(57)【要約】【課題】半導体ウエハに悪影響を及ぼす汚染ガスを、シンプルでかさばらない低コストの構成で容器内の空間から効率的に除去することができ、さらに、そのような汚染ガス除去を使用環境等に対応して選択的かつ効果的に行うことができるウエハ収納容器を提供すること。【解決手段】蓋体５の内壁面に形成された凹部８内の空間が、ウエハ押さえ部材１０により複数の半導体ウエハＷの軸線に対して略平行方向に伸びた複数の領域に仕切られて、特定のガス成分を吸着するための少なくとも一種類のケミカルフィルタ２０がウエハ押さえ部材１０によって仕切られた凹部８内の少なくとも一つの空間内に略全範囲にわたって配置されている。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の半導体ウエハを収納するための容器本体と、上記容器本体の一面に形成された開口部を気密に塞ぐように上記容器本体に対して着脱自在に取り付けられる蓋体と、上記容器本体内において上記複数の半導体ウエハをその軸線方向に所定の間隔をあけて支持するためのウエハ支持体と、上記複数の半導体ウエハの外縁に対向する上記蓋体の内壁面の領域に上記複数の半導体ウエハの軸線に対して略平行方向に伸びた状態に形成された凹部と、上記ウエハ支持体と協働して上記複数の半導体ウエハを押さえて固定するように上記凹部内に配置されたウエハ押さえ部材とを有するウエハ収納容器において、
上記蓋体の内壁面に形成された上記凹部内の空間が、上記ウエハ押さえ部材により上記複数の半導体ウエハの軸線に対して略平行方向に伸びた複数の領域に仕切られて、
特定のガス成分を吸着するための少なくとも一種類のケミカルフィルタが、上記ウエハ押さえ部材によって仕切られた上記凹部内の少なくとも一つの空間内に略全範囲にわたって配置されていることを特徴とするウエハ収納容器。
【請求項２】
上記ウエハ押さえ部材には、上記ケミカルフィルタが配置された空間と上記半導体ウエハが配置された空間との間の通気を確保するための通気孔が略全域にわたって形成されている請求項１記載のウエハ収納容器。
【請求項３】
上記ケミカルフィルタが、所定の有機ガス成分を吸着する有機ガス用ケミカルフィルタ、所定の酸性ガス成分を吸着する酸性ガス用ケミカルフィルタ、及び所定のアルカリ性ガス成分を吸着するアルカリ性ガス用ケミカルフィルタの中の複数であり、それらが上記ウエハ押さえ部材によって仕切られた上記凹部内の複数の空間に分離して並列に配置されている請求項１又は２記載のウエハ収納容器。
【請求項４】
上記各ケミカルフィルタが、気体は通過するが固形粒子は通過しない多孔質の膜状フィルタにより囲繞されてその内側に封止されている請求項３記載のウエハ収納容器。
【請求項５】
上記ケミカルフィルタが、所定の有機ガス成分を吸着する有機ガス用ケミカルフィルタ、所定の酸性ガス成分を吸着する酸性ガス用ケミカルフィルタ、及び所定のアルカリ性ガス成分を吸着するアルカリ性ガス用ケミカルフィルタであり、それらが、上記酸性ガス用ケミカルフィルタと上記アルカリ性ガス用ケミカルフィルタとで上記有機ガス用ケミカルフィルタを挟み込んだ状態に積層形成されている請求項１又は２記載のウエハ収納容器。
【請求項６】
上記の積層された三つのケミカルフィルタが、気体は通過するが固形粒子は通過しない多孔質の膜状フィルタで一まとめに囲繞されてその内側に封止されている請求項５記載のウエハ収納容器。
【請求項７】
上記膜状フィルタの外縁全体に沿って補強フレームが設けられている請求項４又は６記載のウエハ収納容器。
【請求項８】
上記ウエハ押さえ部材によって仕切られた上記凹部内に配置された上記ケミカルフィルタが、上記凹部内からの離脱を上記ウエハ押さえ部材自体により規制されている請求項１ないし７のいずれかの項に記載のウエハ収納容器。
【請求項９】
上記凹部の壁面とそれに対向する上記膜状フィルタの外面のいずれか一方の側に、相手方に吸着する自己吸着層が設けられていて、上記ケミカルフィルタが上記凹部の壁面に対して着脱自在に吸着固定されている請求項４又は６記載のウエハ収納容器。
【請求項１０】
上記自己吸着層が、ポリエチレンテレフタレートフィルム上にアクリル酸エステル共重合体からなる発泡アクリルラテックスを積層して形成されている請求項９記載のウエハ収納容器。
【請求項１１】
上記ケミカルフィルタを上記凹部又は上記ウエハ押さえ部材に係止するためのフィルタ係止部が、上記凹部又は上記ウエハ押さえ部材に形成されている請求項１ないし７のいずれかの項に記載のウエハ収納容器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、複数の半導体ウエハを外部環境から隔離された清浄な環境中に収納して輸送、保管するために使用されるウエハ収納容器に関する。
【背景技術】
【０００２】
ウエハ収納容器には一般に、容器本体と、その容器本体の開口部を気密に塞ぐ蓋体とが設けられていて、複数の半導体ウエハを収納した状態で、外部環境から隔離された完全な密閉状態にすることができる。しかし、容器内外の環境要因により、容器内の空気中には有機ガス成分、酸性ガス成分及びアルカリ性ガス成分等のような、半導体ウエハに対して悪影響を及ぼす可能性のある種々のガス（以下、「汚染ガス」という）が含まれている。そこで従来は、汚染ガスを吸着するためのケミカルフィルタを容器内に配置したり（例えば、特許文献１、２）、ケミカルフィルタに加えてさらに容器内に循環気流を形成するためのファンモータ等を配置していた（特許文献３）。
【特許文献１】特許第３３３６６５２号公報
【特許文献２】特開２００４−２６００８７号公報
【特許文献３】特開２００１−７７１８８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかし、特許文献１、２に記載された発明等のように容器内の適宜の位置にケミカルフィルタを配置しても、容器内の汚染ガスを効率よく吸着除去することはできず、汚染ガスによる半導体ウエハに対する悪影響防止の効果は限定的なものでしかなかった。また、引用文献３に記載された発明等のように、容器内に循環気流を形成するためのファンモータ等を配置すると、容器内の汚染ガスを効率よく吸着除去することができるようになるが、容器の構成が大掛かりになるため、非常に取り扱い難くなると同時に大幅なコスト高になってしまう。また、従来のウエハ収納容器では、使用されるケミカルフィルタの種類が使用環境等に対応して精査されていないため、容器中に含まれる各種汚染ガスの一部のガスしか吸着除去できない場合が少なくなかった。
【０００４】
本発明は、半導体ウエハに悪影響を及ぼす汚染ガスを、シンプルでかさばらない低コストの構成で容器内の空間から効率的に除去することができ、さらに、そのような汚染ガス除去を使用環境等に対応して選択的かつ効果的に行うことができるウエハ収納容器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記の目的を達成するため、本発明のウエハ収納容器は、複数の半導体ウエハを収納するための容器本体と、容器本体の一面に形成された開口部を気密に塞ぐように容器本体に対して着脱自在に取り付けられる蓋体と、容器本体内において複数の半導体ウエハをその軸線方向に所定の間隔をあけて支持するためのウエハ支持体と、複数の半導体ウエハの外縁に対向する蓋体の内壁面の領域に複数の半導体ウエハの軸線に対して略平行方向に伸びた状態に形成された凹部と、ウエハ支持体と協働して複数の半導体ウエハを押さえて固定するように凹部内に配置されたウエハ押さえ部材とを有するウエハ収納容器において、蓋体の内壁面に形成された凹部内の空間が、ウエハ押さえ部材により複数の半導体ウエハの軸線に対して略平行方向に伸びた複数の領域に仕切られて、特定のガス成分を吸着するための少なくとも一種類のケミカルフィルタがウエハ押さえ部材によって仕切られた凹部内の少なくとも一つの空間内に略全範囲にわたって配置されているものである。
【０００６】
なお、ウエハ押さえ部材には、ケミカルフィルタが配置された空間と半導体ウエハが配置された空間との間の通気を確保するための通気孔が略全域にわたって形成されているとよく、ケミカルフィルタが、所定の有機ガス成分を吸着する有機ガス用ケミカルフィルタ、所定の酸性ガス成分を吸着する酸性ガス用ケミカルフィルタ、及び所定のアルカリ性ガス成分を吸着するアルカリ性ガス用ケミカルフィルタの中の複数であって、それらがウエハ押さえ部材によって仕切られた凹部内の複数の空間に分離して並列に配置されていてもよい。その場合、各ケミカルフィルタが、気体は通過するが固形粒子は通過しない多孔質の膜状フィルタにより囲繞されてその内側に封止されていてもよい。
【０００７】
また、ケミカルフィルタが、所定の有機ガス成分を吸着する有機ガス用ケミカルフィルタ、所定の酸性ガス成分を吸着する酸性ガス用ケミカルフィルタ、及び所定のアルカリ性ガス成分を吸着するアルカリ性ガス用ケミカルフィルタであり、それらが、酸性ガス用ケミカルフィルタとアルカリ性ガス用ケミカルフィルタとで有機ガス用ケミカルフィルタを挟み込んだ状態に積層形成されていてもよく、その場合、積層された三つのケミカルフィルタが、気体は通過するが固形粒子は通過しない多孔質の膜状フィルタで一まとめに囲繞されてその内側に封止されていてもよく、膜状フィルタの外縁全体に沿って補強フレームが設けられていてもよい。
【０００８】
また、ウエハ押さえ部材によって仕切られた凹部内に配置されたケミカルフィルタが、凹部内からの離脱をウエハ押さえ部材自体により規制されていてもよい。あるいは、凹部の壁面とそれに対向する膜状フィルタの外面のいずれか一方の側に、相手方に吸着する自己吸着層が設けられていて、ケミカルフィルタが凹部の壁面に対して着脱自在に吸着固定されていてもよく、その場合、自己吸着層が、ポリエチレンテレフタレートフィルム上にアクリル酸エステル共重合体からなる発泡アクリルラテックスを積層して形成されていてもよい。あるいは、ケミカルフィルタを凹部又はウエハ押さえ部材に係止するためのフィルタ係止部が、凹部又はウエハ押さえ部材に形成されていてもよい。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、蓋体の内壁面に形成された凹部内の空間がそこに配置されたウエハ押さえ部材により仕切られて、その空間内にケミカルフィルタが配置されていることにより、ウエハ収納容器をシンプルでかさばらない低コストの構成にすることができる。そして、ケミカルフィルタが配置された凹部が、複数の半導体ウエハの軸線に対して略平行方向に伸びた状態に形成されていることにより、半導体ウエハに悪影響を及ぼす汚染ガスを容器内の空間から効率的に除去することができる。また、ケミカルフィルタとして、所定の有機ガス成分を吸着する有機ガス用ケミカルフィルタ、所定の酸性ガス成分を吸着する酸性ガス用ケミカルフィルタ、及び所定のアルカリ性ガス成分を吸着するアルカリ性ガス用ケミカルフィルタの中の一つ又は複数を選択することにより、汚染ガス除去を使用環境等に対応して選択的かつ効果的に行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。
図１はウエハ収納容器の縦断面図、図２は図１におけるＡ−Ｏ−Ｂ断面図、図３は蓋体５側ユニットの背面図（図１における矢視Ｃ図）である。なお、図２はいわゆる端面図であり、断面に現れる部分のみが図示されて、断面位置より遠方に見える部分の図示は省略されている。
【００１１】
各図に示される１は、例えばポリカーボネート等のような汚染ガス発生の比較的少ないプラスチック材によって形成された容器本体である。容器本体１は、複数（この実施の形態では２５枚）の半導体ウエハＷを収納することができる大きさで、その上面だけが開口した形状に形成されている。そして、容器本体１の下半部内には、複数の半導体ウエハＷをそれらの軸線方向に一定の間隔をあけた整列状態に載せて支持することができる一対のウエハ支持体２が、あい対向して容器本体１の内壁面に沿って配置されている。プラスチック材で形成された各ウエハ支持体２には、半導体ウエハＷを載せるためのＶ状の断面形状をしたウエハ支持溝３が例えば２５個ずつ等間隔に形成されている。一対のウエハ支持体２の間に位置する容器本体１の底部は空間になっている。なお、ウエハ支持体２の構成はこの実施の形態に限定されるものではない。
【００１２】
容器本体１の開口部には蓋体５が着脱自在に取り付けられる。蓋体５が容器本体１に取り付けられた状態では、弾力性のある部材で環状に形成されたシール材６により容器本体１の開口部が気密に塞がれて、ウエハ収納容器内が外部環境から隔離された完全な密閉状態になる。なお、シール材６はこの実施の形態では蓋体５に取り付けられているが、蓋体５自体でシール材６を形成してもよく、あるいはシール材６を容器本体１側に設けても差し支えない。７は、蓋体５を容器本体１に対してロックするための一対のラッチ機構である（ただし、ラッチ機構７の具体構成の図示は省略されている）。各ラッチ機構７は蓋体５を真っ直ぐに貫通する状態に蓋体５内の外縁寄りの位置に配置されており、蓋体５はラッチ機構７を内蔵するのに十分な厚みに形成されている。
【００１３】
蓋体５の内壁面（即ち裏側の面）には、一対のラッチ機構７が配置された肉厚の厚い部分の間の位置に凹部８が形成されて、その部分は蓋体５の厚みが薄くなっている。凹部８は、図１に示されるように、容器本体１の底面に対して垂直に保持された複数の半導体ウエハＷの外縁に上方から対向する状態に、蓋体５の中心線を挟んでその両側に均等な幅をとって形成され、底面が一定の深さの平面になっている。そして凹部８は、図２に示されるように複数の半導体ウエハＷの軸線に対して略平行方向に真っ直ぐに伸びて、図３に示されるように両端が各々シール材６の内側付近に隣接する大きさの長方形状に形成され、複数の半導体ウエハＷ全部の外縁に対向する大きさになっている。
【００１４】
そのような凹部８内には、容器本体１内に配置された一対のウエハ支持体２と協働して全部の半導体ウエハＷを上方から弾力的に押さえて固定するためのプラスチック材等からなるウエハ押さえ部材１０が配置されている。この実施の形態のウエハ押さえ部材１０は、図３に示されるように、凹部８の長手方向の中心線を挟んでその両側に分かれて一対配置されていて、自己の弾性又は蓋体５に形成された係止突起（図示せず）等により蓋体５に対して分離自在に係止されている。各ウエハ押さえ部材１０は、基部（図３において左右両端部）付近以外の部分が、ウエハ支持体２のウエハ支持溝３に対応して、スリット１１により半導体ウエハＷの面方向と平行方向に隙間をあけて細長く均等に分割されている。この実施の形態では、各ウエハ押さえ部材１０がスリット１１により２５分割されており、図２にその分割状態の断面が図示されている。
【００１５】
一対のウエハ押さえ部材１０は、図１に示されるように、蓋体５の内壁面に形成された凹部８内の空間を、各々が複数の半導体ウエハＷの軸線に対して略平行方向に伸びた三つの領域に仕切る形状に形成されている。具体的には、各ウエハ押さえ部材１０が、各々の基部寄り（図１において左右両端寄り）の半部で凹部８の底面との間に長方形状の空間を形成し、各々の先端寄りの半部どうしでさらに凹部８の底面との間に第３の空間を形成する形状に曲げて形成されている。各ウエハ押さえ部材１０の先端寄りの半部は半導体ウエハＷに触れる位置まで突出していて、そこに形成されたＶ状の断面形状のウエハ押さえ溝１２内に半導体ウエハＷが嵌められて（図２参照）、ウエハ押さえ部材１０が半導体ウエハＷに押し付けられて弾性変形した状態になっている。
【００１６】
そのようにしてウエハ押さえ部材１０で仕切られることにより凹部８に形成された三つの空間のうちの少なくとも一つの空間内には、所定の有機ガス成分を吸着する有機ガス用ケミカルフィルタ、所定の酸性ガス成分を吸着する酸性ガス用ケミカルフィルタ、及び所定のアルカリ性ガス成分を吸着するアルカリ性ガス用ケミカルフィルタのうちの少なくとも一種類のケミカルフィルタ２０が、略全範囲にわたって配置されている。この実施の形態においては、三つの全ての空間内のほぼ全範囲に各々ケミカルフィルタ２０が単に置かれた状態に配置されて、凹部８内からの離脱がウエハ押さえ部材１０によって凹部８の底面との隙間に挟持されることで規制されている。ウエハ押さえ部材１０には、各ケミカルフィルタ２０が配置された空間と半導体ウエハＷが配置された空間との間の通気を確保するための通気孔が略全域にわたって形成されている。具体的には、この実施の形態においては各ウエハ押さえ部材１０を分割するスリット１１が通気孔になっており、三つの空間のうち中央位置に位置する空間に対しては一対のウエハ押さえ部材１０どうしの間に位置する隙間も通気孔になっている。なお、ウエハ収納容器内の空気を循環させるためのファンモータその他の装置は一切設けられていない。
【００１７】
図４は、上述のように構成されたウエハ収納容器における半導体ウエハＷとケミカルフィルタ２０の配置のみを略示しており、酸性ガス用ケミカルフィルタ２０ｙとアルカリ性ガス用ケミカルフィルタ２０ｚが有機ガス用ケミカルフィルタ２０ｘを間にした位置関係で、三つのケミカルフィルタ２０ｘ，２０ｙ，２０ｚが同平面に並列に配置されている。このように有機ガス用ケミカルフィルタ２０ｘを間に位置させることで、酸性ガス用ケミカルフィルタ２０ｙとアルカリ性ガス用ケミカルフィルタ２０ｚとが相互に影響を与えることを防止することができる。なお、有機ガス用ケミカルフィルタ２０ｘ用のガス吸着剤としては例えば活性炭等を用いて、芳香族炭化水素、シロキサン成分、アルコール類、エステル類等の有機物よりなるガスを吸着除去することができる。活性炭は活性炭粉末を不織布等の中に入れたものを用いてもよいが、シート状に加工した活性炭シートを用いると便利である。活性炭シートとしては、繊維状活性炭そのものを不織布状にしたもの、又は不織布状のシートを形成する過程でこれに粉末の活性炭を添着したもの等を用いることができる。
【００１８】
酸性ガス用ケミカルフィルタ２０ｙ用のガス吸着剤としては、例えば活性炭に例えば炭酸カリウム等のアルカリ性化合物を混ぜた吸着剤を用いて、硝酸、硫酸、塩酸、リン酸等の酸性物質よりなるガスを吸着除去することができる。また、アルカリ性ガス用ケミカルフィルタ２０ｚ用のガス吸着剤としては、例えば活性炭に例えばリン酸等の酸性化合物を添着したものを用いて、アンモニア、アミン類等のアルカリ性物質よりなるガスを吸着除去することができる。
【００１９】
図５は、上述の実施の形態に係るウエハ収納容器内の汚染ガス除去の効果を確認するために行った実験の、ガスクロマトグラフィ質量分析装置による分析結果を示している。比較のために、ケミカルフィルタ２０が使用されない場合（図６）と、ケミカルフィルタ２０が半導体ウエハＷの面に対して平行に一か所に配置された場合（図７）についても同一条件にて実験を行った。なお、ウエハ収納容器は実験前に蓋体５を開いて有機濃度の高い室内（即ち、普通の建物の室内）に一週間保管し、クリーンルーム内で直径３０ｃｍの半導体ウエハＷ２５枚とケミカルフィルタ２０とをセットした。そして、蓋体５を閉じて三日間放置後に、テナックス管を用いてウエハ収納容器内の空気をサンプリングし、ガスクロマトグラフィ質量分析装置による分析を行った。その結果、上述の実施の形態に示したようにケミカルフィルタ２０（２０ｘ，２０ｙ，２０ｚ）を配置することにより、ウエハ収納容器内の汚染ガスが著しく減少することが確認された。このように、有機ガス用ケミカルフィルタ２０ｘ、酸性ガス用ケミカルフィルタ２０ｙ、及びアルカリ性ガス用ケミカルフィルタ２０ｚの三種類のケミカルフィルタ２０ｘ，２０ｙ，２０ｚを全て配置すれば汚染ガスの大半を吸着除去することができ、ウエハ収納容器の使用環境等に合わせて一つ又は複数のケミカルフィルタ２０を選択することで、効率的に汚染ガスを吸着除去することができる。
【００２０】
上述のようにしてウエハ収納容器内に配置される各ケミカルフィルタ２０は、気体は通過するが固形粒子は通過しない多孔質の膜状フィルタ（メンブレンフィルタ）で囲繞してその内側に封止するのが好ましい。そのようにすることで、ケミカルフィルタ２０を形成するガス吸着物質がケミカルフィルタ２０外に拡散することを防止することができると同時に、ガス吸着物質の吸着機能が空気中のガス以外の粒状物等によって劣化することを防止することができる。そのような膜状フィルタとしては、ＰＴＦＥやＰＦＡ等のような四フッ化エチレン樹脂系の多孔質フィルムを用いることができ、厚みを例えば０．０２〜０．０５ｍｍ程度と極めて薄く形成することができる。
【００２１】
図８は、そのような膜状フィルタ２１でケミカルフィルタ２０を囲繞して封止する状態を略示しており、ここでは三つに分割されたケミカルフィルタ２０が同一面に並べられて二枚の膜状フィルタ２１の間にサンドイッチ状に配置されている。三つのケミカルフィルタ２０は、同種のフィルタでもよいが異なる種類のフィルタであってもよい。そして、図９に示されるように、重ね合わされた二枚の膜状フィルタ２１を外縁部と各ケミカルフィルタ２０の間の部分とにおいて互いに融着することにより、ケミカルフィルタ２０が膜状フィルタ２１の内側に封止された状態になる。２２が融着部である。
【００２２】
図１０は、有機ガス用ケミカルフィルタ２０ｘと酸性ガス用ケミカルフィルタ２０ｙとアルカリ性ガス用ケミカルフィルタ２０ｚの三つのケミカルフィルタを、酸性ガス用ケミカルフィルタ２０ｙとアルカリ性ガス用ケミカルフィルタ２０ｚとで有機ガス用ケミカルフィルタ２０ｘを挟み込んだ状態に積層形成して配置した状態を略示している。このように三種類のケミカルフィルタ２０ｘ，２０ｙ，２０ｚを積層することにより面積効率が向上し、有機ガス用ケミカルフィルタ２０ｘを酸性ガス用ケミカルフィルタ２０ｙとアルカリ性ガス用ケミカルフィルタ２０ｚとの間に挟み込む配置にすることにより、酸性ガス用ケミカルフィルタ２０ｙとアルカリ性ガス用ケミカルフィルタ２０ｚとが相互に化学反応を起こすことを防止することができる。そして、この場合にも、図１１に示されるように、積層された三種類のケミカルフィルタ２０ｘ，２０ｙ，２０ｚを、気体は通過するが固形粒子は通過しない多孔質の膜状フィルタ２１で一まとめに囲繞して、図１２に示されるように膜状フィルタ２１の外縁部を全周にわたって融着するとよい。２２が融着部であり、その効果は前述の通りである。図１３に示されるように、三種類の各ケミカルフィルタ２０ｘ，２０ｙ，２０ｚを各々長手方向に複数に分割して、各分割片どうしを積層して膜状フィルタ２１内に封止するようにしてもよい。
【００２３】
なお、ケミカルフィルタ２０を凹部８内の分割された空間内に安定した状態に保持するために、図１４に示されるように、ケミカルフィルタ２０を囲繞する膜状フィルタ２１の外縁の融着部２２に沿って、例えば板状のプラスチック材からなる補強フレーム２５を設けてもよい。一対の補強フレーム２５で膜状フィルタ２１の融着部２２を挟み込む構成を採る場合には、きつく嵌まり合う係合ピン２６と係合孔２７を補強フレーム２５に形成しておくと容易に組み立てることができる。各補強フレーム２５には、ケミカルフィルタ２０が環境に暴露するように大きな開口が形成されている。ただし、二枚の補強フレーム２５のうち蓋体５の内壁に面する方の補強フレーム２５は、膜状フィルタ２１の全面に面する板状に形成しても差し支えない。
【００２４】
また、図１５に示されるように、ケミカルフィルタ２０を係止するためのフィルタ係止部２９を凹部８の壁面部に形成してもよく、図示は省略するが、同様のフィルタ係止部をウエハ押さえ部材１０側に形成してもよい。また、図１６に示されるように、凹部８の壁面とそれに対向する膜状フィルタ２１の外面のいずれか一方の側に、相手方に吸着する自己吸着層３０を設けて、ケミカルフィルタ２０が凹部８の壁面に対して着脱自在に吸着固定されるようにしてもよい。自己吸着層３０としては、多数の微細吸盤を有する多孔質弾性材料又は発泡性弾性材料等を用いることができる。具体的には、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム上にアクリル酸エステル共重合体からなる発泡アクリルラテックスを積層したものを用いることができ、発泡形成された微細な気泡が微細吸盤になる。
【００２５】
なお、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、例えばウエハ押さえ部材１０の形状等はどのようなものであってもよく、ウエハ支持体２と協働して複数の半導体ウエハＷを押さえて固定する機能を有していて、ケミカルフィルタ２０が配置された空間と半導体ウエハＷが配置された空間との間の通気を確保するための通気路が形成されているものであればよい。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明に係る第１の実施の形態におけるウエハ収納容器の縦断面図である。
【図２】本発明に係る第１の実施の形態におけるウエハ収納容器の図１におけるＡ−Ｏ−Ｂ断面のみの形状を示す端面図である。
【図３】本発明に係る第１の実施の形態におけるウエハ収納容器の蓋体側ユニットの背面図（図１における矢視Ｃ図）である。
【図４】本発明に係る第１の実施の形態におけるウエハ収納容器内のケミカルフィルタの配置状態を示す略示図である。
【図５】本発明に係る第１の実施の形態におけるウエハ収納容器による汚染ガス除去の効果を確認する実験後の残留ガスの分析結果を示す線図である。
【図６】本発明に係る第１の実施の形態におけるウエハ収納容器による汚染ガス除去の効果と対比するために、ケミカルフィルタを省いた場合の実験後の残留ガスの分析結果を示す線図である。
【図７】本発明に係る第１の実施の形態におけるウエハ収納容器による汚染ガス除去の効果と対比するために、ケミカルフィルタを半導体ウエハの面と平行に配置した場合の実験後の残留ガスの分析結果を示す線図である。
【図８】本発明に係る第２の実施の形態におけるケミカルフィルタの分解斜視図である。
【図９】本発明に係る第２の実施の形態におけるケミカルフィルタが膜状フィルタ内に封止された状態の斜視図である。
【図１０】本発明に係る第３の実施の形態におけるウエハ収納容器内のケミカルフィルタの配置状態を示す略示図である。
【図１１】本発明に係る第３の実施の形態におけるケミカルフィルタの分解斜視図である。
【図１２】本発明に係る第３の実施の形態におけるケミカルフィルタが膜状フィルタ内に封止された状態の斜視図である。
【図１３】本発明に係る第４の実施の形態におけるケミカルフィルタの分解斜視図である。
【図１４】本発明に係る第５の実施の形態におけるケミカルフィルタの補強構造の分解斜視図である。
【図１５】本発明に係る第６の実施の形態におけるケミカルフィルタの係止構造の略示断面図である。
【図１６】本発明に係る第７の実施の形態におけるケミカルフィルタの係止構造の略示断面図である。
【符号の説明】
【００２７】
１  容器本体
２  ウエハ支持体
５  蓋体
６  シール材
８  凹部
１０  ウエハ押さえ部材
１１  スリット（通気孔）
２０  ケミカルフィルタ
２０ｘ  有機ガス用ケミカルフィルタ
２０ｙ  酸性ガス用ケミカルフィルタ
２０ｚ  アルカリ性ガス用ケミカルフィルタ
２１  膜状フィルタ
２２  融着部
２５  補強フレーム
２９  フィルタ係止部
３０  自己吸着層
Ｗ  半導体ウエハ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
2008060297.tif 000013
【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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