(57)【要約】【課題】  １つの工程装備にインシャワー、吸入および乾燥工程を行えるようにし、基板を塗布または剥皮したり洗浄工程を行ったりする際に時間と空間的な効率性を高めることができるインシャワー、吸入および乾燥工程を行う工程装置を提供する。【解決手段】  インシャワー、吸入および乾燥工程を行う工程装置は、インシャワーナイフ、エアナイフを含むナイフユニットおよびナイフユニットが取付けられて基板上にナイフユニットを移送することができるフレームを含む。【選択図】      図２
2008030019.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
薬液または脱イオン水を基板上に噴射するインシャワーナイフと、
ガスを噴射して基板を乾燥させるエアナイフを含むナイフユニットと、
前記ナイフユニットが取付けられて基板上にナイフユニットを移送することができるフレームとを含む、インシャワー、吸入および乾燥工程を行う工程装置。
【請求項２】
前記ナイフユニットは、吸入機能を行う吸入ナイフをさらに含む、請求項１に記載のインシャワー、吸入および乾燥工程を行う工程装置。
【請求項３】
基板を固定させる基板装着部をさらに含む、請求項１に記載のインシャワー、吸入および乾燥工程を行う工程装置。
【請求項４】
前記フレームを駆動させる駆動部をさらに含む、請求項１に記載のインシャワー、吸入および乾燥工程を行う工程装置。
【請求項５】
前記ナイフユニットは、１つ以上のインシャワーナイフ、１つ以上の吸入ナイフ、および１つ以上のエアナイフを含む、請求項１に記載のインシャワー、吸入および乾燥工程を行う工程装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インシャワー、吸入および乾燥工程を行う工程装置に関し、より詳しくは、１つの工程装備でインシャワー、吸入および乾燥工程を行えるようにして基板を塗布または剥皮したり、洗浄工程を行ったりする際に時間と空間的な効率性を高めることができるインシャワー、吸入および乾燥工程を行う工程装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般的に半導体工程では、微細サイズのパターンを形成するために、写真エッチング工程が用いられている。写真エッチング工程は、パターンが形成される層を形成するステップと、このような被エッチング層上にフォトレジストのような感光膜を塗布するステップと、この感光膜を光に部分的に露光させるステップと、部分的に露光された感光膜を現像することによって感光膜パターンを形成するステップと、この感光膜パターンをマスクとして被エッチング層をエッチングすることにより最終的なパターンを形成するステップとから構成することができる。
【０００３】
このような様々なステップの写真エッチング工程のうちの現像方式としては、シャワー方式、ディップ方式、ノズルディスペンス方式などが用いられてきた。
【０００４】
シャワー方式では、運送台に基板を装着し、基板を運送台によって移動させながら現像液をシャワー機によって吹き付けることによって、基板の表面に形成されている感光膜を形成する。感光膜の形成が終わった後には、基板を脱イオン水で洗浄した後に乾燥することによって、感光膜パターンを形成する。
【０００５】
エッチング工程においてもシャワー機によってエッチング薬液を噴射し、被エッチング層をエッチングすることにより最終的なパターンを形成することができる。以後、基板を脱イオン水で洗浄した後に乾燥することによって、最終的なパターンを形成することができる。
【０００６】
したがって、このような工程においては、各工程後に脱イオン水によって洗浄して基板を乾燥させる工程が追加され、このための空間が必要となる負担があった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記のような問題点を考慮して案出されたものであり、インシャワー、吸入および乾燥工程を行える各ユニットを装着し、１つの工程チャンバ内で３つまたは２つの工程を行い、時間的な効率および空間的な効率を高めることを目的とする。
【０００８】
本発明の目的は、以上で言及した目的に制限されず、言及していないまた他の目的は下記記載によって当業者が明確に理解できるものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上述した目的を達成するために、本発明の一態様に係るインシャワー、吸入および乾燥工程を行う工程装置は、インシャワーナイフ、エアナイフを含むナイフユニットおよびナイフユニットが取付けられて基板上にナイフユニットを移送することができるフレームを含む。
【００１０】
本発明によれば、インシャワー、吸入およびエアナイフを１つのフレームに取付けて、工程を行うことによって空間的な効率を高めることができる。
【００１１】
これと共に、インシャワー、吸入および乾燥機能を行うにあたり、１つの基板上で同時に順次進行することにより時間的な効率を高めることができる。
【００１２】
本発明の効果は、以上で言及した目的に制限されず、言及していないまた他の効果は請求範囲の記載によって当業者が明確に理解できるものである。
上述した目的を達成するために、本発明の一態様に係るインシャワー、吸入および乾燥工程を行う工程装置は、インシャワーナイフ、エアナイフを含むナイフユニットおよびナイフユニットが取付けられて基板上にナイフユニットを移送することができるフレームを含む。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、インシャワー、吸入およびエアナイフを１つのフレームに取付けて、工程を行うことによって空間的な効率を高めることができる。
【００１４】
これと共に、インシャワー、吸入および乾燥機能を行うにあたり、１つの基板上で同時に順次進行することにより時間的な効率を高めることができる。
【００１５】
本発明の効果は、以上で言及した目的に制限されず、言及していないまた他の効果は請求範囲の記載によって当業者が明確に理解できるものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
その他、実施形態の具体的な事項は、詳細な説明および図面に含まれている。
【００１７】
本発明の利点および特徴、そしてそれらを達成する方法は、添付する図面と共に詳細に後述する実施形態を参照すれば明確になる。しかし、本発明は以下にて開示する実施形態に限定されず、互いに異なる多様な形態によって実施され、単に本実施形態は本発明の開示が完全なものとなるようにし、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者に発明の範疇を完全に知らせるために提供されるものであって、本発明は請求項の範疇によってのみ定義されるものである。明細書の全体に亘り、同一参照符号は同一構成要素を示す。
【００１８】
以下、本発明の好ましい実施形態について添付する図面を参照しながら詳しく説明する。
【００１９】
図１は、本発明の一実施形態に係るインシャワー、吸入および乾燥工程を行う工程装置のインシャワー、吸入および乾燥工程を行う各ナイフを示す斜視図であり、図２は、本発明の一実施形態に係るインシャワー、吸入および乾燥工程を行う工程装置の斜視図である。
【００２０】
本発明の一実施形態に係るインシャワー、吸入および乾燥工程を行う工程装置は、ナイフユニット、フレーム、基板装着部、駆動部を含み得る。
【００２１】
ナイフユニットは、インシャワーナイフ１１０、吸入ナイフ１２０およびエアナイフ１３０を含み得る。
【００２２】
インシャワー（Ｉｎ−ｓｈｏｗｅｒ）ナイフ１１０は、工程装置が該当工程を行うように薬液や脱イオン水を基板（Ｗ）に提供する役割を行う。インシャワーナイフ１１０は、薬液や脱イオン水を供給する供給部（図示せず）によってナイフの出口を介して噴射され得る。インシャワーナイフは、出口の形態を要求される工程に符合するように多様に変更される。
【００２３】
例えば、インシャワーナイフ１１０は、図１に示すようにナイフの出口の端部が開放されて、開放された出口を介して薬液や脱イオン水が供給される。また、ナイフの出口を密閉して出口部位に複数のホールを備え、ホールを介して薬液や脱イオン水を供給することができる。これと共に、インシャワーナイフを図１に示す形状とは異なり複数のシャワーヘッドを備え、薬液や脱イオン水が拡散するようにできる。
【００２４】
また、インシャワーナイフは、複数のナイフを取付けるフレーム２１０に複数取付けることができる。例えば、インシャワーナイフを通じて現像工程やエッチング工程を行い、その次に脱イオン水を供給して洗浄工程を行おうとする時には、２つのインシャワーナイフ１１０を取付けて、１番目のナイフには薬液を供給して基板に噴射し、２番目のインシャワーナイフを通じては、脱イオン水を基板に噴射するようにする。ただし、１つのインシャワーナイフでも基板をスキャンしながら薬液を噴射し、再び基板をスキャンする過程でインシャワーナイフによって脱イオン水を供給するようにすることもできる。
【００２５】
吸入ナイフ１２０は、薬液などによって基板に吸着したり基板で工程を行えずに飛び散る薬液や異質物を吸入したりすることができる。したがって、薬液などが基板に十分に吸着して飛び散らない場合には、吸入ナイフを含まなかいか吸入ナイフに吸入工程を行わないようにさせることができる。
【００２６】
吸入ナイフ１２０は、飛び散る薬液などを効果的に吸入するために、通孔が比較的広い断面を介して吸入できる。
【００２７】
エアナイフ（Ａｉｒ  ｋｎｉｆｅ、１３０）は、基板上に塗布される薬液や基板上に噴射される脱イオン水を乾燥させる役割を行う。近年、基板が大型化しつつ、基板上に噴射された薬液や脱イオン水を効果的に乾燥させるために、エアナイフの形状や噴射角度を異にする試みがなされている。これと共に、基板の移送角度を設けて傾斜するように移送しながら空気を噴射し、薬液や脱イオン水を基板の上から速く押し出しながら基板を乾燥させる試みがあった。
【００２８】
したがって、エアナイフは、図１に示すように傾けた状態で空気を噴射し、方向性を与えて薬液や脱イオン水を基板の上の一方向に押し出すことができる。これと共に、縦方向に一定角度を与えて全体的にエアナイフによって噴射された空気が傾いた方向に向かって基板を乾燥させることができる。
【００２９】
図２に示すように、フレーム２１０はコの字状のクレーン形状をし、上部下面に複数のナイフ１１０，１２０，１３０を取付けることができる。例えば、インシャワーナイフ１１０、吸入ナイフ１２０、エアナイフ１３０を順次取付けることができる。ただし、エアナイフが平面上で一定の角度を有するために、フレームの上部面は一定の面積を有し得る。また、工程上の速度と各ナイフの間の干渉を考慮する時、一定の間隔をおいて各ナイフを取付けることが好ましい場合もある。
【００３０】
図２に示すように、基板を停止状態にし、フレーム２１０を移動させることができる。そして、各ナイフを移動させることによって、基板上において順次工程を進めることができる。すなわち、薬液を噴射する場合にも基板の一番左側や右側から工程を進めてフレームを駆動部（図示せず）によって一方向に移動させることにより工程を行うことができる。
【００３１】
駆動部は、フレームを左右に動かす役割を行う。フレーム２１０は、スライド２２０またはレール上で移動可能にし、これを移動させるために電動モータまたは流圧によるピストンによってフレームを移動させられる。正確な位置を制御するために、チェーンを用いるか位置センサをさらに含むことができる。
【００３２】
これと共に、例えばフレームが固定された構造であれば、基板を左右に移送させることができる。このため、基板上にシャフト（Ｓｈａｆｔ）とローラを備えて基板移送部を形成し、シャフトを駆動させるシャフト駆動部を含み得る。したがって、インシャワー、吸入およびエアナイフを各々フレームに固定するか基板上に固定して、基板を一方に移送させながら工程を行うことができる。ただし、基板全体に工程を行うためには、フレームを移動させる場合よりもより広い空間を要求し得る。
【００３３】
基板装着部２３０は、工程チャンバの下部に位置して基板を工程過程の間の基板装着部に固定させる機械的または電子的固定部を有することができる。基板装着部は、好ましくは誘電分極現象で発生する静電気力を制御して、基板を誘電体表面に吸着または離脱させる機能を行う静電チャック（Ｅｌｅｃｔｒｏｓｔａｔｉｃ  Ｃｈｕｃｋ）で構成することができる。ただし、これと同等の機能を行う機械的クランプ（Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  Ｃｌａｍｐ）、真空チャック（Ｖａｃｕｕｍ  Ｃｈｕｃｋ）等も用いられる。
【００３４】
前記のように構成される本発明に係るインシャワー、吸入および乾燥工程を行う工程装置の作用を説明すれば次の通りである。
【００３５】
例えば、現像工程ではインシャワーナイフ１１０から現像液が噴射される。現像液が分泌されながら基板上で現像工程が行われるうちに吸入ナイフ１２０によって基板上に吸着されない現像液が吸い取られる。そして、最後にエアナイフ１３０によって基板上にある現像液を基板の外側に押し出しながら基板を乾燥させる。このような３つのナイフによって現像工程を行いながら、フレームを基板の片方から他方に移動させることによって基板全体に対して現像工程を行うことができる。
【００３６】
また、他の例として、エッチング工程においても先ずインシャワーナイフ１１０からエッチング液を噴射する。フレームを移動しながらエッチング液が基板の次の部分に噴射され、前にエッチングされた部分では吸入ナイフ１２０によって基板に吸着されずに空気中に浮かんでいるエッチング液を吸入する。再びフレームが移動しながら、エアナイフ１３０によって基板上のエッチング液を基板の外側に押し出しながら基板を乾燥させる。このような３つの工程を、フレームを移動しながら基板に順次行って基板全体に対してエッチング工程を行うことができる。
【００３７】
他の例としては、洗浄工程に適用することができる。インシャワーナイフ１１０では脱イオン水を噴射して、基板上の異質物を取り除くことができる。次に、吸入ナイフ１２０を通じて脱イオン水を吸入することができるが、脱イオン水が飛び散るという問題は稀であるため、吸入ナイフによる吸入は省略され得る。そして、エアナイフ１３０を通じて空気を一定の方向に吹かせることによって、基板上にある脱イオン水を基板の外側に送り、これと共に基板上にある脱イオン水を乾燥させる。したがって、フレーム２１０にインシャワー、吸入およびエアナイフを取付け、フレーム２１０を移動させることによって基板に対する洗浄工程を行うことができる。
【００３８】
このような工程を行うために、各ナイフごとに工程チャンバを用いずとも１つの工程チャンバを用いることによって空間的な効率を高めることができる。また、基板や各ナイフを順に移動させなければならない短所を克服し、複数のナイフを同時に移動させながら工程を行い、時間を短縮させることができる。
【００３９】
以上、添付した図面を参照して本発明の実施形態を説明したが、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者であれば、本発明がその技術的思想や必須の特徴から外れない範囲内で様々に置換、変形および変更が可能であるため、他の具体的な形態によって実施することができるということを理解できる。したがって、以上で記述した実施形態はすべての面で例示的なものであり、限定的なものではないことを理解しなければならない。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】本発明の一実施形態に係るインシャワー、吸入および乾燥工程を行う工程装置のインシャワー、吸入および乾燥工程を行う各ナイフを示す斜視図である。
【図２】本発明の一実施形態に係るインシャワー、吸入および乾燥工程を行う工程装置の斜視図である。
【符号の説明】
【００４１】
１１０：インシャワーナイフ
１２０：吸入ナイフ
１３０：エアナイフ
２３０：基板装着部
２１０：フレーム
【図１】
2008030019.tif 000003
【図２】
2008030019.tif 000004