(57)【要約】【課題】従来にない、新規な色調を実現するとともに、媒体の部分毎に異なる色調を実現する意匠性媒体形成方法及び意匠性媒体を提供する。【解決手段】意匠性を有する媒体を形成する意匠性媒体形成方法であって、質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ以下の磁気異方性を有する顔料を樹脂に分散させた塗料を基材に塗工して塗工層を形成する塗工層形成ステップと、塗工層を形成した媒体を、０．３テスラ以上の磁場の中で、塗工層の所定部分毎に、所定方向に顔料を配向させる顔料配向ステップと、磁場をかけたまま、又は、磁場をかけて顔料を配向させた後に、塗料を硬化させる塗料硬化ステップと、を行う。【選択図】図１０
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
意匠性を有する媒体を形成する意匠性媒体形成方法であって、
質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ以下の磁気異方性を有する顔料を樹脂に分散させた塗料を基材に塗工して塗工層を形成する塗工層形成ステップと、
前記塗工層を形成した媒体を、０．３テスラ以上の磁場の中で、前記塗工層の所定部分毎に、所定方向に前記顔料を配向させる顔料配向ステップと、
前記磁場をかけたまま、又は、前記磁場をかけて前記顔料を配向させた後に、前記塗料を硬化させる塗料硬化ステップと、
を行うことを特徴とする意匠性媒体形成方法。
【請求項２】
前記磁気異方性を有する顔料が光輝性顔料であることを特徴とする請求項１記載の意匠性媒体形成方法。
【請求項３】
前記媒体の塗工層に直線状又はほぼ直線状の磁力線が通るように磁場をかけて前記顔料を配向させたことを特徴とする請求項１又は２記載の意匠性媒体形成方法。
【請求項４】
前記媒体の塗工層に曲線状の磁力線が通るように磁場をかけて前記顔料を配向させたことを特徴とする請求項１又は２記載の意匠性媒体形成方法。
【請求項５】
前記塗料として、無溶媒系の樹脂を用いたことを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の意匠性媒体形成方法。
【請求項６】
前記基材として、光を透過する透明基材を用いたことを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の意匠性媒体形成方法。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか１項に記載の意匠性媒体形成方法で形成されたことを特徴とする意匠性媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、顔料を含む塗料を基材に塗布し、磁場において顔料を配向することによって、意匠性を有する意匠性媒体を形成する意匠性媒体形成方法及び意匠性媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、基材に顔料を含む塗料を塗布して意匠性を有する意匠性媒体を形成する方法として、下塗り及び／又は中塗り塗膜を直接着磁して磁化させて磁石を形成することにより、被塗物の材料や形状等に左右されることなく、様々な模様を塗膜上に現出させることができる「模様塗膜形成方法」（例えば、特許文献１参照）、塗膜に分散している磁性粉末を磁力によって配向・移動させることにより、意匠性及び識別性に優れた模様を付けることができる「模様付き塗装金属板の製造方法」（例えば、特許文献２参照）、入射光を分散させて出射する光分散層の光出射側に、磁性を有する光輝性顔料を磁場印加により配向させて含有する樹脂層を設けることにより、観察方向によって異なる模様を表すことができる「意匠性フィルム」（例えば、特許文献３参照）、等が開示されている。
【特許文献１】特開平６−１１４３３２号公報
【特許文献２】特開平８−３８９９２号公報
【特許文献３】特開平９−９４５２９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
上述した従来技術では、強磁性を持つ光輝性顔料を用いることにより顔料の配向を制御している。この強磁性を持つ光輝性顔料は、鱗片状、針状の強磁性材料単独や、それらに二酸化チタンや酸化鉄を被覆したもの、マイカ・シリカ・アルミナなどに酸化鉄やニッケル（Ｎｉ）等の強磁性体を被覆したものが挙げられる。しかしながら、上記従来技術のいずれも、上記で列挙した強磁性体全般に適用できるものではない。よって、上記各従来技術の方法は、配向対象となる強磁性体が限定的されているので、輝度の変化のみしか実現されず、バリエーションに富んだ意匠性の実現は困難であった。
【０００４】
一方、従来の磁場配向方法では、マイカ・シリカ・アルミナなどの非強磁性体材料を主成分とし、質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ（SI unit）以下となる光輝性顔料を使用した場合、顔料を動かすことができなかったため、非強磁性光輝性顔料（非強磁性パール顔料）を配向させた媒体はなかった。
【０００５】
また、従来の磁場配向方法では、顔料の配向は一様であり、媒体の部分毎に顔料の配向を変えた媒体はなかった。
【０００６】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、媒体の部分毎に、異なる方向に非強磁性光輝性顔料の配向を行うことにより、従来にない、新たな色調を実現できるとともに、媒体の部分毎に異なる色調を実現することができる意匠性媒体形成方法及び意匠性媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するため、請求項１記載の発明は、意匠性を有する媒体を形成する意匠性媒体形成方法であって、質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ以下の磁気異方性を有する顔料を樹脂に分散させた塗料を基材に塗工して塗工層を形成する塗工層形成ステップと、塗工層を形成した媒体を、０．３テスラ以上の磁場の中で、塗工層の所定部分毎に、所定方向に顔料を配向させる顔料配向ステップと、磁場をかけたまま、又は、磁場をかけて顔料を配向させた後に、塗料を硬化させる塗料硬化ステップと、を行うことを特徴とする。
【０００８】
請求項２記載の発明は、請求項１記載の発明において、磁気異方性を有する顔料が光輝性顔料であることを特徴とする。
【０００９】
請求項３記載の発明は、請求項１又は２記載の発明において、媒体の塗工層に直線状又はほぼ直線状の磁力線が通るように磁場をかけて顔料を配向させたことを特徴とする。
【００１０】
請求項４記載の発明は、請求項１又は２記載の発明において、媒体の塗工層に曲線状の磁力線が通るように磁場をかけて顔料を配向させたことを特徴とする。
【００１１】
請求項５記載の発明は、請求項１から４のいずれか１項に記載の発明において、塗料として、無溶媒系の樹脂を用いたことを特徴とする。
【００１２】
請求項６記載の発明は、請求項１から４のいずれか１項に記載の発明において、基材として、光を透過する透明基材を用いたことを特徴とする。
【００１３】
請求項７記載の発明は、請求項１から６のいずれか１項に記載の意匠性媒体形成方法で形成されたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、非強磁性光輝性顔料の配向制御を行うことにより、従来にない、新しい色調の意匠性媒体を実現でき、また、媒体の部分毎に顔料の配向制御を行うことにより、媒体の部分毎に異なる色調を実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明を実施するための最良の形態について、添付図面を参照して詳細に説明する。
【００１６】
〔第１の実施形態〕
まず、本発明の第１の実施形態について説明する。図１（ａ）は本発明の一実施形態に係る媒体の側面を模式的に示す図である。また、図１（ｂ）及び（ｃ）は本発明の一実施形態に係る顔料配向方法（意匠性媒体形成方法の一工程）において、磁力線を発生させるための着磁ヨークと、その着磁ヨークにより発生した複数の磁力線と、それら磁力線により形成された磁場中に配置された媒体と、を示す概念図である。また、図２（ａ）〜（ｃ）は、本発明の一実施形態に係る媒体の顔料の配向状態を模式的に示す側断面図である。
【００１７】
媒体５は、図１（ａ）に示すように、基材（例えば、樹脂、紙、セラミック等の非磁性体）５ｂの一方の面に対し、塗料を塗布して塗膜（塗工層）５ａが形成された媒体である。この塗料は、マイカ・シリカ・アルミナなどの反磁性体材料を主成分とする光輝性顔料を無溶媒低粘度硬化型樹脂に均一に分散させた塗料であり、反磁性光輝性顔料は、質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ以下の磁化率と磁気異方性を有する。質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ以下のものとしては、常磁性体や反磁性体がある。また、光輝性顔料であることによって、高い意匠性を得ることができる。
【００１８】
図１（ａ）に示す媒体５において、磁場印加前の顔料の配向状態は、図２（ａ）に示すようにほぼ水平（略水平状態）となっている。この状態においては、媒体表面から入射光Ｌを当てると、０°〜１５０°の範囲で媒体表面に、干渉色、光沢が発現する。なお、顔料の異方性磁化率が正（＋）の値であるか負（−）の値であるかにかかわらず、顔料の形状が楕円形、鱗片状であれば、エネルギー的に安定なため、図２（ａ）に示すように、顔料の長軸は、基材５ｂに対してほぼ水平に並んだ状態である。
【００１９】
上記光輝性顔料に含まれる反磁性体材料は、鉄やニッケルなどの強磁性体材料に比べ磁化率が非常に小さいものではあるが、その物質の結晶構造が非対称である場合、結晶軸の方位により磁化率に僅かな差が生じる。これを結晶磁気異方性と呼び、強磁場に置くと磁化率の大きな結晶軸方位が磁場方向と平行になるように結晶が回転・配向する。
【００２０】
また、溶媒を用いると、溶媒が蒸発する時に塗料の体積が減るため、直立した顔料が倒れてしまう場合がある。これを防止するために無溶媒系の樹脂を用いることが好ましい。さらには、無溶媒低粘度硬化型樹脂を使用するのが望ましく、例えば、紫外線硬化樹脂、熱可塑性樹脂、熱硬化樹脂の中で粘度の低いものが、鱗片状光輝性顔料を配向させやすいため、好ましい。
【００２１】
本実施形態に係る顔料配向方法について以下に説明する。
図１（ｂ）及び（ｃ）において、１、２は電磁石の着磁ヨークを示している。これらの着磁ヨーク１（Ｓ極），２（Ｎ極）は、図示しない部分にコイルが巻き付けられている。着磁ヨーク１、２は、磁力線３ａ、３ｂ、３ｃ、…、３ｍを発生させることによって、着磁ヨーク１、２間に、磁場を形成する。これらの磁力線３ａ〜３ｍは、図１（ｂ）及び（ｃ）に示すように、直線状の部分（又は、ほぼ直線状の部分）や曲線状の部分がある。また、形成される磁場の強さは、０．３Ｔ（Ｔはテスラ）以上、好ましくは１Ｔ以上である。
【００２２】
以下、本実施形態の顔料配向方法として、図１（ｂ）に示すように、媒体５を、磁力線３ｇの直線状の部分に対して水平に配置した場合（横磁場、水平磁場）、及び、図１（ｃ）に示すように、媒体５を、磁力線３ｅ〜３ｉの直線状の部分（又は、ほぼ直線状の部分）に対して垂直に配置した場合（縦磁場、垂直磁場）、についてそれぞれ説明する。
【００２３】
顔料の異方性磁化率が負（−）の値の場合において、媒体５を図１（ｂ）に示す水平磁場で印加すると、塗膜５ａ中の顔料成分１４は、図２（ａ）の略水平状態から図２（ｂ）の垂直状態に配向が変化する。また、顔料の異方性磁化率が負（−）の値の場合において、媒体５を図１（ｃ）に示す垂直磁場で印加すると、図２（ａ）の略水平状態から図２（ｃ）の均一な水平状態に配向が変化する。よって、顔料の異方性磁化率が負（−）の値の場合は、顔料を配向させたい角度に直交した磁力線の中に媒体を配置することによって、顔料の配向制御が可能となる。
【００２４】
一方、顔料の異方性磁化率が正（＋）の値の場合において、媒体５を図１（ｃ）に示す垂直磁場で印加すると、塗膜５ａ中の顔料成分１４は、図２（ａ）の略水平状態から図２（ｂ）の垂直状態に配向が変化する。また、顔料の異方性磁化率が正（＋）の値の場合において、媒体５を図１（ｂ）に示す水平磁場で印加すると、図２（ａ）の略水平状態から図２（ｃ）の均一な水平状態に配向が変化する。よって、顔料の異方性磁化率が正（＋）の値の場合は、顔料を配向させたい角度に沿った磁力線の中に媒体を配置することによって、顔料の配向制御が可能となる。
【００２５】
以上説明したように、本実施形態の顔料配向方法によれば、磁力線の直線状の部分（又は、ほぼ直線状の部分）に媒体を配置して磁場をかけることによって、磁気異方性を有する顔料が均一に配向するため、鱗片状光輝性顔料を基材に対して垂直に配向させた場合は、通常得られる色調とは大きく異なる色調の意匠性を実現できる。また、鱗片状光輝性顔料を基材に対して水平に配向させた場合は、通常塗布しただけの磁気異方性を有する顔料の配向に比べ、より均一に顔料が並ぶため、より鮮やかな色調の意匠性を実現できる。
【００２６】
なお、上述した顔料配向方法の説明では、磁力線の直線部分の中に媒体５を配置したが、図１（ｂ）及び（ｃ）において、磁力線の曲線部分の中に配置してもよい。この場合について以下に説明する。
【００２７】
例えば、図３（ａ）に示すように、垂直磁場における磁力線ａ〜ｅの曲線部分に、異方性磁化率が正（＋）の値であり、鱗片状光輝性顔料を含む塗料の塗膜が形成された媒体５を配置した場合、図３（ｂ）に示すように、塗膜５ａ中の顔料成分１４ａ、１４ｂ、１４ｃ、１４ｄは、磁力線５ａ〜ｅの曲線部分に沿ってそれぞれ配向される。
【００２８】
よって、図３（ｂ）に示すように、鱗片状光輝性顔料１４ａ〜１４ｄの配向角度（傾き）がそれぞれ異なるため、媒体５を傾けた際の光の反射の仕方が媒体表面の部分毎に異なるようになり、従来にない色調変化を得ることできる。また、図３（ｂ）に示すように、媒体の表面からの光だけでなく媒体の横からの光（入射光Ｌ）も反射することができるので、媒体の表面において、媒体の横からの光の反射による色調変化も得ることできる。
【００２９】
ここで、本実施形態の顔料配向方法と上記特許文献１〜３との違いについて以下に述べる。
特許文献１では、使用する粒子として５〜１００ｅｍｕ／ｇと明示しており、明らかに強磁性体であるといえる。
特許文献２では、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｆｅを含む金属又は合金でコーティングされた磁性粉末とあり、磁場としては１００〜３０００ガウス（０．０１Ｔ〜０．３Ｔ）を使用するが、本実施形態で使用する質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ以下の鱗片状光輝性顔料は、０．３Ｔ以上、好ましくは１Ｔ以上の強磁場を使用することで配向する。
特許文献３では、使用する光輝性顔料は、単体の材料としてγ−Ｆｅ２Ｏ３、Ｆｅ３Ｏ４、Ｎｉ箔など、非磁性体にコーティングする材料としてＣｏ、Ｎｉ、Ｆｅ３Ｏ４など、いずれも強磁性体であり、顔料の質量磁化率として１０-6ｍ3／ｋｇを大きく超える。
また、本実施形態の磁場の強度は０．３Ｔ以上、好ましくは１Ｔ以上であるが、特許文献１〜３に記載されている強磁性体の顔料を含む塗液を、本実施形態で使用している０．３Ｔ以上の強磁場に近づけると、顔料が磁場に吸い寄せられ、均一な塗膜が得られない。
【００３０】
次に、上述した本実施形態の顔料配向方法を一工程として含む、本実施形態の意匠性媒体形成方法について以下に説明する。図４〜図７は、本実施形態の意匠性媒体方法を実行し、本実施形態の意匠性媒体を形成するための装置の概略を示す図である。図８は、この装置に備えられる図１に示す着磁ヨークの動作を示す図である。図９は、本実施形態の意匠性媒体の顔料の配向状態を模式的に示す側断面図である。
【００３１】
まず、本実施形態の意匠性媒体を形成するための装置の概要について説明する。なお、ここでの説明では、意匠性媒体を構成する基材としてＰＥＴフィルムを用いるものとする。
図４〜図７に示すように、本装置は、予め巻き付けられた基材を送り出すロール部６ａ、基材に塗料を塗工して塗膜（塗工層）を形成する塗工部７、塗膜に磁場をかけ、塗膜中の顔料を配向させる着磁ヨーク１，２、塗膜に紫外線を照射し、硬化させるＵＶ照射部８、塗膜硬化により形成された意匠性媒体を巻き取るロール部６ｂ、を備える。本装置において、ロール部６ａから送り出された基材５ｂは、塗工部７により塗膜５ａが塗工され、着磁ヨーク１，２により塗膜の顔料が配向され、ＵＶ照射部８により塗膜が硬化され、意匠性媒体となってロール部６ｂに収納される。なお、本装置では、着磁ヨーク１，２により磁場をかけて顔料を配向した後に、ＵＶ照射部８により紫外線照射を行うように構成しているが、着磁ヨーク１，２により磁場をかけたまま紫外線照射を行えるように、ＵＶ照射部８を配置するようにしてもよい。
【００３２】
ここで、本装置の着磁ヨーク１，２の動作について図８を参照して説明する。本装置の着磁ヨーク１，２は、上述した顔料配向方法で用いられる、図１（ｂ）及び（ｃ）に示すものと同じである。
図８に示すように、ＸＹ平面、ＹＺ平面、ＸＺ平面からなる３次元空間の所定の位置に仮想軸が存在するものとする。着磁ヨーク１と、着磁ヨーク２とは、例えば、ＸＹ平面に直交する軸Ａに線対称の位置に配置され、この軸Ａの周りを、時計回り又は反時計回りに３６０°回転可能である。同様に、その他の軸Ｂ、軸Ｃ、軸Ｄの場合も、着磁ヨーク１，２は、各軸に線対称の位置に移動し、その軸の周りを時計回り又は反時計回りに３６０°回転する。なお、仮想軸は、図８に示すものに限定されない。
【００３３】
上記装置を使用した本実施形態の意匠性媒体形成方法について説明する。
図４において、ロール部６ａには、基材（ＰＥＴフィルム）５ｂが予め巻き付けられており、本装置が作動し始めると、ロール部６ａは、図示しない駆動手段により駆動され、予め巻き付けられている基材５ｂを図中の矢印方向に送り出す。本装置において、基材５ｂは、所定の速度で矢印方向に移動する。
【００３４】
次に、図４において、塗工部７は、ロール部６ａから送り出された基材５ｂの片面に対して、質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ以下の磁気異方性を有する光輝性顔料を無溶媒系の樹脂に分散させた塗料を塗工する。これにより、塗膜（塗工層）５ａが形成され、媒体５となる。この時の塗膜５ａ中の顔料は、図２（ａ）に示す略水平状態となっている。なお、ここでの説明では、顔料の異方性磁化率は、正（＋）の値とする。
【００３５】
次に、図４において、着磁ヨーク１，２は、磁力線３を発生させて磁場を形成する。この時、着磁ヨーク１，２は、図１（ｃ）に示す垂直磁場を形成するものとする。図４（Ａ）は、この時の着磁ヨーク１，２と媒体５の状態を示す斜視図である。媒体５は、図１（ｃ）に示す磁力線３ｅ〜３ｉの直線状及びほぼ直線状の部分で形成された磁場の中を移動、あるいは、磁場の中で所定時間停止する。これにより、塗膜５ａ中の顔料成分１４は、図２（ｂ）に示すように、基材５ｂに対して垂直方向に配向される。
【００３６】
次に、着磁ヨーク１，２により顔料が配向された媒体５は、図５に示すように、磁場を出て矢印方向に移動する。図５（ａ）は、媒体５において、顔料が垂直に配向された部分（以下、部分１０という）を示す。また、この時、媒体５において、部分１０の後の部分が着磁ヨーク１，２により顔料配向される。着磁ヨーク１，２は、図４に示す垂直磁場を形成する配置から回転し、図５に示すように、図１（ｂ）に示す水平磁場を形成する配置となる。図５（Ａ）は、この時の着磁ヨーク１，２と媒体５の状態を示す斜視図である。媒体５は、図１（ｂ）に示す磁力線３ｇの直線状の部分で形成された磁場の中を移動、あるいは、磁場の中で所定時間停止する。これにより、塗膜５ａ中の顔料成分１４は、図２（ｃ）に示すように、基材５ｂに対して水平方向に配向される。
【００３７】
次に、媒体５において、図６（ｂ）に示すように、顔料が水平に配向された部分（以下、部分１１という）が磁場を出て移動すると、部分１１の後の部分が着磁ヨーク１，２により顔料配向される。着磁ヨーク１，２は、図５に示す垂直磁場を形成する配置から回転し、図６に示すように、ロール部６ｂ方向に傾いた、斜めの配置となる。媒体５は、図１（ｃ）に示す磁力線３ｅ〜３ｉの直線状及びほぼ直線状の部分で形成された磁場の中を移動、あるいは、磁場の中で所定時間停止する。これにより、塗膜５ａ中の顔料成分１４は、図９（ａ）に示すように、ロール部６ｂ方向に傾いた斜め方向に配向される。
【００３８】
また、この時、先に顔料配向された部分１０は、図６に示すように、ＵＶ照射部８の配置位置に達し、ＵＶ照射部８により、塗膜５ａに対する紫外線照射が行われる。これにより、塗膜５ａが硬化する。
【００３９】
次に、媒体５において、図７（ｃ）に示すように、顔料がロール部６ｂ方向に傾いて斜めに配向された部分（以下、部分１２という）が磁場を出て移動すると、部分１２の後の部分が着磁ヨーク１，２により顔料配向される。着磁ヨーク１，２は、図６に示す配置から回転し、図７に示すように、ロール部６ａ方向に傾いた、斜めの配置となる。媒体５は、図１（ｃ）に示す磁力線３ｅ〜３ｉの直線状及びほぼ直線状の部分で形成された磁場の中を移動、あるいは、磁場の中で所定時間停止する。これにより、塗膜５ａ中の顔料成分１４は、図９（ｂ）に示すように、ロール部６ａ方向に傾いた斜め方向に配向される。
【００４０】
また、この時、先に顔料配向された部分１１は、図７に示すように、ＵＶ照射部８の配置位置に達し、ＵＶ照射部８により、塗膜５ａに対する紫外線照射が行われる。これにより、塗膜５ａが硬化する。
【００４１】
図示はしていないが、上記同様にして、図７（ｃ）に示す部分１２、及び、顔料がロール部６ａ方向に傾いて斜めに配向された部分（以下、部分１３という）も、ＵＶ照射部８により紫外線照射され、塗膜が硬化される。
【００４２】
紫外線照射の後、媒体５は、ロール部６ｂに巻き取られ、収納される。
以上が、本実施形態の意匠性媒体形成方法である。
【００４３】
次に、上記本実施形態の意匠性媒体形成方法によって形成された意匠性媒体について説明する。図１０は、本実施形態の意匠性媒体の一例を示す図であり、（ａ）は、上記本実施形態の意匠性媒体形成方法で形成された意匠性媒体を模式的に示す側断面図であり、（ｂ）及び（ｃ）はそれぞれ、（ａ）に示す意匠性媒体のデザインの一例を示す上面図である。
【００４４】
図１０（ａ）に示すように、本実施形態の意匠性媒体３０は、左から、顔料が垂直方向に配向された部分１０（図２（ｂ）参照），顔料が水平方向に配向された部分１１（図２（ｃ）参照），顔料が左上から右下への斜め方向に配向された部分１２（図９（ａ）参照），顔料が右上から左下への斜め方向に配向された部分１３（図９（ｂ）参照）の順に、隣り合うように形成されている。この意匠性媒体３０の表面に、図１０（ａ）に示すように入射光Ｌを当てると、部分１０から１３のそれぞれの部分毎に異なる色調を得ることができる。すなわち、部分１０では、通常得られる色調とは大きく異なる色調となり、部分１１では、通常塗布しただけの磁気異方性を有する顔料の配向に比べ、より鮮やかな色調となる。また、部分１２及び部分１３では、媒体の表面からの入射光だけでなく媒体の横からの入射光も反射することができるので（図９（ａ）及び（ｂ）参照）、媒体の表面において、媒体の横からの光の反射による色調変化も得ることできる。
【００４５】
意匠性媒体の一例として、図１０（ｂ）に示すように、意匠性媒体の表面において、背景部分１５と、文字部分１６，１７，１８，１９とを形成する場合、例えば、背景部分１５には所定の塗料を塗工して塗膜を設けた後、顔料を配向せずに、紫外線照射で塗膜を硬化して下準備をした後、本実施形態の意匠性媒体形成方法により、文字部分１６〜１９に塗料を塗工して塗膜を設け、文字部分１６〜１９毎に、図１０（ａ）の１０〜１３の部分をそれぞれ対応させた顔料配向を行い、紫外線照射で塗膜を硬化する。これにより、背景部分１５と、文字部分１６〜１９とで異なる色調を得ることができ、さらに、文字部分１６〜１９においてそれぞれ異なる色調を得ることができる。
【００４６】
意匠性媒体の一例として、図１０（ｃ）に示すように、意匠性媒体の表面において、黒の正方形部分２０，２１，２２，２３と、白の正方形部分２４，２５，２６，２７とで格子模様を形成する場合、例えば、本実施形態の意匠性媒体形成方法により、黒の正方形部分２０〜２３に塗料を塗工して塗膜を設けた後、黒の正方形部分２０〜２３毎に、図１０（ａ）の１０〜１３の部分をそれぞれ対応させた顔料配向を行い、紫外線照射で塗膜を硬化する。その後、再び本実施形態の意匠性媒体形成方法により、白の正方形部分２４〜２７に塗料を塗工して塗膜を設け、白の正方形部分２４〜２７毎に、図１０（ａ）の１３〜１０の部分をそれぞれ対応させた（黒の正方形部分の配向とは逆の順で）顔料配向を行い、紫外線照射で塗膜を硬化する。これにより、黒の正方形部分２０，２１，２２，２３は、図１０（ａ）の１０，１１，１２，１３にそれぞれ対応した顔料配向となり、また、白の正方形部分２４，２５，２６，２７は、図１０（ａ）の１３，１２，１１，１０にそれぞれ対応した顔料配向となる。よって、格子模様の部分毎に異なる色調を得ることができ、さらに、同じ色の部分（黒の正方形部分２０〜２３や白の正方形部分２４〜２７）においてそれぞれ異なる色調を得ることができる。
【００４７】
なお、上記説明では、媒体５における顔料の配向順や配向方向を、部分１０，１１，１２，１３としたが、これに限定されるものではない。
また、上記説明では、顔料配向の際に、磁力線の直線状（又はほぼ直線状）の部分で磁場印加を行うようにしたが、図３（ａ）を用いて説明したように、磁力線の曲線状の部分で磁場印加を行ってもよい。これにより、着磁ヨークを所定の角度に傾けて、さらに、磁力線の曲線状部分にて磁場印加することができるので、より細かく、より自在に顔料の配向を行うことができる。
また、上記説明では、顔料配向の際に、着磁ヨークを回転させるようにしたが、着磁ヨークを固定して、塗膜を設けた媒体自体を回転・移動するようにしてもよい。
【００４８】
以下、上述した第１の実施形態の意匠性媒体形成方法及び意匠性媒体の実施例及び比較例について説明する。なお、以下の実施例１〜４及び比較例１〜４で使用したパール顔料（Merck製）は、いずれも−の異方性磁化率を有するものである。
【実施例１】
【００４９】
実施例１では、紫外線硬化型樹脂１００重量部にパール顔料（Merck製、Color Code）を１０重量部添加した塗料を用いてＰＥＴフィルム上に塗膜を形成し、５Ｔの水平磁場（横磁場）中に５分間静置し、その後紫外線照射して塗膜を硬化させ、媒体を形成した。
【実施例２】
【００５０】
実施例２では、紫外線硬化型樹脂１００重量部にパール顔料（Merck製、Color Code）を１０重量部添加した塗料を用いてＰＥＴフィルム上に塗膜を形成し、５Ｔの垂直磁場（縦磁場）中に５分間静置し、その後紫外線照射して塗膜を硬化させ、媒体を形成した。
【実施例３】
【００５１】
実施例３では、紫外線硬化型樹脂１００重量部にパール顔料（Merck製、Xillaric T60-21）を１０重量部添加した塗料を用いてＰＥＴフィルム上に塗膜を形成し、５Ｔの水平磁場（横磁場）中に５分間静置し、その後紫外線照射して塗膜を硬化させ、媒体を形成した。
【実施例４】
【００５２】
実施例４では、紫外線硬化型樹脂１００重量部にパール顔料（Merck製、Xillaric T60-21）を１０重量部添加した塗料を用いてＰＥＴフィルム上に塗膜を形成し、５Ｔの垂直磁場（縦磁場）中に５分間静置し、その後紫外線照射して塗膜を硬化させ、媒体を形成した。
【００５３】
〈比較例１〉
比較例１は、実施例１及び２の比較例であり、紫外線硬化型樹脂１００重量部にパール顔料（Merck製、Color Code）を１０重量部添加した塗料を用いてＰＥＴフィルム上に塗膜を形成し、その後紫外線照射して塗膜を硬化させ、媒体を形成した。
【００５４】
〈比較例２〉
比較例２は、実施例３及び４の比較例であり、紫外線硬化型樹脂１００重量部にパール顔料（Merck製、Xillaric T60-21）を１０重量部添加した塗料を用いてＰＥＴフィルム上に塗膜を形成し、その後紫外線照射して塗膜を硬化させ、媒体を形成した。
【００５５】
〈比較例３〉
比較例３は、実施例１及び２の比較例であり、紫外線硬化型樹脂１００重量部にパール顔料（Merck製、Color Code）を１０重量部添加した塗料を用いてＰＥＴフィルム上に塗膜を形成し、０．０５Ｔ（５００ガウス）の水平磁場（横磁場）中に５分間静置し、その後紫外線照射して塗膜を硬化させ、媒体を形成した。
【００５６】
〈比較例４〉
比較例４は、実施例３及び４の比較例であり、紫外線硬化型樹脂１００重量部にパール顔料（Merck製、Xillaric T60-21）を１０重量部添加した塗料を用いてＰＥＴフィルム上に塗膜を形成し、０．０５Ｔ（５００ガウス）の水平磁場（横磁場）中に５分間静置し、その後紫外線照射して塗膜を硬化させ、媒体を形成した。
【００５７】
上記実施例１〜４及び比較例１〜４で形成した媒体の評価結果を表１に示す。
【００５８】
【表１】
2008018393.tif 000003
【００５９】
実施例１の媒体は、比較例１の媒体と比べると、顔料が垂直に配向され（図２（ｂ）参照）、色調が淡い水色〜淡い赤色となった。実施例２の媒体は、比較例１と比べ、変化はなかった。
実施例３の媒体は、比較例２の媒体と比べると、顔料が垂直に配向され（図２（ｂ）参照）、色調が淡い赤色となった。実施例４の媒体は、比較例２と比べ、変化はなかった。
【００６０】
また、比較例３の媒体は、顔料の配向に変化は見られず、ほぼ水平に配向された状態であり（図２（ａ）参照）、色調は水色〜赤色のままであった。
比較例４の媒体も、顔料の配向に変化は見られず、ほぼ水平に配向された状態であり（図２（ａ）参照）、色調は赤色のままであった。
【００６１】
よって、上記実施例１〜４及び比較例１〜４によれば、異方性磁化率が−の値の顔料（Color Code及びXillaric T60-21）は元々水平に配向されているので、実施例１及び３のように水平磁場に配置し、磁場印加することによって、顔料の配向状態を垂直に制御することができる。また、形成された媒体は元々の色調とは違った色調になる。また、０．０５Ｔの弱い磁場では顔料の配向に変化は起きない。
【００６２】
本発明に適用できる顔料として、上記実施例１〜４においてColor Code及びXillaric T60-21を用いたが、その他の顔料の例を表２に示す。
【００６３】
【表２】
2008018393.tif 000004
【００６４】
上記Color Code及びXillaric T60-21と同様に、異方性磁化率が−の顔料としてIridodin302やIridodin524（Merck製）が挙げられる。Iridodin302を用いて上記実施例と同じ方法で媒体を形成したところ、磁場無しの形成又は垂直磁場での形成では金色の色調であったが、水平磁場での形成では黄土色の色調となった。また、Iridodin524を用いて上記実施例と同じ方法で媒体を形成したところ、磁場無しの形成又は垂直磁場での形成では金属光沢赤色の色調であったが、水平磁場での形成では褐色の色調となった。
【００６５】
また、異方性磁化率が＋の顔料として、Xillaric T60-23（Merck製）、SECURE SHIFT（Flex Product製）やInfinite R-08（資生堂製）が挙げられる。これらの顔料を用いて上記実施例と同じ方法で媒体をそれぞれ形成したところ、磁場無しの形成と水平磁場での形成とでは同じ色調であったが、垂直磁場での形成では違った色調となった。すなわち、Xillaric T60-23では、元々の青色の色調から淡い青色の色調に変化し、SECURE SHIFTでは、元々のローズ〜緑の色調から黒のみの色調に変化し、Infinite R-08では、元々の小豆色〜青紫色の色調から小豆色のみの色調に変化した。
【００６６】
なお、表２において、マイカ（Mica）に強磁性体（Ｆｅ２Ｏ３）を被覆した顔料（Iriodin302、Iriodin524、Infinite R-08）は、赤銅色を得ることを目的としてごく弱い強磁性を持つα−Ｆｅ２Ｏ３を被覆したものであり、顔料としての質量磁化率は１０-6ｍ3／ｋｇ以下である（従来の磁場配向技術では強磁性体としてγ−Ｆｅ２Ｏ３、Ｆｅ３Ｏ４を使用していたが、これは磁化率を高めるためであり、磁化率の低いα−Ｆｅ２Ｏ３は従来使用されていなかった）。一方、表２において、反磁性体だけで組成された顔料（SECURE SHIFT、Color Code）は、１Ｔ以上の磁場が必要である。
【００６７】
〔第２の実施形態〕
以上、本発明の第１の実施形態について説明したが、第１の実施形態では、光を透過しない基材を用いて意匠性媒体を形成した。よって、第１の実施形態の意匠性媒体では、媒体の表面及び横から入射する光を反射して色調が変化するが、媒体の裏面から入射する光は基材で遮断されてしまう。以下、本発明の第２の実施形態として、媒体の裏面からの入射光を反射することが可能な意匠性媒体について説明する。
【００６８】
第２の実施形態の意匠性媒体の基本構成は上記第１の実施形態と同様であるが、基材として、透明基材を用いる点が異なる。本実施形態の意匠性媒体は、図１１に示すように、光を透過する透明基材（例えば、プラスチック、フィルム、ガラス等）５ｃの一方の面に対し、塗料を塗布して塗膜５ａが形成された媒体である。この塗料は、マイカ・シリカ・アルミナなどの反磁性体材料を主成分とする光輝性顔料を無溶媒低粘度硬化型樹脂（紫外線硬化樹脂、熱可塑性樹脂、熱硬化樹脂の中で粘度の低いもの）に均一に分散させた塗料であり、反磁性光輝性顔料は、質量磁化率が１０-6ｍ3／ｋｇ以下の磁化率と磁気異方性を有する。
【００６９】
磁場印加の方法は第１の実施形態の方法と同様である。すなわち、透明基材５ｃを用いて形成した意匠性媒体を図１（ｂ）又は図１（ｃ）の磁場の所定の位置に配置し、０．３Ｔ以上の磁場を印加する。これにより、鱗片状光輝性顔料は、例えば図２や図９のように配向される。
【００７０】
例えば、顔料が図２（ｂ）に示す配向となった場合、図１１に示すように、媒体の裏面から入射する入射光Ｌは、透明基材５ｃを透過し、鱗片状光輝性顔料１４に当たって反射する（なお、媒体の表面からの入射光は媒体を透過する）。よって、本実施形態の意匠性媒体は、透明基材を用いて形成することにより、媒体の裏面からの入射光を反射することができ、従来にはない色調変化を得ることができる。
【００７１】
以下、上述した第２の実施形態の意匠性媒体形成方法及び意匠性媒体の実施例及び比較例について説明する。なお、以下の実施例５及び比較例５で使用したパール顔料（Merck製、Iriodin302）は、−の異方性磁化率を有するものであり、表２に示すように、元々は金色であり、光を当てると黄土色の光輝性を示す顔料である。
【実施例５】
【００７２】
実施例５では、紫外線硬化型樹脂１００重量部にパール顔料（Merck製、Iriodin302）を１０重量部添加した塗料を用いて透明ＰＥＴフィルム上に塗膜を形成し、５Ｔの水平磁場（横磁場）中に５分間静置し、その後紫外線照射して塗膜を硬化させ、媒体を形成した。
【００７３】
〈比較例５〉
比較例５は、実施例５の比較例であり、紫外線硬化型樹脂１００重量部にパール顔料（Merck製、Iriodin302）を１０重量部添加した塗料を用いて透明ＰＥＴフィルム上に塗膜を形成し、その後紫外線照射して塗膜を硬化させ、媒体を形成した。
【００７４】
そして、実施例５の媒体及び比較例５の媒体において、表面及び裏面に対して光を当て、媒体を４５°傾け、各媒体の表面の塗膜の様子を目視で観察した。観察結果を表３に示す。
【００７５】
【表３】
2008018393.tif 000005
【００７６】
表３に示すように、比較例５の媒体は、顔料が水平に配向された状態（図２（ａ）参照）であるので、表面から光を当てた場合には黄土色の光輝性が認められたが、裏面から光を当てた場合には元の金色のままであり、光輝性は認められなかった。一方、実施例５の媒体は、顔料が垂直に配向された状態（図２（ｂ）及び図１１参照）であるので、表面から光を当てた場合は元の金色のままであり、光輝性は認められなかったが、裏面から光を当てた場合は黄土色の光輝性が認められた。
【００７７】
よって、上記実施例５によれば、透明基材を用いて媒体を形成することにより媒体の裏面からの光を入射することができ、その入射光を垂直に配向された顔料が反射するので（図１１参照）、媒体の表面にて干渉色、光沢を得ることができる。
【産業上の利用可能性】
【００７８】
本発明は、塗膜面に周囲と異なる微細な色調あるいは模様、図形、文字等のパターンの形成を行うことに利用が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００７９】
【図１】（ａ）は本発明の一実施形態に係る媒体の側面を模式的に示す図であり、（ｂ）及び（ｃ）は本発明の一実施形態に係る顔料配向方法を実行する装置の概念図である。
【図２】（ａ）は、本発明の一実施形態に係る顔料の磁場印加前における配向状態を模式的に示す側断面図であり、（ｂ）は、本発明の一実施形態に係る顔料の水平磁場における配向状態を模式的に示す側断面図であり、（ｃ）は、本発明の一実施形態に係る顔料の垂直磁場における配向状態を模式的に示す側断面図である。
【図３】（ａ）は本発明の一実施形態に係る顔料配向方法を実行する装置の概念図であり、（ｂ）は、本発明の一実施形態に係る顔料の垂直磁場の曲線部分における配向状態を模式的に示す側断面図である。
【図４】本発明の一実施形態に係る意匠性媒体形成方法を実行する装置の側面を概略的に示すとともに、本発明の一実施形態に係る意匠性媒体形成方法の一工程を示す図である。
【図５】本発明の一実施形態に係る意匠性媒体形成方法を実行する装置の側面を概略的に示すとともに、本発明の一実施形態に係る意匠性媒体形成方法の一工程を示す図である。
【図６】本発明の一実施形態に係る意匠性媒体形成方法を実行する装置の側面を概略的に示すとともに、本発明の一実施形態に係る意匠性媒体形成方法の一工程を示す図である。
【図７】本発明の一実施形態に係る意匠性媒体形成方法を実行する装置の側面を概略的に示すとともに、本発明の一実施形態に係る意匠性媒体形成方法の一工程を示す図である。
【図８】本発明の一実施形態に係る顔料配向方法を実行する装置の動作を説明するための概念図である。
【図９】（ａ）は、本発明の一実施形態に係る顔料の左上から右下への斜め磁場における配向状態を模式的に示す側断面図であり、（ｂ）は、本発明の一実施形態に係る顔料の右上から左下への斜め磁場における配向状態を模式的に示す側断面図である。
【図１０】（ａ）は、本発明の一実施形態に係る意匠性媒体の側面図であり、（ｂ）及び（ｃ）は、本発明の一実施形態に係る意匠性媒体のデザインの一例をそれぞれ示す上面図である。
【図１１】本発明の一実施形態に係る顔料の水平磁場における配向状態を模式的に示す側断面図である。
【符号の説明】
【００８０】
１、２    着磁ヨーク
３ａ〜３ｍ    磁力線
５    媒体
５ａ    塗膜（塗工層）
５ｂ    基材
５ｃ    透明基材
６ａ    ロール部（送り出し部）
６ｂ    ロール部（巻き取り部）
７    塗工部
８    ＵＶ照射部
１０    顔料が垂直に配向された部分
１１    顔料が水平に配向された部分
１２    顔料が左斜めに配向された部分
１３    顔料が右斜めに配向された部分
１４    顔料成分
１５    媒体表面の背景部分
１６，１７，１８，１９    媒体表面の文字部分
２０，２１，２２，２３    媒体表面の黒正方形部分
２４，２５，２６，２７    媒体表面の白正方形部分
３０    意匠性媒体
【図１】
2008018393.tif 000006
【図２】
2008018393.tif 000007
【図３】
2008018393.tif 000008
【図４】
2008018393.tif 000009
【図５】
2008018393.tif 000010
【図６】
2008018393.tif 000011
【図７】
2008018393.tif 000012
【図８】
2008018393.tif 000013
【図９】
2008018393.tif 000014
【図１０】
2008018393.tif 000015
【図１１】
2008018393.tif 000016