(57)【要約】【課題】基板全体で薬液と洗浄液との置換を短時間で行い、処理のむらを防止する。【解決手段】ローラ１０は、基板１を矢印Ａで示す基板移動方向へ移動する。薬液処理室２０において、薬液ノズル２１は、基板１の表面へ薬液を供給する。基板１の表面へ供給された薬液により、基板１の表面の薬液処理が行われる。洗浄室３０において、アクアナイフ３１は、基板移動方向と逆方向（矢印Ｂで示す方向）へ移動しながら、基板１の表面へ洗浄液を供給する。基板１の表面へ供給された洗浄液により、基板１の表面の薬液が洗い流されて洗浄液と置換される。基板１を移動しながら、基板１へ供給する洗浄液を基板移動方向と逆方向へ移動するので、洗浄液を基板１の表面全体へ供給するのに要する時間が短くなり、基板１全体で薬液と洗浄液との置換が短時間で行われる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を移動する基板移動手段と、
前記基板移動手段により移動される基板へ薬液を供給する薬液供給手段と、
前記基板移動手段により移動される基板へ洗浄液を供給する洗浄液供給手段とを備えた基板処理装置であって、
前記洗浄液供給手段は、基板へ供給する洗浄液を基板移動方向と逆方向へ移動することを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
前記洗浄液供給手段が基板移動方向と逆方向へ移動することを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記洗浄液供給手段が基板移動方向と逆方向へ回転することを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項４】
基板を移動しながら、
基板へ薬液を供給した後、
洗浄液供給手段から基板へ洗浄液を供給する基板処理方法であって、
洗浄液供給手段から基板へ供給する洗浄液を基板移動方向と逆方向へ移動することを特徴とする基板処理方法。
【請求項５】
洗浄液供給手段を基板移動方向と逆方向へ移動することを特徴とする請求項４に記載の基板処理方法。
【請求項６】
洗浄液供給手段を基板移動方向と逆方向へ回転することを特徴とする請求項４に記載の基板処理方法。
【請求項７】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載の基板処理装置を用いて、基板の薬液処理及び洗浄を行うことを特徴とする基板の製造方法。
【請求項８】
請求項４乃至請求項６のいずれか一項に記載の基板処理方法を用いて、基板の薬液処理及び洗浄を行うことを特徴とする基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板に現像、エッチング、剥離等の薬液処理を行う基板処理装置、基板処理方法、及びそれらを用いた基板の製造方法に係り、特に薬液処理後に基板の洗浄を行う基板処理装置、基板処理方法、及びそれらを用いた基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ装置やプラズマディスプレイ装置等の様なフラットパネルディスプレイ装置用のパネル基板の製造工程では、基板上に回路パターンやカラーフィルタ等を形成するため、現像、エッチング、剥離等の薬液処理が行われる。そして、薬液処理の後には、薬液を基板から除去して薬液処理を止めるために、基板の洗浄が行われる。基板の薬液処理及び洗浄を含む一連の処理は、ローラコンベア等の移動手段を用いて、基板を移動しながら行われることが多い。
【０００３】
一般に、基板を移動しながらの薬液処理は、現像液、エッチング液、剥離液等の薬液をノズル等から基板の表面へ供給して行われる。また、基板を移動しながらの洗浄も、純水等の洗浄液をアクアナイフ等から基板の表面へ供給して行われる。薬液処理後、洗浄液を基板の表面へ供給することにより、基板の表面の薬液が、洗浄液で洗い流されて除去され、洗浄液と置換される。基板を移動しながら基板の薬液処理及び洗浄を行うものとして、例えば、特許文献１及び特許文献２に記載のものがある。
【特許文献１】特開２００３−１０７９４号公報
【特許文献２】特開２００５−１５８９１１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
近年のフラットパネルディスプレイ装置の大画面化に伴い基板が大型化する程、薬液処理後の基板の洗浄において、基板全体で薬液と洗浄液との置換に時間が掛かり、薬液処理が部分的に進んで処理のむらが発生するという問題があった。
【０００５】
基板全体で薬液と洗浄液との置換を短時間に行うためには、基板の移動速度を速くして、洗浄液を基板全体へ供給するのに要する時間を短くする必要がある。しかしながら、基板が大型化する程、基板を移動する際に基板が破損する可能性が高くなって、基板の移動速度を余り速くすることができなかった。
【０００６】
本発明の課題は、基板全体で薬液と洗浄液との置換を短時間で行い、処理のむらを防止することである。また、本発明の課題は、品質の高い基板を製造することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の基板処理装置は、基板を移動する基板移動手段と、基板移動手段により移動される基板へ薬液を供給する薬液供給手段と、基板移動手段により移動される基板へ洗浄液を供給する洗浄液供給手段とを備えた基板処理装置であって、洗浄液供給手段が、基板へ供給する洗浄液を基板移動方向と逆方向へ移動するものである。
【０００８】
また、本発明の基板処理方法は、基板を移動しながら、基板へ薬液を供給した後、洗浄液供給手段から基板へ洗浄液を供給する基板処理方法であって、洗浄液供給手段から基板へ供給する洗浄液を基板移動方向と逆方向へ移動するものである。
【０００９】
基板を移動しながら、洗浄液供給手段から基板へ供給する洗浄液を基板移動方向と逆方向へ移動するので、洗浄液を基板全体へ供給するのに要する時間が短くなり、基板全体で薬液と洗浄液との置換が短時間で行われる。従って、薬液処理後の基板の洗浄において、薬液処理が部分的に進んで処理のむらが発生するのが防止される。
【００１０】
洗浄液を基板移動方向と逆方向へ移動するためには、洗浄液供給手段を基板移動方向と逆方向へ移動してもよく、また洗浄液供給手段を基板移動方向と逆方向へ回転してもよい。
【００１１】
本発明の基板の製造方法は、上記の基板処理装置又は基板処理方法を用いて、基板の薬液処理及び洗浄を行うものである。基板全体で薬液と洗浄液との置換が短時間で行われ、処理のむらが防止されるので、品質の高い基板が製造される。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の基板処理装置及び基板処理方法によれば、基板全体で薬液と洗浄液との置換を短時間で行い、処理のむらを防止することができる。
【００１３】
本発明の基板の製造方法によれば、処理のむらを防止することができるので、品質の高い基板を製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
図１は、本発明の一実施の形態による基板処理装置の概略構成を示す図である。基板処理装置は、ローラ１０、薬液処理室２０、薬液ノズル２１、エアナイフ２２、洗浄室３０、及びアクアナイフ３１を含んで構成されている。
【００１５】
基板１は、複数のローラ１０上に搭載され、ローラ１０の回転により矢印Ａで示す基板移動方向へ移動される。各ローラ１０は、基板移動方向に所定の間隔で設置されており、図示しない駆動手段により所定の速度で回転する。
【００１６】
なお、本実施の形態では基板１を水平な状態で移動しているが、本発明はこれに限らず、基板１を水平に対して基板移動方向と直交する方向又は基板移動方向に所定の角度傾斜した状態で移動してもよい。
【００１７】
基板１は、まず、ローラ１０により、薬液処理室２０へ搬入される。薬液処理室２０には、ローラ１０に搭載された基板１の上方に、複数の薬液ノズル２１が設置されている。薬液ノズル２１は、そのノズル口から現像液、エッチング液、剥離液等の薬液を吐出する。基板１の移動に伴い、薬液ノズル２１のノズル口から吐出された薬液が、基板１の表面全体へ供給される。基板１の表面へ供給された薬液により、基板１の表面の薬液処理が行われる。
【００１８】
なお、本実施の形態では、薬液ノズル２１が基板移動方向に３段設けられているが、薬液ノズル２１の段数はこれに限らない。
【００１９】
薬液処理室２０の出口付近には、ローラ１０に搭載された基板１の上方に、エアナイフ２２が設置されている。エアナイフ２２は、基板１の表面へエアを吹き付けて基板１の表面の薬液を押し流すことにより、薬液処理室２０から搬出される基板１の表面の薬液を少なくする役割を果す。
【００２０】
薬液処理後、基板１は、ローラ１０により、薬液処理室２０から洗浄室３０へ搬送される。洗浄室３０には、ローラ１０に搭載された基板１の上方に、アクアナイフ３１が配置されている。アクアナイフ３１は、基板移動方向と逆方向（矢印Ｂで示す方向）へ移動しながら、そのノズル口から純水等からなる洗浄液を吐出する。
【００２１】
図２は、本発明の一実施の形態による基板処理装置の動作を説明する図である。図２（ａ），（ｂ），（ｃ）に示す様に、アクアナイフ３１は、基板移動方向と逆方向へ移動しながら、基板１の表面へ洗浄液を供給する。アクアナイフ３１が基板移動方向と逆方向へ移動することにより、アクアナイフ３１から基板１の表面へ供給する洗浄液が基板移動方向と逆方向へ移動する。アクアナイフ３１から基板１の表面へ供給された洗浄液により、基板１の表面の薬液が洗い流されて洗浄液と置換される。基板１の洗浄が終了すると、アクアナイフ３１は元の位置へ戻る。
【００２２】
なお、本実施の形態では、アクアナイフ３１のノズル口からの洗浄液の吐出を、基板移動方向の下流側から上流側に向けて行っているが、ノズル口からの洗浄液の吐出方向はこれに限らず、洗浄液を基板１の表面に垂直に吐出してもよく、また基板移動方向の上流側から下流側に向けて吐出してもよい。
【００２３】
図３は、本発明の他の実施の形態による基板処理装置の概略構成を示す図である。本実施の形態の基板処理装置は、図１のアクアナイフ３１の代わりに、洗浄液ノズル３３を含んで構成されている。洗浄液ノズル３３は、アクアナイフ３１よりも緩やかな勢いで洗浄液を吐出する。その他の構成要素は、図１に示した実施の形態と同様である。
【００２４】
図４は、本発明の他の実施の形態による基板処理装置の動作を説明する図である。図４（ａ），（ｂ），（ｃ）に示す様に、洗浄液ノズル３３は、基板移動方向と逆方向へ移動しながら、基板１の表面へ洗浄液を供給する。洗浄液ノズル３３が基板移動方向と逆方向へ移動することにより、洗浄液ノズル３３から基板１の表面へ供給する洗浄液が基板移動方向と逆方向へ移動する。洗浄液ノズル３３から基板１の表面へ供給された洗浄液により、基板１の表面の薬液が洗い流されて洗浄液と置換される。基板１の洗浄が終了すると、洗浄液ノズル３３は元の位置へ戻る。
【００２５】
なお、本実施の形態では、洗浄液ノズル３３からの洗浄液の吐出を、基板移動方向の上流側から下流側に向けて行っているが、洗浄液ノズルからの洗浄液の吐出方向はこれに限らず、洗浄液を基板１の表面に垂直に吐出してもよく、また基板移動方向の下流側から上流側に向けて吐出してもよい。
【００２６】
図５は、本発明のさらに他の実施の形態による基板処理装置の概略構成を示す図である。本実施の形態の基板処理装置は、図１のアクアナイフ３１の代わりに、アクアナイフ３２を含んで構成されている。アクアナイフ３２は、基板移動方向と逆方向（矢印Ｃで示す方向）へ回転しながら、そのノズル口から純水等からなる洗浄液を吐出する。その他の構成要素は、図１に示した実施の形態と同様である。
【００２７】
図６は、本発明のさらに他の実施の形態による基板処理装置の動作を説明する図である。図６（ａ），（ｂ），（ｃ）に示す様に、アクアナイフ３２は、基板移動方向と逆方向へ回転しながら、基板１の表面へ洗浄液を供給する。アクアナイフ３２が基板移動方向と逆方向へ回転することにより、アクアナイフ３２から基板１の表面へ供給する洗浄液が基板移動方向と逆方向へ移動する。アクアナイフ３２から基板１の表面へ供給された洗浄液により、基板１の表面の薬液が洗い流されて洗浄液と置換される。基板１の洗浄が終了すると、アクアナイフ３２は元の姿勢へ戻る。
【００２８】
以上説明した実施の形態によれば、アクアナイフ３１，３２又は洗浄液ノズル３３から基板１の表面へ供給する洗浄液を基板移動方向と逆方向へ移動することにより、洗浄液を基板１の表面全体へ供給するのに要する時間を短くすることができる。従って、基板１全体で薬液と洗浄液との置換を短時間で行い、処理のむらを防止することができる。
【００２９】
本発明の基板処理装置又は基板処理方法を用いて基板の薬液処理及び洗浄を行うことにより、処理のむらを防止することができるので、品質の高い基板を製造することができる。
【００３０】
例えば、図７は、液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。薄膜形成工程（ステップ１０１）では、スパッタ法やプラズマ化学気相成長（ＣＶＤ）法等により、ガラス基板上に液晶駆動用の透明電極となる導電体膜や絶縁体膜等の薄膜を形成する。レジスト塗布工程（ステップ１０２）では、ロール塗布法等により感光樹脂材料（フォトレジスト）を塗布して、薄膜形成工程（ステップ１０１）で形成した薄膜上にフォトレジスト膜を形成する。露光工程（ステップ１０３）では、プロキシミティ露光装置や投影露光装置等を用いて、マスクのパターンをフォトレジスト膜に転写する。現像工程（ステップ１０４）では、シャワー現像法等により現像液をフォトレジスト膜上に供給して、フォトレジスト膜の不要部分を除去する。エッチング工程（ステップ１０５）では、ウエットエッチングにより、薄膜形成工程（ステップ１０１）で形成した薄膜の内、フォトレジスト膜でマスクされていない部分を除去する。剥離工程（ステップ１０６）では、エッチング工程（ステップ１０５）でのマスクの役目を終えたフォトレジスト膜を、剥離液によって剥離する。これらの各工程の前又は後には、必要に応じて、基板の洗浄工程及び乾燥工程が実施される。これらの工程を数回繰り返して、ガラス基板上にＴＦＴアレイが形成される。
【００３１】
また、図８は、液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。ブラックマトリクス形成工程（ステップ２０１）では、レジスト塗布、露光、現像、エッチング、剥離等の処理により、ガラス基板上にブラックマトリクスを形成する。着色パターン形成工程（ステップ２０２）では、染色法、顔料分散法、印刷法、電着法等により、ガラス基板上に着色パターンを形成する。この工程を、Ｒ、Ｇ、Ｂの着色パターンについて繰り返す。保護膜形成工程（ステップ２０３）では、着色パターンの上に保護膜を形成し、透明電極膜形成工程（ステップ２０４）では、保護膜の上に透明電極膜を形成する。これらの各工程の前、途中又は後には、必要に応じて、基板の洗浄工程及び乾燥工程が実施される。
【００３２】
図７に示したＴＦＴ基板の製造工程では、現像工程（ステップ１０４）及びその後の洗浄工程、エッチング工程（ステップ１０５）及びその後の洗浄工程、並びに剥離工程（ステップ１０６）及びその後の洗浄工程において、本発明の基板処理装置又は基板処理方法を適用することができる。また、図８に示したカラーフィルタ基板の製造工程では、ブラックマトリクス形成工程（ステップ２０１）及び着色パターン形成工程（ステップ２０２）の現像及びその後の洗浄、エッチング及びその後の洗浄、並びに剥離及びその後の洗浄において、本発明の基板処理装置又は基板処理方法を適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】本発明の一実施の形態による基板処理装置の概略構成を示す図である。
【図２】本発明の一実施の形態による基板処理装置の動作を説明する図である。
【図３】本発明の他の実施の形態による基板処理装置の概略構成を示す図である。
【図４】本発明の他の実施の形態による基板処理装置の動作を説明する図である。
【図５】本発明のさらに他の実施の形態による基板処理装置の概略構成を示す図である。
【図６】本発明のさらに他の実施の形態による基板処理装置の動作を説明する図である。
【図７】液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。
【図８】液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。
【符号の説明】
【００３４】
１  基板
１０  ローラ
２０  薬液処理室
２１  薬液ノズル
２２  エアナイフ
３０  洗浄室
３１，３２  アクアナイフ
３３  洗浄液ノズル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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