(57)【要約】【課題】  携帯ゲーム、デジタルカメラ、携帯電話等の外装にはプラスチック成形品が利用されている。近年、薄型化や軽量化、更にはディスプレイの視認性向上やデザインを重視する消費者に対する意匠性向上が強く求められている。また、傷が付き難いことや指紋や汚れの拭き取り性向上も求められる。【解決手段】  ディスプレイを保護する透明な樹脂部分と周辺部分を違った材料で成形を行う二色成形の際に、高屈折率薄膜層と低屈折率薄膜層からなる薄膜積層体を有する光学フィルムを同時成形することで成形品の薄型化、軽量化、ディスプレイの視認性向上、意匠性の向上を行うと共に同時成形する光学フィルムの硬度化や防汚性を向上させ耐久性を向上させる。【選択図】  図１
2008307880.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
閉じた状態にある一次成形用金型の空洞部内に第一熱可塑性プラスチック材料を射出し、前記第一熱可塑性プラスチック材料を成形する第一工程と、次に、前記一次成形用金型を開き、前記成形した第一熱可塑性プラスチック材料を取り出し、開いた状態にある二次成形用金型の空洞部内に前記成形した第一熱可塑性プラスチック材料を配置する第二工程と、次に、前記二次成形用金型を閉じ、二次成形用金型の空洞部内に第二熱可塑性プラスチック材料を射出し、前記第二熱可塑性プラスチック材料を成形する第三工程と、を少なくとも有する二色成形品の製造方法であって、
前記第一熱可塑性プラスチック材料を射出する前の一次成形用金型の空洞部内、または、第二熱可塑性プラスチック材料を射出する前の二次成形用金型の空洞部内に光学フィルムを配置し、前記光学フィルムと第一熱可塑性プラスチック材料、または、第二熱可塑性プラスチック材料とを同時に成形し、
かつ、前記第一熱可塑性プラスチック材料と第二熱可塑性プラスチック材料との組成または色が異なることを特徴とする二色成形品の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の製造方法を用いて形成したことを特徴とする二色成形品であって、
前記光学フィルムは、基材と、前記基材の一方の面上、または、両面上に少なくとも高屈折率薄膜層単層、または、低屈折率薄膜層単層、または、高屈折率薄膜層と低屈折率薄膜層とを各１層以上交互に積層してなる薄膜積層体と、からなることを特徴とする二色成形品。
【請求項３】
前記第一熱可塑性プラスチック材料と第二熱可塑性プラスチック材料のどちらか一方が、透明プラスチック材料であり、
前記透明プラスチック材料と光学フィルムとは同時に成形されたものであり、
前記光学フィルムを有し、固化した後の透明プラスチック材料の平均反射率（入射角５°、波長３８０〜７８０ｎｍ）が３％以下である
ことを特徴とする請求項２に記載の二色成形品。
【請求項４】
前記基材と、高屈折率薄膜層単層、または、低屈折率薄膜層単層、または、高屈折率薄膜層と低屈折率薄膜層とを各１層以上交互に積層してなる薄膜積層体と、の間に印刷層を有することを特徴とする請求項２または３に記載の二色成形品。
【請求項５】
前記基材と、高屈折率薄膜層単層、または、低屈折率薄膜層単層、または、高屈折率薄膜層と低屈折率薄膜層とを各１層以上交互に積層してなる薄膜積層体と、の間にハードコート層を有することを特徴とする請求項２〜４のいずれかに記載の二色成形品。
【請求項６】
前記薄膜積層体の最表面上に防汚層を有し、前記防汚層表面の水滴接触角が１００°以上であることを特徴とする請求項２〜５のいずれかに記載の二色成形品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、携帯ゲーム機部材、自動車部材、車両部材、家電用品部材、携帯電話部材、パーソナルコンピューター部材、オーディオ製品部材、カーナビゲーション部材、事務用品部材、スポーツ用品部材、雑貨部材、メガネ・サングラス部材、カメラ部材、光学用品部材、計測機器部材等に用いる二色成形品およびその製造方法に関する。
特に、携帯ゲーム機、デジタルカメラ、携帯電話等ディスプレイを有する電化製品の外装に用いる二色成形品およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、携帯ゲーム機や携帯電話等の外装部材には射出成形により成形されたプラスチック成形品が一般的に用いられている。携帯ゲーム機や携帯電話等のディスプレイを有する電化製品では、ディスプレイ部に反射防止性能や表面保護性能を付与することが求められており、筐体部（ディスプレイ部周辺の外装部）に加飾性能や表面保護性能を付与することが求められている。通常、ディスプレイ部と筐体部とは別個に成形され、ディスプレイ部および筐体部表面に表面保護フィルムを貼りあわせる等して各性能を付与した後、筐体部にディスプレイ部を嵌め込むことで成形品を完成させている。しかし、この方法では製造工程の手順が多く製造コストがかさむため、製造工程の簡略化が求められている。
【０００３】
また、近年、製造工程の簡略化の観点および成形品本体の薄型化や軽量化の要求から、二色成形の利用頻度が増加している（特許文献１参照）。二色成形は、組成または色が異なる２種類の材料を同時に成形する手法であり、製造工程を簡略化し、多種多様な組成または色の組み合わせによりバラエティに富んだ機能やデザインを有する製品展開が可能である。
【０００４】
しかし、携帯ゲーム機や携帯電話等の製品は、屋外や電車内等の視認性が悪く汚れや傷が付き易い環境下で使用する機会が多いことから、前述したように完成した成形品本体に表面保護フィルムを貼りあわせる等して各性能を付与する必要がある。
ところが、二色成形を用いて成形した成形品本体は湾曲形状を有するものがほとんどであり、かつ、ディスプレイ部と筐体部が一体化しているため、表面保護フィルム等を成形品本体に貼りあわせることは技術的に困難である。
【０００５】
【特許文献１】特開平１１−２２１８３９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
よって、本発明の目的は、上記の問題を解決するための手段を提供するものであり、金型の空洞部内に光学フィルムを配置し、少なくとも２種類の熱可塑性プラスチック材料を順次射出し、光学フィルムと熱可塑性プラスチック材料とを同時に成形することで、薄型化、軽量化を達成し、視認性、意匠性、耐擦傷性、防汚性を有する二色成形品およびその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１に記載の発明は、閉じた状態にある一次成形用金型の空洞部内に第一熱可塑性プラスチック材料を射出し、前記第一熱可塑性プラスチック材料を成形する第一工程と、次に、前記一次成形用金型を開き、前記成形した第一熱可塑性プラスチック材料を取り出し、開いた状態にある二次成形用金型の空洞部内に前記成形した第一熱可塑性プラスチック材料を配置する第二工程と、次に、前記二次成形用金型を閉じ、二次成形用金型の空洞部内に第二熱可塑性プラスチック材料を射出し、前記第二熱可塑性プラスチック材料を成形する第三工程と、を少なくとも有する二色成形品の製造方法であって、
前記第一熱可塑性プラスチック材料を射出する前の一次成形用金型の空洞部内、または、第二熱可塑性プラスチック材料を射出する前の二次成形用金型の空洞部内に光学フィルムを配置し、前記光学フィルムと第一熱可塑性プラスチック材料、または、第二熱可塑性プラスチック材料とを同時に成形し、
かつ、前記第一熱可塑性プラスチック材料と第二熱可塑性プラスチック材料との組成または色が異なることを特徴とする二色成形品の製造方法である。
【０００８】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の製造方法を用いて形成したことを特徴とする二色成形品であって、
前記光学フィルムは、基材と、前記基材の一方の面上、または、両面上に少なくとも高屈折率薄膜層単層、または、低屈折率薄膜層単層、または、高屈折率薄膜層と低屈折率薄膜層とを各１層以上交互に積層してなる薄膜積層体と、からなることを特徴とする二色成形品である。
【０００９】
請求項３に記載の発明は、前記第一熱可塑性プラスチック材料と第二熱可塑性プラスチック材料のどちらか一方が、透明プラスチック材料であり、
前記透明プラスチック材料と光学フィルムとは同時に成形されたものであり、
前記光学フィルムを有し、固化した後の透明プラスチック材料の平均反射率（入射角５°、波長３８０〜７８０ｎｍ）が３％以下である
ことを特徴とする請求項２に記載の二色成形品である。
【００１０】
請求項４に記載の発明は、前記基材と、高屈折率薄膜層単層、または、低屈折率薄膜層単層、または、高屈折率薄膜層と低屈折率薄膜層とを各１層以上交互に積層してなる薄膜積層体と、の間に印刷層を有することを特徴とする請求項２または３に記載の二色成形品である。
【００１１】
請求項５に記載の発明は、前記基材と、高屈折率薄膜層単層、または、低屈折率薄膜層単層、または、高屈折率薄膜層と低屈折率薄膜層とを各１層以上交互に積層してなる薄膜積層体と、の間にハードコート層を有することを特徴とする請求項２〜４のいずれかに記載の二色成形品である。
【００１２】
請求項６に記載の発明は、前記薄膜積層体の最表面上に防汚層を有し、前記防汚層表面の水滴接触角が１００°以上であることを特徴とする請求項２〜５のいずれかに記載の二色成形品である。
【発明の効果】
【００１３】
本発明において、金型の空洞部内に光学フィルムを配置し、少なくとも２種類の熱可塑性プラスチック材料を順次射出し、光学フィルムと熱可塑性プラスチック材料とを同時に成形することで、薄型化、軽量化を達成し、視認性、意匠性、耐擦傷性、防汚性を有する二色成形品およびその製造方法を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明の一実施形態について、図面を参照して説明する。
図１または図２は、本発明の二色成形品を製造する工程を示した製造工程概略図である。図１または図２に示される二色成形品は、本発明の一例を示すものである。本発明の二色成形品は、光学フィルム１と第一熱可塑性プラスチック材料２ａと第二熱可塑性プラスチック材料２ｂとから構成されるものである。
【００１５】
以下に、図１に示す二色成形品の製造工程概略を説明する。
はじめに、図１（ａ）に示すように、一次成形用金型３ａを閉じ、一次成形用金型の空洞部４ａ内に第一熱可塑性プラスチック材料２ａを射出し、第一熱可塑性プラスチック材料２ａを成形する。
次に、図１（ｂ）に示すように、一次成形用金型３ａを開き、同じく開いた状態にある二次成形用金型の空洞部４ｂ内に、成形した第一熱可塑性プラスチック材料を移動し配置する。また、同時に二次成形用金型の空洞部４ｂ内に光学フィルム１を配置する。
次に、図１（ｃ）に示すように、二次成形用金型３ｂを閉じ、二次成形用金型の空洞部４ｂ内に第二熱可塑性プラスチック材料２ｂを射出し、本発明の二色成形品を成形する。また、このとき、一次成形用金型３ａを閉じ、一次成形用金型の空洞部４ａ内に第一熱可塑性プラスチック材料２ａを射出し、第一熱可塑性プラスチック材料２ａを成形する。
次に、図１（ｄ）に示すように、二次成形用金型３ｂを開き、完成した二色成形品を取り出す。また、このとき、一次成形用金型３ａを開く。
次に、図１（ｅ）に示すように、開いた状態にある二次成形用金型の空洞部４ｂ内に、成形した第一熱可塑性プラスチック材料を移動し配置する。また、同時に二次成形用金型の空洞部４ｂ内に光学フィルム１を配置する。
【００１６】
成形の初期段階のみ図１（ａ）〜図１（ｅ）に示す工程を順次行う必要があるが、初回以降は図１（ｃ）〜図１（ｅ）に示す工程を一順行うごとに完成品を取り出すことができる。また、図１には、２基の射出装置を備える二色成形機が記載されているが、これは本発明の一実施形態であり、これに限定されるものではない。
【００１７】
次に、図２に示す二色成形品の製造工程概略を説明する。
はじめに、図２（ａ）に示すように、開いた状態にある一次成形用金型の空洞部４ａ内に光学フィルム１を配置する。
次に、図２（ｂ）に示すように、一次成形用金型３ａを閉じ、一次成形用金型の空洞部４ａ内に第一熱可塑性プラスチック材料２ａを射出し、光学フィルム１と第一熱可塑性プラスチック材料２ａとを同時に成形する。
次に、図２（ｃ）に示すように、一次成形用金型３ａを開き、同じく開いた状態にある二次成形用金型の空洞部４ｂ内に、成形した光学フィルム１と第一熱可塑性プラスチック材料を移動し配置する。また、開いた状態にある一次成形用金型の空洞部４ａ内に、再度光学フィルム１を配置する。
次に、図２（ｄ）に示すように、二次成形用金型３ｂを閉じ、二次成形用金型の空洞部４ｂ内に第二熱可塑性プラスチック材料２ｂを射出し、本発明の二色成形品を成形する。また、このとき、一次成形用金型３ａを閉じ、一次成形用金型の空洞部４ａ内に第一熱可塑性プラスチック材料２ａを射出し、光学フィルム１と第一熱可塑性プラスチック材料２ａとを同時に成形する。
次に、図２（ｅ）に示すように、二次成形用金型３ｂを開き、完成した二色成形品を取り出す。また、このとき、一次成形用金型３ａを開く。
次に、図２（ｆ）に示すように、開いた状態にある二次成形用金型の空洞部４ｂ内に、成形した光学フィルム１と第一熱可塑性プラスチック材料を移動し配置する。また、開いた状態にある一次成形用金型の空洞部４ａ内に、再度光学フィルム１を配置する。
【００１８】
成形の初期段階のみ図２（ａ）〜図２（ｆ）に示す工程を順次行う必要があるが、初回以降は図２（ｄ）〜図２（ｆ）に示す工程を一順行うごとに完成品を取り出すことができる。また、図２には、２基の射出装置を備える二色成形機が記載されているが、これは本発明の一実施形態であり、これに限定されるものではない。
【００１９】
本発明における第一熱可塑性プラスチック材料２ａとしては、アクリル、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリスチロール（ＰＳ）、ナイロン等が挙げられるが、これに限定されるものではない。
【００２０】
本発明における第二熱可塑性プラスチック材料２ｂとしては、上述した第一熱可塑性プラスチック材料２ａと同様であるが、これに限定されるものではない。
【００２１】
ここで、第一熱可塑性プラスチック材料２ａと第二熱可塑性プラスチック材料２ｂとは組成または色が異なるものである。このように多種多様な組成または色を組み合わせることによりバラエティに富んだデザイン性・機能性を有する製品展開が可能である。
【００２２】
本発明における射出装置としては、任意の厚みに熱可塑性プラスチック材料を射出できるものであればよく、特に制限されるものではない。また、２基以上備えていることが必須条件ではないが、射出装置が１基のみであると、金型の取替えに時間を要し、また、二次成形用金型３ｂを用いた２回目の射出成形は要求される精度が高いため、金型の数と同数の射出装置を備えていることが好ましい。
【００２３】
本発明における金型（一次成形用金型３ａと二次成形用金型３ｂ）としては、使用する熱可塑性プラスチック材料と熱に対する耐性があるものであればよく、特に制限されるものではない。ここで、一次成形用金型３ａと二次成形用金型３ｂの材質が同一である必要はない。
【００２４】
また、図１または図２に示すように、回転式の回転台５を備えることで、金型（一次成形用金型３ａと二次成形用金型３ｂ）の取り付け位置の設定を変更する必要がないため、射出精度を高く維持することができる。
【００２５】
本発明における光学フィルム１は、基材と、基材の一方の面上、または、両面上に少なくとも高屈折率薄膜層単層、または、低屈折率薄膜層単層、または、高屈折率薄膜層と低屈折率薄膜層とを各１層以上交互に積層してなる薄膜積層体と、からなるものである。図３は、本発明の光学フィルム１の一例を示す断面図である。この光学フィルム１は、基材１２と、基材１２上に設けられた薄膜積層体１４とから構成されるものである。
また、図４に示すように、基材１２の両面に薄膜積層体１４を形成してもよく、ここでは、一方の面上に高屈折率薄膜層７、低屈折率薄膜層８、高屈折率薄膜層９の３層が順次積層してなる薄膜積層体１４、他方の面上に高屈折率薄膜層７、低屈折率薄膜層８の２層が順次積層してなる薄膜積層体１４が示されている。
しかし、図３および図４に示す光学フィルム１は、一実施例にすぎず、その層数に制限はない。
【００２６】
本発明における基材１２としては、プラスチック、ガラス、金属、あるいはこれらを複合した素材が挙げられる。
プラスチック素材としては、例えば、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリプロピレン、ポリエチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアセタール、ポリビニルアルコール、ポリウレタン、ポリエチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリフェニレンサルファイト、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルスルフォン、ポリオレフィン、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリパラキシレン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリフェニルオキサイド、トリアセチルセルロース、セルロースアセテート、珪素樹脂、フッ素樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ＡＢＳ樹脂、ＡＢＳアロイ等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
ガラス素材としては、例えば、ソーダライムガラス、硼珪酸ガラス、石英ガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、無アルカリガラス、鉛ガラス等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
金属素材としては、例えば、アルミニウム、ステンレス、鉄、ニッケル、クロム、ニクロム、亜鉛、錫、鉛、金、銀、銅、パラジウム、めっき鋼板等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
また、これらプラスチック素材、ガラス素材、金属素材を各種複合した素材でも構わない。
【００２７】
基材１２の形状としては、表面が平滑であれば特に限定されず、板状、ロール状等が挙げられる。しかし、一次成形用金型３ａまたは二次成形用金型３ｂを用い光学フィルム１と第一熱可塑性プラスチック材料２ａまたは第二熱可塑性プラスチック材料２ｂとを同時に成形するとき、光学フィルム１がロール状であると、第一熱可塑性プラスチック材料２ａまたは第二熱可塑性プラスチック材料２ｂの成形形状に合わせて光学フィルム１を切断する手間を要するため、一次成形用金型の空洞部４ａ内または二次成形用金型の空洞部４ｂ内に配置する基材１２の形状としては、第一熱可塑性プラスチック材料２ａまたは第二熱可塑性プラスチック材料２ｂの成形形状と合致することが好ましい。
【００２８】
基材２の表面は薄膜積層体１４を形成する前に、目的に応じて表面処理を施してもよい。表面処理法としては、例えば、コロナ処理法、蒸着処理法、電子ビーム処理法、高周波放電プラズマ処理法、スパッタリング処理法、イオンビーム処理法、大気圧グロー放電プラズマ処理法、アルカリ処理法、酸処理法等を挙げることができる。
【００２９】
基材２の厚さは、目的の用途に応じて適宜選択され、通常５μｍ以上１０ｍｍ以下である。プラスチック素材には、公知の添加剤、例えば、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等が含有されていてもよい。
【００３０】
本発明における高屈折率薄膜層とは、光の波長５５０ｎｍでの屈折率が１．７５以上２．４以下であり、消衰係数が０．５以下の層である。
【００３１】
高屈折率薄膜層の材料としては、例えば、インジウム、錫、チタン、珪素、亜鉛、ジルコニウム、ニオブ、マグネシウム、ビスマス、セリウム、クロム、白金、炭素、タンタル、アルミニウム、ゲルマニウム、ガリウム、アンチモン、ネオジウム、ランタン、トリウム、ハフニウム、イットリウム、ロジウム、セレニウム、ユーロピウム、イッテルビウム、スカンジウム、プラセオジウム、サマリウム等の元素、または、これらの元素の酸化物、弗化物、硫化物、窒化物、または、酸化物、弗化物、硫化物、窒化物の混合物等が挙げられる。酸化物、弗化物、硫化物、窒化物の化学組成は、化学量論的な組成と一致しなくてもよい。
【００３２】
ここで、図３に示す高屈折率薄膜層７と９とは、必ずしも同一の材料でなくてもよく、目的に合わせて適宜選択されるものである。
【００３３】
本発明における低屈折率薄膜層とは、光の波長５５０ｎｍでの屈折率が１．３以上１．７５未満、消衰係数が０．５以下の層である。
【００３４】
低屈折率薄膜層の材料としては、例えば、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、窒化チタン、弗化マグネシウム、弗化バリウム、弗化カルシウム、弗化ハフニウム、弗化ランタン、弗化ナトリウム、弗化アルミニウム、弗化炭素、弗化鉛、弗化ストロンチウム、弗化イッテルビウム、弗化ネオジウム、弗化リチウム、弗化サマリウム等の化合物、または、これら化合物の混合物等が挙げられる。これら化合物の化学組成は、化学量論的な組成と一致しなくてもよい。
【００３５】
本発明における高屈折率薄膜層および低屈折率薄膜層は、蒸着法、スパッタリング法、プラズマＣＶＤ法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト法等の真空成膜法により形成されること好ましい。
【００３６】
また、屈折率および消衰係数の光学定数に関しては、分光エリプソメトリー法を用いて、高屈折率薄膜層試料および低屈折率薄膜層試料の表面から反射してくる光の偏光状態の変化を測定することで求めることが可能である。消衰係数に関しては、０．５より大きくなると光の吸収が大きくなるため、本発明の光反射性能を有するような薄膜の形成材料として好ましくない。
【００３７】
携帯ゲーム機や携帯電話等のディスプレイを有する二色成形品において、例えば図３に示す光学フィルム１を、携帯ゲーム機や携帯電話等のディスプレイ部に用いる材料と同時に成形することで、成形・固化後のディスプレイ部に反射防止性能、表面保護性能を付加することができる。また、光学フィルム１を、携帯ゲーム機や携帯電話等の筐体部（ディスプレイ部周辺の外装部）に用いる材料と同時に成形することで、成形・固化後の筐体部に意匠性能、表面保護性能を付加することができる。
【００３８】
また、図４に示すように、基材２の両面上に高屈折率薄膜層単層、または、低屈折率薄膜層単層、または、高屈折率薄膜層と低屈折率薄膜層とを各１層以上交互に積層してなる薄膜積層体とを積層することで、基材２と、第一熱可塑性プラスチック材料２ａまたは第二熱可塑性プラスチック材料２ｂとの組み合わせが、密着性の弱い組み合わせである場合、高屈折率薄膜層単層、または、低屈折率薄膜層単層、または、高屈折率薄膜層と低屈折率薄膜層とを各１層以上交互に積層してなる薄膜積層体を間に挟みこむことで強い密着性を発現させることができる。例えば、基材２がＰＥＴやＰＣ等であり、第一熱可塑性プラスチック材料２ａまたは第二熱可塑性プラスチック材料２ｂがＡＢＳやアクリル等である場合を挙げることができる。
【００３９】
ここで、光学フィルム１が携帯ゲーム機や携帯電話等のディスプレイ部に用いる材料と同時に成形された場合、ディスプレイ部に用いる材料（第一熱可塑性プラスチック材料２ａまたは第二熱可塑性プラスチック材料２ｂ）が、アクリル樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）樹脂、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）樹脂等から選ばれる透明プラスチック材料であり、光学フィルム１と透明プラスチック材料（第一熱可塑性プラスチック材料２ａまたは第二熱可塑性プラスチック材料２ｂ）とからなる成形品（固化後）の平均反射率が３％以下であることが好ましい。これにより、屋外など太陽光が差し込む環境下で携帯ゲーム機や携帯電話等を使用する場合においても、ディスプレイの視認性を良好に保つことができる。
【００４０】
さらに、図５に示すように、光学フィルム１が、基材１２と、基材１２に近い側から高屈折率薄膜層７、低屈折率薄膜層８、高屈折率薄膜層９、低屈折率薄膜層１０の４層が順次積層してなる薄膜積層体１４とから構成されており、高屈折率薄膜層７の物理膜厚が１０ｎｍ以上４０ｎｍ以下の範囲内であり、低屈折率薄膜層８の物理膜厚が１０ｎｍ以上４０ｎｍ以下の範囲内であり、高屈折率薄膜層９の物理膜厚が７０ｎｍ以上１２０ｎｍ以下の範囲内であり、低屈折率薄膜層１０の物理膜厚が７０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の範囲内であると、容易に平均反射率を低減でき、ディスプレイの視認性を良好に保つことができるためより好ましい。
【００４１】
本発明における平均反射率は、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における出射角−５°の鏡面反射率を分光光度測定装置で測定した。５度入射における鏡面反射率は、光学フィルム１と透明プラスチック材料とからなる成形品（固化後）の法線方向＋５℃から入射した光に対する法線方向−５℃で反射した光の強度の割合であり、背景の鏡面反射による映り込みの尺度になる。
【００４２】
また、光学フィルム１が携帯ゲーム機や携帯電話等の筐体部（ディスプレイ部材周辺の外装部材）に用いる材料と同時に成形された場合、屈折率の異なる高屈折率薄膜層と低屈折率薄膜層とを交互に積層した薄膜積層体１４を有する光学フィルム１は任意の色、反射率の調整が可能であるため、色や金属光沢などの意匠性を付加することができる。
【００４３】
図６では、基材１２の一方の面上に高屈折率薄膜層７、低屈折率薄膜層８、高屈折率薄膜層９の３層が順次積層してなる薄膜積層体１４、他方の面上に印刷層１１、高屈折率薄膜層７の２層が順次積層してなる光学フィルム１を示している。
本発明における印刷層１１は、二色成形品に意匠性を付与するものであり、インキを印刷することで形成されるものである。
印刷層１１は、基材と高屈折率薄膜層単層、または、低屈折率薄膜層単層、または、高屈折率薄膜層と低屈折率薄膜層とを各１層以上交互に積層してなる薄膜積層体との間に形成されていればよく、図６は一実施例にすぎず、この構成に限定されるものでない。
【００４４】
本発明で用いられるインキとしては、熱乾燥インキや紫外線硬化型インキ等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００４５】
本発明における印刷層１１の形成方法としては、グラビア印刷機やスクリーン印刷機を用いて印刷することができるが、これらに限定されるものではない。
【００４６】
本発明における印刷層１１の物理膜厚としては、１μｍ以上２０μｍ以下程度であることが好ましい。
【００４７】
印刷層１１を、基材と、高屈折率薄膜層単層、または、低屈折率薄膜層単層、または、高屈折率薄膜層と低屈折率薄膜層とを各１層以上交互に積層してなる薄膜積層体と、の間に形成することで、高温で射出されるプラスチック材料（第一熱可塑性プラスチック材料２ａまたは第二熱可塑性プラスチック材料２ｂ）からの熱を遮断し、インキが溶け出すことを防止することができる。
【００４８】
次に、図７は、本発明の光学フィルム１の一例を示す断面図である。この光学フィルム１は、基材１２と、基材１２上に設けられたハードコート層１３と、ハードコート層１３上に設けられた薄膜積層体１４と、薄膜積層体１４上に設けられた防汚層１５から構成されるものである。
【００４９】
図７に示すように、基材２と薄膜積層体１４との間にハードコート材料を塗布し、ハードコート層１３を形成することが好ましい。光学フィルム１の硬度を上げ、本発明の二色成形品に傷が付き難くすることができるためである。
【００５０】
ハードコート層１３は鉛筆等による引っ掻き傷、スチールウールによる擦り傷等の機械的外傷から基材１２表面防護することができる。ここで、ハードコート層１３は基材１２と薄膜積層体１４との間に積層されているが、これに限定されるものではなく、薄膜積層体１４上に積層してもよい。このとき、ハードコート層１３は基材１２上に形成された各層を防護することができる。
また、ハードコート層１３を形成する材料としては、適度な硬度および機械的強度を有するものであればよく、アクリル系樹脂、有機珪素系樹脂、ポリシロキサン等の樹脂材料を挙げることができる。
【００５１】
アクリル系樹脂としては、例えば、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングロリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、３−メチルペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールビスβ−（メタ）アクリロイルオキシプロピオネート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリ（２−ヒドロキシエチル）イソシアネートジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、２，３−ビス（メタ）アクリロイルオキシエチルオキシメチル［２．２．１］ヘプタン、ポリ１，２−ブタジエンジ（メタ）アクリレート、１，２−ビス（メタ）アクリロイルオキシメチルヘキサン、ノナエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラデカンエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１０−デカンジオール（メタ）アクリレート、３，８−ビス（メタ）アクリロイルオキシメチルトリシクロ［５．２．１０］デカン、水素添加ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジエトキシフェニル）プロパン、１，４−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）シクロヘキサン、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、エポキシ変成ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート等の混合物を挙げることができる。
【００５２】
有機珪素系樹脂としては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタイソプロキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等の混合物を挙げることができる。
【００５３】
ハードコート層１３は、これら樹脂材料を基材１２上に成膜し、熱硬化、紫外線硬化、あるいは電離放射線硬化法によって硬化させることによって形成される。ハードコート層１３の厚さは、物理膜厚で０．５μｍ以上、好ましくは３μｍ以上２０μｍ以下、より好ましくは３μｍ以上６μｍ以下である。
【００５４】
ハードコート層１３は、グラビアコート法、スプレーコート法、エアナイフコート法、ロールブラッシュ法、カーテンコート法、含浸コート法等の従来公知の方法で形成することができる。
【００５５】
さらに、光学フィルム１の最外層に水滴接触角が１００°以上となる防汚材料を塗布し、防汚層１５を形成することが好ましい。表面についた水滴、指紋等の拭き取りを容易にし、かつ、表面への衝撃による擦り傷等の外傷を防止することができるためである。
【００５６】
本発明における水滴接触角は、８マイクロリットルのイオン交換水を防汚層表面に滴下し、２３℃５０％ＲＨ（相対湿度）雰囲気下で１分後に防汚層の外面と水滴の外表面とが交わる点における水滴の接線と防汚表面とがなす角度を測定したものである。
【００５７】
本発明における防汚層１５の材料としては、撥水性、撥油性および低摩擦性を有するものであればよく、例えば、珪素酸化物、弗素含有シラン化合物、フルオロアルキルシラザン、フルオロアルキルシラン、弗素含有珪素系化合物、パーフルオロポリエーテル基含有シランカップリング剤等を挙げることができる。
【００５８】
防汚層１５は、蒸着法、スパッタリング法、化学蒸着（ＣＶＤ）法、プラズマ重合法等の真空ドライプロセスの他、グラビアコート法、スクリーンコート法、ディップコート法、スプレーコート法、オフセットコート法等のウェットプロセスにより形成でき、防汚層１５の厚さは、物理膜厚で５ｎｍ以上１０ｎｍ以下程度である。
【００５９】
さらに、本発明の光学フィルム１は、基材の少なくとも一方の面上、または、薄膜積層体の最表面上、または、その両方に、直接、または、粘着材を介して、透明保護性、易接着性、密着性、粘着性、ガスバリア性、誘電体性、導電性、電磁波シールド性、反射防止性、防眩性、アンチニュートンリング性、近赤外線カット性、紫外線カット性、光触媒性から選ばれる少なくとも一つの機能を有する機能性薄膜層を形成してもよい。
【実施例】
【００６０】
以下、本発明の実施例を具体的に説明する。
【００６１】
＜実施例１＞
図８に示す光学フィルム１を実施例１では用いている。
実施例１における光学フィルム１は、基材１２上にハードコート層１３を形成し、ハードコート層１３上に高屈折率薄膜層７、低屈折率薄膜層８、高屈折率薄膜層９、低屈折率薄膜層１０からなる薄膜積層体１４を形成し、薄膜積層体１４上に防汚層１５を形成してなる。
【００６２】
ここでの基材１２は、厚さ１００μｍの無色透明なポリエチレンテレフタレートフィルムである。
基材１２の片面上に、アクリル系のハードコート材料をダイコーティング法により塗布することにより、物理膜厚５μｍであるハードコート層１３を形成した。
【００６３】
ハードコート層１３の上に、二酸化チタン（ＴｉＯ２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させ、物理膜厚３０ｎｍの高屈折率薄膜層７（波長５５０ｎｍの光の屈折率２．３２、消衰係数０）を形成した。
【００６４】
高屈折率薄膜層７の上に、二酸化珪素（ＳｉＯ２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させ、物理膜厚２８ｎｍの低屈折率薄膜層８（波長５５０ｎｍの光の屈折率１．４６、消衰係数０）を形成した。
【００６５】
低屈折率薄膜層８の上に、二酸化チタン（ＴｉＯ２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させ、物理膜厚４０ｎｍの高屈折率薄膜層９（波長５５０ｎｍの光の屈折率２．３２、消衰係数０）を形成した。
【００６６】
高屈折率薄膜層９の上に、二酸化珪素（ＳｉＯ２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させ、物理膜厚８５ｎｍの低屈折率薄膜層１０（波長５５０ｎｍの光の屈折率１．４６、消衰係数０）を形成した。
【００６７】
さらに薄膜積層体１４上にフッ素を含む高分子材料を真空蒸着法を用いて物理膜厚１μｍである防汚層１５を形成した。
【００６８】
実施例１における二色成形品は、図１に示す製造工程を用いて成形されたものであり、２色成形が可能な射出成形機にディスプレイ部用の材料として透明なＰＣ材料（第一熱可塑性プラスチック材料２ａ）を、筐体部（ディスプレイ周辺部）用の材料として黒色のＡＢＳ材料（第二熱可塑性プラスチック材料２ｂ）を利用し成形を行った。
【００６９】
完成した成形品のディスプレイ部の、入射角５°、波長３８０〜７８０ｎｍにおける平均反射率を、分光光度計Ｖ−５５０（日本分光株式会社製）を用いて測定したところ、ディスプレイ部の平均反射率が２％と視認性の良い成形品を得ることができた。
【００７０】
また、完成した成形品のディスプレイ部の水滴接触角は１００％以上であり、良好な拭き取り性能を有する成形品を得ることができた。
【００７１】
＜実施例２＞
図７に示す光学フィルム１を、実施例２では用いている。
実施例２における光学フィルム１は、基材１２上にハードコート層１３を形成し、ハードコート層１３上に高屈折率薄膜層７、低屈折率薄膜層８、高屈折率薄膜層９からなる薄膜積層体１４を形成し、薄膜積層体１４上に防汚層１５を形成してなる。
【００７２】
ここでの基材１２は、厚さ１００μｍの無色透明なポリエチレンテレフタレートフィルムである。
基材１２の片面上に、アクリル系ハードコート材料をダイコーティング法により塗布することにより、物理膜厚５μｍであるハードコート層１３を形成した。
【００７３】
ハードコート層１３の上に、五酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）をスパッタリング法によって堆積させ、物理膜厚５５ｎｍの高屈折率薄膜層７（波長５５０ｎｍの光の屈折率２．２７、消衰係数０）を形成した。
【００７４】
高屈折率薄膜層７の上に、二酸化珪素（ＳｉＯ２）をスパッタリング法によって堆積させ、物理膜厚１５５ｎｍの低屈折率薄膜層８（波長５５０ｎｍの光の屈折率１．４６、消衰係数０）を形成した。
【００７５】
低屈折率薄膜層８の上に、五酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）をスパッタリング法によって堆積させ、物理膜厚１４０ｎｍの高屈折率薄膜層９（波長５５０ｎｍの光の屈折率２．２７、消衰係数０）を形成した。
【００７６】
さらに薄膜積層体１４上にフッ素を含む高分子材料を真空蒸着法を用いて物理膜厚１μｍである防汚層１５を形成した。
【００７７】
実施例２における二色成形品は、図１に示す製造工程を用いて成形されたものであり、２色成形が可能な射出成形機に筐体部（ディスプレイ周辺部）用の材料として黒色のＰＥＴ材料（第二熱可塑性プラスチック材料２ａ）を、ディスプレイ部用の材料として透明なＰＣ材料（第一熱可塑性プラスチック材料２ｂ）を、利用し成形を行った。
【００７８】
完成した成形品の筐体部は金属光沢と緑色の彩色を有しており、良好な意匠性を有する成形品を得ることができた。
【００７９】
＜実施例３＞
図９に示す光学フィルム１を実施例３では用いている。
実施例１における光学フィルム１は、基材１２上にハードコート層１３を形成し、ハードコート層１３上に高屈折率薄膜層７、低屈折率薄膜層８、高屈折率薄膜層９、低屈折率薄膜層１０からなる薄膜積層体１４を形成し、薄膜積層体１４上に防汚層１５を形成してなる。さらに、反対面に印刷層１１、及び高屈折材料８を積層したものである。
【００８０】
実施例３で用いた光学フィルム１は、スクリーン印刷機を用いてインキにて印刷層１１印刷し、その上に二酸化チタン（ＴｉＯ２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させ、物理膜厚４０ｎｍの高屈折率薄膜層９（波長５５０ｎｍの光の屈折率２．３２、消衰係数０）を形成したことを除いて、実施例１と同様に形成した。
【００８１】
完成した成形品のディスプレイ部の、入射角５°、波長３８０〜７８０ｎｍにおける平均反射率を、分光光度計Ｖ−５５０（日本分光株式会社製）を用いて測定したところ、ディスプレイ部の平均反射率が２％と視認性の良い成形品を得ることができた。
【００８２】
また、完成した成形品のディスプレイ部の水滴接触角は１００％以上であり、良好な拭き取り性能を有する成形品を得ることができた。
【図面の簡単な説明】
【００８３】
【図１】本発明の二色成形品の製造工程概略図。
【図２】本発明の二色成形品の製造工程概略図。
【図３】本発明の光学フィルム１の一例を示す断面図。
【図４】本発明の光学フィルム１の一例を示す断面図。
【図５】本発明の光学フィルム１の一例を示す断面図。
【図６】本発明の光学フィルム１の一例を示す断面図。
【図７】本発明の光学フィルム１の一例を示す断面図。
【図８】本発明の光学フィルム１の一例を示す断面図。
【図９】本発明の光学フィルム１の一例を示す断面図。
【符号の説明】
【００８４】
１    光学フィルム
２ａ  第一熱可塑性プラスチック材料
２ｂ  第二熱可塑性プラスチック材料
３ａ  一次成形用金型
３ｂ  二次成形用金型
４ａ  一次成形用金型の空洞部
４ｂ  二次成形用金型の空洞部
５    回転台
７    高屈折率薄膜層
８    低屈折率薄膜層
９    高屈折率薄膜層
１０  低屈折率薄膜層
１１  印刷層
１２  基材
１３  ハードコート層
１４  薄膜積層体
１５  防汚層
【図３】
2008307880.tif 000003
【図４】
2008307880.tif 000004
【図５】
2008307880.tif 000005
【図６】
2008307880.tif 000006
【図７】
2008307880.tif 000007
【図８】
2008307880.tif 000008
【図９】
2008307880.tif 000009
【図１】
2008307880.tif 000010
【図２】
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