(57)【要約】【課題】  本発明は、露光装置を支持する露光装置の支持構造および露光装置に関し、装置本体の振動を効果的に低減することを目的とする。【解決手段】  露光用機器が配置される装置本体を、建屋基礎上に本体用ペデスタルを介して支持し、振動源となる補助機器を、前記建屋基礎上に前記本体用ペデスタルから独立した支持手段を介して支持してなることを特徴とする。また、前記露光用機器には、レチクルステージ、投影光学系およびウエハステージが含まれることを特徴とする。【選択図】      図１
2008108772.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光用機器が配置される装置本体を、建屋基礎上に本体用ペデスタルを介して支持し、振動源となる補助機器を、前記建屋基礎上に前記本体用ペデスタルから独立した支持手段を介して支持してなることを特徴とする露光装置の支持構造。
【請求項２】
請求項１記載の露光装置の支持構造において、
前記露光用機器には、レチクルステージ、投影光学系およびウエハステージが含まれることを特徴とする露光装置の支持構造。
【請求項３】
請求項１または請求項２記載の露光装置の支持構造において、
前記支持手段は、前記建屋基礎上に前記本体用ペデスタルから独立して配置される補助機器用ペデスタルであることを特徴とする露光装置の支持構造。
【請求項４】
請求項３記載の露光装置の支持構造において、
前記補助機器用ペデスタルを、除振装置を介して前記建屋基礎上に配置してなることを特徴とする露光装置の支持構造。
【請求項５】
請求項１または請求項２記載の露光装置の支持構造において、
前記支持手段は、前記建屋基礎上に支柱を介して支持されるクリーンルーム床であることを特徴とする露光装置の支持構造。
【請求項６】
請求項１ないし請求項５のいずれか１項記載の露光装置の支持構造において、
前記本体用ペデスタルを、除振装置を介して前記建屋基礎上に配置してなることを特徴とする露光装置の支持構造。
【請求項７】
請求項１ないし請求項６のいずれか１項記載の露光装置の支持構造において、
前記補助機器には、前記装置本体内を真空引きする真空ポンプが含まれることを特徴とする露光装置の支持構造。
【請求項８】
請求項１ないし請求項７のいずれか１項記載の露光装置の支持構造において、
前記補助機器には、前記装置本体の空調を行う空調手段が含まれることを特徴とする露光装置の支持構造。
【請求項９】
請求項８記載の露光装置の支持構造において、
前記空調手段は、前記装置本体を覆って配置され、前記補助機器用ペデスタル上に載置される空調チャンバを有していることを特徴とする露光装置の支持構造。
【請求項１０】
請求項１ないし請求項９のいずれか１項記載の露光装置の支持構造において、
前記補助機器には、前記装置本体内の機器の温度を所定の範囲に維持する温調機が含まれることを特徴とする露光装置の支持構造。
【請求項１１】
請求項１ないし請求項１０のいずれか１項記載の露光装置の支持構造において、
前記補助機器には、露光装置を制御する制御ユニットが含まれることを特徴とする露光装置の支持構造。
【請求項１２】
請求項１ないし請求項１１のいずれか１項記載の露光装置の支持構造において、
前記補助機器には、前記装置本体に基板の搬出入を行うローダ装置が含まれることを特徴とする露光装置の支持構造。
【請求項１３】
請求項１ないし請求項１２のいずれか１項記載の露光装置の支持構造において、
前記補助機器には、ウエハステージに配置されるリニアモータの固定子に連結されるカウンタマスが含まれることを特徴とする露光装置の支持構造。
【請求項１４】
請求項１ないし請求項１３のいずれか１項記載の露光装置の支持構造により支持されていることを特徴とする露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置を支持する露光装置の支持構造および露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の露光装置の支持構造では、露光装置は、建屋基礎に単一のペデスタル(台座)を介して支持されている。そして、露光装置に外乱振動が伝達するのを防止するため、レチクルステージ、投影光学系、ウエハステージ等が配置される装置本体を除振装置を介して支持することが行われている。
一方、近年、半導体集積回路の微細化に伴い、光の回折限界によって制限される光学系の解像力を向上させるために、１３ｎｍ程度の波長を有するＥＵＶ光を使用したＥＵＶ露光装置が開発されている。このようなＥＵＶ光露光装置では、外乱振動に対する要求値も非常に厳しいものになる。
【特許文献１】特開平７−２５４５５５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、従来の露光装置の支持構造では、露光装置を、建屋基礎に単一のペデスタルを介して設置しているため、露光装置の補助機器(周辺機器)である真空ポンプ、空調機等の振動が単一のペデスタル、除振装置を介して装置本体に伝達され、高性能の除振装置を用いても外乱振動に対する厳しい要求値を満足することが困難になるという問題があった。
【０００４】
本発明は、かかる従来の問題を解決するためになされたもので、装置本体の振動を効果的に低減することができる露光装置の支持構造および露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
第１の発明の露光装置の支持構造は、露光用機器が配置される装置本体を、建屋基礎上に本体用ペデスタルを介して支持し、振動源となる補助機器を、前記建屋基礎上に前記本体用ペデスタルから独立した支持手段を介して支持してなることを特徴とする。
第２の発明の露光装置の支持構造は、第１の発明の露光装置の支持構造において、前記露光用機器には、レチクルステージ、投影光学系およびウエハステージが含まれることを特徴とする。
【０００６】
第３の発明の露光装置の支持構造は、第１または第２の発明の露光装置の支持構造において、前記支持手段は、前記建屋基礎上に前記本体用ペデスタルから独立して配置される補助機器用ペデスタルであることを特徴とする。
第４の発明の露光装置の支持構造は、第３の発明の露光装置の支持構造において、前記補助機器用ペデスタルを、除振装置を介して前記建屋基礎上に配置してなることを特徴とする。
【０００７】
第５の発明の露光装置の支持構造は、第１または第２の発明の露光装置の支持構造において、前記支持手段は、前記建屋基礎上に支柱を介して支持されるクリーンルーム床であることを特徴とする。
第６の発明の露光装置の支持構造は、第１ないし第５のいずれか１の発明の露光装置の支持構造において、前記本体用ペデスタルを、除振装置を介して前記建屋基礎上に配置してなることを特徴とする。
【０００８】
第７の発明の露光装置の支持構造は、第１ないし第６のいずれか１の発明の露光装置の支持構造において、前記補助機器には、前記装置本体内を真空引きする真空ポンプが含まれることを特徴とする。
第８の発明の露光装置の支持構造は、第１ないし第７のいずれか１の発明の露光装置の支持構造において、前記補助機器には、前記装置本体の空調を行う空調手段が含まれることを特徴とする。
【０００９】
第９の発明の露光装置の支持構造は、第８の発明の露光装置の支持構造において、前記空調手段は、前記装置本体を覆って配置され、前記補助機器用ペデスタル上に載置される空調チャンバを有していることを特徴とする。
第１０の発明の露光装置の支持構造は、第１ないし第９のいずれか１の発明の露光装置の支持構造において、前記補助機器には、前記装置本体内の機器の温度を所定の範囲に維持する温調機が含まれることを特徴とする。
【００１０】
第１１の発明の露光装置の支持構造は、第１ないし第１０のいずれか１の発明の露光装置の支持構造において、前記補助機器には、露光装置を制御する制御ユニットが含まれることを特徴とする。
第１２の発明の露光装置の支持構造は、第１ないし第１１のいずれか１の発明の露光装置の支持構造において、前記補助機器には、前記装置本体に基板の搬出入を行うローダ装置が含まれることを特徴とする。
【００１１】
第１３の発明の露光装置の支持構造は、第１ないし第１２のいずれか１の発明の露光装置の支持構造において、前記補助機器には、ウエハステージに配置されるリニアモータの固定子に連結されるカウンタマスが含まれることを特徴とする。
第１４の発明の露光装置は、第１ないし第１３のいずれか１の発明の露光装置の支持構造により支持されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明では、装置本体の振動を効果的に低減することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明の実施形態を図面を用いて詳細に説明する。
(第１の実施形態)
図１および図２は本発明の露光装置の支持構造の第１の実施形態を模式的に示している。この実施形態では、本発明がＥＵＶ光を使用したＥＵＶ露光装置の支持構造に適用される。
【００１４】
この露光装置の支持構造は、建屋基礎１１、本体用ペデスタル１３、第１の補助機器用ペデスタル１５、第２の補助機器用ペデスタル１７、グレーティング１９を有している。
建屋基礎１１は、建屋の土台であり、コンクリート、鉄筋コンクリート等により形成されている。本体用ペデスタル１３、第１の補助機器用ペデスタル１５、第２の補助機器用ペデスタル１７は、建屋基礎１１上に載置される台座であり、コンクリート、鉄筋コンクリート等により形成されている。本体用ペデスタル１３、第１の補助機器用ペデスタル１５、第２の補助機器用ペデスタル１７は、水平方向に間隔を置いて配置されている。グレーティング１９は、クリーンルーム床であり、建屋基礎１１上に支柱２１を介して支持されている。グレーティング１９は、本体用ペデスタル１３、第１の補助機器用ペデスタル１５、第２の補助機器用ペデスタル１７に対して水平方向に間隔を置いて配置されている。
【００１５】
本体用ペデスタル１３上には、装置本体２３が載置されている。第１の補助機器用ペデスタル１５上には、ローダ装置である大気ローダ２５が載置されている。第２の補助機器用ペデスタル１７上には、空調チャンバ２７が載置されている。第２の補助機器用ペデスタル１７は、図２に示すように、装置本体２３および大気ローダ２５を囲んで矩形環状に形成されている。
【００１６】
装置本体２３は、図３および図４に示すように、ベースプレート２９を有している。ベースプレート２９は、本体用ペデスタル１３上に載置されている。ベースプレート２９の上には本体チャンバ３１が配置されている。本体チャンバ３１は直方体状をしており上面部３１ａと側面部３１ｂとを有している。この本体チャンバ３１の内部は真空ポンプユニットにより真空引きされ真空に保たれている。
【００１７】
本体チャンバ３１内には架台３３が水平に配置されている。この架台３３は除振装置３５を介して本体チャンバ３１に保持されている。除振装置３５は、図４に示すように架台３３の下面の３箇所に配置されている。それぞれの除振装置３５は本体チャンバ３１の側面部３１ｂから内側に伸びた梁３７ａ，３７ｂ，３７ｃと架台３３との間に配置されている。
【００１８】
架台３３には照明光学系３９および投影光学系４１が配置されている。照明光学系３９および投影光学系４１は架台３３を上下方向に貫通して配置され、架台３３に固定されている。照明光学系３９の下部３９ａは本体チャンバ３１の側面部３１ｂを貫通して本体チャンバ３１の外部に延存され、光源部４３に開口されている。
投影光学系４１の下方にはウエハステージ４５が配置されている。ウエハステージ４５は除振装置４７を介してベースプレート２９上に配置されている。投影光学系４１の上方にはレチクルステージ４９が配置されている。レチクルステージ４９は本体チャンバ３１の側面部３１ｂから内側に向かって張り出した梁５１によって支持されている。
【００１９】
大気ローダ２５は、図１および図２に示すように空調チャンバ２７により形成される大気雰囲気内に配置されており、真空雰囲気とされる装置本体２３内への基板(ウエハ、レチクル)の搬入、搬出を行う。より具体的には、大気ローダ２５は、ロボットハンド５３を有しており、装置本体２３に配置される周知のロードロック室５５に基板を搬出入する。そして、ロボットハンド５３を駆動する時に振動が発生する。
【００２０】
空調チャンバ２７は、図１に示すように、下面が開口される直方体状をしており、下端が矩形環状の第２の補助機器用ペデスタル１７上に載置されている。空調チャンバ２７の側面には、給気装置５７および排気装置５７が配置されている。給気装置５７および排気装置５７には、給気ダクト６１および排気ダクト６３が接続されている。給気ダクト６１および排気ダクト６３は、空調チャンバ２７の外部に配置される空調機(不図示)に接続されている。給気装置５７および排気装置５７は、それぞれ振動源となるファン６５を有しており、ファン６５の駆動により空調チャンバ２７への給排気を行う。そして、空調チャンバ２７内は、給気装置５７および排気装置５７による給排気により、一定の温度および湿度に維持されている。
【００２１】
上述した実施形態では、振動源である大気ローダ２５からの振動は、図１の矢符に示すように、第１の補助機器用ペデスタル１５から建屋基礎１１に減衰して伝達され、建屋基礎１１において減衰し、建屋基礎１１から本体用ペデスタル１３に減衰して伝達される。また、振動源であるファン６５に起因する空調チャンバ２７からの振動は、図１の矢符に示すように、第２の補助機器用ペデスタル１７から建屋基礎１１に減衰して伝達され、建屋基礎１１において減衰し、建屋基礎１１から本体用ペデスタル１３に減衰して伝達される。
【００２２】
従って、大気ローダ２５および空調チャンバ２７から装置本体２３に伝達される振動が非常に小さくなり、装置本体２３に伝達される振動を効果的に低減することができる。そして、これに加えて高性能の除振装置３５，４７を用いることにより、ＥＵＶ露光装置の外乱振動に対する厳しい要求値を満足することが可能になる。なお、ＥＵＶ露光装置では、環境振動基準で表現するとＶＣ−Ｄレベル(２５０μinch/s)が要求される。
(第２の実施形態)
図５は、本発明の露光装置の支持構造の第２の実施形態を示している。
【００２３】
なお、この実施形態において第１の実施形態と同一の要素には、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
この実施形態では、本体用ペデスタル１３、第１の補助機器用ペデスタル１５Ａ、第２の補助機器用ペデスタル１７Ａが建屋基礎１１上に直接載置されている。そして、第１の補助機器用ペデスタル１５Ａには、真空ポンプユニット６７が載置されている。また、第２の補助機器用ペデスタル１７Ａには、制御ユニット６９が載置されている。
【００２４】
真空ポンプユニット６７は、配管７１により装置本体２３に接続されている。真空ポンプユニット６７は、振動源となるドライポンプ、ターボ分子ポンプ等のポンプ７３を有している。そして、ポンプ７３を駆動することにより装置本体２３内を真空引きし、装置本体２３内を所定の真空度に維持する。
制御ユニット６９は、ケーブル７５により装置本体２３に接続されている。そして、装置本体２３内の各種機器を制御する。制御ユニット６９には、内部に収容される電子機器(不図示)からの熱を外部に放熱するためのファン７７が配置されている。そして、このファン７７の回転が振動源となる。
【００２５】
この実施形態では、振動源である真空ポンプユニット６７からの振動は、図５の矢符に示すように、第１の補助機器用ペデスタル１５Ａから建屋基礎１１に減衰して伝達され、建屋基礎１１において減衰し、建屋基礎１１から本体用ペデスタル１３に減衰して伝達される。また、振動源である制御ユニット６９からの振動は、図５の矢符に示すように、第２の補助機器用ペデスタル１７Ａから建屋基礎１１に減衰して伝達され、建屋基礎１１において減衰し、建屋基礎１１から本体用ペデスタル１３に減衰して伝達される。
【００２６】
従って、真空ポンプユニット６７から装置本体２３に伝達される振動が非常に小さくなり、装置本体２３に伝達される振動を効果的に低減することができる。
(第３の実施形態)
図６は、本発明の露光装置の支持構造の第３の実施形態を示している。
なお、この実施形態において上述した実施形態と同一の要素には、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
【００２７】
この実施形態では、装置本体２３が載置される本体用ペデスタル１３Ａが、除振装置７９を介して建屋基礎１１上に載置されている。また、第１のグレーティング１９Ａおよび第２のグレーティング１９Ｂが本体用ペデスタル１３Ａに対して水平方向に間隔を置いて設けられている。第１のグレーティング１９Ａには、温調機ユニット８１が載置されている。第２のグレーティング１９Ｂには、制御ユニット６９が載置されている。
【００２８】
温調機ユニット８１は、配管８３により装置本体２３に接続されている。温調機ユニット８１は、所定の温度に保たれた液体あるいは気体を、配管８３を介して装置本体２３内に循環させるポンプ８５を有している。そして、このポンプ８５の駆動が振動源となる。液体温調では、例えば、真空ポンプ、レチクルステージ４９およびウエハステージ４５のリニアモータのコイル、除振装置３５，４７のコイルに、液体からなる冷媒を循環させてこれ等の機器を冷却する。また、気体温調では、例えば、レチクルステージ４９およびウエハステージ４５の静圧軸受あるいは除振装置３５，４７に供給される気体を冷却して循環させる。
【００２９】
この実施形態では、振動源である温調機ユニット８１からの振動は、図６の矢符に示すように、第１のグレーティング１９Ａから支柱２１を介して建屋基礎１１に減衰して伝達され、建屋基礎１１において減衰し、建屋基礎１１から除振装置７９に伝達される。また、振動源である制御ユニット６９からの振動は、図６の矢符に示すように、第２のグレーティング１９Ｂから支柱２１を介して建屋基礎１１に減衰して伝達され、建屋基礎１１において減衰し、建屋基礎１１から除振装置７９に伝達される。
【００３０】
従って、温調機ユニット８１および制御ユニット６９から除振装置７９に伝達される振動が非常に小さくなり、除振装置７９および本体用ペデスタル１３Ａにより振動を略完全に遮断することが可能になり、装置本体２３に伝達される振動を殆ど無くすことができる。そして、これに加えて高性能の除振装置７９を用いることにより、ＥＵＶ露光装置の外乱振動に対する厳しい要求値を満足することが可能になる。
(第４の実施形態)
図７は、本発明の露光装置の支持構造の第４の実施形態を示している。
【００３１】
なお、この実施形態において上述した実施形態と同一の要素には、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
この実施形態では、真空ポンプユニット６７が載置される第１の補助機器用ペデスタル１５Ｂが、除振装置７９Ａを介して建屋基礎１１上に載置されている。また、制御ユニット６９が載置される第２の補助機器用ペデスタル１７Ｂが、除振装置７９Ｂを介して建屋基礎１１上に載置されている。そして、装置本体２３が載置される本体用ペデスタル１３が建屋基礎１１に直接載置されている。
【００３２】
この実施形態では、振動源である真空ポンプユニット６７からの振動は、図７の矢符に示すように、第１の補助機器用ペデスタル１５Ｂで減衰された後、除振装置７９Ａにより大きく減衰され建屋基礎１１に伝達される。そして、建屋基礎１１において減衰し、建屋基礎１１から本体用ペデスタル１３に減衰して伝達され、略振動が完全に遮断された状態で装置本体２３に伝達される。また、振動源である制御ユニット６９からの振動は、図７の矢符に示すように、第２の補助機器用ペデスタル１７Ｂで減衰された後、除振装置７９Ｂにより大きく減衰され建屋基礎１１に伝達される。そして、建屋基礎１１において減衰し、建屋基礎１１から本体用ペデスタル１３に減衰して伝達され、略振動が完全に遮断された状態で装置本体２３に伝達される。
【００３３】
従って、真空ポンプユニット６７および制御ユニット６９から装置本体２３に伝達される振動が非常に小さくなり、装置本体２３に伝達される振動を殆ど無くすことができる。そして、これに加えて高性能の除振装置７９Ａ，７９Ｂを用いることにより、ＥＵＶ露光装置の外乱振動に対する厳しい要求値を満足することが可能になる。
(第５の実施形態)
図８および図９は、本発明の露光装置の支持構造の第５の実施形態を示している。
【００３４】
なお、この実施形態において上述した実施形態と同一の要素には、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
この実施形態では、本体用ペデスタル１３、補助機器用ペデスタル１５Ｃが建屋基礎１１上に直接載置されている。そして、補助機器用ペデスタル１５Ｃには、周知のカウンタマス装置８７Ａ，８７Ｂが載置されている。カウンタマス装置８７Ａ，８７Ｂは、カウンタマス８９、案内部材９１、ロッド部材９３を有している。カウンタマス８９は、ロッド部材９３により、ウエハステージ４５を移動するリニアモータ(不図示)の固定子(不図示)に連結されている。そして、リニアモータの移動子(不図示)の移動時に発生する反力を、カウンタマス８９を案内部材９１に沿って移動することにより吸収する。そして、カウンタマス８９の案内部材９１に沿っての移動により振動が発生し振動源となる。
【００３５】
カウンタマス装置８７Ａは、ウエハステージ４５を図９のＸ方向に移動するリニアモータに連結され、カウンタマス装置８７Ｂは、ウエハステージ４５を図９のＹ方向に移動するリニアモータに連結されている。また、ロッド部材９３の装置本体２３への挿入部には、真空ベローズ９５が配置され、装置本体２３内が真空に維持される。なお、カウンタマス装置８７Ａ，８７Ｂは、Ｌ字状の補助機器用ペデスタル１５Ｃ上に載置されているが、カウンタマス装置８７Ａ用の補助機器用ペデスタルと、カウンタマス装置８７Ｂ用の補助機器用ペデスタルとに分割しても良い。
【００３６】
この実施形態では、振動源であるカウンタマス装置８７Ａ，８７Ｂからの振動は、図８の矢符に示すように、補助機器用ペデスタル１５Ｃから建屋基礎１１に減衰して伝達され、建屋基礎１１において減衰し、建屋基礎１１から本体用ペデスタル１３に減衰して伝達される。
従って、カウンタマス装置８７Ａ，８７Ｂから装置本体２３に伝達される振動が非常に小さくなり、装置本体２３に伝達される振動を効果的に低減することができる。
(露光装置の実施形態)
図１０は、ＥＵＶ光リソグラフィシステムを模式化して示している。なお、この実施形態において第１の実施形態と同一の部材には、同一の符号を付している。この実施形態では、露光の照明光としてＥＵＶ光が用いられる。ＥＵＶ光は０．１〜４００ｎｍの間の波長を持つもので、この実施形態では特に１〜５０ｎｍ程度の波長が好ましい。投影像は像光学系システム１０１を用いたもので、ウエハＷ上にレチクルＲによるパターンの縮小像を形成するものである。
【００３７】
ウエハＷ上に照射されるパターンは、レチクルステージ４９の下側に静電チャック１０３を介して配置されている反射型のレチクルＲにより決められる。また、ウエハＷはウエハステージ４５の上に載せられている。典型的には、露光はステップ・スキャンによりなされる。
露光時の照明光として使用するＥＵＶ光は大気に対する透過性が低いので、ＥＵＶ光が通過する光経路は、適当な真空ポンプ７３を用いて真空に保たれた本体チャンバ３１に囲まれている。またＥＵＶ光はレーザプラズマＸ線源によって生成される。レーザプラズマＸ線源はレーザ源１０８（励起光源として作用）とキセノンガス供給装置１０９からなっている。レーザプラズマＸ線源は真空チャンバ１１０によって取り囲まれている。レーザプラズマＸ線源によって生成されたＥＵＶ光は真空チャンバ１１０の窓１１１を通過する。
【００３８】
放物面ミラー１１３は、キセノンガス放出部の近傍に配置されている。放物面ミラー１１３はプラズマによって生成されたＥＵＶ光を集光する。放物面ミラー１１３は集光光学系を構成し、ノズル１１２からのキセノンガスが放出される位置の近傍に焦点位置がくるように配置されている。ＥＵＶ光は放物面ミラー１１３の多層膜で反射し、真空チャンバ１１０の窓１１１を通じて集光ミラー１１４へと達する。集光ミラー１１４は反射型のレチクルＲへとＥＵＶ光を集光、反射させる。ＥＵＶ光は集光ミラー１１４で反射され、レチクルＲの所定の部分を照明する。すなわち、放物面ミラー１１３と集光ミラー１１４はこの装置の照明システムを構成する。
【００３９】
レチクルＲは、ＥＵＶ光を反射する多層膜とパターンを形成するための吸収体パターン層を持っている。レチクルＲでＥＵＶ光が反射されることによりＥＵＶ光は「パターン化」される。パターン化されたＥＵＶ光は投影システム１０１を通じてウエハＷに達する。
この実施形態の像光学システム１０１は、凹面第１ミラー１１５ａ、凸面第２ミラー１１５ｂ、凸面第３ミラー１１５ｃ、凹面第４ミラー１１５ｄの４つの反射ミラーからなっている。各ミラー１１５ａ〜１１５ｄにはＥＵＶ光を反射する多層膜が備えられている。
【００４０】
レチクルＲにより反射されたＥＵＶ光は第１ミラー１１５ａから第４ミラー１１５ｄまで順次反射されて、レチクルパターンの縮小（例えば、１／４、１／５、１／６）された像を形成する。像光学系システム１０１は、像の側（ウエハＷの側）でテレセントリックになるようになっている。
レチクルＲは可動のレチクルステージ４９によって少なくともＸ−Ｙ平面内で支持されている。ウエハＷは、好ましくはＸ，Ｙ，Ｚ方向に可動なウエハステージ４５によって支持されている。ウエハＷ上のダイを露光するときには、ＥＵＶ光が照明システムによりレチクルＲの所定の領域に照射され、レチクルＲとウエハＷは像光学系システム１０１に対して像光学システム１０１の縮小率に従った所定の速度で動く。このようにして、レチクルパターンはウエハＷ上の所定の露光範囲（ダイに対して）に露光される。
【００４１】
露光の際には、ウエハＷ上のレジストから生じるガスが像光学システム１０１のミラー１１５ａ〜１１５ｄに影響を与えないように、ウエハＷはパーティション１１６の後ろに配置されることが望ましい。パーティション１１６は開口１１６ａを持っており、それを通じてＥＵＶ光がミラー１１５ｄからウエハＷへと照射される。パーティション１１６内の空間は真空ポンプ１１７により真空排気されている。このように、レジストに照射することにより生じるガス状のゴミがミラー１１５ａ〜１１５ｄあるいはレチクルＲに付着するのを防ぐ。それゆえ、これらの光学性能の悪化を防いでいる。
【００４２】
この実施形態の露光装置では、装置本体２３に伝達される振動を効果的に低減することができるため、精度の高い露光を行うことができる。
(実施形態の補足事項)
以上、本発明を上述した実施形態によって説明してきたが、本発明の技術的範囲は上述した実施形態に限定されるものではない。
【００４３】
(１)上述した実施形態では、ＥＵＶ光を用いた露光装置の支持構造に本発明を適用した例について説明したが、本発明は、露光装置の支持構造に広く適用することができる。
(２)上述した実施形態では、装置本体２３を本体用ペデスタル１３，１３Ａ上に直接載置した例について説明したが、例えば、除振装置を介して本体用ペデスタル上に載置するようにしても良い。
【００４４】
(３)上述した第１の実施形態では、本体用ペデスタル１３、第１の補助機器用ペデスタル１５、第２の補助機器用ペデスタル１７を建屋基礎１１に直接載置した例について説明したが、例えば、一部あるいは全てのペデスタルを除振装置を介して建屋基礎に載置するようにしても良い。
(４)上述した第２の実施形態では、本体用ペデスタル１３、第１の補助機器用ペデスタル１５Ａ、第２の補助機器用ペデスタル１７Ａを建屋基礎１１に直接載置した例について説明したが、例えば、一部あるいは全てのペデスタルを除振装置を介して建屋基礎に載置するようにしても良い。
【００４５】
(５)上述した第３の実施形態では、本体用ペデスタル１３を除振装置７９を介して建屋基礎１１に載置した例について説明したが、建屋基礎に直接載置するようにしても良い。
(６)上述した第４の実施形態では、本体用ペデスタル１３を建屋基礎１１に直接載置した例について説明したが、本体用ペデスタルを除振装置を介して建屋基礎に載置しても良い。
【００４６】
(７)上述した第５の実施形態では、本体用ペデスタル１３、補助機器用ペデスタル１５Ｃを建屋基礎１１に直接載置した例について説明したが、本体用ペデスタルまたは補助機器用ペデスタルを除振装置を介して建屋基礎に載置するようにしても良い。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】本発明の露光装置の支持構造の第１の実施形態を示す説明図である。
【図２】図１の露光装置の支持構造を空調チャンバを取り外して上方から見た説明図である。
【図３】図１の装置本体の詳細を示す説明図である。
【図４】図３の装置本体をＡＡ方向から見た説明図である。
【図５】本発明の露光装置の支持構造の第２の実施形態を示す説明図である。
【図６】本発明の露光装置の支持構造の第３の実施形態を示す説明図である。
【図７】本発明の露光装置の支持構造の第４の実施形態を示す説明図である。
【図８】本発明の露光装置の支持構造の第５の実施形態を示す説明図である。
【図９】図８の露光装置の支持構造を上方から見た説明図である。
【図１０】露光装置の実施形態を示す説明図である。
【符号の説明】
【００４８】
１１…建屋基礎、１３，１３Ａ…本体用ペデスタル、１５，１５Ａ，１５Ｂ…第１の補助機器用ペデスタル、１７，１７Ａ、１７Ｂ…第２の補助機器用ペデスタル、１５Ｃ…補助機器用ペデスタル、１９，１９Ａ，１９Ｂ…グレーティング、２３…装置本体、２５…大気ローダ、２７…空調チャンバ、４５…ウエハステージ、４９…レチクルステージ、 ６５…ファン、６７…真空ポンプユニット、６９…制御ユニット、７３…ポンプ、８１…温調機ユニット、８７Ａ，８７Ｂ…カウンタマス装置。
【図１】
2008108772.tif 000003
【図２】
2008108772.tif 000004
【図３】
2008108772.tif 000005
【図４】
2008108772.tif 000006
【図５】
2008108772.tif 000007
【図６】
2008108772.tif 000008
【図７】
2008108772.tif 000009
【図８】
2008108772.tif 000010
【図９】
2008108772.tif 000011
【図１０】
2008108772.tif 000012