(57)【要約】【課題】ＬＥＤ光に対する反射膜の反射率を高める。【解決手段】反射膜は、基板１と、基板１の表面上に形成されたプラズマ重合膜２と、プラズマ重合膜２の表面上に形成された合金膜３と、合金膜３の表面上に形成されたＴｉＯ２膜４と、ＴｉＯ２膜４の表面上に形成されたプラズマ重合膜２とにより形成されている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＬＥＤ素子を光源とし、当該ＬＥＤ素子から発せられた光を車外方向に反射する反射膜を備える車両用ランプ装置において、
前記反射膜が、基板と、当該基板表面に形成されたプラズマ重合膜と、当該プラズマ重合膜表面に形成された、Ａｇを主成分とし、ＢｉとＡｕ又はＰｄとを含有する合金膜と、当該合金膜表面に形成されたＴｉＯ２膜と、当該ＴｉＯ２膜表面に形成されたプラズマ重合膜とを備えることを特徴とする車両用ランプ装置。
【請求項２】
ＬＥＤ素子を光源とし、当該ＬＥＤ素子から発せられた光を車外方向に反射する反射膜を備える車両用ランプ装置において、
前記反射膜が、基板と、当該基板表面に形成されたプラズマ処理膜と、当該プラズマ処理膜表面に形成された、Ａｇを主成分とし、ＢｉとＡｕ又はＰｄとを含有する合金膜と、当該合金膜表面に形成されたＴｉＯ２膜と、当該ＴｉＯ２膜表面に形成されたプラズマ重合膜とを備えることを特徴とする車両用ランプ装置。
【請求項３】
ＬＥＤ素子を光源とし、当該ＬＥＤ素子から発せられた光を車外方向に反射する反射膜を備える車両用ランプ装置において、
前記反射膜が、基板と、当該基板表面に形成されたＳｉＮ膜と、当該ＳｉＮ膜表面に形成された、Ａｇを主成分とし、ＢｉとＡｕ又はＰｄとを含有する合金膜と、当該合金膜表面に形成されたＴｉＯ２膜と、当該ＴｉＯ２膜の表面に形成されたプラズマ重合膜とを備えることを特徴とする車両用ランプ装置。
【請求項４】
ＬＥＤ素子を光源とし、当該ＬＥＤ素子から発せられた光を車外方向に反射する反射膜を備える車両用ランプ装置において、
前記反射膜が、基板と、当該基板表面に形成されたＳｉＮ膜と、当該ＳｉＮ膜表面に形成された、Ａｇを主成分とし、ＢｉとＡｕ又はＰｄとを含有する合金膜と、当該合金膜表面に形成されたＴｉＯ２膜と、当該ＴｉＯ２膜の表面に形成されたＳｉＮ膜とを備えることを特徴とする車両用ランプ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、車両用ランプ装置に関し、より具体的には、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）光に対する反射膜の反射率を高めるための技術に係わる。
【背景技術】
【０００２】
一般に、ＬＥＤ素子を光源とし、ＬＥＤ素子から発せられた光（以下、ＬＥＤ光と略記）を車外方向に反射する反射膜を備える車両用ランプ装置では、反射膜としてＡｌ（アルミニウム）膜が採用されている。
【特許文献１】特開２００３−２０７６１１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、ＬＥＤ光に対するＡｌ膜の反射率は８０％程度であるために、ＬＥＤ光に対する反射膜の反射率をより高めることにより、高輝度、且つ、低消費電力の車両用ランプ装置を提供することが市場的急務となっている。
【０００４】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、その目的は、ＬＥＤ光に対する反射膜の反射率を高めることが可能な車両用ランプ装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本願発明の発明者は、鋭意研究を重ねてきた結果、（１）基板と、基板表面に形成されたプラズマ重合膜と、プラズマ重合膜表面に形成された、Ａｇ（銀）を主成分とし、Ｂｉ（ビスマス）とＡｕ（金）又はＰｄ（パラジウム）とを含有する合金膜と、合金膜表面に形成されたＴｉＯ２（酸化チタン）膜と、ＴｉＯ２膜の表面に形成されたプラズマ重合膜、又は（２）基板と、基板表面に形成されたプラズマ処理膜と、プラズマ処理膜表面に形成された、Ａｇを主成分とし、ＢｉとＡｕ又はＰｄとを含有する合金膜と、合金膜表面に形成されたＴｉＯ２膜と、ＴｉＯ２膜の表面に形成されたプラズマ重合膜、又は（３）基板と、基板表面に形成されたＳｉＮ（窒化シリコン）膜と、ＳｉＮ膜表面に形成された、Ａｇを主成分とし、ＢｉとＡｕ又はＰｄとを含有する合金膜と、合金膜表面に形成されたＴｉＯ２膜と、ＴｉＯ２膜の表面に形成されたプラズマ重合膜、又は（４）基板と、基板表面に形成されたＳｉＮ膜と、ＳｉＮ膜表面に形成された、Ａｇを主成分とし、ＢｉとＡｕ又はＰｄとを含有する合金膜と、合金膜表面に形成されたＴｉＯ２膜と、ＴｉＯ２膜の表面に形成されたＳｉＮ膜により反射膜を形成することにより、ＬＥＤ光に対する反射膜の反射率は９３〜９８［％］程度となり、Ａｌ膜を用いた場合と比較して反射率が大幅に高くなることを知見した。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
以下、図面を参照して、本発明の一実施形態となる反射膜の構成について説明する。
【０００７】
本発明の一実施形態となる反射膜は、図１に示すように、プラスチック等により形成された基板１と、基板１の表面上に形成されたヘキサメチルジシロキサンをモノマーとするプラズマ重合膜２と、プラズマ重合膜２の表面上に形成された合金膜３と、合金膜３の表面上に形成されたＴｉＯ２膜と、ＴｉＯ２膜の表面上に形成されたヘキサメチルジシロキサンをモノマーとするプラズマ重合膜２とを備える。また、合金膜３は、Ａｇを主成分とし、ＢｉとＡｕ（又はＰｄ）１〜３［％］とを含有する。このような反射膜を形成する際は、始めに、基板１を真空装置内に配置し、真空装置の内部が１×１０−２［Ｐａ］程度の真空度になるまで排気する。次に、ガス導入管を介して真空装置内部にヘキサメチルジシロキサンを導入し、プラズマ電極にＲＦ（高周波電圧）やＤＣ（直流電圧）を印加することにより、ヘキサメチルジシロキサンを基板１表面にプラズマ重合させ、プラズマ工法により膜厚５０〜７０［ｎｍ］程度のプラズマ重合膜２を基板１の表面に形成する。次に、ガス導入管を介して真空装置内部にＡｒを導入し、真空装置内部の真空度を０．２［Ｐａ］程度にした状態で、スパッタリング処理により膜厚８０〜１５０［ｎｍ］程度の合金膜３をプラズマ重合膜２表面上に形成する。次に、合金膜３表面上にＴｉＯ２膜４を形成する。そして最後に、ガス導入管を介して真空装置内部にヘキサメチルジシロキサンを導入し、プラズマ電極にＲＦやＤＣを印加することにより、ヘキサメチルジシロキサンをＴｉＯ２膜４表面にプラズマ重合させ、プラズマ工法によりＴｉＯ２膜４の表面にプラズマ重合膜２を形成する。
【０００８】
以上の説明のように、本発明の一実施形態となる反射膜は、基板１と、基板１の表面上に形成されたプラズマ重合膜２と、プラズマ重合膜２の表面上に形成された合金膜３と、合金膜３の表面上に形成されたＴｉＯ２膜４と、ＴｉＯ２膜４の表面上に形成されたプラズマ重合膜２とにより形成されているので、ＬＥＤ光に対する反射膜の反射率を高めることができる。
【０００９】
また、合金膜３中に含まれるＢｉは、大気に触れると酸化ビスマスとなるので、合金膜３の保護膜として機能させることができる。また、合金膜３中に含まれるＡｕ又はＰｄはＡｇの凝集を防ぐので、合金膜３の耐熱性を向上させることができる。また、ＴｉＯ２膜４は、触媒作用で有機物を分解し、合金膜３を構成するＡｇの腐食を防ぐので、合金膜３の保護膜として機能する。また、プラズマ重合膜２は、基板１の汚れや金型に付着した油から合金膜３を保護するようになるので、合金膜３が腐食することを抑制できる。
【００１０】
なお、ＴｉＯ２膜４の膜厚が６０［ｎｍ］である場合、図２に示すように、反射膜の反射特性がＬＥＤ素子の発光ピークと一致しないのに対し、ＴｉＯ２膜４の膜厚が７０［ｎｍ］である場合には、図３に示すように、反射膜の反射特性がＬＥＤ素子の発光ピークと一致するようになるので、ＴｉＯ２膜４の膜厚は７０〜８０［ｎｍ］程度の大きさであることが望ましい。またこのような構成によれば、反射膜はＬＥＤ素子の発光特性に合った反射特性を有するので、反射板はやや青みのある色となる。また、図４に示すように、合金膜３中におけるＢｉの含有率が大きくなると反射膜の反射率は低下するので、合金膜３中におけるＢｉの含有率は０．５〜３［％］の範囲内であることが望ましい。
【００１１】
また、本実施形態では、基板１の表面上にプラズマ重合膜２を形成したが、プラズマ処理によって基板１表面をクリーニングすることにより、図５に示すように、基板１の表面上にプラズマ処理層５を形成してもよい。このような構成によれば、合金膜３を腐食させる物質をクリーニング処理によって除去することができるので、合金膜３の組成を安定的に保つことができる。また、溶媒を用いることなくドライ環境でクリーニング処理を行うので、環境問題の発生や爆発の恐れを回避することができる。
【００１２】
また、本実施形態では、基板１の表面上にプラズマ重合膜２を形成したが、窒素雰囲気下で基板１表面にＳｉ（シリコン）をスパッタリング処理することにより、図６に示すように、基板１の表面上にＳｉＮ膜６を合金膜３の保護膜として形成してもよい。またこの場合には、図７に示すように、最表面のプラズマ重合膜を同様のＳｉＮ膜６としてもよい。
【００１３】
以上、本発明者によってなされた発明を適用した実施の形態について説明したが、この実施の形態による本発明の開示の一部をなす論述及び図面により本発明は限定されることはない。すなわち、上記実施の形態に基づいて当業者等によりなされる他の実施の形態、実施例及び運用技術等は全て本発明の範疇に含まれることは勿論であることを付け加えておく。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の一実施形態となる反射膜の構成を示す断面図である。
【図２】ＴｉＯ２膜の膜厚が６０［ｎｍ］である場合における反射膜の反射率とＬＥＤ素子の発光ピークの関係を示すスペクトル図である。
【図３】ＴｉＯ２膜の膜厚が７０［ｎｍ］である場合における反射膜の反射率とＬＥＤ素子の発光ピークの関係を示すスペクトル図である。
【図４】合金膜中におけるＢｉの含有率の変化に伴う反射膜の反射率の変化を示す図である。
【図５】本発明の他の実施形態となる反射膜の構成を示す断面図である。
【図６】本発明の他の実施形態となる反射膜の構成を示す断面図である。
【図７】本発明の他の実施形態となる反射膜の構成を示す断面図である。
【符号の説明】
【００１５】
１：基板
２：プラズマ重合膜
３：合金膜
４：ＴｉＯ２膜
５：プラズマ処理層
６：ＳｉＮ膜
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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