(57)【要約】【課題】薬液と純水とを混合させた処理液により基板の処理を行う装置において、薬液供給系の構成や制御系を簡易化し、設置スペースも小さくすることができる装置を提供する。【解決手段】薬液と純水とを混合して調製された処理液１２を貯留しその処理液１２中に基板を浸漬させて処理する処理槽１０と、処理槽１０の内部に配設された液噴出管１８に処理液供給管２０を介して接続され純水の水流によって生じる負圧により吸入口２４ｃから薬液を吸引して純水と薬液とを混合させるアスピレータ２４と、アスピレータの導液接続口２４ｂに接続された純水供給管２６を通してアスピレータ２４へ純水を供給する純水供給源と、アスピレータの吸入口２４ｃに接続された薬液供給管４２を通してアスピレータ２４へ薬液を供給する薬液供給源とを備えて装置が構成される。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
薬液と純水とを混合して調製された処理液により基板を処理する基板処理部と、
前記基板処理部に処理液供給路を介して接続され、純水の水流によって生じる負圧により吸入口から薬液を吸引して純水と薬液とを混合させるアスピレータと、
前記アスピレータの導液接続口に接続された純水供給路を通して前記アスピレータへ純水を供給する純水供給手段と、
前記アスピレータの吸入口に接続された薬液供給路を通して前記アスピレータへ薬液を供給する薬液供給手段と、
を備えたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置において、
前記薬液供給手段は、
前記アスピレータの吸入口に一端が接続された混合薬液供給路と、
前記混合薬液供給路の他端が接続された薬液混合槽と、
前記薬液混合槽に接続された複数の被混合薬液供給路を通して前記薬液混合槽内へ複数種類の薬液をそれぞれ個別に供給する被混合薬液供給手段と、
を備えたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項３】
請求項１に記載の基板処理装置において、
前記薬液供給手段は、
前記アスピレータの吸入口に一端が接続された混合薬液供給路と、
前記混合薬液供給路にそれぞれ接続された複数の被混合薬液供給路を通して前記混合薬液供給路へ複数種類の薬液をそれぞれ個別に供給する被混合薬液供給手段と、
を備えたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項４】
請求項１に記載の基板処理装置において、
前記アスピレータは第１のアスピレータであるとともに、前記薬液は第１の薬液であり、
前記第１のアスピレータと前記基板処理部との間に流路的に介設され、前記第１のアスピレータで混合された純水と第１の薬液との混合液の液流によって生じる負圧により吸入口から第２の薬液を吸引して前記混合液と第２の薬液とを混合させる第２のアスピレータと、
前記第２のアスピレータの吸入口に接続された第２の薬液供給路を通して前記第２のアスピレータへ第２の薬液を供給する第２の薬液供給手段と、
をさらに備えたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項５】
請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記薬液供給路の途中に連通する洗浄水供給路と、
前記洗浄水供給路を通して前記薬液供給路へ洗浄用純水を供給する洗浄水供給手段と、
前記洗浄水供給路を前記薬液供給路に選択的に流路接続させる流路切替手段と、
をさらに備えたことを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等の基板を処理液により洗浄、エッチング等の処理する基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
塩酸（ＨＣｌ）、過酸化水素水（Ｈ２Ｏ２）等の薬液と純水とを混合させた処理液により基板に対して洗浄等の処理を行う基板処理装置、例えば浸漬式の基板処理装置は、処理液を収容してその処理液中に基板が浸漬されて処理される処理槽と、薬液と純水とを混合させることにより処理液を調製してその処理液を処理槽内へ供給する処理液供給系とを備えて構成されている。処理液供給系は、従来、処理槽に処理液供給路を介して流路接続され薬液と純水とを混合させて処理液を調製する混合部（ミキシングバルブ）、この混合部に純水供給路を介して流路接続され混合部へ純水を供給する純水供給源、混合部に薬液供給路を介して流路接続され薬液を貯留する密閉構造の薬液タンク、この薬液タンクの内部空間に連通したガス導入管を介して薬液タンクに流路接続され薬液タンク内部へ不活性ガス、例えば窒素ガス（Ｎ２）を供給するガスボンベ等の窒素ガス供給源などを備えて構成される。そして、薬液は、薬液タンクの内部空間へ導入される窒素ガスで薬液タンク内の薬液の液面を加圧することにより、薬液タンク内から薬液供給路を通して混合部へ供給される（例えば、特許文献１参照。）。
【特許文献１】特開平１１−１９６０５号公報（第５頁、図１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
上記したような従来の処理液供給系を備えた基板処理装置においては、混合部へ薬液を供給するために、密閉構造の薬液タンクを設置する必要がある。また、薬液タンクの内部空間を加圧するために、ガスボンベ等のガス供給源およびガス供給配管を設ける必要がある。さらに、所定流量の薬液が混合部へ供給されるように、薬液タンクへ供給される窒素ガスの圧力を制御する制御機構も必要となってくる。このように、従来の装置では、薬液供給系の構成や制御系が複雑となり、また、タンクやボンベなどを設けるために設置スペースが大きくなる、といった問題点がある。
【０００４】
この発明は、以上のような事情に鑑みてなされたものであり、薬液と純水とを混合させた処理液により基板の処理を行う装置において、薬液供給系の構成や制御系を簡易化することができ、設置スペースも小さくすることができる基板処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
請求項１に係る発明は、薬液と純水とを混合させた処理液により基板の処理を行う基板処理装置において、薬液と純水とを混合して調製された処理液により基板を処理する基板処理部と、前記基板処理部に処理液供給路を介して接続され、純水の水流によって生じる負圧により吸入口から薬液を吸引して純水と薬液とを混合させるアスピレータと、前記アスピレータの導液接続口に接続された純水供給路を通して前記アスピレータへ純水を供給する純水供給手段と、前記アスピレータの吸入口に接続された薬液供給路を通して前記アスピレータへ薬液を供給する薬液供給手段と、を備えたことを特徴とする。
【０００６】
請求項２に係る発明は、請求項１に記載の基板処理装置において、前記薬液供給手段が、前記アスピレータの吸入口に一端が接続された混合薬液供給路と、前記混合薬液供給路の他端が接続された薬液混合槽と、前記薬液混合槽に接続された複数の被混合薬液供給路を通して前記薬液混合槽内へ複数種類の薬液をそれぞれ個別に供給する被混合薬液供給手段と、を備えたことを特徴とする。
【０００７】
請求項３に係る発明は、請求項１に記載の基板処理装置において、前記薬液供給手段が、前記アスピレータの吸入口に一端が接続された混合薬液供給路と、前記混合薬液供給路にそれぞれ接続された複数の被混合薬液供給路を通して前記混合薬液供給路へ複数種類の薬液をそれぞれ個別に供給する被混合薬液供給手段と、を備えたことを特徴とする。
【０００８】
請求項４に係る発明は、請求項１に記載の基板処理装置において、前記アスピレータは第１のアスピレータであるとともに、前記薬液は第１の薬液であり、前記第１のアスピレータと前記基板処理部との間に流路的に介設され、前記第１のアスピレータで混合された純水と第１の薬液との混合液の液流によって生じる負圧により吸入口から第２の薬液を吸引して前記混合液と第２の薬液とを混合させる第２のアスピレータと、前記第２のアスピレータの吸入口に接続された第２の薬液供給路を通して前記第２のアスピレータへ第２の薬液を供給する第２の薬液供給手段と、をさらに備えたことを特徴とする。
【０００９】
請求項５に係る発明は、請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の基板処理装置において、前記薬液供給路の途中に連通する洗浄水供給路と、前記洗浄水供給路を通して前記薬液供給路へ洗浄用純水を供給する洗浄水供給手段と、前記洗浄水供給路を前記薬液供給路に選択的に流路接続させる流路切替手段と、をさらに備えたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
請求項１に係る発明の基板処理装置においては、純水供給手段によって供給される純水がアスピレータ内を流れるときの水流によって生じる負圧により、薬液供給手段によって供給される薬液がアスピレータ内に自然吸引され、アスピレータ内で薬液と純水とが混合されて処理液が調製されるので、薬液の供給のために密閉構造の薬液タンクを設置したり薬液タンクの内部空間を加圧するためにガスボンベ等のガス供給源やガス供給配管を設けたり薬液タンクへ供給されるガスの圧力を制御する制御機構を備えたりする必要が無くなる。
したがって、請求項１に係る発明の基板処理装置を使用すると、薬液供給系の構成や制御系を簡易化することができ、設置スペースも小さくすることができる。
【００１１】
請求項２に係る発明の基板処理装置では、薬液混合槽で複数種類の薬液が混合され、その混合薬液がアスピレータへ供給されて、アスピレータ内を流れる純水の水流によって生じる負圧により混合薬液がアスピレータ内に自然吸引され、アスピレータ内で混合薬液と純水とが混合される。これにより、複数種類の薬液と純水とを混合させた処理液をアスピレータで調製することができる。
【００１２】
請求項３に係る発明の基板処理装置においては、複数種類の薬液が各被混合薬液供給路から混合薬液供給路へそれぞれ流れ込んで合流することにより混合され、その混合薬液がアスピレータへ供給されて、アスピレータ内を流れる純水の水流によって生じる負圧により混合薬液がアスピレータ内に自然吸引され、アスピレータ内で混合薬液と純水とが混合される。これにより、複数種類の薬液と純水とを混合させた処理液をアスピレータで調製することができる。
【００１３】
請求項４に係る発明の基板処理装置においては、第１のアスピレータで混合された純水と第１の薬液との混合液が第２のアスピレータ内を流れるときの液流によって生じる負圧により、第２の薬液供給手段によって供給される第２の薬液が第２のアスピレータ内に自然吸引され、第２のアスピレータ内で第２の薬液と混合液とが混合される。これにより、２種類の薬液と純水とを混合させた処理液を調製することができる。
【００１４】
請求項５に係る発明の基板処理装置においては、基板の処理が行われていないときに、流路切替手段によって洗浄水供給路を薬液供給路に流路接続させ、洗浄水供給手段によってアスピレータへ洗浄用純水が供給されるようにすることにより、純水供給手段によって供給される純水がアスピレータ内を流れるときの水流による負圧によって洗浄用純水がアスピレータ内に自然吸引される。これにより、薬液供給路の一部およびアスピレータの内部を洗浄用純水で洗浄することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、この発明の最良の実施形態について図面を参照しながら説明する。
図１は、この発明の実施形態の１例を示す基板処理装置の概略構成図である。
【００１６】
この基板処理装置は、急速排水機能を有する処理槽１０を備え、この処理槽１０内に処理液１２が貯留され、処理槽１０内の処理液１２中に半導体ウエハ等の基板Ｗが浸漬されて洗浄処理される。また、処理槽１０内に純水を貯留させて、その純水中に基板Ｗを浸漬させることにより、基板Ｗが最終リンス処理される。処理槽１０は、その底部に排液口１４が設けられ、その排液口１４に急速排水弁１６が取り付けられている。そして、急速排水弁１６を開放動作させることにより、処理槽１０内から排液口１４を通って短時間で処理液あるいは純水を排出させることができる。また、処理槽１０の上部からは処理液や純水をオーバーフローさせることができる。さらに、最終リンス処理の際に処理槽１０内の純水の比抵抗値を測定するために、処理槽１０の上部に開閉弁１５を介在させて比抵抗計１７が設置されている。
【００１７】
処理槽１０の内底付近には、複数の液噴出口を有する液噴出管１８が配設されている。液噴出管１８には、処理液供給管２０が連通接続されており、処理液供給管２０の途中に、処理液中の薬液濃度、この例では塩酸濃度を測定して監視する濃度計２２が介設されている。そして、処理液供給管２０がアスピレータ２４の液流出口２４ａに連通接続されている。アスピレータ２４は、図２の正面図を示すように、一端面に液流出口２４ａを有し他端面に純水を導入する導液接続口２４ｂを有しており、側面に薬液を吸入する吸入口２４ｃを有している。アスピレータ２４の内部には、液流出口２４ａおよび吸入口２４ｃに連通する内部流路２４ｄが形成されている。そして、導液接続口２４ｂに連通する噴出管２４ｅが、内部流路２４ｄ中に突出するように形設されており、その噴出管２４ｅの先端噴出口が液流出口２４ａと対向するように設けられている。このような構造を備えたアスピレータ２４では、導液接続口２４ｂを通って導入され噴出管２４ｅの先端噴出口から噴出する純水の水流によって内部流路２４ｄが減圧状態となり、その負圧により吸入口２４ｃから塩酸（ＨＣｌ）等の薬液を吸引して、純水に薬液が混合させられる。
【００１８】
アスピレータ２４の導液接続口２４ｂには、純水供給源に流路接続された純水供給管２６が連通接続されている。純水供給管２６には、上流側から純水の供給圧力を一定に調整するレギュレータ２８および開閉弁３０、３２が介挿されている。また、純水供給管２６には、開閉弁３２の上流側で分岐し開閉弁３２の下流側で流路的に合流するバイパス管３４が設けられており、バイパス管３４に、純水の流量を微調整するためのニードル弁３６が介挿されている。
【００１９】
また、アスピレータ２４の吸入口２４ｃには、薬液３８を一時的に貯留するバッファタンク４０の底部に一端が接続された薬液供給管４２の他端が連通接続されている。バッファタンク４０には、薬液、例えば塩酸の供給源に流路接続されフィルタ４６が介挿された薬液送給管４４が接続されている。そして、薬液供給源から薬液送給管４４を通ってバッファタンク４０内へ薬液が適宜補充されることにより、バッファタンク４０内には常に所定量の薬液３８が貯留されている。薬液供給管４２には、マニホルドバルブ４８、流量計５０、開閉弁５２およびニードル弁５４がそれぞれ介挿されており、ニードル弁５４によって薬液の流量が微調整される。また、マニホルドバルブ４８は、２つの開閉弁４８ａ、４８ｂと開閉弁４８ｂに接続し薬液供給管４２に連通する合流管４８ｃとを備え、マニホルドバルブ４８の開閉弁４８ｂに、洗浄用の純水供給源に流路接続された純水供給管５６が接続されている。そして、マニホルドバルブ４８を切替え操作することにより、基板Ｗの処理を行っているときはバッファタンク４０とアスピレータ２４とを流路的に接続させ、メンテナンスを行うときには洗浄用の純水供給源とアスピレータ２４とを流路的に接続させることができる。
【００２０】
上記した構成を備えた基板処理装置では、純水供給源から純水供給管２６を通ってアスピレータ２４へ所定の圧力および流量の純水が供給される。このとき、薬液供給管４２内は、バッファタンク４０内から重力で自然流出した薬液でアスピレータ２４の吸入口２４ｃの手前まで満たされている。そして、アスピレータ２４へ供給された純水がアスピレータ２４内を流れるときの水流によって生じる負圧により、薬液供給管４２内から薬液がアスピレータ２４内へ自然吸引され、その流量分だけバッファタンク４０内から薬液３８が薬液供給管４２へ流出する。このようにしてアスピレータ２４内へ薬液が吸入されることにより、アスピレータ２４内を通過する純水に薬液が混合されて処理液が調製される。アスピレータ２４で調製された処理液は、純水供給源からの純水の供給圧力により処理液供給管２０を通って液噴出管１８へ送液され、液噴出管１８の複数の噴出口から噴出して処理槽１０内へ供給される。そして、処理槽１０内に満たされた処理液１２中に基板Ｗが浸漬されて基板Ｗの洗浄処理が行われる。
【００２１】
また、基板Ｗの洗浄処理が行われていないときに、マニホルドバルブ４８を切替え操作して、洗浄用の純水供給源とアスピレータ２４とを流路的に接続させ、純水供給源から純水供給管２６を通ってアスピレータ２４へ純水を供給すると、アスピレータ２４へ供給された純水がアスピレータ２４内を流れるときの水流によって生じる負圧により、薬液供給管４２および純水供給管５６を通して洗浄用純水がアスピレータ２４内へ自然吸引される。このようにすることにより、薬液供給管４２の一部やアスピレータ２４の内部を洗浄用純水で洗浄することができる。あるいは、純水供給源から純水供給管２６を通ってアスピレータ２４へ純水を供給することなく、洗浄用の純水供給源から純水供給管５６および薬液供給管４２を通ってアスピレータ２４へ所定の圧力の純水を供給することにより、薬液供給管４２の一部やアスピレータ２４の内部を洗浄用純水で洗浄するようにしてもよい。
【００２２】
次に、図３は、この発明の別の実施形態を示す基板処理装置の概略構成図である。図３において（図４および図５においても同じ）、図１で使用した符号と同一の符号を付した構成要素・部材は、図１に関して説明した上記構成要素・部材と同一機能・作用を有するものであり、それらについての重複する説明を省略する。また、図３においては（図４および図５においても同じ）、処理槽１０の図示を省略している。
【００２３】
図３に示した基板処理装置では、アスピレータ２４の吸入口２４ｃに混合薬液供給管５８の一端が連通接続され、混合薬液供給管５８の他端が薬液混合槽６０の底部に接続されている。薬液混合槽６０には、第１の薬液６２、例えば塩酸（ＨＣｌ）を一時的に貯留する第１のバッファタンク６４の底部に一端が接続され開閉弁６８が介挿された第１の薬液供給管６６の他端、ならびに、第２の薬液７０、例えば過酸化水素水（Ｈ２Ｏ２）を一時的に貯留する第２のバッファタンク７２の底部に一端が接続され開閉弁７６が介挿された第２の薬液供給管７４の他端がそれぞれ接続されている。第１のバッファタンク６４には、第１の薬液である塩酸の供給源に流路接続されフィルタ８０が介挿された第１の薬液送給管７８が接続されており、また、第２のバッファタンク７２には、第２の薬液である過酸化水素水の供給源に流路接続されフィルタ８４が介挿された第２の薬液送給管８２が接続されている。そして、各バッファタンク６４、７２から各薬液供給管６６、７４を通って薬液混合槽６０内へ塩酸および過酸化水素水がそれぞれ適宜供給されることにより、薬液混合槽６０内には常に、塩酸と過酸化水素水とが所定割合で混合された所定量の混合薬液８６が貯留されている。また、混合薬液供給管５８には、濃度計８８、開閉弁９０およびニードル弁９２がそれぞれ介挿されており、ニードル弁９２によって混合薬液の流量が微調整される。
【００２４】
図３に示した構成の基板処理装置では、薬液混合槽６０内から重力で自然流出した混合薬液が混合薬液供給管５８内にアスピレータ２４の吸入口２４ｃの手前まで満たされ、この状態において、純水供給源から純水供給管２６を通ってアスピレータ２４へ所定の圧力および流量の純水が供給される。そして、アスピレータ２４へ供給された純水がアスピレータ２４内を流れるときの水流によって生じる負圧により、混合薬液供給管５８内から混合薬液がアスピレータ２４内へ自然吸引され、その流量分だけ薬液混合槽６０内から混合薬液８６が混合薬液供給管５８へ流出する。このようにしてアスピレータ２４内へ混合薬液が吸入されることにより、アスピレータ２４内を通過する純水に混合薬液が混合されて、塩酸と過酸化水素水と純水とが混合した処理液が調製される。アスピレータ２４で調製された処理液は、純水供給源からの純水の供給圧力により処理液供給管２０を通って処理槽１０底部の液噴出管１８（図３には図示せず）へ送液される。
【００２５】
図４は、この発明のさらに別の実施形態を示す基板処理装置の概略構成図である。
図４に示した基板処理装置では、アスピレータ２４の吸入口２４ｃに混合薬液供給管９４の一端が連通接続され、混合薬液供給管９４の他端側に、第１の薬液９６、例えば塩酸を一時的に貯留する第１のバッファタンク９８の底部に一端が接続され開閉弁１０２が介挿された第１の薬液供給管１００の他端、および、第２の薬液１０４、例えば過酸化水素水を一時的に貯留する第２のバッファタンク１０６の底部に一端が接続され開閉弁１１０が介挿された第２の薬液供給管１０８の他端が、それぞれ合流するように連通接続されている。第１のバッファタンク９８には、第１の薬液である塩酸の供給源に流路接続されフィルタ１１４が介挿された第１の薬液送給管１１２が接続されており、また、第２のバッファタンク１０６には、第２の薬液である過酸化水素水の供給源に流路接続されフィルタ１１８が介挿された第２の薬液送給管１１６が接続されている。そして、それぞれの薬液供給源から第１および第２の薬液送給管１１２、１１６を通って第１および第２のバッファタンク９８、１０６内へ第１の薬液および第２の薬液が適宜補充されることにより、各バッファタンク９８、１０６内には常に所定量の第１および第２の薬液９６、１０４がそれぞれ貯留されている。また、混合薬液供給管９４には、流量計１２０、開閉弁１２２およびニードル弁１２４がそれぞれ介挿されており、ニードル弁１２４によって混合薬液の流量が微調整される。
【００２６】
図４に示した構成の基板処理装置では、第１および第２のバッファタンク９８、１０６内からそれぞれ重力で自然流出した第１および第２の薬液が、第１および第２の薬液供給管１００、１０８を通り混合薬液供給管９４内へそれぞれ流れ込んで合流することにより、第１の薬液である塩酸と第２の薬液である過酸化水素水とが混合され、その混合薬液が混合薬液供給管９４内にアスピレータ２４の吸入口２４ｃの手前まで満たされている。この状態において、純水供給源から純水供給管２６を通ってアスピレータ２４へ所定の圧力および流量の純水が供給されると、アスピレータ２４へ供給された純水がアスピレータ２４内を流れるときの水流によって生じる負圧により、混合薬液供給管９４内から混合薬液がアスピレータ２４内へ自然吸引され、その流量分だけ第１および第２のバッファタンク９８、１０６内から第１および第２の薬液９６、１０４が第１および第２の薬液供給管１００、１０８内にそれぞれ流出して、第１および第２の薬液が混合薬液供給管９４内へそれぞれ流入し混合される。このようにしてアスピレータ２４内へ混合薬液が吸入されることにより、アスピレータ２４内を通過する純水に混合薬液が混合されて、塩酸と過酸化水素水と純水とが混合した処理液が調製される。アスピレータ２４で調製された処理液は、純水供給源からの純水の供給圧力により処理液供給管２０を通って処理槽１０底部の液噴出管１８（図４には図示せず）へ送液される。
【００２７】
図５は、この発明のさらに別の実施形態を示す基板処理装置の概略構成図である。
図５に示した基板処理装置では、図１に示した構成の装置において、アスピレータ２４の液流出口２４ａに接続された処理液供給管２０の途中に第２のアスピレータ１２６が介設されている。そして、第２のアスピレータ１２６の液流出口１２６ａが処理槽１０底部の液噴出管１８（図５には図示せず）に流路的に接続し、第２のアスピレータ１２６の導液接続口１２６ｂがアスピレータ２４の液流出口２４ａに流路的に接続している。第２のアスピレータ１２６の吸入口１２６ｃには、第２の薬液１２８を一時的に貯留する第２のバッファタンク１３０の底部に一端が接続された第２の薬液供給管１３２の他端が連通接続されている。第２のバッファタンク１３０には、第２の薬液、例えば過酸化水素水の供給源に流路接続されフィルタ１３６が介挿された第２の薬液送給管１３４が接続されている。そして、第２の薬液供給源から第２の薬液送給管１３４を通って第２のバッファタンク１３０内へ第２の薬液が適宜補充されることにより、第２のバッファタンク１３０内には常に所定量の第２の薬液１２８が貯留されている。第２の薬液供給管１３２には、流量計１３８、開閉弁１４０およびニードル弁１４２がそれぞれ介挿されており、ニードル弁１４２によって第２の薬液の流量が微調整される。
【００２８】
図５に示した構成の基板処理装置では、アスピレータ２４で調製された純水と薬液（塩酸）との混合液が第２のアスピレータ１２６へ供給される。このとき、第２の薬液供給管１３２内は、第２のバッファタンク１３０内から重力で自然流出した第２の薬液で第２のアスピレータ１２６の吸入口１２６ｃの手前まで満たされている。そして、第２のアスピレータ１２６へ供給された混合液がアスピレータ１２６内を流れるときの液流によって生じる負圧により、第２の薬液供給管１３２内から第２の薬液が第２のアスピレータ１２６内へ自然吸引され、その流量分だけ第２のバッファタンク１３０内から第２の薬液１２８が第２の薬液供給管１３２へ流出する。このようにして第２のアスピレータ１２６内へ第２の薬液が吸入されることにより、第２のアスピレータ１２６内を通過する混合液に第２の薬液が混合されて、塩酸と過酸化水素水と純水とが混合した処理液が調製される。第２のアスピレータ１２６で調製された処理液は、純水供給源からの純水の供給圧力により処理液供給管２０を通って処理槽１０底部の液噴出管１８（図５には図示せず）へ送液される。
【００２９】
なお、図３および図４に示した実施形態では、２種類の薬液を混合させた混合薬液と純水とをアスピレータ２４で混合させて処理液を調製するようにしているが、３種類もしくはそれ以上の種類の薬液を混合させた混合薬液と純水とをアスピレータ２４で混合させて処理液を調製するようにしてもよい。また、図５に示した実施形態では、２つのアスピレータ２４、１２６を直列に流路接続して２種類の薬液と純水とを混合させた処理液を調製するようにしているが、３つもしくはそれ以上のアスピレータを直列に流路接続して３種類もしくはそれ以上の種類の薬液と純水とを混合させた処理液を調製するようにしてもよい。さらに、この発明は、処理槽内に貯留された処理液中に基板を浸漬させて処理する浸漬式の基板処理装置に限らず、例えば、基板を水平姿勢に保持して鉛直軸回りに回転させつつ、ノズルから基板の表面へ処理液を吐出して供給し、処理液で基板を処理する基板回転式の処理装置などにも適用し得るものである。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】この発明の実施形態の１例を示す基板処理装置の概略構成図である。
【図２】図１に示した基板処理装置の構成要素の１つであるアスピレータの構成例を示す正面図である。
【図３】この発明の別の実施形態を示す基板処理装置の概略構成図である。
【図４】この発明のさらに別の実施形態を示す基板処理装置の概略構成図である。
【図５】この発明のさらに別の実施形態を示す基板処理装置の概略構成図である。
【符号の説明】
【００３１】
１０  処理槽
１２  処理液
１８  液噴出管
２０  処理液供給管
２４  アスピレータ
２４ａ  アスピレータの液流出口
２４ｂ  アスピレータの導液接続口
２４ｃ  アスピレータの吸入口
２６  純水供給管
３６、５４、９２、１２４、１４２  ニードル弁
３８  薬液
４０、６４、７２、９８、１０６、１３０  バッファタンク
４２  薬液供給管
４４  薬液送給管
４８  マニホルドバルブ
５６  洗浄用の純水供給管
５８、９４  混合薬液供給管
６０  薬液混合槽
６２、９６  第１の薬液
６６、１００  第１の薬液供給管
７０、１０４、１２８  第２の薬液
７４、１０８、１３２  第２の薬液供給管
７８、１１２、１３４  第１の薬液送給管
８２、１１６  第２の薬液送給管
８６  混合薬液
１２６  第２のアスピレータ
１２６ａ  第２のアスピレータの液流出口
１２６ｂ  第２のアスピレータの導液接続口
１２６ｃ  第２のアスピレータの吸入口
Ｗ  基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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