(57)【要約】【課題】信頼性を向上した背景色を所定の色として表示を行うことができる液晶表示装置を提供すること。【解決手段】本発明の実施の形態に係る液晶表示装置１００は、対向基板１０４と、対向基板１０４に対向配置されるＴＦＴアレイ基板１０３と、対向基板１０４とＴＦＴアレイ基板１０３との間に形成された液晶１０６と少なくとも対向基板１０４上に形成され、誘電体層に含有された金属微粒子を有する透過着色層１１２とを備えるものである。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と、
前記第１基板に対向配置される第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に形成された液晶層と
少なくとも前記第１基板に形成され、誘電体層に含有された金属微粒子を有する透過着色層とを備える液晶表示装置。
【請求項２】
前記透過着色層は、前記第１基板の前記第２基板と対向する面側に形成される請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記透過着色層は、
前記第１基板上に形成された第１誘電体層と、
前記第１誘電体層上に形成された金属微粒子と、
前記金属微粒子上に形成された第２誘電体層とを備える請求項１又は２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記第２誘電体層の厚みは、前記金属微粒子の高さよりも厚い請求項３に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記金属微粒子の長径の長さは、１０ｎｍ以下である請求項１〜４のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記金属微粒子は、スパッタ粒子である請求項１〜５のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記第１基板及び第２基板の外側には、それぞれ偏光板が貼着されている請求項１〜６のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に関し、特に詳しくは、背景を所定色として表示を行うことができる液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、携帯用、車載用、パソコンのモニター用等、様々な分野で広範囲にわたって使用されている。近年、視認性、美粧性の観点から、液晶表示装置の表示部の背景を所定の色として表示を行うものが要求されている。
【０００３】
このように、簡便に背景色を変更させる方法として、カラー偏光板を用いることが提案されている（例えば、特許文献１参照）。一般的なカラー偏光板は、ある特定の波長域の波長の光を透過させることで、特定の背景色を実現している。カラー偏光板には、例えば、保護フィルムによるカラー化の方法が存在する。この方法においては、染料をドープした樹脂溶液をキャスト製膜する方法、製膜後のフィルムを染色する方法、製膜後のフィルムに染料をコーティングする方法などで保護フィルムを着色していた。この方法では、赤、青などの着色背景に黒色の表示がなされる。
【特許文献１】特開２００１−８３５０３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
従来から、偏光板自体は、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ：Poly-Vinyl Alcohol）やポリカーボネート（ＰＣ：Polycarbonate）を母材としている。また、上記の保護フィルムには、透明性や、ＰＶＡ等からなる偏光板との接着性の観点からトリアセチルセルロール（ＴＡＣ）が用いられている。近年、ＬＣＤは車載用や携帯情報機器用として用いられることが多くなり、高温および高温多湿環境下における信頼性が強く要望されている。しかし、上記の材料を用いた偏光板は耐湿熱試験を行うと、容易に偏光性能が低下するという問題があった。
【０００５】
また、カラー偏光板は通常の偏光板と比較すると、コストが高い。さらに、カラー偏光板は通常の偏光板よりも厚みがあるため、液晶パネル自体の厚みが増してしまうという問題がある。
【０００６】
本発明は、このような問題を背景としてなされたものであり、本発明の目的は、信頼性を向上した、背景色を所定の色として表示を行うことができる液晶表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の第１の態様に係る液晶表示装置は、第１基板と、前記第１基板に対向配置される第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に形成された液晶層と少なくとも前記第１基板に形成され、誘電体層に含有された金属微粒子を有する透過着色層とを備えるものである。これにより、背景色を所定の色として表示を行うことができる液晶表示装置の信頼性を向上させることができる。
【０００８】
本発明の第２の態様に係る液晶表示装置は、上記の液晶表示装置において、前記透過着色層は、前記第１基板の前記第２基板と対向する面側に形成されるものである。これにより、さらに背景色を所定の色として表示を行うことができる液晶表示装置の信頼性を向上させることができる。
【０００９】
本発明の第３の態様に係る液晶表示装置は、上記の液晶表示装置において、前記透過着色層は、前記第１基板上に形成された第１誘電体層と、前記第１誘電体層上に形成された金属微粒子と、前記金属微粒子上に形成された第２誘電体層とを備えるものである。これにより、液晶パネルの製造工程において、新たな製造設備を用いることなく透過着色層を形成することができる。
【００１０】
本発明の第４の態様に係る液晶表示装置は、上記の液晶表示装置において、前記第２誘電体層の厚みは、前記金属微粒子の高さよりも厚いものである。これにより、背景色の着色を行うことができる。
【００１１】
本発明の第５の態様に係る液晶表示装置は、上記の液晶表示装置において、前記金属微粒子の長径の長さは、１０ｎｍ以下であるものである。これにより、背景色の着色を行うことができる。
【００１２】
本発明の第６の態様に係る液晶表示装置は、上記の液晶表示装置において、前記金属微粒子は、スパッタ粒子であるものである。これにより、液晶パネルの製造工程において、新たな製造設備を用いることなく透過着色層を形成することができる。
【００１３】
本発明の第７の態様に係る液晶表示装置は、上記の液晶表示装置において、前記第１基板及び第２基板の外側には、それぞれ偏光板が貼着されているものである。本発明は、このような場合に有効である。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、簡便に背景色を所定の色に着色して表示することができる液晶表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下に、本発明を適用可能な実施の形態について図を用いて説明する。以下の説明は、本発明の実施形態を説明するものであり、本発明が以下の実施形態に限定されるものではない。説明の明確化のため、以下の記載及び図面は、適宜、省略及び簡略化がなされている。
【００１６】
本発明の実施の形態に係る液晶表示装置について、図１を参照して説明する。ここでは、アクティブマトリクス型のＴＦＴ液晶表示装置を例として説明する。図１は、本実施の形態に係る液晶表示装置１００の構成を示す平面図である。また、図２は本実施の形態に係る液晶表示装置１００の構成を示す断面図である。なお、説明のため、図１においては対向基板等の図示を省略している。本発明に係る液晶表示装置１００は、所定の色の着色背景中に文字等の表示を行う。
【００１７】
図１及び図２に示すように、液晶表示装置１００は、液晶表示パネル１０１とバックライト１０２とを備えている。液晶表示パネル１０１は、入力される表示信号に基づいて画像表示を行う。バックライト１０２は、液晶表示パネル１０１の反視認側に配置されており、液晶表示パネル１０１の背面側から光を照射する。
【００１８】
液晶表示パネル１０１は、薄膜トランジスタアレイ基板（ＴＦＴアレイ基板）１０３、対向基板１０４、シール材１０５、液晶１０６、スペーサ１０７、ゲート線（走査線）１０８、ソース線（信号線）１０９、配向膜１１０、対向電極１１１、透過着色層１１２、偏光板１１３、ゲートドライバ１１４、ソースドライバ１１５を備えている。本発明において注目すべき点は対向基板１０４上に形成された透過着色層１１２であり、後に詳述する。
【００１９】
図１に示すように、本実施の形態に係る液晶表示装置１００は、ＴＦＴアレイ基板１０３を有している。ＴＦＴアレイ基板１０３には、表示領域１１６と表示領域１１６を囲むように設けられた周辺領域１１７とが設けられている。この表示領域１１６には、複数のゲート線１０８と複数のソース線１０９とが格子状に形成されている。複数のゲート線１０８は水平方向に一定間隔を隔てて平行に延設されている。同様に、複数のソース線１０９は垂直方向に一定間隔を隔てて平行に延設されている。ゲート線１０８と、ソース線１０９とは、絶縁膜を挟んで互いに交差するように形成されている。
【００２０】
また、ゲート線１０８とソース線１０９の交差点付近にはスイッチング素子である薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor：ＴＦＴ）１１９が設けられている。そして、隣接するゲート線１０８とソース線１０９とで囲まれた領域には、画素電極（不図示）が形成されている。従って、隣接するゲート線１０８とソース線１０９とで囲まれた領域が画素１１８となる。ＴＦＴアレイ基板１０３上には、画素１１８がマトリクス状に配列される。ＴＦＴ１１９のゲートがゲート線１０８に、ソースがソース線１０９に、ドレインが画素電極に、それぞれ接続される。画素電極は、例えば、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの透明導電性薄膜から形成されている。この複数の画素１１８が形成されている領域が、表示領域１１６である。
【００２１】
図２に示すように、液晶表示パネル１０１は、ＴＦＴアレイ基板１０３と、ＴＦＴアレイ基板１０３に対向配置される対向基板１０４と、両基板を接着するシール材１０５との間の空間に液晶１０６を封入した構成を有している。両基板の間は、スペーサ１０７によって、所定の間隔となるように維持されている。ＴＦＴアレイ基板１０３及び対向基板１０４としては、例えば、光透過性のあるガラス、ポリカーボネート、アクリル樹脂などの絶縁性基板が用いられる。
【００２２】
ＴＦＴアレイ基板１０３において、上述した電極及び配線等の上には配向膜１１０が形成されている。一方、対向基板１０４のＴＦＴアレイ基板１０３に対向する面には、透過着色層１１２、対向電極１１１、配向膜１１０が積層して形成されている。なお、対向電極１１１は、ＴＦＴアレイ基板１０３側に配置される場合もある。対向電極１１１は、ＩＴＯ等の透明導電膜からなり、画素電極と対向するように対向基板の略全面に形成されている。また、ＴＦＴアレイ基板１０３及び対向基板１０４の外側の面にはそれぞれ、偏光板１１３が貼着されている。各基板に貼着された偏光板は、それぞれ所定の方向に吸収軸を有している。
【００２３】
さらに、図１に示すように、ＴＦＴアレイ基板１０３の周辺領域１１７には、ゲートドライバ１１４及びソースドライバ１１５が設けられている。ゲートドライバ１１４とソースドライバ１１５は、ＣＯＧ（Chip On Glass）技術を用いて、ＴＦＴアレイ基板１０３上に直接実装されている。なお、ＣＯＧ技術に限られず、例えば、ＴＡＢ（Tape  Automated  Bonding）技術を用いて、ＦＰＣ（Flexible  Printed  Circuit）の上にＩＣチップがボンディングされたＴＣＰ（Tape  Carrier  Package）を液晶表示パネル１０１に電気的に接続する構成としてもよい。また、ＩＣチップをハード基板にボンディングするＣＯＢ（Chip  On  Board）技術を用いてもよい。
【００２４】
ゲート線１０８は、表示領域１１６から周辺領域１１７まで延設されている。そして、ゲート線１０８は、ＴＦＴアレイ基板１０３の端部で、ゲートドライバ１１４に接続される。ソース線１０９も同様に表示領域１１６から周辺領域１１７まで延設されている。そして、ソース線１０９は、ＴＦＴアレイ基板１０３の端部で、ソースドライバ１１５と接続される。ゲートドライバ１１４の近傍には、外部配線１２０が接続されている。また、ソースドライバ１１５の近傍には、外部配線１２１が接続されている。外部配線１２０、１２１は、例えば、ＦＰＣ（Flexible Printed Circuit）などの配線基板である。
【００２５】
外部配線１２０、１２１を介して、ゲートドライバ１１４及びソースドライバ１１５に外部から各種信号が供給される。ゲートドライバ１１４は外部からの制御信号に基づいて、ゲート信号（走査信号）をゲート線１０８に供給する。このゲート信号によって、ゲート線１０８が順次選択される。ソースドライバ１１５は外部からの制御信号や、表示データに基づいて表示信号をソース線１０９に供給する。これにより、表示データに応じた表示電圧を各画素電極に供給することができる。
【００２６】
液晶表示パネル１０１の背面には、バックライト１０２が備えられている。バックライト１０２は、液晶表示パネル１０１の反視認側から当該液晶表示パネル１０１に対して光を照射する。バックライト１０２としては、例えば、光源、導光板、反射シート、拡散シート、プリズムシート、反射偏光シートなどを備えた一般的な構成のものを用いることができる。
【００２７】
ここで、上述の液晶表示装置１００の駆動方法について説明する。各ゲート線１０８には、ゲートドライバ１１４から走査信号が供給される。各走査信号によって、１つのゲート線１０８に接続されているすべてのＴＦＴ１１９が同時にオンとなる。そして、ソースドライバ１１５から各ソース線１０９に表示信号が供給され、画素電極に表示信号に応じた電荷が蓄積される。表示信号が書き込まれた画素電極と対向電極１１１との電位差に応じて、画素電極と対向電極１１１間の液晶の配列が変化する。これにより、液晶表示パネル１０１を透過する光の透過量が変化する。液晶表示パネル１０１を透過した光は、透過着色層１１２により所定の色となる。従って、画素１１８毎に表示電圧を変えることによって、所定の色の背景中に所望の文字、図形等を黒表示することができる。
【００２８】
ここで、透過着色層１１２について、図３を参照して詳細に説明する。図３は、透過着色層１１２の構成を説明する図である。図３に示すように、透過着色層１１２は、第１誘電体層１２２、金属微粒子１２３、第２誘電体層１２４から構成される。
【００２９】
対向基板１０４のＴＦＴアレイ基板１０３側の面には、第１誘電体層１２２が形成されている。第１誘電体層１２２としては、例えば、ＳｉＯ２、ＭｇＯ等を用いることができる。本実施の形態においては、ＭｇＯを用いた。第１誘電体層１２２は、広く知られているスパッタ法を用いて形成することができる。また、第１誘電体層１２２の厚みは、５ｎｍ以上であることが好ましい。このように、第１誘電体層１２２を５ｎｍ以上とすることによって、対向基板１０４上に誘電体が成膜されていない部分がないように、均一な誘電体膜を形成することができる。
【００３０】
第１誘電体層１２２上には、金属微粒子１２３が形成されている。金属微粒子１２３としては、Ａｕ、Ａｇ、ＣｕＯ等を用いることができる。本実施の形態においては、Ａｇを用いた。金属微粒子１２３は、スパッタ法により形成されるスパッタ粒子である。一般的に、スパッタ成膜では、Ａｒガスを用い、金属微粒子１２３の材料となるターゲットと真空チャンバ間に高周波電圧を印加してＡｒイオンを加速させる。そして、Ａｒイオンをターゲットに衝突させることにより、ターゲットからスパッタ粒子が放出される。このスパッタ粒子を、基板上に堆積させて成膜を行う。
【００３１】
本実施の形態においては、スパッタ粒子が降り積もって薄膜が形成されるよりも短い時間だけスパッタを行う。これにより、第１誘電体層１２２上にスパッタ粒子が付着した状態とすることができる。図４に、スパッタ法により形成される金属微粒子１２３の形状を示す。図４に示すように、短時間スパッタを行うことにより、金属材料は膜状とならず、楕円体状の金属微粒子１２３となる。ここで、金属微粒子１２３の短径と長径の平均を金属微粒子１２３の平均粒径とする。本実施の形態においては、例えば、金属微粒子１２３の平均粒径を、１ｎｍとすることができる。
【００３２】
金属微粒子１２３の平均粒径としては、１０ｎｍ以下であることが好ましい。このように、金属微粒子１２３の平均粒径を小さくすることで、表面の割合が大きくなり、表面プラズモンの影響が大きく現れることとなる。これにより、より鮮やかに背景色を着色することができる。
【００３３】
また、金属微粒子１２３の上には、第２誘電体層１２４が形成されている。第１誘電体層１２２及び第２誘電体層１２４は、同一の誘電体材料により形成されている。従って、本実施の形態においては、ＭｇＯを用いた。第２誘電体層１２４もまた、第１誘電体層１２２と同様にスパッタ法により形成することができる。第２誘電体層１２４の膜厚は、金属微粒子１２３の高さよりも大きいことが好ましい。ここで、金属微粒子１２３の高さとは、図４に示す楕円体の高さである。金属微粒子１２３の高さは、例えば、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ：Atomic Force Microscope）や、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ：Scanning electron Microscope）、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ：Transmission Electron Microscope）等により測定することが可能である。これにより、金属微粒子１２３が第２誘電体層１２４から飛び出してしまうのを防止することができる。
【００３４】
また、上述した第１誘電体層１２２と同様に、均一な誘電体膜を形成するため第２誘電体層１２４の膜厚は５ｎｍ以上であることが好ましい。従って、本実施の形態においては、第２誘電体層１２４の膜厚は、例えば５ｎｍとすることができる。
【００３５】
このように、透過着色層１１２は、第１誘電体層１２２と第２誘電体層１２４との間に金属微粒子１２３をサンドイッチした構造を有している。すなわち、透過着色層１１２は、第１誘電体層１２２及び第２誘電体層１２４中に金属微粒子１２３を含有した構成を有している。これにより、透過着色層１１２を透過した光を着色することができる。すなわち、ナノメートルサイズの金属微粒子１２３を含有した誘電体層中に光が入射すると、誘電率の大きさが異なる金属微粒子１２３の周りに表面プラズモン（ＳＰ：Surface Plasmon）と呼ばれる局所電場が生じる。この金属微粒子１２３の表面に局在した表面プラズモンと入射する光が強く共鳴する。この表面プラズモン共鳴（ＳＰＲ：Surface Plasmon Resonance）現象により、カラー偏光板を用いることなく表示画面の背景を着色することが可能となる。
【００３６】
２つの異なる分極率を有する層、すなわち、第１誘電体層１２２及び第２誘電体層１２４と金属微粒子１２３が入り混じった透過着色層１１２において、表面プラズモン共鳴による着色は、以下のＭａｘｗｅｌｌ−Ｇａｒｎｅｔｔの式（１）により説明される。
【数１】
2008058444.tif 000003
ここで、εは有効誘電率、εａは誘電体層の誘電率、εｂは金属微粒子の誘電率、ｑｂは金属微粒子の堆積分率である。εａ＋εｂを満たす光の周波数で局所電場は極大を示し、吸収スペクトルに表面プラズモン共鳴のピークが現れる。透過着色層１１２により着色される色は、金属微粒子１２３の材料、誘電体層の誘電率、金属微粒子１２３の形状等により変化する。
【００３７】
なお、スパッタする時間を変化させることにより、金属微粒子１２３の大きさを変えることができる。すなわち、スパッタ時間を長くするに従って、金属微粒子１２３の長径が長くなる。図４（ａ）に示す形状の金属微粒子を形成するよりも長い時間スパッタを行うことにより、図４（ｂ）に示すように楕円体の長径を長くすることができる。つまり、スパッタ時間を長くすることにより、球状に近い金属微粒子１２３の形状を小判型に変化させることができる。換言すると、金属微粒子１２３の平均粒径を大きくすることができる。従って、金属微粒子１２３の大きさを変えることにより、背景色の色を調整することができる。
【００３８】
図５に、本実施の形態に係るＭｇＯ／Ａｇ／ＭｇＯの積層構造からなる透過着色層１１２において、Ａｇからなる金属微粒子１２３の平均粒径を変化させたときの透過率特性を示す。図５に示すように、金属微粒子１２３の平均粒径を大きくするに伴って、金属微粒子１２３による吸収ピークは長波長側にシフトする。このため、金属微粒子１２３の大きさを変化させることにより、背景色を変化させることができる。例えば、図５に示すように、Ａｇからなる金属微粒子１２３の平均粒径を１ｎｍとした場合の背景色は黄色であるのに対し、平均粒径を３ｎｍとすると背景色は青色にシフトする。このように、スパッタ粒子の形状を変化させることにより、背景色の色を変化させることができる。また、金属微粒子１２３の材料を変えることによっても、背景色の色を変化させることができる。
【００３９】
また、上述したように、透過着色層１１２は、対向基板１０４のＴＦＴアレイ基板１０３と対向する面側、すなわち、液晶セルの内側に形成されている。このため、外部からの接触により、透過着色層１１２に傷がついてしまうことがない。また、高温、高湿環境下においても、カラー偏光板のように信頼性が低下することがない。
【００４０】
また、透過着色層１１２は、液晶表示装置１００の配線等を形成する工程において用いられるスパッタ装置を使用することができる。これにより、新たな設備投資をすることなく、本発明に係る液晶表示装置１００を製造することができる。さらに、透過着色層１１２を用いることによって、カラー偏光板を用いるよりもコストを低下させることができるとともに、液晶表示パネル１０１の厚みを薄くすることができる。
【００４１】
なお、透過着色層１１２上にＳｉＯ２膜さらに成膜し、透過着色層１１２をＳｉＯ２膜で覆うようにしてもよい。そして、ＳｉＯ２膜上に上述した配線や電極等を形成する。これにより、液晶１０６中にイオン性の不純物の混入を防止することができ、表示品質を向上させることができる。
【００４２】
ここで、図６及び図７を参照して、本実施の形態に係る液晶表示装置１００の製造方法について説明する。図６は、本実施の形態に係る液晶表示装置１００の製造方法を説明するフロー図である。また、図７は、透過着色層１１２の製造工程を説明するための製造断面図である。
【００４３】
図６に示すように、まず、対向基板１０４上に透過着色層１１２を形成するステップＳ１）。具体的には、図７（ａ）に示すように、まず、対向基板１０４上に略全面にわたって、第１誘電体層１２２をスパッタ法により形成する。そして、図７（ｂ）に示すように、第１誘電体層１２２上に、金属微粒子１２３を形成する。金属微粒子１２３は、上述したように、短時間スパッタすることにより、形成することができる。その後、金属微粒子１２３上に、当該金属微粒子１２３を覆うように、第２誘電体層１２４を形成する。このような工程を経て、対向基板１０４上に、第１誘電体層１２２と第２誘電体層１２４との間に金属微粒子がサンドイッチされた構成の透過着色層１１２を形成することができる。
【００４４】
次に、図６に示すように、ＴＦＴアレイ基板上に画素電極、ＴＦＴ素子などを形成する。一方、対向基板上に設けられた透過着色層１１２上に、対向電極などを形成する（ステップＳ２）。画素電極や、ＴＦＴ素子の構成の一部、対向電極等は、透過着色層１１２と同様にスパッタ法により形成される。このように、透過着色層１１２を、従来から液晶表示装置の製造工程において用いられているスパッタ装置を用いて形成することができるため、新たな設備投資をすることなく、着色背景の中に文字等の表示を行うことができる液晶表示装置１００を形成することができる。
【００４５】
そして、それぞれの基板上に所定の方向に配向処理された配向膜を形成する（ステップＳ３）。その後、ＴＦＴアレイ基板上にスペーサを散布し（ステップＳ４）、シール材を塗布して両基板を接着する（ステップＳ５）。そして、両基板の間隙に液晶１０６を注入した後（ステップＳ６）、液晶注入口に封止材を塗布して、封止材を硬化させることにより封止する（ステップＳ７）。液晶セルを形成する。そして、ＴＦＴアレイ基板１０３及び対向基板１０４の外側に偏光板を貼り付けて（ステップＳ８）、駆動回路、バックライト１０２などを実装する（ステップＳ９）ことにより、液晶表示装置１００が完成する。
【００４６】
なお、本実施の形態においては、透過着色層１１２を対向基板１０４のＴＦＴアレイ基板１０３と対向する面側に略全面にわたって形成する構成としたが、これに限定されるものではない。例えば、透過着色層１１２をＴＦＴアレイ基板１０３上に形成することも可能である。また、透過着色層１１２を対向基板１０４あるいはＴＦＴアレイ基板１０３の外側表面に形成することも可能である。
【００４７】
さらに、第１色の透過着色層１１２を対向基板１０４の一部の領域に形成し、他の色の透過着色層１１２をＴＦＴアレイ基板１０３の一部の領域に形成することも可能である。すなわち、異なる色の背景エリアを複数有する液晶表示装置を実現することも可能である。また、対向基板１０４とＴＦＴアレイ基板１０３上にそれぞれ透過着色層１１２が対向するように形成し、混色により背景色を変化させることも可能である。
【００４８】
また、上記の実施の形態においては、スパッタ法により金属微粒子１２３を含有する誘電体層（透過着色層１１２）を形成したが、これに限定されない。例えば、ゾルゲル法により、金属微粒子を含有する誘電体層を形成することができる。この場合においては、図３に示すような構成とはならず、金属微粒子が誘電体層中に分散された構成となる。また、上述したように、基板上に透過着色層１１２を形成する構成に限らず、対向基板あるいはＴＦＴアレイ基板として金属微粒子を含有したガラスを。この場合には、液晶１０６中への不純物の拡散を防止するために、液晶１０６と接する面側にＳｉＯ２膜を形成する。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】実施の形態に係る液晶表示装置の構成を示す平面図である。
【図２】実施の形態に係る液晶表示装置の構成を示す断面図である。
【図３】実施の形態に係る透過着色層の構成を示す断面図である。
【図４】実施の形態に係る金属微粒子の形状を示す図である。
【図５】金属微粒子の平均粒径を変化させたときの透過率特性を示すグラフである。
【図６】実施の形態に係る液晶表示装置の製造方法を示すフロー図である。
【図７】実施の形態に係る液表示装置の製造工程の一部を示す製造工程図である。
【符号の説明】
【００５０】
１００  液晶表示装置
１０１  液晶表示パネル
１０２  バックライトユニット
１０３  ＴＦＴアレイ基板
１０４  対向基板
１０５  シール材
１０６  液晶
１０７  スペーサ
１０８  ゲート線
１０９  ソース線
１１０  配向膜
１１１  対向電極
１１２  透過着色層
１１３  偏光板
１１４  ゲートドライバ
１１５  ソースドライバ
１１６  表示領域
１１７  周辺領域
１１８  画素電極
１１９  ＴＦＴ
１２０、１２１  外部配線
１２２  第１誘電体層
１２３  金属微粒子
１２４  第２誘電体層
【図１】
2008058444.tif 000004
【図２】
2008058444.tif 000005
【図３】
2008058444.tif 000006
【図４】
2008058444.tif 000007
【図５】
2008058444.tif 000008
【図６】
2008058444.tif 000009
【図７】
2008058444.tif 000010