(57)【要約】【課題】長期にわたって高い表示性能を維持することができ、製造コストの低減を図ることが可能な画像表示装置を提供する。【解決手段】画像表示装置は、周辺部同士が接合された第１基板１１および第２基板１２を有する外囲器１０と、第１基板上に配置された蛍光体スクリーン１６と、第２の基板上に配置された電子源１８と、外囲器内のガスを吸着するゲッタと、を備えている。ゲッタは、蛍光体スクリーン上に形成された非蒸発型のゲッタと、外囲器の周縁部に設けられ、少なくともバリウムを含む蒸発型のゲッタとを有している。【選択図】    図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
周辺部同士が接合された第１基板および第２基板を有する外囲器と、
前記第１基板上に配置された蛍光体スクリーンと、
前記第２基板上に配置された電子源と、
前記外囲器内のガスを吸着するゲッタと、を備え、
前記ゲッタは、前記蛍光体スクリーン上に形成された非蒸発型ゲッタと、前記外囲器の周縁部に設けられ、少なくともバリウムを含む蒸発型ゲッタとを有している画像表示装置。
【請求項２】
前記蒸発型ゲッタは、前記外囲器内で、前記第１基板上または前記第２基板上に形成されている請求項１に記載の画像表示装置。
【請求項３】
前記蒸発型ゲッタは、前記第１基板上で、前記蛍光体スクリーンの外側に形成されている請求項１に記載の画像表示装置。
【請求項４】
前記蛍光体スクリーンは、複数の蛍光体層と蛍光体層の間に形成された遮光層を有し、
前記蒸発型ゲッタの一部は、前記蛍光体スクリーンの周縁部で前記遮光層に重ねて形成されている請求項３に記載の画像表示装置。
【請求項５】
前記外囲器の周辺部に接合されているとともに内部が前記外囲器内に連通したゲッタボックスを備え、前記蒸発型ゲッタは前記ゲッタボックス内に設けられている請求項１ないし３のいずれか１項に記載の画像表示装置。
【請求項６】
前記非蒸発型ゲッタは前記蛍光体スクリーンに重ねて形成され、前記蛍光体スクリーンの中央部に位置した非蒸発型ゲッタの膜厚が前記蛍光体スクリーンの周辺部に位置した非蒸発型ゲッタの膜厚よりも厚く形成されている請求項１ないし３のいずれか１項に記載の画像表示装置。
【請求項７】
前記蛍光体スクリーンは、複数の蛍光体層と蛍光体層の間に形成された遮光層を有し、前記非蒸発型ゲッタは、前記遮光層に重ねて形成されている請求項６に記載の画像表示装置。
【請求項８】
少なくとも一酸化炭素、二酸化炭素について、前記蒸発型ゲッタの単位面積当たりのガス吸着速度は、前記非蒸発型ゲッタの単位面積当たりのガス吸着速度よりも大きい請求項１ないし３のいずれか１項に記載の画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、外囲器と外囲器内部にゲッタが設けられた画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、軽量・薄型の画像表示装置として、液晶の配向を利用して光の強弱を制御する液晶ディスプレイ（以下、ＬＣＤと称する）、プラズマ放電の紫外線により蛍光体を発光させるプラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと称する）、電界放出型電子放出素子の電子ビームにより蛍光体を発光させるフィールドエミッションディスプレイ（以下、ＦＥＤと称する）、表面伝導型電子放出素子の電子ビームにより蛍光体を発光させる表面伝導型電子放出ディスプレイ（以下、ＳＥＤと称する）などが開発されている。
【０００３】
例えばＦＥＤでは、一般に、所定の隙間を置いて対向配置された前面基板および背面基板を有し、これらの基板は、矩形枠状の側壁を介して周辺部同士を互いに接合することにより真空外囲器を構成している。前面基板の内面には蛍光体スクリーンが形成され、背面基板の内面には蛍光体を励起して発光させる電子放出源として多数の電子放出素子が設けられている。
【０００４】
背面基板および前面基板に加わる大気圧荷重を支えるために、これら基板の間には複数の支持部材が配設されている。背面基板側の電位はほぼアース電位であり、蛍光面にはアノード電圧として例えば１０ｋＶが印加される。蛍光体スクリーンを構成する赤、緑、青の蛍光体に電子放出素子から放出された電子ビームを照射し、蛍光体を発光させることによって画像を表示する。
【０００５】
このようなＦＥＤにおいては、真空外囲器内部を高い真空度に維持することが重要となる。真空度が低いと、安定した電子放出ができず、画像表示装置の寿命が低下することになるからである。
【０００６】
そこで、長期間にわたって真空外囲器内部を高い真空度に維持するため、真空外囲器内部には不所望なガス分子を吸着するゲッタ層を設けることが通常行われる。このようなゲッタ層として、例えば、ＰＤＰのパネル側辺に隣り合う領域に非蒸発型ゲッタ層を形成する方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。また、真空チャンバー内に前面基板を投入し、真空チャンバーを排気した後、前面基板の蛍光体スクリーン領域に蒸発型ゲッタ層を蒸着形成する方法が提案されている（例えば、特許文献２参照）。
【特許文献１】特開平１１−１９１３７８号公報
【特許文献２】特開２００１−２２９８２４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、パネル側辺に隣り合う領域に非蒸発型のゲッタ膜を形成する方法では、ゲッタから離れた領域、すなわち蛍光体スクリーンの中央部に存在する不所望なガス分子を効率的にゲッタに吸着することができない。そのため、真空外囲器の中央部のガス圧が高くなり、表示装置中央部の輝度が低下する。すなわち、ＦＥＤの動作中には電子ビームが蛍光体に照射され、蛍光体スクリーンから不所望なガス分子が放出される。しかしながら、真空外囲器内の中央部にはゲッタがないため、放出された中央部のガス分子は周辺部のゲッタに吸着される前に電子放出素子を汚染する可能性が高くなり、電子放出特性が劣化する。汚染された電子放出素子は十分な電子を放出することができず、ＦＥＤの周辺部の輝度に対して中央部の輝度が低くなってしまう。
【０００８】
また、非蒸発型ゲッタは一般的に一酸化炭素、二酸化炭素の吸着量が小さいため、ＦＥＤを動作後しばらくすると一酸化炭素、二酸化炭素を吸着することができなくなる。このため、真空外囲器内部全体のガス圧が高くなり、電子放出素子が破壊されて安定した電子放出ができなくなる。その結果、ＦＥＤの寿命が低下する問題が生じる。
【０００９】
一方、真空チャンバー内に前面基板を投入し、真空チャンバーを排気した後、前面基板の蛍光体スクリーン領域に蒸発型のゲッタ膜を蒸着形成する方法では、不所望なガス分子は効率的にゲッタ膜に吸着される。そのため、ＦＥＤの真空外囲器内部は長期間にわたって高い真空度に維持される。
【００１０】
しかしながら、この方法では大型の真空チャンバーを使用するため、製造コストが高くなり、結果として画像表示装置のコストも高くなる。また、真空チャンバー内にゲッタ蒸着のための駆動機構を設けなければならないため、装置の信頼性やメンテナンス性が極めて悪くなる。さらに、蛍光体スクリーンの全面に亘って蒸発型のゲッタ膜を蒸着形成すると、輝度が低下するという性能上の問題も生じる。
【００１１】
この発明は以上の点に鑑みなされたもので、その目的は、長期にわたって高い表示性能を維持することができ、製造コストの低減を図ることが可能な画像表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
この発明の態様に係る画像表示装置は、周辺部同士が接合された第１基板および第２基板を有する外囲器と、前記第１基板上に配置された蛍光体スクリーンと、前記第２の基板上に配置された電子源と、前記外囲器内のガスを吸着するゲッタと、を備え、  
前記ゲッタは、前記蛍光体スクリーン上に形成された非蒸発型ゲッタと、前記外囲器の周縁部に設けられ、少なくともバリウムを含む蒸発型ゲッタとを有している。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の様態に係る画像表示装置によれば、非蒸発型ゲッタを蛍光体スクリーン上に形成し、一酸化炭素、二酸化炭素の吸着量が大きいバリウムゲッタを含む蒸発型ゲッタを外囲器の周辺部に形成することにより、輝度を落とさずに不所望なガス分子を効率よく長期間吸着することができ、真空外囲器内部を長期間にわたって高い真空度に維持することができる。製造に際して高価な真空チャンバーを用いる必要が無く、製造コストを抑えることができるとともに、装置の信頼性やメンテナンス性も良好になる。これにより、長期にわたって高い表示性能を維持することができ、製造コストの低減を図ることが可能な画像表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下図面を参照しながら、この発明の画像表示装置をＳＥＤに適用した実施形態について詳細に説明する。  
図１および図２に示すように、ＳＥＤは、それぞれ矩形状のガラス板からなる前面基板１１、および背面基板１２を備え、これらの基板は所定の間隔で対向配置されている。第２基板としての背面基板１２は、第１基板としての前面基板１１よりも大きな寸法に形成されている。前面基板１１および背面基板１２は、矩形枠状の側壁１３を介して周縁部同士が接合され、内部が真空状態に維持された偏平な外囲器１０を構成している。接合部材として機能する側壁１３は、例えば、低融点ガラス、低融点金属等の封着材２５により、前面基板１１の周縁部および背面基板１２の周縁部に封着され、これらの基板同士を接合している。
【００１５】
外囲器１０の内部には、前面基板１１および背面基板１２に加わる大気圧荷重を支えるため、複数の板状の支持部材１４が設けられている。これらの支持部材１４は、外囲器１０の一辺と平行な方向にそれぞれ延在しているとともに、上記一辺と直交する方向に沿って所定の間隔を置いて配置されている。各支持部材１４の長手方向両端部は、それぞれ側壁１３と隙間を置いて対向している。
【００１６】
図２ないし図４に示すように、前面基板１１の内面には、画像表示面として機能する蛍光体スクリーン１６が形成されている。この蛍光体スクリーン１６は、赤、緑、青の蛍光体層Ｒ、Ｇ、Ｂ、およびこれらの蛍光体層間に位置した黒色の遮光層２０を並べて構成されている。赤、緑、青の３色の蛍光体層Ｒ、Ｇ、Ｂは、第１方向に隙間を置いて交互に並んで形成され、同一色の蛍光体層が第１方向と直交する第２方向に隙間を置いて配列されている。蛍光体層Ｒ、Ｇ、Ｂはそれぞれ、赤、緑、青の単色でサブピクセルを構成し、３色のサブピクセルを合わせて一画素を構成している。
【００１７】
蛍光体スクリーン１６の遮光層２０に重ねてマトリクス状の分断層３１が形成されている。蛍光体スクリーン１６上には、アルミニウム膜等からなるメタルバック層１７が形成されている。本実施形態によれば、メタルバック層１７は、分断層３１により縦方向および横方向に分断され、互いに電気的に分離した複数の分断領域を有している。分断層３１により夫々が互いに電気的に分断したメタルバック層１７は、蛍光体層Ｒ、Ｇ、Ｂに夫々重なって位置している。
【００１８】
蛍光体スクリーン１６の遮光層２０に重ねて、ここでは、分断層３１に重ねて、非蒸発型のゲッタ膜２３が形成されている。ゲッタ膜２３は、蛍光体スクリーン１６上に所定の面積で配置されている。すなわち、ゲッタ膜２３は、蛍光体層Ｒ、Ｇ、Ｂ上を避けるように分断層３１上に重ねて形成され、互いに電気的に分断された複数の領域を有している。また、前面基板１１の内面上において、蛍光体スクリーン１６の外側の領域には、蒸発型ゲッタとしてバリウムを含むゲッタ膜２８が形成されている。
【００１９】
まず、蒸発型のゲッタ膜２８について詳細に説明する。ゲッタ膜２８は、外囲器１０の周縁部、例えば、蛍光体スクリーン１６と側壁１３の間に厚さ３０ｎｍで形成されている。ゲッタ膜２８は、支持部材１４の両端側で前面基板１１の内面に形成され、支持部材と直交する方向に沿って連続的あるいは間欠的に設けられている。
【００２０】
バリウムを含む蒸発型ゲッタの材料としては、バリウムとアルミニウムとの金属間化合物ＢａＡｌ４の粉末にニッケルを添加した反応型ゲッタを用いることができる。これはＣＲＴ用として使用されている一般的な蒸発型ゲッタである。外囲器１０の封着工程を大気中で行う場合には耐酸化性ゲッタとしてフリッタブルゲッタを選択することが望ましい。このゲッタ材料を真空中で加熱し蒸着させることによりゲッタ膜２８が形成される。
【００２１】
次に、非蒸発型のゲッタ膜２３について詳細に説明する。図３ないし図５に示すように、ゲッタ膜２３は、非蒸発型ゲッタの粉末４１、非蒸発型ゲッタの粉末同士および非蒸発型ゲッタの粉末と前面基板とを接着するための接着材粒子４３を有している。非蒸発型ゲッタとしては、一般に使用されている様々なものを選択することが可能であるが、ＳＥＤに使用する場合には活性化温度が比較的低い種類のものが望ましい。
【００２２】
粉末４１の粒径は使用デバイスの真空特性、例えば到達真空度や放出ガス量などにより定める。本実施形態では、５０％径が１〜１０μｍ、望ましくは１〜５μｍとするのがよい。これ以上粒径が大きいと非蒸発型ゲッタ粉末の比表面積が小さくなる。そのため、ゲッタのガス吸着速度が小さくなり、ＳＥＤの外囲器１０内部を高い真空度に維持することが困難になる。また、これ以上粒径が小さいと、ゲッタ粉末４１が室温においても非常に活性な状態となり、取り扱いが難しくなる。
【００２３】
接着材粒子４３は、一般に使用されている様々なものを選択することが可能であるが、非蒸発型ゲッタの粉末４１よりも小さな粒径を有する接着材粒子を用いる。接着材粒子４３の粒径が非蒸発型ゲッタの粉末４１の粒径と同等かそれよりも大きい場合、非蒸発型ゲッタの粉末表面の大部分が接着材粒子４３の陰になってしまい、ガス分子がゲッタ粉末に吸着しにくくなる。そのためにゲッタの吸着速度が落ち、ＳＥＤの外囲器内部を高い真空度に維持することができなくなる。
【００２４】
望ましい接着材粒子４３としては、５０％径が０．１〜１μｍの銀パウダーを挙げることができる。この銀パウダーによって非蒸発型ゲッタの粉末４１同士を接着し、同時に、非蒸発型ゲッタの粉末と前面基板と互いに接着することにより、蛍光体スクリーン１６上にゲッタ膜２３が形成される。ゲッタ膜２３は、例えば、スクリーン印刷法、ディスペンス法、スプレー塗布法等によって形成することができる。
【００２５】
非蒸発型のゲッタ膜２３は、蛍光体スクリーン１６の中央部に位置した領域が厚く、前面基板１１の周辺部に近い領域になるにしたがって薄くなるように形成されている。すなわち、蛍光体スクリーン１６の中央部に位置したゲッタ膜２３の膜厚は、蛍光体スクリーンの周辺部に位置したゲッタ膜２３の膜厚よりも厚く形成されている。
【００２６】
上述のようにＳＥＤの外囲器１０は扁平に形成され、内部のコンダクタンスが小さい。そのため、外囲器内において、周辺部に存在するガス分子は周辺部に形成された蒸発型のゲッタ膜２８に吸着され易いが、中央部に存在するガス分子はゲッタ膜２８に吸着されにくくなる。そのため、中央部に滞在するガス分子の量は周辺部に滞在するガス分子の量よりも多くなる。そこで、中央部に位置したゲッタ膜の吸着能力が先に尽きることがないように、非蒸発型のゲッタ膜２３の膜厚は厚く形成されている。
【００２７】
非蒸発型のゲッタ膜２３のガス吸着速度が大きいと、外囲器１０内のガス分子が、ゲッタ膜２８よりも先に非蒸発型のゲッタ膜２３に吸着されてしまう。ＳＥＤの内部のような高真空領域では、一酸化炭素および二酸化炭素が支配的なガス分子となる。しかし、これらのガス分子の吸着量は、非蒸発型のゲッタ膜２３のほうが蒸発型のゲッタ膜２８よりも小さい。そのため、ガス分子が先に非蒸発型のゲッタ膜２３に吸着されてしまうと、外囲器中央部のガス圧が高くなり、ＳＥＤの寿命が低下してしまう。
【００２８】
そこで、本実施形態によれば、一酸化炭素および二酸化炭素について、蒸発型のゲッタ膜２８の単位面積当たりのガス吸着速度は、非蒸発型のゲッタ膜２３の単位面積当たりのガス吸着速度よりも大きく設定されている。これにより、ガス吸着量を蒸発型のゲッタ膜２８でかせぐとともに、面状に形成した非蒸発型のゲッタ膜２３で外囲器１０内部全体の真空度を保っている。
【００２９】
図２に示すように、背面基板１２の内面上には、蛍光体スクリーン１６の蛍光体層Ｒ、Ｇ、Ｂを励起する電子源として、それぞれ電子ビームを放出する多数の表面伝導型の電子放出素子１８が設けられている。これらの電子放出素子１８は、画素毎に対応して複数列および複数行に配列されている。各電子放出素子１８は、図示しない電子放出部、この電子放出部に電圧を印加する一対の素子電極等で構成されている。背面基板１２の内面には、電子放出素子１８に電位を供給する多数本の配線２１がマトリック状に設けられ、その端部は真空外囲器１０の外部に引出されている。
【００３０】
背面基板１２の周縁部、例えば、コーナー部には排気工程において真空外囲器１０内部を排気するための排気孔２９が貫通形成されている。排気孔２９は、蛍光体スクリーン１６から外れた位置、つまり、有効表示領域から外れた位置に設けられている。排気孔２９は蓋部材３０によって気密に封止されている。排気孔２９は、１つに限らず、必要に応じて増加可能である。
【００３１】
このようなＳＥＤでは、画像を表示する場合、蛍光体スクリーン１６およびメタルバック層１７にアノード電圧を印加して、電子放出素子１８から放出された電子ビームをアノード電圧により加速して蛍光体スクリーンへ衝突させる。これにより、蛍光体スクリーン１６の蛍光体層Ｒ、Ｇ、Ｂが励起されて発光し、カラー画像を表示する。
【００３２】
上記のように構成されたＳＥＤによれば、非蒸発型ゲッタで形成されたゲッタ膜２３は、蛍光体スクリーン１６の全面にわたって形成されているとともに、蛍光体層Ｒ、Ｇ、Ｂ上を避けるよう遮光層２０上に形成されている。そのため、ゲッタ膜２３により輝度を低下させずに外囲器１０内部全体を高い真空度に維持することが可能となる。また、一酸化炭素、二酸化炭素の吸着量が大きいバリウムを含むゲッタ膜２８を外囲器の周辺部に形成し、一酸化炭素および二酸化炭素について、ゲッタ２８の単位面積当たりのガス吸着速度を非蒸発型のゲッタ膜２３の単位面積当たりのガス吸着速度よりも大きくしている。そのため、ガス吸着量を蒸発型のゲッタ膜２８でかせぐことができ、長期間に亘って発生ガスを吸着可能な長寿命のＳＥＤを得ることができる。更に、ゲッタ膜の形成に際して高価な真空チャンバーを用いる必要が無く、製造コストの増加を抑えることができ、また、装置の信頼性やメンテナンス性も良好になる。以上により、低コストで高画質、かつ長寿命な表示装置を提供することができる。
【００３３】
次に、この発明の第２の実施形態に係るＳＥＤについて説明する。
【００３４】
図６および図７に示すように、第２の実施形態によれば、外囲器１０の周縁部、例えば、前面基板１１の内面の両側縁部にバリウムの薄膜からなる蒸発型のゲッタ膜２８がそれぞれ形成されている。ゲッタ膜２８は、その一部が蛍光体スクリーン１６に重なって形成されている。すなわち、第１の実施形態よりも蒸発型のゲッタ膜２８の面積が広くなるように形成されている。この場合、ゲッタ膜２８の蛍光体スクリーン１６側の側縁部は、凹凸に形成され、例えば、櫛刃状に形成され、蛍光体スクリーン１６の内、遮光層２０と重なって形成されている。
【００３５】
ゲッタ膜２８の面積を大きく形成すると、ガス吸着量が向上する。そのため、ＳＥＤの寿命をさらに長くする場合に有効である。バリウムを含む蒸発型ゲッタの材料としては、バリウムとアルミニウムの金属間化合物ＢａＡｌ４の粉末にニッケルを添加した反応型ゲッタを用いることができる。  
ゲッタ膜２８を除くＳＥＤの他の構成は、上述した第１の実施形態と同一であり、同一の部分には同一の参照符号を付し、その詳細な説明を省略する。
【００３６】
図８に示すように、この発明の第３の実施形態に係るＳＥＤによれば、外囲器１０の周縁部、例えば、前面基板１１の内面の両側縁部にバリウムの薄膜からなる蒸発型のゲッタ膜２８がそれぞれ形成されている。ゲッタ膜２８は、その一部が蛍光体スクリーン１６に重なって形成されている。すなわち、第１の実施形態よりも蒸発型のゲッタ膜２８の面積が広くなるように形成されている。
【００３７】
この場合、ゲッタ膜２８の蛍光体スクリーン１６側の側縁部は、蛍光体スクリーン１６の蛍光体層Ｒ、Ｇ、Ｂを避けるようにパターニングされ、遮光層２０の上に電気的に分断された状態で形成されている。
【００３８】
ゲッタ膜２８のガス吸着特性を向上させるためには、ゲッタの形成面積を広くすると同時に膜厚を厚くすることが有効であるが、膜厚が厚すぎるとゲッタ膜が形成された領域の輝度が低下する。本実施形態にように、ゲッタ膜２８を蛍光体層Ｒ、Ｇ、Ｂ１６上を避けるよう遮光層２０の上に形成することで、そのような不具合を回避することができる。
【００３９】
パターニングされた蒸発型のゲッタ膜２８を形成する場合、分断構造に対応するマスクを介してゲッタを蒸着させればよい。蛍光体スクリーン１６の側縁部にマスクを介して蒸着する場合、蛍光体スクリーン１６の全面に蒸着する場合と異なり、マスクの大きさが小さくてすむ。そのため、蛍光体スクリーン１６とマスクとの位置合わせが容易であり、簡単に分断構造のゲッタ膜をパターニングし蒸着することが可能となる。  
ゲッタ膜２８を除くＳＥＤの他の構成は、上述した第１の実施形態と同一であり、同一の部分には同一の参照符号を付し、その詳細な説明を省略する。
【００４０】
次に、この発明の第４の実施形態に係るＳＥＤについて説明する。
【００４１】
本実施形態によれば、ＳＥＤは、背面基板１２の外面側に固定されたゲッタボックス５０を備え、このゲッタボックス内に、バリウムを含む蒸発型のゲッタ膜２８が形成されている。ゲッタボックス５０は、例えば、ガラスにより断面矩形状に形成され、背面基板１２の底面に固定され、背面基板の側縁に沿って延びている。ゲッタボックス５０の内部空間は、背面基板１２に形成された排気孔２９を通して、外囲器１０の内部に連通している。ゲッタ膜２８は、外囲器１０内部を真空排気した後、ゲッタボックス５０内に配置された蒸発型ゲッタを加熱、蒸発させることにより、ゲッタボックスの内面およびその近傍に形成されている。  
ゲッタボックス５０の大きさ、および設置数は、必要に応じて種々選択可能である。
【００４２】
第４の実施形態によれば、蒸発型のゲッタ膜２８の膜厚と面積を比較的自由に設定できる。すなわち、前面基板１１および背面基板１２とは別個にゲッタボックス５０を設け、その内部に蒸発型のゲッタ膜２８を形成した場合、蛍光体スクリーン１６や電子放出素子１８の構造的な制約を受けることがなくなる。そのため、蛍光体スクリーン１６のガス放出特性や画像表示装置の性能に合わせてゲッタ膜２８を形成することが可能となる。このような構造は、とくに画面サイズが大きい大型の画像表示装置について有効である。
【００４３】
図１０に示すように、この発明の第５の実施形態に係るＳＥＤによれば、蒸発型のゲッタからゲッタ膜２８は、ゲッタボックス５０内に加えて、外囲器１０内部、例えば、第１の実施形態と同様に、前面基板１１の内面周縁部に設けられている。この場合、蒸発型のゲッタ膜２３の形成面積をさらに大きくすることができ、大型の画像表示装置について有効である。
【００４４】
第４および第５の実施形態において、ゲッタボックスおよびゲッタ膜２８を除くＳＥＤの他の構成は、上述した第１の実施形態と同一であり、同一の部分には同一の参照符号を付し、その詳細な説明を省略した。
【００４５】
この発明は上述した実施の形態に限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。実施の形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよいし、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。
【００４６】
上述した実施形態では、ゲッタ膜の形成対象となる部材として、内面に蛍光体スクリーンを有する前面基板を備えたＳＥＤを例にとって説明したが、この発明はこれに限定されること無く、ＦＥＤ、ＰＤＰ、その他の真空装置、蛍光表示管、半導体センサーなど他のデバイスに対しても適用することができる。非蒸発型ゲッタ粉末、接着材粒子、絶縁性の接着層の材料も上記実施形態に限定されること無く、使用するデバイスの真空特性や放出ガス特性、耐熱性などに合わせ、種々使用することができる。
【００４７】
例えば、接着材粒子の材料として、リン酸系フリットガラスを用いても良い。非蒸発型ゲッタの粉末をペースト化するときの有機材料についても、酢酸エチル、酢酸ブチル、ニトロセルロース、エルバサイト、ポリエチレンカーボネートなど、使用するデバイスの特性や非蒸発型ゲッタ材などに合わせ、様々な種類のものを適宜選択して使用してよい。その他ペースト化の混合比、ペーストの形成方法、ゲッタ膜形成のための焼成条件などについても、種々変更可能であり、活性化された非蒸発型ゲッタが十分なガス吸着性能を発揮できれば良い。
【００４８】
ＳＥＤを構成する構造物の形状、寸法、配置、あるいは材料など、好適なものを選択することができることは言うまでもない。ゲッタ膜の形成寸法や形状、配置、膜厚についても、使用するデバイスの真空特性や放出ガス特性、耐熱性などに合わせ、種々使用することができる。前面基板と背面基板の封着についても、インライン型の連続炉の他、バッチ式の大気焼成炉を用いても良いし、真空中で封着を行っても良い。電子放出素子は、ｐｎ型の冷陰極素子あるいは電界放出型の電子放出素子等を用いてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】図１は、この発明の第１の実施形態に係るＳＥＤを一部破断して示す斜視図。
【図２】図２は、図１の線Ａ−Ａに沿ったＳＥＤの断面図。
【図３】図３は、前記ＳＥＤの前面基板および蛍光体スクリーンの一部を拡大して示す平面図。
【図４】図４は、図３の線Ｂ−Ｂに沿った前面基板の断面図。
【図５】図５は、前記ＳＥＤの非蒸発型のゲッタ膜を示す断面図。
【図６】図６は、この発明の第２の実施形態に係るＳＥＤを示す断面図。
【図７】図７は、前記第２の実施形態に係るＳＥＤの前面基板および蛍光体スクリーンの一部を拡大して示す平面図。
【図８】図８は、前記第３の実施形態に係るＳＥＤの前面基板および蛍光体スクリーンの一部を拡大して示す平面図。
【図９】図９は、この発明の第４の実施形態に係るＳＥＤを示す断面図。
【図１０】図１０は、この発明の第５の実施形態に係るＳＥＤを示す断面図。
【符号の説明】
【００５０】
１０…外囲器、  １１…前面基板、  １２…背面基板、  １３…側壁、
１４…支持部材、  １６…蛍光体スクリーン、  １７…メタルバック層、
１８…電子放出素子、  Ｒ、Ｇ、Ｂ…蛍光体層、  ２０…遮光層、
２３…非蒸発型のゲッタ膜、  ２８…蒸発型のゲッタ膜、  ４１…ゲッタの粉末、
４３…接着剤粒子、  ５０…ゲッタボックス
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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