(57)【要約】【課題】  溶剤での希釈を必要としない程度の低粘度のコーティング剤であり、かつハードコート膜の耐擦傷性が十分に高い、乾燥工程が不要な光硬化型ハードコート剤を提供する。【解決手段】  光硬化性官能基を有する有機物で被覆された無機微粒子、および親水性官能基を有する光硬化性モノマーおよび光重合開始剤を含有し、光硬化性を有しない揮発性成分を実質的に含んでいないことを特徴とする光硬化型ハードコート剤。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
光硬化性官能基を有する有機物で被覆された無機微粒子、親水性官能基を有する光硬化性モノマーおよび光重合開始剤を含有し、光硬化性を有しない揮発性成分を実質的に含まないことを特徴とする光硬化型ハードコート剤。
【請求項２】
前記光硬化性官能基を有する有機物で被覆された無機微粒子の前駆体である無機微粒子の平均一次粒径が１００ｎｍ以下である請求項１に記載の光硬化型ハードコート剤。
【請求項３】
前記光硬化性官能基を有する有機物で被覆された無機微粒子が前駆体である無機微粒子に換算して、前記光硬化型ハードコート剤の総量に対して２０重量％以上５０重量％以下の範囲で含有されている請求項１または２に記載の光硬化型ハードコート剤。
【請求項４】
前記無機微粒子がシリカ微粒子である請求項３に記載の光硬化型ハードコート剤。
【請求項５】
前記光硬化性官能基を有する有機物が、アクリル基またはメタクリル基を有する請求項１〜４のいずれかに記載の光硬化型ハードコート剤。
【請求項６】
前記親水性官能基を有する光硬化性モノマーが、アクリル基またはメタクリル基を有する請求項１〜５のいずれかに記載の光硬化型ハードコート剤。
【請求項７】
前記親水性官能基が、水酸基である請求項１〜６のいずれかに記載の光硬化型ハードコート剤。
【請求項８】
前記光硬化性官能基を有する有機物で被覆された無機微粒子が、無機微粒子および光硬化性官能基を有する有機シラン化合物の加水分解物を縮合反応して得たものである請求項１〜７のいずれかに記載の光硬化型ハードコート剤。
【請求項９】
フッ素含有モノマーおよび／またはフッ素含有ポリエーテル化合物を含有する請求項１〜８のいずれかに記載の光硬化型ハードコート剤。
【請求項１０】
アルカリ金属塩を含有する請求項１〜９のいずれかに記載の光硬化型ハードコート剤。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれかに記載の光硬化型ハードコート剤を塗布後光硬化してなるハードコート膜を備えた樹脂成形体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラスチック表面の耐擦傷性を付与する光硬化型ハードコート剤および光硬化型ハードコート剤からなるハードコート膜を備えた樹脂成形体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
現在、数多くのプラスチックが家電業界や自動車業界など多方面に利用されている。プラスチックは加工性、透明性などに加え、軽量で安価であるなど様々な特長を有しているが、ガラスなどの材料に比べて柔らかく、表面に傷が付きやすいなどの欠点を抱えている。これらの欠点を改良するために、プラスチック表面にハードコート材料をコーティングし、プラスチックの持つ透明性や軽量性などの利点を損なうことなく表面の耐擦傷性などを改善する技術が用いられている。
【０００３】
このハードコート材料として、従来からシリコン系塗料、アクリル系塗料、メラミン系塗料などの熱硬化型のハードコート材料が用いられている。これらの中でも、紫外線などの光を用いて簡便に硬化が可能なアクリル系塗料が、硬化時間やコスト的に有利であり、現在のハードコート材料の中で主流となりつつある。
【０００４】
しかし、アクリル系塗料は一般的にシリコン系塗料と比べて耐擦傷性や耐摩耗性などに劣るとされ、これまで様々な手法でその改善が試みられてきた。例えば、特許文献１では、分子中に少なくとも２個以上の（メタ）アクリル基を有する紫外線硬化性多官能（メタ）アクリレートと末端に共重合可能な不飽和二重結合を有する化合物および／またはスチレン−アクリル系重合体を配合する方法が提案され、特許文献２では、コロイダルシリカの表面をメタクリロキシシランで修飾した粒子とアクリレートとの組成物をハードコート材料として用いる方法を提案している。これらの公知技術を用いることにより、優れた耐擦傷性を有するアクリル系塗料を開発することができた。
【０００５】
確かに上記の公知技術を用いることによりアクリル系塗料の耐擦傷性を向上させることができたが、アクリル系塗料自体の粘度が非常に高くなり、塗布可能なコーティング性を付与するためには溶剤を用いて希釈し、塗液の粘度を下げてから使用する必要があった。溶剤で希釈せずに使用できる可能な粘度のアクリル系塗料であれば耐擦傷性が不足しており、また十分な耐擦傷性を付与するためには粘度上昇を伴うために溶剤での希釈が必要であったため、それら２つを両立したアクリル系塗料、すなわち溶剤での希釈を必要としない程度の低粘度のコーティング剤であり、かつ耐擦傷性が十分に高いアクリル系塗料が望まれていた。
【特許文献１】特開平９−４８９３４号公報
【特許文献２】特開昭６２−２１８１５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記欠点を改善し、光硬化が可能なアクリル系塗料であり、優れた耐擦傷性と溶剤での希釈が不要なハンドリング性とを両立した光硬化型ハードコート剤を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討を重ね、光硬化性官能基を有する有機物で被覆された無機微粒子、親水性官能基を有する光硬化性モノマーおよび光重合開始剤を含有したハードコート剤が、実質的に溶剤を含まないで優れた耐擦傷性とハンドリング性とを両立した光硬化型ハードコート剤であることを見いだした。
【０００８】
すなわち、本発明は、
［１］光硬化性官能基を有する有機物で被覆された無機微粒子、親水性官能基を有する光硬化性モノマーおよび光重合開始剤を含有し、光硬化性を有しない揮発性成分を実質的に含まないことを特徴とする光硬化型ハードコート剤。
［２］前記光硬化性官能基を有する有機物で被覆された無機微粒子の前駆体である無機微粒子の平均一次粒径が１００ｎｍ以下である［１］に記載の光硬化型ハードコート剤。
［３］前記光硬化性官能基を有する有機物で被覆された無機微粒子が前駆体である無機微粒子に換算して、前記光硬化型ハードコート剤の総量に対して２０重量％以上５０重量％以下の範囲で含有されている［１］または［２］に記載の光硬化型ハードコート剤。
［４］前記無機微粒子がシリカ微粒子である［３］に記載の光硬化型ハードコート剤。
［５］前記光硬化性官能基を有する有機物が、アクリル基またはメタクリル基を有する［１］〜［４］のいずれかに記載の光硬化型ハードコート剤。
［６］前記親水性官能基を有する光硬化性モノマーが、アクリル基またはメタクリル基を有する［１］〜［５］のいずれかに記載の光硬化型ハードコート剤。
［７］前記親水性官能基が、水酸基である［１］〜［６］のいずれかに記載の光硬化型ハードコート剤。
［８］前記光硬化性官能基を有する有機物で被覆された無機微粒子が、無機微粒子および光硬化性官能基を有する有機シラン化合物の加水分解物を縮合反応して得たものである［１］〜［７］のいずれかに記載の光硬化型ハードコート剤。
［９］フッ素含有モノマーおよび／またはフッ素含有ポリエーテル化合物を含有する［１］〜［８］のいずれかに記載の光硬化型ハードコート剤。
［１０］アルカリ金属塩を含有する［１］〜［９］のいずれかに記載の光硬化型ハードコート剤。
［１１］［１］〜［１０］のいずれかに記載の光硬化型ハードコート剤を塗布後光硬化してなるハードコート膜を備えた樹脂成形体。
により構成される。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によって得られた光硬化型ハードコート剤は、下記に示す効果がある。
（１）光硬化が可能で、溶剤による希釈の工程を必要としないため、簡便かつ安価にハードコート膜を提供できる。
（２）高い耐擦傷性、耐摩耗性を有し、プラスチック基材との密着性に優れたハードコート膜を提供できる。
（３）溶剤を用いていないため残存溶媒がなく、クラックの発生しにくいハードコート膜を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明は、光硬化性官能基を有する有機物で被覆された無機微粒子、親水性官能基を有する光硬化性モノマーおよび光重合開始剤を少なくとも含有し、光硬化性を有しない揮発性成分を実質的に含まないことを特徴とする。
【００１１】
ここで、光硬化性官能基とは、ビニル基、アクリル基、メタクリル基、エポキシ基など活性光のエネルギーによって励起され、その集合体が重合反応をして硬化性樹脂を形成する官能基のことを言う。光硬化性官能基としては、上記に挙げた官能基のように活性光によって励起されるものであれば特に制限はされないが、反応性等の観点からアクリル基もしくはメタクリル基を選択することが好ましい。
【００１２】
これら光硬化性官能基を励起させるのに用いられる光は、紫外線、電子線、あるいはガンマ線などである。また、これらの線源としては、高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプや加速電子などが使用できる。
【００１３】
本発明で用いられる無機微粒子としては、シリカ微粒子、フッ化マグネシウム微粒子、酸化チタン微粒子、酸化セリウム微粒子、ジルコニア微粒子、酸化アンチモン微粒子、アルミナ微粒子など種々の無機微粒子があるが、製造の容易性などの観点からシリカ微粒子が好ましい。
【００１４】
また、無機微粒子の平均一次粒径は、特に制限されないが、上限については、大きくなりすぎると形成される膜の表面平滑性を損なう恐れがあることに加え、光透過性が損なわれるために特に光学用途の材料に適用する場合に大きく影響を与えてしまう。また、適用する材料が光ディスクである場合は、記録・再生のためのレーザー光の波長の１／２未満であれば特に制限はないが、ブルーレイ・ディスクなどの短波長の光を使用する光ディスクにおいては、無機微粒子の平均一次粒径が小さい方がより好ましい。また、下限については、公知の方法で製造される無機微粒子の平均一次粒径であれば特に制限されず、例えば市販されている無機微粒子の中で平均一次粒径が小さいものとしては、触媒化成工業株式会社製のコロイド状シリカゾル「カタロイド（登録商標）ＳＩ−５５０」があり、そのシリカ微粒子の平均一次粒径は４〜６ｎｍである。
【００１５】
これらの事情を鑑みると、好ましい無機微粒子の平均一次粒径は１００ｎｍ以下であるが、本発明の光硬化型ハードコート剤を適用する用途や目的によって適宜平均一次粒径を調節すればよい。
【００１６】
例えば、ハードコート膜の耐擦傷性を高めることに主眼を置けば、平均一次粒径を大きくすることで、本発明の光硬化型ハードコート剤中の無機微粒子含有率を高められるため耐擦傷性の向上へと結びつけることができる。その場合、具体的には無機微粒子の平均一次粒径が２０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることがより好ましく、さらに好ましくは７０ｎｍ以上１００ｎｍ以下である。
【００１７】
また、短波長の光を使用する光ディスクに対して本発明の光硬化型ハードコート剤を適用する場合では、光透過性を高め読みとりエラーの発生率を低減することに主眼を置けば、より好ましい無機微粒子の平均一次粒径は４ｎｍ以上４０ｎｍ以下であり、さらに好ましくは４ｎｍ以上１０ｎｍ以下である。
【００１８】
光ディスクへの適用において、光透過性と耐擦傷性とを両立させる目的で本発明の光硬化型ハードコート剤を使用する場合は、１０ｎｍ以上７０ｎｍ以下であることがより好ましく、さらに好ましくは４０ｎｍ以上５０ｎｍ以下である。
【００１９】
上記の平均一次粒径を持つ無機微粒子としては、例えば先述の触媒化成工業株式会社製のコロイド状シリカゾル「カタロイド（登録商標）ＳＩ−５５０」（４〜６ｎｍ）のほか、日産化学工業株式会社製のコロイド状シリカゾル「スノーテックス（登録商標）Ｓ」（８〜１１ｎｍ）、触媒化成工業株式会社製のコロイド状シリカゾル「ＯＳＣＡＬ（登録商標）−１１３２」（１２ｎｍ）、日産化学工業株式会社製のコロイド状シリカゾル「ＭＡ−ＳＴ−Ｍ（登録商標）」（２０〜３０ｎｍ）、日産化学工業株式会社製のコロイド状シリカゾル「ＩＰＡ−ＳＴ−Ｌ（登録商標）」（４０〜５０ｎｍ）、日産化学工業株式会社製のコロイド状シリカゾル「ＩＰＡ−ＳＴ−ＺＬ（登録商標）」（７０〜１００ｎｍ）、日産化学工業株式会社製のアンチモン複酸化物ゾル「セルナックス（登録商標）ＣＸ−Ｚ６１０Ｍ−Ｆ２」（１５ｎｍ）などに含有される無機微粒子を使用することができる。
【００２０】
上記無機微粒子の平均一次粒径は、ＢＥＴ法（圧力と吸着量の関係からＢＥＴ式によって、単分子吸着量を測定し比表面積を求める方法）によって算出された値をいう。なお、本発明にて用いる無機微粒子は、球形に近い形状の無機微粒子を用いることが、本発明のハードコート剤に占める無機微粒子の含有量を高めるという観点から望ましいため、本発明においては該形状の無機微粒子を好ましく用いている。比表面積より平均一次粒径を算出するＢＥＴ法は、該形状の無機微粒子の平均一次粒径に適した測定法である。
【００２１】
本発明において用いられる、光硬化性官能基を有する有機物で被覆された無機微粒子は、通常コロイド状微粒子などの無機微粒子を前駆体として、光硬化性官能基を有する有機物で被覆して生成される。無機微粒子を、光硬化性官能基を有する有機物で被覆する方法としては、種々の公知技術を用いることができるが、無機微粒子および光硬化性官能基を有する有機シラン化合物の加水分解物を縮合反応して得る方法が、無機微粒子の分散性あるいは簡便さの観点から好ましい。
【００２２】
無機微粒子および光硬化性官能基を有する有機シラン化合物の加水分解物を縮合反応させる方法は、公知の方法を用いることができるが、例えば、アルコキシシランを塩酸、酢酸、蟻酸、硫酸などの酸触媒を添加した水で加水分解し、その後水あるいはアルコールなどの有機溶媒中に分散したコロイド状の無機微粒子を添加し重合させる方法などを好ましく採用することができる。
【００２３】
上記の無機微粒子および光硬化性官能基を有する有機シラン化合物の加水分解物を縮合反応させる方法において、含有させる無機微粒子の量は、その無機微粒子の平均一次粒径など種類によっても異なるが、要求されるハードコート膜の耐擦傷性などの特性に応じて調節することができる。本発明の光硬化型ハードコート剤の場合は、総量に対して２０重量％以上５０重量％以下で含有されていることが好ましく、より好ましくは３５重量％以上５０重量％以下である。２０重量％未満であれば、形成されるハードコート膜の耐擦傷性が十分なものにならず、また５０重量％を超えるとハードコート剤の粘度が上昇しすぎて膜形成が困難なものになったり、また膜形成後にクラックが生じたりすることもあるため好ましくない。
【００２４】
適用するハードコート膜において、より高い耐擦傷性を得るためには、無機微粒子の平均一次粒径が大きいものを使用すれば、本発明の光硬化型ハードコート剤中の無機微粒子含有比率を高められるためその目的が達成しやすい。例えば、無機微粒子がシリカ微粒子である場合において、平均一次粒径が比較的小さい触媒化成工業株式会社製のコロイド状シリカゾル「ＯＳＣＡＬ（登録商標）−１１３２」（１２ｎｍ）を使用した場合は、本発明の光硬化型ハードコート剤の総量に対して３５重量％を超えるとハードコート剤の粘度が上昇しすぎて膜形成が困難なものになったり、また膜形成後にクラックが生じてしまったりしてしまうため好ましくない。しかし、平均一次粒径が比較的大きい日産化学工業株式会社製のコロイド状シリカゾル「ＩＰＡ−ＳＴ−Ｌ（登録商標）」（４０〜５０ｎｍ）を使用した場合は、本発明の光硬化型ハードコート剤の総量に対して５０重量％を超えない範囲であれば、ハードコート剤の粘度上昇や膜形成後のクラックが発生しないため、好ましく本発明の光硬化型ハードコート剤を使用することができる。
【００２５】
だが、無機微粒子の平均一次粒径が大きくなると、短波長の光を使用する場合にはハードコート膜の光透過性低下が懸念される。したがって、本発明の光硬化型ハードコート剤を適用する目的に応じて無機微粒子の平均一次粒径などの種類を適宜選択すればよい。
【００２６】
無機微粒子表面に被覆される光硬化性官能基を有する有機物を例示すると、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、グリシドキシメチルトリメトキシシラン、グリシドキシメチルトリエトキシシラン、α−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリプロポキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリブトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリフェノキシシラン、α−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、β−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、δ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、δ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリメトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリプロポキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリブトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリフェノキシシラン、γ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリメトキシシラン、γ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリエトキシシラン、δ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）ブチルトリメトキシシラン、δ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）ブチルトリエトキシシランなどのトリアルコキシシランやトリアシルオキシシラン、およびγ−アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、メチルビニルジエトキシシラン、グリシドキシメチルメチルジメトキシシラン、グリシドキシメチルメチルジエトキシシラン、α−グリシドキシエチルメチルジメトキシシラン、α−グリシドキシエチルメチルジエトキシシラン、β−グリシドキシエチルメチルジメトキシシラン、β−グリシドキシエチルメチルジエトキシシラン、α−グリシドキシプロピルメ��ルジメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、β−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジプロポキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジブトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルメトキシエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジフェノキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルエチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルエチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルビニルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルビニルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルフェニルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルフェニルジエトキシシランなどのジアルコキシシランやジアシルオキシシランが挙げられる。
【００２７】
その中でもアクリル基またはメタクリル基を有する有機物であることが反応性に富むため好ましく、それらを例示すると、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシランであり、より好ましくはγ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルメチルジエトキシシランである。
【００２８】
本発明で用いられる光硬化性モノマーとは、上記で説明した活性光によって励起されるモノマーであるが、モノマー中に光硬化性官能基を１つ以上有していればよく、光硬化性官能基を２つ以上有していてもよい。光硬化性モノマーを例示すると、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ｔ−ブチル、アクリル酸ベンジル、シクロヘキシルアクリレート、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸セチル、アクリル酸ラウリル、アクリル酸ｎ−ステアリル、アクリル酸イソボルニル、アクリル酸２−メトキシエチル、アクリル酸３−メトキシブチル、エトキシジエチレングリコールアクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリルアクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステルジアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ変性トリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ネオペンチルグリコールヒドロキシピバリン酸エステルジアクリレート、１，９−ノナンジオールアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アクリル変性ジペンタエリスリトールのアクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート、ε−カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールのアクリレート、２−プロペノイックアシッド［２≡〔１，１−ジメチル−２−〔（１−オキソ−２−プロペニル）オキシ〕エチル〕−５−エチル−１，３−ジオキサン−５−イル］メチルエステル、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、アクリル酸４−ヒドロキシブチル、無水フタル酸−アクリル酸２−ヒドロキシプロピル付加物、２−ジメチルアミノエチルアクリレート、２−ジエチルアミノエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル−Ｎ−（２−ヒドロキシ−３−アクリロイルオキシプロピル）アンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、アクリロニトリル、アクリルアミド、ジメチルアミノプロピルメタアクリルアミド、ダイアセトンアクリルアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、Ｎ,Ｎ≡ジメチルアクリルアミドなど単官能、多官能のアクリレートおよび、上記のアクリル基をメタクリル基に置き換えた単官能、多官能の化合物、またスチレン、ジビニルベンゼン、ｐ−ｔ−ブトキシスチレン、ｐ−アセトキシスチレン、ｐ−（１−エトキシ）スチレン、２−ｔ−ブトキシ−６−ビニルナフタレン、ｐ−クロロスチレン、ｐ−スチレンスルホン酸ソーダ、酢酸ビニル、塩化ビニル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、ジエチンエチレングリコールモノビニルエーテル、Ｎ−ビニル−２−ピロリドンなどを挙げることができる。
【００２９】
本発明の光硬化型ハードコート剤においては、上記の光硬化性モノマーに親水性官能基が導入された、親水性官能基を有する光硬化性モノマーが含まれる。親水性官能基を有する光硬化性モノマーとしては、１分子内に水酸基、アミノ基、スルホン酸基などの親水性官能基とビニル基、アクリル基、メタクリル基、エポキシ基などの光硬化性官能基とを両方有するものであれば特に制限されないが、親水性官能基として水酸基を有する化合物、中でも２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、アクリル酸４−ヒドロキシブチル、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、メタクリル酸４−ヒドロキシブチルが好ましく用いられる。
【００３０】
本発明の光硬化型ハードコート剤においては、さらに親水性官能基を含まない光硬化性モノマーを含んでもよい。
【００３１】
本発明において用いられる光重合開始剤としては、光硬化性官能基がビニル基、アクリル基またはメタクリル基である場合は、ラジカル反応開始剤を使用する。ラジカル反応開始剤を使用することにより、上記官能基の不飽和二重結合による付加反応が起こって光硬化性官能基同士の連結が起こり、結果として樹脂と樹脂、また光硬化性官能基を有する有機物で被覆されたシリカ微粒子を介して樹脂とシリカ微粒子との重合が進行する。
【００３２】
ラジカル反応開始剤としては従来から光重合開始剤として使用されているものが使用可能であり、例えば、フェニルケトン類、フォスフィンオキサイド類、アミノベンゾエート類、チオキサントン類等が挙げられる。
【００３３】
フェニルケトン類の具体例として、例えば、アントラキノン、ベンゾフェノン、アセトフェノン等が挙げられる。
【００３４】
フォスフィンオキサイド類の具体例として、例えば、２、４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド等が挙げられる。
【００３５】
アミノベンゾエート類の具体例として、例えば、２−ベンジル２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１等が挙げられる。
【００３６】
チオキサントン類の具体例として、例えば、２、４−ジエチルチオキサトン等が挙げられる。
【００３７】
上記ラジカル反応開始剤の中でもフェニルケトン類、フォスフィンオキサイド類およびアミノベンゾエート類が好ましく、より好ましくはフェニルケトン類、特にアントラキノンまたはベンゾフェノンである。安価かつ高速度で硬化膜を形成できるためである。
【００３８】
光硬化性官能基がエポキシ基である場合は、光重合開始剤としてイオン開裂剤を使用する。イオン開裂剤を使用することにより、エポキシ環の開環による付加反応が起こってエポキシ基同士の連結が起こり、結果として樹脂と樹脂、また光硬化性官能基を有する有機物で被覆された無機微粒子を介して樹脂と無機微粒子との重合が進行する。
【００３９】
イオン開裂剤としては従来からエポキシ環のイオン開裂剤として使用されているものが使用可能であり、例えば、ルイス酸アリルジアゾニウム塩、ジアリルヨ−ドニウム塩等が使用可能である。ルイス酸アリルジアゾニウム塩を用いると、カチオン反応の硬化過程で被膜を形成し、硬い膜を素早く得ることができる。また、重合過程がイオン反応であるため、酸素による反応阻害がなく、放置するだけでも完全硬化が進行するため、未硬化の問題はなくなる。
【００４０】
ルイス酸アリルジアゾニウム塩はルイス酸を発生させ、Ｓｂ、ＳｎまたはＦｅのいずれか１種ならびにＩおよびＦを含むものであり、例えば、一般式；
［Ｒ（Ｃ６Ｈ４）］２ＩＳｂＦ６
（式中、Ｒは炭素原子数１０〜１４の１価炭化水素基、特にアルキル基である）で表される化合物が挙げられる。
【００４１】
反応開始剤の含有量は特に制限されず、塗布される光硬化型ハードコート剤の総量に対して１〜４重量％、特に２〜３重量％が好ましい。
【００４２】
本発明においては、光硬化型ハードコート剤の中に光硬化性を有しない揮発性成分を実質的に含んでいないことを特徴とする。光硬化性を有しない揮発性成分とは、従来技術において塗液（ハードコート剤）の粘度を下げるために用いる溶剤のことであり、コロイド状の無機微粒子が分散している水やアルコールなどの各種溶媒等が含まれるが、揮発性を有し、光硬化性官能基を分子内に持たないものであれば特に制限されない。
【００４３】
ここで、実質的に含まないとは、意図して含有させないという意味であって、例えば空気中に含まれる水分をハードコート剤が吸湿してしまった場合などは、それによってハードコート剤の塗布可能なコーティング性が付与されるものではなく、その水分は実質的に含まないこととする。また、光硬化型ハードコート剤を製造する過程において、揮発性の溶剤を留去する工程があった場合、その揮発性の溶剤を完全に留去することを目的としてその工程を行うものであるが、完全に留去しきれなかった揮発性の溶剤が若干量含まれていたとしても、それによってハードコート剤の塗布可能なコーティング性が付与されるものではなく、その光硬化型ハードコート剤は光硬化性官能基を有しない揮発性成分を実質的に含まないこととする。
【００４４】
膜の形成方法としてはマイクログラビアコーティング、スピンコーティング、ディップコーティング、カーテンフローコーティング、ロールフローコーティング、スプレーコーティング、流し塗り法などを用いてコーティングすることができるが、本発明のハードコート剤を適用する基材に応じて最適な方法を決定するべきである。そして、本発明においては、基材上にハードコート剤を塗布した後、紫外線、電子線、ガンマ線などを照射するのみで硬化を完了させることができ、光照射前、光照射後の乾燥工程を必要としない。
【００４５】
本発明のハードコート剤には、ハードコート塗膜に防汚性（撥油、撥水性）および表面の潤滑性を付与するため、フッ素含有モノマー、およびフッ素含有ポリエーテル化合物のうちいずれか一方、または双方を含有することが好ましい。
【００４６】
フッ素含有モノマーは、下記一般式（１）、
ＣＨ２＝ＣＲ１ＣＯＯＲ２Ｒｆ  （１）
（式中、Ｒ１は、水素原子またはメチル基を表し、Ｒ２は、−ＣｐＨ２ｐ−、−Ｃ（ＣｐＨ２ｐ＋１）Ｈ−、−ＣＨ２Ｃ（ＣｐＨ２ｐ＋１）Ｈ−、または−ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−を表し、Ｒｆは、−ＣｎＦ２ｎ＋１、−（ＣＦ２）ｎＨ、−（ＣＦ２）ｐＯＣｎＨ２ｎＣｉＦ２ｉ＋１、−（ＣＦ２）ｐＯＣｍＨ２ｍＣｉＦ２ｉＨ、−Ｎ（ＣｐＨ２ｐ＋１）ＣＯＣｎＦ２ｎ＋１、または−Ｎ（ＣｐＨ２ｐ＋１）ＳＯ２ＣｎＦ２ｎ＋１を表す。ただし、ｐは１〜１０、ｎは１〜１６、ｍは０〜１０、ｉは０〜１６の整数である）
で表される。このフッ素含有モノマーによって、ハードコート層表面に防汚性および／または潤滑性が付与される。
【００４７】
上記一般式（１）で表されるフッ素含有モノマーとしては、具体的には、ＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２、ＣＦ３ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２、ＣＦ３（ＣＦ２）４ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ２等を挙げることができる。これらは、１種または２種以上を適宜選択して使用することができる。
【００４８】
フッ素含有モノマーの合成は、ポリメリックペルオキシドまたはポリアゾ化合物を用いて、通常の塊状重合法、懸濁重合法、溶液重合法、エマルジョン重合法を２工程に分けて行う、というような公知の種々の方法で行えばよい。
【００４９】
フッ素含有ポリエーテル化合物は、パーフルオロポリエーテル部位と少なくとも１つの活性エネルギー線反応性基とを有する化合物であり、ハードコート層表面に防汚性や潤滑性を付与するために用いられる。光硬化性官能基としては、アクリル基、メタクリル基、ビニル基等が挙げられ、中でもアクリル基、メタクリル基であることが好ましい。パーフルオロポリエーテル部位によって、ハードコート層表面に防汚性や潤滑性が付与される。パーフルオロポリエーテル部位は、フッ素含有モノマーのフッ素化アルキル部位に比べ、よりハードコート層表面に集まりやすく、より優れた防汚性および／または潤滑性が付与される。一方、光硬化性官能基を有することで、ハードコート層を硬化させる際の活性光により、フッ素含有ポリエーテル化合物同士間の架橋反応や、フッ素含有モノマーとの架橋反応、光硬化性官能基を有する有機物で被膜された無機微粒子または親水性官能基を有する光硬化性モノマーとの架橋反応が起こって、ハードコート層中への固定化が向上する。その結果、種々の保存条件下、使用条件下において、非常に優れた防汚性および潤滑性を有するハードコート層が形成される。
【００５０】
なお、フッ素含有ポリエーテル化合物の、ハードコート層表面への防汚性／潤滑性付与の効果は、上記したフッ素含有モノマーのそれよりも高い。
【００５１】
フッ素含有ポリエーテル化合物は、分子内に２つ以上の光硬化性官能基を有するものが、ハードコート層中への固定化が向上し、防汚性および潤滑性も向上するので好ましい。特に、分子の両末端にそれぞれ光硬化性官能基を有するものが、ハードコート層中への固定化がより向上するのでさらに好ましく、分子の両末端にそれぞれ２つの光硬化性官能基を有するものがなおさら好ましい。
【００５２】
また、フッ素含有ポリエーテル化合物は、式量１０００当たりに１つ以上の活性エネルギー線反応性基を有するものが好ましく、式量１０００当たりに２つ以上の活性エネルギー線反応性基を有するものがより好ましく、式量１０００当たりに４つ以上の活性エネルギー線反応性基を有するものがさらに好ましい。また、その分子量は、５００以上５０００以下が好ましく、８００以上３０００以下がより好ましい。これら好ましいフッ素含有ポリエーテル化合物を用いることにより、ハードコート層中への固定化がより向上し、耐溶剤性に非常に優れたハードコート層を得ることができる。
【００５３】
フッ素含有ポリエーテル化合物は、末端に水酸基を有するフッ素含有ポリエーテル化合物を原料として、この水酸基に（メタ）アクリル基が導入されたものである。原料としてのフッ素含有ポリエーテル化合物としては、例えば、以下の化合物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
ＨＯＣＨ２−ＣＦ２Ｏ−［ＣＦ２ＣＦ２Ｏ］ｓ−［ＣＦ２Ｏ］ｍ−ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ
（Ｚ  ＤＯＬ）
Ｆ−［ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ］ｓ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ
（Ｄｅｍｎｕｍ−ＳＡ）
Ｆ−［ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ］ｓ−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＨ２ＯＨ
（Ｋｒｙｔｏｘ−ＯＨ）
ＨＯ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ−ＣＨ２−ＣＦ２Ｏ−［ＣＦ２ＣＦ２Ｏ］ｓ−［ＣＦ２Ｏ］ｍ−ＣＦ２ＣＨ２（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｎＯＨ
（Ｚｄｏｌ−ＴＸ）
ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ−ＣＨ２−ＣＦ２Ｏ−［ＣＦ２ＣＦ２Ｏ］ｓ−［ＣＦ２Ｏ］ｍ−ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＨ
（Ｚ−Ｔｅｔｒａｏｌ）
フッ素含有ポリエーテル化合物の具体例としては、分子量１０００当たりに１つ以上の光硬化性官能基を有するものとして、Ｆｏｍｂｌｉｎ（登録商標）  Ｚ  ＤＯＬ  ｄｉａｃｒｙｌａｔｅ（Ｆｏｍｂｌｉｎ（登録商標）  Ｚ  ＤＯＬ（アウジモント社製）の末端水酸基をアクリレート変性したもの）やフルオライトＡＲＴ４（共栄社化学）等、分子量１０００当たりに２つ以上の活性エネルギー線反応性基を有するものとして、フルオライトＡＲＴ３（共栄社化学）等、分子量１０００当たりに４つ以上の活性エネルギー線反応性基を有するものとして、Ｆｏｍｌｉｎ（登録商標）  Ｚ−Ｔｅｔｒａｏｌ（アウジモンド社製）の４つの末端水酸基をアクリレート変性したもの等を挙げることができる。かかるフッ素含有ポリエーテル化合物は、１種のみを用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００５４】
本発明において好適な光硬化型ハードコート剤は、その総量に対して、フッ素含有モノマー０．０５重量％以上５重量％以下と、フッ素含有ポリエーテル化合物０．０１重量％以上３重量％以下とを含むことが好ましい。フッ素含有ポリエーテル化合物は、ハードコート層表面への撥水性／潤滑性の付与効果が高いが、撥水性／潤滑性付与成分としてこれのみを用いると、ハードコート剤組成物中にフッ素含有ポリエーテル化合物の擬集物と思われる白濁が発生することがある。フッ素含有ポリエーテル化合物とともにフッ素含有モノマーを前記範囲内の量で併用することで、この白濁の発生を抑えることができ、光硬化型ハードコート剤の塗布性が改善される。その結果、良好な表面性を有するハードコート層が得られる。
【００５５】
より好ましいフッ素含有モノマーの添加量は０．０５重量％以上３重量％以下であるが、０．５重量％より多く添加しても上記の白濁抑制効果は飽和し、また、それとともに光硬化型ハードコート剤に泡立ちが発生する傾向にあるので、最も好ましいフッ素含有モノマーの添加量は０．０５重量％以上０．５重量％以下である。なお、この泡立ちは脱泡処理等により改善することができるので、必要に応じてフッ素含有モノマーを０．５重量％より多く添加してもよい。
【００５６】
また、より好ましいフッ素含有ポリエーテル化合物の添加量は、０．０５重量％以上１重量％以下であるが、０．５重量％より多く添加しても上記の撥水性／潤滑性の付与効果は飽和し、また、それとともにハードコート表面の硬度が低下する傾向にある一方、０．２重量％未満であるとすると、撥水性が充分得られないことがあるので、最も好ましいフッ素含有ポリエーテル化合物の添加量は、０．２重量％以上０．５重量％以下である。また、フッ素含有モノマーおよび／またはフッ素含有ポリエーテル化合物をハードコート層の表面上に塗布することにより、ハードコート層の表面にフッ素含有モノマーおよび／またはフッ素含有ポリエーテル化合物を含有させることができる。
【００５７】
本発明の光硬化型ハードコート剤には、ハードコート膜への帯電防止機能を付与するため、アルカリ金属塩を添加することが好ましい。帯電防止剤としてはアルカリ金属塩、フッ素含有界面活性剤、４級アンモニウム塩含有帯電防止剤、高分子型帯電防止剤など種々のものが知られているが、本発明の光硬化型ハードコート剤との相溶性の観点から、アルカリ金属塩を用いることが好ましい。
【００５８】
本発明の光硬化型ハードコート剤に用いることのできるアルカリ金属塩としては、リチウム塩、カリウム塩、ナトリウム塩などが挙げられるが、本発明の光硬化型ハードコート剤との相溶性に優れる点から、リチウム塩が特に好ましい。
【００５９】
リチウム塩の具体例としては、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム（ＣＦ３ＳＯ３Ｌｉ）、リチウムビストリフルオロメタンスルホニルイミド（Ｌｉ（ＣＦ３ＳＯ２）２Ｎ）、リチウムビスペンタフルオロエタンスルフォニルイミド（Ｌｉ（Ｃ２Ｆ５ＳＯ２）２Ｎ）、パーフルオロオクタンスルホン酸リチウム（Ｃ８Ｆ１７ＳＯ３Ｌｉ）、ホウフッ化リチウム（ＬｉＢＦ４）等を挙げることができる。それ以外のＬｉ＋の対イオンとしては、ＣｌＯ４−、ＰＦ６−、ＡｓＦ６−、ＳｂＦ５−、Ｃ４Ｆ９ＳＯ３−、（ＣＦ３ＳＯ２）３Ｃ−、Ｂ（Ｃ６Ｈ５）４−等を挙げることができ、上記アルカリ金属塩の２種以上を適宜併用することも可能である。特に好ましくは、ＣＦ３ＳＯ３Ｌｉ、Ｌｉ（ＣＦ３ＳＯ２）２Ｎ、Ｃ８Ｆ１７ＳＯ３Ｌｉのうちのいずれかであり、中でも、Ｌｉがイオン化し易く、アニオン側も分子量が小さく伝導率が高いことから、Ｌｉ（ＣＦ３ＳＯ２）２Ｎがさらに好ましい。また、これらのうちの２種類以上を用いてもよい。
【００６０】
アルカリ金属塩の含有量としては、前記樹脂１００重量％に対し、０．１〜１０重量％の範囲内であることが好ましく、より好ましくは１〜５重量％の範囲内である。アルカリ金属塩の含有量を０．１重量％以上とすることにより、十分な帯電防止性能を得ることができる一方、１０重量％を超えても帯電防止機能にはほとんど差が見られないことに加え、光透過性等の物性に影響を与える可能性がある。また、黄変や腐食等の悪影響が生じることが考えられる。
【００６１】
上記の方法によって形成されたハードコート膜の膜厚は、０．５μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましい。０．５μｍ未満であれば耐擦傷性を満足させることが難しく、また１０μｍを超えるとクラックや反りを生じやすくなる。
【００６２】
ハードコート膜の測定方法としては、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いた断面観察法、繰り返し反射干渉法、Ｘ線光電子分光分析法など公知の方法を用いることができる。
【００６３】
本発明の光硬化型ハードコート剤には、必要に応じて紫外線吸収剤、酸化防止剤、熱重合防止剤などの安定剤、レベリング剤、消泡剤、増粘剤、沈降防止剤、顔料、分散剤、防曇剤などの界面活性剤類、潤滑性付与剤、指紋付着防止剤、スリッピング剤を適宜配合して用いてもよい。
【００６４】
本発明の光硬化型ハードコート剤は、種々の樹脂成形体に適用可能である。樹脂成形体の形状としては、フィルム、シート、光ディスクなどディスク状の樹脂成形体、レンズなどが挙げられ、樹脂の素材としてはポリエステル、塩化ビニル、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリカーボネート、アクリル樹脂などが挙げられる。
【００６５】
光ディスクにおいては、本発明の光硬化型ハードコート剤を適用する基材がいかなる構成をとっていても構わないが、例えばディスクの表面に反射、記録、誘電などの各種機能を発揮する層が形成され、さらにその表面にシリコン樹脂またはアクリル樹脂などを重合させてなる光硬化性の保護膜が形成され、さらにその保護膜上に形成することも可能である。本発明の光硬化型ハードコート剤を光ディスク表面に適用することにより、光ディスク表面の耐擦傷性を向上させるなどの効果を付与し、より実用性に優れた光ディスクを提供することができる。
【００６６】
上記の光ディスクとしては、例えばコンパクトディスク（登録商標）やデジタル・バーサタイル・ディスク、ブルーレイ・ディスクなど記録、再生用の各種ディスクが挙げられる。
【実施例】
【００６７】
以下、実施例を挙げて本発明を説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。なお、硬化後のハードコート膜の評価は次の方法で行った。
【００６８】
１．外観
目視にて観察し、透明でありクラックや白濁などの不良が無いものを○とした。
【００６９】
２．耐擦傷性
＃００００スチールウール（日本スチールウール株式会社製；商品名「ボンスター（登録商標）」）で５００ｇの荷重をかけ、硬化膜の表面を１０往復擦って傷のつき具合を判定した。判定基準は次の通りである。
○・・・擦った範囲に全く傷が認められない
△・・・上記範囲内に１〜１０本傷がついた
×・・・上記範囲内に無数の傷がついた
３．密着性
ナイフを用いて被膜面に１ｍｍ間隔に切れ目を入れ、マス目を１００個形成する。次に、その上へセロファン粘着テープ（ニチバン株式会社製；商品名「セロテープ（登録商標）」）を強く押しつけた後、表面から９０度方向へ素早く引っ張り剥がし、コート膜に剥離の無いものを○とした。
【００７０】
４．防汚性
黒色油性マジックで被膜面にマーキングした後、ティッシュペーパーで拭き取りを行い、汚染物が容易に除去できるかどうかを確認した。容易に除去できた場合を○、残存した場合を×とした。
【００７１】
５．帯電防止性
高抵抗率計（三菱化学株式会社製「Ｈｉｒｅｓｔａ（登録商標）−ＵＰ  ＭＣＰ−ＨＴ４５０」）を用いて、温度２５℃、湿度５０％ＲＨの条件下で、印加電圧１０００Ｖにて硬化膜の表面抵抗値を測定した。
【００７２】
（実施例１）
（１）光硬化型ハードコート剤の調製
撹拌装置を備えた反応器にγ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業株式会社製；商品名「ＫＢＭ−５１０３」）（組成物Ａ）５．６７ｇを入れ、１００ｒｐｍで撹拌しながら２０℃を保ったまま約３０分かけて０．０５規定に調製した塩酸水溶液１．３１ｇを滴下した。滴下終了後約３０分撹拌を続け、次にメタノール分散シリカゾル（触媒化成工業株式会社製；商品名「ＯＳＣＡＬ（登録商標）−１１３２」固形分濃度３０重量％、平均一次粒径１２ｎｍ）（組成物Ｂ１）を２６．６７ｇ加え、２００ｒｐｍで撹拌しながら８０℃を保ったまま２時間撹拌を続けた後、室温下にて１時間撹拌を続けた。続いてアクリル酸２−ヒドロキシエチル（組成物Ｃ１）を１２．００ｇ加え、室温下にて１００ｒｐｍで３０分撹拌を続けて良く混合させた後、ロータリーエバポレーターを用いて水浴下にて１時間かけて混合物中の揮発性成分を留去した。その後、エチレングリコールジメタクリレート（新
中村化学工業株式会社製；商品名「１Ｇ」）（組成物Ｄ１）１．００ｇ、さらに光重合開始剤として１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製；商品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）１８４」）（組成物Ｅ）を０．７５ｇ、レベリング剤としてシリコン系界面活性剤（東レ・ダウコーニング株式会社製；商品名「ＳＲＸ−２９８」）（組成物Ｆ）を０．０８ｇ加え、常温および遮光にした状態にて２００ｒｐｍで１時間撹拌し良く混合させ、光硬化型ハードコート剤を得た。
【００７３】
（２）光硬化型ハードコート膜の形成
直径１２ｃｍ、厚さ２ｍｍにカットしたアクリル基盤（住友化学株式会社製；商品名「スミペックス（登録商標）」）の表面にスピンコート法により、（１）で調製した光硬化型ハードコート剤を厚さ２μｍとなるように塗布し、その後高圧水銀灯１灯（１２０Ｗ／ｃｍ）を備えたコンベア式ＵＶ照射装置に、５ｍ／ｍｉｎの速度で１度通してＵＶ照射（積算光量約１５０ｍＪ／ｃｍ２）を行い、光硬化型ハードコート膜を表面に設けたアクリル基盤を得た。
【００７４】
（実施例２〜６、比較例１〜４）
光硬化型ハードコート剤の調製に用いた各組成物等の重量を表１に示した重量に変更した以外は、全て実施例１と同様にして光硬化型ハードコート剤の調製、光硬化型ハードコート膜の形成を行った。ただし、実施例６〜８においては上記組成物Ｂ１の代わりにイソプロピルアルコール分散シリカゾル（日産化学工業株式会社製；商品名「ＩＰＡ−ＳＴ−Ｌ（登録商標）」固形分濃度３０重量％、平均一次粒径４０〜５０ｎｍ）（組成物Ｂ２）、実施例９においてはメタノール分散アンチモン複酸化物ゾル（日産化学工業株式会社製；商品名「セルナックス（登録商標）ＣＸ−Ｚ６１０Ｍ−Ｆ２」固形分濃度６０重量％、平均一次粒径１５ｎｍ）（組成物Ｂ３）を用い、比較例３については上記組成物Ｃ１の代わりにメタクリル酸メチル（組成物Ｃ２）を用い、比較例４については上記組成物Ｄ１の代わりにジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬株式会社製；商品名「ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）  ＤＰＨＡ」）（化合物Ｄ２）を用いた。
【００７５】
【表１】
2008138165.tif 000002
【００７６】
得られたハードコート膜の評価結果（実施例１〜９、比較例１〜４）を表２に示す。
【００７７】
【表２】
2008138165.tif 000003
【００７８】
表２に示した通り、比較例１においては耐擦傷性が十分でなく、目的とする材料表面への硬度付与が実現できなかった。また比較例２においては、上記ロータリーエバポレーターでの操作中に溶液のゲル化が起こり、ハードコート剤を得ることができなかった。比較例３においては、組成物Ｃ２を加えた後に白濁を生じ、さらにロータリーエバポレーターでの操作中に溶液のゲル化が起こり、ハードコート剤を得ることができなかった。比較例４においては、得られた光硬化型ハードコート剤の粘度が高すぎるため、スピンコート法による膜の形成に不具合を生じた。
【００７９】
それに対し、実施例１〜９で得られた光硬化型ハードコート剤は、透明で均一な液状の塗液であり、スピンコート法によって均一な膜を形成することが可能であった。また、それにより得られたハードコート膜は、外観不良のない優れた耐擦傷性の表面を実現し、アクリル基盤との密着性も良好であった。
【００８０】
（実施例１０、比較例５、６）
光硬化型ハードコート剤の調製において、フッ素含有モノマー（日本油脂株式会社製；商品名「モディパー（登録商標）Ｆ６００」の水酸基をイソシアネートエチルメタクリレートで変性したもの）（組成物Ｇ１）とパーフルオロポリエーテルテトラアクリレート（アウジモント株式会社製；商品名「Ｆｏｍｂｒｉｎ（登録商標）  Ｚ−Ｔｅｔｒａｏｌ」の４つの末端水酸基をアクリレート変性したもの）（組成物Ｇ２）とを表３に示した重量だけ加えた以外は、全て実施例７と同様にして光硬化型ハードコート剤の調製、光硬化型ハードコート膜の形成を行った。ただし、比較例６においては、組成物Ｇ１、組成物Ｇ２の代わりにフッ素系添加剤（大日本インキ化学工業株式会社製；商品名「メガファック（登録商標）Ｆ−１７８Ｋ」）（組成物Ｇ３）を用いた。
【００８１】
【表３】
2008138165.tif 000004
【００８２】
得られたハードコート膜の評価結果（実施例７、１０、比較例５、６）を表４に示す。
【００８３】
【表４】
2008138165.tif 000005
【００８４】
表４に示した通り、実施例１０で得られたハードコート膜は、実施例７で得られたハードコート膜と比較して、明らかな防汚性能を得ることができた。それに対し、比較例５においては組成物Ｇ１および組成物Ｇ２を加えた後に白濁を生じ、比較例６においても組成物Ｇ３を加えた後に白濁を生じ、いずれも透明で均一なハードコート剤を得ることができなかった。
【００８５】
（実施例１１、比較例７、８）
光硬化型ハードコート剤の調製において、リチウムビストリフルオロメタンスルホニルイミド（組成物Ｈ１）を表５に示した重量だけ加えた以外は、全て実施例７と同様にして光硬化型ハードコート剤の調製、光硬化型ハードコート膜の形成を行った。ただし、比較例８においては、組成物Ｈ１の代わりに耐電防止剤（花王株式会社製；商品名「エレクトロストリッパー（登録商標）ＴＳ−１３Ｂ」）（組成物Ｈ２）を用いた。
【００８６】
【表５】
2008138165.tif 000006
【００８７】
得られたハードコート膜の評価結果（実施例７、１１、比較例７、８）を表６に示す。
【００８８】
【表６】
2008138165.tif 000007
【００８９】
表６に示した通り、実施例１１で得られたハードコート膜は、実施例７で得られたハードコート膜と比較して、明らかな帯電防止性能を得ることができた。それに対し、比較例７においては組成物Ｈ１を加えた後に白濁を生じ、比較例８においても組成物Ｈ２を加えた後に白濁を生じ、いずれも透明で均一なハードコート剤を得ることができなかった。
【産業上の利用可能性】
【００９０】
本発明の光硬化型ハードコート剤は、紫外線などの活性光を用いて短時間で硬化させることができ、また溶剤希釈工程を必要とせず、簡便かつ安価に高い耐擦傷性の表面を提供することができる。そのため、光ディスクなど本発明の樹脂成形体に好適に利用することができる。