(57)【要約】【課題】生産性の高い露光動作を実現できるマスク及び露光装置を提供する。【解決手段】透過部ＭｂはマスクＭを貫通しているので、ワークＷの上面に塗布されたレジストＲから放出された発生物（例えば昇華物）が、貫通した透過部Ｍｂには付着しないので、光透過量を減少させることがなく、マスクＭを定期的に洗浄する必要がなくなって、生産効率を高めることができる。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークに近接させた状態で、光源から照射された露光用光を部分的に通過させることにより、所定のパターンを前記ワークに露光するためのマスクにおいて、
前記パターンは、前記露光用光を透過する透過部と、前記露光用光を遮光する遮光部とから形成され、前記透過部の少なくとも一部は、前記露光用光が通過する方向に前記マスクを貫通していることを特徴とするマスク。
【請求項２】
請求項１に記載のマスクを備え、ステップ式に露光を行うことを特徴とする露光装置。
【請求項３】
請求項１に記載のマスクを備え、スキャン式に露光を行うことを特徴とする露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイの基板上にマスクのマスクパターンを近接（プロキシミティ）露光転写するのに好適なマスク及び露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
大型の薄形テレビ等に用いられる液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイは、ワーク上にマスクのパターンを近接露光転写することで製造される場合がある。従来のこの種の露光装置としては、例えば、以下の特許文献１，２に示すものが知られている。
【特許文献１】特開昭５３−６４４７８号公報
【特許文献２】特許第３０１９２６４号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
近接式露光装置においては、露光精度の向上のために、マスクとワークの隙間を狭めることが要求されている。ここで、一般的なマスクは、ガラス等の透明な板材の表面に遮光パターンを形成している。ワークに付着させたレジスト等より感光時に発生した昇華物等の発生物は、マスクとワークの隙間を狭めるにつれて、マスクの対向面に付着する量が多くなる。特に、ステップ及びスキャン方式の露光の場合には、マスク当たりの露光担当面積が大きいため、付着量も顕著に増大する。しかるに、かかる発生物がマスクの透過部に付着して、通過する光の量を低減させ、適正な露光を阻害する恐れがある。これを抑制するためには、マスクの定期的な洗浄が必要になり、その間、露光装置を停止させなくてはならず、生産効率の低下を招くこととなる。
【０００４】
本発明は、かかる従来技術の問題点に鑑み、生産性の高い露光動作を実現できるマスク及び露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明のマスクは、ワークに近接させた状態で、光源から照射された露光用光を部分的に通過させることにより、所定のパターンを前記ワークに露光するためのマスクにおいて、
前記パターンは、前記露光用光を透過する透過部と、前記露光用光を遮光する遮光部とから形成され、前記透過部の少なくとも一部は、前記露光用光が通過する方向に前記マスクを貫通していることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、前記透過部の少なくとも一部は、前記露光用光が通過する方向に前記マスクを貫通しているので、前記ワークより放出された発生物（例えば昇華物）が、貫通した前記透過部には付着しないので、光透過量を減少させることがなく、前記マスクを定期的に洗浄する必要がなくなって、生産効率を高めることができる。
【０００７】
前記マスクは、ステップ式に露光を行う露光装置、或いはスキャン式に露光を行う露光装置に用いられると好ましい。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、図面を参照して、本発明の好適な実施の形態について説明する。図１は、本実施の形態にかかるステップ方式の露光装置の側面断面図である。
【０００９】
図１において、ベース１は定盤Ｇ上に載置されている。ベース１上には、フレーム３が設置されている。フレーム３は、下端がベース１の縁に固定された脚部３ａと、脚部３ａの上端に取り付けられた矩形枠状の天板３ｂとからなる。天板３ｂの中央には矩形開口が形成され、その周囲にマスクＭの周囲を吸着保持したマスクホルダ４が取り付けられている。
【００１０】
ベース１の上面には、４本のガイドレール５が平行に且つ図１で左右方向（Ｘ軸方向）に延在するように配置されている。各ガイドレール５に沿って、スライダ６が移動自在に設けられている。スライダ６は、Ｘ軸ステージ７の下面に取り付けられている。ベース１とＸ軸ステージ７との間には、Ｘ軸リニアモータ（不図示）が設けられ、ベース１に対してＸ軸ステージ７をＸ軸方向に駆動可能となっている。
【００１１】
Ｘ軸ステージ７の上面には、４本のガイドレール９が平行に且つ図１で紙面垂直方向（Ｙ軸方向）に延在するように配置されている。各ガイドレール９に沿って、スライダ１０が移動自在に設けられている。スライダ１０は、ワーク支持部１１の下面に取り付けられている。Ｘ軸ステージ７とワーク支持部１１との間には、Ｙ軸リニアモータ１２が設けられ、Ｘ軸ステージ７に対してワーク支持部１１をＹ軸方向に駆動可能となっている。ワーク支持部１１は、ワークＷを支持するワークステージ１１ａと、ワークステージ１１ａを図１で上下方向（Ｚ軸方向）及び傾き方向に駆動するＺ軸駆動部１１ｂとを有する。
【００１２】
本露光装置の露光動作について説明する。図１において、露光時には、ワークステージ１１ａに載置したワークＷを、マスクＭに近接して対向配置した状態で、不図示の光源からのパターン露光用の光を、図１で上方よりマスクＭに向けて照射することにより、マスクＭのパターンをワークＷ上に露光転写する。
【００１３】
続いて、同じワークＷの異なる位置にマスクＭのパターンを露光転写する前に、測定装置（不図示）により測定を行い、マスクＭとワークＷの接触が無くなるように移動量を決定して、ワーク支持部１１を図１で下方（Ｚ軸方向）に駆動する。その後、ワーク支持部１１をＸ軸方向とＹ軸方向の二軸方向にステップ移動させ、更にワーク支持部１１を図１で上方に駆動して、露光に必要な隙間までマスクＭにワークＷを近接させて、次の露光を行うことができる。これを繰り返して、ワークＷの全体に無駄なくマスクＭのパターンを露光転写できる。
【００１４】
図２は、図１の露光装置に用いられるマスクの一例を示す斜視図である。図３は、図２のマスクをIII-III線で切断して矢印方向に見た図であり、ワークとともに示している。金属もしくはシリコン等の不透明な素材から製作されたマスクＭは、図２に示すように、遮光部Ｍａと、貫通穴状（切欠であっても良い）の透過部Ｍｂとを有し、これらによりマスクのパターンを形成している。透過部Ｍｂはエッチング等により穿設することができる。露光時には、上方から照射された露光用の光が、マスクＭの透過部Ｍｂを通過して、下方のワークＷに照射され、その表面に塗布されたレジストＲにマスクＭのパターンを露光するようになっている（図１参照）。
【００１５】
本実施の形態によれば、透過部ＭｂはマスクＭを貫通しているので、ワークＷの上面に塗布されたレジストＲから放出された発生物（例えば昇華物）が、貫通した透過部Ｍｂには付着しないので、光透過量を減少させることがなく、マスクＭを定期的に洗浄する必要がなくなって、生産効率を高めることができる。
【００１６】
例えば、マスクＭの上部を密閉し、その内部の空気圧を、マスクＭの下方の空気圧（大気圧）より高めれば、図３に矢印で示すように、透過部Ｍｂを介して上方から下方に向かう空気流を生じさせることができる。かかる空気流を利用して、レジストＲから発生した発生物をマスクＭから遠ざけるようにすることができ、これにより発生物が透過部Ｍｂを通って上方に移動し、光源からの光束を反射する不図示のミラー等に付着すること等を抑制できる。
【００１７】
図４、５は、本実施の形態のマスクの変形例を示す図である。図４の変形例においては、マスクＭの透過部Ｍｂの内側壁Ｍｃが、下方に向かうにつれて互いに接近するような斜面になっており、これによりパターンのエッジを明確にできる。又、図５の変形例においては、マスクＭの透過部Ｍｂの内側壁Ｍｃの下端に、内側に水平に突き出した庇部Ｍｄを形成している。遮光部の一部を構成する庇部Ｍｄにより、パターンのエッジを明確にできる。
【００１８】
図６は、別な変形例にかかるマスクの製造方法を示す図である。本変形例のマスクＭは、素材としてガラスを用いる。より具体的には、図６（ａ）に示すように、ガラス板ＧＰに対して遮光部に相当するパターン形状にクロム膜ＣＲを成膜する。ついで、図６（ｂ）に示すように、ガラス板ＧＰをクロム膜ＣＲ側からエッチング処理する。すると、クロム膜ＣＲを残すようにして、ガラス板ＧＰが浸食される。この浸食された部分が透過部Ｍｂとなる。露光時には、図６（ｃ）に示すように、ガラス板ＧＰを上下に反転させ、クロム膜ＣＲをワークＷ側に向けて、上方より露光用の光を照射すれば、図５に示す庇部に類似する形状のクロム膜ＣＲで光が遮られ、透過部Ｍｂを通過した光のみで露光が行われ、ワークＷにパターンを形成できる。
【００１９】
尚、マスクＭが薄くなると、貫通した透過部Ｍｂを形成することで、その剛性が低下し、マスクＭの中央の撓みが大きくなる恐れがある。これを回避するために、例えば図７に示すように、マスクＭの周囲に枠Ｆを設けて保持するようにしても良い。
【００２０】
以上、本発明を実施の形態を参照して説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定して解釈されるべきではなく、適宜変更・改良が可能であることはもちろんである。本発明のマスクは、例えば特願２００６−１３６５９１に記載されたようなスキャン式の露光装置にも適用できる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本実施の形態にかかる露光装置の側面断面図である。
【図２】図１の露光装置に用いられるマスクの一例を示す斜視図である。
【図３】図２のマスクをIII-III線で切断して矢印方向に見た図である。
【図４】本実施の形態のマスクの変形例を示す図である。
【図５】本実施の形態のマスクの変形例を示す図である。
【図６】別な変形例にかかるマスクの製造方法を示す図である。
【図７】本実施の形態のマスクの変形例を示す図である。
【符号の説明】
【００２２】
１ ベース
３ フレーム
３ａ 脚部
３ｂ 天板
３ｃ ガイドレール
４ マスクホルダ
５ ガイドレール
６ スライダ
７ Ｘ軸ステージ
９ ガイドレール
１０ スライダ
１１ ワーク支持部
１１ａ ワークステージ
１１ｂ Ｚ軸駆動部
１２ Ｙ軸リニアモータ
Ｇ 定盤
Ｒ  レジスト
Ｍ マスク
Ｍａ  遮光部
Ｍｂ  透過部  
Ｗ ワーク
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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