(57)【要約】【課題】占有面積の小さい基板搬送装置を用いて、基板処理のスループットを向上させる。【解決手段】基板搬送装置１００内には、上下２段のローラ搬送コンベア１２０、１４０と、ローラ搬送コンベア１２０、１４０を昇降させる昇降機構１１８が設けられている。上段のローラ搬送コンベア１２０でガラス基板Ｇを搬送中に、下段のローラ搬送コンベア１４０にガラス基板Ｇを載置し、また下段のローラ搬送コンベア１４０でガラス基板Ｇを搬送中に、上段のローラ搬送コンベア１２０にガラス基板Ｇを載置する。昇降機構１１８でローラ搬送コンベア１２０、１４０を昇降させて行うことによって、この搬送、載置作業を繰り返し行うことができ、必要なときにガラス基板ＧをエキシマＵＶ照射装置２０に搬送できる。【選択図】図３
2008174361.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を支持するアームから基板を受け取って、この基板を処理装置に搬送する基板搬送装置であって、
基板を水平方向に搬送可能で上下２段に配置されたローラ搬送コンベアと、
前記２段のローラ搬送コンベアを昇降させる昇降機構と、を有することを特徴とする、基板搬送装置。
【請求項２】
前記２段のローラ搬送コンベアと前記昇降機構とを収容する容器を有し、
前記容器の前記アームの搬入領域に臨む側面には、基板を搬入するための搬入口が形成され、
前記容器の前記処理装置側の側面には、基板を搬出するための搬出口が形成され、
前記処理装置の内部は、前記容器の内部よりも高圧に維持され、
前記容器の側面の下部には、前記容器内の雰囲気を排気する排気口が形成されていることを特徴とする、請求項１に記載の基板搬送装置。
【請求項３】
前記容器の内部には、前記２段のローラ搬送コンベアを収容するコンベアカバーが設けられ、
前記コンベアカバーの前記アームの搬入領域に臨む側面には、基板を搬入するための他の搬入口が形成され、
前記コンベアカバーの前記処理装置側の側面には、基板を搬出するための他の搬出口が形成されていることを特徴とする、請求項２に記載の基板搬送装置。
【請求項４】
前記アームの先端側には、基板を支持する直線状の支持部が平行に複数設けられ、
前記ローラ搬送コンベアは、
基板を支持可能で、少なくとも基板の搬送方向に回転自在な複数の搬送ローラと、
前記複数の搬送ローラを支持し、基板の搬送方向に延びる複数の支持部材と、を有し、
前記複数の支持部材は、当該支持部材間に前記支持部が進入するように、基板の搬送方向と直角方向に並べて配置されていることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の基板搬送装置。
【請求項５】
前記搬送ローラは、無方向に回転自在なフリーローラであることを特徴とする、請求項４に記載の基板搬送装置。
【請求項６】
基板の搬送方向と直角方向に、前記搬送ローラに支持された基板の位置を調整するガイドローラを有することを特徴とする、請求項４又は５に記載の基板搬送装置。
【請求項７】
前記ローラ搬送コンベアは、
基板を支持することができ、基板の搬送方向に回転自在で、搬送方向と直角方向に並べて配置された複数の搬送ローラと、
前記複数の搬送ローラの中心部を貫通して当該搬送ローラを支持する回転軸と、を有し、
前記複数の搬送ローラと回転軸は、基板の搬送方向に複数並べて配置され、
前記搬送ローラの径は、前記搬送ローラの上端と前記回転軸の上端との間に前記アームが進入できる大きさに設定されていることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の基板搬送装置。
【請求項８】
基板の搬送方向と直角方向に、前記搬送ローラに支持された基板の位置を調整するガイドローラを有することを特徴とする、請求項７に記載の基板搬送装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板を支持するアームから基板を受け取って、この基板を処理装置に搬送する基板搬送装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、液晶ディスプレイの製造プロセスのフォトリソグラフィー工程では、ガラス基板上の有機物を除去するエキシマＵＶ照射処理、ガラス基板上にレジスト液を塗布してレジスト膜を形成するレジスト塗布処理、レジスト膜に所定のパターンを露光する露光処理、露光されたレジスト膜を現像する現像処理等の各種処理が行われている。
【０００３】
これらの一連の処理は、例えば各種処理装置が複数搭載された塗布現像処理システムで行われる。塗布現像処理システムは、通常、前記各種処理装置に対してガラス基板を搬入出するためのカセットステーション、前記各種処理装置が設置されている処理ステーション、露光装置との間でガラス基板を受け渡しするためのインターフェイス部等を有している。
【０００４】
カセットステーションには、複数のガラス基板を収容できるカセットを載置する載置台と、この載置台に載置されたカセットに対してアクセスして、カセットステーションと処理ステーションとの間でガラス基板を搬送する搬送装置とが設けられている。搬送装置は基板を支持して搬送する搬送アームを有し、搬送アームによって、カセット内のガラス基板は順次処理ステーションに搬入される（特許文献１）。
【特許文献１】特開２００５−１４２３７２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、搬送アームでガラス基板を載置台から処理装置に搬送すると、載置台からガラス基板を取り出す作業、搬送アームの移動、ガラス基板を処理装置に載置する作業が必要となり、一枚のガラス基板を搬送するのに時間が掛かっていた。その結果、必要なときに処理装置にガラス基板を搬送することができず、ガラス基板の処理のスループットが悪くなっていた。
【０００６】
そこで、例えば図１７に示すように、カセットステーション３０１と処理装置３１３との間に、ガラス基板Ｇを載置する載置エリア３１１と、ガラス基板Ｇを搬送する搬送エリア３１２とを有する基板搬送装置３１０を設けることが考えられている。載置エリア３１１と搬送エリア３１２には、ガラス基板Ｇを支持して搬送する搬送ローラＲがガラス基板Ｇの搬送方向に複数設けられている。
【０００７】
そしてカセットステーション３０１の搬送アーム３２０に支持されたガラス基板Ｇは、載置エリア３１１内に設けられた昇降ピン３２１に受け渡され、搬送ローラＲに載置される。載置されたガラス基板Ｇは、搬送エリア３１２に搬送され、続いて処理装置３１３に搬送される。ガラス基板Ｇが載置エリア３１１から搬送エリア３１２内に搬送されると、次に処理されるガラス基板Ｇが載置エリア３１１に搬入される。このように載置エリア３１１や搬送エリア３１２に予めガラス基板Ｇを搬送しておくことにより、必要なときにガラス基板Ｇを処理装置３１３に搬送することができる。
【０００８】
しかしながら、載置エリア３１１と搬送エリア３１２は、それぞれ搬送方向にガラス基板Ｇの約１枚分の長さを必要とする。したがって、基板搬送装置３１０の搬送方向の長さはガラス基板Ｇの約２枚分となり、塗布現像処理システム１の占有面積が大きくなる。
【０００９】
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、占有面積の小さい基板搬送装置を用いて、基板処理のスループットを向上させることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
前記の目的を達成するため、本発明の基板搬送装置は、基板を支持するアームから基板を受け取って、この基板を処理装置に搬送する基板搬送装置であって、基板を水平方向に搬送可能で上下２段に配置されたローラ搬送コンベアと、前記２段のローラ搬送コンベアを昇降させる昇降機構と、を有することを特徴としている。
【００１１】
本発明の基板搬送装置によれば、例えば上下２段のローラ搬送コンベアのうち、いずれか一方のローラ搬送コンベアから処理装置に基板が搬送されている間に、他方のローラ搬送コンベアに次に処理される基板を搬入できる。そして昇降機構で上下２段のローラ搬送コンベアを昇降させることにより、上下２段のローラ搬送コンベアに交互に基板を搬入し、この搬入した基板を処理装置に搬送できる。この搬送、載置作業を繰り返し行うことができる。したがって、必要なときに基板を処理装置に搬送することができ、基板処理のスループットを向上させることができる。またこの場合、例えば上下２段のローラ搬送コンベアが搬送方向に基板を載置できる長さ、すなわち基板の約１枚分の長さを有していればよいので、占有面積の小さい基板搬送装置を完致できる。
【００１２】
前記２段のローラ搬送コンベアと前記昇降機構とを収容する容器を有し、前記容器の前記アームの搬入領域に臨む側面には、基板を搬入するための搬入口が形成され、前記容器の前記処理装置側の側面には、基板を搬出するための搬出口が形成され、前記処理装置の内部は、前記容器の内部よりも高圧に維持され、前記容器の側面の下部には、前記容器内の雰囲気を排気する排気口が形成されていてもよい。これによって、容器内に搬入口から排気口への気流が生じるので、例えばローラ搬送コンベアや昇降機構からパーティクルが生じた場合でも、このパーティクルを排気口から排出することができる。この容器内のパーティクルが処理装置内に流入することがないので、処理装置における基板の処理を適切に行うことができる。
【００１３】
前記容器の内部には、前記２段のローラ搬送コンベアを収容するコンベアカバーが設けられ、前記コンベアカバーの前記アームの搬入領域に臨む側面には、基板を搬入するための他の搬入口が形成され、前記コンベアカバーの前記処理装置側の側面には、基板を搬出するための他の搬出口が形成されていてもよい。これによって、コンベアカバー内に他の搬入口から他の搬出口への一方向の気流が生じるので、例えばコンベアカバー内にパーティクルが発生した場合でも、このパーティクルを気流により他の搬出口から排出し、その後容器の排気口から排出することができる。
【００１４】
前記アームの先端側には、基板を支持する直線状の支持部が平行に複数設けられ、前記ローラ搬送コンベアは、基板を支持可能で、少なくとも基板の搬送方向に回転自在な複数の搬送ローラと、前記複数の搬送ローラを支持し、基板の搬送方向に延びる複数の支持部材と、を有し、前記複数の支持部材は、当該支持部材間に前記支持部が進入するように、基板の搬送方向と直角方向に並べて配置されていてもよい。これによって、アームが搬送ローラと干渉することなく、基板をアームから搬送ローラに直接載置することができる。
【００１５】
前記搬送ローラは、無方向に回転自在なフリーローラであってもよい。
【００１６】
基板の搬送方向と直角方向に、前記搬送ローラに支持された基板の位置を調整するガイドローラを有していてもよい。これによって、基板を搬送方向に正しく搬送することができる。
【００１７】
前記ローラ搬送コンベアは、基板を支持することができ、基板の搬送方向に回転自在で、搬送方向と直角方向に並べて配置された複数の搬送ローラと、前記複数の搬送ローラの中心部を貫通して当該搬送ローラを支持する回転軸と、を有し、前記複数の搬送ローラと回転軸は、基板の搬送方向に複数並べて配置され、前記搬送ローラの径は、前記搬送ローラの上端と前記回転軸の上端との間に前記アームが進入できる大きさに設定されていてもよい。
【００１８】
基板の搬送方向と直角方向に、前記搬送ローラに支持された基板の位置を調整するガイドローラを有していてもよい。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、占有面積の小さい基板搬送装置を用いて、基板処理のスループットを向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本発明の好ましい実施の形態について説明する。図１は、本実施の形態にかかる基板搬送装置１００を搭載した塗布現像処理システム１の構成の概略を示す平面図である。
【００２１】
塗布現像処理システム１は、図１に示すように例えば複数のガラス基板Ｇをカセット単位で外部に対して搬入出するためのカセットステーション２と、フォトリソグラフィー工程の中で枚葉式に所定の処理を施す各種処理装置が配置された処理ステーション３と、処理ステーションに３に隣接して設けられ、処理ステーション３と露光装置４との間でガラス基板Ｇの受け渡しを行うインターフェイスステーション５とを一体に接続した構成を有している。
【００２２】
カセットステーション２には、カセット載置台１０が設けられ、当該カセット載置台１０は、複数のカセットＣをＸ方向（図１中の上下方向）に一列に載置自在になっている。カセットステーション２には、搬送路１１上をＸ方向に向かって移動可能な搬送アーム１２が鉛直方向に２段設けられている。搬送アーム１２は、カセットＣに収容されたガラス基板Ｇの配列方向（Ｚ方向；鉛直方向）にも移動自在であり、Ｘ方向に配列された各カセットＣ内のガラス基板Ｇに対して選択的にアクセスできる。また搬送アーム１２は、Ｚ軸周りのθ方向に回転可能であり、後述する処理ステーション３側の基板搬送装置１００や冷却処理装置３３に対してもアクセスできる。
【００２３】
搬送アーム１２の先端側には、図２に示すように、ガラス基板Ｇが撓まないようにガラス基板Ｇの下面の複数箇所を支持する直線状の支持部１３が一方向に平行に複数設けられている。搬送アーム１２の基端側には、支持部１３と一体に形成され、かつ支持部１３を支持する基端部１４が設けられている。
【００２４】
処理ステーション３は、例えばＹ方向（図１の左右方向）に延びる２列の搬送ラインＡ、Ｂを備えている。この搬送ラインＡ、Ｂは、コロ搬送によりガラス基板Ｇを水平方向に直線的に搬送できる。処理ステーション３の正面側（Ｘ方向負方向側（図１の下側））にある基板搬送路としての搬送ラインＡには、カセットステーション２側からインターフェイスステーション５側に向けて順に、例えば本実施の形態にかかるガラス基板Ｇを搬送する基板搬送装置１００、ガラス基板Ｇ上の有機物を除去するエキシマＵＶ照射装置２０、ガラス基板Ｇを洗浄するスクラバ洗浄装置２１、ガラス基板Ｇを加熱処理する加熱処理装置２２、ガラス基板Ｇを冷却処理する冷却処理装置２３、ガラス基板Ｇにレジスト液を塗布するレジスト塗布処理装置２４、ガラス基板Ｇを減圧乾燥する減圧乾燥装置２５、加熱処理装置２６、冷却処理装置２７及びガラス基板Ｇを一時的に待機させるアウトステージ２８が直線的に一列に配置されている。
【００２５】
処理ステーション３の背面側（Ｘ方向正方向側（図１の上方側））の搬送ラインＢには、インターフェイスステーション５側からカセットステーション２側に向けて順に、例えばガラス基板Ｇを現像処理する現像処理装置３０、ガラス基板Ｇの脱色処理を行うｉ線ＵＶ照射装置３１、加熱処理装置３２及び冷却処理装置３３が直線状に一列に配置されている。
【００２６】
搬送ラインＡのアウトステージ２８と搬送ラインＢの現像処理装置３０との間には、この間のガラス基板Ｇの搬送を行う搬送体４０が設けられている。この搬送体４０は、後述するインターフェイスステーション５のエクステンション・クーリング装置６０に対してもガラス基板Ｇを搬送できる。
【００２７】
インターフェイスステーション５には、例えば冷却機能を有しガラス基板Ｇの受け渡しを行うエクステンション・クーリング装置６０と、ガラス基板Ｇを一時的に収容するバッファカセット６１と、外部装置ブロック６２が設けられている。外部装置ブロック６２には、ガラス基板Ｇに生産管理用のコードを露光するタイトラーと、ガラス基板Ｇの周辺部を露光する周辺露光装置が設けられている。インターフェイスステーション５には、上記エクステンション・クーリング装置６０、バッファカセット６１、外部装置ブロック６２及び露光装置４に対して、ガラス基板Ｇを搬送可能な搬送アーム６３が設けられている。
【００２８】
次に、本実施の形態にかかる基板搬送装置１００の構成について説明する。
【００２９】
基板搬送装置１００は、図３に示すように内部を閉鎖可能な容器１１０を有している。容器１１０のカセットステーション２側の一側面には、搬送アーム１２がガラス基板Ｇを搬入するための搬入口１１１が形成されている。容器１１０のエキシマＵＶ照射装置２０側の一側面には、ガラス基板Ｇを搬出するための搬出口１１２が形成されている。容器１１０の搬送ラインＡと直角方向に対向する側面の下部には、図４に示すように容器１１０内の雰囲気を排気するための排気口１１３、１１３が形成されている。なお、容器１１０の内部は、エキシマＵＶ照射装置２０の内部より低圧に保たれている。また搬入口１１１、搬出口１１２、排気口１１３には、それぞれ開閉シャッタ（図示せず）が設けられていてもよい。
【００３０】
容器１１０の内部には、内部を閉鎖可能なコンベアカバー１１４がさらに設けられている。コンベアカバー１１４の内部には、後述する上下２段のローラ搬送コンベア１２０、１４０が設けられている。コンベアカバー１１４のカセットステーション２側の一側面には、ガラス基板Ｇを搬入するための搬入口１１５が形成されている。コンベアカバー１１４のエキシマＵＶ照射装置２０側の一側面には、ガラス基板Ｇを搬出するための搬出口１１６が形成されている。なお搬入口１１５、搬出口１１６には、それぞれ開閉シャッタ（図示せず）が設けられていてもよい。
【００３１】
コンベアカバー１１４の下面には支柱１１７が設けられ、支柱１１７の下端部は昇降機構１１８に接続されている。昇降機構１１８はその内部にモータ等の駆動部（図示せず）を有し、この昇降機構１１８によりコンベアカバー１１４は昇降できる。
【００３２】
コンベアカバー１１４の内部には、ガラス基板Ｇを搬送するための上段のローラ搬送コンベア１２０と下段のローラ搬送コンベア１４０が鉛直方向に２段に設けられている。上段のローラ搬送コンベア１２０は、図５に示すように搬送ラインＡ方向（Ｙ方向（図５の上下方向））に延びる一対の水平フレーム１２１、１２１を有し、水平フレーム１２１の長さは搬送ラインＡ方向にガラス基板Ｇの約１枚分の長さとなっている。水平フレーム１２１、１２１は、ガラス基板Ｇの幅よりも大きい間隔で対向して配置されている。水平フレーム１２１、１２１の間には、搬送ラインＡ方向に延びる直線状の支持部材１２２が、搬送ラインＡと直角方向（Ｘ方向（図５の左右方向））に並べて例えば４本配置されている。支持部材１２２は、図６に示すように平面から見て、支持部材１２２間に搬送アーム１２の支持部１３が進入できるように配置されている。支持部材１２２は、例えば支持部材１２２の下方において、搬送ラインＡと直角方向に延びる３本の梁１２３に支持されている。梁１２３の両端は、図７及び図８に示すように水平フレーム１２１、１２１の下面にそれぞれ固定されている。なお、梁１２３の上面と後述するフリーローラ１２４及びサポートローラ１３５の上端部との間には、搬送アーム１２が進入できる十分な隙間があいている。
【００３３】
支持部材１２２上には、図５に示すようにガラス基板Ｇを支持して、ガラス基板Ｇを搬送ラインＡ方向に搬送する搬送ローラとしてのフリーローラ１２４が複数設けられている。フリーローラ１２４は搬送ラインＡ方向に一定の間隔で設けられ、隣り合う支持部材１２２上のフリーローラ１２４は搬送ラインＡと直角方向に一直線に並んでいる。フリーローラ１２４は、図９に示すように無方向に回転自在の、いわゆるボールベアリングにより構成されている。フリーローラ１２４は、半球状で上面が開口したカップ体１２５を有し、カップ体１２５には、ガラス基板Ｇの裏面を支持する支持ボール１２６が収納されている。カップ体１２５の内側面には、複数の回転ボール１２７が設けられ、回転ボール１２７は支持ボール１２６を支持している。支持ボール１２６は、回転ボール１２７の回転により円滑に回転することができ、ガラス基板Ｇを無方向に移動させることができる。カップ体１２５の下面には支柱１２８が設けられ、支柱１２８の下端部は支持部材１２２に固定されている。
【００３４】
フリーローラ１２４の搬送ラインＡ方向側には、図５に示すように搬送ラインＡ方向に自転する複数の駆動ローラ１３０が搬送ラインＡと直角方向に一定の間隔で設けられている。駆動ローラ１３０の中心部には搬送ラインＡと直角方向に延びる駆動軸１３１が貫通し、駆動軸１３１の両端は水平フレーム１２１、１２１にそれぞれ支持されている。駆動軸１３１の両端には、プーリ１３４、１３４が水平フレーム１２１、１２１の外側にそれぞれ設けられ、一のプーリ１３４には、プーリ１３４及び駆動軸１３１を回転させるモータ等の回転駆動部１３２が設けられている。駆動ローラ１３０は回転駆動部１３２により搬送ラインＡ方向に回転し、ガラス基板Ｇを搬送ラインＡ方向に搬送することができる。
【００３５】
フリーローラ１２４の搬送ラインＡと直角方向の両側には、図５に示すようにガラス基板Ｇを支持して搬送ラインＡ方向に自転する複数のサポートローラ１３５が搬送ラインＡ方向に一定の間隔で設けられている。サポートローラ１３５は、搬送ラインＡと直角方向にフリーローラ１２４と一直線に並ぶように配置されている。サポートローラ１３５の中心部にはシャフト１３６が固定され、シャフト１３６は水平フレーム１２１に支持されている。シャフト１３６の端部１３６ａは水平フレーム１２１の外側に設けられ、ベルト１３７に接している。ベルト１３７はプーリ１３４及びシャフト１３６の端部１３６ａに掛け渡され、搬送ラインＡ方向に設けられている。プーリ１３４の回転によってベルト１３７が回動し、シャフト１３６が搬送ラインＡ方向に回転することで、サポートローラ１３５は、ガラス基板Ｇを搬送ラインＡ方向に搬送することができる。
【００３６】
水平フレーム１２１、１２１には、図５に示すように搬送ラインＡ方向と直角方向のガラス基板Ｇの位置を調整するガイド部材１３３、１３３が対向して設けられている。ガイド部材１３３は、梁１２３に例えば２箇所ずつ設けられている。ガイド部材１３３は、図８に示すように梁１２３の上面に設けられている。ガイド部材１３３、１３３の内側にはガイドローラ１３３ａ、１３３ａが設けられ、ガイドローラ１３３ａは搬送ラインＡ方向に回転自在になっている。ガイド部材１３３は、搬送ラインＡ方向と直角方向に伸縮可能な構造を有している。そしてガラス基板Ｇがフリーローラ１２４に載置されると、ガイド部材１３３、１３３はガラス基板Ｇを挟み、搬送ラインＡ方向と直角方向のガラス基板Ｇの位置が調整される。またガイド部材１３３、１３３はガラス基板Ｇの搬送中にも当該ガラス基板Ｇを挟んで、ガラス基板Ｇの搬送方向を案内する。
【００３７】
下段のローラ搬送コンベア１４０は、前記の上段のローラ搬送コンベア１２０と同一の構造を有している。上段のローラ搬送コンベア１２０の水平フレーム１２１の両端と、下段のローラ搬送コンベア１４０の水平フレーム１２１の両端とは、図７及び図８に示すように鉛直方向に延びる鉛直フレーム１４１で接続され、上段のローラ搬送コンベア１２０と下段のローラ搬送コンベア１４０は一体に固定されている。ローラ搬送コンベア１２０、１４０は、固定部材（図示せず）によりコンベアカバー１１４に固定されている。
【００３８】
本実施の形態にかかる基板搬送装置１００を搭載した塗布現像処理システム１は以上のように構成されており、次にその塗布現像処理システム１で行われるガラス基板Ｇの処理について説明する。
【００３９】
先ず、カセットステーション２のカセットＣ内のガラス基板Ｇが、上段の搬送アーム１２によって、図３に示すように搬入口１１１を通過して処理ステーション３の基板搬送装置１００内に搬入される。このときローラ搬送コンベア１２０、１４０は、下段のローラ搬送コンベア１４０がエキシマＵＶ照射装置２０内のガラス基板Ｇを搬送するロールＲと水平になるように位置している。そしてガラス基板Ｇを支持した搬送アーム１２が搬入口１１５を通過しコンベアケース１１４内に進入することで、ガラス基板Ｇは搬送アーム１２に支持された状態で上段のローラ搬送コンベア１２０に載置される。このとき搬送アーム１２の支持部１３は、図６に示すように平面から見て、支持部材１２２、１２２の間を通過する。そして搬送アーム１２は、ガラス基板Ｇをローラ搬送コンベア１２０載置した後、一旦所定の位置まで下降し、カセットステーション２に退出する。このように搬送アーム１２は支持部材１２２と干渉せずにガラス基板Ｇを載置することができる。
【００４０】
上段のローラ搬送コンベア１２０にガラス基板Ｇが載置されると、ガイド部材１３３、１３３がガラス基板Ｇを挟み、搬送ラインＡと直角方向のガラス基板Ｇの位置が調整される。
【００４１】
ガラス基板Ｇの搬送ラインＡと直角方向の位置が調整されると、図１０に示すようにローラ搬送コンベア１２０、１４０は、昇降機構１１８によって上段のローラ搬送コンベア１２０がエキシマＵＶ照射装置２０内のロールＲと水平になる位置まで下降する。そして回転駆動部１３２によって駆動ローラ１３０が回転し、図１１に示すように上段のローラ搬送コンベア１２０に載置されたガラス基板Ｇは、ガイド部材１３３、１３３に挟まれた状態でエキシマＵＶ照射装置２０に搬送される。同時に、次に処理されるガラス基板Ｇが下段の搬送アーム１２によって下段のローラ搬送コンベア１４０に載置される。
【００４２】
上段のローラ搬送コンベア１２０からエキシマＵＶ照射装置２０内にガラス基板Ｇが搬送され、下段のローラ搬送コンベア１４０にガラス基板Ｇが載置されると、図１２に示すようにローラ搬送コンベア１２０、１４０は、昇降機構１１８によって下段のローラ搬送コンベア１４０がエキシマＵＶ照射装置２０内のロールＲと水平になる位置まで上昇する。そして下段のローラ搬送コンベア１４０に載置されたガラス基板Ｇは、図１３に示すようにエキシマＵＶ照射装置２０に搬送される。同時に、次に処理されるガラス基板Ｇが上段の搬送アーム１２によって上段のローラ搬送コンベア１４０に載置される。
【００４３】
以上のような搬送、載置作業は、昇降機構１１８によってローラ搬送コンベア１２０、１４０を昇降させて繰り返し行われる。
【００４４】
エキシマＵＶ照射装置２０に搬送されたガラス基板Ｇは、直線的な搬送ラインＡに沿ってコロ搬送により、エキシマＵＶ照射装置２０、スクラバ洗浄装置２１、加熱処理装置２２、冷却処理装置２３、レジスト塗布処理装置２４、減圧乾燥装置２５、加熱処理装置２６及び冷却処理装置２７に順に搬送され、各処理装置において所定の処理が施される。冷却処理の終了したガラス基板Ｇは、アウトステージ２８に搬送される。その後、ガラス基板Ｇは、搬送体４０によって、インターフェイスステーション５に搬送され、搬送アーム６３によって露光装置４に搬送される。
【００４５】
露光装置４において露光処理の終了したガラス基板Ｇは、搬送アーム６３によってインターフェイスステーション５に戻され、搬送体４０によって処理ステーション３の現像処理装置３０に搬送される。ガラス基板Ｇは、直線的な搬送ラインＢに沿ってコロ搬送により、現像処理装置３０、ｉ線ＵＶ照射装置３１、加熱処理装置３２と冷却処理装置３３に順に搬送され、各処理装置において所定の処理が施される。冷却処理装置３３において冷却処理の終了したガラス基板Ｇは、搬送アーム１２によってカセットステーション２のカセットＣに戻されて、一連のフォトリソグラフィー工程が終了する。
【００４６】
以上の実施の形態によれば、上段のローラ搬送コンベア１２０と下段のローラ搬送コンベア１４０のいずれか一方からエキシマＵＶ照射装置２０にガラス基板Ｇを搬送している間に、他方のローラ搬送コンベアに次に処理されるガラス基板Ｇを載置することができる。そして昇降機構１１８で上下２段のローラ搬送コンベア１２０、１４０を昇降させることにより、この搬送、載置作業を繰り返し行うことができる。したがって、必要なときにエキシマＵＶ照射装置２０にガラス基板Ｇを搬送することができ、ガラス基板Ｇの処理のスループットを向上させることができる。そしてガラス基板Ｇを搬送するローラ搬送コンベア１２０、１４０の搬送ラインＡ方向長さがガラス基板Ｇの約１枚分の長さなので、基板搬送装置１００の占有面積を小さくすることができる。したがって、占有面積の小さい基板搬送装置１００を用いて、ガラス基板Ｇの処理のスループットを向上させることができる。
【００４７】
本実施の形態においては、容器１１０の側面に排気口１１３が設けられているので、図１４に示すようにガラス基板Ｇを搬送中に容器１１０の内部の雰囲気を排気口１１３から容器１１０の外部に排気することができる。通常、カセットステーション２の内部が容器１１０の内部よりも高圧に維持されており、また容器１１０の内部は容器１１０の外部よりも高圧に維持されているので、搬入口１１１から排気口１１３への気流が生じ、容器１１０内の雰囲気が排気口１１３から排気される。またコンベアカバー１１４の内部においても、搬入口１１５から搬出口１１６への一方向の気流が生じる。したがって、例えば容器１１０内やコンベアカバー１１４内にパーティクルが生じた場合でも、このパーティクルを排気口１１３から排出することができる。なお、容器１１０の内部はエキシマＵＶ照射装置２０の内部より低圧に維持されているので、容器１１０内の雰囲気がエキシマＵＶ照射装置２０内に流れることはない。
【００４８】
本実施の形態においては、ガイドロール１３３が設けられているので、ガラス基板Ｇの搬送ラインＡと直角方向の位置を調整することができ、ガラス基板Ｇを搬送ラインＡ方向に正しく搬送することができる。
【００４９】
本実施の形態においては、搬送アーム１２が支持部材１２２と干渉することないので、ガラス基板Ｇを搬送アーム１２から直接ローラ搬送コンベア１２０、１４０に載置することができる。これにより、図１７に示した基板搬送装置３１０を用いた場合の昇降ピン３２１の昇降が不要となり、ガラス基板Ｇを円滑にローラ搬送コンベア１２０、１４０に載置することができる。
【００５０】
以上の実施の形態で用いられたフリーローラ１２４に代えて、図１５に示すようにガラス基板Ｇを支持することができ、搬送ラインＡ方向に回転自在な搬送する大口径ローラ１５０を用いてもよい。大口径ローラ１５０の中心部には搬送ラインＡと直角方向に延びる回転軸１５１が貫通して大口径ローラ１５０を支持している。回転軸１５１の両端は水平フレーム１２１、１２１にそれぞれ支持され、その端部１５１ａはベルト１３７に接している。大口径ローラ１５０の径は、図１６に示すように大口径ローラ１５０の上端と回転軸１５１の上端との間に搬送アーム１２が進入できる大きさに設定されている。そして駆動ローラ１３０の径も大口径ローラ１５０の径と同一の大きさに設定されている。かかる場合、搬送アーム１２が回転軸１５１と干渉することなく、ガラス基板Ｇを搬送アーム１２から直接ローラ搬送コンベア１２０、１４０に載置することができる。なお、フリーローラ１２４を支持していた支持部材１２２と梁１２３は、ローラ搬送コンベア１２０、１４０から省略できる。
【００５１】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施の形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に相到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【産業上の利用可能性】
【００５２】
本発明は、基板を支持するアームから基板を受け取って、この基板を処理装置に搬送する基板搬送装置に有用である。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】本実施の形態にかかる基板搬送装置を搭載した、塗布現像処理システムの構成の概略を示す平面図である。
【図２】搬送アームの平面図である。
【図３】本実施の形態にかかる基板搬送装置の構成の概略を示す縦断面図である。
【図４】本実施の形態にかかる基板搬送装置の構成の概略を示す平面図である。
【図５】本実施の形態にかかるローラ搬送コンベアの平面図である。
【図６】搬送アームがローラ搬送コンベアに進入した状態を示す説明図である。
【図７】図５のローラ搬送コンベアのＹ方向断面図である。
【図８】図５のローラ搬送コンベアのＸ方向断面図である。
【図９】フリーローラの構造を示す説明図である。
【図１０】基板搬送装置内でガラス基板を搬送している状態を示す説明図である。
【図１１】基板搬送装置内でガラス基板を搬送している状態を示す説明図である。
【図１２】基板搬送装置内でガラス基板を搬送している状態を示す説明図である。
【図１３】基板搬送装置内でガラス基板を搬送している状態を示す説明図である。
【図１４】基板搬送装置内でガラス基板を搬送中に、当該基板搬送装置内の雰囲気の流れを示す説明図である。
【図１５】他の実施の形態にかかるローラ搬送コンベアの平面図である。
【図１６】搬送アームがローラ搬送コンベアに進入した状態を示す説明図である。
【図１７】従来の基板搬送装置の構成の概略を示す縦断面図である。
【符号の説明】
【００５４】
１        塗布現像処理システム
２        カセットステーション
３        処理ステーション
１２      搬送アーム
１３      支持部
１００    基板搬送装置
１１０    容器
１１１    搬入口
１１２    搬出口
１１３    排気口
１１４    コンベアカバー
１１５    搬入口
１１６    搬出口
１１８    昇降機構
１２０    上段のローラ搬送コンベア
１２２    支持部材
１２４    フリーローラ
１３０    駆動ローラ
１３１    駆動軸
１３２    回転駆動部
１３３ａ  ガイドローラ
１４０    下段のローラ搬送コンベア
１５０    大口径ローラ
１５１    回転軸
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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