(57)【要約】【課題】  サンドブラスト法によりリブを形成する工程において、ブラスト粉が衝突しても表面部が削れることがない背面板誘電体層を形成することができる誘電体層形成用組成物、グリーンシート、誘電体層形成基板及びその製造方法、並びにプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供する。【解決手段】  無機成分、熱分解性バインダー、分散剤並びに溶剤を含有する誘電体層形成用組成物であって、前記無機成分が、軟化点が４５０〜６００℃で、平均粒子径が０．１〜３．０μｍの微粒子であることを特徴とする誘電体層形成用組成物、この誘電体層形成用組成物をフィルム状に成形して得られるグリーンシート、このグリーンシートを用いて形成された誘電体層を有することを特徴とする誘電体層形成基板、及びその製造方法、並びにプラズマディスプレイパネルの製造方法。【選択図】  なし。【特許請求の範囲】
【請求項１】
無機成分、熱分解性バインダー、分散剤および溶剤を含有する誘電体層形成用組成物であって、前記無機成分が、軟化点が４５０〜６００℃で、平均粒子径が０．１〜３．０μｍの微粒子であることを特徴とする誘電体層形成用組成物。
【請求項２】
前記無機成分が、ガラス成分およびフィラー成分からなり、かつ、鉛分を含まないものであることを特徴とする請求項１に記載の誘電体層形成用組成物。
【請求項３】
平均粒子径が０．５〜４．０μｍのスラリーであることを特徴とする請求項１または２に記載の誘電体層形成用組成物。
【請求項４】
プラズマディスプレイパネルの背面板誘電体層に用いられるものである請求項１〜３のいずれかに記載の誘電体層形成用組成物。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の誘電体層形成用組成物をフィルム状に成形して得られるグリーンシート。
【請求項６】
基板上に、請求項５に記載のグリーンシートを用いて形成された誘電体層を有することを特徴とする誘電体層形成基板。
【請求項７】
請求項６に記載のグリーンシートと基板とを貼り合わせる工程と、前記グリーンシートを焼成することにより、誘電体層を形成する工程とを有する誘電体層形成基板の製造方法。
【請求項８】
前記グリーンシートを焼成する温度が、５６０〜６００℃であることを特徴とする請求項７に記載の誘電体層形成基板の製造方法。
【請求項９】
請求項５に記載のグリーンシートと基板とを貼り合わせる工程、前記グリーンシートを焼成することにより、誘電体層を形成する工程、および得られた誘電体層上に、サンドブラスト法によりリブを形成する工程を有するプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、サンドブラスト法によりリブを形成する工程において、ブラスト粉が衝突しても表面部が削られることがない背面板誘電体層を形成できる誘電体層形成用組成物、グリーンシート、誘電体層形成基板及びその製造方法、並びにプラズマディスプレイパネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示装置には、液晶表示装置やエレクトロルミネッセンス表示装置、プラズマディスプレイパネル等がある。これらの中でも、プラズマディスプレイパネル（以下、「ＰＤＰ」ともいう）は、次世代のマルチメディアディスプレイとして注目を集めている。
【０００３】
図５にＰＤＰの一例の断面図を示す。図５に示すＰＤＰ１００は、背面板用ガラス基板１及び前面板用ガラス基板１０の１対のガラス基板からなる。この背面板用ガラス基板１と前面板用ガラス基板１０の内面には、互いに直交するアドレス電極３及び表示電極３０がそれぞれ形成されている。アドレス電極３及び表示電極３０は、誘電体層５（背面板誘電体層）及び誘電体層５０（前面板誘電体層）によりそれぞれ覆われている。また、ガラス基板１及び１０は、保護膜６０を介してリブ（隔壁）６によって放電空間（画素）に分離され、各画素には蛍光体７０が形成されている。
【０００４】
従来、このようなＰＤＰの誘電体層を形成する方法としては、誘電体層形成用組成物をフィルム状に成形して得られるグリーンシートを基板と貼り合わせ、その後グリーンシートを焼成する方法が知られている（特許文献１，２等）。
【０００５】
また、形成した背面板誘電体層上にリブ（隔壁ともいう。）を形成する方法としては、サンドブラスト法を用いる方法が知られている（特許文献３）。
【０００６】
サンドブラスト法は、形成した背面板誘電体層上に、リブ形成用ペーストを塗布・乾燥してリブ材料層を形成し、該リブ材料層に、所定のパターン形状を有するマスクを介してブラスト粉を噴射して研磨する加工（サンドブラスト加工ともいう。）を行い、リブ材料層の不要部分を除去することにより、リブを形成する方法である。この方法によれば、高い線幅精度を有するリブを、簡便に効率よく形成することができる。
【０００７】
しかしながら、このサンドブラスト方法による場合には、サンドブラスト加工によりリブ材料層の不要部分を除去する際、露出した背面板誘電体層５にブラスト粉が衝突して該誘電体層の表面部が削られることにより、背面板誘電体層の平坦性が損なわれ、所望の耐電圧特性が得られなくなる場合があり、問題となっていた。特に、近年、ブラスト粉として、精度向上、生産性向上を目的として、従来用いられていたブラスト粉（炭酸カルシウム粉等）の代わりに、より硬質のブラスト粉（ジルコニア粉等）が用いられるようになったため、この問題が顕著となっている。
【特許文献１】特開平９−１０２２７３号公報
【特許文献２】特開平１０−１８２９１９号公報
【特許文献３】特開平１０−２０８６２９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、かかる従来技術の問題に鑑みてなされたものであり、サンドブラスト法によりリブを形成する工程において、ブラスト粉が衝突しても表面部が削れることがない背面板誘電体層を形成することができる誘電体層形成用組成物、グリーンシート、誘電体層形成基板及びその製造方法、並びにプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは上記課題を解決すべく、鋭意研究を重ねた。その結果、無機成分、熱分解性バインダー、分散剤及び溶剤を含有する誘電体層形成用組成物において、前記無機成分が、軟化点が４５０℃〜６００℃で、平均粒子径が０．１〜３．０μｍの微粒子である誘電体層形成用組成物を用いると、誘電体層を形成後、サンドブラスト法によりリブを形成する工程において、ブラスト粉が衝突しても表面部が削られることがない誘電体層を形成できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１０】
かくして本発明の第１によれば、無機成分、熱分解性バインダー、分散剤及び溶剤を含有する誘電体層形成用組成物であって、前記無機成分が、軟化点が４５０〜６００℃で、平均粒子径が０．１〜３．０μｍの微粒子であることを特徴とする誘電体層形成用組成物が提供される。
本発明の誘電体層形成用組成物においては、前記無機成分が、ガラス成分およびフィラー成分からなり、かつ、鉛分を含まないものであることが好ましい。
本発明の誘電体層形成用組成物は、平均粒子径が０．５〜４．０μｍのスラリーであるのが好ましく、プラズマディスプレイパネルの背面板誘電体層に用いられるものであるのが好ましい。
【００１１】
本発明の第２によれば、本発明の誘電体層形成用組成物をフィルム状に成形して得られるグリーンシートが提供される。
本発明の第３によれば、基板上に、本発明のグリーンシートを用いて形成された誘電体層を有することを特徴とする誘電体層形成基板が提供される。
本発明の第４によれば、本発明のグリーンシートと基板とを貼り合わせる工程と、前記グリーンシートを焼成することにより、誘電体層を形成する工程とを有する誘電体層形成基板の製造方法が提供される。
本発明の誘電体層形成基板の製造方法においては、前記グリーンシートを焼成する温度が、５６０〜６００℃であることが好ましい。
【００１２】
本発明の第５によれば、本発明のグリーンシートと基板とを貼り合わせる工程、前記グリーンシートを焼成することにより、誘電体層を形成する工程、及び得られた誘電体層上に、サンドブラスト法によりリブを形成する工程を有するプラズマディスプレイパネルの製造方法が提供される。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の誘電体層形成用組成物及びグリーンシートによれば、サンドブラスト法によりリブを形成する工程において、ブラスト粉、特に硬質のジルコニア粉が衝突しても表面部が削られることがない高品質の誘電体層を得ることができる。
本発明の誘電体層形成用組成物及びグリーンシートは、プラズマディスプレイパネルの背面板誘電体層の形成に好適に用いることができる。
本発明の誘電体層形成基板は、本発明のグリーンシートを用いて形成された誘電体層を有するため、均一で高品質である。
本発明の誘電体層形成基板の製造方法によれば、画素欠陥のない誘電体層を有する、均一で高品質な誘電体層形成基板を効率よく製造することができる。
本発明のプラズマディスプレイの製造方法によれば、画素欠陥のない誘電体層を有する誘電体層形成基板を備える、高品質なプラズマディスプレイを効率よく製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明を、１）誘電体層形成用組成物、２）グリーンシート、並びに、３）誘電体層形成基板、及びその製造方法、並びに４）プラズマディスプレイパネルの製造方法に項分けして詳細に説明する。
【００１５】
１）誘電体層形成用組成物
本発明の誘電体層形成用組成物（以下、単に「本発明の組成物」ということがある）は、無機成分、熱分解性バインダー、分散剤及び溶剤を含有する誘電体層形成用組成物であって、前記無機成分が、軟化点が４５０〜６００℃で、平均粒子径が０．１〜３．０μｍの微粒子であることを特徴とする。
【００１６】
（無機成分）
本発明の組成物に用いる無機成分は、ガラス成分、又はガラス成分およびフィラー成分の混合物である。無機成分として、ガラス成分およびフィラー成分を用いることにより、反射率に優れる背面板用の白色誘電体層形成用組成物を得ることができる。
【００１７】
本発明組成物に用いるガラス成分としては、特に制約はなく、鉛分を含有するガラス成分、鉛分を含有しないガラス成分のいずれも使用できるが、環境保護の観点から、鉛分を含まないガラス成分の使用が好ましい。
【００１８】
鉛分を含有するガラス成分としては、例えば、ＰｂＯ−Ｂ２Ｏ３（酸化鉛−酸化ホウ素）系ガラスなどの二成分系ガラス；ＰｂＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２（酸化鉛−酸化ホウ素−酸化ケイ素）系ガラス等の三成分系ガラス；ＰｂＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａ１２Ｏ３（酸化鉛−酸化ホウ素−酸化ケイ素−酸化アルミニウム）系ガラス、ＰｂＯ−ＢａＯ−ＳｉＯ２−Ａ１２Ｏ３（酸化鉛−酸化バリウム−酸化ケイ素−酸化アルミニウム）系ガラス、ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２（酸化鉛−酸化亜鉛−酸化ホウ素−酸化ケイ素）系ガラス、ＰｂＯ−ＢａＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２（酸化鉛−酸化バリウム−酸化ホウ素−酸化ケイ素）系ガラス、等の四成分系ガラス；ＰｂＯ−ＢａＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３（酸化鉛−酸化バリウム−酸化ホウ素−酸化ケイ素−酸化アルミニウム）系ガラス、ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＢａＯ−ＳｉＯ２（酸化鉛−酸化亜鉛−酸化ホウ素−酸化バリウム−酸化ケイ素）系ガラス、ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３（酸化鉛−酸化亜鉛−酸化ホウ素−酸化ケイ素−酸化アルミニウム）系ガラス；などの五成分系ガラス；等が挙げられる。
【００１９】
鉛分を含まないガラス成分としては、例えば、ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２（酸化亜鉛−酸化ホウ素−酸化ケイ素）系ガラス、ＺｎＯ−Ｐ２Ｏ５−ＳｉＯ２（酸化亜鉛−酸化リン−酸化ケイ素）系ガラス、Ｂｉ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２（酸化ビスマス−酸化ホウ素−酸化ケイ素）系ガラス、ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−Ｋ２Ｏ（酸化亜鉛−酸化ホウ素−酸化カリウム）系ガラス、ＺｎＯ−Ｐ２Ｏ５−ＴｉＯ２（酸化亜鉛−酸化リン−酸化チタン）系ガラス、Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３（酸化ホウ素−酸化ケイ素−酸化アルミニウム）系ガラス、Ｐ２Ｏ５−Ｂ２Ｏ３−Ａｌ２Ｏ３（酸化リン−酸化ホウ素−酸化アルミニウム）系ガラス等の三成分系ガラス；Ｂｉ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３（酸化ビスマス−酸化ホウ素−酸化ケイ素−酸化アルミニウム）系ガラス、ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３（酸化亜鉛−酸化ホウ素−酸化ケイ素−酸化アルミニウム）系ガラス、ＺｎＯ−Ｐ２Ｏ５−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３（酸化亜鉛−酸化リン−酸化ケイ素−酸化アルミニウム）系ガラス、ＺｎＯ−Ｂｉ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３（酸化亜鉛−酸化ビスマス−酸化ケイ素−酸化ホウ素）系ガラス等の四成分系ガラス；ＺｎＯ−Ｂｉ２Ｏ３−ＢａＯ−Ａｌ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３（酸化亜鉛−酸化ビスマス−酸化バリウム−酸化アルミニウム−酸化ホウ素）、ＺｎＯ−Ｂｉ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３（酸化亜鉛−酸化ビスマス−酸化ケイ素−酸化アルミニウム−酸化ホウ素）系ガラス等の五成分系ガラス；ＺｎＯ−Ｂｉ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３−ＢａＯ（酸化亜鉛−酸化ビスマス−酸化ケイ素−酸化アルミニウム−酸化ホウ素−酸化バリウム）系ガラス等の六成分系ガラス等が挙げられる。
【００２０】
これらの中でも、前述したように、環境保護の観点から鉛分を含まないガラス成分の使用が好ましく、ＺｎＯ−Ｂｉ２Ｏ３−ＢａＯ−Ａｌ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３（酸化亜鉛−酸化ビスマス−酸化バリウム−酸化アルミニウム−酸化ホウ素）系ガラス、ＺｎＯ−Ｂｉ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３−ＢａＯ（酸化亜鉛−酸化ビスマス−酸化ケイ素−酸化アルミニウム−酸化ホウ素−酸化バリウム）系ガラスの使用がより好ましい。
【００２１】
また、これらのガラス成分には、ＣａＯ、Ｎａ２Ｏ、ＴｉＯ２、ＣｕＯ、Ｌｉ２Ｏ、Ｋ２Ｏ、ＢａＯ、ＭｇＯ、ＳｒＯ等が添加されていてもよい。
【００２２】
フィラー成分としては、ＴｉＯ２（酸化チタン）、Ａｌ２Ｏ３（アルミナ）、ＳｉＯ２（シリカ）、およびＺｒＯ２（ジルコニア）等が挙げられる。これらの中でも、ＴｉＯ２およびＡｌ２Ｏ３が好ましい。
【００２３】
ガラス成分とフィラー成分との配合割合は、通常、ガラス成分：フィラー成分＝５０：５０〜９９：１（重量比）、好ましくは７０：３０〜９５：５（重量比）である。
【００２４】
無機成分は、粉末状のガラス成分および所望により粉末状のフィラー成分を混合して、或いはガラス成分を溶融し、次いで冷却、粉砕してフリットとし、これに所望により粉末状のフィラー成分を混合して得ることができる。
【００２５】
用いる無機成分の平均粒子径は、０．１〜３．０μｍ、より好ましくは０．５〜３．０μｍである。
無機成分の平均粒子径は、例えば、５分間超音波をかけながら、無機成分であるガラス成分またはフィラー成分の粉末をイソプロピルアルコールに分散し、マイクロトラック粒度分布測定装置を用いて測定することができる。
【００２６】
また、無機成分の最大粒子径は、均一で透明な誘電体層を得る上から、２０μｍ以下であるのが好ましい。無機成分の最大粒子径が２０μｍを超えると、得られる誘電体層の表面にピンホール等の欠陥が発生しやすくなり、所望する耐電圧特性を得ることが困難となる。
【００２７】
本発明に用いる無機成分は、軟化点が、４５０〜６００℃のものである。
このような平均粒子径及び軟化点を有する無機成分を用いて調製される誘電体層形成用組成物を用いることで、サンドブラスト法によりリブを形成する工程において、ブラスト粉が衝突しても、表面部が削られることがない誘電体層を形成することができる。
軟化点は、例えば、示差熱分析装置を用いて、昇温速度１０℃／分で測定することができる。
【００２８】
（熱分解性バインダー）
本発明の組成物は、熱分解性バインダーを含有する。
熱分解性バインダーは、結合剤としての機能を有し、焼成することにより分解して除去されるものである。
【００２９】
本発明に用いる熱分解性バインダーとしては、特に制限されないが、結合剤としての機能を有し、焼成することにより分解して、容易に除去することができ、ガラス基板との感圧接着剤としての役割も果たすアクリル樹脂の使用が好ましい。
【００３０】
アクリル樹脂としては、例えば、（メタ）アクリレート化合物の単独重合体、（メタ）アクリレート化合物の２種以上から得られる共重合体、（メタ）アクリレート化合物と他の共重合性単量体から得られる共重合体等が挙げられる。これらの中でも、（メタ）アクリレート化合物の２種以上から得られる共重合体が好ましい。ここで、（メタ）アクリレートは、アクリレート又はメタクリレートのいずれかを表す（以下にて同じ）。
【００３１】
（メタ）アクリレート化合物の具体例としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリレート；
【００３２】
２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート；
フェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート等のフェノキシアルキル（メタ）アクリレート；
２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、２−プロポキシエチル（メタ）アクリレート、２−ブトキシエチル（メタ）アクリレート、２−メトキシブチル（メタ）アクリレート等のアルコキシアルキル（メタ）アクリレート；
【００３３】
ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート等のポリアルキレングリコール（メタ）アクリレート；
シクロヘキシル（メタ）アクリレート、４−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタジエニル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート等のシクロアルキル（メタ）アクリレート；
ベンジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００３４】
他の共重合性単量体としては、上記（メタ）アクリレート化合物と共重合可能な化合物であれば特に制約されない。例えば、（メタ）アクリル酸、ビニル安息香酸、マレイン酸、ビニルフタル酸等の不飽和カルボン酸類；ビニルベンジルメチルエーテル、ビニルグリシジルエーテル、スチレン、α−メチルスチレン、ブタジエン、イソプレン等のビニル基含有ラジカル重合性化合物；等が挙げられる。
【００３５】
本発明においては、熱分解性バインダーとして、公知の製造方法で製造したもの、あるいは市販品として入手したものを用いることができる。
【００３６】
熱分解性バンイダーの製造方法としては、特に制限されず、公知の方法を採用できる。例えば、アクリル樹脂は、前記（メタ）アクリレート化合物及び所望により他の共重合性単量体とを（共）重合させることにより製造することができる。重合方法は特に制限されず、例えば、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）等のラジカル重合開始剤を用いるラジカル重合法が挙げられる。
【００３７】
本発明に用いる熱分解性バインダーの重量平均分子量は、特に制限されないが、通常１５，０００〜４００，０００、好ましくは５０，０００〜３００，０００である。分子量は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定することができる。
【００３８】
本発明に用いる熱分解性バインダーのガラス転移温度（Ｔｇ）は、特に制限されないが、通常、−１５℃〜＋４０℃である。
【００３９】
また本発明においては、熱分解性バインダーとして、熱分解性バインダーが水相に微粒子状に分散してなる熱分解性バインダーのエマルションを用いることもできる。
【００４０】
本発明の組成物中の熱分解性バインダーの含有量は、固形分比で、無機成分１００重量部に対し、通常３０〜１２０重量部、分散性及び貯蔵安定性に優れる誘電体層形成用組成物を得ることができることから、好ましくは５０〜１００重量部である。
【００４１】
（分散剤）
本発明の組成物は、さらに分散剤を含有する。
用いる分散剤としては、陰イオン性界面活性剤、陽イオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤、ポリカルボン酸系高分子界面活性剤、ポリエーテルエステル酸アミン塩、およびシランカップリング剤等が挙げられる。
【００４２】
陰イオン性界面活性剤としては、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム塩、アルキルスルホコハク酸ナトリウム塩、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム塩、ホルマリン縮合物ナトリウム塩、芳香族スルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩等が挙げられる。
【００４３】
陽イオン性界面活性剤としては、アルキルアミン塩、第四級アンモニウム塩等が挙げられる。
非イオン性界面活性剤としては、ポリエチレングリコールモノラウレート、ポリエチレングリコールモノステアレート、ソルビタンモノオレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ポリエチレングリコールモノオレート、ラウリン酸ジエタノールアミド、デシルグルコシド、ラウリルグルコシド、ポリエーテル系界面活性剤等が挙げられる。
【００４４】
ポリカルボン酸系高分子界面活性剤としては、α−オレフィン・無水マレイン酸共重合体の部分エステル、脂肪族ポリカルボン酸塩、脂肪族ポリカルボン酸特殊シリコーン等が挙げられる。
【００４５】
ポリエーテルエステル酸アミン塩としては、ポリエーテルポリエステル酸、ポリエーテルポリオールポリエステル酸等のポリエーテルエステル酸類と、高分子ポリアミン等の有機アミン類とから得られる高分子分散剤（具体的には、ディスパロンＤＡ−２３４（商品名、楠本化成（株）製等）等が挙げられる。
【００４６】
また、シランカップリング剤としては、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン・塩酸塩、Ｎ−（β−アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、アミノシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−アニリノプロピルトリメトキシシラン、オクタデシルジメチル（３−（トリメトキシシリル）プロピル）アンモニウムクロライド、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。
【００４７】
これらの分散剤は、一種単独で、或いは二種以上を組み合わせて用いることができる。
これらの中でも分散性に優れること等の理由から、ポリカルボン酸系高分子界面活性剤、ポリエーテルエステル酸アミン塩が好ましい。
【００４８】
分散剤の使用量は、固形分比で、無機成分１００重量部に対し、０．３〜１０重量部、好ましくは０．５〜５重量部である。分散剤の使用量がこの範囲より少ないと、得られる誘電体層形成用組成物が、分散状態が不均一で、ガラス成分が沈降又は凝集しやすいものとなり、一方、この範囲より多いと、焼成工程を経ても分散剤が誘電体層内に残存し、耐電圧及び透明性の低下の原因となる。
【００４９】
（溶剤）
本発明の組成物は、前記無機成分、分散剤、熱分解性バインダーに加えて溶剤を含有する。溶剤は、組成物に適度な流動性又は可塑性、良好な膜形成性を付与するものである。
【００５０】
本発明に用いる溶剤としては、水；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、乳酸メチル等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類：Ｎ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアセタミド、ヘキサメチルリン酸ホスホロアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド類；ε−カプロラクタム等のラクタム類；γ−ラクトン、δ−ラクトン等のラクトン類；ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシド等のスルホキシド類；ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン等の脂肪族炭化水素類；シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロオクタン等の脂環式炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類；及びこれらの２種以上からなる混合溶媒；等が挙げられる。これらの中でも、均一で安定した分散状態を有する誘電体層形成用組成物を効率よく得る上からは、エステル類、ケトン類、芳香族炭化水素類、又はこれらの２種以上からなる混合溶媒の使用が好ましい。
溶剤の使用量は、特に限定されるものではないが、組成物全体に対して、通常１〜５５重量％である。
【００５１】
（その他の添加剤）
本発明の組成物には、必要に応じて、可塑剤、粘着付与剤、保存安定剤、消泡剤、熱分解促進剤、酸化防止剤等のその他の添加剤が添加されていてもよい。例えば、可塑剤は、加工適性を向上させるために添加される。用いる可塑剤としては、アジピン酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、グリコールエステル系可塑剤等が挙げられる。可塑剤の使用量は、無機成分１００重量部に対して、０〜１０重量部である。
【００５２】
（組成物の調製）
本発明の組成物は、上述した熱分解性バインダー、無機成分、分散剤及び溶剤等の原料をプレミキシングした後、分散機にかけて機械的に分散させることにより調製することができる。
【００５３】
分散に用いる分散機としては特に制約はなく、例えば、ボールミル、ビーズミルなどのメディアミル；超音波式、撹拌式等の各種ホモジナイザー；ジェットミル；ロールミル；等の公知の分散機が挙げられる。
【００５４】
分散後は、組成物のスラリーの平均粒子径（組成物調製後の総無機成分の平均粒子径）が、０．５〜４．０μｍ、好ましくは、１〜３．５μｍとなるように調製する。
スラリーの平均粒子径は、例えば、スラリーを、濃度０．０５重量％となるようにメチルイソブチルケトンにて希釈し、ＪＩＳＺ８８２５−１に準拠し、レーザー回折／光散乱式粒度分布測定装置にて測定することができる。
【００５５】
以上のようにして得られる本発明組成物を用いて形成される誘電体層は、次の、サンドブラスト法によるリブ形成工程において、ブラスト粉、特に硬質のジルコニア粉があたっても表面部が削れることがない。従って、本発明組成物を用いることにより、最終的に欠点のない均一で高品質の背面板誘電体層を形成することができる。
【００５６】
本発明の誘電体層形成用組成物は、フラットパネルディスプレイ、特にＰＤＰの背面板誘電体層の形成に好適に用いることができる。
また、本発明の組成物は、後述する本発明のグリーンシートの製造原料としても有用である。
【００５７】
２）グリーンシート
本発明のグリーンシートは、本発明の誘電体層形成用組成物をフィルム状に成形して得られるものである。
具体的には、本発明の組成物をキャリアーフィルム上に塗工し、次いで乾燥してフィルム化して製造することができる。
【００５８】
本発明のグリーンシートを製造する一例を図１に示す。
図１において、１３はキャリアーフィルム、１４は本発明の誘電体層形成用組成物を塗工する塗工装置、１８は誘電体層形成用組成物の塗膜を乾燥する（溶媒を除去する）乾燥装置、２０ａ及び２０ｂは、グリーンシート上に保護フィルムを積層する積層ロールである。
【００５９】
以下、図１を参照しながら、本発明のグリーンシートの製造方法を説明する。
先ず、ロール状に巻き取られたキャリアーフィルム１３が塗工装置１４へ送られる。キャリアーフィルム１３としては、誘電体層形成用組成物の塗膜との剥離性に優れるものであれば特に制限されない。例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム等のプラスチックフィルムを用いることができる。また、前記プラスチックフィルムの片面に、シリコーン樹脂、アルキッド樹脂、フッ素樹脂、長鎖アルキル樹脂等の剥離剤を塗布したものを用いるのが好ましい。さらに、上記プラスチックフィルム上に剥離性を有する樹脂、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム上にポリオレフィン樹脂を押し出したものでもよい。キャリアーフィルムの厚さは、通常１０〜２００μｍである。
【００６０】
次に、塗工装置１４により、キャリアーフィルム１３上に組成物が塗布される。塗工装置１４は貯蔵部１５と塗工部１６からなる。貯蔵部１５は、スラリー状の組成物を貯蔵し、この組成物を一定量ずつ塗工部１６に送液する。塗工部１６としては特に制限されない。例えば、ナイフコーター、ダイコーター等の公知のコーターを用いることができる。
本発明の組成物の塗工量は、形成する組成物の塗膜１７ａの厚みに応じて適宜設定することができる。
【００６１】
次に、表面に組成物の塗膜１７ａが形成されたキャリアーフィルム１３は、乾燥装置１８に送り込まれる。この乾燥装置１８内で組成物の塗膜１７ａを乾燥する（すなわち、溶剤等の揮発成分を除去する）ことにより、組成物の乾燥塗膜、すなわち、グリーンシート１７がキャリアーフィルム１３上に積層された積層物を得ることができる。
【００６２】
前記組成物の塗膜１７ａを乾燥する方法としては特に制限されないが、例えば、（イ）塗膜が形成されたキャリアーフィルムを所定温度に加熱する方法、（ロ）前記塗膜表面に乾燥空気又は熱風を送り込む方法、（ハ）前記（イ）及び（ロ）を組み合わせる方法等が挙げられる。
乾燥するときの温度は、キャリアーフィルムが熱変形しない温度以下であれば特に制限されず、通常室温から１５０℃、好ましくは６０〜１３０℃であり、乾燥時間は１〜１０分である。
乾燥後の塗膜１７ａの厚みは、通常１０〜２００μｍ、好ましくは２０〜１２０μｍである。
【００６３】
次いで、グリーンシート１７上に保護フィルム１９を積層する。
図１中、保護フィルム１９はロール状に巻き取られた長尺のフィルムである。用いる保護フィルムとしては、前記キャリアーフィルムと同じものを使用することができる。保護フィルムの厚みは、通常１０〜２００μｍである。
【００６４】
グリーンシート１７上に保護フィルム１９を積層するには、図１中、２つの積層ロール２０ａ及び２０ｂの間をグリーンシート１７と保護フィルム１９とを通過させて、貼り合わせる（ラミネートする）。この場合、積層ロール２０ａ及び２０ｂの両方又は一方、例えば、保護フィルム面側のロール２０ｂを加熱してもよい。
【００６５】
以上のようにして、キャリアーフィルム１３−グリーンシート１７−保護フィルム１９の３層からなる積層フィルム２１を得ることができる。
得られた積層フィルム２１は、ロール状に巻き取り、回収して保存、運搬することができる。
【００６６】
以上のようにして得られる本発明のグリーンシートは、本発明の組成物をフィルム状に成形して得られるものである。従って、本発明のグリーンシートを用いて形成される誘電体層は、サンドブラスト法によりリブを形成する工程において、ブラスト粉、特に硬質のジルコニア粉が衝突しても表面部が削られることがないので、本発明のグリーンシートを用いることにより、最終的に均一で高品質の誘電体層を形成することができる。
【００６７】
３）誘電体層形成基板及びその製造方法
本発明の誘電体層形成基板は、基板上に、本発明のグリーンシートを用いて形成された誘電体層を有する。
【００６８】
本発明の誘電体層形成基板は、例えば、本発明のグリーンシートを基板と貼り合わせる工程と、前記グリーンシートを焼成することにより、誘電体層を形成する工程とを有する本発明の誘電体層形成基板の製造方法によって得ることができる。
【００６９】
具体的には、グリーンシートから保護フィルムを剥離した後、基板にラミネートし、次いで、キャリアーフィルムを剥離した後、該グリーンシートを焼成して得ることができる。この方法によれば、大面積であっても、均一で高品質な誘電体層形成基板を製造することができる。
【００７０】
ここで用いる基板としては、ガラス基板、セラミック基板等が挙げられ、ガラス基板が好ましい。ガラス基板としては、例えば、表面にアドレス電極が形成された背面板用ガラス基板等が挙げられる。基板の厚みは特に制限されないが、通常１〜１０ｍｍ程度である。
【００７１】
本発明の誘電体層形成基板として、ＰＤＰの背面板用ガラス基板上に白色誘電体層を有する誘電体層形成基板を製造する一例を図２に示す。図２に示すものは、図５中、背面板用ガラス基板１上に白色誘電体層５を形成する例である。
【００７２】
先ず、図２（ａ）に示すように、積層フィルム２１の片面の保護フィルム１９を剥離除去する。
次に、図２（ｂ）に示すように、グリーンシート１７を、表面にアドレス電極３が形成された背面板用ガラス基板１上（アドレス電極３が形成されている側）に熱圧着する。熱圧着は、例えば、加熱ローラーを用いて、加熱温度５０℃〜１３０℃、圧力０．０５ＭＰａ〜２．０ＭＰａの条件で行うことができる。本発明の組成物中の熱分解性バインダーは、バインダーであるとともに感圧性接着剤でもあるため、簡便な操作により、グリーンシート１７をガラス基板１に均一に貼着することができる。
【００７３】
次いで、図２（ｃ）に示すように、グリーンシート１７からキャリアーフィルム１３を剥離除去し、グリーンシート１７が熱圧着されたガラス基板１を焼成する。この過程で、組成物中の熱分解性バインダーが熱分解し、有機成分が完全に除去される。
【００７４】
グリーンシート１７が熱圧着されたガラス基板を焼成する方法としては、例えば、グリーンシート１７が熱圧着されたガラス基板を焼成炉の中に入れて全体を加熱する方法が挙げられる。
【００７５】
焼成温度は、熱分解性バインダーが熱分解し、有機成分が完全に除去され、かつ、無機成分が均一な溶融状態となって溶融し、均一化する温度である。この焼成温度は、通常、グリーンシート中の無機成分の軟化点付近の温度であるとされている。
【００７６】
具体的には、通常５００〜６５０℃、好ましくは５２０〜６２０℃、より好ましくは５６０〜６００℃である。
焼成時間は通常１分から１８０分、好ましくは５分〜１２０分である。
【００７７】
焼成後は、冷却することにより、図２（ｄ）に示すように、厚さ５〜１００μｍ、好ましくは５〜９０μｍの白色誘電体層５が積層された誘電体層形成基板１を得ることができる。
【００７８】
以上のようにして、欠点がなく、均一で高品質な白色誘電体層５を形成することができる。得られる誘電体層は、サンドブラスト法によるリブ形成工程において、ブラスト粉、特に硬質のジルコニア粉が衝突しても表面部が削られることがないものである。また、形成されたリブとの密着性にも優れる。
【００７９】
得られる白色誘電体層の断面は、緻密であるのが好ましい。具体的には、断面の空隙率が２５％以下であるのが好ましい。ここで、空隙率は、誘電体層の断面を走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察し、断面中の空隙発生率を％表示したものである。
【００８０】
得られる白色誘電体層の表面粗さＲａ（μｍ）は、通常、０．３以下である。表面粗さＲａ（μｍ）は、例えば、接触式表面粗さ計を用いて測定することができる。
【００８１】
また得られる白色誘電体層は、幅広い波長領域にわたり、優れた反射率を有する。その４６０ｎｍでの反射率は、好ましくは６０％以上、５６０ｎｍでの反射率は５０％以上、６６０ｎｍでの反射率は４５％以上である。
反射率は、公知の分光光度計により測定することができる。
【００８２】
本発明の誘電体層形成基板を用いることにより、高品質なフラットパネルディスプレイを製造することができる。フラットパネルディスプレイとしては、ＰＤＰ、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、液晶表示装置、エレクトロルミネッセンス表示装置等が挙げられ、ＰＤＰが特に好ましい。
【００８３】
４）プラズマディスプレイパネルの製造方法
本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、本発明のグリーンシートと基板とを貼り合わせる工程、前記グリーンシートを焼成することにより、誘電体層を形成する工程、及び得られた誘電体層上に、サンドブラスト法によりリブを形成する工程とを有する。
【００８４】
本発明のプラズマディスプレイの製造方法において、本発明のグリーンシートと基板とを貼り合わせる工程、及び前記グリーンシートを焼成することにより、誘電体層を形成する工程は、上記した本発明の誘電体層形成基板の製造方法と同様にして実施することができる。
【００８５】
次いで、得られた誘電体層上に、サンドブラスト法によりリブを形成する。
この工程は、具体的には以下のようにして実施することができる、
先ず、図２（ｄ）に示すのと同じ層構成を有する白色誘電体層形成基板を用意する。
次いで、図３（ａ）に示すように、ガラス基板１上に形成された誘電体層５上に、ブレードコーター法又はスクリーン印刷法等により、リブ形成用ペーストを塗布して乾燥し、リブ材料層６ａを形成する。
【００８６】
ここで用いるリブ形成用ペーストとしては、特に制限されず、従来公知のものを使用できる。具体的には、特開平１０―１０６４３１号公報、特開平１０−２０８６２９号公報、特開平１１―１８５６０２号公報、特開２００４―２９７６０号公報等に記載されているリブ形成用ペーストが挙げられる。
【００８７】
次に、図３（ｂ）に示すように、リブ材料層６ａ上にドライフィルムを加熱圧着してマスク層７ａを設ける。そして、ライン状のマスクパターンＭを介して図３（ｃ）に示すように露光し、アルカリ水溶液等によりスプレー現像を行い、図３（ｄ）に示すように、リブ材料層６ａ上に、マスク７を形成する。
【００８８】
その後、図４（ｅ）に示すように、ブラスト粉Ｂを噴射して研磨する加工（サンドブラスト加工という。）を行い、リブ材料層６ａの不要部分を除去し、図４（ｆ）に示すように、マスク７の下にリブ６を形成する。
【００８９】
ここで用いるサンドブラスト粉としては、例えば、粒径が２〜５０μｍ程度の、ガラスビーズ、ＳｉＣ、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２（ジルコニア）等の無機微粒子が挙げられる。特に、より硬質のブラスト粉（ジルコニア粉等）を用いる場合に、本発明の顕著な効果を得ることができる。
【００９０】
本発明の組成物を用いることにより、例えば、ブラスト粉としてジルコニア粉を用い、１ｋｇｆ／ｃｍ２等の強度にて噴射して研磨する操作を行っても、誘電体層の表面部は削られることがなく誘電体層の平坦性が保持される。誘電体層の表面部が削られていないことは、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察することにより確認することができる。
【００９１】
次いで、マスク７を剥離材で除去し、焼成工程を経て、図４（ｇ）に示すように、誘電体層５上にリブ６を形成することができる。
【００９２】
以上のようにしてガラス基板１から、背面板誘電体層５及びリブ６が形成された背面板を作製し、この背面板と前面板を公知の方法により組合せて、図５に示すような構造を有するＰＤＰ１００を製造することができる。
【実施例】
【００９３】
次に実施例及び比較例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明は下記の実施例に限定されるものではない。
【００９４】
無機成分、分散剤、熱分解性バインダー、及び溶剤は、次のものを用いた。
１）無機成分
（１）無機成分Ａ：Ｂ２Ｏ３、ＢａＯ、Ｂｉ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＺｎＯ、Ａｌ２Ｏ３を主成分としたガラス成分（８５重量％）、及び、フィラー成分（ＴｉＯ２（１０重量％）とＳｉＯ２（５重量％））からなる平均粒子径０．９μｍ、軟化点５８０℃のガラスフリット
（２）無機成分Ｂ：Ｂ２Ｏ３、ＢａＯ、Ｂｉ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＺｎＯ、Ａｌ２Ｏ３を主成分としたガラス成分（８５重量％）、及び、フィラー成分（ＴｉＯ２（１０重量％）とＳｉＯ２（５重量％））からなる平均粒子径１．３μｍ、軟化点５７５℃のガラスフリット
（３）無機成分Ｃ：Ｂ２Ｏ３、ＢａＯ、Ｂｉ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＺｎＯ、Ａｌ２Ｏ３を主成分としたガラス成分（８５重量％）、及び、フィラー成分（ＴｉＯ２（１０重量％）とＳｉＯ２（５重量％））からなる平均粒子径３．５μｍ、軟化点５９０℃のガラスフリット
（４）無機成分Ｄ：Ｂ２Ｏ３、ＢａＯ、Ｂｉ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＺｎＯ、Ａｌ２Ｏ３を主成分としたガラス成分（７５重量％）、及び、フィラー成分（ＴｉＯ２（１５重量％）とＳｉＯ２（１０重量％））からなる平均粒子径２．３μｍ、軟化点６１０℃のガラスフリット
【００９５】
２）熱分解性バインダー
熱分解性バインダーとして、下記のものを用いた。なお、以下においては、２−エチルヘキシルメタクリレートを「２−ＥＨＭＡ」と、アクリル酸を「ＡＡ」と、ｎ−ブチルメタクリレートを「ＢＭＡ」と、メチルメタクリレートを「ＭＭＡ」と、２−ヒドロキシエチルメタクリレートを「ＨＥＭＡ」とそれぞれ略記する。
【００９６】
（１）熱分解性バインダーＡ：アゾビスイソブチロニトリル０．５重量部をラジカル重合開始剤として用い、２−ＥＨＭＡ：ＡＡ＝９９：１（重量％）のモノマー混合物１００重量部を、メチルイソブチルケトン：酢酸エチル＝２５：７５（重量％）の混合溶媒中で、７０℃１６時間重合させることにより得られた共重合体の５５重量％溶液。
【００９７】
（２）熱分解性バインダーＢ：アゾビスイソブチロニトリル０．５重量部をラジカル重合開始剤として用い、２−ＥＨＭＡ：ＢＭＡ：ＭＭＡ：ＨＥＭＡ＝４０：４０：１０：１０（重量％）のモノマー混合物１００重量部を、メチルイソブチルケトン：酢酸エチル＝２５：７５（重量％）の混合溶媒中で、７０℃１６時間重合させることにより得られた共重合体の５０重量％溶液。
【００９８】
３）分散剤
（１）分散剤Ａ：ポリカルボン酸系高分子界面活性剤（α−オレフィン／無水マレイン酸共重合体の部分エステル、商品名：フローレン  Ｇ７００、共栄社化学（株）製）
（２）分散剤Ｂ：ポリエーテルエステル酸アミン塩（商品名：ディスパロン  ＤＡ−２３４、楠本化成（株）製）
【００９９】
４）溶剤
酢酸エチルとメチルイソブチルケトンの混合溶媒（酢酸エチル：メチルイソブチルケトン＝１：１（重量比））
【０１００】
また、各実施例、比較例で調製した組成物の分散状態及び誘電体層の特性に関する評価方法は以下の通りである。
【０１０１】
（ｉ）平均粒子径の測定
無機成分（ガラスフリット）の平均粒子径（μｍ）は、５分間超音波をかけながら、ガラスフリット粉末をイソプロピルアルコールに分散し、マイクロトラック粒度分布測定装置（日機装（株）製）を用いて測定した。
で測定した。
【０１０２】
（ｉｉ）軟化点の測定
無機成分（ガラスフリット）の軟化点は、示差熱分析装置（理学電機（株）製）により昇温速度１０℃／分で測定した。
【０１０３】
（ｉｉｉ）組成物の平均粒子径の測定
組成物（スラリー）の平均粒子径は、スラリーを、濃度０．０５重量％となるようにメチルイソブチルケトンにて希釈し、ＪＩＳＺ８８２５−１に準拠し、レーザー回折／光散乱式粒度分布測定装置（（株）堀場製作所製）にて測定した。
【０１０４】
（ｉｖ）焼成後誘電体層断面観察（空隙率）
グリーンシートを焼成して得られる誘電体層を切断して、断面の様子を走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察し、空隙率を算出した。誘電体層断面中の空隙率が２５％以下の場合を密、２５％を超える場合を疎とした。
【０１０５】
（ｖ）耐ブラスト性の評価試験
誘電体層上にサンドブラスト法にてリブを形成した際、ブラスト粉が下地の誘電体層に衝突して、誘電体層の表面を削ったか否かをＳＥＭにて観察した。誘電体層の表面が削れていない場合を○、表面が削れている場合を×と評価した。
【０１０６】
（実施例１）
前記無機成分Ａ  １００重量部、熱分解性バインダーＡ  １４０重量部、分散剤Ａ  １重量部、及び溶剤３０重量部を、ビーズミル系分散機を用いて分散させることにより、実施例１の誘電体層形成用組成物１（以下「スラリー１」という）を調製した。
スラリー１の平均粒子径（μｍ）を測定した。その結果を第１表に示す。
【０１０７】
キャリアーフィルムとして、片面をシリコーン樹脂により厚さ０．１μｍで剥離処理された厚さ５０μｍの長尺のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを用意した。このフィルムの剥離処理された面上に、上記で得たスラリー１をナイフコーターを用いて塗布した。次いで、１００℃で２分間乾燥して、ＰＥＴフィルム上に厚さ３５μｍのグリーンシート１を得た。
【０１０８】
次に、上記で得たグリーンシート１上に、前記ＰＥＴフィルムと同じ長尺の、片面をシリコーン樹脂により厚さ０．1μｍで剥離処理された保護用ＰＥＴフィルムの剥離処理面をロール間圧着させることにより、ＰＥＴフィルム−グリーンシート−ＰＥＴフィルムの３層が積層されてなる積層フィルムを得た。
【０１０９】
グリーンシート１上の保護用ＰＥＴフィルムを剥離除去し、積層フィルムのグリーンシート面を下にして、表面に表示電極が形成された厚さ３ｍｍのガラス基板（１００ｍｍ×１００ｍｍ）表面に重ね合わせ、加熱ローラーを用いて熱圧着（１００℃、０．５ＭＰａ）した。
次いで、キャリアーフィルム（ＰＥＴフィルム）を剥離除去し、焼成炉内に入れ、室温から１０℃／分で５７０℃まで昇温し、５７０℃で３０分間維持する条件でグリーンシート１の樹脂を焼成することにより熱分解除去し、厚さ１０μｍの誘電体層が形成された誘電体層形成基板１を得た。
得られた誘電体層形成基板１上の誘電体層の断面を観察した。観察結果（空隙率）を第１表に示す。
【０１１０】
次に、形成された誘電体層上に、サンドブラスト法によりリブを形成した。ブラスト粉はジルコニア粉を用い、１ｋｇｆ／ｃｍ２の強度にてリブ材料層をパターン化した。その際、ブラスト粉が下地の誘電体層に衝突し、誘電体層の表面を削ったか否かをＳＥＭにて確認し評価した。
【０１１１】
（実施例２）
実施例１において、無機成分Ａの代わりに無機成分Ｂを用い、熱分解性バインダーＡの代わりに熱分解バインダーＢを用い、分散剤Ａの代わりに分散剤Ｂを用いる他は、実施例１と同様にして、実施例２の誘電体層形成用組成物２（スラリー２）、グリーンシート２、及び誘電体層形成基板２を得た。
実施例１と同様の評価項目を測定又は評価した結果を第１表に示す。
【０１１２】
（比較例１）
実施例１において、無機成分Ａの代わりに無機成分Ｃを用いる他は、実施例１と同様にして、比較例１の誘電体層形成用組成物３（スラリー３）、グリーンシート３、及び誘電体層形成基板３を得た。
実施例１と同様の評価項目を測定又は評価した結果を第１表に示す。
【０１１３】
（比較例２）
実施例２において、無機成分Ｂの代わりに無機成分Ｄを用いる他は、実施例２と同様にして、比較例２の誘電体層形成用組成物４（スラリー４）、グリーンシート４、及び誘電体層形成基板４を得た。
実施例１と同様の評価項目を測定又は評価した結果を第１表に示す。
【０１１４】
【表１】
2008108497.tif 000002
【０１１５】
第１表から、実施例１、２の本発明の誘電体層形成用組成物を用いて形成された誘電体層形成基板１、２は、断面が密で、耐ブラスト性に優れる均一で高品質な誘電体層を有していた。
一方、平均粒子径が３．０μｍを超える無機成分を用いた比較例１、及び、軟化点が６００℃を超える無機成分を用いた比較例２において形成された誘電体層形成基板３、４は、断面が疎で、耐ブラスト性に劣る誘電体層を有するものであった。
【図面の簡単な説明】
【０１１６】
【図１】本発明のグリーンシートを製造する工程概略図である。
【図２】本発明の誘電体層形成基板の形成方法を示す工程断面図である。
【図３】背面板誘電体層上に、サンドブラスト法によりリブを形成する工程概略図である。
【図４】背面板誘電体層上に、サンドブラスト法によりリブを形成する工程概略図である。
【図５】プラズマディスプレイパネルの一例の構造断面図である。
【符号の説明】
【０１１７】
１…背面板用ガラス基板、１０…前面板用ガラス基板、３…アドレス電極、３０…表示電極、５…誘電体層（背面板誘電体層）、５０…誘電体層（前面板誘電体層）、６０…保護膜、６…リブ（隔壁）、６ａ…リブ材料層、７…マスク、７ａ…マスク層、７０…蛍光体、１３…キャリアーフィルム、１４…塗工装置、１５…貯蔵部、１６…塗工部、１７ａ…誘電体層形成用組成物の塗膜、１７…グリーンシート、１８…乾燥装置、１９…保護フィルム、２０ａ、２０ｂ…積層ロール、２１…積層フィルム、１００…プラズマディスプレイパネル
【図１】
2008108497.tif 000003
【図２】
2008108497.tif 000004
【図３】
2008108497.tif 000005
【図４】
2008108497.tif 000006
【図５】
2008108497.tif 000007
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月8日(2007.8.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
請求項５に記載のグリーンシートと基板とを貼り合わせる工程と、前記グリーンシートを焼成することにより、誘電体層を形成する工程とを有する誘電体層形成基板の製造方法。