(57)【要約】【課題】処理室外へ基板を伝って処理液が漏れ出すのを防止する。【解決手段】基板処理装置は、搬送機構１と、現像液を基板Ｓに供給することにより現像処理を施す処理室１２１をもつ現像処理部１２と、これらを制御するコントローラ６０とを備える。現像処理部１２のうち上流側の開口部１５の近傍には、基板Ｓの搬送状態を検出可能な検出機構７が配設される。また、現像処理部１２の直ぐ上流側には、基板Ｓに対してその上流側から下流側に向かう高圧エアを供給可能なエアノズル２１をもつ流出阻止装置２０が配備される。コントローラ６０は、検出機構７による基板Ｓの搬送状態の検出に基づき基板Ｓが開口部１５の位置で停滞していると判断した場合には、基板Ｓを伝って現像液が処理室１２１から漏出するのを防止すべく流出阻止装置２０を作動させる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を水平又は傾斜した姿勢で搬送する搬送手段と、処理液供給手段を具備し、前記搬送手段により搬送される基板に対して処理液を供給することによって所定の処理を当該基板に施す処理室とを備えた基板処理装置において、
前記処理室の基板搬入用または搬出用の開口部のうち少なくとも一方側の開口部の近傍に配設され、基板の搬送状態を検出する検出手段と、
この検出手段による検出結果に基づいて基板が停滞しているかを判定する判定手段と、
基板が停滞していると判定された場合に、処理液の供給を停止すべく前記処理液供給手段を制御する制御手段と、を備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置において、
前記開口部の位置で停滞している基板上の処理液が処理室外に流出するのを阻止する流出阻止手段をさらに備え、
前記制御手段は、前記判定手段により基板が停滞していると判定された場合には、処理室外への処理液の流出を阻止すべく前記流出阻止手段を作動させることを特徴とする基板処理装置。
【請求項３】
基板を水平又は傾斜した姿勢で搬送する搬送手段と、処理液供給手段を具備し、前記搬送手段により搬送される基板に対して処理液を供給することによって所定の処理を当該基板に施す処理室とを備えた基板処理装置において、
前記処理室の基板搬入用または搬出用の開口部のうち少なくとも一方側の開口部の近傍に配設され、基板の搬送状態を検出可能な検出手段と、
この検出手段による検出結果に基づいて基板が停滞しているかを判定する判定手段と、
前記開口部の位置で停滞している基板上の処理液が処理室外に流出するのを阻止する流出阻止手段と、
前記判定手段により基板が停滞していると判定された場合に、前記流出阻止手段を作動させる制御手段と、を備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項４】
請求項３に記載の基板処理装置において、
前記制御手段は、前記判定手段により基板が停滞していると判定された場合には、さらに処理液の供給を停止すべく前記処理液供給手段を制御することを特徴とする基板処理装置。
【請求項５】
請求項２乃至４の何れかに記載の基板処理装置において、
前記流出阻止手段は、作動状態において前記基板の表面に気体を供給することにより当該基板上に処理室の外側から内側に向う方向の気流を形成することを特徴とする基板処理装置。
【請求項６】
請求項２乃至４の何れかに記載の基板処理装置において、
前記流出阻止手段は、基板をその下側から持ち上げ可能なリフトアップ機構を有し、かつ、作動状態において基板が処理室の外側から内側に向って先下がりとなるように前記リフトアップ機構により基板を持ち上げることを特徴とする基板処理装置。
【請求項７】
請求項２乃至４の何れかに記載の基板処理装置において、
前記流出阻止手段は、基板上面から離間する退避位置と基板表面に当接して処理液の流動を阻止する当接位置とに変位可能な堰部材を有し、かつ、作動状態において前記堰部材を前記当接位置に配置することを特徴とする基板処理装置。
【請求項８】
請求項１乃至７の何れかに記載の基板処理装置において、
前記検出手段は、基板の搬送状態として基板の移動速度を検出し、
前記判定手段は、前記検出手段による検出速度が所定の速度以下のときに基板が停滞していると判定することを特徴とする基板処理装置。
【請求項９】
請求項１乃至８の何れかに記載の基板処理装置において、
前記検出手段は、前記搬送手段により搬送される基板の移動に伴いその摩擦力により回転する従動ローラを有し、この従動ローラの回転速度に応じた信号を出力するものであって、
前記判定手段は、前記検出手段から出力される信号の状態に基づいて前記判定を行うことを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウエハ、フォトマスク用ガラス基板、液晶表示パネル用ガラス基板、光ディスク用基板等の基板に、エッチング液やリンス液等の各種処理液を供給して基板に所定の処理を施す基板処理装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
上記のような基板処理装置として、従来から複数の処理室、例えば剥離処理室、洗浄処理室および乾燥処理室を有し、薄膜が形成された角型ガラス基板をローラコンベアの駆動により搬送しつつ当該基板に対して剥離処理、リンス処理および乾燥処理を順次施すように構成されたものが知られている（例えば特許文献１）。この装置では、剥離処理室内の上流端および下流端に基板の有無を検知するセンサが配置されており、当該センサにより基板が検知された後、予め設定されたタイマ時間内に基板が通過しない場合、つまり当該センサによる基板の検知がタイマ時間を超えて継続している場合には、搬送不良が発生したものとして警告を発し装置を停止させる等、所定の処理を実行するようになっている。
【特許文献１】特開２００１−５７３５５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
上記のような従来の装置では、センサにより基板が検知された直後に基板が停止した場合でも、タイマ時間が経過するまでは異常処理が実行されない、いわゆる応答遅れがある。そのため、搬送トラブルにより一枚の基板がローダ（アンローダ）と処理室とに跨って停止した場合、異常処理が実行されるまでの間に、局所的（基板の先端部分）に処理液が供給されて基板の処理不良の原因となり、また処理液を無駄に消費することが考えられる。また、基板上に供給された処理液が基板表面を流動してローダ（アンローダ）側に漏出し、これによって設備故障を招くことが考えられる。一枚の基板が複数の処理室に跨って停止した場合も、隣設される処理室に処理液が漏出することにより同様の問題がある。
【０００４】
本発明は、上記の事情に鑑みてなされたものであって、上記のような応答遅れによる不具合を回避するものであり、その第１の目的は、基板の処理不良を回避しつつ処理液の無駄な消費を防止すること、また、第２の目的は、基板を伝って処理室外へ処理液が漏出するのを防止することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記の課題を解決するために、本発明は、基板を水平又は傾斜した姿勢で搬送する搬送手段と、処理液供給手段を具備し、前記搬送手段により搬送される基板に対して処理液を供給することによって所定の処理を当該基板に施す処理室とを備えた基板処理装置において、前記処理室の基板搬入用または搬出用の開口部のうち少なくとも一方側の開口部の近傍に配設され、基板の搬送状態を検出する検出手段と、この検出手段による検出結果に基づいて基板が停滞しているかを判定する判定手段と、基板が停滞していると判定された場合に、処理液の供給を停止すべく前記処理液供給手段を制御する制御手段と、を備えるものである。
【０００６】
この装置によれば、処理室の開口部の位置での基板の搬送状態が検出手段により検出され、その搬送状態に基づき、当該開口部の位置で基板が停滞しているか否かが判定手段により判定される。そして、停滞している場合には、制御手段の制御により処理液の供給が停止される。この構成では、基板の搬送状態の検出に基づいて基板が停滞しているか否かが判定されるため、開口部の位置で基板が停滞した状態となると即時的に当該状態が検知される。そして、この即事的な検知に基づき処理液の供給が停止されることにより、局所的（基板の先端部分）に基板の処理が進行することが抑制され、また、処理液の無駄な消費が防止されることとなる。
【０００７】
この装置においては、前記開口部の位置で停滞している基板上の処理液が処理室外に流出するのを阻止する流出阻止手段をさらに備え、前記制御手段は、前記判定手段により基板が停滞していると判定された場合には、処理室外への処理液の流出を阻止すべく前記流出阻止手段を作動させるものであるのが好適である。
【０００８】
この装置によれば、処理室の前記開口部の位置で基板が停滞すると、さらに流出阻止手段が作動し、これにより基板上に供給された処理液の処理室外への流出が防止されることとなる。
【０００９】
一方、本発明の他の基板処理装置は、基板を水平又は傾斜した姿勢で搬送する搬送手段と、処理液供給手段を具備し、前記搬送手段により搬送される基板に対して処理液を供給することによって所定の処理を当該基板に施す処理室とを備えた基板処理装置において、
前記処理室の基板搬入用または搬出用の開口部のうち少なくとも一方側の開口部の近傍に配設され、基板の搬送状態を検出可能な検出手段と、この検出手段による検出結果に基づいて基板が停滞しているかを判定する判定手段と、前記開口部の位置で停滞している基板上の処理液が処理室外に流出するのを阻止する流出阻止手段と、前記判定手段により基板が停滞していると判定された場合に、前記流出阻止手段を作動させる制御手段と、を備えるものである。
【００１０】
この装置によれば、処理室の開口部の位置での基板の搬送状態が検出手段により検出され、その搬送状態に基づき、当該開口部の位置で基板が停滞しているか否かが判定手段により判定される。そして、停滞している場合には、制御手段の制御により流出阻止手段が駆動される。この構成では、基板の搬送状態の検出に基づいて基板が停滞しているか否かが判定されるため、開口部の位置で基板が停滞した状態となると即時的に当該状態が検知される。そして、この即事的な検知に基づき流出阻止手段が駆動されることにより、基板上に供給された処理液の処理室外への流出が速やかに阻止されることとなる。
【００１１】
この装置において、前記制御手段は、前記判定手段により基板が停滞していると判定された場合には、さらに処理液の供給を停止すべく前記処理液供給手段を制御するものであるのが好適である。
【００１２】
この装置によれば、基板上の処理液が増加して処理室外への流出が促されるのを防止することが可能となる。また、継続的に処理液が供給されることによって局所的（基板の先端部分）に基板の処理が進行するといった実態が抑制され、また、処理液の無駄な消費が防止されることとなる。
【００１３】
なお、上記装置に適用される流出阻止手段の具体的な構成としては、例えば、作動状態において前記基板の表面に気体を供給することにより当該基板上に処理室の外側から内側に向う方向の気流を形成するものが適用可能である。
【００１４】
この装置によれば、基板表面に形成される気流の圧力（気体圧）により基板上の処理液が処理室側に押し戻されるとともにその逆流が阻止される。これにより処理室外への処理液の流出が効果的に防止される。
【００１５】
また、流出阻止手段は、基板をその下側から持ち上げ可能なリフトアップ機構を有し、かつ、作動状態において基板が処理室の外側から内側に向って先下がりとなるように前記リフトアップ機構により基板を持ち上げるものであってもよい。
【００１６】
この装置によれば、基板が室外側から室内側に向って傾斜した姿勢とされることによって基板上の処理液が処理室側に流下するとともにその逆流が阻止される。これにより処理室外への処理液の流出が効果的に防止される。
【００１７】
さらに、流出阻止手段は、基板上面から離間する退避位置と基板表面に当接して処理液の流動を阻止する当接位置とに変位可能な堰部材を有し、かつ、作動状態において前記堰部材を前記当接位置に配置するものであってもよい。
【００１８】
この装置によれば、堰部材が基板上に当接することにより処理液の流動が堰き止められ、これにより処理室外への処理液の流出が防止される。
【００１９】
なお、前記検出手段は、基板の前記搬送状態として基板の移動速度を検出し、前記判定手段は、前記検出手段による検出速度が所定の速度以下のときに基板が停滞していると判定するものであるのが好適である。
【００２０】
この装置によると、基板が搬送されている場合（移動している場合）であっても所定速度以下の場合には基板が停滞していると判定され、処理液の供給停止、あるいは流出阻止手段の作動といった処理が実行されることとなる。つまり、処理室の開口部を基板が移動している場合でも、搬送異常によりその速度が極めて遅い場合もあり、この場合には、基板が停止している場合と同様に、基板上の処理液が開口部を通じて処理室外に流出することが考えられる。この点、上記のように所定速度以下で基板が搬送される場合を停滞状態として取り扱うようにすれば、より確実に処理液の流出を防止することが可能となる。
【００２１】
なお、上記装置において、前記検出手段は、前記搬送手段により搬送される基板の移動に伴いその摩擦力により回転する従動ローラを有し、この従動ローラの回転速度に応じた信号を出力するものであって、前記判定手段は、前記検出手段から出力される信号の状態に基づいて前記判定を行うものであるのが好適である。
【００２２】
この構成によれば、基板と従動ローラとの物理的接触により基板の搬送状態を検出するので、簡単な構成で高い信頼性をもって搬送状態の検出を行うことが可能となる。
【発明の効果】
【００２３】
本発明の基板処理装置によれば、処理室の開口部の位置で基板が停滞した場合には、その状態を速やかに検知して処理液の供給を停止させるので、継続的に処理液が供給されることによって局所的（基板の先端部分）に基板の処理が進行して処理不良を招くといった事態を有効に回避することができ、また、処理液の無駄な消費を防止することもできる。
【００２４】
また、本発明の別の基板処理装置によれば、処理室の開口部の位置で基板が停滞した場合には、その状態を速やかに検知して処理液が処理室外に流出するのを阻止する流出阻止手段を作動させるので、基板を媒体として処理液が処理室外に漏出するのを効果的に防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
本発明の実施の形態について図面を用いて説明する。
【００２６】
図１は、この発明にかかる基板処理装置の第１の実施の形態を示す図である。この基板処理装置では、搬送機構１によって基板Ｓが所定の搬送方向（図１の左方から右方に向かう方向）Ｐに搬送されるように構成されるとともに、この搬送機構１による基板搬送経路に沿ってローダ１０と、複数の処理部、つまり現像処理部１２と水洗処理部１４とがこの順序で配設されている。
【００２７】
この実施の形態では、搬送機構１としてローラコンベアが適用されている。このローラコンベアは、基板Ｓの搬送方向Ｐに直交する方向に支持軸を配した複数のローラ２が所定ピッチで搬送方向Ｐに並設されて形成されている。そして、図２に示すように、駆動モータ（図示省略）に連結された駆動プーリ３と各ローラ２とに亘って駆動ベルト４が掛け渡されることにより、上記駆動モータの駆動力により各ローラ２を同一方向に同期回転し、ローラ２上に載置された基板Ｓを水平姿勢で搬送方向Ｐに向けて搬送するようになっている。なお、ローラコンベアは、同図に示すようにローダ１０、処理部１２，１４毎に個別に構成されており、後記コントローラ６０により個別に駆動制御されるようになっている。
【００２８】
図１に戻って、ローダ１０には、図示を省略しているが基板の搬入機構が配備されており、前工程で露光処理が施された基板がこの搬入機構により一枚ずつ搬送機構１のローラ２上に移載され、順次、現像処理部１２に払い出されるように構成されている。
【００２９】
現像処理部１２および水洗処理部１４は、搬送機構１により搬送される基板Ｓに対して処理を施すための処理室１２１，１４１を有している。各処理室１２１，１４１の側壁にはそれぞれ開口部１５が形成されており、基板Ｓの搬入および搬出がこの開口部１５を通じて行われるようになっている。
【００３０】
現像処理部１２は、処理室１２１内で基板Ｓに現像液（処理液）を供給して基板Ｓを現像するためのものである。この処理室１２１の内部には、搬送機構１の上方に現像液供給用の複数の液ノズル３０が配設されており、搬送機構１によって搬送される基板Ｓに対してその上方向より現像液を供給可能に構成されている。
【００３１】
現像液の給排系統は、現像液を貯溜するタンク３２と、ポンプ３６と、このポンプ３６により圧送される現像液を前記液ノズル３０に案内する供給配管３４と、使用後の現像液を処理室１２１からタンク３２に戻す回収配管３５と、この回収配管３５に介設される図外のフィルタ等とから構成されており、これにより現像処理部１２に対して現像液を循環させながら供給するように構成されている。供給配管３４には現像液の供給および停止、さらに供給量の調節を行うための電磁バルブ等からなる可変バルブ３８が介設されており、このバルブ３８が後記コントローラ６０により制御されるようになっている。なお、この実施形態では、この現像液の給排系統が本発明に係る処理液供給手段に相当する。
【００３２】
処理室１２１内には、開口部１５を通じて搬入されてくる基板Ｓの搬送状態を検出する検出機構７（本発明に係る検出手段に相当する）が配設されており、この検出機構７による検出結果に基づき基板Ｓが停滞しているか（当実施形態では基板Ｓが停止しているか）否かが後記コントローラ６０により判定されるようになっている。
【００３３】
検出機構７は、図１および図２に示すように、処理室１２１内の最も上流側、つまり基板Ｓの搬送方向における上流側（以下、単に上流側と呼び、この逆を下流側と呼ぶ）に配置される従動ローラ６と、このローラ６に連結されるロータリエンコーダ４０とから構成されている。
【００３４】
従動ローラ６は、搬送機構１のローラ２と並ぶように配置されており、基板Ｓが搬送されるに伴いその摩擦力で回転し、それ以外のときは静止するように設けられている。一方、エンコーダ４０は、従動ローラ６の一端に固定されるスリット板４２と、このスリット板４２を挟んで配置される光の照射部４４ａおよび受光部４４ｂを備えたセンサ４４とから構成されおり、照射部４４ａから投光された光をスリット板４２のスリット４２ａを介して受光部４４ｂで受光することによりその受光期間に応じたパルス信号を後記コントローラ６０に出力するように構成されている。つまり、基板Ｓが移動している場合には、従動ローラ６とスリット板４２が一体的に回転してエンコーダ４０からパルス信号が定期的に出力されるため、このパルス信号の出力の有無により基板Ｓが移動しているか否かの検出が可能となっている。なお、図示の例ではスリット板４２のスリット４２ａは一つであるが、複数のスリット４２ａをもつスリット板４２を適用することも可能である。
【００３５】
また、従動ローラ６とその直ぐ下流側に配置されるローラ２との間の部分には、さらに基板Ｓの有無を検知するためのセンサ４６（基板検知センサ４６という）が配置されている。この基板検知センサ４６は、詳しく図示していないが、揺動可能に支持される振り子部材と、この振り子部材に組み込まれる磁石の変位に伴う磁界の変化に応じた信号を出力するホール素子（磁電変換素子）とを備えたいわゆる振り子型センサで、基板Ｓとの接触に伴い上記信号を後記コントローラ６０に出力するようになっている。
【００３６】
なお、検出機構７や基板検知センサ４６は、後述するようにローダ１０の下流端の位置に配置するようにしてもよい（図１３参照）。また、処理液の付着による誤検知等の不都合が無い場合には、この基板検知センサ４６として光の照射部と受光部とを一体に備えた反射型のフォトセンサを適用し、基板Ｓで反射する光を受光することにより基板Ｓを検知するものを適用してもよい。
【００３７】
図１に戻って、現像処理部１２の上流側には、流出阻止装置２０（本発明に係る逆流阻止手段の一つに相当する）が配備されている。この流出阻止装置２０は、搬送トラブルにより開口部１５の部分で基板Ｓが停止した場合に、基板Ｓを伝って現像液がローダ１０側に流出すのを阻止するための装置である。
【００３８】
この流出阻止装置２０は、処理室１２１の上流側の開口部１５の近傍に配置されるエアノズル２１を有し、エア供給源２４から供給配管２２を通じて供給される高圧エアを搬送機構１上の基板Ｓに対してその上流側から下流側に向けて斜め下方向に供給するように構成されている。エアノズル２１は、基板Ｓの搬送方向Ｐと直交する方向に伸びるスリット状のエア吐出口を有しており、基板Ｓに対して同方向に隙間無くエアを吹き付け可能となっている。なお、エアの供給配管２２には、電磁バルブ等からなる可変バルブ２３が介設されており、このバルブ２３が後記コントローラ６０により制御されるようになっている。
【００３９】
一方、水洗処理部１４は、処理室１４１内で基板Ｓに純水を供給して基板Ｓを洗浄するためのものである。この処理室１４１の内部には、搬送機構１を挟んでその上方側および下方側に純水供給用の複数の液ノズル５０が配設されており、搬送機構１によって搬送される基板Ｓに対してその上下両側から純水を供給可能に構成されている。
【００４０】
純水の給排系統は、純水を貯溜するタンク５２と、ポンプ５６と、このポンプ５６により圧送される純水を前記液ノズル５０に案内する供給配管５４等から構成されている。供給配管５４には純水の供給および停止、あるいは供給量の調節を行うための電磁バルブ等からなる可変バルブ５８が介設されており、このバルブ５８が後記コントローラ６０により制御されるようになっている。なお、水洗処理部１４では純水の循環使用は行われず、使用後の純水は、処理室１４１に接続された廃液管５５を通じて図外の廃液タンクに回収されるようになっている。
【００４１】
図１において符号２６および４８は、それぞれローダ１０および現像処理部１２（処理室１２１内）の下流端に配置される払い出しセンサである。このセンサ２６，４８は、前記基板検知センサ４６と同様の振り子型センサからなり、搬送機構１の駆動により搬送される基板Ｓを検知してコントローラ６０に検知信号を出力する。コントローラ６０は、これら払い出しセンサ２６，４８による基板Ｓの検知に基づき各処理部１２，１４における液の供給等を開始する。
【００４２】
上記のように構成された基板処理装置には、一連の基板処理動作を制御するコントローラ６０が搭載されている。このコントローラ６０は、論理演算を実行するＣＰＵ、そのＣＰＵを制御する種々のプログラムなどを記憶するＲＯＭ、装置動作中に種々のデータを一時的に記憶するＲＡＭ等から構成されており、搬送機構１、ローダ１０、現像処理部１２および水洗処理部１４等は全てこのコントローラ６０により統括的に制御されるようになっている。特に、ローダ１０から現像処理部１２への基板Ｓの搬入の際には、前記検出機構７による検出結果に基づき開口部１５の位置で基板Ｓが停滞しているか否か（当実施形態では、基板Ｓが停止しているか否か）を判定し、停止している場合には、以下に説明するように現像処理部１２による現像液の供給および流出阻止装置２０の作動が制御されることにより、現像液のローダ１０側への漏出等が防止されるようになっている。すなわち、この実施形態では、このコントローラ６０が本発明に係る判定手段および制御手段として機能する。
【００４３】
図３は、コントローラ６０による動作制御の一例を示すフローチャートである。
【００４４】
上記の基板処理装置において、ローダ１０により基板Ｓがローラ２上に搬入、載置されると、コントローラ６０は、まず、ローダ１０に属する搬送機構１を作動させて基板Ｓの搬送を開始する（ステップＳ２）。
【００４５】
そして、伴い払い出しセンサ２６が基板Ｓを検知すると（ステップＳ４でＹＥＳ）、コントローラ６０は、前記現像処理部１２に属する搬送機構１を作動させるとともに、前記給排系統のバルブ３８を開操作することにより処理室１２１内において液ノズル３０から現像液の供給を開始する（ステップＳ６）。
【００４６】
次いで、コントローラ６０は、基板検知センサ４６より基板Ｓが検知されたか否かを判断し（ステップＳ８）、ここでＹＥＳと判断すると、さらに前記エンコーダ４０からの出力パルスが増加しているか否か、つまり基板Ｓが移動しているか否かを判断する（ステップＳ１０）。そして、ここでＹＥＳと判断した場合には、予め記憶されたプログラム（正常動作シーケンス）に従って基板Ｓの現像処理を進めるべく搬送機構１等を制御する（ステップＳ１２）。
【００４７】
これに対してステップＳ１０でＮＯと判断した場合には、コントローラ６０は、異常動作シーケンスに従って搬送機構１等を制御する。すなわち、基板検知センサ４６により基板Ｓが検知されている状態であって、かつエンコーダ４０からの出力パルスが増加していない状態とは、開口部１５の位置で基板Ｓが停止している状態であり、この場合には、コントローラ６０は、前記バルブ３８を閉操作することにより現像液の供給を停止するとともに、前記バルブ２３を開操作することにより流出阻止装置２０を作動させ、加えて図外の警報装置を作動させる。この際、ローダ１０および現像処理部１２に属する搬送機構１も停止させる。
【００４８】
このように現像液の供給を停止することにより、停止中の基板Ｓ上に現像液が供給されることが防止され、局所的（基板の先端部分）に基板の処理が進行することが抑制されるとともに現像液の無駄な消費が防止されることとなる。そしてさらに、流出阻止装置２０の作動により基板Ｓ上に高圧エアが吹き付けられる結果、図４に示すように、基板Ｓ上に処理室１２１の外側から内側に向う方向の気流が形成され、この気流の圧力（気体圧）により基板上の現像液が処理室１２１内に押し戻されるとともにその逆流が防止されることとなる。これにより現像液が基板Ｓを伝って処理室１２１からローダ１０側に漏れ出すことが防止される。特に、上記のように現像液の供給が停止されていることにより、基板Ｓ上の処理液が増加して処理室１２１外への流出が促されるということが防止される。
【００４９】
なお、ステップＳ８でＮＯと判断した場合、この場合にも前記エンコーダ４０からの出力パルスが増加しているか否かを判断する（ステップＳ１４）。そして、ここでＹＥＳと判断した場合には、上記と同様にステップＳ１６に移行し、これにより異常動作シーケンスに従って搬送機構１等を制御する。すなわち、基板検知センサ４６により基板Ｓが検知されていない状態でエンコーダ４０からの出力パルスが増加する状態とは、要する基板検知センサ４６が故障している場合であって、この場合も、コントローラ６０は、基板検知センサ４６のメンテナンスのために上記と同様に異常動作シーケンスに従って搬送機構１等を制御する。なお、ステップＳ１４でＮＯと判断した場合には、基板Ｓが未だ処理室１２１に搬入されていない状態であり、この場合にはステップＳ８に移行する。
【００５０】
以上説明したように、この基板処理装置では、ローダ１０から開口部１５を通じて現像処理部１２に搬入される基板Ｓに搬送トラブルが発生し、当該開口部１５の位置で基板Ｓが停止（停滞）した場合には、上記のように現像液の供給を停止させ、さらに流出阻止装置２０を作動させることによって基板Ｓ上の現像液がローダ１０側に漏出するのを防止するようにしているので、例えば基板Ｓの処理不良や、漏出現像液に起因するローダ１０の故障、さらに現像液の無駄な消費等を有効に防止することができる。
【００５１】
しかも、この基板処理装置では、基板検知センサ４６に加えて、基板Ｓが移動しているか否かを検出可能な検出機構７を開口部１５の近傍に設けているので、基板Ｓが停止した場合には、その状態をこの検出機構７により即事的に検出することができる。そして、このような即時的な基板停止の検知に基づき異常動作シーケンスに移行する結果、現像液の供給を可及的速やかに停止させることができ、また、流出阻止装置２０を可及的速やかに作動させることが可能となる。従って、搬送異常により開口部１５の位置で基板Ｓが停止した場合の上記のようなトラブル、すなわち基板Ｓの処理不良や、漏出現像液に起因するローダ１０の故障、さらに現像液の無駄な消費等をより確実に防止することができる。
【００５２】
次に、本発明に係る基板処理装置の第２の実施形態について説明する。
【００５３】
図５は、第２の実施の形態に係る基板処理装置を示している。この基板処理装置は、第１の実施の形態の基板処理装置に対してさらに以下の構成を付加したものである。
【００５４】
すなわち、第２の実施の形態の基板処理装置では、水洗処理部１４についても現像処理部１２と同様に、その処理室１４１の上流側の開口部１５の近傍には基板検知センサ４６′および検出機構７′が設けられている。これら基板検知センサ４６′および検出機構７′は、現像処理部１２のもの（基板検知センサ４６、検出機構７）と基本的に同一構成であり、従って、対応する部材の符号に「  ′」を付して区別することにより詳細図を省略することとする。
【００５５】
また、この基板処理装置には、第１の形態の流出阻止装置２０を第１流出阻止装置２０として、これとは別に第２流出阻止装置２０′が設けられている。
【００５６】
第２流出阻止装置２０′は、水洗処理部１４における処理室１４１の上流側の開口部１５の近傍に配置されるエアノズル２１′を有し、前記供給配管２２から分岐する供給配管２５を通じて供給される高圧エアを搬送機構１上の基板Ｓに対して下流側から上流側に向けて斜め下方向に供給するように構成されている。
【００５７】
エアノズル２１′は、上記ノズル２１と同様に基板Ｓの搬送方向Ｐと直交する方向に伸びるスリット状のエア吐出口を有しており、基板Ｓに対して同方向に隙間無くエアを吹き付け可能となっている。なお、供給配管２５′には、電磁バルブ等からなる可変バルブ２３′が介設されており、このバルブ２３′がコントローラ６０により制御されるようになっている。
【００５８】
この第２の実施形態の基板処理装置では、現像処理部１２から水洗処理部１４に基板Ｓが搬入される際に、コントローラ６０が、検出機構７′（エンコーダ４０′）および基板検知センサ４６′からの信号出力に基づき図３に示したフローチャートに準じて流出阻止装置２０′等を駆動制御することにより、現像液の水洗処理部１４側への漏出等が防止されるようになっている。
【００５９】
すなわち、検出機構７′（エンコーダ４０′）および基板検知センサ４６′からの出力信号に基づき同図に示すように基板Ｓが開口部１５の位置で停止している状態が検知されると（ステップＳ１０でＮＯ）、コントローラ６０は、前記バルブ５８を閉操作することにより水洗処理部１４における純水の供給を停止するとともに前記バルブ２３′を開操作することにより第２流出阻止装置２０′を作動させる。この際、前記バルブ３８を閉操作することにより現像処理部１２における現像液の供給も停止する。
【００６０】
このように現像液および純水の供給が停止されることにより、例えば局所的（基板の後端部分）に基板の処理が進行することが抑制され、また、現像液や純水の無駄な消費が防止されることとなる。また、第２流出阻止装置２０′のエアノズル２１′から基板Ｓ上に高圧エアが吹き付けられることにより、基板上の現像液が処理室１２１内に押し戻されるとともにその逆流が阻止され、これによって現像液が基板Ｓを伝って水洗処理部１４側に漏出することが防止される。
【００６１】
このような第２の実施形態の基板処理装置によると、現像処理部１２の上流側の開口部１５の位置で基板Ｓが停止した場合のローダ１０側への現像液の漏出等に加え、現像処理部１２の下流側の開口部１５の位置で基板Ｓが停止した場合の水洗処理部１４側への現像液の漏出等が有効に防止される。
【００６２】
なお、このような第２の実施形態の基板処理装置は、大型基板Ｓを処理する場合にも有用となる。すなわち、図６に示すように、現像処理部１２の処理室１２１よりも大型の基板Ｓを処理する場合には、同図に示すように基板Ｓがローダ１０から水洗処理部１４に亘って存在する状態で停止してしまうことが想定される。この場合、この基板処理装置によれば、現像液の供給が停止され、さらに第１および第２の流出阻止装置２０，２０′の作動により処理室１２１の上流側および下流側からそれぞれ基板Ｓに対して処理室内に向う方向の高圧エアが吹き付けられるため、現像液が基板Ｓを伝ってローダ１０側、あるいは水洗処理部１４側に漏れ出すことが有効に防止されることとなる。
【００６３】
ところで、以上説明した基板処理装置は、本発明に係る基板処理装置の好ましい実施形態の例示であって、その具体的な構成は本発明の要旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。例えば、以下のような構成を採用することも可能である。
【００６４】
（１）流出阻止装置２０として図７，図８に示すようなものを採用することも可能である。
〈ａ〉図７に示す流出阻止装置２０
この流出阻止装置２０は、上下方向に厚みをもち、かつローラ２の軸方向に延びる細長の逆流防止バー７０（本発明に係る堰部材に相当する）と、この逆流防止バー７０を搬送機構１の上方の退避位置（図７（ａ）に示す位置）とローラ２に支持された基板表面に当接させる当接位置（図７（ｂ））とに亘って変位させるアクチュエータ７２等とを備える。そして、通常はシール部材７０を退避位置にセットしておき、基板Ｓに搬送異常（基板Ｓの停止）が発生すると逆流防止バー７０を当接位置にセットし、これにより基板Ｓ上の現像液の流動をこの逆流防止バー７０により堰き止める。つまり、この逆流防止バー７０により現像液のローダ１０側への漏出を防止するようになっている。
【００６５】
なお、この流出阻止装置２０において、逆流防止バー７０の材質は樹脂やゴム等、シール性の高いものが好適である。また、逆流防止バー７０は、ローラ２の長手方向に直線状のもの以外に、平面視で弓形に湾曲した形状や、現像処理部１２側に向かって開く平面視コ字型の形状であってもよい。また、断面形状も、同図に示すように円形のもの以外に矩形のものであってもよい。
〈ｂ〉図８に示す流出阻止装置２０
この流出阻止装置２０は、ローダ１０の搬送機構１に一体に組み込まれており、エアシリンダ等のアクチュエータ７６の作動により搬送機構１の一部のローラ２を上方に持ち上げるリフトアップ機構７４を備えている。そして、通常はローラ２を基準位置、つまり基板搬送が可能な位置にセットし（図８（ａ）に示す状態）、基板Ｓに搬送異常（基板Ｓの停止）が発生するとリフトアップ機構７４を作動させてローラ２をリフトアップし（図８（ｂ）に示す状態）、これにより処理室１２１の外側から内側に向って先下がりとなるように基板Ｓを傾斜させる。つまり、このように基板Ｓが傾斜することにより基板Ｓ上の現像液がその表面に沿って処理室１２１側へと流下するとともにその逆流が防止され、その結果、ローダ１０側への現像液の漏出が防止されるようになっている。なお、この場合には、図９に示すように、個別のアクチュエータ７６ａ〜７６ｃによりそれぞれ駆動される複数のリフトアップ機構７４ａ〜７４ｂを設け、現像処理部１２側から上流側に向かって徐々にローラ２の高さが高くなるように流出阻止装置２０を構成してもよい。この構成によれば、基板Ｓを滑らかに傾斜させることが可能となるため基板Ｓの損傷等のトラブルを伴うことなく効果的に現像液の流出を防止することが可能となる。
【００６６】
なお、ここでは現像処理部１２の上流側に配備される流出阻止装置２０の例についてのみ説明したが、第２実施形態の基板処理装置において適用される第２流出阻止装置２０′についても同様の構成を採用することが可能である。
【００６７】
（２）基板Ｓの搬送状態を検出する手段としては、実施形態のような検知機構７，７′以外に、図１０および図１１に示すようなセンサを用いるようにしてもよい。
〈ａ〉図１０に示すセンサ８０
このセンサ８０は、同図に示すように発光ダイオード等の光源部８０ａと、この光源部８０ａから投光されて基板Ｓで反射した光（画像）を受光する撮像素子８０ｂとを一体に備えている。このようなセンサ８０を開口部１５の上壁面等に固定し、搬送機構１の作動により搬送される基板表面の画像を連続的に取り込みその画像信号をコントローラ６０に出力することにより、この画像の変化に基づいて基板Ｓの搬送状態、すなわち基板Ｓが移動しているか否かを検知するようにしてもよい。なお、類似した構成（より簡素な構成）として、光源部から投光されて基板Ｓで反射した光を受光素子により受光し、その受光信号の有無の変化に基づいて基板Ｓの搬送状態を検知するようにしてもよい。
〈ｂ〉図１１に示すセンサ８２
このセンサ８２は、同図に示すように搬送機構１による基板Ｓの搬送経路を挟んで互いに対向して配置される光源部８２ａと受光部８２ｂとを備えており、光源部８２ａから投光されて基板Ｓを透過する光を光源部８２ａで受光するように構成されている。そして、基板Ｓにはその搬送方向に所定ピッチで遮光用マークＭが付されている。このようなセンサ８２ａを開口部１５に固定し、基板Ｓの搬送に伴い、受光部８２ｂによる受光信号をコントローラ６０に出力することにより、基板Ｓの遮光用マークＭに応じたレベルの出力信号（パルス信号）の変化に基づいて基板Ｓが移動しているか否かを検知するようにしてもよい。
【００６８】
（３）実施形態では、基板Ｓが停滞している場合として、基板Ｓが停止している状態を検知し、この検知に基づき流出阻止装置２０，２０′を作動させる等の異常動作シーケンスを実行するようにしているが、例えば、基板Ｓの搬送状態として基板Ｓの移動速度を検知し、この検知速度に基づいて異常動作シーケンスに移行するようにしてもよい。具体的には、予め基板Ｓの基準速度（閾値）を設定しおき、検知速度がこの基準速度以下の場合には基板Ｓが停滞しているとして異常動作シーケンスを実行するようにしてもよい。つまり、基板Ｓが移動している場合でもその速度が極めて遅いような場合には、基板Ｓが停止している場合と同様に、基板Ｓ上の現像液が当該基板Ｓを伝ってローダ１０側に流動することが考えられる。この点、上記のように基準速度以下で基板が搬送される場合を基板Ｓの停止状態と同等に取り扱うようにすれば、基板Ｓが基準速度以下の極低速度で移動しているような状況でも流出阻止装置２０，２０′を作動させることが可能となり、現像処理部１２からの現像液の漏出をより確実に防止することが可能になるという利点がある。
【００６９】
なお、この場合には、エンコーダ４０（移動状態検出手段７，７′）からの出力パルスのパルス数又はパルス幅に基づいて基板Ｓの移動速度を求めるようにすればよい。例えばエンコーダ４０として複数のスリット４２ａが周方向に等間隔で並ぶスリット板４２を備えたものを適用し、単位時間当たりのパルス数変動を常時監視し、下記式に基づき基板Ｓの移動速度を演算するようにすればよい。
【００７０】
基板速度＝（Ｌ／Ｓ）×（Ｄｐ／Ｔ１）
ここで、Ｌ  ；従動ローラの周長
Ｓ  ；スリット４２ａの数
Ｄｐ／Ｔ１；パルス速度  （Ｄｐ；パルス数、Ｔ１；単位時間）
また、基板Ｓの搬送状態を検出する手段として図１０に示すようなセンサ８０を用いる場合には、単位時間当たりの画像の変位量に基づいて基板Ｓの移動速度を求めるようにすればよい。また、図１１に示したセンサ８２を用いる場合には、上記エンコーダ４０の場合と同様に出力パルスのパルス数等に基づいて基板Ｓの移動速度を求めるようにすればよい。
【００７１】
（４）実施形態では、開口部１５の位置で基板Ｓが停止（停滞）した場合の異常動作シーケンスとして現像液を停止させる措置と、流出阻止装置２０を作動させる措置との双方を実行しているが、いずれか一方のみの措置を行うようにしてもよい。つまり、現像液を停止させる措置のみを行う場合には、流出阻止装置２０そのものを省略し、逆に、流出阻止装置２０を設ける場合には、現像液の停止制御を省略するようにしてもよい。但し、搬送異常により開口部１５の位置で基板Ｓが停止した場合のトラブル、すなわち基板Ｓの処理不良、漏出現像液に起因するローダ１０の故障、さらに現像液の無駄な消費等をトータル的に防止する上では、実施形態のように双方の措置を行うのが好適である。
【００７２】
（５）実施形態では、流出阻止装置２０は、処理室１２１の上流側の開口部１５の近傍にのみのエアノズル２１を配置した構成となっているが、例えば図１２に示すように、処理室１２１の内側（開口部１５の直ぐ下流の位置）にエアノズル２１を配置した構成としてもよい。この構成によれば、より効果的に現像液の漏出を防止することが可能となる。なお、図示を省略するが、図６に示した流出阻止装置２０′の構成についても同様である。
【００７３】
（６）実施形態では、検出機構７や基板検知センサ４６は、現像処理部１２の最も上流側、具体的には処理室１２１の最上流の位置に配備されているが、ローダ１０の最も下流側の位置に配備するようにしてもよい。図６に示した検出機構７′や基板検知センサ４６′についても同様に、現像処理部１２の最も下流側（処理室１２１の最下流の位置）に配備するようにしてもよい。すなわち、図１３に示すように、検出機構７，７′や基板検知センサ４６，４６′を配置するようにしてもよい。このような構成でも開口部１５での基板Ｓの搬送状態を良好に検出することができる。
【００７４】
（７）実施形態では、基板処理装置の構成例として、ローダ１０、現像処理部１２および水洗処理部１４を備えた装置について説明したが、勿論、これ以外の処理部等を有する基板処理装置についても本発明は適用可能である。また、実施形態の搬送機構１は、基板Ｓを水平姿勢で搬送するが、傾斜した姿勢で搬送するものであってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００７５】
【図１】本発明に係る基板処理装置の第１の実施形態を示す図である。
【図２】基板の搬送状態を検出する検出機構、基板検知センサおよび搬送機構を示す図である。
【図３】コントローラによる基板処理装置の動作制御の一例を示すフローチャートである。
【図４】流出阻止装置の作動状態を示す図である。
【図５】本発明に係る基板処理装置の第２の実施形態を示す図である。
【図６】大型基板を処理する場合の利点を説明する図である。
【図７】流出阻止装置の他の実施形態を示す図である（（ａ）は流出阻止装置の非作動状態、（ｂ）は作動状態をそれぞれ示す）。
【図８】流出阻止装置の他の実施形態を示す図である（（ａ）は流出阻止装置の非作動状態、（ｂ）は作動状態をそれぞれ示す）。
【図９】図８に示す流出阻止装置の変形例を示す図である
【図１０】基板の搬送状態を検出するための他の手段を示す図である。
【図１１】基板の搬送状態を検出するための他の手段を示す図である。
【図１２】流出阻止装置の変形例を示す図である。
【図１３】基板の搬送状態を検出する検出機構および基板検知センサの配置の変形例を示す図（図６に対応する図）である。
【符号の説明】
【００７６】
１  搬送機構
６  従動ローラ
７  検出機構
１０  ローダ
１２  現像処理部
１５  開口部
１２１，１４１  処理室
１４  水洗処理部
２０  流出阻止装置
２１  エアノズル
３０，５０  液ノズル
４６  基板検知センサ
６０  コントローラ
Ｓ  基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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