(57)【要約】【課題】高感度及び高解像度で、密着性及び感度の経時安定性に優れ、現像残渣が少なく、高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、及び該パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。【解決手段】バインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を少なくとも含む感光性組成物からなる感光層を支持体上に有してなり、前記バインダーが、Ｉ／Ｏ値が０．３００〜０．６５０のポリマーを含み、前記光重合開始剤が、親水性基を有するヘキサアリールビイミダゾール化合物を含むパターン形成材料である。前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
バインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を少なくとも含む感光性組成物からなる感光層を支持体上に有してなり、
前記バインダーが、Ｉ／Ｏ値が０．３００〜０．６５０のポリマーを含み、前記光重合開始剤が、親水性基を有するヘキサアリールビイミダゾール化合物を含むことを特徴とするパターン形成材料。
【請求項２】
ヘキサアリールビイミダゾール化合物の有する親水性基がアルコキシ基である請求項１に記載のパターン形成材料。
【請求項３】
アルコキシ基がメトキシ基である請求項２に記載のパターン形成材料。
【請求項４】
Ｉ／Ｏ値が０．３００〜０．６５０のポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）が、８０℃以上である請求項１から３のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項５】
Ｉ／Ｏ値が０．３００〜０．６５０のポリマーが、共重合体を含み、該共重合体が、スチレン、スチレン誘導体、及びベンジル（メタ）アクリレートの少なくともいずれかに由来する構造単位を有し、かつアルカリ可溶性又は膨潤性である請求項１から４のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項６】
重合性化合物が、プロピレンオキサイド基を有するモノマーを含む請求項１から５のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項７】
増感剤を含む請求項１から６のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項８】
ＮＨ基を有する化合物を含む請求項１から７のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項９】
請求項１から８のいずれかに記載のパターン形成材料における感光層に対し、露光を行うことを少なくとも含むことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項１０】
露光が、フォトマスクを用いずに行なわれる請求項９に記載のパターン形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ドライフィルムレジスト（ＤＦＲ）に好適な、パターン形成材料及び該パターン形成材料を用いたパターン形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
プリント配線基板の分野では、通常は、まず銅張積層板に対してＤＦＲを用いて銅の配線パターンを形成する。この際に、バインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤などを含む感光性組成物よりなるパターン形成材料が用いられている（特許文献１及び２参照）。
前記パターン形成材料への露光は、マスクを用いて露光を行うことが一般に行われてきたが、近年では、生産性、解像性等の観点からデジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）等を用いたレーザ光によるマスクレス露光装置も盛んに研究されている。
【０００３】
前記パターン形成材料において、現像残渣を低減することを目的として、感光性組成物中の光重合開始剤に親水性基を有するヘキサアリールビイミダゾールを用いるパターン形成材料が提案されている（特許文献３参照）。
しかし、この親水性基を有するヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、高感度化を図る観点から、塩素原子を更に有するものが好適に用いられるが、その場合であっても、デジタル露光を行なった場合の感度が２０ｍＪ／ｃｍ２を超えて必ずしも高くないため、得られるパターンにおいても解像度及び密着性が悪くなる問題があった。
【０００４】
一方、親水性基を有するヘキサアリールビイミダゾールを用いた場合に、バインダーに親水性のポリマーを用いた感光性組成物を含む塗布液を、７日程度放置しておくと、ロイコクリスタルバイオレット等の発色剤が徐々に発色してしまい、その結果パターン形成材料の感度が低下し、感度の経時安定性が悪いという問題があった。また、塩素原子を有するヘキサアリールビイミダゾールは結晶性が高く、これを用いた感光性組成物を含む塗布液では、低温保管により結晶が析出し、これによっても感度が低下する問題があった。
【０００５】
したがって、高感度及び高解像度で、密着性及び感度の経時安定性に優れ、現像残渣が少なく、高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、及び該パターン形成材料を用いたパターン形成方法は未だ提供されておらず、更なる改良開発が望まれているのが現状である。
【０００６】
【特許文献１】国際公開第０１／０７１４２８号パンフレット
【特許文献２】特開２００４−２５２４２１号公報
【特許文献３】特表２００２−５０７００４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、かかる現状に鑑みてなされたものであり、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、高感度及び高解像度で、密着性及び感度の経時安定性に優れ、現像残渣が少なく、高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、及び該パターン形成材料を用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞  バインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を少なくとも含む感光性組成物からなる感光層を支持体上に有してなり、
前記バインダーが、Ｉ／Ｏ値が０．３００〜０．６５０のポリマーを含み、前記光重合開始剤が、親水性基を有するヘキサアリールビイミダゾール化合物を含むことを特徴とするパターン形成材料である。
＜２＞  ヘキサアリールビイミダゾール化合物の有する親水性基がアルコキシ基である前記＜１＞に記載のパターン形成材料である。
＜３＞  アルコキシ基がメトキシ基である前記＜２＞に記載のパターン形成材料である。
＜４＞  Ｉ／Ｏ値が０．３００〜０．６５０のポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）が、８０℃以上である前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載のパターン形成材料である。
＜５＞  Ｉ／Ｏ値が０．３００〜０．６５０のポリマーが共重合体を含み、該共重合体がスチレン、スチレン誘導体、及びベンジル（メタ）アクリレートの少なくともいずれかに由来する構造単位を有する前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載のパターン形成材料である。
＜６＞  Ｉ／Ｏ値が０．３００〜０．６５０のポリマーが、アルカリ可溶性又は膨潤性である前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載のパターン形成材料である。
【０００９】
＜７＞  重合性化合物が、ウレタン基及びアリール基の少なくともいずれかを有するモノマーを含む前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載のパターン形成材料である。
＜８＞  重合性化合物が、プロピレンオキサイド基を有するモノマーを含む前記＜１＞から＜７＞のいずれかに記載のパターン形成材料である。
＜９＞  増感剤を含む前記＜１＞から＜８＞のいずれかに記載のパターン形成材料である。
＜１０＞  増感剤がヘテロ縮環系ケトン化合物である前記＜９＞に記載のパターン形成材料である。
＜１１＞  ＮＨ基を有する化合物を含む前記＜１＞から＜１０＞のいずれかに記載のパターン形成材料である。
＜１２＞  バインダーを１０〜９０質量％含有し、重合性化合物を５〜９０質量％含有する前記＜１＞から＜１１＞のいずれかに記載のパターン形成材料である。
【００１０】
＜１３＞  支持体が、合成樹脂を含み、かつ透明である前記＜１＞から＜１２＞のいずれかに記載のパターン形成材料である。
＜１４＞  支持体が長尺状である前記＜１＞から＜１３＞のいずれかに記載のパターン形成材料である。
＜１５＞  長尺状であり、ロール状に巻かれてなる前記＜１＞から＜１４＞のいずれかに記載のパターン形成材料である。
＜１６＞  感光層上に保護フィルムを有する前記＜１＞から＜１５＞のいずれかに記載のパターン形成材料である。
＜１７＞  感光層の厚みが１〜１００μｍである前記＜１＞から＜１６＞のいずれかに記載のパターン形成材料である。
【００１１】
＜１８＞  前記＜１＞から＜１７＞のいずれかに記載のパターン形成材料における感光層に対し、露光を行うことを少なくとも含むことを特徴とするパターン形成方法である。
＜１９＞  露光が、フォトマスクを用いずに行なわれる前記＜１８＞に記載のパターン形成方法である。
＜２０＞  露光が、露光光と感光層とを相対的に移動させながら行われる前記＜１８＞から＜１９＞のいずれかに記載のパターン形成方法である。
＜２１＞  露光が、光照射手段、及び光変調手段を少なくとも備えた露光ヘッドと、前記感光層との少なくとも何れかを移動させつつ、前記感光層に対して、前記光照射手段から出射された光を前記光変調手段によりパターン情報に応じて変調しながら前記露光ヘッドから照射して行なわれる前記＜１９＞から＜２０＞のいずれかに記載のパターン形成方法である。
＜２２＞  光変調手段が、ｎ個の描素部の中から連続的に配置された任意のｎ個未満の前記描素部をパターン情報に応じて制御可能である前記＜２１＞に記載のパターン形成方法である。
＜２３＞  光変調手段が、空間光変調素子である前記＜２１＞から＜２２＞のいずれかに記載のパターン形成方法である。
＜２４＞  空間光変調素子が、デジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）である前記＜２３＞に記載のパターン形成方法である。
＜２５＞  露光が、アパーチャアレイを通して行われる前記＜２１＞から＜２４＞のいずれかに記載のパターン形成方法である。
＜２６＞  光照射手段が、２以上の光を合成して照射可能である前記＜２１＞から＜２５＞のいずれかに記載のパターン形成方法である。
＜２７＞  光照射手段が、複数のレーザと、マルチモード光ファイバと、該複数のレーザからそれぞれ照射されたレーザビームを集光して前記マルチモード光ファイバに結合させる集合光学系とを備える前記＜２１＞から＜２６＞のいずれかに記載のパターン形成方法である。
＜２８＞  レーザ光の波長が３５０〜４２０ｎｍである前記＜２７＞に記載のパターン形成方法である。
【００１２】
＜２９＞  露光が行われた後、感光層の現像を行う前記＜１８＞から＜２８＞のいずれかに記載の永久パターン形成方法である。
＜３０＞  現像が行われた後、エッチング処理及びメッキ処理の少なくともいずれかを行う前記＜２９＞に記載のパターン形成方法である。
【００１３】
＜３１＞  前記＜１８＞から＜３０＞のいずれかに記載のパターン形成方法により形成されることを特徴とするパターンである。
【００１４】
本発明のパターン形成材料は、バインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を少なくとも含む感光性組成物からなる感光層を支持体上に有してなり、前記バインダーが、Ｉ／Ｏ値が０．３００〜０．６５０のポリマーを含み、前記光重合開始剤が、親水性基を有する少なくとも一種のヘキサアリールビイミダゾール化合物を含む。その結果、高感度及び高解像度で、密着性及び感度の経時安定性に優れ、現像残渣が少なく、高精細なパターンを形成できる。
【００１５】
本発明のパターン形成方法は、本発明の前記パターン形成材料を用いたため、高感度及び高解像度で、密着性及び感度の経時安定性に優れ、現像残渣が少なく、高精細なパターンを形成できる。特に、フォトマスクを使用しないで直接パターン化を行うことにより、高生産にパターンを形成できる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によると、従来における問題を解決することができ、高感度及び高解像度で、密着性及び感度の経時安定性に優れ、現像残渣が少なく、高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、及び該パターン形成材料を用いたパターン形成方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
（パターン形成材料）
本発明の前記パターン形成材料は、所定の成分を含む感光性組成物からなる感光層を支持体上に有してなり、目的に応じて、クッション層等の適宜選択されるその他の層を積層してなる。
【００１８】
＜感光層＞
前記感光層は、バインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を少なくとも含み、好ましくは増感剤、及びＮＨ基を有する化合物の少なくともいずれかを含み、必要に応じて適宜選択されたその他の成分を含む感光性組成物からなる。
【００１９】
−光重合開始剤−
前記光重合開始剤としては、親水性基を有する少なくとも一種のヘキサアリールビイミダゾール化合物を含む。
【００２０】
ヘキサアリールビイミダゾール化合物は、通常、２，４，５−トリフェニルイミダゾリルダイマーであり、光重合開始剤としてよく知られている。これを用いた感光性組成物としては、例えば、Ｃｈａｍｂｅｒｓの米国特許第３，４７９，１８５号、Ｃｈａｎｇ他の米国特許第３，５４９，３６７号明細書、Ｃｅｓｃｏｎの米国特許第３，６８４，５５７号明細書、Ｄｅｓｓａｕｅｒの米国特許第４，２５２，８８７号明細書及び第４，３１１，７８３号、Ｃｈａｍｂｅｒｓ他の米国特許第４，２６４，７０８号明細書、Ｗａｄａ他の米国特許第４，４１０，６２１号明細書、Ｔａｎａｋａ他の米国特許第４，４５９，３４９号明細書、Ｓｈｅｅｔｓの米国特許第４，６２２，２８６号明細書に開示されている。
【００２１】
本発明では、現像残渣を少なくする観点から、親水性基を有するヘキサアリールビイミダゾール化合物を用いる。ここで、親水性基とは、容易に水と会合し得る基を意味する。
前記親水性基を有するヘキサアリールビイミダゾール化合物における親水性基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ヒドロキシ基、ジエチルアミノ及びジプロピルアミノなどのジアルキルアミノ基、カルボン酸基及びそれらのアルキルエステル、メトキシ及びエトキシなどのアルコキシ基、アミド及び塩等が挙げられるが、これらの中でも、高感度な点から、アルコキシ基が好ましく、メトキシ基が特に好ましい。また、これらの親水性基を有するヘキサアリールビイミダゾール化合物は、１種を単独で使用してもよく、２種類以上を併用してもよい。
【００２２】
前記親水性基を有するヘキサアリールビイミダゾール化合物は、より感度を高くする観点から、少なくとも１つの塩素原子を有することが好ましく、２つの塩素原子を有することがより好ましい。
【００２３】
前記親水性基を有するヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、２，２’，５−トリス−（ｏ−クロロフェニル）−４−（３，４−ジメトキシフェニル）−４’，５’−ジフェニル−ビイミダゾール、２，２’，４，４’−テトラ−（ｏ−クロロフェニル）−５，５’−ビス−（３，４−ジメトキシフェニル）−ビイミダゾール、２，２’−ビス−（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ−（ｍ−メトキシフェニル）−１，２−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−エトキシフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，１’−ビイミダゾールなどが好適に挙げられる。これらの中でも、２，２’，５−トリス−（ｏ−クロロフェニル）−４−（３，４−ジメトキシフェニル）−４’，５’−ジフェニル−ビイミダゾールが特に好ましい。
【００２４】
前記親水性基を有するヘキサアリールビイミダゾール化合物は、通常、置換トリフェニルイミダゾールの酸化カップリングにより調製する。置換トリフェニルイミダゾールの調製については、Ｃｅｓｃｏｎの米国特許第３，７８４，５５７号明細書、及びＤｅｓｓａｕｅｒの米国特許第４，３１１，７８３号明細書に開示されている。酸化カップリングについては、Ｈａｙａｓｈｉ他が、Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊａｐａｎ３３，５６５（１９６０）、Ｚｉｍｍｅｒｍａｎ他のＡｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．７３，８０８（１９６１）に記載されている。２，２’，５−トリス−（ｏ−クロロフェニル）−４−（３，４−ジメトキシフェニル）−４’，５’−ジフェニル−ビイミダゾールの調製については、Ｓｈｅｅｔｓの米国特許第４，６２２，２８６号明細書に記載されている。
【００２５】
前記親水性基を有するヘキサアリールビイミダゾール化合物は、これを１種以上含む反応混合物を、完全な分離及び精製を行わずに用いてもよい。このような反応混合物としては、Ｓｈｅｅｔｓの米国特許第４，６２２，２８６号明細書に記載されているように、２，２’，５−トリス−（ｏ−クロロフェニル）−４−（３，４−ジメトキシフェニル）−４’，５’−ジフェニル−ビイミダゾールを含有する混合物、特に２−（ｏ−クロロフェニル）−４、５−ジフェニルイミダゾールおよび２，４−ビス−（ｏ−クロロフェニル）−５−［３，４−ジメトキシフェニル］−イミダゾールの酸化カップリング生成物であり、反応生成物が２，２’，５−トリス−（ｏ−クロロフェニル）−４−（３，４−ジメトキシフェニル）−４’，５’−ジフェニル−ビイミダゾールである２，４，５−トリフェニルイミダゾリルダイマーの混合物が使用できる。
【００２６】
前記親水性基を有するヘキサアリールビイミダゾール化合物では、水素供与体化合物を共に用いてもよい。前記水素供与体としては、例えば、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾールなどの有機チオール、第三アミン、Ｎ−フェニルグリシン、１，１−ジメチル−３，５−ジケトシクロヘキサン、エーテル、エステル、アルコール、アリル水素、ベンジル水素などの少なくともいずれかを含有する化合物、アセタール、アルデヒド、アミドなどが挙げられる。前記水素供与体については、ＭａｃＬａｃｈｌａｎの米国特許第３，３９０，９９６号で論じられている。
【００２７】
また、前記光重合開始剤としては、例えば、特開２００５−２５８４３１号公報の「０２８８」〜「０３０９」に記載されている化合物などを更に含んでもよい。
【００２８】
前記光重合開始剤の含有量は、前記感光性組成物中０．１〜３０質量％が好ましく、０．５〜２０質量％がより好ましく、０．５〜１５質量％が特に好ましい。
【００２９】
−バインダー−
前記バインダーとしては、Ｉ／Ｏ値が０．３００〜０．６５０のポリマーである。なお、本発明において、「（メタ）アクリル」とは、「アクリル」及び「メタクリル」のいずれかを意味するものとする。
【００３０】
前記Ｉ／Ｏ値が０．３００〜０．６５０のポリマーとしては、０．３００〜０．６５０である限り、特に制限は無く、目的に応じて適宜選択することができる。前記Ｉ／Ｏ値が、０．６５０を超えると、密着性が低下したり、エッジラフネスが大きくなるという弊害がある。
前記Ｉ／Ｏ値の上限値は、例えば、解像度及びテント性の少なくともいずれかを更に向上させる観点から０．６３０がより好ましく、０．６００が特に好ましい。
前記Ｉ／Ｏ値の下限値は、例えば、現像性を向上させる観点から０．３５０がより好ましく、０．４００が特に好ましい。
前記バインダーのＩ／Ｏ値を調整する方法としては、共重合体を構成するモノマーの種類及び、該モノマーを重合させる際の重合比（含有量）の少なくともいずれかを適宜選択することにより、例えば、０．３００〜０．６５０の範囲に調整することができる。
【００３１】
前記Ｉ／Ｏ値は、（無機性値）／（有機性値）とも呼ばれる各種有機化合物の極性を有機概念的に取り扱った値であり、各官能基にパラメータを設定する官能基寄与法の一つである。前記Ｉ／Ｏ値は、詳しくは、有機概念図（甲田善生  著、三共出版（１９８４））；ＫＵＭＡＭＯＴＯ  ＰＨＡＲＭＡＣＥＵＴＩＣＡＬ  ＢＵＬＬＥＴＩＮ，第１号、第１〜１６項（１９５４年）；化学の領域、第１１巻、第１０号、７１９〜７２５項（１９５７年）；フレグランスジャーナル、第３４号、第９７〜１１１項（１９７９年）；フレグランスジャーナル、第５０号、第７９〜８２項（１９８１年）；などの文献に詳細に説明されている。
前記Ｉ／Ｏ値の概念は、化合物の性質を、共有結合性を表わす有機性基と、イオン結合性を表わす無機性基とに分け、すべての有機化合物を有機軸と無機軸と名付けた直行座標上の１点ずつに位置づけて示すものである。
前記無機性値とは、有機化合物が有している種々の置換基や結合等の沸点への影響力の大小を、水酸基を基準に数値化したものである。具体的には、直鎖アルコールの沸点曲線と直鎖パラフィンの沸点曲線との距離を炭素数５の付近で取ると約１００℃となるので、水酸基１個の影響力を数値で１００と定め、この数値に基づいて、各種置換基或いは各種結合などの沸点への影響力を数値化した値が、有機化合物が有している置換基の無機性値である。例えば、−ＣＯＯＨ基の無機性値は１５０であり、２重結合の無機性値は２である。従って、ある種の有機化合物の無機性値とは、該化合物が有している各種置換基や結合等の無機性値の総和を意味する。
前記有機性値とは、分子内のメチレン基を単位とし、そのメチレン基を代表する炭素原子の沸点への影響力を基準にして定めたものである。即ち、直鎖飽和炭化水素化合物の炭素数５〜１０付近での炭素１個加わることによる沸点上昇の平均値は２０℃であるから、これを基準に、炭素原子１個の有機性値を２０と定め、これを基礎として、各種置換基や結合等の沸点への影響力を数値化した値が有機性値である。例えば、ニトロ基（−ＮＯ２）の有機性値は７０である。
前記Ｉ／Ｏ値は、０に近いほど非極性（疎水性、有機性の大きな）の有機化合物であることを示し、大きいほど極性（親水性、無機性の大きな）の有機化合物であることを示す。
以下において前記Ｉ／Ｏ値の計算方法の一例を説明する。
【００３２】
メタクリル酸／メタクリル酸メチル／スチレン共重合体（共重合体組成（モル比）：２／５／３）のＩ／Ｏ値は、該共重合体の無機性値及び有機性値を以下の方法により計算し、次式、（前記共重合体の無機性値）／（前記共重合体の有機性値）、を計算することにより求められる。
【００３３】
前記共重合体の無機性値は、前記メタクリル酸の無機性値×前記メタクリル酸のモル比と、前記メタクリル酸メチルの無機性値×前記メタクリル酸メチルのモル比と、前記スチレンの無機性値×前記スチレンのモル比との合計を求めることにより計算される。
【００３４】
前記メタクリル酸は、カルボキシル基を１個有し、前記メタクリル酸メチルは、エステル基を１個有し、前記スチレンは、芳香環を１個有するため、
前記メタクリル酸の無機性値は、１５０（カルボキシル基の無機性値）×１（カルボキシル基の個数）＝１５０、
前記メタクリル酸メチルの無機性値は、６０（エステル基の無機性値）×１（エステル基の個数）＝６０、
前記スチレンの無機性値は、１５（芳香環の無機性値）×１（芳香環の個数）＝１５、である。
よって、前記共重合体の無機性値は、次式、１５０×２（メタクリル酸のモル比）＋６０×５（メタクリル酸メチルのモル比）＋１５×３（スチレンのモル比）、を計算することにより、６４５であることが計算される。
【００３５】
前記共重合体の有機性値は、前記メタクリル酸の有機性値×前記メタクリル酸のモル比と、前記メタクリル酸メチルの有機性値×前記メタクリル酸メチルのモル比と、前記スチレンの有機性値×前記スチレンのモル比との合計を求めることにより計算される。
【００３６】
前記メタクリル酸は、炭素原子４個を有し、前記メタクリル酸メチルは、炭素原子５個を有し、前記スチレンは、炭素原子８個を有するため、
前記メタクリル酸の有機性値は、２０（炭素原子の有機性値）×４（炭素原子数）＝８０、
前記メタクリル酸メチルの有機性値は、２０（炭素原子の有機性値）×５（炭素原子数）＝１００、
前記スチレンの有機性値は、２０（炭素原子の有機性値）×８（炭素原子数）＝１６０、である。
よって、前記共重合体の有機性値は、次式、８０×２（前記メタクリル酸のモル比）＋１００×５（前記メタクリル酸メチルのモル比）＋１６０×３（前記スチレンのモル比）、を計算することにより、１，１４０であることが計算される。
【００３７】
よって、前記共重合体のＩ／Ｏ値は、６４５（前記共重合体の無機性値）／１，１４０（前記共重合体の有機性値）＝０．５６６であることが判る。
【００３８】
前記バインダーがガラス転移温度を有する物質である場合、該ガラス転移温度は、８０℃以上であれば特に制限は無く、目的に応じて適宜選択することができるが、１００℃以上であることが好ましく、１１５℃以上であることがより好ましい。
前記ガラス転移温度が８０℃未満となると、形成した前記感光層のタックが増加したり、パターン形成材料を製造した際に、前記感光層と前記支持体との剥離性が悪化したりすることがあり、また、露光量を変えた場合に、解像等の変動が大きくなることがある。
【００３９】
前記Ｉ／Ｏ値が０．３００〜０．６５０であるバインダーとしては、例えば、共重合体を含み、該共重合体がスチレン及びスチレン誘導体の少なくともいずれかに由来する構造単位を有するのが好ましい。また、前記スチレン及びスチレン誘導体の少なくともいずれかに由来する構造単位の他に、共重合する成分の組合せとしては、例えば、少なくとも（メタ）アクリル酸及びアルキル（メタ）アクリレートを含む組合せ、（メタ）アクリル酸とアルキル（メタ）アクリレート及びベンジル(メタ)アクリレートを含む組合せ、（メタ）アクリル酸及びベンジル(メタ)アクリレートを含む組合せなどがより好ましい。
前記アルキル（メタ）アクリレートのアルキル基としては、メチル基、エチル基が特に好ましい。
【００４０】
前記Ｉ／Ｏ値が０．３００〜０．６５０であり、かつ、前記ガラス転移温度が８０℃以上である前記バインダーとしては、例えば、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／ベンジルメタクリレート共重合体（共重合体組成（質量比）：２５／８／３０／３７）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／ベンジルメタクリレート共重合体（共重合体組成（質量比）：２３／８／１５／５４）メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／ベンジルメタクリレート共重合体（共重合体組成（質量比）：２９／１６／３５／２０）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／エチルアクリレート共重合体（共重合体組成（質量比）：２５／２５／３９／１１）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／エチルアクリレート共重合体（共重合体組成（質量比）：２５／２５／４５／５）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／エチルアクリレート共重合体（共重合体組成（質量比）：２５／１０／４５／２０）、メタクリル酸／シクロヘキシルメタクリレート／２−エチルヘキシルメタクリレート共重合体（共重合体組成（質量比）：２５／７０／５）、メタクリル酸／シクロヘキシルメタクリレート／２−エチルヘキシルメタクリレート共重合体（共重合体組成（質量比）：２３／７０／７）、メタクリル酸／スチレン／メチルアクリレート共重合体（共重合体組成（質量比）：２５／６０／１５）、メタクリル酸／スチレン／メチルアクリレート共重合体（共重合体組成（質量比）：２５／５０／２５）、メタクリル酸／スチレン／メチルアクリレート共重合体（共重合体組成（質量比）：２９／６１／１０）、メタクリル酸／スチレン／エチルアクリレート共重合体（共重合体組成（質量比）：２３／６０／１７）、メタクリル酸／スチレン／エチルアクリレート共重合体（共重合体組成（質量比）：２９／６１／１０）、メタクリル酸／スチレン／エチルアクリレート共重合体（共重合体組成（質量比）：２５／７０／５）、メタクリル酸／スチレン共重合体（共重合組成比（質量比）：２０／８０）、メタクリル酸／スチレン共重合体（共重合組成比（質量比）：２８／７２）、メタクリル酸／スチレン共重合体（共重合組成比（質量比）：３２／６８）、メタクリル酸／スチレン／２−エチルヘキシルメタクリレート共重合体（共重合組成比（質量比）：２５／６５／１０）、メタクリル酸／スチレン／２−エチルヘキシルメタクリレート共重合体（共重合組成比（質量比）：３０／６１／９）、メタクリル酸／スチレン／２−エチルヘキシルメタクリレート共重合体（共重合組成比（質量比）：２９／６０／１１）、メタクリル酸／スチレン／２−エチルヘキシルメタクリレート共重合体（共重合組成比（質量比）：２９／４７／２４）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／２−エチルヘキシルメタクリレート共重合体（共重合組成比（質量比）：２５／２２／４０／１３）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／２−エチルヘキシルメタクリレート共重合体（共重合組成比（質量比）：２９／１５／４７／９）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／２−エチルヘキシルメタクリレート共重合体（共重合組成比（質量比）：２９／１８／５０／３）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／２−エチルヘキシルメタクリレート共重合体（共重合組成比（質量比）：２５／１５／４０／２０）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／２−エチルヘキシルメタクリレート共重合体（共重合組成比（質量比）：２５／１５／３５／２５）、メタクリル酸／スチレン／シクロヘキシルメタクリレート共重合体（共重合組成比（質量比）：３１／６４／５）、メタクリル酸／スチレン／シクロヘキシルメタクリレート共重合体（共重合組成比（質量比）：２５／１５／６０）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／ブチルメタクリレート共重合体（共重合組成比（質量比）：２５／２７／４６／２）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／ブチルメタクリレート共重合体（共重合組成比（質量比）：２９／１５／５０／６）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／ブチルメタクリレート共重合体（共重合組成比（質量比）：２５／２７／３６／１２）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／ブチルメタクリレート共重合体（共重合組成比（質量比）：２９／１３／３８／２０）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／ブチルメタクリレート共重合体（共重合組成比（質量比）：２９／５／３１／３５）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン共重合体（共重合組成比（質量比）：２５／２９／４６）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン共重合体（共重合組成比（質量比）：２０／５３／２７）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン共重合体（共重合組成比（質量比）：２９／１９／５２）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン共重合体（共重合組成比（質量比）：３０／１３／５７）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン共重合体（共重合組成比（質量比）：２８／１３／５９）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン共重合体（共重合組成比（質量比）：３２／８／６０）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン共重合体（共重合組成比（質量比）：２９／３１／４０）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン共重合体（共重合組成比（質量比）：２５／４１／３４）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン共重合体（共重合組成比（質量比）：２０／５６／２４）、メタクリル酸／スチレン／ベンジルメタクリレート共重合体（共重合体組成（質量比）：３０／１５／５５）、メタクリル酸／スチレン／ベンジルメタクリレート共重合体（共重合体組成（質量比）：３０／２５／４５）、及びメタクリル酸／メチルスチレン／ベンジルメタクリレート共重合体（共重合体組成（質量比）：３０／１５／５５）などが挙げられる。
これらの中でもメタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／ベンジルメタクリレート共重合体（共重合体組成（質量比）：２５／８／３０／３７）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／ベンジルメタクリレート共重合体（共重合体組成（質量比）：２９／１６／３５／２０）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／エチルアクリレート共重合体（共重合体組成（質量比）：２５／２５／３９／１１）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／エチルアクリレート共重合体（共重合体組成（質量比）：２５／２５／４５／５）、メタクリル酸／スチレン／メチルアクリレート共重合体（共重合体組成（質量比）：２５／６０／１５）、メタクリル酸／スチレン／メチルアクリレート共重合体（共重合体組成（質量比）：２９／６１／１０）、メタクリル酸／スチレン／エチルアクリレート共重合体（共重合体組成（質量比）：２９／６１／１０）、メタクリル酸／スチレン／エチルアクリレート共重合体（共重合体組成（質量比）：２５／７０／５）、メタクリル酸／スチレン共重合体（共重合組成比（質量比）：２０／８０）、メタクリル酸／スチレン共重合体（共重合組成比（質量比）：２８／７２）、メタクリル酸／スチレン共重合体（共重合組成比（質量比）：３２／６８）、メタクリル酸／スチレン／２−エチルヘキシルメタクリレート共重合体（共重合組成比（質量比）：２５／６５／１０）、メタクリル酸／スチレン／２−エチルヘキシルメタクリレート共重合体（共重合組成比（質量比）：３０／６１／９）、メタクリル酸／スチレン／２−エチルヘキシルメタクリレート共重合体（共重合組成比（質量比）：２９／６０／１１）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／２−エチルヘキシルメタクリレート共重合体（共重合組成比（質量比）：２５／２２／４０／１３）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／２−エチルヘキシルメタクリレート共重合体（共重合組成比（質量比）：２９／１５／４７／９）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／２−エチルヘキシルメタクリレート共重合体（共重合組成比（質量比）：２９／１８／５０／３）、メタクリル酸／スチレン／シクロヘキシルメタクリレート共重合体（共重合組成比（質量比）：３１／６４／５）、メタクリル酸／スチレン／シクロヘキシルメタクリレート共重合体（共重合組成比（質量比）：２５／１５／６０）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／ブチルメタクリレート共重合体（共重合組成比（質量比）：２５／２７／４６／２）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／ブチルメタクリレート共重合体（共重合組成比（質量比）：２９／１５／５０／６）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／ブチルメタクリレート共重合体（共重合組成比（質量比）：２５／２７／３６／１２）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／ブチルメタクリレート共重合体（共重合組成比（質量比）：２９／１３／３８／２０）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン共重合体（共重合組成比（質量比）：２５／２９／４６）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン共重合体（共重合組成比（質量比）：２０／５３／２７）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン共重合体（共重合組成比（質量比）：２９／１９／５２）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン共重合体（共重合組成比（質量比）：３０／１３／５７）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン共重合体（共重合組成比（質量比）：２８／１３／５９）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン共重合体（共重合組成比（質量比）：３２／８／６０）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン共重合体（共重合組成比（質量比）：２９／３１／４０）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン共重合体（共重合組成比（質量比）：２５／４１／３４）、メタクリル酸／スチレン／ベンジルメタクリレート共重合体（共重合体組成（質量比）：３０／１５／５５）、メタクリル酸／スチレン／ベンジルメタクリレート共重合体（共重合体組成（質量比）：３０／２５／４５）、及びメタクリル酸／メチルスチレン／ベンジルメタクリレート共重合体（共重合体組成（質量比）：３０／１５／５５）が好ましい。
更に、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／ベンジルメタクリレート共重合体（共重合体組成（質量比）：２９／１６／３５／２０）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／エチルアクリレート共重合体（共重合体組成（質量比）：２５／２５／４５／５）、メタクリル酸／スチレン／メチルアクリレート共重合体（共重合体組成（質量比）：２９／６１／１０）、メタクリル酸／スチレン／エチルアクリレート共重合体（共重合体組成（質量比）：２５／７０／５）、メタクリル酸／スチレン共重合体（共重合組成比（質量比）：３２／６８）、メタクリル酸／スチレン／２−エチルヘキシルメタクリレート共重合体（共重合組成比（質量比）：３０／６１／９）、メタクリル酸／スチレン／２−エチルヘキシルメタクリレート共重合体（共重合組成比（質量比）：２９／６０／１１）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／２−エチルヘキシルメタクリレート共重合体（共重合組成比（質量比）：２９／１５／４７／９）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／２−エチルヘキシルメタクリレート共重合体（共重合組成比（質量比）：２９／１８／５０／３）、メタクリル酸／スチレン／シクロヘキシルメタクリレート共重合体（共重合組成比（質量比）：３１／６４／５）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／ブチルメタクリレート共重合体（共重合組成比（質量比）：２５／２７／４６／２）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／ブチルメタクリレート共重合体（共重合組成比（質量比）：２９／１５／５０／６）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン共重合体（共重合組成比（質量比）：２５／２９／４６）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン共重合体（共重合組成比（質量比）：２０／５３／２７）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン共重合体（共重合組成比（質量比）：２９／１９／５２）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン共重合体（共重合組成比（質量比）：３０／１３／５７）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン共重合体（共重合組成比（質量比）：２８／１３／５９）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン共重合体（共重合組成比（質量比）：３２／８／６０）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン共重合体（共重合組成比（質量比）：２９／３１／４０）、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン共重合体（共重合組成比（質量比）：２５／４１／３４）、メタクリル酸／スチレン／ベンジルメタクリレート共重合体（共重合体組成（質量比）：３０／１５／５５）、メタクリル酸／スチレン／ベンジルメタクリレート共重合体（共重合体組成（質量比）：３０／２５／４５）、及びメタクリル酸／メチルスチレン／ベンジルメタクリレート共重合体（共重合体組成（質量比）：３０／１５／５５）が特に好ましい。
【００４１】
前記バインダーとしては、前記Ｉ／Ｏ値及び前記ガラス転移温度が上記数値範囲内である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、アルカリ性液に対して膨潤性であることが好ましく、アルカリ性液に対して可溶性であることがより好ましい。
アルカリ性液に対して膨潤性又は溶解性を示すバインダーとしては、例えば、酸性基を有するものが好適に挙げられる。
前記バインダーの酸価は、前記Ｉ／Ｏ値が上記数値範囲内である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、前記バインダーの酸価が１００〜２５０ｍｇＫＯＨ／ｇであるものが好ましく、１２０〜２２０ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましく、１５０〜２２０ｍｇＫＯＨ／ｇが特に好ましい。
前記酸価が、１００ｍｇＫＯＨ／ｇ未満であると、現像性が不足したり、解像性が劣り、高精細なパターンを得ることができないことがあり、２５０ｍｇＫＯＨ／ｇを超えると、パターンの耐現像液性及び密着性の少なくともいずれかが悪化し、高精細なパターンを得ることができないことがある。
【００４２】
前記酸性基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基などが挙げられ、これらの中でもカルボキシル基が好ましい。
カルボキシル基を有するバインダーとしては、例えば、カルボキシル基を有するビニル共重合体、ポリウレタン樹脂、ポリアミド酸樹脂、変性エポキシ樹脂などが挙げられ、これらの中でも、塗布溶媒への溶解性、アルカリ現像液への溶解性、合成適性、膜物性の調整の容易さ等の観点からカルボキシル基を有するビニル共重合体が好ましい。また、現像性の観点から、スチレン及びスチレン誘導体の少なくともいずれかの共重合体も好ましい。
【００４３】
前記カルボキシル基を有するビニル共重合体は、少なくとも（１）カルボキシル基を有するビニルモノマー、及び（２）これらと共重合可能なモノマーとの共重合により得ることができる。
前記ビニル共重合体としては、例えば、特開２００５−２５８４３１号公報の「０１６４」〜「０２０５」に記載されている化合物などが挙げられる。
【００４４】
前記感光性組成物における前記バインダーの含有量は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、１０〜９０質量％が好ましく、２０〜８０質量％がより好ましく、４０〜８０質量％が特に好ましい。
前記含有量が１０質量％未満であると、アルカリ現像性やプリント配線板形成用基板（例えば、銅張積層板）との密着性が低下することがあり、９０質量％を超えると、現像時間に対する安定性や、硬化膜（テント膜）の強度が低下することがある。なお、前記含有量は、前記バインダーと必要に応じて併用される高分子結合剤との合計の含有量であってもよい。
【００４５】
前記親水性基を有する少なくとも一種のヘキサアリールビイミダゾール化合物とＩ／Ｏ値が０．３００〜０．６５０のポリマーとの含有量比は、例えば質量比で、１：１０〜１：１が好ましく、１：３０〜１：２がより好ましく、１：２０〜１：４が特に好ましい。
【００４６】
−重合性化合物−
前記感光性組成物における前記重合性化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、ウレタン基及びアリール基の少なくともいずれかを有するモノマー又はオリゴマーが好適に挙げられる。また、これらは、重合性基を２種以上有することが好ましい。
【００４７】
前記重合性基としては、例えば、エチレン性不飽和結合（例えば、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリルアミド基、スチリル基、ビニルエステルやビニルエーテル等のビニル基、アリルエーテルやアリルエステル等のアリル基など）、重合可能な環状エーテル基（例えば、エポキシ基、オキセタン基等）などが挙げられ、これらの中でもエチレン性不飽和結合が好ましい。
【００４８】
−−ウレタン基を有するモノマー−−
前記ウレタン基を有するモノマーとしては、ウレタン基を有する限り、特に制限は無く、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開２００５−２５８４３１号公報の「０２１０」〜「０２６２」に記載されている化合物などが挙げられる。
【００４９】
−−アリール基を有するモノマー−−
前記アリール基を有するモノマーとしては、アリール基を有する限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アリール基を有する多価アルコール化合物、多価アミン化合物及び多価アミノアルコール化合物の少なくともいずれかと不飽和カルボン酸とのエステル又はアミドなどが挙げられる。
具体的には、例えば、特開２００５−２５８４３１号公報の「０２６４」〜「０２７１」に記載されている化合物などが挙げられる。
【００５０】
−−その他の重合性モノマー−−
前記感光性組成物中には、該感光性組成物を用いて形成する感光層の特性を悪化させない範囲で、前記ウレタン基を含有するモノマー、アリール基を有するモノマー以外の重合性モノマーを併用してもよい。
【００５１】
前記ウレタン基を含有するモノマー、芳香環を含有するモノマー以外の重合性モノマーとしては、例えば、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等）と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と多価アミン化合物とのアミドなどが挙げられる。
具体的には、例えば、特開２００５−２５８４３１号公報の「０２７３」〜「０２８４」に記載されている化合物などが挙げられる。
【００５２】
以上、例示した重合性化合物においても、消泡剤としての効果的に機能し、より高精細なパターンを形成可能とする観点からは、プロピレンオキサイド基を有するモノマーを少なくとも含むことが好ましい。
【００５３】
前記感光性組成物における重合性化合物の含有量は、例えば、５〜９０質量％が好ましく、１５〜６０質量％がより好ましく、２０〜５０質量％が特に好ましい。
前記含有量が、５質量％未満となると、テント膜の強度が低下することがあり、９０質量％を超えると、前記パターン形成材料の保存時のエッジフュージョン（ロール端部からのしみだし故障）が悪化することがある。
また、前記感光層における重合性化合物中に前記重合性基を２個以上有する多官能モノマーの含有量は、５〜１００質量％が好ましく、２０〜１００質量％がより好ましく、４０〜１００質量％が特に好ましい。
【００５４】
−増感剤−
感光層への露光における露光感度や感光波長を調整する目的で、前記光重合開始剤に加えて、増感剤を添加することが可能である。
前記増感剤は、後述する光照射手段としての可視光線や紫外光レーザ及び可視光レーザなどにより適宜選択することができる。
前記増感剤は、活性エネルギー線により励起状態となり、他の物質（例えば、ラジカル発生剤、酸発生剤等）と相互作用（例えば、エネルギー移動、電子移動等）することにより、ラジカルや酸等の有用基を発生することが可能である。
【００５５】
前記光重合開始剤と前記増感剤との組合せとしては、例えば、特開２００１−３０５７３４号公報に記載の電子移動型開始系［（１）電子供与型開始剤及び増感色素、（２）電子受容型開始剤及び増感色素、（３）電子供与型開始剤、増感色素及び電子受容型開始剤（三元開始系）］などの組合せが挙げられる。
【００５６】
前記増感剤としては、特に制限はなく、公知の増感剤の中から適宜選択することができるが、例えば、公知の多核芳香族類（例えば、ピレン、ペリレン、トリフェニレン）、キサンテン類（例えば、フルオレセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンＢ、ローズベンガル）、シアニン類（例えば、インドカルボシアニン、チアカルボシアニン、オキサカルボシアニン）、メロシアニン類（例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン）、チアジン類（例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー）、アクリジン類（例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン、９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９，９’−アクリジニル）ヘプタン）、アントラキノン類（例えば、アントラキノン）、スクアリウム類（例えば、スクアリウム）、アクリドン類（例えば、アクリドン、クロロアクリドン、Ｎ−メチルアクリドン、Ｎ−ブチルアクリドン、Ｎ−ブチル−クロロアクリドン（例えば、２−クロロ−１０−ブチルアクリドン等）など）、クマリン類（例えば、３−（２−ベンゾフロイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（２−ベンゾフロイル）−７−（１−ピロリジニル）クマリン、３−ベンゾイル−７−ジエチルアミノクマリン、３−（２−メトキシベンゾイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（４−ジメチルアミノベンゾイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３，３’−カルボニルビス（５，７−ジ−ｎ−プロポキシクマリン）、３，３’−カルボニルビス（７−ジエチルアミノクマリン）、３−ベンゾイル−７−メトキシクマリン、３−（２−フロイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（４−ジエチルアミノシンナモイル）−７−ジエチルアミノクマリン、７−メトキシ−３−（３−ピリジルカルボニル）クマリン、３−ベンゾイル−５，７−ジプロポキシクマリン、特開平５−１９４７５号、特開平７−２７１０２８号、特開２００２−３６３２０６号、特開２００２−３６３２０７号、特開２００２−３６３２０８号、特開２００２−３６３２０９号等の各公報に記載のクマリン化合物など）、及びチオキサントン化合物（チオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、１−クロロ−４−プロピルオキシチオキサントン、ＱｕａｎｔａｃｕｒｅＱＴＸ等）などが挙げられ、これらの中でも、芳香族環や複素環が縮環した化合物（縮環系化合物）、並びに、少なくとも２つの芳香族炭化水素環及び芳香族複素環のいずれかで置換されたアミン系化合物が好ましい。
【００５７】
前記縮環系化合物の中でも、ヘテロ縮環系ケトン化合物（アクリドン系化合物、チオキサントン系化合物、クマリン系化合物等）、及びアクリジン系化合物がより好ましい。前記ヘテロ縮環系ケトン化合物の中でも、アクリドン化合物及びチオキサントン化合物が特に好ましい。
【００５８】
前記少なくとも２つの芳香族炭化水素環及び芳香族複素環のいずれかで置換されたアミン系化合物は、３３０〜４５０ｎｍの波長域の光に対して吸収極大を有する増感剤であることが好ましく、例えば、ジ置換アミノベンゾフェノン系化合物、ベンゼン環上のアミノ基に対し、パラ位の炭素原子に複素環基を置換基として有するジ置換アミノ−ベンゼン系化合物、ベンゼン環上のアミノ基に対し、パラ位の炭素原子にスルホニルイミノ基を含む置換基を有するジ置換アミノ−ベンゼン系化合物、及びカルボスチリル骨格を形成したジ置換アミノ−ベンゼン系化合物、並びに、少なくとも２個の芳香族環が窒素原子に結合した構造を有する化合物等のジ置換アミノ−ベンゼンを部分構造として有する化合物が挙げられる。
【００５９】
前記増感剤は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記増感剤の含有量は、感光性組成物の全成分に対し、０．０１〜４質量％が好ましく、０．０２〜２質量％がより好ましく、０．０５〜１質量％が特に好ましい。
前記含有量が、０．０１質量％未満となると、感度が低下することがあり、４質量％を超えると、パターンの形状が悪化することがある。
【００６０】
−ＮＨ基を有する化合物−
形成されたパターンにおけるテント性の向上及び現像残渣の減少を目的として、ＮＨ基を有する化合物を添加することが可能である。
前記ＮＨ基を有する化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、含ＮＨのヘテロ環化合物、含ＮＨのスルホンアミド化合物などが挙げられる。その中でも、ベンゾトリアゾール骨格含有化合物、ベンゾイミダゾール骨格含有化合物、ベンゼンスルホンアミド骨格含有化合物が好ましい。
具体的には、例えば、ベンゾトリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、ジブチルアミノメチルベンゾトリアゾール、ジブチアミノメチルカルボキシベンゾトリアゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゼンスルホンアミド、トルエンスルホンアミド、ブチルベンゼンスルホンアミドなどが挙げられる。また、後述の熱重合禁止剤のうち含ＮＨのものなどを添加してもよい。
前記ＮＨ基を有する化合物は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよく、テント性の向上の観点からは、トルエンスルホンアミドが好ましく、現像残渣の減少の観点からは、カルボキシベンゾトリアゾールなどのベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。
【００６１】
前記感光性組成物におけるＮＨ基を有する化合物の含有量は、例えば、０．００１〜５質量％であることが好ましく、０．００２〜３質量％がより好ましい。
【００６２】
−その他の成分−
前記感光性組成物におけるその他の成分としては、例えば、公知の熱重合禁止剤、界面活性剤、可塑剤、発色剤、着色剤などが挙げられ、更に基体表面への密着促進剤及びその他の助剤類（例えば、顔料、導電性粒子、充填剤、消泡剤、難燃剤、レベリング剤、剥離促進剤、酸化防止剤、香料、熱架橋剤、表面張力調整剤、連鎖移動剤等）を併用してもよい。これらの成分を適宜含有させることにより、目的とする前記感光層（前記パターン形成材料）の安定性、写真性、焼きだし性、膜物性等の性質を調整することもできる。
【００６３】
−−熱重合禁止剤−−
前記熱重合禁止剤は、前記感光性組成物からなる前記感光層における前記重合性化合物の熱的な重合又は経時的な重合を防止するために添加してもよい。
前記熱重合禁止剤としては、例えば、４−メトキシフェノール、ハイドロキノン、アルキルまたはアリール置換ハイドロキノン、ｔ−ブチルカテコール、ピロガロール、２−ヒドロキシベンゾフェノン、４−メトキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、塩化第一銅、フェノチアジン、クロラニル、ナフチルアミン、β−ナフトール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−クレゾール、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、ピリジン、ニトロベンゼン、ジニトロベンゼン、ピクリン酸、４−トルイジン、メチレンブルー、銅と有機キレート剤反応物、サリチル酸メチル、及びフェノチアジン、ニトロソ化合物、ニトロソ化合物とＡｌとのキレート、などが挙げられる。
【００６４】
前記熱重合禁止剤の含有量は、前記重合性化合物に対して０．００１〜５質量％が好ましく、０．００５〜２質量％がより好ましく、０．０１〜１質量％が特に好ましい。
前記含有量が、０．００１質量％未満であると、保存時の安定性が低下することがあり、５質量％を超えると、活性エネルギー線に対する感度が低下することがある。
【００６５】
−−可塑剤−−
前記可塑剤は、前記感光性組成物からなる感光層の膜物性（可撓性）をコントロールするために添加してもよい。
前記可塑剤としては、例えば、ジメチルフタレート、ジブチルフタレート、ジイソブチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジトリデシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジイソデシルフタレート、ジフェニルフタレート、ジアリルフタレート、オクチルカプリールフタレート等のフタル酸エステル類；トリエチレングリコールジアセテート、テトラエチレングリコールジアセテート、ジメチルグリコースフタレート、エチルフタリールエチルグリコレート、メチルフタリールエチルグリコレート、ブチルフタリールブチルグリコレート、トリエチレングリコールジカブリル酸エステル等のグリコールエステル類；トリクレジルホスフェート、トリフェニルホスフェート等のリン酸エステル類；４−トルエンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、Ｎ−ｎ−ブチルベンゼンスルホンアミド、Ｎ−ｎ−ブチルアセトアミド等のアミド類；ジイソブチルアジペート、ジオクチルアジペート、ジメチルセバケート、ジブチルセパケート、ジオクチルセパケート、ジオクチルアゼレート、ジブチルマレート等の脂肪族二塩基酸エステル類；クエン酸トリエチル、クエン酸トリブチル、グリセリントリアセチルエステル、ラウリン酸ブチル、４，５−ジエポキシシクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸ジオクチル等、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のグリコール類が挙げられる。
【００６６】
前記可塑剤の含有量は、前記感光性組成物の全成分に対して０．１〜５０質量％が好ましく、０．５〜４０質量％がより好ましく、１〜３０質量％が特に好ましい。
【００６７】
−−発色剤−−
前記発色剤は、露光後の前記感光層に可視像を与える（焼きだし機能）ために添加してもよい。
前記発色剤としては、例えば、トリス（４−ジメチルアミノフェニル）メタン（ロイコクリスタルバイオレット）、トリス（４−ジエチルアミノフェニル）メタン、トリス（４−ジメチルアミノ−２−メチルフェニル）メタン、トリス（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）メタン、ビス（４−ジブチルアミノフェニル）−〔４−（２−シアノエチル）メチルアミノフェニル〕メタン、ビス（４−ジメチルアミノフェニル）−２−キノリルメタン、トリス（４−ジプロピルアミノフェニル）メタン等のアミノトリアリールメタン類；３，６−ビス（ジメチルアミノ）−９−フェニルキサンチン、３−アミノ−６−ジメチルアミノ−２−メチル−９−（２−クロロフェニル）キサンチン等のアミノキサンチン類；３，６−ビス（ジエチルアミノ）−９−（２−エトキシカルボニルフェニル）チオキサンテン、３，６−ビス（ジメチルアミノ）チオキサンテン等のアミノチオキサンテン類；３，６−ビス（ジエチルアミノ）−９，１０−ジヒドロ−９−フェニルアクリジン、３，６−ビス（ベンジルアミノ）−９，１０−ジビドロ−９−メチルアクリジン等のアミノ−９，１０−ジヒドロアクリジン類；３，７−ビス（ジエチルアミノ）フェノキサジン等のアミノフェノキサジン類；３，７−ビス（エチルアミノ）フェノチアゾン等のアミノフェノチアジン類；３，７−ビス（ジエチルアミノ）−５−ヘキシル−５，１０−ジヒドロフェナジン等のアミノジヒドロフェナジン類；ビス（４−ジメチルアミノフェニル）アニリノメタン等のアミノフェニルメタン類；４−アミノ−４’−ジメチルアミノジフェニルアミン、４−アミノ−α、β−ジシアノヒドロケイ皮酸メチルエステル等のアミノヒドロケイ皮酸類；１−（２−ナフチル）−２−フェニルヒドラジン等のヒドラジン類；１，４−ビス（エチルアミノ）−２，３−ジヒドロアントラキノン類のアミノ−２，３−ジヒドロアントラキノン類；Ｎ，Ｎ−ジエチル−４−フェネチルアニリン等のフェネチルアニリン類；１０−アセチル−３，７−ビス（ジメチルアミノ）フェノチアジン等の塩基性ＮＨを含むロイコ色素のアシル誘導体；トリス（４−ジエチルアミノ−２−トリル）エトキシカルボニルメンタン等の酸化しうる水素をもっていないが、発色化合物に酸化しうるロイコ様化合物；ロイコインジゴイド色素；米国特許３，０４２，５１５号及び同第３，０４２，５１７号に記載されているような発色形に酸化しうるような有機アミン類（例、４，４’−エチレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、４，４’−メチレンジアミントリフェニルアミン、Ｎ−ビニルカルバゾール）が挙げられ、これらの中でも、ロイコクリスタルバイオレット等のトリアリールメタン系化合物が好ましい。
【００６８】
更に、前記発色剤は、前記ロイコ体を発色させるためなどの目的で、ハロゲン化合物と組み合わせることが一般に知られている。
前記ハロゲン化合物としては、例えば、ハロゲン化炭化水素（例えば、四臭化炭素、ヨードホルム、臭化エチレン、臭化メチレン、臭化アミル、臭化イソアミル、ヨウ化アミル、臭化イソブチレン、ヨウ化ブチル、臭化ジフェニルメチル、ヘキサクロロエタン、１，２−ジブロモエタン、１，１，２，２−テトラブロモエタン、１，２−ジブロモ−１，１，２−トリクロロエタン、１，２，３トリブロモプロパン、１−ブロモ−４−クロロブタン、１，２，３，４−テトラブロモブタン、テトラクロロシクロプロペン、ヘキサクロロシクロペンタジエン、ジブロモシキロヘキサン、１，１，１−トリクロロ−２，２−ビス（４−クロロフェニル）エタンなど）；ハロゲン化アルコール化合物（例えば、２，２，２−トリクロロエタノール、トリブロモエタノール、１，３−ジクロロ−２−プロパノール、１，１，１−トリクロロ−２−プロパノール、ジ（ヨードヘキサメチレン）アミノイソプロパノール、トリブロモ−ｔ−ブチルアルコール、２，２，３−トリクロロブタン−１，４−ジオールなど）；ハロゲン化カルボニル化合物（例えば１，１−ジクロロアセトン、１，３−ジクロロアセトン、ヘキサクロロアセトン、ヘキサブロモアセトン、１，１，３，３−テトラクロロアセトン、１，１，１−トリクロロアセトン、３，４−ジブロモ−２−ブタノン、１，４−ジクロロ−２−ブタノン−ジブロモシクロヘキサノン等）；ハロゲン化エーテル化合物（例えば２−ブロモエチルメチルエーテル、２−ブロモエチルエチルエーテル、ジ（２−ブロモエチル）エーテル、１，２−ジクロロエチルエチルエーテル等）；ハロゲン化エステル化合物（例えば、酢酸ブロモエチル、トリクロロ酢酸エチル、トリクロロ酢酸トリクロロエチル、２，３−ジブロモプロピルアクリレートのホモポリマー及び共重合体、ジブロモプロピオン酸トリクロロエチル、α，β−ジグロロアクリル酸エチル等）；ハロゲン化アミド化合物（例えば、クロロアセトアミド、ブロモアセトアミド、ジクロロアセトアミド、トリクロロアセトアミド、トリブロモアセトアミド、トリクロロエチルトリクロロアセトアミド、２−ブロモイソプロピオンアミド、２，２，２−トリクロロプロピオンアミド、Ｎ−クロロスクシンイミド、Ｎ−ブロモスクシンイミドなど）；硫黄やリンを有する化合物（例えば、トリブロモメチルフェニルスルホン、４−ニトロフェニルトリブロモメチルスルホン、４−クロルフェニルトリブロモメチルスルホン、トリス（２，３−ジブロモプロピル）ホスフェート等）、２，４−ビス（トリクロロメチル）６−フェニルトリアゾールなどが挙げられる。有機ハロゲン化合物では、同一炭素原子に結合した２個以上のハロゲン原子を持つハロゲン化合物が好ましく、１個の炭素原子に３個のハロゲン原子を持つハロゲン化合物がより好ましい。前記有機ハロゲン化合物は、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、トリブロモメチルフェニルスルホン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−フェニルトリアゾールが好ましい。
【００６９】
前記発色剤の含有量は、前記感光性組成物の全成分に対して０．０１〜２０質量％が好ましく、０．０５〜１０質量％がより好ましく、０．１〜５質量％が特に好ましい。また、前記ハロゲン化合物の含有量は、前記感光性組成物の全成分に対し０．００１〜５質量％が好ましく、０．００５〜１質量％がより好ましい。
【００７０】
−−着色剤−−
前記着色剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、赤色、緑色、青色、黄色、紫色、マゼンタ色、シアン色、黒色等の公知の顔料又は染料が挙げられ、具体的には、ビクトリア・ピュアーブルーＢＯ（Ｃ．Ｉ．４２５９５）、オーラミン（Ｃ．Ｉ．４１０００）、ファット・ブラックＨＢ（Ｃ．Ｉ．２６１５０）、モノライト・エローＧＴ（Ｃ．Ｉ．ピグメントエロー１２）、パーマネント・エローＧＲ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・エロー１７）、パーマネント・エローＨＲ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・エロー８３）、パーマネント・カーミンＦＢＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１４６）、ホスターバームレッドＥＳＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット１９）、パーマネント・ルビーＦＢＨ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１１）、ファステル・ピンクＢスプラ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド８１）、モナストラル・ファースト・ブルー（Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５）、モノライト・ファースト・ブラックＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブラック１）、カーボンブラックが挙げられる。
【００７１】
−−染料−−
前記感光性組成物には、取り扱い性の向上のため、又は保存安定性を付与する目的として、染料を用いることができる。
前記染料としては、ブリリアントグリーン（例えば、その硫酸塩）、エオシン、エチルバイオレット、エリスロシンＢ、メチルグリーン、クリスタルバイオレット、ベイシックフクシン、フェノールフタレイン、１，３−ジフェニルトリアジン、アリザリンレッドＳ、チモールフタレイン、メチルバイオレット２Ｂ、キナルジンレッド、ローズベンガル、メタニル−イエロー、チモールスルホフタレイン、キシレノールブルー、メチルオレンジ、オレンジＩＶ、ジフェニルチロカルバゾン、２，７−ジクロロフルオレセイン、パラメチルレッド、コンゴーレッド、ベンゾプルプリン４Ｂ、α−ナフチル−レッド、ナイルブルーＡ、フェナセタリン、メチルバイオレット、マラカイトグリーン、パラフクシン、オイルブルー＃６０３（オリエント化学工業社製）、ローダミンＢ、ローダミン６Ｇ、ビクトリアピュアブルーＢＯＨなどを挙げることができ、これらの中でもカチオン染料（例えば、マラカイトグリーンシュウ酸塩、マラカイトグリーン硫酸塩等）が好ましい。該カチオン染料の対アニオンとしては、有機酸又は無機酸の残基であればよく、例えば、臭素酸、ヨウ素酸、硫酸、リン酸、シュウ酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等の残基（アニオン）などが挙げられる。
【００７２】
前記染料の含有量は、前記感光性組成物の全成分に対して０．００１〜１０質量％が好ましく、０．０１〜５質量％がより好ましく、０．１〜２質量％が特に好ましい。
【００７３】
−−密着促進剤−−
前記感光性組成物には、該感光性組成物を用いて形成する感光層の密着性（前記パターン形成材料としたときの他の層との密着性、又は基体との密着性）を向上させるために、各層に公知のいわゆる密着促進剤を用いることができる。
【００７４】
前記密着促進剤としては、例えば、特開平５−１１４３９号公報、特開平５−３４１５３２号公報、及び特開平６−４３６３８号公報等に記載の密着促進剤が好適に挙げられる。    
【００７５】
前記密着促進剤の含有量は、前記感光性組成物の全成分に対して０．００１質量％〜２０質量％が好ましく、０．０１〜１０質量％がより好ましく、０．１質量％〜５質量％が特に好ましい。
【００７６】
また、前記感光性組成物は、例えば、Ｊ．コーサー著「ライトセンシテイブシステムズ」第５章に記載されているような有機硫黄化合物、過酸化物、レドックス系化合物、アゾ又はジアゾ化合物、光還元性色素、有機ハロゲン化合物などを含んでいてもよい。
【００７７】
前記有機硫黄化合物としては、例えば、ジ−ｎ−ブチルジサルファイド、ジベンジルジサルファイド、２−メルカプトベンズチアゾール、２−メルカプトベンズオキサゾール、チオフェノール、エチルトリクロロメタンスルフェネート、２−メルカプトベンズイミダゾールなどが挙げられる。
【００７８】
前記過酸化物としては、例えば、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、過酸化ベンゾイル、メチルエチルケトンパーオキサイドを挙げることができる。
【００７９】
前記レドックス化合物は、過酸化物と還元剤の組合せからなるものであり、第一鉄イオンと過硫酸イオン、第二鉄イオンと過酸化物などを挙げることができる。
【００８０】
前記アゾ及びジアゾ化合物としては、例えば、α，α’−アゾビスイリブチロニトリル、２−アゾビス−２−メチルブチロニトリル、４−アミノジフェニルアミンのジアゾニウム類が挙げられる。
【００８１】
前記光還元性色素としては、例えば、ローズベンガル、エリスロシン、エオシン、アクリフラビン、リポフラビン、チオニンが挙げられる。
【００８２】
−−界面活性剤−−
前記感光性組成物は、前記感光層を形成する際に発生する面状ムラを改善させるために、公知の界面活性剤を添加することができる。
前記界面活性剤としては、例えば、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、両性界面活性剤、フッ素含有界面活性剤などから適宜選択できる。
【００８３】
前記界面活性剤の含有量は、前記感光性組成物の固形分に対し、０．００１〜１０質量％が好ましい。
前記含有量が、０．００１質量％未満になると、面状改良の効果が得られなくことがあり、１０質量％を超えると、密着性が低下することがある。
【００８４】
前記界面活性剤としては、上述の界面活性剤の他、フッ素系の界面活性剤として、炭素鎖３〜２０でフッ素原子を４０質量％以上含み、かつ、非結合末端から数えて少なくとも３個の炭素原子に結合した水素原子がフッ素置換されているフルオロ脂肪族基を有するアクリレート又はメタクリレートを共重合成分として有する高分子界面活性剤も好適に挙げられる。
【００８５】
前記感光層の前記パターン形成材料において設けられる箇所は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、通常、前記支持体上に積層される。前記感光層としては、単層であってもよく、複数層であってもよい。
前記感光層の厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、１〜１００μｍが好ましく、２〜５０μｍがより好ましく、４〜３０μｍが特に好ましい。
【００８６】
＜支持体＞
前記支持体としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記感光層を剥離可能であり、かつ光の透過性が良好であるものが好ましく、更に表面の平滑性が良好であることがより好ましい。
【００８７】
−ヘイズ値−
前記支持体のヘイズ値は、４０５ｎｍの光に対するヘイズ値が５．０％以下であることが好ましく、３．０％以下であることがより好ましく、１．０％以下であることが特に好ましい。前記ヘイズ値が５．０％を超えると、前記感光層内の光散乱量が増加し、ファインピッチを求める際の解像性が低下したり、密着性の低下、エッジラフネスが大きくなる等の弊害が生ずることがある。
【００８８】
また、前記支持体の４０５ｎｍの光に対する全光線透過率が８６％以上であることが好ましく、８７％以上であることがより好ましい。
【００８９】
前記ヘイズ値及び全光線透過率の測定方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、以下に説明する方法が挙げられる。
まず、（１）全光線透過率を測定する。前記全光線透過率の測定方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、積分球と、４０５ｎｍの光を照射可能な分光光度計（例えば、島津製作所社製、ＵＶ−２４００）とを用いて測定する方法が挙げられる。（２）前記全光線透過率の測定方法において、前記積分球を使用しない以外は前記全光線透過率の測定方法と同様にして平行光線透過率を測定する。次に、（３）次計算式、前記全光線透過率−前記平行光線透過率、から求められる拡散光透過率を計算し、（４）次計算式、前記拡散光透過率／前記全光線透過率×１００、から前記ヘイズ値を求めることができる。
なお、前記全光線透過率及び前記ヘイズ値を求める際の測定サンプルの厚みは１６μｍである。
【００９０】
前記支持体は、少なくとも片面に不活性微粒子が塗布されていてもよい。前記不活性微粒子は、前記感光層が形成される面と反対の面に塗布されていることが好ましい。
【００９１】
前記不活性微粒子としては、例えば、架橋ポリマー粒子、無機粒子（例えば、炭酸カルシウム、リン酸カルシウム、シリカ、カオリン、タルク、二酸化チタン、アルミナ、硫酸バリウム、フッ化カルシウム、フッ化リチウム、ゼオライト、硫化モリブデン等）、有機粒子（例えば、ヘキサメチレンビスベヘンアミド、ヘキサメチレンビスステアリルアミド、Ｎ，Ｎ’−ジステアリルテレフタルアミド、シリコーン、シュウ酸カルシウム等）、ポリエステル重合時に生成させる析出粒子などが挙げられ、これらの中でもシリカ、炭酸カルシウム、ヘキサメチレンビスベヘンアミドが好ましい。
【００９２】
前記析出粒子とは、例えば、エステル交換触媒としてアルカリ金属又はアルカリ土類金属化合物を用いた系を常法により重合させることにより反応系内に析出するものを言い、エステル交換反応又は重縮合反応時にテレフタル酸を添加することにより析出させたものでもよい。前記エステル交換反応又は重縮合反応においては、リン酸、リン酸トリメチル、リン酸トリエチル、リン酸トリブチル、酸性リン酸エチル、亜リン酸、亜リン酸トリメチル、亜リン酸トリエチル、亜リン酸トリブチル等のリン化合物の１種以上を存在させてもよい。
【００９３】
前記不活性微粒子の平均粒子径は、０．０１〜２．０μｍが好ましく、０．０２〜１．５μｍがより好ましく、０．０３〜１．０μｍがさらに好ましく、０．０４〜０．５μｍが特に好ましい。
前記不活性微粒子の平均粒子径が、０．０１μｍ未満であると、前記パターン形成材料の搬送性が悪化することがあり、搬送性を得るために前記不活性微粒子を多量に含有させることによって、前記支持体のヘイズ値が上昇することがある。また、前記不活性微粒子の平均粒子径が２．０μｍを超えると、露光光の散乱によって解像度が低下することがある。
【００９４】
前記不活性微粒子の塗布方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、前記支持体となる合成樹脂製フィルム製造後に公知の方法で前記不活性微粒子を含有する塗布液を塗布する方法が挙げられる。また、前記不活性微粒子を含有させた合成樹脂を溶融し、ダイから吐出して前記支持体となる合成樹脂製フィルム上に成形してもよい。さらに、特開２０００−２２１６８８号公報に記載の方法により形成してもよい。
【００９５】
前記支持体における前記不活性微粒子を含有する塗布層の厚みは、０．０２〜３．０μｍが好ましく、０．０３〜２．０μｍがより好ましく、０．０４〜１．０μｍが特に好ましい。
【００９６】
前記支持体となる合成樹脂製フィルムは、透明であるものが好ましく、例えば、ポリエステル樹脂製フィルムが好ましく、二軸延伸ポリエステルフィルムであることが特に好ましい。
【００９７】
前記ポリエステル樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ（メタ）アクリル酸エステル共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸アルキルエステル、ポリエチレン−２，６−ナフタレート、ポリテトラメチレンテレフタレート、ポリテトラメチレン−２，６−ナフタレート等が挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００９８】
前記ポリエステル樹脂以外の樹脂としては、例えば、ポリプロピレン、ポリエチレン、三酢酸セルロース、二酢酸セルロース、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリスチレン、セロファン、ポリ塩化ビニリデン共重合体、ポリアミド、ポリイミド、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体、ポリテトラフロロエチレン、ポリトリフロロエチレン、セルロース系樹脂、ナイロン樹脂などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００９９】
前記合成樹脂製フィルムは１層からなるものであってもよく、２層以上の層からなるものであってもよい。２層以上の層からなる場合、感光層から最も遠くに位置する層に前記不活性微粒子を含有させることが好ましい。
【０１００】
また、前記合成樹脂製フィルムは、機械的強度特性及び光学的特性の観点から二軸延伸ポリエステルフィルムであることが好ましい。
前記二軸延伸ポリエステルフィルムの二軸配向方法は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、前記ポリエステル樹脂をシート状に溶融押出し、急冷して未延伸フィルムをつくり、該未延伸フィルムを二軸延伸する際に延伸温度を８５〜１４５℃、縦方向及び横方向の延伸倍率を２．６〜４．０倍とし、必要に応じて二軸延伸した後のフィルムを１５０〜２１０℃で熱固定することにより調製することができる。
前記二軸延伸は、未延伸フィルムを縦方向又は横方向に延伸して一軸延伸フィルムとし、次いで該一軸延伸フィルムを横方向又は縦方向に延伸することによる逐次二軸延伸法であってもよく、該未延伸フィルムを縦方向及び横方向に同時に延伸する同時二軸延伸法であってもよい。また、前記二軸延伸フィルムは必要に応じて縦方向及び横方向の少なくともいずれかの方向に更に延伸することができる。
【０１０１】
前記支持体の厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、２〜１５０μｍが好ましく、５〜１００μｍがより好ましく、８〜５０μｍが特に好ましい。
【０１０２】
前記支持体の形状は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、長尺状が好ましい。前記長尺状の支持体の長さは、特に制限はなく、例えば、１０〜２０，０００ｍの長さのものが挙げられる。
【０１０３】
＜その他の層＞
前記パターン形成材料におけるその他の層としては、例えば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、クッション層、酸素遮断層（ＰＣ層）、剥離層、接着層、光吸収層、表面保護層などの層を有してもよい。これらの層を１種単独で有していてもよく、２種以上を有していてもよい。また、前記感光層上に保護フィルムを有していてもよい。
【０１０４】
−クッション層−
前記クッション層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、アルカリ性液に対して膨潤性乃至可溶性であってもよく、不溶性であってもよい。
【０１０５】
前記クッション層がアルカリ性液に対して膨潤性乃至可溶性である場合には、前記熱可塑性樹脂としては、例えば、エチレンとアクリル酸エステル共重合体のケン化物、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体のケン化物、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体のケン化物、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等の（メタ）アクリル酸エステル共重合体等のケン化物、（メタ）アクリル酸エステルと（メタ）アクリル酸との共重合体、スチレンと（メタ）アクリル酸エステルと（メタ）アクリル酸との共重合体などが挙げられる。
【０１０６】
この場合の熱可塑性樹脂の軟化点（Ｖｉｃａｔ）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、８０℃以下が好ましい。
前記軟化点が８０℃以下の熱可塑性樹脂としては、上述した熱可塑性樹脂の他、「プラスチック性能便覧」（日本プラスチック工業連盟、全日本プラスチック成形工業連合会編著、工業調査会発行、１９６８年１０月２５日発行）による軟化点が約８０℃以下の有機高分子の内、アルカリ性液に可溶なものが挙げられる。また、軟化点が８０℃以上の有機高分子物質においても、該有機高分子物質中に該有機高分子物質と相溶性のある各種の可塑剤を添加して実質的な軟化点を８０℃以下に下げることも可能である。
【０１０７】
また、前記クッション層がアルカリ性液に対して膨潤性乃至可溶性である場合には、前記パターン形成材料の層間接着力としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、各層の層間接着力の中で、前記支持体と前記クッション層との間の層間接着力が、最も小さいことが好ましい。このような層間接着力とすることにより、前記積層体から前記支持体のみを剥離し、前記クッション層を介して前記感光層を露光した後、アルカリ性の現像液を用いて該感光層を現像することができる。また、前記支持体を残したまま、前記感光層を露光した後、前記積層体から前記支持体のみを剥離し、アルカリ性の現像液を用いて該感光層を現像することもできる。
【０１０８】
前記層間接着力の調整方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記熱可塑性樹脂中に公知のポリマー、過冷却物質、密着改良剤、界面活性剤、離型剤などを添加する方法が挙げられる。
【０１０９】
前記可塑剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ジオクチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、クレジルジフェニルフォスフェート、ビフェニルジフェニルフォスフェート等のアルコール類やエステル類；トルエンスルホンアミド等のアミド類、などが挙げられる。
【０１１０】
前記クッション層がアルカリ性液に対して不溶性である場合には、前記熱可塑性樹脂としては、例えば、主成分がエチレンを必須の共重合成分とする共重合体が挙げられる。
前記エチレンを必須の共重合成分とする共重合体としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）、エチレン−エチルアクリレート共重合体（ＥＥＡ）などが挙げられる。
【０１１１】
前記クッション層がアルカリ性液に対して不溶性である場合には、前記パターン形成材料の層間接着力としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、各層の層間接着力の中で、前記感光層と前記クッション層との接着力が、最も小さいことが好ましい。このような層間接着力とすることにより、前記積層体から前記支持体及びクッション層を剥離し、前記感光層を露光した後、アルカリ性の現像液を用いて該感光層を現像することができる。また、前記支持体を残したまま、前記感光層を露光した後、前記積層体から前記支持体と前記クッション層を剥離し、アルカリ性の現像液を用いて該感光層を現像することもできる。
【０１１２】
前記層間接着力の調整方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記熱可塑性樹脂中に各種のポリマー、過冷却物質、密着改良剤、界面活性剤、離型剤などを添加する方法、以下に説明するエチレン共重合比を調整する方法などが挙げられる。
【０１１３】
前記エチレンを必須の共重合成分とする共重合体におけるエチレン共重合比は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、６０〜９０質量％が好ましく、６０〜８０質量％がより好ましく、６５〜８０質量％が特に好ましい。
前記エチレンの共重合比が、６０質量％未満になると、前記クッション層と前記感光層との層間接着力が高くなり、該クッション層と該感光層との界面で剥離することが困難となることがあり、９０質量％を超えると、前記クッション層と前記感光層との層間接着力が小さくなりすぎるため、該クッション層と該感光層との間で非常に剥離しやすく、前記クッション層を含むパターン形成材料の製造が困難となることがある。
【０１１４】
前記クッション層の厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、５〜５０μｍが好ましく、１０〜５０μｍがより好ましく、１５〜４０μｍが特に好ましい。
前記厚みが、５μｍ未満になると、基体の表面における凹凸や、気泡等への凹凸追従性が低下し、高精細な永久パターンを形成できないことがあり、５０μｍを超えると、製造上の乾燥負荷増大等の不具合が生じることがある。
【０１１５】
−酸素遮断層（ＰＣ層）−
前記酸素遮断層は、通常ポリビニルアルコールを主成分として形成されることが好ましく、厚みが０．５〜５μｍ程度の被膜であることが好ましい。
【０１１６】
−保護フィルム−
前記保護フィルムは、前記感光層の汚れや損傷を防止し、保護する機能を有する。
前記保護フィルムの前記パターン形成材料において設けられる箇所は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、通常、前記感光層上に設けられる。
前記保護フィルムとしては、例えば、前記支持体に使用されるもの、シリコーン紙、ポリエチレン、ポリプロピレンがラミネートされた紙、ポリオレフィン又はポリテトラフルオルエチレンシート、などが挙げられ、これらの中でも、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルムが好ましい。
前記保護フィルムの厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、５〜１００μｍが好ましく、８〜３０μｍがより好ましい。
前記保護フィルムを用いる場合、前記感光層及び前記支持体の接着力Ａと、前記感光層及び保護フィルムの接着力Ｂとが、接着力Ａ＞接着力Ｂの関係であることが好ましい。
前記支持体と保護フィルムとの組合せ（支持体／保護フィルム）としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート／ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート／ポリエチレン、ポリ塩化ビニル／セロフアン、ポリイミド／ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート／ポリエチレンテレフタレートなどが挙げられる。また、支持体及び保護フィルムの少なくともいずれかを表面処理することにより、上述のような接着力の関係を満たすことができる。前記支持体の表面処理は、前記感光層との接着力を高めるために施されてもよく、例えば、下塗層の塗設、コロナ放電処理、火炎処理、紫外線照射処理、高周波照射処理、グロー放電照射処理、活性プラズマ照射処理、レーザ光線照射処理などを挙げることができる。
【０１１７】
また、前記支持体と前記保護フィルムとの静摩擦係数は、０．３〜１．４が好ましく、０．５〜１．２がより好ましい。
前記静摩擦係数が、０．３未満であると、滑り過ぎるため、ロール状にした場合に巻ズレが発生することがあり、１．４を超えると、良好なロール状に巻くことが困難となることがある。
【０１１８】
前記保護フィルムは、前記保護フィルムと前記感光層との接着性を調整するために表面処理してもよい。前記表面処理は、例えば、前記保護フィルムの表面に、ポリオルガノシロキサン、弗素化ポリオレフィン、ポリフルオロエチレン、ポリビニルアルコール等のポリマーからなる下塗層を形成させる。該下塗層の形成は、前記ポリマーの塗布液を前記保護フィルムの表面に塗布した後、３０〜１５０℃で１〜３０分間乾燥させることにより形成させることができる。前記乾燥の温度は５０〜１２０℃が特に好ましい。
【０１１９】
〔パターン形成材料の製造方法〕
前記パターン形成材料は、例えば、次のようにして製造することができる。
まず、前記感光層に含まれる材料を、水又は溶剤に溶解、乳化又は分散させて、パターン形成材料用の感光性樹脂組成物溶液を調製する。
【０１２０】
前記溶媒としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｎ−ヘキサノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジイソブチルケトンなどのケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸−ｎ−アミル、硫酸メチル、プロピオン酸エチル、フタル酸ジメチル、安息香酸エチル、及びメトキシプロピルアセテートなどのエステル類；トルエン、キシレン、ベンゼン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素類；四塩化炭素、トリクロロエチレン、クロロホルム、１，１，１−トリクロロエタン、塩化メチレン、モノクロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類；テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノールなどのエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホオキサイド、スルホランなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。また、公知の界面活性剤を添加してもよい。
【０１２１】
次に、前記支持体上に前記感光性組成物溶液を塗布し、乾燥させて感光層を形成し、パターン形成材料を製造することができる。
【０１２２】
前記感光性組成物溶液の塗布方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法、スリットコート法、エクストルージョンコート法、カーテンコート法、ダイコート法、グラビアコート法、ワイヤーバーコート法、ナイフコート法等の各種の塗布方法が挙げられる。
前記乾燥の条件としては、各成分、溶媒の種類、使用割合等によっても異なるが、通常６０〜１１０℃の温度で３０秒間〜１５分間程度である。
【０１２３】
（感光性積層体）
前記感光性積層体は、基体上に、前記本発明の感光層を少なくとも有し、目的に応じて適宜選択されるその他の層を積層してなる。
【０１２４】
−基体−
前記基体は、感光層が形成される被処理基体、又は本発明のパターン形成材料の少なくとも感光層が転写される被転写体となるもので、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、表面平滑性の高いものから凸凹のある表面を持つものまで任意に選択できる。板状の基体が好ましく、いわゆる基板が使用される。具体的には、公知のプリント配線板製造用の基板、ガラス板（ソーダガラス板など）、合成樹脂性のフィルム、紙、金属板などが挙げられる。
【０１２５】
〔感光性積層体の製造方法〕
前記感光性積層体の製造方法として、第１の態様として、前記感光性樹脂組成物溶液を前記基体の表面に塗布し乾燥する方法が挙げられ、第２の態様として、本発明の感光性フィルムにおける少なくとも感光層を加熱及び加圧の少なくともいずれかを行いながら転写して積層する方法が挙げられる。
【０１２６】
前記第１の態様の感光性積層体の製造方法は、前記基体上に、前記感光性樹脂組成物溶液を塗布及び乾燥して感光層を形成する。
前記塗布及び乾燥の方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記基体の表面に、前記感光層に含まれる材料を、水又は溶剤に溶解、乳化又は分散させて感光性組成物溶液を調製し、該溶液を直接塗布し、乾燥させることにより積層する方法が挙げられる。
【０１２７】
前記感光性組成物溶液の溶剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記感光性フィルムに用いたものと同じ溶剤が挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。また、公知の界面活性剤を添加してもよい。
【０１２８】
前記塗布方法及び乾燥条件としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記感光性フィルムに用いたものと同じ方法及び条件で行う。
【０１２９】
前記第２の態様の感光性積層体の製造方法は、前記基体の表面に本発明の感光性フィルムを加熱及び加圧の少なくともいずれかを行いながら積層する。なお、前記感光性フィルムが前記保護フィルムを有する場合には、該保護フィルムを剥離し、前記基体に前記感光層が重なるようにして積層するのが好ましい。
前記加熱温度は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、１５〜１８０℃が好ましく、６０〜１４０℃がより好ましい。
前記加圧の圧力は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、０．１〜１．０ＭＰａが好ましく、０．２〜０．８ＭＰａがより好ましい。
【０１３０】
前記加熱の少なくともいずれかを行う装置としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、ラミネーター（例えば、ＭＯＤＥＬ８Ｂ−７２０−ＰＨ、大成ラミネーター（株）製）などが好適に挙げられる。
【０１３１】
本発明のパターン形成材料及び前記感光性積層体は、高感度及び高解像度で、密着性及び感度の経時安定性に優れ、現像残渣が少なく、高精細なパターンを形成可能であるため、各種パターンの形成、カラーフィルタ、柱材、リブ材、スペーサー、隔壁等の液晶構造部材の製造、ホログラム、マイクロマシン、プルーフの製造などに好適に用いることができ、特に本発明のパターン形成装置及びパターン形成方法に好適に用いることができる。
【０１３２】
（パターン形成装置及びパターン形成方法）
本発明のパターン形成装置は、本発明の前記パターン形成材料を備えており、光照射手段と光変調手段とを少なくとも有する。
【０１３３】
本発明のパターン形成方法は、露光工程を少なくとも含み、適宜選択した現像工程等のその他の工程を含む。
なお、本発明の前記パターン形成装置は、本発明の前記パターン形成方法の説明を通じて明らかにする。
【０１３４】
［露光工程］
前記露光工程は、本発明の感光層に対し、露光を行う工程である。本発明の前記感光層、及び基体の材料については上述の通りである。
【０１３５】
前記露光の対象としては、前記感光層である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、上述のように、基体上にパターン形成材料を加熱及び加圧の少なくともいずれかを行いながら積層して形成した感光性積層体における感光層に対して行われることが好ましい。
【０１３６】
前記露光としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、デジタル露光、アナログ露光等が挙げられるが、これらの中でもデジタル露光が好ましい。
【０１３７】
前記アナログ露光としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、所定のパターンを有するフォトマスクを介して、（超）高圧水銀灯、キセノンランプ、ハロゲンランプなどで露光を行なう方法が挙げられる。
【０１３８】
前記デジタル露光としては、前記フォトマスクを用いずに行なうのであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、光照射手段及び光変調手段を少なくとも備えた露光ヘッドと、前記感光層の少なくともいずれかを移動させつつ、前記感光層に対して、前記光照射手段から出射した光を前記光変調手段によりパターン情報に応じて変調しながら前記露光ヘッドから照射して行なうことが好ましい。
【０１３９】
前記デジタル露光で用いる光源としては、紫外から近赤外線を発する光源であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、（超）高圧水銀灯、キセノン灯、カーボンアーク灯、ハロゲンランプ、及び複写機用などの蛍光管、またはレーザ光等の公知光源が用いられるが、これらの中でも（超）高圧水銀灯、レーザ光が好ましく、レーザ光がより好ましい。
【０１４０】
（超）高圧水銀灯とは、石英ガラスチューブなどに水銀を封入した放電灯であり、水銀の蒸気圧を高く設定して発光効率を高めたものである。輝線スペクトルのうち、ＮＤフィルターなどを用いて１波長のみの輝線スペクトルを用いてもよく、複数の輝線スペクトルを有する光線を用いてもよい。
【０１４１】
前記レーザ光の「レーザ」は、Light  Amplification  by  Stimulated  Emission  of  Radiation（誘導放出による光の増幅）の頭字語である。前記レーザ光を発する装置としては、反転分布を持った物質中で起きる誘導放出の現象を利用し、光波の増幅、発振によって干渉性と指向性が一層強い単色光を作り出す発振器及び増幅器が好適に挙げられる。
前記レーザ光の励起媒質としては、結晶、ガラス、液体、色素、気体などがあり、これらの媒質から固体レーザ、液体レーザ、気体レーザ、半導体レーザなどの公知のレーザを用いることができる。
具体的には、ガスレーザとして、Ａｒイオンレーザ（３６４ｎｍ、３５１ｎｍ）、Ｋｒイオンレーザ（３５６ｎｍ、３５１ｎｍ）、Ｈｅ−Ｃｄレーザ（３２５ｎｍ）が挙げられ、固体レーザとして、ＹＡＧレーザ、ＹＶＯ４レーザ（１，０６４ｎｍ）、ＹＡＧレーザ又はＹＶＯ４レーザの、２倍波（５３２ｎｍ）、３倍波（３５５ｎｍ）、４倍波（２６６ｎｍ）、導波型波長変換素子とＡｌＧａＡｓ、ＩｎＧａＡｓ半導体との組み合わせ（３８０〜４００ｎｍ）、導波型波長変換素子とＡｌＧａＩｎＰ又はＡｌＧａＡｓ半導体ｔの組み合わせ（３００〜３５０ｎｍ）、ＡｌＧａＩｎＮ（３５０〜４７０ｎｍ）などが挙げられる。これらの中で好適なレーザ光としては、コストの面でＡｌＧａＩｎＮ半導体レーザ（市販ＩｎＧａＮ系半導体レーザ３７５ｎｍ又は４０５ｎｍ）が、生産性の面で高出力な３５５ｎｍレーザが挙げられる。
【０１４２】
前記レーザ光の波長は、例えば、２００〜１，５００ｎｍが好ましく、３００〜８００ｎｍがより好ましく、３３０〜５００ｎｍが更に好ましく、３５０〜４２０ｎｍが特に好ましい。
【０１４３】
−光変調手段−
前記光変調手段としては、ｎ個の描素部を有し、前記パターン情報に応じて前記描素部を制御する方法が、代表的な方法として挙げられる。具体的には、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）や、ＭＥＭＳ（Ｍｉｃｒｏ  Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  Ｓｙｓｔｅｍｓ）タイプの空間光変調素子（ＳＬＭ；Ｓｐａｃｅ  Ｌｉｇｈｔ  Ｍｏｄｕｌａｔｏｒ）、電気光学効果により透過光を変調する光学素子（ＰＬＺＴ素子）、液晶光シャッタ（ＦＬＣ）などが挙げられ、これらの中でもＤＭＤが好適に挙げられる。
【０１４４】
前記ＤＭＤを用いた場合、光源からの光は、適切な光学系によって前記ＤＭＤ上に照射され、前記ＤＭＤに二次元に並んだ各ミラーからの反射光が、別の光学系などを経て、感光層上に、二次元に並んだ光点の像を形成する。このままでは光点と光点の間は露光されないが、前記二次元に並んだ光点の像を、二次元の並び方向に対して、やや傾いた方向に移動させると、最初の列の光点と光点の間を、後方の列の光点が露光することにより、感光層の全面を露光することができる。前記ＤＭＤは、各ミラーの角度を制御し、前記光点をＯＮ-ＯＦＦ制御することで、画像パターンを形成することができる。このような前記ＤＭＤを有す露光ヘッドを並べて用いることで色々な幅の基板に対応することができる。
前記ＤＭＤでは、前記光点の輝度は、ＯＮかＯＦＦの２階調しかないが、ミラー階調型空間変調素子を用いると、２５６階調の露光を行なうことができる。
【０１４５】
また、前記光変調手段は、形成するパターン情報に基づいて制御信号を生成するパターン信号生成手段を有することが好ましい。この場合、前記光変調手段は、前記パターン信号生成手段が生成した制御信号に応じて光を変調させる。
前記制御信号としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、デジタル信号が好適に挙げられる。
【０１４６】
一方、前記光変調手段の、別の代表的な方法として、ポリゴンミラーを用いる方法が挙げられる。ここで、ポリゴンミラー（ｐｏｌｙｇｏｎ  ｍｉｒｒｏｒ）とは、周囲に一連の平面反射面を持った回転部材のことである。前記ポリゴンミラーでは、感光層上に光源からの光を反射して照射するが、反射光の光点は、該平面鏡の回転によって走査される。この走査方向に対して直角に基板を移動させることで、基板上の感光層の全面を露光することができる。そして、光源からの光の強度を適切な方法でＯＮ−ＯＦＦ、又は中間調に制御することで、画像パターンを形成することができる。この際、光源からの光を複数本とすることで、走査時間を短縮することができる。
【０１４７】
本発明の光変調手段としては、その他にも、特開平５−１５０１７５公報に記載のポリゴンミラーを用いて描画する例、特表２００４−５２３１０１公報（国際公開第２００２／０３９７９３号パンフレット）に記載の、下部レイヤの画像の一部を視覚的に取得し、ポリゴンミラーを用いた装置で上部レイヤの位置を下部レイヤ位置に揃えて露光する例、特開２００４−５６０８０公報に記載のＤＭＤ有する露光する例、特表２００２−５２３９０５公報に記載のポリゴンミラー備えた露光装置、特開２００１−２５５６６１公報に記載のポリゴンミラー備えた露光装置、特開２００３−５０４６９公報に記載のＤＭＤ、ＬＤ、多重露光の組み合わせ例、特開２００３−１５６８５３公報に記載の基板の部位により露光量を変える露光方法の例、特開２００５−４３５７６公報に記載の位置ずれ調整を行なう露光方法の例等が挙げられる。
【０１４８】
−光照射手段−
前記光照射手段、すなわち光の照射方法としては、特に制限はなく、前述の露光光源を目的に応じて適宜選択することができるが、これらの光源からの光を２以上合成して照射することが好適であり、２以上の光を合成したレーザ光（合波レーザ光）を照射することが特に好適に挙げられる。
【０１４９】
前記合波レーザ光の照射方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、複数のレーザ光源と、マルチモード光ファイバと、該複数のレーザ光源から照射されるレーザ光を集光して前記マルチモード光ファイバに結合させる集合光学系とにより合波レーザ光を構成して照射する方法が好適に挙げられる。
【０１５０】
前記レーザ光のビーム径は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、濃色離隔壁の解像度の観点から、ガウシアンビームの１／ｅ2値で５〜３０μｍが好ましく、７〜２０μｍがより好ましい。
本発明では、レーザ光を画像データに応じて空間光変調することが好ましい。したがって、この目的のため空間光変調素子である前記ＤＭＤを用いることが好ましい。
【０１５１】
前記光変調手段、及び前記光照射手段を有している露光装置としては、例えば、特開２００５−２２２０３９号公報、特開２００５−２５８４３１号公報、特開２００６−３０９６６号公報などに記載されている装置を用いることができるが、本発明における露光装置はこれに限定されるものではない。
【０１５２】
［その他の工程］
前記その他の工程としては、特に制限はなく、公知のパターン形成における工程の中から適宜選択することができ、例えば、現像工程、エッチング工程、メッキ工程、硬化処理工程などが挙げられる。
【０１５３】
−現像工程−
前記現像工程は、例えば、現像手段により好適に実施することができる。
前記現像手段としては、現像液を用いて現像することができる限り特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記現像液を噴霧する手段、前記現像液を塗布する手段、前記現像液に浸漬させる手段などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
また、前記現像手段は、前記現像液を交換する現像液交換手段、前記現像液を供給する現像液供給手段などを有していてもよい。
【０１５４】
前記現像液としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アルカリ性液、水系現像液、有機溶剤などが挙げられ、これらの中でも、弱アルカリ性の水溶液が好ましい。該弱アルカリ性液の塩基成分としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、硼砂などが挙げられる。
【０１５５】
前記弱アルカリ性の水溶液のｐＨとしては、例えば、約８〜１２が好ましく、約９〜１１がより好ましい。前記弱アルカリ性の水溶液としては、例えば、０．１〜５質量％の炭酸ナトリウム水溶液又は炭酸カリウム水溶液などが挙げられる。
前記現像液の温度としては、前記感光層の現像性に合わせて適宜選択することができるが、例えば、約２５〜４０℃が好ましい。
【０１５６】
前記現像液は、界面活性剤、消泡剤、有機塩基（例えば、エチレンジアミン、エタノールアミン、テトラメチルアンモニウムハイドロキサイド、ジエチレントリアミン、トリエチレンペンタミン、モルホリン、トリエタノールアミン等）や、現像を促進させるため有機溶剤（例えば、アルコール類、ケトン類、エステル類、エーテル類、アミド類、ラクトン類等）などと併用してもよい。また、前記現像液は、水又はアルカリ水溶液と有機溶剤を混合した水系現像液であってもよく、有機溶剤単独であってもよい。
【０１５７】
−エッチング工程−
前記エッチング工程としては、公知のエッチング処理方法の中から適宜選択した方法により行うことができる。
前記エッチング処理に用いられるエッチング液としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記金属層が銅で形成されている場合には、塩化第二銅溶液、塩化第二鉄溶液、アルカリエッチング溶液、過酸化水素系エッチング液などが挙げられるが、これらの中でも、エッチングファクターの点から塩化第二鉄溶液が好ましい。また、公知のサンドブラスト法を用いることができる。
前記エッチング工程によりエッチング処理した後に前記パターンを除去することにより、前記基体の表面に配線パターン（回路）を形成することができる。
【０１５８】
−メッキ工程−
前記メッキ工程としては、公知のメッキ処理の中から適宜選択した適宜選択した方法により行うことができる。
前記メッキ処理としては、例えば、硫酸銅メッキ、ピロリン酸銅メッキ等の銅メッキ、ハイスローはんだメッキ等のはんだメッキ、ワット浴（硫酸ニッケル−塩化ニッケル）メッキ、スルファミン酸ニッケル等のニッケルメッキ、ハード金メッキ、ソフト金メッキ等の金メッキなど処理が挙げられる。
前記メッキ工程によりメッキ処理した後に前記パターンを除去することにより、また更に必要に応じて不要部をレジスト剥離処理等で除去することにより、前記基体の表面に金属配線パターン（回路）を形成することができる。
【０１５９】
〔プリント配線板の製造方法〕
本発明の前記パターン形成方法は、プリント配線板の製造、特にスルーホール又はビアホールなどのホール部を有するプリント配線板の製造に好適に使用することができる。以下、本発明のパターン形成方法を利用したプリント配線板の製造方法の一例について説明する。
【０１６０】
スルーホール又はビアホールなどのホール部を有するプリント配線板の製造方法としては、（１）前記基体としてホール部を有するプリント配線板形成用基板上に、前記パターン形成材料を、その感光層が前記基体側となる位置関係にて積層して積層体を形成し、（２）前記積層体の前記基体とは反対の側から、所望の領域に光照射行い感光層を硬化させ、（３）前記積層体から前記パターン形成材料における支持体を除去し、（４）前記積層体における感光層を現像して、該積層体中の未硬化部分を除去することによりパターンを形成することができる。
【０１６１】
なお、前記（３）における前記支持体の除去は、前記（２）と前記（４）との間で行う代わりに、前記（１）と前記（２）との間で行ってもよい。
【０１６２】
その後、プリント配線板を得るには、前記形成したパターンを用いて、前記プリント配線板形成用基板をエッチング処理又はメッキ処理する方法（例えば、公知のサブトラクティブ法又はアディティブ法（例えば、セミアディティブ法、フルアディティブ法））により処理すればよい。これらの中でも、工業的に有利なテンティングでプリント配線板を形成するためには、前記サブトラクティブ法が好ましい。前記処理後プリント配線板形成用基板に残存する硬化樹脂は剥離させ、また、前記セミアディティブ法の場合は、剥離後さらに銅薄膜部をエッチングすることにより、所望のプリント配線板を製造することができる。また、多層プリント配線板も、前記プリント配線板の製造法と同様に製造が可能である。
【０１６３】
次に、前記パターン形成材料を用いたスルーホールを有するプリント配線板の製造方法について、更に説明する。
【０１６４】
まずスルーホールを有し、表面が金属メッキ層で覆われたプリント配線板形成用基板を用意する。前記プリント配線板形成用基板としては、例えば、銅張積層基板及びガラス−エポキシなどの絶縁基体に銅メッキ層を形成した基板又はこれらの基板に層間絶縁膜を積層し、銅メッキ層を形成した基板（積層基板）を用いることができる。
【０１６５】
次に、前記パターン形成材料上に保護フィルムを有する場合には、該保護フィルムを剥離して、前記パターン形成材料における感光層が前記プリント配線板形成用基板の表面に接するようにして加圧ローラを用いて圧着する（積層工程）。これにより、前記プリント配線板形成用基板と前記積層体とをこの順に有する積層体が得られる。
前記パターン形成材料の積層温度としては、特に制限はなく、例えば、室温（１５〜３０℃）又は加熱下（３０〜１８０℃）が挙げられ、これらの中でも、加温下（６０〜１４０℃）が好ましい。
前記圧着ロールのロール圧としては、特に制限はなく、例えば、０．１〜１ＭＰａが好ましい。
前記圧着の速度としては、特に制限はなく、１〜３ｍ／分が好ましい。また、前記プリント配線板形成用基板を予備加熱しておいてもよく、また、減圧下で積層してもよい。
【０１６６】
前記積層体の形成は、前記プリント配線板形成用基板上に前記パターン形成材料を積層してもよく、また、前記パターン形成材料製造用の感光性組成物溶液などを前記プリント配線板形成用基板の表面に直接塗布し、乾燥させることにより前記プリント配線板形成用基板上に感光層及び支持体を積層してもよい。
【０１６７】
次に、前記積層体の基体とは反対側の面から、光を照射して感光層を硬化させる。なお、この際、必要に応じて（例えば、支持体の光透過性が不十分な場合など）前記支持体を剥離してから露光を行ってもよい。
【０１６８】
この時点で、前記支持体を未だ剥離していない場合には、前記積層体から前記支持体を剥離する（剥離工程）。
【０１６９】
次に、前記プリント配線板形成用基板上の感光層の未硬化領域を、適当な現像液にて溶解除去して、配線パターン形成用の硬化層とスルーホールの金属層保護用硬化層のパターンを形成し、前記プリント配線板形成用基板の表面に金属層を露出させる（現像工程）。
【０１７０】
また、現像後に必要に応じて後加熱処理や後露光処理によって、硬化部の硬化反応を更に促進させる処理をおこなってもよい。現像は上記のようなウエット現像法であってもよく、ドライ現像法であってもよい。
【０１７１】
次いで、前記プリント配線板形成用基板の表面に露出した金属層をエッチング液で溶解除去する（エッチング工程）。スルーホールの開口部は、硬化樹脂組成物（テント膜）で覆われているので、エッチング液がスルーホール内に入り込んでスルーホール内の金属メッキを腐食することなく、スルーホールの金属メッキは所定の形状で残ることになる。これより、前記プリント配線板形成用基板に配線パターンが形成される。
【０１７２】
前記エッチング液としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記金属層が銅で形成されている場合には、塩化第二銅溶液、塩化第二鉄溶液、アルカリエッチング溶液、過酸化水素系エッチング液などが挙げられるが、これらの中でも、エッチングファクターの点から塩化第二鉄溶液が好ましい。
【０１７３】
次に、強アルカリ水溶液などにて前記硬化層を剥離片として、前記プリント配線板形成用基板から除去する（硬化物除去工程）。
前記強アルカリ水溶液における塩基成分としては、特に制限はなく、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどが挙げられる。
前記強アルカリ水溶液のｐＨとしては、例えば、約１２〜１４が好ましく、約１３〜１４がより好ましい。
前記強アルカリ水溶液としては、特に制限はなく、例えば、１〜１０質量％の水酸化ナトリウム水溶液又は水酸化カリウム水溶液などが挙げられる。
【０１７４】
また、プリント配線板は、多層構成のプリント配線板であってもよい。なお、前記パターン形成材料は上記のエッチングプロセスのみでなく、メッキプロセスに使用してもよい。前記メッキ法としては、例えば、硫酸銅メッキ、ピロリン酸銅メッキ等の銅メッキ、ハイフローはんだメッキ等のはんだメッキ、ワット浴（硫酸ニッケル−塩化ニッケル）メッキ、スルファミン酸ニッケル等のニッケルメッキ、ハード金メッキ、ソフト金メッキ等の金メッキなどが挙げられる。
【０１７５】
本発明のパターン形成装置及びパターン形成方法は、本発明の前記パターン形成材料を用いているため、各種パターンの形成、カラーフィルタ、柱材、リブ材、スペーサー、隔壁等の液晶構造部材の製造、ホログラム、マイクロマシン、プルーフの製造などに好適に用いることができる。
【実施例】
【０１７６】
以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１７７】
（実施例１）
−パターン形成材料の製造−
前記支持体として厚み１６μｍのＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム（東レ社製、１６ＦＢ５０）に、下記の組成からなる感光性組成物溶液を塗布し乾燥させて、３０μｍ厚の感光層を形成し、次いで、該感光層の上に、前記保護フィルムとして２５μｍ厚のポリエチレンフィルムをラミネートで積層し、前記パターン形成材料を製造した。
【０１７８】
［感光性組成物溶液の組成］
・メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／ベンジルメタクリレート共重合体（共重合体組成（質量比）：２５／８／３０／３７、質量平均分子量：６８，８００、Ｔｇ：１０５℃）・・・１７．５質量部
・下記式Ｍ−１で表される重合性モノマー・・・６．０質量部
・デカメチレンジイソシアネートとテトラエチレンオキシドモノメタアクリレートの
１／２モル比付加物・・・６．０質量部
・トリメチロールプロパンプロピレンオキシド変性トリアクリレート（東亞合成社製、アロニックスＭ−３１０）・・・２．０質量部
・下記式Ｓ−１で表される増感剤・・・０．０９質量部
・２，２’，５−トリス−（ｏ−クロロフェニル）−４−（３，４−ジメトキシフェニル）−４’，５’−ジフェニル−ビイミダゾール（光重合開始剤、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール及び２，４−ビス−（ｏ−クロロフェニル）−５−［３，４−ジメトキシフェニル］−イミダゾールの酸化カップリングにより製造した化合物（特表２００２−５０７００４号を参照））・・・２．２質量部
・トルエンスルホンアミド・・・１．０質量部
・カルボキシベンゾトリアゾール・・・０．０１質量部
・マラカイトグリーンシュウ酸塩・・・０．０２質量部
・ロイコクリスタルバイオレット・・・０．２９質量部
・Ｆ７８０Ｆ（大日本インキ（株）製）の３０質量％濃度品（メチルエチルケトン溶液）・・・０．０５質量部
・メチルエチルケトン・・・４０質量部
・１−メトキシ−２−プロパノール・・・２０質量部
なお、前記メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／ベンジルメタクリレート共重合体（共重合体組成（質量比）：２５／８／３０／３７）のＩ／Ｏ値は、上述のように算出すると０．５５４であった。
【化１】
2008058636.tif 000002
ただし、前記式Ｍ−１中、ＥＯは、エチレンオキサイド基を表し、ＰＯは、プロピレンオキサイド基を表し、ＰＯは下記構造式（ｉ）及び（ii）のいずれであってもよく、ｒ＋ｓの平均値は１０であり、ｐ＋ｑの平均値は４である。
【化２】
2008058636.tif 000003
【化３】
2008058636.tif 000004
【０１７９】
−感光層積層体の調製−
前記基体として、表面を研磨、水洗、乾燥した銅張積層板（スルーホールなし、銅厚み１２μｍ）の表面に、前記パターン形成材料の保護フィルムを剥がしながら、該パターン形成材料の感光層が前記銅張積層板に接するようにしてラミネーター（ＭＯＤＥＬ８Ｂ−７２０−ＰＨ、大成ラミネーター（株）製）を用いて圧着させ、前記銅張積層板と、前記感光層と、前記ポリエチレンテレフタレートフィルム（支持体）とがこの順に積層された感光性積層体を調製した。
圧着条件は、圧着ロール温度１０５℃、圧着ロール圧力０．３ＭＰａ、ラミネート速度１ｍ／分とした。
これら感光性組成物、パターン形成材料、及び感光性積層体について、下記の方法により、最短現像時間、感度、解像度、密着性、保存安定性、現像残渣の有無、及びテント性を評価した。最短現像時間以外の結果を表１に示す。
【０１８０】
＜最短現像時間＞
前記感光性積層体からポリエチレンテレフタレートフィルム（支持体）を剥がし取り、銅張積層板上の前記感光層の全面に３０℃の１質量％炭酸ナトリウム水溶液を０．１５ＭＰａの圧力にてスプレーし、炭酸ナトリウム水溶液のスプレー開始から銅張積層板上の感光層が溶解除去されるまでに要した時間を測定し、これを最短現像時間とした。
この結果、前記最短現像時間は、１９秒であった（以下の例も同じ）。
【０１８１】
＜感度＞
前記感光性積層体における前記パターン形成材料の感光層に対し、前記ポリエチレンテレフタレートフィルム（支持体）側から、前記光照射手段としての４０５ｎｍのレーザ光源を有する特開２００６−３０９６６号公報に記載のパターン形成装置を用いて、０．１ｍＪ／ｃｍ２から２１／６倍間隔で１００ｍＪ／ｃｍ２までの光エネルギー量の異なる光を照射して露光し、前記感光層の一部の領域を硬化させた。室温にて１５分間静置した後、前記感光性積層体からポリエチレンテレフタレートフィルム（支持体）を剥がし取り、銅張積層板上の前記感光層の全面に、炭酸ナトリウム水溶液（３０℃、１質量％）をスプレー圧０．１５ＭＰａにて、前記最短現像時間の２倍の時間スプレーし、未硬化の領域を溶解除去し、残った硬化領域の厚みを測定した。
次いで、光の照射量と、硬化層の厚さとの関係をプロットして感度曲線を得た。こうして得た感度曲線から硬化領域の厚さが露光前と同じ厚みとなった時の光エネルギー量を、感光層を硬化させるために必要な光エネルギー量とした。このようにして求めた前記感光層を硬化させるために必要な光エネルギー量（感度）を表１に示す。
なお、前記パターン形成装置は、前記ＤＭＤからなる光変調手段を有している。
【０１８２】
＜解像度＞
上記と同様の方法により前記感光性積層体を作成し、室温（２３℃、５５％ＲＨ）にて１０分間静置した。得られた前記感光性積層体のポリエチレンテレフタレートフィルム（支持体）上から、前記パターン形成装置を用いて、ライン／スペース＝１／１でライン幅５μｍ〜５０μｍまで１μｍ刻みで各線幅の露光を行った。この際の露光量は、前記感度の測定で求めた前記パターン形成材料の感光層を硬化させるために必要な光エネルギー量である。室温にて１０分間静置した後、前記感光性積層体からポリエチレンテレフタレートフィルム（支持体）を剥がし取った。銅張積層板上の感光層の全面に、前記現像液として炭酸ナトリウム水溶液（３０℃、１質量％）をスプレー圧０．１５ＭＰａにて前記の方法により求めた最短現像時間の２倍の時間スプレーし、未硬化領域を溶解除去した。この様にして得られた硬化樹脂パターン付き銅張積層板の表面を光学顕微鏡で観察し、硬化樹脂パターンのラインにツマリ、ヨレ等の異常のない最小のライン幅を測定し、これを解像度とした。該解像度は数値が小さいほど良好である。
【０１８３】
＜密着性＞
前記パターン形成装置を用いてライン／スペース＝１／５、ライン幅１０〜１００μｍのパターンを露光し、前記最短現像時間の６倍の時間スプレーした以外は、前記解像度の評価方法と同じ操作を行い、硬化樹脂パターンのラインに剥がれやヨレ等の異常のない最小のライン幅を測定し、これを密着していると評価した。したがって、数値が小さいほど密着性が良好である。
【０１８４】
＜保存安定性＞
−経時発色−
調製した感光性組成物溶液を、４０℃、相対湿度７０％の条件下で７日間放置した際の、ロイコクリスタルバイオレットによる経時発色性（経時かぶり）を、目視にて下記基準で評価した。
○・・・発色が全くない
△・・・発色が若干認められる
×・・・発色が顕著である
【０１８５】
−結晶析出の有無−
調製した感光性組成物溶液を、０℃の条件下で７日間放置した際の、光重合開始剤の結晶析出の有無を、目視にて下記基準で評価した。
○・・・結晶の析出が全く無い
△・・・結晶の析出が若干認められる
×・・・結晶の析出が顕著に認められる
【０１８６】
−感度の経時安定性−
前記結晶析出の有無を観察した感光性組成物溶液により、前記パターン形成材料の製造及び感光性積層体の調製を行い、上記方法により感度を測定した。
【０１８７】
−エッジフュージョン−
前記パターン形成材料をワインダーで巻き取り、パターン形成材料原反ロールを製造した。
得られた前記パターン形成材料原反ロールを同軸スリッターにてスリットして、長さ３００ｍｍ、内径７６ｍｍのＡＢＳ樹脂製円筒状巻き芯に、２５０ｍｍ幅で２００ｍ巻き取り、感光性パターン形成材料ロールを作製した。
こうして得られた前記パターン形成材料ロールを、黒色ポリエチレン製の筒状袋（膜厚：８０μｍ、水蒸気透過率：２５ｇ／ｍ２・２４ｈｒ以下）に包み、ポリプロピレン製ブッシュを巻き芯の両端に押し込んだ。
前記ブッシュで両端を塞いだロール状のサンプルを２５℃、５５％ＲＨで３０日間保存後、端面融着の有無を観察し、下記基準で評価を行なった。
〔評価基準〕
○：端面融着が確認されず、良好に使用できる状態
△：端面の一部に光沢があり、若干量の端面融着が起きている状態（使用限界）
×：端面全面に光沢があり、端面融着が多量に発生している状態
【０１８８】
＜現像残渣の有無＞
前記感光性積層体を露光前の状態で、暗所にて（遮光して）１４日経過後に、前記パターン形成装置を用い、前記解像度の評価におけるのと同様な方法により露光及び現像し、作製したものを用いて、該積層体における露出した銅張積層板の表面に、塩化鉄エッチャント（塩化第二鉄含有エッチング溶液、４０°ボーメ、液温４０℃）を０．２５ＭＰａで、３６秒スプレーして、硬化層で覆われていない露出した領域の銅層を溶解除去することによりエッチング処理を行った。
前記エッチング処理後における、未露光部の非画素部の銅残り（現像残渣）を、目視にて以下の評価基準により評価した。
−評価基準−
○・・・銅残りなし
△・・・若干銅残りがあるが使用に支障はない
×・・・銅残りあり
【０１８９】
＜テント性＞
前記感光性積層体における銅張積層板を、直径４ｍｍのスルーホールを２００個有する銅張積層板に代えた以外は、前記感光性積層体と同様にしてテント性評価用の感光性積層体を調製し、室温（２３℃、相対湿度５５％）の条件下で１０分間放置した。
次に、前記調製した感光性積層体のポリエチレンテレフタレートフィルム（支持体）上から、前記パターン形成装置を用いて、該感光性積層体における感光層の全面に露光を行った。
この際の露光量は、前記パターン形成材料の感光層を硬化させるために必要な光エネルギー量である。室温にて１０分間静置した後、前記感光性積層体からポリエチレンテレフタレートフィルム（支持体）を剥がし取った。前記銅張積層板上の前記感光層の全面に、前記現像液として炭酸ナトリウム水溶液（３０℃、１質量％）をスプレー圧０．１５ＭＰａにて前記最短現像時間の２倍の時間スプレーした。
この様にして得られた前記銅張積層板におけるスルーホール開口部上に形成された硬化層（テント膜）の剥がれや破れ等の欠陥の有無を顕微鏡で観察し、欠陥の発生率をカウントした。
【０１９０】
（実施例２）
実施例１において、２，２’，５−トリス−（ｏ−クロロフェニル）−４−（３，４−ジメトキシフェニル）−４’，５’−ジフェニル−ビイミダゾールを、２，２’，４，４−テトラ−（ｏ−クロロフェニル）−５，５’−（３，４−ジメトキシフェニル）−ビイミダゾール２．２質量部に代えた以外は、実施例１と同様にして、感度、解像度、密着性、保存安定性、現像残渣の有無、及びテント性を評価した。結果を表１に示す。
【０１９１】
（実施例３）
実施例１において、２，２’，５−トリス−（ｏ−クロロフェニル）−４−（３，４−ジメトキシフェニル）−４’，５’−ジフェニル−ビイミダゾールを、２，２’−ビス−（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ−（ｍ−メトキシフェニル）−１，２−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−エトキシフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，１’−ビイミダゾール２．６質量部に代えた以外は、実施例１と同様にして、感度、解像度、密着性、保存安定性、現像残渣の有無、及びテント性を評価した。結果を表１に示す。
【０１９２】
（実施例４）
実施例１において、２，２’，５−トリス−（ｏ−クロロフェニル）−４−（３，４−ジメトキシフェニル）−４’，５’−ジフェニル−ビイミダゾールを、２，２’，５−トリス−（ｏ−クロロフェニル）−４−（３，４−ジエトキシフェニル）−４’，５’−ジフェニル−ビイミダゾール３質量部に代えた以外は、実施例１と同様にして、感度、解像度、密着性、保存安定性、現像残渣の有無、及びテント性を評価した。結果を表１に示す。
【０１９３】
（実施例５）
実施例１において、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／ベンジルメタクリレート共重合体を、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／２−エチルヘキシルメタクリレート共重合体（共重合体組成（質量比）：２５／１５／４０／２０、質量平均分子量：１３０，０００、Ｔｇ：９３℃）に代えた以外は、実施例１と同様にして、感度、解像度、密着性、保存安定性、現像残渣の有無、及びテント性を評価した。結果を表１に示す。
なお、前記メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／２−エチルヘキシルメタクリレート共重合体（共重合体組成（質量比）：２５／１５／４０／２０）のＩ／Ｏ値は、上述のように算出すると０．５２０であった。
【０１９４】
（実施例６）
実施例１において、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／ベンジルメタクリレート共重合体を、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン共重合体（共重合体組成（質量比）：２５／２９／４６、質量平均分子量：４３，０００、Ｔｇ：１２７℃）に代えた以外は、実施例１と同様にして、感度、解像度、密着性、保存安定性、現像残渣の有無、及びテント性を評価した。結果を表１に示す。
なお、前記メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン共重合体（共重合体組成（質量比）：２５／２９／４６）のＩ／Ｏ値は、上述のように算出すると０．５５０であった。
【０１９５】
（実施例７）
実施例１において、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／ベンジルメタクリレート共重合体を、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン共重合体（共重合体組成（質量比）：２０／５６／２４、質量平均分子量：７５，０００、Ｔｇ：１２３℃）に代えた以外は、実施例１と同様にして、感度、解像度、密着性、保存安定性、現像残渣の有無、及びテント性を評価した。結果を表１に示す。
なお、前記メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン共重合体（共重合体組成（質量比）：２０／５６／２４）のＩ／Ｏ値は、上述のように算出すると０．６４５であった。
【０１９６】
（実施例８）
実施例１において、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／ベンジルメタクリレート共重合体を、メタクリル酸／スチレン共重合体（共重合体組成（質量比）：２８／７２、質量平均分子量：５３，１００、Ｔｇ：１２９℃）に代えた以外は、実施例１と同様にして、感度、解像度、密着性、保存安定性、現像残渣の有無、及びテント性を評価した。結果を表１に示す。
なお、前記メタクリル酸／スチレン共重合体（共重合体組成（質量比）：２８／７２）のＩ／Ｏ値は、上述のように算出すると０．４３３であった。
【０１９７】
（実施例９）
実施例１において、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／ベンジルメタクリレート共重合体を、メタクリル酸／スチレン共重合体（共重合体組成（質量比）：２０／８０、質量平均分子量：４３，７００、Ｔｇ：１２０℃）に代えた以外は、実施例１と同様にして、感度、解像度、密着性、保存安定性、現像残渣の有無、及びテント性を評価した。結果を表１に示す。
なお、前記メタクリル酸／スチレン共重合体（共重合体組成（質量比）：２０／８０）のＩ／Ｏ値は、上述のように算出すると０．３２８であった。
【０１９８】
（実施例１０）
実施例１において、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／ベンジルメタクリレート共重合体を、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／２−エチルヘキシルメタクリレート共重合体（共重合体組成（質量比）：２５／２２／４０／１３、質量平均分子量：５５，０００、Ｔｇ：１０５℃）に代えた以外は、実施例１と同様にして、感度、解像度、密着性、保存安定性、現像残渣の有無、及びテント性を評価した。結果を表１に示す。
なお、前記メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／２−エチルヘキシルメタクリレート共重合体（共重合体組成（質量比）：２５／２２／４０／１３）のＩ／Ｏ値は、上述のように算出すると０．５４３であった。
【０１９９】
（実施例１１）
実施例１において、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／ベンジルメタクリレート共重合体を、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン共重合体（共重合体組成（質量比）：２９／１９／５２、質量平均分子量：４９，９００、Ｔｇ：１３１℃）に代えた以外は、実施例１と同様にして、感度、解像度、密着性、保存安定性、現像残渣の有無、及びテント性を評価した。結果を表１に示す。
なお、前記メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン共重合体（共重合体組成（質量比）：２９／１９／５２）のＩ／Ｏ値は、上述のように算出すると０．５５２であった。
【０２００】
（実施例１２）
実施例１において、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／ベンジルメタクリレート共重合体を、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン共重合体（共重合体組成（質量比）：２９／３１／４０、質量平均分子量：６０，５００、Ｔｇ：１３２℃）に代えた以外は、実施例１と同様にして、感度、解像度、密着性、保存安定性、現像残渣の有無、及びテント性を評価した。結果を表１に示す。
なお、前記メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン共重合体（共重合体組成（質量比）：２９／３１／４０）のＩ／Ｏ値は、上述のように算出すると０．６２７であった。
【０２０１】
（実施例１３）
実施例１において、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／ベンジルメタクリレート共重合体を、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン共重合体（共重合体組成（質量比）：２５／４１／３４、質量平均分子量：５８，５００、Ｔｇ：１２８℃）に代えた以外は、実施例１と同様にして、感度、解像度、密着性、保存安定性、現像残渣の有無、及びテント性を評価した。結果を表１に示す。
なお、前記メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン共重合体（共重合体組成（質量比）：２５／４１／３４）のＩ／Ｏ値は、上述のように算出すると０．６２７であった。
【０２０２】
（実施例１４）
実施例１において、トルエンスルホンアミドを添加しなかった以外は、実施例１と同様にして、感度、解像度、密着性、保存安定性、現像残渣の有無、及びテント性を評価した。結果を表１に示す。
【０２０３】
（実施例１５）
実施例１において、カルボキシベンゾトリアゾールを添加しなかった以外は、実施例１と同様にして、感度、解像度、密着性、保存安定性、現像残渣の有無、及びテント性を評価した。結果を表１に示す。
【０２０４】
（実施例１６）
実施例１において、トルエンスルホンアミド及びカルボキシベンゾトリアゾールを添加しなかった以外は、実施例１と同様にして、感度、解像度、密着性、保存安定性、現像残渣の有無、及びテント性を評価した。結果を表１に示す。
【０２０５】
（比較例１）
実施例１において、２，２’，５−トリス−（ｏ−クロロフェニル）−４−（３，４−ジメトキシフェニル）−４’，５’−ジフェニル−ビイミダゾールを、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール２．２質量部に代えた以外は、実施例１と同様にして、感度、解像度、密着性、保存安定性、現像残渣の有無、及びテント性を評価した。結果を表１に示す。
【０２０６】
（比較例２）
実施例１において、メタクリル酸／メチルメタクリレート／スチレン／ベンジルメタクリレート共重合体を、ｎ−ブチルアクリレート／エチルアクリレート／メチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（共重合体組成（質量比）：２０／１３／４２／２５、質量平均分子量：５０，０００）に代えた以外は、実施例１と同様にして、感度、解像度、密着性、保存安定性、現像残渣の有無、及びテント性を評価した。結果を表１に示す。
なお、前記ｎ−ブチルアクリレート／エチルアクリレート／メチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（共重合体組成（質量比）：２０／１３／４２／２５）のＩ／Ｏ値は、上述のように算出すると０．６５０超であった。
【０２０７】
【表１】
2008058636.tif 000005
表１の結果から、バインダーが、Ｉ／Ｏ値が０．３００〜０．６５０のポリマーを含み、前記光重合開始剤が、親水性基を有するヘキサアリールビイミダゾール化合物を含む実施例１〜１６では、感度、解像度、密着性、保存安定性、及びテント性が良好であり、現像残渣が少ないことが判った。特に、メトキシ基を有するヘキサアリールベンゾイミダゾール化合物を用いた実施例１〜３及び実施例５〜１６では、高感度であることが判った。また、トルエンスルホンアミド及びカルボキシベンゾトリアゾールを含む実施例１〜１３では、現像残渣がなく、かつテント性に優れることが判った。
【産業上の利用可能性】
【０２０８】
本発明のパターン形成材料は高感度及び高解像度で、密着性及び感度の経時安定性に優れ、現像残渣が少なく、配線パターン等のパターンを高精細に形成可能であるため、各種パターンの形成、カラーフィルタ、柱材、リブ材、スペーサー、隔壁等の液晶構造部材の製造、ホログラム、マイクロマシン、プルーフの製造などに好適に用いることができる。
本発明のパターン形成装置及びパターン形成方法は、本発明の前記パターン形成材料を用いているため、各種パターンの形成、カラーフィルタ、柱材、リブ材、スペーサー、隔壁等の液晶構造部材の製造、ホログラム、マイクロマシン、プルーフの製造などに好適に用いることができる。