(57)【要約】【課題】シール材と酸素との接触を遮断し、シール材硬化時に未硬化状態のシール材が発生することを防止することのできる液晶装置の製造装置を提供する。【解決手段】本発明の液晶装置の製造装置ＬＳ１は、液晶パネル１１０を載置するステージ２と、前記ステージ２を内部に収容する真空チャンバ１０と、前記真空チャンバ１０の外面に設けられた紫外線を透過する窓１０Ｈと、前記窓１０Ｈを介して前記真空チャンバ１０の外部から前記ステージ２に向けて紫外線を照射する紫外線照射装置１３０と、を有することを特徴とする。【選択図】図１
2008003200.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶パネルを載置するステージと、
前記ステージを内部に収容する真空チャンバと、
前記真空チャンバの外面に設けられた紫外線を透過する窓と、
前記窓を介して前記真空チャンバの外部から前記ステージに向けて紫外線を照射する紫外線照射装置と、を有することを特徴とする液晶装置の製造装置。
【請求項２】
前記ステージに、前記液晶パネルと接触して前記液晶パネルの温度を制御する熱電変換素子が設けられていることを特徴とする請求項１に記載の液晶装置の製造装置。
【請求項３】
前記真空チャンバ内に、前記液晶パネルに設けられた液晶注入口を介して前記液晶パネルの内部に液晶を注入する液晶注入装置が設けられていることを特徴とする請求項１又は２に記載の液晶装置の製造装置。
【請求項４】
前記液晶注入装置は、
前記液晶を前記液晶パネルに滴下する液晶滴下装置と、
前記液晶滴下装置を前記ステージの近傍の液晶滴下位置と前記ステージから離れた待機位置との間で移動させる移動装置と、を有することを特徴とする請求項３に記載の液晶装置の製造装置。
【請求項５】
前記真空チャンバ内に不活性ガスを供給する配管が設けられていることを特徴とする請求項１〜４のいずれかの項に記載の液晶装置の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶装置の製造装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般に、液晶装置は、一対の基板間に液晶を封入することにより作製される。一対の基板は枠状のシール材を介して貼り合わされており、両基板の間には、スペーサによって維持される間隙、いわゆるセルギャップが形成されている。シール材の一部は開口しており、該開口部が液晶を注入するための液晶注入口となっている。
【０００３】
ここで、シール材には、紫外線硬化型の樹脂が使用される。このシール材は、紫外線照射処理によって仮硬化され、さらに加熱処理によって本硬化される。仮硬化は、大気中に置かれた一対の基板に高圧水銀ランプを用いて紫外線を照射することにより行なわれる（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００５−９９４６５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、大気中で紫外線照射を行なう場合、シール材の種類によっては、紫外線照射時にシール材が酸素と反応して硬化が不十分になるという問題があった。シール材が未硬化の状態で液晶の注入を行なうと、未硬化のシール材からガスや溶剤等が流出し、シール材の近傍に配向不良を生じる場合がある。また、未硬化のシール材から水分等の侵入が発生し、表示不良を引き起こす場合もある。
【０００５】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、シール材と酸素との接触を遮断し、シール材硬化時に未硬化状態のシール材が発生することを防止することのできる液晶装置の製造装置を提供することを目的とする。
を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の課題を解決するため、本発明の液晶装置の製造装置は、液晶パネルを載置するステージと、前記ステージを内部に収容する真空チャンバと、前記真空チャンバの外面に設けられた紫外線を透過する窓と、前記窓を介して前記真空チャンバの外部から前記ステージに向けて紫外線を照射する紫外線照射装置と、を有することを特徴とする。
この構成によれば、紫外線照射処理（シール材の仮硬化）を真空チャンバ内で行なうことができるため、紫外線照射時に酸素と結合して硬化不足となるシール材を用いても、完全な硬化を行なうことができる。このため、未硬化のシール材の部分からガスや溶剤等が流出し、表示不良等を生じさせることが無くなり、表示品位の高い、信頼性に優れた液晶装置が提供される。
【０００７】
本発明においては、前記ステージに、前記液晶パネルと接触して前記液晶パネルの温度を制御する熱電変換素子が設けられていることが望ましい。
この構成によれば、シール材の仮硬化からシール材の本硬化及び脱ガス処理までを連続して行なうことができる。熱電変換素子は、液晶パネルと直接接触して液晶パネルの温度を制御するため、オーブン等で温度制御する場合に比べて、減圧雰囲気を損なわずに処理を行なうことができるからである。また、熱電変換素子は、小型、静音、高速応答、長寿命といった利点が得られ、小型で高性能な製造装置を提供し易いという利点もある。
【０００８】
本発明においては、前記真空チャンバ内に、前記液晶パネルに設けられた液晶注入口を介して前記液晶パネルの内部に液晶を注入する液晶注入装置が設けられていることが望ましい。
この構成によれば、脱ガス処理工程と連続して液晶の注入工程を行なうことができる。また、シール材の仮硬化等の工程において液晶容器内の液晶が十分に脱泡処理されているため、液晶注入時に改めて脱泡処理を行なう必要がなく、生産性が更に向上する。
【０００９】
本発明においては、前記液晶注入装置は、前記液晶を前記液晶パネルに滴下する液晶滴下装置と、前記液晶滴下装置を前記ステージの近傍の液晶滴下位置と前記ステージから離れた待機位置との間で移動させる移動装置と、を有することが望ましい。
この構成によれば、液晶滴下装置によって紫外線が遮られることないので、紫外線を十分に液晶パネルに照射することができる。
【００１０】
本発明においては、前記真空チャンバ内に不活性ガスを供給する配管が設けられているものとすることができる。
この場合もシール材の仮硬化が酸素のない雰囲気で行なわれるため、酸素結合によるシール材の硬化不足の問題は生じない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。なお、以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。そして、水平面内における所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれに直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。
【００１２】
［第１実施形態］
［液晶装置の製造装置］
図１は、本発明の第１実施形態に係る液晶装置の製造装置ＬＳ１を示す概略斜視図である。図１において、本実施形態に係る液晶装置の製造装置ＬＳ１は、液晶パネル１１０を載置するステージ２と、該ステージ２を内部に収容する真空チャンバ１０と、該真空チャンバ１０の外面に設けられた紫外線を透過する窓１０Ｈと、該窓１０Ｈを介して真空チャンバ１０の外部からステージ２に向けて紫外線を照射する紫外線照射装置１３０と、を備えている。
【００１３】
ステージ２は、液晶パネル１１０の加熱／冷却を行なう際の熱源となる熱電変換素子（ペルチェ素子）２３と、熱電変換素子２３を挟持する一対の冷熱基板２４，２５と、冷熱基板２４の外面側（熱電変換素子２３の反対側）に配設された液体循環式冷熱ユニット２２と、を備えている。
【００１４】
図２は，熱電変換素子２３の電気的構成を示す説明図である。熱電変換素子２３は、いずれもシリコン等からなるＮ型半導体ブロック２３ｎ及びＰ型半導体ブロック２３ｐを、第１電極２３ｂと、２枚の第２電極２３ｃ，２３ｃとにより挟持した構成を備えており、２枚の第２電極２３ｃから導出された配線２３ａを介して電源に接続されている。熱電変換素子２３を電源に接続して動作させると、Ｐ型半導体ブロック２３ｐとＮ型半導体ブロック２３ｎとの間に、第１電極２３ｂ及び第２電極２３ｃ，２３ｃを介して電源の極性に応じた一方向の電流が流れるようになっており、図示のごとく接続した場合には、第１電極２３ｂ側は温度が低下して冷却され、反対側の第２電極２３ｃ，２３ｃ側は温度が上昇して加熱される。熱電変換素子２３は、このようにして電極２３ｂ，２３ｃ間に生じる温度差を利用して、対象物の加熱／冷却を行なうようになっている。なお、図２において電源の極性を逆向きにすると、第１電極２３ｂが加熱され、第２電極２３ｃが冷却される。
【００１５】
図１に戻って、冷熱基板２４，２５は、銅やアルミニウム等の熱伝導率の高い基板から構成されている。液晶パネル１１０は、これらの冷熱基板２４，２５のうち、（＋Ｚ）側に設けられた冷熱基板２５上に載置される。そして、この冷熱基板２５を介して熱の授受を行なうようになっている。
【００１６】
ここで、液晶パネル１１０は、冷熱基板２５上に配置された第１基板１０１と、該第１基板１０１と対向配置された第２基板１０２とを備えている。第１基板１０１と第２基板１０２とは枠状のシール材１０３を介して貼り合わされており、両基板の間には、図示略のスペーサによって維持される間隙、いわゆるセルギャップ１０４が形成されている。シール材１０３の一部は開口しており、該開口部が液晶を注入するための液晶注入口１０３ａとなっている。
【００１７】
液晶パネル１１０は、冷熱基板２５を介して熱電変換素子２３により加熱ないし冷却される。そして、これにより、シール材１０３の硬化（本硬化）が行なわれるようになっている。また、シール材１０３の硬化処理と同時に、シール材１０３からの脱ガス処理及び配向膜等からの脱ガス処理が行なわれるようになっている。さらに、後述の紫外線照射装置１３０により、シール材１０３の本硬化に先立って、シール材１０３の仮硬化も行なえるようになっている。
【００１８】
冷熱基板２４の外面側に当接して設けられた液体循環式冷熱ユニット２２は、内部に液体流路が形成された直方体状の部材であり、この内部の液体流路は、液体循環式冷熱ユニット２２の側面部に接続された循環ホース２６，２７と連通している。そして、一方の循環ホース２６を介して液体流路内に例えば水を導入し、他方の循環ホース２７を介して液体流路から排出する循環動作によって、冷熱基板２４を冷却ないし加熱するようになっている。
【００１９】
以上の構成のステージ２は、図１において１点鎖線で示す真空チャンバ１０の内部に設けられている。また、真空チャンバ１０の側面には、配管１２１及びバルブ１２２を介して減圧ポンプ１２０が接続されている。そして、減圧ポンプ１２０を駆動させることにより、真空チャンバ１０の内部が排気され、真空チャンバ内部の圧力が制御される。また、真空チャンバ１０の側面には、リーク用の配管１２３及びバルブ１２４が設けられており、この配管１２３を介して、真空チャンバ１０の内部が大気開放される。さらに、真空チャンバ１０には、図示略の扉が設けられており、該扉を介して、液晶パネル１１０が真空チャンバ１０内に搬入される。
【００２０】
真空チャンバ１０の上面には、紫外線照射用の窓１０Ｈが設けられている。窓１０Ｈは、真空チャンバ１０の上面に形成した開口部にガラス等の透光性部材を設置することにより形成される。窓１０Ｈは、真空チャンバ１０の上面においてステージ２と対向する位置に設けられており、その形状及び大きさはステージ２の形状及び大きさと略同じである。
【００２１】
窓１０Ｈの上部には、紫外線照射装置１３０が設置されている。紫外線照射装置１３０は、複数の紫外線照射ランプ１３１を有する。各紫外線照射ランプ１３１は、Ｙ軸に沿って延びており、これらがＸ軸方向に沿って一定の間隔で配置されることにより、ストライプ状の光源が形成されている。紫外線照射装置１３０は、窓１０Ｈと対向するように設けられており、その形状及び大きさは窓１０Ｈの形状及び大きさと略同じである。
【００２２】
［液晶装置の製造方法］
次に、以上のように構成された液晶装置の製造装置ＬＳ１を用いて液晶装置を製造する方法について、シール材の形成工程から液晶注入口の封止工程までの工程を中心に説明する。図３は、シール材の形成工程から液晶注入口の封止工程までの一連の工程を示すフローチャートである。なお、点線で囲った部分は、製造装置ＬＳ１内で連続的に処理される工程を示している。
【００２３】
まず、ステップＳＴ１において、第１基板１０１又は第２基板１０２のいずれかの一方の基板上に、紫外線硬化型の樹脂を用いてシール材１０３を形成する。このシール材１０３は、第２基板の周縁部に沿って枠状に形成し、その一部には、液晶注入用の開口部（液晶注入口１０３ａ）を設ける。また、シール材１０３の内部には、スペーサと呼ばれるビーズ状又はファイバ状のギャップ材を混入させておく。
【００２４】
次に、ステップＳＴ２において、第１基板１０１と第２基板１０２とをシール材１０３を介して貼り合わせる。シール材１０３の内部にはギャップ材が混入しているため、第１基板１０１と第２基板１０２とは、ギャップ材の厚み分だけ離間した状態で保持される。また、シール材１０３は、ギャップ材の厚みになるまで潰され、そのシール材１０３の粘着力によって第１基板１０１と第２基板１０２とが接着される。以下、第１基板１０１と第２基板１０２とを貼り合わせた状態の構造体を液晶パネル１１０と呼ぶ。
【００２５】
次に、このようにして作製した液晶パネル１１０を図１の真空チャンバ１０に導入する。そして、液晶パネル１１０をステージ２上に設置した後、減圧ポンプ１２０を起動して真空チャンバ１０内を排気する。
【００２６】
真空チャンバ１０の内部が十分に排気されたら、ステップＳＴ３において、紫外線照射装置１３０を起動し、ステージ２上の液晶パネル１１０に向けて紫外線を照射する。この紫外線の波長は、シール材１０３に硬化反応を生じさせる波長である。この際、シール材１０３の硬化反応を促進するために、ステージ２の温度（冷熱基板２５の表面温度）を適切な温度に制御する。この工程により、シール材１０３が仮硬化され、第１基板１０１と第２基板１０２とが仮固定される。
【００２７】
以上によりシール材１０３の仮硬化が終了したら、ステップＳＴ４において、ステージ２の温度を上げ、液晶パネル１１０を加熱する。ステージ２の温度は熱電変換素子２３によって制御する。この工程により、シール材１０３が本硬化され、第１基板１０１と第２基板１０２とが強固に固定される。
【００２８】
次に、ステップＳＴ５において、液晶パネル１１０の脱ガス処理を行なう。この脱ガス処理は、液晶パネル１１０を加熱することにより、シール材１０３や配向膜等に含まれるガス（酸素や水分等）を排出するものである。この脱ガス処理は、ステップＳＴ４のシール材の本硬化処理と同時に行なわれる。
【００２９】
以上により、シール材１０３の硬化処理及び脱ガス処理が終了したら、液晶パネル１１０を図１の真空チャンバ１０から取り出す。そして、ステップＳＴ６において、液晶注入用の真空チャンバに導入し、液晶注入口１０３ａからギャップ１０４内に液晶を注入する。そして、液晶の注入が終了したら、ステップＳＴ７において、液晶注入口１０３ａを封止材で封止する。以上により、封止工程までの工程が完了する。
【００３０】
以上のように、本実施形態の液晶装置の製造装置ＬＳ１では、紫外線照射処理（シール材の仮硬化）を真空チャンバ１０内で行なうことができるため、紫外線照射時に酸素と結合して硬化不足となるシール材１０３を用いても、完全な硬化を行なうことができる。このため、未硬化のシール材の部分からガスや溶剤等が流出し、表示不良等を生じさせることが無くなり、表示品位の高い、信頼性に優れた液晶装置が提供される。
【００３１】
また、ステージ２に熱電変換素子２３を設けて液晶パネル１１０の温度を制御するようにしたため、シール材１０３の仮硬化（ステップＳＴ３）からシール材１０３の本硬化（ステップＳＴ４）及び脱ガス処理（ステップＳＴ５）までを連続して行なうことができる。熱電変換素子２３は、液晶パネル１１０と直接接触して液晶パネル１１０の温度を制御するため、オーブン等で温度制御する場合に比べて、減圧雰囲気を損なわずに処理を行なうことができるからである。また、熱電変換素子２３は、小型、静音、高速応答、長寿命といった利点が得られ、小型で高性能な製造装置ＬＳ１を提供し易いという利点もある。
【００３２】
さらに、シール材の本硬化と脱ガス処理とを減圧雰囲気下で連続して行なうことができるため、処理時間が大幅に短縮し、生産性が格段に向上する。
【００３３】
なお、本実施形態では、シール材１０３の仮硬化を減圧雰囲気で行なったが、シール材１０３の仮硬化は不活性ガス雰囲気で行なっても良い。例えば、真空チャンバ１０内を排気した後、リーク用の配管１２３から窒素等の不活性ガスを導入し、その後、紫外線照射装置１３０を用いてシール材１０３の仮硬化を行なう。この場合もシール材１０３の仮硬化が酸素のない雰囲気で行なわれるため、酸素結合によるシール材１０３の硬化不足の問題は生じない。
【００３４】
［第２の実施の形態］
次に、第２の実施の形態について説明する。図４は、第２実施形態に係る液晶装置の製造装置ＬＳ２を示す概略斜視図である。この液晶装置の製造装置ＬＳ２は、液晶パネル１１０を載置するステージ２と、液晶パネル１１０の内部（セルギャップ）１０４に液晶９を注入するための液晶注入装置１と、該ステージ２及び該液晶注入装置１を内部に収容する真空チャンバ１０と、該真空チャンバ１０の外面に設けられた紫外線を透過する窓１０Ｈと、該窓１０Ｈを介して真空チャンバ１０の外部からステージ２に向けて紫外線を照射する紫外線照射装置１３０と、を備えている。
【００３５】
液晶注入装置１は、ステージ２の上部（＋Ｚ側）に配置されて液晶パネル１１０に液晶９を滴下する液晶滴下装置３と、該液晶滴下装置３を真空チャンバ１０内で移動させる移動装置３１と、を備えている。
【００３６】
ここで、液晶パネル１１０は、Ｙ軸方向に延びる大型の第１基板１０１上に、複数の第２基板１０２を互いに離間して配置したものである。第１基板１０１と第２基板１０２とは枠状のシール材１０３を介して貼り合わされており、両基板の間には、図示略のスペーサによって維持される間隙、いわゆるセルギャップ１０４が形成されている。シール材１０３の一部は開口しており、該開口部が液晶９を注入するための液晶注入口１０３ａとなっている。液晶パネル１１０は、液晶注入後に各第２基板１０２間に図示略のスクライブ溝が形成され、該スクライブ溝が破断されることにより、個々の液晶装置に分離される。
【００３７】
液晶滴下装置３は、個々の液晶装置に対応して複数設けられている。各液晶滴下装置３は、支持板４上に固定されており、それぞれ対応する液晶装置の液晶注入口１０３ａの上部に配置される。これらの液晶注入装置３は、Ｙ軸に平行な配列軸に沿って互いに一定の間隔で配列されている。
【００３８】
支持板４は、各液晶装置の配列方向に沿ってＹ軸方向に延びている。同様に、ステージ２も、各液晶装置の配列方向に沿ってＹ軸方向に延びている。なお、図１では、液晶滴下装置３の数を３つとしたが、液晶滴下装置３の数はこれに限定されない。液晶滴下装置３の数は、液晶パネル１１０から作製される液晶装置の数に対応して設定され、液晶装置の数が２つ若しくは４つ以上とされた場合には、それに応じて液晶滴下装置３の数も２つ若しくは４つ以上とされる。
【００３９】
図５に示すように、液晶滴下装置３は、液晶９を内部に収容する液晶容器５と、該液晶容器５の底部に設けられた弁口５４と、該弁口５４の上部（＋Ｚ側）に設けられた弁座５５と、液晶容器５の内部に移動可能に設けられた弁部材６と、該弁部材６の底部から弁口５４を介して液晶容器５の外部に突出した突出部６４と、を有する。
【００４０】
液晶容器５は、セラミックス等の非導電材で形成されている。液晶容器５には、軸線をＺ方向に向けた状態で支持板４を貫通する第１円筒部５２が設けられている。第１円筒部５２の上端部は支持板４から（＋Ｚ）方向に突出しており、該突出部分には、第１円筒部５２よりも外径の大きな円筒状のフランジ部５１が形成されている。フランジ部５１は支持板４の上面に固定されており、これにより液晶容器５と支持板４とが固定されている。
【００４１】
一方、第１円筒部５２の下端部は支持板４から（―Ｚ）方向に突出しており、該突出端には、（―Ｚ）方向に向けて徐々に外径が収縮するテーパ状の第２円筒部５３が形成されている。ここで、第２円筒部５３の底部には開口部５４が設けられ、該開口部５４が弁口とされ、第２円筒部５３の内周面が弁座５５とされている。
【００４２】
弁部材６は、液晶容器５の内部をＺ軸方向に移動可能に設けられた弁体６０と、該弁体６０から（―Ｚ）方向に突出した第１突出部６４と、該弁体６０から（＋Ｚ）方向に突出した第２突出部６５と、を備えている。
【００４３】
弁体６０は、樹脂、セラミックス、ガラス等の非導電材で形成されており、表面には撥水性に優れた表面処理が施されている。弁体６０には、軸線方向（Ｚ軸方向）の中央部に、第１円筒部５２の内径よりも小さい内径の第１円柱部６１が設けられており、該第１円柱部６１の下端部には、（―Ｚ）方向に向けて徐々に外径が収縮するテーパ状の第２円柱部６２が形成され、上端部には、（＋Ｚ）方向に向けて徐々に外径が収縮するテーパ状の第３円柱部６３が形成されている。第２円柱部６２の外面形状は、上述した弁座５５に対応しており、該第２円柱部６２の外面が弁座５５に着座する弁部とされている。
【００４４】
第２円柱部６２の下端部には、（―Ｚ）方向に延在する第１突出部６４が一体に連結されている。この第１突出部６４は、弁口５４との間に隙間を形成した状態で弁口５４から（−Ｚ）方向に突出している。また、第３円柱部６３の上端部には、（＋Ｚ）方向に延在する第２突出部６５が一体に連結されており、弁部材６全体のバランスがとられている。すなわち、弁部材６は、第１円柱部６１を中心として、第２円柱部６２と第３円柱部６３、及び第１突出部６４と第２突出部６５が、軸線方向において互いに対称となる形状、姿勢で形成されており、これらを上下逆に配置しても同じ機能が達成されるようになっている。かかる構成により、弁部材６の一部に破損等が生じても、他端側の構成を使用することが可能になり、その結果、弁部材全体としての寿命が向上する。
【００４５】
支持板４は、移動装置３１によって、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺの６自由度の方向に移動される。支持板４に固定された液晶滴下装置３は、液晶注入処理を行なわないときは、ステージ２から離れた所定の待機位置（図４の点線で示した位置）に待機され、液晶注入処理を行なうときは、ステージ２の近傍の液晶滴下位置（図４の実線で示した位置）に移動される。また、液晶注入処理を行なうときは、液晶滴下装置３の第１突出部６４が液晶注入口１０３ａ上に配置されるように、支持板４のＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸の位置が調節され、さらに、支持板４のθＸ、θＹ、及びθＺ方向の位置が調節されることで、支持板４とステージ２とが平行に設置される。
【００４６】
［液晶注入方法］
次に、かかる構成の液晶注入装置１を用いて液晶パネル１１０に液晶９を注入する工程について説明する。この液晶注入工程は、図３に示した脱ガス処理（ステップＳＴ５）の後、真空チャンバ１０内で連続して行なわれるものである。図６（ａ）は、液晶滴下装置３を液晶パネル１１０の上部に移動した状態を示す説明図、図６（ｂ）は脱泡処理した液晶９を液晶パネル１１０上に配置する工程を示す説明図である。
【００４７】
図３のステップＳＴ５において脱ガス処理が終了したら、図６（ａ）に示すように、液晶滴下装置３を液晶パネル１１０の上部に移動する。そして、液晶滴下装置３の弁口５４を液晶パネル１１０の液晶注入口１０３ａの上部近傍に配置し、第１突出部６４のＸＹ平面内の位置を液晶注入口１０３ａに対して正確に位置決めする。
【００４８】
ここで、液晶容器５内の液晶９は、シール材１０３の仮硬化（図３のステップＳＴ３）、シール材１０３の本硬化（図３のステップＳＴ４）及び脱ガス処理（図３のステップＳＴ５）の工程を行なう間、減圧雰囲気中で十分に脱泡処理が行なわれている。このため、この段階で改めて液晶９を脱泡処理する必要はない。また、液晶９が十分に脱泡されていることから、弁部材６が気泡の圧力によって押し上げられ、弁口５４から液晶９が誤滴下される虞もない。
【００４９】
第１突出部６４と液晶注入口１０３ａとを位置決めしたら、図６（ｂ）に示すように、液晶滴下装置３を移動装置によって（―Ｚ）方向に移動させる。そして、液晶パネル１１０の第１基板１０１を液晶滴下装置３の第１突出部６４に押し当て、弁体６０を押し上げる。これにより、弁体６０の弁部が液晶容器５の弁座５５から離間して弁口５４が開かれ、該弁口５４と第１突出部６４との隙間から液晶注入口１０３ａの近傍に液晶９が供給される。
【００５０】
所望の量の液晶９が供給されたら、液晶滴下装置３を（＋Ｚ）方向に移動し、弁体６０を自重により下方に移動させて、弁体６０の弁部を弁座５５に着座させる。これにより、弁口５４が閉じられて、液晶９の供給が停止される。
【００５１】
続いて、真空チャンバを大気開放し、液晶パネル１１０の内部（セルギャップ）１０４に液晶９を注入する。液晶パネル１１０の内部は真空状態であるため、液晶注入口１０３ａの近傍に配置された液晶９は気圧差によって液晶パネル１１０の内部に吸い込まれ、液晶パネル１１０内に充填される。液晶９が液晶パネル１１０内に充填されたら、液晶注入口１０３ａを封止材によって封止する。以上により、液晶注入工程が完了する。
【００５２】
以上のように、本実施形態の液晶装置の製造装置ＬＳ２では、液晶注入装置１を真空チャンバ１０内に設置したので、図３のステップＳＴ５に示した脱ガス処理工程と連続して液晶の注入工程を行なうことができる。また、シール材１０３の仮硬化等の工程において容器５内の液晶９が十分に脱泡処理されているため、液晶注入時に改めて脱泡処理を行なう必要がなく、生産性が更に向上する。
【００５３】
また、液晶注入装置１では、液晶滴下装置３を液晶パネル１１０に接近させることにより液晶９が供給され、該液晶パネル１１０から離間させることにより液晶９の供給が停止する。このため、液晶パネル１１０に対する液晶滴下装置３の移動タイミングを適宜調節することにより、液晶注入口１０３ａへの液晶の供給量を高い精度で制御することができる。
【００５４】
また、第１突出部６４の先端を液晶注入口１０３ａの近傍に押し当てて位置決めし、この状態で弁口５４と第１突出部６４との隙間からから液晶９を供給するようにしているため、液晶９を供給する位置を液晶注入口１０３ａの近傍に正確に位置決めすることができる。
【００５５】
また、弁部材６を非導電材で形成しているため、第１突出部６４の先端部の液晶パネル１１０への接触及び弁体６０の弁座５５への接触の繰り返しによって、仮に弁部材６の一部が剥がれて液晶９と共にセルギャップ１０４内に注入されたとしても、剥がれた部分によって液晶パネル内の配線等に電気的な短絡が生じるのを防ぐことができる。
【００５６】
さらに、弁部材６の表面に撥水性に優れた材質を用いているので、弁部材６への液晶９の付着が防止され、弁口５４から液晶９をスムーズに排出することができる。
【００５７】
なお、本実施形態では、弁部材６を非導電材で形成したが、弁部材６の比重を高めるために、弁部材６を鉛等の比重の高い材料からなる本体部と、該本体部を覆う非導電材の保護膜とで形成しても良い。こうすることで、液晶９の脱泡時に弁部材６が気泡の圧力によって押し上げられ、弁口５４から液晶９が誤滴下されることを防止することができる。
【００５８】
以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施の形態例について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。上述した例において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】第１実施形態の液晶装置の製造装置を示す概略斜視図である。
【図２】同製造装置に備えられる熱電変換素子の電気的構成を示す模式図である。
【図３】液晶装置の製造方法を説明するフローチャートである。
【図４】第２実施形態の液晶装置の製造装置を示す概略斜視図である。
【図５】同製造装置に備えられる液晶滴下装置の概略断面図である。
【図６】同液晶滴下装置による液晶注入工程を説明する工程図である。
【符号の説明】
【００６０】
１…液晶注入装置、２…ステージ、３…液晶滴下装置、９…液晶、１０…真空チャンバ、１０Ｈ…窓、２３…熱電変換素子、３１…移動装置、１０３ａ…液晶注入口、１１０…液晶パネル、１２１，１２３…配管、１３０…紫外線照射装置、ＬＳ１，ＬＳ２…液晶装置の製造装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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