(57)【要約】【課題】本発明は、封止樹脂により封止された半導体チップを備えた半導体装置及びその製造方法に関し、小型化を図ることのできる半導体装置及びその製造方法を提供することを課題とする。【解決手段】半導体チップ１５と、半導体チップ１５と電気的に接続される外部接続端子用パッド１８と、半導体チップ１５を封止する封止樹脂１６と、を備え、半導体チップ１５と外部接続端子用パッド１８との間に、外部接続端子用パッド１８が形成される配線パターン１２を設け、半導体チップ１５を配線パターン１２に対してフリップチップ接続させた。【選択図】図７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体チップと、前記半導体チップと電気的に接続される外部接続端子用パッドと、前記半導体チップを封止する封止樹脂と、を備えた半導体装置であって、
前記半導体チップと前記外部接続端子用パッドとの間に、前記外部接続端子用パッドが配置される配線パターンを設け、
前記半導体チップが前記半導体チップと対向する部分の前記配線パターンとフリップチップ接続されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
内部接続端子が設けられた半導体チップと、前記半導体チップと電気的に接続される外部接続端子用パッドと、前記半導体チップを封止する封止樹脂と、前記半導体チップと前記外部接続端子用パッドとの間に設けられ、前記半導体チップと電気的に接続される配線パターンと、を備えた半導体装置の製造方法であって、
支持板となる金属板上に、第１の金属層と、第２の金属層とを順次積層する金属層積層工程と、
前記第２の金属層をエッチングして、前記配線パターンを形成する配線パターン形成工程と、
前記配線パターンを覆うように前記第１の金属層上に異方性導電樹脂を形成する異方性導電樹脂形成工程と、
前記半導体チップを前記異方性導電樹脂に押圧して、前記内部接続端子と前記配線パターンとを圧着させて、前記半導体チップを前記配線パターンにフリップチップ接続する半導体チップ接続工程と、を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項３】
前記第１の金属層は、前記第２の金属層をエッチングするときのエッチングストッパーであることを特徴とする請求項２記載の半導体装置の製造方法。
【請求項４】
前記封止樹脂を形成後に、前記金属板をエッチングにより除去する金属板除去工程と、
前記第１の金属層をパターニングして、前記外部接続端子用パッドを形成する外部接続端子用パッド形成工程と、をさらに有することを特徴とする請求項２または３記載の半導体装置の製造方法。
【請求項５】
前記第１の金属層は、前記金属板をエッチングするときのエッチングストッパーであることを特徴とする請求項４記載の半導体装置の製造方法。
【請求項６】
内部接続端子が設けられた半導体チップと、前記半導体チップと電気的に接続される外部接続端子用パッドと、前記半導体チップを封止する封止樹脂と、前記半導体チップと前記外部接続端子用パッドとの間に設けられ、前記半導体チップと電気的に接続される配線パターンと、を備えた半導体装置の製造方法であって、
支持板となる金属板上に、第１の金属層と、第２の金属層とを順次積層する金属層積層工程と、
前記第２の金属層をエッチングして、前記配線パターンを形成する配線パターン形成工程と、
前記配線パターンを覆うように前記第１の金属層上に絶縁樹脂を形成する絶縁樹脂形成工程と、
前記半導体チップを前記絶縁樹脂に押圧して、前記内部接続端子と前記配線パターンとを圧着させて、前記半導体チップを前記配線パターンにフリップチップ接続する半導体チップ接続工程と、を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項７】
前記第１の金属層は、前記第２の金属層をエッチングするときのエッチングストッパーであることを特徴とする請求項６記載の半導体装置の製造方法。
【請求項８】
前記封止樹脂を形成後に、前記金属板をエッチングにより除去する金属板除去工程と、
前記第１の金属層をパターニングして、前記外部接続端子用パッドを形成する外部接続端子用パッド形成工程と、をさらに有することを特徴とする請求項６または７記載の半導体装置の製造方法。
【請求項９】
前記第１の金属層は、前記金属板をエッチングするときのエッチングストッパーであることを特徴とする請求項８記載の半導体装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体装置及びその製造方法に係り、特に封止樹脂により封止された半導体チップを備えた半導体装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の半導体装置には、小型化を図ることを目的にコア基板を無くした半導体装置（例えば、図１参照）がある。
【０００３】
図１は、従来の半導体装置を示す断面図である。図１において、Ｊは半導体チップ１０２上に形成された封止樹脂１０３の厚さ（以下、「厚さＪ」とする）を示している。
【０００４】
図１を参照するに、従来の半導体装置１００は、チップ固定用樹脂１０１と、半導体チップ１０２と、封止樹脂１０３と、外部接続端子１０４と、Ａｕワイヤ１０５とを有する。
【０００５】
チップ固定用樹脂１０１は、半導体チップ１０２を後述する金属板１１０（図５参照）に固定するための樹脂である。チップ固定用樹脂１０１の下面１０１Ａは、封止樹脂１０３の下面１０３Ａと略面一とされている。
【０００６】
半導体チップ１０２は、フェイスアップの状態で、チップ固定用樹脂１０１上に固定されている。半導体チップ１０２は、電極パッド１０７を有する。電極パッド１０７は、Ａｕワイヤ１０５を介して、外部接続端子１０４と接続されている。つまり、半導体チップ１０２は、外部接続端子１０４に対してワイヤボンディング接続されている。
【０００７】
封止樹脂１０３は、半導体チップ１０２及びＡｕワイヤ１０５を封止するように設けられている。封止樹脂１０３は、封止樹脂１０３の下面１０３Ａから突出する突出部１０８を有する。
【０００８】
外部接続端子１０４は、突出部１０８を覆うように設けられている。外部接続端子１０４は、Ａｕワイヤ１０５を介して、半導体チップ１０２と電気的に接続されている。
【０００９】
図２〜図６は、従来の半導体装置の製造工程を示す図である。図２〜図６において、図１に示した半導体装置１００と同一構成部分には同一符号を付す。
【００１０】
図２〜図６を参照して、従来の半導体装置１００の製造方法について説明する。図２に示す工程では、金属板１１０に凹部１１１を形成する。次いで、図３に示す工程では、金属板１１０上に凹部１１１のみを露出する開口部１１３Ａを有したレジスト膜１１３を形成し、その後、電解めっき法により凹部１１１に対応する部分の金属板１１０にめっき膜を析出成長させて、外部接続端子１０４を形成する。続く、図４に示す工程では、レジスト膜１１３を除去する。
【００１１】
次いで、図５に示す工程では、チップ固定用樹脂１０１を介して、半導体チップ１０２をフェイスアップの状態で金属板１１０に固定し、その後、電極パッド１０７と外部接続端子１０４とをＡｕワイヤ１０５により接続（ワイヤボンディング接続）する。
【００１２】
次いで、図６に示す工程では、金属板１１０上に、半導体チップ１０２及びＡｕワイヤ１０５を封止する封止樹脂１０３を形成する。その後、金属板１１０を除去することにより、図１に示すような半導体装置１００が製造される（例えば、特許文献１参照。）。
【特許文献１】特開平９−１６２３４８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
しかしながら、従来の半導体装置１００では、半導体チップ１０２と外部接続端子１０４とをワイヤボンディング接続していたため、半導体チップ１２の上方にＡｕワイヤ１０５の一部が配置され、この部分のＡｕワイヤ１０５を封止するために、半導体チップ１０２上に形成する封止樹脂１０３の厚さＪを厚くする（具体的には、少なくとも１５０μｍ以上にする）必要があった。これにより、半導体装置１００の厚さが厚くなってしまうため、半導体装置１００の小型化を図ることが困難であるという問題があった。
【００１４】
そこで本発明は、上述した問題点に鑑みなされたものであり、小型化を図ることのできる半導体装置及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明の一観点によれば、半導体チップと、前記半導体チップと電気的に接続される外部接続端子用パッドと、前記半導体チップを封止する封止樹脂と、を備えた半導体装置であって、前記半導体チップと前記外部接続端子用パッドとの間に、前記外部接続端子用パッドが配置される配線パターンを設け、前記半導体チップが前記半導体チップと対向する部分の前記配線パターンとフリップチップ接続されていることを特徴とする半導体装置が提供される。
【００１６】
本発明によれば、半導体チップと外部接続端子用パッドとの間に、外部接続端子用パッドが配置される配線パターンを設け、半導体チップを半導体チップと対向する部分の配線パターンにフリップチップ接続することにより、半導体チップの上方に配置される封止樹脂の厚さを従来よりも薄くすることが可能となるので、半導体装置の小型化（具体的には、半導体装置の厚さ方向の小型化）を図ることができる。
【００１７】
本発明の他の観点によれば、内部接続端子が設けられた半導体チップと、前記半導体チップと電気的に接続される外部接続端子用パッドと、前記半導体チップを封止する封止樹脂と、前記半導体チップと前記外部接続端子用パッドとの間に設けられ、前記半導体チップと電気的に接続される配線パターンと、を備えた半導体装置の製造方法であって、支持板となる金属板上に、第１の金属層と、第２の金属層とを順次積層する金属層積層工程と、前記第２の金属層をエッチングして、前記配線パターンを形成する配線パターン形成工程と、前記配線パターンを覆うように前記第１の金属層上に異方性導電樹脂を形成する異方性導電樹脂形成工程と、前記半導体チップを前記異方性導電樹脂に押圧して、前記内部接続端子と前記配線パターンとを圧着させて、前記半導体チップを前記配線パターンにフリップチップ接続する半導体チップ接続工程と、を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法が提供される。
【００１８】
本発明によれば、配線パターンを覆うように第１の金属層上に異方性導電樹脂を形成後、異方性導電樹脂に押圧して、内部接続端子と配線パターンとを圧着させて、半導体チップを配線パターンにフリップチップ接続することにより、半導体チップ上に配置される封止樹脂の厚さを薄くすることが可能となるため、半導体装置の小型化（具体的には、半導体装置の厚さ方向の小型化）を図ることができる。
【００１９】
また、異方性導電樹脂を用いることにより、一般的な絶縁樹脂を用いた場合と比較して、半導体チップを押圧するときの圧力を小さくすることが可能となるので、半導体装置を容易に製造することができる。
【００２０】
本発明のその他の観点によれば、内部接続端子が設けられた半導体チップと、前記半導体チップと電気的に接続される外部接続端子用パッドと、前記半導体チップを封止する封止樹脂と、前記半導体チップと前記外部接続端子用パッドとの間に設けられ、前記半導体チップと電気的に接続される配線パターンと、を備えた半導体装置の製造方法であって、支持板となる金属板上に、第１の金属層と、第２の金属層とを順次積層する金属層積層工程と、前記第２の金属層をエッチングして、前記配線パターンを形成する配線パターン形成工程と、前記配線パターンを覆うように前記第１の金属層上に絶縁樹脂を形成する絶縁樹脂形成工程と、前記半導体チップを前記絶縁樹脂に押圧して、前記内部接続端子と前記配線パターンとを圧着させて、前記半導体チップを前記配線パターンにフリップチップ接続する半導体チップ接続工程と、を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法が提供される。
【００２１】
本発明によれば、配線パターンを覆うように第１の金属層上に絶縁樹脂を形成後、半導体チップを絶縁樹脂に押圧して内部接続端子と配線パターンとを圧着させて、半導体チップを配線パターンにフリップチップ接続することにより、半導体チップ上に配置される封止樹脂の厚さを薄くすることが可能となるため、半導体装置の小型化（具体的には、半導体装置の厚さ方向の小型化）を図ることができる。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、半導体装置の小型化を図ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
次に、図面に基づいて本発明の実施の形態について説明する。
【００２４】
（第１の実施の形態）
図７は、本発明の第１の実施の形態に係る半導体装置の断面図である。
【００２５】
図７を参照するに、第１の実施の形態の半導体装置１０は、絶縁樹脂１１と、配線パターン１２，１３と、半導体チップ１５と、封止樹脂１６と、ソルダーレジスト１７と、外部接続端子用パッド１８と、外部接続端子１９と、内部接続端子２１とを有する。
【００２６】
絶縁樹脂１１は、配線パターン１２，１３の上面１２Ａ，１３Ａ及び側面１２Ｃ，１３Ｃを覆うように設けられている。絶縁樹脂１１は、半硬化時において、接着剤としての機能を有する。絶縁樹脂１１としては、例えば、粘着性を有したシート状の絶縁樹脂（例えば、ＮＣＦ（Non Conductive Film））、ペースト状の絶縁樹脂（例えば、ＮＣＰ（Non Conductive Paste））、ビルドアップ層を形成する際に使用されるビルドアップ用絶縁樹脂材等を用いることができる。絶縁樹脂１１の厚さＴ1は、例えば２０μｍとすることができる。
【００２７】
配線パターン１２，１３は、絶縁樹脂１１に設けられている。配線パターン１２，１３の上面１２Ａ，１３Ａ及び側面１２Ｃ，１３Ｃは、絶縁樹脂１１に覆われている。配線パターン１２，１３の下面１２Ｂ，１３Ｂは、絶縁樹脂１１から露出されている。配線パターン１２，１３の下面１２Ｂ，１３Ｂは、絶縁樹脂１１の下面１１Ｂと略面一とされている。配線パターン１２は、内部接続端子２１が接続されるチップ接続領域２２と、外部接続端子用パッド１８が形成されるパッド形成領域２３とを有する。チップ接続領域２２は、配線パターン１２の上面１２Ａに配置されている。パッド形成領域２３は、配線パターン１２の下面１２Ｂに配置されている。配線パターン１２，１３の材料としては、例えば、Ｃｕを用いることができる。また、配線パターン１２，１３の厚さは、例えば、１０μｍとすることができる。
【００２８】
このような配線パターン１２を設けることにより、半導体装置１０が接続される実装基板（図示せず）のパッドの位置に対応するように、外部接続端子用パッド１８の形成位置を調整することができる。
【００２９】
半導体チップ１５は、電極パッド２５を有する。半導体チップ１５は、電極パッド２５が設けられた側の半導体チップ１５の面１５Ａが絶縁樹脂１１の上面１１Ａと接触するように、絶縁樹脂１１上に配置されている。電極パッド２５は、内部接続端子２１を介して、配線パターン１２と電気的に接続されている。つまり、半導体チップ１５は、配線パターン１２に対してフリップチップ接続されている。半導体チップ１５は、封止樹脂１６により覆われている。
【００３０】
このように、半導体チップ１５を配線パターン１２に対してフリップチップ接続することにより、半導体チップ１５の上方にワイヤボンディング接続用のワイヤが配置されることがなくなるため、半導体チップ１５上に形成する封止樹脂１６の厚さＴ2を薄くすることが可能となるので、半導体装置１０を小型化（具体的には、半導体装置１０の厚さ方向の小型化）することができる。半導体チップ１５上に形成する封止樹脂１６の厚さＴ2は、例えば、３０μｍ〜６０μｍとすることができる。
【００３１】
封止樹脂１６は、絶縁樹脂１１の上面１１Ａ及び側面１１Ｃと半導体チップ１５とを覆うように設けられている。封止樹脂１６の下面１６Ａは、絶縁樹脂１１の下面１１Ｂと略面一とされている。封止樹脂１６は、外部の衝撃等から半導体チップ１５を保護するための樹脂である。封止樹脂１６は、例えば、金型を用いたトランスファーモールド法により形成することができる。封止樹脂１６としては、例えば、エポキシ系樹脂を用いることができる。
【００３２】
ソルダーレジスト１７は、絶縁樹脂１１の下面１１Ｂ、パッド形成領域２３を除いた配線パターン１２の下面１２Ｂ、配線パターン１３の下面１３Ｂ、及び封止樹脂１６の下面１６Ａを覆うように設けられている。ソルダーレジスト１７は、パッド形成領域２３を露出する開口部１７Ａを有する。ソルダーレジスト１７は、配線パターン１２，１３を保護するためのものである。
【００３３】
外部接続端子用パッド１８は、Ｎｉ膜２７と、Ａｕ膜２８とから構成されている。Ｎｉ膜２７は、パッド形成領域２３に設けられている。Ａｕ膜２８は、Ｎｉ膜２７の下面に設けられている。
【００３４】
外部接続端子１９は、外部接続端子用パッド１８を構成するＡｕ膜２８の下面に設けられている。外部接続端子１９は、半導体装置１０をマザーボード等の実装基板（図示せず）に接続するときの端子である。外部接続端子１９としては、例えば、はんだバンプを用いることができる。
【００３５】
内部接続端子２１は、絶縁樹脂１１に設けられている。内部接続端子２１は、一方の端部が電極パッド２５と接続されており、他方の端部がチップ接続領域２２に対応する部分の配線パターン１２と接続されている。内部接続端子２１としては、例えば、Ａｕスタッドバンプ、Ａｕめっき膜、無電解めっき法により形成されたＮｉ膜とそれを覆うＡｕ膜から構成される金属膜等を用いることができる。
【００３６】
本実施の形態の半導体装置によれば、半導体チップ１５と外部接続端子用パッド１８との間に、外部接続端子用パッド１８が配置される配線パターン１２を設け、半導体チップ１５を配線パターン１２にフリップチップ接続することにより、半導体チップ１５の上方に配置される封止樹脂１６の厚さＴ2を薄くすることが可能となるので、半導体装置１０の小型化（具体的には、半導体装置１０の厚さ方向の小型化）を図ることができる。
【００３７】
図８〜図１８は、本発明の第１の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を示す図である。図８〜図１８において、図７に示した第１の実施の形態の半導体装置１０と同一構成部分には同一符号を付す。
【００３８】
図８〜図１８を参照して、第１の実施の形態に係る半導体装置１０の製造方法について説明する。始めに、図８に示す工程では、支持板となる金属板３５を準備する。金属板３５は、平面視円形状とされている。金属板３５は、半導体装置１０が形成される半導体装置形成領域Ａを複数有する。金属板３５としては、例えば、Ｃｕ箔を用いることができる。金属板３５の厚さは、例えば、１００μｍとすることができる。なお、図８において、Ｂはダイサーが封止樹脂１６を切断する位置（以下、「切断位置Ｂ」とする）を示している。
【００３９】
次いで、図９に示す工程では、金属板３５上を覆うように金属層３６を形成する。金属層３６としては、例えば、Ｃｕ箔を用いることができる。金属層３６の厚さは、例えば、１０μｍとすることができる。
【００４０】
次いで、図１０に示す工程では、金属層３６をパターニングして、半導体装置形成領域Ａに対応する金属板３５上に配線パターン１２，１３を形成する（配線パターン形成工程）。具体的には、図９に示す金属層３６上にパターニングされたレジスト膜を形成し、その後、このレジスト膜をマスクとする異方性エッチングにより、金属層３６をエッチングして配線パターン１２，１３を形成する。
【００４１】
次いで、図１１に示す工程では、金属板３５上に形成された配線パターン１２，１３の上面１２Ａ，１３Ａ及び側面１２Ｃ，１３Ｃを覆うように、絶縁樹脂１１を形成する。絶縁樹脂１１としては、例えば、粘着性を有したシート状の絶縁樹脂（例えば、ＮＣＦ（Non Conductive Film））や、ペースト状の絶縁樹脂（例えば、ＮＣＰ（Non Conductive Paste））等を用いることができる。絶縁樹脂１１としてペースト状の絶縁樹脂（例えば、ＮＣＰ（Non Conductive Paste））を用いる場合、例えば、印刷法によりペースト状の絶縁樹脂を形成後、ペースト状の絶縁樹脂をプリベークして半硬化させる。半硬化された絶縁樹脂は、接着剤としての機能を有する。絶縁樹脂１１の厚さＴ1は、例えば２０μｍとすることができる。
【００４２】
次いで、図１２に示す工程では、電極パッド２５に内部接続端子２１が設けられた半導体チップ１５を準備すると共に、図１２に示す構造体を加熱した状態で、半導体チップ１５を絶縁樹脂１１に押圧させて、内部接続端子２１を絶縁樹脂１１に圧入して、内部接続端子２１とチップ接続領域２２に対応する部分の配線パターン１２とを圧着させることにより、半導体チップ１５を配線パターン１２にフリップチップ接続させる（半導体チップ接続工程）。このとき、図１２に示す構造体を加熱することで、絶縁樹脂１１が硬化する。
【００４３】
このように、半導体チップ１５を配線パターン１２に対してフリップチップ接続することにより、半導体チップ１５の上方にワイヤボンディング接続用のワイヤが配置されることがなくなるため、半導体チップ１５上に配置される封止樹脂１６の厚さＴ2を薄くすることが可能となるので、半導体装置１０を小型化（具体的には、半導体装置１０の厚さ方向の小型化）することができる。
【００４４】
なお、内部接続端子２１としては、例えば、Ａｕスタッドバンプ、Ａｕめっき膜、無電解めっき法により形成されたＮｉ膜とそれを覆うＡｕ膜から構成される金属膜等を用いることができる。
【００４５】
次いで、図１３に示す工程では、複数の半導体装置形成領域Ａに設けられた絶縁樹脂１１及び半導体チップ１５を覆うように、金属板３５上に封止樹脂１６を形成する。具体的には、封止樹脂１６は、金型を用いたトランスファーモールド法により形成する。封止樹脂１６としては、例えば、エポキシ系樹脂を用いることができる。また、半導体チップ１５上に形成する封止樹脂１６の厚さＴ2は、例えば、３０μｍ〜６０μｍとすることができる。
【００４６】
次いで、図１４に示す工程では、金属板３５を除去し（金属板除去工程）、その後、配線パターン１２，１３の下面１２Ｂ，１３Ｂの粗化処理を行う。具体的には、例えば、ウエットエッチングにより金属板３５をエッチングすることで金属板３５を除去し、その後、黒化処理又はＣＺ処理のいずれかの処理を行って、配線パターン１２，１３の下面１２Ｂ，１３Ｂを粗化する。粗化処理は、配線パターン１２，１３の下面１２Ｂ，１３Ｂに形成されるソルダーレジスト１７と配線パターン１２，１３との密着性を向上させるためのものである。
【００４７】
次いで、図１５に示す工程では、図１４に示す構造体の下面側に開口部１７Ａを有したソルダーレジスト１７を形成する。開口部１７Ａは、パッド形成領域２３に対応する部分の配線パターン１２を露出するように形成されている。
【００４８】
次いで、図１６に示す工程では、電解めっき法により、開口部１７Ａに露出された部分の配線パターン１２の下面１２Ｂに、Ｎｉ膜２７と、Ａｕ膜２８とを順次析出成長させる。これにより、Ｎｉ膜２７及びＡｕ膜２８からなる外部接続端子用パッド１８が形成される（外部接続端子用パッド形成工程）。
【００４９】
次いで、図１７に示す工程では、外部接続端子用パッド１８を構成するＡｕ膜２８の下面に、外部接続端子１９を形成する。これにより、各半導体装置形成領域Ａに半導体装置１０に相当する構造体が形成される。次いで、図１８に示す工程では、ダイサーにより切断位置Ｂに沿って封止樹脂１６及びソルダーレジスト１７を切断することにより、複数の半導体装置１０が製造される。
【００５０】
本実施の形態の半導体装置の製造方法によれば、配線パターン１２，１３を覆うように金属板３５上に絶縁樹脂１１を形成し、その後、絶縁樹脂１１に半導体チップを押圧して内部接続端子２１と配線パターン１２とを圧着させて、半導体チップ１５を配線パターン１２にフリップチップ接続することにより、半導体チップ１５の上方に配置される封止樹脂１６の厚さＴ2を薄くすることが可能となるので、半導体装置１０の小型化（具体的には、半導体装置１０の厚さ方向の小型化）を図ることができる。
【００５１】
（第２の実施の形態）
図１９は、本発明の第２の実施の形態に係る半導体装置の断面図である。図１９において、第１の実施の形態の半導体装置１０と同一構成部分には同一符号を付す。
【００５２】
図１９を参照するに、第２の実施の形態の半導体装置４０は、第１の実施の形態の半導体装置１０に設けられた絶縁樹脂１１の代わりに、異方性導電樹脂４１を設けた以外は半導体装置１０と同様に構成される。
【００５３】
異方性導電樹脂４１としては、例えば、粘着性を有したシート状の異方性導電樹脂（例えば、ＡＣＦ（Anisotropic Conductive Film））や、ペースト状の異方性導電樹脂（例えば、ＡＣＰ（Anisotropic Conductive Paste））等を用いることができる。ＡＣＰ及びＡＣＦは、エポキシ系樹脂をベースとする絶縁樹脂にＮｉ／Ａｕに被膜された小径球状の樹脂が分散されたものであり、鉛直方向に対しては導電性を有し、水平方向には絶縁性を有する樹脂である。
【００５４】
異方性導電樹脂４１としてペースト状の異方性導電樹脂（例えば、ＡＣＰ（Anisotropic Conductive Paste））を用いる場合、例えば、印刷法によりペースト状の異方性導電樹脂を形成後、ペースト状の異方性導電樹脂をプリベークして半硬化させる。半硬化された異方性導電樹脂は、接着剤としての機能を有する。
【００５５】
このような異方性導電樹脂４１を用いた場合も、第１の実施の形態の半導体装置１０と同様な手法により製造することができ、第１の実施の形態の半導体装置１０の製造方法と同様な効果を得ることができる。
【００５６】
また、上記異方性導電樹脂４１を用いて半導体装置４０を製造する場合、一般的な絶縁樹脂を用いた場合と比較して、半導体チップを押圧するときの圧力を小さくすることができるため、半導体装置４０を容易に製造することが可能となる。
【００５７】
（第３の実施の形態）
図２０は、本発明の第３の実施の形態に係る半導体装置の断面図である。図２０において、第１の実施の形態の半導体装置１０と同一構成部分には同一符号を付す。
【００５８】
図２０を参照するに、第３の実施の形態の半導体装置５０は、第１の実施の形態の半導体装置１０に設けられた外部接続端子用パッド１８の代わりに、外部接続端子用パッド５１を設けた以外は半導体装置１０と同様に構成される。
【００５９】
外部接続端子用パッド５１は、パッド形成領域２３に対応する部分の配線パターン１２の下面１２Ｂに設けられている。外部接続端子用パッド５１としては、例えば、Ｓｎ膜を用いることができる。
【００６０】
このような構成とされた第３の実施の形態の半導体装置５０においても、第１の実施の形態の半導体装置１０と同様な効果を得ることができる。
【００６１】
図２１〜図２７は、本発明の第３の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を示す図である。図２１〜図２７において、図２０に示した第３の実施の形態の半導体装置５０と同一構成部分には同一符号を付す。
【００６２】
図２１〜図２７を参照して、第３の実施の形態の半導体装置５０の製造方法について説明する。始めに、図２１に示す工程では、第１の実施の形態で説明した金属板３５（図８参照）上を覆うように、第１の金属層５５を形成し、次いで、第１の金属層５５上を覆うように第２の金属層５６を形成する（金属層積層工程）。
【００６３】
第１の金属層５５は、第２の金属層５６をエッチングするときのエッチングストッパーであると共に、金属板３５をエッチングにより除去するときのエッチングストッパーとなるものである。金属板３５及び第２の金属層５６の材料としてＣｕを用いた場合、第１の金属層５５の材料としては、例えば、Ｓｎを用いることができる。第１の金属層５５の厚さは、例えば、２μｍとすることができる。また、第２の金属層５６の厚さは、例えば、１０μｍとすることができる。
【００６４】
次いで、図２２に示す工程では、第２の金属層５６をエッチングして、配線パターン１２，１３を形成する（配線パターン形成工程）。具体的には、第１の実施の形態で説明した図１０に示す工程と同様な手法により行う。
【００６５】
このとき、第２の金属層５６と金属板３５との間には、第２の金属層５６をエッチングする際のエッチングストッパーとなる第１の金属層５５が配置されているため、第２の金属層５６をエッチングするときに、金属板３５がエッチングされることがなくなるので、配線パターン１２，１３の厚さの精度を向上させることができる。
【００６６】
次いで、図２３に示す工程では、第１の実施の形態で説明した図１１〜図１３に示す工程と同様な処理を行う。具体的には、半導体チップ１５を配線パターン１２に対してフリップチップ接続させ、その後、絶縁樹脂１１及び半導体装置１５を封止するように封止樹脂１６を第１の金属層５５上に形成する。
【００６７】
次いで、図２４に示す工程では、金属板３５をエッチングにより除去する（金属板除去工程）。このとき、第２の金属層５６と金属板３５との間には、金属板３５をエッチングする際のエッチングストッパーとなる第１の金属層５５が配置されているため、金属板３５をエッチングするときに、第２の金属層５６がエッチングされることを防止できる。
【００６８】
次いで、図２５に示す工程では、第１の金属層５５をパターニングして、配線パターン１２の下面１２Ｂに外部接続端子用パッド５１を形成する（外部接続端子用パッド形成工程）。具体的には、図２３に示す第１の金属層５５の下面にパターニングされたレジスト膜を形成し、その後、このレジスト膜をマスクとする異方性エッチングにより、第１の金属層５５をエッチングして外部接続端子用パッド５１を形成する。
【００６９】
このように、第２の金属層５６及び金属板３５をエッチングする際のエッチングストッパーとなる第１の金属層５５をパターニングして外部接続端子用パッド５１を形成することにより、別途、外部接続端子用パッド５１を形成するための金属層を設ける場合と比較して、半導体装置５０の製造工程を簡略化することができる。
【００７０】
次いで、図２６に示す工程では、第１の実施の形態で説明した図１５に示す工程と同様な手法により、図２５に示す構造体の下面に開口部１７Ａを有したソルダーレジスト１７を形成し、その後、第１の実施の形態で説明した図１７に示す工程と同様な手法により、外部接続端子用パッド５１に外部接続端子１９を形成する。
【００７１】
次いで、図２７に示す工程では、ダイサーにより切断位置Ｂに沿って封止樹脂１６を切断することにより、複数の半導体装置５０が製造される。
【００７２】
本実施の形態の半導体装置の製造方法によれば、配線パターン１２，１３を覆うように第１の金属層５５上に絶縁樹脂１１を形成し、その後、絶縁樹脂１１に半導体チップ１５を押圧して内部接続端子２１と配線パターン１２とを圧着させて、半導体チップ１５を配線パターン１２にフリップチップ接続することにより、半導体チップ１５の上方に配置される封止樹脂１６の厚さＴ2を薄くすることが可能となるので、半導体装置５０の小型化（具体的には、半導体装置１０の厚さ方向の小型化）を図ることができる。
【００７３】
また、第２の金属層５６及び金属板３５をエッチングする際のストッパーとなる第１の金属層５５をパターニングして外部接続端子用パッド５１を形成することにより、別途外部接続端子用パッド５１を形成するための金属層を設ける場合と比較して、半導体装置５０の製造工程を簡略化することができる。
【００７４】
なお、本実施の形態では、絶縁樹脂１１を用いて半導体装置５０を製造する場合を例に挙げて説明したが絶縁樹脂１１の代わりに、第２の実施の形態で説明した異方性導電樹脂４１を用いて半導体装置５０を製造してもよい。
【００７５】
以上、本発明の好ましい実施の形態について詳述したが、本発明はかかる特定の実施の形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲内に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形・変更が可能である。
【産業上の利用可能性】
【００７６】
本発明によれば、封止樹脂により封止された半導体チップを備えた半導体装置及びその製造方法に適用できる。
【図面の簡単な説明】
【００７７】
【図１】従来の半導体装置を示す断面図である。
【図２】従来の半導体装置の製造工程を示す図（その１）である。
【図３】従来の半導体装置の製造工程を示す図（その２）である。
【図４】従来の半導体装置の製造工程を示す図（その３）である。
【図５】従来の半導体装置の製造工程を示す図（その４）である。
【図６】従来の半導体装置の製造工程を示す図（その５）である。
【図７】本発明の第１の実施の形態に係る半導体装置の断面図である。
【図８】本発明の第１の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を示す図（その１）である。
【図９】本発明の第１の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を示す図（その２）である。
【図１０】本発明の第１の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を示す図（その３）である。
【図１１】本発明の第１の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を示す図（その４）である。
【図１２】本発明の第１の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を示す図（その５）である。
【図１３】本発明の第１の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を示す図（その６）である。
【図１４】本発明の第１の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を示す図（その７）である。
【図１５】本発明の第１の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を示す図（その８）である。
【図１６】本発明の第１の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を示す図（その９）である。
【図１７】本発明の第１の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を示す図（その１０）である。
【図１８】本発明の第１の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を示す図（その１１）である。
【図１９】本発明の第２の実施の形態に係る半導体装置の断面図である。
【図２０】本発明の第３の実施の形態に係る半導体装置の断面図である。
【図２１】本発明の第３の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を示す図（その１）である。
【図２２】本発明の第３の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を示す図（その２）である。
【図２３】本発明の第３の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を示す図（その３）である。
【図２４】本発明の第３の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を示す図（その４）である。
【図２５】本発明の第３の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を示す図（その５）である。
【図２６】本発明の第３の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を示す図（その６）である。
【図２７】本発明の第３の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を示す図（その７）である。
【符号の説明】
【００７８】
１０，４０，５０  半導体装置
１１  絶縁樹脂
１２，１３  配線パターン
１１Ａ，１２Ａ，１３Ａ  上面
１１Ｂ，１２Ｂ，１３Ｂ，１６Ａ  下面
１１Ｃ，１２Ｃ，１３Ｃ  側面
１５  半導体チップ
１５Ａ  面
１６  封止樹脂
１７  ソルダーレジスト
１７Ａ  開口部
１８，５１  外部接続用パッド
１９  外部接続端子
２１  内部接続端子
２２  チップ接続領域
２３  パッド形成領域
２５  電極パッド
２７  Ｎｉ膜
２８  Ａｕ膜
３５  金属板
３６  金属層
４１  異方性導電樹脂
５５  第１の金属層
５６  第２の金属層
Ａ  半導体装置形成領域
Ｂ  切断位置
Ｔ1，Ｔ2  厚さ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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