤ、スパッタ、または蒸着、あるいはこれらの中から選ばれたものの組み合わせであることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項記載の成膜装置。
【請求項９】
前記成膜手段が、ステッピングロール方式により構成されるか、ロールツーロール方式により構成されることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項記載の成膜装置。
【請求項１０】
巻き出しボビンの下端側の外周に沿って形成された段差に受け止められるようにして前記巻き出しボビンに嵌め込まれた保持リングにてボビンの自重を受けながら、可撓性基板が巻き付けられた前記巻き出しボビンを立てて搬送する工程と、
前記可撓性基板が巻き付けられた巻き出しボビンを立てたまま下降させ、前記巻き出しボビンの端部の内周または外周に沿って端部側が細くなるように形成されたテーパ部分をテーパコーンに差し込むことで、前記巻き出しボビンを前記テーパコーンに装着する工程と、
前記テーパコーンに装着された巻き出しボビンに巻き付けられた前記可撓性基板を巻き出し、前記可撓性基板を成膜用真空室に搬送して成膜を行う工程と、
前記成膜が終了して巻き取りボビンに巻き取られた前記可撓性基板を、前記巻き取りボビンと共に立てたまま取り外す工程とを備えることを特徴とする成膜方法。
【請求項１１】
巻き出しボビンの下端側の外周に沿って装着されたずれ下がり防止リングにて可撓性基板の下方から受け止めながら、前記可撓性基板が巻き付けられた前記巻き出しボビンを立てて搬送する工程と、
前記可撓性基板が巻き付けられた巻き出しボビンを立てたまま下降させ、前記巻き出しボビンの端部の内周または外周に沿って端部側が細くなるように形成されたテーパ部分をテーパコーンに差し込むことで、前記巻き出しボビンを前記テーパコーンに装着する工程と、
前記テーパコーンに装着された巻き出しボビンに巻き付けられた前記可撓性基板を巻き出し、前記可撓性基板を成膜用真空室に搬送して成膜を行う工程と、
前記成膜が終了して巻き取りボビンに巻き取られた前記可撓性基板を、前記巻き取りボビンと共に立てたまま取り外す工程とを備えることを特徴とする成膜方法。
【請求項１２】
巻き出しボビンの下端側の外周に沿って形成された段差に受け止められるようにして前記巻き出しボビンに嵌め込まれた保持リングにてボビンの自重を受けるとともに、前記巻き出しボビンの下端側の外周に沿って装着されたずれ下がり防止リングにて可撓性基板の下方から受け止めながら、前記可撓性基板が巻き付けられた前記巻き出しボビンを立てて搬送する工程と、
前記可撓性基板が巻き付けられた巻き出しボビンを立てたまま下降させ、前記巻き出しボビンの端部の内周または外周に沿って端部側が細くなるように形成されたテーパ部分をテーパコーンに差し込むことで、前記巻き出しボビンを前記テーパコーンに装着する工程と、
前記テーパコーンに装着された巻き出しボビンに巻き付けられた前記可撓性基板を巻き出し、前記可撓性基板を成膜用真空室に搬送して成膜を行う工程と、
前記成膜が終了して巻き取りボビンに巻き取られた前記可撓性基板を、前記巻き取りボビンと共に立てたまま取り外す工程とを備えることを特徴とする成膜方法。
【請求項１３】
前記可撓性基板が巻き付けられた巻き出しボビンを立てて搬送する工程の前に、前記巻き出しボビンが横たわっている状態を有し、
前記可撓性基板が巻き付けられた巻き取りボビンを立てたまま取り外す工程の後に、前記巻き取りボビンが横たわっている状態を有することを特徴とする請求項１０乃至１２のいずれか１項記載の成膜方法。
【請求項１４】
前記成膜を行う工程が、プラズマＣＶＤ、スパッタ、または蒸着、あるいはこれらの中から選ばれたものの組み合わせであることを特徴とする請求項１０乃至１３のいずれか１項記載の成膜方法。
【請求項１５】
前記成膜を行う工程が、ステッピングロール方式により行われるか、ロールツーロール方式により行われることを特徴とする請求項１０乃至１４のいずれか１項記載の成膜方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は成膜装置および成膜方法に関し、特に、薄膜光電変換素子の製造方法に適用して好適なものである。
【背景技術】
【０００２】
薄膜光電変換素子を生産性よく製造する方法として、長尺の高分子材料あるいはステンレス鋼などの金属からなる可撓性基板上に、ａ−Ｓｉを主材料とした光電変換層を含む各層を形成する方法がある。ここで、長尺の可撓性基板上に複数の層を成膜する方式として、各成膜室内を移動する可撓性基板上に成膜するロールツーロール方式と、成膜室内で停止させた可撓性基板上に成膜した後、成膜の終わった可撓性基板部分を成膜室外へ送り出すステッピングロール方式とがある。
【０００３】
従来のこの種の成膜装置では、可撓性基板面を水平にして搬送が行われるが、装置の設置スペースを節減するために、可撓性基板面を鉛直にして搬送する方法が提案されている。さらに、一つの薄膜光電変換素子製造装置での成膜効率を上げるために、複数の可撓性基板を並行して搬送し、それぞれの可撓性基板面上に成膜することも知られている（特許文献１）。
【０００４】
また、特許文献２には、可撓性基板の成膜時の温度上昇によって生じるしわを除去し、長尺基板の重いボビンの装着および取り外しを容易にし、それぞれ基板表裏への成膜を含む二つの搬送径路を狭い面積に配置できるようにするために、成膜後に水冷ロールを可撓性基板に接触させて温度を下げ、しわを取り除くとともに、送り室および巻き取り室の室外にそれぞれボビンの回転機構、昇降機構および前後移動機構を備え、二つの搬送径路を一部のみ平行にし、そのあと両側に曲げて基板の表裏への成膜は別個の経路で行う方法が開示されている。
【０００５】
また、特許文献３には、ボビンの支持体を自動的に移動できるようにして、装着および脱離を省力化し、またテーパコーンによるボビン締付けのための移動を、室外に出したシリンダ内のシリンダロッドにより行うことにより、成膜装置のチャンバ容積を小型化する方法が開示されている。
【特許文献１】特開２００５−２５６１００号公報
【特許文献２】特開平８−１１６０７７号公報
【特許文献３】特開平７−３２１３４９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、可撓性基板の全長は２０００メートル程度あり、質量も１５０キロ程度もある。このため、従来の薄膜光電変換素子の製造方法では、可撓性基板が巻かれたボビンを立てて搬送すると、ボビンが滑り落ちないようにするために、ボビンを強力な力で両側から挟み込む必要があり、搬送装置の大パワー化、大型化および高価格化を招くという問題があった。
【０００７】
また、可撓性基板が巻かれたボビンを立てると、可撓性基板の自重で可撓性基板が筍状にずれ下がるようになり、可撓性基板にしわがよったり、可撓性基板の巻き出しや巻き取り動作に支障をきたすという問題があった。
そこで、本発明の目的は、ボビンを立てた場合においても、ボビンを簡易な機構にて保持できるようにするとともに、可撓性基板の筍状のずれ下がりを防止することが可能な成膜装置および成膜方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上述した課題を解決するために、請求項１記載の成膜装置によれば、可撓性基板に成膜する成膜手段を有する成膜装置であって、可撓性基板をその幅方向が鉛直面内となるようにして巻き出しボビンから巻き取りボビンに搬送する搬送手段を備え、前記可撓性基板の巻き出しボビン、または巻き取りボビンの少なくとも一方のボビンが、少なくともボビンの下方に、ボビンの外周面よりも突出したリングを備えることを特徴とする。
【０００９】
また、請求項２記載の成膜装置によれば、前記リングが、前記ボビンの下端側の外周に沿って形成された段差に受け止められるようにして嵌め込まれた保持リングであることを特徴とする。
また、請求項３記載の成膜装置によれば、前記リングが、前記可撓性基板の下方から受け止められるように前記ボビンの下端側の外周に沿って装着されるずれ下がり防止リングであることを特徴とする。
【００１０】
また、請求項４記載の成膜装置によれば、前記リングが、前記ボビンの下端側の外周に沿って形成された段差に受け止められるようにして嵌め込まれた保持リングと、
前記可撓性基板の下方から受け止められるように前記ボビンの下端側の外周に沿って装着されるずれ下がり防止リングとを備えることを特徴とする。
また、請求項５記載の成膜装置によれば、可撓性基板をその幅方向が鉛直面内となるように搬送する搬送手段と、下端側の外周に沿って形成された段差に受け止められるようにして保持リングが嵌め込まれるとともに、端部の内周または外周に沿って端部側が細くなるようにテーパが形成された、巻き出しボビンまたは巻き取りボビンの少なくとも一方のボビンと、前記可撓性基板が巻き付けられたボビンをテーパを介して保持するテーパコーンと、
前記可撓性基板に成膜する成膜手段とを備えることを特徴とする。
【００１１】
また、請求項６記載の成膜装置によれば、可撓性基板をその幅方向が鉛直面内となるように搬送する搬送手段と、前記可撓性基板を下方から受け止められるように下端側の外周に沿ってずれ下がり防止リングが装着されるとともに、端部の内周または外周に沿って端部側が細くなるようにテーパが形成された、巻き出しボビンまたは巻き取りボビンの少なくとも一方のボビンと、前記可撓性基板が巻き付けられたボビンをテーパを介して保持するテーパコーンと、前記可撓性基板に成膜する成膜手段とを備えることを特徴とする。
【００１２】
また、請求項７記載の成膜装置によれば、可撓性基板をその幅方向が鉛直面内となるように搬送する搬送手段と、下端側の外周に沿って形成された段差に受け止められるようにして保持リングが嵌め込まれるとともに、前記可撓性基板を下方から受け止められるように下端側の外周に沿ってずれ下がり防止リングが装着され、端部の内周または外周に沿って端部側が細くなるようにテーパが形成された、巻き出しボビンまたは巻き取りボビンの少なくとも一方のボビンと、前記可撓性基板が巻き付けられたボビンをテーパを介して保持するテーパコーンと、前記可撓性基板に成膜する成膜手段とを備えることを特徴とする。
【００１３】
また、請求項８記載の成膜装置によれば、前記成膜手段が、プラズマＣＶＤ、スパッタ、または蒸着、あるいはこれらの中から選ばれたものの組み合わせであることを特徴とする。
また、請求項９記載の成膜装置によれば、前記成膜手段が、ステッピングロール方式により構成されるか、ロールツーロール方式により構成されることを特徴とする。
【００１４】
また、請求項１０記載の成膜方法によれば、巻き出しボビンの下端側の外周に沿って形成された段差に受け止められるようにして前記巻き出しボビンに嵌め込まれた保持リングにてボビンの自重を受けながら、可撓性基板が巻き付けられた前記巻き出しボビンを立てて搬送する工程と、前記可撓性基板が巻き付けられた巻き出しボビンを立てたまま下降させ、前記巻き出しボビンの端部の内周または外周に沿って端部側が細くなるように形成されたテーパ部分をテーパコーンに差し込むことで、前記巻き出しボビンを前記テーパコーンに装着する工程と、前記テーパコーンに装着された巻き出しボビンに巻き付けられた前記可撓性基板を巻き出し、前記可撓性基板を成膜用真空室に搬送して成膜を行う工程と、前記成膜が終了して巻き取りボビンに巻き取られた前記可撓性基板を、前記巻き取りボビンと共に立てたまま取り外す工程とを備えることを特徴とする。
【００１５】
また、請求項１１記載の成膜方法によれば、巻き出しボビンの下端側の外周に沿って装着されたずれ下がり防止リングにて可撓性基板の下方から受け止めながら、前記可撓性基板が巻き付けられた前記巻き出しボビンを立てて搬送する工程と、前記可撓性基板が巻き付けられた巻き出しボビンを立てたまま下降させ、前記巻き出しボビンの端部の内周または外周に沿って端部側が細くなるように形成されたテーパ部分をテーパコーンに差し込むことで、前記巻き出しボビンを前記テーパコーンに装着する工程と、前記テーパコーンに装着された巻き出しボビンに巻き付けられた前記可撓性基板を巻き出し、前記可撓性基板を成膜用真空室に搬送して成膜を行う工程と、前記成膜が終了して巻き取りボビンに巻き取られた前記可撓性基板を、前記巻き取りボビンと共に立てたまま取り外す工程とを備えることを特徴とする。
【００１６】
また、請求項１２記載の成膜方法によれば、巻き出しボビンの下端側の外周に沿って形成された段差に受け止められるようにして前記巻き出しボビンに嵌め込まれた保持リングにてボビンの自重を受けるとともに、前記巻き出しボビンの下端側の外周に沿って装着されたずれ下がり防止リングにて可撓性基板の下方から受け止めながら、前記可撓性基板が巻き付けられた前記巻き出しボビンを立てて搬送する工程と、前記可撓性基板が巻き付けられた巻き出しボビンを立てたまま下降させ、前記巻き出しボビンの端部の内周または外周に沿って端部側が細くなるように形成されたテーパ部分をテーパコーンに差し込むことで、前記巻き出しボビンを前記テーパコーンに装着する工程と、前記テーパコーンに装着された巻き出しボビンに巻き付けられた前記可撓性基板を巻き出し、前記可撓性基板を成膜用真空室に搬送して成膜を行う工程と、前記成膜が終了して巻き取りボビンに巻き取られた前記可撓性基板を、前記巻き取りボビンと共に立てたまま取り外す工程とを備えることを特徴とする。
【００１７】
また、請求項１３記載の成膜方法によれば、前記可撓性基板が巻き付けられた巻き出しボビンを立てて搬送する工程の前に、前記巻き出しボビンが横たわっている状態を有し、前記可撓性基板が巻き付けられた巻き取りボビンを立てたまま取り外す工程の後に、前記巻き取りボビンが横たわっている状態を有することを特徴とする。
また、請求項１４記載の成膜方法によれば、前記成膜を行う工程が、プラズマＣＶＤ、スパッタ、または蒸着、あるいはこれらの中から選ばれたものの組み合わせであることを特徴とする。
また、請求項１５記載の成膜方法によれば、前記成膜を行う工程が、ステッピングロール方式により行われるか、ロールツーロール方式により行われることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１８】
以上説明したように、本発明によれば、可撓性基板が巻き付けられたボビンを立てた場合においても、ボビンを簡易な機構にて保持することが可能となるとともに、可撓性基板の筍状のずれ下がりを防止することが可能となる。このため、可撓性基板が巻き付けられたボビンを簡易な機構にて立てた状態で支持しながら、可撓性基板面上に成膜することが可能となるとともに、可撓性基板の自重で可撓性基板が筍状にずれ下がるのを防止することが可能となり、省スペース化を図りつつ、成膜効率を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明の実施形態に係る成膜装置について図面を参照しながら説明する。
図１は、本発明の一実施形態に係るボビンの概略構成を示す斜視図である。
図１において、ボビン２は円筒体にて構成され、ボビン２の両端部には内周に沿ってテーパ３が形成されている。なお、ボビン２の材質としては、アルミニウムやステンレスなどの金属を用いることができる。そして、ボビン２には、外周面に沿って可搬性基板１が巻き付けられている。なお、可搬性基板１としては、例えば、ポリイミドフィルムやポリエチレンフィルムなどを用いることができる。
【００２０】
そして、ボビン２の下端側には、端部側が細くなるようにボビン２の外周に沿って段差４が形成されている。なお、段差４は、ボビン２の下端側だけでなく上端側にも形成してもよい。そして、ボビン２の周囲には、段差４に受け止められるようにして保持リング５がはめ込まれている。さらに、ボビン２の下端側には、ボビン２に巻き付けられた可撓性基板１を側面から受け止めるずれ下がり防止リング６が装着されている。なお、ずれ下がり防止リング６の外径は、ボビン２に巻き付けられた可撓性基板１の外径よりも大きくすることができる。
【００２１】
ここで、段差４に受け止められるようにしてボビン２の周囲に保持リング５をはめ込むことにより、保持リング５をアームで下から支えることで、可撓性基板１が巻き付けられたボビン２を立てて保持することができ、ボビン２を立てて保持するために、強力な力で両側からボビン２を挟み込む必要がなくなる。このため、可撓性基板１が巻き付けられたボビン２を立てた場合においても、ボビン２を簡易な機構にて保持することが可能となり、搬送装置の省力化、小型化および低価格化が可能となる。
【００２２】
また、ボビン２の下端側にずれ下がり防止リング６を装着することにより、可撓性基板１が巻かれたボビン２を立てた場合においても、ボビン２に巻き付けられた可撓性基板１をずれ下がり防止リング６にて下から受け止めることが可能となる。このため、可撓性基板１が巻かれたボビン２を立てた場合においても、可撓性基板１の自重で可撓性基板１が筍状にずれ下がるのを防止することが可能となり、可撓性基板１にしわがよったり、可撓性基板１の巻き出しや巻き取り動作に支障をきたすのを防止することができる。
【００２３】
なお、保持リング５やずれ下がり防止リング６をボビン２に装着する方法としては、保持リング５やずれ下がり防止リング６をボビン２に嵌め込む方法の他、保持リング５やずれ下がり防止リング６を２分割し、その２分割された保持リング５やずれ下がり防止リング６をねじなどによってボビン２に締め付ける方法でもよい。また、保持リング５やずれ下がり防止リング６はボビン２に溶接や接着剤で固定するようにしてもよいし、ボビン２にねじ穴を設けて、保持リング５やずれ下がり防止リング６をネジ止めするようにしてもよい。あるいは、保持リング５やずれ下がり防止リング６を受け止める段差は、ボビン２を削り出して形成するようにしてもよい。さらに、リング５、６自体を、ボビン２を削り出して形成した段差により成るものとしてもよい。
【００２４】
また、上述した実施形態では、保持リング５を受け止められるようにするために、ボビン２の外周に沿って段差４を形成する方法について説明したが、ボビン２の外周面および保持リング５の内周面にねじ溝を形成し、保持リング５をボビン２にねじ込むことで保持リング５をボビン２に装着できるようにしてもよい。また、ボビン２の外周面およびずれ下がり防止リング６の内周面にねじ溝を形成し、ずれ下がり防止リング６をボビン２にねじ込むことでずれ下がり防止リング６をボビン２に装着できるようにしてもよい。
【００２５】
図２（ａ）は、本発明の一実施形態に係る成膜装置の概略構成を示す縦断面図、図２（ｂ）は、本発明の一実施形態に係る成膜装置の概略構成を示す平面断面図である。
図２において、成膜装置には、巻き出し室２１ａ、成膜用真空室２１ｃおよび巻き取り室２１ｂが設けられ、成膜装置は、可撓性基板１をその幅方向が鉛直面内となるように搬送することができる。なお、可撓性基板１をその幅方向が鉛直面内となるように搬送するとは、可撓性基板１の基板面が鉛直面内に保持された状態で可撓性基板１を搬送することを言いい、斜め上方や斜め下方に搬送する場合も含むものとする。ただし、斜め上方や斜め下方に搬送する場合の傾き角は最大限１０°程度である。
【００２６】
そして、巻き出し室２１ａには、可撓性基板１が巻き付けられたボビン２ａが収容されるとともに、巻き取り室２１ｂ内には、可撓性基板１が巻き付けられるボビン２ｂが収容されている。ここで、可撓性基板１が巻き付けられたボビン２ａを立てた状態で保持するために、巻き出し室２１ａ内の上部には、移動側テーパコーン２３ａが設けられるとともに、巻き出し室２１ａ内の下部には、固定側テーパコーン２４ａが設けられ、移動側テーパコーン２３ａはモータ２２ａに連結されている。
【００２７】
また、可撓性基板１が巻き付けられるボビン２ｂを立てた状態で保持するために、巻き取り室２１ｂ内の上部には、移動側テーパコーン２３ｂが設けられるとともに、巻き取り室２１ｂ内の下部には、固定側テーパコーン２４ｂが設けられ、移動側テーパコーン２３ｂはモータ２２ｂに連結されている。
また、巻き取り室２１ｂ内には、可撓性基板１を幅方向に立てた状態で巻き出すために、巻き出しロール２７ａ〜２９ａが設置されるとともに、巻き取り室２１ｂ内には、可撓性基板１を幅方向に立てた状態で巻き取るために、巻き取りロール２７ｂ〜２９ｂが設置されている。
【００２８】
また、成膜用真空室２１ｃには、内部を外気と隔離する壁体が設けられ、成膜用真空室２１ｃ内には、電圧印加電極３２および接地電極３０がそれぞれ設けられ、電圧印加電極３２に対して接地電極３０が対向配置されている。
また、成膜用真空室２１ｃの壁体の外側には、接地電極３０を駆動するアクチュエータ３３が設けられている。ここで、電圧印加電極３２の端部には、電圧印加電極３２の前面に突出するように配置された枠体３１が設けられている。そして、アクチュエータ３３は接地電極３０を駆動し、電圧印加電極３２の端部に設けられた枠体３１を可撓性基板１に押し付けることにより、気密に保つことのできる成膜室２５を形成することができる。
【００２９】
また、成膜装置には、ボビン２を搬送する搬送装置１１が設けられ、搬送装置１１には、ボビン２を保持するアーム１２が設けられている。ここで、アーム１２は、回転動作、把持動作および昇降動作ができるように構成されている。
そして、搬送装置１１は、可撓性基板１が巻き付けられたボビン２を巻き出し室２１ａに装着する場合、可撓性基板１が巻き付けられたボビン２を水平にしたまま、ボビン２を搬送することができる。そして、搬送装置１１は、アーム１２を把持駆動することにより、ボビン２の下端部を挟み込む。そして、搬送装置１１は、ボビン２の下端部をアーム１２にて挟み込ませながら、アーム１２を回転駆動することにより、保持リング５を介してボビン２の自重を受け止めながらボビン２を立てた状態で保持することができる。
【００３０】
そして、搬送装置１１は、ボビン２を立てた状態で保持しながら、巻き出し室２１ａ内にボビン２を搬入し、アーム１２を下降駆動することにより、ボビン２の下端部のテーパ３の部分を固定側テーパコーン２４ａに差し込む。そして、ボビン２の下端部のテーパ３の部分が固定側テーパコーン２４ａに差し込まれると、移動側テーパコーン２３ａを下降させ、ボビン２の上端部のテーパ３の部分を移動側テーパコーン２３ａに差し込むことにより、固定側テーパコーン２４ａと移動側テーパコーン２３ａとの間にボビン２を立てた状態で保持させることができる。
【００３１】
ここで、ボビン２の下端側にずれ下がり防止リング６を装着することにより、可撓性基板１が巻かれたボビン２を立てた場合においても、可撓性基板１の自重で可撓性基板１が筍状にずれ下がるのを防止することが可能となり、可撓性基板１の巻き出しや巻き取り動作に支障をきたすのを防止することができる。
そして、可撓性基板１が巻き付けられたボビン２ａが巻き出し室２１ａに収容されるとともに、可撓性基板１が巻き付けられるボビン２ｂが巻き取り室２１ｂ内に収容されると、モータ２２ａ、２２ｂを駆動することにより、巻き出し室２１ａから引き出された可撓性基板１を成膜用真空室２１ｃに搬送する。そして、可撓性基板１を一旦停止させて成膜室２５を形成してから、可撓性基板１の成膜面上にプラズマＣＶＤにて成膜を行い、可撓性基板１を解放して巻き取り室２１ｂに搬送することで、スッテピングロール方式にて成膜を行うことができる。
【００３２】
すなわち、ボビン２ａから引き出された可撓性基板１は成膜用真空室２１ｃに搬送され、電圧印加電極３２と接地電極３０との間に保持された状態で一旦停止される。そして、電圧印加電極３２と接地電極３０との間に可撓性基板１が保持されると、アクチュエータ３３は、接地電極３０を駆動することにより、枠体３１の端面に可撓性基板１を密着させ、成膜室２５を形成する。
そして、成膜用真空室２１ｃ内に成膜室２５が形成されると、真空排気口を介して成膜室２５内を排気しながら、ａ−Ｓｉ系の薄膜を形成するための反応ガスを成膜室２５内に導入する。そして、給電線を介して高周波電力を電圧印加電極３２に印加することにより、成膜室２５内にプラズマを発生させ、プラズマＣＶＤにて成膜室２５内の可撓性基板１の面上にａ−Ｓｉ系の薄膜を形成する。
【００３３】
そして、可撓性基板１の面上の成膜が終了した後、アクチュエータ３３にて接地電極３０を数十ｍｍだけ移動させることにより、接地電極３０に抑えられていた可撓性基板１を解放し、可撓性基板１を搬送しながら、巻き取り室２１ｂ内のボビン２ｂにて巻き取ることができる。
これにより、可撓性基板１が巻き付けられたボビン２を立てた状態で固定側テーパコーン２４ａに容易に装着することが可能となるとともに、可撓性基板１が巻き付けられたボビン２を簡易な機構にて立てた状態で支持しながら、可撓性基板１の面上に成膜することが可能となり、省スペース化を図りつつ、成膜効率を向上させることができる。
【００３４】
なお、上述した実施形態では、ステッピングロール方式にて可撓性基板１の面上に成膜する方法について説明したが、ロールツーロール方式にて可撓性基板１の面上に成膜する方法に適用してもよい。
また、上述した実施形態では、プラズマＣＶＤにて可撓性基板１の面上に成膜する方法について説明したが、プラズマＣＶＤの他、スパッタ、または蒸着、あるいはこれらの中から選ばれたものの組み合わせであってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】本発明の一実施形態に係るボビンの概略構成を示す斜視図である。
【図２】図２（ａ）は、本発明の一実施形態に係る成膜装置の概略構成を示す縦断面図、図２（ｂ）は、本発明の一実施形態に係る成膜装置の概略構成を示す平面断面図である。
【符号の説明】
【００３６】
１  可搬性基板
２、２ａ、２ｂ  ボビン
３  テーパ
４  段差
５  保持リング
６  ずれ下がり防止リング
１１  搬送装置
１２  アーム
２１ａ  巻き出し室
２１ｂ  巻き取り室
２１ｃ  成膜用真空室
２２ａ、２２ｂ  モータ
２３ａ、２３ｂ  移動側テーパコーン
２４ａ、２４ｂ  固定側テーパコーン
２５  成膜室
２７ａ〜２９ａ  巻き出しロール
２７ｂ〜２９ｂ  巻き取りロール
３０  接地電極
３１  枠体
３２  電圧印加電極
３３  アクチュエータ
【図１】
2008144198.tif 000003
【図２】
2008144198.tif 000004