(57)【要約】【課題】本発明は、種々の処理装置に組み込むことによって作業効率の向上および品質のばらつき抑制を実現するアライメント方法およびその装置を提供することである。【解決手段】ステージ２上に配設された複数の吸着テーブル３の夫々の上に、アライメントマーク１２を有する被処理基板１１を載置し、アライメントマーク撮像用カメラ１０で撮像して得られた被処理基板１１のアライメントマーク１２の位置データに基づいて各吸着テーブル３の周囲に配設されたアライメント機構を制御し、アライメント機構を構成する移動制御ユニット４、６、８のアライメントピン４ｄ、６ｄ、８ｄおよび移動支持ユニット５、７、９のプッシャーピン５ｄ、７ｄ、９ｄを介して被処理基板１１をＸ、Ｙおよびθ方向に制御してアライメントを行なうようにした。【選択図】図１
2008188727.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ステージ上に配設された複数のテーブルの夫々の上に載置された被処理基板を夫々正規の位置に揃えるアライメント方法であって、
（１）ステージ上に配設された複数のテーブルの夫々の上にアライメントマークが形成された被処理基板を載置するステップと、
（２）前記被処理基板に形成されたアライメントマークをアライメントマーク撮像用カメラで撮像した画像から得られた位置データと、予め正規の位置に対応するように設定された位置データとの差に基づいてアライメント機構を制御することによって前記被処理基板の位置を調整して前記位置データの差を縮小するステップと、
（３）前記位置データの差が予め設定された範囲内に至るまで前記ステップ（２）を繰り返すステップと、
（４）前記テーブル上に載置された前記全ての被処理基板について前記ステップ（２）および（３）を施すステップを有することを特徴とするアライメント方法。
【請求項２】
前記ステップ（１）において、前記テーブルには多数の吸着孔が設けられており、前記被処理基板は前記テーブル上に移動自在に載置されることを特徴とする請求項１に記載のアライメント方法。
【請求項３】
前記テーブル上に載置された前記被処理基板は、該被処理基板の夫々について前記ステップ（３）終了後に前記吸着孔から空気が吸引されて前記テーブル上に吸着固定されることを特徴とする請求項２に記載のアライメント方法。
【請求項４】
前記ステージは前記複数のテーブルが載設された方向に直線的に移動可能であり、前記夫々の被処理基板がアライメントを施される位置まで前記ステージの移動によって搬送されることを特徴とする請求項１〜３に記載のアライメント方法。
【請求項５】
前記ステージ上に配設された複数のテーブルの夫々の上に載置された被処理基板を夫々正規の位置に揃えるアライメント装置であって、
直線的に移動可能なステージと、
前記ステージ上の該ステージの移動方向に配設された、夫々被処理基板を載置する複数のテーブルと、
前記夫々のテーブルの対向する位置に配設されて、前記被処理基板をＸ、Ｙ、およびθ方向に動かすアライメント機構と、
前記テーブルの上方に配置された、前記被処理基板に形成された一対のアライメントマークを撮像する一対のアライメントマーク撮像用カメラを備え、
前記夫々のテーブルに載置された被処理基板について、前記被処理基板に形成された一対のアライメントマークの夫々を前記一対のアライメントマーク撮像用カメラの夫々で撮像し、撮像した画像から得られた位置データと、予め正規の位置に対応するように設定された位置データとの差に基づいて前記アライメント機構を制御することによって前記被処理基板の位置が調整されて前記位置データの差が縮小され、前記位置データの縮小が前記位置データの差が予め設定された範囲内に至るまで繰り返されることによってアライメントが完了することを特徴とするアライメント装置。
【請求項６】
前記テーブルには多数の吸着孔が設けられていると共に、前記被処理基板は前記テーブル上に移動自在に載置されることを特徴とする請求項５に記載のアライメント装置。
【請求項７】
前記テーブル上に載置された前記被処理基板は、該被処理基板の夫々についてアライメント完了後に前記吸着孔から空気が吸引されて前記テーブル上に吸着固定されることを特徴とする請求項６に記載のアライメント装置。
【請求項８】
前記夫々のテーブルは該テーブルに載置された前記被処理基板がアライメントを施される位置まで前記ステージの移動によって搬送されることを特徴とする請求項５〜７に記載のアライメント装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はアライメント方法およびその装置に関するものであり、詳しくは、アライメンマークが設けられた被処理基板をアライメントする方法およびその装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶表示パネル等に使用するガラス基板を切断する方法として、例えば、以下に示すような切断（以下、スクライブともいう）方法が提案されている。それは図５に示すように、アライメントマークが形成されたワーク（ガラス基板）Ｗを夫々Ｘ、Ｙおよびθの各方向に移動可能なテーブルＴｘ、ＴｙおよびＴθ上に載置し、所定の位置に配置されたカメラ５０でワークＷのアライメントマークを撮像して、得られた画像をデータ処理することによってアライメントマークの位置を算出する。算出されたアライメントマークの位置データは予め正規の位置に対応するように設定された位置データと比較され、その差分に基づいてテーブルＴｘ、Ｔｙ、Ｔθの夫々をＸ、Ｙおよびθの夫々の方向に移動させることによってワークＷを所定の位置に位置させる。
【０００３】
その後、テーブルＴｘをＸ方向に往復移動させながらチップホルダー５１に回転自在に支持されたカッターホイールチップ５２によってワークＷをＸ方向にスクライブするものである。その際、スクライブ方向変更時にはチップホルダー５１がスクライブ間隔に対応した位置に補正されると共に、チップホルダー５１を１８０°回転させることによってチップホルダー５１に支持されたカッターホイールチップ５２がスクライブ方向に対応した方向に向けられる。
【０００４】
このようにしてワークＷに対するＸ方向のスクライブが完了するとテーブルＴθが９０°回転され、上述したＸ方向のスクライブと同様の手順によってワークＷにＹ方向のスクライブが行なわれて１枚のワークＷに対するスクライブ工程が完了するというものである（例えば、特許文献１参照。）。
【特許文献１】特開２０００−１１９０３０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、上記ガラススクライブ方法で複数のワーク（ガラス基板）Ｗをスクライブする場合は、ワークＷを１枚毎にテーブルＴｘ、ＴｙおよびＴθ上に載置してスクライブする方法とテーブルＴｘ、ＴｙおよびＴθ上に載置した複数のガラス基板を順次スクライブする方法が考えられる。
【０００６】
前者の場合は１枚毎のワークＷの交換作業に伴う労力・時間の浪費が作業効率を低下させるものであり、それに対し後者の場合は前者に比べて作業効率は良好ではあるが、スクライブするワークＷ１枚毎にスクライブ加工前にテーブルをＸ、Ｙおよびθ方向に移動させてアライメントする必要があり、そのためにアライメント時のテーブルＴｘ、ＴｙおよびＴθの機械的な移動による時間的な損失が発生することになる。
【０００７】
そこで、本発明は上記問題に鑑みて創案なされたもので、その目的とするところは、種々の処理装置に組み込むことによって作業効率の向上および品質のばらつきの抑制を実現するアライメント方法及びその装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明の請求項１に記載された発明は、ステージ上に配設された複数のテーブルの夫々の上に載置された被処理基板を夫々正規の位置に揃えるアライメント方法であって、
（１）ステージ上に配設された複数のテーブルの夫々の上にアライメントマークが形成された被処理基板を載置するステップと、
（２）前記被処理基板に形成されたアライメントマークをアライメントマーク撮像用カメラで撮像した画像から得られた位置データと、予め正規の位置に対応するように設定された位置データとの差に基づいてアライメント機構を制御することによって前記被処理基板の位置を調整して前記位置データの差を縮小するステップと、
（３）前記位置データの差が予め設定された範囲内に至るまで前記ステップ（２）を繰り返すステップと、
（４）前記テーブル上に載置された前記全ての被処理基板について前記ステップ（２）および（３）を施すステップを有することを特徴とするものである。
【０００９】
また、本発明の請求項２に記載された発明は、請求項１の前記ステップ（１）において、前記テーブルには多数の吸着孔が設けられており、前記被処理基板は前記テーブル上に移動自在に載置されることを特徴とするものである。
【００１０】
また、本発明の請求項３に記載された発明は、請求項２において、前記テーブル上に載置された前記被処理基板は、該被処理基板の夫々について前記ステップ（３）終了後に前記吸着孔から空気が吸引されて前記テーブル上に吸着固定されることを特徴とするものである。
【００１１】
また、本発明の請求項４に記載された発明は、請求項１〜３のいずれか１項において、前記ステージは前記複数のテーブルが載設された方向に直線的に移動可能であり、前記夫々の被処理基板がアライメントを施される位置まで前記ステージの移動によって搬送されることを特徴とするものである。
【００１２】
また、本発明の請求項５に記載された発明は、前記ステージ上に配設された複数のテーブルの夫々の上に載置された被処理基板を夫々正規の位置に揃えるアライメント装置であって、
直線的に移動可能なステージと、
前記ステージ上の該ステージの移動方向に配設された、夫々被処理基板を載置する複数のテーブルと、
前記夫々のテーブルの対向する位置に配設されて、前記被処理基板をＸ、Ｙ、およびθ方向に動かすアライメント機構と、
前記テーブルの上方に配置された、前記被処理基板に形成された一対のアライメントマークを撮像する一対のアライメントマーク撮像用カメラを備え、
前記夫々のテーブルに載置された被処理基板について、前記被処理基板に形成された一対のアライメントマークの夫々を前記一対のアライメントマーク撮像用カメラの夫々で撮像し、撮像した画像から得られた位置データと、予め正規の位置に対応するように設定された位置データとの差に基づいて前記アライメント機構を制御することによって前記被処理基板の位置が調整されて前記位置データの差が縮小され、前記位置データの縮小が前記位置データの差が予め設定された範囲内に至るまで繰り返されることによってアライメントが完了することを特徴とするものである。
【００１３】
また、本発明の請求項６に記載された発明は、請求項５において、前記テーブルには多数の吸着孔が設けられていると共に、前記被処理基板は前記テーブル上に移動自在に載置されることを特徴とするものである。
【００１４】
また、本発明の請求項７に記載された発明は、請求項６において、前記テーブル上に載置された前記被処理基板は、該被処理基板の夫々についてアライメント完了後に前記吸着孔から空気が吸引されて前記テーブル上に吸着固定されることを特徴とするものである。
【００１５】
また、本発明の請求項８に記載された発明は、請求項５〜７のいずれか１項において、前記夫々のテーブルは該テーブルに載置された前記被処理基板がアライメントを施される位置まで前記ステージの移動によって搬送されることを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１６】
本発明のアライメント装置は、テーブル上に載置された複数のステージの夫々の上に載置された被処理基板を、該ステージ上の正規の位置にアライメントするようにした。
【００１７】
その結果、種々の処理装置に本発明のアライメント装置を組み込むことによって処理速度の高速化が図られるために作業効率が向上し、且つ処理の均一性が確保できるために品質のばらつきが低減できる等の優れた効果を奏するものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、この発明の実施形態を図１〜図４を参照しながら、詳細に説明する（同一部分については同じ符号を付す）。尚、以下に述べる実施形態は、本発明の好適な具体例であるから、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの態様に限られるものではない。
【００１９】
図１は本実施形態に係わるアライメント装置を示す斜視図である。なお、以下の説明の中に表記するＸ、Ｙ、Ｚおよびθの夫々の方向は、図中に矢印で示した方向に対応する。
【００２０】
アライメント装置１は、床面あるいは装置等に固定された架台（図示せず）上を所定の方向（Ｙ方向）に直線状に摺動するステージ２の上に吸着テーブル３が固定されており、吸着テーブル３には多数の吸着孔（図示せず）が設けられている。
【００２１】
そして、吸着テーブル３の外側の該吸着テーブル３を挟んで対向する位置に一対の移動制御ユニット４と移動支持ユニット５が配設され、同様に吸着テーブル３を挟んで、前記一対の移動制御ユニット４と移動支持ユニット５が配設された方向に略直角の方向の対向する位置に２組の一対の移動制御ユニット６と移動支持ユニット７、および移動制御ユニット８と移動支持ユニット９が配設されている。
【００２２】
そのうち、一対の移動制御ユニット４と移動支持ユニット５において、移動制御ユニット４は基盤プレート４ａの上面に、対向する移動支持ユニット５方向(Ｘ方向)に向かって延びるガイドレール４ｂが配設され、ガイドレール４ｂに該ガイドレール４ｂの延長方向（Ｘ方向）に摺動自在に支持されたスライダ４ｃが配置されている。スライダ４ｃの上部には、対向する移動支持ユニット５方向(Ｘ方向)に向かって延びるアライメントピン４ｄが設けられている。
【００２３】
また、基盤プレート４ａの上面にはアクチュエータ４ｅとスプリング支持体４ｆが併設されており、アクチュエータ４ｅのロッド４ｇの先端部がスライダ４ｃに当接していると共に、スプリング支持体４ｆとスライダ４ｃがスプリング４ｈによって連結され、スライダ４ｃがスプリング４ｈの付勢力によりスプリング支持体４ｆ方向に向けて付勢されている。
【００２４】
移動支持ユニット５は基盤プレート５ａの上面に、対向する移動制御ユニット４方向(Ｘ方向)に向かって延びるガイドレール５ｂが配設され、ガイドレール５ｂに該ガイドレール５ｂの延長方向（Ｘ方向）に摺動自在に支持されたスライダ５ｃが配置されている。スライダ５ｃの上部には、対向する移動制御ユニット４方向(Ｘ方向)に向かって延びるプッシャーピン５ｄが設けられている。
【００２５】
また、基盤プレート５ａの上面にはスプリング支持体５ｆが設けられており、スプリング支持体５ｆとスライダ５ｃがスプリング５ｈによって連結されている。
【００２６】
他方、２組の一対の移動制御ユニット６と移動支持ユニット７、および移動制御ユニット８と移動支持ユニット９において、移動制御ユニット６および移動制御ユニット８は夫々基盤プレート６ａ、８ａの上面に、対向する移動支持ユニット７、９方向(Ｙ方向)に向かって延びるガイドレール６ｂ、８ｂが配設され、ガイドレール６ｂ、８ｂに該ガイドレール６ｂ、８ｂの延長方向（Ｙ方向）に摺動自在に支持されたスライダ６ｃ、８ｃが配置されている。スライダ６ｃ、８ｃの上部には、対向する移動支持ユニット７、９方向(Ｙ方向)に向かって延びるアライメントピン６ｄ、８ｄが設けられている。
【００２７】
また、夫々の基盤プレート６ａ、８ａの上面にはアクチュエータ６ｅ、８ｅとスプリング支持体６ｆ、８ｆが併設されており、アクチュエータ６ｅ、８ｅのロッド６ｇ、８ｇの先端部がスライダ６ｃ、８ｃに当接していると共に、スプリング支持体６ｆ、８ｆとスライダ６ｃ、８ｃがスプリング６ｈ、８ｈによって連結され、スライダ６ｃ、８ｃがスプリング６ｈ、８ｈの付勢力によりスプリング支持体６ｆ、８ｆ方向に向けて付勢されている。
【００２８】
移動支持ユニット７および移動支持ユニット９は夫々基盤プレート７ａ、９ａの上面に、対向する移動制御ユニット６、８方向(Ｙ方向)に向かって延びるガイドレール７ｂ、９ｂが配設され、ガイドレール７ｂ、９ｂに該ガイドレール７ｂ、９ｂの延長方向（Ｙ方向）に摺動自在に支持されたスライダ７ｃ、９ｃが配置されている。スライダ７ｃ、９ｃの上部には、対向する移動制御ユニット６、８方向(Ｙ方向)に向かって延びるプッシャーピン７ｄ、９ｄが設けられている。
【００２９】
また、基盤プレート７ａ、９ａの上面にはスプリング支持体７ｆ、９ｆが設けられており、スプリング支持体７ｆ、９ｆとスライダ７ｃ、９ｃがスプリング７ｈ、９ｈによって連結されている。
【００３０】
更に、ステージ２の上方には一対のアライメントマーク撮像用カメラ１０が略移動制御ユニット４と移動支持ユニット５が配設された方向（Ｘ方向）に移動自在に配設されており、被処理基板１１に形成された一対のアライメントマーク１２を撮像してその画像からアライメントマーク１２の所定の位置からのずれを算出するものである。
【００３１】
次に、上述のアライメント装置を使用して被処理基板のアライメントを行なう方法について詳細に説明する。
【００３２】
まず、吸着テーブル３上に一対のアライメントマーク１２が形成された被処理基板１１を載置する。すると、移動制御ユニット４、６、８の夫々に配設されたスライダ４ｃ、６ｃ、８ｃに設けられたアライメントピン４ｄ、６ｄ、８ｄの先端部および移動支持ユニット５、７、９の夫々に配設されたスライダ５ｃ、７ｃ、９ｃに設けられたプッシャーピン５ｄ、７ｄ、９ｄの先端部が被処理基板１１の端面に当接する。このとき、被処理基板１１の上面１３はアライメントピン４ｄ、６ｄ、８ｄおよびプッシャーピン５ｄ、７ｄ、９ｄのいずれのピンの上端１４よりも高い位置（例えば、距離ｄだけ高い位置）にある（図２参照）。また、この時点では吸着テーブル３に設けられた吸着孔からはエアーが噴出しており、被処理基板１１は吸着テーブル３上に移動を束縛されない移動自在の状態にある。
【００３３】
更に、一対のアライメントマーク撮像用カメラ１０は、予め被処理基板１１の一対のアライメントマーク１２の正規の位置に対応する位置に移動させてある。
【００３４】
そして、アライメント装置１の始動操作を行なうと、ステージ２はＹ方向に直線状に摺動され、最初の被処理基板１１の一対のアライメントマーク１２がカメラ１０に捕らえられて、得られたアライメントマーク１２のいずれか一方または両方の画像の位置データが正規の位置データに対して所定の範囲内に入ったときにステージ２の摺動が停止する。
【００３５】
すると、この時点から被処理基板１１に対する高精度のアライメントが開始される。それは、カメラ１０で撮像されて得られた被処理基板１１の一対のアライメントマーク１２の夫々の画像の位置データと、アライメントマーク１２の夫々の正規の位置に対応するように予め設定された位置データとの差を、Ｘ方向およびＹ方向に分けて算出する。
【００３６】
そして、算出されたＸ方向の差およびＹ方向の差の夫々に基づいて移動制御ユニット４６、８の夫々に配設されたアクチュエータ４ｅ、６ｅ、８ｅを個別に制御し、アクチュエータ４ｅ、６ｅ、８ｅのロッド４ｇ、６ｇ、８ｇに当接したスライダ４ｃ、６ｃ、８ｃを動かすことによってスライダ４ｃ、６ｃ、８ｃに設けられたアライメントピン４ｄ、６ｄ、８ｄを介して被処理基板１１の位置・方向を調整して正規の位置に近づける。
【００３７】
ここで、３つの移動制御ユニット４、６、８の夫々に配設されたスライダ４ｃ、６ｃ、８ｃに設けられたアライメントピン４ｄ、６ｄ、８ｄの移動方向と、３つの移動支持ユニット５、７、９の夫々に配設されたスライダ５ｃ、７ｃ、９ｃに設けられたプッシャーピン５ｄ、７ｄ、９ｄの移動方向と被処理基板１１の制御方向の関係を図１および図３によって説明する。
【００３８】
図３（ａ）に示すように、移動制御ユニット４のアクチュエータ４ｅを作動させるとアクチェータ４ｅのロッド４ｇはＹ方向に伸縮する。すると、ロッド４ｇの先端部に当接したスライダ４ｃがＸ方向に移動し、それに伴ってスライダ４ｃに設けられたアライメントピン４ｄの先端部がＸ方向に移動し、端面がアライメントピン４ｄの先端部に当接した被処理基板１１がＸ方向に動く。それと同時に、移動支持ユニット５側では被処理基板１１の端面に当接したプッシャーピン５ｄが被処理基板１１の移動によってＸ方向に動き、プッシャーピン５ｄが設けられたスライダ５ｃがＸ方向に動く。
【００３９】
同様に、図３（ｂ）に示すように、移動制御ユニット６、８のアクチュエータ６ｅ、８ｅを個別に作動させるとアクチェータ６ｅ、８ｅのロッド６ｇ、８ｇはＹ方向に伸縮する。すると、ロッド６ｇ、８ｇの先端部に当接したスライダ６ｃ、８ｃがＹ方向に移動し、それに伴ってスライダ６ｃ、８ｃに設けられたアライメントピン６ｄ、８ｄの先端部がＹ方向に移動し、端面がアライメントピン６ｄ、８ｄの先端部に当接した被処理基板１１がＹ方向に動く。それと同時に、移動支持ユニット７、９側では被処理基板１１の端面に当接したプッシャーピン７ｄ、９ｄが被処理基板１１の移動によってＹ方向に動き、プッシャーピン７ｄ、９ｄが設けられたスライダ７ｃ、９ｃがＹ方向に動く。
【００４０】
従って、移動制御ユニット４に配設されたアクチュエータ４ｅのロッド４ｇのＸ方向の伸縮および伸縮長を制御すると共に、２つの移動制御ユニット６、８の夫々に配設されたアクチュエータ６ｅ、８ｅのロッド６ｇ、８ｇのＹ方向の伸縮および伸縮長を制御することによって夫々のアライメントピン６ｄ、８ｄを介して基被処理基板１１をＹ方向に動かしたりθ方向に回転することが可能となる。
【００４１】
このように、アライメントマーク撮像用カメラ１０で撮像されて得られたアライメントマーク１２の画像の位置データと、アライメントマーク１２の夫々の正規の位置に対応するように予め設定された位置データによって算出されたＸ方向の差およびＹ方向の差の夫々に基づいて３つのアクチュエータ４ｅ、６ｅ、８ｅを適宜制御することによって被処理基板１１の位置を正規の位置に近づけることが可能となる。
【００４２】
以上説明したアライメント機構によって被処理基板１１の位置調整が行なわれた後、同様にカメラ１０によるアライメントマーク１２の撮像、位置データの算出、被処理基板１１の位置修正を繰り返すことによって被処理基板１１を正規の位置に限りなく近づける。
【００４３】
そして、各アライメントマーク１２の位置と正規の位置の差が設定値の範囲内に達した時点でアライメント処理が完了する。
【００４４】
被処理基板１１のアライメントが完了すると、被処理基板１１が載置された吸着テーブル３に設けられた吸着孔から空気が吸引され、被処理基板１１が吸着テーブル３に吸着固定される。
【００４５】
このような工程を経てアライメントが完了した被処理基板１１が吸着テーブル３上の正規の位置に吸着固定されると、ステージ２が所定距離摺動され、次の被処理基板１１がアライメントされる。
【００４６】
このような工程を経て順次被処理基板１１がアライメントされることによって、全ての被処理基板１１が吸着テーブル３上の正規の位置に固定されてアライメント作業が完了する。
【００４７】
なお、アライメントの最初の工程で夫々の吸着テーブル３上に被処理基板１１を載置したとき、移動制御ユニット４、６、８の夫々に配設されたスライダ４ｃ、６ｃ、８ｃはスプリング４ｈ、６ｈ、８ｈの付勢力によりスプリング支持体４ｆ、６ｆ、８ｆ方向に向けて付勢されており、移動支持ユニット５、７、９の夫々に配設されたスライダ５ｃ、７ｃ、９ｃはスプリング５ｈ、７ｈ、９ｈの付勢力により対向する移動制御ユニット４、６、８方向に向けて付勢されている。
【００４８】
そこで、移動制御ユニット４、６、８の夫々に配設されたアクチュエータ４ｅ、６ｅ、８ｅのロッド４ｇ、６ｇ、８ｇが延びた場合は、スライダ４ｃ、６ｃ、８ｃはスプリング４ｈ、６ｈ、８ｈの付勢力に逆らって対向する移動支持ユニット５、７、９の方向に移動し、スライダ４ｃ、６ｃ、８ｃに設けられたアライメントピン４ｄ、６ｄ、８ｄの先端部に当接した被処理基板１１を対向する移動支持ユニット５、７、９の方向に移動させる。すると、被処理基板１１に当接した移動支持ユニット５、７、９側のプッシャーピン５ｄ、７ｄ、９ｄが押されてスライダ５ｃ、７ｃ、９ｃがスプリング５ｈ、７ｈ、９ｈの付勢力に逆らってスプリング支持体５ｆ、７ｆ、９ｆ方向に向けて移動する。
【００４９】
一方、移動制御ユニット４、６、８の夫々に配設されたアクチュエータ４ｅ、６ｅ、８ｅのロッド４ｇ、６ｇ、８ｇが縮んだ場合は、スライダ４ｃ、６ｃ、８ｃはスプリング４ｈ、６ｈ、８ｈの付勢力によってスプリング支持体４ｆ、６ｆ、８ｆの方向に移動し、スライダ４ｃ、６ｃ、８ｃに設けられたアライメントピン４ｄ、６ｄ、８ｄもスプリング支持体４ｆ、６ｆ、８ｆの方向に移動する。それと同時に、移動支持ユニット５、７、９側スライダ５ｃ、７ｃ、９ｃはスプリング５ｈ、７ｈ、９ｈの付勢力によって対向する移動制御ユニット４、６、８の方向に移動し、スライダ５ｃ、７ｃ、９ｃに設けられたプッシャーピン５ｄ、７ｄ、９ｄも対向する移動制御ユニット４、６、８の方向に移動する。このとき、プッシャーピン５ｄ、７ｄ、９ｄの先端部に当接した被処理基板１１はプッシャーピン５ｄ、７ｄ、９ｄの移動によって移動制御ユニット４、６、８の方向に移動する。
【００５０】
従って、上記アライメント機構より、移動制御ユニット４、６、８側のスプリング４ｈ、６ｈ、８ｈは必ずしも必要ではない。
【００５１】
上記アライメント工程の流れを、２枚の被処理基板１１、夫々に被処理基板１１を載置した２つの吸着テーブル３、２つの吸着テーブル３を固定したステージ２、およびアライメントマーク撮像用カメラ１０とによって示したものが図４である。
【００５２】
まず、（ａ）のようにステージ２上に固定された吸着テーブル３の夫々の上に被処理基板１１を載置する。そしてアライメント装置の始動操作を行なうと、（ｂ）のようにステージ２が摺動して最初の被処理基板１１がカメラ１０の下でアライメントされる。最初の被処理基板１１のアライメントが完了すると、（ｃ）のように再度テーブル２が摺動して次の被処理基板１１がカメラ１０の下でアライメントされる。すると、（ｄ）のように２枚の被処理基板１１の夫々が吸着テーブル３を介してステージ２上の正規の位置に固定されてアライメント作業が完了する。
【００５３】
上述したような、複数の被処理基板の夫々をステージに固定された吸着テーブル上で正規の位置にアライメントするアライメント装置は、種々の処理装置に組み込むことによって有効に活用できる。例えば、被処理基板を切断するためのスクライブ装置に組み込んだ場合、ステージ上に固定された吸着テーブル上の全ての被処理基板はアライメントが完了して正規の位置に固定されており、スクライブ装置のカッタとステージとの相対的な直線運動によって複数の被処理基板に連続的にスクライブラインを形成することができる。
【００５４】
その結果、スクライブ速度が上がって作業効率が向上するため、製造コストの低減に繋がる。また、複数の被処理基板において均一なスクライブラインが形成できるため、スクライブ後に切断して小片化された被処理基板同士の品質のばらつきを抑制することが可能となる。なお、レーザ光によるスクライブ装置に組み込んだ場合も同様の効果を奏する。
【００５５】
このように、本発明のアライメント装置は、種々の処理装置に組み込むことによって処理等の高速化が図られるために作業効率が向上し、且つ処理の均一性が確保できるために品質のばらつきが低減できる等の優れた効果を奏するものである。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】本発明のアライメント装置の斜視図である。
【図２】本発明のアライメント装置の部分断面図である。
【図３】本発明のアライメント装置に係わるアライメント機構の動きを示す模式図である。
【図４】本発明のアライメントの流れを示す概略図である。
【図５】従来例を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００５７】
１    アライメント装置
２    ステージ
３    吸着テーブル
４    移動制御ユニット
４ａ    基盤プレート
４ｂ    ガイドレール
４ｃ    スライダ
４ｄ    アライメントピン
４ｅ    アクチュエータ
４ｆ    スプリング支持体
４ｇ    ロッド
４ｈ    スプリング
５    移動支持ユニット
５ａ    基盤プレート
５ｂ    ガイドレール
５ｃ    スライダ
５ｄ    プッシャーピン
５ｆ    スプリング支持体
５ｈ    スプリング
６    移動制御ユニット
６ａ    基盤プレート
６ｂ    ガイドレール
６ｃ    スライダ
６ｄ    アライメントピン
６ｅ    アクチュエータ
６ｆ    スプリング支持体
６ｇ    ロッド
６ｈ    スプリング
７    移動支持ユニット
７ａ    基盤プレート
７ｂ    ガイドレール
７ｃ    スライダ
７ｄ    プッシャーピン
７ｆ    スプリング支持体
７ｈ    スプリング
８    移動制御ユニット
８ａ    基盤プレート
８ｂ    ガイドレール
８ｃ    スライダ
８ｄ    アライメントピン
８ｅ    アクチュエータ
８ｆ    スプリング支持体
８ｇ    ロッド
８ｈ    スプリング
９    移動支持ユニット
９ａ    基盤プレート
９ｂ    ガイドレール
９ｃ    スライダ
９ｄ    プッシャーピン
９ｆ    スプリング支持体
９ｈ    スプリング
１０    カメラ
１１    被処理基板
１２    アライメントマーク
１３    上面
１４    上端
【図１】
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【図２】
2008188727.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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