(57)【要約】【課題】潤滑剤として好適に使用可能な炭酸エステルを提供すること。また、前記炭酸エステルを用い、低温環境下での耐久性及び保存安定性に優れた磁気記録媒体を提供すること。【解決手段】式（１）で表され、融点が０℃以下であることを特徴とする炭酸エステル。Ｒ1がβ位にて分岐した構造であることが好ましく、Ｒ2が炭素数１２以上１６以下の直鎖構造であることが好ましい。2008239575.tif 000013（式（１）中、Ｒ1及びＲ2は、それぞれ独立に飽和炭化水素基を表し、Ｒ1は分岐鎖、Ｒ2は直鎖又は分岐鎖である。）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）で表され、融点が０℃以下であることを特徴とする炭酸エステル。
【化１】
2008239575.tif 000012
（式（１）中、Ｒ1及びＲ2は、それぞれ独立に飽和炭化水素基を表し、Ｒ1は分岐鎖、Ｒ2は直鎖又は分岐鎖である。）
【請求項２】
Ｒ1がβ位にて分岐した構造である請求項１に記載の炭酸エステル。
【請求項３】
Ｒ1が２−メチルプロピル基、２−メチルブチル基及び２−エチルヘキシル基よりなる群から選択された請求項１又は２に記載の炭酸エステル。
【請求項４】
Ｒ2が炭素数１２以上１６以下の直鎖構造である請求項１〜３いずれか１つに記載の炭酸エステル。
【請求項５】
非磁性支持体上に、
強磁性粉末を結合剤中に分散した少なくとも一層の磁性層を有し、
該磁性層が請求項１〜４いずれか１つに記載の炭酸エステルを含有することを特徴とする
磁気記録媒体。
【請求項６】
非磁性層を支持体上に、
非磁性粉末を結合剤中に分散した非磁性層を有し、
該非磁性層上に強磁性粉末を結合剤中に分散した少なくとも一層の磁性層を設けた磁気記録媒体であって、
該非磁性層及び／又は該磁性層が請求項１〜４いずれか１つに記載の炭酸エステルを含有することを特徴とする
磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、潤滑剤として好適に用いることができる炭酸エステル、及び、前記炭酸エステルを潤滑剤として用いた磁気記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気記録技術は、媒体の繰り返し使用が可能であること、信号の電子化が容易であり周辺機器との組み合わせによるシステムの構築が可能であること、信号の修正も簡単にできること等の他の記録方式にはない優れた特長を有することから、ビデオ、オーディオ、コンピューター用途等を始めとして様々な分野で幅広く利用されてきた。
近年の記録の大容量化、高記録密度化要求に応える磁気記録媒体は、その高度な電磁変換特性を達成するため極めて平滑な表面を有する。この平滑な表面を記録ヘッドが高速で摺動すると従来の技術では耐久性を確保することが極めて難しくなる。
磁気記録媒体における耐久性の改善のため、例えば、磁気記録媒体に潤滑剤としてカーボネート化合物を使用する磁気記録媒体が提案されている（特許文献１及び２参照）。
また、表面に特定の研磨剤突起密度を有し、酸加水分解速度を規定した磁気記録媒体が提案されている（特許文献３参照）。
【０００３】
【特許文献１】特開平７−１３８５８６号公報
【特許文献２】特開平８−７７５４７号公報
【特許文献３】特開２００３−３２３７１１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１に記載された潤滑剤は、低温環境下での潤滑効果を発揮することができず、十分な耐久性の改善を図ることができなかった。また、特許文献２及び３に記載された潤滑剤では、酸化壊裂反応が生じ、十分な保存安定性を得ることができなかった。
【０００５】
本発明が解決しようとする課題は、潤滑剤として好適に使用可能な炭酸エステルを提供することである。
また、本発明が解決しようとする他の課題は、前記炭酸エステルを用い、低温環境下での耐久性及び保存安定性に優れた磁気記録媒体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明が解決しようとする課題は、下記＜１＞、＜５＞又は＜６＞に記載の手段によって解決された。好ましい実施態様である＜２＞〜＜４＞と共に以下に記載する。
＜１＞  式（１）で表され、融点が０℃以下であることを特徴とする炭酸エステル、
【０００７】
【化１】
2008239575.tif 000002
（式（１）中、Ｒ1及びＲ2は、それぞれ独立に飽和炭化水素基を表し、Ｒ1は分岐鎖、Ｒ2は直鎖又は分岐鎖である。）
【０００８】
＜２＞  Ｒ1がβ位にて分岐した構造である＜１＞に記載の炭酸エステル、
＜３＞  Ｒ1が２−メチルプロピル基、２−メチルブチル基及び２−エチルヘキシル基よりなる群から選択された＜１＞又は＜２＞に記載の炭酸エステル、
＜４＞  Ｒ2が炭素数１２以上１６以下の直鎖構造である＜１＞〜＜３＞いずれか１つに記載の炭酸エステル、
＜５＞  非磁性支持体上に、強磁性粉末を結合剤中に分散した少なくとも一層の磁性層を有し、該磁性層が＜１＞〜＜４＞いずれか１つに記載の炭酸エステルを含有することを特徴とする磁気記録媒体、
＜６＞  非磁性層を支持体上に、非磁性粉末を結合剤中に分散した非磁性層を有し、該非磁性層上に強磁性粉末を結合剤中に分散した少なくとも一層の磁性層を設けた磁気記録媒体であって、該非磁性層及び／又は該磁性層が＜１＞〜＜４＞いずれか１つに記載の炭酸エステルを含有することを特徴とする磁気記録媒体。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、潤滑剤として好適に使用可能な炭酸エステルを提供することができる。更に、本発明によれば、前記炭酸エステルを用い、低温環境下での耐久性及び保存安定性に優れた磁気記録媒体を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明の炭酸エステルは、式（１）で表され、融点が０℃以下であることを特徴とする。
【００１１】
【化２】
2008239575.tif 000003
（式（１）中、Ｒ1及びＲ2は、それぞれ独立に飽和炭化水素基を表し、Ｒ1は分岐鎖、Ｒ2は直鎖又は分岐鎖である。）
【００１２】
本発明の炭酸エステルは、加水分解しにくいカーボネート骨格を有し、また、上記の式（１）で表される炭酸エステルは、分子量の割に粘度が低く、かつ融点が０℃以下である。このような炭酸エステルは、潤滑剤に好適に使用可能であり、低温環境下においても十分な潤滑効果を発揮することができる。特に、本発明の炭酸エステルは、表面性の媒体の潤滑剤に用いた場合であっても、耐加水分解能を有し、融点が低いことから、保存安定性に優れ、低温環境においても十分な界面活性効果を有する。本発明の炭酸エステルは、磁気記録媒体の磁性層に含有される潤滑剤として特に好適に使用可能であり、これにより、低温環境下においても良好な走行耐久性が得られると共に、保存安定性の向上を達成することができる。
【００１３】
式（１）において、Ｒ1及びＲ2の両炭素数の和が１２以上５０以下であることが好ましく、より好ましくは１２以上４０以下、更に好ましくは１２以上３０以下であり、特に好ましくは１６以上２４以下である。両炭素数の和が１２以上であると、揮発性が低く、磁気記録媒体に潤滑剤として用いた場合、走行時における磁性層表面からの飛びが少なく、走行停止を引き起こすことがないので好ましい。また、両炭素数の和が５０以下であると、分子のモビリティが高く、磁気記録媒体に潤滑剤として用いた場合、表面に必要量の潤滑剤が滲み出し可能であり、走行停止を引き起こすことがないので好ましい。
【００１４】
式（１）において、Ｒ1は分岐鎖を有する飽和炭化水素基を表す。Ｒ1及びＲ2が直鎖の構造を有すると、融点が上昇し、低温環境下での十分な潤滑効果を得ることができない。
Ｒ1の炭素数は３以上１２以下であることが好ましく、より好ましくは４以上１０以下である。また、Ｒ1はβ位にて分岐した構造であることが好ましく、２−メチルプロピル基、２−メチルブチル基及び２−エチルヘキシル基よりなる群から選択された直鎖の構造を有することを有することが更に好ましい。
β位で分岐した構造であると、低い融点を有する炭酸エステルを得ることができるので好ましい。
【００１５】
式（１）において、Ｒ2は分岐鎖又は直鎖を有する飽和炭化水素基を表す。Ｒ2は直鎖であることが好ましい。
直鎖の構造を有する飽和炭化水素基としては、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基が、オクタデシル基が例示できる。
これらの中でもＲ2は炭素数が８以上２０以下であることが好ましく、Ｒ2は炭素数が１０以上１８以下であることがより好ましく、１２以上１６以下であることが更に好ましい。また、原料の入手の観点から、Ｒ2は炭素数が１２、１４及び１６であることがより好ましい。
Ｒ2の炭素数が８以上であると、分子配向の点から高い潤滑効果を有するので好ましい。また、Ｒ2の炭素数が１２以上であると、揮発性が低く、磁気記録媒体に使用した場合に安定した潤滑性を示すので好ましい。また、Ｒ2の炭素数が１６以下であると、０℃以下の融点を得ることができるので好ましい。
【００１６】
本発明の式（１）で表される炭酸エステル（カーボネート）化合物の合成方法としては、特に制限はなく公知の炭酸エステル合成法を用いることができ、クロロギ酸エステルとアルコールとを反応させる方法や、低級炭化水素基を有する炭酸エステルとアルコールとを反応させる方法、ジアリール炭酸エステルとアルコールとを反応させる方法、金属触媒を用い一酸化炭素とアルコールとを反応させる方法、ホスゲン又はトリホスゲン等のホスゲン等価体とアルコールとを反応させる方法等が例示できる。これらの中でも、異なる２つの飽和炭化水素基を容易に導入することができ、かつ、単一種の炭酸エステルを合成できる点から、クロロギ酸エステルと前記飽和炭化水素基を有するアルコールとを反応させることにより行う方法が好ましい。なお、前記低級炭化水素基とは、反応に用いるアルコールの飽和炭化水素基よりも炭素数が少ない炭化水素基であることを示す。
かかる合成反応の出発原料であるクロロギ酸エステルの具体例としては、クロロギ酸メチル、クロロギ酸エチル、クロロギ酸ブチル、クロロギ酸ｓｅｃ−ブチル、クロロギ酸イソブチル、クロロギ酸プロピル、クロロギ酸イソプロピル、クロロギ酸２−エチルヘキシル、クロロギ酸２−メチルプロピル、クロロギ酸２−メチルブチル等が好適である。
【００１７】
合成反応における合成温度は、反応が進行する温度であれば特に制限はないが、０℃以上６０℃以下（以下、「０℃以上６０℃以下」を「０℃〜６０℃」又は「０〜６０℃」とも記載することとする。以下、同様。）の範囲で行うことが好ましく、より好ましくは０〜４０℃、更に好ましくは０〜２５℃である。圧力は減圧条件でも常圧条件でもよいが、コストの面を考慮すると常圧条件が好ましい。
【００１８】
合成反応には触媒を用いていてもよいが、触媒を用いる場合は、反応原料であるクロロギ酸エステル化合物や低級炭化水素基やアリール基を有する炭酸エステル、ホスゲン類等のカーボネート反応基質に対して０．００１％〜１．０％の当量で用いることが好ましい。
かかる触媒の例としては、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、２−メチルピリジン、４−メチルピリジン、イミダゾール、Ｎ−メチルイミダゾール、Ｎ−メチルモルホリン、ベンゾトリアゾール等の有機塩基、水酸化リチウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等の金属水酸化物、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等の炭酸塩、及び炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等炭酸水素塩が挙げられるが、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、２−メチルピリジン、４−メチルピリジン、Ｎ−メチルイミダゾール、ベンゾトリアゾール等の中性時Ｎ−Ｈ結合の無い有機塩基もしくは水酸化リチウムが好ましく、これらの中でもピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、２−メチルピリジン、４−メチルピリジンのピリジン類及びその誘導体がより好ましい。
【００１９】
本発明の式（１）で表されるカーボネート化合物を反応液より取り出す方法としては、抽出、蒸留、結晶化等の分離方法が挙げられる。工業的生産性の観点から、取り逃がしの少ない抽出を用いる方法が好ましい。以下に抽出に使用する溶媒について述べる。
本発明の炭酸エステルは、飽和炭化水素溶媒への溶解性が高いことから、飽和炭化水素溶媒と相分離する溶媒（抽出溶媒）として、飽和炭化水素溶媒と無限に相溶しない有機溶媒を含む溶媒を用いることが好ましい。抽出方法としては前記抽出溶媒と、飽和炭化水素溶媒を用いて、液液抽出することが好ましい。また、抽出に使用する溶媒は不純物を溶解する必要があり、反応で用いた塩基等を除去するためには水と無限大に相溶しうる溶媒が好ましい。
本発明に用いることができる飽和炭化水素溶媒としては、本発明の炭酸エステルを溶解するものであれば、特に制限はないが、溶媒の取り扱いや分離操作の容易性から、沸点が３５〜８５℃の飽和炭化水素溶媒であることが好ましく、ヘプタン、ヘキサン、又は、これらの混合溶媒であることがより好ましく、ヘキサンであることが更に好ましい。また、飽和炭化水素溶媒は、１種単独で用いてもよく、２種以上を任意の割合で混合して用いてもよい。
【００２０】
また、本発明の炭酸エステルの原料のアルコールは、水に対する溶解度が極めて低いため、未反応成分として系内に残存する該アルコールを不純物として取り除く必要がある場合もある。このため、具体的な抽出溶媒としてはメタノール、エタノール、プロパノール、アセトニトリル、エチレングリコール及び／又はプロピレングリコールを含む溶媒が好ましく、メタノール及び／又はアセトニトリルが好ましい。
上記の溶媒を単独で用いる以外でも、飽和炭化水素溶媒の反応系から、副生成物、残存する不純物を除去することができる混合溶媒を使用することができる。具体的には、メタノールと水の混合溶媒、アセトニトリルと水の混合溶媒、プロピレングリコールと水の混合溶媒、又は、メタノールとエチレングリコールの混合溶媒が好ましい。
【００２１】
（磁気記録媒体）
本発明の炭酸エステルは、磁気記録媒体の潤滑剤として好適に使用される。
本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体上に、強磁性粉末を結合剤中に分散した少なくとも一層の磁性層を有し、該磁性層が本発明の炭酸エステルを含有することを特徴とする。
また、他の本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体と磁性層の間に、非磁性粉末を結合剤中に分散した非磁性層を有することが好ましく、該磁性層及び／又は非磁性層が本発明の炭酸エステルを含有することを特徴とする。
本発明において、磁気記録媒体は非磁性層を有することが好ましく、磁性層及び非磁性層が本発明の炭酸エステルを含有することが好ましい。
非磁性支持体上に形成された磁性層は、本発明の炭酸エステルを０．１重量％以上５．０重量％以下含有することが好ましく、０．５重量％以上５重量％以下含有することがより好ましく、１重量％以上３重量％以下含有することが更に好ましい。
また、非磁性層は、本発明の炭酸エステルを０．１重量％以上５重量％以下含有することが好ましく、０．５重量％以上５重量％以下含有することがより好ましく、１重量％以上３重量％以下含有することが更に好ましい。
磁性層及び／又は非磁性層における本発明の炭酸エステルの含有量が上記範囲内であると、潤滑効果が高く、低温環境下での耐久性及び保存安定性に優れた磁気記録媒体を得ることができるので好ましい。
【００２２】
従来から磁性層表面に存在する潤滑剤の作用として、表面の潤滑剤量はヘッドとテープの摺動特性と密接な関係にあることが判っている。磁性層表面に潤滑剤が安定に存在することで、ヘッドとテープの摺動抵抗を小さくでき、走行耐久性を向上できる。近年の磁気記録媒体の高容量化の要求に伴って、磁性層は薄層化する必要があり、薄層化にともない磁性層に含浸できる潤滑剤の量は少なくなってしまう。このため、記録／再生ヘッドによる摺動で潤滑剤が次第に除去されてしまうと、潤滑剤が不足するために削れ、停止等を発生してしまうことがあった。また、磁気特性の向上のため磁性層表面はますます平滑化が必要であり、このため従来の潤滑剤では十分な走行性、繰り返し走行性、耐久性に効果を発揮し得なくなってきている。従来、潤滑剤が少ない場合にはその潤滑効果を高めるため潤滑剤の量を多くすることが行われているが、潤滑剤の量を多くすると、磁性塗膜の機械的強度は弱くなり、磁性層が削れ、削れ粉が走行経路を汚したり、あるいは十分な繰返し走行耐久性が得られなかったりした。
【００２３】
また、従来から、潤滑剤としてステアリン酸ブチルの如き脂肪酸エステルとミリスチン酸の如き脂肪酸を混合して用いることが知られている。しかしながら、脂肪酸エステル及び脂肪酸を用いると高湿状態で走行させたとき、摩擦が大きくなり磁気テープの走行テンションが大きくなるという問題が生じた。
脂肪酸は単独で使用した場合は、滑性を得るためには、多量に用いる必要があり、この場合には磁性層が軟らかくなり、機械的強度が低下し、テープ／ヘッド間の相対速度に相当する高速摺動耐久性が劣化する欠点があった。また、脂肪酸と脂肪酸エステル化合物との併用は、高速摺動耐久性が良好となり、かつテンションも比較的小さくなるが、しかし８５％ＲＨ（相対湿度）というような高湿条件においては走行テンションが大きくなる欠点を有していた。
【００２４】
本発明者らは、本発明の製造方法により製造された前記式（１）で表される飽和アルキル基を有した炭酸エステル（カーボネート）を潤滑剤として使用することで良好な走行耐久性を確保できることを見出した。本発明の飽和アルキル炭酸エステルは分子量の割に粘度が低いため流体潤滑性が高く、且つ脂肪酸エステルで無くカーボネートであるから耐加水分解性に優れ、保存安定性が高い。
特開平７−１３８５８６号公報では、潤滑剤にカーボネートを用いた磁気記録媒体が開示されているが、融点が高いため、特に低温環境下での潤滑効果が十分ではなかった。本発明の炭酸エステルは、融点が０℃以下であるため、低温環境下においても、優れた潤滑効果を発揮することができる。
また、特開平８−７７５４７号公報では不飽和アルキル炭酸エステルを使用した磁気記録媒体を開示しているが、この炭酸エステルは不飽和基を持つため酸化を受け、十分な保存安定性を確保することが困難である。不飽和結合を含まない本発明の飽和アルキル炭酸エステルは酸化を受けず、良好な保存安定性を発揮することができる。
また、特開２００３−３２３７１１号公報には、脂肪酸エステルを使用した磁気記録媒体が記載されているが、脂肪酸エステルは加水分解を受け、保存安定性を確保することが困難である。本発明の炭酸エステルは耐加水分解性が高く、良好な保存安定性を得ることができる。
【００２５】
I．磁性層
本発明の磁気記録媒体における磁性層は、本発明の炭酸エステルを含有し、強磁性粉末を結合剤中に分散した層であり、磁気記録及びその再生に寄与する層である。
【００２６】
＜強磁性粉末＞
本発明の磁気記録媒体に使用される強磁性粉末は、コバルト含有強磁性酸化鉄又は強磁性合金粉末でＳBET比表面積が、好ましくは４０〜８０ｍ2／ｇ、より好ましくは５０〜７０ｍ2／ｇである。結晶子サイズは、好ましくは１２〜２５ｎｍ、より好ましくは１３〜２２ｎｍであり、特に好ましくは１４〜２０ｎｍである。長軸長は、好ましくは０．０５〜０．２５μｍであり、より好ましくは０．０７〜０．２μｍであり、特に好ましくは０．０８〜０．１５μｍである。
【００２７】
強磁性粉末としては、イットリウムを含むＦｅ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅが挙げられ、強磁性粉末中のイットリウム含有量は、鉄原子に対してイットリウム原子の比、Ｙ／Ｆｅが０．５原子％〜２０原子％であることが好ましく、更に好ましくは５原子％〜１０原子％である。上記範囲であると、強磁性粉末の高σS化でき、また、鉄の含有量が適度であるため、磁気特性が良好であり、電磁変換特性に優れる。更に、鉄１００原子％に対して２０原子％以下の範囲内で、アルミニウム、ケイ素、硫黄、スカンジウム、チタン、バナジウム、クロム、マンガン、銅、亜鉛、モリブデン、ロジウム、パラジウム、錫、アンチモン、ホウ素、バリウム、タンタル、タングステン、レニウム、金、鉛、リン、ランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、テルル、ビスマス等を含むことができる。また、強磁性金属粉末が少量の水、水酸化物又は酸化物を含むものなどであってもよい。
【００２８】
本発明の磁気記録媒体において、コバルト、イットリウムを導入した強磁性粉末の製造方法の一例を示す。第一鉄塩とアルカリを混合した水性懸濁液に、酸化性気体を吹き込むことによって得られるオキシ水酸化鉄を出発原料とする例を挙げることができる。このオキシ水酸化鉄の種類としては、α−ＦｅＯＯＨが好ましく、その製法としては、第一鉄塩を水酸化アルカリで中和してＦｅ（ＯＨ）2の水性懸濁液とし、この懸濁液に酸化性ガスを吹き込んで針状のα−ＦｅＯＯＨとする第一の製法がある。一方、第一鉄塩を炭酸アルカリで中和してＦｅＣＯ3の水性懸濁液とし、この懸濁液に酸化性気体を吹き込んで紡錘状のα−ＦｅＯＯＨとする第この製法がある。このようなオキシ水酸化鉄は第一鉄塩水溶液とアルカリ水溶液とを反応させて水酸化第一鉄を含有する水溶液を得て、これを空気酸化等により酸化して得られたものであることが好ましい。この際、第一鉄塩水溶液にＮｉ塩や、Ｃａ塩、Ｂａ塩、Ｓｒ塩等のアルカリ土類元素の塩、Ｃｒ塩、Ｚｎ塩などを共存させてもよく、このような塩を適宣選択して用いることによって粒子形状（軸比）などを調製することができる。
【００２９】
第一鉄塩としては、塩化第一鉄、硫酸第一鉄等が好ましい。またアルカリとしては水酸化ナトリウム、アンモニア水、炭酸アンモニウム、炭酸ナトリウム等が好ましい。また、共存させることができる塩としては、塩化ニッケル、塩化カルシウム、塩化バリウム、塩化ストロンチウム、塩化クロム、塩化亜鉛等の塩化物が好ましい。次いで、鉄にコバルトを導入する場合は、イットリウムを導入する前に、硫酸コバルト、塩化コバルト等のコバルト化合物の水溶液を前記のオキシ水酸化鉄のスラリーに撹拌混合し、コバルトを含有するオキシ水酸化鉄のスラリーを調製した後、このスラリーにイットリウムの化合物を含有する水溶液を添加し、撹拌混合することによって導入することができる。
【００３０】
本発明の強磁性粉末には、イットリウム以外にもネオジム、サマリウム、プラセオジウム、ランタン、ガドリニウム等を導入することができる。これらは、塩化イットリウム、塩化ネオジム、塩化サマリウム、塩化プラセオジウム、塩化ランタン等の塩化物、硝酸ネオジム、硝酸ガドリニウム等の硝酸塩などを用いて導入することができ、これらは、二種以上を併用してもよい。強磁性粉末の形状に特に制限はないが、通常は針状、粒状、サイコロ状、米粒状及び板状のものなどが使用される。とくに針状の強磁性粉末を使用することが好ましい。
【００３１】
本発明の磁性層に使用する強磁性粉末としては六方晶フェライト粉末も使用できる。
六方晶フェライトとしてバリウムフェライト、ストロンチウムフェライト、鉛フェライト、カルシウムフェライトの各置換体、Ｃｏ置換体等がある。具体的にはマグネトプランバイト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェライト、スピネルで粒子表面を被覆したマグネトプランバイト型フェライト、更に一部スピネル相を含有したマグネトプランバイト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェライト等が挙げられ、その他所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂ、Ｚｒなどの原子を含んでもかまわない。例えば、Ｃｏ−Ｔｉ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚｎ，Ｎｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、Ｓｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、Ｎｂ−Ｚｎ等の元素を添加したものを好ましく使用することができる。原料・製法によっては特有の不純物を含有するものもある。
【００３２】
粒子サイズは六角板径で好ましくは１０ｎｍ〜２００ｎｍ、より好ましくは２０ｎｍ〜１００ｎｍである。また、磁気抵抗ヘッドで再生する場合は、低ノイズにする必要があり、板径は４０ｎｍ以下が好ましい。上記範囲であると、熱揺らぎが生じにくく安定な磁化が得られ、また、ノイズを低く抑えることができる。
板状比（板径／板厚）は１〜１５が好ましく、より好ましくは２〜７である。板状比が上記範囲であると、十分な配向性が得られ、また、粒子間のスタッキングが少なくノイズを低く抑えることができる。この粒子サイズ範囲のＢＥＴ法による比表面積（ＳBET）は１０ｍ2／ｇ〜２００ｍ2／ｇを示す。比表面積は概ね粒子板径と板厚からの算術計算値と符号する。
結晶子サイズは、好ましくは５０Å〜４５０Å（５ｎｍ〜４５ｎｍ）、より好ましくは１００Å〜３５０Å（１０ｎｍ〜３５ｎｍ）である。粒子板径・板厚の分布は通常狭いほど好ましい。数値化は困難であるが粒子ＴＥＭ写真より５００粒子を無作為に測定する事で比較できる。分布は正規分布ではない場合が多いが、計算して平均サイズに対する標準偏差で表すとσ／平均サイズ＝０．１〜２．０である。粒子サイズ分布をシャープにするには粒子生成反応系をできるだけ均一にすると共に、生成した粒子に分布改良処理を施すことも行われている。たとえば酸溶液中で超微細粒子を選別的に溶解する方法等も知られている。
【００３３】
磁性体で測定される抗磁力Ｈｃは５００ Ｏｅ〜５，０００ Ｏｅ（３９．８ｋＡ／ｍ〜３９８ｋＡ／ｍ）程度まで作成できる。Ｈｃは高い方が高密度記録に有利であるが、記録ヘッドの能力で制限される。抗磁力Ｈｃは、８００ Ｏｅ〜４，０００ Ｏｅ（６３．７ｋＡ／ｍ〜３１８．４ｋＡ／ｍ）であることが好ましく、より好ましくは１，５００ Ｏｅ〜３，５００ Ｏｅ（１１９．４ｋＡ／ｍ〜２７８．６ｋＡ／ｍ）である。ヘッドの飽和磁化が１．４テスラーを越える場合は、２，０００ Ｏｅ以上にすることが好ましい。Ｈｃは粒子サイズ（板径・板厚）、含有元素の種類と量、元素の置換サイト、粒子生成反応条件等により制御できる。
飽和磁化σｓは４０ｅｍｕ／ｇ〜８０ｅｍｕ／ｇ（４０Ａ・ｍ2／ｋｇ〜８０Ａ・ｍ2／ｋｇ）である。σｓは高い方が好ましいが微粒子になるほど小さくなる傾向がある。σｓ改良のためマグネトプランバイトフェライトにスピネルフェライトを複合すること、含有元素の種類と添加量の選択等がよく知られている。またＷ型六方晶フェライトを用いることも可能である。
【００３４】
磁性体を分散する際に磁性体粒子表面を分散媒、ポリマー（結合剤）に合った物質で処理することも行われている。表面処理剤は無機化合物、有機化合物が使用される。主な化合物としてはＳｉ、Ａｌ、Ｐ等の酸化物又は水酸化物、各種シランカップリング剤、各種チタンカップリング剤が代表例である。量は磁性体に対して好ましくは０．１％〜１０％である。
磁性体のｐＨも分散に重要である。通常４〜１２程度で分散媒、ポリマーにより最適値があるが、媒体の化学的安定性、保存性から６〜１０程度が好ましく選択される。磁性体に含まれる水分も分散に影響する。分散媒、ポリマー（結合剤）により最適値があるが、好ましくは０．０１％〜２．０％である。
【００３５】
六方晶フェライトの製法としては、（１）酸化バリウム・酸化鉄・鉄を置換する金属酸化物とガラス形成物質として酸化ホウ素等を所望のフェライト組成になるように混合した後溶融し、急冷して非晶質体とし、次いで再加熱処理した後、洗浄・粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得るガラス結晶化法、（２）バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物を除去した後１００℃以上で液相加熱した後洗浄・乾燥・粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得る水熱反応法、（３）バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物を除去した後乾燥し１，１００℃以下で処理し、粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得る共沈法等があるが、本発明は製法を選ばない。
【００３６】
また、本発明の磁気記録媒体における磁性層に使用することができる強磁性粉末としては、窒化鉄粒子も使用することができる。
本発明に用いることができる窒化鉄粒子は、Ｆｅ及びＮを少なくとも構成元素とした球状又は回転楕円状の窒化鉄系磁性体であることが好ましい。ここで、「球状」とは粒子径の最大長／最小長の比が１以上２未満である粒子を意味し、「回転楕円体」とは粒子径の最大長／最小長の比が２以上４未満である粒子を意味する。
球状又は楕円状磁性体としては、Ｆｅ16Ｎ2を主相とする窒化鉄系の強磁性粉末が好ましい。Ｆｅ、Ｎ原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂなどの原子を含んでもかまわない。Ｆｅに対するＮの含有量は１．０原子％〜２０．０原子％が好ましい。
窒化鉄粒子は球状又は楕円状が好ましく、長軸径／短軸径の軸比は１〜２が好ましい。ＢＥＴ比表面積（ＳBET）が３０ｍ2／ｇ〜１００ｍ2／ｇであることが好ましく、より好ましくは５０ｍ2／ｇ〜７０ｍ2／ｇである。結晶子サイズは１２ｎｍ〜２５ｎｍであることが好ましく、より好ましくは１３ｎｍ〜２２ｎｍである。
飽和磁化σｓは５０Ａ・ｍ2／ｋｇ（５０ｅｍｕ／ｇ）〜２００Ａ・ｍ2／ｋｇ（２００ｅｍｕ／ｇ）が好ましい。更に好ましくは７０Ａ・ｍ2／ｋｇ（７０ｅｍｕ／ｇ）〜１５０Ａ・ｍ2／ｋｇ（１５０ｅｍｕ／ｇ）である。
【００３７】
＜結合剤（バインダー）＞
本発明において、磁性層に用いることができる結合剤としては、従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物が使用される。
熱可塑性樹脂としては、ガラス転移温度が好ましくは−１００℃〜１５０℃、数平均分子量が好ましくは１，０００〜２００，０００、より好ましくは１０，０００〜１００，０００、重合度が好ましくは５０〜１，０００である。
このような例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクルリ酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチラール、ビニルアセタール、ビニルエーテル、等を構成単位として含む重合体又は共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂が挙げられる。
【００３８】
また、熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシアネートの混合物、ポリウレタンとポリイソシアネートの混合物等が挙げられる。
【００３９】
これらの樹脂については朝倉書店発行の「プラスチックハンドブック」に詳細に記載されている。また、公知の電子線硬化型樹脂を非磁性層（下層）、又は、磁性層（上層）に使用することも可能である。これらの例とその製造方法については特開昭６２−２５６２１９号公報に詳細に記載されている。以上の樹脂は単独又は組み合わせて使用できるが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、及び、ニトロセルロースよりなる群から選ばれる少なくとも１種とポリウレタン樹脂の組み合わせ、又はこれらにポリイソシアネートを組み合わせたものが挙げられる。
【００４０】
前記結合剤の具体的な例としては、ユニオンカーバイト社製ＶＡＧＨ、ＶＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ、ＶＲＯＨ、ＶＹＥＳ、ＶＹＮＣ、ＶＭＣＣ、ＸＹＨＬ、ＸＹＳＧ、ＰＫＨＨ、ＰＫＨＪ、ＰＫＨＣ、ＰＫＦＥ、日信化学工業社製ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５、ＭＰＲ−ＴＡＬ、ＭＰＲ−ＴＳＮ、ＭＰＲ−ＴＭＦ、ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰＲ−ＴＭ、電気化学社製１０００Ｗ、ＤＸ８０、ＤＸ８１、ＤＸ８２、ＤＸ８３、日本ゼオン社製ＭＲ１１０、ＭＲ１００、４００Ｘ１１０Ａ、日本ポリウレタン社製ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２３０４、大日本インキ社製パンデックスＴ−５１０５、Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バーノックＤ−４００、Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０９、７２０９、東洋紡社製ＵバイロンＲ８２００、ＵＲ８３００、ＲＶ５３０、ＲＶ２８０、大日精化社製ダイフェラミン４０２０、５０２０、５１００、５３００、９０２０、９０２２、７０２０、三菱化成社製ＭＸ５００４、三洋化成社製サンプレンＳＰ−１５０、旭化成社製サランＦ３１０、Ｆ２１０などが挙げられる。
【００４１】
磁性層に用いることができる結合剤としては、上記の中でも、塩化ビニル系バインダー、又は、ポリウレタン系バインダーが好ましく、特に好ましくは極性基を含有し骨格に芳香環を３．５ｍｍｏｌ／ｇ〜７ｍｍｏｌ／ｇ含むポリウレタンである。
前記ポリウレタン系バインダーとしては、ポリエステルウレタン、ポリエーテルウレタン、ポリカーボネートウレタン、ポリエーテルエステルウレタン、アクリル系ポリウレタン等を好適に用いることができる。前記のポリウレタン系バインダーは上記潤滑剤との親和性が高く表面潤滑剤量を最適な範囲に制御することができるため好ましい。
結合剤が有していてもよい極性基は、スルホン酸塩、スルファミン酸塩、スルホベタイン、リン酸塩、ホスホン酸塩などが好ましい。極性基の量は１×１０-5ｅｑ／ｇ〜２×１０-4ｅｑ／ｇが好ましい。
【００４２】
磁性層のバインダー量は、硬化剤を含めて強磁性粉末１００重量部に対し１０重量部〜２５重量部であることが好ましく、後述する非磁性層のバインダー量は、非磁性粉末１００重量部に対し２５重量部〜４０重量部であることが好ましく、また、磁性層及び非磁性層のバインダー量は非磁性層の方にバインダー量を多くすることが好ましい。
【００４３】
非磁性層にも、磁性層と同様の結合剤を使用することができるが、特に非磁性層用の結合剤としては、ＳＯ3Ｎａのような強い極性基と芳香環を多く含有する骨格を有することが好ましい。これにより潤滑剤と非磁性層の結合剤との親和性がより高まり、潤滑剤が非磁性層に多く且つ安定的に存在することができるので好ましい。
潤滑剤と結合剤との親和性が適度であると、結合剤と潤滑剤とが完全に分子レベルで相溶せず、潤滑剤は上層（磁性層）に移行することができるため好ましい。
【００４４】
＜研磨剤＞
本発明の磁気記録媒体における磁性層は、研磨剤を含有することが好ましい。
研磨剤としては無機質非磁性粉末が使用できる。無機質非磁性粉末としては、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等の無機質化合物から選択することができる。無機質化合物としては例えば、α化率９０％〜１００％のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム、窒化珪素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化タングステン、酸化ジルコニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、硫酸バリウム、二硫化モリブデンなどを単独又は組み合わせて使用することができる。特に好ましいのは、α−アルミナ、べんがら、酸化クロムである。
本発明に用いることができる研磨剤は、磁性層表面に存在している研磨剤の突出高さ分布であるＨ15／Ｈ10が、上記範囲になるように、種類、量、粒径、組み合わせ、形状等を種々変えて使用する。
研磨剤を１種のみ使用する場合、本発明で使用する研磨剤の平均粒径は、０．０５μｍ〜０．４μｍのものが好ましく、０．１μｍ〜０．３μｍのものがより好ましい。また、平均粒径より０．１μｍ以上大きい粒径の粒子が１％以上４０％以下存在していることが好ましく、５％以上３０％以下であることがより好ましく、１０％以上２０％以下であることが最も好ましい。この研磨剤単体での粒子サイズは、実際の磁性層表面に存在している研磨剤粒子の粒子サイズに影響は与えるが等しくはない。磁性層表面に存在する研磨剤粒子の粒子サイズは研磨剤の分散条件等よっても変化するし、塗布乾燥工程でも磁性層表面に出やすい粒子と出にくい粒子がある。
【００４５】
平均粒径の異なる２種以上の研磨剤を組み合わせて使用することもできる。この場合は使用する２種以上の研磨剤の実際の使用比率に応じた加重平均値において、平均粒径と平均粒径より０．１μｍ以上大きい粒径の粒子が上記の範囲になるようにすることができる。
また、２種の研磨剤それぞれの分散条件を変えて、粒子サイズを制御することもできる。例えば研磨剤Ａをあらかじめ結合剤と溶剤とともに分散しておき、これと、粉体のままの研磨剤Ｂを、別途結合剤と溶剤とともに混練処理した強磁性金属粉末の混練処理液に添加して、分散処理を行えば、研磨剤Ａと研磨剤Ｂで分散処理条件を違えることができる。すなわち、Ｂに比べてＡは強く分散される。研磨剤粉末のタップ密度は、好ましくは０．０５ｇ／ｍｌ〜２ｇ／ｍｌ、より好ましくは０．２ｇ／ｍｌ〜１．５ｇ／ｍｌである。
研磨剤粉末の含水率は、好ましくは０．０５重量％〜５重量％、より好ましくは０．２重量％〜３重量％である。研磨剤の比表面積は、好ましくは１ｍ2／ｇ〜１００ｍ2／ｇ、より好ましくは５ｍ2／ｇ〜５０ｍ2／ｇである。ＤＢＰを用いた吸油量は、好ましくは５ｍｌ／１００ｇ〜１００ｍｌ／１００ｇ、より好ましくは１０ｍｌ／１００ｇ〜８０ｍｌ／１００ｇである。比重は、好ましくは１〜１２、より好ましくは３〜６である。形状は針状、球状、多面体状、板状のいずれでもよい。これらの研磨剤の表面は、当該研磨剤の主成分とは異なる化合物で、その少なくとも一部が被覆されていてもよい。この例として、Ａｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＳｎＯ2、Ｓｂ2Ｏ3、ＺｎＯを挙げることができる。特にＡｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2を用いると分散性が良好になる。これらは組み合わせて使用してもよいし、単独で用いてもよい。
【００４６】
磁性層に用いることができる研磨剤の粉末の具体例としては、昭和電工（株）製のナノタイト；住友化学工業（株）製のＨｉｔ１００、Ｈｉｔ８２、Ｈｉｔ８０、Ｈｉｔ７０、Ｈｉｔ６０Ａ、Ｈｉｔ５５、ＡＫＰ２０、ＡＫＰ３０、ＡＫＰ５０、ＺＡ−Ｇ１；レイノルズ製のＥＲＣ−ＤＢＭ、ＨＰ−ＤＢＭ、ＨＰＦ−ＤＢＭ、ＨＰＦＸ−ＤＢＭ、ＨＰＳ−ＤＢＭ、ＨＰＳＸ−ＤＢＭ；不二見研摩材製のＷＡ８０００、ＷＡ１００００；上村工業（株）製のＵＢ２０、ＵＢ４０Ｂ、メカノックスＵ４；昭和軽金属（株）製のＵＡ２０５５、ＵＡ５１５５、ＵＡ５３０５；日本化学工業（株）製のＧ−５、クロメックスＭ、クロメックスＳ１、クロメックスＵ２、クロメックスＵ１、クロメックスＸ１０、クロメックスＫＸ１０；日本電工（株）製のＮＤ８０３、ＮＤ８０２、ＮＤ８０１；東ソー（株）製のＦ−１、Ｆ−２、ＵＦ−５００；戸田工業（株）製のＤＰＮ−２５０、ＤＰＮ−２５０ＢＸ、ＤＰＮ−２４５、ＤＰＮ−２７０ＢＸＴＦ−１００、ＴＦ−１２０、ＴＦ−１４０、ＤＰＮ−５５０ＢＸ、ＴＦ−１８０；昭和鉱業（株）製のＡ−３、Ｂ−３；セントラル硝子（株）製のベータＳｉＣ、ＵＦ；イビデン（株）製のベータランダムスタンダード、ベータランダムウルトラファイン；帝国化工製のＪＲ４０１、ＭＴ５００Ｂ；石原産業（株）製のＴＹ−５０、ＴＴＯ−５１Ｂ、ＴＴＯ−５５Ａ、ＴＴＯ−５５Ｂ、ＴＴＯ−５５Ｃ、ＴＴＯ−５５Ｓ、ＴＴＯ−５５Ｄ、ＳＮ−１００、Ｅ２７０、Ｅ２７１；チタン工業（株）製のＳＴＴ−４Ｄ、ＳＴＴ−３０Ｄ、ＳＴＴ−３０、ＳＴＴ−６５Ｃ；テイカ（株）製のＭＴ−１００Ｓ、ＭＴ−１００Ｔ、ＭＴ−１５０Ｗ、ＭＴ−５００Ｂ、ＭＴ−６００Ｂ、ＭＴ−１００Ｆ、ＭＴ−５００ＨＤ；堺化学工業（株）製のＦＩＮＥＸ−２５、ＢＦ−１、ＢＦ−１０、ＢＦ−２０、ＳＴ−Ｍ；北開化学製のＨＺｎ、ＨＺｒ３Ｍ、同和鉱業（株）製のＤＥＦＩＣ−Ｙ、ＤＥＦＩＣ−Ｒ、日本アエロジル（株）製のＡＳ２ＢＭ、ＴｉＯ2Ｐ２５；宇部興産（株）製の１００Ａ、５００Ａ；チタン工業（株）製のＹ−ＬＯＰ、及び、これらを焼成したものが挙げられる。
【００４７】
＜添加剤＞
本発明の磁気記録媒体における磁性層には、必要に応じて添加剤を加えることができる。添加剤としては、分散剤・分散助剤、防黴剤、帯電防止剤、酸化防止剤、溶剤、カーボンブラック、などを挙げることができる。また、添加剤として、前記炭酸エステル以外の潤滑剤を併用してもよい。
これら添加剤としては、例えば、二硫化タングステン、グラファイト、フッ化黒鉛、シリコーンオイル、極性基を持つシリコーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シリコーン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、ポリオレフィン、ポリグリコール、ポリフェニルエーテル、フェニルホスホン酸、ベンジルホスホン酸基、フェネチルホスホン酸、α−メチルベンジルホスホン酸、１−メチル−１−フェネチルホスホン酸、ジフェニルメチルホスホン酸、ビフェニルホスホン酸、ベンジルフェニルホスホン酸、α−クミルホスホン酸、トルイルホスホン酸、キシリルホスホン酸、エチルフェニルホスホン酸、クメニルホスホン酸、プロピルフェニルホスホン酸、ブチルフェニルホスホン酸、ヘプチルフェニルホスホン酸、オクチルフェニルホスホン酸、ノニルフェニルホスホン酸等の芳香族環含有有機ホスホン酸及びそのアルカリ金属塩、オクチルホスホン酸、２−エチルヘキシルホスホン酸、イソオクチルホスホン酸、イソノニルホスホン酸、イソデシルホスホン酸、イソウンデシルホスホン酸、イソドデシルホスホン酸、イソヘキサデシルホスホン酸、イソオクタデシルホスホン酸、イソエイコシルホスホン酸等のアルキルホスホン酸及びそのアルカリ金属塩、リン酸フェニル、リン酸ベンジル、リン酸フェネチル、リン酸α−メチルベンジル、リン酸１−メチル−１−フェネチル、リン酸ジフェニルメチル、リン酸ビフェニル、リン酸ベンジルフェニル、リン酸α−クミル、リン酸トルイル、リン酸キシリル、リン酸エチルフェニル、リン酸クメニル、リン酸プロピルフェニル、リン酸ブチルフェニル、リン酸ヘプチルフェニル、リン酸オクチルフェニル、リン酸ノニルフェニル等の芳香族リン酸エステル及びそのアルカリ金属塩、リン酸オクチル、リン酸２−エチルヘキシル、リン酸イソオクチル、リン酸イソノニル、リン酸イソデシル、リン酸イソウンデシル、リン酸イソドデシル、リン酸イソヘキサデシル、リン酸イソオクタデシル、リン酸イソエイコシル等のリン酸アルキルエステル及びそのアルカリ金属塩、アルキルスルホン酸エステル及びそのアルカリ金属塩、フッ素含有アルキル硫酸エステル及びそのアルカリ金属塩、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、ステアリン酸ブチル、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、エライジン酸、エルカ酸等の炭素数１０以上２４以下の不飽和結合を含んでも分岐していてもよい一塩基性脂肪酸及びこれらの金属塩、又は、ステアリン酸ブチル、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸イソオクチル、ミリスチン酸オクチル、ラウリル酸ブチル、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒドロソルビタンモノステアレート、アンヒドロソルビタンジステアレート、アンヒドロソルビタントリステアレート等の炭素数１０以上２４以下の不飽和結合を含んでも分岐していてもよい一塩基性脂肪酸と炭素数２以上２２以下の不飽和結合を含んでも分岐していてもよい１価以上６価以下のアルコール、炭素数１２以上２２以下の不飽和結合を含んでも分岐していてもよいアルコキシアルコール又はアルキレンオキサイド重合物のモノアルキルエーテルのいずれか１つとからなるモノ脂肪酸エステル、ジ脂肪酸エステル又は多���脂肪酸エステル、炭素数２以上２２以下の脂肪酸アミド、炭素数８以上２２以下の脂肪族アミンなどが使用できる。また、上記炭化水素基以外にもニトロ基及びＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、ＣＦ3、ＣＣｌ3、ＣＢｒ3等の含ハロゲン炭化水素等炭化水素基以外の基が置換したアルキル基、アリール基、アラルキル基を持つものでもよい。
【００４８】
また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール系、アルキルフエノールエチレンオキサイド付加体等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導体、複素環類、ホスホニウム又はスルホニウム類等のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルホン酸、硫酸エステル基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸又はリン酸エステル類、アルキルベタイン型等の両性界面活性剤等も使用できる。これらの界面活性剤については、「界面活性剤便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載されている。
【００４９】
上記分散剤、併用してもよい潤滑剤等の添加剤は必ずしも純粋ではなく主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物等の不純分が含まれても構わない。これらの不純分は３０重量％以下が好ましく、更に好ましくは１０重量％以下である。
これらの添加物の具体例としては、例えば、日本油脂社製：ＮＡＡ−１０２、ヒマシ油硬化脂肪酸、ＮＡＡ−４２、カチオンＳＡ、ナイミーンＬ−２０１、ノニオンＥ−２０８、アノンＢＦ、アノンＬＧ、竹本油脂社製：ＦＡＬ−２０５、ＦＡＬ−１２３、新日本理化社製：エヌジェルブＯＬ、信越化学社製：ＴＡ−３、ライオンアーマー社製：アーマイドＰ、ライオン社製：デュオミンＴＤＯ、日清製油社製：ＢＡ−４１Ｇ、三洋化成社製：プロファン２０１２Ｅ、ニューポールＰＥ６１、イオネットＭＳ−４００等が挙げられる。
【００５０】
本発明の磁気記録媒体における磁性層で用いられる有機溶剤は、公知のものが使用できる。有機溶剤は、任意の比率でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキサノールなどのアルコール類、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリコール等のエステル類、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサンなどのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾールなどの芳香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロロヒドリン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の塩素化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン、テトラヒドロフラン、等を使用することができる。
【００５１】
これら有機溶媒は必ずしも１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物、水分等の不純分が含まれてもかまわない。これらの不純分は３０％以下が好ましく、更に好ましくは１０％以下である。本発明で用いる有機溶媒は磁性層と非磁性層でその種類は同じであることが好ましい。その添加量は変えてもかまわない。非磁性層に表面張力の高い溶媒（シクロヘキサノン、ジオキサンなど）を用い塗布の安定性を上げる、具体的には上層溶剤組成の算術平均値が非磁性層溶剤組成の算術平均値を下回らないことが肝要である。分散性を向上させるためにはある程度極性が強い方が好ましく、溶剤組成の内、誘電率が１５以上の溶剤が５０％以上含まれることが好ましい。また、溶解パラメータは８〜１１であることが好ましい。
【００５２】
本発明の磁気記録媒体における磁性層で用いられるこれらの分散剤、界面活性剤は磁性層及び後述する非磁性層でその種類、量を必要に応じ使い分けることができる。例えば、無論ここに示した例のみに限られるものではないが、分散剤は極性基で吸着もしくは結合する性質を有しており、磁性層においては主に強磁性粉末の表面に、また後述する非磁性層においては主に非磁性粉末の表面に前記の極性基で吸着もしくは結合し、一度吸着した有機リン化合物は金属あるいは金属化合物等の表面から脱着しがたいと推察される。従って、本発明の強磁性粉末表面あるいは後述する非磁性粉末表面は、アルキル基、芳香族基等で被覆されたような状態になるので、強磁性粉末あるいは非磁性粉末の結合剤樹脂成分に対する親和性が向上し、更に強磁性粉末あるいは非磁性粉末の分散安定性も改善される。また、界面活性剤量を調節することで塗布の安定性を向上させるなどが考えられる。また本発明で用いられる添加剤のすべて又はその一部は、磁性層あるいは非磁性層用塗布液の製造時のいずれの工程で添加してもよい。例えば、混練工程前に強磁性粉末と混合する場合、強磁性粉末と結合剤と溶剤による混練工程で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。
【００５３】
また、本発明の磁気記録媒体における磁性層には、必要に応じてカーボンブラックを添加することができる。
カーボンブラックの種類はゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック等を用いることができる。放射線硬化層のカーボンブラックは所望する効果によって、以下のような特性を最適化すべきであり、併用することでより効果が得られることがある。
【００５４】
カーボンブラックの比表面積は、好ましくは１００ｍ2／ｇ〜５００ｍ2／ｇ、より好ましくは１５０ｍ2／ｇ〜４００ｍ2／ｇ、ＤＢＰ吸油量は、好ましくは２０ｍｌ／１００ｇ〜４００ｍｌ／１００ｇ、より好ましくは３０ｍｌ／１００ｇ〜２００ｍｌ／１００ｇである。カーボンブラックの粒子径は、好ましくは５ｎｍ〜８０ｎｍ、より好ましく１０ｎｍ〜５０ｎｍ、更に好ましくは１０ｎｍ〜４０ｎｍである。カーボンブラックのｐＨは２〜１０、含水率は０．１％〜１０％、タップ密度は０．１ｇ／ｍｌ〜１ｇ／ｍｌが好ましい。
【００５５】
本発明に用いることができるカーボンブラックの具体的な例としては、キャボット社製ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ  ２０００，１３００，１０００，９００，８００，８８０，７００、ＶＵＬＣＡＮ  ＸＣ−７２、三菱化成工業社製＃３０５０Ｂ，＃３１５０Ｂ，＃３２５０Ｂ，＃３７５０Ｂ，＃３９５０Ｂ，＃９５０，＃６５０Ｂ，＃９７０Ｂ，＃８５０Ｂ，ＭＡ−６００，ＭＡ−２３０，＃４０００，＃４０１０、コロンビアカーボン社製ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ  ＳＣ、ＲＡＶＥＮ  ８８００，８０００，７０００，５７５０，５２５０，３５００，２１００，２０００，１８００，１５００，１２５５，１２５０、アクゾー社製ケッチェンブラックＥＣ、ケッチェン・ブラック・インターナショナル社製ケッチェンブラックＥＣなどが挙げられる。
【００５６】
カーボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわない。また、カーボンブラックを塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。本発明で使用できるカーボンブラックは例えば「カーボンブラック便覧」（カーボンブラック協会編）を参考にすることができる。
【００５７】
これらのカーボンブラックは単独又は組み合わせで使用することができる。カーボンブラックを使用する場合、磁性体の重量に対して０．１重量％〜３０重量％で用いることが好ましい。カーボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、これらは用いるカーボンブラックにより異なる。従って、本発明で使用されるこれらのカーボンブラックは、磁性層でその種類、量、組み合わせを変え、粒子サイズ、吸油量、電導度、ｐＨなどの先に示した諸特性を基に目的に応じて使い分けることはもちろん可能であり、むしろ各層で最適化すべきものである。
【００５８】
II．非磁性層
次に、非磁性層に関する詳細な内容について説明する。
本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体と磁性層との間に、非磁性粉末を結合剤に分散させた少なくとも１層の非磁性層を有していてもよい。
結合剤としては、上記の磁性層の結合剤と同じ樹脂であることが好ましい。
【００５９】
＜非磁性粉末＞
非磁性層に使用する非磁性粉末は、無機物質でも有機物質でもよい。また、非磁性層には非磁性粉末と共に、必要に応じてカーボンブラックを混合してもよい。
本発明における非磁性層に用いられる無機粉末は、非磁性粉末であり、例えば、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等の無機質化合物から選択することができる。
【００６０】
無機化合物としては例えばα化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、チタンカ−バイト、酸化チタン、二酸化珪素、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化タングステン、酸化ジルコニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二硫化モリブデンなどが単独又は組み合わせで使用される。特に好ましいのは、粒度分布の小ささ、機能付与の手段が多いこと等から、二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、硫酸バリウムであり、更に好ましいのは二酸化チタン、α酸化鉄である。
【００６１】
これら非磁性粉末の粒子サイズは０．００５μｍ〜２μｍが好ましいが、必要に応じて粒子サイズの異なる非磁性粉末を組み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせることもできる。とりわけ好ましいのは非磁性粉末の粒子サイズは０．０１μｍ〜０．２μｍである。特に、非磁性粉末が粒状金属酸化物である場合は、平均粒子径０．０８μｍ以下が好ましく、針状金属酸化物である場合は、長軸長が０．３μｍ以下であることが好ましい。タップ密度は、好ましくは０．０５ｇ／ｍｌ〜２ｇ／ｍｌ、より好ましくは０．２ｇ／ｍｌ〜１．５ｇ／ｍｌである。非磁性粉末の含水率は、好ましくは０．１重量％〜５重量％、より好ましくは０．２重量％〜３重量％、更に好ましくは０．３重量％〜１．５重量％である。非磁性粉末のｐＨは好ましくは２〜１１であるが、ｐＨは５．５〜１０の間が特に好ましい。非磁性粉末の比表面積は、好ましくは１ｍ2／ｇ〜１００ｍ2／ｇ、より好ましくは５ｍ2／ｇ〜８０ｍ2／ｇ、更に好ましくは１０ｍ2／ｇ〜７０ｍ2／ｇである。非磁性粉末の結晶子サイズは０．００４μｍ〜１μｍが好ましく、０．０４μｍ〜０．１μｍが更に好ましい。ＤＢＰ（ジブチルフタレート）を用いた吸油量は、好ましくは５ｍｌ／１００ｇ〜１００ｍｌ／１００ｇ、より好ましくは１０ｍｌ／１００ｇ〜８０ｍｌ／１００ｇ、更に好ましくは２０ｍｌ／１００ｇ〜６０ｍｌ／１００ｇである。比重は、好ましくは１〜１２、より好ましくは３〜６である。形状は針状、球状、多面体状、板状のいずれでもよい。
【００６２】
強熱減量は２０重量％以下であることが好ましく、本来ないことが最も好ましいと考えられる。本発明に用いられる上記非磁性粉末のモース硬度は４〜１０のものが好ましい。これらの粉体表面のラフネスファクターは０．８〜１．５が好ましく、更に好ましいラフネスファクターは０．９〜１．２である。非磁性粉末のＳＡ（ステアリン酸）吸着量は、好ましくは１μｍｏｌ／ｍ2〜２０μｍｏｌ／ｍ2、より好ましくは２μｍｏｌ／ｍ2〜１５μｍｏｌ／ｍ2、更に好ましくは３μｍｏｌ／ｍ2〜８μｍｏｌ／ｍ2である。非磁性粉末の２５℃での水への湿潤熱は２００ｅｒｇ／ｃｍ2〜６００ｅｒｇ／ｃｍ2（２０μＪ／ｃｍ2〜６０μＪ／ｃｍ2）の範囲にあることが好ましい。また、この湿潤熱の範囲にある溶媒を使用することができる。ｐＨは３〜６の間にあることが好ましい。非磁性粉末の水溶性Ｎａは０ｐｐｍ〜１５０ｐｐｍ、水溶性Ｃａは０ｐｐｍ〜５０ｐｐｍであることが好ましい。
【００６３】
これらの非磁性粉末の表面にはＡｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＳｎＯ2、Ｓｂ2Ｏ3、ＺｎＯ、Ｙ2Ｏ3で表面処理することが好ましい。特に分散性に好ましいのはＡｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2であるが、更に好ましいのはＡｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＺｒＯ2である。これらは組み合わせて使用してもよいし、単独で用いることもできる。また、目的に応じて共沈させた表面処理層を用いてもよいし、先ずアルミナで処理した後にその表層をシリカで処理する方法、又はその逆の方法を採ることもできる。また、表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても構わないが、均質で密である方が一般には好ましい。
【００６４】
本発明の磁気記録媒体における非磁性層に用いられる非磁性粉末の具体的な例としては、昭和電工製ナノタイト、住友化学製ＨＩＴ−１００，ＺＡ−Ｇ１、戸田工業社製αヘマタイトＤＰＮ−２５０，ＤＰＮ−２５０ＢＸ，ＤＰＮ−２４５，ＤＰＮ−２７０ＢＸ，ＤＢＮ−ＳＡ１，ＤＢＮ−ＳＡ３、石原産業製酸化チタンＴＴＯ−５１Ｂ，ＴＴＯ−５５Ａ，ＴＴＯ−５５Ｂ，ＴＴＯ−５５Ｃ，ＴＴＯ−５５Ｓ，ＴＴＯ−５５Ｄ，ＳＮ−１００、αヘマタイトＥ２７０，Ｅ２７１，Ｅ３００，Ｅ３０３、チタン工業製酸化チタンＳＴＴ−４Ｄ，ＳＴＴ−３０Ｄ，ＳＴＴ−３０，ＳＴＴ−６５Ｃ、αヘマタイトα−４０、テイカ製ＭＴ−１００Ｓ，ＭＴ−１００Ｔ，ＭＴ−１５０Ｗ，ＭＴ−５００Ｂ，ＭＴ−６００Ｂ，ＭＴ−１００Ｆ，ＭＴ−５００ＨＤ、堺化学製ＦＩＮＥＸ−２５，ＢＦ−１，ＢＦ−１０，ＢＦ−２０，ＳＴ−Ｍ、同和鉱業製ＤＥＦＩＣ−Ｙ，ＤＥＦＩＣ−Ｒ、日本アエロジル製ＡＳ２ＢＭ，ＴｉＯ2Ｐ２５、宇部興産製１００Ａ，５００Ａ、及びそれを焼成したものが挙げられる。
【００６５】
特に好ましい非磁性粉末は二酸化チタンとα−酸化鉄である。
α−酸化鉄（ヘマタイト）は以下のような諸条件の基で実施される。即ち、本発明に用いることができるα−Ｆｅ2Ｏ3粒子粉末は、通常の（１）第一鉄水溶液に等量以上水酸化アルカリ水溶液を加えて得られる水酸化第一鉄コロイドを含む懸濁液をｐＨ１１以上にて８０℃以下の温度で酸素含有ガスを通気して酸化反応を行うことにより針状ゲータイト粒子を生成させる方法、（２）第一鉄塩水溶液と炭酸アルカリ水溶液とを反応させて得られるＦｅＣＯ3を含む懸濁液に酸素含有ガスを通気して酸化反応を行うことにより紡錘状を呈したゲータイト粒子を生成させる方法、（３）第一鉄塩水溶液に等量未満の水酸化アルカリ水溶液又は炭酸アルカリ水溶液を添加して得られる水酸化第一鉄コロイドを含む第一鉄塩水溶液に酸素含有ガスを通気して酸化反応を行うことにより針状ゲータイト核粒子を生成させ、次いで、該針状ゲータイト核粒子を含む第一鉄塩水溶液に、該第一鉄塩水溶液中のＦｅ2+に対し等量以上の水酸化アルカリ水溶液を添加した後、酸素含有ガスを通気して前記針状ゲータイト核粒子を成長させる方法、及び（４）第一鉄水溶液と等量未満の水酸化アルカリ又は炭酸アルカリ水溶液を添加して得られる水酸化第一鉄コロイドを含む第一鉄塩水溶液に酸素含有ガスを通気して酸化反応を行うことにより針状ゲータイト核粒子を生成させ、次いで、酸性乃至中性領域で前記針状ゲータイト核粒子を成長させる方法等により得られた針状ゲータイト粒子を前駆体粒子とする。
【００６６】
なお、ゲータイト粒子の生成反応中に粒子粉末の特性向上等のために通常添加されているＮｉ、Ｚｎ、Ｐ、Ｓｉ等の異種元素が添加されていても支障はない。前駆体粒子である針状ゲータイト粒子を２００℃〜５００℃の温度範囲で脱水するか、必要に応じて、更に３５０℃〜８００℃の温度範囲で加熱処理により焼き鈍しをして針状α−Ｆｅ2Ｏ3粒子を得る。なお、脱水又は焼き鈍しされる針状ゲータイト粒子の表面にＰ、Ｓｉ、Ｂ、Ｚｒ、Ｓｂ等の焼結防止剤が付着していても支障はない。３５０℃〜８００℃の温度範囲で加熱処理により焼き鈍しをするのは、脱水されて得られた針状α−Ｆｅ2Ｏ3粒子の粒子表面に生じている空孔を焼き鈍しにより、粒子の極表面を溶融させて空孔をふさいで平滑な表面形態とさせることが好ましいからである。
【００６７】
本発明において用いられるα−Ｆｅ2Ｏ3粒子粉末は前記脱水又は焼き鈍しをして得られた針状α−Ｆｅ2Ｏ3粒子を水溶液中に分散して懸濁液とし、Ａｌ化合物を添加しｐＨ調整をして前記α−Ｆｅ2Ｏ3粒子の粒子表面に前記添加化合物を被覆した後、濾過、水洗、乾燥、粉砕、必要により更に脱気・圧密処理等を施すことにより得られる。
用いられるＡｌ化合物は酢酸アルミニウム、硫酸アルミニウム、塩化アルミニウム、硝酸アルミニウム等のアルミニウム塩やアルミン酸ソーダ等のアルミン酸アルカリ塩を使用することができる。
この場合のＡｌ化合物添加量はα−Ｆｅ2Ｏ3粒子粉末に対してＡｌ換算で０．０１重量％〜５０重量％である。上記範囲であると、結合剤樹脂中における分散が十分であり、粒子表面に浮遊するＡｌ化合物同士が少なく、Ａｌ化合物同士が相互作用しにくいため好ましい。
【００６８】
本発明における非磁性層の非磁性粉末においては、Ａｌ化合物とともにＳｉ化合物を始めとして、Ｐ、Ｔｉ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂから選ばれる化合物の１種又は２種以上を用いて被覆することもできる。Ａｌ化合物とともに用いるこれらの化合物の添加量はそれぞれα−Ｆｅ2Ｏ3粒子粉末に対して０．０１重量％〜５０重量％の範囲であることが好ましい。上記範囲であると、添加による分散性向上の効果が十分得られ、また、粒子表面以外に浮遊する化合物同士が少なく、前記化合物同士が相互作用しにくいため好ましい。
【００６９】
二酸化チタンの製法に関しては以下の通りである。これらの酸化チタンの製法は主に硫酸法と塩素法がある。硫酸法はイルミナイトの源鉱石を硫酸で蒸解し、Ｔｉ，Ｆｅなどを硫酸塩として抽出する。硫酸鉄を晶析分離して除き、残りの硫酸チタニル溶液を濾過精製後、熱加水分解を行って、含水酸化チタンを沈澱させる。これを濾過洗浄後、夾雑不純物を洗浄除去し、粒径調節剤などを添加した後、８０℃〜１，０００℃で焼成すれば粗酸化チタンとなる。ルチル型とアナターゼ型は加水分解の時に添加される核剤の種類によりわけられる。この粗酸化チタンを粉砕、整粒、表面処理などを施して作成する。塩素法の原鉱石は天然ルチルや合成ルチルが用いられる。鉱石は高温還元状態で塩素化され、ＴｉはＴｉＣｌ4に、ＦｅはＦｅＣｌ2となり、冷却により固体となった酸化鉄は液体のＴｉＣｌ4と分離される。得られた粗ＴｉＣｌ4は精留により精製した後核生成剤を添加し、１，０００℃以上の温度で酸素と瞬間的に反応させ、粗酸化チタンを得る。この酸化分解工程で生成した粗酸化チタンに顔料的性質を与えるための仕上げ方法は硫酸法と同じである。
【００７０】
表面処理は上記酸化チタン素材を乾式粉砕後、水と分散剤を加え、湿式粉砕、遠心分離により粗粒分級が行われる。その後、微粒スラリーは表面処理槽に移され、ここで金属水酸化物の表面被覆が行われる。まず、所定量のＡｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｎなどの塩類水溶液を加え、これを中和する酸、又はアルカリを加えて、生成する含水酸化物で酸化チタン粒子表面を被覆する。副生する水溶性塩類はデカンテーション、濾過、洗浄により除去し、最終的にスラリーｐＨを調節して濾過し、純水により洗浄する。洗浄済みケーキはスプレードライヤー又はバンドドライヤーで乾燥される。最後にこの乾燥物はジェットミルで粉砕され、製品になる。
また、水系ばかりでなく酸化チタン粉体にＡｌＣｌ3、ＳｉＣｌ4の蒸気を通じその後水蒸気を流入してＡｌ、Ｓｉ表面処理を施すことも可能である。その他の顔料の製法については、G. D. Parfitt and K. S. W. Sing "Characterization of Powder Surfaces", Academic Press, 1976を参考にすることができる。
【００７１】
非磁性層にカ−ボンブラックを混合させて公知の効果である表面電気抵抗Ｒｓを下げること、光透過率を小さくすることができるとともに、所望のマイクロビッカース硬度を得ることができる。また、非磁性層にカーボンブラックを含ませることで潤滑剤貯蔵の効果をもたらすことも可能である。カーボンブラックの種類はゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック等を用いることができる。非磁性層のカーボンブラックは所望する効果によって、以下のような特性を最適化すべきであり、併用することでより効果が得られることがある。
【００７２】
非磁性層のカーボンブラックの比表面積は、好ましくは１００ｍ2／ｇ〜５００ｍ2／ｇ、より好ましくは１５０ｍ2／ｇ〜４００ｍ2／ｇ、ＤＢＰ吸油量は、好ましくは２０ｍｌ／１００ｇ〜４００ｍｌ／１００ｇ、より好ましくは３０ｍｌ／１００ｇ〜２００ｍｌ／１００ｇである。カーボンブラックの粒子径は、好ましくは５ｎｍ〜８０ｎｍ、より好ましく１０ｎｍ〜５０ｎｍ、更に好ましくは１０ｎｍ〜４０ｎｍである。カーボンブラックのｐＨは２〜１０、含水率は０．１％〜１０％、タップ密度は０．１ｇ／ｍｌ〜１ｇ／ｍｌが好ましい。
【００７３】
本発明に用いられるカーボンブラックの具体的な例としては、キャボット社製ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ  ２０００，１３００，１０００，９００，８００，８８０，７００、ＶＵＬＣＡＮ  ＸＣ−７２、三菱化成工業社製＃３０５０Ｂ，＃３１５０Ｂ，＃３２５０Ｂ，＃３７５０Ｂ，＃３９５０Ｂ，＃９５０，＃６５０Ｂ，＃９７０Ｂ，＃８５０Ｂ，ＭＡ−６００，ＭＡ−２３０，＃４０００，＃４０１０、コロンビアカーボン社製ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ  ＳＣ、ＲＡＶＥＮ  ８８００，８０００，７０００，５７５０，５２５０，３５００，２１００，２０００，１８００，１５００，１２５５，１２５０、アクゾー社製ケッチェンブラックＥＣ、ケッチェン・ブラック・インターナショナル社製ケッチェンブラックＥＣなどが挙げられる。
【００７４】
カーボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわない。また、カーボンブラックを塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカーボンブラックは上記無機質粉末に対して５０重量％を越えない範囲、非磁性層総重量の４０％を越えない範囲で使用することが好ましい。これらのカーボンブラックは単独、又は組合せで使用することができる。本発明で使用できるカーボンブラックは例えば「カーボンブラック便覧」（カーボンブラック協会編）を参考にすることができる。
【００７５】
また非磁性層には有機質粉末を目的に応じて、添加することもできる。例えば、アクリルスチレン系樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレン樹脂も使用することができる。その製法は特開昭６２−１８５６４号公報、特開昭６０−２５５８２７号公報に記されているようなものが使用できる。
非磁性層の結合剤、潤滑剤、分散剤、添加剤、溶剤、分散方法その他は、磁性層のそれが適用できる。特に、結合剤量、種類、添加剤、分散剤の添加量、種類に関しては磁性層に関する公知技術が適用できる。
【００７６】
III．非磁性支持体
本発明に用いることのできる非磁性支持体としては、二軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミド、ポリアミドイミド、芳香族ポリアミド等の公知のものが挙げられる。これらの中でもポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドが好ましい。
これらの支持体はあらかじめコロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、熱処理などを行ってもよい。また、本発明に用いることのできる非磁性支持体の表面粗さはカットオフ値０．２５ｍｍにおいて中心平均粗さＲａ３ｎｍ〜１０ｎｍが好ましい。
【００７７】
IV．平滑化層
本発明の磁気記録媒体には、平滑化層を設けてもよい。平滑化層とは、非磁性支持体表面の突起を埋めるための層であり、非磁性支持体上に磁性層を設けた磁気記録媒体の場合は非磁性支持体と磁性層の間、非磁性支持体上に非磁性層及び磁性層をこの順に設けた磁気記録媒体の場合には非磁性支持体と非磁性層の間に設けられる。
平滑化層は、放射線硬化型化合物を放射線照射により硬化させて形成することができる。放射線硬化型化合物とは、紫外線又は電子線などの放射線を照射すると重合又は架橋を開始し、高分子化して硬化する性質を有する化合物をいう。
【００７８】
V．バックコート層
一般に、コンピュータデータ記録用の磁気テープは、ビデオテープ、オーディオテープに比較して繰り返し走行性が強く要求される。このような高い保存安定性を維持させるために、非磁性支持体の非磁性層及び磁性層が設けられた面とは反対の面にバックコート層を設けることもできる。バックコート層用塗料は、研磨剤、帯電防止剤などの粒子成分と結合剤とを有機溶媒に分散させる。粒状成分として各種の無機顔料やカーボンブラックを使用することができる。また、結合剤としては、例えば、ニトロセルロース、フェノキシ樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン等の樹脂を単独又はこれらを混合して使用することができる。
【００７９】
VI．層構成
本発明で用いられる磁気記録媒体の構成において、非磁性支持体の好ましい厚さは、３μｍ〜８０μｍである。また、非磁性支持体と非磁性層又は磁性層の間に平滑化層を設けた場合、平滑化層の厚さは０．０１μｍ〜０．８μｍであることが好ましく、０．０２μｍ〜０．６μｍであることがより好ましい。また、非磁性支持体の非磁性層及び磁性層が設けられた面とは反対側の面に設けられたバックコート層の厚さは、０．１μｍ〜１．０μｍであることが好ましく、０．２μｍ〜０．８μｍであることがより好ましい。
【００８０】
磁性層の厚さは、用いる磁気ヘッドの飽和磁化量やヘッドギャップ長、記録信号の帯域により最適化されるものであるが、０．０１μｍ〜０．５μｍであることが好ましく、０．０２μｍ〜０．３μｍであることがより好ましく、０．０３μｍ〜０．２μｍであることが更に好ましい。また、磁性層の厚さ変動率は±５０％以内が好ましく、更に好ましくは±４０％以内である。磁性層は少なくとも一層あればよく、磁性層を異なる磁気特性を有する２層以上に分離してもかまわず、公知の重層磁性層に関する構成が適用できる。
【００８１】
非磁性層の厚さは、０．２μｍ〜３．０μｍであることが好ましく、０．３μｍ〜２．５μｍであることがより好ましく、０．４μｍ〜２．０μｍであることが更に好ましい。なお、本発明の磁気記録媒体における非磁性層は、実質的に非磁性であればその効果を発揮するものであり、例えば不純物として、あるいは意図的に少量の磁性体を含んでいても、本発明の効果を示すものであり、本発明の磁気記録媒体と実質的に同一の構成とみなすことができる。なお、実質的に同一とは、非磁性層の残留磁束密度が１０ｍＴ（１００Ｇ）以下又は抗磁力が７．９６ｋＡ／ｍ（１００ Ｏｅ）以下であることを示し、好ましくは残留磁束密度と抗磁力を持たないことを意味する。
【００８２】
VII．製造方法
本発明で用いられる磁気記録媒体の磁性層塗布液を製造する工程は、少なくとも混練工程、分散工程、及び、これらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からなる。個々の工程はそれぞれ２段階以上に分かれていてもかまわない。本発明で用いられる六方晶フェライト強磁性粉末又は強磁性金属粉末、非磁性粉末、結合剤、カーボンブラック、研磨材、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤などすべての原料はどの工程の最初又は途中で添加してもかまわない。また、個々の原料を２つ以上の工程で分割して添加してもかまわない。例えば、ポリウレタンを混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のための混合工程で分割して投入してもよい。本発明の目的を達成するためには、従来の公知の製造技術を一部の工程として用いることができる。混練工程ではオープンニーダ、連続ニーダ、加圧ニーダ、エクストルーダなど強い混練力をもつものを使用することが好ましい。ニーダを用いる場合は磁性粉末又は非磁性粉末と結合剤のすべて又はその一部（但し、全結合剤の３０％以上が好ましい）及び磁性体１００重量部に対し１５重量部〜５００重量部の範囲で混練処理されることが好ましい。これらの混練処理の詳細については特開平１−１０６３３８号公報、特開平１−７９２７４号公報に記載されている。また、磁性層用液及び非磁性層用液を分散させるには、ガラスビーズを用いることができる。このようなガラスビーズは、高比重の分散メディアであるジルコニアビーズ、チタニアビーズ、スチールビーズが好適である。これら分散メディアの粒径と充填率は最適化して用いられる。分散機は公知のものを使用することができる。
【００８３】
本発明の磁気記録媒体の製造方法は、例えば、走行下にある非磁性支持体の表面に磁性層用塗布液を所定の膜厚となるように塗布する。ここで複数の磁性層用塗布液を逐次あるいは同時に重層塗布してもよく、下層の磁性層用塗布液と上層の磁性層用塗布液とを逐次あるいは同時に重層塗布してもよい。上記磁性層用塗布液もしくは下層の磁性層用塗布液を塗布する塗布機としては、エアードクターコート、ブレードコート、ロッドコート、押出しコート、エアナイフコート、スクイズコート、含浸コート、リバースロールコート、トランスファーロールコート、グラビヤコート、キスコート、キャストコート、スプレイコート、スピンコート等が利用できる。これらについては例えば（株）総合技術センター発行の「最新コーティング技術」（昭和５８年５月３１日）を参考にできる。
【００８４】
磁性層塗布液の塗布層は、磁気テープの場合、磁性層塗布液の塗布層中に含まれる強磁性粉末にコバルト磁石やソレノイドを用いて長手方向に磁場配向処理を施す。ディスクの場合、配向装置を用いず無配向でも十分に等方的な配向性が得られることもあるが、コバルト磁石を斜めに交互に配置すること、ソレノイドで交流磁場を印加するなど公知のランダム配向装置を用いることが好ましい。等方的な配向とは強磁性金属粉末の場合、一般的には面内２次元ランダムが好ましいが、垂直成分をもたせて３次元ランダムとすることもできる。六方晶フェライトの場合は一般的に面内及び垂直方向の３次元ランダムになりやすいが、面内２次元ランダムとすることも可能である。また異極対向磁石など公知の方法を用い、垂直配向とすることで円周方向に等方的な磁気特性を付与することもできる。特に高密度記録を行う場合は垂直配向が好ましい。また、スピンコートを用いて円周配向としてもよい。
乾燥風の温度、風量、塗布速度を制御することで塗膜の乾燥位置を制御できるようにすることが好ましく、塗布速度は２０ｍ／分〜１，０００ｍ／分、乾燥風の温度は６０℃以上が好ましい。また磁石ゾーンに入る前に適度の予備乾燥を行うこともできる。
【００８５】
乾燥された後、塗布層に表面平滑化処理を施す。表面平滑化処理には、例えばスーパーカレンダーロールなどが利用される。表面平滑化処理を行うことにより、乾燥時の溶剤の除去によって生じた空孔が消滅し磁性層中の強磁性粉末の充填率が向上するので、電磁変換特性の高い磁気記録媒体を得ることができる。
カレンダ処理ロールとしてはエポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド等の耐熱性プラスチックロールを使用する。また金属ロールで処理することもできる。本発明の磁気記録媒体は、表面の中心面平均粗さが、カットオフ値０．２５ｍｍにおいて０．１ｎｍ〜４．０ｎｍの範囲であることが好ましく、０．５ｎｍ〜３．０ｎｍの範囲という極めて優れた平滑性を有する表面であることがより好ましい。その方法として、例えば上述したように特定の強磁性粉末と結合剤を選んで形成した磁性層を上記カレンダ処理を施すことにより行われる。カレンダ処理条件としては、カレンダーロールの温度を６０℃〜１００℃の範囲とすることが好ましく、より好ましくは７０℃〜１００℃の範囲、特に好ましくは８０℃〜１００℃の範囲であり、圧力は１００ｋｇ／ｃｍ〜５００ｋｇ／ｃｍの範囲とすることが好ましく、より好ましくは２００ｋｇ／ｃｍ〜４５０ｋｇ／ｃｍの範囲であり、特に好ましくは３００ｋｇ／ｃｍ〜４００ｋｇ／ｃｍの範囲である。
【００８６】
熱収縮率低減手段として、低テンションでハンドリングしながらウエッブ状で熱処理する方法と、バルク又はカセットに組み込んだ状態などテープが積層した形態で熱処理する方法（サーモ処理）があり、両者が利用できる。前者は、バックコート層表面の突起写りの影響が少ないが、熱収縮率を大きく下げることができない。一方、後者のサーモ処理は、熱収縮率を大幅に改善できるが、バックコート層表面の突起写りの影響を強く受けるため、磁性層が面荒れし、出力低下及びノイズ増加を引き起こす。特に、サーモ処理を伴う磁気記録媒体で、高出力、低ノイズの磁気記録媒体を供給することができる。得られた磁気記録媒体は、裁断機、打抜機などを使用して所望の大きさに裁断して使用することができる。
【００８７】
VIII．物理特性
本発明の磁気記録媒体における磁性層の飽和磁束密度は、好ましくは１００ｍＴ〜３００ｍＴ（１，０００Ｇ〜３，０００Ｇ）である。また磁性層の抗磁力（Ｈｒ）は、好ましくは１４３．３ｋＡ／ｍ〜３１８．４ｋＡ／ｍ（１，８００ Ｏｅ〜４，０００ Ｏｅ）であるが、より好ましくは１５９．２ｋＡ／ｍ〜２７８．６ｋＡ／ｍ（２，０００ Ｏｅ〜３，５００ Ｏｅ）である。抗磁力の分布は狭い方が好ましく、ＳＦＤ及びＳＦＤｒは０．６以下、更に好ましくは０．２以下である。
【００８８】
本発明の磁気記録媒体に使用するヘッドに対する摩擦係数は、温度−１０℃〜４０℃、湿度０％〜９５％の範囲において好ましくは０．５以下であり、より好ましくは０．３以下である。また、帯電位は−５００Ｖ乃至＋５００Ｖ以内が好ましい。磁性層の０．５％伸びでの弾性率は、面内各方向で好ましくは０．９８Ｇｐａ〜１９．６ＧＰａ（１００ｋｇ／ｍｍ2〜２，０００ｋｇ／ｍｍ2）、破断強度は、好ましくは９８ＭＰａ〜６８６ＭＰａ（１０ｋｇ／ｍｍ2〜７０ｋｇ／ｍｍ2）、磁気記録媒体の弾性率は、面内各方向で好ましくは０．９８ＧＰａ〜１４．７ＧＰａ（１００ｋｇ／ｍｍ2〜１，５００ｋｇ／ｍｍ2）、残留のびは、好ましくは０．５％以下、１００℃以下のあらゆる温度での熱収縮率は、好ましくは１％以下、更に好ましくは０．５％以下、最も好ましくは０．１％以下である。
【００８９】
磁性層のガラス転移温度（１１０Ｈｚで測定した動的粘弾性測定の損失弾性率の極大点）は５０℃〜１８０℃が好ましく、非磁性層のそれは０℃〜１８０℃が好ましい。損失弾性率は１×１０7Ｐａ〜８×１０8Ｐａ（１×１０8ｄｙｎｅ／ｃｍ2〜８×１０9ｄｙｎｅ／ｃｍ2）の範囲にあることが好ましく、損失正接は０．２以下であることが好ましい。損失正接が大きすぎると粘着故障が発生しやすい。これらの熱特性や機械特性は媒体の面内各方向において１０％以内でほぼ等しいことが好ましい。
磁性層中に含まれる残留溶媒は好ましくは１００ｍｇ／ｍ2以下、更に好ましくは１０ｍｇ／ｍ2以下である。塗布層が有する空隙率は非磁性層、磁性層とも好ましくは３０容量％以下、更に好ましくは２０容量％以下である。空隙率は高出力を果たすためには小さい方が好ましいが、目的によってはある値を確保した方がよい場合がある。例えば、繰り返し用途が重視されるディスク媒体では空隙率が大きい方が保存安定性は好ましいことが多い。
【００９０】
デジタルオプチカルプロフィメーター（ＷＹＫＯ製ＴＯＰＯ−３Ｄ）を用いて測定した磁性層の中心面表面粗さＲａは、好ましくは４．０ｎｍ以下であり、より好ましくは３．０ｎｍ以下であり、更に好ましくは２．０ｎｍ以下である。磁性層の最大高さＳＲmaxは、０．５μｍ以下、十点平均粗さＳＲｚは０．３μｍ以下、中心面山高さＳＲｐは０．３μｍ以下、中心面谷深さＳＲｖは０．３μｍ以下、中心面面積率ＳＳｒは２０％〜８０％、平均波長Ｓλａは５μｍ〜３００μｍが好ましい。磁性層の表面突起は０．０１μｍ〜１μｍの大きさのものを０個〜２，０００個の範囲で任意に設定することが可能であり、これにより電磁変換特性、摩擦係数を最適化することが好ましい。これらは支持体のフィラーによる表面性のコントロールや磁性層に添加する粉末の粒径と量、カレンダ処理のロール表面形状などで容易にコントロールすることができる。カールは±３ｍｍ以内とすることが好ましい。
【００９１】
本発明の磁気記録媒体における非磁性層と磁性層との間では、目的に応じ非磁性層と磁性層でこれらの物理特性を変えることができるのは容易に推定されることである。例えば、磁性層の弾性率を高くし保存安定性を向上させると同時に非磁性層の弾性率を磁性層より低くして磁気記録媒体のヘッドへの当りをよくするなどである。
本発明の磁気記録媒体は、磁気記録媒体に磁気記録された信号を再生するヘッドについては特に制限はないが、ＭＲヘッドのために用いることが好ましい。本発明の磁気記録媒体の再生にＭＲヘッドを用いる場合、ＭＲヘッドには特に制限はなく、例えばＧＭＲヘッドやＴＭＲヘッドを用いることもできる。また、磁気記録に用いるヘッドは特に制限されないが、飽和磁化量が１．０Ｔ以上であることが好ましく、１．５Ｔ以上であることがより好ましい。
【実施例】
【００９２】
以下、実施例に基づき本発明を具体的に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。なお、実施例中の「部」は、断らない限り「重量部」の意味である。
（実施例１）
〔潤滑剤Ａの合成例〕
フラスコに、１−テトラデカノール８６部、ヘキサン２６４部及びピリジン３５部を入れ、撹拌しながら冷却した。このフラスコに更に冷却と撹拌を続けながらクロロギ酸２−エチルヘキシル４２部を２時間かけて滴下した。更にこのフラスコ内部を撹拌しながら、室温に出して６時間経過させた。この反応液に水を加えて撹拌し、静置して分液漏斗を用いて水層を廃棄し、メタノールを加えて撹拌、静置、メタノール相を分離する操作を３回繰り返した。残ったヘキサン溶液を減圧濃縮し、１３５部の無色透明液体である潤滑剤Ａの粗製物が得られた。
この液体をヘキサンで２倍希釈して、カラムクロマトグラフィーで精製し、ヘキサン溶液を減圧濃縮することで、７７部の潤滑剤Ａが得られた。
【００９３】
【化３】
2008239575.tif 000004
【００９４】
（実施例２及び３）
〔潤滑剤Ｂ及びＣの合成例〕
実施例１の１−テトラデカノールを１−ヘキサデカノール、１−ドデカノールに変更した以外は、実施例１と同様の操作を行い、潤滑剤Ｂ及びＣを得た。
【００９５】
【化４】
2008239575.tif 000005
【００９６】
（実施例４及び５）
〔潤滑剤Ｄ及びＥの合成例〕
実施例１のクロロギ酸２−エチルヘキシルをクロロギ酸２−メチルプロピル、クロロギ酸２−メチルブチルに変更した以外は、実施例１と同様の操作を行い、潤滑剤Ｄ及びＥを得た。
【００９７】
【化５】
2008239575.tif 000006
【００９８】
（実施例６及び７）
〔潤滑剤Ｆ及びＧの合成例〕
実施例１の１−テトラデカノールを１−ドデカノールに、クロロギ酸２−エチルヘキシルをクロロギ酸２−メチルプロピル、クロロギ酸２−メチルブチルに変更した以外は、実施例１と同様の操作を行い、潤滑剤Ｆ及びＧを得た。
【００９９】
【化６】
2008239575.tif 000007
【０１００】
（比較例１及び２）
〔潤滑剤Ｈ及びＩの合成例〕
実施例１の１−テトラデカノールを１−オクタデカノールに、クロロギ酸２−エチルヘキシルをクロロギ酸ブチル、クロロギ酸メチルに変更した以外は、実施例１と同様の操作を行い、潤滑剤Ｈ及びＩを得た。
【０１０１】
【化７】
2008239575.tif 000008
【０１０２】
（比較例３）
〔潤滑剤Ｊの合成例〕
実施例１の１−テトラデカノールを１−オクタデカノールに、クロロギ酸２−エチルヘキシルをクロロギ酸２−エチルヘキシルに変更した以外は、実施例１と同様の操作を行い、潤滑剤Ｊを得た。
【０１０３】
【化８】
2008239575.tif 000009
【０１０４】
（比較例４）
〔潤滑剤Ｋの合成例〕
実施例１の１−テトラデカノールを１−オクタデカノールに、クロロギ酸２−エチルヘキシルを２−エチルヘキシルカルボン酸塩化物に変更した以外は、実施例１と同様の操作を行い、潤滑剤Ｋを得た。
【０１０５】
【化９】
2008239575.tif 000010
【０１０６】
＜測定方法＞
潤滑剤Ａ及びＢ、潤滑剤Ｈ乃至ＫについてはＤＳＣ（変温速度−５℃／ｍｉｎ）により、融点測定を行った。潤滑剤Ａは−２３℃、潤滑剤Ｂは−３℃であった。
潤滑剤Ｅ乃至Ｇについては−５℃に設定した恒温槽中に２４時間放置後、恒温槽内にて５分間振とうし、液体状態を保持していることを確認した。
【０１０７】
（実施例８乃至１４、比較例５乃至８）
＜上層用磁性液の調製＞
強磁性金属粉末（Ｃｏ／Ｆｅ＝３０原子％、Ｈｃ：２，３５０エルステッド（１８７ｋＡ／ｍ）、ＳBET：５５ｍ2／ｇ、表面処理層：Ａｌ2Ｏ3，ＳｉＯ2、Ｙ2Ｏ3、平均長軸長：５０ｎｍ、平均針状比：７、σｓ：１２０Ａ・ｍ2／ｋｇ）１００部をオープンニーダーで１０分間粉砕し、次いで、
カーボンブラック（平均粒径８０ｎｍ）                            ２部
塩化ビニル樹脂（ＭＲ−１１０；日本ゼオン（株）製）            １０部
ポリエステルポリウレタン（ＵＲ８３００；東洋紡績（株）製）      ６部（固形分）
メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１                  ６０部
を加えて６０分間混練した。この混練物にオープンニーダーを運転しながら、
メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１                ２００部
を６時間かけて添加した。次いで、
α−Ａｌ2Ｏ3分散液（固形分４０％）                            ２０部
を加えてサンドグラインダーで１２０分間分散した。更に、
ポリイソシアネート                                              ４部（固形分）
（コロネート３０４１；日本ポリウレタン工業（株）製）
ステアリン酸                                                    １部
表中の潤滑剤                                                    ２部
ステアリン酸アミド                                          ０．２部
トルエン                                                      ５０部
を加えて２０分間撹拌混合した。その後、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、磁性塗料を調製した。
＜下層用非磁性液の調製＞
酸化チタン（平均粒径０．０３５μｍ、結晶型ルチル、ＴｉＯ2含有量９０％以上、表面処理層；アルミナ、ＳBET３５ｍ2／ｇ乃至４２ｍ2／ｇ、真比重４．１、ｐＨ６．５乃至８．０）８５部、及びカーボンブラック（ケッチェンブラックＥＣ；日本ＥＣ製）１５部をオープンニーダーで１０分間粉砕し、次いで
塩化ビニル系共重合体（ＭＲ１１０；日本ゼオン（株）製）        １７部
スルホン酸含有ポリウレタン樹脂                                １０部（固形分）
（ＵＲ８２００；東洋紡績（株）製）
シクロヘキサノン                                              ６０部
を添加して６０分間混練し、次いで
メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝６／４                ２００部
を加えてサンドミルで１２０分間分散した。これに表１の潤滑剤と
ポリイソシアネート                                              ５部（固形分）
（コロネート３０４１；日本ポリウレタン工業（株）製）
ステアリン酸                                                    １部
表中の潤滑剤                                                    ２部
オレイン酸                                                      １部
メチルエチルケトン                                            ５０部
を加え、更に２０分間撹拌混合したあと、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、非磁性塗料を調製した。
【０１０８】
得られた非磁性塗料を１．５μｍに、更にその直後に磁性塗料を乾燥後の厚さが０．２μｍになるように、厚さ６２μｍのポリエチレンテレフタレ−ト支持体の表面に同時重層塗布した。磁性塗料が未乾燥の状態で５，０００ガウスのＣｏ磁石と４，０００ガウスのソレノイド磁石で磁場配向を行ない、溶剤を乾燥したものを金属ロール−金属ロール−金属ロール−金属ロール−金属ロール−金属ロール−金属ロールの組み合せによるカレンダー処理を(速度１００ｍ／ｍｉｎ、線圧３００ｋｇ／ｃｍ、温度９０℃)で行なった後１／２インチ幅にスリットした。
【０１０９】
＜測定方法＞
１．耐久性、保存安定性
テープの摺動耐久性を５℃、湿度８０％環境下で磁性層面をＡｌＴｉＣ製の円柱棒に接触させて荷重１００ｇ（Ｔ１）をかけ、２ｍ／ｓｅｃの摺動速度で繰り返し１０，０００パスまで摺動を行ったあとのテープダメージで評価した。なお、評価は以下のランクで行った。
また、ＬＴＯ−Ｇ３カートリッジ用のリールにテ−プを６００ｍ巻いた状態で６０℃、湿度９０％で６ヶ月保存した。保存後のテ−プも同様に評価した。
優秀：ややキズが見られるが、キズのない部分の方が多い。
良好：キズがない部分よりもキズがある部分の方が多い。
不良：磁性層が完全に剥離している。
【０１１０】
下記表１に、実施例８乃至１４及び比較例５乃至８における評価結果を示す。
【０１１１】
【表１】
2008239575.tif 000011