(57)【要約】      （修正有）【課題】体積固有抵抗値が低く、被帯電部材に接触させた際の被帯電部材の汚染が少なく、圧接跡が残らない、電気的に均一な低抵抗導電性ゴムローラーを提供する。【解決手段】導電性ゴム層は少なくとも二層構造であり、導電性芯金１１側に下層第一層としてスポンジゴム層１２を、該下層第一層の上に下層第二層としてソリッドゴム層１３を同時押出により二層成型する部分を有し、加硫・発泡後にソリッドゴム層の研削が行われ、該導電性ゴム層は少なくともエピクロロヒドリン系ゴムと、エチレンオキサイド（Ａ）／プロピレンオキサイド（Ｂ）／アリルグリシジルエーテル（Ｃ）の共重合体とを含むゴム成分からなるものであって、  該共重合体の共重合比率が、（Ａ）＋（Ｂ）＜９０モル％、（Ｂ）＋（Ｃ）＜２０モル％を満たし、  スポンジゴム層とソリッドゴム層の硬さ差がアスカーＣで２０度以上、  ソリッドゴム層の厚みが１００μｍ以上である導電性ゴムローラー。【選択図】図１
2008096793.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性芯金上に導電性ゴム層が設けられた導電性ゴムローラーにおいて、
該導電性ゴム層は少なくとも二層構造であり、該導電性芯金側に下層第一層としてスポンジゴム層を、該下層第一層の上に下層第二層としてソリッドゴム層を同時押出により二層成型する部分を有し、加硫・発泡後に該ソリッドゴム層の研削が行われるものであり、
該導電性ゴム層は少なくともエピクロロヒドリン系ゴムと、エチレンオキサイド（Ａ）／プロピレンオキサイド（Ｂ）／アリルグリシジルエーテル（Ｃ）の共重合体とを含むゴム成分からなるものであって、
該共重合体の共重合比率が、（Ａ）＋（Ｂ）＜９０モル％であり、（Ｂ）＋（Ｃ）＜２０モル％を満たし、且つ
該スポンジゴム層の硬さと該ソリッドゴム層の硬さ差がアスカーＣで２０度以上あり、  該ソリッドゴム層の厚みが１００μｍ以上である
ことを特徴とする導電性ゴムローラー。
【請求項２】
前記エピクロロヒドリン系ゴムは、エピクロロヒドリン／エチレンオキサイド／アリルグリシジルエーテルの三元共重合体である請求項１に記載の導電性ゴムローラー。
【請求項３】
前記スポンジゴム層の発泡速度が加硫速度よりも速く、前記ソリッドゴム層の加硫速度が前記スポンジゴム層の加硫速度より遅い請求項１に記載の導電性ゴムローラー。
【請求項４】
前記ソリッドゴム層の外周面上に、少なくとも一層の塗工して設けた導電性の被覆層を有する請求項１〜３のいずれかに記載の導電性ゴムローラー。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の導電性ゴムローラーを備えたことを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複写機・レーザビームプリンタ等の電子写真プロセスに使用される導電性ゴムローラー及び画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
静電式複写機、レーザープリンター及びファクシミリ等の種々の電子写真装置には、導電性ローラーを始めとする各種導電性ゴム部品が使用されている。導電性ゴム部材は、適度の弾性と適度の導電性を有しているエピクロロヒドリンゴム・アクリロニトリルゴムが広く使用されている（例えば特許文献１）。しかし、電子写真装置のロール用等の体積固有抵抗値が１０５〜１０１０Ω・ｃｍである中抵抗領域のゴム材料を調製するためには、カーボンブラック等の導電性粒子を添加するなどして体積固有抵抗値を調整する必要があった。
【０００３】
カーボンブラックは、粒径が小さいものほど体積抵抗値を低下させる効果が大きいので、通常、粒径が４５ｎｍ以下のものが使用されている。このような粒径が小さいカーボンブラックを使用した場合、カーボンブラックの添加量を増やすほど、ゴムの体積固有抵抗値が低下し、体積固有抵抗値が１０４Ω・ｃｍ以下の導電性ゴム組成物を容易に調製し得る。
【０００４】
しかし、混練時の損失等によって生じるカーボンブラック含有量の僅かな差や、射出成形、押出成形等の加工において生じるゴムの状態又はカーボンブラックの分散の僅かな変動等によってゴム組成物の体積固有抵抗値は大きく変動する。そのため、静電対策用等に求められる体積固有抵抗値が１０５〜１０１０Ω・ｃｍの中抵抗領域の導電性を有するゴム組成物は、電気的均一性に劣るという問題を有していた。
【０００５】
一方、粒径が大きいカーボンブラックを使用して中抵抗領域の導電性を有するゴム組成物を調製すると、ゴム組成物の電気的均一性を改善することができる。しかし、このようなカーボンブラックを用いて、中抵抗領域のゴム組成物を調製するには、多量のカーボンブラックが必要であり、得られた架橋物は加工性に劣り、用途が限られていた。
【０００６】
そこで、バラツキの少ない低抵抗導電性ゴム部材を得るために、イオン導電系ゴムを主体とするものが主流となっており、エピクロロヒドリンゴム単独もしくは、他材料とのブレンドでの低抵抗導電性ゴム部材の提案がなされている。エピクロロヒドリンゴムとは、エピクロロヒドリン−エチレンオキサイド−アリルグリシジルエーテルの共重合体であって、エチレンオキサイドをその構成単位として有するので低抵抗を実現している。エピクロロヒドリン−エチレンオキサイド−アリルグリシジルエーテルの共重合体比率についての提案も数多くある。しかし、エチレンオキサイドの含有量を９０モル％以上にすると結晶化が起こり、体積固有抵抗値が上昇し、圧縮永久歪が大きくなる。そのためエピクロロヒドリンゴム単独で使用した場合、体積固有抵抗値は１×１０７Ω・ｃｍ以上となってしまい例えば電子写真装置のローラーに要求される中抵抗領域である、１×１０７Ω・ｃｍ以下を達成するのが困難となる。
【０００７】
二層構造の導電性ゴムローラーについても数多くの検討がなされている。二層構造のローラーの製法としては、押出し機を用いた二層同時成型が挙げられる（例えば特許文献２）。しかし、スポンジ層とソリッド層の硬さの関係やソリッド層の厚みについての検討が不十分である。また、エピクロロヒドリンゴムを主成分とする導電性ローラーについても多く検討がなされている（例えば特許文献３）。しかし、エピクロロヒドリンゴム単体では低抵抗としては不十分であり、エチレンオキサイドが４０モル％を超えると電子写真感光体を汚染させてしまう問題が解決されていない。
【０００８】
また、エチレンオキサイド／プロピレンオキサイド／アリルグリシジルエーテルの共重合比率が５０〜９５モル％／１〜４９モル％／１〜１０モル％で、且つ数平均分子量Ｍｎが１００００以上であるエチレンオキサイド−プロピレンオキサイド−アリルグリシジルエーテル三元共重合体をエピクロロヒドリンゴムに対し重量比０．０１以上４．００以下で混合することで体積固有抵抗値を低くする提案がなされている（例えば特許文献４）。しかし、アリルグリシジルエーテルの共重合比率が１０モル％を超えると、加硫後の架橋点の数が多くなり、低抵抗化が実現できない。また、架橋サイトであるアリルグリシジルエーテルの共重合比率が１〜１０モル％と少ないため数平均分子量Ｍｎが１００００以上であっても、部材表面にブリードし、電子写真感光体汚染を起こし、また圧縮永久歪が劣る課題が解決されていない。
【特許文献１】特開２００１−１１５００５号公報
【特許文献２】特開平７−２３８９２３号公報
【特許文献３】特開平１１−２３１６１７号公報
【特許文献４】特開２００２−１０５３０５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の目的は、複写機・レーザビームプリンタ等の電子写真プロセスに使用され、体積固有抵抗値が低く、被帯電部材に接触させた際の被帯電部材の汚染が少なく、圧接跡が残らない、電気的に均一な低抵抗導電性ゴムローラー及び画像形成装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明に従って、導電性芯金上に導電性ゴム層が設けられた導電性ゴムローラーにおいて、
該導電性ゴム層は少なくとも二層構造であり、該導電性芯金側に下層第一層としてスポンジゴム層を、該下層第一層の上に下層第二層としてソリッドゴム層を同時押出により二層成型する部分を有し、加硫・発泡後に該ソリッドゴム層の研削が行われるものであり、
該導電性ゴム層は少なくともエピクロロヒドリン系ゴムと、エチレンオキサイド（Ａ）／プロピレンオキサイド（Ｂ）／アリルグリシジルエーテル（Ｃ）の共重合体とを含むゴム成分からなるものであって、
該共重合体の共重合比率が、（Ａ）＋（Ｂ）＜９０モル％であり、（Ｂ）＋（Ｃ）＜２０モル％を満たし、且つ
該スポンジゴム層の硬さと該ソリッドゴム層の硬さ差がアスカーＣで２０度以上あり、  該ソリッドゴム層の厚みが１００μｍ以上である
ことを特徴とする導電性ゴムローラーが提供される。
【００１１】
また、本発明に従って、上記導電性ゴムローラーを備えたことを特徴とする画像形成装置が提供される。
【発明の効果】
【００１２】
以上説明したように本発明の導電性ゴムローラーは体積固有抵抗値が低く、被帯電部材に接触させた際の被帯電部材の汚染が少なく、圧接跡が残らない、電気的に均一な低抵抗導電性ゴムローラーとして適切である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下に、本発明の実施形態を詳細に説明する。
【００１４】
本発明による導電性ゴムローラーの該導電性ゴム層は、少なくともエピクロロヒドリン系ゴムと、エチレンオキサイド（Ａ）／プロピレンオキサイド（Ｂ）／アリルグリシジルエーテル（Ｃ）の共重合体とを含むゴム成分からなるものであり、該共重合体の共重合比率が、（Ａ）＋（Ｂ）＜９０モル％であり、（Ｂ）＋（Ｃ）＜２０モル％を満たすものである。エチレンオキサイド（Ａ）／プロピレンオキサイド（Ｂ）／アリルグリシジルエーテル（Ｃ）の共重合比率（Ａ）＋（Ｂ）が９０モル％を超えると電気伝導を阻害する結晶性が増大し、体積固有抵抗値も増加する。相対的にアリルグリシジルエーテル（Ｃ）が減少するので、アリルグリシジルエーテル（Ｃ）による架橋サイトが不十分になりエピクロロヒドリン系ゴムと共架橋しずらくなる。架橋による３次元構造が不十分になるため、部材表面にブリードし、被帯電部材を汚染させてしまう。
【００１５】
（Ｂ）＋（Ｃ）が２０モル％を超えると電気伝導に寄与するエチレンオキサド（Ａ）が減少するため体積固有抵抗値が増加してしまう。よって上記記載の共重合比率でないと、低抵抗化は実現できない。
【００１６】
上記エピクロロヒドリン系ゴムは、エピクロロヒドリン／エチレンオキサイド／アリルグリシジルエーテルの三元共重合体或は、その混合物が好ましい。エピクロロヒドリン／エチレンオキサイド／アリルグリシジルエーテルの三元共重合体は、エチレンオキサイド含量が４０モル％以上のものが好ましく、４８モル％以上のものがより好ましく、上限は６５モル％以下であることが好ましい。このエチレンオキサイド含量は、ポリマー組成中のエチレンオキサイド含量が４０モル％以上のものの他、エチレンオキサイド含量の違う複数のエピクロロヒドリンゴムをブレンドすることによって調整されたものでもよい。エピクロロヒドリンゴムの電気抵抗は、エチレンオキサイド含量が大きくなるに従って低抵抗になる。
【００１７】
エピクロロヒドリン系ゴムのアリルグリシジルエーテルによりエチレンオキサイド（Ａ）／プロピレンオキサイド（Ｂ）／アリルグリシジルエーテル（Ｃ）の共重合体と共架橋するので、３次元構造が適正に形成され、ブリードを抑制できる。また、エピクロロヒドリン系ゴムにおいてエチレンオキサイドを共重合することで体積固有抵抗値を低下させることができる。
【００１８】
本発明による導電性ゴムローラーは少なくとも二層構造であり、スポンジゴム層を下層第一層（芯金側）とし、ソリッドゴム層を下層第二層として同時押出により二層成型する部分を有し、加硫・発泡後にソリッドゴム層の研削が行われたものである。下層第一層と下層第二層の二層を同時押出することで被覆等の工程を無くすことが出来る。また、加硫・発泡を金型内で行っていないため作業効率が向上する。
【００１９】
また、スポンジゴム層の硬さとソリッドゴム層の硬さ差がアスカーＣで２０度以上あり、ソリッドゴム層の厚みが１００μｍ以上である。硬さの差については２０度以上５０度以下が好ましい。スポンジゴム層の硬さとソリッドゴム層の硬さ差がアスカーＣで２０度未満であると、被帯電部材に圧接させたときスポンジ層の変形だけでは圧接力を吸収することが出来ず、ソリッドゴム層も変形してしまう。５０度を超えると、ソリッドゴム層の研削後の表面粗さが大きくなってしまう。また、ソリッドゴム層の厚みは１００μｍ以上２０００μｍ以下が好ましい。ソリッドゴム層の厚みが１００μｍ未満ではソリッドゴム層本来の特性（硬さ・強度）が損なわれ、スポンジゴム層の変形と同様に変形してしまい、ローラーの圧縮永久歪が低下し被帯電部材に圧接させたとき圧接跡が残ってしまう。また、ソリッドゴム層の表面粗さも悪化する。ソリッドゴム層の厚みが２０００μｍを超えると、導電性芯金を挿入し表面を研磨してローラーを形成したときにローラー硬度が高くなってしまい、柔軟性が劣る。
【００２０】
本発明による導電性ゴムローラーは、スポンジゴム層の発泡速度が加硫速度よりも速く、ソリッドゴム層の加硫速度がスポンジゴム層の加硫速度より遅いことが好ましい。スポンジゴム層の発泡速度が加硫速度よりも速いことで、適度な発泡体が得られる。また連泡率が向上し、内層がスポンジゴム層で外層がソリッドゴム層の二層ローラーにおいては、圧縮永久歪が小さい良好なローラーが得られる。また、ソリッドゴム層の加硫速度がスポンジゴム層の加硫速度より遅いことでローラー外周面への発泡が容易でスポンジゴム層の発泡を阻害することない。そのため、スポンジゴム層とソリッドゴム層の界面に発泡ガスが溜まることが無く、スポンジゴム層とソリッドゴム層の剥離が無いローラーが得られる。スポンジゴム層の発泡速度が加硫速度よりも遅いと、柔軟な発泡体が得られない問題やスポンジゴム層の裂け・ひび割れ・破裂等が起こり、ソリッドゴム層の形状が安定しない問題がある。また、ソリッドゴム層の加硫速度がスポンジゴム層の加硫速度より遅い場合も同様に形状が安定しない問題や、スポンジゴム層とソリッドゴム層の剥離の問題が発生する。
【００２１】
本発明の導電性ゴムローラーは、上記のソリッドゴム層の外周面上に被覆薄膜層を設けることができる。例えば、前記被覆薄膜層として、導電性被膜を形成する際には、被膜の材質として、例えば、Ｎ−メチルメトキシ化ナイロン、ポリビニルブチラール、ポリエチレン、ポリ酢酸ビニル、ポリスチレン、ポリブタジエン、ポリアミド、ポリイミド、ポリウレタン、ポリエステル、シリコーン樹脂等、更には、エピクロロヒドリン、ウレタン、クロロプレン、アクリロニトリル−ブタジエン系のゴム等を利用することができる。これらから選択した被膜材料に、導電率を所望の値に調節するため、導電性顔料、例えば、カーボンブラックやカーボングラファイト、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫等を適量添加するとよい。例えば、上記導電性被膜材料を塗工により、被膜形成する際には、これらの被膜成分物質を溶剤等に溶解又は分散して、塗料状にし、被膜厚さに応じて、デッピング、スプレーコート、ロールコート等の手段から適する手段を選択し、ローラーの外周に均一に塗工するとよい。
【００２２】
被覆薄膜層の膜厚は、その被覆目的に応じて、適宜選択すべきものであるが、本発明においては、目的とする機能が維持される限り、より薄い膜厚を選択するのが好ましい。すなわち、一般に、被覆薄膜層を設けると、その膜厚が増すに従って、ローラー硬度の上昇を引き起こす傾向があり、不要な高硬度化を防ぐためには、被覆の目的を損なわない範囲で、より薄い膜厚を選択するのが好ましい。
【００２３】
被覆薄膜層を設けることで、表面の平滑性が向上する以外に、被帯電部材を汚染させてしまう、イオン導電剤や、軟化剤を含有させることが可能となる。このことにより、更なる低抵抗ローラーの実現や、ローラー硬さの調節が容易となる。しかし、被帯電部材汚染物質を過剰に添加すると、ブリードしてしまい、被帯電部材である電子写真感光体を汚染させてしまうため、イオン導電剤と軟化剤はゴム１００質量部に対し２０質量部以下が好ましく、１０質量部以下がより好ましい。
【００２４】
本発明の導電性ゴムローラーに使用されるゴム組成物には、一般のゴムに使用されるその他の成分を必要に応じて含有させることが出来る。例えば、硫黄や有機含硫黄化合物等の加硫剤、各種加硫促進剤、各種滑剤やサブ等の加工助剤、各種老化防止剤、ｐ，ｐ’−オキシビススルホニルヒドラジド（ＯＢＳＨ）やアゾジカルボンアミド（ＡＤＣＡ）、ジニトロソペンタメチレンテトラミン（ＤＰＴ）等の各種発泡剤、尿素等の各種発泡助剤、酸化亜鉛やステアリン酸等の加硫助剤、炭酸カルシウム、タルク、シリカ、クレー等の各種充填剤が必要に応じて配合可能である。
【００２５】
上記導電性ゴムローラーは、オープンロールあるいは、密閉式混練機等を用い混練りしたものを、二層同時押出が可能な押出機を使用して成型している。押出後の未加硫二層チューブのソリッドゴム層は１ｍｍ以上が好ましく、２ｍｍ以上であるとより好ましい。加硫は加硫缶やＵＨＦ（マイクロ波加硫装置）と連続加硫炉で加熱し導電性のゴム（弾性体）チューブを作製した後、導電性軸体を挿入して二次加硫をしている。二次加硫をしてもしなくてもよいが、架橋密度を増加させブリードを抑制する効果があるので二次加硫をするのが好ましい。その後研磨することにより所定の外径が得られる。
【実施例】
【００２６】
以下に実施例及び比較例を用いて、本発明を詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【００２７】
各実施例、比較例に用いたゴム組成物の配合割合及び試験結果は表の通りである。なお、配合量の単位は質量部である。
【００２８】
なお、各実施例及び比較例で使用した資材は以下の通りである。
１．エピクロルヒドリン系ゴム
［エチレンオキサイド含量７３モル％；商品名  ＥＰＩＯＮ−３０１  ダイソー（株）社製］
２．エチレンオキサイド（Ａ）／プロピレンオキサイド（Ｂ）／アリルグリシジルエーテル（Ｃ）共重合体
［エチレンオキサイドープロピレンオキサイドーアリルグリシジルエーテル共重合比率＝８７：１：１２；商品名  ゼオスパン８０１０  日本ゼオン（株）社製］
３．エチレンオキサイド（Ａ）／プロピレンオキサイド（Ｂ）／アリルグリシジルエーテル（Ｃ）共重合体
［エチレンオキサイドープロピレンオキサイドーアリルグリシジルエーテル共重合比率＝９０：６：４；商品名  ゼオスパン８０３０  日本ゼオン（株）社製］
４．充填剤
［炭酸カルシウム（１）；商品名  ナノックス＃３０  丸尾カルシウム（株）社製］
［炭酸カルシウム（２）；商品名  スーパーＳＳ  丸尾カルシウム（株）社製］
［カーボンブラック（１）；商品名；旭＃１５  旭カーボン（株）  社製］
［カーボンブラック（２）；商品名；Ｔｈｅｒｍａｘ  Ｎ−９９０  Ｃａｎｃａｒｂ（株）  社製］
５．イオン導電剤
［四級アンモニウム塩；商品名  アデカサイザーＬＶ７０  旭電化工業（株）社製］
６．加硫剤
［イオウ（Ｓ）；商品名  サルファックスＰＭＣ  鶴見化学工業（株）社製］
７．加硫促進剤
［２−メルカプトベンゾチアゾール（Ｍ）；商品名  ノクセラーＭ  大内新興化学工業（株）社製］
［ジベンゾチアジルジスルフィド（ＤＭ）；商品名  ノクセラーＤＭ  大内新興化学工業（株）社製］
［テトラエチルチウラムジスルフィド（ＴＥＴ）；商品名  ノクセラーＴＥＴ  大内新興化学工業（株）社製］
［テトラキス（２−エチルヘキシル）チウラムジスルフィド（ＴＯＴ）；商品名  ノクセラーＴＯＴ  大内新興化学工業（株）社製］
８．加硫促進助剤
［酸化亜鉛；商品名  亜鉛華２種  ハクスイテック（株）社製］
［ステアリン酸；商品名  ルナックＳ  花王（株）社製］
９．発泡剤
［アゾジカルボンアミドＡＤＣＡ；商品名  ビニホールＡＣ＃ＬＱ  永和化成（株）社製］
［ｐ，ｐ’−オキシビススルホニルヒドラジドＯＢＳＨ；商品名  ネオセルボンＮ１０００＃Ｓ  永和化成（株）社製］
１０．発泡助剤
［尿素  商品名；セルペースト１０１  永和化成（株）社製］
１１．軟化剤
［セバシン酸系ポリエステル  商品名；ポリサイザーＰ−２０２  大日本インキ化学（株）社製］
【００２９】
本発明の導電性ゴムローラーは、二層同時押出が可能な押出機を使用して成型した。二層同時押出機は、スクリュー径φ４０ｍｍの押出機とφ３０ｍｍの押出機をクロスヘッドでつなげている。このクロスヘッドはスポンジゴム層（内層）の調芯機構が無く、芯金にゴムのガスケットが入っている。このことによりスポンジゴム層の流れが均一になり調芯が不要である。ソリッドゴム層は調芯が必要となるが、ダブルハート形状の芯金を使用しているため、偏芯の少ない二層構造のチューブが成型できる。押出機のスクリュー径に制限はなく、上記クロスヘッドを用いれば、どのような組み合わせでも成型可能である。スポンジゴム層、ソリッドゴム層の肉厚に関しては、押出機の回転数を調節して所定の肉厚になるように調整した。その後、加硫缶にて加硫を行いチューブ状のゴム加硫物を作製した。次いでφ６ｍｍの導電性軸体を前記チューブ状のゴム加硫物の内径部に挿入しローラー状の成形体を得た。この成形体を外径がφ１４ｍｍになるように研磨し、作製した。導電剤・軟化剤を含有しているローラーについては、次の様にして導電性被膜層を設けた。
【００３０】
導電性被膜層の被覆には、ポリウレタンを水中に分散させたポリウレタン液に対して、ｐＨ５〜６に調整して、粉末状の酸化錫をその界面の電気的反発力で分散させた導電性酸化錫スラリーとして、酸化錫を固体分比で３０％相当分散させてなる導電性酸化錫添加ポリウレタン塗料を用いた。表面をシランカップリング剤で処理したローラー表面上は、前記塗料を塗工し、熱風炉内１２０℃で、３０分間の加熱・乾燥処理を行って、導電性薄膜の被覆を行った。
【００３１】
（実施例１−１〜４及び比較例１−１〜４）
ソリッドゴム層に用いるゴム組成物の評価を、表１に示される材料を１５０ｍｍ×１５０ｍｍ×２ｍｍの金型を使用して加硫して作製したシートで行った。
【００３２】
（実施例２−１〜８及び比較例２−１〜２）
表３に示される配合１〜９を表２に示される構成になるように導電性ゴムローラーを作製した。
【００３３】
次に、本発明の評価方法について説明する。
【００３４】
＜体積固有抵抗値＞
１５０ｍｍ×１５０ｍｍ×２ｍｍの金型を使用して加硫して作製したシートで、東亜電波工業（株）極超絶縁計ＳＭ−８２２０を用い２３℃／５５％ＲＨの常温／常湿の環境下で１００Ｖの電圧を印加して体積固有抵抗値を測定した。本件では、体積固有抵抗値が７．０（Ｌｏｇ１０Ｒ）以下を良好な範囲とし○とし、７．０超過を不良な範囲とし×とした。
【００３５】
＜圧縮永久歪＞
７０℃、７２時間、２５％圧縮で、ＪＩＳＫ６２６２に準じて圧縮永久歪率を測定した。
【００３６】
＜硬さ＞
配合１〜９を押出機を用いてチューブ状にゴム組成物を押出した後、加硫缶にて加硫或は加硫発泡を行いチューブ状のゴム加硫物を得た。その後φ６ｍｍの導電性軸体を前記チューブ状のゴム加硫物の内径部に挿入しローラー状の成形体を得た。この成形体を外径がφ１４ｍｍになるように研磨し作製した後、アスカーＣ型硬度計[測定荷重５００ｇ（高分子計器株式会社製）]を用いて測定した。
【００３７】
二層形状になっているローラーのスポンジゴム層とソリッドゴム層の硬度差については、ソリッドゴム層を剥がし、ソリッドゴム層の内周面が均一にあたる芯金（丸棒）の上に被せ、厚みが４ｍｍ以上になるようしに前記硬度計を使用し測定した硬さをソリッドゴム層の硬さとし、スポンジゴム層についても厚みが４ｍｍ以上になるように外周上に被せ測定した硬さをスポンジゴム層の硬さとした。
【００３８】
＜加硫速度／発泡速度＞
発泡圧測定機能付き加硫試験機ＭＤＲ−２０００Ｐ（アルファーテクノロジーズ社製）を用い１６０℃にて測定した。スポンジゴム層の発泡速度が加硫速度よりも速く、ソリッドゴム層の加硫速度がスポンジゴム層の加硫速度より遅いものを○、それ以外のものを×とした。
【００３９】
＜電子写真感光体汚染／圧接跡＞
シート又は導電性ゴムローラーをヒューレットパッカード製のレーザープリンターレーザージェット４０００Ｎに使用されるカートリッジの電子写真感光体に接触させ、両端に５００ｇの荷重を加え、４０℃／９５％ＲＨの環境下に一週間放置した。放置後、荷重を外し、電子写真感光体の表面状態を観察し、ブリードや張付きが無いものを○、ブリードや張付きがあるものは×とした。またローラーにおいては、荷重を外し、１０分放置後ローラー表面の圧接跡を観察し、跡が無いものを○とし、跡があるものを×とした。
【００４０】
＜ローラー抵抗値／周ムラ＞
作製した導電性ゴムローラーの導電性支持体の両側に各５００ｇの荷重がかかるように、導電性ゴムローラーを外径３０ｍｍのステンレススチール製ドラムに圧着し０．５Ｈｚで回転させた状態で、導電性支持体とステンレススチール製ドラムとの間に１０００Ｖの電圧を印加して２３℃／５５％ＲＨの常温／常湿の環境下で電流値を測定し、抵抗値を求めた。本件ではローラー抵抗値が６．０（Ｌｏｇ１０Ｒ）以下を良好な範囲とした。周ムラについては電流値の最大値と最小値の比を周ムラとし、１．２以下のレベルを良好とした。
【００４１】
【表１】
2008096793.tif 000003
【００４２】
【表２】
2008096793.tif 000004
【００４３】
【表３】
2008096793.tif 000005
【００４４】
実施例１−１〜４、比較例１−１〜４からエピクロロヒドリン系ゴムと、エチレンオキサイド（Ａ）／プロピレンオキサイド（Ｂ）／アリルグリシジルエーテル（Ｃ）の共重合体（共重合比率が、Ａ＋Ｂ＜９０モル％であり、且つＢ＋Ｃ＜２０モル％）からなるゴム部材であれば、低抵抗で圧縮永久歪の良い部材であることがわかる。
【００４５】
また、二層構造の導電性ゴムローラーにおいては、実施例２−１〜８と比較例２−１〜２からスポンジゴム層の硬さとソリッドゴム層の硬さ差がアスカーＣで２０度以上あり、該ソリッドゴム層の厚みが１００μｍ以上で低抵抗で電気的均一、且つ圧接跡がないローラーが得られる。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】本発明の導電性ゴムローラーの概略構成図である。
【符号の説明】
【００４７】
１  導電性ゴムローラー
１１  導電性軸体
１２  スポンジゴム層
１３  ソリッドゴム層
【図１】
2008096793.tif 000006