(57)【要約】【課題】液体の漏出を抑え、露光精度及び計測精度を維持できる露光装置を提供する。【解決手段】露光装置は、露光光の光路空間を囲むように、且つ基板と対向するように配置された液体接触面を有し、基板の表面との間に液浸空間を形成可能な液浸空間形成部材を備えている。液浸空間形成部材の液体接触面には、露光光の光路空間の周りに液体回収領域と非液体回収領域とが交互に配置され、非液体回収領域が、第１方向に関して露光光の光路空間の両側、及び第１方向と直交する第２方向に関して露光光の光路空間の両側に配置されている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に液体を介して露光光を照射して前記基板を露光する露光装置において、
前記露光光の光路空間を囲むように、且つ前記基板と対向するように配置された液体接触面を有し、前記基板の表面との間に液浸空間を形成可能な液浸空間形成部材を備え、
前記液浸空間形成部材の液体接触面には、前記露光光の光路空間の周りに液体回収領域と非液体回収領域とが交互に配置され、前記非液体回収領域が、第１方向に関して前記露光光の光路空間の両側、及び前記第１方向と直交する第２方向に関して前記露光光の光路空間の両側に配置されている露光装置。
【請求項２】
前記基板を前記第１方向に移動しながら前記基板の走査露光が実行される請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記液浸空間形成部材の液体接触面は、前記露光光の光路空間を囲むように配置された第１面と、前記露光光の光路空間に対して前記第１面の外側に前記第１面を囲むように配置された第２面とを有し、
前記液体回収領域及び前記非液体回収領域は、前記第２面において前記露光光の光路空間の周りに交互に配置されている請求項１又は２記載の露光装置。
【請求項４】
前記基板の表面と前記第２面との距離が、前記基板の表面と前記第１面との距離よりも大きい請求項３記載の露光装置。
【請求項５】
前記第１面は、前記基板の表面とほぼ平行に設けられ、
前記第２面は、前記基板の表面との距離が大きくなるように、前記第１面に対して傾斜している請求項３又は４記載の露光装置。
【請求項６】
前記液体回収領域は多孔部材で形成されている請求項１〜５のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項７】
前記液浸空間形成部材の液体接触面において、前記液体回収領域と前記非液体回収領域との境界には段差がほぼ無い請求項１〜６のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項８】
請求項１〜請求項７のいずれか一項記載の露光装置を用いるデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液体を介して基板を露光する露光装置、及びデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
フォトリソグラフィ工程で用いられる露光装置において、下記特許文献に開示されているような、液体を介して基板を露光する液浸露光装置が案出されている。
【特許文献１】国際公開第９９／４９５０４号パンフレット
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところで、露光装置においては、デバイスの生産性向上等を目的として、基板の移動速度の高速化が要求される。ところが、移動速度を高速化した場合、液体を基板上の所定空間に満たし続けることが困難となる可能性がある。例えば、移動速度の高速化に伴って、液体が基板上の所定空間から漏出する可能性があり、露光精度及び各種計測精度が劣化する虞がある。
【０００４】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、液体の漏出を抑え、露光精度及び計測精度を維持できる露光装置、及びその露光装置を用いるデバイス製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記の課題を解決するため、本発明は実施の形態に示す各図に対応付けした以下の構成を採用している。但し、各要素に付した括弧付き符号はその要素の例示に過ぎず、各要素を限定するものではない。
【０００６】
本発明の第１の態様に従えば、基板（Ｐ）に液体（ＬＱ）を介して露光光（ＥＬ）を照射して基板（Ｐ）を露光する露光装置において、露光光（ＥＬ）の光路空間（Ｋ）を囲むように、且つ基板（Ｐ）と対向するように配置された液体接触面（３０）を有し、基板（Ｐ）の表面との間に液浸空間（ＬＳ）を形成可能な液浸空間形成部材（２０）を備え、液浸空間形成部材（２０）の液体接触面（３０）には、露光光（ＥＬ）の光路空間（Ｋ）の周りに液体回収領域（３２Ａ）と非液体回収領域（３２Ｂ）とが交互に配置され、非液体回収領域（３２Ｂ）が、第１方向（Ｙ）に関して露光光（ＥＬ）の光路空間（Ｋ）の両側、及び第１方向（Ｙ）と直交する第２方向（Ｘ）に関して露光光（ＥＬ）の光路空間（Ｋ）の両側に配置されている露光装置（ＥＸ）が提供される。
【０００７】
本発明の第１の態様によれば、液体の漏出を抑えることができる。なお、ここでいう液浸空間形成部材の液体接触面は、基板の表面との間で液体を保持可能（液浸空間を形成可能）な面を意味し、その液体接触面の全てが常に液体と接触していなくてもよい。
【０００８】
本発明の第２の態様に従えば、上記態様の露光装置（ＥＸ）を用いるデバイス製造方法が提供される。
【０００９】
本発明の第２の態様によれば、液体の漏出が抑えられた露光装置を用いてデバイスを製造することができる。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、液体の漏出を抑え、露光処理及び計測処理を良好に実行できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されない。なお、以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。そして、水平面内における所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれに直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。
【００１２】
図１は、本実施形態に係る露光装置ＥＸを示す概略構成図である。図１において、露光装置ＥＸは、マスクＭを保持して移動可能なマスクステージ１と、基板Ｐを保持して移動可能な基板ステージ２と、マスクＭのパターンを露光光ＥＬで照明する照明系ＩＬと、露光光ＥＬで照明されたマスクＭのパターンの像を基板Ｐ上に投影する投影光学系ＰＬと、露光装置ＥＸ全体の動作を制御する制御装置３とを備えている。なお、ここでいう基板は半導体ウエハ等の基材上に感光材（フォトレジスト）を塗布したものを含み、マスクは基板上に縮小投影されるデバイスパターンが形成されたレチクルを含む。マスクは、ガラス板等の透明板部材と、クロム等の遮光膜を用いて透明板部材上に形成された所定のパターンとを含む。また、本実施形態においては、マスクとして透過型のマスクを用いるが、反射型のマスクを用いてもよい。
【００１３】
本実施形態の露光装置ＥＸは、露光波長を実質的に短くして解像度を向上するとともに焦点深度を実質的に広くするために液浸法を適用した液浸露光装置であって、基板Ｐの表面と対向するように配置され、基板Ｐの表面との間に液浸空間ＬＳを形成可能なノズル部材２０を備えている。液浸空間ＬＳは、液体ＬＱで満たされた空間である。ノズル部材２０は、基板Ｐの表面と対向する下面３０を有しており、その下面３０と基板Ｐの表面との間で液体ＬＱを保持可能である。すなわち、ノズル部材２０の下面３０は、液浸空間ＬＳの液体ＬＱと接触可能な面であり、基板Ｐの表面との間で液体ＬＱを保持して、基板Ｐの表面との間に液体ＬＱの液浸空間ＬＳを形成可能である。
【００１４】
ノズル部材２０は、投影光学系ＰＬの像面側（光射出側）の露光光ＥＬの光路空間Ｋ、具体的には投影光学系ＰＬと基板Ｐとの間の露光光ＥＬの光路空間Ｋを液体ＬＱで満たすように、液浸空間ＬＳを形成する。露光光ＥＬの光路空間Ｋは、露光光ＥＬが進行する光路を含む空間である。本実施形態においては、露光光ＥＬの光路空間Ｋは、投影光学系ＰＬの複数の光学素子のうち、投影光学系ＰＬの像面に最も近い終端光学素子ＦＬの光射出面（下面）１０と、投影光学系ＰＬの像面側に配置された基板Ｐの表面との間の露光光ＥＬが進行する光路を含む空間である。また、本実施形態においては、液体ＬＱとして水（純水）を用いる。
【００１５】
露光装置ＥＸは、少なくともマスクＭのパターンの像を基板Ｐ上に投影している間、ノズル部材２０を用いて液浸空間ＬＳを形成する。露光装置ＥＸは、露光光ＥＬの光路空間Ｋを液体ＬＱで満たすように液浸空間ＬＳを形成し、その液体ＬＱを介して、マスクＭを通過した露光光ＥＬを基板ステージ２に保持された基板Ｐ上に照射することによって、マスクＭのパターンの像を基板Ｐ上に投影して、基板Ｐを露光する。
【００１６】
また、本実施形態の露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬの投影領域ＡＲを含む基板Ｐ上の一部の領域が液浸空間ＬＳの液体ＬＱで覆われるように、ノズル部材２０と基板Ｐとの間に液浸空間ＬＳを形成する局所液浸方式を採用している。
【００１７】
なお、本実施形態においては、ノズル部材２０が、基板Ｐの表面との間に液浸空間ＬＳを形成する場合について主に説明するが、ノズル部材２０は、投影光学系ＰＬの像面側において、露光光ＥＬが照射可能な位置に配置された物体の表面との間、すなわち投影光学系ＰＬの光射出面と対向する位置に配置された物体の表面との間にも液浸空間ＬＳを形成可能である。例えば、ノズル部材２０は、投影光学系ＰＬの光射出面と対向する位置に配置された基板ステージ２の上面との間にも液浸空間ＬＳを形成可能である。
【００１８】
本実施形態の露光装置ＥＸは、マスクＭと基板Ｐとを所定の走査方向に同期移動しつつ、マスクＭのパターンの像を基板Ｐ上に投影する走査型露光装置（所謂スキャニングステッパ）である。本実施形態においては、基板Ｐの走査方向（同期移動方向）をＹ軸方向とし、マスクＭの走査方向（同期移動方向）もＹ軸方向とする。露光装置ＥＸは、基板Ｐのショット領域を投影光学系ＰＬの投影領域ＡＲに対してＹ軸方向に移動するとともに、その基板ＰのＹ軸方向への移動と同期して、照明系ＩＬの照明領域ＩＡに対してマスクＭのパターン形成領域をＹ軸方向に移動しつつ、投影光学系ＰＬ及び液体ＬＱを介して投影領域ＡＲに露光光ＥＬを照射することによって、投影領域ＡＲに形成されるパターンの像で基板Ｐ上のショット領域を露光する。
【００１９】
照明系ＩＬは、マスクＭ上の所定の照明領域ＩＡを均一な照度分布の露光光ＥＬで照明する。照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬとしては、例えば水銀ランプから射出される輝線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）及びＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光）や、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）及びＦ２レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光（ＶＵＶ光）などが用いられる。本実施形態においてはＡｒＦエキシマレーザ光が用いられる。
【００２０】
マスクステージ１は、リニアモータ等のアクチュエータを含むマスクステージ駆動装置１Ｄの駆動により、マスクＭを保持した状態で、Ｘ軸、Ｙ軸、及びθＺ方向に移動可能である。マスクステージ１は、基板Ｐの露光時に露光光ＥＬを通過させるための開口１Ｋを有している。照明系ＩＬから射出され、マスクＭのパターン形成領域を照明した露光光ＥＬは、マスクステージ１の開口１Ｋを通過した後、投影光学系ＰＬに入射する。マスクステージ１（ひいてはマスクＭ）の位置情報はレーザ干渉計１３によって計測される。レーザ干渉計１３は、マスクステージ１上に設けられた移動鏡の反射面１４を用いてマスクステージ１の位置情報を計測する。制御装置３は、レーザ干渉計１３の計測結果に基づいてマスクステージ駆動装置１Ｄを駆動し、マスクステージ１に保持されているマスクＭの位置制御を行う。
【００２１】
投影光学系ＰＬは、マスクＭのパターンの像を所定の投影倍率で基板Ｐに投影するものであって、複数の光学素子を有しており、それら光学素子は鏡筒５で保持されている。本実施形態の投影光学系ＰＬは、その投影倍率が例えば１／４、１／５、１／８等の縮小系である。なお、投影光学系ＰＬは等倍系及び拡大系のいずれでもよい。また、投影光学系ＰＬは、反射光学素子を含まない屈折系、屈折光学素子を含まない反射系、反射光学素子と屈折光学素子とを含む反射屈折系のいずれであってもよい。また、投影光学系ＰＬは、倒立像と正立像とのいずれを形成してもよい。
【００２２】
基板ステージ２は、基板Ｐを保持する基板ホルダ２Ｈを有しており、リニアモータ等のアクチュエータを含む基板ステージ駆動装置２Ｄの駆動により、基板ホルダ２Ｈに基板Ｐを保持した状態で、ベース部材８上で、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６自由度の方向に移動可能である。基板ステージ２の基板ホルダ２Ｈは、基板Ｐの表面とＸＹ平面とがほぼ平行となるように、基板Ｐを保持する。基板ステージ２（ひいては基板Ｐ）の位置情報はレーザ干渉計１５によって計測される。レーザ干渉計１５は、基板ステージ２に設けられた反射面１６を用いて基板ステージ２のＸ軸、Ｙ軸、及びθＺ方向に関する位置情報を計測する。また、露光装置ＥＸは、基板ステージ２に保持されている基板Ｐの表面の面位置情報（Ｚ軸、θＸ、及びθＹ方向に関する位置情報）を検出可能な不図示のフォーカス・レベリング検出系を備えている。制御装置３は、レーザ干渉計１５の計測結果及びフォーカス・レベリング検出系の検出結果に基づいて基板ステージ駆動装置２Ｄを駆動し、基板ステージ２に保持されている基板Ｐの位置制御を行う。
【００２３】
また、本実施形態においては、基板ステージ２上には凹部２Ｒが設けられており、基板ホルダ２Ｈはその凹部２Ｒに配置されている。そして、凹部２Ｒ以外の基板ステージ２の上面２Ｆは、基板ホルダ２Ｈに保持された基板Ｐの表面とほぼ同じ高さ（面一）になるような平坦面となっている。
【００２４】
次に、図２〜図８を参照しながら、ノズル部材２０について説明する。図２は、ノズル部材２０の概略斜視図の一部破断図、図３は、下側から見た斜視図である。また、図４〜図７は、ノズル部材２０の近傍を示す側断面図であって、図４は、図２のＡ−Ａ断面矢視図に相当し、図５は、図２のＢ−Ｂ断面矢視図に相当し、図６は、図２のＣ−Ｃ断面矢視図に相当し、図７は、図２のＤ−Ｄ断面矢視図に相当する。また、図８は、ノズル部材２０を下側から見た平面図である。
【００２５】
ノズル部材２０は、基板Ｐの表面との間で液体ＬＱを保持可能であり、基板Ｐの表面との間に液体ＬＱの液浸空間ＬＳを形成可能である。ノズル部材２０は、液浸空間ＬＳを形成するための液体ＬＱを供給する液体供給口２１と、液体ＬＱを回収する液体回収口３３とを有しており、投影光学系ＰＬの複数の光学素子のうち、投影光学系ＰＬの像面に最も近い終端光学素子ＦＬの光射出面（下面）１０と、投影光学系ＰＬの像面側に配置された基板Ｐの表面との間の露光光ＥＬの光路空間Ｋを液体ＬＱで満たすように、液浸空間ＬＳを形成する。
【００２６】
ノズル部材２０は、所定の支持機構（不図示）によって支持される。ノズル部材２０は、基板Ｐ上に露光光ＥＬを射出する終端光学素子ＦＬの近傍において、基板Ｐの表面（基板ステージ２の上面２Ｆ）と対向するように配置される。ノズル部材２０は環状の部材であって、基板Ｐ（基板ステージ２）の上方において、終端光学素子ＦＬを囲むように配置される。
【００２７】
投影光学系ＰＬの終端光学素子ＦＬは、傾斜した側面ＦＳを有している。ノズル部材２０は、終端光学素子ＦＬの側面ＦＳと対向し、その側面ＦＳに沿うように形成された内側面２０Ｔを有している。ノズル部材２０は、不図示の支持機構によって、終端光学素子ＦＬと離れるように支持され、終端光学素子ＦＬの側面ＦＳとノズル部材２０の内側面２０Ｔとの間には、所定のギャップが形成されている。
【００２８】
ノズル部材２０は、基板Ｐの表面と対向する下面３０を有している。ノズル部材２０の下面３０は、露光光ＥＬの光路空間Ｋを囲むように、且つ基板Ｐの表面と対向するように配置されている。ノズル部材２０の下面３０は、基板Ｐの表面との間で液体ＬＱを保持可能であり、基板Ｐの表面との間に液体ＬＱの液浸空間ＬＳを形成可能である。ノズル部材２０の下面３０の少なくとも一部は、液浸空間ＬＳの液体ＬＱと接触可能である。なお、ノズル部材２０の下面３０は、基板Ｐの表面との間で液体ＬＱを保持可能（液浸空間ＬＳを形成可能）な面を意味し、その全てが常に液体ＬＱと接触していなくてもよい。
【００２９】
また、終端光学素子ＦＬも、基板Ｐの表面との間で液体ＬＱを保持可能であり、基板Ｐの表面との間に液体ＬＱの液浸空間ＬＳを形成可能である。終端光学素子ＦＬの下面１０の少なくとも露光光ＥＬが通過する領域は、液浸空間ＬＳの液体ＬＱと接触可能である。
【００３０】
ノズル部材２０の下面３０には、露光光ＥＬの光路空間Ｋの周りに液体回収領域３２Ａと非液体回収領域３２Ｂとが交互に配置されている。液体回収領域３２Ａは、液体回収口３３を含む領域であり、液体ＬＱを回収可能である。一方、非液体回収領域３２Ｂには液体回収口が無く、非液体回収領域３２Ｂは液体ＬＱを回収不可能である。非液体回収領域３２Ｂは、Ｙ軸方向（走査方向）に関して露光光ＥＬの光路空間Ｋの両側、及びＸ軸方向に関して露光光ＥＬの光路空間Ｋの両側に配置されている。
【００３１】
ノズル部材２０の下面３０は、露光光ＥＬの光路空間Ｋを囲むように配置された第１面３１と、露光光ＥＬの光路空間Ｋに対して第１面３１の外側に第１面３１を囲むように配置された第２面３２とを有している。液体回収領域３２Ａ及び非液体回収領域３２Ｂは、第２面３２において露光光ＥＬの光路空間Ｋの周りに交互に配置されている。
【００３２】
ノズル部材２０は、終端光学素子ＦＬの下面１０の一部の領域と対向する上面２５を有する底板２４を有している。底板２４の一部は、Ｚ軸方向に関して、終端光学素子ＦＬの下面１０と基板Ｐ（基板ステージ２）との間に配置されている。終端光学素子ＦＬの下面１０と底板２４の上面２５との間には、所定のギャップを有する空間が設けられている。また、底板２４の中央には、露光光ＥＬが通過する開口２６が形成されている。本実施形態においては、露光光ＥＬの断面形状、すなわち投影領域ＡＲは、Ｘ軸方向を長手方向とする略矩形状（スリット状）であり、開口２６は、投影領域ＡＲに応じてＸＹ方向において略矩形状に形成されている。
【００３３】
第１面３１は、平坦な面であって、基板Ｐの表面と対向するように配置されている。第１面３１は、終端光学素子ＦＬの下面１０と基板Ｐの表面との間において、露光光ＥＬの光路空間Ｋを囲むように配置されている。第１面３１は、基板Ｐの表面（ＸＹ平面）とほぼ平行に設けられている。
【００３４】
第１面３１は、基板Ｐの表面と対向する底板２４の下面を含み、露光光ＥＬが通過する開口２６を囲むように、底板２４に設けられている。第１面３１には液体回収口が無く、第１面３１は液体ＬＱを回収不可能である。本実施形態においては、下面３０側（−Ｚ側）から見た第１面３１の外形は略八角形状であり、開口２６は、第１面３１のほぼ中央に形成されている。
【００３５】
第１面３１は、ノズル部材２０のうち、基板ステージ２に保持された基板Ｐに最も近い位置に設けられており、基板Ｐの表面との間で液体ＬＱを保持可能であり、基板Ｐの表面との間に液浸空間ＬＳを形成可能である。ノズル部材２０の第１面３１と基板Ｐの表面との距離Ｄ１は、第１面３１と基板Ｐの表面との間で液体ＬＱを良好に保持できるように、例えば液体ＬＱの物性（粘性など）、基板Ｐの表面条件（液体ＬＱに対する接触角など）、及び基板Ｐの移動条件（移動速度など）などに応じて、最適値に設定される。
【００３６】
また、第１面３１は、液体ＬＱに対して親液性を有しており、基板Ｐの表面との間で液体ＬＱを良好に保持可能である。本実施形態においては、第１面３１を形成する底板２４はチタンによって形成されており、親液性（親水性）を有している。本実施形態においては、第１面３１における液体ＬＱの接触角は４０°以下である。なお、第１面３１に親液性を高めるための表面処理を施してもよい。
【００３７】
ノズル部材２０の下面３０の第２面３２は、露光光ＥＬの光路空間Ｋに対して第１面３１の外側に、その第１面３１を囲むように配置されている。第２面３２は、露光光ＥＬが通過する開口２６を含む第１面３１を囲むように、且つ基板Ｐの表面と対向するように配置されている。第２面３２は、基板Ｐの表面との間で液体ＬＱを保持可能であり、基板Ｐの表面との間に液体ＬＱの液浸空間ＬＳを形成可能である。
【００３８】
第２面３２は、基板Ｐの表面に対して第１面３１よりも離れた位置に配置されている。すなわち、基板Ｐの表面と第２面３２との距離Ｄ２は、基板Ｐの表面と第１面３１との距離Ｄ１よりも大きい。
【００３９】
本実施形態の第２面３２は、露光光ＥＬの光路空間Ｋから外側に向かうにつれて基板Ｐ表面との距離が大きくなるように、第１面３１に対して傾斜している。基板ステージ２に保持された基板Ｐの表面はＸＹ平面とほぼ平行であり、ノズル部材２０の第２面３２は、基板ステージ２に保持された基板Ｐの表面と対向するように、且つ基板Ｐの表面（ＸＹ平面）に対して傾斜するように配置されている。
【００４０】
液体回収領域３２Ａ及び非液体回収領域３２Ｂは、第２面３２において露光光ＥＬの光路空間Ｋの周りに交互に配置されている。非液体回収領域３２Ｂは、Ｙ軸方向に関して露光光ＥＬの光路空間Ｋの両側、及びＸ軸方向に関して露光光ＥＬの光路空間Ｋの両側に配置されている。
【００４１】
液体回収領域３２Ａは、液体回収口３３を含み、液体ＬＱを回収可能である。本実施形態においては、液体回収口３３には多孔部材３４が配置されており、第２面３２の液体回収領域３２Ａは、多孔部材３４の下面３５で形成されている。本実施形態においては、多孔部材３４の下面３５はほぼ平坦であり、第１面３１に対して傾斜している。また、本実施形態においては、多孔部材３４はチタン製のメッシュ部材であり、液体ＬＱに対して親液性（親水性）を有している。なお、多孔部材３４に親液性を高めるための表面処理を施してもよい。
【００４２】
非液体回収領域３２Ｂは、ほぼ平坦な面であり、第１面３１に対して傾斜している。非液体回収領域３２Ｂは、例えばチタンによって形成されており、液体ＬＱに対して親液性（親水性）を有している。なお、非液体回収領域３２Ｂに親液性を高めるための表面処理を施してもよい。
【００４３】
図８等に示すように、本実施形態においては、第２面３２の非液体回収領域３２Ｂのそれぞれの下面３０側から見た外形は、露光光ＥＬの光路空間Ｋから外側に向かうにつれて拡がる形状を有する。また、液体回収口３３（多孔部材３４）を含む液体回収領域３２Ａのそれぞれの下面３０側から見た外形も、露光光ＥＬの光路空間Ｋから外側に向かうにつれて漸次拡がる形状を有する。そして、ノズル部材２０の下面３０うち、光路空間Ｋの走査方向側に延在した領域、すなわち光路空間ＫのＹ軸方向側に延在する第１延在領域ＥＡ１と、走査方向と直交する方向側に延在した領域、すなわち光路空間ＫのＸ軸方向側に延在する第２延在領域ＥＡ２とのそれぞれには、液体ＬＱを回収可能な液体回収口を含む液体回収領域３２Ａが無く、非液体回収領域３２Ｂが配置されている。
【００４４】
このように、非液体回収領域３２Ｂは、ノズル部材２０の下面３０において、Ｙ軸方向に関して露光光ＥＬの光路空間Ｋの両側、及びＸ軸方向に関して露光光ＥＬの光路空間Ｋの両側に配置されており、その非液体回収領域３２Ｂ以外の領域に、液体ＬＱを回収可能な液体回収口３３及び多孔部材３４を含む液体回収領域３２Ａが配置されている。また、ノズル部材２０の下面３０において、液体回収領域３２Ａの法線と非液体回収領域３２Ｂの法線とは互いに異なる方向を向いているが、液体回収領域３２Ａと非液体回収領域３２Ｂとの境界には段差がほぼ無い。
【００４５】
また、ノズル部材２０の下面３０において、第１面３１と第２面３２との境界にも段差がほぼ無い。そして、後述するように、液体ＬＱが基板Ｐの表面と第２面３２との間に存在する場合において、その基板Ｐの表面と第２面３２との間に存在する液体ＬＱが第２面３２から離れないように、第１面３１と第２面３２とが所定の位置関係で設けられている。具体的には、露光光ＥＬの光路空間Ｋを液体ＬＱで満たすように液浸空間ＬＳを形成した状態で基板Ｐを移動した場合でも、基板Ｐの表面と第２面３２との間に存在する液体ＬＱが第２面３２から離れないように（剥離しないように）第２面３２が形成されている。
【００４６】
液浸空間ＬＳを形成するための液体ＬＱを供給する液体供給口２１は、ノズル部材２０の内部に形成された供給流路２３及び供給管２３Ｐを介して液体供給装置２２に接続されており、液体ＬＱを回収する液体回収口３３は、ノズル部材２０の内部に形成された回収流路３６及び回収管３６Ｐを介して液体回収装置３７に接続されている。液体供給装置２２は清浄で温度調整された液体ＬＱを送出可能である。また、液体回収装置３７は真空系等を含み、液体ＬＱを回収可能である。液体供給装置２２は、供給管２３Ｐ、供給流路２３、及び液体供給口２１を介して、液浸空間ＬＳを形成するための液体ＬＱを供給可能であり、液体回収装置３７は、液体回収口３３、回収流路３６、及び回収管３６Ｐを介して、液浸空間ＬＳの液体ＬＱを回収可能である。液体供給装置２２及び液体回収装置３７の動作は、制御装置３に制御される。
【００４７】
液体供給口２１は、終端光学素子ＦＬの下面１０と底板２４の上面２５との間の空間に接続されており、その空間に液体ＬＱを供給可能である。また、本実施形態においては、液体供給口２１は、露光光ＥＬが通過可能な開口２６の外側において、光路空間Ｋに対してＸ軸方向両側のそれぞれの所定位置に設けられている。
【００４８】
また、ノズル部材２０は、終端光学素子ＦＬの下面１０と底板２４の上面２５との間の空間及びその近傍の気体を外部空間（大気空間を含む）に排出（排気）する排出口４０を有している。排出口４０と外部空間とは、ノズル部材２０の内部に形成された排出流路４１を介して接続されている。本実施形態においては、排出口４０は、露光光ＥＬが通過可能な開口２６の外側において、光路空間Ｋに対してＹ軸方向両側のそれぞれの所定位置に設けられている。終端光学素子ＦＬの下面１０と底板２４の上面２５との間の空間及びその近傍の気体は、排出口４０及び排出流路４１を介して、外部空間に排出可能である。
【００４９】
ノズル部材２０には、下向きに開口する空間が形成されており、液体回収口３３は、その開口の下端に形成され、回収流路３６の少なくとも一部は、その空間によって形成されている。なお、回収流路３６の圧力の最適値（許容範囲）は、例えば実験又はシミュレーションにより予め求めることができる。液体回収口３３は、露光光ＥＬの光路空間Ｋ（開口２６）に対して、液体供給口２１及び排出口４０の外側に設けられている。
【００５０】
上述のように、第１面３１及び第２面３２は、それぞれ液体ＬＱに対して親液性を有している。また、第１面３１と液体ＬＱとの接触角と、第２面３２と液体ＬＱとの接触角とはほぼ等しくなっている。なお、本実施形態においては、第１面３１及び第２面３２は、液体ＬＱに対して親液性（親水性）を有するチタン材料で形成されているが、第１面３１及び第２面３２の少なくとも一方を、例えばステンレス鋼（例えばＳＵＳ３１６）で形成し、その表面に親液性にするための親液化処理（表面処理）を施してもよい。親液化処理の一例としては、その表面に酸化クロムを付着する処理が挙げられる。具体的には、例えば株式会社神鋼環境ソリューションの「GOLDEP」処理あるいは「GOLDEP WHITE」処理が挙げられる。また、このような表面処理を施すことにより、ノズル部材２０から液体ＬＱへの不純物の溶出が抑えられる。
【００５１】
次に、上述した構成を有する露光装置ＥＸを用いてマスクＭのパターンの像を基板Ｐに露光する方法について説明する。
【００５２】
露光光ＥＬの光路空間Ｋを液体ＬＱで満たすために、制御装置３は、液体供給装置２２及び液体回収装置３７のそれぞれを駆動する。液体供給装置２２から送出された液体ＬＱは、ノズル部材２０の供給流路２３を流れた後、液体供給口２１より、終端光学素子ＦＬの下面１０と底板２４の上面２５との間の空間に供給される。終端光学素子ＦＬの下面１０と底板２４の上面２５との間の空間に液体ＬＱが供給されることにより、その空間に存在していた気体は、排出口４０及び開口２６等を介して外部に排出される。
【００５３】
終端光学素子ＦＬの下面１０と底板２４の上面２５との間の空間に供給された液体ＬＱは、開口２６を介して、ノズル部材２０の下面３０と基板Ｐ（基板ステージ２）との間の空間に流入し、光路空間Ｋを満たすように、ノズル部材２０と基板Ｐとの間に液浸空間ＬＳを形成する。このとき、制御装置３は、液体回収装置３７を用いて、単位時間当たり所定量の液体ＬＱを回収している。ノズル部材２０の下面３０と基板Ｐとの間の空間の液体ＬＱは、ノズル部材２０の液体回収口３３を含む液体回収領域３２Ａを介して回収流路３６に流入し、その回収流路３６を流れた後、液体回収装置３７に回収される。
【００５４】
このように、制御装置３は、光路空間Ｋに対して、単位時間当たり所定量の液体ＬＱを液体供給口２１より供給するとともに単位時間当たり所定量の液体ＬＱを液体回収口３３より回収することで、投影光学系ＰＬと基板Ｐとの間の露光光ＥＬの光路空間Ｋを液体ＬＱで満たすように、液浸空間ＬＳを形成する。そして、制御装置３は、露光光ＥＬの光路空間Ｋを液体ＬＱで満たした状態で、投影光学系ＰＬと基板Ｐとを相対的に移動しながらマスクＭのパターンの像を投影光学系ＰＬ及び液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して基板Ｐ上に投影する。本実施形態の露光装置ＥＸは、Ｙ軸方向を走査方向とする走査型露光装置であり、制御装置３は、基板ステージ２を制御して、基板Ｐを所定速度でＹ軸方向に移動しながら、基板Ｐの走査露光を実行する。
【００５５】
このような走査型露光装置において、ノズル部材２０の構造によっては、例えば基板Ｐの移動速度（走査速度）の高速化、あるいは基板Ｐの移動距離の長大化に伴って、液体回収口３３を介して液体ＬＱを十分に回収することができず、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの一部が、ノズル部材２０の下面３０と基板Ｐの表面との間の空間よりも外側へ漏出する可能性がある。
【００５６】
例えば、図９に示すように、ノズル部材２０の下面３０のうち、露光光ＥＬの光路空間Ｋの走査方向（Ｙ軸方向）側に延在する延在領域の全域が基板Ｐの表面（ＸＹ平面）と略平行に設けられている場合、液浸空間ＬＳ（ノズル部材２０）に対して基板Ｐを走査方向（Ｙ軸方向）に移動すると、液浸空間ＬＳの液体ＬＱとその外側の空間との界面（気液界面）ＬＧの移動距離及び移動速度の少なくとも一方が大きくなり、液体ＬＱが漏出する可能性がある。すなわち、図９（Ａ）の模式図に示すような第１状態から、液浸空間ＬＳに対して基板Ｐを−Ｙ方向に所定速度で所定距離だけ移動し、図９（Ｂ）に示すような基板Ｐの移動中における第２状態となった場合、液浸空間ＬＳが拡大して、液浸空間ＬＳの液体ＬＱがノズル部材２０の外側に漏出する可能性がある。
【００５７】
また、図１０（Ａ）に示すように、ノズル部材２０の下面３０のうち、露光光ＥＬの光路空間Ｋの走査方向（Ｙ軸方向）側に延在する延在領域内に液体回収口３３を含む液体回収領域３２Ａが設けられている場合、液浸空間ＬＳ（ノズル部材２０）に対して基板Ｐを−Ｙ方向に所定速度で所定距離だけ移動すると、液体回収領域３２Ａと基板Ｐとの間において液体ＬＱが基板Ｐ上で薄い膜となり、その基板Ｐ上の液体ＬＱが液体回収領域３２Ａの外側（＋Ｙ側）に漏出する現象が生じる可能性がある。すなわち、光路空間Ｋ（開口２６）に対してＹ軸方向側の延在領域に液体回収口３３を含む液体回収領域３２Ａを設けた場合、ノズル部材２０の下面３０のＹ軸方向に関して、第１面３１（非液体回収領域）と液体回収領域３２Ａとで表面状態が変わることとなり、ノズル部材２０の下面３０から液体ＬＱが離れてしまう可能性がある。そして、ノズル部材２０の液体回収領域３２Ａと基板Ｐとの間に存在する液体ＬＱのうち、液体回収領域３２Ａの近傍に存在する液体ＬＱは、液体回収領域３２Ａに回収されるものの、基板Ｐの表面の近傍に存在する液体ＬＱは、基板Ｐとの表面張力等によって、基板Ｐ上で薄い膜となる現象が生じる可能性がある。その基板Ｐ上に形成された液体ＬＱの薄い膜は、液体回収領域３２Ａとは離れているため、液体回収領域３２Ａによって回収されず、基板Ｐの移動とともに、液体回収領域３２Ａの外側（ノズル部材２０と基板Ｐとの間の空間の外側）へ漏出する現象が生じる場合がある。また、このような現象が生じると、例えば図１０（Ｂ）に示すように、液体回収領域３２Ａの外側に引き出された液体ＬＱの膜が千切れ、例えば滴となって基板Ｐ上に残留する可能性がある。
【００５８】
また、図１１の模式図に示すように、ノズル部材２０の下面３０のうち、露光光ＥＬの光路空間Ｋの走査方向（Ｙ軸方向）側に延在する延在領域において、ＸＹ平面と平行な平坦部と、この平坦部の−Ｙ側に配置され、ＸＹ平面に対して大きな角度（例えば５０°）を有する斜面部とが形成されている場合、液浸空間ＬＳに対して基板Ｐを−Ｙ方向に所定速度で所定距離だけ移動すると、ノズル部材２０の下面３０と基板Ｐの表面との間に存在する液体ＬＱの一部が、平坦部と斜面部との境界でノズル部材２０の下面３０から離れ（剥離し）、基板Ｐ上に液体ＬＱの薄い膜を形成する可能性がある。この場合も、基板Ｐの移動とともに、液体ＬＱがノズル部材２０と基板Ｐとの間の空間の外側へ漏出したり、滴となって基板Ｐ上に残留する現象が生じる可能性がある。
【００５９】
そして、図９、図１０、及び図１１を参照して説明したような、液体ＬＱの漏出の原因となる現象、すなわち液浸空間ＬＳの界面ＬＧの移動距離及び移動速度の少なくとも一方が大きくなったり、ノズル部材２０の下面３０から液体ＬＱが離れたりするなどの現象は、基板Ｐの移動速度（走査速度）の高速化、あるいは基板Ｐの移動距離の長大化に伴って発生しやすくなる。
【００６０】
また、図９、図１０、図１１においては、液浸空間ＬＳに対して基板ＰをＹ軸方向（走査方向）に移動する場合を例にして説明したが、例えば基板Ｐの複数のショット領域を順次露光するとき、基板Ｐ（基板ステージ２）はＹ軸方向（走査方向）のみならず、Ｘ軸方向（ステッピング方向）にも移動する。また、計測処理等、所定の処理を実行するために、例えば液浸空間ＬＳを基板ステージ２の上面２Ｆに移動するときなどにおいても、液浸空間ＬＳに対して基板Ｐ（基板ステージ２）をＸ軸方向及びＹ軸方向の少なくとも一方に移動する場合がある。したがって、ノズル部材２０と基板Ｐとの間の空間から液体ＬＱが漏出する現象は、基板ＰがＹ軸方向へ移動するときのみならず、基板ＰがＸ軸方向へ移動するときにも生じる可能性がある。
【００６１】
本実施形態においては、基板Ｐを移動した場合にも、液浸空間ＬＳの拡大を抑え、且つノズル部材２０の下面３０から液体ＬＱが離れないように、基板Ｐの表面と対向するノズル部材２０の下面３０の状態が最適化されている。具体的には、本実施形態においては、第１面３１と第２面３２との位置関係、及び第１面３１及び第２面３２それぞれの表面状態が最適化されている。
【００６２】
上述のように、第１面３１は、基板Ｐの表面とほぼ平行な平坦面であって親液性を有しており、基板Ｐの表面と第１面３１との間に存在する液体ＬＱは、第１面３１に密着し、露光光ＥＬの光路空間Ｋを満たすための液体ＬＱは、基板Ｐの表面と第１面３１との間において良好に保持される。第２面３２は、露光光ＥＬの光路空間ＫからＹ軸方向に離れるにつれて基板Ｐとの間隔が大きくなる斜面であって親液性を有している。また、第１面３１と第２面３２とがなす角度は最適値に設定されており、第１面３１と第２面３２との間には段差がほぼ無い。例えば、第１面３１と第２面３２とがなす角度は、１０度以下（例えば約４度）に設定される。さらに、液体回収口３３を含む液体回収領域３２Ａは、露光光ＥＬの光路空間Ｋに対してＹ軸方向側及びＸ軸方向側には配置されておらず、基板Ｐの表面との間で液体ＬＱを良好の保持可能な非液体回収領域３２Ｂが、露光光ＥＬの光路空間Ｋに対してＹ軸方向の両側、及びＸ軸方向の両側に配置されている。
【００６３】
このような第１面３１及び第２面３２を含む下面３０を有するノズル部材２０を用いた場合、露光光ＥＬの光路空間Ｋを液体ＬＱで満たすように液浸空間ＬＳを形成した状態で基板Ｐを移動しても、液浸空間ＬＳの拡大を抑え、ノズル部材２０の下面３０と基板Ｐの表面との間に存在する液体ＬＱをノズル部材２０の下面３０から離さない（剥離させない）ようにすることができる。
【００６４】
図１２は、本実施形態に係るノズル部材２０の下面３０と基板Ｐの表面との間に液体ＬＱが存在する場合において、基板ＰをＹ軸方向に移動したときの液浸空間ＬＳの挙動を説明するための模式図である。図１２（Ａ）に示す第１状態（第１面３１と基板Ｐとの間に液体ＬＱが保持されている状態）から、基板Ｐを液浸空間ＬＳに対して−Ｙ方向に所定速度で所定距離だけ移動した場合、図１２（Ｂ）に示すような第２状態となる。第２面３２（非液体回収領域３２Ｂ）と基板Ｐとの間の距離Ｄ２は、第１面３１と基板Ｐとの間の距離Ｄ１よりも大きく、第２面３２と基板Ｐとの間の空間は、第１面３１と基板Ｐとの間の空間よりも大きいため、図１２（Ｂ）に示すような基板Ｐの移動中の第２状態においては、液浸空間ＬＳの液体ＬＱには、上方に移動する成分Ｆ１と、水平方向に移動する成分Ｆ２とが生成される。成分Ｆ１は、具体的には、第２面３２（非液体回収領域３２Ｂ）に沿って斜め上方に移動する成分である。したがって、基板Ｐを移動したとき、図１２（Ａ）に示すような第１状態での界面ＬＧと、図１２（Ｂ）に示す基板Ｐの移動中の第２状態での界面ＬＧとの距離を比較的小さくすることができる。そのため、図９を参照して説明したような、液浸空間ＬＳが拡大する現象の発生を抑制することができる。
【００６５】
また、第１面３１と第２面３２との位置関係、具体的には、第１面３１と第２面３２とがなす角度が最適化されているため、液浸空間ＬＳに対して基板Ｐを高速に移動した場合でも、図１１を参照して説明したような、ノズル部材２０の下面３０から液体ＬＱが離れる現象の発生を抑え、ノズル部材２０の下面３０（非液体回収領域３２Ｂ）に液体ＬＱを密着させることができる。
【００６６】
また、本実施形態においては、第１面３１と第２面３２との位置関係が最適化されているとともに、ノズル部材２０の下面３０のうち、露光光ＥＬの光路空間Ｋの走査方向（Ｙ軸方向）側の延在領域には液体回収領域３２Ａが配置されておらず、非液体回収領域３２Ｂが配置されているので、ノズル部材２０の下面３０（非液体回収領域３２Ｂ）と基板Ｐの表面との間で液体ＬＱを良好に保持することができる。したがって、図１０、図１１等を参照して説明したような、ノズル部材２０の下面３０から液体ＬＱが離れる現象の発生を抑え、ノズル部材２０の下面３０（非液体回収領域３２Ｂ）に液体ＬＱを密着させることができる。
【００６７】
また、図１２においては、基板ＰをＹ軸方向に移動する場合を例にして説明したが、上述のように、基板ＰはＸ軸方向にも移動する。本実施形態においては、ノズル部材２０の下面３０のうち、露光光ＥＬの光路空間ＫのＸ軸方向側の延在領域にも液体回収領域３２Ａが配置されておらず、非液体回収領域３２Ｂが配置されているので、液浸空間ＬＳに対して基板ＰをＸ軸方向に移動するときにおいても、ノズル部材２０の下面３０（非液体回収領域３２Ｂ）と基板Ｐの表面との間で液体ＬＱを良好に保持することができる。
【００６８】
また、例えば露光中において、基板Ｐ（基板ステージ２）が水平面内においてＹ軸方向（Ｘ軸方向）に対して傾斜方向に移動する場合においても、液体ＬＱは、ノズル部材２０の液体回収領域３２Ａを含む第２面３２と基板Ｐとの間で良好に保持される。また、液体回収領域３２Ａは、その液体回収領域３２Ａ（多孔部材３４の下面３５）に接触した液体ＬＱを回収することができ、液浸空間ＬＳの拡大を抑えることができる。
【００６９】
以上説明したように、ノズル部材２０の下面３０において、非液体回収領域３２Ｂを、Ｙ軸方向に関して露光光ＥＬの光路空間Ｋの両側、及びＸ軸方向に関して露光光ＥＬの光路空間Ｋの両側に配置したので、液浸空間ＬＳに対して基板ＰをＸ軸方向及びＹ軸方向に移動した場合でも、液浸空間ＬＳが拡大したり、液体ＬＱが漏出することを抑制することができる。また、非液体回収領域３２Ｂを含む第２面３２は、基板Ｐの表面に対して第１面３１よりも離れた位置に配置されているので、液浸空間ＬＳに対して基板ＰをＹ軸方向及びＸ軸方向に移動する場合においても、液浸空間ＬＳの界面ＬＧの移動距離及び移動速度の増大を抑え、液浸空間ＬＳが拡大することを抑制することができる。
【００７０】
そして、液体ＬＱの漏出を抑えることで、例えば、基板ステージ２に保持されている基板Ｐの表面の面位置情報を検出するフォーカス・レベリング検出系が、光路空間Ｋに対してノズル部材２０よりも外側で基板Ｐの面位置情報を検出する場合、そのフォーカス・レベリング検出系の検出精度を維持することができる。すなわち、フォーカス・レベリング検出系が、光路空間Ｋの液体ＬＱを介さずに、光路空間Ｋに対してノズル部材２０よりも外側の基板Ｐの表面に基板Ｐの面位置情報を検出するための検出光を照射する場合、液体ＬＱの漏出を抑制することで、フォーカス・レベリング検出系は液体ＬＱを介さずに基板Ｐの面位置情報を精度良く検出することができる。また、フォーカス・レベリング検出系に限らず、光路空間Ｋに対してノズル部材２０の外側に設けられ、液体ＬＱを介さずに所定面上に検出光を照射して検出処理を行う所定の検出装置、例えば、基板Ｐ上のアライメントマーク及び基板ステージ２上に設けられた基準マーク等を検出するオフアクシス方式のアライメント系の検出精度を維持することもできる。
【００７１】
また、本実施形態においては、基板Ｐ上に液体ＬＱが残留することを抑制することができるので、液体ＬＱの気化によって基板Ｐ上に液体の付着跡（所謂、ウォーターマーク）が形成されるのを抑制することができる。また、液体ＬＱが残留したり、漏出したり、飛散したりすることに起因する周辺機器及び周辺部材への影響を抑えることができる。
【００７２】
また、ノズル部材２０は、光路空間Ｋの周囲に、基板Ｐの表面に近い位置に配置される第１面３１を有しているため、基板Ｐとの間で液体ＬＱを良好に保持することができる。したがって、基板Ｐの露光中等においても、露光光ＥＬの光路空間Ｋを液体ＬＱで確実に満たすことができ、光路空間Ｋから液体ＬＱが無くなってしまう状態（液切れ状態）、すなわち光路空間Ｋに気体部分が生成されてしまうといった不都合を防止することができる。
【００７３】
また、本実施形態においては、ノズル部材２０の下面３０において、液体回収領域３２Ａと非液体回収領域３２Ｂとの境界には段差がほぼ無いので、段差に起因して液体ＬＱが漏出したり、液浸空間ＬＳの液体ＬＱ中に気泡が発生したり混入する等の不都合を抑制することができる。
【００７４】
また、本実施形態においては、ノズル部材２０は排気口４０を有しているため、光路空間Ｋを満たす液体ＬＱ中に気泡が生成されてしまう不都合が抑制される。したがって、露光光ＥＬを基板Ｐまで良好に到達させることができる。
【００７５】
なお、本実施形態においては、非液体回収領域３２Ｂの下面３０側から見た形状は、光路空間Ｋから外側に向かうにつれて漸次拡がる形状であり、液体回収領域３２Ａも、光路空間Ｋから外側に向かうにつれて漸次拡がる形状であるが、他の形状でもよく、例えば長方形状でもよい。
【００７６】
なお、本実施形態においては、液体回収領域３２Ａ及び非液体回収領域３２Ｂのそれぞれは平坦な平面状であるが、液体回収領域３２Ａ及び非液体回収領域３２Ｂの少なくとも一方が曲面でもよい。また、液体回収領域３２Ａ及び非液体回収領域３２Ｂの少なくとも一方が、互いに異なる方向を向く複数の平面の組み合わせであってもよい。
【００７７】
また、本実施形態においては、第１面３１と第２面３２との境界には段差がほぼ無く、液体回収領域３２Ａと非液体回収領域３２Ｂとの境界にも段差がほぼ無いが、液体ＬＱの漏出及び気泡の発生等を抑制できる範囲内であれば、第１面３１と第２面３２との境界に段差があってもよいし、液体回収領域３２Ａと非液体回収領域３２Ｂとの境界に段差があってもよい。また、第２面３２は、必ずしも第１面３１に対して傾斜している必要は無く、液浸空間ＬＳの拡大等を抑えることができるのであれば、第２面３２がＸＹ平面とほぼ平行であってもよい。
【００７８】
なお、上述の実施形態の液体ＬＱは水であるが、水以外の液体であってもよい、例えば、露光光ＥＬの光源がＦ２レーザである場合、このＦ２レーザ光は水を透過しないので、液体ＬＱとしてはＦ２レーザ光を透過可能な例えば、過フッ化ポリエーテル（ＰＦＰＥ）やフッ素系オイル等のフッ素系流体であってもよい。また、液体ＬＱとしては、その他にも、露光光ＥＬに対する透過性があってできるだけ屈折率が高く、投影光学系ＰＬや基板Ｐ表面に塗布されているフォトレジストに対して安定なもの（例えばセダー油）を用いることも可能である。また、液体ＬＱとしては、屈折率が１．６〜１．８程度のものを使用してもよい。更に、石英や蛍石よりも屈折率が高い（例えば１．６以上）材料で光学素子ＬＳ１を形成してもよい。
【００７９】
なお、上述の実施形態の投影光学系は、終端光学素子ＦＬの像面側の光路空間Ｋを液体ＬＱで満たしているが、国際公開第２００４／０１９１２８号パンフレットに開示されているように、終端光学素子ＦＬの物体面側の光路空間も液体で満たす投影光学系を採用することもできる。
【００８０】
また、上述の実施形態において、ノズル部材の構成は上述のものに限られず、例えば国際公開第２００４／０８６４６８号パンフレット、国際公開第２００５／０２４５１７号パンフレットに開示されている液浸システムを用いることもできる。
【００８１】
なお、上述の実施形態の基板Ｐとしては、半導体デバイス製造用の半導体ウエハのみならず、ディスプレイデバイス用のガラス基板、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等が適用される。
【００８２】
露光装置ＥＸとしては、マスクＭと基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニングステッパ）の他に、マスクＭと基板Ｐとを静止した状態でマスクＭのパターンを一括露光し、基板Ｐを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパ）にも適用することができる。
【００８３】
また、露光装置ＥＸとしては、第１パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で第１パターンの縮小像を投影光学系（例えば１／８縮小倍率で反射素子を含まない屈折型投影光学系）を用いて基板Ｐ上に一括露光する方式の露光装置にも適用できる。この場合、更にその後に、第２パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で第２パターンの縮小像をその投影光学系を用いて、第１パターンと部分的に重ねて基板Ｐ上に一括露光するスティッチ方式の一括露光装置にも適用できる。また、スティッチ方式の露光装置としては、基板Ｐ上で少なくとも２つのパターンを部分的に重ねて転写し、基板Ｐを順次移動させるステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用できる。
【００８４】
また、本発明は、特開平１０−１６３０９９号公報、特開平１０−２１４７８３号公報、特表２０００−５０５９５８号公報などに開示されているような複数の基板ステージを備えたマルチステージ型の露光装置にも適用できる。
【００８５】
更に、特開平１１−１３５４００号公報や特開２０００−１６４５０４号公報に開示されているように、基板を保持する基板ステージと基準マークが形成された基準部材、及び各種の光電センサなどを搭載した計測ステージとを備えた露光装置にも本発明を適用することができる。また、複数の基板ステージと計測ステージとを備えた露光装置にも適用することができる。
【００８６】
露光装置ＥＸの種類としては、基板Ｐに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置に限られず、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。
【００８７】
なお、上述の実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスクを用いたが、このマスクに代えて、例えば米国特許第６，７７８，２５７号公報に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する電子マスクを用いてもよい。
【００８８】
また、国際公開第２００１／０３５１６８号パンフレットに開示されているように、干渉縞を基板Ｐ上に形成することによって、基板Ｐ上にライン・アンド・スペースパターンを露光する露光装置（リソグラフィシステム）にも本発明を適用することができる。
【００８９】
上述の実施形態の露光装置ＥＸは、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【００９０】
半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図１３に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、デバイスの基材である基板を製造するステップ２０３、上述した実施形態の露光装置ＥＸによりマスクのパターンを基板に露光する露光工程及び露光後の基板を現像する現像工程などを含む基板処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。
【図面の簡単な説明】
【００９１】
【図１】本実施形態に係る露光装置を示す概略構成図である。
【図２】ノズル部材近傍を示す概略斜視図の一部破断図である。
【図３】ノズル部材を下側から見た斜視図である。
【図４】ノズル部材の近傍を示す側断面図であって、図２のＡ−Ａ断面矢視図に相当する図である。
【図５】ノズル部材の近傍を示す側断面図であって、図２のＢ−Ｂ断面矢視図に相当する図である。
【図６】ノズル部材の近傍を示す側断面図であって、図２のＣ−Ｃ断面矢視図に相当する図である。
【図７】ノズル部材の近傍を示す側断面図であって、図２のＤ−Ｄ断面矢視図に相当する図である。
【図８】ノズル部材を下側から見た平面図である。
【図９】基板の移動に伴う液体の挙動を説明するための模式図である。
【図１０】基板の移動に伴う液体の挙動を説明するための模式図である。
【図１１】基板の移動に伴う液体の挙動を説明するための模式図である。
【図１２】本実施形態に係るノズル部材を用いたときの基板の移動に伴う液体の挙動を説明するための模式図である。
【図１３】マイクロデバイスの製造工程の一例を示すフローチャート図である。
【符号の説明】
【００９２】
２０…ノズル部材、２１…液体供給口、３０…下面、３１…第１面、３２…第２面、３２Ａ…液体回収領域、３２Ｂ…非液体回収領域、３３…液体回収口、３４…多孔部材、３５…下面、ＬＳ…液浸空間、ＬＱ…液体、ＥＬ…露光光、ＥＸ…露光装置、Ｋ…光路空間、ＬＱ…液体、Ｐ…基板
【図１】
2008021718.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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