(57)【要約】【課題】光路差調整層１７の線幅、高さの寸法を精密に形成でき、光路差調整層の側面の垂直性を良好にでき、また、青色光の透過率が高く、反射カラー表示にて明度低下、黄色く色付かないカラーフィルタの製造方法を提供する。【解決手段】光路差調整層１７を形成する材料として、アルカリ可溶性ポリマー（Ａ）、エチレン性不飽和化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）の３種を含有し、（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）を重量比で１：Ｘ：Ｙに混合し、ＸとＹの積が前記数式（１）を満たす光硬化性樹脂組成物を用いること。（Ｃ）としてα‐アミノアルキルフェノン系化合物を（Ｃ）全重量の５０重量％以上含有すること。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板上にブラックマトリックス、着色画素、光路差調整層が順次に形成されたカラーフィルタの製造方法において、
前記光路差調整層を形成する材料として、少なくともアルカリ可溶性ポリマー（Ａ）、エチレン性不飽和化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）の３種を含有し、アルカリ可溶性ポリマー（Ａ）、エチレン性不飽和化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）を重量比で１：Ｘ：Ｙに混合した光硬化性樹脂組成物であって、ＸとＹの積が下記数式（１）を満たす光硬化性樹脂組成物を用いることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【数１】
2008096622.tif 000006
【請求項２】
前記光硬化性樹脂組成物が、光重合開始剤（Ｃ）としてα‐アミノアルキルフェノン系化合物を光重合開始剤（Ｃ）全重量の５０重量％以上含有することを特徴とする請求項１記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項３】
前記光硬化性樹脂組成物を用いて塗膜を形成し、露光、現像処理、２３０℃・２０分焼成後の硬化した塗膜の膜厚が２．０μｍの際に、波長４００ｎｍでの光透過率が９５％以上であり、上記硬化した塗膜に２５０℃・６０分追加焼成した後の波長４００ｎｍでの光透過率が９０％以上であることを特徴とする請求項１又は請求項２記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項４】
前記光硬化性樹脂組成物の塗膜への露光量が７０〜１４０ｍＪ／ｃｍ2 、塗膜とフォトマスクの間の露光ギャップが８０〜１２０μｍ、アルカリ性現像液を用いての現像速度が３〜７μｍ／分、現像後の焼成が２００〜２５０℃で１０〜６０分間であることを特徴とする請求項１、請求項２、又は請求項３記載のカラーフィルタの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法に関するものであり、特に、光路差調整層を形成する際に、光路差調整層の線幅、高さなどの寸法を設定範囲に収まるよう精密に形成することができ、且つ、光路差調整層の側面の垂直性を良好に形成することができ、また、波長３８０ｎｍ〜５００ｎｍ付近の青色光の透過率が高く、反射カラー表示にて明度低下、黄色く色付くことのないカラーフィルタの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は自発光型の表示装置ではないので、その表示には他からの光を必要とし、例えば、その後方にバックライトを設け、後方からの光によって表示を行っている。このような液晶表示装置は透過型液晶表示装置と称され、主に屋内のような暗い環境下で用いられる。
また、例えば、その後方に光反射層を設け、液晶表示装置を観視する際の周囲からの外光によって表示を行う液晶表示装置がある。このような液晶表示装置は反射型液晶表示装置と称され、主に屋外のような周囲が明るい環境下で用いられる。
【０００３】
半透過型液晶表示装置と称される液晶表示装置は、１基の液晶表示装置において透過型と反射型の両機能を兼ね備えた液晶表示装置である。この半透過型液晶表示装置は、屋外のような非常に明るい環境下でも、屋内のような暗い環境下でも用いることができるものであり、モバイル機器に用いられる。
【０００４】
図１は、半透過型液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの一例を示したものであり、一画素に対応する部位を拡大して示す平面図である。また、図２は、図１に示すカラーフィルタを用いた半透過型液晶表示装置の一画素の部分の断面を示す説明図である。図１におけるＸ−Ｘ線の断面が、図２に示すカラーフィルタ（１０）の断面に相当する。
【０００５】
図１、及び図２に示すように、この半透過型液晶表示装置は、カラーフィルタ（１０）、液晶（３０）、ＴＦＴ素子（図示せず）などが形成されたＴＦＴ基板（２０）で構成されている。ＴＦＴ基板上には透明電極（２１）及び反射電極（２２）で形成されている。透明電極（２１）及び反射電極（２２）はＴＦＴ素子のドレイン電極と接続されている。カラーフィルタ（１０）は、ガラス基板（１１）上にブラックマトリックス（１２）、着色画素（１３）、透明電極（１４）が形成されたものである。
【０００６】
１画素の領域（Ｐｘ）はブラックマトリックス（１２）を除くと、透過表示領域（Ｔｒ）と反射表示領域（Ｒｅ）とで構成されている。
透過表示領域（Ｔｒ）は、透過型液晶表示装置として機能する領域であり、反射表示領域（Ｒｅ）は、反射型液晶表示装置として機能する領域である。
【０００７】
着色画素（１３）は、透過表示の着色画素（１３Ｔｒ）と反射表示の着色画素（１３Ｒｅ）で構成されている。また、反射表示の着色画素（１３Ｒｅ）は、着色部（１５）とスルーホール（開口部）（１６）で構成されている。
１画素の領域（Ｐｘ）内の透過表示の着色画素（１３Ｔｒ）と、反射表示の着色画素（１３Ｒｅ）の着色部（１５）は、同一の着色画素形成材料を用いて設けられた同一厚さの着色層である。図２にては、説明上、左斜線と右斜線で表記してある。
【０００８】
また、図２中、反射電極（２２）と透明電極（２１）の境界の上方が、透過表示の着色画素（１３Ｔｒ）と反射表示の着色画素（１３Ｒｅ）との境界であり、鎖線で表記してあ
る。
透過表示の着色画素（１３Ｔｒ）の全領域に厚さＤ１の均一な着色層が形成され、また、スルーホール（開口部）（１６）を有する反射表示の着色画素（１３Ｒｅ）の色濃度的な厚さは、その平均厚さ（Ｄ２）で表される。
【０００９】
また、反射表示の着色画素（１３Ｒｅ）のスルーホール（開口部）（１６）が、何も設けていない、着色層の欠落した状態であると、カラーフィルタの表面の平坦性は悪化したものとなる。これにより、液晶の配向が乱され、表示品質に悪影響を及ぼすことになる。従って、一般には、このスルーホール（開口部）（１６）には無色透明な樹脂を充填し、平坦性を保たせている。
【００１０】
図２に示す、厚さＤ１を有する均一な透過表示の着色画素（１３Ｔｒ）の分光透過率は、過型液晶表示装置に好適な分光透過率を有する。透過表示領域（Ｔｒ）においては白太矢印（Ａ）で示すバックライトからの白色光が、ＴＦＴ基板（２０）、透明電極（２１）、液晶（３０）、透明導電膜（１４）を経て、透過表示の着色画素（１３Ｔｒ）を通過し色光となり白細矢印（ａ）で示すように、外部へ射出するようになっている。
従って、この半透過型液晶表示装置のバックライトを点灯し透過型液晶表示装置として使用した際には、透過型液晶表示装置として優れた明度、彩度を有する透過カラー表示をする。
【００１１】
また、この半透過型液晶表示装置のバックライトを消灯し、屋外のような明るい環境下で反射型液晶表示装置として使用した際には、反射表示領域（Ｒｅ）において、斜線太矢印（Ｂ）で示す周囲からの外光が、ガラス基板（１１）、平均厚さ（Ｄ２、Ｄ２＜Ｄ１）の、スルーホール（開口部）（１６）を有する反射表示の着色画素（１３Ｒｅ）を通過し色光となり反射電極（２２）にて反射され、斜線細矢印（ｂ）で示すように、再び外部へ射出するようになっている。
【００１２】
この際の反射光は、平均厚さ（Ｄ２）のスルーホール（開口部）（１６）を有する反射表示の着色画素（１３Ｒｅ）を２回にわたり通過しているので、透過型液晶表示装置に用いられる着色画素の分光透過率に近似した分光透過率を有するものとなる。
このようなカラーフィルタを用いることにより、透過型液晶表示装置としての優れた明度、彩度を有する透過カラー表示をし、また、反射型液晶表示装置として暗くならず、優れた明度、彩度を有する反射カラー表示をすることが可能となる。
【００１３】
上記のように、図２に示す半透過型液晶表示装置においては、過型表示に好適な分光透過率を有する透過表示の着色画素と、反射表示に好適な分光透過率を有する反射表示の着色画素を別々に形成することなく、反射カラー表示の明度、彩度を、透過カラー表示の明度、彩度に近似させている。
すなわち、同一の着色画素形成材料を用い、透過表示の着色画素（１３Ｔｒ）と反射表示の着色画素（１３Ｒｅ）を同時に形成することを可能にしている。
【００１４】
しかしながら、図１、及び図２に示すカラーフィルタを半透過型液晶表示装置に用いた際には、図３に示すように、透過表示領域（Ｔｒ）における、バックライトからの白色光（Ａ）が液晶（３０）層を通過する光路長（Ｔ１）と、反射表示領域（Ｒｅ）における、外光（Ｂ）が液晶（３０）層を通過する光路長（Ｔ１×２）が相違するために射出される光には位相差が生じ、透過カラー表示の明度、彩度と、反射カラー表示の明度、彩度は異なったものとなってしまう。
尚、図３は、図２の一部を表したものであるが、説明上、図２におけるカラーフィルタ（１０）とＴＦＴ基板（２０）の上下位置関係を逆の関係に置き換えたものとしている。
【００１５】
図４は、上記のような光路長の差による影響を回避する技法を用いたカラーフィルタの一例を示す断面図である。図４に示すように、このカラーフィルタは、透過表示領域（Ｔｒ）における、バックライトからの白色光（Ａ）が液晶（３０）層を通過する光路長（Ｔ１）と、反射表示領域（Ｒｅ）における、外光（Ｂ）が液晶（３０）層を通過する光路長（Ｔ１×２）の相違をなくし、射出される光の位相を揃えるために、反射表示の着色画素（１３Ｒｅ）上に光路差調整層（１７）を設けたものである。
【００１６】
この光路差調整層（１７）を設けることにより、カラーフィルタ（１０）とＴＦＴ基板（２０）の基板間の間隔を、透過表示領域：反射表示領域＝２：１としている。
すなわち、図４において、透過表示の着色画素（１３Ｔｒ）上の透明電極（１４）上面から、ＴＦＴ基板（２０）の透明電極（２１）までの間隔と、光路差調整層（１７）上の透明電極（１４）上面から、ＴＦＴ基板（２０）の反射電極（２２）までの間隔の比を２：１としている。（Ｔ１：Ｔ２＝２：１）
具体的には、５μｍ：２．５μｍ程度のものである。
【００１７】
この光路差調整層（１７）は、光硬化性樹脂組成物を用いフォトリソグラフィによって形成されることが多い。当然、この光路差調整層の線幅、高さなどの寸法については、設定範囲に収まるよう精密に形成する必要がある。
また、光路差調整層の断面形状については、図４中、符号（Ｈ）で示すように、反射表示の着色画素（１３Ｒｅ）の表面に対し光路差調整層の側面が垂直な状態に形成されることが重要なことになる。すなわち、光路差調整層の側面には垂直性が求められる。
【００１８】
しかし、光硬化性樹脂組成物を用いフォトリソグラフィによって光路差調整層を形成する場合には、良好な垂直性を有する光路差調整層を形成することは困難なことである。
図５は、光路差調整層（１７）の側面が垂直な状態に形成されず、側面が傾斜（θ）した状態に形成された例を示した断面図である。図５に示すように、光路差調整層の側面に傾斜（θ）が生じた場合には、傾斜した部分（Ｗ１、Ｗ２）は光路差調整層として正常に作用しないので、その分、光路差調整層の調整機能が低下したものになるといった問題が生じる。
【００１９】
また、一般に、光硬化性樹脂組成物を用いて光路差調整層を形成した場合には、形成された光路差調整層は波長３８０ｎｍ〜５００ｎｍ付近の青色光の透過率が低いために、半透過型液晶表示装置の反射カラー表示にて黄色く色付いてしまうといった問題が生じている。
【特許文献１】特開２００４−２９４００号公報
【特許文献２】特開２００４−３６１５３１号公報
【特許文献３】特開２００５−０９９２６７号公報
【特許文献４】特開２００５−１４０８８６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２０】
本発明は上記問題を解決するためになされたものであり、光硬化性樹脂組成物を用いフォトリソグラフィによって反射表示の着色画素上に光路差調整層を形成する際に、光路差調整層の線幅、高さなどの寸法を設定範囲に収まるよう精密に形成することができ、且つ、光路差調整層の側面の垂直性を良好に形成することができ、また、波長３８０ｎｍ〜５００ｎｍ付近の青色光の透過率が高いカラーフィルタの製造方法を提供することを課題とするものである。
【００２１】
これにより、光路差調整層は正常に作用し、反射カラー表示の明度、彩度は良好なカラーフィルタとなる。また、反射カラー表示にて明度低下、黄色く色付くことのないカラーフィルタとなる。
【課題を解決するための手段】
【００２２】
本発明は、ガラス基板上にブラックマトリックス、着色画素、光路差調整層が順次に形成されたカラーフィルタの製造方法において、
前記光路差調整層を形成する材料として、少なくともアルカリ可溶性ポリマー（Ａ）、エチレン性不飽和化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）の３種を含有し、アルカリ可溶性ポリマー（Ａ）、エチレン性不飽和化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）を重量比で１：Ｘ：Ｙに混合した光硬化性樹脂組成物であって、ＸとＹの積が下記数式（１）を満たす光硬化性樹脂組成物を用いることを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
【００２３】
【数２】
2008096622.tif 000003
また、本発明は、上記発明によるカラーフィルタの製造方法において、前記光硬化性樹脂組成物が、光重合開始剤（Ｃ）としてα‐アミノアルキルフェノン系化合物を光重合開始剤（Ｃ）全重量の５０重量％以上含有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
【００２４】
また、本発明は、上記発明によるカラーフィルタの製造方法において、前記光硬化性樹脂組成物を用いて塗膜を形成し、露光、現像処理、２３０℃・２０分焼成後の硬化した塗膜の膜厚が２．０μｍの際に、波長４００ｎｍでの光透過率が９５％以上であり、上記硬化した塗膜に２５０℃・６０分追加焼成した後の波長４００ｎｍでの光透過率が９０％以上であることを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
【００２５】
また、本発明は、上記発明によるカラーフィルタの製造方法において、前記光硬化性樹脂組成物の塗膜への露光量が７０〜１４０ｍＪ／ｃｍ2 、塗膜とフォトマスクの間の露光ギャップが８０〜１２０μｍ、アルカリ性現像液を用いての現像速度が３〜７μｍ／分、現像後の焼成が２００〜２５０℃で１０〜６０分間であることを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
【発明の効果】
【００２６】
本発明は、光路差調整層を形成する材料として、少なくともアルカリ可溶性ポリマー（Ａ）、エチレン性不飽和化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）の３種を含有し、アルカリ可溶性ポリマー（Ａ）、エチレン性不飽和化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）を重量比で１：Ｘ：Ｙに混合した光硬化性樹脂組成物であって、ＸとＹの積が前記数式（１）を満たす光硬化性樹脂組成物を用いるカラーフィルタの製造方法であるので、反射表示の着色画素上に光路差調整層を形成する際に、光路差調整層の線幅、高さなどの寸法を設定範囲に収まるよう精密に形成することができ、且つ、光路差調整層の側面の垂直性を良好に形成することができる。
従って、光路差調整層は正常に作用し、反射カラー表示の明度、彩度は良好なものとなる。また、波長３８０ｎｍ〜５００ｎｍ付近の青色光の透過率が高く、反射カラー表示にて明度低下、黄色く色付くことのないカラーフィルタの製造方法となる。
【００２７】
また、本発明は、光硬化性樹脂組成物が、光重合開始剤（Ｃ）としてα‐アミノアルキルフェノン系化合物を光重合開始剤（Ｃ）全重量の５０重量％以上含有するので、光路差調整層の側面の垂直性をより良好に形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下に、本発明のカラーフィルタの製造方法を実施例に基づいて詳細に説明する。
【実施例】
【００２９】
＜実施例１＞
〔光硬化性樹脂組成物（１）の調製〕
・アルカリ可溶性樹脂（分子量１００００）      １００重量部
・エチレン性不飽和化合物
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（分子量５３５）
１５０重量部
・イルガキュアー９０７                          １０重量部
・シクロヘキサノン                            ７００重量部
上記の組成、比率で調製し光硬化性樹脂組成物（１）を得た。
【００３０】
〔光路差調整層の形成〕
先ず、ガラス基板上に、膜厚１．８μｍの樹脂ブラックマトリックス、及び透過表示の着色画素と、スルーホールを有する反射表示の着色画素を形成しカラーフィルタを得た。着色画素は赤色、緑色、青色の３色とし、膜厚は約１．８μｍとした。
次に、上記光硬化性樹脂組成物（１）をカラーフィルタ上に膜厚が２．０μｍとなるようにスピンコートし、９０℃で５分間乾燥し塗布膜を形成した。この塗布膜に光路差調整層形成用のフォトマスクを介して、１２０ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線露光を行った。この際、フォトマスクと塗布膜との間隔（露光ギャップ）は、８０μｍとした。
続いて、アルカリ現像液を用いて塗布膜の現像を行った。この際、現像速度は５μｍ／分とした。水洗を行った後に２３０℃で２０分間のベーキングを行ってカラーフィルタ上に光路差調整層を形成した。
【００３１】
＜実施例２＞
実施例２においては、実施例１と同様な方法で、着色画素を形成しカラーフィルタ上に光硬化性樹脂組成物（１）を膜厚が２．０μｍとなるようにスピンコートし、９０℃で５分間乾燥し塗布膜を形成した。
次に、光路差調整層形成用のフォトマスクを介して、１００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線露光を行った。この際、フォトマスクと塗布膜との間隔（露光ギャップ）は、１２０μｍとした。その後、実施例１と同様に現像、水洗、ベーキングを行ってカラーフィルタ上に光路差調整層を形成した。
【００３２】
＜実施例３＞
実施例３においては、実施例１と同様な方法で、着色画素を形成しカラーフィルタ上に光硬化性樹脂組成物（１）を膜厚が２．０μｍとなるようにスピンコートし、９０℃で５分間乾燥し塗布膜を形成した。
次に、光路差調整層形成用のフォトマスクを介して、１２０ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線露光を行った。この際、フォトマスクと塗布膜との間隔（露光ギャップ）は、１２０μｍとした。その後、実施例１と同様に現像、水洗、ベーキングを行ってカラーフィルタ上に光路差調整層を形成した。
【００３３】
＜比較例１＞
比較例１においては、実施例１と同様な方法で、着色画素を形成しカラーフィルタ上に光硬化性樹脂組成物（１）を膜厚が２．０μｍとなるようにスピンコートし、９０℃で５分間乾燥し塗布膜を形成した。
次に、光路差調整層形成用のフォトマスクを介して、６０ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線露光を行った。この際、フォトマスクと塗布膜との間隔（露光ギャップ）は、１２０μｍとした。
その後、実施例１と同様に現像、水洗、ベーキングを行ってカラーフィルタ上に光路差調整層を形成した。
【００３４】
＜比較例２＞
比較例２においては、実施例１と同様な方法で、着色画素を形成しカラーフィルタ上に光硬化性樹脂組成物（１）を膜厚が２．０μｍとなるようにスピンコートし、９０℃で５分間乾燥し塗布膜を形成した。
次に、光路差調整層形成用のフォトマスクを介して、１５０ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線露光を行った。この際、フォトマスクと塗布膜との間隔（露光ギャップ）は、１２０μｍとした。その後、実施例１と同様に現像、水洗、ベーキングを行ってカラーフィルタ上に光路差調整層を形成した。
【００３５】
＜比較例３＞
比較例３においては、実施例１と同様な方法で、着色画素を形成しカラーフィルタ上に光硬化性樹脂組成物（１）を膜厚が２．０μｍとなるようにスピンコートし、９０℃で５分間乾燥し塗布膜を形成した。
次に、光路差調整層形成用のフォトマスクを介して、１２０ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線露光を行った。この際、フォトマスクと塗布膜との間隔（露光ギャップ）は、１５０μｍとした。その後、実施例１と同様に現像、水洗、ベーキングを行ってカラーフィルタ上に光路差調整層を形成した。
【００３６】
＜比較例４＞
〔光硬化性樹脂組成物（２）の調製〕
・アルカリ可溶性樹脂（分子量１００００）      １００重量部
・エチレン性不飽和化合物
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（分子量５３５）
２００重量部
・イルガキュアー９０７                          ５０重量部
・シクロヘキサノン                            ７００重量部
上記の組成、比率で調製し光硬化性樹脂組成物（２）を得た。
【００３７】
〔光路差調整層の形成〕
比較例４においては、実施例１と同様な方法で、着色画素を形成しカラーフィルタ上に上記光硬化性樹脂組成物（２）を膜厚が２．０μｍとなるようにスピンコートし、９０℃で５分間乾燥し塗布膜を形成した。
次に、光路差調整層形成用のフォトマスクを介して、１２０ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線露光を行った。この際、フォトマスクと塗布膜との間隔（露光ギャップ）は、１２０μｍとした。その後、実施例１と同様に現像、水洗、ベーキングを行ってカラーフィルタ上に光路差調整層を形成した。
【００３８】
実施例１〜３、及び比較例１〜３で得られた光路差調整層の線幅、及び垂直性を観察した。図６に実施例３、及び比較例２で得られた光路差調整層のＳＥＭ断面写真を示す。
また、表１に光路差調整層の線幅、及び垂直性の評価結果を示す。線幅の設定値と実測値の差を線幅の太り量とした。線幅の評価は、１）太り量が１μｍ以下を良好（○印）、２）太り量が１μｍ以上を不良（×印）とした。
表１に示すように、線幅は実施例１〜３、及び比較例１において、良好な結果が得られている。
【００３９】
垂直性の評価は、１）カラーフィルタ表面と光路差調整層側面とのなす角度が９０度±１０度（図５、６中のθ）以下を良好（○印）、２）カラーフィルタ表面と光路差調整層
側面とのなす角度が９０度±１０度（図５、６中のθ）以上を不良（×印）とした。
表１に示すように、線幅は実施例１〜３において、良好な結果が得られている。
すなわち、線幅、及び垂直性が共に良好な結果は、実施例１〜３において得られている。
【００４０】
【表１】
2008096622.tif 000004
表２に、オリンパス（株）製：顕微分光光度計（ＯＳＰ−２００）を用いて測定した光路差調整層の波長４００ｎｍにおける透過率を示す。表２に示すように、透過率は実施例１〜３において、良好な結果が得られている。
【００４１】
【表２】
2008096622.tif 000005
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】半透過型液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの一例を示した平面図である。
【図２】図１に示すカラーフィルタを用いた半透過型液晶表示装置の断面を示す説明図である。
【図３】液晶層を通過する光路長の説明図である。
【図４】光路長の差による影響を回避する技法を用いたカラーフィルタの一例を示す断面図である。
【図５】光路差調整層の側面が垂直な状態に形成されず、側面が傾斜（θ）した状態に形成された例を示した断面図である。
【図６】実施例３、及び比較例２で得られた光路差調整層のＳＥＭ断面写真である。
【符号の説明】
【００４３】
１０・・・カラーフィルタ
１１・・・ガラス基板
１２・・・ブラックマトリックス
１３・・・着色画素
１３Ｒｅ・・・反射表示の着色画素
１３Ｔｒ・・・透過表示の着色画素
１４、２１・・・透明電極
１５・・・反射表示の着色画素の着色部
１６・・・スルーホール（開口部）
１７・・・光路差調整層
２０・・・ＴＦＴ基板
２２・・・反射電極
３０・・・液晶
Ａ・・・バックライトからの白色光
ａ・・・透過表示の着色画素を通過した色光
Ｂ・・・周囲からの外光
ｂ・・・反射表示の着色画素を通過した色光
Ｄ１…着色層の厚さ
Ｄ２・・・反射表示の着色画素の平均厚さ
Ｐｘ・・・１画素の領域
Ｒｅ・・・反射表示領域
Ｔ１、Ｔ２・・・液晶層を通過する光路長
Ｔｒ・・・透過表示領域
Ｗ１、Ｗ２・・・光路差調整層として正常に作用しない部分
θ・・・光路差調整層の側面の傾斜
【図１】
2008096622.tif 000007
【図２】
2008096622.tif 000008
【図３】
2008096622.tif 000009
【図４】
2008096622.tif 000010
【図５】
2008096622.tif 000011
【図６】
2008096622.tif 000012