(57)【要約】【課題】  高いコントラストと電圧保持率を両立させる、負の誘電異方性を示す液晶を利用したリバースタイプの高分子分散型液晶素子を提供する。【解決手段】  液晶材料及び高分子が相分離してなる複合層を具備し、該液晶材料が負の誘電異方性を示し、該高分子が紫外線硬化型材料の紫外線硬化により形成され、電圧無印加時には該液晶材料中の液晶分子が垂直配向する高分子分散型液晶素子において、該液晶材料の屈折率異方性が０．１０〜０．１８の範囲にある液晶素子を提供する。本願発明の表示素子は、高いコントラスト比と電圧保持率を両立できるので、TFTなどのアクティブ素子で駆動することが可能であり、優れた表示品位を有する情報ディスプレイを実現することができる。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶材料及び高分子が相分離してなる複合層を具備し、該液晶材料が負の誘電異方性を示し、該高分子が紫外線硬化型材料の紫外線硬化により形成され、電圧無印加時には該液晶材料中の液晶分子が垂直配向する高分子分散型液晶素子において、該液晶材料の屈折率異方性が０．１０〜０．１８の範囲にある液晶素子。
【請求項２】
紫外線硬化型材料が一般式（I）
【化１】
2008058374.tif 000016
（式中、A、B及びCはそれぞれ独立的に、1,4-フェニレン基、1,4-シクロヘキシレン基、1,4-シクロヘキセニル基、テトラヒドロピラン-2,5-ジイル基、1,3-ジオキサン-2,5-ジイル基、テトラヒドロチオピラン-2,5-ジイル基、1,4-ビシクロ(2,2,2)オクチレン基、デカヒドロナフタレン-2,6-ジイル基、ピリジン-2,5-ジイル基、ピリミジン-2,5-ジイル基、ピラジン-2,5-ジイル基、1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル基、2,6-ナフチレン基、フェナントレン-2,7-ジイル基、9,10-ジヒドロフェナントレン-2,7-ジイル基、1,2,3,4,4a,9,10a-オクタヒドロフェナントレン2,7-ジイル基、フルオレン2,7-ジイル基を表し、該1,4-フェニレン基、1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル基、2,6-ナフチレン基、フェナントレン-2,7-ジイル基、9,10-ジヒドロフェナントレン-2,7-ジイル基、1,2,3,4,4a,9,10a-オクタヒドロフェナントレン2,7-ジイル基及びフルオレン2,7-ジイル基は非置換であるか又は置換基として１個又は２個以上のF、Cl、CF3、OCF3又はCH3を有することができ、Y1、Y2はそれぞれ独立的に、単結合、-COO-、-OCO-、-CH＝N-、-N＝CH-、-C≡C-、-CH2CH2-、-CH2CH2CH2CH2-、-CH2CH2CH2O-、-OCH2CH2CH2-、-CH2O-、-OCH2-、-CF2O-、-OCF2-、-CH＝N-N＝CH-、-CF＝CF-、-CH＝CH-、-CH2CH2CH＝CH-、-CH＝CHCH2CH2-、-CH2CH＝CHCH2-、-CH=CHCOO-、-OCOCH=CH-、-CH2CH2COO-、-OCOCH2CH2-を表し、Y3は単結合、-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CH2-、-CH2O-、-OCH2-、-CONH-、-NHCO-、-CH2COO-又は-CH2OCO-を表し、Z1は炭素原子数1〜18のアルキル基、炭素原子数2〜18のアルケニル基、ハロゲン原子、CN、NCSを表し、該アルキル基又はアルケニル基は非置換であるか又は置換基として1個または2個以上のF、Cl、CN、CH3、又はCF3を有することができ、該アルキル基又はアルケニル基中に存在する1個または2個以上のCH2基は、O原子が相互に直接結合しないものとして、O、CO又はCOOで置換されていても良く、rは0または1を表す）を含有する請求項１記載の液晶素子。
【請求項３】
複合層における液晶の濃度が92〜96質量％である請求項１又は２に記載の液晶素子。
【請求項４】
液晶が一般式（II）
【化２】
2008058374.tif 000017
（式中、Rは炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子数2〜10のアルケニル基、ハロゲン原子、CN又はNCSを表し、該アルキル基、アルケニル基は非置換であるうか又は置換基として1個または2個以上のF、Cl、CN、CH3又はCF3を有することができ、該アルキル基又はアルケニル基中に存在する1個または2個以上のCH2基はO原子が相互に直接結合しないものとして、O、CO又はCOOで置換されていても良く、D及びEはそれぞれ独立的に、1,4-フェニレン基、1,4-シクロヘキシレン基、1,4-シクロヘキセニル基、テトラヒドロピラン-2,5-ジイル基、1,3-ジオキサン-2,5-ジイル基、テトラヒドロチオピラン-2,5-ジイル基、1,4-ビシクロ(2,2,2)オクチレン基、デカヒドロナフタレン-2,6-ジイル基、ピリジン-2,5-ジイル基、ピリミジン-2,5-ジイル基、ピラジン-2,5-ジイル基、1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル基、2,6-ナフチレン基、フェナントレン-2,7-ジイル基、9,10-ジヒドロフェナントレン-2,7-ジイル基、1,2,3,4,4a,9,10a-オクタヒドロフェナントレン2,7-ジイル基又はフルオレン2,7-ジイル基を表し、該1,4-フェニレン基、1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル基、2,6-ナフチレン基、フェナントレン-2,7-ジイル基、9,10-ジヒドロフェナントレン-2,7-ジイル基、1,2,3,4,4a,9,10a-オクタヒドロフェナントレン2,7-ジイル基及びフルオレン2,7-ジイル基は非置換であるか又は置換基として１個又は２個以上のF、Cl、CF3、OCF3又はCH3を有することができ、Y4及びY5はそれぞれ独立的に単結合、-COO-、-OCO-、-CH＝N-、-N＝CH-、-C≡C-、-CH2CH2-、-CH2CH2CH2CH2-、-CH2CH2CH2O-、-OCH2CH2CH2-、-CH2O-、-OCH2-、-CF2O-、-OCF2-、-CH＝N-N＝CH-、-CF＝CF-、-CH＝CH-、-CH2CH2CH＝CH-、-CH＝CHCH2CH2-、-CH2CH＝CHCH2-、-CH=CHCOO-、-OCOCH=CH-、-CH2CH2COO-又は-OCOCH2CH2-を表し、Y6は単結合、-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CH2-、-CH2O-、-OCH2-、-CONH-、-NHCO-、-CH2COO-又は-CH2OCO-を表し、Z1は炭素原子数1〜18のアルキル基、炭素原子数2〜18のアルケニル基、ハロゲン原子、CN又はNCSを表し、該アルキル基又はアルケニル基は非置換であるか又は置換基として1個または2個以上のF、Cl、CN、CH3、又はCF3を有することができ、該アルキル基又はアルケニル基中に存在する1個または2個以上のCH2基は、O原子が相互に直接結合しないものとして、O、CO又はCOOで置換されていても良く、qは0または1を表す。）で表される化合物を含有する請求項１から３の何れかに記載の液晶素子。
【請求項５】
液晶が一般式（III）
【化３】
2008058374.tif 000018
（式中、Rは炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子数2〜10のアルケニル基、ハロゲン原子、CN、NCSを表し、該アルキル基、アルケニル基は非置換であるうか又は置換基として1個または2個以上のF、Cl、CN、CH3、CF3を有することができ、該アルキル基又はアルケニル基中に存在する1個または2個以上のCH2基はO原子が相互に直接結合しないものとして、O、CO、COOで置換されていても良く、F、G及びHはそれぞれ独立的に、1,4-フェニレン基、1,4-シクロヘキシレン基、1,3-ジオキサン-2,5-ジイル基、ピリミジン-2,5-ジイル基を表し、Y7、Y8及びY9はそれぞれ独立的に、単結合、-COO-、-OCO-、-C≡C-、-CH2CH2-、-CH2CH2CH2CH2-、-CH2CH2CH2O-、-OCH2CH2CH2-、-CH2O-、-OCH2-、-CF2O-、-OCF2-、-CF＝CF-、-CH＝CH-、-CH2CH2CH＝CH-、-CH＝CHCH2CH2-、-CH2CH＝CHCH2-、-CH=CHCOO-、-OCOCH=CH-、-CH2CH2COO-、-OCOCH2CH2-を表し、Y10は単結合、-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CH2-、-CH2O-、-OCH2-、-CH2COO-又は-CH2OCO-を表し、Z3は炭素原子数1〜18のアルキル基、炭素原子数2〜18のアルケニル基、ハロゲン原子を表し、該アルキル基又はアルケニル基は非置換であるか又は置換基として1個または2個以上のF、Cl、CN、CH3、又はCF3を有することができ、該アルキル基又はアルケニル基中に存在する1個または2個以上のCH2基は、O原子が相互に直接結合しないものとして、O、CO又はCOOで置換されていても良く、r及びsは独立的に0又は1を表す。）で表される化合物を含有する請求項１から４の何れかに記載の液晶素子。
【請求項６】
誘電異方性が負の液晶材料と紫外線硬化型材料を混合した後に、液晶セルに注入して垂直配向させた後、紫外線を照射して紫外線硬化型材料を硬化させ液晶と高分子が相分離してなる複合層を形成することによる電圧無印加時には該液晶材料中の液晶分子が垂直配向する高分子分散型液晶素子の製造方法において、該液晶材料の屈折率異方性が０．１０〜０．１８の範囲にある当該方法。
【請求項７】
紫外線硬化型材料の硬化をメタルハライドランプを紫外線光源として行う請求項６記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は高分子分散型液晶素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示素子の一種である高分子分散型液晶素子は偏光板が必要無いために明るい表示が可能である。特許文献１は電圧を印加していない時には透明で、電圧を印加した時に光散乱するリバースモードタイプと呼ばれる高分子分散型液晶素子を開示している。これは液晶材料及び高分子が相分離してなる複合層を具備し、かつ該高分子が屈折率異方性（Δｎ）を有しており、該複合層に電圧が印加されていない状態では、液晶と高分子がほぼ揃って配向しているというものである。特に、液晶として負の誘電異方性を有する材料を用い、電圧無印加には液晶材料が垂直配向するような構成をとると、複合層を配向させるためのラビング処理が不要となり製造工程が簡素化される利点、また、紫外線に対する耐久性が向上するという利点があり、実用化が期待される。
【０００３】
このような液晶素子の作製方法は特許文献１に種々開示されているが、誘電異方性が負の液晶材料と紫外線硬化型材料を混合した後に、液晶セルに注入して垂直配向させた後、紫外線を照射して紫外線硬化型材料を硬化させることにより複合層を形成するのが簡素でコストや歩留まりの観点から最も有利な製造方法と考えられる。しかしながら、従来の高分子分散型液晶素子は、次のような理由からΔｎとして０．２以上比較的大きい値を有する液晶材料を用いて構成されていた。その理由として、Δｎが大きい液晶材料を用いた方が一般にコントラストを大きくすることができ、従来はΔｎが大きい材料を用いることによるコントラストの低下についての知見が不十分であったためと考えられる。
【０００４】
実際に特許文献１における負の誘電異方性の材料を用いた実施例（実施例１３〜１９、２９、３０）では、Δｎとして０．２の液晶材料を用いているため、電圧保持率と表示コントラストの両立は極めて困難であった。又、該引用文献にはΔｎが大きい方がコントラストを大きくすることができるという記述のみが記載され、硬化性とのトレードオフについての記述は無く、電圧保持率との関係も考慮した、好ましいΔｎの範囲についての記述も無い。
【０００５】
今日、液晶表示素子に多大な表示情報量の表示が求められるようになってきたことから、TFT（薄膜トランジスタ）などのアクティブ素子で駆動して画素数を確保する必要があり、高い電圧保持率の確保が必須である。しかしながら、負の誘電異方性の材料を用いたリバースタイプの高分子分散型液晶素子において、高い電圧保持率とコントラストを両立することは困難であり、このような表示素子の開発がのぞまれていた。
【０００６】
【特許文献１】特開平５−１１９３０２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
液晶材料及び高分子が相分離してなる複合層を具備し、該液晶材料が負の誘電異方性を示し、高分子が紫外線硬化型材料の紫外線硬化により形成され、かつ電圧無印加時には液晶材料が垂直配向する高分子分散型液晶素子において、高い電圧保持率とコントラストを両立した液晶素子を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本願発明者らは、紫外線硬化型材料及び液晶材料より構成される組成物について種々の検討を行ったところ、液晶材料のΔｎを液晶材料のΔｎを最適な範囲に設定することにより前述の課題を解決できることを見出した。すなわち、本願発明者らの知見によれば液晶材料のΔｎが大きくなるほど、紫外線硬化型材料の硬化性が悪化し、必要な紫外線照射エネルギーが増大する。製造時における紫外線照射エネルギーが大きくなると、液晶材料の劣化して電圧保持率の悪化を招く。逆に電圧保持率の悪化を防止するために、紫外線照射エネルギーを抑制すると、硬化が十分でなくなり、表示コントラストの低下を招く。液晶のΔｎが大きくなっても、紫外線硬化型材料の硬化性が変化しないものと仮定すれば、Δｎが大きくなるほど電圧印加時の光散乱が大きくなってコントラストも大きくなり好ましい。しかし、Δｎが大きい液晶は共役系が長軸方向に長くのびており、紫外波長域の吸収が大きくなる。液晶材料及び高分子が相分離してなる複合層を有する素子を得るためには、液晶及び紫外線硬化型材料の混合物を液晶セルに注入してから垂直配向させ、その状態で紫外線を照射して紫外線硬化型材料を硬化させる必要があるため、液晶自体に紫外波長域で吸収があれば、照射された紫外線が紫外線硬化型材料の硬化に有効に利用できなくなり、紫外線硬化型材料の硬化性が悪化する。硬化性が悪化するとコントラストが悪化する。このコントラスト悪化を防止しようとすると、液晶の劣化を招くほどの多量の紫外線照射が必要になってしまい、液晶が劣化すると結果として電圧保持率が悪化する。本願発明者らは種々の液晶材料を検討した結果、コントラストと電圧保持率の両立が達成できるΔｎが０．１０〜０．１８の範囲にあることを見いだし本願発明の完成に至った。
【０００９】
即ち、本発明は液晶材料及び高分子が相分離してなる複合層を具備し、該液晶材料が負の誘電異方性を示し、該高分子が紫外線硬化型材料の紫外線硬化により形成され、電圧無印加時には該液晶材料中の液晶分子が垂直配向する高分子分散型液晶素子において、該液晶材料の屈折率異方性が０．１０〜０．１８の範囲にある液晶素子を提供する。
【００１０】
更に、誘電異方性が負であり屈折率異方性が０．１０〜０．１８の範囲にある液晶材料と紫外線硬化型材料を混合した後に、液晶セルに注入して垂直配向させた後、紫外線を照射して紫外線硬化型材料を硬化させ液晶と高分子が相分離してなる複合層を形成することによる電圧無印加時には該液晶材料中の液晶分子が垂直配向する高分子分散型液晶素子の製造方法を併せて提供する。
【発明の効果】
【００１１】
本発明のリバースタイプの高分子分散型液晶は、高いコントラスト比と電圧保持率を両立させたものである。TFTなどのアクティブ素子で駆動できるので画素数が多い情報ディスプレイに応用可能であり、明るい表示が可能という特徴もあるため非常に有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
紫外線硬化型材料としては、紫外線の照射により硬化する材料であれば特に制限は無いが、素子としての信頼性を確保する観点からアクリレート材料が好ましい。液晶セル中に挟持させる組成物における紫外線硬化型材料の濃度は4〜8質量%が好ましく、5〜7質量%がさらに好ましい。液晶との組成物を液晶セル中に挟持させて垂直配向させることが製造条件上重要であるので、組成物としても液晶性を示すように棒状の液晶骨格を有するものが好ましい。このような観点から、液晶性アクリレートと分類される材料を使用することが特に好ましい。液晶性アクリレートには、負の誘電異方性を示す液晶との相溶性が良く、析出しにくいものが好ましい。液晶性アクリレートの化学構造は、本発明の液晶素子の電気光学特性に大きな影響を及ぼす。液晶性アクリレートとしては一般式（I）
【００１３】
【化１】
2008058374.tif 000002
【００１４】
（式中、A、B及びCはそれぞれ独立的に、1,4-フェニレン基、1,4-シクロヘキシレン基、1,4-シクロヘキセニル基、テトラヒドロピラン-2,5-ジイル基、1,3-ジオキサン-2,5-ジイル基、テトラヒドロチオピラン-2,5-ジイル基、1,4-ビシクロ(2,2,2)オクチレン基、デカヒドロナフタレン-2,6-ジイル基、ピリジン-2,5-ジイル基、ピリミジン-2,5-ジイル基、ピラジン-2,5-ジイル基、1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル基、2,6-ナフチレン基、フェナントレン-2,7-ジイル基、9,10-ジヒドロフェナントレン-2,7-ジイル基、1,2,3,4,4a,9,10a-オクタヒドロフェナントレン2,7-ジイル基、フルオレン2,7-ジイル基を表し、該1,4-フェニレン基、1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル基、2,6-ナフチレン基、フェナントレン-2,7-ジイル基、9,10-ジヒドロフェナントレン-2,7-ジイル基、1,2,3,4,4a,9,10a-オクタヒドロフェナントレン2,7-ジイル基及びフルオレン2,7-ジイル基は非置換であるか又は置換基として１個又は２個以上のF、Cl、CF3、OCF3又はCH3を有することができ、Y1、Y2はそれぞれ独立的に、単結合、-COO-、-OCO-、-CH＝N-、-N＝CH-、-C≡C-、-CH2CH2-、-CH2CH2CH2CH2-、-CH2CH2CH2O-、-OCH2CH2CH2-、-CH2O-、-OCH2-、-CF2O-、-OCF2-、-CH＝N-N＝CH-、-CF＝CF-、-CH＝CH-、-CH2CH2CH＝CH-、-CH＝CHCH2CH2-、-CH2CH＝CHCH2-、-CH=CHCOO-、-OCOCH=CH-、-CH2CH2COO-、-OCOCH2CH2-を表し、Y3は単結合、-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CH2-、-CH2O-、-OCH2-、-CONH-、-NHCO-、-CH2COO-又は-CH2OCO-を表し、Z1は炭素原子数1〜18のアルキル基、炭素原子数2〜18のアルケニル基、ハロゲン原子、CN、NCSを表し、該アルキル基又はアルケニル基は非置換であるか又は置換基として1個 又は2個以上のF、Cl、CN、CH3、又はCF3を有することができ、該アルキル基又はアルケニル基中に存在する1個 又は2個以上のCH2基は、O原子が相互に直接結合しないものとして、O、CO又はCOOで置換されていても良く、rは0又は1を表す。）
【００１５】
で表される化合物を含有することが好ましい。このような材料を用いると、駆動電圧及びヒステリシスを低減することが可能である。式中、A、B及びCとしては、独立的に1,4-フェニレン基、1,4-シクロヘキシレン基を選択するのが好ましく、Y1及びY2はそれぞれ独立的に、単結合、-C≡C-を選択するのが好ましく、Y3は単結合、-O-が好ましく、Z1は炭素原子数1〜5のアルキル基が好ましい。本発明の液晶素子においては、加水分解をうけるような化学構造は極力避けることが好ましい。本発明の液晶素子を、特性を均一に安定に製造するためには、負の誘電異方性を示す液晶と紫外線硬化型材料の組成物が、紫外線を照射する際の温度において結晶化しないことが重要である。この観点から、一般式（I）で表される化合物のうち、rは0が好ましく、Y3は単結合が好ましく、Z1は炭素原子数1〜5のアルキル基が好ましく、炭素原子数2〜5のアルキル基がさらに好ましく、炭素原子数3〜5のアルキル基が特に好ましい。一般式（Ｉ）の具体例を式（Ｉ−１）〜（Ｉ−１７）に挙げる。
【００１６】
【化２】
2008058374.tif 000003
【００１７】
紫外線硬化材料中における一般式（I）で表される化合物の濃度は70質量%以上が好ましく、75質量%以上がさらに好ましく、80質量%以上が特に好ましい。
この他にも液晶性アクリレートとしては、分子中に2つ以上のアクリロイルオキシ基を有するものを使用しても良い。このような化合物を利用すると、本発明の液晶素子の耐熱性を向上させることができる。
このような液晶性アクリレートの具体例を一般式（D-1）〜（D-7）に挙げる。
【００１８】
【化３】
2008058374.tif 000004
【００１９】
（式中、t及びuは独立的に2〜12の整数を表し、s及びvは独立的に0 又は1を表す。）
本発明の液晶素子の電圧印加時における光散乱を大きくし、コントラストを確保する観点から、上記式のt及びuは独立して2〜3であることが好ましい。また負の誘電異方性を示す液晶と紫外線硬化型材料の組成物が、紫外線を照射する際の温度において結晶化しないことが安定的に素子を製造するのに重要であるという観点から、化合物（D-4）は有用である。化合物（D-4）を用いると析出しにくく、有用である。
【００２０】
負の誘電異方性を示す液晶としては、温度２５℃で波長５８９ｎｍにおけるΔｎが０．１０〜０．１８の範囲にあることが必要である。高い電圧保持率をより重視する場合には、Δｎとして０．１０〜０．１６５として紫外線型硬化材料の硬化に必要な紫外線照射エネルギー量を低減することが好ましく、Δｎとして０．１０〜０．１５５とするのがより好ましく、０．１０〜０．１４５とするのが特に好ましい。
【００２１】
また、高い電圧保持率を確保する観点から、液晶にはシアノ基を有する化合物は含まない方が好ましい。負の誘電異方性を実現するための化合物としては、極性基としては分子短軸方向にF原子を有する化合物を使用することが好ましい。
このような化合物としては、一般式（II）
【００２２】
【化４】
2008058374.tif 000005
【００２３】
（式中、Rは炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子数2〜10のアルケニル基、ハロゲン原子、CN又はNCSを表し、該アルキル基、アルケニル基は非置換であるうか又は置換基として1個 又は2個以上のF、Cl、CN、CH3又はCF3を有することができ、該アルキル基又はアルケニル基中に存在する1個 又は2個以上のCH2基はO原子が相互に直接結合しないものとして、O、CO又はCOOで置換されていても良く、D及びEはそれぞれ独立的に、1,4-フェニレン基、1,4-シクロヘキシレン基、1,4-シクロヘキセニル基、テトラヒドロピラン-2,5-ジイル基、1,3-ジオキサン-2,5-ジイル基、テトラヒドロチオピラン-2,5-ジイル基、1,4-ビシクロ(2,2,2)オクチレン基、デカヒドロナフタレン-2,6-ジイル基、ピリジン-2,5-ジイル基、ピリミジン-2,5-ジイル基、ピラジン-2,5-ジイル基、1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル基、2,6-ナフチレン基、フェナントレン-2,7-ジイル基、9,10-ジヒドロフェナントレン-2,7-ジイル基、1,2,3,4,4a,9,10a-オクタヒドロフェナントレン2,7-ジイル基又はフルオレン2,7-ジイル基を表し、該1,4-フェニレン基、1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル基、2,6-ナフチレン基、フェナントレン-2,7-ジイル基、9,10-ジヒドロフェナントレン-2,7-ジイル基、1,2,3,4,4a,9,10a-オクタヒドロフェナントレン2,7-ジイル基及びフルオレン2,7-ジイル基は非置換であるか又は置換基として１個又は２個以上のF、Cl、CF3、OCF3又はCH3を有することができ、Y4及びY5はそれぞれ独立的に単結合、-COO-、-OCO-、-CH＝N-、-N＝CH-、-C≡C-、-CH2CH2-、-CH2CH2CH2CH2-、-CH2CH2CH2O-、-OCH2CH2CH2-、-CH2O-、-OCH2-、-CF2O-、-OCF2-、-CH＝N-N＝CH-、-CF＝CF-、-CH＝CH-、-CH2CH2CH＝CH-、-CH＝CHCH2CH2-、-CH2CH＝CHCH2-、-CH=CHCOO-、-OCOCH=CH-、-CH2CH2COO-又は-OCOCH2CH2-を表し、Y6は単結合、-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CH2-、-CH2O-、-OCH2-、-CONH-、-NHCO-、-CH2COO-又は-CH2OCO-を表し、Z1は炭素原子数1〜18のアルキル基、炭素原子数2〜18のアルケニル基、ハロゲン原子、CN又はNCSを表し、該アルキル基又はアルケニル基は非置換であるか又は置換基として1個 又は2個以上のF、Cl、CN、CH3、又はCF3を有することができ、該アルキル基又はアルケニル基中に存在する1個 又は2個以上のCH2基は、O原子が相互に直接結合しないものとして、O、CO又はCOOで置換されていても良く、qは0 又は1を表す。）で表される化合物が好ましい。
【００２４】
このような化合物の中でも、Rは炭素原子数2〜6のアルキル基、炭素原子数2〜6のアルケニル基が好ましく、D及びEはそれぞれ独立的に、1,4-フェニレン基又は1,4-シクロヘキシレン基が好ましく、1,4-シクロヘキシレン基がさらに好ましく、Y4は単結合が好ましく、Y5はそれぞれ独立的に単結合、-CH2CH2-又は-CH2CH2CH2CH2-が好ましく、-CH2CH2-がさらに好ましい。Y6は単結合又は-O-が好ましく、Z1は炭素原子数1〜4のアルキル基又は炭素原子数2〜4のアルケニル基が好ましい。一般式（II）で表される化合物は、分子中に短軸方向に3つのF原子を有しており、濃度が低くても誘電異方性の絶対値を大きくすることができ、駆動電圧を有効に低減することができる。
一般式（II）で表される化合物の具体例を式（II-1）〜（II-7）に挙げる。
【００２５】
【化５】
2008058374.tif 000006
【００２６】
負の誘電異方性を有する液晶中における一般式（II）で表される化合物の濃度は40質量%以上が好ましく、45質量%以上がさらに好ましく、50質量%以上が特に好ましい。一般式（II）の濃度が高いほど、素子としての駆動電圧を低減することができる。
このような化合物としては、一般式（III）
【００２７】
【化６】
2008058374.tif 000007
【００２８】
（式中、Rは炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子数2〜10のアルケニル基、ハロゲン原子、CN、NCSを表し、該アルキル基、アルケニル基は非置換であるうか又は置換基として1個 又は2個以上のF、Cl、CN、CH3、CF3を有することができ、該アルキル基又はアルケニル基中に存在する1個 又は2個以上のCH2基はO原子が相互に直接結合しないものとして、O、CO、COOで置換されていても良く、F、G及びHはそれぞれ独立的に、1,4-フェニレン基、1,4-シクロヘキシレン基、1,3-ジオキサン-2,5-ジイル基、ピリミジン-2,5-ジイル基を表し、Y7、Y8及びY9はそれぞれ独立的に、単結合、-COO-、-OCO-、-C≡C-、-CH2CH2-、-CH2CH2CH2CH2-、-CH2CH2CH2O-、-OCH2CH2CH2-、-CH2O-、-OCH2-、-CF2O-、-OCF2-、-CF＝CF-、-CH＝CH-、-CH2CH2CH＝CH-、-CH＝CHCH2CH2-、-CH2CH＝CHCH2-、-CH=CHCOO-、-OCOCH=CH-、-CH2CH2COO-、-OCOCH2CH2-を表し、Y10は単結合、-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CH2-、-CH2O-、-OCH2-、-CH2COO-又は-CH2OCO-を表し、Z3は炭素原子数1〜18のアルキル基、炭素原子数2〜18のアルケニル基、ハロゲン原子を表し、該アルキル基又はアルケニル基は非置換であるか又は置換基として1個 又は2個以上のF、Cl、CN、CH3、又はCF3を有することができ、該アルキル基又はアルケニル基中に存在する1個 又は2個以上のCH2基は、O原子が相互に直接結合しないものとして、O、CO又はCOOで置換されていても良く、r及びsは独立的に0 又は1を表す。）で表される化合物もまた好ましい。
【００２９】
一般式（III）で表される化合物の中でも、Rは炭素原子数2〜6のアルキル基、炭素原子数2〜6のアルケニル基が好ましく、F、G及びHはそれぞれ独立的に、1,4-フェニレン基又は1,4-シクロヘキシレン基が好ましく、Y7、Y8及びY9は単結合はそれぞれ独立的に単結合、-CH2CH2-が好ましく、Y10は単結合又は-O-が好ましく、Z3は炭素原子数1〜6のアルキル基又は炭素原子数2〜6のアルケニル基が好ましい。
一般式（III）で表される化合物として具体的には、一般式（III-1）〜（III-5）の化合物を挙げることができる。
【００３０】
【化７】
2008058374.tif 000008
【００３１】
(R1及びR2は独立的に炭素原子数1〜6のアルキル基、アルコキシ基、炭素原子数2〜6のアルケニル基又はアルケニルオキシ基を表す。）
負の誘電異方性を示す液晶はネマチック相を示すことが好ましい。ネマチック相の下限温度は結晶相又は0℃以下が好ましく、-10℃以下がさらに好ましく、-20℃以下が特に好ましい。また、ネマチック相の上限温度は70℃以上が好ましく、80℃以上がさらに好ましく、90℃以上が特に好ましい。25℃における粘度は150mPa・s以下が好ましく、55mPa・s以下がさらに好ましく、35 mPa・s以下が特に好ましい。負の誘電異方性を示す液晶をセル厚5μｍの垂直配向セルに注入し、パルス幅64マイクロ秒、フレームタイム20ミリ秒で印加電圧5Vを印加した際のフレームタイム後の電圧V’と初期印加電圧V0の比に100を乗じた値を電圧保持率とした時、50℃における電圧保持率は98%以上となるような液晶を使用することが好ましい。負の誘電異方性Δεは、-3以下が好ましく、-4以下がさらに好ましく、-5以下が特に好ましい。また、負の誘電異方性を示す液晶化合物中に含有されるアルケニル基を有する化合物の濃度は40質量%以下が好ましい。含有されるアルケニル化合物の濃度が高いと、紫外線硬化型材料の硬化性が悪化する傾向がある。
【００３２】
負の誘電異方性を示す液晶及び紫外線硬化型材料を含有する組成物は、ネマチック液晶を示すことが好ましい。このようにすると、液晶セル中に挟持させた時に均一な垂直配向状態を得ることができる。この組成物中には、紫外線照射による紫外線硬化型材料の硬化を円滑に行うことを目的として、光重合開始剤を添加することが好ましい。光重合開始剤としては、ベンゾインエーテル類、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、ベンジルケタール類、アシルフォスフィンオキサイド等が挙げられる。本発明の液晶素子の保持率を確保するためには、ベンジルケタール類、もしくはアシルフォスフィンオキサイド類を使用することが好ましい。ベンジルケタール類としてはイルガキュア651（チバスペシャリティケミカルズ製）が好ましく、紫外線硬化型材料に対して1〜4質量%の濃度で添加することが好ましい。アシルフォスフィンオキサイド類としてはルシリンTPO（BASF製）が好ましく、紫外線硬化型材料に対して0.2〜１質量%の濃度で添加することが好ましい。さらに、この組成物中には、保存安定性の向上を図るために安定剤を添加しても良い。使用できる安定剤としては、例えば、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノアルキルエーテル類、第三ブチルカテコール類、ピロガロール類、チオフェノール類、ニトロ化合物類、β-ナフチルアミン類、β-ナフトール類、ニトロソ化合物等が挙げられる。添加量は、紫外線硬化型材料に対して0.005〜1質量%の範囲が好ましく、0.02〜0.5質量%がさらに好ましく、0.03〜0.1質量%が特に好ましい。
【００３３】
液晶セルはTFT（薄膜トランジスタ）などのアクティブ駆動素子が形成されているものを使用することが好ましい。セル内面に垂直配向膜を形成しておけば、負の誘電異方性を示す液晶と紫外線硬化型材料を含有する組成物を挟持させるだけで、垂直配向状態を得ることができる。垂直配向膜としては、炭素原子数4以上のアルキル基、アルキル基の水素原子がF原子により一部置換されたフルオロアルキル基を有するシランカップリング剤の薄膜や、ポリイミド系の薄膜を使用することができ、ポリイミド系の薄膜を使用するのが好ましい。
【００３４】
セルギャップは電圧印加時において必要とする光散乱の強度によって調節するのが良いが、一般に5〜15μｍが好ましく、6〜13μｍがさらに好ましく、7〜11μｍが特に好ましい。
【００３５】
本願発明の高分子分散型液晶素子の製造において、紫外線硬化型材料の硬化は紫外線の照射により行う。紫外線光源としては、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ等があるが、メタルハライドランプを使用するのが好ましい。好ましい光重合開始剤として上述した材料は、感度波長域がおよそ350〜380nmの領域にある。このような領域で、1〜数箇所に鋭い輝線スペクトルを有する光源よりも、幅広く、まんべんなくエネルギー強度を有する光源を使用する方が、紫外線硬化型材料の硬化性が良い傾向が得られる。紫外線照射の強度は0.5〜100mW/cm2が好ましく、1〜20mW/cm2がさらに好ましく、2〜10mW/cm2が特に好ましい。強度としては弱い方が、製造した液晶素子の駆動電圧とヒステリシスが小さくなる傾向があり好ましい。紫外線照射エネルギー量としては500〜3000mJ/cm2が好ましく、600〜2500mJ/cm2がさらに好ましく、700〜2000mJ/cm2が特に好ましい。このような範囲内で、作製した液晶素子の電圧保持率（作製した液晶素子にパルス幅64マイクロ秒、フレームタイム20ミリ秒で素子の最高印加電圧を印加した際のフレームタイム後の電圧V’と初期印加電圧V0の比に100を乗じた値）の25℃における値が98%以上となるように、紫外線照射強度とエネルギー量を調節することが好ましい。
【００３６】
紫外線の照射は液晶セル平面に対して、片側から行っても両側から行っても良いが、液晶素子の焼き付きを防止する観点から、両側から行うのが好ましい。液晶セルの構造は、アクティブ素子やカラーフィルターの位置や有無により、両面とも照射される紫外線に対する透過率が同等では無い。実験的に、液晶セル内に挟持された紫外線硬化型材料が両面から同じ速度で硬化するように、両側の紫外線照射強度を調節するのが好ましい。片面もしくは両面からの照射のいずれにしても、紫外線強度の面内均一性は重要であり、面内における強度の最高値と最小値の差は10%以内が好ましく、5%以内がさらに好ましく、3%以内が特に好ましい。強度の均一性が良好でないと、得られる液晶素子の電気光学特性が面内でばらついてしまう危険がある。また、紫外線照射による液晶の劣化を防止する目的で、硬化に関与するも短波長の紫外線を減衰されるフィルターを使用することも好ましい。紫外線を照射する際には、液晶セルの温度を一定に制御することが好ましい。紫外線の照射に伴い温度が上昇することが重要である。温度としては10〜25℃の範囲で一定値を選択するのが好ましい。
得られた液晶素子は、光散乱フィルムなどの他の光学部材と組み合わせて使用しても良い。
【実施例】
【００３７】
（実施例１）  液晶素子の作製（１）
負の誘電異方性を示す液晶（L-1）
【００３８】
【化８】
2008058374.tif 000009
【００３９】
を調製した（%は質量%を表す）。液晶（L-1）のネマチック液晶下限温度は-33℃、ネマチック上限温度は81℃、20℃における粘度は32.7mPa・s、温度25℃で波長589nmにおけるΔｎは0.135であった。またΔεは-3.7であった。この液晶（L-1)をセル厚5μｍの垂直配向セルに注入し、パルス幅64マイクロ秒、フレームタイム20ミリ秒で印加電圧5Vを印加した際のフレームタイム後の電圧V’と初期印加電圧V0の比に100を乗じた値を電圧保持率とした時、50℃における電圧保持率は98.2%であった。
紫外線硬化性材料（A-1）
【００４０】
【化９】
2008058374.tif 000010
【００４１】
を調製した（%は質量%を表す）。この（A-1）は室温でネマチック相を示した。この（A-1）に対して光重合開始剤イルガキュア651（チバスペシャリティケミカルズ製）を2質量%、4-メトキシフェノールを0.05%添加して、紫外線硬化性材料（A-1’）を調製した。
負の誘電異方性を示す液晶（L-1）が94質量%、紫外線硬化性材料（A-1’）が6質量%からなる組成物（M-1）を調製した。この組成物（M-1）は室温でネマチック相を示した。
【００４２】
10μｍの間隔で対向する2組の透明電極上に、垂直配向膜材料JALS-204（JSR製）が約100nmの厚みで形成されたガラス製液晶セルを用意した。この液晶セルに、室温で組成物（M-1）を注入した。注入して10分後、組成物（M-1）は均一に垂直配向していることが確認できた。この液晶セルを10℃に冷却し、均一な垂直配向状態が保たれていることを確認してから、紫外線光源としてメタルハライドランプを用いて、強度5.4mW/cm2で240秒間照射した（計1296mJ/cm2のエネルギー量）。紫外線照射後、液晶セルを室温に戻して観察したところ、光散乱は観察されず、また、液晶（L-1）は垂直配向を保っていることが確認できた。
【００４３】
この液晶セルに1kHzの正弦波を印加したところ、電圧の上昇に伴い、光散乱が増加していくことが確認できた。図１に印加電圧−透過率特性を示す。電圧無印加時の透過率は87%で、14V印加した時に最も光散乱が大きくなり透過率は15%となった（コントラスト比は5.8）。電圧無印加から14Vの電圧を印加した時の応答は83ミリ秒、14Vの電圧印加から電圧無印加にした時の応答は147ミリ秒であった。
作製した液晶素子の電圧保持率（液晶素子にパルス幅64マイクロ秒、フレームタイム20ミリ秒で14Vの電圧を印加した際のフレームタイム後の電圧V’と初期印加電圧V0の比に100を乗じた値）の25℃における値は98.9%であった。
（実施例２）  液晶素子の作製（２）
液晶（L-1)が94質量%、紫外線硬化性材料（A-2）
【００４４】
【化１０】
2008058374.tif 000011
【００４５】
が5.9質量%、光重合開始剤イルガキュア651が0.1質量%からなる組成物（M-2）を調製した。この組成物（M-2）は室温でネマチック相を示した。
実施例１で使用したものと同じセルギャップが10μｍの垂直配向膜付きガラスセルに、室温で組成物（M-2）を注入した。注入して10分後、組成物（M-1）は均一に垂直配向していることが確認できた。この液晶セルを10℃に冷却し、均一な垂直配向状態が保たれていることを確認してから、紫外線光源としてメタルハライドランプを用いて、強度2.4mW/cm2で560秒間照射した（計1344mJ/cm2のエネルギー量）。紫外線照射後、液晶セルを室温に戻して観察したところ、光散乱は観察されず、また、液晶（L-1）は垂直配向を保っていることが確認できた。
この液晶セルに1kHzの正弦波を印加したところ、電圧の上昇に伴い、光散乱が増加していくことが確認できた。電圧無印加時の透過率は91%で、10V印加した時に最も光散乱が大きくなり透過率は18%となった（コントラスト比は5.1）。
【００４６】
作製した液晶素子の電圧保持率（液晶素子にパルス幅64マイクロ秒、フレームタイム20ミリ秒で10Vの電圧を印加した際のフレームタイム後の電圧V’と初期印加電圧V0の比に100を乗じた値）の25℃における値は99.0%であった。
（実施例３）  液晶素子の作製（３）
負の誘電異方性を示す液晶（L-2）
【００４７】
【化１１】
2008058374.tif 000012
【００４８】
を調製した（%は質量%を表す）。液晶（L-2）の温度25℃で波長589nmにおけるΔｎは0.157であった。
この液晶（L-2）をセル厚5μｍの垂直配向セルに注入し、パルス幅64マイクロ秒、フレームタイム20ミリ秒で印加電圧5Vを印加した際のフレームタイム後の電圧V’と初期印加電圧V0の比に100を乗じた値を電圧保持率とした時、50℃における電圧保持率は98.2%であった。
【００４９】
負の誘電異方性を示す液晶（L-2）が94質量%、紫外線硬化性材料（A-1’）が6質量%からなる組成物（M-3）を調製した。この組成物（M-3）は室温でネマチック相を示した。
実施例１で使用したものと同じセルギャップが10μｍの垂直配向膜付きガラスセルに、室温で組成物（M-3）を注入した。注入して10分後、組成物（M-3）は均一に垂直配向していることが確認できた。この液晶セルを10℃に冷却し、均一な垂直配向状態が保たれていることを確認してから、紫外線光源としてメタルハライドランプを用いて、強度5.4mW/cm2で240秒間照射した（計1296mJ/cm2のエネルギー量）。紫外線照射後、液晶セルを室温に戻して観察したところ、光散乱は観察されず、また、液晶（L-2）は垂直配向を保っていることが確認できた。
この液晶セルに1kHzの正弦波を印加したところ、電圧の上昇に伴い、光散乱が増加していくことが確認できた。電圧無印加時の透過率は86%で、16V印加した時に最も光散乱が大きくなり透過率は15%となった（コントラスト比は5.7）。
【００５０】
作製した液晶素子の電圧保持率（液晶素子にパルス幅64マイクロ秒、フレームタイム20ミリ秒で16Vの電圧を印加した際のフレームタイム後の電圧V’と初期印加電圧V0の比に100を乗じた値）の25℃における値は98.6%であった。
（比較例１）  液晶素子の作製（４）
液晶（L-1)が94質量%、紫外線硬化性材料（HX-220）（日本化薬株式会社製）
【００５１】
【化１２】
2008058374.tif 000013
が5.9質量%、光重合開始剤イルガキュア651が0.1質量%からなる組成物（M-4）を調製した。
【００５２】
実施例１で使用したものと同じセルギャップが10μｍの垂直配向膜付きガラスセルに、室温で組成物（M-4）を注入した。注入して10分後、組成物（M-1）はほぼ均一に垂直配向していることが確認できた。この液晶セルを10℃に冷却し、ほぼ均一な垂直配向状態が保たれていることを確認してから、紫外線光源としてメタルハライドランプを用いて、強度2.4mW/cm2で560秒間照射した（計1344mJ/cm2のエネルギー量）。紫外線照射後、液晶セルを室温に戻して観察したところ、光散乱は観察されず、また、液晶（L-1）は、ほぼ均一な垂直配向を保っていることが確認できた。
この液晶セルに1kHzの正弦波を印加したところ、電圧の上昇に伴い、光散乱が増加していくことが確認できた。電圧無印加時の透過率は85%で、14V印加した時に最も光散乱が大きくなり透過率は41%となった（コントラスト比は2.1）。
【００５３】
作製した液晶素子の電圧保持率（液晶素子にパルス幅64マイクロ秒、フレームタイム20ミリ秒で14Vの電圧を印加した際のフレームタイム後の電圧V’と初期印加電圧V0の比に100を乗じた値）の25℃における値は98.7%であった。
【００５４】
本比較例から、紫外線硬化性材料として液晶性アクリレートで無いものを使用すると、配向の均一性が悪化すること、液晶素子としての電圧保持率は高いものの、コントラストが大幅に悪化してしまうことがわかる。
（比較例２）  液晶素子の作製（５）
負の誘電異方性を示す液晶（L-3）
【００５５】
【化１３】
2008058374.tif 000014
【００５６】
を調製した（%は質量%を表す）。液晶（L-3）の温度25℃で波長589nmにおけるΔｎは0.08であった。
この液晶（L-3）をセル厚5μｍの垂直配向セルに注入し、パルス幅64マイクロ秒、フレームタイム20ミリ秒で印加電圧5Vを印加した際のフレームタイム後の電圧V’と初期印加電圧V0の比に100を乗じた値を電圧保持率とした時、50℃における電圧保持率は98.9%であった。
【００５７】
負の誘電異方性を示す液晶（L-3）が94質量%、紫外線硬化性材料（A-1’）が6質量%からなる組成物（M-5）を調製した。この組成物（M-5）は室温でネマチック相を示した。
実施例１で使用したものと同じセルギャップが10μｍの垂直配向膜付きガラスセルに、室温で組成物（M-5）を注入した。注入して10分後、組成物（M-4）は均一に垂直配向していることが確認できた。この液晶セルを10℃に冷却し、均一な垂直配向状態が保たれていることを確認してから、紫外線光源としてメタルハライドランプを用いて、強度5.4mW/cm2で240秒間照射した（計1296mJ/cm2のエネルギー量）。紫外線照射後、液晶セルを室温に戻して観察したところ、光散乱は観察されず、また、液晶（L-3）は垂直配向を保っていることが確認できた。
この液晶セルに1kHzの正弦波を印加したところ、電圧の上昇に伴い、光散乱が増加していくことが確認できた。電圧無印加時の透過率は88%で、15V印加した時に最も光散乱が大きくなり透過率は21%となった（コントラスト比は4.2）。
【００５８】
作製した液晶素子の電圧保持率（液晶素子にパルス幅64マイクロ秒、フレームタイム20ミリ秒で15Vの電圧を印加した際のフレームタイム後の電圧V’と初期印加電圧V0の比に100を乗じた値）の25℃における値は98.8%であった。
【００５９】
本比較例から、液晶のΔｎが0.13以下になると、液晶素子としての電圧保持率は高いものの、コントラストが悪化してしまうことがわかる。
（比較例３）  液晶素子の作製（６）
負の誘電異方性を示す液晶（L-4）
【００６０】
【化１４】
2008058374.tif 000015
【００６１】
を調製した（%は質量%を表す）。液晶（L-4）の温度25℃で波長589nmにおけるΔｎは0.20であった。
この液晶（L-4）をセル厚5μｍの垂直配向セルに注入し、パルス幅64マイクロ秒、フレームタイム20ミリ秒で印加電圧5Vを印加した際のフレームタイム後の電圧V’と初期印加電圧V0の比に100を乗じた値を電圧保持率とした時、50℃における電圧保持率は98.0%であった。
【００６２】
負の誘電異方性を示す液晶（L-4）が94質量%、紫外線硬化性材料（A-1’）が6質量%からなる組成物（M-6）を調製した。この組成物（M-6）は室温でネマチック相を示した。
実施例１で使用したものと同じセルギャップが10μｍの垂直配向膜付きガラスセルに、室温で組成物（M-6）を注入した。注入して10分後、組成物（M-6）は均一に垂直配向していることが確認できた。この液晶セルを10℃に冷却し、均一な垂直配向状態が保たれていることを確認してから、紫外線光源としてメタルハライドランプを用いて、強度5.4mW/cm2で240秒間照射した（計1296mJ/cm2のエネルギー量）。紫外線照射後、液晶セルを室温に戻して観察したところ、光散乱は観察されず、また、液晶（L-4）は垂直配向を保っていることが確認できた。
この液晶セルに1kHzの正弦波を印加したところ、電圧の上昇に伴い、光散乱が増加していくことが確認できた。電圧無印加時の透過率は87%で、14V印加した時に最も光散乱が大きくなり透過率は56%となった（コントラスト比は1.6）。
【００６３】
作製した液晶素子の電圧保持率（液晶素子にパルス幅64マイクロ秒、フレームタイム20ミリ秒で14Vの電圧を印加した際のフレームタイム後の電圧V’と初期印加電圧V0の比に100を乗じた値）の25℃における値は98.2%であった。
本比較例から、液晶のΔｎが0.16以上になると、紫外線硬化型材料の硬化性が悪化して、コントラストの低下を招くことがわかる。
【００６４】
（比較例４）  液晶素子の作製（７）
、強度5.4mW/cm2で3600秒間照射した（計19440mJ/cm2のエネルギー量）以外は、比較例３と同様にして液晶素子を作製した。この液晶セルに1kHzの正弦波を印加したところ、電圧の上昇に伴い、光散乱が増加していくことが確認できた。電圧無印加時の透過率は87%で、19V印加した時に最も光散乱が大きくなり透過率は20%となった（コントラスト比は4.4）。
【００６５】
作製した液晶素子の電圧保持率（液晶素子にパルス幅64マイクロ秒、フレームタイム20ミリ秒で19Vの電圧を印加した際のフレームタイム後の電圧V’と初期印加電圧V0の比に100を乗じた値）の25℃における値は86.5%であった。
【００６６】
本比較例から、液晶のΔｎが0.16以上になると、紫外線硬化型材料の硬化性が悪化するため、コントラストを確保しようとすると、多大な紫外線エネルギー照射量が必要になることがわかる。これにより、液晶が劣化し、液晶素子の保持率が悪化してしまうことがわかる。
【図面の簡単な説明】
【００６７】
【図１】実施例１の液晶素子の電圧-透過率特性
【図１】
2008058374.tif 000019