(57)【要約】【課題】表示パネルが湾曲した状態でも、平面状態と同等の表示品位を得る。【解決手段】マトリクス状に配列された複数の画素電極１７を有するアクティブマトリクス基板２０と、アクティブマトリクス基板２０に対向して配置され、カラーフィルタ層を有するカラーフィルタ基板３０とを備えた液晶表示パネル５０であって、カラーフィルタ層は、複数の画素電極１７の一方の配列方向に沿って、各々、所定の色に着色され、互いに平行に延びる複数の着色層１８ａを備えている。【選択図】図２
2008096730.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マトリクス状に配列された複数の画素電極を有するアクティブマトリクス基板と、
上記アクティブマトリクス基板に対向して配置され、カラーフィルタ層を有するカラーフィルタ基板とを備えた表示パネルであって、
上記カラーフィルタ層は、上記複数の画素電極の一方の配列方向に沿って、各々、所定の色に着色され、互いに平行に延びる複数の着色層を備えていることを特徴とする表示パネル。
【請求項２】
請求項１に記載された表示パネルにおいて、
上記アクティブマトリクス基板及びカラーフィルタ基板は、可撓性を有し、上記各着色層の延びる方向に沿って湾曲した曲面状に形成されていることを特徴とする表示パネル。
【請求項３】
請求項１に記載された表示パネルにおいて、
上記アクティブマトリクス基板及びカラーフィルタ基板の間には、液晶層が設けられていることを特徴とする表示パネル。
【請求項４】
請求項１に記載された表示パネルにおいて、
上記カラーフィルタ基板の各着色層の間には、遮光膜が設けられていることを特徴とする表示パネル。
【請求項５】
請求項１に記載された表示パネルにおいて、
上記アクティブマトリクス基板及びカラーフィルタ基板は、プラスチック基板であることを特徴とする表示パネル。
【請求項６】
表示パネル用のカラーフィルタ層を有するカラーフィルタ基板であって、
上記カラーフィルタ層は、各々、所定の色に着色され、互いに平行に延びる複数の着色層を備えていることを特徴とするカラーフィルタ基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示パネル及びそれに用いられるカラーフィルタ基板に関し、特に、フレキシブルな表示パネルに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示装置や有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置などの分野では、プラスチック基板などの可撓性基板を用いて作製されたフレキシブルな表示パネルが注目されている。
【０００３】
例えば、特許文献１には、所定の軸周りに湾曲した状態又は平面状態に変形可能な表示パネルと、その表示パネルに実装され、表示パネルを駆動するための棒状のドライバＩＣとを備え、そのドライバＩＣが湾曲するときの軸に対して平行となるように配置された表示装置が開示されている。これによれば、ドライバＩＣが比較的長い形状であっても、表示パネルの湾曲変形を剛性が高いドライバＩＣによって阻害させないようにすることができる、と記載されている。
【特許文献１】特開２００５−３３８１７９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
図５は、従来の湾曲変形可能な液晶表示パネル１５０の断面模式図である。
【０００５】
この液晶表示パネル１５０は、互いに対向して配置されたアクティブマトリクス基板１２０及びカラーフィルタ基板１３０と、それらの両基板１２０及び１３０の間に設けられた液晶層１２５とを備えている。
【０００６】
アクティブマトリクス基板１２０は、プラスチック基板などの絶縁基板１１０ａと、絶縁基板１１０ａ上に画像の最小単位である画素毎に設けられた薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor、以下、「ＴＦＴ」と称する）１０５と、各ＴＦＴ１０５のドレイン電極１１４ｂに接続された画素電極１１７とを備えている。ここで、アクティブマトリクス基板１２０では、複数の画素電極１１７がマトリクス状に配置されている。
【０００７】
カラーフィルタ基板１３０は、プラスチック基板などの絶縁基板１１０ｂと、絶縁基板１１０ｂ上に設けられたカラーフィルタ層１１８と、カラーフィルタ層１１８上に設けられた共通電極１１９とを備えている。ここで、カラーフィルタ層１１８は、図６に示すように、アクティブマトリクス基板１２０上の各画素電極１１７に対応してマトリクス状に設けられた着色層１１８ａと、各着色層１１８ａの間に設けられたブラックマトリクス１１８ｂとを備えている。なお、各着色層１１８ａは、例えば、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）又は青（Ｂ）に着色されている。
【０００８】
また、液晶表示パネル１５０では、各画素電極１１７と各着色層１１８ａとが重畳するように、アクティブマトリクス基板１２０とカラーフィルタ基板１３０とが互いに位置合わせされた状態で貼り合わされている。そして、図７に示すように、液晶表示パネル１５０を軸Ｌ周りに湾曲状に変形させた場合には、例えば、図８中のＣ領域において、各画素電極１１７と各着色層１１８ａとが重畳していたとしても、湾曲方向に沿った先の図８中の領域Ｅにおいて、各画素電極１１７と各着色層１１８ａとが重畳しなくなることがある。
【０００９】
具体的には、図８に示すように、カラーフィルタ基板１３０が外側になるように液晶表示パネル１５０を湾曲状に変形させた場合、カラーフィルタ基板１３０の曲率半径がアクティブマトリクス基板１２０の曲率半径よりも大きくなるので、図９に示すように、例えば、左上から３番目の画素電極１１７ｃが本来単独で重畳すべき左上から３番目の着色層１１８ａ（Ｒ３）だけでなく、その右隣の左上から４番目の着色層１１８ａ（Ｒ４）にも重畳することになる。そうなると、例えば、着色層１１８ａ（Ｒ４）では、画素電極１１７ｄ−着色層１１８ａ（Ｒ４）間の本来かかるべき印加電圧によって発色するだけではなく、画素電極１１７ｃ−着色層１１８ａ（Ｒ４）間の本来かかるべきでない印加電圧によっても発色することになるため、液晶表示パネル１５０の表示品位が著しく低下してしまう。
【００１０】
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、表示パネルが湾曲した状態であっても、平面状態と同等の表示品位を保持することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を達成するために、本発明は、カラーフィルタ層が、各々、所定の色に着色され、互いに平行に延びる複数の着色層を備えるようにしたものである。
【００１２】
具体的に本発明に係る表示パネルは、マトリクス状に配列された複数の画素電極を有するアクティブマトリクス基板と、上記アクティブマトリクス基板に対向して配置され、カラーフィルタ層を有するカラーフィルタ基板とを備えた表示パネルであって、上記カラーフィルタ層は、上記複数の画素電極の一方の配列方向に沿って、各々、所定の色に着色され、互いに平行に延びる複数の着色層を備えていることを特徴とする。
【００１３】
上記の構成によれば、カラーフィルタ基板上のカラーフィルタ層が、アクティブマトリクス基板上の複数の画素電極の一方の配列方向に沿って、各々、例えば、赤色、緑色又は青色の所定の色に着色され、互いに平行に延びる複数の着色層を備えているので、各画素電極により構成され、上記一方の配列方向に沿って並ぶ各画素の間には、従来のカラーフィルタ基板上に設けられていたブラックマトリクスが存在しないことになる。そのため、表示パネルが画素電極の一方の配列方向に沿って、すなわち、カラーフィルタ基板上の各着色層の延びる方向に沿って湾曲している場合であっても、アクティブマトリクス基板上の各画素電極に対応するカラーフィルタ基板上の各領域には、ブラックマトリクスが配置されずに、表示パネルが平面状態である場合と同様に、所定の各着色層が配置されるので、平面状態と同等の表示品位が保持される。これにより、表示パネルが湾曲した状態であっても、平面状態と同等の表示品位が保持される。
【００１４】
また、上記のように、アクティブマトリクス基板に対向する基板側にカラーフィルタ層が設けられたフレキシブルな表示パネルにおいて、湾曲した状態であっても、平面状態と同等の表示品位が保持されるので、フレキシブルな表示パネルにおいて、アクティブマトリクス基板の歩留まりに大きく左右するカラーフィルタオンアレイ（CF on Array）構造を採用する必要がなくなる。
【００１５】
上記アクティブマトリクス基板及びカラーフィルタ基板は、可撓性を有し、上記各着色層の延びる方向に沿って湾曲した曲面状に形成されていてもよい。
【００１６】
上記の構成によれば、表示パネルがカラーフィルタ基板の各着色層の延びる方向に沿って湾曲した曲面状に形成されるので、本発明の作用効果が具体的に奏される。ここで、表示パネルの曲面形状は、凸面及び凹面のどららであってもよい。
【００１７】
上記アクティブマトリクス基板及びカラーフィルタ基板の間には、液晶層が設けられていてもよい。
【００１８】
上記の構成によれば、アクティブマトリクス基板及びカラーフィルタ基板の間に液晶層が設けられた液晶表示パネルにおいて、本発明の作用効果が具体的に奏される。
【００１９】
上記カラーフィルタ基板の各着色層の間には、遮光膜が設けられていてもよい。
【００２０】
上記の構成によれば、遮光膜が互いに平行に延びる複数の着色層の間に設けられているので、表示パネルがカラーフィルタ基板上の各着色層の延びる方向に沿って湾曲している場合であっても、アクティブマトリクス基板上の各画素電極に対応するカラーフィルタ基板上の各領域に遮光膜が配置されないことになる。
【００２１】
上記アクティブマトリクス基板及びカラーフィルタ基板は、プラスチック基板であってもよい。
【００２２】
上記の構成によれば、アクティブマトリクス基板及びカラーフィルタ基板が可撓性を有するプラスチック基板であるので、表示パネルがカラーフィルタ基板の各着色層の延びる方向に沿って湾曲した曲面状に形成され、本発明の作用効果が具体的に奏される。
【００２３】
また、本発明に係るカラーフィルタ基板は、表示パネル用のカラーフィルタ層を有するカラーフィルタ基板であって、上記カラーフィルタ層は、各々、所定の色に着色され、互いに平行に延びる複数の着色層を備えていることを特徴とする。
【００２４】
上記の構成によれば、カラーフィルタ層が、各々、例えば、赤色、緑色又は青色の所定の色に着色され、互いに平行に延びる複数の着色層を備えているので、各着色層の間には、従来のカラーフィルタ基板上に設けられていたブラックマトリクスが存在しないことになる。そのため、そのカラーフィルタ基板が、例えば、マトリクス状に配列された複数の画素電極を有するアクティブマトリクス基板に対向して配置させることにより、表示パネルを構成し、その表示パネルがカラーフィルタ基板上の各着色層の延びる方向に沿って湾曲している場合であっても、アクティブマトリクス基板上の各画素電極に対応するカラーフィルタ基板上の各領域には、ブラックマトリクスが配置されずに、表示パネルが平面状態である場合と同様に、所定の各着色層が配置されるので、平面状態と同等の表示品位が保持される。これにより、表示パネルが湾曲した状態であっても、平面状態と同等の表示品位が保持される。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、カラーフィルタ層が、各々、所定の色に着色され、互いに平行に延びる複数の着色層を備えているため、表示パネルが湾曲した状態であっても、平面状態と同等の表示品位を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。以下の実施形態では、表示パネルとして、各画素毎にＴＦＴが設けられた液晶表示パネルを例示して説明する。なお、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではない。
【００２７】
図１は、本発明の実施形態に係る液晶表示パネル５０の斜視図であり、図２は、液晶表示パネル５０の平面状態での断面模式図である。
【００２８】
液晶表示パネル５０は、図２に示すように、アクティブマトリクス基板２０と、アクティブマトリクス基板２０に対向して配置されたカラーフィルタ基板３０と、アクティブマトリクス基板２０及びカラーフィルタ基板３０の間に設けられた液晶層２５とを備えている。
【００２９】
アクティブマトリクス基板２０は、互いに平行に延びるように設けられた複数のゲート線（不図示）と、各ゲート線と直交する方向に互いに平行に延びるように設けられた複数のソース線（不図示）と、各ゲート線ａ及び各ソース線の交差部分のそれぞれに設けられたＴＦＴ５と、隣り合う一対のゲート線及び一対のソース線で囲われる領域に各ＴＦＴ５に対応して設けられた画素電極１７とを備えている。ここで、アクティブマトリクス基板２０では、各画素電極１７によって画像の最小単位である画素が構成され、それらの画素がマトリクス状に配置されることによって表示領域が構成されている。なお、各ゲート線の間には、補助容量を構成するための容量線が設けられていてもよい。
【００３０】
ＴＦＴ５は、図２に示すように、絶縁基板１０ａ上に設けられたゲート電極１１と、ゲート電極１１を覆うように設けられたゲート絶縁膜１２と、ゲート絶縁膜１２上でゲート電極１１に対応する位置に島状に設けられた半導体層１３と、半導体層１３上で互いに対峙するように設けられたソース電極１４ａ及びドレイン電極１４ｂとを備えている。ここで、ゲート電極１１は、ゲート線の延びる方向に対して側方に突出した部分であり、ソース電極１４ａは、ソース線の延びる方向に対して側方に突出した部分である。また、ドレイン電極１４ｂは、保護絶縁膜１５及び層間絶縁膜１６の積層膜に形成されたコンタクトホールを介して画素電極１７に接続されている。
【００３１】
また、アクティブマトリクス２０は、可撓性を有する絶縁基板１０ａ上に、ゲート絶縁膜１２、保護絶縁膜１５及び層間絶縁膜１６が順に積層された多層積層構造になっている。
【００３２】
絶縁基板１０ａとゲート絶縁膜１２との層間には、上記各ゲート線及びゲート電極１１がそれぞれ設けられている。
【００３３】
ゲート絶縁膜１２と保護絶縁膜１５及び層間絶縁膜１６の積層膜との層間には、半導体層１３と、半導体層１３の上層に配置された上記各ソース線、ソース電極１４ａ及びドレイン電極１４ｂとがそれぞれ設けられている。
【００３４】
保護絶縁膜１５及び層間絶縁膜１６の積層膜の上層には、画素電極１７がマトリクス状に設けられている。
【００３５】
カラーフィルタ基板３０は、可撓性を有する絶縁基板１０ｂ上に、カラーフィルタ層１８、及び共通電極１９が順に積層された多層積層構造になっている。
【００３６】
カラーフィルタ層１８は、図３に示すように、アクティブマトリクス基板２０上の複数の画素電極１７の一方の配列方向（図中の縦方向）に沿って、各々、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）又は青色（Ｂ）に着色され、互いに平行に延びるようにストライプ配列された複数の着色層１８ａ、すなわち、１８ａ（Ｒ）、１８ａ（Ｇ）及び１８ａ（Ｂ）と、各着色層１８ａの間に互いに平行に延びるように設けられた遮光膜１８ｂとを備えている。ここで、各着色層１８ａの大きさは、パネルサイズが２．６インチ（ＱＶＧＡ用、画素数：垂直３２０×ＲＧＢ×水平２４０）の場合、縦５ｃｍ×横５４μｍ程度であり、パネルサイズが５７インチ（Ｆｕｌｌ ＨＤ用、画素数：垂直１９２０×ＲＧＢ×水平１０８０）の場合、縦７１ｃｍ×横２００μｍ程度である。
【００３７】
液晶層２５は、電気光学特性を有するネマチック液晶材料などにより構成されている。
【００３８】
上記構成の液晶表示パネル５０は、各画素において、ゲート線からゲート電極１１を介してゲート信号が送られてＴＦＴ５をオン状態になったときに、ソース線からソース信号が送られてソース電極１４ａ及びドレイン電極１４ｂを介して、画素電極１７に所定の電荷を書き込まれ、画素電極１７及び共通電極１９の間で電位差が生じることになり、液晶層２５からなる液晶容量に所定の電圧が印加されるように構成されている。そして、液晶表示パネル５０では、液晶層２５の印加電圧の大きさに応じて液晶分子の配向状態が変わることを利用して、外部から入射する光の透過率を調整することにより、画像が表示される。
【００３９】
また、液晶表示パネル５０は、図１に示すように、軸Ｌ周りに、各着色層１８ａの延びる方向に沿って湾曲した曲面状に形成されるように構成されている。そして、液晶表示パネル５０では、カラーフィルタ基板３０上の各着色層１８ａがその湾曲方向に沿って延びるように設けられているので、図４に示すように、例えば、カラーフィルタ基板３０の曲率半径がアクティブマトリクス基板２０の曲率半径よりも大きくなっても、アクティブマトリクス基板２０上の各画素電極１７（１７ａ〜１７ｅ）がカラーフィルタ基板３０上に延びる着色層１８ａ（Ｒ）に重畳することになる。
【００４０】
次に、図２を参照し、本実施形態の液晶表示パネル５０の製造方法について一例を挙げて説明する。本実施形態の製造方法は、アクティブマトリクス基板作製工程、カラーフィルタ基板作製工程及び液晶層形成工程とを備えている。
【００４１】
＜アクティブマトリクス基板作製工程＞
まず、プラスチック基板（例えば、厚さ０．０５ｍｍ〜０．２ｍｍ程度）などの絶縁基板１０ａ上の基板全体に、アルミニウムやモリブデンなどからなる金属膜を膜厚３０００Å程度でスパッタリング法により成膜し、その後、フォトリソグラフィー技術によりパターン形成して、ゲート線及びゲート電極１１を形成する。
【００４２】
続いて、ゲート線及びゲート電極１１が形成された基板全体に、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法により窒化シリコン膜などを膜厚４０００Å程度で成膜し、ゲート絶縁膜１２を形成する。
【００４３】
さらに、ゲート絶縁膜１２上の基板全体に、ＣＶＤ法により真性アモルファスシリコン膜（膜厚２０００Å程度）と、リンがドープされたｎ＋アモルファスシリコン膜（膜厚１０００Å程度）とを連続して成膜し、その後、フォトリソグラフィー技術によりゲート電極１１上に島状にパターン形成して、真性アモルファスシリコン層及びｎ＋アモルファスシリコン層からなる半導体層１３を形成する。
【００４４】
そして、半導体層１３が形成されたゲート絶縁膜１２上の基板全体に、アルミニウムやモリブデンなどからなる金属膜を膜厚２０００Å程度でスパッタリング法により成膜し、その後、フォトリソグラフィー技術によりパターン形成して、ソース線、ソース電極１４ａ及びドレイン電極１４ｂを形成する。
【００４５】
続いて、ソース電極１４ａ及びドレイン電極１４ｂをマスクとして半導体層１３のｎ＋アモルファスシリコン層を部分的にエッチングすることにより、チャネル部を形成する。これにより、ＴＦＴ５が形成される。
【００４６】
さらに、ＴＦＴ５が形成された基板全体に、ＣＶＤ法を用いて窒化シリコン膜などを膜厚３０００Å程度で成膜し、続いて、スピンコート法などにより膜厚２．０μｍ程度で感光性アクリル樹脂などを塗布した後に、フォトリソグラフィー技術によりドレイン電極１４ｂ上にコンタクトホールをパターン形成して、保護絶縁膜１５及び層間絶縁膜１６からなる積層膜を形成する。
【００４７】
そして、層間絶縁膜１６上の基板全体に、酸化インジウムと酸化スズとの化合物であるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）膜を膜厚１０００Å程度でスパッタリング法により成膜し、その後、フォトリソグラフィー技術によりパターン形成して、画素電極１７を形成する。
【００４８】
最後に、画素電極１７が形成された基板全体に、ポリイミド樹脂を塗布した後に、ラビング処理を行うことにより、配向膜を形成する。
【００４９】
以上のようにして、アクティブマトリクス基板２０を作製することができる。
【００５０】
なお、本実施形態のアクティブマトリクス基板作製工程では、半導体層１３をアモルファスシリコン膜から形成させる方法を例示したが、ポリシリコン膜から形成させてもよく、さらには、アモルファスシリコン膜にレーザアニール処理を行って結晶性を向上させてもよい。
【００５１】
＜カラーフィルタ基板作製工程＞
まず、プラスチック基板（例えば、厚さ０．０５ｍｍ〜０．２ｍｍ程度）などの絶縁基板１０ｂ上の基板全体に、黒色に着色した感光性樹脂を膜厚２μｍ程度で成膜した後、フォトリソグラフィー技術によりパターン形成して遮光膜１８ｂを形成する。
【００５２】
続いて、各遮光膜１８ｂ間に、赤色、緑色又は青色に着色されたカラーレジストを膜厚１．５μｍ程度で成膜した後、フォトリソグラフィー技術によりパターン形成し、さらに、これを他の２色について繰り返して着色層１８ａ（Ｒ）、着色層１８ａ（Ｇ）及び着色層１８ａ（Ｂ）を形成する。これにより、着色層１８ａ及び遮光膜１８ｂからなるカラーフィルタ層１８が形成される。なお、本実施形態では、各着色層１８ａ（Ｒ）、１８ａ（Ｇ）及び１８ａ（Ｂ）をフォトリソグラフィー技術により形成する方法を例示したが、本発明は、各着色層をインクジェット方式などにより形成してもよい。
【００５３】
さらに、カラーフィルタ層１８上の基板全体に、ＩＴＯ膜を膜厚１０００Å程度で成膜して共通電極１９を形成する。
【００５４】
最後に、共通電極１９上の基板全体に、ポリイミド樹脂を塗布した後に、ラビング処理を行うことにより、配向膜を形成する。
【００５５】
以上のようにして、カラーフィルタ基板３０を作製することができる。
【００５６】
＜液晶層形成工程＞
まず、例えば、上記カラーフィルタ基板作製工程で作製されたカラーフィルタ基板３０に、スクリーン印刷又はディスペンサによって熱硬化性エポキシ樹脂などからなるシール材料を表示領域を囲むように液晶注入口の部分を欠いた枠状パターンに塗布することにより、シールパターンを形成する。
【００５７】
続いて、上記シールパターンが形成されたカラーフィルタ基板３０の表示領域に、液晶層２５の厚さに相当する直径（例えば、５μｍ程度）を持ち、プラスチックやシリカビーズなどからなる球状のスペーサーを散布する。なお、本実施形態では、基板上にスペーサを配置する方法として、基板上に球状のスペーサを散布する方法を例示したが、本発明は、例えば、アクティブマトリクス基板上にフォトリソグラフィー技術によりフォトスペーサを形成する方法などであってもよい。
【００５８】
さらに、シールパターンが形成されたアクティブマトリクス基板２０と、スペーサーが散布されたカラーフィルタ基板３０とを貼り合わせた後に加熱することにより、シールパターンを硬化させて、空の液晶表示パネルを作製する。
【００５９】
最後に、空の液晶表示パネルに、減圧法により液晶材料を注入した後、液晶注入口にＵＶ硬化樹脂を塗布し、ＵＶ照射により、液晶材料を封止する。これによって、液晶層２５が形成される。
【００６０】
以上のようにして、本実施形態の液晶表示パネル５０を製造することができる。また、この後、液晶表示パネル５０を各着色層１８ａの延びる方向に沿って湾曲させ、曲面状に固定することにより、図１に示すように、液晶表示パネル５０を軸Ｌ周りに湾曲した湾曲状態に製造することができる。
【００６１】
以上説明したように、本実施形態の液晶表示パネル５０によれば、カラーフィルタ基板３０上のカラーフィルタ層１８が、アクティブマトリクス基板２０上の複数の画素電極１７の一方の配列方向に沿って、各々、赤色、緑色又は青色に着色され、互いに平行に延びる複数の着色層１８ａを備えているので、各画素電極１７により構成され、画素電極１７の一方の配列方向に沿って並ぶ各画素の間には、従来のカラーフィルタ基板１３０上に設けられていたブラックマトリクス１１８ｂ（図６参照）が存在しないことになる。そのため、液晶表示パネル５０が画素電極１７の一方の配列方向に沿って、すなわち、カラーフィルタ基板３０上の各着色層１８ａの延びる方向に沿って湾曲している場合であっても、アクティブマトリクス基板２０上の各画素電極１７に対応するカラーフィルタ基板３０上の各領域には、ブラックマトリクス（１１８ｂ）が配置されずに、液晶表示パネル５０が平面状態である場合と同様に、各着色層１８ａが配置されるので、平面状態と同等の表示品位を保持することができる。これにより、液晶表示パネル５０が湾曲した状態であっても、平面状態と同等の表示品位を保持することができる。
【００６２】
なお、本実施形態では、ＲＧＢの３色の組み合わせの着色層１８ａを例示したが、本発明は、ＲＧＢの３色にイエロー（Ｙ）及びシアン（Ｃ）などを追加した多色の組み合わせの着色層であっても、その他の色の組み合わせの着色層であってもよい。
【産業上の利用可能性】
【００６３】
以上説明したように、本発明は、湾曲した状態であっても、平面状態と同等の表示品位を保持することができるので、フレキシブルな表示パネルについて有用である。
【図面の簡単な説明】
【００６４】
【図１】本発明の実施形態に係る液晶表示パネル５０の斜視図である。
【図２】平面状態での本発明の実施形態に係る液晶表示パネル５０を示した断面模式図である。
【図３】本発明の実施形態に係る液晶表示パネル５０を構成するカラーフィルタ基板３０の平面模式図である。
【図４】湾曲状態での本発明の実施形態に係る液晶表示パネル５０における画素電極１７ａ〜１７ｅ及び着色層１８ａ（Ｒ）を示した断面模式図である。
【図５】従来の液晶表示パネル１５０を示した断面模式図である。
【図６】従来の液晶表示パネル１５０を構成するカラーフィルタ基板１３０の平面模式図である。
【図７】従来の液晶表示パネル１５０を湾曲させたときの斜視図である。
【図８】従来の液晶表示パネル１５０を湾曲させたときの状態を示した断面模式図である。
【図９】従来の湾曲状の液晶表示パネル１５０における画素電極１１７ａ〜１１７ｅ及び着色層１１８ａ（Ｒ１〜Ｒ６）を示した断面模式図である。
【符号の説明】
【００６５】
１７      画素電極
１８      カラーフィルタ層
１８ａ    着色層
１８ｂ    遮光膜
２０      アクティブマトリクス基板
２５      液晶層
３０      カラーフィルタ基板
５０      液晶表示パネル
【図１】
2008096730.tif 000003
【図２】
2008096730.tif 000004
【図３】
2008096730.tif 000005
【図４】
2008096730.tif 000006
【図５】
2008096730.tif 000007
【図６】
2008096730.tif 000008
【図７】
2008096730.tif 000009
【図８】
2008096730.tif 000010
【図９】
2008096730.tif 000011