(57)【要約】【課題】走査される光ビームのビームスポット位置を精度よく測定する。【解決手段】光学特性測定装置７０の受光装置７１を、光走査装置１００から射出された光ビームＬＢ１,ＬＢ２,ＬＢ３,ＬＢ４がそれぞれ入射する受光位置に、Ｘステージ及びＹステージを駆動することにより順次位置決めする際に、受光装置７１のステージ座標系における位置座標を、誤差量δ（Ｘ）、δ（Ｙ）及び角度誤差Δθに基づいて補正する。これにより、精度よくステージ座標系における光ビームＬＢ１〜ＬＢ４のビームスポット位置をそれぞれ計測することが可能となる。【選択図】図３
2008058492.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の被走査面を走査する走査光学系ユニットから射出される光ビームを受光手段によって受光し、前記複数の被走査面のうちの少なくとも２つの被走査面を含む平面内における、前記光ビームのビームスポット位置を測定する前記走査光学系ユニットの光学特性測定装置であって、
前記受光手段を、前記平面内で、第１軸方向及び前記第１軸方向に直交する第２軸方向に移動して、前記ビームスポットの軌道上にある受光位置に位置決めする位置決め手段と；
前記位置決め手段によって位置決めされる際に発生する、前記受光位置と前記位置決め手段により位置決めされた受光手段の位置との誤差量を測定する誤差量測定手段と；を備えることを特徴とする光学特性測定装置。
【請求項２】
前記位置決め手段は、前記受光手段を保持して前記第１軸方向へ移動する第１移動手段と、前記受光手段を保持する第１移動手段を、前記第２軸方向へ移動する第２移動手段と、を備えることを特徴とする請求項１に記載の光学特性測定装置。
【請求項３】
前記誤差量測定手段は、前記第１軸方向の前記誤差量を、前記第１軸方向に直交する基準面に対する前記第２移動手段の変位に基づいて測定することを特徴とする請求項２に記載の光学特性測定装置。
【請求項４】
前記誤差量測定手段は、前記第２軸方向の前記誤差量を、前記第２軸方向に直交する基準面に対する前記受光手段の変位に基づいて測定することを特徴とする請求項２又は３に記載の光学特性測定装置。
【請求項５】
前記第１移動手段の移動量を測定する移動量測定手段を更に備える請求項１〜４のいずれか一項に記載の光学特性測定装置。
【請求項６】
前記移動量測定手段は、前記第１移動手段の前記第１軸方向両端の、前記第２方向に関する移動量をそれぞれ計測し、前記移動量の差に基づいて前記受光手段の前記第１軸方向及び第２軸方向に直交する第３軸回りの角度を計測すること特徴とする請求項５に記載の光学特性測定装置。
【請求項７】
前記受光位置の位置情報と、前記誤差量に基づいて前記光ビームのビームスポット位置を算出する位置算出手段を更に備える請求項１〜６に記載の光学特性測定装置。
【請求項８】
前記誤差量測定手段は、予め異なる環境条件に対応する誤差量を記憶し、前記位置算出手段は、前記光ビームのビームスポット位置の測定時の環境条件に対応する誤差量に基づいて、前記光ビームのビームスポット位置を算出することを特徴とする請求項７に記載の光学特性測定装置。
【請求項９】
前記位置算出手段は、前記第３軸回りの角度に基づいて、前記光ビームのビームスポット位置を算出することを特徴とする請求項７又は８に記載の光学特性測定装置。
【請求項１０】
前記光学特性測定装置を、前記平面内の副走査方向へ移動する移動ステージを更に備える請求項１〜９のいずれか一項に記載の光学特性測定装置。
【請求項１１】
前記移動ステージは、副走査方向に対して熱膨張可能に延設されたリニアガイドと、該リニアガイドに沿って副走査方向に移動可能な可動子を備え、前記光学特性測定装置は前記可動子に固定されていることを特徴とする請求項１０に記載の光学特性測定装置。
【請求項１２】
前記移動ステージは、前記走査光学系ユニットを前記光学特性測定装置の上方で支持する支持部材を備えることを特徴とする請求項１０又は１１に記載の光学特性測定装置。
【請求項１３】
前記支持部材は、前記光学系ユニットを支持する複数本の支柱と、前記支柱を補強する梁を備え、前記梁は前記支柱が配置されたベースと熱膨張率が同じであることを特徴とする請求項１２に記載の光学特性測定装置。
【請求項１４】
前記移動ステージは、前記受光手段と異なるセンサを、前記走査光学系ユニットの上方で支持する補助部材を備えることを特徴とする請求項１０〜１３のいずれか一項に記載の光学特性測定装置。
【請求項１５】
光学特性の調整が可能な走査光学系ユニットにおいて、
前記光学特性は、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の光学特性測定装置の測定結果に基づいて調整されていることを特徴とする走査光学系ユニット。
【請求項１６】
前記光学特性は、被走査面に形成される走査線の傾きであることを特徴とする請求項１５に記載の走査光学系ユニット。
【請求項１７】
前記光学特性は、被走査面に形成される走査線の曲がりであることを特徴とする請求項１５又は１６に記載の走査光学系ユニット。
【請求項１８】
前記光学特性は、被走査面に形成される走査線の、主走査方向又は副走査方向の位置であることを特徴とする請求項１５〜１７のいずれか一項に記載の走査光学系ユニット。
【請求項１９】
請求項１５〜１８のいずれか一項に記載の走査光学系ユニットを備える画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学特性測定装置、走査光学系ユニット、及び画像形成装置に係り、更に詳しくは、走査される光ビームを受光して、前記光ビームのビームスポット位置を測定する光学特性測定装置、該光学特性測定装置の測定結果に基づいて光学特性が調整された走査光学系ユニット、及び該走査光学系ユニットを備える画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、レーザプリンタやデジタル複写機といった各種の画像形成装置には、例えば感光体の被走査面上にレーザ光を集光させることにより形成された光スポットを、主走査方向へ移動させて被走査面を走査する走査光学系が広く用いられ、近年では、光源のマルチビーム化や走査線の高密度化にともない、被走査面上における走査精度の更なる向上が要求されている。
【０００３】
この種の走査光学系では、被走査面上における光スポットの移動軌跡（以下、主走査ラインという）は、正確な直線であることが理想的であるが、実際には種々の要因で直線とはならず、僅かな曲がりや傾きが生じてしまう。またレーザ光の偏向を、例えば複数の偏向反射面を有する回転多面鏡により行う場合には、各偏向反射面ごとの偏向による主走査ラインが、いわゆる面倒れの影響で、被走査面上の主走査方向に直交する方向（以下、副走査方向という）に微小距離変動することが考えられる。このような主走査ラインの曲がりや傾き、及び副走査方向の微小距離変動は、所定の許容範囲内に収める必要があり、走査線を高密度化する場合や、マルチビームにより走査を行う場合には、その許容範囲はかなり狭くなる。そこで、走査光学系を実際に組み立てる際やその組み立て後には、上記主走査ラインの曲がりや副走査方向の変動の計測、及び調整等が行われている。
【０００４】
また、主走査ラインは直線であることに加え、主走査方向へ等速で走査されることが理想的であるが、種々の要因で走査速度は等速にはならず、僅かな速度変化が生じる。この速度変化は、倍率誤差やリニアリティなどと呼ばれ、色ずれの要因となるため、被走査面上の所望の主走査位置でその主走査方向のリニアリティを測定し補正する必要が生じる。
【０００５】
特に、各色毎に異なったステーションで走査を行うタンデム方式のカラー出力機の場合には、各ステーション間で、ビームの位置間隔にずれがあったり、主走査ラインの曲がりや副走査方向の変動及び走査速度の速度変化が異なっている場合等には、副走査方向の色ずれの要因となるため、各ステーション毎の走査ラインの位置関係を正確に測定し調整する必要がある。このような背景から、例えば特許文献１に示されるように、所望の主走査方向の位置における副走査方向の走査位置を測定するための計測装置が提案されている。特許文献１に記載の計測装置は、１台のＣＣＤカメラを移動ステージにより、所望の主走査方向の位置まで移動して、その位置での副走査方向の走査位置を測定する光学特性測定装置であり、この光学特性測定装置では、ＣＣＤカメラを搭載する移動ステージの絶対位置を正確に知る必要がある。
【０００６】
【特許文献１】特開２０００−３９５７３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は係る事情の下になされたもので、その第１の目的は、被走査面上を移動するビームスポット位置を正確に測定することが可能な光学特性測定装置を提供することにある。
【０００８】
また、本発明の第２の目的は、走査精度の向上を図ることが可能な走査光学系ユニットを提供することにある。
【０００９】
また、本発明の第３の目的は、高品質な画像を形成することが可能な画像形成装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、第１の観点からすると、複数の被走査面を走査する走査光学系ユニットから射出される光ビームを受光して、前記複数の被走査面のうちの少なくとも２つの被走査面を含む平面内の、前記光ビームのビームスポット位置を測定する光学特性測定装置であって、前記光ビームを受光する受光手段と；前記受光手段を、前記平面内で、第１軸方向及び前記第１軸方向に直交する第２軸方向に移動して、前記ビームスポットの軌道上にある受光位置に位置決めする位置決め手段と；前記位置決め手段によって位置決めされる際に発生する、前記受光位置と前記位置決め手段により位置決めされた受光手段の位置との誤差量を測定する誤差量測定手段と；を備える光学特性測定装置である。
【００１１】
これによれば、受光手段は、位置決め手段により前記走査光学ユニットの少なくとも２つの被走査面を含む平面内（以下、測定面という）を移動され、前記測定面上のビームスポットの軌道上にある受光位置に位置決めされる。その際に、誤差量測定手段により、目標位置である受光位置と、位置決め手段により実際に位置決めされた位置との誤差量が測定される。したがって、この誤差量を加味して光ビームの測定面内におけるビームスポット位置を計測することができるので、結果的に、被走査面上を移動するビームスポットの位置を正確に測定することが可能となる。
【００１２】
また、本発明は、第２の観点からすると、光学特性の調整が可能な走査光学系ユニットにおいて、前記光学特性は、本発明の光学特性測定装置の測定結果に基づいて調整されていることを特徴とする走査光学系ユニットである。
【００１３】
これによれば、走査光学系ユニットの光学特性は、測定誤差が補償された測定結果に基づいて調整されている。したがって、被走査面の走査精度の向上を図ることが可能となる。
【００１４】
また、本発明は第３の観点からすると、本発明の走査光学系ユニットを備える画像形成装置である。これによれば、画像形成装置は、本発明の走査光学系ユニットを備えている。したがって、高品質な画像を形成することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
《第１の実施形態》
【００１６】
以下、本発明の第１の実施形態を図１〜図１１に基づいて説明する。図１には、第１の実施形態に係る、画像形成装置としてのプリンタ１０の概略構成が示されている。
【００１７】
プリンタ１０は、カールソンプロセスを用いて、例えば、黒、イエロー、マゼンダ、シアンのトナー像を普通紙（用紙）上に重ね合わせて転写することにより、多色画像を印刷するタンデム方式のカラープリンタである。このプリンタ１０は、図１に示されるように、後述する光学特性測定装置により、例えば走査線の傾きや曲がり等の光学特性が測定される光走査装置１００、４本の感光ドラム３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃ、３０Ｄ、転写ベルト４０、位置ずれ検出装置４５、給紙トレイ６０、給紙コロ５４、第１レジストローラ対５６、第２レジストローラ対５２、定着ローラ５０、排紙ローラ５８、及び上記構成部品を収容するほぼ直方体状のハウジング１２などを備えている。
【００１８】
ハウジング１２には、上面に印刷が終了した用紙が排出される排紙トレイ１２ａが形成され、その排紙トレイ１２ａの下方に光走査装置１００が配置されている。
【００１９】
光走査装置１００は、感光ドラム３０Ａに対しては、上位装置（パソコン等）から供給された画像情報に基づいて変調された黒色画像成分の光ビームを走査し、感光ドラム３０Ｂに対してはシアン画像成分の光ビームを走査し、感光ドラム３０Ｃに対してはマゼンダ画像成分の光ビームを走査し、感光ドラム３０Ｄに対してはイエロー画像成分の光ビームを走査する。なお、光走査装置１００の構成については後述する。
【００２０】
４本の感光ドラム３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃ、３０Ｄは、その表面に、光ビームが照射されると、その部分が導電性となる性質をもつ感光層が形成された円柱状の部材であり、光走査装置１００の下方にＸ軸方向に沿って等間隔に配置されている。
【００２１】
感光ドラム３０Ａは、ハウジング１２内部の−Ｘ側端部にＹ軸方向を長手方向として配置され、不図示の回転機構により図１における時計回り（図１の矢印に示される方向）に回転されるようになっている。そして、その周囲には、図１における１２時（上側）の位置に帯電チャージャ３２Ａが配置され、２時の位置にトナーカートリッジ３３Ａが配置され、１０時の位置にクリーニングケース３１Ａが配置されている。
【００２２】
感光ドラム３０Ｂは、感光ドラム３０Ａの＋Ｘ側に所定間隔隔てて配置され、不図示の回転機構により、図１における時計回り（矢印に示される方向）に回転されるようになっている。そして、その周囲には、前述の感光ドラム３０Ａと同様の位置関係で、帯電チャージャ３２Ｂ、トナーカートリッジ３３Ｂ及びクリーニングケース３１Ｂがそれぞれ配置されている。
【００２３】
感光ドラム３０Ｃは、感光ドラム３０Ｂの＋Ｘ側に所定間隔隔てて配置され、不図示の回転機構を介して、図１における時計回り（矢印に示される方向）に回転されるようになっている。そして、その周囲には、前述の感光ドラム３０Ａと同様の位置関係で、帯電チャージャ３２Ｃ、トナーカートリッジ３３Ｃ及びクリーニングケース３１Ｃがそれぞれ配置されている。
【００２４】
感光ドラム３０Ｄは、感光ドラム３０Ｃの＋Ｘ側に所定間隔隔てて配置され、不図示の回転機構により、図１における時計回り（矢印に示される方向）に回転されるようになっている。そして、その周囲には、前述の感光ドラム３０Ａと同様の位置関係で、帯電チャージャ３２Ｄ、トナーカートリッジ３３Ｄ及びクリーニングケース３１Ｄがそれぞれ配置されている。
【００２５】
以下、感光ドラム３０Ａ、帯電チャージャ３２Ａ、トナーカートリッジ３３Ａ及びクリーニングケース３１Ａを合わせて第１ステーションと呼び、感光ドラム３０Ｂ、帯電チャージャ３２Ｂ、トナーカートリッジ３３Ｂ及びクリーニングケース３１Ｂを合わせて第２ステーションと呼び、感光ドラム３０Ｃ、帯電チャージャ３２Ｃ、トナーカートリッジ３３Ｃ及びクリーニングケース３１Ｃを合わせて第３ステーションと呼び、感光ドラム３０Ｄ、帯電チャージャ３２Ｄ、トナーカートリッジ３３Ｄ及びクリーニングケース３１Ｄを合わせて第４ステーションと呼ぶものとする。
【００２６】
転写ベルト４０は、無端環状の部材で、感光ドラム３０Ａの下方に配置された従動ローラ４０ａと、感光ドラム３０Ｄの下方に配置された従動ローラ４０ｃと、これらの従動ローラ４０ａ、４０ｃより少し低い位置に配置された駆動ローラ４０ｂに、上端面が感光ドラム３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃ、３０Ｄそれぞれの下端面に接するように巻回されている。そして、駆動ローラ４０ｂが図１における反時計回りに回転することにより、反時計回り（図１の矢印に示される方向）に回転される。また、転写ベルト４０の＋Ｘ側端部近傍には、上述した帯電チャージャ３２Ａ、３２Ｂ、３２Ｃ、３２Ｄとは逆極性の電圧が印加された転写チャージャ４８が配置されている。
【００２７】
給紙トレイ６０は、転写ベルト４０の下方に配置されている。この給紙トレイ６０は略直方体状のトレイであり、内部に印刷対象としての複数枚の用紙６１が積み重ねられて収納されている。そして、給紙トレイ６０の上面の＋Ｘ側端部近傍には矩形状の給紙口か形成されている。
【００２８】
給紙コロ５４は、給紙トレイ６０から用紙６１を一枚ずつ取り出し、一対の回転ローラから構成されるレジストローラ５６を介して、転写ベルト４０と転写チャージャ４１によって形成される隙間に導出する。
【００２９】
定着ローラ５０は、一対の回転ローラから構成され、用紙６１を過熱するとともに加圧し、レジストローラ５２を介して、排紙ローラ５８へ導出する。
【００３０】
排紙ローラ５８は一対の回転ローラから構成され、導出された用紙６１を排紙トレイ１２ａに順次スタックする。
【００３１】
次に、光走査装置１００の構成について説明する。図２は、光走査装置１００の光学レイアウト図である。図２に示されるように、光走査装置１００は、光源１３０と、カップリングレンズ１４６、第１シリンダレンズ１０２、及び第２シリンダレンズ１０３を含む集光光学系と、例えば６つの偏向面を有するポリゴンミラー１０４、ｆθレンズ１０５、４つの反射ミラー１０６Ａ、１０６Ｂ、１０６Ｃ、１０６Ｄ、４つのトロイダルレンズ１０７Ａ、１０７Ｂ、１０７Ｃ、１０７Ｄ、及び４つの反射ミラー１０８Ａ、１０８Ｂ、１０８Ｃを含む走査光学系とを備えている。
【００３２】
光源１３０は、複数の発光点を有する面発光型半導体レーザアレイである。各発光点は第１〜第４ステーションに対応する４つの発光点Ｇ１〜Ｇ４に区分され、各発光点からは、ポリゴンミラー１０４に向かう光ビームが射出される。
【００３３】
カップリングレンズ１４６は、第１シリンダレンズ１０２及び第２シリンダレンズ１０３は、光源１３０から射出される光ビームの経路上に、光源１３０に近い方から順に配置されている。
【００３４】
前記カップリングレンズ１４６は、光ビーム１４３から射出された光ビームを、第１シリンダレンズ１０２の入射側で一旦集光するように整形する。
【００３５】
第１シリンダレンズ１０２は、光源１３０から射出された光ビームを所定の形状に整形し、第２シリンダレンズ１０３は、第１シリンダレンズを通過した光ビームを、ポリゴンミラー１０４の偏向面へ集光する。
【００３６】
ポリゴンミラー１０４は、高さの低い正六角柱状部材からなり、側面には６面の偏向面が形成されている。そして、Ｚ軸に平行な軸を中心に、不図示の回転機構により一定の角速度で回転されている。これにより、上述した光源１３０から射出し、第１シリンダレンズ１０２及び第２シリンダレンズ１０３を経由して、ポリゴンミラー１０４の偏向面に集光された光ビームは、ポリゴンミラー１０４の回転により、一定の角速度でＹ軸に沿って偏向される。
【００３７】
ｆθレンズ１０５は、光ビームの入射角に比例した像高をもち、ポリゴンミラー１０４により、一定の角速度で偏向される光ビームの像面をＹ軸に対して等速移動させる。
【００３８】
反射ミラー１０６Ａ、１０６Ｂ、１０６Ｃ、１０６Ｄは、長手方向をＹ軸方向とし、ｆθレンズを経由した光ビームを折り返し、トロイダルレンズ１０７Ａ、１０７Ｂ、１０７Ｃ、１０７Ｄそれぞれに導光する。
【００３９】
トロイダルレンズ１０７Ａは、長手方向をＹ軸方向とし両端がハウジング１２に対し固定された支持板１１０Ａに安定的に支持されている。そして、反射ミラー１０６Ａにより折れ返された光ビームを、Ｙ軸方向を長手方向とする反射ミラー１０８Ａを介して、感光ドラム３０Ａの表面に結像する。
【００４０】
トロイダルレンズ１０７Ｂ、１０７Ｃ、１０７Ｄは、長手方向をＹ軸方向とし、一端（＋Ｙ側）がハウジング１２に対し固定され、他端（−Ｙ側）が、例えば回転モータと送りねじ機構を備える駆動機構１１２Ｂ、１１２Ｃ、１１２Ｄにより支持された支持板１１２Ｂ、１１２Ｃ、１１２Ｄに安定的に支持されている。そして、反射ミラー１０６Ｂ、１０６Ｃ、１０６Ｄによりそれぞれ折れ返された光ビームを、Ｙ軸方向を長手方向とする反射ミラー１０８Ｂ、１０８Ｃ、１０８Ｄを介して、感光ドラム３０Ｂ、３０Ｃ、３０Ｄの表面にそれぞれ結像する。
【００４１】
上述のように構成された光走査装置１００では、各発光点群Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、Ｇ４からの複数の光ビームは、カップリングレンズ１４６により一旦交差され、第１シリンダレンズ１０２により副走査方向の間隔が拡張されて第２のシリンダレンズ１０３に入射する。第２のシリンダレンズ１０３は、入射した発光点群Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、Ｇ４それぞれから射出される光ビームをポリゴンミラー１０４の偏向面の近傍に集光する。ポリゴンミラー１０４で偏向された光ビームは、光ビーム同士の間隔を広げつつ、ｆθレンズ１０５に入射する。
【００４２】
ｆθレンズ１０５に入射した発光点Ｇ１からの光ビームは、反射ミラー１０６Ｄで反射されトロイダルレンズ１０７Ｄへ入射する。そして、トロイダルレンズ１０７Ｄにより感光ドラム３０Ｄの表面に集光される。
【００４３】
同様に、ｆθレンズ１０５に入射した発光点Ｇ２,Ｇ３,Ｇ４からの光ビームは、反射ミラー１０６Ａ,１０６Ｂ,１０６Ｃで反射されトロイダルレンズ１０７Ａ,１０７Ｂ,１０７Ｃへ入射する。そして、トロイダルレンズ１０７Ａ,１０７Ｂ,１０７Ｃにより、反射ミラー１０８Ａ,１０８Ｂ,１０８Ｃを介して感光ドラム３０Ａ,３０Ｂ,３０Ｃの表面に集光される。
【００４４】
このようにして感光ドラム３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃ、３０Ｄ上にそれぞれ形成された発光点群Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、Ｇ４からの光ビームの集光点は、ポリゴンミラー１０４が回転することにより、Ｙ軸方向に一括して移動（走査）される。
【００４５】
一方、感光ドラム３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃ、３０Ｄそれぞれの表面の感光層は、帯電チャージャ３２Ａ、３３Ｂ、３３Ｃ、３２Ｄにより所定の電圧で帯電されることにより、電荷が一定の電荷密度で分布している。そして、上述したように、感光ドラム３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃ、３０Ｄがそれぞれ走査されると、光ビームが集光したところの感光層が導電性を有するようになり、その部分では電荷移動がおこり電位が零となる。したがって、図１の矢印の方向にそれぞれ回転している感光ドラム３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃ、３０Ｄに対し、画像情報に基づいて変調した光ビームを走査することにより、それぞれの感光ドラム３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃ、３０Ｄの表面に、電荷の分布により規定される静電潜像を形成することができる。
【００４６】
感光ドラム３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃ、３０Ｄそれぞれの表面に静電潜像が形成されると、図１に示されるトナーカートリッジ３３Ａ、３３Ｂ、３３Ｃ、３３Ｄの現像ローラにより、感光ドラム３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃ、３０Ｄそれぞれの表面にトナーが供給される。このときトナーカートリッジ３３Ａ、３３Ｂ、３３Ｃ、３３Ｄそれぞれの現像ローラは感光ドラム３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃ、３０Ｄと逆極性の電圧により帯電しているため、現像ローラに付着したトナーは感光ドラム３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃ、３０Ｄと同極性に帯電されている。したがって、感光ドラム３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃ、３０Ｄの表面のうち電荷が分布している部分にはトナーが付着せず、走査された部分にのみトナーが付着することにより、感光ドラム３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃ、３０Ｄの表面に静電潜像が可視化されたトナー像が形成される。そして、これらのトナー像は転写ベルト４０上に重ね合わせて転写され、図１に示されるように給紙トレイ６０から取り出された用紙６１に、転写チャージャ４１によって転写され、定着ローラ５０により定着されることにより画像として形成される。
【００４７】
次に、光走査装置１００から感光ドラム３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃ、３０Ｄに射出される光ビームを受光して、光走査装置１００の光学特性を測定する光学特性測定装置７０について説明する。図３は前記光学特性測定装置７０の斜視図である。図３に示されるように、光学特性測定装置７０は、長手方向をＸ軸方向とする長方形板状のベース７７と、前記光ビームを受光する受光装置７１、受光装置７１をＹ軸方向に駆動するＹステージＹＳＴ、受光装置７１をＹステージＹＳＴとともにＸ軸方向へ駆動するＸステージＸＳＴ、１組のリニアエンコーダ８２Ａ,８２Ｂ、Ｘ基準ブロック８５Ｘ、Ｙ基準ブロック８５Ｙ、及び上記各部を統括的に制御する主制御装置９０（図３には不図示、図６参照）などを備えている。
【００４８】
前記受光装置７１は、立方体状のケーシングに収容されたエリアＣＣＤ（Charge Coupled Device Image Sensor）を含んで構成され、上方−Ｚ側の面には光ビームが入射する矩形状の入射面７１ａが形成されている。受光装置７１は、光ビームを受光すると該光ビームのビームスポット位置に関する情報を主制御装置９０へ出力する。
【００４９】
前記ＸステージＸＳＴは、ベース７７の中央に長手方向をＸ軸方向として延設されたＸリニアガイド７５と、該Ｘリニアガイド７５に摺動可能に設けられたＸスライダ７４とを備えている。Ｘリニアガイド７５は、一例として内部にＸ軸方向に沿って配置された複数のコイルを有し、Ｘスライダ７４は、Ｘリニアガイド７５との電磁相互作用によりＸ軸方向に駆動される。なお、Ｘスライダ７４は、例えば送り螺子機構を用いた駆動機構によって駆動することとしてもよい。
【００５０】
前記ＹステージＹＳＴは、ＸステージＸＳＴのＸスライダ７４の上面に固定された、長手方向をＹ軸方向とするＹリニアガイド７３と、該Ｙリニアガイド７３に摺動可能に設けられたＹスライダ７２とを備えている。図４は、光学特性測定装置７０のＺＹ断面を示す図である。図４に示されるように、Ｙリニアガイド７３は、長手方向をＹ軸方向とする直方体状のガイド部と、該ガイド部の下面（−Ｚ側の面）に形成された長手方向をＸ軸方向とする直方体状の突出部７３ａの２部分を有している。この突出部７３ａは、ガイド部の下面中央部の＋Ｙ側に形成され、−Ｙ側の面にはＹ変位センサ９５Ｙが固定されている。
【００５１】
図５は、光学特性測定装置７０のＺＸ断面を示す図である。図５及び図３を総合するとわかるように、Ｙスライダ７２は、正方形板状のスライド部と、該スライド部の＋Ｘ側端の−Ｙ側から＋Ｘ方向に延設された延設部７２ａと、該延設部７２ａの下面に設けられた、長手方向をＹ軸方向とする直方体状の突出部７２ｂとの３部分を有している。そして、スライド部の上面には、上述した受光装置７１が固定され、突出部７２ｂの＋Ｘ側の面にはＸ変位センサ９５Ｘが固定されている。また、Ｙリニアガイド７３は、一例としてガイド部の内部にＸ軸方向に沿って配置された複数のコイルを有し、Ｙスライダ７２は、Ｙリニアガイド７３との電磁相互作用によりＹ軸方向に駆動される。なお、Ｙスライダ７２は、例えば送り螺子機構を用いた駆動機構によって駆動することとしてもよい。
【００５２】
前記リニアエンコーダ８２Ａ,８２Ｂは、例えばアブソリュート型のリニアエンコーダであり、図３に示されるように、リニアエンコーダ８２Ａは、ベース７７上面の−Ｙ側端部に、Ｘ軸方向を長手方向として配置されたスケール８１Ａと、Ｙリニアガイド７３の本体部下面の−Ｙ側端部に、スケール８１Ａと対向するように設けられたヘッド８０Ａを備えている。また、リニアエンコーダ８２Ｂは、ベース７７上面の＋Ｙ側端部に、Ｘ軸方向を長手方向として配置されたスケール８１Ｂと、Ｙリニアガイド７３の本体部下面の＋Ｙ側端部に、スケール８１Ｂと対向するように設けられたヘッド８０Ｂを備えている。ヘッド８０Ａ,８０Ｂはスケール８１Ａ,８１Ｂに対する絶対位置ＹＡ,ＹＢを検出し、この位置情報を制御装置９０に出力する。なお、本実施形態では、Ｙリニアガイド７３のＺ軸回りの回転角が零の場合に、両リニアエンコーダ８２Ａ,８２Ｂで検知される絶対位置ＹＡ,ＹＢの値が等しくなるように、スケール８１Ａ,８１Ｂの位置が調整されているものとする。
【００５３】
前記Ｘ基準ブロック８５Ｘは、ベース７７上面の＋Ｘ側端部に長手方向をＹ軸方向として配置された直方体状のブロックである。このＸ基準ブロック８５Ｘの−Ｘ側の面は、面精度数ミクロンの基準面となっており、図５に示されるように、Ｙスライダ７２に設けられたＸ変位センサ９５Ｘが対向可能となっている。
【００５４】
前記Ｙ基準ブロック８５Ｙは、ベース７７上面に長手方向をＸ軸方向として配置された直方体状のブロックである。このＹ基準ブロック８５Ｙの＋Ｙ側の面は、面精度数ミクロンの基準面となっており、図４に示されるように、Ｙリニアガイド７３に設けられたＹ変位センサ９５Ｙと所定のクリアランスを介して対向するようになっている。
【００５５】
図６は光学特性測定装置７０の制御系を示すブロック図である。図６に示されるように、光学特性測定装置７０の制御系は、装置全体を統括制御するコンピュータである主制御装置９０を中心に構成され、主制御装置９０は、例えば不図示の上位装置等からの指令などに基づいて、ＸステージＸＳＴ及びＹステージＹＳＴを駆動することにより、受光装置７１の入射面７１ａをＸＹ面に平行な面内で移動することが可能となっている。以下、説明の便宜上、受光装置７１の入射面７１ａが移動する面を移動面というものとし、この移動面内の座標系をステージ座標系（Ｘ、Ｙ）と定義する。
【００５６】
次に、光学特性測定装置７０による、上述した光走査装置１００の光学特性の測定方法について説明する。前提として、光走査装置１００は、一例として図７に示されるように、不図示の支持部材により光学特性測定装置７０の上方に支持され、光走査装置１００と受光装置７１の入射面７１ａが移動する移動面との距離は、光走査装置１００と第１〜第４ステーションにおける感光ドラム３０Ａ〜３０Ｄの被走査面との距離と等しくなるように設定されているものとする。また、図７に示されるように、光走査装置１００から射出され第１ステーションに入射する光ビームをＬＢ１、第２ステーションに入射する光ビームをＬＢ２、第３ステーションに入射する光ビームをＬＢ３、第４ステーションに入射する光ビームをＬＢ４と定義し、受光装置７１の入射面７１ａの中心を原点する座標系をエリア座標系（ｘ、ｙ）と定義する（図９参照）。
【００５７】
光学特性測定装置７０の主制御装置９０は、ＸステージＸＳＴ及びＹステージＹＳＴを駆動して、まず、図５に示されるように、Ｘ変位センサ９５ＸをＸ基準ブロック８５Ｘの基準面からｄＸの位置で対向させた状態で、受光装置７１をＹ軸に沿って移動させ、Ｘ変位センサ９５Ｘにより該Ｘ変位センサ９５ＸとＸ基準ブロック８５Ｘの基準面との距離ｄｘ（Ｙ）を計測する。図８（Ａ）には、ステージ座標系のＹ軸に沿って移動したときに、Ｘ変位センサ９５Ｘにより検出された距離ｄｘ（Ｙ）が実線で示されている。受光装置７１は、Ｙ軸に沿って真直に駆動されることが望ましいが、Ｙリニアガイド７３の曲がりや、送りねじの精度などの影響によりＸ軸方向へ変位し、距離ｄｘ（Ｙ）は受光装置７１のＹ軸方向の位置により変動する。主制御装置９０では、次式（１）で示されるＹ軸方向の位置に依存する誤差量δ（Ｙ）を算出し記憶する。
【００５８】
δ（Ｙ）＝ｋ１（ｄＸ−ｄｘ（Ｙ））  …（１）
ｋ１は定数
【００５９】
次に、主制御装置９０は、ＸステージＸＳＴ及びＹステージＹＳＴを駆動して、まず、図４に示されるように、Ｙ変位センサ９５ＹをＹ基準ブロック８５Ｙの基準面からｄＹの位置で対向させた状態で、受光装置７１をＸ軸に沿って移動させ、Ｙ変位センサ９５Ｙにより該Ｙ変位センサ９５ＹとＹ基準ブロック８５Ｙの基準面との距離ｄｙ（Ｘ）を計測する。図８（Ｂ）には、ステージ座標系のＸ軸に沿って移動したときに、Ｙ変位センサ９５Ｙにより検出された距離ｄｙ（Ｘ）が実線で示されている。受光装置７１は、Ｘ軸に沿って真直に駆動されることが望ましいが、Ｘリニアガイド７５の曲がりや、送りねじの精度などの影響によりＹ軸方向へ変位し、距離ｄｙ（Ｘ）は受光装置７１のＸ軸方向の位置により変動する。主制御装置９０では、次式（２）で示されるＸ軸方向の位置に依存する誤差量δ（Ｘ）を算出し記憶する。
【００６０】
δ（Ｘ）＝ｋ２（ｄＹ−ｄｙ（Ｘ））  …（２）
ｋ２は定数
【００６１】
次に、光学特性測定装置７０の上方に支持された光走査装置１００に移動面の走査を開始させる。このとき、光源１３１は所定の間隔でパルス発光させ、光ビームＬＢ１〜ＬＢ４の移動面内の捜査線上に間欠的に光ビームＬＢ１〜ＬＢ４が入射するようにするものとする。一方、光学特性測定装置７０では、主制御装置９０により、ＸステージＸＳＴ及びＹステージＹＳＴを駆動して、受光装置７１の入射面７１ａを光ビームＬＢ１〜ＬＢ４による走査線に沿って移動させ、順次、光ビームＬＢ１〜ＬＢ４を受光する。
【００６２】
図９には、一例として、受光装置７１の入射面７１ａに入射した光ビームＬＢ１が示されている。図９に示されるように入射面７１ａに光ビームＬＢが入射し、受光装置７１に収容されたエリアＣＣＤに受光されると、受光装置７１では、エリア座標系における光ビームＬＢ１のビームスポット位置（ｘＧ、ｙＧ）を検出し、主制御装置９０へこのビームスポット位置情報を出力する。なお、ビームスポット位置は、ビームスポットの重心位置をいうものとする。
【００６３】
主制御装置９０では、ＬＢ１を受光したときの受光装置７１のステージ座標系における位置座標（ＸＬＢ１、ＹＬＢ１）と、光ビームＬＢ１のビームスポット位置（ｘＧ、ｙＧ）から、次式（３）に基づいて、誤差量δ（Ｘ）、δ（Ｙ）を考慮したビームスポット位置（Ｘｓ、Ｙｓ）を算出する。なお、この位置は（Ｘｓ、Ｙｓ）はステージ座標系でのビームスポット位置座標を示している。
【００６４】
（Ｘｓ、Ｙｓ）＝（ＸＬＢ１＋ｘＧ＋δ（ＸＬＢ１）、ＹＬＢ１＋ｙＧ＋δ（ＹＬＢ１））…（３）
【００６５】
上記動作を、光ビームＬＢ１の走査線上の複数位置で行い、各位置におけるビームスポット位置（Ｘｓ、Ｙｓ）を算出することで、光ビームＬＢ１の走査線の曲がり等の光学特性を測定することが可能となる。そして、順次光ビームＬＢ２,ＬＢ３,ＬＢ４による走査線の光学特性を測定することで、光走査装置１００全体の光学特性を測定することができる。
【００６６】
図１０は、Ｚ軸回りに角度Δθ回転した状態の受光装置７１が示されている。上記動作と並行して、主制御装置９０では、リニアエンコーダ８２Ａ,８２Ｂから出力される、各ヘッド８０Ａ,８０ＢのＸ軸方向の位置座標に基づいて、図１０に示される受光装置７１のＺ軸回りの角度誤差Δθを算出し、この角度誤差Δθに基づいて、ビームスポット位置座標（Ｘｓ、Ｙｓ）の補正を適宜行う。具体的には、ヘッド８０Ａとヘッド８０Ｂの変位Δｔと、ヘッド８０Ａ,８０ＢのＹ軸方向の距離Ｌに基づいて、次式（４）により、角度誤差Δθ（＝ＹＡ−ＹＢ）を算出し、この角度誤差Δθに基づいて、ビームスポット位置座標（Ｘｓ、Ｙｓ）の補正を行う。
【００６７】
Δθ＝ｔａｎ−１（Δｔ／Ｌ）…（４）
【００６８】
光走査装置１００では、上述したように正確に測定した各光ビームＬＢ１〜ＬＢ４のビームスポット位置に基づいて算出された、各走査線の傾き、曲り、リニアリティ等の光学特性に基づいて、駆動機構１１２Ｂ〜１１２Ｃによる走査レンズの傾きの調整、走査レンズ１０７Ａ〜１０７Ｄの中央付近を加圧して変形させることによる走査線の曲り調整や、光源１１３の電気的な書込みタイミングの制御などが行なわれ、光学系の光学特性が調整される。
【００６９】
以上説明したように、本実施形態に係る光学特性測定装置７０によると、受光装置７１が受光位置に位置決めされる際に、ステージ座標系での位置座標が、誤差量δ（Ｘ）,δ（Ｙ）及び角度誤差Δθに基づいて補正される。したがって、精度良く光ビームＬＢ１〜ＬＢ４のビームスポット位置を計測することが可能となる。
【００７０】
また、本実施形態に係る光走査装置１００は、光学特性測定装置７０により計測された計測結果に基づいて、光学特性が調整されている。したがって、感光ドラム３０Ａ〜３０Ｄの走査精度の向上を図ることが可能となる。
【００７１】
また、本実施形態に係るプリンタ１０は、光走査装置１００を備えている。したがって、高品質な多色画像を形成することが可能となる。
【００７２】
なお、本実施形態に係る光学特性測定装置７０では、受光装置７１がエリアＣＣＤを備えていることとしたが、これに限らず、ラインＣＣＤを備えていてもよい。図１１には、ラインＣＣＤに入射した光ビームのビーム強度が示されている。受光装置７１にラインＣＣＤを用いる場合には、ビーム強度がピークになる位置からビームスポットの位置（重心位置）を求めることができる。
【００７３】
また、本第１の実施形態では、誤差量δ（Ｘ）,δ（Ｙ）を予め測定したが、誤差量δ（Ｙ）については、リアルタイムで計測してもよく、誤差量δ（Ｘ）については、Ｘ変位センサ９５ＸがＸ基準ブロック８５Ｘ近傍にある場合に限り、リアルタイムで計測してもよい。
【００７４】
また、誤差量δ（Ｘ）,δ（Ｙ）を予め、異なる環境下で計測して記憶し、測定時の周囲環境に応じて、最適な誤差量（Ｘ）,δ（Ｙ）に基づいて、光学特性の測定を行なってもよい。
【００７５】
《第２の実施形態》
次に、本発明の第２の実施形態を図１２〜図１６に基づいて説明する。ここで、上述した第１の実施形態と同一若しくは同等の構成部分については、同一の符号を用いるとともに、その説明を簡略化し若しくは省略するものとする。
【００７６】
図１２には、本発明の第２の実施形態に係る光学特性測定装置７０’が示されている。この光学特性測定装置７０’は、第１の実施形態に係る光学特性測定装置７０と比較して、ベース７７をＸ軸方向に移動する移動ステージ２００を備えている点で相違する。
【００７７】
前記移動ステージ２００は、図１２及び、光学特性測定装置７０’を＋Ｘ側から見た図である図１３を総合するとわかるように、平面視板状の定盤２０１と、定盤２０１上面の＋Ｙ側及び−Ｙ側端部近傍に、長手方向をＸ軸方向として配置された１対のガイドレール２０２Ａ,２０２Ｂと、長手方向をＸ軸方向として、ベース７７下面の＋Ｙ側及び−Ｙ側端部近傍に固定されるとともに、ガイドレール２０２Ａ,２０２Ｂそれぞれに対し−Ｘ方向に摺動可能に係合された１対の可動子２０３Ａ,２０３Ｂと、ベース７７をＸ軸方向に駆動する不図示の駆動機構を備えている。
【００７８】
図１４は、ガイドレール２０２Ａ,２０２Ｂを定盤２０１に固定する方法を、ガイドレール２０２Ａを代表的に取り上げて説明するための図である。図１４に示されるように、ガイドレール２０２Ａは、該ガイドレール２０２Ａを貫通し、＋Ｚ側から定盤２０１の開口２０２ｂに挿入されたボルト２１０に、押バネ２１３を介してナット２１２が羅合されることで、押バネ２１３の付勢力により、定盤２０１に押し付けられている。そして、板バネ２１４により、定盤２０１に長手方向をＸ軸方向として形成された基準面２０２ａに押圧されることで、Ｘ軸方向の位置が規定されている。これにより、例えばガイドレール２０２Ａ,２０２Ｂと定盤２０１とが熱膨張率が異なる素材からなり、温度変化によりガイドレール２０２Ａ,２０２Ｂが、定盤２０１に対して膨張または収縮しても、ガイドレール２０２Ａ,２０２Ｂは、ボルト２１０が開口２０２ｂに干渉しない範囲内で膨張または収縮自在であるため、ガイドレール２０２Ａ,２０２Ｂに撓みや歪みが生じないようになっている。したがって、例えば、ガイドレール２０２Ａ,２０２Ｂに炭層鋼等の素材を用い、定盤２０１にアルミニウム等の素材を用いることができる。
【００７９】
上記のように構成された光学特性測定装置７０’では、例えば、受光装置７１が走査装置１００からの光ビームＬＢ１,ＬＢ２,ＬＢ３を受光することができるように、ベース７７を−Ｘ側に移動して、光ビームＬＢ１,ＬＢ２,ＬＢ３に関する光学特性を測定する。そして、受光装置７１が光走査装置１００からの光ビームＬＢ２,ＬＢ３,ＬＢ４を受光することができるように、ベース７７を＋Ｘ側に移動して、光ビームＬＢ２,ＬＢ３,ＬＢ４に関する光学特性を測定する。光ビームＬＢ２,ＬＢ３に関する光学特性を、共通して測定した場合には、１回目と２回目の測定時の光ビームＬＢ２,ＬＢ３の受光位置の差がベース７７を移動したときの移動誤差となるため、この分を補正することでベース７７の移動誤差をキャンセルすることが可能となる。
【００８０】
以上説明したように、本実第２の実施形態に係る光学特性測定装置７０’によると、受光装置７１を駆動するＸステージＸＳＴ及びＹステージＹＳＴが配置されたベース７７は、移動ステージ２００により、Ｘ軸方向に移動可能となっている。したがって、受光装置７１を駆動するＸステージＸＳＴ及びＹステージＹＳＴ等を小型化することができ、装置のコストダウンを図ることが可能となる。
【００８１】
ところで、光走査装置１００による副走査方向の走査位置や、リニアリティ、ステーション間のビーム位置などは、周囲温度によって変化するため、被測定装置全体を恒温槽などに入れて、環境を振った測定が必要となる。恒温槽は大きいほど収納できる測定装置も大きくできるが、限られた大きさの恒温槽で測定せざるを得ない場合などに対処するため、光学特性測定装置はできるだけ小さくすることが望ましい。しかしながら、ＣＣＤカメラの移動ステージとして、安価な市販のステージを使用すると、そのストローク量は自由に決めることができず、測定領域を越えるストロークのステージを採用すると、大きくなりすぎて恒温槽に収まりきらないといった問題がある。本第２の実施形態に係る光学特性測定装置７０では、ＸステージＸＳＴ及びＹステージＹＳＴに用いられる、例えばリニアエンコーダや変位センサに汎用品を用いることができ、装置の小型化を維持するとともに装置の高コスト化を回避することが可能となる。
【００８２】
また、本第２の実施形態に係る光学特性測定装置７０’では、ガイドレール２０２Ａ,２０２Ｂが、定盤２０１に対し伸縮自在に配置されている。したがって、温度変化によるガイドレール２０２Ａ,２０２Ｂの緩みや、撓みを回避でき、移動ステージ２００のスムーズな動作を確保するとともに、測定精度の向上を図ることが可能となる。
【００８３】
なお、ベース７７が定盤２０１に対して移動可能であるため、図１５に示されるように、例えば光走査装置１００の下面４角を支持する、例えば４つの支持部材３００を、定盤２０１に設けてもよく、更に支持部３００に、光学特性測定の際に、回転中のポリゴンミラー１０４の偏向を特定するためのセンサ３１２や、ポリゴンミラーをチャッキングして任意の位置で停止させる装置などを、例えばアーム３１０等を介して配置してもよい。これにより、測定の効率をアップさせることが可能となる。
【００８４】
また、図１６に示されるように、定盤２００と同じ膨張率の素材からなり、支持部材３００相互間を支持する梁３０１を、隣接する支持部材３００間に設けてもよい。これにより、周囲温度が変化しても、定盤２００と梁３０１は、等しい割合で膨張及び伸縮するため、周囲環境にかかわらず支持部材３００の強度を向上させることが可能となる。
【００８５】
また、上記各実施形態では、本発明の光走査装置１００がプリンタに用いられる場合について説明したが、プリンタ以外の画像形成装置、例えば、複写機、ファクシミリ、又は、これらが集約された複合機にも好適である。
【図面の簡単な説明】
【００８６】
【図１】本発明の第１の実施形態にかかるプリンタ１０を示す図である。
【図２】光走査装置１００の光学的なレイアウトを示す図である。
【図３】光学特性測定装置７０の斜視図である。
【図４】光学特性測定装置７０のＺＹ断面を示す図である。
【図５】光学特性測定装置７０のＺＸ断面を示す図である。
【図６】光学特性測定装置７０のブロック図である
【図７】光学特性測定装置７０と光走査装置１００の配置図である。
【図８】図８（Ａ）は、Ｘ変位センサ９５Ｘにより検出された距離ｄｘ（Ｙ）を示す図であり、図８（Ｂ）は、Ｙ変位センサ９５Ｙにより検出された距離ｄｙ（Ｘ）を示す図である。
【図９】受光装置７１の入射面７１ａに入射した光ビームＬＢ１を示す図である。
【図１０】Ｚ軸回りに角度Δθ回転した状態の受光装置７１を示す図である。
【図１１】ラインＣＣＤに入射した光ビームのビーム強度を示す図である。
【図１２】本発明の第２の実施形態にかかる光学特性測定装置７０’を示す図である。
【図１３】光学特性測定装置７０’を＋Ｘ側から見た図である。
【図１４】ガイドレール２０２Ａ,２０２Ｂを定盤２０１に固定する方法を説明するための図である。
【図１５】本発明の第２の実施形態にかかる光学特性測定装置７０’の変形例を示す図（その１）である。
【図１６】本発明の第２の実施形態にかかる光学特性測定装置７０’の変形例を示す図（その２）である。
【符号の説明】
【００８７】
１０…プリンタ、１２…ハウジング、３０Ａ〜３０Ｂ…感光ドラム、４０…転写ベルト、５０…定着ローラ、７０…光学特性測定装置、７１…受光装置、７１ａ…入射面、７２…Ｙスライダ、７２ａ…延設部、７２ｂ…突出部、７３…Ｙリニアガイド、７３ａ…突出部、７４…Ｘスライダ、７５…Ｘリニアガイド、７７…ベース、ＸＳＴ…Ｘステージ、ＹＳＴ…Ｙステージ、８０Ａ,８０Ｂ…ヘッド、８１Ａ,８１Ｂ…スケール、８２Ａ,８２Ｂ…リニアエンコーダ、８５Ｘ…Ｘ基準ブロック、８５Ｙ…Ｙ基準ブロック、９０…主制御装置、９５Ｘ…Ｘ変位センサ、９５Ｙ…Ｙ変位センサ、１００…光走査装置、１０２…第１シリンダレンズ、１０３…第２シリンダレンズ、１０５…ｆθレンズ１０５、１０４…ポリゴンミラー、１０６Ａ〜１０６Ｄ…反射ミラー、１０７Ａ〜１０７Ｄ…トロイダルレンズ、１０８Ａ〜１０８Ｃ…反射ミラー、１３０…光源。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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