(57)【要約】【課題】煩雑な運転操作を要することなく、被処理水の環境の変化に応じて臭素酸の生成を効果的に抑制できるオゾン処理装置を提供することにある。【解決手段】水処理プラントに適用するオゾン処理装置において、コントローラ１６は、被処理水の水温又は水質の変化を監視し、それらの変化に応じて溶存オゾン濃度設定値を補正する。これにより、コントローラ１６は、オゾン発生器１２からオゾン処理槽１０に供給するオゾンガスを適切かつ自動的に調整する。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理水を導入して収容し、オゾン処理を行なうオゾン処理槽と、
前記オゾン処理槽にオゾンを供給するオゾン供給手段と、
前記オゾン処理槽の溶存オゾン濃度を設定する機能、及び前記オゾン処理槽に導入される前記被処理水の水温または水質の変化に基づいて、前記溶存オゾン濃度の設定値を補正する補正機能を含む溶存オゾン濃度設定手段と、
前記溶存オゾン濃度設定手段により設定又は補正された前記溶存オゾン濃度の設定値に基づいて、前記オゾン供給手段からのオゾン供給を制御する制御手段と
を具備したことを特徴とするオゾン処理装置。
【請求項２】
前記オゾン処理槽に導入される前記被処理水の水温を測定する水温測定手段を有し、
前記溶存オゾン濃度設定手段は、前記水温測定手段により測定された水温測定値に基づいて、前記被処理水の水温が基準値により上昇している場合に、前記溶存オゾン濃度の設定値を基準値より低下させる補正を実行することを特徴とする請求項１に記載のオゾン処理装置。
【請求項３】
前記オゾン処理槽に導入される前記被処理水の水質において、酸性、中性、アルカリ性の程度を示すｐＨを測定するｐＨ測定手段を有し、
前記溶存オゾン濃度設定手段は、前記ｐＨ測定手段により測定されたｐＨ測定値に基づいて、前記被処理水の水質が基準のｐＨ値により大きい場合に、前記溶存オゾン濃度の設定値を基準値より低下させる補正を実行することを特徴とする請求項１に記載のオゾン処理装置。
【請求項４】
前記オゾン処理槽の溶存オゾン濃度を測定するオゾン濃度測定手段を有し、
前記制御手段は、前記オゾン濃度測定手段により測定された測定値が前記溶存オゾン濃度設定手段により設定された設定値になるように、前記オゾン供給手段から供給するオゾン注入率を演算する演算手段を含むことを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載のオゾン処理装置。
【請求項５】
前記オゾン処理槽に導入される前記被処理水の水質として、蛍光強度、紫外線吸光度、有機物濃度を測定する各測定手段を有し、
前記溶存オゾン濃度設定手段は、前記各測定手段により測定された各測定値に基づいて、前記溶存オゾン濃度の設定値を基準値より低下させる補正を実行することを特徴とする請求項１に記載のオゾン処理装置。
【請求項６】
原水を浄化する水処理システムに適用し、
当該水処理システムに含まれる前段の処理プロセスで得られる前記被処理水を前記オゾン処理槽に導入する構成であることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載のオゾン処理装置。
【請求項７】
オゾンを含むガスを使用して被処理水を処理するオゾン処理装置に適用するオゾン注入制御方法であって、
被処理水を導入して収容し、オゾン処理を行なうオゾン処理槽の溶存オゾン濃度を設定するプロセスと、
前記オゾン処理槽に導入される前記被処理水の水温または水質の変化を検出するプロセスと、
前記被処理水の水温または水質の変化に基づいて前記溶存オゾン濃度の設定値を補正するプロセスと、
設定又は補正された前記溶存オゾン濃度の設定値に基づいて、オゾン供給手段から前記オゾン処理槽に供給するオゾン量を制御するプロセスと
を有する手順を実行することを特徴とするオゾン注入制御方法。
【請求項８】
前記オゾン処理槽に導入される前記被処理水の水温を測定するプロセスを有し、
前記溶存オゾン濃度の設定値を補正するプロセスは、前記測定された水温測定値に基づいて、前記被処理水の水温が基準値により上昇している場合に、前記溶存オゾン濃度の設定値を基準値より低下させる補正を実行することを特徴とする請求項７に記載のオゾン注入制御方法。
【請求項９】
前記オゾン処理槽に導入される前記被処理水の水質において、酸性、中性、アルカリ性の程度を示すｐＨを測定するプロセスを有し、
前記溶存オゾン濃度の設定値を補正するプロセスは、前記測定されたｐＨ測定値に基づいて、前記被処理水の水質が基準のｐＨ値により大きい場合に、前記溶存オゾン濃度の設定値を基準値より低下させる補正を実行することを特徴とする請求項７に記載のオゾン注入制御方法。
【請求項１０】
前記オゾン処理槽の溶存オゾン濃度を測定するプロセスと、
前記測定された測定値が前記設定された溶存オゾン濃度の設定値になるように、前記オゾン供給手段から供給するオゾン注入率を演算するプロセスと
を含むことを特徴とする請求項７から請求項９のいずれか１項に記載のオゾン注入制御方法。
【請求項１１】
オゾンを含むガスを使用して被処理水を処理するオゾン処理装置に適用するオゾン注入制御方法であって、
被処理水を導入して収容し、オゾン処理を行なうオゾン処理槽の溶存オゾン濃度を設定するプロセスと、
前記オゾン処理槽での前記被処理水の滞留時間を求めるプロセスと、
前記被処理水の滞留時間に基づいて前記溶存オゾン濃度の設定値を補正するプロセスと、
設定又は補正された前記溶存オゾン濃度の設定値に基づいて、オゾン供給手段から前記オゾン処理槽に供給するオゾン量を制御するプロセスと
を有する手順を実行することを特徴とするオゾン注入制御方法。
【請求項１２】
オゾンを含むガスを使用して被処理水を処理するオゾン処理装置に適用するオゾン注入制御方法であって、
設定された塩素注入量に基づいて被処理水に塩素を注入するプロセスと、
被処理水を導入して収容し、オゾン処理を行なうオゾン処理槽の溶存オゾン濃度を設定するプロセスと、
前記塩素注入量に基づいて前記溶存オゾン濃度の設定値を補正するプロセスと、
設定又は補正された前記溶存オゾン濃度の設定値に基づいて、オゾン供給手段から前記オゾン処理槽に供給するオゾン量を制御するプロセスと
を有する手順を実行することを特徴とするオゾン注入制御方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、オゾンを使用して浄水処理を行なうオゾン処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、原水を浄化処理して、水道水を供給するための水処理プラントでは、原水の水源水質の悪化に伴って、水道水の臭いや味を改善するために、オゾンと活性炭（ＢＡＣ）処理を組み合わせた高度浄水処理が導入されている。
【０００３】
ところが、原水に臭化物イオンが含まれる場合に、オゾン処理の過程では、臭素酸が生成されることが確認されている。臭素酸は発ガン性物質として、規制対象になっている。具体的には、水質基準として、飲用水中の臭素酸濃度は、０．０１ｍｇ／Ｌ以下に規制されている。
【０００４】
一般的に、水処理プラントでは、オゾン処理の後段に、生物活性炭吸着池が設置されている。この生物活性炭吸着池においても、生成した臭素酸をほとんど除去できない。また、消毒剤として添加される塩素によっても分解しない。従って、臭素酸の対策としては、その生成を抑制することが必要である。
【０００５】
従来、臭素酸の生成を抑制する各種の方法が提案されている。例えば、オゾン処理槽内において、単位被処理水中の有機物１ｍｇ当りのオゾン吸収量と、トリハロメタン生成能除去率との関係を予め調べておき、両者の比の値に基づいて、オゾン注入量を制御する方法が提案されている（例えば、特許文献１を参照）。また、オゾン処理前後の蛍光強度を測定し、この値に基づいて溶存オゾン濃度が大幅に低下するようにオゾン注入率を制御することで、臭素酸の生成を抑制する方法が提案されている（例えば、特許文献２を参照）。また、オゾン注入後に、余分な溶存オゾン濃度を促進酸化によって分解することで、臭素酸の生成を抑制する方法が提案されている（例えば、特許文献３を参照）。
【特許文献１】特許第３６９７９３３号公報
【特許文献２】特開２００５−３０５３２８号公報
【特許文献３】特開２０００−１１７２７４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
オゾン処理対象の被処理水中に、臭素酸が生成される要因としては、被処理水中の臭化物イオン濃度、水温、ｐＨ、溶存オゾン濃度等の環境が影響することが確認されている。従って、臭素酸が生成しやすい環境にある被処理水においては、単に溶存オゾン濃度の目標値を一定にする制御方法では、水質基準値に近い濃度の臭素酸を生成する可能性がある。
【０００７】
このような場合、水処理プラントの運転員が、オゾン処理装置での溶存オゾン濃度の目標値を手動で変更するか、あるいはオゾン注入率を調整するように運転方法を切り換えて対応する必要がある。従って、実際の現場において、臭素酸の生成を抑制することは、水処理プラントの運転操作が煩雑になる。また、運転員の手動による運転操作であるため、対応が遅れることも考えられる。
【０００８】
さらに、既にオゾン処理を行っているプラントでは、蛍光強度に基づいて溶存オゾン濃度を非常に低く抑える制御を行うには、オゾン処理前後に新たに蛍光分析計を設置することが要求される。促進酸化を実施する場合でも、同様の設備変更が必要であり、制御方法を変更することは容易ではない。
【０００９】
そこで、本発明の目的は、煩雑な運転操作を要することなく、被処理水の環境の変化に応じて臭素酸の生成を効果的に抑制できるオゾン処理装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の観点は、被処理水の環境である水温又は水質の変化に応じて溶存オゾン濃度を適切に自動的に調整できるようにして、煩雑な運転操作を要することなく、臭素酸の生成を効果的に抑制できるオゾン処理装置である。
【００１１】
本発明の観点に従ったオゾン処理装置は、被処理水を導入して収容し、オゾン処理を行なうオゾン処理槽と、前記オゾン処理槽にオゾンを供給するオゾン供給手段と、前記オゾン処理槽の溶存オゾン濃度を設定し、前記オゾン処理槽に導入される前記被処理水の水温または水質の変化に基づいて前記溶存オゾン濃度の設定値を補正する補正機能を含む溶存オゾン濃度設定手段と、前記溶存オゾン濃度設定手段により設定又は補正された前記溶存オゾン濃度の設定値に基づいて、前記オゾン供給手段からのオゾン供給を制御する制御手段とを備えた構成である。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、煩雑な運転操作を要することなく、被処理水の環境の変化に応じて臭素酸の生成を効果的に抑制できるオゾン処理装置を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下図面を参照して、本発明の実施形態を説明する。
【００１４】
（水処理システムの構成）
図１は、本実施形態に関する水処理システムの構成を示すブロック図である。
【００１５】
本実施形態の水処理システムは、オゾン処理装置を含み、例えば水道水の浄水を行なう水処理プラントに適用する。
【００１６】
水処理プラントは、本実施形態の主要素であるオゾン処理装置の前段プロセスとして、原水を導入して着水させる着水井３０、急速攪拌池３１、及び沈殿池３２を有する。急速攪拌池３１には、前塩素注入設備３３から消毒剤として塩素が注入される。
【００１７】
オゾン処理装置は、前段プロセスにより処理された被処理水に、オゾンを含むガス（以下オゾン化空気と表記する）を注入して、オゾン処理を行なうための設備である。オゾン処理装置は大別して、オゾン処理槽１０と、オゾン化空気を供給するためのオゾン発生器１２と、オゾン注入制御装置（以下コントローラと表記する）１６とを有する。
【００１８】
オゾン処理槽１０は、ポンプにより沈殿池３２から取り出された被処理水を、流入管１４を経由して導入し、被処理水にオゾン処理を行なうための本体である。オゾン処理槽１０は、オゾン接触部１１及びオゾン滞留部からなる。オゾン接触部１１は、ガス管１３を経由して、オゾン発生器１２から発生するオゾン化空気を導入して、被処理水にオゾン処理を行なうための設備である。オゾン滞留部は、流出管１５を介して連結された後段の活性炭吸着池に流出させるオゾン処理された被処理水を滞留する部分である。
【００１９】
オゾン発生器１２は、乾燥空気を導入してオゾンガスを発生させて、このオゾン化空気をオゾン処理槽１０のオゾン接触部１１にガス管１３を経由して供給する。オゾン発生器１２は、後述するコントローラ１６によりオゾン注入率を制御される。
【００２０】
コントローラ１６は、溶存オゾン濃度設定値（溶存オゾン濃度の目標値）の入力部１６０と、溶存オゾン濃度設定値の補正演算部１６１と、オゾン注入率演算部１６２と、発生オゾン濃度調整部１６３とを有する。コントローラ１６は、オゾン発生器１２の制御に必要な各種の測定値を、プラントに設けられた複数の測定器から入力する。
【００２１】
これらの測定器は、発生オゾン濃度計２０、ガス流量計２１、溶存オゾン濃度計２２、流量計２３、温度計２４、ｐＨ計２５、及び蛍光強度計２６を含む。発生オゾン濃度計２０は、ガス管１３が設けられて、ガス管１３を通過するオゾン化空気のオゾン濃度を測定して、その測定値を発生オゾン濃度調整部１６３に出力する。ガス流量計２１は、オゾン発生器１２に導入される乾燥空気の流量を測定して、その測定値を発生オゾン濃度調整部１６３に出力する。溶存オゾン濃度計２２は、オゾン処理槽１０に設けられて、被処理水の残留オゾン濃度を測定して、その測定値をオゾン注入率演算部１６２に出力する。
【００２２】
さらに、流量計２３は、流入管１４に設けられて、被処理水の流量を測定して、その測定値を補正演算部１６１及び発生オゾン濃度調整部１６３に出力する。また、温度計２４、ｐＨ計２５及び蛍光強度計２６はそれぞれ、流入管１４に設けられている。温度計２４は、被処理水の水温を測定して、その測定値を補正演算部１６１に出力する。ｐＨ計２５は、被処理水のｐＨを測定して、その測定値を補正演算部１６１に出力する。蛍光強度計２６は、被処理水の蛍光強度を測定して、その測定値を補正演算部１６１に出力する。
【００２３】
（オゾン注入制御）
以下、図１以外に、図２から図５を参照して、本実施形態のオゾン処理装置のオゾン注入制御動作を説明する。図２は、コントローラ１６の処理手順を説明するためのフローチャートである。
【００２４】
まず、水処理プラントにおいて、原水から前段プロセスを経て得られる被処理水が、流入管１４を経由してオゾン処理槽１０に導入される。コントローラ１６は、入力部１６０から溶存オゾン濃度設定値が入力されると（ステップＳ１）、当該溶存オゾン濃度設定値を基準値として、オゾン発生器１２からのオゾン供給量を制御する。
【００２５】
具体的には、コントローラ１６は、オゾン注入率演算部１６２が、設定された溶存オゾン濃度設定値と、溶存オゾン濃度計２２からの測定値（被処理水の残留オゾン濃度）とをパラメータとして、適切なオゾン注入率を算出する（ステップＳ４）。さらに、コントローラ１６は、発生オゾン濃度調整部１６３が、算出されたオゾン注入率に基づいて発生オゾン濃度を調整するように、オゾン発生器１２からのオゾン化空気量を制御する（ステップＳ５）。
【００２６】
ここで、発生オゾン濃度調整部１６３は、発生オゾン濃度計２０から、ガス管１３を通過するオゾン化空気のオゾン濃度の測定値をフィードバックして監視している。さらに、ガス流量計２１から、オゾン発生器１２に導入される乾燥空気の流量の測定値をフィードバックして監視している。また、発生オゾン濃度調整部１６３は、流量計２３から流入管１４を通過する被処理水の流量の測定値をフィードバックして監視している。
【００２７】
以上のようにして、コントローラ１６は、入力部１６０から設定された溶存オゾン濃度設定値に基づいて、オゾン発生器１２からのオゾン化空気の供給量を制御する。この場合、設定された溶存オゾン濃度設定値が一定の場合を想定している。
【００２８】
本実施形態のコントローラ１６は、以下のように、被処理水の水温またはｐＨを監視し、これらの被処理水の環境測定値の変化に応じて、溶存オゾン濃度設定値の補正演算部１６１により溶存オゾン濃度設定値を補正する処理を実行する（ステップＳ６）。以下、具体的に説明する。
【００２９】
まず、図３に示すように、被処理水の溶存オゾン濃度が一定の場合に、被処理水の水温の上昇に伴って、被処理水中に生成される臭素酸濃度が増加することが実験的に確認されている。なお、水温は、１年を通じて、０度から３０度程度間で変動する。平均は、１５度から２０度である。
【００３０】
一方、図４に示すように、生成される臭素酸の濃度は、被処理水の溶存オゾン濃度の増加に伴って増加することが確認されている。なお、図４において、特性１００は、被処理水の水温が３５度の場合である。特性１１０は、被処理水の水温が２０度の場合である。さらに、特性１２０は、被処理水の水温が７度の場合である。
【００３１】
以上の関係から、オゾン処理槽１０にオゾン化空気を供給する場合に、被処理水の水温の上昇に伴って、被処理水の溶存オゾン濃度の設定値を適切に変更することにより、被処理水中の臭素酸の生成濃度を抑制することが可能となる。
【００３２】
そこで、コントローラ１６では、溶存オゾン濃度設定値の補正演算部１６１は、温度計２４からの測定値により被処理水の水温の変化を監視し、当該水温が基準値から上昇したときに、溶存オゾン濃度の設定値を適切に変更する（ステップＳ２，Ｓ６）。具体的には、補正演算部１６１は、「補正値Δｕ＝ｆ，ｆは水温測定値」の関係式や、あるいは予め用意されたテーブルから水温測定値ｆに対する補正値Δｕを求める。そして、補正演算部１６１は、当該補正値Δｕを入力部１６０により設定された溶存オゾン濃度設定値に加算して溶存オゾン濃度設定補正値（溶存オゾン濃度の目標補正値）を出力する。
【００３３】
オゾン注入率演算部１６２は、補正された溶存オゾン濃度設定補正値と、溶存オゾン濃度計２２からの測定値（被処理水の残留オゾン濃度）とをパラメータとして、適切なオゾン注入率を算出する（ステップＳ４）。ここでは、溶存オゾン濃度が溶存オゾン濃度設定補正値となるように注入率を演算する。さらに、発生オゾン濃度調整部１６３は、算出されたオゾン注入率に基づいて発生オゾン濃度を補正するように、オゾン発生器１２からのオゾン化空気量を制御する（ステップＳ５）。
【００３４】
以上の補正演算部１６１での補正処理により、被処理水の水温が上昇するような環境の変化に応じて、溶存オゾン濃度設定値を補正することで、オゾン処理槽１０に対するオゾン化空気の注入率を減少させることにより、被処理水中に生成される臭素酸の生成濃度を抑制することができる。ここで、被処理水の水温が低下した場合には、補正演算部１６１により溶存オゾン濃度設定値を補正することで、オゾン処理槽１０に対するオゾン化空気の注入率を増加させてもよい。
【００３５】
次に、図５に示すように、被処理水の溶存オゾン濃度が一定の場合に、被処理水のｐＨ値の上昇に伴って、被処理水中に生成される臭素酸濃度が増加することが実験的に確認されている。ここで、ｐＨ値は、被処理水の水質として、酸性、中性、アルカリ性の程度を示す値であり、通常ではｐＨ値７が中性を意味し、７より小さいｐＨ値は酸性を意味し、７より大きいｐＨ値はアルカリ性を意味する。また、ｐＨ値は、例えば１日に２回ほど、オゾン反応中の原水中の二酸化炭素の量が減少して、大きく高いほうに変動する。このため、臭素酸が増大する可能性がある。
【００３６】
即ち、被処理水のｐＨ値の変化に伴って、臭素酸の生成濃度が増減する。臭素酸の生成濃度を抑制する方法として、オゾン処理前に、被処理水に苛性ソーダや硫酸、炭酸を注入して、ｐＨ値を適正値にすることが有効である。しかしながら、全ての水処理プラントで、その設備が用意できるとは限らない。また、ｐＨ値を適正値にする処理は、煩わしい作業を必要とする。
【００３７】
そこで、本実施形態では、水温の変化の場合と同様の方法で、オゾン処理槽１０にオゾン化空気を供給する場合に、被処理水のｐＨ値の上昇に伴って、被処理水の溶存オゾン濃度の設定値を適切に変更することにより、被処理水中の臭素酸の生成濃度を抑制する。
【００３８】
即ち、コントローラ１６では、溶存オゾン濃度設定値の補正演算部１６１は、ｐＨ計２５からの測定値により被処理水のｐＨ値の変化を監視し、当該ｐＨ値が基準値から上昇したときに、溶存オゾン濃度の設定値を適切に変更する（ステップＳ３，Ｓ６）。具体的には、補正演算部１６１は、「補正値Δｕ＝ｅ，ｅはｐＨ測定値」の関係式や、あるいは予め用意されたテーブルからｐＨ測定値ｅに対する補正値Δｕを求める。そして、補正演算部１６１は、当該補正値Δｕを入力部１６０により設定された溶存オゾン濃度設定値に加算して溶存オゾン濃度補正値を出力する。
【００３９】
オゾン注入率演算部１６２は、補正された溶存オゾン濃度補正値と、溶存オゾン濃度計２２からの測定値（被処理水の残留オゾン濃度）とをパラメータとして、適切なオゾン注入率を算出する（ステップＳ４）。さらに、発生オゾン濃度調整部１６３は、算出されたオゾン注入率に基づいて発生オゾン濃度を補正するように、オゾン発生器１２からのオゾン化空気量を制御する（ステップＳ５）。
【００４０】
以上の補正演算部１６１での補正処理により、被処理水のｐＨ値が上昇するような環境の変化に応じて、溶存オゾン濃度設定値を補正することで、オゾン処理槽１０に対するオゾン化空気の注入率を減少させることにより、被処理水中に生成される臭素酸の生成濃度を抑制することができる。ここで、被処理水のｐＨ値が低下した場合には、補正演算部１６１により溶存オゾン濃度設定値を補正することで、オゾン処理槽１０に対するオゾン化空気の注入率を増加させてもよい。
【００４１】
以上のように、被処理水の水温やｐＨ値の水質の変化に応じて、溶存オゾン濃度設定値を補正することで、オゾン処理槽１０に対するオゾン化空気の注入率を増減させることにより、被処理水中に生成される臭素酸の生成濃度を抑制することができる。ここで、水温やｐＨ値だけでなく、被処理水中の有機物濃度の増加に伴って、被処理水中の臭素酸の生成濃度が変化することも確認されている。
【００４２】
有機物濃度を表す指標としては、全有機炭素濃度、蛍光強度、紫外線吸光度が周知である。そこで、本実施形態のコントローラ１６は、溶存オゾン濃度設定値の補正演算部１６１が、蛍光強度計２６からの測定値により被処理水の蛍光強度（有機物濃度）の変化を監視し、当該蛍光強度が基準値から上昇したときに、溶存オゾン濃度の設定値を適切に変更する。これにより、オゾンの注入率を減少させることで、被処理水中の臭素酸の生成濃度を抑制することができる。
【００４３】
また、被処理水がオゾンガスと接触している時間が長いと、臭素酸の生成濃度が増加する。オゾンガスとの接触時間は、オゾン処理槽１０での被処理水の滞留時間であり、オゾン処理槽１０の容積を、被処理水の流量（流量計２３の測定値）で除算することにより、近似的に求めることが可能である。
【００４４】
従って、本実施形態のコントローラ１６は、溶存オゾン濃度設定値の補正演算部１６１が、当該滞留時間の変化幅に伴って、溶存オゾン濃度設定値を補正する。これにより、オゾンの注入率を減少させることで、被処理水中の臭素酸の生成濃度を抑制することができる。
【００４５】
さらに、本実施形態の水処理プラントでは、図１に示すように、前段プロセスにおいて、前塩素注入設備３３から消毒剤として塩素が注入される。この前塩素注入を行っている場合には、塩素注入を行わない場合と比較して、臭素酸の生成濃度が低下することが確認されている。したがって、塩素注入率が減少すると、臭素酸の生成濃度は増加傾向になる。
【００４６】
そこで、本実施形態のコントローラ１６は、この関係に基づいて、前塩素注入率の増減に伴って、溶存オゾン濃度の設定値を補正する。これにより、オゾン注入率を調整して、結果として臭素酸の生成濃度を抑制することができる。
【００４７】
なお、オゾンガスを被処理水に接触させる方法としては、図１に示すように、横流式の反応槽であるオゾン処理槽１０を使用する以外に、下方注入式の二重円筒管のような形状のオゾン処理槽を使用してもよい。この場合は、内側の円筒管が接触部１１であり、外側の円筒管が滞留部となる。
【００４８】
また、本実施形態のコントローラ１６は、被処理水の水温とｐＨ値を監視し、例えば１日単位で、溶存オゾン濃度設定値を低下させるように補正し、オゾン注入率を調整する制御を実行してもよい。当然ながら、臭素酸の生成濃度が基準を維持できる状況では、溶存オゾン濃度設定値を基準値（入力値）まで戻して、オゾン注入率を調整する制御を行なう。
【００４９】
なお、本発明は上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】本発明の実施形態に関する水処理システムの要部を示すブロック図。
【図２】本実施形態に関するコントローラの処理手順を説明するためのフローチャート。
【図３】本実施形態に関するオゾン注入制御での水温と臭酸濃度との関係を示す図。
【図４】本実施形態に関するオゾン注入制御での溶存オゾン濃度と臭酸濃度との関係を示す図。
【図５】本実施形態に関するオゾン注入制御でのｐＨと臭酸濃度との関係を示す図。
【符号の説明】
【００５１】
１０…オゾン処理槽、１１…オゾン接触部、１２…オゾン発生器、１３…ガス管、
１４…流入管、１５…流出管、１６…オゾン注入制御装置（コントローラ）、
２０…発生オゾン濃度計、２１…ガス流量計、２２…溶存オゾン濃度計、
２３…流量計、２４…温度計、２５…ｐＨ計、２６…蛍光強度計、３０…着水井、
３１…急速攪拌池、３２…沈殿池、３３…前塩素注入設備、
１６０…溶存オゾン濃度設定値の入力部、
１６１…溶存オゾン濃度設定値の補正演算部、１６２…オゾン注入率演算部、
１６３…発生オゾン濃度調整部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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