(57)【要約】【課題】集積度が高く均一照射が可能であり、取り扱いの容易なファイババンドルを提供する。【解決手段】ファイババンドル１は、複数の光ファイバ３０に個別に入射させた複数の入射光Ｌ１を集積させて出射させるように複数の光ファイバ３０が光出射端３２側で配列されて束ねられた集積機能ファイババンドル部３と、集積機能ファイババンドル部３からの出射光を均一化させて出射させる光ファイバ４０を備えた均一機能ファイバ部４とを有する第1のファイババンドル部５と、複数の第1のファイババンドル部５からの出射光を集積させて出射させるように複数の第１のファイババンドル部５の均一機能ファイバ部４が光出射端４２側で配列されて束ねられた第２のファイババンドル部６を備える。集積機能ファイババンドル部３の光出射端３２と均一機能ファイバ部４の光入射端４１とが当接されている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の光ファイバに個別に入射させた複数の入射光を集積させて出射させるように前記複数の光ファイバが該光ファイバの光出射端側で配列されて束ねられた集積機能ファイババンドル部と、該集積機能ファイババンドル部からの出射光を均一化させて出射させる均一機能ファイバ部とを有する第１のファイババンドル部と、
複数の該第１のファイババンドル部からの出射光を集積させて出射させるように前記複数の第１のファイババンドル部の前記均一機能ファイバ部が該均一機能ファイバ部の光出射端側で配列されて束ねられた第２のファイババンドル部とを備えたファイババンドルであって、
前記均一機能ファイバ部は、少なくとも該均一機能ファイバ部の光入射端面において、前記集積機能ファイババンドル部の光出射端面における光出射領域と同等以上の大きさのコア部を有する光ファイバからなり、
前記集積機能ファイババンドル部の光出射端と前記均一機能ファイバ部の光入射端とは当接されており、
前記集積機能ファイババンドル部と前記均一機能ファイバ部とが着脱可能であることを特徴とするファイババンドル。
【請求項２】
前記第２のファイババンドル部は、該第２のファイババンドル部の光出射端面において前記均一機能ファイバ部が１次元状に密接するように配列されて束ねられたものであることを特徴とする請求項１に記載のファイババンドル。
【請求項３】
前記集積機能ファイババンドル部の複数の光ファイバは、前記集積機能ファイババンドル部の光出射端面において断面が２次元状に密接するように配列されて束ねられたものであることを特徴とする請求項１又は２に記載のファイババンドル。
【請求項４】
前記均一機能ファイバ部の長さが１０ｃｍ以上であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のファイババンドル。
【請求項５】
前記集積機能ファイババンドル部の光出射端と前記均一機能ファイバ部の光入射端とが該光出射端と該光入射端との接着を抑止する保護媒体を介して当接されており、
前記集積機能ファイババンドル部と前記均一機能ファイバ部とが前記保護媒体を介して着脱可能であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のファイババンドル。
【請求項６】
前記入射光が波長１９０ｎｍ〜５３０ｎｍの光であることを特徴とする請求項５に記載のファイババンドル。
【請求項７】
前記保護媒体が、フッ化物を含むものであることを特徴とする請求項５又は６に記載のファイババンドル。
【請求項８】
前記保護媒体が、ＹＦ３，ＬｉＦ，ＭｇＦ２，ＮａＦ，ＬａＦ３，ＢａＦ２，ＣａＦ２及びＡｌＦ３からなる群より選ばれる少なくとも1種のフッ化物を含むものであることを特徴とする請求項７に記載のファイババンドル。
【請求項９】
前記集積機能ファイババンドル部を構成する複数の光ファイバのうち少なくとも一つの光ファイバの光入射端に、複数の光ファイバに個別に入射させた複数の入射光を集積させて出射させるように該複数の光ファイバが該光ファイバの出射端側で配列されて束ねられた第２の集積機能ファイババンドル部の光出射端が当接されており、
前記少なくとも一つの光ファイバは、該光ファイバの光入射端面において、前記第２の集積機能ファイババンドル部の光出射端面における光出射領域より大きいコア部を有するものであり、
前記少なくとも一つの光ファイバと前記第２の集積機能ファイババンドル部とが着脱可能であることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載のファイババンドル。
【請求項１０】
前記第２の集積機能ファイババンドル部の光出射端と前記集積機能ファイババンドル部を構成する複数の光ファイバのうち少なくとも一つの光ファイバの光入射端とが、該光出射端と該光入射端との接着を抑止する保護媒体を介して当接されており、
前記第２の集積機能ファイババンドル部と前記少なくとも一つの光ファイバとが前記保護媒体を介して着脱可能であることを特徴とする請求項９に記載のファイババンドル。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれかに記載のファイババンドルと、
複数の光源と、
該複数の光源からの光を、前記ファイババンドルの前記集積機能ファイババンドル部の複数の光ファイバの各光入射端に入射させる光入射手段とを備えたことを特徴とする光源装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光を集積させて出射させるファイババンドル及びそれを備えた光源装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ファイババンドルは、光ファイバを複数本束ねて端末部を加工したものであり、ファイババンドルを用いた光源装置は、分光分析用、液晶ディスプレイ用、露光機用等に利用されている。ファイババンドルは、より高密度に集積させ、かつ、均一な光を出射させる機能が求められている。
【０００３】
より高密度に集積させる技術として、できるだけ細径の光ファイバを束ねる方法が検討されている。特許文献１には、ファイババンドルのレーザ光出射端側において、複数のコアを伝搬するレーザ光の横モードが互いに影響しない最低限の間隔をおいて複数の光ファイバを配置させ、その周囲を複数のコアよりも低屈折率のクラッドで覆ったファイババンドルが開示されている。また特許文献２には、クラッド径の異なる大径部と小径部とからなる複数の光ファイバを小径部側で束ねたファイババンドルを用いた光源装置が開示されている。特許文献２には、小径部のクラッド径ｄ２を大径部のクラッド径ｄ１の１／２0.5以下とすることにより、複数の光ファイバの配列密度を高くし、均一クラッド径のものに比して2倍以上の光パワー密度が達成されることが記載されている（段落［００２５］を参照）。
【０００４】
また、均一な光を出射させる技術としては、ファイババンドルの出射端側にガラスロッドやフライアイレンズ等の光学系を配して均一化させる方法があるが、光学系を要するため構成が複雑であり長期安定性が不十分であった。これに対し、光学系による均一化ではなく、光源側で入射光パワーを制御することにより出射光を均一化させる方法が検討されている。特許文献３には、バンドル化した複数の光ファイバに入射させる光源の入射光パワーを光ファイバ毎又は出射端の位置に対応したグループ毎に調整可能としたファイババンドルが開示されている。また、特許文献４には、バンドル化した複数の光ファイバの光パワーが、個々の光ファイバで異ならないように、多数本の光ファイバに対して入射光を一括入力させたバンドルファイバが開示されている。
【特許文献１】特開平１１−２３８６７号公報
【特許文献２】特開２００６−３０１１２１号公報
【特許文献３】特開２００３−３２２７３０号公報
【特許文献４】特開２００４−３７７２０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１及び特許文献２の方法によれば、より細径化された光ファイバを束ねることが可能であるが、ただでさえ細くて加工の難しいファイバの微細加工を要する上、細径化が進むにつれて、取り扱い性もより困難になり、また光ファイバ自身の強度も低下することからケーブル化処理等が難しくなる恐れがある。特にファイバ長が長くなるほどその難易度が増すと考えられ、ファイババンドル長が制限され、設計の自由度が低下する可能性がある。
【０００６】
また、特許文献３のファイババンドルは、光ファイバ毎、若しくは出射端の位置に対応したグループ毎に出射パターンを任意に調整可能であるため所望の光量分布を有する光を出射させることが可能であるが、複数の光ファイバに対応するすべての光源に対して光量制御装置を配する、あるいは、光量制御装置を用いない場合は複数の光源の仕様を所望の光量分布となるように異ならせる必要があり、装置構成が複雑である。また、特許文献４のファイババンドルは、入射光を一括入力させるために高いパワーの光が入射端面に集光されることになるため、入射端面が高温化し光ファイバ材が劣化による性能低下が生じてしまう。この現象に対して特許文献４では入射部に金属ロッド等を配置して放熱させているが、装置構成が複雑化する上、放熱効果については具体的な数値は一切記載されておらず、どの程度の放熱効果を有するのか不明である。
【０００７】
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、光ファイバが高密度に集積され、かつ均一照射が可能であり、装置構成及び取り扱い性の容易なファイババンドルを提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明のファイババンドルは、複数の光ファイバに個別に入射させた複数の入射光を集積させて出射させるように複数の光ファイバが光ファイバの光出射端側で配列されて束ねられた集積機能ファイババンドル部と、この集積機能ファイババンドル部からの出射光を均一化させて出射させる均一機能ファイバ部とを有する第１のファイババンドル部と、
複数の第１のファイババンドル部からの出射光を集積させて出射させるように複数の第１のファイババンドルの均一機能ファイバ部が均一機能ファイバ部の光出射端側で配列されて束ねられた第２のファイババンドル部とを備えたファイババンドルであって、
均一機能ファイバ部は、少なくとも均一機能ファイバ部の光入射端面において、集積機能ファイババンドル部の光出射端面における光出射領域と同等以上の大きさのコア部を有する光ファイバからなり、
集積機能ファイババンドル部の光出射端と均一機能ファイバ部の光入射端とは当接されており、
集積機能ファイババンドル部と均一機能ファイバ部とが着脱可能であることを特徴とするものである。
【０００９】
前記第２のファイババンドル部は、該第２のファイババンドル部の出射端面において前記均一機能ファイバ部が１次元状に密接するように配列されて束ねられたものであることが好ましい。
【００１０】
前記集積機能ファイババンドル部の複数の光ファイバは、前記集積機能ファイババンドル部の光出射端面において断面が２次元状に密接するように配列されて束ねられたものであることが好ましい。
【００１１】
前記集積機能ファイババンドル部の光出射端と前記均一機能ファイバ部の光入射端とは、該光出射端と該光入射端との接着を抑止する保護媒体を介して当接されており、
前記集積機能ファイババンドル部と前記均一機能ファイバ部とが前記保護媒体を介して着脱可能であることが好ましい。かかる構成のファイババンドルは、前記入射光が波長１９０ｎｍ〜５３０ｎｍの光である場合に好ましく用いることができる。
【００１２】
ここで、「光出射端と光入射端との接着を抑止する保護媒体」とは、両端面が常温で物理的に当接状態にある時に、当接部において両端面の材料同士が化学反応を起こし、融着等によって接着されることを防ぐ保護媒体を意味し、光出射端と光入射端とを５００ｇ重の荷重で当接させた後に離間させた、あるいは当接部から相対的に動かした場合に、当接部において両端面において発生した付着物あるいは付着物による表面凹凸がλ／２以下（λは入射された光の発振波長）となるように接着を抑止するものと定義する。
【００１３】
前記保護媒体は、フッ化物を含むものであることが好ましく、ＹＦ３，ＬｉＦ，ＭｇＦ２，ＮａＦ，ＬａＦ３，ＢａＦ２，ＣａＦ２及びＡｌＦ３からなる群より選ばれる少なくとも１種のフッ化物を含むものであることがより好ましい。
【００１４】
本発明のファイババンドルは、前記集積機能ファイババンドル部を構成する複数の光ファイバのうち少なくとも一つの光ファイバの光入射端に、複数の光ファイバに個別に入射させた複数の入射光を集積させて出射させるように該複数の光ファイバが該光ファイバの出射端側で配列されて束ねられた第２の集積機能ファイババンドル部の光出射端が当接されており、
前記少なくとも一つの光ファイバは、該光ファイバの光入射端面において、前記第２の集積機能ファイババンドル部の光出射端面における光出射領域より大きいコア部を有するものであり、
前記少なくとも一つの光ファイバと前記第２の集積機能ファイババンドル部とが着脱可能な構成とすることができる。
【００１５】
本発明の光源装置は、上記本発明のファイババンドルと、複数の光源と、この複数の光源からの光を、ファイババンドルの集積機能ファイババンドル部の複数の光ファイバの各光入射端に入射させる光入射手段とを備えたことを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１６】
本発明のファイババンドルは、複数の光ファイバが光出射端側で配列されて束ねられた集積機能ファイババンドル部と、集積機能ファイババンドル部からの出射光を均一化させて出射させる均一機能ファイバ部とを有する第１のファイババンドル部と、複数の第１のファイババンドル部の均一機能ファイバ部が光出射端側で配列されて束ねられた第２のファイババンドル部とを備え、均一機能ファイバ部は、少なくとも光入射端面において、集積機能ファイババンドル部の光出射端面における光出射領域と同等以上の大きさのコア部を有する光ファイバからなる構成としている。
【００１７】
かかる構成によれば、集積機能ファイババンドル部の光出射領域と同等以上の大きさのコア部を有する光ファイバ内において集積機能ファイババンドル部で集められた個々の光が均一化されるため、均一機能ファイバ部の光出射端から均一な光を出射させることができ、かつ、均一機能ファイバ部のファイバ長の調整によりファイババンドル長も確保することができる。更に、均一機能ファイバ部により均一化された光を複数集積させて所望のパターンで配列させて出射させることができるため、高密度かつ均一性の高い光を所望のパターンで出射させることができる。
【００１８】
また、集積機能ファイババンドル部の光出射端と均一機能ファイバ部の光入射端とは当接された構成としている。すなわち、複雑な光学系や制御手段等を要さずに集積された光を均一化させることができ、装置構成が容易である。更に、集積機能ファイババンドル部と均一機能ファイバ部とを着脱することができるため、仕様変更に伴う光ファイバの集積度等の変更時や故障時に、変更箇所や故障箇所にあわせて、集積機能ファイババンドル部と均一機能ファイバ部のどちらかを一方を交換することが可能である。従って、設計自由度が大きく、取り扱い性も容易である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
「ファイババンドル、光源装置」
図面を参照して、本発明に係る一実施形態の光源装置について説明する。図１は、本実施形態の光源装置及びファイババンドルの構成を示す概略断面図である。図１は、１２本の光ファイバを集積させたファイババンドルを例に示したものであり、図１において各部の縮尺は視認しやすくするために適宜変えて表示してある。
【００２０】
図１に示されるように、本実施形態の光源装置２は、ファイババンドル１と、複数の光源２０と、複数の光源２０からの出射された入射光Ｌ１を、ファイババンドル１の集積機能ファイババンドル部３の複数の光ファイバ３０の各光入射端３１に入射させる光入射手段２１とを備えたものであり、複数の光源２０からの入射光Ｌ１をファイババンドル１により集積させて出射させるものである。
【００２１】
本実施形態において光入射手段２１は、単芯ＳＣコネクタであり、光源２０の数と同数がコネクタボックス２２に設置されている。コネクタボックス２２内には、ファイババンドル１が光出射端６２側の一部を除いて収容されており、各ＳＣコネクタにファイババンドル１の集積機能ファイババンドル部３を構成する複数の光ファイバ３０の光入射端３１が接続されている。
【００２２】
コネクタボックス２２の光出射口２３からは、保護チューブ６０に覆われたファイババンドル１の第２のファイババンドル部６の光出射端６２側の一部が出ており、光出射端６２にはＦＣフェルール６３が装着されている。
【００２３】
ファイババンドル１は、複数の光ファイバ３０に個別に入射させた複数の入射光Ｌ１を集積させて出射させるように複数の光ファイバ３０が光出射端３２側で配列されて束ねられた集積機能ファイババンドル部３と、集積機能ファイババンドル部３からの出射光を均一化させて出射させる光ファイバ４０を備えた均一機能ファイバ部４とを有する第1のファイババンドル部５と、複数の第1のファイババンドル部５からの出射光を集積させて出射させるように複数の第１のファイババンドル部５の均一機能ファイバ部４が光出射端４２側で配列されて束ねられた第２のファイババンドル部６を備えたものである。
【００２４】
集積機能ファイババンドル部３及び第2のファイババンドル部６における複数の光ファイバ３０及び均一機能ファイバ部４のバンドルは、光ファイバを所望のパターンで配列させた後に接着剤で固定して作製される。接着剤としては、使用する光源に合わせた耐熱温度を有するものが好ましい。要求される耐熱温度が３００℃を超える場合は無機系の耐熱接着剤が用いられる。
【００２５】
集積機能ファイババンドル部３の光出射端３２と均一機能ファイバ部４の光入射端４１とは、それぞれフェルール３０ａ、４０ａ（図１では図示略）に挿入されて、スリーブ５０（保持部材）内において保護媒体５１を介してオプティカルコンタクトにより当接されている。従って、集積機能ファイババンドル部３と均一機能ファイバ部４とは着脱可能である。当接部における接圧は、４．９Ｎ〜１１．８Ｎ程度が好ましい。
【００２６】
フェルール３０ａ及び４０ａに挿入された両端面は研磨加工されており、その端面形状は、接続損失が少なくなる形状であれば特に制限されず、半球面状や平面状等が挙げられる。フェルール３０ａ及び４０ａとしてＳＣフェルールを使用する場合は、スリーブ５０としてＳＣコネクタを使用することができる。
【００２７】
図２は、図１の集積機能ファイババンドル部３の光出射端３２と均一機能ファイバ部４の光入射端４１の当接部における拡大断面図、図３は図１の集積機能ファイババンドル部３の光出射端面３２ａと均一機能ファイバ部４の光入射端面４１ａの概略図である。図３に示されるように、均一機能ファイバ部４の光ファイバ４０は、少なくとも光入射端面４１ａにおいて、集積機能ファイババンドル部３の光出端面３２ａにおける光出射領域３２ｒと同等以上の大きさのコア部４１ｒを有するものである。かかる構成とすることにより、均一機能ファイバ部４は、集積機能ファイババンドル部３からの出射光すべてを受光して、均一化させて出射させることができる。
【００２８】
複数の光ファイバ３０の材料系は特に制限なく、ＳｉＯ２や石英を主成分とするガラス系光ファイバ等が挙げられ、入射光Ｌ１の波長によって好適な材料を選択することができる。光ファイバの種類は特に制限されないが、光源等への利用を考えた場合は、マルチモード光ファイバが好ましい。
【００２９】
複数の光ファイバ３０は、集積機能ファイババンドル部３を構成するものであるので、より高密度に集積可能となるように、そのファイバ径はより細径であることが好ましい。しかしながら、光ファイバは細径化すればするほど、取り扱い性が困難となり、ファイバ長もその取り扱いの困難性、生産上の歩留まりの点からも短くせざるを得なくなる等、設計自由度が制限されてしまう。また、背景技術において述べたように、非常に細径な光ファイバを高密度に集積させたファイババンドルはケーブル化処理が非常に難しい。従って、できるだけ径の太い光ファイバにより集積構造を形成できることが好ましい。本実施形態のファイババンドル１は、集積機能ファイババンドル部３からの出射光を均一化して出射させる均一機能ファイバ部４を更に束ねて集積させる２段集積構造としている。従って、要求される光量が決まっている場合、このような２段集積構造は、通常の単一集積構造のものに比して一度に集積させる光ファイバの数が少なくてよいことになる。つまり、単一集積構造のものに比して大口径の光ファイバにより集積機能ファイババンドル部３を形成することが可能である。例えば、単一集積構造の場合において、外径が５０μｍ程度の光ファイバを集積させる場合、図１に示される構成では外径８０μｍ程度にすることが可能である。この程度のファイバ径を有していれば、ファイバ長も取り扱い性の容易な５０ｃｍ〜１ｍ程度とすることができる。
【００３０】
また、集積させる光ファイバの本数が多い場合、例えば２０本を超えるような場合は、取り扱い性が容易でないため、ファイバを束ねる際に用いる接着剤の量にむらが生じやすく、この接着むらによりファイババンドルの光出射端面を研磨する際に影響を及ぼして研磨状態を不安定にする可能性がある。上記したように、ファイババンドル１は、集積機能ファイババンドル部３で集積させる光ファイバの数を少なくすることができるので、接着むらを生じにくくすることもできる。更に、集積度の高密度化の要求に対しても、後記するような集積機能ファイババンドル部を多段構造とすることにより、一つの集積本数を取り扱い性の容易な本数に維持したまま集積度を高くすることが可能である。
【００３１】
集積機能ファイババンドル部３において、複数の光ファイバ３０の配列パターンは特に制限ないが、図４（ａ）及び（ｂ）に示されるような同心円状（２次元状）に密接させて束ねた配列とすると細経の光ファイバを束ねやすく好ましい。最終的な出射パターンは、第２のファイババンドル部６の光出射端６２における均一機能ファイバ部４の配列パターンによって決まるので、ファイババンドル１においては、集積させやすい同心円状の配列で束ねることが可能である。
【００３２】
均一機能ファイバ部４は、１本のマルチモード光ファイバ４０からなり、その材料系は特に制限されないが、複数の光ファイバ３０が束ねられた集積機能ファイババンドル部３からの出射光を均一化させて出射させるものであるので、複数の光ファイバ３０と同一の材料系の光ファイバであることが好ましい。
【００３３】
上記したように、集積機能ファイババンドル部３は細経ファイバを集積させたものであるので、高密度に集積させた場合は取り扱い性の困難性からファイバ長をあまり長くすることができない。均一機能ファイバ部４は、複数の光からなる集積機能ファイババンドル部３からの出射光を、マルチモードファイバからなる光ファイバ４０を導光中に生じる光の干渉やモード間の相互作用等により均一化させて出射させるものであるので、光ファイバ４０の長さは長い方が好ましい。したがって、均一機能ファイバ部によりファイババンドル全体の長さを調整することができる。導光中の光損失を考慮すると、光ファイバ４０の長さは１０ｃｍ以上５ｍ以下であることが好ましく、１ｍ以上５ｍ以下であることがより好ましい。
【００３４】
均一機能ファイバ部４からの出射光は、ニアフィールドパターンによりその強度分布を測定しても、均一性の高いものとなる（実施例１の図１５（ａ）を参照。）。従って、第１のファイババンドル部５のみの構成としても、出射光の均一性の高いファイババンドルを提供することができる。
【００３５】
ファイババンドル１の光出射端は、第２のファイババンドル部６の光出射端６２である。従って、ファイババンドル１からの出射光Ｌ２の出射パターンは、光出射端６２における均一機能ファイバ部４の光ファイバ４０の配列により変化させることができる。図５（ａ）〜（ｄ）に光ファイバ４０の配列パターンの例を示す。
【００３６】
例えば、長四角のミラー全体を照射する光源として使用するような場合は、図５（ａ）又は（ｂ）のように１次元状に密接させた配列パターンで光ファイバ４０を配列すればよい。図５（ａ）又は（ｂ）に示されるパターンを細径ファイバのみで集積させようとした場合は、その取り扱い性の難しさから、無効エリアの多い出射パターンとなりやすく、その結果均一性の悪い光源となりやすい。上記したように、本実施形態のファイババンドル１は、集積機能ファイババンドル部３においては、集積させやすい同心円状の配列とし、取り扱い性の容易な口径の大きい均一機能ファイバ部４の光ファイバ４０を所望の配列にして束ねることにより出射パターンを形成することができるので、製造が簡易であり、かつ、均一性の良好な光を出射させることができる。
【００３７】
また、図５（ｄ）に示されるように、離間された出射位置から複数の光を出射させる場合などは、各出射点において、均一性の高い光を出射させることができる。
【００３８】
ファイババンドル１は、集積機能ファイババンドル部３と均一機能ファイバ部４とがオプティカルコンタクトにより当接された構成としている。従って、集積機能ファイババンドル部３と均一機能ファイバ部４とを容易に着脱することができる。従来の単一集積構造の場合等は、ファイババンドルを構成する複数の光ファイバのうち１本に故障や機能低下を生じた場合や、光源としての仕様が変更された場合等はファイババンドル毎交換しなければならず、ファイババンドルからの出射光を入射させる光学素子等との位置合わせ等をその都度やり直す必要がある。本実施形態のファイババンドル１は、集積機能ファイババンドル部３のみを着脱して取り替えることが可能であるため、光学素子等との位置合わせがされている均一機能ファイバ部４側を動かすことなくメンテナンスすることができる。例えば、図５（ｄ）に示されるように２点を同時に光らせてそれぞれを別の光学系に入射させるような場合のように、各点毎に出射光強度や波長等を設定したい場合も、各点に接続される第１のファイババンドル部４の集積機能ファイババンドル部３のみを仕様にあったものに変更するだけでよいため、各点の光学系への位置調整等をその都度行わずに、自由に各点から出射させる光の特性を変更することが可能である。
【００３９】
しかしながら、ファイババンドル１に、エネルギー密度の高い光、特に４５０ｎｍ以下の短波長光を導光させる場合や、光ファイバの出射端の汚染物質の除去に用いるＵＶクリーニング処理を行う場合等に、当接部において集積機能ファイババンドル部３の光出端面３２ａと均一機能ファイバ部４の光入射端面４１ａの構成材料（石英、ＳｉＯ２等）が何らかの反応を起こして貼り付き、その後離間させた場合に貼り付いていた部分が破損して光損失が増加し、更には再使用不可能な状態になることが本出願人により確認されている。このように着脱により端面の破損を生じる場合は、着脱することができない。
【００４０】
図６に、光ファイバとガラスをＵＶクリーニングした後、該光ファイバの断面とガラスを約５００［ｇ］の加重で当接し、約１００時間放置したときの光ファイバ８０の当接面を示す。８１はクラッド、８２はコアである。８９は洗浄後に光ファイバ８０とガラス（図示略）とを当接、圧着したことによって、光ファイバ８０とガラスに含まれる石英や酸化物が反応を起こした箇所であり、光ファイバ８０とガラスとが一体化した部分である。このように反応箇所が一体化すると、光ファイバ８０とガラスとを離間させたときに反応箇所が大きく損傷してしまい、或いは反応箇所が光ファイバ８０の断面又はガラスに付着してしまっていた。尚、当接前のファイバの表面粗さはＲａ＝２［ｎｍ］である。このような現象が光ファイバをオプティカルコンタクトによって当接させた場合においても発生していた。また上記現象は、表面粗さがＲａ＜５［ｎｍ］以下で生じやすく、エネルギー密度の高い短波長の光を導光させた場合に生じやすい。
【００４１】
図７は、外径８０μm、コア径６０μmのガラス光ファイバ８０の光出射端面にガラスを当接させ、波長４０５ｎｍ、出力１５０ｍＷのレーザ光を５００時間照射した後離間させた場合のガラス光ファイバ８０の出射端面のダメージを示したものである。図７において、白い点の部分がダメージを受けて破損した箇所である。
【００４２】
図６、図７からもわかるように、エネルギー密度の高い光を光源として用いるような場合、例えば入射光Ｌ１が波長１９０ｎｍ〜５３０ｎｍの光である場合は、集積機能ファイババンドル部３の光出射端３２と均一機能ファイバ部４の光入射端４１との接着を抑止する保護媒体５１を、光出射端３２と光入射端４１との間に介在させることが好ましい。以下に保護媒体５１が膜体である場合について説明する。
【００４３】
保護膜（保護媒体）５１は、均一機能ファイバ部４の光入射端面４１ａ上に成膜された膜体であり、集積機能ファイババンドル部３の光出射端３２と均一機能ファイバ部４の光入射端４１との接着を抑止するものである。保護膜５１は、光入射端面４１ａ上に直接成膜されてもよいし、アシスト膜を介して成膜されてもよい。
【００４４】
保護膜５１は上記したような現象を防ぐためのものであるので、集積機能ファイババンドル部３及び均一機能ファイバ部４がＳｉＯ２や石英等を主成分とするガラス材料からなる場合に、これらを常温において物理的に当接させた場合に光出射端３２と光入射端４１との接着を抑止するものであることが好ましい。従って、保護膜５１としては、集積機能ファイババンドル部３及び均一機能ファイバ部４に含まれるＳｉＯ２や石英と容易に反応せず、波長１９０ｎｍ〜５３０ｎｍの光に不活性なものが好ましく、フッ化物を含むものが挙げられる。フッ化物としては、酸素（Ｏ）を含まないものが好ましく、ＹＦ３、ＬｉＦ、ＭｇＦ２、ＮａＦ、ＬａＦ３、ＢａＦ２、ＣａＦ２及びＡｌＦ３からなる群より選ばれる少なくとも１種のフッ化物がより好ましい。これらのフッ化物は波長１９０ｎｍ〜４１０ｎｍの光に対して不活性であり、４１０ｎｍ〜５３０ｎｍの波長に対してもその活性度は少ない。また、波長が長くなるに従ってそのエネルギー密度も小さくなることから、４１０ｎｍ以上の波長の光に対しても好適な保護膜５１を形成することができる。
【００４５】
保護膜５１は、単層膜であってもよいし多層膜であってもよい。多層膜である場合は、保護膜５１の最上層が上記材料を含むものであることが望ましく、最上層膜以外の下層膜は、Ｓｉを含まない酸化物を含むことが好ましい。
【００４６】
更に、保護膜５１の存在による光損失は、より少ない方が好ましいため、導光させる光の波長に対して光吸収の少ない材料である方が好ましい。図８は、波長２４８ｎｍのパルスレーザを用いた場合の種々のフッ化物膜及び酸化物膜の吸収係数とその損傷閾値との関係を示したものである（"High damage threshold fluoride UV mirrors made by Ion Beam Sputtering",J.Dijion,et.,al.,SPIE Vol.3244,pp406-418,1998”より引用）。このグラフより、紫外光に対してはフッ化物膜は損傷閾値が高く、従って光吸収の点でも保護膜５１の材料としてフッ化物は好ましいことがわかる。更に、導波される光が紫外光の場合は、グラフに示されるようにフッ化物膜の中でもＹＦ３やＬｉＦ等が損傷閾値が高く、より好ましい。
【００４７】
上記のような構成の保護膜５１とすることにより、エネルギー密度の高い光、例えば波長１９０ｎｍ〜５３０ｎｍの光を導光させる場合や、当接部の両端面に有機物による汚染を防ぐ為のＵＶクリーニングを施す場合に、集積機能ファイババンドル部３と均一機能ファイバ部４との当接部における化学反応を防いで当接部の損傷を抑制することができる。例えば、当接部に対して５０ｇ重以上１ｋｇ重以下（より好ましくは５００ｇ重以下）の荷重で圧着した後に離間させても当接部の損傷を最低限に抑制し、集積機能ファイババンドル部３と均一機能ファイバ部４とが再使用可能とする、つまり着脱可能とすることができる。
【００４８】
本実施形態において保護膜５１は均一機能ファイバ部４の光入射端面４１ａ上に成膜されているが、集積機能ファイババンドル部３の光出端面３２ａ上に成膜されてもよいし、光入射端面４１ａ及び光出端面３２ａの両方に成膜されてもよい。
【００４９】
保護膜５１は、均一機能ファイバ部４と集積機能ファイババンドル部３とを着脱させる際に成膜された端面から剥離しないことが好ましい。従って、保護膜５１が、光出端面３２ａ又は光入射端面４１ａのどちらか一方に成膜されている場合は、保護膜５１が成膜されている端面と保護膜５１との密着性が、保護膜５１が成膜されていない方の端面と保護膜５１との密着性より高い方が好ましい。また、両端面に成膜されている場合は、保護膜５１が成膜されている端面と保護膜５１との密着性が、両端面に成膜された膜同士の密着性より高い方が好ましい。更に、保護膜５１が多層膜である場合は、多層膜を構成する膜同士についても同様に密着性が高い方が好ましい。
【００５０】
保護膜５１の存在による光損失は、上記した保護膜５１の材料以外に、膜厚によって影響される。従って、保護膜５１の膜厚は、光損失に影響のない膜厚とすることが好ましい。保護膜５１における光損失の要因としては、反射による損失と、吸収による損失とが挙げられる。従って、保護膜５１の膜厚は、反射及び吸収による光損失への影響を考慮して決定することが好ましい。
【００５１】
反射による損失を最小にするためには、均一機能ファイバ部４の光入射端面４１ａ又は集積機能ファイババンドル部３の光出端面３２ａのどちらか一方に保護膜５１が成膜されている場合は、保護膜５１の光導波方向の光路長（ｄ×Ｎ，ここでｄは光導波方向の膜厚、Ｎは保護膜５１の屈折率）と導光させる光の波長λとが下記式（１）を充足することが好ましい。
ｄ×Ｎ＝（λ／２）×ｎ  ・・・（１）
（但し、ｎは１以上の整数）
【００５２】
光入射端面４１ａ及び光出端面３２ａの両方に保護膜５１が成膜されている場合は、両方に成膜される保護膜５１が同一の屈折率を有する場合は、（１）式においてｄを保護膜５１の総膜厚とすればよい。しかしながら、両方に成膜する場合、両端面に成膜された保護膜同士が当接により反応や一体化等を生じないように、各端面に成膜される保護膜５１は、少なくとも最表面にある最上層が異種材料により構成されることが好ましい。その場合、光出端面３２ａ上に成膜された保護膜５１の膜厚をｄｆ、同じく屈折率をＮｆとし、光入射端面４１ａ上に成膜された保護膜５１の膜厚をｄｇ、同じく屈折率をＮｇとすると、これらが下記式（２）を充足することが好ましい。
（ｄｆ×Ｎｆ）＋（ｄｇ×Ｎｇ）＝（λ／２）×ｎ  ・・・（２）
（但し、ｎは１以上の整数）
【００５３】
吸収による損失を小さくするためには、保護膜５１は、膜厚が薄い方が好ましい。膜厚が大きいほど膜の光エネルギー吸収が大きいため、吸収されたエネルギーによって保護膜５１が熱劣化し、それに伴う変色やひび割れ等を生じやすくなる。従って上記式（１）及び（２）においてｎは１であることが好ましい。しかしながら、吸収による損失への影響の度合いによっては、反射による影響に比して吸収による影響の方が大きくなる。その場合は、上記式（１）及び（２）において、ｎ＝１とした時の膜厚よりも薄い膜厚においてより光損失を小さくすることができる。
【００５４】
保護膜５１の好適な膜厚を調べるために、図９に示される光デバイス９０を作製し、異なる膜厚の保護膜５１を使用した場合の出射光の光出力の経時変化を測定した。図示されるように光デバイス９０は、光ファイバ９１ａ，９１ｂと、フェルール９２ａ，９２ｂと、スリーブ９３等によって構成されており、スリーブ９３内で各フェルールに挿入された光ファイバ９１ａ，９１ｂとが膜厚ｄの保護膜５１を介して当接されている。当接面においてフェルールの端部は半球面状に研磨されており、保護膜５１は光ファイバ９１ａ側の端面に成膜されている。
【００５５】
保護膜５１の膜厚ｄをλ／２、λ／４、λ／６とした光デバイス９０を用い、波長４０５ｎｍ、出力１６０ｍＷのレーザ光を光ファイバ９１ａに入射したときの光ファイバ９１ｂからの出射光の光出力の経時変化を測定した。保護膜５１の成膜方法としては蒸着法を用いた。図１０は、その測定結果を示した図であり、縦軸は、入射光の出力値に対する出射光の出力値の割合を示している。このとき、各膜における直径約６０μｍの領域をレーザ光が通過する。
【００５６】
図１０に示されるように、膜厚ｄが小さいほど、出射光の光出力の低下は少ない（即ち、光損失が少ない）。また、実験後のそれぞれの保護膜５１を顕微鏡観察したところ、ｄ＝λ／６の膜の外観変化はほとんど見られなかったが、ｄ＝λ／４及びλ／２の膜はレーザ光の通過部分と思われる領域の変色が確認された。更に、ｄ＝λ／２の膜は、変色した部分の周辺に膜のひび割れが確認された。ｄ＝λ／２及びｄ＝λ／４の膜に見られた変色は、レーザ光の熱によって膜が融解したため（熱劣化）と考えられる。この結果より、膜厚ｄが大きいほど、膜によるレーザ光のエネルギー吸収が大きく、この吸収によって膜質が変化し、光損失が大きくなると考えられる。
【００５７】
また図１１は、保護膜５１の膜厚を、ｄ＝λ／６及びλ／１２のＭｇＦ２膜とし、上記測定と同様にして光損失値の経時変化を測定した結果を示したものである。保護膜５１の成膜はイオンアシスト法により行った。図１１に示されるように、ｄ＝λ／６とｄ＝λ／１２の膜とでは、光出力の変化の仕方がほぼ同じであり、いずれも１０００時間後の出射光の光出力の低下率は１０％未満である。
【００５８】
これらの結果より、保護膜５１がＭｇＦ２膜であり、入射される光が波長４０５ｎｍ、出力１６０ｍＷのレーザ光の場合は、光損失に対する影響が、反射による影響に比して吸収による影響の方が大きく、保護膜５１の膜厚ｄがλ／６以下であれば、１０００時間後の出射光の光出力の低下率は１０％未満に抑えることができ、好ましいと考えられる。
【００５９】
光損失に対する反射による影響と吸収による影響との比率は、レーザ光の出力や波長、また保護膜５１の材質によって異なり、式（１）又は式（２）を充足する膜厚である場合が好適な場合もあるし、膜厚ｄがλ／６以下であることが好適な場合もある。しかしながら、波長１９０ｎｍ〜５３０ｎｍの光はエネルギー密度が高いため、出力にもよるが、保護膜５１の膜厚ｄはλ／６以下であることが好適であると考えられる。なお、当接部において光入射端面及び光出端面の両方に保護膜５１が成膜されている場合は、膜厚は両方に成膜されている保護膜５１の膜厚の合計とする（ｄ＝ｄｆ＋ｄｇ）。
【００６０】
保護膜５１の成膜方法は制限されないが、保護膜５１と成膜される端面との界面での光損失を少なくするためには、成膜前に被成膜面のクリーニングが可能な成膜方法が好ましい。また、膜の緻密性が高いほど、光エネルギー密度の高い光を導波させた際に保護膜５１自身の光のエネルギー吸収による膜質変化が少なくなることから、より緻密な膜を成膜可能な成膜方法が好ましい。成膜前に被成膜面のクリーニング成膜前に被成膜面のクリーニングが可能であり、かつ、緻密性の高い膜を成膜可能な成膜方法としては、イオンアシスト法、イオンプレーティング法、スパッタリング法等が挙げられる。
【００６１】
図１２は、蒸着法とイオンアシスト法のそれぞれの方法で成膜された膜厚λ／６の保護膜５１（ＭｇＦ２膜）を使用し、上記測定と同様にして光損失値の経時変化を測定した結果を示したものである。図１２に示されるように、蒸着法よりイオンアシスト法で成膜した保護膜５１を用いた方が、光出力の低下が少なく好ましいことがわかる。
【００６２】
ファイババンドル１は、図１３に示されるように、ファイババンドル１の集積機能ファイババンドル部３を構成する複数の光ファイバ３０のうち少なくとも一つの光ファイバ３０の光入射端３１に、複数の光ファイバ７０に個別に入射させた複数の入射光Ｌ１を集積させて出射させるように複数の光ファイバ７０が光ファイバ７０の光出射端７２側で配列されて束ねられた第２の集積機能ファイババンドル部７の光出射端７２が当接された構成とし（図１４）、集積機能ファイババンドル部を多段化した構成とすることができる。図１３は、集積機能ファイババンドル部を２段構造にした場合を例に示してある。このとき、少なくとも一つの光ファイバ３０は、光ファイバ３０の光入射端面３１ａにおいて、第２の集積機能ファイババンドル部７の光出射端面７２ａにおける光出射領域７２ｒより大きいコア部３１ｒを有するものである（図３を参照）。
【００６３】
第２の集積ファイババンドル部７は、ファイババンドル１の集積機能ファイババンドル部３と同様の構成としており、また、多段化する際の当接部の構成もファイババンドル１と同様である。従って、ファイババンドル１と同様着脱可能であり、更に、集積機能ファイババンドル部が多段化されていることから、より高密度に光を集積させることができる。図１３では集積機能ファイババンドル部を２段構造とした場合を示しているが、同様の構成により集積機能ファイババンドル部を増やして更に多段化することが可能である。
【００６４】
また、集積機能ファイババンドル部３と均一機能ファイバ部４との当接部と同様に、エネルギー密度の高い光、特に４５０ｎｍ以下の短波長光を導光させる場合は、保護媒体５１を第２の集積機能ファイババンドル部７の光出射端７２と集積機能ファイババンドル部３を構成する複数の光ファイバ３０のうち少なくとも一つの光ファイバ３０の光入射端３１との間に介在させることが好ましい。  
ファイババンドル１は以上のように構成されている。
【００６５】
ファイババンドル１は、複数の光ファイバ３０が光出射端３２側で配列されて束ねられた集積機能ファイババンドル部３と、集積機能ファイババンドル部３からの出射光を均一化させて出射させる均一機能ファイバ部４とを有する第1のファイババンドル部５と、複数の第1のファイババンドル部５の均一機能ファイバ部４が光出射端６２側で配列されて束ねられた第２のファイババンドル部６とを備え、均一機能ファイバ部４は、少なくとも光入射端面４１ａにおいて、集積機能ファイババンドル部３の光出端面３２ａにおける光出射領域３２ｒと同等以上の大きさのコア部４１ｒを有する光ファイバ４０からなる構成としている。
【００６６】
かかる構成によれば、集積機能ファイババンドル部３の光出射領域３２ｒと同等以上の大きさのコア部４１ｒを有する光ファイバ４０内において集積機能ファイババンドル部３で集められた個々の光が均一化されるため、均一機能ファイバ部４の光出射端４２から均一な光を出射させることができ、かつ、均一機能ファイバ部４のファイバ長の調整によりファイババンドル長も確保することができる。更に、均一機能ファイバ部４により均一化された光を複数集積させて所望のパターンで配列させて出射させることができるため、高密度かつ均一性の高い光を所望のパターンで出射させることができる。
【００６７】
また、集積機能ファイババンドル部３の光出射端３２と均一機能ファイバ部４の光入射端４１とは当接された構成としている。すなわち、複雑な光学系や制御手段等を要さずに集積された光を均一化させることができ、更に、集積機能ファイババンドル部３と均一機能ファイバ部４とを着脱することができ、装置構成が容易である。更に、集積機能ファイババンドル部３と均一機能ファイバ部４とを着脱することができるため、仕様変更に伴う光ファイバの集積度等の変更時や故障時に、変更箇所や故障箇所にあわせて、集積機能ファイババンドル部３と均一機能ファイバ部４のどちらかを一方を交換することが可能である。従って、設計自由度が大きく、取り扱い性も容易である。
【００６８】
（設計変更）
本実施形態において、光源装置２は光源２０の数と同数のＳＣコネクタが接続されたコネクタボックス２２内にファイババンドル１の一部が収容されたものを例に説明したが、コネクタボックス２２を備えた構成には限定されない。また、光入射手段２１も制限なく、ＳＣコネクタには限定されない。
【００６９】
また、本実施形態において、保護媒体５１が膜体である場合について説明したが、膜体には限定されない。
【実施例】
【００７０】
本発明に係る実施例について説明する。
（実施例１）
図１に示されるファイババンドルを以下のようにして作製した。  
まず、集積機能ファイババンドル部の光ファイバとして、ファイバ長１ｍ、コア径６０μm、外径８０μmの石英系マルチモードガラス光ファイバ１２本を用意し、光ファイバを４本ずつ一方の端部で束ねてバンドル化して３本の集積機能ファイババンドル部を作製した。バンドル化は、図４（ａ）に示されるように４本の光ファイバが２次元状に密接して配列されるように束ねた後接着剤により固定することにより行った。
【００７１】
次に、均一機能ファイバ部の光ファイバとして、コア径２０５μm、外径２５０μmの石英系マルチモード光ファイバを３本用意し、同様に３本の光ファイバの一端を束ねてバンドル化した。バンドル化における配列は、集積機能ファイババンドル部と異なり、図５（ａ）に示されるライン状（１次元状）に密接させた配列とし、出射端にＦＣフェルールを装着した。各均一機能ファイバ部の光入射端面にはＭｇＦ２からなる保護膜を成膜した。
【００７２】
集積機能ファイババンドル部の光入射端及び光出射端、均一機能ファイバ部の光入射端にＳＣフェルールに挿入した後、集積機能ファイババンドル部の光出射端と均一機能ファイバ部の光入射端とをＳＣコネクタにより当接させて、総チャンネル数１２のファイババンドルを得た。
【００７３】
まず、このファイババンドルの均一機能ファイバ部の均一機能を評価を行った。作製した１２チャンネルのファイババンドルのうち、１つの第1のファイババンドル部（４チャンネル）について、１チャンネル（１本の集積機能ファイババンドル部光ファイバ）点灯の場合と４チャンネル（４本の集積機能ファイババンドル部光ファイバ）点灯の場合とで、出射光の近視野像（ニアフィールドパターン）の評価を行った。入射光には、波長４０５ｎｍ、出力１５０ｍＷのレーザ光を使用した。結果を図１５に示す。図１５（ａ）は全チャンネル（４チャンネル）点灯させた場合の近視野像、（ｂ）は１チャンネルのみ点灯させた場合の近視野像であり、縦軸は、出射光の最大値を１．０とし、各位置での出力光の最大値に対する強度比を示している。
【００７４】
図１５に示されるように、４チャンネル点灯時及び１チャンネル点灯時共に均一機能ファイバ部のコア内において略均一な出射パターンが得られている。従って、均一機能ファイバにより集積された光が均一化されて出射されることが確認された。
【００７５】
作製した１２チャンネルのファイババンドルは、この均一性の高い出射光を有する第1のファイババンドル３本をライン状に配列させたものである。また第1のファイババンドルの出射端は、大口径のマルチモード光ファイバの出射端であるので、取り扱い性が容易である。従って、取り扱いの難しい１２本の細径光ファイバを一度にバンドルさせる従来のファイババンドルに比して、無効エリアが少ない均一性の高い出射光を得ることができる。
【００７６】
更に、均一機能ファイバ部のファイバ長を１〜６ｍの範囲で変化させた時の近視野像を同様に比較したところ、ファイバ長によらずほぼ同等の特性を得ることができた。
【００７７】
（実施例２）
均一機能ファイバ部の光ファイバとして、実施例１よりもコア径の小さな光ファイバ（コア径２０５μm、外径２５０μm）を用いて同様にファイババンドルを作製した。均一機能ファイバ部の光ファイバが実施例１に比して口径サイズが小さくなっているが、実施例１と同様の出射光の特性評価を行ったところ、実施例１とほぼ同様の特性の出射光を得ることができた。
【００７８】
（実施例３）
集積機能ファイババンドル部の光ファイバを２１本とし、総チャンネル数を２１とした以外は実施例２と同様にしてファイババンドルを作製した。
【００７９】
実施例１と同様の出射光の特性評価を行ったところ、実施例１とほぼ同様の特性の出射光を得ることができ、チャンネル数を増やしても、全チャンネル点灯時と１チャンネル点灯時とでのプロファイルは、ほぼ相似形であることが確認された。
【産業上の利用可能性】
【００８０】
本発明のファイババンドルは、プリント配線基板搭載用のライトガイドや露光機用、液晶ディスプレイ用の光源等に好ましく利用できる。
【図面の簡単な説明】
【００８１】
【図１】本発明に係る実施形態のファイババンドル及びこれを備えた光源装置の構成を示す断面図
【図２】図１のファイババンドルの集積機能ファイババンドル部の光出射端と均一機能ファイバ部の光入射端の当接部の拡大断面図
【図３】図１のファイババンドルの集積機能ファイババンドル部の光出射端面と均一機能ファイバ部の光入射端面の概略図
【図４】（ａ）及び（ｂ）は集積機能ファイババンドル部の光出射端面における配列を示す図
【図５】（ａ）〜（ｄ）は第２のファイババンドル部の光出射端面における均一機能ファイバ部の配列を示す図
【図６】当接部が接合した光ファイバの当接部の断面図
【図７】当接部が破損した光ファイバの当接部の断面図
【図８】酸化物膜及びフッ化物膜の波長２４８ｎｍのパルスレーザ光の吸収係数と損傷閾値の関係を示す図
【図９】保護膜の違いによる出射光の光出力特性の評価に用いた光デバイスの要部概略断面図
【図１０】保護膜の膜厚をλ／２，λ／４，λ／６とした時の出射光の光出力の経時変化を示す図
【図１１】保護膜の膜厚をλ／６及びλ／１２とした時の出射光の光出力の経時変化を示す図
【図１２】保護膜の成膜方法を蒸着法及びイオンアシスト法とした時の出射光の光出力の経時変化を示す図
【図１３】図１に示されるファイババンドルの集積機能ファイババンドル部を多段構造にした場合の構成を示す断面図
【図１４】図１３のファイババンドルの第2の集積機能ファイババンドル部の光出射端と集積機能ファイババンドル部の光入射端の当接部の拡大断面図
【図１５】実施例１のファイババンドルからの出射光のニアフィールドパターン。（ａ）は４チャンネル点灯時、（ｂ）は１チャンネル点灯時
【符号の説明】
【００８２】
１  ファイババンドル
２  光源装置
２０  光源
２１  光入射手段
３  集積機能ファイババンドル部
３０、４０、７０  光ファイバ
３１、７１  光入射端
４１  均一機能ファイバ部の光入射端
４１ａ  均一機能ファイバ部の光入射端面
３２  光出射端（集積機能ファイババンドル部の光出射端）
４２  均一機能ファイバ部の光出射端
６２  第２のファイババンドル部の光出射端
７２  第２の集積機能ファイババンドル部の光出射端
３２ａ  集積機能ファイババンドル部の光出射端面
６２ａ  第２のファイババンドル部の光出射端面
３２ｒ  集積機能ファイババンドル部の光出射領域
７２ｒ  第２の集積機能ファイババンドル部の光出射領域
３１ｒ、４１ｒ  コア部  
４  均一機能ファイバ部
５  第１のファイババンドル部
５１  保護媒体
６  第２のファイババンドル部
７  第２の集積機能ファイババンドル部
Ｌ１  入射光
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図７】
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