(57)【要約】      （修正有）【課題】短時間で基板等の被描画体の基準マークの位置を正確に計測する。【解決手段】回路パターンを描画する描画装置において、Ｙ方向（主走査方向）に沿って移動可能なカメラを配置し、Ｘ方向（副走査方向）に沿って移動可能な基板を搭載する描画テーブルを設ける。そして、基板スケール１６をＹ方向に沿って配置し、基台に対して固定させる。また、カメラ１１に、赤色光Ｌ１、緑色光Ｌ２を選択的に放射する光源ユニット１３を取り付け、カメラ１１の下方に、ダイクロイックミラー１５を設ける。赤色光Ｌ１は、そのまま基板ＳＷに到達しアライメント穴の位置を検出する。緑色光Ｌ２は、反射によって基準スケール１６へ導かれ、ステージ位置を検出する。【選択図】図３
2008058477.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
位置計測用の基準マークが設けられた被描画体が搭載され、基台に対して相対的に第１の走査方向に沿って移動可能な描画テーブルと、
前記基台に対し前記第１の走査方向に直交する第２の走査方向に沿って移動可能に取り付けられ、前記基準マークの位置を計測するカメラと、
前記基台に取り付けられ、前記第２の走査方向に沿って延びる基準スケールと、
前記基準マークの位置を計測するため第１の照明光を照射する第１の光源と、
前記基準スケールを照明するため前記第１の照明光とは異なる波長領域をもつ第２の照明光を照射する第２の光源と、
前記第１の照明光を前記被描画体へ導き、その反射光を前記カメラへ導くとともに、前記第２の照明光を前記基準スケールへ導き、その反射光を前記カメラへ導く計測用光学系と、
前記基準マークの位置を計測する計測手段と、
計測された前記基準マークの位置に基づいて、描画位置を補正する補正手段と
を備えたことを特徴とする描画装置。
【請求項２】
前記計測用光学系が、
前記第１および第２の照明光を前記被描画体へ反射させ、その反射光をそのまま透過する第１の光学系と、
前記第１の照明光およびその反射光を透過し、前記第２の照明光を前記基準スケールへ反射させるとともにその反射光を前記カメラへ反射させる第２の光学系とを有することを特徴とする請求項１に記載の描画装置。
【請求項３】
前記計測用光学系が、
前記第１の照明光を前記被描画体へ反射させ、その反射光をそのまま透過する第３の光学系と、
前記第１の照明光およびその反射光を透過し、前記基準スケールを介して入射する前記第２の照明光を前記カメラへ反射させる第４の光学系とを有することを特徴とする請求項１に記載の描画装置。
【請求項４】
前記計測用光学系が、前記第１の照明光およびその反射光を透過し、前記第２の照明光およびその反射光を反射する分光光学系を有することを特徴とする請求項１に記載の描画装置。
【請求項５】
前記分光光学系が、前記カメラへ一体的に取り付けられており、前記計測用光学系および前記カメラが前記基準スケールに対して相対的に移動可能であることを特徴とする請求項４に記載の描画装置。
【請求項６】
前記分光光学系が、前記基準スケールに沿って延びるように前記基準スケールに取り付けられ、
前記カメラが、前記計測用光学系および前記基準スケールに対して相対的に移動可能であることを特徴とする請求項４に記載の描画装置。
【請求項７】
基台に対し描画テーブルが相対的に移動する第１の走査方向に直交する第２の走査方向に沿って移動可能に取り付けられ、前記描画テーブルに搭載される被描画体に設けられた基準マークの位置を計測するカメラと、
前記基台に取り付けられ、前記第２の走査方向に沿って延びる基準スケールと、
前記基準マークの位置を計測するため第１の照明光を照射する第１の光源と、
前記基準スケールを照明するため前記第１の照明光とは異なる波長領域をもつ第２の照明光を照射する第２の光源と、
前記第１の照明光を前記被描画体へ導き、その反射光を前記カメラへ導くとともに、前記第２の照明光を前記基準スケールへ導き、その反射光を前記カメラへ導く計測用光学系と
を備えたことを特徴とする描画装置の計測機構。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、原版となるフォトマスク（レクチル）、あるいは直接的にプリント基板やシリコンウェハ等の被描画体へ回路パターン等のパターンを形成する描画装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
基板等の製造工程では、フォトレジスト等の感光材料を塗布した被描画体に対してパターン形成のための描画処理が実行され、現像処理、エッチングまたはメッキ処理、レジスト剥離等の工程を経て、被描画体にパターンが形成される。基板には、マーク、孔などの基準となる指標が所定の場所へ規則的に形成されており、基板が描画テーブル（描画ステージ）に搭載されると、描画テーブルおよびカメラを移動させることによって、基準マークの位置が検出される。そして、検出された位置に基づき、描画パターンを所定エリアへ形成する。
【０００３】
基準マークを計測するときにカメラの正確な位置を知る必要があるため、例えば描画テーブルには基準スケールが取り付けられており、描画テーブルを所定位置に移動させ、基準スケールの目盛りを基準にして基準マークの位置座標を計測する（特許文献１）。そして、計測された基準マークの位置座標に基づいて、基板の変形量、アライメント誤差を算出し、描画位置を補正する。
【特許文献１】特開２００４−３４８０４５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
基準スケールが描画テーブルに取り付けられるため、基準スケールのマーク、目盛りを計測する描画テーブルをカメラの所定位置（原点位置）まで移動させる必要がある。そのため、描画テーブルの駆動機構に起因する移動方向に沿った位置決めに誤差がある場合、計測された位置座標にテーブル誤差が生じる。また、基準スケールを使用する度に描画テーブルを所定の原点位置まで復帰させる必要があり、基板の基準マーク位置検出に時間がかかる。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の描画装置は、基板等の被描画体に設けられた計測用のマーク、孔の位置を正確かつ短時間で計測可能であり、位置計測用の基準マークが設けられた被描画体が搭載され、基台に対して相対的に第１の走査方向に沿って移動可能な描画テーブルと、基台に対し第１の走査方向に直交する第２の走査方向に沿って移動可能に取り付けられ、基準マークの位置を計測するカメラを備える。ここでの基準マークは、印、孔などを含み、例えば基板等の被描画体の四隅に形成される。描画テーブル、カメラは、例えば、それぞれ副走査方向、主走査方向（あるいはその逆）に沿って移動させるように構成すればよい。
【０００６】
本発明の描画装置は、基台に取り付けられ、第２の走査方向に沿って延びる基準スケールを備え、また、基準マークの位置を計測するため第１の照明光を照射する第１の光源と、基準スケールを照明するため第１の照明光とは異なる波長領域をもつ第２の照明光を照射する第２の光源と、第１の照明光を被描画体へ導き、その反射光をカメラへ導くとともに、第２の照明光を基準スケールへ導き、その反射光をカメラへ導く計測用光学系とを備える。
【０００７】
計測用光学系は、第１の照明光、第２の照明光を選択して基準マーク、被描画体へそれぞれ導く。設計データに含まれる描画データの位置座標に基づいてカメラを第２の走査方向に沿って移動させると、カメラをその場所で停止させた状態で、第２の光源から放射される第２の照明光によって基準スケールが計測可能となる。そして、第１の照明光によって基準マークの位置をそのまま計測可能となる。基準スケールの形状、構成は任意であるが、例えば微細な孔を等間隔で規則的に配列させたスケールを用いればよい。マーク、目盛りのピッチは描画装置の構成に従って定めればよいが、カメラを移動させる駆動機構の駆動誤差を考慮して、駆動誤差が目盛りのピッチを超えないようにピッチを定めればよい。そして描画装置は、基準マークの位置を計測する計測手段と、計測された基準マークの位置に基づいて、描画位置を補正する補正手段とを備える。
【０００８】
第１の照明光、第２の照明光を選択的に分けるため、計測用光学系に、第１の照明光およびその反射光を透過し、第２の照明光およびその反射光を反射する分光光学系を設けるのがよい。例えば、計測用光学系には、第１および第２の照明光を被描画体へ反射させ、その反射光をそのまま透過する第１の光学系と、第１の照明光およびその反射光を透過し、第２の照明光を基準スケールへ反射させるとともにその反射光をカメラへ反射させる第２の光学系が設けられる。あるいは、第１の照明光を被描画体へ反射させ、その反射光をそのまま透過する第３の光学系と、第１の照明光およびその反射光を透過し、基準スケールを介して入射する第２の照明光をカメラへ反射させる第４の光学系が設けられる。第１、第３の光学系としては、例えばプリズムが設けられる。分光光学系、第２、第４の光学系として、例えばダイクロイックミラーが設けられる。
【０００９】
分光光学系の構成としては、例えばカメラへ一体的に取り付けてもよく、計測用光学系およびカメラが基準スケールに対して相対的に移動する。あるいは、基準スケールに沿って延びるように基準スケールに取り付けてもよく、カメラが、計測用光学系および基準スケールに対して相対的に移動する。
【００１０】
本発明の描画装置の計測機構は、基台に対し描画テーブルが相対的に移動する第１の走査方向に直交する第２の走査方向に沿って移動可能に取り付けられ、描画テーブルに搭載される被描画体に設けられた基準マークの位置を計測するカメラと、基台に取り付けられ、第２の走査方向に沿って延びる基準スケールと、基準マークの位置を計測するため第１の照明光を照射する第１の光源と、基準スケールを照明するため第１の照明光とは異なる波長領域をもつ第２の照明光を照射する第２の光源と、第１の照明光を被描画体へ導き、その反射光をカメラへ導くとともに、第２の照明光を基準スケールへ導き、その反射光をカメラへ導く計測用光学系とを備えたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、短時間で基板等の被描画体の基準マークの位置を正確に計測することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下では、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。
【００１３】
図１は、本実施形態である描画システムを模式的に示した斜視図である。
【００１４】
描画システムの描画装置１０は、フォトレジスト等の感光材料を表面に塗布した基板ＳＷへ光を照射することによって回路パターンを形成する装置であり、描画ユニット３０が接続されている。描画ユニット３０は、描画ユニット３０Ａ、キーボード３０Ｂ、モニタ３０Ｃを備え、回路パターンに応じたＣＡＭデータ（ベクタデータ）に基づいてラスタデータを生成するとともに、描画装置１０の動作を制御する。
【００１５】
描画装置１０は、ゲート状構造体１２、基台１４を備える。基台１４には、描画テーブル１８が配置されており、描画テーブル１８上には、それぞれ基板ＳＷが設置されている。描画テーブルは、一対のガイドレール１９に載せられ、ガイドレール１９に沿って移動可能である。
【００１６】
基台１２に固定されたゲート状構造体１２には、基板ＳＷの表面に回路パターンを形成するための露光ユニット２０が設けられている。露光ユニット２０は、一対のガイドレール１７上に搭載され、ガイドレール１７に沿って移動可能である。基板ＳＷは、例えばシリコンウェハ、フィルム、ガラス基板、あるいは銅貼積層板であり、プリペーグ処理、フォトレジストの塗布等の処理が施されたブランクスの状態で描画テーブル１８に搭載される。ここでは、ネガ型のフォトレジストが基板表面に形成されている。
【００１７】
基板ＳＷの四隅には、描画位置を調整するためのアライメント孔ＡＭ１〜ＡＭ４が形成されており、ゲート状構造体１２には、アライメント孔の位置を検出するカメラ１１が取り付けられている。ゲート状構造体１２の底面には、ガイドレール１７に平行なガイドレール（図示せず）が設けられており、カメラ１１は、ガイドレールに沿って移動可能である。描画テーブル１８に対し、互いに直交なＸ−Ｙ座標系が規定されており、Ｘ−Ｙ座標系に基づいて基板ＳＷが走査される。ここでは、露光ユニット２０の移動する方向である主走査方向をＹ方向、描画テーブルの移動する方向である副走査方向をＸ方向とする。
【００１８】
露光ユニット２０は、光源、ＤＭＤ（Digital Micro-mirror Device）を備え（ここでは図示せず）、また、照明光学系、結像光学系（いずれも図示せず）を備えている。光源は、半導体レーザなどの光を一定の強度で連続的に放射する。放射された光は、照明光学系によってＤＭＤを全体的に照明する光束からなる光に成形され、ＤＭＤに導かれる。
【００１９】
ＤＭＤは、微小のマイクロミラーがマトリクス状に配列された空間光変調器であり、各マイクロミラーは、静電界作用により回転変動する。各マイクロミラーは、光源からのビームを基板ＳＷの露光面の方向へ反射させる第１の姿勢と、露光面外の方向へ反射させる第２の姿勢いずれかの姿勢で位置決めされ、制御信号に従って姿勢が切り替えられる。ＤＭＤではマイクロミラーがそれぞれ独立してＯＮ／ＯＦＦ制御され、ＤＭＤ全体に照射する光は、各マイクロミラーにおいて選択的に反射された光の光束から構成される光となる。その結果、露光面上においてその場所に形成すべき回路パターンに応じた光が照射される。
【００２０】
描画テーブル１８の移動によって基板ＳＷが描画開始位置へ位置決めされると、露光ユニット２０がＹ方向に沿って移動する。露光ユニット２０が移動する間、ＤＭＤの照射スポット（露光エリア）の位置に応じたパターンが形成されるように、ＤＭＤの各マイクロミラーがＯＮ／ＯＦＦ制御される。１つの走査領域（走査バンド）に沿った露光エリア２０の移動が終了すると、次の走査バンドに沿って描画処理を行うため描画テーブル１８が所定距離移動する。そして、次の走査バンドを走査するため、露光ユニット２０は反対方向に沿って一定速度で移動し、その間、ＤＭＤが描画パターンに応じて制御される。
【００２１】
このような走査が繰り返されることにより、基板全体に回路パターンが形成される。描画処理が終了された基板ＳＷに対しては、現像処理、エッチング又はメッキ、レジスト剥離処理などが施され、回路パターンが形成された基板が製造される。
【００２２】
図２は、カメラを含む計測機構の一部を概略的に示した斜視図である。図３は、計測機構の平面図である。
【００２３】
ゲート状構造体１２の内部空間１２Ａには、Ｙ方向に沿って延びる基準スケール１６が設置されており、支持部材（図示せず）によってゲート状構造体１２に取り付けられている。基準スケール１６には、微細な孔（目盛り）が一定間隔（ここでは数ミリ程度の間隔）で形成されている。カメラ１１の先端部にはカメラレンズ１１Ａが設けられており、カメラレンズ１１Ａの下方、すなわち被描画体側には、ダイクロイックミラー１５が設けられている。ダイクロイックミラー１５は、支持部材（図示せず）を介してカメラ１１に一体的に取り付けられており、カメラ１１の移動に従い、ダイクロイックミラー１５はＹ方向、すなわち基準スケール１６に沿って移動する。
【００２４】
図３に示すように、カメラレンズ１１Ａの先端部には、光ファイバ（図示せず）光源ユニット１３（図２では、図示せず）が水平方向に沿って取り付けられており、光ファイバは光源ユニット１３の光をカメラレンズ１１Ａ内部へ伝達する。光源ユニット１３は、第１の光源部１３Ａと第２の光源部１３Ｂとを備え、第１の光源部１３Ａは、およそ６６０ｎｍの波長をもつ赤色光Ｌ１を発光し、第２の光源部はおよそ５２５ｎｍの波長をもつ緑色光Ｌ２を発光する。
【００２５】
第１の光源部１３Ａから放射される赤色光は、カメラレンズ１１Ａ内に設けられたプリズム１１Ｂによって偏向され、カメラレンズ１１Ａの光軸Ｅに沿ってダイクロイックミラー１５の方向へ導かれる。また、第２の光源部１３Ａから放射される緑色光も、プリズム１１Ｂによってダイクロイックミラー１５へ導かれる。
【００２６】
ダイクロイックミラー１５は、緑色に応じた波長領域（５００〜６００ｎｍ）の光を反射し、赤色に応じた長波長領域（６００ｎｍ〜）の光を透過する。したがって、第１の光源部１３Ａからの赤色光Ｌ１は、そのまま基板ＳＷに到達し、第２の光源部１３Ｂからの緑色光Ｌ２は、反射によって基準スケール１６へ導かれる。
【００２７】
基板ＳＷに到達した赤色光は反射し、反射光がダイクロイックミラー１５へ入射する。ダイクロイックミラー１５は、反射した赤色光をそのまま透過させ、プリズム１１Ｂも反射光をそのまま透過させる。これにより、赤色光Ｌ１の反射光はカメラ１１に入射する。一方、基準スケール１６に到達した緑色光は反射し、反射光がダイクロイックミラー１５へ入射する。ダイクロイックミラー１５は反射した緑色光を反射し、緑色光Ｌ２の反射光はプリズム１１Ｂを通ってカメラ１１へ入射する。
【００２８】
図４は、描画装置１０および描画制御部３０Ａのブロック図である。
【００２９】
キーボード３０Ｂに接続された描画制御部３０Ａは、システムコントロール回路３２、ＤＭＤ制御部３４、ステージ制御部３８、ステージ位置検出部４０、光源制御部４４を備える。ＣＰＵ、ＲＡＭ、ＲＯＭ等を含むシステムコントロール回路３２は、描画装置１０の動作全体を制御し、ＤＭＤ制御部３４に対して露光タイミングを制御するための制御信号を出力する。ＤＭＤ制御部３４は、あらかじめＲＯＭに格納された描画処理用プログラムに従ってＤＭＤ２０Ｂを制御する。
【００３０】
ベクタデータ（ＣＡＭデータ）である回路パターンデータは、ワークステーション（図示せず）から描画制御部３０ａのラスタ変換部４２へ入力される。入力されたベクタデータは、ラスタ走査に応じたラスタデータに変換され、ＤＭＤ制御部３４に送られる。
【００３１】
ＤＭＤ制御部３４では、ラスタデータが露光エリアの相対位置に合わせて所定のタイミングで順次読み出される。すなわち、読み出された２次元ドットデータとステージ位置検出部４０から送られてくる露光エリアの相対位置情報に基づいて、マイクロミラーをＯＮ／ＯＦＦ制御する制御信号がビットマップメモリ４３から読み出され、ＤＭＤ２０Ｂへ出力される。
【００３２】
Ｘステージ機構３７Ａは、モータ（図示せず）を備え、描画テーブル１８をＸ方向へ移動させる。Ｙステージ機構３７Ｂもモータ（図示せず）を備え、光源２０Ａ、ＤＭＤ２０Ｂを備えた露光ユニット２０をＹ方向に沿って移動させる。ステージ制御部３８は、Ｘステージ機構３７Ａ、Ｙステージ機構３７Ｂのモータ（図示せず）を制御し、露光ユニット２０、および描画テーブル１８の位置決めを制御する。
【００３３】
ステージ位置検出部４０は、カメラ１１に設けられたＣＣＤ（図示せず）から送られてくる画像信号、すなわち光検出信号と、ステージ制御部３８から送られてくるＸステージ機構３７Ａのモータ回転位置を示す位置検出信号に基づき、基板ＳＷのアライメント穴ＡＭ１〜ＡＭ４の位置座標を検出する。カメラ１１のＹ方向に沿った移動は、モータ（図示せず）を備えたカメラ駆動機構３９によって制御されており、ステージ制御部３８はカメラ駆動機構３９を制御する。
【００３４】
システムコントロール回路３２は、ステージ位置検出部４０から送られてくるアライメント孔ＡＭ１〜ＡＭ４の位置座標から、あらかじめ定められた描画データの位置座標と実測した基板ＳＷの位置座標との差を示すアライメント誤差を算出する。そして、ＤＭＤ制御部３４へ描画位置を補正する制御信号を出力する。ＤＭＤ制御部３４では、ビットマップメモリ４３におけるラスタデータの格納位置がアライメント誤差に応じて所定量シフトされる。
【００３５】
光源制御部４４は、露光ユニット２０内の光源２０Ａを駆動し、光源２０Ａからレーザ光を放射させる。また、システムコントロール回路３２は、カメラ１１に取り付けられた光源ユニット２１を駆動し、図３に示した第１の光源部１３Ａ、第２の光源部１３Ｂを選択的に点灯させる。システムコントロール回路３２は、カメラ１１から送られてくる光検出信号に基づき、モニタ３０Ｃへアライメント穴の画像を表示するように信号処理を実行し、映像信号をモニタ３０Ｃへ出力する。
【００３６】
図５は、基板ＳＷを示した平面図である。図６は、基準スケール１６のアライメント孔の位置を示した図である。図７は、アライメント穴の撮影画面を示した図である。図５〜図７を用いて、アライメント穴の計測手順について説明する。
【００３７】
基板ＳＷの四隅に設けられたアライメント穴ＡＭ１〜ＡＭ４の位置は、基板ＳＷの変形によってＸ，Ｙ方向にずれる場合があり、また、アライメント穴ＡＭ１〜ＡＭ４のいずれかの孔の位置をあらかじめオフセットさせて形成することがある。図５では、アライメント穴ＡＭ１の位置がアライメント穴ＡＭ２に対してＹ方向にずれている。
【００３８】
アライメント穴ＡＭ１〜ＡＭ４の位置を計測する場合、Ｘ，Ｙ方向別々に位置計測される。ベクタデータである回路パターンデータには、アライメント穴ＡＭ１〜ＡＭ４の位置座標データが含まれており、カメラ１１のＹ方向に沿った移動量、描画テーブル１８の移動量がアライメント穴ＡＭ１〜ＡＭ４の位置座標データに基づいて定められる。さらにＹ座標に関しては、以下に示すように、基準スケール１６を用いてアライメント穴ＡＭ１〜ＡＭ４の位置が計測される。
【００３９】
基板ＳＷが初期位置（原点位置）に配置されると、移動させるため、計測するアライメント穴のＹ座標データに基づき、カメラ１１が所定距離Ｙ方向に沿って移動する。ただし、カメラ１１は、初期状態においてＹ＝０の位置にある。例えばアライメント穴ＡＭ１を計測する場合、距離Ｙ１だけカメラ１１が移動する。
【００４０】
カメラ１１の駆動機構には送り誤差が生じ、実際にカメラが移動した位置座標と描画データに含まれたアライメント穴の位置座標との間にずれが生じる。ここでは、基準スケール１６に配列される孔のピッチ（数ミリ）の範囲内で誤差が生じる。カメラ１１が移動した後、光源ユニット２１の第２の光源部１３Ｂが点灯され、基準スケール１６に緑色光Ｌ２が照射される。送り誤差が生じる場合、基準スケール１６の計測されるアライメント穴に応じた孔の位置が、カメラの視野の中心位置からずれる。図６では、送り誤差がない状態における基準スケール１６の孔をＴ１、送り誤差の生じた実際の孔をＴ２で表す。
【００４１】
カメラ１１に設けられたＣＣＤには緑色光Ｌ２の反射光が入力され、反射光の入力位置を示す画像信号、すなわち光検出信号がＣＣＤから出力される。そして、検出信号に基づき、基準スケール１６の穴の位置ずれ量が検出される。その後、描画テーブル１８が所定量だけＸ方向に沿って移動し、カメラ１１がアライメント穴の頭上に位置決めされる。描画テーブル１８が停止すると、光源ユニット２１の第１の光源部１３Ａが点灯して赤色光Ｌ１が基板ＳＷに照射し、第２の光源部１３Ｂが消灯する。なお、Ｘ方向に関しては、Ｘステージ駆動機構３７Ａのモータに取り付けられたエンコーダから出力される位置検出信号に基づいて、描画テーブル１８の移動量が検出される。基板ＳＷは、Ｘ＝０の原点位置を初期位置として駆動される。
【００４２】
アライメント穴の位置が変形等によってずれた場合、アライメント穴がカメラ１１の視野中心位置からずれる。この場合、オペレータのキーボード操作により、アライメント穴の中心位置がカメラ１１の視野中心位置にくるようにカメラ１１を移動させる（図７参照）。カメラ１１を移動させた場合、第１の光源部１３Ａが消灯し、再び第２の光源部１３Ｂから緑色光Ｌ２が基準スケール１６に照射する。そして、基準スケール１６のアライメント穴に対応する孔の位置のずれ量が計測される。
【００４３】
システムコントロール回路３２では、カメラ１１の送り誤差によって生じる位置ずれ量、そしてアライメント穴の位置調整によって生じる位置ずれ量に基づき、描画位置座標の補正量が検出される。そして、補正量に基づきラスタデータが修正され、基板ＳＷの正確な描画位置に向けて光が照射される。
【００４４】
以上のように本実施形態によれば、カメラ１１がＹ方向（主走査方向）に沿って移動可能であり、基板ＳＷを載せた描画テーブル１８がＸ方向（副走査方向）に沿って移動可能な描画装置において、基板スケール１６がＹ方向に沿って配置されており、基台１２に対して固定されている。また、カメラ１１には、赤色光Ｌ１、緑色光Ｌ２を選択的に放射する光源ユニット２１が取り付けられ、カメラ１１の下方には、ダイクロイックミラー１５が設けられている。
【００４５】
基準スケール１６が描画テーブル１８と一体的に動かないため、描画テーブルを駆動することなく、基板に対するカメラの位置を維持したままで基準スケールの目盛りを計測することができ、描画テーブル１８の駆動量の誤差が影響することなく正確なアライメント穴の位置情報を測定することができる。
【００４６】
次に、図８を用いて、第２の実施形態である描画システムについて説明する。第２の実施形態では、基準スケール用の光源とアライメント穴計測用の光源が独立して設けられている。それ以外の構成は、第１の実施形態と同じである。
【００４７】
図８は、第２の実施形態における計測機構の平面図である。
【００４８】
光源ユニット２１’には、第１の光源部１３’Ａのみが設けられており、基準スケール１６の後方に第２の光源部１３’Ｂが設けられている。第２の光源部１３’Ｂから緑色光が放射されると、基準スケール１６の穴を通過した緑色光がダイクロイックミラー１５に入射し、ダイクロイックミラー１５によって緑色光はカメラ１１の方向へ反射される。
【００４９】
次に、図９を用いて、第３の実施形態である描画システムについて説明する。第３の実施形態では、ダイクロイックミラーがカメラとともに移動しない。それ以外の構成については、第１の実施形態と同じである。
【００５０】
図９は、第３の実施形態における計測機構の一部を概略的に示した斜視図である。ダイクロイックミラー１５’は、基準スケールと平行に延びており、ゲート状構造体１２に対して指示部材（図示せず）によって固定されている。カメラ１１は、ダイクロイックミラー１５’に沿って移動する。
【００５１】
基準スケール１６のピッチ、形状は、任意であり、他の構成による基準スケールを使用してもよい。ただし、基準スケール１６の孔のピッチは、カメラの駆動機構の送り誤差、アライメント穴の位置ずれ量などを考慮しながら定め、特定した基準スケールの孔がカメラ視野から外れないようにするため、計測した時の孔のずれがピッチの半分以下になるようにピッチを定めればよい。また、基準スケールを副走査方向にも設ける構成にしてもよい。
【００５２】
ダイクロイックミラー、プリズム以外の光学系によって赤色光、緑色光を選択的に基板、基準スケールへ導くように構成してもよい。また、赤色光、緑色光の代わりに、基板の感光材料に反応しない波長領域の光を使用すればよく、互いに波長領域の異なった光を適用すればよい。
【００５３】
ＤＭＤなどの空間光変調器の代わりに、ポリゴンミラーなどを利用するレーザビーム走査の描画装置に適用してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】本実施形態である描画システムを模式的に示した斜視図である。
【図２】カメラを含む計測機構の一部を概略的に示した斜視図である。
【図３】計測機構の平面図である。
【図４】描画装置および描画制御部のブロック図である。
【図５】基板を示した平面図である。
【図６】基準スケールのアライメント孔の位置を示した図である。
【図７】アライメント穴の撮影画面を示した図である。
【図８】第２の実施形態における計測機構の平面図である。
【図９】第３の実施形態における計測機構の一部を概略的に示した斜視図である。
【符号の説明】
【００５５】
１０  描画装置
１１  カメラ
１１Ｂ  プリズム
１３Ａ  第１の光源部
１３Ｂ  第２の光源部
１５  ダイクロイックミラー
１６  基準スケール
１８  描画テーブル
２０  露光ユニット
２０Ａ  光源
２０Ｂ  ＤＭＤ
２１  光源ユニット
３０Ａ  描画制御部
３２  システムコントロール回路
３４  ＤＭＤ制御部
３８  ステージ制御部
４０  ステージ位置検出部
ＳＷ  基板（被描画体）
Ｘ  副走査方向
Ｙ  主走査方向
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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