(57)【要約】【課題】生産性が高く、且つ十分な電磁遮蔽性および耐久性が得られる、光学特性を制御できる電磁遮蔽フィルムの製造方法を提供すること。【解決手段】本発明の電磁遮蔽フィルムの製造方法は、互いに交差するクレーズまたはクラックが表面に形成された透明樹脂のフィルムに無電解メッキを施し、前記クレーズ又はクラック内に金属膜を形成するステップを備えている。【選択図】図１
2008003468.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに交差するクレーズまたはクラックが表面に形成された透明樹脂のフィルムに無電解メッキを施し、前記クレーズ又はクラック内に金属膜を形成するステップを備えている、
ことを特徴とする電磁遮蔽フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記クレーズもしくはクラックのうち少なくとも１方向のクレーズまたはクラックが、前記フィルム上の所定のノッチパターンを起点として形成されたものである、
請求項１に記載の電磁遮蔽フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記ノッチパターンが、前記ノッチパターンを有する型を前記フィルムの表面に押しつけることにより前記フィルムに機械的に転写されたものである、
請求項２に記載の電磁遮蔽フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記ノッチパターンが、ネガ状ノッチパターンを備えたフィルム、又はノッチパターンが打ち抜かれた金属シートからなるマスクを前記フィルムに接触させた状態で前記フィルム又はマスクを介して活性光線を前記フィルムに照射し、該フィルムの表層を化学的に変化させて形成されたものである、
請求項２に記載の電磁遮蔽フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記クレーズまたはクラックが、張力をかけながら前記フィルムをロール表面に沿って折り曲げながら搬送し、該フィルムの表面に曲げ応力をかけることによって形成されたものである、
請求項１ないし４の何れか１項に記載の電磁遮蔽フィルムの製造方法。
【請求項６】
前記金属膜を形成するステップが、前記フィルムをロールに沿って無電解メッキ用触媒を含む水溶液中に浸漬するステップと、無電解メッキ液中に浸漬してクレーズまたはクラック中に金属薄膜を形成するステップと、を備えている、
請求項１ないし５のいずれか１項に記載の電磁遮蔽フィルムの製造方法。
【請求項７】
前記金属膜を形成するステップが、前記フィルムをロールに沿って無電解メッキ用触媒を含む水溶液中を搬送するステップと、フィルムをロールに沿って無電解メッキ液中を搬送して、クレーズまたはクラック中に金属薄膜を形成するステップと、を備えている、
請求項１ないし５のいずれかに記載の電磁遮蔽フィルムの製造方法
【請求項８】
前記クレーズまたはクラックが、前記無電解メッキ用触媒を含む水溶液中を搬送するステップで形成される、
請求項７に記載の電磁遮蔽フィルムの製造方法。
【請求項９】
前記フィルムが単量体モル％で換算したアクリロニトリル単位を少なくとも３０％以上含んでいる、
請求項１ないし８のいずれか１項に記載の電磁遮蔽フィルムの製造方法。
【請求項１０】
前記無電解メッキにより析出させる金属薄膜が、銅、またはニッケルからなる、
請求項１ないし９のいずれか１項に記載の電磁遮蔽フィルムの製造方法。
【請求項１１】
前記クレーズもしくはクラックが形成されたフィルムが、透明フィルムに積層された複合シートである、
請求項１ないし１０のいずれか１項に記載の電磁遮蔽フィルム製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、概略的には、電磁遮蔽フィルムの製造方法に関し、詳細には、光の透過・散乱等の光学特性を制御でき電磁遮蔽フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光の透過・散乱等の光学特性を制御した電磁遮蔽フィルムを製造する方法としては、例えば、以下の方法が提案されている。（１）透明樹脂と導電性塗料の薄膜とを交互に積層してブロックを形成し、このブロックと裁断することによりシートを作製する方法、（２）金属メッシュをフィルム表面に圧着あるいは、２枚にフィルム間に挟み込む方法、（３）透明性樹脂のフィルムの表面にナイフエッジ状の形状を有するブレードに押し当てしごき、フィルムにクレーズを発生させ、形成させたクレーズ内に導電性のポリピロールを重合により埋め込む方法（特許文献１参照）等があげられる。
【０００３】
【特許文献１】特開２００２−２５８０１０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記（１）および（２）の方法には、生産性が低く、製造された電磁遮蔽フィルムが高価になってしまうという問題があり、また、（３）の方法には、クレーズピッチが精密に制御することができず、クリアな視野選択性が発揮できず、十分な電磁遮蔽性および耐久性が得られないという問題があった。
【０００５】
本発明は上述したような従来技術の問題点の解決することを目的とし、生産性が高く、且つ十分な電磁遮蔽性および耐久性が得られる、光学特性を制御できる電磁遮蔽フィルムの製造方法を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明によれば、互いに交差するクレーズまたはクラックが表面に形成された透明樹脂のフィルムに無電解メッキを施し、前記クレーズ又はクラック内に金属膜を形成するステップを備えている、ことを特徴とする電磁遮蔽フィルムの製造方法が提供される。
【０００７】
このような構成によれば、生産性が高く、且つ十分な電磁遮蔽性および耐久性を有するフィルムが得られる。
本発明の電磁遮蔽フィルムは、例えば、視野選択シート、異方性光散乱シート、スクリーン及びディスプレイの前面板等に使用されるフィルムである。また、本明細書においては、「フィルム」に所謂「シート」も含まれる。
【０００８】
本発明の他の好ましい態様によれば、前記クレーズもしくはクラックのうち少なくとも１方向のクレーズまたはクラックが、前記フィルム上の所定のノッチパターンを起点として形成されたものである。
このような構成によれば、クレーズ又はクラックを形成する前に、フィルム又はシートの表面に所定のノッチパターンを設けることによって、互いに交差するクレーズ又はクラックの位置、サイズをコントロールすることも可能であり、光の透過・散乱を高度に制御できる。
【０００９】
本発明の他の好ましい態様によれば、前記ノッチパターンが、前記ノッチパターンを有する型を前記フィルムの表面に押しつけることにより前記フィルムに機械的に転写されたものである。
【００１０】
本発明の他の好ましい態様によれば、前記ノッチパターンが、ネガ状ノッチパターンを備えたフィルム、又はノッチパターンが打ち抜かれた金属シートからなるマスクを前記フィルムに接触させた状態で前記フィルム又はマスクを介して活性光線を前記フィルムに照射し、該フィルムの表層を化学的に変化させて形成されたものである。
このような構成によれば、所望のノッチパターンを容易にフィルム上に形成することができる。
【００１１】
本発明の他の好ましい態様によれば、前記クレーズまたはクラックが、張力をかけながら前記フィルムをロール表面に沿って折り曲げながら搬送し、該フィルムの表面に曲げ応力をかけることによって形成されたものである。
本発明においては、先に形成された１方向のクレーズまたはクラックが、第２のクレーズまたはクラック発生のためのノッチパターンとして働くことがわかっている。第２のクレーズまたはクラックの位置（周期）のコントロールは成り行きにはなるが、２方向にクレーズまたはクラックを有するフィルムを形成するための有効な手段と考えられる。
【００１２】
本発明の他の好ましい態様によれば、前記金属膜を形成するステップが、前記フィルムをロールに沿って無電解メッキ用触媒を含む水溶液中に浸漬するステップと、無電解メッキ液中に浸漬してクレーズまたはクラック中に金属薄膜を形成するステップと、を備えている。
このような構成によれば、電磁遮蔽フィルムを連続的に製造することができる。
【００１３】
本発明の他の好ましい態様によれば、前記金属膜を形成するステップが、前記フィルムをロールに沿って無電解メッキ用触媒を含む水溶液中に浸漬するステップと、フィルムを無電解メッキ液中に浸漬してクレーズまたはクラック中に金属薄膜を形成するステップと、を備えている。
【００１４】
本発明の他の好ましい態様によれば、前記クレーズまたはクラックが、前記無電解メッキ用触媒を含む水溶液中を搬送するステップで形成される。
このような構成によれば、クレーズ等の形成が、無電解メッキ用触媒の付与行程と同時に行われるので、行程数を減少させることができ、生産性がより高くなる。
【００１５】
本発明の他の好ましい態様によれば、前記フィルムが単量体モル％で換算したアクリロニトリル単位を少なくとも３０％以上含んでいる。
【００１６】
本発明の他の好ましい態様によれば、前記無電解メッキにより析出させる金属薄膜が、銅、またはニッケルからなる。
【００１７】
本発明の他の好ましい態様によれば、前記クレーズもしくはクラックが形成されたフィルムが、透明フィルムに積層された複合シートである。
【発明の効果】
【００１８】
このような構成を有する本発明によれば、生産性が高く、且つ十分な電磁遮蔽性および耐久性が得られる、光学特性を制御できる電磁遮蔽フィルムの製造方法が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、添付図面を参照して本発明の好ましい実施形態を説明する。
本実施形態のフィルム製造方法で、使用可能なフィルム材料としては、クレーズもしくはクラックを形成でき、且つ形成したクレーズもしくはクラック内に無電解メッキを施した際に金属皮膜が固着、充填されるものであれば特に限定されないが、形状のコントロール性の点から非晶性の高分子が望ましい。
【００２０】
例えば、未架橋あるいは部分架橋したメタクリル系樹脂、スチレン系樹脂、スチレンアクリルニトリル樹脂、ポリカーボネート系樹脂、アモロファスポリオレフィン系樹脂、紫外線硬化性透明樹脂、熱硬化性透明エポキシ樹脂、アクリロニトリル構造単位を少なくとも30%以上含む共重合体樹脂等が好ましいが、これらに限定されるわけではない。
アクリロニトリル構造単位を含有する樹脂は銅やニッケルの無電解メッキを実施する際に特別な表面処理を施すことなく比較的良好な密着性を示すので特に好適である。
【００２１】
フィルムの厚さは、5μ以上、500μ以下の範囲、好ましくは10μ以上200μ以下の範囲が好ましい。5μ以下であると機械的な手法でノッチを形成する際に使用するドラム等の装置が作成困難で且つ高価になり、他方、500μ以上であると曲げ応力による変形が困難になり、厚み方向に延びるクレーズもしくはクラックの形状コントロールが難しくなるためである。
【００２２】
また、透明樹脂フィルムは、他の透明フィルム上に積層された複合シート、またはクレーズもしくはクラック形成を終えた後で他の透明フィルムに積層することで複合化したフィルムであっても良い。使用可能な透明フィルムとしては、ポリエステル、ナイロン樹脂、メタクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン樹脂、アモロファスポリオレフィン樹脂、ポリカーボネート樹脂等のフィルムが挙げられるが、本発明はこれらに限定されない。
【００２３】
さらに、クレーズもしくはクラックの空間内に無電解メッキされる金属薄膜を形成する金属は、クレーズもしくはクラックの間隙内に無電解メッキにより析出、固定可能なものであれば特に限定されず、金、クロム、ニッケル、銅などが挙げられる。好ましい例としては、電磁遮蔽性や導電性に優れかつ安価であるニッケル、銅がある。
【００２４】
本発明で、電磁遮蔽フィルムの原料として使用される透明樹脂のフィルム（基体フィルム）にノッチパターンの付与する方法としては、精密切削された互いに平行な方向に規則的に配列した微小な刃型を表面に持つ金属ドラムを基体フィルムの表面に回転させながら圧着することで機械的にノッチを付与する方法、表面にノッチパターンを有するネガフィルム又はノッチパターンが打ち抜かれた金属箔膜からなるマスクを基体フィルムの表面に接触させた状態で紫外線等の活性光線を上方から照射して、基体フィルムの表層に化学変化を生じさせて潜在化したノッチパターンを付与する方法が挙げられる。特に、後者の手法は紫外線照射で主鎖切断が生じるメタクリル系樹脂材料に有効である。
【００２５】
ノッチパターンが付与された基体フィルムにクレーズもしくはクラックを形成させる方法としては、フィルムを張力をかけた状態でロールに巻きつけて表層に曲げ及び引っ張り応力を加え、ノッチパターンを起点としてクレーズもしくはクラックを発生させる方法があげられる。この際に、ノッチパターンの方向とロールは平行に配置しておくことが望ましい（ノッチパターンの方向と変形方向は直交していることが望ましい）。
【００２６】
特に第１の方向性を有するクレーズもしくはクラックの形成には、こちらの方法が専ら用いられる。第２の方向性を有するクレーズもしくはクラック形成に対して、ノッチパターンは第１の方向性を有するクレーズに対応するノッチパターン形成時に同時に、または第１の方向性を有するクレーズまたはクラック形成前に、第２の方向性を有するクレーズまたはクラックに対応するノッチパターンを形成しておくことで、第２の方向性を有するクレーズまたはクラックも正確なピッチ及び形状をコントロールすることが可能である。  
【００２７】
また、本発明においては第１の方向性を有するクレーズまたはクラックが、第２の方向性を有するクレーズまたはクラック形成におけるノッチとして利用することも可能である。この際には、変形の方向は第１のクレーズまたはクラックと略平行であることが好ましい。略平行になっている場合は、第２の方向性を有するクレーズまたはクラックは連続した形状となる。略平行でない場合は、第２のクレーズまたはクラックは第１のクレーズまたはクラックに沿った断続的な微小クレーズまたはクラックとなり、第２の方向への電磁遮蔽性が落ちることとなる。
【００２８】
また、本発明において、基体フィルムを溶解させない溶剤に浸漬した状態でロールに巻きつけ、表層に曲げ及び引っ張り応力がかかるようにしてノッチパターンの起点としてクレーズもしくはクラックを発生させる方法があげられる。本発明においては、特に、浸漬液が無電解メッキ用の触媒を含有している水溶液であることが工程簡略化のために好ましい。
【００２９】
さらに、クラック又はクレーズ内に無電解メッキを施す方法は、対象とする金属と樹脂との組み合わせにより表面処理等の処方が異なるが、無電解銅メッキでは、スズ−パラジウム系触媒水溶液に浸漬させた状態でノッチパターンが付与されたフィルムにクレーズ又はクラックを形成するか、あるいは予めクレーズ又はクラックを発生させたフィルムを触媒含有水溶液に浸漬しクレーズ又はクラック内に触媒液を充分に充填した後、水洗して、表面に付着した触媒を除去する。
【００３０】
次いで、フィルムをアクセレーター液に浸漬して活性なパラジウム核をクレーズ又はクラック内に発生させる。水洗した後、無電解銅メッキ液中に浸漬してメッキ反応を進行させ銅薄膜を形成するという手順で行われる。
クレーズまたはクラックへ無電解メッキ用の触媒を導入する工程と無電解メッキを行う工程は連続的に行うことも可能である。
【００３１】
図１は、本発明の好ましい実施形態の電磁遮蔽フィルムの製造方法に用いるクレーズ（クラック）形成装置１の構成を模式的に示す図面である。クレーズ形成装置１は、ノッチパターンを付与してクレーズまたはクラックを形成する装置である。
【００３２】
本実施形態のクレーズ形成装置１は、トルクモーター(図示せず)を備え巻回されている原反フィルム２を、矢印Ａで示す方向に巻き出すロール装置４と、原反フィルム２の表面にノッチを入れる加工装置６と、ノッチ加工した原反フィルム２に曲げ応力を加えクレーズを形成する外径6ｍｍの変形ロール８と、変形ロール８の上流および下流に配置されたガイド１０、１２と、巻き取りロール１４とを備えている。
【００３３】
機械的にノッチパターンを付与する場合には、加工装置６で、ノッチパターンのピッチに相当する凹凸パターンを有する金属パターンを原反フィルム２に押し付けることによって原反フィルム２にノッチパターンが形成される。本実施形態においては、凹凸を有する金属パターンが形成された金属の円筒状ロールを、加工装置６に設けることが、工程を連続化し簡略化するために好ましい。
【００３４】
また、フィルムの表層に化学変化を生じさせて潜在化したノッチパターンを付与する方法を用いる場合には、加工装置６において、ノッチパターンに対応するアルミ箔等からなるマスクが原反フィルムに被せられ、上方の紫外線照射部から紫外線等の活性光線が照射される。この場合、マスクを被せた状態で光照射部を連続的に通すことによってノッチパターンを形成するのであるが、最終的に用いる光部品にとって最適となる所望の長さのマスクを使用し、そのマスクをのせ替えることによって、断続的にノッチパターンが形成される。また、キャタビラのような連続シート状のマスクを使用し、フィルム材の移動とともに同じスピードでマスクパターンを連続的に移動させることによって、マスクのパターンを連続的に転写することもできる。また、この潜像のノッチパターンはレーザー光を高速に移動させ描画することによっても、形成することができる。
【００３５】
図２は原反フィルム２を搬送方向とは角度をつけて、加工装置のノッチパターン形成ロール１６および変形ロール１８を通過される構成を上方から見た模式的な図である。変形ロール１８の前後には、ガイド２０、２２が配置されている。
【００３６】
図３は連続的に無電解メッキを行うメッキ装置２４の構成を概略的に示す図面である。
このメッキ装置２４では、フィルムの巻き出しロール装置(図示せず)からフィルム２を巻き出し、無電解メッキ用触媒水溶液への浸漬槽２６へ移送する。その後に、フィルム２を、クレーズもしくはクラック以外に付着した液をふき取るクリーニング装置２８を通した後、水洗するための洗浄水の入った水槽３０へ移送し余剰な触媒を洗浄する。
【００３７】
次いで、フィルム２を無電解メッキ促進剤槽３２へ移送し、無電解メッキ促進剤を導入した後、水洗するための洗浄水の入った水槽３４へ移送した後、さらに、無電解メッキ槽３６に移送する。フィルムに、無電解メッキ層を形成した後、水洗するための洗浄水の入った水槽３８に移送し、その後、フィルムに残っている水を乾燥するための加熱装置４０を通し、最後に巻き取りロール４２に連続的に巻き取る。
【００３８】
各浸漬槽には、図示のように、基本的は４本のガイドが配置されている。これらのガイドロール、特に液中に配置する２本のガイドの位置によって、浸漬時間を調整できる。
【００３９】
図４は、原反フィルムを溶解させない溶剤に浸漬した状態でロールに巻きつけ、表層に曲げ及び引っ張り応力がかかるようにしてノッチパターンの起点としてクレーズもしくはクラックを発生させる際に用いる装置の概略図である。
【００４０】
この装置では、ノッチ加工したあるいは第１の方向のクレーズが形成されたフィルム４４が、ロール４６から巻き出される。フィルム４４は、ガイド４８を経て、液体５０を収容するバス５２内の液面下に配置された外径20ｍｍのガイドロール５４で折り曲げられ液体５０中でクレーズまたはクラックが形成され、さらに、クレーズもしくはクラック以外に付着した液をふき取るクリーニング装置５６およびガイド５８を経て、さらに、クリーニング後のフィルムの加熱装置６０を通り、巻き取りロール６２に巻き取られる。
【００４１】
工程数を削減し生産性を高めるため、クレーズ等の形成を無電解メッキ用触媒の付与行程と同時に行うことが可能である。この場合、図３に示した無電解メッキ触媒槽３６で、クレーズを形成してもよい。図５は、無電解メッキ触媒槽内でクレーズを形成する場合の、無電解メッキ触媒槽６４内におけるガイドの配置を示す。
【００４２】
図５の構成においては、無電解メッキ触媒槽６４のフィルム搬送方向上流側の上方に第１のガイド６６が、無電解メッキ触媒槽６４のフィルム搬送方向上流の底部付近に変形ロール６８が配置されている。また、無電解メッキ触媒槽６４の深さ方向中間位置に、第２および第３のガイド７２、７４が配置され、さらに、無電解メッキ触媒槽６４のフィルム搬送方向下流側の上方に第４のガイド７４が配置されている。
また、テンションをカットした後に、引き続き図３の装置に連続して流すことにより、一貫して連続的に電磁遮蔽フィルムを形成することが可能である。
【００４３】
本発明は、上記実施形態に限定されることなく、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範囲内で種々の変更、変形が可能である。
【実施例】
【００４４】
次に、本発明の実施例を説明する。
（実施例１）
厚さ50μmの幅30cmのポリエステルフィルム上に、ポリアクリロニトリル系樹脂（三菱レイヨン社製ボンネル原綿）をジメチルアセトアミドに溶解した溶液を、バーコーターを用いて塗布した後、乾燥させて厚さ40μmのポリアクリロニトリル系樹脂塗膜を有する複合フィルムを作製した。
【００４５】
このフィルムを図１の装置を用い、引き取り方向と垂直に線状の25μmピッチのノッチパターンを入れた後、直径4mmの変形ロールに通し、ノッチと平行に折り曲げ、170°の角度で変形させながら通過させ、25μmピッチの線状クレーズを発生させた。この際に搬送速度は40cm/minであり、ノッチパターン作製時には張力2N/cm、クレーズ作製時には張力20N/cmをかけていた。この得られたフィルムを長さ30cmに切断し、連続した先に使用したポリエステルフィルムと強力両面テープでつなぎ合わせて、さらに図１の装置を用い、同じ条件で発生した線状クレーズと直交する形で再度ノッチを入れ、同様の条件でノッチと平行に折り曲げて互いに交差する格子状クレーズを作成した。その後強力両面テープをはずし、直交した方向に格子状のクレーズを有する30cm×30cmのフィルムを得た。
【００４６】
次いで、このクレーズが形成されたフィルムを、室町ケミカル社製の無電解めっき用スズ−パラジウム系触媒MK-2605液に10分間浸漬した後、水洗し、次いで、室町ケミカル社の促進剤MK-370液中に10分間浸漬しパラジウム核をクレーズ内に形成した。
その後、室町ケミカル社の無電解銅メッキ液MK-430中に20分間浸漬して銅薄膜をクレーズ内に含有したフィルムを作製した。液温は全て、25℃で処理した。
【００４７】
このフィルムに平行光線を垂直方向から入射させた時の透過率は65%、フィルムを30度傾けて入射させた時（入射角６０度）の透過率は0.4%であった。
また、関西電子工業振興センターの開発したKEC法（発信部と受信部の距離：10mm、温湿度：20℃、65%RH、入射エネルギーはフィルム表面から照射、信号発信用アンテナと受信アンテナの間に資料を挿入、試料の有無による電界強度の差から算出）で測定した電磁遮蔽性能は100MHzで50dBであり、極めてシャープな視野制御性と良好な電磁遮蔽能を示した。
【００４８】
（実施例２）
実施例１で作製した厚さ40μmのポリアクリロニトリル系樹脂塗膜を有するポリエステル複合フィルムを図１の装置を用い、図２のように装置の位置構成を変更することで、引き取り方向と45°の角度でノッチ形成ロールを通し、フィルムの長さ方向に対し45°傾いたノッチパターンを形成した。さらにノッチの方向と変形ロールが平行に配置されるように変形ロールに対しても45°の角度で通し、フィルム長さ方向と45°の角度を有するクレーズまたはクラックを形成した。さらにフィルムの引き取り方向と-45°の角度で同様に装置を通し、フィルム長さ方向と-45°の角度を有する25μmピッチの線状クレーズを発生させた。発生した２つの方向を有する線状クレーズは直交関係を有し、交差する格子状クレーズとなった。実施例１とは異なり、連続的なフィルムとして巻き取ることが可能であった。
【００４９】
このフィルムを30cm×30cmの長さに切り、実施例１と同様にして無電解メッキを行った。このフィルムに平行光線を垂直方向から入射させた時の透過率は64%、第１のクレーズに対しフィルムを30度傾けて入射させた時（入射角６０度）の透過率は0.3%であった。
【００５０】
また、関西電子工業振興センターの開発したKEC法（発信部と受信部の距離：10mm、温湿度：20℃、65%RH、入射エネルギーはフィルム表面から照射、信号発信用アンテナと受信アンテナの間に資料を挿入、試料の有無による電界強度の差から算出）で測定した電磁遮蔽性能は100MHzで53dBであり、極めてシャープな視野制御性と良好な電磁遮蔽能を示した。
（実施例３）
実施例１で作製した第１の25μmピッチの線状クレーズを有するフィルムを、再び図１の装置を用いて、張力25N/cmをかけた状態で搬送速度は20cm/minで、フィルムの連続方向に直径4mmの変形ロールに通し、第１のクレーズと直交の関係で折り曲げ、170°の角度で変形させながら通過させたところ、実施例１のように完全に規則的では無いものの、平均ピッチで約30μmのクレーズが第１のクレーズとは直交した関係で形成できた。このフィルムは連続的に作製することができた。
【００５１】
次に、一旦テンションをカットした後に、図３記載の連続無電解メッキを行う設備へ導入した。内部が幅50cm深さ1.7m長さ1mからなる触媒水溶液槽に高さ160cmまで室町ケミカル社製の無電解めっき用スズ−パラジウム系触媒MK-2605液を満たした槽内に図のように配置した４本のガイドを用い、液中にある２本のガイドに関しては液面より約55cmの位置に配置し、フィルムが水溶液中を移送する時間を10分とした。その後、クレーズもしくはクラック以外に付着した液をふき取るドクターブレードからなるクリーニング装置を通した。さらに先の触媒水溶液槽とまったく同じ槽でロールの位置も同じ槽を用意し、水洗するための洗浄水を高さ160cmまで満たした水槽へ移送した。移送時間は10分であった。余剰な触媒を洗浄した後に、先の２つの槽とまったく同型の槽に室町ケミカル社の促進剤MK-370液を160cmまで満たした中にフィルムを通し、パラジウム核をクレーズ内に形成した。このときの浸漬時間も10分であった。その後、再び、クレーズもしくはクラック以外に付着した液をふき取るドクターブレードからなるクリーニング装置を通した。さらに、先の３つの槽と同型ではあるが液中にある２本のガイドは液面よりの槽に室町ケミカル社の無電解銅メッキ液MK-430を160cmまで満たした無電解メッキ槽へ移送し、無電解メッキ層を形成した。無電解メッキ槽通過時間は20分であった。その後、先の水洗槽とまったく同様の水洗槽を通した。その後、70℃の温風を吹き付けるエリアを10分間通し、フィルムに残っている水を乾燥したのち、最後に巻き取りロールで連続的にフィルムが巻き取った。この一連の工程において搬送速度は20cm/minで、処理槽の液温は25℃で行った。
【００５２】
このフィルムに平行光線を垂直方向から入射させた時の透過率は65%、フィルムを30度傾けて入射させた時（入射角60度）の透過率は0.5%であった。
また、関西電子工業振興センターの開発したKEC法（発信部と受信部の距離：10mm、温湿度：20℃、65%RH、入射エネルギーはフィルム表面から照射、信号発信用アンテナと受信アンテナの間に資料を挿入、試料の有無による電界強度の差から算出）で測定した電磁遮蔽性能は100MHzで51Bであり、極めてシャープな視野制御性と良好な電磁遮蔽能を示した。
【００５３】
（実施例４）
実施例３において、第２の方向を有するクレーズ形成を図４，５に示したように無電解メッキ用触媒槽内で20ｍｍのガイドロールにより変形を加えて行った。その際の引き取り速度は20cm/minで張力は20N/cmであった。その後、ニップロールを通して張力をカットした後、実施例３と同様の処理を行い、連続的にフィルムが巻き取った。
【００５４】
このフィルムに平行光線を垂直入射させた時の透過率は67%、フィルムを30度傾けて入射させた時（入射角６０度）の透過率は0.5%であり、極めてシャープな視野制御性を示した。又、実施例１と同様の方法で測定した電磁遮蔽性能は54dBであった。
【００５５】
（実施例５）
実施例１のポリエステルフィルムに代えて、厚さ0.7ｍｍ、幅10cmのアクリル樹脂板を用いた点以外は実施例１と同様の方法で電磁遮蔽フィルムを作製した。
このフィルムに平行光線を垂直入射させた時の透過率は70%、フィルムを30度傾けて入射させた時（入射角６０度）の透過率は0.3%であり、極めてシャープな視野制御性を示した。又、実施例１と同様の方法で測定した電磁遮蔽性能は55dBであった。
【００５６】
（実施例６）
図１の装置のノッチを形成するドラムの代えて、2ミクロンの幅のスリットが25μピッチで打ち抜かれたアルミ箔からなるマスクを、クレーズもしくはクラックを形成させるフィルムに、スリットが進行方向と45度の角度となるよう接触させ、上方から高圧水銀灯で紫外線を照射し、スリットと平行に折り曲げてクレーズを発生させる。
【００５７】
次いで、マスクを逆方向に45度回転させ、フィルムに接触させた状態で、上方から再度紫外線を照射した後、スリットと平行に折り曲げて互いに交差する格子状クレーズを発生させる以外は実施例１と同様の方法で電磁遮蔽性を有するシートを作製した。
【００５８】
このシートの平行光線を垂直入射した時の透過率は68%、フィルムを30度傾けて入射した時の透過率は0.4%であり、極めてシャープな視野制御性を示した。又、実施例１と同様の方法で測定した電磁遮蔽性能は60dBであった。
【００５９】
（実施例７）
2ミクロンの幅のスリットが25μピッチで打ち抜かれたアルミ箔からなるマスクをクレーズもしくはクラックを形成するフィルムにスリットが進行方向と45度の角度となるよう接触させ、上部から高圧水銀灯で紫外線を照射した後、図１のガイドロールの代わりにステンレス製の頂角が30度で剣先が約100μの内径をもつ円形状に加工したブレードを使用する以外は実施例１と同様の方法で互いに交差するクレーズを発生させ、実施例１と同様な条件で無電解メッキを施し異方性導電フィルムを作製した。
【００６０】
このフィルムの平行光線を垂直入射した時の透過率は55%、フィルムを30度傾けて入射した時の透過率は0.3%であった。又、実施例１と同様の方法で測定したこのフィルムの電磁遮蔽製法は55dBであった。
【図面の簡単な説明】
【００６１】
【図１】本発明の好ましい実施形態の電磁遮蔽フィルムの製造方法に用いるクレーズ（クラック）形成装置の構成を模式的に示す図面である。
【図２】原反フィルムを搬送方向とは角度をつけて、加工装置のノッチパターン形成ロールおよび変形ロールを通過される構成を上方から見た模式的な図である。
【図３】連続的に無電解メッキを行うメッキ装置の構成を概略的に示す図面である。
【図４】原反フィルムを溶剤に浸漬した状態でクレーズもしくはクラックを発生させる際に用いる装置の構成を概略的に示す図面である。
【図５】無電解メッキ触媒槽内でクレーズを形成する場合のガイドの配置を示す図面である。
【符号の説明】
【００６２】
１：クレーズ形成装置
２：原反フィルム
４：ロール装置
６：加工装置
８：変形ロール
１０、１２：ガイド
１４：巻き取りロール
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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