(57)【要約】      （修正有）【課題】外部のアース端子との直接の接続が可能となる新しい接地構造を有し、プラズマディスプレイパネルに特別な設計や工夫を施すことなく、プラズマディスプレイ装置のコストダウンを実現し、製造過程で傷が付きにくい、新構造の電磁波シールドシートを提供する。【解決手段】基材フィルム２ａと、基材フィルム２ａの一方の面８ａに形成された、メッシュ状パターンからなる電磁波シールド層３ａ及び電磁波シールド層３ａに電気的に接続された接地層４ａと、接地層４ａ及び電磁波シールド層３ａ上に形成された樹脂層７ａと、を有し、少なくとも樹脂層７ａを貫通し接地層４ａまで設けられる１又は２以上の貫通孔５ａと、貫通孔５ａを介して、少なくとも樹脂層７ａの表面１３ａから接地層４ａまで連続して設けられる導電性材料で形成される接地取り出し部６ａと、を有する電磁波シールドシート１ａによって、上記課題を解決する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材フィルムと、該基材フィルムの一方の面に形成された、メッシュ状パターンからなる電磁波シールド層及び該電磁波シールド層に電気的に接続された接地層と、該接地層及び前記電磁波シールド層上に形成された樹脂層と、を有する電磁波シールドシートにおいて、
少なくとも前記樹脂層を貫通し前記接地層まで設けられる１又は２以上の貫通孔と、
該貫通孔を介して、少なくとも前記樹脂層の表面から前記接地層まで連続して設けられる導電性材料で形成される接地取り出し部と、
を有することを特徴とする電磁波シールドシート。
【請求項２】
前記貫通孔がさらに前記接地層及び前記基材フィルムを貫通し、前記導電性材料をさらに前記接地層から前記基材フィルムの他方の面まで連続して設けて前記接地取り出し部を形成する、請求項１に記載の電磁波シールドシート。
【請求項３】
前記接地取り出し部が前記樹脂層の表面の面内に複数設けられている、請求項１又は２に記載の電磁波シールドシート。
【請求項４】
前記貫通孔の直径を０．１ｍｍ以上１０ｍｍ以下とする、請求項１〜３のいずれか１項に記載の電磁波シールドシート。
【請求項５】
前記導電性材料として銀を含有する材料を用いる、請求項１〜４のいずれか１項に記載の電磁波シールドシート。
【請求項６】
前記導電性材料を前記貫通孔に充填する、請求項１〜５のいずれか１項に記載の電磁波シールドシート。
【請求項７】
基材フィルムと、該基材フィルムの一方の面に形成された、メッシュ状パターンからなる電磁波シールド層及び該電磁波シールド層に電気的に接続された接地層と、該接地層及び前記電磁波シールド層上に形成された光学調整層と、を有する光学フィルタにおいて、
少なくとも前記光学調整層を貫通し前記接地層まで設けられる１又は２以上の貫通孔と、
該貫通孔を介して、少なくとも前記光学調整層の表面から前記接地層まで連続して設けられる導電性材料で形成される接地取り出し部と、
を有することを特徴とする光学フィルタ。
【請求項８】
前記貫通孔がさらに前記接地層及び前記基材フィルムを貫通し、前記導電性材料をさらに前記接地層から前記基材フィルムの他方の面まで連続して設けて前記接地取り出し部を形成する、請求項７に記載の光学フィルタ。
【請求項９】
前記接地取り出し部が前記光学調整層の表面の面内に複数設けられている、請求項７又は８に記載の光学フィルタ。
【請求項１０】
前記貫通孔の直径を０．１ｍｍ以上１０ｍｍ以下とする、請求項７〜９のいずれか１項に記載の光学フィルタ。
【請求項１１】
前記導電性材料として銀を含有する材料を用いる、請求項７〜１０のいずれか１項に記載の光学フィルタ。
【請求項１２】
前記導電性材料を前記貫通孔に充填する、請求項７〜１１のいずれか１項に記載の光学フィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電磁波シールドシート及び該電磁波シールドシートを用いた光学フィルタに関する。
【背景技術】
【０００２】
ディスプレイ装置はテレビやパーソナルコンピュータのモニター等、各種の分野で用いられているが、その種類は多岐にわたる。ディスプレイ装置の種類としては、例えば、ＣＲＴディスプレイ装置、液晶ディスプレイ装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ装置、及びＥＬディスプレイ装置等を挙げることができる。
【０００３】
上記の様々なディスプレイ装置のうち、大画面ディスプレイ装置の分野では、プラズマディスプレイ装置が注目されている。プラズマディスプレイ装置は、画像表示領域に微細な画素区画パターンが形成されたプラズマディスプレイパネルを有する高精細な表示装置であり、その奥行きが薄いこと、また軽量であることから、テレビジョン、モニター等の種々の用途に利用され、今後も需要の増加が期待されている。
【０００４】
しかし、こうしたプラズマディスプレイ装置は、発光にプラズマ放電を利用するため、３０ＭＨｚ〜１ＧＨｚ帯域の不要な電磁波が外部に漏洩して他の機器（例えば、遠隔制御機器、情報処理装置等）に影響を与えるおそれがある。そのため、プラズマディスプレイ装置に用いられるプラズマディスプレイパネルの前面側（観察者側）に、漏洩する電磁波をシールドするための電磁波シールドフィルムを設けるのが一般的である。
【０００５】
電磁波シールドフィルムは、プラズマディスプレイパネルの表示の視認性を落とすことなく電磁波を効率的にシールドするために、通常、金属メッシュ、及びこの金属メッシュと電気的に接続された電極部が、透明基材フィルム上に形成された形態を有する。こうした電磁波シールドフィルムは、粘着剤を用いてディスプレイパネルの表示面に貼付される。そして、外部のアース端子と上記の電極部とを電気的に接続することにより、金属メッシュが接地される。
【０００６】
透明基材フィルム上に形成される金属メッシュを接地するための構造として、特許文献１では、ディスプレイパネルの周縁に接地電極を設置し、この接地電極に設けられた突起又は突条を利用する構造が提案されている。具体的には、金属メッシュ及び電極部が透明基材フィルム上に設けられた電磁波シールドフィルムを、粘着剤層を介してディスプレイパネルに貼り合わせるにあたり、上記の金属メッシュ及び電極部とディスプレイパネルとを対向するように配置する。そして、ディスプレイパネルの周縁に接地電極を設置し、この接地電極に設けられた突起又は突条を電磁波シールドフィルムの電極部に貫通させることにより、金属メッシュの接地を行っている。
【特許文献１】特開２００６−１９６７６０号公報（第００２６段落〜第００２７段落、第００３３段落〜第００３６段落、図２、図５、図６）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
特許文献１では、同文献の図５に示されるように、プラズマディスプレイパネル／粘着剤層／金属メッシュ及び電極部／基材フィルム、の順番で各部材が配置される（以下、「金属メッシュ」を「メッシュ状パターンからなる電磁波シールド層」又は、単に「電磁波シールド層」という。また、「電極部」を「接地層」という。）。
【０００８】
上記の配置においては、導電性の電磁波シールド層及び接地層が、絶縁性の基材フィルムと、絶縁性の粘着剤層及びプラズマディスプレイパネル（表示面はガラス基板）とに挟まれる構造になり、外部のアース端子を接地層に接続して電磁波シールド層の接地を行うことが困難となる。このため、同文献においては、プラズマディスプレイパネルの周縁に接地電極を設けて、この接地電極と接地層とを電気的に接続するという構造を採用する。ところが、こうした接地電極の設置は、プラズマディスプレイパネル側での新たな設計変更を生じさせるものであり、容易に行えるものではない。また、接地電極に突起又は突条を設ける分、プラズマディスプレイ装置全体のコストが増加する問題もある。さらに、同文献の図６に記載されるように、接地電極に設けられた突起又は突条を接地層に貫通させるために圧縮ロールを用いているが、こうした圧縮ロールの採用により、圧縮ロールの押圧によって電磁波シールドシートに傷が付きやすくなるという問題もある。
【０００９】
そこで、上記した電磁波シールド層の接地の困難性を回避するために、電磁波シールドシートとプラズマディスプレイパネルとを粘着剤層を介して貼り合わせる際に、電磁波シールドシートの基材フィルム側の表面とプラズマディスプレイパネルとを対向するように配置することが考えられる。この場合、プラズマディスプレイパネル／粘着剤層／基材フィルム／電磁波シールド層及び接地層、の順番に各部材が配置されるので、導電性の電磁波シールド層及び接地層が表面（観察者側）に位置することになり、外部のアース端子を接地層に接続して電磁波シールド層の接地を行うことが容易となる。
【００１０】
しかしながら、電磁波シールド層及び接地層が表面（観察者側）に位置するような部材構成においても、製造コストの低減の観点から、電磁波シールドシートの電磁波シールド層上に平坦化層等の樹脂層を連続的に形成して電磁波シールドシートを製造する場合に、接地層上に絶縁性の樹脂層が形成される場合がある。また、同様に、製造コストの低減の観点から、電磁波シールドシートの電磁波シールド層上に連続的に光学調整層を設けて光学フィルタを製造する場合に、接地層上に絶縁性の光学調整層が設けられる場合がある。この点につき、以下さらに説明する。
【００１１】
図６は、電磁波シールドシートの連続的な製造工程を示す模式的断面図である。電磁波シールドシート巻き取りロール５０は、長尺の基材フィルム５６の表面に一組の電磁波シールド層５２及び接地層５１が連続的かつ断続的に複数設けられてロール状に巻き取られたものである。図６に示すように、まず、電磁波シールドシート巻き取りロール５０から長尺の基材フィルム５６を引き出しながら、電磁波シールド層５２及び接地層５１上に、塗工機５３から吐出される樹脂層形成用の塗布液５４を連続的に塗布する。樹脂層形成用の塗布液５４を電磁波シールド層５２に塗布することにより、メッシュ状パターンにより形成される凹凸が被覆されることになる。樹脂層形成用の塗布液５４には、通常、紫外線硬化性樹脂が用いられる。また、形成される樹脂層を平坦化層として機能させる場合には、塗布後の塗布膜表面への透明な平坦化基板の押圧及び紫外線照射による硬化を経て樹脂層（平坦化層）が形成される。その後、後続の工程に備えて、樹脂層が連続的に形成された長尺の基材フィルム５６を再度ロール状に巻き取ってもよいし、１つの電磁波シールドシート部分５５毎に切り出して電磁波シールドシートを１枚ごと製造してもよい。こうした製造方法を経る結果、電磁波シールドシート部分５５の表面には、連続的に樹脂層が形成されることとなり、接地層５１上にも紫外線硬化性樹脂よりなる絶縁性の樹脂層が存在することになる。
【００１２】
図１０は、光学フィルタの連続的な製造工程を示す模式的断面図である。電磁波シールドシート巻き取りロール６０は、図６の電磁波シールドシート巻き取りロール５０と同様のものである。一方、光学調整層巻き取りロール６３は、長尺の光学調整層６４がロール状にされたものである。光学フィルタの製造は、以下のようにして行われる。まず、電磁波シールドシート巻き取りロール６０から長尺の基材フィルム６６を引き出すとともに、光学調整層巻き取りロール６３からローラー６７を介して長尺の光学調整層６４を引き出し、長尺の基材フィルム６６と長尺の光学調整層６４とを、必要に応じて接着剤を用い、圧接ローラー６８ａ，６８ｂにより圧着する。その後、後続の工程に備えて、光学調整層が連続的に形成された長尺の基材フィルム６６を再度ロール状に巻き取ってもよいし、１つの電磁波シールドシート部分６５毎に切り出して光学フィルタを１枚ごと製造してもよい。こうした製造方法を経る結果、電磁波シールドシート部分６５の表面には、連続的に光学調整層が形成されることとなり、電磁波シールド層６２のみならず接地層６１上にも光学調整層が存在することになる。
【００１３】
図６に示す方法で製造される電磁波シールドシートにおける平坦化層、及び図１０に示す方法で製造される光学フィルタにおける光学調整層は、形成領域を制御することにより、電磁波シールド層及び接地層の全面に形成せずに設けることはできる。この点について、光学フィルタを例に説明する。
【００１４】
図１１は、光学調整層が連続的に形成された光学フィルタの模式的斜視図である。光学フィルタ７１は、基材フィルム６９上に形成された電磁波シールド層６２及び接地層６１からなる電磁波シールドシートを有し、電磁波シールド層６２上及び接地層６１の一部の上に透明な光学調整層７０が設けられている。より詳しくは、透明かつ絶縁性の光学調整層７０は、電磁波シールド層６２の短辺の幅と略同一の幅を有するようにして、電磁波シールド層６２上及び接地層６１の一部の上に連続的に形成されている。したがって、接地層６１のうち、斜線で示すＺＡの領域は、導電性の接地層６１が表面に存在することになるために、外部のアース端子との接続は問題なく行うことができるが、接地層６１のうち、光学調整層７０が上部に設けられたＺＢの領域では、光学調整層７０の存在により、ＺＢの領域から外部のアース端子への接続を行うことはできない。ところが、電磁波シールド機能を確実に確保するためには、接地層６１において、なるべく均等に配置された多数の点において外部のアース端子との接続を行うことが重要である。このため、接地層６１におけるＺＢの領域からも接地を行う必要があるという課題がある。そして、以上説明した事情は、平坦化層が連続的に形成された電磁波シールドシートにおいても全く同様であり、こうした電磁波シールドシートにおいても同様の課題が存在する。
【００１５】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、その目的は、外部のアース端子との直接の接続が可能となる新しい接地構造を有し、プラズマディスプレイパネルに特別な設計や工夫を施すことなく、プラズマディスプレイ装置のコストダウンを実現し、製造過程で傷が付きにくい、新構造の電磁波シールドシートを提供することにある。
【００１６】
また、本発明の他の目的は、外部のアース端子との直接の接続が可能となる新しい接地構造を有し、プラズマディスプレイパネルに特別な設計や工夫を施すことなく、プラズマディスプレイ装置のコストダウンを実現し、製造過程で傷が付きにくい、新構造の光学フィルタを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
上記課題を解決するための本発明の電磁波シールドシートは、基材フィルムと、該基材フィルムの一方の面に形成された、メッシュ状パターンからなる電磁波シールド層及び該電磁波シールド層に電気的に接続された接地層と、該接地層及び前記電磁波シールド層上に形成された樹脂層と、を有する電磁波シールドシートにおいて、少なくとも前記樹脂層を貫通し前記接地層まで設けられる１又は２以上の貫通孔と、該貫通孔を介して、少なくとも前記樹脂層の表面から前記接地層まで連続して設けられる導電性材料で形成される接地取り出し部と、を有することを特徴とする。
【００１８】
この発明によれば、少なくとも樹脂層を貫通し接地層まで設けられる１又は２以上の貫通孔と、貫通孔を介して、少なくとも樹脂層の表面から接地層まで連続して設けられる導電性材料で形成される接地取り出し部と、を有するので、樹脂層の表面と接地層とが電気的に接続され、その結果、外部のアース端子との直接の接続が可能となる接地構造を有する電磁波シールドシートを得ることができる。
【００１９】
本発明の電磁波シールドシートの好ましい態様においては、前記貫通孔がさらに前記接地層及び前記基材フィルムを貫通し、前記導電性材料をさらに前記接地層から前記基材フィルムの他方の面まで連続して設けて前記接地取り出し部を形成する。
【００２０】
この発明によれば、貫通孔がさらに接地層及び基材フィルムを貫通し、導電性材料をさらに接地層から基材フィルムの他方の面まで連続して設けて接地取り出し部を形成するので、貫通孔が電磁波シールドシートを貫通し、この貫通孔を介して樹脂層の表面から基材フィルムの他方の面まで導電材料が設けられ、その結果、工業生産性の高い接地構造を得ることができる。
【００２１】
本発明の電磁波シールドシートの好ましい他の態様においては、前記接地取り出し部が前記樹脂層の表面の面内に複数設けられている。
【００２２】
この発明によれば、接地取り出し部が樹脂層の表面の面内に複数設けられているので、樹脂層の表面と接地層とが電気的に接続される箇所が増加し、その結果、電磁波シールド層の接地を行いやすくなる。
【００２３】
本発明の電磁波シールドシートの好ましい他の態様においては、前記貫通孔の直径を０．１ｍｍ以上１０ｍｍ以下とする。
【００２４】
この発明によれば、貫通孔の直径を０．１ｍｍ以上１０ｍｍ以下とするので、導電性材料が貫通孔内部に十分に存在しやすくなり、その結果、樹脂層の表面に存在する導電性材料と電磁波シールド層との間の電気抵抗をより低減できる。
【００２５】
本発明の電磁波シールドシートの好ましい他の態様においては、前記導電性材料として銀を含有する材料を用いる。
【００２６】
この発明によれば、導電性材料として銀を含有する材料を用いるので、導電性材料として電気抵抗が低くコストも低廉となり、その結果、樹脂層の表面に存在する導電性材料と電磁波シールド層との間の電気抵抗をより低減できるとともに、コストの増加も抑制できる。
【００２７】
本発明の電磁波シールドシートの好ましいさらに他の態様においては、前記導電性材料を前記貫通孔に充填する。
【００２８】
この発明によれば、導電性材料を貫通孔に充填するので、導電性材料が貫通孔を完全にふさぐようになり、その結果、樹脂層の表面に存在する導電性材料と電磁波シールド層との間の電気抵抗をより低減しやすくなる。
【００２９】
上記課題を解決するための本発明の光学フィルタは、基材フィルムと、該基材フィルムの一方の面に形成された、メッシュ状パターンからなる電磁波シールド層及び該電磁波シールド層に電気的に接続された接地層と、該接地層及び前記電磁波シールド層上に形成された光学調整層と、を有する光学フィルタにおいて、少なくとも前記光学調整層を貫通し前記接地層まで設けられる１又は２以上の貫通孔と、該貫通孔を介して、少なくとも前記光学調整層の表面から前記接地層まで連続して設けられる導電性材料で形成される接地取り出し部と、を有することを特徴とする。
【００３０】
この発明によれば、少なくとも光学調整層を貫通し接地層まで設けられる１又は２以上の貫通孔と、貫通孔を介して、少なくとも光学調整層の表面から接地層まで連続して設けられる導電性材料で形成される接地取り出し部と、を有するので、光学調整層の表面と接地層とが電気的に接続され、その結果、外部のアース端子との直接の接続が可能となる接地構造を有する光学フィルタを得ることができる。
【００３１】
本発明の光学フィルタの好ましい態様においては、前記貫通孔がさらに前記接地層及び前記基材フィルムを貫通し、前記導電性材料をさらに前記接地層から前記基材フィルムの他方の面まで連続して設けて前記接地取り出し部を形成する。
【００３２】
この発明によれば、貫通孔がさらに接地層及び基材フィルムを貫通し、導電性材料をさらに接地層から基材フィルムの他方の面まで連続して設けて接地取り出し部を形成するので、貫通孔が光学フィルタを貫通し、この貫通孔を介して光学調整層の表面から基材フィルムの他方の面まで導電材料が設けられ、その結果、工業生産性の高い接地構造を得ることができる。
【００３３】
本発明の光学フィルタの好ましい他の態様においては、前記接地取り出し部が前記光学調整層の表面の面内に複数設けられている。
【００３４】
この発明によれば、接地取り出し部が光学調整層の表面の面内に複数設けられているので、光学調整層の表面と接地層とが電気的に接続される箇所が増加し、その結果、電磁波シールド層の接地を行いやすくなる。
【００３５】
本発明の光学フィルタの好ましい他の態様においては、前記貫通孔の直径を０．１ｍｍ以上１０ｍｍ以下とする。
【００３６】
この発明によれば、貫通孔の直径を０．１ｍｍ以上１０ｍｍ以下とするので、導電性材料が貫通孔内部に十分に存在しやすくなり、その結果、光学調整層の表面に存在する導電性材料と、電磁波シールド層との間の電気抵抗をより低減できる。
【００３７】
本発明の光学フィルタの好ましい他の態様においては、前記導電性材料として銀を含有する材料を用いる。
【００３８】
この発明によれば、導電性材料として銀を含有する材料を用いるので、導電性材料として電気抵抗が低くコストも低廉となり、その結果、光学調整層の表面に存在する導電性材料と電磁波シールド層との間の電気抵抗をより低減できるとともに、コストの増加も抑制できる。
【００３９】
本発明の光学フィルタの好ましいさらに他の態様においては、前記導電性材料を前記貫通孔に充填する。
【００４０】
この発明によれば、導電性材料を貫通孔に充填するので、導電性材料が貫通孔を完全にふさぐようになり、その結果、光学調整層の表面に存在する導電性材料と、電磁波シールド層との間の電気抵抗をより低減しやすくなる。
【発明の効果】
【００４１】
本発明の電磁波シールドシートによれば、少なくとも樹脂層を貫通する１又は２以上の貫通孔と、貫通孔を介して、少なくとも樹脂層の表面から接地層まで連続して設けられる導電性材料で形成される接地取り出し部と、を有するので、外部のアース端子との直接の接続が可能となる接地構造を有する電磁波シールドシートを得ることができる。そして、本発明の電磁波シールドシートによれば、プラズマディスプレイパネルに特別な設計や工夫を施すことなく、プラズマディスプレイ装置のコストダウンを実現し、製造過程で傷が付きにくい、新構造の電磁波シールドシートを提供できる。
【００４２】
本発明の光学フィルタによれば、少なくとも光学調整層を貫通する１又は２以上の貫通孔と、貫通孔を介して、少なくとも光学調整層の表面から接地層まで連続して設けられる導電性材料で形成される接地取り出し部と、を有するので、外部のアース端子との直接の接続が可能となる接地構造を有する光学フィルタを得ることができる。そして、本発明の光学フィルタによれば、プラズマディスプレイパネルに特別な設計や工夫を施すことなく、プラズマディスプレイ装置のコストダウンを実現し、製造過程で傷が付きにくい、新構造の光学フィルタを提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４３】
次に、本発明の実施の形態について詳細に説明するが、本発明は以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。
【００４４】
［電磁波シールドシート及びその製造方法］
（電磁波シールドシート）
図１は、本発明の電磁波シールドシートの一例を示す模式的な斜視図であり、図２は、図１におけるＡ−Ａ’面の模式的な断面図であり、図３は、図２の一部を拡大して示す模式的な断面図である。
【００４５】
本発明の電磁波シールドシート１ａは、基材フィルム２ａと、基材フィルム２ａの一方の面８ａに形成された、メッシュ状パターンからなる電磁波シールド層３ａ及び電磁波シールド層３ａに電気的に接続された接地層４ａと、接地層４ａ及び電磁波シールド層３ａ上に形成された樹脂層７ａと、を有し、少なくとも樹脂層７ａを貫通し接地層４ａまで設けられる１又は２以上の貫通孔５ａと、貫通孔５ａを介して、少なくとも樹脂層７ａの表面１３ａから接地層４ａまで連続して設けられる導電性材料で形成される接地取り出し部６ａと、を有する。ここで、導電性材料を「貫通孔５ａを介して、少なくとも樹脂層７ａの表面１３ａから接地層４ａまで連続して設ける」とは、例えば図３に示すように、導電性材料の一部が接地層４ａに接し、かつ、導電性材料の他の一部が樹脂層７ａの表面１３ａに存在していることをいう。より詳しくは、図３においては、貫通孔５ａの内壁うち、接地層４ａに対応する部分の内壁に導電性材料が接して設けられる一方で、導電性材料が樹脂層７ａの表面１３ａ上で盛り上がって形成されて樹脂層７ａの表面１３ａ上に存在する。
【００４６】
電磁波シールドシート１ａにおいては、少なくとも樹脂層７ａを貫通し接地層４ａまで設けられる１又は２以上の貫通孔５ａと、貫通孔５ａを介して、少なくとも樹脂層７ａの表面１３ａから接地層４ａまで連続して設けられる導電性材料で形成される接地取り出し部６ａと、を有するので、樹脂層７ａの表面１３ａと接地層４ａとが電気的に接続され、その結果、外部のアース端子との直接の接続が可能となる接地構造が形成される。
【００４７】
電磁波シールドシート１ａにおいては、貫通孔５ａがさらに接地層４ａ及び基材フィルム２ａを貫通し、導電性材料をさらに接地層４ａから基材フィルム２ａの他方の面９ａまで連続して設けて接地取り出し部６ａが形成されている。貫通孔５ａがさらに接地層４ａ及び基材フィルム２ａを貫通し、導電性材料をさらに接地層４ａから基材フィルム２ａの他方の面９ａまで連続して設けて接地取り出し部６ａを形成するので、貫通孔５ａが電磁波シールドシート１ａを貫通し、この貫通孔５ａを介して樹脂層７ａの表面１３ａから基材フィルム２ａの他方の面９ａまで導電材料が設けられ、その結果、工業生産性の高い接地構造を得ることができる。なお、本発明においては、接地層と樹脂層の表面との間での電気的な接続を確保できればよいので、貫通孔は、最低限樹脂層を貫通して設けられていればよい。このため、例えば、樹脂層のみ、または、樹脂層及び接地層のみを貫通するように貫通孔を設けてもよい。樹脂層のみに貫通孔が設けられる場合には、貫通孔の底面に位置する接地層の表面から樹脂層の表面まで連続的に導電性材料を設けて接地取り出し部を形成すればよい。また、樹脂層及び接地層のみに貫通孔が設けられる場合には、貫通孔の底面に位置する基材フィルムの一方の面から樹脂層の表面まで連続的に導電材料を設けて接地取り出し部を形成すればよい。このとき、貫通孔の内壁うち、接地層に対応する部分の内壁に導電性材料が接して設けられることにより、接地層と樹脂層の表面との間の電気的な接続が確保できるようになる。
【００４８】
基材フィルム２ａは、透明なフィルムであり、従来公知のものを用いることができる。具体的には、透明性の高い樹脂フィルムが用いられる。基材フィルム２ａの透明性は、分光光度計等を利用して測定される可視光線透過率で８０％以上であることが好ましい。樹脂フィルムの材料としては、透明性、耐熱性、コスト等の観点から、通常、ポリエチレンテレフタレートが用いられる。また、こうした樹脂フィルムは、１軸延伸又は２軸延伸した延伸シートが用いられ、より好ましくは２軸延伸した延伸シートが用いられる。基材フィルム２ａの厚さは、機械的強度、反りや弛み、破断、及び帯状で供給して加工すること等を考慮して、通常１２μｍ以上、通常１０００μｍ以下とする。
【００４９】
基材フィルム２ａの一方の面８ａには、電磁波シールド層３ａ及びこの電磁波シールド層３ａに電気的に接続された接地層４ａがそれぞれ設けられている。
【００５０】
電磁波シールド層３ａは、プラズマディスプレイパネルから漏洩する電磁波をシールドするために、基材フィルム２ａの一方の面８ａに設けられる。電磁波シールド層３ａは、プラズマディスプレイパネルの視認性を低下させずに電磁波シールド機能を奏するために、互いに交差する細い導電性の線群で形成されるメッシュ状パターンからなる。
【００５１】
電磁波シールド層３ａには、通常、電磁波シールド機能以外に、プラズマディスプレイパネルに入射する外光を吸収するという機能が付加される。このため、電磁波シールド層３ａを構成するメッシュ状パターンの線群は、通常、電磁波をシールドするための金属材料で構成される金属層と、外光を吸収するための黒化層との少なくとも２層で構成される。そして、外光が入射する側に黒化層が設けられ、プラズマディスプレイパネルと対向する側に金属層が設けられるように構成される。より詳しくは、電磁波シールドシート１ａにおいては、図１には図示していないが、プラズマディスプレイパネルの表示面に基材フィルム２ａが対向するように、電磁波シールドシート１ａがプラズマディスプレイパネルに貼り合わせられ、電磁波シールド層３ａが観察者側（外光入射側）に配置される。このため、電磁波シールド層３ａは、基材フィルム２ａ上から金属層及び黒化層の順番になるように形成される。こうした電磁波シールド層３ａは、通常、黒化処理によって得られる黒化層と、銅等の金属層との２層を少なくとも有する薄膜を基材フィルム２ａの全面に形成し、フォトリソグラフィー法等でメッシュ状パターンにパターニングして得る。
【００５２】
電磁波シールド層３ａは、通常、プラズマディスプレイパネルの表示面と同等又はそれより大きくなるように形成され、図１に示すように略長方形の形状を有する。
【００５３】
接地層４ａは、電磁波シールド層３ａと外部のアース端子とを電気的に接続するために用いられるものである。このため、接地層４ａは、メッシュ状パターンからなる電磁波シールド層３ａと電気的に接続され、電磁波シールド層３ａと同様に、基材フィルム２ａの一方の面８ａ上に設けられている。より詳しくは、図１では、接地層４ａは、電磁波シールド層３ａを囲むようにして基材フィルム２ａ上に額縁状に設けられている。接地層４ａと電磁波シールド層３ａとの電気的な接続は、通常、電磁波シールド層３ａのメッシュ状パターンを構成する線群と、接地層４ａとを連続的に形成することによって行われる。例えば、上記のフォトリソグラフィー法でメッシュ状パターンからなる電磁波シールド層３ａを形成する場合には、黒化処理によって得られる黒化層と、銅等の金属層との２層を少なくとも有する薄膜を基材フィルム２ａの全面に形成する。その後フォトリソグラフィー法で、電磁波シールド層３ａに該当する領域をメッシュ状パターンにパターニングすれば、パターニングが行われなかった電磁波シールド層３ａの周囲の領域が接地層４ａとなる。こうして得られる接地層４ａの、材料、層構成、及び厚さ等は、電磁波シールド層３ａと同様となる。なお、接地層は、必ずしも額縁状である必要はない。例えば、電磁波シールド層と同様にメッシュ状パターンに形成してもよい。
【００５４】
樹脂層７ａは、メッシュ状パターンからなる電磁波シールド層３ａの凹凸を被覆するため、また、電磁波シールド層３ａを保護するために用いられるものである。樹脂層７ａは、電磁波シールド層３ａに積層して設けられるものゆえ、十分な透明性が必要とされる。一般的には、基材フィルム２ａと同程度の透明性があることが好ましい。樹脂層７ａは、代表的には平坦化層として用いられる。樹脂層７ａを平坦化層として用いる場合、通常、透明性が高く、後述する光学調整層と接着される際に用いられる接着剤との接着力の高い材料が用いられる。こうした材料としては、例えば、アクリル系の紫外線硬化性樹脂を挙げることができる。アクリル系の紫外線硬化性樹脂としては、電離放射線硬化性樹脂を用いることが好ましい。また、樹脂層７ａの厚さは、通常５μｍ以上、好ましくは１０μｍ以上とする。上記範囲とすれば、メッシュ状パターンからなる電磁波シールド層３ａの凹凸を被覆しやすくなり、また、電磁波シールド層３ａを保護しやすくなる。
【００５５】
樹脂層７ａの材料として紫外線硬化性樹脂を用いる場合には、例えば、重合開始剤等の添加剤を含有する液体状の紫外線硬化性樹脂を電磁波シールド層３ａ及び接地層４ａ上に塗布した後、塗布膜に紫外線を照射して硬化させることにより樹脂層７ａを形成できる。
【００５６】
樹脂層７ａを平坦化層として用いる場合には、平坦性が高いことが望まれる。これは、樹脂層７ａの表面に、突起、くぼみ、ムラがあると、プラズマディスプレイパネルの前面に設置した際に、モワレ、干渉ムラ、ニュートンリングが発生しやすくなるからである。このように、樹脂層７ａに平坦性が求められる場合には、樹脂層７ａを電磁波シールド層３ａ及び接地層４ａ上に形成する際に、平坦化処理を行うことが好ましい。平坦化処理は、例えば、液状の樹脂を電磁波シールド層３ａ及び接地層４ａ上に塗布した後に、平面性に優れ剥離性のある透明な平坦化基板を塗布膜に押圧した後、この基板を介して紫外線を照射するか又は加熱すること等により塗布膜を硬化させる。そして塗布膜が硬化した後に上記の基板を剥離して、樹脂層７ａを得る。
【００５７】
貫通孔５ａは、後述する導電性材料を内部に存在させることにより、樹脂層７ａの表面１３ａと接地層４ａとの電気的接続、ひいては、樹脂層７ａの表面１３ａと電磁波シールド層３ａとの電気的接続を確保するために用いられるものである。貫通孔５ａは、少なくとも樹脂層７ａを貫通し接地層４ａまで設けられ、より詳しくは、樹脂層７ａの表面１３ａから基材フィルム２ａの他方の面９ａまで貫通して設けられる。また、貫通孔５ａは、１又は２以上設けられればよく、電磁波シールドシート１ａにおいては、図１に示すように、６カ所設けられている。なお、本発明においては、貫通孔は、１又は２以上設けられればよいが、接地取り出し部一カ所に設ける貫通孔の個数は、通常１以上、好ましくは４以上とする。この範囲とすれば、電磁波シールド層と基材フィルムの他方の面との導通をとりやすくなる。
【００５８】
貫通孔５ａの直径ｔは、図３に示すように、通常０．１ｍｍ以上、好ましくは１ｍｍ以上、一方、通常１０ｍｍ以下、好ましくは３ｍｍ以下とする。上記範囲とすれば、導電性材料が貫通孔５ａ内部に十分に存在しやすくなり、その結果、樹脂層７ａの表面１３ａに存在する導電性材料と電磁波シールド層３ａとの間の電気抵抗をより低減できる。本発明においては、基材フィルム２ａとして比較的薄い厚さを有するフィルムを用いるので、上記のような小さい直径の貫通孔を開けやすくなり、その結果、後述する導電性材料で貫通孔５ａを充填しやすくなるという利点が発揮されやすくなる。
【００５９】
接地取り出し部６ａは、樹脂層７ａの表面１３ａと接地層４ａとを電気的に接続するためのものである。接地取り出し部６ａは、少なくとも樹脂層７ａの表面１３ａから接地層４ａまで連続して設けられる導電性材料で形成される。より詳しくは、図１〜３においては、接地取り出し部６ａは、各貫通孔５ａの内部を介して、基材フィルム２ａの他方の面９ａから樹脂層７ａの表面１３ａまで連続して設けられる導電性材料で形成されている。そして、導電性材料が、各貫通孔５ａの内壁うち、接地層４ａに対応する部分の内壁に接しており、かつ樹脂層７ａの表面１３ａに設けられているので、接地層４ａと樹脂層７ａの表面１３ａとの間の電気的な接続が確保されている。また、図３に示す、接地取り出し部６ａの樹脂層７ａの表面１３ａにおける高さｄ１、及び接地取り出し部６ａの基材フィルム２ａの他方の面９ａにおける高さｄ２は、通常１０μｍ以上、好ましくは２０μｍ以上、一方、通常１ｍｍ以下、好ましくは０．１ｍｍ以下とする。上記範囲とすれば、電磁波シールド層３ａと接地取り出し部６ａとの間の抵抗を低減しやすくなるとともに、接地取り出し部６ａの盛り上がりによる、電磁波シールドシート１ａと他の部材との接触等を抑制しやすくなる。
【００６０】
接地取り出し部６ａに用いられる導電性材料としては、例えば、銀を含有する材料、銅を含有する材料、インクに導電剤を分散させた材料、及び導電性ポリマー等を挙げることができる。例えば、銀を含有する材料としては銀ペーストを乾燥させて得られるもの、銅を含有する材料としては銅ペーストを乾燥させて得られるものを挙げることができる。これらのうち、銀を含有する材料を用いることが好ましい。銀を含有する材料を用いることにより、導電性材料として電気抵抗が低くコストも低廉となり、その結果、樹脂層７ａの表面１３ａに存在する導電性材料と電磁波シールド層３ａとの間の電気抵抗をより低減できるとともに、コストの増加も抑制できる。抵抗値の低減及びコストの低減の観点から、銀を含有する材料として銀ペーストを用いることがより好ましい。
【００６１】
接地取り出し部６ａの導電性材料は、図２，３に示すように、貫通孔５ａに充填されている。導電性材料を貫通孔５ａに充填するので、導電性材料が貫通孔５ａを完全にふさぐようになり、その結果、樹脂層７ａの表面１３ａに存在する導電性材料と電磁波シールド層３ａとの間の電気抵抗を低減しやすくなる。但し、本発明においては、貫通孔５ａは、導電性材料で必ずしも充填されている必要はない。
【００６２】
図４は、接地取り出し部の他の一例を示す模式的な断面図である。電磁波シールドシート１ｂにおいては、樹脂層７ｂの表面１３ｂから、貫通孔５ｂの内壁に沿って、基材フィルム２ｂの他方の面９ｂまで導電性材料が連続的に設けられることによって接地取り出し部６ｂが形成されている。こうした電磁波シールドシート１ｂにおける接地取り出し部６ｂおいては、貫通孔５ｂが導電性材料で充填されてはないが、貫通孔５ｂの内壁のうち接地層４ｂの部分に対応する内壁と、樹脂層７ｂの表面１３ｂとの間に導電性材料を連続的に設けることにより、接地層４ｂと樹脂層７ｂの表面１３ｂとの間の電気的な接続を確保することができる。このため、電磁波シールド層と樹脂層７ｂの表面１３ｂに存在する導電性材料との間の電気抵抗を実使用可能な範囲まで下げることは可能である。そして、接地取り出し部６ｂは、用いる導電性材料の量を低減できるので、コストダウンが図りやすくなる利点がある。なお、接地取り出し部６ｂの樹脂層７ｂの表面１３ｂにおける高さｄ３、及び接地取り出し部６ｂの基材フィルム２ｂの他方の面９ｂにおける高さｄ４は、通常１０μｍ以上、好ましくは２０μｍｍ以上、一方、通常１ｍｍ以下、好ましくは０．１ｍｍ以下とする。上記範囲とすれば、電磁波シールド層と接地取り出し部６ｂとの間の抵抗を低減しやすくなるとともに、接地取り出し部６ｂの盛り上がりによる、電磁波シールドシート１ｂと他の部材との接触等を抑制しやすくなる。
【００６３】
図５は、電磁波シールドシートの他の一例を示す模式的な斜視図である。
【００６４】
電磁波シールドシート１ｃは、接地取り出し部６ｃが樹脂層７ｃの表面の面内に複数、より詳しくは、４カ所設けられている。図５に示すように、接地取り出し部６ｃが樹脂層７ｃの表面における異なる位置に複数配置されることにより、接地取り出し部６ｃが樹脂層７ｃの表面の面内に複数設けられることになる。
【００６５】
電磁波シールドシート１ｃにおいては、接地取り出し部６ｃが樹脂層７ｃの表面の面内に複数設けられているので、樹脂層７ｃの表面と接地層４ｃとが電気的に接続される箇所が増加し、その結果、電磁波シールド層３ｃの接地が行いやすくする。なお、本発明においては、接地取り出し部が樹脂層の表面の面内に複数設けられている、すなわち接地取り出し部が樹脂層の表面の異なる位置に複数設けられることが好ましいが、電磁波シールドシートに設けられる接地取り出し部の数は、通常１以上、好ましくは４以上とする。この範囲とすれば、電磁波シールド層の接地が行いやすくなる。
【００６６】
（電磁波シールドシートの製造方法）
本発明の電磁波シールドシートの製造方法は、通常、電磁波シールドシート巻き取りロールの製造工程、この電磁波シールドシート巻き取りロールへの樹脂層の形成工程、接地取り出し部の形成工程、の３つの工程に大きく分けることができる。具体的には、長尺の基材フィルムの表面に一組の電磁波シールド層及び接地層を連続的かつ断続的に複数設けた後にロール状に巻き取り、これを電磁波シールドシート巻き取りロールとする。次いで、この電磁波シールドシート巻き取りロールから長尺の基材フィルムを引き出す。そして、この長尺の基材フィルム上に連続的かつ断続的に形成された電磁波シールド層及び接地層上に、樹脂層を連続的に形成する。その後、電磁波シールドシートを切り出すことなく連続的に、又は、電磁波シールドシート１枚毎に切り出した後に、所定の箇所への貫通孔の形成、及びこの貫通孔内部に導電性材料を存在させる。
【００６７】
図６は、電磁波シールドシートの連続的な製造工程を示す模式的断面図である。具体的には、図６は、上記３つの工程のうち、電磁波シールドシート巻き取りロールへの樹脂層の形成工程を示すものである。
【００６８】
電磁波シールドシート巻き取りロール５０は、長尺の基材フィルム５６の表面に一組の電磁波シールド層５２及び接地層５１が連続的かつ断続的に複数設けられてロール状に巻き取られたものである。電磁波シールドシート巻き取りロール５０は、長尺の基材フィルム５６上にスパッタリングや印刷等により、黒化層と金属層とを少なくとも形成し、これをフォトリソグラフィー法でパターニングして電磁波シールド層及び接地層を一組ずつ形成する。黒化層及び金属層の形成やフォトリソグラフィー法等については、従来公知の方法をそのまま用いることができるので、ここでは詳細な説明は省略する。
【００６９】
樹脂層の形成は以下のようにして行われる。具体的には、図６に示すように、電磁波シールドシート巻き取りロール５０から長尺の基材フィルム５６を引き出す。そして、電磁波シールド層５２及び接地層５１上に、塗工機５３から吐出される樹脂層形成用の塗布液５４を連続的に塗布する。樹脂層形成用の塗布液５４を電磁波シールド層５２に塗布することにより、メッシュ状パターンにより形成される凹凸が被覆されることになる。ここで、図６には図示していないが、塗工機５３から吐出される樹脂層形成用の塗布液５２の塗布幅は、電磁波シールド層５２の短辺の長さ（幅）と略同一となるように制御され、電磁波シールド層５２を覆うように塗布が行われる。これにより、電磁波シールド層５２の長辺の上下に位置する接地層５１の各領域には樹脂層が形成されず、これらの領域では、接地層５１と外部のアース端子との直接の接続が可能となる。
【００７０】
樹脂層形成用の塗布液５４には、通常、紫外線硬化性樹脂が用いられる。また、形成される樹脂層を平坦化層として機能させる場合には、塗布後の塗布膜表面への透明な平坦化基板の押圧及び紫外線照射による硬化を経て樹脂層（平坦化層）が形成される。
【００７１】
樹脂層が連続的に形成された後は、後続の接地取り出し部の形成を連続的に行う場合には、樹脂層が連続的に形成された長尺の基材フィルム５６を再度ロール状に巻き取る。一方、後続の接地取り出し部の形成を間欠的に行う場合には、１つの電磁波シールドシート部分５５毎に切り出して電磁波シールドシートを１枚ごとに製造する。いずれにせよ、上記の連続した樹脂層の形成を行うことによって、電磁波シールドシート部分５５の表面には、連続的に樹脂層が形成されることとなり、接地層５１上にも一部紫外線硬化性樹脂よりなる絶縁性の樹脂層が存在することになる。
【００７２】
次いで接地取り出し部を形成する。接地取り出し部の形成は、連続的に行ってもよいし、間欠的に行っても良い。連続的に行う場合は、上記の樹脂層が連続的に形成された長尺の基材フィルム５６を再度ロール状に巻き取ったものから長尺の基材フィルムを引き出しながら、一組の電磁波シールド層及び接地層ごとに接地取り出し部の形成を行う。一方、接地取り出し部の形成を間欠的に行う場合は、上記の１つの電磁波シールドシート部分５５毎に裁断することにより得られる電磁波シールドシート１枚毎に接地取り出し部の形成を行う。
【００７３】
接地取り出し部の形成は、まず、接地層が設けられた領域の所定の位置に貫通孔を形成する。貫通孔の形成方法としては、例えば、針を用いる機械的な方法、レーザーを用いる光学的な方法等を挙げることができる。次に、貫通孔内部に導電性材料を存在させて、樹脂層の表面から基材フィルムの他方の面まで連続的に導電性材料を設けて接地取り出し部を形成する。これにより、樹脂層の表面と接地層との間の電気的な接続が確保される。例えば、導電性材料として銀ペーストを用いる場合には、樹脂層側又は基材フィルム側から銀ペーストを貫通孔に注入するとともに、樹脂層上及び基材フィルム上に形成される銀ペーストが所定の厚さとなるように制御する。こうした制御は、例えば、スクリーン印刷等により行うことができる。その後、銀ペーストを乾燥させれば、接地取り出し部を得ることができる。
【００７４】
［光学フィルタ及びその製造方法］
（光学フィルタ）
図７は、本発明の光学フィルタの一例を示す模式的な斜視図であり、図８は、図７におけるＢ−Ｂ’面の模式的な断面図である。
【００７５】
光学フィルタ１０ａは、基材フィルム２ｄと、基材フィルム２ｄの一方の面８ｄに形成された、メッシュ状パターンからなる電磁波シールド層３ｄ及び電磁波シールド層３ｄに電気的に接続された接地層４ｄと、接地層４ｄ及び電磁波シールド層３ｄ上に形成された光学調整層１５ａと、を有し、少なくとも光学調整層１５ａを貫通し接地層４ｄまで設けられる１又は２以上の貫通孔５ｄと、貫通孔５ｄを介して、少なくとも光学調整層１５ａの表面１６ａから接地層４ｄまで連続して設けられる導電性材料で形成される接地取り出し部６ｄと、を有する。ここで、導電性材料を「貫通孔５ｄを介して、少なくとも光学調整層１５ａの表面１６ａから接地層４ｄまで連続して設ける」とは、例えば図８に示すように、導電性材料の一部が接地層４ｄに接し、かつ、導電性材料の他の一部が光学調整層１５ａの表面１６ａに存在していることをいう。より詳しくは、図８においては、貫通孔５ｄの内壁うち、接地層４ｄに対応する部分の内壁に導電性材料が接して設けられる一方で、導電性材料が光学調整層１５ａの表面１６ａ上で盛り上がって形成されて光学調整層１５ａの表面１６ａ上に存在する。
【００７６】
光学フィルタ１０ａにおいては、少なくとも光学調整層１５ａを貫通し接地層４ｄまで設けられる１又は２以上の貫通孔５ｄと、貫通孔５ｄを介して、少なくとも光学調整層１５ａの表面１６ａから接地層４ｄまで連続して設けられる導電性材料で形成される接地取り出し部６ｄと、を有するので、光学調整層１５ａの表面１６ａと接地層４ｄとが電気的に接続され、その結果、外部のアース端子との直接の接続が可能となる接地構造が形成される。
【００７７】
光学フィルタ１０ａにおいては、貫通孔５ｄがさらに接地層４ｄ及び基材フィルム２ｄを貫通し、導電性材料をさらに接地層４ｄから基材フィルム２ｄの他方の面９ｄまで連続して設けて接地取り出し部６ｄを形成する。貫通孔５ｄがさらに接地層４ｄ及び基材フィルム２ｄを貫通し、導電性材料をさらに接地層４ｄから基材フィルム２ｄの他方の面９ｄまで連続して設けて接地取り出し部６ｄを形成するので、貫通孔５ｄが光学フィルタ１０ａを貫通し、この貫通孔５ｄを介して光学調整層１５ａの表面１６ａから基材フィルム２ｄの他方の面９ｄまで導電材料が設けられ、その結果、工業生産性の高い接地構造を得ることができる。なお、本発明においては、接地層と光学調整層の表面との間での電気的な接続を確保できればよいので、貫通孔は、最低限光学調整層を貫通して設けられていればよい。このため、例えば、光学調整層のみ、または、光学調整層及び接地層のみを貫通するように貫通孔を設けてもよい。光学調整層のみに貫通孔が設けられる場合には、貫通孔の底面に位置する接地層の表面から光学調整層の表面まで連続的に導電性材料を設けて接地取り出し部を形成すればよい。また、光学調整層及び接地層のみに貫通孔が設けられる場合には、貫通孔の底面に位置する基材フィルムの一方の面から光学調整層の表面まで連続的に導電材料を設けて接地取り出し部を形成すればよい。このとき、貫通孔の内壁うち、接地層に対応する部分の内壁に導電性材料が接して設けられることにより、接地層と光学調整層の表面との間の電気的な接続が確保できるようになる。
【００７８】
光学フィルタ１０ａは、樹脂層の代わりに光学調整層１５ａが設けられていること以外は、基本的には、図１〜３で説明した電磁波シールドシート１ａと同様とすればよい。したがって、光学フィルタ１０ａにおける好ましい態様や変形例も、基本的に電磁波シールドシート１ａと同様とすればよい。以下、光学フィルタ１０ａの好ましい態様について代表的なものをいくつか説明する。
【００７９】
光学フィルタ１０ａにおいては、貫通孔５ｄの直径を、通常０．１ｍｍ以上、好ましくは１ｍｍ以上、一方、通常１０ｍｍ以下、好ましくは３ｍｍ以下とする。上記範囲とすれば、導電性材料が貫通孔５ｄ内部に十分に存在しやすくなり、その結果、光学調整層１５ａの表面１６ａに存在する導電性材料と、電磁波シールド層３ｄとの間の電気抵抗をより低減できる。本発明においては、基材フィルム２ｄとして比較的薄い厚さを有するフィルムを用いるので、上記のような小さい直径の貫通孔５ｄを開けやすくなり、その結果、後述する導電性材料で貫通孔５ｄを充填しやすくなるという利点が発揮されやすくなる。
【００８０】
光学フィルタ１０ａにおいては、導電性材料を貫通孔５ｄに充填することが好ましい。導電性材料を貫通孔５ｄに充填すれば、導電性材料が貫通孔５ｄを完全にふさぐようになり、その結果、光学調整層１５ａの表面１６ａに存在する導電性材料と、電磁波シールド層３ｄとの間の電気抵抗をより低減しやすくなる。
【００８１】
光学フィルタ１０ａにおいては、導電性材料として銀を含有する材料を用いることが好ましい。導電性材料として銀を含有する材料を用いれば、導電性材料として電気抵抗が低くコストも低廉となり、その結果、光学調整層１５ａの表面１６ａに存在する導電性材料と電磁波シールド層３ｄとの間の電気抵抗をより低減できるとともに、コストの増加も抑制できる。銀を含有する材料として銀ペーストが好ましいことも、電磁波シールドシート１ａと同様である。
【００８２】
光学フィルタ１０ａは、上記で説明したように、樹脂層の代わりに光学調整層１５ａが設けられている点で電磁波シールドシート１ａと異なる。そこで、以下では、電磁波シールドシート１ａとの相違点である光学調整層１５ａについて説明を行う。
【００８３】
光学調整層１５ａとしては、通常、透明なものが用いられ、従来公知のものをそのまま用いればよい。例えば近赤外線吸収層、ネオン光吸収層、紫外線吸収層、反射防止層、ハードコート層、防汚層、及び防眩層等を挙げることができる。これら層を複数用いる場合における層を積層する順番は、用いる用途に応じて適宜調整すればよい。また、それぞれの層の厚さはそれぞれの光学調整層１５ａ毎に適当な厚さが設定される。
【００８４】
近赤外線吸収層は、通常、プラズマディスプレイパネルから放射される近赤外線を吸収するために設けることができる。近赤外線吸収層を設けることにより、プラズマディスプレイ装置の近くで使用されるリモートコントロール装置の誤作動等を防止することができる。近赤外線吸収層は、例えば、ジインモニウム系化合物、フタロシアニン系化合物等の近赤外線吸収剤をバインダ樹脂中に添加した塗料を、電磁波シールド層３ｄや接地層４ｄ上に塗工する、又は透明基材上にかかる近赤外線吸収塗料を塗工したものを電磁波シールド層３ｄや接地層４ｄ上に接着剤で接着することにより設けることができる。
【００８５】
ネオン光吸収層は、通常、プラズマディスプレイパネルから放射されるネオン光を吸収するために設けることができる。ネオン原子の発光スペクトル帯域は波長５５０〜６４０ｎｍであるので、ネオン光吸収層は、通常、少なくとも５５０〜６４０ｎｍの波長領域内に吸収極大を有する色素をバインダ樹脂に分散させた層とすることが好ましく、中心波長５９０ｎｍにおける光線透過率が５０％以下になるように含有量等を調整することがより好ましい。
【００８６】
紫外線吸収層は、外光としてプラズマディスプレイパネルに入射する紫外線を吸収して、プラズマディスプレイパネルを構成する材料の紫外線劣化を防ぐために設けることができる。また、上記のような有機系の近赤外線吸収剤を含有する近赤外線吸収層を設ける場合には、この近赤外線吸収剤は紫外線により劣化しやすいため、紫外線吸収層を近赤外線吸収層より外側に積層することが好ましい。紫外線吸収層は、通常、紫外線吸収剤をバインダ樹脂に分散させた層を電磁波シールド層３ｄや接地層４ｄ上に設ける、又は紫外線吸収層を有するシートを電磁波シールド層３ｄや接地層４ｄ上に貼り合わせて設けることができる。
【００８７】
反射防止層（ＡＲ（Anti  Reflection）層）は、通常、光干渉で反射光を抑制するために設けることができる。反射防止層としては、通常、低屈折率層が最表面に位置するようにして低屈性率層と高屈折率層とを交互に積層した多層構成からなるものが好ましく用いられる。
【００８８】
ハードコート層（ＨＣ（Hard  Coat）層）は、通常、光学調整層１５ａ表面を保護するために設けることができる。ハードコート層は、通常、電離放射線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂等で形成される。
【００８９】
防眩層（ＡＧ（Anti  Glare）層）は、光拡散によって外光の鏡面反射を低減し、ギラツキを防止するために設けることができる。防眩層は、通常、透明樹脂バインダ中にこれと屈折率の異なるシリカ等の無機フィラーを分散させた層として、又は透明樹脂層表面にエンボス加工等で光拡散性の微小な凹凸を賦形したものとして形成することができる。
【００９０】
防汚層は、通常、基材フィルム２ｄに付着する汚れを防止するために設けることができる。防汚層は、撥水性や撥油性を有する層であり、通常、シロキサン系化合物や、フッ素化アルキルシリル化合物等が用いられる。
【００９１】
光学調整層１５ａは、求められる性能に応じて、以上説明した各層を適宜選択して用いればよい。
【００９２】
図９は、本発明の光学フィルタのさらに他の一例を示す模式的な斜視図である。
【００９３】
光学フィルタ１０ｂは、接地取り出し部６ｅが光学調整層１５ｂの表面の面内に複数、より詳しくは、４カ所設けられている。図９に示すように、接地取り出し部６ｅが光学調整層１５ｂの表面における異なる位置に複数配置されることにより、接地取り出し部６ｅが光学調整層１５ｂの表面の面内に複数設けられることになる。
【００９４】
光学フィルタ１０ｂにおいては、接地取り出し部６ｅが光学調整層１５ｂの表面の面内に複数設けられているので、光学調整層１５ｂの表面と接地層４ｅとが電気的に接続される箇所が増加し、その結果、電磁波シールド層３ｅの接地を行いやすくなる。なお、本発明においては、接地取り出し部が光学調整層の表面の面内に複数設けられている、すなわち接地取り出し部が光学調整層の表面の異なる位置に複数設けられることが好ましいが、光学フィルタに設けられる接地取り出し部の数は、通常１以上、好ましくは４以上とする。この範囲とすれば、電磁波シールド層の接地が行いやすくなる。
【００９５】
（光学フィルタの製造方法）
本発明の光学フィルタの製造方法は、通常、電磁波シールドシート巻き取りロールの製造工程、必要に応じこの電磁波シールドシート巻き取りロールへの樹脂層の形成工程、この電磁波シールドシート巻き取りロールへの光学調整層の形成工程、接地取り出し部の形成工程、の４つの工程に大きく分けることができる。これらのうち、電磁波シールドシート巻き取りロールへの光学調整層の形成工程以外の工程については、電磁波シールドシートの製造においてすでに説明したので、ここでの説明は省略する。
【００９６】
図１０は、光学フィルタの連続的な製造工程を示す模式的断面図であり、より詳しくは、電磁波シールドシート巻き取りロールへの光学調整層の形成工程の一例が示されている。電磁波シールドシート巻き取りロール６０は、図６の電磁波シールドシート巻き取りロール５０と同様のものであるが、図６に示す方法で樹脂層を形成した後の電磁波シールド巻き取りロールを使用してもよい。一方、光学調整層巻き取りロール６３は、長尺の光学調整層６４がロール状にされたものである。
【００９７】
光学フィルタの製造は、図１０に示すように、まず、電磁波シールドシート巻き取りロール６０から長尺の基材フィルム６６を引き出すとともに、光学調整層巻き取りロール６３からローラー６７を介して長尺の光学調整層６４を引き出し、長尺の基材フィルム６６と長尺の光学調整層６４とを、必要に応じて接着剤を用い、圧接ローラー６８ａ，６８ｂにより圧着する。その後、後続の工程に備えて、光学調整層が連続的に形成された長尺の基材フィルム６６を再度ロール状に巻き取ってもよいし、１つの光学フィルタ部分６５毎に切り出して光学フィルタを１枚ごと製造してもよい。いずれにせよ、上記の連続した光学調整層の貼り合わせを行うことによって、電磁波シールドシート部分６５の表面には、連続的に光学調整層が形成されることとなり、電磁波シールド層６２のみならず接地層６１上にも光学調整層が存在することになる。
【００９８】
光学調整層巻き取りロール６３の幅は、図１０には図示していないが、電磁波シールド層の短辺の長さを略同一とされ、電磁波シールド層５２を覆うように、長尺の光学調整層６４が長尺の基材フィルム６６に貼り合わせられる。これにより、電磁波シールド層６２の長辺の上下に位置する接地層６１の各領域には光学調整層が設けられず、これらの領域では、接地層６１と外部のアース端子との直接の接続が可能となる。この点について、最終的に得られる光学フィルタを用いて以下説明する。
【００９９】
図１１は、光学調整層が連続的に形成された光学フィルタの模式的斜視図である。光学フィルタ７１においては、光学調整層７０の幅は、電磁波シールド層６２の短辺と略同一となっている。このため、図１０に示すような方法で、長尺の光学調整層６４を長尺の基材フィルム６６連続的に貼り合わせたとしても、図１１に示すように、接地層６１のうち斜線で示すＺＡ領域においては、光学調整層７０は形成されない。このため、ＺＡの領域からは、外部のアース端子への直接の接続が可能となる。一方で、接地層６１のうち、光学調整層７０で覆われるＺＢの領域においては、接地層６１と外部アース端子との直接の接続ができなくなる。一方、接地層６１は、通常薄膜であるので、外部のアース端子との接続箇所は、偏在させることなく、均等に配置することが重要である。こうした場合に、接地層６１のうちのＺＢ領域においても外部のアース端子との接続が必要となり、本発明の接地構造の利点が発揮されることとなる。
【０１００】
［プラズマディスプレイ装置への適用］
図１２は、本発明の光学フィルタを適用したプラズマディスプレイ装置の模式的断面図である。より詳しくは、７，８図に示す光学フィルタ１０ａをプラズマディスプレイ装置に適用したものである。
【０１０１】
プラズマディスプレイ装置１００は、プラズマディスプレイパネル８０と、光学フィルタ１０ａの基材フィルム２ｄとが、粘着層７５を挟んで向かい合うように設置されている。そして、光学調整層１５ａの表面１６ａに存在する接地取り出し部６ｄの導電性材料と、外部アース端子９０とを電気的に接続することにより、電磁波シールド層３ｄが接地されている。
【０１０２】
プラズマディスプレイ装置１００では、図７，８の光学フィルタ１０ａについてのみ説明したが、上記において紹介したその他の電磁波シールドシート１ａ，１ｂ，１ｃや、光学フィルタ１０ｂにおいても同様の効果が奏される。
【図面の簡単な説明】
【０１０３】
【図１】本発明の電磁波シールドシートの一例を示す模式的な斜視図である。
【図２】図１におけるＡ−Ａ’面の模式的な断面図である。
【図３】図２の一部を拡大して示す模式的な断面図である。
【図４】接地取り出し部の他の一例を示す模式的な断面図である。
【図５】電磁波シールドシートの他の一例を示す模式的な斜視図である。
【図６】電磁波シールドシートの連続的な製造工程を示す模式的断面図である。
【図７】本発明の光学フィルタの一例を示す模式的な斜視図である。
【図８】図７におけるＢ−Ｂ’面の模式的な断面図である。
【図９】本発明の光学フィルタのさらに他の一例を示す模式的な斜視図である。
【図１０】光学フィルタの連続的な製造工程を示す模式的断面図である。
【図１１】光学調整層が連続的に形成された光学フィルタの模式的斜視図である。
【図１２】本発明の光学フィルタを適用したプラズマディスプレイ装置の模式的断面図である。
【符号の説明】
【０１０４】
１ａ，１ｂ，１ｃ  電磁波シールドシート
２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｅ  基材フィルム
３ａ，３ｃ，３ｄ，３ｅ  電磁波シールド層
４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄ，４ｅ  接地層
５ａ，５ｂ，５ｄ  貫通孔
６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄ，６ｅ  接地取り出し部
７ａ，７ｂ，７ｃ  樹脂層
８ａ，８ｄ  基材フィルムの一方の面
９ａ，９ｂ，９ｄ  基材フィルムの他方の面
１０ａ，１０ｂ  光学フィルタ
１３ａ、１３ｂ  樹脂層の表面
１５ａ，１５ｂ  光学調整層
１６ａ  光学調整層の表面
５０  電磁波シールドシート巻き取りロール
５１  接地層
５２  電磁波シールド層
５３  塗工機
５４  樹脂層形成用の塗布液
５５  電磁波シールドシート部分
５６  長尺の基材フィルム
６０  電磁波シールドシート巻き取りロール
６１  接地層
６２  電磁波シールド層
６３  光学調整層巻き取りロール
６４  長尺の光学調整層
６５  電磁波シールドシート部分
６６  長尺の基材フィルム
６７  ローラー
６８ａ，６８ｂ  圧接ローラー
６９  基材フィルム
７０  光学調整層
７１  光学フィルタ
７５  粘着層
８０  プラズマディスプレイパネル
９０  外部アース端子
１００  プラズマディスプレイ装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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