(57)【要約】      （修正有）【課題】液浸型リソグラフィ装置において、曲面レンズ要素および液浸液を使用するために、曲面レンズ要素と基板または基板テーブルの間の空間を液浸液で充填する方法を改善する。【解決手段】投影システムで使用されるレンズ要素２１は、凹側を含む。レンズ要素２１はさらに膜およびノズルを含み、膜は少なくともレンズ要素２１の凹側を覆う。ノズルは、凹側と膜の間に液体１１および／または気体を供給しおよび／またはそこから除去するように構成される。【選択図】図８
2008060539.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投影システムで使用されるレンズ要素であって、
凹側と、
膜と、
ノズルと、
を備え、
前記膜が前記凹側を覆い、前記ノズルが前記凹側と前記膜との間に液体および／または気体を供給しおよび／またはそこから除去するように構成される、
レンズ要素。
【請求項２】
前記膜がペリクル材料で作成される、
請求項１に記載のレンズ要素。
【請求項３】
前記膜がＴＥＦＬＯＮ  ＡＦまたはＣＹＴＯＰで作成される、
請求項２に記載のレンズ要素。
【請求項４】
前記レンズ要素が、１と１．７の間の屈折率を有する材料で作成される、
請求項１に記載のレンズ要素。
【請求項５】
前記膜が接着シームによって前記レンズ要素に取り付けられる、
請求項１に記載のレンズ要素。
【請求項６】
前記膜が孔を備える、
請求項１に記載のレンズ要素。
【請求項７】
前記膜は、剛性があり、かつ、前記レンズ要素の前記凹側に実質的に倣う、
請求項１に記載のレンズ要素。
【請求項８】
前記膜が、前記レンズ要素の前記凹側に面する側に、前記膜が前記レンズ要素の前記凹側に付着するのを防止するように構成されたスペーサを備える、
請求項１に記載のレンズ要素。
【請求項９】
投影システムのレンズ要素と閉鎖部材の間の空間に液体を供給する方法であって、
前記レンズ要素が凹側を備え、
前記閉鎖部材が前記レンズ要素の凹側に面し、前記レンズ要素はさらに膜を備え、前記膜が少なくとも前記レンズ要素の前記凹側を覆い、
前記凹側と前記膜の間にノズルを介して第一液体および／または気体を供給し、
前記膜と前記閉鎖部材の間に第二液体を供給する、
ことを含む方法。
【請求項１０】
前記第二液体を供給することが、前記第一液体および／または気体を供給することの後に実行される、
請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記第一液体および／または気体を供給することが、前記第二液体を供給することの後に実行される、
請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
前記第一液体および／または気体を供給した後、および前記第二液体を供給した後に、前記凹側と前記膜の間から前記第一液体および／または気体を除去することを含む、
請求項９に記載の方法。
【請求項１３】
前記第一液体と前記第二液体とが異なる、
請求項９に記載の方法。
【請求項１４】
投影システムのレンズ要素と閉鎖部材の間の空間に液体を供給する方法であって、前記レンズ要素が凹側を備え、前記閉鎖部材が前記レンズ要素の前記凹側に面し、前記レンズ要素がさらに膜を備え、前記膜が前記レンズ要素の前記凹側を覆い、
前記凹側と前記膜の間に液体を供給し、
前記膜と前記閉鎖部材の間から気体を抽出する、
ことを含む方法。
【請求項１５】
相互に取り付けられて内部空間を形成する第一膜層および第二膜層と、
前記第一膜層と前記第二膜層との間に液体および／または気体を供給しおよび／またはそこから除去するように構成されたノズルと、
を備える膜。
【請求項１６】
前記第一膜層および前記第二膜層が、シームによって相互に取り付けられる、
請求項１５に記載の膜。
【請求項１７】
前記シームが接着シームである、
請求項１６に記載の膜。
【請求項１８】
前記膜はレンズ要素に取り付けられるように構成される、
請求項１５に記載の膜。
【請求項１９】
前記膜がペリクル材料で作成される、
請求項１５に記載の膜。
【請求項２０】
前記膜がＴＥＦＬＯＮ  ＡＦまたはＣＹＴＯＰで作成される、
請求項１９に記載の膜。
【請求項２１】
投影システムの凹レンズ要素と閉鎖部材の間の空間に液体を提供する方法であって、
前記閉鎖部材が前記凹レンズ要素に面し、
ａ）前記凹レンズ要素の下の空間に膜を設け、前記膜は、相互に取り付けられて内部空間を形成する第一膜層および第二膜層と、前記第一膜層と前記第二膜層の間に液体および／または気体を供給しおよび／またはそこから除去するように構成されたノズルとを備え、
ｂ）前記空間に第一液体を供給し、
ｃ）前記第一膜層と前記第二膜層の間に前記ノズルを介して第二液体および／または気体を供給し、
ｄ）前記凹レンズ要素の下の前記空間から前記膜を除去する、
ことを含む方法。
【請求項２２】
前記第一膜層と前記第二膜層の間から前記ノズルを介して前記第二液体および／または気体を除去することを含む、
請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
ａ）、ｂ）、ｃ）およびｄ）の順番に実行される、
請求項２１に記載の方法。
【請求項２４】
ａ）、ｃ）、ｂ）およびｄ）の順番に実行される、
請求項２１に記載の方法。
【請求項２５】
前記第一液体と前記第二液体とが異なる、
請求項２１に記載の方法。
【請求項２６】
投影システムの凹レンズ要素と閉鎖部材の間の空間に液体を提供する方法であって、
前記閉鎖部材が前記凹レンズ要素に面し、
ａ）前記凹側と前記閉鎖部材の間の前記空間に液体を供給し、
ｂ）前記空間に管を導入して、前記管の端部を前記凹レンズ要素の近くに配置し、
ｃ）前記凹レンズ要素に近い前記管の前記端部から離れる方向に前記管に吸引力を加え、
ｄ）前記空間から前記管を除去する、
ことを含む方法。
【請求項２７】
前記管に、前記管の前記端部を前記凹レンズ要素の近くに配置するための継手および／または伸縮可能な部品を設ける、
請求項２６に記載の方法。
【請求項２８】
前記管に、前記凹レンズ要素に従って成形したプローブヘッドを設ける、
請求項２６に記載の方法。
【請求項２９】
レンズ要素の下の空間を液体で充填する方法であって、
前記空間が、第一側はレンズ要素で、第二側は閉鎖部材の表面で限定され、
前記液体は、液体前面が前記レンズ要素の下の前記空間を通って移動するように、入口を介して前記空間に供給され、
液体前面の速度が第一速度より低く、かつ、前記空間が液体で完全に充填されるように充填圧が閾値充填圧を超えないように、前記入口を通る前記液体の流量を制御する、
ことを含む方法。
【請求項３０】
前記第一速度が、
【数１】
2008060539.tif 000013
によって与えられ、
ここで、γが流体の表面張力であり、ηが粘度であり、θmaxが前記レンズ要素の表面と前記閉鎖部材の表面との最大前進動的接触角であり、θstatが最大前進静止接触角である、
請求項２９に記載の方法。
【請求項３１】
前記閾値充填圧ｐfillが、
【数２】
2008060539.tif 000014
によって与えられ、
ここで、ｐcapが毛管圧であり、ｐgravが重力圧であり、ｐviscが粘性圧ｐviscであり、ｐinertiaが慣性圧の項である、
請求項２９に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液体充填レンズ要素、そのレンズ要素を備えるリソグラフィ装置およびデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板に、通常は基板のターゲット部分に適用する機械である。リソグラフィ装置は例えば、集積回路（ＩＣ）の製造に使用可能である。このような場合、代替的にマスクまたはレチクルとも呼ばれるパターニングデバイスを使用して、ＩＣの個々の層上に形成すべき回路パターンを生成することができる。このパターンを、基板（例えばシリコンウェーハ）上のターゲット部分（例えば１つまたは幾つかのダイの一部を備える）に転写することができる。パターンの転写は通常、基板に設けた放射感応性材料（レジスト）の層への結像により行われる。一般的に、１枚の基板は、順次パターン化されるネットワーク状の互いに近接したターゲット部分を含んでいる。従来のリソグラフィ装置は、パターン全体をターゲット部分に１回で露光することによって各ターゲット部分が照射される、いわゆるステッパと、基板を所定の方向(「スキャン」方向）と平行あるいは逆平行にスキャンしながら、パターンを所定の方向（「スキャン」方向）に放射ビームでスキャンすることにより、各ターゲット部分が照射される、いわゆるスキャナとを具備している。パターンを基板にインプリントすることによっても、パターニングデバイスから基板へとパターンを転写することが可能である。
【０００３】
リソグラフィ投影装置では、投影システムの最終要素と基板との間の空間を充填するように、基板を水などの比較的高い屈折率を有する液体に液浸することが提案されている。その要点は、より小さい形体を結像可能にすることである。というのは、露光放射が、液体中の方が短い波長を有するからである。（液体の効果は、システムの有効ＮＡ（レンズによって支持されている場合）を上げ、焦点深度も上げることと考えることもできる。）幾つかの液浸液が提示されている。
【０００４】
基板と投影システムの最終レンズとの間の区域を液体で充填する液浸リソグラフィの場合、レンズの開口数（ＮＡ）は、投影されたビームがレンズから基板への経路上にある液体へと通過する際に内部全反射を防止するために、（液体の屈折率がレンズのそれより大きい場合でも）その屈折率によって決定される値に制限される。これは、投影が、レンズおよび液体を基板へと安全に通過できる角度を制限する。この制限を克服する１つの方法は、屈折率が大きめの材料でレンズを作成することであるが、ｎ＝１．５６より大きくて、本出願の出願時に使用に適切であると確認されたものはない。
【０００５】
投影ビームがレンズおよび液体を基板へと安全に通過できる角度の制限を克服する別の方法が、本出願の譲渡人の名前で２００４年１０月７日に出願された米国特許出願第１０／９５９，４０３号に記載されている。その出願は、曲面レンズ要素を提供することを提示しており、ここでは液体とレンズの境界が、曲面レンズ要素を使用することによって湾曲する、つまり凹状の中空のレンズと液体の境界になる。これは、材料の屈折率ではなく、レンズの表面の曲率によって開口数を制限できるようにする。
【０００６】
リソグラフィ装置でこのような曲面レンズ要素および液浸液を使用するために、曲面レンズ要素と基板または基板テーブルの間の空間を液浸液で充填する必要がある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
曲面レンズ要素を液体で充填するために、先行技術から知られている技術を改善することが望ましい。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の実施形態によれば、投影システムで使用されるレンズ要素であって、少なくとも１つの凹側と、膜と、ノズルとからなり、前記膜は少なくともレンズ要素の凹側を覆い、前記ノズルは凹側と膜の間に液体または気体のうち少なくとも一方を供給することとそこから除去することのうち少なくとも一方を実行するように構成される、レンズ要素が提供される。
【０００９】
本発明の実施形態によれば、投影システムのレンズ要素と閉鎖部材の間の空間に液体を供給する方法であって、レンズ要素は少なくとも１つの凹側を備え、閉鎖部材はレンズ要素の凹側に面し、レンズ要素はさらに膜およびノズルを備え、膜は少なくともレンズ要素の凹側を覆い、ノズルは凹側と膜の間に液体または気体の少なくとも一方を供給するように構成され、ａ）凹側と膜の間にノズルを介して液体または気体の少なくとも一方を供給し、ｂ）膜と閉鎖部材の間に液体を供給する、ことを含む方法が提供される。
【００１０】
本発明の実施形態によれば、投影システムのレンズ要素と閉鎖部材の間の空間に液体を供給する方法であって、レンズ要素は少なくとも１つの凹側を備え、閉鎖部材はレンズ要素の凹側に面し、レンズ要素はさらに膜およびノズルを備え、膜は少なくともレンズ要素の凹側を覆い、ノズルは凹側と膜の間から空気を除去するように構成され、ａ）凹側と閉鎖部材の間に液体を供給し、ｂ）膜と閉鎖部材の間から空気を抽出する、ことを含む方法が提供される。
【００１１】
本発明の実施形態によれば、相互に取り付けられて内部空間を形成する第１膜層および第２膜層からなる膜と、第１膜層と第２膜層の間に液体または空気の少なくとも一方を供給することと、そこから除去することの少なくとも一方を実行するように構成されたノズルと、を備えた膜が提供される。
【００１２】
本発明の実施形態によれば、投影システムの凹レンズ要素と閉鎖部材の間の空間に液体を提供する方法であって、閉鎖部材は凹レンズ要素に面し、ａ）請求項１４に従って、凹レンズ要素の下の空間に膜を設け、ｂ）凹側および閉鎖部材の下の空間に液体を供給し、ｃ）ノズルを介して第１膜層と第２膜層の間に液体または気体の少なくとも一方を供給し、ｄ）凹レンズ要素の下の空間から膜を除去する、ことを含む方法が提供される。
【００１３】
本発明の実施形態によれば、投影システムの凹レンズ要素と閉鎖部材の間の空間に液体を提供する方法であって、閉鎖部材は凹レンズ要素に面し、ａ）凹側と閉鎖部材の間の空間に液体を供給し、ｂ）管を空間に導入して、管の端部を凹レンズ要素の付近に配置し、ｃ）凹レンズ要素に近い管の端部から離れる方向に、管に吸引力を与え、ｄ）空間から管を除去する、ことを含む方法が提供される。
【００１４】
本発明の実施形態によれば、上記による方法で使用する管が提供される。
【００１５】
本発明の実施形態によれば、上記による方法で使用するプローブヘッドが提供される。
【００１６】
本発明の実施形態によれば、レンズ要素の下の空間を液体で充填する方法であって、前記空間が、第１側はレンズ要素によって、第２側が閉鎖部材によって制限され、液体は、液体前面がレンズ要素の下の空間を通って移動するように、入口を介して空間に供給され、液体前面の速度が第１速度ｖmicより低く、かつ、空間が液体で完全に充填されるように充填圧が閾値充填圧を超えないように、入口を通る液体の流量が制御される、方法が提供される。
【００１７】
次に、本発明の実施形態を添付の略図を参照しながら、ほんの一例として説明する。図面では対応する参照記号は対応する部品を示している。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
図１は、本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置を概略的に示したものである。この装置は、放射ビームＢ（例えばＵＶ放射またはＥＵＶ放射）を調節するように構成された照明システム（イルミネータ）ＩＬを備える。支持体（例えばマスクテーブル）ＭＴは、パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡを支持するように構成され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第一位置決め装置ＰＭに接続される。基板テーブル（例えばウェーハテーブル）ＷＴは、基板（例えばレジストコートウェーハ）Ｗを保持するように構成され、特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第二位置決め装置ＰＷに接続される。投影システム（例えば屈折投影レンズシステム）ＰＬは、パターニングデバイスＭＡによって放射ビームＢに与えられたパターンを基板Ｗのターゲット部分Ｃ（例えば１つまたは複数のダイを含む）に投影するように構成される。
【００１９】
照明システムは、放射の誘導、成形および／または制御を行うための、屈折、反射、磁気、電磁気、静電気型等の光学コンポーネント、またはその任意の組み合わせなどの種々のタイプの光学コンポーネントを含んでいてもよい。
【００２０】
支持体は、パターニングデバイスを支持、例えばその重量を支えている。該マスク支持体は、パターニングデバイスの方向、リソグラフィ装置の設計等の条件、例えばパターニングデバイスが真空環境で保持されているか否かに応じた方法で、パターニングデバイスを保持する。この支持体は、パターニングデバイスを保持するために、機械的、真空、静電気等のクランプ技術を使用することができる。支持体は、例えばフレームまたはテーブルでよく、必要に応じて固定式または可動式でよい。支持体は、パターニングデバイスが例えば投影システムなどに対して確実に所望の位置にくるようにできる。本明細書において「レチクル」または「マスク」という用語を使用した場合、その用語は、より一般的な用語である「パターニングデバイス」と同義と見なすことができる。
【００２１】
本明細書において使用する「パターニングデバイス」という用語は、基板のターゲット部分にパターンを生成するように、放射ビームの断面にパターンを与えるために使用し得る任意のデバイスを指すものとして広義に解釈されるべきである。ここで、放射ビームに与えられるパターンは、例えばパターンが位相シフトフィーチャまたはいわゆるアシストフィーチャを含む場合、基板のターゲット部分における所望のパターンに正確には対応しないことがある点に留意されたい。一般的に、放射ビームに与えられるパターンは、集積回路などのターゲット部分に生成されるデバイスの特別な機能層に相当する。
【００２２】
パターニングデバイスは透過性または反射性でよい。パターニングデバイスの例には、マスク、プログラマブルミラーアレイ、およびプログラマブルＬＣＤパネルがある。マスクはリソグラフィにおいて周知のものであり、これには、バイナリマスク、Alternating位相シフトマスク、減衰型位相シフトマスクのようなマスクタイプ、さらには様々なハイブリッドマスクタイプも含まれる。プログラマブルミラーアレイの一例として、小さなミラーのマトリクス配列を使用し、そのミラーは各々、入射する放射ビームを異なる方向に反射するよう個々に傾斜することができる。傾斜したミラーは、ミラーマトリクスによって反射する放射ビームにパターンを与える。
【００２３】
本明細書において使用する「投影システム」という用語は、例えば使用する露光放射、または液浸液の使用や真空の使用などの他の要因に合わせて適宜、例えば屈折光学システム、反射光学システム、反射屈折光学システム、磁気光学システム、電磁気光学システムおよび静電気光学システム、またはその任意の組合せを含む任意のタイプの投影システムを網羅するものとして広義に解釈されるべきである。本明細書において「投影レンズ」という用語を使用した場合、これはさらに一般的な「投影システム」という用語と同義と見なされる。
【００２４】
ここに示している本装置は透過タイプである（例えば透過マスクを使用する）。あるいは、装置は反射タイプでもよい（例えば上記で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイを使用する、または反射マスクを使用する）。
【００２５】
リソグラフィ装置は２つ（デュアルステージ）またはそれ以上の基板テーブル（および／または２つ以上のマスクテーブル）を有するタイプでよい。このような「マルチステージ」機械においては、追加のテーブルを並行して使用するか、１つまたは複数の他のテーブルを露光に使用している間に１つまたは複数のテーブルで予備工程を実行することができる。
【００２６】
リソグラフィ装置は、投影システムと基板との間の空間を充填するように、基板の少なくとも一部を水などの比較的高い屈折率を有する液体で覆うことができるタイプでもよい。液浸液は、例えばマスクと投影システムの間など、リソグラフィ装置の他の空間に使用してもよい。液浸技術は、投影システムの開口数を増加させるために当技術分野で周知である。本明細書で使用する「液浸」という用語は、基板などの構造体を液体に沈めなければならないという意味ではなく、露光中に投影システムと基板の間に液体が存在するというほどの意味である。
【００２７】
図１を参照すると、イルミネータＩＬは放射源ＳＯから放射ビームを受ける。放射源とリソグラフィ装置とは、例えば放射源がエキシマレーザである場合に、それぞれ別々の構成要素であってもよい。このような場合、放射源はリソグラフィ装置の一部を形成すると見なされず、放射ビームは、例えば適切な誘導ミラーおよび／またはビームエクスパンダなどを備えるビームデリバリシステムＢＤの助けにより、放射源ＳＯからイルミネータＩＬへと渡される。他の事例では、例えば放射源が水銀ランプの場合は、放射源がリソグラフィ装置の一体部分であってもよい。放射源ＳＯおよびイルミネータＩＬは、必要に応じてビームデリバリシステムＢＤとともに放射システムと呼ぶことができる。
【００２８】
イルミネータＩＬは、放射ビームの角度強度分布を調節するアジャスタＡＤを備えていてもよい。通常、イルミネータの瞳面における強度分布の外側および／または内側半径範囲（一般にそれぞれ、σ-outerおよびσ-innerと呼ばれる）を調節することができる。また、イルミネータＩＬは、インテグレータＩＮおよびコンデンサＣＯなどの他の種々のコンポーネントを備えていてもよい。また、イルミネータを用いて放射ビームを調整し、その断面にわたって所望の均一性と強度分布とが得られるようにしてもよい。
【００２９】
放射ビームＢは、支持体（例えばマスクテーブルＭＴ）上に保持されたパターニングデバイス（例えばマスクＭＡ）に入射し、パターニングデバイスによってパターン化される。放射ビームＢはマスクＭＡを通り抜けて、基板Ｗのターゲット部分Ｃ上にビームを集束する投影システムＰＬを通過する。第二位置決め装置ＰＷおよび位置センサＩＦ（例えば干渉計デバイス、リニアエンコーダまたは容量センサ）の助けにより、基板テーブルＷＴを、例えば放射ビームＢの経路において様々なターゲット部分Ｃに位置決めするように正確に移動できる。同様に、第一位置決め装置ＰＭおよび別の位置センサ（図１には明示されていない）を使用して、例えばマスクライブラリから機械的に検索した後に、またはスキャン中に、放射ビームＢの経路に対してマスクＭＡを正確に位置決めすることができる。一般的に、マスクテーブルＭＴの移動は、第一位置決めデバイスＰＭの部分を形成するロングストロークモジュール（粗動位置決め）およびショートストロークモジュール（微動位置決め）を用いて実現できる。同様に、基板テーブルＷＴの移動は、第二位置決め装置ＰＷの部分を形成するロングストロークモジュールおよびショートストロークモジュールの助けにより実現できる。ステッパの場合（スキャナとは対照的に）、マスクテーブルＭＴをショートストロークアクチュエータのみに接続するか、固定してもよい。マスクＭＡおよび基板Ｗは、マスクアラインメントマークＭ１、Ｍ２および基板アラインメントマークＰ１、Ｐ２を使用して位置合わせすることができる。図示のような基板アラインメントマークは、専用のターゲット位置を占有するが、ターゲット部分の間の空間に配置してもよい（スクラブレーンアラインメントマークと呼ばれる）。同様に、マスクＭＡ上に複数のダイを設ける状況では、マスクアラインメントマークをダイ間に配置してもよい。
【００３０】
図示のリソグラフィ装置は以下のモードのうち少なくとも１つにて使用可能である。
１．ステップモードにおいては、マスクテーブルＭＴおよび基板テーブルＷＴは、基本的に静止状態に維持される一方、放射ビームに与えたパターン全体が１回でターゲット部分Ｃに投影される（すなわち１回の静止露光）。次に、別のターゲット部分Ｃを露光できるように、基板テーブルＷＴがＸ方向および／またはＹ方向に移動される。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、１回の静止露光で像が形成されるターゲット部分Ｃのサイズが制限される。
２．スキャンモードにおいては、マスクテーブルＭＴおよび基板テーブルＷＴは同期的にスキャンされる一方、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Ｃに投影する（つまり１回の動的露光）。マスクテーブルＭＴに対する基板テーブルＷＴの速度および方向は、投影システムＰＬの拡大（縮小）および像反転特性によって求めることができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、１回の動的露光におけるターゲット部分の（非スキャン方向における）幅が制限され、スキャン動作の長さによってターゲット部分の（スキャン方向における）高さが決まる。
３．別のモードでは、マスクテーブルＭＴはプログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に静止状態に維持され、基板テーブルＷＴを移動またはスキャンさせながら、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Ｃに投影する。このモードでは、一般にパルス状放射源を使用して、基板テーブルＷＴを移動させる毎に、またはスキャン中に連続する放射パルスの間で、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクなしリソグラフィに容易に利用できる。
【００３１】
上述した使用モードの組合せおよび／または変形、または全く異なる使用モードも利用できる。
【００３２】
液浸技術を使用するリソグラフィ装置を提供するために、様々な解決法が知られている。液体を提供するために知られているシステムは、液体封じ込めシステムを使用して基板Ｗの局所的区域、および投影システムＰＬの最終要素ＦＥと基板Ｗの間にのみ液体を提供するシステムを使用する（基板Ｗは通常、投影システムＰＬの最終要素より大きい表面積を有する）。これを配置構成するための１つの知られている方法が図２および図３に図示されており、ここでは液体が少なくとも１つの入口ＩＮによって基板Ｗ上に、好ましくは最終要素ＦＥに対する基板Ｗの動作の方向に沿って供給され、投影システムＰＬの下を通過した後に少なくとも１つの出口ＯＵＴによって除去される。つまり、基板Ｗが−Ｘ方向にて要素の下でスキャンされると、液体が要素の＋Ｘ側にて供給され、−Ｘ側にて取り上げられる。図２は、液体が入口ＩＮを介して供給され、低圧源に接続された出口ＯＵＴによって要素の他方側で取り上げられる構成を概略的に示したものである。図２の図では、液体が最終要素に対する基板Ｗの動作方向に沿って供給されるが、こうである必要はない。最終要素の周囲に配置された入口および出口の様々な方向および数が可能である。一例が図３に図示され、ここでは各側に４組の入口と出口が、最終要素の周囲の規則的パターンで設けられる。
【００３３】
提案されている別の解決法は、液体供給システムに、投影システムの最終要素と基板テーブルの間の空間の境界の少なくとも一部に沿って延在するシール部材を設けることである。このような解決法が図４に図示されている。シール部材は、投影システムに対してＸＹ平面ではほぼ静止しているが、Ｚ方向（光軸の方向）では多少の相対的運動があってよい。シールは、シール部材と基板の表面との間に形成される。シールは、ガスシールなどの非接触シールであることが好ましい。
【００３４】
米国特許出願第１０／９５９，４０３号によれば、液体１１が給送されて装置の一方側に入り、装置の他方側から出る。図５に図示されているように、リザーバ１０は投影システムＰＬの像フィールドの周囲で基板Ｗに対して非接触シールを形成し、したがって液体１１は、基板表面と投影システムＰＬの最終要素ＦＥの間の空間を充填するように限定される。リザーバ１０は、投影システムＰＬの最終要素ＦＥの下に配置され、それを囲むシール部材１２によって形成される。液体１１は、投影システムＰＬの下でシール部材１２内の空間に運び込まれる。シール部材１２は、投影システムＰＬの最終要素ＦＥの少し上まで延在し、液体のバッファが提供されるように、液体レベルが最終要素ＦＥの上まで上昇する。シール部材１２は、その上端が投影システムＰＬまたはその最終要素ＦＥの形状に非常に一致することが好ましく、例えば円形でよい内周を有する。底部では、内周は像フィールドの形状に非常に一致することが好ましく、例えば長方形であるが、そうである必要はない。
【００３５】
液体１１は、シール部材１２の底部と基板Ｗの表面との間のガスシール１６によってリザーバ１０内に閉じ込められる。ガスシール１６は、空気または合成空気のような気体で形成されるが、Ｎ2または別の不活性ガスであることが好ましく、圧力下で入口１５を介してシール部材１２と基板の間のギャップに提供され、第一出口１４を介して抽出される。ガス入口１５への過剰圧力、第一出口１４への実質的に真空のレベル、およびギャップの幾何学的形状は、液体を閉じ込める内側への高速の気体流があるように構成される。
【００３６】
図６を参照すると、投影システムＰＬは最終要素２０を備える。最終要素２０は最も一般的には球面レンズであるが、回折要素または屈折要素などの別の要素でもよい。液体１１が、この最終要素２０と基板Ｗの間に供給される。図６は、先行技術のリソグラフィ装置で使用されている状態の要素２０を示す。これは平凸レンズである。
【００３７】
全ての光線について、正弦条件として知られるものがある。
nresistsinθresist = nliquidsinθliquid = nlenssinθlens        (1)
ここで：
ｎresist＝基板上に設けたレジスト層Ｒの屈折率、
ｎliquid＝液体１１の屈折率、
ｎlens＝レンズの屈折率、
θlens＝レンズと液体の境界における法線とレンズ中の放射ビームの間の角度、
θliquid＝レンズと液体の境界における法線と液体中の放射ビームの間の角度、
θresist＝液体とレジストの境界における法線とレジスト中の放射ビームの間の角度
である。
【００３８】
レンズと液体の境界と液体とレジストの境界が実質的に平行であるので、式（１）が当てはまることに留意されたい。つまり、光線が影響を受けない状態で最終要素ＦＥ（または、この場合はレンズ２０）、液体１１およびレジスト層Ｒを通過するために、この式は釣り合う必要がある。つまり、レンズ材料、レジスト層Ｒまたは液体の最低屈折率が、下式のせいで開口数（ＮＡ）を制限する。
NA = nlenssinθlens                         (2)
【００３９】
屈折率が１．５６より大きいレジストおよび液体を使用すると、レンズと液体の境界で正弦条件を満たすことができず、図６の矢印Ｐで示すように内部全反射が生じる。この問題を解決するために、レンズと液体の境界の表面に対する法線を、曲面（凹）レンズ要素２１を使用することによって傾斜させる。これは、開口数をレンズ材料の屈折率ではなく、レンズ表面の曲率で制限できるようにする。
【００４０】
つまり、屈折率（ｎlens）を大きくすることは非常に困難であるので、式（１）を釣り合わせるために調節すべきはｓｉｎθlensである。
【００４１】
レンズと液体の境界線の傾斜は、投影され、パターン化された入射ビームに面する凸面、および投影され、パターン化された出射ビームに面する凹面を有するレンズ２１を使用することにより達成される。これは例えば対向する面の両方にプラスの曲率半径を有するメニスカス凸レンズでよい。「プラス」の曲率半径とは、光が左から入った場合、レンズの面が左に向かって膨らんでいるという意味である。両方の面がプラスの曲率半径を有する場合、レンズは左側が凸状で、右側が凹状になる。図７を見ると、光がページの上から来るので、レンズはページの上に向かって膨らんでいる。
【００４２】
この場合も、正弦条件が当てはまる。
nliquid sinθliquid, 1 = nlenssinθlens       (2)
および
nliquid sinθliquid, 2 = nresistsinθresist     (3)
ここで、
ｎresist＝基板上に設けたレジストの屈折率、
ｎliquid＝液体１１の屈折率、
ｎlens＝レンズの屈折率、
θlens＝レンズと液体の境界における法線とレンズ中の放射ビームの間の角度、
θliquid,1＝レンズと液体の境界における法線と液体中の放射ビームの間の角度、
θliquid,2＝液体とレジストの境界における法線と液体中の放射ビームの間の角度、
θresist＝液体とレジストの境界における法線とレジスト中の放射ビームの間の角度
である。
【００４３】
屈折率が可能な限り高く、したがってレンズの屈折率より高い液体を使用すると、基板Ｗ上のパターン像の解像度が改善される。
【００４４】
今後、結像特性を十分に活用するためには、液体１１の屈折率が高い（ｎliquid＞１．６）液浸システムが必要であり、曲面（凹）レンズ要素２１を最終要素ＦＥとして使用する。しかし、基板Ｗと曲面（凹）レンズ要素２１の間の空間を液浸液で充填すると、気体の閉じ込めが生じることがある。
【００４５】
基板Ｗと曲面（凹）レンズ要素２１によって形成された最終レンズ要素の間の空間は、先行技術について上述したように、液体で充填される。充填中、例えばシステムを最初に使用する前に、液体表面レベルは底部から頂部へと上昇する。その結果、上昇する液体表面レベルと曲面（凹）レンズ要素２１の間に気体または空気が閉じ込められることがある。これが、図８に概略的に図示されている。
【００４６】
図８は、自身上に設けたレジストＲの層を有する基板Ｗを示す。さらに、投影システムＰＬの最終レンズ要素、つまり曲面（凹）レンズ要素２１が図示されている。液浸液１１を提供し、液体１１を除去し、液体１１を閉じ込めた状態に維持するための上述したハードウェアは、図８には図示されていない。図８は、液浸液１１の表面レベルとレンズ要素２１の間の気体閉じ込め部Ｇ（またはエアポケット）を示す。
【００４７】
このような気体閉じ込め部Ｇは、リソグラフィ装置の光学的特性をマイナスの予測不可能な方法で変化させるので、リソグラフィ装置の結像品質にマイナスの影響を及ぼす。
【００４８】
したがって、曲面（凹）レンズ要素２１の下の望ましくない気体閉じ込め部Ｇを最小限に抑える幾つかの実施形態について説明する。
【００４９】
実施形態によれば、曲面（凹）レンズ要素２１は、レンズ要素２１の凹側に接続される膜ＭＥを備える。図９ａは、膜ＭＥを備えるこのようなレンズ要素２１の側面図を示す。図１０ａは、このようなレンズ要素２１の底面図を示す。実施形態では、膜ＭＥは、図９ａおよび図１０ａに示すように、膜ＭＥの周囲に沿ってレンズ要素２１に接続される。膜ＭＥとレンズ要素１の間の接続は、適切な方法で、例えば接着シームＧＳなどの接続シームによって形成してよい。
【００５０】
膜ＭＥは、接続シーム（接着シームＧＳ）がレンズ要素２１の結像区域の外側になるような方法で、レンズ要素２１に取り付けられることが理解される。
【００５１】
接着は、ペリクルをレチクルマウント、マスクＭＡまたはマスクテーブルＭＴに固定するために使用される既知の技術である。このようなペリクルの下面、つまりペリクルを接着剤で結合する表面とは反対側の表面は、通常、ペリクルの装着を容易にするために、ポリブテン樹脂、酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂などに基づく感圧性接着剤で被覆される。米国特許第５，３７８，５１４号は、ホットメルト接着剤の使用について開示している。同様の接着技術は、膜ＭＥをレンズ要素２１に取付けたり、あるいは、例えば図１３に関して以下でさらに詳細に説明するように、異なる膜層を相互に接着するために、使用することができる。
【００５２】
図１０ｂは、膜ＭＥをレンズ要素２１に接続する前の膜ＭＥの側面図を示す。図１０ｂは、ノズルＮＯを示す。膜ＭＥの縁部に、接着シームＧＳのための接着剤を設けて、膜ＭＥをレンズ要素２１に容易に接続できるようにすることができる。
【００５３】
膜ＭＥは任意の適切な材料で作成してよい。膜ＭＥは、例えばペリクル材料で作成することができる。例えば、膜ＭＥはＴＥＦＬＯＮ  ＡＦ（ＤｕＰｏｎｔの商標）またはＣＹＴＯＰ（旭硝子の商標）などのフッ素樹脂で作製してよい。ペリクルの使用については、ＳＰＩＥ（写真-光学計測技術者協会）が出版したHarry J.Levinsonによる「Principles of Lithography」(ＩＳＢＮ０−９１０４−４０４５−０)に記載されている。
【００５４】
膜ＭＥには金属酸化物またはフッ化物などのＡＲ（反射防止）コーティングを任意選択で使用する。
【００５５】
膜ＭＥの屈折率は、液体の屈折率に近づくよう最適化してよい（Ｎmembrane＝ｎliquid±０．３）。
【００５６】
膜ＭＥは、状況に応じて約２５０ｎｍ〜２μｍの厚さを有してよい。選択される厚さは、機械的強度と吸収／収差との折り合いであることを認識されたい。
【００５７】
屈折率は、ＣＹＴＯＰでは約１．３４であり、Ｔｅｆｌｏｎ  ＡＦでは約１．３１である。屈折率の正確な値は、材料の正確な組成および製造プロセスによって決定され、文献には屈折率を変更できると言及されている。膜ＭＥの材料の屈折率は、屈折の結果として膜ＭＥによるビームＰＢへの妨害を最小限に抑えるために、例えば１．３３など、液浸液１１の屈折率と一致するように選択することができる。
【００５８】
約１．６という高い屈折率を選択することができる。膜が例えば１０μｍなど、十分に薄い場合、その結果の収差は限られる。
【００５９】
膜ＭＥの周囲に沿って、ノズルＮＯを設ける。このノズルＮＯは、液体を提供する入口ノズルＮＯでよいが、液体、気体および空気のうち少なくとも１つを除去する出口ノズルとして使用してもよい。ノズルＮＯは、適切な液体供給部、ポンプなどに接続することができる。
【００６０】
図９ａは、液体を提供する前のレンズ要素２１および膜ＭＥの初期構成を示す。膜ＭＥがレンズ要素２１に付着している。これは、膜ＭＥとレンズ要素２１の間の付着力の結果である。また、膜ＭＥは、膜ＭＥとレンズ要素２１の間の不十分な圧力または真空の結果、レンズ要素２１に吸い付いてよい。
【００６１】
第一動作で、液体１１．１をノズルＮＯに通して供給し、レンズ要素２１と膜ＭＥの間の空間を充填する。図９ｂおよび図９ｃは、充填プロセスの個々の段階を示す。図９ｂは膜ＭＥの一部が液体１１．１で充填された段階を示す。図９ｃは、膜ＭＥが全体的に液体１１．１で充填された段階を示す。
【００６２】
第二動作では、膜ＭＥと基板Ｗまたは基板テーブルＷＴの間の残りの空間を、当業者に知られ、幾つかの実施例が先行技術に関して以上で検討されている充填技術および装置を使用して、液体１１．２で充填される。
【００６３】
図９ａから図９ｄに示したような充填プロセスの結果、基板Ｗまたは基板テーブルＷＴとレンズ要素２１の間の空間全体が、気体閉じ込め部Ｇがない状態において液体１１．１、１１．２で充填される。
【００６４】
膜ＭＥは、放射ビームＢの吸収および／または収差を最小限に抑えるために、非常に薄くてよい。膜ＭＥにかかる応力および／または膜ＭＥとレンズ要素２１との接続部にかかる機械的力を減少させるために、代替充填プロセスを使用してもよい。
【００６５】
代替方法によれば、この場合も図１１ａに示すように、膜ＭＥがレンズ要素２１に付着した状態で充填プロセスを開始する。次に、基板Ｗ（または基板テーブルＷＴ）と膜ＭＥの間の空間を、当業者に知られ、幾つかの実施例が先行技術に関して以上で検討されている充填技術および装置を使用して、液体１１．２で充填する。これが図１１ｂに図示されている。これが終了すると、図１１ｂに示すように、膜ＭＥと液体１１．２の表面の間に気体閉じ込め部Ｇが存在する。
【００６６】
次に、ノズルＮＯを介して液体１１．１を供給し、レンズ要素２１と膜ＭＥの間の空間を充填する。その結果、膜ＭＥと基板Ｗまたは基板テーブルＷＴの間にある液体１１．２の一部が押し出される。これが図１１ｃに図示されている。
【００６７】
また、気体閉じ込め部Ｇは液体１１．１によって押し出され、レンズ要素２１と基板Ｗまたは基板テーブルＷＴの間の空間全体が、気体閉じ込め部Ｇのない状態で、液体で充填される。これが図１１ｄに図示されている。
【００６８】
この代替法によれば、膜ＭＥにかかる応力および／または膜ＭＥとレンズ要素２１との接続部にかかる機械的力が減少する。というのは、充填プロセス中、膜ＭＥの両側にかかる圧力が、図９ａから図９ｄに関して検討した充填プロセスの場合より釣り合っているからである。例えば、レンズ要素２１と膜ＭＥの間の空間全体が液体１１．１で充填され、膜ＭＥと基板Ｗまたは基板テーブルＷＴの間の空間が空である、図９ｃに示した段階では、膜ＭＥにかかる応力および／または膜ＭＥとレンズ要素２１との接続部にかかる機械的力は、相対的に高い。これは、図１１ａから図１１ｄに関して説明する代替実施形態では防止されている。
【００６９】
さらなる代替法によれば、膜ＭＥにかかる応力および／または膜ＭＥとレンズ要素２１との接続部にかかる機械的力は、図１１ａから図１１ｄに関して説明した充填プロセスの後、膜ＭＥを収縮させることによって減少させることができる。これは、図１１ａから図１１ｄに関して説明した充填プロセスの後、膜ＭＥとレンズ要素２１の間に存在する液体１１．１、ノズルＮＯを介してポンプで汲み出し、それと同時に膜ＭＥと基板Ｗまたは基板テーブルＷＴの間の空間に液体１１．２をポンプで入れて、汲み出された液体と交換することによって実行することができる。これが図１１ｅに図示されている。膜ＭＥは、この場合も図１１ｆに示すようにレンズ要素２１に付着する。
【００７０】
その結果、膜ＭＥがレンズ要素２１に付着する。これは、レンズ要素２１の機械的妨害を最小限に抑える。また、膜ＭＥをさらに焦点からずらして、結像への影響を低下させる。
【００７１】
図１１ｅおよび図１１ｆに示した動作は、図９ａから図９ｄに関して説明した実施形態の後に取り入れてもよいことを認識されたい。
【００７２】
この変形によれば、膜が空であるので、膜ＭＥを、膜ＭＥの外側の空間とは異なる液体１１．１で充填してよいことを認識されたい。実際、膜ＭＥは空気または適切な気体で充填してよい。
【００７３】
膜ＭＥは比較的薄く、損傷しやすい。また、膜ＭＥは、ペリクルで知られている材料で作成することができる。そのために、膜ＭＥは、例えば放射ビーム（例えば紫外線、遠赤外線（ＤＵＶ））に露光した結果、劣化することがある。膜ＭＥをレンズ要素２１に取り付けると、交換が困難で、時間を消費することがある。
【００７４】
代替法によれば、容易に外し、交換できる一時的膜ＭＥを使用する。実際、膜ＭＥは、各充填プロセスの後、第一露光の前に外すことができ、したがってビームＰＢに露光しない。この代替法については、図１２ａから図１２ｇに関してさらに説明する。
【００７５】
第一動作では、基板Ｗまたは基板テーブルＷＴとレンズ要素２１の間の空間を、液体１１．２で充填する。これは図１２ａに図示されている。この動作中、膜ＭＥは存在していない。これが終了すると、図１２ａに示すように、レンズ要素２１と液体１１．２の表面の間に、気体閉じ込め部Ｇが存在する。
【００７６】
次の動作では、膜ＭＥ’をレンズ要素２１と基板Ｗまたは基板テーブルＷＴの間の空間に入れる。膜ＭＥ’は上述した膜ＭＥとは異なる。というのは、単層膜ＭＥではなく２層膜ＭＥ’だからである。これについては、図１３に関して以下でさらに説明する。
【００７７】
次に、膜ＭＥ’の２層間の空間を、ノズルＮＯを使用して液体１１．１で充填する。その結果、レンズ要素２１と基板Ｗまたは基板テーブルＷＴの間に既に存在する液体１１．２の一部、さらに気体閉じ込め部Ｇが押し出される。これが図１２ｃに図示されている。
【００７８】
膜ＭＥ’は、レンズ要素２１と基板Ｗまたは基板テーブルＷＴの間の空間を完全に、または少なくともレンズ要素２１の下の凹所を充填するような方法で形成される。これは、気体閉じ込め部が完全に押し出されることを保証する。これが図１２ｄに図示されている。
【００７９】
任意選択で、次の動作では膜ＭＥ’の内側の液体１１．１を、液体１１．１がもうなくなるまで、膜ＭＥ’から汲み出す。同時に、基板Ｗまたは基板テーブルＷＴとレンズ要素２１の間の空間を液体１１．２で充填して、膜ＭＥ’から汲み出された液体１１．１を置換する。これらの動作が図１２ｅから図１２ｆに図示されている。
【００８０】
最後に、収縮した膜ＭＥ’を、例えば露光する前に外す（図１２ｇ参照）。
【００８１】
図１２ａから図１２ｇに関して説明した代替実施形態は、充填技術、および容易に交換できる膜ＭＥ’を提供する。実際、膜ＭＥ’を露光前に外し、露光の結果としての膜ＭＥ’の劣化を最小限に抑えることができる。露光前に膜ＭＥ’を外すと、膜ＭＥ’が、例えば屈折の結果として結像プロセスに悪影響を及ぼすことがないことが保証される。
【００８２】
この変形によれば、膜ＭＥ’を空にするので、膜ＭＥ’を膜ＭＥ’の外側の空間とは異なる液体１１．１で充填することができる。実際、膜ＭＥ’は空気または適切な気体で充填することができる。
【００８３】
図１３は、２層膜ＭＥ’の側面図を示す。膜ＭＥ’は、例えば接着シームＧＳによって周囲にて相互に接着された第一膜層ＭＬ１および第二膜層ＭＬ２を備える。図１３はさらに、ノズルＮＯを示す。膜ＭＥ’では、図１０ｂに関して説明した単層膜ＭＥと同じ材料を使用することができる。
【００８４】
さらなる代替実施形態によれば、膜は、レンズ要素２１の凹所の形状と対応する剛性形状を有する実質的に剛性の膜ＭＥ”でよい。膜ＭＥ”はさらに、それぞれ側面図および上面図を示す図１４ａおよび図１４ｂに示すように、孔ＰＥを備えてよい。
【００８５】
膜ＭＥ”はさらに、図１４ｅに示すように膜ＭＥ”をレンズ要素２１に接続するための接着シームＧＳを備えてよい。
【００８６】
図１４ｅ、図１４ｆおよび図１４ｇは、レンズ要素２１と基板Ｗまたは基板テーブルＷＴの間の空間を充填する個々の動作を示す。第一動作では、基板Ｗまたは基板テーブルＷＴに面するレンズ要素２１の表面に比較的近いように、膜ＭＥ”を配置する。レンズ要素と膜ＭＥ”の間には小さい開口がある。これが図１４ｅに図示されている。
【００８７】
次に、レンズ要素２１の下の空間を液体１１で充填する。これが図１４ｆに図示されている。充填した結果、図１４ｆに示すように、気体閉じ込め部Ｇが存在する。
【００８８】
次に、図１４ｇに示すように、ノズルＮＯを介して気体閉じ込め部Ｇを抽出する。液体１１が孔ＰＥを通って流れ、気体閉じ込め部Ｇを置換することができる。その間に、気体閉じ込め部Ｇを置換するために余分な液体１１を追加する必要があることがある。その結果、最終的にレンズ要素２１と基板Ｗまたは基板テーブルＷＴの間の空間が、気体閉じ込め部Ｇがない状態で、液体で完全に充填される。
【００８９】
さらなる変形によれば、膜ＭＥ”は、それぞれ側面図および上面図を示す図１４ｃおよび図１４ｄに示すように、少なくとも１つのスペーサＳＰを備えてよい。スペーサＳＰは、膜ＭＥ”が気体抽出中にレンズ要素２１に吸い付くのを防止する。スペーサＳＰは、膜ＭＥ”と同じ材料で作成してよく、例えば上述したようなペリクル材料で作成してよい。
【００９０】
膜ＭＥ”は、例えば厚くすることにより剛性である、かつ／または気体抽出中に潰れないように、スペーサＳＰを追加することができる。これで、膜ＭＥ”は曲面レンズ要素と同じ曲率を維持する。孔を使用することにより、区域が液体で充填されるまで、気体／空気を抽出することができる。
【００９１】
孔ＰＥのサイズ、形状および分布は、気体抽出の有効性を変化させるために変更してよい。スペーサＳＰの部片を使用する場合、そのサイズ、形状および分布を変更してよい。
【００９２】
スペーサＳＰおよび膜ＭＥ”の材料は、ビームＰＢの妨害を最小限に抑えるために、その屈折率が液体と等しくなるように選択することができる。
【００９３】
さらなる実施形態によれば、最終レンズ要素２１と基板Ｗまたは基板テーブルＷＴの間の空間を充填する場合に生じるような気体閉じ込め部Ｇは、管ＴＵを導入することによって除去することができる。管ＴＵの一方端を気体閉じ込め部Ｇに配置することができ、他方端をポンプＰＵなどの適切な吸引装置に接続する。次に、ポンプＰＵをオンにして、気体閉じ込め部Ｇから気体を吸引することができる。気体閉じ込め部Ｇから全部の気体が吸い出されたら、管ＴＵおよびポンプＰＵが液体の吸引を開始する。次の動作で、管ＴＵを外す。
【００９４】
第一動作では、基板Ｗまたは基板テーブルＷＴと膜ＭＥの間の空間を液体１１で充填する。これが図１５ａに図示されている。これが終了すると、膜ＭＥと液体１１の表面の間に気体閉じ込め部Ｇが存在する。
【００９５】
さらなる動作では、管ＴＵを基板Ｗまたは基板テーブルＷＴとレンズ要素２１の間の空間に導入する。管ＴＵの端部は、気体閉じ込め部Ｇの中になるように配置される。管ＴＵの端部は、気体閉じ込め部Ｇ内で可能な限り高く配置する。管ＴＵの端部は、レンズ要素２１に当てるか、そこから小さい距離に配置し、レンズ要素２１の損傷を防止することができる。これが図１５ｂおよび図１５ｃに図示されている。管ＴＵは（一部を）テフロン（登録商標）で作成してよい。
【００９６】
管ＴＵを配置するために、これに継手、伸縮可能な部品などを設けてよい。管ＴＵの他方端はポンプＰＵに接続する。
【００９７】
さらなる動作では、ポンプＰＵが気体閉じ込め部Ｇから気体を吸い出し、その結果、液体表面レベルが上昇する。ポンプＰＵは、気体閉じ込め部Ｇが消滅したら、液体１１も吸引することがある。これが図１５ｄに図示されている。
【００９８】
最終動作では、図１５ｅおよび図１５ｆに示すように、再び管ＴＵを外し、レンズ要素２１と基板Ｗまたは基板テーブルＷＴの間の空間を液体１１で完全に充填しておく。
【００９９】
変形によれば、管ＴＵをプローブヘッドＰＨへ設けることができる。図１５ｇを参照されたい。プローブヘッドＰＨは、レンズ要素１の凹面の形状と一致するように形成してよい。これは、気体閉じ込め部Ｇが効率的に吸い出されることを保証する。
【０１００】
プローブヘッドＰＨは（一部を）テフロン（登録商標）で作成してよい。
【０１０１】
レンズ要素２１の凹面と一致するプローブヘッドＰＨの部分には、幾つかの孔ＰＥを設けてよい。これは、プローブヘッドＰＨの上面図を示す図１５ｈに概略的に図示されている。プローブヘッドＰＨは、任意の適切な形状および数の孔ＰＥを有してよいことを認識されたい。
【０１０２】
変形によれば、ポンプＰＵは、レンズ要素２１から空気または液体を汲み出す吸引装置として使用するのではなく、レンズ要素２１に向かって液体または空気を給送するために使用することができる。これは、プローブヘッドＰＨ付き、または無しの管ＴＵで実行することができる。これで、管ＴＵおよびポンプＰＵは、レンズ要素２１を洗浄する「スプリンクラ」として使用することができる。
【０１０３】
例えば、以前に液浸技術と組み合わせて使用した結果などで、レンズ要素２１に乾燥汚れがある場合、ポンプＰＵは液浸液１１とは異なる洗浄液を使用して、乾燥汚れを除去することができる。
【０１０４】
レンズ要素２１の洗浄は、液浸したレンズ要素２１（液体１１が存在する）に適用するか、乾燥したレンズ要素２１に適用することができる。管ＴＵおよびポンプＰＵも使用して、洗浄または液浸の後にレンズ要素２１を乾燥するために、乾燥および／または暖気／気体などの空気または気体を導入してよい。
【０１０５】
管ＴＵにプローブヘッドＰＨを設ける場合、プローブヘッドＰＨは、図１５ｇおよび図１５ｈに示したプローブヘッドＰＨとして形成することができる。代替法によれば、プローブヘッドＰＨは、図１６ａおよび図１６ｂに示すように形成される。この変形によれば、プローブヘッドＰＨは、レンズ要素２１の凹面を辿って、レンズ要素１の結像表面の適切な洗浄を保証するように形成される。
【０１０６】
洗浄手順は、管ＴＵおよびプローブヘッドＰＨを挿入し、これをレンズ要素２１に対して位置決めする第一動作を含んでよい。次の動作では、レンズ要素２１に洗浄液を噴霧することによって、洗浄を実行することができる。洗浄動作はさらに、レンズ要素２１に水などのすすぎ剤を噴霧することを含んでよい。洗浄動作はさらに、レンズ要素２１にアセトンなどのすすぎ剤を噴霧することを含んでよい。その後、洗浄動作は、気体または空気、例えば乾燥および／または暖気／気体を導入することにより、レンズ表面を乾燥させることを含んでよい。最終動作では、管ＴＵおよびプローブヘッドＰＨを外すことができる。
【０１０７】
変形によれば、洗浄手順は、「濡れた」レンズ要素上で、つまりレンズの下の空間が液浸液１１で充填された状況で実行することができる。液体１１は、例えば本書で説明した充填技術のいずれか１つに従い、任意の適切な方法で適用することができる。
【０１０８】
次の動作では、管ＴＵおよびプローブヘッドＰＨを、上記で説明したように配置する。管ＴＵおよび場合によってはプローブヘッドＰＨがまだ、以前の充填手順の結果として配置されている場合、既に所定の位置にある管ＴＵおよびプローブＰＨを洗浄手順に使用することができる。しかし、管ＴＵおよびプローブヘッドＰＨを他の管ＴＵおよび／またはプローブヘッドＰＨで置換してもよい。
【０１０９】
さらなる動作では、レンズ要素２１に洗浄液を、または以降の洗浄液の組合せを噴霧する。これを実行すると、レンズ要素２１の下に存在する液体１１を新しくすることができる。洗浄が終了したら、管ＴＵおよび場合によってはプローブヘッドＰＨを介して、既に存在する液浸液１１を新しくしながら、レンズ要素２１に液浸液１１を噴霧することができる。これは、液浸液１１中の洗浄液の濃度が特定の濃度未満になるまで実行する。最終動作では、管ＴＵおおよびプローブヘッドＰＨを外す。
【０１１０】
さらなる変形によれば、２本の管ＴＵを設け、第一管ＴＵ１は洗浄液をレンズ要素２１に提供するために使用され、第二管ＴＵ２は、レンズ要素２１から液体を除去するために使用される。管ＴＵ１、ＴＵ２は両方とも、適切なポンプＰＵに接続することができる。これが図１６ｃに図示されている。
【０１１１】
同時に液体を噴霧し、抽出することにより、レンズ要素２１の表面に沿った長さが提供され、洗浄手順が改善される。
【０１１２】
プローブヘッドＰＨには任意の適切な形状を与えてよいことを認識されたい。例えば図１７ａは、レンズ要素２１全体の洗浄を向上させる円盤形のプローブヘッドＰＨ’を示す。図１７ａは、複数の孔ＰＥを備えるこのようなプローブヘッドＰＨ’の上面図を示す。
【０１１３】
図１７ｂは、代替プローブヘッドＰＨ”を示す。プローブヘッドＰＨ”は、それぞれが自身に接続された管ＴＵを有する２つ以上の区画ＣＯを備えてよい。図１７ｂは、２つの区画ＣＯおよび２本の管ＴＵがあるプローブヘッドＰＨ”の上面図を示す。プローブヘッドＰＨに２つ以上の区画ＣＯを設けると、レンズ要素２１の表面全体への洗浄液の適切な流れが保証される。
【０１１４】
プローブヘッドＰＨには任意の代替形状、例えばレンズ要素２１の表面に対応する形状を与えてよい。プローブヘッドＰＨは、多少凹状の形状、または平坦または凸状形状さえ有するレンズ要素２１の洗浄に使用することもできる。
【０１１５】
図１７ｃは、実質的に平坦な形状を有するプローブヘッドＰＨ”’の側面図を示す。プローブヘッドＰＨ”’はさらに、それぞれが自身に接続された管ＴＵを有する３つの区画ＣＯを備える。
【０１１６】
あるいは、プローブヘッドＰＨを複数の区画に分割し、洗浄流体の回転流を生成することができる。例えば、プローブヘッドには、このようなプローブヘッドＰＨの上面図を示す図１７ｄに概略的に図示されているように、中心部分および複数の外部区画を設けてよい。概略的に図示されているように、中心部分を引き抜き、外部区画に別個に液体を提供する。この方法で、回転流を生成することができる。
【０１１７】
さらなる実施形態によれば、図１８に示すように改造したレンズ要素２１を設けることにより、気体閉じ込め部Ｇの展開を防止することができる。この実施形態によれば、レンズ要素２１に追加の板Ｐを設けて、レンズ要素２１の下の凹所を閉鎖する。板Ｐとレンズ要素２１の間の空間を、液体１１．１で充填する。これは、レンズ要素２１の製造時に実行することができる。
【０１１８】
板Ｐと基板Ｗまたは基板テーブルＷＴの間の空間を、液体１１．２で充填することができる。
【０１１９】
板Ｐは、ビームＰＢへの影響が最小であるように、平坦でよい。また、板ＰＬは、液体の屈折率に近い、または実質的にそれと一致する屈折率を有する材料で作成してよい。板Ｐはさらに、吸収する放射線が可能な限り少ないように、比較的薄くてよい。
【０１２０】
また、乱流および温度勾配に伴う問題が軽減される。板ＰＬは、層流の生成を助け、その結果、液体中の温度分布が均一になり、したがって屈折率の分布が均一になる。これは、光学的性能の向上を助ける。
【０１２１】
さらなる実施形態によれば、曲面レンズ要素２１の下の空間を液体１１で充填するために、さらなる技術を導入する。この実施形態によれば、毛管力に気体／空気をレンズ要素２１の凹所から押し出させることにより、レンズ要素２１と基板Ｗまたは基板テーブルＷＴの間の空間を充填する。したがってこの実施形態によれば、レンズ要素２１の下の空間は、気体閉じ込め部Ｇが生じないような方法で充填される。
【０１２２】
毛管充填技術が、図１９ａから図１９ｄに概略的に図示されている。図１９ａは、レンズ要素２１が配置される基板Ｗ、および液体入口ＩＮを示す。液体１１は入口ＩＮを介して供給され、レンズ要素２１の下の空間を充填する。図１９ａから図１９ｄは、毛管充填手順のその後の段階を示す。液体が、レンズ要素２１の下の空間に入る。液体前面ＬＦが、完全に充填するまで入口ＩＮからレンズ要素２１の下の空間内に進む。
【０１２３】
図１９ａから図１９ｃに示すように、液体前面ＬＦは、液体１１とレンズ要素２１の表面の間の接着力、および液体１１と基板または基板テーブルＷＴの間の接着力の結果、中空である。この接着力または毛管力の結果、液体前面ＬＦはレンズ要素２１と基板Ｗまたは基板テーブルＷＴの間ギャップをまたぎ、それによって気体閉じ込め部Ｇの展開を防止する。
【０１２４】
第１動作では、入口ＩＮを介して液体１１がレンズ要素２１の下の空間に入るようにして、充填を開始する。これが図１９ａに図示されている。
【０１２５】
次に、毛管力がレンズ要素２１と基板Ｗまたは基板テーブルＷＴの間でメニスカスまたは液体前面ＬＦを押す。これが図１９ｂに図示されている。
【０１２６】
特定の時間の後、液体前面ＬＦが、図１９ｃに示すようにレンズ要素２１の他方側に到達する。最後に、レンズ要素２１の下の空間全体が、気体閉じ込め部Ｇがない状態において液体１１で充填される。
【０１２７】
このような毛管充填技術の成功は、レンズ要素２１と基板Ｗまたは基板テーブルＷＴの間の高さｈ、使用する液体１１の種類、液体１１とレンズ要素２１の間、および液体１１と基板Ｗまたは基板テーブルＷＴの間の接触角など、幾つかのパラメータに依存する。
【０１２８】
例えば、毛管充填技術は、最高でレンズ要素２１と基板Ｗまたは基板テーブルＷＴの間の最大高さｈmaxまで可能であり、ここで液体１１の表面張力が重力のせいでメニスカスまたは液体前面ＬＦをもはや維持できなくなる。
【０１２９】
レンズ２１と基板Ｗまたは基板テーブルＷＴとの（前進）接触角も重要である。角度θlensは、レンズからメニスカスへと液体を通る角度である。角度θＣＬＤは、閉鎖部材からメニスカスへと液体を通る角度であり、閉鎖部材は基板Ｗ、基板テーブルＷＴ、または閉鎖ディスクでよい。これらの角度が図１９ｂに図示されている。
【０１３０】
より親水性である（または水に限定されない液浸液との親和性が高い）ということは、毛管力が高く、したがってまたぐことができる高さｈmaxが大きいという意味になる。概して、液体と表面特性と最大ギャップｈmaxとの間の関係は、下式によって与えられる。
【数１】
2008060539.tif 000003
ここで、
ｐcap＝毛管圧、
γ＝流体の表面張力、
θlens＝レンズ要素２１上の流体の前進接触角、
θCLD＝基板Ｗまたは基板テーブルＷＴなどの閉鎖部材表面上の流体の前進接触角、
ｈ＝レンズ要素２１と基板Ｗの間の距離、
ｐg＝重力圧、
ρ＝流体密度、
ｇ＝重力定数、
である。
【０１３１】
液体１１が水であり、接触角（θlens、θCLD）が最大６０°である場合、最大高さｈmaxは約２．７ｍｍである。デカリン（表面張力３０ｍＮ／ｍ、密度９００ｋｇ／ｍ3）の場合、計算はｈmax最大高さが約１．８ｍｍになる。
【０１３２】
液体１１は入口ＩＮを通して供給され、レンズ要素２１の下の空間を充填する。レンズ要素２１の下の空間を成功裏に充填するために、液体前面ＬＦの充填速度ｖLF、およびその結果としての入口ＩＮを通る充填流量は、高すぎてはならない。液体１１の供給が速すぎる場合は、中空の液体前面ＬＦが妨害され、「砕ける」か「崩壊する」ことがある。こうなると、液体前面ＬＦはもはや、レンズ要素２１と基板Ｗまたは基板テーブルＷＴの間のギャップをまたがず、空気閉じ込め部Ｇが形成されることがある。
【０１３３】
液体前面ＬＦの速度ｖLFは、次の２つの基準、つまり１）顕微鏡的崩壊、および２）圧力崩壊に従って選択され、その両方について、以下でさらに詳細に説明する。
【０１３４】
液体前面ＬＦの速度ｖLFが高すぎる場合、液体１１の大部分が前進するメニスカスまたは液体前面ＬＦに追いつくことができる。その結果、凹状液体前面ＬＦがそれほど凹状でなくなるか、凸状になることさえあり、液体前面ＬＦを崩壊させる。
【０１３５】
したがって、液体前面ＬＦの速度ｖLFは、液体前面ＬＦの速度ｖLFが、Ｖｉｏｎｏｖの式によって与えられた前進するメニスカスまたは液体前面ＬＦの速度を超えないような方法で選択することができる。
【数２】
2008060539.tif 000004
ここで、
ｖvionovは前進するメニスカスまたは液体前面ＬＦの速度、
Ａは、安定した性能のための典型的なパラメータで、水の場合は、Ａが通常は２５０でよく、デカリンでは１００になり、
γは、流体の表面張力、
ηは粘度、
θdynは、最大前進動的接触角、
θstatは、両方の表面、つまりレンズ要素２１と閉鎖部材表面の最大前進静止接触角、
である。
【０１３６】
Ａは、水の安定した性能の典型的な値であり、Ａ＝２５０は水の場合に予想され、Ａ＝１００はデカリンの場合に予想される。
【０１３７】
θdynは、液体前面ＬＦまたはメニスカスが「トリップ」し、空気の内包または気体の閉じ込めが発生する前に到達可能な最大前進動的接触角である。理論的にθdynは１８０°であるが、堅牢性のせいで、通常はこれより低い値、例えば１２０°が得られる。これは、表面上の引っ掻き傷のような人工産物または汚染（粒子、付着物など）を扱うことができるので実行される。
【０１３８】
θstatは、静止前進接触角、つまり前進するメニスカス、または液体前面が移動する直前に表面との間で成す角度である。これらの値は、当業者に理解されるように動的接触角測定装置、例えばKruss Drop Shape Analysis System（ＤＳＡ１０、ＤＳＡ１００ｓ）で測定することができる。レンズ材料のθstaticをθlensと、閉鎖部材（例えば基板Ｗまたは基板テーブルＷＴ）のそれをθCLDと呼ぶ。
【０１３９】
液体前面ＬＦの速度ｖＬＦ、したがって入口ＩＮを通る液体１１の充填流量は、液体前面ＬＦの速度ｖＬＦが図１９ｂに示すようにＶｉｏｎｏｖの式に基づく速度ｖvionovを超えないように選択しなければならない。
【０１４０】
例えば、液体１１が水の場合は、下表の結果となる。
【表１】
2008060539.tif 000005
【０１４１】
例えば、液体１１がデカリン（γ＝３０ｍＮ／ｍおよびη≒３０Ｐａ・ｓ）の場合は、下表の結果となる。
【表２】
2008060539.tif 000006
【０１４２】
基板Ｗまたは基板テーブルＷＴの材料の選択が最高（静止を、したがって顕微鏡的崩壊の速度を決定する。
【０１４３】
顕微鏡的崩壊は、両方の接触表面で生じ、したがって最終レンズ要素（石英またはＬｕＡＧで作成した）上、および閉鎖部材（基板、基板テーブル、閉鎖部材で、ガラス、ケイ素、炭化ケイ素、ＺＥＲＯＤＵＲ、ＵＲＥなどで作成し、場合によってはテフロン（登録商標）で被覆）上である。
【０１４４】
したがって、以上に基づき、液体前面の速度ｖLFは第一速度ｖmicroより低く維持しなければならず、ここでｖmicro＝ｖvionovである。
【０１４５】
図２０ａは充填プロセスの上面図を示す。図は、液体１１をレンズ要素２１の下の空間に供給するノズルＮＯを示す。図はさらに、その後の時間ＬＦ．１、ＬＦ．２、ＬＦ．３、ＬＦ．４の瞬間における液体前面ＬＦのその後の位置を示す。
【０１４６】
適切な充填速度は、メニスカスのオーバラン基準に基づいて計算してよい。つまり、充填圧力ｐfillが高すぎてはならない。メニスカスを破壊してしまうからである。したがって、数学的計算は下式になる。
【数３】
2008060539.tif 000007
【０１４７】
この式は概ね、充填圧力ｐfillが、メニスカスのオーバランを防止するために言及された他の圧力項と釣り合うべきことを表す。他の圧力項とは毛管圧ｐcap、重力圧ｐgrav、粘性圧ｐvisc、および慣性圧ｐinertiaの項目である。様々な圧力項について、以下でさらに詳細に説明する。
【数４】
2008060539.tif 000008
ここで、γは表面張力、ｈは局所的ギャップ高さ、θlens(v)はメニスカス速度ｖにおけるレンズ上での動的接触角、θCD(v)は、閉鎖部材速度ｖにおけるレンズ上での動的接触角を表す。θxxx(v)はＶｉｏｎｏｖの式を使用して計算することができる。
【数５】
2008060539.tif 000009
ここでＡは、水の場合は約２５０であり、デカリンなどの屈折率が高い油では約１００である。
【数６】
2008060539.tif 000010
ここでρは液体の密度を表し、ｇは９．８１ｍ／ｓ2に等しく、ｈは図２０ｂに示すようにギャップ高さである。
【数７】
2008060539.tif 000011
ここで、Ｃ1は流れのパターンに依存する定数、ηは液体の粘度、Ｑは単位面積当たりの流れを表す。
【数８】
2008060539.tif 000012
ここで、Ｃ2は流れのパターンに依存する定数である。
【０１４８】
以上に基づき、閾値充填圧を計算することができる。実際の充填圧ｐfillは、気体の閉じ込めが発生するのを防止するために、この閾値充填圧を超えてはならない。
【０１４９】
さらに、流れをメニスカスの移動速度に結合する流れのバランスと、ギャップ高さへの流速度分布を釣り合わせる必要がある。圧力バランスは、全ての高さで達成しなければならない。達成しないと、メニスカスが局所的に崩れ、空気の内包が生じる。
【０１５０】
上記で検討した両方の基準を達成するために、入口ＩＮを通る充填流体の速度は、入口ＩＮを介して入る液体１１によって前方へと押される液体前面ＬＦの速度ｖLFが、以上に従って決定された通りの最大速度ｖmaxを超えないような方法で制御する必要がある。これを実行するために、充填プロセス中に入口ＩＮを通る流体の速度を変更することができる。最大許容充填速度は、液体前面ＬＦのサイズに逆比例してよい。
【０１５１】
充填が開始したばかりの時には、図２０ａで見られるように、液体前面ＬＦが比較的小さい（ＬＦ．１）。その場合、入口ＩＮを通る流体の速度は、比較的低く維持される。充填の半ばでは、図２０ａに見られるように、液体前面ＬＦが比較的大きい（ＬＦ．３）。その場合、流体の速度はそれより高くすることができる。
【０１５２】
上述したような充填方法は、中空のレンズ要素２１を充填することに限定されず、平面レンズ要素２１または凸レンズ要素２１の下の空間の充填にも使用してよいことを認識されたい。
【０１５３】
以上の文はレンズ要素２１と基板Ｗまたは基板テーブルＷＴの間の空間に言及している。基板Ｗまたは基板テーブルＷＴの代わりに、任意の閉鎖部材を使用してよいことを認識されたい。レンズ要素２１の下の空間が、上述した実施形態のいずれかに従って充填された後、閉鎖部材を基板Ｗまたは基板テーブルＷＴで置換することができる。実際、特定の材料で作成し、比較的迅速な充填に適した材料特徴を有する特殊な閉鎖部材を選択することができる。
【０１５４】
本文ではＩＣの製造におけるリソグラフィ装置の使用に特に言及しているが、本明細書で説明するリソグラフィ装置には他の用途もあることは言うまでもない。例えば、これは、集積光学装置、磁気ドメインメモリ用誘導および検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッドなどである。こうした代替的な用途に照らして、本明細書で「ウェーハ」または「ダイ」という用語を使用している場合、それぞれ、「基板」または「ターゲット部分」という、より一般的な用語と同義と見なしてよいことは、当業者に明らかである。本明細書に述べている基板は、露光前または露光後に、例えばトラック（通常はレジストの層を基板に塗布し、露光したレジストを現像するツール）、計測ツールおよび／または検査ツールで処理することができる。適宜、本明細書の開示は、以上およびその他の基板処理ツールに適用することができる。さらに、基板は、例えば多層ＩＣを生成するために、複数回処理することができ、したがって本明細書で使用する基板という用語は、既に複数の処理済み層を含む基板も指すことができる。
【０１５５】
以上では光学リソグラフィとの関連で本発明の実施形態の使用に特に言及しているが、本発明は、インプリントリソグラフィなどの他の用途においても使用可能であり、状況が許せば、光学リソグラフィに限定されないことが理解される。インプリントリソグラフィでは、パターニングデバイスの微細構成によって、基板上に生成されるパターンが画定される。パターニングデバイスの微細構成を基板に供給されたレジストの層に押しつけ、その後に電磁放射、熱、圧力またはその組合せにより、レジストを硬化する。パターニングデバイスをレジストから離し、レジストを硬化した後にパターンを残す。
【０１５６】
本明細書で使用する「放射」および「ビーム」という用語は、イオンビームあるいは電子ビームといったような粒子ビームのみならず、紫外線（ＵＶ）放射（例えば、３６５ｎｍ、３５５ｎｍ、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍまたは１２６ｎｍの波長を有する）を含むあらゆるタイプの電磁放射を網羅する。
【０１５７】
「レンズ」という用語は、状況が許せば、屈折、反射、磁気、電磁気および静電気光学部品を含む様々なタイプの光学部品のいずれか、またはその組合せを指す。
【０１５８】
以上、本発明の特定の実施形態を説明したが、説明とは異なる方法でも本発明を実践できることが理解される。例えば、本発明は、上記で開示したような方法を述べる機械読み取り式命令の１つまたは複数のシーケンスを含むコンピュータプログラム、またはその内部に記憶されたこのようなコンピュータプログラムを有するデータ記憶媒体（例えば半導体メモリ、磁気または光ディスク）の形態をとることができる。
【０１５９】
上記の説明は例示的であり、限定的ではない。したがって、請求の範囲から逸脱することなく、記載されたような本発明を変更できることが当業者には明白である。
【図面の簡単な説明】
【０１６０】
【図１】本発明の実施形態によるリソグラフィ装置を概略的に示した図である。
【図２】先行技術のリソグラフィ投影装置で使用される液体供給システムを示した図である。
【図３】先行技術のリソグラフィ投影装置で使用される液体供給システムを示した図である。
【図４ａ】別の先行技術のリソグラフィ投影装置による液体供給システムを示した上面図である。
【図４ｂ】別の先行技術のリソグラフィ投影装置による液体供給システムを示した側面図である。
【図５】先行技術のリソグラフィ投影装置による液体供給システムを示したさらなる図である。
【図６】先行技術のリソグラフィ投影システム装置の投影システムの最終要素を示した図である。
【図７】先行技術のリソグラフィ投影装置による投影システムの代替最終要素を示した図である。
【図８】本発明の実施形態による気体閉じ込め部とともに投影システムの最終要素を示した図である。
【図９ａ】実施形態によるレンズ要素を示した図である。
【図９ｂ】実施形態によるレンズ要素を示した図である。
【図９ｃ】実施形態によるレンズ要素を示した図である。
【図９ｄ】実施形態によるレンズ要素を示した図である。
【図１０ａ】実施形態による膜を示した図である。
【図１０ｂ】実施形態による膜を示した図である。
【図１１ａ】さらなる実施形態によるレンズ要素を示した図である。
【図１１ｂ】さらなる実施形態によるレンズ要素を示した図である。
【図１１ｃ】さらなる実施形態によるレンズ要素を示した図である。
【図１１ｄ】さらなる実施形態によるレンズ要素を示した図である。
【図１１ｅ】さらなる実施形態によるレンズ要素を示した図である。
【図１１ｆ】さらなる実施形態によるレンズ要素を示した図である。
【図１２ａ】さらなる実施形態によるレンズ要素を示した図である。
【図１２ｂ】さらなる実施形態によるレンズ要素を示した図である。
【図１２ｃ】さらなる実施形態によるレンズ要素を示した図である。
【図１２ｄ】さらなる実施形態によるレンズ要素を示した図である。
【図１２ｅ】さらなる実施形態によるレンズ要素を示した図である。
【図１２ｆ】さらなる実施形態によるレンズ要素を示した図である。
【図１２ｇ】さらなる実施形態によるレンズ要素を示した図である。
【図１３】さらなる実施形態による膜を示した図である。
【図１４ａ】さらなる実施形態によるレンズ要素を示した図である。
【図１４ｂ】さらなる実施形態によるレンズ要素を示した図である。
【図１４ｃ】さらなる実施形態によるレンズ要素を示した図である。
【図１４ｄ】さらなる実施形態によるレンズ要素を示した図である。
【図１４ｅ】さらなる実施形態によるレンズ要素を示した図である。
【図１４ｆ】さらなる実施形態によるレンズ要素を示した図である。
【図１４ｇ】さらなる実施形態によるレンズ要素を示した図である。
【図１４ｈ】さらなる実施形態によるレンズ要素を示した図である。
【図１５ａ】さらなる実施形態によるレンズ要素を示した図である。
【図１５ｂ】さらなる実施形態によるレンズ要素を示した図である。
【図１５ｃ】さらなる実施形態によるレンズ要素を示した図である。
【図１５ｄ】さらなる実施形態によるレンズ要素を示した図である。
【図１５ｅ】さらなる実施形態によるレンズ要素を示した図である。
【図１５ｆ】さらなる実施形態によるレンズ要素を示した図である。
【図１５ｇ】さらなる実施形態によるレンズ要素を示した図である。
【図１５ｈ】実施形態によるプローブヘッドを示した図である。
【図１６ａ】さらなる実施形態によるレンズ要素を示した図である。
【図１６ｂ】実施形態によるプローブヘッドを示した図である。
【図１６ｃ】さらなる実施形態によるレンズ要素を示した図である。
【図１７ａ】さらなる実施形態によるレンズ要素を示した図である。
【図１７ｂ】さらなる実施形態によるレンズ要素を示した図である。
【図１７ｃ】さらなる実施形態によるレンズ要素を示した図である。
【図１７ｄ】さらなる実施形態によるレンズ要素を示した図である。
【図１８】さらなる実施形態によるレンズ要素を示した図である。
【図１９ａ】さらなる実施形態によるレンズ要素を示した図である。
【図１９ｂ】さらなる実施形態によるレンズ要素を示した図である。
【図１９ｃ】さらなる実施形態によるレンズ要素を示した図である。
【図１９ｄ】さらなる実施形態によるレンズ要素を示した図である。
【図２０ａ】さらなる実施形態によるレンズ要素を示した図である。
【図２０ｂ】さらなる実施形態によるレンズ要素を示した図である。
【図１】
2008060539.tif 000015
【図２】
2008060539.tif 000016
【図３】
2008060539.tif 000017
【図４ａ】
2008060539.tif 000018
【図４ｂ】
2008060539.tif 000019
【図５】
2008060539.tif 000020
【図６】
2008060539.tif 000021
【図７】
2008060539.tif 000022
【図８】
2008060539.tif 000023
【図９ａ】
2008060539.tif 000024
【図９ｂ】
2008060539.tif 000025
【図９ｃ】
2008060539.tif 000026
【図９ｄ】
2008060539.tif 000027
【図１０ａ】
2008060539.tif 000028
【図１０ｂ】
2008060539.tif 000029
【図１１ａ】
2008060539.tif 000030
【図１１ｂ】
2008060539.tif 000031
【図１１ｃ】
2008060539.tif 000032
【図１１ｄ】
2008060539.tif 000033
【図１１ｅ】
2008060539.tif 000034
【図１１ｆ】
2008060539.tif 000035
【図１２ａ】
2008060539.tif 000036
【図１２ｂ】
2008060539.tif 000037
【図１２ｃ】
2008060539.tif 000038
【図１２ｄ】
2008060539.tif 000039
【図１２ｅ】
2008060539.tif 000040
【図１２ｆ】
2008060539.tif 000041
【図１２ｇ】
2008060539.tif 000042
【図１３】
2008060539.tif 000043
【図１４ａ】
2008060539.tif 000044
【図１４ｂ】
2008060539.tif 000045
【図１４ｃ】
2008060539.tif 000046
【図１４ｄ】
2008060539.tif 000047
【図１４ｅ】
2008060539.tif 000048
【図１４ｆ】
2008060539.tif 000049
【図１４ｇ】
2008060539.tif 000050
【図１４ｈ】
2008060539.tif 000051
【図１５ａ】
2008060539.tif 000052
【図１５ｂ】
2008060539.tif 000053
【図１５ｃ】
2008060539.tif 000054
【図１５ｄ】
2008060539.tif 000055
【図１５ｅ】
2008060539.tif 000056
【図１５ｆ】
2008060539.tif 000057
【図１５ｇ】
2008060539.tif 000058
【図１５ｈ】
2008060539.tif 000059
【図１６ａ】
2008060539.tif 000060
【図１６ｂ】
2008060539.tif 000061
【図１６ｃ】
2008060539.tif 000062
【図１７ａ】
2008060539.tif 000063
【図１７ｂ】
2008060539.tif 000064
【図１７ｃ】
2008060539.tif 000065
【図１７ｄ】
2008060539.tif 000066
【図１８】
2008060539.tif 000067
【図１９ａ】
2008060539.tif 000068
【図１９ｂ】
2008060539.tif 000069
【図１９ｃ】
2008060539.tif 000070
【図１９ｄ】
2008060539.tif 000071
【図２０ａ】
2008060539.tif 000072
【図２０ｂ】
2008060539.tif 000073
【外国語明細書】
2008060539000001.pdf