(57)【要約】【課題】グルーブの側壁に荒れを生じないガラス原盤の製造方法を提供する。【解決手段】ガラス基板１上にノボラック樹脂系からなるフォトレジスト２を塗布した後、レーザ光を用いてフォトレジスト２の露光及び現像を行ってフォトレジストパターン４を形成し、フォトレジストパターン４の熱処理を行い、引き続いて紫外線を照射し、次に、フロロカーボン系ガスを用いて、フォトレジストパターン４から露出したガラス基板１をドライエッチングする。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ディスクを得るためのガラス原盤を作製するガラス原盤の製造方法において、
ガラス基板上にノボラック樹脂系からなるフォトレジストを塗布した後、レーザ光を用いて前記フォトレジストの露光及び現像を行ってフォトレジストパターンを形成し、
次に、前記フォトレジストパターンの熱処理を行い、引き続いて紫外線を照射し、
次に、フロロカーボン系ガスを用いて、前記フォトレジストパターンから露出した前記ガラス基板をドライエッチングを行ってグルーブを形成して前記ガラス原盤を作製することを特徴とするガラス原盤の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＣＤやＤＶＤ等の光ディスクの成形に用いられるガラス原盤の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般にオーディオ、画像用途、コンピュ−タメモリとして高密度データが蓄積できる光ディスクは、ガラス原盤を用いて作製される。
従来のガラス原盤の製造方法は、特許文献１に記載されている。
【０００３】
即ち、ガラス基板上にフォトレジストを塗布し、このフォトレジストにレーザ光による露光を行った後、現像を行って、フォトレジストパターンを形成し、次に、ガラス基板のエッチングを行ってグルーブを形成した後、フロロカーボン系ガスを用いて、０．５Ｐａ〜５Ｐａの雰囲気ガス圧下で印加電圧が５０〜５００Ｖでドライエッチングしてガラス原盤を製造する。
【特許文献１】特開平２００６−７９６８６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、ＣＤ，ＤＶＤよりも高密度のＢｌｕ−ｒａｙディスクのカッティングで，ノボラック系樹脂レジストを用いる場合には、このノボラック系樹脂は、フロロカーボン系ガスを用いたエッチングに対して耐久度が低いため、グルーブの側壁の荒れがひどくなる。
この結果、上記したガラス原盤を用いて作製された光ディスクは、トラッキングが取れなかったり、ノイズが発生したりしていた。
【０００５】
そこで、本発明は、前述の課題に鑑みて提案されるものであって、レジストにノボラック系樹脂を用いた場合に、グルーブの側壁に荒れを生じないガラス原盤の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本願発明は、光ディスクを得るためのガラス原盤を作製するガラス原盤の製造方法において、ガラス基板上にノボラック樹脂系からなるフォトレジストを塗布した後、レーザ光を用いて前記フォトレジストの露光及び現像を行ってフォトレジストパターンを形成し、次に、前記フォトレジストパターンの熱処理を行い、引き続いて紫外線を照射し、次に、フロロカーボン系ガスを用いて、前記フォトレジストパターンから露出した前記ガラス基板をドライエッチングを行ってグルーブを形成して前記ガラス原盤を作製することを特徴とするガラス原盤の製造方法を提供する。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、フォトレジストパターンを形成した後、このフォトレジストパターンの熱処理を行い、引き続いて紫外線を照射し、次に、フロロカーボン系ガスを用いて、フォトレジストパターンから露出したガラス基板をドライエッチングするので、グルーブの側壁の荒れを低減したガラス原盤が得られる。この結果、このガラス原盤を用いて作製された光ディスクは、良好なトラッキングエラーが得られ、グルーブによるノイズを低減できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、本発明に係るガラス原盤の製造方法の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。
図１は、本発明の実施の形態に係るガラス原盤の製造方法を示す断面図である。
【０００９】
（潜像形成工程）
図１（Ａ）に示すように、光学研磨を施した石英ガラス基板１を洗浄及び乾燥した後、ノボラック系樹脂フォトレジスト２を塗布し、次に、波長２６６ｎｍのレーザ光をレンズで集光させて潜像３を形成する。
【００１０】
（フォトレジストパターン形成工程）
この後、同図（Ｂ）に示すように、潜像３の露光及び現像を行ってフォトレジストパターン４を形成する。現像の際に用いられる現像液は、アルカリ現像液である。
【００１１】
（熱処理工程）
次に、同図（Ｃ）に示すように、フォトレジストパターン４が形成された石英ガラス基板１の熱処理を行って、石英ガラス基板１とフォトレジストパターン４との密着性を向上させる。
熱処理条件としては、低温すぎると、密着性が向上しないので、ノボラック系樹脂の溶解温度よりも１０〜２０℃低い温度で行う。
【００１２】
（紫外線照射工程）
同図（Ｄ）に示すように、フォトレジストパターン４に紫外線を照射し、フォトレジストパターンの表面を改質し、フロロカーボン系ガスに対する耐ドライエッチング性を向上させる。
紫外線の照射条件としては、記録レーザ光の波長２６６ｎｍに近い２５４ｎｍの強い紫外線を用い、その照射光量を１００００ｍＪ〜３５０００ｍＪにして所定時間行う。照射光量が１００００ｍＪ未満であると耐ドライエッチング性が向上せず、３５０００ｍＪ以上であるとフォトレジストパターンが崩れてしまう。このため、照射光量は、上記したような１００００ｍＪ〜３５０００ｍＪが良い。
【００１３】
（エッチング工程）
次に、同図（Ｅ）に示すように、フォトレジストパターン４をマスクとして、フロロカーボン系ガスを用いて、０．５Ｐａ〜５Ｐａの雰囲気ガス下で５０Ｖ〜５００Ｖの電圧を印加して異方性の高いドライエッチングを行って、グルーブ５を形成する。ここでは、フロロカーボン系ガスとしては、ＣＦ4、ＣＨＦ3、Ｃ3Ｆ8、Ｃ4Ｆ8等が用いられる。
【００１４】
（アッシング処理工程）
次に、同図（Ｆ）に示すように、酸素アッシングを行って、フォトレジストパターン４を除去した後、グルーブ５の側壁の荒れを低減したガラス原盤６を作製する。
【００１５】
このガラス原盤６を用いたスタンパ及び光ディスクは、公知の製造方法により作製することができる。
【００１６】
以上のように、本発明の実施の形態によれば、石英ガラス基板１上にノボラック樹脂系のフォトレジストパターン４を形成した後、熱処理を行って石英ガラス基板１とフォトレジストパターン４との密着性を向上させ、次に、紫外線を照射してフォトレジストパターン４の表面を改質してフロロカーボン系ガスに対する耐ドライエッチング性を向上させた後、フロロカーボン系ガスを用いて、０．５Ｐａ〜５Ｐａの雰囲気ガス下で印加電圧が５０〜５００Ｖでドライエッチングするので、グルーブ５の側壁の荒れを低減したガラス原盤６が得られる。この結果、このガラス原盤６を用いて作製された光ディスクは、良好なトラッキングエラーが得られ、グルーブ５によるノイズを低減できる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の実施の形態に係るガラス原盤の製造方法を示す断面図である。
【符号の説明】
【００１８】
１…ガラス基板、２…フォトレジスト、３…潜像、４…フォトレジストパターン、５…グルーブ、６…ガラス原盤
【図１】
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