(57)【要約】  【課題】迅速に、しかも完全にウエハーの洗浄を行えるようにする。  【解決手段】嵌合穴３を有するめっき槽１の底部１ａと、上下動により該嵌合穴３に着脱されるウエハーホルダー１０とを備えた、電気めっき装置によりめっき処理されたウエハーホルダー１０上のウエハーｗｆを洗浄する洗浄装置であって、前記底部１ａと洗浄位置Ｓまで下降した前記ウエハーホルダー１０との間に出し入れされるノズル部材２１を備え、該ノズル部材２１は、洗浄時、前記ウエハーホルダー１０に載置されているウエハーｗｆに対して垂直方向に洗浄液ｗを噴射するノズル３０を有し、前記ノズル部材２１には、前記底部嵌合穴から落下するめっき液滴を受ける液だれ防止堰３４が設けられている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
底部に嵌合穴を有するめっき槽と、上下動により前記嵌合穴に着脱されるウエハーホルダーとを備えた、電気めっき装置によりめっきされたウエハーホルダー上のウエハーを洗浄する洗浄装置であって、
前記底部と洗浄位置まで下降した前記ウエハーホルダーとの間に出し入れされるノズル部材を備え、
該ノズル部材は、洗浄時、前記ウエハーホルダーに載置されているウエハーに対して垂直方向に洗浄液を噴射するノズルを有し、
前記ノズル部材には、前記底部嵌合穴から落下するめっき液滴を受ける液だれ防止堰が設けられていることを特徴するウエハー洗浄装置。
【請求項２】
ノズル部材は、複数のノズルを備えた水平管部であり、該水平管部はアームにより支持されていることを特徴とする請求項１記載のウエハー洗浄装置。
【請求項３】
前記アームの上部に前記水平管部が固定され、その基端部はアクチュエータの回転軸に固定されていることを特徴とする請求項２記載のウエハー洗浄装置。
【請求項４】
前記アームが、飛散防止カバーを備えていることを特徴とする請求項２、又は、３記載のウエハー洗浄装置。
【請求項５】
ウエハーを載置したウエハーホルダーを、めっき槽の底部嵌合穴に挿着してめっき処理した後、該めっき槽のめっき液を排出させ、その後、該ウエハーホルダーを下降させて該ウエハーホルダ−上のウエハーを洗浄する方法であって；
前記ウエハーホルダーを洗浄位置まで下降させる行程と；
前記ウエハーホルダーと前記めっき槽の底部との間に、ノズルと液だれ防止堰とを有するノズル部材を挿入し、前記嵌合穴から落下するめっき液滴を液だれ防止堰で受け止めながら、前記ウエハーホルダー上のウエハーに対して垂直方向に洗浄液を噴射させる行程と；
を備えていることを特徴とするウエハー洗浄方法。
【請求項６】
前記ノズル部材が、ノズルと液だれ防止堰が固定されているアームの回動、又は、水平方向の摺動により、前記ウエハーホルダーと前記めっき槽の底部との間に出し入れされることを特徴とする請求項５記載のウエハー洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、電子部品，ＩＣ、薄膜磁気ヘッド等に用いられる、めっき処理されたウエハーの洗浄方法及びその装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ウエハーのめっき面には、薄膜が付けられているが、この薄膜は電気めっき装置により成膜されている。このめっき装置では、めっき槽の底部に嵌合穴を設け、該嵌合穴にウエハーを載置したウエハーホルダーを挿着してめっき処理をしている。
【０００３】
そして、めっき処理後には、ウエハーホルダーを所定位置まで下降させ、ロボット又は作業員が、該ウエハーホルダー上のウエハーを洗浄場に搬送するとともに、該ウエハーにノズルを向けて洗浄水をかけ、めっき液を洗い落としている。
【０００４】
ウエハーにめっき液が付着していると、ウエハーが酸化してしまい、製品性能を低下させてしまうので、前記ウエハーの洗浄は、半導体製品製作上極めて重要な工程である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
従来例には、次の様な問題がある。
（１）作業員がめっき処理済みウエハーを洗浄場まで搬送しているので、洗浄開始までに時間がかかる。そのため、該ウエハーの搬送中に、付着しているめっき液によりウエハーが酸化することがある。
【０００６】
（２）完全にめっき液を洗い落とすことができない。特に、めっきパターンの微細化やめっき多層化に伴い、完全に洗い落とすことは、増々困難となっている。
（３）めっき槽のめっき液を抜いても、完全にめっき液が排出されず、少し残っている。この残っているめっき液が、嵌合穴から液滴となって落下し、ウエハーホルダーや床面に飛散し、ウエハーや床面を汚してしまうことがある。
【０００７】
この発明は、上記事情に鑑み、迅速に、しかも完全にウエハーの洗浄を行えるようにすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
この発明は、底部に嵌合穴を有するめっき槽と、上下動により前記嵌合穴に着脱されるウエハーホルダーとを備えた、電気めっき装置によりめっきされたウエハーホルダー上のウエハーを洗浄する洗浄装置であって、
前記底部と洗浄位置まで下降した前記ウエハーホルダーとの間に出し入れされるノズル部材を備え、該ノズル部材は、洗浄時、前記ウエハーホルダーに載置されているウエハーに対して垂直方向に洗浄液を噴射するノズルを有し、  前記ノズルには、前記底部嵌合穴から落下するめっき液滴を受ける液だれ防止堰が設けられていることを特徴する。
【０００９】
この発明のノズル部材は、複数のノズルを備えた水平管部であり、該水平管部はアームにより支持されていることを特徴とする。この発明の前記アームの上部に前記水平管部が固定され、その基端部はアクチュエータの回転軸に固定されていることを特徴とする。この発明の前記アームが、飛散防止カバーを備えていることを特徴とする。
【００１０】
この発明は、ウエハーを載置したウエハーホルダーを、めっき槽の底部嵌合穴に挿着してめっき処理した後、該めっき槽のめっき液を排出させ、その後、該ウエハーホルダーを下降させて該ウエハーホルダ−上のウエハーを洗浄する方法であって；
前記ウエハーホルダーを洗浄位置まで下降させる行程と；  前記ウエハーホルダーと前記めっき槽の底部との間に、ノズルと液だれ防止堰とを有するノズル部材を挿入し、前記嵌合穴から落下するめっき液滴を液だれ防止堰で受け止めながら、前記ウエハーホルダー上のウエハーに対して垂直方向に洗浄液を噴射させる行程と；  を備えていることを特徴とする。
【００１１】
この発明の前記ノズル部材が、ノズルと液だれ防止堰が固定されているアームの回動、又は、水平方向の摺動により、前記ウエハーホルダーと前記めっき槽の底部との間に出し入れされることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
この発明は、ウエハーホルダーを洗浄位置まで下降させ、前記ウエハーホルダーと前記めっき槽の底部との間に、ノズルと液だれ防止堰とを有するノズル部材を挿入し、前記嵌合穴から落下するめっき液敵を液だれ防止堰で受け止めながら、前記ウエハーホルダー上のウエハーに対して垂直方向に洗浄液を噴射させるので、ウエハーホルダーが洗浄位置に下降すると同時位にノズル部材をスプレー位置に配設し、ウエハーの洗浄を開始することができる。そのため、従来と異なり、ウエハーを洗浄場に搬送する必要ないので、早期にウエハーの洗浄を開始することができるため、ウエハーの酸化を防止することがきる。
【００１３】
又、洗浄液は、ウエハーのめっき面に対して垂直方向に噴出されるので、斜め方向に噴射されるのに較べ、効率良くめっき液が流れ落ちる。従って、従来に較べ、洗浄効果を向上させることができる。
【００１４】
更に、嵌合穴から落下するめっき液は、液だれ防止堰により受け止められるので、洗浄中のウエハーに接触することはない。従って、めっき液の液だれによるウエハーの酸化を防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
この発明の第１実施の形態を図１〜図３により説明する。
電気めっき装置は、めっき槽１と、該めっき槽１の下方に設けられたウエハーホルダー１０と、該ウエハーホルダー１０の近傍に起伏自在に設けられたウエハー洗浄装置２０と、を備えている。
【００１６】
めっき槽１の底部１ａ中央には、嵌合穴３が設けられている。該ウエハーホルダー１０は前記嵌合穴３に対向して設けられ、昇降シリンダ１２を介して囲い枠７底面に固定されている。
【００１７】
ウエハー洗浄装置２０は、ノズル部材２１を備えており、該ノズル部材２１である水平管部２１ａは、アーム２２の上部に固定されている。前記水平管部２１ａは、垂直管部２１ｂに連結され、該垂直管部２１ｂはホース２１ｃに連結されている。なお、ホース２１ｃは、制御装置により制御されるポンプ（図示省略）を介して貯水槽に連結されている。
【００１８】
前記水平管部２１ａの下面側には、ノズル３０が設けられている。このノズル３０は、所定間隔をおいて複数個設設けられ、洗浄時には、ウエハーホルダー１０上のウエハーｗｆに対して垂直方向に洗浄液ｗを噴射するように配設されている。
【００１９】
なお、本件発明者は、ノズルの噴射角度を変えて洗浄効果の実験を行ったところ、斜め方向、例えば、ウエハーのめっき面に対して４５度、に噴射するよりも垂直方向（直角方向）に噴射する方が洗浄力が強く、効率良く洗浄できることがわかった。そこで、本実施の形態では、ノズルの噴射方向を前記のように設定している。
【００２０】
アーム２２の自由端側には、ノズル部材２１の上下動位置調整機構（図示省略）が設けられており、この機構を作動させることによりノズル３０の高さ位置を調整することができる。前記アーム２２には、飛散防止カバー３１が設けられ、このカバー３１により前記ノズル３０から噴出される洗浄液ｗの飛散を防止することができる。
【００２１】
アーム２２の基端部には、アクチュエータ３２の回転軸３２ａが固定されている。該アクチュエータ３２の駆動によりアーム２２が回動し、ウエハー洗浄装置２０がスプレー位置２１Ａになったり、又は、待避位置２１Ｂになったりする。なお、前記アクチュエータ３２は、防水のためにボックス３６に収納されている。
【００２２】
ノズル部材２１の水平管部２１ａの上部には、液だれ防止堰３４が設けられているが、この液だれ防止堰３４は、前記嵌合穴３の面積よりも充分大きく形成されており、その周縁部には立壁３４ａが設けられている。
【００２３】
次に、本実施の形態の作動について説明する。
ウエハーホルダー１０に載置されているウエハーｗのめっきが完了すると、めっき槽１内のめっき液を排液口４０から排出させてめっき槽１を空にする。
【００２４】
前記めっき槽１内が空になると、図示しない制御装置が昇降シリンダ１２を作動させてウエハーホルダー１０を洗浄位置Ｓまで降下させる。この洗浄位置Ｓは、アーム２２の長さやノズル部材２１のノズル３０等を考慮して適宜の位置が選定される。
【００２５】
ウエハーホルダー１０が洗浄位置Ｓに到達すると、前記制御装置は、アクチュエータ３２を駆動させ、回転軸３２ａを所定方向に回転させて待避位置２１Ｂにいるノズル部材２１をスプレー位置２１Ａにする。
この状態では、ウエハーホルダー１０上のウエハーｗｆとノズル３０との間隔は、３０mm〜６０mmに設定されるが、この間隔は、必要に応じて適宜選択される。
前記ノズル部材２１がスプレー位置２１Ａに到達すると、前記制御装置は、ポンプを駆動させて洗浄液、例えば、純水ｗ、をホース２１ｃに供給するので、該純水ｗは、垂直管部２１ｂ、水平管部２１ａを通って前記ノズル部材２１の各ノズル３０からウエハーホルダー１０上のウエハーｗｆに向かって噴射される。
この時、ノズル３０は、ウエハーｗｆのめっき面に対して垂直方向に純水ｗを噴射するので、該ウエハーｗｆに付着しているめっき液Mは、強い洗浄力を受け、完全に流れ落ちる。
【００２６】
めっき槽１の底部嵌合穴３から液滴となって落下するめっき液Mは、液だれ防止堰３４により受け止められるので、洗浄中、ウエハーｗｆに接触することはない。又、洗浄中に飛散する純水ｗは、飛散防止カバー３１により衝突して進行方向を規制される。
【００２７】
所定時間、前記ノズル３０から純水ｗが噴出すると、前記制御装置は、ポンプの駆動を停止させて該ノズル３０への給水を停止すると共に、アクチュエータ３２を駆動させてアーム２２を回転させ、ノズル部材２１を元の待避位置２１Ｂに戻す。
【００２８】
この発明の実施の形態は、上記に限定されるものではなく、例えば、アームを回転させてノズル部材を待避位置にしたり、又は、スプレー位置にする代わりに、アームを摺動可能に立設し、該アームの上部にノズル部材を固定し、該アームを水平方向に摺動させることにより、前記ノズル部材を待避位置、又は、スプレー位置にしても良い。要するに、ノズル部材を待避位置にしたり、又は、スプレー位置にできるノズル部材の支持構造であれば、前記実施の形態に限らず、採用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】本件発明の実施の形態を示す正面図である。
【図２】図１のII―II線平面図である。
【図３】図１のIII―III線側面図である。
【符号の説明】
【００３０】
１    めっき槽
１ａ  底部
３    嵌合穴
１０  ウエハーホルダー
２０  ウエハー洗浄装置
３０  ノズル
３４  液だれ防止堰
【図１】
2008060500.tif 000003
【図２】
2008060500.tif 000004
【図３】
2008060500.tif 000005