(57)【要約】【課題】長期間に渡って金属エッジ部の耐腐食性及び耐摩耗性を防ぎながら、安定的な塗布を行なうための塗布装置及び方法を提供する。【解決手段】連続的に走行する可撓性支持体の表面にエクストルージョン型の塗布ヘッド１２を近づけることで、光や熱によってラジカルを生成するモノマーを含む塗布液１８が塗布される塗布装置において、塗布ヘッド１２の先端部２６、２６ａ、２６ｂ、２８ａ、２８ｂは、炭化タングステンを主成分とする硬質相とニッケル及びクロムを主成分とする結合相とからなる超硬合金により構成されるとともに、塗布ヘッド１２の先端部２６、２６ａ、２６ｂ、２８ａ、２８ｂの表面粗さＲｚは２．０μｍ以下であることを特徴とする塗布装置を提供する。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
連続的に走行する可撓性支持体の表面にエクストルージョン型の塗布ヘッドを近づけることで、光や熱によってラジカルを生成するモノマーを含む塗布液が塗布される塗布装置において、
塗布ヘッドの先端部は、炭化タングステンを主成分とする硬質相とニッケル及びクロムを主成分とする結合相とからなる超硬合金により構成されるとともに、
塗布ヘッドの先端部の表面粗さＲｚは２．０μｍ以下であることを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
前記塗布ヘッドの先端部の表面粗さＲｚは０．５μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
請求項１又は２のいずれかに記載の塗布装置を用いる塗布方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラスチックフイルム、紙、金属箔等からなる可撓性支持体に、光や熱によってラジカルを生成するモノマーを含む塗布液を塗布するエクストルージョン型の塗布装置及び方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、可撓性支持体に塗布液を塗布する塗布装置としては、一般にエクストルージョン型、カーテンフロー型、スライドコート型等の装置が知られている。これらの塗布装置を用いて可撓性支持体表面上に塗布液を塗布するには、塗布液を長期に渡って均一に塗布する観点から、塗布装置の金属エッジ部の形状の高い精度と共に、金属エッジ部の高い潤滑性、耐摩耗性、及び耐腐食性が要求される。このため、従来においては、金属エッジ部を、炭化タングステンを主成分とする硬質相とコバルトを主成分とする結合相とからなる超硬合金で構成していた。
【０００３】
しかし、炭化タングステンを主成分とする硬質相とコバルトを主成分とする結合相とからなる超硬合金で構成した金属エッジ部は、ステアリン酸のような高級脂肪酸が含まれる塗布液を塗布する場合には、結合相の主成分であるコバルトが、局部電池機構による単独腐食、異なる金属の接触によるガルバニック腐食、及び構造上の狭い隙間における隙間腐食等のメカニズムによって腐食されることが知られている。金属エッジ部を構成する超硬合金の結合相が腐食されると、金属エッジ部に欠けや摩耗等が生じてしまい、可撓性支持体の表面に長期にわたって塗布液を均一に塗布できなくなるという問題があった。
【０００４】
これらの問題点を解決する方法として、例えば、特許文献１には、腐食されやすい成分である結合相中のコバルト含有量を１５％以下とすることで、金属エッジ部の腐食を抑制する方法が開示されている。また、特許文献２には、結合相としてコバルトの他に０．５％以上１．０％以下のクロムを含ませることで耐酸化性を持たせた超硬合金を使用することが開示されている。さらに、特許文献３には、結合相中にタングステンを多量に固溶させることによって耐腐食性と耐摩耗性を同時に向上させる方法が開示されている。
【０００５】
結合相中の主成分をコバルト以外の材料とした超硬合金を利用する例としては、特許文献４に、ニッケル及び炭化クロムを使用する方法が開示されている。
【０００６】
安定的な塗布を行なう方法としては、塗布装置の金属エッジ部の組成だけではなく、表面粗さによって塗布領域を規定する方法もある。例えば、特許文献５にはバックエッジ面の表面粗さＲａを５．０μｍ以下とする方法が、特許文献６にはバックエッジ面及びフロントエッジ面の表面粗さを１．０μｍ以下とするとともに、エッジの角部の欠けを１０μｍ以下とする方法が開示されている。
【特許文献１】特開平２−２６５６７４号公報
【特許文献２】特開平６−１１４３１６号公報
【特許文献３】特開平１０−１５４６０号公報
【特許文献４】特開２００２−３４６４５６号公報
【特許文献５】特開平２−２０７８６５号公報
【特許文献６】特開平５−２２０４３８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１、特許文献２に開示の方法では、耐腐食性は改善されるものの、耐腐食性と湿潤効果を含めた耐摩耗性との両特性からは短寿命になるという問題がある。また、特許文献３に開示の方法では、有機脂肪酸に対する耐腐食性と耐摩耗性は向上しているものの、近年の塗布液中に含まれるその他の添加剤による影響は考慮されていない。さらに、特許文献４に開示の方法では、塗布液を磁性塗料に限定しており、塩酸、硫酸、有機酸等の酸への耐腐食性は向上しているものの、酸以外の金属を腐食させる物質に対する耐腐食性については考慮されていない。さらにまた、特許文献５及び６に開示の方法では、幅方向に均一な塗布を行なうことが可能となるものの、金属エッジ部の耐摩耗性及び耐腐食性は考慮されていない。
【０００８】
本発明はこのような事情に鑑みて成されたもので、長期間に渡って金属エッジ部の耐腐食性及び耐摩耗性を防ぎながら、安定的な塗布を行なうための塗布装置及び方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の請求項１に記載の発明は前記目的を達成するために、連続的に走行する可撓性支持体の表面にエクストルージョン型の塗布ヘッドを近づけることで、光や熱によってラジカルを生成する塗布液が塗布される塗布装置において、塗布ヘッドの先端部は、炭化タングステンを主成分とする硬質相とニッケル及びクロムを主成分とする結合相とからなる超硬合金により構成されるとともに、塗布ヘッドの先端部の表面粗さＲｚは２．０μｍ以下であることを特徴とする塗布装置を提供する。
【００１０】
請求項１に記載の発明によれば、塗布ヘッドの先端部を、炭化タングステンを主成分とする硬質相とニッケル及びクロムを主成分とする結合相からなる超硬合金により構成することで、耐食性に優れかつ長期間にわたって安定した塗布を行なうことができる。
【００１１】
また、請求項１に記載の発明によれば、塗布ヘッドの先端部の表面粗さＲｚが２．０μｍ以下とすることで、塗布膜の幅方向にスジ故障が発生することがなくなり、膜厚が均一な塗布膜を形成することができる。
【００１２】
さらに、請求項１に記載の発明によれば、塗布ヘッドの先端部の平滑性が向上するため、分解時の清掃等のメンテナンス性を向上させることができる。
【００１３】
請求項２に記載の発明は請求項１において、前記塗布ヘッドの先端部の表面粗さＲｚは０．５μｍ以下であることを特徴とする。
【００１４】
請求項２に記載の発明によれば、塗布ヘッドの先端部の表面粗さＲｚを０．５μｍ以下としたので、塗布膜の幅方向にスジ故障が発生することがなくなり、製品品質を満たす塗布膜を形成することができる。
【００１５】
請求項３に記載の発明は、請求項１又は２のいずれかに記載の塗布装置を用いる塗布方法を提供する。
【００１６】
請求項３に記載の発明によれば、長期間にわたってスジ故障のない安定した塗布を行なうことができる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の塗布装置及び方法によれば、塗布ヘッドの結合相の主成分をニッケル及びクロムとすることで耐腐食性に優れることから、長期間に渡って安定的に塗布を行なうことが可能になる。
【００１８】
また、表面粗さＲｚを２．０μｍ以下とすることで、塗布膜の幅方向の膜厚のばらつきが小さくなり、形成される塗布膜の膜厚の均一性が向上する。
【００１９】
さらに、塗布ヘッドの平滑性が向上するため、分解時の清掃等のメンテナンス性が向上する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下添付図面に従って本発明に係る塗布装置及び方法の好ましい実施形態について説明する。
【００２１】
図１は、本発明が適用された塗布装置の概略構成図である。また、図２は、本発明が適用された塗布装置の塗布ヘッドの概略構成図である。
【００２２】
図１に示すように、塗布装置１０は、塗布ヘッド１２とバックアップローラ１４を有し、バックアップローラ１４に支持されて連続走行するウエブ１６に対して、塗布ヘッド１２から塗布液１８をビード１８ａにて塗布することにより、ウエブ１６上に塗布膜１８ｂを形成する塗布装置である。
【００２３】
塗布ヘッド１２の内部にはポケット２０、スロット２２が形成されている。ポケット２０は、その断面が曲線及び直線で構成されており、たとえば、図１に示されるような略円形でもよいし、又は半円形でもよい。ポケット２０は、塗布ヘッド１２の幅方向にその断面形状をもって延長された塗布液の液溜め空間で、その有効延長の長さは、塗布幅と同等か若干長めにするのが一般的である。
【００２４】
ポケット２０への塗布液１８の供給は、塗布ヘッド１２の側面から、又はスロット開口部２２ａとは反対側の面の中央から行なう。また、ポケット２０には塗布液１８が漏れ出ることを防止する栓が設けられている。
【００２５】
スロット２２は、ポケット２０からウエブ１６への塗布液１８の流路であり、ポケット２０と同様に塗布ヘッド１２の幅方向にその断面形状を持つ。ウエブ側に位置する開口部２２ａは、一般に、図示しない幅規制板のようなものを用いて、概ね塗布幅と同じ長さの幅になるように調整する。
【００２６】
スロット２２の開口部２２ａが位置する塗布ヘッド１２の先端リップ２４は、先細り状に形成されており、その先端はランドと呼ばれる平坦部２６とされている。スロット２２に対してウエブ１６の走行方向の上流側のランド２６を上流側リップランド２６ａ、下流側のランド２６を下流側リップランド２６ｂと称する。上流側リップランド２６ａと下流側リップランド２６ｂのウエブ１６との距離は等しくなっている。
【００２７】
上流側リップランド２６ａのランド長ＩＵＰは特に限定されないが、５００μｍ以上１ｍｍ以下の範囲が好ましく採用される。下流側リップランド２６ｂのランド長さは３０μｍ以上１００μｍ以下であり、好ましくは３０μｍ以上８０μｍ以下である。
【００２８】
下流側リップランド２６ｂのランド長さＩＬＯが３０μｍよりも短い場合は、先端リップ２４のエッジ又はランドが欠けやすく、塗布膜にスジ故障が発生しやすくなり、結果的には塗布が不可能になる。また、下流側の濡れ線位置の設定が困難になり、塗布液が下流側で広がり易くなるという問題も発生する。この下流側での塗布液の濡れ広がりは、濡れ線の不均一化を意味し、塗布面上にスジ故障などの不良形状を招くという問題につながることは従来知られている。
【００２９】
一方、下流側リップランド２６ｂのランド長さＩＬＯが１００μｍよりも長い場合は、上流側の減圧度を大きくする必要がでてきて、ビードの安定性が損なわれ、薄層塗布を行なうことは不可能である。
【００３０】
上流側リップランド２６ａ及び下流側リップランド２６ｂ及びスリットの金属エッジ部２８ａ、２８ｂは塗布ヘッド１４の先端部を形成しており、この先端部は、炭化タングステン（ＷＣ）を主成分とする硬質相と、ニッケル（Ｎｉ）及びクロム（Ｃｒ）を主成分とする結合相とからなる超硬合金により構成されている。ここで、ニッケルの含有量は１３重量％以上２０重量％以下であり、クロムの含有量は０．５重量％以上３．５重量％以下であることが好ましい。ニッケルの含有量が１３重量％未満であると、結合相としての役割が十分発揮されず、超硬合金の緻密化が行なわれないからである。ニッケルの含有量が２０重量％を超えると、超硬合金の硬度が低下し過ぎ必要な耐摩耗性が得られなくなるからである。ニッケルに加えてクロムを添加した理由は、超硬合金の耐酸化性及び耐蝕性を向上させることができ、しかも超硬合金の硬度が増して耐摩耗性が大きくなる。ここで、超硬合金のＣｒの含有量が０．５重量％未満であると、Ｃｒは超硬合金の結合に役立たず、一方、３．５重量％を超えると、炭化タングステン（ＷＣ）の炭素（Ｃ）と結合して炭化クロム（ＣｒＣ）として析出してしまい、超硬合金の硬度の低下を招き、好ましくない。
【００３１】
また、塗布ヘッド１４の先端部の表面粗さＲｚは、２．０μｍ以下とする。表面粗さＲｚが２．０μｍを超えると、塗布膜にスジ故障が発生することから好ましくない。より好ましくは、０．５μｍ以下である。なお、表面粗さＲｚは、日本工業規格ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１に基づく表記を用いる。
【００３２】
本発明の塗布方法においては、公知の各種溶媒を用いた塗布液を使用することができる。たとえば、水、各種ハロゲン化炭化水素、アルコール、エーテル、エステル、ケトンなどを単独又は複数混合して使用することができる。
【００３３】
ウエブ１６としては、公知の各種ウエブを用いることができる。一般的には、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ポリエチレン−２，６−ナフタレート、セルロースダイアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド等の公知の各種プラスチックフイルム、紙、紙にポリエチレン、ポリプロピレン、エチレンブテン共重合体等の炭素数が２〜１０のα−ポリオレフィン類を塗布又はラミネートした各種積層紙、アルミニウム、銅、スズ等の金属箔等、あるいは帯状基材の表面に予備的な加工層を形成させたものが含まれる。
【００３４】
本発明の塗布方法に用いる塗布液として、光学補償フイルムと塗布液、反射防止フイルム塗布液、防眩性付与液磁性塗布液、写真感光性塗布液、磁性塗布液、視野角拡大塗布液、表面保護液、帯電防止液、滑性用塗布液、カラーフィルター用顔料液等が使用できるが、これらに限定されるわけではない。
【００３５】
本実施の形態に係る塗布装置１０によれば、塗布ヘッド１２の先端部は、炭化タングステン（ＷＣ）を主成分とする硬質相と、ニッケル（Ｎｉ）及びクロム（Ｃｒ）を主成分とする結合相とからなる超硬合金により構成されていることで、耐食性に優れかつ長期間にわたって安定した塗布を行なうことができる。また、本実施の形態に係る塗布装置１０によれば、塗布ヘッド１２の先端部の表面粗さＲｚが２．０μｍ以下とすることで、塗布膜の幅方向にスジ故障が発生することがなくなり、膜厚が均一な塗布膜を形成することができる。さらに、本実施の形態に係る塗布装置１０によれば、塗布ヘッド１２の先端部の平滑性が向上するため、分解時の清掃等のメンテナンス性を向上させることができる。
【実施例】
【００３６】
（実施例１）
図１に示した本発明の塗布装置１０を組み込んだ光学補償フイルムの製造ラインにより光学補償フイルムを以下の条件で製造した。
【００３７】
ウエブ１６は、厚さ１００μｍのトリアセチルセルロース（フジタック、富士フィルム（株）製）の表面に長鎖アルキル変性ポバールの２重量％溶液をフィルム１ｍ2 当たり２５ｍｌになるように塗布後、６０°Ｃで１分間乾燥させて配向膜用樹脂層を形成したものを使用した。このウエブ１６を、送出機から送り出すと共に５０ｍ／分で搬送しながらラビング処理装置によって配向膜用樹脂層表面にラビング処理を行って配向膜を形成した。ラビング処理におけるラビングローラの押し付け圧力を、配向膜樹脂層の１ｃｍ2 あたり９．８×１０５Ｐａにすると共に、回転周速を５．０ｍ／秒にした。
【００３８】
そして、配向膜用樹脂層をラビング処理して得られた配向膜上に、本発明の塗布装置１０を使用して塗布液を塗布した。塗布液は、１０７質量部のメチルエチルケトンに溶解することにより調製した。塗布液の粘度はメチルエチルケトンの添加量を加減して、所望の値にした。下記に示すディスコティック化合物ＴＥ（１）４１．０１質量部に対し、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ♯３６０、大阪有機科学（株）製）を４．０６質量部、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５５１−０．２、イーストマンケミカル社製）を０．９質量部、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）を０．２１質量部、フルオロ脂肪族基含有ポリマー（メガファックＦ７８０、大日本インキ（株）社製）を０．４１質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、日本チバガイギー（株）製）を１．３５質量部、増感剤（カヤキュアーＤＥＴ−Ｘ、日本化薬（株）製）を０．４５質量部、添加し、最終的にその混合物の１０７質量部のメチルエチルケトン溶液とした。その液晶性化合物を含む液に、さらにフッ素系界面活性剤（フルオロ脂肪族基含有共重合体、メガファックＦ７８０、大日本インキ（株）製）を０．３重量％添加し、塗布液として使用した。
【００３９】
【化１】
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【００４０】
そして、塗布ヘッド１２のスリット先端２２ａから、上記塗布液をウエブ１６上に押出し、ウエブ１６上に塗布膜を形成した。ウエブ１６を走行速度２０ｍ／分で走行させながら、塗布ヘッド１２からウエブ１ｍ2 当たり５ｍｌ（湿潤膜厚５μｍ）になるようにウエブ１６上に形成した配向膜上に塗布液を塗布した。ここで、塗布ヘッド１２の先端部は、炭化タングステンを主成分とする硬質相と、ニッケル及びクロムを主成分とする結合相からなる超硬合金により構成されており、塗布ヘッド１２の先端部の表面粗さＲｚが０．５μｍであった。
【００４１】
その後、塗布液が塗布されたウエブ１６は、１００℃に調整された乾燥ゾーン及び、１３０℃に調整された加熱ゾーンを通過することにより、その表面上にネマチック相の液晶層が形成される。そして、この液晶層の表面に紫外線ランプを用いて紫外線を照射し、光学補償フイルムを製造した。
【００４２】
（実施例２）
塗布ヘッド１２の先端部の表面粗さＲｚが１．０μｍであること以外は、実施例１と同様にして、光学補償フィルムを製造した。
【００４３】
（実施例３）
塗布ヘッド１２の先端部の表面粗さＲｚが２．０μｍであること以外は、実施例１と同様にして、光学補償フィルムを製造した。
【００４４】
（比較例１）
塗布ヘッド１２の先端部の表面粗さＲｚが３．０μｍであること以外は、実施例１と同様にして、光学補償フィルムを製造した。
【００４５】
（比較例２）
塗布ヘッド１２の先端部の表面粗さＲｚが５．０μｍであること以外は、実施例１と同様にして、光学補償フィルムを製造した。
【００４６】
（比較例３）
塗布ヘッド１２の先端部は、炭化タングステンを主成分とする硬質相と、コバルトを主成分とする結合相からなる超硬合金により構成されていること以外は、実施例１と同様にして、光学補償フイルムを製造した。
【００４７】
（比較例４）
塗布ヘッド１２の先端部は、炭化タングステンを主成分とする硬質相と、コバルトを主成分とする結合相からなる超硬合金により構成されており、塗布ヘッド１２の先端部の表面粗さＲｚが１．０μｍであったこと以外は、実施例１と同様にして、光学補償フィルムを製造した。
【００４８】
（比較例５）
塗布ヘッド１２の先端部は、炭化タングステンを主成分とする硬質相と、コバルトを主成分とする結合相からなる超硬合金により構成されており、塗布ヘッド１２の先端部の表面粗さＲｚが２．０μｍであったこと以外は、実施例１と同様にして、光学補償フィルムを製造した。
【００４９】
（比較例６）
塗布ヘッド１２の先端部は、炭化タングステンを主成分とする硬質相と、コバルトを主成分とする結合相からなる超硬合金により構成されており、塗布ヘッド１２の先端部の表面粗さＲｚが３．０μｍであったこと以外は、実施例１と同様にして、光学補償フィルムを製造した。
【００５０】
（比較例７）
塗布ヘッド１２の先端部は、炭化タングステンを主成分とする硬質相と、コバルトを主成分とする結合相からなる超硬合金により構成されており、塗布ヘッド１２の先端部の表面粗さＲｚが５．０μｍであったこと以外は、実施例１と同様にして、光学補償フィルムを製造した。
【００５１】
（評価方法）
長期間使用した塗布ヘッド１２と同様な状態を作り出すために、塗布ヘッド１２を所定の溶液に３０日間浸漬した。その後、その塗布ヘッド１２を用いて製造した光学補償フイルムのスジ故障の発生量を観察した。具体的には、以下の評価方法（１）及び（２）を行なった。
【００５２】
・評価方法（１）
エチレンオキサイドに、塗布ヘッド１２の先端部を３０日間浸漬した後、この塗布ヘッド１２から塗布液をウエブ１６上に塗布して塗布膜を形成し、光学補償フイルムを作製した。そして、この光学補償フイルムのスジ故障の発生量を観察した。
【００５３】
・評価方法（２）
光重合開始剤と増感剤の混合溶液に、塗布ヘッド１２の先端部を３０日間浸漬した後、この塗布ヘッド１２から塗布液をウエブ１６上に塗布して塗布膜を形成し、光学補償フイルムを作製した。そして、この光学補償フイルムのスジ故障の発生量を観察した。
【００５４】
なお、評価結果として、◎をスジ故障の発生量の特に少ないもの、○をスジ故障の発生量の少ないもの、△をスジ故障の発生量のやや多いもの、×をスジ故障の発生量の多いものとした。
【００５５】
（まとめ）
以上の評価結果を表１にまとめた。
【００５６】
【表１】
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実施例１〜３が示すように、塗布ヘッド１２の先端部が炭化タングステンを主成分とする硬質相と、ニッケル及びクロムを主成分とする結合相とからなる超硬合金により構成されており、かつ塗布ヘッド１２の先端部の表面粗さＲｚが２．０μｍ以下である場合には、スジ故障の発生量が少なく製品品質を満足する塗布膜を有する光学補償フィルムが得られることがわかる。
【００５７】
特に、実施例１が示すように、塗布ヘッド１２の先端部の表面粗さＲｚが０．５μｍ以下である場合には、スジ故障の発生量が特に少なく製品品質にも優れる光学補償フィルムが得られることがわかる。
【００５８】
一方、比較例１及び２が示すように、塗布ヘッド１２の先端部が炭化タングステンを主成分とする硬質相と、ニッケル及びクロムを主成分とする結合相からなる超硬合金により構成されていても、塗布ヘッド１２の先端部の表面粗さＲｚが２．０μｍを超える場合には、スジ故障の発生量が多く製品品質に劣る塗布膜を有する光学補償フィルムしか得られないことがわかる。
【００５９】
また、比較例３〜５が示すように、塗布ヘッド１２の先端部が炭化タングステンを主成分とする硬質相と、コバルトを主成分とする結合相からなる超硬合金により構成されている場合には、たとえ塗布ヘッド１２の先端部の表面粗さＲｚが２．０μｍ以下であっても、スジ故障の発生量がやや多く製品品質に劣る塗布膜を有する光学補償フィルムしか得られないことがわかる。
【００６０】
さらに、比較例６及び７が示すように、塗布ヘッド１２の先端部が炭化タングステンを主成分とする硬質相と、コバルトを主成分とする結合相からなる超硬合金により構成されており、かつ塗布ヘッド１２の先端部の表面粗さＲｚが２．０μｍを超える場合には、スジ故障の発生量が多く製品品質に劣る塗布膜を有する光学補償フィルムしか得られないことがわかる。
【００６１】
以上より、スジ故障の発生量が少なく製品品質に優れる塗布膜を有する光学補償フィルムを得るためには、塗布ヘッド１２の先端部が炭化タングステンを主成分とする硬質相と、ニッケル及びクロムを主成分とする結合相からなる超硬合金により構成されており、かつ塗布ヘッド１２の先端部の表面粗さＲｚが２．０μｍ以下であることが必要であることがわかる。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】本発明が適用された塗布装置の概略構成図
【図２】本発明が適用された塗布層の塗布ヘッドの概略構成図
【符号の説明】
【００６３】
１０…塗布装置、１２…塗布ヘッド、１４…バックアップローラ、１６…ウエブ、１８…塗布液、１８ａ…ビード、１８ｂ…塗布膜、２０…ポケット、２２…スロット、２４…先端リップ、２６…ランド、２６ａ…上流側リップランド、２６ｂ…下流側リップランド、２８ａ、２８ｂ…金属エッジ部
【図１】
2008168165.tif 000005
【図２】
2008168165.tif 000006