(57)【要約】【課題】大型で高画質な液晶ディスプレイであっても、広い面積にわたって均質な液晶パネルが得られるフィルム表面の平滑性に優れた光学フィルムロールを得ること。【解決手段】円筒状のコアを軸として、該コアの外周面に光学フィルムを巻き回してなるフィルムロールであって、該コアと光学フィルムとの界面における粒径５０μｍ以上の異物の個数が５個以下である光学フィルムロール。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
円筒状のコアを軸として、該コアの外周面に光学フィルムを巻き回してなるフィルムロールであって、該コアと光学フィルムとの界面における粒径５０μｍ以上の異物の個数が５個／ｍ２以下であることを特徴とする、光学フィルムロール。
【請求項２】
光学フィルムが環状オレフィン系樹脂からなるフィルムである請求項１記載の光学フィルムロール。
【請求項３】
環状オレフィン系樹脂が下記一般式（Ｉ）で表される化合物の（共）重合体である請求項２記載の光学フィルムロール。
【化１】
2008058491.tif 000003
（一般式（Ｉ）中、Ｒ1〜Ｒ4は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３０の炭化水素基、またはその他の１価の有機基であり、それぞれ同一または異なっていても良い。また、Ｒ1〜Ｒ4 のうち任意の２つが互いに結合して、単環または多環構造を形成しても良い。ｍは０または正の整数であり、ｐは０または正の整数である。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶パネル（ＬＣＤ）の表示部材に使用される光学フィルム、例えばＩＰＳ（Ｉｎ  Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｈｉｎｇ）モードやＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モードなどの液晶パネル用偏光板のフィルムに好適に用いられる光学フィルムロールに関する。
【背景技術】
【０００２】
急速に市場展開を進めている液晶パネルは、液晶のＯＮ−ＯＦＦによる偏光状態変化を可視化させたものであり、その表示原理から、通常、偏光子に光学フィルムが積層された偏光板が用いられている（例えば、特許文献１、特許文献２）。ところで、近年、液晶パネルは液晶ディスプレイの大型化に伴い、さらに大型化が進んでいる。その際に、偏光状態をコントロールするための偏光板および位相差フィルムも、より大型化が求められている。また、ＴＶ放送のハイビジョン化やデジタル放送化により、画質のより優れた液晶ディスプレイが市場より求められている。
【０００３】
しかしながら、従来では申し分なく使用されていた液晶パネルでも、上述の大型化や高画質化が進む上で、従来の光学フィルムや偏光板を使用した場合にはその性能を十分に引き出せない場合が発生するという問題があった。特に、黒表示状態の光の漏れに加え、色の変化（カラーシフト）や大型ディスプレイでのこれら特性の均一性が問題とされるようになってきている。
特に、溶液キャスト法あるいは溶融押出法により得られるフィルムをコアに巻き取って光学フィルムとする場合、さらには、該フィルムを延伸加工してコアに巻き取る際、該コアの表面に異物が付いていたりすると、巻き取られた光学フィルムにこの異物に起因して、周期的な傷（繰り返し打痕）がつくことがある。このような光学フィルムを用いて偏光板を作製すると、光学フィルムの均一性が損なわれるため、例えば大型テレビなどに用いる偏光板の歩留まりが悪くなる。
【特許文献１】特開２００５−９９０９７号公報
【特許文献２】特開２００４−２５８１８８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、大型で高画質な液晶ディスプレイであっても、広い面積にわたって均質な液晶パネルが得られるフィルム表面の平滑性に優れた光学フィルムロールを得ることを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、円筒状のコアを軸として、該コアの外周面に光学フィルムを巻き回してなるフィルムロールであって、該コアと光学フィルムとの界面における粒径５０μｍ以上の異物の個数が５個／ｍ２以下であることを特徴とする、光学フィルムロールに関する。
ここで、上記光学フィルムは、環状オレフィン系樹脂からなるフィルムが好ましい。
また、上記環状オレフィン系樹脂としては、下記一般式（Ｉ）で表される化合物の（共）重合体が好ましい。
【０００６】
【化１】
2008058491.tif 000002
【０００７】
（一般式（Ｉ）中、Ｒ1〜Ｒ4は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３０の炭化水素基、またはその他の１価の有機基であり、それぞれ同一または異なっていても良い。また、Ｒ1〜Ｒ4 のうち任意の２つが互いに結合して、単環または多環構造を形成しても良い。ｍは０または正の整数であり、ｐは０または正の整数である。）
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、光学フィルムをコアに巻き取る際、表面に異物の付着していないコアを用いることにより、巻き取られた光学フィルムロールの表面に傷（繰り返し打痕）がなく、フィルム表面の平滑性に優れるため、光学ムラが発生せず、ＬＣＤの大型化に対応することができる光学フィルムを得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
≪光学フィルムロール≫
本発明の光学フィルムロールは、円筒状のコアを軸として、該コアの外周面に光学フィルムを巻き回してなるフィルムロールであって、該コアと光学フィルムとの界面における粒径５０μｍ以上の異物の個数が５個以下である。
なお、本発明におけるコアは、溶剤キャスト法あるいは溶融押出法においてフィルム成形されたフィルムを巻き取る場合のコアのほか、これらのフィルムをさらに延伸加工して巻き取る際のコアについても適用される。
【００１０】
ここで、本発明の光学フィルムを巻き取るために用いるコアは、円筒状であり、フィルムを巻き取る外周表面の表面硬度を、ＳＲＩＳ  ０１０１スケールで、好ましくは１〜５０度、さらに好ましくは３〜２０度とする。
【００１１】
＜コア＞
コアの表面硬度を、ＳＲＩＳ  ０１０１スケールで１〜５０度にするためには、弾性体を用いる方法が挙げられる。しかし、一方で、長尺のフィルムを巻き取るというコア本来の目的を達するためには、巻取時の張力やフィルムの重みに耐える強度が必要である。従って、弾性体単独でコアを作成した場合、その耐荷重量が問題となる。このため、本発明のコアは、少なくとも弾性体帯芯材からなる構造が好ましく、該弾性体によって、フィルムを巻き取る外周表面の表面硬度を、ＳＲＩＳ  ０１０１スケールで１〜５０度の範囲内に調整することが好ましい。
【００１２】
コアの芯材としては、紙、樹脂含浸の紙、プラスチック、ガラスエポキシまたは金属からなることが好ましいが、これに限定されるものではない。弾性体はこれらの芯材の全周に巻き付けるか、貼り付けるかすれば良い。貼り付ける場合は弾性体の厚み分の段差ができ、この段差が悪影響する場合があるため、弾性体の断面は好ましくは台形状にした方が良い。
【００１３】
コアの表面硬度調整に用いる弾性体の材質としては、特に限定されないが、スポンジなどの発泡体や、ゴムなどの弾性体、フェルトなどの布地などを好ましく用いることができる。また、弾性体の厚みが薄すぎるとコアの表面硬度を所望の範囲まで低下させることができないので、好ましくは０．１ｍｍ以上、より好ましくは３ｍｍ以上の厚みが良い。また、厚みが大きすぎると弾性体の変形が大きくなりすぎる恐れがあるので、好ましくは３０ｍｍ以下、より好ましくは２０ｍｍ以下の厚みが良い。なお、ここでいう弾性体の厚みとは、コアの中心から外周表面方向に向けての弾性体の長さを指す。
【００１４】
弾性体部分の形成方法については特に限定されず、前述したように芯材の外周面にゴムやスポンジのシートを巻き付ける方法、芯材の外周面に弾性体の溶液などを塗布し固化させる方法などが挙げられるが、あらかじめ継ぎ目のない管状の弾性体を作成しておき、その内部に塩ビ管などの核を挿入後、固定するという方法を用いれば、外周面に継ぎ目による段差が生じることも無く最も好ましい方法である。
【００１５】
また、上記弾性体は、コアの最外周に用いる方が好ましいが、巻き取るフィルムに直接接触させると表面汚染などの問題が生じる場合には、最外周に保護層を設けても良い。いずれの方法を用いるにせよ、弾性体や保護層はコアに固定されているのが望ましい。弾性体や保護層が固定されていないと、巻きずれや巻き締まりが生じる可能性があり、それによって新たなキズや横筋、平面不良を引き起こす原因となる。
【００１６】
本発明では、以上のようなコアは、該コアと光学フィルムとの界面における粒径５０μｍ以上の異物の個数が５個／ｍ２以下である。
ここで、上記粒径は、例えば光学顕微鏡、接触型表面粗さ計、または走査型電子顕微鏡で測定された値である。
ここで、粒径５０μｍ以上の異物の個数が５個／ｍ２を超えると、巻き取られた光学フィルムロールにこれらの異物などに起因して、周期的な傷（繰り返し打痕）がつくことになる。
上記異物の個数は、好ましくは１個／ｍ２以下である。
【００１７】
粒径５０μｍ以上の異物の個数を５個以下にするには、（１）コアの使用に先立ち、該コアを純水で洗浄する、（２）クラス１,０００以下のクリーンルームなどのクリーン環境でコアを取り扱うなどが挙げられる。
【００１８】
＜環状オレフィン系樹脂＞
本発明の光学フィルムロールは、好ましくは環状オレフィン系樹脂からなるフィルムより構成される。
このような環状オレフィン系樹脂としては、次のような（共）重合体が挙げられる。
（１）上記一般式（Ｉ）で表される特定単量体の開環重合体。
（２）上記一般式（Ｉ）で表される特定単量体と共重合性単量体との開環共重合体。
（３）上記（１）または（２）の開環（共）重合体の水素添加（共）重合体。
（４）上記（１）または（２）の開環（共）重合体をフリーデルクラフト反応により環化したのち、水素添加した（共）重合体。
（５）上記一般式（Ｉ）で表される特定単量体と不飽和二重結合含有化合物との飽和共重合体。
（６）上記一般式（Ｉ）で表される特定単量体、ビニル系環状炭化水素系単量体およびシクロペンタジエン系単量体から選ばれる１種以上の単量体の付加型（共）重合体およびその水素添加（共）重合体。
（７）上記一般式（Ｉ）で表される特定単量体とアクリレートとの交互共重合体。
【００１９】
＜特定単量体＞
上記特定単量体の具体例としては、次のような化合物が挙げられるが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
トリシクロ［４．３．０．１2,５］−８−デセン、
トリシクロ［４．４．０．１2,5］−３−ウンデセン、
テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
ペンタシクロ［６．５．１．１3,6．０2,7．０9,13］−４−ペンタデセン、
５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−メトキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−メチル−５−メトキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−シアノビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
８−メトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−エトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−ｎ−プロポキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−イソプロポキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−ｎ−ブトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−メチル−８−メトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−メチル−８−エトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−メチル−８−ｎ−プロポキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−メチル−８−イソプロポキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−メチル−８−ｎ−ブトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
５−エチリデンビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
８−エチリデンテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
５−フェニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
８−フェニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
５−フルオロビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−フルオロメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−トリフルオロメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−ペンタフルオロエチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５−ジフルオロビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，６−ジフルオロビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５−ビス（トリフルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，６−ビス（トリフルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−メチル−５−トリフルオロメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５，６−トリフルオロビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５，６−トリス（フルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５，６，６−テトラフルオロビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５，６，６−テトラキス（トリフルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５−ジフルオロ−６，６−ビス（トリフルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，６−ジフルオロ−５，６−ビス（トリフルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５，６−トリフルオロ−５−トリフルオロメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−フルオロ−５−ペンタフルオロエチル−６，６−ビス（トリフルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，６−ジフルオロ−５−ヘプタフルオロ−ｉｓｏ−プロピル−６−トリフルオロメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−クロロ−５，６，６−トリフルオロビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，６−ジクロロ−５，６−ビス（トリフルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５，６−トリフルオロ−６−トリフルオロメトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５，６−トリフルオロ−６−ヘプタフルオロプロポキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
８−フルオロテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−フルオロメチルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−ジフルオロメチルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−トリフルオロメチルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−ペンタフルオロエチルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８，８−ジフルオロテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８，９−ジフルオロテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８，８−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８，９−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−メチル−８−トリフルオロメチルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８，８，９−トリフルオロテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８，８，９−トリス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８，８，９，９−テトラフルオロテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８，８，９，９−テトラキス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１2,5 ．１7,10］−３−ドデセン、
８，８−ジフルオロ−９，９−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８，９−ジフルオロ−８，９−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８，８，９−トリフルオロ−９−トリフルオロメチルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８，８，９−トリフルオロ−９−トリフルオロメトキシテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８，８，９−トリフルオロ−９−ペンタフルオロプロポキシテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−フルオロ−８−ペンタフルオロエチル−９，９−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８，９−ジフルオロ−８−ヘプタフルオロｉｓｏ−プロピル−９−トリフルオロメチルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−クロロ−８，９，９−トリフルオロテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８，９−ジクロロ−８，９−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−（２，２，２−トリフルオロエトキシカルボニル）テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−メチル−８−（２，２，２−トリフルオロエトキシカルボニル）テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン
などを挙げることができる。
これらは、１種単独で、または２種以上を併用することができる。
【００２０】
特定単量体のうち好ましいのは、上記一般式（Ｉ）中、Ｒ1およびＲ３が水素原子または炭素数１〜１０、さらに好ましくは１〜４、特に好ましくは１〜２の炭化水素基であり、Ｒ２およびＲ４が水素原子または一価の有機基であって、Ｒ２およびＲ４の少なくとも一つは水素原子および炭化水素基以外の極性を有する極性基を示し、ｍは０〜３の整数、ｐは０〜３の整数であり、より好ましくはｍ＋ｐ＝０〜４、さらに好ましくは０〜２、特に好ましくはｍ＝１、ｐ＝０であるものである。ｍ＝１、ｐ＝０である特定単量体は、得られる環状オレフィン系樹脂のガラス転移温度が高くかつ機械的強度も優れたものとなる点で好ましい。
上記特定単量体の極性基としては、カルボキシル基、水酸基、アルコキシカルボニル基、アリロキシカルボニル基、アミノ基、アミド基、シアノ基などが挙げられ、これら極性基はメチレン基などの連結基を介して結合していてもよい。また、カルボニル基、エーテル基、シリルエーテル基、チオエーテル基、イミノ基など極性を有する２価の有機基が連結基となって結合している炭化水素基なども極性基として挙げられる。これらの中では、カルボキシル基、水酸基、アルコキシカルボニル基またはアリロキシカルボニル基が好ましく、特にアルコキシカルボニル基またはアリロキシカルボニル基が好ましい。
【００２１】
さらに、Ｒ２およびＲ４の少なくとも一つが式−（ＣＨ２）ｎＣＯＯＲで表される極性基である単量体は、得られる環状オレフィン系樹脂が高いガラス転移温度と低い吸湿性、各種材料との優れた密着性を有するものとなる点で好ましい。上記の特定の極性基にかかる式において、Ｒは炭素原子数１〜１２、さらに好ましくは１〜４、特に好ましくは１〜２の炭化水素基、好ましくはアルキル基である。また、ｎは、通常、０〜５であるが、ｎの値が小さいものほど、得られる環状オレフィン系樹脂のガラス転移温度が高くなるので好ましく、さらにｎが０である特定単量体はその合成が容易である点で好ましい。
【００２２】
また、上記一般式(Ｉ)において、Ｒ1またはＲ３がアルキル基であることが好ましく、炭素数１〜４のアルキル基、さらに好ましくは１〜２のアルキル基、特にメチル基であることが好ましく、特に、このアルキル基が上記の式−（ＣＨ２）ｎＣＯＯＲで表される特定の極性基が結合した炭素原子と同一の炭素原子に結合されていることが、得られる環状オレフィン系樹脂の吸湿性を低くできる点で好ましい。
【００２３】
＜共重合性単量体＞
共重合性単量体の具体例としては、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘプテン、シクロオクテン、ジシクロペンタジエンなどのシクロオレフィンを挙げることができる。
シクロオレフィンの炭素数としては、４〜２０が好ましく、さらに好ましいのは５〜１２である。これらは、１種単独で、または２種以上を併用することができる。
特定単量体／共重合性単量体の好ましい使用範囲は、重量比で１００／０〜５０／５０であり、さらに好ましくは１００／０〜６０／４０である。
【００２４】
＜開環重合触媒＞
本発明において、（１）特定単量体の開環重合体、および（２）特定単量体と共重合性単量体との開環共重合体を得るための開環重合反応は、メタセシス触媒の存在下に行われる。
このメタセシス触媒は、（ａ）Ｗ、ＭｏおよびＲｅの化合物から選ばれた少なくとも１種と、（ｂ）デミングの周期律表ＩＡ族元素（例えばＬｉ、Ｎａ、Ｋなど）、ＩＩＡ族元素（例えば、Ｍｇ、Ｃａなど）、ＩＩＢ族元素（例えば、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｈｇなど）、ＩＩＩＡ族元素（例えば、Ｂ、Ａｌなど）、ＩＶＡ族元素（例えば、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｐｂなど）、あるいはＩＶＢ族元素（例えば、Ｔｉ、Ｚｒなど）の化合物であって、少なくとも１つの該元素−炭素結合あるいは該元素−水素結合を有するものから選ばれた少なくとも１種との組合せからなる触媒である。また、この場合に触媒の活性を高めるために、後述の（ｃ）添加剤が添加されたものであってもよい。
【００２５】
（ａ）成分として適当なＷ、ＭｏあるいはＲｅの化合物の代表例としては、ＷＣｌ６、ＭｏＣｌ６、ＲｅＯＣｌ３などの特開平１−１３２６２６号公報第８頁左下欄第６行〜第８頁右上欄第１７行に記載の化合物を挙げることができる。
（ｂ）成分の具体例としては、ｎ−Ｃ４Ｈ９Ｌｉ、（Ｃ２Ｈ５）３Ａｌ、（Ｃ２Ｈ５）２ＡｌＣｌ、（Ｃ２Ｈ５）１．５ＡｌＣｌ１．５、（Ｃ２Ｈ５）ＡｌＣｌ２、メチルアルモキサン、ＬｉＨなど特開平１−１３２６２６号公報第８頁右上欄第１８行〜第８頁右下欄第３行に記載の化合物を挙げることができる。
添加剤である（ｃ）成分の代表例としては、アルコール類、アルデヒド類、ケトン類、アミン類などが好適に用いることができるが、さらに特開平１−１３２６２６号公報第８頁右下欄第１６行〜第９頁左上欄第１７行に示される化合物を使用することができる。
【００２６】
メタセシス触媒の使用量としては、上記（ａ）成分と特定単量体とのモル比で「（ａ）成分：特定単量体」が、通常、１：５００〜１：５０，０００となる範囲、好ましくは１：１，０００〜１：１０，０００となる範囲とされる。
（ａ）成分と（ｂ）成分との割合は、金属原子比で（ａ）：（ｂ）が１：１〜１：５０、好ましくは１：２〜１：３０の範囲とされる。
（ａ）成分と（ｃ）成分との割合は、モル比で（ｃ）：（ａ）が０．００５：１〜１５：１、好ましくは０．０５：１〜７：１の範囲とされる。
【００２７】
＜重合反応用溶媒＞
開環重合反応において用いられる溶媒（分子量調節剤溶液を構成する溶媒、特定単量体および／またはメタセシス触媒の溶媒）としては、例えばペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカンなどのアルカン類、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、デカリン、ノルボルナンなどのシクロアルカン類、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クメンなどの芳香族炭化水素、クロロブタン、ブロモヘキサン、塩化メチレン、ジクロロエタン、ヘキサメチレンジブロミド、クロロベンゼン、クロロホルム、テトラクロロエチレンなどの、ハロゲン化アルカン、ハロゲン化アリールなどの化合物、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉｓｏ−ブチル、プロピオン酸メチル、ジメトキシエタンなどの飽和カルボン酸エステル類、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタンなどのエーテル類などを挙げることができ、これらは単独であるいは混合して用いることができる。これらのうち、芳香族炭化水素が好ましい。
溶媒の使用量としては、「溶媒：特定単量体（重量比）」が、通常、１：１〜１０：１となる量とされ、好ましくは１：１〜５：１となる量とされる。
【００２８】
＜分子量調節剤＞
得られる開環（共）重合体の分子量の調節は、重合温度、触媒の種類、溶媒の種類によっても行うことができるが、本発明においては、分子量調節剤を反応系に共存させることにより調節する。
ここに、好適な分子量調節剤としては、例えばエチレン、プロペン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−ヘプテン、１−オクテン、１−ノネン、１−デセンなどのα−オレフィン類およびスチレンを挙げることができ、これらのうち、１−ブテン、１−ヘキセンが特に好ましい。
これらの分子量調節剤は、単独であるいは２種以上を混合して用いることができる。
分子量調節剤の使用量としては、開環重合反応に供される特定単量体１モルに対して０．００５〜０．６モル、好ましくは０．０２〜０．５モルとされる。
【００２９】
（２）開環共重合体を得るには、開環重合工程において、特定単量体と共重合性単量体とを開環共重合させてもよいが、さらに、ポリブタジエン、ポリイソプレンなどの共役ジエン化合物、スチレン−ブタジエン共重合体、エチレン−非共役ジエン共重合体、ポリノルボルネンなどの主鎖に炭素−炭素間二重結合を２つ以上含む不飽和炭化水素系ポリマーなどの存在下に特定単量体を開環重合させてもよい。
【００３０】
以上のようにして得られる開環（共）重合体は、そのままでも用いられるが、これをさらに水素添加して得られた（３）水素添加（共）重合体は、耐衝撃性の大きい樹脂の原料として有用である。
＜水素添加触媒＞
水素添加反応は、通常の方法、すなわち開環重合体の溶液に水素添加触媒を添加し、これに常圧〜３００気圧、好ましくは３〜２００気圧の水素ガスを０〜２００℃、好ましくは２０〜１８０℃で作用させることによって行われる。
水素添加触媒としては、通常のオレフィン性化合物の水素添加反応に用いられるものを使用することができる。この水素添加触媒としては、不均一系触媒および均一系触媒が挙げられる。
【００３１】
不均一系触媒としては、パラジウム、白金、ニッケル、ロジウム、ルテニウムなどの貴金属触媒物質を、カーボン、シリカ、アルミナ、チタニアなどの担体に担持させた固体触媒を挙げることができる。また、均一系触媒としては、ナフテン酸ニッケル／トリエチルアルミニウム、ニッケルアセチルアセトナート／トリエチルアルミニウム、オクテン酸コバルト／ｎ−ブチルリチウム、チタノセンジクロリド／ジエチルアルミニウムモノクロリド、酢酸ロジウム、クロロトリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム、ジクロロトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム、クロロヒドロカルボニルトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム、ジクロロカルボニルトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウムなどを挙げることができる。触媒の形態は、粉末でも粒状でもよい。
【００３２】
これらの水素添加触媒は、開環（共）重合体：水素添加触媒（重量比）が、１：１×１０−６〜１：２となる割合で使用される。
このように、水素添加することにより得られる水素添加（共）重合体は、優れた熱安定性を有するものとなり、成形加工時や製品としての使用時の加熱によっても、その特性が劣化することはない。ここに、水素添加率は、通常、５０％以上、好ましく７０％以上、さらに好ましくは９０％以上である。
【００３３】
また、水素添加（共）重合体の水素添加率は、５００ＭＨｚ、１Ｈ−ＮＭＲで測定した値が５０％以上、好ましくは９０％以上、さらに好ましくは９８％以上、最も好ましくは９９％以上である。水素添加率が高いほど、熱や光に対する安定性が優れたものとなり、本発明の光学フィルムを波長板として使用した場合に長期にわたって安定した特性を得ることができる。
なお、本発明の環状オレフィン系樹脂として使用される水素添加（共）重合体は、該水素添加（共）重合体中に含まれるゲル含有量が５重量％以下であることが好ましく、さらに１重量％以下であることが特に好ましい。
【００３４】
また、本発明の環状オレフィン系樹脂として、（４）上記（１）または（２）の開環（共）重合体をフリーデルクラフト反応により環化したのち、水素添加した（共）重合体も使用できる。
＜フリーデルクラフト反応による環化＞
（１）または（２）の開環（共）重合体をフリーデルクラフト反応により環化する方法は特に限定されるものではないが、特開昭５０−１５４３９９号公報に記載の酸性化合物を用いた公知の方法が採用できる。酸性化合物としては、具体的には、ＡｌＣｌ３、ＢＦ３、ＦｅＣｌ３、Ａｌ２Ｏ３、ＨＣｌ、ＣＨ３ＣｌＣＯＯＨ、ゼオライト、活性白土などのルイス酸、ブレンステッド酸が用いられる。
環化された開環（共）重合体は、（１）または（２）の開環（共）重合体と同様に水素添加できる。
【００３５】
さらに、本発明の環状オレフィン系樹脂として、（５）上記特定単量体と不飽和二重結合含有化合物との飽和共重合体も使用できる。
＜不飽和二重結合含有化合物＞
不飽和二重結合含有化合物としては、例えばエチレン、プロピレン、ブテンなど、好ましくは炭素数２〜１２、さらに好ましくは炭素数２〜８のオレフィン系化合物を挙げることができる。
特定単量体／不飽和二重結合含有化合物の好ましい使用範囲は、重量比で９０／１０〜４０／６０であり、さらに好ましくは８５／１５〜５０／５０である。
【００３６】
本発明において、（５）特定単量体と不飽和二重結合含有化合物との飽和共重合体を得るには、通常の付加重合法を使用できる。
＜付加重合触媒＞
上記（５）飽和共重合体を合成するための触媒としては、チタン化合物、ジルコニウム化合物およびバナジウム化合物から選ばれた少なくとも一種と、助触媒としての有機アルミニウム化合物とが用いられる。
ここで、チタン化合物としては、四塩化チタン、三塩化チタンなどを、またジルコニウム化合物としてはビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムクロリド、ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリドなどを挙げることができる。
【００３７】
さらに、バナジウム化合物としては、一般式
ＶＯ（ＯＲ）ａＸｂ、またはＶ（ＯＲ）ｃＸｄ
〔ただし、Ｒは炭化水素基、Ｘはハロゲン原子であって、０≦ａ≦３、０≦ｂ≦３、２≦（ａ＋ｂ）≦３、０≦ｃ≦４、０≦ｄ≦４、３≦（ｃ＋ｄ）≦４である。〕
で表されるバナジウム化合物、あるいはこれらの電子供与付加物が用いられる。
上記電子供与体としては、アルコール、フェノール類、ケトン、アルデヒド、カルボン酸、有機酸または無機酸のエステル、エーテル、酸アミド、酸無水物、アルコキシシランなどの含酸素電子供与体、アンモニア、アミン、ニトリル、イソシアナートなどの含窒素電子供与体などが挙げられる。
【００３８】
さらに、助触媒としての有機アルミニウム化合物としては、少なくとも１つのアルミニウム−炭素結合あるいはアルミニウム−水素結合を有するものから選ばれた少なくとも一種が用いられる。
上記において、例えばバナジウム化合物を用いる場合におけるバナジウム化合物と有機アルミニウム化合物の比率は、バナジウム原子に対するアルミニウム原子の比（Ａｌ／Ｖ）が２以上であり、好ましくは２〜５０、特に好ましくは３〜２０の範囲である。
【００３９】
付加重合に使用される重合反応用溶媒は、開環重合反応に用いられる溶媒と同じものを使用することができる。また、得られる（５）飽和共重合体の分子量の調節は、通常、水素を用いて行われる。
【００４０】
さらに、本発明の環状オレフィン系樹脂として、（６）上記特定単量体、およびビニル系環状炭化水素系単量体またはシクロペンタジエン系単量体から選ばれる１種以上の単量体の付加型共重合体およびその水素添加共重合体も使用できる。
＜ビニル系環状炭化水素系単量体＞
ビニル系環状炭化水素系単量体としては、例えば、４−ビニルシクロペンテン、２−メチル−４−イソプロペニルシクロペンテンなどのビニルシクロペンテン系単量体、４−ビニルシクロペンタン、４−イソプロペニルシクロペンタンなどのビニルシクロペンタン系単量体などのビニル化５員環炭化水素系単量体、４−ビニルシクロヘキセン、４−イソプロペニルシクロヘキセン、１−メチル−４−イソプロペニルシクロヘキセン、２−メチル−４−ビニルシクロヘキセン、２−メチル−４−イソプロペニルシクロヘキセンなどのビニルシクロヘキセン系単量体、４−ビニルシクロヘキサン、２−メチル−４−イソプロペニルシクロヘキサンなどのビニルシクロヘキサン系単量体、スチレン、α―メチルスチレン、２−メチルスチレン、３−メチルスチレン、４−メチルスチレン、１−ビニルナフタレン、２−ビニルナフタレン、４−フェニルスチレン、ｐ−メトキシスチレンなどのスチレン系単量体、ｄ−テルペン、１−テルペン、ジテルペン、ｄ−リモネン、１−リモネン、ジペンテンなどのテルペン系単量体、４−ビニルシクロヘプテン、４−イソプロペニルシクロヘプテンなどのビニルシクロヘプテン系単量体、４−ビニルシクロヘプタン、４−イソプロペニルシクロヘプタンなどのビニルシクロヘプタン系単量体などが挙げられる。好ましくは、スチレン、α−メチルスチレンである。これらは、１種単独で、または２種以上を併用することができる。
【００４１】
＜シクロペンタジエン系単量体＞
本発明の（６）付加型共重合体の単量体に使用されるシクロペンタジエン系単量体としては、例えばシクロペンタジエン、１−メチルシクロペンタジエン、２−メチルシクロペンタジエン、２−エチルシクロペンタジエン、５−メチルシクロペンタジエン、５，５−メチルシクロペンタジエンなどが挙げられる。好ましくはシクロペンタジエンである。これらは、１種単独で、または２種以上を併用することができる。
【００４２】
上記特定単量体、ビニル系環状炭化水素系単量体およびシクロペンタジエン系単量体から選ばれる１種以上の単量体の付加型（共）重合体は、上記（５）特定単量体と不飽和二重結合含有化合物との飽和共重合体と同様の付加重合法で得ることができる。
また、上記付加型（共）重合体の水素添加（共）重合体は、上記（３）開環（共）重合体の水素添加（共）重合体と同様の水添法で得ることができる。
【００４３】
さらに、本発明の環状オレフィン系樹脂として、（７）上記特定単量体とアクリレートとの交互共重合体も使用できる。
＜アクリレート＞
本発明の（７）上記特定単量体とアクリレートとの交互共重合体の製造に用いられるアクリレートとしては、例えば、メチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレートなどの炭素原子数１〜２０の直鎖状、分岐状または環状アルキルアクリレート、グリシジルアクリレート、２−テトラヒドロフルフリルアクリレートなどの炭素原子数２〜２０の複素環基含有アクリレート、ベンジルアクリレートなどの炭素原子数６〜２０の芳香族環基含有アクリレート、イソボロニルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレートなどの炭素数７〜３０の多環構造を有するアクリレートが挙げられる。
【００４４】
本発明において、（７）上記特定単量体とアクリレートとの交互共重合体を得るためには、ルイス酸存在下、上記特定単量体とアクリレートとの合計を１００モルとしたとき、通常、上記特定単量体が３０〜７０モル、アクリレートが７０〜３０モルの割合で、好ましくは上記特定単量体が４０〜６０モル、アクリレートが６０〜４０モル割合で、特に好ましくは上記特定単量体が４５〜５５モル、アクリレートが５５〜４５モルの割合でラジカル重合する。
（７）上記特定単量体とアクリレートとの交互共重合体を得るために使用するルイス酸の量は、アクリレート１００モルに対して０．００１〜１モルとなる量とされる。また、公知のフリーラジカルを発生する有機過酸化物またはアゾビス系のラジカル重合開始剤を用いることができ、重合反応温度は、通常、−２０℃〜８０℃、好ましくは５℃〜６０℃である。また、重合反応用溶媒には、開環重合反応に用いられる溶媒と同じものを使用することができる。
なお、本発明でいう「交互共重合体」とは、上記特定単量体に由来する構造単位が隣接しない、すなわち、上記特定単量体に由来する構造単位の隣は必ずアクリレートに由来する構造単位である構造を有する共重合体のことを意味しており、アクリレート由来の構造単位どうしが隣接して存在する構造を否定するものではない。
【００４５】
本発明で用いられる環状オレフィン系樹脂の好ましい分子量は、固有粘度〔η〕ｉｎｈで０．２〜５ｄｌ／ｇ、さらに好ましくは０．３〜３ｄｌ／ｇ、特に好ましくは０．４〜１．５ｄｌ／ｇであり、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定したポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）は８，０００〜１００，０００、さらに好ましくは１０，０００〜８０，０００、特に好ましくは１２，０００〜５０，０００であり、重量平均分子量（Ｍｗ）は２０，０００〜３００，０００、さらに好ましくは３０，０００〜２５０，０００、特に好ましくは４０，０００〜２００，０００の範囲のものが好適である。
固有粘度〔η〕ｉｎｈ、数平均分子量および重量平均分子量が上記範囲にあることによって、環状オレフィン系樹脂の耐熱性、耐水性、耐薬品性、機械的特性と、本発明の光学フィルムとしての成形加工性が良好となる。
【００４６】
本発明に用いられる環状オレフィン系樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）としては、通常、１１０℃以上、好ましくは１１０〜３５０℃、さらに好ましくは１２０〜２５０℃、特に好ましくは１２０〜２００℃である。Ｔｇが１１０℃未満の場合は、高温条件下での使用、あるいはコーティング、印刷などの二次加工により変形するので好ましくない。一方、Ｔｇが３５０℃を超えると、成形加工が困難になり、また成形加工時の熱によって樹脂が劣化する可能性が高くなる。
【００４７】
環状オレフィン系樹脂には、本発明の効果を損なわない範囲で、例えば特開平９−２２１５７７号公報、特開平１０−２８７７３２号公報に記載されている、特定の炭化水素系樹脂、あるいは公知の熱可塑性樹脂、熱可塑性エラストマー、ゴム質重合体、有機微粒子、無機微粒子などを配合しても良い。
【００４８】
また、本発明の環状オレフィン系樹脂には、本発明の効果を損なわない範囲において、耐熱劣化性や耐光性の改良のために公知の酸化防止剤や紫外線吸収剤などの添加剤を添加することができる。例えば、下記フェノール系化合物、チオール系化合物、スルフィド系化合物、ジスルフィド系化合物、リン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物を、本発明の環状オレフィン系樹脂１００重量部に対して０．０１〜１０重量部添加することで、耐熱劣化性を向上させることができる。
【００４９】
フェノール系化合物：
フェノール系化合物としては、トリエチレングリコール−ビス［３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロオネート］、１，６−ヘキサンジオール−ビス［３−（３，５−ジ―ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）―６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−３，５−トリアジン、ペンタエリスリチル−テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２，２−チオ−ジエチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、Ｎ，Ｎ−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４―ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレイト、３，９−ビス［２−〔３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、などを挙げることができる。好ましくは、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４―ヒドロキシベンジル）ベンゼン、ペンタエリスリチル−テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］が挙げられ、特に好ましくは、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］などを挙げることができる。
【００５０】
チオール系化合物：
チオール系化合物としては、ｔ−ドデシルメルカプタン、ヘキシルメルカプタンなどのアルキルメルカプタン、２−メルカプトベンズイミダゾール、２−メルカプト−６−メチルベンズイミダゾール、１−メチル−２−（メチルメルカプト）ベンズイミダゾール、２−メルカプト−１−メチルベンズイミダゾール、２−メルカプト−４−メチルベンズイミダゾール、２−メルカプト−５−メチルベンズイミダゾール、２−メルカプト−５，６−ジメチルベンズイミダゾール、２−(メチルメルカプト)ベンズイミダゾール、１−メチル−２−（メチルメルカプト)ベンズイミダゾール、２−メルカプト−１，３−ジメチルベンズイミダゾール、メルカプト酢酸などを挙げることができる。
【００５１】
スルフィド系化合物：
スルフィド系化合物としては、２，２−チオ−ジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，２−チオビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，４−ビス（ｎ−オクチルチオメチル）−６−メチルフェノール、ジラウリル３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル３，３’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリチルテトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）、ジトリデシル３，３’−チオジプロピオネートなどを挙げることができる。
【００５２】
ジスルフィド系化合物：
ジスルフィド系化合物としては、ビス（４−クロロフェニル）ジスルフィド、ビス（２−クロロフェニル）ジスルフィド、ビス（２，５−ジクロロフェニル）ジスルフィド、ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）ジスルフィド、ビス（２−ニトロフェニル）ジスルフィド、２，２’−ジチオジ安息香酸エチル、ビス（４−アセチルフェニル）ジスルフィド、ビス（４−カルバモイルフェニル）ジスルフィド、１，１’−ジナフチルジスルフィド、２，２’−ジナフチルジスルフィド、１，２’−ジナフチルジスルフィド、２，２’−ビス（１−クロロジナフチル）ジスルフィド、１，１’−ビス（２−クロロナフチル）ジスルフィド、２，２’−ビス（１−シアノナフチル）ジスルフィド、２，２’−ビス（１−アセチルナフチル）ジスルフィド、ジラウリル−３，３’−チオジプロピオン酸エステルなどを挙げることができる。
【００５３】
リン系化合物：
リン系化合物としては、トリス（４−メトキシ−３，５−ジフェニル）ホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリストールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイトなどを挙げることができる。
【００５４】
さらに、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系化合物、Ｎ−(ベンジルオキシカルボニルオキシ)ベンゾトリアゾールなどのベンゾトリアゾール系化合物、あるいは２−エチルオキサニリド、２−エチル−２’−エトキシオキサニリドなどのオキサニリド系化合物を、本発明の環状オレフィン系樹脂１００重量部に対して、０．０１〜３重量部、好ましくは０．０５〜２重量部添加することにより、耐光性を向上させることができる。
【００５５】
また、本発明に係る環状オレフィン系樹脂は、溶融押出しによりフィルムなどに成形する場合には、溶融押出時の熱履歴により該樹脂が熱劣化するのを防止するために添加される酸化防止剤を選択することが重要な技術的要素となる。すなわち、溶融押出により得られたフィルムを延伸加工した場合に、位相差の発現性を低下させない、あるいは低下の度合いを極力小さくするために、溶融押出する環状オレフィン系樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）よりも＋２０℃〜Ｔｇ＋１３０℃、好ましくはＴｇ＋３０℃〜Ｔｇ＋１３０℃の温度範囲に融点を有するヒンダードフェノール系化合物を酸化防止剤として用いることが好ましい。
【００５６】
融点が溶融押出する環状オレフィン系樹脂のＴｇよりも＋２０℃未満であると、ヒンダードフェノール系化合物を用いたとしても、添加量が増えた場合、位相差の発現性が大きく低下することがある。一方、融点が溶融押出する環状オレフィン系樹脂のＴｇよりも＋１３０℃を超えると、加工時に酸化防止剤が溶解せずにフィッシュアイなどのフィルム欠陥や異物の原因となることがある。また、融点が環状オレフィン系樹脂のＴｇ＋２０℃〜Ｔｇ＋１３０℃にあったとしても、ヒンダードフェノール系化合物以外の化合物を酸化防止剤として用いると、位相差の発現性に低下が認められる場合がある。
【００５７】
本発明の環状オレフィン系樹脂を溶融押出しにより成形する場合に好ましく用いられる上記酸化防止剤の具体例としては、例えば、１,３,５−トリメチル−２,４,６−トリス（３,５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、Ｎ,Ｎ’−ヘキサメチレンビス(３,５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナミド)、トリス−(３,５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル)−イソシアネート、トリス(２,４−ジ−ｔ−ブチルフェニル)フォスファイトなどが挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではなく、また、これらについても、溶融押出する環状オレフィン系樹脂のＴｇによっては不適な場合がある。なお、本発明の効果を損なわない限り、これらは組み合わせで使用しても良いし、単独で使用しても良い。
【００５８】
これらの酸化防止剤の添加量は、環状オレフィン系樹脂１００重量部に対して、通常、０．０１〜５重量部、好ましくは０．０５〜４重量部、さらに好ましくは、０．１〜１．５重量部である。酸化防止剤の添加量が０．０１重量部に満たない場合には、押出加工時に樹脂にゲルが発生しやすくなり、これに起因して、得られたフィルム上に欠陥として認識されることがあり好ましくない。一方、添加剤量が、５重量部を超えると、加工時に目やにの発生などを招くことがあり、この目やにがダイライン、フィルム上のフィッシュアイ、焼けなどの原因となるため好ましくない。
【００５９】
係る酸化防止剤は、環状オレフィン系樹脂を製造する際に添加してもよいし、溶融押出する際に環状オレフィン系樹脂のペレットとともに配合してもよい。
また、本発明の環状オレフィン系樹脂を溶融押出しにより成形する場合においては、本発明の効果を損なわない範囲において、滑剤、紫外線吸収剤、染料あるいは顔料などの上記酸化防止剤以外の添加剤を用いることができる。もちろんこの場合でも、融点を有する添加剤の場合、その融点が本発明の必須酸化防止剤の融点の範囲にあることが好ましい。
【００６０】
＜フィルム成形＞
環状オレフィン系樹脂フィルムの成形方法としては、溶剤キャスト法（溶液流延法）や溶融押出法などが挙げられる。膜厚の均一性および表面平滑性が良好になる点においては溶剤キャスト法が好ましく、製造コスト面においては溶融押出法が好ましい。
【００６１】
〔溶剤キャスト法〕
溶剤キャスト法により環状オレフィン系樹脂フィルムを得る方法としては特に限定されるものではなく、公知の方法を適用すればよい。例えば、上記環状オレフィン系樹脂を溶媒に溶解または分散させて適度の濃度の液にし、適当な基材上に注ぐか、または塗布し、これを乾燥した後、基材から剥離させる方法が挙げられる。
以下に、溶剤キャスト法により環状オレフィン系樹脂フィルムを得る方法の諸条件を示すが、本発明は係る諸条件に限定されるものではない。
【００６２】
上記環状オレフィン系樹脂を溶媒に溶解または分散させる際には、該樹脂の濃度を、通常は０．１〜９０重量％、好ましくは１〜５０重量％、さらに好ましくは１０〜３５重量％にする。樹脂の濃度が上記範囲よりも低いと、フィルムの厚みを確保することが困難になり、また、溶媒蒸発にともなう発泡などによりフィルムの表面平滑性が得にくくなる傾向にある。一方、濃度が上記範囲を超えると、溶液粘度が高くなりすぎて得られる環状オレフィン系樹脂フィルムの厚みや表面が均一になりにくくなる傾向にある。
また、室温での上記溶液の粘度は、通常は、１〜１，０００，０００ｍＰａ・ｓ、好ましくは１０〜１００，０００ｍＰａ・ｓ、さらに好ましくは１００〜５０，０００ｍＰａ・ｓ、特に好ましくは１，０００〜４０，０００ｍＰａ・ｓである。
【００６３】
上記溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶媒；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、１−メトキシ−２−プロパノールなどのセロソルブ系溶媒；ジアセトンアルコール、アセトン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、４−メチル−２−ペンタノンなどのケトン系溶媒；乳酸メチル、乳酸エチルなどのエステル系溶媒；シクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、１,２−ジメチルシクロヘキサンなどのシクロオレフィン系溶媒；２,２,３,３−テトラフルオロ−１−プロパノール、塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン含有溶媒；テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル系溶媒；１−ペンタノール、１−ブタノールなどのアルコール系溶媒などが挙げられる。
また、上記以外でも、ＳＰ値（溶解度パラメーター）が１０〜３０（ＭＰａ1/2）、好ましくは１０〜２５（ＭＰａ1/2）、さらに好ましくは１５〜２５（ＭＰａ1/2）、特に好ましくは１５〜２０（ＭＰａ1/2）の範囲の溶媒を使用すれば、良好な表面均一性および光学特性を有する環状オレフィン系樹脂フィルムを得ることができる。
上記溶媒は、１種単独で用いても、２種以上を混合して用いてもよい。混合系の場合には、混合系としたときのＳＰ値の範囲を上記範囲内とすることが好ましい。このとき、混合系でのＳＰ値の値は、重量比で予測することができ、例えば２種の混合では、それぞれの重量分率をＷ１およびＷ２、ＳＰ値をＳＰ１およびＳＰ２とすると混合系のＳＰ値は下記式：
ＳＰ値＝Ｗ１・ＳＰ１＋Ｗ２・ＳＰ２
により求めることができる。
【００６４】
上記溶液を基材上に塗布する方法としては、例えばダイスやコーターを用いる方法の他、スプレー法、刷毛塗り法、ロールコート法、スピンコート法、デッピング法などを採用することができる。なお、繰り返し塗布することで厚みや表面平滑性などを制御してもよい。
上記基材としては、たとえば、金属ドラム、スチールベルト、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）やポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）などのポリエステルフィルム、ポリテトラフルオロエチレン（商品名；テフロン（登録商標））ベルトなどが挙げられる。
上記溶剤キャスト法の乾燥工程については、特に制限はなく、一般的に用いられる方法、例えば多数のローラーを介して乾燥炉中を通過させる方法などで実施できる。ただし、乾燥工程において溶媒の蒸発に伴い気泡が発生すると、フィルムの特性を著しく低下させるので、これを避けるために、乾燥工程を２段以上の複数工程とし、各工程での温度や風量を制御することが好ましい。特に、基材から剥離するまでの乾燥工程を２段以上の複数工程とし、１段目の乾燥工程における温度を０〜５０℃、好ましくは１０〜４０℃とし、２段目以降の乾燥工程における温度を５０〜２００℃、好ましくは７０〜１８０℃とすると、得られたフィルムは、後記するように、Ｒｔｈ（５５０）の値を好ましい範囲に調整することができるため、非常に好ましい。
さらに、後記するように、フィルム面内の位相差Ｒ０（５５０）を０〜３００ｎｍとするために、フィルム剥離時の応力ＴＦ（ＭＰａ）が、０．０１ＭＰａ≦ＴＦ≦５ＭＰａの範囲であることが好ましい。ＴＦが０．０１ＭＰａ未満では、うまく剥離できず、一方５ＭＰａを超えてフィルムをロールから剥離すると、Ｒ０（５５０）＞３００ｎｍとなり好ましくない。
【００６５】
〔溶融押出法〕
溶剤キャスト法により環状オレフィン系樹脂フィルムを得る方法としては特に限定されるものではなく、公知の方法を適用すればよい。例えば、押出機に取り付けられたダイから溶融状態の環状オレフィン系樹脂を押し出し、当該樹脂を鏡面ロール表面に圧着し、その後、冷却して剥離し、シート化する方法が挙げられる。
【００６６】
環状オレフィン系樹脂を溶融する方法としては、押出機により樹脂を溶融する方法が好ましく、当該溶融樹脂をギアポンプにより定量供給し、これを金属フィルターなどでろ過して不純物を除去した後、ダイにてフィルム形状に賦型しつつ押し出す方法が好ましい。
ダイから押出されたフィルムを冷却してシート化する方法としては、ニップロール方式、静電印加方式、エアナイフ方式、カレンダー方式、片面ベルト方式、両面ベルト方式、３本ロール方式などが挙げられるが、光学歪の少ないシートを製造するには、片面ベルト式、中でもスリーブ式と呼ばれるシート製造装置、静電印加方式などが好ましく用いられる。例えば、ダイの吐出口下方に鏡面ロールと金属ベルトが配置され、当該鏡面ロールと並行に並ぶように剥離ロールが配置されているフィルム製造装置が挙げられる。上記金属ベルトは、その内面に接するように設けられた２つの保持ロールによって張力が作用された状態で保持されている。吐出口より吐出された樹脂は、上記鏡面ロールと金属ベルトの間を通って挟圧され、鏡面ロールに転写されて冷却された後、剥離ロールにより剥離されフィルム化される。また、吐出されるフィルムの両端の位置で、ダイの吐出口下方の鏡面ロールに相対するように配置した、帯電電極から、フィルムを鏡面ロール側にはり付かせることで、光学歪を与えずにフィルムの表面性を良好にする方法なども好ましい方法である。
押出機としては、単軸、二軸、遊星式、コニーダーなどいずれを用いても良いが、好ましくは、単軸押出機が用いられる。また、押出機のスクリュー形状としては、ベント型、先端ダルメージ型、フルフライト型などが上げられるが、好ましくはフルフライト型である。樹脂の計量に使用されるギアポンプは、内部潤滑式、外部潤滑式いずれを使用しても良いが、中でも外部潤滑方式が好ましい。
【００６７】
異物のろ過に使用するフィルターに関しては、リーフディスクタイプ、キャンドルフィルタータイプ、リーフタイプ、スクリーンメッシュなどが挙げられる。なかでも、樹脂の滞留時間分布を小さくする目的では、リーフディスクタイプが最も好ましく、フィルターの目の開きを意味する公称目開きは、２０μｍ以下、好ましくは１０μｍ以下、さらに好ましくは５μｍ以下であることである。最も好ましくは３μｍ以下である。公称目開きが、２０μｍよりも大きい場合には、目に見える異物のほかに、ゲルなどを除去することが難しいために、光学フィルムを作るためのフィルターとしては、好ましくない。
【００６８】
ダイとしては、ダイ内部の樹脂流動を均一にすることが必須であり、フィルムの厚みの均一性を保つには、ダイ出口近傍でのダイ内部の圧力分布が幅方向で一定であることが必須である。このような条件を満たすものとしては、マニホールドダイ、フィッシュテールダイ、コートハンガーダイなどを用いることができ、これらの中では、コートハンガーダイが好ましい。またダイの流量調整には、ベンディングリップタイプが好ましい。また、ヒートボルト方式による自動制御により厚薄調整を行う機能がついているダイが特に好ましい。流量調整のためにチョークバーを取り付けることや、厚み調整のためのリップブロックを取り付けることは、取り付け部分に段差を生じたり、取り付け部分の隙間などに、空気などをかみこんだりして、焼けの発生原因になったり、ダイラインの原因になりうるので好ましくない。ダイの吐出口は、タングステンカーバイドなどの超硬コーティングなどのコーティングがなされていることが好ましい。また、ダイの材質としては、ＳＣＭ系の鋼鉄、ＳＵＳなどのステンレス材などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、表面にクロム、ニッケル、チタンなどのメッキが施されたもの、ＰＶＤ（Physical Vapor Deposition）法などにより、ＴｉＮ、ＴｉＡｌＮ、ＴｉＣ、ＣｒＮ、ＤＬＣ（ダイアモンド状カーボン）などの被膜が形成されたもの、その他のセラミックスが溶射されたもの、表面が窒化処理されたものなどを用いることができる。このようなダイは、表面硬度が高く、樹脂との摩擦が小さいため、得られる透明樹脂シートに、焼けゴミなどが混入することを防止することができると共に、ダイラインが発生することを防止することができる点で、好ましい。
【００６９】
鏡面ロールは、内部に加熱手段および冷却手段を有するものが好ましく、その表面粗さは０．５μｍ以下、特に、０．３μｍ以下であることが好ましい。鏡面ロールとしては、金属ロールにメッキが施されたものを用いることが好ましく、クロムメッキ、無電解ニッケルメッキなどが施されたものが特に好ましい。
鏡面ロールの加熱方法は、ジャケット式オイル温調方式や、誘電加熱方式などが好ましい方法として用いられる。ロールの加熱方法は特に限定されないが、ロールの温度がフィルム製膜範囲で、温度差が無いことが好ましく、許容されるロールの温度差は好ましくは２℃以内、さらに好ましくは１℃以内である。
【００７０】
片面ベルト式装置や、スリーブ式引き取り装置に使用する、金属ベルトとしては、継ぎ目のない無端ベルトを用いることが好ましい。金属ベルトを構成する材料としては、ステンレス、ニッケルなどを用いることができる。また、金属ベルトを保持する保持ロールは、その表面がシリコーンゴムまたその他の耐熱性を有するエラストマーなどによって被覆されていることが好ましい。金属ベルトの厚みは、０．１〜０．４ｍｍが好ましく、０．１ｍｍ未満であると、たわみが大きくベルトにすぐに傷がつくことがあり好ましくない。一方、０．４ｍｍよりも厚みがあると、加工時にフィルムに追従して変形しないため、好ましくない。
【００７１】
上記の装置により、例えば次のようにしてフィルムが製造される。
通常、押出機に環状オレフィン系樹脂を投入する前に、当該樹脂に含まれている水分、気体（酸素など）、残溶剤などを予め除去することを目的として、当該樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）以下の適切な温度で樹脂の乾燥を行う。
乾燥に用いる乾燥機は、好ましくは、不活性ガス循環式乾燥機、真空乾燥機が用いられる。また、ホッパー内で吸湿したり、酸素の吸収を抑制するため、ホッパーを窒素やアルゴンなどの不活性ガスでシールしたり、減圧状態に保持できる真空ホッパーを使用することも好ましい方法である。
押出機シリンダーは、溶融押出中に樹脂が酸化されてゲルなどが発生することを防止するために、窒素やアルゴンなどの不活性ガスによりシールすることが好ましい。
押出機により溶融された環状オレフィン系樹脂は、ダイ吐出口から垂直方向である下方に向かってシート状に押し出される。ダイ出口の温度分布は、樹脂の溶融粘度差を少なくするため、好ましくは±１℃以下に制御される。
その後、押し出された樹脂が、鏡面ロールと金属ベルトとによって挟圧され、冷却される。そして、鏡面ロール表面に転写された樹脂が、剥離用ロールによって鏡面ロールの表面から剥離されることにより、シート状のフィルムが製造される。
【００７２】
本発明においては、樹脂の加工温度、すなわち、押出機およびダイの設定温度は、流動性が均一な溶融状態の樹脂をダイから吐出させることができ、樹脂の劣化を抑制することができる観点から、樹脂のＴｇ＋１００℃以上でＴｇ＋２００℃以下であることが好ましい。
また、鏡面ロールと金属ベルトにより樹脂を挟圧する際、すなわち、鏡面ロールに樹脂を転写する際の圧力は、好ましくは面圧で０．０１〜０．８ＭＰａ、特に好ましくは、０．１〜０．６ＭＰａである。特に好ましくは、０．１５〜０．４５ＭＰａである。上記圧力とすると、得られたフィルムのＲｔｈ（５５０）の値を適正範囲に調整することができるため、非常に好ましい。
【００７３】
このとき、後述するように、フィルム厚み方向の光軸とフィルム面に対する法線とのなす角θを０〜３°とするために、鏡面ロールと金属ベルトの周速度を近くすることが好ましい。好ましい範囲としては、鏡面ロールの周速度を１．００としたときに、金属ベルトの周速度は０．９５〜１．０５、特に好ましくは０．９９〜１．０１である。このような周速度の範囲であればフィルム厚み方向の光軸とフィルム面に対する法線とのなす角θを０〜３°のものが製造可能となる。
さらに、フィルム面内の位相差Ｒ０（５５０）を０〜３００ｎｍとするために、フィルム剥離時の条件として、剥離温度Ｔｔ（℃）、剥離応力ＴＦ（ＭＰａ）とするとき、それぞれＴｇ−３０℃≦Ｔｔ≦Ｔｇ＋５℃、０．０１ＭＰａ≦ＴＦ≦５ＭＰａの範囲であることが好ましい。この範囲を超えてフィルムをロールから剥離すると、Ｒ０（５５０）＞３００ｎｍとなり好ましくない。
【００７４】
＜フィルム延伸加工＞
本発明の光学フィルムは、上記のようにして流延法あるいは溶融押出法により得られる光学フィルムを、さらに延伸することもできる。その場合の延伸加工方法としては、具体的には、公知の一軸延伸法または二軸延伸法を挙げることができる。すなわち、テンター法による横一軸延伸法、ロール間圧縮延伸法、円周の異なる二組のロールを利用する縦一軸延伸法など、あるいは横一軸と縦一軸を組合わせた二軸延伸法、インフレーション法による延伸法などを用いることができる。
一軸延伸法の場合、延伸速度は、通常は１〜５，０００％／分であり、好ましくは５０〜１，０００％／分であり、さらに好ましくは１００〜１，０００％／分であり、特に好ましくは１００〜５００％／分である。
二軸延伸法の場合、同時２方向に延伸を行う場合や一軸延伸後に最初の延伸方向と異なる方向に延伸処理する場合がある。このとき、延伸後のフィルムの屈折率楕円体の形状を制御するための２つの延伸軸の交わり角度は、所望の特性により決定されるため特に限定はされないが、通常は１２０〜６０度の範囲である。また、延伸速度は各延伸方向で同じであってもよく、異なっていてもよく、通常は１〜５，０００％／分であり、好ましくは５０〜１，０００％／分であり、さらに好ましくは１００〜１，０００％／分であり、特に好ましくは１００〜５００％／分である。
【００７５】
延伸加工温度は、特に限定されるものではないが、本発明の樹脂のガラス転移温度Ｔｇを基準として、通常はＴｇ±３０℃、好ましくはＴｇ±１５℃、さらに好ましくはＴｇ−５℃〜Ｔｇ＋１５℃の範囲である。上記範囲内とすることで、位相差ムラの発生を抑えることが可能となり、また、屈折率楕円体の制御が容易になることから好ましい。
延伸倍率は、所望の特性により決定されるため特に限定はされないが、通常は１．０１〜１０倍、好ましくは１．０３〜５倍、さらに好ましくは１．０３〜３倍である。延伸倍率が１０倍を超えると、位相差の制御が困難になる場合がある。
【００７６】
延伸したフィルムは、そのまま冷却してもよいが、Ｔｇ−２０℃〜Ｔｇの温度雰囲気下に少なくとも１０秒以上、好ましくは３０秒〜６０分間、さらに好ましくは１分〜６０分間保持してヒートセットすることが好ましい。これにより、透過光の位相差の経時変化が少なく安定した位相差フィルムが得られる。
【００７７】
延伸加工を施さない場合の本発明の光学フィルムの加熱による寸法収縮率は、１００℃における加熱を５００時間行った場合に、通常、５％以下、好ましくは３％以下、さらに好ましくは１％以下、特に好ましくは０．５％以下である。
また、本発明の光学フィルムの加熱による寸法収縮率は、１００℃における加熱を５００時間行った場合に、通常、１０％以下、好ましくは５％以下、さらに好ましくは３％以下、特に好ましくは１％以下である。
寸法収縮率を上記範囲内にするためには、本発明の樹脂の原料である特定単量体や共重合性単量体の選択に加え、キャスト方法や延伸方法によりコントロールすることが可能である。
【００７８】
上記のようにして延伸したフィルムは、延伸により分子が配向し透過光に位相差を与えるようになるが、この位相差は、延伸倍率、延伸温度あるいはフィルムの厚さなどにより制御することができる。例えば、延伸前のフィルムの厚さが同じである場合、延伸倍率が大きいフィルムほど透過光の位相差の絶対値が大きくなる傾向があるので、延伸倍率を変更することによって所望の位相差を透過光に与える位相差フィルムを得ることができる。一方、延伸倍率が同じである場合、延伸前のフィルムの厚さが厚いほど透過光の位相差の絶対値が大きくなる傾向があるので、延伸前のフィルムの厚さを変更することによって所望の位相差を透過光に与える位相差フィルムを得ることができる。また、上記延伸加工温度範囲においては、延伸温度が低いほど透過光の位相差の絶対値が大きくなる傾向があるので、延伸温度を変更することによって所望の位相差を透過光に与える位相差フィルムを得ることができる。
【００７９】
上記のように延伸して得た光学フィルム（位相差フィルム）の厚さは、通常、１００μｍ以下、好ましくは１００〜２０μｍ、さらに好ましくは８０〜２０μｍである。厚みを薄くすることで位相差フィルムが使われる分野の製品に求める小型化、薄膜化に大きく応えることができる。ここで、位相差フィルムの厚みをコントロールするためには、延伸前の光学フィルムの厚さをコントロールしたり、延伸倍率をコントロールすることにより成し得る。例えば、延伸前の光学フィルムを薄くしたり、延伸倍率を比較的に大きくすることでより一層位相差フィルムの厚さを薄くすることができる。
【００８０】
＜フィルム特性＞
本発明の光学フィルムは、以上のようにして溶剤キャスト法（流延法）、あるいは溶融押出法により製膜化されたのち、円筒状の上記コアを軸とし巻き取られる。また、所望の位相差と光軸角度とするために、さらに延伸加工してフィルムとされる。このフィルムの幅は、１，５００ｍｍ以上、好ましくは１，７００ｍｍ以上、さらに好ましくは１,７００ｍｍ〜３,０００ｍｍである。フィルムの幅が１，５００ｍｍ未満では、ＬＣＤを大型化することができない。
【００８１】
本発明の光学フィルムは、光線波長５５０ｎｍにおけるフィルム面内の最大屈折率をｎｘ、フィルム面内でｎｘに対して直交する方向の屈折率をｎｙ、フィルム厚み方向の屈折率をｎｚ、フィルム厚みをｄ〔ｎｍ〕とするとき、フィルム面内の位相差Ｒ０（５５０）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄの値が好ましくは０〜３００ｎｍであり、さらに好ましくは１０〜２００ｎｍ、特に好ましくは３０〜１００ｎｍである。フィルム面内の位相差が３００ｎｍを超えると、光漏れが発生しやすくなり、コントラスト比が低下してしまうというおそれがある。
【００８２】
また、本発明の光学フィルムは、フィルム厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄの値は、好ましくは３０〜３００ｎｍ、さらに好ましくは５０〜２５０ｎｍ、特に好ましくは１００〜２５０ｎｍである。Ｒｔｈ（５５０）の値がこの範囲にあると、当該光学フィルムを視野角補償を目的として用いた場合、得られた液晶パネルのコントラスト比が大きく、かつカラーシフトが小さくなって、視野角特性が非常に良好となる。Ｒｔｈ（５５０）が３０ｎｍ未満では、本発明の視野角補償フィルムを液晶パネルに用いた際、光漏れが発生しやすくなり、視野角が狭くなる。一方、３００ｎｍを超えると、カラーシフトが大きくなってしまうという問題がある。
【００８３】
さらに、本発明の光学フィルムは、フィルム厚み方向の光軸とフィルム面に対する法線とのなす角θが好ましくは０〜３°であり、さらに好ましくは０〜２°、特に好ましくは０〜１°、最も好ましくは０〜０．５°である。θが３°を超えると、カラーシフトやコントラスト比が、液晶パネルを観察する方位によって異なり、偏光板の透過軸に対して非対称となってしまうため好ましくない。
【００８４】
さらに、本発明の光学フィルムにおいて、上記Ｒ０のバラツキは、好ましくは±１０％以下、さらに好ましくは±５％以下、特に好ましくは±２％以下である。
ここで、Ｒ０のバラツキは、大塚電子（株）製の位相差フィルム検査装置「ＲＥＴＳ」を用い、フィルムの任意の部分を１ｍ２サンプリングしてフィルム面内を１ｃｍ間隔で測定された値である。
Ｒ０のバラツキが±１０％を超えると、液晶ディスプレイに使用したときに光学的にムラが発生し、部分的な光漏れや色ムラが発生してしまうため好ましくない。
【００８５】
さらに、本発明の光学フィルムでは、フィルム面内方向の光軸（フィルム面内での屈折率の最大方向）のバラツキが好ましくは中心値±１０度以下、さらに好ましくは中心値±３度以下、特に好ましくは中心値±１度以下、最も好ましくは中心値±０．５度以下である。フィルム面内の光軸のバラツキが中心値±１０度を超えると、液晶ディスプレイに使用したときに光学的にムラが発生し、部分的な光漏れや色ムラが発生してしまうため好ましくない。
なお、上記光軸のバラツキは、大塚電子（株）製の位相差フィルム検査装置「ＲＥＴＳ」を用い、フィルムの任意の部分を１ｍ２サンプリングしてフィルム面内を１ｃｍ間隔で測定された値である。
ここで、光軸とは、遅相軸の方向を意味し、光学フィルムの押出方向（ＭＤ方向）や延伸方向が一般に対応する。従って、光軸のズレ（バラツキ）とは、遅相軸の方向のズレであり、光学フィルムの押出方向（ＭＤ方向）や延伸方向において発生した遅相軸に対するズレを意味する。
【００８６】
上記Ｒ０、Ｒｔｈ、θ、Ｒ０のバラツキ、および光軸のバラツキの特性は、例えば下記の方法により調整できる。
（１）Ｒ０（５５０）の値を０〜３００ｎｍとするには、溶剤キャスト法で成形する場合に、フィルム剥離時の張力ＴＦ（ｋｇｆ）を０．０１ＭＰａ≦ＴＦ≦５ＭＰａの範囲とする、もしくは、溶融押出法で成形する場合に、フィルム剥離時の条件が剥離温度Ｔｔ（℃）、剥離張力ＴＦ（ｋｇｆ）とするとき、それぞれＴｇ−３０℃≦Ｔｔ≦Ｔｇ＋３０℃、０．０１ＭＰａ≦ＴＦ≦５ＭＰａの範囲とすればよい。
（２）Ｒｔｈ（５５０）の値を３０〜３００ｎｍとするには、溶剤キャスト法で成形する場合に、基材から剥離するまでの乾燥工程を２段以上の複数工程とし、２段目以降の乾燥工程における温度を５０〜２００℃、好ましくは７０〜１８０℃とする、もしくは、溶融押出法で成形する場合に、鏡面ロールに樹脂を転写する際の圧力を面圧で好ましくは０．０１〜０．８０ＭＰａ、さらに好ましくは０．１０〜０．６０ＭＰａとすればよい。特に好ましくは、０．１５〜０．４５ＭＰａである。
（３）θの値を０〜３°とするには、溶剤キャスト法で成形する、もしくは、溶融押出法で成形する場合に、鏡面ロールの周速度を１．００としたときに、金属ベルトの周速度を０．９５〜１．０５とすればよい。あるいは、吐出したフィルムを静電圧着によりロールに密着する。
（４）Ｒ０のバラツキを±１０％以下にするには、フィルム厚み分布を±１０％以下、好ましくは±５％以下、さらに好ましくは±１％以下にすることや、延伸加工する際に生じてしまう応力や温度の分布を極力少なくし、好ましくは±１０％以下、さらに好ましくは±５％以下、特に好ましくは±１％以下にすると良い。
（５）光軸のバラツキが中心値±１０度以下にするには、フィルム厚み分布を±１０％以下、好ましくは±５％以下、さらに好ましくは±１％以下にすることや、延伸加工する際に生じてしまう応力や温度の分布を極力少なくし、好ましくは±１０％以下、さらに好ましくは±５％以下、特に好ましくは±１％以下にすると良い。
【００８７】
なお、本発明の光学フィルムに用いられるフィルム中の残留溶媒量は、通常は１０重量％以下、好ましくは５重量％以下、さらに好ましくは１重量％以下、特に好ましくは０．５重量％以下である。ここで、残留溶媒量が上記範囲を超えると、実際に使用したときに経時による寸法変化が大きくなる傾向にあり、また、残留溶媒によりＴｇが低くなり、耐熱性が低下することがある。
【００８８】
また、本発明の光学フィルムの厚さは、用途によって異なるが、通常、１〜５００μｍ、好ましくは１〜３００μｍ、さらに好ましくは１〜２００μｍである。１μｍ未満の厚みの場合、実質的にハンドリングが困難となる。一方、５００μｍを超える場合、当該加工前フィルムをロール状に巻き取った際に、いわゆる「巻きぐせ」がついてしまい後加工などにおける取り扱いが困難になる場合があり、また透過率が低下するので好ましくない。
上記フィルムの厚み分布は、通常、平均値に対して±１０％以内、好ましくは±５％以内、さらに好ましくは±１％以内、特に好ましくは±０．５％以内である。また、１ｃｍあたりの厚みの変動は、通常は１％以下、好ましくは０．１％以下、さらに好ましくは０．０１％以下、特に好ましくは０．００５％以下であることが望ましい。光学フィルムの厚み分布を上記の範囲内に制御することにより、場合により延伸加工処理を行う際に、位相差ムラや光軸の配向ムラが発生することを防止することができる。
ここで、厚み分布は、ＭＯＣＯＮ社製、フィルム厚み測定装置「Ｐｒｏｆｉｌｅｒ  １４０Ｅ」によって１ｍｍ間隔で測定された値である。
【００８９】
≪偏光板≫
本発明の偏光板は、ＰＶＡ系フィルムなどからなる偏光子の少なくとも片面に、本発明の視野角補償フィルムである光学フィルムを、ＰＶＡ樹脂を主体とした水溶液からなる水系接着剤、極性基含有粘接着剤、光硬化性接着剤などを使用して貼り合わせ、必要に応じてこれを加熱または露光し、圧着して、偏光子と視野角補償フィルムとを接着（積層）させることにより製造することができる。
【００９０】
≪液晶パネル≫
本発明の液晶パネルは、２枚のガラス基板間に液晶が挟持されてなる液晶表示素子の少なくとも片面に、本発明の偏光板を貼り合わせ、液晶表示素子と偏光板とを接着（積層）させることにより製造することができる。このとき、ガラス基板の両面に偏光板が使用される。
【実施例】
【００９１】
以下、本発明の具体的な実施例について説明するが、本発明は、これらの実施例に限定されるものではない。
なお、以下において、「部」、「％」は、特に断りのない限り「重量部」、「重量％」を意味する。
また、実施例中のフィルム物性は、次のようにして測定した。
［全光線透過率、ヘーズ］
村上色彩技術研究所製のヘイズメーター「ＨＭ−１５０型」を用い、全光線透過率ならびにヘーズを測定した。
【００９２】
実施例１
環状オレフィン系樹脂として、ノルボルネン系樹脂（ＪＳＲ株式会社製：商品名「ＡＲＴＯＮ  Ｄ４５３１」、ガラス転移温度１３０℃）を用いた。この原料を乾燥温度１００℃で、窒素下で除湿乾燥を行い、押出機（ジーエムエンジニアリング社製：ＧＭ−６５）に導き２６０℃で溶融し、ギアポンプを用いて定量で送液し、5μｍリーフディスクフィルターを用いて、異物を除去し、２５０℃に設定したアルミ鋳込みヒーターにより加熱されたＴダイから押出を実施した。このときのTダイの開口は0.5mmであり、Ｔダイ出口と冷却ロールのフィルムの圧着点間の距離は、65mmとして、250mmφの冷却ロールに圧着させた。冷却ロールの温度は１２０℃として、その下流側に250mmφの冷却ロール２を、さらに下流側に250mmφの剥離ロールを設けた。それぞれのロールの温度を１１５℃、１１０℃として、フィルム表面温度１０８℃で剥離ロールから１００μｍ厚みのフィルムを剥離させて、ノルボルネン系樹脂フィルムを得た。
クラス１,０００のクリーンルーム内において、当該ノルボルネン系樹脂フィルムを、4kgfの張力でコアに巻き取りながら保護フィルムと貼合することで、長さ２,０００ｍの光学フィルムロールを得た。貼合には表面粗度が0.1Sの鏡面ロールでできたマスキングロールと一対のウレタンゴムを10mm被覆したゴムロールの間に、透明フィルムと保護フィルムを通すことで行った。
このとき使用したコアは、ＡＢＳ樹脂製の長さ1,700ｍｍ、直径154ｍｍのコアの表面を、使用直前に純水をしみ込ませた不織布で拭き取ったものである。また、このときに使用した保護フィルムは、東レフィルム加工製の厚さ３０μｍの保護フィルム（トレテック＃７３３２）である。得られた光学フィルムロールからフィルムを全て引き出し、当該光学フィルムの一番内側の層（コアと接触していた層）４８０ｍｍの長さについてフィルムの外観を観察し、フィルム欠陥を目視にて観察した。また、欠陥が生じていたコアの位置をマーキングした上で、幅５０ｍｍの粘着テープ（住友スリーエム社製メンディングテープ）をコアに貼付して異物を当該粘着テープ上に写し取り、当該粘着テープをガラス板に貼り合わせて、光学顕微鏡にて異物の大きさを測定した。フィルム欠陥は０個であり、粒径５０μｍ以上の異物の個数は０個／ｍ２であった。
また、当該光学フィルムロールにおけるフィルムの全光線透過率は９３％、ヘーズは０．２％であった。
【００９３】
比較例１
コアの表面を拭き取る操作を行わなかった以外は、実施例１と同様にして、光学フィルムロールを得た。得られた光学フィルムロールを用いてフィルム欠陥および異物について観測・測定したところ、フィルム欠陥は１８個／ｍ２であり、粒径５０μｍ以上の異物の個数は１０個／ｍ２であった。
また、当該光学フィルムロール（ａ）におけるフィルムの全光線透過率は９３％、ヘーズは１．５％であった。
【産業上の利用可能性】
【００９４】
本発明の光学フィルムロールは、例えば携帯電話、デジタル情報端末、ポケットベル、ナビゲーション、車載用液晶ディスプレイ、液晶モニター、調光パネル、ＯＡ機器用ディスプレイ、ＡＶ機器用ディスプレイなどの各種液晶表示素子やエレクトロルミネッセンス表示素子あるいはタッチパネルなどに用いることができる。また、ＣＤ、ＣＤ−Ｒ、ＭＤ、ＭＯ、ＤＶＤなどの光ディスクの記録・再生装置に使用される波長板としても有用である。