(57)【要約】【課題】隣り合うように形成された２個のスポットが繋がらずに互いに離間するという不良の発生を抑制して、良好なスポット形成の実現を可能にする技術を提供する。【解決手段】第１主走査方向間隔、第２主走査方向間隔および光学倍率が下記のスポット関係を満たすように関係付けられている。ここで、スポット関係は、主走査方向に上流側の発光素子グループにより形成される上流側スポット列の最下流スポットが、主走査方向に下流側の発光素子グループにより形成される下流側スポット列の最上流スポットよりも上流側に形成され、しかも最下流スポットと最上流スポットのスポット間隔が各スポット列でのスポット間隔よりも小さいという関係である。【選択図】図１１
2008074003.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
副走査方向に搬送される被走査面に光ビームを結像して、前記副走査方向に略直交する主走査方向に複数のスポットを並べて形成可能なラインヘッドにおいて、
複数の発光素子グループと、
前記複数の発光素子グループに一対一で対応して配置された複数の結像光学系と
を備え、
前記複数の発光素子グループの各々では複数の発光素子が第１主走査方向間隔で配置され、しかも前記複数の発光素子グループは第２主走査方向間隔で配置され、
前記複数の結像光学系の各々は該結像光学系に対応する発光素子グループから射出された光ビームを所定の光学倍率で結像して前記被走査面にスポットを前記主走者方向に並べて形成し、
前記第１主走査方向間隔、前記第２主走査方向間隔および前記光学倍率が下記のスポット関係を満たすように関係付けられていることを特徴とするラインヘッド。
前記スポット関係は、それぞれ主走査方向位置が隣り合う２個の発光素子グループにおいて、前記主走査方向に上流側の発光素子グループにより形成される上流側スポット列の最下流スポットが、前記主走査方向に下流側の発光素子グループにより形成される下流側スポット列の最上流スポットよりも上流側に形成され、しかも前記最下流スポットと前記最上流スポットのスポット間隔が各スポット列でのスポット間隔よりも小さいという関係である。
【請求項２】
前記結像光学系の光学倍率の絶対値は、１よりも大きい請求項１記載のラインヘッド。
【請求項３】
その表面が前記副走査方向に搬送される潜像担持体と、
前記潜像担持体の表面を被走査面として該潜像担持体表面にスポットを形成する請求項１または２記載のラインヘッドと同一構成を有する露光手段と
を備えることを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、被走査面に対して光ビームを走査するラインヘッド及び該ラインヘッドを用いた画像形成装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
この種のラインヘッドとしては、例えば特許文献１に記載のように、複数の発光素子を配置して構成される発光素子グループ（同特許文献における「発光素子アレイ」）を用いたものが提案されている。さらに、特許文献１記載のラインヘッドでは、複数の発光素子グループを並べて配置するとともに、該複数の発光素子グループに対して一対一で対応して複数の結像光学系を配置している。そして、発光素子グループの発光素子から射出された光ビームは、該発光素子グループに対向する結像光学系により結像されて、被走査面にスポットが形成される。
【０００３】
【特許文献１】特開２０００−１５８７０５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上述のようなラインヘッドにおいて、例えば、隣り合う２個のスポットを形成するような場合、これら２個のスポットは繋がって形成されることが好適である。しかしながら、装置構成のばらつき等により、被走査面に隣り合うように形成された２個のスポットが繋がらずに互いに離間するという不良が発生し、良好なスポット形成が実現できない場合があった。
【０００５】
この発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、被走査面に光ビームを結像して複数のスポットを並べて形成可能なラインヘッドにおいて、隣り合うように形成された２個のスポットが繋がらずに互いに離間するという不良の発生を抑制して、良好なスポット形成の実現を可能にする技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
この発明にかかるラインヘッドは、副走査方向に搬送される被走査面に光ビームを結像して、副走査方向に略直交する主走査方向に複数のスポットを並べて形成可能なラインヘッドであって、上記目的を達成するために、複数の発光素子グループと、複数の発光素子グループに一対一で対応して配置された複数の結像光学系とを備え、複数の発光素子グループの各々では複数の発光素子が第１主走査方向間隔で配置され、しかも複数の発光素子グループは第２主走査方向間隔で配置され、複数の結像光学系の各々は該結像光学系に対応する発光素子グループから射出された光ビームを所定の光学倍率で結像して被走査面にスポットを主走者方向に並べて形成し、第１主走査方向間隔、第２主走査方向間隔および光学倍率が下記のスポット関係を満たすように関係付けられていることを特徴としている。ここで、スポット関係は、それぞれ主走査方向位置が隣り合う２個の発光素子グループにおいて、主走査方向に上流側の発光素子グループにより形成される上流側スポット列の最下流スポットが、主走査方向に下流側の発光素子グループにより形成される下流側スポット列の最上流スポットよりも上流側に形成され、しかも最下流スポットと最上流スポットのスポット間隔が各スポット列でのスポット間隔よりも小さいという関係である。
【０００７】
このように構成されたラインヘッドでは、複数の発光素子グループと、該複数の発光素子グループに一対一で対応して配置された複数の結像光学系とを備えている。また、各発光素子グループにおいて複数の発光素子は第１主走査方向間隔で配置されるとともに、複数の発光素子グループは第２主走査方向間隔で配置される。ここで、第１主走査方向間隔とは、同一の発光素子グループにおいて主走査方向位置が互いに隣り合う２個の発光素子それぞれの主走査方向位置の間隔を言い、第２主走査方向間隔とは、主走査方向位置が互いに隣り合う２個の発光素子グループそれぞれの主走査方向位置の間隔を言う。また、主走査方向位置とは、対象物（発光素子または発光素子グループ）の主走査方向における位置を言う。そして、上記ラインヘッドは、結像光学系により対応する発光素子グループから射出された光ビームを所定の光学倍率で結像して被走査面にスポットを形成する。かかるラインヘッドによるスポット形成動作を、次に詳述する。
【０００８】
上記ラインヘッドは、第２主走査方向間隔で配置された複数の発光素子グループにより、被走査面に複数のスポットを主走査方向に並べて形成する。ここで、第２主走査方向間隔で配置された２個の発光素子グループ、即ち、それぞれの主走査方向位置を第２主走査方向間隔だけ空けて配置された２個の発光素子グループにより形成されるスポットについて考える。また、かかる２個の発光素子グループのうち、主走査方向上流側に配置されたグループを上流側発光素子グループと、下流側に配置されたグループを下流側発光素子グループとする。このとき、被走査面には、上流側発光素子グループにより主走査方向に並ぶ複数のスポット（上流側スポット列）が形成されるとともに、該上流側スポット列の下流側に、下流側発光素子グループにより主走査方向に並ぶ複数のスポット（下流側スポット列）が形成される。そして、このように形成される複数のスポットの間隔には、上述の発光素子のグループ構造に起因して、次のような性質が存在する。
【０００９】
同一の発光素子グループにより形成された主走査方向に隣り合う２個のスポットの間隔は、第１主走査方向間隔に結像光学系の光学倍率を乗じた間隔となる。つまり、同一の発光素子グループにより形成された主走査方向に隣り合う２個のスポットの間隔は、主に第１主走査方向間隔と光学倍率との２個の因子により決まる。一方、互いに異なる発光素子グループにより形成された主走査方向に隣り合う２個のスポットの間隔、つまり、上流側発光素子グループにより形成された最下流スポットと下流側発光素子グループにより形成された最上流スポットとの間隔は、上記２個の因子以外に、発光素子グループが異なることに起因した因子が関係する。ここで、最下流スポットとは、上流側発光素子グループにより形成される上流側スポット列の最下流に位置するスポットを言い、最上流スポットとは、下流側発光素子グループにより形成される下流側スポット列の最上流に位置するスポットを言う。かかる発光素子グループが異なることに起因した因子としては、例えば、２個の発光素子グループそれぞれから被走査面までの距離が異なること等が挙げられる。このように、異なる発光素子グループによる２個のスポット（最下流スポットと最上流スポット）の間隔は、同一の発光素子グループによる２個のスポットの間隔よりも多くの因子の影響を受けやすい。つまり、異なる発光素子グループによる２個のスポット（最下流スポットと最上流スポット）の間隔は、同一の発光素子グループによる２個のスポットの間隔と比べて、ばらつきが大きくなる傾向にある。そして、かかるばらつきの結果、最下流スポットと最上流スポットとが繋がらずに離間して形成されるという不良が発生する場合があった。
【００１０】
これに対して、本発明にかかるラインヘッドでは、第１主走査方向間隔、第２主走査方向間隔および光学倍率が下記のスポット関係を満たすように関係付けられている。ここで、スポット関係は、それぞれ主走査方向位置が隣り合う２個の発光素子グループにおいて、主走査方向に上流側の発光素子グループにより形成される上流側スポット列の最下流スポットが、主走査方向に下流側の発光素子グループにより形成される下流側スポット列の最上流スポットよりも上流側に形成され、しかも最下流スポットと最上流スポットのスポット間隔が各スポット列でのスポット間隔よりも小さいという関係である。よって、本発明にかかるラインヘッドでは、最下流スポットと最上流スポットとが繋がらずに離間して形成されるという不良の発生を抑制することが可能となり、良好なスポット形成が実現される。
【００１１】
また、結像光学系の光学倍率の絶対値を、１よりも大きいように構成しても良い。なんとなれば、このような構成は上記スポット関係を満たすのにあたって有利に作用するため、最下流スポットと最上流スポットとが繋がらずに離間して形成されるという不良の発生をより確実に抑制することが可能となり好適であるからである。
【００１２】
また、この発明にかかる画像形成装置は、上記目的を達成するために、その表面が副走査方向に搬送される潜像担持体と、潜像担持体の表面を被走査面として該潜像担持体表面にスポットを形成する上記ラインヘッドと同一構成を有する露光手段とを備えることを特徴としている。よって、最下流スポットと最上流スポットとが繋がらずに離間して形成されるという不良の発生を抑制することができ、良好なスポットによる画像形成の実現が可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
図１は本発明にかかる画像形成装置の一実施形態を示す図である。また、図２は図１の画像形成装置における画像形成ステーションの配置を示す図である。さらに、図３は図１の画像形成装置の電気的構成を示す図である。この装置は、イエロー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）およびブラック（Ｋ）の４色のトナーを重ね合わせてカラー画像を形成するカラーモードと、ブラック（Ｋ）のトナーのみを用いてモノクロ画像を形成するモノクロモードとを選択的に実行可能な画像形成装置である。この画像形成装置では、ホストコンピュータなどの外部装置から画像形成指令がＣＰＵやメモリなどを有するメインコントローラＭＣに与えられると、このメインコントローラＭＣがエンジンコントローラＥＣに制御信号を与え、これに基づき、エンジンコントローラＥＣがエンジン部ＥＧおよびヘッドコントローラＨＣなど装置各部を制御して所定の画像形成動作を実行し、複写紙、転写紙、用紙およびＯＨＰ用透明シートなどの記録材たるシートに画像形成指令に対応する画像を形成する。
【００１４】
この実施形態にかかる画像形成装置が有するハウジング本体３内には、電源回路基板、メインコントローラＭＣ、エンジンコントローラＥＣおよびヘッドコントローラＨＣを内蔵する電装品ボックス５が設けられている。また、画像形成ユニット２、転写ベルトユニット８および給紙ユニット７もハウジング本体３内に配設されている。また、図１においてハウジング本体３内右側には、二次転写ユニット１２、定着ユニット１３およびシート案内部材１５が配設されている。なお、給紙ユニット７は、ハウジング本体３に対して着脱自在に構成されている。そして、該給紙ユニット７および転写ベルトユニット８については、それぞれ取り外して修理または交換を行うことが可能な構成になっている。
【００１５】
画像形成ユニット２は、複数の異なる色の画像を形成する４個の画像形成ステーション２Ｙ（イエロー用）、２Ｍ（マゼンタ用）、２Ｃ（シアン用）および２Ｋ（ブラック用）を備えている。なお、図１においては、画像形成ユニット２の各画像形成ステーションは構成が互いに同一のため、図示の便宜上一部の画像形成ステーションのみに符号を付し、他の画像形成ステーションについては符号を省略する。
【００１６】
各画像形成ステーション２Ｙ、２Ｍ、２Ｃおよび２Ｋには、それぞれの色のトナー像がその表面に形成される感光体ドラム２１が設けられている。各感光体ドラム２１はそれぞれ専用の駆動モータに接続され図中矢印Ｄ21の方向に所定速度で回転駆動される。また、感光体ドラム２１の周囲には、その回転方向に沿って帯電部２３、ラインヘッド２９、現像部２５および感光体クリーナ２７が配設されている。そして、これらの機能部によって帯電動作、潜像形成動作およびトナー現像動作が実行される。カラーモード実行時は、全ての画像形成ステーション２Ｙ、２Ｍ、２Ｃおよび２Ｋで形成されたトナー像を転写ベルトユニット８に設けた転写ベルト８１に重ね合わせてカラー画像を形成する。また、モノクロモード実行時は、画像形成ステーション２Ｋのみを動作させてブラック単色画像を形成する。
【００１７】
帯電部２３は、その表面が弾性ゴムで構成された帯電ローラを備えている。この帯電ローラは帯電位置で感光体ドラム２１の表面と当接して従動回転するように構成されており、感光体ドラム２１の回転動作に伴って従動回転する。また、この帯電ローラは帯電バイアス発生部（図示省略）に接続されており、帯電バイアス発生部からの帯電バイアスの給電を受けて帯電部２３と感光体ドラム２１が当接する帯電位置で感光体ドラム２１の表面を所定の表面電位に帯電させる。
【００１８】
ラインヘッド２９は、感光体ドラム２１の軸方向（図１の紙面に対して垂直な方向）に配列された複数の発光素子を備えており、感光体ドラム２１に対向配置されている。そして、これらの発光素子から、帯電部２３により帯電された感光体ドラム２１の表面に向けて光を照射して該表面に静電潜像を形成する。
【００１９】
現像部２５は、その表面にトナーが担持する現像ローラ２５１を有する。そして、現像ローラ２５１と電気的に接続された現像バイアス発生部（図示省略）から現像ローラ２５１に印加される現像バイアスによって、現像ローラ２５１と感光体ドラム２１とが当接する現像位置において、帯電トナーが現像ローラ２５１から感光体ドラム２１に移動してその表面に形成された静電潜像が顕像化される。
【００２０】
現像位置において顕在化されたトナー像は、感光体ドラム２１の回転方向Ｄ21に搬送された後、後に詳述する転写ベルト８１と各感光体ドラム２１が当接する一次転写位置ＴＲ1において転写ベルト８１に一次転写される。
【００２１】
また、感光体ドラム２１の回転方向Ｄ21の一次転写位置ＴＲ1の下流側で且つ帯電部２３の上流側に、感光体ドラム２１の表面に当接して感光体クリーナ２７が設けられている。この感光体クリーナ２７は、感光体ドラムの表面に当接することで一次転写後に感光体ドラム２１の表面に残留するトナーをクリーニング除去する。
【００２２】
転写ベルトユニット８は、駆動ローラ８２と、図１において駆動ローラ８２の左側に配設される従動ローラ８３（ブレード対向ローラ）と、これらのローラに張架され駆動ローラ８２の回転により図示矢印Ｄ81の方向（搬送方向）へ循環駆動される転写ベルト８１とを備えている。また、転写ベルトユニット８は、転写ベルト８１の内側に、カートリッジ装着時において各画像形成ステーション２Ｙ、２Ｍ、２Ｃおよび２Ｋが有する感光体ドラム２１各々に対して一対一で対向配置される、４個の一次転写ローラ８５Ｙ、８５Ｍ、８５Ｃおよび８５Ｋを備えている。これらの一次転写ローラは、それぞれ一次転写バイアス発生部（図示省略）と電気的に接続される。
【００２３】
カラーモード実行時は、図１および図２に示すように全ての一次転写ローラ８５Ｙ、８５Ｍ、８５Ｃおよび８５Ｋを画像形成ステーション２Ｙ、２Ｍ、２Ｃおよび２Ｋ側に位置決めすることで、転写ベルト８１を画像形成ステーション２Ｙ、２Ｍ、２Ｃおよび２Ｋそれぞれが有する感光体ドラム２１に押し遣り当接させて、各感光体ドラム２１と転写ベルト８１との間に一次転写位置ＴＲ1を形成する。そして、適当なタイミングで一次転写バイアス発生部から一次転写ローラ８５Ｙ等に一次転写バイアスを印加することで、各感光体ドラム２１の表面上に形成されたトナー像を、それぞれに対応する一次転写位置ＴＲ1において転写ベルト８１表面に転写する。すなわち、カラーモードにおいては、各色の単色トナー像が転写ベルト８１上において互いに重ね合わされてカラー画像が形成される。
【００２４】
いわゆるタンデム方式の画像形成装置では、感光体ドラム２１から転写ベルト８１にトナー像が一次転写される一次転写位置は、各画像形成ステーションごとに異なった位置となる。この実施形態においては、イエロー用画像形成ステーション２Ｙ、マゼンタ用画像形成ステーション２Ｍ、シアン用画像形成ステーション２Ｃおよびブラック用画像形成ステーション２Ｋが転写ベルト８１の移動方向に沿ってこの順番に配置されている。したがって、イエロー一次転写位置ＴＲ1yとマゼンタ一次転写位置ＴＲ1mとは距離Ｌym、マゼンタ一次転写位置ＴＲ1mとシアン一次転写位置ＴＲ1cとは距離Ｌmc、シアン一次転写位置ＴＲ1cとブラック一次転写位置ＴＲ1kとは距離Ｌckだけ離隔している。
【００２５】
一方、モノクロモード実行時は、４個の一次転写ローラのうち、一次転写ローラ８５Ｙ、８５Ｍおよび８５Ｃをそれぞれが対向する画像形成ステーション２Ｙ、２Ｍおよび２Ｃから離間させるとともにブラック色に対応した一次転写ローラ８５Ｋのみを画像形成ステーション２Ｋに当接させることで、モノクロ用の画像形成ステーション２Ｋのみを転写ベルト８１に当接させる。その結果、一次転写ローラ８５Ｋと画像形成ステーション２Ｋとの間にのみ一次転写位置ＴＲ1kが形成される。そして、適当なタイミングで一次転写バイアス発生部から一次転写ローラ８５Ｋに一次転写バイアスを印加することで、画像形成ステーション２Ｋに設けられた感光体ドラム２１の表面上に形成されたブラックトナー像を、一次転写位置ＴＲ1kにおいて転写ベルト８１表面に転写してモノクロ画像を形成する。
【００２６】
さらに、転写ベルトユニット８は、ブラック用一次転写ローラ８５Ｋの下流側で且つ駆動ローラ８２の上流側に配設された下流ガイドローラ８６を備える。この下流ガイドローラ８６は、一次転写ローラ８５Ｋが画像形成ステーション２Ｋの感光体ドラム２１に当接して形成する一次転写位置ＴＲ1での一次転写ローラ８５Ｋとブラック用感光体ドラム２１（Ｋ）との共通接線上において、転写ベルト８１に当接するように構成されている。
【００２７】
また、下流ガイドローラ８６に巻き掛けられた転写ベルト８１の表面に対向してパッチセンサ８９が設けられている。パッチセンサ８９は例えば反射型フォトセンサからなり、転写ベルト８１表面の反射率の変化を光学的に検出することにより、必要に応じて転写ベルト８１上に形成されるパッチ画像の位置やその濃度などを検出する。
【００２８】
給紙ユニット７は、シートを積層保持可能である給紙カセット７７と、給紙カセット７７からシートを一枚ずつ給紙するピックアップローラ７９とを有する給紙部を備えている。ピックアップローラ７９により給紙部から給紙されたシートは、レジストローラ対８０によって給紙タイミングが調整された後、シート案内部材１５に沿って、駆動ローラ８２と二次転写ローラ１２１とが当接する二次転写位置ＴＲ2に給紙される。
【００２９】
二次転写ローラ１２１は、転写ベルト８１に対して離当接自在に設けられ、二次転写ローラ駆動機構（図示省略）により離当接駆動される。定着ユニット１３は、ハロゲンヒータ等の発熱体を内蔵して回転自在な加熱ローラ１３１と、この加熱ローラ１３１を押圧付勢する加圧部１３２とを有している。そして、その表面に画像が二次転写されたシートは、シート案内部材１５により、加熱ローラ１３１と加圧部１３２の加圧ベルト１３２３とで形成するニップ部に案内され、該ニップ部において所定の温度で画像が熱定着される。加圧部１３２は、２つのローラ１３２１，１３２２と、これらに張架される加圧ベルト１３２３とで構成されている。そして、加圧ベルト１３２３の表面のうち、２つのローラ１３２１，１３２２により張られたベルト張面を加熱ローラ１３１の周面に押し付けることで、加熱ローラ１３１と加圧ベルト１３２３とで形成するニップ部が広くとれるように構成されている。また、こうして定着処理を受けたシートはハウジング本体３の上面部に設けられた排紙トレイ４に搬送される。
【００３０】
前記した駆動ローラ８２は、転写ベルト８１を図示矢印Ｄ81の方向に循環駆動するとともに、二次転写ローラ１２１のバックアップローラとしての機能も兼ねている。駆動ローラ８２の周面には、厚さ３ｍｍ程度、体積抵抗率が１０００ｋΩ・ｃｍ以下のゴム層が形成されており、金属製の軸を介して接地することにより、図示を省略する二次転写バイアス発生部から二次転写ローラ１２１を介して供給される二次転写バイアスの導電経路としている。このように駆動ローラ８２に高摩擦かつ衝撃吸収性を有するゴム層を設けることにより、二次転写位置ＴＲ2へシートが進入する際の衝撃が転写ベルト８１に伝達されることに起因する画質の劣化を防止することができる。
【００３１】
また、この装置では、ブレード対向ローラ８３に対向してクリーナ部７１が配設されている。クリーナ部７１は、クリーナブレード７１１と廃トナーボックス７１３とを有する。クリーナブレード７１１は、その先端部を転写ベルト８１を介してブレード対向ローラ８３に当接することで、二次転写後に転写ベルト８１に残留するトナーや紙粉等の異物を除去する。そして、このように除去された異物は、廃トナーボックス７１３に回収される。また、クリーナブレード７１１及び廃トナーボックス７１３は、ブレード対向ローラ８３と一体的に構成されている。
【００３２】
なお、この実施形態においては、各画像形成ステーション２Ｙ、２Ｍ、２Ｃおよび２Ｋの感光体ドラム２１、帯電部２３、現像部２５および感光体クリーナ２７を一体的にカートリッジとしてユニット化している。そして、このカートリッジが装置本体に対し着脱可能に構成されている。また、各カートリッジには、該カートリッジに関する情報を記憶するための不揮発性メモリがそれぞれ設けられている。そして、エンジンコントローラＥＣと各カートリッジとの間で無線通信が行われる。こうすることで、各カートリッジに関する情報がエンジンコントローラＥＣに伝達されるとともに、各メモリ内の情報が更新記憶される。これらの情報に基づき各カートリッジの使用履歴や消耗品の寿命が管理される。
【００３３】
図４は、本発明にかかるラインヘッドの一実施形態の概略を示す斜視図である。また、図５は、本発明にかかるラインヘッドの一実施形態の副走査方向の断面図である。本実施形態におけるラインヘッド２９（露光手段）は、主走査方向ＭＤを長手方向とするケース２９１を備えるとともに、かかるケース２９１の両端には、位置決めピン２９１１とねじ挿入孔２９１２が設けられている。そして、かかる位置決めピン２９１１を、感光体ドラム２１を覆うとともに感光体ドラム２１に対して位置決めされた感光体カバー（図示省略）に穿設された位置決め孔（図示省略）に嵌め込むことで、ラインヘッド２９が感光体ドラム２１に対して位置決めされる。そして更に、ねじ挿入孔２９１２を介して固定ねじを感光体カバーのねじ孔（図示省略）にねじ込んで固定することで、ラインヘッド２９が感光体ドラム２１に対して位置決め固定される。
【００３４】
ケース２９１は、感光体ドラム２１の表面に対向する位置にマイクロレンズアレイ２９９を保持するとともに、その内部に、該マイクロレンズアレイ２９９に近い順番で、遮光部材２９７及びガラス基板２９３を備えている。また、ガラス基板２９３の裏面（ガラス基板２９３が有する２つの面のうちマイクロレンズアレイ２９９と逆側の面）には、複数の発光素子グループ２９５が設けられている。即ち、複数の発光素子グループ２９５は、ガラス基板２９３の裏面に、主走査方向ＭＤ及び副走査方向ＳＤに互いに所定間隔だけ離れて２次元的に配置されている。ここで、複数の発光素子グループ２９５の各々は、複数の発光素子を２次元的に配列して構成されている。また、本実施形態では、発光素子として有機ＥＬ（Electro-Luminescence）を用いる。つまり、本実施形態では、ガラス基板２９３の裏面に有機ＥＬを発光素子として配置している。そして、複数の発光素子それぞれから感光体ドラム２１の方向に射出される光ビームは、ガラス基板２９３を介して遮光部材２９７へ向うこととなる。
【００３５】
遮光部材２９７には、複数の発光素子グループ２９５に対して一対一で複数の導光孔２９７１が穿設されている。また、かかる導光孔２９７１は、ガラス基板２９３の法線と平行な線を中心軸として遮光部材２９７を貫通する略円柱状の孔として穿設されている。つまり、発光素子グループ２９５に属する発光素子２９５１から出た光は、該発光素子グループ２９５に対応する導光孔２９７１によって、マイクロレンズアレイ２９９に導かれる。そして、遮光部材２９７に穿設された導光孔２９７１を通過した光ビームは、マイクロレンズアレイ２９９により、感光体ドラム２１の表面にスポットとして結像されることとなる。
【００３６】
図５に示すように、固定器具２９１４によって、裏蓋２９１３がガラス基板２９３を介してケース２９１に押圧されている。つまり、固定器具２９１４は、裏蓋２９１３をケース２９１側に押圧する弾性力を有するとともに、かかる弾性力により裏蓋２９１３を押圧することで、ケース２９１の内部を光密に（つまり、ケース２９１内部から光が漏れないように、及び、ケース２９１の外部から光が侵入しないように）密閉している。なお、固定器具２９１４は、ケース２９１の長手方向に複数箇所設けられている。また、発光素子グループ２９５は、封止部材２９４により覆われている。
【００３７】
図６は、マイクロレンズアレイの概略を示す斜視図である。また、図７は、マイクロレンズアレイの主走査方向の断面図である。マイクロレンズアレイ２９９は、ガラス基板２９９１を有するとともに、該ガラス基板２９９１を挟むように一対一で配置された２枚のレンズ２９９３Ａ，２９９３Ｂにより構成されるレンズ対を複数有している。なお、これらレンズ２９９３Ａ，２９９３Ｂは樹脂により形成することができる。
【００３８】
つまり、ガラス基板２９９１の表面２９９１Ａには複数のレンズ２９９３Ａが配置されるとともに、複数のレンズ２９９３Ａに一対一で対応するように、複数のレンズ２９９３Ｂがガラス基板２９９１の裏面２９９１Ｂに配置されている。また、レンズ対を構成する２枚のレンズ２９９３Ａ，２９９３Ｂは、相互に光軸ＯＡを共通にする。また、これら複数のレンズ対は、複数の発光素子グループ２９５に一対一で配置されている。なお、この明細書では、一対一の対を成すレンズ対２９９３Ａ，２９９３Ｂと、かかるレンズ対によって挟まれたガラス基板２９９１とから成る光学系を「マイクロレンズＭＬ」と称することとする。そして、これら複数のレンズ対（マイクロレンズＭＬ）は、発光素子グループ２９５の配置に対応して、主走査方向ＭＤ及び副走査方向ＳＤに互いに所定間隔だけ離れて２次元的に配置されている。
【００３９】
上述のように、発光素子グループ２９５から射出された光ビームは、ガラス基板２９３を透過した後マイクロレンズＭＬに入射する。そして、該マイクロレンズＭＬにより感光体ドラム２１の表面（被走査面）に結像される。つまり、本実施形態では、ガラス基板２９３及びマイクロレンズＭＬが本発明における「結像光学系」として機能しており、かかる「結像光学系」が複数の発光素子グループ２９５に一対一で対応して複数個配置されている。
【００４０】
複数の結像光学系のそれぞれは、マイクロレンズＭＬの光学的作用により、対応する発光素子グループ２９５の発光素子２９５１からの光ビームを、所定の光学倍率で感光体ドラム２１の表面に結像させる。このとき、発光素子２９５１から射出された光ビームは、マイクロレンズＭＬにより、結像光学系の光軸ＯＡ（即ち、マイクロレンズＭＬの光軸ＯＡ）に対して１８０°回転して感光体ドラム２１の表面に結像される。つまり、感光体ドラム２１の表面には、発光素子２９５１の倒立像としてスポットが形成される。このように、光軸ＯＡに対して反転した像を感光体ドラム２１の表面に結像する結像光学系（または、マイクロレンズＭＬ）の特性を、本明細書では「反転特性」と称することとする。
【００４１】
図８は、発光素子グループ及び結像光学系の配置を示す図である。なお、同図では、結像光学系をマイクロレンズＭＬで代表している。同図が示すように、本実施形態では、複数の発光素子グループ２９５が、主走査方向ＭＤ及び副走査方向ＳＤに互いに所定間隔だけ離れて２次元的に配置されている。そして、複数の発光素子グループ２９５に一対一で対応して、複数の結像光学系（マイクロレンズＭＬ）が配置されている。同図が示す通り、これら複数のマイクロレンズＭＬは、マイクロレンズＭＬを主走査方向ＭＤにレンズ間隔ＬＳで並べたレンズ列ＲＭＬを成すように、配置されている。そして、かかるレンズ列ＲＭＬは副走査方向ＳＤに３列並ぶとともに、複数のマイクロレンズＭＬはそれぞれの主走査方向位置が異なるように配置されている。また、複数のマイクロレンズＭＬは、主走査方向位置が隣り合う２個のマイクロレンズＭＬの副走査方向位置が互いに異なるように、配置されている。つまり、主走査方向位置が隣り合う２個のマイクロレンズＭＬが互いに異なるレンズ列ＲＭＬに属するとともに、該２個のマイクロレンズＭＬの間の主走査方向距離がＬＳ／ｍに略等しくなるように、複数のマイクロレンズＭＬは配置されている。ここで、値ｍは、副走査方向ＳＤに並ぶレンズ列ＲＭＬの列数であり、本実施形態ではｍ＝３となる。そして、マイクロレンズＭＬの半径Ｒは、レンズ間隔ＬＳの半分よりも小さく設定されている。
【００４２】
図９及び図１０は、本実施形態におけるラインヘッドの動作説明図である。以下に、図３、図９、図１０を用いて本実施形態におけるラインヘッド２９によるスポット形成動作を説明する。また、ここでは主走査方向ＭＤに伸びる直線上に複数のスポットを等間隔で並べて形成する場合について説明する。本実施形態では、感光体ドラム２１（潜像担持体）の表面（被走査面）を副走査方向ＳＤに搬送しながら、ヘッド制御モジュール５４により複数の発光素子２９５１を所定のタイミングで発光させることで、主走査方向ＭＤに伸びる直線上に複数のスポットを並べて形成する。
【００４３】
つまり、本実施形態のラインヘッド２９では、副走査方向位置ＳＤ１〜ＳＤ６の各位置に対応して、副走査方向ＳＤに６個の発光素子列Ｒ２９５１が並べて配置されている（図９）。そこで、本実施形態では、同一の副走査方向位置にある発光素子列Ｒ２９５１は、略同一のタイミングで発光させるとともに、異なる副走査方向位置にある発光素子列Ｒ２９５１は、互いに異なるタイミングで発光させる。より具体的には、副走査方向位置ＳＤ１〜ＳＤ６の順番で、発光素子列Ｒ２９５１を発光させる。そして、感光体ドラム２１の表面を副走査方向ＳＤに搬送しながら、上述の順番で発光素子列Ｒ２９５１を発光させることで、該表面の主走査方向ＭＤに伸びる直線上に複数のスポットを並べて形成する。
【００４４】
かかる動作を、図９，１０を用いて説明する。まず最初に、副走査方向ＳＤに最上流の発光素子グループ２９５Ａ１，２９５Ａ２，２９５Ａ３，…に属する副走査方向位置ＳＤ１の発光素子列Ｒ２９５１の発光素子２９５１を発光させる。そして、かかる発光動作により射出される複数の光ビームは、上述の反転特性を有するマイクロレンズＭＬにより、反転されて感光体ドラム表面に結像される。つまり、図１０の「１回目」のハッチングパターンの位置にスポットが形成される。なお、同図において、白抜きの丸印は、未だ形成されておらず今後形成される予定のスポットを表す。また、同図において、符号２９５Ｃ１，２９５Ｂ１，２９５Ａ１，２９５Ｃ２でラベルされたスポットは、それぞれに付された符号に対応する発光素子グループ２９５により形成されるスポットであることを示す。
【００４５】
次に、同発光素子グループ２９５Ａ１，２９５Ａ２，２９５Ａ３，…に属する副走査方向位置ＳＤ２の発光素子列Ｒ２９５１の発光素子２９５１を発光させる。そして、かかる発光動作により射出される複数の光ビームは、上述の反転特性を有するマイクロレンズＭＬにより、反転されて感光体ドラム表面に結像される。つまり、図１０の「２回目」のハッチングパターンの位置にスポットが形成される。ここで、感光体ドラム２１の表面の搬送方向が副走査方向ＳＤであるのに対して、副走査方向ＳＤの下流側の発光素子列Ｒ２９５１から順番に（つまり、副走査方向位置ＳＤ１，ＳＤ２の順番に）発光させたのは、マイクロレンズＭＬが反転特性を有することに対応するためである。
【００４６】
次に、副走査方向上流側から２番目の発光素子グループ２９５Ｂ１，２９５Ｂ２，２９５Ｂ３，…に属する副走査方向位置ＳＤ３の発光素子列Ｒ２９５１の発光素子２９５１を発光させる。そして、かかる発光動作により射出される複数の光ビームは、上述の反転特性を有するマイクロレンズＭＬにより、反転されて感光体ドラム表面に結像される。つまり、図１０の「３回目」のハッチングパターンの位置にスポットが形成される。
【００４７】
次に、同発光素子グループ２９５Ｂ１，２９５Ｂ２，２９５Ｂ３，…に属する副走査方向位置ＳＤ４の発光素子列Ｒ２９５１の発光素子２９５１を発光させる。そして、かかる発光動作により射出される複数の光ビームは、上述の反転特性を有するマイクロレンズＭＬにより、反転されて感光体ドラム表面に結像される。つまり、図１０の「４回目」のハッチングパターンの位置にスポットが形成される。
【００４８】
次に、副走査方向最下流の発光素子グループ２９５Ｃ１，２９５Ｃ２，２９５Ｃ３，…に属する副走査方向位置ＳＤ５の発光素子列Ｒ２９５１の発光素子２９５１を発光させる。そして、かかる発光動作により射出される複数の光ビームは、上述の反転特性を有するマイクロレンズＭＬにより、反転されて感光体ドラム表面に結像される。つまり、図１０の「５回目」のハッチングパターンの位置にスポットが形成される。
【００４９】
そして最後に、同発光素子グループ２９５Ｃ１，２９５Ｃ２，２９５Ｃ３，…に属する副走査方向位置ＳＤ６の発光素子列Ｒ２９５１の発光素子２９５１を発光させる。そして、かかる発光動作により射出される複数の光ビームは、上述の反転特性を有するマイクロレンズＭＬにより、反転されて感光体ドラム表面に結像される。つまり、図１０の「６回目」のハッチングパターンの位置にスポットが形成される。このように、１〜６回目までの発光動作を実行することで、主走査方向ＭＤに伸びる直線上に複数のスポットを並べて形成する。
【００５０】
このように、本実施形態におけるラインヘッド２９は、主走査方向ＭＤに複数のスポットを並べて形成する。つまり、１つの発光素子グループ２９５により、主走査方向ＭＤにｋ個（本実施形態ではｋ＝８）のスポットを並べたスポット列が形成される。ここで、本明細書では、１つの発光素子グループ２９５により主走査方向ＭＤに並べて形成されるｋ個のスポットをスポット列と称することとする。そして、複数の発光素子グループ２９５Ｃ１，２９５Ｂ１，２９５Ａ１，２９５Ｃ２，…のそれぞれが、スポット列を主走査方向ＭＤに並べて形成することで、図１０に示すように複数のスポットが主走査方向ＭＤに並べて形成される。
【００５１】
図１１は、本実施形態におけるラインヘッドにより形成されるスポットのスポット間隔を示す図である。なお、同図では、結像光学系をマイクロレンズＭＬで代表している。また、同図では、発明理解の容易のため、主走査方向位置が隣り合う２個の発光素子グループ２９５ＵＰ，２９５ＤＷのみを図示するとともに、主走査方向ＭＤに上流側の発光素子グループを上流側発光素子グループ２９５ＵＰと、下流側の発光素子グループを下流側発光素子グループ２９５ＤＷとして示している。同図が示すように、各発光素子グループ２９５ＵＰ，２９５ＤＷにおいて、ｋ個（ｋ＝８）の発光素子２９５１は、第１主走査方向間隔Δｅで配置されている。また、発光素子グループ２９５ＵＰ，２９５ＤＷは、第２主走査方向間隔Δｇで配置されている。ここで、第１主走査方向間隔Δｅとは、同一の発光素子グループ２９５において主走査方向位置が隣り合う２個の発光素子２９５１それぞれの主走査方向位置の間隔を言い、第２主走査方向間隔Δｇとは、主走査方向位置が隣り合う２個の発光素子グループ２９５それぞれの主走査方向位置の間隔を言う。また、本明細書において、発光素子グループ２９５の位置とは、発光素子グループ２９５の幾何重心とする。
【００５２】
上述のとおり、結像光学系は、各発光素子グループ２９５ＵＰ，２９５ＤＷから射出された光ビームを所定の光学倍率で結像して、被走査面にスポット列を形成する。よって、上流側発光素子グループ２９５ＵＰにより上流側スポット列ＵＰＲＳが、下流側発光素子グループ２９５ＤＷにより下流側スポット列ＤＷＲＳが、主走査方向ＭＤに並んで形成される。なお、上流側スポット列ＵＰＲＳ及び下流側スポット列ＤＷＲＳはともに、ｋ個のスポットから構成される。
【００５３】
そして、本実施形態では、第１主走査方向間隔Δｅ、第２主走査方向間隔Δｇおよび結像光学系の光学倍率の絶対値ｈが次のスポット関係を満たすように関係付けられている。ここで、スポット関係は、それぞれ主走査方向位置が隣り合う２個の発光素子グループ２９５ＵＰ，２９５ＤＷにおいて、上流側発光素子グループ２９５ＵＰにより形成される上流側スポット列ＵＰＲＳの最下流スポットＤＷＳが、下流側発光素子グループ２９５ＤＷにより形成される下流側スポット列ＤＷＲＳの最上流スポットＵＰＳよりも上流側に形成され、しかも最下流スポットＤＷＳと最上流スポットＵＰＳのスポット間隔ｓｓが各スポット列ＵＰＲＳ，ＤＷＲＳでのスポット間隔ｄｓよりも小さいという関係である（図１１）。つまり、各スポット列ＵＰＲＳ，ＤＷＲＳでのスポット間隔ｓｓおよび最下流スポットＤＷＳと最上流スポットＵＰＳとのスポット間隔ｄｓは、ともに第１主走査方向間隔Δｅ、第２主走査方向間隔Δｇおよび結像光学系の光学倍率の絶対値ｈにより決まる値である。そこで、本実施形態は、第１主走査方向間隔Δｅ、第２主走査方向間隔Δｇおよび光学倍率の絶対値ｈを適当な値にすることで、スポット間隔ｄｓがスポット間隔ｓｓよりも小さくなるようにラインヘッド２９を構成している。
【００５４】
ここで、図１１に示すような構成を有するラインヘッド２９において、スポット間隔ｄｓおよびスポット間隔ｓｓが、具体的にどうように求められるかを示す。各スポット列ＵＰＲＳ，ＤＷＲＳでのスポット間隔ｓｓは、第１主走査方向間隔Δｅに光学倍率の絶対値ｈを乗じて、次式
ｓｓ＝Δｅ・ｈ  …（式１）
で与えられる。また、１つのスポット列の最上流に位置するスポットと最下流に位置するスポットとの間隔は
（ｋ−１）・Δｅ・ｈ
で表される。また、主走査方向ＭＤに並ぶ２個のスポット列ＵＰＲＳ，ＤＷＲＳの重心間距離は、第２主走査方向間隔Δｇと等しい。よって、最下流スポットＤＷＳと最上流スポットＵＰＳとのスポット間隔ｄｓは、次式
ｄｓ＝Δｇ−（ｋ−１）・Δｅ・ｈ  …（式２）
で表される。このように、スポット間隔ｓｓ及びスポット間隔ｄｓは、それぞれ式１，式２で与えられる。また、これらの式が示すように、スポット間隔ｓｓおよびスポット間隔ｄｓは、ともに第１主走査方向間隔Δｅ、第２主走査方向間隔Δｇおよび結像光学系の光学倍率の絶対値ｈにより決まる値である。
【００５５】
上述の議論が示すとおり、同一の発光素子グループ２９５により形成された主走査方向ＭＤに隣り合う２個のスポットのスポット間隔ｓｓは、第１主走査方向間隔Δｅに結像光学系の光学倍率の絶対値ｈを乗じた間隔となる。つまり、同一の発光素子グループ２９５により形成された主走査方向ＭＤに隣り合う２個のスポットのスポット間隔ｓｓは、主に第１主走査方向間隔Δｅと光学倍率の絶対値ｈとの２個の因子により決まる。一方、互いに異なる発光素子グループ２９５ＵＰ，２９５ＤＷにより形成された主走査方向ＭＤに隣り合う２個のスポットのスポット間隔ｄｓ、つまり、上流側発光素子グループ２９５ＵＰにより形成された最下流スポットＤＷＳと下流側発光素子グループ２９５ＤＷにより形成された最上流スポットＵＰＳとのスポット間隔ｄｓは、上記２個の因子以外に、発光素子グループ２９５が異なることに起因した因子が関係する。かかる発光素子グループが異なることに起因した因子としては、例えば、２個の発光素子グループ２９５ＵＰ，２９５ＤＷそれぞれから感光体ドラム２１の表面（被走査面）までの距離が異なること等が挙げられる。このように、異なる発光素子グループ２９５ＵＰ，２９５ＤＷによる２個のスポット（最下流スポットと最上流スポット）のスポット間隔ｄｓは、同一の発光素子グループ２９５による２個のスポットのスポット間隔ｓｓよりも多くの因子の影響を受けやすい。つまり、異なる発光素子グループ２９５ＵＰ，２９５ＤＷによる２個のスポット（最下流スポットと最上流スポット）のスポット間隔ｄｓは、同一の発光素子グループ２９５による２個のスポットのスポット間隔ｓｓと比べて、ばらつきが大きくなる傾向にある。そして、かかるばらつきの結果、最下流スポットＤＷＳと最上流スポットＵＰＳとが繋がらずに離間して形成されるという不良が発生する場合があった。
【００５６】
これに対して、本実施形態におけるラインヘッド２９では、第１主走査方向間隔Δｅ、第２主走査方向間隔Δｇおよび光学倍率の絶対値ｈを適当な値にすることで、スポット間隔ｄｓがスポット間隔ｓｓよりも小さくなるようにを構成している。よって、本実施形態におけるラインヘッド２９では、最下流スポットＤＷＳと最上流スポットＵＰＳとが繋がらずに離間して形成されるという不良の発生を抑制することが可能となり、良好なスポット形成が実現される。
【００５７】
また、本実施形態における画像形成装置は、上記ラインヘッド２９を露光手段として用いている。よって、最下流スポットＤＷＳと最上流スポットＵＰＳとが繋がらずに離間して形成されるという不良の発生を抑制することができ、良好なスポットによる画像形成の実現が可能となる。
【００５８】
なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。例えば、上記実施形態では、結像光学系の光学倍率の絶対値ｈの具体的大きさについては言及していないが、該光学倍率の絶対値ｈを１よりも大きいように構成しても良い。なんとなれば、このような構成は上記スポット関係を満たすのにあたって有利に作用するため、最下流スポットＤＷＳと最上流スポットＵＰＳとが繋がらずに離間して形成されるという不良の発生をより確実に抑制することが可能となり好適であるからである。
【００５９】
また、上記実施形態では、主走査方向ＭＤに発光素子２９５１を４個並べて構成される発光素子列Ｒ２９５１を副走査方向ＳＤに２列並べて、発光素子グループ２９５を構成している（図９）。また、上記実施形態は、レンズ列ＲＭＬを副走査方向ＳＤに２列並べている。しかしながら、発光素子グループ２９５の構成態様やレンズ列ＲＭＬの配列態様は、これに限られるものではなく、例えば次のように構成しても良い。
【００６０】
図１２は、本発明にかかるラインヘッドの別の実施形態を示す図である。同図に示す実施形態では、主走査方向ＭＤに発光素子２９５１を６個並べて構成される発光素子列Ｒ２９５１を副走査方向ＳＤに２列並べて、発光素子グループ２９５を構成している。また、レンズ列ＲＭＬを副走査方向ＳＤに３列並べている。このようにラインヘッドを構成した場合であっても、上述した本発明の効果を奏する事が可能である。つまり、スポット間隔ｄｓがスポット間隔ｓｓよりも小さくなるように、第１主走査方向間隔Δｅ、第２主走査方向間隔Δｇおよび光学倍率の絶対値ｈを設定することで、最下流スポットＤＷＳと最上流スポットＵＰＳとが繋がらずに離間して形成されるという不良の発生を抑制することが可能となり、良好なスポット形成が実現される。
【００６１】
また、上記実施形態では、発光素子グループ２９５を、ガラス基板２９３の裏面に形成された複数の有機ＥＬにより構成している。しかしながら、発光素子グループ２９５の構成態様はこれに限られるものではなく、例えば、次に説明するように構成しても良い。
【００６２】
図１３は、本発明にかかるラインヘッドのさらに別の実施形態を示す図である。同図が示す実施形態は、発光素子グループ２９５を、ガラス基板２９３の表面（ガラス基板２９３が有する２面のうちマイクロレンズアレイ２９９側の面）に形成している。また、かかる発光素子グループ２９５は、例えば、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）により構成することができる。このように構成されたラインヘッド２９では、発光素子グループ２９５から射出された光ビームは、ガラス基板２９３を介することなく、直接マイクロレンズＭＬに入射する。そして、該マイクロレンズＭＬに入射した光ビームは、所定の光学倍率（マイクロレンズＭＬの光学倍率）で感光体ドラム表面に結像される。つまり、図１３に示す実施形態では、マイクロレンズＭＬが本発明にかかる「結像光学系」として機能している。よって、スポット間隔ｄｓがスポット間隔ｓｓよりも小さくなるように、該マイクロレンズＭＬの光学倍率の絶対値、第１主走査方向間隔Δｅおよび第２主走査方向間隔Δｇを設定することで、最下流スポットＤＷＳと最上流スポットＵＰＳとが繋がらずに離間して形成されるという不良の発生を抑制することが可能となり、良好なスポット形成が実現される。
【００６３】
また、上記実施形態では、カラー画像形成装置に本発明が適用されているが、本発明の適用対象はこれに限定されるものではなく、いわゆる単色画像を形成するモノクロ画像形成装置に対しても本発明を適用することができる。
【実施例】
【００６４】
次に本発明の実施例を示すが、本発明はもとより下記実施例によって制限を受けるものではなく、前後記の趣旨に適合しうる範囲で適当に変更を加えて実施することも勿論可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に含まれる。
【００６５】
＜実施例１＞
表１は、実施例１における、第１主走査方向間隔Δｅ、第２主走査方向間隔Δｇおよび光学倍率ｈを示す表である。また、実施例１における発光素子グループ２９５の構成は、図８で示した構成と同様である。つまり、発光素子グループ２９５を構成する発光素子２９５１の個数ｋは８である。表１が示すように、第１主走査方向間隔Δｅ、第２主走査方向間隔Δｇおよび光学倍率ｈを設定することで、スポット間隔ｄｓ（３５．４μｍ）がスポット間隔ｓｓ（４３．０μｍ）よりも小さくすることができる。
【００６６】
【表１】
2008074003.tif 000003
【００６７】
表２，３は、表１で示した光学倍率ｈを実現する結像光学系および発光素子に関するデータである。また、図１４は、実施例１における結像光学系を示す図である。表２が示すように、実施例１では、発光素子２９５１の発行画素直径は３０μｍであるとともに、該発光素子２９５１から射出される光ビームの波長は７６０ｎｍである。また、発光素子２９５１として有機ＥＬを用いるとともに、該有機ＥＬはガラス基板２９３の裏面に形成されている。よって、発光素子２９５１の発光面（面番号Ｓ1）とガラス基板２９３の裏面（面番号Ｓ2）とは、面間隔０で互いに対向している。そして、図１４および表３に示すように結像光学系を構成することで、光学倍率を−２．０４２に設定することができる。
【００６８】
【表２】
2008074003.tif 000004
【００６９】
【表３】
2008074003.tif 000005
【００７０】
このように、実施例１では、表１に示すように、第１主走査方向間隔Δｅ、第２主走査方向間隔Δｇおよび光学倍率の絶対値ｈを設定しているため、スポット間隔ｄｓ（３５．４μｍ）がスポット間隔ｓｓ（４３．３μｍ）よりも小さくすることができる。したがって、最下流スポットＤＷＳと最上流スポットＵＰＳとが繋がらずに離間して形成されるという不良の発生を抑制することができ、良好なスポットによる画像形成の実現が可能となる。
【００７１】
また、実施例１では、結像光学系の光学倍率を−２．０４２に設定している。つまり、光学倍率の絶対値ｈが１より大きい。このような結像光学系の構成は、スポット間隔ｄｓ（３５．４μｍ）がスポット間隔ｓｓ（４３．３μｍ）よりも小さいとうスポット関係を満たすのにあたって有利に作用する。よって、最下流スポットＤＷＳと最上流スポットＵＰＳとが繋がらずに離間して形成されるという不良の発生をより確実に抑制することが可能となり好適である。
【００７２】
＜実施例２＞
表４は、実施例２における、第１主走査方向間隔Δｅ、第２主走査方向間隔Δｇおよび光学倍率ｈを示す表である。また、実施例２における発光素子グループ２９５の構成は、図１２で示した構成と同様である。つまり、発光素子グループ２９５を構成する発光素子２９５１の個数ｋは１２である。表４が示すように、第１主走査方向間隔Δｅ、第２主走査方向間隔Δｇおよび光学倍率ｈを設定することで、スポット間隔ｄｓ（３４．５μｍ）がスポット間隔ｓｓ（４３．０μｍ）よりも小さくすることができる。
【００７３】
【表４】
2008074003.tif 000006
【００７４】
表５，６は、表４で示した光学倍率ｈを実現する結像光学系および発光素子に関するデータである。また、図１５は、実施例２における結像光学系を示す図である。表５が示すように、実施例２では、発光素子２９５１の発行画素直径は３０μｍであるとともに、該発光素子２９５１から射出される光ビームの波長は７６０ｎｍである。また、発光素子２９５１として有機ＥＬを用いるとともに、該有機ＥＬはガラス基板２９３の裏面に形成されている。よって、発光素子２９５１の発光面（面番号Ｓ1）とガラス基板２９３の裏面（面番号Ｓ2）とは、面間隔０で互いに対向している。そして、図１５および表６に示すように結像光学系を構成することで、光学倍率を−１．５２５に設定することができる。
【００７５】
【表５】
2008074003.tif 000007
【００７６】
【表６】
2008074003.tif 000008
【００７７】
このように、実施例２では、表４に示すように、第１主走査方向間隔Δｅ、第２主走査方向間隔Δｇおよび光学倍率の絶対値ｈを設定しているため、スポット間隔ｄｓ（３４．５μｍ）がスポット間隔ｓｓ（４３．０μｍ）よりも小さくすることができる。したがって、最下流スポットＤＷＳと最上流スポットＵＰＳとが繋がらずに離間して形成されるという不良の発生を抑制することができ、良好なスポットによる画像形成の実現が可能となる。
【００７８】
また、実施例２では、結像光学系の光学倍率を−１．５２５に設定している。つまり、光学倍率の絶対値ｈが１より大きい。このような結像光学系の構成は、スポット間隔ｄｓ（３４．５μｍ）がスポット間隔ｓｓ（４３．０μｍ）よりも小さいとうスポット関係を満たすのにあたって有利に作用する。よって、最下流スポットＤＷＳと最上流スポットＵＰＳとが繋がらずに離間して形成されるという不良の発生をより確実に抑制することが可能となり好適である。
【図面の簡単な説明】
【００７９】
【図１】本発明にかかる画像形成装置の一実施形態を示す図。
【図２】図１の画像形成装置における画像形成ステーションの配置を示す図。
【図３】図１の画像形成装置の電気的構成を示す図。
【図４】本発明にかかるラインヘッドの一実施形態の概略を示す斜視図。
【図５】本発明にかかるラインヘッドの一実施形態の副走査方向の断面図。
【図６】マイクロレンズアレイの概略を示す斜視図。
【図７】マイクロレンズアレイの主走査方向の断面図。
【図８】発光素子グループ及び結像光学系の配置を示す図。
【図９】本実施形態におけるラインヘッドの動作説明図。
【図１０】本実施形態におけるラインヘッドの動作説明図。
【図１１】ラインヘッドにより形成されるスポットのスポット間隔を示す図。
【図１２】本発明にかかるラインヘッドの別の実施形態を示す図。
【図１３】本発明にかかるラインヘッドのさらに別の実施形態を示す図。
【図１４】実施例１における結像光学系を示す図。
【図１５】実施例２における結像光学系を示す図。
【符号の説明】
【００８０】
２１…感光体ドラム（潜像担持体）、  ２９…ラインヘッド（露光手段）、  ２９５…発光素子グループ、  ２９５ＵＰ…上流側発光素子グループ、  ２９５ＤＷ…下流側発光素子グループ、  ２９５１…発光素子、  ２９３…ガラス基板（結像光学系）、  ２９７…遮光部材、  ２９７１…導光孔、  ２９９…マイクロレンズアレイ、  ２９９１…ガラス基板、  ２９９３Ａ，２９９３Ｂ…レンズ、  ＭＬ…マイクロレンズ（結像光学系）、  ＯＡ…光軸、  ＲＭＬ…レンズ列、  ＭＤ…主走査方向、  ＳＤ…副走査方向、  ｋ…発光素子の個数、  ｈ…結像光学系の光学倍率の絶対値、  Δｅ…第１主走査方向間隔、  Δｇ…第２主走査方向間隔、  ＵＰＲＳ…上流側スポット列（スポット列）、  ＤＷＲＳ…下流側スポット列（スポット列）、  ＵＰＳ…最上流スポット、  ＤＷＳ…最下流スポット、  ｓｓ…スポット間隔、  ｄｓ…スポット間隔
【図１】
2008074003.tif 000009
【図２】
2008074003.tif 000010
【図３】
2008074003.tif 000011
【図４】
2008074003.tif 000012
【図５】
2008074003.tif 000013
【図６】
2008074003.tif 000014
【図７】
2008074003.tif 000015
【図８】
2008074003.tif 000016
【図９】
2008074003.tif 000017
【図１０】
2008074003.tif 000018
【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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