(57)【要約】【課題】基板の処理装置に用いられる複数の気圧式駆動部に気体を供給する気体供給設備の品質を安定させる。【解決手段】気体供給ユニット１７０は、略直方体形状の連結ブロック１８２を有し、連結ブロック１８２の一の側面１８２ａには、複数の電磁バルブ１９０からなる電磁バルブブロック１８０と、複数のスピードコントローラ２００からなるスピードコントローラブロック１８１が連結されている。連結ブロック１８２内には、対応する電磁バルブ１９０とスピードコントローラ２００を連通させる第１の流路と、スピードコントローラ２００から他の側面１８２ｂに連通する第２の流路が形成されている。他の側面１８２ｂの第２の流路２１１の出力側には、接続ポート２２２が設けられる。各気圧式駆動部に通じる複数の給気管１６０は、マルチコネクタ２３０を介して接続ポート２２２に接続される。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の処理装置で用いられる複数の気圧式駆動部に気体を供給する気体供給ユニットであって、
気体の供給と停止を切り替える複数の弁と、
前記弁から気圧式駆動部に供給される気体の供給速度を制御する複数の速度制御装置と、
前記複数の弁と前記複数の速度制御装置が取り付けられ、対応する弁と速度制御装置を連通させる連結ブロックと、を有することを特徴とする、気体供給ユニット。
【請求項２】
前記連結ブロックは、直方体形状を有し、
前記連結ブロックの一の面に前記弁が取り付けられ、
前記連結ブロック内には、前記弁からの入力された気体を対応する速度制御装置に出力する第１の流路と、前記弁から入力された気体が流れる第２の流路が設けられ、
前記第２の流路は、前記連結ブロックの前記一の面の反対側の他の面に連通していることを特徴とする、請求項１に記載の気体供給ユニット。
【請求項３】
前記複数の速度制御装置は、前記連結ブロックの前記一の面に取り付けられていることを特徴とする、請求項２に記載の気体供給ユニット。
【請求項４】
前記複数の速度制御装置は、前記連結ブロックの前記一の面に直交する直交面に取り付けられていることを特徴とする、請求項２に記載の気体供給ユニット。
【請求項５】
前記連結ブロックの直交面には、前記一の面側に向けて傾斜する傾斜面が形成され、その傾斜面に前記複数の速度制御装置が取り付けられていることを特徴とする、請求項４に記載の気体供給ユニット。
【請求項６】
前記連結ブロックには、前記複数の速度制御装置と前記複数の弁がそれぞれ並列されて取り付けられており、
前記速度制御装置の列と前記弁の列が平行になっていることを特徴とする、請求項１〜５のいずれかに記載の気体供給ユニット。
【請求項７】
前記弁は、２系統の出力ポートを有し、
前記速度制御装置は、前記弁の２系統の出力ポートに連通する２系統の気体流路を有していることを特徴とする、請求項１〜６のいずれかに記載の気体供給ユニット。
【請求項８】
前記速度制御装置には、２系統の気体流路の２つの入力ポートの間に２つの出力ポートが形成されていることを特徴とする、請求項７に記載の気体供給ユニット。
【請求項９】
前記連結ブロックは、可撓性を有することを特徴とする、請求項１〜８のいずれかに記載の気体供給ユニット。
【請求項１０】
前記連結ブロックは、対応する前記弁と前記速度制御装置毎に分割されていることを特徴とする、請求項９に記載の気体供給ユニット。
【請求項１１】
前記各速度制御装置における連結ブロックの反対側の面には、気体の供給速度の調整部材が設けられており、
前記複数の速度制御装置の前記調整部材の位置が千鳥状に配置されるように、前記複数の速度制御装置が前記連結ブロックに並べられていることを特徴とする、請求項１〜１０のいずれかに記載の気体供給ユニット。
【請求項１２】
前記速度制御装置の出力ポートは、突状に形成されており、
前記連結ブロックには、前記速度制御装置の出力ポートの前記突状部分が嵌合する凹部が形成されていることを特徴とする、請求項１〜１１に記載の気体供給ユニット。
【請求項１３】
前記凹部は、底側の径が小さくなるテーパ状に形成されており、
前記凹部のテーパ部分は、弾力性のある部材により形成されていることを特徴とする、請求項１２に記載の気体供給ユニット。
【請求項１４】
前記各気圧式駆動部に通じる複数の配管と、前記速度制御装置の出力側に通じる前記連結ブロックの複数の出力部とを連結するコネクタを有することを特徴とする、請求項１〜１３のいずれかに記載の気体供給ユニット。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板の処理装置で用いられる複数の気圧式駆動部に気体を供給する気体供給ユニットに関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば半導体デバイスの製造プロセスにおけるフォトリソグラフィー工程は、多数の処理装置を搭載した塗布現像処理システムにおいて行われている。塗布現像処理システムは、例えばウェハ上にレジスト液を塗布しレジスト膜を形成するレジスト塗布装置、レジスト液が塗布されたウェハを加熱するプリベーキング装置、露光されたウェハを加熱するポストエクスポージャーベーキング装置、レジスト膜を現像する現像処理装置、現像されたウェハを加熱するポストベーキング装置などを備えている。
【０００３】
上述の各種処理装置には、例えばウェハの昇降ピン、ケーシングのシャッタや処理容器の蓋などを駆動するためのエアシリンダや、処理液の供給を制御するエア駆動式の開閉バルブなどの多数の気圧式駆動部が設けられている。これらの気圧式駆動部には、それぞれに給気管が接続されており、各給気管には、気圧式駆動部への気体の供給を制御する電磁バルブや、気体の供給速度を制御するスピードコントローラなどが設けられている（特許文献１、２参照）。
【０００４】
【特許文献１】特開平１１−２８５６６２号公報
【特許文献２】特開平１１−１２５２１２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上述のように塗布現像処理システムの各処理装置には、多系統の給気管が設けられ、その給気管のそれぞれにスピードコントローラや電磁バルブが接続されている。このため、例えばこれらの配管の施工や組み立ては、極めて複雑な作業になり、組立作業者が配管の接続や取り付けを誤ることがあった。また、塗布現像処理システムでは狭い空間に多系統の配管を設置する必要があり、この際に配管折れが生じたり、また各種接続部に気体漏れが生じることがあった。このように、配管の施工や組み立て時にミスや不具合が生じやすく、気体の供給設備の品質が安定しなかった。
【０００６】
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、ウェハなどの基板の処理装置に用いられる複数の気圧式駆動部に気体を供給する気体供給設備の品質を安定させることをその目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するための本発明は、基板の処理装置で用いられる複数の気圧式駆動部に気体を供給する気体供給ユニットであって、気体の供給と停止を切り替える複数の弁と、前記弁から気圧式駆動部に供給される気体の供給速度を制御する複数の速度制御装置と、前記複数の弁と前記複数の速度制御装置が取り付けられ、対応する弁と速度制御装置とを連通させる連結ブロックと、を有することを特徴とする。
【０００８】
本発明によれば、多系統の複数の弁と速度制御装置が一箇所の連結ブロックに集約されて取り付けられるので、複数の気圧式駆動部への配管の施工や組み立てが簡単になり、気圧式駆動部への気体の供給設備の品質を安定させることができる。
【０００９】
前記連結ブロックは、直方体形状を有し、前記連結ブロックの一の面に前記弁が取り付けられ、前記連結ブロック内には、前記弁からの入力された気体を対応する速度制御装置に出力する第１の流路と、前記弁から入力された気体が流れる第２の流路が設けられ、前記第２の流路は、前記連結ブロックの前記一の面の反対側の他の面に連通していてもよい。
【００１０】
前記複数の速度制御装置は、前記連結ブロックの前記一の面に取り付けられていてもよい。
【００１１】
前記複数の速度制御装置は、前記連結ブロックの前記一の面に直交する直交面に取り付けられていてもよい。
【００１２】
前記連結ブロックの直交面には、前記一の面側に向けて傾斜する傾斜面が形成され、その傾斜面に前記複数の速度制御装置が取り付けられていてもよい。
【００１３】
前記連結ブロックには、前記複数の速度制御装置と前記複数の弁がそれぞれ並列されて取り付けられており、前記速度制御装置の列と前記弁の列が平行になっていてもよい。
【００１４】
前記弁は、２系統の出力ポートを有し、前記速度制御装置は、前記弁の２系統の出力ポートに連通する２系統の気体流路を有していてもよい。
【００１５】
前記速度制御装置には、２系統の気体流路の２つの入力ポートの間に２つの出力ポートが形成されていてもよい。
【００１６】
前記連結ブロックは、可撓性を有していてもよい。また、前記連結ブロックは、対応する前記弁と前記速度制御装置毎に分割されていてもよい。
【００１７】
前記各速度制御装置における連結ブロックの反対側の面には、気体の供給速度の調整部材が設けられており、前記複数の速度制御装置の前記調整部材の位置が千鳥状に配置されるように、前記複数の速度制御装置が前記連結ブロックに並べられていてもよい。
【００１８】
前記速度制御装置の出力ポートは、突状に形成されており、前記連結ブロックには、前記速度制御装置の出力ポートの前記突状部分が嵌合する凹部が形成されていてもよい。
【００１９】
前記凹部は、底側の径が小さくなるテーパ状に形成されており、前記凹部のテーパ部分は、弾力性のある部材により形成されていてもよい。
【００２０】
前記気体供給ユニットは、前記各気圧式駆動部に通じる複数の配管と、前記速度制御装置の出力側に通じる前記連結ブロックの複数の出力部とを連結するコネクタを有していてもよい。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、基板の処理装置の複数の気圧式駆動部に気体を供給する気体供給設備の品質が安定し、気圧式駆動部の動作が安定して、基板の処理装置における基板処理が適正に行われる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、本発明の好ましい実施の形態について説明する。先ず、本発明にかかる気体供給ユニットを有する複数の基板の処理装置が搭載された塗布現像処理システム１について説明する。図１は、塗布現像処理システム１の構成の概略を示す平面図であり、図２は、塗布現像処理システム１の正面図であり、図３は、塗布現像処理システム１の背面図である。
【００２３】
塗布現像処理システム１は、図１に示すように例えば２５枚のウェハＷをカセット単位で外部から塗布現像処理システム１に対して搬入出したり、カセットＣに対してウェハＷを搬入出したりするカセットステーション２と、フォトリソグラフィー工程の中で枚葉式に所定の処理を施す複数の各種処理装置を多段に配置している処理ステーション３と、この処理ステーション３に隣接して設けられている図示しない露光装置との間でウェハＷの受け渡しをするインターフェイスステーション４とを一体に接続した構成を有している。
【００２４】
カセットステーション２には、カセット載置台５が設けられ、当該カセット載置台５は、複数のカセットＣをＸ方向（図１中の上下方向）に一列に載置自在になっている。カセットステーション２には、搬送路６上をＸ方向に向かって移動可能なウェハ搬送体７が設けられている。ウェハ搬送体７は、カセットＣに収容されたウェハＷのウェハ配列方向（Ｚ方向；鉛直方向）にも移動自在であり、Ｘ方向に配列された各カセットＣ内のウェハＷに対して選択的にアクセスできる。
【００２５】
ウェハ搬送体７は、Ｚ軸周りのθ方向に回転可能であり、後述する処理ステーション３側の第３の処理装置群Ｇ３に属する温調装置５０やトランジション装置５１に対してもアクセスできる。
【００２６】
カセットステーション２に隣接する処理ステーション３は、複数の処理装置が多段に配置された、例えば５つの処理装置群Ｇ１〜Ｇ５を備えている。処理ステーション３のＸ方向負方向（図１中の下方向）側には、カセットステーション２側から第１の処理装置群Ｇ１、第２の処理装置群Ｇ２が順に配置されている。処理ステーション３のＸ方向正方向（図１中の上方向）側には、カセットステーション２側から第３の処理装置群Ｇ３、第４の処理装置群Ｇ４及び第５の処理装置群Ｇ５が順に配置されている。第３の処理装置群Ｇ３と第４の処理装置群Ｇ４の間には、第１の搬送装置１０が設けられている。第１の搬送装置１０は、第１の処理装置群Ｇ１、第３の処理装置群Ｇ３及び第４の処理装置群Ｇ４内の各処理装置に選択的にアクセスしてウェハＷを搬送できる。第４の処理装置群Ｇ４と第５の処理装置群Ｇ５の間には、第２の搬送装置１１が設けられている。第２の搬送装置１１は、第２の処理装置群Ｇ２、第４の処理装置群Ｇ４及び第５の処理装置群Ｇ５内の各処理装置に選択的にアクセスしてウェハＷを搬送できる。
【００２７】
図２に示すように第１の処理装置群Ｇ１には、ウェハＷに所定の液体を供給して処理を行う液処理装置、例えばウェハＷにレジスト液を塗布するレジスト塗布装置２０、２１、２２、露光処理時の光の反射を防止する反射防止膜を形成するボトムコーティング装置２３、２４が下から順に５段に重ねられている。第２の処理装置群Ｇ２には、液処理装置、例えばウェハＷに現像液を供給して現像処理する現像処理装置３０〜３４が下から順に５段に重ねられている。また、第１の処理装置群Ｇ１及び第２の処理装置群Ｇ２の最下段には、各処理装置群Ｇ１、Ｇ２内の液処理装置に各種処理液を供給するためのケミカル室４０、４１がそれぞれ設けられている。
【００２８】
例えば図３に示すように第３の処理装置群Ｇ３には、温調装置５０、ウェハＷの受け渡しを行うためのトランジション装置５１、精度の高い温度管理下でウェハＷを温度調節する高精度温調装置５２〜５４及びウェハＷを高温で加熱処理する高温度熱処理装置５５〜５８が下から順に９段に重ねられている。
【００２９】
第４の処理装置群Ｇ４では、例えば高精度温調装置６０、レジスト塗布処理後のウェハＷを加熱処理するプリベーキング装置６１〜６４及び現像処理後のウェハＷを加熱処理するポストベーキング装置６５〜６９が下から順に１０段に重ねられている。
【００３０】
第５の処理装置群Ｇ５では、ウェハＷを熱処理する複数の熱処理装置、例えば高精度温調装置７０〜７３、露光後で現像前のウェハＷの加熱処理を行うポストエクスポージャーベーキング装置７４〜７９が下から順に１０段に重ねられている。
【００３１】
図１に示すように第１の搬送装置１０のＸ方向正方向側には、複数の処理装置が配置されており、例えば図３に示すようにウェハＷを疎水化処理するためのアドヒージョン装置８０、８１、ウェハＷを加熱する加熱処理装置８２、８３が下から順に４段に重ねられている。図１に示すように第２の搬送装置１１のＸ方向正方向側には、例えばウェハＷのエッジ部のみを選択的に露光する周辺露光装置８４が配置されている。
【００３２】
インターフェイスステーション４には、例えば図１に示すようにＸ方向に向けて延びる搬送路１００上を移動するウェハ搬送体１０１と、バッファカセット１０２が設けられている。ウェハ搬送体１０１は、上下移動可能でかつθ方向にも回転可能であり、インターフェイスステーション４に隣接した図示しない露光装置と、バッファカセット１０２及び第５の処理装置群Ｇ５に対してアクセスしてウェハＷを搬送できる。
【００３３】
次に、本発明にかかる気体供給ユニットを備えた基板の処理装置の一例としてレジスト塗布装置２０の構成について説明する。図４は、レジスト塗布装置２０の構成の概略を示す縦断面である。
【００３４】
例えばレジスト塗布装置２０は、図４に示すようにケーシング２０ａを有し、当該ケーシング２０ａ内の中央部には、ウェハＷを水平に保持するスピンチャック１２０が設けられている。スピンチャック１２０は、例えばモータなどの回転駆動部（図示せず）により回転できる。スピンチャック１２０には、スピンチャック１２０を上下動させるためのエアシリンダ１２１が設けられている。エアシリンダ１２１によりスピンチャック１２０を上下動させて、スピンチャック１２０と第１の搬送装置１０との間のウェハＷの受け渡しを行うことができる。
【００３５】
スピンチャック１２０の周囲には、ウェハＷから飛散したレジスト液などの液体を受け止め、回収するためのカップ１２２が設けられている。カップ１２２の下面１２２ａには、回収したレジスト液等を排液する排液管１２３とカップ４内を排気する排気管１２４が設けられている。
【００３６】
ケーシング２０ａ内には、スピンチャック１２０に保持されたウェハＷに対しレジスト液を吐出するレジスト液吐出ノズル１３０が設けられている。レジスト液吐出ノズル１３０は、供給管１３１によってレジスト液供給源１３２に接続されている。供給管１３１には、レジスト液の吐出と停止を制御するエア圧式の開閉弁１３３が設けられている。なお、レジスト塗布装置２０は、ウェハ処理のレシピに応じてレジスト液の種類を変更するために複数のレジスト液吐出ノズル１３０、供給管１３１及び開閉弁１３３を備えている。
【００３７】
ケーシング２０ａには、ウェハＷの搬入出口１４０が設けられている。搬入出口１４０には、シャッタ１４１が設けられ、シャッタ１４１は、例えばエアシリンダ１４２により駆動して搬入出口１４０を開閉できる。
【００３８】
以上のようにレジスト塗布装置２０は、例えばエアシリンダ１２１、開閉弁１３３及びエアシリンダ１４２などの複数の気圧式駆動部を備えている。各気圧式駆動部は、それぞれの給気管１６０によって気体供給ユニット１７０に接続されている。
【００３９】
ここで、気体供給ユニット１７０の構成について説明する。気体供給ユニット１７０は、例えば図５に示すように電磁バルブブロック１８０、スピードコントローラブロック１８１及び連結ブロック１８２により主に構成されている。
【００４０】
連結ブロック１８２は、例えば直方体形状を有し、例えば樹脂により形成されている。連結ブロック１８２の正面側（図５のＹ方向負方向側）の一の側面１８２ａに、電磁バルブブロック１８０とスピードコントローラブロック１８１が取り付けられている。
【００４１】
電磁バルブブロック１８０は、水平方向（図５のＸ方向）に並べられた複数の電磁バルブ１９０を備えている。電磁バルブブロック１８０の端部には、外部ポート１９１が形成されている。外部ポート１９１は、図４に示す工場側の気体供給源１９２に接続されており、各電磁バルブ１９０に対して例えばエアを給気できる。これらの各電磁バルブ１９０の動作は、例えば制御部１９３により制御されている。
【００４２】
図５に示すようにスピードコントローラブロック１８１は、電磁バルブブロック１８０上に配置され、各電磁バルブ１９０に対応する複数のスピードコントローラ２００をＸ方向に並べて備えている。スピードコントローラブロック１８１のＹ方向負方向側には、各スピードコントローラ２００の調整部材としての調整つまみ２０１が並べて配置されている。
【００４３】
図６に示すように連結ブロック１８２の内部には、一の側面１８２ａの下部の入力開口部２１０ａから一の側面１８２ａの上部の出力開口部２１０ｂまで貫通する第１の流路２１０が形成されている。第１の流路２１０は、途中でＶ字型に屈曲している。また、連結ブロック１８２の内部には、一の側面１８２ａの上部の入力開口部２１１ａから反対側の他の側面１８２ｂの上部の出力開口部２１１ｂまで貫通する第２の流路２１１が形成されている。第２の流路２１１は、例えば水平方向に直線状に形成されている。第１の流路２１０の出力開口部２１０ｂは、第２の流路２１１の入力開口部２１１ａよりも高い位置に形成されている。
【００４４】
第１の流路２１０と第２の流路２１１は、対をなし、一対の第１の流路２１０と第２の流路２１１が図７に示すように水平方向のＸ方向に並べて形成されている。
【００４５】
各第１の流路２１０の入力開口部２１０ａには、図６に示すように電磁バルブ１９０の出力ポート１９０ａが接続されている。この出力ポート１９０ａと入力開口部２１０ａの接続は、例えばプッシュロック機構により行われている。なお、この出力ポート１９０ａと入力開口部２１０ａの接続部には、Ｏリング状のパッキンシールが用いられていてもよい。
【００４６】
各第１の流路２１０の出力開口部２１０ｂには、スピードコントローラ２００内の気体流路２２０の入力ポート２２０ａが接続されている。各第２の流路２１１の入力開口部２１１ｂには、気体流路２２０の出力ポート２２０ｂが接続されている。この気体流路２２０の入力ポート２２０ａは、出力ポート２２０ｂよりも上部に形成されている。なお、第１の流路２１０と気体流路２２０との接続部や、第２の流路２１１と気体流路２２０との接続部には、Ｏリング状のパッキンシールが用いられていてもよい。
【００４７】
各スピードコントローラ２００は、例えば上下に配置されたネジ２２１によって連結ブロック１８２に固定されている。
【００４８】
連結ブロック１８２の他の側面１８２ｂ側の各第２の流路２１１の出口部分には、円筒状の出力部としての接続ポート２２２が設けられている。接続ポート２２２は、他の側面１８２ｂから突出している。
【００４９】
各気圧式駆動部に通じる複数の給気管１６０は、マルチコネクタ２３０に一括して接続されている。マルチコネクタ２３０には、接続孔２３０ａが形成されており、例えばマルチコネクタ２３０の接続孔２３０ａを連結ブロック１８２の接続ポート２２２に嵌め合わせることにより、複数の給気管１６０を気体供給ユニット１７０に接続できる。
【００５０】
次に、以上のように構成された気体供給ユニット１７０の作用について説明する。制御部１９３により動作命令信号が出力されると所定の電磁バルブ１９０が作動し流路が開放されて、外部ポート１９１から供給されたエアがその電磁バルブ１９０を通って連結ブロック１８２内に流入する。連結ブロック１８２に流入したエアは、第１の流路２１０を通ってスピードコントローラ２００に流れる。エアは、スピードコントローラ２００の気体流路２２０を通って連結ブロック１８２の第２の流路２１１に流入する。この気体流路２２０の通過時に図示しない絞り弁によりエアの速度が調整される。このエアの速度の設定は、調整つまみ２０１により行われる。スピードコントローラ２００から連結ブロック１８２に流入したエアは、第２の流路２１１を通って接続ポート２２２から給気管１６０に流入する。給気管１６０に流入したエアは、所定の気圧式駆動部に供給され、気圧式駆動部が駆動する。その後、気圧式駆動部に供給されたエアを排気する際には、例えば元のエアの供給ルートを通って外部ポート１９１から排気される。
【００５１】
以上の実施の形態によれば、気体供給ユニット１７０において、複数の電磁バルブ１９０とスピードコントローラ２００が連結ブロック１８２に集約して取り付けられるので、多数ある気圧式駆動部に通じる配管の接続や組み立てが容易になる。このため、例えば配管の施工時や組み立て時のミスや不具合が減少し、気圧式駆動部に通じる気体の供給設備の品質を安定させることができる。
【００５２】
連結ブロック１８２の一の側面１８２ａ側に複数の電磁バルブ１９０とスピードコントローラ２００を並べて取り付けるようにしたので、気体供給ユニット１７０をコンパクト化することができる。また、電磁バルブ１９０の列とスピードコントローラ２００の列が平行になっているので、対応する電磁バルブ１９０とスピードコントローラ２００が把握しやすく、組み立てやメンテナンスが容易になる。
【００５３】
マルチコネクタ２３０により、複数の給気管１６０と連結ブロック１８２の複数の接続ポート２２２を接続したので、多数の給気管１６０を互いに干渉することなく適正に気体供給ユニット１７０に接続できる。
【００５４】
以上の実施の形態では、スピードコントローラブロック１８１が連結ブロック１８２の一の側面１８２ａ側に取り付けられていたが、図８に示すように一の側面に直交する直交面としての上面１８２ｃに取り付けられていてもよい。また、図９に示すように上面１８２ｃが一の側面１８２ａ側が低くなるように傾斜し、その傾斜した上面１８２ｃにスピードコントローラブロック１８１が取り付けられてもよい。これらの場合、スピードコントローラ２００の調整つまみ２０１が上側に向くので、調整つまみ２０１の操作が簡単になり、エア速度の設定調整や取替えなどのメンテナンスを簡単に行うことができる。
【００５５】
以上の実施の形態における連結ブロック１８２は、図１０に示すように可撓性を有していてもよい。かかる場合、連結ブロック１８２は、例えばゴム材、シリコンゴム又はウレタン樹脂などによって形成される。この例によれば、例えばスピードコントローラ２００の調整つまみ２０１を操作してメンテナンスを行う際に、連結ブロック１８２を撓ませ、スピードコントローラ２００の調整つまみ２０１を上方側に向けることができる。こうすることにより、多数のスピードコントローラ２００が集約的に配列された場合にも、調整つまみ２０１の操作を簡単に行うことができる。また、平常時には、連結ブロック１８２が撓まずにスピードコントローラ２００の調整つまみ２０１が水平方向に向いた状態になるので、気体供給ユニット１７０をコンパクト化できる。
【００５６】
連結ブロック１８２が可撓性を有する場合、連結ブロック１８２は、互いに連通し上下に対応した各組の電磁バルブ１９０とスピードコントローラ２００毎に分割されていてもよい。例えば連結ブロック１８２は、図１１に示すように上下に長細い直方体状の複数の片が水平方向に並ぶように分割される。この例によれば、例えばメンテナンスされるスピードコントローラ２００の連結ブロック１８２のみを撓ませて、そのスピードコントローラ２００の調整つまみ２０１を操作することができるので、メンテナンスをより行い易くなる。
【００５７】
前記実施の形態では、複数のスピードコントローラ２００が連結ブロック１８２に直線状に並べて配置されていたが、図１２に示すように上下交互の千鳥状に並べて配置されてもよい。こうすることにより、隣り合うスピードコントローラ２００の調整つまみ２０１の位置がずれるので、調整つまみ２０１が操作しやすくなり、メンテナンスを行い易くなる。
【００５８】
以上の実施の形態で記載したスピードコントローラ２００については、図１３に示すように入力ポート２２０ａと出力ポート２２０ｂに連結ブロック１８２側に突出する突状部２２０ｃ、２２０ｄが形成され、連結ブロック１８２の第１の流路２１０の出力開口部２１０ｂと第２の流路２１１の入力開口部２１１ａには、その突状部２２０ｃ、２２０ｄと嵌合する凹部１８２ｃ、１８２ｄが形成されていてもよい。例えば突状部２２０ｃ、２２０ｄは、先細の円筒状に形成され、凹部１８２ｃ、１８２ｄは、底面側の径が小さくなるテーパ形状に形成されてもよい。また、凹部１８２ｃ、１８２ｄのテーパ部分の表面は、例えばゴム材や気密性が確保できる軟樹脂などの弾力性のある部材１８２ｅにより形成されていてもよい。スピードコントローラ２００と連結ブロック１８２は、突状部２２０ｃ、２２０ｄと凹部１８２ｃ、１８２ｄを嵌合した状態でネジ２１１によって固定される。かかる例によれば、スピードコントローラ２００と連結ブロック１８２の連結部の気密性を向上できる。また、スピードコントローラ２００と連結ブロック１８２の位置合わせも正確かつ容易に行うことができる。
【００５９】
連結ブロック１８２の第１の流路２１０は、Ｖ字状に形成されていたが、図１４に示すようにＵ字状に形成されていてもよい。この場合、連結ブロック１８２を上下に貫通する垂直流路２１０ｅと、連結ブロック１８２の上部と下部のそれぞれに、一の側面１８２ａから垂直流路２１０ｅに通じる水平流路２１０ｆを形成し、垂直流路２１０ｅの上下の端部にシール２１０ｇを設けるようにしてもよい。かかる場合、第１の流路２１０の加工を容易に行うことができる。
【００６０】
以上の実施の形態では、スピードコントローラ２００に１系統の気体流路２２０が形成されていたが、図１５に示すように２系統の気体流路２４０、２４１が形成されてもよい。かかる場合、例えば対応する電磁ブロック１９０には、２系統の出力ポート１９０ａを有するものが用いられる。また、連結ブロック１８２には、各々２系統の第１の流路２１０と第２の流路２１１が形成される。スピードコントローラ２００の２系統の気体流路２４０、２４１は、上下に配置され、上方側の気体流路２４０の入力ポート２４０ａと下方側の気体流路２４１の入力ポート２４１ａの間に、上方側の気体流路２４０の出力ポート２４０ｂと下方側の気体流路２４１の出力ポート２４１ｂが形成される。つまり下から入力ポート２４１ａ、出力ポート２４１ｂ、出力ポート２４０ｂ、入力ポート２４０ａの順に形成される。また、連結ブロック１８２の他の側面１８２ｂには、２系統の第２の流路２１１に対応して上下に接続ポート２２２が形成され、マルチコネクタ２３０には、上下に接続孔２３０ａが形成される。
【００６１】
この例によれば、気体供給ユニット１７０がより多くの気圧式駆動部にエアを供給できるので、より多くの給気管１６０を集約して、給気配管を単純化できる。また、２つの出力ポート２４０ｂ、２４１ｂ同士を近づけることにより、それに対応する上下の接続ポート２２２同士の位置が近づき、さらにそれに対応するマルチコネクタ２３０の上下の接続孔２３０ａ同士の位置が近づくので、例えばマルチコネクタ２３０を小型化できる。
【００６２】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施の形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に相到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。例えば上記実施の形態において、電磁バルブ１９０やスピードコントローラ２００の数は、任意に選択できる。上記実施の形態に記載した連結ブロック１８２は、直方体形状であったが、厳密な直方体形状である必要はなく、他の形状であってもよい。また、エアの供給を作動、停止させるための弁は、電磁バルブに限られず、他の形式の弁であってもよい。気圧式駆動部の駆動用としてエア以外の気体を供給する場合にも本発明は適用できる。また、本発明の気体供給ユニットは、塗布現像処理システム１の処理装置毎に設けられていてもよいし、複数の処理装置毎、例えば同じ種類の処理装置毎に設けられていてもよい。本発明は、ウェハ以外の例えばＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）、フォトマスク用のマスクレチクルなどの他の基板の処理装置に気体を供給するものにも適用できる。
【産業上の利用可能性】
【００６３】
本発明は、基板の処理装置に用いられる複数の気圧式駆動部に気体を供給する供給設備の品質を安定させる際に有用である。
【図面の簡単な説明】
【００６４】
【図１】塗布現像処理システムの構成の概略を示す平面図である。
【図２】図１の塗布現像処理システムの正面図である。
【図３】図１の塗布現像処理システムの背面図である。
【図４】レジスト塗布装置の構成の概略を示す縦断面の説明図である。
【図５】気体供給ユニットの構成の概略を示す斜視図である。
【図６】気体供給ユニットの部分断面図である。
【図７】連結ブロックの内部構成を示す説明図である。
【図８】連結ブロックの上面にスピードコントローラブロックを設けた場合の気体供給ユニットの模式図である。
【図９】連結ブロックの上面の傾斜面にスピードコントローラブロックを設けた場合の気体供給ユニットの模式図である。
【図１０】連結ブロックが可撓性を有する場合の気体供給ユニットの模式図である。
【図１１】分割された連結ブロックの斜視図である。
【図１２】スピードコントローラが千鳥状に配置された場合の気体供給ユニットの正面図である。
【図１３】スピードコントローラと連結ブロックの接続部の拡大断面図である。
【図１４】第１の流路をＵ字状に形成した場合の気体供給ユニットの部分断面図である。
【図１５】上下２系統のスピードコントローラを配置した場合の気体供給ユニットの部分断面図である。
【符号の説明】
【００６５】
１    塗布現像処理システム
２０  レジスト塗布装置
１７０  気体供給ユニット
１８０  電磁バルブブロック
１８１  スピードコントローラブロック
１８２  連結ブロック
１８２ａ  一の側面
１８２ｂ  他の側面
１９０  電磁バルブ
２００  スピードコントローラ
２１０  第１の流路
２１１  第２の流路
２２２  接続ポート
Ｗ    ウェハ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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