(57)【要約】【課題】装置内に設置されたフィルタを装置から取り外すことなく、装置内にて容易に洗浄可能な流動層装置及び流動層装置におけるフィルタ洗浄方法を提供する。【解決手段】筒状に形成された処理容器１内にカートリッジフィルタ７を上下方向に移動可能に設置する。処理容器１のスプレーケーシング側壁３ａに、超音波洗浄装置５５を取り付ける。処理容器１内に洗浄液５６を注入し、カートリッジフィルタ７を下方に移動させ洗浄液５６に浸漬させる。この状態で超音波洗浄装置５５を作動させ、カートリッジフィルタ７を洗浄する。超音波洗浄装置５５がカートリッジフィルタ７の近傍に配置されているため、超音波振動がカートリッジフィルタ７に伝わり易く、フィルタに付着した異物を効率良く除去できる。これにより、流動層装置からカートリッジフィルタ７を取り外すことなく、処理容器１内にてカートリッジフィルタ７を洗浄することが可能となる。【選択図】図１
2008018297.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
筒状に形成された処理容器と、
前記処理容器内に配置され、前記処理容器内に洗浄液が注入・保持された状態で前記洗浄液中に浸漬可能に設けられたフィルタ部材と、
前記処理容器の側壁に取り付けられ、前記洗浄液中に浸漬された状態の前記フィルタ部材を洗浄可能な洗浄装置とを有することを特徴とする流動層装置。
【請求項２】
請求項１記載の流動層装置において、前記洗浄装置は、前記洗浄液中に超音波振動を付与する超音波洗浄装置であることを特徴とする流動層装置。
【請求項３】
請求項１記載の流動層装置において、前記洗浄装置は、前記洗浄液中に気泡流又は気泡を含む液体を供給するバブリング洗浄装置であることを特徴とする流動層装置。
【請求項４】
請求項３記載の流動層装置において、前記フィルタは、前記処理容器内に回転自在に設置され、前記気泡流又は気泡を含む液体によって前記洗浄液中にて回転することを特徴とする流動層装置。
【請求項５】
請求項１〜４の何れか１項に記載の流動層装置において、前記フィルタ部材は、前記処理容器内を上下方向に移動可能に設置されてなることを特徴とする流動層装置。
【請求項６】
請求項１〜５の何れか１項に記載の流動層装置において、前記処理容器は、前記フィルタが配置されたフィルタケーシングと、被処理物に対し液体を噴霧するスプレーノズルが配置されたスプレーケーシングと、被処理物が収容される原料容器と、前記原料容器に対し処理気体を供給する給気ユニットとを備え、前記洗浄装置は、前記スプレーケーシングの側壁に設置されることを特徴とする流動層装置。
【請求項７】
請求項１〜６の何れか１項に記載の流動層装置において、前記流動層装置は、前記処理容器内に設置され、略水平方向に配置される第１位置と、前記第１位置に対し所定角度傾斜した第２位置との間で変位可能に設けられた目皿板をさらに有することを特徴とする流動層装置。
【請求項８】
筒状に形成された処理容器と、前記処理容器内に配置されたフィルタ部材とを備えてなる流動層装置におけるフィルタ洗浄方法であって、
前記処理容器内に洗浄液を注入し、
前記処理容器内に前記洗浄液が保持された状態で、前記フィルタ部材を前記洗浄液中に浸漬し、
前記処理容器の側壁に設置された洗浄装置により、前記洗浄液中に浸漬された前記フィルタ部材を洗浄することを特徴とする流動層装置におけるフィルタ洗浄方法。
【請求項９】
請求項８記載の流動層装置におけるフィルタ洗浄方法において、前記洗浄装置は、前記洗浄液中に超音波振動を付与して前記フィルタ部材を洗浄することを特徴とする流動層装置におけるフィルタ洗浄方法。
【請求項１０】
請求項８記載の流動層装置におけるフィルタ洗浄方法において、前記洗浄装置は、前記洗浄液中に気泡流を供給して前記フィルタ部材を洗浄することを特徴とする流動層装置におけるフィルタ洗浄方法。
【請求項１１】
請求項１０記載の流動層装置におけるフィルタ洗浄方法において、前記気泡流によって、前記フィルタを前記洗浄液中にて回転させることを特徴とする流動層装置おけるフィルタ洗浄方法。
【請求項１２】
請求項８〜１１の何れか１項に記載の流動層装置におけるフィルタ洗浄方法において、前記フィルタ部材は、前記処理容器内を上下方向に移動可能に設置され、前記処理容器内に前記洗浄液が注入・保持された状態で前記処理容器内の下方側の位置に移動し、前記洗浄液中に浸漬されることを特徴とする流動層装置におけるフィルタ洗浄方法。
【請求項１３】
請求項８〜１２の何れか１項に記載の流動層装置におけるフィルタ洗浄方法において、前記流動層装置は、前記処理容器内に設置され、略水平方向に配置される第１位置と、前記第１位置に対し所定角度傾斜した第２位置との間で変位可能に設けられた目皿板をさらに有し、前記目皿板を前記第２位置に変位させた状態で前記フィルタ部材の洗浄を行うことを特徴とする流動層装置におけるフィルタ洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、粉粒体の造粒、コーティング等に使用される流動層装置に関し、特に、装置内に設置された粉粒体分離用のフィルタを装置内にて効率良く洗浄可能な流動層装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
医薬品や化粧品、食品などの分野では、粉末や顆粒等の粉粒体を気体流によって流動化し、造粒、コーティング、混合、撹拌、乾燥等の処理を行う流動層装置が広く使用されている。流動層装置では、流動化した粉粒体にバインダ液やコーティング液等をスプレーノズルにて供給し、造粒やコーティング等の処理が実施される。図７はこのような流動層装置の構成を示す説明図である。図７に示すように、流動層装置101は、円筒状の処理容器102を備えており、その内部には粉末等の被処理物が投入され、造粒、コーティング等の処理が実施される。
【０００３】
処理容器102の下部には、金網等にて形成された通気性の目皿板103が設けられている。目皿板103の下方からは処理気体が供給され、この処理気体により処理容器102内の被処理物が流動化される。処理容器102の略中央部には、バインダ液やコーティング液等を噴霧するためのスプレーノズル104が配置されている。また、処理容器102の上部には天板105が設置されており、天板105にはフィルタ106が取り付けられている。フィルタ106は、気体流から粉粒体を分離すると共に、微粉体や粉体が系外へ逸出するのを防止している。フィルタ106としては、例えば、ポリエステルやポリアミド等の不織布を濾過エレメントとしたカートリッジ式フィルタなどが使用される。フィルタ106の上方には、フィルタ逆洗用のジェットノズル107が配置されている。
【０００４】
フィルタ106に付着した粉体は、ジェットノズル107からのパルスジェットによって操業中に適宜払い落とされる。しかし、この逆洗処理によっても、付着した粉体を完全に払い落とすことはできず、粉体が次第に蓄積されて空気の流通抵抗が増大する。このため、造粒等を行う場合、処理を所定時間以上行った段階で、フィルタ106を一旦流動層装置101から取り外して洗浄する必要がある。また、同一装置にて異なる種類の粉粒体を処理したり、異なるバインダ液やコーティング液を噴霧したりする場合には、異なる処理を行う際に、フィルタ106を洗浄する必要が生じる。その際、フィルタ106の洗浄は一般に、フィルタ106を流動層装置101から外して手作業によって行われているが、人手と時間を多く要するため、種々の自動洗浄装置が提案されている。
【０００５】
例えば、実開昭60−176240号公報には、フィルタを流動層装置内で下降させ、待機している下部の固定式洗浄ノズルと下降する上部の洗浄ノズルとによってフィルタを洗浄する装置が記載されている。また、特開平8-309130号公報には、いわゆる溜め洗い方式のバグフィルタ洗浄方法が記載されており、そこでは、フィルタ用筒体と流動用筒体とを仕切り板によって相互に分離し、水密状態としたフィルタ室を洗浄室として使用する。そして、フィルタ室内に洗浄液を注入した後、フィルタに機械的な上下振動を加え（シェーキング動作）、容易かつ確実に短時間でフィルタを洗浄する。
【０００６】
さらに、特開平6-262015号公報には、超音波洗浄に加えて、フィルタを回転洗浄するフィルタカートリッジの湿式洗浄法が記載されている。当該洗浄法にあっては、折襞を有するカートリッジフィルタを回転自在に設置し、その外周に洗浄液を斜め方向から噴射する。これにより、洗浄液を受けたフィルタが回転し、フィルタ全面に洗浄液が集中的かつ効率的に噴射される。
【０００７】
一方、特表2005-530601号公報には、流動床室内にて選択的に移動可能な移動フィルタ群を備える流動床処理装置が記載されている。そこでは、プロセス空気濾過用のフィルタは、空気を濾過するための第１位置と、点検修理の際の第２位置との間で上下に移動自在に配置されている。当該装置には、いわゆる逆洗処理を行う清掃機構が設けられており、この清掃機構によってフィルタの微粉除去が行われるが、前述の第２位置ではさらに、フィルタを取り外して清掃、交換等する作業が行われる。
【０００８】
また、特開2003-200014号公報は、自動車の排ガスラインにて使用されるフィルタに関するものであるが、フィルタを洗浄溶液内に浸漬、洗浄する微粒子フィルタの洗浄方法が記載されている。この場合、フィルタは、排ガスラインから分離、分解された後、洗浄溶液が収容されたタンク内にて浸漬洗浄され、フィルタを詰まらせる鉱物質残留物が除去される。
【特許文献１】実開昭60−176240号公報
【特許文献２】特開平8-309130号公報
【特許文献３】特開平6-262015号公報
【特許文献４】特表2005-530601号公報
【特許文献５】特開2003-200014号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、流動層装置に使用されるフィルタの洗浄方式として、特開平8-309130号公報のような溜め洗い方式は、洗浄力が十分とは言えず、結局のところ、フィルタを取り外して装置外にて別途洗浄する必要が生じる。また、特開平6-262015号公報のような洗浄水による回転洗浄方式は、粗洗浄に留まり、これも装置内洗浄だけでは完結せず、装置外でのフィルタ洗浄が必要となる。このため、従来の流動層装置では、フィルタ洗浄に時間と手間を要し、生産性向上を妨げる一因となるという問題があった。また、装置外での処理を余儀なくされる洗浄方式では、洗浄液や残留微粉末が装置外に曝露（飛散）し、装置周囲が汚染されるおそれがあり、特に、医薬品製造設備では、封じ込め（コンテインメント）対策上好ましくないという問題もあった。
【００１０】
これに対して、近年、超音波洗浄装置やバブリング洗浄装置を装置内に取り付け、装置内に洗浄水を満たした状態でフィルタと装置内部を同時に洗浄する方式も検討されている。しかしながら、かかる方式においても、流動層装置の底部に超音波装置等を設置すると、超音波やバブリング液流の到達範囲の関係から、装置上方に位置するフィルタを十分に洗浄できないという問題が生じる。特に、大型機ではその傾向が著しく、超音波装置等を用いた洗浄方式は大型機には適用できないという問題があった。
【００１１】
本発明の目的は、流動層装置内に設置されたフィルタを装置から取り外すことなく、装置内にて容易に洗浄可能な流動層装置及び流動層装置におけるフィルタ洗浄方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の流動層装置は、筒状に形成された処理容器と、前記処理容器内に配置され、前記処理容器内に洗浄液が注入・保持された状態で前記洗浄液中に浸漬可能に設けられたフィルタ部材と、前記処理容器の側壁に取り付けられ、前記洗浄液中に浸漬された状態の前記フィルタ部材を洗浄可能な洗浄装置とを有することを特徴とする。
【００１３】
本発明にあっては、処理容器内に洗浄液を満たした状態でその中にフィルタ部材を浸漬し、処理容器の側壁に取り付けた洗浄装置によってフィルタ部材の洗浄処理を実施する。当該流動層装置では、洗浄処理の際、フィルタ部材をその近傍に配した洗浄装置によって洗浄でき、フィルタ部材を装置内にて効率良く洗浄することが可能となる。このため、装置からフィルタを取り外すことなくフィルタ部材を洗浄でき、洗浄工数の削減が図られる。また、装置内でフィルタ部材の洗浄を行うため、洗浄時に作業員が薬液に接触することがなく、作業環境も改善される。
【００１４】
前記流動層装置において、前記洗浄装置として、前記洗浄液中に超音波振動を付与する超音波洗浄装置を使用しても良い。また、前記洗浄装置として、前記洗浄液中に気泡流又は気泡を含む液体を供給するバブリング洗浄装置を使用することも可能であり、この場合、前記フィルタを前記処理容器内に回転自在に設置し、前記気泡流又は気泡を含む液体によって前記洗浄液中にて回転させるようにしても良い。さらに、前記フィルタ部材を前記処理容器内に上下方向に移動可能に設置しても良い。
【００１５】
加えて、前記流動層装置において、前記処理容器を、前記フィルタが配置されたフィルタケーシングと、被処理物に対し液体を噴霧するスプレーノズルが配置されたスプレーケーシングと、被処理物が収容される原料容器と、前記原料容器に対し処理気体を供給する給気ユニットとを備える構成とし、前記洗浄装置を、前記スプレーケーシングの側壁に設置しても良い。
【００１６】
また、前記流動層装置において、前記処理容器内に、略水平方向に配置される第１位置と、前記第１位置に対し所定角度傾斜した第２位置との間で変位可能に設けられた目皿板を設けても良い。このように目皿板を傾斜状態にして洗浄処理を行うと、目皿板上に洗浄液不溶成分が堆積していてもそれらを除去することができ、目皿板上に洗浄液不溶成分が堆積してしまうのを防止できる。
【００１７】
一方、本発明の流動層装置におけるフィルタ洗浄方法は、筒状に形成された処理容器と、前記処理容器内に配置されたフィルタ部材とを備えてなる流動層装置におけるフィルタ洗浄方法であって、前記処理容器内に洗浄液を注入し、前記処理容器内に前記洗浄液が保持された状態で、前記フィルタ部材を前記洗浄液中に浸漬し、前記処理容器の側壁に設置された洗浄装置により、前記洗浄液中に浸漬された前記フィルタ部材を洗浄することを特徴とする。
【００１８】
本発明にあっては、処理容器内に洗浄液を満たした状態でその中にフィルタ部材を浸漬し、処理容器の側壁に取り付けた洗浄装置によってフィルタ部材の洗浄処理を実施する。当該フィルタ洗浄方法では、洗浄処理の際、フィルタ部材をその近傍に配した洗浄装置によって洗浄でき、フィルタ部材を装置内にて効率良く洗浄することが可能となる。このため、装置からフィルタを取り外すことなくフィルタ部材を洗浄でき、洗浄工数の削減が図られる。また、装置内でフィルタ部材の洗浄を行うため、洗浄時に作業員が薬液に接触することがなく、作業環境も改善される。
【００１９】
前記フィルタ洗浄方法において、前記洗浄装置により、前記洗浄液中に超音波振動を付与して前記フィルタ部材を洗浄するようにしても良い。また、前記洗浄装置より、前記洗浄液中に気泡流を供給して前記フィルタ部材を洗浄するようにしても良く、この場合、前記気泡流によって、前記フィルタを前記洗浄液中にて回転させるようにしても良い。さらに、前記フィルタ部材を前記処理容器内に上下方向に移動可能に設置し、前記処理容器内に前記洗浄液が注入・保持された状態で前記処理容器内の下方側の位置に移動させ、前記フィルタを前記洗浄液中に浸漬させるようにしても良い。
【００２０】
加えて、前記フィルタ洗浄方法において、前記処理容器内に、略水平方向に配置される第１位置と、前記第１位置に対し所定角度傾斜した第２位置との間で変位可能に設けられた目皿板を設置し、前記目皿板を前記第２位置に変位させた状態で前記フィルタ部材の洗浄を行うようにしても良い。
【発明の効果】
【００２１】
本発明の流動層装置によれば、筒状に形成された処理容器と、この処理容器内に配置され処理容器内に洗浄液が注入・保持された状態で洗浄液中に浸漬可能に設けられたフィルタ部材と、処理容器の側壁に取り付けられ洗浄液中に浸漬された状態のフィルタ部材を洗浄可能な洗浄装置とを設けたので、洗浄処理の際、フィルタ部材をその近傍に配した洗浄装置によって洗浄でき、フィルタ部材を装置内にて効率良く洗浄することが可能となる。このため、装置からフィルタ部材を取り外すことなく、装置内にてフィルタ部材を洗浄でき、洗浄工数の削減を図ることが可能となる。また、装置内でフィルタ部材の洗浄が可能なため、洗浄時に作業員が薬液に接触することがなく、作業環境の改善も図られる。
【００２２】
本発明の流動層装置におけるフィルタ洗浄方法によれば、筒状に形成された処理容器と、処理容器内に配置されたフィルタ部材とを備えてなる流動層装置にて、処理容器内に洗浄液を注入し、処理容器内に洗浄液が保持された状態でフィルタ部材を洗浄液中に浸漬し、処理容器の側壁に設置された洗浄装置により、洗浄液中に浸漬されたこのフィルタ部材を洗浄するようにしたので、洗浄処理の際、フィルタ部材をその近傍に配した洗浄装置によって洗浄でき、フィルタ部材を装置内にて効率良く洗浄することが可能となる。このため、装置からフィルタ部材を取り外すことなく、装置内にてフィルタ部材を洗浄でき、洗浄工数の削減を図ることが可能となる。また、装置内でフィルタ部材の洗浄が可能なため、洗浄時に作業員が薬液に接触することがなく、作業環境の改善も図られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細に説明する。
【実施例１】
【００２４】
図１は本発明の実施例１である流動層装置の構成を示す説明図である。図１の流動層装置は円筒形状の処理容器１を備えており、例えば、粉粒体の表面にコーティング処理を行うために使用される。図１に示すように、処理容器１は、上から順に、フィルタケーシング２、スプレーケーシング３、原料容器４及び給気ユニット５を重ねて配置した形態となっている。
【００２５】
フィルタケーシング２とスプレーケーシング３、スプレーケーシング３と原料容器４はそれぞれ、クランプ１０a、１０ｂにて締結されている。各ケーシング間は、シール等により気密状態で接合されている。なお、下方よりケーシングを押し上げ、シールによりケーシング間を気密に締結しても良い。フィルタケーシング２内には天板６が配置されており、天板６にはカートリッジフィルタ（フィルタ部材）７が取り付けられている。スプレーケーシング３内には、粉粒体にバインダ液やコーティング液を噴霧するためのスプレーノズル８が配置されている。原料容器４内には被処理物となる粉粒体が投入され、底部には目皿板９が設置されている。
【００２６】
フィルタケーシング２の上端は天蓋１１によって閉塞されており、内部にはフィルタ室１２が形成されている。フィルタ室１２には排気ダクト１３が接続されている一方、側壁部には洗浄水の供給管１４が設けられている。フィルタ室１２内には、円板状に形成された天板６が収容されている。天板６の周縁はフィルタケーシング２の内面に接触しており、その上面にはワイヤ１５の一端が取り付けられている。ワイヤ１５は、プーリ１６ａ,１６ｂを介して装置外に引き出されており、その他端側は、モータにて駆動される図示しないプーリに接続されている。このワイヤ１５により、天板６はフィルタケーシング２及びスプレーケーシング３内を上下方向に移動可能となっており、モータが作動し、ワイヤ１５が上方に引かれると、天板６はケーシング２,３内を上方向に移動する。一方、それとは逆にモータが作動すると、ワイヤ１５の張力が緩み、天板６はケーシング２,３内を自重にて下方向に移動する。
【００２７】
カートリッジフィルタ７には、ポリエステル製の不織布を用いたフィルタ材１７が使用される。フィルタ材１７は、不織布製の濾布をプリーツ加工し、それを円筒形状に成形したものであり、長手方向の寸法は、小型の装置では130〜550mm、大型の装置では220〜1200mm程度である。また、フィルタ材１７の外径は、小型の装置では75〜120mm、大型の装置では200〜325mm程度に形成される。フィルタ材１７の上下には、ステンレス製のエンドキャップ１８ａ,１８ｂが取り付けられ、その中央にはステンレス製のリテーナ１９が挿通される。リテーナ１９の上端は天板６に固定され、下端にはフィルタ固定ノブ２０が取り付けられる。フィルタ材１７は、このフィルタ固定ノブ２０を締め込むことにより、リテーナ１９をガイドにして天板６に固定される。エンドキャップ１８ａと天板６との間にはゴムパッキン２１が介設される。
【００２８】
フィルタケーシング２にはさらに、逆洗用のパルスエアを噴出するパルスジェットノズル２２が設置されている。天板６には、フィルタ材１７の中央に臨んで開口部２３が形成されており、この開口部２３の上方にパルスジェットノズル２２が配置される。パルスジェットノズル２２は、図示しないパルスエア供給源に接続されており、カートリッジフィルタ７の内側にパルスエアを噴射する。これにより、いわゆる逆洗処理が実施され、フィルタ材１７に付着した粉粒体が払い落とされる。
【００２９】
スプレーケーシング３内には、噴霧室つまり流動室２４が形成されており、スプレーノズル８が配置されている。スプレーノズル８は、スプレーアーム２５に取り付けられており、図示しないチューブによって、装置外に設けられたポンプからバインダ液やコーティング液が供給される。スプレーアーム２５は、図示しない支柱に摺動自在に取り付けられており、スプレーノズル８は、スプレーケーシング３内にて上下方向に適宜移動可能となっている。なお、スプレーアーム２５やスプレーノズル８は、天板６を下降させるときなどは、下降の邪魔にならない場所に移動可能であったり、図示しない開口窓等から適宜装置外に取り外すことができるようになっている。さらに、スプレーノズル８がスプレーケーシング３側面に設置され、天板の移動の邪魔にならないようにすることもできる。
【００３０】
スプレーケーシング３の側壁３ａには、超音波洗浄装置５５が取り付けられている。超音波洗浄装置５５は超音波振動子を備えており、装置外に設けられた発信器５８に接続されている。超音波振動子としては、電気的な入力を機械振動に変換する振動子、例えば、電気−機械変換素子の一つである圧電セラミック素子などが使用される。超音波振動子には、発信器５８から１５〜５０kHz程度の高周波信号が入力され、この電気的な振動が機械的な振動に変換され出力される。スプレーケーシング３内に洗浄液を注入し、超音波洗浄装置５５を作動させると、そこから発せられる高周波の超音波により、洗浄液が振動し、キャビテーションや洗浄液の微小振動等により、洗浄液内の対象物が洗浄される。特に、プリーツ加工されたカートリッジフィルタ７のような複雑な形状物では、この超音波洗浄によって襞の奥まで効果的に洗浄でき好適である。
【００３１】
原料容器４は、コンテナケーシング３１と、コンテナケーシング３１の下端部に取り付けられたスクリーンユニット３２とから構成されている。コンテナケーシング３１は、下方に向けて小径となった逆円錐台形状の円筒となっており、その内部には原料収容室３３が形成されている。スクリーンユニット３２は、環状のフレーム３４と、フレーム３４内に配置された目皿板９とから構成されている。目皿板９は通気性を有しており、原料収容室３３内に投入された粉粒体はこの目皿板９上にて支持される。図２は、原料容器４をスクリーンユニット３２側（下方側）から見た構成を示す斜視図、図３は、スクリーンユニット３２の構成を示す説明図である。図２に示すように、スクリーンユニット３２は、コンテナケーシング３１の下端部に形成されたフランジ部３５に、トグルクランプ３６によって固定される。
【００３２】
目皿板９は、通常、４２×１７５メッシュ、３２×１３２メッシュ、２４×１１０メッシュ等の畳織金網が使用され、また目皿板補強用にパンチング板や平織金網を重ねせて形成された多孔板３７と、多孔板３７を支持するステンレス製のサポートブラケット３８とから構成されている。サポートブラケット３８は、円形に形成された外周部３８ａと、外周部３８ａの内側に複数個平行に配置されたリブ部３８ｂとから構成されている。このサポートブラケット３８の上面側に、通気性を有する多孔板３７が載置されている。図３に示すように、ブラケット外周部３８ａの外周側には、スクリーンシール３９が全周に亘って取り付けられている。スクリーンシール３９がフレーム３４の内周面と接触することにより、目皿板９の外周がシールされ、原料である粉粒体の落下や目皿板外側からのエア漏れを防止している。
【００３３】
図３に示すように、サポートブラケット３８の中央部には、回転軸４１が取り付けられている。回転軸４１の図３において右端側（図２において手前側）は、ブッシュ４２を介してフレーム３４に回転自在に支持されている。ブッシュ４２と回転軸４１との間には、合成樹脂製のスリーブ４３が介設されている。スリーブ４３の外端部にはスラストベアリング４４が取り付けられており、スラストベアリング４４の外側にはエンドキャップ４５が取り付けられている。
【００３４】
回転軸４１の左端側も右端側と同様に、ブッシュ４６を介してフレーム３４に回転自在に支持されている。ブッシュ４６と回転軸４１との間には、合成樹脂製のスリーブ４７が介設されている。スリーブ４７の外端部にはカラー４８が取り付けられており、カラー４８の外側にはスペーサチューブ４９が取り付けられている。スペーサチューブ４９の図中左側には、モータユニット５１が取り付けられている。回転軸４１の左端部は、モータユニット５１内に収容されたモータ（駆動装置）５２に接続されている。目皿板９は、このモータ５２によって回転軸４１を中心として回転可能に構成されており、コーティング処理時には図１の実線の状態で使用し、フィルタ洗浄時には同図の一点鎖線の状態に変位させることができる。
【００３５】
原料容器４の下方には、内部に給気室５３を有する給気ユニット５が据え付けられている。給気ユニット５は、給気室５３に連通する給気ダクト５４に接続されている。給気ダクト５４は、装置外に設けられた図示しないエア供給源に接続されている。なお、給気室５３内に空気圧シリンダを配置し、この空気圧シリンダにより給気ユニット５を上方に押し上げ、原料容器４と密接させるようにしても良い。また、この際、原料容器４とスプレーケーシング３の間、スプレーケーシング３とフィルタケーシング２の間も、給気ユニット５の上昇に伴って密接するようにしても良い。
【００３６】
このような流動層装置では、給気ダクト５４から給気室５３に流動エアを供給すると、このエアが目皿板９を通って原料収容室３３に流入する。これにより、原料収容室３３内の粉粒体が吹き上げられ、原料収容室３３や流動室２４内にて流動状態となる。この状態にてスプレーノズル８から適宜バインダ液やコーティング液をスプレー状に噴霧することにより、粉粒体のコーティング処理が実行される。また、粉粒体のコーティング処理の後、スプレーノズル８からの噴霧を停止させ、処理品の乾燥処理を行うこともできる。
【００３７】
一方、粉粒体を流動状態とした気体は、微細な固体粒子がカートリッジフィルタ７によって除去されて清浄化された後、排気ダクト１３を通って排出される。カートリッジフィルタ７に付着した微細粒子は、パルスジェットノズル２２によって適宜逆洗処理されるが、逆洗処理のみでは付着した粉体を完全に払い落とすのは難しい。このため、流動層装置においても、コーティング処理を所定時間行った後、カートリッジフィルタ７の洗浄を行う。その際、従来の流動層装置では、カートリッジフィルタ７を一旦流動層装置から取り外して洗浄する必要がある。これに対して、当該流動層装置では、供給管１４から洗浄水をケーシング内に供給し、カートリッジフィルタ７を装置内にて洗浄することができる。
【００３８】
そこで、図１の流動層装置におけるカートリッジフィルタ７の洗浄処理について説明する。図４は、当該流動層装置の洗浄工程を示す説明図である。流動層装置では、コーティング処理を所定時間行い、製品を取り出した後、供給管１４から装置内に洗浄液５６を注入する。この際、洗浄液５６の注入に先立って、まず、目皿板９を図４（ａ）から（ｂ）の状態に回転させる。すなわち、モータ５２を作動させ、回転軸４１を９０°回転させることにより、目皿板９の状態を、図４（ａ）の水平位置（第１位置）から図４（ｂ）の鉛直位置（第２位置）に変更する。これにより、原料容器４の内壁と目皿板９の外周部との間に隙間が形成され、原料容器４の底に開口５７が形成される。この開口５７により、流動層装置内の流動室２４と原料収容室３３、給気室５３が連通状態となる。そして、この状態にて、供給管１４から装置内に洗浄液５６を注入する。
【００３９】
洗浄液５６としては、温水や清浄水、洗剤が投入された水などが用いられ、図４（ｃ）に示すように、所定の液位Ｌまで装置内に注入される。洗浄液５６注入後、カートリッジフィルタ７を洗浄液５６内に浸漬する（図４（ｄ））。カートリッジフィルタ７は、ワイヤ１５の動作により天板６と共に下降する。天板６は、洗浄液５６内に没する位置まで降ろされる。洗浄液５６内にカートリッジフィルタ７を浸漬した後、図４（ｅ）に示すように、超音波洗浄装置５５を作動させる。この際、超音波洗浄装置５５は、洗浄液５６内に浸漬されたカートリッジフィルタ７の近傍に配置されているため、超音波振動がカートリッジフィルタ７に伝わり易く、フィルタに付着した微細な粒子などの異物が効率良く除去される。
【００４０】
また、図４（ｅ）に示すように、洗浄処理の際、目皿板９が処理容器１内に鉛直状態で配置されるため、水平状態のまま洗浄処理を行う場合に比して、目皿板９の洗浄性が向上する。例えば、目皿板９上に洗浄液に溶けない粉末など（洗浄液不溶成分）が堆積している場合、目皿板９を水平状態のまま洗浄処理を行っても、それらを十分に除去することができない。これに対し、図１の流動層装置では、目皿板９を鉛直状態として洗浄処理を行うため、目皿板９上に洗浄液不溶成分が堆積していても、超音波振動によりそれらが払い落とされ、目皿板９から除去される。従って、目皿板９上に洗浄液不溶成分が堆積してしまうことを防止でき、装置内部を効果的に洗浄することが可能となる。
【００４１】
このように、当該流動層装置では、超音波洗浄装置５５をスプレーケーシング３の側壁３ａに取り付けると共に、スプレーケーシング３内に満たされた洗浄液中にカートリッジフィルタ７を浸漬し、その状態でカートリッジフィルタ７を超音波洗浄するので、カートリッジフィルタ７を装置内にて効率良く洗浄することができる。このため、装置からフィルタを取り外すことなくカートリッジフィルタ７を自動洗浄でき、洗浄工数を大幅に削減することが可能となる。また、装置内でフィルタの洗浄を行うため、洗浄時に作業員が薬液に接触することがなく、作業環境も改善される。さらに、本発明による装置は、従来の流動層装置に超音波洗浄装置５５を設置すれば足りるため、大きな設計変更や装置の交換を伴うことなく、従来機にも容易に適用可能である。
【００４２】
超音波洗浄装置５５を所定時間作動させ、カートリッジフィルタ７を洗浄した後、図４（ｆ）に示すように、図示しないコックを開いて洗浄液５６を排出する。これにより、一回の洗浄処理が終了する。但し、必要に応じて、図４（ｃ）〜（ｆ）の工程を所定の回数だけ繰り返しても良く、常時、給水・排水を行いつつ洗浄を行っても良い。なお、カートリッジフィルタ７を清浄化した後、給気ダクト５４から乾燥用気体を装置内に流すことにより、カートリッジフィルタ７の乾燥を行うことも可能である。
【実施例２】
【００４３】
次に、本発明の実施例２として、洗浄装置として、超音波洗浄装置５５に代えて、バブリング洗浄装置６１を用いたものについて説明する。図５は、本発明の実施例２である流動層装置の構成を示す説明図である。なお、実施例２では、実施例１と同様の部材、部分については同一の符号を付し、その説明は省略する。
【００４４】
図５に示すように、当該流動層装置では、スプレーケーシング３の側壁３ａにバブリング洗浄装置６１が取り付けられている。バブリング洗浄装置６１は、気泡を含む液流を噴射するノズル（気泡流噴射ノズル）を備えており、装置外に設けられたポンプ６２に接続されている。ポンプ６２は、洗浄液を貯留したタンク６３と接続されている。気泡流噴射ノズルとしては、液流の力で外気を吸い込み微細な気泡をジェット噴射するノズル、例えば、スプレーイング システムス ジャパン株式会社製「バブリング・ジェット・ノズル」などが使用される。気泡流噴射ノズルには、ポンプ６２から０.１〜０.５MPa程度の液圧にて洗浄液が供給され、この液流の力によって大気開放された空気取入口６８から空気が取り込まれ、気泡を含む液流（気泡流）が噴射される。
【００４５】
一方、実施例２の流動層装置では、カートリッジフィルタ７が回転自在に取り付けられている。図５に示すように、リテーナ１９の下端部には回転ジョイント６４が取り付けられている。回転ジョイント６４にはフィルタ回転軸６５が取り付けられており、フィルタ回転軸６５は回転ジョイント６４を介してリテーナ１９に対し回転自在となっている。フィルタ回転軸６５の下端部にはフィルタ固定ノブ２０が取り付けられる。このように、カートリッジフィルタ７は、リテーナ１９、回転ジョイント６４、フィルタ回転軸６５及びフィルタ固定ノブ２０によって、天板６に回転自在な状態で吊設される。
【００４６】
また、天板６の下面側には、エアシリンダ６６が固定されている。エアシリンダ６６に対しては、図示しないコンプレッサから圧縮エアが供給される。図５に示すように、エアシリンダ６６は天板６から下方に向かって延伸し、その下側部分はカートリッジフィルタ７内に収容されている。エアシリンダ６６の下端部からはピストンロッド６７が下方に向かって突出している。ピストンロッド６７の下端部には回転ジョイント６４が取り付けられている。図５は、エアシリンダ６６のピストンロッド６７が縮み、フィルタ回転軸６５が上方に引き上げられた状態を示している。これに対し、エアシリンダ６６が作動すると、ピストンロッド６７がエアシリンダ６６から突出し、フィルタ回転軸６５が下方に移動する。これにより、カートリッジフィルタ７が下方に移動し、ゴムパッキン２１が天板６から離れ、カートリッジフィルタ７は回転自在な状態となる。なお、その他の部位は実施例１の流動層装置と同様の構成となっている。
【００４７】
一方、図５の流動層装置では、バブリング洗浄装置６１の気泡流噴射ノズルが側壁３ａに対して傾いた状態で配設されており、フィルタ洗浄処理時にはカートリッジフィルタ７に対し接線方向から気泡流が当たるようになっている。図６は、当該流動層装置におけるフィルタ洗浄処理の様子を示す説明図である。実施例２の流動層装置では、洗浄処理の際に天板６を下降させると共に、エアシリンダ６６を作動させてカートリッジフィルタ７を天板６から離し、回転自在な状態とする。そして、図６に示すように、スプレーケーシング３内に洗浄液を注入し、バブリング洗浄装置６１を作動させると、そこから発せられる気泡流により、カートリッジフィルタ７は、回転ジョイント６４に軸支されつつ、フィルタ回転軸６５を中心として回転する。カートリッジフィルタ７が回転すると、その回転に伴う遠心力によって、カートリッジフィルタ７のプリーツ奥部に溜まった微粉が外周側へと送られる。すなわち、カートリッジフィルタ７は、プリーツ部に噴射された気泡流による洗浄に加え、フィルタの回転による遠心力によっても洗浄される。
【００４８】
このように、当該流動層装置では、バブリング洗浄装置６１による気泡流によってカートリッジフィルタ７を回転させつつ洗浄を行うので、フィルタ全体に気泡流が直接当たることにより、プリーツの奥まで十分に洗浄できる。従って、装置からフィルタを取り外すことなくカートリッジフィルタ７を自動洗浄でき、洗浄工数を大幅に削減することが可能となる。また、装置内でフィルタの洗浄を行うため、洗浄時に作業員が薬液に接触することがなく、作業環境も改善される。さらに、本発明による装置は、従来の流動層装置にバブリング洗浄装置６１を設置すれば足りるため、大きな設計変更や装置の交換を伴うことなく、従来機にも容易に適用可能である。
【００４９】
本発明は前記実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。
例えば、前述の実施例は、粉粒体にコーティング処理を施すための流動層装置を示したが、粉粒体を造粒する装置あるいは乾燥する装置にも本発明を適用することができる。また、前述の実施例では、超音波洗浄装置５５とバブリング洗浄装置６１を用いた形態をそれぞれ説明したが、それらの装置を両方設置し、両装置を併用することも可能である。すなわち、バブリング洗浄装置６１の気泡流によってカートリッジフィルタ７を回転させつつ、超音波洗浄装置５５の超音波振動によってカートリッジフィルタ７を洗浄するなどの処理も可能である。また、洗浄装置は、超音波洗浄装置とバブリング洗浄装置には限定されず、例えば、気泡を含まない洗浄液のみを強力に噴射する槽内撹拌用ノズルのようなものを用いることも可能である。
【００５０】
さらに、前述の実施例では、モータを用いて天板６を上下させたり、目皿板９を回転させたりしているが、空気圧シリンダ等を用いたアクチュエータなど、種々の駆動手段を用いることが可能である。また、実施例２では、カートリッジフィルタ７の上下移動をフィルタ内蔵型のエアシリンダによって行っているが、上下移動機構はこれには限定されず、例えば、カートリッジフィルタ７を処理容器１の天井部から吊り下げ、処理容器１の天井部に配置した昇降装置によって上下移動させる構成や、処理容器１外に設けたウインチ装置によってカートリッジフィルタ７を上下移動させる構成など、種々の機構を採用することができる。なお、目皿板９の回転を外付けハンドルなどにより手動にて行うようにしても良い。
【００５１】
加えて、流動層装置に使用するカートリッジフィルタ７としては、前述のような円筒形状以外に、角板形状や角筒形状などの種々のタイプのものを使用することが可能である。その材質は、ポリエステル、ポリアミド不織布やステンレス製の金属フィルタも使用することが可能である。
【００５２】
また、カートリッジフィルタ７を装置内で上下方向に移動させる手段としては、前述のように天板６と共に移動させる方式の他、カートリッジフィルタ７を単独で上下させる方式も採用し得る。この場合、カートリッジフィルタ７をワイヤにて上下移動可能に吊設する構成や、カートリッジフィルタ７を支持ロッドに取り付け、この支持ロッドをエアシリンダ等のアクチュエータにて上下させる構成など、種々の形態が適用可能である。
【００５３】
一方、前述の流動層装置では、洗浄効果を高めるために、天板６を上下動させながら超音波洗浄装置５５による洗浄処理を行うことも可能である。また、流動室２４等の内壁の洗浄は、別途洗浄ノズルを設け、そこから洗浄液を噴射して行っても良い。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】本発明の実施例１である流動層装置の構成を示す説明図である。
【図２】原料容器をスクリーンユニット側（下方側）から見た構成を示す斜視図である。
【図３】スクリーンユニットの構成を示す説明図である。
【図４】図１の流動層装置の洗浄工程を示す説明図である。
【図５】本発明の実施例２である流動層装置の構成を示す説明図である。
【図６】図５の流動層装置におけるフィルタ洗浄処理の様子を示す説明図である。
【図７】従来の流動層装置の構成を示す説明図である。
【符号の説明】
【００５５】
１    処理容器
２    フィルタケーシング
３    スプレーケーシング
３ａ  側壁
４    原料容器
５    給気ユニット
６    天板
７    カートリッジフィルタ
８    スプレーノズル
９    目皿板
１０ａ,１０ｂ    クランプ
１１    天蓋
１２    フィルタ室
１３    排気ダクト
１４    供給管
１５    ワイヤ
１６ａ,１６ｂ    プーリ
１７    フィルタ材
１８ａ,１８ｂ    エンドキャップ
１９    リテーナ
２０    フィルタ固定ノブ
２１    ゴムパッキン
２２    パルスジェットノズル
２３    開口部
２４    流動室
２５    スプレーアーム
３１    コンテナケーシング
３２    スクリーンユニット
３３    原料収容室
３４    フレーム
３５    フランジ部
３６    トグルクランプ
３７    多孔板
３８    サポートブラケット
３８ａ  ブラケット外周部
３８ｂ  リブ部
３９    スクリーンシール
４１    回転軸
４２    ブッシュ
４３    スリーブ
４４    スラストベアリング
４５    エンドキャップ
４６    ブッシュ
４７    スリーブ
４８    カラー
４９    スペーサチューブ
５１    モータユニット
５２    モータ
５３    給気室
５４    給気ダクト
５５    超音波洗浄装置
５６    洗浄液
５７    開口
５８    発信器
６１    バブリング洗浄装置
６２    ポンプ
６３    タンク
６４    回転ジョイント
６５    フィルタ回転軸
６６    エアシリンダ
６７    ピストンロッド
６８    空気取入口
101     流動層装置
102     処理容器
103     目皿板
104     スプレーノズル
105     天板
106     フィルタ
107     ジェットノズル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
2008018297.tif 000007
【図６】
2008018297.tif 000008
【図７】
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