(57)【要約】【課題】検査途中で停止させた装置を速やかに復旧できるようにする。【解決手段】外観検査装置のマクロ検査部には、ウェハＷの表面を目視観察するように支持する表面検査装置３１と、ウェハＷの裏面を目視観察するように支持する裏面検査装置３２とを有し、下降位置確認センサ６１と上昇位置確認センサ６５とが設けられている。下降位置確認センサ６１は、ウェハＷの有無を検出する光学式のセンサである。上昇位置確認センサ６５は、水平姿勢のウェハＷは検出しないが、ウェハＷを傾斜させるとウェハＷの有無を検出する光学式のセンサである。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の支持部の間でウェハを受け渡しながらウェハの外観検査を行えるように構成された外観検査装置において、
前記複数の支持部が前記ウェハの受け渡しを行う位置において、ウェハの有無を検出する光学式の支持部確認センサと、前記各支持部の初期位置を確認可能な制御部と、を備えたことを特徴とする外観検査装置。
【請求項２】
前記複数が重なる位置における各支持部は、互いに独立に昇降可能であることを特徴とする請求項１に記載の外観検査装置。
【請求項３】
ウェハの有無を検出する支持部確認センサが、前記複数が重なる位置において前記支持部がウェハを第一の姿勢で支持しつつ昇降させたときにはウェハを検出せずに、昇降させたウェハの第一の姿勢から傾けたときにウェハを検出するように配置されたことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の外観検査装置。
【請求項４】
前記支持部確認センサでウェハを支持している前記支持部を識別するにあたり、初期位置にない前記支持部を対して前記支持部確認センサによる検査を優先して実施するように構成したことを特徴とする請求項３に記載の外観検査装置。
【請求項５】
前記複数の支持部は、ウェハを略同一の軸線に沿って昇降させるように配置されており、いずれかの前記支持部にウェハが保持されていることを検出できる光学式の位置センサを有することを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の外観検査装置。
【請求項６】
前記支持部は、ウェハの表面を検査可能に支持する第一の支持部と、ウェハの裏面を検査可能に支持する第二の支持部とを有することを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の外観検査装置。
【請求項７】
前記支持部確認センサは、透過型のセンサであることを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の外観検査装置。
【請求項８】
前記支持部確認センサによるウェハ検知を検査途中で装置停止状態になった後の復旧処理として実施するように構成したことを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか一項に記載の外観検査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板の外観を検査する際に使用される外観検査装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの製造工程などでは、ウェハ上に形成したパターンの外観検査を行うことが知られている。このときに使用される外観検査装置としては、ウェハを搬送するロボットハンドと、ウェハの位置合わせをする回転テーブルと、ウェハを保持する試料ホルダとを有し、試料ホルダ上のウェハを顕微鏡で観察できるように構成したものがある。ロボットハンド、回転ステージ、及び試料ホルダには、真空引き用の管路が接続されており、ウェハを吸着保持できるようになっている。ウェハの有無や吸着不良は、ロボットハンド、回転ステージ及び試料ホルダのそれぞれに取り付けられた真空センサで確認される。
【０００３】
ここで、ウェハの検査を実施している途中でハードウェアやソフトウェアにエラーが発生した場合や、作業者が緊急停止ボタンを押した場合など、検査途中で装置が停止することがある。この場合、外観検査装置を復旧させるときには、装置の再起動と初期化が実施されるが、従来の外観検査装置ではウェハをウェハキャリアに一旦戻して初期化を実行していた。装置内の清浄度を保つ観点や、作業効率を向上させる観点から、ウェハを戻す作業は、自動処理として実施される。このため、初期化を行う場合には、ロボットハンドや回転ステージなどでウェハを吸着保持する際に使用する真空センサを備えた試料搬送部、試料位置合わせ部、試料検査部等の吸着を順番にオン／オフさせて真空度をチェックすることでウェハの位置を特定し、特定した位置から予め設定されている経路を通ってウェハをウェハキャリアに戻していた（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００２−２７０４８１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、真空センサの真空度でウェハ位置を特定するには、各部の吸着をオン／オフを１つずつ順番に切り替える必要があり、ウェハ位置を特定するまでに時間がかかった。また、装置を停止させたときの状況によっては、ウェハが吸着を行う吸着孔からずれてしまうことがあるので、位置ずれが大きくなると真空度からウェハの有無を確認できなくなる可能性がある。
この発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、検査途中で停止させたときなど、装置を速やかに、かつ確実に復旧できるようにすることを主な目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記の課題を解決する本発明は、複数の支持部の間でウェハを受け渡しながらウェハの外観検査を行えるように構成された外観検査装置において、前記複数の支持部が前記ウェハの受け渡しを行う位置において、ウェハの有無を検出する光学式の支持部確認センサと、前記各支持部の初期位置を確認可能な制御部と、を備えたことを特徴とする外観検査装置とした。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、ウェハを検出できるように光学式の支持部確認センサを配置し、支持部が初期位置にあるか認識可能にしたので、ウェハが支持部に支持されているか否かを速やかに、かつ確実に検出することが可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
本発明を実施するための最良の形態について図面を参照して詳細に説明する。
図１に示すように、外観検査装置１は、装置本体２の背面部にウェハキャリア３を取り付けるロードポート４が２つ設けられている。ロードポート４の内側には、ウェハＷをウェハキャリア３から搬出する搬送ロボット５が配置されている。搬送ロボット５は、アームの先端に１枚のウェハＷを下側から吸着保持するハンド５Ａが設けられている。搬送ロボット５が初期状態で待機する位置には、ウェハＷの有無を検知するウェハ検出センサ６が設けられている。ウェハ検出センサ６には、例えば、光学式の透過型センサや反射型センサが用いられている。
搬送ロボット５より前面側には、ウェハＷの外観を目視によって巨視的に観察するためのマクロ検査部１１と、ウェハＷを顕微鏡で拡大観察するためのミクロ検査部１２とが左右に並んで配置されている。
【０００８】
マクロ検査部１１は、ウェハＷを搬送ロボット５から受け取って所定位置に移動させる回転式搬送装置２１を有する。回転式搬送装置２１は、鉛直上向きに延びる回転軸２２を有し、回転軸２２の先端にアーム部２３が設けられている。アーム部２３は、周方向に１２０°の間隔で放射状に配置されており、各々が同時に昇降するように一体に形成されている。各アーム部２３の先端には、ウェハＷの外縁を下側から吸着保持する支持部２４が設けられている。回転式搬送装置２１は、各アーム部２３を第一の位置Ｐ１、第二の位置Ｐ２、第三の位置Ｐ３に循環して配置するように回転制御される。第一の位置Ｐ１は、搬送ロボット５との間でウェハＷの受け渡しを行う位置である。第二の位置Ｐ２は、ウェハＷをマクロ観察する位置である。第三の位置Ｐ３は、ミクロ検査部１２との間でウェハＷを受け渡しする位置である。第一の位置Ｐ１及び第三の位置Ｐ３には、それぞれの位置でウェハＷの有無を検知する第一の位置センサ２６，第三の位置センサ２７が設けられている。第一、第三の位置センサ２６，２７には、例えば、光学式の透過型センサや反射型センサが用いられている。
【０００９】
第二の位置Ｐ２には、前面側に居るオペレータにウェハＷの表面を様々な角度で観察、検査できるように、揺動及び回転させてウェハＷの姿勢を制御する表面検査装置３１と、オペレータにウェハＷの裏面が向くように姿勢制御する裏面検査装置３２とが配設されている。さらに第二の位置Ｐ２の上方には、ウェハＷを照明するためのマクロ観察用照明装置（不図示）が設けられている。
【００１０】
図１から図３に示すように、表面検査装置３１は、鉛直上向きに延びるガイドポスト４１を有し、ガイドポスト４１には、スライダ４２が昇降自在に取り付けられている。スライダ４２からは、アーム４３が延設されている。アーム４３は、鉛直上向きに略Ｌ字状に屈曲しており、その先端部に回転バー４４が回転自在に支持されている。回転バー４４は、略水平に延びており、不図示の回転機構によって軸線回りに回転させることができる。回転バー４４の端部からはロッド４５が鉛直上向きに延び、ロッド４５の上端には支持部４６（第一の支持部）がウェハＷの略中央の裏面側を吸着保持するように取り付けられている。支持部４６には、ウェハＷをロッド４５の軸線に対して直交する２軸を中心軸として回動させる回動機構（揺動機構）と、ウェハＷをロッド４５の軸線回りに回転させる回転機構とが設けられている。このため、表面検査装置３１は、ウェハＷの傾斜と、直交する２軸を中心軸としての揺動と、回転及び昇降をさせることができる。なお、アーム４３は、ウェハＷを昇降させる過程で回転式搬送装置２１及び裏面検査装置３２に干渉しない形状になっている。
【００１１】
裏面検査装置３２は、鉛直上向きに延びるガイドポスト５１を有し、ガイドポスト５１には、スライダ５２が昇降自在に取り付けられている。スライダ５２からは、アーム５３が延設されており、アーム５３には回転バー５４が回転自在に支持されている。回転バー５４は、略水平に延びており、不図示の回転機構で軸線回りに回転可能である。回転バー５４の先端には、支持部５５（第二の支持部）がウェハＷの外縁の裏面側を吸着保持するように設けられている。支持部５５は、平面視で略円弧形状を有し、円弧の内側に３つの突起部が設けられている。これらの突起部のそれぞれの上面には、ウェハＷを吸着する吸着孔が形成されている。また、回転式搬送装置２１及び表面検査装置３１に干渉しないようになっている。このような裏面検査装置３２では、ウェハＷを昇降及び傾斜させることができる。なお、支持部５５の原点位置（初期位置）の高さは、支持部２４の原点位置と略等しく、表面検査装置３１の支持部４６の原点位置（初期位置）よりも低い。
なお、表面検査装置３１、裏面検査装置３２、回転式搬送装置２１は、共に動作時以外は初期位置にあるものとする。
【００１２】
ここで、第二の位置Ｐ２は、複数の支持部２４，４６，５５が互いに干渉しないように略同心円状に配置され、上下方向の移動によりウェハＷの受け渡しを行う位置であり、この位置にはウェハＷの存在を確認するウェハ確認用のセンサが複数配設されている。
第一のウェハ確認用のセンサである下降位置確認センサ６１（位置センサ）は、表面検査装置３１及び裏面検査装置３２のそれぞれの支持部４６，５５の原点位置より下方に配置された発光素子６２と、それぞれの支持部４６，５５を上昇させた位置より更に上方に配置された受光素子６３とからなる。発光素子６２は鉛直上向きに検査光を出射するように配置されており、受光素子６３は受光面を鉛直下向きに有し、受光素子６３からの検査光を受光して電気信号を出力する。
第二のウェハ確認用のセンサである上昇位置確認センサ６５（支持部確認センサ）は、表面検査装置３１及び裏面検査装置３２の上方で、かつ装置本体２の背面側に配置された発光素子６６と、装置本体２の前面側に離れて配置された受光素子６７とからなる。発光素子６６から受光素子６７に向かう光路は、ウェハＷを水平姿勢（第一の姿勢）のままで上昇させたときには遮られないが、ウェハＷをオペレータに向けて傾斜させたとき（このときのウェハＷの姿勢を第二の姿勢とする）には遮られるように設定されている。
【００１３】
ミクロ検査部１２は、ウェハＷ表面を拡大観察するための顕微鏡７１と、ウェハＷを保持するステージ７２とを有する。ステージ７２は、顕微鏡７１の対物レンズの下方と、第三の位置Ｐ３との間でウェハＷを搬送可能で、かつウェハＷの回転が可能に構成されている。顕微鏡７１は、複数の対物レンズが切り替え可能に取り付けられており、接眼レンズ７１Ａを装置本体２の前面に突出させた構成を有する。接眼レンズ７１Ａの代わりに、又は接眼レンズ７１Ａと併用する撮像装置を設け、拡大画像をディスプレィ７３等に表示させても良い。さらに、顕微鏡７１で観察するときにウェハＷが配置される領域内には、ウェハＷの有無を検知するためのミクロ部位置センサ７５が設けられている。ミクロ部位置センサ７５には、例えば、光学式の透過型センサや反射型センサが用いられている。なお、ミクロ検査部１２にウェハＷの外縁の検査を行う外縁検査装置（不図示）を設けても良い。
【００１４】
図１及び図４に示すように、この外観検査装置１は、装置コントローラ８１（制御部）によって制御されている。装置コントローラ８１は、ＣＰＵ（中央処理装置）やメモリなどから構成されている。装置コントローラ８１には、前記した各種のセンサ６，２６，２７，６１，６５，７１が接続されている。さらに、オペレータの操作を受け付けるインターフェイス部８２と、搬送ロボット５を制御するロボット制御部８３と、回転式搬送装置２１を制御する搬送制御部８４と、表面検査装置３１を制御する表面検査制御部８５と、裏面検査装置３２を制御する裏面検査制御部８６と、ミクロ検査部１２の制御をするミクロ検査部８７とが接続されている。
【００１５】
次に、この実施の形態の作用について説明する。
ウェハＷの検査を行う際には、装置コントローラ８１の制御によって搬送ロボット５がウェハキャリア３から未検査のウェハＷを一枚吸着保持して取り出す。ウェハ検出センサ６でウェハＷの有無を確認した後に、図示しないアライメント部でアライメントを実施する。その後、第一の位置Ｐ１にウェハＷを搬送し、待機している支持部２４にウェハＷを受け渡す。すなわち、搬送ロボット５による吸着保持を解除し、支持部２４でウェハＷを吸着保持させ、搬送ロボット５を初期位置に戻す。このとき、第一の位置センサ２６で第一の位置Ｐ１にある支持部２４上にウェハＷがあることを確認する。
【００１６】
装置コントローラ８１は、回転式搬送装置２１を駆動させて、第一の位置Ｐ１にあるウェハＷを第二の位置Ｐ２に移動させる。ウェハＷによって下降位置確認センサ６１の光路が遮られるので、下降位置確認センサ６１の出力を調べればウェハＷが第二の位置Ｐ２にあることを確認できる。表面検査を行う場合には、支持部２４の吸着保持を解除し、支持部２４を下降させて表面検査装置３１の支持部４６にウェハＷを移載する。図２及び図３に示すように支持部４６にウェハＷを吸着保持させたら、スライダ４２をガイドポスト４１に沿って移動させてウェハＷを水平姿勢のままで検査位置まで上昇させる。さらに、図５及び図６に示すように、回転バー４４を回転させて検査位置でウェハＷの表面がオペレータに向くように傾斜させる等、検査手順がティーチングにより記憶されたレシピ等により、第二の姿勢等にする。このとき、マクロ観察用照明装置でウェハＷ表面が照明された状態で、オペレータが目視でウェハＷの表面の観察検査を行う。オペレータによる表面検査装置３１を用いたマクロ検査を終えた後、装置コントローラ８１の指令によってウェハＷを略水平な第一の姿勢に戻してから下降させる。
【００１７】
続いて裏面検査を実施するときには、表面検査装置３１の支持部４６の吸着を解除してから裏面検査装置３２の支持部５５にウェハＷを受け渡す。裏面検査装置３２は、支持部５５を上昇させウェハＷを吸着保持する。支持部５５にウェハＷの外縁を吸着保持させたら、スライダ５２をガイドポスト５１に沿って移動させてウェハＷを第一の姿勢のままで検査位置まで上昇させる。図７及び図８に示すように、回転バー５４を回転させてウェハＷの裏面がオペレータに向かう第二の姿勢にすると共に、マクロ観察用照明装置でウェハＷ裏面を照明する。オペレータが目視でウェハＷ裏面の観察検査を行う。オペレータによる裏面検査装置３２を用いたマクロ検査を終えた後、装置コントローラ８１の指令によってウェハＷを略水平な第一の姿勢に戻してから下降させる。
【００１８】
マクロ検査が終了したら、支持部５５を下降させる一方で支持部２４を上昇させてウェハＷを支持部２４に移載する。ウェハＷを吸着保持したら回転式搬送装置２１を駆動させ、ウェハＷを第三の位置Ｐ３に搬送する。第三の位置Ｐ３にウェハＷが搬送されたことは第三の位置センサ２７で確認できる。第三の位置Ｐ３では、ウェハＷがミクロ検査部１２のステージ７２に受け渡される。ステージ７２は、ウェハＷを吸着保持すると共に、ウェハＷを顕微鏡７１の観察領域に移動させる。ウェハＷの存在をミクロ部位置センサ７５で検出してから顕微鏡７１によるミクロ観察を実施する。オペレータがミクロ検査を終了したら、ステージ７２を移動させてウェハＷを第三の位置Ｐ３に戻す。第三の位置Ｐ３では、ステージ７２から回転式搬送装置２１にウェハＷが移載される。ウェハＷの移載は、第三の位置センサ２７で確認される。回転式搬送装置２１を駆動させると、ウェハＷが第一の位置Ｐ１に搬送されるので、第一の位置Ｐ１から搬送ロボット５でウェハＷを取り出し、ウェハキャリア３に回収する。
【００１９】
なお、一枚のウェハＷが第一の位置Ｐ１から第二の位置Ｐ２に搬送されたときには、第一の位置Ｐ１に新しく移動した支持部２４が空いているので、ここに次のウェハＷを搬送する。回転式搬送装置２１には、３つの支持部２４があるので、最大で３枚のウェハＷを同時に取り扱うことができる。したがって、複数のウェハＷを順次送り込むことで、多数のウェハＷを連続して検査することができる。マクロ検査部１１やミクロ検査部１２における検査の順番や組み合わせは、任意に変更することができる。
【００２０】
ここで、ハードウェアのエラー、又はソフトウェアのエラー、装置外部の状況などによって検査の途中で外観検査装置１が停止することがある。この場合には、ウェハＷを保持した支持部２４，４５，５５が傾いている場合があるので、ウェハＷが落下しないよう、各支持部２４，４５，５５の吸着バルブを閉じて、ウェハＷの吸着状態を維持したまま停止する。そして、装置を停止させる因子が解消された後に、オペレータの操作によって装置の再起動及び初期化が行われる。
【００２１】
装置を初期化する際には、ウェハＷが各部に存在しない状態で実施することが好ましいが、検査途中に装置が停止した場合には、搬送ロボット５、マクロ検査部１１やミクロ検査部１２にウェハＷが残留していることがある。ウェハＷの有無や、各支持部２４，４５，５５の傾き、位置に関するデータを含めて装置コントローラ８１の記憶が一旦リセットされるため、再度、各支持部２４，４５，５５に対してウェハＷの有無を確認し、初期化による位置、傾きの確認を行う必要がある。搬送ロボット５、ミクロ検査部１２は、それぞれのセンサ６，７５でウェハＷの有無を検知できる。マクロ検査部１１の第一の位置Ｐ１と第三の位置Ｐ３は、それぞれのセンサ２６，２７でウェハＷの有無を検知できる。第二の位置Ｐ２では、ウェハＷの有無と、ウェハＷが存在する場合には支持部２４と表面検査装置３１と裏面検査装置３２のいずれにウェハＷがあるのかを判定する必要がある。特に、表面検査装置３１、又は裏面検査装置３２の支持部４６，５５が大きく傾いている場合に光学式センサで検出できない場合がある。このため、装置コントローラ８１は、図９のフローチャートに示す処理によって第二の位置Ｐ２におけるウェハ検知を実施する。
【００２２】
最初に、下降位置確認センサ６１でウェハＷの有無を検出する（ステップＳ１０１）。ウェハＷを検出できない場合には（ステップＳ１０１でＮｏ）、第二の位置Ｐ２にはそもそもウェハＷが存在しないので、ウェハＷなしの判定を行って（ステップＳ１０２）、処理を終了する。下降位置確認センサ６１がウェハＷを検出したら（ステップＳ１０１でＹｅｓ）、支持部２４、表面検査装置３１、及び裏面検査装置３２のいずれかにウェハＷが存在することになるので、各装置２１，３１，３２のそれぞれが初期位置にあるか確認する（ステップＳ１０３）。初期位置の確認は、搬送制御部８４、表面検査制御部８５、及び裏面検査制御部８６のそれぞれが有する支持部２４、支持部４６，５５の高さ方向の位置情報から装置コントローラ８１が判定する。
【００２３】
各装置の全てが初期位置にある場合（ステップＳ１０３でＹｅｓ）、表面検査装置３１の支持部４６が一番高い位置にあるので、ウェハＷが表面検査装置３１にあると見なす。表面検査装置３１の支持部４６を上昇させ（ステップＳ１０７）、ウェハＷが実際に表面検査装置３１にあることを上昇位置確認センサ６５で確認する（ステップＳ１０８）。具体的には、図５及び図６に示すように、ウェハＷを上昇させてから回転バー４４を回動させる。なお、この動作は、初期化の作業を兼ねている。ウェハＷが傾斜して上昇位置確認センサ６５の光路を遮るので上昇位置確認センサ６５の出力がＯＦＦになる。この結果を受けて、装置コントローラ８１は、表面検査装置３１にウェハＷがあると判定し（ステップＳ１０９）、処理を終了する。
本実施の形態では、支持部４６を一番高い位置にした場合について説明しているが、他の支持部２４，５５が一番高い位置であっても良い。その場合は、支持部４６と入れ替えた処理フローを実行すれば良い。
【００２４】
いずれかの装置２１，３１，３２が初期位置にない場合（ステップＳ１０３でＮｏ）、回転式搬送装置２１が初期位置になければ（ステップＳ１０４でＮｏ）回転式搬送装置２１にウェハＷがあると判定する（ステップＳ１０５）。
回転式搬送装置２１が初期位置にあれば（ステップＳ１０４でＹｅｓ）、表面検査装置３１が初期位置あるか確認する（ステップＳ１０６）。表面検査装置３１の支持部４６が初期位置になければ（ステップＳ１０６でＮｏ）、表面検査装置３１における確認処理（ステップＳ１０７〜ステップＳ１０９）を実施する。
【００２５】
表面検査装置３１の支持部４６が初期位置にあれば（ステップＳ１０６でＹｅｓ）、裏面検査装置３２を上昇させ（ステップＳ１１０）、ウェハＷが実際に表面検査装置３１にあることを上昇位置確認センサ６５で確認する（ステップＳ１１１）。具体的には、ウェハＷを上昇させてから回転バー５４を回動させる。これは、前記と同様に初期化動作を兼ねている。図７及び図８に示すように、ウェハＷが傾斜して上昇位置確認センサ６５の光路を遮るので上昇位置確認センサ６５の出力がＯＦＦになる。この結果を受けて、装置コントローラ８１は、裏面検査装置３２にウェハＷがあると判定する（ステップＳ１１２）。
【００２６】
このようにしてウェハＷの有無と、ウェハＷがある場合にウェハＷの位置を判定したら、装置コントローラ８１が対応する装置を駆動させて、そのウェハＷをウェハキャリア３に戻す。例えば、表面検査装置３１とミクロ検査部１２の両方にウェハＷがあると判定された場合、ミクロ検査部１２のウェハＷは、回転式搬送装置２１を通って搬送ロボット５からウェハキャリア３に回収される。表面検査装置３１にあるウェハＷは、通常の搬送ルート、つまり回転式搬送装置２１からミクロ検査部１２を通って再び回転式搬送装置２１に戻ってから、搬送ロボット５に受け渡され、ウェハキャリア３に回収される。全てのウェハＷを回収したら、ロードポート４がウェハキャリア３の扉を閉め、回収動作を終了する。回収時の動作は、自動で行っても良いし、オペレータがインターフェイス部８２を操作して開始指令を入力するのを待ち、開始指令が入力された後に自動で行っても良い。
【００２７】
この実施の形態によれば、ウェハＷの位置を確実に、かつ自動的な処理で確認することができるので、装置の再起動、初期化を速やかに実施することができる。従来のように真空スイッチを使用する場合に比べて検知に要する時間を短縮することができる。非接触の光学式のセンサを用いたので、ウェハＷの位置がずれていた場合でも正しく検知することができる。
【００２８】
ここで、図１０に示すように、上昇位置確認センサ６５を水平軸に対して傾斜して配置しても良い。この場合には、ウェハＷを水平姿勢（第一の姿勢）で昇降させる場合には光路を遮らないが、ウェハＷを傾斜させて第二の姿勢にしたときには光路が遮られるように上昇位置確認センサ６５の傾斜角度を設定する。前記のように水平配置した場合に比べてウェハＷを検知するのに要する傾斜角度を小さくできるので判定時間をさらに短くできる。上昇位置確認センサ６５を傾斜配置することで、レイアウトの自由度が高まる。
また、図１１に示すように、下降位置確認センサ６１を鉛直軸に対して傾斜して配置しても良い。鉛直軸に平行に配置した場合に比べて発光素子６２と受光素子６３の配置間隔を短くすることができ、レイアウトの自由度が高まる。
【００２９】
なお、本発明は、前記の実施の形態に限定されずに広く応用することができる。
図１２に示すように、下降位置確認センサ６１及び上昇位置確認センサ６５は、反射型のセンサであっても良い。対応する受光素子６３，６６と発光素子６２，６７をウェハＷに対して略同じ方向に配置できるので、レイアウトの自由度を向上できる。さらに、対応する受光素子６３，６６と発光素子６２，６７を近い位置に配置できるので、下降位置確認センサ６１及び上昇位置確認センサ６５を配置するためのスペースを小型化できる。
下降位置確認センサ６１と上昇位置確認センサ６５の一方を図１０や図１１に示すように傾斜配置したり、下降位置確認センサ６１と上昇位置確認センサ６５の一方を図１２に示すように反射型の光学式センサにしても良い。
【００３０】
全ての支持部２４，４６，５５の初期位置が面一になる装置構成の場合は、表面検査装置３１の支持部４６が最も上にいる場合と同様の処理でウェハ検知が行える。
支持部４６，５５は、ウェハＷを上昇させて検査位置に移動させる代わりに、ウェハＷを下降させることで検査位置に移動させる構成でも良い。表面検査装置３１がウェハＷを昇降させるときの軸線と、裏面検査装置３２がウェハＷを昇降させるときの軸線が一致しない構成であっても前記の構成及び処理でウェハＷの位置を特定できる。ウェハＷを昇降させるときに第一の姿勢は、水平姿勢から少し傾斜させても良い。
支持部４６，５５の判定処理は、再起動、初期化の際に限定されずに、通常の検査でウェハＷを確認する処理に使用しても良い。ウェハＷを保持している装置を迅速に、かつ確実に検出することが可能になる。
【００３１】
また、ステップＳ１０７，Ｓ１０８と、ステップＳ１１０，Ｓ１１１、つまり表面検査装置３１、裏面検査装置３２の支持部４６，５５を上昇、回転させて上昇位置確認センサ６５でウェハＷを検出するステップは、省略することも可能である。これらのステップは、初期化動作に合わせた検出精度を上げる動作であるため、判定のステップＳ１０３，Ｓ１０６の結果で、どの支持部にあるか判定を行っても良い。ただし、このとき、下降位置確認センサ６１は、支持部４６，５５が回動状態であっても、ウェハＷの有無を検出できる位置に設置される必要がある。これにより、さらに迅速にウェハＷを保持している装置を検出することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】本発明の実施の形態に係る外観検査装置の構成を示す図である。
【図２】図１のＡ矢視であって表面検査装置と裏面検査装置の概略構成を示す図である。
【図３】図２のＢ矢視図である。
【図４】外観検査装置の制御ブロック図である。
【図５】図２の配置から表面検査装置を駆動させた図である。
【図６】図３の配置から表面検査装置を駆動させた図である。
【図７】図２の配置から裏面検査装置を駆動させた図である。
【図８】図３の配置から裏面検査装置を駆動させた図である。
【図９】ウェハの位置を判定する処理のフローチャートである。
【図１０】上限位置確認センサを傾斜配置した構成を示す図である。
【図１１】下限位置確認センサを傾斜配置した構成を示す図である。
【図１２】上限位置確認センサ及び下限位置確認センサとして反射型の光学式センサを使用した構成を示す図である。
【符号の説明】
【００３３】
１      外観検査装置
２４      支持部
４６      支持部（第一の支持部）
５５      支持部（第二の支持部）
６１      下降位置確認センサ（位置センサ）
６５      上昇位置確認センサ（支持部確認センサ）
８１      装置コントローラ（制御部）
Ｗ      ウェハ
【図１】
2008082928.tif 000003
【図２】
2008082928.tif 000004
【図３】
2008082928.tif 000005
【図４】
2008082928.tif 000006
【図５】
2008082928.tif 000007
【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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