(57)【要約】【課題】  酸素を含む官能基の残留を抑制できる電気二重層キャパシタ用電極材料の製造方法、その製造方法により得られた電気二重層キャパシタ用電極材料を用いた電気二重層キャパシタ用電極、この電気二重層キャパシタ用電極を用いた高容量で性能が安定した電気二重層キャパシタ、及び酸素含有量が低く比表面積の大きな電気二重層キャパシタ電極用活性炭を得る。【解決手段】  水素雰囲気又は窒素で希釈した水素雰囲気中で、窒素吸着法により測定したＢＥＴ比表面積が１０００ｍ２／ｇ以上の活性炭に波長が１７０ｎｍ以下の電磁波を照射する。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
水素雰囲気又は窒素で希釈した水素雰囲気中で、窒素吸着法により測定したＢＥＴ比表面積が１０００ｍ２／ｇ以上の活性炭に波長が１７０ｎｍ以下の電磁波を照射する電気二重層キャパシタ用電極材料の製造方法。
【請求項２】
前記電磁波が４．１〜４．３ｎｍの範囲の波長であることを特徴とする請求項１に記載の電気二重層キャパシタ用電極材料の製造方法。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の製造方法により得られた電気二重層キャパシタ用電極材料を用いてなる電気二重層キャパシタ用電極。
【請求項４】
請求項３に記載の電気二重層キャパシタ用電極を用いてなる電気二重層キャパシタ。
【請求項５】
窒素吸着法により測定したＢＥＴ比表面積が１０００ｍ２／ｇ以上で、かつ酸素含有率が０．１重量％以下である電気二重層キャパシタ電極用活性炭。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、電極層と集電体とを備えた電気二重層キャパシタに用いられる電極材料の製造方法、電気二重層キャパシタ用電極、電気二重層キャパシタ、及び電気二重層キャパシタ電極用活性炭に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
電気二重層キャパシタは、分極性電極と電解液との界面に形成される電気二重層を利用した電荷蓄積デバイスであり、その電極材料としては、静電容量を高めるために表面積が大きな活性炭が用いられる。電気二重層キャパシタの中でも、エネルギー密度の高い有機系電解液を使用するタイプでは、水分が性能劣化の原因となるが、表面積が大きな活性炭は、水分を吸着しやすい性質があり、活性炭に吸着した水分を除去する必要がある。そこで、活性炭にマイクロ波を照射しながら乾燥空気を流し、活性炭の残存水分量を１０００ｐｐｍ以下に抑える電気二重層キャパシタの製造方法が提案されている。（例えば特許文献１参照。）
【０００３】
【特許文献１】特開２００３−１００５７２号公報、（段落００３５、図１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上述したように乾燥処理を行って水分を除去した場合でも、活性炭の表面には、依然として種々の官能基が結合したまま残留している。これらの官能基のうち、水素については、充放電の際に電極から水素ガスとして排出することができるが、水酸基やカルボキシル基といった酸素を含む官能基が残留していると、充放電の際に水が生成して電極内に残留し、上述したようにキャパシタの性能劣化の原因となる。また、活性炭の官能基は８００℃から１０００℃の高温で真空中熱処理すれば除去できることが知られているが、高温処理をすると表面積が減少してしまい、高容量のキャパシタが得られなくなるという問題があった。
【０００５】
この発明は、上記のような問題点を解決するためになされたものであり、酸素を含む官能基の残留を抑制できる電気二重層キャパシタ用電極材料の製造方法、電気二重層キャパシタ用電極、高容量でしかも性能が安定した電気二重層キャパシタ、及び酸素含有量が低く比表面積の大きな電気二重層キャパシタ電極用活性炭を得ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
この発明に係る電気二重層キャパシタ用電極材料の製造方法は、水素雰囲気又は窒素で希釈した水素雰囲気中で、窒素吸着法により測定したＢＥＴ比表面積が１０００ｍ２／ｇ以上の活性炭に波長が１７０ｎｍ以下の電磁波を照射するものである。
【発明の効果】
【０００７】
この発明によれば、活性炭の比表面積を減少させることなく酸素含有量の低減が可能となり、高容量で性能が安定した電気二重層キャパシタを製造できる電気二重層キャパシタ用電極材料を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
実施の形態１．
図１、２は本発明を実施するための実施の形態１における電気二重層キャパシタ用電極材料の製造方法を示すもので、図１はその製造方法を示す図、図２はその製造工程を示すフローチャートである。
【０００９】
図１において、気密性で筒状の反応容器１（筐体の一部を切り抜いた状態で示す）には、水素を供給する水素供給装置２と、窒素を供給する窒素供給装置３と、真空ポンプ４とがバルブ２Ｖ、３Ｖａおよび４Ｖａを介してそれぞれ接続されている。前記反応容器１の内部には波長４．２７５ｎｍの軟Ｘ線を発生するレーザープラズマ方式の電磁波発生源６が設置されている。また、前記反応容器１の上部には、原料供給装置７がバルブ７Ｖを介して接続されており、この原料供給装置７から原料となる活性炭が、前記窒素供給装置３からバルブ３Ｖｂを介して供給された窒素ガスとともに前記反応容器１内にノズル７aより噴射される。さらに、前記原料供給装置７はバルブ４Ｖｂを介して前記真空ポンプ４と接続されている。そして、前記反応容器１の内底面には処理済の活性炭を受ける容器８が設置され、その出口８ａはバルブ８Ｖを介して外部と連なっている。
【００１０】
本発明で使用する活性炭は、窒素吸着法により測定したＢＥＴ比表面積が１０００ｍ２／ｇ以上で、粒子径が数１０ｎｍ〜数１０μｍの粉体をなした活性炭であって、原料となる炭素材料（フェノール樹脂、石油コークス、椰子殻等）を炭化し、その後、水蒸気賦活法、溶融アルカリ賦活法などの賦活方法を施すことによって得ることができる。なお、この活性炭は、窒素吸着法により測定したＢＥＴ比表面積が１０００ｍ２／ｇ以上であれば市販品でも良い。
【００１１】
次に製造工程について図２のフローチャートを用いて説明する。
まず、真空ポンプ４（及びバルブ４Ｖａ）を動作させ反応容器１内のガスを抜いて減圧する。さらに、窒素供給装置３（及びバルブ３Ｖａ）を動作させ、反応容器１内に窒素ガスを導入して、反応容器内に残留している空気を窒素に置換することで反応容器内１内の酸素を除去する（Ｓ１００）。次に、水素供給装置２から水素を導入し、反応容器１内に水素濃度が４％以下の（希釈）水素雰囲気を形成（Ｓ１１０）する。このとき、反応容器１内は外気に対して負圧状態となっている。また、上記ステップＳ１００、Ｓ１１０においては、装置稼動初期には厳密な酸素除去を行なうために窒素導入と減圧動作を繰り返し行なう必要がある。しかし、活性炭の処理を開始した後では、反応容器１内に酸素が残留することはほとんどなく、既に水素雰囲気が形成されているので、減圧と各ガスの導入を１回行なうことにより圧力と水素濃度の調整を行なうことで足りる。なお、反応容器１内は、図示しない加熱手段によって１５０℃程度の温度に維持している。
【００１２】
次に、原料供給装置７から活性炭を反応容器１内に噴射する準備（Ｓ１２０）をする。まず、原料供給装置７に原料となる上述した比表面積１０００ｍ２／ｇ以上の活性炭を充填する。そして、真空ポンプ４（及びバルブ４Ｖｂ）を動作させて、活性炭の入った原料供給装置内７の空気を抜いて減圧した後、窒素供給装置３（及びバルブ３Ｖｂ）を動作させて、窒素ガスを導入し、原料供給装置７内の空気を窒素に置換するとともに、加圧する。
【００１３】
原料供給装置７の準備が整えば、活性炭を反応容器１内に噴射し、軟Ｘ線を照射して酸素を除去する（Ｓ１３０）。まず、電磁波発生源６を起動して軟Ｘ線を反応容器１の内部のほぼ全面に照射する。そして、原料供給装置７のバルブ７Ｖを開けると、充填されていた活性炭は、加圧された窒素に導かれ、ノズル７ａから減圧された反応容器１内上部の内壁に向かって水平方向に拡散して噴出する。噴出した活性炭は希釈された水素雰囲気中を沈降していき、沈降中に電磁波発生源６から照射された軟Ｘ線を受ける。このとき、活性炭が受けた軟Ｘ線は、Ｃ＝Ｏの結合エネルギー（２８５ｅＶ）よりも約５ｅＶエネルギーの大きい波長４．２７５ｎｍ（２９０ｅＶ）の電磁波である。そのため、軟Ｘ線を受けた活性炭に残留している官能基のＣ＝Ｏの結合を軟Ｘ線によって効率的に切断することができる。しかも、Ｃ−Ｏ結合やＯ−Ｈ結合は、Ｃ＝Ｏ結合よりも結合エネルギーが低いので、酸素を含む結合を切断し、活性炭に残留している酸素を含む官能基のほとんどを遊離させることができる。そして、反応容器１の内部は（窒素で希釈した）水素雰囲気に保たれているので、官能基が遊離した活性炭には優先的に水素が結合し、酸素が除去され、水素で安定化された活性炭が容器８に堆積する。また、反応容器１内は１５０℃程度に昇温されているので、遊離した酸素により水が生成されても、活性炭に吸着することはない。
【００１４】
最後に、容器８に堆積した処理済の活性炭、つまり、電気二重層キャパシタ用電極材料である電気二重層キャパシタ電極用活性炭を取り出す（Ｓ１４０）。原料供給装置７からの活性炭の噴射が終わり、噴射した活性炭の容器８への沈降が終了すると、窒素供給装置３（及びバルブ３Ｖａ）を動作させ、反応容器１内の圧力が大気圧に対して正圧を維持できる程度に加圧する。そして、バルブ８Ｖを開けると出口８ａから活性炭が流れ落ちてくる。このとき、反応容器１内に外気が混入しないよう、窒素供給装置３からは反応容器１の圧が正圧を維持できる程度に窒素が供給されている。
【００１５】
取り出した電気二重層キャパシタ電極用活性炭を分析すると、比表面積については酸素除去処理の前後においてほとんど変化はなく、１０００ｍ２／ｇ以上の窒素吸着法によるＢＥＴ比表面積を保持している。しかも、元素分析により酸素含有量を測定すると、酸素含有量は０．１重量％（対炭素重量）以下に低減されている。
【００１６】
ここで、脱酸素処理の条件について検討を行った。
反応容器１内の水素濃度については、完全に酸素が無い状態を形成できれば、数１０００ｐｐｍ程度まで濃度を下げても効果があることがわかった。一方、処理中に酸素が混入した場合には水素濃度を１％以上に維持することにより、処理後の活性炭の酸素含有量を安定して０．１％以下に低減することができることがわかった。もちろん、水素１００％で行なうことも可能であるが、活性炭を噴出させたり、取り出したりする際の利便性を考慮して、水素の燃焼下限濃度である４％以下に水素濃度を保つよう、窒素で希釈することとした。つまり、水素濃度１〜４％の範囲に希釈された水素雰囲気を形成することが望ましいことがわかった。
【００１７】
一方、活性炭に照射する電磁波についても、様々な波長について試験をした。その結果、波長が３７０ｎｍ〜２．５ｎｍの電磁波を照射すると活性炭に残留する酸素含有量を低減する効果が見られ、さらに１７０ｎｍ〜２．５ｎｍの波長範囲の電磁波では、ほとんどの活性炭に対して酸素含有量を０．１％以下に低減できることが確認できた。
【００１８】
波長の上限、つまり電磁波のエネルギーの下限については、官能基中の結合エネルギーの内、外殻電子の結合エネルギーにより規定され、Ｃ−Ｏ結合の外殻電子に対しては波長３７０ｎｍ以下の電磁波（紫外線）を照射することで結合を切断できることがわかった。例えば、接着硬化等に用いられる紫外線ランプの波長は２５４ｎｍであり、Ｃ−Ｏ結合の切断に利用できる。しかし、Ｃ＝Ｏ結合については、外殻電子の結合エネルギー波長は１７０ｎｍの電磁波（紫外線）に相当し、Ｃ＝Ｏを含めて活性炭に残留する酸素を除去するためには、波長１７０ｎｍ以下（エネルギーについては、より高い方）の電磁波が必要であることがわかった。例えば、キセノンエキシマランプの波長は１７２ｎｍ±１５ｎｍであり、キセノンエキシマランプを電磁波発生源６に使用することによって、活性炭中の酸素を０．１重量％以下に低減することができる。
【００１９】
一方、上記のような紫外線領域の電磁波の場合、結合を切断する能力はあるが、透過性が小さく、活性炭の内部細孔の官能基に到達することが困難であり、処理時間が長くかかる。そこで、紫外線よりも透過力の高い軟Ｘ線領域の電磁波を使うことによって活性炭中の酸素除去を効率的に行なうことができる。例えば、実施の形態１で使用した波長の軟Ｘ線の１／ｅ減衰距離は０．１μｍとなり、活性炭内部細孔に容易に到達して短い時間で処理を行なうことができる。但し、軟Ｘ線源は一般的に紫外線源よりも高価であるので、処理時間のみが問題になる場合は紫外線源を多数使用することで軟Ｘ線源の代替とすることもできる。
【００２０】
ただし、軟Ｘ線は波長が短くなるほど、透過性能が向上するが、透過性能が高すぎると、電磁波のエネルギーが吸収されずに活性炭を素通りしてしまい、逆に結合を切断することができないことがわかった。軟Ｘ線の波長が２．５ｎｍ（５００ｅＶ相当）より短いと、活性炭における吸収率が半分以下に低下することがわかり、実質的に２．５ｎｍ以上の波長の電磁波を使用することが望ましい。特に、Ｃ＝Ｏの結合エネルギー（２８５ｅＶ）よりも５ｅＶ〜１０ｅＶ程度エネルギーの大きい波長の電磁波が透過性も高く、最も効率よく活性炭中の酸素を含む官能基の結合を切断することができる。したがって、中心波長が４．２７ｎｍの軟Ｘ線源から照射される波長４．１〜４．３ｎｍのである電磁波を使用すると、最も効率よく活性炭中の酸素を除去することができる。
【００２１】
なお、本実施の形態では、製造方法の原理を示すために単純に活性炭を雰囲気ガス中に噴射して沈降させる装置を用いた例を示したが、これに限定することなく、反応容器１にキルンのように回転する機能を持たせ、内部で活性炭を攪拌させながら電磁波を照射するようにしてもよい。
【００２２】
次に、上述した方法により製造した電気二重層キャパシタ用電極材料である電気二重層キャパシタ電極用活性炭を用いて、図３に示すような電気二重層キャパシタ２０の製造方法について説明する。
まず、電気二重層キャパシタ電極用活性炭と導電助剤とバインダ及び集電体２３、２５を用いて電気二重層キャパシタ用電極２１、２２を作成する。この電極２１、２２の作製方法としては、例えば活性炭粉末と導電助剤としてのアセチレンブラックをＰＶＤＦのＮ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）溶液に分散させて、この混合物をドクターブレード法などによってアルミ集電体上に塗布し、乾燥後、プレスして電極とする。電極２１は正極、電極２２は負極と異なる働きをさせるので、それぞれに適した活性炭、導電助剤、バインダ及び集電体２３、２５を組合せて構成することができる。また、予め活性炭、導電助剤、バインダのみで分極性電極２４、２６を形成した後、集電体２３、２５に貼り合わせてもよい。
【００２３】
このようにして作成した正極の電極２１と負極の電極２２とを、短絡防止のための絶縁性のセパレータ２７を介して、アルミラミネートフィルム製の外装材２９の内部に装填する。正極集電体２３のタブ部２３ａ及び負極集電体２５のタブ部２５ａはリードとして外装材２９の外部へ導出する。このとき、電解液２８が外部に漏洩するのを防ぎ、外部から水や空気が侵入するのを防ぐ目的で、正極タブ部２３ａおよび負極タブ部２５ａの封口部には、図示しない封止体として変性ポリプロピレンフィルムをあらかじめ加熱溶着しておいた。セパレータ２７には３５μｍの紙製セパレータを使用した。そして外装部２９の１辺を除いた残りの辺を加熱溶着してキャパシタエレメントを作製した。
【００２４】
次に、作成したキャパシタエレメントに電解液２８を注入する。電解液２８は、プロピレンカーボネートに電解質としてテトラエチルアンモニウムテトラフルオロボレート（ＴＥＡＢＦ４）を１ｍｏｌ／ｌの濃度になるように溶解したものを用いた。袋状になった外装部２９の開口部より、電解液２８を約２ｍｌ入れる。その後、電解液２８を充填したキャパシタエレメントを真空容器に入れて約４×１０３Ｐａ以下まで真空引きすることにより、正極の電極２１、負極の電極２２およびセパレータ２７に電解液２８を含浸させた。
【００２５】
次に、正極の電極２１と負極の電極２２との間に３．２Ｖの電圧を３０分間印加して充電を行なった後、正極の電極と負極の電極との間に負荷を接続して、電圧が１．５Ｖになるまで完全に放電すると、この充放電により活性炭に吸着した水素がガスとして発生する。そこで、充放電によって発生した水素ガスを除去するとともに、さらに電解液２８を電極２１、２２の内部まで含浸させるために、再度約４×１０３Ｐａ以下まで真空引きし、開口している外装材２９の１辺を溶着して電気二重層キャパシタ２０を構成した。
【００２６】
上記に示す方法で得た電気二重層キャパシタ２０について、充電電圧２．７Ｖ、充放電電流３０ｍＡで充放電を繰り返し、その放電エネルギーから静電容量を求めたところ、静電容量は４０Ｆ／ｇ（活性炭重量）、内部抵抗は１．１Ωであった。そして、１０００回の充放電を繰り返しても静電容量、内部抵抗に変化は見られなかった。
【００２７】
一方、本実施の形態１によらず、酸素含有量が３％の活性炭を使用して同様の電気二重層キャパシタを作成し、充放電試験を行ったところ、初期性能は本実施の形態１における電気二重層キャパシタと同程度であったが、１０００回の充放電後には容量が１割程度低下していることがわかった。充放電後の電気二重層キャパシタを分解したところ、本実施の形態１における電気二重層キャパシタでは電解液中からほとんど水分が検出されなかった。一方、３％の酸素を含有する活性炭を使用した電気二重層キャパシタの電解液からは０．１％の水分が検出され、活性炭が含有する酸素が電解液中の水分の原因となっていることが示唆された。
【００２８】
また、本実施の形態１による製造方法を用いて、比表面積が１０００ｍ２／ｇ未満の活性炭を脱酸素処理した場合、１０００回の充放電を繰り返しても静電容量、内部抵抗に変化は見られなかった、しかし、初期性能は本実施の形態１における電気二重層キャパシタより低く、高容量の電気二重層キャパシタを得ることが困難であることがわかった。
【００２９】
つまり、水素雰囲気又は窒素で希釈された水素雰囲気中で活性炭に波長１７０ｎｍ以下の電磁波を照射することにより、活性炭の比表面積を減少させること無く、酸素含有量を低減させ、比表面積が１０００ｍ２／ｇ以上でかつ酸素含有量０．１％以下の活性炭、つまり電気二重層キャパシタ用電極材料を得ることができた。そして、この製造方法により得られた比表面積が１０００ｍ２／ｇ以上でかつ酸素含有量０．１％以下の電気二重層キャパシタ用活性炭を用いて電気二重層キャパシタを構成することにより、高容量で性能が安定した電気二重層キャパシタを得ることができた。
【００３０】
実施の形態２．
上記実施の形態１では、電気二重層キャパシタ用電極材料として、粉体である活性炭の酸素を除去する方法について説明したが、本実施の形態２では、窒素吸着法により測定したＢＥＴ比表面積が１０００ｍ２／ｇ以上で、粒子径が数１０ｎｍ〜数１０μｍの粉体をなした活性炭、導電助剤、バインダのみで形成され、一定の形態をなした分極性電極４０すなわち電気二重層キャパシタ用電極材料中の活性炭の酸素を除去する方法について説明する。図４は、本実施の形態２における電気二重層キャパシタ用電極材料の製造方法を示す図である。図において左右に入口３１Ｉ、出口３１Ｅを有する気密性の筐体３１（筐体の一部を切り抜いた状態で示す）には、水素を供給する水素供給装置２と、窒素を供給する窒素供給装置３がバルブ２Ｖ、３Ｖを介してそれぞれ接続されている。前記筐体３１の内部には波長４．２７５ｎｍの軟Ｘ線を発生するレーザープラズマ方式の電磁波発生源３６が設置されており、この電磁波発生源３６から該筐体の下部に向けて軟Ｘ線が照射される。前記筐体３１には駆動輪３２ａによって駆動される搬送装置３２が設置され、この搬送装置３２によってベルト３２ｂに載せた平板上の分極性電極４０が前記筐体３１の入口３１Ｉから投入され、出口３１Ｅから排出される。また、前記筐体３１の内底面には筐体内を昇温する加熱装置３４が設置されている。
【００３１】
次に製造工程について説明する。
まず、筐体３１内を窒素供給装置３（及びバルブ３Ｖ）と水素供給装置２（及びバルブ２Ｖ）を動作させて、水素濃度が４％以下の（希釈）水素雰囲気を形成する。なお、筐体３１内は加熱装置３４により１５０℃程度まで昇温している。
【００３２】
次に、搬送装置３２を駆動させ、入口３１Ｉの手前から成形した分極性電極４０を順じ搬送する。入口３１Ｉ、出口３１Ｅは図示しない２重扉を形成しており、分極性電極４０が通過する際に外気の筐体３１内への混入を防止し、筐体３１内の水素雰囲気を保持することができる。そして、分極性電極４０が電磁波発生源３６の下を通過する際に、電磁波発生源３６から照射された軟Ｘ線を受ける。このとき、分極性電極４０の厚みはｍｍ単位の厚さがあるが、透過性能が高い軟Ｘ線は分極性電極４０を構成する活性炭に到達し、実施の形態１と同様に、酸素の結合を切断して活性炭に残留する酸素を含む官能基を遊離させ、水素で安定化されることができる。また、筐体３１内は１５０℃程度に昇温されているので、遊離した酸素により水が生成されても、分極性電極４０内の活性炭に吸着することはない。
【００３３】
出口３１Ｅから出てきた分極性電極４０を分解し、その中の活性炭を分離して分析すると、比表面積については酸素除去処理の前後においてほとんど変化はなく、１０００ｍ２／ｇ以上の窒素吸着法によるＢＥＴ比表面積を保持していた。しかも、元素分析により酸素含有量を測定すると、酸素含有量が０．１重量％（対炭素重量）以下に低減されていた。
【００３４】
なお、本実施の形態２では、処理対象を厚みのある分極性電極または電極としたので、酸素含有量を低減させるには、透過性の高い軟Ｘ線の電磁波を照射する必要があった。
【００３５】
そして、この方法により酸素を除去した分極性電極４０を用いて、電気二重層キャパシタを製造したところ、実施の形態１と同様に、高容量で性能が安定した電気二重層キャパシタを得ることができた。
【００３６】
なお、本実施の形態で用いた分極性電極４０については、予め２００℃程度の乾燥空気中で水分を除去したものを用いたが、電極製造装置内に乾燥用のヒーターを設け、乾燥による水分除去と電磁波による酸素除去を一度に行うようにしてもよい。
【００３７】
また、分極性電極４０に図示しない集電板を張り合わせて電極を形成した後でも、集電板部分を下側にして装置内に挿入し、上から軟Ｘ線を照射できるようにすることにより、上記実施の形態と同様に電極内の活性炭の酸素を除去することができる。
【００３８】
つまり、水素雰囲気又は窒素で希釈された水素雰囲気中で分極性電極又は電極に軟Ｘ線を照射することにより、活性炭の比表面積を減少させること無く、酸素含有量を低減させ、比表面積が１０００ｍ２／ｇ以上でかつ酸素含有量０．１％以下の活性炭を含む分極性電極、つまり電気二重層キャパシタ用電極材料を得ることができた。そして、この製造方法により、比表面積が１０００ｍ２／ｇ以上でかつ酸素含有量０．１％以下の活性炭を含む分極性電極を用いて電気二重層キャパシタを構成することにより、高容量で性能が安定した電気二重層キャパシタを得ることができた。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】この発明の実施の形態１における電気二重層キャパシタ用電極材料の製造方法を示す図である。
【図２】この発明の実施の形態１における電気二重層キャパシタ電極用電極材料の製造工程を示すフローチャートである。
【図３】この発明の実施の形態１における電気二重層キャパシタの構成を示す断面図である。
【図４】この発明の実施の形態２における電気二重層キャパシタ用電極材料の製造方法を示す図である。
【符号の説明】
【００４０】
１  反応容器、  ２  水素供給装置、  ３  窒素供給装置、  ４  真空ポンプ、  ６，３６  電磁波発生源、  ７  原料供給装置、  ８  容器、  ２０  電気二重層キャパシタ  ２１，２２  電気二重層キャパシタ用電極
【図１】
2008205275.tif 000003
【図２】
2008205275.tif 000004
【図３】
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【図４】
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