(57)【要約】      （修正有）【課題】光学記録媒体の記録層形成用色素として有用な新規ヒドラジドキレート錯体化合物を提供する。【解決手段】例えば下式で例示されるヒドラジドキレート錯体化合物。2008195915.tif 000103【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で表されるヒドラジドキレート錯体化合物。
【化１】
2008195915.tif 000101
（一般式（１）中、環Ａは置換基を有していても良い芳香環を表し、Ｒ１およびＲ６は、それぞれ独立に、置換基を有していても良い芳香環基もしくは炭素数２０以下の１価の非芳香環置換基を表し、Ｒ２〜Ｒ５は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していても良い芳香環基もしくは炭素数２０以下の１価の非芳香環置換基を表し、ｎは０または１を表し、ａは１〜３の整数を表し、Ｍは遷移金属原子を表し、Ｘは周期表第１４〜１６族原子を表す。なお、Ｘが周期表第１４〜１５族原子の場合、該Ｘは更に炭素数２０以下の１価の置換基を有していても良い。更に、上記分子はカウンターイオンを有していても良い。）
【請求項２】
一般式（１）において、環Ａが芳香族炭化水素環であることを特徴とする請求項１に記載のヒドラジドキレート錯体化合物。
【請求項３】
一般式（１）において、Ｘが炭素原子であることを特徴とする請求項１または２に記載のヒドラジドキレート錯体化合物。
【請求項４】
下記一般式（２）で示されることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載のヒドラジドキレート錯体化合物。
【化２】
2008195915.tif 000102
（一般式（２）中、環Ａは置換基を有していても良い芳香環を表し、Ｒ７、Ｒ８およびＹ１、Ｙ２は、それぞれ独立に、置換基を有していても良い芳香環基もしくは炭素数２０以下の１価の非芳香環置換基を表し、Ｍ２は遷移金属原子を表す。更に、上記分子はカウンターイオンを有していても良い。）
【請求項５】
一般式（２）において、Ｙ１，Ｙ２の少なくとも一方が、置換基を有していても良いアリールメチル基またはヘテロアリールメチル基であることを特徴とする請求項４に記載のヒドラジドキレート錯体化合物。
【請求項６】
一般式（２）において、Ｙ１，Ｙ２の少なくとも一方が、置換されていてもよいベンジル基であることを特徴とする請求項５に記載のヒドラジドキレート錯体化合物。
【請求項７】
一般式（２）において、Ｍ２が第９族元素であることを特徴とする請求項４ないし６のいずれか１項に記載のヒドラジドキレート錯体化合物。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれか１項に記載のヒドラジドキレート錯体化合物を含むことを特徴とする光学記録媒体の記録層形成用色素。
【請求項９】
基板と、該基板上に形成された記録層とを少なくとも有し、該記録層が、請求項８に記載の光学記録媒体の記録層形成用色素を用いて形成されたものであることを特徴とする光学記録媒体。
【請求項１０】
基板上に、同心円状あるいはスパイラル状の溝部を持ち、該溝幅Ｗが、１００ｎｍ＜Ｗ＜４００ｎｍ、かつ、溝深ｄが、２０ｎｍ＜ｄ＜２００ｎｍであることを特徴とする請求項９に記載の光学記録媒体。
【請求項１１】
請求項９または１０に記載の光学記録媒体に対し、波長３５０〜５３０ｎｍのレーザー光を用いて記録を行なうことを特徴とする光学記録媒体の記録方法。
【請求項１２】
記録を行うレーザー光の波長において、記録部の反射率が、記録前、および未記録部の反射率よりも高くなることを特徴とする請求項１１に記載の光学記録媒体の記録方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学記録媒体の記録層形成用色素として有用な新規ヒドラジドキレート錯体化合物と、この化合物を含む光学記録媒体の記録層形成用色素に関するものである。特に、本発明は青色レーザー光対応の光学記録媒体の記録層形成用色素として有用な新規ヒドラジドキレート錯体化合物と、この化合物を含む光学記録媒体の記録層形成用色素に関するものである。
本発明はまた、このような色素を用いた記録層を有する光学記録媒体と、この光学記録媒体の記録方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、高密度での情報の記録保存／再生が可能なことから、レーザー光を用いた光学記録媒体、特に光ディスクについての開発が取り進められている。光ディスクの中でも最近注目を集めているものに、書き込み型コンパクトディスク（ＣＤ−Ｒ）がある。ＣＤ−Ｒは、通常、案内溝を有する円形のプラスチック基板上に、色素を主成分とする記録層、金属反射膜および保護膜が順次積層された構造をしている。ＣＤ−Ｒへの情報の記録は、主に、レーザー光を照射し、その照射エネルギーが記録層で吸収されることにより、レーザー光照射部分の記録層、反射層または基板に分解、蒸発、溶解等の熱的変形を生じさせる方法（ヒートモード）により行なわれる。また、記録された情報の再生は、レーザー光照射による熱的変形や色素構造の変化が起きている部分と起きていない部分のレーザー光に対する反射率の差を読み取ることにより行われる。従って、光学記録媒体の記録層はレーザー光のエネルギーを効率よく吸収する必要があり、記録層には一般的にレーザー光吸収色素が用いられている。
【０００３】
レーザー光吸収色素として有機色素を利用した光学記録媒体は、有機色素溶液を塗布するという簡単な方法で記録層を形成し得るため、安価な光学記録媒体として今後益々普及することが期待されている。
【０００４】
また、近年、記録の高密度化のため、記録に用いるレーザー光の波長を従来の半導体レーザーの発光波長である７８０ｎｍを中心としたものから、４０５ｎｍ前後以下の青色光領域へと短波長化することが検討されつつある。
【０００５】
さらに、近年、記録媒体の高容量化のため、記録媒体に記録層を２層作成することによって記憶容量の倍化を図った２層記録媒体の作成や、記録の高速化が検討されているため、記録層用色素化合物にはより一層の記録レーザーに対する高感度化が求められている。
【０００６】
また、色素を用いて記録層を形成する場合、一般的にスピンコート法を用いて基板へ塗布する方法が、真空蒸着法に比べ、コスト面で有利であるため、光学記録媒体用色素は塗布溶媒に高い溶解性を示すことが必須である。現状では、塗布溶媒として２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール（ＴＦＰ）や２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロペンタノール（ＯＦＰ）などのフッ素系アルコール溶媒を用いて、ポリカーボネート基板に塗布するのが一般的であるため、記録層形成形色素には、これらの塗布溶媒に高い溶解性を示すことが求められる。
【０００７】
また、一般的にデータの記録および読み出しはともにレーザー光によって行われ、読み出しレーザー光には、記録レーザー光よりも強度の弱いものが用いられる。従って、光学記録媒体の記録層を形成する色素が、読み出し光である弱いレーザー光照射によって分解
されてしまうほど、該色素の耐光性が低いと、記録データの読み出しを行う際にデータエラーを生じる原因となる。また、光学記録媒体はその性質上記録面に太陽光や照明等が長時間照射される機会が多いため、色素が耐光性に劣ると光学記録媒体の記録データを長期保存することが困難になる。従って記録層形成用色素には高い耐光性が併せて求められる。
【０００８】
イミン化合物は、その合成の簡便さおよび主に波長３００ｎｍ以上に極大吸収を有することから、光学記録媒体への応用が期待される化合物の１つであり、これまでにも特許文献１〜４などの出願がなされている。
【特許文献１】特表２００５−５１５９１４号公報
【特許文献２】国際公開２００４−１０２５５１号公報
【特許文献３】国際公開２００６−０３５５５４号公報
【特許文献４】特開２００１−３０１３３３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、イミン化合物は、一般的に金属錯体でない場合、塗布溶媒への溶解性は優れるものの耐光性に著しく劣り、金属錯体である場合には、耐光性は改善される反面、塗布溶媒への溶解性が大きく低下する。すなわち、特許文献１〜２に記載のイミン化合物は、一般に塗布溶媒への溶解性もしくは耐光性のいずれか一方に著しく劣る。
【００１０】
例えば、特許文献１においては、実施例として金属を含まないイミン化合物を用いた光学記録媒体のみしか記載がなく、本発明者らによる検討の結果、該実施例の化合物は耐光性に著しく劣ることが明らかとなった。また、特許文献２で実施例として挙げられているイミン金属錯体系化合物は、本発明者による検討の結果、特にフッ素系アルコール溶剤への溶解性に著しく劣ることが明らかとなった。さらに、イミン金属錯体系化合物のうち一般的なものであるサレン系錯体化合物に対しても同様の検討を行ったところ、やはりフッ素系アルコール溶媒への溶解性に著しく劣ることが明らかとなった。
【００１１】
また、特許文献３〜４に記載された青色レーザー用等の短波長用有機色素は、従来のＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒと呼ばれる光学記録媒体と同様の記録メカニズム、すなわちHigh  to  Low記録を志向している。High  to  Low記録とは、未記録時の反射率が記録時に比べて高い記録方法であり、未記録部分の戻り光が多い材料が優れた記録材料とされている。しかしながら、現在開発されている青色半導体レーザーを用いた記録方法、例えばＨＤ（High  Definition）ＤＶＤ−ＲやＢＤ（Blu-ray  Disc）−Ｒなどにおいては、High  to  Low記録の実用化は困難であるという課題がある。
【００１２】
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであって、塗布溶媒への溶解性および耐光性のいずれにも優れ、青色レーザー光を用いた光記録にも対応可能な光学記録媒体の記録層形成用のイミン系色素を提供することを目的とする。
【００１３】
また、本発明のもう一つの目的は、従来と異なる記録メカニズムであるLow  to  High記録によって高密度の光情報の記録・再生が可能な光学記録媒体を提供するとともに、この光学記録媒体に好適に用いられる新規な色素を提供することに存する。なお、Low  To  High記録とは、未記録時よりも記録時の反射率が高い記録方法であり、未記録時の反射率を低くする必要がある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
従来のイミン化合物が金属錯体でない場合、耐光性に著しく劣る理由としては、イミン構造が光に対して不安定であることが一因であると考えられ、金属錯体である場合、耐光性は改善される反面塗布溶媒への溶解性が大きく低下する理由としては、金属錯体化により化合物が剛直になるため、安定性は向上するが溶媒との親和性が低下するのが一因であると考えられる。
【００１５】
一方、ヒドラジド化合物は、シッフ塩基に隣接したアミド基（−Ｃ＝Ｎ−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−骨格）を有する骨格を持つため、上記イミン化合物より化合物の剛直性が低く、金属錯体において溶媒に対する溶解性の向上が期待される。しかしながら、この骨格を金属錯体化した場合、金属への配位点がＮとＯとなり、配位が直接π共役構造に影響しないことから、安定性の向上がさほど見込めないと考えられており、光学記録媒体への応用は不可能であると思われていた。
【００１６】
ところが、本発明者らが、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、以下の一般式（１）で表されるヒドラジドキレート錯体化合物が、塗布溶媒への溶解性および薄膜状態での耐光性に優れ、かつこれを記録層に用いた光学記録媒体が青色レーザー光で良好に記録できることを見出した。
【００１７】
本発明は、このような知見に基いて達成されたものであり、以下を要旨とする。
【００１８】
［１］  下記一般式（１）で表されるヒドラジドキレート錯体化合物。
【化３】
2008195915.tif 000002
（一般式（１）中、環Ａは置換基を有していても良い芳香環を表し、Ｒ１およびＲ６は、それぞれ独立に、置換基を有していても良い芳香環基もしくは炭素数２０以下の１価の非芳香環置換基を表し、Ｒ２〜Ｒ５は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していても良い芳香環基もしくは炭素数２０以下の１価の非芳香環置換基を表し、ｎは０または１を表し、ａは１〜３の整数を表し、Ｍは遷移金属原子を表し、Ｘは周期表第１４〜１６族原子を表す。なお、Ｘが周期表第１４〜１５族原子の場合、該Ｘは更に炭素数２０以下の１価の置換基を有していても良い。更に、上記分子はカウンターイオンを有していても良い。）
【００１９】
［２］  一般式（１）において、環Ａが芳香族炭化水素環であることを特徴とする［１］に記載のヒドラジドキレート錯体化合物。
【００２０】
［３］  一般式（１）において、Ｘが炭素原子であることを特徴とする［１］または［２］に記載のヒドラジドキレート錯体化合物。
【００２１】
［４］  下記一般式（２）で示されることを特徴とする［１］ないし［３］のいずれかに記載のヒドラジドキレート錯体化合物。
【化４】
2008195915.tif 000003
（一般式（２）中、環Ａは置換基を有していても良い芳香環を表し、Ｒ７、Ｒ８およびＹ１、Ｙ２は、それぞれ独立に、置換基を有していても良い芳香環基もしくは炭素数２０以下の１価の非芳香環置換基を表し、Ｍ２は遷移金属原子を表す。更に、上記分子はカウンターイオンを有していても良い。）
【００２２】
［５］  一般式（２）において、Ｙ１，Ｙ２の少なくとも一方が、置換基を有していても良いアリールメチル基またはヘテロアリールメチル基であることを特徴とする［４］に記載のヒドラジドキレート錯体化合物。
【００２３】
［６］  一般式（２）において、Ｙ１，Ｙ２の少なくとも一方が、置換されていてもよいベンジル基であることを特徴とする［５］に記載のヒドラジドキレート錯体化合物。
【００２４】
［７］  一般式（２）において、Ｍ２が第９族元素であることを特徴とする［４］ないし［６］のいずれかに記載のヒドラジドキレート錯体化合物。
【００２５】
［８］  ［１］ないし［７］のいずれかに記載のヒドラジドキレート錯体化合物を含むことを特徴とする光学記録媒体の記録層形成用色素。
【００２６】
［９］  基板と、該基板上に形成された記録層とを少なくとも有し、該記録層が、請求項８に記載の光学記録媒体の記録層形成用色素を用いて形成されたものであることを特徴とする光学記録媒体。
【００２７】
［１０］  基板上に、同心円状あるいはスパイラル状の溝部を持ち、該溝幅Ｗが、１００ｎｍ＜Ｗ＜４００ｎｍ、かつ、溝深ｄが、２０ｎｍ＜ｄ＜２００ｎｍであることを特徴とする［９］に記載の光学記録媒体。
【００２８】
［１１］  ［９］または［１０］に記載の光学記録媒体に対し、波長３５０〜５３０ｎｍのレーザー光を用いて記録を行なうことを特徴とする光学記録媒体の記録方法。
【００２９】
［１２］  記録を行うレーザー光の波長において、記録部の反射率が、記録前、および未記録部の反射率よりも高くなることを特徴とする［１１］に記載の光学記録媒体の記録方法。
【発明の効果】
【００３０】
本発明の新規ヒドラジドキレート錯体化合物は、溶媒に対する溶解性、耐光性および青色レーザー記録感度に優れている。従って、このヒドラジドキレート錯体化合物を含む色素を光学記録媒体の記録層に用いることにより、青色レーザー光による記録特性に優れ、かつ耐光性も良好な高密度光学記録媒体を、良好な膜性のもとに、安価に提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
以下、本発明の実施の形態を具体的に説明するが、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々に変更して実施することができる。
【００３２】
［ヒドラジドキレート錯体化合物］
本発明のヒドラジドキレート錯体化合物は、下記一般式（１）で表される。
【化５】
2008195915.tif 000004
（一般式（１）中、環Ａは置換基を有していても良い芳香環を表し、Ｒ１およびＲ６は、それぞれ独立に、置換基を有していても良い芳香環基もしくは炭素数２０以下の１価の非芳香環置換基を表し、Ｒ２〜Ｒ５は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していても良い芳香環基もしくは炭素数２０以下の１価の非芳香環置換基を表し、ｎは０または１を表し、ａは１〜３の整数を表し、Ｍは遷移金属原子を表し、Ｘは周期表第１４〜１６族原子を表す。なお、Ｘが周期表第１４〜１５族原子の場合、該Ｘは更に炭素数２０以下の１価の置換基を有していても良い。更に、上記分子はカウンターイオンを有していても良い。）
【００３３】
｛語句の説明｝
本発明において芳香環とは、芳香族性を有する環、すなわち（４ｍ＋２）π電子系（ｍは自然数）を有する環を意味する。その骨格構造は、通常、５または６員環の、単環または２〜６縮合環からなる芳香環であり、該芳香環には、芳香族炭化水素環、芳香族複素環の他、アントラセン環、カルバゾール環、アズレン環のような縮合環も含まれる。「芳香環基」等の「・・・・環基」とはこのような芳香環等の環から水素原子を１個取った１価の置換基である。
【００３４】
また、「（ヘテロ）アリール」とは「アリール」と「ヘテロアリール」の両方を意味し、「（ヘテロ）アラルキル」とは「アラルキル」と「ヘテロアラルキル」の両方を意味する。
また、本発明において、「置換基を有していても良い」とは置換基を１以上有していても良いことを意味する。
【００３５】
｛一般式（１）｝
＜環Ａ＞
一般式（１）において、環Ａは置換基を有していても良い芳香環を表す。その骨格構造の具体例としては、５員環単環としてフラン環、チオフェン環、ピロール環、イミダゾール環、チアゾール環、オキサジアゾール環、６員環単環としてベンゼン環、ピリジン環、ピラジン環、縮合環としてナフタレン環、フェナンスレン環、アズレン環、ピレン環、キノリン環、イソキノリン環、キノキサリン環、ベンゾフラン環、カルバゾール環、ジベンゾチオフェン環、アントラセン環等が挙げられる。これらのうち、合成上の理由から芳香族炭化水素環が好ましく、特に好ましくはベンゼン環またはナフタレン環である。
【００３６】
環Ａの芳香環が有していても良い置換基としては、炭素数２０以下の、鎖状アルキル基、鎖状アルケニル基、鎖状アルキニル基、炭化水素環基、複素環基、アルコキシ基、アル
キルカルボニル基、（ヘテロ）アリールオキシ基、（ヘテロ）アラルキルオキシ基、置換基を有していても良いアミノ基、ニトロ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、（ヘテロ）アリールオキシカルボニル基、置換基を有していても良いカルバモイル基、ハロゲン原子、水酸基などが挙げられる。
【００３７】
鎖状アルキル基の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ヘキシル基、オクチル基などの炭素数が通常１〜２０、好ましくは１〜１０の直鎖または分岐状のものが挙げられる。
【００３８】
鎖状アルケニル基の例としては、ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、２−メチル−１−プロペニル基、ヘキセニル基、オクテニル基などの炭素数が通常２〜２０、好ましくは２〜１０の直鎖または分岐状のものが挙げられる。
【００３９】
鎖状アルキニル基の例としては、エチニル基、プロピニル基、ブチニル基、２−メチル−１−プロピニル基、ヘキシニル基、オクチニル基などの炭素数が通常２〜２０、好ましくは２〜１０の直鎖または分岐状のものが挙げられる。
【００４０】
炭化水素環基としてはシクロプロピル基、シクロヘキシル基、テトラデカヒドロアントラニル基などの炭素数が通常３〜２０、好ましくは５〜１０のシクロアルキル基、シクロヘキセニル基などの炭素数が通常３〜２０、好ましくは５〜１０のシクロアルケニル基、フェニル基、アントラニル基、フェナンスリル基、フェロセニル基などの炭素数が通常６〜１８、好ましくは６〜１０のアリール基が挙げられる。
【００４１】
複素環基としては、５〜６員環の単環または２〜６縮合環からなるヘテロアリール基、５〜６員環の単環または２〜６縮合環からなるヘテロシクロアルキル基が挙げられ、ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子などが挙げられる。具体的には、チエニル基などの５員環、ピリジル基、２−ピペリジニル基、２−ピペラジニル基などの６員環、ベンゾチエニル基、カルバゾリル基、キノリニル基、オクタヒドロキノリニル基などの５または６員環の２〜６縮合環由来の基が挙げられる。
【００４２】
アルコキシ基の例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、ｉｓｏ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基などの炭素数が通常１〜９、好ましくは２〜８のものが挙げられる。
【００４３】
アルキルカルボニル基としては、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基、イソプロピルカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基などの炭素数が通常２〜１８、好ましくは２〜８のものが挙げられる。
【００４４】
（ヘテロ）アリールオキシ基の例としては、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等の炭素数が通常６〜１８、好ましくは６〜１０のアリールオキシ基や、２−チエニルオキシ基、２−フリルオキシ基、２−キノリルオキシ基等の炭素数が通常５〜１８、好ましくは５〜１０で、ヘテロ原子として窒素原子、酸素原子、硫黄原子などから選ばれるものを含むヘテロアリールオキシ基などが挙げられる。
【００４５】
（ヘテロ）アラルキルオキシ基の例としては、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基、ナフチルメトキシ基等の炭素数が通常７〜１８、好ましくは７〜１２のアラルキルオキシ基や、２−チエニルメトキシ基、２−フリルメトキシ基、２−キノリルメトキシ基等の炭素数が通常６〜１８、好ましくは６〜１０で、ヘテロ原子として窒素原子、酸素原子、硫黄原子などから選ばれるものを含むヘテロアラルキルオキシ基などが挙げられる。
【００４６】
置換基を有していても良いアミノ基としては、アミノ基、アルキルアミノ基、（ヘテロ）アリールアミノ基などが挙げられる。
アルキルアミノ基の例としては、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、メチルエチルアミノ基、ジブチルアミノ基、ピペリジル基などの炭素数が２〜２０、好ましくは３〜１０のものが挙げられる。
（ヘテロ）アリールアミノ基の例としては、ジフェニルアミノ基、ジナフチルアミノ基、ナフチルフェニルアミノ基、ジトリルアミノ基等の炭素数が６〜３０、好ましくは６〜１５のアリールアミノ基や、ジ（２−チエニル）アミノ基、ジ（２−フリル）アミノ基などの炭素数が５〜３０、好ましくは６〜１５で、ヘテロ原子として窒素原子、酸素原子、硫黄原子などから選ばれるものを含むヘテロアリールアミノ基、フェニル（２−チエニル）アミノ基等の炭素数が１１〜３０、好ましくは１２〜１６のアリールヘテロアリールアミノ基などが挙げられる。
【００４７】
置換基を有していても良いカルバモイル基としては、カルバモイル基、アルキルカルバモイル基などが挙げられる。
アルキルカルバモイル基としては、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ−エチル−Ｎ−シクロヘキシルカルバモイル基などの炭素数が通常２〜２０、好ましくは２〜１０のものが挙げられる。
【００４８】
アルコキシカルボニル基、（ヘテロ）アリールオキシカルボニル基の例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基などの炭素数が２〜２０、好ましくは２〜１０のものが挙げられる。
【００４９】
ハロゲン原子の例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子などが挙げられる。
【００５０】
なお、環Ａが２つ以上の置換基を有する場合、該置換基同士が結合して環状構造をなしてもよい。例えば、環Ａがベンゼン環由来の基である場合、該ベンゼン環が有する置換基同士が結合してヘテロ原子を含んでいても良い環状構造を形成している例として以下に示す構造が挙げられる。なお、以下において、点線がヒドラジド骨格への結合位置である。
【００５１】
【化６】
2008195915.tif 000005
【００５２】
なお、環Ａは、これらの置換基を有している方が記録層を形成する際に用いる溶媒に対する色素の溶解性が向上するので好ましく、アルコキシカルボニル基やアルコキシル基などを有することが更に好ましい。一方、これらの置換基を有していない方が合成コスト面で好ましい。
【００５３】
＜Ｒ１，Ｒ６＞
一般式（１）において、Ｒ１，Ｒ６は、それぞれ独立に、置換基を有していても良い芳香環基もしくは炭素数２０以下の１価の非芳香環置換基を表す。
置換基を有していても良い芳香環基の具体例はとしては環Ａの具体例として記載されたものが挙げられ、炭素数２０以下の１価の非芳香環置換基の具体例としては環Ａが有していても良い置換基として記載されたもののうち、芳香環基を除くものが挙げられる。
【００５４】
Ｒ１は芳香環基であることが化合物の安定性上好ましいが、非芳香環置換基であることが青色レーザーへの感度向上の点で好ましい。
また、Ｒ６は非芳香環置換基であることが合成上好ましい。
【００５５】
＜Ｒ２〜Ｒ５＞
一般式（１）において、Ｒ２〜Ｒ５は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していても良い芳香環基もしくは炭素数２０以下の１価の非芳香環置換基を表す。
置換基を有していても良い芳香環基の具体例はとしては環Ａの具体例として記載されたものが挙げられ、炭素数２０以下の１価の非芳香環置換基の具体例としては環Ａが有していても良い置換基として記載されたもののうち、芳香環基を除くものが挙げられる。
Ｒ２〜Ｒ５はそれぞれ水素原子であることが合成面で好ましい。
【００５６】
＜Ｘ＞
一般式（１）において、Ｘは周期表１４〜１６族原子を表す。
その具体例としてはＣ、Ｎ、Ｏ、Ｓｉ、Ｐ、Ｓ等が挙げられるが、化合物の安定性および合成上の観点からＣ、Ｏ、Ｓのいずれかであることが好ましく、Ｃであることが特に好ましい。
【００５７】
なお、Ｘが周期表１４もしくは１５族原子である場合、該Ｘはさらに炭素数２０以下の１価の置換基を有していても良い。その具体例としては環Ａが有していても良い置換基として記載されたものが挙げられる。
【００５８】
＜ｎ＞
一般式（１）において、ｎは０または１の整数を表すが、合成面からはｎが０であることが好ましく、レーザー感度向上の面からはｎが１であることが好ましい。
【００５９】
＜ａ＞
一般式（１）において、ａは１〜３の整数を表すが、一般式（１）で表される本発明のヒドラジドキレート錯体化合物は、平面四角形型あるいは八面体型を取ることが構造的に安定で、好ましいことから、ａは２あるいは３であることが好ましい。
【００６０】
＜Ｍ＞
一般式（１）において、Ｍは遷移金属原子を表す。
該金属原子はヒドラジドリガンドと金属錯体を形成し得るものであれば何でもよく、具体例としてはＴｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｍｏ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ａｇ，Ｐｔ，Ａｕ，Ｅｒ等が挙げられる。
【００６１】
該遷移金属原子は経済面から周期表第４周期元素であることが好ましく、耐光性向上の面からＣｏ、Ｎｉ、Ｃｕが好ましく、特に、Ｃｏであることが特に好ましい。
【００６２】
Ｍは２価の遷移金属であることが好ましいが、１価もしくは３価以上でもよい。
【００６３】
なお、Ｍは該キレートの他に溶媒や他のキレートと追加的に配位しても良い。
溶媒としては、アルコール性溶媒、ケトン系溶媒あるいはアミノ系溶媒など金属のアキシアル位あるいは別の位置から配位可能なものが挙げられる。
他のキレートとしては、ピリジン、ピリミジン、ピリダジンあるいはピラジンなどの配位性原子を有する配位子が挙げられる。
【００６４】
＜カウンターイオン＞
一般式（１）で表される本発明のヒドラジドキレート錯体化合物は、該化合物が分子全体として電気的に中性となるように、一般式（１）には示されないカウンターイオンを適宜有していても良い。この場合、有していても良いカウンターアニオンとしては、具体的には、ＢＦ４−、ＣｌＯ４−、ＰＦ６−、ハロゲンイオン、水酸化物イオン、酢酸イオンなどが挙げられ、カウンターカチオンとしては、周期表第１Ａ族カチオンなど、特に１価のカチオンが挙げられる。
【００６５】
｛一般式（１）の特に好ましい構造｝
一般式（１）で表される本発明のヒドラジドキレート錯体化合物は、特に好ましくは下記一般式（２）で表される。
【化７】
2008195915.tif 000006
（一般式（２）中、環Ａは置換基を有していても良い芳香環を表し、Ｒ７、Ｒ８およびＹ１、Ｙ２は、それぞれ独立に、置換基を有していても良い芳香環基もしくは炭素数２０以下の１価の非芳香環置換基を表し、Ｍ２は遷移金属原子を表す。更に、上記分子はカウンターイオンを有していても良い。）
【００６６】
＜環Ａ＞
一般式（２）において、環Ａは、一般式（１）における環Ａと同義である。
【００６７】
＜Ｒ７、Ｒ８＞
一般式（２）において、Ｒ７、Ｒ８は、一般式（１）におけるＲ１、Ｒ６と同義である。
【００６８】
＜Ｙ１、Ｙ２＞
一般式（２）において、Ｙ１、Ｙ２は、それぞれ独立に、置換基を有していても良い芳香環基もしくは炭素数２０以下の１価の非芳香環置換基を表す。
置換基を有していても良い芳香環基の具体例としては、一般式（１）の環Ａの具体例として記載された芳香環由来のものが挙げられ、炭素数２０以下の１価の非芳香環置換基の具体例としては一般式（１）の環Ａが有していても良い置換基として記載されたもののうち、芳香環基を除くものが挙げられる。
【００６９】
なお、Ｙ１またはＹ２の少なくとも１つが、置換基を有していても良いベンジル基、ナフチルメチル基などのアリールメチル基、置換基を有しても良いフラニルメチル基、チオフェニルメチル基、ピリジルメチル基などのヘテロアリールメチル基、置換基を有していても良いｔｅｒｔ−ブチル基などの脱離性置換基であることが  記録媒体とした際の感度向上の面で好ましく、Ｙ１またはＹ２の少なくとも１つが、置換基を有していても良いアリールメチル基もしくは置換基を有しても良いヘテロアリールメチル基であることが特に好ましく、置換基を有していても良いアリールメチル基であることが更に好ましく、置換基を有していても良いベンジル基であることが特に好ましい。また、記録信号品質向上の理由で、該脱離性置換基はさらに１つ以上の置換基を有することが好ましく、該置換基がHansch,C.et,al.,J.Med.Chem.,16,1207（１９７３）やHansch,C.et,al.,J.Med.Chem.,20,304（１９７７）に記載のハメットの置換基定数σｐ値が０＜σｐ＜０．９の電子吸引性置換基であることが更に好ましく、該置換基がシアノ基、トリフルオロメチル基、ＦやＣｌなどのハロゲンなどであることが特に好ましい。
【００７０】
＜Ｍ２＞
一般式（２）におけるＭ２は一般式（１）におけるＭと同義である。
【００７１】
｛分子量｝
一般式（１）、好ましくは一般式（２）で表される本発明のヒドラジドキレート錯体化合物は、吸光度低下による感度低下防止の点から、通常分子量１，５００以下、中でも１，０００以下であることが好ましい。
【００７２】
なお、一般式（１）、好ましくは一般式（２）で表される本発明のヒドラジドキレート錯体化合物は、記録媒体の保存安定性を向上させる理由から、通常水不溶性であることが好ましい。ここで「水不溶性」とは、２５℃、１気圧の条件下における水に対する溶解度が、通常０．１重量％以下、好ましくは０．０１重量％以下であることを言う。
【００７３】
｛具体例｝
一般式（１）で表される本発明のヒドラジドキレート錯体化合物の具体例を以下に例示するが、本発明はその要旨を超えない限りこれらに限定されるものではない。なお、以下において、Ｍｅはメチル基を、Ｅｔはエチル基を、Ｂｕはブチル基を、Ａｃはアセチル基を、Ｐｈはフェニル基を表す。以下においては、Ｃｕ錯体、Ｍｎ錯体、Ｎｉ錯体あるいはＣｏ錯体を記載しているが、他の遷移金属に置き換えてもよい。
【００７４】
【化８】
2008195915.tif 000007
【００７５】
【化９】
2008195915.tif 000008
【００７６】
【化１０】
2008195915.tif 000009
【００７７】
【化１１】
2008195915.tif 000010
【００７８】
【化１２】
2008195915.tif 000011
【００７９】
【化１３】
2008195915.tif 000012
【００８０】
【化１４】
2008195915.tif 000013
【００８１】
【化１５】
2008195915.tif 000014
【００８２】
【化１６】
2008195915.tif 000015
【００８３】
【化１７】
2008195915.tif 000016
【００８４】
【化１８】
2008195915.tif 000017
【００８５】
【化１９】
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【００８６】
【化２０】
2008195915.tif 000019
【００８７】
【化２１】
2008195915.tif 000020
【００８８】
【化２２】
2008195915.tif 000021
【００８９】
【化２３】
2008195915.tif 000022
【００９０】
【化２４】
2008195915.tif 000023
【００９１】
【化２５】
2008195915.tif 000024
【００９２】
【化２６】
2008195915.tif 000025
【００９３】
【化２７】
2008195915.tif 000026
【００９４】
【化２８】
2008195915.tif 000027
【００９５】
【化２９】
2008195915.tif 000028
【００９６】
【化３０】
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【００９７】
【化３１】
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【００９８】
【化３２】
2008195915.tif 000031
【００９９】
【化３３】
2008195915.tif 000032
【０１００】
【化３４】
2008195915.tif 000033
【０１０１】
【化３５】
2008195915.tif 000034
【０１０２】
【化３６】
2008195915.tif 000035
【０１０３】
【化３７】
2008195915.tif 000036
【０１０４】
【化３８】
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【０１０５】
【化３９】
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【０１０６】
【化４０】
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【０１０７】
【化４１】
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【０１０８】
【化４２】
2008195915.tif 000041
【０１０９】
【化４３】
2008195915.tif 000042
【０１１０】
【化４４】
2008195915.tif 000043
【０１１１】
【化４５】
2008195915.tif 000044
【０１１２】
【化４６】
2008195915.tif 000045
【０１１３】
【化４７】
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【０１１４】
【化４８】
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【０１１５】
【化４９】
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【０１１６】
【化５０】
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【０１１７】
【化５１】
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【０１１８】
【化５２】
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【０１１９】
【化５３】
2008195915.tif 000052
【０１２０】
【化５４】
2008195915.tif 000053
【０１２１】
【化５５】
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【０１２２】
【化５６】
2008195915.tif 000055
【０１２３】
前述の例示化合物のうち、後述の実施例の合成方法に従い、合成した化合物群を下記表に示す。
表中のＡナンバーは、例示化合物に対応し、λｍａｘは、アセトニトリル中の吸収極大を示し、εは、モル吸光係数を示す。
【０１２４】
【表１】
2008195915.tif 000056
【０１２５】
【表２】
2008195915.tif 000057
【０１２６】
表中の化合物はいずれもλｍａｘが３５０ｎｍ〜５３０ｎｍ、中でも好ましいものは３８０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲にあり、高密度記録のために望ましい波長３５０ｎｍ〜５３０ｎｍのレーザー光での記録に用いることが可能である。
【０１２７】
｛合成法｝
一般式（１）で表される本発明のヒドラジドキレート錯体化合物を構成するヒドラジドリガンドは、以下に示す反応などによって容易に合成できる。
【０１２８】
【化５７】
2008195915.tif 000058
（上記反応式中、環Ａ、Ｒ１〜Ｒ６、Ｘ、ｎは一般式（１）におけると同義である。）
【０１２９】
この際、反応系に溶媒が存在しても、しなくても良い。
反応溶媒を用いる場合、該溶媒としてはメタノール、エタノール、アセトニトリル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、クロロホルム、ジクロロエタンなどの極性溶媒やトルエン、キシレンなどの非極性溶媒を用いることができ、さらに触媒として塩酸、酢酸、硫酸などの無機酸、ｐ−ＴｓＯＨ（パラトルエンスルホン酸）、ＰＰＴＳ（パラトルエンスルホン酸ピリジン塩）などの有機酸を添加しても良い。
この場合の触媒の添加量は反応が進行すれば特に規定されないが、基質に対して１／１００〜１モル倍程度、酸が基質のヘテロ原子に配位してしまう場合には、その基質分のモル分さらに加えることが好ましい。
反応温度は室温から溶媒が還流する程度であることが好ましく、反応時間は１分〜４８時間程度、一般には、３時間程度〜１０時間程度であることが反応のきれいさの点から好ましい。
【０１３０】
本発明のヒドラジドキレート錯体化合物は、上述の手法で合成されたヒドラジドリガンドを塩基で処理した後、遷移金属塩と溶媒の存在下もしくは非存在下、室温から溶媒が還流する程度の温度で加熱反応させることにより得ることができる。反応溶媒を用いる場合、該溶媒としては水、メタノール、エタノール、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジクロロエタン、クロロホルム、などの極性溶媒やトルエン、キシレンなどの非極性溶媒を用いることができる。塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム、ｔ−ブトキシナトリウム、ｔ−ブトキシカリウムなどの無機塩基や、トリエチルアミンやピペリジンなどの有機塩基を用いることができる。
【０１３１】
｛耐光性および塗布溶媒への溶解性｝
本発明のヒドラジドキレート錯体化合物のうち好ましいものは、耐光性および塗布溶媒への溶解性に優れ、さらに光学記録媒体の記録層形成に用いたときの膜性および記録感度に優れるという特徴がある。
【０１３２】
この場合の耐光性に優れるとは、約５０ｎｍの膜厚になるように形成したヒドラジドキレート錯体化合物薄膜に対し、温度５８℃、湿度５０％、キセノンランプ（強度０．５５Ｗ／ｍ２）照射条件の耐光性試験を４０時間行っても、当該薄膜中のヒドラジドキレート錯体化合物の通常７０％以上、好ましくは８０％以上、特に好ましくは９０％以上が劣化せずに残存することを言う。ここで、劣化の度合いは３００〜５００ｎｍにおける吸収極大の吸収減少率によって判定する。
【０１３３】
この耐光性の試験は、具体的には、次のようにして行われる。
まず、乾燥後の膜厚が約５０ｎｍとなるように、ヒドラジドキレート錯体化合物を含む溶液を基板上に塗布した後、乾燥し、ヒドラジドキレート錯体化合物を含む層を得る。得られた色素を含む層に対して、温度５８℃、湿度５０％の条件下、キセノンランプ（強度０．５５Ｗ／ｍ２）の照射を所定時間行い、照射前後の吸収極大波長における吸光度を比較し、色素残存率を求めることにより実施される。
【０１３４】
また、塗布溶媒への溶解性に優れるとは、２０℃、常圧条件において、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール（ＴＦＰ）に０．７重量％以上、好ましくは１．０重量％以上、更に好ましくは１．５重量％以上溶解することを示す。溶解の判定は特定の濃度で化合物とＴＦＰを混合したときに、溶媒中に化合物の結晶残渣が残存するか否かで行う。
なお、本発明の用途においては、溶解度の上限は特に制限されるものではないが、通常２０重量％以下、中でも１０重量％以下程度である。
【０１３５】
このように、本発明のヒドラジドキレート錯体化合物が耐光性および塗布溶媒への溶解性に優れる理由は、金属キレート化によりヒドラジドキレート錯体化合物が安定化したこと、一般式（１）中の下記（１Ａ）の縮合環部分が、立体的に嵩高く、分子同士の重なりを最小限に押さえ溶解性を向上させたこと等が挙げられる。
【０１３６】
【化５８】
2008195915.tif 000059
【０１３７】
また、１つのリガンドに対して配位点が２つであること、上記縮合環部分（１Ａ）が比較的反応性に富むことから、通常条件下では安定ながら記録レーザー照射条件では不安定、即ち高感度であることが期待される。
【０１３８】
｛膜性｝
また、本発明に係るヒドラジドキレート錯体化合物は、膜性に優れている。すなわち、スピンコート法により記録層を形成後、ディスク表面に化合物の結晶化に由来する白化現象が認められない点においても、工業的に有利である。
【０１３９】
｛用途｝
また、本発明のヒドラジドキレート錯体化合物のうち好ましいものは、多層媒体に好適に用いられる。すなわち、多層媒体においては各層に情報を記録する際に、記録する目的以外の層にも光が吸収、透過する現象が必ず生じるため、単層媒体よりも記録感度が良い色素を用いる必要がある。本発明のヒドラジドキレート錯体化合物は従来と比較して良好な記録感度を持つことから、より好ましいと考えられる。
【０１４０】
［光学記録媒体の記録層形成用色素］
本発明の光学記録媒体の記録層形成用色素は、上述のような本発明のヒドラジドキレート錯体化合物を含むものである。
本発明の光学記録媒体の記録層形成用色素中には、本発明のヒドラジドキレート錯体化合物を１種類のみ用いてもよく、本発明のヒドラジドキレート錯体化合物を２種類以上、任意の組み合わせおよび比率で併用してもよい。また、１種または２種以上の本発明のヒドラジドキレート錯体化合物に加えて、他の色素の１種または２種以上を併用してもよい。
但し、本発明のヒドラジドキレート錯体化合物以外の色素を併用する場合には、本発明のヒドラジドキレート錯体化合物の優れた特性を十分に発揮させる観点から、全色素の合計に対する本発明のヒドラジドキレート錯体化合物が占める比率を、通常５０重量％以上、好ましくは７０重量％以上とすることが好ましい。
【０１４１】
本発明のヒドラジドキレート錯体化合物と併用可能な他系統の色素としては、記録用のレーザー光波長域に吸収を有し、照射されたレーザー光のエネルギーを吸収して、照射部分の記録層、反射層または基板に、分解、蒸発、溶解等の熱的変形を伴うピットを形成させるものが好ましい。また、ＣＤ−Ｒ向けの７７０〜８３０ｎｍの範囲から選ばれた波長の近赤外レーザー光やＤＶＤ−Ｒ向けの６２０〜６９０ｎｍの範囲から選ばれた赤色レーザー光での記録に適する色素を併用して、複数の波長域のレーザー光での記録に対応する光学記録材料とすることもできる。また、上記ＣＤ−Ｒ用或いはＤＶＤ−Ｒ用の色素の中で耐光性が良好なものを選び、本発明のヒドラジドキレート錯体化合物と併用することにより、耐光性を更に向上させることが可能となる。
併用し得る他系統の色素としては、具体的には、含金属アゾ系色素、ベンゾフェノン系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、シアニン系色素、アゾ系色素、スクアリリウム系色素、含金属インドアニリン系色素、トリアリールメタン系色素、メロシアニン系色素、アズレニウム系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、インドフェノール系色素、キサンテン系色素、オキサジン系色素、ピリリウム系色素等が挙げられ、これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【０１４２】
なお、これら他系統の色素のうち、ＣＤ−Ｒ向けの７７０〜８３０ｎｍの範囲から選ばれた波長の近赤外レーザー光やＤＶＤ−Ｒ向けの６２０〜６９０ｎｍの範囲から選ばれた赤色レーザー光での記録に適する色素を併用して、複数の波長域のレーザー光での記録に対応する光学記録材料とすることもできる。
【０１４３】
［光学記録媒体］
｛記録層｝
本発明の光学記録媒体が有する記録層は、前記一般式（１）、好ましくは前記一般式（２）で表される本発明のヒドラジドキレート錯体化合物の少なくとも１種を含有する本発明の光学記録媒体の記録層形成用色素（単に「本発明の色素」と称す場合がある。）を用いて形成されたものである。
即ち、本発明の光学記録媒体の記録層は、本発明のヒドラジドキレート錯体化合物の１種または２種以上を含有するものである。
【０１４４】
記録層に占める本発明の色素の割合は、通常１０重量％以上、好ましくは５０重量％以上、特に好ましくは７０重量％以上である。
色素の割合が少なすぎると、記録感度が著しく低下するので好ましくない。本発明の色素として２種類以上の色素を併用する場合には、その合計が上記範囲を満たすようにする。また、後述のバインダーや各種の添加剤を用いる場合には、形成された記録層に占める本発明の色素の割合が上記の範囲内となるように、バインダーや添加剤の使用量を調整することが好ましい。なお、本発明の色素の優れた特性を十分に発揮させる観点から、本発明に係る記録層には、バインダーや添加剤が使用されないことが特に好ましい。
【０１４５】
記録層は成膜性を向上させるためにバインダーを含有していてもよい。バインダーとしては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ケトン系樹脂、ニトロセルロース、酢酸セルロース、アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート、ポリオレフィン等既知のものが１種を単独で、或いは２種以上を混合して用いられる。
記録層に占めるバインダーの割合が高すぎると記録感度が著しく低下するので、バインダー、更には後述の各種添加剤を用いる場合、形成された記録層に占める本発明の色素の割合が、上記の範囲となるような量を用いる。
【０１４６】
また、記録層は、安定性や耐光性向上のための一重項酸素クエンチャーや記録感度向上剤などを含有していてもよい。
【０１４７】
一重項酸素クエンチャーとしては、アセチルアセトナート、ビスフェニルジチオール、サリチルアルデヒドオキシム、ビスジチオ−α−ジケトン等と遷移金属とのキレート化合物などが挙げられ、これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【０１４８】
記録感度向上剤としては、遷移金属等の金属が原子、イオン、クラスター等の形で化合物に含まれる金属系化合物等が挙げられ、例えばエチレンジアミン系錯体、アゾメチン系錯体、フェニルヒドロキシアミン系錯体、フェナントロリン系錯体、ジヒドロキシアゾベンゼン系錯体、ジオキシム系錯体、ニトロソアミノフェノール系錯体、ピリジルトリアジン系錯体、アセチルアセトナート系錯体、メタロセン系錯体のような有機金属化合物などが挙げられ、これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。金属原子の種類は特に限定されないが、遷移金属が好ましい。
更に必要に応じてレベリング剤、消泡剤等を併用することもできる。
【０１４９】
なお、一重項酸素クエンチャーは色素に対して通常５〜３０重量％程度、記録感度向上剤は色素に対して通常１０〜３０重量％程度用いられる。
２種以上の一重項酸素クエンチャーを併用する場合や、２種以上の記録感度向上剤を併用する場合には、各々、その合計が上記範囲を満たすようにする。
【０１５０】
本発明のヒドラジドキレート錯体化合物を含む本発明の色素を用いて光学記録媒体の記録層を形成するには、真空蒸着法、スパッタリング法、ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等の一般に行われている薄膜形成法を用いることができる。
これらのうち、量産性、コスト面からはスピンコート法が好ましいが、真空蒸着法などがより均一な厚みの記録層を得られる点で好ましい。
スピンコート法により記録層を成膜する場合、回転数は５００〜５０００ｒｐｍが好ましく、スピンコート後、必要に応じて、加熱または溶媒蒸気にさらす等の処理を行ってもよい。
【０１５１】
記録層の膜厚は、記録方法等により適した膜厚が異なるため、特に限定されないが、通常少なくとも１ｎｍ以上、好ましくは５ｎｍ以上、より好ましくは１０ｎｍ以上、通常５μｍ以下、好ましくは２μｍ以下、より好ましくは３００ｎｍ以下、更に好ましくは２００ｎｍ以下、特に好ましくは１００ｎｍ以下である。記録層の膜厚がこの下限値より大きい場合は、記録に必要な光吸収量を確保することができ、良好な感度で記録がしやすい。また、記録信号に歪みが発生しにくいため、所望の大きさの品質良好なマークを形成しやすい。記録層の膜厚が前記の上限値より小さい場合は、再生に必要な反射光量を確保することが容易となり、その結果として良好な再生信号を得ることができる。
【０１５２】
記録層をドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等により形成する場合には、まず、本発明の記録層形成用色素、バインダー、一重項酸素クエンチャー、記録感度向上剤および他の色素等を溶媒に溶解させ、塗布液を作成する。
【０１５３】
溶媒としては、ＴＦＰを用いることが工業面で特に好ましいが、基板を侵さない溶媒であればＴＦＰに限定されるものではなく、ジアセトンアルコール、３−ヒドロキシ−３−メチル−２−ブタノン等のケトンアルコール系溶媒、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒、ｎ−ヘキサン、ｎ−オクタン等の鎖状炭化水素系溶媒、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、ｎ−ブチルシクロヘキサン、ｔ−ブチルシクロヘキサン、シクロオクタン等の脂環式炭化水素系溶媒、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル等のエーテル系溶媒、２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロペンタノール（ＯＦＰ）、ヘキサフルオロブタノール等のフッ素系アルキルアルコール系溶媒、乳酸メチル、乳酸エチル、イソ酪酸メチル等のヒドロキシエステル系溶媒等を用いることもできる。なお、これらの溶媒は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよいが、工業面からは１種を単独で用いることが好ましい。
【０１５４】
塗布液中の本発明の色素の濃度は、その溶媒溶解性に応じて適宜決定されるが、通常０．１重量％以上、好ましくは０．２重量％以上で、通常１０重量％以下、好ましくは３．０重量％以下とされる。塗布液中の色素濃度が過度に低いと、記録層の形成効率が悪くなる。塗布液中の色素濃度が過度に高いと成膜工程において、色素の結晶化等の問題が発生する可能性が高くなる。
【０１５５】
真空蒸着法を用いる場合には、例えば、本発明のヒドラジドキレート錯体化合物と、必要に応じて他の色素や各種添加剤等の記録層成分とを、真空容器内に設置されたるつぼに入れ、この真空容器内を適当な真空ポンプで１０−２〜１０−５Ｐａ程度にまで排気した後、るつぼを加熱して記録層成分を蒸発させ、るつぼと向き合って置かれた基板上に蒸着させることによって、記録層を形成する。
【０１５６】
｛光学記録媒体の層構成｝
本発明の光学記録媒体は、基板上に、本発明の記録層形成用色素を用いて上述のようにして形成された記録層を有するものである。
以下、本発明の光学記録媒体について、実施形態を挙げて具体的に説明するが、以下の実施形態はあくまでも説明のために挙げるものであって、本発明は以下の実施形態に制限されず、本発明の趣旨に反しない限り自由に変形して実施することが可能である。
なお、本発明の光学記録媒体は、基板上に、本発明の記録層形成用色素を用いて上述のようにして形成された記録層を有するものである。
【０１５７】
以下、図面を参照して本発明の光学記録媒体の実施の形態を説明する。
図１（ａ），（ｂ）は、本発明の実施の形態に係る光記録媒体の層構成の一例を示す模式的断面図である。
【０１５８】
まず、本発明の第１実施形態について図１（ａ）を参照して説明する。
図１に示される光学記録媒体１０は、光透過性材料からなる基板１と、基板１上に設けられた記録層２と、記録層２上に積層された反射層３および保護層４とが順番に積層された構造を有している。この光学記録媒体１０は、基板１側から照射されるレーザー光Ｌにより、情報の記録・再生が行われる。
【０１５９】
基板１の材料としては、基本的に記録光及び再生光の波長において透明な材料であれば、様々な材料を使用することができる。具体的には、例えば、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン系樹脂（特に、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂などの非晶質ポリオレフィン）、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ニトロセルロース、ポリイミド樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂；ガラス等が挙げられる。また、ガラス上に光硬化性樹脂等の放射線硬化性樹脂からなる樹脂層を設けた構造の基板を用いることもできる。中でも、高生産性、コスト、耐吸湿性等の観点からは、射出成型法にて使用されるポリカーボネート樹脂が、耐薬品性及び耐吸湿性等の観点からは、非晶質ポリオレフィンが好ましい。更に、高速応答等の観点からは、ガラスが好ましい。
【０１６０】
樹脂製の基板１を使用した場合、又は、記録層と接する側（上側）に樹脂層を設けた基板１を使用した場合には、上面に、記録再生光の案内溝やピットを形成してもよい。案内溝の形状としては、光学記録媒体１０の中心を基準とした同心円状の形状やスパイラル状の形状が挙げられる。基板上に同心円状あるいはスパイラル状の案内溝（溝部）を形成する場合には、溝ピッチが０．２〜１．２μｍ程度であることが好ましい。
また、溝幅Ｗが、１００ｎｍ＜Ｗ＜４００ｎｍ、かつ、溝深ｄが、２０ｎｍ＜ｄ＜２００ｎｍであることが好ましい。
【０１６１】
この溝部の溝幅が０．２μｍ（２００ｎｍ）未満では、記録に必要な量の色素を溝内に溜めることができず記録特性が低下したり、あるいは狭い溝幅のため、サーボを掛けるために必要な大きさの溝信号を検出できなかったりするため、好ましくない。一方０．４μｍ（４００ｎｍ）を超えると、溝幅は集光スポットと同等あるいはそれ以上となり、原理上も実験上も溝信号を検出することができなくなるため好ましくない。
さらに溝幅を必要以上に広くすることは、記録密度の観点からも不利になるため好ましくない。
また、溝深さｄが、２０ｎｍ未満では、溝幅が狭い場合と同様に記録に必要な量の色素を溝内に溜めることができず、記録特性が低下したり、あるいは狭い溝幅のため、サーボを掛けるために必要な大きさの溝信号を検出できなかったりするため、好ましくない。ｄが２００ｎｍを超えると、溝形状のアスペクト比が高くなるため、溝を形成すること自体が困難であったり、溝内の色素量が必要以上に多くなり、その結果、反射光量が小さくなりすぎて、サーボを掛けることが難しくなるため好ましくない。
好ましくは、溝幅Ｗは２２５ｎｍ〜３７５ｎｍ、溝深ｄは、２５ｎｍ〜１５０ｎｍである。
【０１６２】
反射層３は、記録層２の上に形成されている。反射層３の膜厚は、好ましくは５０ｎｍ〜３００ｎｍである。反射層３の材料としては、再生光の波長において十分高い反射率を有する材料、例えば、Ａｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｔａ、Ｐｄ等の金属を、単独或いは合金にして用いることができる。これらの中でもＡｕ、Ａｌ、Ａｇは反射率が高く、反射層３の材料として適している。また、これらの金属を主成分とした上で、加えて他の材料を含有させても良い。ここで「主成分」とは、含有率が５０重量％以上のものをいう。主成分以外の他の材料としては、例えば、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｎｄ等の金属および半金属を挙げることができる。中でもＡｇを主成分とするものは、コストが安い点、高反射率が出やすい点、後述する印刷受容層を設けた場合に地色が白く美しいものが得られる点等から、特に好ましい。例えば、ＡｇにＡｕ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、およびＮｄから選ばれる１種以上を０．１原子％〜５原子％程度含有させた合金は、高反射率、高耐久性、高感度且つ低コストであり好ましい。具体的には、ＡｇＰｄＣｕ合金、ＡｇＣｕＡｕ合金、ＡｇＣｕＡｕＮｄ合金、ＡｇＣｕＮｄ合金等である。金属以外の材料としては、低屈折率薄膜と高屈折率薄膜を交互に積み重ねて多層膜を形成し、これを反射層３として用いることも可能である。
【０１６３】
反射層３を形成する方法としては、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法等が挙げられる。また、基板１の上や反射層３の下に、反射率の向上、記録特性の改善、密着性の向上等のために、公知の無機系または有機系の中間層、接着層を設けることもできる。
【０１６４】
反射層３の上に形成する保護層４の材料は、反射層３を外力から保護するものであれば特に限定されない。例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、ＵＶ（紫外線）硬化性樹脂等の有機物質、ＳｉＯ２、ＳｉＮ４、ＭｇＦ２、ＳｎＯ２等の無機物質などが挙げられる。
熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等は適当な溶媒に溶解して塗布液を塗布し、乾燥することによって形成することができる。
ＵＶ硬化性樹脂は、そのままもしくは適当な溶媒に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによって形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂としては、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート等のアクリレート系樹脂を用いることができる。これらの材料は１種を単独でまたは２種以上を混合して用いてもよいし、１層だけでなく多層膜にして用いてもよい。
【０１６５】
保護層４の形成の方法としては、記録層２と同様に、スピンコート法やキャスト法等の塗布法やスパッタ法や化学蒸着法等の方法が用いられるが、この中でもスピンコート法が好ましい。保護層４の膜厚は、その保護機能を果たすためにはある程度の厚みが必要とされるため、通常０．１μｍ以上であり、好ましくは３μｍ以上である。但し、あまり厚すぎると、効果が変わらないだけでなく保護層４の形成に時間がかかったりコストが高くなる恐れがあるので、通常１００μｍ以下であり、好ましくは３０μｍ以下の範囲である。
【０１６６】
なお、各層間の接着力を高めるために、各層間に下引き層を用いても良い。下引き層の種類としては、各層の接着力を高め、かつ各層の性質に影響を与えないものであれば特に限定されないが、取扱いの容易さから有機層であることが好ましい。  
【０１６７】
また、上記構成の光学記録媒体１０を接着層を介して２枚貼りあわせてもよい。例えば、上例の層構造における保護層４の上面に、または上例の層構造から保護層４を省略して反射層３の上面に、更に別の基板１を貼り合わせてもよい。この際の基板１は、何ら層を設けていない基板そのものであってもよく、貼り合わせ面またはその反対面に反射層３等任意の層を有するものでも良い。また、同じく上例の層構造を有する光学記録媒体１０や、上例の層構造から保護層４を省略した光学記録媒体を、それぞれの保護層４および／または反射層３の上面を相互に対向させて２枚貼り合わせてもよい。このようなものとして、後述の２層型光学記録媒体がある。
或いは、基板の片面だけでなく両面に反射層、記録層、保護層等を設けることにより、両面記録型光学記録媒体としてもよい。
更には、基板上に反射層および記録層の組を、中間層を介して二組以上形成し、その上に保護層を設けることにより、多層型光記録媒体としてもよい。
【０１６８】
次に、図１（ｂ）を参照して本発明の第２実施形態について説明する。
図１（ｂ）中、図１（ａ）と共通する要素については同じ符号を付し、説明を省略する。図１（ｂ）に示される光学記録媒体２０は、光透過性材料からなる基板１と、基板１上に設けられた反射層３と、反射層３上に積層された記録層２および保護被膜５とが順番に積層された構造を有している。記録層２と保護皮膜５の間には、金属あるいはセラミック等による記録層と保護層の混濁を避けるバリヤー層を保有してもよい。光学記録媒体２０は、保護被膜５側から照射されるレーザー光Ｌにより、情報の記録・再生が行われる。
【０１６９】
保護被膜５は、フィルムまたはシート状のものを接着剤によって貼り合わせてもよく、また、前述の保護層４と同様の材料を用い、成膜用の塗液を塗布し硬化または乾燥することにより形成しても良い。保護被膜５の厚さは、その保護機能を果たすためにはある程度の厚さが必要とされるため、一般に０．１μｍ以上であり、好ましくは３μｍ以上である。但し、あまり厚すぎると、効果が変わらないだけでなく、保護被膜５の形成に時間がかかったり、コストが高くなるおそれがあるので、通常３００μｍ以下であり、好ましくは２００μｍ以下である。
【０１７０】
尚、記録層２および反射層３等の各層は、通常は図１（ａ）に示す第１実施形態の光学記録媒体１０と同様のものが用い得る。但し、第２実施形態においては、基板１は透明である必要はなく、従って、前述の材料以外にも、不透明な樹脂、セラミック、金属（合金を含む）等が用いられる。このような層構成においても、上記各層間には、本発明の特性を損なわない限り、必要に応じて任意の層を有してよい。
【０１７１】
ところで、光学記録媒体１０，２０の記録密度を上げるための一つの手段として、対物レンズの開口数を上げることがある。これにより情報記録面に集光される光スポットを微小化できる。しかしながら、対物レンズの開口数を上げると、記録・再生を行うためにレーザー光を照射した際に、光学記録媒体１０，２０の反り等に起因する光スポットの収差が大きくなりやすいため、良好な記録再生信号が安定して得られない場合がある。
【０１７２】
このような収差は、レーザー光が透過する透明基板や保護被膜の膜厚が厚いほど大きくなりやすいので、収差を小さくするためには基板や保護被膜をできるだけ薄くするのが好ましい。ただし、通常、基板１は光学記録媒体１０，２０の強度を確保するためにある程度の厚みを要するので、この場合、第２実施形態の光学記録媒体２０の構造（基板１、反射層３、記録層２、保護被膜５なる基本的層構成の光学記録媒体２０）を採用するのが好ましい。第１実施形態の光学記録媒体１０の基板１を薄くするのに比べると、第２実施形態の光学記録媒体２０の保護被膜５は薄くしやすいため、好ましくは第２実施形態の光学記録媒体２０を用いる。
【０１７３】
但し、第１実施形態の光学記録媒体１０の構造（基板１、記録層２、反射層３、保護層４からなる基本的層構成の光学記録媒体１０）であっても、記録・再生用レーザー光が通過する透明な基板１の厚さを５０〜３００μｍ程度にまで薄くすることにより、収差を小さくして使用できるようになる。
【０１７４】
また、他の各層の形成後に、記録・再生レーザー光の入射面（通常は、基板１の下面）に、表面の保護やゴミ等の付着防止の目的で、紫外線硬化樹脂層や無機系薄膜等を成膜形成してもよく、記録・再生レーザー光の入射面ではない面（通常は、反射層３や保護層４の上面）に、インクジェット、感熱転写等の各種プリンタ、或いは各種筆記具を用いて記入や印刷が可能な印刷受容層を設けてもよい。
【０１７５】
｛多層記録媒体について｝
次に、本発明の第３実施形態として、複数の記録層を有する光記録媒体およびその製造方法について図２（ａ）〜（ｆ）を参照して説明する。
図２（ａ）〜（ｆ）は、本発明の第３実施形態に係る２層型光記録媒体の製造方法を説明する模式的断面図である。
【０１７６】
先ず、図２（ａ）に示すように、表面に溝およびランド、プリピットが形成された第１の基板２０１を、スタンパを用いた射出成形法等により作製する。次に、少なくとも有機色素を溶媒に溶解させた塗布液を第１の基板２０１の凹凸を有する側の表面にスピンコート等により塗布し、塗布液に使用した溶媒を除去するために加熱（アニール）して第１の記録層２０２を成膜する。第１の記録層２０２を成膜した後、Ａｇ合金等をスパッタまたは蒸着することにより、第１の記録層２０２上に、スパッタ法等により半透明な第１の反射層２０３を成膜する。
【０１７７】
続いて、図２（ｂ）に示すように、第１の反射層２０３の表面全体に紫外線硬化性樹脂層２０４ａをスピンコート等により塗布して形成し、さらに、図２（ｃ）に示すように、紫外線硬化性樹脂層２０４ａをスピンコート等により塗布した後、樹脂スタンパ２１０を載置し、紫外線硬化性樹脂層２０４ａに凹凸を転写する。このとき、紫外線硬化性樹脂層２０４ａの膜厚が所定範囲になるように調節しつつ行なう。そして、この状態で樹脂スタンパ２１０側から紫外線を照射する等して紫外線硬化性樹脂層２０４ａを硬化させ、十分硬化したところで樹脂スタンパ２１０を剥離し、表面に凹凸を有する中間層２０４を形成する。
【０１７８】
尚、樹脂スタンパ２１０は、中間層２０４となるべき樹脂に対して十分な剥離性を有していれば良く、成形性が良く、形状安定性が良いことが望ましい。生産性およびコストの観点から、望ましくは、樹脂スタンパ２１０は複数回の転写に使用可能であるのが望ましい。また、使用後のリサイクルが可能であることが望ましい。また、樹脂スタンパ２１０の材料としては、例えばアクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン系樹脂（特に非晶質ポリオレフィン）、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。これらの中でも、成形性等の高生産性、コスト、低吸湿性、形状安定性等の点から非晶質ポリオレフィンが好ましい。
【０１７９】
続いて、図２（ｄ）に示すように、有機色素を溶媒に溶解させた塗布液をスピンコート等により中間層２０４表面に塗布し、塗布液に使用した溶媒を除去するために加熱（アニール）して第２の記録層２０５を成膜する。
【０１８０】
そして、図２（ｅ）に示すように、Ａｇ合金等をスパッタ、蒸着することにより第２の記録層２０５上に第２の反射層２０６を成膜する。その後、図２（ｆ）に示すように、ポリカーボネートを射出成形して得られた第２の基板２０８としての鏡面基板を、接着層２０７を介して第２の反射層２０６に貼り合わせて光記録媒体の製造が完了する。
【０１８１】
以上、本発明の第３実施形態に係る光記録媒体１００およびその製造方法について説明したが、本実施の形態は上記の態様に限定されるものではなく、種々変形することができる。
例えば、光記録媒体が３つ以上の複数の記録層を有していてもよい。また、各層間や最外層として必要に応じて他の層を設けてもよい。基板入射型光ディスクに限られず、少なくとも基板／反射層／第２の記録層／バッファー層／中間層／半透明反射膜／第１の記録層／保護層からなる積層構造を有し、保護層側（即ち、膜面側）からレーザ光を照射して情報の記録・再生を行なう膜面入射型光ディスクにおいても適用できる。
【０１８２】
多層媒体に用いられる色素として好適な要件としては、単層媒体に用いられる色素よりも記録感度が良いことが挙げられる。なぜならば各層に情報を記録する際に、記録する目的以外の層にも光が吸収、透過する現象が必ず生じるためである。この意味でも、本願のヒドラジドキレート錯体色素は従来と比較して良好な記録感度を持つことから、より好ましいと考えられる。
【０１８３】
［光学記録媒体の記録方法］
｛レーザー光｝
上述のようにして得られた光学記録媒体への情報の記録は、通常、記録層に０．４〜０．６μｍ程度に集束したレーザー光を照射することにより行う。記録層がレーザー光のエネルギーを吸収すると、レーザー光照射部分では、分解、発熱、溶融等の熱的変形が起こり、光学的特性が変化することで、情報が記録される。
一方、記録層に記録された情報の再生を行なう際には、同じく記録層に対して（通常は、記録時と同じ方向から）、よりエネルギーの低いレーザー光を照射する。記録層において、光学的特性の変化が起きた部分（すなわち、情報が記録された部分）の反射率と、変化が起きていない部分の反射率との差を読み取ることにより、情報の再生が行なわれる。
【０１８４】
高密度記録のためには、記録時に使用するレーザー光の波長は短いほど好ましく、特に、本発明の光学記録媒体は、その記録層に上述した本発明のヒドラジドキレート錯体化合物を含有する利点を十分に発揮させる観点から、波長３５０ｎｍ〜５３０ｎｍのレーザー光が好ましい（以下、このようなレーザー光を用いる記録方法を適宜「本発明の光学記録媒体の記録方法」或いは単に「本発明の記録方法」という。）。
【０１８５】
かかるレーザー光の代表例としては、例えば、中心波長４０５ｎｍ、４１０ｎｍなどの青色レーザー光、中心波長５１５ｎｍの青緑色の高出力半導体レーザー光が挙げられる。これら以外にも（ａ）基本発振波長が７４０〜９６０ｎｍの連続発振可能な半導体レーザー光、または（ｂ）半導体レーザー光によって励起されかつ基本発振波長が７４０〜９６０ｎｍの連続発振可能な固体レーザー光のいずれかを、第二高調波発生素子（ＳＨＧ）により波長変換することによって得られる光なども挙げられる。
【０１８６】
上記のＳＨＧとしては、反射対称性を欠くピエゾ素子であればいかなるものでもよいが、ＫＤＰ（ＫＨ２ＰＯ４）、ＡＤＰ（ＮＨ４Ｈ２ＰＯ４）、ＢＮＮ（Ｂａ２ＮａＮｂ５Ｏ１５）、ＫＮ（ＫＮｂＯ３）、ＬＢＯ（ＬｉＢ３Ｏ５）、化合物半導体などが好ましい。第二高調波の具体例としては、基本発振波長が８６０ｎｍの半導体レーザーの場合は、その倍波の波長４３０ｎｍ、また半導体レーザー励起の固体レーザーの場合は、ＣｒドープしたＬｉＳｒＡｌＦ６結晶（基本発振波長８６０ｎｍ）からの倍波の波長４３０ｎｍなどが挙げられる。
これらのうち、中心波長４０５ｎｍの青色レーザー光を使用することが特に好ましい。
【０１８７】
光学記録媒体が有する吸収波長および吸光度のうち、本発明のヒドラジドキレート錯体化合物のアセトニトリル中での吸収スペクトルの最大吸収波長（λｍａｘ）が３８０〜５００ｎｍであり、該λｍａｘにおけるＯＤ係数（溶媒１Ｌに１ｇ溶解させたと仮定した場合の吸光度）が５０以上であることが、膜厚の制御およびレーザーへの高感度化の面で好ましい。
【０１８８】
｛記録感度｝
本発明のヒドラジドキレート錯体化合物は、記録レーザー感度に優れる。
具体的には、本発明のヒドラジドキレート錯体化合物のうち好ましいものを基板上に５０ｎｍの厚さに塗布したものに中心波長４０４ｎｍ、ＮＡ＝０．８５の青色レーザー光を照射した場合に、レーザー強度１２ｍＷ以下、好ましくは１０ｍＷ以下、特に好ましくは７．５ｍＷ以下においても良好な記録ピットの形成が可能である。なお、ここで良好な記録ピットの形成が可能であるとは、特定のレーザー強度の青色レーザー光を基板上の塗布膜に照射した場合に、目視もしくは光学顕微鏡を用いてピットの形成を確認できることを言う。
【０１８９】
また、さらに好ましい化合物については、図１（ａ）または（ｂ）に記載の光学記録媒体を作成した後にレーザー波長４０５ｎｍ、ＮＡ＝０．６５のテスター（パルステック社製ＯＤＵ−１０００）を用いて記録後、同テスターで再生時にＤＶＤフォーラムにより定められたＨＤ  ＤＶＤ−Ｒ規格Ｖｅｒ１．０におけるＰＲＳＮＲ（Partial  Response  SNR）の値が規格値を満たし、かつ記録最適パワーが通常１２ｍＷ以下、好ましくは１０ｍＷ以下、特に好ましくは７．５ｍＷ以下である。本光学記録媒体の具体的な作成方法やテスターによる具体的な評価方法については後述する。
【０１９０】
｛記録部の反射率｝
本発明の光学媒体の記録方法においては、記録を行うレーザーの光波長において、記録部の反射率が、記録前、及び未記録部分の反射率よりも高くなることを特徴とする。記録部の反射率が、未記録部の反射率よりも高くするためには、塗布色素が記録レーザー波長において一定量以上の吸収を持つことが必要条件であり、さらに色素の吸収ピークが最大になる波長よりも短波長側に記録レーザー波長があることが好ましい。
また請求項、実施例等に別途記載されている溝形状を持つことが好ましい。このような形態であれば、従来と異なる記録メカニズムであるLow  to  High記録によって高密度の光情報の記録、再生が可能となる。
【実施例】
【０１９１】
以下に実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
【０１９２】
なお、以下において、ＤＥＩ−ＭＳ（脱離イオン化質量分析法）分析は日本電子株式会社製ＪＭＳ−７００  ＭＳｔａｔｉｏｎ質量分析計を用い、加速電圧：１０ｋＶ、昇温条件：０〜０．９Ａ、１Ａ／分の条件で行った。
また、紫外可視吸収スペクトルは、島津株式会社製ＵＶ−３１５０紫外可視近赤外分光光度計によって分析した。
核磁気共鳴（ＮＭＲ）分析は、Ｂｒｕｋｅｒ社ＡＶ−４００Ｍ核磁気共鳴分析装置（４００ＭＨｚ）を用い、室温、重クロロホルム中にてプロトンの分析を行った。
【０１９３】
［実施例１］
＜ヒドラジドリガンド（Ｌ−１）の合成＞
【化５９】
2008195915.tif 000060
【０１９４】
２−（１，３，３−トリメチルインドリン−２−イリデン）アセトアルデヒド（１．０ｇ）とベンズヒドラジド（０．７０ｇ）をエタノール（２０ｍｌ）中で１時間加熱撹拌した。反応混合物を室温まで冷却し、水（２０ｍｌ）を加えて生成した固体を濾別した。水（１０ｍｌ）および酢酸エチル（１０ｍｌ）で洗浄し、乾燥させることで薄黄色の目的化合物（Ｌ−１）（１．３ｇ、収率８２％）を得た。
【０１９５】
得られた化合物の同定は１Ｈ  ＮＭＲにより行った。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：８．５７（ｄ，Ｊ＝１０．０Ｈｚ，１Ｈ）、７．８５（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，２Ｈ）、７．５−７．４（ｍ、３Ｈ）、７．２５−７．１（ｍ、２Ｈ）、６．９０（ｔ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ）、６．６８（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ）、５．６０（ｄ，Ｊ＝１０．０Ｈｚ，１Ｈ）、３．２２（ｓ，３Ｈ）、１．５７（ｓ，６Ｈ）
【０１９６】
＜例示化合物（Ａ−１）の合成＞
化合物（Ｌ−１）（０．５０ｇ）を熱メタノール（２０ｍｌ）に溶解させた。該溶液にトリエチルアミン（０．１６ｇ）および酢酸コバルト四水和物（０．２０ｇ）をこの順番に加え、５０℃で１時間撹拌した。反応混合物を濾過し、濾液を水（２０ｍｌ）に滴下し、生成した固体を濾別し、水（１０ｍｌ）で洗浄することで、下記の目的化合物（Ａ−１）の黄色固体（０．４６ｇ、収率８４％）を得た。
λｍａｘ（ＣＨ３ＣＮ）：４１４ｎｍ
λｍａｘでのＯＤ：１００
【０１９７】
【化６０】
2008195915.tif 000061
【０１９８】
得られた化合物（Ａ−１）について、塗布溶媒に対する溶解性を以下に示す方法で試験した結果、濃度０．７重量％においては完全に溶解し、濃度１．０重量％においても不溶成分はわずかであることが確認された。
【０１９９】
＜溶解性試験＞
塗布溶媒として、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールを用い、化合物（Ａ−１）の濃度を０．７重量％、および１．０重量％として、２０℃、常圧にて３０分間超音波処理した後、濾紙（東洋濾紙社製定量濾紙「Ｎｏ．５Ｃ」）上に滴下し、室温で２４時間乾燥させ、未溶解成分の結晶残渣が濾紙上に存在するか否かを目視観察した。
【０２００】
［実施例２］
＜例示化合物（Ａ−２）の合成＞
化合物（Ｌ−１）（０．２５ｇ）を熱メタノール（２０ｍｌ）に溶解させた。該溶液にトリエチルアミン（９０ｍｇ）および酢酸銅四水和物（０．１０ｇ）をこの順番に加え、５０℃で１時間撹拌した。反応混合物に水（２０ｍｌ）を加え、生成した固体を濾別し、水（１０ｍｌ）およびメタノール（１０ｍｌ）で洗浄することで、下記の目的化合物（Ａ−２）の黄色固体（０．２０ｇ、収率８２％）を得た。
λｍａｘ（ＣＨ３ＣＮ）：４１５ｎｍ
λｍａｘでのＯＤ：１３５
【０２０１】
【化６１】
2008195915.tif 000062
【０２０２】
得られた化合物（Ａ−２）について、塗布溶媒に対する溶解性を、実施例１に示した方法で試験した結果、濃度０．７重量％においては完全に溶解し、濃度１．０重量％においても不溶成分はわずかであることが確認された。
【０２０３】
［実施例３］
＜ヒドラジドリガンド（Ｌ−２）の合成＞
【化６２】
2008195915.tif 000063
【０２０４】
２−（１，３，３−トリメチルインドリン−２−イリデン）アセトアルデヒド（１．０ｇ）と３−ヒドラジノ−３−オキソプロピオン酸エチル（１．０ｇ）をメタノール（３０ｍｌ）中で１時間加熱撹拌した。反応混合物から溶媒を減圧条件下で留去した。酢酸エチルで抽出し、食塩水で洗浄した後、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧条件下で溶媒を留去した。クロロホルムおよびヘキサンから再結晶させることで薄黄色の目的化合物（Ｌ−２）（０．６２ｇ、収率３８％）を得た。
【０２０５】
得られた化合物の同定はＤＥＩ−ＭＳにより行った。
ＤＥＩ−ＭＳ（実測値）：３２９（Ｍ＋）、計算値：３２９
【０２０６】
＜例示化合物（Ａ−６）の合成＞
化合物（Ｌ−２）（０．２５ｇ）を熱メタノール（２０ｍｌ）に溶解させた。該溶液にトリエチルアミン（０．３０ｇ）および酢酸コバルト四水和物（０．３７ｇ）をこの順番に加え、５０℃で１時間撹拌した。反応混合物を濾過し、濾液を水（２０ｍｌ）に滴下し、生成した固体を濾別し水（１０ｍｌ）で洗浄することで、下記の目的化合物（Ａ−６）の黄色固体（０．２１ｇ、収率７７％）を得た。
λｍａｘ（ＣＨ３ＣＮ）：３９２ｎｍ
λｍａｘでのＯＤ：７４
【０２０７】
【化６３】
2008195915.tif 000064
【０２０８】
得られた化合物（Ａ−６）について、塗布溶媒に対する溶解性を、実施例１に示した方法で試験した結果、濃度０．７重量％、および１．０重量％のいずれにおいても、完全に溶解していることが確認された。
【０２０９】
＜記録媒体の作製−１＞
得られた化合物（Ａ−６）を２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールに濃度１．０重量％で溶解させ、濾過によって微細なゴミを取り除いた後、得られた溶液を、直径１２０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍの射出成形ポリカーボネート基板上に滴下し、スピンコート法（４９００ｒｐｍ）により塗布し、８０℃で３０分間乾燥させることにより、膜厚約５０ｎｍの透明色素膜（記録層）を形成し、光学記録媒体を作製した。
【０２１０】
得られた光学記録媒体について、以下に示す方法で記録感度を試験したところ、記録ピットの形成が確認された最高記録感度は９．０ｍＷであった。
＜記録感度試験＞
中心波長４０４ｎｍ、ＮＡ＝０．８５の半導体レーザー光を照射し、光学顕微鏡により記録ピットの形成が確認された最高記録感度を測定した。
【０２１１】
更に、得られた光学記録媒体について、以下に示す方法で耐光性を試験したところ、色素残存率は９０％であった。
＜耐光性試験＞
温度５８℃、湿度５０％の条件下で、０．５５Ｗ／ｍ２の照射強度でキセノンランプを４０時間照射した後の記録層について、吸収極大波長における照射前後の吸光度に基づいて色素残存率を求めた。
【０２１２】
［実施例４］
＜ヒドラジドリガンド（Ｌ−３）の合成＞
【化６４】
2008195915.tif 000065
【０２１３】
２−（１−エチル−３−ベンジル−３−メチルインドリン−２−イリデン）アセトアルデヒド（０．６ｇ）と３−ヒドラジノ−３−オキソプロピオン酸エチル（０．３５ｇ）を酢酸（０．１ｍｌ）およびメタノール（１０ｍｌ）中で１時間加熱撹拌した。反応混合物から溶媒を減圧条件下で留去した。酢酸エチルで抽出し、食塩水で洗浄した後、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧条件下で溶媒を留去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することで薄黄色の目的化合物（Ｌ−３）（０．６７ｇ、収率７８％）を得た。
【０２１４】
得られた化合物の同定はＤＥＩ−ＭＳにより行った。
ＤＥＩ−ＭＳ（実測値）：４１９（Ｍ＋）、計算値：４１９
【０２１５】
＜例示化合物（Ａ−１１）の合成＞
化合物（Ｌ−３）（０．６０ｇ）を熱メタノール（５ｍｌ）に溶解させた。該溶液にトリエチルアミン（０．２０ｇ）および酢酸コバルト四水和物（０．２３ｇ）をこの順番に加え、５０℃で１時間撹拌した。反応混合物を濾過し、濾液をメタノールから再結晶させることで、下記の目的化合物（Ａ−１１）の黄色固体（０．６１ｇ、収率９５％）を得た。
λｍａｘ（ＣＨ３ＣＮ）：４０１ｎｍ
λｍａｘでのＯＤ：６７
【０２１６】
【化６５】
2008195915.tif 000066
【０２１７】
得られた化合物（Ａ−１１）について、塗布溶媒に対する溶解性を、実施例１に示した方法で試験した結果、濃度０．７重量％、および１．０重量％のいずれにおいても、完全に溶解していることが確認された。
【０２１８】
次いで、得られた化合物（Ａ−１１）について実施例３と同様にして光学記録媒体を作製した。
得られた光学記録媒体について、実施例３に示した方法で記録感度を試験したところ、記録ピットの形成が確認された最高記録感度は７．０ｍＷであった。
更に、得られた光学記録媒体について、実施例３に示した方法で耐光性を試験したところ、色素残存率は９１％であった。
【０２１９】
［比較例１］
特許文献２に記載の下記化合物（Ｂ−２）ついて、塗布溶媒に対する溶解性を、実施例１に示した方法で試験した結果、濃度０．７重量％、および１．０重量％のいずれにおいても、不溶成分が多いことが確認された。
【０２２０】
【化６６】
2008195915.tif 000067
【０２２１】
［比較例２］
サレン金属錯体化合物である下記化合物（Ｂ−３）にいて、塗布溶媒に対する溶解性を、実施例１に示した方法で試験した結果、濃度０．７重量％、および１．０重量％のいずれにおいても、不溶成分が多いことが確認された。
【０２２２】
【化６７】
2008195915.tif 000068
【０２２３】
［比較例３］
特許文献１に記載の下記化合物（Ｂ−１）について、実施例３におけると同様にして光学記録媒体を作製し、得られた光学記録媒体について、実施例３に示した方法で耐光性を試験したところ、色素残存率は１０％未満であった。
【０２２４】
【化６８】
2008195915.tif 000069
【０２２５】
［実施例５］
＜ヒドラジドリガンド（Ｌ−４）の合成＞
【化６９】
2008195915.tif 000070
ベンズヒドラジド（０．７０ｇ）および２−（１−エチル−３，３−ジメチル−５−メトキシインドリン−２−イリデン）アセトアルデヒド（１．２ｇ）を酢酸（０．３ｍｌ）およびメタノール（３０ｍｌ）中で８時間加熱撹拌した。反応混合物から溶媒を減圧条件下で留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することで薄黄色の目的化合物（Ｌ−３）（１．２ｇ、収率８１％）を得た。
【０２２６】
得られた化合物の同定はＤＥＩ−ＭＳにより行った。
ＤＥＩ−ＭＳ（実測値）：３６３（Ｍ＋）、計算値：３６３
【０２２７】
＜例示化合物（Ａ−８６）の合成＞
化合物（Ｌ−４）（１．０ｇ）のメタノール（２５ｍｌ）溶液に、トリエチルアミン（０．４５ｍｌ）および酢酸コバルト四水和物（０．４０ｇ）を加え、５０℃で１時間加熱撹拌した。得られた混合物から溶媒を留去し、メタノールで精製することで、下記の目的化合物（Ａ−８６）の暗黄色固体（０．５０ｇ、収率４６％）を得た。
λｍａｘ（ＣＨ３ＣＮ）：４２１ｎｍ
λｍａｘでのＯＤ：９６
【０２２８】
【化７０】
2008195915.tif 000071
【０２２９】
得られた化合物（Ａ−８６）について、塗布溶媒に対する溶解性を、実施例１に示した方法で試験した結果、濃度０．７重量％、および１．０重量％のいずれにおいても、完全に溶解していることが確認された。
【０２３０】
＜記録媒体の作製−２＞
得られた化合物（Ａ−８６）を２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールに濃度１．０重量％で溶解させ、濾過によって微細なゴミを取り除いた後、得られた溶液を、直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍ、トラックピッチ０．４μｍ、溝幅２６０ｎｍ、溝深さ６０ｎｍの射出成形ポリカーボネート基板上に滴下し、スピンコート法（ディスク内周溶液滴下時には回転数１００ｒｐｍとし、その後なめらかに回転数を上昇させ、塗布開始１０秒後に最大回転数６０００ｒｐｍとして５秒間最高回転数を保持）により塗布し、７０℃で２５分間乾燥させることにより、透明色素膜（記録層）を形成した。空気をリファレンスとして測定した４７０ｎｍでの吸光度は０．３０であった。その後、この記録層の上に、スパッタリングにより厚さ１２０ｎｍのＡｇＢｉ０．２Ｎｄ０．５反射膜を設けた。更に、この反射層の上に、紫外線硬化樹脂（ソニーケミカル社製ＳＫ７１００）を用いて、０．６ｍｍ厚のポリカーボネート製の裏板を接着して、光学記録媒体を作製した（実施例５の光学記録媒体）。
【０２３１】
得られた実施例５の光学記録媒体について、以下に示す方法で光学記録媒体としての特性評価を行ったところ、記録メカニズムはLow  To  High型であり、最適記録パワーは１０．０ｍＷであった。この時の光学記録媒体のＰＲＳＮＲ（Partial  Response  SNR：パーシャルレスポンスＳＮ比）は１６．０と、規格の１５を上回る結果であった。またＳｂＥＲ（ビットエラー率）は、１．１０×１０−５と規格の５．０×１０−５以内で良好な結果であった。
【０２３２】
＜光学記録媒体としての特性評価＞
レーザー波長４０５ｎｍ、ＮＡ（開口数）０．６５のテスター（パルステック社製ＯＤＵ−１０００）を用い、線速度６．６１ｍ／ｓ、最短マーク長２０４ｎｍでランダムパターン記録を行なった。その後、同じ評価装置（ＯＤＵ−１０００）を用いて再生を行った。記録および再生は、ＤＶＤフォーラムにより定められたＨＤ  ＤＶＤ−Ｒ規格Ｖｅｒ１．０に準拠した方式で、同規格にあるＰＲＳＮＲ（Partial  Response  SNR）の評価を行なった。
【０２３３】
［実施例６］
＜ヒドラジドリガンド（Ｌ−５）の合成＞
【化７１】
2008195915.tif 000072
【０２３４】
原料として３−メトキシベンズヒドラジド（０．８３ｇ）および２−（１−エチル−３，３−ジメチル−５−メトキシインドリン−２−イリデン）アセトアルデヒド（１．２ｇ）を用いた以外は実施例５のヒドラジドリガンド（Ｌ−４）の合成と同様にして薄黄色の目的化合物（Ｌ−３）（１．３ｇ、収率８０％）を得た。
得られた化合物の同定はＤＥＩ−ＭＳにより行った。
【０２３５】
ＤＥＩ−ＭＳ（実測値）：３９３（Ｍ＋）、計算値：３９３
＜例示化合物（Ａ−８７）の合成＞
化合物（Ｌ−５）（１．０ｇ）のメタノール（２５ｍｌ）溶液、トリエチルアミン（０．４５ｍｌ）および酢酸コバルト四水和物（０．４０ｇ）を用い、実施例５の例示化合物（Ａ−８６）の合成と同様にして下記の目的化合物（Ａ−８７）の暗黄色固体（０．５６ｇ、収率５２％）を得た。
λｍａｘ（ＣＨ３ＣＮ）：４２３ｎｍ
λｍａｘでのＯＤ：９１
【０２３６】
【化７２】
2008195915.tif 000073
【０２３７】
得られた化合物（Ａ−８７）について、塗布溶媒に対する溶解性を、実施例１に示した方法で試験した結果、濃度０．７重量％、および１．０重量％のいずれにおいても、完全に溶解していることが確認された。
【０２３８】
次いで、色素として上述の化合物（Ａ−８７）を使用した以外は、実施例５と同様の条件で光学記録媒体を作製し（実施例６の光学記録媒体）、同様の条件で評価を行なった。
この結果、記録メカニズムはLow  To  High型であり、最適記録パワーは１０．５ｍＷであった。この時の光学記録媒体のＰＲＳＮＲは１５．０と、規格の１５と同等の結果であった。またＳｂＥＲは、１．５０×１０−５と規格の５．０×１０−５以内で良好な結果であった。
【０２３９】
［実施例７］
＜ヒドラジドリガンド（Ｌ−６）の合成＞
【０２４０】
【化７３】
2008195915.tif 000074
【０２４１】
原料として２−エトキシベンズヒドラジド（０．９０ｇ）および２−（１−エチル−３，３−ジメチル−５−メトキシインドリン−２−イリデン）アセトアルデヒド（１．３ｇ）を用いた以外は実施例５のヒドラジドリガンド（Ｌ−４）の合成と同様にして薄黄色の目的化合物（Ｌ−６）（１．０ｇ、収率４８％）を得た。
【０２４２】
得られた化合物の同定はＤＥＩ−ＭＳにより行った。
ＤＥＩ−ＭＳ（実測値）：４２７（Ｍ＋）、計算値：４２７
【０２４３】
＜例示化合物（Ａ−８８）の合成＞
化合物（Ｌ−６）（１．０ｇ）のメタノール（２５ｍｌ）溶液、トリエチルアミン（０．４０ｍｌ）および酢酸コバルト四水和物（０．３５ｇ）を用い、実施例５の例示化合物（Ａ−８６）の合成と同様にして下記の目的化合物（Ａ−８８）の暗黄色固体（０．６７ｇ、収率６３％）を得た。
λｍａｘ（ＣＨ３ＣＮ）：４０１ｎｍ
λｍａｘでのＯＤ：７７
【０２４４】
【化７４】
2008195915.tif 000075
【０２４５】
得られた化合物（Ａ−８８）について、塗布溶媒に対する溶解性を、実施例１に示した方法で試験した結果、濃度０．７重量％、および１．０重量％のいずれにおいても、完全に溶解していることが確認された。
【０２４６】
＜記録媒体の作製＞
次いで、色素として上述の化合物（Ａ−８８）を使用した以外は、実施例５と同様の条件で光学記録媒体を作製し（実施例７の光学記録媒体）、同様の条件で評価を行なった。
この結果、記録メカニズムはLow  To  High型であり、最適記録パワーは１０．０ｍＷであった。この時の光学記録媒体のＰＲＳＮＲは１７．０と、規格の１５を上回る結果であった。またＳｂＥＲは、４．５０×１０−５と規格の５．０×１０−５以内で良好な結果であった。
【０２４７】
［実施例８］
＜ヒドラジドリガンド（Ｌ−７）の合成＞
【０２４８】
【化７５】
2008195915.tif 000076
【０２４９】
原料として２−メトキシベンズヒドラジド（０．８３ｇ）および２−（１−エチル−３−ベンジル−３−メチルインドリン−２−イリデン）アセトアルデヒド（１．５ｇ）を用いた以外は実施例５のヒドラジドリガンド（Ｌ−４）の合成と同様にして薄黄色の目的化合物（Ｌ−７）（１．２ｇ、収率５３％）を得た。
【０２５０】
得られた化合物の同定はＤＥＩ−ＭＳにより行った。
ＤＥＩ−ＭＳ（実測値）：４３９（Ｍ＋）、計算値：４３９
【０２５１】
＜例示化合物（Ａ−１５０）の合成＞
化合物（Ｌ−７）（１．０ｇ）のメタノール（２５ｍｌ）溶液、トリエチルアミン（０．３５ｍｌ）および酢酸コバルト四水和物（０．３０ｇ）を用い、実施例５の例示化合物（Ａ−８６）の合成と同様にして目的化合物（Ａ−１５０）の暗黄色固体（０．５２ｇ、収率４９％）を得た。
λｍａｘ（ＣＨ３ＣＮ）：４０９ｎｍ
λｍａｘでのＯＤ：６５
【０２５２】
【化７６】
2008195915.tif 000077
【０２５３】
得られた化合物（Ａ−１５０）について、塗布溶媒に対する溶解性を、実施例１に示した方法で試験した結果、濃度０．７重量％、および１．０重量％のいずれにおいても、完全に溶解していることが確認された。
【０２５４】
次いで、色素として上述の例示化合物（Ａ−１５０）を使用した以外は、実施例５と同様の条件で光学記録媒体を作製し（実施例８の光学記録媒体）、同様の条件で評価を行なった。
この結果、記録メカニズムはLow  To  High型であり、最適記録パワーは７．５ｍＷであった。この時の光学記録媒体のＰＲＳＮＲは１５．７と、規格の１５を上回る結果であった。またＳｂＥＲは、２．６０×１０−５と規格の５．０×１０−５以内で良好な結果であった。
【０２５５】
［実施例９］
＜ヒドラジドリガンド（Ｌ−８）の合成＞
【化７７】
2008195915.tif 000078
【０２５６】
原料として３−（メトキシエトキシ）ベンズヒドラジド（１．１ｇ）および２−（１−エチル−３−ベンジル−３−メチル−５−メトキシインドリン−２−イリデン）アセトアルデヒド（１．６ｇ）を用いた以外は実施例５のヒドラジドリガンド（Ｌ−４）の合成と同様にして薄黄色の目的化合物（Ｌ−８）（１．６ｇ、収率６３％）を得た。
【０２５７】
得られた化合物の同定はＤＥＩ−ＭＳにより行った。
ＤＥＩ−ＭＳ（実測値）：５１３（Ｍ＋）、計算値：５１３
【０２５８】
＜例示化合物（Ａ−２１２）の合成＞
化合物（Ｌ−８）（１．０ｇ）のメタノール（２５ｍｌ）溶液、トリエチルアミン（０．３０ｍｌ）および酢酸コバルト四水和物（０．２５ｇ）を用い、実施例５の例示化合物（Ａ−８６）の合成と同様にして目的化合物（Ａ−２１２）の暗黄色固体（０．５５ｇ、収率５２％）を得た。
λｍａｘ（ＣＨ３ＣＮ）：４２９ｎｍ
λｍａｘでのＯＤ：７０
【０２５９】
【化７８】
2008195915.tif 000079
【０２６０】
得られた化合物（Ａ−２１２）について、塗布溶媒に対する溶解性を、実施例１に示した方法で試験した結果、濃度０．７重量％、および１．０重量％のいずれにおいても、完全に溶解していることが確認された。
【０２６１】
次いで、色素として上述の例示化合物（Ａ−２１２）を使用した以外は、実施例５と同様の条件で光学記録媒体を作製し（実施例９の光学記録媒体）、同様の条件で評価を行なった。
この結果、記録メカニズムはLow  To  High型であり、最適記録パワーは８．５ｍＷであった。この時の光学記録媒体のＰＲＳＮＲは３１．３と、規格の１５を上回る結果であった。またＳｂＥＲは、１．６０×１０−７と規格の５．０×１０−５以内で良好な結果であった。
【０２６２】
［実施例１０］
＜ヒドラジドリガンド（Ｌ−９）の合成＞
【化７９】
2008195915.tif 000080
【０２６３】
原料として４−（メトキシカルボニル）ベンズヒドラジド（１．０ｇ）および２−（１−エチル−３−ベンジル−３−メチル−５−メトキシインドリン−２−イリデン）アセトアルデヒド（１．６ｇ）を用いた以外は実施例５のヒドラジドリガンド（Ｌ−４）の合成と同様にして薄黄色の目的化合物（Ｌ−９）（１．８ｇ、収率７３％）を得た。
【０２６４】
得られた化合物の同定はＤＥＩ−ＭＳにより行った。
ＤＥＩ−ＭＳ（実測値）：４９７（Ｍ＋）、計算値：４９７
【０２６５】
＜例示化合物（Ａ−１８６）の合成＞
化合物（Ｌ−９）（１．０ｇ）のメタノール（２５ｍｌ）溶液、トリエチルアミン（０．３５ｍｌ）および酢酸コバルト四水和物（０．３０ｇ）を用い、実施例５の例示化合物（Ａ−８６）の合成と同様にして目的化合物（Ａ−１８６）の暗黄色固体（０．７５ｇ、収率７１％）を得た。
λｍａｘ（ＣＨ３ＣＮ）：４４６ｎｍ
λｍａｘでのＯＤ：７１
【０２６６】
【化８０】
2008195915.tif 000081
【０２６７】
得られた化合物（Ａ−１８６）について、塗布溶媒に対する溶解性を、実施例１に示した方法で試験した結果、濃度０．７重量％、および１．０重量％のいずれにおいても、完全に溶解していることが確認された。
【０２６８】
次いで、色素として上述の例示化合物（Ａ−１８６）を使用した以外は、実施例５と同様の条件で光学記録媒体を作製し（実施例１０の光学記録媒体）、同様の条件で評価を行なった。
この結果、記録メカニズムはLow  To  High型であり、最適記録パワーは６．６ｍＷであった。この時の光学記録媒体のＰＲＳＮＲは３０．０と、規格の１５を上回る結果であった。またＳｂＥＲは、５．６０×１０−９と規格の５．０×１０−５以内で良好な結果であった。
【０２６９】
［実施例１１］
＜ヒドラジドリガンド（Ｌ−１０）の合成＞
【化８１】
2008195915.tif 000082
【０２７０】
原料として４−（Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−プロピルスルファモイル）ベンズヒドラジド（１．５ｇ）および２−（１−エチル−３−ベンジル−３−メチル−５−メトキシインドリン−２−イリデン）アセトアルデヒド（１．６ｇ）を用いた以外は実施例５のヒドラジドリガンド（Ｌ−４）の合成と同様にして薄黄色の目的化合物（Ｌ−１０）（２．０ｇ、収率６７％）を得た。
【０２７１】
得られた化合物の同定はＤＥＩ−ＭＳにより行った。
ＤＥＩ−ＭＳ（実測値）：６０２（Ｍ＋）、計算値：６０２
【０２７２】
＜例示化合物（Ａ−２１１）の合成＞
化合物（Ｌ−１０）（１．０ｇ）のメタノール（２５ｍｌ）溶液、トリエチルアミン（０．３０ｍｌ）および酢酸コバルト四水和物（０．２５ｇ）を用い、実施例５の例示化合物（Ａ−８６）の合成と同様にして目的化合物（Ａ−２１１）の暗黄色固体（０．６９ｇ、収率６６％）を得た。
λｍａｘ（ＣＨ３ＣＮ）：４４５ｎｍ
λｍａｘでのＯＤ：６０
【０２７３】
【化８２】
2008195915.tif 000083
【０２７４】
得られた化合物（Ａ−２１１）について、塗布溶媒に対する溶解性を、実施例１に示した方法で試験した結果、濃度０．７重量％、および１．０重量％のいずれにおいても、完全に溶解していることが確認された。
【０２７５】
次いで、色素として上述の例示化合物（Ａ−２１１）を使用した以外は、実施例５と同様の条件で光学記録媒体を作製し（実施例１１の光学記録媒体）、同様の条件で評価を行なった。
この結果、記録メカニズムはLow  To  High型であり、最適記録パワーは６．４ｍＷであった。この時の光学記録媒体のＰＲＳＮＲは２８．３と、規格の１５を上回る結果であった。またＳｂＥＲは、２．３０×１０−９と規格の５．０×１０−５以内で良好な結果であった。
【０２７６】
［実施例１２］
＜ヒドラジドリガンド（Ｌ−１１）の合成＞
【化８３】
2008195915.tif 000084
【０２７７】
原料として４−（Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル）ベンズヒドラジド（１．２ｇ）および２−（１−エチル−３−ベンジル−３−メチル−５−メトキシインドリン−２−イリデン）アセトアルデヒド（１．６ｇ）を用いた以外は実施例５のヒドラジドリガンド（Ｌ−４）の合成と同様にして薄黄色の目的化合物（Ｌ−１１）（１．５ｇ、収率５６％）を得た。
【０２７８】
得られた化合物の同定はＤＥＩ−ＭＳにより行った。
ＤＥＩ−ＭＳ（実測値）：５３８（Ｍ＋）、計算値：５３８
【０２７９】
＜例示化合物（Ａ−１５９）の合成＞
化合物（Ｌ−１１）（１．０ｇ）のメタノール（２５ｍｌ）溶液、トリエチルアミン（０．３０ｍｌ）および酢酸コバルト四水和物（０．２５ｇ）を用い、実施例５の例示化合物（Ａ−８６）の合成と同様にして目的化合物（Ａ−１５９）の暗黄色固体（０．７５ｇ、収率７１％）を得た。
λｍａｘ（ＣＨ３ＣＮ）：４３１ｎｍ
λｍａｘでのＯＤ：６８
【０２８０】
【化８４】
2008195915.tif 000085
【０２８１】
得られた化合物（Ａ−１５９）について、塗布溶媒に対する溶解性を、実施例１に示した方法で試験した結果、濃度０．７重量％、および１．０重量％のいずれにおいても、完全に溶解していることが確認された。
【０２８２】
次いで、色素として上述の例示化合物（Ａ−１５９）を使用した以外は、実施例５と同様の条件で光学記録媒体を作製し（実施例１２の光学記録媒体）、同様の条件で評価を行なった。
この結果、記録メカニズムはLow  To  High型であり、最適記録パワーは６．０ｍＷであった。この時の光学記録媒体のＰＲＳＮＲは３１．７と、規格の１５を上回る結果であった。またＳｂＥＲは、３．９０×１０−１２と規格の５．０×１０−５以内で良好な結果であった。
【０２８３】
［実施例１３］
＜ヒドラジドリガンド（Ｌ−１２）の合成＞
【化８５】
2008195915.tif 000086
【０２８４】
原料として２−メトキシベンズヒドラジド（０．８３ｇ）および２−（１−エチル−３−ベンジル−３−メチル−５−メトキシインドリン−２−イリデン）アセトアルデヒド（１．６ｇ）を用いた以外は実施例５のヒドラジドリガンド（Ｌ−４）の合成と同様にして薄黄色の目的化合物（Ｌ−１２）（１．２ｇ、収率５１％）を得た。
【０２８５】
得られた化合物の同定はＤＥＩ−ＭＳにより行った。
ＤＥＩ−ＭＳ（実測値）：４６９（Ｍ＋）、計算値：４６９
【０２８６】
＜例示化合物（Ａ−１９３）の合成＞
化合物（Ｌ−１２）（１．０ｇ）のメタノール（２５ｍｌ）溶液、トリエチルアミン（０．３５ｍｌ）および酢酸コバルト四水和物（０．３０ｇ）を用い、実施例５の例示化合物（Ａ−８６）の合成と同様にして目的化合物（Ａ−１９３）の暗黄色固体（０．８２ｇ、収率７７％）を得た。
λｍａｘ（ＣＨ３ＣＮ）：４２３ｎｍ
λｍａｘでのＯＤ：５９
【０２８７】
【化８６】
2008195915.tif 000087
【０２８８】
得られた化合物（Ａ−１９３）について、塗布溶媒に対する溶解性を、実施例１に示した方法で試験した結果、濃度０．７重量％、および１．０重量％のいずれにおいても、完全に溶解していることが確認された。
【０２８９】
次いで、色素として上述の例示化合物（Ａ−１９３）を使用した以外は、実施例５と同様の条件で光学記録媒体を作製し（実施例１３の光学記録媒体）、同様の条件で評価を行なった。
この結果、記録メカニズムはLow  To  High型であり、最適記録パワーは６．８ｍＷであった。この時の光学記録媒体のＰＲＳＮＲは３６．０と、規格の１５を上回る結果であった。またＳｂＥＲは、８．１０×１０−１２と規格の５．０×１０−５以内で良好な結果であった。
【０２９０】
［実施例１４］
＜ヒドラジドリガンド（Ｌ−１３）の合成＞
【化８７】
2008195915.tif 000088
【０２９１】
原料として２−（メトキシカルボニル）ベンズヒドラジド（１．０ｇ）および２−（１−エチル−３−（ｏ−クロロフェニル）メチル−３−メチル−５−メトキシインドリン−２−イリデン）アセトアルデヒド（１．７ｇ）を用いた以外は実施例５のヒドラジドリガンド（Ｌ−４）の合成と同様にして薄黄色の目的化合物（Ｌ−１３）（１．９ｇ、収率７５％）を得た。
【０２９２】
得られた化合物の同定はＤＥＩ−ＭＳにより行った。
ＤＥＩ−ＭＳ（実測値）：５３１（Ｍ＋）、計算値：５３１
【０２９３】
＜例示化合物（Ａ−１５１）の合成＞
化合物（Ｌ−１３）（１．０ｇ）のメタノール（２５ｍｌ）溶液、トリエチルアミン（０．３０ｍｌ）および酢酸コバルト四水和物（０．２７ｇ）を用い、実施例５の例示化合物（Ａ−８６）の合成と同様にして目的化合物（Ａ−１５１）の暗黄色固体（０．９０ｇ、収率８５％）を得た。
λｍａｘ（ＣＨ３ＣＮ）：４４６ｎｍ
λｍａｘでのＯＤ：６３
【０２９４】
【化８８】
2008195915.tif 000089
【０２９５】
得られた化合物（Ａ−１５１）について、塗布溶媒に対する溶解性を、実施例１に示した方法で試験した結果、濃度０．７重量％、および１．０重量％のいずれにおいても、完全に溶解していることが確認された。
次いで、色素として上述の例示化合物（Ａ−１５１）を使用した以外は、実施例５と同様の条件で光学記録媒体を作製し（実施例１４の光学記録媒体）、同様の条件で評価を行なった。
この結果、記録メカニズムはLow  To  High型であり、最適記録パワーは６．０ｍＷであった。この時の光学記録媒体のＰＲＳＮＲは２９．６と、規格の１５を上回る結果であった。またＳｂＥＲは、５．００×１０−１０と規格の５．０×１０−５以内で良好な結果であった。
【０２９６】
［実施例１５］
＜ヒドラジドリガンド（Ｌ−１４）の合成＞
【化８９】
2008195915.tif 000090
【０２９７】
原料として２−（メトキシカルボニル）ベンズヒドラジド（１．０ｇ）および２−（１−エチル−３−（ｍ−フルオロフェニル）メチル−３−メチル−５−メトキシインドリン−２−イリデン）アセトアルデヒド（１．７ｇ）を用いた以外は実施例５のヒドラジドリガンド（Ｌ−４）の合成と同様にして薄黄色の目的化合物（Ｌ−１４）（２．１ｇ、収率８１％）を得た。
【０２９８】
得られた化合物の同定はＤＥＩ−ＭＳにより行った。
ＤＥＩ−ＭＳ（実測値）：５１５（Ｍ＋）、計算値：５１５
【０２９９】
＜例示化合物（Ａ−１５２）の合成＞
化合物（Ｌ−１４）（１．０ｇ）のメタノール（２５ｍｌ）溶液、トリエチルアミン（０．３２ｍｌ）および酢酸コバルト四水和物（０．２７ｇ）を用い、実施例５の例示化合物（Ａ−８６）の合成と同様にして目的化合物（Ａ−１５２）の暗黄色固体（０．９３ｇ、収率８８％）を得た。
λｍａｘ（ＣＨ３ＣＮ）：４４６ｎｍ
λｍａｘでのＯＤ：６７
【０３００】
【化９０】
2008195915.tif 000091
【０３０１】
得られた化合物（Ａ−１５２）について、塗布溶媒に対する溶解性を、実施例１に示した方法で試験した結果、濃度０．７重量％、および１．０重量％のいずれにおいても、完全に溶解していることが確認された。
次いで、色素として上述の例示化合物（Ａ−１５２）を使用した以外は、実施例５と同様の条件で光学記録媒体を作製し（実施例１５の光学記録媒体）、同様の条件で評価を行なった。
この結果、記録メカニズムはLow  To  High型であり、最適記録パワーは５．８ｍＷであった。この時の光学記録媒体のＰＲＳＮＲは３１．７と、規格の１５を上回る結果であった。またＳｂＥＲは、３．７０×１０−１２と規格の５．０×１０−５以内で良好な結果であった。
【０３０２】
［比較例４］
＜リガンド（Ｌ−１５）の合成＞
【化９１】
2008195915.tif 000092
【０３０３】
原料として４−ジメチルアミノベンズヒドラジド（０．９０ｇ）および２−ピリジンアルデヒド（０．５３ｇ）を用いた以外は実施例５のヒドラジドリガンド（Ｌ−４）の合成と同様にして薄黄色の目的化合物（Ｌ−１５）（１．０ｇ、収率７４％）を得た。
【０３０４】
得られた化合物の同定はＤＥＩ−ＭＳにより行った。
ＤＥＩ−ＭＳ（実測値）：２６８（Ｍ＋）、計算値：２６８
【０３０５】
＜比較例化合物（Ｂ−４）の合成＞
化合物（Ｌ−１５）（１．０ｇ）のメタノール（２５ｍｌ）溶液、トリエチルアミン（０．６０ｍｌ）および酢酸コバルト四水和物（０．５５ｇ）を用い、実施例５の例示化合物（Ａ−８６）の合成と同様にして目的化合物（Ｂ−４）の暗黄色固体（０．８７ｇ、収率７８％）を得た。
λｍａｘ（ＣＨ３ＣＮ）：４０９ｎｍ
λｍａｘでのＯＤ：１０３
【０３０６】
【化９２】
2008195915.tif 000093
【０３０７】
得られた化合物（Ｂ−４）について、塗布溶媒に対する溶解性を、実施例１に示した方法で試験した結果、濃度０．７重量％、および１．０重量％のいずれにおいても、不溶成分が多いことが確認された。
【０３０８】
次いで、色素として上述の比較例化合物（Ｂ−４）を使用した以外は、実施例５と同様の条件で光学記録媒体を作製し（比較例４の光学記録媒体）、同様の条件で評価を行なった。
この結果、記録メカニズムはLow  To  High型であり、最適記録パワーは９．２ｍＷであった。この時の光学記録媒体のＰＲＳＮＲは１０．０と、規格の１５を上回る結果を得られなかった。またＳｂＥＲは、４．４０×１０−４と規格の５．０×１０−５を超えており、十分な特性を得られなかった。
【０３０９】
［比較例５］
＜リガンド（Ｌ−１６）の合成＞
【化９３】
2008195915.tif 000094
【０３１０】
原料として４−ジメチルアミノベンズヒドラジド（０．９０ｇ）および２−ホルミル−１−メチルベンゾイミダゾール（０．８０ｇ）を用いた以外は実施例５のヒドラジドリガンド（Ｌ−４）の合成と同様にして薄黄色の目的化合物（Ｌ−１６）（１．２ｇ、収率７５％）を得た。
【０３１１】
得られた化合物の同定はＤＥＩ−ＭＳにより行った。
ＤＥＩ−ＭＳ（実測値）：３２１（Ｍ＋）、計算値：３２１
【０３１２】
＜比較例化合物（Ｂ−５）の合成＞
化合物（Ｌ−１６）（１．０ｇ）のメタノール（２５ｍｌ）溶液、トリエチルアミン（０．５０ｍｌ）および酢酸コバルト四水和物（０．４５ｇ）を用い、実施例５の例示化合物（Ａ−８６）の合成と同様にして目的化合物（Ｂ−５）の暗黄色固体（０．８１ｇ、収率７４％）を得た。
λｍａｘ（ＣＨ３ＣＮ）：４１８ｎｍ
λｍａｘでのＯＤ：１０７
【０３１３】
【化９４】
2008195915.tif 000095
【０３１４】
得られた化合物（Ｂ−５）について、塗布溶媒に対する溶解性を、実施例１に示した方法で試験した結果、濃度０．７重量％、および１．０重量％のいずれにおいても、不溶成分が多いことが確認された。
【０３１５】
次いで、色素として上述の比較例化合物（Ｂ−５）を使用した以外は、実施例５と同様の条件で光学記録媒体を作製し（比較例５の光学記録媒体）、同様の条件で評価を行なった。
この結果、記録メカニズムはLow  To  High型であり、最適記録パワーは９．５ｍＷであった。この時の光学記録媒体のＰＲＳＮＲは１２．０と、規格の１５を上回る結果を得られなかった。またＳｂＥＲは、１．２０×１０−４と規格の５．０×１０−５を超えており、十分な特性を得られなかった。
【０３１６】
［比較例６］
＜リガンド（Ｌ−１７）の合成＞
【化９５】
2008195915.tif 000096
【０３１７】
原料として２，４，６−トリチルヒドラジド（０．９０ｇ）およびｐ−ジエチルアミノシンナムアルデヒド（１．０ｇ）を用いた以外は実施例５のヒドラジドリガンド（Ｌ−４）の合成と同様にして薄黄色の目的化合物（Ｌ−１７）（１．４ｇ、収率７５％）を得た。
【０３１８】
得られた化合物の同定はＤＥＩ−ＭＳにより行った。
ＤＥＩ−ＭＳ（実測値）：３６３（Ｍ＋）、計算値：３６３
【０３１９】
＜比較例化合物（Ｂ−６）の合成＞
化合物（Ｌ−１７）（１．０ｇ）のメタノール（２５ｍｌ）溶液、トリエチルアミン（０．４５ｍｌ）および酢酸コバルト四水和物（０．４０ｇ）を用い、実施例５の例示化合物（Ａ−８６）の合成と同様にして下記の目的化合物（Ｂ−６）の暗黄色固体（０．８９ｇ、収率８２％）を得た。
λｍａｘ（ＣＨ３ＣＮ）：３９８ｎｍ
λｍａｘでのＯＤ：７２
【０３２０】
【化９６】
2008195915.tif 000097
【０３２１】
得られた化合物（Ｂ−６）について、塗布溶媒に対する溶解性を、実施例１に示した方法で試験した結果、濃度０．７重量％、および１．０重量％のいずれにおいても、不溶成分が多いことが確認された。
【０３２２】
次いで、色素として上述の比較例化合物（Ｂ−６）を使用した以外は、実施例５と同様の条件で光学記録媒体を作製し（比較例６の光学記録媒体）、同様の条件で評価を行なった。
この結果、記録メカニズムはLow  To  High型であり、最適記録パワーは８．５ｍＷであった。この時の光学記録媒体のＰＲＳＮＲは８．５と、規格の１５を上回る結果を得られなかった。またＳｂＥＲは、５．２０×１０−４と規格の５．０×１０−５を超えており、十分な特性を得られなかった。
【０３２３】
実施例１〜１５および比較例１〜６において示した溶解性試験の結果を、表３にまとめて示す。
【０３２４】
【表３】
2008195915.tif 000098
【０３２５】
表３より次のことが明らかである。
実施例１〜１５の本発明のヒドラジドキレート錯体化合物は、それぞれ０．７〜１．０重量％ＴＦＰ溶液を用いた場合でも濾紙上に未溶解成分がほとんど確認されず、高い溶解性を有する。
一方、比較例に示す化合物の溶解性は著しく悪く、本発明の化合物が塗布溶媒への溶解性に優れることが明らかである。
【０３２６】
また、実施例３、４および比較例３において示した記録感度試験および耐光性試験の結果を、表４にまとめて示す。
【０３２７】
【表４】
2008195915.tif 000099
【０３２８】
表４から、本発明のヒドラジドキレート錯体化合物を用いて作成された光学記録媒体が、青色レーザー光に対する感度および耐光性の面で優れていることが明らかである。
【０３２９】
また、実施例５〜１５および比較例４〜６において示した光学記録媒体の特性評価結果を、表５にまとめて示す。
【０３３０】
【表５】
2008195915.tif 000100
【０３３１】
表５から、本発明のヒドラジドキレート錯体化合物を用いて作成された光学記録媒体が、いずれもＰＲＳＮＲ１５以上、ＳｂＥＲ５．０×１０−５以内、更に記録最適パワー１２ｍＷ以下を達成しており、記録感度に優れていることが明らかである。中でも、一般式（２）におけるＹ１又はＹ２としてベンジル基を有する実施例８〜１５のヒドラジドキレート錯体化合物を用いて作成された光学記録媒体は、更に少なくとも記録最適パワー７．５ｍＷ以下、ＰＲＳＮＲ２５以上、ＳｂＥＲ２．０×１０−７以下のいずれかを達成しており、特に記録感度に優れていることが明らかである。
【０３３２】
［実施例１６］  （２層媒体例）
実施例１３，１５で使用した色素、すなわち例示化合物（Ａ−１５２），（Ａ−１９３）を用いて２層媒体を作製し、Ｌａｙｅｒ０、Ｌａｙｅｒ１それぞれの記録層の記録特性を評価した。
まず、以下に媒体作製の手順を示す。
使用する基板のトラックピッチは０．４μｍとし、溝深さはＬａｙｅｒ０：６０ｎｍ、Ｌａｙｅｒ１：６５ｎｍ、溝幅は両者とも２６０ｎｍとなるよう予め基板及びスタンパを準備した。
【０３３３】
まず、前述のＬａｙｅｒ０用の溝が形成された０．５９ｍｍポリカーボネート基板上に、例示化合物（Ａ−１９３）を単層媒体と同様、ＴＦＰ（２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール）に対し１．０重量％の濃度となるように混合した溶液を用いてスピンコート法で塗布し、７０℃で２５分乾燥させることにより、Ｌａｙｅｒ０記録層を設けた。この時４７０ｎｍでの吸光度は０．２８０であった。
次に、Ｌａｙｅｒ０に隣接して半透明反射膜ＡｇＢｉ１．０を４５ｎｍスパッタリング法により形成した。次に、ＡｇＢｉ面に紫外線硬化樹脂（大日本インキ株式会社製ＳＤ６０３６）約２２μｍ、及びＬａｙｅｒ１溝形成用の非晶質環状ポリオレフィン樹脂からなる転写用溝を有するスタンパ上に、同じく紫外線硬化樹脂（日本化薬株式会社製ＭＰＺ３８８）を約８μｍ、それぞれスピンコート塗布し、続いて塗布面同士を接着充填し、しかる後にアモルファスポリオレフィンスタンパ側からＵＶ光２４０ｍＪ／ｃｍ２を照射して２種類の樹脂を硬化させた。その後、Ｌａｙｅｒ１用スタンパのみを剥離し、剥離面にＬａｙｅｒ１用の溝（溝深さ６５ｎｍ、溝幅２６０ｎｍ、トラックピッチ０．４μｍ）が転写された中間層を形成した。この時、ＵＶ硬化後の中間層の全体膜厚は２８μｍであった。
次に、Ｌａｙｅｒ１用の溝が形成された中間層上にＬａｙｅｒ０と同様、スピンコート法により例示化合物（Ａ−１５２）を塗布し、７０℃で２５分乾燥させることにより、Ｌａｙｅｒ１記録層を設けた。この時色素のみの４７０ｎｍでの吸光度は０．３００であった。さらにＬａｙｅｒ１に隣接して全反射膜ＡｇＣｕ０．９Ｎｄ０．７を１２０ｎｍスパッタリング法により形成した。最後に全反射層、及び０．６ｍｍ厚のポリカーボネート製の裏板上に貼り合わせ用ＵＶ硬化性樹脂を塗布、接着、硬化させることにより、２層光学記録媒体を作製した。
【０３３４】
記録条件は単層媒体と同一であり、レーザー波長４０５ｎｍ、ＮＡ（開口数）０．６５のテスター（パルステック社製ＯＤＵ−１０００）を用い、線速度６．６１ｍ／ｓ、最短マーク長２０４ｎｍで記録を行った。記録、再生はＤＶＤフォーラムにより定められたＨＤＤＶＤ−Ｒ規格Ｖｅｒ１．０に準拠した方式で行い、同規格にあるＰＲＳＮＲ（Ｐａｒｔｉａｌ  Ｒｅｓｐｏｎｓｅ  ＳＮＲ）及びＳｂＥＲの評価を行った。
【０３３５】
評価の結果、記録メカニズムはＬａｙｅｒ０、Ｌａｙｅｒ１ともにLow  To  High型であった。Ｌａｙｅｒ０の最適記録パワーは１０．５ｍＷ、ＰＲＮＳＲは２５．０、ＳｂＥＲは１．２×１０−８であり、Ｌａｙｅｒ１の最適記録パワーは１３．０ｍＷ、ＰＲＮＳＲは２４．０、ＳｂＥＲは４．３×１０−８であった。ＰＲＳＮＲの値は、Ｌａｙｅｒ０、Ｌａｙｅｒ１ともに規格の１５．０を大きく上回る良好な結果であり、またＳｂＥＲも同様に規格の５．０×１０−５以内であり、Ｌａｙｅｒ０、Ｌａｙｅｒ１共に２層媒体に必要な記録特性を十分に確保できた。
【図面の簡単な説明】
【０３３６】
【図１】本発明の実施の形態に係る光記録媒体の層構成の一例を示す模式的断面図である。
【図２】本発明の実施の形態に係る２層型光学記録媒体の製造方法の一例を示す模式的断面図である。
【符号の説明】
【０３３７】
１  基板
２  記録層
３  反射層
４  保護層
５  保護被膜
１９，２０，１００  光学記録媒体
２０１  第１の基板
２０２  第１の記録層
２０３  第１の反射層
２０４  中間層
２０４ａ  紫外線硬化性樹脂層
２０５  第２の記録層
２０６  第２の反射層
２０７  接着層
２０８  第２の基板
【図１】
2008195915.tif 000104
【図２】
2008195915.tif 000105