(57)【要約】【課題】簡単な構成で、インターロック機構の信頼性を向上させる。【解決手段】除電部２は、メンテナンス用の開口部２０ａをもつチャンバ本体と前記開口部２０ａを開閉する蓋体２１とを備えたチャンバ２０を有し、このチャンバ２０の内部に、基板に対して除電処理を施す軟Ｘ線式イオナイザ２６を備える。この除電部２は、閉止位置にある蓋体２１が開方向に操作されることにより作動する開閉スイッチと、この開閉スイッチの作動に基づき軟Ｘ線式イオナイザ２６を強制的に停止させる制御装置とを備える。また、処理用チャンバ２０の蓋体２１には、当該蓋体２１が前記閉止位置から開方向へ所定寸法以上変位するまで前記開口部２０ａを閉塞するためのリブ２１ｂが設けられている。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部を開放するための開口部をもつチャンバ本体と前記開口部を開閉するための蓋部材とを有する処理用チャンバを有し、この処理用チャンバの内部に、基板に対して所定の処理を施す処理手段を備えた基板処理装置において、
前記処理手段による基板の処理中に、所定の閉止位置にある前記蓋部材が開方向に所定寸法分だけ操作されたことを前記蓋部材の変位に基づいて検知する検知手段と、
この検知手段による前記変位の検知に基づいて前記処理手段の動作を強制的に停止させる停止手段と、を備え、
前記チャンバ本体および前記蓋部材の少なくとも一方は、前記蓋部材が前記閉止位置から開方向へ少なくとも前記所定寸法分以上変位するまで前記開口部を閉塞状態に保つ閉塞構造体を備えている
ことを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置において、
前記閉塞構造体は、前記蓋部材の裏面に突設され、前記開口部を介して前記チャンバ本体内に挿入される環状のリブからなることを特徴とする基板処理装置。
【請求項３】
請求項１に記載の基板処理装置において、
前記閉塞構造体は、前記開口部の縁部に沿って前記チャンバ本体に立設される環状の第１リブと、前記蓋部材の裏面に突設され、かつ前記蓋部材が前記所定の閉止位置にある状態で、前記第１リブの内側面および外側面の一方に近接対向する環状の第２リブとからなることを特徴とする基板処理装置。
【請求項４】
請求項１乃至３の何れか一項に記載の基板処理装置において、
前記処理手段は、基板に軟Ｘ線を照射して除電を行う除電装置であることを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＬＣＤ、ＰＤＰ用ガラス基板および半導体基板等の基板に対し、処理用チャンバ内で各種処理を施すように構成された基板処理装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、ＬＣＤ等の基板を処理用チャンバ内でローラ搬送しながら当該基板に対して処理液を供給することにより各種処理を施すようにした基板処理装置が知られている。また、処理用チャンバ内に軟Ｘ線イオナイザ（軟Ｘ線照射除電装置）を設置し、基板とローラとの接触により発生する静電気を除電することにより、当該静電気に起因したパーティクル付着等の不具合を防止するようにした装置も提案されている（例えば特許文献１）。
【０００３】
この種の基板処理装置には、通常、処理用チャンバの天井部分にメンテナンス用の開口部が設けられており、作業者がこの開口部上の蓋体を開閉操作することで開口部を介して処理用チャンバ内にアクセスできる構成となっている。軟Ｘ線イオナイザを備えた装置も同様であるが、当該装置では、イオナイザ作動中に誤って開口部が開放されると、Ｘ線が漏洩するため、一般には、前記蓋体に開閉スイッチを設け、除電処理中に蓋体の開操作が行われると、これを検知してイオナイザを強制的に停止させる構成となっている。つまり、インターロック機構が組み込まれた構成となっている。
【特許文献１】特開２０００−２１７２６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところが、上記のようなインターロック機構の場合、開閉スイッチの取付け状態や感度のバラツキ等によって、開閉スイッチが作動する前に開口部が僅かながら開いてしまうことが考えられる。そのため、このような不都合を確実に排除して、インターロック機構の信頼性を向上させることが望まれている。
【０００５】
なお、上記のような不都合を排除するために、開閉スイッチを増設することも考えられるが、この場合には、製造コストが嵩むばかりか、蓋体を開閉する際の操作方向の制約が増す等してメンテナンス性が悪くなることが考えられるため、必ずしも得策とは言えない。
【０００６】
本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、簡単な構成で、インターロック機構の信頼性を向上させることを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、上記の事情に鑑みてなされたものであり、内部を開放するための開口部をもつチャンバ本体と前記開口部を開閉するための蓋部材とを有する処理用チャンバを有し、この処理用チャンバの内部に、基板に対して所定の処理を施す処理手段を備えた基板処理装置において、前記処理手段による基板の処理中に、所定の閉止位置にある前記蓋部材が開方向に所定寸法分だけ操作されたことを前記蓋部材の変位に基づいて検知する検知手段と、この検知手段による前記変位の検知に基づいて前記処理手段の動作を強制的に停止させる停止手段と、を備え、前記チャンバ本体および前記蓋部材の少なくとも一方は、前記蓋部材が前記閉止位置から開方向へ少なくとも前記所定寸法分以上変位するまで前記開口部を閉塞状態に保つ閉塞構造体を備えているものである（請求項１）。
【０００８】
この装置では、処理手段の作動中に蓋部材が開操作され、当該蓋部材が開方向に所定寸法分だけ操作されたことが検知手段により検知されることにより処理手段の動作が強制的に停止される。この際、閉止位置から蓋部材を開方向に操作しても、少なくとも蓋部材が前記所定寸法分以上変位するまでは前記閉塞構造体により開口部が閉塞状態に保たれることとなる。そのため、検知手段による検知タイミングのバラツキ等の影響を排除して、前記検知手段による前記開操作の検知を、前記開口部が実際に開く前に確実に行わせることが可能となる。
【０００９】
より具体的に、前記閉塞構造体は、前記蓋部材の裏面に突設され、前記開口部を介して前記チャンバ本体内に挿入される環状のリブからなるものである（請求項２）。
【００１０】
この構成によれば、前記閉止位置から蓋部材が開操作されても、しばらくの間は蓋部材の前記リブが前記開口部からチャンバ本体内に挿入されたままの状態となる。そのため、蓋部材の裏面に前記リブを設けただけの簡素な構成でもって、蓋部材の開操作開始後、当該蓋体が前記所定寸法分以上変位するまで前記開口部を閉塞状態に保つことが可能となる。
【００１１】
また、別の構成として、前記閉塞構造体は、前記開口部の縁部に沿って前記チャンバ本体に立設される環状の第１リブと、前記蓋部材の裏面に突設され、かつ前記蓋部材が前記所定の閉止位置にある状態で、前記第１リブの内側面および外側面の一方に近接対向する環状の第２リブとからなるものでもよい（請求項３）。
【００１２】
この構成によれば、前記閉止位置から蓋部材が開操作されても、しばらくの間はチャンバ本体に設けられる第１リブと蓋部材に設けられる第２リブとが内外に重なった状態となる。そのため、蓋部材の裏面およびチャンバ本体にリブを設けただけの簡素な構成でもって、蓋部材の開操作開始後、当該蓋体が前記所定寸法分以上変位するまで前記開口部を閉塞状態に保つことが可能となる。
【００１３】
なお、前記処理手段として基板に軟Ｘ線を照射して除電を行う除電装置を有するものでは（請求項４）、蓋部材の誤操作による軟Ｘ線の漏洩を防止することが必要であるため、上記のような装置（請求項１乃至３の何れか一項）は、このような除電装置を備えた装置について特に有用なものとなる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の基板処理装置は、蓋部材が開方向に所定寸法分だけ操作されたことを検知手段により検知することにより処理手段の動作を強制的に停止するというインターロック機構を設けた上で、さらに、蓋部材等に閉塞構造体を設け、蓋部材が過って開操作されても、当該蓋部材が前記所定寸法分以上変位するまでは開口部が閉塞状態に保たれるように構成したので、検知手段による検知タイミングのバラツキ等の影響を排除して、前記検知手段による前記開操作の検知を、前記開口部が実際に開く前に確実に行わせることが可能となる。従って、蓋部材等に閉塞構造体を設けただけの比較的簡素な構成でもって、前記インターロック機構の信頼性を向上させることが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
本発明の好ましい実施の形態について図面を用いて説明する。
【００１６】
図１及び図２は、本発明に係る基板処理装置の一例を概略的に示しており、図１は、平面図で、図２は、断面図でそれぞれ基板処理装置を概略的に示している。
【００１７】
この図に示す基板処理装置は、基板Ｓに洗浄処理を施すための洗浄部１と、洗浄処理後基板Ｓに除電処理を施すための除電部２とを備えている。
【００１８】
洗浄部１および除電部２は、隔壁を介して隔てられる箱形の処理用チャンバ１０，２０（以下、単にチャンバ１０，２０という）をそれぞれ有している。これらチャンバ１０，２０の内部には、複数の搬送ローラ１２，２２がそれぞれ所定間隔で配備されており、基板Ｓがこれら搬送ローラ１６により水平姿勢で搬送されるようになっている。
【００１９】
洗浄部１のチャンバ１０の内部には、前記搬送ローラ１２の上方に、基板Ｓに対して純水等の洗浄液を供給するためのシャワーノズル１４が配備されている。これらシャワーノズル１４は、搬送ローラ１２の上方にマトリクス状に複数配備されており、各シャワーノズル１８からそれぞれ液滴状に洗浄液を吐出して基板Ｓに供給するようになっている。
【００２０】
一方、除電部２のチャンバ２０の内部には、一対のエアナイフ２４と、軟Ｘ線式イオナイザ２６（軟Ｘ線照射除電装置；本発明に係る除電装置に相当する）が配備されている。
【００２１】
前記一対のエアナイフ２４は、チャンバ２０に形成される基板Ｓの搬入口の近傍に配備されている。各エアナイフ２４は、前記搬送ローラ２２を挟んで上下に配置されており、それぞれ噴き出し口が基板Ｓの搬送方向上流側に向かって斜めに指向する状態で固定されている。つまり、洗浄処理後、洗浄部１から除電部２のチャンバ２０に搬送されてくる基板Ｓに対し、その搬送方向下流側から斜め方向にエアを吹き付ける構成となっている。
【００２２】
前記軟Ｘ線式イオナイザ２６は、基板Ｓの搬送下流側であってチャンバ１０の天井近傍に配備されている。この軟Ｘ線式イオナイザ２６は、波長が例えば１．３×１０−４〜４．１×１０−４μｍの光である微弱Ｘ線（軟Ｘ線）を放射することにより高濃度イオンを生成し、搬送ローラ１２等との接触により発生した基板Ｓの静電気を除去するものである。
【００２３】
つまり、この基板処理装置では、基板Ｓを水平姿勢で搬送しながらまず洗浄部１のチャンバ１０内に搬入し、ここでシャワーノズル１４から基板Ｓに洗浄液を供給することにより基板Ｓの洗浄処理を実施する。次いで、洗浄部１から除電部２のチャンバ２０内に基板Ｓを搬入しつつ前記エアナイフ２４から基板Ｓにエアを吹き付け、これにより当該基板Ｓに付着した洗浄液を除去した後、基板Ｓに対して軟Ｘ線式イオナイザ２６から軟Ｘ線を照射して基板Ｓの除電処理を実施するようになっている。
【００２４】
上記の基板処理装置において、洗浄部１のチャンバ１０の天井部分には、蓋体１１により開閉可能な矩形の開口部１０ａが設けられている。同様に、除電部２のチャンバ２０の天井部分にも、蓋体２１により開閉可能な矩形の開口部２０ａが設けられている。これらの開口部１０ａ，２０ａは、メンテナンス用のもので、必要に応じて前記蓋体１１，２１を持ち上げ、前記開口部１０ａ，２０ａを開くことにより作業者が各チャンバ１０，２０内にアクセスできる構成となっている。
【００２５】
各蓋体１１，２１は、それぞれ前記開口部１０ａ，２０ａよりも大きい矩形に形成されるとともに、その上面には、前後方向（図１では上下方向）に延びる左右一対の取っ手１１ａ，２１ａが設けられており、メンテナンス時には、作業者が各チャンバ１０，２０上に上がり、これらの取っ手１１ａ，２１ａを掴んで蓋体１１，２１を持ち上げつつ側方にずらすことによって前記開口部１０ａ，２０ａを開くようになっている。
【００２６】
なお、除電部２については、上記の通り軟Ｘ線式イオナイザ２６を使用しており、基板Ｓの除電処理中に誤って開口部２０ａが開放されると軟Ｘ線が外部に漏洩するおそれがあるため、除電部２には、以下に説明するようなインターロック機構が組み込まれている。
【００２７】
すなわち、除電部２のチャンバ２０には、図３に示すように、蓋体２１の対角線上の角部にそれぞれ開閉スイッチ３０（本発明に係る検知手段に相当する）が設けられており、これら開閉スイッチ３０からの信号が軟Ｘ線式イオナイザ２６の制御装置３２に出力されている。そして、基板Ｓの処理中に蓋体２１が開操作され、少なくとも一方側の開閉スイッチ３０から出力される信号の状態が変化すると、前記制御装置３２（本発明に係る停止手段に相当する）により軟Ｘ線式イオナイザ２６の動力回路が遮断され、これによって軟Ｘ線式イオナイザ２６の動作が強制的に停止される構成となっている。
【００２８】
開閉スイッチ３０は、非接触式のスイッチで、例えばコイルおよび制御回路をそれぞれ内蔵したアクチュエータおよびセンサヘッドから構成されており、前記アクチュエータが蓋体２１に、センサヘッドがチャンバ２０の本体（以下、チャンバ本体という）にそれぞれ固定され、蓋体２１が所定の閉止位置（同図および図４（ａ）に示す蓋体２１の位置）にセットされた状態でこれらアクチュエータおよびセンサヘッドが互いに対向するようになっている。そして、このようにアクチュエータとセンサヘッドとが対向した状態では、電磁誘導によりセンサヘッドから制御装置３２に所定の信号（ＯＮ信号とする）が出力される一方、閉止位置から前記蓋体２１が持ち上げられて（開操作させて）アクチュエータとセンサヘッドとの位置が所定寸法分以上、上下方向にずれると、前記信号とは異なる信号（ＯＦＦ信号とする）が前記制御装置３２に出力される構成となっている。
【００２９】
なお、上記のようなインターロック機構では、開閉スイッチ３０の取付け状態や感度のバラツキ等により、蓋体２１の開操作の過程で、開閉スイッチ３０が作動する前（つまり、出力信号がＯＮ信号からＯＦＦ信号に切り替わる前）に前記開口部２０ａが僅かに開いてしまうことが考えられる。そのため、前記蓋体２１には、このような不都合を回避すべく、図４（ａ）に示すようなリブ２１ｂ（本発明に係る閉塞構造体）が設けられている。
【００３０】
詳しくは、前記開口部２０ａに沿った環状のリブ２１ｂが前記蓋体２１の裏面に設けられ、前記閉止位置に蓋体２１がセットされると、このリブ２１ｂが前記開口部２０ａからチャンバ本体内に挿入されるようになっている。そして、前記閉止位置から蓋体２１を開方向に操作しても、当該蓋体２１が少なくとも前記所定寸法分（前記開閉スイッチ３０からの出力信号の状態が切り替わる寸法分）以上変位するまでは、図４（ｂ）に示すように、前記リブ２１ｂによって開口部２０ａが閉塞状態に保たれるようになっている。つまり、このように開口部２０ａの閉塞状態を保ちつつ蓋体２１の変位量をかせぐことにより、開閉スイッチ３０の取付け状態や感度のバラツキ等の影響を排除し、開口部２０ａが実際に開く前に確実に開閉スイッチ３０を作動させ得るようになっている。
【００３１】
以上のように、この基板処理装置では、前記蓋体１１，２１を取り外して洗浄部１および除電部２の各チャンバ１０，２０内を開放し、これにより各種メンテナンス作業を行うことができる。この場合、除電部２については、上記のようにインターロック機構が組み込まれ、基板Ｓの除電処理中に作業者が誤って蓋体２１を開操作すると、軟Ｘ線式イオナイザ２６が強制的に停止する構成となっているので、当該誤作業により軟Ｘ線がチャンバ２０の外部に漏洩するといったトラブルの発生を有効に防止することができる。
【００３２】
特に、この除電部２では、上述したように蓋体２１の開操作を開始してから当該蓋体２１が前記所定寸法分（前記開閉スイッチ３０からの出力信号の状態が切り替わる寸法分）以上変位するまでは開口部２０ａを閉塞状態に保ち、これによって蓋体２１の開操作の開始後、開口部２０ａが実際に開く前に開閉スイッチ３０が確実に作動し得るように構成しているため、軟Ｘ線式イオナイザ２６の動作が強制停止される前に開口部２０ａが開いてしまうといったことを確実に防止することができる。従って、インターロック機構の信頼性を高め、蓋体２１の誤操作による軟Ｘ線の漏洩とったトラブルの発生を確実に防止することができるという効果がある。
【００３３】
なお、上述した基板処理装置は、本発明に係る基板処理装置の好ましい実施の形態の一例であって、その具体的な構成は、本発明の要旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。例えば、以下のような構成を採用することも可能である。
（１）上記蓋体２１のリブ２１ｂとして、図５（ａ）に示すように、蓋体２１の外周縁部に沿って下向きに突出するリブ２１ｂ（本発明に係る第２リブに相当する）を設ける一方、チャンバ本体に、前記開口部２０ａの縁部に沿う環状のリブ２０ｂ（本発明に係る第１リブに相当する）を立設し、蓋体２１が閉止位置にある状態で、同図に示すように、蓋体２１のリブ２１ｂが、チャンバ本体のリブ２０ｂの外側に位置して当該リブ２０ｂ，２１ｂ同士が内外に近接対向するように構成してもよい。この構成によれば、閉止位置から蓋体２１を開操作しても、しばらくの間はチャンバ本体のリブ２０ｂと蓋体２１のリブ２１ｂとが内外に重なった状態となり、これによって、図５（ｂ）に示すように蓋体２１が前記所定寸法分以上、上下方向に変位するまでの間、開口部２０ａを閉塞状態に保つことができる。従って、この構成の場合も、上記実施形態と同様に、開閉スイッチ３０の作動前に開口部２０ａが開くのを有効に防止することができる。
【００３４】
なお、この構成の場合、蓋体２１の前記リブ２１ｂは、例えばチャンバ本体のリブ２０ｂの内側に入り込むように構成してもよい。この場合には、蓋体２１のリブ２１ｂの周囲に鍔部を設けておき、開口部２０ａを閉じる際には、前記鍔部を介して蓋体２１をチャンバ本体の前記リブ２０ｂにより支持するように構成すればよい。
（２）開閉スイッチ３０としては、実施形態のような電磁誘導型の非接触式スイッチを用いる代わりに、ホール素子型やリードスイッチ型の非接触式スイッチを用いることも可能である。ここで、ホール素子型の非接触式スイッチとは、アクチュエータにマグネットが、センサヘッドにホール素子及び制御回路がそれぞれ内蔵されたスイッチであって、アクチュエータとセンサヘッドとを対向させると、前記マグネットの磁界によりホール素子に電圧が発生してセンサヘッドから所定電圧の信号（ＯＮ信号）が出力され、この位置からアクチュエータとセンサヘッドとを相対的に上下方向にずらずと上記と異なる電圧の信号（ＯＦＦ信号）がセンサヘッドから出力されるように構成されるものである。一方、リードスイッチ型の非接触式スイッチとは、アクチュエータにマグネットが、センサヘッドにリードスイッチがそれぞれ内蔵されたスイッチであって、アクチュエータとセンサヘッドとの位置関係に応じてリードスイッチが前記マグネットによりＯＮ、ＯＦＦされ、これに応じた信号がセンサヘッドから出力されるものである。
（３）実施形態では、基板Ｓに対して除電処理を施すための専用の除電部２を備えた基板処理装置に本発明を適用した例について説明したが、例えば共通のチャンバ内で基板Ｓの除電処理とその他の処理（例えば処理液による処理）とを併せて行うような基板処理装置についても本発明は適用可能である。また、本発明は、基板Ｓに除電処理を施す上記除電部２のような装置以外に、処理液を基板Ｓに供給して各種処理を施す装置についても勿論適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】本発明に係る基板処理装置を示す平面略図である。
【図２】本発明に係る基板処理装置を示す断面略図（図１のＡ−Ａ断面図）である。
【図３】インターロック機構を説明する基板処理装置（除電部）の要部斜視図である。
【図４】除電部の処理用チャンバ（主に蓋体）の構成を示す断面略図（図１のＢ−Ｂ断面図）である（（ａ）は蓋体が完全な閉止位置にある状態、（ｂ）は蓋体を持ち上げた状態をそれぞれ示している）。
【図５】除電部の処理用チャンバ（主に蓋体）の別の構成を示す断面略図である（（ａ）は蓋体が完全な閉止位置にある状態、（ｂ）は蓋体を持ち上げた状態をそれぞれ示している）。
【符号の説明】
【００３６】
１  洗浄部
２  除電部
１０，２０  処理用チャンバ
１０ａ，２０ａ  開口部
１１，２１  蓋体
１２，２２  搬送ローラ
１４  シャワーノズル
２１ａ  取っ手
２１ｂ  リブ
２４  エアナイフ
２６  軟Ｘ線式イオナイザ
Ｓ  基板
【図１】
2008244055.tif 000003
【図２】
2008244055.tif 000004
【図３】
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【図４】
2008244055.tif 000006
【図５】
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