(57)【要約】【課題】  冬季の室内から屋外への熱流出を抑制する断熱性を有するとともに、夏季の日射エネルギーの室内への流入を抑制する遮熱性に優れ、かつ可視光透過率が高く採光性および視認性に優れた複層ガラスの提供を課題とする。【解決手段】  ２枚の板ガラスを所定の間隔で対向隔置されている複層ガラスにおいて、第１Ａｇ膜、第２金属酸化物膜、第２Ａｇ膜、第３金属酸化物膜が順次積層されてなる低抵抗膜が中空層側に配せられ、第１金属酸化物膜、第２金属酸化物膜、第３金属酸化物膜はＺｎＯ膜を主とする金属酸化物膜でなる。ＺｎＯ膜の（００２）結晶面による回折ピークの回折角度が３３．９°以下で、板ガラスは３ｍｍ以上の厚みを有し、２枚の板ガラスの厚みの合計ｔ１に対し、複層ガラスの可視光透過率が（７０．０−０．３×ｔ１）％以上であり、日射熱取得率が０．３８以下である。  【選択図】  図１
2008222507.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２枚の板ガラスが所定の間隔で対向隔置され、該２枚の板ガラスの周縁部に該所定の間隔を保持するようにスペーサーが配設され、該２枚の板ガラスの間に密封された中空層が形成され、1枚の板ガラスに低抵抗膜が形成されている複層ガラスにおいて、低抵抗膜が中空層側に配せられ、該低抵抗膜は第１金属酸化物膜、第１Ａｇ膜、第２金属酸化物膜、第２Ａｇ膜、第３金属酸化物膜が順次積層されてなる積層膜であり、第１金属酸化物膜、第２金属酸化物膜、第３金属酸化物膜はＺｎＯ膜を主とする金属酸化物膜でなり、該ＺｎＯ膜はＣｕＫα線を用いたＸ線回折法による、該ＺｎＯ膜の（００２）結晶面による回折ピークの回折角度２θが３３．９°以下であり、複層ガラスの２枚の板ガラスは共に３ｍｍ以上の厚みを有し、２枚の板ガラスの厚みの合計ｔ１(ｍｍ)に対し、該複層ガラスのＪＩＳＲ３１０６：１９９８に準拠した可視光透過率が（７０．０−０．３×ｔ１）％以上であり、該複層ガラスのＪＩＳＲ３１０６：１９９８に準拠した日射熱取得率が０．３８以下であることを特徴とする複層ガラス。
【請求項２】
積層膜が、第１Ａｇ膜の厚みと第２Ａｇ膜の厚みとの合計をｔ２（ｎｍ）とし、低抵抗膜の表面抵抗が（３．４−０．０４×ｔ２）Ω／□以下であることを特徴とする請求項１に記載の複層ガラス。
【請求項３】
第１金属酸化物膜の光学厚みが５７ｎｍ〜７７ｎｍの範囲にあり、第１Ａｇ膜の厚みが１２ｎｍ〜１６ｎｍの範囲にあり、第２金属酸化物膜の光学厚みが１６０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲にあり、第２Ａｇ膜の厚みが１２ｎｍ〜１６ｎｍの範囲にあり、第３金属酸化物膜の光学厚みが６２ｎｍ〜８２ｎｍの範囲にあることを特徴とする請求項１または２のいずれかに記載の複層ガラス。
【請求項４】
低抵抗膜が形成されている板ガラスの、ガラス面の反射色が、ＣＩＥＬ＊ａ＊ｂ＊色度座標図において、−２０≦ａ＊≦−５、−１０≦ｂ＊≦５、であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の複層ガラス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、建築物や車両などの窓に用いられる複層ガラスに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、住宅やビル等の建築物の窓ガラスには、夏季には日射エネルギーの室外から室内への流入を抑制し、冬季には室内から室外への熱流出を抑制する省エネルギー窓材として、２枚の透明ガラスをスペーサーを介して合わせ、２枚の透明ガラスの間に断熱空気層を形成した複層ガラスが用いられるようになった。
【０００３】
また、住宅やビル等の建築物の窓ガラスは、居住性、室外の視認性の向上を目的として大面積化しており、それに伴い、夏季には、日射エネルギーの室内への流入が増大して、冷房負荷の増加となっている。
【０００４】
そこで、夏季の日射エネルギーの室内への流入を抑制し、冷房負荷を軽減させるため、複層ガラスの室内側ガラスに、赤外線反射膜を形成した低放射ガラスが多く用いられるようになった。
【０００５】
赤外線反射膜として、ＺｎＯ膜とＡｇ膜とを交互に積層した積層膜が知られている。
【０００６】
特許文献１には、ＺｎＯ膜と厚みが１１０Å以下のＡｇ膜とを交互に積層する赤外線反射膜が開示され、Ａｇ膜が１層の場合と２層の場合の実施例で、可視光透過率が８０％、太陽エネルギーの透過率が４４％以上の低放射ガラスが記載されている。
【０００７】
特許文献２には、ガラスにＺｎＯ膜、Ａｇ膜、ＺｎＯ膜と順次積層し、その上にアモルファス層（ＳｉＮＸ）を積層して、耐久性を向上させたものが開示されている。また、可視光透過率が７８〜８３％の実施例が記載されている。また、特許文献３には、可視光透過率が７１．２〜８０．０％、日射透過率が３０．４〜４５．６％の、ＺｎＯ膜とＡｇ膜を交互に５層積層する積層膜が記載されている。
【０００８】
さらに、特許文献４には、Ａｇ膜１層用いた遮熱膜と反射防止膜を用いて、可視光透過率が４９〜５１％、日射透過率が３０〜３２％の複層ガラスが記載されている。
【０００９】
ＺｎＯ膜とＡｇ膜とを交互に積層する赤外線反射膜は、Ａｇ膜の抵抗値が小さいほど赤外線の反射率が大きくなり、従って、赤外線反射率を大きくして遮蔽性能を高めるためには、Ａｇ膜を厚くしてその抵抗を低くすればよいが、Ａｇ膜を厚くすると、可視光透過率が小さくなって、窓の採光性能が悪くなってしまう。
【００１０】
Ａｇ膜の抵抗に関しては、特許文献５に、ＺｎＯ膜とＡｇ膜を交互に積層する積層膜で、厚み１２ｎｍのＡｇ膜を４層積層させ、４．２Ω／□の低抵抗膜が得られることが記載されている。さらに、特許文献６には、Ａｇ膜をマグネトロンスパッタリング法で成膜する時の、放電電圧とＡｇターゲット表面の磁界の強さとを調整して、Ａｇ膜が１層の場合、Ａｇ膜の厚みｔ１が５〜３０ｎｍの範囲で、積層膜の比抵抗が（３５．８／ｔ１＋２．３）×１０―６Ωｃｍ以下の赤外線反射積層膜、および、Ａｇ膜が２層の場合、Ａｇ膜の総厚みｔ２が１５〜３５ｎｍの範囲で、積層膜の比抵抗が（１６８．６／ｔ２＋１．３）×１０―６Ωｃｍ以下である赤外線反射積層膜が記載されている。
【００１１】
高い可視光透過性を得るためには、金属膜であるＡｇ膜の膜厚を薄くすることが有効であるが、Ａｇ膜の膜厚を薄くすると、赤外線反射率が低下し、赤外線反射率の低下に伴い、日射反射率が低下し、日射エネルギーの室内への流入が増加することで、遮熱性が低下してしまう。
【００１２】
従って、Ａｇ膜の膜厚は、可視光透過率と日射反射率との兼ね合いで決定される。
【００１３】
さらに、ＺｎＯ膜とＡｇ膜とを交互の積層する赤外線反射膜に関して、耐久性が向上するものとして、特許文献７には、ＺｎＯ膜の結晶性に関するＸ線回折の記載が、また、特許文献８には、Ａｇの結晶性に関するＸ線回折の記載がなされている。
【特許文献１】特開昭６３−１３４２３２号公報
【特許文献２】特開２００２−１７３３４３号公報
【特許文献３】特開２００４−５８５９２号公報
【特許文献４】特開２００６−１４３５２５号公報
【特許文献５】特開昭６３−２３９０４４号公報
【特許文献６】特開２００６−２０６４２４号公報
【特許文献７】特開平４−３５７０２５号公報
【特許文献８】特開平５−２４１４９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
本発明は、高い可視光透過率を有し、かつ日射エネルギーの室内への流入が小さい高い遮熱性を有する複層ガラスの提供を課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明の複層ガラスは、２枚の板ガラスが所定の間隔で対向隔置され、該２枚の板ガラスの周縁部に該所定の間隔を保持するようにスペーサーが配設され、該２枚の板ガラスの間に密封された中空層が形成され、1枚の板ガラスに低抵抗膜が形成されている複層ガラスにおいて、低抵抗膜が中空層側に配せられ、該低抵抗膜は第１金属酸化物膜、第１Ａｇ膜、第２金属酸化物膜、第２Ａｇ膜、第３金属酸化物膜が順次積層されてなる積層膜であり、第１金属酸化物膜、第２金属酸化物膜、第３金属酸化物膜はＺｎＯ膜を主とする金属酸化物膜でなり、該ＺｎＯ膜はＣｕＫα線を用いたＸ線回折法による、該ＺｎＯ膜の（００２）結晶面による回折ピークの回折角度２θが３３．９°以下であり、複層ガラスの２枚の板ガラスは共に３ｍｍ以上の厚みを有し、２枚の板ガラスの厚みの合計ｔ１(ｍｍ)に対し、該複層ガラスのＪＩＳＲ３１０６：１９９８に準拠した可視光透過率が（７０．０−０．３×ｔ１）％以上であり、該複層ガラスのＪＩＳＲ３１０６：１９９８に準拠した日射熱取得率が０．３８以下であることを特徴とする複層ガラスである。
【００１６】
また、本名発明の複層ガラスは、前記複層ガラスにおいて、積層膜が、第１Ａｇ膜の厚みと第２Ａｇ膜の厚みとの合計をｔ２(ｎｍ)とし、低抵抗膜の表面抵抗が（３．４−０．０４×ｔ２）Ω／□以下であることを特徴とする複層ガラスである。
【００１７】
また、本名発明の複層ガラスは、前記複層ガラスにおいて、第１金属酸化物膜の光学厚みが５７ｎｍ〜７７ｎｍの範囲にあり、第１Ａｇ膜の厚みが１２ｎｍ〜１６ｎｍの範囲にあり、第２金属酸化物膜の光学厚みが１６０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲にあり、第２Ａｇ膜の厚みが１２ｎｍ〜１６ｎｍの範囲にあり、第３金属酸化物膜の光学厚みが６２ｎｍ〜８２ｎｍの範囲にあることを特徴とする複層ガラスである。
【００１８】
また、本名発明の複層ガラスは、前記複層ガラスにおいて、低抵抗膜が形成されている板ガラスの、ガラス面の反射色が、ＣＩＥＬ＊ａ＊ｂ＊色度座標図において、−２０≦ａ＊≦−５、−１０≦ｂ＊≦５、であることを特徴とする複層ガラス複層ガラスである。
【発明の効果】
【００１９】
本発明の複層ガラスは、日射熱取得率が小さいくしかも可視光透過率の大きい複層ガラスを提供することにより、明るく、しかも遮熱性に優れた窓を実現する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
本発明の複層ガラスは、透明性が高く、住宅やビル等の建築物等において日射を遮ることを目的とする窓ガラスに用いる。
【００２１】
本発明の複層ガラスは、図１に示すように、低抵抗膜２が形成されている透明な板ガラス１ともう１枚の透明な板ガラス１とを対向配置し、板ガラス１、１´の周辺部をスペーサ４に接着剤３で接着し、さらに、シーリング材５で周辺部をシールして、２枚の透明な板ガラス１、１´の間に密閉された中空層を形成するものである。
【００２２】
本発明の複層ガラスを、建物の窓に設置するときには、低抵抗膜２が形成されている透明な板ガラス１を室外側にすることが好ましい。
【００２３】
また、中空層の結露を防ぐために、スペーサー４には、乾燥材（図示しない）を充填したペーサーを用いることが好ましい。
【００２４】
透明な２枚の板ガラス１には、図２に示すような、金属酸化物膜とＡｇ膜とを交互に積層してなる低抵抗膜２が形成されている。
【００２５】
各Ａｇ膜の板ガラスとは反対側の面には、金属酸化物膜形成時にＡｇ膜が酸化されることを防ぐため、保護金属膜（図示しない）を形成することが好ましい。
【００２６】
透明な板ガラスには、ソーダライムガラスや、ソーダライムガラスに比べて酸化鉄含有量が少ない高透過ガラスなど、廉価なフロート板ガラスが好適であるが、透明ガラスの他にも、ポリカーボネートやポリエチレンテレフタレート等の透明な樹脂基材あるいはフィルム基材等を好適に用いることができる。
【００２７】
金属酸化物膜は、板ガラスとＡｇ膜との密着性や、低抵抗膜の膜相互の密着性を高めて、低放射ガラスの積層膜の強度と耐久性を高めるために、さらには、低放射ガラスの可視光の透過率を高めるために用いられる。
【００２８】
金属酸化物膜は、低放射ガラスの好適な膜強度や耐久性および高い透過率を得るために、Ａｇ膜の透明ガラス側に隣接して、ＺｎＯ膜を用いることが好適である。
【００２９】
さらに金属酸化物膜には、ＺｎＯ膜の他に、Ｓｉ、Ｓｎ、Ａｌ、Ｔｉ等の酸化物膜、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｔｉ等の窒化物膜や窒酸化物膜のなかから少なくとも１種類以上を選んでなる金属酸化物膜を用いてもよい。
【００３０】
金属酸化物膜は、図３に示されるような、マグネトロンスパッタリング装置によって、ターゲット２０に金属ターゲットを用い、ガス導入管２６から酸素ガスを導入して成膜するか、あるいは、ターゲット２０に、金属酸化物ターゲットを用いて誘電体成膜することができる。
【００３１】
透明なガラス板２１を基板ホルダー２２で保持し、真空チャンバー２３内をメインバルブ２４を開放することで真空ポンプ２５を用いて排気し、さらに、真空チャンバー内にガス導入管２５より、金属酸化物膜を作製する場合には酸素ガスまたはＡｒと酸素の混合ガスを、マスフローコントローラー２６によりガス流量を制御して導入し、真空チャンバー２３内の圧力を調整することが好ましい。
【００３２】
また、透明な板ガラス２１を保持した基板ホルダー２２は移動可能な構造となっていて（図示せず）、板ガラス２１がターゲット２０を通過する時間を、基板ホルダー２２の移動速度を変えて行い、成膜する膜の厚みを制御することが望ましい。
【００３３】
例えば、ＺｎＯを成膜する場合、Ｚｎターゲットをターゲット２０に用いて、ガス導入管２５から適当な混合比のＡｒガスと酸素ガスを導入して成膜することができる。あるいは、ＺｎＯターゲットをターゲット２０に用いて、ガス導入管２５からＡｒガスのみを導入し、ＺｎＯ膜の成膜をしてもよい。
【００３４】
さらに、ＺｎＯ膜は、Ｘ線回折測定によるＺｎＯ（００２）面による回折ピーク最大強度位置が３３．９°以下になることが好ましい。
【００３５】
成膜時の真空チャンバー８内の圧力は、真空ポンプとマスフローコントローラーにより制御して導入する酸素ガス流量とにより調整されるが、安定な放電が維持できる範囲で、できるだけ低い圧力にして成膜することが好ましい。真空チャンバー２３内の圧力は、真空計２６によって測定される。
【００３６】
ＣｕＫα線を用いたＸ線回折法により測定される、ＺｎＯ（００２）面による回折ピーク最大強度の回折角度２θが３４°以上になると、Ａｇ膜の単位厚みあたりの抵抗値が大きい。したがって、ＣｕＫα線を用いたＸ線回折法により測定される、ＺｎＯ（００２）面による回折ピーク最大強度の回折角度２θが３４°以上の場合は、Ａｇ膜の抵抗値を小さくするために、Ａｇ膜を厚くしなければならず、好ましい可視光透過率が得にくくなる。
【００３７】
ＺｎＯ膜の回折角度２θが３３．９°以下となるためには、酸素ガスの流量は２００ｓｃｃｍ以下で、真空チャンバー２３内の圧力は０．９Ｐａ以下とすることが好ましく、真空チャンバー２３内の圧力はできる限り低くすることが望ましい。
【００３８】
Ａｇ膜も金属酸化物膜と同様に、図３に示すマグネトロンスパッタリング装置によって成膜することができ、金属酸化物膜のＺｎＯ膜に接して成膜をすることが、Ａｇ膜と金属酸化物膜との密着性を保つので、好ましい。
【００３９】
ターゲット２０にＡｇの金属ターゲットを用い、透明な板ガラス２１を基板ホルダー２２で保持し、真空チャンバー２３内をメインバルブ２４を開放することで真空ポンプ２５を用いて排気し、さらに、真空チャンバー内にガス導入管２５よりＡｒガスを、マスフローコントローラー２６によりガス流量を制御して導入し、透明板ガラス２１を保持した基板ホルダー２２を、所望の速度でターゲットを通過させ、透明な板ガラス上にＡｇ膜を形成する。
【００４０】
Ａｇ膜には、Ｐｔ、Ｂｉ、Ｃｕ、Ａｕ等の金属を、０．０〜１０．０重量％程度含むＡｇターゲットを用いて、金属膜を成膜し、Ａｇを主成分とするＰｔ、Ｂｉ、Ｃｕ、Ａｕ等の金属を０．０〜１０．０重量％含む金属膜を用いても良い。
【００４１】
前述する金属酸化物膜の選択は、可視域の光学特性、金属酸化物膜自体の機械強度、隣接する金属酸化物膜およびＡｇ膜との密着性を考慮して、行うことが望ましい。
【００４２】
金属酸化物膜の波長５５０ｎｍにおける屈折率をｎ、金属酸化物膜の幾何学的膜厚をｄ（ｎｍ）とした時の、光学的膜厚をｎｄとすると、第１金属酸化物膜のｎｄが５７ｎｍ〜７７ｎｍの範囲にあり、第２金属酸化物膜のｎｄが１６０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲にあり、第３金属酸化物膜のｎｄが６２ｎｍ〜８２ｎｍの範囲とすることが好ましい。
【００４３】
金属酸化物膜の光学的膜厚の下限値（透明ガラスに直接成膜される第１金属酸化物膜の場合は、５７ｎｍ、第２金属酸化物膜の場合は１６０ｎｍ、第３金属酸化物膜の場合は６２ｎｍ）を下回る場合、または、金属酸化物膜の光学的膜厚がその上限値（透明ガラスに直接成膜される第１金属酸化物膜の場合は、７７ｎｍ、第２金属酸化物膜の場合は、２００ｎｍ、第３金属酸化物膜の場合は、８２ｎｍ）を越えると、可視光透過率が低下し、さらに建築物用途として好ましい反射色調が得られなくなる。
【００４４】
さらに、第１Ａｇ膜の幾何学的膜厚と第２Ａｇ膜の幾何学的膜厚の和、すなわちＡｇ膜の総幾何学的膜厚は、２４〜３２ｎｍの範囲にあることが好ましい。総幾何学的膜厚が２４ｎｍ未満の場合、日射反射率が低下し、有効な遮熱性が得られず、また、総幾何学的膜厚が３２ｎｍを越えると、可視光透過率が低下し、さらに建築物用途として好ましくない、赤味を帯びた反射色調となる。
【００４５】
さらに、第２金属酸化物膜を形成中に第１Ａｇ膜がプラズマによるダメージを受けることを防ぐ目的で、第１Ａｇ膜と第２金属酸化物膜の間に幾何学的膜厚が２ｎｍ程度の保護金属膜を成膜することが望ましい。第２Ａｇ膜と第３金属酸化物膜の間にも同様に、保護金属膜を成膜することが望ましい。
【００４６】
保護金属膜には、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ａｌ、ＮｉＣｒ、Ｃｒ、Ｚｎ合金、Ｓｎ合金、および各金属にＡｌ，Ｓｂ金属を０．０〜１０．０重量％含んだもの等を用いることができる。
【００４７】
また、保護金属膜の代わりに、Ａｌを２〜１２重量％含む酸化亜鉛（ＺｎＡｌＯｘ）（以後ＡＺＯ膜と呼ぶ）を用いることができる。
【００４８】
Ａｇ膜および金属酸化物膜は、スパッタリング法で成膜することが好ましく、特に図３に示すような、マグネトロンスパッタリング装置を用いて成膜することが好ましい。
【００４９】
金属酸化物膜は、ターゲットに金属ターゲットを用い、ガス導入管から酸素ガスを導入して成膜するか、あるいは、ターゲットに、成膜される酸化物と同じ酸化物ターゲットを用いて成膜することができる。
【実施例】
【００５０】
以下、図面を参照しながら本発明を詳細に説明する。
【００５１】
実施例１
図２に示すような、板ガラス１に、第１金属酸化物膜１０、第１Ａｇ膜１３、第２金属酸化物膜１１、第２Ａｇ膜１４、第３金属酸化物膜１２を、図３に示すマグネトロンスパッタリング装置を用いて、積層し、低抵抗膜２を形成した。板ガラス１には、厚み３ｍｍのソーダライムガラスを用いた。
【００５２】
第１金属酸化物膜１０として、厚み３ｍｍのソーダライムガラス上にＺｎＯ膜を成膜した。ターゲット２０にＺｎターゲットを用い、ソーダライムガラスを基板ホルダー２２に保持させた後、真空チャンバー２３内を真空ポンプ２５によって排気した。成膜中、真空ポンプ２５は連続して稼働させた。
【００５３】
真空チャンバー２３内の雰囲気ガスは、ガス導入管２６より、酸素ガスを導入し、酸素ガスの流量をマスフローコントローラー２７により制御して調整した。
【００５４】
真空ポンプ２５にはクライオポンプを用いた。成膜中の真空チャンバ−内の圧力は、マスフローコントローラー２７により酸素ガス流量を６０ｓｃｃｍ以下に制御して圧力チャンバー２３内に導入して、圧力チャンバー２３内の圧力を、所望の０．３Ｐａに調節した。
【００５５】
第１金属酸化物膜にはＺｎＯ膜を用い、３２ｎｍの幾何学的膜厚で成膜した。ＺｎＯ膜の幾何学的な膜厚は、板ガラスの搬送速度により調整した。
【００５６】
成膜したＺｎＯ膜の波長５５０ｎｍにおける屈折率（複素屈折率の実数部）は２．１であり、第１金属酸化物１０のＺｎＯ膜の光学的膜厚ｎｄは６７ｎｍであった。
【００５７】
次に、真空チャンバー２３内の酸素ガスを排気した後、Ａｒガスをガス導入管２６からマスフローコントローラー２７で制御して真空チャンバー２３内に導入して、真空チャンバー２３内をＡｒガス雰囲気にし、第１Ａｇ膜１３を成膜した。
【００５８】
第１Ａｇ膜は、Ａｇターゲットをターゲット２０に用いて、第１金属酸化物膜（ＺｎＯ膜）の上に成膜した。第１Ａｇ膜の幾何学的膜厚は、１４ｎｍとした。
【００５９】
第１Ａｇ膜の成膜中、真空チャンバー内の圧力は、真空ポンプと開閉バルブによって０．５Ｐａとした。
【００６０】
次に、第１Ａｇ膜の上に、ＺｎＡｌ（Ａｌ４ｗｔ％含有ＺｎＯ）ターゲットを用い、図２には図示しない、２ｎｍの幾何学的膜厚のＺｎＡｌ膜を成膜した。
【００６１】
ＺｎＡｌ膜の成膜中、圧力チャンバー内のガス雰囲気および圧力は、Ａｇ膜の成膜と同様にした。
【００６２】
さらに、ＺｎＡｌ膜の上に第２金属酸化物膜１１として、ＺｎＯ膜を１８２ｎｍの光学的膜厚で成膜した。成膜条件は、板ガラス２１の表面に成膜した第１金属酸化物膜１０のＺｎＯ膜と同様にした。
【００６３】
さらに、第２金属酸化物膜１１の上に第２Ａｇ膜１４を１４ｎｍの幾何学的膜厚で成膜した。第２Ａｇ膜１４の成膜は、第１Ａｇ膜と同様にして行った。
【００６４】
次に、第２Ａｇ膜の上に、ＺｎＡｌ（Ａｌ４ｗｔ％含有ＺｎＯ）ターゲットを用い、図２には図示しない、２ｎｍの幾何学的膜厚のＺｎＡｌ膜を成膜した。成膜は、第１Ａｇ膜上に成膜したＺｎＡｌ膜と同様にして行った。
【００６５】
さらに、ＺｎＡｌ膜の上に第３金属酸化物膜１２として、ＺｎＯ膜を７２ｎｍの光学的膜厚で成膜した。成膜は、板ガラスの表面に第１金属酸化物膜１０として成膜した、ＺｎＯ膜と同様にして行った。
【００６６】
このようにして低抵抗膜２を形成した板ガラス１を用いて、図１に示すような複層ガラスを作製した。板ガラス１´には、厚み３ｍｍのソーダライムガラスを用いた。
【００６７】
複層ガラスの構成は、室外側から、低抵抗膜２を形成した厚み３ｍｍのソーダライムガラス、空気層６ｍｍ、厚み３ｍｍのソーダライムガラスとした。
【００６８】
可視光透過率および日射熱取得率をＪＩＳＲ３１０６：１９９８に準拠して算出した結果、可視光透過率は６９．３％であり、日射熱取得率は０．３６であった。また、垂直入射光の非膜面の反射色がＣＩＥＬ＊ａ＊ｂ＊色度座標図において、ａ＊が−９．２、ｂ＊が−５．３であった。
【００６９】
実施例２
板ガラス１、１´に厚み６ｍｍのソーダライムガラスを用いた他は、全て実施例１と同様にして複層ガラスを作製した。
【００７０】
板ガラス１を室外側にした時の、ＪＩＳＲ３１０６：１９９８に準拠して算出した可視光透過率は６７．０％であり、日射熱取得率は０．３６であった。また、垂直入射光の非膜面の反射色は、ａ＊が−９．３、ｂ＊が−６．１であった。
【００７１】
実施例３
板ガラス１、１´に厚み１２ｍｍのソーダライムガラスを用いた他は、全て実施例１と同様にした。
【００７２】
板ガラス１を室外側にした時の、ＪＩＳＲ３１０６：１９９８に準拠して算出したところ、可視光透過率は６３．７％であり、日射熱取得率は０．３５であった。また、垂直入射光の非膜面の反射色は、ａ＊が−１０．５、ｂ＊が−５．６であった。
【００７３】
実施例４
板ガラス１、１´に厚み６ｍｍの可視光透過率が９１％の高透過ガラスを用いた他は、全て実施例１と同様にした。
【００７４】
板ガラス１を室外側にした時の、ＪＩＳＲ３１０６：１９９８に準拠して算出したところ、可視光透過率は６９．９％であり、日射熱取得率は０．３５であった。また、垂直入射光の非膜面の反射色はａ＊が−１１．２、ｂ＊が−６．６であった。
【００７５】
実施例５
板ガラス１に厚み６ｍｍの可視光透過率が９１％の高透過ガラスを用い、板ガラス１´に厚み１２ｍｍの可視光透過率が９０％の高透過ガラスを用いた他は、全て実施例１と同様にした。
【００７６】
板ガラス１を室外側にした時の、ＪＩＳＲ３１０６：１９９８に準拠して算出したところ、、可視光透過率は６９．２％であり、日射熱取得率は０．３４であった。また、垂直入射光の非膜面の反射色は、ａ＊が−１１．２、ｂ＊が−６．６であった。
【００７７】
実施例６
板ガラス１に、実施例５と同様の、厚み６ｍｍの高透過ガラスを用い、第１金属酸化物膜１０として、板ガラス１にＳｎＯ２膜を成膜し、次いでＳｎＯ２膜の上にＺｎＯ膜を成膜した。
【００７８】
ＳｎＯ２膜の成膜は、ターゲット２０にＳｎターゲットを用い、高透過ガラスを基板ホルダー２２に保持させた後、真空チャンバー２３内を真空ポンプ２５によって排気した。成膜中、真空ポンプ２５は連続して稼働させた。
【００７９】
真空チャンバー２３内の雰囲気ガスは、ガス導入管２６より、酸素ガスを導入し、酸素ガスの流量をマスフローコントローラー２７により制御して調整した。
【００８０】
真空ポンプ２５にはクライオポンプを用いた。成膜中の真空チャンバ−内の圧力は、マスフローコントローラー２７により酸素ガス流量を６０ｓｃｃｍ以下に制御して圧力チャンバー２３内に導入して、圧力チャンバー２３内の圧力を、所望の０．３Ｐａに調節した。
【００８１】
ＺｎＯ膜の成膜は、ターゲット２０にＺｎターゲットを用い、ＳｎＯ２膜を成膜した高透過ガラスを基板ホルダー２２に保持し、ＳｎＯ２膜の成膜と同様に、マスフローコントローラー２７により酸素ガス流量を６０ｓｃｃｍ以下に制御し、圧力チャンバー２３内の圧力を、所望の０．３Ｐａに調節して行った。
【００８２】
第１金属酸化物膜１０として成膜したＳｎＯ２膜の光学的膜厚は４６．２ｎｍ、ＺｎＯ膜の光学的膜厚は２１ｎｍとした。
【００８３】
第１金属酸化物膜１０の上に、幾何学的厚みが１４ｎｍの第１Ａｇ膜１３を、実施例１と同様にして成膜した。
【００８４】
第２金属酸化物膜１１として、光学的膜厚が１１９．１ｎｍのＳｎＯ２膜と光学的膜厚が６３ｎｍのＺｎＯ膜を用いた。第２金属酸化物膜１１の成膜は、第１金属酸化物膜１０と同様にして行った。
【００８５】
第２金属酸化物膜１１の上に、第１Ａｇ膜１３と同様に幾何学的厚みが１４ｎｍの第２Ａｇ膜１４を成膜し、第１Ａｇ膜１３と第２Ａｇ膜１４との幾何学的厚みの合計を２８ｎｍとした。
【００８６】
第２Ａｇ膜１４の上に第３金属酸化物膜１２として、光学的膜厚が７１．８ｎｍのＺｎＯ膜を成膜した。成膜方法は、第１金属酸化物膜１０のＺｎＯ膜と同様にした。
【００８７】
板ガラス１´に厚み６ｍｍの高透過ガラスを用い、図１に示すような複層ガラスを作製した。
【００８８】
この複層ガラスの可視光透過率および日射熱取得率をＪＩＳＲ３１０６：１９９８に準拠して算出した結果、可視光透過率は７１．６％であり、日射熱取得率は０．３６であった。また、垂直入射光の非膜面の反射色がＣＩＥＬ＊ａ＊ｂ＊色度座標図において、ａ＊が−７．８、ｂ＊が−３．４であった。
【００８９】
比較例１
厚み３ｍｍの板ガラス１に形成した低抵抗膜の構成は、第１金属酸化物膜１０に、光学的膜厚が５０ｎｍのＺｎＯ膜を用い、第２金属酸化物膜１１に、光学的膜厚が１９１ｎｍのＺｎＯ膜を用い、第３金属酸化物膜１２に、光学的膜厚が８０ｎｍのＺｎＯ膜を用い、さらに、第１Ａｇ膜１３と第２Ａｇ膜１４との幾何学的厚みの合計を３１ｎｍとした。
【００９０】
第１金属酸化物膜１０、第２金属酸化物膜１１および第３金属酸化物膜１２のＺｎＯ膜の成膜は、ターゲット２０にＺｎターゲットを用い、真空チャンバー２３内の排気を、真空ポンプ２５を連続して稼働させて、真空チャンバー２３内の雰囲気ガスは、ガス導入管２６より、酸素ガスを導入し、酸素ガスの流量をマスフローコントローラー２７により１００ｓｃｃｍ以下に制御して調整し、圧力チャンバー２３内の圧力を、１．０〜１．２Ｐａに調節して、行った。また、第１Ａｇ膜１３と第２Ａｇ膜は、実施例１と同様の成膜方法で成膜した。
【００９１】
厚み３ｍｍの板ガラス１´にソーダライムガラスを用い、実施例１と同様にして、図１に示す複層ガラスを作製した。
【００９２】
この複層ガラスの可視光透過率および日射熱取得率をＪＩＳＲ３１０６：１９９８に準拠して算出した結果、可視光透過率は６０．４％であり、日射熱取得率は０．３５であった。また、垂直入射光の非膜面の反射色がＣＩＥＬ＊ａ＊ｂ＊色度座標図において、ａ＊が−３．０、ｂ＊が−９．３であった。
【００９３】
比較例２
板ガラス１、１´に厚み６ｍｍの可視光透過率が９１％の高透過ガラスを用いた他は、全て比較例１と同様にして複層ガラスを作製した。
【００９４】
板ガラス１を室外側にした時の、ＪＩＳＲ３１０６：１９９８に準拠して算出した可視光透過率は６２．２％であり、日射熱取得率は０．３５であった。また、垂直入射光の非膜面の反射色は、ａ＊が−２．４、ｂ＊が−１０．０であった。
【００９５】
比較例３
板ガラス１、１´に厚み１２ｍｍのソーダライムガラスを用いた他は、全て比較例１と同様にして複層ガラスを作製した。
【００９６】
板ガラス１を室外側にした時の、ＪＩＳＲ３１０６：１９９８に準拠して算出した可視光透過率は５６．５％であり、日射熱取得率は０．３５であった。また、垂直入射光の非膜面の反射色は、ａ＊が−１．９７、ｂ＊が−９．４０であった。
【００９７】
比較例４
板ガラス１、１´に厚み１０ｍｍのソーダライムガラスを用い、第１金属酸化物膜１０に、光学的膜厚が６１ｎｍのＺｎＯ膜を用い、第２金属酸化物膜１１に、光学的膜厚が２２１ｎｍのＺｎＯ膜を用い、第３金属酸化物膜１２に、光学的膜厚が６９ｎｍのＺｎＯ膜を用い、さらに、第１Ａｇ膜１３と第２Ａｇ膜１４との幾何学的厚みの合計を２２ｎｍとして、比較例１と同様の成膜方法で成膜し、その他は実施例１と同様にして、図１に示す複層ガラスを作製した。
【００９８】
板ガラス１を室外側にした時の、ＪＩＳＲ３１０６：１９９８に準拠して算出した可視光透過率は５１．５％であり、日射熱取得率は０．３７であった。また、垂直入射光の非膜面の反射色は、ａ＊が−６．５０、ｂ＊が１．７０であった。
【００９９】
比較例５
板ガラス１、１´に厚み１２ｍｍのソーダライムガラスを用いた他は、全て比較例４と同様にして、図１に示す複層ガラスを作製した。
【０１００】
板ガラス１を室外側にした時の、ＪＩＳＲ３１０６：１９９８に準拠して算出した可視光透過率は６０．３％であり、日射熱取得率は０．３７であった。また、垂直入射光の非膜面の反射色は、ａ＊が−６．５０、ｂ＊が１．７０であった。
【０１０１】
比較例６
板ガラス１、１´に厚み１２ｍｍのソーダライムガラスを用い、第１金属酸化物膜１０に、光学的膜厚が４８ｎｍのＺｎＯ膜を用い、第２金属酸化物膜１１に、光学的膜厚が１３９ｎｍのＺｎＯ膜を用い、さらに、第１Ａｇ膜１３の幾何学的厚みを１２ｎｍとし、第３金属酸化物膜および第２Ａｇ膜は成膜せずに、、図１に示す複層ガラスを作製した。
【０１０２】
第１、第２金属酸化物膜および第１Ａｇ膜の成膜方法は比較例１と同様にして行った。
【０１０３】
板ガラス１を室外側にした時の、ＪＩＳＲ３１０６：１９９８に準拠して算出した可視光透過率は６５．５％であるが、日射熱取得率は０．４８で、遮熱性の劣るものあった。また、垂直入射光の非膜面の反射色は、ａ＊が−２．３８、ｂ＊が−１６．７９であった。
【０１０４】
表１に、実施例１〜５及び比較例１〜５の低抵抗膜の膜構成を、また、表２に実施例１〜５及び比較例１〜５の、ＪＩＳＲ３１０６：１９９８に準拠した可視光透過率、日射熱取得率および反射色を示す。
【０１０５】
【表１】
2008222507.tif 000003
【０１０６】
【表２】
2008222507.tif 000004
【０１０７】
表３は、実施例と比較例で成膜したＺｎＯ膜の、ＣｕＫα線を用いたＸ線回折法による、ＺｎＯ膜の（００２）結晶面による回折ピークの回折角度と抵抗膜の表面抵抗の値を示す。
【０１０８】
【表３】
2008222507.tif 000005
【０１０９】
実施例１〜６の回折角は全て３３．９°以下であり、比較例では３３．９°より大きいものであった。
【０１１０】
実施例の低抵抗膜の表面抵抗は、第１Ａｇ膜の厚みと第２Ａｇ膜の厚みとの合計ｔ２は２８ｎｍで、３．４−０．０４×ｔ２の値２．２８に対し、いずれも低い抵抗値であった。
【０１１１】
比較例１〜３の低抵抗膜の表面抵抗は、第１Ａｇ膜の厚みと第２Ａｇ膜の厚みとの合計ｔ２は３１ｎｍで、３．４−０．０４×ｔ２の値２．１６に対し、いずれも高い抵抗値であった。
【０１１２】
また、比較例４、５の低抵抗膜の表面抵抗は、第１Ａｇ膜の厚みと第２Ａｇ膜の厚みとの合計ｔ２は２２ｎｍで、３．４−０．０４×ｔ２の値２．５２に対し、いずれも高い抵抗値であった。
【図面の簡単な説明】
【０１１３】
【図１】本発明の複層ガラスの構成を示す断面図である。
【図２】低抵抗膜の膜構成を示す断面図である。
【図３】マグネトロンスパッタリング装置の概略図である。
【図４】透明ガラスの厚みに対する可視光透過率の関係を示すグラフである。
【符号の説明】
【０１１４】
１    板ガラス
２    低抵抗膜
３    接着剤
４    スペーサー
５    シーリング材
１０  第１金属酸化物
１１  第２金属酸化物
１２  第３金属酸化物
１３  第１Ａｇ膜
１４  第２Ａｇ膜
２０  ターゲット
２１  板ガラス
２２  基板ホルダー
２３  真空チャンバー
２４  メインバルブ
２５  真空ポンプ
２６  ガス導入管
２７  マスフローコントローラー
【図１】
2008222507.tif 000006
【図２】
2008222507.tif 000007
【図３】
2008222507.tif 000008
【図４】
2008222507.tif 000009