(57)【要約】【課題】  レチクルステージの推力に対する反発力を得るための反発力発生手段を有する露光装置において、比較的簡単な構成で効率よくレチクル原版の交換を行うことができるようにすること。【解決手段】  レチクル原版を交換する場合、テーブル３を所定の交換作業位置に移動させる。このとき、第１磁石８と第２磁石９とによる反発力がテーブル３に対して作用しない位置まで第２磁石９を移動退避させる。レチクル原版の交換完了後は、第２磁石９を、反発力発生手段によりテーブル３に対して反発力を作用させる位置に復帰移動させる。【選択図】  図３
2008141074.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベースガイド上を第１方向に移動可能に構成された、レチクル原版を載置するためのテーブルと、
前記テーブルの前記第１方向の端部に設けられる第１磁石と、前記ベースガイドの前記第１方向の端部において該ベースガイドに前記第１方向に移動可能に設けられる第２磁石とを含み、前記テーブルの前記第１方向における移動ストロークの端部において前記第１磁石と前記第２磁石とによる反発力を前記テーブルに対して作用させる反発力発生手段と、
前記反発力発生手段により前記テーブルに対して前記反発力を作用させつつ前記テーブルを前記第１方向に往復駆動する駆動手段と、
前記レチクル原版を交換するために前記テーブルを交換作業位置に移動させた時に前記第１磁石と前記第２磁石とによる反発力が前記テーブルに対して作用しない位置まで前記第２磁石を移動退避させる制御手段と、
を有することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記制御手段によって移動された前記第２磁石を固定保持する保持手段を更に有することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記交換作業位置は、レチクル原版の交換を自動的に行うレチクルチェンジャが作業する位置であることを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記第１磁石は前記テーブルの前記第１方向における両端部にそれぞれ設けられ、前記第２磁石は、前記ベースガイドの前記第１方向の両端部にそれぞれ設けられるものであり、
前記制御手段は更に、前記レチクル原版の交換完了後、露光動作を行うために、前記テーブルを基準位置に移動させ、前記第２磁石を前記反発力発生手段により前記テーブルに対して前記反発力を作用させる位置に復帰移動させるとともに、露光光軸に対して略線対称な位置に調整する
ことを特徴とする請求項１から３までのいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項５】
ベースガイド上を第１方向に移動可能に構成された、レチクル原版を載置するためのテーブルと、
前記テーブルの前記第１方向の端部に設けられる第１磁石と、前記ベースガイドの前記第１方向の端部において該ベースガイドに前記第１方向に移動可能に設けられる第２磁石とを含み、前記テーブルの前記第１方向における移動ストロークの端部において前記第１磁石と前記第２磁石とによる反発力を前記テーブルに対して作用させる反発力発生手段と、
前記反発力発生手段により前記テーブルに対して前記反発力を作用させつつ前記テーブルを前記第１方向に往復駆動する駆動手段と、
前記第２磁石を露光光軸に対して略線対称な位置に移動させる制御手段と、
を有することを特徴とする露光装置。
【請求項６】
ベースガイド上を第１方向に移動可能に構成された、レチクル原版を載置するためのテーブルと、
前記テーブルの前記第１方向の端部に設けられる第１磁石と、前記ベースガイドの前記第１方向の端部において該ベースガイドに前記第１方向に移動可能に設けられる第２磁石とを含み、前記テーブルの前記第１方向における移動ストロークの端部において前記第１磁石と前記第２磁石とによる反発力を前記テーブルに対して作用させる反発力発生手段と、
前記反発力発生手段により前記テーブルに対して前記反発力を作用させつつ前記テーブルを前記第１方向に往復駆動する駆動手段と、
を有する露光装置の制御方法であって、
前記レチクル原版を交換するために前記テーブルを交換作業位置に移動させる第１工程と、
前記第１工程により前記テーブルが前記交換作業位置に移動した後、前記第１磁石と前記第２磁石とによる反発力が前記テーブルに対して作用しない位置まで前記第２磁石を移動退避させる第２工程と、
を有することを特徴とする露光装置の制御方法。
【請求項７】
請求項１から５までのいずれか１項に記載の露光装置を用いてウエハを露光する工程と、
前記ウエハを現像する工程と、
を有することを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウエハ等の基板とレチクル等の原版の双方を走査させることによりレチクル原版のパターンをウエハ基板に露光転写する露光装置及びその制御方法並びにデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体集積回路を製造するための露光装置は、高集積度に対応すると同時に、単位時間あたりの露光枚数すなわちスループットを向上させ、より安価なチップを提供することが望まれている。この要求を満たすために、現在では、レチクル原版のパターンを矩形状の帯状領域に限定してウエハ基板等に投影しレチクル原版とウエハ基板の双方を同期的に走査させることによってパターン全体をウエハ基板に転写する走査型露光装置が主流となっている。これは、倍率１／４ないし１／５の縮小投影系を有し、露光光の照射領域を矩形状の帯状領域に限定するとともにレチクル原版とウエハ基板を縮小投影系の縮小倍率に等しい速度比で走査させるステージを設けたものである。
【０００３】
図６及び図７はそれぞれ、一般的な走査型露光装置の上方斜視図及びＹ−Ｚ平面に沿う断面図である。この露光装置は、不図示の露光光源、光学照明系、及びレチクルステージ１００、縮小投影系１１０、ウエハステージ１２０を有する。
【０００４】
レチクルステージ１００は、定盤１０１、レチクル原版１０４を搭載するテーブル１０３、リニアモータ等の直進駆動装置１０５を含む。ここで、テーブル１０３は、直進駆動装置１０５によって定盤１０１上をＹ軸方向に往復走行自在に構成されている。一方、ウエハステージ１２０は、定盤１２１、ウエハ基板１２８を搭載するテーブル１２７、リニアモータ等の直進駆動装置１２３を含む。ここで、テーブル１２７は、直進駆動装置１２３によって定盤１２１上をＸ軸、Ｙ軸方向のそれぞれに往復走行自在に構成されている。
【０００５】
縮小投影系１１０は鏡筒定盤１１１に固定されており、また、この鏡筒定盤１１１には、レーザ干渉計１０６、１３０が支柱を介して固定されている。このレーザ干渉計１０６及び１３０はそれぞれ、テーブル１０３、１２７に設置された不図示の反射ミラーにレーザ光を反射させ、レチクルステージ１００及びウエハステージ１２０の位置計測を行う。そしてこれらの位置計測結果はそれぞれ、直進駆動装置１０５、１２３にフィードバックされる。
【０００６】
レチクルステージ１００とウエハステージ１２０はそれぞれ、直進駆動装置１０５、１２３によって定盤１０１、１２１上を往復移動される。露光光によるレチクル原版１０４のパターン露光中は、これらレチクルステージ１００とウエハステージ１２０の走査速度がそれぞれ一定になるように制御される。
【０００７】
上記のような走査型露光装置においては、スループットを更に向上させて生産性を高めることの要求が年々高まっている。この要求に応えるべく、特許文献１には、レチクルステージのより高速な移動を可能にするため、ステージのストローク端部に磁石からなる反発部材を設置し、大推力発生及び高速維持を実現する移動ステージ装置が開示されている。
【０００８】
図８に、この従来の移動ステージ装置の構成を示す。同図（ａ）の平面図に示されるように、本体ベース１３１にはベースガイド１３２が固定され、ベースガイド１３２に対して一軸方向に移動可能なように、工作物１３３を搭載するテーブル１３４が支持されている。
【０００９】
テーブル１３４の姿勢は、ベースガイド１３２の上面とテーブル１３４の下面との間に配置される軸受け１４４で規制される。高精度な位置決めが求められる半導体露光装置では、軸受け１４４として空気軸受けが採用される。テーブル１３４の両側にはリニアモータ可動子１３５が固定される。リニアモータ可動子１３５にはリニアモータ固定子１３６が非接触で対面し、リニアモータ固定子１３６は本体ベース１３１に両端の脚１３７を介して固定されている。テーブル１３４の位置はレーザ干渉計を反射ミラー１４６に照射して計測される。
【００１０】
この移動ステージ装置は、同図（ｂ）に示されるような反発磁石ユニットを備えており、テーブル１３４の前後には可動磁石ホルダ１３８と可動磁石１３９とからなる反発可動子１４７が固定されている。この可動磁石１３９は鉛直方向に着磁された板状の単極永久磁石である。この従来例では、上がＮ極に着磁されている。この反発可動子１４７は挿入磁石として、ベースガイド１３２上に配置された反発固定子１４０と相互に作用してテーブル１３４に反発力を与え、テーブル１３４を加減速するように作用する。
【００１１】
またこの反発磁石ユニットは、可動磁石１３９の各々の磁極面に対して両側から上下磁石１４２で挟み込む構成にすることで、対面方向の反発力を相殺することができる。上記反発可動子１４７に対応して、テーブル１３４に加減速力を与える反発固定子１４０がベースガイド１３２上に固定されている。反発固定子１４０はテーブル１３４のストロークの両端に１ユニットずつ設けられる。
【００１２】
反発固定子１４０は、組磁石として、上ヨーク１４１、上磁石１４２、両側の横ヨーク１４３、下磁石１４２、及び下ヨーク１４１から構成される。上下磁石１４２，１４２は反発可動子１４７と同様に鉛直方向に着磁された板状単極永久磁石である。ただし、極は反発可動子１４７と同じ極が対面するように配置される。つまり上磁石１４２の下面はＮ極、下磁石１４２の上面はＳ極になるように配置される。上ヨーク１４１、横ヨーク１４３、及び下ヨーク１４１は上下磁石１４２の磁束を側方経由で循環させるために設けられている。
【００１３】
また上下磁石１４２−１４２の間隔は反発可動磁石１３９の厚さより少し大きい間隔をあけ、両横ヨーク１４３−１４３の内側間隔は反発可動磁石１３９の幅より広くとってある。これにより、反発可動磁石１３９は、上下磁石１４２，１４２及び両横ヨーク１４３，１４３で形成される穴に非接触で挿入されるようになっている。
【００１４】
このような反発磁石ユニットを用いたステージにより、高速化及び低発熱化が実現される。
【００１５】
【特許文献１】特開２００４−７９６３９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
前述の特許文献１によれば、テーブル１３４のストローク端部においては、反発可動磁石１３９が反発固定子１４０内に入り込み、これによってテーブル１３４の移動に対する反発力が付与される。
【００１７】
ここで、上述の特許文献１に記載された露光装置に、レチクル原版の交換を自動的に行うためのレチクルチェンジャを搭載する場合を考える。この場合、レチクル原版の交換に際しては、レチクルチェンジャが光学照明系に干渉しないように注意する必要がある。通常、光学照明系はテーブル１３４のストローク中央部に設けられるから、レチクルチェンジャがレチクル原版の交換を行う位置はテーブル１３４のストローク端部側に設定されることになる。
【００１８】
しかし、上述したようにテーブル１３４のストローク端部は、反発可動磁石１３９と反発固定子１４０との相互作用によってテーブル１３４に対して反発力が生じる位置である。そのため、レチクル原版の交換に際しては、この反発力に抗してテーブル１３４を保持するための機構が別途必要になる。これはコスト増大の要因となる。また、そのような機構によるテーブル１３４の保持に伴い、可動磁石１３９やテーブル１３４を局所変形させるおそれもあり、さらには、載置するレチクル原版をも変形させてしまう可能性さえある。
【００１９】
したがって本発明の目的は例えば、レチクルステージの推力に対する反発力を得るための反発力発生手段を有する露光装置において、比較的簡単な構成で効率よくレチクル原版の交換を行うことができるようにすることである。その他の目的及び利点については、以下の説明によって明らかになろう。
【課題を解決するための手段】
【００２０】
本発明の一側面によれば、ベースガイド上を第１方向に移動可能に構成された、レチクル原版を載置するためのテーブルと、前記テーブルの前記第１方向の端部に設けられる第１磁石と、前記ベースガイドの前記第１方向の端部において該ベースガイドに前記第１方向に移動可能に設けられる第２磁石とを含み、前記テーブルの前記第１方向における移動ストロークの端部において前記第１磁石と前記第２磁石とによる反発力を前記テーブルに対して作用させる反発力発生手段と、前記反発力発生手段により前記テーブルに対して前記反発力を作用させつつ前記テーブルを前記第１方向に往復駆動する駆動手段と、前記レチクル原版を交換するために前記テーブルを交換作業位置に移動させた時に前記第１磁石と前記第２磁石とによる反発力が前記テーブルに対して作用しない位置まで前記第２磁石を移動退避させる制御手段とを有することを特徴とする露光装置が提供される。
【００２１】
本発明の別の側面によれば、ベースガイド上を第１方向に移動可能に構成された、レチクル原版を載置するためのテーブルと、前記テーブルの前記第１方向の端部に設けられる第１磁石と、前記ベースガイドの前記第１方向の端部において該ベースガイドに前記第１方向に移動可能に設けられる第２磁石とを含み、前記テーブルの前記第１方向における移動ストロークの端部において前記第１磁石と前記第２磁石とによる反発力を前記テーブルに対して作用させる反発力発生手段と、前記反発力発生手段により前記テーブルに対して前記反発力を作用させつつ前記テーブルを前記第１方向に往復駆動する駆動手段と、前記第２磁石を露光光軸に対して略線対称な位置に移動させる制御手段とを有することを特徴とする露光装置が提供される。
【００２２】
本発明の更に別の側面によれば、ベースガイド上を第１方向に移動可能に構成された、レチクル原版を載置するためのテーブルと、前記テーブルの前記第１方向の端部に設けられる第１磁石と、前記ベースガイドの前記第１方向の端部において該ベースガイドに前記第１方向に移動可能に設けられる第２磁石とを含み、前記テーブルの前記第１方向における移動ストロークの端部において前記第１磁石と前記第２磁石とによる反発力を前記テーブルに対して作用させる反発力発生手段と、前記反発力発生手段により前記テーブルに対して前記反発力を作用させつつ前記テーブルを前記第１方向に往復駆動する駆動手段とを有する露光装置の制御方法であって、前記レチクル原版を交換するために前記テーブルを交換作業位置に移動させる第１工程と、前記第１工程により前記テーブルが前記交換作業位置に移動した後、前記第１磁石と前記第２磁石とによる反発力が前記テーブルに対して作用しない位置まで前記第２磁石を移動退避させる第２工程とを有することを特徴とする露光装置の制御方法も提供される。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、レチクルステージの推力に対する反発力を得るための反発力発生手段を有する露光装置において、比較的簡単な構成で効率よくレチクル原版の交換を行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、図面を参照して本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、本発明は以下の実施形態に限定されるものではなく、本発明の実施に有利な具体例を示すにすぎない。また、以下の実施形態の中で説明されている特徴の組み合わせの全てが本発明の課題解決手段として必須のものであるとは限らない。
【００２５】
（第１実施形態）
図１は本実施形態における露光装置の上方斜視図である。
【００２６】
この露光装置は、不図示の露光光源、光学照明系、縮小投影系、及びレチクルステージ１、ウエハステージ１２を有する。
【００２７】
レチクルステージ１は、定盤２、レチクル原版５を搭載するテーブル３、直動駆動装置を構成するリニアモータ固定子６及びリニアモータ可動子７等を含む。ここで、テーブル３は定盤２上をＹ軸方向に往復移動可能に構成されている。具体的には次のような構成を有する。
【００２８】
テーブル３は、不図示の静圧軸受けによって、ベースガイド２上を５μｍ程度浮上している。テーブル３の両側には磁石が接着されたリニアモータ可動子７が固定される。また、リニアモータ可動子７をＺ方向に挟み込むように、リニアモータ固定子６がテーブル３の両側に配置されている。リニアモータ固定子６の内部には複数のコイルがＹ方向に並んでおり、リニアモータ可動子７の位置にあわせて所定のコイルに電流を流すことによりローレンツ力を発生させ、Ｙ方向の推力を得る。
【００２９】
テーブル３の前後には磁石反発力発生手段として、反発磁石ユニットの可動部である可動磁石８，８が設置されている。この可動磁石８は鉛直方向に着磁された板状の単極永久磁石からなる。一方、ベースガイド２のＹ方向の両端部には、反発磁石ユニットの固定部９，９が固定されている。固定部９の構成は、図７（ｂ）に示した反発固定子１４０と同様の構成とすることができる。固定部９に可動磁石８が入り込むことで相互に作用してテーブル３に反発力を発生させ、テーブル３を加減速させることができる。
【００３０】
また、不図示の縮小投影系を固定する鏡筒定盤１１のＹ方向の後端にはレーザ干渉計１０も固定されている。このレーザ干渉計１０はテーブル３に設けられた不図示の反射ミラーにレーザ光を反射させ、テーブル３のＹ方向における位置を計測する。
【００３１】
レチクルステージ１の下部に位置するウエハステージ１２は、本実施形態においては粗微別体構成をとっている。微動部は、ウエハ基板１３が載置されたテーブル１４及び不図示の磁気浮上機構、リニアモータなどからなる微動機構、及びレーザ干渉計等の位置計測機構を有し、センタースライダ２４とは振動的に絶縁された状態で姿勢制御が可能である。一方、粗動部は、ウエハ基板１３のほぼ全域に露光しうるストロークをもち、センタースライダ２４を定盤２３に対して静圧軸受けによって５μｍ程度浮上させた状態で、移動可能である。センタースライダ２４にはビーム１７、１８を介してリニアモータ１５が接続され、ＸＹ方向への駆動が可能となっている。
【００３２】
本実施形態においては、可動磁石８はテーブル３のＹ方向の両端部に設置され、固定部９はベースガイド２に設けられた凹部３０に設置されたガイドレール２７上に固定保持されている。この固定部９は固定保持を解除すれば、ガイドレール２７に沿って移動可能である。固定保持はテーブル３が往復移動した際の運動エネルギーが反発磁石ユニットによって静止したときに受ける反力に耐え得る保持力を有していればよく、例えば、ガイドレール２７を圧電素子による印加電圧により伸縮させて摩擦固定させる構成でよい。なお、固定部９のガイドレール２７に沿う移動は、公知の駆動モータ等を使用することにより実現できる。また、固定部９の位置は例えば、当該駆動モータに内蔵されたエンコーダで検出することができる。
【００３３】
また、レチクルステージ１には、レチクル原版を搭載かつ交換可能なレチクルチェンジャ２５がリニアモータ固定子６のＸ方向の外側方に設けられている。このレチクルチェンジャ２５は、Ｘ方向の内側中央部に延出するアーム２８を支持している。このアーム２８はレチクル原版を一時保管しておくための不図示のレチクルストッカとレチクルステージ１との間で、レチクル原版の受渡しを行うことが可能な可動ストロークをもつ。レチクルチェンジャ２５はこのアーム２８を支持するとともに、リニアモータ等からなるアクチュエータで構成される。
【００３４】
次に、レチクルステージ１の往復駆動における加速方法について説明する。通常、初期状態においては、テーブル３は反発加速磁石による反発力が作用しない領域にある。この状態において、リニアモータ可動子７の位置にあわせてリニアモータ固定子６内のコイルに電流を流す。これによりテーブル３は例えば（＋）Ｙ方向の推力を得て移動し、ストローク端部にある反発磁石ユニットの固定部９に、反発磁石ユニットの可動磁石８が挿入する。すると、可動磁石８の反発磁石ユニットの固定部９への入り込み量が増えるにつれて、テーブル３が減速する。やがて、速度ゼロとなり可動磁石８の入り込み量が最大となると、テーブル３は移動方向を反転し（−）Ｙ方向へ移動が開始される。可動磁石８の入り込み量が減少していくにつれてテーブル３は加速される。
【００３５】
可動磁石８が固定部９からある程度離れると反発力はゼロになる。その時テーブル３は最大速度まで加速されており、静圧軸受けによってガイドされているため、ほぼ一定の速度で反対側まで移動する。このとき、リニアモータによって今度は（−）Ｙ方向への加速を高めることが可能であり、これらの動作を繰り返し行うことで、徐々に加速させることができる。そして、反発磁石ユニットからの加減速の作用を受けない状態（すなわち、定速状態）の速度を露光時の走査（スキャン）速度まで到達させることが可能である。
【００３６】
上記のような磁石反発力発生手段を用いたレチクルステージの場合、露光時のスキャン速度まで増速するまでには時間を要する。いったん定速駆動を開始してしまうと定速状態時の速度を維持するために必要なエネルギーは、テーブル３移動時に加わる空気抵抗ロス等による速度低下分を補う分に限定される。したがって、スループット向上のためには、レチクルステージ１を定速状態にした後は、ウエハステージ１２の動作状態に依らず、速度維持することが望ましい。
【００３７】
図２に、前述したレチクルステージ１とウエハステージ１２との駆動フローを示す。図中左側のフローは、レチクルステージ１上のレチクル原版交換から次のレチクル原版交換までの動作フローである。一方右側のフローは、レチクルステージ１の動作に同期して実行される、複数回のウエハ基板交換を含むウエハステージ１２の動作フローであり、レチクルステージ１の動作フローとタイミング的な対応関係が分かるように示されている。
【００３８】
レチクル原版交換を行ったレチクルステージ１は（Ｓ２０１）、不図示のセンサによってレチクル原版５の保持位置情報を認識し（Ｓ２０２）、前述の加速方法に基づいて往復動作を行いながらスキャン速度まで増速していく（Ｓ２０３）。
【００３９】
一方ウエハステージ１２は、ウエハ基板交換を行った後（Ｓ２１１）、センサによってウエハ基板の保持位置情報や面形状状態の情報を認識するアライメント計測を行う（Ｓ２１２）。その後、このアライメント計測時の情報を基に、ウエハステージ１２のテーブル１４の姿勢を制御し、レチクルステージ１と動作の同期をとりながら露光時の走査（スキャン）駆動を行う。さらにウエハ基板１３上の露光場所をずらすためのステップ駆動を繰り返し、ウエハ基板１３面に順次露光を行う（Ｓ２１３）。この露光が終了した時点で、ウエハステージ１２は再びウエハ交換を行い（Ｓ２１４）、アライメント計測を経て（Ｓ２１５）、同様の露光を行う（Ｓ２１６）一連の動作を繰り返す。この間レチクルステージ１は、ウエハ基板交換時（Ｓ２１４）及びアライメント計測時（Ｓ２１５）においても往復動作を続け、この定速状態の速度を露光時のスキャン速度に維持する。そして、次のレチクル原版交換（Ｓ２０５）に先だって、レチクルステージ１の往復動作が停止されることになる（Ｓ２０４）。
【００４０】
本実施形態では、定速状態の速度を、レチクル原版５のパターンをウエハ基板１３に露光する時のスキャン速度に維持する例を述べたが、スループット向上が同様に図れるのであれば速度を変化させても構わない。例えば、露光時までに増速しスキャン速度が達成できるのであれば、ウエハステージ１２におけるウエハ基板交換のときは定速状態の速度がスキャン速度より低い状態で往復移動を行うようにしても構わない。あるいは、ウエハ基板１３のアライメント計測時に往復移動により増速し、露光時までにスキャン速度が達成できるのであれば、ウエハステージ１２におけるウエハ基板交換のときにはレチクルステージ１を停止させても構わない。
【００４１】
なお、定速状態の速度を露光時のスキャン速度に合わせただけでは、両ステージの露光時のスキャン開始のタイミングにずれを生じ、場合によってはレチクルステージ１において往復移動の１往復程度を待つことになる可能性がある。そのため、両ステージの露光時のスキャン開始のタイミングを合わせる必要がある。そこで、レチクルステージ１及びウエハステージ１２のそれぞれに設けられるレーザ干渉計などを用いてステージの位置計測を行う。この計測データを演算し、その結果得られた両ステージの位置及び速度の情報をもとに、両ステージが同期動作するようなシーケンスにて、両ステージの駆動状態を調整する必要がある。
【００４２】
以上により、レチクルステージ１とウエハステージ１２を駆動させることにより、高速化に対応した磁石反発力発生手段を用いたレチクルステージをもつ露光装置としてスループット向上を実現できる。
【００４３】
次に、本実施形態におけるレチクル原版交換時の制御処理について説明する。
【００４４】
図３は図１に示された露光装置におけるレチクルステージ部分を示す図であり、（ａ）及び（ｃ）は上面図、（ｂ）及び（ｄ）はそれぞれ、（ａ）及び（ｃ）に示されたＡ−Ａ線に沿う断面図である。また、（ｅ）及び（ｆ）は、（ｄ）に対してテーブル３及び固定部９が移動された状態を示している。
【００４５】
図３において、光学照明系のレンズユニット２９に対して、アライメントスコープ２６及び、レチクルチェンジャ２５のアーム２８が併設されている。アライメントスコープ２６はアーム２８によって載置されたレチクル原版５の保持位置情報を認識し、レチクルステージ１及び、ウエハステージ１２の駆動にこの情報がフィードバックされる。
【００４６】
図３（ａ）、（ｂ）の例は、テーブル３が予め定められたレチクル交換位置におり、レチクルチェンジャ２５のアーム２８が、不図示のレチクルストッカとの間でレチクル原版の受け渡しを行う位置にいるときを示している。ここで、レチクル原版交換が行われる側の反発磁石ユニットの固定部９（図面右側の固定部９）は、Ｙ方向の後端位置に移動退避されていることに注目されたい。このため、このレチクルの交換作業位置においては可動磁石８との反発力がほとんど作用しない。したがって、テーブル３を反発力に抗して保持するための機構を設ける必要はない。
【００４７】
レチクルストッカからレチクル原版５を受け取ったアーム２８は、図３（ｃ）、（ｄ）に示すようなテーブル３上の位置まで移動し、テーブル３上にレチクル原版５を載置する。次に、レチクルステージ１は、テーブル３を図３（ｅ）に示す位置までリニアモータ６を駆動して移動させる。このときレチクル原版５に設けられたアライメントマークを基にアライメントスコープ２６によってその位置情報が認識される。
【００４８】
次に、図３（ｆ）のように、さらにテーブル３をリニアモータ６によって露光動作のための所定の基準位置まで移動させる。このとき、一方の固定部９（図示の例では右側の固定部９）を、レチクル原版５に描画されたパターンをウエハ基板１３に露光転写するために必要なストロークの位置まで、ガイドレール２７に沿って復帰移動させた後（移動量Ｌ１）、固定保持する。
【００４９】
その後、前述した図２のフローにおけるテーブル３の往復動作を開始（ステップＳ３）することになる。もっとも、固定部９を移動させている間に、テーブル３の往復動作を開始しても構わない。テーブル３がその往復移動によって移動してから固定部９に戻ってくるまでの間に、その固定部９を保持固定できれば、加速時間を有効に利用できる。
【００５０】
このように本実施形態では、レチクルチェンジャ２５によるレチクル交換時において、レチクル交換位置においてテーブル３に反発力が作用しないように、反発磁石ユニットの固定部９を移動退避させることができる。このため、反発磁石ユニットによってステージ可動範囲を限定させられることがなく、また、レチクル原版の交換を容易にすることができる。さらに、レチクルチェンジャ２５のアーム２８の設計が容易になる。
【００５１】
また、レチクル原版交換側だけでなく、対向する反発磁石ユニットの固定部９（図面左側の固定部９）も移動可能にすることで、異なる画角サイズのスキャン幅に応じて、往復移動ストロークを設定することが可能となる。なお、往復移動ストロークは、Ｌ２＋反発磁石ユニットへの反発磁石８の固定部９への入り込み量×２、で表される。このとき、ストロークを最小とするには、一対の反発磁石ユニットの保持固定する位置を露光光軸に対してほぼ線対称な位置（Ｌ２／２≒Ｌ３、Ｌ２／２≒Ｌ４）にする。これは、露光時のスキャンは露光光軸を中心として行われるのが一般的であるため、露光光の光軸中心位置から２つの固定部９，９までの間隔が等しいときにストロークが最小となるからである。
【００５２】
（第２実施形態）
次に、図４及び図５を参照して、上述の露光装置を利用したデバイス製造方法の実施形態を説明する。図４は、デバイス（ＩＣやＬＳＩなどの半導体チップ、ＬＣＤ、ＣＣＤ等）の製造を説明するためのフローチャートである。ここでは、半導体チップの製造方法を例に説明する。
【００５３】
ステップＳ１（回路設計）では半導体デバイスの回路設計を行う。ステップＳ２（マスク製作）では設計した回路パターンに基づいてマスクを製作する。ステップＳ３（ウエハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造する。ステップＳ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、マスクとウエハを用いて、上記の露光装置によりリソグラフィ技術を利用してウエハ上に実際の回路を形成する。ステップＳ５（組み立て）は、後工程と呼ばれ、ステップＳ４によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の組み立て工程を含む。ステップＳ６（検査）では、ステップＳ５で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、それが出荷（ステップＳ７）される。
【００５４】
図５は、ステップ４のウエハプロセスの詳細なフローチャートである。ステップＳ１１（酸化）では、ウエハの表面を酸化させる。ステップＳ１２（ＣＶＤ）では、ウエハの表面に絶縁膜を形成する。ステップＳ１３（電極形成）では、ウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップＳ１４（イオン打ち込み）では、ウエハにイオンを打ち込む。ステップＳ１５（レジスト処理）では、ウエハに感光剤を塗布する。ステップＳ１６（露光）では、露光装置によってマスクの回路パターンをウエハに露光する。ステップＳ１７（現像）では、露光したウエハを現像する。ステップＳ１８（エッチング）では、現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップＳ１９（レジスト剥離）では、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。これらのステップを繰り返し行うことによってウエハ上に多重に回路パターンが形成される。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】実施形態における露光装置の上方斜視図である。
【図２】実施形態における露光装置の露光時の制御動作を示すフローチャートである。
【図３】実施形態におけるレチクル原版交換時の制御処理を説明する図である。
【図４】露光装置を使用したデバイスの製造を説明するためのフローチャートである。
【図５】図４のフローチャートのステップＳ４におけるウエハプロセスの詳細なフローチャートである。
【図６】従来の走査型露光装置の上方斜視図である。
【図７】図６の走査型露光装置のＹ−Ｚ平面に沿う断面図である。
【図８】（ａ）は従来の反発加速手段を備えた移動ステージ装置の平面図、（ｂ）は反発磁石ユニットの構成を示す斜視図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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