(57)【要約】【課題】ランダム形状のマイクロレンズアレイを有する焦点板およびその製造に使用可能な焦点板製造用型、ならびにその焦点板を用いた撮像装置を提供する。【解決手段】型基板の上に、複数のマイクロレンズ形状の凹凸を有する無機レジスト膜が形成されている焦点板製造用型を用いて、透光性基板の上に、その焦点板製造用型の凹凸が転写された透光性樹脂層を有する焦点板を製造し、その焦点板を撮像装置に用いる。または、透光性基板の上に、複数のマイクロレンズを有する無機レジスト膜が形成されている焦点板を撮像装置に用いる。【選択図】図１
2008307852.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
型基板の上に、複数のマイクロレンズ形状の凹凸を有する無機レジスト膜が形成されていることを特徴とする焦点板製造用型。
【請求項２】
型基板の上に無機レジスト膜を成膜する工程と、
前記無機レジスト膜を露光および現像して、複数のマイクロレンズ形状の凹凸を形成する工程と
を有することを特徴とする焦点板製造用型の製造方法。
【請求項３】
透光性基板の上に、請求項１に記載の焦点板製造用型の凹凸が転写された透光性樹脂層を有することを特徴とする焦点板。
【請求項４】
透光性基板の上に、複数のマイクロレンズを有する無機レジスト膜が形成されていることを特徴とする焦点板。
【請求項５】
透光性基板の上に無機レジスト膜を成膜する工程と、
前記無機レジスト膜を露光および現像して、複数のマイクロレンズを形成する工程と
を有することを特徴とする焦点板の製造方法。
【請求項６】
請求項３または４に記載の焦点板を有することを特徴とする撮像装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一眼レフレックス方式カメラ等の撮像装置に用いられる焦点板およびその焦点板の製造に用いる型に関する。
【背景技術】
【０００２】
焦点板はピント板とも言われ、一眼レフレックス方式カメラなどのピント調節の際に用いられる。
【０００３】
従来、ガラス等の母材を砂掛けにより凹凸を形成した型を用い、アクリル樹脂などのプラスチック材料の上にその凹凸を転写し、凹凸が転写されたプラスチック部材を焦点板として使用していた。このような焦点板は、表面の凹凸が不規則なランダム形状であるため、光の拡散性が良好でピント調節の際のボケ味としては自然なものとなり、ピントが合わせ易いという利点を有している。その反面、光の拡散性が良好であるがために、ピント板からの映像は暗いものとなり、特に、暗いレンズや絞りを絞ったときに細かい砂をまいたような粒状感が認められ、視認性を悪化させるという問題があった。
【０００４】
一方、上記問題点の解決のために、プラスチック基板等の表面にマイクロレンズ（凸状もしくは凹状の微小レンズ）アレイを形成した焦点板も用いられている。このような焦点板は、次のように作製する。まず、フォトレジストなどの感光剤が塗布された基板を準備し、マスクを用いた露光プロセスおよび現像プロセスによりパターニングした後、規則正しい配列による微細なマイクロレンズアレイを設けて原盤を作製する。そして、この原盤から金型を作製し、さらにこの金型からマイクロレンズ形状をプラスチック部材に転写することで焦点板を作製する。このようにして作製された焦点板は、ピント板に映し出される映像は、粒状感がなく明るいという利点を有する。その反面、マイクロレンズは規則正しく周期的に配列しているため、回折光の方向が特定方向に限定されてボケ味が不自然になるという欠点がある。また、フレネルレンズと併用したときには、フレネルレンズの輪帯構造との干渉を引き起こしてモアレ縞が発生するといった欠点もある。
【０００５】
以上のように、上記二種類の焦点板はそれぞれメリット・デメリットを有している。これらのデメリットを同時に解決する手段としては、大きさや配列がランダムなマイクロレンズを表面に形成することが挙げられる。ランダムなマイクロレンズアレイを成形する方法としては、特許文献１などに提案されている。この方法では、焦点板の金型の作製にあたり、径の異なる三種類以上の圧子を用い、圧痕法により金属板にランダム形状のマイクロレンズ形状を設ける。そして、この金型を用いてプラスチック部材にマイクロレンズ形状を転写して、焦点板上にランダム形状のマイクロレンズアレイを形成する。
【特許文献１】特開平１１−１４２６０９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところが、圧子を用いた圧痕法では圧子をマイクロレンズの数だけ型に押し付けるため、大面積のマイクロレンズアレイを形成する場合には膨大な時間がかかり、また機械的な限界もあってμｍオーダーの精度で制御することは難しい。すなわち、マイクロレンズアレイをランダムに形成することは極めて難しく再現性に乏しいことから、製造上の安定性、効率性、制御性に問題があって、現実に実施は困難であるという課題があった。
【０００７】
本発明は、ランダム形状のマイクロレンズアレイを有する焦点板およびその製造に使用可能な焦点板製造用型、ならびにその焦点板を用いた撮像装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記の課題を解決するために、本発明は、型基板の上に、複数のマイクロレンズ形状の凹凸を有する無機レジスト膜が形成されていることを特徴とする焦点板製造用型を提供する。この焦点板製造用型は、型基板の上に無機レジスト膜を成膜する工程と、前記無機レジスト膜を露光および現像して、複数のマイクロレンズ形状の凹凸を形成する工程とを有する方法により好適に製造できる。そして、本発明は、透光性基板の上に、前記の焦点板製造用型の凹凸が転写された透光性樹脂層を有することを特徴とする焦点板を提供する。
【０００９】
また、本発明は、透光性基板の上に、複数のマイクロレンズを有する無機レジスト膜が形成されていることを特徴とする焦点板を提供する。この焦点板は、透光性基板の上に無機レジスト膜を成膜する工程と、前記無機レジスト膜を露光および現像して、複数のマイクロレンズを形成する工程とを有する方法により好適に製造できる。
【００１０】
さらに、本発明は、前記の焦点板を有することを特徴とする撮像装置を提供する。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、ランダム形状のマイクロレンズアレイを有する焦点板およびその製造に使用可能な焦点板製造用型、ならびにその焦点板を用いた撮像装置を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本発明の焦点板の第１の実施形態は、透光性基板の上に、複数のマイクロレンズを有する無機レジスト膜が形成されている。この第１の実施形態の焦点板１０１の基本構成の例を図１および図５に示す。
【００１３】
透光性基板１０２としては、可視光域で透光性を示すものであればよく、例えば、ガラス基板や、アクリル樹脂基板、ポリカーボネート樹脂基板等のプラスチック基板を用いることができる。ここで言う「可視光域」とは、撮像装置において画像情報が必要な波長範囲のことであり、一般的にはおおよそ３６０〜８３０ｎｍの波長範囲である。透光性基板の可視光域での吸収率は１０％以下であることが好ましい。
【００１４】
無機レジスト膜１０３は、可視光域での吸収率が１０％以下であることが好ましい。このような光学特性を有することで、画像形成に必要な可視光域でファインダーに十分な光量を透過させることができる。
【００１５】
また、無機レジスト膜１０３は、相変化材料で形成された相変化膜であってもよい。ここで言う「相変化膜」とは、酸化タングステン（ＷＯ）や酸化モリブデン（ＭｏＯ）のことである。
【００１６】
さらに、無機レジスト膜１０３は、後述する露光光源の波長（３６０ｎｍ以下）における吸収率が１０％以上であることが好ましい。このような光学特性を有することで、露光による光エネルギーを熱に変換して露光部の結晶状態を変化させることができ、これを現像することによりマイクロレンズを形成することができる。
【００１７】
なお、無機レジスト膜１０３の光学特性の制御は、無機レジスト膜１０３を構成する無機レジスト材料の組成制御および無機レジスト膜１０３の膜厚制御により行うことができる。無機レジスト材料の組成は、無機レジスト膜１０３の成膜条件を適宜調整することで制御できる。また、無機レジスト膜１０３の膜厚は、成膜条件から求まる成膜レート（単位時間あたりの膜厚）から所望の膜厚となる成膜時間を割り出すことで制御できる。
【００１８】
無機レジスト膜１０３を形成する無機レジスト材料としては、例えば酸化タングステン（ＷＯ）を用いることができる。その他にも、酸化モリブデン（ＭｏＯ）、ＷＯにＭｏを添加した相変化材料などを用いることもできる。
【００１９】
無機レジスト膜１０３の膜厚は、０．５〜５μｍに設定することができる。
【００２０】
無機レジスト膜１０３により形成されるマイクロレンズとしては、さまざまな大きさおよび曲率で形成することができ、ランダム形状を有するマイクロレンズアレイを形成することが好ましい。複数のマイクロレンズは互いに隣接するように形成されていることが好ましい。例えば、マイクロレンズの大きさを直径１〜５μｍの範囲、曲率半径を２〜１５μｍの範囲で数種類変化させて、互いに隣接するように形成することで、ランダム形状を有するマイクロレンズアレイを形成できる。なお、マイクロレンズは、凸状でもよく、凹状でもよい。
【００２１】
このような焦点板１０１は、透光性基板１０２の上に無機レジスト膜１０３を成膜する工程と、前記無機レジスト膜１０３を露光および現像して、複数のマイクロレンズを形成する工程とにより好適に製造できる。この焦点板１０１を製造する実施形態については、実施例において詳細に説明する。
【００２２】
上記の焦点板と同様の構成により、焦点板製造用型とすることもできる。すなわち、本発明の焦点板製造用型は、型基板の上に、複数のマイクロレンズ形状の凹凸を有する無機レジスト膜が形成されている。
【００２３】
型基板としては、透光性を有している必要はなく、例えば、Ｎｉ、Ａｌなどの金属や、石英などを用いることができるが、前述の透光性基板を用いることもできる。
【００２４】
無機レジスト膜は、後述する露光光源の波長（３６０ｎｍ以下）における吸収率が１０％以上であることが好ましい。このような光学特性を有することで、露光による光エネルギーを熱に変換して露光部の結晶状態を変化させることができ、これを現像することによりマイクロレンズ形状の凹凸を形成することができる。また、無機レジスト膜は、相変化材料で形成された相変化膜であってもよい。なお、無機レジスト膜の可視光域での吸収率に制限はないが、可視光域での吸収率が１０％以下の無機レジスト膜を用いることもできる。
【００２５】
無機レジスト膜の光学特性の制御は、前述と同様に、無機レジスト膜を構成する無機レジスト材料の組成制御および無機レジスト膜の膜厚制御により行うことができる。
【００２６】
無機レジスト膜を形成する無機レジスト材料としては、例えば酸化タングステン（ＷＯ）を用いることができる。その他にも、酸化モリブデン（ＭｏＯ）、酸化テルル（ＴｅＯ）などの各種相変化材料を用いることもできる。
【００２７】
無機レジスト膜の膜厚は、０．５〜５μｍに設定することができる。
【００２８】
無機レジスト膜により形成されるマイクロレンズ形状の凹凸としては、焦点板に所望のマイクロレンズを形成可能な凹凸とすればよい。凹凸を構成するマイクロレンズ形状は、さまざまな大きさおよび曲率で形成することができ、焦点板にランダム形状を有するマイクロレンズアレイを形成可能な形状とすることが好ましい。複数のマイクロレンズ形状は互いに隣接するように形成されていることが好ましい。例えば、マイクロレンズ形状の大きさを直径１〜５μｍの範囲、曲率半径を２〜１５μｍの範囲で数種類変化させて、互いに隣接するように形成することで、焦点板にランダム形状を有するマイクロレンズアレイを形成できる。なお、凸状のマイクロレンズを有する焦点板を作製するためには、それを反転させた凹状のマイクロレンズ形状を形成すればよく、凹状のマイクロレンズを有する焦点板を作製するためには、それを反転させた凸状のマイクロレンズ形状を形成すればよい。
【００２９】
このような焦点板製造用型は、型基板の上に無機レジスト膜を成膜する工程と、前記無機レジスト膜を露光および現像して、複数のマイクロレンズ形状の凹凸を形成する工程とにより好適に製造できる。この焦点板製造用型を製造する実施形態については、実施例において詳細に説明する。
【００３０】
本発明の焦点板の第２の実施形態は、透光性基板の上に、上記の焦点板製造用型の凹凸が転写された透光性樹脂層を有している。この第２の実施形態の焦点板６０１の基本構成の例を図６に示す。
【００３１】
透光性基板６０２としては、前述と同様に、可視光域で透光性を示すものであればよく、例えば、ガラス基板や、アクリル樹脂基板、ポリカーボネート樹脂基板等のプラスチック基板を用いることができる。透光性基板６０２の可視光域での吸収率は１０％以下であることが好ましい。
【００３２】
透光性樹脂層６０３は、可視光域で透光性を示し、型による成型が可能なものであればよい。例えば、アクリル樹脂やポリカーボネート樹脂等の熱可塑性樹脂、エポキシ系樹脂等の熱硬化性樹脂、エポキシ系樹脂等の光硬化性樹脂等の樹脂基板を用いることもできる。透光性基板６０２として樹脂基板を用いている場合は、同じ基板を用いることもできる。
【００３３】
透光性樹脂層６０３の膜厚は、０．５〜５μｍに設定することができる。
【００３４】
透光性樹脂層６０３により形成されるマイクロレンズは、使用した焦点板製造用型の凹凸が反転したものとなる。すなわち、焦点板製造用型の凹凸により、さまざまな大きさおよび曲率のマイクロレンズを形成することができ、ランダム形状を有するマイクロレンズアレイを形成することが好ましい。複数のマイクロレンズは互いに隣接するように形成されていることが好ましい。例えば、マイクロレンズの大きさを直径１〜５μｍの範囲、曲率半径を２〜１５μｍの範囲で数種類変化させて、互いに隣接するように形成することで、ランダム形状を有するマイクロレンズアレイを形成できる。なお、マイクロレンズは、凸状でもよく、凹状でもよい。
【００３５】
このような焦点板６０１は、透光性樹脂層６０３に上記の焦点板製造用型の凹凸が転写した上で、透光性基板６０２と透光性樹脂層６０３をお互いに接着し、または透光性基板６０２と透光性樹脂層６０３を一体型成形することにより好適に製造できる。また、透光性基板６０２と透光性樹脂層６０３をお互いに接着し、または透光性基板６０２と透光性樹脂層６０３を一体型成形した後に、透光性樹脂層６０３に上記の焦点板製造用型の凹凸が転写することでも好適に製造できる。この焦点板６０１を製造する実施形態については、実施例において詳細に説明する。
【００３６】
本発明の焦点板は、焦点板を通過する光の出射側の表面上に、マイクロレンズが形成されている。このマイクロレンズは、さまざまな大きさおよび曲率で形成することができ、ランダム形状を有するマイクロレンズアレイを有する焦点板を作製することができる。これにより、ピント板に映し出される映像は明るく、ピント調節がし易く、かつ、自然なボケ味を実現でき、一眼レフレックス方式カメラの操作性向上につながる。このような焦点板は、本発明の焦点板製造用型により焦点板を簡便に作製できる。
【００３７】
また、本発明の焦点板の製造方法および焦点板製造用型の製造方法においては、焦点板上に形成する個々のマイクロレンズの大きさおよび曲率を容易に制御できる。したがって、より明るい焦点板やピント調節のボケ具合をより自然にした焦点板等、ユーザーの嗜好に併せた焦点板を作製することが可能である。さらに、ｎｍオーダーの形状制御性を有しており、極めて再現性よく作製することができ、製造上の安定性、効率性、制御性に優れている。
【００３８】
本発明の焦点板は、一眼レフレックス方式カメラの他、ムービーカメラ等の撮像装置の焦点板としても用いることができる。
【実施例】
【００３９】
（実施例１）
本実施例では、図１に示す構成の焦点板を、図２に示す工程により作製した。
【００４０】
まず、成膜工程として、透光性基板１０２（アクリル樹脂基板、可視光域での吸収率：３％以下）の上に、無機レジスト膜１０３として、相変化材料である酸化タングステン（ＷＯ）を反応性スパッタにより成膜した。この反応性スパッタにおいては、タングステン（Ｗ）金属ターゲットを用いて、Ａｒガス流量５０ｓｃｃｍ、Ｏ2ガス流量２０ｓｃｃｍ、投入電力４００Ｗに設定した。また、成膜条件から求まる成膜レート（単位時間あたりの膜厚）から、膜厚が１．０μｍになるように成膜時間を調整した。得られた無機レジスト膜１０３は、可視光域での吸収率が３％以下であり、後に行う露光光源の波長２５７ｎｍにおける吸収率が７０％であった。
【００４１】
次に、露光工程として、無機レジスト層１０３を露光し、マイクロレンズを形成するための微細パターンの描画を行った。露光光源としては、波長２５７ｎｍのＤｅｅｐ−ＵＶ発振アルゴンレーザーを用い、波長とともに露光スポット径を決定する対物レンズとしては、ＮＡ＝０．１のレンズを用いた。このときの露光スポット径は、およそ直径２．１μｍであった。ただし、露光光源の波長および対物レンズのＮＡは、これに限るものではない。露光光源は、無機レジスト膜１０３に対し吸光性を示す波長であればよく、各種ガスレーザーおよび各種半導体レーザーを用いることができる。ただし、一般に無機レジスト膜は波長が短いほど吸収率が高くなる傾向があるので、短波長光源の光学系による露光装置が適している。また、対物レンズのＮＡは、無機レジスト層１０３に形成するマイクロレンズの大きさと露光装置の露光光源波長により決定される。
【００４２】
ここで、露光装置の一例の基本構成を示すブロック図を図３に示す。この露光装置では、無機レジスト膜１０３が形成された焦点板１０１に対して、全体の動作を統括的に制御するＣＰＵ３０１により、レーザー露光による微細パターンの描画が行われる。
【００４３】
図４は、本実施例における各種信号波形の模式概略図であり、ＣＰＵ３０１からは図４（ｃ）で示すデータ信号が生成される。本実施例では、図４（ｃ）に示すように各パルスの周期や時間幅は一定であるものの、データ信号の波高値は一定ではなく、ランダムにもしくはある規則性をもって、さまざまな波高値を示すパルス波形によるデータ信号がＣＰＵ３０１から出力される。なお、データ信号とレーザー出力（ＬＤ出力）の関係は、図４で示すように、データ信号におけるハイレベルでレーザーを点灯し、ハイレベルの間だけ発光し続け、０レベルでレーザーを消灯し、０レベルの間だけ消灯し続けるという関係となっている。
【００４４】
ＣＰＵ３０１には、レーザー制御回路３０２が接続されている。レーザー制御回路３０２では、ＣＰＵ３０１から入力されたデータ信号に基づいて、露光パターン用のレーザー制御信号（ＬＤ制御信号）を生成する（図４（ｂ））。
【００４５】
レーザー制御回路３０２には、光ヘッド３００が接続されている。光ヘッド３００は、レーザードライバー３０３、これに接続されたレーザー（露光光源）３０４、および発光されたレーザー光を無機レジスト膜上に集光する対物レンズ３０５で構成されている。このレーザードライバー３０３にはレーザー制御回路３０２で生成されたレーザー制御信号が供給され、レーザードライバー３０３は供給されたレーザー制御信号に基づきレーザー駆動電流を生成する。そして、図４（ａ）のようなレーザー出力を示すようにレーザー３０４を発光駆動する。なお、本実施例では、図４（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、基本的に相似形の波形となっている。そして、発光されたレーザー光を対物レンズ３０５により無機レジスト膜上に集光して露光することで、微細パターンの描画を行う。
【００４６】
以上のようにして、データ信号に基づくさまざまなレベルを有するパルス波形によるレーザー制御信号を生成し、これによりレーザー３０４を発光駆動させることにより、レーザー出力としてもさまざまなパワーを示すパルス波形となる。そして、このようなレーザー出力で露光することにより、露光後、変質した領域もさまざまな大きさを有するパターンとして描画される。すなわち、レーザー出力の大きなパルスでは露光部（マイクロレンズ）も大きいものとなり、レーザー出力の小さなパルスでは露光部（マイクロレンズ）も小さいものとして形成される。
【００４７】
さらに、レーザー出力を比較的大きめでパワー制御して、大きめのマイクロレンズにより形状のランダム性をもたせて形成した場合、焦点板としては明るいものが作製できる。また、レーザー出力を小さいものから大きいものまでダイナミックレンジを広げたパワー制御により、マイクロレンズを形成した場合、マイクロレンズのランダム性が増し、より自然なボケ具合が実現されるのである。
【００４８】
また、本実施例では、マイクロレンズ形状を決定するデータ信号としては、一つのマイクロレンズのための露光に１発のパルス発光で行った。より一層の形状制御性向上を図るために、一連の複数の連続したパルス発光により一つのマイクロレンズ形成のための露光とするようなデータ信号としても良い。
【００４９】
以上のようなデータ信号に基づくレーザー出力の制御により、無機レジストに描画する微細パターンの制御を可能にし、さまざまな形状のマイクロレンズを高精度に得ることができる。
【００５０】
一方、無機レジスト膜１０３が形成された焦点板１０１は、対物レンズ３０５による無機レジスト膜１０３上の光スポットに対し、相対的に等速に移動している。すなわち、焦点板１０１上を直線的に、光スポットを等速で走査している。そして、焦点板１０１の片側の端に光スポットが辿り着いた際に、走査方向とは垂直に所定の距離（走査ライン間隔）をあけて、逆方向に光スポットを走査して、露光を行う。
【００５１】
なお、直線的に光スポットを走査しているが、スパイラル状に等速で光スポットを走査させることもできる。言い換えれば、焦点板１０１を回転させて光スポットをスパイラル状に走査し、光スポットが一定速度で徐々に径方向に外周側または内周側に移動させることで、隣接するスパイラル状の走査ラインの間隔が所定の距離になるよう露光できる。
【００５２】
以上のような露光装置により、焦点板１０１上の無機レジスト膜１０３の広範囲にわたる露光を可能にし、所望の微細パターンの描画を行うことができる。また、多面取りできるように大面積の露光を行い、露光後に必要な大きさに切り出すことで、露光前準備のセッティング等の時間を短縮でき効率的に生産できる。
【００５３】
本実施例では、上記露光装置を用いて、速度１．０ｍ／ｓで光スポットを直線的に走査した。レーザー制御回路３０２に入力するデータ信号としては、図４（ｃ）に示すようなものとし、１レベルのパルス幅０．１μｓ、パルス周期７００ＫＨｚで行った。レーザー出力に関しては、図４（ａ）における各レーザーパルスの波高値（パワー）が３００〜６００ｍＷの間でランダムな値となるように設定した。また、レーザー光による隣接する二つの走査ライン間隔を１．４μｍとした。
【００５４】
そして、露光により微細パターンが描画された無機レジスト膜１０３に対し、現像工程として、アルカリ現像液であるテトラメチルアンモニウム水酸化溶液で現像処理を行い、露光部２０４を除去した。すなわち、本実施例の無機レジスト膜はポジ型レジストとなっており、図１に示すような凹状のマイクロレンズが形成される。これは、露光部２０４の様子をＴＥＭなどにより観察した結果、温度分布に沿うように半球面状に結晶構造が変質している領域があり、現像したときにその変質した領域が除去されて、マイクロレンズ状の凹部を形成するからである。なお、アルカリ現像液としては、ＫＯＨ、ＮａＯＨ、Ｎａ2ＣＯ3などの無機アルカリ水溶液など使用することもできる。
【００５５】
以上の工程により、凹状のマイクロレンズが形成された焦点板を作製することができた。この焦点板に形成された各マイクロレンズの大きさおよび曲率はさまざまであり、直径はおよそ１．５〜２．２μｍ、曲率半径はおよそ３〜５μｍであり、ランダムな配置で形成されていた。
【００５６】
この焦点板を一眼レフレックス方式デジタルカメラに適用して、ピント調節を行ったところ、ファインダーを覗いたときの映像は明るく、かつ、自然なボケが実現されており、ピント調節の操作性が向上した。
【００５７】
（実施例２）
本実施例では、図５に示す構成の焦点板を、図２に示す工程により作製した。
【００５８】
露光工程において、波高値（パワー）を４５０ｍＷに、パルス時間幅を０．１μｓに固定し、パルス発光間隔（パルス周期）をランダムにしたデータ信号をレーザー制御回路３０２に入力したこと以外は、実施例１と同様にして焦点板を作製した。得られた焦点板は図５に示すような構成を有しており、直径はおよそ１．９μｍ、曲率半径はおよそ４μｍの凹状のマイクロレンズが、さまざまな配置で形成されていた。
【００５９】
この焦点板を一眼レフレックス方式デジタルカメラに適用して、ピント調節を行ったところ、ファインダーを覗いたときの映像は明るく、かつ、自然なボケが実現されており、ピント調節の操作性が向上した。
【００６０】
（実施例３）
本実施例では、図７に示す工程により焦点板製造用型７０１を作製し、その型を用いて図６に示す構成の焦点板を作製した。
【００６１】
まず、型基板７０２（Ｎｉ）の上に、無機レジスト膜７０３として、相変化材料である酸化タングステン（ＷＯ）を反応性スパッタにより成膜した。この反応性スパッタにおいては、タングステン（Ｗ）金属ターゲットを用いて、Ａｒガス流量６０ｓｃｃｍ、Ｏ2ガス流量２０ｓｃｃｍ、投入電力４００Ｗに設定した。また、成膜条件から求まる成膜レート（単位時間あたりの膜厚）から、膜厚が１．０μｍになるように成膜時間を調整した。得られた無機レジスト膜７０３は、後に行う露光光源の波長２５７ｎｍにおける吸収率が８０％であった。
【００６２】
次に、無機レジスト膜７０３を露光し、マイクロレンズ形状の凹凸を形成するための微細パターンの描画を行った。この露光は、実施例１と同じ露光装置を用い、実施例１と同様の操作で行った。
【００６３】
そして、露光により微細パターンが描画された無機レジスト膜７０３に対し、アルカリ現像液であるテトラメチルアンモニウム水酸化溶液で現像処理を行い、露光部７０４を除去した。すなわち、本実施例の無機レジスト膜はポジ型レジストとなっており、凹状のマイクロレンズ形状の凹凸７０５が形成される。なお、アルカリ現像液としては、ＫＯＨ、ＮａＯＨ、Ｎａ2ＣＯ3などの無機アルカリ水溶液など使用することもできる。
【００６４】
以上の工程により、凹状のマイクロレンズ形状の凹凸が形成された焦点板製造用型を作製することができた。この焦点板製造用型に形成された凹凸を構成する各マイクロレンズ形状の大きさおよび曲率はさまざまであり、直径はおよそ１．６〜２．４μｍ、曲率はおよそ３〜５μｍであり、中心間距離はおよそ１．４μｍであった。
【００６５】
得られた焦点板製造用型を射出成形器に取り付けてアクリル樹脂を成形することで、マイクロレンズ形状が転写された透光性樹脂層６０３（厚さ１００μｍ、可視光域での吸収率：３％以下）を作製した。そして、この透光性樹脂層６０３と透光性基板６０２（アクリル樹脂基板、可視光域での吸収率：３％以下）とをアクリル系接着剤により接着して、焦点板６０１を作製した。
【００６６】
この焦点板を一眼レフレックス方式デジタルカメラに適用して、ピント調節を行ったところ、ファインダーを覗いたときの映像は明るく、かつ、自然なボケが実現されており、ピント調節の操作性が向上した。
【００６７】
なお、本実施例では、マイクロレンズ形状の凹凸７０５が形成された無機レジスト膜７０３および型基板７０２からなる焦点板製造用型７０１を、焦点板６０１を成型するための型として用いたが、これを焦点板の原盤として用いてもよい。この原盤を、従来からのＮｉなどによる電鋳工程を行うことで、さらに強度の強いＮｉのみで構成された金型が得られる。
【図面の簡単な説明】
【００６８】
【図１】本発明に係る焦点板の第１の実施形態の基本構成を示す模式図である。
【図２】実施例１および２における焦点板の作製工程を示す模式図である。
【図３】実施例１〜３で用いた露光装置の基本構成を示すブロック図である。
【図４】実施例１および３の露光工程における、レーザー出力、レーザー制御信号、およびデータ信号の関係を示す図である。
【図５】本発明に係る焦点板の第１の実施形態の基本構成を示す模式図である。
【図６】本発明に係る焦点板の第２の実施形態の基本構成を示す模式図である。
【図７】実施例３における焦点板の作製工程を示す模式図である。
【符号の説明】
【００６９】
１０１    焦点板
１０２    透光性基板
１０３    無機レジスト膜
２０４    露光部
３０１    ＣＰＵ
３０２    レーザー制御回路
３０３    レーザードライバー
３０４    レーザー
３０５    対物レンズ
６０１    焦点板
６０２    透光性基板
６０３    透光性樹脂層
７０１    焦点板製造用型
７０２    型基板
７０３    無機レジスト膜
７０４    露光部
７０５    マイクロレンズ形状の凹凸
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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