(57)【要約】【課題】スペーサーの散布の均一性を確保しつつ、スペーサーの凝集を可及的に少なくする。【解決手段】被処理基板５に粒状のスペーサー１を散布するスペーサー散布装置２０であって、被処理基板５を収容する処理室１０と、処理室１０の内上部からスペーサー１及び溶媒２ａを含む分散液３を被処理基板５に対し噴霧するための第１噴霧部１１ａと、処理室１０の内上部から溶媒２ｂを被処理基板５に対し噴霧するための第２噴霧部１１ｂと、処理室１０の内部を加温して、第１噴霧部１１ａ及び第２噴霧部１１ｂによって噴霧された溶媒２ａ及び２ｂを揮発させるためのヒーター１２とを備えている。【選択図】図２
2008026398.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに対向して配置された一対の基板と、該一対の基板の間に設けられた液晶層と、該一対の基板を所定間隔に保持するために上記液晶層に設けられた粒状のスペーサーとを備えた液晶表示パネルを製造する装置であって、
上記一対の基板の一方を下部に収容する処理室と、
上記処理室の内上部から上記スペーサー及び溶媒を含む分散液を上記一方の基板に対し噴霧するための第１噴霧部と、
上記処理室の内上部から溶媒を上記一方の基板に対し噴霧するための第２噴霧部と、
上記処理室の内部を加温して、上記第１噴霧部及び第２噴霧部によって噴霧された溶媒を揮発させるためのヒーターとを備えていることを特徴とする液晶表示パネルの製造装置。
【請求項２】
請求項１に記載された液晶表示パネルの製造装置において、
上記処理室の内部を排気するための排気口が設けられていることを特徴とする液晶表示パネルの製造装置。
【請求項３】
請求項１に記載された液晶表示パネルの製造装置において、
上記第１噴霧部から噴霧される分散液における上記スペーサーの含有量は、１重量％〜５重量％であることを特徴とする液晶表示パネルの製造装置。
【請求項４】
請求項１に記載された液晶表示パネルの製造装置において、
上記第１噴霧部及び第２噴霧部の各噴霧量は、毎秒０．００５ｇ〜毎秒０．０５ｇであり、
上記第１噴霧部及び第２噴霧部に供給される各ガスの圧力は、０．１ＭＰａ〜１．０ＭＰａであることを特徴とする液晶表示パネルの製造装置。
【請求項５】
請求項１に記載された液晶表示パネルの製造装置において、
上記第１噴霧部は、上記処理室の内部に、上記第２噴霧部によって溶媒を噴霧した後に、上記分散液を噴霧するように構成されていることを特徴とする液晶表示パネルの製造装置。
【請求項６】
互いに対向して配置された一対の基板と、該一対の基板の間に設けられた液晶層と、該一対の基板を所定間隔に保持するために上記液晶層に設けられた粒状のスペーサーとを備えた液晶表示パネルを製造する方法であって、
上記一対の基板の一方を処理室の内部に収容する基板収容工程と、
上記処理室の内部を加温しながら、該処理室の内部に収容された一方の基板に対し上記スペーサー及び溶媒を含む分散液を噴霧する分散液噴霧工程と、
上記処理室の内部を加温しながら、該処理室の内部に収容された一方の基板に対し溶媒を噴霧する溶媒噴霧工程とを備えることを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【請求項７】
請求項６に記載された液晶表示パネルの製造方法において、
上記分散液噴霧工程は、上記溶媒噴霧工程の後に行われることを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【請求項８】
被処理基板に粒状のスペーサーを散布するスペーサー散布装置であって、
上記被処理基板を収容する処理室と、
上記処理室の内上部から上記スペーサー及び溶媒を含む分散液を上記被処理基板に対し噴霧するための第１噴霧部と、
上記処理室の内上部から溶媒を上記被処理基板に対し噴霧するための第２噴霧部と、
上記処理室の内部を加温して、上記第１噴霧部及び第２噴霧部によって噴霧された溶媒を揮発させるためのヒーターとを備えていることを特徴とするスぺーサー散布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示パネルの製造装置及び製造方法、並びにスペーサー散布装置に関し、特に、液晶表示パネルのセル厚を保持するためのスペーサーを散布する技術に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示パネルは、互いに対向して配置された一対の基板と、その一対の基板の間に設けられた液晶層とを備えている。この一対の基板の間隔、すなわち、セル厚は、一対の基板の間に配置された粒状のスペーサーによって保持されている。そして、このスペーサーは、例えば、プラスチックビーズ（以下、ＰＢと称する）により形成され、水／アルコール系の混合溶媒にＰＢを分散させ、スプレー噴霧する湿式散布法、又は、ドライ窒素ガスなどの高速気流で粉体状のＰＢを直接散布する乾式散布法により、液晶表示パネルを構成する一方の基板の表面に配置される。
【０００３】
例えば、特許文献１には、スペーサーとアルコール又は純水とを混合する溶液混合機と、溶液循環機と、散布条件設定機と、スペーサーカウンターを設けた循環式ノズルと、溶剤気化装置と、沈下制御機と、Ｎ２置換装置と、排気装置とを設けたフロンを使用しない無公害の湿式自動スペーサー散布装置システムが開示されている。
【特許文献１】特開平６−２０８１２０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、湿式散布法では、ＰＢの噴霧液から水／アルコール系の混合溶媒を揮発させることにより、ＰＢが基板上に単粒子として落下して均一に配置される。ここで、ＰＢの噴霧液から混合溶媒を徐々に揮発させる場合には、ＰＢ表面の混合溶媒を介してＰＢ同士が凝集しやすいので、ＰＢの凝集を抑制するためには、ＰＢの噴霧液から溶媒を速やかに揮発させる必要がある。そのため、湿式散布法で用いられる散布装置では、処理室の側壁にヒーターが設けられ、そのヒーターによる処理室内部の加温によって、溶媒を速やかに揮発するようになっている。
【０００５】
しかし、従来の湿式散布法では、処理室内の温度を上昇させることにより、ＰＢの溶媒に起因する凝集が抑制されるものの、ＰＢの帯電によってＰＢの帯電に起因する凝集体が形成されたり、乾式散布法のように基板面内で配置されたＰＢの散布数にバラツキが発生して、ＰＢの散布の均一性が損なわれたりするおそれがある。
【０００６】
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、スペーサーの散布の均一性を確保しつつ、スペーサーの凝集を可及的に少なくすることにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明は、処理室の内部に、溶媒、並びにスペーサー及び溶媒を含む分散液をそれぞれ噴霧するようにしたものである。
【０００８】
具体的に本発明に係る液晶表示パネルの製造装置は、互いに対向して配置された一対の基板と、該一対の基板の間に設けられた液晶層と、該一対の基板を所定間隔に保持するために上記液晶層に設けられた粒状のスペーサーとを備えた液晶表示パネルを製造する装置であって、上記一対の基板の一方を下部に収容する処理室と、上記処理室の内上部から上記スペーサー及び溶媒を含む分散液を上記一方の基板に対し噴霧するための第１噴霧部と、上記処理室の内上部から溶媒を上記一方の基板に対し噴霧するための第２噴霧部と、上記処理室の内部を加温して、上記第１噴霧部及び第２噴霧部によって噴霧された溶媒を揮発させるためのヒーターとを備えていることを特徴とする。
【０００９】
上記の構成によれば、スペーサー及び溶媒を含む分散液を噴霧するための第１噴霧部の他に、溶媒を噴霧するための第２噴霧部を有しているので、第２噴霧部による溶媒の噴霧によって処理室の内部の降温及び加湿が可能になる。そして、処理室の内部の降温が可能であるので、処理室の内部を加温するヒーターが従来よりも高温に設定され、液晶表示パネルを構成する一方の基板に対し、処理室の内部において、より高温でのスぺーサーの湿式散布が可能である。そのため、噴霧されたスペーサーを含む液滴から溶媒が速やかに揮発するので、溶媒に起因するスペーサーの凝集が抑制されると共に、湿式散布の長所であるスペーサーの散布の均一性が確保される。また、処理室の内部の加湿が可能であるので、粒状のスペーサーの帯電が抑制され、帯電に起因するスペーサーの凝集が抑制される。これにより、溶媒及び帯電に起因するスペーサーの凝集が抑制されるので、スペーサーの散布の均一性を確保しつつ、スペーサーの凝集が可及的に少なくなる。
【００１０】
上記処理室の内部を排気するための排気口が設けられていてもよい。
【００１１】
上記の構成によれば、排気口によって処理室の内部を排気することにより、処理室の内部温度が変動したとしても、高温でのスぺーサーの湿式散布が可能であるので、噴霧されたスペーサーを含む液滴から溶媒が速やかに揮発して、溶媒に起因するスペーサーの凝集が抑制されると共に、湿式散布の長所であるスペーサーの散布の均一性が確保される。
【００１２】
上記第１噴霧部から噴霧される分散液における上記スペーサーの含有量は、１重量％〜５重量％であってもよい。
【００１３】
上記の構成によれば、本発明の作用効果が具体的に奏される。例えば、分散液におけるスペーサーの含有量が１重量％未満である場合には、スペーサーの散布が不均一になったり、製造効率が低下したりしてしまう。また、分散液におけるスペーサーの含有量が５重量％を超える場合には、凝集体が形成されやすくなる。
【００１４】
上記第１噴霧部及び第２噴霧部の各噴霧量は、毎秒０．００５ｇ〜毎秒０．０５ｇであり、上記第１噴霧部及び第２噴霧部に供給される各ガスの圧力は、０．１ＭＰａ〜１．０ＭＰａであってもよい。
【００１５】
上記の構成によれば、本発明の作用効果が具体的に奏される。例えば、第１噴霧部及び第２噴霧部の各噴霧量が毎秒０．００５ｇ未満であると共に、第１噴霧部及び第２噴霧部に供給される各ガスの圧力が０．１ＭＰａ未満である場合には、製造効率が低下してしまう。また、第１噴霧部及び第２噴霧部の各噴霧量が毎秒０．０５ｇを超えると共に、第１噴霧部及び第２噴霧部の各窒素ガスの圧力が１．０ＭＰａを超える場合には、第１噴霧部による分散液、及び第２噴霧部による溶媒が処理室の内部にそれぞれ霧状に供給されにくくなってしまう。
【００１６】
上記第１噴霧部は、上記処理室の内部に、上記第２噴霧部によって溶媒を噴霧した後に、上記分散液を噴霧するように構成されていてもよい。
【００１７】
上記の構成によれば、処理室の内部に溶剤が噴霧された後に、スペーサーを含む分散液が噴霧されるので、より高温でのスぺーサーの湿式散布が可能になり、本発明の作用効果が具体的に奏される。
【００１８】
また、本発明に係る液晶表示パネルの製造方法は、互いに対向して配置された一対の基板と、該一対の基板の間に設けられた液晶層と、該一対の基板を所定間隔に保持するために上記液晶層に設けられた粒状のスペーサーとを備えた液晶表示パネルを製造する方法であって、上記一対の基板の一方を処理室の内部に収容する基板収容工程と、上記処理室の内部を加温しながら、該処理室の内部に収容された一方の基板に対し上記スペーサー及び溶媒を含む分散液を噴霧する分散液噴霧工程と、上記処理室の内部を加温しながら、該処理室の内部に収容された一方の基板に対し溶媒を噴霧する溶媒噴霧工程とを備えることを特徴とする。
【００１９】
上記の方法によれば、処理室の内部を加温しながら処理室の内部に溶媒を噴霧する溶媒噴霧工程と、処理室の内部を加温しながら処理室の内部にスペーサー及び溶媒を含む分散液を噴霧する分散液噴霧工程とを備えるので、溶媒噴霧工程による溶媒の噴霧によって処理室の内部の降温及び加湿が可能になる。そして、処理室の内部の降温が可能であるので、処理室の内部を従来よりも高温に設定され、液晶表示パネルを構成する一方の基板に対し、処理室の内部において、より高温でのスぺーサーの湿式散布が可能である。そのため、噴霧されたスペーサーを含む液滴から溶媒が速やかに揮発するので、溶媒に起因するスペーサーの凝集が抑制されると共に、湿式散布の長所であるスペーサーの散布の均一性が確保される。また、処理室の内部の加湿が可能であるので、粒状のスペーサーの帯電が抑制され、帯電に起因するスペーサーの凝集が抑制される。これにより、溶媒及び帯電に起因するスペーサーの凝集が抑制されるので、スペーサーの散布の均一性を確保しつつ、スペーサーの凝集が可及的に少なくなる。
【００２０】
上記分散液噴霧工程は、上記溶媒噴霧工程の後に行われてもよい。
【００２１】
上記の方法によれば、処理室の内部に溶剤を噴霧した後に、スペーサーを含む分散液を噴霧するので、より高温でのスぺーサーの湿式散布が可能になり、本発明の作用効果が具体的に奏される。
【００２２】
また、本発明に係るスペーサー散布装置は、被処理基板に粒状のスペーサーを散布するスペーサー散布装置であって、上記被処理基板を収容する処理室と、上記処理室の内上部から上記スペーサー及び溶媒を含む分散液を上記被処理基板に対し噴霧するための第１噴霧部と、上記処理室の内上部から溶媒を上記被処理基板に対し噴霧するための第２噴霧部と、上記処理室の内部を加温して、上記第１噴霧部及び第２噴霧部によって噴霧された溶媒を揮発させるためのヒーターとを備えていることを特徴とする。
【００２３】
上記の構成によれば、スペーサー及び溶媒を含む分散液を噴霧するための第１噴霧部の他に、溶媒を噴霧するための第２噴霧部を有しているので、第２噴霧部による溶媒の噴霧によって処理室の内部の降温及び加湿が可能になる。そして、処理室の内部の降温が可能であるので、処理室の内部を加温するヒーターが従来よりも高温に設定され、被処理基板に対し、処理室の内部において、より高温でのスぺーサーの湿式散布が可能である。そのため、噴霧されたスペーサーを含む液滴から溶媒が速やかに揮発するので、溶媒に起因するスペーサーの凝集が抑制されると共に、湿式散布の長所であるスペーサーの散布の均一性が確保される。また、処理室の内部の加湿が可能であるので、粒状のスペーサーの帯電が抑制され、帯電に起因するスペーサーの凝集が抑制される。これにより、溶媒及び帯電に起因するスペーサーの凝集が抑制されるので、スペーサーの散布の均一性を確保しつつ、スペーサーの凝集が可及的に少なくなる。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によれば、処理室の内部に、溶媒、並びにスペーサー及び溶媒を含む分散液をそれぞれ噴霧するため、スペーサーの散布の均一性を確保しつつ、スペーサーの凝集を可及的に少なくすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではない。
【００２６】
図１は、本発明の一実施形態に係るスペーサー散布装置２０の斜視図であり、図２は、図１中のII−II線に沿ったスペーサー散布装置２０の断面図である。そして、図３は、液晶表示パネル８の断面図である。
【００２７】
ここで、スペーサー散布装置２０で製造される液晶表示パネル８について説明する。
【００２８】
液晶表示パネル８は、図３に示すように、互いに対向して配置された一対の基板、すなわち、第１基板５及び第２基板６と、第１基板５及び第２基板６の間に設けられた液晶層７と、第１基板５及び第２基板６を所定間隔に保持するために液晶層７に設けられた粒状のスペーサー１とを備えている。
【００２９】
第１基板５及び第２基板６は、ガラス基板と、そのガラス基板上に互いに平行に延びるようにストライプ状に設けられた複数本の透明電極と、各透明電極を覆うように設けられた配向膜とをそれぞれ備えている。
【００３０】
液晶表示パネル８では、第１基板５上の各透明電極と、第２基板６上の各透明電極とが互いに直交するように配設され、各透明電極の交差部分毎に画像の最小単位である画素が構成されている。そして、液晶表示パネル８では、複数の画素がマトリクス状に配列して、表示領域が構成されている。
【００３１】
液晶層７は、電気光学特性を有するネマチック液晶の液晶分子を含んでいる。
【００３２】
スペーサー１は、プラスチックやシリカなどにより形成された真球状の微粒子である。
【００３３】
また、液晶表示パネル８では、画像表示の際に、第１基板５及び第２基板６の各透明電極に時系列的に所定の電圧をかけていくと、ある時には選択された透明電極の交差部分の画素のみの液晶層７に電圧が印加され、液晶層７を構成する液晶分子の配向状態が変化するようになっている。そして、液晶表示パネル８では、その印加電圧の大きさに応じて液晶分子の配向状態が変わることを利用して、外部から液晶層７に入射する光の透過率を調整することにより、画像が表示される。
【００３４】
さらに、液晶表示パネル８は、第１基板５及び第２基板６をそれぞれ作製した後に、例えば、第１基板５の表面にスペーサー１を散布すると共に第２基板６の外周部に枠状のシール材を印刷し、それらの両基板５及び６を貼り合わせて空のセルを作製し、その空のセルに液晶層７を構成する液晶材料を注入及び封止することにより製造される。
【００３５】
以下に、上記構成の液晶表示パネル８を製造するプロセスの１つである、スペーサーを散布するプロセスについて詳しく説明する。
【００３６】
まず、スペーサーを散布するプロセスに用いるスペーサー散布装置２０について、説明する。
【００３７】
スペーサー散布装置２０は、図１及び図２に示すように、被処理基板５を下部に収容する処理室１０と、処理室１０の内部上面に設けられた第１噴霧部１１ａ及び第２噴霧部１１ｂと、処理室１０の前側壁、左側壁及び右側壁にそれぞれ内蔵されたヒーター１２と、処理室１０の右側壁下部に設けられた基板搬出入部１３と、処理室１０の下面に設けられた排気口１４と、処理室１０の内部下面に設けられ被処理基板５を載置するための支持ピン１５とを備えている。なお、処理室１０の後側壁には、処理室１０の内壁に付着した付着物の除去などのメンテナンスを行うためのメンテナンス用扉（不図示）が設けられている。
【００３８】
第１噴霧部１１ａには、スペーサー１及び溶媒２ａを含む分散液３、並びに窒素ガスが供給され、処理室１０の内上部から分散液３を被処理基板５に対し噴霧するための噴出口（不図示）が設けられている。
【００３９】
第２噴霧部１１ｂには、溶媒２ｂ及び窒素ガスが供給され、処理室１０の内上部から溶媒２ｂを被処理基板５に対し噴霧するための噴出口（不図示）が設けられている。
【００４０】
ヒーター１２は、処理室１０の内部を加温して、第１噴霧部１１ａ及び第２噴霧部１１ｂによって噴霧された溶媒２ａ及び２ｂを揮発させるためのパネル状の熱源である。
【００４１】
基板搬出入部１３には、スペーサー１が散布される前の被処理基板５を処理室１０の内部に搬入、及びスペーサー１が散布された後の被処理基板５を処理室１０の内部から搬出するための搬出入用扉が設けられている。
【００４２】
排気口１４には、処理室１０の内部、すなわち、残留するスペーサー１などを排気するための局所排気装置が接続されている。
【００４３】
次に、上記構成のスペーサー散布装置２０を用いて、例えば、液晶表示パネル８を構成する第１基板（被処理基板）５に対し、スペーサー１を散布する方法について説明する。なお、本実施形態の液晶表示パネルの製造方法、すなわち、スペーサーの散布方法では、以下の準備工程、基板収容工程、溶媒噴霧工程、分散液噴霧工程及び沈下排気工程が順に行われる。
【００４４】
＜準備工程＞
純水及びアルコールの混合液（溶媒２ａ）に粉状のスペーサー１を分散させて、スペーサー１が０．５重量％〜５．０重量％（好ましくは、１重量％〜５重量％）で含有する分散液３を調整する。なお、分散液３におけるスペーサー１の含有量が１重量％未満である場合には、スペーサー１の散布が不均一になったり、製造効率が低下したりするおそれがある。また、分散液３におけるスペーサー１の含有量が５重量％を超える場合には、凝集体が形成されやすくなるおそれがある。
【００４５】
また、ヒーター１２を用いて、処理室１０の内部を２５℃〜１５０℃に加温する。
【００４６】
＜基板収容工程＞
基板搬出入部１３を介して被処理基板５を処理室１０の内部に搬入し、その被処理基板５を支持ピン１５上に載置する。
【００４７】
＜溶媒噴霧工程＞
第２噴霧部１１ｂに、純水及びアルコールの混合液（溶媒２ｂ）、並びに窒素ガスを供給すると共に、窒素ガスの圧力を０．１ＭＰａ〜１．０ＭＰａとし、溶媒２ｂを毎秒０．００１ｇ〜毎秒０．０５ｇ（好ましくは、毎秒０．００５ｇ〜毎秒０．０５ｇ）で被処理基板５に対し噴霧する。なお、第２噴霧部１１ｂの噴霧量が毎秒０．００５ｇ未満であると共に、第２噴霧部１１ｂに供給される各ガスの圧力が０．１ＭＰａ未満である場合には、製造効率が低下してしまうおそれがある。また、第２噴霧部１１ｂの噴霧量が毎秒０．０５ｇを超えると共に、第２噴霧部１１ｂの窒素ガスの圧力が１．０ＭＰａを超える場合には、溶媒２ｂが処理室１０の内部に霧状に供給されにくくなるおそれがある。
【００４８】
＜分散液噴霧工程＞
第１噴霧部１１ａに、分散液３及び窒素ガスを供給すると共に、窒素ガスの圧力を０．１ＭＰａ〜１．０ＭＰａとし、分散液３を毎秒０．００１ｇ〜毎秒０．０５ｇ（好ましくは、毎秒０．００５ｇ〜毎秒０．０５ｇ）で被処理基板５に対し噴霧する。なお、第１噴霧部１１ａの噴霧量が毎秒０．００５ｇ未満であると共に、第１噴霧部１１ａに供給される各ガスの圧力が０．１ＭＰａ未満である場合には、製造効率が低下してしまうおそれがある。また、第１噴霧部１１ａの噴霧量が毎秒０．０５ｇを超えると共に、第１噴霧部１１ａの窒素ガスの圧力が１．０ＭＰａを超える場合には、分散液３が処理室１０の内部に霧状に供給されにくくなるおそれがある。
【００４９】
＜沈下排気工程＞
まず、処理室１０の内部に被処理基板５をそのまま静置して、噴霧された分散液３中のスペーサー１を被処理基板５上に沈下させる。
【００５０】
続いて、排気口１４を介して、処理室１０の内部を毎秒１．０ｍ３〜毎秒５．０ｍ３の排気流量で排気する。
【００５１】
その後、基板搬出入部１３を介して被処理基板５を処理室１０から搬出する。
【００５２】
以上のようにして、液晶表示パネル８を構成する第１基板（被処理基板）５上にスペーサー１を散布することができる。
【００５３】
次に、具体的に行った実験について説明する。
【００５４】
詳細には、本発明の実験例１〜４として、以下の表１に示す条件で、５０枚の被処理基板に対しスペーサーを連続して散布し、１ショット目（１枚目）、１０ショット目（１０枚目）、２０ショット目（２０枚目）、３０ショット（３０枚目）目及び５０ショット目（５０枚目）に散布された被処理基板について、凝集発生数、単粒子率及び散布数バラツキを測定した。
【００５５】
【表１】
2008026398.tif 000003
【００５６】
ここで、被処理基板は、縦４００ｍｍ×横５００ｍｍ×厚さ０．５ｍｍのガラス基板である。そして、スペーサーは、積水化学工業株式会社製のＫＢＳ−５０６２９−ＲＸ（平均粒径６．２９μｍ）のプラスチックビーズ（ＰＢ）である。なお、この実験例では、結果が分かりやすくなるように、比較的凝集しやすいＰＢを選択した。
【００５７】
また、処理室の内部の大きさは、例えば、縦１０００ｍｍ×横１０００ｍｍ×高さ１０００ｍｍであり、第１噴霧部及び第２噴霧部の各噴出口と被処理基板との距離は、７００ｍｍ程度である。
【００５８】
さらに、第１噴霧部及び第２噴霧部から噴霧差される溶媒は、イソプロビルアルコールと純水とを重量比で８：２で混合したものである。さらに、分散液中のスペーサーの含有量は、２．０重量％である。また、第１噴霧部及び第２噴霧部の各噴霧量は、毎秒０．０２ｇであり、そのときの窒素ガスの圧力は０．５ＭＰａである。なお、スペーサーの目標散布量は、直径１ｍｍの円形当たりの２５０個である。
【００５９】
上記凝集発生数は、ＰＢが２０個以上集まったものを凝集体と定義して、各被処理基板上の凝集体の個数を数えたものである。
【００６０】
上記単粒子率は、図４に示すように、被処理基板５上に直径１ｍｍの円形の測定ポイントＰ１〜Ｐ９を設定して、各測定ポイントＰ１〜Ｐ９の領域内の凝集が発生していないＰＢの割合の平均値である。例えば、図５に示す測定ポイントＰｎでは、以下の表２に示すように、単粒子のＰＢ１が６個、ＰＢ１が３個集まった凝集体が１個、ＰＢ１が４個集まった凝集体が１個、及びＰＢ１が７個集まった凝集体が１個存在するので、ＰＢ１の総数が２０（＝６＋３×１＋４×１＋７×１）個となる。そのため、図５の測定ポイントＰｎでは、単粒子率が６／２０の３０％となる。
【００６１】
【表２】
2008026398.tif 000004
【００６２】
上記散布数バラツキは、上記単粒子率と同様に、測定ポイントＰ１〜Ｐ９を設定して、各測定ポイントＰ１〜Ｐ９の領域内のＰＢの個数をそれぞれ数え、その最大値と最小値との差である。
【００６３】
以下の表３に、本実験例１〜４における測定結果を示す。
【００６４】
【表３】
2008026398.tif 000005
【００６５】
第１噴霧部によって分散液を噴霧する前に第２噴霧部によって溶媒を噴霧した実験例１では、凝集体発生数（平均１．６個）、単粒子率（平均９６．８％）及び散布数バラツキ（平均９６．２個）の結果とも良好であった。また、第２噴霧部による溶媒の噴霧を行わず、ヒーターの温度を順に高くしていった実験例２〜４では、ヒーターの温度が高くなるにつれて、凝集体発生数（平均８．２個→平均６．２個→平均２．６個）及び単粒子率（平均８４．５％→平均９１．３％→平均９９．５％）の結果が良好になったものの、散布数のバラツキ（８３．８個→９１．２個→１４３．４個）の結果が悪化した。
【００６６】
以上の測定結果から、第２噴霧部によって溶媒を噴霧した実験例１では、スペーサーの散布の均一性を確保しつつ、スペーサーの凝集を少なくできることが確認された。
【００６７】
以上説明したように、本実施形態のスペーサー散布装置２０（液晶表示パネルの製造装置）及びそれを用いた液晶表示パネルの製造方法によれば、分散液噴霧工程において処理室１０の内部を加温しながらスペーサー１及び溶媒２ａを含む分散液３を噴霧する第１噴霧部１１ａの他に、溶媒噴霧工程において処理室１０の内部を加温しながら溶媒２ｂを噴霧する第２噴霧部１１ｂを有しているので、第２噴霧部１１ｂによる溶媒２ｂの噴霧によって処理室１０の内部を降温及び加湿することができる。そして、処理室１０の内部を降温することができるので、処理室１０の内部を加温するヒーター１２が従来よりも高温に設定され、液晶表示パネル８を構成する第１基板（被処理基板）５に対し、処理室１０の内部において、より高温でのスぺーサー１の湿式散布を行うことができる。そのため、噴霧されたスペーサー１を含む分散液３の液滴から溶媒２ａが速やかに揮発するので、溶媒２ａに起因するスペーサー１の凝集を抑制することができると共に、湿式散布の長所であるスペーサー１の散布の均一性を確保することができる。また、処理室１０の内部を加湿することができるので、スペーサー１の帯電を抑制することができ、帯電に起因するスペーサー１の凝集を抑制することができる。これにより、溶媒及び帯電に起因するスペーサー１の凝集を抑制することができるので、スペーサー１の散布の均一性を確保しつつ、スペーサー１の凝集を可及的に少なくすることができる。
【００６８】
上記実施形態では、第２噴霧部１１ｂによって溶媒２ｂを噴霧した後に、第１噴霧部１１ａによってスペーサー１及び溶媒２ａを含む分散液３を噴霧する製造方法を例示したが、本発明は、スペーサー１及び溶媒２ａを含む分散液３と溶媒２ｂとを同時に噴霧してもよい。具体的には、第２噴霧部１１ｂによって溶媒２ｂを噴霧している後期に、第１噴霧部１１ａによって分散液３を同時に噴霧してもよい。これによれば、溶媒２ｂの噴霧量を調整することにより、処理室１０の内部におけるスペーサー１の濃度を調整することができる。その結果、第１噴霧部１１ａに供給する分散液３の濃度を変更することなく、処理室１０の内部に噴霧されるスペーサー１の濃度を調整することができる。
【００６９】
また、上記実施形態では、被処理基板５として、ＳＴＮモード、すなわち、パッシブマトリクス駆動型の液晶表示パネル８を構成する第１基板５又は第２基板６を例示したが、本発明は、アクティブマトリクス駆動型の液晶表示パネルを構成するアクティブマトリクス基板又は対向基板にも適用することができる。
【００７０】
さらに、上記実施形態では、第１噴霧部１１ａによってスペーサー１及び溶媒２ａを含む分散液３を噴霧し、第２噴霧部１１ｂによって溶媒２ｂを噴霧するスペーサー散布装置２０を例示したが、本発明は、１つの噴霧部に２種類の配管を接続するなどして、分散液３及び溶媒２ｂを単独の噴霧部を介して噴霧させてもよい。
【産業上の利用可能性】
【００７１】
以上説明したように、本発明は、スペーサーの散布の均一性を確保しつつ、スペーサーの凝集を可及的に少なくすることができ、セル厚を均一に制御できるので、セル厚が表示品位に大きく影響するＳＴＮモードの液晶表示パネルについて有用である。
【図面の簡単な説明】
【００７２】
【図１】本発明の一実施形態に係るスペーサー散布装置２０の斜視図である。
【図２】図１中のII−II線に沿ったスペーサー散布装置２０の断面図である。
【図３】被処理基板５を含む液晶表示パネル８の断面図である。
【図４】被処理基板５の測定ポイントＰ１〜Ｐ９を示す模式図である。
【図５】被処理基板５の測定ポイントＰｎにおけるスペーサー１の散布状態を示す模式図である。
【符号の説明】
【００７３】
１        スペーサー（ＰＢ）
２ａ，２ｂ    溶媒
３        分散液
５        第１基板（一方の基板、被処理基板）
６        第２基板
７        液晶層
８        液晶表示パネル
１０      処理室
１１ａ    第１噴霧部
１１ｂ    第２噴霧部
１２      ヒーター
１４      排気口
２０      スペーサー散布装置（液晶表示パネルの製造装置）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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