(57)【要約】【課題】正確な画像の読み取りや、高い再現性の画像の書き込みが可能な光ビーム走査装置を提供し、この光ビーム走査装置を備えることにより正確な画像の読み取りの可能な画像読み取り装置や、高い再現性の画像の書き込みの可能な画像記録装置を提供する。【解決手段】光ビームを出射する光源と、該光源から出射した光ビームを走査させる光ビーム走査部と、光ビームの走査方向に延在し、入射面と対向する面に拡散領域と透過領域が交互に形成された光ガイド部材と、を有する光ビーム走査装置において、光ガイド部材は、入射する光ビームの入射角が大きくなるに従い、拡散領域と透過領域との所定の境界位置のピッチが小さく形成されている光ビーム走査装置とする。【選択図】図３
2008309853.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ビームを出射する光源と、該光源から出射した光ビームを偏向させ走査させる光ビーム走査部と、光ビームの走査方向に延在し、該光ビームの入射面と対向する面に拡散領域と透過領域が交互に形成された光ガイド部材と、を有する光ビーム走査装置において、
前記光ガイド部材は、入射する光ビームの入射角が大きくなるに従い、前記拡散領域と前記透過領域との所定の境界位置のピッチが小さく形成されていることを特徴とする光ビーム走査装置。
【請求項２】
前記拡散領域と前記透過領域との境界位置のピッチは、前記光ガイド部材に入射する光ビームの入射面から対向する面までの厚みと、前記光ガイド部材の前記波長に対する屈折率と、前記光ガイド部材に入射する光ビームの入射角とに基づいて形成されていることを特徴とする請求項１に記載の光ビーム走査装置。
【請求項３】
前記光ガイド部材の厚みをＤ、入射する光ビームの波長に対する前記光ガイド部材の屈折率をｎ、前記光ガイド部材に入射する光ビームの入射角が０°の位置を原点とし、該原点から実走査線上を所定の長さで刻んだＮ番目の位置を像高Ｙの位置とし、該像高Ｙの位置に向かう光ビームのうちの、前記光ガイド部材に入射する光ビームの入射角をθN、前記光ガイド部材に入射する光ビームの入射位置の原点からの距離をＹθNとし、前記光ガイド部材に形成される前記拡散領域と前記透過領域の所望の境界位置のうち、原点からＮ番目の境界位置の原点からの距離をＹNとしたとき、
ＹN＝ＹθN＋Ｄｔａｎ（ｓｉｎ-1（ｓｉｎθN／ｎ））
を満足するよう境界位置が形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の光ビーム走査装置。
【請求項４】
前記光ビーム走査部で偏向させ走査された光ビームを、前記光ガイド部材へ向かう光ビームと画像情報用の光ビームに分割する光分割器を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光ビーム走査装置。
【請求項５】
前記光ビーム走査部へ入射する光ビームは複数あり、少なくとも一つの光ビームは前記光ガイド部材へ向かう光ビームであり、少なくとも一つの光ビームは画像情報用に用いられる光ビームであることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の光ビーム走査装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の光ビーム走査装置を備えたことを特徴とする画像読取装置。
【請求項７】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の光ビーム走査装置を備えたことを特徴とする画像記録装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画像情報の読み取りや書き込みを行うための光ビーム走査装置及び該光ビーム走査装置を備えた画像読取装置並びに画像記録装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来より、半導体レーザから発振された光ビームを、回転多面鏡やガルバノメータミラー等により反射偏向させ走査する光ビーム走査装置が知られており、画像読取装置や画像記録装置に用いられている。
【０００３】
この光ビーム走査装置において、走査されている光ビームの位置を検知する方式として、走査直前の光ビームを検知して光ビーム位置を初期化するものがある。しかしながら、この方式では、画像の読み取りや書き込みに際し走査中のジッタの影響で歪みを生じる場合がある。このジッタによる歪みは、より正確な画像の読み取りや、より高い再現性の画像の書き込みを行おうとする際には問題となる。
【０００４】
一方、ジッタの影響を受けない方式として、光ビームが走査領域内を走査中に実時間的に走査位置を検知し、この検知結果を用いて情報の読み取りや書き込みのタイミングを制御することで、正確な画像の読み取りや、高い再現性の画像の書き込みを行おうとするものがある。
【０００５】
この光ビームの走査中に実時間的に走査位置を検知し制御するものとして、光ビームの走査方向に延在して格子状の拡散面を形成した柱体状の光ガイド部材を備え、光ガイド部材の一端部側に光センサを取り付けて、この光センサの出力信号に基づいて、画像等の読み取り或いは記録を行う光ビーム走査装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平２−１２１２０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記特許文献１に記載されている光ガイド部材に形成された格子状の拡散面のピッチ等の配列等については何ら記載されておらず、例えば、格子状の拡散面を等間隔に形成した場合には以下のような問題がある。
【０００７】
図８は、光ガイド部材に入射する光ビームの挙動を示す図である。
【０００８】
同図において、８は光ガイド部材である。光ビームＬＢ0〜ＬＢNは、不図示の光ビーム走査部により光ガイド部材８に入射する。光ガイド部材８には、入射面より厚さＤの対向する面に、不図示であるが、拡散領域と透過領域が交互に形成されている。この拡散領域と透過領域が交互に形成された面は、画像等の読み取り或いは記録を行う面と共役な位置に配置されている。
【０００９】
光ガイド部材８に入射する波長λの光ビームＬＢ0〜ＬＢNは、入射面での入射角と、波長λに対する屈折率ｎ（λ）に基づいて屈折し、拡散領域と透過領域が交互に形成された面に到達する。例えば、図示の如く、入射角θNで入射する光ビームＬＢNは、スネルの法則に基づいて角度αN方向に屈折して直進し、図示ＢNの位置に達することになる。また、入射角θN-1で入射する光ビームＬＢN-1は、同様にスネルの法則に基づいて角度αN-1方向に屈折して直進し、図示ＢN-1の位置に達することになる。
【００１０】
光ガイド部材８に入射した光ビームＬＢNの到達点ＢNと光ビームＬＢN-1の到達点ＢN-1との間の距離ＸNは、光ガイド部材８がない場合の光ビームＬＢNの到達点ＡNと光ビームＬＢN-1の到達点ＡN-1との距離Ｘｓとは、異なる長さとなる。
【００１１】
このため、光ガイド部材の光ビームの入射面に対向する面に格子状の拡散面を等間隔に形成すると、入射角の増大に伴い、読み取り又は書き込みの為の光ビームの実走査位置と光ガイド部材の光センサで検出した走査位置とに、ズレが生じ正確な画像の読み取りや、高い再現性の画像の書き込みが困難となる。
【００１２】
図９は、図８で説明した問題を有した光ビーム走査装置を用いて画像書き込みを行った結果を模式的に示した図である。
【００１３】
同図は、正方形が碁盤目状に並べられた画像のデータを、光ビームの入射面と対向する面に格子状の拡散面を等間隔に形成した光ガイド部材を備えた光ビーム走査装置を用いて書き込んだ場合の書き込み結果を示している。
【００１４】
同図に示すように、正方形が碁盤目状に並べられた画像のデータが、光ビーム走査方向の中央部から周辺部に向かうに従い、升目が累進的に横方向に伸びた画像となって書き込まれることになる。
【００１５】
本発明は上記問題に鑑み、正確な画像の読み取りや、高い再現性の画像の書き込みが可能な光ビーム走査装置を提供し、この光ビーム走査装置を備えることにより正確な画像の読み取りの可能な画像読み取り装置や、高い再現性の画像の書き込みの可能な画像記録装置を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
上記の目的は、下記に記載する発明により達成される。
【００１７】
１．光ビームを出射する光源と、該光源から出射した光ビームを偏向させ走査させる光ビーム走査部と、光ビームの走査方向に延在し、該光ビームの入射面と対向する面に拡散領域と透過領域が交互に形成された光ガイド部材と、を有する光ビーム走査装置において、前記光ガイド部材は、入射する光ビームの入射角が大きくなるに従い、前記拡散領域と前記透過領域との所定の境界位置のピッチが小さく形成されていることを特徴とする光ビーム走査装置。
【００１８】
２．前記拡散領域と前記透過領域との境界位置のピッチは、前記光ガイド部材に入射する光ビームの入射面から対向する面までの厚みと、前記光ガイド部材の前記波長に対する屈折率と、前記光ガイド部材に入射する光ビームの入射角とに基づいて形成されていることを特徴とする１に記載の光ビーム走査装置。
【００１９】
３．前記光ガイド部材の厚みをＤ、入射する光ビームの波長に対する前記光ガイド部材の屈折率をｎ、前記光ガイド部材に入射する光ビームの入射角が０°の位置を原点とし、該原点から実走査線上を所定の長さで刻んだＮ番目の位置を像高Ｙの位置とし、該像高Ｙの位置に向かう光ビームのうちの、前記光ガイド部材に入射する光ビームの入射角をθN、前記光ガイド部材に入射する光ビームの入射位置の原点からの距離をＹθNとし、前記光ガイド部材に形成される前記拡散領域と前記透過領域の所望の境界位置のうち、原点からＮ番目の境界位置の原点からの距離をＹNとしたとき、
ＹN＝ＹθN＋Ｄｔａｎ（ｓｉｎ-1（ｓｉｎθN／ｎ））
を満足するよう境界位置が形成されていることを特徴とする１又は２に記載の光ビーム走査装置。
【００２０】
４．前記光ビーム走査部で偏向させ走査された光ビームを、前記光ガイド部材へ向かう光ビームと画像情報用の光ビームに分割する光分割器を有することを特徴とする１〜３のいずれかに記載の光ビーム走査装置。
【００２１】
５．前記光ビーム走査部へ入射する光ビームは複数あり、少なくとも一つの光ビームは前記光ガイド部材へ向かう光ビームであり、少なくとも一つの光ビームは画像情報用に用いられる光ビームであることを特徴とする１〜４のいずれかに記載の光ビーム走査装置。
【００２２】
６．１〜５のいずれかに記載の光ビーム走査装置を備えたことを特徴とする画像読取装置。
【００２３】
７．１〜５のいずれかに記載の光ビーム走査装置を備えたことを特徴とする画像記録装置。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によれば、正確な画像の読み取りや、高い再現性の画像の書き込みが可能な光ビーム走査装置及び、画像読み取り装置並びに、画像記録装置の提供が可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下、実施の形態により本発明を詳しく説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００２６】
本発明に係る光ビーム走査装置は、画像読取装置や、画像記録装置等に適用可能なものであり、本実施の形態においては、放射線画像読取装置における輝尽性蛍光体プレートに励起光を照射する光ビーム走査装置を例に取り説明する。
【００２７】
図１は、本実施の形態に係る光ビーム走査装置を備えた放射線画像読取装置の一例の要部概略を示す斜視図である。図２は、図１に示した放射線画像読取装置の要部概略を示す側断面図である。
【００２８】
図１及び図２に示す放射線画像読取装置１００は、輝尽性蛍光体プレート２０、輝尽性蛍光体プレート２０に励起光であるレーザ光を走査させながら照射する光ビーム走査装置１０、輝尽性蛍光体プレート２０からの輝尽光を集光する集光光学系３０、及び集光された輝尽光を検出する光電変換素子である光電子増倍管４０から構成されている。
【００２９】
光ビーム走査装置１０は、波長λの光ビームを発する光源である半導体レーザ１、半導体レーザ１からのレーザ光を平行光にするコリメートレンズ２、コリメートレンズ２からの平行光をポリゴンミラー４上で線状に集光させるシリンドリカルレンズ３、回転することでシリンドリカルレンズ３からの光を図中Ｘ方向に走査させる光ビーム走査部であるポリゴンミラー４、ポリゴンミラー４からの走査光を等速走査させるｆθレンズ５、ｆθレンズ５からの走査光束を折り曲げる反射ミラー６、反射ミラー６で折り曲げられた光束を走査位置検出用光ビームと画像情報用光ビームに分割する光分割器であるハーフミラー７、ハーフミラー７で分割された走査位置検出用光ビームが入射される光ガイド部材８等から構成されている。なお、本例ではハーフミラー７により反射された光束が走査位置検出用光ビームとして光ガイド部材８へ向かい、ハーフミラー７を透過した光束が画像情報用光ビームとして用いられているが、逆の構成でもよい。
【００３０】
なお、光ビームの波長λは、本例のような放射線画像読取装置の輝尽性蛍光体プレートの励起光としては５５０〜７５０ｎｍが好ましい。
【００３１】
光ガイド部材８は、図示の如く、走査位置検出用光ビームの走査方向に延在し、走査位置検出用光ビームの入射面と対向する面（本例の様な円柱状の場合は、中心軸に対し略１８０°方向を指す）には、走査方向に沿って拡散領域と透過領域が交互に形成された格子状拡散部８ｇが形成されている。また、光ガイド部材８の一端部側には光センサである光電子増倍管等の光電変換素子９が配設されている。
【００３２】
光ガイド部材８に入射した走査位置検出用光ビームが、透過領域に達した場合には、光ガイド部材８を通過し、光電変換素子９の出力は変化しない。一方、光ガイド部材８に入射した走査位置検出用光ビームが拡散領域に達した場合には、光ガイド部材８内部で拡散され、光電変換素子９により受光光量に応じた出力が出力される。これにより、走査位置検出用光ビームの走査位置を実時間的に検知することができるようになっている。
【００３３】
集光光学系３０は、輝尽性蛍光体プレート２０の幅方向（図中Ｘ方向）に亘って設けられ輝尽性蛍光体プレート２０からの輝尽光を集光管３２に向けて導光する平板状の導光板３１、集光管３２で構成され、集光管３２の端部には光電子増倍管４０が設けられている。
【００３４】
半導体レーザ１から発せられた波長λのレーザ光は、ポリゴンミラー４により図中Ｘ方向（主走査方向）に走査される。これにより、輝尽性蛍光体プレート２０の幅方向に亘ってレーザ光が照射される。この際、輝尽性蛍光体プレート２０を不図示の移動手段により図中Ｙ方向（副走査方向）に移動させることにより、輝尽性蛍光体プレート２０の全面に亘って二次元的にレーザ光が照射される。
【００３５】
励起光であるレーザ光を輝尽性蛍光体プレート２０上で走査させることにより、レーザ光の照射された位置での、輝尽性蛍光体プレート２０に蓄積されている放射線エネルギーに対応した３００〜５００ｎｍの波長の輝尽光が発生する。
【００３６】
発生した輝尽光は、導光板３１の輝尽性蛍光体プレート２０に対向する入射端面から入射し、導光板３１内部で反射しながら出射端面に導かれ、集光管３２に到達する。
【００３７】
集光管３２は、輝尽性蛍光体プレート１０の幅方向に沿って断面積が変化する略円錐台形状をしており、光電子増倍管４０が設けられている端部の方が断面積が広くなっている。集光管３２に到達した輝尽光は、集光管３２内部で反射を繰り返しながら断面積の広い端部に向かって集光され、集光管３２の端部に集光された輝尽光は、光電子増倍管４０に入射することにより電気信号に変換される。
【００３８】
即ち、光ガイド部材８に入射した走査位置検出用光ビームの走査位置を、光電変換素子９によって実時間的に検知して、画像情報用光ビームの走査位置とし、この画像情報用光ビームの走査位置での輝尽性蛍光体プレート２０で発生する輝尽光の強度を光電子増倍管４０で検出する。この動作を２次元的に行うことで、輝尽性蛍光体プレート２０全面に記録された放射線データを読み込み、不図示の記憶媒体に記録することで放射線画像が読み取られる。
【００３９】
なお、主走査方向での輝尽光のデータ読み取りの周波数が、形成された格子状拡散部８ｇで得られる周波数のｍ倍の場合は、走査位置検出用光ビームの光電変換素子９の出力から得られる周波数をｍ倍することで、主走査方向での輝尽光のデータ読み込みの周波数との同期がとられる。
【００４０】
以下に、本実施の形態に係る光ビーム走査装置１０の光ガイド部材８について詳細に説明する。
【００４１】
図３は、本実施の形態に係る光ビーム走査装置１０の光ガイド部材８の一例を示す模式図である。同図（ａ）は光ガイド部材８を走査位置検出用光ビームの入射面と対向する面側から見た模式図であり、同図（ｂ）は光ガイド部材８を走査位置検出用光ビームが走査する面で切断した断面図、同図（ｃ）は走査位置検出用光ビームが同図（ｂ）に示す光ガイド部材８内を走査した際の光電変換素子９の出力を２値化した状態を示す図である。
【００４２】
同図（ａ）に示すように、光ガイド部材８の走査位置検出用光ビームの入射面と対向する面には、光ビームが照射されると乱反射し拡散させる作用を有する拡散領域（ハッチングした領域）と、光ビームが透過する透過領域とが交互に形成された格子状拡散部８ｇが形成されている。拡散領域は、例えば硫酸バリウム、チタン酸ホワイト等の光拡散性の塗料の塗布や、クローム、アルミニウム等の光反射性を有する金属を真空蒸着することで形成されている。
【００４３】
同図（ｂ）を用いて、本実施の形態に係る光ガイド部材８に形成された格子状拡散部８ｇの形成位置について説明する。同図（ｂ）は、光ビームの走査が紙面左から右方向に行われるものとし、光ガイド部材８に設けられた光電変換素子９の２値化された出力の立ち上がりの間隔が等間隔となるよう格子状拡散部８ｇを形成した例である。
【００４４】
輝尽性蛍光体プレート２０上の長さＸｓの走査と、光電変換素子９の２値化された出力の立ち上がりの間隔を対応させる場合を例に取り説明する。なお、格子状拡散部８ｇは輝尽性蛍光体プレート２０の位置と略共役な位置に配置されている。
【００４５】
光ガイド部材８は、厚みＤを有し、入射する光ビームの波長に対する屈折率をｎとする。光ガイド部材８に入射する光ビームの入射角が０°の位置（図示Ｏで示す）を原点とし、原点から輝尽性蛍光体プレート２０上を長さＸｓで刻んだＮ番目の位置が輝尽性蛍光体プレート２０上の像高Ｙの位置とする。
【００４６】
輝尽性蛍光体プレート２０の像高Ｙの位置に向かう光ビームのうち、ハーフミラー７で分割されて光ガイド部材８に入射する光ビームは、入射面で屈折し、原点よりＹNの距離の位置に達する。即ち、光ガイド部材８の原点よりＹNの距離の位置に透過領域から拡散領域８ｇNに切り替わる境界が形成されていればよい。
【００４７】
このとき、ＹNの位置は、以下のように表すことができる。輝尽性蛍光体プレート２０の像高Ｙの位置に向かう光ビームから分割され、光ガイド部材８に入射する光ビームの入射角をθN、屈折角をαN、光ガイド部材８に入射する光ビームの入射位置の原点からの距離をＹθNとすると、
ＹN＝ＹθN＋ＤｔａｎαN＝ＹθN＋Ｄｔａｎ（ｓｉｎ-1（ｓｉｎθN／ｎ））
となる。即ち、原点から輝尽性蛍光体プレート２０上を長さＸｓで刻んだＮ番目の位置で光電変換素子９の出力を得る場合には、上記の式を満足する位置に、透過領域から拡散領域に切り替わる境界が形成されていればよい。
【００４８】
上記の式を満足する位置に、透過領域から拡散領域に切り替わる境界を形成することにより、同図（ｃ）に示すように、光ビームが輝尽性蛍光体プレート２０上を長さＸｓ走査する毎に光電変換素子９の立ち上がり出力を得ることができる。なお、同図（ｃ）に示すＴｓは長さＸｓを走査する時間を表している。
【００４９】
なお、図３に示す例においては、拡散領域と透過領域との所定の境界位置とは、光ビームの走査に伴い透過領域から拡散領域に切り替わる境界位置を指すものである。また、図示原点Ｏから図示右側の領域については、透過領域から拡散領域に切り替わる境界位置を原点Ｏに対し対称となる位置に形成すればよい。また、光ビームが輝尽性蛍光体プレート２０上を長さＸｓ走査する毎に光電変換素子９の立ち下がり出力を得る場合には、上記の式を満足する位置に、拡散領域から透過領域に切り替わる境界を形成すればよい。
【００５０】
即ち、光ガイド部材へ入射する走査位置検出用光ビームの入射角が大きくなるに従い、拡散領域と透過領域との所定の境界位置のピッチを、上記の式を満足するように、小さく形成することにより、光ビームの実走査位置と光ガイド部材の光センサで検出した走査位置とを一致させることが可能となる。
【００５１】
図４は、本実施の形態に係る光ビーム走査装置１０の光ガイド部材８の他の例を示す模式図である。同図（ａ）は光ガイド部材８を走査位置検出用光ビームの入射面と対向する面側から見た模式図であり、同図（ｂ）は光ガイド部材８を走査位置検出用光ビームが走査する面で切断した断面図、同図（ｃ）は走査位置検出用光ビームが同図（ｂ）に示す光ガイド部材８内を走査した際の光電変換素子９の出力を２値化した状態を示す図である。同図は、図３に示すものと異なる部分について説明する。
【００５２】
同図（ｂ）は、光ガイド部材８に設けられた光電変換素子９の２値化された出力の立ち上がりから立ち下がりまで及び、立ち下がりから立ち上がりまでの間隔が等間隔となるよう格子状拡散部８ｇを形成する場合を示している。
【００５３】
この場合にも同様に、原点から輝尽性蛍光体プレート２０上を長さＸｓで刻んだＮ番目の位置が輝尽性蛍光体プレート２０上の像高Ｙの位置とし、この位置に向かう光ビームの入射位置をＹθN、光ビームの屈折後の位置をＹN、入射角θNとして、上記の式からＹNを求めればよい。次いで、Ｎ−１番目の位置を、（Ｙ−Ｘｓ）に向かう光ビームとして、同様にＹN-1を求めればよい。
【００５４】
即ち、光ビームが輝尽性蛍光体プレート２０上を長さＸｓ走査する毎に光電変換素子９の立ち下がり出力と立ち下がり出力を交互に得ようとする場合には、拡散領域から透過領域へ切り替わる境界と、透過領域から拡散領域へ切り替わる境界とを、交互に上記の式を満足するように形成すればよい。この場合には、拡散領域と透過領域との所定の境界位置とは、拡散領域から透過領域へ切り替わる境界と、透過領域から拡散領域へ切り替わる境界の双方を指すものである。
【００５５】
以上説明したように、光ビームの入射面と対向する面に格子状の拡散面を形成した光ガイド部材を備え、光ビームの走査中に実時間的に走査位置を検知し、検知結果を用いて制御する光ビーム走査装置において、上記のように拡散領域と透過領域との境界位置を形成することで、読み取り又は書き込み位置における実際の走査の単位長さと、光センサ出力との関係を正確に対応させることが可能となる。
【００５６】
図５は、本実施の形態に係る光ビーム走査装置を備えた放射線画像読取装置の他の例を示す斜視図である。同図に示す光ビーム走査装置については、図１、図２に示したものと異なる部分についてのみ説明する。
【００５７】
同図に示す光ビーム走査装置は、波長λ１の光ビームを発する第１の光源である半導体レーザ１と、波長λ２（λ２≠λ１）の光ビームを発する第２の光源である半導体レーザ１１とを有している。この波長λ１の光ビームと波長λ２の光ビームは、光路合成プリズム１４により同じ光路となされる。光路合成プリズム１４は、波長選択性を有したダイクロイックミラーや、波長λ１の光ビームと波長λ２の光ビームの偏光状態が直交している場合には、その光軸と４５°の角度をなす面に偏光状態により選択的に反射もしくは透過させる光学膜を形成したものが適用できる。
【００５８】
２種の光ビームが同一光路とされた後、同様に、光ビーム走査部であるポリゴンミラー４、ポリゴンミラー４からの走査光を等速走査させるｆθレンズ５、ｆθレンズ５からの走査光束を折り曲げる反射ミラー６、反射ミラー６で折り曲げられた光ビームを波長λ１の光ビームと波長λ２の光ビームとに分割する光分割器であるビームスプリッタ１７、ビームスプリッタ１７で分割された波長λ１の光ビームと波長λ２の光ビームのいずれか一方の光ビームが入射される光ガイド部材８等から構成されている。
【００５９】
なお、本例の場合、波長λ１、λ２のうちの少なくとも一方が５５０〜７５０ｎｍであり、この５５０〜７５０ｎｍの波長の光ビームがビームスプリッタ１７を通過し輝尽性蛍光体プレート２０に向かうよう設定されていることが好ましい。また、ビームスプリッタ１７は、波長選択性を有したダイクロイックミラーや、波長λ１の光ビームと波長λ２の光ビームの偏光状態が直交している場合には、その光軸と４５°の角度をなす面に偏光状態により選択的に反射もしくは透過させる光学膜を形成したものが適用できる。
【００６０】
光ガイド部材８には、走査方向に沿って拡散領域と透過領域が交互に形成された格子状拡散部８ｇが形成されている。また、光ガイド部材８の一端部側には光電子増倍管等の光電変換素子９が配設されている。
【００６１】
このような構成の光ビーム走査装置においても、光ガイド部材８の入射面と対向する面に、図３及び図４で説明した手法で拡散領域と透過領域を交互に形成することで、同様に、読み取り位置における実際の走査の単位長さと、光センサ出力との関係を正確に対応させることができる。
【００６２】
なお、図５においては、２つの半導体レーザの発振波長がλ１≠λ２である場合で説明したが、これに限るものでない。半導体レーザ１及び半導体レーザ１１の発振波長が同じである場合には、光ビームの偏光方向を直交させておき、光路合成プリズム１４及びビームスプリッタ１７共に、光軸と４５°の角度をなす面に偏光状態により選択的に反射もしくは透過させる光学膜を形成したものを用いればよい。
【００６３】
図６は、本実施の形態に係る光ビーム走査装置を備えた放射線画像読取装置のその他の例を示す側断面図である。同図は、光路合成プリズム１４及びビームスプリッタ１７を要しない光ビーム走査装置を示している。
【００６４】
同図において、ポリゴンミラー４へ入射する光ビームは、ポリゴンミラー４の回転軸に垂直な面に含まれた光ビームと、この光ビームと僅かに異なる入射角を有した光ビームである。
【００６５】
ポリゴンミラー４の回転軸に垂直な面に含まれる光ビームは、ポリゴンミラー４で反射され、ｆθレンズ５及び反射ミラー６ａを経て、図示の如く、輝尽性蛍光体プレート２０上を走査する。一方、僅かに異なる入射角を有した光ビームは、ｆθレンズ５及び反射ミラー６ｂを経て、図示の如く、光ガイド部材８に入射する。
【００６６】
このような構成光ビーム走査装置においても、光ガイド部材８の入射面と対向する面に、図３及び図４で説明した手法で拡散領域と透過領域を交互に形成することで、同様に、読み取り位置における実際の走査の単位長さと、光センサ出力との関係を正確に対応させることができる。
【００６７】
なお、ポリゴンミラー４へ入射させる２つの光ビームは、単一の半導体レーザの光ビームを分割したものでもよいし、２つの半導体レーザを用いてもよい。
【００６８】
図７は、本実施の形態に係る光ビーム走査装置を備えた画像記録装置の一例を示す図である。同図に示す画像記録装置１５０は、図５に示す画像読み取り装置から、集光光学系３０、及び光電子増倍管４０を削除し、光路合成プリズム１４と半導体レーザ１との間の光路中に、光ビームの透過と遮蔽を選択的に行うことができる光変調器５１が設けられている。この光変調器５１には、例えばＰＬＺＴ光スイッチ等が用いられる。この場合には、半導体レーザ１１から発振される光ビームが光ガイド部材８に入射するよう構成される。
【００６９】
同図に示す画像記録装置１５０は、光ビーム走査装置１０によるハーフミラー７を透過した光ビームの図示Ｘ方向の走査及び、感光体６０の図示Ｙ方向の移動による副走査により、感光体６０上に画像の露光を行うものである。
【００７０】
同図に示すように、光ガイド部材８に設けられた光電変換素子９からの光電変換素子出力５２は、増幅回路部５３を介して逓倍回路部５４に入力されて光電変換素子出力５２で得た周波数が整数倍される。この整数倍された周波数に同期して制御回路部５５はドライバ５６を制御し、光変調器５１の透過、遮蔽が行われ、半導体レーザ１からの光ビームにより感光体６０上に画像の露光が行われるようになっている。
【００７１】
本例のように、画像記録装置の光ビーム走査装置においても、光ガイド部材８の入射面と対向する面に、図３及び図４で説明した手法で拡散領域と透過領域を交互に形成することで、同様に、感光体６０上の書き込み位置における実際の走査の単位長さと、光電変換素子９の出力との関係を正確に対応させることができ、高い再現性の画像の書き込みの可能な画像記録装置とすることができる。また、感光体６０をシート状のもので説明したが、ドラム状のもの等であってもよい。
【００７２】
なお、上記の説明においては、光ガイド部材を円柱状のもので説明したが、角柱状のものであってもよい。また、光センサである光電変換素子を光電子増倍管で説明したが、これに限るものでなく、フォトダイオード等を適用することもできる。また、画像読取装置の例として放射線画像読取装置を例に取り説明したが、これに限るものでないのはもちろんである。
【００７３】
また、上記の説明ではポリゴンミラーにより光ビームを走査させる光ビーム走査装置で説明したが、ガルバノミラー等の正弦駆動ミラーを用いた光ビーム走査装置にも適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００７４】
【図１】本実施の形態に係る光ビーム走査装置を備えた放射線画像読取装置の一例の要部概略を示す斜視図である。
【図２】図１に示した放射線画像読取装置の要部概略を示す側断面図である。
【図３】本実施の形態に係る光ビーム走査装置の光ガイド部材の一例を示す模式図である。
【図４】本実施の形態に係る光ビーム走査装置の光ガイド部材の他の例を示す模式図である。
【図５】本実施の形態に係る光ビーム走査装置を備えた放射線画像読取装置の他の例を示す斜視図である。
【図６】本実施の形態に係る光ビーム走査装置を備えた放射線画像読取装置のその他の例を示す側断面図である。
【図７】本実施の形態に係る光ビーム走査装置を備えた画像記録装置の一例を示す図である。
【図８】光ガイド部材に入射する光ビームの挙動を示す図である。
【図９】図８で説明した問題を有した光ビーム走査装置を用いて画像書き込みを行った結果を模式的に示した図である。
【符号の説明】
【００７５】
１  半導体レーザ
２  コリメートレンズ
３  シリンドリカルレンズ
４  ポリゴンミラー
５  ｆθレンズ
６  反射ミラー
７  ハーフミラー
８  光ガイド部材
９  光電変換素子
１０  光ビーム走査装置
２０  輝尽性蛍光体プレート
３０  集光光学系
３１  導光板
３２  集光管
５１  光変調器
６０  感光体
１００  画像読取装置
１５０  画像記録装置
【図１】
2008309853.tif 000003
【図２】
2008309853.tif 000004
【図３】
2008309853.tif 000005
【図４】
2008309853.tif 000006
【図５】
2008309853.tif 000007
【図６】
2008309853.tif 000008
【図７】
2008309853.tif 000009
【図８】
2008309853.tif 000010
【図９】
2008309853.tif 000011