(57)【要約】【課題】乾燥後の液滴の薄膜形状及び膜厚のばらつきを抑えることができる液滴噴射装置を提供する。【解決手段】液滴噴射装置１において、塗布対象物２に対して液滴を噴射する液滴噴射ヘッド７と、液滴噴射ヘッド７により液滴が噴射された塗布対象物２に対して気体をそれぞれ噴出する複数の噴出ノズル及び液滴噴射ヘッド７により液滴が噴射された塗布対象物２の周囲の気体をそれぞれ吸引する複数の吸引ノズルを有し、塗布対象物２上の液滴を乾燥させる乾燥部１０とを備える。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗布対象物に対して液滴を噴射する液滴噴射ヘッドと、
前記液滴噴射ヘッドにより前記液滴が噴射された前記塗布対象物に対して気体をそれぞれ噴出する複数の噴出ノズル及び前記液滴噴射ヘッドにより前記液滴が噴射された前記塗布対象物の周囲の気体をそれぞれ吸引する複数の吸引ノズルを有し、前記塗布対象物上の前記液滴を乾燥させる乾燥部と、
を備えることを特徴とする液滴噴射装置。
【請求項２】
前記複数の噴出ノズルの噴出流速又は噴出流量をそれぞれ調整する複数の噴出調整弁と、
前記複数の吸引ノズルの吸引流速又は吸引流量をそれぞれ調整する複数の吸引調整弁と、
を備え、
前記複数の噴出ノズル及び前記複数の吸引ノズルは、前記塗布対象物に対して接離方向に移動可能に設けられており、噴出ノズル列及び吸引ノズル列を交互に形成するようにそれぞれ並べて設けられていることを特徴とする請求項１記載の液滴噴射装置。
【請求項３】
塗布対象物に対して液滴を噴射するステップと、
前記液滴が噴射された前記塗布対象物に対して気体をそれぞれ噴出する複数の噴出ノズル及び前記液滴噴射ヘッドにより前記液滴が噴射された前記塗布対象物の周囲の気体をそれぞれ吸引する複数の吸引ノズルを有する乾燥部により、前記塗布対象物上の前記液滴を乾燥させるステップと、
を有することを特徴とする塗布体の製造方法。
【請求項４】
前記液滴を乾燥させるステップを行う前に、前記複数の噴出ノズルの噴出流速又は噴出流量をそれぞれ調整するステップと、
前記液滴を乾燥させるステップを行う前に、前記複数の吸引ノズルの吸引流速又は吸引流量をそれぞれ調整するステップと、
を有することを特徴とする請求項３記載の塗布体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗布対象物に対して液滴を噴射する液滴噴射装置及び塗布体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液滴噴射装置は、通常、液晶表示装置、有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置、電子放出表示装置、プラズマ表示装置及び電気泳動表示装置等の様々な表示装置を製造するために用いられている。
【０００３】
液滴噴射装置は、塗布対象物に向けて複数のノズルからインク等の液体を液滴としてそれぞれ噴射する液滴噴射ヘッド（例えば、インクジェットヘッド）や塗布対象物上に着弾した液滴を乾燥させる乾燥部等を備えている。この液滴噴射装置は、液滴噴射ヘッドにより塗布対象物に液滴を着弾させ、所定のパターンのドット列を形成し、塗布対象物上の液滴を乾燥させて、例えば、液晶ディスプレイ（カラーフィルタ）や有機ＥＬディスプレイ等の塗布体を製造する。なお、塗布液である液体は、溶剤及び溶媒により構成されている。
【０００４】
このような液滴噴射装置の中には、塗布対象物の乾燥時、真空乾燥により液滴を高速に乾燥させる液滴噴射装置が提案されている（例えば、特許文献１及び特許文献２参照）。この液滴噴射装置の乾燥部は、液滴が塗布された塗布対象物を収容する真空チャンバー等の収容室内の気体を排気し、収容室内を真空にして、塗布対象物上の液滴を乾燥させる。
【特許文献１】特開２００１−２３５２７７号公報
【特許文献２】特開２００３−２３４２７３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、真空乾燥により高速に液滴を乾燥させると、気流が収容室内の全体に発生し、塗布対象物上の液滴が均一に乾燥しなくなるため、乾燥後の液滴の薄膜形状及び膜厚にばらつきが発生してしまう。これは、表示装置での色度ムラ等の発生要因となっている。
【０００６】
また、基板の中央部では、揮発後の溶媒が滞留しやすく、液滴の溶媒濃度が高いため、乾燥速度が遅くなり、基板の周囲部では、液滴の溶媒濃度が低いため、乾燥速度が速くなる。このため、乾燥後の液滴の薄膜形状及び膜厚にばらつきが顕著に発生してしまう。
【０００７】
本発明は、上記に鑑みてなされたものであり、その目的は、乾燥後の液滴の薄膜形状及び膜厚のばらつきを抑えることができる液滴噴射装置及び塗布体の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の実施の形態に係る第１の特徴は、液滴噴射装置において、塗布対象物に対して液滴を噴射する液滴噴射ヘッドと、液滴噴射ヘッドにより液滴が噴射された塗布対象物に対して気体をそれぞれ噴出する複数の噴出ノズル及び液滴噴射ヘッドにより液滴が噴射された塗布対象物の周囲の気体をそれぞれ吸引する複数の吸引ノズルを有し、塗布対象物上の液滴を乾燥させる乾燥部とを備えることである。
【０００９】
本発明の実施の形態に係る第２の特徴は、塗布体の製造方法において、塗布対象物に対して液滴を噴射するステップと、液滴が噴射された塗布対象物に対して気体をそれぞれ噴出する複数の噴出ノズル及び液滴噴射ヘッドにより液滴が噴射された塗布対象物の周囲の気体をそれぞれ吸引する複数の吸引ノズルを有する乾燥部により、塗布対象物上の液滴を乾燥させるステップとを有することである。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、乾燥後の液滴の薄膜形状及び膜厚のばらつきを抑えることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
本発明の実施の一形態について図面を参照して説明する。
【００１２】
図１に示すように、本発明の実施の一形態に係る液滴噴射装置１は、塗布対象物である基板２に対して液体であるインクを液滴として噴射して塗布するインク塗布ボックス３と、そのインク塗布ボックス３にインクを供給するインク供給ボックス４とを備えている。これらのインク塗布ボックス３とインク供給ボックス４とは、互いに隣接して配置され、共に架台５の上面に固定されている。なお、インク塗布ボックス３の内部は、一定の温度及び湿度に保たれている。
【００１３】
インク塗布ボックス３の内部には、基板２を保持してＸ軸方向及びＹ軸方向に移動させる基板移動部６と、インクを液滴として基板２に向けて噴射する液滴噴射ヘッド７をそれぞれ有する複数のインクジェットヘッドユニット８と、それらのインクジェットヘッドユニット８をＸ軸方向に移動させるユニット移動部９と、基板２上に着弾した液滴を乾燥させる乾燥部１０と、インクを収容するインクバッファタンク１１とが設けられている。
【００１４】
基板移動部６は、Ｙ軸方向ガイド板１２、Ｙ軸方向移動テーブル１３、Ｘ軸方向移動テーブル１４及び基板保持テーブル１５により構成されている。これらのＹ軸方向ガイド板１２、Ｙ軸方向移動テーブル１３、Ｘ軸方向移動テーブル１４及び基板保持テーブル１５は、平板状に形成されており、積層されて設けられている。
【００１５】
Ｙ軸方向ガイド板１２は架台５の上面に固定されている。Ｙ軸方向ガイド板１２の上面には、複数のガイド溝１２ａがＹ軸方向に沿って設けられている。これらのガイド溝１２ａがＹ軸方向移動テーブル１３をＹ軸方向に案内する。
【００１６】
Ｙ軸方向移動テーブル１３は、各ガイド溝１２ａにそれぞれ係合する複数の突起部（図示せず）を下面に有しており、Ｙ軸方向ガイド板１２の上面にＹ軸方向に移動可能に設けられている。また、Ｙ軸方向移動テーブル１３の上面には、複数のガイド溝１３ａがＸ軸方向に沿って設けられている。これらのガイド溝１３ａがＸ軸方向移動テーブル１４をＸ軸方向に案内する。このようなＹ軸方向移動テーブル１３は、送りネジ及び駆動モータを用いた送り機構（図示せず）により各ガイド溝１２ａに沿ってＹ軸方向に移動する。
【００１７】
Ｘ軸方向移動テーブル１４は、各ガイド溝１３ａに係合する突起部（図示せず）を下面に有しており、Ｙ軸方向移動テーブル１３の上面にＸ軸方向に移動可能に設けられている。このようなＸ軸方向移動テーブル１４は、送りネジ及び駆動モータを用いた送り機構（図示せず）により各ガイド溝１３ａに沿ってＸ軸方向に移動する。
【００１８】
基板保持テーブル１５は、Ｘ軸方向移動テーブル１４の上面に固定されて設けられている。この基板保持テーブル１５は、基板２を吸着する吸着機構（図示せず）を備えており、その吸着機構により上面に基板２を固定して保持する。吸着機構としては、例えばエアー吸着機構等を用いる。なお、基板２の保持手段としては、吸着機構にかえて、基板を把持する把持機構を設けるようにしてもよい。把持機構としては、例えばコの字型の挟み金具等を用いる。
【００１９】
ユニット移動部９は、架台５の上面に立設された一対の支柱１６と、それらの支柱１６の上端部間に連結されてＸ軸方向に延出するＸ軸方向ガイド板１７と、そのＸ軸方向ガイド板１７にＸ軸方向に移動可能に設けられ各インクジェットヘッドユニット８を支持するベース板１８とによって構成されている。
【００２０】
一対の支柱１６は、Ｘ軸方向においてＹ軸方向ガイド板１２を挟むように設けられている。また、Ｘ軸方向ガイド板１７の前面には、ガイド溝１７ａがＸ軸方向に沿って設けられている。このガイド溝１７ａがベース板１８をＸ軸方向に案内する。
【００２１】
ベース板１８は、ガイド溝１７ａに係合する突起部（図示せず）を背面に有しており、Ｘ軸方向ガイド板１７にＸ軸方向に移動可能に設けられている。このベース板１８は、送りネジ及び駆動モータを用いた送り機構（図示せず）によりガイド溝１７ａに沿ってＸ軸方向に移動する。このようなベース板１８の前面には、各インクジェットヘッドユニット８が取付けられている。
【００２２】
各インクジェットヘッドユニット８は、ベース板１８に垂設されており、それぞれ液滴噴射ヘッド７を具備している。これらの液滴噴射ヘッド７は、各インクジェットヘッドユニット８の先端にそれぞれ着脱可能に設けられている。液滴噴射ヘッド７は、貫通孔である複数のノズル（図示せず）を有し、それらの各ノズルから基板２に向けて液滴を噴射し、基板２の表面に所定のパターンを塗布する。
【００２３】
インクジェットヘッドユニット８には、基板２の表面に対して垂直方向、すなわちＺ軸方向に液滴噴射ヘッド７を移動させるＺ軸方向移動機構１９ａと、液滴噴射ヘッド７をＹ軸方向に移動させるＹ軸方向移動機構１９ｂと、液滴噴射ヘッド７をθ方向に回転させるθ方向回転機構１９ｃとが設けられている。これにより、液滴噴射ヘッド７は、Ｚ軸方向及びＹ軸方向に移動可能になり、θ軸方向に回転可能になる。
【００２４】
乾燥部１０は、Ｘ軸方向ガイド板１７に固定されて設けられた第１支持部材２０と、架台５の上面に設けられた第２支持部材２１とにより支持されており、Ｘ軸方向に移動する基板２に対向する位置、すなわち基板２の移動領域に対向する位置に位置付けられて設けられている。この乾燥部１０は、例えば直方体状に形成されており、その長手方向をＹ軸方向に向けて配置されている。乾燥部１０の一端が第１支持部材２０により支持されており、その他端が第２支持部材２１により支持されている。
【００２５】
インクバッファタンク１１は、その内部に貯留したインクの液面と液滴噴射ヘッド７のノズル面との水頭差（水頭圧）を利用し、ノズル先端のインクの液面（メニスカス）を調整する。これにより、インクの漏れ出しや噴射不良が防止されている。
【００２６】
インク供給ボックス４の内部には、インクを収容するインクタンク２２が着脱可能に設けられている。インクタンク２２は、供給パイプ２３によりインクバッファタンク１１を介して液滴噴射ヘッド７に接続されている。これにより、液滴噴射ヘッド７は、インクタンク２２からインクバッファタンク１１を介してインクの供給を受けることになる。なお、インクは溶剤及び溶媒により構成されている。
【００２７】
架台５の内部には、液滴噴射装置１の各部を制御するための制御部２４及び各種のプログラムを記憶する記憶部（図示せず）等が設けられている。制御部２４は、各種のプログラムに基づいて、Ｙ軸方向移動テーブル１３の移動制御、Ｘ軸方向移動テーブル１４の移動制御、ベース板１８の移動制御、Ｚ軸方向移動機構１９ａの駆動制御、Ｙ軸方向移動機構１９ｂの駆動制御及びθ方向回転機構１９ｃの駆動制御等を行う。これにより、基板保持テーブル１５上の基板２と、各インクジェットヘッドユニット８の液滴噴射ヘッド７との相対位置を色々と変化させることができる。さらに、制御部２４は、各種のプログラムに基づいて、各液滴噴射ヘッド７の駆動制御及び乾燥部１０の駆動制御等も行う。
【００２８】
次いで、乾燥部１０について詳しく説明する。
【００２９】
図２に示すように、乾燥部１０は、各液滴噴射ヘッド７により液滴が噴射された基板２に対して気体をそれぞれ噴出する複数の噴出ノズル５１と、各液滴噴射ヘッド７により液滴が噴射された基板２の周囲の気体をそれぞれ吸引する複数の吸引ノズル５２と、基板２に対して接離方向に各噴出ノズル５１及び各吸引ノズル５２を移動可能に支持するノズル支持部５３と、各噴出ノズル５１に複数の噴出径路５４を介して接続されそれらの噴出ノズル５１に気体を供給する噴出部５５と、各吸引ノズル５２に複数の吸引径路５６を介して接続されそれらの吸引ノズル５２に気体を吸引する吸引力を供給する吸引部５７と、各噴出径路５４中にそれぞれ設けられ各噴出ノズル５１の噴出流速又は噴出流量を調整する複数の噴出調整弁５８と、各吸引径路５６中にそれぞれ設けられ各吸引ノズル５２の吸引流速又は吸引流量を調整する複数の吸引調整弁５９と、各噴出ノズル５１及び各吸引ノズル５２等の部材を覆う本体カバー６０とを備えている。
【００３０】
各噴出ノズル５１及び各吸引ノズル５２は、基板２の表面に対向する位置に位置付けられ、基板２に対して接離方向に移動可能に設けられている。これらの噴出ノズル５１及び吸引ノズル５２の開口部は、例えば円形状に形成されている。噴出ノズル５１の開口部の直径は、例えば５ｍｍ程度であり、吸引ノズル５２の開口部の直径は、例えば１０ｍｍ程度である。
【００３１】
さらに、図３に示すように、各噴出ノズル５１及び各吸引ノズル５２は、噴出ノズル列５１ａ及び吸引ノズル列５２ａを交互に形成するようにそれぞれ並べて設けられている。各噴出ノズル５１は、Ｘ軸方向のピッチ間隔Ｘ１が例えば３０ｍｍ程度に設定され、Ｙ軸方向のピッチ間隔Ｙ１が例えば６０ｍｍ程度に設定されて、格子状にそれぞれ設けられている。同様に、各吸引ノズル５２も、Ｘ軸方向のピッチ間隔Ｘ２が例えば３０ｍｍ程度に設定され、Ｙ軸方向のピッチ間隔Ｙ２が例えば６０ｍｍ程度に設定されて、格子状にそれぞれ設けられている。なお、各噴出ノズル５１と各吸引ノズル５２との間のＸ軸方向のピッチ間隔Ｘ３は、例えば１５ｍｍ程度であり、各噴出ノズル５１と各吸引ノズル５２との間のＹ軸方向のピッチ間隔Ｙ３は、例えば３０ｍｍ程度である。
【００３２】
加えて、図４に示すように、各噴出ノズル５１は、基板２の表面からの離間距離Ｚ１が例えば８０ｍｍ程度になるように設定されてそれぞれ設けられている。また、各吸引ノズル５２は、基板２の表面からの離間距離Ｚ２が例えば３０ｍｍ程度になるように設定されてそれぞれ設けられている。
【００３３】
ノズル支持部５３は、基板２に対して接離方向に移動可能に設けられ各噴出ノズル５１を固定して支持する噴出ノズル支持板５３ａと、基板２に対して接離方向に移動可能に設けられ各吸引ノズル５２を固定して支持する吸引ノズル支持板５３ｂと、それらの噴出ノズル支持板５３ａ及び吸引ノズル支持板５３ｂを接離方向に移動可能に支持する複数の支持棒５３ｃと、噴出ノズル支持板５３ａ及び吸引ノズル支持板５３ｂを支持棒５３ｃに固定して保持する複数の固定部材５３ｄと、第１支持部材２０に固定されて設けられ各支持棒５３ｃを支持する棒支持板５３ｅと、第２支持部材２１に固定されて設けられ棒支持板５３ｅを支持する板支持部材５３ｆとを備えている。
【００３４】
噴出ノズル支持板５３ａは、移動する基板２に対向する位置、すなわち基板２の移動領域に対向する位置に位置付け、各支持棒５３ｃに各固定部材５３ｄにより取り付けられている。噴出ノズル支持板５３ａには、各支持棒５３ｃがそれぞれ貫通する複数の貫通孔Ｋ１と、各噴出ノズル５１がそれぞれ嵌合する複数の貫通孔Ｋ２と、各吸引径路５６がそれぞれ通過する複数の貫通孔Ｋ３とが形成されている。なお、各噴出ノズル５１は各貫通孔Ｋ２にそれぞれ嵌合して固定されており、噴出ノズル支持板５３ａの移動に伴って移動する。
【００３５】
吸引ノズル支持板５３ｂは、移動する基板２に対向する位置、すなわち基板２の移動領域に対向する位置であって噴出ノズル支持板５３ａより基板２側に位置付け、各支持棒５３ｃに各固定部材５３ｄにより取り付けられている。この吸引ノズル支持板５３ｂには、各支持棒５３ｃがそれぞれ貫通する複数の貫通孔Ｋ４と、各噴出ノズル５１がそれぞれ通過する複数の貫通孔Ｋ５と、各吸引ノズル５２がそれぞれ嵌合する複数の貫通孔Ｋ６とが形成されている。なお、各吸引ノズル５２は各貫通孔Ｋ６にそれぞれ嵌合して固定されており、吸引ノズル支持板５３ｂの移動に伴って移動する。
【００３６】
各支持棒５３ｃは、棒支持板５３ｅの下面（基板２側の表面）に固定されて設けられている。これらの支持棒５３ｃは、各貫通孔Ｋ１及び各貫通孔Ｋ４にそれぞれ挿入されており、各固定部材５３ｄと協力して噴出ノズル支持板５３ａ及び吸引ノズル支持板５３ｂを支持する。各支持棒５３ｃの周囲には、ネジ溝が形成されている。
【００３７】
各固定部材５３ｄは、各支持棒５３ｃに設けられており、噴出ノズル支持板５３ａ及び吸引ノズル支持板５３ｂを所定の位置に保持する。これらの固定部材５３ｄとしては、例えばナット等を用いる。なお、各固定部材５３ｄによる噴出ノズル支持板５３ａ及び吸引ノズル支持板５３ｂの保持位置が変更され、基板２と各噴出ノズル５１及び各吸引ノズル５２との間の離間距離Ｚ１、Ｚ２が調整される。
【００３８】
棒支持板５３ｅは、その一端が第１支持部材２０に固定され、他端が板支持部材５３ｆに固定されて設けられている。この棒支持板５３ｅには、各噴出径路５４及び各吸引径路５６がそれぞれ通過する複数の貫通孔Ｋ７が形成されている。
【００３９】
板支持部材５３ｆは、例えば棒状に形成され、複数本設けられている。これらの板支持部材５３ｆは、その一端が第２支持部材２１の上面に固定され、他端が棒支持板５３ｅの下面に固定されて設けられている。
【００４０】
各噴出径路５４は、各噴出ノズル５１と噴出部５５とを接続する径路である。これらの噴出径路４５は、各噴出ノズル５１から噴出部５５までの途中で１つの噴出径路５４ａとしてまとめられている。このような噴出径路５４としては、例えばチューブやパイプ等を用いる。
【００４１】
噴出部５５は、各噴出ノズル５１にそれぞれ気体を供給する供給ポンプであり、架台５の内部に設けられている。この噴出部５５は、制御部２４に電気的に接続されており、その制御部２４により駆動制御される。ここで、気体としては、例えばドライエアや不活性ガス等を用いる。ドライエアや不活性ガスは露点管理される。なお、不活性ガスとしては、例えば窒素ガス等を用いる。
【００４２】
各吸引径路５６は、各吸引ノズル５２と吸引部５７とを接続する径路である。これらの吸引径路５６は、各吸引ノズル５２から吸引部５７までの途中で１つの吸引径路５６ａとしてまとめられている。このような吸引径路５６としては、例えばチューブやパイプ等を用いる。
【００４３】
吸引部５７は、各吸引ノズル５２にそれぞれ吸引力を供給する吸引ポンプであり、架台５の内部に設けられている。この吸引部５７は、制御部２４に電気的に接続されており、その制御部２４により駆動制御される。
【００４４】
各噴出調整弁５８及び各吸引調整弁５９は、棒支持板５３ｅの上面（基板２の反対側の表面）に設けられている。各噴出調整弁５８は、各噴出ノズル５１と同数設けられており、各噴出ノズル５１の噴出流速又は噴出流量をそれぞれ調整する。また、各吸引調整弁５９も、各吸引ノズル５２と同数設けられており、各吸引ノズル５２の吸引流速又は吸引流量をそれぞれ調整する。このような噴出調整弁５８及び吸引調整弁５９としては、例えばスピードコントローラ等を用いる。これらの噴出調整弁５８及び吸引調整弁５９が調整され、各噴出ノズル５１の噴出流速又は噴出流量と各吸引ノズル５２の吸引流速又は吸引流量とが、使用する溶媒の特性に応じて設定されている。
【００４５】
例えば、沸点が８２．４℃であるＩＰＡ（イソプロピルアルコール）等の溶媒のように、沸点が水の沸点１００℃以下である揮発性が高い溶媒に対しては、各噴出ノズル５１の噴出流速を低くし、各吸引ノズル５２の吸引流速、すなわち吸引力を高めるように各噴出調整弁５８及び各吸引調整弁５９が調整される。
【００４６】
次に、このような液滴噴射装置１を用いた塗布体の製造方法について説明する。なお、液滴噴射装置１の制御部２４は、各種のプログラムに基づいて液滴噴射処理及び液滴乾燥処理を実行する。
【００４７】
図５に示すように、塗布体の製造工程は、基板２と各噴出ノズル５１との間の離間距離Ｚ１及び基板２と各吸引ノズル５２との間の離間距離Ｚ２を調整し、各噴出ノズル５１の噴出流速又は噴出流量と各吸引ノズル５２の吸引流速又は吸引流量とをそれぞれ調整するステップＳ１と、基板２に対して液滴を噴射するステップＳ２と、その後、乾燥部１０により基板２上の液滴を乾燥させるステップＳ３とにより構成されている。この製造工程を行うことにより、塗布体が完成する。なお、ステップＳ３では、基板２と乾燥部１０とを相対的に移動させる。
【００４８】
ステップＳ１では、各種の調整が作業者により行われる。作業者は、各固定部材５３ｄを調整し、噴出ノズル支持板５３ａ及び吸引ノズル支持板５３ｂの保持位置を変えて、基板２と各噴出ノズル５１及び各吸引ノズル５２と間の離間距離Ｚ１、Ｚ２を調整する。加えて、作業者は、各噴出調整弁５８及び各吸引調整弁５９を調整し、各噴出ノズル５１の噴出流速又は噴出流量と各吸引ノズル５２の吸引流速又は吸引流量とをそれぞれ調整する。各噴出ノズル５１の噴出流速及び各吸引ノズル５２の吸引流速は、例えば１０ｍ／ｓ程度に設定される。
【００４９】
ステップＳ２では、液滴の噴射は液滴噴射装置１により行われる。制御部２４は、液滴噴射処理を実行し、インク塗布ボックス３内の各部を駆動制御し、基板保持テーブル１５上の基板２に対して液滴を塗布する液滴塗布動作を行う。詳述すると、制御部２４は、Ｙ軸方向移動テーブル１３及びＸ軸方向移動テーブル１４を移動制御し、加えて、各インクジェットヘッドユニット８の液滴噴射ヘッド７を駆動制御し、各液滴噴射ヘッド７により基板２に向かって液滴を噴射する液滴噴射動作を行う。これにより、液滴噴射ヘッド７は、インクを液滴として各ノズルからそれぞれ噴射し、移動する基板２にそれらの液滴を着弾させ、所定のパターンのドット列を順次形成する。
【００５０】
ステップＳ３では、液滴の乾燥は液滴噴射装置１の乾燥部１０により行われる。制御部２４は、液滴乾燥処理を実行し、インク塗布ボックス３内の乾燥部１０を駆動制御し、基板保持テーブル１５上の液滴噴射済の基板２を乾燥する乾燥動作を行う。詳述すると、制御部２４は、Ｙ軸方向移動テーブル１３及びＸ軸方向移動テーブル１４を移動制御し、加えて、乾燥部１０の噴出部５５及び吸引部５７を駆動制御し、基板２の表面に向かって気体を噴出し、同時に、基板２の表面周囲の気体を吸引する。このとき、制御部２４は、Ｘ軸方向移動テーブル１４を例えば１ｍｍ／ｓ程度の速度で移動させる。この液滴乾燥処理により、気体が各噴出ノズル５１から基板２の表面に向かって噴出され、その気体により基板２上の液滴が乾燥する。また、各吸引ノズル５２により基板２の表面周囲の気体が吸引され、基板２の周囲に滞留する揮発後の溶媒雰囲気が取り除かれる。
【００５１】
以上説明したように、本発明の実施の形態によれば、複数の噴出ノズル５１及び複数の吸引ノズル５２を備える乾燥部１０を設けることによって、各噴出ノズル５１から気体が基板２の表面に向かって噴出され、その気体により基板２上の液滴が乾燥し、また、各吸引ノズル５２により基板２の周囲の気体が吸引され、基板２の周囲に滞留する揮発後の溶媒雰囲気が取り除かれる。これにより、基板２上の液滴の乾燥速度（溶媒の揮発速度）が一定になるので、乾燥後の液滴の薄膜形状及び膜厚のばらつきを抑えることができる。その結果として、表示装置での色度ムラ等の発生を防止することができる。
【００５２】
また、各噴出ノズル５１が基板２に対して接離方向に移動可能に設けられていることから、各噴出ノズル５１と基板２との離間距離Ｚ１を調整することが可能になるので、使用する溶媒の特性等に合わせて、各噴出ノズル５１及び各吸引ノズル５２により発生する気流の調整を行うことができる。その結果として、乾燥後の液滴の薄膜形状及び膜厚のばらつきをより確実に抑えることができる。
【００５３】
さらに、各吸引ノズル５２が基板２に対して接離方向に移動可能に設けられていることから、各吸引ノズル５２と基板２との離間距離Ｚ２を調整することが可能になるので、使用する溶媒の特性等に合わせて、各噴出ノズル５１及び各吸引ノズル５２により発生する気流の調整を行うことができる。その結果として、乾燥後の液滴の薄膜形状及び膜厚のばらつきをより確実に抑えることができる。
【００５４】
加えて、各噴出ノズル５１及び各吸引ノズル５２は、噴出ノズル列５１ａ及び吸引ノズル列５２ａを交互に形成するようにそれぞれ並べて設けられていることから、気体の噴出及び吸引がスムーズに行われ、各噴出ノズル５１及び各吸引ノズル５２により発生する気流が乾燥後の液滴の薄膜形状及び膜厚のばらつきを抑えるために適した流れとなるので、乾燥後の液滴の薄膜形状及び膜厚のばらつきをより確実に抑えることができる。
【００５５】
また、各噴出ノズル５１の噴出流速又は噴出流量をそれぞれ調整する各噴出調整弁５８と、各吸引ノズル５２の吸引流速又は吸引流量をそれぞれ調整する各吸引調整弁５９とを設けることによって、各噴出ノズル５１の噴出流速又は噴出流量と各吸引ノズル５２の吸引流速又は吸引流量とが調整され、各噴出ノズル５１及び各吸引ノズル５２により発生する気流の流速又は流量が乾燥後の液滴の薄膜形状及び膜厚のばらつきを抑えるために適した値となるので、乾燥後の液滴の薄膜形状及び膜厚のばらつきをより確実に抑えることができる。
【００５６】
さらに、基板２と乾燥部１０とを相対的に移動させる基板移動部６を設けることによって、基板２の全面を覆うように乾燥部１０を形成する必要がなく、乾燥部１０を小型化することができる。その結果として、液滴噴射装置１を小型化することができる。
【００５７】
（他の実施の形態）
なお、本発明は、前述の実施の形態に限るものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能である。
【００５８】
例えば、前述の実施の形態においては、移動部として基板２を移動させる基板移動部６を設けているが、これに限るものではなく、例えば、移動部として乾燥部１０を移動させる乾燥部移動部を設けるようにしてもよい。
【００５９】
また、前述の実施の形態においては、基板２と乾燥部１０とを相対的に移動させているが、これに限るものではなく、例えば、基板２の全面を覆うように乾燥部１０を形成し、基板２と乾燥部１０とを相対的に移動しないようにしてもよい。
【００６０】
また、前述の実施の形態においては、作業者が各噴出調整弁５８及び各吸引調整弁５９を調整するようにしているが、これに限るものではなく、例えば、制御部２４により各噴出調整弁５８及び各吸引調整弁５９を駆動制御するようにしてもよい。
【００６１】
また、前述の実施の形態においては、作業者が基板２と各噴出ノズル５１及び各吸引ノズル５２との離間距離Ｚ１、Ｚ２を調整するようにしているが、これに限るものではなく、例えば、噴出ノズル支持板５３ａ及び吸引ノズル支持板５３ｂを基板２に対して接離方向に移動させる移動機構を設け、その移動機構を制御部２４により駆動制御するようにしてもよい。
【００６２】
最後に、前述の実施の形態においては、各種の数値を挙げているが、それらの数値は例示であり、限定されるものではない。
【図面の簡単な説明】
【００６３】
【図１】本発明の実施の一形態に係る液滴噴射装置の概略構成を示す斜視図である。
【図２】図１に示す液滴噴射装置が備える乾燥部の断面図である。
【図３】図２のＡ−Ａ線断面図である。
【図４】図２に示す乾燥部が備える噴出ノズル及び吸引ノズルと基板との離間距離を説明するための説明図である。
【図５】塗布体の製造工程を説明するための説明図である。
【符号の説明】
【００６４】
１…液滴噴射装置、２…塗布対象物（基板）、１０…乾燥部、５１…噴出ノズル、５１ａ…噴出ノズル列、５２…吸引ノズル、５２ａ…吸引ノズル列、５８…噴出調整弁、５９…吸引調整弁、Ｓ１…ステップ、Ｓ２…ステップ、Ｓ３…ステップ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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