(57)【要約】      （修正有）【課題】陶磁器の装飾段階において、伝統的な刷毛目技法を応用して陶磁器の外面に多様な棘模様の突起群集を形成する陶磁器の尖装技法を提供する。【解決手段】水簸段階、土練段階及び成形段階を経て成形された陶磁器を装飾する段階において、成形された陶磁器が半乾燥された状態で、粗い筆で第１のスリップを陶磁器の外面に塗り、突起の根を複数個形成する突起形成段階と、突起形成段階で形成された複数個の突起の根の上部に、筆で第２のスリップを繰り返して塗り、毎回特定の温度及び相対湿度の状態で、特定時間日陰で乾燥する乾燥過程を経て突起を成長させる突起成長段階とを含むことを特徴とし、多様な方向に傾いた突起を形成し、ひいては顔料を適切な時期に適切な比率でスリップに配合することにより、様々な模様と色を有する突起群集を演出し、従来表現することができなかった多様な陶磁器の文様を具現することができる効果がある。【選択図】図１ｅ
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
水簸段階、土練段階及び成形段階を経て成形された陶磁器を装飾する段階において、
前記成形された陶磁器が半乾燥された状態で、粗い筆で第１のスリップを前記陶磁器の外面に塗り、突起の根を複数個形成する突起形成段階と、
前記突起形成段階で形成された複数個の突起の根の上部に、前記筆で第２のスリップを５０〜１００回繰り返して塗り、毎回温度１５〜２０℃及び相対湿度６０〜７０％の状態で、１５〜２５分間日陰で乾燥する乾燥過程を経て突起を成長させる突起成長段階とを含み、
前記第１のスリップは、磁器土７９〜８４．９％、水分１５〜２０％、けい酸ソーダ０．１〜１％から構成され、
前記第２のスリップは、磁器土６９〜７９．９％、水分２０〜３０％、けい酸ソーダ０．１〜１％から構成されたことを特徴とする陶磁器の尖装技法。
【請求項２】
前記第１のスリップは、陶磁器の外面に形成する突起の根の個数を考慮して前記水分の含量を調節し、
前記第１のスリップの水分の含量調節は、陶磁器の外面に形成する突起の根の個数が、５ｃｍ×５ｃｍ当たり５０〜６０個の場合は前記水分の含量を１５％とし、同じ面積当たり２０〜３０個の場合は２０％とすることを特徴とする請求項１に記載の陶磁器の尖装技法。
【請求項３】
前記突起成長段階は、前記第２のスリップを２５〜５０回繰り返して前記乾燥過程を経て塗った後、ビニールで１２時間密封し、突起と陶磁器の胴体との水分含量を合わせる水分調節段階を更に含むことを特徴とする請求項１に記載の陶磁器の尖装技法。
【請求項４】
前記水分調節段階の以後は、前記第２のスリップの水分の含量を調節して無方向又は特定方向に繰り返して塗り、
前記第２のスリップの水分の含量調節は、最初は２０％から始めて最後は３０％になるように、毎回当たり０．２〜０．４％ずつ又は毎１０回当たり２〜４％ずつ次第に水分の含量を高め、
前記特定方向は、陶磁器の上、下、右、左、右上から左下、左下から右上、左上から右下、右下から左上の中から選択された何れか１つであることを特徴とする請求項３に記載の陶磁器の尖装技法。
【請求項５】
前記突起成長段階で成長させた複数個の突起の上部に、前記筆で第３のスリップを塗って希望する色相を施す色相彩色段階を更に含み、
前記第３のスリップは、磁器土５６〜７８．９％、水分２０〜３０％、顔料１〜１３％、けい酸ソーダ０．１〜１％から構成されたことを特徴とする請求項１乃至請求項４の何れか１項に記載の陶磁器の尖装技法。
【請求項６】
前記第１乃至第３のスリップの磁器土は、鉄分成分が少ないキャスティング用磁器土であることを特徴とする請求項５に記載の陶磁器の尖装技法。
【請求項７】
水簸段階、土練段階及び成形段階を経て成形された陶磁器を装飾する段階において、
前記成形された陶磁器が半乾燥された状態で、粗い筆で第１のスリップを前記陶磁器の外面に塗り、突起の根を複数個形成する突起形成段階と、
前記突起形成段階で形成された複数個の突起の根の上部に、前記筆で第２のスリップを５０〜１００回繰り返して塗り、毎回温度１５〜２０℃及び相対湿度６０〜７０％の状態で、１５〜２５分間日陰で乾燥する乾燥過程を経て突起を成長させる突起成長段階とを含み、
前記第１のスリップは、磁器土６６〜８３．９％、水分１５〜２０％、顔料１〜１３％、けい酸ソーダ０．１〜１％から構成され、
前記第２のスリップは、磁器土５６〜７８．９％、水分２０〜３０％、顔料１〜１３％、けい酸ソーダ０．１〜１％から構成されたことを特徴とする陶磁器の尖装技法。
【請求項８】
前記第１のスリップは、陶磁器の外面に形成する突起の根の個数を考慮して前記水分の含量を調節し、
前記第１のスリップの水分の含量調節は、陶磁器の外面に形成する突起の根の個数が、５ｃｍ×５ｃｍ当たり５０〜６０個の場合は前記水分の含量を１５％とし、同じ面積当たり２０〜３０個の場合は２０％とすることを特徴とする請求項７に記載の陶磁器の尖装技法。
【請求項９】
前記突起成長段階は、前記第２のスリップを２５〜５０回繰り返して前記乾燥過程を経て塗った後、ビニールで１２時間密封し、突起と器物の胴体との水分含量を合わせる水分調節段階を更に含むことを特徴とする請求項７に記載の陶磁器の尖装技法。
【請求項１０】
前記水分調節段階の以後は、前記第２のスリップの水分の含量を調節して無方向又は特定方向に繰り返して塗り、
前記第２のスリップの水分の含量調節は、最初は２０％から始めて最後は３０％になるように、毎回当たり０．２〜０．４％ずつ又は毎１０回当たり２〜４％ずつ次第に水分の含量を高め、
前記特定方向は、陶磁器の上、下、右、左、右上から左下、左下から右上、左上から右下、右下から左上の中から選択された何れか１つであることを特徴とする請求項９に記載の陶磁器の尖装技法。
【請求項１１】
前記第２のスリップの顔料は、一定の間隔で色相が異なるものを用いて２以上の色相を有する突起を形成することを特徴とする請求項７乃至請求項１０の何れか１項に記載の陶磁器の尖装技法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、陶磁器の尖装技法に関し、更に詳細には陶磁器の製造方法のうち、陶磁器を装飾する方法の一種として陶磁器の外面に棘模様の突起群集を形成する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
陶磁器は、一般的に水簸段階→土練段階→成形段階→装飾段階→素焼き段階→施釉段階→本焼き段階を経て製造される。
【０００３】
前記水簸段階は、土(素地)を木目細かく粉砕して水に溶かし、不純物の除去のためにスリップ（Ｓｌｉｐ）を篩に掛けた後、沈澱した泥しょうを採取して日陰で乾燥させる段階であり、前記土練段階は、前記乾燥された土に適当な水を添加して足と手で又は杵を利用して練る段階であり、ここで、土をうまく練ってこそ、土が柔らかくなり、空気が除去されて焼成時に器が膨らんではち切れることを防ぐようになる。
【０００４】
そして、前記成形段階は、陶磁器の形態を作る段階であり、ロクロ成形とモールディング成形等があり、ロクロ成形の場合、成形された陶磁器を１日乾燥させた後、陶磁器の下段部を削って足(糸底)を作るようになる。
【０００５】
次に、前記装飾段階は、前記成形が終わった陶磁器が完全に乾燥される前に、陶磁器の外面に様々な文様を入れて装飾する段階であり、これには従来知られている多様な方法等がある。特に、粉青沙器の文様技法として、象嵌技法、印花技法、剥地技法、陰刻技法、鉄画技法、刷毛目技法、担持技法等の７つが知られている。
【０００６】
次に、前記素焼き段階は、８５０〜９００℃で１次焼成する段階であり、陶磁器の完全乾燥は勿論、土の中に入っている不純物を除去して施釉しやすくすることにその目的がある。
【０００７】
次に、前記施釉段階は、素焼きされた陶磁器に釉薬を施す段階であり、担持法、噴射法、塗布法等がある。ここで、釉薬は一種のガラス膜であり、陶磁器に美しい光沢を与え、水が染み込まないようにする役割をする。
【０００８】
最後に、前記本焼き段階は、釉薬を施した陶磁器を１２００〜１３００℃で２次焼成する段階であり、釉薬を溶かして陶磁器に融着させて釉薬により陶磁器を美しく装飾する効果がある。
【０００９】
前記焼成時に用いる窯は、薪窯だけでなく、ガス窯、石油窯、電気窯等の多様な窯が用いられ、焼成方法としては、酸素を十分に供給して燃料を完全に燃焼させる酸化焼成と、酸素供給を遮断して燃料を不完全燃焼させる還元焼成がある。
【００１０】
一方、変化する時代的状況は、陶磁器を単に‘芸術作品’に止まらず、美感を生かして‘産業化させることができる製品’として次第に要求している実情である。
【００１１】
これに応えて、最近は多様な需要者の欲求に満たすために、新しい陶磁器の製造技法等が続々と開発されている。その中で素地の組成比と釉薬の組成比、そして本焼き過程で窯の温度等を適切に調節し、陶磁器の表面に塗布された釉薬層の変化により陶磁器の面に突出された突起の模様を形成させる特許文献１と、陶磁器の表面全体に直径５ｍｍ以内の大きさに不規則な陰刻模様を作り、前記陰刻模様部の表面に白土を泥状態に作った飾り材を筆に付けて塗布することにより、飾り材が陰刻模様部に充填され、その先が尖がった形態に突出された指圧突起を形成させ、指圧突起を有する陶磁器製茶器の製造方法として特許文献２とがある。
【００１２】
しかし、釉薬の組成比等の変化により陶磁器の外面に突出された突起の模様を得る先行技術は、形成される突起が微々たるものであるだけでなく、希望する多様な模様が得られない問題があり、後者の先行技術は、指圧突起の形成により指圧の効果はあるかもしれないが、美感を落として需要者の購買欲求を低下させる問題点がある。
【００１３】
【特許文献１】韓国公開特許公報第２００２−００１１８３１号
【特許文献２】韓国登録特許公報第４８０３７０号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
従って、本発明は、前記のような問題点を解決すべく、陶磁器の装飾段階において、伝統的な刷毛目技法を応用して陶磁器の外面に多様な棘模様の突起群集を形成する陶磁器の尖装技法を提供することをその目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
前記目的を達成するために、本発明は、水簸段階、土練段階及び成形段階を経て成形された陶磁器を装飾する段階において、前記成形された陶磁器が半乾燥された状態で、粗い筆で第１のスリップを前記陶磁器の外面に塗り、突起の根を複数個形成する突起形成段階と、前記突起形成段階で形成された複数個の突起の根の上部に、前記筆で第２のスリップを５０〜１００回繰り返して塗り、毎回温度１５〜２０℃及び相対湿度６０〜７０％の状態で、１５〜２５分間日陰で乾燥する乾燥過程を経て突起を成長させる突起成長段階とを含むことをその構成上の特徴とする。
【００１６】
これは、伝統的な刷毛目技法を応用したものであるが、ここで、刷毛目技法とは、従来粉青沙器の文様技法のうちの１つであり、刷毛（広くて粗い筆又は箒）に化粧土（白土）を付けて回転板の上で回っている器物に触り、その跡形のみで模様を施す技法を言う。
【００１７】
本発明による陶磁器の尖装技法は、前記刷毛目技法を利用し、従来におけるように１、２回の作業で終わるのではなく、先ず半乾燥された陶磁器の外面に突起の根を適切に形成するための所定の第１のスリップを塗り（突起形成段階）、次いで前記形成された突起を含む陶磁器に更に所定の乾燥過程を経て、所定の第２のスリップを繰り返して上塗りして突起を希望する一定の大きさに成長させ（突起成長段階）、まるで棘模様の突起群集として新しい陶磁器の文様を具現する技法であり、前記スリップに適切な顔料を適切な時期に添加して多様な色を演出することができることで、奥床しくて神秘感が溢れる多様な陶磁器の文様を具現することができる効果がある。
【発明の効果】
【００１８】
本発明は、第１のスリップの水分含量を調節して突起の密度を調節し、第２のスリップの上塗り回数で突起の大きさを調節し、更に上塗り方向を選択することにより、多様な方向に傾いた突起を形成し、ひいては顔料を適切な時期に適切な比率でスリップに配合することにより、多様な色を有する突起群集を演出し、従来全く表現することができなかった奥床しくて神秘感が溢れる多様な陶磁器の文様を具現することができる効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、添付の図面（写真）を参照しながら、本発明の実施例についてより詳細に説明する。
【００２０】
図１ａ乃至図１eは、本発明による陶磁器の尖装技法の一実施例を示す写真である。
【００２１】
先ず、図１ａのように、石膏（キャスティング）又はロクロで成形された陶磁器を半乾燥された状態で、陶磁器１０の外面に粗い筆２０で所定の第１のスリップを塗り、突起の根３２を適切に形成する。図面符号１２は、突起が形成されていない陶磁器の表面を示す。
【００２２】
ここで、陶磁器の表面に形成される突起の根３２の個数は、第１のスリップの水分含量によって異なる。即ち、第１のスリップの水分含量が少ないほど多く形成され、水分含量が多いほど相対的に少なく形成される。例えば、第１のスリップの水分含量を１５％とすれば、５ｃｍ×５ｃｍ当たり５０〜６０個が形成され、２０％とすれば、同じ面積当たり２０〜３０個が形成される。従って、第１のスリップの水分含量を調節することにより、陶磁器の表面に形成される突起の根３２の個数に変化を与えることができる。
【００２３】
前記のように、陶磁器の表面に突起の根３２を複数個形成した後、若干の乾燥過程を経て、次いで前記突起を含む陶磁器に所定の第２のスリップで図１ｂ乃至図１ｄのように、繰り返して上塗りして突起を希望する一定の大きさに成長させる。
【００２４】
第２のスリップを繰り返して上塗りするとき、一定の乾燥過程を経るようになるが、これは、温度１５〜２０℃及び相対湿度６０〜７０％の状態で、１５〜２５分間日陰で乾燥する。このとき、温度及び湿度が前記基準より低いと、速く乾燥されて突起が細く形成されやすいため、希望する模様の突起を成長させにくい問題があり、だからといって温度及び湿度を前記基準より高めると、乾燥時間が長くなり、数回上塗りして突起を希望する大きさに成長させなければならない本発明の特性上、全体の製作時間が余りにも長くなる問題がある。従って、前記乾燥過程の条件として、温度は約１５℃、相対湿度は約６５％の状態で、約２０分間日陰で乾燥することが好ましい。
【００２５】
前記のように、乾燥過程を経て上塗りしてこそ、第２のスリップを効果的に吸収して突起を成長させることができる。1度上塗りするとき、突起は約０．３ｍｍずつ成長するようになる。
【００２６】
第２のスリップを約２０回繰り返して上塗りするようになると、図１ｂのように、突起３４が陶磁器の表面で明確に区別されて成長されるが、このとき、続けて第２のスリップを上塗りするよりは、ビニール等の所定の手段を利用して１２時間密封し、突起と陶磁器の胴体との水分含量を合わせることが好ましい。このようにすることで、成長された突起が作業途中に折れることを防ぐことができるようになる。
【００２７】
そして、前記水分含量の調節は、成長させようとする突起の大きさ、即ち第２のスリップの総上塗り回数を考慮して中間地点で行うことが好ましい。
【００２８】
前記のように、突起と陶磁器の胴体との水分調節段階を経た以後は、第２のスリップの水分含量を調節して無方向又は特定方向に繰り返して塗ることが好ましい。ここで、無方向とは、第２のスリップを特定方向に上塗りしないことを言うものであり、特に突起が垂直に成長されるように上塗りすることを言う。そして、特定方向とは、陶磁器の上、下、右、左、右上から左下、左下から右上、左上から右下、右下から左上の中から選択された何れか１つとし、突起の上部が希望する方向に反りながら成長されるように上塗りすることを言う。
【００２９】
また、前記水分調節段階の以後は、第２のスリップの水分含量を調節し、最初は２０％、最後は３０％になるように、第２のスリップを２５〜５０回繰り返して塗る場合、毎回当たり０．２〜０．４％ずつ又は毎１０回当たり２〜４％ずつ高め、突起が折れないで希望する方向に成長されるようにすることが好ましい。
【００３０】
図１ｃは、突起の先を希望する方向に上塗りする過程にある模様を示す。図１ｃにおける突起３６は、図１ｂにおけるよりもずっと成長していることが分かる。このように、第２のスリップを総５０〜１００回上塗りして突起の大きさを１．５〜３ｃｍ成長させる。ここで、前記第２のスリップの上塗り回数は、成長させようとする突起の大きさによって異なるため、必ずしも前記回数に限定されるわけではない。
【００３１】
次は、図１ｄのように、突起が希望する大きさほど十分に成長された場合は、成長された複数個の突起３８の上部に、所定の筆で１〜１３％の顔料が配合された第３のスリップを塗り、希望する色相を施すようになる。前記顔料の配合比率が１％未満の場合は、顔料固有の色相を施しにくい問題があり、だからといって１３％を超過する場合は、顔料色相の変化を自由に与えることができない問題がある。また、色相は顔料の配合比率によって異なるため、希望する色相と顔料の配合比率を予め決めておくことが好ましい。
【００３２】
前記のように、最後の段階で突起に色相を施し（勿論、多様な色相で何回も上塗りすることもできる）、所定の素焼き段階、施釉段階及び本焼き段階を経るようになると、図１eのように、突起の先部分にのみ彩色され、特有の雰囲気を創出する陶磁器の文様を具現することができる。
【００３３】
ここで、素焼き段階、施釉段階及び本焼き段階は、従来の方式のまま行えばよいので、これ以上の説明は省略するものの、素焼きは９００℃、施釉はスプレー方式（噴射式）、本焼きは１２５０℃で行うことが好ましい。
【００３４】
結局、本発明によると、図２乃至図４のように、突起が無方向に垂直に形成（図２）、上方に向かって形成（図３）、又は右上から左下に向かって形成（図４）されることもできる等、多様に突起の形状を具現することができる長所がある。
【００３５】
本発明は、前記実施例以外に、前記第１のスリップと第２のスリップを最初から前記第３のスリップと同じ比率の顔料を配合し、図５及び図６のように、色相を有する突起を形成することもできる。
【００３６】
また、図５のように、第１のスリップで突起形成段階で突起を人為的に大きく形成する部位４０とそうでない部位５０とに分けて突起の根を形成することにより、突起の太さを互いに異なるように形成することもできる。
【００３７】
そして、互いに異なる顔料が配合された第２のスリップを一定の間隔で繰り返して上塗りすることにより、図６のように、２以上の色相を有する突起を形成することもできる。
【００３８】
ひいては、本発明は前記実施例に止まらず、前記第１のスリップには顔料を配合せず、第２のスリップにのみ最初から所定の顔料を配合し、図７及び図８のように、表面は白色を帯びながら、突起のみ色相を有するようにできる。
【００３９】
特に、図７は第１のスリップの水分含量を１５％とし、５ｃｍ×５ｃｍ当たり５０〜６０個の突起が形成され、図８は第１のスリップの水分含量を２０％とし、同じ面積当たり２０〜３０個の突起が形成されたので、これらは、第１のスリップの水分含量によって形成される突起の個数が異なることを示す良い実施例である。
【００４０】
前記全ての実施例において、第１乃至第３のスリップのうち、何れか１つ以上には、けい酸ソーダが０．１乃至１％含まれていることが好ましい。ここで、けい酸ソーダはけい酸ナトリウムとも言うが、極性が強い水によく溶け、スリップが長い間浮遊状態を維持するようにする解膠剤の役割をするので、特に同じスリップで繰り返して上塗りしなければならない第２のスリップと第３のスリップには必須的に入れたほうが良い。前記けい酸ソーダの比率が０．１％未満の場合は、スリップに対する解膠剤の役割を果せない問題があり、だからといって１％を超過する場合は、スリップが凝固されて絡みあう現象が起こるようになるため、けい酸ソーダの使用量は、用いられる土によって異なり得るが、０．３〜０．５％とすることがより好ましい。
【００４１】
また、前記全ての実施例において、第１乃至第３のスリップは、鉄分成分が少ないキャスティング用磁器土が好ましく、各スリップに配合される磁器土の含量は、各スリップの機能に合わせて適切に選択しなければならない。即ち、第１のスリップは陶磁器に突起の根を形成しなければならないので、７９〜８４．９％（顔料を入れる場合は６６〜８３．９％）が好ましく（前記範囲より低いと、突起の根がうまく形成されないか、又は粗く形成させる問題があり、前記範囲より高いと、余りにも密に形成される問題がある）、第２のスリップは塗って乾燥させる過程を繰り返して行い、突起を成長させなければならないので、６９〜７９．９％（顔料を入れて彩色も同時に行う場合は５６〜７８．９％）が好ましく、第３のスリップは成長された突起に顔料と共に配合して突起に希望する色相を施さなければならないので、５６〜７８．９％が好ましい。
【００４２】
結局、第１のスリップの成分は、磁器土７９〜８４．９％、水分１５〜２０％、けい酸ソーダ０．１〜１％から構成され、第２のスリップの成分は、磁器土６９〜７９．９％、水分２０〜３０％、けい酸ソーダ０．１〜１％から構成され、第３のスリップの成分は、磁器土５６〜７８．９％、水分２０〜３０％、けい酸ソーダ０．１〜１％、顔料１〜１３％から構成されるようになる。但し、第１のスリップ及び／又は第２のスリップにも第３のスリップのように、所定の顔料を配合した場合は、第１のスリップは、磁器土６６〜８３．９％、水分１５〜２０％、けい酸ソーダ０．１〜１％、顔料１〜１３％から構成され、第２のスリップは、第３のスリップと同一の構成成分及び組成比を有するようになる。
【００４３】
前記全ての実施例の第１乃至第３のスリップに添加される各成分の量は％で表示されたが、これは、全体重量に対する該当成分が占める重量を表示したものである。
【００４４】
以上で、本発明の実施例について詳細に説明したが、これは、本発明が属する技術分野における通常の知識を有する者が、本発明を容易に実施することができるように一実施例を記載したものであるので、前記実施例の記載により本発明の技術的思想が制限的に解釈されてはならない。
【００４５】
また、本発明は、陶磁器の装飾方法として記述されているが、本発明による陶磁器の尖装技法で製造された陶磁器も関係する特許法の規定に基づいて、本発明の権利範囲に属することは当然のことである。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１ａ】本発明による陶磁器の尖装技法の一実施例を示す写真である。
【図１ｂ】本発明による陶磁器の尖装技法の一実施例を示す写真である。
【図１ｃ】本発明による陶磁器の尖装技法の一実施例を示す写真である。
【図１ｄ】本発明による陶磁器の尖装技法の一実施例を示す写真である。
【図１ｅ】本発明による陶磁器の尖装技法の一実施例を示す写真である。
【図２】本発明により多様に文様が具現された一実施例を示す写真である。
【図３】本発明により多様に文様が具現された一実施例を示す写真である。
【図４】本発明により多様に文様が具現された一実施例を示す写真である。
【図５】本発明により多様に文様が具現された一実施例を示す写真である。
【図６】本発明により多様に文様が具現された一実施例を示す写真である。
【図７】本発明により多様に文様が具現された一実施例を示す写真である。
【図８】本発明により多様に文様が具現された一実施例を示す写真である。
【符号の説明】
【００４７】
１０：陶磁器
１２：突起の根が形成されていない部位
２０：粗い筆
３２、３４、３６、３８：突起
４０：突起が大きく形成された部位
５０：突起が小さく形成された部位
【図１ａ】
2008074696.tif 000003
【図１ｂ】
2008074696.tif 000004
【図１ｃ】
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【図１ｄ】
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【図１ｅ】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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