(57)【要約】      （修正有）【課題】化粧品組成物中のジベンゾイルメタン誘導体を光線に対して光安定させる方法の提供。【解決手段】ジベンゾイルメタン誘導体と式(Ｉ)2008163008.tif 000032[上式中、Ｒ１は直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ４アルキル基であり；ｐは０−２であり；ｍは０−４であり；は-Ｎ(Ｒ２)-であり；Ｒ２は、Ｈ、直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ２０アルキルなど；Ｒは同一又は異なっており直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ２０アルキル基など；ａ＝１−２であり；Ｂは直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のＣ１-Ｃ６アルキレン基など]のシロキサン含有アリールアルキル安息香酸アミド誘導体を、化粧品的に許容可能な媒体中に含有してなる組成物。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一のジベンゾイルメタン誘導体型のＵＶ-Ａ遮蔽剤と、少なくとも一の以下の式(Ｉ)：
【化１】
2008163008.tif 000020
[上式中、
−  Ｒ１は直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ４アルキル基であり；
−  ｐは０−２であり；
−  ｍは０−４であり；
−  Ｘは-Ｎ(Ｒ２)-であり；
−  Ｒ２は、Ｈ、直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ２０アルキル、アセチル基、又は-ＣＨ２ＣＨ２ＮＨ(Ｃ=Ｏ)Ｐｈ基であり；
−  Ｒは同一又は異なっており、直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ２０アルキル基、Ｃ６-Ｃ１２アリール基、３,３,３-トリフルオロプロピル、トリメチルシリルオキシ、又は直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ１０アルコキシ基であり；
ａ＝１−２であり；
Ｂは以下の式(ＩＩ)、(ＩＩＩ)又は(ＩＶ)：
【化２】
2008163008.tif 000021
2008163008.tif 000022
2008163008.tif 000023
(上式中、
Ｚは、ヒドロキシル基又は直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のＣ１-Ｃ８アルキル基で置換されていてもよい、直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のＣ１-Ｃ６アルキレン基であり；
Ｗは、水素原子、ヒドロキシル基、又は直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のＣ１-Ｃ８アルキル基を表し；また
ｖは０又は１である)
の一つに相当する基から選択される二価基である]
のシロキサン含有アリールアルキル安息香酸アミド誘導体を、化粧品的に許容可能な媒体中に含有してなる組成物。
【請求項２】
式(Ｉ)の化合物が、式：(Ｒ)ｂ-(Ｓｉ)(Ｏ)(４−ｂ)／２［上式中、Ｒは請求項１で与えられたものと同じ意味を有し；ｂ＝２−３である］の単位をさらに含む請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
式(Ｉ)において、-(Ｓｉ)(Ｒ)ａ(Ｏ)(３−ａ)／２基が、以下の式(Ｖ)又は(ＶＩ)：
【化３】
2008163008.tif 000024
又は
【化４】
2008163008.tif 000025
[上式中：
(Ｅ)は、式(Ｉ)におけるＢ基とシリコーンベース鎖との間の結合であり；
Ｒ３は同一又は異なっており、直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ２０アルキル基、フェニル、３,３,３-トリフルオロプロピル及びトリメチルシリルオキシから選択され、Ｒ３基の数の少なくとも８０％がメチルであり；
(Ｄ)は同一又は異なっており、Ｒ３基及び(Ｅ)基から選択され；
ｒは０〜２００の整数であり、ｓは０〜５０の整数であり、ｓ＝０である場合、２つの符号(Ｄ)の少なくとも一はＢを示し；
ｕは１〜１０の整数であり、ｔは０〜１０であり、ｔ＋ｕは３以上であり、
但し、ｑが１である場合、ｕは１に等しく、ｓは１に等しく、符号(Ｄ)はＢを表すことはできず、又はｓは０に等しく、符号(Ｄ)の一つのみがＢを示す]
により表される請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項４】
式(Ｖ)又は(ＶＩ)の直鎖状又は環状のジオルガノシロキサンが、次の特徴：
−  Ｒ３は好ましくはメチルである、
−  (Ｄ)はメチルである、
の少なくとも一、好ましくは全てを有するランダムオリゴマー又はポリマーである請求項３に記載の組成物。
【請求項５】
式(Ｉ)の化合物が、以下の式(ａ)から(ｅ)：
【化５】
2008163008.tif 000026
2008163008.tif 000027
2008163008.tif 000028
2008163008.tif 000029
2008163008.tif 000030
の化合物から選択される請求項１から４の何れか一項に記載の組成物。
【請求項６】
式(Ｉ)のシロキサン含有アリールアルキル安息香酸アミド誘導体が、組成物の全重量に対して１〜３０重量％の量で組成物中に存在している請求項１から５の何れか一項に記載の組成物。
【請求項７】
ジベンゾイルメタン誘導体が、次の式：
【化６】
2008163008.tif 000031
を有するブチルメトキシジベンゾイルメタン又は４-(tert-ブチル)-４'-メトキシジベンゾイルメタンである請求項１から６の何れか一項に記載の組成物。
【請求項８】
ジベンゾイルメタン誘導体が、組成物の全重量に対して０．０１〜１０重量％で変化する量で存在している請求項１から７の何れか一項に記載の組成物。
【請求項９】
アントラニレート類；ケイ皮酸誘導体；サリチル酸誘導体；ショウノウ誘導体；ベンゾフェノン誘導体；β,β-ジフェニルアクリレート誘導体；トリアジン誘導体；ベンゾトリアゾール誘導体；ベンザルマロネート誘導体；ベンゾイミダゾール誘導体；イミダゾリン類；ビス(ベンゾアゾリル)誘導体；ｐ-アミノ安息香酸(ＰＡＢＡ)誘導体；メチレンビス(ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール)誘導体；ベンゾオキサゾール誘導体；遮蔽ポリマー及び遮蔽シリコーン；α-アルキルスチレン誘導二量体；４,４-ジアリールブタジエン類及びそれらの混合物から選択される少なくとも一の付加的な有機光保護剤を含有する請求項１から８の何れか一項に記載の組成物。
【請求項１０】
付加的な処理又は未処理金属酸化物顔料を含有していることを特徴とする請求項１から９の何れか一項に記載の組成物。
【請求項１１】
前記顔料が、処理又は未処理チタン、亜鉛、鉄、ジルコニウム又はセリウムの酸化物及びそれらの混合物から選択されることを特徴とする請求項１０に記載の組成物。
【請求項１２】
皮膚を人工的にサンタン状態にする、及び／又は褐色にするための薬剤を少なくとも一、さらに含有していることを特徴とする請求項１から１１の何れか一項に記載の組成物。
【請求項１３】
水中油型又は油中水型エマルションの形態であることを特徴とする請求項１から１２の何れか一項に記載の組成物。
【請求項１４】
請求項１から１３の何れか一項に記載の少なくとも一のジベンゾイルメタン型ＵＶ-Ａ遮蔽剤の紫外線に対する化学的安定性を改善するための方法において、請求項１から１３の何れか一項に記載の少なくとも一の式(Ｉ)のシロキサン含有アリールアルキル安息香酸アミド誘導体の有効量を前記ジベンゾイルメタン誘導体と組合せることを特徴とする方法。
【請求項１５】
請求項１から１３の何れか一項に記載の少なくとも一のジベンゾイルメタン誘導体を化粧品的に許容可能な担体中に含有してなる組成物における、ＵＶ-Ａ線に対する該組成物の有効性を改善する目的での、請求項１から１３の何れか一項に記載の少なくとも一の式(Ｉ)のシロキサン含有アリールアルキル安息香酸アミド誘導体の使用。
【発明の詳細な説明】
【発明の開示】
【０００１】
本発明は、少なくとも一のジベンゾイルメタン誘導体と、以下に定義がなされる少なくとも一の式(Ｉ)の特定のシロキサン含有アリールアルキル安息香酸アミド誘導体を組合せて含む化粧品用組成物に関する。
本発明はまた以下に定義がなされる少なくとも一の式(Ｉ)の特定のシロキサン含有アリールアルキル安息香酸アミド誘導体の有効量に対する少なくとも一のジベンゾイルメタン誘導体の光線に対する光安定化方法に関する。
本発明はさらにジベンゾイルメタン誘導体型の少なくとも一の遮蔽剤を化粧品的に許容可能な担体中に含有してなる組成物における、ＵＶ-Ａ線に対する前記組成物の有効性を改善する目的での、式(Ｉ)の前記特定のシロキサン含有アリールアルキル安息香酸アミド誘導体の使用に関する。
【０００２】
２８０ｎｍから４００ｎｍの範囲の波長を有する光照射によりヒトの表皮は褐色となる；より詳細には、ＵＶ-Ｂ線として知られている２８０から３２０ｎｍの範囲の波長を有する光線により、自然なサンタン状態の形成に有害な皮膚火傷となったり紅斑の原因となることが知られている。これらの理由やまた美的理由から、自然なサンタン状態をコントロールして、皮膚の色調をコントロール可能な手段が常に必要とされている；よって、前記ＵＶ-Ｂ線を遮蔽するのが望ましい。
また、３２０から４００ｎｍの範囲の波長を有し、皮膚を褐色にする原因であるＵＶ-Ａ線も、前記皮膚に変性を誘発するおそれがあることが知られており、敏感肌及び／又は絶えず太陽光線にさらされている皮膚の場合は特にしかりである。ＵＶ-Ａ線は、特に、皮膚の弾性を喪失させ、シワを出現せしめ、皮膚を時期尚早の老化に導く原因となる。ＵＶ-Ａ線は紅斑反応の惹起を誘発したり、ある個体においてはこの反応を増幅させ、光毒性又は光アレルギー反応の原因にさえもなりうる。従って、例えば皮膚本来の弾力性を維持するというような美的及び美容的理由から、益々多くの人々が皮膚へのＵＶ-Ａ線の影響をコントロールすることを望んでいる。よって、ＵＶ-Ａ線も遮蔽することが望ましい。
【０００３】
紫外線から皮膚及びケラチン物質を保護する目的で、ＵＶ-Ａ領域に活性があり、かつＵＶ-Ｂ領域に活性のある有機遮蔽剤を含有するサンスクリーン組成物が一般に使用されている。これら遮蔽剤の大部分は脂溶性である。
この点に関し、ＵＶ-Ａ遮蔽剤の特に有利なファミリーは、現在は、ジベンゾイルメタン誘導体、特に４-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタンからなり、実際、これは極めて良好な固有の吸収力を有している。これらジベンゾイルメタン誘導体は、ＵＶ-Ａ範囲に活性のある遮蔽剤としてそれ自体よく知られている生成物であるが、特に仏国特許出願公開第２３２６４０５号及び仏国特許出願公開第２４４０９３３号、並びに欧州特許出願公開第０１１４６０７号に記載されている；さらに、４-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタンは、現在は、ＤＳＭニュートリショナル・プロダクツ(DSM Nutritional Products)から「パルソール(Parsol)1789」の商品名で市販されている。
【０００４】
残念なことに、ジベンゾイルメタン誘導体は、紫外線(特にＵＶ-Ａ線)に比較的敏感な生成物であり、すなわち、より厳密には、前記光線の作用下では、程度の差はあれ素早く分解するという好ましくない傾向を有している。よって、ジベンゾイルメタン誘導体が、その性質上さらされることになる紫外線に対して光化学的安定性を大きく欠いているため、日光に暴露されている長時間にわたって不変の保護は保証できず、紫外線から皮膚を効果的に保護するために、使用者は規則的に短い間隔で繰り返し適用しなければならない。
【０００５】
しかしながら、本出願人は、驚くべきことに、以下に詳細に定義する式(Ｉ)の特定のアリールアルキルアミド誘導体の有効量を、上述したジベンゾイルメタン誘導体と組合せることにより、これらの同じジベンゾイルメタン誘導体の光化学的安定性(又は光安定性)、及びＵＶ-Ａ範囲でのそれらの効果を大幅にかつ顕著に改善することができることを見出した。このような組合せを含む組成物はまた適用後に紫外線遮蔽剤のより均質な分散をもたらす。
これらの発見が本発明の基礎を形成する。
【０００６】
よって、本発明の一主題によれば、少なくとも一のＵＶ-遮蔽系を化粧品的に許容可能な担体中に含有してなる組成物において、
(ａ)少なくとも一のジベンゾイルメタン誘導体型のＵＶ-Ａ遮蔽剤と；
(ｂ)以下に定義がなされる少なくとも一の式(Ｉ)のシロキサン含有アリールアルキル安息香酸アミド誘導体を含有することを特徴とする組成物が今提案される。
【０００７】
また本発明の他の主題は、以下に定義がなされる少なくとも一の式(Ｉ)のシロキサン含有アリールアルキル安息香酸アミド誘導体の有効量をジベンゾイルメタン誘導体と組合せることからなる、少なくとも一のジベンゾイルメタン型ＵＶ-Ａ遮蔽剤の紫外線に対する化学的安定性を改善するための方法に関する。
【０００８】
最後に、本発明の他の主題は、少なくとも一のジベンゾイルメタン誘導体の有効量を化粧品的に許容可能な担体中に含有してなる組成物における、ＵＶ-Ａ線に対する前記組成物の効果を改善する目的での、少なくとも一の式(Ｉ)のシロキサン含有アリールアルキル安息香酸アミド誘導体の使用にある。
本発明の他の特徴、側面及び利点は、以下の詳細な記載を読むことにより明らかになるであろう。
【０００９】
「化粧品的に許容可能な」なる用語は、皮膚及び／又はその外皮と適合性があり、快適な色、臭い及び感触を有し、消費者がこの組成物の使用を止めようと思うような許容できない程の不快感(刺すような痛み、突張感、赤い斑点)を何ら生じることのないことを意味するものと理解される。
「有効量」なる用語は、化粧品用組成物におけるジベンゾイルメタン誘導体又は誘導体群の光安定性を顕著にかつ有意に改善するのに十分な量を意味するものと理解される。式(Ｉ)の化合物の最小量は、組成物に保持される担体の種類に依存して変わりうるが、以下の実施例に示すような常套的な光安定性測定試験により、困難なく測定されうる。
【００１０】
本発明に係るシロキサン含有アリールアルキルアミド誘導体は、次の一般式(Ｉ)：
【化１】
2008163008.tif 000002
[上式中、
−  Ｒ１は直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ４アルキル基であり；
−  ｐは０−２であり；
−  ｍは０−４であり；
−  Ｘは-Ｎ(Ｒ２)-であり；
−  Ｒ２は、Ｈ、直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ２０アルキル、アセチル基、又は-ＣＨ２ＣＨ２ＮＨ(Ｃ=Ｏ)Ｐｈ基であり；
−  Ｒは同一又は異なっており、直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ２０アルキル基、Ｃ６-Ｃ１２アリール基、３,３,３-トリフルオロプロピル、トリメチルシリルオキシ、又は直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ１０アルコキシ基であり；
ａ＝１−２であり；
Ｂは以下の式(ＩＩ)、(ＩＩＩ)又は(ＩＶ)：
【化２】
2008163008.tif 000003
2008163008.tif 000004
2008163008.tif 000005
(上式中、
Ｚは、ヒドロキシル基又は直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のＣ１-Ｃ８アルキル基で置換されていてもよい、直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のＣ１-Ｃ６アルキレン基であり；
Ｗは、水素原子、ヒドロキシル基、又は直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のＣ１-Ｃ８アルキル基を表し；また
ｖは０又は１である)
の一つに相当する基から選択される二価基である]
に相当するものから選択される。
【００１１】
式-Ｂ-(Ｓｉ)(Ｒ)ａ(Ｏ)(３−ａ)／２の単位に加えて、前記オルガノシロキサンは、式
(Ｒ)ｂ-(Ｓｉ)(Ｏ)(４−ｂ)／２
[上式中：
Ｒは上述した式(Ｉ)で与えられたものと同じ意味を有し；
ｂ＝２−３である]
の単位を有していてもよい。
【００１２】
好ましくは、-(Ｓｉ)(Ｒ)ａ(Ｏ)(３−ａ)／２基は、以下の式(Ｖ)又は(ＶＩ)：
【化３】
2008163008.tif 000006
又は
【化４】
2008163008.tif 000007
[上式中：
(Ｅ)は、上述の式(Ｉ)におけるＢ基とシリコーンベース鎖の間の結合であり；
Ｒ３は同一又は異なっており、直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ２０アルキル基、フェニル、３,３,３-トリフルオロプロピル及びトリメチルシリルオキシから選択され、Ｒ３基の数の少なくとも８０％がメチルであり；
(Ｄ)は同一又は異なっており、Ｒ３基及び(Ｅ)基から選択され；
ｒは０〜２００の整数であり、ｓは０〜５０の整数であり、ｓ＝０である場合、２つの符号(Ｄ)の少なくとも一はＢを示し；
ｕは１〜１０の整数であり、ｔは０〜１０であり、ｔ＋ｕは３以上であると理解され、
但し、ｑが１である場合に、ｕは１に等しく、ｓは１に等しく、符号(Ｄ)はＢを示すことができず、又はｓは０に等しく、符号(Ｄ)の一つのみがＢを示す]
により表されうる。
【００１３】
式(Ｉ)から(ＶＩ)中、アルキル基としては、特にメチル、エチル、ｎ-プロピル、イソプロピル、ｎ-ブチル、イソブチル、tert-ブチル、２-エチルヘキシル、ドデシル又はヘキサデシル基を挙げることができる。
【００１４】
本発明の範囲に入る式(Ｖ)又は(ＶＩ)の直鎖状又は環状のジオルガノシロキサン類は、次の特徴の少なくとも一、好ましくは全てを有するランダムオリゴマー又はポリマーである：
−  Ｒ３は好ましくはメチルである、
−  (Ｄ)は好ましくはメチル(式(Ｖ)の直鎖状化合物の場合)である。
【００１５】
式(Ｉ)の特に好ましい化合物の例としては、以下の式(ａ)から(ｅ)：
【化５】
2008163008.tif 000008
2008163008.tif 000009
2008163008.tif 000010
2008163008.tif 000011
2008163008.tif 000012
の化合物を挙げることができる。
アルキルアミドアシルエステル誘導体(化合物Ｃ)は米国特許第６５２８０６８号に記載されている。
【００１６】
Ｘ＝-ＮＨ-である式(Ｉ)のアミド誘導体は、次のスキーム：
【化６】
2008163008.tif 000013
[ここで、Ｒ、Ｒ１、ｐ、ｍ、ａ及びＢ基は、上と同じ意味を有する]
に従い、式(ＶＩＩ)の酸誘導体から出発し、対応する酸塩化物をインサイツ形成し、これを式(ＶＩＩＩ)のシロキサン含有アミン誘導体と反応させることにより、調製されうる。
【００１７】
ＳｉＨ基は、鎖内部及び／又は鎖末端に存在しうる。これらのＳｉＨ含有誘導体はシリコーン産業においてよく知られている製品であり、一般的に商業的に入手可能である。それらは、例えば米国特許第３２２０９７２号、米国特許第３６９７４７３号及び米国特許第４３４０７０９号に記載されている。
【００１８】
本発明に係る式(Ｉ)の誘導体は、組成物の全重量に対して１〜３０重量％、好ましくは３〜２０重量％の量で、組成物中にそれぞれ存在していることが好ましい。
【００１９】
ジベンゾイルメタン誘導体としては、非限定的に：
−  ２-メチルジベンゾイルメタン；
−  ４-メチルジベンゾイルメタン；
−  ４-イソプロピルジベンゾイルメタン；
−  ４-tert-ブチルジベンゾイルメタン；
−  ２,４-ジメチルジベンゾイルメタン；
−  ２,５-ジメチルジベンゾイルメタン；
−  ４,４'-ジイソプロピルジベンゾイルメタン；
−  ４,４'-ジメトキシジベンゾイルメタン；
−  ４-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタン；
−  ２-メチル-５-イソプロピル-４'-メトキシジベンゾイルメタン；
−  ２-メチル-５-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタン；
−  ２,４-ジメチル-４'-メトキシジベンゾイルメタン；及び
−  ２,６-ジメチル-４-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタン；
を特に挙げることができる。
【００２０】
上述のジベンゾイルメタン誘導体の中でも、次の式：
【化７】
2008163008.tif 000014
に相当し、メルク社(Merck)からユーソレックス(EUSOLEX)８０２０の商品名で販売されている４-イソプロピル-ジベンゾイルメタンが特に使用される。
より詳細には、ＤＳＭニュートリショナル・プロダクツからパルソール１７８９の商品名で市販されているブチルメトキシジベンゾイルメタン又は４-(tert-ブチル)-４'-メトキシジベンゾイルメタンが好ましく使用される；この遮蔽剤は、次の式：
【化８】
2008163008.tif 000015
に相当する。
ジベンゾイルメタン誘導体又は誘導体群は、組成物の全重量に対して、好ましくは０．０１〜１０重量％、より好ましくは０．１〜６重量％で変化する量で本発明に係る組成物中に存在しうる。
【００２１】
本発明に係る組成物は、水溶性又は脂溶性であるか又は通常使用されている化粧品用溶媒に不溶性である、ＵＶ-Ａ範囲及び／又はＵＶ-Ｂ範囲に活性のある他の付加的な有機又は無機紫外線遮蔽剤をさらに含有してもよい。
もちろん、当業者であれば、必ず、本発明に係る組成物に本来関連している有利な特性、特にジベンゾイルメタン誘導体の光安定性の改善が、考慮される添加により損なわれないか又は実質的に損なわれないように、任意の付加的な遮蔽剤又は遮蔽剤群及び／又はそれらの量を選択するであろう。
【００２２】
付加的な有機光保護剤は、特に、アントラニレート類；ケイ皮酸誘導体；サリチル酸誘導体；ショウノウ誘導体；ベンゾフェノン誘導体；β,β-ジフェニルアクリレート誘導体；トリアジン誘導体；ベンゾトリアゾール誘導体；ベンザルマロネート誘導体、特に米国特許第５６２４６６３号に引用されているもの；ベンゾイミダゾール誘導体；イミダゾリン類；欧州特許第６６９３２３号及び米国特許第２４６３２６４号に記載されているようなビス(ベンゾアゾリル)誘導体；ｐ-アミノ安息香酸(ＰＡＢＡ)誘導体；米国特許第５２３７０７１号、米国特許第５１６６３５５号、英国特許第２３０３５４９号、独国特許第１９７２６１８４号及び欧州特許第８９３１１９号に記載されているもののようなメチレンビス(ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール)誘導体；欧州特許出願第０８３２６４２号、欧州特許出願第１０２７８８３号、欧州特許出願第１３００１３７号及び独国特許出願第１０１６２８４４号に記載されているもののようなベンゾオキサゾール誘導体；例えば特に国際公開第９３／０４６６５号に記載されているもののような遮蔽ポリマー及び遮蔽シリコーン；例えば独国特許出願第１９８５５６４９号に記載されているもののようなα-アルキルスチレン誘導二量体；例えば欧州特許出願第０９６７２００号、独国特許出願第１９７４６６５４号、独国特許出願第１９７５５６４９号、欧州特許出願公開第１００８５８６号、欧州特許出願第１１３３９８０号及び欧州特許出願第１３３９８１号に記載されているもののような４,４-ジアリールブタジエン類、及びそれらの混合物から選択される。
【００２３】
付加的な有機光保護剤の例としては、ＩＮＣＩ名で以下に示すものを挙げることができる：
パラ-アミノ安息香酸誘導体：
ＰＡＢＡ；
エチルＰＡＢＡ；
エチルジヒドロキシプロピルＰＡＢＡ；
特にＩＳＰ社からエスカロール(ESCALOL)５０７の名称で販売されているエチルヘキシルジメチルＰＡＢＡ；
グリセリルＰＡＢＡ；及び
ＢＡＳＦ社からユビヌル(UVINUL)Ｐ２５の名称で販売されているＰＥＧ-２５ＰＡＢＡ。
【００２４】
サリチル酸誘導体：
ローナ(Rona)／ＥＭインダストリーズからユーソレックスＨＭＳの名称で販売されているホモサレート(homosalate)；
ハーマン・アンド・レイマー社(Haarmann and Reimer)からネオ・ヘリオパン(NEO HELIOPAN)ＯＳの名称で販売されているサリチル酸エチルヘキシル；
シェール社(Scher)からディプサル(DIPSAL)の名称で販売されているサリチル酸ジプロピレングリコール；
ハーマン・アンド・レイマー社からネオ・ヘリオパンＴＳの名称で販売されているＴＥＡサリチレート。
【００２５】
ケイ皮酸誘導体：
特にホフマン・ラ・ロシュ社(Hoffmann La Roche)からパルソールＭＣＸの商品名で販売されているメトキシケイ皮酸エチルヘキシル；
メトキシケイ皮酸イソプロピル；
ハーマン・アンド・レイマー社からネオ・ヘリオパンＥ１０００の商品名で販売されているメトキシケイ皮酸イソアミル；
シノキサート；
ＤＥＡメトキシシンナメート；
メチルケイ皮酸ジイソプロピル；及び
グリセリル-エチルヘキサノエート-ジメトキシシンナメート。
【００２６】
β,β-ジフェニルアクリレート誘導体：
特にＢＡＳＦ社からユビヌルＮ５３９の商品名で販売されているオクトクリレン(Octocrylene)；
特にＢＡＳＦ社からユビヌルＮ３５の商品名で販売されているエトクリレン(Etocrylene)。
【００２７】
ベンゾフェノン誘導体：
ＢＡＳＦ社からユビヌル４００の商品名で販売されているベンゾフェノン-１；
ＢＡＳＦ社からユビヌルＤ５０の商品名で販売されているベンゾフェノン-２；
ＢＡＳＦ社からユビヌルＭ４０の商品名で販売されているベンゾフェノン-３又はオキシベンゾン；
ＢＡＳＦ社からユビヌルＭＳ４０の商品名で販売されているベンゾフェノン-４；
ベンゾフェノン-５；
ノーケイ社(Norquay)からヘリソーブ(Helisorb)１１の商品名で販売されているベンゾフェノン-６；
アメリカン・シアナミド社(American Cyanamid)からスペクトラ-ソーブ(Spectra-Sorb)ＵＶ-２４の商品名で販売されているベンゾフェノン-８；
ＢＡＳＦ社からユビヌルＤＳ-４９の商品名で販売されているベンゾフェノン-９；
ベンゾフェノン-１２；及び
ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＡ＋」の商品名で販売されている２-(４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)安息香酸ｎ-ヘキシル、又は「ユビヌルＡ＋Ｂ」の商品名で販売されている製品のようなメトキシケイ皮酸エチルヘキシルとの混合物の形態のもの。
【００２８】
ベンジリデンショウノウ誘導体：
カイメックス社(Chimex)からメギゾリル(MEXORYL)ＳＤの名称で製造されている３-ベンジリデンショウノウ；
メルク社からユーソレックス６３００の名称で販売されている４-メチルベンジリデンショウノウ；
カイメックス社からメギゾリルＳＬの名称で製造されているベンジリデンショウノウスルホン酸；
カイメックス社からメギゾリルＳＯの名称で製造されているメト硫酸ショウノウベンザルコニウム；
カイメックス社からメギゾリルＳＸの名称で製造されているテレフタリリデンジショウノウスルホン酸；
カイメックス社からメギゾリルＳＷの名称で製造されているポリアクリルアミドメチルベンジリデンショウノウ。
【００２９】
フェニルベンゾイミダゾール誘導体：
特にメルク社からユーソレックス２３２の商品名で販売されているフェニルベンゾイミダゾールスルホン酸；
ハーマン・アンド・レイマー社からネオ・ヘリオパンＡＰの商品名で販売されているフェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム。
【００３０】
フェニルベンゾトリアゾール誘導体：
ロ−ディア・シミー社(Rhodia Chimie)からシラトリゾール(SILATRIZOLE)の名称で販売されているドロメトリゾール(Drometrizole)トリシロキサン；
フェアマウント・ケミカル社(Fairmount Chemical)からミキシム(MIXXIM)ＢＢ／１００の商品名で固体形態のものとして、もしくはチバ・スペシャルティー・ケミカルズ社(Ciba Specialty Chemicals)からチノソーブ(TINOSORB)Ｍの商品名で微細化形態の水性分散物として販売されているメチレンビス-ベンゾトリアゾリル-テトラメチルブチルフェノール。
【００３１】
トリアジン誘導体：
チバ・ガイギー社(Ciba-Geigy)からチノソーブＳの商品名で販売されているビス-エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン；
特にＢＡＳＦ社からユビヌルＴ１５０の商品名で販売されているエチルヘキシルトリアゾン；
シグマ３Ｖ社(Sigma 3V)からユバソーブ(UVASORB)ＨＥＢの商品名で販売されているジエチルヘキシルブタミドトリアゾン；
２,４,６-トリス(ジネオペンチル-４'-アミノベンザルマロネート)-ｓ-トリアジン；
２,４,６-トリス(ジイソブチル-４'-アミノベンザルマロネート)-ｓ-トリアジン；及び
米国特許第６２２５４６７号、国際公開第２００４／０８５４１２号(化合物６及び９を参照)又は文献「Symmetrical Triazine Derivatives」IP. COM Journal, IP.COM Inc., West Henrietta, NY, US(2004年9月20日)に記載されている対称トリアジン遮蔽剤、特に２,４,６-トリス(ビフェニル)-１,３,５-トリアジン類(特に２,４,６-トリス(ビフェニル-４-イル-１,３,５-トリアジン)及び２,４,６-トリス(ターフェニル)-１,３,５-トリアジンで、国際公開第０６／０３５０００号、国際公開第０６／０３４９８２号、国際公開第０６／０３４９９１号、国際公開第０６／０３５００７号、国際公開第２００６／０３４９９２号及び国際公開第２００６／０３４９８５号に取り上げられているもの。
【００３２】
アントラニル誘導体：
ハーマン・アンド・レイマー社からネオ・ヘリオパンＭＡの商品名で販売されているアントラニル酸メンチル。
イミダゾリン誘導体：
エチルヘキシルジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリンプロピオネート。
ベンザルマロネート誘導体：
４'-メトキシベンザルマロン酸ジネオペンチル；及び
ホフマン・ラ・ロシュ社からパルソールＳＬＸの商品名で販売されているポリシリコーン-１５のような、ベンザルマロネート官能基を有するポリオルガノシロキサン。
４,４-ジアリールブタジエン誘導体：
１,１-ジカルボキシ-(２,２'-ジメチルプロピル)-４,４-ジフェニルブタジエン。
ベンゾオキサゾール誘導体：
シグマ３Ｖ社からユバソーブＫ２Ａの名称で販売されている２,４-ビス[５-１(ジメチルプロピル)ベンゾオキサゾール-２-イル-(４-フェニル)-イミノ]-６-(２-エチルヘキシル)-イミノ-１,３,５-トリアジン、
及びそれらの混合物。
【００３３】
好ましい付加的な有機光保護剤は：
メトキシケイ皮酸エチルヘキシル；
ホモサレート；
サリチル酸エチルヘキシル；
オクトクリレン；
フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸；
ベンゾフェノン-３；
ベンゾフェノン-４；
ベンゾフェノン-５；
２-(４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)安息香酸ｎ-ヘキシル；
４-メチルベンジリデンショウノウ；
テレフタリリデンジショウノウスルホン酸；
フェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム；
メチレンビス-ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール；
エチルヘキシルトリアゾン；
ビス-エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン；
ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン；
２,４,６-トリス(ジネオペンチル-４'-アミノベンザルマロネート)-ｓ-トリアジン；
２,４,６-トリス(ジイソブチル-４'-アミノベンザルマロネート)-ｓ-トリアジン；
２,４,６-トリス(ビフェニル-４-イル-１,３,５-トリアジン)；
２,４,６-トリス(ターフェニル)-１,３,５-トリアジン；
ドロメトリゾールトリシロキサン；
ポリシリコーン-１５；
４'-メトキシベンザルマロン酸ジネオペンチル；
１,１-ジカルボキシ-(２,２'-ジメチルプロピル)-４,４-ジフェニルブタジエン；
２,４-ビス[５-１(ジメチルプロピル)ベンゾオキサゾール-２-イル-(４-フェニル)-イミノ]-６-(２-エチルヘキシル)-イミノ-１,３,５-トリアジン；
及びそれらの混合物；
から選択される。
【００３４】
無機光保護剤は、被覆又は未被覆の金属酸化物の顔料(一次粒子の平均径：一般的に５ｎｍ〜１００ｎｍ、好ましくは１０ｎｍ〜５０ｎｍ)、例えば、酸化チタン(アモルファス、又はルチル及び／又はアナターゼ型の結晶)、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム又は酸化セリウムの顔料から選択され、これらは、ＵＶ光保護剤としてそれ自体よく知られているものである。
顔料は被覆されていても未被覆であってもよい。
被覆顔料は、例えばCosmetics & Toiletries, 1990年 2月, Vol.105, p.53-64に記載されている化合物、例えばアミノ酸、ミツロウ、脂肪酸、脂肪アルコール類、アニオン性界面活性剤、レシチン類、脂肪酸のナトリウム、カリウム、亜鉛、鉄又はアルミニウム塩、金属(チタン又はアルミニウム)アルコキシド類、ポリエチレン、シリコーン類、タンパク質(コラーゲン、エラスチン)、アルカノールアミン類、酸化ケイ素、金属酸化物、又はヘキサメタリン酸ナトリウムを用い、化学的、電気的、メカノケミカル及び／又は機械的な表面処理を、一又は複数回施した顔料である。
【００３５】
知られているように、シリコーン類は、適切に官能化されたシラン類の重合及び／又は重縮合により得られ、主要部分が、ケイ素原子が酸素原子によって互いに結合(シロキサン結合)した主要単位の繰り返しからなり、置換されていてもよい炭化水素ベース基が前記ケイ素原子に炭素原子を介して直接結合している、様々な分子量の分枝又は架橋した、直鎖状又は環状構造を有するオルガノシリコンポリマー又はオリゴマーである。
また「シリコーン類」なる用語には、それらの調製に必要なシラン類、特にアルキルシラン類が含まれる。
本発明に適した被覆顔料に使用されるシリコーン類は、好ましくはアルキルシラン類、ポリジアルキルシロキサン類及びポリアルキルハイドロジェンシロキサン類からなる群から選択される。さらにより好ましくは、シリコーン類はオクチルトリメチルシラン、ポリジメチルシロキサン類、及びポリメチルハイドロジェンシロキサン類からなる群から選択される。
もちろん、シリコーン類で処理される前に、金属酸化物の顔料を、他の表面剤、特に酸化セリウム、アルミナ、シリカ、アルミニウム化合物、ケイ素化合物、又はそれらの混合物で処理してもよい。
【００３６】
被覆顔料は、より詳細には以下のもので被覆された酸化チタンである：
−  シリカによるもの、例えばメルク社の製品ユーソレックスＴ-ＡＶＯ、及び池田興産(Ikeda)の製品サンベイル(SUNVEIL)；
−  シリカ及び酸化鉄によるもの、例えば池田興産の製品サンベイルＦ；
−  シリカ及びアルミナによるもの、例えばタイカ社(Tayca)の製品マイクロ二酸化チタンＭＴ５００ＳＡ及びマイクロ二酸化チタンＭＴ１００ＳＡ、タイオキサイド社(Tioxide)のタイオベイル、ローディア社(Rhodia)のミラサン(MIRASUN)ＴｉＷ６０；
−  アルミナによるもの、例えば石原産業の製品タイペーク(TIPAQUE)ＴＴＯ-５５(Ｂ)及びタイペークＴＴＯ-５５(Ａ)及びケミラ社(Kemira)のＵＶＴ１４／４；
−  アルミナ及びステアリン酸アルミニウムによるもの、例えばタイカ社の製品マイクロ二酸化チタンＭＴ１００ＴＶ、ＭＴ１００ＴＸ、ＭＴ１００Ｚ、ユニケマ社(Uniqema)の製品ソラベイル(SOLAVEIL)ＣＴ-１０Ｗ、ソラベイルＣＴ１００及びソラベイルＣＴ２００；
−  シリカ、アルミナ及びアルギン酸によるもの、例えばタイカ社の製品ＭＴ-１００ＡＱ；
−  アルミナ及びラウリン酸アルミニウムによるもの、例えばタイカ社の製品マイクロ二酸化チタンＭＴ１００Ｓ；
−  酸化鉄及びステアリン酸鉄によるもの、例えばタイカ社の製品マイクロ二酸化チタンＭＴ１００Ｆ；
−  酸化亜鉛及びステアリン酸亜鉛によるもの、例えばタイカ社の製品ＢＲ３５１；
−  シリカ及びアルミナによるもので、シリコーン処理されたもの、例えばタイカ社の製品マイクロ二酸化チタンＭＴ６００ＳＡＳ、マイクロ二酸化チタンＭＴ５００ＳＡＳ又はマイクロ二酸化チタンＭＴ１００ＳＡＳ；
−  シリカ、アルミナ、ステアリン酸アルミニウムによるもので、シリコーン処理されたもの、例えばチタン工業の製品ＳＴＴ-３０-ＤＳ；
−  シリカによるもので、シリコーン処理されたもの、例えばケミラ社の製品ＵＶ-ＴＩＴＡＮ Ｘ１９５又はタイカ社の製品ＳＭＴ-１００ＷＲＳ；
−  アルミナによるもので、シリコーン処理されたもの、例えば石原産業の製品タイペークＴＴＯ-５５(Ｓ)又はケミラ社のＵＶチタンＭ２６２；
−  トリエタノールアミンによるもの、例えばチタン工業の製品ＳＴＴ-６５-Ｓ；
−  ステアリン酸によるもの、例えば石原産業の製品タイペークＴＴＯ-５５(Ｃ)；
−  ヘキサメタリン酸ナトリウムによるもの、例えばタイカ社のマイクロ二酸化チタンＭＴ１５０Ｗ。
【００３７】
シリコーン処理された他の酸化チタン顔料は、好ましくはその基本粒子の平均径が２５〜４０ｎｍで、デグサ・シリカ社(Degussa Silicas)からＴ８０５の商品名で販売されているオクチルトリメチルシラン処理ＴｉＯ２、その基本粒子の平均径が２１ｎｍで、例えばカードル社(Cardre)から７０２５０カードルＵＦ ＴｉＯ２ＳＩ３の商品名で販売されているポリジメチルシロキサン処理ＴｉＯ２、その基本粒子の平均径が２５ｎｍで、例えばカラー・テクニクス(Color Techniques)からマイクロ二酸化チタンＵＳＰグレード・ハイドロホビックの商品名で販売されているポリジメチルハイドロジェンシロキサンで処理されたアナターゼ／ルチルＴｉＯ２である。
【００３８】
未被覆の酸化チタン顔料は、例えば、マイクロ二酸化チタンＭＴ５００Ｂ又はマイクロ二酸化チタンＭＴ６００Ｂの商品名でタイカ社から、Ｐ２５の名称でデグサ社から、トランスペアレント・チタニウム・オキサイドＰＷの名称でワッカー社(Wackher)から、ＵＦＴＲの名称で三好化成から、ＩＴＳの名称でトーメンから、タイオベイルＡＱの名称でタイオキサイド社から販売されている。
【００３９】
未被覆の酸化亜鉛の顔料は、例えば、
−  サンスマート社(Sunsmart)からＺ-ＣＯＴＥの名称で販売されているもの；
−  エレメンティス社(Elementis)からナノックス(NANOX)の名称で販売されているもの；
−  ナノフェーズ・テクノロジーズ社(Nanophase Technologies)からナノガード(NANOGARD)ＷＣＤ２０２５の名称で販売されているもの；
である。
【００４０】
被覆酸化亜鉛の顔料は、例えば、
−  サンスマート社からＺ-ＣＯＴＥ ＨＰ１の名称で販売されているもの(ジメチコーン被覆ＺｎＯ)；
−  トシビ社(Toshibi)から酸化亜鉛ＣＳ-５の名称で販売されているもの(ポリメチルハイドロジェンシロキサン被覆ＺｎＯ)；
−  ナノフェーズ・テクノロジーズ社からナノガード酸化亜鉛ＦＮの名称で販売されているもの(Ｃ１２-Ｃ１５アルコールのベンゾエート、フィンソルブ(Finsolv)ＴＮ中の４０％分散液)；
−  大東(Daito)からダイトウパージョン(DAITOPERSION)ＺＮ-３０及びダイトウパージョンＺＮ-５０の名称で販売されているもの(ポリメチルハイドロジェンシロキサン及びシリカで被覆された３０％又は５０％のナノ亜鉛酸化物を含む、オキシエチレン化シクロポリメチルシロキサン／ポリジメチルシロキサン中の分散液)；
−  ダイキンからＮＦＤウルトラファイン(ULTRAFINE)ＺｎＯの名称で販売されているもの(ペルフルオロアルキルエチルベースコポリマー及びペルフルオロアルキルホスフェートで被覆されたＺｎＯのシクロペンタシロキサン中の分散液)：
−  信越からＳＰＤ-Ｚ１の名称で販売されているもの(シリコーングラフト化アクリルポリマー被覆ＺｎＯのシクロジメチルシロキサン中の分散液)；
−  ＩＳＰ社からエスカロールＺ１００の名称で販売されているもの(メトキシケイ皮酸エチルヘキシル／ＰＶＰ-ヘキサデセンコポリマー／メチコーンの混合物に分散させたアルミナ処理ＺｎＯ)；
−  不二ピグメント(Fuji Pigment)からフジＺｎＯ-ＳＭＳ-１０の名称で販売されているもの(ポリメチルシルセスキオキサン及びシリカで被覆されたＺｎＯ)；
−  エレメンティス社からナノックス・ゲルＴＮの名称で販売されているもの(ヒドロキシステアリン酸の重縮合物とＣ１２-Ｃ１５アルコールのベンゾエート中に５５％で分散したＺｎＯ)；
である。
【００４１】
未被覆の酸化セリウムの顔料は、例えばローン・プーラン社(Rhone Poulenc)からコロイダル酸化セリウムの名称で販売されている。
【００４２】
未被覆の酸化鉄ナノ顔料は、例えばナノガードＷＣＤ２００２(ＦＥ４５Ｂ)、ナノガードＦＥ４５Ｒ・ＡＱ、ナノガード鉄ＦＥ４５ＢＬ・ＡＱ、ナノガードＷＣＤ２００６(ＦＥ４５Ｒ)の名称でアルノー社(Arnaud)から、又はＴＹ-２２０の名称で三菱(Mitsubishi)から販売されている。
被覆酸化鉄の顔料は、例えばナノガードＷＣＤ２００８(ＦＥ４５Ｂ・ＦＮ)、ナノガードＷＣＤ２００９(ＦＥ４５Ｂ５５６)、ナノガードＦＥ４５ＢＬ３４５、ナノガードＦＥ４５ＢＬの名称でアルノー社から、又はトランスペアレント・アイアン・オキサイドの名称でＢＡＳＦ社から販売されている。
【００４３】
また、金属酸化物の混合物、特に、サンベイルＡの名称で池田興産から販売されているシリカで被覆された二酸化セリウムと二酸化チタンの同重量混合物を含む、二酸化チタンと二酸化セリウムのもの、及びケミラ社から販売されている製品Ｍ２６１のようなアルミナ、シリカ及びシリコーンで被覆されるか、ケミラ社から販売されている製品Ｍ２１１のようなアルミナ、シリカ及びグリセロールで被覆された二酸化亜鉛と二酸化チタンの混合物を挙げることができる。
【００４４】
付加的な光保護剤は、組成物の全重量に対して０．０１〜２０重量％、好ましくは組成物の全重量に対して０．１〜１０重量％の範囲の量で、本発明の組成物中に一般に存在している。
【００４５】
また、本発明に係る組成物は、皮膚を人工的にサンタン状態にする、及び／又は褐色にするための薬剤(自己サンタン剤)、特にジヒドロキシアセトン(ＤＨＡ)をさらに含んでいてもよい。それらは、好ましくは組成物の全重量に対して０．１〜１０重量％の範囲の量で存在している。
【００４６】
また本発明に係る水性組成物は、脂肪物質、有機溶媒、イオン性又は非イオン性で親水性又は親油性の増粘剤、鎮痛剤、保湿剤、乳白剤、安定剤、エモリエント、シリコーン類、消泡剤、香料、防腐剤、アニオン性、カチオン性、非イオン性、双性イオン性又は両性の界面活性剤、活性剤、フィラー、ポリマー類、噴霧剤及び塩基性化又は酸性化剤、又は化粧品及び／又は皮膚科学分野において一般的に使用されている任意の他の成分から特に選択される一般的な化粧品用アジュバントをさらに含有してもよい。
【００４７】
脂肪物質は、油又は予め定められた無極性ロウ以外のロウ又はそれらの混合物からなるものでありうる。「油」という用語は、周囲温度で液体である化合物を意味するものと理解される。「ロウ」という用語は、周囲温度で固形又は実質的に固形であり、その融点が一般的に３５℃を越える化合物を意味するものと理解される。
【００４８】
油としては、鉱物性油(パラフィン)；植物性油(スイートアルモンド油、マカダミア油、クロフサグスリ種油、ホホバ油)；合成油、例えばペルヒドロスクアレン、アルコール、脂肪アミド(例えば、味の素からＥＬＤＥＷ ＳＬ-２０５の名称で販売されているラウロイルサルコシン酸イソプロピル)、脂肪酸又はエステル、例えばウィトコ社(Witco)からウィトコノール(WITCONOL)ＴＮ又はフィンソルブＴＮの商品名で販売されているＣ１２-Ｃ１５アルコールのベンゾエート、安息香酸２-エチルフェニル、例えばＩＳＰ社からＸ-ＴＥＮＤ２２６(登録商標)の名称で市販されている製品、パルミチン酸オクチル、ラノリン酸イソプロピル、カプリン酸／カプリル酸のものを含むトリグリセリド類、コグニス社(Cognis)からセチオール(CETIOL)ＣＣの名称で販売されている炭酸ジカプリリル、オキシエチレン化又はオキシプロピレン化脂肪エステル及びエーテル；シリコーン油(シクロメチコーン、ポリジメチルシロキサン類又はＰＤＭＳ)又はフルオロ油、及びポリアルキレン類を挙げることができる。
ロウ化合物としては、カルナウバロウ、ミツロウ、水添ヒマシ油、ポリエチレンロウ、及びポリメチレンロウ、例えばサソール社(Sasol)からＣＩＲＥＢＥＬＬＥ３０３の名称で販売されているものを挙げることができる。
【００４９】
有機溶媒としては、低級ポリオール及びアルコールを挙げることができる。低級ポリオール類は、グリコール類及びグリコールエーテル類、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ジプロピレングリコール及びジエチレングリコールから選択され得る。
【００５０】
親水性増粘剤としては、カルボキシビニルポリマー、例えばカルボポール(カルボマー(carbomers))及びペミュレン(pemulens)(アクリレート／アクリル酸Ｃ１０-Ｃ３０アルキルのコポリマー)；ポリアクリルアミド類、例えばセピック社(SEPPIC)からセピゲル(SEPIGEL)３０５(ＣＴＦＡ名：ポリアクリルアミド／Ｃ１３-Ｃ１４イソパラフィン／ラウレス(Laureth)７)又はシマルゲル(SIMULGEL)６００(ＣＴＦＡ名：アクリルアミド／アクリロイルジメチルタウリン酸ナトリウムコポリマー／イソヘキサデカン／ポリソルベート８０)の名称で販売されている架橋コポリマー；場合によっては架橋及び／又は中和されていてもよい２-アクリルアミド-２-メチルプロパンスルホン酸のポリマー及びコポリマー、例えばヘキスト社(Hoechst)からホスタセリン(HOSTACERIN)ＡＭＰＳの商品名で販売されているポリ(２-アクリルアミド-２-メチルプロパンスルホン酸)(ＣＴＦＡ名：ポリアクリロイルジメチルタウリン酸アンモニウム)又はセピック社から販売されているシマルゲル８００(ＣＦＴＡ名：ポリアクリロイルジメチルタウリン酸ナトリウム／ポリソルベート８０／オレイン酸ソルビタン)；セピック社から販売されているシマルゲルＮＳ及びセピノブ(SEPINOV)ＥＭＴ１０等の、アクリル酸ヒドロキシエチル及び２-アクリルアミド-２-メチルプロパンスルホン酸のコポリマー；セルロース誘導体、例えばヒドロキシエチルセルロース；多糖類、特にガム類、例えばキサンタンガム；及びそれらの混合物を挙げることができる。
【００５１】
親油性増粘剤としては、合成ポリマー、例えばランデック社(Landec)からインテリマー(INTELIMER)ＩＰＡ１３-１及びインテリマーＩＰＡ１３-６の名称で販売されているポリ(アクリル酸Ｃ１０-Ｃ３０アルキル)又は例えばベントーン(BENTONE)の名で販売されている製品のような、変性クレー類、例えばヘクトライト及びその誘導体を挙げることができる。
【００５２】
活性成分としては、
−  単独で又は混合物として、ビタミン類(Ａ、Ｃ、Ｅ、Ｋ、ＰＰ等)及びそれらの誘導体又は前駆体；
−  抗汚染剤及び／又はフリーラジカル捕捉剤；
−  脱色素剤及び／又は色素沈着誘発剤(propigmenting agents)；
−  抗グリケーション剤；
−  鎮痛剤；
−  ＮＯシンターゼインヒビター；
−  真皮又は表皮の巨大分子の合成を刺激し及び／又はそれらの分解を防止する薬剤；
−  線維芽細胞の増殖を刺激する薬剤
−  ケラチノサイトの増殖を刺激する薬剤；
−  筋弛緩剤；
−  張力付与剤(tensioning agents)；
−  マット化剤(mattifying agents)；
−  角質溶解剤；
−  落屑剤；
−  保湿剤；
−  抗炎症剤；
−  細胞のエネルギー代謝に作用する薬剤；
−  昆虫忌避剤；
−  サブスタンスＰアンタゴニスト又はＣＲＧＰアンタゴニスト；
−  抜毛防止剤及び／又は発毛剤；及び
−  抗シワ剤；
を挙げることができる。
【００５３】
もちろん、当業者であれば、本発明に係る組成物に本来関連している有利な特性、特にジベンゾイルメタン誘導体の光安定性の改善が、考慮される添加により損なわれないか又は実質的に損なわれないように、上述した任意成分の付加的な化合物又は化合物群及び／又はそれらの量を必ず選択するであろう。
【００５４】
本発明に係る組成物は、当業者によく知られている技術に従って調製することができる。それらは、特に、単純又は複合(Ｏ／Ｗ、Ｗ／Ｏ、Ｏ／Ｗ／Ｏ又はＷ／Ｏ／Ｗ)エマルション、例えばクリーム、ミルク又はクリーム-ゲルの形態；水性ゲルの形態；又はローションの形態であってよい。それらはまたエアゾール及びフォーム又はスプレーの形態に包装されてもよい。
好ましくは、本発明に係る組成物は水中油型又は油中水型エマルションの形態である。
【００５５】
エマルションは、一般に、単独で又は混合物として使用される両性、アニオン性、カチオン性又は非イオン性乳化剤から選択される少なくとも一の乳化剤を含んでいる。乳化剤は、得られるべきエマルション(Ｗ／ＯかＯ／Ｗ)に応じて適切な形で選択される。エマルションはまた他の種類の安定剤、例えばフィラー、ゲル化ポリマー又は増粘剤を含んでもよい。
【００５６】
Ｗ／Ｏエマルションの調製に使用可能な乳化界面活性剤としては、例えば、ソルビタン、グリセロール又は糖類のアルキルエステル又はエーテル；シリコーン性界面活性剤、例えばジメチコーンコポリオール類、例えばダウ・コーニング社(Dow Corning)からＤＣ５２２５Ｃの名称で販売されているシクロメチコーンとジメチコーンコポリオールの混合物、及びアルキルジメチコーンコポリオール類、例えばダウ・コーニング社からダウ・コーニング５２００フォーミュレーション・エイドの名称で販売されているラウリルメチコーンコポリオール；セチルジメチコーンコポリオール、例えばゴールドシュミット社(Goldschmidt)からアビル(ABIL)ＥＭ９０Ｒの名称で販売されている製品、及びゴールドシュミット社からアビルＷＥ０９の名称で販売されているラウリン酸ヘキシル、イソステアリン酸ポリグリセロール(４ｍｏｌ)、セチルジメチコーンコポリオールの混合物を挙げることができる。また、有利にはアルキル化ポリオールエステルを含む群から選択されうる一又は複数の共乳化剤をそこに添加することもできる。
【００５７】
アルキル化ポリオールエステルとしては、特にポリエチレングリコールエステル、例えばＩＣＩ社からアルラセル(ARLACEL)Ｐ１３５の名称で販売されている製品のような、ＰＥＧ-３０ジポリヒドロキシステアレートを挙げることができる。
グリセロール及び／又はソルビタンエステルとしては、イソステアリン酸ポリグリセロール、例えばゴールドシュミット社からイソラン(ISOLAN)ＧＩ３４の名称で販売されている製品；イソステアリン酸ソルビタン、例えばＩＣＩ社からアルラセル９８７の名称で販売されている製品；イソステアリン酸ソルビタンとグリセロール、例えばＩＣＩ社からアルラセル９８６の名称で販売されている製品、及びそれらの混合物を挙げることができる。
【００５８】
Ｏ／Ｗエマルション用の乳化剤としては、例えば非イオン性乳化剤、例えばオキシアルキレン化(より詳細にはポリオキシエチレン化)された脂肪酸とグリセロールのエステル；オキシアルキレン化された脂肪酸とソルビタンのエステル；オキシアルキレン化(オキシエチレン化及び／又はオキシプロピレン化)された脂肪酸エステル、例えばアルラセル１６５の名称でＩＣＩ社から販売されているＰＥＧ-１００ステアレート／ステアリン酸グリセリルの混合物；オキシアルキレン化(オキシエチレン化及び／又はオキシプロピレン化)された脂肪アルコールエーテル；糖エステル、例えばスクロースステアレート；脂肪アルコールと糖エーテル、特にアルキルポリグルコシド(ＡＰＧ)、例えばデシルグルコシド及びラウリルグルコシドで、例えばヘンケル社(Henkel)からそれぞれプランタレン(PLANTAREN)２０００及びプランタレン１２００の名称で販売されているもの、セトステアリルグルコシドで、場合によってはセトステアリルアルコールとの混合物として、セピック社からモンタノブ(MONTANOV)６８の名称で、ゴールドシュミット社からテゴケア(TEGOCARE)ＣＧ９０の名称で、さらにヘンケル社からエマルゲード(EMULGADE)ＫＥ３３０２の名称で販売されているもの、そしてまたアラキジルグルコシド、例えばセピック社からモンタノブ２０２の名称で販売されているアラキジルグルコシドとアラキジル及びベヘニルアルコールの混合物の形態のものを挙げることができる。本発明の特定の一実施態様によれば、対応する脂肪アルコールとの上述したアルキルポリグルコシドの混合物は、例えば国際公開第９２／０６７７８号の文献に記載されているような、自己乳化組成物の形態であってもよい。
【００５９】
他の乳化安定剤としては、特にイソフタル酸又はスルホイソフタル酸のポリマー、特にフタレート／スルホイソフタレート／グリコールのコポリマー、例えばジエチレングリコール／フタレート／イソフタレート／１,４-シクロヘキサンジメタノールのコポリマー(ＩＮＣＩ名；ポリエステル-５)で、イーストマン・ケミカル社(Eastman Chemical)からイーストマンＡＱポリマー(ＡＱ３５Ｓ、ＡＱ３８Ｓ、ＡＱ５５Ｓ、ＡＱ４８ウルトラ)の名称で販売されているものが、特に使用される。
【００６０】
エマルションを含む場合、そのエマルションの水相は、既知の方法（Bangham, Standish及びWatkins, J. Mol. Biol. 13, 238(1965)、仏国特許第２３１５９９１号及び仏国特許第２４１６００８号）に従い調製される非イオン性小胞体分散液を含有してもよい。
【００６１】
本発明に係る組成物は、多くの処理、特に皮膚、唇、及び毛髪であって頭皮を含むものの美容処理、中でも皮膚、唇及び／又は毛髪の保護及び／又は手入れ、及び／又は皮膚及び／又は唇のメークアップの用途が見出される。
本発明の他の主題は、皮膚、唇、爪、毛髪、睫毛、眉毛及び／又は頭皮の美容処用の製品、特に手入れ製品、サンスクリーン製品及びメークアップ製品の製造における上述の本発明に係る組成物の使用からなる。
本発明に係る化粧品用組成物は、例えばメークアップ製品として使用され得る。
【００６２】
本発明に係る化粧品用組成物は、顔及び／又は体用で、液体から半液体のコンシステンシーを有する手入れ製品及び／又はサンスクリーン製品、例えばミルク、程度の差はあれリッチなクリーム、クリーム-ゲル又はペーストとして使用されうる。それらは、エアゾール、及びフォーム又はスプレーの形態に場合によっては包装されうる。
【００６３】
本発明において、噴霧性液状ローションの形態である本発明の組成物は、加圧された装置を使用し、微細粒子の形態で皮膚又は毛髪に適用される。本発明の装置は当業者によく知られており、ノンエアゾールポンプ又は「アトマイザー」、噴霧剤を含むエアゾール容器、及び噴霧剤として圧縮空気を使用するエアゾールポンプを具備する。後者は、米国特許第４０７７４４１号及び米国特許第４８５０５１７号に記載されている(明細書の内容の一体部分を構成する)。
本発明においてエアゾールとして包装された組成物は一般に常套的な噴霧剤、例えばハイドロフルオロ化合物、ジクロロジフルオロメタン、ジフルオロエタン、ジメチルエーテル、イソブタン、ｎ-ブタン、プロパン、又はトリクロロフルオロメタンを含む。それらは、組成物の全重量に対して、好ましくは１５〜５０重量％の範囲の量で存在する。
限定するものではないが、本発明を例証する具体的な実施例を以下に記載する。
【実施例】
【００６４】
合成例
実施例１：Ｎ-(３-{１,３,３,３-テトラメチル-１-[(トリメチルシリル)オキシ]ジシロキサニル}プロピル)ベンズアミドの調製：
【化９】
2008163008.tif 000016
２０ｍｌの無水ジクロロメタンと０．５ｍｌのＤＭＦに安息香酸(２．３２ｇ、０．０１９ｍｏｌ)が入った０℃まで冷却された溶液に、２ｍｌの塩化オキサリル(０．０２２８ｍｏｌ)を滴下して加えた。混合物を０℃で１５分、ついで実験室温度で３時間攪拌した。反応混合物を減圧下で濃縮した。得られた黄色固形物を２０ｍｌのジクロロメタンに溶解させ、０℃まで冷却した。そこに、１０ｍｌの無水ジクロロメタンに溶解させた３-アミノプロピルメチルビス(トリメチルシロキシ)シラン(５．２５ｇ、０．０１９ｍｏｌ)、ついでジイソプロピルエチルアミン(９．５ｍｌ、０．０５７ｍｏｌ)を滴下して加えた。真空下で溶媒を蒸発させた後、得られたオレンジ色の油を、１００ｍｌの酢酸エチル中に取り上げた。水と、ついで塩化ナトリウムの飽和溶液で２回、有機相を洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥させた。溶媒を濾過し、蒸発させた後、得られたオレンジ色の油をシリカクロマトグラフィーにかけたところ(溶離液：ヘプタン／ＥｔＯＡｃ：９５／５)、淡黄色の油として実施例１の化合物が５．１ｇ(収率：７０％)得られた。
【００６５】
実施例２：３-フェニル-Ｎ-(３-{１,３,３,３-テトラメチル-１-[(トリメチルシリル)オキシ]ジシロキサニル}プロピル)プロパンアミドの調製：
【化１０】
2008163008.tif 000017
４０ｍｌの無水アセトニトリルと１ｍｌのＤＭＦ中に３-フェニルプロピオン酸(１１ｇ、０．０７３２ｍｏｌ)が入った０℃まで冷却された溶液に、７．７ｍｌの塩化オキサリル(０．０８７８ｍｏｌ)を滴下して加えた。混合物を０℃で１５分、ついで実験室温度で３時間攪拌した。反応混合物を減圧下で濃縮した。得られたオレンジ色の油を４０ｍｌのアセトニトリルに溶解させ、０℃まで冷却した。そこに、４０ｍｌの無水アセトニトリルに溶解させた３-アミノプロピルメチルビス(トリメチルシロキシ)シラン(２０．４８ｇ、０．０７３２ｍｏｌ)、ついでジイソプロピルエチルアミン(３７ｍｌ、０．２１９ｍｏｌ)を滴下して加えた。真空下で溶媒を蒸発させた後、得られたオレンジ色の油を、３００ｍｌの酢酸エチル中に取り上げた。水、ついで塩化ナトリウムの飽和溶液で２回、有機相を洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥させた。溶媒を濾過し、蒸発させた後、得られたオレンジ色の油をシリカクロマトグラフィーにかけたところ(溶離液：ヘプタン／ＥｔＯＡｃ：９５／５)、黄色の油として実施例２の化合物が２３ｇ(収率：７６％)得られた。
【００６６】
処方例３及び４
次の組成物を調製した後、それぞれについて、４-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタンの光安定性を評価した。
【表１】
2008163008.tif 000018
【００６７】
測定方法
各処方物に対して、４つの試験サンプルと４つのコントロールサンプルを調製した。スパチェラを使用して２ｍｇ／ｃｍ２の処方物をポリメチルメタクリレートシート上に配した。
試験用シートを、７．９×１０−３Ｗ／ｃｍ２のＵＶ-Ａフラックス及び３．８×１０−４Ｗ／ｃｍ２のＵＶ-Ｂフラックスを有するキセノンランプを具備するヘラウス・サンテスト(Heraus Suntest )に４６分暴露した。コントロール用シートを、同じ時間、同じ温度(３８−４０℃)で暗所に保存した。この期間の終わりに、５０ｇのエタノール中に各シートを浸漬し、また良好な除去を行うためにそれらに１５分間超音波をあてることにより、遮蔽剤を除去した。得られた溶液をＵＶ分光光度法により分析した。試験した各処方物について、暴露後の４-tert-ブチル-４'-メトキシ-ジベンゾイルメタンの残留レベルを、その非暴露光学密度(ＯＤ)に対する暴露サンプル中の光学密度(ＯＤ)の比の形で得た。これは、ブチルメトキシジベンゾイルメタンに対応する最大吸光度：λｍａｘ＝３５８ｎｍで生じた。
【００６８】
得られた結果を次の表にまとめる：
【表２】
2008163008.tif 000019
ジベンゾイルメタンの光安定性は、シロキサン含有アリールアルキルアミド誘導体の存在により改善されることが観察された。
【外国語明細書】
2008163008000001.pdf
2008163008000002.pdf
2008163008000003.pdf