(57)【要約】【課題】本発明は、フレキシブルな液晶表示装置に用いられ、フレキシブルなカラーフィルターやＴＦＴアレイ等を作製することが可能であり、かつ、寸度安定性に優れた液晶表示装置用フレキシブル基板を提供することを主目的とする。【解決手段】本発明は、ガラス転移温度が２１０℃よりも高い耐熱樹脂からなる基材と、上記基材の両面上に形成され、上記基材の寸度変化を抑制する保護層とを有することを特徴とする、液晶表示装置用フレキシブル基板を提供することにより上記課題を解決するものである。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス転移温度が２１０℃よりも高い耐熱樹脂からなる基材と、前記基材の両面上に形成され、前記基材の寸度変化を抑制する保護層とを有することを特徴とする、液晶表示装置用フレキシブル基板。
【請求項２】
前記耐熱樹脂がシクロオレフィン系樹脂であることを特徴とする、請求項１に記載の液晶表示装置用フレキシブル基板。
【請求項３】
前記保護層に無機化合物からなる無機化合物膜が用いられていることを特徴とする、請求項１または請求項２に記載の液晶表示装置用フレキシブル基板。
【請求項４】
前記保護層が、有機化合物からなる有機化合物膜と、前記有機化合物膜の両面上に形成され、無機化合物からなる無機化合物膜とを含む有機‐無機複合膜であることを特徴とする、請求項１から請求項３までのいずれかの請求項に記載の液晶表示装置用フレキシブル基板。
【請求項５】
面内レターデーション（Ｒｅ）が、５０ｎｍ以下であることを特徴とする、請求項１から請求項４までのいずれかの請求項に記載の液晶表示装置用フレキシブル基板。
【請求項６】
請求項１から請求項５までのいずれかの請求項に記載の液晶表示装置用フレキシブル基板が用いられたことを特徴とする、カラーフィルター。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、主にフレキシブルな液晶表示装置を作製可能なカラーフィルターや、ＴＦＴアレイに用いられる液晶表示装置用フレキシブル基板に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイの急速な普及に伴って、これらのディスプレイを構成するディスプレイ用部材の需要が拡大している。
現在のフラットパネルディスプレイは、その用途をテレビやデスクトップモニターのみならず、携帯用ノートパソコン、携帯電話、携帯用ページャー、携帯用ゲーム機等の携帯型電子機器等にまで広く拡大していることから、さらなる軽量化、小型化、および、薄型化が求められている。
その一方で、近年中に実施化が計画されている地上デジタル放送の本格普及や、今後のユビキタスネットワークのさらなる進化に対応して、モバイルディスプレイの普及拡大が確実に予測されることから、これに備えて現在のフラットパネルディスプレイよりもさらに薄型・軽量であるフレキシブルディスプレイの実用化が求められている。
【０００３】
ここで、フレキシブルディスプレイは、従来のフラットパネルディスプレイよりもさらに薄型化・軽量化されるという利点を有するのみならず、自在に変形させることも可能になることから、例えば、ローラブル（巻き取り可能な）モバイルディスプレイを実現することもでき、よりモバイルに適したディスプレイを得ることができるという利点もある。また、フレキシブルディスプレイは、長尺のフィルムを用いて連続プロセスによって製造することも可能になることから、大量生産性に優れるという利点も期待されている。
【０００４】
ところで、現在最も広く普及しているフラットパネルディスプレイは液晶表示装置であるが、当該液晶表示装置は、通常、基材上に複数の開口部を備えるように高精細に形成されたブラックマトリクスと、その開口部内に形成された複数色の着色層とを有するカラーフィルター、および、基材上に無数のＴＦＴ電極が規則的に配置されたＴＦＴアレイが液晶層を介して対向するように配置された構成を有している。このような液晶表示装置をフレキシブルなものにするには、上記カラーフィルターおよびＴＦＴアレイに用いられる基材を、光学的等方性を備えるフレキシブル基板に替えることが必要になる。
【０００５】
しかしながら、このようなフレキシブル性を有す樹脂系基材を、上記カラーフィルターやＴＦＴアレイを構成する基材として用いると、基材上に所望の精度でブラックマトリクスやＴＦＴ電極を形成することが困難であるという問題点があった。すなわち、上記カラーフィルターやＴＦＴアレイは、基板上に上記ブラックトリクスあるいは上記ＴＦＴ電極が形成されるプロセスにおいてフォトリソグラフィー法等の微細加工手段が用いられるが、そのプロセスにおいて基材に加わる熱や水分等の影響によって基材の寸法が変化してしまい、ブラックマトリクスやＴＦＴ電極が形成される精度が損なわれるという問題があった。この点、特許文献１には、ポリエチレンナフタレートやシクロオレフィン系樹脂からなる基材の両面にガスバリア層等を形成したディスプレイ用基板が開示されているが、このようなディスプレイ用基板であっても液晶表示装置用の基板に用いる場合には、なお寸度安定性が不十分であるという問題点があった。
【０００６】
【特許文献１】特開２００６−４４２３１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明はこのような問題点に鑑みてなされたものであり、フレキシブルな液晶表示装置に用いられ、フレキシブルなカラーフィルターやＴＦＴアレイ等を作製すること可能であり、かつ、寸度安定性に優れた液晶表示装置用フレキシブル基板を提供することを主目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために本発明は、ガラス転移温度が２１０℃よりも高い耐熱樹脂からなる基材と、上記基材の両面上に形成され、上記基材の寸度変化を抑制する保護層とを有することを特徴とする、液晶表示装置用フレキシブル基板を提供する。
【０００９】
本発明によれば、上記基材の寸度変化を抑制する保護層が形成されていることから、上記基材に寸度変化が生じる外的影響が加わったとしても、液晶表示装置用フレキシブル基板全体として寸度変化が生じることを防止できる。
また本発明によれば、上記基材がガラス転移温度が２１０℃よりも高い耐熱樹脂からなるものであることにより、例えば、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板を用いて、フレキシブルなカラーフィルターやＴＦＴアレイを作製する際に、フォトリソグラフィー法が用いられたとしても、上記基材が熱の影響によって基材の寸度が変化することを防止することができる。また、上記保護層は、上記基材が溶剤や空気中の水分に曝露されることを防止することもできるため、これらの影響によって基材に寸度変化が生じることも防止することができる。
このようなことから、本発明によればフレキシブルな液晶表示装置に用いられ、フレキシブルなカラーフィルターやＴＦＴアレイ等を作製すること可能な、寸度安定性に優れた液晶表示装置用フレキシブル基板を提供することを主目的とするものである。
【００１０】
本発明においては、上記耐熱樹脂がシクロオレフィン系樹脂であることが好ましい。これにより、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板全体として光学的等方性に優れたものにできため、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板を用いて、フレキシブルなカラーフィルターあるいはＴＦＴアレイを作製し、これらを用いてフレキシブルな液晶表示装置を得ることにより、視野角特性に優れた液晶表示装置を得ることができるからである。
【００１１】
本発明においては、上記保護層に無機化合物からなる無機化合物膜が用いられていることが好ましい。上記保護層にこのような無機化合物膜が用いられていることにより、上記保護層の剛性を向上させることができるため、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板の寸度安定性をより高いものにできるからである。
【００１２】
また本発明においては、上記保護層が、有機化合物からなる有機化合物膜と、上記有機化合物膜の両面上に形成され、無機化合物からなる無機化合物膜と、を有するものであることが好ましい。上記保護層がこのような構成を有するものであることにより、上記保護層の剛性をより高いものにできるのみではなく、上記保護層にガスバリア性を付与することが可能になる。このため、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板の寸度安定性をさらに高いものにできるからである。
【００１３】
さらに本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板は、面内レターデーション（Ｒｅ）が、５０ｎｍ以下であることが好ましい。これにより本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板を用いて液晶表示装置を作製する際に、液晶表示装置の視野角特性等の表示品質を設計することが容易になるからである。
【００１４】
本発明は、上記本発明に係る液晶表示装置用フレキシブル基板が用いられたことを特徴とするカラーフィルターを提供する。
【００１５】
本発明によれば、上記本発明に係る液晶表示装置用フレキシブル基板が用いられていることにより、寸度安定性に優れたカラーフィルターを得ることができる。また、本発明のカラーフィルターは、例えば、カラーフィルターを製造する過程において、フォトリソグラフィー法やインクジェット法によって着色層やブラックマトリクスが作製された場合であっても、これらの方法に用いられる溶剤や熱の影響によって、基板に寸度変化が生じることを防止できる。このため、カラーフィルターを製造する過程においても基材に寸度変化が生じることを防止できるため、より高精度に着色層やブラックマトリクスが形成されたカラーフィルターを得ることができる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明は、光学的等方性を備え、寸度安定性に優れた液晶表示装置用フレキシブル基板を提供することができるという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
本発明は、液晶表示装置用フレキシブル基板と、これが用いられたカラーフィルターとに関するものである。以下、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板、および、これが用いられたカラーフィルターについて順に説明する。
【００１８】
Ａ．液晶表示装置用フレキシブル基板
まず、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板について説明する。上述したように本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板は、ガラス転移温度が２１０℃よりも高い耐熱樹脂からなる基材と、上記基材の両面上に形成され、上記基材の寸度変化を抑制する保護層とを有することを特徴とするものである。
【００１９】
このような本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板について図を参照しながら説明する。図１は本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板の一例を示す概略断面図である。図１に例示するように本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板は１０は、基材１と、上記基材１の両面上に形成され、上記基材１の寸度変化を抑制する保護層２とを有するものである。このような例において、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板１０は、上記基材１として、ガラス転移温度が２１０℃より高い耐熱樹脂からなるものが用いられており、かつ、上記保護層２が、有機化合物からなる有機化合物膜２ａと、当該有機化合物膜２ａの両面上に形成され、無機化合物からなる無機化合物膜２ｂと、を有するものであることを特徴とするものである。
【００２０】
本発明によれば、上記基材の寸度変化を抑制する保護層が形成されていることから、上記基材に寸度変化が生じる外的影響が加わったとしても、液晶表示装置用フレキシブル基板全体として寸度変化が生じることを防止できる。
また本発明によれば、上記基材がガラス転移温度が２１０℃より高い耐熱脂からなるものであることにより、例えば、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板を用いて、フレキシブルなカラーフィルターやＴＦＴアレイを作製する際に、フォトリソグラフィー法が用いられたとしても、上記基材が熱の影響によって基材の寸度が変化することを防止することができる。また、上記保護層は、上記基材が溶剤や空気中の水分に曝露されることを防止することもできるため、これらの影響によって基材に寸度変化が生じることも防止することができる。
また、本発明においては上記保護層が上記基材の両面に形成されていることから、上述した保護層の機能によって寸度安定性に優れるのみではなく、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板が反りやカールが生じることを防止することができる。このため本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板を用いることにより、連続プロセスにより高生産性でフレキシブルな液晶表示装置を作成することができる。
以上のようなことから、本発明によればフレキシブルな液晶表示装置に用いられ、フレキシブルなカラーフィルターやＴＦＴアレイ等を作製すること可能な、寸度安定性に優れた液晶表示装置用フレキシブル基板を提供することを主目的とするものである。
【００２１】
本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板は、少なくとも上記基材と、当該基材の両面上に形成された保護層とを有するものであり、必要に応じて他の構成が用いられてもよいものである。
以下、本発明に用いられる各構成について順に説明する。
【００２２】
１．基材
まず、本発明に用いられる基材について説明する。本発明に用いられる基材は、ガラス転移温度が２１０℃より高い耐熱樹脂からなるものである。
【００２３】
本発明に用いられる耐熱樹脂としては、ガラス転移温度が２１０℃以上であるものであれば特に限定されるものではなく、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板を用いて、カラーフィルターやＴＦＴアレイを作製する際のプロセス条件に応じて、任意のガラス転移温度を有する耐熱樹脂を用いることができる。なかでも本発明に用いられる耐熱樹脂のガラス転移温度は、２３０℃以上であることが好ましく、特に２５０℃以上であることが好ましい。ここで、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板を用いてカラーフィルターを作製する場合、通常、当該基板上にフォトリソグラフィー法や、インクジェット法を用いてブラックマトリクスや着色層が形成されることになるところ、上記フォトリソグラフィー法においては１５０℃〜１６０℃の程度の温度が当該基板に加わることになる。このため、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板を用いたカラーフィルターは、耐熱樹脂として上記加熱温度の影響が無いガラス転移温度が２１０℃よりも高いものが用いられていることにより、上記フォトリソグラフィー法やインクジェット法が用いられる場合であっても、所望の寸度安定性を達成することができる。
一方、本発明に用いられる液晶表示装置用フレキシブル基板を用いてＴＦＴアレイを作製する場合は、上記カラーフィルターを作製する場合よりも高温のプロセスが実施されるのが通常であるため、そのときは当該プロセスの条件に応じて、任意のガラス転移温度を備える耐熱樹脂を用いればよい。
【００２４】
本発明に用いられる耐熱樹脂としては、例えば、ポリイミド系樹脂、ポリエーテルサルフォン系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、トリアセチルセルロース等のセルロース誘導体、シクロオレフィン系樹脂、等を挙げることができる。本発明においてはこれらのいずれの耐熱材料であっても好適に用いることができるが、なかでもシクロオレフィン系樹脂を用いることが好ましい。シクロオレフィン系樹脂は吸水性が乏しいことから、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板を吸水による寸度変化が生じにくいものとすることができるからである。また、シクロオレフィン系樹脂を用いることにより、本発明に用いられる基材を、光学的等方性を備えるものにできるため、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板を用いて液晶表示装置を作製する際に、液晶表示装置の視野角特性等の表示品質を設計することが容易になるからである。
【００２５】
ここで、本発明に用いられるシクロオレフィン系樹脂とは、環状オレフィン（シクロオレフィン）からなるモノマーのユニットを有する樹脂を意味するものである。このような上記環状オレフィンからなるモノマーとしては、例えば、ノルボルネンや多環ノルボルネン系モノマー等を挙げることができる。
なお、本発明に用いられるシクロオレフィン系樹脂としては、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）またはシクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）のいずれであっても好適に用いることができる。
【００２６】
また、本発明に用いられるシクロオレフィン系樹脂は上記環状オレフィンからなるモノマーの単独重合体であってもよく、または、共重合体であってもよい。
【００２７】
本発明に用いられるシクロオレフィン系樹脂は、２３℃における飽和吸水率が０．５質量％以下であるものが好ましく、０．４質量％以下であるものがより好ましく、０．３質量％以下であるものがさらに好ましい。このようなシクロオレフィン系樹脂を用いることにより、本発明に用いられる基材を、吸水による寸度変化の少ないものにできるため、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板をさらに寸度安定性に優れたものにできるからである。
【００２８】
ここで、上記飽和吸水率は、ＡＳＴＭＤ５７０に準拠し２３℃の水中で１週間浸漬して増加重量を測定することにより求められる。
【００２９】
本発明に用いられるシクロオレフィン系樹脂の具体例としては、例えば、ジェイエスアール社製  ＰＮ２６０Ａ、同社製ＰＮ２８５Ａ、および、同社製ＰＮ４００Ａ等を挙げることができる。
【００３０】
本発明に用いられる基材の厚みとしては、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板に、所望の自己支持性を付与できる範囲内であれば特に限定されるものではないが、通常、１０μｍ〜１０００μｍの範囲内であることが好ましく、なかでも２０μｍ〜７５０μｍの範囲内であることが好ましく、さらに４０μｍ〜６００μｍの範囲内であることが好ましい。基材の厚みが上記の範囲よりも薄いと、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板に必要な自己支持性を付与することが困難になる場合があるからである。また、厚みが上記の範囲よりも厚いと、例えば本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板を裁断加工する際に、加工屑が増加したり、裁断刃の磨耗が早くなってしまう場合があるからである
【００３１】
本発明に用いられる基材の透明度は、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板に求める透明性等に応じて任意に決定すればよいが、通常、可視光領域における透過率が８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。透過率が低いと、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板のヘイズが所望の値よりも大きくなってしまう場合があるからである。
ここで、基材の透過率は、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１（プラスチックー透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。
【００３２】
また、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板は、液晶表示装置に用いられるものであるため、基材としては光学的等方性を備えるものであることが好ましい。なかでも本発明に用いられる基材は、面内レターデーション（Ｒｅ）が、５０ｎｍ以下であることが好ましく、なかでも２０ｎｍ以下であることが好ましく、特に好ましくは０ｎｍである。基材の面内レターデーション（Ｒｅ）が上記範囲内であることにより、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板を用いて液晶表示装置を作製する際に、液晶表示装置の視野角特性等の表示品質を設計することが容易になるからである。
【００３３】
なお、上記面内レターデーション（Ｒｅ）は、上記基材の面内における遅相軸方向ｘの屈折率をｎｘ、進相軸方向ｙの屈折率をｎｙ、厚み方向ｚの屈折率をｎｚ、および、基材の厚みをｄとした場合に、それぞれ以下の式で表されるものである。
Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
Ｒｔｈ＝（（（ｎｘ＋ｎｙ）／２）−ｎｚ）×ｄ
また、上記面内レターデーション（Ｒｅ）および厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は、例えば、王子計測機器株式会社製  ＫＯＢＲＡ−ＷＲを用い、平行ニコル回転法により測定することができる。
【００３４】
また、本発明に用いられる基材の厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）としては、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板を用いて作製する液晶表示装置の駆動モード等に応じて、視野角特性を所望の程度にできる範囲内であれば特に限定されるものではない。
【００３５】
２．保護層
次に本発明に用いられる保護層について説明する。本発明に用いられる保護層は、上述した基材の両面に形成されるものであり、上記基材の寸度変化を抑制する機能を有するものである。
【００３６】
本発明に用いられる保護層としては、上述した基材の両面上に形成されることにより、基材の寸度変化を抑制できるものであれば特に限定されるものではない。このような保護層としては、基材が吸湿膨張によって寸度変化することを防止する吸湿防止機能を有するもの、基材が溶剤によって膨潤されることによって寸度変化することを防止する耐溶剤性を有するもの、基材に熱が加わることによって寸度変化することを防止する耐熱性を有するもの等を挙げることができるが、なかでも本発明に用いられる保護層は、上述した基材よりも剛性の高く、基材に寸度変化が生じることを物理的に補強できるものであることが好ましい。これにより、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板に上記基材の寸度変化を生じ得るあらゆる外的影響が加わった場合であっても、上記基材に寸度変化が生じることを防止することができるからである。このような保護層としては、例えば、硬化された硬化型樹脂からなる硬化型樹脂膜、無機化合物からなる無機化合物膜、および、有機化合物からなる有機化合物膜と、上記無機化合物膜とが複合されて用いられた有機‐無機複合膜とを挙げることができる。
以下、このような保護層について順に説明する。
【００３７】
（１）硬化型樹脂膜
まず、上記硬化型樹脂膜について説明する。上記硬化型樹脂膜に用いられる硬化型樹脂としては、硬化させることにより上述した基材よりも高い剛性を有し、透明性を備える保護層を形成することができるものであれば特に限定されるものではない。このような硬化型樹脂としては、熱硬化性樹脂や電離放射線硬化性樹脂を挙げることができるが、電離放射線硬化性樹脂を用いることが生産効率上好ましい。
【００３８】
上記熱硬化性樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルギッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂、酢酸プロピオン酸セルロース等を挙げることができ、必要に応じて添加剤として、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤、体質顔料等を添加してもよい。
【００３９】
上記硬化剤として、通常、イソシアネートは不飽和ポリエステル系樹脂またはポリウレタン系樹脂に使用され、メチルエチルケトンパーオキサイド等の過酸化物及びアゾイソブチロニトリル等のラジカル開始剤は不飽和ポリエステルによく使用される。更に、硬化剤としてのイソシアネートは、２価以上の脂肪族又は芳香族イソシアネートが使用できる。
【００４０】
上記電離放射線硬化性樹脂としては、分子中に（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基（（メタ）アクリロイルとは、アクリロイル又はメタアクリロイルの意味で用い、以下（メタ）は同様の意味とする）等の重合性不飽和結合、又はエポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマー、及び／または単量体を適宜混合した組成物が用いられる。
【００４１】
これらのプレポリマー、オリゴマーとしては、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート等のアクリレート、シロキサン等の珪素樹脂、不飽和ポリエステル、エポキシ等が挙げられる。
【００４２】
単量体の例としては、スチレン、α‐メチルスチレン等のスチレン系単量体、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸‐２‐エチルヘキシル、ペンタエリスリトール（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、及び／又は、分子中に２個以上のチオール基を有するポリオール化合物、例えば、トリメチロールプロパントリチオグリコレート、トリメチロールプロパントリチオプロピレート、ペンタエリスリトールテトラチオグリコール等がある。
【００４３】
以上の化合物を必要に応じ、１種もしくは２種以上混合して用いるが、樹脂組成物に通常の塗工適性を付与するために、前記プレポリマー又はオリゴマーを５重量％以上、前記単量体及び／又はポリチオールを９５重量％以下とすることが好ましい。
【００４４】
単量体の選定に際して、硬化物の高い剛性を要求される場合には、塗工適性上支障のない範囲で単量体の量を多めにしたり、３官能以上のアクリレート系単量体を用い高架橋密度の構造とするのが好ましい。
なお、１、２官能単量体と３官能以上の単量体を混合し、塗工適性と硬化物の物性とを調整することもできる。
【００４５】
以上のような１官能アクリレート系単量体としては、２‐ヒドロキシアクリレート、２‐ヘキシルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート等が挙げられる。２官能アクリレート系単量体としては、エチレングリコールジアクリレート、１，６‐ヘキサンジオールジアクリレート等が挙げられる。３官能アクリレート系単量体としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられる。
【００４６】
電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤の具体例としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチュウラムモノサルファイド、チオキサントン類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホソフィン等が挙げられる。
【００４７】
光重合開始剤としては市販の物を使用することができ、例えば、光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、日本チバガイギー（株）製のイルガキュア（１８４，９０７）等が好ましい例として挙げられる。光重合開始剤は、多官能モノマー１００質量部に対して、０．１〜１０質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは３〜７質量部の範囲である。
【００４８】
なお、本発明に用いられる硬化型樹脂は１種類のみであってもよく、あるいは、２種類以上であってもよい。
【００４９】
本発明に用いられる硬化型樹脂膜の厚みとしては、保護層を所望の剛性を有するものにできる範囲内であれば特に限定されるものではない。なかでも本発明に用いられる硬化型樹脂膜の厚みは、５０ｎｍ〜２０μｍの範囲内であることが好ましく、特に１００ｎｍ〜１０μｍの範囲内であることが好ましく、さらに３００ｎｍ〜７μｍの範囲内であることが好ましい。硬化型樹脂膜の厚みが上記範囲よりも厚いと、保護層の剛性が高くなりすぎてしまい、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板の可撓性が不十分になってしまう可能性があるからである。また、厚みが上記範囲よりも薄いと、硬化型樹脂膜に用いられる硬化型樹脂の種類によっては、基材の寸度変化を十分に抑制できなくなるおそれがあるからである。
【００５０】
なお、本発明における保護層は、上述した基材の両面に形成されたものであるが、両面に形成される保護層が同一の硬化型樹脂膜からなる場合は、両面に形成される硬化型樹脂膜の厚みは同一であることが好ましい。これにより、片面側の寸度安定性が不十分になったり、あるいは、両面に形成された硬化型樹脂膜の物理的特性が異なることに起因して、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板が反ったり、カールしてしまったりすることを防止できるからである。
【００５１】
（２）無機化合物膜
次に、上記無機化合物膜について説明する。ここで、本発明に用いられる無機化合物膜は、無機化合物からなることにより緻密な膜として形成することが可能なものであるため、このような無機化合物膜が用いられることにより、本発明に用いられる保護層にガスバリア性を付与することも可能になる。
【００５２】
上記無機化合物膜に用いられる無機化合物としては、上述した基材よりも高い剛性を有し、透明性を備える保護層を形成することができるものであれば特に限定されるものではない。このような無機化合物としては、例えば、アルミニウム、ニッケル、クロム、鉄、コバルト、亜鉛、金、銀、銅等の金属；硅素、ゲルマニウム、炭素等の半導体；酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化インジウム、酸化カルシウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化ホウ素、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化ハフニウム、酸化バリウム等の無機酸化物；窒化珪素、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、窒化マグネシウム等の窒化物；炭化珪素等の炭化物、硫化物等を挙げることができる。また、これらから選ばれた二種以上の複合体である酸化窒化物や、さらに炭素を含有してなる酸化炭化物層、無機窒化炭化物層、無機酸化窒化炭化物等も用いることができる。本発明においては、これらのいずれの無機化合物であっても好適に用いることができるが、なかでも酸化アルミニウム、酸化硅素、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン等の無機酸化物（ＭＯｘ）、無機窒化物（ＭＮｙ）、無機炭化物（ＭＣｚ）、無機酸化炭化物（ＭＯｘＣｚ）、無機窒化炭化物（ＭＮｙＣｚ）、無機酸化窒化物（ＭＯｘＮｙ）、無機酸化窒化炭化物（ＭＯｘＮｙＣｚ）をも散ることが好ましい。ここで、これらの無機化合物を構成する金属元素（Ｍ）として好適に用いられるものは、Ｓｉ、Ａｌ、Ｔｉ等である。
【００５３】
なお、本発明に用いられる無機化合物は１種類のみであってもよく、あるいは、２種類以上であってもよい。
【００５４】
本発明に用いられる無機化合物膜の厚みとしては、所望の剛性を有する保護層を形成できる範囲内であれば特に限定されるものではない。なかでも本発明に用いられる無機化合物膜の厚みは１０ｎｍ〜５μｍの範囲内であることが好ましく、特に２０ｎｍ〜３μｍの範囲内であることが好ましく、さらに３０ｎｍ〜１μｍの範囲内であることが好ましい。無機化合物膜の厚みが上記範囲よりも厚いと、保護層の剛性が高くなりすぎてしまい、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板の可撓性が不十分になってしまう可能性があるからである。また、厚みが上記範囲よりも薄いと、無機化合物の種類によっては、基材の寸度変化を十分に抑制できなくなるおそれがあるからである。
【００５５】
なお、上述した硬化型樹脂膜の場合と同様に、両面に形成される保護層が同一の無機化合物膜からなる場合は、両面に形成される無機化合物膜の厚みは同一であることが好ましい。これにより、片面側の寸度安定性が不十分になったり、あるいは、両面に形成された無機化合物膜の物理的特性が異なることに起因して、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板が反ったり、カールしてしまったりすることを防止できるからである。
【００５６】
（３）有機‐無機複合膜
次に上記有機‐無機複合膜について説明する。上記有機‐無機複合膜は、有機化合物からなる有機化合物膜と、上記無機化合物膜とが複合されて用いられたものである。有機‐無機複合膜は、上記無機化合物膜と有機化合物膜とを任意に組み合わせることにより、基材の寸度変化防止機能以外の諸性能を備える保護層を形成することができる点において有用である。
以下、このような有機‐無機複合膜について説明する。
なお、上記無機化合物膜については、既に説明したものと同様であるため、ここでの説明は省略する。
【００５７】
上記有機‐無機複合膜に用いられる有機化合物膜としては、本発明に用いられる保護層に所望の機能を付与できるものであれば特に限定されるものではない。なお、本発明に用いられる保護層は、上述した基材よりも剛性が高いものが用いられることが好ましいものであるが、有機‐無機複合膜においては、上記無機化合物膜が高い剛性を示すことから、有機化合物膜としては所定の剛性を備えるものに限定されることなく、任意の性質を有する有機化合物膜を使用することができる。
【００５８】
本発明に用いられる有機化合物膜としては、例えば、上述した硬化型樹脂膜を用いてもよく、あるいは、カルドポリマー等の有機化合物からなるものを例示することができる。
【００５９】
上記カルドポリマーは、以下の式で表されるカルド構造を有するポリマーで、カルド構造を有するモノマーと他の重合性モノマーとから合成され、カルドポリエステル系ポリマー、カルドアクリル系ポリマー、カルドエポキシ系ポリマーなどが適用でき、好ましくはカルドエポキシ系ポリマーである。このようなカルドポリマーを用いる場合は、必要に応じて、可塑剤、充填剤、帯電防止剤、滑剤、アンチブロッキング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤などの添加剤、更には、改質用樹脂などを併用することができる。
【００６０】
【化１】
2008256736.tif 000003
【００６１】
本発明に用いられるカルドポリマーの具体例としては、例えば、長瀬産業社製  オンコートＥＸ−１０４０、同社製ＥＸ−１０３０等を挙げることができる。
【００６２】
本発明に用いられる保護層の構成としては、上記有機化合物膜と、上記無機化合物膜との組み合わせに応じて、任意の構成を用いることができる。本発明に用いられる保護層の構成としては、例えば、上述した基材上に、上記有機化合物膜と、上記無機化合物膜とがこの順で積層された構成、上述した基材上に、上記無機化合物膜と、上記有機化合物膜とがこの順で積層された構成、さらに上記有機化合物膜の両面に上記無機化合物膜が配置された構成等を挙げることができる。
【００６３】
３．液晶表示装置用フレキシブル基板
本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板は、上記基材の両面上に保護層が形成されたものであるが、本発明において上記基材の両面上に形成される保護層は、同一のものであってもよく、あるいは、異なるものであってもよい。なかでも本発明においては、基材の両面上に形成される保護層が同一であることが好ましい。これにより、片面側の寸度安定性が不十分になったり、あるいは、両面に形成された保護層の物理的特性が異なることに起因して、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板が反ったり、カールしてしまったりすることを防止できるからである。
【００６４】
本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板は、上述した保護層が用いられていることにより寸度安定性に優れたものになるが、なかでも上記基材として上記耐熱樹脂からなるものが用いられていることにより、特に耐熱寸度安定性に優れたものになる。本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板の１６０℃における耐熱寸度変化率は、その用途に応じて適宜決定されるものであるが、−０．０５％〜＋０．０５％の範囲内であることが好ましく、なかでも−０．０３％〜＋０．０３％の範囲内であることが好ましく、特に−０．０１％〜＋０．０１％の範囲内であることが好ましい。
ここで、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板の耐熱寸度変化率は、主として、上記基材を構成する耐熱樹脂のガラス転移温度を調整することにより所望の範囲内に調整することができる。
【００６５】
なお、本発明における「耐熱寸度変化率」とは、次のような測定方法によって測定した値を指すものとする。
１００ｍｍ×１００ｍｍ角の試験片の四隅に、隣り合うマーキング間の距離が８０ｍｍになるように微細な十字型のマーキングを施し、各マーキング間の距離を測定する。この試験片をオーブン中で１６０℃、３０分間加熱し、２３℃３８％ＲＨの恒温恒湿室に１時間放置して冷却した後、各マーキング間の距離を再び測定する。耐熱寸度変化率は下式に基づき算出する。
加熱前のマーキング間の距離：ａ（μｍ）
加熱、放置後のマーキング間の距離：ｂ（μｍ）
耐熱寸度変化率ｃ（％）＝（ｂ−ａ）×１００／ａ
なお、上記耐熱寸度安定性試験は、フレキシブル基板を用いて、フレキシブルなカラーフィルターやＴＦＴアレイを作製する際の加工条件を参酌して設定したものである。即ち、フレキシブル基板を用いて、フレキシブルなカラーフィルターやＴＦＴアレイを作製する際には、１６０℃近辺で約３０分間加熱されるものである。
【００６６】
本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板は、耐溶剤寸度変化率が、−０．０５％〜＋０．０５％の範囲内であることが好ましく、なかでも−０．０３％〜＋０．０３％の範囲内であることが好ましく、特に−０．０１％〜＋０．０１％の範囲内であることが好ましい。本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板は、液晶表示装置に用いられるカラーフィルターや、ＴＦＴアレイに好適に用いられるものであるところ、耐溶剤寸度変化率が上記範囲内であることにより、例えばインクジェット法やフォトリソグラフィーを用いて、カラーフィルターあるいはＴＦＴアレイを製造する場合であっても、高精度で着色層やＴＦＴ電極を形成することができるからである。
ここで、上記耐溶剤寸度変化率は、本発明に用いられる保護層に用いる材料として、所望の耐溶剤性を備えるものを用いることにより、適宜調整することができる。
また、本発明における上記「耐溶剤性寸度変化率」は、次の測定方法によって測定した値を用いるものとする。
１００ｍｍ×１００ｍｍ角の試験片の四隅に、隣り合うマーキング間の距離が８０ｍｍになるように微細な十字型のマーキングを施し、各マーキング間の距離を測定する。この試験片を２３℃のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）中へ５分間浸漬し、エアーブローにて乾燥させた後、各マーキング間の距離を再び測定する。耐溶剤性寸度変化率は下式に基づき算出する。
ＰＧＭＥＡ浸漬前のマーキング間の距離：ａ（μｍ）
ＰＧＭＥＡ浸漬、乾燥後のマーキング間の距離：ｂ（μｍ）
耐溶剤性寸度変化率ｃ（％）＝（ｂ−ａ）×１００／ａ
なお、上記耐溶剤性寸度安定性試験は、フレキシブル基板を用いて、フレキシブルなカラーフィルターやＴＦＴアレイを作製する際の加工条件を参酌して設定したものである。即ち、フレキシブル基板を用いて、フレキシブルなカラーフィルターやＴＦＴアレイを作製する際には、ＰＧＭＥＡを主成分溶剤とするインキが約５分間、フレキシブル基板へ接触する。
【００６７】
また、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板は２３℃における飽和吸水率が０．５質量％以下であることが好ましく、０．４質量％以下であることがより好ましく、０．３質量％以下であることがさらに好ましい。
ここで、上記飽和吸水率は本発明に用いられる保護層の種類や、上記基材に用いられるシクロオレフィン系樹脂の種類等を適宜選択することによって、所望の範囲に調整することができる。
ここで、上記飽和吸水率は、ＡＳＴＭＤ５７０に準拠し２３℃の水中で１週間浸漬して増加重量を測定することにより求められる。
【００６８】
さらに、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板の光学特性は、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板が用いられる液晶表示装置の駆動方式等に応じて、適宜調整すればよいものである。なかでも本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板は、面内レターデーション（Ｒｅ）が５０ｎｍ以下であることが好ましく、なかでも２０ｎｍ以下であることが好ましく、０ｎｍであることがより好ましい。
【００６９】
なお、上記面内レターデーション（Ｒｅ）は、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板の面内における遅相軸方向ｘの屈折率をｎｘ、進相軸方向ｙの屈折率をｎｙ、厚み方向ｚの屈折率をｎｚ、および、厚みをｄとした場合に、それぞれ以下の式で表されるものである。
Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
また、上記面内レターデーション（Ｒｅ）は、例えば、王子計測機器株式会社製  ＫＯＢＲＡ−ＷＲを用い、平行ニコル回転法により測定することができる。
【００７０】
本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板は、少なくとも上述した基材と、保護層とを有するものであるが、必要に応じて他の構成を有するものであってもよい。このような他の構成としては、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板の用途等に応じて任意の構成を用いることができる。本発明に用いられる他の構成としては、例えば、上記基材と、上記保護層との間に形成され、両者の接着性を向上させる中間層を挙げることができる。このような中間層が形成されていることにより、上述した保護層の寸度変化防止作用をより確実に上記基材に及ぼすことができるため、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板をさらに寸度安定性に優れたものにできる。
【００７１】
本発明に用いられる中間層としては、上記基材と保護層とを所定の強度で接着できるものであれば特に限定されるものではない。なかでも本発明においては、ポリエステル樹脂およびオキサゾリン基とポリアルキレンオキシド鎖とを有するアクリル樹脂を含有するものが好適に用いられる。このような樹脂を含有する中間層は、上記基材と保護層との接着性に優れるからである。
【００７２】
（ポリエステル樹脂）
上記ポリエステル樹脂としては、次の多塩基酸成分とジオール成分とから得られるポリエステルを用いることができる。すなわち、多価塩基成分としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、無水フタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ダイマー酸、５−ナトリウムスルホイソフタル酸を例示することができる。なお、ポリエステル樹脂としては、２種以上のジカルボン酸成分が用いられた共重合ポリエステルを用いることが好ましい。
【００７３】
一方、上記ジオール成分としては、例えば、エチレングリコール、１，４−ブタンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、キシレングリコール、ジメチロールプロパン等や、ポリ（エチレンオキシド）グリコール、ポリ（テトラメチレンオキシド）グリコールを例示することができる。
【００７４】
なお、上記ポリエステル樹脂には、若干量であればマレイン酸、イタコン酸等の不飽和多塩基酸成分が、或いは、ｐ−ヒドロキシ安息香酸等の如きヒドロキシカルボン酸成分が含まれていてもよい
【００７５】
（アクリル樹脂）
本発明に用いられるオキサゾリン基とポリアルキレンオキシド鎖とを有するアクリル樹脂として、例えば、以下に示すようなオキサゾリン基を有するモノマーと、ポリアルキレンオキシド鎖を有するモノマーからなるアクリル樹脂を用いることができる。オキサゾリン基を有するモノマーとしては、２−ビニル−２−オキサゾリン、２−ビニル−４−メチル−２−オキサゾリン、２−ビニル−５−メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−４−メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−５−メチル−２−オキサゾリンを例示することができる。これらの１種または２種以上の混合物を使用することができる。これらのなかでも、２−イソプロペニル−２−オキサゾリンが工業的に入手しやすいことから好適に用いられる。
【００７６】
また、上記ポリアルキレンオキシド鎖を有するモノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸のエステル部にポリアルキレンオキシドを付加させたものを挙げることができる。ポリアルキレンオキシド鎖としては、ポリメチレンオキシド、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、ポリブチレンオキシドを挙げることができる。ポリアルキレンオキシド鎖の繰り返し単位は３〜１００であることが好ましい。
【００７７】
本発明に用いられるアクリル樹脂には、その他の共重合成分として例えば以下に例示されるモノマーを共重合することができる。すなわち、アルキルアクリレート、アルキルメタクリレート（アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基等）；２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート等のヒドロキシ含有モノマー；グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル等のエポキシ基含有モノマー；アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマール酸、クロトン酸、スチレンスルホン酸及びその塩（ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩、第三級アミン塩等）等のカルボキシ基またはその塩を有するモノマー；アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−アルキルアクリルアミド、Ｎ−アルキルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアルキルメタクリレート（アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基等）、Ｎ−アルコキシアクリルアミド、Ｎ−アルコキシメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアルコキシアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアルコキシメタクリルアミド（アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基等）、アクリロイルモルホリン、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−フェニルメタクリルアミド等のアミド基を有するモノマー；無水マレイン酸、無水イタコン酸等の酸無水物のモノマー；ビニルイソシアネート、アリルイソシアネート、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルトリアルコキシシラン、アルキルマレイン酸モノエステル、アルキルフマール酸モノエステル、アルキルイタコン酸モノエステル、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニリデン、エチレン、プロピレン、塩化ビニル、酢酸ビニル、ブタジエンである。
【００７８】
４．液晶表示装置用フレキシブル基板の製造方法
次に、本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板について説明する。本発明に用いられる液晶表示装置用フレキシブル基板は、例えば、上述した基材を用い、上記基材の両面上に保護層を形成することによって製造することができる。上記基材上に保護層を形成する方法は、一般的に公知の方法の中から、上記保護層の種類によって適宜選択することができる。例えば、上記保護層として硬化型樹脂膜が用いられる場合は、上記基材上に硬化型樹脂を含有する硬化型樹脂膜形成用塗工液を塗布した後、上記硬化型樹脂膜を硬化させることによって形成することができる。このとき、基材上に硬化型樹脂膜形成用塗工液を塗布する方法としては、ロールコート法、グラビアコート法、ロールブラッシュ法、スプレー法、エアーナイフコート法、含浸法、カーテンコート法等の一般的に公知の方法を用いることができる。
一方、上記保護層として無機化合物膜が用いられる場合は、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の方法や、ＨｏｔＷｉｒｅ−ＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法やプラズマＣＶＤ法等によって上記基材上に無機化合物膜を形成することができる。
また、上記保護層として有機‐無機複合膜が用いられる場合は、上記無機化合物膜を作製する方法と、上記硬化型樹脂膜を作製する方法とを順に実施することによって、上記基材上に所望の構成を有する有機−無機複合膜を形成することができる。
【００７９】
Ｂ．カラーフィルター
次に、本発明のカラーフィルターについて説明する。本発明のカラーフィルターは、上述した本発明に係る液晶表示装置用フレキシブル基板が用いられたものである。
【００８０】
このような本発明のカラーフィルターについて図を参照しながら説明する。図２は本発明のカラーフィルターの一例を示す概略断面図である。図２に例示するように、本発明のカラーフィルター２０は、基板１０と、上記基板１０上に形成されたブラックマトリクス２１と、前記ブラックマトリクス２１の開口部内に形成された複数の着色層２２を有するものである。
このような例において、本発明のカラーフィルター２０は、上記基板１０として、本発明に係る液晶表示装置用フレキシブル基板が用いられていることを特徴とするものである。
【００８１】
本発明のカラーフィルターは、上記本発明に係る液晶表示装置用フレキシブル基板が用いられていることにより、寸度安定性に優れたカラーフィルターを得ることができる。
また、本発明のカラーフィルターは、カラーフィルターとして寸度安定性に優れたものにできることはもちろんのこと、例えば、カラーフィルターを製造する過程において、フォトリソグラフィー法やインクジェット法によって着色層やブラックマトリクスが形成された場合であっても、これらの方法に用いられる溶剤や熱の影響によって、基板に寸度変化が生じることを防止できる。このため、上記本発明に係る液晶表示装置用フレキシブル基板が用いられていることにより、カラーフィルターを製造する過程においても基板に寸度変化が生じることを防止できるため、より高精度に着色層やブラックマトリクスが形成されたカラーフィルターを得ることができる。
さらに本発明のカラーフィルターは、上記本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板が用いられていることにより、全体として可撓性を有するものとなる。したがって、本発明のカラーフィルターを用いることにより、例えば、Ｒｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌプロセス等の連続プロセスによって、液晶表示装置を作製することが可能になる。このため、本発明によれば高生産性で液晶表示装置を作製することができる。
【００８２】
なお、図２においては、本発明のカラーフィルターの一例として、基材上にブラックマトリクスと、着色層とが形成されたものの例を示したが、本発明のカラーフィルターはこのような構成を有するものに限定されるものではない。本発明のカラーフィルターの構成は、着色層を支持する基材として、本発明に係る液晶表示装置用フレキシブル基板が用いられているものであれば特に限定されるものではなく、本発明のカラーフィルターを用いて作製される液晶表示装置の種類等に応じて任意の構成とすることができる。
なお、本発明のカラーフィルターの具体的構成については、一般的に公知のカラーフィルターと同様であるため、ここでの詳しい説明は省略する。
【００８３】
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【００８４】
１．実施例１
（基材）
基材として、厚さが１００μｍ、ガラス転移温度２８５℃のシクロオレフィン系樹脂フィルムＰＮ２８５Ａ（ＪＳＲ製）を用いた。
【００８５】
（無機化合物膜）
基材の両面に、無機化合物であるＳｉＯｘ（ｘ＝１．５）膜を形成した。ＳｉＯｘは帰還電極付き圧力勾配型イオンプレーティング装置の成膜室内に配置し、成膜材料には二酸化シリコンを使用し、以下の成膜条件にて酸化珪素の膜厚が１００ｎｍとなるようにガスバリア層を設けた。
【００８６】
＜成膜条件＞
・成膜圧力                        ：  ８．０×１０−２Ｐａ
・プラズマガス用アルゴンガス流量  ：  １２ｓｃｃｍ
・投入電流                        ：  ８．５Ａ
・投入電圧                        ：  ８５Ｖ
・投入電力                        ：  ７．２ｋＷ
【００８７】
（硬化型樹脂膜）
以下の式で示されるカルドエポキシ化合物２４６部、アクリル酸７２部、メトキノン０．１６部及びトリフェニルホスフィン１．１部、カルビトールアセテート２３７．６部を加え、９５℃まで昇温させ３０時間反応させた。次いで、更にテトラヒドロ無水フタル酸１２２部を仕込み、９５℃で２０時間反応させ、不飽和基含有カルボン酸化合物を得た。
【００８８】
【化２】
2008256736.tif 000004
【００８９】
得られた不飽和基含有カルボン酸化合物１３８．５部、ジペンタエリスリトールペンタおよびヘキサアクリレート混合物（ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ：日本化薬（株）製）１０部、光重合開始剤（イルガキュア−９０７：チバ・スペシャリティケミカルズ社製）３部、メチルセロソルブアセテート３５２部、シランカップリング剤（ＫＢＭ−５１０３：信越化学（株）製）１部を配合し、硬化型樹脂膜材料を得た。
このようにして得た硬化型樹脂膜材料を用いて上記耐熱基材上に形成された両面の無機化合物膜上へ、膜厚が１．０μｍの硬化型樹脂膜を形成した。硬化型樹脂膜はスピンコーティング法により塗布し、１２０℃で２分間乾燥し、さらに１６０℃で６０分間熱風乾燥することによって形成した。
【００９０】
上記基材上に形成された両面の無機化合物膜上へ、それぞれ硬化型樹脂膜としてカルドポリマー層を形成した。カルドポリマー層は、カルドポリマーを主剤としたコーティング剤Ｖ−２５９（新日鐵化学社製、商品名）をスピンコーティング法により塗布し、１２０℃で２分間乾燥し、さらに１６０℃で６０分間熱風乾燥し、膜厚が１．０μｍの硬化型樹脂膜を形成した。
【００９１】
（評価）
無機化合物膜および硬化型樹脂膜を積層して得られた液晶表示装置用フレキシブル基板の耐熱寸度変化率及び耐溶剤寸度変化率は、それぞれ−０．０１１％及び−０．０１８％であった。表１に測定結果をまとめた。また、飽和吸水率（２３℃）は０．３％であり、面内レターデーション（Ｒｅ）は１８ｎｍ、であった。
【００９２】
２．実施例２
基材として、厚さが１００μｍ、ガラス転移温度４００℃、のシクロオレフィン系樹脂フィルムＰＮ４００Ａ（ＪＳＲ製）を用いた以外は、実施例１と同様に無機化合物膜および硬化型樹脂膜を積層して、液晶表示装置用フレキシブル基板を作製した。
【００９３】
（評価）
得られた液晶表示装置用フレキシブル基板の耐熱寸度変化率及び耐溶剤寸度変化率は、それぞれ−０．００７％及び＋０．０４２％であった。表１に測定結果をまとめた。また、飽和吸水率（２３℃）は１．３％であり、面内レターデーション（Ｒｅ）は７ｎｍ、であった。
【００９４】
３．実施例３
無機化合物であるＳｉＯｘを形成しなかったこと以外は、実施例１と同様に硬化型樹脂膜を積層して、液晶表示装置用フレキシブル基板を作製した。
【００９５】
（評価）
得られた液晶表示装置用フレキシブル基板の耐熱寸度変化率及び耐溶剤寸度変化率は、それぞれ−０．０２５％及び−０．０３６％であった。表１に測定結果をまとめた。また、飽和吸水率（２３℃）は０．３％であり、面内レターデーション（Ｒｅ）は１８ｎｍであった。
【００９６】
４．実施例４
硬化型樹脂膜を形成しなかったこと以外は、実施例１と同様に無機化合物膜を積層して、液晶表示装置用フレキシブル基板を作製した。
【００９７】
（評価）
得られた液晶表示装置用フレキシブル基板の耐熱寸度変化率及び耐溶剤寸度変化率は、それぞれ−０．０３１％及び−０．０２１％であった。表１に測定結果をまとめた。また、飽和吸水率（２３℃）は０．３％であり、面内レターデーション（Ｒｅ）は１８ｎｍであった。
【００９８】
５．実施例５
実施例１にて形成された両面の硬化型樹脂膜上へ、さらに無機化合物膜であるＳｉＯｘを形成した以外は、実施例２と同様にして、液晶表示装置用フレキシブル基板を作製した。
【００９９】
（評価）
得られた液晶表示装置用フレキシブル基板の耐熱寸度変化率及び耐溶剤寸度変化率は、それぞれ−０．００５％及び−０．００４％であった。表１に測定結果をまとめた。また、飽和吸水率（２３℃）は０．３％であり、面内レターデーション（Ｒｅ）は１８ｎｍであった。
【０１００】
６．比較例１
無機化合物膜や硬化型樹脂膜を形成せず、基材フィルムＰＮ２８５Ａを液晶表示装置用フレキシブル基板とした。
【０１０１】
（評価）
上記液晶表示装置用フレキシブル基板の耐熱寸度変化率及び耐溶剤寸度変化率は、それぞれ−０．０９２％及び−０．０８５％であった。表１に測定結果をまとめた。また、飽和吸水率（２３℃）は０．３％であり、面内レターデーション（Ｒｅ）は１８ｎｍであった。
【０１０２】
７．比較例２
基材として、厚さが１００μｍ、ガラス転移温度１３６℃、のシクロオレフィン系樹脂フィルム１４１０Ｒ（日本ゼオン製）を用いた以外は、実施例６と同様に無機化合物膜および硬化型樹脂膜を積層して、液晶表示装置用フレキシブル基板を作製した。
【０１０３】
（評価）
得られた液晶表示装置用フレキシブル基板の耐熱寸度変化率及び耐溶剤寸度変化率は、それぞれ−０．０８１％及び−０．０９９％であった。表１に測定結果をまとめた。また、飽和吸水率（２３℃）は＜０．１％であり、面内レターデーション（Ｒｅ）は４ｎｍであった。
【０１０４】
【表１】
2008256736.tif 000005
【図面の簡単な説明】
【０１０５】
【図１】本発明の液晶表示装置用フレキシブル基板の一例を示す概略断面図である。
【図２】本発明のカラーフィルターの一例を示す概略断面図である。
【符号の説明】
【０１０６】
１  …  基材
２  …  保護層
２ａ  …  有機化合物膜
２ｂ  …  無機化合物膜
１０  …  液晶表示装置用フレキシブル基板
２０  …  カラーフィルター
２１  …  ブラックマトリクス
２２  …  着色層
【図１】
2008256736.tif 000006
【図２】
2008256736.tif 000007