(57)【要約】【課題】露光する露光領域をレスポンス良く且つ精度高く区画することができる投影露光装置を提供する。【解決手段】投影露光装置１１は、フォトリソグラフィ技術を用いてウエハ１２上にパターンを形成するべく、露光に必要な照明光３１を発生させる水銀ランプ１３と、ウエハ１２にパターンを形成するためのパターン像を有するレチクル２２と、レチクル２２に照射する１ショットの露光領域を制御する液晶ブラインド１９と、ウエハ１２を載置固定するステージ２５とを有する。液晶ブラインド１９は、複数の液晶セルをマトリクス状に配置して構成されている。液晶セル中の液晶分子の配向状態を制御することにより、露光領域を決定する。【選択図】図１
2008108810.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上の被処理膜を露光するのに必要な照明光を照射することが可能な光源と、
前記基板が載置されるとともに前記照明光が照射されるステージと、
前記光源と前記ステージとの間に配置され、前記基板上に所定のパターンを形成するべく前記パターンに対応するパターン像が形成されたレチクルと、
前記光源と前記レチクルとの間に配置され、前記レチクル上に照射する露光領域を液晶の配向状態によって可変させる液晶ブラインドと、
を有することを特徴とする投影露光装置。
【請求項２】
請求項１に記載の投影露光装置であって、
前記液晶ブラインドに接続され、前記レチクル上に照射する前記露光領域を規定するデータを基に前記液晶ブラインドの液晶の配向状態を制御する制御部を有することを特徴とする投影露光装置。
【請求項３】
請求項１に記載の投影露光装置であって、
前記制御部は、基板上における製品となる第１領域及び製品とならない第２領域の一部の少なくとも一つの領域を選択して露光させることを特徴とする投影露光装置。
【請求項４】
請求項２又は３に記載の投影露光装置であって、
前記レチクルに照射された前記露光領域を検出する検出器と、
前記検出器で検出された前記露光領域と正規の露光領域とのズレ量を求める演算部と、を更に有し、
前記制御部は、前記演算部によって求められた前記ズレ量を基に、正規の露光領域になるように前記液晶の配向状態を制御することを特徴とする投影露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フォトリソグラフィ技術における露光工程に用いられる投影露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
上記した投影露光装置は、例えば、半導体プロセスにおいて、ウエハ上に微細なパターンを形成するべくフォトリソグラフィ技術における露光を行う際に用いられる。露光は、１ショット毎（ウエハ上における複数のチップ領域の集合）に、例えば、ウエハの位置を移動させることによってウエハの全面に行われる。
【０００３】
投影露光装置は、例えば、図４に示すように、露光に必要な照明光１１１を発生する水銀ランプ１１２と、水銀ランプ１１２の照明光１１１を集光する楕円鏡１１３と、照明光１１１を透過又は遮断するシャッタ１１４と、照明光１１１の照射角度を変える第１反射板１１５と、所定の波長の照明光１１１のみ透過させる干渉フィルタ１１６と、複数のレンズ素子を有しレチクル１１７（又は、フォトマスク）に照射する照明光１１１の照度の均一性を高めるフライアイレンズ１１８とを有する。
【０００４】
更に、投影露光装置１０１は、レチクル１１７上に照射する照明光１１１の領域（１ショットの露光領域）を可変させるレチクルブラインド１１９と、照明光１１１の照射角度を変える第２反射板１２０と、照明光１１１を集光するコンデンサレンズ１２１と、ウエハ１２２にパターンを形成するためのパターン像が描画されたレチクル１１７と、所定の倍率にパターン像を縮小する縮小投影レンズ１２３と、ウエハ１２２を載置固定するステージ１２４とを有する。
【０００５】
レチクルブラインド１１９は、図５に示すように、レチクル１１７に対して４方向に配置された４枚のブラインド１３１で構成されている。４枚のブラインド１３１には、それぞれ、ブラインド１３１の位置を矢印方向に移動させる送りネジ１３２と、送りネジ１３２と連結されたモータ１３３と、移動距離を求めるデジタルメイクロメータ１３４とが備えられている。以上のような４枚のブラインド１３１の位置を変えることにより、１ショットの露光領域を可変させる。
【０００６】
このようなレチクルブラインド１１９を用いて露光を行うことにより、例えば、１ショット毎、レチクル１１７に照射する照射領域（露光領域）を変更して、ウエハ１２２上に製品となるパターンのみを形成したり評価用となるパターンを加えて形成したりする。
【０００７】
【特許文献１】特開平６−３０１１９０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、レチクルブラインド１１９を構成する４枚のブラインド１３１を、送りネジ１３２によって機械的に動作させているので、劣化（磨耗など）によって区画された露光領域の精度が悪くなる。この精度を高めるために、４枚のブラインド１３１の位置精度管理（例えば、露光を行って形成されたパターンを確認）が必要になり、稼働率が低下するという問題がある。また、送りネジ１３２によって機械的に動作させているので、摺動部分からダストなどが発生し、露光に悪影響を及ぼすという問題がある。加えて、機械的に動作させているので、４枚のブラインド１３１の位置を変えるのに時間がかかるという問題がある。
【０００９】
本発明は、露光する露光領域をレスポンス良く且つ精度高く区画することができる投影露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために、本発明に係る投影露光装置は、基板上の被処理膜を露光するのに必要な照明光を照射することが可能な光源と、前記基板が載置されるとともに前記照明光が照射されるステージと、前記光源と前記ステージとの間に配置され、前記基板上に所定のパターンを形成するべく前記パターンに対応するパターン像が形成されたレチクルと、前記光源と前記レチクルとの間に配置され、前記レチクル上に照射する露光領域を液晶の配向状態によって可変させる液晶ブラインドと、を有することを特徴とする。
【００１１】
この構成によれば、液晶ブラインドの液晶の配向状態を可変させてレチクル上に照明光を照射する領域（露光領域）を決めているので、機械的な機構を用いて露光領域を可変させることと比較して、ダストなどが発生することを防ぐことが可能となる。よって、ダストの発生に起因して露光に悪影響を与えることを防ぐことができる。また、機械的な劣化（磨耗など）によって露光領域の精度に悪影響を及ぼすことを抑えることができる。更に、機械的な機構によって露光領域を可変させることと比較して、リアルタイムに可変させることができる。これにより、露光処理の稼動率を向上させることができる。
【００１２】
本発明に係る投影露光装置では、前記液晶ブラインドに接続され、前記レチクル上に照射する前記露光領域を規定するデータを基に前記液晶ブラインドの液晶の配向状態を制御する制御部を有することを特徴とする。
【００１３】
この構成によれば、制御部によって、レチクル上に照射する露光領域をデータに基づいて制御することができるので、複数のレチクルの露光領域に対応させたり、１ショット毎に露光領域を可変させたりすることが可能となる。また、機械的な機構によって露光領域を可変させることと比較して、リアルタイムに露光領域を制御することができる。
【００１４】
本発明に係る投影露光装置では、前記制御部は、基板上における製品となる第１領域及び製品とならない第２領域の一部の少なくとも一つの領域を選択して露光させることを特徴とする。
【００１５】
この構成によれば、制御部によって露光する領域を選択できるので、第１領域のみ露光したり第１領域に加えて第２領域の一部まで露光したりすることができる。よって、ショット毎露光領域を可変させるような場合であっても、リアルタイムに領域を選択させることができる。
【００１６】
本発明に係る投影露光装置では、前記レチクルに照射された前記露光領域を検出する検出器と、前記検出器で検出された前記露光領域と正規の露光領域とのズレ量を求める演算部と、を更に有し、前記制御部は、前記演算部によって求められた前記ズレ量を基に、正規の露光領域になるように前記液晶の配向状態を制御することを特徴とする。
【００１７】
この構成によれば、検出器や演算部などを用いることにより、照射された露光領域と正規の露光領域とのズレ量を求めることが可能となり、制御部によって正規の露光領域に補正させることが可能となる。よって、ズレ量を確認するのに、基板上の被処理膜を露光して形成されたパターンを基にズレ量を求める方法と比較して、早く補正することが可能となり、稼働率の低下を抑えることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明を具体化した実施形態について、図面を参照しながら説明する。
【００１９】
図１は、投影露光装置の構造を示す模式図である。以下、投影露光装置の構造を、図１を参照しながら説明する。
【００２０】
図１に示すような投影露光装置１１は、上記したように、基板としてのウエハ１２上に微細なパターン形成をするべくフォトリソグラフィ技術における露光を行う際に用いられる。投影露光装置１１は、光源としての水銀ランプ１３と、楕円鏡１４と、シャッタ１５と、第１反射板１６と、干渉フィルタ１７と、フライアイレンズ１８と、液晶ブラインド１９と、第２反射板２０と、コンデンサレンズ２１と、レチクル２２（又は、フォトマスク）と、検出器としての受光器２３と、縮小投影レンズ２４と、ステージ２５とを有する。更に、投影露光装置１１の各部を制御する、制御部としての液晶ブラインド制御部２６と、レチクルアライメント制御部２７と、演算部としての受光エリアデータ演算部２８とを有する。
【００２１】
ウエハ１２は、複数の半導体チップ（図示せず）となる領域を有する。露光は、例えば、複数の半導体チップにおける所定の領域毎（１ショット毎）、順に行っていく。また、ウエハ１２上におけるショットとショットとの間は、例えば、評価用素子（ＴＥＧ：Test Element Group）などが形成されるスクライブライン（図示せず）が配置される。なお、ショットの中にスクライブラインが含まれていてもよい。
【００２２】
水銀ランプ１３は、ウエハ１２上にパターンを形成するべく、露光に必要な照明光３１を発生させるために用いられる。水銀ランプ１３の照明光３１は、まず、各光学系を介してパターン像が形成されているレチクル２２上に照射される。次に、レチクル２２のパターン像における透過領域を通過した照明光３１が、ウエハ１２上に照射される。ウエハ１２上には、例えば、照明光３１が照射されると、その部分が不溶化するレジスト膜（図示せず）が形成されている。また、楕円鏡１４は、水銀ランプ１３の照明光３１を反射集光するために用いられる。
【００２３】
シャッタ１５は、水銀ランプ１３の照明光３１を透過又は遮断するために用いられる。照明光３１を透過することにより、レチクル２２上及びウエハ１２上に照明光３１が照射される。一方、照明光３１を遮断することにより、レチクル２２上に照明光３１が照射されず、ウエハ１２上のレジスト膜への露光が行われない。
【００２４】
第１反射板１６は、干渉フィルタ１７に照明光３１を入射させるために用いられる。また、干渉フィルタ１７は、所定の波長域の照明光３１を透過させるために用いられる。
【００２５】
フライアイレンズ１８は、均一な照度の照明光３１をレチクル２２に照射するために用いられ、複数のレンズ素子によって構成されている。
【００２６】
液晶ブラインド１９は、１ショットの露光領域を区画するために用いられる。例えば、製品となるパターンのみを形成する場合、又は、製品パターンに加えて評価用のパターンを形成する場合など、レチクル２２に照射する照射領域（露光領域）を液晶ブラインド１９によって可変することにより、選択的に対応させることが可能となる。詳述すると、液晶ブラインド１９は、複数の液晶セルをマトリクス状に配置したものである。更に、液晶ブラインド１９は、レチクル２２と略同じ大きさで構成されており、第２反射板２０を介してレチクル２２と相対する位置に配置されている。また、液晶ブラインド１９は、液晶分子の配向を制御して、透過領域５３や遮光領域５４（図３参照）を決定する。
【００２７】
第２反射板２０は、コンデンサレンズ２１に照明光３１を入射させるために用いられる。また、コンデンサレンズ２１は、レチクル２２に照射する照明光３１を集光するために用いられる。
【００２８】
レチクル２２は、ウエハ１２上に所定のパターンを形成するべく、ウエハ１２上に形成された被処理膜としてのフォトレジスト膜（図示せず）を所定のパターンに転写させるために用いられる。レチクル２２には、照明光３１を透過する透過領域と照明光３１を遮断する遮断領域（共に図示せず）とが、例えば、配線パターン状に形成されている。そして、所定のパターンに転写されたフォトレジストパターンをマスクとして、ウエハ１２上の膜をエッチングすることにより、ウエハ１２上に所定のパターンが形成される。また、レチクル２２は、水平方向（例えば、図示しないＸ方向、Ｙ方向、θ方向）に移動させることが可能に設けられている。
【００２９】
受光器２３は、レチクル２２に照射された照明光３１の照射領域を特定するために用いられる。受光器２３は、例えば、フォトダイオードを用いて構成されており、このフォトダイオードに流れる電流を基に、照射された領域を検出する。この受光器２３を用いることによって、液晶ブラインド１９を介して照明光３１が照射された照射領域（露光領域）を特定することが可能となっている。
【００３０】
縮小投影レンズ２４は、レチクル２２のパターン像を縮小して転写（露光）するために用いられる。レチクル２２に形成されたパターン像は、縮小投影レンズ２４を介すことにより、例えば、１／５に縮小されて転写される。
【００３１】
ステージ２５は、ウエハ１２を載置固定するために用いられる。ウエハ１２を固定する方法として、例えば、静電吸着法が用いられる。また、ステージ２５は、ウエハ１２における所定の露光領域（１ショット）の露光が終了すると、次の露光領域を露光するために、水平方向（例えば、Ｘ方向、Ｙ方向、θ方向）に移動することが可能に設けられている。
【００３２】
液晶ブラインド制御部２６は、液晶ブラインド１９の透過領域５３や遮光領域５４（共に、図３参照）を制御して、レチクル２２に照明光３１を照射する照射領域を可変させるために用いられる。また、液晶ブラインド制御部２６は、記憶部（図示せず）が保持しているショット領域（露光領域）のデータを読み出し、このデータに基づいて、液晶ブラインド１９の縦透明電極４２と横透明電極４６（共に、図２参照）とに電圧を印加する。そして、液晶ブラインド１９は、印加された電圧に基づいて透過領域５３又は遮光領域５４が決定される。
【００３３】
レチクルアライメント制御部２７は、例えば、ウエハ１２との相対関係を合わせるために用いられる。レチクルアライメント制御部２７は、例えば、投影露光装置１１にレチクル２２やウエハ１２を固定した際、ウエハ１２に形成されたアライメントマークを基準に、レチクル２２に形成されたアライメントマークが所定の位置関係になるように、レチクル２２を水平方向に移動させる。
【００３４】
また、レチクルアライメント制御部２７は、液晶ブラインド制御部２６と接続されており、例えば、ウエハ１２とレチクル２２との相対関係を合わせた際に、レチクル２２と液晶ブラインド１９との相対関係がずれてしまうことを防ぐために、液晶ブラインド制御部２６と同期させて制御することが可能になっている。これによれば、レチクル２２の位置を移動させた際、液晶ブラインド１９の位置を追従させて移動させることができ、別々に位置合わせを行うような煩わしさをなくすことができる。
【００３５】
受光エリアデータ演算部２８は、例えば、受光器２３によって検出された情報からレチクル２２に照射された露光領域を特定したり、この露光領域のデータと正規の露光領域とのデータをを比較したりするために用いられる。また、受光エリアデータ演算部２８は、比較して得られた露光領域のズレ量のデータを、液晶ブラインド制御部２６にフィードバックすることが可能となっている。液晶ブラインド制御部２６は、このフィードバックされたズレ量を基に、正規の露光領域になるように液晶ブラインド１９の液晶の配向状態を制御する。これにより、ウエハ１２上の被処理膜を露光及びパターンニングして、そのパターンから露光領域を検査するような検査工数を削減することができる。
【００３６】
図２は、液晶ブラインドの要部を拡大して示す模式図である。（ａ）は、液晶ブラインドを上方から見た模式平面図である。（ｂ）は、（ａ）の液晶ブラインドのＡ−Ａ'断面を示す模式断面図である。以下、液晶ブラインドの構造を、図２を参照しながら説明する。
【００３７】
図２に示すように、液晶ブラインド１９は、例えば、画素の駆動方式としてパッシブマトリクス方式を採用している。液晶ブラインド１９は、基板４１と、縦透明電極４２と、第１配向膜４３と、液晶層４４と、第２配向膜４５と、横透明電極４６とを有する。なお、横透明電極４６上に配置される基板や、上下の基板を挟むように配置される偏光板などの記載は省略する。
【００３８】
基板４１は、例えば、ガラス、石英、プラスティック等の光透過性を有する透明材料で形成されている。これにより、液晶層４４を通過した照明光３１を透過させて、基板４１の外側に出射させることが可能となっている。
【００３９】
縦透明電極４２は、互いを略平行かつ離間させて、基板４１上に複数形成されている。縦透明電極４２は、例えば、透明材料であるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）を材料として形成される。
【００４０】
第１配向膜４３は、複数の縦透明電極４２の全面を覆うようにして基板４１上に形成されている。この第１配向膜４３は、例えば、ポリイミド等の有機薄膜から形成されている。また、第１配向膜４３の表面には、電圧が印加されていないときの液晶層４４の配向方向を規定するためのラビング処理が施されている。
【００４１】
液晶層４４は、第１配向膜４３とその上方に配置されている第２配向膜４５とに挟持されている。この液晶層４４は、例えば、ＴＮ（Twisted Nematic）モード、ＳＴＮ（Super Twisted Nematic）モード等の液晶が用いられる。また、液晶の配向状態を制御して照明光３１を透過したり遮断したりできるものであれば、これらに限定されない。
【００４２】
第２配向膜４５は、液晶層４４上に形成されている。第２配向膜４５は、第１配向膜４３と同様に、例えば、ポリイミド等の有機薄膜から形成されている。また、第２配向膜４５の表面（液晶層４４側）には、電圧が印加されていないときの液晶層４４の配向方向を規定するためのラビング処理が施されている。
【００４３】
横透明電極４６は、互いを略平行かつ離間させて、第２配向膜４５上に複数形成されている。また、横透明電極４６は、縦透明電極４２と略直交する方向に形成されている。横透明電極４６は、例えば、縦透明電極４２と同様に、透明材料であるＩＴＯを材料として形成される。
【００４４】
以上のような構成において、縦透明電極４２と横透明電極４６とが重なっている複数の領域それぞれが、液晶セル４７として機能する。また、液晶ブラインド制御部２６（図１参照）は、複数の縦透明電極４２及び横透明電極４６のそれぞれに印加する電圧及びタイミングを制御することにより、複数の液晶セル４７をそれぞれ制御する。
【００４５】
各液晶セル４７の番地に対応した縦透明電極４２と横透明電極４６とに電圧を印加する（書き込み信号を与える）ことにより、電圧が印加された液晶セル４７中の液晶分子の配向状態を変化させ、液晶セル４７毎の照明光３１の透過又は遮断を選択的に制御することができる。その結果、液晶セル４７毎に照明光３１の遮断、透過を選択制御され、露光領域を可変させることが可能な液晶ブラインド１９が実現される。
【００４６】
図３は、液晶ブラインドとレチクルとの関係を示す斜視図である。（ａ）は、液晶ブラインドに電圧を印加しない場合の液晶ブラインドとレチクルとの関係を示す斜視図である。（ｂ）は、液晶ブラインドに電圧を印加した場合の液晶ブラインドとレチクルとの関係を示す斜視図である。以下、液晶ブラインドとレチクルとの関係を、図３を参照しながら説明する。
【００４７】
図３に示すように、液晶ブラインド１９は、第２反射板２０（図１参照）などを介して、レチクル２２に相対する位置に配置されている。また、レチクル２２は、ウエハ１２上における製品となる第１領域に相当する第１エリア５１と、製品とならない領域に相当する第２エリア５２とを有する（図３（ａ）参照）。
【００４８】
図３（ａ）に示すように、液晶ブラインド１９（詳しくは、縦透明電極４２及び横透明電極４６）に電圧を印加していない場合、液晶ブラインド１９は、全域が照明光３１を透過することが可能な透過領域５３となっている。
【００４９】
一方、図３（ｂ）に示すように、液晶ブラインド１９（詳しくは、各液晶セル４７の番地に対応する縦透明電極４２及び横透明電極４６）に電圧が印加された場合、印加された液晶セル４７中の液晶分子の配向が揃って、照明光３１を遮断する遮光領域５４が形成される。
【００５０】
液晶ブラインド１９に照射された照明光３１は、このような状態の液晶ブラインド１９を介すことにより、透過領域５３を通過した照明光３１が、例えば、レチクル２２における第１エリア５１と、第１エリア５１の周囲に配置されたスクライブエリア５５（評価用パターンや調整用パターンなどが形成された領域）とに照射される。また、レチクル２２における遮光領域５４に相当する領域５６は、照明光３１が照射されない。また、液晶ブラインド１９の透過領域５３を変えて、レチクル２２における第１エリア５１のみ照明光３１を照射するようにしてもよい。
【００５１】
以上のように、液晶ブラインド１９を用いて、透過領域５３や遮光領域５４を適宜選択して領域を制御することにより、レチクル２２における第１エリア５１のみ照明光３１を照射したり、スクライブエリア５５を含めた領域まで照明光３１を照射したりすることができる。また、ショット毎に露光領域を可変させるような特殊な場合であっても、番地に対応する液晶セル４７への電圧の印加によって、リアルタイムに透過領域５３や遮光領域５４を制御することができる。よって、露光処理を中断することなく対応することが可能となり、スループットを向上させることができる。
【００５２】
また、このような液晶ブラインド１９を用いて露光処理を行うことにより、従来使用しているレチクル２２を活用させることが可能となり、例えば、液晶の配向を利用したレチクルなどを使用する方法と比較して、資産の有効活用を図ることができるとともに、かかるコストを抑えることができる。
【００５３】
以上詳述したように、本実施形態によれば、以下に示す効果が得られる。
【００５４】
（１）本実施形態によれば、液晶ブラインド１９の液晶の配向状態を変えて、レチクル２２に照射する照明光３１の照射領域（露光領域）を決めるので、機械的な機構によって露光領域を可変させることと比較して、ダストなどが発生することを防ぐことができる。よって、ダストの発生に起因して露光に悪影響（例えば、パターン欠陥など）を与えることを防ぐことができる。また、磨耗などの機械的な劣化によって、露光領域の精度が低下することを抑えることができる。更に、機械的な機構によって露光領域を可変させることと比較して、レスポンス良くリアルタイムに可変させることが可能となる。よって、稼働率を向上させることができる。
【００５５】
（２）本実施形態によれば、受光器２３や受光エリアデータ演算部２８を用いることによって、液晶ブラインド１９を介してレチクル２２に照射した露光領域と正規の露光領域とのズレ量を求めることが可能となり、このズレ量を液晶ブラインド制御部２６にフィードバックすることで正規の露光領域に補正することができる。よって、露光を行ってウエハ１２上に形成されたパターンを基にズレ量を確認する方法と比較して、稼働率が低下することを抑えることができる。また、ショット毎に露光領域を可変させるような特殊な場合であっても、リアルタイムに補正を行うことが可能となるとともに、露光精度を高くすることができる。
【００５６】
（３）本実施形態によれば、液晶の配向を利用する液晶ブラインド１９を用いることにより、レチクル２２の大きさと略同等の大きさのスペースで構成することが可能となり、従来の機械的な機構によってレチクルブラインド１１９を動作させることと比較して、送りネジ１３２やモータ１３３、マイクロメータ１３４などを用いる必要がないことから、全体のスペースを小さくすることができる。
【００５７】
（４）本実施形態によれば、上記のような液晶ブラインド１９を用いることにより、機械的な機構によって露光領域を可変させることと比較して、機械的な劣化に起因する露光精度が低下しないように維持するためのメンテナンス費用や、メンテナンス時間を少なくすることができる。
【００５８】
なお、本実施形態は上記に限定されず、以下のような形態で実施することもできる。
【００５９】
（変形例１）
上記したように、投影露光装置１１にレチクル２２などをセットした際、受光器２３や受光エリアデータ演算部２８を用いて、液晶ブラインド１９を介してレチクル２２に照射された露光領域と正規の露光領域とのズレ量を比較することに加えて、例えば、露光処理における１ショット毎に、ズレ量を比較するようにしてもよい。このズレ量を液晶ブラインド制御部２６にフィードバックして、１ショット毎補正を行っていくことにより、ウエハ１２面内での露光領域（ショット毎）のバラツキを少なくすることができる。更に、ズレ量を基に補正された補正データを記憶部に記憶させることにより、同じ露光処理を行う複数枚のウエハ１２に対して、同じように補正を行うことができる。また、フィードバックしたズレ量を加味して露光領域の良否を判断し、良ければ露光を開始するなどテストブラインドのようなシーケンスを用いるようにしてもよい。
【００６０】
（変形例２）
上記したように、受光器２３や受光エリアデータ演算部２８を用いて、レチクル２２に照射された露光領域と正規の露光領域とのズレ量をフィードバックして自動で補正を行うことに代えて、例えば、露光処理を行ってウエハ１２上にパターンを形成し、形成されたパターンの状態から求めた露光領域と正規の露光領域とのズレ量を、液晶ブラインド制御部２６に手動で入力して補正するようにしてもよい。この場合、液晶ブラインド制御部２６に、オフセット値を手入力することが可能な入力機構が備えられている。これによれば、受光器２３や受光エリアデータ演算部２８が備えられない投影露光装置を用いる場合であっても、ズレ量を補正することが可能となり、正規の露光領域に近づけて露光することができる。
【００６１】
（変形例３）
上記したように、シャッタ１５を用いて、露光を行う際に照明光３１を透過させ、露光が終了したときに照明光３１を遮断させることに加えて、シャッタ１５の開閉時間を利用して露光時間の制御を行うようにしてもよい。なお、シャッタ１５には、開閉時間を制御するシャッタ制御部（図示せず）が接続されている。また、シャッタ１５の開閉を、上記したような液晶分子の配向を利用して、照明光３１の透過又は遮断を行うようにしてもよい。これによれば、比較的簡単に露光時間を制御させることができる。また、上記した液晶ブラインド１９を用いて、露光領域を可変させることに加えて、露光時間を制御するような照明光３１の透過又は遮断を行うようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】本発明の実施形態に係る投影露光装置の構造を示す模式図。
【図２】液晶ブラインドの要部を拡大して示す模式図であり、（ａ）は液晶ブラインドを上方から見た模式平面図、（ｂ）は（ａ）の液晶ブラインドのＡ−Ａ'断面を示す模式断面図。
【図３】液晶ブラインドとレチクルとの関係を示す斜視図であり、（ａ）は液晶ブラインドに電圧を印加しない場合の液晶ブラインドとレチクルとの状態を示す斜視図、（ｂ）は液晶ブラインドに電圧を印加した場合の液晶ブラインドとレチクルとの状態を示す斜視図。
【図４】従来の投影露光装置の構造を示す模式図。
【図５】従来のレチクルブラインドの構造を模式的に示す斜視図。
【符号の説明】
【００６３】
１１…投影露光装置、１２…基板としてのウエハ、１３…光源としての水銀ランプ、１４…楕円鏡、１５…シャッタ、１６…第１反射板、１７…干渉フィルタ、１８…フライアイレンズ、１９…液晶ブラインド、２０…第２反射板、２１…コンデンサレンズ、２２…レチクル、２３…検出器としての受光器、２４…縮小投影レンズ、２５…ステージ、２６…制御部としての液晶ブラインド制御部、２７…レチクルアライメント制御部、２８…受光エリアデータ演算部、３１…照明光、４１…基板、４２…縦透明電極、４３…第１配向膜、４４…液晶層、４５…第２配向膜、４６…横透明電極、４７…液晶セル、５１…第１領域としての第１エリア、５２…第２エリア、５３…透過領域、５４…遮光領域、５５…第２領域としてのスクライブエリア、５６…領域。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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