(57)【要約】【課題】容器の取り出し口の繰り返しの開封及び再封の度に生ずる、引っ張り、折、揉みといった物理的負荷を受けてもバリア性の低下が小さい、ガスバリア性が維持されるガスバリア性粘着フィルムを提供する。【解決手段】容器の開口部の繰り返しの開封及び再封をするための粘着フィルムであって、粘着フィルムは粘着フィルム基材とその上に設けた粘着剤層とからなり、前記粘着フィルム基材は、プラスチックフィルムからなる基材フィルムとその少なくとも片面に形成した無機酸化物蒸着膜からなり、繰り返しの開封及び再封を行ってもそれによるガスバリア性の低下が小さいことを特徴とする粘着フィルム。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
容器の開口部の繰り返しの開封及び再封をするための粘着フィルムであって、粘着フィルムは粘着フィルム基材とその上に設けた粘着剤層とからなり、前記粘着フィルム基材は、プラスチックフィルムからなる基材フィルムとその少なくとも片面に形成した無機酸化物蒸着膜からなり、繰り返しの開封及び再封を行ってもそれによるガスバリア性の低下が小さいことを特徴とする粘着フィルム。
【請求項２】
前記無機酸化物層は化学気層成長法により形成したものであることを特徴とする請求項１に記載の粘着フィルム。
【請求項３】
前記無機酸化物層はプラズマＣＶＤ法により形成したことを特徴とする請求項２に記載の粘着フィルム。
【請求項４】
前記無機酸化物層は、炭素含有酸化珪素層であることを特徴とする請求項３に記載の粘着フィルム。
【請求項５】
前記無機酸化物層は物理気相成長法により形成したものであることを特徴とする請求項１に記載の請求項１に記載の粘着フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、容器の開口部の繰り返し開封及び再封をするためのガスバリア性を有する粘着フィルムであって、前記粘着フィルムは粘着フィルム基材とその上に設けた粘着剤層とからなり、繰り返しの開口部の開封及び再封を行ってもそれによるガスバリア性の低下が小さいことを特徴とするガスバリア性粘着フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
透明粘着テープの基材としては、ポリアミド、ＰＥＴやＯＰＰ、セロファンなどが手切れ性や強度、耐熱性などの目的に応じて選択され、使用されてきた。しかしながら、これらの透明粘着テープの基材は、ガスバリア性に乏しく、これらの基材からなる透明粘着テープで包装体の開口部を封じた場合、包装体に十分なバリア性能があっても、透明粘着テープで再封した個所からの漏れにより、包装体のガスバリア性能が生かせないといった問題があった。特に、携帯用ウエットティッシュの包材などに見られる、ウエットティッシュの取り出し口を粘着フィルムで封じた包装形態の場合、水蒸気透過度の低いアルミウム蒸着フィルムからなる包装体を使用しても、取り出し口は粘着テープで覆っているだけであるので、粘着テープを通しての水蒸気の漏れにより、包装体の持つ本来のバリア性能が生かせないという問題があった。また、包装内容物を使い切るまで何度も容器の取り出し口の開封及び再封を行うので、粘着フィルム自体にバリア性が無いと、長期間保存できないという問題もあった。こういった問題を解決するため、ポリ塩化ビニリデンやアルミ箔を基材とする粘着テープも実用化されてきた。
また、食品・日用品やエレクトロニクス関係部品及び医薬品等の包装分野に用いられる包装用の高ガスバリア性を有する粘着性フィルム、または電子機器関連部材などの高水蒸気バリアを必要とする包装分野や電子機器部材の分野で利用される高ガスバリア性を有する粘着性フィルムとして、プラスチック材料からなる基材の片面に蒸着薄膜層と中間被膜層を交互に積層した積層体を設けた高ガスバリア性を有する粘着性フィルムが知られている（特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００４−２７６２９４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、ポリ塩化ビニリデンを基材とする粘着フィルムの場合、バリア性が不十分な場合があり、また、廃棄燃焼時に塩素化合物のガスが発生するといった問題があった。またアルミ箔を基材とする粘着フィルムは不透明であり、粘着フィルムを通して中味を見ることができず、特に容器本体が不透明の場合に中味を見ることができないといた問題がある。
また、特許文献１に記載の粘着性フィルムは、何度も容器の取り出し口の開封及び再封を繰り返した場合、積層体を構成する蒸着薄膜層及び中間被膜層は、取り出し口の開封及び再封の度に引っ張り、しごきといった物理的負荷を受け、それによって本来のバリア性が低下するといった問題があった。
本発明が解決しようとする課題は、容器の取り出し口の開封及び再封の度に生ずる、引っ張り、折、揉みといった物理的負荷を受けてもガスバリア性の低下が小さい、ガスバリア性が維持されるガスバリア性を有する粘着フィルムを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
請求項１に記載の発明は、上記の課題を解決するもので、容器の開口部の繰り返しの密封及び開封をするためのガスバリア性を有する粘着フィルムであって、前記粘着フィルムは粘着フィルム基材とその上に設けた粘着剤層とからなり、前記粘着フィルム基材は、プラスチックフィルムからなる基材フィルムとその少なくとも片面に形成した無機酸化物蒸着膜からなり、繰り返しの開封及び再封を行ってもそれによるバリア性の低下が小さいことを特徴とするガスバリア性を有する粘着フィルムを要旨とする。
【０００５】
本発明において無機酸化物蒸着膜として、化学気相成長法、物理気相成長法等によって形成したものを利用することができるが、特にプラズマＣＶＤ法により形成したものが望ましい。
【０００６】
その場合、プラズマＣＶＤ法により形成した無機酸化物蒸着膜として、炭素含有酸化珪素蒸着膜が特に好ましい。また酸化珪素蒸着膜も好ましく形成することができる。また無機酸化物蒸着膜上にさらにプラスチックフィルムからなる表面保護層を設けてもよい。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の粘着フィルムは、容器の開口部の繰り返し密封及び開封をするためのガスバリア性を有する粘着フィルムであって、前記粘着フィルムは粘着フィルム基材とその上に設けた粘着剤層とからなり、前記粘着フィルム基材は、プラスチックフィルムからなる基材フィルムとその少なくとも片面に形成した無機酸化物蒸着膜からなるので、繰り返しの開封及び再封を行ってもそれによるバリア性の低下が小さいという利点を有する。本発明の粘着フィルムは、例えばウエットティッシュの包装容器の取り出し口の密封に有効に活用することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
図１は本発明の粘着フィルムの第一の実施の形態を示す断面図である。
【０００９】
図１に示す本発明の粘着フィルム体は、粘着フィルム基材１と粘着フィルム基材１の上に形成した粘着剤層２とからなり、粘着フィルム基材１は、プラスチックフィルムからなる基材フィルム３とその片面に形成した無機酸化物蒸着膜４とからなる。
【００１０】
基材フィルム３としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系フィルム、二軸延伸ポリエチレン、二軸延伸ポリプロピレン、ポリアミドフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリアクリルニトリルフィルム、ポリイミドフィルム等を用いることができる。基材フィルム３には装飾模様や商品名等の印刷層を設けても良い。
【００１１】
無機酸化物蒸着膜４は化学気相成長法、物理気相成長法等により形成することができるが、特にプラズマＣＶＤ法により形成した炭素含有酸化珪素蒸着膜、酸化珪素蒸着膜が特に好ましい。
【００１２】
本発明の粘着フィルムは、上記したように、粘着フィルム基材１とその上に設けた粘着剤層２とからなり、粘着フィルム基材１は、プラスチックフィルムからなる基材フィルム３とその片面に形成した無機酸化物蒸着膜４からなるので、繰り返しの開封及び再封を行ってもそれによるバリア性の低下が小さいという利点を有する。本発明の粘着フィルムは、例えばウエットティッシュの包装容器の取り出し口の密封に有効に活用することができる。
【００１３】
図２は、本発明の粘着フィルムの第２の実施の形態を示す。図２に示す本発明の粘着フィルは、粘着フィルム基材１と粘着フィルム基材１の上に形成した粘着剤層２とからなり、粘着フィルム基材１は、プラスチックフィルムからなる基材フィルム３とその片面に形成した無機酸化物蒸着膜４からなり、無機酸化物蒸着膜４の上にさらにその表面を保護するために、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート等のプラスチックフィルムからなる表面保護層５を設けられているものである。
【００１４】
図３は本発明の粘着フィルムの第三の実施の形態を示す。この粘着フィルムにおいては、無機酸化物蒸着膜４が基材フィルム３の粘着剤層２に対面する側に設けられている。
【００１５】
図４は本発明の粘着フィルムの第四の実施の形態を示す。この粘着フィルムにおいては、基材フィルム３の両面に無機酸化物蒸着膜４が設けられ、一方の無機酸化物粘着層４の面には、粘着剤層２が設けられ、他方の無機酸化物蒸着膜４の面には表面保護層５が設けられている。
【００１６】
次に無機酸化物蒸着膜４を形成するための化学気相成長法、物理気相成長法等について順次説明する。
【００１７】
本発明において、上記の化学気相成長法による無機酸化物蒸着膜について更に説明すると、かかる化学気相成長法による無機酸化物蒸着膜としては、例えば、プラズマＣＶＤ法（ｐｌａｓｍａ  ｅｎｈａｎｃｅｄ  ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ  ｐｒｏｃｅｓｓ：ＰＥＣＶＤ法）、熱化学気相成長法、光化学気相成長法等の化学気相成長法（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法、ＣＶＤ法）等を用いて無機酸化物蒸着膜を形成することができる。
本発明においては、具体的には、基材フィルム３の一方の面に、有機珪素化合物等の蒸着用モノマ−ガスを原料とし、キャリヤ−ガスとして、アルゴンガス、ヘリウムガス等の不活性ガスを使用し、更に、酸素供給ガスとして、酸素ガス等を使用し、低温プラズマ発生装置等を利用する低温プラズマ化学気相成長法を用いて酸化珪素等の無機酸化物蒸着膜４を形成することができる。
【００１８】
上記において、低温プラズマ発生装置としては、例えば、高周波プラズマ、パルス波プラズマ、マイクロ波プラズマ等の発生装置を使用することができ、而して、本発明においては、高活性の安定したプラズマを得るためには、高周波プラズマ方式による発生装置を使用することが望ましい。
【００１９】
具体的に、上記の低温プラズマＣＶＤ法による無機酸化物蒸着膜の形成法についてその一例を例示して説明すると、図５は、上記のプラズマＣＶＤ法による無機酸化物蒸着膜４の形成法についてその概要を示す低温プラズマＣＶＤ装置の概略的構成図である。
図５に示すように、プラズマＣＶＤ装置２１の真空チャンバ−２２内に配置された巻き出しロ−ル２３から基材フィルム３を繰り出し、更に、該基材フィルム３を、補助ロ−ル２４を介して所定の速度で冷却・電極ドラム２５周面上に搬送する。
そして、ガス供給装置２６、２７および、原料揮発供給装置２８等から酸素ガス、不活性ガス、有機珪素化合物等の蒸着用モノマ−ガス、その他等を供給し、それらからなる蒸着用混合ガス組成物を調整しなから原料供給ノズル２９を通して真空チャンバ−２２内に該蒸着用混合ガス組成物を導入し、そして、上記の冷却・電極ドラム２５周面上に搬送された基材フィルム３の上に、グロ−放電プラズマ３０によってプラズマを発生させ、これを照射して、酸化珪素、炭素含有酸化珪素等の無機酸化物蒸着膜４を製膜する。
その際に、冷却・電極ドラム２５は、真空チャンバ−２２の外に配置されている電源３１から所定の電力が印加されており、また、冷却・電極ドラム２５の近傍には、マグネット３２を配置してプラズマの発生が促進されている。
【００２０】
次いで、上記で酸化珪素等の無機酸化物蒸着膜を形成した基材フィルム３は、補助ロ−ル３３を介して巻き取りロ−ル３４に巻き取られる。巻き取られた無機酸化物蒸着膜４を有する基材フィルム３には粘着剤層２が設けられ、粘着フィルムとされる。
なお、図中、３５は、真空ポンプを表す。
また、上記のプラズマＣＶＤ装置は、その一例を例示するものであり、これによって本発明は限定されるものではないことは言うまでもないことである。
また、図示しないが、本発明においては、無機酸化物蒸着膜としては、無機酸化物蒸着膜の１層だけではなく、２層あるいはそれ以上を積層した多層膜の状態でもよく、また、使用する材料も１種または２種以上の混合物で使用し、また、異種の材質で混合した無機酸化物蒸着膜を構成することもできる。
【００２１】
上記において、真空チャンバ−２２内を真空ポンプ３５により減圧し、真空度１×１０-1〜１×１０-8Ｔｏｒｒ位、好ましくは、真空度１×１０-3〜１×１０-7Ｔｏｒｒ位に調整することが望ましいものである。
また、原料揮発供給装置２８においては、原料である有機珪素化合物を揮発させ、ガス供給装置２６、２７から供給される酸素ガス、不活性ガス等と混合させ、この混合ガスを、原料供給ノズル２９を介して真空チャンバ−２２内に導入される。
この場合、混合ガス中の有機珪素化合物の含有量は、１〜４０％位、酸素ガスの含有量は、１０〜７０％位、不活性ガスの含有量は、１０〜６０％位の範囲とすることができ、例えば、有機珪素化合物と酸素ガスと不活性ガスとの混合比を１：６：５〜１：１７：１４程度とすることができる。
【００２２】
一方、冷却・電極ドラム２５には、電源３１から所定の電圧が印加されているため、真空チャンバ−２２内の原料供給ノズル２９の開口部と冷却・電極ドラム２５との近傍でグロ−放電プラズマ３０が生成され、このグロ−放電プラズマ３０は、混合ガス中の１つ以上のガス成分から導出されるものであり、この状態において、基材フィルム３を一定速度で搬送させ、グロ−放電プラブマ３０によって、冷却・電極ドラム２５周面上の基材フィルム３の上に、酸化珪素等の無機酸化物蒸着膜を形成することができるものである。  なお、このときの真空チャンバ−内の真空度は、１×１０-1〜１×１０-4Ｔｏｒｒ位、好ましくは、真空度１×１０-1〜１×１０-2Ｔｏｒｒ位に調整することが望ましく、また、基材フィルム３の搬送速度は、１０〜３００ｍ／分位、好ましくは、５０〜１５０ｍ／分位に調整することが望ましいものである。
【００２３】
また、上記のプラズマＣＶＤ装置２１において、酸化珪素等の無機酸化物蒸着膜４の形成は、基材フィルム３の上に、プラズマ化した原料ガスを酸素ガスで酸化しながらＳｉＯXの形で薄膜状に形成されるので、当該形成される酸化珪素等の無機酸化物蒸着膜４は、緻密で、隙間の少ない、可撓性に富む連続層となるものであり、従って、酸化珪素等の無機酸化物蒸着膜４のバリア性は、従来の真空蒸着法等によって形成される酸化珪素等の無機酸化物蒸着膜４と比較して、はるかに高いものとなり、薄い膜厚で十分なバリア性を得ることができるものである。
また、本発明においては、ＳｉＯXプラズマにより基材フィルム３の表面が、清浄化され、基材フィルム３の表面に、極性基やフリ−ラジカル等が発生するので、形成される酸化珪素等の無機酸化物蒸着膜４と基材フィルム３との密接着性が高いものとなるという利点を有するものである。
更に、上記のように酸化珪素等の無機酸化物の連続膜の形成時の真空度は、１×１０-1〜１×１０-4Ｔｏｒｒ位、好ましくは、１×１０-1〜１×１０-2Ｔｏｒｒ位に調整することから、従来の真空蒸着法により酸化珪素等の無機酸化物蒸着膜を形成する時の真空度、１×１０-4〜１×１０-5Ｔｏｒｒ位に比較して低真空度であることから、基材フィルム３を原反交換時の真空状態設定時間を短くすることができ、真空度を安定しやすく、製膜プロセスが安定するものである。
【００２４】
本発明において、有機珪素化合物等の蒸着モノマ−ガスを使用して形成される酸化珪素の蒸着膜は、有機珪素化合物等の蒸着モノマ−ガスと酸素ガス等とが化学反応し、その反応生成物が、基材フィルム３の一方の面に密接着し、緻密な、柔軟性等に富む薄膜を形成するものであり、通常、一般式ＳｉＯX（ただし、Ｘは、０〜２の数を表す）で表される酸化珪素を主体とする連続状の薄膜である。
而して、上記の酸化珪素の蒸着膜としては、透明性、バリア性等の点から、一般式ＳｉＯX（ただし、Ｘは、１．３〜１．９の数を表す。）で表される酸化珪素の蒸着膜を主体とする薄膜であることが好ましいものである。
上記において、Ｘの値は、蒸着モノマ−ガスと酸素ガスのモル比、プラズマエネルギ−等により変化するが、一般的に、Ｘの値が小さくなればガス透過度は小さくなるが、膜自身が黄色性を帯び、透明性が悪くなる。
【００２５】
また、上記の酸化珪素の蒸着膜は、酸化珪素を主体とし、これに、更に、炭素、水素、珪素または酸素の１種類、または、その２種類以上の元素からなる化合物を少なくとも１種類を化学結合等により含有する蒸着膜からなることを特徴とするものである。
例えば、Ｃ−Ｈ結合を有する化合物、Ｓｉ−Ｈ結合を有する化合物、または、炭素単位がグラファイト状、ダイヤモンド状、フラ−レン状等になっている場合、更に、原料の有機珪素化合物やそれらの誘導体を化学結合等によって含有する場合があるものである。
具体例を挙げると、ＣＨ3 部位を持つハイドロカ−ボン、ＳｉＨ3シリル、ＳｉＨ2シリレン等のハイドロシリカ、ＳｉＨ2ＯＨシラノ−ル等の水酸基誘導体等を挙げることができる。
上記以外でも、蒸着過程の条件等を変化させることにより、酸化珪素蒸着膜中に含有される化合物の種類、量等を変化させることができる。
而して、上記の化合物が、酸化珪素の蒸着膜中に含有する含有量としては、０．１〜５０％位、好ましくは、５〜２０％位が望ましいものである。
上記において、含有率が、０．１％未満であると、酸化珪素の蒸着膜の耐衝撃性、延展性、柔軟性等が不十分となり、曲げ等により、擦り傷、クラック等が発生し易く、高いバリア性を安定して維持することが困難になり、また、５０％を越えると、バリア性が低下して好ましくないものである。
更に、本発明においては、酸化珪素蒸着膜において、上記の化合物の含有量が、酸化珪素蒸着膜の表面から深さ方向に向かって減少させることが好ましく、これにより、酸化珪素蒸着膜の表面においては、上記の化合物等により耐衝撃性等を高められ、他方、基材フィルム３との界面においては、上記の化合物の含有量が少ないために、基材フィルム３と酸化珪素蒸着膜４との密接着性が強固なものとなるという利点を有するものである。
【００２６】
次に、上記において、酸化珪素等の無機酸化物蒸着膜４を形成する有機珪素化合物等の蒸着用モノマ−ガスとしては、例えば、１．１．３．３−テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、ビニルトリメチルシラン、メチルトリメチルシラン、ヘキサメチルジシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、その他等を使用することができる。
本発明において、上記のような有機珪素化合物の中でも、１．１．３．３−テトラメチルジシロキサン、または、ヘキサメチルジシロキサンを原料として使用することが、その取り扱い性、形成された連続膜の特性等から、特に、好ましい原料である。
また、上記において、不活性ガスとしては、例えば、アルゴンガス、ヘリウムガス等を使用することができる。
【００２７】
次に、本発明において、上記の物理気相成長法による無機酸化物蒸着膜４について更に詳しく説明すると、かかる物理気相成長法による無機酸化物蒸着膜としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ−ティング法、イオンクラスタ−ビーム法等の物理気相成長法（Ｐｈｙｓｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法、ＰＶＤ法）を用いて無機酸化物蒸着膜４を形成することができる。
本発明において、具体的には、金属の酸化物を原料とし、これを加熱して蒸気化し、これを基材フィルム３の一方の上に蒸着する真空蒸着法、または、原料として金属または金属の酸化物を使用し、酸素を導入して酸化させて基材フィルム３の一方の上に蒸着する酸化反応蒸着法、更に酸化反応をプラズマで助成するプラズマ助成式の酸化反応蒸着法等を用いて蒸着膜を形成することができる。
上記において、蒸着材料の加熱方式としては、例えば、抵抗加熱方式、高周波誘導加熱方式、エレクトロンビ−ム加熱方式（ＥＢ）等にて行うことができる。
【００２８】
本発明において、物理気相成長法による無機酸化物薄膜膜を形成する方法について、その具体例を挙げると、図６は、巻き取り式真空蒸着装置の一例を示す概略的構成図である。
図６に示すように、巻き取り式真空蒸着装置４１の真空チャンバ−４２の中で、巻き出しロ−ル４３から繰り出す基材フィルム３は、ガイドロ−ル４４、４５を介して、冷却したコ−ティングドラム４６に案内される。
而して、上記の冷却したコ−ティングドラム４６上に案内された基材フィルム３の上に、るつぼ４７で熱せられた蒸着源４８、例えば、金属アルミニウム、あるいは、酸化アルミニウム等を蒸発させ、更に、必要ならば、酸素ガス吹出口４９より酸素ガス等を噴出し、これを供給しながら、マスク５０、５０を介して、例えば、酸化アルミニウム等の無機酸化物蒸着膜を製膜化し、次いで、上記において、例えば、酸化アルミニウム等の無機酸化物蒸着膜を形成した基材フィルム３を、ガイドロ−ル４５′、４４′を介して送り出し、巻き取りロ−ル５１に巻き取ることによって、本発明にかかる物理気相成長法による無機酸化物蒸着膜を形成することができる。
なお、本発明においては、上記のような巻き取り式真空蒸着装置を用いて、まず、第１層の無機酸化物蒸着膜を形成し、次いで、同様にして、該無機酸化物蒸着膜の上に、更に、無機酸化物蒸着膜を形成するか、あるいは、上記のような巻き取り式真空蒸着装置を用いて、これを２連に連接し、連続的に、無機酸化物蒸着膜を形成することにより、２層以上の多層膜からなる無機酸化物蒸着膜を形成することができる。
【００２９】
上記において、無機酸化物蒸着膜としては、基本的に金属の酸化物を蒸着した薄膜であれば使用可能であり、例えば、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、マグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃａ）、カリウム（Ｋ）、スズ（Ｓｎ）、ナトリウム（Ｎａ）、ホウ素（Ｂ）、チタン（Ｔｉ）、鉛（Ｐｂ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、イットリウム（Ｙ）等の金属の酸化物の蒸着膜を使用することができる。
而して、好ましいものとしては、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）等の金属の酸化物の蒸着膜を挙げることができる。
而して、上記の金属の酸化物蒸着膜４は、ケイ素酸化物、アルミニウム酸化物、マグネシウム酸化物等のように金属酸化物として呼ぶことができ、その表記は、例えば、ＳｉＯX 、ＡｌＯX、ＭｇＯX等のようにＭＯX（ただし、式中、Ｍは、金属元素を表し、Ｘの値は、金属元素によってそれぞれ範囲がことなる。）で表される。
また、上記のＸの値の範囲としては、ケイ素（Ｓｉ）は、０〜２、アルミニウム（Ａｌ）は、０〜１．５、マグネシウム（Ｍｇ）は、０〜１、カルシウム（Ｃａ）は、０〜１、カリウム（Ｋ）は、０〜０．５、スズ（Ｓｎ）は、０〜２、ナトリウム（Ｎａ）は、０〜０．５、ホウ素（Ｂ）は、０〜１、５、チタン（Ｔｉ）は、０〜２、鉛（Ｐｂ）は、０〜１、ジルコニウム（Ｚｒ）は０〜２、イットリウム（Ｙ）は、０〜１．５の範囲の値をとることができる。
上記において、Ｘ＝０の場合、完全な金属であり、透明ではなく全く使用することができない、また、Ｘの範囲の上限は、完全に酸化した値である。
本発明において、一般的に、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）以外は、使用される例に乏しく、ケイ素（Ｓｉ）は、１．０〜２．０、アルミニウム（Ａｌ）は、０．５〜１．５の範囲の値のものを使用することができる。
本発明において、上記のような無機酸化物蒸着膜４の膜厚としては、使用する金属、または金属の酸化物の種類等によって異なるが、例えば、５０〜２０００Å位、好ましくは、１００〜１０００Å位の範囲内で任意に選択して形成することが望ましい。
また、本発明においては、無機酸化物蒸着膜４としては、使用する金属、または金属の酸化物としては、１種または２種以上の混合物で使用し、異種の材質で混合した無機酸化物蒸着膜を構成することもできる。
【００３０】
粘着剤層２としては再剥離型粘着剤として利用されるアクリル系粘着剤が好ましい。アクリル系粘着剤としては、アクリル酸アルキルエステルとアクリル酸の共重合体を主成分とし、架橋剤、粘着付与剤、可塑剤、充填剤、熱安定剤、紫外線吸収剤等を副成分とした粘着剤を使用することができる。
【００３１】
粘着剤層２の表面は必要に応じて剥離紙を積層してもよい。また巻き取り状の基材フィルム３の無機酸化物層４を設けない側に必要に応じて剥離層を設けてもよい。
【実施例１】
【００３２】
巻き取り式プラズマＣＶＤ装置を用いた。また、基材としてポリエステル（ＰＥＴ）（東レ（株）製、Ｐ６０、１２μ）を用いた。この基材の片面に下記の蒸着条件で炭素含有酸化珪素蒸着膜を形成した。
［蒸着条件］
出力：１０ｋＷ
真空度：６０ｍＴｏｒｒ
ライン速度：５０ｍ／ｍｉｎ
ガス：ヘキサメチルジシロキサン：酸素ガス：Ｈｅ：Ａｒ＝１．０：５．０：１．０    ：０．５（単位：ｓｌｍ）
【００３３】
得られた炭素含有酸化珪素蒸着膜の上にアクリル系エマルジョン（東亜合成（株）製ＨＶＣ−３００６）をコーティングして粘着剤層を形成して粘着フィルムを得た。
【実施例２】
【００３４】
巻き取り式ＰＥＣＶＤ装置を用いた。また、基材として二軸延伸ポリプロピレン（ＯＰＰ）（東セロ（株）製、ＯＰＵ−１、２０μ）を用いた。この基材の片面に下記の蒸着条件で炭素含有酸化珪素蒸着膜を形成した。
［蒸着条件］
出力：１０ｋＷ
真空度：６０ｍＴｏｒｒ
ライン速度：２０ｍ／ｍｉｎ
ガス：ヘキサメチルジシロキサン：酸素ガス：Ｈｅ：Ａｒ＝１．０：５．０：１．０    ：０．５（単位：ｓｌｍ）
【００３５】
得られた炭素含有酸化珪素蒸着膜の上にアクリル系エマルジョン（東亜合成（株）製ＨＶＣ−３００６）をコーティングして粘着剤層を形成して粘着フィルムを得た。
【実施例３】
【００３６】
シリカ蒸着ＰＥＴ（三菱樹脂（株）製、ＴＥＣＨ−Ｈ、＃１２）の片面にアクリル系エマルジョン（東亜合成（株）製ＨＶＣ−３００６）をコーティングして粘着剤層を形成して粘着フィルムを得た。
【実施例４】
【００３７】
アルミナ蒸着ＰＥＴ（東レ加工フィルム、１０１１ＨＧＣ  ＃１２）の片面にアクリル系エマルジョン（東亜合成（株）製ＨＶＣ−３００６）をコーティングして粘着剤層を形成して粘着フィルムを得た。
【００３８】
［比較例１］
ポリビニリデンＯＰＰ（東セロ、ＯＬＤ  ＃１２）の片面にアクリル系エマルジョン（東亜合成（株）製ＨＶＣ−３００６）をコーティングして粘着剤層を形成して粘着フィルムを得た。
【００３９】
実施例１、２、３、４及び比較例１について、初期におけるバリア性、２％引っ張りを行った後のバリア性及び５０回屈曲試験後のバリア性を調べた。測定結果を表１に示す。尚、バリア性の測定は、ＭＯＣＯＮ社製ＯＸ−ＴＲＡＮ２／２０（酸素透過度）、ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ−Ｗ３／３１（水蒸気透過度）を使用して測定した。
【００４０】
【表１】
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【００４１】
表１に示すように、比較例１においては、２％引っ張りを行った後のバリア性及び５０回屈曲試験後のバリア性が初期におけるバリア性に比べて大きく劣化しているのに対し、実施例１、２においてはバリア性の低下は小さかった。また、実施例３、４においても比較例１と比較してバリア性能の低下はすくないことが分かった。
【産業上の利用可能性】
【００４２】
本発明の粘着フィルムは、例えばはウエットティッシュの包装容器のように容器の口部の開封及び再封を繰り返し行うシール片として利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】本発明の粘着フィルムの第一の実施の形態の断面図である。
【図２】本発明の粘着フィルムの第二の実施の形態の断面図である。
【図３】本発明の粘着フィルムの第三の実施の形態の断面図である。
【図４】本発明の粘着フィルムの第四の実施の形態の断面図である。
【図５】プラズマＣＶＤ装置の略図である。
【図６】巻き取り式真空蒸着装置の略図である。
【符号の説明】
【００４４】
１        粘着フィルム基材
２        粘着剤層
３        基材フィルム
４        無機酸化物蒸着膜
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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