(57)【要約】【課題】基板を移動させながら成膜する際でも、正確、かつ、効率よく膜厚を測定することのできる蒸着用マスク、蒸着用基板ホルダ、および蒸着状態判定方法を提供すること。【解決手段】成膜時に基板とともに移動する蒸着用マスク１９にモニター用の水晶振動子１６を保持させ、水晶振動子１６によって成膜状態を監視する。このため、蒸着室１１を改造しなくても、蒸着速度や膜厚を正確かつ効率よく求めることができる。また、蒸着用マスク１９において、蒸着源１２に対向する側とは反対の面側に水晶振動子１６に対する端子１６ｃが露出しているので、成膜後、蒸着用マスク１９において、蒸着源１２に対向する側とは反対の面側にプローブ２１を当てるだけで水晶振動子１６の共振周波数を計測できる。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
蒸着法あるいはスパッタ法により基板に成膜するパターンに対応する開口部を備え、成膜時に当該基板に対して蒸着源が位置する側に配置される蒸着用マスクであって、
前記蒸着源に対向する面側にモニター用の水晶振動子を保持していることを特徴とする蒸着用マスク。
【請求項２】
前記蒸着源に対向する側とは反対側に前記水晶振動子に対する端子を備えていることを特徴とする請求項１に記載の蒸着用マスク。
【請求項３】
前記蒸着源に対向する面側と、当該蒸着源に対向する側とは反対の面側とを貫通させる貫通穴内に前記水晶振動子を着脱可能に保持していることを特徴とする請求項２に記載の蒸着用マスク。
【請求項４】
基板に蒸着法により成膜を行う際、蒸着源に対して前記基板を保持して移動させる蒸着用基板ホルダであって、
前記蒸着源に対向する面側にモニター用の水晶振動子を保持していることを特徴とする蒸着用基板ホルダ。
【請求項５】
前記蒸着源に対向する側とは反対の面側に前記水晶振動子に対する端子を備えていることを特徴とする請求項４に記載の蒸着用基板ホルダ。
【請求項６】
前記蒸着源に対向する面側と、当該蒸着源に対向する側とは反対の面側とを貫通させる貫通穴内に前記水晶振動子を着脱可能に保持していることを特徴とする請求項５に記載の蒸着用基板ホルダ。
【請求項７】
基板を蒸着源に対して移動させながら蒸着法あるいはスパッタ法により当該基板に成膜を行うにあたって、
前記基板を保持して移動させる蒸着用基板ホルダ、あるいは当該蒸着用基板ホルダに保持される移動部材において前記蒸着源が位置する側に成膜モニター用の水晶振動子を保持させた状態で成膜を行い、当該水晶振動子の共振特性を測定して成膜された薄膜の厚さを測定することを特徴とする蒸着状態判定方法。
【請求項８】
前記蒸着用基板ホルダあるいは前記移動部材において前記蒸着源が位置する側に前記水晶振動子を複数、保持させた状態で成膜を行い、当該複数の水晶振動子の共振特性を測定して膜厚分布を測定することを特徴とする請求項７に記載の蒸着状態判定方法。
【請求項９】
前記移動部材は、前記基板に成膜するパターンに対応する開口部を備えた蒸着用マスクであることを特徴とする請求項７又は８に記載の蒸着状態判定方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空蒸着あるいはスパッタ蒸着などといった蒸着法に用いられる蒸着用マスク、蒸着用基板ホルダ、および蒸着状態判定方法に関するものである。さらに詳しくは、基板を移動させながら成膜する際の蒸着状態判定技術に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
真空蒸着あるいはスパッタ蒸着などといった蒸着装置においては、成膜室内において、蒸着源（蒸発源やターゲット）と基板とによって挟まれた空間の側方にモニター用の水晶振動子を配置しておき、成膜後、水晶振動子の共振周波数を測定することにより、蒸着速度や膜厚を求める方法が提案されている（特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００５‐２０６８９６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、基板を回転させながら蒸着を行う回転式蒸着装置や基板を面内方向に移動させながら蒸着を行うインライン式蒸着装置に特許文献１に開示の方法を採用すると、基板は移動するが、モニター用の水晶振動子は移動しないため、基板と水晶振動子とでは、成膜条件が相違し、蒸着速度や膜厚を正確に求めることができなという問題点がある。
【０００４】
このような問題の解決案としては、基板上に小片のガラス基板を貼り付けた状態で成膜を行い、成膜後、この小片のガラス基板を基板より取り外し、ガラス基板に形成された薄膜の膜厚をエリプソメータや段差計などを用いて測定するという方法が考えられる。しかしなら、この方法では、測定精度を確保するために、薄膜の膜厚をある程度、厚くする必要があるため、例えば、蒸着レートの低いドーパント材料を含むように成膜する際には、成膜に長い時間を要し、かつ、膜厚測定にも長い時間がかかってしまうという問題点がある。
【０００５】
また、別の解決案としては、モニター用の水晶振動子に対して駆動機構を設け、水晶振動子を基板とともに移動させる方法が考えられる。しかしながら、この方法では、蒸着室内に水晶振動子に対する駆動機構を設けた分、蒸着室内の構成が複雑化するとともに、駆動機構からの発塵により、成膜した薄膜の膜質が低下するおそれがあり、好ましくない。
【０００６】
以上の問題に鑑みて、本発明の課題は、基板を移動させながら成膜する際でも、正確、かつ、効率よく膜厚を測定することのできる蒸着用マスク、蒸着用基板ホルダ、および蒸着状態判定方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明では、蒸着法あるいはスパッタ法により基板に成膜するパターンに対応する開口部を備え、成膜時に当該基板に対して蒸着源が位置する側に配置される蒸着用マスクであって、前記蒸着源に対向する面側に、成膜モニター用の水晶振動子を保持していることを特徴とする。
【０００８】
本発明では、成膜時に基板とともに移動する蒸着用マスクにモニター用の水晶振動子を保持させたので、水晶振動子には基板と同一の条件で成膜される。それ故、基板を回転させながら蒸着を行う回転式蒸着装置や基板を面内方向に移動させながら蒸着を行うインライン式蒸着装置において、蒸着室を改造しなくても、蒸着速度や膜厚を正確かつ効率よくに求めることができる。
【０００９】
本発明に係る蒸着用マスクにおいて、前記蒸着源に対向する側とは反対の面側に前記水晶振動子に対する端子を備えていることが好ましい。このように構成すると、成膜後、蒸着用マスクにおいて、蒸着源に対向する側とは反対の面側にプローブを当てるだけで水晶振動子の共振周波数を計測できる。
【００１０】
本発明に係る蒸着用マスクにおいて、前記蒸着源に対向する面側と、当該蒸着源に対向する側とは反対の面側とを貫通させる貫通穴内に前記水晶振動子を着脱可能に保持していることが好ましい。このように構成すると、水晶振動子を容易に交換できるとともに、蒸着用マスクにおいて、蒸着源に対向する側とは反対の面側に水晶振動子に対する端子を設けることができる。
【００１１】
本発明の別の形態では、基板に蒸着法あるいはスパッタ法により成膜を行う際、蒸着源に対して前記基板を移動させる蒸着用基板ホルダであって、前記蒸着源に対向する面側に、モニター用の水晶振動子を保持していることを特徴とする。
【００１２】
本発明では、成膜時に基板とともに移動する蒸着用基板ホルダにモニター用の水晶振動子を保持させたので、水晶振動子には基板と同一の条件で成膜される。それ故、基板を回転させながら蒸着を行う回転式蒸着装置や基板を面内方向に移動させながら蒸着を行うインライン式蒸着装置において、蒸着室を改造しなくても、蒸着速度や膜厚を正確かつ効率よくに求めることができる。
【００１３】
本発明に係る蒸着用基板ホルダにおいて、前記蒸着源に対向する側とは反対の面側に前記水晶振動子に対する端子を備えていることが好ましい。このように構成すると、成膜後、蒸着用基板ホルダにおいて、蒸着源に対向する側とは反対の面側にプローブを当てるだけで水晶振動子の共振周波数を計測できる。
【００１４】
本発明に係る蒸着用基板ホルダにおいて、前記蒸着源に対向する面側と、当該蒸着源に対向する側とは反対の面側とを貫通させる貫通穴内に前記水晶振動子を着脱可能に保持していることが好ましい。このように構成すると、水晶振動子を容易に交換できるとともに、蒸着用基板ホルダにおいて、蒸着源に対向する側とは反対の面側に水晶振動子に対する端子を設けることができる。
【００１５】
本発明では、基板を蒸着源に対して移動させながら蒸着法により当該基板に成膜を行うにあたって、前記基板を保持して移動させる蒸着用基板ホルダ、あるいは当該蒸着用基板ホルダに保持される移動部材において前記蒸着源が位置する側に成膜モニター用の水晶振動子を保持させた状態で成膜を行い、当該水晶振動子の共振特性を測定して、成膜された薄膜の厚さを測定することを特徴とする。
【００１６】
本発明において、前記蒸着用基板ホルダあるいは前記移動部材において前記蒸着源が位置する側に前記水晶振動子を複数、保持させた状態で成膜を行い、当該複数の水晶振動子の共振特性を測定し、膜厚分布を測定してもよい。
【００１７】
本発明において、前記移動部材は、例えば、前記基板に成膜するパターンに対応する開口部を備えた蒸着用マスクである。また、前記移動部材は、例えば、ダミーの基板であってもよい。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下に、図面を参照して本発明を適用した膜厚測定方法、および蒸着装置について説明する。なお、各図においては、各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各部材毎に縮尺を異ならせてある。また、以下の実施の形態では、本発明の蒸着装置が用いられる対象として有機ＥＬ装置の一例であるラインヘッドを例示する。
【００１９】
［第１の実施の形態］
（有機ＥＬ装置の構成例）
図１（ａ）、（ｂ）は各々、本発明の蒸着装置を用いて作製される有機ＥＬ装置の一例であるラインヘッドの要部断面図、および平面図である。図２（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は各々、図１に示す素子基板を製造する際に用いた大型基板の平面図、この大型基板の要部を拡大して示す平面図、および素子基板の平面図である。
【００２０】
図１（ａ）、（ｂ）に示す有機ＥＬ装置１は、電子写真方式を利用したプリンタに使用されるラインヘッドであり、複数の有機ＥＬ素子３を配列してなる発光素子列（発光部ライン）３Ａを１列または複数列、例えば、３列備えている。このようなラインヘッドでは、発光素子列３Ａに含まれる有機ＥＬ素子３のうち、所定の有機ＥＬ素子３を点灯させて感光ドラム上に照射することにより、感光ドラム上に電荷による像（潜像）を形成する。ここで、有機ＥＬ装置１は細長い矩形形状を有しており、通常は、図２（ａ）、（ｂ）に示すように、１枚の大型基板２Ａ上に有機ＥＬ素子３などを形成した後、図２（ｃ）に示すような単品サイズの複数枚の素子基板２に切り出され、ボトムエミッション方式の場合には、素子基板２に封止基板２Ｂが貼られる。
【００２１】
再び図１（ａ）において、有機ＥＬ装置１が、発光層７で発光した光を画素電極４側から出射するボトムエミッション方式の場合には、素子基板２側から発光光を取り出す。このため、素子基板２としては透明あるいは半透明のものが採用される。例えば、ガラス、石英、樹脂（プラスチック、プラスチックフィルム）等が挙げられ、特にガラス基板が好適に用いられる。また、素子基板２上には、画素電極４に電気的に接続された駆動用トランジスタ５ａ（薄膜トランジスタ）などを含む回路部５が、発光素子列３Ａに沿って形成されており、その上層側に有機ＥＬ素子３が形成されている。有機ＥＬ素子３は、陽極として機能する画素電極４と、この画素電極４からの正孔を注入／輸送する正孔輸送層６と、有機ＥＬ物質からなる発光層７（有機機能層）と、電子を注入／輸送する電子注入層８と、陰極９とがこの順に積層された構造になっている。素子基板２の回路部５には、図２（ａ）、（ｂ）に示すように、外部接続端子５ｂが接続されており、各有機ＥＬ素子３を外部より制御可能となっている。
【００２２】
（有機ＥＬ装置１の製造方法）
図１および図２を参照して説明した有機ＥＬ装置１を製造するには、素子基板２に対して成膜工程、レジストマスクを用いてのパターニング工程などといった半導体プロセスを利用して各層が形成されるが、正孔輸送層６、発光層７、電子注入層８などの有機機能層は、水分や酸素により劣化しやすい。このため、発光層７などの有機機能層を形成する際、さらには、陰極９を形成する際、レジストマスクを用いてのパターニング工程を行うと、レジストマスクをエッチング液や酸素プラズマなどで除去する際に有機機能層が水分や酸素により劣化してしまう。
【００２３】
そこで、本形態では、発光層７などの有機機能層を形成する際、さらには陰極９を形成する際には、マスク蒸着法を利用して、素子基板２に所定形状の薄膜を形成し、レジストマスクを用いてのパターニング工程を行わない。このマスク蒸着法では、後述する蒸着室内で、大型基板２Ａ（素子基板２／被処理基板）の所定位置に蒸着用マスクを重ねた状態で蒸着を行う。発光層７を形成する場合には、低分子有機ＥＬ材料を加熱、蒸発させ、蒸着用マスクの開口部を介して大型基板２Ａの下面に発光層７をストライプ状に形成する。正孔輸送層６、電子注入層８、陰極９などの形成も略同様に行う。また、ホスト材料に蛍光色素をドープした発光層７を形成する際にも本発明を適用することができる。
【００２４】
（蒸着装置の構造）
図３は、本発明を適用した蒸着装置の構成を示す概略構成図である。
【００２５】
図３において、蒸着装置１０は、蒸着室１１内の上方位置に、大型基板２Ａ（素子基板２）を保持する蒸着用基板ホルダ１８が配置されており、この蒸着用基板ホルダ１８には、マスクホルダを介して蒸着用マスク１９も保持されている。蒸着室１１内の下方位置には、大型基板２Ａに向けて蒸着分子や蒸着原子を供給する蒸着源１２が構成されている。
【００２６】
ここで、蒸着装置１０が回転式であれば、蒸着用基板ホルダ１８が回転し、それに伴って、大型基板２Ａおよび蒸着用マスク１９も回転する。一方、蒸着装置１０がインライン式であれば、大型基板２Ａおよび蒸着用マスク１９を保持した蒸着用基板ホルダ１８が順次、蒸着室１１を通過していく。いずれの蒸着装置１０においても、蒸着源１２は固定であるが、大型基板２Ａは移動しながら成膜されることになる。
【００２７】
（蒸着用マスクの構造）
図４（ａ）、（ｂ）は各々、本発明を適用した蒸着用マスクの斜視図、およびその拡大断面図である。本形態において、蒸着用マスク１９は、図４（ａ）、（ｂ）に示すように、素子基板２に対する成膜パターンに対応する複数の開口部１９ａが、並行かつ一定間隔に形成されている。本形態において、開口部１９ａの幅寸法は例えば約１〜３ｍｍ、長さ寸法は２００〜３００ｍｍ、ピッチＰは例えば約１２ｍｍとなっている。
【００２８】
ここで、蒸着用マスク１９は、例えば、開口部１９ａが形成されたマスク部材と、このマスク部材を支持する支持基板とから構成されており、マスク部材は、厚さが約０．２５〜０．５ｍｍの金属製（例えばステンレス、インバー、４２アロイ、ニッケル合金等）の薄板などからなる。なお、蒸着用マスク１９を構成するにあたっては、金属材料の他、ガラス、セラミックス、シリコンなどを用いてもよい。また、蒸着用マスク１９を構成するにあたっては、ＳＵＳ４３０などの磁性の材質を用い、蒸着時に磁石により吸着されて固定されるようにしてもよい。
【００２９】
このように構成した蒸着用マスク１９において、本形態では、蒸着用マスク１９の周辺部には、基板側に向かって開口が拡大する貫通穴１９０が形成されている。例えば、貫通穴１９０は、蒸着源側から基板側に向かって、環状の第１の段部１９０ａおよび第２の段部１９０ｂが、この順で形成された構造になっている。また、蒸着用マスク１９において、貫通穴１９０のうち、第１の段部１９０ａを利用して水晶振動子１６が搭載されており、水晶振動子１６は、一方の面１６ａの縁部が第１の段部１９０ａと当接し、他方の面１６ｂの縁部が、留め具２５によって保持されている。このように配置することにより、水晶振動子１６は、蒸着用マスク１９において蒸着源側の面で露出した状態で保持され、かつ、蒸着用マスク１９において蒸着源側とは反対側の面では、水晶振動子１６の端子１６ｃが露出した状態にある。
【００３０】
（成膜動作および膜厚測定動作）
図３および図４を参照して、本発明を適用した蒸着装置での成膜動作を説明する。本形態の蒸着装置１０を用いて成膜を行う場合には、まず、成膜を行う前に、図４（ｂ）に示すように、蒸着用マスク１９に搭載した水晶振動子１６の端子１６ｃにプローブ２１の端子２１ａを接触させて、水晶振動子１６の共振周波数を測定しておく。
【００３１】
次に、図３に示すように、蒸着用マスク１９および大型基板２Ａを蒸着用基板ホルダ１８に保持させた状態で、蒸着室１１で蒸着を行う。その際、蒸着用基板ホルダ１８が回転し、あるいは、蒸着室１１を通過していき、大型基板２Ａは移動しながら成膜されることになる。その結果、水晶振動子１６において蒸着源１２と対向する面側にも成膜が行われる。
【００３２】
大型基板２Ａに対する成膜終了後、蒸着用マスク１９に搭載した水晶振動子１６の端子１６ｃにプローブ２１の端子２１ａを接触させて、水晶振動子１６の共振周波数を測定し、成膜前後の共振周波数の変化により、水晶振動子１６に形成された薄膜の膜厚を算出し、これを大型基板２Ａに形成された薄膜の膜厚とする。
【００３３】
（本形態の主な効果）
以上説明したように、本形態の蒸着装置１０では、成膜時に基板とともに移動する蒸着用マスク１９（移動部材）にモニター用の水晶振動子１６を保持させたので、水晶振動子１６には基板と同一の条件で成膜される。それ故、基板を回転させながら蒸着を行う回転式蒸着装置や基板を面内方向に移動させながら蒸着を行うインライン式蒸着装置において、蒸着室１１を改造しなくても、蒸着速度や膜厚を正確かつ効率よく求めることができる。
【００３４】
また、蒸着用マスク１９に付着する蒸着材料の付着具合を管理することができるため、蒸着用マスク１９の洗浄の要不要を管理することができる。
【００３５】
さらに、蒸着用マスク１９において、蒸着源１２に対向する側とは反対の面側に水晶振動子１６に対する端子１６ｃが露出しているので、成膜後、蒸着用マスク１９において、蒸着源１２に対向する側とは反対の面側にプローブ２１を当てるだけで水晶振動子１６の共振周波数を計測できる。それ故、測定時に蒸着用マスク１９から水晶振動子１６を取り外す必要がないので、測定を効率よく行うことができる。
【００３６】
さらにまた、蒸着用マスク１９において、貫通穴１９０内に水晶振動子１６が保持されているので、蒸着用マスク１９において、蒸着源１２に対向する側とは反対の面側に水晶振動子１６に対する端子１６ｃを設けることができる。また、留め具２５を外すだけで水晶振動子１６を容易に交換することもできる。
【００３７】
しかも、本形態の蒸着装置１０では、蒸着室１１内に、水晶振動子を備えたレートモニタのような装置を設ける必要がない。したがって、蒸着室１１内の構成を簡素化することができる。
【００３８】
また、本形態の蒸着装置１０では、成膜前と成膜後における水晶振動子１６の共振周波数の変化により、素子基板２に形成される薄膜の膜厚を算出するため、エリプソメータや段差計を用いて膜厚を測定する方法と比べて、膜厚測定に必要な膜厚を薄くすることができるため測定精度も向上する。特に、本形態の蒸着装置１０では、蒸着レートが非常に低いドーパント材料を素子基板に蒸着させ、これによって形成された薄膜の膜厚を測定する際に有効である。
【００３９】
［第２の実施の形態］
第１の実施の形態では、素子基板２に形成される薄膜の膜厚を、蒸着用マスク１９に配置されたモニター用の水晶振動子１６により測定する形態を示したが、第２の実施の形態では、複数の水晶振動子１６を蒸着用基板ホルダ１８に配置し、この蒸着用基板ホルダ１８に配置された複数の水晶振動子１６を用いて素子基板２に作製される薄膜の膜厚を測定する形態を示す。
【００４０】
図５は、本発明の第２の実施の形態に係る蒸着用基板ホルダの平面図である。図５に示すように、本形態の蒸着用基板ホルダ１８には、基板側に向かって開口が拡大する複数の貫通穴１８０が形成されている。例えば、複数の貫通穴１８０は各々、蒸着源側から基板側に向かって、環状の第１の段部１８０ａおよび第２の段部１８０ｂが、この順で形成された構造になっている。また、蒸着用基板ホルダ１８において、貫通穴１８０のうち、第１の段部１８０ａを利用して水晶振動子１６が搭載されており、水晶振動子１６は、一方の面１６ａの縁部が第１の段部１８０ａと当接し、他方の面１６ｂの縁部が、留め具２５によって保持されている。このように配置することにより、複数の水晶振動子１６は、蒸着用基板ホルダ１８において蒸着源側の面で露出した状態で保持され、かつ、蒸着用基板ホルダ１８において蒸着源側とは反対側の面では、複数の水晶振動子１６の各端子１６ｃが露出した状態にある。
【００４１】
本形態の蒸着装置１０では、まず、図５（ｂ）に示すように、蒸着用基板ホルダ１８に搭載した水晶振動子１６の端子１６ｃにプローブ２１の端子２１ａを接触させて、水晶振動子１６の共振周波数を測定しておく。
【００４２】
次に、基板に対する成膜を行う前に、蒸着用マスク１９および大型基板２Ａを保持しない蒸着用基板ホルダ１８に対して蒸着室１１で蒸着を行う。その際、蒸着用基板ホルダ１８が回転し、あるいは、蒸着室１１を通過していき、大型基板２Ａを成膜するときと同一の条件で蒸着用基板ホルダ１８に成膜が行われる。その結果、水晶振動子１６において蒸着源１２と対向する面側にも成膜が行われる。
【００４３】
蒸着用基板ホルダ１８に対する成膜終了後、蒸着用基板ホルダ１８に搭載した水晶振動子１６の端子１６ｃにプローブ２１の端子２１ａを接触させて、水晶振動子１６の共振周波数を測定し、成膜前後の共振周波数の変化により、水晶振動子１６に形成された薄膜の膜厚を算出し、これを大型基板２Ａに形成される薄膜の膜厚とする。その結果を、以降行う基板への成膜にフィードバックする。
【００４４】
以上説明したように、本形態の蒸着装置１０では、成膜時に基板とともに移動する蒸着用基板ホルダ１８にモニター用の水晶振動子１６を保持させたので、水晶振動子１６には基板と同一の条件で成膜される。それ故、基板を回転させながら蒸着を行う回転式蒸着装置や基板を面内方向に移動させながら蒸着を行うインライン式蒸着装置において、蒸着室１１を改造しなくても、蒸着速度や膜厚、さらには膜厚分布を正確かつ効率よく求めることができる。
【００４５】
また、蒸着用基板ホルダ１８において、蒸着源１２に対向する側とは反対の面側に水晶振動子１６に対する端子１６ｃが露出しているので、成膜後、蒸着用基板ホルダ１８において、蒸着源１２に対向する側とは反対の面側にプローブ２１を当てるだけで水晶振動子１６の共振周波数を計測できる。それ故、測定時に蒸着用基板ホルダ１８から水晶振動子１６を取り外す必要がないので、測定を効率よく行うことができる。
【００４６】
さらにまた、蒸着用基板ホルダ１８において、貫通穴１８０内に水晶振動子１６が保持されているので、蒸着用基板ホルダ１８において、蒸着源１２に対向する側とは反対の面側に水晶振動子１６に対する端子１６ｃを設けることができる。また、留め具２５を外すだけで水晶振動子１６を容易に交換することもできる。
【００４７】
しかも、本形態の蒸着装置１０では、蒸着室１１内に、水晶振動子を備えたレートモニタのような装置を設ける必要がない。したがって、蒸着室１１内の構成を簡素化することができる。
【００４８】
さらにまた、本形態の蒸着装置１０では、成膜前と成膜後における水晶振動子１６の共振周波数の変化により、素子基板２に形成される薄膜の膜厚を算出するため、エリプソメータや段差計を用いて膜厚を測定する方法と比べて、膜厚測定に必要な膜厚を薄くすることができるため測定精度も向上する。特に、本形態の蒸着装置１０では、蒸着レートが非常に低いドーパント材料を素子基板に蒸着させ、これによって形成された薄膜の膜厚分布を測定する際に有効である。
【００４９】
［その他の実施の形態］
上記形態では、基板と同一の条件で移動する蒸着用マスク１９あるいは蒸着用基板ホルダ１８にモニター用の水晶振動子１６を保持させたが、ダミー基板にモニター用の水晶振動子１６を保持させるとともに、ダミー基板を蒸着用基板ホルダ１８に保持させて、ダミー基板に対する成膜を行い、成膜状態を測定してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】（ａ）、（ｂ）は各々、有機ＥＬ装置の一例であるラインヘッドの要部断面図、および平面図である。
【図２】（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は各々、図１に示す素子基板を製造する際に用いた大型基板の平面図、この大型基板の要部を拡大して示す平面図、および素子基板の平面図である。
【図３】本発明を適用した蒸着装置の構成を示す概略構成図である。
【図４】（ａ）、（ｂ）は各々、本発明の第１の実施の形態に係る蒸着用マスクの斜視図、およびその拡大断面図である。
【図５】（ａ）、（ｂ）は各々、本発明の第２の実施の形態に係る蒸着用基板ホルダの平面図、およびその拡大断面図である。
【符号の説明】
【００５１】
１・・有機ＥＬ装置、２・・素子基板、２Ａ・・大型基板、３・・有機ＥＬ素子、７・・発光層、１０・・蒸着装置、１１・・蒸着室、１２・・蒸着源、１６・・水晶振動子、１８・・蒸着用基板ホルダ、１９・・蒸着用マスク、２１・・プローブ、２５・・留め具
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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