(57)【要約】      （修正有）【課題】非常に良好なプラテン接着力が得られ、取扱い性に優れる研磨パッド用接着材、および該研磨パッド用接着材からなる接着層を有する接着層付研磨パッドの提供。【解決手段】下記式（１）［ａ１］−［ｂ］−［ａ２］          （１）（式中、［ａ１］および［ａ２］は、それぞれ独立して、メタクリル酸アルキルエステルから誘導される構造単位から主としてなり、ガラス転移温度が９０℃以上であり、シンジオタクティシティーが６５％以上である重合体ブロックを表し、［ｂ］はアクリル酸アルキルエステルおよび／またはメタクリル酸アルキルエステルから誘導される構造単位から主としてなり、ガラス転移温度が−１０℃以下である重合体ブロックを表す。ただし、［ａ１］と［ａ２］の質量の合計／［ｂ］の質量＝５／９５〜５０／５０の関係を満たす。）で示される構造を重合体主鎖中に有するブロック共重合体（Ａ）からなる研磨パッド用接着材。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）
［ａ１］−［ｂ］−［ａ２］          （１）
（式中、［ａ１］および［ａ２］は、それぞれ独立して、メタクリル酸アルキルエステルから誘導される構造単位から主としてなり、ガラス転移温度が９０℃以上であり、シンジオタクティシティーが６５％以上である重合体ブロックを表し、［ｂ］はアクリル酸アルキルエステルおよび／またはメタクリル酸アルキルエステルから誘導される構造単位から主としてなり、ガラス転移温度が−１０℃以下である重合体ブロックを表す。ただし、［ａ１］と［ａ２］の質量の合計／［ｂ］の質量＝５／９５〜５０／５０の関係を満たす。）
で示される構造を重合体主鎖中に有するブロック共重合体（Ａ）からなる研磨パッド用接着材。
【請求項２】
ブロック共重合体の分子量分布が１．０〜１．５である請求項１に記載の研磨パッド用接着材。
【請求項３】
ブロック共重合体（Ａ）が有機希土類金属錯体を重合開始剤として用いて重合されたものであるか、または有機アルミニウム化合物の存在下に有機リチウム化合物を重合開始剤として用いて重合されたものである請求項１または２に記載の研磨パッド用接着材。
【請求項４】
アクリル酸アルキルエステルおよび／またはメタクリル酸アルキルエステルから誘導される構造単位から主としてなる重合体ブロックを有し、数平均分子量が１０，０００〜２００，０００であり、分子量分布が１．０〜１．５であるジブロック共重合体（Ｂ）をさらに含む請求項１〜３のいずれか１項に記載の研磨パッド用接着材。
【請求項５】
研磨パッド用接着材におけるブロック共重合体（Ａ）とジブロック共重合体（Ｂ）の質量割合が、ブロック共重合体（Ａ）の質量／ジブロック共重合体（Ｂ）の質量＝２０／８０〜９５／５の関係を満たす請求項４に記載の研磨パッド用接着材。
【請求項６】
研磨面と固定面を有する研磨パッド（Ｘ）の固定面側に請求項１〜５のいずれか１項に記載の研磨パッド用接着材からなる接着層（Ｙ）を有する接着層付研磨パッド。
【請求項７】
研磨パッド（Ｘ）が研磨層とクッション層とを有する請求項６に記載の接着層付研磨パッド。
【請求項８】
研磨パッド（Ｘ）の固定面側に少なくとも２層の接着層を有し、該接着層の少なくとも１層が請求項１〜５のいずれか１項に記載の研磨パッド用接着材からなる接着層（Ｙ）である請求項６または７に記載の接着層付研磨パッド。
【請求項９】
研磨パッド（Ｘ）の固定面側に、接着層、フィルム層および接着層を研磨パッド（Ｘ）側よりこの順に有し、該接着層の少なくとも１層が請求項１〜５のいずれか１項に記載の研磨パッド用接着材からなる接着層（Ｙ）である請求項６〜８のいずれか１項に記載の接着層付研磨パッド。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は研磨装置のプラテンなどに研磨パッドを固定する研磨パッド用接着材および該接着材からなる接着層を有する接着層付研磨パッドに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体集積回路の高密度化による配線の微細化や多層配線化が進んでおり、これに伴い、半導体製造工程においてウェハ表面の平坦化を目的とするＣＭＰ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  Ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ）法が一般的に用いられるようになった。ＣＭＰ法はウェハの被研磨面を研磨パッドに押し付けた状態で砥粒が分散されたスラリー状の研磨剤（以下、これを研磨スラリーという）を用いて研磨する技術である。
【０００３】
研磨装置は一般的に研磨パッドを支持するプラテンと被研磨物のウェハを支持する支持台と研磨スラリーの供給機構を備えており、対向するように配置された研磨パッドとウェハのそれぞれが回転しながら研磨スラリーの存在下にウェハが研磨パッドに押し付けられて研磨される機構を有している。
【０００４】
研磨パッドは研磨工程において摩耗し交換する必要があるため、プラテンに対して脱着可能に支持されている。研磨パッドは研磨工程中に発生する応力に耐えうる十分な強度でプラテンに固定される必要があるが、一方で作業効率を高める観点からは研磨パッドの交換は簡便に行えることが好ましい。
【０００５】
通常、研磨パッドはプラテンに対して両面粘着テープによって固定されているが、使用後に研磨パッドを剥す時に粘着剤の一部がプラテン表面に残る問題が発生する。この状態で新たに別の研磨パッドを装着すると、研磨パッドの表面平坦性が損なわれるため、研磨精度が低下する。そのため、新たに研磨パッドを装着する前にプラテンに残った粘着剤をあらかじめ完全に除去する作業が必要となるが、その作業は煩雑である。つまり、研磨パッドを従来の両面粘着テープによって固定した場合には、研磨パッドの脱離操作を効率的に行うことができず、結果としてＣＭＰの作業効率も低下する。プラテン表面に粘着剤が残らないようにするために粘着剤の粘着力を低下させることが考えられるが、単純に低粘着性の粘着剤を使用すると研磨パッドが使用中にプラテンから剥離してしまい、研磨パッドの使用寿命が短くなる。
【０００６】
このような問題に関してこれまでに次のような研磨パッドが開発されている。例えば、特定の温度範囲よりも狭い温度範囲にわたって起こる第１次溶融転移を有するポリマーや特定の側鎖結晶化可能ポリマーを含有した感圧接着剤層を使用した研磨布が知られている（特許文献１および２参照）。これらの研磨布は温度を低下させたり上昇させたりすることにより変わる接着剤層の接着力の変化を利用したものである。
また、定盤（プラテン）との接着面に使用される粘着剤に特定の化合物を配合することにより、加熱、超音波照射あるいは紫外線照射により気体を発生させたり架橋を生じさせたりして接着力が低下するようにした研磨パッドが知られている（特許文献３参照）。
【特許文献１】特開平８−２９３４７７号公報
【特許文献２】特開２０００−７７３６６号公報
【特許文献３】特開２００５−３４９４０号公報
【特許文献４】特開平６−９３０６０号公報
【特許文献５】特表平５−５０７７３７号公報
【特許文献６】特開平１１−３３５４３２号公報
【非特許文献１】マクロモレキュラー  ケミストリー  アンド  フィジックス（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌａｒ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ａｎｄ  Ｐｈｙｓｉｃｓ）、２０１巻、１１号、１１０８−１１１４頁、２０００年
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上記特許文献１〜３に記載されている研磨布（研磨パッド）は、それをプラテンから取り外す際に温度を変えたり超音波や紫外線を照射する必要があり、時間がかかる上、操作性がかえって悪くなるという欠点を有している。
本発明は、半導体ウェハや、半導体ウェハ上に微細なパターンが形成されたデバイスにおけるパターンの微小な凹凸を平坦化する研磨工程などにおいて、非常に良好なプラテン接着力が得られ、しかも、使用後に研磨パッドをプラテンから剥離する際にプラテンに接着剤が残存せず、取扱い性に優れる研磨パッド用接着材および該研磨パッド用接着材からなる接着層を有する接着層付研磨パッドを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成すべく検討を重ねた結果、本発明者らは特定のブロック共重合体からなる接着材を研磨パッド用接着材として使用すると上記した目的を達成することができることを見出し、さらに検討を重ねて本発明を完成させるに至った。
【０００９】
すなわち本発明は、
［１］下記式（１）
［ａ１］−［ｂ］−［ａ２］          （１）
（式中、［ａ１］および［ａ２］は、それぞれ独立して、メタクリル酸アルキルエステルから誘導される構造単位から主としてなり、ガラス転移温度が９０℃以上であり、シンジオタクティシティーが６５％以上である重合体ブロックを表し、［ｂ］はアクリル酸アルキルエステルおよび／またはメタクリル酸アルキルエステルから誘導される構造単位から主としてなり、ガラス転移温度が−１０℃以下である重合体ブロックを表す。ただし、［ａ１］と［ａ２］の質量の合計／［ｂ］の質量＝５／９５〜５０／５０の関係を満たす。）
で示される構造を重合体主鎖中に有するブロック共重合体（Ａ）からなる研磨パッド用接着材、
［２］ブロック共重合体の分子量分布が１．０〜１．５である上記［１］の研磨パッド用接着材、
［３］ブロック共重合体（Ａ）が有機希土類金属錯体を重合開始剤として用いて重合されたものであるか、または有機アルミニウム化合物の存在下に有機リチウム化合物を重合開始剤として用いて重合されたものである上記［１］または［２］の研磨パッド用接着材、
［４］アクリル酸アルキルエステルおよび／またはメタクリル酸アルキルエステルから誘導される構造単位から主としてなる重合体ブロックを有し、数平均分子量が１０，０００〜２００，０００であり、分子量分布が１．０〜１．５であるジブロック共重合体（Ｂ）をさらに含む上記［１］〜［３］のいずれかの研磨パッド用接着材、
［５］研磨パッド用接着材におけるブロック共重合体（Ａ）とジブロック共重合体（Ｂ）の質量割合が、ブロック共重合体（Ａ）の質量／ジブロック共重合体（Ｂ）の質量＝２０／８０〜９５／５の関係を満たす上記［４］の研磨パッド用接着材、
［６］研磨面と固定面を有する研磨パッド（Ｘ）の固定面側に上記［１］〜［５］のいずれかの研磨パッド用接着材からなる接着層（Ｙ）を有する接着層付研磨パッド、
［７］研磨パッド（Ｘ）が研磨層とクッション層とを有する上記［６］の接着層付研磨パッド、
［８］研磨パッド（Ｘ）の固定面側に少なくとも２層の接着層を有し、該接着層の少なくとも１層が上記［１］〜［５］のいずれかの研磨パッド用接着材からなる接着層（Ｙ）である上記［６］または［７］の接着層付研磨パッド、
［９］研磨パッド（Ｘ）の固定面側に、接着層、フィルム層および接着層を研磨パッド（Ｘ）側よりこの順に有し、該接着層の少なくとも１層が上記［１］〜［５］のいずれかの研磨パッド用接着材からなる接着層（Ｙ）である上記［６］〜［８］のいずれかの接着層付研磨パッド、
に関する。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の研磨パッド用接着材はプラテンへの接着力が高く、本発明の研磨パッド用接着材を使用した研磨パッドの使用寿命を長くすることができる。しかも、使用後に研磨パッドをプラテンから剥離する際に、プラテンに接着剤が残存しないため残った接着剤を除去する作業が不要となり、研磨パッドの脱離操作を効率的に行うことができ作業効率が向上する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
本発明の研磨パッド用接着材は下記式（１）
［ａ１］−［ｂ］−［ａ２］          （１）
（式中、［ａ１］および［ａ２］は、それぞれ独立して、メタクリル酸アルキルエステルから誘導される構造単位から主としてなり、ガラス転移温度が９０℃以上であり、シンジオタクティシティーが６５％以上である重合体ブロックを表し、［ｂ］はアクリル酸アルキルエステルおよび／またはメタクリル酸アルキルエステルから誘導される構造単位から主としてなり、ガラス転移温度が−１０℃以下である重合体ブロックを表す。ただし、［ａ１］と［ａ２］の質量の合計／［ｂ］の質量＝５／９５〜５０／５０の関係を満たす。）
で示される構造を重合体主鎖中に有するブロック共重合体（Ａ）からなる。
【００１２】
上記式（１）中、［ａ１］で示される重合体ブロックおよび［ａ２］で示される重合体ブロック（以下、これらの重合体ブロックを「重合体ブロック（ａ）」と総称することがある）を構成する主たるモノマー成分はメタクリル酸アルキルエステルである。重合体ブロック（ａ）を構成するメタクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ｎ−プロピル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸ｓｅｃ−ブチル、メタクリル酸ｔ−ブチル、メタクリル酸ｎ−ペンチル、メタクリル酸イソペンチル、メタクリル酸ｎ−ヘキシル、メタクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸ペンタデシル、メタクリル酸ラウリル、メタクリル酸トリデシル、メタクリル酸２−ヘキシルデシルなどのメタクリル酸の飽和脂肪族炭化水素エステル；メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸イソボルニル、メタクリル酸アダマンチルなどのメタクリル酸の飽和脂環式炭化水素エステルの１種または２種以上を挙げることができる。中でも、重合体ブロック（ａ）のガラス転移温度を確実に９０℃以上にする観点から、メタクリル酸アルキルエステルとしてはメタクリル酸メチル、メタクリル酸イソボルニル、メタクリル酸アダマンチルからなる群から選ばれる少なくとも１種が好ましく、メタクリル酸メチルがより好ましい。
【００１３】
重合体ブロック（ａ）を構成する構造単位の全モル数に対する上記メタクリル酸アルキルエステルから誘導される構造単位の占める割合としては、８０モル％以上が好ましく、９０モル％以上がより好ましく、９５モル％以上がさらに好ましい。メタクリル酸アルキルエステルから誘導される構造単位の占める割合が上記の範囲となることにより、得られる研磨パッド用接着材の高温下での凝集力が高くなり、高温下における粘着特性（接着力の保持力など）がより良好なものとなる。
【００１４】
重合体ブロック（ａ）は少量、例えば２０モル％以下であれば、メタクリル酸アルキルエステルから誘導される構造単位以外の他の構造単位を有していてもよい。このような他の構造単位を形成するモノマー成分としては、例えば、（メタ）アクリル酸トリメチルシリル、（メタ）アクリル酸トリメトキシシリルプロピル、（メタ）アクリル酸グリシジル等のシリル基やエポキシ基などの官能基を有する（メタ）アクリル酸エステル；（メタ）アクリル酸アリル等の（メタ）アクリロイル基以外にさらに不飽和結合を有する（メタ）アクリル酸エステル；アクリル酸メチル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸ｔ−ブチル等のアクリル酸アルキルエステル；エチレン、プロピレン等のオレフィン；スチレン、α−メチルスチレン、ビニルナフタレン等の芳香族ビニル化合物などが挙げられる。
【００１５】
重合体ブロック（ａ）のガラス転移温度は９０℃以上である。重合体ブロック（ａ）のガラス転移温度が９０℃未満である場合には、得られる研磨パッド用接着材の高温下における凝集力が不十分なものとなり、高温下における粘着特性（接着力の保持力など）が悪くなる。重合体ブロック（ａ）のガラス転移温度としては、９５℃以上が好ましく、１００℃以上がより好ましい。
【００１６】
重合体ブロック（ａ）のガラス転移温度は該ブロックを構成する構造単位の種類やその含有率を適宜調整することにより上記範囲とすることができる。より具体的には、例えば、培風館社発行「高分子データ・ハンドブック（基礎編）」やＪｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．社発行「ＰＯＬＹＭＥＲ  ＨＡＮＤＢＯＯＫ  ＦＯＵＲＴＨ  ＥＤＩＴＩＯＮ」などの刊行物に記載されている各種単独重合体のガラス転移温度を参考にして、該重合体を構成する構造単位を本発明の重合体ブロック（ａ）の構造単位とすることにより容易に上記の範囲とすることができる。なお、２種以上の構造単位から重合体ブロック（ａ）を構成する場合には、重合体ブロック（ａ）全体に占める各種構造単位の質量分率（ｗ）を、上記刊行物などに記載されている該構造単位を形成するモノマー成分のみからなる単独重合体のガラス転移温度（Ｔｇ、単位：Ｋ）で割った値の総和の逆数、つまり、下記式（２）により計算したＴｇｔが所望とする重合体ブロック（ａ）のガラス転移温度となるように重合体ブロック（ａ）を構成する構造単位の種類やその含有量を調整することにより、重合体ブロック（ａ）のガラス転移温度を容易に上記範囲とすることができる。
１／Ｔｇｔ＝ｗ１／Ｔｇ１＋ｗ２／Ｔｇ２＋・・・＋ｗｎ／Ｔｇｎ          （２）
（式中、Ｔｇｔは重合体ブロック（ａ）の予測されるガラス転移温度（単位：Ｋ）を表し、ｗ１、ｗ２、・・・、ｗｎは重合体ブロック（ａ）における各種構造単位の質量分率を表し、Ｔｇ１、Ｔｇ２、・・・、Ｔｇｎは各種構造単位を形成するモノマー成分のみからなる単独重合体のガラス転移温度（単位：Ｋ）を表す。］
【００１７】
また、重合体ブロック（ａ）のシンジオタクティシティーは６５％以上である。重合体ブロック（ａ）のシンジオタクティシティーが６５％未満である場合には、得られる研磨パッド用接着材の高温下における凝集力が不十分なものとなり、高温下における粘着特性（接着力の保持力など）が悪くなる。重合体ブロック（ａ）のシンジオタクティシティーとしては、６６〜９５％の範囲内にあることが好ましく、６７〜９０％の範囲内にあることがより好ましい。重合体ブロック（ａ）のシンジオタクティシティーは、例えば、有機希土類金属錯体を重合開始剤として用いるか、または有機アルミニウム化合物の存在下にアルキルリチウム化合物を重合開始剤として用いて重合体ブロック（ａ）を形成するモノマー成分を重合することにより上記の範囲とすることができる。なお、重合体ブロック（ａ）のシンジオタクティシティーはブロック共重合体（Ａ）を重水素化クロロホルムに溶解してなる試料の１Ｈ−ＮＭＲ測定により求められる重合体ブロック（ａ）におけるシンジオタクティックトライアッド（ｒｒ）の含量（モル分率）として定義される。
【００１８】
上記式（１）中、［ｂ］で示される重合体ブロック（以下、これを「重合体ブロック（ｂ）」と称することがある）を構成する主たるモノマー成分はアクリル酸アルキルエステルおよび／またはメタクリル酸アルキルエステルである。
重合体ブロック（ｂ）を構成するアクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−プロピル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ｓｅｃ−ブチル、アクリル酸ｔ−ブチル、アクリル酸ｎ−ペンチル、アクリル酸イソペンチル、アクリル酸ｎ−ヘキシル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸ラウリルなどのアクリル酸の飽和脂肪族炭化水素エステルの１種または２種以上を挙げることができる。
【００１９】
また、重合体ブロック（ｂ）を構成するメタクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ｎ−プロピル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸ｓｅｃ−ブチル、メタクリル酸ｔ−ブチル、メタクリル酸ｎ−ペンチル、メタクリル酸イソペンチル、メタクリル酸ｎ−ヘキシル、メタクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸ラウリル、メタクリル酸トリデシル、メタクリル酸ペンタデシル、メタクリル酸２−ヘキシルデシルなどのメタクリル酸の飽和脂肪族炭化水素エステル；メタクリル酸シクロヘキシルなどのメタクリル酸の飽和脂環式炭化水素エステルの１種または２種以上を挙げることができる。
【００２０】
重合体ブロック（ｂ）を構成するアクリル酸アルキルエステルおよび／またはメタクリル酸アルキルエステルとしては、接着力の高い研磨パッド用接着材が得られ、また重合体ブロック（ｂ）のガラス転移温度を確実に−１０℃以下にする観点から、アクリル酸ｎ−プロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸ｎ−ペンチル、アクリル酸ｎ−ヘキシル、アクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸ｎ−オクチルからなる群から選ばれる少なくとも１つであることが好ましく、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸ｎ−オクチルからなる群から選ばれる少なくとも１つであることがより好ましく、アクリル酸ｎ−ブチルがさらに好ましい。ただし、重合体ブロック（ｂ）をメタクリル酸アルキルエステルを主たるモノマー成分として用いて構成する場合には、重合体ブロック（ｂ）のガラス転移温度を−１０℃以下とする観点から、使用するメタクリル酸アルキルエステルはメタクリル酸ｎ−オクチル、メタクリル酸ラウリル、メタクリル酸トリデシル、メタクリル酸ペンタデシル、メタクリル酸２−ヘキシルデシルなどのメタクリル酸と炭素数８以上のアルコールとのエステルを主体とすることが好ましい。
【００２１】
重合体ブロック（ｂ）を構成する構造単位の全モル数に対する上記アクリル酸アルキルエステルおよびメタクリル酸アルキルエステルから誘導される構造単位の占める割合としては８０モル％以上が好ましく、９０モル％以上がより好ましく、９５モル％以上がさらに好ましい。アクリル酸アルキルエステルおよびメタクリル酸アルキルエステルから誘導される構造単位の占める割合を上記の範囲とすることにより、より接着力の高い研磨パッド用接着材を得ることができる。
【００２２】
重合体ブロック（ｂ）は少量、例えば２０モル％以下であれば、アクリル酸アルキルエステルおよび／またはメタクリル酸アルキルエステルから誘導される構造単位以外の他の構造単位を有していてもよい。このような他の構造単位を形成するモノマー成分としては、例えば、（メタ）アクリル酸２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル等の（メタ）アクリル酸のアミノアルキルエステル；（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド等の（メタ）アクリルアミド類；アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸等のカルボキシル基を有するビニル化合物；無水マレイン酸等の酸無水物基を有するビニル化合物などが挙げられる。
【００２３】
重合体ブロック（ｂ）のガラス転移温度は−１０℃以下である。重合体ブロック（ｂ）のガラス転移温度が−１０℃を超える場合には、得られる研磨パッド用接着材の粘着特性（特に粘着力や保持力など）が悪化する。重合体ブロック（ｂ）のガラス転移温度としては−２０℃以下が好ましく、−３０℃以下がより好ましい。重合体ブロック（ｂ）のガラス転移温度は、該ブロックを構成する構造単位の種類やその含有率を適宜調整することにより上記の範囲とすることができる。具体的には、重合体ブロック（ａ）のガラス転移温度の調整方法として上記したものと同様にして調整することができる。
【００２４】
本明細書における重合体ブロック（ａ）および重合体ブロック（ｂ）のガラス転移温度はブロック共重合体（Ａ）をＤＳＣ測定して得られた曲線において認められる重合体ブロック（ａ）および重合体ブロック（ｂ）の転移領域の外挿開始温度（Ｔｇｉ）である。具体的な測定方法としては、以下の実施例の項目において詳述した方法が採用される。本発明におけるブロック共重合体（Ａ）のＤＳＣ測定による曲線に基づけば、複数のガラス転移温度が求められるが、その中の重合体ブロック（ａ）および重合体ブロック（ｂ）に由来するガラス転移温度は、重合体ブロック（ａ）および重合体ブロック（ｂ）と同様の化学構造（モノマー組成、立体規則性等）を有する重合体のＤＳＣ測定により得られる曲線のガラス転移温度と同一であるか、またはそれに近い温度であるので、容易に判定することができる。なお、重合体ブロック（ａ）および重合体ブロック（ｂ）と同様の化学構造を有する重合体はブロック共重合体（Ａ）を１Ｈ−ＮＭＲや１３Ｃ−ＮＭＲなどの手段で分析することにより重合体ブロック（ａ）および重合体ブロック（ｂ）のモノマー組成、立体規則性などの化学構造が判明するので、その化学構造が再現されるように適宜、重合を行うことにより容易に製造することができる。
【００２５】
ブロック共重合体（Ａ）が有する上記式（１）で示される構造における重合体ブロック（ａ）の割合が少なすぎると得られる研磨パッド用接着材の凝集力が小さくなり、保持力（剪断クリープ強度）等の粘着特性が低下し、逆に上記式（１）で示される構造における重合体ブロック（ａ）の割合が多すぎると得られる研磨パッド用接着材の粘着力等の粘着特性が低下することから、上記式（１）における重合体ブロック（ａ）と重合体ブロック（ｂ）の質量割合としては、（［ａ１］と［ａ２］の質量の合計）／（［ｂ］の質量）が５／９５〜５０／５０の範囲内であり、好ましくは１０／９０〜４５／５５の範囲内である。
【００２６】
ブロック共重合体（Ａ）はその重合体主鎖中に上記式（１）で示される構造を有するが、ブロック共重合体（Ａ）は上記の構造のみから構成されていてもよく、さらに１個以上の他の重合体ブロックを含む４個以上の重合体ブロックから構成されていてもよい。該他の重合体ブロックは重合体ブロック（ａ）または（ｂ）と同種の重合体ブロックでも、それとは別種の重合体ブロック（以下、この別種の重合体ブロックを「重合体ブロック（ｃ）」と称することがある）であってもよい。重合体ブロック（ｃ）としては、エチレン、プロピレン等のオレフィン；ε−カプロラクトン、バレロラクトン等のラクトンなどによって構成される重合体ブロックなどが例示される。
【００２７】
ブロック共重合体（Ａ）の好ましい形態としては、重合体ブロック（ａ）−重合体ブロック（ｂ）−重合体ブロック（ａ）、重合体ブロック（ａ）−重合体ブロック（ｂ）−重合体ブロック（ａ）−重合体ブロック（ｂ）、重合体ブロック（ａ）−重合体ブロック（ｂ）−重合体ブロック（ａ）−重合体ブロック（ｃ）などが挙げられるが、得られる研磨パッド用接着材の凝集力が大きく良好な粘着特性が得られることから、重合体ブロック（ａ）−重合体ブロック（ｂ）−重合体ブロック（ａ）のトリブロック構造が好ましい。
【００２８】
ブロック共重合体（Ａ）における上記式（１）で示される構造の占める割合としては、好ましくは８５質量％以上であり、より好ましくは９０質量％以上であり、さらに好ましくは９５質量％以上である。なお、ブロック共重合体（１）が複数の上記式（１）で示される構造を有する場合には、上記割合はブロック共重合体（Ａ）における複数の上記式（１）で示される構造の質量の合計の占める割合である。
【００２９】
本発明において使用されるブロック共重合体（Ａ）は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、必要に応じて、重合体主鎖に対してグラフト状にまたは重合体主鎖末端部に、水酸基、カルボキシル基、酸無水物基、アミノ基、トリメトキシシリル基などの官能基を有していてもよい。ただし、ブロック共重合体（Ａ）は分子中に硫黄原子および芳香環をいずれも実質的に有しないことが好ましい。ブロック共重合体（Ａ）が重合体主鎖末端部に硫黄原子を有している場合（例えば、式：−Ｓ−Ｃ(＝Ｓ)−Ｎ（アルキル）２で示される基を主鎖末端に有する場合）や重合体主鎖中に芳香環（例えば、パラキシリレン基など）を有している場合などでは、得られる研磨パッド用接着材の耐候性が低下する傾向がある。
【００３０】
ブロック共重合体（Ａ）の数平均分子量（Ｍｎ）は、１０，０００〜２００，０００の範囲内にあることが好ましく、１５，０００〜１５０，０００の範囲内にあることがより好ましい。また、ブロック共重合体（Ａ）の分子量分布は、重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）の比として、１．０〜１．５の範囲内にあることが好ましく、１．０〜１．４の範囲内にあることがより好ましい。このような分子量分布を有するブロック共重合体（Ａ）はブロック共重合体（Ａ）を形成するモノマー成分をリビング重合することにより容易に製造することができる。このようなリビング重合の方法としては公知の方法を採用することができ、例えば、有機希土類金属錯体を重合開始剤として使用して重合する方法（特許文献４参照）、有機アルカリ金属化合物を重合開始剤として使用してアルカリ金属またはアルカリ土類金属の塩（鉱酸塩等）の存在下にアニオン重合する方法（特許文献５参照）、有機リチウム化合物等の有機アルカリ金属化合物を重合開始剤として使用して有機アルミニウム化合物の存在下にアニオン重合する方法（特許文献６参照）、原子移動ラジカル重合方法（ＡＴＲＰ）（非特許文献１参照）などを採用することができる。
なお、本明細書における数平均分子量（Ｍｎ）および重量平均分子量（Ｍｗ）はゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した値であり、具体的な測定方法としては以下の実施例の項目において詳述した方法が採用される。
【００３１】
また、上記式（１）で示される構造における個々の重合体ブロック（ａ）の数平均分子量（Ｍｎ）は、好ましくは５，０００〜１５０，０００の範囲内であり、より好ましくは６，０００〜１２０，０００の範囲内である。一方、重合体ブロック（ｂ）の数平均分子量（Ｍｎ）は、好ましくは１，０００〜５０，０００の範囲内であり、より好ましくは５，０００〜３０，０００の範囲内である。なお、重合体ブロック（ａ）および重合体ブロック（ｂ）の数平均分子量（Ｍｎ）は、それぞれの重合体ブロックに相当する重合体を別途作製し、それらを上記の測定方法によって測定した値である。
【００３２】
本発明で使用するブロック共重合体（Ａ）の製造方法は化学構造、ガラス転移温度、シンジオタクティシティーなどに関する上記規定を満足するブロック共重合体が得られる限りにおいて特に限定はされず、適当な重合開始剤を用いて製造することができる。特に不活性溶媒中で重合体ブロック（ａ）を形成させるためのモノマー成分の重合と重合体ブロック（ｂ）を形成させるためのモノマー成分の重合を所望の重合体ブロックの結合順序となるように順次行う製造方法を採用することにより容易にブロック共重合体（Ａ）を製造することができる。上記の重合開始剤の例としては、例えば、有機金属化合物が挙げられ、その中でも、形成される重合体ブロック（ａ）のシンジオタクティシティーを６５％以上にしやすい点において、有機希土類金属錯体または有機アルカリ金属化合物が好ましく、重合開始剤の汎用性の観点から有機アルカリ金属化合物がより好ましい。
【００３３】
有機希土類金属錯体としては、例えば、ビス（ペンタメチルシクロペンタジエニル）サマリウムメチルテトラヒドロフラナート、ビス（ペンタメチルシクロペンタジエニル）イットリウムメチルテトラヒドロフラナート等のペンタメチルシクロペンタジエニル基を配位子として有する希土類金属錯体などが挙げられる。さらに上記の有機希土類金属錯体と共に、必要に応じて後述するアルキルアルミニウム化合物などを併用してもよい。
【００３４】
有機アルカリ金属化合物としては有機リチウム化合物を好ましく使用することができる。該有機リチウム化合物としては、例えば、メチルリチウム、エチルリチウム、ｎ−プロピルリチウム、イソプロピルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、イソブチルリチウム、ｔ−ブチルリチウム、ｎ−ペンチルリチウム、ｎ−ヘキシルリチウム、テトラメチレンジリチウム、ペンタメチレンジリチウム、ヘキサメチレンジリチウム等のアルキルリチウムまたはアルキルジリチウム；フェニルリチウム、ｍ−トリルリチウム、ｐ−トリルリチウム、キシリルリチウム、リチウムナフタレニド等のアリールリチウムまたはアリールジリチウム；ベンジルリチウム、ジフェニルメチルリチウム、トリチルリチウム、１，１−ジフェニル−３−メチルペンチルリチウム、α−メチルスチリルリチウム、ジイソプロペニルベンゼンとブチルリチウムの反応により生成するジリチウム等のアラルキルリチウムまたはアラルキルジリチウム；リチウムジメチルアミド、リチウムジエチルアミド、リチウムジイソプロピルアミド等のリチウムアミド；メトキシリチウム、エトキシリチウム、ｎ−プロポキシリチウム、イソプロポキシリチウム、ｎ−ブトキシリチウム、ｓｅｃ−ブトキシリチウム、ｔ−ブトキシリチウム、ペンチルオキシリチウム、ヘキシルオキシリチウム、ヘプチルオキシリチウム、オクチルオキシリチウム、フェノキシリチウム、４−メチルフェノキシリチウム、ベンジルオキシリチウム、４−メチルベンジルオキシリチウム等のリチウムアルコキシドなどが挙げられる。
【００３５】
上記の有機リチウム化合物を重合開始剤として使用する場合には、重合速度を変化させたり、リビング性（成長反応が主反応となり移動反応が起こりにくいこと）や立体規則性を高めたりするために、塩化リチウム等の無機塩；リチウム２−（２−メトキシエトキシ）エトキサイド等のアルコキサイドのリチウム塩；後述する有機アルミニウム化合物；ジメチルエーテル、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、１２−クラウン−４等のエーテル化合物；トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ”−ペンタメチルジエチレントリアミン、ピリジン、２，２’−ジピリジル等の含窒素化合物などとして例示される極性添加剤などを重合反応系内に共存させることができる。
【００３６】
有機希土類金属錯体や有機リチウム化合物を重合開始剤として使用する際に使用される上記有機アルミニウム化合物としては、例えば、下記式（３）
ＡｌＲ１Ｒ２Ｒ３              （３）
（式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立して置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアリールオキシ基、置換基を有していてもよいＮ，Ｎ−二置換アミノ基、またはハロゲン原子を表す。なお、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３から選ばれる２つは互いに結合して、置換基を有していてもよいアルキレン基、置換基を有していてもよいアリーレン基、置換基を有していてもよいアリーレンジアルキル基、置換基を有していてもよいアルキレンジオキシ基、置換基を有していてもよいアリーレンジオキシ基を形成してもよい。）
で示される化合物が挙げられる。
【００３７】
上記式（３）で示される有機アルミニウム化合物の具体例としては、例えば、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリｎ−ブチルアルミニウム、トリｓｅｃ−ブチルアルミニウム、トリｔ−ブチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリｎ−ヘキシルアルミニウム、トリｎ−オクチルアルミニウム、トリ２−エチルヘキシルアルミニウム、トリフェニルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウム；ジメチル（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）アルミニウム、ジメチル（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノキシ）アルミニウム、ジエチル（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）アルミニウム、ジエチル（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノキシ）アルミニウム、ジイソブチル（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）アルミニウム、ジイソブチル（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノキシ）アルミニウム等のジアルキルフェノキシアルミニウム；メチルビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）アルミニウム、メチルビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノキシ）アルミニウム、メチル〔２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）〕アルミニウム、エチルビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）アルミニウム、エチルビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノキシ）アルミニウム、エチル〔２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）〕アルミニウム、イソブチルビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）アルミニウム、イソブチルビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノキシ）アルミニウム、イソブチル〔２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）〕アルミニウム、ｎ−オクチルビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）アルミニウム、ｎ−オクチルビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノキシ）アルミニウム、ｎ−オクチル〔２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）〕アルミニウム等のアルキルジフェノキシアルミニウム；メトキシビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）アルミニウム、メトキシビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノキシ）アルミニウム、メトキシ〔２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）〕アルミニウム、エトキシビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）アルミニウム、エトキシビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノキシ）アルミニウム、エトキシ〔２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）〕アルミニウム、イソプロポキシビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）アルミニウム、イソプロポキシビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノキシ）アルミニウム、イソプロポキシ〔２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）〕アルミニウム、ｔｅｒｔ−ブトキシビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）アルミニウム、ｔｅｒｔ−ブトキシビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノキシ）アルミニウム、ｔｅｒｔ−ブトキシ〔２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）〕アルミニウム等のアルコキシジフェノキシアルミニウム；トリス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノキシ）アルミニウム、トリス（２，６−ジフェニルフェノキシ）アルミニウム等のトリフェノキシアルミニウムなどを挙げることができる。
【００３８】
有機アルミニウム化合物を使用すると、上記のようなシンジオタクティシティーを有する重合体ブロック（ａ）を有し、分子量分布がより狭く、残留モノマーが少ないブロック共重合体（Ａ）を容易に製造することができるため好ましい。また、有機アルミニウム化合物を使用すると、極低温下の重合反応条件を必要とせず比較的高い温度で重合を行なうことができるため、環境負荷（重合温度を制御する際に使用する冷凍機が消費する電力など）を低減させることもできる。
【００３９】
上記した有機アルミニウム化合物の中でも、重合のリビング性の高さや取扱いの容易さなどの点から、イソブチルビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）アルミニウム、イソブチルビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノキシ）アルミニウム、イソブチル〔２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）〕アルミニウムが好ましい。
【００４０】
有機希土類金属錯体や有機リチウム化合物を重合開始剤として使用する際に上記のような有機アルミニウム化合物を併用する場合には、必要に応じてさらに、ジメチルエーテル、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、１２−クラウン−４等のエーテル；トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ”−ペンタメチルジエチレントリアミン、１，１，４，７，１０，１０−ヘキサメチルトリエチレンテトラミン、ピリジン、２，２’−ジピリジル等の含窒素化合物などを反応系内に存在させてブロック共重合体（Ａ）を形成するモノマー成分を重合させる方法を採用することができる。
【００４１】
重合開始剤として使用される有機希土類金属錯体または有機アルカリ金属化合物の中でも、重合開始効率が高いことから、ｔ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウムが好ましく、ｓｅｃ−ブチルリチウムがより好ましい。
【００４２】
また、上記の不活性溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの炭化水素系溶媒；クロロホルム、塩化メチレン、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素系溶媒；テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルなどのエーテル系溶媒などが挙げられる。
【００４３】
有機希土類金属錯体または有機アルカリ金属化合物を重合開始剤として使用してブロック共重合体（Ａ）を製造する場合についてより具体的な例を説明すると、例えば、該重合開始剤の存在下で重合体ブロック（ａ）を形成するモノマー成分の重合を行う第１段階の重合工程、重合体ブロック（ｂ）を形成するモノマー成分の重合を行う第２段階の重合工程および重合体ブロック（ａ）を形成するモノマー成分の重合を行う第３段階の重合工程を含む３段階以上の重合工程を経て製造することができる。第１段階の重合工程において重合成長末端を主鎖片末端に有する重合体ブロック（ａ）からなるリビングポリマーが生成し、第２段階の重合工程において重合成長末端を重合体ブロック（ｂ）の主鎖片末端に有する重合体ブロック（ａ）−重合体ブロック（ｂ）の２元ブロックのリビングポリマーが生成し、第３段階の重合工程において重合成長末端を一方の重合体ブロック（ａ）の主鎖片末端に有する重合体ブロック（ａ）−重合体ブロック（ｂ）−重合体ブロック（ａ）の３元ブロックのリビングポリマーが生成するので、これをアルコールなどと反応させることによって重合停止すれば重合体ブロック（ａ）−重合体ブロック（ｂ）−重合体ブロック（ａ）の３元ブロック共重合体を得ることができる。ここで、４元以上のブロック共重合体を製造する場合には、上記重合体ブロック（ａ）−重合体ブロック（ｂ）−重合体ブロック（ａ）の３元ブロックのリビングポリマーに対して、さらに適宜、重合体ブロック（ｂ）を形成させるためのアクリル酸アルキルエステルおよび／またはメタクリル酸アルキルエステルを主体とするモノマー成分の重合、重合体ブロック（ａ）を形成させるためのメタクリル酸アルキルエステルを主体とするモノマー成分の重合、その他の重合体ブロック（ｃ）を形成させるためのモノマー成分の重合などの所望の重合操作を所望の回数および順序で行い、その後にアルコールなどによる重合停止反応を行なえばよい。
【００４４】
本発明の研磨パッド用接着材は、粘着剤の３つの要素であるタック（短時間接触時の接着力）、粘着力および保持力をバランスよく備え、またホットメルト塗工する際の塗工性を向上させる観点から、上記したブロック共重合体（Ａ）の他にさらに、アクリル酸アルキルエステルおよび／またはメタクリル酸アルキルエステルから誘導される構造単位から主としてなる重合体ブロック（以下、これを「重合体ブロック（イ）」と称することがある）を有し、数平均分子量が１０，０００〜２００，０００であり、分子量分布が１．０〜１．５であるジブロック共重合体（Ｂ）を含むことが好ましい。
【００４５】
ジブロック共重合体（Ｂ）において、重合体ブロック（イ）を構成する主たるモノマー成分はアクリル酸アルキルエステルおよび／またはメタクリル酸アルキルエステルである。
重合体ブロック（イ）を構成するアクリル酸アルキルエステルとしては、特に限定されるものではないが、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−プロピル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ｓｅｃ−ブチル、アクリル酸ｔ−ブチル、アクリル酸ｎ−ペンチル、アクリル酸イソペンチル、アクリル酸ｎ−ヘキシル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸ラウリル等のアクリル酸の飽和脂肪族炭化水素エステルなどの１種または２種以上を挙げることができる。
【００４６】
また、重合体ブロック（イ）を構成するメタクリル酸アルキルエステルとしては、特に限定されるものではないが、例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ｎ−プロピル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸ｓｅｃ−ブチル、メタクリル酸ｔ−ブチル、メタクリル酸ｎ−ペンチル、メタクリル酸イソペンチル、メタクリル酸ｎ−ヘキシル、メタクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸ラウリル、メタクリル酸トリデシル、メタクリル酸ペンタデシル、メタクリル酸２−ヘキシルデシル等のメタクリル酸の飽和脂肪族炭化水素エステル；メタクリル酸シクロヘキシル等のメタクリル酸の飽和脂環式炭化水素エステルなどの１種または２種以上を挙げることができる。
【００４７】
中でも、接着力の高い研磨パッド用接着材が得られることから、アクリル酸アルキルエステルおよび／またはメタクリル酸アルキルエステルとしては、アクリル酸ｎ−プロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸ｎ−ペンチル、アクリル酸ｎ−ヘキシル、メタクリル酸ｎ−プロピル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸ｎ−ペンチル、メタクリル酸ｎ−ヘキシルからなる群から選ばれる少なくとも１つが好ましく、アクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸ｎ−ブチルがより好ましい。
【００４８】
重合体ブロック（イ）を構成する構造単位の全モル数に対する上記アクリル酸アルキルエステルおよびメタクリル酸アルキルエステルから誘導される構造単位の占める割合としては、８０モル％以上が好ましく、９０モル％以上がより好ましく、９５モル％以上がさらに好ましい。アクリル酸アルキルエステルおよびメタクリル酸アルキルエステルから誘導される構造単位の占める割合が上記の範囲となることにより、得られる研磨パッド用接着材の接着力が向上する。
【００４９】
重合体ブロック（イ）は、アクリル酸アルキルエステルおよび／またはメタクリル酸アルキルエステルから誘導される構造単位以外の他の構造単位を少量、例えば２０モル％以下有していてもよい。このような他の構造単位を形成するモノマー成分としては、例えば、エチレン、プロピレン等のオレフィン；（メタ）アクリル酸アリル、（メタ）アクリル酸ビニル等の二官能性モノマー；（メタ）アクリル酸２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル等の（メタ）アクリル酸のアミノアルキルエステルなどが挙げられる。
【００５０】
ジブロック共重合体（Ｂ）におけるもう一方の重合体ブロック（以下、これを「重合体ブロック（ロ）」と称することがある）は、それと組み合わせる重合体ブロック（イ）とは異なる構造の重合体ブロックであれば必ずしも限られるものではなく、それを構成するモノマー成分としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｔ−ブチルスチレン等の芳香族ビニル化合物；ブタジエン、イソプレン等の共役ジエン；酢酸ビニル等のビニルエステル；アクリロニトリル；メタクリル酸アルキルエステル；アクリル酸アルキルエステル；エチレン、プロピレン、イソブチレン等のオレフィン；ε−カプロラクトン、バレロラクトン等のラクトン；メタクリル酸アリル、メタクリル酸ビニル、アクリル酸アリル、アクリル酸ビニル等の（上記共役ジエン以外の）二官能性モノマーなどが挙げられる。重合体ブロック（ロ）にはアクリル酸アルキルエステルおよび／またはメタクリル酸アルキルエステルから誘導される構造単位から主としてなる重合体ブロック（ただし、それと組み合わせる重合体ブロック（イ）とは異なる構造の重合体ブロック）が包含される。中でも、重合体ブロック（ロ）が芳香族ビニル化合物および共役ジエンからなる群から選択される少なくとも１つから誘導される構造単位から主としてなる場合には、得られる研磨パッド用接着材のポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレンなどの非極性ポリマーに対する粘着特性を向上させることができ、本発明の研磨パッド用接着材をこのような非極性ポリマーと接して使用する際に好ましい。
【００５１】
ジブロック共重合体（Ｂ）は本発明の効果を損なわない限りにおいて、必要に応じて、重合体主鎖に対してグラフト状にまたは重合体主鎖末端部に、水酸基、カルボキシル基、酸無水物基、アミノ基、トリメトキシシリル基などの官能基を有していてもよい。ただし、研磨パッド用接着材の耐候性を特に高めたい場合には、重合体主鎖中に芳香環（例えば、パラフェニレン基など）を実質的に有さず、かつ重合体主鎖末端部に硫黄原子を実質的に有しないことが好ましい。
【００５２】
ジブロック共重合体（Ｂ）の数平均分子量（Ｍｎ）は、１０，０００〜２００，０００の範囲内であり、２０，０００〜１５０，０００の範囲内であることが好ましい。また、ジブロック共重合体（Ｂ）の分子量分布は、重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）の比として、１．０〜１．５の範囲内にあり、１．０〜１．４の範囲内にあることがより好ましい。このような分子量分布を有するジブロック共重合体（Ｂ）はブロック共重合体（Ａ）の説明として上記したリビング重合法を採用することにより容易に製造することができる。
【００５３】
また、ジブロック共重合体（Ｂ）において、重合体ブロック（イ）の割合が少なすぎると、ブロック共重合体（Ａ）との相溶性が低下し、得られる研磨パッド用接着材の使用時にブリードを生じやすくなり、逆に重合体ブロック（ロ）の割合が少なすぎると、研磨パッド用接着材の粘着特性（特に低温下での粘着力）が低下する傾向があることから、ジブロック共重合体（Ｂ）における重合体ブロック（イ）と重合体ブロック（ロ）の質量割合は、重合体ブロック（イ）の質量／重合体ブロック（ロ）の質量＝５／９５〜５０／５０の関係を満たすことが好ましい。
【００５４】
なお、上記ジブロック共重合体（Ｂ）の製造方法としては、特に限定されることはなく、アニオン重合法、カチオン重合法、有機希土類金属錯体を用いる重合法、ラジカル重合法などを採用することができる。例えば、有機希土類金属錯体または有機リチウム化合物を重合開始剤として使用する重合法では、ブロック共重合体（Ａ）に関して先に例示した方法と同様にして、２段階の重合工程を経ることによってジブロック共重合体（Ｂ）を製造することができる。
【００５５】
ブロック共重合体（Ａ）と共にジブロック共重合体（Ｂ）を使用する場合には、ブロック共重合体（Ａ）とジブロック共重合体（Ｂ）の質量割合が重合体ブロック（Ａ）の質量／重合体ブロック（Ｂ）の質量＝２０／８０〜９５／５の関係を満たすことが好ましく、２５／７５〜９０／１０の関係を満たすことより好ましい。
【００５６】
また、本発明の研磨パッド用接着材においてブロック共重合体（Ａ）とジブロック共重合体（Ｂ）の質量の合計の占める割合としては、８０〜１００質量％の範囲内であることが好ましく、９０〜１００質量％の範囲内がより好ましく、９５〜１００質量％の範囲内がさらに好ましい。
【００５７】
本発明の研磨パッド用接着材は、上記したブロック共重合体（Ａ）単独か、ブロック共重合体（Ａ）およびジブロック共重合体（Ｂ）のみからなっていてもよいが、所望に応じ、ブロック共重合体（Ａ）およびジブロック共重合体（Ｂ）以外に、さらに他の成分が配合されていてもよい。このような成分としては、例えば、粘着付与樹脂（ただし、ブロック共重合体（Ａ）やジブロック共重合体（Ｂ）以外）、可塑剤、他の重合体、その他の各種添加剤などが挙げられる。
【００５８】
本発明の研磨パッド用接着材に粘着付与樹脂を配合させた場合、タック、粘着力および保持力の調節が容易となることがある。粘着付与樹脂としてはロジンエステル、ガムロジン、トール油ロジン、水添ロジンエステル、マレイン化ロジン等のロジン系樹脂；テルペンフェノール樹脂、α−ピネン、β−ピネン、リモネン等を主体とするテルペン樹脂；（水添）石油樹脂；クマロン−インデン系樹脂；水素化芳香族コポリマー；スチレン系樹脂；フェノール系樹脂；キシレン樹脂などの１種または２種以上が挙げられる。粘着付与樹脂の配合量は粘着付与樹脂の種類、被着体の種類などに応じて適宜選択することができるが、研磨パッド用接着材の全質量に対して２０質量％以下であることが好ましい。
【００５９】
上記可塑剤としては脂肪酸エステル類（ジブチルフタレート、ジｎ−オクチルフタレート、ビス２−エチルヘキシルフタレート、ジｎ−デシルフタレート、ジイソデシルフタレート等のフタル酸エステル類；ビス２−エチルヘキシルアジペート、ジｎ−オクチルアジペート等のアジピン酸エステル類；ビス２−エチルヘキシルセバケート、ジｎ−ブチルセバケート等のセバシン酸エステル類；ビス２−エチルヘキシルアゼレート等のアゼライン酸エステル類など）；塩素化パラフィンなどのパラフィン類；ポリプロピレングリコールなどのグリコール類；エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油などのエポキシ系高分子可塑剤；トリオクチルホスフェート、トリフェニルホスフェートなどのリン酸エステル類；トリフェニルホスファイトなどの亜リン酸エステル類；アジピン酸と１，３−ブチレングリコールとのエステル化物などのエステルオリゴマー類；ポリブテン；ポリイソブチレン；ポリイソプレン；プロセスオイル；ナフテン系オイルなどの１種または２種以上が挙げられる。可塑剤の使用量は、通常、研磨パッド用接着材の全質量に対して２０質量％以下であることが好ましい。
【００６０】
上記他の重合体としてはポリｎ−ブチルアクリレート、ＥＰＲ、ＥＰＤＭ、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニルなどが挙げられる。研磨パッド用接着材における他の重合体の占める割合としては０〜１５質量％の範囲内であることが好ましく、０〜１０質量％の範囲内であることがより好ましく、０〜５質量％の範囲内であることがさらに好ましい。
【００６１】
上記の各種添加剤としては耐候性改良剤；耐熱性改良剤；酸化防止剤；紫外線吸収剤；炭酸カルシウム、酸化チタン、マイカ、タルク等の無機粉末充填剤；ガラス繊維、有機補強用繊維等の繊維状充填剤などを挙げることができる。研磨パッド用接着材における各種添加剤の占める割合としては０〜１０質量％の範囲内であることが好ましく、０〜５質量％の範囲内であることがより好ましく、０〜３質量％の範囲内であることがさらに好ましい。
【００６２】
本発明の研磨パッド用接着材はブロック共重合体（Ａ）、および所望に応じて使用されるジブロック共重合体（Ｂ）、粘着付与樹脂、可塑剤、他の重合体、その他の各種添加剤などを所定割合で必要に応じて混合することによって調製することができる。混合方法は特に制限されず、例えば、各成分をニーダー、押出機、ミキシングロール、バンバリーミキサーなどの既知の混合または混練装置を使用して、通常、１００〜２５０℃の範囲内の温度で混合することにより、本発明の研磨パッド用接着材を調製することができる。
【００６３】
本発明の研磨パッド用接着材は研磨パッドを研磨装置のプラテンなどに接着する用途に使用することができる。より具体的には、例えば、研磨パッド（Ｘ）の被研磨物に接する側を研磨面とし、研磨装置のプラテンなどに接着する側を固定面としたときに、研磨パッド（Ｘ）の固定面側に本発明の研磨パッド用接着材からなる接着層（Ｙ）を配設した接着層付研磨パッドを作製し、この接着層付研磨パッドを研磨装置のプラテンなどに接着させることにより研磨パッド（Ｘ）を接着層（Ｙ）を介してプラテンなどに接着することができる。
【００６４】
接着層（Ｙ）の配設方法としては特に限定はされないが、例えば、本発明の研磨パッド用接着材を溶融状態で研磨パッド（Ｘ）などの基材に塗工して、その後、冷却することにより、接着層（Ｙ）を基材の少なくとも一部の表面上に配設することができる。また、本発明の研磨パッド用接着材をトルエンなどの溶剤に溶かして溶液状とした後に、基材に塗布後、溶剤を蒸発させることによって配設することもできる。
【００６５】
上記の研磨パッド（Ｘ）としては、特に限定されず、どのようなものを使用してもよいが、例えば、ポリウレタンなどから構成される研磨層を有する研磨パッドが挙げられる。ここで該研磨層は研磨時において被研磨物に直接接触する層である。研磨層は研磨面側に格子状、円状、スパイラル状などの溝構造を有することが好ましい。
また、研磨パッド（Ｘ）は被研磨物の平坦性を向上させるために、研磨層の他にクッション層を有していてもよい。該クッション層の材質としては特に限定されずどのようなものを使用してもよいが、例えば、発泡ポリウレタンなどが挙げられる。
研磨パッド（Ｘ）の厚さは、研磨パッドの耐用性を確保する観点から０．５〜４ｍｍの範囲内にあることが好ましく、０．８〜３ｍｍの範囲内がより好ましく、１〜２ｍｍの範囲内がさらに好ましい。また、研磨パッド（Ｘ）がクッション層を有する場合には、そのクッション層の厚さは、被研磨物の平坦性を向上させる観点から、０．５〜５ｍｍの範囲内にあることが好ましく、１〜４ｍｍの範囲内がより好ましく、１．５〜３ｍｍの範囲内がさらに好ましい。
【００６６】
上記の接着層付研磨パッドは接着層として本発明の研磨パッド用接着材からなる接着層（Ｙ）１層のみを有していてもよいが、２層以上の接着層を有していてもよい。この場合、複数存在する接着層の少なくとも１層は本発明の研磨パッド用接着材からなる接着層（Ｙ）であり、接着層（Ｙ）が複数存在する場合には、接着層（Ｙ）同士はその構成や層の厚さなどが同一であっても異なっていてもよい。
接着層（Ｙ）以外の接着層としては、例えば、熱硬化型粘着剤からなる層、紫外線硬化型粘着剤からなる層、感圧性粘着剤からなる層などが挙げられる。
【００６７】
各接着層の厚さとしては、充分な接着力を発現して研磨時における研磨性能を損わないようにするために、０．０１〜０．５ｍｍの範囲内にあることが好ましく、０．０１〜０．２ｍｍの範囲内がより好ましく、０．０１〜０．１ｍｍの範囲内がさらに好ましい。
また、接着層の大きさや形状については特に制限されず、例えば、研磨パッド（Ｘ）における厚さ方向に垂直な面の形状と同一（例えば、該面の全体が接着層を有する構造）であるものや、該面の一部のみに接着層を有する構造のものなどが挙げられる。
【００６８】
上記の接着層付研磨パッドは研磨パッド（Ｘ）および接着層（Ｙ）の他にさらに他の層を有することができる。このような他の層としては、例えば、フィルム層、金属箔層などが挙げられる。上記フィルム層を構成する素材としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル；ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン；ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン１１、ナイロン１２等のポリアミドなどが挙げられるが、強度と寸法安定性に優れることからポリエステル、ポリオレフィンが好ましく、ポリエステルがより好ましい。
【００６９】
上記の他の層の厚さとしてはそれを構成する材質などにより適宜調整することができ特に制限はされないが、接着層付研磨パッドの研磨性能を損わない程度に充分に薄くする必要があることから、０．０１〜０．５ｍｍの範囲内にあることが好ましく、０．０１〜０．３ｍｍの範囲内がより好ましく、０．０１〜０．１ｍｍの範囲内がさらに好ましい。
【００７０】
上記の接着層付研磨パッドの具体的な構成としては、例えば、研磨層／接着層（Ｙ）、研磨層／クッション層／接着層（Ｙ）、研磨層／接着層（Ｙ）／接着層（Ｙ）、研磨層／クッション層／接着層（Ｙ）／接着層（Ｙ）、研磨層／接着層（Ｙ）／接着層（Ｙ）以外の接着層、研磨層／クッション層／接着層（Ｙ）／接着層（Ｙ）以外の接着層、研磨層／接着層（Ｙ）以外の接着層／接着層（Ｙ）、研磨層／クッション層／接着層（Ｙ）以外の接着層／接着層（Ｙ）、研磨層／接着層（Ｙ）／フィルム層／接着層（Ｙ）、研磨層／クッション層／接着層（Ｙ）／フィルム層／接着層（Ｙ）、研磨層／接着層（Ｙ）／フィルム層／接着層（Ｙ）以外の接着層、研磨層／クッション層／接着層（Ｙ）／フィルム層／接着層（Ｙ）以外の接着層、研磨層／接着層（Ｙ）以外の接着層／フィルム層／接着層（Ｙ）、研磨層／クッション層／接着層（Ｙ）以外の接着層／フィルム層／接着層（Ｙ）などにより示されるものを挙げることができるが、製造が容易であることから、研磨層／接着層（Ｙ）、研磨層／クッション層／接着層（Ｙ）、研磨層／接着層（Ｙ）／接着層（Ｙ）、研磨層／クッション層／接着層（Ｙ）／接着層（Ｙ）、研磨層／接着層（Ｙ）／フィルム層／接着層（Ｙ）、研磨層／クッション層／接着層（Ｙ）／フィルム層／接着層（Ｙ）で示されるものが好ましく、研磨層／接着層（Ｙ）、研磨層／クッション層／接着層（Ｙ）、研磨層／接着層（Ｙ）／接着層（Ｙ）、研磨層／クッション層／接着層（Ｙ）／接着層（Ｙ）で示されるものがより好ましく、研磨層／接着層（Ｙ）、研磨層／クッション層／接着層（Ｙ）で示されるものがさらに好ましく、研磨層／接着層（Ｙ）で示されるものが特に好ましい。
また、上記の中でも、研磨パッド（Ｘ）の固定面側に、接着層、フィルム層および接着層を研磨パッド（Ｘ）側よりこの順に有するものは、例えば、フィルム層の両面に接着層を塗工などにより配設して両面粘着テープを作製後、その片面に研磨パッド（Ｘ）を貼り合わせて接着層付研磨パッドとすることができるため、該接着層付研磨パッドの製造の簡便さの点などから好ましい。この場合、研磨パッド（Ｘ）とフィルム層の間に配設される接着層の接着力が、フィルム層に対して研磨パッドと反対側にある接着層の接着力よりも大きいものとすると、例えば、研磨パッドの使用後にプラテンから接着層付研磨パッドを取り外すときにプラテンに接着層が残存しにくくなることから好ましい。
接着層付研磨パッドは接着層の外側にさらに離型フィルム層を有すると、接着層を保護することができることから好ましい。このような離型フィルム層は、通常、接着層付研磨パッドを研磨装置のプラテンなどに接着させる際に取り除かれる。
【００７１】
上記の接着層付研磨パッドは研磨装置のプラテンなどに接着後、公知の研磨スラリーと共にＣＭＰに使用することができる。研磨スラリーは、例えば、水やオイル等の液状媒体；シリカ、アルミナ、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、炭化ケイ素等の研磨剤；塩基、酸、界面活性剤等の成分を含有している。また、ＣＭＰを行うに際し、必要に応じて、研磨スラリーと共に潤滑油、冷却剤などを併用してもよい。
【００７２】
ＣＭＰは、公知のＣＭＰ用研磨装置を使用し、研磨スラリーを介して被研磨面と研磨パッドを、加圧下、一定速度で、一定時間接触させることによって実施することができる。研磨の対象となる物品には特に制限はないが、例えば、水晶、シリコン、ガラス、光学基板、電子回路基板、多層配線基板、ハードディスクなどが挙げられる。特に研磨の対象としては、シリコンウェハや半導体ウェハであることが好ましい。半導体ウェハの具体例としては、例えば、酸化シリコン、酸化フッ化シリコン、有機ポリマーなどの絶縁膜、銅、アルミニウム、タングステンなどの配線材金属膜、タンタル、チタン、窒化タンタル、窒化チタンなどのバリアメタル膜などを表面に有するものが挙げられる。
【実施例】
【００７３】
以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、これらは本発明を何ら限定するものではない。なお、以下の実施例におけるトリブロック共重合体や接着層付研磨パッドの評価方法は次のとおりである。
【００７４】
ガラス転移温度
メトラー・トレド株式会社製「ＤＳＣ−８２２」を使用して、以下の合成例において製造したトリブロック共重合体を１０℃／分の昇温速度にて１７０℃まで昇温したのち、１０℃／分の降温速度にて−１００℃まで冷却後、再度１０℃／分の昇温速度にて２００℃まで昇温する際に得られる曲線における外挿開始温度（Ｔｇｉ）の値を重合体ブロック（ａ）または重合体ブロック（ｂ）のガラス転移温度とした。
【００７５】
数平均分子量（Ｍｎ）および重量平均分子量（Ｍｗ）
以下の合成例において製造したトリブロック共重合体およびジブロック共重合体の数平均分子量（Ｍｎ）および重量平均分子量（Ｍｗ）を、以下の条件でゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した。
装置      ：東ソー株式会社製ゲルパーミエーションクロマトグラフ（ＨＬＣ−８０２０）
カラム    ：東ソー株式会社製「ＴＳＫｇｅｌ  ＧＭＨ  ＸＬ」、「ＴＳＫｇｅｌ  Ｇ４０００Ｈ  ＸＬ」および「ＴＳＫｇｅｌ  Ｇ５０００Ｈ  ＸＬ」をこの順に直列に連結したもの。
溶離剤    ：テトラヒドロフラン（流量：１．０ｍＬ／分）
カラム温度：４０℃
検出方法  ：示差屈折検出器（ＲＩ検出器）
検量線    ：標準ポリスチレンを用いて作成した。
【００７６】
プラテンへの接着性評価および接着剤残り評価
プラテンへの接着性評価はプラテンの代表的材質であるＳＵＳ３０４からなる長さ１５０ｍｍ、幅１５ｍｍ、厚さ０．５ｍｍの金属板に長さ１５０ｍｍ、幅１５ｍｍに切り出した接着層付研磨パッドを貼り付け、株式会社島津製作所製オートグラフ「Ａ５０００Ｄ」を用い、５０ｍｍ／分の速度で剥離強度を測定することによりおこなった。剥離強度が２５０ｇに満たなかった場合を「×」、２５０ｇ以上５００ｇ未満であった場合を「○」、５００ｇ以上であった場合を「◎」と評価した。
また、上記により得られた剥離後の金属板表面を観察し接着剤残り評価をおこなった。接着剤（共重合体１〜３または感圧性接着剤）が残っている場合を「有り」、接着剤が全く残っていない場合を「無し」と評価した。
【００７７】
［合成例１］
共重合体１の製造
５Ｌの三口フラスコに三方コックを付け内部を窒素で置換した後、室温にてトルエン２１７０ｇ、１，２−ジメトキシエタン１１０ｇ、イソブチルビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノキシ）アルミニウム５２．３ｇ（１００ｍｍｏｌ）を含有するトルエン溶液１５０ｇを加え、さらに、ｓｅｃ−ブチルリチウム１．１３ｇ（１７．６ｍｍｏｌ）を含有するシクロヘキサンとｎ−ヘキサンの混合溶液（シクロヘキサン：ｎ−ヘキサン＝９０：１０（質量部））１０．３ｇを加えた。
続いて、これにメタクリル酸メチル９０ｇ（０．９０ｍｏｌ）を、１分間かけて添加し、室温にて１時間攪拌した。分析用に１ｇ程度サンプリングを行い、重合転化率と数平均分子量を確認した後、重合液の内部温度を−３０℃に冷却し、アクリル酸ｎ−ブチル６００ｇ（４．６８ｍｏｌ）を２時間かけて滴下した。分析用に１ｇ程度サンプリングを行い、重合転化率と数平均分子量を確認した後、メタクリル酸メチル９０ｇ（０．９０ｍｏｌ）を加え、一晩室温にて攪拌した後、メタノール９．０ｇ（０．３ｍｏｌ）を添加して重合反応を停止した。得られた重合液をメタノール中に注ぎ、重合液中の重合物を再沈殿させてトリブロック共重合体を得た（共重合体１）。得られたトリブロック共重合体の分子組成を表１に示した。
【００７８】
［合成例２］
共重合体２の製造
上記の合成例１において、１番目に加えるメタクリル酸メチルの質量を９０ｇから１１０ｇ（１．１０ｍｏｌ）に変更し、２番目に加えるアクリル酸ｎ−ブチルの質量を６００ｇから４５０ｇ（３．５１ｍｏｌ）に変更し、３番目に加えるメタクリル酸メチルの質量を９０ｇから１１０ｇ（１．１０ｍｏｌ）に変更した以外は、合成例１と同様にしてトリブロック共重合体を得た（共重合体２）。得られたトリブロック共重合体の分子組成を表１に示した。
【００７９】
［合成例３］
共重合体３の製造
上記の合成例１において、１番目に加えるメタクリル酸メチルの質量を９０ｇから５５ｇ（０．５５ｍｏｌ）に変更し、２番目に加えるアクリル酸ｎ−ブチルの質量を６００ｇから７２５ｇ（５．６６ｍｏｌ）に変更し、３番目のメタクリル酸メチルは加えずにメタノールにより重合停止した以外は、合成例１と同様にしてジブロック共重合体を得た（共重合体３）。得られたジブロック共重合体の分子組成を表１に示した。
【００８０】
［合成例４］
熱硬化型接着剤の製造
アクリル酸ブチルエステル８０質量％、アクリル酸２エチルヘキシル１７質量％、アクリル酸３質量％からなる組成物を同質量の酢酸エチルに希釈して沸点重合し、重量平均分子量が約５０万のアクリル酸エステル系共重合体を得た。得られた共重合体１００質量部に、メラミン樹脂（大日本インキ社製「スーパーベッカミンＪ−８４０」）６質量部、およびフェノール樹脂（大日本インキ社製「ＤＵＲＥＺ１２６８７」）０．２質量部を配合し、得られた組成物１００質量部に対して、エポキシ硬化剤としてジグリシジルエーテル０．４質量部を配合して熱硬化型接着剤とした。
【００８１】
［実施例１］
接着材１の製造
共重合体１をトルエンに溶解して共重合体１の４０質量％トルエン溶液を調製した。得られた溶液をコーターで乾燥膜厚が１００μｍとなるようにポリエチレンテレフタレート剥離シートに塗布し、１５０℃で３０分間熱風乾燥後、ポリエチレンテレフタレート剥離シートを取り除いて共重合体１の層からなる粘着フィルムを製造した（接着材１）。
【００８２】
［実施例２］
接着材２の製造
共重合体１および共重合体２をそれぞれトルエンに溶解して共重合体１の４０質量％トルエン溶液と共重合体２の４０質量％トルエン溶液を調製した。続いて、共重合体２のトルエン溶液をコーターで乾燥膜厚が５０μｍとなるようにポリエチレンテレフタレート剥離シートに塗布し、１５０℃で３０分間熱風乾燥した。次に、乾燥された共重合体２の層の上に、さらに共重合体１のトルエン溶液をコーターで乾燥膜厚が５０μｍとなるように塗布し、１５０℃で３０分間熱風乾燥後、ポリエチレンテレフタレート剥離シートを取り除いて共重合体１の層および共重合体２の層からなる２層の粘着フィルムを製造した（接着材２）。
【００８３】
［実施例３］
接着材３の製造
共重合体１をトルエンに溶解して共重合体１の４０質量％トルエン溶液を調製した。また、共重合体１と共重合体３の１：１（質量比）混合物をトルエンに溶解して、共重合体１および３の４０質量％トルエン溶液を調製した。続いて、共重合体１のトルエン溶液をコーターで乾燥膜厚が５０μｍとなるようにポリエチレンテレフタレート剥離シートに塗布し、１５０℃で３０分間熱風乾燥した。次に、乾燥された共重合体１の層の上に、厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを貼り合わせ、さらにポリエチレンテレフタレートフィルムの上に、共重合体１および３のトルエン溶液をコーターで乾燥厚が５０μｍとなるように塗布し、１５０℃で３０分間乾燥後、ポリエチレンテレフタレート剥離シートを取り除いて共重合体１の層／ポリエチレンテレフタレートフィルムの層／共重合体１と３の混合物の層からなる３層の粘着フィルムを製造した（接着材３）。
【００８４】
［実施例４］
接着材４の製造
共重合体１と共重合体３の１：１（質量比）混合物をトルエンに溶解して、共重合体１および３の４０質量％トルエン溶液を調製した。得られた溶液をコーターで乾燥膜厚が１００μｍとなるようにポリエチレンテレフタレート剥離シートに塗布し、１５０℃で３０分間熱風乾燥後、ポリエチレンテレフタレート剥離シートを取り除いて共重合体１と３の混合物の層からなる粘着フィルムを製造した（接着材４）。
【００８５】
［製造例１］
研磨パッド１の製造
数平均分子量２０００のポリ（テトラメチレングリコール）［略号：ＰＴＭＧ２０００］、数平均分子量２０００のポリ（２−メチル−１，８−オクタメチレン−ｃｏ−ノナメチレンアジペート）［略号：ＰＮＯＡ、ノナメチレン単位と２−メチル−１，８−オクタメチレン単位とのモル比＝７対３］、１，４−シクロヘキサンジメタノール［略号：ＣＨＤＭ］、１，４−ブタンジオール［略号：ＢＤ］、および４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート［略号：ＭＤＩ］を、ＰＴＭＧ２０００：ＰＮＯＡ：ＣＨＤＭ：ＢＤ：ＭＤＩの質量比が２０．１：８．４：５．７：１４．２：５１．６（窒素原子の含有率：５．８質量％）となるような割合で用い、かつ、それらの合計供給量が３００ｇ／分になるようにして、定量ポンプにより同軸で回転する２軸押出機（３０ｍｍφ、Ｌ／Ｄ＝３６、シリンダー温度：７５〜２６０℃）に連続的に供給して、連続溶融重合を行って熱可塑性ポリウレタンを製造した。生成した熱可塑性ポリウレタンの溶融物をストランド状で水中に連続的に押出した後、ペレタイザーでペレット状に細断、このペレットを７０℃で２０時間除湿乾燥することにより、熱可塑性ポリウレタンを製造した。
得られた熱可塑性ポリウレタンを単軸押出成形機（９０ｍｍφ）に仕込み、シリンダー温度２１５〜２２５℃、ダイス温度２２５℃にて、Ｔ−ダイより押出し、６０℃に調温したギャップ間隔１．８ｍｍのロールを通過させて、厚さ２ｍｍのシートを成形した。得られたシートの表面を研削し、厚さ１．５ｍｍの均一なシートとした後、その片方の面に幅２．２ｍｍ、深さ１．２ｍｍの溝を１５．０ｍｍ間隔で格子状に形成し、直径５１ｃｍの円形状研磨パッド（研磨パッド１）を作製した。
【００８６】
［製造例２］
研磨パッド２の製造
上記製造例１で作製した研磨パッド１の裏面（溝が形成されていない面）に、クッション層として厚さ２ｍｍのポリウレタン発泡シート（ＪＩＳ−Ｃ硬度＝６５）を両面粘着シートで貼り合せて複層型研磨パッド（研磨パッド２）を作製した。
【００８７】
［実施例５］
研磨パッド１の裏面（溝が形成されていない面）と接着材１と離型紙を重ね合わせ、６０℃の熱ロールを通過させた後、離型紙を剥離させて、研磨パッド１と接着材１とからなる接着層付研磨パッドを製造し、上記の方法により評価した。結果を表２に示した。
【００８８】
［実施例６］
研磨パッド２の裏面（クッション層側）に接着材２を、クッション層と共重合体１の層が接触するように重ね合わせ、該接着材２（共重合体２の層側）の上に離型紙を重ね合わせ、６０℃の熱ロールを通過させた後、離型紙を剥離させて、研磨パッド２と接着材２とからなる接着層付研磨パッドを製造し、上記の方法により評価した。結果を表２に示した。
【００８９】
［実施例７］
研磨パッド１の裏面（溝が形成されていない面）と接着材３を、研磨パッドの裏面と共重合体１と３の混合物の層が接触するように重ね合わせ、該接着材３（共重合体１の層側）の上に離型紙を重ね合わせ、６０℃の熱ロールを通過させた後、離型紙を剥離させて、研磨パッド１と接着材３とからなる接着層付研磨パッドを製造し、上記の方法により評価した。結果を表２に示した。
【００９０】
［実施例８］
研磨パッド１の裏面（溝が形成されていない面）と接着材４と離型紙を重ね合わせ、６０℃の熱ロールを通過させた後、離型紙を剥離させて、研磨パッド１と接着材４とからなる接着層付研磨パッドを製造し、上記の方法により評価した。結果を表２に示した。
【００９１】
［比較例１］
両面コロナ処理したポリエステル基材（厚さ２５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（二村化学社製））の片面に、合成例４で得られた熱硬化型接着剤を、乾燥後の厚さが５０μｍとなるように塗工し、温度８０℃に調整したオーブン中で２分間加熱して溶剤を乾燥除去した。この反対側の面（ポリエチレンテレフタレートフィルムの面）に、感圧性接着剤（綜研化学社製、アクリル系感圧接着剤、ＳＫ−１７５５）を、乾燥後の厚さが５０μｍとなるように塗布し、その表面に、離型紙（カイト化学社製「ＳＬＢ−８０」、８０ｇ／ｍ２の上質紙の両面にポリエチレンをラミネートしてその上からシリコーンがコートされてなる耐熱温度約１２０℃の離型紙）を積層し、片面に離型紙を有する両面粘着テープを得た。
この両面粘着テープと研磨パッド１を、研磨パッド１の裏面（溝が形成されていない面）と熱硬化型接着剤の層が接触するように貼り合わせ、離型紙を剥離させて、接着層付研磨パッドを製造し、上記の方法により評価した。結果を表２に示した。
【００９２】
【表１】
2008088312.tif 000002
【００９３】
【表２】
2008088312.tif 000003
【００９４】
表２の結果から明らかなように、本発明の実施例５〜８の接着層付研磨パッドはプラテンへの接着性に優れ、プラテンに安定して装着されることが分かる。また、同パッドをプラテンから剥離させた時にはプラテン側への接着剤が残るなどの問題は発生せず、作業性は良好であった。一方、比較例１の接着層付研磨パッドはプラテンへの接着性は比較的良好なものの、接着剤がプラテンに残る問題があった。
【産業上の利用可能性】
【００９５】
本発明によれば、プラテンへの接着力が高い研磨パッド用接着材を提供することができるため、該研磨パッド用接着材を使用した研磨パッドの使用寿命を長くすることができる。しかも、使用後に研磨パッドをプラテンから剥離する際に、プラテンに接着剤が残存しないため残った接着剤を除去する作業が不要となり、研磨パッドの脱離操作を効率的に行うことができ作業効率が向上する。