(57)【要約】      （修正有）【課題】プラズマディスプレイの隔壁に好適な、比誘電率が低い無鉛低融点ガラスペーストを提供する。【解決手段】酸化亜鉛および酸化ホウ素を必須成分とし、熱線膨張係数が１００×１０−７／Ｋ以上、軟化温度が６００℃未満で、ガラスの粒子およびガラス以外の無機粒子を含むガラスペーストとする。無機粒子はシリカ、アルミナ、ジルコニアからなる群より選ばれる少なくとも１種であり、ガラスの粒子とガラス以外の無機粒子の重量比率を２０／８０〜８０／２０とする。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱線膨張係数が１００×１０−７／Ｋ以上であるガラスの粒子およびガラス以外の無機粒子を含むプラズマディスプレイの隔壁用ガラスペースト。
【請求項２】
ＰｂＯおよびＢｉ２Ｏ３からなる群より選ばれる少なくとも１種の含有量が５重量％以下であり、Ｐ２Ｏ５の含有量が４重量％以下であり、かつ、熱線膨張係数が１００×１０−７／Ｋ以上であるガラスの粒子およびガラス以外の無機粒子を含むプラズマディスプレイの隔壁用ガラスペースト。
【請求項３】
該ガラスの軟化温度が６００℃未満である、請求項１または２に記載のプラズマディスプレイの隔壁用ガラスペースト。
【請求項４】
該ガラスが酸化亜鉛および酸化ホウ素を必須成分とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載のプラズマディスプレイの隔壁用ガラスペースト。
【請求項５】
該ガラスの粒子と該ガラス以外の無機粒子の重量比率が２０／８０〜８０／２０である、請求項１〜４のいずれか一項に記載のプラズマディスプレイの隔壁用ガラスペースト。
【請求項６】
該ガラス以外の無機粒子がシリカ、アルミナ、ジルコニアからなる群より選ばれる少なくとも１種である、請求項１〜５のいずれか一項に記載のプラズマディスプレイの隔壁用ガラスペースト。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載のプラズマディスプレイの隔壁用ガラスペーストを用いて形成された隔壁を備えたプラズマディスプレイパネル。
【請求項８】
プラズマディスプレイの隔壁用であって、熱線膨張係数が１００×１０−７／Ｋ以上であるガラスの粒子。
【請求項９】
ＰｂＯおよびＢｉ２Ｏ３からなる群より選ばれる少なくとも１種の含有量が５重量％以下であり、Ｐ２Ｏ５の含有量が４重量％以下であり、かつ、熱線膨張係数が１００×１０−７／Ｋ以上である、プラズマディスプレイの隔壁用ガラスペーストの製造のためのガラス。
【請求項１０】
ＰｂＯおよびＢｉ２Ｏ３からなる群より選ばれる少なくとも１種の含有量が５重量％以下であり、Ｐ２Ｏ５の含有量が４重量％以下であり、かつ、熱線膨張係数が１００×１０−７／Ｋ以上であるガラスの、プラズマディスプレイの隔壁用ガラスペーストの製造のための使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネルの隔壁に好適なガラスペーストに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、テレビジョン、コンピューター等の平面表示装置の分野においては、プラズマディスプレイパネル、即ちＰＤＰが汎用されつつある。該ＰＤＰは、２枚の基板ガラス間に、隔壁にて仕切られた多数のセル（微小放電空間）を形成させ、各セル内表面に蛍光体を配し、該セル中に放電ガスを充填した構造を有しており、上記セル内の電極間放電によって放電ガスを励起し、その際発する紫外線により基底状態にある蛍光体を発光させて画素を形成するものである。
【０００３】
通常ＡＣ型ＰＤＰは、その前面ガラス基板の片面（背面基板と向き合う面）に透明電極とこれを被覆する誘電体ガラス層を設け、また背面ガラス基板の片面（前面基板と向き合う面）に、上記透明電極と直交するように複数のアドレス電極を形成し、該電極部分を含む基板上面全面を誘電体ガラス層で被覆し、非電極部分に相当する上記誘電体ガラス層上に、形成されるセル間でのクロストークを防止するための隔壁を設置し、最終的に該隔壁の側面及び底面に蛍光体を配置して製造されている。
【０００４】
上記ＰＤＰの誘電体ガラス層や隔壁等の各要素の形成には、専ら低融点のガラスが粉末形態で用いられている。即ち、該低融点ガラス粉末を通常５００〜６００℃程度の温度で焼成メルトして一体化させている。該ガラス粉末としては、所望の低融点特性を満足し、しかもガラス特性を幅広く選択できることから、鉛を含有するＰｂＯ−ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３系ガラスが汎用されてきた。
【０００５】
しかるに、上記ガラス材料は、この種ＰＤＰの各要素の形成用ガラスとしては、優れた性質を有するものであったが、昨今の環境問題を考慮すると、有害な鉛成分を多量に含む点より、その利用は好ましくなく、回避すべきものである。例えばサンドブラスト法による隔壁形成にこれを利用する場合には、基板上全面にガラスペーストを塗布し、乾燥し、その後ブラスト処理により上記ガラスのおよそ６０％がブラスト材と共に廃棄されることを考慮すると、その廃棄処理に煩瑣な作業及びコストを要する不利がある。
【０００６】
従って、ＰＤＰ業界においては、上記鉛を含有するガラスに代替できる鉛成分を含まないガラスの開発が望まれており、この要望に合わせて、種々の鉛不含ガラスが提案されている。
【０００７】
ＰＤＰの隔壁用の鉛不含のガラス組成物としては、例えば特許文献１にＢｉ２Ｏ３−ＳｉＯ２系ガラスが、特許文献２にＬｉ２Ｏ−Ｂ２Ｏ３−Ａｌ２Ｏ３系ガラスが、それぞれ提案されている。
さらに、近年、ＰＤＰの高精彩化に向けた技術開発が加速されている。ＰＤＰの高精彩化に伴い、隣接する隔壁間の間隔（ピッチ）が狭くなり、パネルの静電容量が高くなるという問題が生じ、隔壁の低比誘電率化が求められている。特許文献３に比誘電率が低い隔壁用のリン酸系低融点ガラスが提案されているが、リン酸系の低融点ガラスは出ガスが多いという問題があった。
【特許文献１】特開平１０−２２８８６９号公報
【特許文献２】特開平１０−１６７７５７号公報
【特許文献３】特開平８−３０１６３１号公
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、プラズマディスプレイの隔壁に用いたときに焼成時のクラックが発生しにくいガラスの粒子、および焼成時のクラックが発生しにくいプラズマディスプレイの隔壁に好適なガラスペーストを提供することにあり、さらに比誘電率が低い隔壁を与えるガラスペーストを提供することにある。また、本発明の目的は、プラズマディスプレイの隔壁に好適な比誘電率が低い無鉛低融点ガラスペーストを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者は前記課題を解決すべく鋭意検討した結果、本発明を完成させるに至った。
【００１０】
即ち、本発明は、［１］熱線膨張係数が１００×１０−７／Ｋ以上であるガラスの粒子およびガラス以外の無機粒子を含むプラズマディスプレイの隔壁用ガラスペーストを提供するものである。また、［２］ＰｂＯおよびＢｉ２Ｏ３からなる群より選ばれる少なくとも１種の含有量が５重量％以下であり、Ｐ２Ｏ５の含有量が４重量％以下であり、かつ、熱線膨張係数が１００×１０−７／Ｋ以上であるガラスの粒子およびガラス以外の無機粒子を含むプラズマディスプレイの隔壁用ガラスペーストを提供するものである。
【００１１】
さらに本発明は、前記［１］および［２］に係る好適な実施態様として、下記の［３］〜［６］を提供する。
［３］該ガラスの軟化温度が６００℃未満である、［１］または［２］の隔壁用ガラスペースト。
［４］該ガラスが酸化亜鉛および酸化ホウ素を必須成分とする、［１］〜［３］のいずれか一項の隔壁用ガラスペースト。
［５］該ガラスの粒子と該ガラス以外の無機粒子の重量比率が２０／８０〜８０／２０である、［１］〜［４］のいずれか一項のプラズマディスプレイの隔壁用ガラスペースト。
［６］該ガラス以外の無機粒子がシリカ、アルミナ、ジルコニアからなる群より選ばれる少なくとも１種である、［１］〜［５］のいずれか一項のプラズマディスプレイの隔壁用ガラスペースト。
［７］［１］〜［６］のいずれか一項に記載のプラズマディスプレイの隔壁用ガラスペーストを用いて形成された隔壁を備えたプラズマディスプレイパネル。
［８］プラズマディスプレイの隔壁用であって、熱線膨張係数が１００×１０−７／Ｋ以上であるガラスの粒子。
［９］ＰｂＯおよびＢｉ２Ｏ３からなる群より選ばれる少なくとも１種の含有量が５重量％以下であり、Ｐ２Ｏ５の含有量が４重量％以下であり、かつ、熱線膨張係数が１００×１０−７／Ｋ以上である、プラズマディスプレイの隔壁用ガラスペーストの製造のためのガラス。
［１０］ＰｂＯおよびＢｉ２Ｏ３からなる群より選ばれる少なくとも１種の含有量が５重量％以下であり、Ｐ２Ｏ５の含有量が４重量％以下であり、かつ、熱線膨張係数が１００×１０−７／Ｋ以上であるガラスの、プラズマディスプレイの隔壁用ガラスペーストの製造のための使用。
【発明の効果】
【００１２】
本発明のガラスの粒子をプラズマディスプレイの隔壁の製造に用いれば、焼成時のクラックが発生しにくいので、工業的に有用であり、本発明の隔壁用ガラスペーストをプラズマディスプレイの隔壁の製造に用いれば、焼成時のクラックが発生しにくいので、工業的に有用であり、特に、比誘電率の低い隔壁を容易に形成することができるため、工業的に有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本発明に用いられる隔壁用ガラス粒子は、ＰｂＯおよびのＢｉ２Ｏ３からなる群より選ばれる少なくとも１種の含有量が５重量％以下であり、Ｐ２Ｏ５の含有量が４重量％以下であり、かつ、熱線膨張係数が１００×１０−７／Ｋ以上であることを特徴とする。
【００１４】
前記隔壁用ガラス粒子としては、酸化亜鉛ならびに酸化ホウ素を主成分とし、その軟化温度が６００℃未満であることが好ましく、軟化温度が、前記の範囲のガラス粒子は、パターンを焼成して隔壁を得るとき、より低温での焼成を可能とするため好ましい。
【００１５】
具体的に軟化温度が６００℃未満で、かつ、熱線膨張係数が１００×１０−７／Ｋ以上のガラス粒子を例示すると、ケイ素酸化物を主成分とする硼ケイ酸酸化亜鉛酸化カルシウム系ガラス粒子、硼酸酸化亜鉛酸化バリウム系ガラス粒子が挙げられる。
これらは、通常、１０００℃以上で原料の金属酸化物、金属水酸化物、または、金属炭酸塩を溶融することにより製造することができる。
本発明に用いられるガラス粒子の熱線膨張係数は、好ましくは、１００×１０−７／Ｋ〜３００×１０−７／Ｋ、より好ましくは、１００×１０−７／Ｋ〜２００×１０−７／Ｋ、更に好ましくは、１００×１０−７／Ｋ〜１５０×１０−７／Ｋ、更により好ましくは、１００×１０−７／Ｋ〜１４０×１０−７／Ｋ、最も好ましくは、１００×１０−７／Ｋ〜１３０×１０−７／Ｋである。熱線膨張係数が前記範囲にあると、焼成時の収縮が少なく、より緻密な隔壁を得ることができるため好ましい。
前記熱線膨張係数は、一般にＪＩＳ  Ｒ３１０２：１９９５に従って求めることができ、熱機械分析計（Ｒｉｇａｋｕ製  ＴＭＡ−８３１０）を用いて測定される値である。
【００１６】
また、市場から容易に入手可能なガラス粒子としては、ＹＥＢ２−６７０１（ヤマト電子（株）製）を挙げることができる。これらは、そのまま使用することもできるし、水洗、酸洗または溶剤洗浄を施してから乾燥して用いることもできる。また、後述する好適な平均粒径を求めて、公知の分級手段を用いて分級処理を行ってもよい。
【００１７】
さらに、本発明に用いられる隔壁用ガラス粒子の平均粒径は、好ましくは０．０１〜４０μｍであり、より好ましくは０．１〜１０μｍであり、とりわけ好ましくは１〜８μｍである。平均粒径が前記の範囲にあると、焼成時の収縮が少なく、より緻密な隔壁を得ることができるため好ましい。
前記平均粒径は、粒径測定装置（例えば、ＤＬＳ−７０００；大塚電子（株）製、レーザー回折／散乱式粒子系測定装置ＬＡ−９５０；（株）堀場製作所製）を用いて、２５℃で測定される体積平均粒径である。好適な平均粒径の隔壁用ガラス粒子は、前記の市販品について平均粒径を測定することで選択して使用してもよいし、前記のとおり分級手段により、好適な粒径範囲の隔壁用ガラス粒子を調製することもできる。
また、本発明の隔壁用ガラス粒子の形状は、球状、破砕状のどちらでもよいが、好ましくは球状である。
【００１８】
本発明の隔壁用ガラスペーストは、一般に上述した隔壁用ガラス粒子を有機ヴィヒクルと混合して適当なペースト状形態に調整して使用される。ここで、用いられる有機ヴィヒクルとしては、一般にこの種ガラスペーストに利用されている各種のもののいずれでもよく、これらは通常樹脂の溶剤溶液からなっている。該樹脂としては、セルロース系樹脂及びアクリル系樹脂が好ましいものとして例示できる。該セルロース系樹脂には、エチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ニトロセルロース等が、アクリル系樹脂には、ポリブチルアクリレート、ポリイソブチルメタクリレート等が含まれる。上記樹脂は、一般には調整されるガラスペースト組成物中にその１種を単独で又は２種以上を併用して、合計量が０．５〜２０重量％程度の範囲で配合されるのがよい。また該ガラスペーストには、更に必要に応じて、通常添加配合できることの知られている添加剤、例えば沈殿防止剤、分散剤、基板ガラスとの接着性向上剤等を適宜配合することができる。
【００１９】
上記樹脂の溶剤溶液を構成する溶剤も通常知られている各種のものでよく、特に限定されない。一般には、樹脂の溶解性に優れ、粘稠性のオイルを形成し得るものが好ましい。これには中沸点及び高沸点のエステル系溶剤、エーテル系溶剤、石油系溶剤等が含まれる。具体例としては、例えばブチルセロソルブアセテート、ブチルカルビトールアセテート等のエステル系溶剤、ブチルカルビトール等のエーテル系溶剤、ナフサ、ミネラルターペン等の石油系溶剤等が例示できる。これらは１種単独で用いてもよく、２種以上を併用することもできる。
【００２０】
本発明の隔壁用ガラスペーストは、感光性有機ヴィヒクルを用いることにより感光性組成物とすることもできる。
例えば、ポジ型感光性組成物は、有機成分と無機微粒子とからなり、有機成分が、少なくともアルカリ可溶性樹脂、光酸発生剤または光塩基発生剤を含有すること、あるいは、有機成分が、少なくともアルカリ可溶基が酸またはアルカリで脱離する基で保護されている樹脂を含み、かつ光酸発生剤または光塩基発生剤のいずれかを含有することが必要である。
【００２１】
前記アルカリ可溶性樹脂としては、現像時に露光部がアルカリ可溶性であり、アルカリ現像液に溶出するものならば特に制限はないが、主としてアクリル系樹脂とノボラック系樹脂の２種を好ましく用いることができる。
【００２２】
アクリル系樹脂としては、例えばアルカリ可溶性基を有するモノマーであるヒドロキシスチレン、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、およびこれらの誘導体を重合して得られるアクリル樹脂などを用いることができる。また、これらアルカリ可溶性基を有するモノマーと、アルカリ可溶性の無いアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、マレイン酸エステル、ヒドロキシスチレンエステル、スチレン、ビニルアルコール、酢酸ビニル、ビニルエステル、およびこれらの誘導体などをアルカリ水溶性が保たれる範囲で共重合してもよい。アルカリ可溶性樹脂がポリヒドロキシスチレンの場合、具体的には、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、２−（ｏ−ヒドロキシフェニル）プロピレン、２−（ｍ−ヒドロキシフェニル）プロピレン、２−（ｐ−ヒドロキシフェニル）プロピレンなどのヒドロキシスチレン類の単独または２種以上をラジカル重合開始剤、アニオン重合開始剤またはカチオン重合開始剤の存在下で重合した樹脂を用いることができる。
【００２３】
また、重合後、樹脂の吸光度を下げてパターン加工性を向上させるために水素添加を行なったものを用いてもよい。アクリル樹脂を用いる場合、好ましい重量平均分子量は、ポリスチレン換算で５，０００〜１００，０００、より好ましくは５，０００〜２０，０００である。
【００２４】
またアルカリ可溶性樹脂として、ノボラック樹脂も好ましく用いられる。ノボラック樹脂は、種々のフェノール類の単独あるいはそれらの複数種の混合物と、ホルマリンやパラホルムアルデヒドなどのアルデヒド類とを８０〜２００℃で重縮合することによって得ることができる。またこれらのポリマーを部分エーテル化、部分エステル化したポリマーも使用することができる。
【００２５】
ノボラック樹脂を構成するフェノール類としては、例えばフェノール、ｐ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｏ−クレゾール、２，３−ジメチルフェノール、２，４−ジメチルフェノール、２，５−ジメチルフェノール、２，６−ジメチルフェノール、３，４−ジメチルフェノール、３，５−ジメチルフェノール、２，３，４−トリメチルフェノール、２，３，５−トリメチルフェノール、３，４，５−トリメチルフェノール、２，４，５−トリメチルフェノール、メチレンビスフェノール、メチレンビスｐ−クレゾール、レゾルシン、カテコール、２−メチルレゾルシン、４−メチルレゾルシン、ｏ−クロロフェノール、ｍ−クロロフェノール、ｐ−クロロフェノール、２，３−ジクロロフェノール、ｍ−メトキシフェノール、ｐ−メトキシフェノール、ｐ−ブトキシフェノール、ｏ−エチルフェノール、ｍ−エチルフェノール、ｐ−エチルフェノール、２，３−ジエチルフェノール、２，５−ジエチルフェノール、ｐ−イソプロピルフェノール、α−ナフトール、β−ナフトールなどが挙げられ、これらは単独でまたは複数の混合物として用いることができる。アルデヒド類としては、ホルマリンの他、パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、ヒドロキシベンズアルデヒド、クロロアセトアルデヒトなどが挙げられ、これらは単独でまたは複数の混合物として用いることができる。
【００２６】
ポジ型感光性組成物において用いられるノボラック樹脂の好ましい重量平均分子量は、ポリスチレン換算で１，０００〜１００，０００、より好ましくは１，５００〜２５，０００、さらに好ましくは４，０００〜１０，０００である。
【００２７】
また、アルカリ可溶基が酸またはアルカリで脱離する基で保護された樹脂を用いることも出来る。このような樹脂を用いると露光されていない部分は現像液に溶解しないため、大きなコントラストを得ることが出来る。
【００２８】
前記アルカリ可溶基が酸またはアルカリで脱離する基で保護されている樹脂としては、露光時に光酸発生剤より生成した酸あるいは光塩基発生剤より生成したアルカリによって、室温または露光後の加熱で脱離し、アルカリ可溶基を再生するものであれば特に限定されないが、例えばメトキシメチル基、１−メトキシエチル基、１−メトキシプロピル基、１−メトキシブチル基、１−エトキシエチル基、１−エトキシプロピル基、１−エトキシブチル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基などのアセタール基、１−メトキシ−１−メチルエチル基などのケタール基、ｔ−ブトキシカルボニル基などの炭酸エステル基などである。これらのうち、特に好ましく用いられるのはアセタール基である。アルカリ可溶基の保護は、樹脂の全てを行う必要はなく、アルカリ可溶基全体の１０〜１００モル％を保護することが好ましい。また、保護された樹脂１００重量部に保護されていない樹脂を１〜１００重量部混合することも可能である。このような保護されていない基、樹脂を含むことにより感度を高めることが可能になる。
【００２９】
アルカリ可溶基が酸またはアルカリで脱離する基で保護されている樹脂の好ましい重量平均分子量は、ポリスチレン換算で１，０００〜１００，０００、より好ましくは３，０００〜５０，０００、さらに好ましくは１０，０００〜３０，０００である。
【００３０】
光酸発生剤としては、オニウム塩、ハロゲン含有化合物、ジアゾメタン化合物、スルホン化合物、スルホン酸エステル化合物、スルホンイミド化合物、ジアゾケトン化合物、ジアジゾナフトキノン化合物などを例として挙げることができる。
【００３１】
オニウム塩の具体的な例としては、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスニウム塩、オキソニウム塩などを挙げることができる。好ましいオニウム塩としてはジフェニルヨードニウムトリフレート、ジフェニルヨードニウムピレンスルホネート、ジフェニルヨードニウムドデシルベンゼンスルホネート、トリフェニルスルホニウムトリフレート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムナフタレンスルホネート、（ヒドロキシフェニル）ベンジルメチルスルホニウムトルエンスルホネートなどが挙げられる。
【００３２】
ハロゲン含有化合物の具体的な例としては、ハロアルキル基含有炭化水素化合物、ハロアルキル基含有ヘテロ環状化合物などが挙げられる。好ましいハロゲン含有化合物としては１，１−ビス（４−クロロフェニル）−２，２，２−トリクロロエタン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ナフチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジンなどを挙げることができる。
【００３３】
ジアゾメタン化合物の具体的な例としては、ビス（トリフルオロメチルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（シクロヘキシルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（フェニルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（ｐ−トリルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（２，４−キシリルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（ｐ−クロロフェニルスルホニル）ジアゾメタン、メチルスルホニル−ｐ−トルエンスルホニルジアゾメタン、シクロヘキシルスルホニル（１，１−ジメチルエチルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（１，１−ジメチルエチルスルホニル）ジアゾメタン、フェニルスルホニル（ベンゾイル）ジアゾメタン等を挙げることができる。
【００３４】
スルホン化合物の具体的な例としては、β−ケトスルホン化合物、β−スルホニルスルホン化合物などが挙げられる。好ましい化合物としては、４−トリスフェナシルスルホン、メシチルフェナシルスルホン、ビス（フェニルスルホニル）メタンなどが挙げられる。
【００３５】
スルホン酸エステル化合物の例としては、アルキルスルホン酸エステル、ハロアルキルスルホン酸エステル、アリールスルホン酸エステル、イミノスルホネートなどが挙げられる。スルホン酸化合物の具体的な例としてはベンゾイントシレート、ピロガロールトリメシレート、ニトロベンジル−９，１０−ジエトキシアントラセン−２−スルホネートなどを挙げることができる。
【００３６】
スルホンイミド化合物の具体的な例としてはＮ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）フタルイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５，６−オキシ−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（カンファースルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（カンファースルホニルオキシ）フタルイミド、Ｎ−（カンファースルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ−（カンファースルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（カンファースルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（カンファースルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５，６−オキシ−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（カンファースルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）フタルイミド、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５，６−オキシ−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）フタルイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５，６−オキシ−２，３−ジカルボキシミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（２−フルオロフェニルスルホニルオキシ）フタルイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５，６−オキシ−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド等を挙げることができる。
【００３７】
ジアゾケトン化合物の具体的な例としては、１，３−ジケト−２−ジアゾ化合物、ジアゾベンゾキノン化合物、ジアゾナフトキノン化合物などが挙げられる。
【００３８】
パターン形成性と低焼成残渣という観点から、光酸発生剤として特に好ましく用いられるのは、ジアゾナフトキノン化合物であり、なかでも、１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸と２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンとのエステル、１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸と１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタンとのエステルなどを、ジアミノジフェニルエーテルなどとのアミド、１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸と２，３，４，４’−テトロヒドロキシベンゾフェノン、メチルガレート、１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタンとのエステル、ジアミノジフェニルエーテルなどとのアミドなどをさらに好ましい化合物としてあげることができる。
【００３９】
前記光酸発生剤は１種類を単独で使用しても良いし、２種類以上の複数種を混合して用いても良い。なお、光酸発生剤の配合比は、アルカリ可溶性樹脂またはアルカリ可溶基が酸またはアルカリで脱離する基で保護されている樹脂１００重量部に対し、好ましくは２〜５０重量部、より好ましくは１０〜４０重量部の割合で配合する。光酸発生剤の濃度を２重量部以上にすることで高コントラストを実現し、５０重量部以下にすることによって、感度を高く保つことができる。
【００４０】
光塩基発生剤としては、遷移金属錯体、オルトニトロベンジルカルボメート類、α、α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジルカルバメート類、アシルオキシイミノ類などが挙げられる。
【００４１】
遷移金属錯体としては、ブロモペンタアンモニアコバルト過塩素酸塩、ブロモペンタメチルアミンコバルト過塩素酸塩、ブロモペンタプロピルアミンコバルト過塩素酸塩、ヘキサアンモニアコバルト過塩素酸塩、ヘキサメチルアミンコバルト過塩素酸塩、ヘキサプロピルアミンコバルト過塩素酸塩などが挙げられる。
【００４２】
オルトニトロベンジルカルボメート類としては、［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］メチルアミン、［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］プロピルアミン、［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ヘキシルアミン、［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］シクロヘキシルアミン、［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］アニリン、［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ピペリジン、ビス［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ヘキサメチレンジアミン、ビス［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］フェニレンジアミン、ビス［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］トルエンジアミン、ビス［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ジアミノジフェニルメタン、［［（２，６−ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］メチルアミン、［［（２，６−ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］プロピルアミン、［［（２，６−ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ブチルアミン、［［（２，６−ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ヘキシルアミン、［［（２，６−ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］アニリン、ビス［［（２，６−ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］エチレンジアミン、ビス［［（２，６−ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ヘキサメチレンジアミン、ビス［［（２，６−ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］フェニレンジアミンなどが挙げられる。
【００４３】
α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジルカルバメート類としては、［［（α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジル）オキシ］カルボニル］メチルアミン、［［（α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジル）オキシ］カルボニル］プロピルアミン、［［（α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジル）オキシ］カルボニル］ブチルアミン、［［（α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジル）オキシ］カルボニル］ヘキシルアミン、［［（α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジル）オキシ］カルボニル］シクロヘキシルアミン、［［（α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジル）オキシ］カルボニル］アニリン、［［（α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジル）オキシ］カルボニル］ピペリジン、ビス［［（α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジル）オキシ］カルボニル］エチレンジアミン、ビス［［（α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジル）オキシ］カルボニル］ヘキサメチレンジアミン、ビス［［（α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジル）オキシ］カルボニル］フェニレンジアミンなどが挙げられる。
【００４４】
アシルオキシイミノ類としては、プロピオニルアセトフェノンオキシム、プロピオニルベンゾフェノンオキシム、プロピオニルアセトンオキシム、ブチリルアセトフェノンオキシム、ブチリルアセトンオキシム、アジポイルアセトフェノンオキシム、アジポイルアセトンオキシム、アクロイルアセトフェノンオキシム、アルロイルベンゾフェノンオキシム、アクロイルアセトンオキシムなどが挙げられる。
【００４５】
前記光塩基発生剤は１種類を単独で使用しても良いし、２種類以上の複数種を混合して用いても良い。なお、光塩基発生剤の配合比は、アルカリ可溶基が酸またはアルカリで脱離する基で保護されている樹脂１００重量部に対し、好ましくは２〜５０重量部、より好ましくは１０〜４０重量部の割合で配合する。光塩基発生剤の濃度を２重量部以上にすることで高コントラストを実現し、５０重量部以下にすることによって、感度を高く保つことができる。
【００４６】
さらに、ポジ型感光性組成物は、紫外線吸収剤を含有することが好ましい。紫外線吸収剤とは、３００〜４００ｎｍの波長を吸収し、吸収した光エネルギーを不活性な輻射線（熱エネルギー）として放出するものをいう。通常、フォトリソグラフィ技術に用いられる露光は、超高圧水銀灯のｇ線（４３６ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ）を利用して露光がなされているが、ｈ線およびｉ線は、感光性化合物（光酸発生剤、光塩基発生剤や増感剤）による吸収が大きく、表面層のみ光反応が進行し、下層部では像形成のための反応が進まない。紫外線吸収剤をペースト中に添加することによって、ｈ線とｉ線付近の波長の光を吸収させることにより、ｇ線の透過率を上げ、感光性ペーストの塗膜の下層まで光反応を進めることができる。
【００４７】
紫外線吸収剤は、ｈ線とｉ線付近の波長の吸光性が優れていれば特に効果があり、具体例としては、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、サリチル酸系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、インドール系化合物、無機系の微粒子酸化金属などが挙げられる。これらの中でもベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、インドール系化合物が特に有効である。これらの具体例としては、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ−５−スルホベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−２’−カルボキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノントリヒドレート、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクタデシロキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、４−ドデシロキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−メタクリロキシ）プロポキシベンゾフェノン、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−ｎ−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、２−エチル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、インドール系の吸収剤であるＢＯＮＡＳＯＲＢ  ＵＡ−３９０１（オリエント化学社製）、ＢＯＮＡＳＯＲＢ  ＵＡ−３９０２（オリエント化学社製）ＳＯＭ−２−０００８（オリエント化学社製）、ベーシックブルー、スダンブルー、スダンＲ、スダンＩＩ、スダンＩＩＩ、スダンＩＶ、オイルオレンジＳＳ、オイルバイオレット、オイルイエローＯＢ（以上、アルドリッチ社）などが挙げられるがこれらに限定されない。さらに、これら紫外線吸収剤の骨格にメタクリル基などを導入し反応型として用いてもよい。本発明では、これらを１種または２種以上使用することができる。
【００４８】
紫外線吸収剤の添加量は、溶媒を除いた有機成分１００重量部に対し、０．００１〜１０重量部が好ましく、より好ましくは、０．００１〜５重量部である。紫外線吸収剤の添加量をこの範囲にすることにより、現像液に対するコントラストを向上し、かつ露光光に対する感度を保つことができる。
【００４９】
ポジ型感光性組成物は、架橋剤を含むことも好ましい。架橋剤を含む場合、露光後にポストベークすることで、未露光部において架橋剤と樹脂の架橋反応が進行して耐現像液性を向上することができる。架橋剤としては、エチレン性不飽和二重結合を１つあるいは２つ以上含むものが好ましく用いられる。
【００５０】
また、アルカリ現像液に対する溶解速度を高めるために、テトラヒドロキシベンゾフェノン、トリヒドロキシベンゾフェノン、ビスフェノールＡ、メチルガレート、クレゾール、トリヒドロキシフェニルメタンなどのフェノール化合物、ニコチン酸などの有機酸を加えることも出来る。
また、ポジ型感光性組成物にその感度、解像性、引き置き耐性などを向上させるために、有機塩基、有機酸、光吸収剤などを添加してもよい。
【００５１】
ポジ型感光性組成物の有機成分と無機微粒子の添加量は、溶媒を含まない固形分換算で６：４〜１：９であることが好ましい。より好ましくは４：６〜１：９、さらに好ましくは３．５：６．５〜２：８である。この範囲に保つことにより、パターン加工性がよく、かつ焼成時に欠陥が発生しないポジ型感光性組成物とすることができる。
【００５２】
本発明の隔壁用ガラス粒子を用いて感光性ペーストを調製する場合、該隔壁用ガラス粒子の含有量は、感光性ペースト総量に対する質量分率で、好ましくは５〜８０質量％、より好ましくは１０〜７０質量％であるが、本発明の隔壁用ガラス粒子を用いる感光性ペーストは、従来開示されている感光性ペーストと比して含有量を上げても感度低下がほとんど認められないことから、好ましくは１０〜７０質量％、更に好ましくは、２０〜６０質量％の範囲で用いることが効果的である。なお、該隔壁用ガラス粒子の含有量が前記の好ましい範囲にあると、感光性ペーストを用いて形成した隔壁の強度が高い傾向があるため好ましい。
【００５３】
また、前記感光性ペーストを調製する際、感光性ペースト総量に対するアルカリ金属酸化物およびアルカリ土類金属酸化物の含有量が２質量％以下になるように調整すると好ましく、１．５質量％以下であるとさらに好ましく、１質量％以下であるとより好ましい。このようにして得られる感光性ペーストは、ガラス粒子を増加させた際の感度低下をより抑制して、緻密な隔壁を製造することを可能とする。
なお、感光性ペースト中の酸化物の含有量を前記の範囲とするには、本発明の隔壁用ガラス粒子の酸化物含有量を前記のようにして求め、さらに感光性ペーストを構成するその他の成分の酸化物含有量も合わせて求め、その総和が感光性ペーストに対する質量分率で２質量％以下となるようにすればよい。
【００５４】
次に、ネガ型感光性組成物について説明する。
該ネガ型感光性組成物は、下記成分（Ａ）〜（Ｅ）を含有してなり、軟化温度が６００℃未満のガラス粒子である成分（Ａ）として、本発明の隔壁用ガラス粒子を含むと、好ましい。
（Ａ）本発明の隔壁用ガラス粒子；
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂；
（Ｃ）有機溶剤；
（Ｄ）軟化温度が６００℃以上の無機粒子；
（Ｅ）電磁線の照射または加熱により酸を発生する化合物；
【００５５】
前記好適なネガ型感光性組成物における、成分（Ａ）以外の構成成分について説明する。
【００５６】
次にノボラック樹脂について説明する。
ノボラック樹脂としては、例えば、フェノールノボラック樹脂、前記のフェノールノボラック樹脂のフェニル環上に一価の有機基を有する置換フェノールノボラック樹脂などが挙げられる。
置換フェノールノボラック樹脂としては、クレゾールノボラック樹脂などが挙げられる。
前記のフェノールノボラック樹脂としては、例えば、式（８）で表されるフェノール化合物と式（９）で表されるアルデヒド化合物とを重縮合させたノボラック樹脂や、前記ノボラック樹脂のフェノール性水酸基の水素原子の一部を一価の有機基で置換した樹脂が挙げられる。
【化１】
2008195572.tif 000002
【００５７】
［式（８）中、Ｑ１は炭素数１〜２０の一価の有機基を表し、ｎが２である場合、２つのＱ１は同一でも異なっていてもよい。ｎは０〜２の整数を表す。
式（９）中、Ｑ２は、水素原子または炭素数１〜２０の一価の有機基を表す。］
【００５８】
炭素数１〜２０の一価の有機基としては、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよく、例えば、炭素数１〜２０の直鎖状脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の分岐状脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の環状脂肪族炭化水素基、炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基などが挙げられる。炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基はアルキル基、アルケニル基などで置換されていてもよい。
【００５９】
炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基としては、芳香環を有する基または芳香環に炭化水素基が置換された基を表し、基を構成している炭素数の総和が６〜２０のものである。ここで、芳香環の置換基を例示すると、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基などのアルキル基、アリル基、ビニル基などのアルケニル基、アリルオキシ基などのアルケニルオキシ基、エチニル基などのアルキニル基、エチニルオキシ基などのアルキニルオキシ基などが挙げられる。
【００６０】
炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基を具体的に例示すると、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、トリル基、キシリル基、トリメチルフェニル基、エチルフェニル基、ジエチルフェニル基、トリエチルフェニル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、メチルナフチル基、ジメチルナフチル基、トリメチルナフチル基、ビニルナフチル基、メチルアンスリル基、エチルアンスリル基などが挙げられ、特に、フェニル基、トリル基、キシリル基が好ましい。
【００６１】
式（８）におけるＱ１の置換位は、フェノール水酸基から２位、４位、６位の中で少なくとも２箇所が置換されていないものが好ましい。式（８）で表される化合物としては、具体的には、フェノールｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、ｏ−エチルフェノール、ｍ−エチルフェノール、ｐ−エチルフェノール、ｏ−プロピルフェノール、ｍ−プロピルフェノール、ｐ−プロピルフェノール、ｏ−イソプロピルフェノール、ｍ−イソプロピルフェノール、ｏ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、ｍ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、ｏ−ヘキシルフェノール、ｍ−ヘキシルフェノール、ｏ−デシルフェノール、ｍ−デシルフェノール、ｏ−ドデシルフェノール、ｍ−ドデシルフェノール、ｏ−ヘキサデシルフェノール、ｍ−ヘキサデシルフェノール、ｏ−イコシルフェノール、ｍ−イコシルフェノール、ｏ−シクロへプチルフェノール、ｍ−シクロへプチルフェノール、ｏ−シクロヘキシルフェノール、ｍ−シクロヘキシルフェノール、ｏ−フェニルフェノール、ｍ−フェニルフェノール、ｏ−トルイルフェノール、ｍ−トルイルフェノール、２，５−キシレノール、２，３−キシレノール、３，５−キシレノール、２−エチル−５−メチルフェノール、２−エチル−３−メチルフェノール、３−エチル−５−メチルフェノール、２−イソプロピル−５−メチルフェノール、２−イソプロピル−３−メチルフェノール、３−イソプロピル−５−メチルフェノール、２−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェノール、２−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール、３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェノール、２−ヘキシル−５−メチルフェノール、２−ヘキシル−３−メチルフェノール、３−ヘキシル−５−メチルフェノール、２−シクロヘキシル−５−メチルフェノール、２−シクロヘキシル−３−メチルフェノール、３−シクロヘキシル−５−メチルフェノール、２−フェニル−５−メチルフェノール、２−フェニル−３−メチルフェノール、３−フェニル−５−メチルフェノール、２−ナフチル−５−メチルフェノール、２−ナフチル−３−メチルフェノール、３−ナフチル−５−メチルフェノール、２，５−ジエチルフェノール、２，３−ジエチルフェノール、３，５−ジエチルフェノール、２，５−ジプロピルフェノール、２，３−ジプロピルフェノール、３，５−ジプロピルフェノール、２，５−ビスシクロヘキシルフェノール、２，３−ビスシクロヘキシルフェノール、３，５−ビスシクロヘキシルフェノール、２，５−ジフェニルフェノール、２，３−ジフェニルフェノール、３，５−ジフェニルフェノールなどが挙げられる。
中でも、好ましくはフェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、２，５−キシレノール、３，５−キシレノール、２，３−キシレノール、２−ブチルフェノール、２−イソブチルフェノール、２−シクロヘキシルフェノール、２−フェニルフェノールが挙げられ、より好ましくはフェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾールが挙げられる。
【００６２】
式（９）におけるＱ２における炭素数１〜２０の一価の有機基は、前記と同じ意味を表す。
式（９）で表されるアルデヒド化合物としては、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロパナール、ブタナール、ヘキサナール、オクタナール、デカナール、ドデカナール、ヘキサデカナール、イコサナール、２−メチルプロパナール、２−メチルブタナール、２−エチルブタナール、２，２−ジメチルプロパナール、アクロレイン、２−ブテナール、２−ヘキセナール、２−オクテナール、アセチレンアルデヒド、２−ブチナール、２−ヘキシナール、２−オクチナール、シクロヘプチルカルバルアルデヒド、シクロヘキシルカルバルアルデヒド、ベンズアルデヒド、１−ナフチルアルデヒド、２−ナフチルアルデヒド、スチリルアルデヒドなどが挙げられ、好ましくはホルムアルデヒド、アセトアルデヒドが挙げられる。また、アルデヒド化合物は、解重合可能な高分子前駆体を使用することもできるし、アルデヒド基をアセタール基またはヘミアセタール基で保護してもよい。
【００６３】
ホルムアルデヒドは、解重合可能な高分子前駆体であるパラホルムアルデヒドや、水溶液であるホルマリンを使用することもできる。
【００６４】
式（８）で表されるフェノール化合物と、式（９）で表されるアルデヒド化合物の縮合方法は、特に限定されないが、例えば、反応溶媒の存在下または不在下、酸触媒を用いることで達成できる。
反応温度としては、好ましくは０〜２００℃、より好ましくは５０〜１５０℃であり、反応時間としては、好ましくは０．１〜３０時間、より好ましくは１〜２０時間である。
前記の酸触媒としては、硫酸、塩酸、硝酸、燐酸、酢酸、シュウ酸、マロン酸、トルエンスルホン酸が挙げられる。
【００６５】
縮合に用いる反応溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコールなどのアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルヘキシルケトン、メチルヘプチルケトン、シクロヘキシルケトンなどのケトン類；酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、プロピオン酸メチル、乳酸エチル、酢酸プロピレングリコールなどのエステル類；ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキサンなどのエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ブロモホルムなどのハロゲン化炭化水素類；ヘキサン、ヘプタン、デカン、石油エーテルなどの炭化水素類を用いることができ、これらは１種または２種以上を混合して使用することができる。また、反応系に水を共存させてもよく、水と互いに相溶しない溶媒の場合は２層に分離した反応溶媒を用いてもよい。蒸留脱水などで水を除去してもよい。
【００６６】
前記の縮合方法の例示において、ケトン類、エステル類、芳香族炭化水素類を反応溶媒として用い、酢酸、シュウ酸、マロン酸、トルエンスルホン酸などの有機酸を触媒とするのが好ましい。
【００６７】
また、ノボラック樹脂のフェノール性水酸基の一部を、ＯＱ３基（ただし、Ｑ３は炭素数１〜２０の一価の有機基を表す）に置換した樹脂をアルカリ可溶性樹脂（Ｃ）として用いることもできる。ここで、Ｑ３は前記のＱ１と同じ基が例示される。このような、フェノール性水酸基の一部がＯＱ３基に置換された樹脂も、本発明では「ノボラック樹脂」と呼ぶ。
【００６８】
フェノール性水酸基の一部をＯＱ３基に置換する反応としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、金属ナトリウム、金属リチウム、金属カリウム、ｎ−ブチルリチウム、ナトリウムナフタレート、ナトリウムメトキシドなどの強アルカリを使用し、前記フェノール性水酸基を金属フェノラート基に変換し、次いで、式（１０）で表される化合物を反応せしめて得ることができる。
【化２】
2008195572.tif 000003
【００６９】
［式（１０）中、Ｑ３は前記と同義である。Ｔは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メシル基またはトシル基を表す。］
【００７０】
式（１０）で表される化合物としては、フッ化メチル、フッ化エチル、フッ化デシル、フッ化ヘキシル、フッ化オクチル、フッ化ドデシル、フッ化ヘキサデシル、フッ化イコシル、塩化メチル、塩化エチル、塩化デシル、塩化ヘキシル、塩化オクチル、塩化ドデシル、塩化ヘキサデシル、塩化イコシル、臭化メチル、臭化エチル、臭化デシル、臭化ヘキシル、臭化オクチル、臭化ドデシル、臭化ヘキサデシル、臭化イコシル、臭化ベンジル、ヨウ化メチル、ヨウ化エチル、ヨウ化デシル、ヨウ化ヘキシル、ヨウ化オクチル、ヨウ化ドデシル、ヨウ化ヘキサデシル、ヨウ化イコシル、ヨウ化ベンジル、エチルスルホン酸メチル、ブチルスルホン酸メチル、オクチルスルホン酸メチル、デシルスルホン酸メチル、エチルスルホン酸トルイル、ブチルスルホン酸トルイル、オクチルスルホン酸トルイル、デシルスルホン酸トルイルなどが挙げられ、好ましくは臭化メチル、臭化エチル、ヨウ化メチル、ヨウ化エチルが挙げられる。
【００７１】
式（１０）で表される化合物は、使用するノボラック樹脂のフェノール性水酸基１モル当量に対して、０．００１以上０．９９モル当量以下、好ましくは０．００１以上０．８モル当量以下、より好ましくは０．００１以上０．５モル当量以下を使用する。
ここで、使用するノボラック樹脂中のフェノール性水酸基のモル当量は、通常行われるアルカリ滴定法を用いて求めることができる。
【００７２】
ノボラック樹脂と式（１０）で表される化合物との反応における溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコールなどのアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルヘキシルケトン、メチルヘプチルケトン、シクロヘキシルケトンなどのケトン類；ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキサンなどのエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ブロモホルムなどのハロゲン化炭化水素類；ヘキサン、ヘプタン、デカン、石油エーテルなどの炭化水素類を用いることができ、これらは１種または２種以上を混合して用いることができる。とりわけ、エーテル類、芳香族炭化水素類またはハロゲン化炭化水素類が好ましい。また、反応には、使用する反応剤や触媒が失活しない限りにおいて、水を共存させてもよいが、水分１００ｐｐｍ以下の脱水された溶媒が好ましい。
反応時間は、好ましくは０．１〜２０時間、より好ましくは１〜１０時間であり、反応温度は、−６０〜１００℃、好ましくは−２０〜５０℃である。
【００７３】
特に、成分（Ｃ）として好適なノボラック樹脂としては、式（８）におけるＱ１が水素原子であるフェノール化合物とホルムアルデヒドとを重合させたフェノールノボラック樹脂や、式（８）におけるＱ１がメチル基であるフェノール化合物とホルムアルデヒドとを重合させたクレゾールノボラック樹脂が特に好ましい。これらのフェノールノボラック樹脂およびクレゾールノボラック樹脂は、現像時の溶解コントラストが高いために好ましく用いることができる。
【００７４】
前記のようにして得られたノボラック樹脂は、縮合反応や置換反応に使用した触媒や触媒残渣、未反応のフェノール化合物、未反応のアルデヒド化合物あるいは未反応の式（１０）で表される化合物を除去することが好ましい。また、上記の縮合反応や置換反応に使用した溶媒も除去することが好ましい。ただし、後述の有機溶剤（Ｅ）と同じものを使用した場合は、除去せず、アルカリ可溶性樹脂を溶解させた溶液として、感光性ペーストの調整に使用してもよい。
【００７５】
かくして、ネガ型感光性組成物に適用する好適なアルカリ可溶性樹脂が得られるが、とりわけ好適なアルカリ可溶性樹脂としては、フェノール性水酸基を有する樹脂であり、前記式（３）で表されるフェノール性水酸基を有するポリシロキサン樹脂あるいは前記ノボラック樹脂を挙げることができる。
【００７６】
なお、ネガ型感光性組成物中の成分（Ｂ）の含有量は、感光性ペーストに対する質量分率で、好ましくは３〜３０質量％、より好ましくは４〜２０質量％、とりわけ好ましくは５〜１５質量％である。
【００７７】
次に、成分（Ｃ）有機溶媒について説明する。
前記感光性ペーストに適用される有機溶剤の屈折率は、好ましくは１．４〜１．８、より好ましくは１．４３〜１．７０であり、とりわけ好ましくは１．４４〜１．６０である。有機溶剤の屈折率が前記の範囲にあると、感光性ペーストを用いて形成した膜の透過率が高くなる傾向があり、好ましい。
本発明では、有機溶剤の屈折率は、屈折率計（例えば、ＲＡ−５２０Ｎ；京都電子工業（株）製）を用いて、２５℃で測定される。また、屈折率は、例えば、改訂４版  化学便覧  基礎編ＩＩ  ５１４−５２０頁（日本化学会編  丸善（株）平成５年９月３０日  発行）など文献にも記載されている。
屈折率が１．４〜１．８である有機溶剤としては、例えば、プロピレングリコールモノブチルエーテル（１．４２）、ポリプロピレングリコールジベンゾエート（１．５２）、２−ヘプタノン（１．４１）、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート（１．４０）、ガンマ−ブチロラクトン（１．４４）、１，２−プロパンジオールジベンゾエート（１．５４）、ポリエチレングリコールジベンゾエート（１．５３）などが挙げられ、好ましくは屈折率が１．４３〜１．７０であるポリプロピレングリコールジベンゾエート、γ−ブチロラクトン、１，２−プロパンジオールジベンゾエート、ポリエチレングリコールジベンゾエートが挙げられ、より好ましくは屈折率が１．４４〜１．６０であるポリプロピレングリコールジベンゾエート、１，２−プロパンジオールジベンゾエート、ポリエチレングリコールジベンゾエートが挙げられる。
【００７８】
本発明の感光性ペーストにおける成分（Ｃ）の含有量としては、感光性ペーストに対して質量分率で、好ましくは１〜３０質量％、より好ましくは３〜２０質量％、とりわけ好ましくは５〜１５質量％である。
【００７９】
次に、成分（Ｄ）軟化温度が６００℃以上のガラス以外の無機粒子とは、例えば、シリカ粒子、チタニア粒子、アルミナ粒子などが好適である。これらの無機粒子は、単独でも２種以上を混合して用いてもよい。このような無機粒子としては、市場から容易に入手可能な市販品を用いることができる。
シリカ粒子の市販品としては、例えばアドマファイン（（株）アドマテックス製）などが挙げられる。
チタニア粒子の市販品としては、高純度酸化チタンＣＲ−ＥＬ（石原産業（株）製）などが挙げられる。
アルミナ粒子の市販品としては、球状アルミナＣＢシリーズ（昭和電工（株）製）などが挙げられる。
【００８０】
なお、成分（Ｄ）として用いるガラス以外の無機粒子の屈折率または平均粒径については、本発明の隔壁用ガラス粒子で挙げた好適な範囲と同等であると、露光時の光散乱を抑制できる点や、本発明の隔壁用ガラス粒子と同様にして感光性ペースト中のガラス以外の無機粒子含有量を増加できるので、好ましい。
【００８１】
前記ネガ型感光性組成物における成分（Ｄ）の含有量は、感光性ペースト総量に対する質量分率で、好ましくは０〜７０質量％であり、より好ましくは１０〜６０質量％であり、とりわけ好ましくは１０〜５０質量％である。
【００８２】
次に、成分（Ｅ）電磁線の照射または加熱により酸を発生する化合物について説明する。
電磁線の照射または加熱により酸を発生する化合物としては、例えば、光酸発生剤、光カチオン重合開始剤、熱カチオン重合開始剤などが挙げられる。
前記の電磁線を照射するときの照射量としては、電磁線の照射により酸を発生する化合物が、酸を発生する量以上であれば、本発明の効果を阻害しない範囲内で、差し支えない。また、加熱の温度や時間としては、加熱により酸を発生する化合物が酸を発生する温度、時間以下であれば、本発明の効果を阻害しない範囲内で、適宜決定しうる。
光酸発生剤としては、例えば、［シクロヘキシル−（２−シクロヘキサノニル）−メチル］スルホニウム  トリフルオロメタンスルフォネート、ビス（ｐ−トリルスルフォニル）ジアゾメタン、ビス（シクロヘキシルスルフォニル）ジアゾメタン、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニルメチル−テトラヒドロチオフェニウム  トリフルオロメタンスルフォネートなどが挙げられる。光酸発生剤としては、前記の他に、特開平１１−２０２４９５号公報記載の化合物などを使用することもできる。
光カチオン重合開始剤、熱カチオン重合開始剤としては、例えば、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスフェート塩、アンチモネート塩などを挙げることができる。具体的には、ロードシルフォトイニシエーター２０７４（ローデル社製）、アデカオプトマーＳＰ−１５０、アデカオプトマーＳＰ−１５２、アデカオプトマーＳＰ−１７０、アデカオプトマーＳＰ−１７２、アデカオプトンＣＰシリーズ（いずれも旭電化工業（株）製）などが挙げられる。また、前記の他に、特開平９−１１８６６３号公報に記載された化合物も使用することができる。
【００８３】
ネガ型感光性組成物中の成分（Ｅ）の含有量は、感光性ペースト総量に対して、好ましくは０．０１〜２０質量％であり、より好ましくは０．０５〜１０質量％である。
前記の電磁線の照射または加熱により酸を発生する化合物の含有量が、前記の範囲にあると、生産性よくパターンを形成できる傾向があり、好ましい。
【００８４】
また、成分（Ｅ）として、電磁線の照射により式（１１）で表される酸を発生する化合物が含有されていてもよい。
【化３】
2008195572.tif 000004
【００８５】
［式（１１）中、Ｒｆは、フッ素原子で置換された炭素数１〜２０の一価の有機基を表す。］
【００８６】
フッ素原子で置換された炭素数１〜２０の一価の有機基としては、例えば、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ブチル基などが挙げられる。
【００８７】
電磁線の照射により式（１１）で表される酸を発生する化合物としては、例えば、式（１１）で表される酸のヨードニウム塩、スルホニウム塩、エステル化合物などが挙げられる。
前記の式（１１）で表される酸のヨードニウム塩としては、例えば、ＤＰＩ−１０５、ＤＰＩ−１０９、ＢＩ−１０５、ＭＰＩ−１０５、ＭＰＩ−１０９、ＢＢＩ−１０５、ＢＢＩ−１０９、ＢＢＩ−１１０（いずれも、みどり化学（株）製）などが挙げられる。
【化４】
2008195572.tif 000005
【００８８】
前記の式（１１）で表される酸のスルホニウム塩としては、例えば、ＴＰＳ−１０５、ＴＰＳ−１０９、ＭＤＳ−１０５、ＭＤＳ−１０９、ＭＤＳ−２０５、ＢＤＳ−１０９、ＤＴＳ−１０５、ＮＤＳ−１０５、ＮＤＳ−１５５、ＮＤＳ−１５９、ＮＤＳ−１６５（いずれも、みどり化学（株）製）などが挙げられる。
【化５】
2008195572.tif 000006
【００８９】
前記の式（１１）で表される酸のエステル化合物としては、例えば、ＮＡＩ−１０５、ＮＡＩ−１０９、ＮＤＩ−１０５、ＮＤＩ−１０９、ＳＩ−１０５、ＳＩ−１０９、ＰＩ−１０５、ＰＩ−１０９（いずれも、みどり化学（株）製）などが挙げられる。
【化６】
2008195572.tif 000007
【００９０】
また、前記ネガ型感光性組成物には、カチオン開環重合性の官能基を有する化合物を添加してもよい。
前記カチオン開環重合性の官能基としては、例えば、環状エーテル基、環状アセタール基、環状エステル基などが挙げられる。
環状エーテル基としては、例えば、オキセタニル基、オキソラニル基、オキセパニル基などが挙げられる。
環状アセタール基としては、例えば、１，３−ジオキソラニル基、１，３，５−トリオキサニル基、１，３−ジオキセパニル基、１，３，６−トリオキサシクロオクタニル基などが挙げられる。
環状エステル基としては、例えば、β−プロピオラクトニル基、δ−バレロラクトニル基、ε−カプロラクトニル基、グリコリド基、ラクチド基、２，６，７−トリオキサビシクロ［２，２，１］ヘプタニル基、トリメチレンカーボネート基などが挙げられる。
特に、アルカリ可溶性樹脂が好適なフェノール性水酸基を有する樹脂である場合、前記カチオン開環重合性の官能基を有する化合物はカチオン開環重合とともに、フェノール性水酸基を有する樹脂のフェノール環と結合し、架橋剤としても機能する。特に好ましくは、環状エーテル基を有する化合物が好ましく、具体的には、前記式（２）で表される官能基および前記式（３）で表される官能基から選ばれる官能基を分子内に複数有する化合物が好ましい。このような化合物としては、例えば、エチレングリコールジグリシジルエーテル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，２，７，８−ジエポキシオクタン、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，４−シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセロールプロポキシレートトリグリシジルエーテル、グリセロールジグリシジルエーテルなどが挙げられる。
【００９１】
さらに、前記ネガ型感光性組成物には、必要に応じて、分子量１０００以下のケイ素化合物を添加してもよい。
該ケイ素化合物として、前記カチオン開環重合性を有する化合物を用いる場合、式（１）で表される官能基および式（２）で表される官能基からなる群から選ばれる少なくとも１種の官能基を有するケイ素化合物が好適である。かかるケイ素化合物は、前記と同様にして、架橋剤として機能するものであり、例えば、グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、グリシジルオキシプロピルトリエトキシシラン、オキセタニルオキシプロピルトリメトキシシラン、オキセタニルオキシプロピルトリエトキシシラン、１，３−ビス（グリシジルオキシプロピル）−１，１，３，３，−テトラメチル−ジシロキサン、１，３−ジオキシラニル−１，１，３，３，−テトラメチル−ジシロキサン、１，３−ビス（オキセタニルオキシプロピル）−１，１，３，３，−テトラメチル−ジシロキサンなどが挙げられる。
また、前記ケイ素化合物として、例えば、１，３−ジ（カルボキシプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンなどカルボキシル基を有するものを用いると、後述する現像において、ネガ型感光性組成物からなる塗膜に露光した後、現像液に溶解する溶解部において、その溶解速度をより向上させることができる。
このようなケイ素化合物を前記ネガ型感光性組成物に添加する場合、その添加量は、感光性組成物総量に対して、好ましくは１〜１０質量％であり、より好ましくは２〜８質量％であり、とりわけ好ましくは３〜６質量％である。
【００９２】
さらに、前記ネガ型感光性組成物には、必要に応じて、光吸収剤、光増感剤、可塑剤、分散剤、沈殿防止剤、レベリング剤などの添加剤を添加されていてもよい。
【００９３】
前記ネガ型感光性組成物は、前記の成分（Ａ）〜（Ｅ）を、３本ローラや混練機などで均質に混合分散することにより製造することができる。
【００９４】
次に、前記ネガ型感光性組成物を用いてパターン加工を行なう方法について、一例を挙げて説明するが、本発明は該方法に限定されるものではない。
まず、基板上に、ネガ型感光性組成物を全面または部分的に塗布する。塗布方法としては、例えば、バーコーター、ロールコーター、ダイコーター、スクリーン印刷などの方法を用いることができる。塗布厚みは、塗布回数、ペーストの粘度を選ぶことにより調整することができ、好ましくは５〜５００μｍ程度、より好ましくは５０〜２００μｍである。
【００９５】
ネガ型感光性組成物を基板上に塗布する場合、基板と塗布膜との密着性を高めるために基板表面を表面処理液で処理することが好ましい。
前記の表面処理液としては、例えば、グリシジルオキシプロピルトリエトキシシラン、グリシジルオキシプロピルトリメトキシシシラン、オキセタニルオキシプロピルトリエトキシシランなどのシランカップリング剤が挙げられる。シランカップリング剤は、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコールなどの有機溶媒で０．１〜５％の濃度に希釈したものを用いることが好ましい。
表面処理の方法は、例えば、表面処理液をスピナーなどで基板上に均一に塗布した後、８０〜１４０℃で５〜６０分間乾燥するなどを挙げることができる。
乾燥後、露光装置を用いて露光を行なう。露光装置としては、例えば、プロキシミティ露光機などが挙げられる。
大面積の露光を行なう場合には、基板上に感光性ペーストを塗布した後に、移動させながら露光を行なうことによって、小さな露光面積の露光機で、大きな面積を露光することができる。露光には、例えば、紫外線、電子線、Ｘ線、可視光、近赤外光などを使用することができる。
【００９６】
露光後、現像を行なう。現像は、通常、浸漬法、スプレー法、ブラシ法などで行われる。
現像液としては、例えば、テトラメチルアンモニイウムハイドロキサイド、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ水溶液などが挙げられる。
水溶液中のアルカリ濃度は、好ましくは０．０５〜５質量％であり、より好ましくは０．１〜５３質量％である。アルカリ濃度が前記の範囲にあると、現像除去するべき部分の除去性が良好であり、また残存すべきパターンが剥離したり侵食されたりする傾向が小さく、好ましい。
現像時の温度は、その工程管理上、好ましくは１５〜５０℃である。
【００９７】
上記のようにしてパターンを形成後、焼成炉にて焼成を行なうことにより隔壁を形成することができる。焼成雰囲気や焼成温度は、感光性ペーストや基板の種類によって異なるが、空気中、窒素などの雰囲気中で、好ましくは４００〜６００℃で焼成する。焼成炉は、バッチ式の焼成炉やベルト式の連続型焼成炉を用いることができる。
特に、ガラス基板上にパターン加工する場合は、好ましくは４００〜６００℃の温度で１０〜６０分間焼成が行なわれる。
【００９８】
得られる隔壁の表面にはコート層を形成してもよい。コート層は、低融点ガラス粒子とバインダー樹脂からなるペースト剤やセラミックコーティング剤などのコート剤を塗布・乾燥し、焼成して隔壁の表面に形成するか、または前記のパターン形成後、該コート剤を塗布した後、焼成を行なうことにより、隔壁の形成と同時に隔壁の表面に形成してもよい。
前記の低融点ガラス粒子としては、例えば、酸化錫リン酸系ガラス、酸化ビスマス系ガラス、鉛ガラスなどが挙げられる。
前記のバインダー樹脂としては、例えば、ブチラール樹脂、ポリビニルアルコール、アクリル樹脂、ポリα−メチルスチレンなどが挙げられる。
前記のセラミックコート剤としては、水性金属塩系コート剤、アルコキシ金属塩系コート剤などを用いることができ、具体的には、水性金属塩系コート剤としてはＭＳ−１７００、アルコキシ金属塩系コート剤としてはＧ−３０１、Ｇ−４０１（いずれも、（株）日本セラミック製）などを挙げることができる。
コート層の焼成温度は、低融点ガラス粒子とバインダー樹脂よりなるペースト剤を用いる場合、好ましくは２５０〜６００℃程度であり、セラミックコート剤を用いる場合、好ましくは１０〜５００℃である。
【００９９】
上記のパターン加工を行なう方法により得られる隔壁において、焼成前後での該隔壁のトップ幅寸法、ボトム幅寸法および高さ寸法のそれぞれの変化量は、好ましくは±３０％以内であり、より好ましくは±１０％以内である。
パターンサイズの変化が前記の範囲にあると、プラズマディスプレイの背面板の隔壁として好適に使用することができる。
本発明の隔壁用ガラス粒子を含んでなる感光性ペーストによれば、そのガラス粒子含有量を増加させても、露光時の感度低下を小さくすることができ、またパターンを形成することができるので、例えば、プラズマディスプレイの背面板の隔壁を製造するのに好適である。
【実施例】
【０１００】
以下、本発明を実施例に基づいてより詳細に説明するが、本発明がこれらの実施例によって限定されるものではないことは言うまでもない。
【０１０１】
実施例１
フェノールノボラック樹脂（ＰＳＭ−４３２６；群栄化学工業（株）製）を窒素雰囲気下、７０℃〜８０℃で加熱溶解することで調製した５０重量％のエチレングリコールジアセテート溶液１５０ｇ、ロードシルフォトイニシエーター（ＰＩ−２０７４；ローデル社製）４．６６ｇ、増感剤（ＤＢＡ；川崎化成工業（株）製）０．９５ｇ、１，３−ビス（３’−グリシジルオキシプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン（ＴＳＬ−９９６０；ジーイー東芝シリコーン（株）製）２８．１１ｇ、ポリプロピレングリコールジベンゾエート（アルドリッチ（株）製）６．２１ｇ、１，２−プロパンジオールジベンゾエート（アルドリッチ（株）製）１５．６１ｇ、粘度調整用のエチレングリコールジアセテート（アルドリッチ（株）製）１２．４３ｇを５００ｍＬのナスフラスコに入れ、均一な溶液を調製し、粘稠なフェノールノボラック樹脂感光性組成物を得た。
上記フェノールノボラック樹脂感光性組成物２１７．９７ｇ、球状シリカ（ＳＯ−Ｃ６＋エポキシ表面処理；（株）アドマテックス製）１９９．９３ｇ、低融点ガラスＡ（ＹＥＢ２−６７０１；熱線膨張率  １０５Ｘ１０−７／Ｋ；ヤマト電子（株）製、ガラス組成；ＣａＯ１０％、Ｂ２Ｏ３２７％、ＺｎＯ１８％、ＢａＯ４５％）２９９．８５ｇ、ポリアクリル酸（アルドリッチ（株）製）の５０重量％γ−ブチロラクトン溶液１１．８６ｇ、ε−カプロラクトン８．９７ｇをセラミックス製３本ロールミル（（株）井上製作所製）を用いて混練することによって、感光性ペーストを調製した。
【０１０２】
調製した感光性ペーストを２５０μｍギャップのアプリケーターを用いて、ガラス基板（ＰＤ２００；旭硝子（株）製）上に１回塗布した。塗布後９５℃の遠赤外線オーブン（小型精密テスト炉、（株）八光製）中で４０分乾燥して塗膜を調製した。
乾燥後の塗膜は、３０μｍライン、横１６０μｍピッチ縦４８０μｍピッチのマスクを用いて、プロキシミティ露光機（ＭＡＰ−１３００；大日本スクリーン製造（株）製）で露光された。照射露光量は、４００ｍＪ／ｃｍ２であった。露光後、１２０℃で１０分間ベークした後、０．４質量％水酸化ナトリウム水溶液を用いてスプレー現像（二宮システム（株）製）した。得られたパターンをレーザー顕微鏡（レーザーテック（株）製）を用いて測定したところ、パターン上部幅２８μｍ、パターン下部幅８８μｍ、高さ１０９μｍのパターンが得られた。
【０１０３】
上記ガラス基板上に形成したパターンをマッフル炉中、５８０℃で３０分焼成することで、パターン上部幅２６μｍ、パターン下部幅８４μｍ、高さ１０２μｍの隔壁が剥離、クラック無く得られた。
【０１０４】
実施例２
低融点ガラスＢ（ＹＥＢ２−６７０３；熱線膨張率  １１０Ｘ１０−７／Ｋ；ヤマト電子（株）製、ガラス組成；ＣａＯ  １６％、Ｂ２Ｏ３２５％、ＺｎＯ１７％、ＢａＯ４２％）を用いた以外は、実施例１と同様にして感光性ペーストを調製した。
【０１０５】
得られた感光性ペーストを実施例１と同様にガラス基板に塗布、露光、現像し、パターン上部幅２６μｍ、パターン下部幅８６μｍ、高さ１０２μｍの隔壁が剥離、クラック無く得られた。
【０１０６】
比較例１
低融点ガラスＣ（ＹＥＢ２−５７０１；熱線膨張率  ７５Ｘ１０−７／Ｋ；ヤマト電子（株）製、ガラス組成；ＣａＯ  １７％、Ｂ２Ｏ３３３％、ＺｎＯ  ５０％）を用いた以外は、実施例１と同様にして感光性ペーストを調製した。
【０１０７】
得られた感光性ペーストを実施例１と同様にガラス基板に塗布、露光、現像、焼成したところ、部分的にクラックが発生し、良好な隔壁が得られなかった。
【産業上の利用可能性】
【０１０８】
本発明のガラスペーストは、プラズマディスプレイの部材である背面板の隔壁形成などに用いることができるほか、平面バックライトのスペーサー形成、マイクロリアクターなどの形成に用いることが期待できる。