(57)【要約】【課題】減圧時に蓋体と炉口周縁部との間で気密部材が押し潰されることにより蓋体と炉口周縁部とが直接接触することに起因する炉口周縁部の損傷や蓋体と炉口周縁部の擦れの発生を防止する。【解決手段】被処理体ｗを多段に搭載した保持具２０を載置すると共に上記炉口３ａを開閉する蓋体１７と、処理容器３内への保持具２０の搬入・搬出及び蓋体１７の開閉を行う昇降機構１８と、蓋体１７上に設けられ処理容器３の炉口周縁部３ｆとの間を封止する環状の気密部材２６と、を備えた熱処理装置１において、上記処理容器３内の減圧時に該減圧による内外の圧力差分の押し付け力を減少させるための押し付け力減少手段３７を設けている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理容器の下部の炉口を開閉する蓋体の上部に載置された保持具に被処理体を多段に搭載し、上記蓋体を昇降機構により上昇させて保持具を熱処理炉内に搬入すると共に炉口を気密部材を介して蓋体で閉塞し、所定の減圧下で被処理体を熱処理する熱処理方法において、上記処理容器内の減圧時に上記蓋体に作用する該減圧による内外の圧力差分の押し付け力を減少させることを特徴とする熱処理方法。
【請求項２】
下部に炉口を有し、被処理体を収容して減圧下で所定の熱処理が可能な処理容器と、被処理体を多段に搭載した保持具を載置すると共に上記炉口を開閉する蓋体と、処理容器内への保持具の搬入・搬出及び蓋体の開閉を行う昇降機構と、蓋体上に設けられ処理容器の炉口周縁部との間を封止する環状の気密部材と、を備えた熱処理装置において、上記処理容器内の減圧時に上記蓋体に作用する該減圧による内外の圧力差分の押し付け力を減少させるための押し付け力減少手段を設けたことを特徴とする熱処理装置。
【請求項３】
上記蓋体が蓋体ベース部を介して昇降機構に接続され、蓋体と蓋体ベース部との間には蓋体を閉方向へ付勢するバネと、該バネの付勢力に抗して蓋体と蓋体ベース部間を所定の間隔に規制する規制部材とが介設されていることを特徴とする請求項２記載の熱処理装置。
【請求項４】
上記押し付け力減少手段は、上記昇降機構を駆動するステッピングモータと、蓋体が閉塞したことを検出する閉塞位置センサと、該閉塞位置センサにより蓋体が閉塞したことを検出した後、処理容器内の減圧時に上記蓋体を開方向に付勢するべく上記ステッピングモータを所定角だけ逆回転させる制御部とを具備することを特徴とする請求項２記載の熱処理装置。
【請求項５】
上記押し付け力減少手段は、上記処理容器の炉口周縁部を固定する固定部と、該固定部及び上記蓋体の少なくとも何れか一方に設けられ、他方に対して当接することにより処理容器内の減圧時に上記蓋体が閉位置から更に閉方向へ移動するのを阻止する移動阻止部材とを具備することを特徴とする請求項２記載の熱処理装置。
【請求項６】
上記押し付け力減少手段は、上記処理容器の炉口周縁部を固定する固定部と、該固定部及び上記蓋体の少なくとも何れか一方に設けられ、他方に対して反力を取ることにより処理容器内の減圧時に上記蓋体を炉口から離反させる流体圧伸縮機構とを具備することを特徴とする請求項２記載の熱処理装置。
【請求項７】
上記押し付け力減少手段は、上記蓋体と上記蓋体ベース部の間に設けられ、処理容器内を減圧する際に上記蓋体と上記蓋体ベース部間の間隔を蓋体閉時の間隔に固定する間隔固定機構を具備することを特徴とする請求項２記載の熱処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、熱処理方法及び熱処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体装置の製造においては、被処理体例えば半導体ウエハ（以下、ウエハともいう。）に、酸化、拡散、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）などの処理を施すために、各種の処理装置（半導体製造装置）が用いられている。そして、処理装置の一つとして、一度に多数枚の被処理体の熱処理が可能なバッチ式の熱処理装置例えば縦型熱処理装置が知られている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００３】
この熱処理装置は、下部に炉口を有し、ウエハを収容して減圧下で所定の熱処理が可能な処理容器（プロセスチューブ）と、ウエハを多段に搭載した保持具（ボート）を載置すると共に上記炉口を開閉する蓋体と、処理容器内への保持具の搬入・搬出及び蓋体の開閉を行う昇降機構と、蓋体上に設けられ処理容器の炉口周縁部との間を封止する環状の気密部材（Ｏリング）とを備えている。
【０００４】
上記蓋体を炉口周縁部に均一に密着させるために、蓋体は蓋体ベース部を介して昇降機構に接続され、蓋体と蓋体ベース部との間には蓋体を閉方向へ付勢するバネと、該バネの付勢力に抗して蓋体と蓋体ベース部間を所定の間隔に規制する規制部材とが介設されている。
【０００５】
【特許文献１】特開２００１−２３７２３８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記熱処理装置においては、上記の構造上、処理容器内の減圧時に蓋体には上記バネの付勢力（押し付け力）に加えて内外の圧力差が作用し、その圧力差は蓋体の受圧面積（πr２）に比例し、ウエハの大口径化（大直径化）が進むにつれて増大するため、蓋体の押し付け力の増大によって気密部材が過剰に潰れてしまい、気密部材の耐久性の低下を招くと共に蓋体が炉口周縁部に直接接触して圧接されるため、蓋体が金属製で炉口周縁部が石英製である場合、炉口周縁部に無理な力が加わることにより炉口周縁部にクラックや破損等の損傷が発生する問題があった。なお、蓋体が金属製で炉口周縁部も金属製である場合には、このような問題はないが、両者の熱膨張の違いによる擦れが発生し、この擦れがウエハの金属汚染の原因になる虞がある。
【０００７】
本発明は、上記事情を考慮してなされたものであり、減圧時に気密部材が過剰に潰れるのを防止でき、気密部材の耐久性の向上が図れると共に蓋体と炉口周縁部とが直接接触することに起因する炉口周縁部の損傷や蓋体と炉口周縁部の擦れの発生を防止することができる熱処理方法及び熱処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明のうち、請求項１に係る発明は、処理容器の下部の炉口を開閉する蓋体の上部に載置された保持具に被処理体を多段に搭載し、上記蓋体を昇降機構により上昇させて保持具を熱処理炉内に搬入すると共に炉口を気密部材を介して蓋体で閉塞し、所定の減圧下で被処理体を熱処理する熱処理方法において、上記処理容器内の減圧時に上記蓋体に作用する押し付け力のうちの該減圧による内外の圧力差分の押し付け力を減少させることを特徴とする。
【０００９】
請求項２に係る発明は、下部に炉口を有し、被処理体を収容して減圧下で所定の熱処理が可能な処理容器と、被処理体を多段に搭載した保持具を載置すると共に上記炉口を開閉する蓋体と、処理容器内への保持具の搬入・搬出及び蓋体の開閉を行う昇降機構と、蓋体上に設けられ処理容器の炉口周縁部との間を封止する環状の気密部材と、を備えた熱処理装置において、上記処理容器内の減圧時に上記蓋体に作用する押し付け力のうちの該減圧による内外の圧力差分の押し付け力を減少させるための押し付け力減少手段を設けたことを特徴とする。
【００１０】
請求項３に係る発明は、上記蓋体が蓋体ベース部を介して昇降機構に接続され、蓋体と蓋体ベース部との間には蓋体を閉方向へ付勢するバネと、該バネの付勢力に抗して蓋体と蓋体ベース部間を所定の間隔に規制する規制部材とが介設されていることを特徴とする。
【００１１】
請求項４に係る発明は、上記押し付け力減少手段が、上記昇降機構を駆動するステッピングモータと、蓋体が閉塞したことを検出する閉塞位置センサと、該閉塞位置センサにより蓋体が閉塞したことを検出した後、処理容器内の減圧時に上記蓋体を開方向に付勢するべく上記ステッピングモータを所定角だけ逆回転させる制御部とを具備することを特徴とする。
【００１２】
請求項５に係る発明は、上記押し付け力減少手段が、上記処理容器の炉口周縁部を固定する固定部と、該固定部及び上記蓋体の少なくとも何れか一方に設けられ、他方に対して当接することにより処理容器内の減圧時に上記蓋体が閉位置から更に閉方向へ移動するのを阻止する移動阻止部材とを具備することを特徴とする。
【００１３】
請求項６に係る発明は、上記押し付け力減少手段が、上記処理容器の炉口周縁部を固定する固定部と、該固定部及び上記蓋体の少なくとも何れか一方に設けられ、他方に対して反力を取ることにより処理容器内の減圧時に上記蓋体を炉口から離反させる流体圧伸縮機構とを具備することを特徴とする。
【００１４】
請求項７に係る発明は、上記押し付け力減少手段が、上記蓋体と上記蓋体ベース部の間に設けられ、処理容器内を減圧する際に上記蓋体と上記蓋体ベース部間の間隔を蓋体閉時の間隔に固定する間隔固定機構を具備することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、処理容器内の減圧時に蓋体に作用する押し付け力のうちの該減圧による内外の圧力差分の押し付け力が減少されるため、減圧時に気密部材が過剰に潰れるのを防止でき、気密部材の耐久性の向上が図れると共に蓋体と炉口周縁部とが直接接触することに起因する炉口周縁部の損傷や蓋体と炉口周縁部の擦れの発生を防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下に、本発明を実施するための最良の形態について、添付図面を基に詳述する。図１は本発明の実施形態である熱処理装置を概略的に示す縦断面図、図２は蓋体の高さ位置を制御して蓋体が炉口を圧接する面圧を低下させる方法を概略的に説明する説明図である。
【００１７】
図１において、１は半導体製造装置の一つである縦型の熱処理装置であり、この熱処理装置１は、被処理体である例えば半導体ウエハｗを一度に多数枚収容して減圧拡散等の熱処理を施すことができる縦型の熱処理炉２を備えている。この熱処理炉２は、ウエハｗを多段に収容して所定の熱処理を行うための処理容器３と、該処理容器３を囲繞する筒状の断熱材４と、該断熱材４の内周面に沿って螺旋状又は蛇行状に配置された発熱抵抗体（ヒータ線ともいう）５とを主に備えている。筒状の断熱材４の上端部は閉塞されている。断熱材４と発熱抵抗体５によりヒータ（加熱装置）６が構成されている。
【００１８】
上記熱処理装置１は、ヒータ６を設置するためのベースプレート７を備えている。このベースプレート７には処理容器３を下方から上方に挿入するための開口部８が形成されており、この開口部８にはベースプレート７と処理容器３との間の隙間を覆うように断熱材１０が設けられている。
【００１９】
上記処理容器３は、プロセスチューブ（反応管）とも称し、石英製で、上端が閉塞され、下端が開口された縦長の円筒状に形成されている。処理容器３の開口端には外向きのフランジ部３ｆが形成され、該フランジ部３ｆがフランジ支持部材１１を介して上記ベースプレート７に支持されている。このフランジ支持部材１１は、フランジ部３ｆの下部周縁部を支持する環状の支持枠１２と、該支持枠１２の上部にネジ止め等により取付けられフランジ部３ｆの上部を押えるフランジ押え１３と、上記支持枠１２の外周縁部を上記ベースプレート７から支持する複数の支持ロッド１４とを含んでいる。
【００２０】
図示例の処理容器３は、下側部に処理ガスや不活性ガス等を処理容器３内に導入する導入ポート（導入口）１５及び処理容器３内のガスを排気するための排気ポート（排気口）１６が設けられている。導入ポート１５にはガス供給源が接続され、排気ポート１６には例えば１０〜１０-8Ｔｏｒｒ程度に減圧制御が可能な真空ポンプを備えた排気系が接続されている。
【００２１】
処理容器３の下方には、処理容器３の下端開口部からなる炉口３ａを閉塞・開放する上下方向に開閉可能な蓋体１７が昇降機構１８により昇降移動可能に設けられている。この蓋体１７の上部には、例えば直径が３００ｍｍのウエハｗを多数枚例えば１００〜１５０枚程度上下方向に所定の間隔で搭載する保持具である石英製のボート２０が炉口３ａの保温手段である例えば保温筒２１を介して載置されている。蓋体１７には、ボート２０をその軸心回りに回転する回転機構２２が設けられている。ボート２０は、蓋体１７の下降移動により処理容器３内から下方のローディングエリア２３内に搬出（アンロード）され、ウエハｗの移替え後、蓋体１７の上昇移動により処理容器３内に搬入（ロード）される。
【００２２】
断熱材４の形状を保持すると共に断熱材４を補強するために、断熱材４の外周は金属製例えばステンレス製の外皮（アウターシェル）２４で覆われている。また、ヒータ外部への熱影響を抑制するために、外皮２４の外周は水冷ジャケット２５で覆われている。
【００２３】
上記蓋体１７の上部周縁部には、処理容器３の炉口周縁部（炉口フランジ部３ａ）との間を封止する環状の気密部材であるＯリング２６が取付けられている。上記蓋体１７は、金属製例えばステンレス鋼（ＳＵＳ）製であり、上記Ｏリング２６は、耐熱樹脂製例えばフッ素系樹脂製である。蓋体１７の上面周縁部には、Ｏリング２６を取付けるための環状の取付溝２７［図２（ａ）参照］が形成されている。なお、Ｏリング２６の過熱を防止するために、支持枠１２には冷却水を流通させて処理容器３のフランジ部３ｆを間接的に冷却するための冷却水通路が設けられ、蓋体１７にもＯリング２６を冷却するための冷却水通路が設けられている（図示省略）。
【００２４】
蓋体１７を炉口周縁部３ａに均一に密着させるために、上記蓋体１７は、蓋体ベース部２８を介して昇降機構１８に接続されており、蓋体１７と蓋体ベース部２８との間には蓋体１７を閉方向へ付勢するコイル状の複数のバネ（スプリング）３０と、該バネ３０の付勢力に抗して蓋体１７と蓋体ベース部２８間を所定の間隔に規制する複数の規制部材３１とが介設されている。該規制部材３１は、蓋体１７の下面に周方向に適宜間隔で配置されて下向きに突設された複数のボルト３１ａと、各ボルト３１ａの先端部に螺着されたナット３１ｂとから主に構成されている。蓋体ベース部２８には上記ボルト３１ａを緩く貫通する孔部３２が形成されていると共に上記回転機構２２との干渉を避けるための開口部３３が形成されている。上記バネ３０は、各ボルト３１ａに挿通された状態で蓋体１７と蓋体ベース部２８との間に圧縮状態で介設されている。上記ナット３１ｂの締付調整により上記蓋体１７の水平度及び上記バネ３０のバネ圧を調整することが可能となる。
【００２５】
上記昇降機構１８は、垂直に配置されたネジ軸（ボールネジ）３４と、該ネジ軸３４の正逆回転によって昇降動される昇降アーム３５とを備え、該昇降アーム３５に上記蓋体ベース部２８が取付けられている。昇降アーム３５は図示しないリニアガイドにより昇降自在に支持されている。昇降機構１８は、その駆動手段として電動モータＭを備え、該電動モータＭが減速歯車機構３６を介して上記ネジ軸３４の一端に接続されている。
【００２６】
処理容器３内の常圧時には、蓋体１７を処理容器３の炉口フランジ部３ｆに当接させて閉塞した場合、Ｏリング２６の潰し量（潰し代）が０．４ｍｍとなり、蓋体１７の周縁部上面と炉口フランジ部３ｆ下面との間に０．６ｍｍの隙間が生じるように上記バネ圧（バネによる押し付け力）が設定されている。ところで、上記蓋体１７にあっては、その構造上、処理容器３内の減圧時に蓋体１７には上記バネ３０の付勢力（押し付け力）に加えて内外の圧力差（例えば１４００ｋｇ／ｃｍ2程度）が作用し、蓋体１７の押し付け力の増大によってＯリング２６が過剰に潰れてしまうため、これを防止すべく上記処理容器３内の減圧時に該減圧による内外の圧力差分の押し付け力を減少させるための押し付け力減少手段３７が設けられている。
【００２７】
上記押し付け力減少手段３７は、本実施形態では例えば上記昇降機構１８を駆動するステッピングモータ３８と、蓋体１７が閉塞したことを検出する閉塞位置センサ４０と、該閉塞位置センサ４０により蓋体１７が閉塞したことを検出した後、処理容器３内の減圧時に該減圧による内外の圧力差分の押し付け力を減少させるべく上記蓋体１７を開方向に引き下げるために上記ステッピングモータ３８を所定角（所定の回転角）だけ逆回転させる制御部４１とを具備して構成されている。
【００２８】
以上の構成からなる熱処理装置１の作用ないし熱処理方法について述べる。先ず、ローディングエリア２３内においてボート３へのウエハｗの移載後、昇降機構１８により蓋体１７を上昇させてボート２０を処理容器３内に搬入すると共に蓋体１７を炉口周縁部３ｆにＯリング２６を介して当接させる。このとき、蓋体ベース部２８はＯリング２６が炉口周縁部（フランジ部）３ｆ下面に接する位置（Ａ位置）［図２（ａ）参照］からＯリングが初期潰し量となる蓋体閉塞位置（Ｂ位置）［図２（ｂ）参照］に上昇される。この場合、バネ３０のバネ圧（付勢力）によってＯリング２６が初期潰し量ｅになる。
【００２９】
次に、処理容器３内が減圧（真空引き）されると、上記バネ３０の付勢力（押し付け力）に加えて内外の圧力差が作用し、蓋体１７の押し付け力の増大によってＯリング２６が過剰に潰れ（真空引きによる潰れ量ｆ）、蓋体１７が炉口周縁部３ｆに直接接触してしまう［図２（ｃ）参照］。すなわち、蓋体ベース部２８は上記と同じ蓋体閉塞位置（Ｂ位置）であるが、蓋体１７が上下方向に移動可能であることから上記内外の圧力差により炉口周縁部３ｆに押し付けられてしまう。そこで、このようになるのを防止するために、減圧開始時にステッピングモータ３８を所定の回転角だけ逆回転させることにより、Ｏリング２６が設計上の所定の潰し量になるように、蓋体１７すなわち蓋体ベース部２８を上記内外の圧力差分をキャンセルする位置（Ｃ位置）まで開方向（下方向）に引き下げる（蓋体位置補正後の潰し量ｇ）［図２（ｄ）参照］。
【００３０】
このように熱処理装置１ないし熱処理方法によれば、上記処理容器３内の減圧時に上記蓋体１７に作用する該減圧による内外の圧力差分の押し付け力を減少させるようにしたので、減圧時にＯリング２６が過剰に潰れるのを防止でき、Ｏリング２６の耐久性の向上が図れると共に蓋体と炉口周縁部３ｆとが直接接触することに起因する炉口周縁部３ｆの損傷や蓋体１７と炉口周縁部３ｆの擦れの発生を防止することができる。従って、処理容器３の炉口周縁部３ｆ及び蓋体１７の耐久性の向上が図れると共に、上記擦れに起因するパーティクルの発生やウエハの金属汚染を防止することができる。また、上記蓋体１７が蓋体ベース部２８を介して昇降機構１８に接続され、蓋体１７と蓋体ベース部２８との間には蓋体１７を閉方向へ付勢するバネ３０と、該バネ３０の付勢力に抗して蓋体１７と蓋体ベース部２８間を所定の間隔に規制する規制部材３１とが介設されているため、蓋体１７を閉めた時に、蓋体１７を炉口周縁部３ｆに均一に押し付けて密閉することができる。なお、上記実施形態では、蓋体１７の閉塞位置を閉塞位置センサ４０で検出しているが、ステッピングモータ３８の回転角により検出するようにしてもよい。また、処理容器３における圧力制御や温度制御等は熱処理装置１の図示しない制御装置によって行われており、例えば処理容器３の減圧時には上記制御装置過から制御部４１に減圧開始信号が入力されようになっている。
【００３１】
図３は固定部との間で蓋体の移動をストッパーにより規制する例を概略的に示す断面図、図４はストッパーの変形例を示す断面図である。本実施形態において、上記実施形態と同一部分は同一符号を付して説明を省略する。本実施の形態では、上記押し付け力減少手段３７が、上記処理容器３の炉口周縁部３ｆを固定する固定部４２と、上記蓋体１７に設けられ、上記固定部４２に対して当接することにより処理容器３内の減圧時に上記蓋体１７が閉位置［図２（ｂ）参照］から更に閉方向へ移動するのを阻止するストッパー（移動阻止部材）４３とを具備して構成されている。ストッパー４３は、蓋体１７の外周部に適宜間隔で複数設けられていることが好ましい、固定部４２としては、例えばフランジ支持部材１１の支持枠１２が好適である。本実施形態によれば、処理容器３内の減圧時に内外の圧力差によって蓋体１７が閉方向に押し付けられたとしても、ストッパー４３が固定部４２に当接して蓋体１７の閉方向への移動を阻止するため、Ｏリング２６が過剰に押し潰されることがなく、所定の潰れ量を確保することができ、Ｏリング２６の耐久性の向上と蓋体１７の気密性の維持が図れる。なお、図４に示すように、ストッパー４３は固定部４２である例えば支持枠１２の下面に周方向に適宜間隔で複数設けられていてもよく、これらのストッパー４３と対応して蓋体１７の外周部にはストッパー４３が当接する受け部４４が設けられていてもよい。
【００３２】
図５は固定部との間で蓋体の移動をエアシリンダにより抑制する例を概略的に示す断面図である。本実施形態において、上記実施形態と同一部分は同一符号を付して説明を省略する。本実施の形態では、上記押し付け力減少手段３７が、図５（ａ）ないし（ｂ）に示すように上記処理容器３の炉口周縁部３ｆを固定する固定部４２と、該固定部４２及び上記蓋体１７の少なくとも何れか一方例えば蓋体１７に設けられ、他方例えば固定部４２に対して反力を取ることにより処理容器３内の減圧時に上記蓋体１７を炉口３ａから離反させるエアシリンダ（流体圧伸縮機構）４５とを具備して構成されている。蓋体１７の外周部には周方向に適宜間隔でエアシリンダ４５がそのプッシュロッド４５ａを上向きにした状態で固定されている。減圧時に図５（ｂ）に示すようにエアシリンダ４５のプッシュロッド４５ａを突出させて固定部４２例えばフランジ支持部材１１の支持枠１２下面を押圧し、Ｏリング２６が過剰に潰れないように所定の潰れ量を確保する。これにより上記実施形態と同様の効果が得られる。なお、エアシリンダ４５は固定部である例えば支持枠１２の下面に周方向に適宜間隔で複数設けられていてもよく、これらのエアシリンダ４５と対応して蓋体１７の外周部にはエアシリンダ４５のプッシュロッド４５ａを当接させるための受け部（図示省略）が設けられていてもよい。
【００３３】
図６は蓋体と蓋体ベース部材の位置関係をチャック機構により固定する例を概略的に示す断面図である。本実施形態において、上記実施形態と同一部分は同一符号を付して説明を省略する。本実施の形態では、上記押し付け力減少手段３７が、図６（ａ）ないし（ｂ）に示すように上記蓋体１７と上記蓋体ベース部２８の間に設けられ、処理容器３内を減圧する際に上記蓋体１７と上記蓋体ベース部２８間の間隔を蓋体閉時直前の間隔に固定する間隔固定機構４６を具備して構成されている。この間隔固定機構４６は、例えば蓋体ベース部２８の上部に設けられた凸部４７と、蓋体１７の下部に設けられ処理容器３内の減圧時に上記凸部４７をチャック（把持）するチャック機構４８とから主に構成されている。なお、蓋体側に凸部４７を設け、蓋体ベース部側にチャック機構４８を設けてもよい。本実施形態によれば、蓋体１７を上昇させて処理容器３の炉口フランジ部３ｆ下面にＯリング２６を介して当接させ、バネ３０の付勢力でＯリング２６を所定の潰れ量にして蓋体１７を閉塞状態にしたなら、処理容器３内を減圧する際に上記チャック機構４８を作動させて凸部４７をチャックすればよく、これにより蓋体１７と蓋体ベース部２８の間隔が固定されるため、減圧時の内外の圧力差によって蓋体１７が上方の炉口フランジ部３ｆに押し付けられることが阻止され、Ｏリング２６の適正な潰し量を確保することができ、上記実施形態と同様の効果が得られる。
【００３４】
以上、本発明の実施の形態を図面により詳述してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲での種々の設計変更等が可能である。例えば、被処理体としては、ガラス基板、ＬＣＤ基板等であってもよい。本発明は、石英製の処理容器の下部開口端に金属製（ステンレス製）の筒状のマニホールド（炉口形成部材）を接続し、このマニホールドの下部開口端をＯリングを介して蓋体で閉塞するようにした熱処理装置（減圧ＣＶＤ装置）にも適用可能であり、この場合、Ｏリングの適正な潰れ量を確保することができ、上記実施形態と同様の効果が得られ、マニホールドと蓋体の金属同士の直接接触及び熱膨張差による擦れを未然に防止することができ、擦れによる耐久性の低下やウエハの金属汚染の発生を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】本発明の実施形態である熱処理装置を概略的に示す縦断面図である。
【図２】蓋体の高さ位置を制御して蓋体が炉口を圧接する面圧を低下させる方法を概略的に説明する説明図である。
【図３】固定部との間で蓋体の移動をストッパーにより規制する例を概略的に示す断面図である。
【図４】ストッパーの変形例を示す断面図である。
【図５】固定部との間で蓋体の移動をエアシリンダにより抑制する例を概略的に示す断面図である。
【図６】蓋体と蓋体ベース部材の位置関係をラッチ機構により固定する例を概略的に示す断面図である。
【符号の説明】
【００３６】
１  熱処理装置
ｗ  半導体ウエハ（被処理体）
３ａ  炉口
３ｆ  炉口周縁部
３  処理容器
１７  蓋体
１８  昇降機構
２０  ボート（保持具）
２６  Ｏリング（気密部材）
２８  蓋体ベース部
３０  バネ
３１  規制部材
３７  押し付け力減少手段
４０  閉塞位置センサ
４１  制御部
４２  固定部
４３  スットパー（移動阻止部材）
４４  受け部
４５  エアシリンダ（流体圧伸縮機構）
４６  間隔固定機構
【図１】
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【図２】
2008244409.tif 000004
【図３】
2008244409.tif 000005
【図４】
2008244409.tif 000006
【図５】
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【図６】
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