(57)【要約】【課題】製造工程中の歪みの発生、再生専用光ディスクとしての多層化におけるピット形状のバラツキの回避等が可能な光ディスクの製造方法を提供する。【解決手段】グルーブ付樹脂スタンパ１上に、紫外線硬化型の樹脂Ｘを滴下し、樹脂Ｘ上に平板状樹脂スタンパ２を積層させ、平板状樹脂スタンパ２を介して紫外線ＵＶを照射して紫外線樹脂Ｘを硬化させてグルーブ転写層ＧＴを形成し、グルーブ付樹脂スタンパ１を剥離し、平板状樹脂スタンパ２に積層されたグルーブ転写層ＧＴ上に記録層４を形成することを繰り返し実行し、グルーブ転写層ＧＴ及び記録層４がこの順に積層された平板状樹脂スタンパ２の記録層４上に基板６を接着し、次いで平板状樹脂スタンパ２のみを剥離して記録層４及びグルーブ転写層ＧＴが積層された基板６を形成する。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録層と、樹脂層と、が積層されてなる単位層が、基板上に一又は複数積層されてなる光ディスクにおいて、
一の前記単位層を構成する前記樹脂層上に他の前記単位層を構成する前記記録層が積層され、
各前記単位層内において、前記樹脂層は前記記録層側にグルーブ及び／又はピットを有する構成とされており、
更に各前記単位層において、前記樹脂層側から再生光又は記録光のいずれか一方を前記記録層に照射することで、当該記録層に対して情報の再生又は記録のいずれか一方を行うことを特徴とする光ディスク。
【請求項２】
請求項１に記載の光ディスクにおいて、
当該光ディスクにおいて最も外側に積層されている前記樹脂層の前記再生光又は前記記録光の入射側の表面が、実質的に平坦であることを特徴とする光ディスク。
【請求項３】
請求項１に記載の光ディスクにおいて、
各前記記録層は、反射層と色素記録層とを夫々含み、
当該各前記記録層において、前記反射層が前記基板側に、前記色素記録層が前記基板側と反対の側に夫々配置されていることを特徴とする光ディスク。
【請求項４】
請求項３に記載の光ディスクにおいて、
前記基板に最も近い前記反射層を除く他の各前記反射層は、前記再生光又は前記記録光に対して半透過性を有することを特徴とする光ディスク。
【請求項５】
請求項１に記載の光ディスクにおいて、
各前記樹脂層は紫外線硬化樹脂により夫々形成されていることを特徴とする光ディスク。
【請求項６】
請求項１に記載の光ディスクにおいて、
各前記単位層における前記記録層及び前記グルーブ及び／又はピットが、前記光ディスクにおける前記基板とは反対の側から見て相互に同一の位相構造を有することを特徴とする光ディスク。
【請求項７】
グルーブ及び／又はピット付樹脂スタンパ上に、液状の紫外線硬化樹脂を滴下させる第１工程と、
前記紫外線硬化樹脂上に平板状樹脂スタンパを積層させ、当該平板状樹脂スタンパを介して紫外線を照射して前記紫外線硬化樹脂を硬化させ、第１グルーブ及び／又はピット転写層を形成する第２工程と、
前記グルーブ及び／又はピット付樹脂スタンパを剥離し、グルーブ及び／又はピット転写層が積層された前記平板状樹脂スタンパを形成する第３工程と、
前記平板状樹脂スタンパに積層された第１グルーブ及び／又はピット転写層上に記録層を形成する第４工程と、
を繰り返し実行し、グルーブ及び／又はピット転写層及び記録層がこの順に積層された平板状樹脂スタンパを複数枚作成し、
前記第４工程により形成された積層構造を有する平板状樹脂スタンパの前記記録層上に基板を接着し、次いで前記平板状樹脂スタンパのみを剥離して前記記録層及び前記グルーブ及び／又はピット転写層が積層された前記基板を形成する第５工程と、
前記第５工程により形成された積層構造を有する前記基板の前記グルーブ及び／又はピット転写層上に、前記第４工程により形成された積層構造を有する前記平板状樹脂スタンパの前記記録層を向かい合わせて貼り合せ、次いで前記平板状樹脂スタンパのみを剥離する第６工程と、
を含むことを特徴とする光ディスクの製造方法。
【請求項８】
グルーブ及び／又はピット付樹脂スタンパ上に液状の紫外線硬化樹脂を滴下させる第１工程と、
硬化後の前記紫外線硬化樹脂に対して前記グルーブ及び／又はピット付樹脂スタンパより密着性の良い平板状樹脂スタンパを前記紫外線硬化樹脂上に積層させ、当該平板状樹脂スタンパを介して紫外線を照射して前記紫外線樹脂を硬化させ、第１グルーブ及び／又はピット転写層を形成する第２工程と、
前記グルーブ及び／又はピット付樹脂スタンパを剥離し、グルーブ及び／又はピット転写層が積層された平板状樹脂スタンパを形成する第３工程と、
前記平板状樹脂スタンパに積層された第１グルーブ及び／又はピット転写層上に記録層を形成する第４工程と、
を繰り返し実行し、グルーブ及び／又はピット転写層及び記録層がこの順に積層された平板状樹脂スタンパを複数枚作成し、
前記第４工程により形成された積層構造を有する平板状樹脂スタンパの前記記録層上に、硬化後の前記紫外線硬化樹脂に対して前記平板状樹脂スタンパより密着性の良い基板を接着し、次いで前記平板状樹脂スタンパのみを剥離して前記記録層及び前記グルーブ及び／又はピット転写層が積層された基板を形成する第５工程と、
前記第５工程により形成された積層構造を有する前記基板の前記グルーブ及び／又はピット転写層上に、前記第４工程により形成された積層構造を有する前記平板状樹脂スタンパの前記記録層を向かい合わせて貼り合せ、次いで前記平板状樹脂スタンパのみを剥離する第６工程と、
を含むことを特徴とする光ディスクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本願は、光ディスク及び光ディスクの製造方法の技術分野に属し、より詳細には、高記録密度化された光ディスク及び当該高記録密度化のための光ディスクの製造方法の技術分野に属する。
【背景技術】
【０００２】
従来、高記録密度の光ディスクとして、いわゆるＤＶＤ（Digital Versatile Disc）が広く一般化しつつあるが、近年では、当該ＤＶＤを更に高記録密度化し、例えばいわゆるハイビジョン規格に則って放送された映画等の動画像を例えば二時間程度記録することが可能な光ディスクに関する研究開発が活発に行われている（以下、当該光ディスクを単に高記録密度光ディスクと称する）。
【０００３】
ここで、当該高記録密度光ディスクは、上記ＤＶＤに対するその構造上の特徴として、例えば、
（ア）ＤＶＤにおいて基板側から記録／再生光を入射させるのに対し、保護層側から当該記録／再生光を入射させる。
（イ）当該保護層の厚さが、例えば０．１ミリメートル程度であり、ＤＶＤより格段に薄い。
（ウ）当該記録／再生光の波長がＤＶＤ用のものより短い
等の特徴を有している。
【０００４】
一方、更なる高記録密度化を図るべく、上記高記録密度光ディスクにおいても多層化のための研究開発が行われている。
【０００５】
ここで、一般的な上記光ディスクの多層化においては、例えばＤＶＤについての下記特許文献１に例示されるように、例えばポリカーボネイト素材の基板に対して直接紫外線硬化樹脂を用いてグルーブ（グルーブトラック）を転写形成する方法が数多く提案されている。
【特許文献１】特開２００５−１０８３４３公報（第１図、第２図）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながらこの場合、色素媒体等の塗布型の高記録密度光ディスクを形成する場合は、いわゆるグルーブトラックとランドトラック夫々の位相が本来の位相に対して逆となるため、結果として記録／再生信号の位相も逆にする必要があり、また当該記録／再生信号の信号品質自体も余り良好なものが得られ難いという問題点がある。
【０００７】
他方、再生専用の高記録密度光ディスクの場合でも、反射膜を積層した面が読み取り面となるため、膜厚によって位相ピットの形状が変化し、これにより所望の特性に位相ピットの形状を合わせるのが難しくなるという問題点がある。そして、この問題点を解決すべく、例えばいわゆるナノインプリント技術等を用いて厚さ０．１ミリメートルのフィルムにグルーブを形成する方法が提案されているが、この方法では、当該厚さのフィルムのまま例えば色素膜のコーティングやスパッタ等の工程に入れなければならず、結果として、工程中に当該フィルム自体に歪み変形等が生じるおそれがあるという問題点があった。
【０００８】
そこで、本願は上記の各問題点に鑑みて為されたもので、その課題の一例は、製造工程中の歪みの発生、再生専用光ディスクとしての多層化する場合における膜厚に起因するピット形状のバラツキ、及び記録／再生光ディスクにおけるグルーブトラックとランドトラックとの構造上の位相の逆転の回避、のいずれもが可能な多層型光ディスクの製造方法及び当該製造方法により製造された光ディスクを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記の課題を解決するために、請求項１に記載の発明は、記録層と、樹脂層と、が積層されてなる単位層が、基板上に一又は複数積層されてなる光ディスクにおいて、一の前記単位層を構成する前記樹脂層上に他の前記単位層を構成する前記記録層が積層され、各前記単位層内において、前記樹脂層は前記記録層側にグルーブ及び／又はピットを有する構成とされており、更に各前記単位層において、前記樹脂層側から再生光又は記録光のいずれか一方を前記記録層に照射することで、当該記録層に対して情報の再生又は記録のいずれか一方を行うように構成されている。
【００１０】
上記の課題を解決するために、請求項７に記載の発明は、グルーブ及び／又はピット付樹脂スタンパ上に、液状の紫外線硬化樹脂を滴下させる第１工程と、前記紫外線硬化樹脂上に平板状樹脂スタンパを積層させ、当該平板状樹脂スタンパを介して紫外線を照射して前記紫外線硬化樹脂を硬化させ、第１グルーブ及び／又はピット転写層を形成する第２工程と、前記グルーブ及び／又はピット付樹脂スタンパを剥離し、グルーブ及び／又はピット転写層が積層された前記平板状樹脂スタンパを形成する第３工程と、前記平板状樹脂スタンパに積層された第１グルーブ及び／又はピット転写層上に記録層を形成する第４工程と、を繰り返し実行し、グルーブ及び／又はピット転写層及び記録層がこの順に積層された平板状樹脂スタンパを複数枚作成し、前記第４工程により形成された積層構造を有する平板状樹脂スタンパの前記記録層上に基板を接着し、次いで前記平板状樹脂スタンパのみを剥離して前記記録層及び前記グルーブ及び／又はピット転写層が積層された前記基板を形成する第５工程と、前記第５工程により形成された積層構造を有する前記基板の前記グルーブ及び／又はピット転写層上に、前記第４工程により形成された積層構造を有する前記平板状樹脂スタンパの前記記録層を向かい合わせて貼り合せ、次いで前記平板状樹脂スタンパのみを剥離する第６工程と、を含む。
【００１１】
上記の課題を解決するために、請求項８に記載の発明は、グルーブ及び／又はピット付樹脂スタンパ上に液状の紫外線硬化樹脂を滴下させる第１工程と、硬化後の前記紫外線硬化樹脂に対して前記グルーブ及び／又はピット付樹脂スタンパより密着性の良い平板状樹脂スタンパを前記紫外線硬化樹脂上に積層させ、当該平板状樹脂スタンパを介して紫外線を照射して前記紫外線樹脂を硬化させ、第１グルーブ及び／又はピット転写層を形成する第２工程と、前記グルーブ及び／又はピット付樹脂スタンパを剥離し、グルーブ及び／又はピット転写層が積層された平板状樹脂スタンパを形成する第３工程と、前記平板状樹脂スタンパに積層された第１グルーブ及び／又はピット転写層上に記録層を形成する第４工程と、を繰り返し実行し、グルーブ及び／又はピット転写層及び記録層がこの順に積層された平板状樹脂スタンパを複数枚作成し、前記第４工程により形成された積層構造を有する平板状樹脂スタンパの前記記録層上に、硬化後の前記紫外線硬化樹脂に対して前記平板状樹脂スタンパより密着性の良い基板を接着し、次いで前記平板状樹脂スタンパのみを剥離して前記記録層及び前記グルーブ及び／又はピット転写層が積層された基板を形成する第５工程と、前記第５工程により形成された積層構造を有する前記基板の前記グルーブ及び／又はピット転写層上に、前記第４工程により形成された積層構造を有する前記平板状樹脂スタンパの前記記録層を向かい合わせて貼り合せ、次いで前記平板状樹脂スタンパのみを剥離する第６工程と、を含む。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
次に、本願を実施するための最良の形態について、図面に基づいて説明する。なお、以下に説明する実施形態は、上記高記録密度光ディスクを製造する場合に対して本願を適用した場合の実施の形態である。
【００１３】
（I）高記録密度光ディスクの実施形態
始めに、本願に係る第１実施形態について、図１乃至図３を用いて説明する。なお、図１は第１実施形態に係る高記録密度光ディスクの構造を示す断面図であり、図２は第１実施形態に係る高記録密度光ディスク（単層型）の製造方法を示す工程図であり、図３は第１実施形態に係る高記録密度光ディスク（多層型）の製造方法を示す工程図である。
【００１４】
第１実施形態に係る高記録密度光ディスクとしては、図１（ａ）に示す如き単層型の高記録密度光ディスクＤと、図１（ｂ）に示す如き多層型（図１（ｂ）の場合は二層型）の高記録密度ＤＬと、がある。
【００１５】
このとき、高記録密度光ディスクＤは、図１（ａ）に示すように、アルミニウム又は金蒸着膜等よりなる反射膜５と、例えば色素膜等からなり、情報が光学的に記録されるグルーブトラックＧが形成されている記録層４と、当該記録層４及びグルーブトラックＧを保護する機能を担う樹脂層３と、が、ＰＣ基板よりなる基板６上に積層された構造を備えている。この構成において、基板の厚さは例えば１．１ミリメートル程度であり、樹脂層３におけるその表面からグルーブトラックＧまでの厚さは例えば０．１ミリメートル程度である。
【００１６】
ここで、当該グルーブトラックＧに対する情報の記録／再生用の光ビームＢは、当該記録／再生の対象となるグルーブトラックＧに集光するように樹脂層３側から入射し、反射膜５により反射されて図示しない光ディテクタにおいて受光される。
【００１７】
これに対し、多層型の上記高記録密度光ディスクＤＬは、高記録密度光ディスクＤの場合と同様の構成を備える反射膜５、記録層４Ｂ及び樹脂層３Ｂと、半透過性の反射膜７と、高記録密度光ディスクＤの場合と同様の構成を備える記録層４Ａ及び樹脂層３Ａと、が、高記録密度光ディスクＤの場合と同様の構成を備える基板６上に積層された構造を備えている。この構成において、第１層としての記録層３Ａには第１グルーブトラックＧ１が形成されており、更に第２層としての記録層３Ｂには第２グルーブトラックＧ２が形成されている。
【００１８】
ここで、各グルーブトラックＧ１及びＧ２に対する情報の記録／再生用の光ビームＢは、当該記録／再生の対象となるグルーブトラックＧ１又はＧ２に集光するように樹脂層３Ａ側から入射される。そして、第１グルーブトラックＧ１に対して情報の記録／再生を実行する場合には、当該光ビームＢは当該第１グルーブトラックＧ１に集光するように入射され、反射膜７により反射されて図示しない光ディテクタにおいて受光される。
【００１９】
これに対し、第２グルーブトラックＧ２に対して情報の記録／再生を実行する場合には、当該光ビームＢの一部が反射膜７を透過した上で当該第２グルーブトラックＧ２に集光するように入射され、反射膜５により反射されて図示しない光ディテクタにおいて受光される。
【００２０】
（II）高記録密度光ディスクの製造方法の第１実施形態
次に、図１にその構造を示した高記録密度光ディスクＤ又はＤＬの製造方法の第１実施形態について、図２乃至図４を用いて説明する。なお、図２は第１実施形態に係る製造方法の原理を説明する図であり、図３は当該製造方法を用いて単層型の高記録密度光ディスクＤを製造する際の工程を示す工程図であり、図４は当該製造方法を用いて多層型の高記録密度光ディスクＤＬを製造する際の工程を示す工程図である。
【００２１】
（Ａ）第１実施形態に係る製造方法の原理
初めに、本願の第１実施形態に係る製造方法について具体的に説明する前に、当該第１実施形態に係る製造方法の原理について、図２を用いて説明する。
【００２２】
上記高記録密度光ディスクＤ又はＤＬの開発過程において、本願の発明者らは、上記樹脂層３（又は３Ａ或いは３Ｂ）の材料として紫外線硬化樹脂を用いる場合、当該硬化用の紫外線の照射方向により樹脂基板への密着度に相違があることを発見した。
【００２３】
すなわち、例えば図２（ａ）に示すように、液状の紫外線硬化樹脂Ｘを同一材料の樹脂基板（例えば、非晶質ポリオレフィン系樹脂「Ｚｅｏｎｏｒ（登録商標。以下、同様）１４３０」）１００と１０１とを用いて挟み込み、これに対して図２（ｂ）に示すように樹脂基板１０１側から硬化用の紫外線ＵＶを照射し、当該紫外線硬化樹脂Ｘを高記録密度光ディスクＤ又はＤＬの製造時と同様の条件で硬化させる。
【００２４】
そして、図２（ｃ）に示すように、紫外線硬化樹脂Ｘが硬化して樹脂層１０２が形成された後、樹脂基板１００及び１０１を夫々に樹脂層１０２から剥離させる実験を行ったところ、紫外線ＵＶが照射された側で樹脂層１０２に密着していた樹脂基板１０１の方が、樹脂基板１００よりも樹脂層１０２から剥がれ難いことが確認された。
【００２５】
ここで、上述した如く、硬化用の紫外線ＵＶの照射方法により樹脂基板１００又は１０１への密着度に相違がある（換言すれば、剥がれ易さに相違がある）ことの理由としては、本願の発明者らは、
（ア）紫外線ＵＶが入射される側の方が、その反対側よりも紫外線硬化樹脂Ｘの重合が多く進行し、それによって、その入射側に配置されている樹脂基板１０１との密着性も強くなるから。
（イ）紫外線硬化樹脂Ｘの重合に寄与する結合手の数自体が紫外線ＵＶの入射側ほど多くなるため、その側にある樹脂基板１０１の密着に影響を与える当該結合手も多くなり、結果的に樹脂基板１０１の方が密着度が高くなるから。
【００２６】
の二つを考察する。
【００２７】
そして、第１実施形態に係る製造方法では、上記の実験結果を応用して新規且つ有用な製造方法を実現した。
【００２８】
（Ｂ）第１実施形態に係る製造方法
次に、当該第１実施形態に係る製造方法を、具体的に図３及び図４を用いて説明する。
【００２９】
初めに、単層型の高記録密度光ディスクＤの製造に用いられる第１実施形態に係る製造方法について、図３を用いて説明する。
【００３０】
単層型の高記録密度光ディスクＤの製造に用いられる第１実施形態に係る製造方法は、図３に示すように、初めに図１（ａ）に示すグルーブトラックＧを形成するためのグルーブ（溝）が形成されたグルーブ付樹脂スタンパ１（その材質は、図２に示す樹脂基板１００等と同様である）上に液状の紫外線硬化樹脂Ｘを滴下し（図３（ａ）参照）、次に、グルーブ付樹脂スタンパ１と同一材料の平板型樹脂スタンパ２を紫外線硬化樹脂Ｘ側から押し付け、当該紫外線硬化樹脂Ｘをグルーブ付樹脂スタンパ１の各グルーブ内に充填させる（図３（ｂ）参照）。
【００３１】
次に、紫外線硬化樹脂Ｘを硬化させるための紫外線ＵＶを、平板型樹脂スタンパ２の側から予め設定されている時間及び強度にて照射し、当該紫外線硬化樹脂Ｘ全体を完全に硬化させて樹脂層３とする（図３（ｃ）参照）。その後、上記グルーブ付樹脂スタンパ１を当該樹脂層３から剥離してグルーブ転写層ＧＴを形成する（図３（ｄ）参照）。
【００３２】
そして、当該グルーブ転写層ＧＴの天地を逆にした後に、将来的にグルーブトラックＧ及び記録層４となる色素をグルーブ側にコーティングして当該記録層４を形成し（図３（ｅ）参照）、更に当該記録層４上に反射層５を形成する（図３（ｆ）参照）。
【００３３】
その後、当該反射層５上に基板６となるポリカーボネート樹脂基板を積層／接着し（図３（ｇ）参照）、最後に平板型樹脂スタンパ２を樹脂層３から剥離することで、グルーブトラックＧがその記録層４内に形成された単層型の高記録密度光ディスクＤが完成する。
【００３４】
次に、多層型の高記録密度光ディスクＤＬの製造に用いられる第１実施形態に係る製造方法について、図４を用いて説明する。なお、図４に示す工程において、図３に示す工程と同一の構成部材については、同一の部材番号を付して細部の説明は省略する。
【００３５】
多層型の高記録密度光ディスクＤＬの製造に用いられる第１実施形態に係る製造方法は、図４に示すように、初めに、図３に示したグルーブ転写層ＧＴ上に記録層４としての色素をコーティングし更に半透過性の反射層７を形成した積層単位層Ｕを、「積層数−１」の数（第１実施形態の場合は一個）だけ形成する（図４（ａ）及び（ｂ）参照）。
【００３６】
次に、図３に示した工程をもって高記録密度光ディスクＤを形成する。このとき、当該高記録密度光ディスクＤにおける樹脂層３は高記録密度光ディスクＤＬにおける樹脂層３Ｂに相当し、更に記録層４は記録層４Ｂに相当することとなる（図１（ｂ）参照）。そして、当該樹脂層３Ｂ側の表面に、上記積層単位層Ｕの反射層７側の表面を貼り合わせる（図４（ｃ）参照）。その後、当該貼り合わせた積層単位層Ｕにおける平板型樹脂スタンパ２を樹脂層３Ａから剥離して、多層型の高記録密度光ディスクＤＬが完成する（図４（ｄ）参照）。
【００３７】
なお、積層単位層Ｕを二層以上積層する場合は、平板型樹脂スタンパ２を剥離したその表面に、更に積層する積層単位層Ｕの反射層７側の表面を貼り合わせることを、最終的な積層数に対応する数だけ繰り返すこととなる。
【００３８】
以上説明したように、第１実施形態に係る高記録密度光ディスクＤ又はＤＬの製造方法によれば、硬化後の紫外線硬化樹脂Ｘに対する各樹脂スタンパの密着性が、当該紫外線硬化樹脂における紫外線ＵＶの入射方向と当該紫外線硬化樹脂に対する樹脂スタンパが配置される位置との関係により異なることを利用してグルーブ転写層ＧＴを形成し、これを用いて当該グルーブ転写層及び記録層を形成した平板状樹脂スタンパを複数形成して積層することで高記録密度光ディスクＤ又はＤＬを形成するので、グルーブ転写層ＧＴ及び記録層４が平板状樹脂スタンパ２に密着した状態で取り扱われることで、当該グルーブ転写層ＧＴ及び記録層４に対する工程上の歪みの発生を抑制することができる。
【００３９】
また、グルーブ転写層ＧＴを形成した上で記録層４を形成するので、再生専用の高記録密度光ディスクＤＬを多層化する場合における膜厚に起因するピット形状のバラツキ、及び記録／再生光ディスクとしての高記録密度光ディスクＤ又はＤＬにおけるグルーブトラックＧとランドトラックとの構造上の位相の逆転を回避することができる。
【００４０】
なお、上述した第１実施形態に係る製造方法においては、それに用いられる紫外線硬化樹脂Ｘは一種類に限定されるものではない。
【００４１】
また、当該第１実施形態では、積層単位層Ｕを複数形成し、最後にそれらを貼り合せて多層型の高記録密度光ディスクＤＬを形成したが、紫外線ＵＶを常に平板状樹脂スタンパ２の側から照射することにより、グルーブ形成用樹脂スタンパの転写、剥離及び成膜を繰り返して積層し、最後に基板６と貼り合せた後平板状樹脂スタンパ２を剥離するように構成することも可能である。
【００４２】
（III）高記録密度光ディスクの製造方法の第２実施形態
次に、図１にその構造を示した高記録密度光ディスクＤ又はＤＬの製造方法の第２実施形態について、図５を用いて説明する。なお、図５は第２実施形態に係る製造方法を用いて多層型の高記録密度光ディスクＤＬを製造する際の工程を示す工程図であり、図３又は図４に示す工程図と同一の部材については、同一の部材番号を付して細部の説明は省略する。
【００４３】
上述した第１実施形態に係る製造方法においては、グルーブ付樹脂スタンパ１及び平板状樹脂スタンパ２としては同一の材料を用いていたが、以下に説明する第２実施形態に係る製造方法においては、硬化後の紫外線硬化樹脂（樹脂層３）に対する密着度が、後述するグルーブ付樹脂スタンパ１１、平板状樹脂スタンパ１２及び基板夫々において、元々、
「グルーブ付樹脂スタンパ１１の密着度」＜「平板状樹脂スタンパ１２の密着度」
＜「基板の密着度」
となるように、当該グルーブ付樹脂スタンパ１１、平板状樹脂スタンパ１２及び基板夫々の材料が選択されている。例えば、グルーブ付樹脂スタンパ１１は、非晶質ポリオレフィン系樹脂「Ｚｅｏｎｏｒ１４３０」、平板状樹脂スタンパ１２は、非晶質ポリオレフィン系樹脂「Ｚｅｏｎｏｒ１０６０」、基板をポリカーボネート樹脂とする。
【００４４】
そして、積層型の高記録密度光ディスクＤＬの製造に用いられる第２実施形態に係る製造方法は、図５に示すように、初めに図１（ｂ）に示すグルーブトラックＧ１を形成するためのグルーブ（溝）が形成されたグルーブ付樹脂スタンパ１１上に液状の紫外線硬化樹脂Ｘを滴下し（図５（ａ）参照）、次に、上記平板型樹脂スタンパ１２を紫外線硬化樹脂Ｘ側から押し付け、当該紫外線硬化樹脂Ｘをグルーブ付樹脂スタンパ１１の各グルーブ内に充填させる（図５（ｂ）参照）。
【００４５】
次に、紫外線硬化樹脂Ｘを硬化させるための紫外線ＵＶを、平板型樹脂スタンパ１２の側から予め設定されている時間及び強度にて照射し、当該紫外線硬化樹脂Ｘ全体を完全に硬化させて樹脂層３とする（図５（ｃ）参照）。その後、上記グルーブ付樹脂スタンパ１１を当該樹脂層３から剥離してグルーブ転写層ＧＴ２を形成する（図５（ｄ）参照）。
【００４６】
そして、当該グルーブ転写層ＧＴ２の天地を逆にした後に、将来的にグルーブトラックＧ及び記録層４となる色素をグルーブ側にコーティングして当該記録層４を形成し（図５（ｅ）参照）、更に半透過性の反射層７を形成した積層単位層Ｕ２を、「積層数−１」の数（第２実施形態の場合は一個）だけ形成する（図５（ｆ）参照）。
【００４７】
次に、他のグルーブ付樹脂スタンパ１１上に液状の紫外線硬化樹脂Ｘを滴下し（図５（ｇ）参照）、上記図５（ｆ）に示す積層単位層Ｕ２の工程により形成された積層単位層Ｕ２の天地を逆としたものを重ね合わせ（図５（ｈ）参照）、上記図５（ｃ）に示した校庭に戻って紫外線ＵＶを照射する。
【００４８】
これ以降、図５（ｃ）乃至（ｈ）に示した工程を積層数に対応する数だけ繰り返し、最後に基板６となるＰＣ基板を反射層５が形成された積層単位層Ｕ２の当該反射層５側に接着した後に残っている平板状樹脂スタンパ１３を剥離することで、多層型の高記録密度光ディスクＤＬが完成する。
【００４９】
なお、第２実施形態に係る製造方法を用いて単層型の高記録密度光ディスクＤを形成する場合には、図５（ｆ）に示す反射膜７に代えて、記録層４上に反射膜５を形成し、更に当該反射膜５の表面に基板６を接着した上で平板状樹脂スタンパ１２を樹脂層３から剥離すればよい。
【００５０】
以上説明したように、第２実施形態に係る高記録密度光ディスクＤ又はＤＬの製造方法によれば、硬化後の紫外線硬化樹脂Ｘに対する各樹脂スタンパの密着性が相互に異なることを利用してグルーブ転写層ＧＴ２を形成し、これを用いて当該グルーブ転写層ＧＴ２及び記録層４を形成した平板状樹脂スタンパ１２を複数形成して積層することで高記録密度光ディスクＤ又はＤＬを形成するので、グルーブ転写層ＧＴ２及び記録層４が平板状樹脂スタンパ１２に密着した状態で取り扱われることで、当該グルーブ転写層ＧＴ２及び記録層４に対する工程上の歪みの発生を抑制することができる。
【００５１】
また、グルーブ転写層ＧＴ２を形成した上で記録層４を形成するので、再生専用の高記録密度光ディスクＤＬを多層化する場合における膜厚に起因するピット形状のバラツキ、及び記録／再生光ディスクとしての高記録密度光ディスクＤ又はＤＬにおけるグルーブトラックＧとランドトラックとの構造上の位相の逆転を回避することができる。
【００５２】
なお、上述した第１実施形態及び第２実施形態に係る製造方法は、夫々に、上述した高記録密度光ディスクＤ又はＤＬとしての色素系追記型光ディスク、書き換え型光ディスクその他の光ディスクの製造に適用可能である。
【００５３】
また、グルーブ付樹脂スタンパ１又は１１を用いてグルーブを転写する構成を示したが、ピット付き樹脂スタンパ又はグルーブ及びピット付樹脂スタンパを用いてピット、又はピット及びグルーブを転写し、グルーブ及び／又はピットを有する多層ディスクとしても良い。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】実施形態に係る高記録密度光ディスクの概要構成を示す断面図であり、（ａ）は単層型の高記録密度光ディスクの概要構成を示す断面図であり、（ｂ）は積層型の高記録密度光ディスクの概要構成を示す断面図である。
【図２】第１実施形態に係る製造方法の原理を示す工程図であり、（ａ）は第一工程を示す断面図であり、（ｂ）は第二工程を示す断面図であり、（ｃ）は第三工程を示す断面図であり、（ｄ）は第四工程を示す断面図である。
【図３】第１実施形態に係る単層型の高記録密度光ディスクの製造方法を示す工程図であり、（ａ）は第一工程を示す断面図であり、（ｂ）は第二工程を示す断面図であり、（ｃ）は第三工程を示す断面図であり、（ｄ）は第四工程を示す断面図であり、（ｅ）は第五工程を示す断面図であり、（ｆ）は第六工程を示す断面図であり、（ｇ）は第七工程を示す断面図であり、（ｈ）は第八工程を示す断面図である。
【図４】第１実施形態に係る積層型の高記録密度光ディスクの製造方法を示す工程図であり、（ａ）は第一工程を示す断面図であり、（ｂ）は第二工程を示す断面図であり、（ｃ）は第三工程を示す断面図であり、（ｄ）は第四工程を示す断面図である。
【図５】第２実施形態に係る積層型の高記録密度光ディスクの製造方法を示す工程図であり、（ａ）は第一工程を示す断面図であり、（ｂ）は第二工程を示す断面図であり、（ｃ）は第三工程を示す断面図であり、（ｄ）は第四工程を示す断面図であり、（ｅ）は第五工程を示す断面図であり、（ｆ）は第六工程を示す断面図であり、（ｇ）は第七工程を示す断面図であり、（ｈ）は第八工程を示す断面図である。
【符号の説明】
【００５５】
１、１１    グルーブ付樹脂スタンパ
２、１２    平板型樹脂スタンパ
３、３Ａ、３Ｂ、１０２    樹脂層
４、４Ａ、４Ｂ    記録層
５、７    反射膜
６、１００、１０２    基板
Ｇ    グルーブトラック
Ｂ    光ビーム
Ｄ、ＤＬ    高記録密度光ディスク
Ｘ    紫外線硬化樹脂
Ｇ１    第１グルーブトラック
Ｇ２    第２グルーブトラック
ＵＶ    紫外線
ＧＴ、ＧＴ２    グルーブ転写層
Ｕ、Ｕ２    積層単位層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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