(57)【要約】【課題】十分な大きさの吐出口を確保しながら高い貫通能力をもったキャピラリ針を低コストで製造すること。【解決手段】本発明に係るマイクロインジェクション用キャピラリ針の製造方法は、中空の針の先端を、平滑面をドライエッチングにより粗化処理して製作された研磨板の研磨面の上を所定の接触角度、押付量および相対移動速度で所定距離だけ移動させて、針の先端の１の面を研磨する第１の研磨工程と、針を軸周りに回転させる回転工程と、針の先端を、研磨面の上を所定の接触角度、押付量および相対移動速度で所定距離だけ移動させて、先端の他の面を研磨する第２の研磨工程とを含み、針の先端を多面加工する。【選択図】        図８
2008173733.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マイクロインジェクション用キャピラリ針の製造方法において、
中空の針の先端を、平滑面をドライエッチングにより粗化処理して製作された研磨板の研磨面の上を所定の接触角度、押付量および相対移動速度で所定距離だけ移動させて、前記先端の１の面を研磨する第１の研磨工程と、
前記針を軸周りに回転させる回転工程と、
前記針の先端を、前記研磨面の上を所定の接触角度、押付量および相対移動速度で所定距離だけ移動させて、前記先端の他の面を研磨する第２の研磨工程と
を含んだことを特徴とするマイクロインジェクション用キャピラリ針の製造方法。
【請求項２】
前記第１の研磨工程および前記第２の研磨工程は、前記針の内部に気体を供給し、該気体を前記先端から放出させながら研磨をおこなうことを特徴とする請求項１に記載のマイクロインジェクション用キャピラリ針の製造方法。
【請求項３】
前記回転工程および前記第２の研磨工程を２回以上繰り返し実行することを特徴とする請求項１または２に記載のマイクロインジェクション用キャピラリ針の製造方法。
【請求項４】
前記研磨板は、ＳＦ６を用いて平滑面をドライエッチングされたシリコンであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記載のマイクロインジェクション用キャピラリ針の製造方法。
【請求項５】
前記研磨板は、Ｃ４Ｆ８とＳＦ６を交互に用いて平滑面をドライエッチングされたシリコンであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記載のマイクロインジェクション用キャピラリ針の製造方法。
【請求項６】
前記研磨板は、シリコンに代えてガラスからなることを特徴とする請求項４または５に記載のマイクロインジェクション用キャピラリ針の製造方法。
【請求項７】
前記研磨板は、シリコンに代えてセラミックからなることを特徴とする請求項４または５に記載のマイクロインジェクション用キャピラリ針の製造方法。
【請求項８】
前記研磨板は、シリコンに代えてＳｉＯｘ皮膜が付着された基板からなることを特徴とする請求項４または５に記載のマイクロインジェクション用キャピラリ針の製造方法。
【請求項９】
前記研磨版の被処理面の平均粗さは１乃至１０ｎｍであることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１つに記載のマイクロインジェクション用キャピラリ針の製造方法。
【請求項１０】
マイクロインジェクション用キャピラリ針の製造装置において、
平滑面をドライエッチングにより粗化処理して製作された研磨面を有する研磨板が搭載される台座部と、
中空の針を保持する保持部とを備え、
前記台座部および前記保持部は、前記針の先端が前記研磨面によって所定の接触角度、押付量および相対移動速度で研磨されるように相対的に移動し、
前記保持部は、前記針を軸周りに回転させることを特徴とするマイクロインジェクション用キャピラリ針の製造装置。
【請求項１１】
マイクロインジェクションの対象物に液体を注入するための吐出口を有する先端部が多面研磨され、先端曲率０．２μ以下に先鋭化されたことを特徴とするマイクロインジェクション用キャピラリ針。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、マイクロインジェクション用キャピラリ針、その製造方法および製造装置に関し、特に、十分な大きさの吐出口を確保しながら高い貫通能力をもったマイクロインジェクション用キャピラリ針と、それを低コストで製造することができる製造方法および製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
細胞に薬液等を注入するための技術として、中空のガラス針等からなるキャピラリ針の先端を細胞に突き刺し、キャピラリ針に充填させた薬剤等を抽出するマイクロインジェクションが知られている。一般に、マイクロインジェクション用のキャピラリ針の先端は、先端外径１μｍ程度に加工されている。
【０００３】
ところが、このように先端を小径化させたキャピラリ針であっても、浮遊細胞に薬液等を注入しようとする場合等には、貫通能力が低く、薬液等の導入率が低かった。キャピラリ針の貫通能力を向上させる手法としては、キャピラリ針の先端を斜面加工する手法や、キャピラリ針の先端をさらに小径化させる手法が考えられる。
【０００４】
キャピラリ針の先端を斜面加工する手法としては、ＦＩＢ（Focused Ion Beam）加工による手法や、ダイアモンド研磨版やアルミナ研磨板を用いた研磨装置（例えば、非特許文献１）によって研磨する手法が知られている。
【０００５】
【非特許文献１】ショーシンＥＭ株式会社、「Ｓｕｔｔｅｒ（インジェクション用）」、［online］、［平成１９年１月１１日検索］、インターネット＜URL：http://www.shoshinem.com/bv-10.htm＞
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、ＦＩＢ加工による手法には、高価な設備を必要とし、コストがかかるという問題があった。また、ダイアモンド研磨版やアルミナ研磨板を用いた研磨装置による手法には、表面のＲａ（平均粗さ）が０．０５μｍ程度の研磨板で先端径１μｍのキャピラリ針を研磨することになるため、針先に欠けが生じてうまく加工できないという問題があった。また、キャピラリ針の先端をさらに小径化させると、吐出口も小さくなるため、針詰まりし易くなるという問題があった。
【０００７】
この発明は、上述した従来技術による問題点を解消するためになされたものであり、十分な大きさの吐出口を確保しながら高い貫通能力をもったマイクロインジェクション用キャピラリ針と、それを低コストで製造することができる製造方法および製造装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上述した課題を解決し、目的を達成するため、本発明の一つの態様では、マイクロインジェクション用キャピラリ針の製造方法において、中空の針の先端を、平滑面をドライエッチングにより粗化処理して製作された研磨板の研磨面の上を所定の接触角度、押付量および相対移動速度で所定距離だけ移動させて、前記先端の１の面を研磨する第１の研磨工程と、前記針を軸周りに回転させる回転工程と、前記針の先端を、前記研磨面の上を所定の接触角度、押付量および相対移動速度で所定距離だけ移動させて、前記先端の他の面を研磨する第２の研磨工程とを含んだことを特徴とする。
【０００９】
この発明の態様によれば、研磨板を用いて針の先端部を二面研磨することとしたので、十分な大きさの吐出口を確保しながら高い貫通能力をもったキャピラリ針を低コストで製造することができる。
【００１０】
また、本発明の他の態様では、上記の発明の態様において、前記第１の研磨工程および前記第２の研磨工程は、前記針の内部に気体を供給し、該気体を前記先端から放出させながら研磨をおこなうことを特徴とする。
【００１１】
この発明の態様によれば、針の内部を先端に向かって気体を通しながら研磨することとしたので、研磨によって生じる粉末等により針の内部が汚染されることを防止することができる。
【００１２】
また、本発明の他の態様では、上記の発明の態様において、前記回転工程および前記第２の研磨工程を２回以上繰り返し実行することを特徴とする。
【００１３】
この発明の態様によれば、研磨板を用いて針の先端部を多面研磨することとしたので、十分な大きさの吐出口を確保しながら高い貫通能力をもったキャピラリ針を低コストで製造することができる。
【００１４】
また、本発明の他の態様では、上記の発明の態様において、前記研磨板は、ＳＦ６を用いて平滑面をドライエッチングされたシリコンであることを特徴とする。
【００１５】
また、本発明の他の態様では、上記の発明の態様において、前記研磨板は、Ｃ４Ｆ８とＳＦ６を交互に用いて平滑面をドライエッチングされたシリコンであることを特徴とする。
【００１６】
また、本発明の他の態様では、上記の発明の態様において、前記研磨板は、シリコンに代えてガラスからなることを特徴とする。
【００１７】
また、本発明の他の態様では、上記の発明の態様において、前記研磨板は、シリコンに代えてセラミックからなることを特徴とする。
【００１８】
また、本発明の他の態様では、上記の発明の態様において、前記研磨板は、シリコンに代えてＳｉＯｘ皮膜が付着された基板からなることを特徴とする。
【００１９】
また、本発明の他の態様では、上記の発明の態様において、前記研磨版の被処理面の平均粗さは１乃至１０ｎｍであることを特徴とする。
【００２０】
これらの発明の態様によれば、ドライエッチングにより表面に微小な粗さをもつ研磨板を製作することとしたので、１μｍ程度に先端が小径化された針を破損させることなく加工することができる。
【００２１】
また、本発明の他の態様では、マイクロインジェクション用キャピラリ針の製造装置において、平滑面をドライエッチングにより粗化処理して製作された研磨面を有する研磨板が搭載される台座部と、中空の針を保持する保持部とを備え、前記台座部および前記保持部は、前記針の先端が前記研磨面によって所定の接触角度、押付量および相対移動速度で研磨されるように相対的に移動し、前記保持部は、前記針を軸周りに回転させることを特徴とする。
【００２２】
この発明の態様によれば、マイクロインジェクション用キャピラリ針の製造装置に、表面に微小な粗さをもつ研磨板によって針の先端を研磨するための機構と、針を軸周りに回転させるための機構を設けたので、研磨板を用いて針の先端部を多面研磨することが可能になり、十分な大きさの吐出口を確保しながら高い貫通能力をもったキャピラリ針を低コストで製造することができる。
【００２３】
また、本発明の他の態様では、マイクロインジェクション用キャピラリ針において、マイクロインジェクションの対象物に液体を注入するための吐出口を有する先端部が多面研磨され、先端曲率０．２μ以下に先鋭化されたことを特徴とする。
【００２４】
この発明の態様によれば、十分な大きさの吐出口を確保しながら高い貫通能力をもったマイクロインジェクション用キャピラリ針を得ることができる。
【発明の効果】
【００２５】
本発明の一つの態様によれば、研磨板を用いて針の先端部を二面研磨することとしたので、十分な大きさの吐出口を確保しながら高い貫通能力をもったキャピラリ針を低コストで製造することができるという効果を奏する。
【００２６】
また、本発明の一つの態様によれば、針の内部を先端に向かって気体を通しながら研磨することとしたので、研磨によって生じる粉末等により針の内部が汚染されることを防止することができるという効果を奏する。
【００２７】
また、本発明の一つの態様によれば、研磨板を用いて針の先端部を多面研磨することとしたので、十分な大きさの吐出口を確保しながら高い貫通能力をもったキャピラリ針を低コストで製造することができるという効果を奏する。
【００２８】
また、本発明の一つの態様によれば、ドライエッチングにより表面に微小な粗さをもつ研磨板を製作することとしたので、１μｍ程度に先端が小径化された針を破損させることなく加工することができるという効果を奏する。
【００２９】
また、本発明の一つの態様によれば、マイクロインジェクション用キャピラリ針の製造装置に、表面に微小な粗さをもつ研磨板によって針の先端を研磨するための機構と、針を軸周りに回転させるための機構を設けたので、研磨板を用いて針の先端部を多面研磨することが可能になり、十分な大きさの吐出口を確保しながら高い貫通能力をもったキャピラリ針を低コストで製造することができるという効果を奏する。
【００３０】
また、本発明の一つの態様によれば、十分な大きさの吐出口を確保しながら高い貫通能力をもったマイクロインジェクション用キャピラリ針を得ることができるという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
以下に添付図面を参照して、本発明に係るマイクロインジェクション用キャピラリ針、その製造方法および製造装置の好適な実施の形態を詳細に説明する。
【実施例】
【００３２】
まず、従来のキャピラリ針について説明する。図１６は、従来のキャピラリ針の一例を示す図である。同図に示すキャピラリ針は、外径１ｍｍ、内径０．５ｍｍ程度のガラス管を加熱しながら引っ張ることで過熱部の径を縮小させた後、最小径部で２分割することで作製されたものであり、先端外径１μｍ、内径０．５μｍ程度に加工されている。
【００３３】
図１７は、従来のキャピラリ針の他の一例を示す図である。同図に示すキャピラリ針は、図１６に示したキャピラリ針と同様にして作成されたキャピラリ針の先端をＦＩＢにより斜面加工したものである。
【００３４】
図１６に示したキャピラリ針は、先端が小径化されているだけで、先鋭化されておらず、貫通能力が低い。また、図１７に示したキャピラリ針は、先端が先鋭化されているものの、１面のみが加工されているため先端の先鋭度が低く、浮遊細胞等に対する貫通能力が十分ではない。また、図１７に示したキャピラリ針を製作するには、ＦＩＢ加工のための高価な設備が必要となり、コストが高くつく。
【００３５】
次に、本実施例に係るキャピラリ針について説明する。図１は、本実施例に係るキャピラリ針の一例を示す図である。同図に示すキャピラリ針は、図１６に示したキャピラリ針と同様にして作成されたキャピラリ針の先端を斜めに研磨して第１面を作成した後、キャピラリ針を軸周りに９０°回転させて、再び先端を斜めに研磨して第２面を作成することにより、先端を多面研磨したものである。
【００３６】
この例に示したキャピラリ針は、先端曲率が０．２μｍ以下に加工され、浮遊細胞等に対して高い貫通能力を有している。また、吐出口が０．８μｍ確保され、針詰まりの生じ難い構造となっている。
【００３７】
なお、第１面を作成した後、キャピラリ針を軸周りに回転させる角度は、９０°である必要はなく、キャピラリ針の材質、必要な貫通能力等に応じて適宜変更することができる。例として、キャピラリ針を軸周りに回転させる角度を１８０°とした場合の例を図２に示す。同図に示した例において、先端中央に見える突起は、薬液充填性を良くするために予め通してあったガラスファイバが削り出されて見えたものである。
【００３８】
また、キャピラリ針を軸周りに回転させる動作と、キャピラリ針の先端を斜めに研磨する動作とを複数回繰り返して実行し、先端を３面以上研磨することとしてもよい。
【００３９】
ここで、図１に示した本実施例に係るキャピラリ針と、図１７に示した従来のキャピラリ針の貫通能力を比較する実験の結果を図３に示す。同図に示した結果は、図４に示すように、シャーレ１２に吸着させたＫ５６２細胞２０（ヒト慢性骨髄性白血病細胞株、平均径１６μｍ）をターゲットにしてキャピラリ針１１を下降させた場合における細胞膜の膜貫通確率を、刺針高さ（キャピラリ針１１を最も下降させた時点におけるキャピラリ針１１の先端とシャーレ１２との距離）毎に調べた結果をプロットしたものである。
【００４０】
キャピラリ針１１がＫ５６２細胞２０の細胞膜を貫通したか否かの判定は、蛍光試薬（Alexa488 Dextran Conjugate）をＰＢＳ（Phosphate buffered saline）に２ｍｇ／ｍｌ混入した溶液の０．６ｐｌを細胞内にインジェクションし、下部の倒立顕微鏡１３から細胞内の蛍光を確認することにより行っている。
【００４１】
キャピラリ針１１がＫ５６２細胞２０の細胞膜を貫通した場合、図５に示すように、蛍光試薬がＫ５６２細胞２０のほぼ全体に拡散し、蛍光する様子が倒立顕微鏡１３から観察される。一方、キャピラリ針１１がＫ５６２細胞２０の細胞膜を貫通しなかった場合、図６に示すように、細胞内に膜の袋２１が形成され、蛍光試薬はその中に留まり、抜針とともに細胞外へ漏れ出すため、蛍光は観察されない。
【００４２】
図３に示した実験結果より、本実施例に係るキャピラリ針（二面研磨）が、従来のキャピラリ針（一面研磨）よりも高い確率で細胞膜を貫通しており、優れた貫通能力を有していることがわかる。
【００４３】
次に、図１および２に示した本実施例に係るキャピラリ針を製造するための製造装置について説明する。図７は、本実施例に係るキャピラリ針の製造装置１００の構成を示す図である。同図に示すように、製造装置１００は、台座部１１０と、保持部１２０と、監視部１３０とを有する。
【００４４】
台座部１１０は、キャピラリ針１１を研磨するための研磨板１１３を搭載する台であり、研磨板１１３をＹ軸方向に水平移動させるためのＹ軸ステージ１１１と、研磨板１１３をＸ軸方向に水平移動させるためのＸ軸ステージ１１２とを有する。
【００４５】
保持部１２０は、キャピラリ針１１を保持する機構であり、キャピラリ針１１をＺ軸方向に移動させるためのＺ軸ステージ１２１と、Ｙ軸を中心としてキャピラリ針１１を回転させるためのＹ軸周り回転ステージ１２２と、キャピラリ針１１を軸周りに回転させるための針軸周り回転台１２３と、キャピラリ針１１を固定させて保持するホルダ１２４と、キャピラリ針１１に圧力気体を供給する圧力気体供給部１２５とを有する。
【００４６】
監視部１３０は、キャピラリ針１１の先端の状況を観察するための機構であり、キャピラリ針１１の先端の拡大画像を生成する顕微鏡１３１と、顕微鏡１３１によって生成された拡大画像を電子データ化する電子カメラ部１３２とを有する。
【００４７】
このように、本実施例に係る製造装置は、比較的簡易な構成からなり、低コストで実現することができる。
【００４８】
次に、図７に示した製造装置１００を用いて本実施例に係るキャピラリ針を製造する工程について説明する。図８は、本実施例に係るキャピラリ針を製造する工程を示すフローチャートである。
【００４９】
同図に示すように、まず、研磨に供するキャピラリ針１１をホルダ１２４に固定する（ステップＳ１０１）。ここで、キャピラリ針１１は、例えば、外径１ｍｍ、内径０．５ｍｍ程度のガラス管を加熱しながら引っ張ることで過熱部の径を縮小させた後、最小径部で２分割することで作製されたものであり、先端が小径化されているものとする。
【００５０】
続いて、Ｙ軸周り回転ステージ１２２を調整し、研磨板１１３とキャピラリ針１１の軸との角度θを設定し（ステップＳ１０２）、Ｚ軸ステージ１２１を下降させて、キャピラリ針１１の先端を研磨板１１３に接触させる（ステップＳ１０３）。
【００５１】
ここで、キャピラリ針１１の先端と研磨板１１３との接触は、図９に示すように、Ｚ軸ステージ１２１を徐々に下降させながら、監視部１３０においてキャピラリ針１１の先端を観察し、キャピラリ針１１の実像と、研磨板１１３上に映るキャピラリ針１１の鏡像の先端同士が接触する時点を検出することで検知することができる。
【００５２】
続いて、Ｚ軸ステージ１２１をさらに下降させ、キャピラリ針１１の先端を研磨板１１３に押し付けさせる（ステップＳ１０４）。このときの押し付ける量δは、キャピラリ針１１の先端をどれだけ研磨するかによって決定される。この状態で、Ｘ軸ステージ１１２をＸ軸右方向（図中ＡからＢ）に速度Ｖ、距離Ｌで移動させ、研磨を実行する（ステップＳ１０５）。
【００５３】
こうして、１つの面の研磨が完了したならば、キャピラリ針１１を保持したままＺ軸ステージ１２１を上昇させ（ステップＳ１０６）、Ｘ軸ステージ１１２を当初の位置に戻し（ステップＳ１０７）、針軸周り回転台１２３を所定量ωだけ回転させる（ステップＳ１０８）。これにより、キャピラリ針１１は、軸周りに所定量ωだけ回転されることになる。
【００５４】
そして、再び、Ｚ軸ステージ１２１を下降させて、キャピラリ針１１の先端を研磨板１１３に接触させた後（ステップＳ１０９）、Ｚ軸ステージ１２１をさらに下降させ、キャピラリ針１１の先端をδだけ研磨板１１３に押し付けさせる（ステップＳ１１０）。この状態で、Ｘ軸ステージ１１２をＸ軸右方向（図中ＡからＢ）に速度Ｖ、距離Ｌで移動させ、研磨を実行する（ステップＳ１１１）。
【００５５】
なお、研磨板１１３の研磨性能の劣化の影響を回避するため、ステップＳ１０９においてＺ軸ステージ１２１を下降させる前に、Ｙ軸ステージをＹ軸方向に所定量だけ移動させ、前回の研磨時と異なる線上をキャピラリ針１１の先端が移動して研磨させるようにしてもよい。
【００５６】
こうして、他の面の研磨が完了した後、さらに別の面の研磨が必要であれば（ステップＳ１１２肯定）、ステップＳ１０６〜ステップＳ１１１を再度実行し、さもなければ（ステップＳ１１２否定）、工程を終了する。
【００５７】
上記の各工程において、圧力気体供給部１２５は、圧力気体をキャピラリ針１１の内部に供給し、先端から放出させる。これにより、研磨によって生じる粉末等が針内を汚染することを防止することができる。圧力気体としては、例えば、１００ｋＰａの窒素、ヘリウム、乾燥空気を用いることができる。
【００５８】
なお、上記の工程における角度θ、押し付ける量δ、速度Ｖ、距離Ｌおよび所定量ωは、キャピラリ針１１の材質、研磨板１１３の粗さ、キャピラリ針１１に必要とされる貫通能力等に応じて適宜設定することができる。一例として、図１に示したキャピラリ針は、一面あたりθ＝３０°、δ＝４μｍ、Ｖ＝２５０μｍ／ｓ、Ｌ＝５０ｍｍで研磨し、ω＝９０°で二面研磨した例である。
【００５９】
次に、図７に示した研磨板１１３について説明する。研磨板１１３は、小径化されたキャピラリ針の先端を欠損させることなく加工することを可能にするため、表面のＲａが１〜１０ｎｍ程度であることが好ましい。
【００６０】
表面にこのような粗さをもたせるため、研磨板１１３は、例えば、シリコンウエハの平滑面をＳＦ６ガスによるドライエッチングで粗くして製作される。ドライエッチング前のシリコンウエハの表面は、図１０に示すように、Ｒａ０．２２ｎｍ程度の粗さであり、図１１に示す表面の拡大図のように表面が極めて平滑であるため、キャピラリ針を研磨することはできない。
【００６１】
このシリコンウエハにＳＦ６ガスによるドライエッチングを施すことにより、図１２に示すように、表面がＲａ５．９１ｎｍ程度の粗さとなり、図１３に示す表面の拡大図のように、キャピラリ針を研磨するために適した状態となる。
【００６２】
なお、ＳＦ６ガス単独でドライエッチングを施す代わりに、Ｃ４Ｆ８ガスとＳＦ６ガスを交互に用いてドライエッチングを施すこととしてもよい。Ｃ４Ｆ８ガスとＳＦ６ガスを用いることにより、図１４に示すように、表面がＲａ３．８３ｎｍ程度の粗さとなり、図１５に示す表面の拡大図のように、ＳＦ６ガス単独でドライエッチングを施した場合よりも微細な加工に適した状態となる。
【００６３】
また、研磨板１１３の素材として、シリコンに代えて、ガラス、セラミック、ＳｉＯｘ被膜を付着させた基板等を用いることもできる。
【００６４】
上述してきたように、本実施例では、ドライエッチングにより表面を加工した研磨板を用いて針の先端を多面加工することとしたので、十分な大きさの吐出口を確保しながら高い貫通能力をもったキャピラリ針を低コストで製造することができる。
【００６５】
（付記１）マイクロインジェクション用キャピラリ針の製造方法において、
中空の針の先端を、平滑面をドライエッチングにより粗化処理して製作された研磨板の研磨面の上を所定の接触角度、押付量および相対移動速度で所定距離だけ移動させて、前記先端の１の面を研磨する第１の研磨工程と、
前記針を軸周りに回転させる回転工程と、
前記針の先端を、前記研磨面の上を所定の接触角度、押付量および相対移動速度で所定距離だけ移動させて、前記先端の他の面を研磨する第２の研磨工程と
を含んだことを特徴とするマイクロインジェクション用キャピラリ針の製造方法。
【００６６】
（付記２）前記第１の研磨工程および前記第２の研磨工程は、前記針の内部に気体を供給し、該気体を前記先端から放出させながら研磨をおこなうことを特徴とする付記１に記載のマイクロインジェクション用キャピラリ針の製造方法。
【００６７】
（付記３）前記回転工程および前記第２の研磨工程を２回以上繰り返し実行することを特徴とする付記１または２に記載のマイクロインジェクション用キャピラリ針の製造方法。
【００６８】
（付記４）前記研磨板は、ＳＦ６を用いて平滑面をドライエッチングされたシリコンであることを特徴とする付記１〜３のいずれか１つに記載のマイクロインジェクション用キャピラリ針の製造方法。
【００６９】
（付記５）前記研磨板は、Ｃ４Ｆ８とＳＦ６を交互に用いて平滑面をドライエッチングされたシリコンであることを特徴とする付記１〜３のいずれか１つに記載のマイクロインジェクション用キャピラリ針の製造方法。
【００７０】
（付記６）前記研磨板は、シリコンに代えてガラスからなることを特徴とする付記４または５に記載のマイクロインジェクション用キャピラリ針の製造方法。
【００７１】
（付記７）前記研磨板は、シリコンに代えてセラミックからなることを特徴とする付記４または５に記載のマイクロインジェクション用キャピラリ針の製造方法。
【００７２】
（付記８）前記研磨板は、シリコンに代えてＳｉＯｘ皮膜が付着された基板からなることを特徴とする付記４または５に記載のマイクロインジェクション用キャピラリ針の製造方法。
【００７３】
（付記９）前記研磨版の被処理面の平均粗さは１乃至１０ｎｍであることを特徴とする付記１〜８のいずれか１つに記載のマイクロインジェクション用キャピラリ針の製造方法。
【００７４】
（付記１０）マイクロインジェクション用キャピラリ針の製造装置において、
平滑面をドライエッチングにより粗化処理して製作された研磨面を有する研磨板が搭載される台座部と、
中空の針を保持する保持部とを備え、
前記台座部および前記保持部は、前記針の先端が前記研磨面によって所定の接触角度、押付量および相対移動速度で研磨されるように相対的に移動し、
前記保持部は、前記針を軸周りに回転させることを特徴とするマイクロインジェクション用キャピラリ針の製造装置。
【００７５】
（付記１１）前記保持部は、前記針の内部に気体を供給し、該気体を前記先端から放出させることを特徴とする付記１０に記載のマイクロインジェクション用キャピラリ針の製造装置。
【００７６】
（付記１２）マイクロインジェクションの対象物に液体を注入するための吐出口を有する先端部が多面研磨され、先端曲率０．２μ以下に先鋭化されたことを特徴とするマイクロインジェクション用キャピラリ針。
【産業上の利用可能性】
【００７７】
以上のように、本発明に係るマイクロインジェクション用キャピラリ針の製造方法および製造装置は、キャピラリ針の製造に有用であり、特に、十分な大きさの吐出口を確保しながら高い貫通能力をもったキャピラリ針を低コストで製造することが必要な場合に適している。
【図面の簡単な説明】
【００７８】
【図１】本実施例に係るキャピラリ針の一例を示す図である。
【図２】本実施例に係るキャピラリ針の他の一例を示す図である。
【図３】本実施例に係るキャピラリ針と従来のキャピラリ針の貫通能力を示す図である。
【図４】キャピラリ針の貫通能力の試験のための仕組みを示す図である。
【図５】キャピラリ針が細胞膜を貫通した場合を示す図である。
【図６】キャピラリ針が細胞膜を貫通できなかった場合を示す図である。
【図７】本実施例に係るキャピラリ針の製造装置の構成を示す図である。
【図８】本実施例に係るキャピラリ針を製造する工程を示すフローチャートである。
【図９】研磨板への接触検知について説明するための図である。
【図１０】シリコンウエハの研磨面の粗さを示す図である。
【図１１】シリコンウエハの研磨面の拡大図である。
【図１２】ＳＦ６を用いてドライエッチングした後のシリコンウエハの研磨面の粗さを示す図である。
【図１３】ＳＦ６を用いてドライエッチングした後のシリコンウエハの研磨面の拡大図である。
【図１４】Ｃ４Ｆ８とＳＦ６を交互に用いてドライエッチングした後のシリコンウエハの研磨面の粗さを示す図である。
【図１５】Ｃ４Ｆ８とＳＦ６を交互に用いてドライエッチングした後のシリコンウエハの研磨面の拡大図である。
【図１６】従来のキャピラリ針の一例を示す図である。
【図１７】従来のキャピラリ針の他の一例を示す図である。
【符号の説明】
【００７９】
１１  キャピラリ針
１２  シャーレ
１３  倒立顕微鏡
２０  Ｋ５６２細胞
２１  袋
１００  製造装置
１１０  台座部
１１１  Ｙ軸ステージ
１１２  Ｘ軸ステージ
１１３  研磨板
１２０  保持部
１２１  Ｚ軸ステージ
１２２  Ｙ軸周り回転ステージ
１２３  針軸周り回転台
１２４  ホルダ
１２５  圧力気体供給部
１３０  監視部
１３１  顕微鏡
１３２  電子カメラ部
【図３】
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【図４】
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【図７】
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【図８】
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【図１】
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【図２】
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【図５】
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【図６】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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