(57)【要約】【課題】自動倉庫と処理ラインを接続したカラーフィルタ製造ラインにて、処理ラインが一時停止を起こさずカセットの供給・回収を行い、カセットポートが１個でも供給・回収は良好な、又作業場の空スペース比率を低減させたカラーフィルタ製造ラインシステムを提供する。【解決手段】プロセス装置Ｐｉ−２内にガラス基板を蓄積させるバッファー装置ＢＦを設け、該装置より前段にあるプロセス装置の処理時間を後段にあるプロセス装置の処理時間より短くし、カセットポートＣＳＰから近い位置に待機棚２１Ｔを設け、先行するカセットのガラス基板の全てが、プロセス装置へ投入される前までに、次のカセットを待機棚に移載すること。【選択図】図３
2008108878.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
自動倉庫と、複数の処理ラインの搬入装置及び搬出装置を接続させて配置し、該自動倉庫と、該搬入装置又は搬出装置との間でカセットの供給及び回収を行うカラーフィルタ製造ラインシステムにおいて、
１）前記処理ラインのプロセス装置内に、処理途上のガラス基板を待機・蓄積させるバッファー装置を設け、
２）前記バッファー装置より前段にあるプロセス装置のガラス基板１枚当たりの処理時間を、バッファー装置より後段にあるプロセス装置の処理時間より短いものとし、
３）前記搬入装置に１個のカセットポートを設け、
４）前記カセットポートから近い前記自動倉庫内の位置に、前記搬入装置へ次に供給するカセットを待機させる待機棚を設け、
前記カセットポートに載置された、先行するカセットに収納されているガラス基板の全てが、前段にあるプロセス装置へ投入される前までに、次に搬入装置に供給するカセットを前記待機棚に移載しておくことを特徴とするカラーフィルタ製造ラインシステム。
【請求項２】
前記カセットに収納されるガラス基板が６０枚以上で、後段にあるプロセス装置のガラス基板１枚当たりの処理時間が４０秒以上である際に、前段にあるプロセス装置のガラス基板１枚当たりの処理時間が３０秒以下であることを特徴とする請求項１記載のカラーフィルタ製造ラインシステム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラーフィルタ製造ラインにおけるカセットの供給及び回収、並びにカラーフィルタ製造ラインが占めるクリーンルーム内での空スペース比率の低減に関するものであり、特に、搬入装置に２個設けられているカセットポートの数を１個に減少させても、カセットの供給及び回収を良好に行うことが可能なカラーフィルタ製造ラインシステム、並びにこれによる初期建設コスト及び運用コストの増大を回避したカラーフィルタ製造ラインシステムに関する。
【背景技術】
【０００２】
図６は、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの一例を模式的に示した平面図である。また、図７は、図６に示すカラーフィルタのＸ−Ｘ’線における断面図である。
図６、及び図７に示すように、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタ（４）は、ガラス基板（４０）上にブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）、及び透明導電膜（４３）が順次に形成されたものである。
図６、及び図７はカラーフィルタを模式的に示したもので、着色画素（４２）は１２個表されているが、実際のカラーフィルタにおいては、例えば、対角１７インチの画面に数百μｍ程度の着色画素が多数個配列されている。
【０００３】
液晶表示装置の多くに用いられている、上記構造のカラーフィルタの製造方法としては、先ず、ガラス基板上にブラックマトリックスを形成し、次に、ブラックマトリックスが形成されたガラス基板上のブラックマトリックスのパターンに位置合わせして着色画素を形成し、更に透明導電膜を位置合わせして形成するといった方法が広く用いられている。ブラックマトリックス（４１）は、遮光性を有するマトリックス状のものであり、着色画素（４２）は、例えば、赤色、緑色、青色のフィルタ機能を有するものであり、透明導電膜（４３）は、透明な電極として設けられたものである。
【０００４】
ブラックマトリックス（４１）は、着色画素（４２）間のマトリックス部（４１Ａ）と、着色画素（４２）が形成された領域（表示部）の周辺部を囲む額縁部（４１Ｂ）とで構成されている。
ブラックマトリックスは、カラーフィルタの着色画素の位置を定め、大きさを均一なものとし、また、表示装置に用いられた際に、好ましくない光を遮蔽し、表示装置の画像をムラのない均一な、且つコントラストを向上させた画像にする機能を有している。
【０００５】
このブラックマトリックスの形成は、クロム成膜の処理ラインを用いてガラス基板（４０）上にブラックマトリックスの材料としてのクロム（Ｃｒ）、酸化クロム（ＣｒＯX ）などの金属、もしくは金属化合物を薄膜状に成膜し、成膜された薄膜上に、ブラックマトリックスの処理ラインを用いて、例えば、ポジ型のフォトレジストのエッチングレジストパターンを形成し、次に、成膜された金属薄膜の露出部分のエッチング及びエッチングレジストパターンの剥膜を行い、Ｃｒ、ＣｒＯX などの金属薄膜からなるブラックマトリックス（４１）を形成するといった方法がとられている。
或いは、ガラス基板（４０）上に、ブラックマトリックス形成用の黒色感光性樹脂を用いてフォトリソグラフィ法によってブラックマトリックス（４１）を形成するといった方法がとられている。
【０００６】
また、着色画素（４２）の形成は、このブラックマトリックスが形成されたガラス基板上に、着色画素の処理ラインを用いて、例えば、顔料などの色素を分散させたネガ型のフォトレジストの塗布膜を設け、この塗布膜への露光、現像によって着色画素を形成するといった方法がとられている。
また、透明導電膜（４３）の形成は、透明導電膜の処理ラインを用いて、着色画素が形成されたガラス基板上に、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）を用いスパッタ法によって透明導電膜を形成するといった方法がとられている。
【０００７】
図６、及び図７に示すカラーフィルタ（４）は、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタとして基本的な機能を備えたものである。液晶表示装置は、このようなカラーフィルタを内蔵することにより、フルカラー表示が実現し、その応用範囲が飛躍的に広がり、液晶カラーＴＶ、ノート型ＰＣなど液晶表示装置を用いた多くの商品が創出された。
多様な液晶表示装置の開発、実用に伴い、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタには、上記基本的な機能に付随して下記のような、種々な機能が付加されるようになった。
【０００８】
図６に示すカラーフィルタに追加される機能としては、例えば、保護層、フォトスペーサー、配向制御用突起、光路調整層、光散乱層などがあげられる。これら諸機能の内、そのカラーフィルタの用途、仕様にもとづき１機能或いは複数の機能が図６に示すカラーフィルタに追加される。
【０００９】
図８は、前記各種の処理ラインの内、着色画素の処理ラインの一例を示す説明図である。図８に例示する着色画素の処理ラインは、洗浄装置（１２）、塗布装置（１３）、膜厚／ムラ検査装置（１４）、露光装置（１５）、現像装置（１６）、ポストベーク装置（１７）、検査装置（１８）などのプロセス装置（Ｐ）と、搬入装置（ＬＤ）及び搬出装置（ＵＬＤ）で構成されている。
尚、ガラス基板は図示していないが、ガラス基板の動線を実線矢印で表している。
【００１０】
図８に示すように、ガラス基板は、搬入装置（ＬＤ）から洗浄装置（１２）へ搬入され、洗浄装置（１２）にて洗浄処理が施される。次に、洗浄装置（１２）から塗布装置（１３）へ搬送され、塗布装置（１３）にてフォトレジストが塗布される。塗布後に膜厚／ムラ検査装置（１４）へ搬送され、フォトレジストの塗膜の検査が行われる。
【００１１】
続いて、露光装置（１５）での露光、現像装置（１６）での現像、ポストベーク装置（１７）でのポストベーク、検査装置（１８）での検査が施され、パターンが形成されたガラス基板は、検査装置（１８）から搬出装置（ＵＬＤ）へと搬出される。
フォトレジストの塗布後に行われる膜厚／ムラ検査装置（１４）は、例えば、光学式非接触の膜厚検査と、マクロ画像を撮像するムラ検査を行うものであり、着色画素の処理ライン内に組み込まれた、所謂、インラインの検査装置である。また、検査装置（１８）は、例えば、外観検査装置であり、形成されたパターンの検査を行う。
【００１２】
カラーフィルタを製造するための、前記各種の処理を行う複数の処理ラインへのガラス基板の供給、及び処理ラインからの回収は、ガラス基板の大型化に伴い、ガラス基板のサイズが５５０ｍｍ×６５０ｍｍ程度になった第３世代からは、例えば、無軌道の無人搬送台車（ＡＧＶ）を使い、ガラス基板が収納されたカセット及び空のカセットが保管されている自動倉庫から各処理ラインへ、或いは各処理ラインから自動倉庫へカセットを搬送していた。
【００１３】
しかし、ガラス基板のサイズが１５００ｍｍ×１８００ｍｍ程度になった第６世代からは、無軌道の無人搬送台車（ＡＧＶ）はスペースを取りすぎるために、カラーフィルタ製造ラインの配置を自動倉庫と各処理ラインを接続させた配置として、自動倉庫から各処理ライン、或いは各処理ラインから自動倉庫へ直接にカセットの供給及び回収を行う方式が採用されるようになった。
【００１４】
図１は、自動倉庫と各処理ラインを接続させて配置し、カセットを直接に搬送する方式を採用した第６世代以降のカラーフィルタ製造ラインシステムの一例の概略を示す平面図である。
図１に示すように、このカラーフィルタ製造ラインシステムは、各種の処理を行う複数の処理ライン（Ｌ１〜Ｌｎ）と自動倉庫（２０）で構成されている。複数の処理ライン（Ｌ１〜Ｌｎ）は、前記クロム成膜の処理ライン、ブラックマトリックスの処理ライン、着色画素の処理ライン、透明導電膜の処理ライン、追加される層の処理ライン等であり、ある処理ライン（Ｌｉ）は、プロセス装置（Ｐｉ）と、搬入装置（ＬＤ）及び搬出装置（ＵＬＤ）で構成されている。
【００１５】
自動倉庫（２０）は、この複数の処理ライン（Ｌ１〜Ｌｎ）に対応した自動倉庫である。自動倉庫（２０）の長手方向（図１中、Ｙ軸方向）に対し、複数の処理ライン（Ｌ１〜Ｌｎ）は、その長手方向を垂直にして配置され、その搬入装置（ＬＤ）及び搬出装置（ＵＬＤ）は、自動倉庫（２０）に接続されている。
【００１６】
自動倉庫（２０）には、ガラス基板が収納されたカセット及び空のカセットが保管されている。自動倉庫（２０）は、搬入装置（ＬＤ）には、処理を行うガラス基板が収納されたカセットを供給し、また、ガラス基板が処理ラインへ投入されて空となった空のカセットを回収する。
また、自動倉庫（２０）は、搬出装置（ＵＬＤ）には、処理が施されたガラス基板を収納する空のカセットを供給し、また、ガラス基板が収納されたカセットを回収する。
【００１７】
図２は、図１に示す、ある処理ライン（Ｌｉ）及び対応している自動倉庫（２０）の一部を拡大した平面図である。図２に示すように、例示する図１における処理ライン（Ｌｉ）の搬入装置（ＬＤ）は、カセット（ＣＳ）を載置するカセットポート（ＣＳＰ）と、カセット（ＣＳ）からガラス基板をプロセス装置（Ｐｉ）へ投入する移載機構（例えば、移載ロボット）（Ｒ１）で構成されている。カセットポート（ＣＳＰ）は２個以上であり、各々にはカセット（ＣＳ）が載置されている状態が示されている。
【００１８】
また、搬出装置（ＵＬＤ）は、カセット（ＣＳ）を載置するカセットポート（ＣＳＰ）と、処理が施されたガラス基板をカセット（ＣＳ）に収納する移載機構（例えば、移載ロボット）（Ｒ２）で構成されている。カセットポート（ＣＳＰ）は３個以上であり、各々にはカセット（ＣＳ）が載置されている状態が示されている。
【００１９】
例示する図１における自動倉庫（２０）は、第１自動倉庫（２０Ａ）と第２自動倉庫（２０Ｂ）で構成されている。第１自動倉庫（２０Ａ）は、カセット（ＣＳ）を載置・保管する多段の棚（２１）が図２中、Ｙ軸方向に直線状に配列した第１ストッカー（２５Ａ）と、第１走行レール（２３Ａ）上をＹ軸方向に移動自在な第１スタッカークレーン（２２Ａ）で構成されている。
第１スタッカークレーン（２２Ａ）は、カセット（ＣＳ）を積載した状態で、上下移動が自在となっており、第１ストッカー（２５Ａ）の棚（２１）へカセット（ＣＳ）を載置し、或いは棚（２１）からカセット（ＣＳ）を取り出すことができるようになっている。
【００２０】
また、この第１スタッカークレーン（２２Ａ）は、積載したカセット（ＣＳ）を搬入装置（ＬＤ）又は搬出装置（ＵＬＤ）のカセットポート（ＣＳＰ）へ供給し、或いは、搬入装置（ＬＤ）又は搬出装置（ＵＬＤ）のカセットポート（ＣＳＰ）からカセット（ＣＳ）を回収することができるようになっている。また、第２自動倉庫（２０Ｂ）は、第１自動倉庫（２０Ａ）と同様な構成である。
また、第１自動倉庫（２０Ａ）と第２自動倉庫（２０Ｂ）の間には、両者を接続する、例えば、コンベア（２４）が設けられており、両者間でカセットの搬送を行うことができる
ようになっている。
【００２１】
図２に示すように、搬入装置（ＬＤ）及び搬出装置（ＵＬＤ）には、カセットポート（ＣＳＰ）が各々複数個設けられている。これは、プロセス装置（Ｐｉ）の処理能力に対し、スタッカークレーンの処理能力が小さいために、すなわち、プロセス装置（Ｐｉ）が１枚のガラス基板を処理する時間よりも、スタッカークレーンがカセットを回収してから、次のカセットを供給するまでの時間の方が長いために、カセットの供給が間に合わず、プロセス装置が一時停止してしまうのを回避するためである。
【００２２】
また、自動倉庫（２０）は、第１自動倉庫（２０Ａ）と第２自動倉庫（２０Ｂ）で構成されているが、これは、プロセス装置（Ｐｉ）の処理能力に対応したガラス基板（カセット）の収容能力を確保するために成されたものである。
尚、１基のスタッカークレーンが対応する処理ライン（Ｌｉ）の数は、３ライン程度である。
【００２３】
さて、上述したカラーフィルタ製造ラインシステムにおいては、図２に示すように、プロセス装置（Ｐｉ）の幅（Ｂ）よりも、搬入装置（ＬＤ）及び搬出装置（ＵＬＤ）の幅（Ａ１、Ａ２）の方が大きくなるために、搬入装置（ＬＤ）及び搬出装置（ＵＬＤ）とプロセス装置（Ｐｉ）の間に空スペース（Ｃ１、Ｃ２）が生じる。
これにより、カラーフィルタ製造ラインが占めるクリーンルーム内での空スペースの比率が増え、カラーフィルタ製造ラインの初期建設コスト及び運用コストが増大するといった問題を引き起こしている。
【００２４】
また、カセット（ＣＳ）が載置・保管されているストッカーの棚（２１）が、搬入装置（ＬＤ）又は搬出装置（ＵＬＤ）から遠方にある棚であると、例えば、その棚が処理ライン（Ｌｉ）と接続している第１自動倉庫（２０Ａ）内の棚ではなく、第２自動倉庫（２０Ｂ）内の棚である場合には、その棚に載置・保管されているカセット（ＣＳ）を搬入装置（ＬＤ）又は搬出装置（ＵＬＤ）まで搬送するのには相応の搬送時間を要することになる。
この搬送時間が長くなると、カセット（ＣＳ）の供給が間に合わず処理ライン（Ｌｉ）が一時停止することもあり得るといった状況にある。
【特許文献１】特開２００４−５４０１４号公報
【特許文献２】特開２００４−１０３９４７号公報
【特許文献３】特開２００４−１０９９６８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２５】
本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、上述したカラーフィルタ製造ラインシステムにおいて、カセットが搬入装置から遠方の棚に保管されていても、搬入装置までの搬送時間が長くならず、従って、処理ラインが一時停止を引き起こすことはなく、カセットの供給及び回収を行うことができ、更には、プロセス装置の処理能力に対し、スタッカークレーンの処理能力を大きなものとし、すなわち、プロセス装置が１枚のガラス基板を処理する時間よりも、スタッカークレーンがカセットを回収し、次のカセットを供給する時間の方を充分に短くし、搬入装置に２個以上設けられているカセットポートの数を１個に減少させても、カセットの供給及び回収を良好に行うことが可能なカラーフィルタ製造ラインシステムを提供することを課題とするものである。
【００２６】
また、上記カセットポートの数を１個に減少させることにより、カラーフィルタ製造ラインが占めるクリーンルーム内での空スペースの比率を低減させ、カラーフィルタ製造ラインの初期建設コスト及び運用コストの増大を回避することを課題とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００２７】
本発明は、自動倉庫と、複数の処理ラインの搬入装置及び搬出装置を接続させて配置し、該自動倉庫と、該搬入装置又は搬出装置との間でカセットの供給及び回収を行うカラーフィルタ製造ラインシステムにおいて、
１）前記処理ラインのプロセス装置内に、処理途上のガラス基板を待機・蓄積させるバッファー装置を設け、
２）前記バッファー装置より前段にあるプロセス装置のガラス基板１枚当たりの処理時間を、バッファー装置より後段にあるプロセス装置の処理時間より短いものとし、
３）前記搬入装置に１個のカセットポートを設け、
４）前記カセットポートから近い前記自動倉庫内の位置に、前記搬入装置へ次に供給するカセットを待機させる待機棚を設け、
前記カセットポートに載置された、先行するカセットに収納されているガラス基板の全てが、前段にあるプロセス装置へ投入される前までに、次に搬入装置に供給するカセットを前記待機棚に移載しておくことを特徴とするカラーフィルタ製造ラインシステムである。
【００２８】
また、本発明は、上記発明によるカラーフィルタ製造ラインシステムにおいて、前記カセットに収納されるガラス基板が６０枚以上で、後段にあるプロセス装置のガラス基板１枚当たりの処理時間が４０秒以上である際に、前段にあるプロセス装置のガラス基板１枚当たりの処理時間が３０秒以下であることを特徴とするカラーフィルタ製造ラインシステムである。
【発明の効果】
【００２９】
本発明は、自動倉庫と、搬入装置又は搬出装置との間でカセットの供給及び回収を直接に行うカラーフィルタ製造ラインシステムにおいて、１）処理ラインのプロセス装置内に、処理途上のガラス基板を待機・蓄積させるバッファー装置を設け、２）バッファー装置より前段にあるプロセス装置の処理時間を、バッファー装置より後段にあるプロセス装置の処理時間より短いものとし、３）自動倉庫内の、カセットポートから近い位置に、搬入装置へ次に供給するカセットを待機させる待機棚を設け、先行するカセットに収納されているガラス基板の全てが、前段にあるプロセス装置へ投入される前までに、次に搬入装置に供給するカセットを待機棚に移載しておくカラーフィルタ製造ラインシステムであるので、処理ラインが一時停止を引き起こすことはなく、カセットの供給及び回収を行うことができ、更には、搬入装置に２個設けられているカセットポートの数を１個に減少させても、カセットの供給及び回収を良好に行うことが可能なカラーフィルタ製造ラインシステムとなる。
【００３０】
また、上記カセットポートの数を１個に減少させることにより、カラーフィルタ製造ラインが占めるクリーンルーム内での空スペースの比率を低減させ、カラーフィルタ製造ラインの初期建設コスト及び運用コストの増大を回避することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
以下に本発明の実施の形態を詳細に説明する。
図１は、自動倉庫と各処理ラインを接続させて配置し、カセットを直接に搬送する方式を採用した第６世代以降の前記カラーフィルタ製造ラインシステムの一例の概略を示す平面図であるが、また、本発明によるカラーフィルタ製造ラインシステムの一例の概略を示す平面図を兼ねたものである。
【００３２】
図１に示すように、本発明によるカラーフィルタ製造ラインシステムは、各種の処理を行う複数の処理ライン（（Ｌ１−２）〜（Ｌｉ−２）〜（Ｌｎ−２））と自動倉庫（２０−２）で構成されている。複数の処理ライン（（Ｌ１−２）〜（Ｌｉ−２）〜（Ｌｎ−２））は、前記クロム成膜の処理ライン、ブラックマトリックスの処理ライン、追加される層の処理ライン等であり、ある処理ライン（Ｌｉ−２）は、プロセス装置（Ｐｉ−２）と、搬入装置（ＬＤ）及び搬出装置（ＵＬＤ）で構成されている。
【００３３】
図３は、図１に示す、ある処理ライン（Ｌｉ−２）及び対応している自動倉庫（２０−２）の一部を拡大した平面図である。図３に示すように、処理ライン（Ｌｉ−２）のプロセス装置（Ｐｉ−２）内には、処理している途上のガラス基板を待機・蓄積させるためのバッファー装置（ＢＦ）が設けられている。
バッファー装置（ＢＦ）よりも前段にあるプロセス装置（Ｐｉ−ｂｅ）のガラス基板１枚当たりの処理時間は、バッファー装置（ＢＦ）よりも後段にあるプロセス装置の処理時間より短いものとなっている。
【００３４】
また、処理ライン（Ｌｉ−２）の搬入装置（ＬＤ−２）は、カセット（ＣＳ）を載置するカセットポート（ＣＳＰ）と、カセット（ＣＳ）からガラス基板をバッファー装置（ＢＦ）よりも前段にあるプロセス装置（Ｐｉ−ｂｅ）へ投入する移載機構（例えば、移載ロボット）（Ｒ１）で構成されている。カセットポート（ＣＳＰ）は１個であり、カセット（ＣＳ）が載置されている状態が示されている。
【００３５】
また、搬出装置（ＵＬＤ）は、カセット（ＣＳ）を載置するカセットポート（ＣＳＰ）と、処理が施されたガラス基板をカセット（ＣＳ）に収納する移載機構（例えば、移載ロボット）（Ｒ２）で構成されている。カセットポート（ＣＳＰ）は３個であり、各々にはカセット（ＣＳ）が載置されている状態が示されている。
【００３６】
自動倉庫（２０−２）は、第１自動倉庫（２０Ａ−２）と第２自動倉庫（２０Ｂ）で構成されている。第１自動倉庫（２０Ａ−２）は、カセット（ＣＳ）を載置・保管する多段の棚（２１）が図３中、Ｙ軸方向に直線状に配列した第１ストッカー（２５Ａ）と、第１走行レール（２３Ａ）上をＹ軸方向に移動自在な第１スタッカークレーン（２２Ａ）で構成されている。
第１スタッカークレーン（２２Ａ）は、カセット（ＣＳ）を積載した状態で、上下移動が自在となっており、第１ストッカー（２５Ａ）の棚（２１）へカセット（ＣＳ）を載置し、或いは棚（２１）からカセット（ＣＳ）を取り出すことができるようになっている。
【００３７】
また、この第１スタッカークレーン（２２Ａ）は、積載したカセット（ＣＳ）を搬入装置（ＬＤ−２）又は搬出装置（ＵＬＤ）のカセットポート（ＣＳＰ）へ供給し、或いは、搬入装置（ＬＤ−２）又は搬出装置（ＵＬＤ）のカセットポート（ＣＳＰ）からカセット（ＣＳ）を回収することができるようになっている。
【００３８】
本発明における第１自動倉庫（２０Ａ−２）には、搬入装置（ＬＤ−２）のカセットポート（ＣＳＰ）へ次に供給するカセットを待機させるための待機棚（２１Ｔ）が設けられている。待機棚（２１Ｔ）は、第１自動倉庫（２０Ａ−２）内にあって、カセットポート（ＣＳＰ）から近い位置に、例えば、第１ストッカー（２５Ａ）の棚内でカセットポート（ＣＳＰ）に最も近い位置にある棚を待機棚（２１Ｔ）として設定する。
【００３９】
搬入装置（ＬＤ−２）のカセットポート（ＣＳＰ）に供給されたカセット（ＣＳ）から、移載機構（Ｒ１）によって、バッファー装置（ＢＦ）よりも前段にあるプロセス装置（Ｐｉ−ｂｅ）に投入されるガラス基板は、バッファー装置（ＢＦ）よりも後段にあるプロセス装置の処理時間より短い時間で前段の処理が終了するので、バッファー装置（ＢＦ）には次第にガラス基板が蓄積されてくる。
【００４０】
従って、従来よりも、投入開始からの経過時間が短い時間内で、カセット（ＣＳ）に収納されていたガラス基板の全ての投入は終了し、短い時間内に空のカセットの回収を開始することが可能となる。
また、空のカセットを回収してから、ガラス基板が収納されている次のカセットを供給するまでの間も、バッファー装置（ＢＦ）からの投入によりガラス基板には滞りなく、バッファー装置（ＢＦ）よりも後段にあるプロセス装置での各処理が施されることになる。
【００４１】
また、本発明における自動倉庫（２０−２）では、カセットポート（ＣＳＰ）に供給された、先行するカセットに収納されているガラス基板の全てが移載機構（Ｒ１）によって、バッファー装置（ＢＦ）よりも前段にあるプロセス装置（Ｐｉ−ｂｅ）へ投入される前までに、次に搬入装置（ＬＤ−２）のカセットポート（ＣＳＰ）へ供給するカセットは、自動倉庫（２０−２）内の棚（２１）から待機棚（２１Ｔ）へと移載が完了するようになっている。
【００４２】
この待機棚（２１Ｔ）は、カセットポート（ＣＳＰ）から近い位置に設けられているために、空のカセットを回収してから、ガラス基板が収納されている次のカセットを供給するまでの時間は極めて短い時間となる。
従って、搬入装置（ＬＤ−２）のカセットポート（ＣＳＰ）は１個であっても、時間の余裕は充分なものであり、滞りなくカセットの回収及び供給を行うとが可能となる。
【００４３】
図４は、カセットポート（ＣＳＰ）に供給された、先行するカセット（ＣＳ１）に収納されているガラス基板が、移載機構（Ｒ１）によってバッファー装置（ＢＦ）よりも前段にあるプロセス装置（Ｐｉ−ｂｅ）へ投入されている段階の説明図である。プロセス装置（Ｐｉ−２）での処理が終了したガラス基板は、順次に搬出装置（ＵＬＤ）のカセットへ収納されている。
また、バッファー装置（ＢＦ）には、投入開始から次第にガラス基板が蓄積され始めている。
【００４４】
例示するように、搬入装置（ＬＤ−２）のカセットポート（ＣＳＰ）へ、次に供給するカセット（ＣＳ２）は、第２自動倉庫（２０Ｂ）の棚（２１）に保管されている。点線矢印は、先行するカセット（ＣＳ１）に収納されているガラス基板の全てが、前段にあるプロセス装置（Ｐｉ−ｂｅ）へ投入される前までに、次に供給するカセット（ＣＳ２）を待機棚（２１Ｔ）に移載しておく際の動線を表している。
【００４５】
図５は、先行するカセット（ＣＳ１）に収納されているガラス基板の全てが、前段にあるプロセス装置（Ｐｉ−ｂｅ）へ投入される前までに、次に供給するカセット（ＣＳ２）の待機棚（２１Ｔ）への移載が完了した段階の説明図である。
次に供給するカセット（ＣＳ２）は、この状態で待機し、先行するカセット（ＣＳ１）が空になりカセットポート（ＣＳＰ）から回収された時点で優先的に直ちに待機棚（２１Ｔ）からカセットポート（ＣＳＰ）へ供給される。
【００４６】
具体的には、例えば、バッファー装置（ＢＦ）よりも後段にあるプロセス装置のガラス基板１枚当たりの処理時間を４５秒、また前段にあるプロセス装置のガラス基板１枚当たりの処理時間を３０秒とすると、ガラス基板１枚の処理当たり１５秒の余裕時間が生じる。
この際のカセットが収納できるガラス基板の枚数を６０枚とすると、１５秒×６０枚＝９００秒・枚、すなわち、カセット当たり１５分（９００秒／６０秒＝１５分）の余裕時間となる。
【００４７】
つまり、カセットの回収及び供給に対し、１５分間の時間が与えられたことになる。更には、待機棚（２１Ｔ）は、カセットポート（ＣＳＰ）から近い位置に設けられているので、空のカセットを回収してから、待機棚（２１Ｔ）にある次に供給するカセット（ＣＳ２）をカセットポート（ＣＳＰ）へ供給するまでの時間は極めて短い時間となる。従って、搬入装置（ＬＤ−２）のカセットポート（ＣＳＰ）は１個であっても、時間の余裕は充分なものであり、滞りなくカセットの回収及び供給を行うとが可能となる。
尚、カセット内に収納されたガラス基板６０枚の全てを前段にあるプロセス装置（Ｐｉ−ｂｅ）へ投入するのに要する時間は、３０秒×６０枚＝１８００秒（３０分）程度である。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】自動倉庫と各処理ラインを接続させて配置したカラーフィルタ製造ラインシステムの一例の概略、及び本発明によるカラーフィルタ製造ラインシステムの一例の概略を兼ねて示す平面図である。
【図２】図１に示す、従来の処理ライン及び対応している自動倉庫の一部を拡大した平面図である。
【図３】図１に示す、本発明における処理ライン及び対応している自動倉庫の一部を拡大した平面図である。
【図４】先行するカセットのガラス基板が前段にあるプロセス装置へ投入されている段階の説明図である。
【図５】先行するカセットのガラス基板の全てが、前段にあるプロセス装置へ投入される前までに、次に供給するカセットの待機棚への移載が完了した段階の説明図である。
【図６】液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの一例を模式的に示した平面図である。
【図７】図６に示すカラーフィルタのＸ−Ｘ’線における断面図である。
【図８】着色画素の処理ラインの一例を示す説明図である。
【符号の説明】
【００４９】
４・・・カラーフィルタ
１２・・・洗浄装置
１３・・・塗布装置
１４・・・膜厚／ムラ検査装置
１５・・・露光装置
１６・・・現像装置
１７・・・ポストベーク装置
１８・・・検査装置
２０・・・自動倉庫
２０−２・・・本発明における自動倉庫
２０Ａ・・・第１自動倉庫
２０Ａ−２・・・本発明における第１自動倉庫
２０Ｂ・・・第２自動倉庫
２１・・・カセットを載置・保管する棚
２１Ｔ・・・次にカセットを待機させる待機棚
２２Ａ・・・第１スタッカークレーン
２３Ａ・・・第１走行レール
２５Ａ・・・第１ストッカー
４０・・・ガラス基板
４１・・・ブラックマトリックス
４２・・・着色画素
４３・・・透明導電膜
ＢＦ・・・バッファ機構
ＣＳ・・・カセット
ＣＳＰ・・・カセットポート
Ｌ１〜Ｌｉ〜Ｌｎ・・・処理ライン
（Ｌ１−２）〜（Ｌｉ−２）〜（Ｌｎ−２）・・・本発明における処理ライン
ＬＤ・・・搬入装置
ＬＤ−２・・・本発明における搬入装置
Ｐ、Ｐｉ・・・プロセス装置
Ｐｉ−２・・・本発明におけるプロセス装置
Ｐｉ−ｂｅ・・・バッファー装置よりも前段にあるプロセス装置
Ｒ１、Ｒ２・・・移載機構
ＵＬＤ・・・搬出装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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