(57)【要約】【課題】着色画素の膜厚を優先した際に、乗り上げる部分（延長パターン）の膜厚の調整を可能とし、積層フォトスペーサーを所望の高さにする積層フォトスペーサー付きカラーフィルタの製造方法を提供する。【解決手段】積層フォトスペーサー付きカラーフィルタの製造方法にて、１）フォトレジストの塗布終了から減圧乾燥開始までの間でガラス基板４０を待機させ、パターン４１上のフォトレジストの乗り上げ部分の膜厚ｂをフォトレジストの粘性流動により低減させる際に、２）待機させる時間を調節して乗り上げ部分の膜厚の低減量を調整し、所望の高さの積層フォトスペーサーを設ける。待機においてガラス基板を温度制御して膜厚の低減量の精度を向上させる。【選択図】図５
2008292627.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板上に少なくとも着色画素及び該着色画素の形成と同時に形成される着色画素の延長パターン又は上部パターンが順次に形成され、該延長パターン又は上部パターンで構成される積層フォトスペーサーが設けられた積層フォトスペーサー付きカラーフィルタの製造方法において、
１）前記着色画素の形成に用いるフォトレジストの塗布終了から減圧乾燥開始までの間でガラス基板を待機させ、予めガラス基板上に設けられたパターン上の該フォトレジストの乗り上げ部分の膜厚を、該フォトレジストの粘性流動により低減させる際に、
２）上記待機させる時間を調節することにより、乗り上げ部分の膜厚の低減量を調整し、所望する高さの積層フォトスペーサーを設けることを特徴とする積層フォトスペーサー付きカラーフィルタの製造方法。
【請求項２】
前記待機において、ガラス基板を温度制御することにより、乗り上げ部分の膜厚の低減量の精度を向上させることを特徴とする請求項１記載の積層フォトスペーサー付きカラーフィルタの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、積層フォトスペーサー付きカラーフィルタの製造に関するものであり、特に、着色画素の膜厚を優先した際に、着色画素の膜厚に影響を与えることなく、乗り上げる部分の膜厚の調整を可能なものとし、積層フォトスペーサーの高さを所望する高さに調整することができる積層フォトスペーサー付きカラーフィルタの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
図８は、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの一例を模式的に示した平面図である。また、図９は、図８に示すカラーフィルタのＸ−Ｘ’線における断面図である。
図８、及び図９に示すように、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタは、ガラス基板（４０）上にブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）、及び透明導電膜（４３）が順次に形成されたものである。
図８、及び図９はカラーフィルタを模式的に示したもので、着色画素（４２）は１２個表されているが、実際のカラーフィルタにおいては、例えば、対角１７インチの画面に数百μｍ程度の着色画素が多数個配列されている。
【０００３】
液晶表示装置の多くに用いられている、上記構造のカラーフィルタの製造方法としては、先ず、ガラス基板上にブラックマトリックスを形成し、次に、このブラックマトリックスのパターンに位置合わせして着色画素を形成し、更に透明導電膜を位置合わせして形成するといった方法が広く用いられている。
ブラックマトリックス（４１）は、遮光性を有するマトリックス状のものであり、着色画素（４２）は、例えば、赤色、緑色、青色のフィルタ機能を有するものであり、透明導電膜（４３）は、透明な電極として設けられたものである。
【０００４】
ブラックマトリックス（４１）は、着色画素（４２）間のマトリックス部（４１Ａ）と、着色画素（４２）が形成された領域（表示部）の周辺部を囲む額縁部（４１Ｂ）とで構成されている。ブラックマトリックスは、カラーフィルタの着色画素の位置を定め、大きさを均一なものとし、また、表示装置に用いられた際に、好ましくない光を遮蔽し、表示装置の画像をムラのない均一な、且つコントラストを向上させた画像にする機能を有している。
【０００５】
ガラス基板上へのブラックマトリックスの形成は、例えば、ガラス基板（４０）上に金属薄膜を形成し、この金属薄膜をフォトエッチングすることによって形成するといった方法がとられている。
或いは、ガラス基板（４０）上に、ブラックマトリックス形成用の黒色フォトレジストを用いてフォトリソグラフィ法によってブラックマトリックス（４１）を形成するといった方法がとられている。
【０００６】
また、着色画素（４２）の形成は、このブラックマトリックスが形成されたガラス基板上に、例えば、顔料などの色素を分散させたネガ型の着色フォトレジストを用いて塗布膜を設け、この塗布膜への露光、現像によって着色画素を形成するといった方法がとられている。また、透明導電膜（４３）の形成は、ブラックマトリックス、着色画素が形成されたガラス基板上に、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）を用いスパッタ法によって透明導電膜を形成するといった方法がとられている。
【０００７】
図８、及び図９に示すカラーフィルタは、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタとして基本的な機能を備えたものである。液晶表示装置は、このようなカラーフィルタを内
蔵することにより、フルカラー表示が実現し、その応用範囲が飛躍的に広がり、液晶カラーＴＶ、ノート型ＰＣなど液晶表示装置を用いた多くの商品が創出された。
【０００８】
多様な液晶表示装置の開発、実用に伴い、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタには、上記基本的な機能に付随して、例えば、１）保護層（オーバーコート層）、２）半透過型液晶表示装置に用いるカラーフィルタにおける透明部、３）透過表示の領域と反射表示の領域を通過する光の位相をそろえるための光路差調整層、４）カラーフィルタの反射表示の領域への光散乱層、５）スペーサー機能を有するフォトスペーサー（突起部）、６）液晶の配向制御を行う配向制御突起、などの種々な機能が付加されるようになった。
【０００９】
例えば、スペーサー機能に於いては、従来、基板間にギャップを形成するために、スペーサーと呼ばれるガラス又は合成樹脂の透明球状体粒子（ビーズ）を散布している。
このスペーサーは透明な粒子であることから、画素内に液晶と一諸にスペーサーが入っていると、黒色表示時にスペーサーを介して光がもれてしまい、また、液晶材料が封入されている基板間にスペーサーが存在することによって、スペーサー近傍の液晶分子の配列が乱され、この部分で光もれを生じ、コントラストが低下し表示品質に悪影響を及ぼす、などの問題を有していた。
【００１０】
このような問題を解決する技術として、感光性樹脂を用い、フォトリソグラフィ法により、例えば、画素間のブラックマトリックスの位置にスペーサー機能を有するフォトスペーサー（突起部）を形成する方法が開発された。
図７は、このような液晶表示装置用カラーフィルタの部分断面図である。図７に示すように、液晶表示装置用カラーフィルタ（７）は、ガラス基板（４０）上にブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）、及び透明導電膜（４３）が順次に形成され、ブラックマトリックス（４１）上方の透明導電膜（４３）上にスペーサー機能を有する突起部としてのフォトスペーサー（４４）が形成されている。このような液晶表示装置用カラーフィルタ（７）を用いた液晶表示装置には、フォトスペーサー（４４）が画素内を避けた位置に形成されているので、上記コントラストの改善がみられる。
【００１１】
この液晶表示装置用カラーフィルタ（７）を製造する際には、図８に示すカラーフィルタを作製した後に、図７に示すフォトスペーサー（４４）を形成する。すなわち、フォトスペーサーを形成する１工程が追加され所望する仕様のカラーフィルタを製造することになる。
【００１２】
これに対し、図１は、基本となるカラーフィルタにフォトスペーサーを設けたカラーフィルタの一例の部分断面図であるが、このフォトスペーサーは積層構造となっている。フォトスペーサーを構成する複数の中間層、及び上部パターンを着色画素の形成と同時に形成することによって、フォトスペーサーを形成するための上記追加する１工程を低減させ、フォトスペーサーを設けたカラーフィルタを廉価に製造することができる。
【００１３】
図１に示すように、このカラーフィルタは、ガラス基板（４０）上にブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）、積層フォトスペーサー（Ｐｓ）が形成されたものである。
この一例として示す積層フォトスペーサー（Ｐｓ）は、ブラックマトリックス（４１）上の第一色目の赤色着色画素（４２Ｒ）の延長パターン（Ｐ１）と、第二色目の緑色着色画素（４２Ｇ）の延長パターン（Ｐ２）と、第三色目の青色着色画素（図示せず）の上部パターン（Ｐ３）を積層した構成である。積層フォトスペーサー（Ｐｓ）の高さは、第一色目の赤色着色画素（４２Ｒ）の上面から積層フォトスペーサーの上部パターン（Ｐ３）の上面までの高さ（Ｈ）である。
【００１４】
第一色目の赤色着色画素（４２Ｒ）の延長パターン（Ｐ１）は、第一色目の赤色着色画素（４２Ｒ）を延長したものである。第二色目の緑色着色画素（４２Ｇ）の延長パターン（Ｐ２）は、第二色目の緑色着色画素（４２Ｇ）を延長したものである。また、積層フォトスペーサーの上部パターン（Ｐ３）は、第三色目の青色着色画素（図示せず）の形成と同時に形成されたものである。従って、フォトスペーサーを形成するための前記追加工程は不要なものとなる。尚、図１において、着色画素（４２）上に設けられる透明導電膜は省略してある。
【００１５】
上記、基本となるカラーフィルタ上に付随する層を形成する際には、パターンとして形成されない保護層（オーバーコート層）を除き、いずれの層も前記ブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）と同様に、フォトレジストを用いてのフォトリソグラフィ法によってパターンに形成される。
【００１６】
上記ブラックマトリックス、着色画素、及び付随する各層をフォトリソグラフィ法によりパターンとして形成する際には、例えば、先ずガラス基板に対して必要に応じた洗浄処理を施し、続いて塗布装置によるフォトレジストの塗布、減圧乾燥装置による予備乾燥処理、プリベーク装置によるプリベーク処理、露光装置によるパターン露光、現像処理ユニットによる現像処理、加熱ユニットによるポストベーク処理を順次に施し、ガラス基板に所定のパターンを形成する。
【００１７】
図２は、塗布装置及び減圧乾燥装置の配置の一例を示す平面図である。図２に示す例は、塗布装置（１２）と減圧乾燥装置（１３）が直結している。
洗浄処理が施されたガラス基板（図示せず）は、図２中、左方から白太矢印で示すように、基板搬入ユニット（１１）に搬入され、続いて、塗布装置（１２）によるフォトレジストの塗布、減圧乾燥装置（１３）による予備乾燥処理が行われ、基板搬出ユニット（１４）からプリベーク装置（図示せず）へと搬送される。
【００１８】
上記塗布装置（１２）によるフォトレジストの塗布直後は、フォトレジストの塗膜は乾燥していないために流動性があり、次工程へガラス基板を搬送した場合には、搬送中に塗膜の膜厚が変化し易く膜厚にムラを発生させることがある。また、次工程へのガラス基板の搬送中に浮遊しているパーティクルなどが付着し易く不良品を発生させることがある。
【００１９】
また、上記プリベーク処理においては、フォトレジストの塗膜の乾燥が不十分な状態から急峻に加熱処理をした場合には、ガラス基板を固定する固定ピンやガラス基板を昇降させる昇降ピンと、ガラス基板との接触跡が現像処理後のガラス基板に現れることがある。この現象は、昇降ピン等と接触した部分と接触しない部分とでガラス基板の熱履歴が異なることが原因となっている。
【００２０】
このような、塗膜の膜厚の変化を防止し、パーティクルなどの付着を防止し、また、昇降ピン等の接触跡を防止するために、塗布直後の塗膜に対し減圧乾燥処理が行われる。減圧乾燥処理は、塗膜中の溶剤を半ば蒸発させる、言わば、予備的な乾燥処理である。
【００２１】
図２示す塗布装置（１２）と減圧乾燥装置（１３）は、一定のサイクルタイムで塗布及び減圧乾燥が行われる。このサイクルタイムは、例えば、洗浄装置からポストベーク処理を行う加熱ユニットまでの各処理装置が連結したラインを構成している際の、ラインの時間当たりの処理能力に応じて定まるものである。
塗布装置（１２）と減圧乾燥装置（１３）のサイクルタイムを一定にすることによって、すなわち、塗布時間を一定にし、塗布終了から減圧乾燥開始までの時間を一定にし、減圧乾燥時間を一定にし、また、与えられたサイクルタイムの持時間内で塗布及び減圧乾燥各処理を完了することによって、塗布装置（１２）と減圧乾燥装置（１３）における品質を
安定させ、処理能力の確保を計っている。
【００２２】
さて、図３は、図１に示す積層フォトスペーサー（Ｐｓ）を形成する際の、着色画素部のフォトレジストの塗膜の膜厚と、延長パターン（Ｐ１〜Ｐ２）部或いは上部パターン（Ｐ３）部のフォトレジストの塗膜の膜厚との関係を説明する断面図である。
【００２３】
図３に示すように、既存のパターン、例えば、ブラックマトリックス（４１）が設けられているガラス基板（４０）上に、フォトレジストの塗膜（６０）を形成した際に、例えば、着色画素を形成する部分（ａ）に、着色画素を形成するための膜厚（Ｈ１）を優先して設けると、ブラックマトリックス（４１）上に乗り上げる部分（延長パターン部或いは上部パターン部）（ｂ）の膜厚（ｈ１）は、部分（ａ）の膜厚（Ｈ１）が厚くなると、部分（ｂ）の膜厚（ｈ１）も厚くなるのであるが、この部分（ａ）の膜厚（Ｈ１）と部分（ｂ）の膜厚（ｈ１）との間には、用いるフォトレジストの粘性により定まる一定な関係を保つといった性向がある。すなわち、着色画素を形成する部分（ａ）に、ある膜厚を設けた際に、ブラックマトリックス上に乗り上げる部分（ｂ）の膜厚は一定な関係のものとなり、任意の膜厚に設けることはできない。
【００２４】
従って、定められた色度のカラーフィルタとするためには、カラーフィルタを構成する各着色画素の膜厚を優先的に確保することになるので、着色画素の形成と同時に形成される各層（Ｐ１〜Ｐ３）の高さを調整できる範囲には自ずから制約が伴うことなる。
【００２５】
着色画素の膜厚を優先すると、積層フォトスペーサーの高さは制約を受け、自ずから略定まる。すなわち、積層フォトスペーサーの高さを任意に調整するのは困難といえる。
高さ調整が必要な際の、第一の手法としては、例えば、ブラックマトリックス（４１）にて調整する手法が挙げられる。これは延長パターン（Ｐ１〜Ｐ２）或いは上部パターン（Ｐ３）の膜厚を調整する際に、予め、ブラックマトリックス（４１）の膜厚を調整しておく手法である。しかし、この手法にも限界がある。
【００２６】
高さ調整が必要な際の、第二の手法としては、例えば、溶剤の含有量、或いは顔料濃度によりフォトレジストの粘性を調整して、前記一定な関係を修正した一定な関係に変え延長パターン（Ｐ１〜Ｐ２）或いは上部パターン（Ｐ３）の膜厚を調整する手法が挙げられる。しかし、この手法は好ましい手法とはいえない。
また、実際の製造においては、例えば、フォトレジストのロット間にて粘性にバラツキが生じていると、延長パターン（Ｐ１〜Ｐ２）或いは上部パターン（Ｐ３）の膜厚に変動がみられることがある。この際は、上記同様、好ましい手法ではないが、フォトレジストの粘性を調整することもある。
【特許文献１】特開２００５−２９２４９７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２７】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものあり、積層フォトスペーサー付きカラーフィルタの製造において、着色画素の膜厚を優先した際に、着色画素の膜厚に影響を与えることなく、乗り上げる部分の膜厚（延長パターン或いは上部パターンの膜厚）の調整を可能なものとし、積層フォトスペーサーの高さを所望する高さに調整することができる積層フォトスペーサー付きカラーフィルタの製造方法を提供することを課題とするものである。
つまり、着色画素の膜厚と延長パターンの膜厚の一定な関係を、調整幅を有する関係のものとし、積層フォトスペーサー付きカラーフィルタの設計の制約を緩和し、また、所望する高さの積層フォトスペーサー付きカラーフィルタを容易に製造することのできる積層フ
ォトスペーサー付きカラーフィルタの製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００２８】
本発明は、ガラス基板上に少なくとも着色画素及び該着色画素の形成と同時に形成される着色画素の延長パターン又は上部パターンが順次に形成され、該延長パターン又は上部パターンで構成される積層フォトスペーサーが設けられた積層フォトスペーサー付きカラーフィルタの製造方法において、
１）前記着色画素の形成に用いるフォトレジストの塗布終了から減圧乾燥開始までの間でガラス基板を待機させ、予めガラス基板上に設けられたパターン上の該フォトレジストの乗り上げ部分の膜厚を、該フォトレジストの粘性流動により低減させる際に、
２）上記待機させる時間を調節することにより、乗り上げ部分の膜厚の低減量を調整し、所望する高さの積層フォトスペーサーを設けることを特徴とする積層フォトスペーサー付きカラーフィルタの製造方法である。
【００２９】
また、本発明は、上記発明による積層フォトスペーサー付きカラーフィルタの製造方法において、前記待機において、ガラス基板を温度制御することにより、乗り上げ部分の膜厚の低減量の精度を向上させることを特徴とする積層フォトスペーサー付きカラーフィルタの製造方法である。
【発明の効果】
【００３０】
本発明は、１）着色画素の形成に用いるフォトレジストの塗布終了から減圧乾燥開始までの間でガラス基板を待機させ、予めガラス基板上に設けられたパターン上のフォトレジストの乗り上げ部分の膜厚を、フォトレジストの粘性流動により低減させる際に、２）上記待機させる時間を調節することにより、乗り上げ部分の膜厚の低減量を調整し、所望する高さの積層フォトスペーサーを設けるので、着色画素の膜厚を優先した際に、着色画素の膜厚に影響を与えることなく、乗り上げる部分の膜厚の調整を可能なものとなり、積層フォトスペーサーの高さを所望する高さに調整することができる積層フォトスペーサー付きカラーフィルタの製造方法となる。
【００３１】
また、本発明は、上記積層フォトスペーサー付きカラーフィルタの製造方法における待機において、ガラス基板を温度制御するので、乗り上げ部分の膜厚の低減量の精度を向上させた積層フォトスペーサー付きカラーフィルタの製造方法となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３２】
以下に本発明の実施の形態を詳細に説明する。
図４は、本発明による積層フォトスペーサー付きカラーフィルタの製造方法で用いられる塗布装置〜減圧乾燥装置の配置の一例を示す平面図である。図４に示す、この塗布装置〜減圧乾燥装置の配置は、塗布装置（１２）と減圧乾燥装置（１３）との間に待機エリア（ステージ・バッファ）（１５）が設けられている。
この待機エリア（ステージ・バッファ）（１５）は、着色画素の形成に用いるフォトレジストの塗布終了から減圧乾燥開始までの間でガラス基板を待機させ、予めガラス基板上に設けられたパターン上のフォトレジストの乗り上げ部分の膜厚を、フォトレジストの粘性流動により低減させるためのものである。
【００３３】
洗浄処理が施されたガラス基板（図示せず）は、図４中、左方から白太矢印で示すように、基板搬入ユニット（１１）に搬入され、次に、塗布装置（１２）によるフォトレジストの塗布が行われ、次に、待機エリア（ステージ・バッファ）（１５）にてフォトレジストの乗り上げ部分の膜厚を低減させ、次に、減圧乾燥装置（１３）による予備乾燥処理が行われ、基板搬出ユニット（１４）からプリベーク装置（図示せず）へと搬送される。
【００３４】
図５（ａ）、（ｂ）は、本発明における積層フォトスペーサーを形成する際の、着色画素部のフォトレジストの塗膜の膜厚と、延長パターン（Ｐ１〜Ｐ２）部或いは上部パターン（Ｐ３）部のフォトレジストの塗膜の膜厚との関係を説明する断面図である。図５（ａ）は、着色画素の形成に用いるフォトレジストの塗布終了直後の状態を表したものである。また、図５（ｂ）は、待機エリア（ステージ・バッファ）（１５）にて塗布終了から十分な時間が経過し、フォトレジストの粘性流動が停止し、フォトレジストの乗り上げ部分（ｂ）の膜厚の低減が収斂し、収斂した膜厚（ｈ３）の段階を表したものである。
【００３５】
図５に示すように、既存のパターンとして、ブラックマトリックス（４１）が設けられているガラス基板（４０）上に、フォトレジストの塗膜（６０）が形成されている。着色画素を形成する部分（ａ）には、着色画素を形成するための膜厚（Ｈ１）が優先して設けられており、ブラックマトリックス（４１）上に乗り上げる部分（延長パターン部或いは上部パターン部）（ｂ）は、上記膜厚（Ｈ１）より薄い膜厚（ｈ２）となっている。
【００３６】
しかし、このフォトレジストの乗り上げ部分（ｂ）の膜厚（ｈ２）は、前記図３に示す膜厚（ｈ１）よりは厚いものである（ｈ２＞ｈ１）。図５に示す塗膜（６０）の形成に用いたフォトレジストは、着色画素を形成するための膜厚（Ｈ１）を優先して設けた際に、乗り上げ部分（ｂ）の膜厚が前記膜厚（ｈ１）よりも厚い膜厚（ｈ２）が得られるように、その粘性が予め調整されたものである。
【００３７】
本発明においては、図５（ａ）に示すフォトレジストの塗布終了直後に、ガラス基板を図４に示す待機エリア（ステージ・バッファ）（１５）へ搬送し、待機エリア（ステージ・バッファ）（１５）においてガラス基板を待機させ、フォトレジストの乗り上げ部分（ｂ）の膜厚をフォトレジストの粘性流動により低減させるこのを特徴としている。図５（ｂ）は、待機エリア（ステージ・バッファ）（１５）にて十分な時間が経過し、フォトレジストの粘性流動が停止し、フォトレジストの乗り上げ部分（ｂ）の膜厚の低減が収斂した状態を示している。
【００３８】
すなわち、待機エリア（ステージ・バッファ）（１５）での塗布終了直後からの待機時間を調節することにより、フォトレジストの乗り上げ部分（ｂ）の膜厚は、塗布終了直後の膜厚（ｈ２）から、収斂した膜厚（ｈ３）に低減するまでの間で任意の膜厚に調整することが可能なものとなる。
尚、前記図３に示す、乗り上げ部分（ｂ）の膜厚（ｈ１）は、塗布終了直後の膜厚（ｈ２）と収斂した膜厚（ｈ３）との間にある（ｈ２＞ｈ１＞ｈ３）。
【００３９】
図４示す塗布装置（１２）と待機エリア（ステージ・バッファ）（１５）と減圧乾燥装置（１３）は、一定のサイクルタイムで塗布、待機、及び減圧乾燥が行われる。このサイクルタイムは、例えば、洗浄装置からポストベーク処理を行う加熱ユニットまでの各処理装置が連結したラインを構成している際の、ラインの時間当たりの処理能力に応じて定まるものである。
【００４０】
塗布装置（１２）と待機エリア（ステージ・バッファ）（１５）と減圧乾燥装置（１３）のサイクルタイムを一定にすることによって、すなわち、塗布時間を一定にし、塗布終了から減圧乾燥開始までの待機時間を一定にし、減圧乾燥時間を一定にし、また、与えられたサイクルタイムの持時間内で塗布及び減圧乾燥各処理を完了することによって、塗布装置（１２）〜減圧乾燥装置（１３）における品質を安定させ、処理能力の確保を計っている。
上記待機時間は、乗り上げ部分（ｂ）の膜厚として所望する膜厚が得られるように、サイクルタイムの持時間内で調節した待機時間であり、この調節した待機時間を一定に保ものである。
【００４１】
尚、構成しているラインの時間当たりの処理能力に応じて定まるサイクルタイム内では所望する乗り上げ部分（ｂ）の膜厚が得られない場合には、すなわち、図５（ｂ）に示す膜厚（ｂ）に至るまでの、収斂する時間がサイクルタイムより長い場合には、例えば、待機エリア（ステージ・バッファ）（１５）の構造を、複数枚のガラス基板が収容できる構造にすることによって容易に達成することができる。
【００４２】
本発明における、待機エリア（ステージ・バッファ）（１５）での待機は、例えば、図１に示す、延長パターン（Ｐ１）と延長パターン（Ｐ２）と上部パターン（Ｐ３）を積層した構成の積層フォトスペーサー（Ｐｓ）の際には、各（Ｐ１）〜（Ｐ３）において、その形成時に待機を行い各膜厚を調整することが可能であるため、積層フォトスペーサー（Ｐｓ）の高さの調整は大幅なものとなる。
【００４３】
図６は、積層フォトスペーサー付きカラーフィルタの他の例を示す断面図である。図６に示すように、このカラーフィルタにはブラックマトリックスが設けられていない。このカラーフィルタは、例えば、着色画素内に積層フォトスペーサーが形成される際の一例である。
図６に示すように、積層フォトスペーサー（Ｐｓ−２）は、延長パターン（Ｐ１）と延長パターン（Ｐ２）と上部パターン（Ｐ３）で構成されている。しかし、この積層フォトスペーサー（Ｐｓ−２）においては、延長パターン（Ｐ２）と上部パターン（Ｐ３）の２層が積層フォトスペーサーの高さ調整に寄与するので、調整幅は狭くなるものの、事前に、フォトレジストの乗り上げ部分（ｂ）の膜厚（ｈ２）が十分に厚くなるようにフォトレジストの粘性を調整しておくことにより、２層分の効果は十分に得られる。
【００４４】
図１０は、待機エリア（ステージ・バッファ）（１５）での待機時間と、フォトレジストの乗り上げ部分（ｂ）の膜厚の低減との関係の一例を示すグラフである。図１０に示すように、塗布終了直後の膜厚（３．７２μｍ）は、十分な待機時間によって、収斂した膜厚（３．５３μｍ）となり、乗り上げ部分の膜厚は大幅に低減する。
【００４５】
また、本発明は、上記待機において、ガラス基板を温度制御することにより、フォトレジストの乗り上げ部分の膜厚の低減量の精度を向上させることを特徴としている。ガラス基板を温度制御する方法としては、例えば、待機エリア（ステージ・バッファ）（１５）内でガラス基板を載置する定盤として、温度制御された定盤を用いる方法、及び／或いは待機エリア（１５）内を温度制御されたエリアとする方法が挙げられる。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】積層フォトスペーサーを設けたカラーフィルタの一例の部分断面図である。
【図２】塗布装置及び減圧乾燥装置の配置の一例を示す平面図である。
【図３】着色画素部のフォトレジストの塗膜の膜厚と、延長パターン部のフォトレジストの塗膜の膜厚との関係を説明する断面図である。
【図４】本発明による積層フォトスペーサー付きカラーフィルタの製造方法で用いられる塗布装置〜減圧乾燥装置の配置の一例を示す平面図である。
【図５】（ａ）は、フォトレジストの塗布終了直後の膜厚の状態を表したものである。（ｂ）は、フォトレジストの粘性流動が停止した膜厚の状態を表したものである。
【図６】積層フォトスペーサー付きカラーフィルタの他の例を示す断面図である。
【図７】フォトスペーサーが形成されて液晶表示装置用カラーフィルタの部分断面図である。
【図８】液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの一例を模式的に示した平面図である。
【図９】図８に示すカラーフィルタのＸ−Ｘ’線における断面図である。
【図１０】待機時間とフォトレジストの乗り上げ部分の膜厚の低減との関係の一例を示すグラフである。
【符号の説明】
【００４７】
７・・・液晶表示装置用カラーフィルタ
１１・・・基板搬入ユニット
１２・・・塗布装置
１３・・・減圧乾燥装置
１４・・・基板搬出ユニット
１５・・・待機エリア（ステージ・バッファ）
４０・・・ガラス基板
４１・・・ブラックマトリックス
４２・・・着色画素
４３・・・透明導電膜
４４・・・フォトスペーサー
４２Ｒ・・・赤色着色画素
４２Ｇ・・・緑色着色画素
４２Ｂ・・・青色着色画素
６０・・・フォトレジストの塗膜
Ｐ１・・・赤色着色画素の延長パターン
Ｐ２・・・緑色着色画素の延長パターン
Ｐ３・・・青色着色画素の上部パターン
Ｐｓ、Ｐｓ−２・・・積層フォトスペーサー
ａ・・・着色画素を形成する部分
ｂ・・・乗り上げる部分（延長パターン部）
【図１】
2008292627.tif 000003
【図２】
2008292627.tif 000004
【図３】
2008292627.tif 000005
【図４】
2008292627.tif 000006
【図５】
2008292627.tif 000007
【図６】
2008292627.tif 000008
【図７】
2008292627.tif 000009
【図８】
2008292627.tif 000010
【図９】
2008292627.tif 000011
【図１０】
2008292627.tif 000012