(57)【要約】【課題】さまざまな外周形状で切り出すことが容易に行える電気光学装置の製造方法及び電気光学装置並びに電極付基板の製造方法及び電極付基板を提供すること。【解決手段】ガラス基板を基体とした第１及び第２大判基板３１、３２をシール材１４で貼り合せる貼合工程と、第１及び第２大判基板３１、３２の表面に、それぞれスリット３４ａ、３５ａが形成されたレジスト層３４、３５を形成する保護膜形成工程と、フッ酸を用いたウェットエッチングによりスリット３４ａ、３５ａに沿って第１及び第２大判基板３１、３２を分断するエッチング工程と、第１及び第２大判基板３１、３２をスクライブにより切断して素子基板及び対向基板を切り出すスクライブ工程とを備え、該スクライブ工程において、少なくとも端子部１５を切り出す。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板を基体とした第１及び第２基板を枠状のシール材で貼り合せて電気光学層を挟持すると共に、前記第１基板のうち前記第２基板から張り出す端子部に端子電極が設けられた電気光学装置の製造方法であって、
ガラス基板を基体とした第１及び第２大判基板を前記シール材で貼り合せる貼合工程と、
前記第１及び第２大判基板の表面に、それぞれスリットが形成された保護膜を形成する保護膜形成工程と、
エッチング液を用いたウェットエッチングにより前記スリットに沿って前記第１及び第２大判基板を分断するエッチング工程と、
前記第１及び第２大判基板をスクライブにより切断して前記第１及び第２基板を切り出すスクライブ工程とを備え、
該スクライブ工程において、少なくとも前記端子部を切り出すことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項２】
前記貼合工程で、前記シール材の外側に設けられて該シール材との間に閉領域を形成する他のシール材を設け、
前記保護膜形成工程で、前記スリットが前記閉領域に形成されると共に、前記端子部が前記閉領域の外部に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項３】
前記エッチング工程と前記スクライブ工程との間に、前記第１及び第２大判基板を洗浄する洗浄工程を有することを特徴とする請求項１または２に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項４】
ガラス基板を基体とした第１及び第２基板を枠状のシール材で貼り合せて電気光学層を挟持すると共に、前記第１基板のうち前記第２基板から張り出す端子部に端子電極が配列して設けられた電気光学装置であって、
前記第１基板が、前記端子部においてスクライブにより形成された端部と、前記端子部以外の外縁の少なくとも一部においてウェットエッチングにより形成された端部とを有し、
前記第２基板が、外縁の少なくとも一部においてウェットエッチングにより形成された端部を有することを特徴とする電気光学装置。
【請求項５】
前記ウェットエッチングにより形成された端部が、断面湾曲形状の湾曲肩部を有し、
前記スクライブにより形成された端部が、断面屈曲形状の屈曲肩部を有することを特徴とする請求項４に記載の電気光学装置。
【請求項６】
前記電極端子が配列する方向の前記第１及び第２基板の幅が、前記端子部以外の領域の少なくとも一部において一方から他方に向けて漸次広くなることを特徴とする請求項４または５に記載の電気光学装置。
【請求項７】
ガラス基板を基体とした基板に端子電極を有する端子部が形成された電極付基板の製造方法であって、
ガラス基板を基体とした大判基板の表面に、スリットが形成された保護膜を形成する保護膜形成工程と、
エッチング液を用いたウェットエッチングにより前記スリットに沿って前記大判基板を分断するエッチング工程と、
前記大判基板をスクラブにより切断して前記基板を切り出すスクライブ工程とを備え、
該スクライブ工程において、少なくとも前記端子部を切り出すことを特徴とする電極付基板の製造方法。
【請求項８】
ガラス基板を基体とした基板に端子電極を有する端子部が形成された電極付基板であって、
前記基板が、前記端子部においてスクライブにより形成された端部と、前記端子部以外の外縁の少なくとも一部においてウェットエッチングにより形成された端部とを有することを特徴とする電極付基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置の製造方法及び電気光学装置並びに電極付基板の製造方法及び電極付基板に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
例えば携帯電話機などの表示装置として、液晶装置が広く用いられている。この液晶表示装置は、一対の基板間で液晶層を挟持した液晶パネルを備えている。このような液晶パネルは、通常シール材により貼り合わされた一対の大判基板をスクライブやプロッタにより切り出すことによって形成されている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００５−２０２２８６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、上記従来の液晶装置の製造方法においても、以下の課題が残されている。すなわち、スクライブにより液晶パネルを切り出す場合には、基板面内で直交するＸＹ２軸方向で切り出しているため、液晶パネルの形状が矩形となっている。そのため、液晶パネルの外形の自由度が低いという問題がある。
【０００４】
本発明は、上記従来の問題に鑑みてなされたもので、さまざまな外周形状で切り出すことが容易に行える電気光学装置の製造方法及び電気光学装置並びに電極付基板の製造方法及び電極付基板を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、前記課題を解決するために以下の構成を採用した。すなわち、本発明にかかる電気光学装置の製造方法は、ガラス基板を基体とした第１及び第２基板を枠状のシール材で貼り合せて電気光学層を挟持すると共に、前記第１基板のうち前記第２基板から張り出す端子部に端子電極が設けられた電気光学装置の製造方法であって、ガラス基板を基体とした第１及び第２大判基板を前記シール材で貼り合せる貼合工程と、前記第１及び第２大判基板の表面に、それぞれスリットが形成された保護膜を形成する保護膜形成工程と、エッチング液を用いたウェットエッチングにより前記スリットに沿って前記第１及び第２大判基板を分断するエッチング工程と、前記第１及び第２大判基板をスクライブにより切断して前記第１及び第２基板を切り出すスクライブ工程とを備え、該スクライブ工程において、少なくとも前記端子部を切り出すことを特徴とする。
【０００６】
この発明では、スリットの形状を適宜変更することで、第１及び第２基板をさまざまな外周形状で容易に切り出すことができる。すなわち、スリットが形成された保護膜をマスクとしてウェットエッチングを行うと、スリットの形成領域からエッチャントであるフッ酸が浸透して、ガラス基板を基体とした第１及び第２大判基板が分断される。そして、第１及び第２大判基板のうち第１基板の端子部となる領域を含む他の部分をスクライブにより切断することで、第１基板及び第２基板が切り出される。したがって、湾曲形状のスリットを形成することで、曲線部分を有する外周形状の電気光学装置を容易に形成できる。そして、さまざまな曲線及び直線形状を作成することができるので、意匠性を向上させることができる。
また、エッチング工程において形成された第１及び第２基板の端部は、ウェットエッチングにより形成されていることから、断面形状において角部がエッチングされて曲部となっている。そのため、ウェットエッチングにより形成された端部の強度が向上する。
【０００７】
また、本発明の電気光学装置の製造方法は、前記貼合工程で、前記シール材の外側に設けられて該シール材との間に閉領域を形成する他のシール材を設け、前記保護膜形成工程で、前記スリットが前記閉領域に形成されると共に、前記端子部が前記閉領域の外部に設けられていることが好ましい。
この発明では、シール材を２重に設けて端子部を他のシール材の外側に形成することで、エッチング工程において端子部に形成された端子電極がエッチングされることを確実に防止できる。すなわち、両シール材の間の領域にスリットを形成した状態でウェットエッチングを行うと、保護膜をマスクとしてエッチャントであるフッ酸が浸透するが、第１及び第２大判基板の少なくとも一方が分断されて第１及び第２大判基板の間にフッ酸が侵入した場合であっても、フッ酸が両シール材で囲まれた閉領域内でとどまる。したがって、閉領域の外側に形成された端子電極のエッチングを防止できる。
【０００８】
また、本発明の電気光学装置の製造方法は、前記エッチング工程と前記スクライブ工程との間に、前記第１及び第２大判基板を洗浄する洗浄工程を有することが好ましい。
この発明では、エッチング工程後に第１及び第２大判基板を洗浄することで、エッチャントであるフッ酸を除去し、第１及び第２大判基板が過度にエッチングされることや端子電極がエッチングされることを防止する。
【０００９】
また、本発明の電気光学装置は、ガラス基板を基体とした第１及び第２基板を枠状のシール材で貼り合せて電気光学層を挟持すると共に、前記第１基板のうち前記第２基板から張り出す端子部に端子電極が配列して設けられた電気光学装置であって、前記第１基板が、前記端子部においてスクライブにより形成された端部と、前記端子部以外の外縁の少なくとも一部においてウェットエッチングにより形成された端部とを有し、前記第２基板が、外縁の少なくとも一部においてウェットエッチングにより形成された端部を有することを特徴とする。
この発明では、第１及び第２基板の端部は、ウェットエッチングにより形成されていることから、断面形状において角部がエッチングされて湾曲部となっている。そのため、ウェットエッチングにより形成された端部の強度が向上する。
【００１０】
また、本発明の電気光学装置は、前記ウェットエッチングにより形成された端部が、断面湾曲形状の湾曲肩部を有し、前記スクライブにより形成された端部が、断面屈曲形状の屈曲肩部を有することとしてもよい。
この発明では、ウェットエッチングにより湾曲肩部を有する端部が形成され、スクライブにより屈曲肩部を有する端部が形成される。
【００１１】
また、本発明の電気光学装置は、前記電極端子が配列する方向の前記第１及び第２基板の幅が、前記端子部以外の領域の少なくとも一部において一方から他方に向けて漸次広くなることとしてもよい。
この発明では、端子部に対する接近離間方向で一方から他方に向けて漸次広くなる部分の外周をウェットエッチングにより形成する。
【００１２】
また、本発明の電極付基板の製造方法は、ガラス基板を基体とした基板に端子電極を有する端子部が形成された電極付基板の製造方法であって、ガラス基板を基体とした大判基板の表面に、スリットが形成された保護膜を形成する保護膜形成工程と、エッチング液を用いたウェットエッチングにより前記スリットに沿って前記大判基板を分断するエッチング工程と、前記大判基板をスクラブにより切断して前記基板を切り出すスクライブ工程とを備え、該スクライブ工程において、少なくとも前記端子部を切り出すことを特徴とする。
この発明では、上述と同様に、曲線部分を有する外周形状の電極付基板を容易に形成できる。そして、さまざまな曲線及び直線形状を作成することができるので、意匠性を向上させることができる。また、ウェットエッチングにより形成された端部の強度が向上する。
【００１３】
また、本発明の電極付基板は、ガラス基板を基体とした基板に端子電極を有する端子部が形成された電極付基板であって、前記基板が、前記端子部においてスクライブにより形成された端部と、前記端子部以外の外縁の少なくとも一部においてウェットエッチングにより形成された端部とを有することを特徴とする。
この発明では、上述と同様に、ウェットエッチングにより形成された端部の強度が向上する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明における電気光学装置の製造方法及び電気光学装置並びに電極付基板の製造方法及び電極付基板の一実施形態を、図面に基づいて説明する。なお、以下の説明に用いる各図面では、各部材を認識可能な大きさとするために縮尺を適宜変更している。ここで、図１は液晶装置を示す外観斜視図、図２は（ａ）が図１の端子部を除く部分における断面図で（ｂ）が図１の端子部における断面図である。
【００１５】
〔液晶装置〕
まず、本実施形態における液晶装置の製造方法により製造される液晶装置（電気光学装置）１について説明する。
本実施形態における液晶装置１は、図１及び図２に示すように、素子基板（第１基板，電極付基板）１１と、素子基板１１に対向配置された対向基板（第２基板）１２と、素子基板１１及び対向基板１２に挟持された液晶層（電気光学層）１３とを備えている。また、液晶装置１は、素子基板１１及び対向基板１２をシール材１４で貼り合せており、液晶層１３をシール材１４で区画された領域内に封止している。そして、液晶装置１は、シール材１４の内側領域に設けられた平面視（対向基板１２側から素子基板１１を見た状態）でほぼ円形の画像表示領域Ａを有している。
【００１６】
素子基板１１は、平面視でほぼ円形状であってガラス基板を基体としており、このガラス基板上に種々の金属膜や絶縁膜、半導体層、不純物層などが形成されている。そして、素子基板１１には、フォトリソグラフィ技術やインクジェット法などの所定の手法を用いてガラス基板上に形成された画素電極、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Thin Film Transistor）及び蓄積コンデンサなどを含む画素部分と、画素に電気信号などを供給する配線部分とを備えている。さらに、素子基板１１の内側の面（液晶層１３側の面）には、液晶層１３を構成する液晶分子の初期配向状態を規制する配向膜が形成されている。
また、素子基板１１には、平面視において対向基板１２から張り出す端子部１５が設けられている。この端子部１５は、平面視でほぼ矩形状であり、液晶装置１の外部に接続される端子電極１６が形成されている。そして、端子部１５には、画像表示領域Ａを構成する複数の画素の駆動を制御する駆動回路１７が実装されている。
【００１７】
そして、素子基板１１のうち端子部１５を除く外周は、曲線となっているため、端子部１５の外周を構成する３辺の延在方向とは異なる方向に向かうように形成されている。
また、素子基板１１は、端子部１５の外周おいてスクライブにより切断された断面形状を有すると共に、端子部１５を除く他の外周においてウェットエッチングにより分断された断面形状を有している。すなわち、端子部１５の外周における断面形状は、図２（ｂ）に示すように、素子基板１１の外側の角部がスクライブに用いられるカッターの刃先の側面が当たることにより設けられたカッターマークであって屈曲線状の屈曲肩部２１となっている。一方、端子部１５を除く外周における断面形状は、図２（ａ）に示すように、素子基板１１の外側の角部が滑らかな湾曲線状の湾曲肩部２２となっている。
【００１８】
対向基板１２は、素子基板１１と同様に、平面視でほぼ円形状であってガラス基板を基体としており、このガラス基板上にブラックマトリックスやカラーフィルタ層、保護膜及び電極などが形成されている。また、対向基板１２の内側の面には、配向膜が形成されている。
そして、対向基板１２のうち端子部１５に臨む一辺を除く外周は、曲線となっているため、上述と同様に端子部１５を構成する３辺の延在方向とは異なる方向に向かうように形成されている。
また、対向基板１２は、端子部１５に臨む一辺の外周においてスクライブにより切断された断面形状を有すると共に、この一辺を除く他の外周においてウェットエッチングにより分断された断面形状を有している。すなわち、端子部１５に臨む一辺における断面形状は、図２（ｂ）に示すように、対向基板１２の外側の角部が屈曲肩部２１と同様の屈曲線状の屈曲肩部２３となっている。一方、一辺を除く他の外周における断面形状は、図２（ａ）に示すように、対向基板１２の外側の角部が湾曲肩部２２と同様の湾曲形状の湾曲肩部２４となっている。
【００１９】
シール材１４は、素子基板１１及び対向基板１２の外周に沿ってほぼ環状に形成されている。また、シール材１４は、端子部１５に臨む一部に開口が形成されていて封止材２５で封止されている。
【００２０】
〔液晶装置の製造方法〕
次に、上述した構成の液晶装置１の製造方法について説明する。ここで、図３は、液晶装置１の製造工程を示す工程図である。
まず、切り分けることによって複数の素子基板１１となる第１大判基板（大判基板）３１を形成する。ここでは、ガラス基板上に種々の金属膜や絶縁膜、半導体層、不純物層などを形成する。これにより、ガラス基板上に画素部分及び配線部分が形成される。
そして、第１大判基板３１と同様に、切り分けることによって複数の対向基板１２となる第２大判基板３２を形成する。ここでは、ガラス基板上にブラックマトリックスやカラーフィルタ層、保護膜及び電極などを形成する。
【００２１】
次に、第１及び第２大判基板３１、３２をシール材１４により貼り合せる貼合工程を行う（図３（ａ））。ここでは、第１及び第２大判基板３１、３２を、シール材１４及び補助シール材（他のシール材）３３により貼り合せる。このとき、シール材１４は、画像表示領域Ａとなる領域を囲むように形成する。また、補助シール材３３は、シール材１４の外側に形成されており、平面視でほぼ環状であってシール材１４を囲むように形成された環状部３３ａと、端子部１５となる領域と画像表示領域Ａとなる領域との境界に沿って直線状に形成された直線部３３ｂとを有している。そして、シール材１４、環状部３３ａ及び直線部３３ｂにより、１つの閉領域が形成される。なお、直線部３３ｂは、隣り合う他の端子部１５となる領域と画像表示領域Ａとなる領域との境界に沿って形成される直線部３３ｂと一体的に形成されている。また、端子部１５となる領域は、シール材１４及び補助シール材３３で囲まれた閉領域の外側に形成されている。
【００２２】
続いて、第１及び第２大判基板３１、３２の外表面にそれぞれレジスト層（保護膜）３４、３５を形成するレジスト層形成工程（保護膜形成工程）を行う（図３（ｂ））。ここでは、第１大判基板３１の外表面にレジストを塗布し、フォトリソグラフィ技術などを用いて塗布したレジストをパターニングすることで、スリット３４ａを有するレジスト層３４を形成する。同様に、第２大判基板３２の外表面にもスリット３５ａを有するレジスト層３５を形成する。スリット３４ａ、３５ａは、平面視でシール材１４及び補助シール材３３によって囲まれる閉領域内に形成されており、シール材１４の外側に沿ってほぼ環状に形成されている。
【００２３】
次に、第１及び第２大判基板３１、３２をエッチングするエッチング工程を行う（図３（ｃ））。ここでは、レジスト層３４、３５が形成された第１及び第２大判基板３１、３２をエッチャントであるフッ酸（フッ酸系溶液）に浸漬する。これにより、フッ酸がレジスト層３４、３５にそれぞれ形成されたスリット３４ａ、３５ａを介して第１及び第２大判基板３１、３２と接触する。そして、ガラス基板を基体とした第１及び第２大判基板３１、３２は、フッ酸によりエッチングされ、このエッチングが進行することでスリット３４ａ、３５ａの形成部分に沿って分断される（図３（ｃ）に示す分断線Ｌ１）。ここで、スリット３４ａ、３５ａがシール材１４の外側に沿ってほぼ環状に形成されているため、第１及び第２大判基板３１、３２は、シール材１４の外側に沿って分断される。
なお、スリット３４ａ、３５ａは平面視でシール材１４及び補助シール材３３によって囲まれる領域内に形成されており、この囲まれる領域の外側に端子部１５となる領域が形成されている。そのため、エッチングの進行により第１及び第２大判基板３１、３２が分断されて第１及び第２大判基板３１、３２の間にフッ酸が侵入しても、シール材１４及び補助シール材３３で囲まれる領域外に侵入しにくくなる。これにより、第１大判基板３１の端子部１５となる領域に形成されている端子電極１６がフッ酸によりエッチングされることを防止する。
【００２４】
続いて、第１及び第２大判基板３１、３２を洗浄する洗浄工程を行う。これにより、第１及び第２大判基板３１、３２に付着しているフッ酸を除去する。そして、レジスト層３４、３５を除去する。
次に、第１及び第２大判基板３２をスクライブするスクライブ工程を行う（図３（ｄ））。ここでは、第１大判基板３１のうち端子部１５となる領域の外周をスクライブすることにより、第１大判基板３１から素子基板１１を切り出す（図３（ｄ）に示す切断線Ｌ２）。また、第２大判基板３２のうちエッチング工程において分断されなかった残部をスクライブすることにより、第２大判基板３２から対向基板１２を切り出す（図３（ｄ）に示す切断線Ｌ３）。これにより、第１及び第２大判基板３１、３２からシール材１４により貼り合わされた素子基板１１及び対向基板１２を切り出す。
その後、シール材１４の開口から液晶を注入して封止材２５で封入することで、液晶層１３を形成する。また、素子基板１１の端子部１５上に駆動回路１７を実装する。以上のようにして、図１に示すような液晶装置１を製造する。
【００２５】
〔電子機器〕
以上のような構成の液晶装置１は、例えば図４に示すような時計１００の表示部１０１として適用される。
【００２６】
以上のように、本実施形態における液晶装置１の製造方法及び液晶装置１並びに素子基板１１の製造方法及び素子基板１１によれば、湾曲形状のスリット３４ａ、３５ａを形成することで、曲線部分を有する外周形状を容易に形成できる。したがって、液晶装置１及び素子基板１１の外周形状をさまざまな曲線及び直線形状とすることができるので、設計の自由度及び意匠性が向上する。
また、素子基板１１のうちの端子部１５を除く外周の端部及び対向基板１２のうち端子部１５に臨む一辺を除く他の端部がウェットエッチングにより滑らかな曲線状の湾曲肩部２２、２４を有しているため、この端部の強度が向上する。
そして、貼合工程においてシール材１４の外側に補助シール材３３を設けることでエッチング工程において端子部１５に形成された端子電極１６がフッ酸によりエッチングされることを確実に防止できる。
さらに、エッチング工程後に第１及び第２大判基板３１、３２を洗浄することで、フッ酸を確実に除去して第１及び第２大判基板３１、３２が過度にエッチングされることや端子電極１６がエッチングされることを防止する。
【００２７】
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
例えば、素子基板のうち端子部を除いた他の部分及び対向基板がそれぞれほぼ円形となっているが、外周の少なくとも一部がウェットエッチングにより分断することで形成されれば、多角形など他の形状であってもよい。すなわち、端子部を除いた外周において、ウェットエッチングにより形成された端部とスクライブにより形成された端部とが混在していてもよい。ここで、素子基板のうち端子部を除いた他の部分及び対向基板の外周が端子部を構成する３辺の延在方向と異なる方向に向かっていれば、この部分をウェットエッチングにより分断し、他の部分をスクライブにより切断することで素子基板及び対向基板を切り出す。
【００２８】
また、フォトリソグラフィ技術などを用いることでパターニングされたレジスト層をマスクとしてエッチング工程を行っているが、あらかじめパターニングされたレジスト層を印刷により形成してもよい。さらに、第１及び第２大判基板の表面にフッ酸に対して耐性を有するフィルムを保護膜として貼り付け、このフィルムをマスクとしてエッチング工程を行ってもよい。ここで、フィルムは、あらかじめパターニングされたものを印刷することによって貼り付けてもよく、貼り付け後に例えばＮＣ（数値制御）旋盤などでスリットを形成してパターニングしてもよい。そして、フッ酸に対して耐性を有していれば、他の材料により保護膜を形成してもよい。
【００２９】
また、エッチング工程後にエッチャントであるフッ酸を十分に除去できれば、エッチング工程とスクライブ工程との間に洗浄工程を設けなくてもよい。
そして、エッチング工程においてエッチャントであるフッ酸が第１大判基板に形成された端子電極を腐食させなければ、補助シール材を形成しなくてもよい。
さらに、エッチング工程及びスクライブ工程により素子基板及び対向基板を切り出してから液晶を注入することで液晶層を形成しているが、スクライブ工程において第１及び第２大判基板を短冊状に切り分け、短冊状の第１及び第２大判基板を貼り合せている複数のシール材の開口から液晶を注入してから個々の素子基板及び対向基板を切り出してもよい。
また、電気光学装置は、液晶装置に限らず、例えば有機ＥＬ装置や電気泳動装置などの他の装置であってもよい。
【００３０】
また、上記実施形態では、素子基板と対向基板とをシール材で貼り合わせた液晶装置の製造方法について説明しているが、端子電極を有する端子部が形成された電極付基板に本発明を適用してもよい。ここでは、切り分けることによって複数の電極付基板を構成する大判基板の表面にパターニングされたレジスト層を形成し、このレジスト層をマスクとして端子部の外周を除く他の外周の少なくとも一部をウェットエッチングにより分断して形成する。そして、大判基板をスクライブにより切断して他の外周を形成することで電極付基板を製造する。ここで、大判基板のうち端子電極が形成されている一方の表面に他の基板やフィルムなどが貼り付けられている場合には、大判基板の少なくとも他方の表面にレジスト層を形成すればよい。このような電極付基板としては、タッチパネルが挙げられるが、他の電極付基板であってもよい。
【００３１】
また、電子機器は、液晶装置などの電気光学装置を表示部として備えていれば上述した時計に限らず、携帯電話機や電子ブック、パーソナルコンピュータ、デジタルスチルカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型またはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末などの画像表示手段であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】本発明の液晶装置を示す外観斜視図である。
【図２】図１の端部を示す断面図である。
【図３】図１の液晶装置の製造方法を示す工程図である。
【図４】本発明の液晶装置を備える時計を示す外観斜視図である。
【符号の説明】
【００３３】
１  液晶装置、１１  素子基板（第１基板）、１２  対向基板（第２基板）、１３  液晶層（電気光学層）、１４  シール材、１５  端子部、１６  端子電極、２１，２３  屈曲肩部、２２，２４  湾曲肩部、３１  第１大判基板（大判基板）、３２  第２大判基板、３３  補助シール材（他のシール材）、３４，３５  レジスト層（保護膜）、３４ａ，３５ａ  スリット
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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