(57)【要約】【課題】腐食性ガスなどが上蓋側から漏れることを防ぎながら、炉心管内の圧力を安定化させることができるガラス母材の製造装置及び製造方法を提供する。【解決手段】ガラス母材の製造装置１は、縦型の炉心管２を用いてガラス微粒子堆積体１０を加熱するものであり、炉心管２内部の外気に対する気密を、液体Ｌを用いて行う液体シール機構を上蓋４に有する。この液体シール機構は、上蓋４の本体４Ａとは別に設け、ガラス微粒子堆積体の支持棒１０Ａと一体で回転するキャップ部４Ｂと、キャップ部４Ｂと上蓋４の本体４Ａとの間で形成する圧力緩衝室４３と、圧力緩衝室４３に連通する状態で上蓋４の本体４Ａに並設し、キャップ部４Ｂの下縁部４８を浸漬させる液体Ｌを貯留した略円環状の液体収容槽４５とを備える。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持棒に接続された被加熱物を縦型の炉心管内で加熱するガラス母材の製造装置であって、
前記炉心管の上部に取り付けられる上蓋は、前記炉心管の外気に対する前記炉心管の内側の雰囲気の気密を行う液体シール機構を有することを特徴とするガラス母材の製造装置。
【請求項２】
請求項１に記載のガラス母材の製造装置であって、
前記液体シール機構は、
前記支持棒に密接して装着されるキャップ部と、
前記炉心管の上部に配置される上蓋本体に併設される略円環状の液体収容槽と、
前記キャップ部の下縁部を浸漬し、前記炉心管の内外雰囲気に連通する状態で前記液体収容槽に貯留された液体と、
を備えることを特徴とするガラス母材の製造装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載のガラス母材の製造装置であって、
前記液体は、パーフルオロポリエーテルまたはパーフルオロポリエーテルを含む液体であることを特徴とするガラス母材の製造装置。
【請求項４】
支持棒に接続された被加熱物を縦型の炉心管内に配置して、前記支持棒を挿通させた上蓋を前記炉心管の上部に取り付けた状態で前記被加熱物を加熱してガラス母材を製造する方法であって、
前記上蓋において、前記炉心管の内外雰囲気が連通する箇所を前記上蓋に貯留させた液体によって気密にすることを特徴とするガラス母材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被加熱物を縦型の炉心管内で加熱するガラス母材の製造装置及び製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光ファイバの製造などに使用されるガラス母材は、ＶＡＤ法やＯＶＤ法などによりガラス微粒子堆積体（多孔質ガラス母材）を生成し、その後、このガラス微粒子堆積体を加熱処理して脱水及び透明ガラス化を行い製造されている。更に必要に応じて、透明ガラス化後にアニール等の加熱処理を行う場合もある。これら加熱処理の工程では、脱水、透明ガラス化などの処理内容に応じて雰囲気ガスを選択して使用している。例えば、第１加熱処理では、Ｈｅと脱水ガス（塩素系ガスなど）を用いてガラス微粒子堆積体を脱水し、続く第２加熱処理では、Ｈｅのみの雰囲気で、脱水後のガラス微粒子堆積体を透明ガラス化している。
【０００３】
ガラス母材の製造装置を用いた加熱処理の具体的な方法としては、
（１）支持棒で支持されたガラス微粒子堆積体を炉心管内につり下げ、ガラス微粒子堆積体を塩素系ガス雰囲気下で脱水し、さらに不活性ガス雰囲気下もしくは不活性ガスと塩素系ガスの混合雰囲気下で透明ガラス化するか、あるいは、
（２）塩素系ガスで同じように脱水後、プロファイル（屈折率）調整のためＳｉＦ４などのガスを用いてＦ添加を行い、その後、不活性ガス雰囲気下、もしくは不活性ガスとハロゲン系ガスの混合雰囲気下で透明ガラス化する、
などが知られている。
【０００４】
ところで、このような方法の場合、ガラス母材の製造装置から腐食性ガス（塩素系ガス、フッ素系ガスなどのハロゲン系ガス）が漏れ、製造装置が設置された室内の各装置の金属部品を腐食させ、室内雰囲気中の金属系ダスト量が増加する場合がある。通常、この種の製造装置はガラス微粒子堆積体を製造するガラス微粒子堆積装置などと同じ室内に設置されている場合が多いが、室内の金属系ダスト量が増加すると、ガラス微粒子（スート）の堆積中に室内雰囲気中の金属系ダストがガラス微粒子堆積装置内に混入し、最終的に得られるガラス母材中にの金属不純物が混入することとなる。
【０００５】
通常、ガラス母材の製造装置から室内へ流出する腐食性ガスの大部分は、炉心管の上蓋の、支持棒が挿入されている部分から流出する。そこで、腐食性ガスの流出を防止する手段として、支持棒を覆う形で炉心管の上蓋を多段構造の円筒管で構成したものなどが知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００６】
これについて、以下に図面を参照しながら説明する。
図３は、ガラス微粒子堆積体焼結用の炉心管の上蓋構造の一例を示すものであり、この上蓋は、炉心管１００の上端に取り付けた略円筒形を有するシール構造であって、３つの小室１１０，１２０，１３０を設けており、天面をなすつば１４０と最下面をなすつば１５０には支持棒１６０が貫通するための孔を有している。
【０００７】
各小室１１０，１２０，１３０には、支持棒１６０に遊嵌する気密リング１１１，１２１，１３１が移動自在に挿入される。この気密リング１１１，１２１，１３１は、小室１１０，１２０，１３０内に各々移動可能に挿入されている。このため、支持棒１６０は、自由に上下動し、回転でき、支持棒１６０が振動や炉心管中心軸とのズレにより水平方向に動いたとしても、その動きに伴って気密リング１１１，１２１，１３１も移動できる。
【０００８】
また、排気ガスポート１１２を有する小室１１０に挿入される気密リング１１１のみが、その下面に中心部から周方向に向かう溝状のガス通路１１１Ａを設けている。更に、シールガス導入ポート１２２を有する小室１２０の上段に設ける小室１３０は、シールガスを導入または排出するポート（ガスポート）を持たず、小室１３０内に挿入された気密リング１３１にも周方向の溝状のガス通路を設けない。これにより、気密性を向上して外気の巻き込みを遮断する。また、排気ガスポート１１２を有する小室１１０とシールガス導入ポート１２２を有する小室１２０の間のコンダクタンスを小さくすることにより、各室の間の圧力差を確保すると同時に、小室１１０の排気ガスポート１１２からのワークガスの排出は気密リング１１１下面の周方向の溝１１１Ａにより十分に行なうことができる。
【０００９】
このように、上記の上蓋では、排気ガスポート１１２を有する小室１１０と、シールガス導入ポート１２２を有する小室１２０とを有するので、小室１２０にてシールガス導入ポート１２２からシールガスを導入し、小室１１０にて、シールガス導入ポート１２２からのシールガスとともに炉心管１００内からの腐食性ガスなどを排気ガスポート１１２から図示外のスクラバヘ排出できる。また、小室１３０は、シールガスを導入または排出するポート（ガスポート）を持たないので、小室１１０，１２０への外気の巻き込みを遮断して、気密性を高めることができる。
【００１０】
【特許文献１】特開２００２−２２６２１８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
近年、ガラス母材の大型化及びこれに伴う設備の大型化などにより、ガス給排気量が増加している。その結果、上蓋のガス給排気口近傍でのガス流速の増加が炉心管周方向などでの局所的な圧力変動をもたらし、炉の内圧変動につながっている。
特に、炉心管の内径拡大、それによる容積増大により、炉内における炉内ガスの局所対流が生じやすくなっている。この炉内ガスの局所対流が発生すると、炉内ガス平均温度が変化し、炉内ガスの体積変化から内圧変化につながりやすい。内圧変動が増加すると、例えばガラス母材の製造装置から腐食性ガスが室内に漏出したり、外気の巻き込みに起因する残存水分量の増加等のガラス母材の特性悪化が顕在化するなど、各種の不都合をもたらすことがある。
【００１２】
そこで本発明は、塩素系ガスやフッ素系ガスなどの腐食性ガスなどが上蓋側から漏れることを防ぎながら、炉心管内の圧力を安定化させることができるガラス母材の製造装置及び製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記課題を解決することのできる本発明に係るガラス母材の製造装置は、支持棒に接続された被加熱物を縦型の炉心管内で加熱するガラス母材の製造装置であって、前記炉心管の上部に取り付けられる上蓋は、前記炉心管の外気に対する前記炉心管の内側の雰囲気の気密を行う液体シール機構を有することを特徴とする。
【００１４】
また、本発明のガラス母材の製造装置において、前記液体シール機構は、前記支持棒に密接して装着されるキャップ部と、前記炉心管の上部に配置される上蓋本体に併設される略円環状の液体収容槽と、前記キャップ部の下縁部を浸漬し、前記炉心管の内外雰囲気に連通する状態で前記液体収容槽に貯留された液体と、を備えたことを特徴とする。
【００１５】
また、本発明のガラス母材の製造装置において、前記液体が、パーフルオロポリエーテルまたはパーフルオロポリエーテルを含む液体であることが好ましい。
【００１６】
また、上記課題を解決することのできる本発明に係るガラス母材の製造方法は、支持棒に接続された被加熱物を縦型の炉心管内に配置して、前記支持棒を挿通させた上蓋を前記炉心管の上部に取り付けた状態で前記被加熱物を加熱してガラス母材を製造する方法であって、前記上蓋において、前記炉心管の内外雰囲気が連通する箇所を前記上蓋に貯留させた前記液体によって気密にすることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、液体を用いて上蓋において炉心管の内外雰囲気が連通する箇所を気密にしているので、塩素系ガスやフッ素系ガスなどの腐食性ガスなどが上蓋から外部へ漏れることを防ぎながら、炉心管内の圧力を安定化できるガラス母材の製造装置及び製造方法を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明の実施形態について、ガラス微粒子堆積体を加熱処理する場合を例にして添付図面を参照しながら詳細に説明する。
図１は、本発明の実施形態に係るガラス母材の製造装置１を示すものであり、このガラス母材の製造装置１は、ガラス微粒子堆積体１０を加熱処理する加熱炉であり、縦型に配置された円筒形状の炉心管２と、炉心管２の外周側に配置された加熱源である円筒形状のヒータ３とを備えている。
【００１９】
炉心管２は、石英により形成されており、ヒータ３の発熱により昇温させられる。これにより、炉心管２の内側の炉内空間Ｓに収容したガラス微粒子堆積体１０を加熱することができる。
【００２０】
ガラス微粒子堆積体１０は、支持棒１０Ａに吊り下げられる形で支持棒１０Ａと一体化されており、支持棒１０Ａは把持装置８に把持される。また、把持装置８は、図示外の駆動手段により、支持棒１０Ａとともにガラス微粒子堆積体１０を上下、或いはその軸回りに回転させることも可能となっている。
また、炉心管２の上端には、ガラス微粒子堆積体１０の導入時や取り出し時にその開口部を開閉するため、本発明に係る上蓋４が着脱可能に取り付けてある。一方、炉心管２の下端には、適宜着脱可能な下蓋５が取り付けてある。
【００２１】
ヒータ３は、カーボンにより形成されており、また、ヒータ３の周囲には断熱材３１が配設されている。さらに、炉心管２と断熱材４は、炉の外殻をなす炉体２１に覆われている。
【００２２】
また、本実施形態に係るガラス母材の製造装置１には、ガラス微粒子堆積体１０を加熱処理する際に使用するガスを供給するとともにその供給量を制御するガス供給制御装置６を備えている。ガス供給制御装置６は、炉心管２の下端近傍に設けられた雰囲気ガス導入部２Ａから、炉心管２内に雰囲気ガスを供給する。雰囲気ガスとしては例えば、脱水処理時にはＨｅ等の不活性ガスと脱水ガス（塩素系ガスなど）が用いられ、透明ガラス化時には不活性ガスのみが用いられる。また、ガラス母材の屈折率調整のためにＳｉＦ４などの屈折率調整ガスを使用したり、格子欠陥の制御やガラス母材の特性改善のためにＨ２やＯ２、ＣＯなどのガスを雰囲気ガスとして使用する場合もある。
【００２３】
また、炉心管２の上端近傍には、炉心管内圧モニタ６Ａが設けられており、炉内空間Ｓの圧力Ｐを適時モニタすることができる。この炉心管内圧モニタ６Ａにて測定されたデータは、ガス供給制御装置６に送られて、雰囲気ガス導入部２Ａへの雰囲気ガスの供給量を調節するのに利用される。例えば、炉内空間Ｓの圧力を大気圧以上に維持することで、炉内空間Ｓへの外気の侵入を防ぐことができ、製造するガラス母材の品質を良好に維持できる。
【００２４】
炉内空間Ｓの雰囲気ガスは、上蓋４の上面に設けられた空間を通してスクラバ７へ排気される。この上蓋４には、炉内空間Ｓに面した蓋部４０の上面に、蓋部４０の略中央に形成された支持棒挿通口４０Ａと、この支持棒挿通口４０Ａを挿通させた支持棒１０Ａを覆う形で、短円筒状の排気室４１が設けられる。
【００２５】
さらに、排気室４１には、この排気室４１内のガスを排気する排気管４２が設けられ、排気室４１から排気されるガスがこの排気管４２を通してスクラバ７へ排気される。スクラバ７では、排気されてきたガスを清浄化処理する。
【００２６】
本実施形態のガラス母材の製造装置１では、前述したように、後に詳しく説明する上蓋４の、炉内空間Ｓの上端開口部を塞ぐ蓋部４０の直上に設けた排気室４１に、排気管４２が形成されているため、炉内空間Ｓから排気室４１へ流れ出た雰囲気ガスは排気管４２から排気される。このため、装置外へ塩素系ガスやフッ素系ガスなどの腐食性ガスが漏れるのを防ぐことができる。
【００２７】
さらに、本発明では、この上蓋４の排気室４１の上部に、後述する液体シール機構を付設しており、炉内空間Ｓでの圧力変動を抑制できるとともに、排気圧の急激な変動などが発生した場合でも、雰囲気ガスが上蓋４から装置外へ漏れ出ることを効果的に防ぐことができる。
【００２８】
次に、このガラス母材の製造装置１に装着された上蓋４及びその液体シール機構について、図２を参照しながら詳細に説明する。
本実施形態の上蓋４は、下部が平坦な蓋部４０を有するとともに上部が大きく開口した略二重円筒形状の本体４Ａと、この本体４Ａとは別体であり本体４Ａに入り込むようにして近接配置しながら支持棒１０Ａに密接して装着されるキャップ部４Ｂとを有する。
【００２９】
このうち、本体４Ａには、図２に示すように、前述した蓋部４０、排気室４１、および排気管４２のほかに、排気室４１の上部に後述するキャップ部４Ｂとの間で圧力緩衝室４３を形成する内側円筒部４４と、圧力緩衝室４３に連通する状態で並設した略円環状の液体収容槽４５を形成する外側円筒部４６とを設ける。また、圧力緩衝室４３と、液体収容槽４５と、後述の液体Ｌと、キャップ部４Ｂは、本発明の液体シール機構を構成している。
【００３０】
圧力緩衝室４３は、排気室４１との間が連通されており、炉心管２内部の雰囲気ガスの一部が支持棒挿通口４０Ａを通り排気室４１から流入する。また、この圧力緩衝室４３は、外部との間のガスなどの出入が、後述する液体収容槽４５内に貯留した液体Ｌにより遮断されている。したがって、この圧力緩衝室４３の室内圧Ｐ１が外気圧Ｐ０との間に圧力差を生じる場合でも、圧力緩衝室４３の内部圧力をそのまま保持できる。これにより、炉心管２内部のその後の圧力変化を抑えて圧力の安定化を図ることができる。
【００３１】
液体収容槽４５は、前述したように、内側円筒部４４と、これから突出する外側円筒部４６とで構成されており、ここに液体Ｌが貯留されている。したがって、炉心管２側から流入する雰囲気ガスによって圧力緩衝室４３の圧力と外部の外気圧との間に圧力差を生じた場合、その圧力増大分だけ圧力緩衝室４３側の液体Ｌの液面が押下され、液面差を生じさせて圧力緩衝室４３の容積が増加する。すなわち、発生する差圧（＝Ｐ１−Ｐ０）を液体の液面差（＝Ｈ１−Ｈ２）に転換させることで、その後、圧力緩衝室４３内部の気圧をそのまま保持できる。これにより、圧力緩衝室４３の圧力の安定化を図ることができ、その結果として炉心管２の内圧も安定させることができる。また、液体Ｌがあることで、炉心管２内部の雰囲気ガスが外部へ漏出するのを防止できるとともに、外部から気体が流入するのも防止できる。
【００３２】
なお、液体収容槽４５については、下記のような深さに形成すると良い。
ガラス微粒子堆積体１０を加熱処理し、脱水及び透明ガラス化を行う際に、通常、外気圧と炉内の圧力との間に、最大ΔＰｍａｘ程度の差圧を発生するものとする。
ここで、例えば、外気圧（Ｐ０）に対して炉内の圧力（Ｐ１）のほうが高い場合には、図２のように液面の高さに差を生じたところでつり合って静止する。したがって、炉内の液面がＨ１、大気圧側の液面がＨ２、炉内側で内圧Ｐ１を受ける液面の面積をＳ１、炉外側で外気圧Ｐ０を受ける液面の面積をＳ２とすると、次式が成立する。
（Ｐ１＋ρ・ｇ・Ｈ１）×Ｓ１＝（Ｐ０＋ρ・ｇ・Ｈ２）×Ｓ２
但し、ρ；液体Ｌの比重、ｇ；重力加速度
ここで例えば、Ｓ１とＳ２が等しくなるような設備構成とする場合には、Ｈ１とＨ２の液面差（ΔＨ）について以下の式が成立する。
ΔＨ＝Ｈ２−Ｈ１＝（Ｐ１−Ｐ０）／（ρ・ｇ）  …（１）  
【００３３】
したがってこのような場合には、（１）式から、液体収容槽４５は、少なくとも、通常発生する最大の圧力差（ΔＰｍａｘ）に対応する液面差（ΔＨｍａｘ）の深さ、つまり次式
ΔＨｍａｘ＝ΔＰｍａｘ／（ρ・ｇ）  …（２）
を上回る高さに側壁（外側円筒部４６）を形成しておく。Ｓ１とＳ２が異なる場合には、その面積差を加味した上で側壁の高さを決定する。
【００３４】
キャップ部４Ｂは、下部が開口した略円筒形状を有するものであって、中央部には支持棒１０Ａを挿通させるための孔４７を形成している。また、キャップ部４Ｂは、このキャップ部４Ｂの下縁部４８を液体収容槽４４の液体Ｌに浸漬させることにより、内側円筒部４４との間で気密状態の圧力緩衝室４３を形成する。なお、このキャップ部４Ｂの下縁部４８の内周面と内側円筒部４４の外周面との間の間隔Ｄは、液体Ｌに圧力が作用しないようにするため、なるべく小さくするのが好ましい。
【００３５】
一方、孔４７に挿通させる支持棒１０Ａには、キャップ部４Ｂとの間を気密状態にシールさせるために、例えばフッ素系樹脂或いは合成ゴムなどのシール部材１０Ｂを装着させており、その上にキャップ部４Ｂを載置する。これにより、キャップ部４Ｂは支持棒１０Ａと気密状態を保持しながら一体で回転する。
【００３６】
液体Ｌは、炉心管２内部の雰囲気ガス、つまり腐食性ガス（例えば塩素系ガス、フッ素系ガスなどのハロゲン系ガス）に対して耐食性があり、また、これらのガスと化学反応する虞がなく、炉内汚損防止も配慮して蒸気圧の低いものが好ましい。しかも、この液体Ｌが収容される上蓋４は、炉体中央部の熱が伝わり２００〜３００℃程度にまで加熱されることを考慮し、沸点がそれよりも高い液体が好ましい。さらに、管内の圧力変動の影響を受け難くして液面の安定化も図るため、所定の粘性を有するものが好ましい。そこで、この液体Ｌには、フッ素オイル、具体的にはパーフルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）、もしくはこのパーフルオロポリエーテルを含む液体を用いる。
【００３７】
したがって、本実施形態のガラス母材の製造装置１によって、ガラス微粒子堆積体を加熱処理し、脱水及び透明ガラス化を行う際に、外気圧と炉内の圧力との間に差圧（ΔＰ）が生じても、キャップ部４Ｂの下縁部４８は液体収容槽４５に湛えてあるシール用の液体Ｌに浸漬しており、圧力緩衝室４３は高気密性状態に保持できるため、炉内の圧力を常時一定に安定化させることができる。
【００３８】
より詳細に説明すると、液体シール機構を備えた上蓋４によれば、炉内外の差圧に応じて液面が変動する。例えば外気圧（Ｐ０）に対して炉内の圧力（Ｐ１）が高いと、図２のように液体収容槽４５内の液体Ｌの液面に差を生じることで、圧力緩衝室４３の圧力を一定に保持できる。また、外気圧（Ｐ０）に対して炉内の圧力（Ｐ１）が低くなると、図２とは逆に外気圧側の液面が下降し、炉内側の液面が上昇する。つまり、圧力緩衝室４３の容積が収縮し、差圧の変動を吸収するので、圧力緩衝室４３の圧力を一定に保持できる。
このように、炉内の圧力緩衝室４３の容積が変動することで、炉内の圧力を常時一定に安定化させることができる。
【００３９】
しかも、液体シール機構を備えた上蓋４によれば、上蓋４の本体４Ａとキャップ部４Ｂとの間でのガス出入を、液体収容槽４５に湛えてあるシール用の液体Ｌで遮断させているので、炉内の腐食性ガスなどの漏出を防止できるとともに、炉外からの気体の流入も阻止できる。
【００４０】
なお、本発明のガラス母材の製造装置及び製造方法は、前述した実施形態に限定されるものでなく、適宜な変形、改良等が可能である。
例えば、上記実施形態では、炉心管２は石英により形成されているが、高純度カーボンで形成することも可能である。また、ヒータ３として、誘導加熱式の加熱手段を採用することも可能である。
【実施例】
【００４１】
本実施例では、ガラス母材の製造を行うために、上記の実施形態に係るガラス母材の製造装置１（上蓋４を含む）を用いている。
加熱炉である炉心管２には内径が３５０ｍｍのものを用いており、この炉心管２を用いてガラス微粒子堆積体１０を加熱処理する。なお、この炉心管２に取り付けるガラス微粒子堆積体１０は、ＶＡＤ、或いはＯＶＤ等で作成された一般的なものであって、１０００〜１３００℃で前処理を行い、１３００〜１５００℃で透明ガラス化させる。
【００４２】
上蓋４は、本体４Ａ及びキャップ部４Ｂともに石英で形成されている。キャップ部４Ｂは、直径５０ｍｍの支持棒１０Ａに固定されており、支持棒１０Ａとともに４０ｒｐｍで回転する。キャップ部４の固定位置は、ガラス微粒子堆積体１０の大きさで予め決定している。これにより、キャップ部４は、支持棒１０Ａに固定の際には、支持棒１０Ａとの間で気密性を良好に保つことができる。
【００４３】
キャップ部４の下縁部４８は、液体収容槽４５に貯留して湛えてあるシール用の液体Ｌに接触させる。つまり、キャップ部４の下縁部４８は、炉内圧と装置１を設置する室内圧（外気圧）との差圧及び変動幅を考慮して、シール剤である液体Ｌへ挿入する。この液体Ｌには、炉内で腐食性ガスを用いる場合が多いため、耐熱性のみではなく耐腐食性が要求される。さらに、この液体Ｌには、上記実施形態で説明したように、ガラス微粒子堆積体１０の汚染防止の観点から、蒸気圧の低いものが好ましく、３００度程度の耐熱性も必要であるため、パーフルオロポリエーテルを使用した。
【００４４】
ガラス微粒子堆積体１０を加熱処理する際の炉内圧と製造装置１を設置する室内圧との差圧は、通常、−５００〜＋５００Ｐａ程度の範囲内である。例えば、シール剤の比重が１であって、差圧が−３００Ｐａの場合には、キャップ部４の下縁部４８は少なくとも３０ｍｍ以上液体Ｌに浸漬させる。
【００４５】
このような構成のガラス母材の製造装置を用いて、ガラス微粒子堆積体１０を加熱処理したところ、炉内圧力として、大気圧に対して＋５００Ｐａ（陽圧）を保持することができた。また、炉内部の雰囲気ガス、つまり腐食性ガスの炉外への漏れを塩素検出器で検出したところ、検知されなかったことから、特に漏れはなかったことが確認された。
【００４６】
なお、上記実施形態では、ガラス母材の製造装置１を使用してガラス微粒子堆積体１０を加熱処理し、透明なガラス母材を製造する場合について説明してきたが、エッチング処理などの場合にも適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】本発明に係るガラス母材の製造装置を示す概略構成図である。
【図２】図１に示す上蓋の部分断面図である。
【図３】従来のガラス母材の製造装置における上蓋の例を示す断面図である。
【符号の説明】
【００４８】
１  ガラス母材の製造装置
２  炉心管
３  ヒータ
Ｓ  炉内空間
４  上蓋
４０  蓋部
４０Ａ  支持棒挿通口
４１  排気室
４２  排気管
４Ａ  本体
４Ｂ  キャップ部
４３  圧力緩衝室
４４  内側円筒部
４５  液体収容槽
４６  外側円筒部
４８  下縁部
７  スクラバ
１０  ガラス微粒子堆積体
１０Ａ  支持棒
Ｌ  液体
Ｓ  炉内空間
【図１】
2008184372.tif 000003
【図２】
2008184372.tif 000004
【図３】
2008184372.tif 000005