(57)【要約】【課題】感度の良好なブラックマトリクスを形成することのできる無機粉体含有樹脂組成物、該無機粉体含有樹脂組成物からなる無機粉体含有樹脂層を有する転写フィルムならびに平滑で反りのない、パターニング性能の良好なブラックマトリクスを形成することのできるフラットパネルディスプレイの製造方法を提供することを課題とする。【解決手段】特定の光重合開始剤を用いて得られた本発明の無機粉体含有樹脂組成物からなる無機粉体含有樹脂層を有する転写フィルムは、平滑で反りのない、優れたパターニング性能を有するブラックマトリクスを形成できるフラットパネルディスプレイを提供することができる。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）無機粉体として、有色顔料（Ａ−１）およびガラス粉体（Ａ−２）、
（Ｂ）結着樹脂、
（Ｃ）光重合性モノマーならびに
（Ｄ）光重合開始剤として下記式（１）で表される化合物
を含有する無機粉体含有樹脂組成物。
【化１】
2008239778.tif 000010
（１）
〔上記式（１）中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、それぞれ、Ｒ、ＯＲ、ＣＯＲ、ＳＲ、ＣＯＮＲ
Ｒ'、またはＣＮを表し、Ｒ及びＲ'はアルキル基、アリール基、アラルキル基、または複素環基を表し、これらはハロゲン原子もしくは複素環基で置換されていてもよく、これらのうちアルキル基及びアラルキル基のアルキレン部分は、不飽和結合、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合により中断されていてもよく、また、Ｒ及びＲ'は一緒に
なって環を形成していてもよい。Ｙは酸素原子、硫黄原子またはセレン原子を表し、Ａは複素環基を表し、ｍは０〜４の整数を表し、ｐは０〜５の整数を表し、ｑは０または１を表す。〕
【請求項２】
前記ガラス粉体（Ａ−２）として、軟化点が４００〜５００℃の無鉛ガラス粉体を含有する請求項１に記載の無機粉体含有樹脂組成物。
【請求項３】
前記結着樹脂（Ｂ）が、側鎖に重合性不飽和二重結合を有する請求項１または２に記載の無機粉体含有樹脂組成物。
【請求項４】
前記結着樹脂（Ｂ）が、水酸基を有する重合体に、（メタ）アクリロイル基を有するイソシアネート化合物を反応させて得られる重合体である請求項１〜３のいずれかに記載の無機粉体含有樹脂組成物。
【請求項５】
前記光重合開始剤（Ｄ）が、式（２）で表される化合物である請求項１〜４のいずれかに記載の無機粉体含有樹脂組成物。
【化２】
2008239778.tif 000011
【請求項６】
有機シラン化合物（Ｅ）をさらに含有する請求項１〜５のいずれかに記載の無機粉体含有樹脂組成物。
【請求項７】
支持フィルム上に、請求項１〜６のいずれかに記載の無機粉体含有樹脂組成物から得られる無機粉体含有樹脂層を有する転写フィルム。
【請求項８】
基板上に、請求項７に記載の転写フィルムの無機粉体含有樹脂層を転写する工程と、
該無機粉体含有樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程と、
該無機粉体含有樹脂層を現像処理してパターンを形成する工程と、
該パターンを焼成処理する工程と
を含む方法によりブラックマトリクスを形成するフラットパネルディスプレイの製造方法。
【請求項９】
基板上に、請求項７に記載の転写フィルムの無機粉体含有樹脂層を転写する工程と、
該無機粉体含有樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程と、
該無機粉体含有樹脂層を現像処理してパターンを形成する工程と、
該パターン層の上にさらにパターンを形成して積層パターン層を得る工程と、
該積層パターンを焼成処理する工程と
を含む方法によりブラックマトリクスを含む複数部材を一括して形成するフラットパネルディスプレイの製造方法。
【請求項１０】
基板上に、請求項７に記載の転写フィルムの無機粉体含有樹脂層を転写する工程と、
該無機粉体含有樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程と、
該無機粉体含有樹脂層を現像処理してパターンを形成する工程と、
得られたパターン層をポストベークする工程と、
該パターン層の上にさらにパターンを形成して積層パターン層を得る工程と、
該積層パターンを焼成処理する工程と
を含む方法によりブラックマトリクスを含む複数部材を一括して形成するフラットパネルディスプレイの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フラットパネルディスプレイのブラックマトリクスを形成するために好適な無機粉体含有樹脂組成物、該組成物からなる無機粉体含有樹脂層を有する転写フィルム、および、該転写フィルムを用いたフラットパネルディスプレイの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、平板状の蛍光表示体としてプラズマディスプレイパネル（以下、「ＰＤＰ」ともいう。）、フィールドエミッションディスプレイ（以下、「ＦＥＤ」ともいう。）などのフラットパネルディスプレイ（以下、「ＦＰＤ」ともいう。）が注目されている。ＰＤＰは、透明電極を形成し、近接した２枚のガラス板の間にアルゴンまたはネオンなどの不活性ガスを封入し、プラズマ放電を起こしてガスを光らせることにより、蛍光体を発光させて情報を表示するディスプレイである。一方、ＦＥＤは、電界印可によって陰極から真空中に電子を放出させ、その電子を陽極上の蛍光体に照射することにより、蛍光体を発光させて情報を表示するディスプレイである。
【０００３】
図１は交流型のＰＤＰの断面形状を示す模式図の一例である。同図において、１および２は対向配置されたガラス基板、３は隔壁であり、ガラス基板１、ガラス基板２および隔壁３によりセルが区画形成されている。４はガラス基板１に固定された透明電極、５は透明電極４の抵抗を下げる目的で、当該透明電極４上に形成されたバス電極、６はガラス基板２に固定されたアドレス電極、７はセル内に保持された蛍光物質、８は透明電極４およびバス電極５を被覆するようガラス基板１の表面に形成された誘電体層、６はアドレス電極、９は被覆するようガラス基板２の表面に形成された誘電体層、１０は、たとえば、酸化マグネシウムよりなる保護膜である。
【０００４】
また、カラーＦＰＤにあっては、コントラストの高い画像を得るため、ガラス基板と誘電体層との間に、カラーフィルター（赤色・緑色・青色）やブラックマトリクスなどを設けることがある。
【０００５】
このようなＦＰＤの誘電体、隔壁、電極、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックスマトリクスの製造方法としては、たとえば、
（１）非感光性の無機粉体含有ペーストを基板上にスクリーン印刷してパターンを形成し、これを焼成するスクリーン印刷法（たとえば、特許文献１参照）や、
（２）感光性の無機粉体含有樹脂層を基板上に形成し、この膜にフォトマスクを介して紫外線を照射した上で現像することにより基板上にパターンを残存させ、これを焼成するフォトリソグラフィー法（たとえば、特許文献２，３参照）
などが知られているが、厚膜パターンの形成工程が簡便であることや、パターン形状に優れていることなどから、特に上記（２）のフォトリソグラフィー法が好適に用いられる。
【０００６】
特に上記ブラックマトリクスにおいては、画像のコントラストを高める目的で、光が画面外で反射して視認性の妨げにならないよう反射率の低い性能（好ましくは波長５５０ｎｍまたは全光線での反射率が２％以下）と透過率が低い性能（好ましくは波長５５０ｎｍまたは全光線での透過率が１０％以下）を両立させる必要がある。
【０００７】
しかしながら、上記のように透過率を低くすると、前記フォトリソグラフィー法を用いた場合、露光時に膜厚方向の感度が低下し、パターニング形状が悪くなるという問題がある。膜厚方向の感度が低下すると、感光性樹脂がネガ型の場合には表面付近のみが硬化す
るため、現像時にアンダーカットが生ずる。このため現像後のパターン形状が悪化したり、基板から膜がはがれるなどの問題が発生する。また、続く焼成工程においてパターンに反りが生じ、高精彩なブラックマトリクスが得られない場合もある。
【０００８】
一方、近年、高性能を維持しながら製造コストをさらに低減させる要望が高まっているが、製造工程の中でも特に部材ごとに高温で焼成して有機成分を消失させる焼成工程がタクトタイム削減の大きな障壁になっていた。
【０００９】
このタクトタイムを削減するために、上記フォトリソグラフィー法によるフラットパネルディスプレイの部材形成方法において、複数部材からなる積層パターンを形成し、一括して焼成を行うという方法が考えられる。
【００１０】
しかしながら、この方法の実施にあたっては、単層で焼成した場合にはパターンの反りは発生しないが、他の部材形成材料と積層して焼成した場合にはこの反りが発生するという問題が生じていた。
【特許文献１】特開平６−３２１６１９号公報
【特許文献２】特開平９−１０２２７３号公報
【特許文献３】特開平１１−１６２３３９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
感度の良好なブラックマトリクスを形成することのできる無機粉体含有樹脂組成物、該無機粉体含有樹脂組成物からなる無機粉体含有樹脂層を有する転写フィルムならびに平滑で反りのない、パターニング性能の良好なブラックマトリクスを形成することのできるフラットパネルディスプレイの製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の無機粉体含有樹脂組成物は、（Ａ）無機粉体として、有色顔料（Ａ−１）およびガラス粉体（Ａ−２）、
（Ｂ）結着樹脂、
（Ｃ）光重合性モノマーならびに
（Ｄ）光重合開始剤として下記式（１）で表される化合物
を含有することを特徴としている。
【００１３】
【化１】
2008239778.tif 000002
〔上記式（１）中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、それぞれ、Ｒ、ＯＲ、ＣＯＲ、ＳＲ、ＣＯＮＲ
Ｒ'、またはＣＮを表し、Ｒ及びＲ'はアルキル基、アリール基、アラルキル基、または複素環基を表し、これらはハロゲン原子もしくは複素環基で置換されていてもよく、これらのうちアルキル基及びアラルキル基のアルキレン部分は、不飽和結合、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合により中断されていてもよく、また、Ｒ及びＲ'は一緒に
なって環を形成していてもよい。Ｙは酸素原子、硫黄原子またはセレン原子を表し、Ａは複素環基を表し、ｍは０〜４の整数を表し、ｐは０〜５の整数を表し、ｑは０または１を
表す。〕
前記ガラス粉体（Ａ−２）として、軟化点が４００〜５００℃の無鉛ガラス粉体を含有することが好ましい。
【００１４】
前記結着樹脂（Ｂ）は、側鎖に重合性不飽和二重結合を有することが好ましい。
前記結着樹脂（Ｂ）は、水酸基を有する重合体に、（メタ）アクリロイル基を有するイソシアネート化合物を反応させて得られる重合体であることが好ましい。
【００１５】
前記光重合開始剤（Ｄ）は、式（２）で表される化合物であることが好ましい。
【００１６】
【化２】
2008239778.tif 000003
本発明の無機粉体含有樹脂組成物は、有機シラン化合物（Ｅ）をさらに含有することが好ましい。
【００１７】
本発明の転写フィルムは、支持フィルム上に、上記無機粉体含有樹脂組成物から得られる無機粉体含有樹脂層を有することを特徴としている。
本発明のフラットパネルディスプレイの製造方法は、基板上に、前記転写フィルムの無機粉体含有樹脂層を転写する工程と、
該無機粉体含有樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程と、
該無機粉体含有樹脂層を現像処理してパターンを形成する工程と、
該パターンを焼成処理する工程と
を含む方法によりブラックマトリクスを形成することを特徴としている。
【００１８】
本発明のフラットパネルディスプレイの製造方法は、基板上に、前記転写フィルムの無機粉体含有樹脂層を転写する工程と、
該無機粉体含有樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程と、
該無機粉体含有樹脂層を現像処理してパターンを形成する工程と、
該パターン層の上にさらにパターンを形成して積層パターン層を得る工程と、
該積層パターンを焼成処理する工程と
を含む方法によりブラックマトリクスを含む複数部材を一括して形成することを特徴としている。
【００１９】
本発明のフラットパネルディスプレイの製造方法は、基板上に、前記転写フィルムの無機粉体含有樹脂層を転写する工程と、
該無機粉体含有樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程と、
該無機粉体含有樹脂層を現像処理してパターンを形成する工程と、
得られたパターン層をポストベークする工程と、
該パターン層の上にさらにパターンを形成して積層パターン層を得る工程と、
該積層パターンを焼成処理する工程と
を含む方法によりブラックマトリクスを含む複数部材を一括して形成することを特徴とし
ている。
【発明の効果】
【００２０】
特定の光重合開始剤を用いて得られた本発明の無機粉体含有樹脂組成物からなる無機粉体含有樹脂層を有する転写フィルムは、平滑で反りのない、優れたパターニング性能を有するブラックマトリクスを形成できるフラットパネルディスプレイを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明の無機粉体含有樹脂組成物、転写フィルムおよびフラットパネルディスプレイの製造方法について詳細に説明する。
〔無機粉体含有樹脂組成物〕
本発明の無機粉体含有樹脂組成物（以下、単に「本発明の組成物」ともいう）は、
（Ａ）無機粉体として、有色顔料（Ａ−１），およびガラス粉体（Ａ−２）、
（Ｂ）結着樹脂、
（Ｃ）光重合性モノマーならびに
（Ｄ）光重合開始剤
を含有する。本発明の組成物は、さらに有機シラン化合物（Ｅ）を含有してもよい。以下、本発明の組成物の各構成成分について具体的に説明する。
【００２２】
＜無機粉体（Ａ）＞
本発明の組成物に用いられる無機粉体（Ａ）としては、有色顔料（Ａ−１）およびガラス粉体（Ａ−２）を用いる。
【００２３】
有色顔料（Ａ−１）としては、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｔｉおよびこれらの酸化物ならびに複合酸化物、具体的には、四酸化三コバルト（Ｃｏ3Ｏ4）またはコバルト含有複合酸化物などが好ましく用いられる。これらの有色顔料は単独で用いても２種類以上を混合して用いてもよい。
【００２４】
有色顔料として四酸化三コバルトまたはコバルト含有複合酸化物を用いる場合は、その比表面積は、７．５ｍ2／ｇ以上２０ｍ2／ｇ以下、好ましくは、１０ｍ2／ｇ以上２０ｍ2／ｇ以下である。比表面積が７．５ｍ2／ｇ未満であると、光透過率の低いブラックマト
リクスが得られない。また、２０ｍ2／ｇを越えると、赤味がかった色のブラックマトリ
クスが形成されるなど、良好な黒色を有するブラックマトリックスを得られないおそれがあるため好ましくない。
【００２５】
ここで「比表面積」とは、無機粉体含有樹脂組成物に含有される四酸化三コバルトのＢＥＴ法により求められる比表面積の平均値をいう。
また、四酸化三コバルトの平均粒子径は、通常、０．０５〜５．０μｍ、好ましくは０．１〜０．５μｍである。
【００２６】
ガラス粉体（Ａ−２）としては、好ましくは軟化点が４００〜５００℃のガラス粉体が用いられる。ガラス粉体の軟化点が４００℃未満である場合には、無機粉体含有樹脂層の焼成工程において、結着樹脂などの有機物質が完全に分解除去されない段階でガラス粉体が溶融してしまうため、形成されるブラックマトリクス中に有機物質の一部が残留することがあり、得られるフラットパネルディスプレイ内にアウトガスが拡散する結果、蛍光体の寿命を低下させるおそれがある。一方、ガラス粉体の軟化点が５００℃を超える場合には、無機粉体含有樹脂層を５００℃より高温で焼成する必要があるため、該樹脂層の被転写体であるガラス基板に歪みなどが発生することがある。
【００２７】
上記ガラス粉体の好適な具体例としては、
（１）酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素および酸化カルシウム系（ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−ＣａＯ 系）、
（２）酸化亜鉛、酸化ホウ素および酸化ケイ素系（ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）、
（３）酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素および酸化アルミニウム系（ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系）、
（４）酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素および酸化ケイ素系（ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）、
（５）酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素および酸化チタン系（ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−ＴｉＯ2系）、
（６）酸化ビスマス、酸化ホウ素および酸化ケイ素系（Ｂｉ2Ｏ3−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）
、
（７）酸化亜鉛、酸化リンおよび酸化ケイ素系（ＺｎＯ−Ｐ2Ｏ5−ＳｉＯ2系）、
（８）酸化亜鉛、酸化ホウ素および酸化カリウム系（ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−Ｋ2Ｏ系）、
（９）酸化リン、酸化ホウ素および酸化アルミニウム系（Ｐ2Ｏ5−Ｂ2Ｏ3−Ａｌ2Ｏ3系）、
（１０）酸化亜鉛、酸化リンおよび酸化チタン系（ＺｎＯ−Ｐ2Ｏ5−ＴｉＯ2系）混合物
（１１）酸化ビスマス、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化バリウムおよび酸化ケイ素系（Ｂｉ2Ｏ3−ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＢａＯ−ＳｉＯ2系）などを挙げることができる。これらのうち
、無鉛ガラス、すなわち、上記（６）〜（１１）などのガラス粉体が、混練後に得られる組成物の経時安定性の観点から好適に用いられる。
【００２８】
上記ガラス粉体の平均粒子径は０．１〜３．０μｍであることが好ましい。
無機粉体（Ａ）における、有色顔料（Ａ−１）とガラス粉体（Ａ−２）との含有割合は、無機粉体全量に対して、有色顔料（Ａ−１）が、好ましくは５〜３０質量％、ガラス粉体（Ａ−２）が好ましくは７０〜９５質量％である。有色顔料（Ａ−１）の割合が上記割合であることにより、当該有色顔料が焼成後も表面に析出することなくガラス粉体とともに膜内に埋包され、表面平滑性に優れ、反射率が低く、遮光性に優れたブラックマトリクスが得られる。また、ガラス粉体（Ａ−２）の割合が上記割合であることにより、表面平滑性に優れ、反射率が低く，遮光性に優れたブラックマトリクスが得られ、焼成後の基板に対する密着性や膜強度が良好となる効果が得られる。
【００２９】
特に本発明の無機粉体含有樹脂組成物においては、ガラス粉体の含有量が高いために、焼成後のブラックマトリクスの表面平滑性が向上し、画面に当たって拡散反射する光の量が低下し、低い反射率を得ることに成功したと考えられる。
【００３０】
また、本発明の無機粉体含有樹脂組成物には、（Ａ−１）および（Ａ−２）以外の無機粉体が含まれていてもよい。具体的には、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ケイ素および酸化セリウムなどの無機酸化物などが挙げられる。その他の無機粉体の含有量は、好ましくは無機粉体全量の３０質量％以下である。
【００３１】
＜結着樹脂（Ｂ）＞
本発明の組成物を構成する結着樹脂（Ｂ）としては、本発明の組成物を構成する結着樹脂（Ｂ）は、側鎖に重合性不飽和二重結合を有する重合体であり、アルカリ可溶性樹脂である。ここで、「アルカリ可溶性」とは、アルカリ性の現像液によって溶解し、目的とする現像処理が遂行される程度に溶解性を有する性質をいう。
【００３２】
結着樹脂（Ｂ）は、無機粉体（Ａ）１００部に対して、４〜６７部、好ましくは１０〜５０部の範囲で含有することが好ましい。また、前記アルカリ可溶性樹脂は、結着樹脂（Ｂ）１００部に対して、１０〜１００部の量で含有することが好ましい。
【００３３】
前記アルカリ可溶性樹脂の具体例としては、水酸基を有する重合体に、（メタ）アクリロイル基を有するイソシアネート化合物を反応させて得られる重合体が好ましく用いられる。具体的には、分子中に少なくとも１個のカルボキシル基を有する単量体と、分子中に少なくとも１個の水酸基を有するエチレン性不飽和単量体とを重合して得られる共重合体（以下、「共重合体ｂ」ともいう。）に、２−（メタ）アクリロイルオキシアルキルイソシアネートを反応させた共重合体（以下、「特定共重合体」ともいう。）が、好ましいものとして挙げられる。
【００３４】
特定共重合体の特に好ましい具体例として、メタクリル酸／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレートのベースポリマーに２−メタクリロイルオキシエチルエチルイソシアネートまたは２−アクリロイルオキシエチルイソシアネートを反応させて得られたものが挙げられる。
【００３５】
特定共重合体の合成に用いられるイソシアネート基および不飽和二重結合を有する化合物の具体例としては、２−メタクリロイルオキシエチルエチルイソシアネート、２−アクリロイルオキシエチルイソシアネート、１，１−ビス（アクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネートが挙げられる。上記共重合体ｂの共重合成分として用いられる水酸基を有する単量体１００モル部に対して１０モル〜６０モル部、好ましくは２０〜５５モル部である。
【００３６】
本発明に用いられる結着樹脂（Ｂ）の分子量としては、ＧＰＣによるポリスチレン換算の重量平均分子量（以下、単に「重量平均分子量」または「Ｍｗ」ともいう）で、３，０００〜３００，０００、好ましくは１０，０００〜１００，０００である。また、樹脂の多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）（重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ））としては、１．０〜５．０、好ましくは１．０〜３．０である。
【００３７】
＜光重合性モノマー（Ｃ）＞
本発明の組成物は、光重合性モノマー（Ｃ）および光重合開始剤（Ｄ）を含有する感光性組成物である。光重合性モノマーは、露光により重合し、露光部分をアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性にする性質を有するものであり、好ましいものとして多官能性（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００３８】
多官能性（メタ）アクリレートとしては、たとえば、エチレングリコールおよびプロピレングリコールなどのアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート類；ポリエチレングリコールおよびポリプロピレングリコールなどのポリアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート類；両末端ヒドロキシポリブタジエン、両末端ヒドロキシポリイソプレンおよび両末端ヒドロキシポリカプロラクトンなどの両末端ヒドロキシル化重合体のジ（メタ）アクリレート類；グリセリン、１，２，４−ブタントリオール、トリメチロールアルカン、テトラメチロールアルカン、ペンタエリスリトールおよびジペンタエリスリトールなどの３価以上の多価アルコールのポリ（メタ）アクリレート類；３価以上の多価アルコールのポリアルキレングリコール付加物のポリ（メタ）アクリレート類；１，４−シクロヘキサンジオールおよび１，４−ベンゼンジオール類などの環式ポリオールのポリ（メタ）アクリレート類；ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、アルキド樹脂（メタ）アクリレート、シリコーン樹脂（メタ）アクリレートおよびスピラン樹脂（メタ）アクリレートなどのオリゴ（メタ）アクリレート類などを挙げることができる。これらは１種単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。これらの中では、アルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート類、トリメチロールプロパントリアクリレートおよびそのポリアルキレングリコール付加物ならびにペンタエリストールトリアクリレートおよびそのポリアルキレングリコール
付加物などが特に好ましく用いられる。また、上記多官能性（メタ）アクリレートの分子量としては、１００〜２，０００であることが好ましい。
【００３９】
上記光重合性モノマー（Ｃ）は、無機粉体（Ａ）１００質量部に対して、通常０．８〜１００．５質量部、好ましくは５〜５０質量部の範囲の量で用いられる。また、光重合性モノマー（Ｃ）は、結着樹脂（Ｂ）１００質量部に対して、２０〜１５０質量部、好ましくは５０〜１００質量部の範囲の量で用いられる。結着樹脂の量が過小である場合には、無機粉体を確実に結着保持することができないことがあり、一方、過大である場合には、焼成工程に長い時間を要したり、形成される焼結体が十分な強度や膜厚を有しないことがある。
【００４０】
＜光重合開始剤（Ｄ）＞
本発明で用いられる光重合開始剤（Ｄ）としては、下記式（１）で表される化合物が用いられる。
【００４１】
【化１】
2008239778.tif 000004
〔上記式（１）中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、それぞれ、Ｒ、ＯＲ、ＣＯＲ、ＳＲ、ＣＯＮＲ
Ｒ'、またはＣＮを表し、Ｒ及びＲ'はアルキル基、アリール基、アラルキル基、または複素環基を表し、これらはハロゲン原子もしくは複素環基で置換されていてもよく、これらのうちアルキル基及びアラルキル基のアルキレン部分は、不飽和結合、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合により中断されていてもよく、また、Ｒ及びＲ'は一緒に
なって環を形成していてもよい。Ｙは酸素原子、硫黄原子またはセレン原子を表し、Ａは複素環基を表し、ｍは０〜４の整数を表し、ｐは０〜５の整数を表し、ｑは０または１を表す。〕
このような化合物としては、１−[９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９.Ｈ.−カルバゾール−３−イル]−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセタート、下記式（２）で表される化合物（エタノン−１−［９−エチル−６−［２−メチル−４−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラニル）メトキシベンゾイル］−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−１−（Ｏ−アセチルオキシム））、および（エタノン−１−［９−エチル−６−［２−メチル−４−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル］−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−１−（Ｏ−アセチルオキシム））などのカルボニル化合物などが挙げられる。
【００４２】
【化２】
2008239778.tif 000005
光重合開始剤（Ｄ）として上記式（１）で表される化合物を用いることにより、顔料が分散された透過率の低い無機粉体含有樹脂組成物であっても、高い硬化深度が得られ、アンダーカットを防ぐことができ、高いパターニング性能を有する無機粉体含有樹脂組成物を得ることができる。また、この無機粉体含有樹脂組成物から得られたパターンと他のパターンとを積層して一括焼成してもパターンの反りが発生しない。
【００４３】
また、前記光重合開始剤（Ｄ）は１種単独で用いてもよく、また他の重合開始剤を併用してもよい。他の重合開始剤としては、たとえば、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾフェノン、カンファーキノン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−メチル−〔４’−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノ−１−プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン；２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキサイド；アゾイソブチロニトリルおよび４−アジドベンズアルデヒドなどのアゾ化合物またはアジド化合物；２−メルカプトベンゾチアゾールおよびメルカプタンジスルフィドなどの有機硫黄化合物；ベンゾイルパーオキシド、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキシド、クメンハイドロパーオキシドおよびパラメタンハイドロパーオキシドなどの有機パーオキシド；１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（２’−クロロフェニル）−１，３，５−トリアジンおよび２−〔２−（２−フラニル）エチレニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジンなどのトリハロメタン類；２，２’−ビス（２−クロロフェニル）４，５，４’，５’−テトラフェニル１，２’−ビイミダゾールなどのイミダゾール二量体；２−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントンなどのチオキサントン系化合物などが挙げられる。これらの中では、２−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、および、２，４−ジクロロチオキサントンなどが特に好ましく用いられる。
【００４４】
これらの光重合開始剤を含有させることにより、併用することにより、光重合開始剤の使用量が少なくても十分な感度を達成でき、パターニング性能の良好でかつ反りのないフラットパネルディスプレイ部材を提供することができる。また、光重合開始剤の使用量が少なくてもよいことから、焼成工程において良好な燃焼性を発現する。
【００４５】
前記光重合開始剤（Ｄ）は、上記光重合性モノマー（Ｃ）１００質量部に対して、通常０．１〜５０．０質量部、好ましくは１．０〜３０．０質量部の範囲の量で用いられる。また、その他の光重合開始剤は、光重合開始剤（Ｄ）１００質量部に対して、２０〜１００質量部、好ましくは５０〜８０質量部の範囲の量で用いられる。
【００４６】
＜有機シラン化合物（Ｅ）＞
本発明の組成物は、上記無機粉体（Ａ）、特にガラス粉体の分散性の向上および形成する転写フィルムの可塑化の向上を目的として、有機シラン化合物を含有してもよい。このような有機シラン化合物としては、下記一般式（３）で表される飽和アルキルアルコキシシランおよび一般式（４）で表されるシランカップリング剤が挙げられる。
【００４７】
【化３】
2008239778.tif 000006
（式（３）中、ｐは３〜２０、好ましくは４〜１６の整数、ｍは１〜３の整数、ｎは１〜３の整数、ａは１〜３の整数である。）
【００４８】
【化４】
2008239778.tif 000007
（式（４）中、Ｒはメチレン基または炭素数２〜１００のアルキレン基を表し、Ｙはビニル基、エポキシ基、アクリロキシ基、メタクリロキシ基、メルカプト基またはアミノ基を表し、Ｘは加水分解性基を表し、ｒは０から３の整数である。）
上記一般式（３）において、ｐの値が３未満の飽和アルキルアルコキシシランを用いる場合は、得られる無機粉体含有樹脂層において十分な可撓性が発現されない場合がある。一方、上記ｐの値が２０を超える飽和アルキルアルコキシシランは分解温度が高いため、無機粉体含有樹脂層の焼成工程において、有機物質（前記シラン誘導体）が完全に分解除去されない段階でガラス粉体が溶融してしまい、形成される誘電体層中に有機物質の一部が残留することにより、誘電体層の光透過率が低下する場合がある。
【００４９】
上記一般式（３）で表される飽和アルキルアルコキシシランとして用いられるシラン類の具体例を以下に示す。
飽和アルキルジメチルメトキシシラン類（ａ＝１，ｍ＝１，ｎ＝１）としては、たとえば、ｎ−プロピルジメチルメトキシシラン、ｎ−ブチルジメチルメトキシシラン、ｎ−デシルジメチルメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジメチルメトキシシランおよびｎ−イコサンジメチルメトキシシランなどが挙げられる。
【００５０】
飽和アルキルジエチルメトキシシラン類（ａ＝１，ｍ＝１，ｎ＝２）としては、たとえば、ｎ−プロピルジエチルメトキシシラン、ｎ−ブチルジエチルメトキシシラン、ｎ−デシルジエチルメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジエチルメトキシシランおよびｎ−イコサンジエチルメトキシシランなどが挙げられる。
【００５１】
飽和アルキルジプロピルメトキシシラン類（ａ＝１，ｍ＝１，ｎ＝３）としては、たとえば、ｎ−ブチルジプロピルメトキシシラン、ｎ−デシルジプロピルメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジプロピルメトキシシランおよびｎ−イコサンジプロピルメトキシシラン
などが挙げられる。
【００５２】
飽和アルキルジメチルエトキシシラン類（ａ＝１，ｍ＝２，ｎ＝１）としては、たとえば、ｎ−プロピルジメチルエトキシシラン、ｎ−ブチルジメチルエトキシシラン、ｎ−デシルジメチルエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジメチルエトキシシランおよびｎ−イコサンジメチルエトキシシランなどが挙げられる。
【００５３】
飽和アルキルジエチルエトキシシラン類（ａ＝１，ｍ＝２，ｎ＝２）としては、たとえば、ｎ−プロピルジエチルエトキシシラン、ｎ−ブチルジエチルエトキシシラン、ｎ−デシルジエチルエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジエチルエトキシシランおよびｎ−イコサンジエチルエトキシシランなどが挙げられる。
【００５４】
飽和アルキルジプロピルエトキシシラン類（ａ＝１，ｍ＝２，ｎ＝３）としては、たとえば、ｎ−ブチルジプロピルエトキシシラン、ｎ−デシルジプロピルエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジプロピルエトキシシランおよびｎ−イコサンジプロピルエトキシシランなどが挙げられる。
【００５５】
飽和アルキルジメチルプロポキシシラン類（ａ＝１，ｍ＝３，ｎ＝１）としては、たとえば、ｎ−プロピルジメチルプロポキシシラン、ｎ−ブチルジメチルプロポキシシラン、ｎ−デシルジメチルプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジメチルプロポキシシランおよびｎ−イコサンジメチルプロポキシシランなどが挙げられる。
【００５６】
飽和アルキルジエチルプロポキシシラン類（ａ＝１，ｍ＝３，ｎ＝２）としては、たとえば、ｎ−プロピルジエチルプロポキシシラン、ｎ−ブチルジエチルプロポキシシラン、ｎ−デシルジエチルプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジエチルプロポキシシランおよびｎ−イコサンジエチルプロポキシシランなどが挙げられる。
【００５７】
飽和アルキルジプロピルプロポキシシラン類（ａ＝１，ｍ＝３，ｎ＝３）としては、たとえば、ｎ−ブチルジプロピルプロポキシシラン、ｎ−デシルジプロピルプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジプロピルプロポキシシランおよびｎ−イコサンジプロピルプロポキシシランなどが挙げられる。
【００５８】
飽和アルキルメチルジメトキシシラン類（ａ＝２，ｍ＝１，ｎ＝１）としては、たとえば、ｎ−プロピルメチルジメトキシシラン、ｎ−ブチルメチルジメトキシシラン、ｎ−デシルメチルジメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルメチルジメトキシシランおよびｎ−イコサンメチルジメトキシシランなどが挙げられる。
【００５９】
飽和アルキルエチルジメトキシシラン類（ａ＝２，ｍ＝１，ｎ＝２）としては、たとえば、ｎ−プロピルエチルジメトキシシラン、ｎ−ブチルエチルジメトキシシラン、ｎ−デシルエチルジメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルエチルジメトキシシランおよびｎ−イコサンエチルジメトキシシランなどが挙げられている。
【００６０】
飽和アルキルプロピルジメトキシシラン類（ａ＝２，ｍ＝１，ｎ＝３）としては、たとえば、ｎ−ブチルプロピルジメトキシシラン、ｎ−デシルプロピルジメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルプロピルジメトキシシランおよびｎ−イコサンプロピルジメトキシシランなどが挙げられる。
【００６１】
飽和アルキルメチルジエトキシシラン類（ａ＝２，ｍ＝２，ｎ＝１）としては、たとえば、ｎ−プロピルメチルジエトキシシラン、ｎ−ブチルメチルジエトキシシラン、ｎ−デシルメチルジエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルメチルジエトキシシランおよびｎ−イコ
サンメチルジエトキシシランなどが挙げられる。
【００６２】
飽和アルキルエチルジエトキシシラン類（ａ＝２，ｍ＝２，ｎ＝２）としては、たとえば、ｎ−プロピルエチルジエトキシシラン、ｎ−ブチルエチルジエトキシシラン、ｎ−デシルエチルジエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルエチルジエトキシシランおよびｎ−イコサンエチルジエトキシシランなどが挙げられる。
【００６３】
飽和アルキルプロピルジエトキシシラン類（ａ＝２，ｍ＝２，ｎ＝３）としては、たとえば、ｎ−ブチルプロピルジエトキシシラン、ｎ−デシルプロピルジエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルプロピルジエトキシシランおよびｎ−イコサンプロピルジエトキシシランなどが挙げられる。
【００６４】
飽和アルキルメチルジプロポキシシラン類（ａ＝２，ｍ＝３，ｎ＝１）としては、たとえば、ｎ−プロピルメチルジプロポキシシラン、ｎ−ブチルメチルジプロポキシシラン、ｎ−デシルメチルジプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルメチルジプロポキシシランおよびｎ−イコサンメチルジプロポキシシランなどが挙げられる。
【００６５】
飽和アルキルエチルジプロポキシシラン類（ａ＝２，ｍ＝３，ｎ＝２）としては、たとえば、ｎ−プロピルエチルジプロポキシシラン、ｎ−ブチルエチルジプロポキシシラン、ｎ−デシルエチルジプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルエチルジプロポキシシランおよびｎ−イコサンエチルジプロポキシシランなどが挙げられる。
【００６６】
飽和アルキルプロピルジプロポキシシラン類（ａ＝２，ｍ＝３，ｎ＝３）としては、たとえば、ｎ−ブチルプロピルジプロポキシシラン、ｎ−デシルプロピルジプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルプロピルジプロポキシシランおよびｎ−イコサンプロピルジプロポキシシランなどが挙げられる。
【００６７】
飽和アルキルトリメトキシシラン類（ａ＝３，ｍ＝１）としては、たとえば、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｎ−デシルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリメトキシシランおよびｎ−イコサントリメトキシシランなどが挙げられる。
【００６８】
飽和アルキルトリエトキシシラン類（ａ＝３，ｍ＝２）としては、たとえば、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ｎ−ブチルトリエトキシシラン、ｎ−デシルトリエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリエトキシシランおよびｎ−イコサントリエトキシシランなどが挙げられる。
【００６９】
飽和アルキルトリプロポキシシラン類（ａ＝３，ｍ＝３）としては、たとえば、ｎ−プロピルトリプロポキシシラン、ｎ−ブチルトリプロポキシシラン、ｎ−デシルトリプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリプロポキシシランおよびｎ−イコサントリプロポキシシランなどが挙げられる。
【００７０】
上記一般式（４）で表されるシランカップリング剤としては、たとえば、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシランおよびビニルトリアセトキシシランなどのビニル基含有シラン化合物；
３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシランおよび３−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシランなどのアミノ基含有シラン化合物；
３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキ
シシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシランおよび３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシランなどの（メタ）アクリロキシ基含有シラン化合物；
３−グリシドキシプロピルトリメエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシランおよび２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランなどのエポキシ基含有シラン化合物；
３−メルカプトプロピルトリメトキシシランおよび３−メルカプトプロピルトリエトキシシランなどのメルカプト基含有シラン化合物などが挙げられる。
【００７１】
上記有機シラン化合物は、１種単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。上記シラン類の中では、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｎ−デシルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリメトキシシラン、ｎ−デシルジメチルメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジメチルメトキシシラン、ｎ−ブチルトリエトキシシラン、ｎ−デシルトリエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリエトキシシラン、ｎ−デシルエチルジエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルエチルジエトキシシラン、ｎ−ブチルトリプロポキシシラン、ｎ−デシルトリプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリプロポキシシラン、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシランおよび３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランなどが特に好ましい。
【００７２】
上記有機シラン化合物は、無機粉体全量１００質量部に対して、通常１０質量部以下、好ましくは０．００１〜５質量部の量で用いられる。有機シラン化合物の量が過大である場合には、無機粉体含有樹脂組成物を保存する際に粘度が経時的に上昇したり、有機シラン化合物同士で反応が起こり、形成するパネル部材の焼成後の光透過率を下げる原因になったりする場合がある。
【００７３】
＜その他の成分＞
本発明の組成物は、転写フィルムに良好な柔軟性を与えるために、上記結着樹脂（Ｂ）の補助剤として可塑剤を含有していてもよい。可塑剤を含有する組成物から形成される無機粉体含有樹脂層は、十分な柔軟性を有するものとなることから、該樹脂層を有する転写フィルムは、折り曲げても該樹脂層の表面に微小な亀裂（ひび割れ）が発生することがなく、また、ロール状に容易に巻き取ることができる。
【００７４】
上記可塑剤としては、たとえば、ポリプロピレングリコール、前述した（メタ）アクリレート化合物などの共重合性単量体および後述する溶剤などの他、ジブチルアジペート、ジイソブチルアジペート、ジ−２−エチルヘキシルアジペート、ジ−２−エチルヘキシルアゼレート、ジブチルセバケート、ジブチルジグリコールアジペート、プロピレングリコールモノラウレートおよびプロピレングリコールモノオレートなどが挙げられる。これらの中で沸点が１５０℃以上のものが好ましい。このような可塑剤は１種単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００７５】
また、本発明の組成物は、任意成分として、分散剤、現像促進剤、接着助剤、ハレーション防止剤、レベリング剤、保存安定剤、消泡剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、増感剤および連鎖移動剤などの各種添加剤を含有してもよい。なお、上記分散剤としては、ステアリン酸およびオレイン酸などの有機脂肪酸が好ましく用いられる。
【００７６】
＜溶剤＞
本発明の組成物は、通常、溶剤を含有する。このような溶剤としては、無機粉体との親和性、結着樹脂の溶解性が良好で、無機粉体含有樹脂組成物に適度な粘性を付与することができるとともに、乾燥処理することにより容易に蒸発除去できるものであることが好ましい。
【００７７】
また、特に好ましい溶剤として、標準沸点（１気圧における沸点）が６０〜２００℃であるケトン類、アルコール類およびエステル類（以下、これらを「特定溶剤」という。）を挙げることができる。
【００７８】
上記特定溶剤としては、たとえば、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルブチルケトン、ジプロピルケトンおよびシクロヘキサノンなどのケトン類；
ｎ−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノール、シクロヘキサノールおよびジアセトンアルコールなどのアルコール類；
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルおよびプロピレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル系アルコール類；
酢酸−ｎ−ブチル、酢酸アミルなどの飽和脂肪族モノカルボン酸アルキルエステル類；
乳酸エチルおよび乳酸−ｎ−ブチルなどの乳酸エステル類；
メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチル−３−エトキシプロピオネートなどのエーテル系エステル類などを挙げることができる。これらの中では、メチルブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、乳酸エチルおよびエチル−３−エトキシプロピオネートなどが好ましい。これらの特定溶剤は、１種単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００７９】
また、上記特定溶剤以外の使用可能な溶剤としては、たとえば、テレビン油、エチルセロソルブ、メチルセロソルブ、テルピネオール、ブチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトール、イソプロピルアルコールおよびベンジルアルコールなどを挙げることができる。
【００８０】
上記溶剤は組成物の粘度を好適な範囲に維持する観点から、無機粉体（Ａ）１００質量部に対して５〜５０質量部、好ましくは１０〜４０質量部の範囲で用いられる。また、全溶剤に対する特定溶剤の割合は、５０質量％以上、好ましくは７０質量％以上である。
【００８１】
本発明の無機粉体含有樹脂組成物は、上記無機粉体（Ａ）、結着樹脂（Ｂ）、光重合性モノマー（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）ならびに必要に応じて用いられるその他の成分および溶剤を、ロール混練機、ミキサー、ホモミキサーおよびサンドミルなどの混練機および分散機を用いて混練することにより調製することができる。
【００８２】
なお、本発明の組成物の粘度は０．１〜１０Ｐａ・ｓであることが好ましい。
〔転写フィルム〕
本発明の転写フィルムは、支持フィルム上に、本発明の組成物から得られる無機粉体含有樹脂層を有し、必要に応じて該樹脂層の表面上にカバーフィルムを有していてもよい。
【００８３】
以下、転写フィルムの各構成要素について具体的に説明する。
＜支持フィルム＞
本発明の転写フィルムは、無機粉体含有樹脂層を支持する支持フィルムを有する。この支持フィルムは、耐熱性および耐溶剤性を有するとともに可撓性を有する樹脂フィルムであることが好ましい。支持フィルムが可撓性を有することにより、ロールコーターまたはブレードコーターなどによって支持フィルムの表面に無機粉体含有樹脂組成物を塗布することができ、得られる転写フィルムをロール状に巻回した状態で保存または供給することができる。
【００８４】
支持フィルムを形成する樹脂としては、たとえば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニルおよびポリフロロエチレンなどの含フッ素樹脂、ナイロンおよびセルロースなどを挙げることができる。
【００８５】
支持フィルムの厚みは、たとえば２０〜１００μｍである。また、支持フィルムの表面には離型処理が施されていることが好ましく、これにより、ガラス基板への転写工程において、支持フィルムの剥離操作を容易に行うことができる。
【００８６】
＜無機粉体含有樹脂層＞
無機粉体含有樹脂層は、本発明の組成物を支持フィルム上に塗布し、得られる塗布膜を乾燥して溶剤の全部または一部を除去することにより形成される。
【００８７】
本発明の組成物を支持フィルム上に塗布する方法としては、膜厚の均一性が高く、かつ膜厚が大きい（たとえば、１０μｍ以上）塗膜を高い効率で形成することができる方法であることが好ましく、具体的には、ロールコーターによる塗布方法、ブレードコーターによる塗布方法、カーテンコーターによる塗布方法およびワイヤーコーターによる塗布方法などが挙げられる。無機粉体含有樹脂層の膜厚は、通常、１〜２０μｍである。
【００８８】
塗膜の乾燥条件としては、たとえば、５０〜１５０℃で０．５〜３０分間程度であり、乾燥後における溶剤の残存割合（無機粉体含有樹脂層中の含有率）は、通常、２質量％以内である。
【００８９】
＜カバーフィルム＞
本発明の転写フィルムにおいては、無機粉体含有樹脂層の表面を保護するために該樹脂層の表面上にカバーフィルムが設けられていてもよい。このカバーフィルムは、可撓性を有する樹脂フィルムであることが好ましく、これにより、得られる転写フィルムをロール状に巻回した状態で保存または供給することができる。
【００９０】
カバーフィルムを構成する樹脂としては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンフィルムおよびポリビニルアルコール系フィルムなどを挙げることができる。
〔フラットパネルディスプレイの製造方法〕
本発明のフラットパネルディスプレイの製造方法として好ましい態様は下記のとおりである。
【００９１】
［１］基板上に、上記転写フィルムの無機粉体含有樹脂層を転写する工程（１）と、該無機粉体含有樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程（２）と、該無機粉体含有樹脂層を現像処理してパターンを形成する工程（３）と、該パターンを焼成処理する工程（６）とを含む方法によりブラックマトリクスを形成するフラットパネルディスプレイの製造方法（ＦＰＤの製造方法（Ｉ））。
【００９２】
［２］基板上に、上記転写フィルムの無機粉体含有樹脂層を転写する工程（１）と、該無機粉体含有樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程（２）と、該無機粉体含有樹脂層を現像処理してパターンを形成する工程（３）と、該パターン層の上にさらにパターンを形成して積層パターン層を得る工程（５）と、該積層パターンを焼成処理する工程（６）とを含む方法によりブラックマトリクスを含む複数部材を一括して形成するフラットパネルディスプレイの製造方法（ＦＰＤの製造方法（ＩＩ））。
【００９３】
［３］基板上に、上記転写フィルムの無機粉体含有樹脂層を転写する工程（１）と、該無機粉体含有樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程（２）と、該無機粉体
含有樹脂層を現像処理してパターンを形成する工程（３）と、得られたパターン層をポストベークする工程（４）と、該パターン層の上にさらにパターンを形成して積層パターン層を得る工程（５）と、該積層パターンを焼成処理する工程（６）とを含む方法によりブラックマトリクスを含む複数部材を一括して形成するフラットパネルディスプレイの製造方法（ＦＰＤの製造方法（ＩＩＩ））。
【００９４】
以下、前記製造方法（Ｉ）〜（ＩＩＩ）の各工程について説明する。
（１）無機粉体含有樹脂層の転写工程
転写フィルムのカバーフィルムを剥離した後、ガラス基板の表面に、無機粉体含有樹脂層の表面が当接されるように転写フィルムを重ね合わせ、この転写フィルムを加熱ローラなどにより熱圧着する。これにより、ガラス基板の表面に無機粉体含有樹脂層が転写されて密着した状態となる。転写条件としては、たとえば、加熱ローラの表面温度が８０〜１４０℃、加熱ローラによるローラ圧が０．９０〜０．５０ＭＰａ、加熱ローラの移動速度が０．１〜１０．０ｍ／分であることが好ましい。また、ガラス基板は予熱されていてもよく、予熱温度としては、たとえば４０〜１００℃とすることができる。
【００９５】
（２）無機粉体含有樹脂層の露光工程
この工程においては、無機粉体含有樹脂層の表面に、露光用マスクを介して、紫外線などの放射線を選択的に照射（露光）して、レジストパターンの潜像を形成する。
【００９６】
露光の際に用いられる紫外線照射装置としては、特に限定されず、フォトリソグラフィー法で一般的に使用されている紫外線照射装置、半導体および液晶表示装置を製造する際に使用されている露光装置などが挙げられる。
【００９７】
なお、無機粉体含有樹脂層上に被覆されている支持フィルムは剥離しない状態で露光工程を行い、露光後に剥離することが好ましい。
（３）無機粉体含有樹脂層の現像工程
この工程においては、露光された無機粉体含有樹脂層を現像処理することにより、レジストパターン（潜像）を顕在化させる。
【００９８】
現像処理条件としては、無機粉体含有樹脂層の構成成分の種類などに応じて、現像液の種類・組成・濃度、現像時間、現像温度、現像方法（たとえば、浸漬法、揺動法、シャワー法、スプレー法およびパドル法）および現像装置などを適宜選択することができる。
【００９９】
この現像工程により、無機粉体含有樹脂パターン（露光用マスクに対応するパターン）が形成される。
（４）無機粉体含有樹脂パターン層のポストベーク工程
この工程においては、無機粉体樹脂パターンを形成した基板を２００℃のオーブンで１５分間ポストベークさせた。
【０１００】
（５）無機粉体含有樹脂パターンの積層工程
この工程においては、ガラス基板上に形成された無機粉体含有パターンの上層に，さらにペーストをスクリーン印刷で積層し、パターニングするようなプロセスを経る。この際，いちど上記の無機粉体含有樹脂パターンを１９０℃〜２２０℃のオーブンなどでポストベークさせると積層するペースト中に含有される溶剤によって無機粉体含有樹脂パターンが崩れることなく積層させることができる。これによって同時に２層を焼成させることができるため，焼成工程の短縮が可能になる。
【０１０１】
（６）無機粉体含有樹脂パターンの焼成工程
この工程においては、無機粉体含有樹脂パターンを焼成処理してブラックマトリクスを
形成する。これにより、樹脂層残留部中の有機物質が焼失してブラックマトリクスが形成される。
【０１０２】
焼成処理の温度としては、有機物質が焼失される温度であることが必要であり、通常４００〜６００℃である。また、焼成時間は、通常１０〜９０分間である。
＜ブラックマトリクス＞
積層して焼成した際の反りは、下地となるパターンの上に形成される他の部材形成用材料の熱膨張係数の違いに起因する。特にこのような場合に下地となるパターンにアンダーカットが生じていると、反りの問題が一層顕著となる。また、一の部材について形成したパターンの上に他の部材形成用材料を積層し、パターン形成を行うため、下地となるパターンが新たに積層される材料に含まれる有機溶剤によって崩れるという問題がある。したがって、現像後のパターンには高い耐溶剤性も要求されている。
【０１０３】
しかし、本発明の転写フィルムを用いれば、反射率および透過率が低く、かつ、パターニング形状が良好なブラックマトリクスを効果的に形成することができる。また、焼成後のパターニングに反りが発生しないことから、表面に屈曲亀裂（ひび割れ）が生じにくく、積層構造を構築する際も、安定な材料で提供することができる。さらに上に形成する部材の熱膨張係数に対するマージンも有している。
【０１０４】
〔実施例〕
以下、実施例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、以下において「部」は「質量部」を示す。
【０１０５】
＜合成例１＞
ベンジルメタクリレート（ＢｚＭＡ）６０ｇ、メタクリル酸（ＭＡ）２０ｇおよび２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）２０ｇを４つ口フラスコ中で混合し、メトキシプロピルアセテート２１２．５ｇを添加した後、７０℃まで昇温し、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）を１．０ｇ加える。さらに、８０℃まで昇温し、窒素下で３時間反応させる。３時間反応後、ＡＩＢＮを０．５ｇ加え、さらに１時間反応させる。その後１００℃に昇温し、１時間反応させて、ベンジルメタクリレート（ＢｚＭＡ）／メタクリル酸（ＭＡ）／２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）＝６０／２０／２０（質量％）共重合体（Ｍｗ＝３５０００）を得た（以下、単に「結着樹脂１」という。）。
【０１０６】
＜合成例２＞
２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート（ＭＯＩ）を結着樹脂１中の２−ヒドロキシエチルメタクリレートのモル数に対して５モル％を付加させて、結着樹脂２を得た。
【０１０７】
＜合成例３〜５＞
２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート（ＭＯＩ）を結着樹脂１中の２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）のモル数に対して、表１に示す量を付加させた以外は合成例２と同様にして、結着樹脂３〜５を得た。
【０１０８】
【表１】
2008239778.tif 000008
【実施例１】
【０１０９】
＜単層による評価＞
（１）無機粉体含有樹脂組成物の調製：
無機粉体（Ａ）として、ＭｎＣｏ2Ｏ4―ＣｏＭｎ2Ｏ4―ＣｕＭｎ2Ｏ4―Ｃｕ3Ｍｎ3Ｏ8
系有色顔料（Ａ−１）（比表面積１８．９ｍ2／ｇ；平均粒径（Ｄ５０）０．３μｍ）（
以下、単に「顔料１」ともいう。）を２０部と、Ｂｉ2Ｏ3−ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＢａＯ−ＳｉＯ2系ガラスフリット（Ａ−２）（不定形；平均粒径（Ｄ５０）０．６μｍ；軟化点４
５６℃；線膨張係数８．６×１０-6／Ｋ）（以下、単に「ガラス１」ともいう。）を９０部と、結着樹脂１を２４部と、光重合性モノマー（Ｃ）としてトリメチロールプロパンＥＯ変性（ｎ≒２）トリアクリレート（商品名：Ｍ３６０、東亞合成株式会社製）を１６部と、光重合開始剤（Ｄ）として、エタノン−１−［９−エチル−６−［２−メチル−４−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラニル）メトキシベンゾイル］−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−１−（Ｏ−アセチルオキシム）（式（２）で表される化合物）（以下、単に「光重合開始剤ｄ−１」ともいう。）を５部、その他の光重合開始剤として、２，４−ジエチルチオキサントン（ＤＥＴＸ−Ｓ）（以下、単に「光重合開始剤ｄ−２」ともいう。）を３．３部と、有機シラン化合物（Ｅ）として３−メタクリロキシプロピルメトキシシランを０．２２部と、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルを２０部とをビーズミルで混練りした後、ステンレスメッシュ（５００メッシュ；２５μｍ径）でフィルタリングすることにより、無機粉体含有樹脂組成物（Ｉ）を調製した。
【０１１０】
（２）転写フィルムの作製：
上記（１）で調製した無機粉体含有樹脂組成物（Ｉ）を、あらかじめ離型処理した膜厚３８μｍのＰＥＴフィルムよりなる支持フィルム上にブレードコーターを用いて塗布し、塗膜を１００℃で１分３０秒間乾燥して溶剤を除去し、厚さ６μｍの無機粉体含有樹脂層を支持フィルム上に形成した、本発明の転写フィルムを作製した。
【０１１１】
（３）転写フィルムの転写工程：
上記（２）で作製した転写フィルムを用い、ガラス基板の表面に無機粉体含有樹脂層の表面が当接されるよう当該転写フィルムを重ね合わせ加熱ローラで熱圧着した。ここで、圧着条件としては、加熱ローラの表面温度を９０℃、ロール圧を０．２５ＭＰａおよび加熱ローラの移動速度を０．５ｍ／分とした。これにより、ガラス基板の表面に転写フィルムが転写されて密着した状態となった。
【０１１２】
（４）無機粉体含有樹脂層の露光工程および現像工程：
ガラス基板上に形成された無機粉体含有樹脂層に対して、支持フィルム剥離後、露光用
マスク（５ｃｍ×５ｃｍ）を介して、超高圧水銀灯により、ｉ線（波長３６５ｎｍの紫外線）を照射し、無機粉体含有樹脂層にパターンの潜像を形成した。ここに、照射量は８００ｍＪ／ｃｍ2とした。露光後、液温２５℃の０．５質量％炭酸ナトリウム水溶液を現像液とするシャワー法により現像処理を２０秒間行い、続いて、超純水を用いて水洗を行った。
【０１１３】
これにより、紫外線が照射されていない部分の無機粉体含有樹脂を除去し、無機粉体含有樹脂パターンを形成した。
（５）焼成工程：
無機粉体含有樹脂パターンが形成されたガラス基板を５２０℃の温度雰囲気下で３０分間焼成処理した。これにより、ガラス基板の表面に厚み２.０μｍのブラックマトリクス
が形成された。
【０１１４】
（６）ブラックマトリクスの硬化深度評価：
ガラス基板上に形成された無機粉体含有樹脂層に対して、ガラス基板上より超高圧水銀灯により、ｉ線（波長３６５ｎｍの紫外線）を照射し、無機粉体含有樹脂層を硬化させた。ここに、照射量は８００ｍＪ／ｃｍ2とした。露光後、支持フィルムを剥離除去し、次いで、液温２５℃の０．５質量％炭酸ナトリウム水溶液を現像液とするシャワー法により現像処理を３０秒間行い、続いて、超純水を用いて水洗を行った。これにより、紫外線が照射されて、硬化されていない無機粉体含有樹脂を除去した。得られた５ｃｍ×５ｃｍ形状のブラックマトリクスの残膜厚を、微細柱高さ測定器Ｐ−１０（ＫＬＡ―ＴＥＮＣＯＲ製）を用いて、測定した結果、４．５μｍであったことから、優れた感度を有していることが確認された。硬化深度の良好性を×、○および◎で表記するのに、次の残膜値の範囲で規定した。
×：＜４μｍ、○：４〜６μｍ、◎:>６μｍ
（７）ブラックマトリクスのパターニング評価：
焼成後、得られた５ｃｍ×５ｃｍ形状のブラックマトリクスを用いて、走査型電子顕微鏡（日立ハイテクノロジーズ製）にて、パターニング形状を確認したところ、パターンが平滑で、反る現象がみられず、優れたパターニング性能を示した。
【０１１５】
＜積層による評価＞
（８）ポストベーク工程・積層パターンの作製
上記（１）〜（４）に記載された工程により、無機粉体含有樹脂パターン（線膨張係数８．６×１０-6／Ｋ）が形成されたガラス基板を２００℃のオーブンで１５分間ポストベークした。該無機粉体含有樹脂パターンの上層に、線膨張係数９．２×１０-6／Ｋのガラスを含有する無機粉体含有樹脂組成物を用いて印刷法によってさらにパターンを形成し、積層パターンを得た。
【０１１６】
（９）焼成工程
上記（８）記載の工程により積層パターンが形成されたガラス基板を５２０℃の温度雰囲気下で３０分間焼成処理した。これにより、ガラス基板の表面に積層構造体が形成された。
【０１１７】
（１０）ブラックマトリクスの耐溶剤性評価：
上記（８）記載の工程により積層パターンが形成されたガラス基板を１００℃で１０分間オーブンで乾燥した後，取り出し，光学顕微鏡でブラックマトリクスのパターンを観察し，パターンが崩れていないか，もしくはパターン表面にしわが発生していないか目視にて確認した。
【０１１８】
パターン崩れ もしくは しわ発生：×
パターン崩れ・しわ発生なし：○
（１１）反り発生の確認
焼成後得られた基板を、走査型電子顕微鏡にて観察し、反りが発生しているかどうかを目視した。反りの発生しなかった場合は○、発生した場合は×で表記する。
【実施例２】
【０１１９】
結着樹脂２を用いた以外は、実施例１と同様にして、無機粉体含有樹脂組成物の調製、転写フィルムの作製ならびにブラックマトリクスの形成および評価を行った。評価結果を表２に示す。
【実施例３】
【０１２０】
結着樹脂３を用いた以外は、実施例１と同様にして、無機粉体含有樹脂組成物の調製、転写フィルムの作製ならびにブラックマトリクスの形成および評価を行った。評価結果を表２に示す。
【実施例４】
【０１２１】
顔料１を１５部、ガラス１を９５部にし、結着樹脂４を用いた以外は、実施例１と同様にして、無機粉体含有樹脂組成物の調製、転写フィルムの作製ならびにブラックマトリクスの形成および評価を行った。評価結果を表２に示す。
【実施例５】
【０１２２】
顔料１を２０部、ガラス１を９０部にした以外は、実施例４と同様にして、無機粉体含有樹脂組成物の調製、転写フィルムの作製ならびにブラックマトリクスの形成および評価を行った。評価結果を表２に示す。
【実施例６】
【０１２３】
顔料１を２５部、ガラス１を８５部にした以外は、実施例４と同様にして、無機粉体含有樹脂組成物の調製、転写フィルムの作製ならびにブラックマトリクスの形成および評価を行った。評価結果を表２に示す。
【実施例７】
【０１２４】
ポストベーク工程を行わなかった以外は、実施例５と同様にして、無機粉体含有樹脂組成物の調製、転写フィルムの作製ならびにブラックマトリクスの形成および評価を行った。評価結果を表２に示す。
【０１２５】
［比較例１］
顔料１を２０部、ガラス１を９０部、結着樹脂１を２４部、光重合性モノマー（Ｃ）としてトリメチロールプロパンＥＯ変性（ｎ≒２）トリアクリレートを１６部、光重合開始剤（Ｄ）として２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン（商品名：ＩＲＧ．３６９、チバ・スペシャル・ケミカルズ社製）（以下、単に「光重合開始剤ｄ−３」ともいう。）を２．５部、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン（商品名：ＩＲＧ．６５１、チバ・スペシャル・ケミカルズ社製）（以下、単に「光重合開始剤ｄ−４」ともいう。）を１．１部、有機シラン化合物（Ｅ）として３−メタクリロキシプロピルメトキシシランを０．２２部、および溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルを２０部用いた以外は、実施例１と同様にして、無機粉体含有樹脂組成物の調製、転写フィルムの作製ならびにブラックマトリクスの形成および評価を行った。評価結果を表２に示す。
【０１２６】
［比較例２〜５］
無機粉体含有樹脂組成物として表２に記載される組成からなるものを用いた以外は、実
施例１と同様にして、無機粉体含有樹脂組成物の調製、転写フィルムの作製ならびにブラックマトリクスの形成および評価を行った。評価結果を表２に示す。
【０１２７】
【表２】
2008239778.tif 000009
【図面の簡単な説明】
【０１２８】
【図１】交流型のＰＤＰの断面形状を示す模式図である。
【符号の説明】
【０１２９】
１  ガラス基板
２  ガラス基板
３  隔壁
４  透明電極
５  バス電極
６  アドレス電極
７  蛍光物質
８  誘電体層
９  誘電体層
１０  保護層
１１  隔壁
【図１】
2008239778.tif 000012