(57)【要約】【課題】  酸素存在下で製造した場合であっても、弾性率が高く、硬度および膜強度に優れ、製造効率および製造コストに優れる反射防止層を有する反射防止ハードコートフィルムを提供する。【解決手段】  透明プラスチックフィルム基材１の上にハードコート層２が形成され、この上に反射防止層３が形成された反射防止ハードコートフィルム４において、前記反射防止層３が、少なくとも２個の重合性官能基を有する多官能重合性化合物、ラジカル重合性官能基および活性水素基を有するポリシロキサン化合物およびケトン系溶媒を含む反射防止層形成材料の塗工膜を形成し、前記塗工膜を硬化させて形成される反射防止層３であることを特徴とする。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも２個の重合性官能基を有する多官能重合性化合物、ラジカル重合性官能基および活性水素基を有するポリシロキサン化合物およびケトン系溶媒を含む硬化皮膜形成材料の塗工膜を形成し、前記塗工膜を硬化させて形成される硬化皮膜。
【請求項２】
前記ケトン系溶媒が、前記硬化皮膜形成材料１００重量部に対し、３重量部以上の割合で含まれている請求項１記載の硬化皮膜。
【請求項３】
前記ケトン系溶媒が、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）である請求項１または２記載の硬化皮膜。
【請求項４】
前記ポリシロキサン化合物において、前記ラジカル重合性官能基が、アクリロイルオキシ基およびメタクリロイルオキシ基の少なくとも一方であり、前記活性水素基が、水酸基、アミノ基およびカルボキシル基の少なくとも一つの基である請求項１から３のいずれか一項に記載の硬化皮膜。
【請求項５】
前記ポリシロキサン化合物が、下記の（Ａ）化合物、（Ｂ）化合物および（Ｃ）化合物からなる群から選択される少なくとも一つの化合物である請求項１から４のいずれか一項に記載の硬化皮膜。
（Ａ）下記一般式（１）で表されるジメチルシロキサン単位と、下記一般式（２）で表されるシロキサン単位および下記一般式（３）で表されるシロキサン単位の少なくとも一方のシロキサン単位とを含むポリシロキサン化合物。
（Ｂ）下記一般式（１）で表されるジメチルシロキサン単位、下記一般式（４）で表されるシロキサン単位および下記一般式（５）で表されるシロキサン単位を含むポリシロキサン化合物。
（Ｃ）下記一般式（６）で表されるポリシロキサン化合物。
【化１】
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【化２】
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【化３】
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【化４】
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前記一般式（４）において、ｘは１〜１０の整数である。
【化５】
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前記一般式（５）において、ｘは１〜１０の整数である。
【化６】
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前記一般式（６）において、少なくとも一つのＲが、シロキサン構造を有する置換基であり、少なくとも一つのＲが、アクリロイルオキシ基およびメタクリロイルオキシ基の少なくとも一方を有する置換基であり、少なくとも一つのＲが、活性水素基を有する置換基である。
【請求項６】
前記多官能重合性化合物の重合性官能基が、アクリロイルオキシ基およびメタクリロイルオキシ基の少なくとも一方の基である請求項１から５のいずれか一項に記載の硬化皮膜。
【請求項７】
透明プラスチックフィルム基材の少なくとも一方の面に、ハードコート層、反射防止層がこの順序で積層形成されている反射防止ハードコートフィルムであって、前記反射防止層が、請求項１から６のいずれか一項に記載の硬化皮膜であることを特徴とする反射防止ハードコートフィルム。
【請求項８】
前記ハードコート層の厚みが、２〜５０μｍの範囲である請求項７記載の反射防止ハードコートフィルム。
【請求項９】
前記反射防止層が、中空で球状の酸化ケイ素超微粒子を含有する請求項７または８記載の反射防止ハードコートフィルム。
【請求項１０】
前記ハードコート層の表面が凹凸形状となって防眩性を有する請求項７から９のいずれか一項に記載の反射防止ハードコートフィルム。
【請求項１１】
反射防止ハードコートフィルムを含む偏光板であって、前記反射防止ハードコートフィルムが、請求項７から１０のいずれか一項に記載の反射防止ハードコートフィルムであることを特徴とする偏光板。
【請求項１２】
反射防止ハードコートフィルムおよび偏光板の少なくとも一方を搭載した画像表示装置であって、前記反射防止ハードコートフィルムが請求項７から１０のいずれか一項に記載の反射防止ハードコートフィルムであり、前記偏光板が請求項１１記載の偏光板であることを特徴とする画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、硬化皮膜、それを用いた反射防止ハードコートフィルム、偏光板および画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
各種画像表示装置の一つに液晶表示装置（ＬＣＤ）があるが、ＬＣＤの高視野角化、高精細化、高速応答性、色再現性などに関する技術革新に伴い、ＬＣＤを利用するアプリケーションもノートパソコンやモニターからテレビヘと変化しつつある。ＬＣＤは、二枚の透明電極を有する平板状ガラスの間に一定間隔のギャップをスペーサーにより設け、そこに、液晶材料を注入して封止し、その後に平板状ガラスの表裏面に偏光板を貼付するという構成が基本的構成である。従来は、ＬＣＤ表面にガラスやプラスチックからなるカバープレートを装着し、ＬＣＤ表面に貼付している偏光板への傷付き防止を図っていた。しかし、カバープレートを装着するとコスト、重量の面で不利であり、次第に偏光板表面にハードコートフィルムを貼着するようになってきた。
【０００３】
しかし、ハードコートフィルムを、例えば、ＬＣＤ表面に貼着した場合、偏光板表面での光の反射により、ディスプレイの視認性が低下する。特に、明るい照明下での使用頻度の高いカーナビゲーション用モニターやビデオカメラ用モニター等では、表面反射による視認性の低下が顕著である。この問題を解決するために、ハードコートフィルムのハードコート層の上に反射防止層（低屈折率層）を形成して、反射防止が図られている。屋外使用頻度の高いほとんどのディスプレイにおいて、その表面の装着されるハードコートフィルムは、反射防止層を備えたものである。
【０００４】
前記反射防止層は、一般的に、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法等の乾式法により、あるいはダイやグラビアロール塗工等を用いた湿式法によって屈折率の異なる材料からなる複数の薄膜の多層積層体、または低屈折率材料からなる単層体を形成することにより設けられる。一般的には、工程を複雑にすることなく製造することができること、また、低コスト化を実現できることにより単層構成の反射防止層が工業的に多用されている。前記単層構成の反射防止層の厚みは、０．１〜０．５μｍであるが、硬化処理工程での酸素阻害により、前記ハードコート層との密着性が十分でない為に界面破壊が生じたり、膜強度が十分でなかったりすることがある。ＬＣＤのアプリケーションが家庭用のテレビに移行することにより、一般的な家庭用テレビの使用者は、ＬＣＤを使用したテレビであっても従来のガラス製のＣＲＴを利用したテレビと同様な取り扱いを行うことが容易に想定される。そのため、反射防止ハードコートフィルムにおいても、更なる硬度の向上と膜強度の向上が要求されている。
【０００５】
反射防止層の膜強度を向上させるための方法として、分子内に重合性官能基を有するポリシロキサン化合物１５〜８０重量部と、分子内に少なくとも２個の重合性官能基を有する化合物２０〜８５重量部とを含む組成物により形成される硬化被膜を薄膜で形成するという方法を記載した先行文献がある（特許文献１）。しかし、この先行文献では、酸素阻害の影響を受けないカチオン重合性官能基を有するポリシロキサン化合物と、同様に酸素阻害の影響を受けない多官能カチオン重合性化合物との組合せで、薄くても十分に硬化した硬化皮膜を得ることができることが開示されているが、酸素阻害の影響を受けるラジカル重合性官能基を有するポリシロキサン化合物と、同様に酸素阻害の影響を受ける多官能ラジカル重合性化合物との組合せにおいて、薄くても十分に硬化した硬化皮膜を得る技術については記載も示唆もない。
【０００６】
また、透明支持体から最も遠くに位置する低屈折率層に、中空シリカ粒子と表面自由エネルギーを低下させる化合物を含ませた反射防止フィルムがある（特許文献２）。しかし、この反射防止フィルムでは、一般的に硬度が不十分な含フッ素ポリマーを主体とした構成であり、さらに硬化時に多量の熱や窒素パージが必要であるため、コストおよび生産性の点から望ましくない。
【０００７】
【特許文献１】特開２００４−３１４４６８号公報
【特許文献２】特開２００５−１８６５６８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
そこで、本発明は、酸素の存在下で製造された場合であっても弾性率が高く、硬度および膜強度に優れ、かつ低コストで効率良く製造可能な硬化皮膜、それを用いた反射防止ハードコートフィルム、偏光板および画像表示装置の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記目的を達成するために、本発明の硬化皮膜は、少なくとも２個の重合性官能基を有する多官能重合性化合物、ラジカル重合性官能基および活性水素基を有するポリシロキサン化合物およびケトン系溶媒を含む硬化皮膜形成材料の塗工膜を形成し、前記塗工膜を硬化させて形成される硬化皮膜である。
【００１０】
本発明の反射防止ハードコートフィルムは、透明プラスチックフィルム基材の少なくとも一方の面に、ハードコート層、反射防止層がこの順序で積層形成されている反射防止ハードコートフィルムであって、前記反射防止層が、前記本発明の硬化皮膜であることを特徴とする。
【００１１】
本発明の偏光板は、反射防止ハードコートフィルムを含む偏光板であって、前記反射防止ハードコートフィルムが、前記本発明の反射防止ハードコートフィルムであることを特徴とする。
【００１２】
本発明の画像表示装置は、反射防止ハードコートフィルムおよび偏光板の少なくとも一方を搭載した画像表示装置であって、前記反射防止ハードコートフィルムが前記本発明の反射防止ハードコートフィルムであり、前記偏光板が前記本発明の偏光板であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の硬化皮膜は、酸素の存在下で製造された場合であっても弾性率が高く、その結果、硬度および膜強度に優れ、かつ製造時において多量の熱や窒素パージを必要としないから、その製造は低コストで効率良く実施できる。したがって、前記硬化皮膜を反射防止層（低屈折率層）として有する本発明の反射防止ハードコートフィルムでは、前記反射防止層がハードコート層に強固に密着して剥がれ等が防止され、前記反射防止層の硬度が高く、しかもその製造は低コストかつ効率良く実施できる。なお、本発明において、前記ポリシロキサン化合物の前記重合性官能基がラジカル重合性官能基であっても、酸素の影響を受けずに硬度が高く膜強度が高い薄膜の硬化皮膜が形成できる理由は不明であるが、本発明者等は、ケトン系溶媒が酸素の拡散を防止することで、酸素の悪影響を受けないと推察している。ただし、この推察は本発明をなんら限定しない。また、本発明の硬化皮膜は、本発明の反射防止ハードコートフィルムの反射防止層に好適に用いられるが、これに限定されず、本発明の硬化皮膜は、その他の用途に使用してもよい。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明の硬化皮膜において、前記ケトン系溶媒は、前記硬化皮膜形成材料１００重量部に対し、３重量部以上の割合で含まれていることが好ましい。また、前記ケトン系溶媒は、例えば、アセトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）等があるが、ＭＩＢＫが好ましく、より好ましくは、ＭＩＢＫ単独で使用することである。
【００１５】
本発明の硬化皮膜の前記ポリシロキサン化合物において、前記ラジカル重合性官能基が、アクリロイルオキシ基およびメタクリロイルオキシ基の少なくとも一方であり、前記活性水素基が、水酸基、アミノ基およびカルボキシル基の少なくとも一つの基であることが好ましい。
【００１６】
本発明の硬化皮膜において、前記ポリシロキサン化合物が、下記の（Ａ）化合物、（Ｂ）化合物および（Ｃ）化合物からなる群から選択される少なくとも一つの化合物であることが好ましい。
【００１７】
（Ａ）下記の一般式（１）で表されるジメチルシロキサン単位と、下記一般式（２）で表されるシロキサン単位および下記一般式（３）で表されるシロキサン単位の少なくとも一方のシロキサン単位とを含むポリシロキサン化合物。
【００１８】
（Ｂ）下記の一般式（１）で表されるジメチルシロキサン単位、下記一般式（４）で表されるシロキサン単位および下記一般式（５）で表されるシロキサン単位を含むポリシロキサン化合物。
【００１９】
（Ｃ）下記一般式（６）で表されるポリシロキサン化合物。
【００２０】
【化１】
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【００２１】
【化２】
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【００２２】
【化３】
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【００２３】
【化４】
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前記一般式（４）において、ｘは１〜１０の整数である。
【００２４】
【化５】
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前記一般式（５）において、ｘは１〜１０の整数である。
【００２５】
【化６】
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前記一般式（６）において、少なくとも一つのＲが、シロキサン構造を有する置換基であり、少なくとも一つのＲが、アクリロイルオキシ基およびメタクリロイルオキシ基の少なくとも一方を有する置換基であり、少なくとも一つのＲが、活性水素基を有する置換基である。
【００２６】
本発明の硬化皮膜において、前記多官能重合性化合物の重合性官能基が、アクリロイルオキシ基およびメタクリロイルオキシ基の少なくとも一方の基であることが好ましい。
【００２７】
本発明の反射防止ハードコートフィルムにおいて、前記ハードコート層の厚みは、２〜５０μｍの範囲であることが好ましい。
【００２８】
本発明の反射防止ハードコートフィルムにおいて、前記反射防止層が、中空で球状の酸化ケイ素超微粒子を含有することが好ましい。
【００２９】
本発明の反射防止ハードコートフィルムにおいて、前記ハードコート層の表面が凹凸形状となって防眩性を有することが好ましい。
【００３０】
本発明の硬化皮膜の製造方法は、例えば、少なくとも２個の重合性官能基を有する多官能重合性化合物、ラジカル重合性官能基および活性水素基を有するポリシロキサン化合物およびケトン系溶媒を含む硬化皮膜形成材料の塗工膜を形成し、前記塗工膜を硬化させて硬化皮膜を形成するという製造方法である。本発明の硬化皮膜の製造方法において、前記塗工膜は、乾燥した後、硬化させることが好ましい。本発明の硬化皮膜の製造方法において、その好ましい態様は、前述および後述の本発明の硬化皮膜の説明で例示したものと同様である。
【００３１】
本発明の反射防止ハードコートフィルムの製造方法は、透明プラスチックフィルム基材の少なくとも一方の面に、ハードコート層、反射防止層がこの順序で積層形成されている反射防止ハードコートフィルムを製造する方法であって、前記反射防止層が、前記本発明の硬化皮膜であり、前記硬化皮膜が、前記本発明の硬化皮膜の製造方法により製造される。本発明の反射防止ハードコートフィルムの製造方法において、その好ましい態様は、前述および後述の本発明の反射防止ハードコートフィルムの説明で例示したものと同様である。
【００３２】
本発明の硬化皮膜形成材料は、少なくとも２個の重合性官能基を有する多官能重合性化合物、ラジカル重合性官能基および活性水素基を有するポリシロキサン化合物およびケトン系溶媒を含むことを特徴とする。本発明の硬化皮膜形成材料において、その好ましい態様は、前述および後述の本発明の硬化皮膜の説明で例示したものと同様である。
【００３３】
本発明の反射防止層形成材料は、少なくとも２個の重合性官能基を有する多官能重合性化合物、ラジカル重合性官能基および活性水素基を有するポリシロキサン化合物およびケトン系溶媒を含むことを特徴とする。本発明の反射防止層形成材料において、その好ましい態様は、前述および後述の本発明の硬化皮膜の説明で例示したものと同様である。
【００３４】
つぎに、本発明について、例をあげて詳細に説明する。
【００３５】
本発明の硬化皮膜若しくは反射防止層を形成するための２個以上の重合性官能基を有する多官能重合性化合物は、熱、紫外線または電子線等により硬化する化合物であれば、特に制限されない。前記多官能重合性化合物としては、例えば、多価アルコールのアクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステルのような多官能性のアクリレート樹脂、ジイソシアネート、多価アルコールおよびアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシアルキルエステル等から合成されるような多官能性のウレタンアクリレート樹脂、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の多官能アクリレートまたは多官能メタクリレートなどを挙げることがでる。さらにアクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹胎、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も必要に応じて好適に使用することができる。また、メラニン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキッド系樹脂、シリコーン系樹脂等も好ましく用いられる。これらの樹脂の中で、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の３官能以上のアクリレートまたはメタクリレートが、得られる硬化皮膜若しくは反射防止層の硬度をより優れたものにするために好ましく用いられる。
【００３６】
前記多官能重合性化合物には、反応性希釈剤を用いることができる。前記反応希釈剤としては、例えば、エチレンオキサイド変性フェノールのアクリレートまたはメタクリレート、プロピレンオキサイド変性フェノールのアクリレートまたはメタクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノールのアクリレートまたはメタクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノールのアクリレートまたはメタクリレート、
２−エチルへキシルカルビトールアクリレート、２−エチルへキシルカルビトールメタクリレート、
イソボルニルアクリレート、イソボルニルメタクリレート、
テトラヒドロフルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、
ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、
ヒドロキシプロピルアクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート、
ヒドロキシブチルアクリレート、ヒドロキシブチルメタクリレート、
ヒドロキシへキシルアクリレート、ヒドロキシへキシルメタクリレート、
ジエチレングリコールモノアクリレート、ジエチレングリコールモノメタクリレート、
ジプロピレングリコールモノアクリレート、ジプロピレングリコールモノメタクリレート、
トリエチレングリコールモノアクリレート、トリエチレングリコールモノメタクリレート、
トリプロピレングリコールモノアクリレート、トリプロピレングリコールモノメタクリレート等の単官能アクリレートまたは単官能メタクリレート、
ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、
トリエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、
テトラエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、
ジプロピレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジメタクリレート、
トリプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジメタクリレート、
テトラプロピレングリコールジアクリレート、テトラプロピレングリコールジメタクリレート、
ポリプロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、
１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジメタクリレート、
ネオペンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、
エチレンオキサイド変性ネオペンチルグリコールのジアクリレート、エチレンオキサイド変性ネオペンチルグリコールのジメタクリレート、
エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡのジアクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡのジメタクリレート、
プロピレンオキサイド変性ビスフェノールＡのジアクリレート、プロピレンオキサイド変性ビスフェノールＡのジメタクリレート、
エチレンオキサイド変性水添ビスフェノールＡのジアクリレート、エチレンオキサイド変性水添ビスフェノールＡのジメタクリレート、
トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパンジメタクリレート、
トリメチロールプロパンアリルエーテルジアクリレート、トリメチロールプロパンアリルエーテルジメタクリレート等を用いることができる。
【００３７】
つぎに、本発明の硬化皮膜若しくは反射防止層を形成するためのラジカル重合性官能基を有するポリシロキサン化合物としては、一分子中にシロキサン結合を有する部分と、ラジカル重合性官能基と活性水素基を有する化合物であれば、特に制限されない。前記ラジカル重合性官能基としては、前述のように、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基が好ましい。前記活性水素基としては、例えば、水酸基（ヒドロキシ基）、カルボキシル基、アミノ基等があげられる。前記ポリシロキサン化合物は、直鎖状又は分岐を有するポリシロキサン化合物であることが好ましい。
【００３８】
シロキサン構造は、特に制限されないが、−（Ｓｉ（Ｒｌ）（Ｒ２）−Ｏ）−の繰り返し単位を有するものがあげられる。シロキサン構造は、通常、これらが繰り返すポリシロキサン単位を有する。前記Ｒｌ、Ｒ２は、炭素数１〜６のアルキル基、フェニル基等があげられる。シロキサン構造としては、前記一般式（１）で表されるジメチルシロキサン単位が好ましい。
【００３９】
前記ポリシロキサン化合物において、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基および活性水素基の導入は、前記シロキサン構造のＲ１およびＲ２の少なくとも一方を、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基および活性水素基の少なくとも一つの基を有する置換基とすることにより実施できる。この場合、前記ポリシロキサン化合物全体として、アクリロイルオキシ基およびメタクリロイルオキシ基の少なくとも一方の基と、活性水素基を有していればよいので、前記置換基は、例えば、アクリロイルオキシ基およびメタクリロイルオキシ基の少なくとも一方と、活性水素基との双方の基を有していても良いし、いずれかの基を有していてもよい。
【００４０】
アクリロイルオキシ基およびメタクリロイルオキシ基の少なくとも一方の基と、ヒドロキシ基との双方の基を有する置換基が導入されたシロキサン単位としては、例えば、前記一般式（２）で表されるシロキサン単位および前記一般式（３）で表されるシロキサン単位がある。
【００４１】
前記一般式（２）で表されるシロキサン単位は、メチル、３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシプロピルシロキサンである。
【００４２】
前記一般式（３）で表されるシロキサン単位は、メチル、２−アクリロイルオキシ−３−ヒドロキシプロポキシプロピルシロキサンである。
【００４３】
アクリロイルオキシ基もしくはメタクリロイルオキシ基を有するシロキサン単位としては、例えば、前記一般式（４）で表されるシロキサン単位がある。前記一般式（４）で表されるシロキサン単位は、前記シロキサン構造において、Ｒ１もしくはＲ２の一方がメチル基であり、他方が、末端にアクリロイルオキシ基を有するポリエチレングリコールプロピルエーテル基である。前記一般式（４）において、ｘは１〜１０の整数である。
【００４４】
ヒドロキシ基を有するシロキサン単位としては、例えば、前記一般式（５）で表されるシロキサン単位がある。前記一般式（５）で表されるシロキサン単位は、前記シロキサン構造において、Ｒ１もしくはＲ２の一方がメチル基であり、他方が末端にヒドロキシル基を有するポリエチレングリコールプロピルエーテル基である。前記一般式（５）において、ｘは１〜１０の整数である。
【００４５】
前記一般式（１）、一般式（２）、一般式（３）、一般式（４）および一般式（５）の少なくとも一つを含む前記ポリシロキサン化合物としては、前述のように、例えば、下記の（Ａ）化合物および（Ｂ）化合物があげられる。
【００４６】
（Ａ）：前記一般式（１）で表されるジメチルシロキサン単位と、前記一般式（２）で表されるシロキサン単位および前記一般式（３）で表されるシロキサン単位の少なくとも一方のシロキサン単位とを含むポリシロキサン化合物。
【００４７】
前記（Ａ）化合物において、前記一般式（１）で表されるジメチルシロキサン単位（Ｘ１）と、前記一般式（２）で表されるシロキサン単位（Ｘ２）および下記一般式（３）で表されるシロキサン単位（Ｘ３）の少なくとも一方のシロキサン単位（Ｘ２，Ｘ３）のモル比（Ｘ１：Ｘ２，Ｘ３）は、例えば、１００：１〜５０の範囲であり、好ましくは、１００：３〜３０の範囲である。前記（Ａ）化合物において、前記一般式（２）で表されるシロキサン単位（Ｘ２）および前記一般式（３）で表されるシロキサン単位（Ｘ３）の双方が含まれている場合のモル比（Ｘ１：Ｘ２：Ｘ３）は、例えば、１００：１〜５０：１〜５０の範囲であり、好ましくは、１００：５〜４０：２〜１５の範囲であり、より好ましくは、１００：１０〜３０：３〜１０の範囲である。
【００４８】
（Ｂ）：前記一般式（１）で表されるジメチルシロキサン単位、前記一般式（４）で表されるシロキサン単位および前記一般式（５）で表されるシロキサン単位を含むポリシロキサン化合物。
【００４９】
前記（Ｂ）化合物において、前記一般式（１）で表されるシロキサン単位（Ｘ１）、前記一般式（４）で表されるシロキサン単位（Ｘ４）および前記一般式（５）で表されるシロキサン単位（Ｘ５）のモル比（Ｘ１：Ｘ４：Ｘ５）は、例えば、１００：１〜２０：１〜２０の範囲であり、好ましくは、１００：３〜１０：３〜１０の範囲である。
【００５０】
前記ポリシロキサン化合物としては、例えば、ジイソシアネート化合物から得られるイソシアヌル酸に、シロキサン構造を導入するとともに、アクリロイルオキシ基およびメタクリロイルオキシ基の少なくとも一方を導入し、さらに活性水素基を導入した化合物を用いることができる。このような化合物としては、前述のように、前記一般式（６）で表される（Ｃ）化合物があげられる。
【００５１】
６−イソシアネートヘキシルイソシアヌル酸の骨格単位は、例えば、下記一般式（７）で表される骨格単位がある。下記一般式（７）で表される骨格単位を単位（ｂ）とする。
【００５２】
【化７】
2008088309.tif 000009
【００５３】
前記一般式（６）のＲにおいて、シロキサン構造を有する置換基としては、例えば、下記一般式（８）で表される置換基がある。下記一般式（８）で表される置換基において、その末端に、ポリジメチルシロキサン単位（ｄ）を有し、前記単位（ｄ）は、メチルヒドロキシプロピルシロキサン単位（ｃ）と結合しており、前記単位（ｃ）は、そのヒドロキシ基が、、前記単位（ｂ）の一部である、６−イソシアネートへキシルイソシアヌル酸の末端イソシアネート基とウレタン結合している。前記ポリジメチルシロキサン単位（ｄ）において、ｘ１は、１〜７の整数である。
【００５４】
【化８】
2008088309.tif 000010
【００５５】
前記一般式（６）のＲにおいて、活性水素基を有する置換基としては、例えば、下記一般式（９）で表される置換基がある。前記一般式（９)で表される置換基において、前記単位（ｂ）の一部である６−イソシアネートヘキシルイソシアヌル酸の末端イソシアネート基がカルボキシル基となっている。また、前記一般式（９）で表される置換基において、前記カルボキシル基が脱炭酸化してアミノ基になっていてもよい。
【００５６】
【化９】
2008088309.tif 000011
【００５７】
前記一般式（６）のＲにおいて、アクリロイルオキシ基を有する置換基としては、例えば、下記一般式（１０）で表される置換基がある。前記一般式（１０）で表される置換基において、前記単位（ｂ）の一部である、６−イソシアネートへキシルイソシアヌル酸の末端イソシアネート基が、脂肪族ポリエステルである単位（ａ）とウレタン結合し、前記単位（ａ）の末端にはアクリロイルオキシ基が結合している。前記一般式（１０）において、ｍ、ｎは、同一でもよいし、異なっていてよく、それぞれ、１〜１０の整数であり、ｌは、１〜５の整数である。
【００５８】
【化１０】
2008088309.tif 000012
【００５９】
前記（Ｃ）化合物が、前記一般式（７）で表される骨格構造である単位（ｂ）を含み、かつ前記一般式（８）から（１０）で表される置換基を含む６−イソシアネートへキシルイソシアヌル酸の誘導体の場合、前記単位（ａ）：単位（ｂ）：単位（ｃ）：単位（ｄ）の成分割合（モル比）は、単位（ｂ）を１００としたとき、単位（ａ）は、例えば、１０〜１００の範囲であり、好ましくは３０〜６０の範囲であり、単位（ｃ）は、例えば、５〜８０の範囲であり、好ましくは、１０〜６０の範囲であり、単位（ｄ）は、例えば、１０〜４００の範囲であり、好ましくは、１００〜３００の範囲である。
【００６０】
本発明において、前記ポリシロキサン化合物の各成分の割合（モル比）は、例えば、１Ｈ−ＮＭＲスペクトルの積分曲線から求めることができる。前記ポリシロキサン化合物の重量平均分子量は、例えば、５００〜１５００００の範囲であり、好ましくは２０００〜１０００００の範囲である。前記重量平均分子量は、例えば、ＧＰＣにより測定することができる。
【００６１】
本発明において、前記硬化皮膜若しくは反射防止層（低屈折率層）は、前記硬化皮膜形成材料若しくは反射防止層形成材料を調製し、これを塗工して塗工膜を形成し、前記塗工膜を硬化させることにより得ることができる。前記硬化皮膜形成材料若しくは反射防止層形成材料は、前述のように、前記多官能重合性化合物、前記ポリシロキサン化合物およびケトン系溶媒を含む。前記硬化皮膜形成材料若しくは反射防止層形成材料１００重量部において、前記ケトン系溶媒は、例えば、３重量部以上であり、好ましくは、４〜５０重量部であり、より好ましくは、５〜４０重量部である。前記ケトン系溶媒が３重量部以上であれば、硬度および膜強度をさらに向上させることが可能となる。また、前記硬化皮膜形成材料若しくは反射防止層形成材料において、前記多官能重合性化合物１００重量部に対し、前記ポリシロキサン化合物（Ｂ）を２〜３０重量部含むことが好ましく、５〜２０重量部がさらに好ましい。前記ポリシロキサン化合物の含有量が２重量部以上であれば、形成される硬化皮膜において、表面の滑り性および汚染防止性能が付与される。また、前記ポリシロキサン化合物の含有量が３０重量部以下であれば、相対的に前記多官能重合性化合物樹の含有量を十分なものとすることができ、その結果、形成される効果皮膜の弾性率がより向上し、硬度および膜強度をさらに向上させることが可能となる。
【００６２】
前記硬化皮膜形成材料若しくは反射防止層形成材料は、重合開始剤を含んでいてもよい。前記多官能重合性化合物が、光硬化性の場合、前記重合開始剤は、光重合開始剤である。前記光重合開始剤は、例えば、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、アセトフェノン、ベンゾフェノン、キサントン、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、ベンゾイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、その他チオキサント系化合物等が使用できる。その他に前記硬化皮膜形成材料若しくは反射防止層形成材料に添加できる添加剤としては、例えば、α−ヒドロキシアルキルフェノン、アシルフォスフィンオキサイド系化合物、オキシムエステル等が使用できる。
【００６３】
前記反射防止層の形成材料には、中空で球状の酸化ケイ素超微粒子が含まれていることが好ましい。前記酸化ケイ素超微粒子は、平均粒子径が５〜３００ｎｍ程度であることが好ましく、１０〜２００ｎｍの範囲がより好ましい。前記酸化ケイ素超微粒子は、細孔を有する外殻の内部に空洞が形成されている中空球状であり、その空洞内に前記酸化ケイ素超微粒子の調製時の溶媒および気体の少なくとも一方を包含したものである。また、前記酸化ケイ素超微粒子の前記空洞を形成するための前駆体物質が前記空洞内に残存していることが好ましい。前記外殻の厚さは、１〜５０ｎｍ程度の範囲であり、かつ前記酸化ケイ素超微粒子の平均粒子径の１／５０〜１／５程度の範囲であることが好ましい。前記外殻は、複数の被覆層から形成されていることが好ましい。また、前記酸化ケイ素超微粒子において、前記細孔が閉塞され、前記空洞が前記外殻により密封されていることが好ましい。これは、前記反射防止層中において、前記酸化ケイ素超微粒子の多孔質または空洞が維持されており、前記反射防止層の屈折率をより低減させることが可能なためである。このような中空で球状の酸化ケイ素超微粒子の製造方法としては、例えば、特開２０００−２３３６１１号公報に開示されたシリカ系微粒子の製造方法が好適に採用される。
【００６４】
前記硬化皮膜形成材料若しくは前記反射防止層形成材料には、形成される皮膜もしくは層の膜強度を向上させることを目的として、無機の超微粒子を添加することが好ましい。無機の超微粒子の平均粒径は、例えば、２〜５０ｎｍの範囲であり、好ましくは、５〜３０ｎｍの範囲の範囲である。無機の超微粒子としては、シリカ、アルミナ、フッ化マグネシウム等の超微粒子があげられ、このなかで、シリカの超微粒子が特に好ましい。前記無機の超微粒子の添加量は、前記硬化皮膜形成材料若しくは反射防止層形成材料の全固形分１００重量部に対し、例えば、１０〜８０重量部の範囲である。
【００６５】
前記硬化皮膜形成材料若しくは前記反射防止層形成材料の塗工方法は、特に制限されず、例えば、ファンテンコート、ダイコート、スピンコート、スプレーコート、グラビアコート、ロールコート、バーコート等があげられる。前記塗工による塗工膜の形成は、前記硬化皮膜の場合は、所定の基材表面に前記硬化皮膜形成材料を塗工することにより実施でき、前記反射防止層の場合は、前記ハードコート層の上に反射防止層形成材料を塗工することにより実施できる。前記塗工膜は、硬化に先立ち、加熱乾燥処理することが好ましい。前記乾燥処理は、温度が、例えば、６０〜１５０℃の範囲、好ましくは７０〜１３０℃であり、処理時間は、例えば、１分〜３０分の範囲、好ましくは、１分〜１０分の範囲である。前記塗工膜の加熱は、例えば、ホットプレート、オーブン、ベルト炉等を用いて実施できる。前記塗工膜の硬化処理は、前記多官能重合性化合物および前記ポリシロキサン化合物の種類等により適宜選択され、例えば、熱による硬化処理、光若しくは電子線照射による硬化処理があげられる。前記光若しくは電子線照射に用いられるエネルギー線源としては、例えば、高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプ、窒素レーザー、電子線加速装置、放射性元素などのエネルギー線源が使用される。エネルギー線源の照射量は、紫外線波長３６５ｎｍでの積算露光量として、例えば、５０〜５０００ｍＪ／ｃｍ２の範囲である。前記塗工膜の硬化処理により、前記硬化皮膜若しくは前記反射防止層が形成される。前記硬化皮膜若しくは反射防止層に対し、さらに硬度を向上させるために、加熱処理することが好ましい。硬化処理後の加熱処理の条件は、前記乾燥処理と同様の条件を採用できる。
【００６６】
本発明において、前記硬化皮膜若しくは前記反射防止層の厚みは、例えば、６０〜１３０ｎｍの範囲、好ましくは、７０〜１２０ｎｍの範囲、より好ましくは、８０〜１１０ｎｍの範囲である。前記反射防止層の厚み精度は、例えば、設計厚みに対し±１０％の範囲であることが好ましい。例えば、反射防止層の設計厚みが９５ｎｍの場合は、８６ｎｍ〜１０５ｎｍの範囲が好ましい。
【００６７】
反射防止層の反射防止機能のメカニズムについて、説明する。光は物体に当たるとその界面での反射、内部での吸収、散乱といった現象を繰り返して物体の背面に透過していく。画像表示装置にハードコートフィルムを装着した際、画像の視認性を低下させる要因の一つに、空気とハードコート層界面での光の反射が挙げられる。その表面反射を低減させる方法として、厚みおよび屈折率を厳密に制御した反射防止層をハードコート層表面に積層し、光の干渉効果を利用し入射光と反射光の逆転した位相を互いに打ち消し合わせることで反射防止機能を発現させる。
【００６８】
光の干渉効果に基づく反射防止層の設計において、その干渉効果を上げるには、反射防止層とハードコート層の屈折率差を大きくすればよい。単層の反射防止層の設計において、反射防止機能を最大限引き出すためには、反射防止層の屈折率をｎ、ハードコート層の屈折率をｎｍとすると、ｎ＝（ｎｍ）１／２を満たすように屈折率ｎを設定すればよい。この式を無反射条件における振幅条件という。仮にｎｍ＝１．５２とするとｎ＝１．２３３となり、反射防止層の屈折率を１．２３３に近づける事で反射率を低減する事ができる。また可視光線の波長領域（３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ）のうち、特に視感度が高い波長領域は４５０〜６５０ｎｍの範囲であり、この中心波長である５５０ｎｍの反射率を低減することで目に感じられる反射率を効果的に低減する事ができる。そのためには、反射防止層の膜厚をｄ、入射光の波長をλとした時に、ｎｄ＝λ／４を満たすように膜厚（層厚）を設定すればよい。この式を無反射条件における位相条件といい、例えば、λ＝５５０ｎｍ、ｎ＝１．４５の時、反射防止層の厚みｄは９５ｎｍとなる。
【００６９】
つぎに、本発明の反射防止ハードコートフィルムは、前記透明プラスチックフィルムの少なくとも一方の面に、ハードコート層および反射防止層が、この順序で積層されているという構成である。
【００７０】
本発明の反射防止ハードコートフィルムにおいて、前記透明プラスチックフィルム基材は、特に制限されないが、可視光の光線透過率に優れ（好ましくは光線透過率９０％以上）、透明性に優れるもの（好ましくはヘイズ値１％以下）のものが好ましい。前記透明プラスチックフィルム基材としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー等の透明ポリマーから形成されたフィルムが挙げられる。また、前記透明プラスチックフィルム基材としては、例えば、ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体等のスチレン系ポリマー、ポリエチレン、ポリプロピレン、環状ないしノルボルネン構造を有するポリオレフイン、エチレン・プロピレン共重合体等のオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミドなどのアミド系ポリマー等の透明ポリマーから形成されたフィルムも挙げられる。さらに、前記透明プラスチックフィルム基材としては、例えば、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマーや前記ポリマーのブレンド物などの透明ポリマーから形成されたフィルム等も挙げられる。前記透明プラスチックフィルム基材としては、特に光学的に複屈折の少ない透明フィルムが好適に用いられる。前記透明プラスチックフィルム基材を偏光板の保護フィルムとして兼用する場合は、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、アクリル系ポリマー、環状ないしノルボルネン構造を有するポリオレフイン等が好ましい。透明プラスチックフィルム基材の厚さは、特に制限されないが、強度や取り扱い性などの作業性、薄層性等の点より、１０〜５００μｍの範囲が好ましく、好ましくは２０〜３００μｍの範囲であり、より好ましくは３０〜２００μｍの範囲である。透明プラスチックフィルム基材フィルムの屈折率は、特に制限されず、例えば、１．３０〜１．８０の範囲、好ましくは１．４０〜１．７０の範囲である。
【００７１】
前述のように、前記ハードコート層の表面は、微細凹凸構造にして防眩牲を付与してもよい。前記ハードコート層表面に微細凹凸構造を形成する方法は、特に制限されず、適宜な方式を採用することができる。例えば、前記透明プラスチックフィルム基材の表面を、予め、サンドブラストやエンボスロール、化学エッチング等の適宜な方式で粗面化処理して微細凹凸構造にすることで、この上に形成される前記ハードコート層表面を微細凹凸構造にする方法があげられる。また、前記ハードコート層上に、さらにハードコート層を積層し、金型による転写方式等により微細凹凸構造を付与する方法が挙げられる。また、前記ハードコート層に微粒子を分散含有させて微細凹凸構造を付与する方法などが挙げられる。これら微細凹凸構造の形成方法は、二種以上の方法を組み合わせ、異なる状態の微細凹凸構造表面を複合させた層として形成してもよい。前記ハードコート層の微細凹凸構造の形成方法のなかでも、微粒子を分散含有させて微細凹凸構造を形成する方法が好ましい。
【００７２】
前記ハードコート層の表面構造を凹凸構造にするための前記微粒子としては、例えば、無機微粒子と有機微粒子とがある。前記無機微粒子は、特に制限されず、例えば、酸化ケイ素微粒子、酸化チタン微粒子、酸化アルミニウム微粒子、酸化亜鉛微粒子、酸化錫微粒子、炭酸カルシウム微粒子、硫酸バリウム微粒子、タルク微粒子、カオリン微粒子、硫酸カルシウム微粒子等があげられる。また、有機微粒子は、特に制限されず、例えば、ポリメタクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末（ＰＭＭＡ微粒子）、シリコーン樹脂粉末、ポリスチレン樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、アクリルスチレン樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン樹脂粉末、ポリオレフィン樹脂粉末、ポリエステル樹脂粉末、ポリアミド樹脂粉末、ポリイミド樹脂粉末、ポリフッ化エチレン樹脂粉末、共重合体からなる有機微粒子等があげられる。これらの無機微粒子および有機微粒子は、一種類を単独で使用してもよいし、二種類以上を併用してもよい。
【００７３】
前記微粒子の形状は特に制限されず、例えば、ビーズ状の略球形であってもよく、粉末等の不定形のものであってもよい。前記微粒子の重量平均粒径は、例えば、１〜３０μｍの範囲であり、好ましくは２〜２０μｍの範囲である。前記微粒子としては、略球形のものが好ましく、より好ましくは、アスペクト比が１．５以下の略球形の微粒子である。
【００７４】
前記微粒子の配合割合は、特に制限されず、適宜設定できる。前記微粒子の配合割合は、前記ハードコート層形成材料１００重量部に対し、例えば、２〜６０重量部の範囲であり、好ましくは５〜５０重量部の範囲である。
【００７５】
前記ハードコート層の厚みは、例えば、２〜５０μｍの範囲が好ましい。前記厚みが前記所定の範囲であれば、前記ハードコート層の硬度も十分なものとなり（例えば、鉛筆硬度で４Ｈ以上）、またカールおよびクラックの発生がより効果的に防止可能である。前記ハードコート層の厚みは、好ましくは、５〜３０μｍの範囲であり、より好ましくは、１５〜２５μｍの範囲である。
【００７６】
前記ハードコート層は、例えば、ハードコート層形成用樹脂を溶剤に溶解若しくは分散させたハードコート層形成材料を準備し、前記ハードコート層形成材料を前記透明プラスチックフィルム基材の少なくとも一方の面に塗工して塗膜を形成し、前記塗膜を硬化させて形成することができる。
【００７７】
前記ハードコート層形成用樹脂は、例えば、熱、光または電子線により硬化する樹脂が使用できる。前記ハードコート層形成用樹脂としては、特に制限されないが、例えば、電離放射線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂、熱可塑性樹脂等が挙げられる。これらの中で、加工速度の速さ、透明プラスチックフィルム基材への熱のダメージの少なさから、電離放射線硬化型樹脂を用いることが特に好ましい。前記電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、多価アルコールのアクリル酸又はメタクリル酸エステルのような多官能性のアクリレート樹脂、ジイソシアネート、多価アルコール及びアクリル酸又はメタクリル酸のヒドロキシアルキルエステル等から合成されるような多官能性のウレタンアクリレート樹脂などを挙げることができる。さらにアクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も必要に応じて好適に使用することができる。また、メラニン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、シリコーン系樹脂等も好ましく用いられる。
【００７８】
前記溶媒は、特に制限されず、種々の溶媒を使用可能であり、例えば、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，３，５−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノール、シクロヘキサノール、酢酸イソブチル、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、２−オクタノン、２−ペンタノン、２−ヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル等があげられる。これらは、一種類を単独で使用してもよいし、二種類以上を併用してもよい。また、前記溶剤は、前記透明プラスチックフィルム基材と前記ハードコート層の密着性を向上させるという観点から、全体の２０重量％以上の割合で酢酸エチルを含有することが好ましく、より好ましくは全体の２５重量％以上の割合で酢酸エチルを含有することであり、最適には全体の３０〜７０重量％の割合で酢酸エチルを含有することである。７０重量％以下であれば、溶媒の揮発速度を適当なものにすることができ、塗工ムラや乾燥ムラを効果的に防止することが可能となる。酢酸エチルと併用する溶剤の種類は、特に制限されず、例えば、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルがあげられる。
【００７９】
前記ハードコート層形成材料において、前記ハードコート層形成用樹脂が、光硬化性樹脂の場合、従来公知の光重合開始剤を用いることができる。前記光重合開始剤としては、例えば、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、アセトフェノン、ベンゾフェノン、キサントン、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン等があげられ、その他、チオキサント系化合物等が使用できる。
【００８０】
前記ハードコート層形成材料中には、粒径が１００ｎｍ以下の金属酸化物の超微粒子を添加することができる。粒径が１００ｎｍ以下の金属酸化物の超微粒子としては、酸化チタン、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジルコニウム、酸化力ルシウム、酸化インジウム、酸化アンチモン等が挙げられ、これらの複合物も使用することができる。前記金属酸化物の超微粒子として、粒径を１００ｎｍを超えるものを使用すると、光の散乱が発生し、透過率の低下や前記ハードコート層の着色が発生し、透明性が低下するため、好ましくない。
【００８１】
また、粒径が１００ｎｍ以下の金属酸化物の超微粒子は、その配合量に応じハードコート層の見かけの屈折率を調整する機能を有する。前記透明プラスチックフィルム基材の屈折率とハードコート層の屈折率は近似していることが好ましい。前記透明プラスチックフィルム基材の屈折率と前記ハードコート層の屈折率差が大きいと、反射防止ハードコートフィルムに入射した外光の反射光が虹色の色相を呈する干渉縞と呼ばれる現象が発生し、表示品位を落としてしまう。特に、一般のオフィス等で汎用されている三波長蛍光灯の下では、干渉縞が顕著に現れる。
【００８２】
透明プラスチックフィルム基材の屈折率と前記ハードコート層の屈折率差をｄとすると、ｄは０．０４以下が好ましい。更に好ましくは、０．０２以下である。前記透明プラスチックフィルム基材として、ポリエチレンテレフタレートフイルムを用いる場合、粒径が１００ｎｍ以下の金属酸化物の超微粒子として酸化チタンを、前記ハードコート層形成材料の全樹脂成分に対し、例えば、３０〜４０％程度配合することで、ポリエチレンテレフタレートフイルムの屈折率約１．６４に対しｄを０．０２以下に制御することができ、干渉縞の発生を抑制することができる。また、前記透明プラスチックフイルム基材として、トリアセチルセルロースフイルムを用いる場合、粒径が１００ｎｍ以下の金属酸化物の超微粒子として酸化ケイ素を、前記ハードコート層形成材料の全樹脂成分に対し、例えば、３５％〜４５％程度配合することで、トリアセチルセルロースフイルムの屈折率約１．４８に対しｄを上記同様に０．０２以下に制御することができ、干渉縞の発生を抑制することができる。
【００８３】
前記ハードコート層形成材料には、各種レベリング剤を添加することができる。レベリング剤としては、フッ素系又はシリコーン系のレベリング剤を適宜使用することができるが、より好ましくはフッ素系のレベリング剤である。レベリング剤として、フッ素系のものを選択した場合、前記ハードコート層の上に形成する反射防止層を弾いたりする影響が少ない。フッ素系のレベリング剤としては、例えば、パーフルオロブチルスルホン酸塩等のパーフルオロアルキル基含有スルホン酸塩、パーフルオロアルキル基含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基含有カルボン酸塩、パーフルオロアルキル基含有リン酸エステル、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物等があげられる。前記ハードコート層形成材料に、フッ素系またはシリコーン系のレベリング剤を添加すれば、前記ハードコート層の形成における予備乾燥及び溶媒乾燥時に、フッ素系またはシリコーン系のレベリング剤が空気界面にブリードしてくるので、酸素による前記ハードコート層形成用樹脂の硬化阻害を防ぐことができ、この結果、前記ハードコート層の最表面においても十分な硬度を有することができる。フッ素系又はシリコーン系のレベリング剤の配合量は、前記ハードコート層形成材料の全樹脂成分１００重量部に対し、例えば、５重量部以下、好ましくは０．０１〜５重量部の範囲である。
【００８４】
前記ハードコート層形成材料には、必要に応じて、性能を損なわない範囲で、顔料、充填剤、分散剤、可塑剤、紫外線吸収剤、界面活性剤、酸化防止剤、チクソトロピー化剤等が添加されてもよい。これらの添加剤は一種類を単独で使用してもよく、また二種類以上併用してもよい。
【００８５】
前記ハードコート層形成材料を透明プラスチックフィルム基材上に塗工する方法としては、例えば、ファンテンコート法、ダイコート法、スピンコート法、スプレーコート法、グラビアコート法、ロールコート法、バーコート法等の塗工法を用いることができる。
【００８６】
前記ハードコート層形成材料を塗工して前記透明プラスチックフィルム基材の上に塗膜を形成し、前記塗膜を硬化させる。前記硬化に先立ち、前記塗膜を乾燥させることが好ましい。前記乾燥は、例えば、自然乾燥でもよいし、風を吹きつけての風乾であってもよいし、加熱乾燥であってもよいし、これらを組み合わせた方法であってもよい。
【００８７】
前記ハードコート層形成材料の塗膜の硬化手段は、特に制限されないが、電離放射線硬化が好ましい。その手段には各種活性エネルギー線を用いることができるが、紫外線が好ましい。エネルギー線源としては、例えば、高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプ、窒素レーザー、電子線加速装置、放射性元素などの線源が好ましい。エネルギー線源の照射量は、紫外線波長３６５ｎｍでの積算露光量として、５０〜５０００ｍＪ／ｃｍ２が好ましい。照射量が、５０ｍＪ／ｃｍ２以上であれば、硬化がより十分となり、形成されるハードコート層の硬度もより十分なものとなる。また、５０００ｍＪ／ｃｍ２を以下であれば、形成されるハードコート層の着色を防止でき、透明性を向上させることができる。
【００８８】
そして、前記ハードコート層の上に、反射防止層を前述の方法により形成すれば、本発明の反射防止ハードコートフィルムが製造できる。
【００８９】
本発明の反射防止ハードコートフィルの構成の一例を図１の構成図に示す。図示のように、この例の反射防止ハードコートフィルム４は、透明プラスチックフィルム基材１の片面にハードコート層２および反射防止層（低屈折率層）３が、この順序に積層されているという構成である。この例では、透明プラスチックフィルム基材１の片面に、ハードコート層２および反射防止層３が形成されているが、本発明は、これに限定されず、前記透明プラスチックフィルム基材１の両面に、ハードコート層２および反射防止層３が形成されていてもよい。また、前記ハードコート層２および反射防止層３は、単層でもよいし、複数層が積層された多層構造であってもよい。
【００９０】
本発明の反射防止ハードコートフィルムのその他の例を図２に示す。図２において、図１と同一部分には同一符号を付している。図示のように、この例の反射防止ハードコートフィルムは、ハードコート層２の中に、微粒子５が含まれており、これによって、ハードコート層２表面および反射防止層３表面が凹凸構造になっている。このように、ハードコート層２および反射防止層３の表面が凹凸構造であれば、防眩性を発揮することができる。
【００９１】
本発明の反射防止ハードコートフィルムにおいて、前記透明プラスチックフィルム基材またはハードコート層の各表面に対し、各種表面処理を行うことが好ましい。これにより、前記透明プラスチックフィルム基材と前記ハードコート層、前記透明プラスチックフィルム基材と偏光子、又は前記ハードコート層と反射防止層の各界面における接着性を向上させることができる。前記表面処理としては、例えば、低圧プラズマ処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸又はアルカリ処理を用いることができる。また、ＴＡＣフィルムを前記透明プラスチックフィルム基材として用いた場合の表面処理としては、アルカリ鹸化処理が好ましい。前記アルカリ鹸化処理は、ＴＡＣフィルム表面をアルカリ溶液に浸漬した後、水洗して乾燥するサという一連の作業を数回繰り返して行うことが好ましい。前記アルカリ溶液としては、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶液があげられ、水酸化イオンの規定濃度は、０．１〜３．０Ｎであることが好ましく、０．５〜２．０Ｎであることがさらに好ましい。前記アルカリ溶液温度は、２５〜９０℃の範囲が好ましく、４０〜７０℃がさらに好ましい。前記鹸化処理後、水洗処理、乾燥処理を行い、表面処理を施したＴＡＣフィルムを得ることができる。
【００９２】
つぎに、本発明の反射防止ハードコートフィルムを積層した偏光板について説明する。本発明の反射防止ハードコートフィルムを、接着剤や粘着剤などを用いて偏光子又は偏光板と積層することによって、本発明の機能を有した偏光板を得ることができる。前記偏光板は、通常、液晶セルの両側に配置される。通常、２つの前記偏光板は、吸収軸が互いに略直交するように配置される。前記偏光板は、通常、偏光子は、その片側又は両側に透明保護フィルムを有する。偏光子の両面に透明保護フィルムを設ける場合、表裏の透明保護フィルムは、同じ材料であっても良いし、異なる材料であってもよい。
【００９３】
前記偏光子としては、特に制限されず、例えば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させて一軸延伸して製造された偏光子、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向フィルムの偏光子等が挙げられる。これらのなかでも、ポリビニルアルコール系フィルムとヨウ素などの二色性物質からなる偏光子が、偏光二色比が高く、特に好ましい。これら偏光子の厚みは、特に制限されないが、例えば、５〜８０μｍ程度である。
【００９４】
ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素で染色し一軸延伸した偏光子は、例えば、ポリビニルアルコールをヨウ素水溶液に浸潰することによって染色し、元長の３〜７倍に延伸することで作製することができる。前記ヨウ素水溶液は、必要に応じてホウ酸や硫酸亜鉛、塩化亜鉛等を含んでいてもよい。また、前記浸漬は、ヨウ化カリウムなどの水溶液を使用してもよい。さらに必要に応じて、染色の前に、前記ポリビニルアルコール系フィルムを水に浸漬して水洗することが好ましい。ポリビニルアルコール系フィルムを水洗することで、ポリビニルアルコール系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができることに加えて、ポリビニルアルコ−ル系フィルムを膨潤させることで染色のムラなどの不均一を防止する効果もある。延伸はヨウ素で染色した後に行っても良いし、染色しながら延伸してもよいし、また延伸してからヨウ素で染色してもよい。ホウ酸やヨウ化カリウムなどの水溶液中や水浴中でも延伸することができる。
【００９５】
前記偏光子の片面又は両面に設けられる透明保護フィルムとしては、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性、位相差値の安定性等に優れるものが好ましい。前記透明保護フィルムを形成する材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ジアセチルセルロースやトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂、ポリスチレンやアクリロニトリル・スチレン共重合体、スチレン樹脂、アクリロニトリル・スチレン樹脂、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン樹脂、アクリロニトリル・エチレン・スチレン樹脂、スチレン・マレイミド共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体等のスチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂等があげられる。また、シクロオレフィン系樹脂、ノルボルネン系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフイン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系樹脂、芳香族ポリイミドやポリイミドアミド等のイミド系樹脂、スルホン系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、ポリフェニレンスルフィド系樹脂、ビニルアルコール系樹脂、塩化ビニリデン系樹脂、ビニルプチラール系樹脂、アリレート系樹脂、ポリオキシメチレン系樹脂、エポキシ系樹脂または前記樹脂のブレンド物等からなる高分子フィルムなども前記透明保護フィルムの例としてあげられる。また、前記透明保護フィルムは、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型、紫外線硬化型の樹脂の硬化フィルムであってもよい。
【００９６】
また、前記透明保護フィルムとしては、特開２００１−３４３５２９号公報（ＷＯ０１／３７００７）に記載の高分子フィルム、たとえば、（Ａ）側鎖に置換及び／又は非置換イミド基を有する熱可塑性樹脂と、（Ｂ）側鎖に置換及び／非置換フェニルならびにニトリル基を有する熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物から形成されたフィルムがあげられる。その具体例としては、イソブチレンとＮ−メチルマレイミドからなる交互共重合体とアクリロニトリル・スチレン共重合体とを含有する樹脂組成物の高分子フィルムがあげられる。
【００９７】
前記透明保護フィルムとしては、偏光特性や耐久性などの点より、ＴＡＣ等のセルロース系樹脂及び、ノルボルネン系樹脂が、好ましい。好ましい透明保護フィルムの具体例としては、富士写真フィルム（株）製の製品名「フジタック」や、日本ゼオン（株）製の製品名「ゼオノア」、ＪＳＲ（珠）製の製品名「アートン」などがあげられる。
【００９８】
前記透明保護フィルムの厚さは、適宜決定できるが、一般には強度や取扱性等の作業性、薄層性などの点より、例えば、１〜５００μｍ程度である。この範囲であれば、偏光子を機械的に保護し、高温高湿下に曝されても偏光子が収縮せず、安定した光学特性を保つことができる。前記透明保護フィルムの厚みは、好ましくは、５〜２００μｍの範囲であり、より好ましくは、１０〜１５０μｍの範囲である。
【００９９】
前記透明保護フィルムは、フィルム面内の位相差値および厚み方向の位相差値が、液晶表示装置の視野角特性に影響を及ぼす場合があるので、位相差値が最適化されたものを用いることが好ましい。ただし、位相差値の最適化が望まれる透明保護フィルムとは、液晶セルに近い側の偏光子の表面に積層される透明保護フィルムであり、液晶セルに遠い側の偏光子の表面に積層される透明保護フィルムは、液晶表示装置の光学特性を変化させることはないので、この限りではない。
【０１００】
前記液晶セルに近い側の偏光子の表面に積層される透明保護フィルムにおいて、フィルム面内の位相差値（Ｒｅ）は、例えば、０〜５ｎｍの範囲であり、好ましくは、０〜３ｎｍの範囲であり、より好ましくは、０〜１ｎｍの範囲であり、厚み方向の位相差値（Ｒｔｈ）は、例えば、０〜１５ｎｍの範囲であり、好ましくは０〜１２ｎｍの範囲であり、より好ましくは、０〜１０ｎｍの範囲であり、さらにより好ましくは０〜５ｎｍの範囲であり、最も好ましくは、０〜３ｎｍの範囲である。
【０１０１】
本発明の反射防止ハードコートフィルムおよび偏光板等は、液晶表示装置等の各種画像表示装置に好ましく用いることができる。本発明の反射防止ハードコートフィルムや偏光板等は、液晶表示装置の製造過程で順次別個に積層することよって製造することもできるが、予め積層して製造しておくほうが、品質の安定性や積層作業性等に優れ、液晶表示装置等の製造効率を向上させることができるため、好ましい。液晶表示装置の形成は、従来公知の方法に準じて行うことができる。すなわち、液晶表示装置は、一般に、液晶セルと光学素子、及び必要に応じての照明システム等の構成部品を適宜に組立て、駆動回路を組込むこと等により形成されるが、本発明においては、本発明による反射防止ハードコートフィルム等を用いる点を除いて特に限定はなく、従来に準じて形成することができる。液晶セルについても、例えば、ＴＮ型、ＳＴＮ型およびＴＣ型等の任意のタイプのものを用いることができる。
【実施例】
【０１０２】
つぎに、本発明の実施例について比較例と併せて説明する。
【０１０３】
（実施例１）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）８０重量部、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート２０重量部および光重合開始剤（商品名イルガキュア１８４、チバ・スペシャリティケミカルズ社製）５重量部を酢酸エチルに溶解し、不揮発成分が５０％になるよう調整してハードコート層形成材料を調製した。前記ハードコート層形成材料を、ＴＡＣフィルムの片面に８番手のワイヤバーで塗工して塗工膜を形成し、８０℃で１分乾燥後、照射量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して硬化させ、厚み６μｍのハードコート層を形成し、ハードコートフィルムを得た。つぎに、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１００重量部、下記ポリシロキサン化合物（Ａ化合物）５重量部、光重合開始剤（商品名イルガキュア１８４、チバ・スペシャリティケミカルズ社製）５重量部およびＭＩＢＫ３５１２重量部を混合して反射防止層形成材料を調製した。前記反射防止層形成材料を、前記ハードコート層の上に３番手のワイヤバーで塗工して塗工膜を形成し、８０℃で３分乾燥後、照射量９００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して硬化させ、厚み０．１μｍの反射防止層（低屈折率層）を形成して、目的とする反射防止ハードコートフィルムを製造した。
【０１０４】
前記ポリシロキサン化合物（Ａ化合物）は、前記一般式（１）のジメチルシロキサン単位（Ｘ１）と、前記一般式（２）のメチル，３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシプロピルシロキサン単位（Ｘ２）と、前記一般式（３）のメチル，２−アクリロイルオキシ−３−ヒドロキシプロポキシプロピルシロキサン単位（Ｘ３）とを、モル比（Ｘ１：Ｘ２：Ｘ３）＝１００：２０：５の共重合割合で有する化合物である。このＡ化合物のＧＰＣによる重量平均分子量は、１４８００であった。
【０１０５】
（実施例２）
前記反射防止層形成材料において、前記ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１００重量部、前記ポリシロキサン化合物（Ａ化合物）１０重量部および前記光重合開始剤５重量、ＭＩＢＫ３６３０重量部の比率で配合したこと以外は、前記実施例１と同様な方法にて反射防止ハードコートフィルム製造した。
【０１０６】
（実施例３）
前記反射防止層形成材料において、前記ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１００重量部、前記ポリシロキサン化合物（Ａ化合物）２０重量部、前記光重合開始剤５重量部、ＭＩＢＫ３８６２重量部の比率で配合したこと以外は、前記実施例１と同様な方法にて反射防止ハードコートフィルムを製造した。
【０１０７】
（実施例４）
前記ポリシロキサン化合物（Ａ化合物）を、下記のポリシロキサン化合物（Ｃ化合物）に変更したこと以外は、実施例１と同様な方法にて反射防止ハードコートフィルムを製造した。
【０１０８】
前記ポリシロキサン化合物（Ｃ化合物）は、前記一般式（７）のジメチルシロキサン単位（Ｘ７）と、前記一般式（８）の置換基（Ｘ８）と、前記一般式（９）の置換基（Ｘ９）と、前記一般式（１０）の置換基（Ｘ１０）とを、モル比（Ｘ７：Ｘ８：Ｘ９：Ｘ１０）＝２８６：４５：１００：４５の割合で有する化合物である。
【０１０９】
（実施例５）
前記ポリシロキサン化合物（Ａ化合物）を前記ポリシロキサン化合物（Ｃ化合物）に変更したこと以外は、前記実施例２と同様な方法にて反射防止ハードコートフィルムを製造した。
【０１１０】
（実施例６）
前記ポリシロキサン化合物（Ａ化合物）を前記ポリシロキサン化合物（Ｃ化合物）に変更したこと以外は、前記実施例３と同様な方法にて反射防止ハードコートフィルムを製造した。
【０１１１】
（実施例７）
前記ポリシロキサン化合物（Ａ化合物）を、下記のポリシロキサン化合物（Ｂ化合物）に変更したこと以外は、前記実施例１と同様な方法にて反射防止ハードコートフィルムを製造した。
【０１１２】
前記ポリシロキサン化合物（Ｂ化合物）は、前記一般式（１）のジメチルシロキサン単位（Ｘ１）と、前記一般式（４）のシロキサン単位（Ｘ４）と、前記一般式（５）のシロキサン単位（Ｘ５）を，モル比（Ｘ１：Ｘ４：Ｘ５）＝１００：８：６の割合で有する共重合物である。このＢ化合物のＧＰＣによる重量平均分子量は、４３２０であった。
【０１１３】
（実施例８）
前記ポリシロキサン化合物（Ａ化合物）を前記ポリシロキサン化合物（Ｂ化合物）に変更したこと以外は、前記実施例２と同様な方法にて反射防止ハードコートフィルムを製造した。
【０１１４】
（実施例９）
前記ポリシロキサン化合物（Ａ化合物）を前記ポリシロキサン化合物（Ｂ化合物）に変更したこと以外は、前記実施例３と同様な方法にて反射防止ハードコートフィルムを製造した。
【０１１５】
（比較例１）
前記反射防止層形成材料として、前記ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１００重量部、前記光重合開始剤５重量部、およびＭＩＢＫ３３９６重量部を混合して調製したものを用いたこと以外は、前記実施例１と同様な方法にて反射防止ハードコートフィルムを製造した。
【０１１６】
（比較例２）
前記反射防止層形成材料として、前記ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１００重量部、前記光重合開始剤５重量部、ＩＰＡ３０５６．４重量部、ＢｕＯＨ３３９．６重量部を混合して調製したものを用いたこと以外は、前記実施例１と同様な方法にて反射防止ハードコートフィルムを製造した。
【０１１７】
（比較例３）
前記反射防止層形成材料として、前記ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１００重量部、前記ポリシロキサン化合物（Ａ化合物）５重量部、前記光重合開始剤５重量部、ＩＰＡ３１６０．８重量部、ＢｕＯＨ３５１．２重量部を混合して調製したものを用いたこと以外は、前記実施例１と同様な方法にて反射防止ハードコートフィルムを製造した。
【０１１８】
（比較例４）
前記反射防止層形成材料として、前記ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１００重量部、前記ポリシロキサン化合物（Ａ化合物）１０重量部、前記光重合開始剤５重量部、ＩＰＡ３２６７重量部、ＢｕＯＨ３６３重量部を混合して調製したものを用いたこと以外は、前記実施例１と同様な方法にて反射防止ハードコートフィルムを製造した。
【０１１９】
（比較例５）
前記反射防止層形成材料として、前記ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１００重量部、前記ポリシロキサン化合物（Ａ化合物）２０重量部、前記光重合開始剤５重量部、ＩＰＡ３４７５．８重量部、ＢｕＯＨ３８６．２重量部を混合して調製したものを用いたこと以外は、前記実施例１と同様な方法にて反射防止ハードコートフィルムを製造した。
【０１２０】
（比較例６）
前記反射防止層形成材料として、前記ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１００重量部、前記ポリシロキサン化合物（Ｃ化合物）５重量部、前記光重合開始剤５重量部、ＩＰＡ３１６０．８重量部、ＢｕＯＨ３５１．２重量部を混合して調製したものを用いたこと以外は、前記実施例１と同様な方法にて反射防止ハードコートフィルムを製造した。
【０１２１】
（比較例７）
前記反射防止層形成材料として、前記ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１００重量部、前記ポリシロキサン化合物（Ｃ化合物）１０重量部、前記光重合開始剤５重量部、ＩＰＡ３２６７重量部およびＢｕＯＨ３６３重量部を混合して調製したものを用いたこと以外は、前記実施例１と同様な方法にて反射防止ハードコートフィルムを製造した。
【０１２２】
（比較例８）
前記反射防止層形成材料として、前記ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１００重量部、前記ポリシロキサン化合物（Ｃ化合物）２０重量部、前記光重合開始剤５重量部、ＩＰＡ３４７５．８重量部およびＢｕＯＨ３８６．２重量部を混合して調製したものを用いたこと以外は、前記実施例１と同様な方法にて反射防止ハードコートフィルムを製造した。
【０１２３】
（比較例９）
前記反射防止層形成材料として、前記ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１００重量部、前記ポリシロキサン化合物（Ｂ化合物）５重量部、前記光重合開始剤５重量部、ＩＰＡ３１６０．８重量部およびＢｕＯＨ３５１．２重量部を混合して調製したものを用いたこと以外は、前記実施例１と同様な方法にて反射防止ハードコートフィルムを製造した。
【０１２４】
（比較例１０）
前記反射防止層形成材料として、前記ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１００重量部、前記ポリシロキサン化合物（Ｂ化合物）１０重量部、前記光重合開始剤５重量部、ＩＰＡ３２６７重量部およびＢｕＯＨ３６３重量部を混合して調製したものを用いたこと以外は、前記実施例１と同様な方法にて反射防止ハードコートフィルムを製造した。
【０１２５】
（比較例１１）
前記反射防止層形成材料として、前記ペンタエリスリトールヘキサアクリレート１００重量部、前記ポリシロキサン化合物（Ｂ化合物）２０重量部、前記光重合開始剤５重量部、ＩＰＡ３４７５．８重量部およびＢｕＯＨ３８６．２重量部を混合して調製したものを用いたこと以外は、前記実施例１と同様な方法にて反射防止ハードコートフィルムを製造した。
【０１２６】
以上のようにして得られた実施例１〜９および比較例１〜１１の各反射防止ハードコートフィルムについて、下記の方法により、各種特性を測定した。これらの結果を、前記反射防止層形成材料の組成と共に、下記表１に示す。
【０１２７】
（前記ハードコート層の厚み）
前記ハードコート層の厚みは、ミツトヨ社製のマイクロゲージ式厚み計にて測定を行った。すなわち、まず、透明プラスチックフィルム基材にハードコート層を設けた積層体全体の厚みを測定し、前記基材の厚みを差し引くことでハードコート層の厚みを算出した。
【０１２８】
（反射防止層の厚み）
前記反射防止層の厚みは、大塚電子社製の瞬間マルチ測光システム（商品名：ＭＣＰＤ２０００）を用い、干渉スペクトルの波形より算出した。
【０１２９】
（弾性率）
前記反射防止層の弾性率の評価は、ＭＴＳシステムズ社製ナノインデンター（型式：ＤＣＭ−ＳＡ２）を用い、下記の条件、かつ歪み速度＝０．０５ｓ−１、押込み深さ８ｎｍでのヤング率を測定して行った。
圧子：バーコピッチ型  Ψ＝６５．３°、ｓ／ｈ＝７．５３１５、Ａ（ｈ）＝２４．５６ｈ^２、Ｖ（ｈ）＝８．１８７３ｈ^３、Ｖ（Ａ）＝０．０６７３Ａ^３／２、Ａ／Ａｆ＝０．９０８、換算角度＝７０．３２°（Ψ：圧子頂点から引いた垂線と面のなす角度、ｓ／ｈ：側線と深さの比、Ａ（ｈ）：射影断面積、Ｖ（ｈ）：体積と押込み深さの関係、Ｖ（Ａ）：体積と射影断面積の関係、Ａ／Ａｆ：射影断面積と接触面積の比、換算角度：等価な円錐体の角度）
【０１３０】
（重量平均分子量）
重量平均分子量は、測定機器：東ソー社製の商品名ＨＬＣ−８１２０ＧＰＣ、カラム：東ソー社製  Ｇ４０００ＨＸＬ＋Ｇ２０００ＨＸＬ＋Ｇ１０００ＨＸＬ（各７．８ｍｍφ×３０ｃｍ，計９０ｃｍ）、カラム温度：４０℃、溶離液：テトラヒドロフラン、流速：０．８ｍｌ／分、入り口圧：６．６ＭＰａ、標準試料：ポリスチレンの条件のＧＰＣにより測定した。
【０１３１】
【表１】
2008088309.tif 000013
【０１３２】
前記表１に示すように、全実施例のハードコートフィルムの反射防止層の弾性率は、高い値を示し、硬度および膜強度に優れていた。これに対し、ケトン系溶媒を使用しなかった全比較例のハードコートフィルムの反射防止層は、弾性率が低く、硬度および膜強度が不十分であった。
【産業上の利用可能性】
【０１３３】
以上のように、本発明の硬化皮膜は、酸素存在下で製造した場合であっても、弾性率が高く、硬度および膜強度に優れ、しかも製造効率に優れ、かつ製造コストが低い。本発明の硬化皮膜は、例えば、反射防止ハードコートフィルムの反射防止層に適用できる。本発明の反射防止ハードコートフィルムは、偏光板、ＣＲＴ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）及びＥＬディスプレイ（ＥＬＤ）等の各種画像表示装置に好適に用いられる。
【図面の簡単な説明】
【０１３４】
【図１】図１は、本発明の反射防止ハードコートフィルムの一例を示す構成図である。
【図２】図２は、本発明の反射防止ハードコートフィルムのその他の例を示す構成図である。
【符号の説明】
【０１３５】
１  透明プラスチックフィルム基材
２  ハードコート層
３  反射防止層
４、６  反射防止ハードコートフィルム
５  微粒子
【図１】
2008088309.tif 000020
【図２】
2008088309.tif 000021