(57)【要約】      （修正有）【課題】医薬など幅広く利用されている５位置換オキサゾール誘導体の合成が可能であり、簡便に調製できるオキサゾール−５−イル基導入試薬を提供する。【解決手段】一般式（１）2008088128.tif 000078で示されるオキサゾール−５−イルボロン酸誘導体、それらの製造方法、およびそれらを用いたオキサゾール−５−イル基導入方法を提供するものである。（式中、Ｒ１はアルキル基、アリール基などを表し、Ｒ２は水素原子、アリール基などを表し、Ｒ３及びＲ４は水素原子、アルキル基などを表し、Ｒ３とＲ４が一体となって環を形成してもよい。）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式(1)
【化１】
2008088128.tif 000057
（式中、Ｒ１は置換していてもよいＣ１〜Ｃ８アルキル基、置換していてもよいＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基、置換していてもよいＣ７〜Ｃ１１アラルキル基、置換していてもよいＣ２〜Ｃ８アルケニル基、置換していてもよいＣ２〜Ｃ８アルキニル基、置換していてもよい芳香族基、水酸基の保護基で保護されていてもよい水酸基、置換していてもよいＣ１〜Ｃ８アルコキシ基、ホルミル基、置換していてもよいＣ２〜Ｃ８アシル基、置換していてもよいＣ２〜Ｃ８アルコキシカルボニル基、置換していてもよいカルバモイル基、カルボキシル基、シアノ基、ニトロ基、置換していてもよいアミノ基、置換していてもよい複素環基または置換していてもよいシリル基を表す。Ｒ２は水素原子、置換していてもよいＣ１〜Ｃ８アルキル基、置換していてもよいＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基、置換していてもよいＣ７〜Ｃ１１アラルキル基、置換していてもよいＣ２〜Ｃ８アルケニル基、置換していてもよいＣ２〜Ｃ８アルキニル基、置換していてもよい芳香族基、水酸基の保護基で保護されていてもよい水酸基、置換していてもよいＣ１〜Ｃ８アルコキシ基、ホルミル基、置換していてもよいＣ２〜Ｃ８アシル基、置換していてもよいＣ１〜Ｃ８アルコキシカルボニル基、置換していてもよいカルバモイル基、カルボキシル基、シアノ基、ニトロ基、置換していてもよいアミノ基、置換していてもよい複素環基または置換していてもよいシリル基を表す。Ｒ３及びＲ４は同一または相異なって水素原子、置換していてもよいＣ１〜Ｃ８アルキル基、置換していてもよいＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基、置換していてもよいフェニル基または置換していてもよいＣ７〜Ｃ１１アラルキル基を表す。Ｒ３とＲ４が一体となって環を形成してもよい。）で示されるオキサゾール−５−イルボロン酸誘導体。
【請求項２】
一般式（２）
【化２】
2008088128.tif 000058
（式中、Ｒ１及びＲ２は前記と同じ意味を表す。Ｘ１は水素原子またはハロゲン原子を表す。）で示されるオキサゾール誘導体と、一般式（３）
【化３】
2008088128.tif 000059
（式中、Ｒ５は置換していてもよいＣ１〜Ｃ８アルキル基、置換していてもよいＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基、置換していてもよいフェニル基または置換していてもよいＣ７〜Ｃ１１アラルキル基を表す。）で示されるホウ酸エステルとを、塩基存在下に反応させることを特徴とする、一般式（１ａ）
【化４】
2008088128.tif 000060
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ５は前記と同じ意味を表す。）で示されるオキサゾール−５−イルボロン酸誘導体の製造方法。
【請求項３】
塩基がブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウムまたはｔｅｒｔ−ブチルリチウムである請求項２に記載の製造方法。
【請求項４】
一般式（１ａ）
【化５】
2008088128.tif 000061
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ５は前記と同じ意味を表す。）で示されるオキサゾール−５−イルボロン酸誘導体と、水、あるいは一般式（４）
【化６】
2008088128.tif 000062
（式中、Ｒ６は置換していてもよいＣ１〜Ｃ８アルキル基、置換していてもよいＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基、置換していてもよいフェニル基または置換していてもよいＣ７〜Ｃ１１アラルキル基を表す。）で示されるアルコール類、あるいは一般式（５）
【化７】
2008088128.tif 000063
（Ｑは置換していてもよいエチレン基、置換していてもよいトリメチレン基または置換していてもよいｏ−フェニレン基を表す。）で示されるジオール類とを、酸触媒存在下に反応させることを特徴とする、一般式（１）
【化８】
2008088128.tif 000064
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記と同じ意味を表す。）で示されるオキサゾール−５−イルボロン酸誘導体の製造方法。
【請求項５】
一般式（２）
【化９】
2008088128.tif 000065
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＸ１は前記と同じ意味を表す。）で示されるオキサゾール誘導体と、一般式（３）
【化１０】
2008088128.tif 000066
（式中、Ｒ５は前記と同じ意味を表す。）で示されるホウ酸エステルとを、塩基存在下に反応させることにより、一般式（１a）
【化１１】
2008088128.tif 000067
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ５は前記と同じ意味を表す。）で示されるオキサゾール−５−イルボロン酸誘導体を得、次いで、水、あるいは一般式（４）
【化１２】
2008088128.tif 000068
（式中、Ｒ６は前記と同じ意味を表す。）で示されるアルコール類、あるいは一般式（５）
【化１３】
2008088128.tif 000069
（Ｑは前記と同じ意味を表す。）で示されるジオール類とを、酸触媒存在下に反応させることを特徴とする、一般式（１）
【化１４】
2008088128.tif 000070
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記と同じ意味を表す。）で示されるオキサゾール−５−イルボロン酸誘導体の製造方法。
【請求項６】
塩基がブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウムまたはｔｅｒｔ−ブチルリチウムである請求項５に記載の製造方法。
【請求項７】
一般式(６)
【化１５】
2008088128.tif 000071
（式中、Ｒ１及びＲ２は前記と同じ意味を表す。Ｘ２は脱離基を表す。）で示されるオキサゾール誘導体と、一般式（７）
【化１６】
2008088128.tif 000072
（式中、Ｒ３及びＲ４は前記と同じ意味を表す。）で示されるホウ素試薬とを、金属触媒存在下に反応させることを特徴とする、一般式（１）
【化１７】
2008088128.tif 000073
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記と同じ意味を表す。）で示されるオキサゾール−５−イルボロン酸誘導体の製造方法。
【請求項８】
金属触媒がパラジウム触媒である請求項７に記載の製造方法。
【請求項９】
一般式(７)で示される化合物がビス（カテコラート）ジボロン、ビス（ピナコラート）ジボロン、ビス（エチレングリコラート）ジボロンまたはビス（ネオペンチルグリコラート）ジボロンである請求項７または８に記載の製造方法。
【請求項１０】
一般式（１）
【化１８】
2008088128.tif 000074
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記と同じ意味を表す。）で示されるオキサゾール−５−イルボロン酸誘導体を成分とするオキサゾール−５−イル基導入試薬。
【請求項１１】
一般式（１）
【化１９】
2008088128.tif 000075
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記と同じ意味を表す。）で示されるオキサゾール−５−イルボロン酸誘導体と、一般式（８）
【化２０】
2008088128.tif 000076
（式中、Ｒ７は置換していてもよいＣ７〜Ｃ１１アラルキル基、置換していてもよいＣ２〜Ｃ８アルケニル基、置換していてもよいＣ２〜Ｃ８アルキニル基、置換していてもよい芳香族基、置換していてもよいＣ２〜Ｃ８アシル基を表す。Ｘ３は脱離基を表す。）で示される化合物とを、金属触媒存在下に反応させることを特徴とする、一般式（９）
【化２１】
2008088128.tif 000077
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ７は前記と同じ意味を表す。）で示されるオキサゾール誘導体の製造方法。
【請求項１２】
金属触媒がパラジウム触媒である請求項１１に記載の製造方法。
【請求項１３】
Ｒ７が置換していてもよい芳香族基である、請求項１１または１２に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、オキサゾール−５−イルボロン酸誘導体、それらの製造方法及びそれらを用いたオキサゾール−５−イル基導入方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
５位置換オキサゾール誘導体は、医薬品や有機材料に広く用いられている共通構造であり、その需要は非常に高い化合物類である。５位置換オキサゾール誘導体の合成方法として、ポリアミドの脱水反応などの合成方法が知られているが（非特許文献１）、多段階を経る合成法であり誘導体合成を行うには効率的な方法とはいえない。効率的な５位置換オキサゾール誘導体の合成方法としてオキサゾール−５−イル金属試薬と有機ハロゲン化物などとの金属触媒を利用したクロスカップリング反応が挙げられる。そのオキサゾール−５−イル金属試薬としては、オキサゾールのスズ試薬（非特許文献２）が知られているが、その製造方法が煩雑である、試薬自体の毒性が高い、反応の収率が悪いという問題点があった。一方、有機ホウ素試薬は金属触媒を用いて、有機ハロゲン化物などとクロスカップリング反応が進行することが報告されており（非特許文献３）、安全性、簡便性、汎用性の点から医薬、材料分野において幅広く利用されているが、オキサゾールのホウ素試薬に関しては、オキサゾール−２−イルボロン酸誘導体が一例開示されているのみであり（特許文献１）、本発明に関するオキサゾール−５−イルボロン酸誘導体（１）に関しての記述は一切ない。また、特許文献１は５位置換オキサゾール誘導体の合成は不向きであり、簡便に利用できるオキサゾール−５−イル基導入試薬の開発が望まれているにも関わらず、オキサゾール−５−イルボロン酸誘導体の製造方法およびそれを用いた金属触媒による有機ハロゲン化物等とのクロスカップリング反応は本発明者らが調査した限りでは全く報告されていない。
【０００３】
【非特許文献１】ＯＸＡＺＯＬＥＳ：ＳＹＮＴＨＥＳＩＳ、ＲＥＡＣＴＩＯＮＳ，ＡＮＤ  ＳＰＥＣＴＲＯＳＣＯＰＹ  Ｐａｒｔ  Ａ，Ｅｄｉｔｅｄ  ｂｙ  Ｄ．Ｃ．Ｐａｌｍｅｒ，  ＪＯＨＮ  ＷＩＬＥＹ  ＆  ＳＯＮＳ，  ＩＮＣ．２００３年。
【非特許文献２】Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、２００５年、４８巻、１８４９ページ
【非特許文献３】Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｒｅｖｉｅｗｓ、  １９９５年、９５巻、  ２４５７ページ
【特許文献１】特開２００５−２２３２３８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の目的は、医薬、有機材料として幅広く利用されている５位置換オキサゾール誘導体の合成が可能であり、簡便に調製できるオキサゾール−５−イルボロン酸誘導体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは、上記課題を解決するために、鋭意検討を重ねた結果、本発明のオキサゾール−５−イルボロン酸誘導体（１）の簡便な調製方法、利用法を見い出し、本発明を完成した。
【０００６】
すなわち本発明は、一般式(1)
【化２２】
2008088128.tif 000002
（式中、Ｒ１は置換していてもよいＣ１〜Ｃ８アルキル基、置換していてもよいＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基、置換していてもよいＣ７〜Ｃ１１アラルキル基、置換していてもよいＣ２〜Ｃ８アルケニル基、置換していてもよいＣ２〜Ｃ８アルキニル基、置換していてもよい芳香族基、水酸基の保護基で保護されていてもよい水酸基、置換していてもよいＣ１〜Ｃ８アルコキシ基、ホルミル基、置換していてもよいＣ２〜Ｃ８アシル基、置換していてもよいＣ２〜Ｃ８アルコキシカルボニル基、置換していてもよいカルバモイル基、カルボキシル基、シアノ基、ニトロ基、置換していてもよいアミノ基、置換していてもよい複素環基または置換していてもよいシリル基を表す。Ｒ２は水素原子、置換していてもよいＣ１〜Ｃ８アルキル基、置換していてもよいＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基、置換していてもよいＣ７〜Ｃ１１アラルキル基、置換していてもよいＣ２〜Ｃ８アルケニル基、置換していてもよいＣ２〜Ｃ８アルキニル基、置換していてもよい芳香族基、水酸基の保護基で保護されていてもよい水酸基、置換していてもよいＣ１〜Ｃ８アルコキシ基、ホルミル基、置換していてもよいＣ２〜Ｃ８アシル基、置換していてもよいＣ１〜Ｃ８アルコキシカルボニル基、置換していてもよいカルバモイル基、カルボキシル基、シアノ基、ニトロ基、置換していてもよいアミノ基、置換していてもよい複素環基または置換していてもよいシリル基を表す。Ｒ３及びＲ４は同一または相異なって水素原子、置換していてもよいＣ１〜Ｃ８アルキル基、置換していてもよいＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基、置換していてもよいフェニル基または置換していてもよいＣ７〜Ｃ１１アラルキル基を表す。Ｒ３とＲ４が一体となって環を形成してもよい。）で示されるオキサゾール−５−イルボロン酸誘導体に関する。
【０００７】
さらに、本発明は、一般式（２）
【化２３】
2008088128.tif 000003
（式中、Ｒ１及びＲ２は前記と同じ意味を表す。Ｘ１は水素原子またはハロゲン原子を表す。）で示されるオキサゾール誘導体と、一般式（３）
【化２４】
2008088128.tif 000004
（式中、Ｒ５は置換していてもよいＣ１〜Ｃ８アルキル基、置換していてもよいＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基、置換していてもよいフェニル基または置換していてもよいＣ７〜Ｃ１１アラルキル基を表す。）で示されるホウ酸エステルとを、塩基存在下に反応させることを特徴とする、一般式（１ａ）
【化２５】
2008088128.tif 000005
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ５は前記と同じ意味を表す。）で示されるオキサゾール−５−イルボロン酸誘導体の製造方法に関する。
【０００８】
さらに、本発明は、一般式（１a）
【化２６】
2008088128.tif 000006
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ５は前記と同じ意味を表す。）で示されるオキサゾール−５−イルボロン酸誘導体と、水、あるいは一般式（４）
【化２７】
2008088128.tif 000007
（式中、Ｒ６は置換していてもよいＣ１〜Ｃ８アルキル基、置換していてもよいＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基、置換していてもよいフェニル基または置換していてもよいＣ７〜Ｃ１１アラルキル基を表す。）で示されるアルコール類、あるいは一般式（５）
【化２８】
2008088128.tif 000008
（Ｑは置換していてもよいエチレン基、置換していてもよいトリメチレン基または置換していてもよいｏ−フェニレン基を表す。）で示されるジオール類とを、酸触媒存在下に反応させることを特徴とする、一般式（１）
【化２９】
2008088128.tif 000009
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記と同じ意味を表す。）で示されるオキサゾール−５−イルボロン酸誘導体の製造方法に関する。
【０００９】
さらに、本発明は、一般式（２）
【化３０】
2008088128.tif 000010
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＸ１は前記と同じ意味を表す。）で示されるオキサゾール誘導体と、一般式（３）
【化３１】
2008088128.tif 000011
（式中、Ｒ５は前記と同じ意味を表す。）で示されるホウ酸エステルとを、塩基存在に下反応させることにより、一般式（１a）
【化３２】
2008088128.tif 000012
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ５は前記と同じ意味を表す。）で示されるオキサゾール−５−イルボロン酸誘導体を得、次いで、水、あるいは一般式（４）
【化３３】
2008088128.tif 000013
（式中、Ｒ６は前記と同じ意味を表す。）で示されるアルコール類、あるいは一般式（５）
【化３４】
2008088128.tif 000014
（Ｑは前記と同じ意味を表す。）で示されるジオール類とを、酸触媒存在下に反応させることを特徴とする、一般式（１）
【化３５】
2008088128.tif 000015
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記と同じ意味を表す。）で示されるオキサゾール−５−イルボロン酸誘導体の製造方法に関する。
【００１０】
さらに、本発明は、一般式(６)
【化３６】
2008088128.tif 000016
（式中、Ｒ１及びＲ２は前記と同じ意味を表す。Ｘ２は脱離基を表す。）で示されるオキサゾール誘導体と、一般式（７）
【化３７】
2008088128.tif 000017
（式中、Ｒ３及びＲ４は前記と同じ意味を表す。）で示されるホウ素試薬とを、金属触媒存在下に反応させることを特徴とする、一般式（１）
【化３８】
2008088128.tif 000018
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記と同じ意味を表す。）で示されるオキサゾール−５−イルボロン酸誘導体の製造方法に関する。
【００１１】
さらに、本発明は、一般式（１）
【化３９】
2008088128.tif 000019
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記と同じ意味を表す。）で示されるオキサゾール−５−イルボロン酸誘導体を成分とするオキサゾール−５−イル基導入試薬に関する。
【００１２】
さらに、本発明は、一般式（１）
【化４０】
2008088128.tif 000020
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記と同じ意味を表す。）で示されるオキサゾール−５−イルボロン酸誘導体と、一般式（８）
【化４１】
2008088128.tif 000021
（式中、Ｒ７は置換していてもよいＣ７〜Ｃ１１アラルキル基、置換していてもよいＣ２〜Ｃ８アルケニル基、置換していてもよいＣ２〜Ｃ８アルキニル基、置換していてもよい芳香族基、置換していてもよいＣ２〜Ｃ８アシル基を表す。Ｘ３は脱離基を表す。）で示される化合物とを、金属触媒存在下に反応させることを特徴とする、一般式（９）
【化４２】
2008088128.tif 000022
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ７は前記と同じ意味を表す。）で示されるオキサゾール誘導体の製造方法に関するものである。
【発明の効果】
【００１３】
本発明のオキサゾール−５−イルボロン酸誘導体（１）は、簡単、安全な操作で調製かつ利用できる有用なオキサゾール−５−イル基導入試薬である。また、オキサゾール−５−イルボロン酸誘導体（１）を有機ハロゲン化物または有機スルホン酸エステルと、金属触媒存在下に反応させて、オキサゾール誘導体（９）が合成でき、ＭＡＰキナーゼ阻害剤ｓｃ６８３７６（非特許文献４）や抗マイコバクテリア活性剤テキサミン（非特許文献５）などの有用生理活性物質や機能性材料の製造に利用できる点で極めて有用である。
【非特許文献４】Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｂｉｏｌｏｇｉｃａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、１９９７年、２７２巻、８０８３ページ
【非特許文献５】Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅｓ、  １９８８年、２７巻、３５ページ
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６で表される炭素数１〜８のアルキル基としては、直鎖状もしくは分岐状のいずれであってもよく、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ-ブチル基、ｔｅｒｔ-ブチル基、ペンチル基、イソアミル基、ネオペンチル基、１−エチルプロピル基、１−メチルブチル基、２−メチルブチル基、ヘキシル基、イソヘキシル基、ヘプチル基、１−メチルヘキシル基、オクチル基等を例示することができる。これらのアルキル基は、ハロゲン原子、シクロアルキル基、シアノ基、ニトロ基、アルキルチオ基、アルコキシ基、シロキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基等で一個以上置換されていてもよく、さらに具体的には２−クロロエチル基、３−クロロプロピル基、シクロプロピルメチル基、シクロヘキシルメチル基、シアノメチル基、２−シアノエチル基、３−シアノプロピル基、ニトロメチル基、２−メチルチオエチル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、エトキシメチル基、メトキシエチル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシロキシメチル基、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、１−アセチルエチル基、３−アセチルプロピル基等を例示することができる。Ｒ１及びＲ２は、収率が良い点でメチル基、ｔｅｒｔ-ブチル基を用いることが好ましい。Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、収率が良い点で、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基を用いることが好ましい。
【００１５】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６で表される炭素数３〜８のシクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基等を例示することができる。また、これらのシクロアルキル基は炭素数１〜４のアルキル基で置換されていてもよく、さらに具体的に１−メチルシクロプロピル基、２−メチルシクロプロピル基、３−メチルシクロペンチル基等を例示することができる。
【００１６】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７で表される炭素数７〜１１のアラルキル基としては、ベンジル基、１−フェニルエチル基、１−フェニルプロピル基等を例示することができる。これらのアラルキル基の芳香族環上は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルコキシカルボニル基、シアノ基等で一個以上置換されていてもよい。Ｒ１及びＲ２は、収率が良い点でベンジル基を用いることが好ましい。
【００１７】
Ｒ１、Ｒ２及びＲ７で表される炭素数２〜８のアルケニル基としては、直鎖状もしくは分岐状あるいは環状のいずれであってもよく、ビニル基、１−プロペニル基、アリル基、２−メチルー２−プロペニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、２−ペンテニル基、１−シクロペンテニル基、２−ヘキセニル基、３−ヘキセニル基、１−シクロヘキセニル基、２−ヘプテニル基、１−シクロオクテニル基を例示することができる。これらのアルケニル基は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、シアノ基等で一個以上置換されていてもよい。Ｒ１及びＲ２は、収率が良い点でビニル基、アリル基、２−メチルー２−プロペニル基を用いることが好ましい。
【００１８】
Ｒ１、Ｒ２及びＲ７で表される炭素数２〜８のアルキニル基としては、直鎖状もしくは分岐状のいずれであってもよく、エチニル基、プロパルギル基、１−ブチン−３−イル基、３−メチル−１−ブテン−３−イル基、２−ブチニル基、２−ペンチニル基、３−ペンチニル基等を例示することができる。これらのアルキニル基は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、シアノ基等で一個以上置換されていてもよい。Ｒ１及びＲ２は、収率が良い点でエチニル基、プロパルギル基を用いることが好ましい。
【００１９】
Ｒ１、Ｒ２及びＲ７で表される芳香族基としては、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、２−チアゾリル基、４−チアゾリル基、５−チアゾリル基、２−オキサゾリル基、４−オキサゾリル基、５−オキサゾリル基、２−ピロリル基、３−ピロリル基、２−インドリル基、３−インドリル基、５−インドリル基、２−フリル基及び３−フリル基等を例示することができる。これらの芳香族環上は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜６のハロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、炭素数３〜１２の芳香族基、炭素数３〜１４のシリル基、炭素数１〜８のアルキルスルホナート基等で一個以上置換されていてもよく、２−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、２−メトキシカルボニルフェニル基、４−メトキシカルボニルフェニル基、２−メチルフェニル基、３，４−ジメトキシフェニル基、３，４−メチレンジオキシフェニル基、４−エトキシカルボニルオキサゾール−２−イル基等を例示することができる。Ｒ１及びＲ２は、収率が良い点でフェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、２−チアゾリル基、４−チアゾリル基、５−チアゾリル基、２−オキサゾリル基、４−オキサゾリル基、５−オキサゾリル基を用いることが好ましい。
【００２０】
Ｒ３、Ｒ４及びＲ５で表される置換していてもよいフェニル基のベンゼン環上の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシ基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、ニトロ基等を例示することができる。
【００２１】
Ｒ１及びＲ２で表される水酸基の保護基としては、ホルミル基、アセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基等のエステル系保護基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基等のシリル系保護基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基等のカーボネート系保護基等を例示することができる。収率が良い点で、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基を用いることが好ましい。
【００２２】
Ｒ１及びＲ２で表される炭素数１〜８のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、シクロプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブチルオキシ基、ｓｅｃ−ブチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロプロピルメチルオキシ、ベンジルオキシ基等を例示することができる。これらのアルコキシ基は１〜８のアルキル基、炭素数１〜６のハロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基等で一個以上置換されていてもよくメトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、p-メトキシベンジルオキシ基等を例示することができる。収率が良い点で、メトキシ基を用いることが好ましい。
【００２３】
Ｒ１、Ｒ２及びＲ７で表される炭素数２〜８のアシル基としては、アセチル基、プロピオニル基、ピバロイル基、ベンゾイル基等を例示することができる。Ｒ１及びＲ２は、収率が良い点でアセチル基を用いることが好ましい。
【００２４】
Ｒ１及びＲ２で表される置換していてもよいＣ２〜Ｃ８アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等を例示することができる。収率が良い点で、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基を用いることが好ましい。
【００２５】
Ｒ１及びＲ２で表される置換していてもよいカルバモイル基としては、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ−エチルカルバモイル基、Ｎ−プロピルカルバモイル基、Ｎ−イソプロピルカルバモイル基、Ｎ−ブチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルカルバモイル基またはＮ，Ｎ−ジブチルカルバモイル基等が例示できる。
【００２６】
Ｒ１及びＲ２で表される置換していてもよいアミノ基の置換基としては、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数７〜１１のアラルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基、炭素数２〜８のアルキニル基、炭素数２〜８のアシル基、炭素数２〜１５のアルコキシカルボニル基等を例示することができ、それらの置換基がアミノ基に一置換あるいは、同一又は相異なって二置換していてもよい。さらに具体的にはメチルアミノ基、エチルアミノ基、アリルアミノ基、プロパルギルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、ベンジルアミノ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、メトキシカルボニルアミノ基、ベンジルオキシカルボニルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、９−フルオレニルメトキシカルボニルアミノ基またはトリクロロエトキシカルボニルアミノ基等が例示できる。
【００２７】
Ｒ１及びＲ２で表される置換していてもよい複素環基としては、アジリジニル基、２−ピロリジニル基、３−ピロリジニル基、２−ピペリジル基、３−ピペリジル基、４−ピペリジル基、ピペリジノ基、テトラヒドロフラン−２−イル基、テトラヒドロフラン−３−イル基、２−ジオキサニル基、２−オキサゾリジニル基、４−オキサゾリジニル基等が例示できる。複素環基の複素環上の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシ基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、ニトロ基等を例示することができる。
【００２８】
Ｒ１及びＲ２で表される置換していてもよいシリル基としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基等を例示することができる。収率が良い点で、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基を用いることが好ましい。
【００２９】
Ｒ３及びＲ４が結合して形成する環としては下記式ａ，ｂ，ｃ又はｄ
【化４３】
2008088128.tif 000023
等を例示することができる。収率が良い点で、ａ，ｂを用いることが好ましい。
【００３０】
Ｘ１で表されるハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等を例示することができる。収率が良い点で、臭素原子、ヨウ素原子を用いることが好ましい。
【００３１】
Ｘ２及びＸ３で表される脱離基としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、またはメタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基等のアルキルあるいはアリールスルホニルオキシ基等を例示することができる。Ｘ２は、収率が良い点で、臭素原子、ヨウ素原子、トリフルオロメタンスルホニル基を用いることが好ましい。Ｘ３は、収率が良い点で、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、トリフルオロメタンスルホニル基を用いることが好ましい。
【００３２】
Ｑで表される置換していてもよいエチレン基としては、エチレン基、１，１，２，２−テトラメチルエチレン基、プロピレン基、１，２−ジメチルエチレン基等を例示することができる。収率が良い点で、エチレン基、１，１，２，２−テトラメチルエチレン基を用いることが好ましい。
【００３３】
Ｑで表される置換していてもよいトリメチレン基としては、トリメチレン基、２，２−ジメチルトリメチレン基、１，１，３，３−テトラメチルトリメチレン基、１，１，３−トリメチルトリメチレン基等を例示することができる。
【００３４】
Ｑで表される置換していてもよいｏ−フェニレン基としては、ｏ−フェニレン基、３，６−ジメチル−ｏ−フェニレン基、２，３−ナフチレン基等を例示することができる。収率が良い点で、ｏ−フェニレン基を用いることが好ましい。
【００３５】
以下、本発明に属するオキサゾール−５−イルボロン酸誘導体の製造方法及びそれを用いた金属触媒による有機ハロゲン化物あるいは有機スルホン酸エステル等との反応について詳細に説明する。
【化４４】
2008088128.tif 000024
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３及びＱは前記と同じ意味を表す。）
【００３６】
工程―１は、オキサゾール誘導体（２）の５位の水素原子またはハロゲン原子を塩基で処理することで水素−金属交換反応またはハロゲン−金属交換反応を行い、ホウ酸エステル（３）と反応させることで本発明のオキサゾール−５−イルボロン酸誘導体（１ａ）を製造する工程である。
【００３７】
本工程の原料であるオキサゾール誘導体（２）は、文献記載の方法またはそれに準じた方法により調製することができる（非特許文献―１）。ホウ酸エステル（３）は一部市販されているが、ボロンオキシドと対応するアルコールとの反応、市販されているトリイソプロピルボレートと対応するアルコールとのエステル交換反応により容易に調製することができる。
【００３８】
反応は塩基存在下に行うことが必須であり、用いることのできる塩基としては、ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムビス（トリメチルシリル）アミド、ナトリウムビス（トリメチルシリル）アミド、カリウムビス（トリメチルシリル）アミド、フェニルマグネシウムブロミド、イソプロピルマグネシウムブロミド、イソプロピルマグネシウムクロリド等のアルカリ金属有機塩基を例示することができる。塩基の使用量は特に制限はないが、反応基質に対して等量以上用いて実施することが収率が良い点で好ましい。
【００３９】
反応は有機溶媒中で行うことが好ましく、反応に害を及ぼさない溶媒であれば使用することができる。例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン等のエーテル系溶媒、ヘキサン、ペンタン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド系溶媒を例示でき、これらの溶媒のうち２種類以上を混合して用いても差し支えない。
【００４０】
反応は、―７８゜Ｃ〜溶媒還流温度から適宜選ばれた温度で円滑に進行するが、―７８゜Ｃ〜室温付近で実施することが収率が良い点で好ましい。後処理の方法として、反応液に水を加えることで反応を停止することができるが、酢酸等の酸性溶液で後処理することが収率が良い点で好ましい。反応後の混合溶液から目的物を単離する方法に特に限定はないが、溶媒抽出、カラムクロマトグラフィー、再結晶または昇華等の汎用的な方法で目的物を得ることができる。また、オキサゾール−５−イルボロン酸誘導体（１a）は単離することなく、そのまま工程―２に供することもできる。
【００４１】
工程―２は、工程―１の方法で製造することのできるオキサゾール−５−イルボロン酸誘導体（１ａ）と水、アルコール類（４ａ）、またはジオール類（５）と酸触媒存在下に加水分解またはアセタール交換を行い本発明のオキサゾール−５−イルボロン酸誘導体（１）を製造する工程である。
【００４２】
本工程の原料であるアルコール類（４）、またはジオール類（５）は市販されているが、常法により調製することができる。
【００４３】
反応は酸触媒存在下にて速やかに進行する。用いることのできる酸としては、塩酸、臭酸、硫酸、硝酸等の無機酸、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、プロピオン酸等のカルボン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸等のスルホン酸、ピリジニウムｐ−トルエンスルホナート等のスルホン酸塩などを例示することができる。酸の使用量は特に制限はないが、反応基質に対して触媒量から等量用いて実施することが収率が良い点で好ましい。
【００４４】
反応に用いる水、アルコール類（４）、またはジオール類（５）の量は特に制限なく、反応基質に対して等量以上用いて実施することが収率が良い点で好ましく、いずれも溶媒としても用いることができる。
【００４５】
さらに本工程においては、反応に害を及ぼさない有機溶媒であれば使用することができる。例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、ヘキサン、ペンタン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド系溶媒を挙げることができ、これらの溶媒のうち２種類以上を混合して用いても差し支えない。
【００４６】
反応は、―７８゜Ｃ〜溶媒還流温度から適宜選ばれた温度で円滑に進行するが、室温付近で実施することが収率が良い点で好ましい。反応後の溶液から目的物を単離する方法に特に限定はないが、溶媒抽出、カラムクロマトグラフィー、再結晶または昇華等の汎用的な方法で目的物を得ることができる。
【００４７】
工程―３は、オキサゾール誘導体（６）を金属触媒存在下、ジボロン誘導体（７）とクロスカップリング反応させることにより、本発明のオキサゾール−５−イルボロン酸誘導体（１）を製造する工程である。
【００４８】
本工程の原料であるＸ２がハロゲン原子であるオキサゾール誘導体（６）は工程―１で記載した方法で製造することができ、Ｘ２がスルホニルオキシ基であるオキシオキサゾール誘導体（６）は、文献記載の方法で製造できるオキサゾール−５（４Ｈ）−オン誘導体（非特許文献―６）から常法により容易に製造することができる。ジボロン（７）は一部市販されているが、テトラキス（ジメチルアミド）ジボロンと対応するアルコールより文献記載の方法またはそれに準じた方法により調製することができる（非特許文献―７）。
【００４９】
【非特許文献−６】Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ、１９８０年、８３６ページ
【非特許文献−７】Ｉｎｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｓｉｓｔｒｙ、１９６８年、７巻、２２５ページ
【００５０】
反応は金属触媒存在下に行うことが必須であり、用いることのできる金属触媒としては例えば、パラジウム触媒、ニッケル触媒、白金触媒等を挙げることができる。これらの金属触媒は、「金属」、「担持金属」、「金属の塩化物、臭化物、ヨウ化物、硝酸塩、硫酸塩、炭酸塩、シュウ酸塩、酢酸塩または酸化物等の金属塩」や「オレフィン錯体、ホスフィン錯体、アミン錯体、アンミン錯体またはアセチルアセトナート錯体等の錯化合物」を用いることができる。さらにこれらの金属、担持金属、金属塩および錯化合物と三級ホスフィン配位子を組合わせて用いることもできる。収率が良い点でパラジウム触媒を用いることが好ましい。
パラジウム触媒としては、パラジウム黒、パラジウムスポンジ等のパラジウム金属が例示でき、また、パラジウム／アルミナ、パラジウム／炭素、パラジウム／シリカ、パラジウム／Ｙ型ゼオライト等の担持パラジウム金属も例示できる。また、塩化パラジウム、臭化パラジウム、ヨウ化パラジウム、酢酸パラジウム等の金属塩を例示できる。さらに、π―アリルパラジウムクロリドダイマー、パラジウムアセチルアセトナト、ジクロロビス（アセトニトリル）パラジウム、ジクロロビス（ベンゾニトリル）パラジウム、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム（クロロホルム付加物）、ジクロロジアンミンパラジウム、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ジクロロビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウム、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ジクロロ［１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン］パラジウム、ジクロロ［１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン］パラジウム、ジクロロ［１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン］パラジウムおよびジクロロ［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム等の錯化合物を例示できる。収率が良い点で、酢酸パラジウム、パラジウムアセチルアセトナート、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム（クロロホルム付加物）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウムを用いることが好ましい。
これらのパラジウム触媒は単独で用いても良いが、さらに三級ホスフィンと組合わせて用いても良い。用いることのできる三級ホスフィンとしては、トリフェニルホスフィン、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリ−ｏ−トリルホスフィン、トリオクチルホスフィン、９，９−ジメチル−４，５−ビス（ジフェニルホスフィノ）キサンテン、２−（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィノ）ビフェニル、２−（ジシクロヘキシルホスフィノ）ビフェニル、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン、１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン、１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン、（Ｒ）−（＋）−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル、（Ｓ）−（−）−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチルおよび（±）−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル等が例示できる。収率が良い点で、トリフェニルホスフィン、トリ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリ−ｏ−トリルホスフィンを用いることが好ましい。
また、工程―３では、収率向上のため塩基を添加しても良い。添加する塩基としては、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸カリウム、酢酸カリウム、トリエチルアミン、ブチルアミン、ジイソプロピルアミンまたはエチルジイソプロピルアミン等の無機塩基または有機塩基が例示できる。収率が良い点で、炭酸カリウム、リン酸カリウム、酢酸カリウムを用いることが好ましい。
金属触媒、三級ホスフィンの使用量は特に制限はないが、反応基質に対していわゆる触媒量を用いて実施することができる。塩基の使用量は特に制限はないが、反応基質に対して１〜５０等量用いることが収率が良い点で好ましい。
【００５１】
反応は有機溶媒中で行うことが好ましく、反応に害を及ぼさない溶媒であれば使用することができる。テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン等のエーテル系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、ヘキサン、ペンタン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド系溶媒を例示でき、これらの溶媒のうち２種類以上を混合して用いても差し支えない。
【００５２】
反応は、―７８゜Ｃ〜溶媒還流温度から適宜選ばれた温度で円滑に進行するが、室温から溶媒還流温度付近で実施することが収率が良い点で好ましい。反応後の溶液から目的物を単離する方法に特に限定はないが、溶媒抽出、カラムクロマトグラフィー、再結晶または昇華等の汎用的な方法で目的物を得ることができる。
【００５３】
本発明のオキサゾール−５−イルボロン酸誘導体（１）は、有用なオキサゾール−５−イル基導入試薬として利用することができ、化合物（８）と金属触媒存在下に反応させて、オキサゾール誘導体を製造することができる。
【００５４】
工程―４は、本発明のオキサゾール−５−イルボロン酸誘導体（１）と化合物（８）と金属触媒存在下に反応させて、オキサゾール誘導体（９）を製造する工程である。
【００５５】
反応は金属触媒存在下に行うことが必須であり、用いることのできる金属触媒としては例えば、パラジウム触媒、ニッケル触媒、鉄触媒、ルテニウム触媒、白金触媒、ロジウム触媒、イリジウム触媒等を列挙することができる。これらの金属触媒は、「金属」、「担持金属」、「金属の塩化物、臭化物、ヨウ化物、硝酸塩、硫酸塩、炭酸塩、シュウ酸塩、酢酸塩または酸化物等の金属塩」、「オレフィン錯体、ホスフィン錯体、アミン錯体、アンミン錯体またはアセチルアセトナート錯体等の錯化合物」を用いることができる。さらにこれらの金属、金属塩および錯化合物と三級ホスフィン配位子を組合わせて用いることもできる。収率が良い点で、パラジウム触媒を用いることが好ましい。
パラジウム触媒としては、パラジウム黒、パラジウムスポンジ等のパラジウム金属が例示でき、また、パラジウム／アルミナ、パラジウム／炭素、パラジウム／シリカ、パラジウム／Ｙ型ゼオライト等の担持パラジウム金属も例示できる。また、塩化パラジウム、臭化パラジウム、ヨウ化パラジウム、酢酸パラジウム等の金属塩を例示できる。さらに、π―アリルパラジウムクロリドダイマー、パラジウムアセチルアセトナート、ジクロロビス（アセトニトリル）パラジウム、ジクロロビス（ベンゾニトリル）パラジウム、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム（クロロホルム付加物）、ジクロロジアンミンパラジウム、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ジクロロビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウム、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ジクロロ［１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン］パラジウム、ジクロロ［１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン］パラジウム、ジクロロ［１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン］パラジウムおよびジクロロ［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム等の錯化合物を例示できる。収率が良い点で、酢酸パラジウム、パラジウムアセチルアセトナート、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム（クロロホルム付加物）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウムを用いるのが好ましい。
これらのパラジウム触媒は単独で用いても良いが、さらに三級ホスフィンと組合わせて用いても良い。用いることのできる三級ホスフィンとしては、トリフェニルホスフィン、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリ−ｏ−トリルホスフィン、トリオクチルホスフィン、９，９−ジメチル−４，５−ビス（ジフェニルホスフィノ）キサンテン、２−（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィノ）ビフェニル、２−（ジシクロヘキシルホスフィノ）ビフェニル、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン、１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン、１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン、（Ｒ）−（＋）−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル、（Ｓ）−（−）−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチルおよび（±）−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル等が例示できる。収率が良い点で、トリフェニルホスフィン、トリ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリ−ｏ−トリルホスフィンを用いることが好ましい。
また、工程―４では、収率向上のため塩基を添加しても良い。添加する塩基としては、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸カリウム、酢酸カリウム、トリエチルアミン、ブチルアミン、ジイソプロピルアミンまたはエチルジイソプロピルアミン等の無機塩基または有機塩基が例示できる。収率が良い点で、炭酸カリウム、リン酸カリウム、酢酸カリウムを用いることが好ましい。
金属触媒、三級ホスフィンの使用量は特に制限はないが、反応基質に対していわゆる触媒量を用いて実施することができる。塩基の使用量は特に制限はないが、反応基質に対して１〜５０等量用いることが収率が良い点で好ましい。
【００５６】
反応は有機溶媒中で行うことが好ましく、反応に害を及ぼさない溶媒であれば使用することができる。例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン等のエーテル系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、ヘキサン、ペンタン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド系溶媒を例示でき、これらの溶媒のうち２種類以上を混合して用いても差し支えない。
【００５７】
反応は、―７８゜Ｃ〜溶媒還流温度から適宜選ばれた温度で円滑に進行するが、室温から溶媒還流温度付近で実施することが収率が良い点で好ましい。反応後の溶液から目的物を単離する方法に特に限定はないが、溶媒抽出、カラムクロマトグラフィー、再結晶または昇華等の汎用的な方法で目的物を得ることができる。
【００５８】
以下、実施例及び参考例によりにより本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものでない。
【実施例】
【００５９】
実施例−１
【化４５】
2008088128.tif 000025
アルゴン雰囲気下、５−ブロモ−２−フェニルオキサゾール（８０ｍｇ，  ０．３６ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（３．６ｍｌ）溶液を−７８゜Ｃに冷却し、ブチルリチウム（１．６０Ｍ，  ヘキサン溶液，  ０．２３ｍｌ，  ０．３７ｍｍｏｌ）を加えて１０分間撹拌した。反応溶液に、ホウ酸トリイソプロピル（９１μｌ，  ０．３９ｍｍｏｌ）を加えて更に３０分間攪拌後、室温まで昇温して３０分間撹拌した。得られた２−フェニルオキサゾール−５−イルボロン酸ジイソプロピルを含む黄色反応混合液に、酢酸（２３μｌ，  ０．３９ｍｍｏｌ）を加えて更に１時間室温で攪拌した。反応溶液をろ過し不溶物を除去後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝１０：１）で精製して２−フェニルオキサゾール−５−イルボロン酸（６１ｍｇ，  ９１％）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，  ＤＭＳＯ−ｄ６，  ｐｐｍ）： δ  ７．５２−７．５６（３Ｈ，  ｍ），  ７．７２（１Ｈ，  ｓ），  ８．０４−８．０６（２Ｈ，  ｍ），  ８．５６（２Ｈ，  ｓ）．
【００６０】
実施例−２
【化４６】
2008088128.tif 000026
t−ブチルリチウム（１．４７Ｍ  ヘキサン溶液, ６３μｌ，  ９２μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（０．５ｍｌ）溶液を−７８゜Ｃに冷却し、アルゴン雰囲気下、５−ブロモ−２−メチル−４−フェニルオキサゾール（１０ｍｇ，  ４２μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（０．５ｍｌ）溶液を滴下し、同温度で１０分間撹拌した。反応溶液に、ホウ酸トリイソプロピル（１４μｌ，  ６３μｍｏｌ）を加えて更に３０分間撹拌後、室温まで昇温して３０分間撹拌した。得られた２−メチル−４−フェニルオキサゾール−５−イルボロン酸ジイソプロピルを含む黄色反応混合液に、酢酸（３μｌ，  ５０μｍｏｌ）を加えて更に１時間室温で攪拌した。反応溶液をろ過し不溶物を除去後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝２：１〜クロロホルム：メタノール＝１０：１）で精製して、２−メチル−４−フェニルオキサゾール−５−イルボロン酸（６．７ｍｇ，  ７９％）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，  ＤＭＳＯ−ｄ６，  ｐｐｍ）： δ  ２．４７（３Ｈ，  ｓ），  ７．２７−７．４０（３Ｈ，  ｍ），  ７．９８−８．００（２Ｈ，  ｍ），  ８．５１（２Ｈ，  ｂｒｓ）．
【００６１】
実施例−３
【化４７】
2008088128.tif 000027
２，４−ジフェニルオキサゾール（１０ｍｇ，  ４５μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（０．５ｍｌ）溶液に、アルゴン雰囲気下、−１５゜Ｃに冷却し、ブチルリチウム（１．６０Ｍ  ヘキサン溶液, ３１μｌ，  ５０μｍｏｌ）を加えて１０分間撹拌した。反応溶液に、ホウ酸トリイソプロピル（１２μｌ，  ５４μｍｏｌ）を加えて更に３０分間撹拌後、室温まで昇温して３０分間撹拌した。得られた２，４−ジフェニルオキサゾール−５−イルボロン酸ジイソプロピルを含む黄色反応混合液に、酢酸（３μｌ，  ５４μｍｏｌ）を加えて更に１時間室温で攪拌した。反応溶液をろ過し不溶物を除去後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝２：１〜クロロホルム：メタノール＝１０：１）で精製して、２，４−ジフェニルオキサゾール−５−イルボロン酸（１１ｍｇ，  ９４％）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，  ＤＭＳＯ−ｄ６，  ｐｐｍ）： δ  ７．３４−７．５９（６Ｈ，  ｍ），  ８．１４（２Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝１．１，  ８．３Ｈｚ），  ８．１９−８．２１（２Ｈ，  ｍ），  ８．７４（２Ｈ，ｂｒｓ）．
【００６２】
実施例−４
【化４８】
2008088128.tif 000028
トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム（クロロホルム付加物）（１２ｍｇ，  １１μｍｏｌ）とトリシクロへキシルホスフィン（１９ｍｇ，  ６７μｍｏｌ）の１，４−ジオキサン（１．５ｍｌ）溶液を、アルゴン雰囲気下室温で１５分間撹拌した。５−ブロモ−２−フェニルオキサゾール（１００ｍｇ，  ０．４５ｍｍｏｌ）の１，４−ジオキサン溶液（３ｍｌ）、ビスピナコラートジボロン（１２７ｍｇ，  ０．４９ｍｍｏｌ）及び酢酸カリウム（６６ｍｇ，  ０．６７ｍｍｏｌ）を加えて３時間加熱還流した。反応液をジエチルエーテル（５０ｍｌ）で希釈した後、水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝１：１）で精製して、２−フェニル−５−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）オキサゾール（４１ｍｇ，  ３４％）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（２５０ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３，  ｐｐｍ）： δ  １．３８（１２Ｈ，  ｓ），  ７．４５−７．４７（３Ｈ，  ｍ），  ７．７６  （１Ｈ，  ｓ），  ８．１３−８．１７（２Ｈ，  ｍ）．
【００６３】
実施例−５
【化４９】
2008088128.tif 000029
アルゴン雰囲気下、５−ブロモ−２−フェニルオキサゾール（２００ｍｇ，  ０．８９ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（６ｍｌ）溶液を−７８゜Ｃに冷却し、ブチルリチウム（１．６０Ｍ  ヘキサン溶液，  ０．５７ｍｌ，  ０．９２ｍｍｏｌ）を加えて１０分間撹拌した。反応溶液に、ホウ酸トリイソプロピル（０．２３ｍｌ，  ０．９８ｍｍｏｌ）を加えて更に３０分間攪拌後、室温まで昇温して３０分間撹拌した。得られた２−フェニルオキサゾール−５−イルボロン酸ジイソプロピルを含む黄色反応混合液に、ピナコール（１１６ｍｇ，  ０．９８ｍｍｏｌ）と酢酸（５６μｌ，  ０．９８ｍｍｏｌ）を加えて更に１時間室温で攪拌した。反応溶液をろ過し不溶物を除去後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝１：１）で精製して、２−フェニル−５−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）オキサゾール（２１９ｍｇ，  ９０％）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（２５０ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３，  ｐｐｍ）： δ  １．３８（１２Ｈ，  ｓ），  ７．４５−７．４７（３Ｈ，  ｍ），  ７．７６  （１Ｈ，  ｓ），  ８．１３−８．１７（２Ｈ，  ｍ）．
【００６４】
実施例−６      
【化５０】
2008088128.tif 000030
２−フェニルオキサゾール−５−イルボロン酸（３０ｍｇ，  ０．１６ｍｍｏｌ）、ブロモベンゼン（２２μｌ，  ０．２１ｍｍｏｌ）及び炭酸ナトリウム（５１ｍｇ，  ０．４８ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１．１ｍｌ）懸濁液に、アルゴン雰囲気下室温で１５分間撹拌したトリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム（クロロホルム付加物）（８．２ｍｇ，  ８．０μｍｏｌ）及びトリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン（１．０Ｍ  ヘキサン溶液，  ２４μｌ，  ２４μｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．５ｍｌ）溶液を加えて、アルゴン雰囲気下１００℃で３０分間撹拌した。反応終了後、反応混合液を室温まで冷却した後、ジエチルエーテルで希釈した。有機層を水、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝１０：１）で精製して２，５−ジフェニルオキサゾール（３０ｍｇ，  ８５％）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３，  ｐｐｍ）： δ  ７．３５（１Ｈ，  ｔ，  Ｊ＝７．４Ｈｚ），  ７．４４−７．５１（５Ｈ，  ｍ），７．４５（１Ｈ，  ｓ），  ７．７３（２Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝７．３Ｈｚ），  ８．１２（２Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝１．６，  ７．９Ｈｚ）．
【００６５】
実施例−７
【化５１】
2008088128.tif 000031
２−フェニル−５−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）オキサゾール（３５ｍｇ，  ０．１３ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２ｍｌ）溶液に、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（７．５ｍｇ，  ６．４５μｍｏｌ）、炭酸ナトリウム（４１ｍｇ，  ０．３９ｍｍｏｌ）及びブロモベンゼン（１６μｌ，  ０．１６ｍｍｏｌ）を加えて、アルゴン雰囲気下１００℃で３０分間撹拌した。反応終了後、反応混合液を室温まで冷却した後、ジエチルエーテルで希釈した。有機層を、水、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝１５：１）で精製して２，５−ジフェニルオキサゾール（２１ｍｇ，  ７４％）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３，  ｐｐｍ）： δ  ７．３５（１Ｈ，  ｔ，  Ｊ＝７．４Ｈｚ），  ７．４４−７．５１（５Ｈ，  ｍ），７．４５（１Ｈ，  ｓ），７．７３（２Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝７．３Ｈｚ），  ８．１２（２Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝１．６，  ７．９Ｈｚ）．
【００６６】
実施例−８
【化５２】
2008088128.tif 000032
２−フェニルオキサゾール−５−イルボロン酸（２０ｍｇ，  ０．１１ｍｍｏｌ）、ｐ−ブロモアニソール（１７μｌ，  ０．１４ｍｍｏｌ）及び炭酸ナトリウム（３４ｍｇ，  ０．３２ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１ｍｌ）懸濁液に、アルゴン雰囲気下室温で１５分間撹拌したトリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム（クロロホルム付加物）（５．５ｍｇ，  ５．３μｍｏｌ）及びトリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン（１．０Ｍ  ヘキサン溶液，  １６μｌ，  １６μｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．５ｍｌ）溶液を加えて、アルゴン雰囲気下１００℃で３０分間撹拌した。反応終了後、反応混合液を室温まで冷却した後、ジエチルエーテルで希釈した。有機層を水、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝１５：１）で精製して５−（４−メトキシフェニル）−２−フェニルオキサゾール（２２ｍｇ，  ８１％）を得た。
１Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３，  ｐｐｍ）： δ  ３．８４（３Ｈ，  ｓ），  ６．９６  （２Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝８．８Ｈｚ），  ７．３１（１Ｈ，  ｓ），  ７．４３−７．５０（３Ｈ，  ｍ），  ７．６４（２Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝８．８Ｈｚ），  ８．０８−８．１０（２Ｈ，  ｍ）．
【００６７】
実施例−９
【化５３】
2008088128.tif 000033
２−フェニルオキサゾール−５−イルボロン酸（２０ｍｇ，  ０．１１ｍｍｏｌ）、ｏ−ブロモアニソール（１７μｌ，  ０．１４ｍｍｏｌ）及び炭酸ナトリウム（３４ｍｇ，  ０．３２ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１ｍｌ）懸濁液に、アルゴン雰囲気下室温で１５分間撹拌したトリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム（クロロホルム付加物）（５．５ｍｇ，  ５．３μｍｏｌ）及びトリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン（１．０Ｍ  ヘキサン溶液，  ２１μｌ，  ２１μｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．５ｍｌ）溶液を加えて、アルゴン雰囲気下１００℃で３０分間撹拌した。反応終了後、反応混合液を室温まで冷却した後、ジエチルエーテルで希釈した。有機層を水、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝１０：１）で精製して５−（２−メトキシフェニル）−２−フェニルオキサゾール（１８ｍｇ，  ６９％）を得た。
１Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３，  ｐｐｍ）： δ  ３．９９（３Ｈ，  ｓ），  ７．００（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝８．３Ｈｚ），  ７．０８  （１Ｈ，  ｔｄ，  Ｊ＝０．９，  ７．５Ｈｚ），  ７．３０−７．３３（１Ｈ，  ｍ），  ７．４３−７．５１（３Ｈ，  ｍ），  ７．６５（１Ｈ，  ｓ），  ７．９０  （１Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝１．７，  ７．７Ｈｚ），  ８．１２−８．１４（２Ｈ，  ｍ）．
【００６８】
実施例−１０
【化５４】
2008088128.tif 000034
２−フェニルオキサゾール−５−イルボロン酸（２０ｍｇ，  ０．１１ｍｍｏｌ）、ｐ−ブロモ安息香酸メチル（３０ｍｇ，  ０．１４ｍｍｏｌ）及び炭酸ナトリウム（３４ｍｇ，  ０．３２ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１ｍｌ）懸濁液に、アルゴン雰囲気下室温で１５分間撹拌したトリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム（クロロホルム付加物）（５．５ｍｇ，  ５．３μｍｏｌ）及びトリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン（１．０Ｍ  ヘキサン溶液，  ２１μｌ，  ２１μｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．５ｍｌ）溶液を加えて、アルゴン雰囲気下１００℃で３０分間撹拌した。反応終了後、反応混合液を室温まで冷却した後、ジエチルエーテルで希釈した。有機層を水、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝８：１）で精製して４−（２−フェニルオキサゾール−５−イル）安息香酸メチル（２６ｍｇ，  ８６％）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３，  ｐｐｍ）： δ  ３．９４（３Ｈ，  ｓ），  ７．２６−７．５２（３Ｈ，  ｍ），  ７．５６（１Ｈ，  ｓ），  ７，７８（２Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝８．３Ｈｚ），  ８．１０−８．１３（４Ｈ，  ｍ）．
【００６９】
実施例−１１
【化５５】
2008088128.tif 000035
２−フェニルオキサゾール−５−イルボロン酸（３０ｍｇ，  ０．１６ｍｍｏｌ）、ｏ−ブロモ安息香酸メチル（２９μｌ，  ０．２１ｍｍｏｌ）及び炭酸ナトリウム（５１ｍｇ，  ０．４８ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１．１ｍｌ）懸濁液に、アルゴン雰囲気下室温で１５分間撹拌したトリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム（クロロホルム付加物）（８．２ｍｇ，  ８．０μｍｏｌ）及びトリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン（１．０Ｍ  ヘキサン溶液，  ２４μｌ，  ２４μｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．５ｍｌ）溶液を加えて、アルゴン雰囲気下１００℃で３０分間撹拌した。反応終了後、反応混合液を室温まで冷却した後、ジエチルエーテルで希釈した。有機層を水、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝１０：１）で精製して２−（２−フェニルオキサゾール−５−イル）安息香酸メチル（４０ｍｇ，  ８９％）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３，  ｐｐｍ）：  δ  ３．８４（３Ｈ，  ｓ），  ７．４２−７．４７（４Ｈ，  ｍ），７．４６（１Ｈ，  ｓ），  ７．５６  （１Ｈ，  ｔｄ，  Ｊ＝１．４，  ７．６Ｈｚ），  ７．６９  （１Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝０．９，  ７．８Ｈｚ），  ７．７８  （１Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝１．１，  ７．７Ｈｚ），  ８．０５−８．０７（２Ｈ，  ｍ）． 
【００７０】
実施例−１２
【化５６】
2008088128.tif 000036
２−フェニルオキサゾール−５−イルボロン酸（２５ｍｇ，  ０．１３ｍｍｏｌ）、ｏ−ブロモトルエン（２１μｌ，  ０．１７ｍｍｏｌ）及び炭酸ナトリウム（４２ｍｇ，  ０．４０ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１ｍｌ）懸濁液に、アルゴン雰囲気下室温で１５分間撹拌したトリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム（クロロホルム付加物）（６．８ｍｇ，  ６．６μｍｏｌ）及びトリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン（１．０Ｍ  ヘキサン溶液，  ２６μｌ，  ２６μｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．５ｍｌ）溶液を加えて、アルゴン雰囲気下１００℃で３０分間撹拌した。反応終了後、反応混合液を室温まで冷却した後、ジエチルエーテルで希釈した。有機層を水、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝１０：１）で精製して５−（２−メチルフェニル）−２−フェニルオキサゾール（２５ｍｇ，  ８０％）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３，  ｐｐｍ）：  δ  ２．５４（３Ｈ，  ｓ），  ７．２９−７．３１（３Ｈ，  ｍ），  ７．３５（１Ｈ，  ｓ），  ７．４７−７．４９（３Ｈ，  ｍ），  ７，７８（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝７．５Ｈｚ），  ８．１１−８．１３（２Ｈ，  ｍ）．
【００７１】
実施例−１３
【化５７】
2008088128.tif 000037
２−フェニルオキサゾール−５−イルボロン酸（２０ｍｇ，  ０．１１ｍｍｏｌ）、２−ブロモピリジン（１３μｌ，  ０．１４ｍｍｏｌ）及び炭酸ナトリウム（３４ｍｇ，  ０．３２ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１ｍｌ）懸濁液に、アルゴン雰囲気下室温で１５分間撹拌したトリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム（クロロホルム付加物）（５．５ｍｇ，  ５．３μｍｏｌ）及びトリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン（１．０Ｍ  ヘキサン溶液，  ２１μｌ，  ２１μｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．５ｍｌ）溶液を加えて、アルゴン雰囲気下１００℃で３０分間撹拌した。反応終了後、反応混合液を室温まで冷却した後、ジエチルエーテルで希釈した。有機層を水、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝５：１〜クロロホルム：メタノール：アンモニア水＝２００：９：１）で精製して２−フェニル−５−（２−ピリジル）オキサゾール（１５ｍｇ，  ６４％）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３，  ｐｐｍ）：  δ  ７．２４（１Ｈ，  ｄｄｄ，  Ｊ＝１．５，  ４．８，  ７．２Ｈｚ），  ７．４８−７．５１（３Ｈ，  ｍ），  ７．７４−７．８１（２Ｈ，  ｍ），  ７．８２（１Ｈ，  ｓ），  ８．１４−８．１７（２Ｈ，  ｍ），  ８．６６（１Ｈ，  ｄｄｄ，  Ｊ＝１．０，  １．６，  ４．８Ｈｚ）．
【００７２】
実施例−１４
【化５８】
2008088128.tif 000038
２−フェニルオキサゾール−５−イルボロン酸（２４ｍｇ，  ０．１３ｍｍｏｌ）、４−ブロモ−１，２−（メチレンジオキシ）ベンゼン（２０μｌ，  ０．１７ｍｍｏｌ）及び炭酸ナトリウム（４０ｍｇ，  ０．３８ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１ｍｌ）懸濁液に、アルゴン雰囲気下室温で１５分間撹拌したトリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム（クロロホルム付加物）（６．６ｍｇ，  ６．４μｍｏｌ）及びトリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン（１．０Ｍ  ヘキサン溶液，  ２５μｌ，  ２５μｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．５ｍｌ）溶液を加えて、アルゴン雰囲気下１００℃で３０分間撹拌した。反応終了後、反応混合液を室温まで冷却した後、ジエチルエーテルで希釈した。有機層を水、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝１５：１）で精製して５−｛３，４−（メチレンジオキシ）フェニル｝−２−フェニルオキサゾール（テキサミン、２５ｍｇ，  ７４％）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３，  ｐｐｍ）：  δ  ６．０１（２Ｈ，  ｓ），  ６，８８（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝８．１Ｈｚ），  ７，１７（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝１．６Ｈｚ），  ７．２３  （１Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝１．７，  ８．１Ｈｚ），  ７．３０（１Ｈ，  ｓ），  ７．４３−７．５０（３Ｈ，  ｍ），  ８．０８  （２Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝１．４，  ７．９Ｈｚ）． 
【００７３】
実施例−１５
【化５９】
2008088128.tif 000039
２−フェニルオキサゾール−５−イルボロン酸（２０ｍｇ，  ０．１１ｍｍｏｌ）、４−ブロモ−１，２−ジメトキシベンゼン（２０μｌ，  ０．１４ｍｍｏｌ）及び炭酸ナトリウム（３４ｍｇ，  ０．３２ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１ｍｌ）懸濁液に、アルゴン雰囲気下室温で１５分間撹拌したトリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム（クロロホルム付加物）（５．５ｍｇ，  ５．３μｍｏｌ）及びトリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン（１．０Ｍ  ヘキサン溶液，  ２１μｌ，  ２１μｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．５ｍｌ）溶液を加えて、アルゴン雰囲気下１００℃で３０分間撹拌した。反応終了後、反応混合液を室温まで冷却した後、ジエチルエーテルで希釈した。有機層を水、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝８：１）で精製して５−（３，４−ジメトキシフェニル）−２−フェニルオキサゾール（１５ｍｇ，  ５０％）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３，  ｐｐｍ）：  δ  ３．９３（３Ｈ，  ｓ），  ３．９８（３Ｈ，  ｓ），  ６．９４（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝８．４Ｈｚ），  ７．２０（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝１．７Ｈｚ），  ７．３１（１Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝１．９，  ８．３Ｈｚ），  ７．３４（１Ｈ，  ｓ），  ７．４４−７．５０（３Ｈ，  ｍ），  ８．１０（２Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝７．５Ｈｚ）． 
【００７４】
実施例−１６
【化６０】
2008088128.tif 000040
２−フェニルオキサゾール−５−イルボロン酸（２０ｍｇ，  ０．１１ｍｍｏｌ）、２−ブロモオキサゾール−４−カルボン酸エチル（３０ｍｇ，  ０．１４ｍｍｏｌ）及び炭酸ナトリウム（３４ｍｇ，  ０．３２ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１ｍｌ）懸濁液に、アルゴン雰囲気下室温で１５分間撹拌したトリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム（クロロホルム付加物）（２２ｍｇ，  ２１μｍｏｌ）及びトリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン（１．０Ｍ  ヘキサン溶液，  ８５μｌ，  ８５μｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．５ｍｌ）溶液を加えて、アルゴン雰囲気下１００℃で３０分間撹拌した。反応終了後、反応混合液を室温まで冷却した後、ジエチルエーテルで希釈した。有機層を水、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝８：１）で精製して２’−フェニル−２，５’−ビオキサゾール−４−カルボン酸エチル（１２ｍｇ，  ４１％）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３，  ｐｐｍ）：  δ  １．４３（３Ｈ，  ｔ，  Ｊ＝７．１Ｈｚ），  ４．４５（２Ｈ，  ｑ，  Ｊ＝７．１Ｈｚ），  ７．５０−７．５３（３Ｈ，  ｍ），  ７．８９（１Ｈ，  ｓ），  ８．１６−８．１８（２Ｈ，  ｍ），  ８．３１（１Ｈ，  ｓ）． 
【００７５】
実施例−１７
【化６１】
2008088128.tif 000041
２−フェニルオキサゾール−５−イルボロン酸（２０ｍｇ，  ０．１１ｍｍｏｌ）、３−ブロモ−１−メチルインドール（２９ｍｇ，  ０．１４ｍｍｏｌ）及び炭酸ナトリウム（３４ｍｇ，  ０．３２ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１ｍｌ）懸濁液に、アルゴン雰囲気下室温で１５分間撹拌したトリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム（クロロホルム付加物）（２２ｍｇ，  ２１μｍｏｌ）及びトリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン（１．０Ｍ  ヘキサン溶液，  ８５μｌ，  ８５μｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．５ｍｌ）溶液を加えて、アルゴン雰囲気下１００℃で３０分間撹拌した。反応終了後、反応混合液を室温まで冷却した後、ジエチルエーテルで希釈した。有機層を水、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝５０：１〜２０：１）で精製して５−（１−メチルインドール−３−イル）−２−フェニルオキサゾール（１０ｍｇ，  ３４％）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３，  ｐｐｍ）：  δ  ３．８８（３Ｈ，  ｓ），  ７．２８−７．５１（７Ｈ，  ｍ），  ７．３４（１Ｈ，  ｓ），  ７．９３（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝７．９Ｈｚ），  ８．１１−８．１３（２Ｈ，  ｍ）．
【００７６】
実施例−１８
【化６２】
2008088128.tif 000042
２−メチル−４−フェニルオキサゾール−５−イルボロン酸（３０ｍｇ，  ０．１５ｍｍｏｌ）、ブロモベンゼン（２０μｌ，  ０．１９ｍｍｏｌ）及び炭酸ナトリウム（４７ｍｇ，  ０．４４ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１ｍｌ）懸濁液に、アルゴン雰囲気下室温で１５分間撹拌したトリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム（クロロホルム付加物）（７．７ｍｇ，  ７．４μｍｏｌ）及びトリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン（１．０Ｍ  ヘキサン溶液，  ３０μｌ，  ３０μｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．５ｍｌ）溶液を加えて、アルゴン雰囲気下１００℃で３０分間撹拌した。反応終了後、反応混合液を室温まで冷却した後、ジエチルエーテルで希釈した。有機層を水、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝２０：１）で精製して２−メチル−４，５−ジフェニルオキサゾール（２３ｍｇ，  ６７％）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３，  ｐｐｍ）：  δ  ２．５５（３Ｈ，  ｓ），  ７．３１−７．３７（６Ｈ，  ｍ），  ７．５８（２Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝１．４，  ８．３Ｈｚ），  ７．６３（２Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝１．３，  ８．３Ｈｚ）． 
【００７７】
実施例−１９
【化６３】
2008088128.tif 000043
２−メチル−４−フェニルオキサゾール−５−イルボロン酸（３０ｍｇ，  ０．１５ｍｍｏｌ）、ｐ−ブロモアニソール（２４μｌ，  ０．１９ｍｍｏｌ）及び炭酸ナトリウム（４７ｍｇ，  ０．４４ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１ｍｌ）懸濁液に、アルゴン雰囲気下室温で１５分間撹拌したトリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム（クロロホルム付加物）（７．７ｍｇ，  ７．４μｍｏｌ）及びトリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン（１．０Ｍ  ヘキサン溶液，  ２２μｌ，  ２２μｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．５ｍｌ）溶液を加えて、アルゴン雰囲気下１００℃で３０分間撹拌した。反応終了後、反応混合液を室温まで冷却した後、ジエチルエーテルで希釈した。有機層を水、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝８：１）で精製して５−（４−メトキシフェニル）−２−メチル−４−フェニルオキサゾール（１８ｍｇ，  ４５％）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３，  ｐｐｍ）： δ  ２．５３（３Ｈ，  ｓ），  ３．８３（３Ｈ，  ｓ），  ６．８９（２Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝８．８Ｈｚ），  ７．２７−７．３７（３Ｈ，  ｍ），  ７．５０（２Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝８．８Ｈｚ），  ７．６３（２Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝７．２Ｈｚ）．
【００７８】
実施例−２０
【化６４】
2008088128.tif 000044
２−メチル−４−フェニルオキサゾール−５−イルボロン酸（２０ｍｇ，  ９９μｍｏｌ）、ｐ−ブロモ安息香酸メチル（２８ｍｇ，  ０．１３ｍｍｏｌ）及び炭酸ナトリウム（３１ｍｇ，  ０．３０ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１ｍｌ）懸濁液に、アルゴン雰囲気下室温で１５分間撹拌したトリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム（クロロホルム付加物）（５．１ｍｇ，  ４．９μｍｏｌ）及びトリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン（１．０Ｍ  ヘキサン溶液，  １５μｌ，  １５μｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．５ｍｌ）溶液を加えて、アルゴン雰囲気下１００℃で３０分間撹拌した。反応終了後、反応混合液を室温まで冷却した後、ジエチルエーテルで希釈した。有機層を水、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝１０：１）で精製して４−（２−メチル−４−フェニルオキサゾール−５−イル）安息香酸メチル（２１ｍｇ，  ７１％）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３，  ｐｐｍ）： δ  ２．５８（３Ｈ，  ｓ），  ３．９２（３Ｈ，  ｓ），  ７．３８−７．３９（３Ｈ，  ｍ），  ７．６１−７．６２（２Ｈ，  ｍ），  ７．６６（２Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝８．４Ｈｚ），  ８．００（２Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝８．３Ｈｚ）．
【００７９】
実施例−２１
【化６５】
2008088128.tif 000045
２−メチル−４−フェニルオキサゾール−５−イルボロン酸（２０ｍｇ，  ９９μｍｏｌ）、４−ブロモピリジン（２０ｍｇ，  ０．１３ｍｍｏｌ）及び炭酸ナトリウム（３１ｍｇ，  ０．３０ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１ｍｌ）懸濁液に、アルゴン雰囲気下室温で１５分間撹拌したトリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム（クロロホルム付加物）（５．１ｍｇ，  ４．９μｍｏｌ）及びトリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン（１．０Ｍ  ヘキサン溶液，  １５μｌ，  １５μｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．５ｍｌ）溶液を加えて、アルゴン雰囲気下１００℃で３０分間撹拌した。反応終了後、反応混合液を室温まで冷却した後、ジエチルエーテルで希釈した。有機層を水、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール：アンモニア水＝２００：９：１）で精製して２−メチル−４−フェニル−５−（４−ピリジル）オキサゾール（ｓｃ６８３７６、６．９ｍｇ，  ３０％）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３，  ｐｐｍ）： δ  ２．５９（３Ｈ，  ｓ），  ７．３９−７．４８（５Ｈ，  ｍ），  ７．６０−７．６２（２Ｈ，  ｍ），  ８．５７（２Ｈ，  ｂｒｓ）．
【００８０】
実施例−２２
【化６６】
2008088128.tif 000046
２，４−ジフェニルオキサゾール−５−イルボロン酸（３５ｍｇ，  ０．１３ｍｍｏｌ）、ブロモベンゼン（１８μｌ，  ０．１７ｍｍｏｌ）及び炭酸ナトリウム（４２ｍｇ，  ０．４０ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１ｍｌ）懸濁液に、アルゴン雰囲気下室温で１５分間撹拌したトリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム（クロロホルム付加物）（６．８ｍｇ，  ６．６μｍｏｌ）及びトリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン（１．０Ｍ  ヘキサン溶液，  ２０μｌ，  ２０μｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．５ｍｌ）溶液を加えて、アルゴン雰囲気下１００℃で３０分間撹拌した。反応終了後、反応混合液を室温まで冷却した後、ジエチルエーテルで希釈した。有機層を水、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝３０：１）で精製して２，４，５−トリフェニルオキサゾール（２１ｍｇ，  ５４％）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３，  ｐｐｍ）： δ  ７．３３−７．５０（９Ｈ，  ｍ），  ７．６８（２Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝１．５，  ７．０Ｈｚ），  ７．７３（２Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝１．５，  ６．９Ｈｚ），  ８．１５−８．１７（２Ｈ，  ｍ）．
【００８１】
実施例−２３
【化６７】
2008088128.tif 000047
２，４−ジフェニルオキサゾール−５−イルボロン酸（４０ｍｇ，  ０．１５ｍｍｏｌ）、ｐ−ブロモアニソール（２５μｌ，  ０．２０ｍｍｏｌ）及び炭酸ナトリウム（４８ｍｇ，  ０．４５ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１ｍｌ）懸濁液に、アルゴン雰囲気下室温で１５分間撹拌したトリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム（クロロホルム付加物）（７．８ｍｇ，  ７．６μｍｏｌ）及びトリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン（１．０Ｍ  ヘキサン溶液，  ２３μｌ，  ２３μｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．５ｍｌ）溶液を加えて、アルゴン雰囲気下１００℃で３０分間撹拌した。反応終了後、反応混合液を室温まで冷却した後、ジエチルエーテルで希釈した。有機層を水、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝２０：１）で精製して５−（４−メトキシフェニル）−２，４−ジフェニルオキサゾール（２１ｍｇ，  ４３％）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３，  ｐｐｍ）： δ  ３．８４（３Ｈ，  ｓ），  ６．９２（２Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝８．９Ｈｚ），  ７．３２−７．４９（６Ｈ，  ｍ），  ７．６０（２Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝８．９Ｈｚ），  ７．７２−７．７３（２Ｈ，  ｍ），  ８．１３−８．１５（２Ｈ，  ｍ）．
【００８２】
実施例−２４
【化６８】
2008088128.tif 000048
２，４−ジフェニルオキサゾール−５−イルボロン酸（３０ｍｇ，  ０．１１ｍｍｏｌ）、ｐ−ブロモ安息香酸メチル（３２ｍｇ，  ０．１５ｍｍｏｌ）及び炭酸ナトリウム（３６ｍｇ，  ０．３４ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１ｍｌ）懸濁液に、アルゴン雰囲気下室温で１５分間撹拌したトリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム（クロロホルム付加物）（５．８ｍｇ，  ５．７μｍｏｌ）及びトリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン（１．０Ｍ  ヘキサン溶液，  １７μｌ，  １７μｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．５ｍｌ）溶液を加えて、アルゴン雰囲気下１００℃で３０分間撹拌した。反応終了後、反応混合液を室温まで冷却した後、ジエチルエーテルで希釈した。有機層を水、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝３０：１）で精製して４−（２，４―ジフェニルオキサゾール−５−イル）安息香酸メチル（２４ｍｇ，  ６０％）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３，  ｐｐｍ）： δ  ３．９３（３Ｈ，  ｓ），  ７．４０−７．５１（６Ｈ，  ｍ），  ７．７０−７．７２（２Ｈ，  ｍ），  ７．７５（２Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝８．３Ｈｚ），  ８．０４（２Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝８．３Ｈｚ），  ８．１６−８．１８（２Ｈ，  ｍ）．
【００８３】
実施例−２５
【化６９】
2008088128.tif 000049
２，４−ジフェニルオキサゾール−５−イルボロン酸（５０ｍｇ，  ０．１９ｍｍｏｌ）、４−ブロモピリジン（３９ｍｇ，  ０．２５ｍｍｏｌ）及び炭酸ナトリウム（６０ｍｇ，  ０．５７ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１．５ｍｌ）懸濁液に、アルゴン雰囲気下室温で１５分間撹拌したトリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム（クロロホルム付加物）（９．８ｍｇ，  ９．５μｍｏｌ）及びトリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン（１．０Ｍ  ヘキサン溶液，  ２８μｌ，  ２８μｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．５ｍｌ）溶液を加えて、アルゴン雰囲気下１００℃で３０分間撹拌した。反応終了後、反応混合液を室温まで冷却した後、ジエチルエーテルで希釈した。有機層を水、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝２：１〜クロロホルム：メタノール：アンモニア水＝２００：９：１）で精製して２，４−ジフェニル−５−（４−ピリジル）オキサゾール（２２ｍｇ，  ３８％）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３，  ｐｐｍ）： δ  ７．４２−７．５２（６Ｈ，  ｍ），  ７．５６（２Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝６．０Ｈｚ），  ７．７０（２Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝１．５，  ７．９Ｈｚ），  ８．１６−８．１９（２Ｈ，  ｍ），  ８．６１（２Ｈ，  ｂｒｓ）．
【００８４】
参考例−１
【化７０】
2008088128.tif 000050
２−ブロモエチルアミン臭化水素酸塩（１０．０ｇ，  ４８．８ｍｍｏｌ）のベンゼン（１６０ｍｌ）溶液に、トリエチルアミン（３４．０ｍｌ，  ２４４ｍｍｏｌ）を加え、さらにベンゾイルクロリド（６．２ｍｌ，  ５３．７ｍｍｏｌ）を滴下し２４時間加熱還流した。反応溶液を室温まで戻した後に水（１６０ｍｌ）を加えて反応を停止させた。反応混合液をクロロホルム（５００ｍｌ）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝２：１）で精製して、２−フェニル−２−オキサゾリン（４．９ｇ，  ６８％）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（２５０ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３，  ｐｐｍ）： δ  ４．０７（２Ｈ，  ｔ，  Ｊ＝９．３Ｈｚ），  ４．４４（２Ｈ，  ｔ，  Ｊ＝９．３Ｈｚ），  ７．３７−７．４８（３Ｈ，  ｍ），  ７．９３−７．９７（２Ｈ，  ｍ）．
【００８５】
参考例−２
【化７１】
2008088128.tif 000051
２−フェニル−２−オキサゾリン（３．６２ｇ，  ２４．６ｍｍｏｌ）の四塩化炭素（１２０ｍｌ）溶液に、Ｎ−ブロモコハク酸イミド（１３．１ｇ，  ７３．８ｍｍｏｌ）及びα，α’−アゾビスイソブチロニトリル（２０２mｇ，  １．２３ｍｍｏｌ）を加えて、アルゴン雰囲気下１時間加熱還流した。反応溶液を室温まで戻した後、不溶物をろ別した。ろ液を飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝６：１）で精製して、５−ブロモ−２−フェニルオキサゾール（３．０５ｇ，  ５５％）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３，  ｐｐｍ）： δ  ７．１７（１Ｈ，  ｓ），  ７．４８−７．５１（３Ｈ，  ｍ），  ８．０５−８．０７（２Ｈ，  ｍ）．
【００８６】
参考例−３
【化７２】
2008088128.tif 000052
酢酸（１．４ｍｌ，  ２５．１ｍｍｏｌ）の水（２５ｍｌ）溶液に、炭酸ナトリウム（１．３３ｇ，  １２．６ｍｍｏｌ）を加え、系が均一の溶液になるまで撹拌した後に、フェナシルブロミド（５．０ｇ，  ２５．１ｍｍｏｌ）及びエタノール（５０ｍｌ）を加えて、２時間加熱還流した。反応溶液を室温まで戻した後、クロロホルム（２００ｍｌ）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製して、酢酸フェナシル（３．９９ｇ，  ８９％）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３，  ｐｐｍ）： δ  ２．２４（３Ｈ，  ｓ），  ５．３５（２Ｈ，  ｓ），  ７．４９（２Ｈ，  ｔ，  Ｊ＝７．７Ｈｚ），  ７．６１（１Ｈ，  ｔｔ，  Ｊ＝１．３，  ７．４Ｈｚ），  ７．９１−７．９３（２Ｈ，  ｍ）．
【００８７】
参考例−４
【化７３】
2008088128.tif 000053
酢酸フェナシル（３．９９ｇ，  ２２．４ｍｍｏｌ）、アセトアミド（６．６２ｇ，  １１２ｍｍｏｌ）及び三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体（３．２ｍｌ，  ２２．４ｍｍｏｌ）の混合物を１４０゜Ｃで６時間加熱した。反応混合液を室温まで戻した後、水（１００ｍｌ）を加えて反応を停止させた。反応混合液をジエチルエーテル（３００ｍｌ）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝８：１）で精製して、２−メチル−４−フェニルオキサゾール（３．３８ｇ，  ９５％）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３，  ｐｐｍ）： δ  ２．５２（３Ｈ，  ｓ），  ７．３０（１Ｈ，  ｔ，  Ｊ＝７．４Ｈｚ），  ７．３９（２Ｈ，  ｔ，  Ｊ＝７．７Ｈｚ），  ７．７０−７．７１（２Ｈ，  ｍ），  ７．８１（１Ｈ，  ｓ）．
【００８８】
参考例−５
【化７４】
2008088128.tif 000054
２−メチル−４−フェニルオキサゾール（３００ｍｇ，  １．８８ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１０ｍｌ）溶液に、Ｎ−ブロモコハク酸イミド（３６８ｇ，  ２．０７ｍｍｏｌ）を加えて、室温で１５分間撹拌した。反応溶液をジエチルエーテル（１００ｍｌ）で希釈した後、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝１０：１）で精製して、５−ブロモ−２−メチル−４−フェニルオキサゾール（３７８ｍｇ，  ８５％）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３，  ｐｐｍ）： δ  ２．５１（３Ｈ，  ｓ），  ７．３２−７．３６（１Ｈ，  ｍ），  ７．４３（２Ｈ，  ｔ，  Ｊ＝７．６Ｈｚ），  ７．９２−７．９４（２Ｈ，  ｍ）．
【００８９】
参考例−６
【化７５】
2008088128.tif 000055
安息香酸（３．０７ｇ，  ２５．１ｍｍｏｌ）の水（２５ｍｌ）溶液に、炭酸ナトリウム（１．３３ｇ，  １２．６ｍｍｏｌ）を加え、系が均一な溶液になるまで撹拌した後に、フェナシルブロミド（５．０ｇ，  ２５．１ｍｍｏｌ）及びエタノール（５０ｍｌ）を加えて、２時間加熱還流した。反応溶液を冷却し、析出した結晶をろ別した。得られた粗結晶を７０％エタノールで再結晶して、安息香酸フェナシル（５．３５ｇ，  ８９％）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３，  ｐｐｍ）： δ  ５．５８（２Ｈ，  ｓ），  ７．４６−７．５３（４Ｈ，  ｍ），  ７．５８−７．６４（２Ｈ，  ｍ），  ７．９８（２Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝１．２，  ８．３Ｈｚ），  ８．１５（２Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝１．３，  ８．３Ｈｚ）．
【００９０】
参考例−７
【化７６】
2008088128.tif 000056
安息香酸フェナシル（５．３５ｇ，  ２２．３ｍｍｏｌ）、アセトアミド（６．６２ｇ，  １１２ｍｍｏｌ）及び三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体（３．２ｍｌ，  ２２．４ｍｍｏｌ）の混合物を１４０゜Ｃで４時間加熱した。反応混合液を室温まで戻した後、水（１００ｍｌ）を加えて反応を停止させた。反応混合液をジエチルエーテル（３００ｍｌ）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エチル＝１０：１）で精製し、エタノールで再結晶して２，４−ジフェニルオキサゾール（３．６ｇ，  ７３％）を得た。１Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３，  ｐｐｍ）： δ  ７．３２−７．３５（１Ｈ，  ｍ），  ７．４１−７．５０（５Ｈ，  ｍ），  ７．８２−７．８４（２Ｈ，  ｍ），  ７．９７（１Ｈ，  ｓ），  ８．１１−８．１４（２Ｈ，  ｍ）．