(57)【要約】      （修正有）【課題】筐体内外に収納容器の搬入搬出を行うロードポートにおいて、収納容器の蓋体を装着したり外したりするのを可能とし、構造をシンプルにする。【解決手段】基板処理装置は、複数の基板を収納し基板出し入れ口を蓋体によって塞がれた収納容器２と、収納容器を載置するロードポートと、該ロードポートで基板出し入れ口に対する蓋体の着脱を行う着脱装置と、ロードポートで収納容器を載置し着脱装置に対して対向方向に遠近動作を行う第一載置ユニット１８Ａと、第一載置ユニットとは別体として設けられロードポートで収納容器を載置し着脱装置に対して昇降を行う第二載置ユニット１８Ｂと、を備える。【選択図】図１６
2008277764.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の基板を収納し基板出し入れ口を蓋体によって塞がれた収納容器と、
前記収納容器を載置するロードポートと、
該ロードポートで前記基板出し入れ口に対する前記蓋体の着脱を行う着脱装置と、
前記ロードポートで前記収納容器を載置し前記着脱装置に対して対向方向に遠近動作を行う第一載置ユニットと、
前記第一載置ユニットとは別体として設けられ、前記ロードポートで前記収納容器を載置し前記着脱装置に対して昇降を行う第二載置ユニットと、
を備える基板処理装置。
【請求項２】
複数の基板を収納し基板出し入れ口を蓋体によって塞がれる収納容器をロードポートに搬送するステップと、
前記ロードポートで第一載置ユニットが動作し、前記第一載置ユニットに載置された前記収納容器を着脱装置に近づけるステップと、
前記第一載置ユニットに載置された前記収納容器の前記基板出し入れ口から前記蓋体を前記着脱装置が外すステップと、
前記第一載置ユニットに載置された前記収納容器の前記基板出し入れ口に前記蓋体を前記着脱装置が取り付けるステップと、
前記第一載置ユニットが動作し、前記第一載置ユニットに載置された前記収納容器を前記着脱装置から遠ざけるステップと、
第二載置ユニットを上昇させ、前記第一載置ユニットから前記第二載置ユニットに前記収納容器を受け渡すステップと、
前記収納容器に収納された前記基板を処理室に搬送するステップと、
前記基板を処理室で処理するステップと、
を有する半導体装置の製造方法。
【請求項３】
前記第二載置ユニットは前記第一載置ユニットよりも前記収納容器の底面周縁側を支持する請求項１の基板処理装置。
【請求項４】
前記第一載置ユニットは前記第二載置ユニットよりも前記収納容器の底面中央側を支持する請求項３の基板処理装置。
【請求項５】
前記第二載置ユニットは、前記着脱装置側の中央部に切欠きが形成されており、該切欠きに前記第一載置ユニットが位置することが可能に構成されている請求項３の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板処理装置および半導体装置の製造方法に関する。
例えば、半導体素子を含む半導体集積回路を作り込まれる基板としての半導体ウエハ（以下、ウエハという。）に絶縁膜や金属膜等のＣＶＤ膜を形成したり不純物を拡散したりするバッチ式縦形拡散・ＣＶＤ装置に利用して有効なものに関する。
【背景技術】
【０００２】
基板処理装置の一例であるバッチ式縦形拡散・ＣＶＤ装置（以下、バッチ式ＣＶＤ装置という。）においては、複数枚のウエハが収納容器に収納された状態で扱われる。
従来の収納容器には、オープンカセットと、ＦＯＵＰ（front opening unified pod 。以下、ポッドという。）とがある。
オープンカセットは略立方体の箱形状に形成されており、対向する一対の面が開口されている。
ポッドは略立方体の箱形状に形成されており、一つの面が開口されているとともに、該開口面にはドア（蓋体）が着脱自在に装着されている。
ウエハの収納容器としてポッドが使用される場合には、ウエハが密閉された状態で搬送されることになる。このため、周囲の雰囲気にパーティクル等が存在していたとしても、ウエハの清浄度は維持することができる。したがって、バッチ式ＣＶＤ装置が設置されるクリーンルーム内の清浄度をあまり高く設定する必要がなくなるため、クリーンルームに要するコストを低減することができる。
そこで、最近のバッチ式ＣＶＤ装置においては、ポッドを収納容器に採用している。
【０００３】
ポッドを使用するバッチ式ＣＶＤ装置は、ウエハがポッド内に搬入されたりウエハがポッド内から搬出されたりするロードポートに、ポッド開閉装置（以下、ポッドオープナという。）およびマッピング装置を備えている（例えば、特許文献１参照）。
ポッドオープナは、ポッドのウエハ出し入れ口にドアを装着したりウエハ出し入れ口からドアを外したりすることにより、ポッドのウエハ出し入れ口を閉じたり開いたりする、装置である。
マッピング装置は、ポッド内のウエハを検出してポッド内のウエハ保持溝（スロット）のそれぞれにウエハが保持されているか否かを検出する、装置である。
【特許文献１】特開２００３−７８０１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
従来のバッチ式ＣＶＤ装置においては、装置外部（筐体外部）からバッチ式ＣＶＤ装置の筐体内にポッドを搬入したり、筐体内からポッドを搬出したりするロードポートにおいて、ポッドのドアを着脱することができない。
ロードポートにおいてポッドのドアを装着したり外したりするためには、ロードポートに退避可能なポッドオープナを設ける構成を、考えることができる。すなわち、筐体外からポッドを筐体内に搬入したり、ポッドを筐体内から筐体外へ搬出したりする際には、ポッドオープナをロードポートから退避させることにより、ポッドを搬入させたり搬出させたりする通路を確保する。
しかしながら、この構成においては、ポッドオープナをロードポートから退避させるため、バッチ式ＣＶＤ装置が複雑になるという問題点がある。
【０００５】
本発明の目的は、筐体内外に収納容器の搬入搬出を行うロードポートにおいて、収納容器の蓋体を装着したり外したりすることができるとともに、構造をシンプルにすることができる基板処理装置および半導体装置の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記した課題を解決するための手段のうち代表的なものは、次の通りである。
複数の基板を収納し基板出し入れ口を蓋体によって塞がれた収納容器と、
筐体内と外との間で、該収納容器の搬入搬出が行なわれるロードポートと、
該ロードポートで前記基板出し入れ口に対する前記蓋体の着脱を行う着脱装置と、
前記ロードポートで前記収納容器を載置し前記着脱装置に対して対向方向に遠近動作を行う第一載置ユニットと、
前記第一載置ユニットとは別体として設けられ、前記ロードポートで前記収納容器を載置し前記着脱装置に対して昇降を行う第二載置ユニットと、
を備える基板処理装置。
【発明の効果】
【０００７】
前記手段によれば、筐体内外に収納容器の搬入搬出を行うロードポートにおいて、収納容器の蓋体を装着したり外したりすることができるとともに、構造をシンプルにすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、本発明の一実施の形態を図面に即して説明する。
【０００９】
本実施の形態においては、本発明に係る基板処理装置は、バッチ式ＣＶＤ装置すなわちバッチ式縦形拡散・ＣＶＤ装置として、図１および図２に示されているように構成されている。
なお、以下の説明において、バッチ式縦形拡散・ＣＶＤ装置を構成する各部の動作は、コントローラ７７により制御される。
【００１０】
また、本実施の形態においては、被処理基板としてのウエハ１を収納したキャリア（収納容器）としては、ポッド２が使用されている。
図３および図８に示されているように、ポッド２は略立方体の箱形状に形成されており、立方体の一つの側壁にはウエハ出し入れ口３が開設されている。ウエハ出し入れ口３には、これを塞ぐ蓋体としてのドア４が装着したり外したりすることができるように装着されている。
【００１１】
図８（ｂ）に示されているように、ポッド２下面には３個の位置決め穴５、５、５が、互いに１２０度の位相差をもって回転対称形に配置されている。すなわち、第一の位置決め穴５はポッド２下面において前後方向に延在する中心線上に配置されており、第二の位置決め穴５および第三の位置決め穴５は、第一の位置決め穴５の前方において当該中心線に左右対称形に配置されている。
３個の位置決め穴５、５、５は平面視が長方形のＶ溝形状にそれぞれ形成されており、いずれもＶ溝の溝底が回転対称形の中心に向かうように配置されている。
この３個の位置決め穴５、５、５は、ＳＥＭＩ  Ｅ５７−０６００に規定されており、ＳＥＭＩ  Ｅ５７−０６００に規定されたプライマリピン（ＰＲＩＭＡＲＹＰＩＮ、ポッドの底面周縁側を支持するピン）とセカンダリピン（ＳＥＣＯＮＤＡＲＹＰＩＮ、ポッドの底面中心側を支持するピン）に対応するように配置されている。
【００１２】
図１、図２および図３に示されているように、本実施の形態に係るバッチ式ＣＶＤ装置１０は、メイン筐体１１を備えている。
メイン筐体１１の正面壁１１ａはメイン筐体１１内外を区画する区画壁を構成している。この正面壁１１ａの中間高さには、メイン筐体１１内外を連通させたポッド搬入搬出口（以下、ポッド搬入口という。）１２が開設されている。ポッド搬入口１２はポッド２を搬入したり、ポッド２を搬出したりする。フロントシャッタ１３はポッド搬入口１２を閉じたり開いたりする。
メイン筐体１１の正面壁（区画壁）１１ａは外側にロードポート１４を設置されている。ロードポート１４はポッド搬入口１２の略真下に位置している。ロードポート１４は搬入搬出部を構成している。ロードポート１４は載置されたポッド２をポッド搬入口１２に位置合わせする。ロードポート１４は２つ並列に設けられている。
ポッド２はロードポート１４上にバッチ式ＣＶＤ装置外（筐体外）にある工程内搬送装置（工程間搬送装置ともいう。）によって搬入され、かつまた、ロードポート１４上から搬出される。
工程内搬送装置としては、図１に示された床走行型構内搬送車（以下、ＡＧＶという。）９、天井走行型構内搬送装置（ＯＨＴ）等、があり、いずれのものも適用することができる。
【００１３】
正面壁１１ａの前面側にはフロント筐体としてのボックス１４Ａが設けられている。ボックス１４Ａはロードポート１４と当該上方空間とを囲むように形成されている。ボックス１４Ａの天井壁には天井開口１４Ｂが開設されており、ボックス１４の正面壁には正面開口１４Ｃが開設されている。つまり、ロードポート１４は、正面開口１４Ｃを経由してポッド２を受け取ることができるし、また、天井開口１４Ｂを経由して受け取ることもできる。
なお、ボックス１４Ａとメイン筐体１１とは、バッチ式ＣＶＤ装置の筐体を構成している。
図１に示されているように、ボックス１４Ａ内には後記するコントローラ７７が設置されている。
【００１４】
ロードポート１４にはポッドエレベータ１５が設置されており、ポッドエレベータ１５はポッド２をロードポート１４の高さとポッド搬入口１２の高さとの間で昇降させる。すなわち、ポッドエレベータ１５は収納容器載置部昇降機構部を構成している。
ポッドエレベータ１５は、昇降駆動装置１６と、昇降駆動装置１６によって昇降されるシャフト１７と、シャフト１７の上端に水平に設置された保持台（収納容器載置部）１８と、保持台１８の上面に突設された複数個の受けキネマティックピン１９とを備えている。受けキネマティックピン１９は収納容器位置決め手段（位置決め部ともいう。）を構成している。この受けキネマティックピン１９は、ＳＥＭＩ  Ｅ５７−０６００に規定されたプライマリピン（ＰＲＩＭＡＲＹＰＩＮ）に相当する。受けキネマティックピン１９がポッド２の位置決め穴５に嵌入した状態で、保持台１８はポッド２を下から支持する。昇降駆動装置１６はこの保持台１８をシャフト１７によって昇降させる。
保持台１８はポッド２の下面を保持する保持部を構成するとともに、収納容器載置部を構成している。
【００１５】
密閉筐体２１はメイン筐体１１内外を区画する区画壁である正面壁１１ａの内側に、ポッド搬入口１２よりも下側のロードポート１４に対応する高さで設置されている。密閉筐体２１はロードロック室２０を形成している。ロードロック室２０は内部を不活性ガス例えば窒素ガスで充填維持可能な収納容器蓋体開閉室を構成している。なお、ロードロック室２０は開閉室ともいう。
図２に示されているように、密閉筐体２１には不活性ガス（窒素ガス）供給装置１３２や排気装置１３３が接続されている。ロードロック室２０内は不活性ガス（窒素ガス）供給装置１３２によって不活性ガス（窒素ガス）を供給されるとともに、排気装置１３３によって排気される。
【００１６】
ドア出し入れ口２２はメイン筐体１１の正面壁１１ａのロードロック室２０上部に対向する部位に、開設されている。ドア出し入れ口２２はロードポート１４に載置されたポッド２のウエハ出し入れ口３に対応する大きさ（ウエハ出し入れ口３よりも大きめ）に形成されている。
収納容器蓋体開閉部（着脱装置ともいう。）としてのポッドオープナ２３はロードロック室２０内に設置されている。ポッドオープナ２３はロードポート１４に載置されたポッド２からドア４を外したり、ポッド２にドア４を取り付けたりすることにより、ウエハ出し入れ口３およびドア出し入れ口２２を開いたり閉じたりする。
ポッドオープナ２３は移動台２５と、移動台２５に保持されたクロージャ２６と、を備えている。移動台２５はドア出し入れ口２２に対して前後（垂直方向）および上下（平行方向）に移動する。クロージャ２６はドア４を保持する蓋体保持部を構成している。ポッドオープナ２３はクロージャ２６によってドア４を保持して前後動することにより、ポッド２のウエハ出し入れ口３およびドア出し入れ口２２を開いたり閉じたりする。
【００１７】
マッピング装置２７は密閉筐体２１のドア出し入れ口２２に対向する部位に、設置されている。マッピング装置２７は基板状態検出部を構成している。
マッピング装置２７は駆動源となるリニアアクチュエータ２８と、ホルダ２９と、複数の検出子３０とを備えている。リニアアクチュエータ２８はホルダ２９をポッド２のウエハ出し入れ口３に対して前後動させる。ホルダ２９は検出子３０を保持している。マッピング装置２７はポッド２内のウエハ１を検出子３０によって検出することにより、ポッド２内のスロットのそれぞれにウエハ１が保持されているか否かを検出する。
【００１８】
メイン筐体１１内の前側領域にはポッド保管室１１ｂが形成されている。保管室はロードポートに隣接して設けられている。筐体内で収納容器を保管する保管棚としての回転式ポッド棚３１は、ポッド保管室１１ｂの前後方向略中央部の上部に設置されている。回転式ポッド棚３１は複数個のポッド２を保管する。
回転式ポッド棚３１は支柱３２と複数枚の棚板３３とを備えている。支柱３２は垂直に立設されており、水平面内で間欠回転する。複数枚の棚板３３は支柱３２に上中下段の各位置において放射状に支持されている。複数枚の棚板３３はポッド２を複数個宛それぞれ載置した状態で保持する。
棚板３３上面には複数個の棚板キネマティックピン３４が突設されており、棚板キネマティックピン３４はポッド２の位置決め穴５に嵌入する。すなわち、棚板キネマティックピン３４は位置決め手段（位置決め部ともいう。）を構成している。なお、棚板キネマティックピン３４はＳＥＭＩ  Ｅ５７−０６００に規定されたプライマリピン（ＰＲＩＭＡＲＹＰＩＮ）に相当する。
【００１９】
メイン筐体１１のポッド保管室１１ｂ内には、収納容器搬送部としてのポッド搬送装置３５が設置されている。ポッド搬送装置３５はロードポート１４と回転式ポッド棚３１との間でポッド搬入口１２を介してポッド２を搬送する。換言すると、ポッド搬送装置３５は保管室とロードポートとの間でポッドを搬送する。
ポッド搬送装置３５は収納容器昇降機構としてのポッド搬送エレベータ３５ａと、収納容器搬送機構としてのポッド搬送機構３５ｂとによって構成されている。
ポッド搬送装置３５はポッド搬送エレベータ３５ａとポッド搬送機構３５ｂとの連続動作により、保持台１８と、回転式ポッド棚３１と、後に詳述するポッドオープナ４２の載置台４３との間でポッド２を搬送する。
【００２０】
図２に示されているように、メイン筐体１１内前後方向略中央下部にはサブ筐体４０が後端まで構築されている。
サブ筐体４０の正面壁４０ａにはウエハ搬入搬出口４１が一対、垂直方向上下二段に並べられて開設されている。ウエハ搬入搬出口（以下、ウエハ搬入口という。）４１はウエハ１をポッド２からサブ筐体４０内に対して搬入したりサブ筐体４０内からポッド２へ搬出するための開口である。上下段のウエハ搬入口４１、４１には収納容器蓋体開閉部としてのポッドオープナ４２が一対それぞれ設置されている。
ポッドオープナ４２はポッド２を載置する載置台４３と、ポッド２のドア４を着脱する着脱機構４４とを備えている。ポッドオープナ４２は載置台４３に載置されたポッド２のドア４を着脱機構４４によって着脱することにより、ポッド２のウエハ出し入れ口３を開いたり閉じたりする。
【００２１】
サブ筐体４０は予備室４５を構成している。予備室４５は、ポッド搬送装置３５や回転式ポッド棚３１が設置された保管室１１ｂから流体的に隔絶されている。
予備室４５の前側領域にはウエハ移載機構４６が設置されている。ウエハ移載機構４６は、ウエハ移載装置４６ａとウエハ移載装置エレベータ４６ｂとツィーザ４６ｃとを備えている。ウエハ移載装置エレベータ４６ｂは予備室４５内の前方領域右端部に設置されている。ウエハ移載装置エレベータ４６ｂはウエハ移載装置４６ａを昇降させる。ウエハ移載装置４６ａはツィーザ４６ｃを水平面内おいて回転または直動させる。ツィーザ４６ｃはウエハ１を保持する。
ウエハ移載機構４６は、ツィーザ４６ｃで保持したウエハ１をウエハ移載装置エレベータ４６ｂおよびウエハ移載装置４６ａの連続動作によって、ポッド２からボート（基板保持具）４７へ搬送し、装填（チャージング）する。また、ウエハ移載機構４６は、ボート４７のウエハ１をツィーザ４６ｃで保持し、ウエハ移載装置エレベータ４６ｂおよびウエハ移載装置４６ａの連続動作によってボート４７から脱装（ディスチャージング）し、ボート４７からポッド２に搬送し、収納する。
コントローラ７７は、ロードポート１４、ポッドエレベータ１５、ポッドオープナ２３、マッピング装置２７、回転式ポッド棚３１、ポッド搬送装置３５、ポッドオープナ４２、ウエハ移載機構４６等のバッチ式ＣＶＤ装置内のすべての動作を制御する。
【００２２】
予備室４５の後側領域にはボート４７を昇降させるためのボートエレベータ４８が設置されている。
連結具としてのアーム４９はボートエレベータ４８の昇降台に連結されている。アーム４９にはシールキャップ５０が水平に据え付けられている。シールキャップ５０はボート４７を垂直に支持し、後記する処理炉５１の下端部を閉塞する。
基板保持具としてのボート４７は複数本の保持部材を備えており、複数本の保持部材は複数枚（例えば、５０枚〜１２５枚程度）のウエハ１をそれぞれ水平に保持する。すなわち、ボート４７に保持された複数枚のウエハ１は、その中心を略一致した状態で垂直方向に整列する。
【００２３】
便宜上、図示は省略するが、クリーンガス供給ユニット（以下、クリーンユニットという。）は、予備室４５のウエハ移載装置エレベータ４６ｂ側およびボートエレベータ４８側と反対側である左側端部に設置されている。クリーンユニットは供給フアンおよび防塵フィルタで構成されている。クリーンユニットは清浄化した雰囲気もしくは不活性ガスであるクリーンエア（クリーンガスともいう。）を供給する。
また、ウエハ移載装置４６ａとクリーンユニットとの間には、ノッチ合わせ装置が設置されている。ノッチ合わせ装置はウエハの円周方向の位置を整合させる基板整合装置を構成している。
クリーンユニットから吹き出されたクリーンエアは、ノッチ合わせ装置、ウエハ移載装置４６ａおよびボート４７に流通された後に、図示しないダクトによって吸い込まれる。吸い込まれたクリーンエアは、メイン筐体１１の外部に排気がなされるか、もしくは、クリーンユニットの吸い込み側である一次側（供給側）にまで循環されて再びクリーンユニットによって予備室４５内に吹き出されるか、する。
【００２４】
サブ筐体４０の上には図４に示された処理炉５１が設置されている。
図４に示されているように、処理炉５１は加熱機構としてのヒータ５２を有する。
ヒータ５２は円筒形状であり、保持板としてのヒータベース５３に支持されることにより垂直に据え付けられている。
【００２５】
反応管としてのプロセスチューブ５４はヒータ５２の内側に、ヒータ５２と同心円状で配設されている。プロセスチューブ５４は外部反応管としてのアウタチューブ５５と、その内側に設けられた内部反応管としてのインナチューブ５６とから構成されている。
アウタチューブ５５は、例えば石英（ＳｉＯ2 ）または炭化シリコン（ＳｉＣ）等の耐熱性材料から形成されている。アウタチューブ５５は、内径がインナチューブ５６の外径よりも大きく、上端が閉塞し下端が開口した円筒形状に形成されている。アウタチューブ５５はインナチューブ５６と同心円状に設けられている。
インナチューブ５６は、例えば石英または炭化シリコン等の耐熱性材料から形成されている。インナチューブ５６は上端および下端が開口した円筒形状に形成されている。インナチューブ５６の筒中空部は処理室５７を形成している。処理室５７は、ウエハ１を水平姿勢で垂直方向に多段に整列させて保持したボート４７を収容することができる。
アウタチューブ５５とインナチューブ５６との隙間は筒状空間５８を形成している。
【００２６】
マニホールド５９はアウタチューブ５５の下方に、アウタチューブ５５と同心円状で配設されている。マニホールド５９は、例えばステンレスから形成されている。マニホールド５９は上端および下端が開口した円筒形状に形成されている。マニホールド５９はアウタチューブ５５とインナチューブ５６とに係合しており、これらを支持している。
マニホールド５９がヒータベース５３に支持されることにより、プロセスチューブ５４は垂直に据え付けられた状態となっている。
プロセスチューブ５４およびマニホールド５９は反応容器を形成する。
なお、マニホールド５９とアウタチューブ５５との間には、シール部材としてのＯリング５９ａが設けられている。
【００２７】
シールキャップ５０にはガス導入部としてのノズル６０が接続されており、ノズル６０は処理室５７内に連通している。ノズル６０にはガス供給管６１が接続されている。
ＭＦＣ（マスフローコントローラ）６２は、ガス供給管６１のノズル６０との接続側と反対側である上流側に接続されている。ガス供給源６３はＭＦＣ６２のガス供給管６１の接続側と反対側に接続されている。ＭＦＣ６２はガス流量制御器を構成する。ガス供給源６３は処理ガスや不活性ガス等の所望のガスを供給する。
ＭＦＣ６２にはガス流量制御部６４が電気配線Ｃによって電気的に接続されており、ガス流量制御部６４はＭＦＣ６２を、供給ガス流量が所望の量となるように、かつ、所望のタイミングをもって制御する。
【００２８】
マニホールド５９には処理室５７内の雰囲気を排気する排気管６５が設けられている。排気管６５はインナチューブ５６とアウタチューブ５５との隙間によって形成された筒状空間５８の下端部に配置されており、筒状空間５８に連通している。
圧力検出器としての圧力センサ６６および圧力調整装置６７は、排気管６５のマニホールド５９との接続側と反対側である下流側に接続されている。真空ポンプ等の排気装置６８は、排気管６５の圧力調整装置６７との接続側と反対側に接続されている。排気装置６８は処理室５７内を、排気管６５や圧力センサ６６および圧力調整装置６７を介して処理室５７内の圧力が所定圧力（真空度）となるように排気する。
圧力調整装置６７および圧力センサ６６には圧力制御部６９が電気配線Ｂによって電気的に接続されている。圧力制御部６９は圧力調整装置６７を、圧力センサ６６により検出された圧力に基づいて、処理室５７内の圧力が所望の圧力となるように、かつ、所望のタイミングをもって制御する。
【００２９】
シールキャップ５０はマニホールド５９下端の垂直方向下側を閉塞する。シールキャップ５０はマニホールド５９の下端開口を気密に閉塞可能な炉口蓋体を構成している。
シールキャップ５０は例えばステンレス等の金属からなり、円盤状に形成されている。シールキャップ５０の上面にはシール部材としてのＯリング５０ａが設けられている。Ｏリング５０ａはマニホールド５９の下端と当接する。
ボートを回転させる回転機構７０はシールキャップ５０の処理室５７と反対側に、設置されている。回転機構７０の回転軸７１はシールキャップ５０を貫通して、ボート４７に接続されている。回転軸７１はボート４７を回転させることにより、ウエハ１を回転させる。
回転機構７０およびボートエレベータ４８には駆動制御部７２が電気配線Ａによって電気的に接続されている。駆動制御部７２は回転機構７０およびボートエレベータ４８を、所望の動作をするように、かつ、所望のタイミングにて制御する。
【００３０】
ボート４７は、例えば石英や炭化シリコン等の耐熱性材料から形成されている。ボート４７は複数枚のウエハ１を水平姿勢でかつ互いに中心を揃えた状態で整列させて多段に保持する。
なお、ボート４７の下部には複数枚の断熱板７３が水平姿勢で多段に配置されている。断熱板７３は例えば石英や炭化シリコン等の耐熱性材料が使用されて、円板形状に形成されている。断熱板７３は断熱部材を構成している。複数枚の断熱板７３はヒータ５２からの熱をマニホールド５９側へ伝わり難くさせる。
【００３１】
プロセスチューブ５４内には温度センサ７４が設置されている。温度センサ７４は温度検出器を構成している。ヒータ５２および温度センサ７４には温度制御部７５が電気配線Ｄによって電気的に接続されている。
温度制御部７５はヒータ５２への通電具合を温度センサ７４により検出された温度情報に基づき調整することにより、処理室５７内の温度が所望の温度分布となるように、かつ、所望のタイミングをもって制御する。
【００３２】
ガス流量制御部６４、圧力制御部６９、駆動制御部７２および温度制御部７５は、操作部および入出力部をも構成しており、バッチ式ＣＶＤ装置全体を制御する主制御部７６に電気的に接続されている。
ガス流量制御部６４、圧力制御部６９、駆動制御部７２、温度制御部７５および主制御部７６は、コントローラ７７を構成している。
【００３３】
次に、本発明の一実施形態であるＩＣ製造方法における成膜工程を、以上の構成に係るバッチ式ＣＶＤ装置を用いた場合を例にして説明する。
なお、以下の説明において、バッチ式ＣＶＤ装置を構成する各部の作動は、コントローラ７７により制御される。
【００３４】
図１〜図３に示されているように、ロードポート１４に搬入される際に、ポッド２は保持台１８に載置される。
すなわち、工程内搬送装置が図１に示されたＡＧＶ９である場合には、ＡＧＶ９はポッド２を正面開口１４Ｃを経由して保持台１８上に載置する。工程内搬送装置が天井走行型構内搬送装置である場合には、天井走行型構内搬送装置はポッド２を天井開口１４Ｂを経由して保持台１８上に載置する。
このとき、保持台１８の受けキネマティックピン１９がポッド２の下面の位置決め穴５に嵌入されることにより、ポッド２は保持台１８に位置決めされた状態になる。
【００３５】
次いで、図５（ａ）に示されているように、ロードポート１４において、ポッド２がポッドオープナ２３の方向に移動されて、ドア４がポッドオープナ２３のクロージャ２６に保持される。
このとき、ロードロック室２０内は不活性ガス供給装置１３２から供給された不活性ガスにより、不活性ガス雰囲気になっている。
クロージャ２６はドア４を保持すると、移動台２５の後退によってドア４をウエハ出し入れ口３から取り外す（脱装する）。
その後に、図５（ｂ）に示されているように、移動台２５が下降し、クロージャ２６はロードロック室２０内をウエハ出し入れ口３の位置から離脱する。
ウエハ出し入れ口３が開放されると、図５（ｂ）に示されているように、リニアアクチュエータ２８はマッピング装置２７のホルダ２９をウエハ出し入れ口３に挿入する。マッピング装置２７はポッド２内のウエハ１を検出子３０によってマッピングする。
このとき、不活性ガス供給装置１３２が不活性ガスをロードロック室２０に供給し、排気装置１３３がロードロック室２０を排気することにより、ポッド２内の雰囲気を不活性ガスに置換する。
【００３６】
所定のマッピングが完了すると、リニアアクチュエータ２８はマッピング装置２７のホルダ２９をウエハ出し入れ口３から元の待機位置に復帰させる。
ホルダ２９が待機位置に復帰すると、移動台２５が上昇し、クロージャ２６をウエハ出し入れ口３の位置に移動させる。
その後に、図５（ａ）に示されているように、移動台２５がウエハ出し入れ口３に向けて前進し、クロージャ２６がドア４をウエハ出し入れ口３に取り付ける（装着する）。
【００３７】
このマッピング装置２７によって読み取ったマッピング情報と、このポッド２に関して予め提供されたマッピング情報とが相違した場合には、相違が発見されたポッド２はロードポート１４からウエハ編成工程や直前の工程等に工程内搬送装置、例えば、図１に示されたＡＧＶ９によって直ちに搬送される。
このように、マッピング装置２７によって読み取ったマッピング情報と予め提供されたマッピング情報との相違が発見されたポッド２をロードポート１４から直ちに送り返すことにより、メイン筐体１１内、特に載置台４３や回転式ポッド棚３１までポッド２を搬入した後にロードポート１４に戻してから送り返す場合に比べて、大幅にステップを少なくすることができる。これにより、ボート４７へのウエハ載置時間の増大およびウエハ処理スタート待機時間の増大を抑制することができる。
【００３８】
前述したマッピング装置２７によって読み取ったマッピング情報と、当該ポッド２に関して予め提供されたマッピング情報とが一致した場合には、図６に示されているように、ポッドエレベータ１５は保持台１８によって支持されたポッド２を、ロードポート１４からポッド搬入口１２の高さまで上昇させる。
具体的には、保持台１８は、密閉筐体２１より上方であってポッド搬送機構３５ｂがポッド２を下側から掬い取ることができる高さまで、上昇される。
ポッド２がポッド搬入口１２の高さまで上昇されると、フロントシャッタ１３はポッド搬入口１２を開放する。
続いて、ポッド搬送機構３５ｂがポッド搬入口１２を潜り、図６に示されているように、ポッド搬送装置３５のポッド搬送機構３５ｂは保持台１８によって支持されたポッド２を、下側から掬い取る。
すなわち、図７に示されているように、ポッド搬送機構３５ｂのアーム３５ｃが伸長することにより、アーム３５ｃの先端に支持されたプレート３５ｄはポッド搬入口１２を潜り抜けて、保持台１８の真下に進入する。プレート３５ｄは保持部として構成されている。
続いて、ポッド搬送エレベータ３５ａが上昇することにより、プレート３５ｄがポッド２を保持台１８の上から掬い取る。
このとき、図７に想像線で参照されるように、プレート３５ｄの３本のプレートキネマティックピン３５ｅは３個の位置決め穴５の内側位置にそれぞれ嵌入する。このプレートキネマティックピン３５ｅは、ＳＥＭＩ  Ｅ５７−０６００に規定されたセカンダリピン（ＳＥＣＯＮＤＡＲＹＰＩＮ）に相当する。
以上のようにしてポッド搬送機構３５ｂによって掬い取られたポッド２は、ポッド搬送機構３５ｂのアーム３５ｃが短縮することにより、ポッド搬入口１２からメイン筐体１１内に搬入される。
図１および図２に示されているように、ポッド搬送装置３５は搬入されたポッド２を回転式ポッド棚３１の指定された棚板３３へ自動的に搬送し、受け渡す。
このとき、棚板３３の棚板キネマティックピン３４がポッド２の下面の位置決め穴５に嵌入されることにより、ポッド２は棚板３３に位置決め保持された状態になる。
【００３９】
ポッド２は棚板３３に一時的に保管される。その後に、ポッド搬送装置３５はポッド２を棚板３３から一方のウエハ搬入口４１に設置されたポッドオープナ４２に搬送して載置台４３に移載する。
この際、着脱機構４４はポッドオープナ４２のウエハ搬入口４１を閉じている。クリーンエアユニットはクリーンエアを予備室４５に流通して充満させている。
例えば、予備室４５内にクリーンエアとして窒素ガスが充満することにより、酸素濃度が２０ｐｐｍ以下と、予備室４５内はメイン筐体１１内（大気雰囲気）の酸素濃度よりも遥かに低く設定されている。
なお、ポッド搬入口１２からメイン筐体１１内に搬送機構３５ｂによって搬入されたポッド２が、ウエハ搬入口４１に設置されたポッドオープナ４２に直接的に搬送される場合もある。
【００４０】
ポッドオープナ４２は、載置台４３に載置されたポッド２の開口側端面を正面壁４０ａのウエハ搬入口４１開口縁辺部に押し付ける。続いて、着脱機構４４はドア４を外し、ウエハ出し入れ口３を開放させる。
この際には、ロードポート１４において既にマッピングされているため、ポッド２内のウエハ１群についてのマッピングは省略することができる。
また、予め、ポッド２に不活性ガスが充填されているため、予備室４５内の酸素濃度が上昇する現象を抑制することができる。
ポッド２がポッドオープナ４２によって開放されると、ウエハ移載機構４６はウエハ１をポッド２からウエハ移載装置４６ａのツィーザ４６ｃによってウエハ出し入れ口３を通じてピックアップし、ノッチ合わせ装置（図示せず）に搬送する。ノッチ合わせ装置はウエハ１を位置合わせする。位置合わせ後に、ウエハ移載機構４６はツィーザ４６ｃによってウエハ１をノッチ合わせ装置からピックアップし、ボート４７に搬送する。ウエハ移載機構４６は搬送したウエハ１をボート４７に装填（チャージング）する。
ウエハ移載機構４６はボート４７にウエハ１を受け渡したウエハ移載装置４６ａをポッド２に戻し、次のウエハ１をボート４７に装填するステップを開始する。
【００４１】
この一方（上段または下段）のポッドオープナ４２におけるウエハ移載機構４６によるウエハ１のボート４７への装填作業中に、他方（下段または上段）のポッドオープナ４２では、ポッド搬送装置３５が別のポッド２を回転式ポッド棚３１から搬送して移載する。さらに、この他方のポッドオープナ４２に移動されたポッド２の開放作業が同時進行される。
【００４２】
予め指定された枚数のウエハ１がボート４７に装填されると、炉口シャッタ（図示せず）は閉じていた処理炉５１の下端部を開放する。
続いて、ボートエレベータ４８はシールキャップ５０を上昇させることにより、ウエハ１群を保持したボート４７を処理炉５１内へ搬入（ボートローディング）させて行く。
【００４３】
ここで、処理炉５１を用いてウエハ１上に薄膜をＣＶＤ法により形成する方法について説明する。
なお、以下の説明において、処理炉５１を構成する各部の動作はコントローラ７７により制御される。
【００４４】
複数枚のウエハ１がボート４７に装填（ウエハチャージ）されると、図４に示されているように、ボートエレベータ４８は複数枚のウエハ１を保持したボート４７を持ち上げて、処理室５７に搬入（ボートローディング）する。
この状態で、シールキャップ５０はＯリング５０ａを介してマニホールド５９の下端をシールした状態となる。
【００４５】
真空排気装置６８は処理室５７内を所定の圧力（真空度）となるように排気する。この際、圧力センサ６６は処理室５７内の圧力を測定する。圧力調整装置６７はこの測定された圧力に基づいてフィードバック制御される。
また、ヒータ５２は処理室５７内を所定温度となるように加熱する。この際、温度センサ７４は処理室５７内の温度を検出する。処理室５７内が所定の温度分布となるように、ヒータ５２への通電具合は検出した温度情報に基づきフィードバック制御される。
続いて、回転機構７０はボート４７を回転させることによりウエハ１を回転させる。
【００４６】
次いで、ガス供給源６３から供給されてＭＦＣ６２にて所定の流量となるように制御されたガスが、ガス供給管６１を流通してノズル６０から処理室５７内に導入される。
導入されたガスは処理室５７内を上昇し、インナチューブ５６の上端開口から筒状空間５８に流出して排気管６５から排気される。
ガスは処理室５７内を通過する際にウエハ１の表面と接触する。この際に、熱ＣＶＤ反応によってウエハ１の表面上に薄膜が堆積（デポジション）される。
【００４７】
予め設定された処理時間が経過すると、ガス供給源６３はガス供給管６１を通じて不活性ガスを処理室５７内に供給し、処理室５７内を不活性ガスに置換させるとともに、処理室５７内の圧力を常圧に復帰させる。
【００４８】
その後、ボートエレベータ４８はシールキャップ５０を下降させて、マニホールド５９の下端を開口させるとともに、処理済ウエハ１を保持したボート４７をマニホールド５９下端からプロセスチューブ５４外部に搬出（ボートアンローディング）する。
【００４９】
ウエハ移載装置４６ａはボートアンローディングされた処理済ウエハ１を、ボート４７から取り出し（ウエハディスチャージ）、ポッドオープナ４２に予め搬送された空のポッド２に戻す。
所定枚数の処理済みウエハ１が収納されると、ポッドオープナ４２はドア４をポッド２のウエハ出し入れ口３に装着する。
【００５０】
ポッド搬送装置３５はウエハ出し入れ口３を閉塞されたポッド２を回転式ポッド棚３１の指定された棚板３３へ自動的に搬送して受け渡す。
ポッド２は棚板３３に一時的に保管される。
その後、フロントシャッタ１３がポッド搬入口１２を開く。ポッド搬送装置３５はポッド２を棚板３３からポッド搬入口１２に搬送し、ポッドエレベータ１５の保持台１８上にポッド搬入口１２を潜らさせて受け渡す。
なお、処理済みウエハ１を収納したポッド２は、ポッドオープナ４２からポッド搬入口１２へポッド搬送装置３５によって直接的に搬送される場合もある。
【００５１】
保持台１８上にポッド２が受け渡されると、フロントシャッタ１３がポッド搬入口１２を閉じる。また、昇降駆動装置１６がポッドエレベータ１５のシャフト１７をロードポート１４上に下降させる。
ロードポート１４上に下降されたポッド２は所定の工程へ、工程内搬送装置、例えば、図１に示されたＡＧＶ９によって搬送されて行く。
【００５２】
前記実施の形態によれば、次の効果のうち１つ以上の効果が得られる。
【００５３】
1)  ポッドが工程内搬送装置によって搬入されるロードポートにマッピング装置を設置することにより、マッピング装置によって読み取った実際のマッピング情報と、予め提供されたマッピング情報との相違が発見されたポッドをロードポートから直ちに送り返すことができる。その結果、筐体内のポッドオープナにマッピング装置が設置されている従来の場合に比べて、ポッドを筐体内に搬入した後にロードポートに戻してから送り返す手間を省略することができる分だけ、ウエハ処理スタート時期が相違が発見された時点から遅延されるのを短縮することができる。
【００５４】
2)  ロードポートの上方にポッド搬入口を設けるとともに、ポッドを下から保持する保持台をロードポートとポッド搬入口との間で昇降させるポッドエレベータを設置することにより、ポッド上部を掴んでハンドリングする場合に比べて、ハンドリング構造を簡単かつ小型に構成することができる。その結果、小型軽量化、単純化、高速化、安全化およびスペース活用化を図ることができる。
【００５５】
3)  ポッドエレベータによって昇降する保持台に受けキネマティツクピンを設けることにより、保持台を各所のポッド載置部についての搬送基準とすることができる。その結果、搬送基準統一化を図ることができる。
【００５６】
4)  ポッドはウエハが収納された状態であっても長期間放置することがあり、ポッド内の酸素濃度が高くなっている場合がある。その場合、載置台４３において蓋体を開く際に、大容積である予備室が不活性ガス雰囲気（低酸素濃度状態）であるのが、崩れてしまう。そこで、予備室を不活性ガス雰囲気に戻すと、時間がかかっていた。しかし、予備室でポッドの蓋体を開く前に予め予備室より小容積である密閉筐体２１にて、ポッド内を不活性ガス雰囲気に置換することにより、スループットを向上させることができる。
【００５７】
図９は本発明の第二実施形態であるバッチ式ＣＶＤ装置を示す側面断面図である。
本実施形態が前記実施形態と異なる主な点は、ポッドオープナがロードポートだけに設置されている点である。
すなわち、図９に示されているように、ロードポート１４は予備室４５を形成するサブ筐体４０の正面壁（区画壁）４０ａに設置されており、ウエハ搬入搬出口（以下、ウエハ搬入口という。）９１は、この正面壁４０ａに設置されたポッドオープナ８３のロードロック室８０を形成する密閉筐体８１の背面壁８１ａに、開設されている。さらに、ロードポートには、このウエハ搬入口９１を開閉するドア機構９２が設置されている。
予備室４５内に設置された基板搬送装置としてのウエハ移載機構４６は、ドア機構９２がウエハ搬入口９１を開放した際に、ポッド２とボート４７との間でウエハ１を搬送するように構成されている。
ボートエレベータ４８はボート４７を、予備室４５に隣接した処理炉５１の処理室５７に搬入したり、処理室５７から搬出したりする。
予備室４５の天井面に隣接した保管室１１ｂには、保管棚３１Ａおよびポッド搬送装置３５が設置されている。
ポッド搬入口１２はメイン筐体１１正面壁１１ａの保管室１１ｂに対向した部位に、開設されている。フロントシャッタ１３はポッド搬入口１２を開閉する。
第一実施形態のポッドオープナ２３と同様に、ロードロック室８０にはマッピング装置８４が設置されている。マッピング装置８４はドア出し入れ口８２に対して前後（垂直方向）および上下（平行方向）に移動することができる。
密閉筐体８１には不活性ガス（窒素ガス）供給装置１３２および排気装置１３３が接続されている。ロードロック室８０内は不活性ガス（窒素ガス）供給装置１３２によって不活性ガス（窒素ガス）を供給されるとともに、排気装置１３３によって排気される。
【００５８】
次に、以上の構成に係るバッチ式ＣＶＤ装置のポッドオープナの作用を説明する。
【００５９】
図９に示されているように、ロードポート１４に搬入される際に、ポッド２はポッドエレベータ１５の保持台１８に載置される。
このとき、保持台１８に突設されている受けキネマティックピン１９が、ポッド２下面の位置決め穴５に嵌入されることにより、ポッド２は保持台１８に位置決めされた状態になる。
【００６０】
次いで、ロードポート１４において、ポッド２がポッドオープナ８３の方向に移動される。ポッドオープナ８３はクロージャ８６にドア４を保持させる。
このとき、ロードロック室８０内は不活性ガス供給装置１３２から供給された不活性ガスにより、不活性ガス雰囲気になっている。
クロージャ８６がドア４を保持すると、移動台８５が後退し、クロージャ８６がドア４をウエハ出し入れ口３およびドア出し入れ口８２から取り外す。その後に、移動台８５がロードロック室８０内を下降し、クロージャ８６がウエハ出し入れ口３およびドア出し入れ口８２の位置から離脱する。
ポッドオープナ８３がウエハ出し入れ口３を開放させると、マッピング装置８４は検出子をウエハ出し入れ口３に挿入し、検出子によってポッド２内のウエハ１を検出させることにより、ウエハ１をマッピングする。
このとき、不活性ガス供給装置１３２が不活性ガスをロードロック室８０内に供給しつつ、排気装置１３３がロードロック室８０を排気することにより、ポッド２内の雰囲気を不活性ガスに置換する。
【００６１】
所定のマッピングが完了すると、マッピング装置がウエハ出し入れ口３から元の待機位置に復帰される。
その後、移動台８５が上昇し、クロージャ８６をウエハ出し入れ口３の位置に移動させる。その後に、移動台８５がウエハ出し入れ口３に向けて前進し、クロージャ８６がドア４をウエハ出し入れ口３およびドア出し入れ口８２に取り付ける。
【００６２】
このマッピング装置によって読み取った実際のマッピング情報と、当該ポッド２に関して予め提供されたマッピング情報とが相違した場合には、相違が発見されたポッド２はロードポート１４からウエハ編成工程や直前の工程等に、ＡＧＶ９によって直ちに搬送される。
【００６３】
前述したマッピング装置によって読み取った実際のマッピング情報と、当該ポッド２に関して予め提供されたマッピング情報とが一致した場合には、ポッドエレベータ１５は保持台１８によって支持されたポッド２を、ロードポート１４からポッド搬入口１２の高さまで上昇させる。
ポッド２がポッド搬入口１２の高さまで上昇すると、フロントシャッタ１３はポッド搬入口１２を開放する。
続いて、ポッド搬送装置３５はポッド搬送機構３５ｂに、保持台１８によって支持されたポッド２を掬い取らさせる。
ポッド搬送装置３５はポッド搬送機構３５ｂによって掬い取ったポッド２をポッド搬入口１２からメイン筐体１１内に搬入する。
ポッド搬送装置３５は搬入したポッド２を、保管棚３１Ａの指定された棚板３３Ａへ自動的に搬送して受け渡す。
【００６４】
ポッド２は棚板３３Ａに一時的に保管される。
その後に、前述とは逆の手順で、ポッド搬送装置３５およびポッドエレベータ１５は保管棚３１Ａからロードポート１４へ搬送する。
この際、予備室４５にはクリーンエアが流通されて充満されている。
【００６５】
次いで、ロードポート１４において、ポッド２がポッドオープナ８３の方向に移動されて、ドア４がポッドオープナ８３のクロージャ８６に保持される。
クロージャ８６はドア４を保持すると、移動台８５の後退によってドア４をウエハ出し入れ口３から取り外す。その後に、クロージャ８６はロードロック室８０内を移動台８５の下降によってウエハ出し入れ口３およびドア出し入れ口８２の位置から離脱する。
ウエハ出し入れ口３が開放されると、ドア機構９２はウエハ搬入口９１を開放する。
この際には、ポッド内のウエハのマッピングは既に済んでいるので、省略することができる。
また、予め、ポッド２に不活性ガスが充填されているため、予備室４５内の酸素濃度が上昇することを抑制することができる。
【００６６】
ウエハ出し入れ口３、ドア出し入れ口８２およびウエハ搬入口９１が開放されると、ウエハ移載装置４６ａはツィーザ４６ｃによってウエハ１を、ポッド２からウエハ出し入れ口３、ドア出し入れ口８２およびウエハ搬入口９１を通じてピックアップする。ウエハ移載装置４６ａはウエハ１をノッチ合わせ装置に搬送する。ノッチ合わせ装置はウエハ１をノッチ合わせする。ノッチ合わせ後に、ウエハ移載装置４６ａはツィーザ４６ｃによってウエハ１をノッチ合わせ装置からピックアップする。ウエハ移載装置４６ａはピックアップしたウエハ１をボート４７に搬送し、ボート４７に装填（チャージング）する。
ボート４７にウエハ１を受け渡したウエハ移載装置４６ａはポッド２に戻り、次のウエハ１をボート４７に装填する。
なお、保管棚３１Ａでポッド２を一時的に保管するステップを行わずに、ウエハ移載装置４６ａはツィーザ４６ｃによってウエハ１をポッド２から直接的に搬送してもよい。すなわち、マッピングが完了し、マッピング装置が検出子をウエハ出し入れ口３から元の待機位置に復帰させた後に、もしくは、マッピング中にウエハ搬入口９１を開放させる。続いて、ウエハ移載装置４６ａはツィーザ４６ｃをウエハ搬入口９１に挿入して、ウエハ１をポッド２からピックアップする。
【００６７】
以降のステップは前記実施形態と同様であるので、説明は省略する。
【００６８】
本実施形態によれば、第一実施形態の１つ以上の効果に加えて、以下の効果を奏する。ポッドオープナをロードポートに設置すれば済むために、スペース効率向上（フットプリント縮小化）、スループット向上（ポッドの移動範囲を少なくすることが可能）に寄与することができる。
【００６９】
図１０は本発明の第三実施形態であるバッチ式ＣＶＤ装置のロードポートを示す斜視図である。
【００７０】
本実施形態が前記第一実施形態と異なるのは、保持台を前後および上下に移動させるポッドエレベータ１５Ｂである。
なお、保持台の形状は、第一実施形態と同様であるが、詳しく説明する。
すなわち、昇降駆動装置１６Ｂのシャフト１７Ｂの上端にはリニアアクチュエータ９５の本体９６が設けられており、本体９６は水平かつ前後方向に延在している。保持台１８は、リニアアクチュエータ９５にガイド９７および駆動ロッド９８、ブラケット９９を介して水平に取り付けられている。ガイド９７および駆動ロッド９８は本体９６に対して伸縮することにより、保持台１８を水平かつ前後方向に移動させる。リニアアクチュエータ９５と本体９６とガイド９７と駆動ロッド９８とブラケットとは遠近移動装置を構成している。なお、遠近移動装置は本実施の形態に限らず、例えばベルト駆動式としてもよい。
要するに、保持台１８はポッドオープナに対して対向方向に遠近動作すればよい。
保持台１８はポッドオープナ２３側（ドア出し入れ口２２側ともいう。）に切欠き（逃げ部ともいう。）を有する。
具体的には、切欠部は、ポッド２を保持する３個の受けキネマティックピン１９のうちポッドオープナ２３側の２個の受けキネマティックピン１９Ｆの間に配置されている。なお、受けキネマティックピン１９は、ＳＥＭＩ  Ｅ５７−０６００に規定されたプライマリピン（ＰＲＩＭＡＲＹＰＩＮ）に相当し位置決め部として構成されている。切欠きは、ポッド２が載置された際にポッド２底面の一部に空間を形成するように、かつ、残りの１個の受けキネマティックピン１９Ｇよりポッドオープナ２３側を切欠かれている。
切欠く形状は四角形、長方形、円形、長円形でもよい。好ましくは、三角形形状に切欠くとよい。より最良の形態としては、図１０に示されているように、略正三角形の形状に切欠くとよい。
この保持台１８の切欠きにより、保持台１８にポッドを載置した際に、ポッド底面の一部であってポッドオープナ２３側に空間が形成されることになる。
これにより、ポッド搬送装置３５は、プレート３５ｄと保持台１８との間でポッド２を受け渡す際に、プレート３５ｄと保持台１８との干渉を防止しつつ受け渡すことができる。
【００７１】
次に、以上の構成に係るポッドエレベータ１５Ｂによるポッドハンドリングステップを、図１１に沿って説明する。
なお、ポッド内のウエハをマッピングする工程としてのマッピングステップのような他のステップは、前述した第一実施形態と同様であるので、それらのステップの説明は省略する。
【００７２】
ＡＧＶ９のような工程内搬送装置によって搬送されて来たポッド２は、図１１（ａ）に示されているように、保持台１８に載置される。
このとき、保持台１８の３本の受けキネマティックピン１９が、ポッド２下面に配置された３個の位置決め穴５の外側位置（図７参照）にそれぞれ嵌入されることにより、ポッド２は保持台１８に位置決めされた状態になる。
【００７３】
次いで、図１１（ｂ）に示されているように、リニアアクチュエータ９５は短縮作動することにより、保持台１８とともにポッド２をポッドオープナ２３（ドア出し入れ口２２）の方向に接近移動させて、ドア４をポッドオープナ２３のクロージャ２６に保持させる。
【００７４】
この後、マッピングステップが前述した作用によって実施される。
マッピングが完了すると、クロージャ２６はドア４をウエハ出し入れ口３に取り付ける（装着する）。
次いで、図１１（ｃ）に示されているように、リニアアクチュエータ９５は伸長作動することにより、保持台１８とともにポッド２を元の位置に戻す。
【００７５】
マッピングステップにおいて読み取ったマッピング情報と、このポッド２に関して予め提供されたマッピング情報とが相違した場合には、相違が発見されたポッド２はロードポート１４からウエハ編成工程や直前の工程等に、ＡＧＶ９のような工程内搬送装置によって直ちに搬送される。
【００７６】
他方、マッピングステップにおいて読み取ったマッピング情報と、当該ポッド２に関して予め提供されたマッピング情報とが一致した場合には、図１１（ｄ）に示されているように、昇降駆動装置１６Ｂはシャフト１７Ｂを伸長作動させることにより、保持台１８によって支持したポッド２をロードポート１４からポッド搬入口１２の高さまで上昇させる。なお、昇降駆動装置１６Ｂはドア出し入れ口２２の開口面に対して平行に保持台１８を昇降させる。
ポッド２がポッド搬入口１２の高さまで上昇すると、フロントシャッタ１３はポッド搬入口１２を開放する。
【００７７】
続いて、図７で参照されるように、ポッド搬送機構３５ｂがアーム３５ｃを伸長させると、アーム３５ｃの先端に支持されたプレート３５ｄはポッド搬入口１２を潜り抜けて、保持台１８の真下に進入する。
続いて、ポッド搬送エレベータ３５ａが上昇することにより、プレート３５ｄがポッド２を保持台１８の上から掬い取る。
このとき、プレート３５ｄの３本のプレートキネマティックピン３５ｅは、３個の位置決め穴５の受けキネマティックピン１９の内側位置にそれぞれ嵌入する。
以上のようにしてポッド搬送機構３５ｂによって掬い取られたポッド２は、ポッド搬送機構３５ｂのアーム３５ｃが短縮することにより、ポッド搬入口１２からメイン筐体１１内に搬入される。
その後のステップは、前述した第一実施形態の作用と同様である。
【００７８】
本実施形態によれば、第一実施形態の１つ以上の効果に加えて、以下の効果のうち１つ以上の効果を奏する。
1)  昇降可能な第一載置ユニットに受けキネマティックピン（プライマリピン）を設け、受けキネマティックピンで囲まれる第一載置ユニットにおける内側に切欠きを設ける。これにより、ポッドを掬い上げる際に、搬送装置のプレートを外側プレートの３箇所に設けられた受けキネマティックピンのうちの２箇所の間を通って切欠きに挿入し易くなる。
2)  第一載置ユニットの搬送装置側に切欠部を設けることにより、搬送装置のプレートが第一載置ユニットからポッドを掬い上げる際に、ポッド下面へプレートが容易にアクセスすることができる。
3)  搬送装置が第一載置ユニットの切欠きに挿入された際に、受けキネマティックピン
（プライマリピン）の１つと、搬送装置のプレートにあるキネマティックピン（セカンダリピン）の１つとが搬送装置の移動方向と同一方向に並ぶ位置に配置されることになる。このような場合、第一載置ユニットにあるキネマティックピンをプライマリピンとすることにより内側を切欠くことができ、この切欠きに挿入可能なセカンダリピンを有する搬送装置との間でポッドを受け渡すことができる。外側プレートでポッド底面周縁部を支持するにより、安定した昇降を可能とすることができる。
【００７９】
図１２および図１３は本発明の第四実施形態であるバッチ式ＣＶＤ装置のロードポートを示す各斜視図である。
【００８０】
ところで、前述した第三実施形態においては、保持台１８と共にリニアアクチュエータ９５を一緒に昇降させる必要があるために、ポッドエレベータ１５Ｂが大型かつ複雑な構造になってしまう懸念がある。
この懸念を解消するために、本実施形態は保持台１８を内側プレート１８Ａと外側プレート１８Ｂとに分離している。内側プレート１８Ａはポッドオープナ（蓋体着脱手段、単に、着脱装置ともいう。）２３に対して対向方向に遠近動作する第一載置部材（第一載置ユニット）を構成している。外側プレート１８Ｂはポッドオープナ２３に対して昇降する第二載置部材（第二載置ユニット）としての外側プレート１８Ｂを構成している。
【００８１】
図１４に示されているように、内側プレート１８Ａは平面視が略正三角形平板形状に形成されている。リニアアクチュエータ９５は内側プレート１８Ａを水平かつ前後方向（ドア出し入れ口２２に対して遠近方向ともいう。）に移動させる。内側キネマティックピン１９Ａは内側プレート１８Ａ上面の３箇所の頂角位置に、それぞれ内側プレート１８Ａ上面に対して垂直に設けられている。なお、内側キネマティックピン１９Ａは、ＳＥＭＩ
Ｅ５７−０６００に規定されたセカンダリピンに相当し、位置決め部として構成されている。
リニアアクチュエータ９５の本体９６は密閉筐体２１のドア出し入れ口２２下方位置前方に据え付けられている。本体９６は水平かつ前後方向（ドア出し入れ口２２に対して遠近方向ともいう。）に延在している。内側プレート１８Ａはリニアアクチュエータ９５にガイド９７、駆動ロッド９８およびブラケット９９を介して水平に取り付けられている。ガイド９７および駆動ロッド９８は本体９６に対して伸縮することにより、内側プレート１８Ａを水平かつ前後方向に移動させる。
要するに、内側プレート１８Ａはポッドオープナに対して対向方向に遠近動作すればよい。
【００８２】
図１２および図１３に示されているように、外側プレート１８Ｂは平面視が略長方形の平板形状に形成されている。外側プレート１８Ｂはポッドオープナ２３側長辺中央部に逃げ部（切欠きともいう。）１８Ｃとして切り欠かれている。逃げ部１８Ｃは内側プレート１８Ａよりも若干大きめの略正三角形に形成されている。
受けキネマティックピン１９Ｂは外側プレート１８Ｂ上面における逃げ部１８Ｃの３箇所の頂角位置に、それぞれ外側プレート１８Ｂ上面に対して垂直に設けられている。図１２に示されているように、外側プレート１８Ｂの受けキネマティックピン１９Ｂは、内側プレート１８Ａの内側キネマティックピン１９Ａの外側に位置するように設定されている。
すなわち、内側プレート1 ８Ａが外側プレート１８Ｂの逃げ部１８Ｃに挿入された状態を想定すると、内側キネマティックピン１９Ａと受けキネマティックピン１９Ｂとが隣接して配置されていることになる。
なお、この内側キネマティックピン１９Ａは、ＳＥＭＩ  Ｅ５７−０６００に規定されたプライマリピンに相当し、位置決め部として構成されている。
密閉筐体２１の手前には一対の昇降駆動装置１６Ｃ、１６Ｃが左右に並べられて、それぞれ垂直方向上向きに設置されている。両昇降駆動装置１６Ｃ、１６Ｃのシャフト１７Ｃ、１７Ｃ上端には外側プレート１８Ｂが水平に架設されている。両昇降駆動装置１６Ｃ、１６Ｃは各シャフト１７Ｃ、１７Ｃを同期させてそれぞれ伸縮させることにより、外側プレート１８Ｂを昇降させる。
なお、昇降駆動装置は一対とせず、１つもしくは３つ以上としてもよい。好ましくは、昇降駆動装置は一対として、外側プレート１８Ｂの切欠きを挟んで両側にそれぞれ設けるようにすると、安定した昇降動作を可能とするとともに、低コスト化することができる。
【００８３】
次に、以上の構成に係る内側プレート１８Ａおよび外側プレート１８Ｂによるポッドハンドリングステップを、図１５および図１６に沿って説明する。
なお、ポッド内のウエハをマッピングする工程としてのマッピングステップのような他のステップは、前述した第一実施形態と同様であるので、それらのステップの説明は省略する。
また、図１２、図１３、図１５および図１６においては、便宜上、リニアアクチュエータ９５の図示を省略する。
【００８４】
ＡＧＶ９のような工程内搬送装置によって搬送されて来たポッド２は、図１５（ａ）に示されているように、内側プレート１８Ａに載置される。
このとき、内側プレート１８Ａの３本の内側キネマティックピン１９Ａが、ポッド２下面に配置された３個の位置決め穴５内寄り位置にそれぞれ嵌入されることにより、ポッド２は内側プレート１８Ａに位置決めされた状態になる。
【００８５】
次に、図１４（ｂ）で参照されるように、リニアアクチュエータ９５は短縮作動することにより、図１５（ｂ）に示されているように、ポッド２をポッドオープナ２３の方向に移動させて、ドア４をポッドオープナ２３のクロージャ２６に保持させる。
このとき、ロードロック室２０内は不活性ガス供給装置１３２から供給された不活性ガスにより、不活性ガス雰囲気になっている。
【００８６】
次いで、図１５（ｃ）に示されているように、クロージャ２６はドア４をウエハ出し入れ口３から取り外す。
続いて、クロージャ２６はロードロック室２０内を下降することにより、図１５（ｄ）に示されているように、ドア４をウエハ出し入れ口３の位置から離脱させる。
【００８７】
この後、マッピングステップおよびポッド２内雰囲気の不活性ガスへの置換が前述した作用によって実施される。
マッピングが完了すると、クロージャ２６はドア４をウエハ出し入れ口３に取り付ける（装着する）。
【００８８】
次に、図１４（ａ）で参照されるように、リニアアクチュエータ９５は伸長作動することにより、図１６（ａ）に示されているように、ポッド２を保持した内側プレート１８Ａを元の位置に戻す。
この状態で、内側プレート１８Ａは外側プレート１８Ｂの逃げ部１８Ｃ（図１２参照）の真上に位置している。
【００８９】
マッピングステップにおいて読み取ったマッピング情報と、このポッド２に関して予め提供されたマッピング情報とが相違した場合には、相違が発見されたポッド２はロードポート１４からウエハ編成工程や直前の工程等にＡＧＶ９のような工程内搬送装置によって直ちに搬送される。
【００９０】
マッピングステップにおいて読み取ったマッピング情報と、当該ポッド２に関して予め提供されたマッピング情報とが一致した場合には、一対の昇降駆動装置１６Ｃ、１６Ｃはシャフト１７Ｃ、１７Ｃを若干だけ伸長作動させる。
これにより、図１６（ｂ）に示されているように、外側プレート１８Ｂの３本の受けキネマティックピン１９Ｂが内側プレート１８Ａの３本の内側キネマティックピン１９Ａの外側において、ポッド２の３個の位置決め穴５にそれぞれ嵌入する。つまり、外側プレート１８Ｂはポッド２を内側プレート１８Ａから受け取った状態になる。
【００９１】
昇降駆動装置１６Ｃはシャフト１７Ｃを伸長作動させて、ポッド２をロードポート１４からポッド搬入口１２の高さまで上昇させる。
受けキネマティックピン１９Ｂが外寄りに位置するので、外側プレート１８Ｂはポッド２を安定した状態で上昇させることができる。また、外側プレート１８Ｂによりポッド底面周縁部を支持することで、安定した状態で上昇させることができる。
【００９２】
ポッド２がポッド搬入口１２の高さまで上昇すると、フロントシャッタ１３はポッド搬入口１２を開放する。
その後、図７で参照されるように、ポッド搬送機構３５ｂのアーム３５ｃが伸長することにより、アーム３５ｃの先端に支持されたプレート３５ｄはポッド搬入口１２を潜り抜けて、外側プレート１８Ｂの逃げ部１８Ｃの真下に進入する。
ポッド搬送エレベータ３５ａが上昇することにより、プレート３５ｄが逃げ部１８Ｃを潜り抜け、ポッド２を外側プレート１８Ｂの上から掬い取る。
このとき、プレート３５ｄの３本のプレートキネマティックピン３５ｅは、３個の位置決め穴５の受けキネマティックピン１９Ｂの内側位置にそれぞれ嵌入する。
【００９３】
以上のようにしてポッド搬送機構３５ｂによって掬い取られたポッド２は、ポッド搬送機構３５ｂのアーム３５ｃが短縮することにより、図１６（ｄ）で参照されるように、ポッド搬入口１２からメイン筐体１１内に搬入される。
その後のステップは、前述した第一実施形態の作用と同様である。
【００９４】
ちなみに、ポッド２が回転式ポッド棚３１からロードポート１４に供給される場合には、図１６（ｆ）に示されているように、上昇された外側プレート１８Ｂにポッド２が回転式ポッド棚３１からポッド搬送機構３５ｂによって載置される。
続いて、図１６（ｇ）に示されているように、外側プレート１８Ｂが下降することにより、ポッド２を内側プレート１８Ａに受け渡す。
その後に、前述した作動が実施されることになる。
【００９５】
本実施形態によれば、第一〜三実施形態が奏する効果のうち１つ以上の効果に加えて、以下の効果のうち１つ以上の効果を奏する。
1)  ポッドオープナに対して遠近動作する内側プレート１８Ａと、ポッドオープナにあるドア出し入れ口２２の開口面に対して平行に昇降する外側プレート１８Ｂとに分離したので、ポッドエレベータの構造を簡単化することができる。
2)  第一載置ユニットが昇降動作する際に、第二載置ユニットおよび遠近移動機構を一緒に昇降させなくて済む。一方、第一載置ユニットが遠近動作する際に、第一載置ユニットおよび昇降移動機構を一緒に遠近動作させなくて済む。これにより、昇降移動機構を大型化させずに構造を簡素化させることができ、かつ、遠近移動機構を大型化させずに構造を簡素化させることができる。
3)  昇降可能な第一載置ユニットに受けキネマティックピン（プライマリピン）を設け、受けキネマティックピンで囲まれる第一載置ユニットにおける内側に切欠きを設ける。さらに、この切欠きに少なくとも一部が挿入可能に形成された第二載置ユニットを設ける。第二載置ユニットはポッドオープナに対し、遠近動作可能に設ける。
これらにより、第一載置ユニットと第二載置ユニットとの間でのポッドの受け渡しをスムースに行うことができる。
この場合、例えば、第一載置ユニットでなく、セカンダリピンを有する第二載置ユニットと、搬送装置のプライマリピンを有するプレートとの間でポッドの受け渡しをする場合、第二載置ユニットおよびこれを支持する部材を避けて搬送装置のプレートはポッドを掬い上げなければならず、大変な工夫が必要になり、装置構成の複雑化、製作コスト高につながってしまう。
【００９６】
図１７〜図１９は内側プレートと外側プレートを有するロードポートを枚葉式ＣＶＤ装置に設けた本発明の第五実施形態を示している。
【００９７】
枚葉式ＣＶＤ装置１１０のメイン筐体１１１正面には、ロードポート１１４が３箇所に左右方向に横並びに設定されている。各ロードポート１１４が対向する正面壁には、ポッドオープナ１２３がそれぞれ建て付けられており、各ポッドオープナ１２３の手前には各ポッドエレベータ１１５がそれぞれ設置されている。
各ポッドエレベータ１１５は一対の昇降駆動装置１６Ｃ、１６Ｃを備えており、一対の昇降駆動装置１６Ｃ、１６Ｃは各ロードポート１１４において左右に並べられて、それぞれ垂直方向上向きに設置されている。両昇降駆動装置１６Ｃ、１６Ｃはシャフト１７Ｃ、１７Ｃ上端に、外側プレート１８Ｂを水平に架設されている。外側プレート１８Ｂは逃げ部１８Ｃを有する略長方形に形成されている。両昇降駆動装置１６Ｃ、１６Ｃは各シャフト１７Ｃ、１７Ｃを同期させて伸縮させることによって、外側プレート１８Ｂを昇降させる。
受けキネマティックピン１９Ｂは外側プレート１８Ｂ上面の逃げ部１８Ｃにおける３箇所の頂角位置に、それぞれ外側プレート１８Ｂ上面に対して垂直に設けられている。
【００９８】
図１７〜図１９においては図示が省略されているが、各ポッドエレベータ１１５はリニアアクチュエータ９５をそれぞれ備えている。リニアアクチュエータ９５はポッドオープナ１２３のドア出し入れ口１２２真下位置に本体９６を据え付けられている。本体９６は水平かつ前後方向に延在している。
リニアアクチュエータ９５はガイド９７および駆動ロッド９８に、ブラケット９９を介して内側プレート１８Ａを水平に取り付けられている。ガイド９７および駆動ロッド９８は本体９６に対して伸縮することにより、内側プレート１８Ａを水平かつ前後方向に移動させる。
内側プレート１８Ａは平面視が略正三角形の平板形状に形成されている。リニアアクチュエータ９５は内側プレート１８Ａを水平かつ前後方向に移動させる。内側プレート１８Ａ上面には３箇所の頂角の位置に、内側キネマティックピン１９Ａをそれぞれ垂直に設けられている。
【００９９】
メイン筐体１１１上面にはスライド式ポッド棚１３１が３台、左右方向に横並びに設けられている。各スライド式ポッド棚１３１は内側プレート１８Ａを水平かつ前後方向に移動させるリニアアクチュエータ９５によって構成されている。
【０１００】
次に、本実施形態の特徴ステップであるポッド２のスライド式ポッド棚１３１への保管ステップを図１７、図１８および図１９に沿って説明する。
【０１０１】
図１７に示されたポッド２がスライド式ポッド棚１３１に保管すべきポッドであると仮定すると、外側プレート１８Ｂの３本の受けキネマティックピン１９Ｂが、ポッド２下面に配置された３個の位置決め穴５外寄り位置にそれぞれ嵌入された状態になっている。
【０１０２】
図１８で参照されるように、昇降駆動装置１６Ｃはシャフト１７Ｃを伸長作動させることにより、外側プレート１８Ｂによって保持したポッド２をスライド式ポッド棚１３１の高さまで上昇させる。
【０１０３】
次いで、図１８に示されているように、スライド式ポッド棚１３１のリニアアクチュエータ９５は伸長作動することによって、内側プレート１８Ａを外側プレート１８Ｂの逃げ部１８Ｃの真下に進入させる。
続いて、昇降駆動装置１６Ｃはシャフト１７Ｃを若干だけ下降させる。これにより、内側プレート１８Ａの３本の内側キネマティックピン１９Ａが外側プレート１８Ｂの３本の受けキネマティックピン１９Ｂの内側において、ポッド２の３個の位置決め穴５にそれぞれ嵌入する。つまり、外側プレート１８Ｂはポッド２を内側プレート１８Ａへ受け渡した状態になる。
【０１０４】
次いで、スライド式ポッド棚１３１のリニアアクチュエータ９５は短縮作動することによって、内側プレート１８Ａを外側プレート１８Ｂの逃げ部１８Ｃ真上から引き戻し、図１９に示されているように、ポッド２をスライド式ポッド棚１３１に保管させる。
【０１０５】
ポッド２がスライド式ポッド棚１３１からロードポート１１４に供給される場合には、前述と逆の手順で、ポッド２がスライド式ポッド棚１３１からロードポート１１４に戻される。
【０１０６】
本実施形態によれば、ポッドを自動的に保管する保管棚を枚葉式ＣＶＤ装置に付帯させることができる。
【０１０７】
なお、本発明は前記実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々に変更が可能であることはいうまでもない。
【０１０８】
例えば、ポッドエレベータにおいて、一対の昇降駆動装置を設けるに限らず、１台の昇降駆動装置を設けてもよい。昇降駆動装置を１台だけ使用する場合には、ガイドを使用することが望ましい。また、ポッドの支持は３点支持する方が安定するので、ガイドを２本使用してもよい。
駆動装置はエアシリンダ装置によって構成するに限らず、モータとボールネジやガイドの組み合わせ等によって構成してもよい。
【０１０９】
先に、最良の形態としては、略正三角形形状の内側プレートと、内側プレートよりも若干大きめの略正三角形形状の逃げ部を形成するように説明した。
このように、略正三角形形状に形成することにより、内側プレート上、外側プレート上でポッドをそれぞれ安定的に保持することができる。
しかしながら、図２０に示されているような形態に形成することも適宜可能である。
要するに、内側プレートと外側プレートとが干渉することなくポッドの受け渡しができればよい。
図２０（ａ）は内側プレートを四角形形状に形成し、外側プレートの切欠きを四角形形状に形成した例である。
図２０（ｂ）は内側プレートを馬蹄形状に形成し、外側プレートの切欠きを馬蹄形状に形成した例である。
図２０（ｃ）は内側プレートを三角形形状に形成し、外側プレートの切欠きを四角形形状に形成した例である。
このとき、ポッド搬送装置のプレート３５ｄも内側プレートの形状に合わせると、ポッドの受け渡しが容易となる。
【０１１０】
前記した実施形態においては、ＣＶＤ装置に適用した場合について述べたが、本発明はこれに限らず、拡散装置やアニール装置および酸化装置等の基板処理装置全般に適用することができる。
【０１１１】
基板はウエハに限らず、ホトマスクやプリント配線基板、液晶パネル、コンパクトディスクおよび磁気ディスク等であってもよい。
【０１１２】
図２１はポッドエレベータの好ましい実施例を示す斜視図である。
図２２はその作用状態を示す斜視図である。
図２１にされているように、ポッドエレベータ１５にはカバー３００が設置されている。カバー３００は水平に配置された天板３０１と、垂直に配置されて上端辺が天板３０１の前端辺に固定された前板３０２とを備えている。天板３０１は昇降駆動装置１６のシャフト１７に固定されている。前板３０２は、ロードポート１４を被覆可能な横幅と、シャフト１７のストロークよりも大きい高さ（図３０参照）とで形成されている。
昇降駆動装置１６、シャフト１７は１つでもよいが、２以上を所定の間隔設けて設置することが好ましい。こうすることにより、ポッドを載置した状態で天板３０１を安定的に昇降させることができる。
天板３０１には三角形の逃げ孔３０３がロードポート１４上の保持台１８に対向する部位に開設されている。逃げ孔３０３の三角形頂点のそれぞれにはキネマティックピン１９が突設されている。したがって、天板３０１はポッド２下面を保持する保持部を構成しているとともに、ポッド載置部を構成している。
なお、天板３０１を保持部と表現し、カバー３００は保持部に固定されたものであると、表現してもよい。
また、カバー３００は保持部に必ずしも固定されていなくてもよい。例えば、カバー３００にも駆動装置を設けて、保持部、昇降機構の作動に応じて昇降を行うようにしてもよい。
【０１１３】
次に、以上の構成に係るポッドエレベータの作用および効果を説明する。
便宜上、ポッド２の図示は省略するが、図２１の状態から図２２の状態に移行する際には、天板３０１は保持台１８上からポッド２を掬い取る。このとき、天板３０１のキネマティックピン１９はポッド２下面の位置決め穴５に保持台１８のキネマティックピン１９の外側においてそれぞれ嵌合する。
なお、通常の待機時には、天板３０１は保持台１８より下方に位置し、保持台１８がドア出し入れ口２２に対し、前後する時の干渉を回避している。
図２２の状態から図２１の状態へ移行する際には、天板３０１はポッド２を保持台１８上に受け渡す。
ポッドエレベータ１５を被覆したカバー３００はポッドエレベータ１５からのパーティクルの飛散を抑制する。特に、ポッド２を天板３０１によりポッド搬入搬出口１２近傍まで上昇させた状態では、装置正面から正面開口１４Ｃにより、昇降駆動装置１６およびシャフト１７等が剥き出しになってしまうために、装置外にパーティクルを飛散させてしまう。しかし、カバー３００により、このようなパーティクルの飛散を抑制することができる。
ポッドエレベータ１５を被覆したカバー３００は昇降駆動装置１６およびシャフト１７が作業空間に剥き出しになることによる作業者の危険を抑制することができる。
例えば、作業者が手作業でポッド２をボックス１４Ａの正面開口１４Ｃ（図１参照）からロードポート１４に載置する場合の昇降駆動装置１６およびシャフト１７への接触を、カバー３００によって阻止することができる。
【０１１４】
図２３はポッドエレベータのさらに好ましい実施例を示す斜視図である。
図２４はその作用状態を示す斜視図である。
本実施例が前記実施例と異なる点は、カバー３００が一対の側板３０４、３０４を有する点である。一対の側板３０４、３０４は前板３０２の左右両端辺にそれぞれ直角に固定されている。つまり、ポッドオープナ２３がある側を除く三側面に設けられている。
本実施例によれば、カバー３００がポッドエレベータ１５の前方のみならず、左右側方を被覆しているので、パーティクル飛散防止効果および安全性確保効果をより一層向上させることができる。
【０１１５】
なお、図２１〜図２４に示すポッドエレベータを設置する実施例は、第一実施形態〜第五実施形態にも適用可能である。適用した場合には前述した効果を得ることができる。
【０１１６】
なお、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々に変更が可能であることはいうまでもない。
【０１１７】
例えば、ポッド保管室の密閉性や装置外へのパーティクル飛散防止等を考慮すれば、フロントシャッタ１３を設けたり、ポッド搬入搬出口１２は開口サイズを小さく形成したりした方がよい。しかし、フロントシャッタ１３は無くてもよい。
また、ポッド搬入搬出口１２を最大限大きくして、実質的にポッドオープナ２３および密閉筐体２１より上方の区画壁の殆ど全てを開口してもよい。
例えば、ポッド搬送装置３５がアクセス可能な高さ位置までポッドエレベータ１５により保持台１８（天板３０１）を予め上昇させておき、その位置でＯＨＴからポッドを受け取り、保持台１８を下降させてドア４の開閉動作を行うことなく、ポッド搬送装置３５により保持台１８からポッドを受け取るようにしてもよい。
このように運用すると、ＯＨＴの下降範囲が保持台１８が上昇していた分少なくて済む。さらに、保持台１８がポッドをＯＨＴから受け取った後に、ポッド搬送装置３５がアクセス可能な高さ位置まで上昇させることを必要としないため、その分、搬送時間を短縮することができる。
例えば、ポッドエレベータ１５を外側プレートに載置されたポッドの少なくとも一部をロードロック室の上端より上昇させるように構成するようにして、ポッド搬送装置３５を掬い上げ式とせず、掴み式としてもよい。但し、この場合、掬い上げ式に比べて搬送スペースの増大、搬送の不安定化等のデメリットを有することになる。
例えば、第一載置ユニットおよび第二載置ユニットはプレート状としなくてもよく、上面のみ平面として、下面を曲面等で形成してもよい。
マッピング装置は第一実施形態を第二実施形態、第三実施形態および第四実施形態に適用してもよいし、第二実施形態、第三実施形態および第四実施形態を第一実施形態に適用してもよい。
【０１１８】
なお、好ましい実施形態を付記する。
（１）複数の基板を収納し基板出し入れ口を蓋体によって塞がれた収納容器と、
前記収納容器を載置するロードポートと、
該ロードポートで前記基板出し入れ口に対する前記蓋体の着脱を行う着脱装置と、
前記ロードポートで前記収納容器を載置し前記着脱装置に対して対向方向に遠近動作を行う第一載置ユニットと、
前記第一載置ユニットとは別体として設けられ、前記ロードポートで前記収納容器を載置し前記着脱装置に対して昇降を行う第二載置ユニットと、
を備える基板処理装置。
（２）複数の基板を収納し基板出し入れ口を蓋体によって塞がれる収納容器をロードポートに搬送するステップと、
前記ロードポートで第一載置ユニットが動作し、前記第一載置ユニットに載置された前記収納容器を着脱装置に近づけるステップと、
前記第一載置ユニットに載置された前記収納容器の前記基板出し入れ口から前記蓋体を前記着脱装置が外すステップと、
前記第一載置ユニットに載置された前記収納容器の前記基板出し入れ口に前記蓋体を前記着脱装置が取り付けるステップと、
前記第一載置ユニットが動作し、前記第一載置ユニットに載置された前記収納容器を前記着脱装置から遠ざけるステップと、
第二載置ユニットを上昇させ、前記第一載置ユニットから前記第二載置ユニットに前記収納容器を受け渡すステップと、
前記収納容器に収納された前記基板を処理室に搬送するステップと、
前記基板を処理室で処理するステップと、
を有する半導体装置の製造方法。
（３）前記第二載置ユニットは前記第一載置ユニットよりも前記収納容器の底面周縁側を支持する前記（１）の基板処理装置。
（４）前記第一載置ユニットは前記第二載置ユニットよりも前記収納容器の底面中央側を支持する前記（３）の基板処理装置。
（５）前記第二載置ユニットは、前記着脱装置側の中央部に切欠きが形成されており、該切欠きに前記第一載置ユニットが位置することが可能に構成されている前記（３）の基板処理装置。
（６）前記第二載置ユニットと前記第一載置ユニットとは、前記ロードポートで一つの前記収納容器を同時に支持可能に構成されている前記（３）（４）の基板処理装置。
（７）前記収納容器を複数個収納可能な保管棚と、該保管棚と前記第二載置ユニットとの間で前記収納容器を搬送可能な搬送装置と、を備え、
該搬送装置は前記第二載置ユニットよりも前記収納容器の底面中央側を支持する保持部を備える前記（１）の基板処理装置。
（８）前記ロードポートに隣接して設けられ、前記収納容器を保管する保管室と、
該保管室に設けられ、前記収納容器を該保管室と前記第二載置ユニットとの間で、前記収納容器を搬送可能な搬送装置と、をさらに備える前記（１）の基板処理装置。
（９）前記搬送装置は前記第二載置ユニットよりも前記収納容器の底面中央側を支持する保持部を備える前記（８）の基板処理装置。
（１０）前記第二載置ユニットを昇降させる昇降装置と、前記第一載置ユニットを前記着脱装置に対して対向方向に遠近動作させる移動装置と、を備える前記（１）の基板処理装置。
（１１）前記第一載置ユニットおよび前記第二載置ユニットそれぞれに、複数の前記収納容器を位置決め可能な位置決め部が設けられており、前記第一載置ユニットの前記位置決め部と前記第二載置ユニットの前記位置決め部とが隣接して配置されている前記（１）の基板処理装置。
（１２）前記着脱装置を囲う開閉室を備え、該開閉室は内部に不活性ガスで充填可能である前記（１）の基板処理装置。
（１３）前記第二載置ユニットには、前記第二載置ユニットに載置された前記収納容器の少なくとも一部を前記開閉室の上端より高い位置まで上昇させる昇降装置が設けられている前記（１２）の基板処理装置。
（１４）基板を処理する処理室を備え、前記ロードポートと前記保管室と前記処理室とが順番に配置されており、該保管室に設けられ、前記ロードポートの前記第二載置ユニットに載置された前記収納容器底面にアクセス可能な搬送装置をさらに備える前記（７）の基板処理装置。
（１５）前記第二載置ユニットに、前記保管室内と外との間で前記収納容器を授受する高さ位置から前記着脱装置が前記収納容器の前記基板出し入れ口の開閉を行う高さ位置まで移動可能な昇降機構が設けられている前記（７）の基板処理装置。
（１６）前記開閉室に、前記収納容器内の前記基板の状態を検出可能な検出器が設けられている前記（１０）の基板処理装置。
（１７）前記第二載置ユニットの下部を覆うカバーを備え、該カバーは前記昇降機構の作動に応じて昇降を行う前記（１３）の基板処理装置。
（１８）複数の基板を収納し基板出し入れ口を蓋体によって塞がれた収納容器を、前記蓋体を着脱する着脱装置を備えたロードポートに搬送するステップと、
前記ロードポートで第二載置ユニットを上昇させて、前記着脱装置から遠ざけられた第一載置ユニットに載置された前記収納容器を、前記第一載置ユニットから前記第二載置ユニットに受け渡すステップと、
を有する収納容器の搬送方法。
（１９）基板を収納し基板出し入れ口を蓋体によって塞がれた収納容器と、
筐体内と外との間で、該収納容器の搬入搬出が行われるロードポートと、
前記基板出し入れ口に対して前記蓋体の着脱を行う着脱装置と、
前記ロードポートで前記収納容器を載置し、前記着脱装置に対して昇降を行う載置ユニットと、を備え、
前記載置ユニットは前記収納容器が載置された際に、前記収納容器底面の一部であって、前記着脱装置側に空間が形成されるように切欠かれている基板処理装置。
【図面の簡単な説明】
【０１１９】
【図１】本発明の一実施の形態であるバッチ式ＣＶＤ装置を示す一部省略斜視図である。
【図２】側面断面図である。
【図３】主要部を示す側面断面図である。
【図４】処理炉を示す縦断面図である。
【図５】ポッドオープナの作用を説明するための各一部省略側面断面図であり、（ａ）はドアの取外し前を示し、（ｂ）はマッピング時を示している。
【図６】ポッドの搬入時を示す一部省略側面断面図である。
【図７】その主要部の一部省略平面図である。
【図８】ポッドを示しており、（ａ）は斜視図、（ｂ）は底面図である。
【図９】本発明の第二実施形態であるバッチ式ＣＶＤ装置の主要部を示す斜視図である。
【図１０】本発明の第三実施形態であるバッチ式ＣＶＤ装置のロードポートを示す斜視図である。
【図１１】作用を説明するための各模式的側面図である。
【図１２】本発明の第四実施形態であるバッチ式ＣＶＤ装置のロードポートを示す斜視図である。
【図１３】その外側プレートの上昇時を示す斜視図である。
【図１４】リニアアクチュエータの各斜視図であり、（ａ）は伸長時を示し、（ｂ）は短縮時を示している。
【図１５】内側プレートの作用を説明するための各模式的側面図である。
【図１６】外側プレートの作用を説明するための各模式的側面図である。
【図１７】本発明の第五実施形態である枚葉式ＣＶＤ装置のロードポートを示す斜視図である。
【図１８】保管ステップの上昇時を示す斜視図である。
【図１９】保管ステップの保管時を示す斜視図である。
【図２０】内側プレートおよび外側プレートの変形例を示す各斜視図である。
【図２１】ポッドエレベータの好ましい実施例を示す斜視図である。
【図２２】その作用状態を示す斜視図である。
【図２３】ポッドエレベータの好ましい実施例を示す斜視図である。
【図２４】その作用状態を示す斜視図である。
【符号の説明】
【０１２０】
１…ウエハ（基板）、２…ポッド（収納容器）、３…ウエハ出し入れ口、４…ドア（蓋体）、５…位置決め穴、６…鍔部、９…ＡＧＶ（工程内搬送装置）、
１０…バッチ式ＣＶＤ装置（基板処理装置）、１１…筐体、１１ａ…正面壁（区画壁）、１１ｂ…ポッド保管室、１２…ポッド搬入搬出口（開口部）、１３…フロントシャッタ（開閉体）、１４…ロードポート（収納容器搬入搬出部）、１５…ポッドエレベータ（収納容器載置部昇降機構部）、１６…昇降駆動装置、１７…シャフト、１８…保持台（収納容器載置部）、１９…受けキネマティックピン（位置決め部）、
２０…ロードロック室、２１…密閉筐体（区画壁）、２２…ドア出し入れ口（開口部）、２３…ポッドオープナ（収納容器蓋体開閉部）、２５…移動台、２６…クロージャ、２７…マッピング装置（基板状態検出部）、２８…リニアアクチュエータ、２９…ホルダ、３０…検出子、
３１…回転式ポッド棚（保管棚）、３２…支柱、３３…棚板、３４…棚板キネマティックピン（位置決め部）、
３５…ポッド搬送装置（収納容器搬送部）、３５ａ…ポッド搬送エレベータ（収納容器昇降機構）、３５ｂ…ポッド搬送機構（収納容器搬送機構）、３５ｃ…アーム、３５ｄ…プレート、３５ｅ…プレートキネマティックピン（位置決め部）、
４０…サブ筐体、４０ａ…正面壁（区画壁）、４１…ウエハ搬入口（ウエハ搬入搬出口）、４２…ポッドオープナ（収納容器蓋体開閉部）、４３…載置台、４４…着脱機構。
４５…予備室、４６…ウエハ移載機構、４６ａ…ウエハ移載装置、４６ｂ…ウエハ移載装置エレベータ、４６ｃ…ツィーザ、
４７…ボート（基板保持具）、４８…ボートエレベータ、４９…アーム、５０…シールキャップ、
５１…処理炉、５２…ヒータ、５３…ヒータベース、５４…プロセスチューブ、５５…アウタチューブ、５６…インナチューブ、５７…処理室、５８…筒状空間、５９…マニホールド、
６０…ノズル、６１…ガス供給管、６２…ＭＦＣ、６３…ガス供給源、６４…ガス流量制御部、６５…排気管、６６…圧力センサ、６７…圧力調整装置、６８…真空排気装置、６９…圧力制御部、７０…回転機構、７１…回転軸、７２…駆動制御部、７３…断熱板、７４…温度センサ、７５…温度制御部、７６…主制御部、７７…コントローラ。
３１Ａ…保管棚、３３Ａ…棚板、８０…ロードロック室、８１…密閉筐体、８１ａ…背面壁、８２…ドア出し入れ口、８３…ポッドオープナ、８４…マッピング装置、８５…移動台、８６…クロージャ、９１…ウエハ搬入搬出口、９２…ドア機構。
１５Ｂ…ポッドエレベータ、９５…リニアアクチュエータ、９６…本体、９７…ガイド、９８…駆動ロッド、９９…ブラケット。
１６Ｃ…昇降駆動装置、１７Ｃ…シャフト、
１８Ａ…内側プレート（第一載置部材、第一載置ユニット）、１９Ａ…内側キネマティックピン、
１８Ｂ…外側プレート（第二載置部材、第二載置ユニット）、１９Ｂ…受けキネマティックピン、１８Ｃ…逃げ部。
１１０…枚葉式ＣＶＤ装置、１１１…筐体、１１４…ロードポート（収納容器載置部）、１１５…ポッドエレベータ、１２２…ドア出し入れ口、１２３…ポッドオープナ、１３１…スライド式ポッド棚（保管棚）。
１３２…不活性ガス（窒素ガス）供給装置、１３３…排気装置。
【図１】
2008277764.tif 000003
【図２】
2008277764.tif 000004
【図３】
2008277764.tif 000005
【図４】
2008277764.tif 000006
【図５】
2008277764.tif 000007
【図６】
2008277764.tif 000008
【図７】
2008277764.tif 000009
【図８】
2008277764.tif 000010
【図９】
2008277764.tif 000011
【図１０】
2008277764.tif 000012
【図１１】
2008277764.tif 000013
【図１２】
2008277764.tif 000014
【図１３】
2008277764.tif 000015
【図１４】
2008277764.tif 000016
【図１５】
2008277764.tif 000017
【図１６】
2008277764.tif 000018
【図１７】
2008277764.tif 000019
【図１８】
2008277764.tif 000020
【図１９】
2008277764.tif 000021
【図２０】
2008277764.tif 000022
【図２１】
2008277764.tif 000023
【図２２】
2008277764.tif 000024
【図２３】
2008277764.tif 000025
【図２４】
2008277764.tif 000026