(57)【要約】      （修正有）【課題】ArF露光のような短波長露光での透過性がよく、さらに、微細加工に使用される中間層材料として好適な新規シリコーン共重合体を提供する。【解決手段】下記一般式2008195908.tif 000033（式中、Ａは縮合多環式炭化水素基を示す）で示される繰り返し単位と縮合多環式炭化水素基のかわりに脂肪族炭化水素基を有する繰り返し単位を含むシリコーン共重合体を提供する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式
【化１】
2008195908.tif 000027
（式中、Ａは縮合多環式炭化水素基を示す）
で示される繰り返し単位と下記一般式
【化２】
2008195908.tif 000028
（式中、Ｒは脂肪族炭化水素基を示す）
で示される繰り返し単位を含むシリコーン共重合体。
【請求項２】
下記一般式
【化３】
2008195908.tif 000029
（式中、Ａは縮合多環式炭化水素基を示す）
で示される繰り返し単位と下記一般式
【化４】
2008195908.tif 000030
（式中、Ｒは脂肪族炭化水素基を示す）
で示される繰り返し単位と下記一般式
【化５】
2008195908.tif 000031
（式中、Ｂはエステル基を含む炭化水素基を示す）
で示される繰り返し単位をもつ請求項１記載のシリコーン共重合体。
【請求項３】
下記一般式
【化６】
2008195908.tif 000032
（式中、Ａは縮合多環式炭化水素基、Ｒは脂肪族炭化水素基、Ｂはエステル基を含む炭化水素基を示す。ａ、ｂ、ｃはモル％を示し、ａは１〜９９モル％、ｂは１〜９９モル％、ｃは０〜９９％、但しａ＋ｂ＋ｃ＝１００を示す）
で示される請求項１または２記載のシリコーン共重合体。
【請求項４】
Ａが、ナフタレン誘導体である請求項１から３記載のシリコーン共重合体。
【請求項５】
重量平均分子量Mwが、５００から１０，０００、分散度Mw/Mnが１．０から２．０である請求項１から４に記載のシリコーン共重合体。
【請求項６】
置換基Ａ（Ａは縮合多環式炭化水素基）、Ｒ（Ｒは脂肪族炭化水素基）、Ｂ（Ｂはエステル基を含む炭化水素基）を有するシリコンモノマーを、酸性条件下、加水分解して製造することを特徴とする請求項１から５に記載のシリコーン共重合体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子材料や微細加工の材料として有用な縮合多環式炭化水素基を有する新規シリコーン共重合体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体素子の微細化が進むとともに、その製造に用いられるリソグラフィ工程についていっそうの微細化が求められるようになってきている。微細化が急速に発展してきた背景には、投影レンズの高ＮＡ化、レジストの性能向上、短波長化が挙げられる。
【０００３】
特に露光波長の短波長化は大きな変革をもたらしてきたが、さらに微細化の要求は大きく、ＫｒＦ（２４８ｎｍ）露光からＡｒＦ（１９３ｎｍ）露光への短波長化が進んできている。
【０００４】
しかし、この波長の短波長化により、従来使用されてきたノボラックやポリビニルフェノール系の樹脂では、１９３ｎｍ付近に強い吸収を示し透過性が低下するため使用することができないという問題点があった。
【０００５】
一方、微細パターンを作成するために、中間層を設ける三層レジストプロセスも考案されており、フェノール性水酸基をもつポリオルガノシルセスキオキサンの例は報告されている（特許文献１参照）。しかしながら、それらの共重合体では、ＡｒＦ（１９３ｎｍ）のような遠紫外線波長での露光波長には樹脂自体の吸収が大きく、光が透過しないという問題があった。
【０００６】
よって、樹脂自体の透過性を上げるため、ベンゼン環骨格がなく、フッ素原子により樹脂自体の透過性を上げるシリコーン重合体が提案されている（特許文献２参照）。しかしながら、アルコール部位がフッ素置換基に立体障害のため反応性が悪く、三層レジストプロセスで使用される中間層として使用することができなかった。また、そのような材料では、ＡｒＦ（１９３ｎｍ）のような遠紫外線波長での露光波長に吸収する置換基を有しないため、逆に光が透過しすぎてしまうという問題点があった。
【０００７】
このことから、短波長で透過性を有する新規シリコーン共重合体が求められていた。
【特許文献１】特開２００３−１４９８２２号公報
【特許文献２】特開２００２−５５４５６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明者は、２２０nm以下の波長でも透過性を向上させる置換基について、種々検討を重ねた結果、縮合多環式炭化水素基を有するシリコーン共重合体が２２０nm以下の波長で透過性を向上させることを見出し、この知見に基づいて本発明をなすに至った。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
すなわち、本発明は、下記一般式
【００１０】
【化１】
2008195908.tif 000002
【００１１】
（式中、Ａは縮合多環式炭化水素基を示す）
で示される繰り返し単位と下記一般式
【００１２】
【化２】
2008195908.tif 000003
【００１３】
（式中、Ｒは脂肪族炭化水素基を示す）
で示される繰り返し単位を含むシリコーン共重合体を提供することである。
【発明の効果】
【００１４】
本発明のシリコーン共重合体は、縮合多環式炭化水素基を有している。
【００１５】
本発明の縮合多環式炭化水素基を有するシリコーン共重合体は、ArF露光（１９３nm）にような２００ｎｍ以下の遠紫外線領域での短波長の露光波長で透過性が良く、遠紫外線領域で使用するのに適した材料である。本発明のシリコーン共重合体は、２００℃以上の熱をかけることにより、容易に硬化させることができることから、反射防止膜的な役割を果たすため、微細加工プロセスに導入することができる。
【００１６】
また、本発明のシリコーン共重合体は電子材料分野に限らず、塗料や接着剤等、幅広い分野で応用できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
本発明のシリコーン共重合体は、
下記一般式
【００１８】
【化３】
2008195908.tif 000004
【００１９】
（式中、Ａは縮合多環式炭化水素基を示す）
で示される繰り返し単位と下記一般式
【００２０】
【化４】
2008195908.tif 000005
【００２１】
（式中、Ｒは脂肪族炭化水素基を示す）
で示される繰り返し単位を含むシリコーン共重合体である。
【００２２】
本発明のシリコーン共重合体の下記骨格
【００２３】
【化５】
2008195908.tif 000006
【００２４】
は、シルセスキオキサン骨格を示し、各ケイ素原子が３個の酸素原子に結合し、各酸素原子が２個のケイ素原子に結合していることを示す。シルセスキオキサン骨格は、例えば、下記一般式
【００２５】
【化６】
2008195908.tif 000007
【００２６】
に示す構造式で示すことができる。
【００２７】
また、本発明のシリコーン共重合体は、例えば、下記一般式
【００２８】
【化７】
2008195908.tif 000008
【００２９】
で示されるラダー型シリコーン共重合体でも良い。
【００３０】
本発明のシリコーン共重合体は、下記一般式
【００３１】
【化８】
2008195908.tif 000009
【００３２】
（式中、Ａは縮合多環式炭化水素基を示す）
で示される繰り返し単位と下記一般式
【００３３】
【化９】
2008195908.tif 000010
【００３４】
（式中、Ｒは脂肪族炭化水素基を示す）
で示される繰り返し単位を含むシリコーン共重合体のＡで示される縮合多環式炭化水素基は、２個以上のベンゼン環が縮合している炭化水素基を示し、好ましい例として、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン、ペンタセン、ヘキサセン、トリフェニレン、ピレン、ピセン等が挙げられる。また、ベンゼン環以外の骨格を有するペンタレン、インデン、アズレン、ヘプタレン、ビフェニレン、アセナフチレン等も縮合多環式炭化水素基であり好ましい例として挙げられる。原料入手の観点から、ペンタレン、インデン、アズレン、ヘプタレン、ビフェニレン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン等のベンゼン環単位が３つ以下の縮合多環式炭化水素基がより好ましい。縮合多環式炭化水素基に炭化水素基が結合していても良い。
【００３５】
Ｒで示される脂肪族炭化水素基は、炭素数１から２０の直鎖状、分枝状、環状の１価の炭化水素基が好ましく、架橋炭化水素基でも良い。好ましい例として、炭素数１から２０の直鎖状炭化水素基は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等の炭化水素が挙げられる。分枝状炭化水素基として、イソプロピル基、イソブチル基等の炭化水素基が挙げられる。環状炭化水素基として、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等の環状炭化水素基が挙げられる。その環状炭化水素基に炭化水素基が結合していても良い。また、架橋炭化水素基の好ましい例として、下記構造式の架橋炭化水素基が挙げられる。
【００３６】
【化１０】
2008195908.tif 000011
【００３７】
この架橋炭化水素基に炭化水素基が結合していても良い。原料入手の容易さから、脂肪族炭化水素基として、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、シクロヘキシル基、ノルボルナニル基がより好ましい。
【００３８】
本発明のシリコーン共重合体は、
下記一般式
【００３９】
【化１１】
2008195908.tif 000012
【００４０】
（式中、Ａは縮合多環式炭化水素基を示す）
で示される繰り返し単位と下記一般式
【００４１】
【化１２】
2008195908.tif 000013
【００４２】
（式中、Ｒは脂肪族炭化水素基を示す）
で示される繰り返し単位を含むシリコーン共重合体であるが、側鎖には炭化水素基のみ有するためポリマ自体の疎水性が向上する。そこで下記一般式
【００４３】
【化１３】
2008195908.tif 000014
【００４４】
（式中、Ｂはエステル基を含む炭化水素基を示す）
で示される繰り返し単位をもつエステル基を有するシリコーン組成を加えることにより、エステル部位の−ＣＯＯ−結合の存在により、ポリマの疎水性が改善され有用なシリコーン共重合体となる。下記一般式
【００４５】
【化１４】
2008195908.tif 000015
【００４６】
（式中、Ｂはエステル基を含む炭化水素基を示す）
で示される繰り返し単位をもつエステル基を有するシリコーン共重合体のＢ成分は、環状または架橋炭化水素基を有するものが好ましく、下記一般式
【００４７】
【化１５】
2008195908.tif 000016
【００４８】
（式中、Ｔは、炭化水素基を示す）
で表されるエステルが好ましい。このＴで表される炭化水素基の好ましい例は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等の炭素数１から１０の直鎖状炭化水素基、イソプロピル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基等の分枝状炭化水素基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等の環状炭化水素基が挙げられる。原料入手の観点から、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基がより好ましい。
【００４９】
本発明のより好ましい例は、下記一般式
【００５０】
【化１６】
2008195908.tif 000017
【００５１】
（式中、Ａは縮合多環式炭化水素基、Ｒは脂肪族炭化水素基、Ｂはエステル基を含む炭化水素基を示す。ａ、ｂ、ｃはモル％を示し、ａは１〜９９モル％、ｂは１〜９９モル％、ｃは０〜９９％、但しａ＋ｂ＋ｃ＝１００を示す）
で示されるシリコーン共重合体である。ここで、ａ、ｂ、ｃは、モル％を示し、ａは、１〜９９モル％、ｂは、１〜９９モル％、ｃは、０〜９９％、但し、ａ＋ｂ＋ｃ＝１００を示す。
【００５２】
ここでａ成分は、縮合多環式炭化水素基を有するシリコーン共重合体部位を示す。縮合多環式炭化水素基は立体構造的に大きいため、ａの組成比が多いとシリコーン共重合体に占めるSi-Oの割合が低下する場合がある。またａの組成比が少ないと透明性が目的値より向上してしまう場合があるため、ａは２０〜８０モル％が好ましく、３０〜７０モル％がより好ましい。
【００５３】
次にｂ成分は、脂肪族炭化水素基を有するシリコーン共重合体部位を示す。メチル基やエチル基などの炭素数が小さい置換基を導入した場合、シリコーン共重合体に占めるSi-Oの割合が多くなる。Si-Oが占める割合が高くなれば、例えば半導体分野で使用されているエッチングに対する耐性も向上することから、非常に良い材料になると言える。よって、ｂは１０モル％以上が好ましく、２０モル％以上がさらに好ましい。
【００５４】
最後にｃ成分は、エステル基を有するシリコーン共重合体部位を示す。ｃ成分は、エステル基を有するため、シリコーン共重合体の親水性を向上させる機能を有する。電子材料用途で使用する場合に基板との密着性を向上させる効果もある。用途によって、導入するかどうかを決定する必要があるが、ｃ成分が多いとシリコーン共重合体に占めるSi-O組成比が低下することから、例えばエッチングに対する耐性が低下してしまう恐れがある場合がある。よって、ｃ成分は、０〜７０モル％が好ましく、０〜５０モル％がさらに好ましい。
【００５５】
本発明のより好ましい例は、下記一般式
【００５６】
【化１７】
2008195908.tif 000018
【００５７】
（式中、Ａは、縮合多環式炭化水素基、Ｒは、脂肪族炭化水素基、Ｂは、エステル基を含む炭化水素基を示す。ａ、ｂ、ｃは、モル％を示し、ａは、１〜９９モル％、ｂは、１〜９９モル％、ｃは、０〜９９％、但しａ＋ｂ＋ｃ＝１００を示す）
で示されるシリコーン共重合体である。Ａがナフタレン誘導体の場合が、合成が容易な上、原料入手も容易でありより好ましい。好ましいナフタレン骨格の例は、下記一般式
【００５８】
【化１８】
2008195908.tif 000019
【００５９】
で示される。
【００６０】
本発明のシリコーン共重合体は、重量平均分子量（ポリスチレン換算）が、５００から１０００００の範囲にあるものが好ましく、特に、５００から１０，０００の範囲にある低分子量のものが最も好ましい。
【００６１】
本発明のシリコーン共重合体の分散度は、１．０から１０．０の範囲にあるものが好ましく、１．０から２．０の分散度が小さいものが最も好ましい。
【００６２】
本発明のシリコーン共重合体の好ましい例として、下記一般式
【００６３】
【化１９】
2008195908.tif 000020
【００６４】
（式中、Ａは縮合多環式炭化水素基、Ｒは脂肪族炭化水素基、Ｂはエステル基を含む炭化水素基を示す。ａ、ｂ、ｃはモル％を示し、ａは１〜９９モル％、ｂは１〜９９モル％、ｃは０〜９９％、但しａ＋ｂ＋ｃ＝１００を示す）
に示されるシリコーン共重合体を製造する場合、例えば、下記で示される合成法で合成することができる。
【００６５】
【化２０】
2008195908.tif 000021
【００６６】
（式中、Ａは、縮合多環式炭化水素基、Ｒは、脂肪族炭化水素基、Ｂは、エステル基を含む炭化水素基を示す。ａ、ｂ、ｃは、モル％を示し、ａは、１〜９９モル％、ｂは、１〜９９モル％、ｃは、０〜９９％、但し、ａ＋ｂ＋ｃ＝１００を示す。Ｘは、塩素またはアルコキシを示し、アルコキシとしては、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロピル基、イソプロピル基が挙げられる）。
【００６７】
本発明のシリコーン共重合体の好ましい例として、下記一般式
【００６８】
【化２１】
2008195908.tif 000022
【００６９】
（式中、Ａは、縮合多環式炭化水素基、Ｒは、脂肪族炭化水素基、Ｂは、エステル基を含む炭化水素基を示す。ａ、ｂ、ｃは、モル％を示し、ａは、１〜９９モル％、ｂは、１〜９９モル％、ｃは、０〜９９％、但し、ａ＋ｂ＋ｃ＝１００を示す）
に示されるシリコーン共重合体を製造する場合、下記一般式
【００７０】
【化２２】
2008195908.tif 000023
【００７１】
（式中、Ａは、縮合多環式炭化水素基を示し、Ｘは、塩素またはアルコキシ基を示す）
と下記一般式
【００７２】
【化２３】
2008195908.tif 000024
【００７３】
（式中、Ｒは、脂肪族炭化水素基を示し、Ｘは、塩素またはアルコキシ基を示す）
と下記一般式
【００７４】
【化２４】
2008195908.tif 000025
【００７５】
（式中、Ｂは、エステル基を含む炭化水素基を示し、Ｘは、塩素またはアルコキシ基を示す）
の混合液を反応溶媒中、水と触媒の存在下、加水分解反応及び縮重合反応をすることにより製造することができる。
【００７６】
ここで、Ｘは、塩素またはアルコキシ基を示すが、アルコキシ基は、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、ｎ−ブチルオキシ基、イソプロピルオキシ基等が挙げられ、原料入手の容易さからメトキシ基、エトキシ基が好ましい。
【００７７】
反応溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｔ−ブタノール等のアルコール溶媒、トルエン、キシレン等に非水溶性炭化水素溶媒、アセトニトリル、テトラヒドロフラン等の水溶性炭化水素溶媒が使用可能であるが、加水分解反応では水を使用することから、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール溶媒が好ましい。
【００７８】
加水分解で使用する水の量は、原料モノマーの合計モル数に対して、３．０から５０．０当量が好ましく、３．０から１０．０当量がより好ましい。
【００７９】
加水分解、縮重合で使用する触媒は、酸性触媒、塩基性触媒どちらも使用することができるが、塩基性触媒では、縮重合が進行するため、酸性触媒が好ましい。酸性触媒としては、塩酸、硝酸、硫酸などの無機酸、シュウ酸、トリフルオロ酢酸、マロン酸、こはく酸、クエン酸等のカルボン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸等のスルホニル化合物のような強酸が好ましい。
【００８０】
塩基性触媒を使用する場合は、テトラメチルアンモニウムハイドライドやテトラエチルアンモニウムハイドライド等のアンモニウム塩を使用することが好ましい。
【００８１】
本発明のシリコーン共重合体は、重量平均分子量（ポリスチレン換算）が５００から１０００００の範囲にあるものが好ましく、特に５００から１０，０００の範囲にある低分子量のものが最も好ましいが、強酸性条件では得られたシリコーン共重合体が低分子量で、低分散になるため、より好ましい。
【００８２】
加水分解反応、縮重合反応で得られた反応液をトルエン、酢酸エチル等の非プロトン性溶媒で抽出して水で洗浄後、油層中の溶媒を留去すれば目的のシリコーン共重合体を合成することができる。
【実施例】
【００８３】
以下、実施例を示して本発明を具体的に説明する。
【００８４】
以下の実施例において、測定には下記装置を使用し、原料は試薬メーカーから購入した一般的な試薬を用いた。
【００８５】
測定装置
NMR測定・・・日本電子製400MHz NMR測定器
IR測定・・・島津製IR Prestige-21
GPC測定・・・東ソー製HLC-8220
UV測定・・・島津製UV-2400PC（２×１０-4mol/lのエタノール溶液を調製し、光路長１０ｍｍの角形石英セルに入れ２５℃で５０Ｗハロゲンランプを使用して測定した）。
【００８６】
実施例１
１−ナフチルシルセスキオキサン・メチルシルセスキオキサン共重合体の合成
撹拌機、環流冷却器、滴下ろう斗及び温度計を備えた１Ｌ４つ口フラスコに、水９７．１ｇと３５％塩酸水溶液９．１ｇを仕込み、１−ナフチルトリメトキシシラン１０８．５ｇ（０．４３７モル）とメチルトリメトキシシラン５９．５ｇ（０．４３７モル）のトルエン２５２．２ｇ溶液を反応温度１０〜２０℃で滴下した。滴下終了後、同温度で２時間熟成後に、反応溶液をＧＣ分析することにより原料がすべて無くなっていることを確認した。次に静置後分液を行い、油層を回収した。次いで５％炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、さらに水で洗浄し、最後にトルエン油層を回収した。
【００８７】
その得られた油層をエバポレーターで溶媒を除去し、白色粉末である１−ナフチルシルセスキオキサン・メチルシルセスキオキサン共重合体を１１７．２ｇ得た。ＧＰＣ分析の結果、重量平均分子量（Ｍｗ：ポリスチレン換算）１，０００、分散度（Ｍｗ／Ｍｎ：ポリスチレン換算）１．２であった。
【００８８】
得られた共重合体のスペクトルデータを下記に示す。
【００８９】
赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）データ
3055、1504 cm-1 (ナフタレン)、1026-1111 cm-1 (Si-O)
核磁気共鳴スペクトル（ＮＭＲ）データ（1H-NMR溶媒：CDCl3）
0.182ppm(bs)、7.021-8.252ppm(b)
実施例２
９−フェナントレニルシルセスキオキサン・メチルシルセスキオキサン共重合体の合成
撹拌機、環流冷却器、滴下ろう斗及び温度計を備えた１Ｌ４つ口フラスコに、水９７．１ｇと３５％塩酸水溶液９．１ｇを仕込み、９−フェナントレニルトリメトキシシラン１３０．４ｇ（０．４３７モル）とメチルトリメトキシシラン５９．５ｇ（０．４３７モル）のトルエン２５２．２ｇ溶液を反応温度１０〜２０℃で滴下し実施例１記載の方法で抽出しトルエン油層を回収した。
【００９０】
その得られた油層をエバポレーターで溶媒を除去し、白色粉末である９−フェナントレニルシルセスキオキサン・メチルシルセスキオキサン共重合体を１２９．０ｇ得た。ＧＰＣ分析の結果、重量平均分子量（Ｍｗ：ポリスチレン換算）１，２００、分散度（Ｍｗ／Ｍｎ：ポリスチレン換算）１．３であった。
【００９１】
得られた共重合体のスペクトルデータを下記に示す。
【００９２】
赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）データ
1026-1111 cm-1 (Si-O)
核磁気共鳴スペクトル（ＮＭＲ）データ（1H-NMR溶媒：CDCl3）
0.175ppm(bs)、7.551-8.612ppm(bs)
実施例３
１−ナフチルシルセスキオキサン・メチルシルセスキオキサン・５−メトキシカルボニルノルボルナン−２（または３）−イルシルセスキオキサン共重合体の合成
撹拌機、環流冷却器、滴下ろう斗及び温度計を備えた１Ｌ４つ口フラスコに、水９７．１ｇと３５％塩酸水溶液９．１ｇを仕込み、１−ナフチルトリメトキシシラン１０８．５ｇ（０．４３７モル）とメチルトリメトキシシラン３５．７ｇ（０．２６２モル）と５−メトキシカルボニルノルボルナン−２（または３）−イルトリメトキシシラン５０．３ｇ（０．１７５モル）のトルエン２５２．２ｇ溶液を反応温度１０〜２０℃で滴下し実施例１記載の方法で抽出しトルエン油層を回収した。
【００９３】
その得られた油層をエバポレーターで溶媒を除去し、白色粉末である１−ナフチルシルセスキオキサン・メチルシルセスキオキサン・５−メトキシカルボニルノルボルナン−２（または３）−イルシルセスキオキサン共重合体を１５２．４ｇ得た。ＧＰＣ分析の結果、重量平均分子量（Ｍｗ：ポリスチレン換算）９００、分散度（Ｍｗ／Ｍｎ：ポリスチレン換算）１．１であった。
【００９４】
得られた共重合体のスペクトルデータを下記に示す。
【００９５】
赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）データ
3057、1589 cm-1 (ナフタレン)、1703-1726cm-1(-CO-)、991-1151 cm-1(Si-O)
核磁気共鳴スペクトル（ＮＭＲ）データ（1H-NMR溶媒：CDCl3）
0.070-0.332ppm(b)、1.042-1.431ppm(b)、2.122-2.501(b)、3.370-3.643(b)、7.062-8.281ppm(b)
比較例１
フェニルシルセスキオキサン・メチルシルセスキオキサン共重合体の合成
撹拌機、環流冷却器、滴下ろう斗及び温度計を備えた１Ｌ４つ口フラスコに、水９７．１ｇと３５％塩酸水溶液９．１ｇを仕込み、フェニルトリメトキシシラン８７．５ｇ（０．４３７モル）とメチルトリメトキシシラン３５．７ｇ（０．４３７モル）のトルエン２５２．２ｇ溶液を反応温度１０〜２０℃で滴下し実施例１記載の方法で抽出しトルエン油層を回収した。
【００９６】
その得られた油層をエバポレーターで溶媒を除去し、白色粉末である１−ナフチルシルセスキオキサン・メチルシルセスキオキサン共重合体を１０５．９ｇ得た。ＧＰＣ分析の結果、重量平均分子量（Ｍｗ：ポリスチレン換算）１，５００、分散度（Ｍｗ／Ｍｎ：ポリスチレン換算）１．５であった。
【００９７】
得られた共重合体のスペクトルデータを下記に示す。
【００９８】
赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）データ
1018-1196cm-1(Si-O)
核磁気共鳴スペクトル（ＮＭＲ）データ（1H-NMR溶媒：CDCl3）
0.135ppm(bs)、7.210-8.194ppm(b)
実施例１から３と比較例１で合成したシリコーン共重合体をエタノール溶液に溶解したときのＵＶ測定結果（透過率）を次表に示す。２００ｎｍ、２５０ｎｍは、遠紫外線の代表的な波長である。
【００９９】
【表１】
2008195908.tif 000026
【０１００】
上表から、実施例１〜３、比較例１で得られたシリコーン共重合体は、遠紫外線波長で代表的な２５０ｎｍでは、透過率が９０％以上であり、透過率が高い材料である。一方、２００ｎｍの波長では、比較例１の材料の透過率が悪いのに対して、実施例１〜３記載のシリコーン共重合体は、縮合多ベンゼン環を導入することにより透過率を大きくすることができる。この結果から、縮合多環式炭化水素基を導入することにより透過率を向上させることができる材料になる。