(57)【要約】【課題】マスク描画データのセキュリティ性を確保する。【解決手段】暗号化されたマスク描画データが受信装置２０の回線装置２１に送信され、マスク描画データが受信装置２０の管理サーバ２２に格納される。次いで、格納されたマスク描画データが復号化されながら受信装置２０のパターン形成用装置２３の演算メモリ２３ａに移動転送され、演算処理部に転送され、信号処理部に転送される。そして、演算メモリ２３ａに残存するマスク描画データは受信装置の管理サーバ２２に格納されている空のデータの上書により消去される。このような方法によれば、復号化されたマスク描画データが管理サーバ２２、演算メモリ２３ａに残ることはない。従って、そのセキュリティ性を確保することができる。【選択図】図１
2008021258.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
送信装置が暗号化されたマスク描画データを受信装置の回線装置に送信するステップと、
前記回線装置が前記マスク描画データを前記受信装置の管理サーバに格納するステップと、
前記管理サーバの復号化手段が前記マスク描画データの復号化を行いながら前記管理サーバの転送手段が復号化された前記マスク描画データをパターン形成用装置の演算メモリに移動転送を行うステップと、
前記管理サーバの前記転送手段が前記演算メモリに移動転送された前記マスク描画データを前記管理サーバに格納されている空のデータの上書により消去するステップと、
を有することを特徴とするマスク描画データ管理方法。
【請求項２】
前記パターン形成用装置がフォトマスク描画用のパターン形成用装置であることを特徴とする請求項１記載のマスク描画データ管理方法。
【請求項３】
前記パターン形成用装置がウエハ直接描画用のパターン形成用装置であることを特徴とする請求項１記載のマスク描画データ管理方法。
【請求項４】
送信装置が暗号化されたマスク検査データを受信装置の回線装置に送信するステップと、
前記回線装置が前記マスク検査データを前記受信装置の管理サーバに格納するステップと、
前記管理サーバの復号化手段が前記マスク検査データの復号化を行いながら前記管理サーバの転送手段が復号化された前記マスク検査データをパターン検査用装置の演算メモリに移動転送を行うステップと、
前記管理サーバの前記転送手段が前記演算メモリに移動転送された前記マスク検査データを前記管理サーバに格納されている空のデータの上書により消去するステップと、
を有することを特徴とするマスク検査データ管理方法。
【請求項５】
暗号化されたマスク描画データを受信装置の回線装置に送信する送信装置と、
前記マスク描画データを前記回線装置で受信し、前記マスク描画データを前記受信装置の管理サーバに格納し、前記管理サーバの復号化手段が前記マスク描画データの復号化を行いながら前記管理サーバの転送手段が復号化された前記マスク描画データをパターン形成用装置の演算メモリに移動転送し、前記演算メモリに保存された前記マスク描画データを前記管理サーバの前記転送手段が前記管理サーバに格納されている空のデータの上書により消去する受信装置と、
を有することを特徴とするマスク描画データ管理システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はマスク描画データ管理方法、マスク検査データ管理方法及びマスク描画データ管理システムに関し、特にマスクデータのセキュリティ性を確保するマスク描画データ管理方法、マスク検査データ管理方法及びマスク描画データ管理システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造装置用のフォトマスクを製造する場合、フォトマスクの設計者は直接フォトマスクを製造せず、フォトマスクの製造業者に委託をし、フォトマスクの製造を行なうのが一般である。
【０００３】
委託を行う過程で、設計者が開発したマスク描画データの情報流出を防止することは重要である。特に、近年の半導体素子、磁気デバイス素子等の構造は複雑であり、マスク描画データの一部の流出でもフォトマスクの設計者の損失が大きくなる場合がある。
【０００４】
このような情報流出を防止するために、マスク描画データの提供者側とフォトマスクの製造業者側の間で専用回線を使用し、提供者側から製造業者に暗号化データを送信するシステムが提供されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
図７は暗号化データ送信方法のシステムを説明するブロック図である。
この図に示すように、マスク描画データの提供者、即ち送信者側と、マスク描画データの製造業者、即ち受信者側との間には専用回線が設けられている。
【０００６】
送信者側は、管理サーバ１００と処理サーバ１１０を保有し、管理サーバ１００にマスク描画データを格納している。マスク描画データは受信者側に送信する前に、回線装置１２０を用いて暗号化される。
【０００７】
受信者側は、暗号化されたマスク描画データを送信者側から受信する前に、そのマスク描画データは回線装置２００を用いて復号化する。そして、復号化されたマスク描画データは受信者側の管理サーバ２１０に格納される。管理サーバ２１０に格納されたマスク描画データは、フォトマスク描画装置２２０にコピーされながら送信され、フォトマスク描画装置２２０の演算処理部で、近接効果補正等の演算処理が行われ、信号化処理部で描画を行うためにアナログ変換等の信号化処理が行われる。そして、信号化処理されたマスク描画データを基に、フォトマスクの描画が行われる。
【特許文献１】特開２００２−３５１９３１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、図７に示すシステムでは、復号化されたマスク描画データが受信者側の管理サーバ２１０に格納されている。従って、そのデータは製造業者、即ち受信者側の管理下にある。その結果、送信者側のコントロールによりマスク描画データのセキュリティ性が確保できないという問題がある。
【０００９】
また、近年のマスク描画データ、マスク検査データは、パターンの微細化、光近接効果補正の必要性により大容量となっている。このため受信者側におけるマスクデータの復号化処理に多大な時間が消費され、パターン形成を行うための製造コストが高くなるという問題がある。
【００１０】
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、セキュリティ性が確保されたマスク描画データ管理方法、マスク検査データ管理方法及びマスク描画データ管理システムを提供すること及びパターン形成、検査を行うためのコストを低減させることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明では上記課題を解決するために、送信装置が暗号化されたマスク描画データを受信装置の回線装置に送信するステップと、前記回線装置が前記マスク描画データを前記受信装置の管理サーバに格納するステップと、前記管理サーバの復号化手段が前記マスク描画データの復号化を行いながら前記管理サーバの転送手段が復号化された前記マスク描画データをパターン形成用装置の演算メモリに移動転送を行うステップと、前記管理サーバの前記転送手段が前記演算メモリに移動転送された前記マスク描画データを前記管理サーバに格納されている空のデータの上書により消去するステップと、を有することを特徴とするマスク描画データ管理方法が提供される。
【００１２】
このようなマスク描画データ管理方法によれば、暗号化されたマスク描画データが受信装置の回線装置に送信され、受信装置の管理サーバに格納される。格納されたマスク描画データは復号化されながらパターン形成用装置の演算メモリに移動転送される。そして、演算メモリに保存されたマスク描画データは受信装置の管理サーバに格納されている空のデータの上書により消去される。
【００１３】
また、本発明では、送信装置が暗号化されたマスク検査データを受信装置の回線装置に送信するステップと、前記回線装置が前記マスク検査データを前記受信装置の管理サーバに格納するステップと、前記管理サーバの復号化手段が前記マスク検査データの復号化を行いながら前記管理サーバの転送手段が復号化された前記マスク検査データをパターン検査用装置の演算メモリに移動転送を行うステップと、前記管理サーバの前記転送手段が前記演算メモリに移動転送された前記マスク検査データを前記管理サーバに格納されている空のデータの上書により消去するステップと、を有することを特徴とするマスク検査データ管理方法が提供される。
【００１４】
このようなマスク検査データ管理方法によれば、暗号化されたマスク検査データが受信装置の回線装置に送信され、受信装置の管理サーバに格納される。格納されたマスク検査データは復号化されながらパターン検査用装置の演算メモリに移動転送される。そして、演算メモリに保存されたマスク検査データは受信装置の管理サーバに格納されている空のデータの上書により消去される。
【００１５】
また、本発明では、暗号化されたマスク描画データを受信装置の回線装置に送信する送信装置と、前記マスク描画データを前記回線装置で受信し、前記マスク描画データを前記受信装置の管理サーバに格納し、前記管理サーバの復号化手段が前記マスク描画データの複合化を行いながら前記管理サーバの転送手段が復号化された前記マスク描画データをパターン形成用装置の演算メモリに移動転送し、前記演算メモリに保存された前記マスク描画データを前記管理サーバの前記転送手段が前記管理サーバに格納されている空のデータの上書により消去する受信装置と、を有することを特徴とするマスク描画データ管理システムが提供される。
【００１６】
このようなマスク描画データ管理システムによれば、暗号化されたマスク描画データが送信装置によって、受信装置の回線装置に送信され、マスク描画データが回線装置で受信される。そして、マスク描画データが受信装置の管理サーバに格納され、マスク描画データが復号化されながらパターン形成用装置の演算メモリに移動転送される。そして、演算メモリに保存されたマスク描画データは管理サーバに格納されている空のデータの上書により消去される。
【発明の効果】
【００１７】
本発明では、マスク描画データ管理方法について、暗号化されたマスク描画データを受信装置の回線装置に送信し、受信装置の管理サーバに格納させた。格納されたマスク描画データを復号化しながらパターン形成用装置の演算メモリに移動転送した。そして、演算メモリに保存されたマスク描画データを受信装置の管理サーバに格納されている空のデータの上書により消去するようにした。
【００１８】
また、本発明では、マスク検査データ管理方法について、暗号化されたマスク検査データを受信装置の回線装置に送信し、受信装置の管理サーバに格納させた。格納されたマスク検査データを復号化しながらパターン検査用装置の演算メモリに移動転送した。そして、演算メモリに保存されたマスク検査データを受信装置の管理サーバに格納されている空のデータの上書により消去するようにした。
【００１９】
また、本発明では、マスク描画データ管理システムについて、暗号化されたマスク描画データを送信装置によって、受信装置の回線装置に送信し、マスク描画データを回線装置で受信した。そして、マスク描画データを受信装置の管理サーバに格納し、マスク描画データを復号化しながらパターン形成用装置の演算メモリに移動転送した。そして、演算メモリに保存されたマスク描画データを管理サーバに格納されている空のデータの上書により消去するようにした。
【００２０】
このようなマスク描画データ管理方法、マスク検査データ管理方法及びマスク描画データ管理システムによれば、復号化されたマスク描画データ、マスク検査データが受信装置の管理サーバ及び演算メモリに残ることはなく、マスク描画データ、マスク検査データの提供者、即ち送信者側のコントロールによってマスク描画データ、マスク検査データのセキュリティ性を確保することができる。さらに受信装置の回線装置によるマスク描画データ、マスク検査データの復号化処理を省くことができ、パターン形成、検査を行うためのコストが低減される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明の実施の形態を、図面を参照して詳細に説明する。
図１はマスク描画データ管理方法の原理を説明するブロック図である。
この図は、マスク描画データの提供者からマスクの製造業者に、マスク描画データを送信するための基本原理を示している。マスク描画データの提供者は送信装置１０を保有し、マスク描画データの製造業者は受信装置２０を保有する。そして、送信装置１０と受信装置２０との間には、マスク描画データを送信するための専用回線が設けられている。これにより、送信装置１０から受信装置２０にマスク描画データの送信を行うことができる。
【００２２】
送信装置１０は、マスク描画データの管理サーバ１１、処理サーバ１２、及び回線装置１３を有し、各々は信号経路によって接続されている。管理サーバ１１にはマスクパターン形成用のマスク描画データが格納されている。このマスク描画データについては受信装置２０に送信する前に、回線装置１３によって暗号化が行われる。
【００２３】
受信装置２０は、回線装置２１、管理サーバ２２、及びパターン形成用装置２３を有し、各々が信号経路によって接続されている。そして、暗号化されたマスク描画データを回線装置１３から専用回線を介して回線装置２１で受信する。この回線装置２１では、暗号化されたマスク描画データを復号化することなく、暗号化されたままのマスク描画データを受信する。そして、回線装置２１は、暗号化されたマスク描画データを受信装置２０の管理サーバ２２に転送し、管理サーバ２２に格納する。即ち、受信装置２０の管理サーバ２２に格納されたマスク描画データは暗号化されているので、マスク描画データの提供者によるセキュリティ性が確保されている。
【００２４】
次に、管理サーバ２２に格納されたマスク描画データがパターン形成用装置２３の演算メモリ２３ａに転送される動作原理を次に示すフロー図と共に説明する。
図２はマスク描画データが転送される動作原理を説明するフロー図である。
【００２５】
先ず、格納されているマスク描画データの一部が管理サーバ２２の復号化手段によって復号化され、復号化されたマスク描画データは、復号化されながら転送手段によって演算メモリ２３ａに移動転送される（ステップＳ１）。ここで移動転送とは、マスク描画データが格納されている場所から復号化したマスク描画データの一部を別の場所に転送した後に、元の場所にその復号化したマスク描画データの一部が残らないように別の場所にそのマスク描画データの一部を転送させる転送方法である。即ち、管理サーバ２２で復号化された一部のマスク描画データは、逐次演算メモリ２３ａに移動転送され、移動後には復号化されたその一部のマスク描画データが管理サーバ２２に残らないように演算メモリ２３ａに転送される。
【００２６】
次いで、図示はしないが演算メモリ２３ａに転送されたマスク描画データはパターン形成用装置２３の演算処理部に転送される（ステップＳ２）。そして、パターン形成用装置２３の信号処理部に転送される（ステップＳ３）。
【００２７】
続いて、管理サーバ２２に格納されている次のマスク描画データの一部が復号化され、上記ステップＳ１からステップＳ３までの繰り返しによりマスク描画データがパターン形成用装置２３の演算メモリ２３ａ、演算処理部、信号処理部に転送される。
【００２８】
ところで転送が完了した後、演算メモリ２３ａには、管理サーバ２２から最後に転送されたマスク描画データの一部のデータが残っている。これについては、空のデータを管理サーバ２２に格納しておき、管理サーバ２２の転送手段によって空のデータを管理サーバ２２から演算メモリに転送して、上書することにより消去する（ステップＳ４）。
【００２９】
そして、マスク描画データの全データの信号処理が行われ、パターン形成が行われる（ステップＳ５）。
尚、空のデータは、そのままパターン形成用装置２３の演算処理部、信号処理部に送信され、パターン形成用装置２３のハード部によって処理されるが、このデータ自体は空のデータであるため、実際にはこのデータによってパターン形成が行われることはない。
【００３０】
また、ここで説明するパターン形成用装置２３とは、例えばフォトマスク描画用装置またはウエハ直接描画用装置である。
また、図１に示すブロック図では、パターン形成用装置２３に代えて、フォトマスク検査用装置を用いることができる。フォトマスク検査用装置を用いる場合には、マスク描画データに代えて、マスク検査データを用いることができる。尚、マスク検査データ管理方法の原理は、上記原理、動作原理と同内容なのでその説明は省略する。
【００３１】
次に、マスク描画データが管理サーバからパターン形成用装置の演算メモリへ転送する動作を具体的に説明する。図３〜図５はマスク描画データを管理サーバからパターン形成用装置の演算メモリへ転送する動作の具体例を説明するブロック図である。
【００３２】
図３はマスク描画データが転送される具体例を説明するブロック図である。
演算メモリ２３ａの容量は、所定の容量に限られているため、一度に大容量のマスク描画データを保存できない。このため管理サーバ２２に格納されているマスク描画データ３０を一例としてＡ〜Ｆまでのブロックに分割し、マスク描画データ３０が管理サーバ２２からパターン形成用装置の演算メモリ２３ａへブロック毎に移動転送される例を用いて、転送される動作を説明する。尚、マスク描画データ３０中のＧブロックのデータはマスク描画データではなく、空のデータである。
【００３３】
先ず、管理サーバ２２に格納されたマスク描画データ３０中、暗号化されているＡブロックのデータ３０ａを管理サーバ２２の復号化手段によって復号化し、復号しながら演算メモリ２３ａに転送手段によって移動転送される。即ち、復号化されたＡブロックのデータ３１ａは、管理サーバ２２内で復号化されながら演算メモリ２３ａへＡブロックのデータ３２ａとして移動転送される（ステップＳ１）。上述したように移動転送とは、マスク描画データが格納されている場所から復号化されたマスク描画データの一部を別の場所に転送した後に、その格納されていた場所にそのマスク描画データの一部が残らないように、そのマスク描画データの一部を別の場所に転送させる転送方法である。即ち、管理サーバ２２において、暗号化されているＡブロックのデータ３０ａが復号化された後、復号化されたＡブロックのデータ３１ａが管理サーバ２２に残ることはない。
【００３４】
そして、図示はしないが、復号化されたＡブロックのデータについては、演算メモリ２３ａに移動転送が完了した後、演算処理部２３ｂに転送され（ステップＳ２）、信号処理部２３ｃに転送される（ステップＳ３）。
【００３５】
図４はマスク描画データが転送される具体例を説明するブロック図である。
Ａブロックのデータの転送が完了すると、次のデータ単位、例えば暗号化されているＢブロックのデータ３０ｂを管理サーバ２２で復号化手段によって復号化を行い、図３で図示した手順と同様の方法によって、復号化されたＢブロックのデータ３１ｂが管理サーバ２２に残らないように演算メモリ２３ａにＢブロックのデータ３２ｂを転送手段によって移動転送させる。この際、演算メモリ２３ａに保存されていた先のＡブロックのデータ３２ａの上に、Ｂブロックのデータ３２ｂが上書されるので、復号化されたＡブロックのデータが演算メモリ２３ａに残ることはない。
【００３６】
続いて、図示はしないが、復号化されたＢブロックのデータ３２ｂの演算処理が行われ、信号処理部２３ｃに転送される。そして、次のＣブロックからＦブロックまでのデータも繰り返し上記手順と同様の方法により復号化、移動転送、演算処理及び信号処理が行われる。
【００３７】
尚、上述したように演算メモリ２３ａに転送され、演算メモリ２３ａに保存されたデータについては、繰り返し行われる次のデータの転送によって上書され、消去される。しかし、演算メモリ２３ａに転送した最後のブロックについては、他のマスク描画データのブロックによって上書されることがなく、演算メモリ２３ａ内に残る。例えば、Ｆブロックのデータについては、演算メモリ２３ａに保存されたままになる。
【００３８】
このＦブロックのデータを演算メモリ２３ａにおいて消去するには、次の手順による。
図５は空のデータを転送させる具体例を説明するブロック図である。
管理サーバ２２に格納したデータのブロックとして、パターンが存在しない空のデータを格納させておく。例えば、Ｇブロックのデータ３０ｇは、復号化後においてパターンが存在しない空のデータとなる。
【００３９】
このＧブロックのデータ３０ｇのデータを管理サーバ２２の復号化手段によって復号化し、演算メモリ２３ａに転送手段によって転送し、演算メモリ２３ａに保存されているＦブロックのデータに上書させることで、復号化されたＦブロックのデータを演算メモリ２３ａ内から消去させる（ステップＳ４）。
【００４０】
このような手順により、ＡブロックからＦブロックまでの全マスク描画データがパターン形成用装置のハード部に転送され、パターン形成が行われる（ステップＳ５）。
尚、Ｇブロックのデータ３２ｇはそのまま演算処理部、信号処理部に送信され、ハード部によって処理されるが、このデータ自体は空のデータであるため、このデータによってパターン形成が行われることはない。
【００４１】
そして図示はしないが、管理サーバ２２に格納された全てのマスク描画データ３０は、復号化されながらパターン形成用装置２３の演算メモリ２３ａに移動転送され、近接効果補正等の演算処理が行われ、信号処理部２３ｃでパターン形成を行うためにアナログ変換等の信号化処理が行われる。そして、信号化処理されたマスク描画データによりパターン形成用装置２３のハード部２３ｄによりパターン形成が行われる。
【００４２】
その結果、パターン形成完了時には復号化されたマスク描画データは受信装置２０の管理サーバ２２、演算メモリ２３ａに存在せず、送信装置１０を保有するマスク描画データの送信者によるマスク描画データのセキュリティ性が確保される。
【００４３】
さらに、復号化をしながらパターン形成を行うので、マスク描画データの回線装置２１による復号化処理がなくなり、受信装置２０を用いたフォトマスク製造が低コストになる。
【００４４】
最後に、上記のマスク描画データ管理方法を行うシステムについて説明する。以下の説明では図１に示す同一の要素については、同一の符号を付し、その詳細の説明については省略する。
【００４５】
図６はマスク描画データの管理を行うシステム図である。
この図は、送信装置１０と受信装置２０との間でマスク描画データを送信するためのシステムを表しており、送信装置１０と受信装置２０との間には、マスク描画データを送信するための専用回線が設けられている。
【００４６】
送信装置１０は、マスク描画データの管理サーバ１１、処理サーバ１２、及び回線装置１３を有し、管理サーバ１１にフォトマスク描画用のマスク描画データを格納している。マスク描画データは受信装置２０に送信する前に、処理サーバ１２によって回線装置１３で暗号化される。
【００４７】
受信装置２０は回線装置２１、管理サーバ２２、及びパターン形成用装置２３を有し、パターン形成用装置２３は、演算メモリ２３ａ、演算処理部２３ｂ、及び信号処理部２３ｃを有し、さらに実際にパターン形成を行うハード部２３ｄが具備されている。
【００４８】
受信装置２０は、暗号化されたマスク描画データを送信装置１０から専用回線を介して回線装置２１で受信する。この回線装置２１では、暗号化されたマスク描画データを復号化することなく、暗号化されたままのマスク描画データが受信される。そして、暗号化されたマスク描画データは、受信装置２０の管理サーバ２２に格納される。
【００４９】
管理サーバ２２に格納されたマスク描画データは、管理サーバ２２の復号化手段によって復号化され、復号化されたマスク描画データは、復号化されながら転送手段によって演算メモリ２３ａに移動転送され、演算処理部２３ｂで演算処理が行われる。そして、演算処理が行われたマスク描画データは、信号処理部２３ｃで信号処理が行われ、パターン形成用装置２３のハード部２３ｄによって、マスク描画データによるパターン形成が完了する。
【００５０】
尚、ここで説明するパターン形成用装置２３とは、例えばフォトマスク描画用装置またはウエハ直接描画用装置である。
また、パターン形成用装置２３に代えて、フォトマスク検査用装置を用いることができる。フォトマスク検査用装置を用いる場合には、マスク描画データに代えて、マスク検査データを用いることができる。尚、フォトマスク検査用装置を用いた場合のマスク検査データ管理方法、マスク検査データを管理サーバからパターン検査用装置の演算メモリへ転送する動作、そのシステムの具体的な説明は、上記具体的な説明と同内容なので省略する。
【００５１】
以上の方法及びシステムによれば、復号化されたマスクデータ、例えばマスク描画データ、マスク検査データが管理サーバ２２、演算メモリ２３ａに残ることはない。また、管理サーバ２２に格納されているマスク描画データ、マスク検査データは暗号化されている。従って、送信装置１０を保有するマスク描画データ、マスク検査データの送信者によって、マスク描画データ、マスク検査データのセキュリティ性が確保される。
【００５２】
さらに、復号化しながらパターン形成、検査が行われるので受信装置２０によるマスク描画データ、マスク検査データの回線装置による復号化処理がなくなり、受信装置２０を用いたフォトマスク製造、検査が低コストになる。
【００５３】
（付記１）  送信装置が暗号化されたマスク描画データを受信装置の回線装置に送信するステップと、
前記回線装置が前記マスク描画データを前記受信装置の管理サーバに格納するステップと、
前記管理サーバの復号化手段が前記マスク描画データの復号化を行いながら前記管理サーバの転送手段が復号化された前記マスク描画データをパターン形成用装置の演算メモリに移動転送を行うステップと、
前記管理サーバの前記転送手段が前記演算メモリに移動転送された前記マスク描画データを前記管理サーバに格納されている空のデータの上書により消去するステップと、
を有することを特徴とするマスク描画データ管理方法。
【００５４】
（付記２）  前記管理サーバの復号化手段が前記マスク描画データを複数以上のブロックに分割し、前記マスク描画データを前記ブロック毎に復号化を行いながら前記管理サーバの転送手段が前記ブロック毎に前記パターン形成用装置の演算メモリに移動転送を行うステップと、
前記管理サーバの前記転送手段が前記演算メモリに最後に移動転送された前記マスク描画データのブロックデータを前記管理サーバに格納されている空のデータの上書により消去するステップと、
を有することを特徴とする付記１記載のマスク描画データ管理方法。
【００５５】
（付記３）  前記パターン形成用装置がフォトマスク描画用のパターン形成用装置であることを特徴とする付記１記載のマスク描画データ管理方法。
（付記４）  前記パターン形成用装置がウエハ直接描描画用のパターン形成用装置であることを特徴とする付記１記載のマスク描画データ管理方法。
【００５６】
（付記５）  送信装置が暗号化されたマスク検査データを受信装置の回線装置に送信するステップと、
前記回線装置が前記マスク検査データを前記受信装置の管理サーバに格納するステップと、
前記管理サーバの復号化手段が前記マスク検査データの復号化を行いながら前記管理サーバの転送手段が復号化された前記マスク検査データをパターン検査用装置の演算メモリに移動転送を行うステップと、
前記管理サーバの前記転送手段が前記演算メモリに移動転送された前記マスク検査データを前記管理サーバに格納されている空のデータの上書により消去するステップと、
を有することを特徴とするマスク検査データ管理方法。
【００５７】
（付記６）  前記管理サーバの復号化手段が前記マスク検査データを複数以上のブロックに分割し、前記マスク検査データを前記ブロック毎に復号化を行いながら前記管理サーバの転送手段が前記ブロック毎に前記パターン検査用装置の演算メモリに移動転送を行うステップと、
前記管理サーバの前記転送手段が前記演算メモリに最後に移動転送された前記マスク検査データのブロックデータを前記管理サーバに格納されている空のデータの上書により消去するステップと、
を有することを特徴とする付記５記載のマスク検査データ管理方法。
【００５８】
（付記７）  暗号化されたマスク描画データを受信装置の回線装置に送信する送信装置と、
前記マスク描画データを前記回線装置で受信し、前記マスク描画データを前記受信装置の管理サーバに格納し、前記管理サーバの復号化手段が前記マスク描画データの復号化を行いながら前記管理サーバの転送手段が復号化された前記マスク描画データをパターン形成用装置の演算メモリに移動転送し、前記演算メモリに保存された前記マスク描画データを前記管理サーバの前記転送手段が前記管理サーバに格納されている空のデータの上書により消去する受信装置と、
を有することを特徴とするマスク描画データ管理システム。
【００５９】
（付記８）  前記マスク描画データを複数以上のブロックに分割し、前記管理サーバの復号化手段が前記マスク描画データを前記ブロック毎に復号化を行いながら、前記管理サーバの転送手段が前記パターン形成用装置の演算メモリに移動転送し、前記管理サーバの前記転送手段が前記演算メモリに最後に移動転送された前記マスク描画データのブロックデータを前記管理サーバに格納されている空のデータの上書により消去する受信装置を有することを特徴とする付記７記載のマスク描画データ管理システム。
【００６０】
（付記９）  前記パターン形成用装置がフォトマスク描画用のパターン形成用装置であることを特徴とする付記７記載のマスク描画データ管理システム。
（付記１０）  前記パターン形成用装置がウエハ直接描画用のパターン形成用装置であることを特徴とする付記７記載のマスク描画データ管理システム。
【００６１】
（付記１１）  暗号化されたマスク検査データを受信装置の回線装置に送信する送信装置と、
前記マスク検査データを前記回線装置で受信し、前記マスク検査データを前記受信装置の管理サーバに格納し、前記管理サーバの復号化手段が前記マスク検査データの復号化を行いながら前記管理サーバの転送手段が復号化された前記マスク検査データをパターン検査用装置の演算メモリに移動転送し、前記演算メモリに保存された前記マスク検査データを前記管理サーバの前記転送手段が前記管理サーバに格納されている空のデータの上書により消去する受信装置と、
を有することを特徴とするマスク検査データ管理システム。
【００６２】
（付記１２）  前記マスク検査データを複数以上のブロックに分割し、前記管理サーバの復号化手段が前記マスク検査データを前記ブロック毎に復号化を行いながら、前記管理サーバの転送手段が前記パターン検査用装置の演算メモリに移動転送し、前記管理サーバの前記転送手段が前記演算メモリに最後に移動転送された前記マスク検査データのブロックデータを前記管理サーバに格納されている空のデータの上書により消去する受信装置を有することを特徴とする付記１１記載のマスク検査データ管理システム。
【図面の簡単な説明】
【００６３】
【図１】マスク描画データ管理方法の原理を説明するブロック図である。
【図２】マスク描画データが転送される動作原理を説明するフロー図である。
【図３】マスク描画データが転送される具体例を説明するブロック図である（その１）。
【図４】マスク描画データが転送される具体例を説明するブロック図である（その２）。
【図５】空のデータを転送させる具体例を説明するブロック図である。
【図６】マスク描画データの管理を行うシステム図である。
【図７】暗号化データ送信方法のシステムを説明するブロック図である。
【符号の説明】
【００６４】
１０  送信装置
２０  受信装置
１１、２２、１００、２１０  管理サーバ
１２、１１０  処理サーバ
１３、２１、１２０、２００  回線装置
２３  パターン形成用装置
２３ａ  演算メモリ
２３ｂ  演算処理部
２３ｃ  信号処理部
２３ｄ  ハード部
３０  マスク描画データ
３０ａ、３０ｂ、３０ｇ、３１ａ、３１ｂ、３２ａ、３２ｂ、３２ｇ  データ
２２０  フォトマスク描画装置
【図１】
2008021258.tif 000003
【図２】
2008021258.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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