(57)【要約】      （修正有）【課題】露光・現像工程で、電極形成部分を除く部分を覆う、異物付着による電極同士ショートを防止する音叉型水晶振動片製造方法の提供。【解決手段】水晶振動片全体に電極膜形成の為の金属膜を形成する極膜電極膜形成工程ＳＴ１と、該金属膜上にフォトレジスト塗布し、フォトレジスト膜形成のフォトレジスト膜形成工程ＳＴ２と、音叉型水晶振動片上の表面に形成する為の電極パターンに対応したフォトマスクを介してフォトレジスト膜を露光・現像し、該電極パターンに対応した形状のフォトレジストパターン形成のフォトレジストパターン形成工程ＳＴ３と、フォトレジストパターン形成の圧電振動片を洗浄してをウエット状態のまま、フォトレジストパターンをマスクとして露出する金属膜をウエットエッチングにて除去し電極パターン形成の電極パターン形成工程ＳＴ４と、フォトレジストパターン除去のフォトレジスト剥離工程ＳＴ５とを備える。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の間隔を備えて分割された２つ以上の電極パターンが形成された圧電振動片の製造方法において、
前記圧電振動片に前記電極パターン形成用の金属膜を形成する金属膜形成工程と、
前記金属膜上の表面にフォトレジストを塗布し、フォトレジスト膜を形成するフォトレジスト膜形成工程と、
前記圧電振動片上に形成する前記電極パターンに対応したフォトマスクを介して前記フォトレジスト膜を露光・現像し、前記電極パターンに対応した形状のフォトレジストパターンを形成するフォトレジストパターン形成工程と、
前記フォトレジストパターンを形成した前記圧電振動片を純水により洗浄を行う洗浄工程と、
前記洗浄工程により、水分が付着した前記圧電振動片をウエット状態のまま、前記形成されたフォトレジストパターンをマスクとして、表面に露出している前記金属膜をウエットエッチングにより除去し、前記圧電振動片の表面に前記電極パターンを形成する電極パターン形成工程と、
前記電極パターン上に残存する前記フォトレジストパターンを除去し、前記形成された電極パターンを電極として形成するフォトレジスト剥離工程とを備える
ことを特徴とする圧電振動片の製造方法。
【請求項２】
前記圧電振動片は、基部から２本以上の腕部が同一方向に並列して延びる音叉型の平面形状を有している
ことを特徴とする請求項１に記載の圧電振動片の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、圧電振動片の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子機器における基準時間として使用される圧電振動子に対しては、これが使用される電子機器の小型化に伴い、圧電振動子のサイズが小型で、クリスタルインピーダンスの小さな値のものが要求されるようになってきている。この要求に対応する圧電振動片として、例えば音叉型の水晶振動片の場合は、従来、図６（ａ）、（ｂ）に示すように構成されたものが知られている。
【０００３】
ここで、従来の音叉型水晶振動片とこの製造方法について説明する。
図６は、従来の音叉型水晶振動片の概略の構成を示す図で、（ａ）は音叉型水晶振動片１００の上面図、図６（ｂ）は図６（ａ）のB−B線の概略断面図である。図７は、音叉腕の表面に金属膜をスパッタ等で配置し、その上にフォトレジスト膜を配置した状態を示す概略の断面図である。
【０００４】
図６（ａ）に示すように、従来の音叉型水晶振動片１００は、基部１１０と、この基部１１０から突出するように形成され、溝部１２０ａ，１３０ａが設けられている２本の音叉腕１２０，１３０を有している。この溝部１２０ａ，１３０ａは、図６（ａ）の音叉腕１２０，１３０の図示しない裏面にも同様に設けられることから、図６（ａ）のＢ−Ｂ断面図である図６（ｂ）に示す音叉腕１２０，１３０は、その断面形状が略Ｈ型に形成される。
【０００５】
この略Ｈ型の音叉型水晶振動片１００は、振動片の大きさを従来より非常に小さく小型化しても音叉腕１２０，１３０の振動損失を低くくでき、ＣＩ値（クリスタルインピーダンスまたは等価直列抵抗）も低く抑えることができる特性を有する。この結果、略Ｈ型の音叉型水晶振動片１００は、特に小型でも高精度な性能を求められる振動子に適し、例えば、共振周波数が３２．７６８ＫＨｚの小型の水晶振動子があり、この水晶振動子は、時計や電子機器に組み込まれて使用される。
【０００６】
上記した略Ｈ型の音叉型水晶振動片１００は、外部より電流が印加されると音叉腕１２０，１３０が振動するようになっている。具体的には、図６（ｂ）に示す溝部１２０ａ，１３０ａに溝電極１２０ｂ，１３０ｂが形成され、これら溝部１２０ａ，１３０ａが設けられていない、音叉腕１２０，１３０の側面である音叉腕側面１２０ｃ，１３０ｃに側面電極１２０ｄ，１３０ｄが形成される。そして、電流が印加されると溝電極１２０ｂ，１３０ｂと側面電極１２０ｄ，１３０ｄとの間で電界が生じ音叉腕１２０，１３０が振動するようになっている。音叉型水晶振動片については、特許文献１に開示されている。
【０００７】
このような溝電極１２０ｂ，１３０ｂや側面電極１２０ｄ，１３０ｄは、例えばＡｕ、Ｃｒ等からなり、図６（ａ）に示すように一定の間隔Ｗ２程度離して配置される。この配置は、フォトレジストを使用したフォトリソグラフィ技術により形成される。すなわち、まず、エッチングにより、音叉腕の表面及び裏面には溝を形成し、外形が形成された状態の音叉型水晶振動片が用意される。そして、そのフォトリソグラフィ技術によるフォトリソ工程において、図７に示すように、音叉腕１２０，１３０の表面に金属膜である電極膜１５０をスパッタ等で形成する。
【０００８】
次に、その電極膜１５０の上にフォトレジスト膜１６０を塗布しフォトマスクを介して露光・現像した後、純水でリンス（洗浄）し乾燥させて、フォトレジストパターンを形成する。乾燥は、形成されたフォトレジストパターンの良否を検査するために行われる。そして、このフォトレジストパターンをマスクとして露出した電極膜１５０のエッチングを行い、フォトレジストパターンを除去して、基部電極（不図示）を含めて、図６（ｂ）の溝電極１２０ｂ、１３０ｂや側面電極１２０ｄ、１３０ｄが形成される。
【０００９】
ところで、特許文献２に開示されている水晶デバイスの製造方法によれば、フォトリソグラフィー技術を用いた場合の電極形成工程において、水晶ウェハの表面に電極膜を形成し、電極膜を有する水晶ウェハを洗浄・乾燥させる。そして、フォトレジストの塗布、露光・現像によるレジストパターンの形成、このレジストパターンに基づくエッチング、レジスト剥離の工程を経て電極及び配線パターンが形成されること、が開示されている。
【００１０】
また、特許文献３に開示されている水晶振動子の製造工程では、水晶片への電極の蒸着前に、紫外光による光洗浄を行って、水晶片上に付着した有機物等を除去するとともに、水晶片上に電極を蒸着し、支持ピンを介して基台部に固定した後に、レーザ光洗浄を行い、水晶片上及び電極上に付着している微小ゴミ等を除去することが、開示されている。
【００１１】
また、特許文献４に開示されている振動片の製造方法では、フォトレジストパターンに対してレーザを照射してそのパターンの形状を調整するパターン形状調整工程を設け、電極同士の短絡等の不良を防止することが、開示されている。
【００１２】
【特許文献１】特開２００２−７６８２７号公報（図２）
【特許文献２】特開２００１−２２０２９３号公報（図２，図５）
【特許文献３】特開２００２−９５６７号公報（図２）
【特許文献４】特開２００３−１３３８７５号公報（図３）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
しかしながら、上記した従来の音叉型水晶振動片の製造方法には、次のような問題点があった。
すなわち、上述した略Ｈ型の音叉型水晶振動片の場合、例えば、共振周波数が３２．７６８ｋＨの小型の振動子等に搭載されるため、近年、特に小型化が強く要求されている。この要求に対して、例えば、図６（ａ）に示す、音叉腕１２０，１３０における横方向の幅や、また、溝部１２０ａ，１３０ａの横方向の幅について、小型化する必要がある。この結果、上述の溝電極１２０ｂ，１３０ｂと側面電極１２０ｄ，１３０ｄを配置する音叉腕表面１２０ｅ，１３０ｅにおける領域の幅Ｗ２が、僅少となってしまう。
【００１４】
そして、実際の製造工程における誤差を考慮すると溝電極１２０ｂ，１３０ｂと側面電極１２０ｄ，１３０ｄとが接触したり、その他の原因で短絡ショートを起こす可能性が増大し、水晶振動片の不良の原因ともなる。その短絡ショートを起こす原因の一つとして、上記した音叉型水晶振動片の製造方法において、電極形成部分を覆うマスクを介して露光・現像、そして、洗浄し、この後の乾燥させるまでの工程で異物が水晶ウェハ上に付着する虞がある。そして、その乾燥工程で、その異物が水晶ウェハ上のエッチング箇所に固着してしまい、後のエッチング工程においてその異物によりエッチングが阻害されて電極膜が残留し、溝電極と側面電極間でショートしてしまうという不具合があった。
【００１５】
この電極間でショートするという不具合を解決するための対策として、異物が混入する製造環境（クリーンルーム等）を改善し異物をなくすことは可能であるが、その製造環境改善のためのコストが必要となり、製造コストを押し上げる結果、水晶振動子がコスト高になってしまうという課題もあった。
【００１６】
また、特許文献３に開示されているレーザ光洗浄により、水晶片や電極膜上に付着している微小ゴミを除去する方法も可能である。しかしながら、レーザ光洗浄を行うためのレーザ光洗浄装置等の導入や新たに洗浄工程が必要となり、製造コストや水晶振動子の部品コストを押し上げるという課題もあった。同様に、特許文献４に開示されている振動片の製造方法でも、新たなレーザ照射装置やレーザ照射工程が必要となる。
【００１７】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたもので、その目的は、電極部を正確に形成し短絡等の不具合が発生し難い圧電振動片の製造方法を提供することにある。又、他の目的として、従来の製造工程に新たな製造設備や製造工程を追加をすることなく、短絡等の不具合を防止できる、低コストで簡単な音叉型圧電振動片の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
請求項１に記載の圧電振動片の製造方法は、所定の間隔を備えて分割された２つ以上の電極パターンが形成された圧電振動片の製造方法において、前記圧電振動片に前記電極パターン形成用の金属膜を形成する金属膜形成工程と、前記金属膜上の表面にフォトレジストを塗布し、フォトレジスト膜を形成するフォトレジスト膜形成工程と、前記圧電振動片上に形成する前記電極パターンに対応したフォトマスクを介して前記フォトレジスト膜を露光・現像し、前記電極パターンに対応した形状のフォトレジストパターンを形成するフォトレジストパターン形成工程と、前記フォトレジストパターンを形成した前記圧電振動片を純水により洗浄を行う洗浄工程と、前記洗浄工程により、水分が付着した前記圧電振動片をウエット状態のまま、前記形成されたフォトレジストパターンをマスクとして、表面に露出している前記金属膜をウエットエッチングにより除去し、前記圧電振動片の表面に前記電極パターンを形成する電極パターン形成工程と、前記電極パターン上に残存する前記フォトレジストパターンを除去し、前記形成された電極パターンを電極として形成するフォトレジスト剥離工程とを備える構成とする。
【００１９】
請求項２に記載の圧電振動片の製造方法では、前記圧電振動片が、基部から２本以上の腕部が同一方向に並列して延びる音叉型の平面形状を有する構成とする。
【発明の効果】
【００２０】
請求項１に記載の圧電振動片の製造方法によれば、露光・現像後純水により洗浄を行った後、ウエット状態のままエッチングを行い、フォトレジスト剥離後に圧電振動片を乾燥させるという工程を経る。すなわち、露光・現像し洗浄後には、圧電振動片の乾燥工程を入れず、続けてウエットエッチング工程に移行するので、エッチングが行われる箇所の異物の固着を抑制できる。異物が多少存在しても、異物が固着した状態にはないのでエッチング溶液に侵漬されることで異物は離反する。また、異物が完全に離反しなくとも、異物と除去されるべき電極膜との間にエッチング液が入り込み易い状態にあり、除去すべき電極膜が除去されて、電極間同士の短絡が抑制できるという効果が得られる。
【００２１】
請求項２に記載の圧電振動片の製造方法によれば、圧電振動片として、音叉型水晶振動片に適用することが好ましい。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
本発明の実施例１の音叉型水晶振動片の製造方法は、この水晶振動片全体に金属膜としての電極膜を形成する金属膜形成工程と、この電極膜上の表面にフォトレジストを塗布し、フォトレジスト膜を形成するフォトレジスト膜形成工程と、音叉型水晶振動片上に配線するための電極パターンに対応したフォトマスクを介して露光・現像し、電極パターンに対応した形状のフォトレジストパターンを形成するフォトレジストパターン形成工程と、フォトレジストパターンを形成した音叉型水晶振動片を純水により洗浄を行う洗浄工程と、この洗浄工程で水分が付着した音叉型水晶振動片をウエット状態のまま、フォトレジストパターンをマスクとして露出している金属膜をエッチングにより除去し、残存する金属膜を、音叉型水晶振動片の表面に電極パターンとして形成する電極パターン形成工程と、電極パターン上に残存するフォトレジストパターンを除去し、形成された電極膜を電極として形成するフォトレジスト剥離工程とを備える。  以下、本発明の好適な実施の形態について、図面を参照して説明する。
【実施例１】
【００２３】
（音叉型水晶振動片の構成）
図１は、本発明の実施例に係る音叉型水晶振動片を示す斜視図である。図２は、本発明の実施例に係る水晶振動片の製造方法で製造された音叉型水晶振動片を示す上面図である。
この音叉型水晶振動片１０は、図１に示すＸ軸が電気軸、Ｙ軸が機械軸及びＺ軸が光軸となるように水晶の単結晶から切り出される。電気軸が図１のＸ軸方向に配置されることにより、高精度が要求される携帯電話装置等の電子機器に好適な音叉型水晶振動片１０となる。
【００２４】
音叉型水晶振動片１０は、図１に示すように、基部１４と、この基部１４からＹ軸方向に同一に並列して延びる２本の音叉腕１２，１３とを有している音叉型の平面形状を有する水晶振動片である。この２本の音叉腕１２，１３の音叉腕表面１２ｅ，１３ｅには、図１に示すように溝部１２ａ，１３ａがそれぞれ形成されている。同様に、この溝部１２ａ，１３ａは２本の音叉腕１２，１３の裏面にも形成されている（不図示）。したがって、図２に示すように、音叉腕１２，１３には溝部１２ａ，１３ａが上下方向に設けられ、この略Ｈ型の音叉型水晶振動片１０に電極が形成されることになる。
【００２５】
（音叉型水晶振動片の電極構造）
ここで、図２および図３に基づいて、音叉型水晶振動片の電極構造について説明する。図３は、図２のA−A線における概略の断面図である。
このような音叉型水晶振動片１０には、図２に示すように、例えば金Ａｕ、クロムＣｒの２層から成る電極（図２において斜線部分）が形成され、下地としてＣｒ、上層がＡｕから構成されている。また、Ｃｒの代わりにニッケルＮｉやチタンＴｉを使用してもよい。
【００２６】
電極は、図２および図３に示すように、基部１４には基部電極１４ａが、音叉腕１２，１３の溝部１２ａ，１３ａには、溝電極１２ｂ，１３ｂがそれぞれ形成される。音叉腕１２，１３、それぞれの両側面の音叉腕側面１２ｃ，１３ｃには、側面電極１２ｄ，１３ｄが形成されている。これら溝電極１２ｂ，１３ｂと側面電極１２ｄ，１３ｄは、基部電極１４ａと接続されている。このため音叉型水晶振動片１０が載置されるパッケージ（不図示）等から電流が基部電極１４ａを介して溝電極１２ｂ，１３ｂ及び側面電極１２ｄ，１３ｄに供給される。そして、これら溝電極１２ｂ，１３ｂと側面電極１２ｄ，１３ｄとの間の音叉腕１２，１３内に電界が発生し、音叉腕１２，１３を振動させる構成となっている。
【００２７】
（音叉型水晶振動片の製造方法）
次に、本発明の実施例に係る音叉型水晶振動片の製造方法について、図４及び図５を参照して説明する。図４は、本発明の実施例に係る音叉型水晶振動片の製造工程（電極形成工程）を示す概略のフローチャートである。図５は、本発明の実施例に係る音叉型水晶振動片の音叉腕に電極が形成される工程を示す概略図である。
【００２８】
この音叉型水晶振動片１０は、例えば、図１に示すＸ軸が電気軸、Ｙ軸が機械軸及びＺ軸が光軸となるように水晶の単結晶から切り出され、音叉型に加工されて形成される。そして、水晶基板をエッチング等することで、図１に示す電極が形成されていない状態の音叉型の音叉腕１２が形成される（図５（ａ））。その後、この音叉型水晶振動片１０に電極を形成する。ここでは、電極の形成工程を音叉腕１２，１３を中心に説明し、音叉腕１３は音叉腕１２と同様であることから、音叉腕１２を基にして説明する。
【００２９】
最初に、本発明である音叉型水晶振動片の製造方法の特徴について説明する。すなわち、電極の形成工程において、フォトレジスト膜を露光・現像し純水により洗浄を行った後、ウエット状態のままウエットエッチングを行う理由について、説明する。
通常、フォトレジストパターンの現像後に水晶ウェハを乾燥させ、その仕上がりの確認のための検査を行うというのが、通常の手順である。ところで、図３に示す、溝電極１２ｂ，１３ｂと側面電極１２ｄ，１３ｄの間隔Ｗ１に異物等が付着し、これが乾燥時に固着するという現象が発生する。この結果、電極膜のエッチングの阻害、すなわち、電極膜を除去することができず、部分的に電極同士の短絡等を引き起こすという不具合が発生する。
【００３０】
このため、本実施例では、露光・現像後純水により洗浄を行た後、水晶ウェハの乾燥工程は入れず、続けてウエットエッチング工程に移行し、水分が付着したウエット状態のままウエットエッチングを行い、フォトレジスト剥離後に乾燥させるという工程を経るというものである。すなわち、ウエットエッチング工程では、水分が付着した水晶振動片がウエット状態にあるので、異物が存在していても異物が固着する状態が抑制されて、エッチング溶液に侵漬されることで異物は離反する。また、異物が完全に離反しなくとも、異物と除去されるべき電極膜との間にエッチング液が入り込み易い状態が確保されることになる。
【００３１】
図５（ａ）は、エッチングにより外形が形成された状態の音叉型水晶振動片の概略の断面図である。すなわち、水晶２０からなる水晶音叉腕１２の音叉腕表面１２ｅ及び音叉腕裏面１２ｆには溝部１２ａが形成されて、水晶音叉腕１２が形成される。このような音叉腕１２を含む音叉型水晶振動片１０の表面全体にスパッタ等により、音叉腕１２に配設される電極パターン形成のための金属膜である電極膜１５を形成する（金属膜形成工程  図４のＳＴ１）。この状態を示したのが図５（ｂ）である。
【００３２】
そして、音叉型水晶振動片１０の表面全体に電極膜１５を形成した後、図５（ｃ）に示すように電極膜１５の表面全体にフォトレジストを塗布し、フォトレジスト膜１６を形成する（フォトレジスト膜形成工程  図４のＳＴ２）。
【００３３】
次に、図５（ｄ）に示すように、フォトレジストパターン１７の形成を行う。すなわち、音叉腕１２に配設される電極パターンの形状に対応するフォトマスク１８を介して、紫外線ランプ（不図示）から紫外線をフォトレジスト膜１６に照射して（露光）、照射されたフォトレジスト膜１６を現像液で取り除く（現像）。ここでは、水晶音叉腕１２の音叉腕表面１２ｅだけでなく、音叉腕裏面１２ｆを含めた両面について、露光、現像を行い、電極パターンの形状に対応するフォトレジストパターン１７が形成されることになる（フォトレジストパターン形成工程  図４のＳＴ３）。そして、フォトレジストパターン１７を形成した音叉型水晶振動片１０について、純水により洗浄を行う。
【００３４】
次に、先の洗浄工程で水分が付着した音叉型水晶振動片１０をウェット状態のまま、図５（ｅ）に示すように、フォトレジストパターン１７をマスクとして表面に露出した電極膜１５をウエットエッチングにより除去し、残存する電極膜１５を電極パターン１９として形成する（電極パターン形成工程  図４のＳＴ４）。さらに、図５（ｆ）に示すように、電極パターン１９上に残るフォトレジストパターン１７が除去され（フォトレジスト剥離工程  図４のＳＴ５）、電極パターン１９は溝電極１２ｂ、側面電極１２ｄとして、所定の間隔を備え、正確に分割されて形成される。
【００３５】
これらの電極形成工程では、音叉型水晶振動片１０全体について、基部電極１４ａも併せて所定の形状で形成され、音叉型水晶振動片１０の電極として、溝電極１２ｂ，１３ｂ、側面電極１２ｄ，１３ｄ、基部電極１４ａが配置されることになる。そして、フォトレジスト剥離工程後に水晶ウェハを遠心乾燥等で乾燥させ（乾燥工程  図４のＳＴ６）、電極形成の最終工程として、顕微鏡等を使用して目視により電極の不具合を確認するための検査を実施する（検査工程  図４のＳＴ７）。
【００３６】
（実施例から得られる効果）
次に、本発明の実施例１に係る音叉型水晶振動片の製造方法から得られる効果について、説明する。
本発明の実施例１の音叉型水晶振動片の製造方法は、この水晶振動片全体に金属膜としての電極膜を形成する金属膜形成工程と、この電極膜上の表面にフォトレジストを塗布し、フォトレジスト膜を形成するフォトレジスト膜形成工程と、音叉型水晶振動片上に配線するための電極パターンに対応したフォトマスクを介して露光・現像し、電極パターンに対応した形状のフォトレジストパターンを形成するフォトレジストパターン形成工程と、フォトレジストパターンを形成した水晶振動片を純水により洗浄を行う洗浄工程と、この洗浄工程で水分が付着した水晶振動片をウエット状態のまま、フォトレジストパターンをマスクとして表面に露出している金属膜をウエットエッチングにより除去し、残存する金属膜を、水晶振動片の表面に電極パターンとして形成する電極パターン形成工程と、電極パターン上に残存するフォトレジストパターンを除去し、形成された電極膜を電極として形成するフォトレジスト剥離工程とを備える。
【００３７】
すなわち、露光・現像後純水により洗浄を行った後、ウエット状態でエッチングを行い、フォトレジストを剥離して音叉型水晶振動片を乾燥させるという工程を経る。従って、露光・現像し洗浄後には、音叉型水晶振動片の乾燥工程を入れず、続けてウエットエッチング工程に移行するので、エッチングが行われる箇所の異物の固着を抑制できる。異物が多少存在しても、異物が固着した状態にはないのでエッチング溶液に侵漬されることで異物は離反する。また、異物が完全に離反しなくとも、異物と除去されるべき電極膜との間にエッチング液が入り込み易い状態にあり、除去すべき電極膜が除去されて、電極間同士の短絡が抑制できる。そして、電極間同士の短絡が回避される結果、歩留まりが改善できるという効果がある。
【００３８】
また、露光・現像後純水により洗浄を行い、乾燥させることなくウエット状態のままウエットエッチングを行うという簡単な工程、すなわち、異物を排除するための製造環境の改善や新たな設備の導入、そして、異物を排除するための新たな製造工程を設ける必要がないので、簡単かつ安価な製造工程が実現できる効果がある。又、簡単かつ安価な製造工程が得られる結果、音叉型水晶振動片のコスト増が抑制されるという効果がある。
【００３９】
（変形例）
本発明の実施例では、２本の音叉腕を有する音叉型水晶振動片として説明したが、これに限定されず、２本以上例えば、ジャイロセンサや振動型ジャイロスコープに使用される３本の音叉腕を有する三脚音叉型水晶振動片であっても同様の効果を有する。
【００４０】
また、本発明の実施例に係る圧電振動片の製造方法では、水晶振動片を実施例として説明したが、縦振動水晶振動片や水晶センサ、水晶フィルタ等の各種の水晶デバイスの製造において、フォトリソグラフィ技術を用いてエッチング加工により、水晶ウェハを所望の形状に成形、そして、電極形成に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】本発明の実施例に係る音叉型水晶振動片を示す斜視図である。（実施例１）
【図２】本発明の実施例に係る音叉型水晶振動片の製造方法で製造された音叉型水晶振動片を示す上面図である。（実施例１）
【図３】図２のA−A線における概略の断面図である。（実施例１）
【図４】本発明の実施例に係る音叉型水晶振動片の製造工程を示す概略のフローチャートである。（実施例１）
【図５】本発明の実施例に係る音叉型水晶振動片の音叉腕に電極が形成される工程を示す概略図である。（実施例１）
【図６】従来の音叉型水晶振動片の概略の構成を示す図で、（ａ）はその上面図、（ｂ）は、（ａ）のＢ−Ｂ線における概略断面図である。
【図７】音叉腕の表面に金属膜をスパッタ等で配置し、その上にフォトレジスト膜を配置した状態を示す概略の断面図である。
【符号の説明】
【００４２】
１０…音叉型水晶振動片
１２，１３…音叉腕、１２ａ，１３ａ…溝部、１２ｂ，１３ｂ…溝電極、
１２ｃ，１３ｃ…音叉腕側面、１２ｄ，１３ｄ…側面電極、
１２ｅ，１３ｅ…音叉腕表面、  １２ｆ，１３ｆ…音叉腕裏面、
１４…基部、１４ａ…基部電極、１５…電極膜、１６…フォトレジスト膜、
１７…フォトレジストパターン、１９…電極パターン、
１８…フォトマスク、  ２０…水晶。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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