(57)【要約】【課題】浸漬塗布法により表面に塗膜が形成された円筒状基体の下端部の余剰塗膜を除去する方法の提供。【解決手段】中央に開口部を備えた塗膜除去部材４７ａを該開口部に円筒状基体５１の下端部が挿入可能に設けると共に、下方に塗膜除去部材４７ｂを配置し、最上部に塗膜除去液が上向きに吐出されるように塗膜除去液吐出孔４８を設けた塗膜除去液供給部材４６を円筒状基体５１の下端部内に挿入可能に設け、塗膜除去液吐出孔４８から塗膜除去液を吐出させて円筒状基体５１と塗膜除去部材４７ａ、４７ｂとを相対的に回転させることによって円筒状基体の端部の余剰塗膜を除去する。【選択図】図６
2008310283.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
浸漬塗布法により表面に塗膜が形成された円筒状基体の下端部の余剰塗膜を、端部塗膜除去部材に接触させて除去する塗膜除去方法において、
中央に開口部を備えた塗膜除去部材ａを該開口部に円筒状基体の下端部が挿入可能に設けると共に、
下方に塗膜除去部材ｂを配置し、最上部に上向きに塗膜除去液が吐出されるように塗膜除去液吐出孔を設けた塗膜除去液供給部材を円筒状基体の下端部内に挿入可能に設け、
塗膜除去液吐出孔から塗膜除去液を吐出させて円筒状基体と塗膜除去部材a、bとを相対的に回転させることによって円筒状基体の端部の余剰塗膜を除去することを特徴とする塗膜除去方法。
【請求項２】
塗膜除去液が溝に誘導されて塗膜除去部材に供給されることを特徴とする請求項１に記載の塗膜除去方法。
【請求項３】
外部から塗膜除去液供給が可能であって、上面の一部あるいは全部が開放しており、且つ水平方向に回転可能になっている容器と、その容器内に上面に貫通穴、あるいは非貫通穴を有する柔軟性多孔質部材が嵌合されており、前記容器を柔軟性多孔質部材に設けられた穴の中心を回転軸として回転させつつ、浸漬塗布した円筒体の下端を前記柔軟性多孔質部材の穴に挿入することによって、下端部の余剰塗膜を除去することを特徴とする、請求項１又は２記載の塗膜除去方法。
【請求項４】
塗膜除去部材の上部外形の断面積が容器上部外形の断面積の１０５％以上、１２０％以下であることを特徴とする請求項３に記載の塗膜除去方法。
【請求項５】
塗膜除去部材aの上部に押さえが備え付けられており、該押さえが前記容器の内側にあることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の塗膜除去方法。
【請求項６】
塗膜除去部材の２５％硬さが、９０Ｎ以上１５０Ｎ以下であることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の塗膜除去方法。
【請求項７】
塗膜除去部材と基体の相対的な回転数が２０ｒｐｍ以上５０ｒｐｍ以下であることを特徴とする請求項１から６のいずれかに記載の塗膜除去方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複写機、プリンターおよびファクシミリ等の画像形成装置に用いられる有機電子写真感光体の製造方法、ならびに該製造方法によって製造される有機電子写真感光体、電子写真装置、電子写真装置用プロセスカートリッジに関し、詳しくは、浸漬塗布方法にて、円筒状の導電性基体上に形成された感光層のうち、基体端部の不要部分を除去するために改良された製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から導電性基体上に感光層を形成する方法として浸漬塗布法が採用されている。
そして、浸漬塗布方法においては、円筒状の導電性基体上に形成された感光層のうち、基体端部の不要部分を除去することが行われている。
そこで、従来の浸漬塗布方法における基体端部の不要部分を除去する方法を図に基づいて説明する。
【０００３】
浸漬塗布に使用される装置の一例の断面図を図１に示す。
同図において、浸漬塗布装置１は、内部に塗布液１２が入っている塗布槽１１と、被塗布基体１３を保持する保持治具１４と、保持治具１４を上下動させるモータ１５と、モータ１５が駆動して被塗布基体１３が下降した際に塗布槽１１からあふれた塗布液１２を配管１６を通して一時貯蔵する循環槽１７と、循環槽１７内で塗布液１２をモータ１８の回転で回転する回転翼１９によって撹拌する撹拌手段と、循環槽１７内の塗布液２０を塗布槽１１へ送る循環ポンプ２１とを含んで構成されている。なお、浸漬塗布装置１は塗布液中の異物を除去する濾過機や塗布液の粘度を調節する粘度調節装置を備えるのが一般的であるが図１では省略してある。
【０００４】
上述の浸漬塗布法では、被塗布基体１３全体を塗布液１２内に浸漬するため、基体下端部には必ず塗布液が塗布され膜厚が不均一な塗膜が形成される。また、基体内側にも塗布液が一部侵入し、不要な塗膜が形成される。図２は、塗布後の感光体ドラム下端部を示す要部断面図であり、被塗布基体１３の下端部には余分な塗膜（感光層）３０ａ、３０ｂ、３０ｃが形成される。 
この下端部の余分な塗膜（３０ｃ）は搬送ラインのパレットに付着しパレットを汚すことがある。また、基体の内側および下端面部の不要な塗布膜（３０ｂ、３０ｃ）は、ドラム駆動用のフランジを嵌合させる場合、フランジが挿入できなかったり、嵌合できても基体の変形、寸法、精度、接着強度などに問題が生じてしまう。
【０００５】
電子写真感光体の両端部は、通電を取るためや各種部品を接続させるために感光層が無い方が望ましい。
下端部の余分な塗膜（３０ａ）は所定の膜厚より厚くなっており、例えばこのまま感光層を加熱乾燥した場合、塗膜内部に閉じ込められた多量の溶剤によって気泡が発生し、画像不良を引き起こす。さらに、感光層の膜厚が不均一のため、現像−転写後の不要な感光層上のトナーを清掃するためのクリーニングブレードのエッジ部が、感光層に精度よく当接せず、クリーニング不良、トナー落ち、フィルミング、膜減不良を生じる可能性がある。また、一般に、現像槽の両端にはＤＳＤカラーと呼ばれるドラムとの位置決めを行うローラーが設けられており、これがドラムの両端と精度良く接触することにより現像を安定させているが、その場合、コロやカラーリングが当接する部分は、摺擦を受けるため、塗膜が存在する場合には、不均一に剥離されたり磨耗したりするという問題がある。したがって、その部分には塗膜が形成されていないことが好ましい。
【０００６】
上記の理由から、余剰塗膜３０aは図１３に示すように所定の拭取り幅で完全に除去する必要がある。また余剰塗膜を除去する際には基体を傷つけないようにする必要がある。
また、画像品質向上のため、基体端部面に各種突き当て部材を接触させて精度を持たせる場合があるが、その場合も基体端部に塗膜が存在することによりその精度は著しく低下してしまう。
【０００７】
上記の問題点を解決するために種々の提案がなされている。
特許文献１には上方から下方に向けて漸次拡径するようにテーパー状に形成された外周面および下面を有し、外周面によって感光体ドラムの挿入を容易にし、しかも、当該下面により吐出される塗膜除去液を塗膜除去部材に向けて誘導することも可能である塗膜除去液供給部材が開示されている。
しかし浸漬塗布時には、基体下端部に塗布液の膜が生成するが、特許文献１に記載の方法では塗膜除去液供給部材の最上部に、当該膜が堆積し、新しく供給された塗膜除去液が汚染され、基体内側の余剰塗膜の拭取りが不十分になり、基体外側の余剰塗膜の拭き取り幅の均一性も低下するという問題がある。さらにこの方法では塗膜除去液が偏って流れやすく、塗膜除去部材全体に均一に塗膜除去液を供給することが困難である。
したがって、基体内側の余剰塗膜の拭取りが不十分になり、基体外側の余剰塗膜の拭き取り幅の均一性も低下するという問題がある。
また、基体内側の余剰塗膜を完全に拭き取り、基体外側の余剰塗膜の拭き取り幅の均一性を向上させるためには大量の塗膜除去液が必要となるという問題もある。            
【０００８】
特許文献２には液供給機構から供給される塗膜除去液を内面塗膜除去部材に供給する液供給穴を内面塗膜除去部材押えに設ける方法が開示されている。
しかし浸漬塗布時には、基体下端部に塗布液の膜が生成するが、特許文献２に記載の方法では塗膜除去液供給部材の最上部に、当該膜が堆積し、新しく供給された塗膜除去液が汚染され、基体内側の余剰塗膜の拭取りが不十分になり、基体外側の余剰塗膜の拭き取り幅の均一性も低下するという問題がある。さらにこの方法では塗膜除去液が塗膜除去部材の一方向から供給されるため、塗膜除去部材表面全体に均一に塗膜除去液を供給することが困難である。
したがって、基体内側の余剰塗膜の拭取りが不十分になり、基体外側の余剰塗膜の拭き取り幅の均一性も低下するという問題がある。
また、基体内側の余剰塗膜を完全に拭き取り、基体外側の余剰塗膜の拭き取り幅の均一性を向上させるためには大量の塗膜除去液が必要となるという問題もある。
【０００９】
特許文献３には塗膜除去部液を塗膜除去部材の下面から注入する方法が開示されている。
しかしながら、浸漬塗布時には基体下端部に塗布液の膜が生成するが、特許文献３に記載の方法では塗膜除去部材の最上部に、当該膜が堆積し、新しく供給された塗膜除去液が汚染され、基体内側の余剰塗膜の拭取りが不十分になり、基体外側の余剰塗膜の拭き取り幅の均一性も低下するという問題がある。さらにこの方法では塗膜除去液が塗膜除去部材の下面から供給されるため、塗膜除去部材表面全体に均一に塗膜除去液を供給することが困難である。
したがって、基体内側の余剰塗膜の拭取りが不十分になり、基体外側の余剰塗膜の拭き取り幅の均一性も低下するという問題がある。
また、基体内側の余剰塗膜を完全に拭き取り、基体外側の余剰塗膜の拭き取り幅の均一性を向上させるためには大量の塗膜除去液が必要となるという問題もある。
【００１０】
特許文献４には塗膜除去液供給部材の上方から水平に塗膜除去液を吐出する方法が開示されている。
しかしながら、浸漬塗布時には、基体下端部に塗布液の膜が生成するが、特許文献４に記載の方法では塗膜除去液供給部材の最上部に、当該膜が堆積し、新しく供給された塗膜除去液が汚染され、基体内側の余剰塗膜の拭取りが不十分になり、基体外側の余剰塗膜の拭き取り幅の均一性も低下するという問題がある。さらにこの方法では、塗膜除去液が偏って流れやすく、塗膜除去部材全体に均一に塗膜除去液を供給することが困難である。
したがって、基体内側の余剰塗膜の拭取りが不十分になり、基体外側の余剰塗膜の拭き取り幅の均一性も低下するという問題がある。
また、基体内側の余剰塗膜を完全に拭き取り、基体外側の余剰塗膜の拭き取り幅の均一性を向上させるためには大量の塗膜除去液が必要となるという問題もある。
【００１１】
また感光体ドラムの下端部に形成された感光層の塗膜を除去する方法として、ブレード（特許文献５）やブラシ（特許文献６）、多孔質材料（特許文献１〜３、特許文献７〜１２）を接触させて、塗膜除去液を用いて除去する方法、レーザー光により塗膜を除去する方法（特許文献１３）などが提案されている。
しかしながら、感光体ドラムの下端部形成された余剰塗膜は膜厚が不均一であり、ブレード、ブラシを接触させて除去しようとすると、その密着性が不均一になる。その結果、余剰塗膜の膜厚によって、除去が不十分な部分が発生したり、除去が過剰にになって基体を傷つける部分が発生したりするという問題がある。
同様に、レーザー光により除去する場合も、余剰塗膜の膜厚によって、除去が不十分な部分が発生したり、除去が過剰にになって基体を傷つける部分が発生したりするという問題がある。
【００１２】
一方、特許文献１〜３、特許文献７〜１２には、多孔質材料を接触させて除去する方法が開示されており、多孔質材料の柔軟性から、余剰塗膜への密着性が高くかつ、基体を傷つける恐れがなく、溶剤を吸収することから洗浄度が良好であることが開示されている。      
【００１３】
特許文献１〜３には、平面状の多孔質部材を基体下端面に押し付けることにより、余剰塗膜を除去する方法が開示されている。
しかしながら、この方法では拭取り幅（図１３）が１ｍｍ以下となり、所定の拭取り幅で余剰塗膜を拭取ることができないという問題がある。また、基体の端面の角が繰り返しこすり付けられるため、塗膜除去部材の亀裂が発生しやすく塗膜除去部材の耐久性が低いという問題もある。
【００１４】
特許文献７には、スポンジは端部処理時以外は前記処理槽から露出しており、基体が下降し基体下端が基体支持台を押しつけることにより上皿状処理槽に収納され溶剤に浸漬され膨潤し、基体に密着して、塗膜を除去する方法が開示されている。
しかし、この方法ではスポンジはスプリングにより保持されており、拭取り位置が安定しないため、拭取り幅の均一性が劣るという問題がある。
さらに、拭き取り時に塗膜除去部材が捻られて大きく変形するため拭取り幅の均一性が低いという問題がある。
したがって、この方法では仕上げの拭取りが必要となるという問題がある。また変形が戻るときに、塗膜除去液が塗膜に付着して塗膜欠陥になるという問題もある。
そして、変形が繰り返されるので、塗膜除去部材の耐久性が低いという問題もある。
また、この方法ではスポンジがスプリングにより保持されているので、塗膜除去部材を交換するのも容易ではない。
【００１５】
特許文献９〜１１には、複数の多孔質部材を押し付けて拭取ること方法が開示されている。しかしこの方法でも拭き取り時に塗膜除去部材が捻られて大きく変形するため拭き取り幅の均一性が低いという問題があり、仕上げの拭取りが必要となるという問題があることに加えて、変形が戻るときに塗膜除去液が塗膜に付着して塗膜欠陥になるという問題もある。
そして、変形が繰り返されるため、塗膜除去部材の耐久性が低いという問題がある。
また、この方法では塗膜除去部材の取り付け位置を精密に設定しないと拭取り幅の均一性が劣るため、塗膜除去部材を交換するのも容易ではない。
【００１６】
特許文献１２には異なる直径で同心円状に切込みが複数設けられた多孔質部材を用いて塗膜を除去する方法が開示されている。
しかし、この方法では、多孔質部材が塗膜除去液を含んだときの形状変化を予測して、切込みを設定することが困難であり、たとえ、予測して切込みを設けたとしても、切込みの寸法精度が低くなるという問題がある。このことにより、塗膜除去時の基体と塗膜除去部材の密着性が不十分、もしくは過剰になり、場合によっては、切込みに基体が嵌入されないという問題が発生し、拭取り幅の均一性が劣るという問題がある。
さらに、拭き取り時に塗膜除去部材が捻られて大きく変形するため拭取り幅の均一性が低いという問題がある。
したがって、この方法では仕上げの拭取りが必要となるという問題がある他、変形が戻るときに、塗膜除去液が塗膜に付着して塗膜欠陥になるという問題もある。
そして、変形が繰り返されるので、塗膜除去部材の耐久性が低いという問題もある。
また、この方法では塗膜除去部材の取り付け位置を精密に設定しないと切込みに基体が嵌入されないという問題が発生するため、塗膜除去部材を交換するのも容易ではない。
【００１７】
特許文献８には、端部塗膜除去部材の上部が円筒状基体端部の塗膜の除去処理を行う時には溶剤槽の液面から露出しており、円筒状基体下端が端部塗膜除去部材に接触しても円筒状基体が溶剤槽中に浸漬しない方法が開示されている。
しかし、この方法では、一方向から塗膜除去部材を押し付けるため、拭取り時に基体の鉛直方向の軸心がずれ易いため、拭取り幅の均一性が劣るという問題があることに加えて、拭き取り時に塗膜除去部材が捻られて大きく変形するため拭取り幅の均一性が低いという問題がある。
したがって、この方法では仕上げの拭取りが必要となるという問題があり、また、変形が戻るときに、塗膜除去液が塗膜に付着して塗膜欠陥になるという問題もある。
そして、変形が繰り返されるので、塗膜除去部材の耐久性が低いという問題もある。
また、本方法では塗膜除去部材の取り付け位置を精密設定しないと拭取り幅の均一性が劣るため、塗膜除去部材を交換するのも容易ではない。
【００１８】
【特許文献１】特開２００５−２２１９１８号公報
【特許文献２】特開２００２−３４６４４９号公報
【特許文献３】特開２００６−０６８６０２号公報
【特許文献４】実開平０２−０７１８５０号公報
【特許文献５】特開２００１−２８１８８８号公報
【特許文献６】特許第３８４５４６５号号公報
【特許文献７】特開２０００−２７５８７０号公報
【特許文献８】特開２００２−２８７３８５号公報
【特許文献９】特開２０００−３０５２９２号公報
【特許文献１０】特開２００６−２３１２０２号公報
【特許文献１１】特開２００２−２７８１０４号公報
【特許文献１２】特開２００１−１５７８６４号公報
【特許文献１３】特開２０００−９３８８７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１９】
近年の電子写真装置の高性能化は著しく、例えば、フルカラー出力可能な電子写真装置や１２００ｄｐｉあるいはそれ以上の高解像度の電子写真装置が上市されるようになっている。
これらの電子写真装置に使用する電子写真感光体は、高い寸法精度が要求され、例えば、全振れ量が３０μｍ以下のものが必要になっている。
【００２０】
電子写真感光体は、一般に導電性基体上に電子写真感光体層を形成し、この両端にフランジを取り付けて製造する。電子写真装置内において、円筒状電子写真感光体はフランジの中心軸で保持され、回転する。
ここで、円筒状電子写真感光体にフランジが正確な位置で取り付けられていないと、フランジで電子写真感光体を保持しこれを回転させたとき、振れが大きくなる問題がある。
そして、円筒状電子写真感光体へのフランジ取り付け精度の低下の原因の一つとして、浸漬塗工後の塗工下端余剰塗膜の除去不足がある。すなわち、塗工下端に余剰塗膜が残っていると、電子写真感光体とフランジの間にこの除去不良の塗膜が挟まり、フランジが斜めに取り付けられたり、あるいは、フランジがズレて取り付けされたりするという問題が発生する。
【００２１】
前記の背景技術の項で述べたように、従来の塗膜除去液供給方法では次の技術的課題があった。
(1)浸漬塗布時に、基体下端部に生成した塗布液の膜が塗膜除去液供給部材や塗膜除去部材の上部に堆積し、新しく供給された塗膜除去液が汚染され、基体内側の余剰塗膜の拭取りが不十分になり、基体外側の余剰塗膜の拭き取り幅の均一性も低下する。
(2)塗膜除去時に、塗膜除去液が偏って流れやすく、塗膜除去部材の円周方向に均一に塗膜除去液を供給することが困難であり、基体内側の余剰塗膜の拭取りが不十分になり、基体外側の余剰塗膜の拭き取り幅の均一性も低下する。
(3)基体内側の余剰塗膜を完全に拭き取り、基体外側の余剰塗膜の拭き取り幅の均一性を向上させるためには大量の塗膜除去液が必要となる。
(4)塗膜除去部材を基体端部外周面全体に均一に接触させることができず、拭取り幅の均一性が低い。
(5) 余剰塗膜の拭き取り時に基体を垂直に保持することができず、拭取り幅の均一性が劣る。
(6)余剰塗膜の拭き取り時に塗膜除去部材が捻られて大きく変形するため、拭取り幅の均一性が低い。
(7)拭き取り幅の均一性が劣る場合には仕上げの拭取りという余分の工程が必要となる。
(8)余剰塗膜の拭き取り時に塗膜除去部材が捻られて変形し、この変形が戻るときに、塗膜除去液が乱れて、乱れた液が塗膜に付着して塗膜欠陥になる。
(9)塗膜除去部材の変形が繰り返されるので、塗膜除去部材の耐久性が低くなる。
(10)塗膜除去部材の交換が容易ではない。
【００２２】
上記の課題に鑑み、本発明の第一の課題は、全振れ精度の高い電子写真感光体を製造する為に、浸漬塗工後の塗工下端の余剰塗膜を除去することであり、基体下端部に生成した塗布液の膜の堆積による、塗膜除去液の汚染を防ぎ、塗膜除去部材全体に均一に塗膜除去液を供給し、少ない液量で、基体内側の余剰塗膜を完全に拭き取り、基体外側の余剰塗膜の拭き取り幅の均一性も向上させる方法を提供することである。
【００２３】
また、本発明の第二の課題は、近年の電子写真プロセスにおいて、従来のコロトロンやスコロトロンの様なワーヤー帯電方式に変えて、ロール帯電方式を行う場合に、電子写真感光体と帯電ロールの間隙を高精度に保つ為には、感光体の両端外周面の塗膜除去を完全に行う必要があるが、これを可能にするものである。
従って拭取り幅の均一性が高いため、仕上げの拭取りが必要なく、また塗膜欠陥なく、塗膜除去部材の耐久性があり、塗膜除去部材の交換が容易な方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００２４】
上記の課題を解決するための本願発明は以下の通りのものである。
（１）浸漬塗布法により表面に塗膜が形成された円筒状基体の下端部の余剰塗膜を、端部塗膜除去部材に接触させて除去する塗膜除去方法において、
中央に開口部を備えた塗膜除去部材aを該開口部に円筒状基体の下端部が挿入可能に設けると共に、
下方に塗膜除去部材ｂを配置し、最上部に上向きに塗膜除去液が吐出されるように塗膜除去液吐出孔を設けた塗膜除去液供給部材を円筒状基体の下端部内に挿入可能に設け、塗膜除去液吐出孔から塗膜除去液を吐出させて円筒状基体と塗膜除去部材ａ、ｂとを相対的に回転させることによって円筒状基体の端部の余剰塗膜を除去することを特徴とする塗膜除去方法。
（２）塗膜除去液が溝に誘導されて塗膜除去部材に供給されることを特徴とする上記（１）に記載の塗膜除去方法。
（３）外部から塗膜除去液供給が可能であって、上面の一部あるいは全部が開放しており、且つ水平方向に回転可能になっている容器と、その容器内に上面に貫通穴、あるいは非貫通穴を有する柔軟性多孔質部材が嵌合されており、前記容器を柔軟性多孔質部材に設けられた穴の中心を回転軸として回転させつつ、浸漬塗布した円筒体の下端を前記柔軟性多孔質部材の穴に挿入することによって、下端部の余剰塗膜を除去することを特徴とする、上記（１）又は（２）に記載の塗膜除去方法。
（４）塗膜除去部材の上部外形の断面積が容器上部外形の断面積の１０５％以上、１２０％以下であることを特徴とする上記（３）に記載の塗膜除去方法。
（５）  塗膜除去部材aの上部に押さえが備え付けられており、該押さえが前記容器の内側にあることを特徴とする上記（１）〜（４）のいずれかに記載の塗膜除去方法。
（６）塗膜除去部材の２５％硬さが、９０Ｎ以上１５０Ｎ以下であることを特徴とする上記（１）〜（５）のいずれかに記載の塗膜除去方法。
（７）塗膜除去部材と基体の相対的な回転数が２０ｒｐｍ以上５０ｒｐｍ以下であることを特徴とする上記（１）〜（６）のいずれかに記載の塗膜除去方法。
以下では上記（１）〜（７）を「発明の態様（１）〜（７）」という。
【発明の効果】
【００２５】
［発明の態様（１）］
本態様（１）によれば、下方に塗膜除去部材ｂを配置し、最上部に塗膜除去液吐出孔を設けた塗膜除去液供給部材の最上部から上向きに塗膜除去液が吐出されるため、浸漬塗布時に生成した、基体下端部の塗布液の膜が付着しても、完全に洗い流すことができ、新しく供給された塗膜除去液が汚染されないという効果がある。
したがって、基体内側の余剰塗膜を完全に拭き取り、基体外側の余剰塗膜の拭き取り幅の最大値と最小値の差を１ｍｍ以下にでき仕上げの拭き取りが不要となる。
また、フランジ挿入後の感光体の全振れは３０μｍ以下になるという効果がある。
【００２６】
［発明の態様（２）］
本態様（２）によれば、発明の態様（２）の効果に加えて、塗膜除去液が、溝に誘導されて塗膜除去部材に供給されるため、塗膜除去部材表面全体に均一に塗膜除去液を供給すること出来るという効果がある。
【００２７】
［発明の態様（３）］
本態様（３）によれば、前記の効果に加えて、塗膜除去部材が容器に嵌合されているため、基体端部外周面全体に均一に接触させることができ、基体と塗膜除去部材の摩擦力が外周面全体で均一となるため、拭き取り時の塗膜除去部材の変形も小さくなるという効果がある。
また、変形の戻りも小さくなるため、塗膜除去液がみだれや飛散が小さくなるため塗膜欠陥も発生しない。
さらに変形が小さいため、塗膜除去部材の耐久性も向上するという効果もある。
そして、塗膜除去部材は嵌合されるので、特に調整しなくても、容器に設置されれば、基体端部外周面全体に均一に接触できる位置に設定できるので塗膜除去部材の交換が容易となる。
【００２８】
［発明の態様（４）］
本態様（４）によれば、前記の効果を奏することに加えて、塗膜除去部材の上部外形の断面積が容器上部外形の断面積の１０５％以上、１２０％以下であるため、基体との密着性が適切になり、塗膜除去部材を基体端部外周面全体に均一に接触させることができ、基体端部外周面全体に均一に力がかかるため、基体を垂直に保持することができ、拭き取り時の塗膜除去部材の変形も小さくなり、変形の戻りも小さくなるため、塗膜除去液がみだれや飛散が小さくなるので塗膜欠陥も発生しない。さらに変形が小さいため、塗膜除去部材の耐久性も向上するという効果もある。
【００２９】
［発明の態様（５）］
本態様（５）によれば、前記の効果を奏することに加えて、押さえがあることにより塗膜除去部材４７aの浮きが防止されて、塗膜除去部材を基体端部外周面全体に均一に接触させることができ、拭き取り時の塗膜除去部材の変形も小さくなり、変形の戻りも小さくなるため、塗膜除去液がみだれや飛散が小さくなるので塗膜欠陥も発生しない。さらに変形が小さいため、塗膜除去部材の耐久性も向上するという効果もある。
【００３０】
［発明の態様（６）］
本態様（６）によれば、前記の効果に加えて、塗膜除去部材の２５％硬さが、９０Ｎ以上１５０Ｎ以下であるため、拭き取り時の塗膜除去部材の変形が小さくり、変形の戻りも小さくなるため、塗膜除去液がみだれや飛散が小さくり塗膜欠陥も発生しない。さらに変形が小さいため、塗膜除去部材の耐久性も向上するという効果もある。  
【００３１】
［発明の態様（７）］
本態様（７）によれば、塗膜除去部材と基体との相対的な回転数が２０ｒｐｍ以上５０ｒｐｍ以下であるため、効率よく余剰塗膜を除去できるという効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３２】
本発明の塗膜除去方法を実施するための好適な塗膜除去装置の一例の構成図を図３、図２３に示す。
塗膜除去装置２は液回収槽４１と、液回収槽４１の内に設けられた容器４２と、容器４２を回転する回転モータ４３と、回転モータ４３の回転を容器４２に伝達するプーリやベルト等を有する回転伝達機構４４とを有する。液回収槽４１の下端部は液回収タンク４５に連結している。塗膜除去後の液回収はオーバーフローにより行っても良い。
容器４２は、外側塗膜除去部材４７aと、下方に内側塗膜除去部材４７ｂを配置した塗膜除去液供給部材４６とを有する。該塗膜除去液供給部材４６の内部には下部から上部まで塗膜除去液供給路が貫通して形成されており、最上部に塗膜除去液吐出孔４８を有する。
塗膜除去部材４７ａは容器４２に固定されていても、固定されていなくてもよい。
さらに図２３に示すように塗膜除去部材４７ａの上部に押さえ５４を設けることが望ましい。
塗膜除去液タンク５０は塗膜除去液供給ポンプ４９を介して塗膜除去液供給部材４６の塗膜除去液吐出孔４８に連結しており、この塗膜除去液吐出孔４８は塗膜除去液を上向きに吐出するように設けられている。
塗布後の基体の昇降装置は本図では省略した。
【００３３】
別の装置の例を図４、図２４に示す。図４、図２４に示す装置においては、塗膜除去液は吐出孔４８aのみならず、吐出孔４８ｂからも合わせて供給するようにしている。また、内側塗膜除去部材４７ｂは、外側塗膜除去部材４７aと同じ高さに設置しても良い。塗膜除去後の液回収は容器下部に設けた排出孔から液回収槽４１に排出し液回収タンクに回収することができる。
図５aは塗膜除去装置２の容器４２内に設置された外側塗膜除去部材４７ａの斜視図である。塗膜除去部材の内側の空洞は基体の形状と同様の円形であり、塗膜除去部材は容器４２に嵌合されている。
図５ｂは外側塗膜除去部材４７ａの別の斜視図である。また、容器４２の形状はこの２例に限られない。
【００３４】
図６は基体内側の塗膜を除去しているときの状態を示す図である。塗布後の基体５１は上部から挿入される。前記基体５１の挿入は基体５１を上部から下降させて挿入してもよいし、塗膜除去装置２を下側から上昇させて挿入してもよい。回転は基体挿入前から開始しても良いし、基体挿入後から開始しても良い。そして、塗膜除去部材４７が回転して、余剰塗膜を除去する。回転は基体挿入前から開始しても良いし、基体挿入後から開始しても良い。また塗膜除去液は塗膜除去液吐出孔４８から内側塗膜除去部材４７ｂに供給される。そして、塗膜除去液の供給は基体挿入前から開始しても良いし、基体挿入後から開始してもよい。
【００３５】
図７は基体外側の塗膜を除去しているときの状態を示す図である。前記基体５１の挿入は基体５１を上部から下降させて挿入してもよいし、塗膜除去装置２を下部から上昇させて挿入してもよい。回転は基体挿入前から開始しても良いし、基体挿入後から開始しても良い。そして、塗膜除去部材４７が回転して、余剰塗膜を除去する。回転は基体挿入前から開始しても良いし、基体挿入後から開始しても良い。また塗膜除去液は塗膜除去液吐出孔４８から外側塗膜除去部材４７aに供給される。そして、塗膜除去液の供給は基体挿入前から開始しても良いし、基体挿入後から開始してもよい。
塗膜除去後、基体５１は引き上げられ、除去操作は終了する。塗膜除去部材４７の回転は、基体を引き上げる前に停止しても良いし、基体を引き上げた後に回転を停止しても良い。
塗膜除去液の供給は基体引き上げ後に停止しても良いし、基体引き上げ前に停止してもよい。また塗膜除去中に停止してもよい。
塗膜除去液は容器４２の上部からオーバーフローして、排出されるが、図４に示すように容器下部などに排出孔を設けて排出してもよい。
必要な場合には基体を引き上げた後、塗膜除去液を供給して塗膜除去部材４７ａ、４７ｂを洗浄する。
【００３６】
図に基づいて本発明の各態様について詳細に説明する。
＜発明の態様（１）＞
本態様は、塗膜除去液が、塗膜除去液供給部材の最上部から上向きに吐出されることを特徴とするものである。
図８は、塗布時に生成した、基体下端部の塗布液の膜が付着する様子を示した図であり、塗膜除去液供給部材４６に塗布液の膜５２が付着している。
塗膜除去液が、塗膜除去液供給部材の最上部から上向きに吐出されることで、浸漬塗布時に基体下端部の付着した塗布液の膜５２は堆積することなく完全に洗い流され、また、新しい塗膜除去液が塗膜除去部材に供給されるため基体内側の余剰塗膜が完全に除去でき、更に新しく供給された塗膜除去液が汚染されないという効果がある。
これにより、基体内側の余剰塗膜を完全に拭き取り、基体外側の余剰塗膜の拭き取り幅の均一性も向上する。
【００３７】
塗膜除去液が最上部から上向きに吐出されていないと、浸漬塗布時に生成した、基体下端部の塗布液の膜が塗膜除去液供給部材や塗膜除去部材に堆積し、新しく供給された塗膜除去液が汚染され、基体内側の余剰塗膜の拭き取りが不十分になり、基体外側の余剰塗膜の拭き取り幅の均一性も低下する。
【００３８】
＜発明の態様（２）＞
本態様は塗膜除去液が、溝に誘導されて塗膜除去部材に供給されることを特徴とするものであり、この態様により、発明の態様（１）で奏される効果に加えて後述するような効果も奏する。
この態様２の塗膜除去液供給方法について図９に基づいて詳しく説明する。
塗膜除去部材４７ｂは塗膜除去液吐出口の下側にあることが好ましく、これにより、浸漬塗布時に生成した、基体下端部の塗布液の膜の堆積を防ぐことができる。
これによって、新しく供給された塗膜除去液が汚染されず、基体内側の余剰塗膜を完全に拭き取り、基体外側の余剰塗膜の拭き取り幅の均一性も向上する。
塗膜除去部材は、塗膜除去液供給部材４６の下側にあることにより、基体と塗膜除去部材の接触がスムーズになり、塗膜除去部材の耐久性が向上する。  また、塗膜除去部材４７ｂは下側になるにつれて徐々に拡径したテーパー面をもっている塗膜除去液供給部材４６の下側にあることがさらに好ましい。塗膜除去液供給部材４６が下側になるにつれて徐々に拡径したテーパー面を持っていることにより、基体が塗膜除去部材にスムーズに誘導される。
【００３９】
そして、当該塗膜除去液供給部材４６に溝を設けることにより塗膜除去部材表面全体に均一に塗膜除去液を供給することが出来る。当該溝は図１０に示すように、吐出孔４８からテーパー面下面に向けて、放射上に設けることが好ましく、数は４から８が好ましい。
これにより、少量の塗膜除去液により基体内側の余剰塗膜を完全に拭き取り、基体外側の余剰塗膜の拭き取り幅の均一性も向上する。
【００４０】
＜発明の態様（３）＞
本態様は、外部から塗膜除去液供給が可能であって、上部の一部あるいは全部が開放しており、且つ水平方向に回転可能になっている容器と、その容器内に上部に貫通穴、あるいは非貫通穴がある柔軟性多孔質部材が嵌合されており、前記容器を柔軟性多孔質部材に設けられた穴の中心を回転軸として回転させつつ、浸漬塗布した円筒体の下端を前記柔軟性多孔質部材の穴に挿入することによって、下端部の余剰塗膜を除去することを特徴とするものである。
【００４１】
本態様では塗膜除去部材は容器内に嵌合されているため、基体端部外周面全体に均一に接触させることができ、これにより拭き取り幅が均一になり、仕上げの拭き取りが不要となる。
そして基体端部外周面全体に均一に接触しているため、基体端部外周面全体に均一に力がかかり、これにより基体を垂直に保持することができ、拭き取り幅が均一になり、仕上げの拭き取りが不要となる。
また、基体端部外周面全体に均一に接触しているため、基体と塗膜除去部材の摩擦力が外周面全体で均一となるため、拭き取り時の塗膜除去部材の変形も小さくなる。これにより拭き取り幅が均一になり、仕上げの拭き取りが不要となる。そして、変形の戻りも小さくなるため、塗膜除去液がみだれや飛散が小さくなる。したがって塗膜欠陥も発生しない。
さらに変形が小さいため、塗膜除去部材の耐久性も向上する。
【００４２】
そして、塗膜除去部材は嵌合されるので、特に調整しなくても、容器に設置されれば、基体端部外周面全体に均一に接触できる位置に設定されるという効果もある。
したがって、塗膜除去部材の交換が容易となる。
塗膜除去部材が容器内に嵌合されていないと基体と塗膜除去部材との密着性が不十分になり、基体端部外周面全体に均一に接触させることができないため前記したような効果が得られない。  また、塗膜除去部材４７aは図２０から図２２のように一部切り欠きを設けても良い。
図１９は図５aの塗膜除去部材４７aを上から見た図である。
図２０〜２１はそれぞれ塗膜除去部材４７aの他の例を上から見た図であり、図２０は切り欠きを２箇所設けたもの、図２１は切り欠きを３箇所に設けたもの及び図２２は切り欠きを４箇所に設けたものをそれぞれ示す。
なお、切り欠きは点対称に設けることが好ましい。
【００４３】
本発明において塗膜除去部材は多孔質体（フォームともいう）が望ましい。
多孔質体とは、三次元網目構造の物質であり、その内部に独立気泡、すなわち周囲を壁で完全に仕切られた独立した室が無いか、有っても１０体積％以下であることが好ましい。また、本発明において、多孔質体は、その体積の７０％以上、９０％以下が空間であることが好ましい。
このような多孔質体は、モールド成形やスラブ成形などによって作成可能であり、その材質としては、ウレタンやポリエチレン、ポリセルロース、セラミック、テフロン（登録商標）などが可能である。
【００４４】
塗膜除去液は、塗膜を溶解し得るものであり、特に塗布液に使用している溶剤であることが望ましい。塗膜除去液としては、たとえば、テトラヒドロフラン、メタノール、メチルエチルケトン、１，４−ジオキサン、トルエン、Ｎ−メチルピロリドン、シクロヘキサノンなどを使用することができる。
塗膜除去時は風が当たらず無風状態である方が良い。塗膜除去液蒸気による、除去不要な塗膜の軟化などから発生する塗膜欠陥を防ぐためである。また塗膜除去液蒸気から除去不要な塗膜を保護するため、容器４２の上部に保護部材を設けてもよい。
【００４５】
除去操作時の温度は１８℃以上２６℃以下で一定の温度であることが好ましい。温度を一定にすることにより、塗膜の溶解が一定になり拭取り精度が向上する。
除去操作時の湿度は３５％RH以上７５％RH以下で一定の湿度であることが好ましい。湿度を一定にすることにより塗膜除去液の蒸発が一定になり、拭取り精度が向上する。
本発明に示す塗膜除去装置は、塗膜除去を行っていない状態での塗膜除去液の蒸発を避ける為に、全体を箱の中に入れて、塗膜除去動作時に開閉する蓋を備えても良い。
この蓋を備えることにより、塗膜除去部材からの溶剤蒸発を押さえられるばかりでなく、溶剤蒸発時の気化熱による拭き取り部材の温度低下も避けられる。塗膜を除去する際の溶解度は温度が低くなると下がるので、蒸発を押さえることは効果的である。
【００４６】
＜発明の態様（４）＞
本態様は前記塗膜除去部材の上部外形の断面積が容器上部外形の断面積の１０５％以上、１２０％以下であることを特徴とするものである。
塗膜除去部材の上部外形の断面積はさらに好ましくは、容器上部外形の断面積の１１０％以上、１１５％以下である。
ここで、塗膜除去部材の上部外形の断面積、および容器上部外形の断面積を図１４a、bにて説明する。
図１４ａは図５ａに示す塗膜除去部材と容器の上部外形であり、斜線部が断面積となる。
図１４ｂは図５ｂに示す塗膜除去部材と容器の上部外形であり、斜線部が断面積となる。
そして上部とは塗膜除去時に基体が挿入する部分のことである。
塗膜除去部材の上部外形の断面積が容器上部外形の断面積の１０５％以上、１２０％以下であれば、基体との密着性が適切になり、塗膜除去部材を基体端部外周面全体に均一に接触させることができる。これにより基体との密着性が適切になり、基体端部外周面全体に均一に力がかかるため、基体を垂直に保持することができ、拭き取り幅が均一になり、仕上げの拭き取りが不要となる。
また、基体との密着性が適切であるため、基体と塗膜除去部材の摩擦力が外周面全体で均一となるため、拭き取り時の塗膜除去部材の変形も小さくなるため、拭き取り幅が均一になり、仕上げの拭き取りが不要となる。
そして、変形の戻りも小さくなるため、塗膜除去液がみだれや飛散が小さくなり塗膜欠陥も発生しない。さらに変形が小さいため、塗膜除去部材の耐久性も向上する。
【００４７】
当該断面積は初めから上記断面積であってもよいし、膨潤の結果、上記断面積になってもよい。膨潤により上記断面積にする場合には、塗膜除去部材の伸び率は３００％以上５００％以下が好ましい。ここで伸び率とは、ＪＩＳＫ６４００に準拠して測定したものである。
当該断面積が１０５％より小さいと、密着性が不十分になり、基体端部外周面全体に均一に接触させることができず、前記したような効果が得られない。
また、当該断面積が１２０％より大きいと拭き取り時に摩擦が大きくなりすぎて、拭取りが不十分になるという問題がある。
【００４８】
＜発明の態様（５）＞
本態様は前記塗膜除去部材の上部に押さえが備え付けられており、当該押さえが容器の内側にあることを特徴とするものである。
ここで、当該押さえについて図１５から図１８にて説明する。
図１５は塗膜除去部材４７aの上部に備え付けられた押さえ５４の1例を上から見た図である。
図１６は塗膜除去部材４７aの上部に備え付けられた押さえ５４の1例を横から見た図である。
図１７は塗膜除去部材４７aの上部に備え付けられた押さえ５４の別の例を上から見た図である。
図１８は塗膜除去部材４７aの上部の断面積を示したものであり、斜線部が当該断面積となる。
【００４９】
押さえ５４があれば、塗膜除去部材４７aの浮きが防止されて、塗膜除去部材を基体端部外周面全体に均一に接触させることができ、拭き取り幅が均一になり、仕上げの拭き取りが不要となる。
そして塗膜除去部材を基体端部外周面全体に均一に接触させることができるため、拭き取り時の塗膜除去部材の変形も小さくなり、変形の戻りも小さくなるため、塗膜除去液がみだれや飛散が小さくなるので塗膜欠陥も発生しない。さらに変形が小さいため、塗膜除去部材の耐久性も向上する。
押さえ５４は塗膜除去部材４７ａを０．１ｇｆ／ｃｍ２以上、１０ｇｆ／ｃｍ２以下で押さえることが好ましく、さらに好ましくは１ｇｆ／ｃｍ２以上、５ｇｆ／ｃｍ２以下である。
そして、押さえ５４の部材としてはメラニン、ポリエチレン、ウレタン、ポリセルロース、セラミック、テフロン（登録商標）などが好ましい。特に塗膜除去液に有機溶剤を使用する場合には耐溶剤性が要求されるので、押さえ５４に耐溶剤性の高い部材を用いることが好ましい。
押さえ５４は塗膜除去部材４７aの上部の断面積の１０％以上９９％以下覆っていることが好ましく、さらに好ましくは２０％以上９９％以下がよい。
押さえ５４が容器４２の外側に出ていると、毛細管現象などにより、塗膜除去液が容器４２の外側に流れ出てしまい、前記したような効果が得られないばかりか、塗膜除去装置のまわりを汚してしまい、また、塗膜除去液に有機溶剤を使用している場合には安全性にも問題が生じる。
【００５０】
＜発明の態様（６）＞
本態様は前記塗膜除去部材の２５％硬さが、９０Ｎ以上１５０Ｎ以下であることを特徴とするものである。
塗膜除去部材の硬さはさらに好ましくは１１０Ｎ以上、１３０N以下がよい。
ここで、２５％硬さとは、ＪＩＳ Ｋ ６４００に準拠して測定したものである。
この硬さが９０Ｎ以上１５０Ｎ以下であれば、拭き取り時の塗膜除去部材の変形が小さくなり、拭き取り幅が均一になり、仕上げの拭き取りが不要となる。
また、変形の戻りも小さくなるため、塗膜除去液がみだれや飛散が小さくなるので塗膜欠陥も発生しない。
さらに変形が小さいため、塗膜除去部材の耐久性も向上する。
本硬さが９０Nより小さいと、拭き取り時に塗膜除去部材が捻られて大きく変形するため前記したような効果が得られない。
また、この硬さが１５０Nより大きいと、基体との密着性が低下し、拭き取り幅の均一性が低くなる。
【００５１】
＜発明の態様（７）＞
本態様は塗膜除去部材と基体との相対的な回転数が２０ｒｐｍ以上５０ｒｐｍ以下であることを特徴とするものである。
この回転数はさらに好ましくは３０ｒｐｍ以上５０ｒｐｍ以下である。
この回転数が２０ｒｐｍ以上５０ｒｐｍ以下であれば、効率よく余剰塗膜を除去できる。
塗膜除去時の回転は、基体を回転させてもよく、塗膜除去部材を回転させても良い。また、両方を回転させても良い。
回転数が１０ｒｐｍより小さいと、除去効率が悪く、塗膜除去液が多く必要になり、６０ｒｐｍより大きいと拭取り時の基体と塗膜除去部材の摩擦が大きくなって、除去効率が低くなる。
【実施例】
【００５２】
以下、本発明に係る実施例、及び比較例を挙げて説明するが、本発明は以下に示す実施例に限定されるものではない。
【００５３】
［実施例１］
直径φ３０ｍｍ、長さ３４０ｍｍのアルミニウム基体上に下引き層、電荷発生層を塗布したのち、電荷輸送層を塗布した。
そして、図３に示す装置にて余剰塗膜の除去を行った。塗膜除去液供給部材４６は溝のない図９に示す装置にて行った。
なお温度は２２℃、湿度は５４％ＲＨであった。容器上部外形の断面積は９８４７ｃｍ２であり、塗膜除去部材はポリウレタンフォームであり、２５％硬さは８０Ｎであった。
伸び率は３５０％であった。塗膜除去部材を１晩テトラヒドロフラン（塗膜除去液）に浸した後の上部外形の断面積は１００４４ｃｍ２（容器上部外形の断面積の１０２％）であった。当該塗膜除去部材を容器に設置して余剰塗膜の除去を行った。
塗布後の基体を降下させ、内側塗膜除去部材に接触させたのち、当該塗膜除去部材を１０ｒｐｍで回転し始め、その１秒後にテトラヒドロフランを２０ｍｌ／ｍｉｎで供給した。その５秒後にテトラヒドロフランの供給を停止し、その５秒後に回転を停止し、内側端部の余剰塗膜を除去した。その１秒後にさらに基体を引き下げ、外側塗膜除去部材に接触させたのち、当該塗膜除去部材を１０ｒｐｍで回転し始め、その１秒後にテトラヒドロフランを２０ｍｌ／ｍｉｎで供給した。その５秒後にテトラヒドロフランの供給を停止し、その５秒後に回転を停止した。その１秒後にさらに基体を引き上げ、外側余剰塗膜も除去した。
【００５４】
［実施例２］
実施例１と同様にして基体に電荷輸送層を塗布した。
塗膜除去部材を以下に変更した以外は実施例１と同様の条件で余剰塗膜を除去した。
塗膜除去部材の２５％硬さは８０Ｎであった。伸び率は４５０％であった。塗膜除去部材を１晩テトラヒドロフラン（塗膜除去液）に浸した後の上部外形の断面積は１２３０９ｃｍ２（容器上部外形の断面積の１２５％）であった。
【００５５】
［実施例３］
実施例１と同様にして基体に電荷輸送層を塗布した。
そして、図３に示す装置にて余剰塗膜の除去を行った。塗膜除去液供給部材４６は図１０に示す装置にて行った。なお、溝の数は４つである。
なお温度は２２℃、湿度は５４％ＲＨであった。容器上部外形の断面積は９８４７ｃｍ２であり、塗膜除去部材はポリウレタンフォームであり、２５％硬さは８０Ｎであった。
塗膜除去部材を１晩テトラヒドロフラン（塗膜除去液）に浸した後の上部外形の断面積は１０８３２ｃｍ２（容器上部外形の断面積の１１０％）であった。伸び率は４００％であった。当該塗膜除去部材を容器に設置して余剰塗膜の除去を行った。
塗布後の基体を降下させ、内側塗膜除去部材に接触させたのち、当該塗膜除去部材を１０ｒｐｍで回転し始め、その１秒後にテトラヒドロフランを１５ｍｌ／ｍｉｎで供給した。その５秒後にテトラヒドロフランの供給を停止し、その５秒後に回転を停止し、内側端部の余剰塗膜を除去した。その１秒後にさらに基体を引き下げ、外側塗膜除去部材に接触させたのち、当該塗膜除去部材を１０ｒｐｍで回転し始め、その１秒後にテトラヒドロフランを１５ｍｌ／ｍｉｎで供給した。その５秒後にテトラヒドロフランの供給を停止し、その５秒後に回転を停止した。その１秒後にさらに基体を引き上げ、外側余剰塗膜も除去した。
【００５６】
［実施例４］
実施例１と同様にして基体に電荷輸送層を塗布した。
そして、図３に示す装置にて余剰塗膜の除去を行った。塗膜除去液供給部材としては図１０に示す装置を用いた。なお、溝の数は８つである。
なお温度は２２℃、湿度は５４％ＲＨであった。容器上部外形の断面積は９８４７ｃｍ２であり、塗膜除去部材はポリウレタンフォームであり、２５％硬さは１６０Ｎであった。塗膜除去部材を１晩テトラヒドロフラン（塗膜除去液）に浸した後の上部外形の断面積は１０８３２ｃｍ２（容器上部外形の断面積の１１０％）であった。伸び率は３００％であった。当該塗膜除去部材を容器に設置して余剰塗膜の除去を行った。
塗布後の基体を降下させ、内側塗膜除去部材に接触させたのち、当該塗膜除去部材を１０ｒｐｍで回転し始め、その１秒後にテトラヒドロフランを１０ｍｌ／ｍｉｎで供給した。その５秒後にテトラヒドロフランの供給を停止し、その５秒後に回転を停止し、内側端部の余剰塗膜を除去した。その１秒後にさらに基体を引き下げ、外側塗膜除去部材に接触させたのち、当該塗膜除去部材を１０ｒｐｍで回転し始め、その１秒後にテトラヒドロフランを１０ｍｌ／ｍｉｎで供給した。その５秒後にテトラヒドロフランの供給を停止し、その５秒後に回転を停止した。その１秒後にさらに基体を引き上げ、外側余剰塗膜も除去した。
【００５７】
［実施例５］
実施例１と同様にして基体に電荷輸送層を塗布した。
そして実施例４で使用した装置および条件で、図１５の押さえを設けて余剰塗膜を除去した。
押さえ５４の材質はテフロン（登録商標）であり、塗膜除去部材４７aを１ｇｆ/ｃｍ２で押さえ、塗膜除去部材４７aの上部断面積の２０％を覆った。
【００５８】
［実施例６］
実施例１と同様にして基体に電荷輸送層を塗布した。
そして、図３に示す装置にて余剰塗膜の除去を行った。塗膜除去液供給部材としては図１０に示す装置を用いた。なお、溝の数は８つである。
なお温度は２２℃、湿度は５４％ＲＨであった。容器上部外形の断面積は９８４７ｃｍ２であり、塗膜除去部材はポリウレタンフォームであり、２５％硬さは１２０Ｎであった。塗膜除去部材を１晩テトラヒドロフラン（塗膜除去液）に浸した後の上部外形の断面積は１０８３２ｃｍ２（容器上部外形の断面積の１１０％）であった。伸び率は４５０％であった。当該塗膜除去部材を容器に設置して余剰塗膜の除去を行った。
塗布後の基体を降下させ、内側塗膜除去部材に接触させたのち、当該塗膜除去部材を１０ｒｐｍで回転し始め、その１秒後にテトラヒドロフランを１０ｍｌ／ｍｉｎで供給した。その５秒後にテトラヒドロフランの供給を停止し、その５秒後に回転を停止し、内側端部の余剰塗膜を除去した。その１秒後にさらに基体を引き下げ、外側塗膜除去部材に接触させたのち、当該塗膜除去部材を１０ｒｐｍで回転し始め、その１秒後にテトラヒドロフランを１０ｍｌ／ｍｉｎで供給した。その５秒後にテトラヒドロフランの供給を停止し、その５秒後に回転を停止した。その１秒後にさらに基体を引き上げ、外側余剰塗膜も除去した。
【００５９】
［実施例７］
実施例１と同様にして基体に電荷輸送層を塗布した。
そして、図３に示す装置にて余剰塗膜の除去を行った。塗膜除去液供給部材としては図１０に示す装置を用いた。なお、溝の数は８つである。
なお温度は２２℃、湿度は５４％ＲＨであった。容器上部外形の断面積は９８４７ｃｍ２であり、塗膜除去部材はポリウレタンフォームであり、２５％硬さは１２０Ｎであった。塗膜除去部材を１晩テトラヒドロフラン（塗膜除去液）に浸した後の上部外形の断面積は１０８３２ｃｍ２（容器上部外形の断面積の１１０％）であった。伸び率は４５０％であった。当該塗膜除去部材を容器に設置して余剰塗膜の除去を行った。
塗布後の基体を降下させ、内側塗膜除去部材に接触させたのち、当該塗膜除去部材を６０ｒｐｍで回転し始め、その１秒後にテトラヒドロフランを６ｍｌ／ｍｉｎで供給した。その５秒後にテトラヒドロフランの供給を停止し、その５秒後に回転を停止し、内側端部の余剰塗膜を除去した。その１秒後にさらに基体を引き下げ、外側塗膜除去部材に接触させたのち、当該塗膜除去部材を６０ｒｐｍで回転し始め、その１秒後にテトラヒドロフランを６ｍｌ／ｍｉｎで供給した。その５秒後にテトラヒドロフランの供給を停止し、その５秒後に回転を停止した。その１秒後にさらに基体を引き上げ、外側余剰塗膜も除去した。
【００６０】
［実施例８］
実施例１と同様にして基体に電荷輸送層を塗布した。
そして、図３に示す装置にて余剰塗膜の除去を行った。塗膜除去液供給部材としては図１０に示す装置を用いた。なお、溝の数は８つである。
なお温度は２２℃、湿度は５４％ＲＨであった。容器上部外形の断面積は９８４７ｃｍ２であり、塗膜除去部材はポリウレタンフォームであり、２５％硬さは１２０Ｎであった。塗膜除去部材を１晩テトラヒドロフラン（塗膜除去液）に浸した後の上部外形の断面積は１０８３２ｃｍ２（容器上部外形の断面積の１１０％）であった。伸び率は４５０％であった。当該塗膜除去部材を容器に設置して余剰塗膜の除去を行った。
塗布後の基体を降下させ、内側塗膜除去部材に接触させたのち、当該塗膜除去部材を５０ｒｐｍで回転し始め、その１秒後にテトラヒドロフランを６ｍｌ／ｍｉｎで供給した。その５秒後にテトラヒドロフランの供給を停止し、その５秒後に回転を停止し、内側端部の余剰塗膜を除去した。その１秒後にさらに基体を引き下げ、外側塗膜除去部材に接触させたのち、当該塗膜除去部材を５０ｒｐｍで回転し始め、その１秒後にテトラヒドロフランを６ｍｌ／ｍｉｎで供給した。その５秒後にテトラヒドロフランの供給を停止し、その５秒後に回転を停止した。その１秒後にさらに基体を引き上げ、外側余剰塗膜も除去した。
【００６１】
［比較例１］
実施例１と同様にして基体に電荷輸送層を塗布した。
そして、図１１に示す装置にて余剰塗膜の除去を行った。この装置は塗膜除去部材４７ａ、４７ｂが設けられた容器４２が左右に動き、塗膜除去部材４７ａ、４７ｂを押さえつけながら、塗膜を除去するようにした装置である。なお温度は２２℃、湿度は５４％ＲＨであった。塗膜除去部材はポリウレタンフォームであり、２５％硬さは１２０Ｎであった。
塗布後の基体を降下させ、塗膜除去部材４７ａ、４７ｂに接触させたのち、当該塗膜除去部材を５０ｒｐｍで回転し始め、その１秒後にテトラヒドロフランを４８ｍｌ／ｍｉｎで供給した。その５秒後にテトラヒドロフランの供給を停止し、その５秒後に回転を停止し、塗膜除去部材を離し、その１秒後にさらに基体を引き上げ、余剰塗膜を除去した。      
【００６２】
［比較例２］
実施例１と同様にして基体に電荷輸送層を塗布した。
そして、図３に示す装置の塗膜除去液供給部材４６を図１２に示す部材に変更して余剰塗膜の除去を行った。図１２に示した部材は塗膜除去液供給部材４６内を通ってきた塗膜除去液が塗膜除去液吐出孔から水平に噴出して基体端部の余剰塗膜を除去するようにしたものである。
なお温度は２２℃、湿度は５４％ＲＨであった。容器上部外形の断面積は９８４７ｃｍ２であり、塗膜除去部材はポリウレタンフォームであり、２５％硬さは１２０Ｎであった。塗膜除去部材を１晩テトラヒドロフラン（塗膜除去液）に浸した後の上部外形の断面積は１０８３２ｃｍ２（容器上部外形の断面積の１１０％）であった。伸び率は４５０％であった。当該塗膜除去部材を容器に設置して余剰塗膜の除去を行った。
塗布後の基体を降下させ、内側塗膜除去部材に接触させたのち、当該塗膜除去部材を５０ｒｐｍで回転し始め、その１秒後にテトラヒドロフランを３０ｍｌ／ｍｉｎで供給した。その５秒後にテトラヒドロフランの供給を停止し、その５秒後に回転を停止し、内側端部の余剰塗膜を除去した。その１秒後にさらに基体を引き下げ、外側塗膜除去部材に接触させたのち、当該塗膜除去部材を５０ｒｐｍで回転し始め、その１秒後にテトラヒドロフランを３０ｍｌ／ｍｉｎで供給した。その５秒後にテトラヒドロフランの供給を停止し、その５秒後に回転を停止した。その１秒後にさらに基体を引き上げ、外側余剰塗膜も除去した。
【００６３】
以上の実施例１〜８、比較例１、２の条件で、それぞれ１００００本まで塗膜除去を行った。塗膜除去後フランジを取り付け、リコー製全振れ測定機にて全振れ量を測定した。
拭き取り幅は表面粗さ計サーフコム１４００Ｄを用いて、断面測定により図１３の拭取り幅を周方向４点で測定し、最大値と最小値の差を評価した。
なお、拭取り幅の最大値と最小値の差が連続して５本以上、１．５ｍｍ以上になった時点で、塗膜除去部材の寿命と判断し、それ以後の塗膜除去は中止とした。  結果を表１に示した。
【００６４】
【表１】
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【産業上の利用可能性】
【００６５】
本発明の塗膜除去方法によれば、浸漬塗工後の塗工下端の余剰塗膜を完全に拭き取ることができ、電子写真感光体と帯電ロールの間隙を高精度に保つことによって画像品質を向上させることができるので、複写機、プリンターおよびファクシミリ等の画像形成装置に用いられる有機電子写真感光体の製造方法として好適である。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】浸漬塗布に使用される装置の一例の断面図である。
【図２】塗布後の感光体ドラム下端部を示す要部断面図である。
【図３】本発明に使用される装置の一例の断面図である。
【図４】本発明に使用される装置の別の例の断面図である。
【図５ａ】本発明に係る基体外側の塗膜除去部材が容器に設置されたときの斜視図である。
【図５ｂ】本発明に係る基体外側の塗膜除去部材が容器に設置されたときの別の斜視図である。
【図６】本発明に係る方法により基体内側の余剰塗膜を除去しているときの図である。
【図７】本発明に係る方法により基体外側の余剰塗膜を除去しているときの図である。
【図８】塗布時に生成した、基体下端部の塗布液の膜が付着する様子を表した図である。
【図９】本発明に係る塗膜除去液吐出孔および、内側の塗膜除去部材を表した図である。
【図１０】本発明に係る塗膜除去液供給部材に設けた溝を表した図である。
【図１１】比較例１で使用した塗膜除去装置の図である。
【図１２】比較例２で使用した塗膜除去液供給部材の図である。
【図１３】拭取り幅の説明と実施例および比較例の測定点を示す図である。
【図１４ａ】本発明に係る塗膜除去部材の上部外形の断面積と容器上部外形の断面積の説明の図である。
【図１４ｂ】本発明に係る塗膜除去部材の上部外形の断面積と容器上部外形の断面積の説明の別の図である。
【図１５】塗膜除去部材４７aの上部に備え付けられた押さえ５４の1例を上から見た図である。
【図１６】塗膜除去部材４７aの上部に備え付けられた押さえ５４の1例を横から見た図である。
【図１７】塗膜除去部材４７aの上部に備え付けられた押さえ５４の１例を上から見た図である。
【図１８】塗膜除去部材４７aの上部の断面積を示したものであり、斜線部が当該断面積となる。
【図１９】図５aの塗膜除去部材４７aを上から見た図である。
【図２０】は塗膜除去部材４７aの１例を上から見た図であり、切り欠きを２箇所に設けたものである。
【図２１】塗膜除去部材４７aの１例を上から見た図であり、切り欠きを３箇所に設けたものである。
【図２２】塗膜除去部材４７aの１例を上から見た図であり、切り欠きを４箇所に設けたものである。
【図２３】本発明の塗膜除去方法に使用される装置の別の例の断面図である。
【図２４】本発明の塗膜除去方法に使用される装置の別の例の断面図である。
【符号の説明】
【００６７】
１  浸漬塗布装置
２  塗膜除去装置
１１  塗布槽
１２  塗布液
１３  被塗布基体
１４  保持治具
１５  モータ
１６  配管
１７  循環槽
１８  モータ
１９  回転翼
２０  循環槽内の塗布液
２１  循環ポンプ
３０  塗膜（感光層）
３０ａ〜ｃ  余分な塗膜（感光層）
４１  液回収槽４１
４２  容器４２
４３  回転モータ
４４  回転伝達機構
４５  液回収タンク
４６  塗膜除去液供給部材
４７ａ  基体外側の塗膜除去部材
４７ｂ  基体内側塗膜除去部材
４８  塗膜除去液吐出孔
４９  塗膜除去液供給ポンプ
５０  塗膜除去液タンク
５１  塗布後の基体
５２  塗布液の膜
５３  塗膜除去液供給部材４６の溝５４  押さえ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５ａ】
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【図５ｂ】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４ａ】
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【図１４ｂ】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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