(57)【要約】【課題】アーム部材の貫通孔に繰り返し衝撃力がかかっても損傷を防止できること。【解決手段】アーム１５は、基材３０と、基材３０に形成された連結孔（貫通孔）１５ｃと、基材３０の少なくとも連結孔１５ｃが形成された部分に、物理的蒸着法により成膜された硬質膜（３１＋３２）とを含む。【選択図】図５
2008026819.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、
前記基材に形成された複数の貫通孔と、
前記基材の少なくとも前記貫通孔が形成された部分に、物理的蒸着法により成膜された硬質膜とを含むことを特徴とするアーム部材。
【請求項２】
請求項１に記載のアーム部材において、
前記硬質膜は、蒸着材料をイオン化して成膜されたものであることを特徴とするアーム部材。
【請求項３】
請求項２に記載のアーム部材において、
前記硬質膜は、イオンプレーティングにより成膜されたものであることを特徴とするアーム部材。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載のアーム部材において、
前記硬質膜は、金属化合物膜であることを特徴とするアーム部材。
【請求項５】
請求項４に記載のアーム部材において、
前記金属化合物膜は、表面の反射率が９％以下であることを特徴とするアーム部材。
【請求項６】
請求項４または５に記載のアーム部材において、
前記金属化合物膜の厚さが２〜１０μｍであることを特徴とするアーム部材。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載のアーム部材において、
前記硬質膜は、前記基材との密着性が高い下層膜と、前記下層膜よりも硬質な表層膜とを含むことを特徴とするアーム部材。
【請求項８】
請求項７に記載のアーム部材において、
前記硬質膜は、ＣｒＮの下層膜とＣｒ２Ｏ３の表層膜とからなる構造、またはＴｉＮの下層膜とＴｉＡｌＮの表層膜とからなる構造を有することを特徴とするアーム部材。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか一項に記載のアーム部材において、
前記硬質膜が形成される基材は、チタンまたはチタン合金であることを特徴とするアーム部材。
【請求項１０】
開口を開閉するシャッタ羽根と、
前記シャッタ羽根に取り付けられる連結ピンと、
前記連結ピンを介して前記シャッタ羽根と相対運動する、請求項１〜９のいずれか一項に記載のアーム部材とを具備することを特徴とするシャッタ装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載のシャッタ装置を備えることを特徴とするカメラ。
【請求項１２】
複数の連結孔を有する基材を準備し、前記基材の少なくとも前記貫通孔が形成された部分に対してイオンプレーティングにより硬質膜を形成することを特徴とするアーム部材の製造方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載のアーム部材の製造方法において、
前記アーム部材の基材は、複数個の前記アーム部材を有し、個々の前記アーム部材が離脱しないように連結部を設けて打抜かれた平板状シートであり、
前記イオンプレーティングの後に、前記連結部を切り離すことを特徴とするアーム部材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アーム部材、シャッタ装置およびそのシャッタ装置を備えるカメラに関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的なフォーカルプレーンシャッタでは、複数枚のシャッタ羽根がそれぞれ連結ピンを介して回転自在にアームに取り付けられている。すなわち、アームに設けられた複数の貫通孔（連結孔）に連結ピンが回転自在に嵌合されている。アームの回動に従って、複数枚のシャッタ羽根は、開口を有する基板表面に沿って走行し開口の開閉動作を行う。開閉動作の終了時には急激にアームの回動を停止するため、アームの嵌合部分に衝撃力が作用する。シャッタレリーズの度に繰り返し発生する衝撃力によってアームと連結ピンとの間で磨耗が進行する。そこで、磨耗を抑制して磨耗粉の発生を防止するために、連結ピンの表面硬度をアームの表面硬度よりも大きくする技術が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−３２５５５３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、従来の技術では、連結ピンからの磨耗粉の発生は抑制されるが、繰り返し衝撃力によるアームの損傷は防止するのが困難である。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
（１）本発明の請求項１に係る発明のアーム部材は、基材と、基材に形成された複数の貫通孔と、基材の少なくとも貫通孔が形成された部分に、物理的蒸着法により成膜された硬質膜とを含むことを特徴とする。
（２）請求項２に係る発明は、請求項１に記載のアーム部材において、硬質膜は、蒸着材料をイオン化して成膜されたものであることを特徴とする。
（３）請求項３に係る発明は、請求項２に記載のアーム部材において、硬質膜は、イオンプレーティングにより成膜されたものであることを特徴とする。
（４）請求項４に係る発明は、請求項１〜３のいずれか一項に記載のアーム部材において、硬質膜は、金属化合物膜であることを特徴とする。
（５）請求項５に係る発明は、請求項４に記載のアーム部材において、金属化合物膜は、表面の反射率が９％以下であることを特徴とする。
（６）請求項６に係る発明は、請求項４または５に記載のアーム部材において、金属化合物膜の厚さが２〜１０μｍであることを特徴とする。
（７）請求項７に係る発明は、請求項１〜６のいずれか一項に記載のアーム部材において、硬質膜は、基材との密着性が高い下層膜と、下層膜よりも硬質な表層膜とを含むことを特徴とする。
（８）請求項８に係る発明は、請求項７に記載のアーム部材において、硬質膜は、ＣｒＮの下層膜とＣｒ２Ｏ３の表層膜とからなる構造、またはＴｉＮの下層膜とＴｉＡｌＮの表層膜とからなる構造を有することを特徴とする。
（９）請求項９に係る発明は、請求項１〜８のいずれか一項に記載のアーム部材において、硬質膜が形成される基材は、チタンまたはチタン合金であることを特徴とする。
（１０）請求項１０に係る発明のシャッタ装置は、開口を開閉するシャッタ羽根と、シャッタ羽根に取り付けられる連結ピンと、連結ピンを介してシャッタ羽根と相対運動する、請求項１〜９のいずれか一項に記載のアーム部材とを具備することを特徴とする。
（１１）請求項１１に係る発明のカメラは、請求項１０に記載のシャッタ装置を備えることを特徴とする。
（１２）請求項１２に係る発明のアーム部材の製造方法は、複数の連結孔を有する基材を準備し、基材の少なくとも貫通孔が形成された部分に対してイオンプレーティングにより硬質膜を形成することを特徴とする。
（１３）請求項１３に係る発明は、請求項１２に記載のアーム部材の製造方法において、アーム部材の基材は、複数個のアーム部材を有し、個々のアーム部材が離脱しないように連結部を設けて打抜かれた平板状シートであり、イオンプレーティングの後に、連結部を切り離すことを特徴とする。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、アーム部材の貫通孔が形成された部分に、物理的蒸着法を用いて硬質膜を形成することにより、アーム部材の損傷を防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
以下、図面を参照しながら、本発明の実施の形態を詳細に説明する。
図１は、本発明の実施の形態による一眼レフデジタルカメラの全体構成図である。一眼レフデジタルカメラ１では、カメラボディ２に撮影レンズ３が交換可能に取り付けられる。カメラボディ２は、クイックリターンミラー４、ペンタプリズム５、接眼レンズ６、サブミラー７、焦点検出装置８、撮像素子９およびシャッタ装置１００を備えている。シャッタ装置１００は、フォーカルプレーンシャッタと呼ばれるものであり、撮像素子９に近接して配置されている。また、撮影レンズ３は、その鏡筒内にレンズ、絞りなどからなる撮影光学系を有する。
【０００８】
撮影レンズ３を透過した被写体からの光束Ｌは、その一部がクイックリターンミラー４により図中上方に反射され、ペンタプリズム５および接眼レンズ６を介して撮影者の目に達する。一方、光束Ｌの他の一部はクイックリターンミラー４を透過し、サブミラー７により図中下方に反射されて焦点検出装置８へ導かれる。シャッターがレリーズされると、フォーカルプレーンシャッタ１００が動作を開始し、クイックリターンミラー４とサブミラー７が跳ね上げられて撮影光路から退避する。撮影レンズ３を透過した光束Ｌのすべては撮像素子９へ導かれ、撮像素子９の受光面に被写体像が形成される。
【０００９】
図２、図３は、本発明の実施の形態によるシャッタ装置１００（フォーカルプレーンシャッタ１００）の全体構成図である。図２はシャッタがチャージされた状態、図３はシャッタがレリーズされて露光動作が終了した状態を示す。図２、図３に示されるフォーカルプレーンシャッタ１００は、先幕１０、後幕２０およびシャッタ基板３０を備えている。
【００１０】
先幕１０は、４枚の遮光羽根（シャッタ羽根）１１〜１４と先幕主アーム１６と先幕従アーム１５とを含む。先幕主アーム１６は軸受孔１６ａ，１６ｂと４つの連結孔１６ｃとを有し、先幕従アーム１５は軸受孔１５ａと４つの連結孔１５ｃとを有する。連結孔１６ｃ，１５ｃは、それぞれアーム１６，１５を貫通して形成される孔である。４つの連結孔１６ｃ，１５ｃにそれぞれ連結ピン（不図示）を嵌合させ、これらの連結ピンを４枚の遮光羽根１１〜１４に後述する「加締め」で取り付けているので、これらの連結ピンはカシメピンとも呼ばれる。これにより、先幕主アーム１６と先幕従アーム１５は、遮光羽根１１〜１４を回転可能に保持する。
【００１１】
後幕２０は、４枚の遮光羽根（シャッタ羽根）２１〜２４と後幕主アーム２６と後幕従アーム２５とを含む。後幕２０も先幕１０と同様に、後幕主アーム２６は軸受孔２６ａ，２６ｂと４つの連結孔２６ｃとを有し、後幕従アーム２５は軸受孔２５ａと４つの連結孔２５ｃとを有する。連結孔２６ｃ，２５ｃは、それぞれアーム２６，２５を貫通して形成される孔である。４つの連結孔２６ｃ，２５ｃにそれぞれ連結ピン、すなわちカシメピン（不図示）を嵌合させ、これらのカシメピンを４枚の遮光羽根２１〜２４に加締めることにより、後幕主アーム２６と後幕従アーム２５は、遮光羽根２１〜２４を回転可能に保持する。
【００１２】
図２では、先幕１０の遮光羽根１１〜１４は、展開してシャッタ基板３０に形成された開口窓３０ａを覆う遮蔽状態にあり、後幕２０の遮光羽根２１〜２４は、開口窓３０ａの上方に重なり合って開口窓３０ａを開放する開放状態にある。すなわち、先幕１０が遮蔽状態、後幕２０が開放状態にあって、露光を阻止している。
【００１３】
図３では、先幕１０の遮光羽根１１〜１４は、開口窓３０ａの下方に重なり合って開口窓３０ａを開放する開放状態にあり、後幕２０の遮光羽根２１〜２４は、展開して開口３０ａを覆う遮蔽状態にある。すなわち、先幕１０が開放状態、後幕２０が遮蔽状態にあって、露光を阻止している。
【００１４】
回動軸Ｘ１，Ｘ２は、シャッタ基板３０に植設され、先幕従アーム１５、先幕主アーム１６は、回動軸Ｘ１、Ｘ２にそれぞれ回転可能に取り付けられ、平行リンク機構を構成する。先幕主アーム１６の軸受孔１６ｂを貫通している駆動ピン３１は、シャッタ基板３０のレンズ側（図２，３中、手前側）に設置されている不図示の駆動機構に設けられている。駆動ピン３１が回動軸Ｘ２周りに円弧運動することにより先幕主アーム１６が駆動され、その動きに従って先幕従アーム１５も駆動され、先幕１０の走行（露光動作）が行われる。
【００１５】
同様に、回動軸Ｘ３，Ｘ４もシャッタ基板３０に植設され、後幕従アーム２５、後幕主アーム２６は、回動軸Ｘ３、Ｘ４にそれぞれ回転可能に取り付けられ、平行リンク機構を構成する。後幕主アーム２６の軸受孔２６ｂを貫通している駆動ピン３２も駆動ピン３１と同様に、上述の不図示の駆動機構に設けられており、駆動ピン３２が回動軸Ｘ４周りに円弧運動することにより、後幕２０の走行（露光動作）が行われる。
【００１６】
図２のシャッタチャージ状態から図３の露光動作終了状態までのシャッタ動作は次の順番で行われる。先ず、シャッタがレリーズされると、遮光羽根１１〜１４が先幕従アーム１５、先幕主アーム１６の回動により、開口窓３０ａの上から下へ走行して開口窓３０ａを開いていく。一定時間経過後に、開口窓３０ａの上方に重なり合っていた遮光羽根２１〜２４が後幕従アーム２５、後幕主アーム２６の回動により、走行を開始しつつ展開して開口窓３０ａを覆っていく。
【００１７】
遮光羽根１１〜１４は、駆動ピン３１がブレーキ部材４１に衝突して先幕従アーム１５、先幕主アーム１６の回動が急停止することにより、走行の終了直前で急激に運動エネルギーを失って停止する。遮光羽根２１〜２４も、駆動ピン３２がブレーキ部材４２に衝突して後幕従アーム２５、後幕主アーム２６の回動が急停止することにより、走行の終了直前で急激に運動エネルギーを失って停止する。遮光羽根２１〜２４が開口窓３０ａを完全に遮蔽した時点で露光動作が終了する。
【００１８】
この一連のシャッタ動作では、露光動作終了の際に作用する慣性のために、各々の遮光羽根に取り付けられた各々のカシメピンと、これらのカシメピンが嵌合しているアームとの間で衝撃力が生じる。この衝撃力は、カシメピンの嵌合周面とアームの連結孔との間でシャッタをレリーズする度に繰り返し発生する。さらに、このような繰り返しのシャッタレリーズにより、カシメピンとアームの嵌合部分では繰り返しの摺動も生じている。特に、デジタルカメラ用のフォーカルプレーンシャッタでは、フィルム消費の心配をせずに済むので、銀塩フィルム用のカメラよりも必然的にシャッタレリーズ回数が多くなる傾向にある。そのため、衝撃力を受ける回数も多くなり、摺動距離を累積した総計も長くなる。
【００１９】
本実施の形態のフォーカルプレーンシャッタ１００においては、上述した衝撃力によりアームの連結孔が変形（例えば、孔拡がり）したり微小なクラックが生じるなどの損傷を防止し、また、衝撃や摺動によりアームの連結孔が磨耗するのを防止して磨耗粉の発生を抑制することが可能である。
【００２０】
図４は、本発明の実施の形態によるフォーカルプレーンシャッタに用いられる加締連結構造を模式的に示す断面図である。以下、アームの代表として先幕従アーム１５、遮光羽根の代表として遮光羽根１１を選んで説明する。図４に示される加締めによる連結構造では、アーム１５と遮光羽根１１は、カシメピン４０を介して相互に回転運動可能に連結されている。カシメピン４０は、軸心ＡＸに対して回転対称形状を呈しており、頭部４１、軸部４２および足部４３を有している。カシメピン４０の機能としては、足部４３が遮光羽根１１を挟持して固定し、軸部４２より径の大きい頭部４１が遮光羽根１１が抜け落ちないように阻止し、軸部４２がアーム１５の連結孔１５ｃに嵌合し、アーム１５の回動（円弧運動）による力を受けるともに連結孔１５ｃに対する回転軸となっている。したがって、アーム１５が回動する度に、軸部４２の周面と連結孔１５ｃの内周面との間で衝撃力および摩擦力が作用する。また、頭部４１の下面と連結孔１５ｃの上面との接触部分には摩擦力が作用する。
【００２１】
アーム１５は、例えば、チタンの基材表面に硬質膜が形成されている。遮光羽根１１は、例えば、薄板のＣＦＲＰ(炭素繊維強化プラスチック)を積層した複合材であり、表面に黒色潤滑塗装が施されている。カシメピン４０は、例えば、ステンレス鋼ＳＵＳ４３０（ＪＩＳ規定）で作製され、表面に黒色酸化処理が施されている。
【００２２】
図５は、本発明の実施の形態によるフォーカルプレーンシャッタのアームを模式的に示す部分断面図である。アーム１５は、チタン基材３０の表面全体にＣｒＮからなる下層膜３１を有し、さらに下層膜３１の表面全体にＣｒ２Ｏ３からなる表層膜３２を有する。図示されるように、連結孔１５ｃの内周面Ａにも、連結孔１５ｃの上面Ｂにも、下層膜３１および表層膜３２が二重に成膜されている。下層膜３１、表層膜３２は、いずれも硬質の膜であり、２層合わせた厚さは例えば２〜１０μｍの範囲が適切である。
【００２３】
下層膜３１を成膜するのは、主としてチタン基材３０に対する密着性向上を図るためである。表層膜３２を成膜するのは、主として連結孔１５ｃの磨耗や損傷を防止するためである。したがって、下層膜３１は、適度の硬さをもっていれば十分であり、厚さもそれ程厚くする必要はない。一方、表層膜３２は、膜の硬さ、厚さがアームの耐摩耗性や強度に大きく影響するので、下層膜３１よりも硬度が高く、ある程度以上の硬さと厚さが要求される。後述するイオンプレーティングで成膜した場合、下層膜３１であるＣｒＮのビッカース硬さは約１８００、表層膜３２であるＣｒ２Ｏ３のビッカース硬さは約３１００である。また、Ｃｒ２Ｏ３は濃いグレーの色調を呈しており、９％以下の反射率である。アームの表面が９％以下の反射率であれば、漏光防止の観点から十分である。このように、Ｃｒ２Ｏ３自体が低い反射率をもっているので、Ｃｒ２Ｏ３の表面に塗装などの黒色化処理をする必要はなくなる。なお、下層膜３１であるＣｒＮ、表層膜３２であるＣｒ２Ｏ３は、いずれもＣｒ原子を含むので、両者の密着性は良好である。
【００２４】
本実施の形態では、下層膜３１、表層膜３２の成膜は、イオンプレーティングによって行われる。イオンプレーティングは、金属、無機物、有機物などの蒸着材料を蒸発、イオン化して基板に対して成膜する蒸着法の一つであり、１０μｍ程度の比較的厚い成膜も可能である。その特徴としては、通常の蒸着法と比較して、（１）膜質が硬く、緻密である、（２）膜の付き廻わりが良好である、(３)基板との密着強度が大きいこと等が挙げられる。
【００２５】
図６は、本発明の実施の形態によるアーム１５の硬質膜形成に用いられるイオンプレーティング装置の概略構成図である。図に示されるイオンプレーティング装置５０は、気密性のあるチャンバ５１内に、蒸着材料（金属Ｃｒ）Ｓを収納する坩堝５２と、電子銃５３と、複数個のアーム１５を有する平板状シート５４と、コイル状電極５５とを収納している。この平板状シート５４は、個々のアーム１５が離脱しないように、平板状シート５４とシート本体とを連結する連結部Ｊを設けてアーム１５を打抜いたシートである。さらに、イオンプレーティング装置５０は、平板状シート５４に電気的に接続される直流電源５６と、コイル状電極５５に電気的に接続されるマッチングボックス５７と、高周波電源５８と、排気バルブ６１を介してチャンバ５１と配管接続される排気ポンプ６２と、リークバルブ６３を介してチャンバ５１と配管接続されるガス供給源６４とを有する。なお、マッチングボックス５７は、インピーダンスの整合をとるために設置されるものである。
【００２６】
イオンプレーティングによる成膜では、先ず、金属クロムを坩堝５２に入れ、リークバルブ６３を介してＮ２ガスをチャンバ５１内に導入しながら排気バルブ６１を介してチャンバ５１を排気することにより、所定のガス圧力を保持する。次に、電子銃５３からの電子ビームを坩堝５２中の金属Ｃｒに照射し、直流電源５６により所定の負電圧を平板状シート５４に印加し、高周波電源５８からマッチングボックス５７を介してコイル状電極５５へ所定の高周波電力を印加する。
【００２７】
この状態で、電子ビーム照射により加熱されて蒸発したＣｒ粒子は、電極コイル５５による放電領域でイオン化され、Ｎ２ガスと反応し、負バイアスが印加されている平板状シート５４に到達してＣｒＮの下層膜３１を厚さ１μｍ形成する。続いて、チャンバ５１内をＮ２ガス雰囲気からＯ２ガス雰囲気に置換した後に、同様の手法でＣｒ２Ｏ３の表層膜３２を厚さ２μｍ形成し、成膜処理が終了する。これにより、平板状シート５４の全面に２層構造の硬質膜が形成される。
【００２８】
イオンプレーティングの後に、平板状シート５４をチャンバ５１から取り出し、平板状シート５４の連結部Ｊを切断し、シート本体から個々のアーム１５を切り離す。このようにして、表裏両面、側面および連結孔１５ｃなどの孔内面に２層の硬質膜が形成されたアーム１５が完成する。但し、アーム１５を切り離した切断面には２層の硬質膜は形成されていない。
【００２９】
イオンプレーティング成膜法によれば、（１）アームの磨耗、変形やクラック発生などの損傷を防止するのに適した良好な硬質膜が得られる、（２）上述のように、大量のアーム１５を同時に処理できる、（３）下層膜３１、表層膜３２の成膜を連続的に行うことができる。したがって、イオンプレーティング成膜法は製造工程上からも有利である。なお、以上の説明では、先幕従アーム１５を例に挙げたが、先幕主アーム１６、後幕従アーム２５および後幕主アーム２６についても同様である。
【００３０】
次に、本実施の形態によるフォーカルプレーンシャッタ１００の耐久試験とその結果について説明する。フォーカルプレーンシャッタ１００は、チタン基材に厚さ１μｍのＣｒＮの下層膜３１と厚さ２μｍのＣｒ２Ｏ３の表層膜３２からなる硬質膜が形成されたアーム１５，１６，２５，２６と、遮光羽根１２〜１４、２１〜２４とをそれぞれカシメピン４０で連結した構造（図４参照）を有する。一方、本実施の形態によるフォーカルプレーンシャッタ１００と同じ加締連結構造をもつが、硬質膜を形成していないチタン製のアームを用いたフォーカルプレーンシャッタをこの耐久試験の比較例とした。但し、硬質膜の有無に関わらずアームの外形寸法は同じである。つまり、本実施の形態のフォーカルプレーンシャッタ１００と比較例のフォーカルプレーンシャッタでは、硬質膜の有無だけが異なる。
【００３１】
耐久試験では、幕速（シャッタ羽根の走行速度に対応）２．９ｍｓｅｃで２０万回の繰り返しシャッタレリーズを実施した。耐久試験後、比較例のフォーカルプレーンシャッタではアームの連結孔の変形（孔拡がり等）が発生したが、本実施の形態のフォーカルプレーンシャッタ１００では、連結孔の変形などの損傷は認められなかった。さらに、本実施の形態では、アームとカシメピンとの摺動部分から、磨耗粉が発生することもほとんど無いという結果が得られた。
【００３２】
上記の耐久試験では、厚さ１μｍの下層膜３１と厚さ２μｍの表層膜３２、つまり厚さ３μｍの硬質膜が形成されたアーム１５，１６，２５，２６を用い、２．９ｍｓｅｃで２０万回の耐久試験をクリアーした。硬質膜の厚さを変えていくつかの耐久試験を行った結果、硬質膜の厚さが２〜１０μｍの範囲であれば、２．９ｍｓｅｃで２０万回の耐久試験をクリアーし、より好ましい効果が得られた。また、硬質膜の厚さを０．５μｍと薄く形成した場合は、１０万回まではアームの連結孔の変形が発生することはなく、好ましい効果が得られた。一方、硬質膜の厚さを１０μｍより厚くすると、イオンプレーティングの成膜時間が増し、膜厚増加による強度の上昇と膜質の脆化が打ち消し合うために耐久性向上の効果はあるものの、その効果が小さくなるおそれがある。このことから、硬質膜の厚さは例えば２〜１０μｍの範囲が適切である。なお、下層膜３１は、上述したように密着性向上が主たる役割であるから、厚さは例えば１μｍ程度で十分である。
【００３３】
以上説明したように、本実施の形態によるフォーカルプレーンシャッタ１００は、アームが硬質膜でコーティングされているため、アームの連結孔の損傷を防止することができ、また、磨耗粉の発生も防止することができる。
【００３４】
このフォーカルプレーンシャッタ１００を搭載した一眼レフデジタルカメラ１（図１参照）は、アームの連結孔に変形などの損傷がなくなるので、シャッタレリーズ回数が増加しても当初のシャッタ性能（例えば、シャッタ秒時）が長く維持され、シャッタの耐久性が向上する。また、アームとカシメピンとの摺動による磨耗粉もほとんど全く発生しなくなるので、磨耗粉による撮像素子９の受光面の汚染を防止できる。したがって、撮像に際して常に良好な画質が得られる。これらの効果は、シャッタレリーズ回数が多くなる傾向にあるデジタルカメラにおいては特に顕著である。
【００３５】
上記の実施の形態に代えて様々な変形例が考えられる。硬質膜が形成されるアームの基材としては、チタンに限らず、チタン合金（例えば、Ｔｉ−１５％Ｖ−３％Ｃｒ−３％Ｓｎ−３％Ａｌ）を用いてもよい。また、ＣｒＮの下層膜３１、Ｃｒ２Ｏ３の表層膜３２の代わりに、ＴｉＮの下層膜３１、ＴｉＡｌＮの表層膜３２を用いてもよい。ＴｉＮのビッカース硬さは約２２００、ＴｉＡｌＮのビッカース硬さは約３０００である。また、ＴｉＡｌＮは濃い紫の色調を呈しており、９％以下の低い反射率である。上記の硬質膜は２層に限らず、表層膜３２として用いられるＣｒ２Ｏ３またはＴｉＡｌＮの単層としてもよいし、別種の硬質膜を加えた３層以上の多層膜としてもよい。また、硬質膜の形成領域は、アームの表面全体でなくともよく、アームの連結孔が形成されている部分、或いは、アームとカシメピンとの接触部分のみでもよい。
【００３６】
上記の実施の形態では、図６に示したように、複数個のアーム１５を有する平板状シート５４を被蒸着基板として用いたが、例えば、予め基材を個々のアームに分離しておき、これら複数個のアームを導電性の網状容器に収納し、この容器を被蒸着基板としてもよい。イオンプレーティング時には、この網状容器に負バイアスを印加することにより、収納されているアームに硬質膜を形成することができる。この方法でも、多数のアーム１５を同時に処理できる。
【００３７】
硬質膜の成膜方法としては、イオンプレーティングに限らず、蒸着粒子のイオン化を行う他の成膜法、例えば、イオンスパッタリングを採用することができる。イオン化した粒子を利用する物理的蒸着法は、通常の蒸着法と比較して、膜質が硬く、緻密であり、膜の付き廻わりが良好であり、基板（基材）との密着強度が大きいという特徴をもっている。このイオン化を利用する物理的蒸着法は、物理的蒸着法ではない成膜法、例えばメッキ法と比べても、メッキ法では形成できない金属化合物のような硬質の膜を形成可能という長所がある。また、このイオン利用の成膜法は、金属の窒化や酸化などの熱処理法と比べても、低温処理ができるので製品の熱変形がほとんどなく、熱処理法では厚い化合物層を形成するには長時間を要するのに対して短時間で厚い化合物膜を形成できるという長所がある。したがって、イオン化した粒子を利用する成膜法によれば、アームの変形、損傷を防止するのに適した良好な硬質膜が得られる。なお、イオン化を利用しない物理的蒸着法であっても、メッキ法や熱処理法などの化学反応を主体とする膜形成法と比べて上記の長所が挙げられるので、アームの硬質膜の形成手段として用いることができる。
【００３８】
本実施の形態のフォーカルプレーンシャッタ１００および上記変形例のアームを用いたフォーカルプレーンシャッタは、一眼レフデジタルカメラに限らず、フィルムタイプの一眼レフカメラにも適用できる。また、上記の実施の形態および変形例で説明したアームを用いたシャッタ装置は、一眼レフではない、いわゆるコンパクトカメラやカメラ内蔵携帯電話機などにも適用できる。さらに、上記の実施の形態および変形例で説明したアームは、フォーカルプレーンシャッタなどのシャッタ装置のみに用途は限られない。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明の実施の形態による一眼レフデジタルカメラの概略構成図である。
【図２】実施の形態によるシャッタ装置（フォーカルプレーンシャッタ）の全体構成図であり、シャッタがチャージされた状態を示す。
【図３】実施の形態によるシャッタ装置（フォーカルプレーンシャッタ）の全体構成図であり、露光動作終了状態を示す。
【図４】実施の形態によるフォーカルプレーンシャッタに用いられる加締連結構造を模式的に示す断面図である。
【図５】実施の形態によるフォーカルプレーンシャッタのアーム１５を模式的に示す部分断面図である。
【図６】実施の形態によるフォーカルプレーンシャッタのアームの成膜に用いられるイオンプレーティング装置の概略構成図である。
【符号の説明】
【００４０】
１：一眼レフデジタルカメラ        １０：先幕
１１〜１４：遮光羽根              １５：先幕従アーム
１６：先幕主アーム                １５ｃ，１６ｃ：連結孔（貫通孔）
２０：後幕                        ２１〜２４：遮光羽根
２５：後幕従アーム                ２６：後幕主アーム
２５ｃ，２６ｃ：連結孔（貫通孔）  ３０：基材（Ｔｉ）
３１：下層膜（ＣｒＮ）            ３２：表層膜（Ｃｒ２Ｏ３）
４０：カシメピン（連結ピン）      ５０：イオンプレーティング装置
１００：シャッタ装置（フォーカルプレーンシャッタ）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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