(57)【要約】      （修正有）【課題】貯蔵安定性が極めて優れたカルボニル基含有化合物および該化合物を用いた重合体を提供する。【解決手段】分子中に、下記式（I）2008150292.tif 000023［式中、Ｙは炭素数１〜６の直鎖のアルキレン基又は該アルキレン基の水素の一部もしくは全部を炭素数１〜６の置換基により置換されたものであり、Ｒ１は炭素数１〜１６の置換基、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜８の置換基を示す。］で表される（α−オキソアミドアルコキシ）カルボニルアミノ基を有する化合物および（メタ）アクリロイル基を有する（I）を重合して得られる重合体。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
分子中に、下記式（I）
【化１】
2008150292.tif 000016
［式中、Ｙは炭素数１〜６の直鎖のアルキレン基又は該アルキレン基の水素の一部もしくは全部を炭素数１〜６の置換基により置換されたものであり、Ｒ１は炭素数１〜１６の置換基、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜８の置換基を示す。］
で表される（α−オキソアミドアルコキシ）カルボニルアミノ基を有する化合物。
【請求項２】
Ｙがエチレン基又は該エチレン基の水素の一部もしくは全部を炭素数１〜６の置換基により置換されたものである請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
Ｙがプロピレン基又は該プロピレン基の水素の一部もしくは全部を炭素数１〜６の置換基により置換されたものである請求項１に記載の化合物。
【請求項４】
Ｙがエチレン基、Ｒ１がメチル基、及びＲ２が水素原子である請求項１又は２に記載の化合物。
【請求項５】
Ｙがエチレン基、Ｒ１がメチル基、及びＲ２が炭素数１〜４のアルキル基である請求項１又は２に記載の化合物。
【請求項６】
Ｙがエチレン基、Ｒ１がメチル基、及びＲ２がメチル基である請求項１又は２に記載の化合物。
【請求項７】
さらに、分子中に（メタ）アクリロイルオキシ基を有する請求項１〜６に記載の化合物。
【請求項８】
下記式（II）
【化２】
2008150292.tif 000017
［式中、Ｒ１は炭素数１〜１６の置換基、及びＲ３は水素原子又は炭素数１〜１８の置換基を示す。］
で表される化合物と、アルコール、チオール、アセタール及びオルソエステルからなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物とを反応させて得られる下記式（III）
【化３】
2008150292.tif 000018
［式中、Ｘ１、Ｘ２及びＸ３は、それぞれ同一又は異なって酸素原子又はイオウ原子であり、Ｒ４及びＲ５はそれぞれ同一又は異なって炭素数１〜１８の置換基、Ｒ６は水素原子あるいは炭素数１〜１８の置換基であって、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６から選ばれる２つ以上の置換基は互いに結合してＸ１、Ｘ２及びＸ３から選ばれる２個以上をヘテロ原子とする複素環を形成していてもよく、Ｒ１は前記と同意義を示す。］
で表される化合物を、下記式（IV）
【化４】
2008150292.tif 000019
［式中、Ｙは炭素数１〜６の直鎖のアルキレン基又は該アルキレン基の水素の一部もしくは全部を炭素数１〜６の置換基により置換されたものであり、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜８の置換基を示す。］
で表される化合物と反応させ、得られる下記式（V）
【化５】
2008150292.tif 000020
［式中、記号は前記と同意義を示す。］
で表される化合物を、イソシアネート基含有化合物と反応させ、得られる下記式（VI）
【化６】
2008150292.tif 000021
［式中、記号は前記と同意義を示す。］
で表される有機基をもつ化合物を、希酸中又は酸性化合物の共存下で水と反応させることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の化合物の製造方法。
【請求項９】
（α−オキソアミドアルコキシ）カルボニルアミノ基及び（メタ）アクリロイルオキシ基を有する請求項７に記載の化合物を単独重合または該化合物以外のビニル系モノマーと共重合させて得られることを特徴とする（α−オキソアミドアルコキシ）カルボニルアミノ基を有する重合体。
【請求項１０】
下記式（VI）
【化７】
2008150292.tif 000022
［式中、記号は前記と同意義を示す。］
で表される有機基及び（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物を単独重合または該化合物以外のビニル系モノマーと共重合させて得られた重合体を希酸中又は酸性化合物の共存下で水と反応させて得られることを特徴とする（α−オキソアミドアルコキシ）カルボニルアミノ基を有する重合体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、α−オキソアミド基含有化合物に関するものであり、プラスチック、塗料、粘着剤、接着剤、紙加工処理剤、インクなどの原材料として有用なものである。
【背景技術】
【０００２】
カルボニル基を導入した化合物は、例えば特許文献１、非特許文献１、非特許文献２などに記載されているように、該カルボニル基と架橋する基を有する樹脂や架橋剤と組合わせることによりその特性をさまざまに変化させることが可能であり、産業上有用である。
【０００３】
カルボニル基を化合物に導入する代表的な手法として、ポリオールとアセト酢酸ｔ−ブチルを混合して加熱しｔ−ブタノールを留去する方法や、アセトアセトキシエチルメタクリレートを共重合させる方法が知られている。これらの手法によって、カルボニル基はアセトアセトキシ基の形で化合物に導入される。しかし、アセトアセトキシ基をもった化合物は、例えば非特許文献３に記載されているように、水中では、アセトアセトキシ基の逆クライゼン縮合、すなわち、クライゼン縮合の逆反応などにより経時で分解していくため貯蔵安定性が悪いという問題がある。アセトアセトキシ基がクライゼン縮合の逆反応をする原因は、アセトアセトキシ基中の２つのカルボニル基がβ−ケトエステル型すなわちβ−ジケト型の構造をとっており、かつ、一方のカルボニル基がエステルのカルボニル基であるということにあると考えられる。つまり、逆クライゼン縮合による分解を防ぐ方法の１つは、化合物中のβ−ジケト型の構造をなくすことである。このような理由からβ−ジケト型ではない形でカルボニル基が導入された化合物が求められていた。
【０００４】
【特許文献１】特開平７−１１３０６３号公報
【非特許文献１】Ｐｒｏｇ． Ｏｒｇ． Ｃｏａｔ．， ２９， １７５ （１９９６）
【非特許文献２】Ｐｒｏｇ． Ｏｒｇ． Ｃｏａｔ．， ２７， ７３ （１９９６）
【非特許文献３】Ｊ． Ｃｏａｔ． Ｔｅｃｈｎｏｌ．， ７０ （８８１）， ５７ （１９９８）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、貯蔵安定性が極めて優れたカルボニル基含有化合物を提供することであり、該化合物を用いた重合体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意研究を重ねた結果、基本骨格として（α−オキソアミドアルコキシ）カルボニルアミノ基を有する特定の化合物が、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００７】
本発明の化合物は、β−ジケト型のアセトアセトキシ基を持たないために逆クライゼン縮合による分解の恐れがない。なぜならば、該化合物はアセトアセトキシ基の代わりにα−オキソアミド基を持つものであるが、α−オキソアミド基は逆クライゼン縮合が原理的に不可能なα−ジケト型の構造をとっているからである。
【０００８】
かくして本発明は、分子中に、下記式（I）
【０００９】
【化１】
2008150292.tif 000002
【００１０】
［式中、Ｙは炭素数１〜６の直鎖のアルキレン基又は該アルキレン基の水素の一部もしくは全部を炭素数１〜６の置換基により置換されたものであり、Ｒ１は炭素数１〜１６の置換基、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜８の置換基を示す。］
で表される（α−オキソアミドアルコキシ）カルボニルアミノ基を有する化合物に関するものである。
【００１１】
また、本発明は、
下記式（II）
【００１２】
【化２】
2008150292.tif 000003
【００１３】
［式中、Ｒ１は炭素数１〜１６の置換基、及びＲ３は水素原子又は炭素数１〜１８の置換基を示す。］
で表される化合物と、アルコール、チオール、アセタール及びオルソエステルからなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物とを反応させて得られる下記式（III）
【００１４】
【化３】
2008150292.tif 000004
【００１５】
［式中、Ｘ１、Ｘ２及びＸ３は、それぞれ同一又は異なって酸素原子又はイオウ原子であり、Ｒ４及びＲ５はそれぞれ同一又は異なって炭素数１〜１８の置換基、Ｒ６は水素原子あるいは炭素数１〜１８の置換基であって、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６から選ばれる２つ以上の置換基は互いに結合してＸ１、Ｘ２及びＸ３から選ばれる２個以上をヘテロ原子とする複素環を形成していてもよく、Ｒ１は前記と同意義を示す。］
で表される化合物を、下記式（IV）
【００１６】
【化４】
2008150292.tif 000005
【００１７】
［式中、Ｙは炭素数１〜６の直鎖のアルキレン基又は該アルキレン基の水素の一部もしくは全部を炭素数１〜６の置換基により置換されたものであり、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜８の置換基を示す。］
で表される化合物と反応させ、得られる下記式（V）
【００１８】
【化５】
2008150292.tif 000006
【００１９】
［式中、記号は前記と同意義を示す。］
で表される化合物を、イソシアネート基含有化合物と反応させ、得られる下記式（VI）
【００２０】
【化６】
2008150292.tif 000007
【００２１】
［式中、記号は前記と同意義を示す。］
で表される有機基をもつ化合物を、希酸中又は酸性化合物の共存下で水と反応させることを特徴とする上記（α−オキソアミドアルコキシ）カルボニルアミノ基を有する化合物の製造方法に関する。
【００２２】
また、本発明は、（α−オキソアミドアルコキシ）カルボニルアミノ基を有する重合体に関する。
【発明の効果】
【００２３】
本発明のカルボニル基含有化合物は、基本骨格として（α−オキソアミドアルコキシ）カルボニルアミノ基を有するものであり、すなわち、α−ジケト型の構造を有するものであり、β−ジケト型のアセトアセトキシ基を持たないために逆クライゼン縮合による分解の恐れがないため、貯蔵安定性に優れる。また、カルボニル基含有化合物の内、（α−オキソアミドアルコキシ）カルボニルアミノ基及び（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物は、単独で又は他のビニル系モノマーと重合させることにより、（α−オキソアミドアルコキシ）カルボニルアミノ基を有する重合体を合成することができ、この重合体も貯蔵安定性に優れている。
【００２４】
本発明のカルボニル基含有化合物は、その形態により、上記のように樹脂を合成するための原料であったり、基体樹脂、架橋剤などとして利用することができ、カルボニル基と架橋する基を有する樹脂や架橋剤と組合わせることにより、その特性をさまざまに変化させることが可能である。
【００２５】
そのため、本発明のカルボニル基含有化合物は、プラスチック、塗料、粘着剤、接着剤、紙加工処理剤、インク、ヘアースプレー用樹脂、化粧料、染毛剤、美爪料、感光性樹脂、ポリマー改質剤、イオン交換樹脂、担体用樹脂、薬剤徐放用樹脂などの用途に極めて有用なものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
本発明の（α−オキソアミドアルコキシ）カルボニルアミノ基を含有する化合物は、下記式（I）で表される（α−オキソアミドアルコキシ）カルボニルアミノ基を含有する化合物である。
【００２７】
【化７】
2008150292.tif 000008
【００２８】
式中、Ｙは炭素数１〜６の直鎖のアルキレン基又は該アルキレン基の水素の一部もしくは全部を炭素数１〜６の置換基により置換されたものであり、Ｒ１は炭素数１〜１６の置換基、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜８の置換基を示す。Ｒ１の炭素数が１７以上になると本発明の化合物を製造するのに必要な時間が大幅に増加する場合がある。
【００２９】
本発明の上記式（I）で表される（α−オキソアミドアルコキシ）カルボニルアミノ基を含有する化合物の製造方法は、特に限定されるものではないが、例えば、下記の製造方法によるのが簡単であり好ましい。
【００３０】
工程１：下記式（II）
【００３１】
【化８】
2008150292.tif 000009
【００３２】
［式中、Ｒ１は炭素数１〜１６の置換基、及びＲ３は水素原子又は炭素数１〜１８の置換基を示す。］
で表される化合物と、アルコール、チオール、アセタール及びオルソエステルからなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物とを反応させる。得られる化合物は下記式（III）で示されるものである。
【００３３】
【化９】
2008150292.tif 000010
【００３４】
［式中、Ｘ１、Ｘ２及びＸ３は、それぞれ同一又は異なって酸素原子又はイオウ原子であり、Ｒ４及びＲ５はそれぞれ同一又は異なって炭素数１〜１８の置換基、Ｒ６は水素原子あるいは炭素数１〜１８の置換基であって、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６から選ばれる２つ以上の置換基は互いに結合してＸ１、Ｘ２及びＸ３から選ばれる２個以上をヘテロ原子とする複素環を形成していてもよく、Ｒ１は前記と同意義を示す。］
工程２：得られた上記式（III）で表される化合物を、下記式（IV）
【００３５】
【化１０】
2008150292.tif 000011
【００３６】
［式中、Ｙは炭素数１〜６の直鎖のアルキレン基又は該アルキレン基の水素の一部もしくは全部を炭素数１〜６の置換基により置換されたものであり、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜８の置換基を示す。］
で表される化合物と反応させる。得られる化合物は下記式(V)
【００３７】
【化１１】
2008150292.tif 000012
【００３８】
［式中、記号は前記と同意義を示す。］
で表されるものである。
【００３９】
工程３：得られた上記式(V)で表される化合物を、イソシアネート基含有化合物と反応させることにより下記式（VI）
【００４０】
【化１２】
2008150292.tif 000013
【００４１】
［式中、記号は前記と同意義を示す。］
で表される有機基を含有する化合物を得る。
【００４２】
工程４：得られた上記式（VI）で表される有機基を含有する化合物を、希酸中又は酸性化合物の共存下で水と反応させることにより、式(I)で表される（α−オキソアミドアルコキシ）カルボニルアミノ基を含有する本発明の化合物を得ることができる。
【００４３】
上記製造法の工程１で用いられる式（II）で表される化合物において、Ｒ１は炭素数１〜１６の置換基であり、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル及びそれらの異性構造のアルキル基；メトキシメチル、エトキシメチルなどの炭素数１〜１６の酸素原子含有の有機基などが挙げられるが、特に好ましいものとしては工業的に入手しやすいメチル基である。Ｒ１の炭素数が１７以上になると化合物を重合体に適用した場合に他の重合体との相溶性が低下する傾向にある。Ｒ３は、水素原子あるいは炭素数１〜１８の置換基であり、例としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル及びそれらの異性構造のアルキル基；ブトキシエチル、メトキシプロピル、プロポキシプロピルなどの酸素原子含有の有機基などが挙げられるが、反応性を高めるためには、水素原子又は炭素数１〜８の置換基が好ましく、水素原子又は炭素数１〜４の置換基であることがさらに好ましい。炭素数が１９以上になると式（III）で表される化合物を製造するための時間が大幅に増加し生産性が低下する傾向にある。
【００４４】
工程１の式（II）で表される化合物と反応させるアルコールは、炭素数１〜１８の水酸基含有化合物が好ましく、例えばメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、ノナノール、デカノール、ウンデカノール、ドデカノール、トリデカノール、テトラデカノール、ペンタデカノール、ヘキサデカノール、ヘプタデカノール、オクタデカノール及びこれらの異性体のモノオール類；プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルなどのエーテル基含有モノオール類；エチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−プロパンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール、２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオール、２−エチルー１，３−ヘキサンジオールなどのジオール類；グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、トリメチロールオクタンなどのトリオール類などが挙げられる。これらは単独もしくは混合して使用することができる。
【００４５】
工程１の式（II）で表される化合物と反応させるチオールは、炭素数１〜１８のメルカプト基含有化合物が好ましく、例えばメタンチオール、エタンチオール、プロパンチオール、ブタンチオール、ペンタンチオール、ヘキサンチオール、シクロヘキサンチオール、ヘプタンチオール、オクタンチオール、ノナンチオール、デカンチオール、ウンデカンチオール、ドデカンチオール、トリデカンチオール、テトラデカンチオール、ペンタデカンチオール、ヘキサデカンチオール、ヘプタデカンチオール、オクタデカンチオール及びこれらの異性体のモノチオール類；１，２−エタンジチオール、１，３−プロパンジチオールなどのジチオール類などが挙げられる。これらは単独もしくは混合して使用することができる。
【００４６】
工程１の式（II）で表される化合物と反応させるアセタールは、炭素数１〜１８の水酸基含有化合物とケトンを酸触媒条件下で脱水縮合して得られる構造をもつ化合物が適している。ここで用いるケトンは特には限定されないが、好ましくは炭素数３〜９のケトンであり、例えばアセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルｔ−ブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロンなどが挙げられる。アセタールの例としては、２，２−ジメトキシプロパン、２，２−ジエトキシプロパン、２，２−ジブトキシプロパン、２，２−ジメトキシブタン、２，２−ジエトキシブタン、２，２−ジブトキシブタン、２，２−ジメトキシ−４−メチルペンタン、２，２−ジエトキシ−４−メチルペンタン、２，２−ジブトキシ−４−メチルペンタンなどの非環状アセタール類；２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン、２，２−ジメチル−４−メチル−１，３−ジオキソラン、２−エチル−２−メチル−１，３−ジオキソラン、２−エチル−２−メチル−４−メチル−１，３−ジオキソラン、２−イソブチル−２−メチル−１，３−ジオキソラン、２−イソブチル−２−メチル−４−メチル−１，３−ジオキソラン、２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン、２，２−ジメチル−４−メチル−１，３−ジオキサン、２−エチル−２−メチル−１，３−ジオキサン、２−エチル−２−メチル−４−メチル−１，３−ジオキサン、２−イソブチル−２−メチル−１，３−ジオキサン、２−イソブチル−２−メチル−４−メチル−１，３−ジオキサンなどの環状アセタール類などを挙げることができる。これらの中でも、２，２−ジメトキシプロパン、２，２−ジメトキシブタン、２，２−ジエトキシプロパン、２，２−ジエトキシブタン、２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン及び２，２−ジメチル−４−メチル−１，３−ジオキソランが工業的に入手しやすいため特に好ましい。これらは単独もしくは混合して使用することができる。
【００４７】
工程１の式（II）で表される化合物と反応させるオルソエステルは、特に限定されないが、入手のしやすさから炭素数が４〜１４であるものが好ましく、例えば、オルソぎ酸トリメチル、オルソぎ酸トリエチル、オルソぎ酸トリイソプロピル、オルソぎ酸トリブチル、オルソ酢酸トリメチル、オルソ酢酸トリエチル、オルソ酢酸トリイソプロピル、オルソ酢酸トリブチルなどが挙げられ、これらの中でも安価なオルソぎ酸トリメチル、オルソぎ酸トリエチル、オルソ酢酸トリメチル及びオルソ酢酸トリエチルが特に好ましい。これらは単独もしくは混合して使用することができる。
【００４８】
工程１で用いられるアルコール、チオール、アセタール及びオルソエステルからなる群から選ばれる化合物の合計量は、特には限定されないが、式（II）で表される化合物に対して、好ましくは１〜１０モル当量、より好ましくは１．０５〜５モル当量である。
【００４９】
工程１の反応は、式（II）で表される化合物とアルコール、チオール、アセタール及びオルソエステルからなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物とを混合して、通常数十分〜数十時間かけて行う。この反応は生成物の着色を防ぐために、窒素などの不活性ガス雰囲気下で行なっても良い。必要に応じて、加熱したり、加圧したり、酸触媒を少量添加したり、溶媒を用いたり、また、系内で生成する水、ケトン、エステル、アルコール、チオールなどを系外に除去したりして反応を促進しても良い。加熱は通常３０〜２００℃が好ましいが、低温過ぎると反応の促進効果が少なく、高温過ぎると生成物が着色しやすくなるため、より好ましくは４０〜１８０℃である。
【００５０】
上記酸触媒は、特に限定されないが、例えば希硫酸、希塩酸、リン酸などの無機ブレンステッド酸類；パラトルエンスルホン酸、メタンスルホン酸などの有機スルホン酸類；モノアルキルリン酸、ジアルキルリン酸などのリン酸エステル類；ギ酸、トリフルオロ酢酸、シュウ酸などのカルボン酸類；トリメチルシリルハライド、三フッ化ホウ素錯体、チタニウムテトラアルコキシド、四ハロゲン化チタン、酸化ジアルキル錫、ジアルキル錫ジカルボキシレート、モノアルキル錫トリカルボキシレート、錫ジカルボキシレート、四塩化錫、ジルコニウムテトラアルコキシド、四ハロゲン化ジルコニウム、亜鉛塩、クロム塩、マンガン塩、鉄塩、銅塩、セリウム塩、スカンジウム塩、イットリウム塩、ランタノイド塩、鉛化合物、ビスマス化合物、アンチモン化合物、金属トリフラート、金属テトラフルオロボレート塩、金属アセチルアセトネート塩などのルイス酸類；クレイ、活性白土、酸性白土、シリカ、アルミナ、ゼオライト、カチオン交換樹脂などの固体酸触媒類などが挙げられる。該カチオン交換樹脂としては、スルホン酸基、リン酸基、カルボキシル基などの官能基をもつイオン交換樹脂が好ましく、中でもスルホン酸基又はリン酸基をもつイオン交換樹脂が好ましい。カチオン交換樹脂の市販品としては、例えばアンバーリスト１５ＪＷＥＴ、アンバーリスト１５ＤＲＹ、アンバーリスト１６ＷＥＴ、アンバーリスト３１ＷＥＴ（以上、ローム＆ハース社製）、ＲＣＰ−１６０Ｍ、ＲＣＰ−１５０Ｈ、ＲＣＰ−１７０Ｈ、ＰＫ−２１６（以上、三菱化学社製）、ダウエックス５０Ｗ（ダウケミカル社製）などが挙げられる。
【００５１】
酸触媒の添加量は、特には限定されないが、無機酸類、有機スルホン酸類、リン酸エステル類、カルボン酸類及びルイス酸類の場合は式（II）で表される化合物に対して０．０１〜１０モル％が好ましく、固体酸触媒類の場合は式（II）で表される化合物に対して０．１〜５００重量％が好ましい。固体酸触媒類は、反応後、濾過により分離することができる。
【００５２】
また、溶媒としては、公知の有機溶剤が使用できる。溶媒の使用量は特に限定されないが、多過ぎると経済性が低下するので式（II）で表される化合物の重量に対して１０倍以下が好ましい。系内で生成する水、ケトン、エステル、アルコール、チオールなどの系外への除去は、加圧、常圧又は減圧条件下で、必要に応じて加熱したり空気や窒素などのガスを吹き込んだりして行うことができる。
【００５３】
工程１の反応において、過酸化物の生成を防ぐために、系内に酸化防止剤を添加してもよい。酸化防止剤としては、特には限定されないが、例えば、ベンゾキノンなどのキノン系化合物；ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ジ−ｔ−ブチルメチルフェノールなどのフェノール系化合物；フェニレンジアミン系化合物、フェノチアジンなどのアミン化合物；Ｎ−オキシル化合物、ニトロソ化合物、窒素酸化物などから選ばれる１種以上を用いることができる。酸化防止剤を添加する場合は、式（II）で表される化合物とアルコール、チオール、アセタール及びオルソエステルからなる群から選ばれる化合物との合計量に対し、特には限定されないが、好ましくは１０〜１０，０００ｐｐｍ、特に好ましくは１００〜５，０００ｐｐｍである
工程１の反応で得られる式（III）で表される化合物において、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、反応に用いるアルコール、チオール、アセタール及び／又はオルソエステルの種類によって従属的に決定されるものであり、前記の種類のアルコール、チオール、アセタール及び／又はオルソエステルを用いた場合、Ｘ１、Ｘ２及びＸ３は、それぞれ酸素原子又はイオウ原子であり、Ｒ４及びＲ５はそれぞれ炭素数１〜１８の置換基、Ｒ６は水素原子又は炭素数１〜１８の置換基であり、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６から選ばれる２つ以上の置換基が互いに結合してＸ１、Ｘ２及びＸ３から選ばれる２個以上をヘテロ原子とする複素環を形成していてもよく、Ｒ１は前記と同意義である。
【００５４】
式（III）で表される化合物としては、例えば２，２−ジアルコキシアルカン酸エステル類、２−アルキル−２−アルコキシカルボニル−１，３−ジオキソラン類、２−アルキル−２−アルコキシカルボニル−１，３−ジオキサン類、２，２−ジ（アルキルチオ）アルカン酸エステル類、２，２−ジ（アルキルチオ）チオアルカン酸エステル類、２−アルキル−２−アルコキシカルボニル−１，３−ジチオラン類、２−アルキル−２−アルコキシカルボニル−１，３−ジチアン類、２−アルキル−２−（アルキルチオ）カルボニル−１，３−ジチオラン類、２−アルキル−２−（アルキルチオ）カルボニル−１，３−ジチアン類などが挙げられる。
【００５５】
工程１の反応により得られる式（III）で表される化合物は、本製造方法によれば、溶液の形態で得られる場合が多い。この溶液を濃縮することで、純度の高い化合物を得ることができる。また、必要に応じて蒸留精製、抽出操作又は水による洗浄をすることで、さらに純度を高めることができる。
【００５６】
工程１の反応において酸触媒を用いた場合は、式（III）で表される化合物を含む溶液を濃縮、蒸留精製、抽出操作又は洗浄する前に、用いた酸触媒の一部又は全部を、塩基で中和しても良いし、吸着剤で吸着除去しても良い。該塩基としては、特に限定されないが、例えば金属水酸化物、金属酸化物、アルコキシド、アンモニア、アミン、金属カルボキシレートなどが挙げられる。吸着剤としては、特に限定されないが、例えばクレイ、酸性白土、活性白土、アルミナ、シリカ、ゼオライト、イオン交換樹脂、塩基性無機化合物などが挙げられる。
【００５７】
工程２において、式（III）で表される化合物は純度を高めてから式（IV）で表される化合物と反応させても良いし、式（III）で表される化合物を含む溶液を完全に精製しないで式（IV）で表される化合物と反応させても良い。後者の場合、この溶液は必要に応じて適宜濃縮、抽出、洗浄及び／又は濾過を行なっても良い。また、後者の場合で、工程１において酸触媒を使用している場合は、式（IV）で表される化合物と混合する前に、その酸触媒の全部又は一部をあらかじめ、塩基で中和しておいても良いし、吸着剤で吸着除去しても良い。
【００５８】
式（IV）で表される化合物において、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜８の置換基であり、例えば水素、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル及びそれらの異性構造のアルキル基類；酸素原子を含む炭素数１〜８の有機基などが挙げられるが、入手のしやすさから水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基がより好ましい。炭素数が９以上になると、式（V）で表される化合物を製造するための時間が増加し生産性が低下する場合がある。
【００５９】
Ｙは、炭素数１〜６の直鎖のアルキレン基又は該アルキレン基の水素の一部もしくは全部を炭素数１〜６の置換基により置換されたものである。置換されている場合のそれぞれの置換基の炭素数は７以上になると式（V）で表される化合物を製造するための時間が大幅に増加し生産性が低下する場合がある。式（IV）で表される化合物の例としては、２−アミノエタノール、２−（メチルアミノ）エタノール、２−（エチルアミノ）エタノール、２−（イソプロピルアミノ）エタノール、２−（ブチルアミノ）エタノール、２−（ｔ−ブチルアミノ）エタノールなどの２−アミノエタノール誘導体類；また、１−アミノ−２−プロパノール、１−（メチルアミノ）−２−プロパノール、１−（エチルアミノ）−２−プロパノール、１−（イソプロピルアミノ）−２−プロパノール、１−（ブチルアミノ）−２−プロパノール、１−（ｔ−ブチルアミノ）−２−プロパノールなどの１−アミノ−２−プロパノール誘導体類；２−アミノ−１−プロパノール、２−アミノ−２−メチル−１−プロパノール、２−アミノ−１−ブタノール、２−アミノ−１−ペンタノール、２−アミノ−１−ヘキサノールなどの２−アミノ−１−アルカノール誘導体類；１−アミノ−２−ブタノール、１−（メチルアミノ）−２−ブタノール、１−（エチルアミノ）−２−ブタノール、１−（イソプロピルアミノ）−２−ブタノール、１−（ブチルアミノ）−２−ブタノール、１−（ｔ−ブチルアミノ）−２−ブタノールなどの１−アミノブタノール誘導体類；３−アミノ−１−プロパノール、４−アミノ−１−ブタノール、６−アミノ−１−ヘキサノールなどのω−アミノ−１−アルカノール誘導体類などが挙げられる。これらの中でも、Ｙがエチレン基である２−アミノエタノール誘導体類が、式（V）で表される化合物を製造するための時間を短縮するのに好ましい。
【００６０】
式（III）で表される化合物に作用させる式（IV）で表される化合物の量は、特には限定されないが、式（III）で表される化合物に対して、好ましくは１〜３モル当量、より好ましくは１．０５〜１．５モル当量である。
【００６１】
式（III）で表される化合物と式（IV）で表される化合物の反応は、これらを混合し、通常数十分〜数十時間かけて行う。本反応は、生成物の着色を防ぐために不活性ガス雰囲気下で行っても良い。この際、必要に応じて、加熱したり、加圧したり、触媒を添加したり、溶媒を用いたり、また、系内で生成するアルコールを系外に除去したりして反応を促進させることができる。加熱は通常３０〜２３０℃程度が好ましいが、低温過ぎると反応の促進効果が少なく高温過ぎると生成物が着色しやすくなるため、より好ましくは４０〜１８０℃である。
【００６２】
上記触媒としては、酸触媒と塩基触媒の両方が使用可能であるが、塩基触媒を用いるのがより好ましい。塩基触媒としては、特に限定されないが、例えば金属水酸化物類、金属アルコキシド、金属酸化物、アンモニア、アミン、金属カルボキシレート、金属フェノキシド、塩基性を示す有機オニウム塩、ヒドロキシドイオン又はカルボキシラートイオンを含有するアニオン交換樹脂などが挙げられる。塩基触媒の添加量は、特には限定されないが、金属水酸化物、金属アルコキシド、金属酸化物、アンモニア、アミン、金属カルボキシレート、金属フェノキシド、塩基性を示す有機オニウム塩などを用いる場合は、式（III）で表される化合物に対して０．０１〜１０モル％が好ましく、アニオン交換樹脂を用いる場合は０．１〜５００重量％が好ましい。アニオン交換樹脂は、反応後、濾過により分離することができる。
【００６３】
また、溶媒は、公知の有機溶剤が使用できるが、比較的極性が高い溶剤がより好ましい。溶媒の使用量は特に限定されないが、多過ぎると経済性が低下するので、式（III）で表される化合物の重量に対して１０倍以下が好ましい。系内で生成するアルコールの系外への除去は常圧又は減圧条件下で、必要に応じて加熱したり空気や窒素などのガスを吹き込んだりして行うことができる。ガスを吹き込む場合は、生成物の着色を防ぐために、不活性ガスが好ましく、経済的な観点から窒素が好ましい。
【００６４】
工程２の反応において、過酸化物の生成を防ぐために、系内に酸化防止剤を添加してもよい。酸化防止剤としては、特には限定されないが、例えば、前記の酸化防止剤の１種以上を用いることができる。酸化防止剤を添加する場合は、式（III）で表される化合物と式（IV）で表される化合物の合計量に対し、特には限定されないが、好ましくは１０〜１０，０００ｐｐｍ、特に好ましくは１００〜５，０００ｐｐｍである。
【００６５】
式（V）で表される化合物は、式（III）で表される化合物と式（IV）で表される化合物との反応により得られる。式（V）中のＸ１、Ｘ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４及びＲ５は、反応に用いる式（III）で表される化合物及び式（IV）で表される化合物の構造によって従属的に決定されるものである。式（V）で表される化合物としては、例えばＮ−（２−ヒドロキシアルキル）−２，２−ジアルコキシアルカン酸アミド、Ｎ−アルキル−Ｎ−（２−ヒドロキシアルキル）−２，２−ジアルコキシアルカン酸アミド、２−アルキル−２−（２−ヒドロキシアルキル）アミノカルボニル−１，３−ジオキソラン類、２−アルキル−２−（Ｎ−アルキル−Ｎ−（２−ヒドロキシアルキル）アミノ）カルボニル−１，３−ジオキソラン類、２−アルキル−２−（２−ヒドロキシアルキル）アミノカルボニル−１，３−ジオキサン類、２−アルキル−２−（Ｎ−アルキル−Ｎ−（２−ヒドロキシアルキル）アミノ）カルボニル−１，３−ジオキサン類、Ｎ−（３−ヒドロキシアルキル）−２，２−ジアルコキシアルカン酸アミド、Ｎ−アルキル−Ｎ−（３−ヒドロキシアルキル）−２，２−ジアルコキシアルカン酸アミド、２−アルキル−２−（３−ヒドロキシアルキル）アミノカルボニル−１，３−ジオキソラン類、２−アルキル−２−（Ｎ−アルキル−Ｎ−（３−ヒドロキシアルキル）アミノ）カルボニル−１，３−ジオキソラン類、２−アルキル−２−（３−ヒドロキシアルキル）アミノカルボニル−１，３−ジオキサン類、２−アルキル−２−（Ｎ−アルキル−Ｎ−（３−ヒドロキシアルキル）アミノ）カルボニル−１，３−ジオキサン類、Ｎ−（４−ヒドロキシアルキル）−２，２−ジアルコキシアルカン酸アミド、Ｎ−アルキル−Ｎ−（４−ヒドロキシアルキル）−２，２−ジアルコキシアルカン酸アミド、２−アルキル−２−（４−ヒドロキシアルキル）アミノカルボニル−１，３−ジオキソラン類、２−アルキル−２−（Ｎ−アルキル−Ｎ−（４−ヒドロキシアルキル）アミノ）カルボニル−１，３−ジオキソラン類、２−アルキル−２−（４−ヒドロキシアルキル）アミノカルボニル−１，３−ジオキサン類、２−アルキル−２−（Ｎ−アルキル−Ｎ−（４−ヒドロキシアルキル）アミノ）カルボニル−１，３−ジオキサン類、Ｎ−（５−ヒドロキシアルキル）−２，２−ジアルコキシアルカン酸アミド、Ｎ−アルキル−Ｎ−（５−ヒドロキシアルキル）−２，２−ジアルコキシアルカン酸アミド、２−アルキル−２−（５−ヒドロキシアルキル）アミノカルボニル−１，３−ジオキソラン類、２−アルキル−２−（Ｎ−アルキル−Ｎ−（５−ヒドロキシアルキル）アミノ）カルボニル−１，３−ジオキソラン類、２−アルキル−２−（５−ヒドロキシアルキル）アミノカルボニル−１，３−ジオキサン類、２−アルキル−２−（Ｎ−アルキル−Ｎ−（５−ヒドロキシアルキル）アミノ）カルボニル−１，３−ジオキサン類、Ｎ−（６−ヒドロキシアルキル）−２，２−ジアルコキシアルカン酸アミド、Ｎ−アルキル−Ｎ−（６−ヒドロキシアルキル）−２，２−ジアルコキシアルカン酸アミド、２−アルキル−２−（６−ヒドロキシアルキル）アミノカルボニル−１，３−ジオキソラン類、２−アルキル−２−（Ｎ−アルキル−Ｎ−（��−ヒドロキシアルキル）アミノ）カルボニル−１，３−ジオキソラン類、２−アルキル−２−（６−ヒドロキシアルキル）アミノカルボニル−１，３−ジオキサン類、２−アルキル−２−（Ｎ−アルキル−Ｎ−（６−ヒドロキシアルキル）アミノ）カルボニル−１，３−ジオキサン類、Ｎ−（２−ヒドロキシアルキル）−２，２−ジ（アルキルチオ）アルカン酸アミド類、Ｎ−アルキル−Ｎ−（２−ヒドロキシアルキル）−２，２−ジ（アルキルチオ）アルカン酸アミド類、２−アルキル−２−（２−ヒドロキシアルキル）アミノカルボニル−１，３−ジチオラン類、２−アルキル−２−（Ｎ−アルキル−Ｎ−（２−ヒドロキシアルキル）アミノ）カルボニル−１，３−ジチオラン類、２−アルキル−２−（２−ヒドロキシアルキル）アミノカルボニル−１，３−ジチアン類、２−アルキル−２−（Ｎ−アルキル−Ｎ−（２−ヒドロキシアルキル）アミノ）カルボニル−１，３−ジチアン類、Ｎ−（３−ヒドロキシアルキル）−２，２−ジ（アルキルチオ）アルカン酸アミド類、Ｎ−アルキル−Ｎ−（３−ヒドロキシアルキル）−２，２−ジ（アルキルチオ）アルカン酸アミド類、２−アルキル−２−（３−ヒドロキシアルキル）アミノカルボニル−１，３−ジチオラン類、２−アルキル−２−（Ｎ−アルキル−Ｎ−（３−ヒドロキシアルキル）アミノ）カルボニル−１，３−ジチオラン類、２−アルキル−２−（３−ヒドロキシアルキル）アミノカルボニル−１，３−ジチアン類、２−アルキル−２−（Ｎ−アルキル−Ｎ−（３−ヒドロキシアルキル）アミノ）カルボニル−１，３−ジチアン類などが挙げられる。
【００６６】
工程２の反応により得られる式（V）で表される化合物は、本製造方法によれば、溶液の形態で得られる場合が多い。この溶液を濃縮することで、純度の高い化合物を得ることができる。また、必要に応じて蒸留精製、再結晶、抽出操作又は水による洗浄をすることで、さらに純度の高い化合物を得ることができる。
【００６７】
工程２において塩基触媒を用いた場合は、式（V）で表される化合物を含む溶液を濃縮、蒸留精製、再結晶、抽出操作又は洗浄する前に、用いた塩基触媒の一部又は全部を酸で中和しても良いし吸着剤で吸着除去しても良い。酸としては、特に限定されないが、例えば希硫酸、希塩酸、リン酸などの無機ブレンステッド酸類；パラトルエンスルホン酸、メタンスルホン酸などの有機スルホン酸類；モノアルキルリン酸、ジアルキルリン酸などのリン酸エステル類；ギ酸、トリフルオロ酢酸、シュウ酸などのカルボン酸類；ルイス酸性を示す金属含有化合物；クレイ、シリカ、ゼオライト、カチオン交換樹脂などの固体酸触媒類などが挙げられる。吸着剤としては、特に限定されないが、例えば、酸性白土、活性白土、アルミナ、シリカ、ゼオライト、塩基性無機化合物、イオン交換樹脂などが挙げられる。
【００６８】
工程３において、式（V）で表される化合物は純度を高めてからイソシアネート基含有化合物と反応させても良いし、式（V）で表される化合物を含む溶液を完全に精製しないでイソシアネート基含有化合物と反応させても良い。後者の場合、この溶液は必要に応じて適宜濃縮、分液、洗浄及び／又は濾過を行なっても良い。また、後者の場合で、かつ、式（III）で表される化合物と式（IV）で表される化合物とを反応させる際に触媒を使用している場合は、イソシアネート基含有化合物と混合する前に、用いた触媒の一部又は全部を、中和しても良いし、吸着剤で吸着除去しても良い。
【００６９】
式（VI）で表される有機基は、式（V）で表される化合物とイソシアネート基含有化合物とを反応させて得られるカーバメート誘導基である。式（VI）中のＸ１、Ｘ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４及びＲ５は、反応に用いる式（V）で表される化合物の構造によって従属的に決定されるものである。式（VI）で表される有機基としては、例えば、（２，２−ジアルコキシアルカン酸アミド）アルコキシカルボニルアミノ基、（Ｎ−アルキル−２，２−ジアルコキシアルカン酸アミド）アルコキシカルボニルアミノ基、（２−アルキル−２−（１，３−ジオキソラン）カルボキサミド）アルコキシカルボニルアミノ基、（Ｎ−アルキル−２−アルキル−２−（１，３−ジオキソラン）カルボキサミド）アルコキシカルボニルアミノ基、（２−アルキル−２−（１，３−ジオキサン）カルボキサミド）アルコキシカルボニルアミノ基、（Ｎ−アルキル−２−アルキル−２−（１，３−ジオキサン）カルボキサミド）アルコキシカルボニルアミノ基、（２，２−ジ（アルキルチオ）アルカン酸アミド）アルコキシカルボニルアミノ基、（Ｎ−アルキル−２，２−ジ（アルキルチオ）アルカン酸アミド）アルコキシカルボニルアミノ基、（２−アルキル−２−（１，３−ジチオラン）カルボキサミド）アルコキシカルボニルアミノ基、（Ｎ−アルキル−２−アルキル−２−（１，３−ジチオラン）カルボキサミド）アルコキシカルボニルアミノ基、（２−アルキル−２−（１，３−ジチアン）カルボキサミド）アルコキシカルボニルアミノ基、（Ｎ−アルキル−２−アルキル−２−（１，３−ジチアン）カルボキサミド）アルコキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。
【００７０】
式（V）で表される化合物と反応させるイソシアネート基含有化合物は、分子中に１個以上のイソシアネート基をもつ化合物であり、１官能イソシアネート化合物や多官能イソシアネート化合物である。具体的には、１−イソシアネートヘキサン、１−イソシアネートドデカン、シクロヘキシルイソシアネート、フェニルイソシアネート、(メタ)アクリロイルイソシアネート、（２−イソシアネートエチル）(メタ)アクリロイルイソシアネート、ｍ−イソプロペニル−α,α’−ジメチルベンジルイソシアネート（ＴＭＩ）、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートなどの水酸基と（メタ）アクリロイルオキシ基の両方を有する化合物と１−イソシアネート−３，５，５−トリメチル−３−(イソシアネートメチル)シクロヘキサン（ＩＰＤＩ）などのジイソシアネート化合物の付加物などの炭素数４〜５０のモノイソシアネート類；ジフェニルメタン−４,４’−ジイソシアネート（ＭＤＩ）、１，５−ナフタレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、キシリレンジイソシアネート、１，４−テトラメチレンジイソシアネート、２−メチル−１，５−ジイソシアネートペンタン（ＭＰＤＩ）、１，６−ジイソシアネートヘキサン（ＨＤＩ）、２，２，４−トリメチル−１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート（ＴＭＤＩ）、リジンジイソシアネート、１−イソシアネート−３，５，５−トリメチル−３−(イソシアネートメチル)シクロヘキサン（ＩＰＤＩ）、ジシクロヘキシルメタン−４，４’−ジイソシアネート（ＨＭＤＩ）、ｍ−テトラメチルキシリレンジイソシアネート（ＴＭＸＤＩ）、ジイソシアネートノルボルナン、ジ(イソシアネートメチル)ノルボルナンなどの炭素数４〜２５のジイソシアネート類；２−イソシアネートエチル)−２，６−ジイソシアネートカプロエ−ト（ＬＴＩ）などの炭素数６〜３０のトリイソシアネート類；ウレタン構造含有ポリイソシアネート、ビウレット構造含有ポリイソシアネート、イソシアヌレート構造含有ポリイソシアネート、多官能水酸基含有化合物変性ポリイソシアネート、アロファネート構造含有ポリイソシアネート、ウレトジオン構造含有ポリイソシアネートなどのポリイソシアネートであって、数平均分子量が３００〜１，０００，０００であり、一分子中の平均イソシアネート官能基数が２〜５，０００であるポリイソシアネート類；イソシアネート基含有ビニル系モノマーを単独重合させて、あるいは、他のビニル系モノマーと共重合させて得られる数平均分子量が１，０００〜１，０００，０００であり、一分子中の平均イソシアネート官能基数が２〜５，０００であるポリイソシアネート類；上記のモノイソシアネート類、ジイソシアネート類、トリイソシアネート類及びポリイソシアネート類から選ばれる１種以上を用いて誘導される、数平均分子量が３００〜１，０００，０００であり、一分子中の平均イソシアネート官能基数が３〜５，０００であるポリイソシアネート類；上記のモノイソシアネート類、ジイソシアネート類、トリイソシアネート類及びポリイソシアネート類から選ばれる１種以上と、多官能水酸基含有化合物、１官能水酸基含有化合物及び水から選ばれる１種以上とを用いて誘導される、数平均分子量が３００〜１，０００，０００であり、一分子中の平均イソシアネート官能基数が２〜５，０００であるポリイソシアネート類などが挙げられる。
【００７１】
なお、本発明において、数平均分子量はゲル浸透クロマトグラフィ（ＧＰＣ）によって、標準ポリスチレンの検量線を用いて測定した値である。
【００７２】
上記でいう多官能水酸基含有化合物とは、数平均分子量が６０〜１００，０００で一分子中に２個以上の水酸基をもつポリオールであり、具体例としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブタンジオール、ポリテトラメチレングリコール、メチルプロパンジオール、ペンタンジオール、メチルペンタンジオール、ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール、２，２'−ジエチル−１，３−プロパンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジメタノール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、ヒドロキシピバリン酸-ネオペンチルグリコールエステル、ジメチロールプロパン酸、ジメチロールブタン酸、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、トリメチロールブタン、グリセリン、ペンタエリスリトール、１分子中に２個以上の水酸基をもつ化合物とエチレンオキシド、プロピレンオキシド、テトラヒドロフラン、ラクトン及び／又はシクロカーボネートの開環付加物、１分子中にアミノ基と水酸基の両方をもつ化合物とエポキシ基含有化合物との反応生成物、１分子中にアミノ基と水酸基の両方をもつ化合物とポリイソシアネートとの反応生成物、水酸基含有ポリエステル樹脂、水酸基含有ポリウレタン樹脂、水酸基含有ポリカーボネート樹脂、水酸基含有ビニル系共重合体、エポキシ樹脂などが挙げられる。上記樹脂は公知の手法で合成することができる。
【００７３】
また、１官能水酸基含有化合物は数平均分子量が３２〜５０００で一分子中に１個の水酸基をもつモノオールであり、具体的には、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、ノナノール、デカノール、ウンデカノール、ドデカノール、トリデカノール、テトラデカノール、ペンタデカノール、ヘキサデカノール、ヘプタデカノール、オクタデカノールなどのアルカノール類；プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル基含有モノオール類などが挙げられる。
【００７４】
前記のイソシアネート基含有ビニル系モノマーとしては、(メタ)アクリロイルイソシアネート、（２−イソシアネートエチル）(メタ)アクリロイルイソシアネート、ｍ−イソプロペニル−α,α’−ジメチルベンジルイソシアネート（ＴＭＩ）、水酸基含有ビニル系モノマーと前記ジイソシアネート類との付加物などが挙げられる。
【００７５】
水酸基含有ビニル系モノマーとしては、２−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、４−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、これら水酸基含有ビニル系モノマーとラクトンとの付加生成物などが挙げられる。
【００７６】
前記の他のビニル系モノマーとしては、公知のものが使用でき、特に限定はされないが、例えば、
（１）：メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ｎ−プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、ｎ−ブチル(メタ)アクリレート、ｉ−ブチル(メタ)アクリレート、ｔ−ブチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、２−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ｎ−オクチル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート等のアクリル酸又はメタクリル酸の炭素数１〜３０のアルキルエステル又はシクロアルキルエステル。
（２）：メトキシブチル(メタ)アクリレート、メトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシブチル(メタ)アクリレート等のアクリル酸又はメタクリル酸の炭素数２〜１８のアルコキシアルキルエステル。
（３）：スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、ｐ−クロルスチレン等のビニル芳香族化合物。
（４）：２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等のアクリル酸又はメタクリル酸の炭素数２〜８のヒドロキシアルキルエステル。
（５）：アクリル酸又はメタクリル酸のヒドロキシアルキルエステルとε−カプロラクトンとの付加物、例えば、プラクセルＦＭ−３（ダイセル化学工業社製、「プラクセル」は商品名）等。
（６）：ポリアルキレングリコールモノ（メタ）アクリレート類、ヒドロキシアルキルビニルエーテル類。
（７）：グリシジル（メタ）アクリレート、ジグリシジルフマレート、アリルグリシジルエーテル、ε−カプロラクトン変性グリシジル（メタ）アクリレート、β−メチルグリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート等のエポキシ基含有不飽和モノマー。
（８）：パーフルオロブチルエチル（メタ）アクリレート、パーフルオロイソノニルエチル（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルエチル（メタ）アクリレート等のアクリル酸又はメタクリル酸のパーフルオロアルキルエステル。
（９）：エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンテン等のオレフィン類。
（１０）：ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等のジエン化合物。
（１１）：トリフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン、フッ化ビニリデン等のフルオロオレフィン類。
（１２）：酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、カプリン酸ビニル、ベオバモノマー（シェル化学社製、分岐高級脂肪酸のビニルエステル）、酢酸イソプロペニル等の炭素原子数１〜２０の脂肪酸のビニルエステル類やプロペニルエステル類；エチルビニルエーテル、ｎ−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル等のビニルエーテル類。
（１３）：アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、２−カルボキシエチル（メタ）アクリレート、２−カルボキシプロピル（メタ）アクリレート、５−カルボキシペンチル（メタ）アクリレート等のカルボキシル基含有不飽和モノマー。
（１４）：ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリス（メトキシエトキシ）シラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、２−スチリルエチルトリメトキシシラン等の加水分解性アルコキシシリル基含有不飽和モノマー。
（１５）：Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ−ｔ−ブチルアミノエチル（メタ）アクリレートなどの含窒素アルキル（メタ）アクリレート。
（１６）：アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリルアミド、ダイアセトンアクリルアミド等の重合性アミド類；２−ビニルピリジン、１−ビニル−２−ピロリドン、４−ビニルピリジン、（メタ）アクリロイルモルホリンなどの含窒素不飽和モノマー。
（１７）：ビニルスルホン酸、メタリルスルホン酸、スルホエチル（メタ）アクリレート、スチレンスルホン酸、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸等のスルホン酸モノマー及びその塩。
（１８）：２−（メタ）アクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート等の水酸基含有不飽和モノマーとりん酸化合物のエステル化物。
（１９）：グリシジル（メタ）アクリレート等のエポキシ基にりん酸化合物を付加させた物等のりん酸含有不飽和モノマー。
（２０）：アクリロニトリル、メタクリロニトリル等の重合性ニトリル。
（２１）：アリルアミンなどの重合性アミン。
（２２）：無水マレイン酸、無水イタコン酸等の酸無水物モノマー。
などを挙げることができる。
【００７７】
なお、本発明において（メタ）アクリレートはアクリレート及びメタアクリレートを意味する。
【００７８】
工程３において、式（V）で表される化合物とイソシアネート基含有化合物は、通常混合したのち、室温もしくは加熱条件下で反応させる。用いるイソシアネート基含有化合物の量は、イソシアネート基の量が式（V）で表される化合物に対して、特には限定されないが１〜３モル当量、より好ましくは１〜２モル当量になるようにするのが好ましい。加熱は通常４０〜１９０℃程度が好ましいが、低温過ぎると反応の進行が遅く、高温過ぎると副反応が起きやすくなるため、より好ましくは５０〜１５０℃である。
【００７９】
溶媒は、公知の有機溶剤が使用できる。この場合、溶媒としては非プロトン性溶剤が好ましく、特に、エステル、エーテル、Ｎ−アルキルアミド、ケトンなどが好ましい。溶媒の使用量は特に限定されないが、多過ぎると経済性が低下するので式（V）で表される化合物の重量に対して５倍以下が好ましい。
【００８０】
また、反応を促進させるために触媒を用いても良い。触媒としては、ブレンステッド酸触媒、塩基触媒及びルイス酸触媒なる群から選ばれる少なくとも１種の触媒を使用することができるが、触媒性能の観点からルイス酸触媒が好ましい。ここで用いるルイス酸触媒の例としては、特には限定されないが、チタニウムテトラアルコキシド、四ハロゲン化チタンなどのチタン化合物；酸化ジアルキル錫、ジアルキル錫ジカルボキシレート、モノアルキル錫トリカルボキシレート、錫ジカルボキシレート、四塩化錫などの錫化合物；ジルコニウムテトラアルコキシド、四ハロゲン化ジルコニウムなどのジルコニウム化合物；亜鉛ジカルボキシレート、ハロゲン化亜鉛などの亜鉛化合物；アルミニウム化合物；鉛化合物；ビスマス化合物；アンチモン化合物；金属アセチルアセトネート化合物；クレイ、酸性白土、活性白土、シリカ、アルミナ、ゼオライト、カチオン交換樹脂などの固体酸触媒類などが反応速度の観点から特に好ましい。触媒の添加量は、特には限定されないが、式（V）で表される化合物に対して、固体酸触媒以外の触媒については０．０１〜１０モル％が好ましく、固体酸触媒については０．１〜５００重量％が好ましい。
【００８１】
工程３における式（VI）で表される有機基をもつ化合物の製造において触媒を用いた場合は、製造後に用いた触媒の一部又は全部を、中和しても良いし、吸着剤で吸着除去しても良い。吸着剤としては、特に限定されないが、例として、酸性白土、活性白土、アルミナ、シリカ、ゼオライト、イオン交換樹脂、酸性無機化合物、塩基性無機化合物などが挙げられる。
【００８２】
工程４において、式（VI）で表される有機基をもつ化合物と水との反応は、希酸中又は酸性化合物と水の共存下で行なうことができる。
【００８３】
上記希酸としては、例えば希塩酸、希臭化水素酸、希硝酸、希硫酸などが挙げられる。これら希酸の酸濃度を高くする必要は特になく、０．０１〜１５％塩酸、０．０１〜２０％臭化水素酸、０．０１〜２０％希硝酸、０．０１〜２０％硫酸などの希釈された酸で十分であり、安全性と取扱いやすさの観点から、０．０５〜７％塩酸、０．０５〜１０％臭化水素酸、０．０５〜１０％希硝酸、０．０５〜１０％硫酸などが、さらに好ましい。用いる希酸の量は、特に限定されないが、式（VI）で表される有機基をもつ化合物の重量に対して、０．０１〜１０倍、さらに好ましくは０．１〜５倍である。希酸の量は、１０倍を超えると生産効率が落ちる。
【００８４】
また、酸性化合物としては、リン酸、モノアルキルリン酸、ジアルキルリン酸などのリン酸化合物類；パラトルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、メタンスルホン酸などの有機スルホン酸類；シュウ酸、トリフルオロ酢酸、モノクロル酢酸、ギ酸、酢酸などのカルボン酸類；金属トリフラート、金属テトラフルオロボレート、ルイス酸類；クレイ、酸性白土、活性白土、シリカ、アルミナ、ゼオライト、カチオン交換樹脂などの固体酸触媒類などが挙げられる。カチオン交換樹脂としては、スルホン酸基、リン酸基、カルボキシル基などの官能基をもつイオン交換樹脂が好ましく、中でもスルホン酸基又はリン酸基をもつイオン交換樹脂が好ましい。カチオン交換樹脂の市販品としては、例えばアンバーリスト１５ＪＷＥＴ、アンバーリスト１５ＤＲＹ、アンバーリスト１６ＷＥＴ、アンバーリスト３１ＷＥＴ（以上、ローム＆ハース社製）、ＲＣＰ−１６０Ｍ、ＲＣＰ−１５０Ｈ、ＲＣＰ−１７０Ｈ、ＰＫ−２１６（以上、三菱化学社製）、ダウエックス５０Ｗ（ダウケミカル社製）などが挙げられる。
【００８５】
酸性化合物の添加量は、特には限定されないが、リン酸化合物類、有機スルホン酸類、カルボン酸類、ルイス酸類の場合は式（VI）で表される有機基をもつ化合物に対して０．０１〜１００モル％が好ましく、固体酸触媒類の場合は式（VI）で表される有機基をもつ化合物に対して０．１〜５００重量％が好ましい。この場合、酸性化合物と共存させる水の量は、特には限定されないが、式（VI）で表される有機基をもつ化合物の重量に対して、０．０００１〜１０倍、さらに好ましくは０．００１〜５倍である。水の量は、１０倍を超えると生産効率が落ちる。固体酸触媒類は、反応後濾過により分離することができる。
【００８６】
式（VI）で表される有機基をもつ化合物と水を酸性化合物と共存させて反応させる場合、式（VI）で表される有機基をもつ化合物と酸性化合物を先に混合しておき、後から水を加えても良いし、式（VI）で表される有機基をもつ化合物と水を先に混合しておき、後から酸性化合物を加えても良い。
【００８７】
工程４における式（VI）で表される有機基をもつ化合物と水との反応は、希酸中又は酸性化合物との共存下のいずれで行う場合も、反応速度を高めるために加熱しても良いし、加圧しても良い。反応温度は、特に限定されないが、通常０℃〜還流する温度までであり、低過ぎると反応速度が遅く、高過ぎると着色する場合があるので、特に１０〜１００℃が好ましい。
【００８８】
本反応は、水以外には溶媒がなくても構わないが、必要に応じて、有機溶媒を用いることができる。有機溶媒としては公知の、アルコール、エステル誘導体、アミド誘導体、エーテル誘導体、炭化水素類溶媒、ハロゲン化炭化水素類などを使用することができる。溶媒の使用量は特に限定されないが、多過ぎると経済性が低下するので式（VI）で表される有機基をもつ化合物の重量に対して１０倍以下が好ましい。この反応は生成物の着色を防ぐために、窒素などの不活性ガス雰囲気下で行なっても良い。
【００８９】
工程４における反応は二相系で行なうこともできる。本反応を二相系で反応させる場合は反応速度を速めるためにオニウム塩などを添加しても良い。
【００９０】
式（VI）で表される有機基をもつ化合物を希酸中又は酸性化合物共存下で水と反応させることにより、式(I)で表される（α−オキソアミドアルコキシ）カルボニルアミノ基を有する化合物を得ることができる。
【００９１】
工程４における式（I）で表される（α−オキソアミドアルコキシ）カルボニルアミノ基を有する化合物の製造において、用いた希酸又は酸性化合物の一部又は全部を中和しても良いし、吸着剤で吸着除去しても良い。吸着剤としては、特に限定されないが、例えば酸性白土、活性白土、アルミナ、シリカ、ゼオライト、イオン交換樹脂、酸性無機化合物、塩基性無機化合物などが挙げられる。
【００９２】
また、反応後に系内に残った水や副生するアルコールやチオールは、常圧または減圧条件下で、また、常温または加熱条件下で留去することができる。また、反応に用いた溶媒は、反応中または反応後に留去しても良い。
【００９３】
このようにして得られた式（I）で表される（α−オキソアミドアルコキシ）カルボニルアミノ基を有する化合物としては、例えば、（２−ピルバミドエトキシ）カルボニルアミノ基、（２−（Ｎ−メチル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基、（２−（Ｎ−エチル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基、（２−（Ｎ−プロピル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基、（２−（Ｎ−イソプロピル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基、（２−（Ｎ−ブチル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基、（２−（Ｎ−イソブチル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基、（２−（Ｎ−ｓｅｃ−ブチル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基、（２−（Ｎ−ｔ−ブチル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基、（２−ピルバミドプロポキシ）カルボニルアミノ基、（２−メチル−２−（ピルバミド）プロポキシ）カルボニルアミノ基、（２−ピルバミドブトキシ）カルボニルアミノ基、（３−ピルバミドプロポキシ）カルボニルアミノ基、（４−ピルバミドブトキシ）カルボニルアミノ基、（５−ピルバミドペントキシ）カルボニルアミノ基、（６−ピルバミドヘキソキシ）カルボニルアミノ基、（１−メチル−２−（ピルバミド）プロポキシ）カルボニルアミノ基、（１−エチル−２−（ピルバミド）プロポキシ）カルボニルアミノ基、（１−メチル−２−（ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基、（１−メチル−２−（Ｎ−メチル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基、（１−メチル−２−（Ｎ−エチル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基、（１−メチル−２−（Ｎ−プロピル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基、（１−メチル−２−（Ｎ−イソプロピル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基、（１−メチル−２−（Ｎ−ブチル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基、（１−メチル−２−（Ｎ−イソブチル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基、（１−メチル−２−（Ｎ−ｓｅｃ−ブチル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基、（１−メチル−２−（Ｎ−ｔ−ブチル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基、（１−エチル−２−（ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基、（１−エチル−２−（Ｎ−メチル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基、（１−エチル−２−（Ｎ−エチル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基、（１−エチル−２−（Ｎ−プロピル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基、（１−エチル−２−（Ｎ−イソプロピル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基、（１−エチル−２−（Ｎ−ブチル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基、（１−エチル−２−（Ｎ−イソブチル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基、（１−エチル−２−（Ｎ−ｓｅｃ−ブチル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基、（１−エチル−２−（Ｎ−ｔ−ブチル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基、（３−（Ｎ−メチル−ピルバミド）プロポキシ）カルボニルアミノ基、（３−（Ｎ−エチル−ピルバミド）プロポキシ）カルボニルアミノ基、（３−（Ｎ−プロピル−ピルバミド）プロポキシ）カルボニルアミノ基、（３−（Ｎ−イソプロピル−ピルバミド）プロポキシ）カルボニルアミノ基、（３−（Ｎ−ブチル−ピルバミド）プロポキシ）カルボニルアミノ基、（３−（Ｎ−イソブチル−ピルバミド）プロポキシ）カルボニルアミノ基、（３−（Ｎ−ｓｅｃ−ブチル−ピルバミド）プロポキシ）カルボニルアミノ基、（３−（Ｎ−ｔ−ブチル−ピルバミド）プロポキシ）カルボニルアミノ基などを有する化合物が挙げられる。
【００９４】
これらの中でも、（２−ピルバミドエトキシ）カルボニルアミノ基、（２−（Ｎ−メチル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基、（２−（Ｎ−エチル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基、（２−（Ｎ−プロピル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基、（２−（Ｎ−イソプロピル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基、（２−（Ｎ−ブチル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基、（２−（Ｎ−イソブチル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基、（２−（Ｎ−ｓｅｃ−ブチル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基、（２−（Ｎ−ｔ−ブチル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基、（２−メチル−２−（ピルバミド）プロポキシ）カルボニルアミノ基、（３−ピルバミドプロポキシ）カルボニルアミノ基、（１−メチル−２−（ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基、（１−エチル−２−（ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基などを有する化合物が、原料の入手のしやすさから好ましく、さらに、Ｒ１がメチル基であり、Ｒ２が水素原子又はメチル基であり、Ｙがエチレン基である、（２−ピルバミドエトキシ）カルボニルアミノ基、（２−（Ｎ−メチル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基などを有する化合物が原料が安価であることから特に好ましい。
【００９５】
式（V）で表される化合物と反応させるイソシアネート基含有化合物として、イソシアネート基と（メタ）アクリロイルオキシ基の両方を有する化合物を用いた場合、工程４において（α−オキソアミドアルコキシ）カルボニルアミノ基及び（メタ）アクリロイルオキシ基の両方を有する化合物が得られる。
【００９６】
また、式（V）で表される化合物と反応させるイソシアネート基含有化合物として、２個以上のイソシアネート基を有する化合物を用い、先に式（V）で表される化合物と反応させた後、残りのイソシアネート基に水酸基含有ビニル系モノマーを反応させるか、２個以上のイソシアネート基を有する化合物に、式（V）で表される化合物と水酸基含有ビニル系モノマーを同時に反応させることにより、同様に（α−オキソアミドアルコキシ）カルボニルアミノ基及び（メタ）アクリロイルオキシ基の両方を有する化合物が得られる。
【００９７】
上記付加反応は、室温もしくは加熱条件下で行うことができる。用いる多官能イソシアネート化合物の量は、イソシアネート基の量が水酸基含有ビニル系モノマー由来の水酸基と上記（V）で表される化合物由来の水酸基の合計量に対して、特には限定されないが０．５〜１．５当量、好ましくは０．８〜１．２当量になるようにするのが好ましい。
【００９８】
加熱は通常４０〜１５０℃程度が好ましいが、低温過ぎると反応の進行が遅く、高温過ぎると重合反応が起きやすくなるため、より好ましくは５０〜１４０℃である。
【００９９】
付加反応の際に重合が進行するのを防止するために、系内に、重合禁止剤を添加したり、酸素や空気を吹き込んだりしても良い。重合禁止剤としては、例えば、ベンゾキノンなどのキノン系化合物；ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ジ−ｔ−ブチルメチルフェノールなどのフェノール系化合物；フェニレンジアミン系化合物、フェノチアジンなどのアミン化合物；Ｎ−オキシル化合物、ニトロソ化合物、窒素酸化物などから選ばれる１種以上を用いることができる。重合禁止剤を添加する場合の添加量は、水酸基含有ビニル系モノマーと前述のジイソシアネート類の合計量に対し、特には限定されないが、好ましくは１０〜１０，０００ｐｐｍ、特に好ましくは１００〜５，０００ｐｐｍである。
【０１００】
溶媒は、公知の有機溶剤が使用できる。この場合、溶媒としては非プロトン性溶剤が好ましく、特に、エステル、エーテル、Ｎ−アルキルアミド、ケトンなどが好ましい。溶媒の使用量は特に限定されないが、多過ぎると経済性が低下するので水酸基含有ビニル系モノマーと前述のジイソシアネート類の合計重量に対して５倍以下が好ましい。
【０１０１】
また、反応を促進させるために触媒を用いても良い。触媒としては、ブレンステッド酸触媒、塩基触媒及びルイス酸触媒なる群から選ばれる少なくとも１種の触媒を使用することができるが、触媒性能の観点からルイス酸触媒が好ましい。ここで用いるルイス酸触媒としては、特には限定されないが、例えば、チタニウムテトラアルコキシド、四ハロゲン化チタンなどのチタン化合物；酸化ジアルキル錫、ジアルキル錫ジカルボキシレート、モノアルキル錫トリカルボキシレート、錫ジカルボキシレート、四塩化錫などの錫化合物；ジルコニウムテトラアルコキシド、四ハロゲン化ジルコニウムなどのジルコニウム化合物；亜鉛ジカルボキシレート、ハロゲン化亜鉛などの亜鉛化合物；アルミニウム化合物；鉛化合物；ビスマス化合物；アンチモン化合物；金属アセチルアセトネート化合物；クレイ、酸性白土、活性白土、シリカ、アルミナ、ゼオライト、カチオン交換樹脂などの固体酸触媒類などが反応速度の観点から特に好ましい。触媒の添加量は、特には限定されないが、水酸基含有ビニル系モノマーに対して、固体酸触媒以外の触媒については０．０１〜１０モル％が好ましく、固体酸触媒については０．１〜５００重量％が好ましい。
【０１０２】
付加反応において触媒を用いた場合は、製造後に用いた触媒の一部又は全部を、中和しても良いし、吸着剤で吸着除去しても良い。吸着剤としては、特に限定されないが、例として、酸性白土、活性白土、アルミナ、シリカ、ゼオライト、イオン交換樹脂、酸性無機化合物、塩基性無機化合物などが挙げられる。
【０１０３】
上記（α−オキソアミドアルコキシ）カルボニルアミノ基及び（メタ）アクリロイルオキシ基の両方を有する化合物を単独で重合させるか、又は他のビニル系モノマーと共重合させることにより、（α−オキソアミドアルコキシ）カルボニルアミノ基を有する重合体を合成することができる。
【０１０４】
上記重合体は、式（VI）で表される有機基及び（メタ）アクリロイルオキシ基の両方を有する化合物を用いて、この化合物を単独で重合させるか、又は他のビニル系モノマーと共重合させることにより合成することができるが、式（VI）で表される有機基を有する重合体を先に合成した後、希酸中又は酸性化合物の共存下で水と反応させることにより、（α−オキソアミドアルコキシ）カルボニルアミノ基を含有する重合体を合成することもできる。反応後に系内に残った水や副生するアルコールやチオールは、常圧または減圧条件下で、また、常温または加熱条件下で留去することができる。また、反応に用いた溶媒は、反応中または反応後に留去しても良い。
【０１０５】
重合体を得るための重合方法としては公知の方法を用いることができ、例えばラジカル重合、配位重合、グループトランスファー重合（官能基移動重合）、ＡＴＲＰ重合（原子移動重合）、連鎖移動重合などの方法を用いることができる。また、重合の形態として公知のものを用いることができ、例えば溶液中での均一重合や一括重合、乳化重合、分散重合、懸濁重合などを用いることができる。重合して得られるビニル系重合体の数平均分子量は、特には限定されないが、１，０００〜１，０００，０００程度が好ましい。
【実施例】
【０１０６】
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に記すが、これらの例は単なる実例であって本発明を限定するものではなく、また、本発明の範囲を脱しない範囲で変化させても良い。
【０１０７】
なお、生成物の純度（％）、加熱残分（％）及びモノマーの重合率（％）は以下の方法により求めた。
【０１０８】
生成物の純度（％）：ガスクロマトグラフィーのピーク面積から次式により算出した。
純度（％）＝（Ａ／Ｂ）×１００
ただし、Ａは目的生成物のピーク面積、Ｂは全ピークの合計面積を表す。
【０１０９】
溶液の加熱残分（％）：溶液又は分散液の試料をブリキ皿に載せ、１２５℃の乾燥炉で３時間加熱乾燥させ残渣の重量を秤量し、次式により算出した。
加熱残分（％）＝（Ｃ／Ｄ）×１００
ただし、Ｃは残渣の重量、Ｄは溶液又は分散液の試料の重量を表す。
【０１１０】
モノマーの重合率（％）：次式により算出した。
重合率（％）＝加熱残分（％）／（（モノマーの合計重量＋ラジカル発生剤の重量）／（溶媒の重量＋モノマーの合計重量＋ラジカル発生剤の重量））
また、実施例で用いられる略号は以下を意味する。
ｍ：マルチプレット
ｓ：シングレット
ｂ：ブロード
（α−オキソアミドアルコキシ）カルボニルアミノ基を有する化合物の製造
実施例１
（１）２，２−ジメトキシプロピオン酸メチルの製造
５Ｌフラスコに窒素条件下で、ピルビン酸メチル８４１ｇ（８．２５モル）、オルソギ酸トリメチル１，０６０ｇ（１０モル、１．２モル当量）、メタノール１，０６０ｇ及びパラトルエンスルホン酸一水和物７．８４ｇ（０．０４１モル、０．５モル％）を加え、攪拌した。緩やかな発熱がみられた。その後、５５〜５８℃の温度に１０時間保持した。その後、ナトリウムメトキシドの２８％メタノール溶液約８ｇを加え中和した。その後、エバポレーターで濃縮し、過剰のオルソギ酸トリメチル、メタノール及び生成したギ酸メチルの大部分を除去した。その後、蒸留して無色透明液体の２，２−ジメトキシプロピオン酸メチル１，１１０ｇ（７．５モル、収率９１％、純度９８％）を得た（沸点：８０℃／４０ｍｍＨｇ）。上記の反応は以下に示す式で表すことができ、
【０１１１】
【化１３】
2008150292.tif 000014
【０１１２】
得られた液体について核磁気共鳴分光法による分析（１Ｈ−ＮＭＲ分析（ＣＤＣｌ３））を行なったところδ：３．８２（３Ｈ，ｓ）、３．２９（６Ｈ，ｓ）及び１．５３（３Ｈ，ｓ）にピークがみられた。また、赤外分光法による分析（ＩＲ分析）を行なったところν：３６３２、２９９９、２９５３、２８３７、１７４９、１４５５、１４３７、１３７３、１２９３、１２１６、１１９２、１１４４、１０４６、９７６、８９２、８０１、７６１及び６７６ｃｍ−１に吸収が見られた。
【０１１３】
（２）Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチル−２，２−ジメトキシプロピオン酸アミドの製造
２Ｌフラスコに窒素条件下で、前記（１）で得られた２，２−ジメトキシプロピオン酸メチル１，１１０ｇ（７．５モル）とＮ−メチル−エタノールアミン６１９ｇ（８．２５モル、１．１当量）を混合し、これにさらにナトリウムメトキシドの２８％メタノール溶液１４．５ｇ（０．０７５モル、１モル％）を加え攪拌した。ゆるやかな発熱がみられた。その後、７０℃に昇温し、生成するメタノールを減圧して留去しながら７０℃で２０時間保持したのち、酢酸約５ｇを加え中和した。その後、エバポレーターで濃縮し、生成したメタノールを除去した。そののち、蒸留し、淡黄色透明液体のＮ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチル−２，２−ジメトキシプロピオン酸アミドを１，１４６ｇ（６．０モル、収率８０％）得た（沸点：１３５℃／２ｍｍＨｇ、純度９６％）。
【０１１４】
上記反応は下記式で表すことができ、
【０１１５】
【化１４】
2008150292.tif 000015
【０１１６】
得られた液体について核磁気共鳴分光法による分析（１Ｈ−ＮＭＲ分析（ＣＤＣｌ３））を行なったところδ：３．５８−３．８４（４Ｈ，ｍ）、２．９９−３．３２（９Ｈ，ｍ）、２．５０−２．９９（１Ｈ，ｂ）及び１．５４−１．５６（３Ｈ，ｍ）にピークがみられた。また、赤外分光法による分析（ＩＲ分析）を行なったところν：３４４５、２９４５、２８３７、１６３４、１４９８、１４５６、１４３７、１４０４、１３７５、１２２６、１１４９、１１０６、１０４１、８９２、７４７及び６５５ｃｍ−１に吸収が見られた。
【０１１７】
（３）式（VI）で表される有機基を有する化合物の製造
５００ｍｌフラスコに、前記（２）で得られたＮ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチル−２，２−ジメトキシプロピオン酸アミド９０．７ｇ（０．４７５モル）とデュラネートＴＰＡ−１００（旭化成ケミカルズ（株）製：イソシアヌレート基含有ポリイソシアネート、ＮＣＯ含有率２３．１重量％）９０．９ｇ（ＮＣＯ含有量０．５０モル）とテトラヒドロフラン２２．７ｇを混合し攪拌した。これにさらに、ジブチル錫ジラウレート０．１５２ｇを加え攪拌し、７０℃で１８時間保持した。その後、プロピレングリコールモノメチルエーテル２２．７ｇを加えよく攪拌し、さらに７０℃で２０時間保持し、式（VI）で表される有機基に相当する（２−（Ｎ−メチル−２，２−ジメトキシプロピオン酸アミド）エトキシ）カルボニルアミノ基を有する化合物の溶液（固形分約８１％）を得た。この化合物を分析するために、溶液の一部を減圧下で乾燥させ、得られた固形分を核磁気共鳴分光法により分析した（１Ｈ−ＮＭＲ分析（ＣＤＣｌ３））ところ、（２−（Ｎ−メチル−２，２−ジメトキシプロピオン酸アミド）エトキシ）カルボニルアミノ基に相当する以下のピークを確認した。δ：４．９０−５．２２（１Ｈ，ｂ）、４．１７−４．３３（２Ｈ，ｍ）、３．５７−３．９２（２Ｈ，ｍ）、３．２７（６Ｈ，ｓ）、２．９９−３．２７（３Ｈ，ｍ）、１．５０−１．５１（３Ｈ，ｍ）。
【０１１８】
（４）式（I）で表される有機基を有する化合物の製造
３００ｍｌフラスコに、前記（３）で得られた（２−（Ｎ−メチル−２，２−ジメトキシプロピオン酸アミド）エトキシ）カルボニルアミノ基を有する化合物の溶液１８０ｇ（固形分約８１％）、プロピレングリコールモノメチルエーテル１００ｇ、水７０ｇ及びパラトルエンスルホン酸一水和物０．５７６ｇを加え、９０℃で４時間攪拌し、その後、さらにトリエチルアミン０．１５３ｇを加えて部分的に中和し、式（I）で表される有機基に相当する（２−（Ｎ−メチル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基を有する化合物の溶液（固形分約３７％）を得た。この化合物を分析するために、溶液の一部を減圧下で乾燥させ、得られた固形分を核磁気共鳴分光法により分析した（１Ｈ−ＮＭＲ分析（ＣＤＣｌ３））ところ、（２−（Ｎ−メチル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基に相当する以下のピークを確認した。δ：４．８０−５．１５（１Ｈ，ｂ）、４．１４−４．３４（２Ｈ，ｍ）、３．５５−３．７５（２Ｈ，ｍ）、３．０２−３．０６（３Ｈ，ｍ）、２．４２（３Ｈ，ｓ）。
【０１１９】
次に、得られた（２−（Ｎ−メチル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基を有する化合物の溶液１００ｇ（固形分約３７ｇ、水約１８ｇ及びその他有機溶剤約４５ｇをそれぞれ含む）にさらに水１９ｇを混合して固形分と水の含有量がほぼ同量になるようにし、促進加水分解試験として８０℃で４８時間の熱負荷を加えた。その後、溶液の一部を減圧下で乾燥させ、得られた固形分を核磁気共鳴分光法により分析し、（２−（Ｎ−メチル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基の熱負荷による消失量を検量したところ、消失量は３％未満であった。すなわち、（２−（Ｎ−メチル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基を有する化合物は、貯蔵安定性に優れていることが確認された。
【０１２０】
比較例１
１Ｌのフラスコに、トリメチロールプロパン１３４ｇ（１モル）、アセト酢酸ｔ−ブチル４７４ｇ（３モル）及び酸化ジブチル錫０．３９１ｇを加え、１２０℃に昇温して反応させ、さらに減圧しながら留出してくるｔ−ブチルアルコールを除去し、アセトアセトキシ基を有する化合物３８６ｇを得た。この化合物を核磁気共鳴分光法により分析した（１Ｈ−ＮＭＲ分析（ＣＤＣｌ３））ところ、アセトアセトキシ基に相当する以下のピークを確認した。δ：３．５０（２Ｈ，ｓ）、２．２７（３Ｈ，ｓ）。なお、大部分のアセトアセトキシ基は、ケト型として存在していた。
【０１２１】
次に、得られたアセトアセトキシ基を有する化合物３７ｇ、水３７ｇ及びプロピレングリコールモノメチルエーテル４５ｇを混合して固形分と水の含有量がほぼ同量になるようにし、促進加水分解試験として８０℃で４８時間の熱負荷を加えた。その後、溶液の一部を減圧下で乾燥させ、得られた固形分を核磁気共鳴分光法により分析し、アセトアセトキシ基の熱負荷による消失量を検量したところ、消失量は約１７％であった。すなわち、アセトアセトキシ基を有する化合物の貯蔵安定性は悪かった。
【０１２２】
実施例２
３００ｍｌフラスコに、２−イソシアネートエチルメタクリレート７８ｇ、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．１７ｇ及びジブチル錫ジラウレート０．０３ｇを仕込み、これに空気を吹き込みながら攪拌し１１０℃を保持しながら実施例１の（２）で得られた（Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチル−２，２−ジメトキシプロピオン酸アミド９６ｇを滴下しさらに１０時間同温度に保持し、２−（（２−（Ｎ−メチル−２，２−ジメトキシプロピオン酸アミド）エトキシ）カルボニルアミノ）エチルメタクリレート１７４ｇを得た。これに、テトラヒドロフラン１７４ｇ、水４０ｇ及びパラトルエンスルホン酸一水和物０．３４ｇを加え、８０℃で５時間攪拌し、その後、トリエチルアミン０．１ｇを加えて部分的に中和し、さらに溶剤と水を揮発させて濃縮し、式（I）で表される有機基に相当する（２−（Ｎ−メチル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基とメタクリロイルオキシ基の両方を有する化合物である２−（（２−（Ｎ−メチル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ）エチルメタクリレート約１５０ｇを得た（純度９７％）。これを核磁気共鳴分光法により分析した（１Ｈ−ＮＭＲ分析（ＣＤＣｌ３））ところ、（２−（Ｎ−メチル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基とメタクリロイルオキシ基に相当する以下のピークを確認した。δ：６．１１（１Ｈ，ｍ）、５．６０（１Ｈ，ｍ）、４．７８−５．１８（１Ｈ，ｂ）、４．１２−４．３６（２Ｈ，ｍ）、３．５４−３．７７（２Ｈ，ｍ）、３．００−３．０４（３Ｈ，ｍ）、２．４１（３Ｈ，ｓ）、１．９５（３Ｈ，ｓ）。
【０１２３】
次に、得られた２−（（２−（Ｎ−メチル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ）エチルメタクリレート１０ｇ、テトラヒドロフラン１０ｇ及び水５ｇを混合し、これに空気を吹き込みながら、促進加水分解試験として８０℃で２４時間の熱負荷を加えた。その後、溶液の一部を減圧下で乾燥させ、得られた固形分を核磁気共鳴分光法により分析し、（２−（Ｎ−メチル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基の熱負荷による消失量を検量したところ、消失量は約５％と小さかった。すなわち、２−（（２−（Ｎ−メチル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ）エチルメタクリレートは、貯蔵安定性に優れていることが確認された。
【０１２４】
実施例３
窒素置換した２００ｍｌのフラスコに、溶剤であるエチレングリコールモノブチルエーテル３０ｇを入れ、攪拌しながら１００℃に加熱した。同温度に保持しながら、これに、実施例２で得られた２−（（２−（Ｎ−メチル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ）エチルメタクリレート１０ｇ、メチルメタクリレート１０ｇ、２−ヒドロキシエチルアクリレート２ｇ、２−エチルヘキシルアクリレート８ｇ、２−エチルヘキシルメタクリレート５ｇ、スチレン５ｇ及びラジカル発生剤である２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）１．５ｇの混合物をシリンジポンプを用いて４時間かけて加えた。その後、同温度に保持しながら、エチレングリコールモノブチルエーテル３０ｇ及び２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）０．５ｇの混合物を同様にして１時間かけて加えた。その後、同温度で１時間熟成したのち、室温まで冷却したところ、粘調な液体が得られた。この液体の加熱残分は４０．５％であり、重合率は約９８％と計算されたことから、２−（（２−（Ｎ−メチル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ）エチルメタクリレートの共重合体を製造できたことが確認された。この共重合体を分析するために、溶液の一部を減圧下で乾燥させ、得られた固形分を核磁気共鳴分光法により分析した（１Ｈ−ＮＭＲ分析（ＣＤＣｌ３））ところ、（２−（Ｎ−メチル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基に相当する以下のピークを確認した。δ：４．８０−５．１５（１Ｈ，ｂ）、４．１４−４．３４（２Ｈ，ｍ）、３．５５−３．７５（２Ｈ，ｍ）、３．０２−３．０６（３Ｈ，ｍ）、２．４２（３Ｈ，ｓ）。
【０１２５】
次に、得られた（２−（Ｎ−メチル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基を有する共重合体の溶液５０ｇ（固形分約２０ｇ及び有機溶剤約３０ｇをそれぞれ含む）にさらに水５ｇを混合し、促進加水分解試験として８０℃で４８時間の熱負荷を加えた。その後、溶液の一部を減圧下で乾燥させ、得られた固形分を核磁気共鳴分光法により分析し、（２−（Ｎ−メチル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基の熱負荷による消失量を検量したところ、消失量は３％未満であった。すなわち、（２−（Ｎ−メチル−ピルバミド）エトキシ）カルボニルアミノ基を有する化合物は、貯蔵安定性に優れていることが確認された。