(57)【要約】【課題】液晶表示装置における大量に連続してビング処理を行った場合に発生する表示ムラを防止することが可能となるラビング処理装置を得る。【解決手段】基板１を保持するステージ２と、ラビング処理するラビングローラ６とを備え、ラビングローラを前記基板１の長手方向に対し所望の角度に固定し回転させながら基板１及びステージ２をラビングローラ６に対して所定方向に向って相対移動し、ステージ2に保持された基板１表面に形成された配向膜表面にラビング処理を行うラビング装置において、処理する基板毎に前記ステージ２上の異なる位置に位置決めする位置決め機構１０を備える。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
配向膜が表面に形成された基板を保持するステージと、上記配向膜表面をラビング処理するラビングローラとを備え、前記ラビングローラを前記基板の長手方向に対し所望の角度に固定し回転させながら前記基板及び前記ステージを前記ラビングローラに対して所定方向に向って相対移動し、前記ステージに保持された基板表面に形成された配向膜表面にラビング処理を行うラビング処理装置であって、
複数の前記基板を連続してラビング処理する場合において、処理する基板毎に前記ステージ上の異なる位置に位置決めする位置決め機構を備えたことを特徴とするラビング処理装置。
【請求項２】
基板毎に異なるステージ上の位置は前記基板及び前記ステージをラビングローラに対し相対移動する所定方向と垂直な方向に異なる位置であることを特徴とする請求項１記載のラビング処理装置。
【請求項３】
基板毎に異なるステージ上の位置は前記基板上に等間隔に配置されたパターンのピッチの整数倍を除く位置より選択することを特徴とする請求項２記載のラビング処理装置。
【請求項４】
基板毎に異なるステージ上の位置は前記基板及び前記ステージをラビングローラに対し相対移動する所定方向に対する基板角度を変えた位置であることを特徴とする請求項１記載のラビング処理装置。
【請求項５】
基板毎に異なるステージ上の位置は複数の定位置の何れかより選択されることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のラビング処理装置。
【請求項６】
基板毎に異なるステージ上の位置は複数の定位置の何れかより決まった順番に選択されることを特徴とする請求項５記載のラビング処理装置。
【請求項７】
基板毎に異なるステージ上の位置は複数の定位置の何れかよりランダムな順番に選択されることを特徴とする請求項５記載のラビング処理装置。
【請求項８】
基板毎に異なるステージ上の位置は所定の二つの定位置間のランダムに選択された任意の位置であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のラビング処理装置。
【請求項９】
基板毎に異なるステージ上の位置は所定の二つの基板角度間のランダムに選択された任意の角度にあたる位置であることを特徴とする請求項４に記載のラビング処理装置。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれかに記載のラビング処理装置によってラビング処理することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶表示装置の製造に用いられるラビング処理装置とそのラビング処理装置による液晶表示装置の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶パネルを用いた液晶表示装置は、低消費電力であること、薄型、軽量化が可能であること等から、ＡＶ機器、ＯＡ機器を始めとする多くの電気機器製品に使用されている。近年これらの製品に対する要求の高度化に伴い急速に高精細度化や画像表示品位の向上が重要となってきている。このような液晶表示装置の製造方法において、液晶を配向させる配向膜表面に微細な筋を形成する工程であるラビング工程は画像表示品位に重大な影響を及ぼすものである。
【０００３】
従来のラビング工程は、ラビングローラを回転させながら配向膜表面に対し特定の方向にラビング処理を行うのであるが、ステージ上に保持した配向膜が表面に形成された基板上には配線、端子、遮光膜等のパターンによる段差が生じている。
【０００４】
上記の様なパターンの段差がある配向膜が表面に形成された基板に対してラビング処理を行った場合、ラビング布の表面にパターンの凹凸が押し付けられ、凸部と接触する部分と凹部と接触する部分でラビング布の毛先の表面状態が異なってしまう。特に大量に連続してラビング処理を行うと、従来のラビング処理装置では、パターンの接触する部分がラビング布の同じ部分に再現され、場所による毛先の表面状態の差が固定化してしまう。この布の表面状態のムラが表示領域内の配向膜にも転写され、表示領域内での配向ムラを引き起こす。その結果、配向ムラによる表示ムラが発生する結果となり、歩留りを悪化させる要因となっていた。
【０００５】
また、この様なラビング工程を起因とする表示ムラを低減する方法として、特許文献１において、処理する基板を揺動しながらラビング処理する方法、特許文献２においては、ラビング布の表面状態のムラを慣らす毛慣らし手段を設ける方法が開示されている。
【０００６】
【特許文献１】特開平１０−３１９４０２公報
【特許文献２】特開平５−３４６９４公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
然しながら、特許文献１の様に揺動しながらラビング処理を行った場合、ラビング処理の実質的な方向が一定とならず、処理自体が不安定となる問題がある。また、特許文献２の様な毛慣らし手段を設けた場合にもラビング布の消耗や損傷が発生し易いなど耐久性に問題がある。
【０００８】
本発明は以上の様な問題を解決するものであり、ラビング処理による表示ムラを防止し、画像表示品位の高い液晶表示装置を実現できるラビング処理装置とその方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
この発明に係るラビング処理装置は、配向膜が表面に形成された基板を保持するステージと、上記配向膜表面をラビング処理するラビングローラとを備え、そのラビングローラを前記基板の長手方向に対し所望の角度に固定し回転させながら基板及びステージをラビングローラに対して所定方向に向って相対移動し、ステージに保持された基板表面に形成された配向膜表面にラビング処理を行い、複数の前記基板を連続してラビング処理する場合において処理する基板毎に前記ステージ上の異なる位置に位置決めする位置決め機構を備えたものである。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、液晶表示装置における配向膜が表面に形成された基板にラビング処理を行った場合における表示ムラを防止することが可能であり、歩留まりの向上、かつ大量に連続ラビング処理をすることを可能とし、飛躍的に生産性向上が行えるという有利な効果が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
実施の形態１．
以下、本発明の実施の形態１であるラビング処理装置について図面を参照しつつ説明する。図１は本実施の形態１のラビング処理装置の構成を示す装置上側より見た外観図、図２は図１におけるＡ−Ａ断面線による断面図である。なお、図は、模式的なものであり、示された構成要素の正確な大きさなどを反映するものではない。また、図面中、既出の構成部分と共通する部分については同一符号を用いて詳細な説明を省略するものとする。以下、その他の図においても同様とする。
【００１２】
図１に示す様に、本実施の形態１のラビング処理装置は、液晶を配向させる配向膜が表面に形成された基板１(基板内のパネル配置を点線で図示)を保持するステージ２と、前記基板１を所定の位置に位置決めするアライメントピン３及びアライメント溝４と、位置決め後の基板１をステージ２上に吸着保持する保持機構である吸着孔５と、回転軸Ｘ−Ｘを軸として回転しながら、これらステージ２上に保持された基板１表面を擦りラビング処理を行うラビングローラ６とより構成されている。ラビングローラ６は所望の方向のラビング処理ができる様に、基板１及びステージ２の進行方向（図中斜線網掛け矢印方向）に対する角度θを変更する様に回転軸Ｘ−Ｘの方向を図中網掛け矢印に示す様に回転可能であるとともに所望の角度で固定可能な構成となっている。
【００１３】
また、図２に示す様に、アライメントピン３には、アライメントピン３を開閉動作するボールネジ７及びモータ８と、モータ８に接続されモータ８の動作を制御し処理基板毎に位置決め位置を決定するシーケンサなどの制御部９よりなる駆動機構とが取り付けられ、全体して位置決め機構１０を構成している。この制御部９が位置決め機構１０全体の動作を決定している。また、位置決め動作前と完了後においてアライメントピン３及び駆動機構全体を図中矢印に示す様にステージ２内に出し入れする上下動作を行う駆動機構も備えている（図示せず）。
【００１４】
続いて、本実施の形態１のラビング処理装置の動作について図３を用い説明する。先ず一枚目の配向膜が表面に形成された基板１ａの処理を行う場合においては、所定の位置にアライメントピン３により位置決めされる。ここでは、例えば図３（ａ）の様に基板１ａ及びステージ２の進行方向に向かって左側とした。位置決め後には、吸着孔により基板１ａはステージ２上の所定の位置で保持され、その後、アライメントピン３はラビング処理時の妨げとならない様に下降しステージ２内に収納される。この状態で回転するラビングローラ６の下部を図中矢印の方法に基板１ａが通過し、基板１ａ表面に形成された配向膜表面に所望の方向のラビング処理が行われる。ラビング処理方向はラビングローラ６の回転軸Ｘ−Ｘと垂直な方向となる。
【００１５】
その後、連続して次の基板１ｂが処理される場合については、図３（ａ）とは異なる所定の位置にアライメントピン３により位置決めされる。ここでは、基板１ｂ及びステージ２の進行方向に対し垂直な方向において異なる位置、例えば図３（ｂ）に示す様に基板１ｂ及びステージ２の進行方向に向かって右側の所定の位置とした。これら、図３（ａ）、図３（ｂ）で説明した位置決めされる所定の位置については、上記構成の説明時に説明した制御部９により位置決め機構１０の動作を制御され決定される。その後の動作については、図３（ａ）で説明したものと同様であるので説明を省略する。以後、連続して基板が処理される場合においても、前の基板の位置決め位置と異なる所定の位置に順次位置決めしてラビング処理を続ける。
【００１６】
また、それぞれの基板１が位置決めされる所定の位置については、上記説明では基板及びステージの進行方向に向かって左側と右側の極端に異なる位置で説明したが、具体的には、図３（ａ）、図３（ｂ）の間の適当な位置に複数の定位置を決め、その位置に基板毎に順次異なる位置に位置決めする。定位置を選択する順番としては定位置毎に決まった順番に選択しても良いし、ランダムな順番に選択して処理を進めても良い。更に、特に位置決めを行う定位置を決めずに所定の二つの定位置間においてランダムに任意の位置を選択し処理を進めても良い。これらの動作についても制御部９が位置決め機構１０の動作を制御し行われる。具体的には、制御部９は、シーケンサやパソコンなどを組み合わせて、位置決め位置に対応したモータ８の回転量のデータ、基板処理の回数を計測した回数データ或いは乱数発生による乱数データを適宜利用して実現可能である。更に、図３より明らかな様にアライメント溝４が基板１及びステージ２の進行方向と垂直な方向に扁平して設けられており、アライメントピン３が基板１の進行方向と垂直な方向に開閉動作することから、基板１及びステージ２の進行方向と垂直な方向で異なる位置に容易に位置決めすることが可能である。
【００１７】
続いて、本実施の形態１の作用について図４および図５を用いて説明する。図４は従来のラビング処理装置によって発生するパネル内のパターンの転写による配向ムラを比較例として説明する図である。図５は本実施の形態１における配向ムラの発生を緩和する作用を説明する図である。
【００１８】
先ず、図４の様に基板１０１上に配置されたパネル（外形を点線で図示、図５においても同様）内のパターンとして端子電極１１１を例にとって説明するが、端子電極１１１のパターンによりラビング布には、端子電極１１１に当たる部分（凸部となる）がより強く接触する為、パターンの形状と同様の部分において毛先の表面状態の異なる領域（パターン痕と呼ぶ）が発生する。このラビング布表面のパターン痕の位置はラビングローラと基板との位置関係により各基板によりずれるが基板及びステージの進行方向に垂直な方向については変動しないため多数基板を処理していくうちにラビング布表面にパターン痕が固定化される。その結果、図４の様に基板及びステージの進行方向に平行な方向に端子電極１１１のパターンが転写される配向ムラ（パターン転写領域１１２）が発生し、表示ムラとして視認される。
【００１９】
一方、本実施の形態１の処理においては、多数の基板１を処理した後においても、図５に示す様に端子電極１１のパターンが転写される配向ムラ（パターン転写領域１２）がパネル内全面に均一化される。これは、基板１及びステージ２の進行方向と垂直な方向に基板毎に位置決めする位置を変えることにより、ラビングローラ６と基板１の関係も変わることから、基板１及びステージ２の進行方向に垂直な方向についてもラビング布表面のパターン痕が固定化されない為である。この様にして、パネル内の配向ムラ（パターン転写領域１２）は全体に均一化される為に表示ムラも視認されなくすることができる。
【００２０】
以上説明の様に、本実施の形態１のラビング装置においては、複数の基板を連続してラビング処理する場合において、処理する基板毎にステージ１上の異なる位置に位置決めする位置決め機構１０を備えていることから液晶表示装置における配向膜が表面に形成された基板にラビング処理を行った場合における配向膜表面の配向ムラを防止することが可能という有利な効果が得られる。
【００２１】
また、本実施の形態１の装置、方法においては、基板毎に、ラビングローラ６と基板１の位置関係は変動するものの、ステージ２上において、基板１は定位置に吸着保持される。この為、それぞれの基板１の処理としては、ラビング処理中にラビング処理方向と基板の方向の関係（ラビング処理角度）が変動することはなく、安定してラビング処理が可能である。
【００２２】
また、本実施の形態１では、基板１を配置する位置に特に例外を設けなかった。しかし、図６は一般的な液晶表示装置の製造に用いられる配向膜が表面に形成された基板上のパターン配置図を図６に示すが、この様に実際の処理される基板１上には端子電極１１のパターンはピッチｐの等間隔で、パネル１３もピッチＰの等間隔で配置されるのが一般的である。この状況からすると、これらのピッチと同一或いはピッチの整数倍の移動については、ほぼ同一のパターン痕がラビング布に形成されてしまうことよりパターン痕の領域を全体に均一化する効果が無くなってしまう。以上の様に基板毎に異なる位置は端子電極１１やパネル１３等の基板１上に等間隔に配置されたパターンのピッチの整数倍を除く位置より選択することが効率良く配向ムラを低減する点からは好ましい。
【００２３】
実施の形態２．
実施の形態１においては、基板毎に異なる位置はステージ２或いはラビングローラ６を移動する方向と垂直な方向に異なる位置を選択しアライメントピン３により位置決めを行う方法を用いた。本実施の形態２においては、基板毎に異なる位置を基板角度を変えた位置とする方法について説明する。図７に本実施の形態２のラビング処理装置の構成を示す上面より見た外観図を示す。この図７に示す様にアライメントピン３を動作し基板に回転動作を行い、基板毎に異なる位置ステージ２或いはラビングローラ６を移動する方向に対して基板角度を変えた位置に位置決めする。例えば処理する基板の一枚目を図中基板１ａの位置、続いて処理される基板を図中１ｂ（基板位置及びアラメントピン３の位置を点線にて図示、）の位置とする。この方法によっても、実施の形態１と同様にパネル内の配向ムラ（パターン転写領域）を全体に均一化することができ表示ムラを視認されなくすることができる。
【００２４】
また、この方法についても、実施の形態１と同様に角度の異なる適当な位置に複数の定位置を決め、その位置に基板毎に順次異なる位置に位置決めする。定位置を選択する順番としては定位置毎に決まった順番に選択しても良いし、ランダムな順番に選択して処理を進めても良い。更に、特に位置決めを行う定位置を決めずに所定の二つの基板角度間においてランダムに任意の角度にあたる位置を選択し処理を進めても良い。
【００２５】
また、本実施の形態１及び実施の形態２においては、定位置で回転するラビングローラ６に対し基板１及びステージ２の方を移動しラビング処理を行う方法を用いたが、基板１及びステージ２がラビングローラ６に対して相対移動すれば同様のラビング処理の作用が得られることから、基板１及びステージ２を固定し、ラビングローラ６を基板１及びステージ２に対して一定の角度を保ったまま回転させながら走査してラビング処理を行っても良く、実施の形態１及び実施の形態２と同様の効果を得ることが可能である。更に、この場合には本実施の形態１及び実施の形態２において説明した基板１及びステージ２の進行方向は基板１及びステージ２のラビングローラ６に対して相対移動する方向と読み替えると同様の効果説明が成り立つ。
【００２６】
実施の形態３．
続いて、図８を用いて、本実施の形態３における液晶表示装置の構成について説明する。なお、ここでは、一例としてＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）方式の液晶表示装置について説明する。この液晶表示装置２００は、図に示される様に、スイッチング素子基板２１０、カラーフィルタ基板２２０、及びスイッチング素子基板２１０とカラーフィルタ基板２２０との間に充填された液晶２３０から構成されている。
【００２７】
上述のスイッチング素子基板２１０は、ガラス基板２１１の一方の面に液晶２３０を配向させる配向膜２１２、配向膜２１２の下部に設けられ液晶２３０を駆動する電圧を印加する画素電極２１３、画素電極２１３に電圧を供給するＴＦＴなどのスイッチング素子２１４、スイッチング素子２１４を覆う絶縁膜２１５、スイッチング素子２１４に供給される信号を外部から受け入れる端子２１６、端子２１６から入力された信号を対向電極へ伝達する為のトランスファ電極２１７等を有している。また、ガラス基板２１１の他方の面には偏光板２３１を有している。
【００２８】
一方、上述のカラーフィルタ基板２２０は、ガラス基板２２１の一方の面に液晶２３０を配向させる配向膜２２２、配向膜２２２の下部に配置され、スイッチング素子基板２１０上の画素電極２１３との間に電界を生じ液晶２３０を駆動する共通電極２２３、共通電極２２３下部に設けられるカラーフィルタ２２４及び遮光層２２５等を有している。また、ガラス基板２２１の他方の面には偏光板２３２を有している。
【００２９】
また、スイッチング素子基板２１０とカラーフィルタ基板２２０はシール２３３を介して貼り合わされている。更にトランスファ電極２１７と共通電極２２３は、トランスファ材２３４により電気的に接続されており、端子２１６から入力された信号が共通電極２２３に伝達される。この他に、液晶表示装置２００は駆動信号を発生する制御基板２３５、制御基板２３５を端子２１６に電気的に接続するＦＰＣ（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ Ｐｒｉｎｔｅｄ Ｃｉｒｃｕｉｔ）２３６、光源となるバックライトユニット（図示せず）等を備えている。
【００３０】
この液晶表示装置２００は次の様に動作する。例えば、制御基板２３５から電気信号が入力されると、画素電極２１３及び共通電極２２３に駆動電圧が加わり、駆動電圧に合わせて液晶２３０の分子の方向が変わる。そして、バックライトユニットの発する光がスイッチング素子基板２１０、液晶２３０及びカラーフィルタ基板２２０を介して外部へ透過或いは遮断されることにより、液晶表示装置２００に映像等が表示される。
【００３１】
なお、この液晶表示装置２００は、一例であり他の構成でもよい。液晶表示装置２００の動作モードは、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モードや、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、強誘電性液晶モード等でもよく、駆動方法は、単純マトリックスやアクティブマトリックス等でもよく、カラーフィルタ基板２２０に設けた共通電極２２３をスイッチング素子基板２１０側に設置して、画素電極２１３との間に横方向に液晶２３０に対して電界をかける横電界方式を用いた液晶表示装置でもよい。
【００３２】
次に、本実施の形態３における液晶表示装置の製造方法について説明する。スイッチング素子基板２１０及びカラーフィルタ基板２２０の製造方法については一般的な方法を用いる為、簡単に説明する。スイッチング素子基板２１０は、ガラス基板２１１の一方の面に、成膜、フォトリソグラフィー法によるパターンニング、エッチング等のパターン形成工程を繰り返し用いてスイッチング素子２１４や画素電極２１３、端子２１６、トランスファ電極２１７を形成することにより製造される。また、カラーフィルタ基板２２０は、同様に、ガラス基板２２１の一方の面に、カラーフィルタ２２４や共通電極２２３を形成することにより製造される。
【００３３】
続いて、本実施の形態３において特徴的な組み立て工程について図９に示すフローチャートにしたがって説明する。まず、基板洗浄工程において、画素電極２１３が形成されているスイッチング素子基板２１０を洗浄する（Ｓ１）。次に、配向膜形成工程において、スイッチング素子基板２１０の一方の面に、配向膜２１２を形成する（Ｓ２）。この工程は、例えば、印刷法により有機膜からなる配向膜２１２を塗布し、ホットプレートなどにより焼成処理し乾燥させる。
【００３４】
その後、ラビング工程において、実施の形態１で説明したラビング処理装置を用いることにより配向膜２１２が表面に形成された基板にラビング処理を行い、配向膜２１２を配向させる（Ｓ３）。また、Ｓ１からＳ３と同様に、共通電極２２３が形成されているカラーフィルタ基板２２０についても、洗浄、配向膜２２２の形成、及び実施の形態１で説明したラビング処理装置を用いたラビング処理を行う。この実施の形態１で説明したラビング処理装置を用いたことによって、大量に連続ラビング処理を行った場合においてもラビングローラにパターン痕が固定化されず全体に均一化される。
【００３５】
続いて、シール塗布工程において、ノズルによるディスペンス方式、または、スクリーン印刷方式等によってスイッチング素子基板２１０あるいはカラーフィルタ基板２２０の一方の面にシール材２３３の塗布処理を行う（Ｓ４）。シール材２３３には、例えばエポキシ系接着剤等の熱硬化型樹脂や紫外線硬化型樹脂を用いた。
【００３６】
次に、トランスファ材塗布工程において、スイッチング素子基板２１０或いはカラーフィルタ基板２２０の一方の面にトランスファ材２３４の塗布処理を行う（Ｓ５）。そして、スペーサ散布工程において、スイッチング素子基板２１０或いはカラーフィルタ基板２２０の一方の面にスペーサを散布する（Ｓ６）。この工程は、例えば、湿式法や乾式法によりスペーサを分散させることにより行われる。
【００３７】
その後、貼り合わせ工程において、スイッチング素子基板２１０とカラーフィルタ基板２２０を貼り合わせる（Ｓ７）。続いて、シール硬化工程において、スイッチング素子基板２１０とカラーフィルタ基板２２０を貼り合わせた状態で、シール２３３を完全に硬化させる（Ｓ８）。この工程は、例えば、シール２３３の材質に合わせて熱を加えることや、紫外線を照射することにより行われる。次に、セル分断工程において、貼り合わせた基板を個別セルに分解する（Ｓ９）。そして、液晶注入工程において、液晶注入口から液晶を注入する（Ｓ１０）。この工程は、例えば、液晶２３０を液晶注入口から真空注入により充填することにより行われる。更に、封止工程において、液晶注入口を封止する（Ｓ１１）。この工程は、例えば、光硬化型樹脂で封じ、光を照射することにより行われる。
【００３８】
以上のＳ７〜Ｓ１３の貼り合わせから液晶封止までの工程については、通常の注入口からの液晶注入方法を一例として説明した。しかし、別の液晶注入方法として、シール２３３を注入口の無いパターン形状とし、液晶２３０をスイッチング素子基板２１０或いはカラーフィルタ基板２２０の上に液滴状態で滴下して形成し、この滴下した液晶２３０を挟む様にスイッチング素子基板２１０とカラーフィルタ基板２２０を貼り合わせた後にシール２３３を硬化させる方法、所謂、滴下注入方式を用いても構わない。
【００３９】
最後に、偏光板貼付工程において、セルに偏光板２３１、２３２を貼り付け（Ｓ１２）、制御基板実装工程において、制御基板２３５を実装する（Ｓ１３）ことによって、液晶表示装置２００が完成する。
【００４０】
以上説明した様に、実施の形態３における液晶表示装置においては、処理する基板毎に前記ステージ上の異なる位置に位置決めする位置決め機構を備えたラビング処理装置を用い製造されたことにより、複数の基板を連続してラビング処理した場合においても、配向膜が表面に形成された基板にラビング処理を行った場合における表示ムラを発生させることがなく、液晶表示装置の製造における歩留まりの向上及び大量基板の連続ラビング処理を両立することができ飛躍的に生産性向上が行えるという有利な効果が得られる。
【００４１】
また、本実施の形態３においては、実施の形態１のラビング処理装置をラビング工程に用いた液晶表示装置の製造方法について説明した。然しながら実施の形態１のラビング処理装置に代えて他の実施の形態２及び実施の形態１で説明した変形例のラビング処理装置を用いた場合においても本実施の形態３と同様の効果を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明の実施の形態１におけるラビング処理装置を示した外観図である。
【図２】本発明の実施の形態１におけるラビング処理装置を示した断面図である。
【図３】本発明の実施の形態１におけるラビング処理装置の動作を説明する図である。
【図４】従来のラビング処理装置において発生する配向ムラの説明図である。
【図５】本発明の実施の形態１におけるラビング処理装置の作用説明図である。
【図６】一般的な液晶表示装置の製造に用いられる配向膜が表面に形成された基板上のパターン配置図である。
【図７】本発明の実施の形態２におけるラビング処理装置を示した外観図である。
【図８】本発明の実施の形態３における液晶表示装置の断面図である。
【図９】本発明の実施の形態３における液晶表示装置の製造方法における組み立て工程を示すフローチャートである。
【符号の説明】
【００４３】
１，１ａ，１ｂ 基板、２ ステージ、６ ラビングローラ、１０ 位置決め機構、２００ 液晶表示装置、２１２，２２２ 配向膜。
【図１】
2008257105.tif 000003
【図２】
2008257105.tif 000004
【図３】
2008257105.tif 000005
【図４】
2008257105.tif 000006
【図５】
2008257105.tif 000007
【図６】
2008257105.tif 000008
【図７】
2008257105.tif 000009
【図８】
2008257105.tif 000010
【図９】
2008257105.tif 000011