(57)【要約】【課題】放射ビームの偏光方向を継続的に可変調節する偏光変更素子を備えたリソグラフィ装置を提供する。【解決手段】リソグラフィ装置は、くさび形光学活性体に関連づけられた光学伝播距離アダプタの第１の方向に対して所定の角度に放射ビームの少なくとも１セグメントの偏光方向を回転させて、該所定の角度を調節する、少なくとも２つのくさび形光学活性体を含む偏光変更素子を備える。【選択図】図２
2008283177.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射ビームを調節する照明システム、
放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成可能なパターニングデバイスを支持するサポート、
基板を保持する基板テーブル、
パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影する投影システム、および
放射ビームの少なくとも一部分の偏光方向を所定の角度に回転させる少なくとも２つのくさび形光学活性体と、該くさび形光学活性体に対応づけられて前記所定の角度を調整する光学伝播距離アダプタを備える偏光変更素子 、
を備えるリソグラフィ装置。
【請求項２】
前記光学伝播距離アダプタは前記くさび形光学活性体のうち少なくとも１つを移動させる、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項３】
放射ビームは光軸に沿って伝播し、前記光学伝播距離アダプタは前記光軸に実質的に交差する方向に前記くさび形光学活性体を移動させる、請求項２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項４】
前記少なくとも２つのくさび形光学活性体のうち第１のくさび形光学活性体の出口面は、前記少なくとも２つのくさび形光学活性体のうち第２のくさび形光学活性体の入口面と光学的に接触する、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項５】
前記光学伝播距離アダプタはビーム変位を補正する面平行板を備える、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項６】
前記光学伝播距離アダプタは第１のくさび形非光学活性体および第２のくさび形非光学活性体を備え、該第１のくさび形非光学活性体および第２のくさび形非光学活性体のうち少なくとも一方が、前記くさび形光学活性体のうち少なくとも１つの移動可能なくさび形光学活性体と連動して移動する、請求項２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項７】
放射ビームは光軸に沿って伝播し、前記光学伝播距離アダプタは、前記くさび形光学活性体と前記第１のくさび形非光学活性体または前記第２のくさび形非光学活性体の少なくとも１つとを前記光軸に実質的に交差する方向に移動させる、請求項６に記載のリソグラフィ装置。
【請求項８】
放射ビームは光軸に沿って伝播し、前記光学伝播距離アダプタは、前記くさび形光学活性体のうち少なくとも１つの移動可能なくさび形光学活性体を、前記光軸に実質的に平行な第１の方向に移動させ、かつ前記第１のくさび形非光学活性体または前記第２のくさび形非光学活性体のうち少なくとも一方を前記第１の方向と反対の第２の方向に移動させる、請求項６に記載のリソグラフィ装置。
【請求項９】
前記第１のくさび形非光学活性体または前記第２のくさび形非光学活性体のうちの前記少なくとも一方は遅延材を備える、請求項６に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１０】
放射ビームは光軸に沿って伝播し、前記少なくとも２つのくさび形光学活性体ならびに前記第１および第２のくさび形非光学活性体は、前記光軸に実質的に交差する面においてパイ形断面を有する、請求項６に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１１】
前記光軸に交差するパイ形断面の側辺により囲い込まれた前記パイ形断面の角度は約４５度の角度を含む、請求項１０に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１２】
前記偏光変更素子は照明システムの瞳面またはその近くに配置される、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１３】
前記くさび形光学活性体は結晶水晶を含む、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１４】
前記偏光変更素子は照明システム内に配置される、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１５】
前記偏光変更素子は照明システムと放射ビームを出力するソースとの間に配置される、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１６】
第１の方向に偏光方向を有する放射ビームを生成すること、 
少なくとも２つのくさび形光学活性体を用いて、放射ビームの少なくとも一部分の偏光方向を前記第１の方向に対して所定の角度に回転させること、
放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成すること、
投影システムを用いて前記パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影すること、および
前記少なくとも２つのくさび形光学活性体を通して、放射ビームの光学伝播距離を変更することによって前記所定の角度を制御すること、
を含むデバイス製造方法。
【請求項１７】
第１のくさび形非光学活性体および第２のくさび形非光学活性体を用いて放射ビームの横方向の変位を補正することをさらに備える、請求項１６に記載のデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
[0001]  本発明は、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
[0002]  リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板上、通常、基板のターゲット部分上に付与する装置である。リソグラフィ装置は、たとえば、集積回路（ＩＣ）の製造において用いることができる。その場合、ＩＣの個々の層上に形成される回路パターンを生成するために、マスクまたはレチクルとも呼ばれるパターニングデバイスを用いることができる。このパターンは、基板（たとえばシリコンウェーハ）上のターゲット部分（たとえば１つのダイの一部、１つまたはいくつかのダイを含む）に転写することができる。パターンの転写は通常、基板上に設けられた放射感応性材料（レジスト）層上での結像を介してなされる。一般には、単一の基板が、連続的にパターニングされる隣接したターゲット部分のネットワークを含んでいる。公知のリソグラフィ装置としては、ターゲット部分上にパターン全体を一度に露光することにより各ターゲット部分を照射する、いわゆるステッパ、およびある特定の方向（「スキャン」方向）の放射ビームによってパターンをスキャンすると同時にこの方向に平行または逆平行に基板をスキャンすることにより各ターゲット部分を照射する、いわゆるスキャナが含まれる。パターンを基板上にインプリントすることにより、パターニングデバイスから基板にパターンを転写することも可能である。
【０００３】
[0003]  ステッパおよびスキャナなどのリソグラフィ装置により結像するための、小さなピッチを有するかつてなく微小なフィーチャが必要とされてきたため、開口数（ＮＡ）のより多い投影システムが使用されるようになった。ＮＡが増大しフィーチャピッチが減少するに伴い、投影装置内での光軸に対する放射線の角度は大きくなる。全く同じように偏光された電磁波成分のみが干渉するので、これらのフィーチャを結像するためには放射のベクトル性が重要になる。そのため、結像コントラスト（image contrast）を決定するのは波面特性だけではなく、放射ビームの偏光も同様に結像コントラストに大きな影響を及ぼす。
【０００４】
[0004]  従来、リソグラフィ装置で使用される放射源は直線偏光された放射ビームを出力する。従来のリソグラフィ装置において、放射ビームの断面全体または断面の一部分の偏光状態を変更するために偏光変更素子（polarization changing element）が提供されてきた。このような偏向状態変更光学素子は、光学遅延材（optical retarder）、たとえば４分の１ラムダプレートまたは２分の１ラムダプレートを用いることができる。
【０００５】
[0005]  ＵＳ２００６／０１７０９０１Ａ１には、偏光変調素子（polarization-modulating element）を用いて放射ビームの一部分の偏光方向が調節されるリソグラフィ装置が開示される。偏光変調素子は、放射ビームの各部分の個別の偏光方向を一定的に調整するための、異なる厚さの光学活性体部分を含む。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
[0006]  放射ビームの偏光方向を継続的に可変調節する偏光変更素子を備えたリソグラフィ装置を提供することが望ましい。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
[0007]  本発明の一実施形態によれば、光軸に沿って伝播する放射ビームを第１の方向への偏光によって調節する照明システム、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成可能なパターニングデバイスを支持するサポート、基板を保持する基板テーブル、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影する投影システム、および放射ビームの少なくとも一部分の偏光方向を第１の方向に対して所定の角度で回転させる少なくとも２つのくさび形光学活性体と、くさび形光学活性体と関連づけられて該所定の角度を調節する光学伝播距離アダプタとを含む偏光変更素子、を含むリソグラフィ装置が提供される。
【０００８】
[0008]  一実施形態において、光学伝播距離アダプタはくさび形光学活性体のうち少なくとも１つを移動させる。
【０００９】
[0009]  さらに別の実施形態において、光学伝播距離アダプタは光軸に実質的に交差する方向へくさび形光学活性体を移動させる。
【００１０】
[0010]  さらに別の実施形態において、第１のくさび形光学活性体の出口面は第２のくさび形光学活性体の入口面と光学的に接触する。
【００１１】
[0011]  さらに別の実施形態において、光学伝播距離アダプタはビーム変位を補正する面並行板をさらに含む。
【００１２】
[0012]  さらに別の実施形態において、光学伝播距離アダプタは第１のくさび形非光学活性体および第２のくさび形非光学活性体をさらに含み、第１のくさび形非光学活性体および第２のくさび形非光学活性体のうち少なくとも一方はくさび形光学活性体と連動して移動する。
【００１３】
[0013]  さらに別の実施形態において、光学伝播距離アダプタはくさび形光学活性体およびくさび形非光学活性体を、光軸に実質的に交差する方向へ移動させる。
【００１４】
[0014]  さらに別の実施形態において、光学伝播距離アダプタは光軸に実質的に平行な第１の方向へくさび形光学活性体を移動させ、かつ第１の方向と反対の第２の方向へくさび形非光学活性体を移動させる。
【００１５】
[0015]  さらに別の実施形態において、第１のくさび形非光学活性体および第２のくさび形非光学活性体のうち少なくとも１つは遅延材を含む。
【００１６】
[0016]  さらに別の実施形態において、少なくとも２つのくさび形光学活性体ならびに第１および第２のくさび形非光学活性体は、光軸に交差する面においてパイ形断面を含む。
【００１７】
[0017]  さらに別の実施形態において、光軸に交差するパイ形断面の側辺により囲い込まれたパイ形断面の角度は約４５度の角度を含む。
【００１８】
[0018]  さらに別の実施形態において、偏光変更素子は照明システムの瞳面またはその付近に配置される。
【００１９】
[0019]  さらに別の実施形態において、くさび形光学活性体は結晶水晶を含む。
【００２０】
[0020]  本発明のさらに別の実施形態によれば、第１の方向へ偏光された放射ビームを生成すること、少なくとも２つのくさび形光学活性体を用いて、放射ビームの少なくとも一部分の偏光方向を第１の方向に対して所定の角度で回転すること、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成すること、投影システムを用いてパターン付き放射ビームを基板のターゲット部分へ投影すること、および少なくとも２つのくさび形光学活性体を通して、光学伝播距離を変更することによって前記所定の角度を制御すること、を含むデバイス製造方法が提供される。
【００２１】
[0021]  さらに別の実施形態において、上記のデバイス製造方法は第１のくさび形非光学活性体および第２のくさび形非光学活性体を用いて放射ビームの横方向の変位（transverse displacement）を補正することをさらに含む。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
[0022]  以下、添付の概略図面を参照しながら、単なる例として、本発明の実施形態を説明する。図面において、同じ参照符号は同じ部分を示す。
【００２３】
[0040]  図１は本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置を概略的に示している。リソグラフィ装置は、放射ビームＢ（たとえばＵＶ照射またはＤＵＶ照射）を調節するように構成された照明システム（イルミネータ）ＩＬ、パターニングデバイス（たとえばマスク）ＭＡを支持するように構成され、かつ一定のパラメータにしたがってパターニングデバイスを正確に位置付けするように構成された第１ポジショナＰＭに連結されるサポート構造（たとえばマスクテーブル）ＭＴ、基板（たとえばレジストコートされたウェーハ）Ｗを保持するように構成され、かつ一定のパラメータにしたがって基板を正確に位置付けするように構成された第２ポジショナＰＷに連結される基板テーブル（たとえばウェーハテーブル）ＷＴ、およびパターニングデバイスＭＡによって放射ビームＢに付けられたパターンを基板Ｗのターゲット部分Ｃ（たとえば１つ以上のダイを含む）上に投影するように構成された投影システム（たとえば屈折投影レンズシステム）ＰＬ。 
【００２４】
[0041]  照明システムは、放射を誘導、整形または制御するために、屈折型、反射型、磁気型、電磁気型、静電気型、またはその他のタイプの光コンポーネント、あるいはそれらのあらゆる組み合わせなどさまざまなタイプの光コンポーネントを含むことができる。
【００２５】
[0042]  サポート構造はパターニングデバイスを支持する、たとえばパターニングデバイスの重みを支えるものである。サポート構造は、パターニングデバイスの向き、リソグラフィ装置の設計、および、たとえばパターニングデバイスが真空環境内で保持されているか否かなどといった他の条件に応じた様態でパターニングデバイスを保持する。サポート構造は、機械式、真空式、静電式またはその他のクランプ技術を使って、パターニングデバイスを保持することができる。サポート構造は、たとえば、必要に応じて固定または可動式にすることができるフレームまたはテーブルであってもよい。サポート構造は、パターニングデバイスを、たとえば、投影システムに対して任意の位置に確実に置くことができる。本明細書において使われる用語「レチクル」または「マスク」はすべて、より一般的な用語「パターニングデバイス」と同義であると考えてよい。
【００２６】
[0043]  本明細書において使われる用語「パターニングデバイス」は、基板のターゲット部分内にパターンを作り出すように放射ビームの断面にパターンを付与するために使うことができるあらゆるデバイスを指していると広く解釈されるべきである。なお、放射ビームに付与されたパターンは、たとえば、そのパターンが位相シフトフィーチャまたはいわゆるアシストフィーチャを含む場合、基板のターゲット部分内の任意のパターンに正確に一致しない場合もある。通常、放射ビームに付けたパターンは、集積回路などの、ターゲット部分内に作り出されるデバイス内の特定機能層に対応することになる。
【００２７】
[0044]  パターニングデバイスは、透過型または反射型であってもよい。パターニングデバイスの例としては、マスク、プログラマブルミラーアレイ、およびプログラマブルＬＣＤパネルが含まれる。マスクは、リソグラフィでは公知であり、バイナリ、レベンソン型（Alternating）位相シフト、およびハーフトーン型（Attenuated）位相シフトなどのマスク型、ならびに種々のハイブリッドマスク型を含む。プログラマブルミラーアレイの一例では、小型ミラーのマトリックス配列が用いられており、各小型ミラーは、入射する放射ビームさまざまな方向に反射するように、個別に傾斜することができる。傾斜されたミラーは、ミラーマトリックスによって反射された放射ビームにパターンを付与する。
【００２８】
[0045]  本明細書において使われる用語「投影システム」は、使われている露光放射にとって、あるいは液浸液の使用または真空の使用といった他の要因にとって適切な屈折型、反射型、反射屈折型、磁気型、電磁気型、および静電気型光学システム、またはそれらのあらゆる組み合わせを含むあらゆるタイプの投影システムを包含していると広く解釈されるべきである。本明細書において使われる用語「投影レンズ」はすべて、より一般的な用語「投影システム」と同義であると考えるとよい。  
【００２９】
[0046]  本明細書に示されているとおり、リソグラフィ装置は、透過型のもの（たとえば透過型マスクを採用しているもの）である。また、リソグラフィ装置は、反射型のもの（たとえば、前述のタイプのプログラマブルミラーアレイを採用しているか、または反射型マスクを採用しているもの）であってもよい。
【００３０】
[0047]  リソグラフィ装置は、２つ（デュアルステージ）以上の基板テーブル（および／または２つ以上のマスクテーブル）を有するタイプのものであってもよい。そのような「マルチステージ」機構においては、追加のテーブルを並行して使うことができ、あるいは、予備工程を１つ以上のテーブル上で実行しつつ、別の１つ以上のテーブルを露光用に使うこともできる。
【００３１】
[0048]  また、リソグラフィ装置は、投影システムと基板との間の空間を満たすように、比較的高屈折率を有する液体、たとえば水によって、基板の少なくとも一部を覆うことができるタイプのものであってもよい。さらに、リソグラフィ装置内の別の空間、たとえば、マスクと投影システムとの間の空間に液浸液を加えてもよい。液浸技術は投影システムの開口数を増加させるためのものとして当該技術分野では周知である。本明細書において使われている用語「液浸」は、基板のような構造体を液体内に沈めなければならないという意味ではなく、単に、露光中、投影システムと基板との間に液体があるということを意味するものである。
【００３２】
[0049]  図１を参照すると、イルミネータＩＬは、放射ソースＳＯから放射を受ける。ソースおよびリソグラフィ装置は、たとえば、ソースがエキシマレーザである場合、別個の構成要素であってもよい。そのような場合には、ソースは、リソグラフィ装置の一部を形成しているとはみなされず、また、放射ビームは、ソースＳＯからイルミネータＩＬへ、たとえば、適切な誘導ミラーおよび／またはビームエキスパンダを含むビームデリバリシステムＢＤを使って送られる。別の場合においては、ソースは、たとえばソースが水銀ランプである場合、リソグラフィ装置の一体部分とすることもできる。ソースＳＯおよびイルミネータＩＬは、必要であればビームデリバリシステムＢＤとともに、放射システムと呼んでもよい。
【００３３】
[0050]  イルミネータＩＬは、放射ビームの角強度分布を調節するためのアジャスタＡＤを含むことができる。一般に、イルミネータの瞳面内の強度分布の少なくとも外側および／または内側半径範囲（通常、それぞれσ-outerおよびσ-innerと呼ばれる）を調節することができる。さらに、イルミネータＩＬは、インテグレータＩＮおよびコンデンサＣＯといったさまざまな他の構成要素を含むことができる。イルミネータを使って放射ビームを調節すれば、放射ビームの断面に任意の均一性および強度分布を持たせることができる。
【００３４】
[0051]  放射ビームＢは、サポート構造またはパターン支持体（たとえばマスクテーブル）ＭＴ上に保持されているパターニングデバイス（たとえばマスク）ＭＡ上に入射して、パターニングデバイスによってパターン形成される。パターニングデバイス（たとえばマスク）ＭＡを通り抜けた後、放射ビームＢは、投影システムＰＳを通過し、投影システムＰＳは基板Ｗのターゲット部分Ｃ上にビームを集束させる。第２ポジショナＰＷおよび位置センサＩＦ（たとえば干渉デバイス、リニアエンコーダ、または静電容量センサ）を使って、たとえば、さまざまなターゲット部分Ｃを放射ビームＢの経路内に位置付けるように、基板テーブルＷＴを正確に動かすことができる。同様に、第１ポジショナＰＭおよび別の位置センサ（図１（ａ）には明示されていない）を使い、たとえば、マスクライブラリからマスクを機械的に取り出した後またはスキャン中に、パターニングデバイス（たとえばマスク）ＭＡを放射ビームＢの経路に対して正確に位置づけることもできる。通常、サポート構造（たとえばマスクテーブル）ＭＴの移動は、第１ポジショナＰＭの一部を形成するロングストロークモジュール（粗動位置決め）およびショートストロークモジュール（微動位置決め）を使って達成することができる。同様に、基板テーブルＷＴの移動も第２ポジショナＰＷの一部を形成するロングストロークモジュールおよびショートストロークモジュールを使って達成することができる。ステッパの場合は（スキャナとは対照的に）、サポート構造（たとえばマスクテーブル）ＭＴは、ショートストロークアクチュエータのみに連結されてよく、あるいは固定されていてもよい。パターニングデバイス（たとえばマスク）ＭＡおよび基板Ｗは、マスクアライメントマークＭ１、Ｍ２、および基板アライメントマークＰ１、Ｐ２を使って、位置合わせされていてもよい。例示では基板アライメントマークがそれ専用のターゲット部分におかれているが、基板アライメントマークをターゲット部分の間の空間（これらは、スクライブラインアライメントマークとして公知である）内に置くこともできる。同様に、複数のダイがパターニングデバイス（たとえばマスク）ＭＡ上に設けられている場合、マスクアライメントマークは、ダイの間に置かれてもよい。
【００３５】
[0052]  例示の装置は、以下のモードの少なくとも１つで使うことができると考えられる。
【００３６】
[0053]  １．ステップモードにおいては、サポート構造（たとえばマスクテーブル）ＭＴおよび基板テーブルＷＴを基本的に静止状態に保ちつつ、放射ビームに付けられたパターン全体を一度に（すなわち、単一静止露光）ターゲット部分Ｃ上に投影する。基板テーブルＷＴは、つぎにＸおよび／またはＹ方向に移動され、それによって別のターゲット部分Ｃが露光されることが可能になる。ステップモードにおいては、露光フィールドの最大サイズによって、単一静止露光時に投影されるターゲット部分Ｃのサイズが限定される。
【００３７】
[0054]  ２．スキャンモードにおいては、サポート構造（たとえばマスクテーブル）ＭＴおよび基板テーブルＷＴを同時にスキャンする一方で、放射ビームに付けられたパターンをターゲット部分Ｃ上に投影する（すなわち、単一動的露光）。サポート構造（たとえばマスクテーブル）ＭＴに対する基板テーブルＷＴの速度および方向は、投影システムＰＬの（縮小）拡大率および像反転特性によって決めることができる。スキャンモードにおいては、露光フィールドの最大サイズによって、単一動的露光時のターゲット部分の幅（非スキャン方向）が限定される一方、スキャン動作の長さによって、ターゲット部分の高さ（スキャン方向）が決まる。
【００３８】
[0055]   ３．別のモードにおいては、プログラマブルパターニングデバイスを保持しつつ、サポート構造（たとえばマスクテーブル）ＭＴを基本的に静止状態に保ち、また基板テーブルＷＴを動かすまたはスキャンする一方で、放射ビームに付与されたパターンをターゲット部分Ｃ上に投影する。このモードにおいては、通常、パルス放射源が採用されており、さらにプログラマブルパターニングデバイスは、基板テーブルＷＴの移動後ごとに、またはスキャン中の連続する放射パルスの間に、必要に応じて更新される。この動作モードは、前述のタイプのプログラマブルミラーアレイといったプログラマブルパターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。
【００３９】
[0056]  上述の使用モードの組み合わせおよび／またはバリエーション、あるいは完全に異なるモードもまた採用可能である。
【００４０】
[0057]  図２は本発明の一実施形態による偏光変更素子１を表す。偏光変更素子１は第１のくさび形光学活性体５および第２のくさび形光学活性体７を含む。どちらの光学活性体も、たとえば結晶水晶（ＳｉＯ２）により構成される。さらに、偏光変更素子１はくさび形光学活性体５および７に関連付けられた光学伝播距離アダプタ９を含む。使用時には、第１のくさび形光学活性体５は第１の方向、たとえばｘ方向の直線偏光、およびｚ軸に平行な伝播方向を有する放射ビーム３を、入口面１１を通して受ける。第１のくさび形光学活性体５は、第２のくさび形光学活性体７の入口面１５へ向けて、出口面１３を通して放射ビーム３を送る。放射ビーム３は出口面１７で第２のくさび形光学活性体７を抜け出る。放射ビームは、法線とは異なる角度で入口面１１に入射してもよい。
【００４１】
[0058]  第１のくさび形光学活性体５の入口面と出口面との間に囲い込まれた角度により角度αが定義される。結果として、放射ビーム３は出口面１３に対して角度β＝ｓｉｎ−１（ｎ１ｓｉｎα／ｎ０）（ただし、ｎ１は第１のくさび形光学活性体の屈曲率であり、ｎ０は周囲媒体の屈曲率である）をなして第１のくさび形光学活性体５を抜け出る。第２のくさび形光学活性体７に対する第１のくさび形光学活性体５の向きは、放射ビーム３が同じ角度βをなして第２のくさび形光学活性体７の入口面１５に入射するような向きである。第２のくさび形光学活性体は第１のくさび形光学活性体の屈曲率と等しい屈曲率ｎ１を有するため、放射ビームはやはりｚ軸に平行な方向に第２のくさび形光学活性体７を横断するように回折する。
【００４２】
[0059]  放射ビーム３が第１および第２のくさび形光学活性体５、７を横断するとき、直線偏光された放射ビーム３の偏光方向は、第１および第２のくさび形光学活性体の物質の光学活性により調節される。光学活性または旋光性（optical rotation）は複屈折型である。物質の光学活性は、直線偏光された放射が該物質を通って移動する際の、該放射の伝播方向に交差する平面における回転として表される。このような物質には結晶水晶（ＳｉＯ２）がある。どのような光の直線偏光も、右旋偏光光と左旋偏光光との均等な組み合わせとして表すことができる。光学活性体においては、２つの回転偏光は異なる屈曲率となる。屈折率の差は光学活性の強度を数値として表しており、また物質の本来的な性質である。第１および第２のくさび形光学活性体５、７の入口面と出口面との間に囲い込まれた角度α は等しいため、光学活性体を通る放射ビーム断面の各部分の総伝播距離は等しい。その結果として、放射ビームが偏光変更素子を完全に横断した後、放射ビーム断面の各部分において偏光方向の回転が等しくなる。
【００４３】
[0060]  図２の実施形態では、光学伝播距離アダプタ９は第１のくさび形光学活性体５に対して第２のくさび形光学活性体７を移動させる。矢印８で示されるように、第２のくさび形光学活性体７の移動は放射ビーム３の伝播方向に実質的に垂直であってよい。図３は本発明のさらに別の実施形態を表しており、第１のくさび形光学活性体５、第２のくさび形光学活性体７、および光学伝播距離アダプタ１９を含む偏光変更素子を示す。光学伝播距離アダプタ１９は、放射ビーム３の伝播方向に実質的に平行な第２の並進方向に第２のくさび形光学活性体７を移動させる。あるいは、光学伝播距離アダプタは放射ビームの伝播方向に対してどのような直線的または非直線的並進方向に第２のくさび形光学活性体を移動させてもよい。
【００４４】
[0061]   図４は、第１のくさび形光学活性体５、第２のくさび形光学活性体７、光学伝播距離アダプタ９、さらには面平行板２１を含む偏光変更素子の一実施形態を概略的に表す。使用時には、放射ビーム３は２つのくさび形光学活性体５、７を通って伝播した後で放射ビームの伝播方向に交差する方向に変位する。この変位は、第１のくさび形光学活性体の出口面および第２のくさび形光学活性体の入口面での放射ビームの屈曲に起因する。ビーム変位は面平行板２１を用いて修正される。本実施形態では、矢印８に示すように、光学伝播距離アダプタ９は放射ビームの伝播方向に実質的に垂直な方向に第２のくさび形光学活性体７を移動させる。図５は平面並行板を含む偏光変更素子の別の実施形態を表し、光学伝播距離アダプタ１９は放射ビームの伝播方向に実質的に平行な第２の並進方向に第２のくさび形光学活性体７を移動させる。
【００４５】
[0062]  図６は、ビーム変位を修正する２つのくさび形非光学活性体２３、２５をさらに含む偏光変更素子の別の実施形態を模式的に表す。どちらの非光学活性体も、たとえば石英ガラス（ＳｉＯ２）、ＣａＦ２、またはＭｇＦ２から構成される。図２の実施形態と同様に、本実施形態は放射ビーム３の偏光方向を調節する第１および第２のくさび形光学活性体５、７を含む。第１のくさび形非光学活性体２３は第２のくさび形光学活性体７と光学的に接触するよう配置される。第２のくさび形非光学活性体２５は、放射ビーム３の伝播方向に対して第１のくさび形非光学活性体２３の後ろに配置される。第２のくさび形非光学活性体３１の入口面は第１のくさび形非光学活性体２３の出口面２９に実質的に平行である。２つのくさび形非光学活性体２３、２５は、２つのくさび形光学活性体５、７の屈曲率ｎ１と同一の屈曲率ｎ１を有する物質を含む。さらに、４つのくさび形光学部材５、７、２３、２５全ての入口面と出口面との間に囲い込まれた角度αは同一である。使用時には、上述の実施形態と同様に、第１の方向の直線偏光を有する放射ビーム３はｚ軸に実質的に平行な方向に伝播して第１および第２のくさび形光学活性体５、７を横断する。第２のくさび形光学活性体７および第１のくさび形非光学活性体２３は光学的に接触し、かつ同じ屈曲率ｎ１を有するため、第２のくさび形光学活性体７と第１のくさび形非光学活性体２３との間の接触面では放射ビーム３は屈曲しない。放射ビーム３は、出口面２９で第１のくさび形非光学活性体２３を抜け出る。続いて、放射ビーム３は第２のくさび形非光学活性体２５の入口面に入射する。光学伝播距離アダプタ２７は第１のくさび形非光学活性体２３と連動して、矢印８で示すように、第１のくさび形光学活性体５および第２のくさび形非光学活性体２５に対して放射ビーム３の伝播方向に実質的に垂直な第１の並進方向に第２のくさび形光学活性体７を移動させる。
【００４６】
[0063]  図７はさらに別の実施形態を示す。本実施形態では、光学伝播距離アダプタ３３が第１のくさび形光学活性体５および第２のくさび形非光学活性体２５を、互いに対して反対方向で、かつ放射ビーム３の伝播方向に実質的に平行な方向へ移動させる。あるいは、光学伝播距離アダプタは第１のくさび形光学活性体５および第２のくさび形非光学活性体２５を放射ビーム３の伝播方向に対しどのような直線方向または非直線方向に移動させてもよい。代替的な実施形態では、第２のくさび形光学活性体７および第１のくさび形非光学活性体２３は互いに離れていてもよい。本実施形態では、光学伝播距離アダプタは第２のくさび形光学活性体７および第１のくさび形非光学活性体２３を、互いに対して反対方向で、かつ放射ビーム３の伝播方向に実質的に平行な方向に、または放射ビーム３の伝播方向に対してどのような直線方向もしくは非直線方向にも移動させることができる。別の実施形態では、くさび形非光学活性体は、くさび形光学活性体の屈曲率ｎ１および入口面と出口面との間に囲い込まれたαとはそれぞれ異なる屈曲率ｎ２および入口面と出口面との間に囲い込まれた角度χを含む。くさび形非光学活性体の屈曲率ｎ２および角度χのさまざまな組み合わせにより、屈曲率n１および入口面と出口面との間に囲い込まれたαを有するくさび形非光学活性体を用いたビーム変位の修正と同様のビーム変位の修正がなされることは、当業者には明らかであろう。
【００４７】
[0064]  図８ａ、図８ｂ、および図８ｃは、直線偏光された放射ビームを非偏光放射ビームに変更する光学遅延材（optical retarder material）を含む偏光変更素子の別の実施形態を模式的に表す。本実施形態は図６による構成と同様であり、第１のくさび形非光学活性体２３は放射ビームの伝播方向に交差する方向の速軸を有する光学遅延材を含む。光学遅延材は線形複屈折材（linear birefringent material）であってよい。図８ａ、図８ｂ、および図８ｃを参照して、放射ビームの伝播方向に交差する方向に速軸を有する光学遅延材を含むこの第１のくさび形非光学活性体２３は、さらに光学リターダ（optical retarder）２３と呼ばれる。以後、図８ａ、図８ｂ、および図８ｃを参照して、該実施形態の偏光変更素子の機能について説明する。図８ａ、図８ｂ、および図８ｃは、別の実施形態の偏光変更素子の異なる３種類の設定を模式的に表し、くさび形光学リターダ２３内の矢印は遅延材の速軸の方向を示す。偏光変更素子の左側にある線図３５は、ｚ軸に実質的に平行な方向へ伝播する放射ビーム３の偏光方向を示す。偏光方向は３段階にて示される。第１の段階３５ａは、偏光変更素子に入射する前の直線偏光された放射ビーム３の初期偏光方向を表す。この段階での放射ビームの偏光方向は、偏光変更素子の全ての設定においてｘ軸に実質的に平行であり、「Ｘ偏光されている」とも表される。第２段階３５ｂは、第１および第２のくさび形光学活性体５、７を横断した後の放射ビーム３の偏光方向を表す。第３段階３５ｃは、光学リターダ２３および第２のくさび形非光学活性体２５を横断した後の放射ビーム３の偏光方向を表す。
【００４８】
[0065]  偏光変更素子の第１の設定では、放射ビームが横断する２つのくさび形光学活性体５、７の光学活性体の総厚さは、図８ａに示すように、光路に沿って放射ビームの偏光方向がｚ軸を軸に１８０の倍数の角度に回転するような厚さである。光学リターダ２３における放射ビーム３の偏光方向は、遅延材の速軸に実質的に平行であるため、放射ビーム３はその断面におけるいかなる位置においても遅延されない。第２のくさび形非光学活性体２５を横断し、従って偏光変更素子を横断した後、放射ビームは偏光変更素子を横断する前の放射ビーム３の初期偏光方向と同じ偏光方向に直線偏光された状態のままである。
【００４９】
[0066]   偏光変更素子の第２の設定では、放射ビームが横断する２つのくさび形光学活性体の総厚さは、図８ｂに示すように、放射ビームの偏光方向が光路に沿ってｚ軸を軸に９０の倍数の角度に回転するような厚さである。光学遅延材における放射ビームの偏光方向は遅延材の速軸に実質的に垂直であるため、放射ビームはその断面におけるいかなる位置においても遅延されない。第２のくさび形非光学活性体を横断し、従って偏光変更素子を横断した後、放射ビームは、偏光変更素子を横断する前の放射ビームの初期偏光方向に対しｚ軸を軸に９０度回転した偏光方向に直線偏光されている。このタイプの放射ビームの偏光は「Ｙ偏向されている」とも表される。
【００５０】
[0067]  偏光変更素子の第３の設定では、放射ビームが横断した２つのくさび形光学活性体の総厚さは、図８ｃに示すように、放射ビームの偏光方向が光路に沿ってｚ軸を中心にして約４５度回転するような厚さである。光学遅延材において放射ビームの偏光方向は遅延材の速軸に対して約４５度回転するため、放射ビームはくさび形光学遅延材により遅延される。光学遅延材のくさび形が原因で、放射ビームの遅延は放射ビームの断面全体にわたり変動する。放射ビームの断面全体にわたり遅延が変動すると、放射ビームが第２のくさび形非光学活性体を横断し、従って偏光変更素子を横断した後でランダムに偏光される。
【００５１】
[0068]  リソグラフィにおいて、ランダム偏光光を用いた基板の露光には、非偏光放射を用いた露光と同じ効果がある。図８ａ、図８ｂ、および図８ｃによる実施形態では、第１のくさび形非光学活性体２３は遅延材を含む。あるいは、遅延材はくさび形非光学活性体２５に含まれてもよい。図８ａ、図８ｂ、および図８ｃの実施形態の利点は、単一の偏光変更素子を使って、最も頻繁に使用される３種類の放射ビームの偏光状態を素早く切替えられることにある。さらには、遅延材の速軸に対して正確にではなくおおよそ４５度、たとえば４７度の角度で放射ビームの偏光方向を回転させることによって、放射ビームは偏光残存成分で（with a polarized residual）効果的に非偏光とされ得る。残存成分（the residual）は 照明システムまたは投影システムの偏光選択性を補償するように調節することができる。
【００５２】
[0069]  図９は放射ビームの４つのセグメントのうち少なくとも１セグメントの偏光方向を調節する偏光変更素子の一実施形態を模式的に表す。図９はｚ軸およびｘ軸に張拡された平面（a plane spanned by the z-axis and x-axis； ｘ−ｙ平面）における偏光変更素子の断面図を示している。図１０は図９の実施形態のｙｘ平面におけるＩ−Ｉ線に沿った断面図を模式的に表す。便宜上、放射ビームの第１および第２の部分３ａ、３ｂのみが図９に示される。図９および図１０を参照すると、放射ビーム３ａ、３ｂの伝播方向に沿って、偏光変更素子は４つのくさび形光学活性体３７、３９、４１、４３、別の４つのくさび形光学活性体４５、４７、４９、５１、４つのくさび形非光学活性体５３、５５、５７（図示なし）、５９（図示なし）、および別の４つのくさび形非光学活性体６１、６３、６５（図示なし）、６７（図示なし）を含む。さらに、偏光変更素子は４つの光学伝播距離アダプタ６９、７１、７３、７５を含む。４つのくさび形光学活性体３７、３９、４１、４３はピラミッド形光学活性体を形成する。あるいは、４つのくさび形光学活性体は一つの光学活性素子として一体化することもできる。別の４つのくさび形光学活性体４５、４７、４９、５１のそれぞれは、４つのくさび形非光学活性体５３、５５、５７（図示なし）、５９（図示なし）のうちの1つと光学的に接触する。光学伝播距離アダプタ６９、７１、７３、７５ は、くさび形非光学活性体および別のくさび形光学活性体の各ペアにつき、該ペアの両部材を放射ビーム３ａ、３ｂの伝播方向に交差する方向に移動させる。別の４つのくさび形非光学活性体６１、６３、６５（図示なし）、６７（図示なし）はピラミッド形光学部材を形成する。あるいは、別の４つのくさび形非光学活性体は一つの光学素子に含まれてもよい。代替的な実施形態においては、光学部材は円錐形を４等分したものにあたる形状を有することができる。該実施形態では、図１０に示される偏光変更素子の正方形方の断面図とは対照的に、ｚ軸に沿った断面図は円形の偏光変更素子を示す。図９および図１０の実施形態では、図６の実施形態と同様の原理を用いる。使用時には、放射ビーム３ａ、３ｂは偏光変更素子入口面に入射する。放射ビーム３ａまたは３ｂのセグメントの偏光方向は、それぞれくさび形光学活性体４５または４７の移動により調整できる。各光学伝播距離アダプタは、放射ビームの各部分の偏光方向を個別に調整するように作動することができる。光学伝播距離アダプタ６９、７１は、それぞれくさび形非光学活性体５３、５５と連動してくさび形光学活性体４５、４７を移動させる。移動可能なくさび形光学活性体４５、４７およびくさび形非光学活性体５３、５５を横断した後、放射ビームの部分３ａ、３ｂはくさび形非光学活性体６１、６３を横断する。偏光変更素子を横断した後、放射ビームの各部分の偏光方向はビーム変位を起こすことなく個別に調節される。
【００５３】
[0070]  図１１は放射ビームの８つのセグメントのうち少なくとも１セグメントの偏光方向を個別に変更する偏光変更素子の別の実施形態を模式的に表す。図１２は、図１１の実施形態のｙ−ｘ平面におけるＩＩ―ＩＩ線に沿った断面図を模式的に表す。図１１および図１２の実施形態では、放射ビームは８つの部分７７、７９、８１、８３、８５、８７、８９、９１に分けられ、それぞれについて対応する光学伝播距離アダプタを作動させることにより個別に偏光方向を調整できる点を除いては、図１１および図１２の実施形態が図９および図１０の実施形態と同様に動作しうることは、当業者には明らかであろう。図１１および図１２による実施形態の利点は、本実施形態では、頻繁に使用される照明モード、たとえば四極子および双極子での各極の偏光は、１つの光学伝播距離アダプタを作動することにより個別に調節することができる。図９および図１０の実施形態ならびに図１１および図１２の実施形態は単なる例示として説明されており、他の実施形態では放射ビームをいくつの部分にも切り離すことができる。これら全ての実施形態において、くさび形光学活性体およびくさび形非光学活性体は光軸に交差する平面においてパイ形の断面を含む。図１１および図１２の実施形態では、光軸に交差するパイ形断面の側辺により囲い込まれたパイ形断面の角度は、約４５度を含む。
【００５４】
[0071]  図１３は放射ビームの８つのセグメントのうち少なくとも１セグメントの偏光方向を調節する偏光変更素子のさらに別の実施形態を模式的に表す。図１４は、図１３の実施形態のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿った上面図を模式的に表す。図１３および図１４の両図を参照すると、放射ビームの部分３ｃの伝播方向に沿って、偏光変更素子は８つのくさび形光学活性体９３、９５、別の８つのくさび形光学活性体９７、９９、８つのくさび形非光学活性体１０１、１０３、および別の８つのくさび形非光学活性体１０５〜１１２を含む。偏光変更素子はさらに８つの光学伝播距離アダプタ１１３、１１５を含み、各伝播距離アダプタ１１３、１１５はくさび形光学活性体９７、９９の１つと、該くさび形光学活性体９７、９９に隣接し、かつ光学的に接触するくさび形非光学活性体１０１、１０３の一つとに結合される。ねじ１１７、１１９により、各光学伝播距離アダプタ１１３、１１５はくさび形光学活性体９３、９５の１つを支持するサポート構造１２１、１２３に結合される。また、ねじ１１７、１１９により、各光学伝播距離アダプタ１１３、１１５は別のくさび形非光学活性体１０５、１０９のうちの一つを支持するサポート構造１２５、１２７に結合される。使用時には、同じ光学伝播距離アダプタ１１３、１１５に対応するくさび形光学活性体９３、９５および別のくさび形非光学活性体１０５〜１１２の各ペアは、光学伝播距離アダプタを用いてねじ１１７、１１９を回転させることによって反対の方向に移動する。全てのくさび形部材が同一のくさび形および同一の屈曲率を有する図１３および図１４の実施形態では、くさび形光学活性体９３、９５およびさらなるくさび形非光学活性体１０５、１０９の各ペアは、ねじ１１７、１１９に沿って同じ距離を移動することができる。あるいは、ねじ１１７、１１９はくさび形光学活性体９３、９５を移動させるための第１のピッチ、および別のくさび形非光学活性体１０５〜１１２を移動させるための第２のピッチを有してもよい。異なる２つのピッチを有する場合、ねじが同じ量だけ回転するとき、対応する２つのくさび形光学活性体９３、９５および別のくさび形非光学活性体１０５〜１１２は、くさび形光学活性体およびくさび形非光学活性体との間の屈曲率もしくは形状の違いを補正するために異なる距離を移動することができる。本実施形態では、対応するくさび形光学活性体の移動に起因するビーム変位を補正するための、くさび形非光学活性体の任意の移動間の関係は、単純な幾何光学を用いて演算することができる。図１５は、１つのくさび形光学活性体９３およびそれに対応する別のくさび形非光学活性体１０５を同じ距離だけ移動させることによって放射ビームの１セグメントの偏光方向が調節される、図１３および図１４の実施形態を模式的に表す。
【００５５】
[0072]  偏光変更素子はリソグラフィ装置の照明システム内またはビームデリバリシステムと照明システムとの間に設置してよい。あるいは、偏光変更素子は投影システム内に設置してもよい。偏光変更素子は、イルミネータのフィールド面またはその近くに設置してよい。あるいは、偏光変更素子は照明システムの瞳画定素子（pupil defining element）と瞳面との間に設置してもよい。もしくは、偏光変更素子は照明システムまたは投影システムの瞳面またはその近くに設置してもよい。偏光変更素子を瞳面またはその近くに配置することは、図９〜図１５の実施形態において特に有益である。偏光変更素子を瞳面またはその近くに配置することによって、照明モードでの一つ以上の極が放射ビームの一つ以上の部分と一致し得るので、照明モードでの個別の極の偏光方向を正確に調節することが可能になる。
【００５６】
[0073]  くさび形光学活性体は結晶水晶を含むことができる。あるいは、くさび形光学活性体は紫外線照射または遠紫外線に対する高い透過性を特徴とするあらゆる光学活性体を含むことができる。
【００５７】
[0074]  本明細書では、ＩＣの製造におけるリソグラフィ装置の使用について具体的に言及しているが、本明細書記載のリソグラフィ装置が、集積光学システム、磁気ドメインメモリ用のガイダンスパターンおよび検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッド等の製造など、他の用途を有することは明らかである。当業者には当然のことであるが、そのような別の用途においては、本明細書で使われている用語「ウェーハ」または「ダイ」はすべて、それぞれより一般的な用語「基板」または「ターゲット部分」と同義であると考えてよい。本明細書に記載されている基板は、露光の前後に、たとえば、トラック（通常、基板にレジスト層を塗布し、露光されたレジストを現像するツール）、メトロロジーツール、および／またはインスペクションツールで処理されてもよい。適用可能な場合には、本明細書中の開示物を上記のような基板プロセシングツールおよびその他の基板プロセシングツールに適用してもよい。さらに、基板は、たとえば積層ＩＣを作るために複数回処理されてもよいので、本明細書で使われる基板という用語が、既に多重処理層を包含している基板を表すものとしてもよい。
【００５８】
[0075]  本明細書では、光リソグラフィに関連した本発明の実施形態の使用について上記に具体的に言及されたが、本発明は、たとえばインプリントリソグラフィといった他の用途にも使用可能であり、状況が許す場合には光リソグラフィに限定されないことが明らかである。インプリントリソグラフィの場合、パターニングデバイスにおけるトポグラフィが基板上に形成されるパターンを画定する。パターニングデバイスのトポグラフィは基板に供給されたレジスト層の中にプレス加工されてよく、その場合電磁放射、熱、圧力、またはこれらの組み合わせを与えることによってレジストは硬化される。レチクルが硬化された後、パターンはレチクルに残した状態でパターニングデバイスはレジストから外へ移動される。
【００５９】
[0076]  本明細書で使用される「放射」および「ビーム」という用語は、紫外線（ＵＶ）放射（たとえば、３６５、３５５、２４８、１９３、１５７、または１２６ｍｍ、あるいはその前後の波長を持つもの）および極端紫外線（ＥＵＶ）放射（たとえば、５−２０ｍｍの範囲の波長を持つもの）を含むあらゆる種類の電磁放射、ならびにイオンビームまたは電子ビームといった粒子ビームを包含する。
【００６０】
[0077]  「レンズ」という用語は、状況が許す場合、屈折型、反射型、磁気型、電磁型、および静電型光コンポーネントを含む各種光コンポーネントのうちの１つまたは組み合わせを指すことができる。
【００６１】
[0078]  以上、本発明の特定の実施形態を説明してきたが、本発明は説明された以外にも実施可能であることは明らかである。たとえば、本発明は上述された方法を示す機械読取可能な命令の１つ以上のシーケンスを含むコンピュータプログラム、もしくはそのようなコンピュータプログラムが記憶されたデータ記憶媒体（たとえば、半導体メモリ、磁気または光ディスク）の形態とすることができる。
【００６２】
[0079]  以上の説明は、制限ではなく例示を目的としたものである。したがって、当業者にとって明らかであるように、添付の特許請求の範囲を逸脱することなく本発明に変更を加えることができる。
【図面の簡単な説明】
【００６３】
【図１】[0023]  本発明の実施形態におけるリソグラフィ装置を模式的に表す。
【図２】[0024]  本発明の実施形態における偏光変更素子を模式的に表す。
【図３】[0025]  本発明の実施形態による、放射ビームの伝播方向に実質的に平行な方向へ第２のくさび形光学活性体を移動させる光学伝播距離アダプタを含む偏光変更素子を模式的に表す。
【図４】[0026]   本発明の実施形態による、面並行板をさらに含む偏光変更素子を模式的に表す。
【図５】[0027]   本発明の実施形態による、光学伝播距離アダプタが放射ビームの伝播方向に実質的に平行な方向へ第２のくさび形光学活性体を移動させる、面並行板を含む偏光変更素子を模式的に表す。
【図６】[0028]  本発明の実施形態による、ビーム変位を補正する２つのくさび形非光学活性体をさらに含む偏光変更素子を模式的に表す。
【図７】[0029]  第１のくさび形光学活性体および第２のくさび形非光学活性体を互いに対し反対方向で、かつ放射ビームの伝播方向に実質的に平行な方向へ移動させる光学伝播距離アダプタを模式的に表す。
【図８ａ】[0030]   本発明の実施形態による、直線偏光された放射ビームを非偏光の放射ビーム変更する光学遅延材を含む偏光変更素子の第１の設定を模式的に表す。
【図８ｂ】[0031]  本発明の実施形態による、直線偏光された放射ビームを非偏光の放射ビームに変更する光学遅延材を含む偏光変更素子の第２の設定を模式的に表す。
【図８ｃ】[0032]  本発明の実施形態による、直線偏光された放射ビームを非変更の放射ビームに変更する光学遅延材を含む偏光変更素子の第３の設定を模式的に表す。
【図９】[0033]  本発明の実施形態による、放射ビームの４つのセグメントのうち少なくとも１セグメントの偏光方向を調節する偏光変更素子を模式的に表す。
【図１０】[0034]  図９の実施形態のＩ−Ｉ線に沿った断面図を模式的に表す。
【図１１】[0035]   本発明の実施形態による、放射ビームの８つのセグメントのうち少なくとも１セグメントの偏光方向を個別に偏光する偏光変更素子を模式的に表す。
【図１２】[0036]  図１１の実施形態のＩＩ−ＩＩ線に沿った断面図を模式的に表す。
【図１３】[0037]  本発明の実施形態による、放射ビームの８つのセグメントのうち少なくとも１セグメントの偏光方向を調節する偏光変更素子を模式的に表す。
【図１４】[0038]  図１３の実施形態のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿った上面図を模式的に表す。
【図１５】[0039]  放射ビームの１セグメントの偏光方向が調節される図１３および図１４の実施形態を模式的に表す。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８ａ】
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【図８ｂ】
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【図８ｃ】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【外国語明細書】
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