(57)【要約】【課題】本発明は、四軸スクリュを同方向回転させ、上流側四軸スクリュ領域のフラッシュ脱揮と表面更新脱揮と下流での二軸スクリュ領域における表面脱揮と注水脱揮を選択的利用または併用可能とし、揮発分を低濃度まで低減することを目的とする。【解決手段】本発明による四軸スクリュ押出機は、Ｖ字型で噛み合って同方向回転する四軸スクリュ(3as,3bs,4as,4bs)により、全域を四軸スクリュ領域(E)又は四軸スクリュ領域(E)と二軸スクリュ領域(F)を形成し、フラッシュ脱揮、表面更新脱揮と注水脱揮を適用することによりポリマー溶液原料から高濃度の溶媒や未反応なモノマー等の揮発分を低濃度まで低減する構成である。【選択図】図１
2008279693.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バレル(5)の内孔(5a)内に四本の第１、第２、第３、第４スクリュ(3as,3bs,4as,4bs)を装着し、前記内孔(5a)は横断面形状でＶ字型をなし、四本の前記各スクリュ(3as,3bs,4as,4bs)が前記内孔(5a)内でＶ字型で噛み合って同方向回転するように構成されていることを特徴とする四軸スクリュ押出機。
【請求項２】
前記各スクリュ(3as,3bs,4as,4bs)のうち、前記横断面形状でみて上方に位置する二本の第３、第４スクリュ(4as,4bs)の長さを下方に位置する他の二本の前記第１、第２スクリュ(3as,3bs)よりも短く設けることにより、前記バレル(5)内の上流側の四軸スクリュ領域(E)と下流側の二軸スクリュ領域(F)を形成することを特徴とする請求項１記載の四軸スクリュ押出機。
【請求項３】
前記四軸スクリュ領域(E)の上流側にリヤベント(6)とポリマー溶液原料供給部(9)からなるフラッシュ脱揮ゾーン(B)を前記リヤベント(6)の下流側に前記ポリマー溶液原料供給部(9)が配設される状態で形成し、スクリュ全長が四軸スクリュである四軸スクリュ領域(E)または前記四軸スクリュ領域(E)の下流側にある前記二軸スクリュ領域(F)の最下流側にポリマー融体が充満する押出ゾーン(D)を形成し、前記ポリマー溶液原料供給部(9)に供給したポリマー溶液原料をフラッシュ脱揮する際に生じる揮発分を前記リヤベント(6)より排出することを特徴とする請求項２記載の四軸スクリュ押出機。
【請求項４】
前記四軸スクリュ領域(E)の上流側にベント部(10c)を設け、前記ベント部(10c)の上部に、揮発分排出用ポット(10b)と加熱用ジャケット(10a)を備え、先端にフラッシュ用ノズル(11a)またはスリット部(11b)を有するポリマー溶液原料供給パイプ(11)が下向きに設けられるフラッシュタンク(10)を設置してフラッシュ脱揮ゾーン(B)を形成し、スクリュ全長が四軸スクリュである領域(E)または四軸スクリュ領域(E)の下流側にある二軸スクリュ領域(F)の最下流側に押出ゾーン(D)を形成し、前記フラッシュ用ノズル(11a)またはスリット部(11b)によりポリマー溶液原料をフラッシュ脱揮する際生じる揮発分を前記揮発分排出用ポット(10b)より排出することを特徴とする請求項２記載の四軸スクリュ押出機。
【請求項５】
前記四軸スクリュ領域(E)の上流側にリヤベント(6)とフラッシュタンク(10)からなるフラッシュ脱揮ゾーン(B)を前記リヤベント(6)の下流側に前記フラッシュタンク(10)が配設される状態で形成し、スクリュ全長が四軸スクリュである領域(E)または前記四軸スクリュ領域(E)の下流側にある前記二軸スクリュ領域(F)の最下流側に押出ゾーン(D)を形成し、ポリマー溶液原料を前記フラッシュタンク(10)内のポリマー溶液原料供給パイプ(11)のフラッシュ用ノズル(11a)またはスリット部(11b)よりその下方のベント部(10c)内にフラッシュ脱揮する際生じる揮発分を前記フラッシュタンク(10)に設けられた揮発部排出用ポット(10b)と前記リヤベント(6)から排気することを特徴とする請求項２記載の四軸スクリュ押出機。
【請求項６】
前記四軸スクリュ領域(E)において前記ポリマー溶液原料供給部(9)あるいはフラッシュタンク(10)装着ベント部(10c)を備える前記フラッシュ脱揮ゾーン(B)の下流側に単数または複数の第１ベント(7)を設けた表面更新脱揮ゾーン(C)を形成し、前記ポリマー溶液原料供給部(9)あるいはフラッシュタンク(10)装着の前記ベント部(10c)と下流側最隣接の表面更新脱揮ゾーン(C)における前記第１ベント(7)の間または２つの前記第１ベント(7)の間をシールリング(3ar,3br,4ar,4br)またはニーディングディスク(3ak,3bk,4ak,4bk)とシールリング(3ar,3br,4ar,4br)の併用によりシールし、前記ポリマー溶液原料の脱揮が前記フラッシュ脱揮ゾーン(B)の前記リヤベント(6)、または前記フラッシュタンク(10)を備える前記ベント部(10c)と前記表面更新脱揮ゾーン(C)の前記第１ベント(7)において異なる圧力下で行われることを特徴とする請求項３から５の何れかに記載の四軸スクリュ押出機。
【請求項７】
フラッシュ脱揮ゾーン(B)だけを備える前記四軸スクリュ領域(E)の下流側にある前記二軸スクリュ領域(F)において単数または複数の第２ベント(8)を備える表面更新脱揮ゾーン(C)を設け、前記ポリマー溶液原料供給部(9)またはフラッシュタンク(10)を装着したベント部(10c)と下流側最隣接の二軸スクリュ領域(F)にある表面更新脱揮ゾーン(C)の第２ベント部(8)間及び前記二軸スクリュ領域(F)における２つの第２ベント(8)の間をシールリング(3ar,3br)またはニーディングディスクまたは混錬性エレメント(3ak,3bk)とシールリング(3ar,3br)の併用によりシールして前記四軸スクリュ領域(E)の前記フラッシュ脱揮ゾーン(B)と前記二軸スクリュ領域(F)の表面更新脱揮ゾーン(C)の各第２ベント(8)におけるポリマー溶液原料の脱揮がそれぞれ違う圧力下で行われることを特徴とする請求項３から５の何れかに記載の四軸スクリュ押出機。
【請求項８】
前記フラッシュ脱揮ゾーン(B)と表面更新脱揮ゾーン(C)を有する四軸スクリュ領域(E)の下流側に二軸スクリュ領域(F)を設け、前記二軸スクリュ領域(F)において単数または複数の第２ベント(8)を備える表面更新脱揮ゾーン(C)を設け、前記四軸スクリュ領域(E)の最下流側の第１ベント(7)とその下流側最隣接の二軸スクリュ領域(F)にある表面更新脱揮ゾーン(C)の第２ベント(8)間及び前記二軸スクリュ領域(F)の表面更新脱揮ゾーン(C)における２つの第２ベント(8)の間をシールリング(3ar,3br)またはニーディングディスクまたは混錬性エレメント(3ak,3bk)とシールリング(3ar,3br)の併用によりシールし、フラッシュ脱揮と表面更新脱揮を併用することを特徴とする請求項６記載の四軸スクリュ押出機。
【請求項９】
前記フラッシュ脱揮ゾーン(B)と単数または複数の第１ベント(7)を備える表面更新脱揮ゾーン(C)とを有する四軸スクリュ領域(E)の下流側に二軸スクリュ領域(F)を設け、前記二軸スクリュ領域(F)において単数または複数の注水脱揮ベント部(1)を備える注水脱揮ゾーンを設け、前記四軸スクリュ領域(E)の表面更新脱揮ゾーン(C)最下流側の第１ベント(7)とその下流側最隣接二軸スクリュ領域(F)の注水脱揮ゾーン(G)の注水脱揮ベント部(1)の間及び前記二軸スクリュ領域(F)にある注水脱揮ゾーンの注水脱揮ベント部(1)の間をニーディングディスクまたは混錬性エレメント(3ak,3bk)とシールリング(3ar,3br)の併用によりシールし、前記注水脱揮ゾーン(G)に設けられる前記ニーディングディスクまたは混錬性エレメント(3ak,3bk)が注水されるポリマー融体中への水の混合分散機能を備え、フラッシュ脱揮、表面更新脱揮と注水脱揮を併用することを特徴とする請求項６記載の四軸スクリュ押出機。
【請求項１０】
前記二軸スクリュ領域(F)にある表面更新脱揮ゾーン(C)の下流側において単数または複数の注水脱揮ベント部(1)を備える注水脱揮ゾーン(G)を設け、前記二軸スクリュ領域(F)の注水脱揮ゾーン(G)における２つの隣接する前記注水脱揮ベント部(1)の間をニーディングディスクまたは混錬性エレメント(3ak,3bk)とシールリング(3ar,3br)の併用によりシールし、前記注水脱揮ゾーン(G)に設けられる前記ニーディングディスクまたは混錬性エレメント(3ak,3bk)が注水されるポリマー融体中への水の混合分散機能を備え、フラッシュ脱揮、表面更新脱揮と注水脱揮を併用することを特徴とする請求項７記載の四軸スクリュ押出機。
【請求項１１】
前記二軸スクリュ領域(F)にある表面更新脱揮ゾーン(C)の下流側に少なくとも１つの注水脱揮ベント部(1)を設け、前記二軸スクリュ領域(F)における表面更新脱揮ゾーン(C)の２つの第２ベント(8)間を、シールリング(3ar,3br)またはニーディングディスク(3ak,3bk)とシールリング(3ar,3br)の併用によりシールし、前記二軸スクリュ領域(F)における表面更新脱揮ゾーン(C)の第２ベント(8)と注水脱揮ベント部(1)の間及び注水脱揮ゾーン(G)の２つの隣接の注水脱揮ベント部(1)間をニーディングディスクまたは混錬性エレメント(3ak,3bk)とシールリング(3ar,3br)の併用によりシールし、前記注水脱揮ゾーン(G)に設けられる前記ニーディングディスクまたは前記混錬性エレメント(3ak,3bk)が注水されるポリマー融体中への水の混合分散機能を備え、フラッシュ脱揮、表面更新脱揮と注水脱揮を併用することを特徴とする請求項８記載の四軸スクリュ押出機。
【請求項１２】
前記二軸スクリュ領域(F)において添加剤を添加するための添加部(12)を設けることを特徴とする前記請求項７から１１の何れかに記載の四軸スクリュ押出機。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポリマー溶液原料から高濃度の溶媒や未反応なモノマー等の揮発分を除去する脱揮工程に適用する新規な多段ベント噛み合い型で四軸スクリュが全て同方向回転する四軸スクリュ押出機に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、回転方向の異なる２対の噛み合い型同方向回転二軸スクリュを非噛み合いで構成する脱揮用異方向回転四軸スクリュ押出機は実機として存在するが、その構成を示す特許文献等は開示されていない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
従来の脱揮用異方向回転四軸スクリュ押出機は、以上のように構成されているため、次のような課題が存在していた。
すなわち、
(1)、ポリマー溶液原料のフラッシュ脱揮と表面更新脱揮に適用できるが、注水脱揮には適用できないため、ポリマー原料中の揮発分をより低温度まで低減できない。
(2)、Ｖ字形配列の四軸スクリュの底部にある二軸スクリュが噛み合わないため、そこでの表面更新脱揮効果が劣っている。
(3)、ポリマー原料中への劣化防止剤などの添加剤の添加混合ができない。
(4)、フラッシュ脱揮後のポリマー原料の容積がかなり減っている場合には、引き続き四軸スクリュで脱揮するのは装置コストの面で不経済的である。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明による四軸スクリュ押出機は、バレルの内孔内に四本の第１、第２、第３、第４スクリュを装着し、前記内孔は横断面形状でＶ字型をなし、四本の前記各スクリュが前記内孔内でＶ字型で噛み合って同方向回転するようにした構成であり、また、前記各スクリュのうち、前記横断面形状でみて上方に位置する二本の第３、第４スクリュの長さを下方に位置する他の二本の前記第１、第２スクリュよりも短く設けることにより、前記バレル内の上流側の四軸スクリュ領域と下流側の二軸スクリュ領域を形成する構成であり、また、前記四軸スクリュ領域の上流側にリヤベントとポリマー溶液原料供給部からなるフラッシュ脱揮ゾーンを前記リヤベントの下流側に前記ポリマー溶液原料供給部が配設される状態で形成し、スクリュ全長が四軸スクリュである四軸スクリュ領域または前記四軸スクリュ領域の下流側にある前記二軸スクリュ領域の最下流側にポリマー融体が充満する押出ゾーンを形成し、前記ポリマー溶液原料供給部に供給したポリマー溶液原料をフラッシュ脱揮する際に生じる揮発分を前記リヤベントより排出する構成であり、また、前記四軸スクリュ領域の上流側にベント部を設け、前記ベント部の上部に、揮発分排出用ポットと加熱用ジャケットを備え、先端にフラッシュ用ノズルまたはスリット部を有するポリマー溶液原料供給パイプが下向きに設けられるフラッシュタンクを設置してフラッシュ脱揮ゾーンを形成し、スクリュ全長が四軸スクリュである領域または四軸スクリュ領域の下流側にある二軸スクリュ領域の最下流側に押出ゾーンを形成し、前記フラッシュ用ノズルまたはスリット部によりポリマー溶液原料をフラッシュ脱揮する際生じる揮発分を前記揮発分排出用ポットより排出する構成であり、また、前記四軸スクリュ領域の上流側にリヤベントとフラッシュタンクからなるフラッシュ脱揮ゾーンを前記リヤベントの下流側に前記フラッシュタンクが配設される状態で形成し、スクリュ全長が四軸スクリュである領域または前記四軸スクリュ領域の下流側にある前記二軸スクリュ領域の最下流側に押出ゾーンを形成し、ポリマー溶液原料を前記フラッシュタンク内のポリマー溶液原料供給パイプのフラッシュ用ノズルまたはスリット部よりその下方のベント部内にフラッシュ脱揮する際生じる揮発分を前記フラッシュタンクに設けられた揮発部排出用ポットと前記リヤベントから排気する構成であり、また、前記四軸スクリュ領域において前記ポリマー溶液原料供給部あるいはフラッシュタンク装着ベント部を備える前記フラッシュ脱揮ゾーンの下流側に単数または複数の第１ベントを設けた表面更新脱揮ゾーンを形成し、前記ポリマー溶液原料供給部あるいはフラッシュタンク装着の前記ベント部と下流側最隣接の表面更新脱揮ゾーンにおける前記第１ベントの間または２つの前記第１ベントの間をシールリングまたはニーディングディスクとシールリングの併用によりシールし、前記ポリマー溶液原料の脱揮が前記フラッシュ脱揮ゾーンの前記リヤベントと前記表面更新脱揮ゾーンの前記第１ベントにおいて異なる圧力下で行われる構成であり、また、フラッシュ脱揮ゾーンだけを備える前記四軸スクリュ領域の下流側にある前記二軸スクリュ領域において単数または複数の第２ベントを備える表面更新脱揮ゾーンを設け、前記ポリマー溶液原料供給部またはフラッシュタンクを装着したベント部と下流側最隣接の二軸スクリュ領域にある表面更新脱揮ゾーンの第２ベント部間及び前記二軸スクリュ領域における２つの第２ベントの間をシールリングまたはニーディングディスクまたは混錬性エレメントとシールリングの併用によりシールして前記四軸スクリュ領域の前記フラッシュ脱揮ゾーンと前記二軸スクリュ領域の表面更新脱揮ゾーンの各第２ベントにおけるポリマー溶液原料の脱揮がそれぞれ違う圧力下で行われる構成であり、また、前記フラッシュ脱揮ゾーンと表面更新脱揮ゾーンを有する四軸スクリュ領域の下流側に二軸スクリュ領域を設け、前記二軸スクリュ領域において単数または複数の第２ベントを備える表面更新脱揮ゾーンを設け、前記四軸スクリュ領域の最下流側の第１ベントとその下流側最隣接の二軸スクリュ領域にある表面更新脱揮ゾーンの第２ベント間及び前記二軸スクリュ領域の表面更新脱揮ゾーンにおける２つの第２ベントの間をシールリングまたはニーディングディスクまたは混錬性エレメントとシールリングの併用によりシールし、フラッシュ脱揮と表面更新脱揮を併用する構成であり、また、前記フラッシュ脱揮ゾーンと単数または複数の第１ベントを備える表面更新脱揮ゾーンとを有する四軸スクリュ領域の下流側に二軸スクリュ領域を設け、前記二軸スクリュ領域において単数または複数の注水脱揮ベント部を備える注水脱揮ゾーンを設け、前記四軸スクリュ領域の表面更新脱揮ゾーン最下流側の第１ベントとその下流側最隣接二軸スクリュ領域の注水脱揮ゾーンの注水脱揮ベント部の間及び前記二軸スクリュ領域にある注水脱揮ゾーンの注水脱揮ベント部の間をニーディングディスクまたは混錬性エレメントとシールリングの併用によりシールし、前記注水脱揮ゾーンに設けられる前記ニーディングディスクまたは混錬性エレメントが注水されるポリマー融体中への水の混合分散機能を備え、フラッシュ脱揮、表面更新脱揮と注水脱揮を併用する構成であり、また、前記二軸スクリュ領域にある表面更新脱揮ゾーンの下流側において単数または複数の注水脱揮ベント部を備える注水脱揮ゾーンを設け、前記二軸スクリュ領域の注水脱揮ゾーンにおける２つの隣接する前記注水脱揮ベント部の間をニーディングディスクまたは混錬性エレメントとシールリングの併用によりシールし、前記注水脱揮ゾーンに設けられる前記ニーディングディスクまたは混錬性エレメントが注水されるポリマー融体中への水の混合分散機能を備え、フラッシュ脱揮、表面更新脱揮と注水脱揮を併用する構成であり、また、前記二軸スクリュ領域にある表面更新脱揮ゾーンの下流側に少なくとも１つの注水脱揮ベント部を設け、前記二軸スクリュ領域における表面更新脱揮ゾーンの２つの第２ベント間を、シールリングまたはニーディングディスクとシールリングの併用によりシールし、前記二軸スクリュ領域における表面更新脱揮ゾーンの第２ベントと注水脱揮ベント部の間及び注水脱揮ゾーンの２つの隣接の注水脱揮ベント部間をニーディングディスクまたは混錬性エレメントとシールリングの併用によりシールし、前記注水脱揮ゾーンに設けられる前記ニーディングディスクまたは前記混錬性エレメント注水されるポリマー融体中への水の混合分散機能を備え、フラッシュ脱揮、表面更新脱揮と注水脱揮を併用する構成であり、また、前記二軸スクリュ領域において添加剤を添加するための添加部を設ける構成である。
【発明の効果】
【０００５】
本発明による脱揮用多段ベント噛み合いで同方向回転型の四軸スクリュ押出機は、以上のように構成されているため、以下のような効果を得ることができる。
(1)、四軸スクリュの同方向回転のみによっても、従来よりも高効率のポリマー溶液原料のフラッシュ脱揮と表面更新脱揮が可能なだけでなく、押出機の下流領域に噛み合い型二軸スクリュ領域を設けることが可能なため、そこでの注水脱揮にも適用でき、つまり、噛み合い型混錬性エレメントにより、溶融ポリマー中へ注入される水の分散がよく、その結果、ポリマー原料中の揮発分をより低濃度まで低減できる。
(2)、Ｖ字形配列の四軸スクリュの底部にある二軸スクリュが噛み合うため、脱揮の際にはそこで新しいポリマー融体膜は形成されており、表面更新脱揮効果の向上が図れる。
(3)、ポリマー原料中への劣化防止剤などの添加剤の添加が必要な場合には、押出機の下流領域にある噛み合い型二軸スクリュ領域で添加剤の添加混合ができる。
(4)、フラッシュ脱揮後のポリマー原料の容積がかなり減っているケースには、押出機の下流領域における二軸スクリュ領域で引き続き効果的に脱揮可能なため、装置コストの面では省材料となり、経済的である。
従って、本発明は、ポリマー溶液原料の処理量、ポリマー中の初期揮発分含有量と要求される最終揮発分含有量により、以下の脱揮工程または押出機仕様を選択することができる。
Ａ、四軸スクリュ領域のフラッシュ脱揮と表面更新脱揮。
Ｂ、四軸スクリュ領域のフラッシュ脱揮と二軸スクリュ領域の表面更新脱揮。
Ｃ、四軸スクリュ領域のフラッシュ脱揮、表面更新脱揮と二軸スクリュ領域の表面更新脱揮。
Ｄ、四軸スクリュ領域のフラッシュ脱揮、表面更新脱揮と二軸スクリュ領域の注水脱揮。
Ｅ、四軸スクリュ領域のフラッシュ脱揮、表面更新脱揮と二軸スクリュ領域の表面更新脱揮、注水脱揮。
Ｆ、前記脱揮工程または押出機仕様Ｂ〜Ｅの二軸スクリュ領域におけるポリマー中への添加剤の添加混合。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
本発明は、ポリマー溶液原料から高濃度の溶媒や未反応なモノマー等の揮発分を除去する脱揮工程に適用する新規な多段ベント噛み合い型で四軸スクリュが全て同方向回転する四軸スクリュ押出機を提供することを目的とする。
【実施例】
【０００７】
以下、図面と共に本発明による四軸スクリュ押出機の好適な実施の形態について説明する。
図１から図３は押出機のスクリュ全領域に噛み合い型同方向回転四軸スクリュにより構成した形態である。また、第１バレル５内の四軸スクリュを構成する第１、第２、第３、第４スクリュ３ａｓ，３ｂｓ，４ａｓ，４ｂｓのＡ−Ａ断面を図４に示し、図４の横断面形状の内孔5ａに示したように同方向回転の四軸の第１から第４スクリュ３ａｓ，３ｂｓ，４ａｓ，４ｂｓはＶ字型の形状に沿って互いに噛み合うように配設されている。
【０００８】
図１の形態では、押出機２０の第１バレル５の上流側にはポリマー溶液供給部９が設けられ、前記ポリマー溶液供給部９の上流側にリヤベント６が設けられ、前記リヤベント６及びポリマー溶液供給部9が設けられている領域はフラッシュ脱揮ゾーンＢが形成されている。前記フラッシュ脱揮ゾーンＢの下流側に単数または複数のベント７を備える表面更新脱揮ゾーンＣを設けており、その下流側にポリマー融体に充満される押出ゾーンＤを形成していることによって四軸スクリュ領域Ｅを構成している。
【０００９】
また、前記四軸スクリュ領域Ｅは図５、図６に示すように、前記ポリマー溶液供給部９と下流側最隣接のベント７の間または前記表面更新脱揮ゾーンＣにおける２つの第１ベント７の間はシールリング３ａｒ，３ｂｒ，４ａｒ，４ｂｒまたはニーディングディスク（順、逆とニュートラルニーディングディスクの単独使用または併用も可）またはその他の混錬性エレメント３ａｋ，３ｂｋ，４ａｋ，４ｂｋとシールリング３ａｒ，３ｂｒ，４ａｒ，４ｂｒの併用によりシールできる。ただし、図５、図６のスクリュ構成を示していない領域にはフルフライトスクリュを適用としている（以下、同様）。
【００１０】
従って、前記ポリマー溶液供給部９とリヤベント６を備えるフラッシュ脱揮ゾーンＢと下流側の第１ベント７を備える表面更新脱揮ゾーンＣではポリマー溶液原料のフラッシュ脱揮と表面更新脱揮を異なる圧力下で行うことができる。またフラッシュ脱揮により生じる揮発分はリヤベント６から排出され、表面更新脱揮により生じる揮発分は第１ベント７から排出される。すなわち、四軸スクリュの同方向回転のみによっても、噛み合い領域の表面更新脱揮効果の向上が得られる。
【００１１】
尚、前述のフラッシュ脱揮とは、揮発分含有量の高いポリマー溶液原料を断熱に近い条件下で急に減圧させ、ポリマー溶液中の揮発分がポリマー溶液原料から熱を奪って蒸発してポリマーから分離されることである。また、前記表面更新脱揮とは、ポリマー中の揮発分が少ない場合、ポリマーの粘度が高く、その中の揮発分の移動が極めて遅くて、その場合、脱揮は気相に曝されるポリマー表面層（薄い膜）だけで進行することで噛み合い型同方向回転二軸または四軸押出機の場合には、ポリマー融体膜がばれる壁、スクリュ表面とニップ部流れの表面に分布しているとみて、スクリュの回転によって前記ポリマー融体膜表面は常に更新されている。
【００１２】
図７は前記四軸スクリュ領域Ｅにおける各シールリング３ａｒ，３ｂｒ，４ａｒ，４ｂｒ配合の様子を示す。図示のように各シールリング３ａｒ，３ｂｒ，４ａｒ，４ｂｒは良好なシール性を持っている。また図６に示したようにニーディングディスクまたはその他の混錬性エレメント３ａｋ，３ｂｋ，４ａｋ，４ｂｋを使う場合には、ニーディングディスクまたはその他の混錬性エレメント３ａｋ，３ｂｋ，４ａｋ，４ｂｋは発泡状態のポリマー融体に対する混錬、気泡を崩壊させ、混錬時の剪断熱によりポリマー融体温度を上げ、脱揮促進の機能を持っている。
【００１３】
図２の形態では、四軸スクリュ領域Ｅの上流側にベント部１０ｃを設け、前記ベント部１０ｃの上部に揮発分排出用ポット１０ｂと加熱用ジャケット１０ａを備え、先端にフラッシュ用ノズル１１ａ（その代わりにスリット部１１ｂも適用可）を有するポリマー溶液原料供給パイプ１１が設けられるフラッシュタンク１０を設置し、前記フラッシュタンク１０の下流側には、図１の形態と同様に単数または複数の表面更新脱揮用の第１ベント７が設けられ、図２の形態には図５、図６に示したスクリュ構成をも適用できる。すなわち、前記ベント部１０ｃと下流側最隣接の第１ベント７の間または２つの前記表面更新脱揮用の第１ベント７の間はシールリング３ａｒ，３ｂｒ，４ａｒ，４ｂｒまたはニーディングディスクまたはその他の混錬性エレメント３ａｋ，３ｂｋ，４ａｋ，４ｂｋとシールリング３ａｒ，３ｂｒ，４ａｒ，４ｂｒの併用によりシールされている。
【００１４】
前記ポリマー溶液原料はポリマー溶液原料供給パイプ１１により第１バレル５内に供給し、そのノズル部１１ａより下方のベント部１０ｃ内にフラッシュさせ、その際生じる揮発分は前記フラッシュタンク１０の上部に設けられる揮発分排出用ポット１０ｂより排出する。またフラッシュタンク１０下部の加熱用ジャケット１０ａ内に高温水蒸気またはその他の高温熱媒体を導入してフラッシュタンク１０内のこの領域にあるフラッシュ後のポリマー融体が溜まらないように加熱して流動性を持たせることができる。
【００１５】
図３の形態は図２の形態に比べ、フラッシュタンク１０の上流側にリヤベント６を設ける点とポリマー溶液原料をスリット部１１ｂ（ノズルも適用）によりフラッシュさせる点で異なるが、フラッシュタンク１０内においてフラッシュ脱揮の際に生じる揮発分はフラッシュタンク１０上部の揮発分排出用ポット１０ｂとリヤベント６より排出される。
【００１６】
図８の形態は、図３に示した形態のスクリュ構成の下流側端部にＶ字形構成の四軸スクリュ底部の二軸スクリュ３ａｓ，３ｂｓを他のスクリュ４ａｓ，４ｂｓよりも長くすることにより二軸スクリュ領域Ｆの押出領域を形成し、上流側の四軸スクリュ領域Ｅ内のポリマー融体が前記二軸スクリュ領域Ｆに流れ込む際、昇圧で押出される。また、前記二軸スクリュ領域Ｆには添加剤、例えば劣化防止剤を添加する添加部１２を設けることができる。
【００１７】
図９は図８の形態に適用するスクリュ構成であり、このスクリュ構成は、図１、図２に示した形態に関して図５、図６のスクリュ構成に前記二軸スクリュの押出ゾーンを設ける場合である。図９に示した様に需要に応じて添加剤の添加部１２のスクリュ構成にニーディングディスクまたはその他の混錬分散性スクリュエレメント３ａｋ，３ｂｋを設けることができる。前述の噛み合い二軸スクリュ領域の注水脱揮への適用（すなわち、スクリュの噛み合いにより初めて注水脱揮が可能）ができる。
【００１８】
図１０は四軸スクリュ領域Ｅにポリマー溶液原料供給部９とリヤベント６を設け、その下流側の二軸スクリュ領域Ｆには単数または複数の表面更新脱揮用の第２ベント８を設ける形態である。図１１、図１２にはその形態に適用するスクリュ構成を示す。図示のように四軸スクリュのフラッシュ脱揮ゾーンＢと下流側最隣接二軸スクリュ領域Ｆの第２ベント８の間は二軸スクリュ領域Ｆにおいてシールリング３ａｒ，３ｂｒまたはニーディングディスク（またはその他混錬性エレメント）３ａｋ，３ｂｋとシールリング３ａｒ，３ｂｒを設けることによりシールされる。同様に、二軸スクリュ領域Ｆの第２ベント８の間はシールリング３ａｒ，３ｂｒまたはニーディングディスク３ａｋ，３ｂｋとシールリング３ａｒ，３ｂｒを設けることによりシールされる。従って、四軸スクリュ領域Ｅにおいてはフラッシュ脱揮が行われ、二軸スクリュ領域Ｆにおいては表面更新脱揮が行われる。
【００１９】
また、図１１、図１２に示したスクリュ構成は、図１０の形態の四軸スクリュ領域Ｅにおいてポリマー溶液原料供給部９とリヤベント６の代わりにフラッシュタンク１０またはフラッシュタンク１０とリヤベント６を設ける場合にも適用できる。
【００２０】
図１３は四軸スクリュ領域Ｅにおいてフラッシュ脱揮ゾーンＢ、例えばポリマー溶液原料供給部９、リヤベント６と単数または複数の表面更新脱揮用の第１ベント７を、二軸スクリュ領域Ｆにおいて単数または複数の表面更新脱揮用の第２ベント８を設ける形態である。また、図１４、図１５にはその形態に適用するスクリュ構成を示す。またこれらのスクリュ構成は四軸スクリュ領域Ｅのフラッシュ脱揮ゾーンＢにおいて前記ポリマーの溶液原料供給部９とリヤベント６の代わりに、フラッシュタンク１０またはフラッシュタンク１０とリヤベント６を設ける形態にも適用できる。
従って、前記ポリマー溶液原料供給部９に供給したポリマー溶液原料をフラッシュさせた後、その下流側の四軸スクリュ領域Ｅの第１ベント７において表面更新脱揮が行われ、次に脱揮減容後のポリマー融体は二軸スクリュ領域Ｆの第２ベント８において引き続き表面更新脱揮が行われる。
【００２１】
図１６は四軸スクリュ領域Ｅにおいてフラッシュタンク１０とリヤベント６より構成されるフラッシュ脱揮ゾーンＢと単数または複数の表面更新脱揮用の第１ベント７を設け、その下流側の二軸スクリュ領域Ｆにおいて単数または複数の注水脱揮ゾーンＧを設ける形態である。また図１７にはこの形態に適用するスクリュ構成を示す。四軸スクリュ領域Ｅのフラッシュ脱揮ゾーンＢと表面更新脱揮ゾーンＣのスクリュ構成は上述の形態におけるそのものとは変わらないが、注水脱揮ゾーンＧのスクリュはニーディングディスク（順、逆とニュートラルニーディングの単独使用または併用）またはその他の混錬性エレメント３ａｋ，３ｂｋとシールリング３ａｒ，３ｂｒの併用により構成される。注水脱揮ゾーンＧに注入される水はポリマー融体中に分散され、発泡脱揮が行われ、ポリマー融体中の揮発分をかなり低濃度まで低減することが図れる。また、図１７のスクリュ構成は四軸スクリュ領域Ｅのフラッシュ脱揮ゾーンＢにおいてフラッシュタンク１０だけまたはポリマー溶液原料供給部９とリヤベント６を設ける場合にも適用できる。
図１８は四軸スクリュ領域Ｅにおいてフラッシュ脱揮ゾーンＢだけを設け、その下流側の二軸スクリュ領域Ｆにおいて単数または複数の表面更新脱揮用の第２ベント８と単数または複数の注水脱揮ゾーンＧを設ける形態である。
図１９は図１８の四軸スクリュ押出機のスクリュ構成を示す。前記四軸スクリュ領域Ｅに供給するポリマー溶液原料はそこでフラッシュして大部分の揮発分を除去した後、下流側の二軸スクリュ領域Ｆの表面更新脱揮ゾーンＣに送られ、そこでポリマー中の揮発分がさらに低減されてから下流側の注水脱揮ゾーンＧに送られ、そこでポリマー中の揮発分は低濃度まで除去される。
【００２２】
図２０には四軸スクリュ領域Ｅにおいてフラッシュ脱揮ゾーンＢと単数または複数の表面更新脱揮用の第１ベント７を設け、その下流側の二軸スクリュ領域Ｆにおいて単数または複数の表面更新脱揮用の第２ベント８と単数または複数の注水脱揮用の注水脱揮ベント部１を設ける形態を示す。図２１には図２０の四軸スクリュ押出機用スクリュ構成を示す。ここで四軸スクリュ領域Ｅの上流側において供給されるポリマー溶液原料はそこでフラッシュ脱揮が行われた後、その下流側の四軸スクリュ領域Ｅの表面更新脱揮ゾーンＣに送られ、表面更新脱揮が行われて減容された後、二軸スクリュ領域Ｆの表面更新脱揮ゾーンＣに送られ、そこで引き続き表面更新脱揮が行われる。次にポリマー融体は二軸スクリュ領域Ｆの下流側にある注水脱揮ベント部１に送られ、そこで所要低濃度まで脱揮される。尚、前記表面更新脱揮ゾーンＣは図２０および図２１の形態では、四軸及び二軸スクリュ領域Ｅ，Ｆの両方にわたっている。
【００２３】
また、図２０に示した形態の四軸スクリュ領域において前述の図２、図３で示したフラッシュタンク１０またはフラッシュタンク１０とリヤベント６によるフラッシュ脱揮も適用できる。
また、図２０に示したように必要に応じて二軸スクリュ領域Ｆの最下流側に添加剤を添加するための添加部１２を設けることができる。
【００２４】
次に、前述の各実施の形態（図１から図２１で示す）における構成及びその作用をまとめると、次の通りである。すなわち、
バレル５の内孔５ａ内に四本の第１、第２、第３、第４スクリュ３ａｓ，３ｂｓ，４ａｓ，４ｂｓを装着し、前記内孔５ａは横断面形状でＶ字型をなし、四本の前記各スクリュ３ａｓ，３ｂｓ，４ａｓ，４ｂｓが前記内孔５ａ内でＶ字型で噛み合って同方向回転するように構成されている。また、前記各スクリュ３ａｓ，３ｂｓ，４ａｓ，４ｂｓのうち、前記横断面形状でみて上方に位置する二本の第３、第４スクリュ４ａｓ，４ｂｓの長さを下方に位置する他の二本の前記第１、第２スクリュ３ａｓ，３ｂｓよりも短く設けることにより、前記バレル５内の上流側の四軸スクリュ領域Ｅと下流側の二軸スクリュ領域Ｆを形成することにより、前記四軸スクリュ領域Ｅの上流側にリヤベント６とポリマー溶液原料供給部９からなるフラッシュ脱揮ゾーンＧを前記リヤベント６の下流側に前記ポリマー溶液原料供給部９が配設される状態で形成し、スクリュ全長が四軸スクリュである四軸スクリュ領域Ｅまたは前記四軸スクリュ領域Ｅの下流側にある前記二軸スクリュ領域Ｆの最下流側にポリマー融体が充満する押出ゾーンＤを形成し、前記ポリマー溶液原料供給部９に供給したポリマー溶液原料をフラッシュ脱揮する際に生じる揮発分を前記リヤベント６より排出する。
また、前記四軸スクリュ領域Ｅの上流側にベント部１０ｃを設け、前記ベント部１０ｃの上部に、揮発分排出用ポット１０ｂと加熱用ジャケット１０ａを備え、先端にフラッシュ用ノズル１１ａまたはスリット部１１ｂを有するポリマー溶液原料供給パイプ１１が下向きに設けられるフラッシュタンク１０を設置してフラッシュ脱揮ゾーンＢを形成し、スクリュ全長が四軸スクリュである領域Ｅまたは四軸スクリュ領域Ｅの下流側にある二軸スクリュ領域Ｆの最下流側に押出ゾーンＤを形成し、前記フラッシュ用ノズル１１ａまたはスリット部１１ｂによりポリマー溶液原料をフラッシュ脱揮する際生じる揮発分を前記揮発分排出用ポット１０ｂより排出する。
【００２５】
前記四軸スクリュ領域Ｅの上流側にリヤベント６フラッシュタンク１０からなるフラッシュ脱揮ゾーンＢを前記リヤベント６の下流側に前記フラッシュタンク１０が配設される状態で形成し、スクリュ全長が四軸スクリュである領域または前記四軸スクリュ領域の下流側にある前記二軸スクリュ領域の最下流側に押出ゾーンＤを形成し、ポリマー溶液原料を前記フラッシュタンク１０内のポリマー溶液原料供給パイプ１１のフラッシュ用ノズル１１ａまたはスリット部１１ｂよりその下方のベント部１０ｃ内にフラッシュ脱揮する際生じる揮発分を前記フラッシュタンク１０に設けられた揮発部排出用ポット１０ｂと前記リヤベント６から排気する。
【００２６】
前記四軸スクリュ領域Ｅにおいて前記ポリマー溶液原料供給部９あるいはフラッシュタンク１０装着ベント部１０ｃを備える前記フラッシュ脱揮ゾーンＢの下流側に単数または複数の第１ベント７を設けた表面更新脱揮ゾーンＣを形成し、前記ポリマー溶液原料供給部９あるいはフラッシュタンク１０装着の前記ベント部１０ｃと下流側最隣接の表面更新脱揮ゾーンＣにおける前記第１ベント７の間または２つの前記第１ベント７の間をシールリング３ａｒ，３ｂｒ，４ａｒ，４ｂｒまたはニーディングディスク３ａｋ，３ｂｋ，４ａｋ，４ｂｋとシールリング３ａｒ，３ｂｒ，４ａｒ，４ｂｒの併用によりシールし、前記ポリマー溶液原料の脱揮が前記フラッシュ脱揮ゾーンＢの前記リヤベント６と前記表面更新脱揮ゾーンＣの前記第１ベント７において異なる圧力下で行われる。
【００２７】
前記フラッシュ脱揮ゾーンＢだけを備える前記四軸スクリュ領域Ｅの下流側にある前記二軸スクリュ領域Ｆにおいて単数または複数の第２ベント８を備える表面更新脱揮ゾーンＣを設け、前記ポリマー溶液原料供給部９またはフラッシュタンク１０を装着したベント１０ｃと下流側最隣接の二軸スクリュ領域Ｆにある表面更新脱揮ゾーンＣの第２ベント８間及び前記二軸スクリュ領域Ｆにおける２つの第２ベント８の間をシールリング３ａｒ，３ｂｒまたはニーディングディスクまたは混錬性エレメント３ａｋ，３ｂｋとシールリング３ａｒ，３ｂｒの併用によりシールして前記四軸スクリュ領域Ｅの前記フラッシュ脱揮ゾーンＢと前記二軸スクリュ領域Ｆの表面更新脱揮ゾーンＣの各第２ベント８におけるポリマー溶液原料の脱揮がそれぞれ違う圧力下で行われる。
【００２８】
前記フラッシュ脱揮ゾーンＢと表面更新脱揮ゾーンＣを有する四軸スクリュ領域Ｅの下流側に二軸スクリュ領域Ｆを設け、前記二軸スクリュ領域Ｆにおいて単数または複数の第２ベント８を備える表面更新脱揮ゾーンＣを設け、前記四軸スクリュ領域Ｆの最下流側の第１ベント７とその下流側最隣接の二軸スクリュ領域Ｆにある表面更新脱揮ゾーンＣの第２ベント８間及び前記二軸スクリュ領域Ｆの表面更新脱揮ゾーンＣにおける２つの第２ベント８の間をシールリング３ａｒ，３ｂｒまたはニーディングディスクまたは混錬性エレメント３ａｋ，３ｂｋとシールリング３ａｒ，３ｂｒの併用によりシールし、このようにしてフラッシュ脱揮技術と表面更新脱揮技術を併用する。
【００２９】
前記フラッシュ脱揮ゾーンＢと単数または複数の第１ベント７を備える表面更新脱揮ゾーンＣとを有する四軸スクリュ領域Ｅの下流側に二軸スクリュ領域Ｆを設け、前記二軸スクリュ領域Ｆにおいて単数または複数の注水脱揮ベント部１を備える注水脱揮ゾーンを設け、前記四軸スクリュ領域の表面更新脱揮ゾーン最下流側の第１ベント７とその下流側最隣接二軸スクリュ領域の注水脱揮ゾーンの注水脱揮ベント部１の間及び前記二軸スクリュ領域Ｆにある注水脱揮ゾーンＧの注水脱揮ベント部１の間をニーディングディスクまたは混錬性エレメント３ａｋ，３ｂｋとシールリング３ａｒ，３ｂｒの併用によりシールし、前記注水脱揮ゾーンＧに設けられる前記ニーディングディスクまたは混錬性エレメント３ａｋ，３ｂｋが注水されるポリマー融体中への水の混合分散機能を備え、この様にしてフラッシュ脱揮技術、表面更新脱揮技術と注水脱揮技術を併用する。
【００３０】
前記二軸スクリュ領域Ｆにある表面更新脱揮ゾーンＣの下流側において単数または複数の注水脱揮ベント部１を備える注水脱揮ゾーンＧを設け、前記二軸スクリュ領域Ｆの注水脱揮ゾーンＧにおける２つの隣接する前記注水脱揮ベント部１の間をニーディングディスクまたは混錬性エレメント３ａｋ，３ｂｋとシールリング３ａｒ，３ｂｒの併用によりシールし、前記注水脱揮ゾーンＧに設けられる前記ニーディングディスクまたは混錬性エレメント３ａｋ，３ｂｋが注水されるポリマー融体中への水の混合分散機能を備え、この様にしてフラッシュ脱揮技術、表面更新脱揮技術と注水脱揮技術を併用する。
【００３１】
前記二軸スクリュ領域Ｆにある表面更新脱揮ゾーンＣの下流側に少なくとも１つの注水脱揮ベント部１を設け、前記二軸スクリュ領域Ｆにおける表面更新脱揮ゾーンＣの２つの第２ベント８間を、シールリング３ａｒ，３ｂｒまたはニーディングディスク３ａｋ，３ｂｋとシールリング３ａｒ，３ｂｒの併用によりシールし、前記二軸スクリュ領域Ｆにおける表面更新脱揮ゾーンＣの第２ベント８と注水脱揮ベント部１の間及び注水脱揮ゾーンＧの２つの隣接の注水脱揮ベント部１間をニーディングディスクまたは混錬性エレメント３ａｋ，３ｂｋとシールリング３ａｒ，３ｂｒの併用によりシールし、前記注水脱揮ゾーンＧに設けられる前記ニーディングディスクまたは前記混錬性エレメント３ａｋ，３ｂｋが注水されるポリマー融体中への水の混合分散機能を備え、このようにしてフラッシュ脱揮技術、表面更新脱揮技術と注水脱揮技術を併用する。
【００３２】
前記二軸スクリュ領域Ｆにおいて添加剤、例えば劣化防止剤を添加するための添加部１２を設け、ポリマーの劣化を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】本発明による上流側にリヤベントとポリマー溶液原料供給部を順次に設ける多段ベント噛み合い型同方向回転型四軸スクリュ押出機を示す構成図である。
【図２】図１の他の形態で、上流側にフラッシュタンクを設ける多段ベント噛み合い型同方向回転型四軸スクリュ押出機の構成図である。
【図３】図２の他の形態で、上流側にリヤベント部とフラッシュタンクを順次設ける多段ベント噛み合い型同方向回転型四軸スクリュ押出機の構成図である。
【図４】図１の噛み合い型同方向回転型四軸スクリュを装着するバレル５部のＡ−Ａ断面図である。
【図５】図１から図３に示した四軸スクリュ全領域においてフラッシュ脱揮ゾーン、表面更新脱揮ゾーンと押出ゾーンを設ける多段ベント噛み合い型同方向回転型四軸スクリュ押出機に適用するスクリュ構成Ｉを示す構成図である。
【図６】図１から図３に示した四軸スクリュ全領域においてフラッシュ脱揮ゾーン、表面更新脱揮ゾーンと押出ゾーンを設ける多段ベント噛み合い型同方向回転型四軸スクリュ押出機に適用するスクリュ構成ＩＩを示す構成図である。
【図７】本発明における噛み合い型同方向回転型四軸スクリュ用シールリングの構成図である。
【図８】本発明における四軸スクリュ領域においてフラッシュ脱揮ゾーンと表面更新脱揮ゾーンを、下流側の二軸スクリュ領域において押出ゾーンを設ける多段ベント噛み合い型同方向回転四軸スクリュ押出機を示す構成図である。
【図９】図８の多段ベント噛み合い型同方向回転型四軸スクリュ押出機に適用するスクリュ構成ＩＩＩを示す構成図である。
【図１０】本発明における四軸スクリュ領域にリヤベント部とポリマー溶液原料供給部を設けるフラッシュ脱揮ゾーンと二軸スクリュ領域に表面更新脱揮ゾーンと押出ゾーンを設ける多段ベント噛み合い型同方向回転型四軸スクリュ押出機を示す構成図である。
【図１１】図１０の多段ベント噛み合い型同方向回転型四軸スクリュ押出機に適用するスクリュ構成ＩＶを示す構成図である。
【図１２】図１０の多段ベント噛み合い型同方向回転型四軸スクリュ押出機に適用するスクリュ構成Ｖを示す構成図である。
【図１３】本発明による四軸スクリュ領域にリヤベント部とポリマー溶液原料供給部を有するフラッシュ脱揮ゾーン、表面更新脱揮ゾーンを、二軸スクリュ領域に表面更新脱揮ゾーンと押出ゾーンを設ける多段ベント噛み合い型同方向回転型四軸スクリュ押出機を示す構成図である。
【図１４】図１３の多段ベント噛み合い型同方向回転型四軸スクリュ押出機に適用するスクリュ構成ＶＩを示す構成図である。
【図１５】図１３の多段ベント噛み合い型同方向回転四軸スクリュ押出機に適用するスクリュ構成ＶＩＩを示す構成図である。
【図１６】本発明による四軸スクリュ領域にリヤベント部６とフラッシュタンク１０を有するフラッシュ脱揮ゾーン、表面更新脱揮ゾーンを、二軸スクリュ領域に注水脱揮ゾーンと押出ゾーンを設ける多段ベント噛み合い型同方向回転型四軸スクリュ押出機を示す構成図である。
【図１７】図１６の多段ベント噛み合い型同方向回転四軸スクリュ押出機に適用するスクリュ構成ＶＩＩＩを示す構成図である。
【図１８】四軸スクリュ領域にリヤベント部６とポリマー溶液原料供給部９を有するフラッシュ脱揮ゾーンを、二軸スクリュ領域に表面更新脱揮ゾーン、注水脱揮ゾーンと押出ゾーンを設ける多段ベント噛み合い型同方向回転四軸スクリュ押出機を示す構成図である。
【図１９】図１８の多段ベント噛み合い型同方向回転四軸スクリュ押出機に適用するスクリュ構成ＩＸを示す構成図である。
【図２０】本発明による四軸スクリュ領域にリヤベント部とポリマー溶液原料供給部を有するフラッシュ脱揮ゾーン、表面更新脱揮ゾーンを、二軸スクリュ領域に表面更新脱揮ゾーン、注水脱揮ゾーンと押出ゾーンを設ける多段ベント噛み合い型同方向回転型四軸スクリュ押出機を示す構成図である。
【図２１】図２０の多段ベント噛み合い型同方向回転型四軸スクリュ押出機に適用するスクリュ構成Ｘを示す構成図である。
【符号の説明】
【００３４】
１    注水脱揮ゾーンの注水脱揮ベント部
２    二軸スクリュ構成用のバレル
3ａ，3ｂ，4ａ，4ｂ    シャフト
３ａｋ，３ｂｋ，４ａｋ，４ｂｋ    ニーディングディスクまたはその他の混錬性エレメントあるいはこれらによるスクリュ構成
３ａｒ，３ｂｒ，４ａｒ，４ｂｒ    シールリング
３ａｓ，３ｂｓ，４ａｓ，４ｂｓ    スクリュ
５    四軸スクリュ構成用のバレル
６    リヤベント
７    四軸スクリュ領域の表面更新脱揮ゾーンのベント
８    二軸スクリュ領域の表面更新脱揮ゾーンのベント
９    四軸スクリュ領域におけるポリマー溶液原料供給部
１０    フラッシュタンク
１０ａ    加熱用ジャケット
１０ｂ    揮発分排出用ポット
１０ｃ    ベント部
１１    ポリマー溶液原料供給パイプ
１１ａ    フラッシュ用ノズル
１１ｂ    スリット部
１２    添加剤を添加するための添加部
２０    押出機
【図１】
2008279693.tif 000003
【図２】
2008279693.tif 000004
【図３】
2008279693.tif 000005
【図４】
2008279693.tif 000006
【図５】
2008279693.tif 000007
【図６】
2008279693.tif 000008
【図７】
2008279693.tif 000009
【図８】
2008279693.tif 000010
【図９】
2008279693.tif 000011
【図１０】
2008279693.tif 000012
【図１１】
2008279693.tif 000013
【図１２】
2008279693.tif 000014
【図１３】
2008279693.tif 000015
【図１４】
2008279693.tif 000016
【図１５】
2008279693.tif 000017
【図１６】
2008279693.tif 000018
【図１７】
2008279693.tif 000019
【図１８】
2008279693.tif 000020
【図１９】
2008279693.tif 000021
【図２０】
2008279693.tif 000022
【図２１】
2008279693.tif 000023