(57)【要約】【課題】液晶セルの製造性および面付け数を向上できる基板装置を提供する。【解決手段】隣接する液晶セル４，４間の境界線とＯＬＢ端子22との間の位置に、ＯＬＢ端子22のそれぞれの端部に対向して、第１大判基板２と第２大判基板３との間に介在してスーパースペーサ25を配置する。隣接する液晶セル４，４間の境界線に沿って各液晶セル４を分割しても、スーパースペーサ25によりＯＬＢ端子22の剥がれなどを防止するため、隣接する液晶セル４，４間での余分な切りしろを削減して液晶セル４の製造性および面付け数を向上できる。【選択図】図１
2008003194.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と、この第１基板に対向して配置された第２基板とを具備し、複数の表示素子が少なくとも所定方向に互いに隣接して設けられ、これら表示素子を分割可能な基板装置であって、
前記各表示素子は、
表示領域と、
この表示領域の前記所定方向側に設けられた非表示領域と、
この非表示領域に位置する前記第１基板に設けられ、前記表示領域側と電気的に接続された複数の端子パッドとを備え、
前記所定方向に隣接する表示素子間の境界線と前記端子パッドとの間の位置に、これら端子パッドの少なくとも一部の配置に対応して、前記第１基板と前記第２基板との間に介在して配置されたスペーサを具備した
ことを特徴とした基板装置。
【請求項２】
スペーサは、端子パッドに対向する位置に配置されている
ことを特徴とした請求項１記載の基板装置。
【請求項３】
スペーサは、互いに隣接する端子パッドの間の位置に配置されている
ことを特徴とした請求項１記載の基板装置。
【請求項４】
スペーサは、複数の端子パッド毎に配置されている
ことを特徴とした請求項１ないし３いずれか一記載の基板装置。
【請求項５】
第１基板と、この第１基板に対向して配置された第２基板とを具備し、複数の表示素子が少なくとも所定方向に互いに隣接して設けられ、前記各表示素子が、表示領域と、この表示領域の前記所定方向側に設けられた非表示領域と、この非表示領域に位置する前記第１基板に設けられ、前記表示領域側と電気的に接続された複数の端子パッドとを備えた基板装置から前記各表示素子を分割する表示素子の製造方法であって、
一の前記表示素子の非表示領域と隣接する他の表示素子の表示領域との境界線と前記端子パッドとの間の位置に、これら端子パッドの少なくとも一部の配置に対応して、前記第１基板と前記第２基板との間に介在してスペーサを配置し、
前記境界線に沿って前記各表示素子を分割する
ことを特徴とした表示素子の製造方法。
【請求項６】
スペーサを、端子パッドに対向する位置に配置する
ことを特徴とした請求項５記載の表示素子の製造方法。
【請求項７】
スペーサを、互いに隣接する端子パッドの間の位置に配置する
ことを特徴とした請求項５記載の表示素子の製造方法。
【請求項８】
スペーサを、複数の端子パッド毎に配置する
ことを特徴とした請求項５ないし７いずれか一記載の表示素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、互いに隣接する複数の表示素子が分割される基板装置および表示素子の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶表示装置としての液晶パネルに用いられる表示素子としての液晶セルは、一対のガラス基板間に液晶層を介在して形成されている。
【０００３】
このような液晶セルでは、四角形状の表示領域に複数の画素がマトリクス状に形成され、この表示領域の外方に、非表示領域が形成され、この非表示領域には、画素を駆動するスイッチング素子としての薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）の駆動用のドライバＩＣが実装される。そして、このドライバＩＣは、各種回路が形成された可撓性を有するフレキシブル基板に、いわゆるアウタリードボンディング（Outer Lead Bonding、ＯＬＢ）により電気的かつ機械的に接続される。このため、液晶セル側には、表示領域の外方に接続用の端子パッドとしてのＯＬＢ端子が複数並設され、これらＯＬＢ端子は、非表示領域に、液晶パネルの外方に向けて形成されている。
【０００４】
そして、このような液晶セルは、ガラス製の一対の大判基板を対向配置してシール剤により貼り合わせ、これら大判基板間の所定の位置に液晶層を封入した基板装置を、所定の分割線すなわちカットラインに沿って基板カット装置により切り出すことで製造される（例えば、特許文献１参照。）。
【特許文献１】特開２００２−２５０９１２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上述の基板装置では、液晶セルの周囲にて各大判基板に切りしろを形成するので、基板装置に複数の液晶セルをマトリクス状に形成した場合では、切りしろの分、所定の間隔を開けて各液晶セルを配置しなければならず、液晶パネルの面付け数を向上することが容易でないという問題点を有している。
【０００６】
また、各液晶セルを切り出す際に、各大判基板の切りしろの分、大判基板の切り出し回数が多くなり、製造性が良好でないという問題もある。
【０００７】
本発明は、このような点に鑑みなされたもので、表示素子の製造性および面付け数を向上できる基板装置および表示素子の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、第１基板と、この第１基板に対向して配置された第２基板とを具備し、複数の表示素子が少なくとも所定方向に互いに隣接して設けられ、これら表示素子を分割可能な基板装置であって、前記各表示素子は、表示領域と、この表示領域の前記所定方向側に設けられた非表示領域と、この非表示領域に位置する前記第１基板に設けられ、前記表示領域側と電気的に接続された複数の端子パッドとを備え、前記所定方向に隣接する表示素子間の境界線と前記端子パッドとの間の位置に、これら端子パッドの少なくとも一部の配置に対応して、前記第１基板と前記第２基板との間に介在して配置されたスペーサを具備したものである。
【０００９】
そして、所定方向に隣接する表示素子間の境界線と端子パッドとの間の位置に、これら端子パッドの少なくとも一部の配置に対応して、第１基板と第２基板との間に介在してスペーサを配置する。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、所定方向に隣接する表示素子間の境界線に沿って各表示素子を分割しても、スペーサにより端子パッドの剥がれなどを防止するため、隣接する表示素子間での余分な切りしろを削減して表示素子の製造性および面付け数を向上できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明の第１の実施の形態の基板装置の構成を図１ないし図４を参照して説明する。
【００１２】
図１ないし図３において、１は基板装置であり、この基板装置は、第１基板としてのガラス基板である第１大判基板２と、第２基板としてのガラス基板である第２大判基板３とを対向配置して構成され、複数の表示素子としての液晶表示素子である液晶セル４がマトリクス状に形成され、これら液晶セル４を分割可能となっている。
【００１３】
ここで、各液晶セル４は、アクティブマトリクス型のものであり、第１大判基板２から切り出されるガラス基板としてのアレイ基板11と、第２大判基板３から切り出されるガラス基板としての対向基板12と、これらアレイ基板11と対向基板12との間に介在された液晶層13とを備え、この液晶層13の周囲を囲んで、アレイ基板11（第１大判基板２）と対向基板12（第２大判基板３）とを貼り合わせるＵＶ硬化樹脂などのシール材14が配置され、このシール材14の外側と内側とに、アレイ基板11と対向基板12との間隔を保持する間隔保持部材としてのスーパースペーサ15，16が配置されている。そして、これら液晶セル４には、図示しない画素がマトリクス状に配置されて画像を表示する表示領域17と、この表示領域17の動作を制御する各種回路が形成された非表示領域18とが形成されている。
【００１４】
アレイ基板11の一主面上には、図示しないが、表示領域17に対応する位置に、複数の信号線と複数の走査線とが格子状に配置され、これら信号線と走査線との交差位置に、各画素を駆動するスイッチング素子としての薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）が配置され、これら薄膜トランジスタが、信号線および走査線を介して非表示領域18の各種回路と電気的に接続されている。また、アレイ基板11の表示領域17に対応する位置には、図示しない各種絶縁膜、画素を構成する画素電極および配向膜などが積層されている。
【００１５】
対向基板12は、アレイ基板11よりも平面視で小さく形成され、アレイ基板11側の一主面に、図示しないカラーフィルタおよび配向膜などが積層されている。このため、対向基板12がアレイ基板11と対向していない位置が非表示領域18となっている。
【００１６】
スーパースペーサ15，16は、例えば透光性を有する合成樹脂などにより柱状に形成されている。
【００１７】
非表示領域18には、表示領域17側であるＴＦＴに信号線、あるいは走査線により電気的に接続されたＴＦＴ駆動用の駆動手段としての複数のドライバＩＣ21が設けられ、これらドライバＩＣ21には、端子パッドとしての複数のＯＬＢ（Outer Lead Bonding）端子22が、アレイ基板11上に形成された配線23により電気的に接続されている。
【００１８】
ＯＬＢ端子22は、図４に示すように、例えばＩＴＯなどによりドライバＩＣ21側から表示領域17の端部側へと長手状に形成され、かつ、この長手方向と交差する方向に並列に配置されている。そして、これらＯＬＢ端子22は、異方性導電膜すなわちＡＣＦ（Anisotropic Conductive Film）により、ポリイミドテープなどの可撓性を有するフレキシブル基板などと熱圧着されることで、このフレキシブル基板に実装された回路とドライバＩＣ21とを電気的かつ機械的に接続可能に構成されている。
【００１９】
非表示領域18のＯＬＢ端子22近傍には、スペーサとしてのスーパースペーサ25が複数形成され、非表示領域18の表示領域17近傍には、スーパースペーサ26が複数形成されている。これらスーパースペーサ25，26は、スーパースペーサ15，16と同様に、透光性を有する合成樹脂などにより第１大判基板２上に柱状に形成され、第１大判基板２と第２大判基板３との間に介在されている。
【００２０】
また、各スーパースペーサ25は、ＯＬＢ端子22のそれぞれの位置に対応し、これらＯＬＢ端子22とアレイ基板11の端部との間にて、ＯＬＢ端子22のそれぞれの端部に対向して配置されている。
【００２１】
そして、各液晶セル４は、１つの液晶セル４の表示領域17が、所定方向、例えば図２に示す左右方向に隣接する他の液晶セル４の非表示領域18と隣接するように、基板装置１に形成され、カットラインの位置にて図示しない基板カット装置により、基板装置１から分割される。
【００２２】
ここで、カットラインは、図２に示す左右方向に隣接する液晶セル４，４の境界線に沿って第１大判基板２および第２大判基板３に形成されるカットラインCL1と、非表示領域18を露出するように、この非表示領域18に対応する第２大判基板３に形成されるカットラインCL2と、図２に示す上下方向に隣接する液晶セル４，４の境界線に沿って第１大判基板２および第２大判基板３に形成されるカットラインCL3とを有している。
【００２３】
したがって、カットラインCL1はスーパースペーサ25，15の略中間の位置に形成され、カットラインCL2はスーパースペーサ26，15の略中間の位置に形成され、カットラインCL3はスーパースペーサ15，15の略中間の位置に形成されている。
【００２４】
そして、カットラインCL1，CL2の間の第２大判基板３が、液晶セル４を切り出した際の切りしろＤとなっている。
【００２５】
次に、上記第１の実施の形態の製造方法を説明する。
【００２６】
まず、第１大判基板２上の所定位置に薄膜トランジスタ、信号線、走査線、各種絶縁膜、画素電極および配向膜、ＯＬＢ端子22、スーパースペーサ15，16，25，26などを積層する。
【００２７】
このとき、各スーパースペーサ25を、各ＯＬＢ端子22のそれぞれの端部に対向させて形成する。
【００２８】
次いで、シール材14を塗布し、カラーフィルタおよび配向膜などを積層した第２大判基板３を第１大判基板２に対向させて配置し、所定のマスクなどを施してシール材14に紫外線などを照射し、このシール材14を硬化させる。
【００２９】
この後、シール材14の所定位置に設けた注入口から液晶材料を注入し、液晶層13を形成するとともに、注入口を閉塞して液晶層13を封入する。
【００３０】
さらに、図示しない基板カット装置により、図２の左右方向に隣接する液晶セル４の境界線をカットラインCL1とし、図２の上下方向に隣接する液晶セル４の境界線をカットラインCL3とするとともに、第２大判基板３のスーパースペーサ25，15間をカットラインCL2として、液晶セル４を基板装置１から切り出す。
【００３１】
このとき、カットラインCL1，CL2間の第２大判基板３が切りしろＤとなり、スーパースペーサ25，26は非表示領域18に残留する。
【００３２】
そして、アレイ基板11にドライバＩＣ21を実装するとともに、各ＯＬＢ端子22にてフレキシブル基板をＡＣＦ接着し、液晶セル４を完成する。
【００３３】
上述したように、上記第１の実施の形態では、液晶セル４の非表示領域のＯＬＢ端子22と、図１および図２に示す左右方向に隣接する液晶セル４，４の境界線との間の位置に、ＯＬＢ端子22の配置に対応して、第１大判基板２と第２大判基板３との間に介在してスーパースペーサ25を配置する構成とした。
【００３４】
このため、スーパースペーサ25により、カットラインCL1にて大判基板２，３を安定してカットすることが可能になり、このカットの際にＯＬＢ端子22が剥がれたりすることを防止できるため、液晶セル４の周囲に余分な切りしろを削減して、図１および図２に示す左右方向に隣接する液晶セル４，４を、これら液晶セル４，４間の境界線にて切り出すことができるので、左右方向に隣接する短冊状の部分において液晶セル４を左右方向に詰めて配置でき、基板装置１からの液晶セル４の面付け数を向上できるとともに、左右方向に隣接する液晶セル４，４を、カットラインCL1での１カットだけで分割できるので、液晶セル４の周囲に切りしろが発生する従来の場合と比較して切り出し回数すなわちカット数を抑制でき、製造性を向上できる。
【００３５】
また、スーパースペーサ25の配置スペースは、カットラインでのカット時のＯＬＢ端子の剥がれを防止するために従来設けていたクランク状のパターンなどの配置用のスペースを利用すれば、スーパースペーサ25用の配置スペースを新たに確保する必要がなく、液晶セル４が必要以上に大きくなることもない。
【００３６】
さらに、ＯＬＢ端子22のそれぞれの端部に対向してスーパースペーサ25を配置することで、カットラインCL1から液晶セル４をカットする際のＯＬＢ端子22の剥がれなどを、確実に防止できる。
【００３７】
そして、スーパースペーサ25は、他のスーパースペーサ15，16，26と同時に形成できるので、スーパースペーサ25のみを新たに製造する工程を必要とせず、製造性が低下しない。
【００３８】
また、カットラインCL1に対してスーパースペーサ25，15が略等距離に配置されていることで、カットラインCL1に沿って液晶セル４をカットする場合に、スーパースペーサ25，15にて略均等に力を受け、液晶セル４を安定してカットできる。
【００３９】
なお、上記第１の実施の形態において、図５に示す第２の実施の形態のように、スーパースペーサ25を、ＯＬＢ端子22，22の間に配設する構成としても、上記第１の実施の形態と同様の作用効果を奏することが可能である。
【００４０】
さらに、図６に示す第３の実施の形態のように、複数のＯＬＢ端子22、例えば２つ毎に、スーパースペーサ25をＯＬＢ端子22に対向させて配置する構成、あるいは、図７に示す第４の実施の形態のように、複数のＯＬＢ端子22、例えば２つ毎に、スーパースペーサ25をＯＬＢ端子22，22間に配置する構成としても、上記各実施の形態と同様の作用効果を奏することができ、かつ、スーパースペーサ25の個数を低減でき、製造性をより向上できる。
【００４１】
そして、図８に示す第５の実施の形態のように、上記第１の実施の形態の各スーパースペーサ25を、ＯＬＢ端子22の１つ置きに図中上下方向に交互にずらして配置する構成、あるいは、図９に示す第６の実施の形態のように、上記第２の実施の形態の各スーパースペーサ25を、ＯＬＢ端子22の１つ置きに図中上下方向に交互にずらして配置する構成としても、上記各実施の形態と同様の作用効果を奏することができ、かつ、スーパースペーサ25の配置スペースを、より大きく確保でき、さらに、スーパースペーサ25による第２大判基板３の保持強度を、より向上できる。
【００４２】
同様に、図１０に示す第７の実施の形態のように、上記第３の実施の形態の各スーパースペーサ25を、図中上下方向に交互にずらして配置する構成、あるいは、上記第４の実施の形態の各スーパースペーサ25を、図中上下方向に交互にずらして配置する構成としても、上記各実施の形態と同様の作用効果を奏することができる。
【００４３】
また、上記各実施の形態では、非表示領域18が表示領域17の図１および図２に示す右側のみに形成されているが、表示領域17の一辺とその一辺に隣接する他の一辺とに沿った平面視Ｌ字状、あるいは表示領域17の周囲などに非表示領域18を形成する場合などでも、スーパースペーサ25を同様に配置することで、同様の作用効果が得られることは言うまでもない。
【００４４】
さらに、スーパースペーサ25は、対向基板12（第２大判基板３）側に設けてもよい。この場合には、切りしろＤを廃棄する際に、スーパースペーサ25も同時に廃棄される。
【００４５】
そして、液晶セル４以外の様々な表示素子を基板装置１から分割する場合でも、同様の構成を適用できる。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】本発明の第１の実施の形態の基板装置の一部を示す説明断面図である。
【図２】同上基板装置を示す平面図である。
【図３】同上基板装置の表示素子を示す説明断面図である。
【図４】同上基板装置の一部を示す平面図である。
【図５】本発明の第２の実施の形態の基板装置の一部を示す平面図である。
【図６】本発明の第３の実施の形態の基板装置の一部を示す平面図である。
【図７】本発明の第４の実施の形態の基板装置の一部を示す平面図である。
【図８】本発明の第５の実施の形態の基板装置の一部を示す平面図である。
【図９】本発明の第６の実施の形態の基板装置の一部を示す平面図である。
【図１０】本発明の第７の実施の形態の基板装置の一部を示す平面図である。
【図１１】本発明の第８の実施の形態の基板装置の一部を示す平面図である。
【符号の説明】
【００４７】
１    基板装置
２    第１基板としての第１大判基板
３    第２基板としての第２大判基板
４    表示素子としての液晶セル
17    表示領域
18    非表示領域
22    端子パッドとしてのＯＬＢ端子
25    スペーサとしてのスーパースペーサ
【図１】
2008003194.tif 000003
【図２】
2008003194.tif 000004
【図３】
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【図４】
2008003194.tif 000006
【図５】
2008003194.tif 000007
【図６】
2008003194.tif 000008
【図７】
2008003194.tif 000009
【図８】
2008003194.tif 000010
【図９】
2008003194.tif 000011
【図１０】
2008003194.tif 000012
【図１１】
2008003194.tif 000013