(57)【要約】【課題】アレイ上に形成された着色層の格子状パターンを法則に従って間引くことにより、塗布ムラの発生を分散させ、表示品位の低下しない、かつ高歩留まりの液晶表示装置を提供する。【解決手段】格子状に重なって配置された第１着色層２４ａ、第２着色層２４ｂ、第３着色層３４ｃによって構成され、表示画素領域４０を複数の集合により構成するための画素単位は、表示画素領域４０における位置を示す座標（ｎ、ｍ）のうち、少なくとも（ｎ−１、ｍ−１）、（ｎ−１、ｍ＋１）、（ｎ＋１、ｍ−１）、（ｎ＋１、ｍ＋１）で示される座標において、それぞれの画素単位は格子状を形成することなく第１着色層２４ａのみで形成する。【選択図】図１
2008058644.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁性基板の面上に、互いに交差して配置された複数の信号線及び複数の走査線と、前記信号線と前記走査線の各交差部にそれぞれ配置されたスイッチング素子と、前記信号線と前記走査線および前記スイッチング素子を覆うように配置された第１着色層、第２着色層、第３着色層と、前記着色層に形成されたスルーホールを介して前記スイッチング素子の各々に電気的に接続された透明導電膜との積層構造からなる複数の画素電極から構成される表示領域を有し、前記第１着色層が前記第２および第３着色層を包囲して格子状に配置された液晶表示装置において、
前記格子状に重なって配置された前記第１着色層、前記第２着色層、前記第３着色層によって構成され、前記表示領域を複数の集合により構成するための画素単位を備え、
前記画素単位の前記表示領域における位置を示す座標（ｎ、ｍ）のうち、少なくとも（ｎ−１、ｍ−１）、（ｎ−１、ｍ＋１）、（ｎ＋１、ｍ−１）、（ｎ＋１、ｍ＋１）で示される座標において、それぞれの前記画素単位は前記格子状を形成することなく前記第１着色層のみで形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
絶縁性基板の面上に、互いに交差して配置された複数の信号線及び複数の走査線と、前記信号線と前記走査線の各交差部にそれぞれ配置されたスイッチング素子と、前記信号線と前記走査線および前記スイッチング素子を覆うように配置された第１着色層、第２着色層、第３着色層と、前記着色層に形成されたスルーホールを介して前記スイッチング素子の各々に電気的に接続された透明導電膜との積層構造からなる複数の画素電極から構成される表示領域を有し、前記第１着色層が前記第２および第３着色層を包囲して格子状に配置された液晶表示装置において、
前記格子状に重なって配置された前記第１着色層、前記第２着色層、前記第３着色層によって構成され、前記表示領域を複数の集合により構成するための画素単位を備え、
前記画素単位の前記表示領域における位置を示す座標（ｎ、ｍ）のうち、少なくとも（ｎ−１、ｍ）、（ｎ＋１、ｍ）、（ｎ−１、ｍ−１）、（ｎ−１、ｍ＋１）、（ｎ＋１、ｍ−１）、（ｎ＋１、ｍ＋１）で示される座標において、それぞれの前記画素単位は前記格子状を形成することなく前記第１着色層のみで形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
絶縁性基板の面上に、互いに交差して配置された複数の信号線及び複数の走査線と、前記信号線と前記走査線の各交差部にそれぞれ配置されたスイッチング素子と、前記信号線と前記走査線および前記スイッチング素子を覆うように配置された第１着色層、第２着色層、第３着色層と、前記着色層に形成されたスルーホールを介して前記スイッチング素子の各々に電気的に接続された透明導電膜との積層構造からなる複数の画素電極から構成される表示領域を有し、前記第１着色層が前記第２および第３着色層を包囲して格子状に配置された液晶表示装置において、
前記格子状に重なって配置された前記第１着色層、前記第２着色層、前記第３着色層によって構成され、前記表示領域を複数の集合により構成するための画素単位を備え、
前記画素単位の前記表示領域における位置を示す座標（ｎ、ｍ）のうち、（ｎ、ｍ＋１）を除いた少なくとも（ｎ−１、ｍ）、（ｎ＋１、ｍ）、（ｎ−１、ｍ−１）、（ｎ−１、ｍ＋１）、（ｎ−１、ｍ＋２）、（ｎ＋１、ｍ−１）、（ｎ＋１、ｍ＋１）、（ｎ＋１、ｍ＋２）で示される座標において、それぞれの前記画素単位は前記格子状を形成することなく前記第１着色層のみで形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
絶縁性基板の面上に、互いに交差して配置された複数の信号線及び複数の走査線と、前記信号線と前記走査線の各交差部にそれぞれ配置されたスイッチング素子と、前記信号線と前記走査線および前記スイッチング素子を覆うように配置された第１着色層、第２着色層、第３着色層と、前記着色層に形成されたスルーホールを介して前記スイッチング素子の各々に電気的に接続された透明導電膜との積層構造からなる複数の画素電極から構成される表示領域を有し、前記第１着色層が前記第２および第３着色層を包囲して格子状に配置された液晶表示装置において、
前記格子状に重なって配置された前記第１着色層、前記第２着色層、前記第３着色層によって構成され、前記表示領域を複数の集合により構成するための画素単位を備え、
前記画素単位の前記表示領域における位置を示す座標（ｎ、ｍ）のうち、（ｎ、ｍ＋１）、（ｎ、ｍ＋２）を除いた少なくとも（ｎ−１、ｍ）、（ｎ＋１、ｍ）、（ｎ−１、ｍ＋１）、（ｎ＋１、ｍ＋１）、（ｎ−１、ｍ−１）、（ｎ−１、ｍ＋１）、（ｎ−１、ｍ＋２）、（ｎ−１、ｍ＋３）、（ｎ＋１、ｍ−１）、（ｎ＋１、ｍ＋１）、（ｎ＋１、ｍ＋２）、（ｎ＋１、ｍ＋３）で示される座標において、それぞれの前記画素単位は前記格子状を形成することなく前記第１着色層のみで形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】
絶縁性基板の面上に、互いに交差して配置された複数の信号線及び複数の走査線と、前記信号線と前記走査線の各交差部にそれぞれ配置されたスイッチング素子と、前記信号線と前記走査線および前記スイッチング素子を覆うように配置された第１着色層、第２着色層、第３着色層と、前記着色層に形成されたスルーホールを介して前記スイッチング素子の各々に電気的に接続された透明導電膜との積層構造からなる複数の画素電極から構成される表示領域を有し、前記第１着色層が前記第２および第３着色層を包囲して格子状に配置された液晶表示装置において、
前記格子状に重なって配置された前記第１着色層、前記第２着色層、前記第３着色層によって構成され、前記表示領域を複数の集合により構成するための画素単位を備え、
前記画素単位の前記表示領域における位置を示す座標（ｎ、ｍ）のうち、（ｎ、ｍ＋１）、（ｎ、ｍ＋２）、（ｎ、ｍ＋３）、（ｎ、ｍ＋４）、（ｎ、ｍ＋５）、・・・（ｎ、ｍ＋ａ（ａは３以上の整数））を除いた少なくとも（ｎ−１、ｍ）、（ｎ＋１、ｍ）、（ｎ−１、ｍ−１）、（ｎ＋１、ｍ−１）と、（ｎ−１、ｍ＋１）、・・・（ｎ−１、ｍ＋ａ）、（ｎ−１、ｍ＋ａ＋１）と、（ｎ＋１、ｍ＋１）、・・・（ｎ＋１、ｍ＋ａ）、（ｎ＋１、ｍ＋ａ＋１）と、で示される座標において、それぞれの前記画素単位は前記格子状を形成することなく前記第１着色層のみで形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、絶縁性基板上にスイッチング素子および着色層を設けたアレイ基板に関し、このアレイ基板と液晶材料を組み合わせて作製された液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年において、携帯電話やノート型コンピュータなどの各種機器に表示装置として広く利用されている液晶表示装置は、複数の走査線と複数の信号線との各交差部に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）、液晶容量、補助容量からなる液晶画素部が配列されたアレイ基板と走査線および信号線を駆動する駆動回路を有して構成されている。
【０００３】
また、近年の集積回路技術の発展およびプロセス技術の実用化により、駆動回路の一部もアレイ基板上に形成され得るようになり、液晶表示装置全体の軽薄短小化も図られている。
【０００４】
こうした液晶表示装置は、第１着色層、第２着色層、第３着色層の３色の着色層を有するアレイ基板と対向基板の間に液晶層を挟持し、これらの２枚の基板間距離は樹脂からなるスペーサ柱によって保持されている。このようなアレイ基板上の表示画素領域において、第１着色層〜第３着色層の３色の着色層のうち、第１着色層は縦縞模様のストライプ状で形成されている。
【０００５】
ところが、これらの第１着色層がストライプ状のパターンでは、アレイ基板の大型化に伴う多面付けおよび高精細化が進むにつれ、第２着色層の塗布時に第１着色層のパターンに起因する塗りムラが発生する可能性もあった。こうした塗りムラの原因としては、液晶表示装置の製造における最初の工程で第１着色層がストライプ状のパターンに形成され、次の工程で第２着色層をスピンコーター方式（回転塗布方式）によって塗布する際、硬化前の流動性を有する第２着色層の色レジストは遠心力によって塗り広げられるが、第１着色層で形成されたストライプ状のパターンの凹凸によって流れが変えられてしまうためである。
【０００６】
特にレジスト基板の周辺に配置されたチップでは第２着色層の色レジストが遠心力以外の方向へ流れて広がり、チップのコーナー部を基点とする第２着色層の塗りムラが発生する可能性がある。
【０００７】
この塗りムラを防ぐためには第１着色層が縦横方向に展開する格子状パターンにすることが有効である。これにより、第１着色層による第２着色層の色レジストの流れが一方向だけになることを防止でき、色レジストの塗りムラを発生しにくくしている（特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００１−３３７３４５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、この格子状パターンが高密度（高精細）になるに従って、第２着色層を塗布する際に、第１着色層で形成された格子状パターンにより第２着色層の遠心力方向への広がりを妨げる方向の抵抗が大きくなるため、特定の方向、たとえば図１１に示すような格子状パターンの対角線方向に塗布ムラが残る。
【０００９】
この塗布ムラの発生する角度は格子状パターンの配列や画素ピッチによって大きく影響を受ける。これは単位距離あたりに乗り越える格子の数が増えるためであり、たとえば図１０に示すパターンの場合、概ね４５度方向に格子状パターンが整列していることが分かる。
【００１０】
スピンコーターにて色レジストを塗布する場合は、図７に示すように色レジスト１００が遠心力によりアレイ基板を構成する透明絶縁基板１１上を全方位に向かって流れていくが、図６に示すように第１着色層２４ａの格子状パターンがある一定角度方向に整列していると、その整列方向への抵抗が高くなり、色レジスト１００が流れにくくなる。このため第１着色層２４ａの塗布厚膜が薄くなり塗布ムラとなって識別されてしまう。
【００１１】
本発明は、上記に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、着色層の塗布ムラの発生を分散させることができ、表示品位の低下しない、かつ高歩留まりの液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記の目的を達成するために、請求項１に記載の本発明は、絶縁性基板の面上に、互いに交差して配置された複数の信号線及び複数の走査線と、前記信号線と前記走査線の各交差部にそれぞれ配置されたスイッチング素子と、前記信号線と前記走査線および前記スイッチング素子を覆うように配置された第１着色層、第２着色層、第３着色層と、前記着色層に形成されたスルーホールを介して前記スイッチング素子の各々に電気的に接続された透明導電膜との積層構造からなる複数の画素電極から構成される表示領域を有し、前記第１着色層が前記第２および第３着色層を包囲して格子状に配置された液晶表示装置において、前記格子状に重なって配置された前記第１着色層、前記第２着色層、前記第３着色層によって構成され、前記表示領域を複数の集合により構成するための画素単位を備え、前記画素単位の前記表示領域における位置を示す座標（ｎ、ｍ）のうち、少なくとも（ｎ−１、ｍ−１）、（ｎ−１、ｍ＋１）、（ｎ＋１、ｍ−１）、（ｎ＋１、ｍ＋１）で示される座標において、それぞれの前記画素単位は前記格子状を形成することなく前記第１着色層のみで形成されている。
【００１３】
また、請求項２に記載の本発明は、絶縁性基板の面上に、互いに交差して配置された複数の信号線及び複数の走査線と、前記信号線と前記走査線の各交差部にそれぞれ配置されたスイッチング素子と、前記信号線と前記走査線および前記スイッチング素子を覆うように配置された第１着色層、第２着色層、第３着色層と、前記着色層に形成されたスルーホールを介して前記スイッチング素子の各々に電気的に接続された透明導電膜との積層構造からなる複数の画素電極から構成される表示領域を有し、前記第１着色層が前記第２および第３着色層を包囲して格子状に配置された液晶表示装置において、前記格子状に重なって配置された前記第１着色層、前記第２着色層、前記第３着色層によって構成され、前記表示領域を複数の集合により構成するための画素単位を備え、前記画素単位の前記表示領域における位置を示す座標（ｎ、ｍ）のうち、少なくとも（ｎ−１、ｍ）、（ｎ＋１、ｍ）、（ｎ−１、ｍ−１）、（ｎ−１、ｍ＋１）、（ｎ＋１、ｍ−１）、（ｎ＋１、ｍ＋１）で示される座標において、それぞれの前記画素単位は前記格子状を形成することなく前記第１着色層のみで形成されている。
【００１４】
また、請求項３に記載の本発明は、絶縁性基板の面上に、互いに交差して配置された複数の信号線及び複数の走査線と、前記信号線と前記走査線の各交差部にそれぞれ配置されたスイッチング素子と、前記信号線と前記走査線および前記スイッチング素子を覆うように配置された第１着色層、第２着色層、第３着色層と、前記着色層に形成されたスルーホールを介して前記スイッチング素子の各々に電気的に接続された透明導電膜との積層構造からなる複数の画素電極から構成される表示領域を有し、前記第１着色層が前記第２および第３着色層を包囲して格子状に配置された液晶表示装置において、前記格子状に重なって配置された前記第１着色層、前記第２着色層、前記第３着色層によって構成され、前記表示領域を複数の集合により構成するための画素単位を備え、前記画素単位の前記表示領域における位置を示す座標（ｎ、ｍ）のうち、（ｎ、ｍ＋１）を除いた少なくとも（ｎ−１、ｍ）、（ｎ＋１、ｍ）、（ｎ−１、ｍ−１）、（ｎ−１、ｍ＋１）、（ｎ−１、ｍ＋２）、（ｎ＋１、ｍ−１）、（ｎ＋１、ｍ＋１）、（ｎ＋１、ｍ＋２）で示される座標において、それぞれの前記画素単位は前記格子状を形成することなく前記第１着色層のみで形成されている。
【００１５】
また、請求項４に記載の本発明は、絶縁性基板の面上に、互いに交差して配置された複数の信号線及び複数の走査線と、前記信号線と前記走査線の各交差部にそれぞれ配置されたスイッチング素子と、前記信号線と前記走査線および前記スイッチング素子を覆うように配置された第１着色層、第２着色層、第３着色層と、前記着色層に形成されたスルーホールを介して前記スイッチング素子の各々に電気的に接続された透明導電膜との積層構造からなる複数の画素電極から構成される表示領域を有し、前記第１着色層が前記第２および第３着色層を包囲して格子状に配置された液晶表示装置において、前記格子状に重なって配置された前記第１着色層、前記第２着色層、前記第３着色層によって構成され、前記表示領域を複数の集合により構成するための画素単位を備え、前記画素単位の前記表示領域における位置を示す座標（ｎ、ｍ）のうち、（ｎ、ｍ＋１）、（ｎ、ｍ＋２）を除いた少なくとも（ｎ−１、ｍ）、（ｎ＋１、ｍ）、（ｎ−１、ｍ＋１）、（ｎ＋１、ｍ＋１）、（ｎ−１、ｍ−１）、（ｎ−１、ｍ＋１）、（ｎ−１、ｍ＋２）、（ｎ−１、ｍ＋３）、（ｎ＋１、ｍ−１）、（ｎ＋１、ｍ＋１）、（ｎ＋１、ｍ＋２）、（ｎ＋１、ｍ＋３）で示される座標において、それぞれの前記画素単位は前記格子状を形成することなく前記第１着色層のみで形成されている。
【００１６】
また、請求項５に記載の本発明は、絶縁性基板の面上に、互いに交差して配置された複数の信号線及び複数の走査線と、前記信号線と前記走査線の各交差部にそれぞれ配置されたスイッチング素子と、前記信号線と前記走査線および前記スイッチング素子を覆うように配置された第１着色層、第２着色層、第３着色層と、前記着色層に形成されたスルーホールを介して前記スイッチング素子の各々に電気的に接続された透明導電膜との積層構造からなる複数の画素電極から構成される表示領域を有し、前記第１着色層が前記第２および第３着色層を包囲して格子状に配置された液晶表示装置において、前記格子状に重なって配置された前記第１着色層、前記第２着色層、前記第３着色層によって構成され、前記表示領域を複数の集合により構成するための画素単位を備え、前記画素単位の前記表示領域における位置を示す座標（ｎ、ｍ）のうち、（ｎ、ｍ＋１）、（ｎ、ｍ＋２）、（ｎ、ｍ＋３）、（ｎ、ｍ＋４）、（ｎ、ｍ＋５）、・・・（ｎ、ｍ＋ａ（ａは３以上の整数））を除いた少なくとも（ｎ−１、ｍ）、（ｎ＋１、ｍ）、（ｎ−１、ｍ−１）、（ｎ＋１、ｍ−１）と、（ｎ−１、ｍ＋１）、・・・（ｎ−１、ｍ＋ａ）、（ｎ−１、ｍ＋ａ＋１）と、（ｎ＋１、ｍ＋１）、・・・（ｎ＋１、ｍ＋ａ）、（ｎ＋１、ｍ＋ａ＋１）と、で示される座標において、それぞれの前記画素単位は前記格子状を形成することなく前記第１着色層のみで形成されている。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、着色層の塗布ムラの発生を分散させることができ、表示品位の低下しない、かつ高歩留まりの液晶表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
最初に一般的な液晶表示装置の構成について詳細に説明し、本実施の形態の理解を容易にするための一助とする。
【００１９】
まず、図４および図５に示すように、本実施の形態における液晶表示装置の構成は、着色層２４ａ、２４ｂ、２４ｃを有するアレイ基板１１０と対向基板１２０の間に液晶層７０を挟持しており、これらの２枚の基板間距離は樹脂からなるスペーサ柱３１によって保持されている。そして、対向基板１２０とアレイ基板１１０は、液晶注入口３２を除く基板外周を囲むように配置されるシール２６によって接着され、液晶注入口３２には封止材３３が塗布されている。
【００２０】
アレイ基板１１０を構成する透明絶縁基板１１上にはスイッチング素子１４が形成され、その上に第１着色層２４ａ、第２着色層２４ｂ、第３着色層２４ｃが配置されている。これらの第１〜３着色層２４ａ、２４ｂ、２４ｃ上には透明画素電極３０が形成されており、スルーホール１５によってスイッチング素子１４と接続されている。さらにその上に配向膜（図示せず）が配置されている。このような構成により画面表示を行うための表示画素領域４０が形成されている。
【００２１】
そして、表示画素領域４０の外周にはＢＭ層２７が形成されている。対向基板１２０は、透明絶縁基板２１上にＩＴＯ（スズドープ酸化インジウム：透明導電膜）からなる透明電極２２、配向膜（図示せず）が順次配置されている。
【００２２】
こうした液晶表示装置を構成するアレイ基板上の表示画素領域４０において、第１着色層２４ａ〜第３着色層２４ｃの３色の着色層のうち、第１着色層２４ａは図８に参照される縦縞模様のストライプ状で形成されている。
【００２３】
＜第１の実施の形態＞
液晶表示装置の実施の形態に係る、製造工程について説明する。
【００２４】
透明絶縁基板１１上にスイッチング素子を形成し、その上に赤色レジスト液をスピンナ塗布し、約９０℃で約５分間プリベークし、所定のマスクパターンを用いて、１５０ｍＪ／ｃｍ２の強度の紫外線により露光する。この時に用いるマスクパターンは図１に示すように、格子が６個中４個間引かれているため、格子が他の格子と隣接しない構造となっている。
【００２５】
なお、スピンナ塗布による色レジスト液の塗布においては、透明絶縁基板１１の大きさとして概ね４００ｍｍ四方程度のものが良好な塗布結果が得られる。また、液晶表示装置の用途によってはさらに大型の透明絶縁基板１１を用いる場合もあり、この場合の透明絶縁基板１１の大きさは概ね８００〜９００ｍｍ四方程度以下のものが好ましい。
【００２６】
続いて、約０．１重量％のＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウムハイドライド）水溶液を用いて約４０秒間現像し、さらに水洗い後、約２００℃で１時間ほどポストベークをすることによって、赤色着色層２４ａを形成する。
【００２７】
その後、青色着色層２４ｃ、緑色着色層２４ｂも同様な工程にて形成する。
【００２８】
その後、着色層２４上にスパッタリング法によりＩＴＯ（スズドープ酸化インジウム：透明導電膜）を堆積し、パターニングすることにより透明画素電極３０を形成する。
【００２９】
さらに前記着色層形成と同様な手法により、黒色樹脂を用いて遮光体（ＢＭ層）を、透明樹脂を用いて柱状のスペーサ柱３１を形成する。その後ポリイミドからなる配向膜材料を基板全面に塗布し、配向処理を施して配向膜を形成し、アレイ基板１１０を得る。
【００３０】
次に、対向基板１２０の製造工程について説明する。
【００３１】
透明絶縁基板２１上にスパッタリング法によりＩＴＯを堆積し、透明電極２２を形成する。その後ポリイミドからなる配向膜材料を基板全面に塗布、配向処理を施して配向膜を形成し、対向基板１２０を得る。
【００３２】
次に、対向基板１２０の外周周辺部にシール２６を、液晶注入用の注入口３２（図４参照）を除いて塗布する。このアレイ基板１１０、対向基板１２０とをシール２６により貼り合わせ、枚葉方式の封着治具に入れて排気を行い、約１７０度の硬化温度にて３０分焼成することにより空状態のセルが完成する。
【００３３】
次に、カイラル材が添加されたネマティック液晶材料を、注入口３２からセル内に真空注入し、注入後、注入口３２を封止材３３としての紫外線硬化樹脂を用いて封止したあと、セルの両側にそれぞれ偏光板を配置することにより液晶表示装置が完成する。
【００３４】
こうして作製した液晶表示装置は、すでに示した図９のような塗りムラ不良の発生もなく、また図１１のような表示ムラの発生もなく、均一で良好な画面表示が得られた。またムラ発生による歩留まり低下もなかった。
【００３５】
図３は、図１に示したマスクパターンについてムラ発生率を説明するための対照表を示している。図３に示す対照表のうち、マスクパターンの種類として品種（１）〜（５）までを用意し、このうち品種（２）については本実施の形態による図１に示したマスクパターンによるものである。画素ピッチを７０μｍとした１色目のマスクパターン（赤色着色層２４ａ）では、色レジスト液の粘度が低粘度の場合は、従来のパターンが３５％のムラ発生率であるのに対し、本実施の形態の間引きパターンでは１２．００％のムラ発生率に改善されている。さらに色レジスト液の粘度が高粘度の場合でも、従来のパターンが３５％のムラ発生率であるのに対し、本実施の形態の間引きパターンでは１９．００％のムラ発生率に改善されている。
【００３６】
なお、従来のマスクパターンのままで画素ピッチを７５μｍとした場合では、色レジスト液が低粘度の場合は３３．００％のムラ発生率であり、高粘度の場合でも３０％のムラ発生率であるので、本実施の形態による図１のマスクパターンによるムラ発生率の改善が確認された。
【００３７】
さらに、画素ピッチを８０μｍや９０μｍといった広い値に設定すればムラ発生率も７．００％や０．５０％といった低い値に抑える事ができるが、７０μｍといった微細ピッチによる高精細な液晶表示装置を実現することは難しくなる。
【００３８】
＜第２の実施の形態＞
第１の実施の形態の場合と同様に液晶表示装置を作製した。ただし着色層２４ａ形成時に、図２に示すように格子が８個中５個間引かれているマスクパターンを使用した。
【００３９】
こうして作製した液晶表示装置は、すでに示した図９のような塗りムラ不良の発生もなく、また図１１のような表示ムラの発生もなく、均一で良好な画面表示が得られた。またムラ発生による歩留まり低下もなかった。
【００４０】
次に、第１の実施の形態や第２の実施の形態において適用されるマスクパターンの間引きについて、さらに説明する。
【００４１】
表示画素領域４０において、格子状に重なって配置された第１着色層２４ａ、第２着色層２４ｂ、第３着色層３４ｃによって構成され、表示画素領域４０を複数の集合により構成するための画素単位は、表示画素領域４０における位置を示す座標（ｎ、ｍ）のうち、少なくとも（ｎ−１、ｍ−１）、（ｎ−１、ｍ＋１）、（ｎ＋１、ｍ−１）、（ｎ＋１、ｍ＋１）で示される座標において、それぞれの画素単位は格子状を形成することなく第１着色層２４ａのみで形成されている。
【００４２】
また、画素単位の表示画素領域４０における位置を示す座標（ｎ、ｍ）のうち、少なくとも（ｎ−１、ｍ）、（ｎ＋１、ｍ）、（ｎ−１、ｍ−１）、（ｎ−１、ｍ＋１）、（ｎ＋１、ｍ−１）、（ｎ＋１、ｍ＋１）で示される座標において、それぞれの画素単位は格子状を形成することなく第１着色層２４ａのみで形成されている。
【００４３】
また、画素単位の表示画素領域４０における位置を示す座標（ｎ、ｍ）のうち、（ｎ、ｍ＋１）を除いた少なくとも（ｎ−１、ｍ）、（ｎ＋１、ｍ）、（ｎ−１、ｍ−１）、（ｎ−１、ｍ＋１）、（ｎ−１、ｍ＋２）、（ｎ＋１、ｍ−１）、（ｎ＋１、ｍ＋１）、（ｎ＋１、ｍ＋２）で示される座標において、それぞれの画素単位は格子状を形成することなく第１着色層２４ａのみで形成されている。
【００４４】
また、画素単位の表示画素領域４０における位置を示す座標（ｎ、ｍ）のうち、（ｎ、ｍ＋１）、（ｎ、ｍ＋２）を除いた少なくとも（ｎ−１、ｍ）、（ｎ＋１、ｍ）、（ｎ−１、ｍ＋１）、（ｎ＋１、ｍ＋１）、（ｎ−１、ｍ−１）、（ｎ−１、ｍ＋１）、（ｎ−１、ｍ＋２）、（ｎ−１、ｍ＋３）、（ｎ＋１、ｍ−１）、（ｎ＋１、ｍ＋１）、（ｎ＋１、ｍ＋２）、（ｎ＋１、ｍ＋３）で示される座標において、それぞれの画素単位は格子状を形成することなく第１着色層２４ａのみで形成されている。
【００４５】
また、画素単位の表示画素領域４０における位置を示す座標（ｎ、ｍ）のうち、（ｎ、ｍ＋１）、（ｎ、ｍ＋２）、（ｎ、ｍ＋３）、（ｎ、ｍ＋４）、（ｎ、ｍ＋５）、・・・（ｎ、ｍ＋ａ（ａは３以上の整数））を除いた少なくとも（ｎ−１、ｍ）、（ｎ＋１、ｍ）、（ｎ−１、ｍ−１）、（ｎ＋１、ｍ−１）と、（ｎ−１、ｍ＋１）、・・・（ｎ−１、ｍ＋ａ）、（ｎ−１、ｍ＋ａ＋１）と、（ｎ＋１、ｍ＋１）、・・・（ｎ＋１、ｍ＋ａ）、（ｎ＋１、ｍ＋ａ＋１）と、で示される座標において、それぞれの画素単位は格子状を形成することなく第１着色層２４ａのみで形成されている。なお、ａの値は３以上の整数である必要があるが、特には３、４、５のうちのいずれかの整数であることが好ましい。
【００４６】
以上説明した第１および第２の実施の形態によれば、着色層の塗布ムラの発生を分散させることができ、表示品位の低下しない、かつ高歩留まりの液晶表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】液晶表示装置の第１の実施の形態に係る、マスクパターンを示す。
【図２】液晶表示装置の第２の実施の形態に係る、マスクパターンを示す。
【図３】液晶表示装置の第１の実施の形態に係る、マスクパターンによるムラ発生率を説明するための対照表を示す。
【図４】液晶表示装置の表示画素領域と全体構成の外観図を示す。
【図５】液晶表示装置の構成図を示す。
【図６】マスクパターンに色レジスト液をスピニング塗布する工程を説明するための説明図を示す。
【図７】マスクパターンに色レジスト液をスピニング塗布する工程を説明するための説明図を示す。
【図８】従来におけるマスクパターンの一例を示す。
【図９】従来におけるマスクパターンによる塗布ムラの一例を示す。
【図１０】従来におけるマスクパターンの別の一例を示す。
【図１１】従来におけるマスクパターンによる表示ムラの一例を示す。
【符号の説明】
【００４８】
１１、２１…透明絶縁基板
１４…スイッチング素子
１５…スルーホール
２２…透明電極
２４ａ…第１着色層
２４ｂ…第２着色層
２４ｃ…第３着色層
２６…シール
２７…ブラックマトリクス（ＢＭ）層
３０…画素電極
３１…スペーサ柱
３２…注入口
３３…封止材
４０…表示画素領域
７０…液晶層
１１０…アレイ基板
１２０…対向基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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