(57)【要約】【課題】発生したガラスカレットを、吸引部に確実に吸引させることができるガラスカレットの除去装置、除去方法および基板分断装置を提供する。【解決手段】スクライブラインＬに沿ってガラス基板８０を分断した時に発生するガラスカレットＣを除去するガラスカレットの除去装置１において、スクライブラインＬに沿って配設され、真空吸引手段２２に連なると共にガラスカレットＣを吸引する吸引部１１と、吸引部１１の両外側に線対称となるように配設され、エアー供給手段２５に連なると共にガラス基板８０に吹き付けたエアーによりガラスカレットＣを吸引部１１に向かって吹き上げる一対の吹出し部１２，１２と、を備えたものである。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
分断ラインに沿ってガラス基板を分断する基板分断装置に設けられ、分断時に発生するガラスカレットを除去するガラスカレットの除去装置において、
前記分断ラインに沿って配設され、真空吸引手段に連なると共にガラスカレットを吸引する吸引部と、
前記吸引部の両外側に前記分断ラインを中心に線対称となるように配設され、気体供給手段に連なると共に前記ガラス基板に吹き付けた供給気体により前記ガラスカレットを前記吸引部に向かって吹き上げる一対の吹出し部と、を備えたことを特徴とするガラスカレットの除去装置。
【請求項２】
前記一対の吹出し部は、前記供給気体をそれぞれ前記分断ラインの手前近傍に斜めに吹き付けることを特徴とする請求項１に記載のガラスカレットの除去装置。
【請求項３】
前記吸引部は、前記分断ラインに沿って配設されたスリット吸引口および吸引口アレイのいずれか一方を、有していることを特徴とする請求項１または２に記載のガラスカレットの除去装置。
【請求項４】
前記各吹出し部は、前記分断ラインに平行に配設されたスリット吹出し口および吹出し口アレイのいずれか一方を、有していることを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載のガラスカレットの除去装置。
【請求項５】
前記吸引部および前記一対の吹出し部は、単一のノズルブロックに作り込まれていることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載のガラスカレットの除去装置。
【請求項６】
前記吸引部と前記真空吸引手段とを接続する吸引流路と、
前記吸引流路に介設した吸引バルブと、
前記一対の吹出し部と前記気体供給手段とを接続する気体供給流路と、
前記気体供給流路に介設した供給バルブと、
前記吸引バルブおよび前記供給バルブを制御する制御手段と、を更に備えたことを特徴とする請求項１ないし５のいずれかに記載のガラスカレットの除去装置。
【請求項７】
前記分断ラインの周囲雰囲気中におけるガラスカレットの有無を検出するカレット検出手段を、更に備え、
前記制御手段は、前記吸引バルブおよび前記供給バルブの開弁状態から、前記カレット検出手段が「無」を検出たところで、前記供給バルブおよび前記吸引バルブの順でこれらを閉弁することを特徴とする請求項６に記載のガラスカレットの除去装置。
【請求項８】
前記気体供給流路に、除電のために前記供給気体をイオン化するイオン化手段を、更に備えたことを特徴とする請求項６または７に記載のガラスカレットの除去装置。
【請求項９】
除電のために前記分断ラインの周囲雰囲気をイオン化するイオン化手段を、更に備えたことを特徴とする請求項１ないし７のいずれかに記載のガラスカレットの除去装置。
【請求項１０】
前記一対の吹出し部の両外側に配設され、前記ガラス基板を覆う整流板を、更に備えたことを特徴とする請求項１ないし９のいずれかに記載のガラスカレットの除去装置。
【請求項１１】
分断ラインに沿ってガラス基板を分断する際に発生する、ガラスカレットの除去方法であって、
前記分断ラインに沿って配設した吸引部からの気体吸引動作と、前記分断ラインを中心に線対称位置に配設した一対の吹出し部からの気体吹出し動作と、を同期させ、
前記気体吹出し動作で吹き上げたガラスカレットを気体吸引動作で吸引することを特徴とするガラスカレットの除去方法。
【請求項１２】
請求項１ないし１０のいずれかに記載のガラスカレットの除去装置を、備えたことを特徴とする基板分断装置。
【請求項１３】
請求項１ないし１０のいずれかに記載のガラスカレットの除去装置を、前記ガラス基板の上側空間および下側空間に一対、備えたことを特徴とする基板分断装置。
【請求項１４】
前記ガラス基板を分断することにより、前記ガラス基板からＴＦＴ液晶パネルを複数枚取りすることを特徴とする請求項１２または１３に記載の基板分断装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、分断ラインに沿ってガラス基板を分断する基板分断装置に設けられ、分断時に発生するガラスカレットを除去するガラスカレットの除去装置、ガラスカレットの除去方法および基板分断装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
この種のガラスカレットの除去装置として、スクライブラインに沿ってガラス基板をブレイクしたときに、発生したガラスカレットを吸引する吸引ノズルと、スクライブラインに向かってエアーを吹き付けるブローノズルと、を備えたものが知られている（例えば、特許文献１）。
この場合、吸引ノズルは、スクライブラインに沿ってその直上部に開口し、ブローノズルは、ガラス基板に対し３０°の角度でエアーを吹き付けるようになっており、これらノズルによる吸引動作と吹付け動作は同期して行なわれる。
【特許文献１】特開２００６−８９３２５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
このような、従来のガラスカレットの除去装置では、ブローノズルが３０°の角度でエアーを吹き付けるようになっているため、エアーの吹付け力が強すぎると、ガラスカレット混じりのエアーが吸引ノズルの直下を通り越して、ガラスカレットを飛散させてしまう問題があった。一方、ガラスカレット混じりのエアーを吸引ノズルに全て吸引させるべく、エアーの吹付け力が弱くすると、ガラス基板に付着したガラスカレットが、吹き飛ばされずにそのまま残ってしまう問題があった。
【０００４】
本発明は、ガラス基板の分断時に発生したガラスカレットを、吸引部に確実に吸引させることができるガラスカレットの除去装置、ガラスカレットの除去方法および基板分断装置を提供することを課題としている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明のガラスカレットの除去装置は、分断ラインに沿ってガラス基板を分断する基板分断装置に設けられ、分断時に発生するガラスカレットを除去するガラスカレットの除去装置において、分断ラインに沿って配設され、真空吸引手段に連なると共にガラスカレットを吸引する吸引部と、吸引部の両外側に分断ラインを中心に線対称となるように配設され、気体供給手段に連なると共にガラス基板に吹き付けた供給気体によりガラスカレットを吸引部に向かって吹き上げる一対の吹出し部と、を備えたことを特徴とする。
【０００６】
この構成によれば、吸引部の両外側に線対称となるように配設され一対の吹出し部により、発生したガラスカレットが吸引部に向かって吹き上げられると共に、吸引部により、吹き上げられたガラスカレットが吸引される。この場合、吹出し部から吹き出される供給気体は、分断ライン上で相互にぶつかりあう。このため、ガラスカレットが吹出し部の供給気体に載って飛び散ることがなく、ガラスカレットを吸引部に向かって吹き上げるよう作用する。したがって、一対の吹出し部からの供給気体を比較的強く吹き出させることができ、ガラス基板に付着しているガラスカレットもこれを吹き上げ、吸引部に確実に吸引させることができる。なお、「分断」とは、スクライブ後のブレイクおよびダイシング（切断）を含む概念であり、この除去装置はブレイク装置およびダイシング装置に適用可能である。また、供給気体として、空気の他、窒素や二酸化炭素等が考えられる。
【０００７】
この場合、一対の吹出し部は、供給気体をそれぞれ分断ラインの手前近傍に斜めに吹き付けることが、好ましい。
【０００８】
この構成によれば、一対の吹出し部から供給気体を斜めに吹き付けるようにしているため、より効率よくガラスカレットを吹き上げることができると共に、吸引部外へのガラスカレットの飛散を有効に防止することができる。
【０００９】
これらの場合、吸引部は、分断ラインに沿って配設されたスリット吸引口および吸引口アレイのいずれか一方を、有していることが好ましい。
【００１０】
この構成によれば、分断ラインの延在方向において、ガラスカレット（混じりの雰囲気）の吸引を均一に行なうことができる。
【００１１】
これらの場合、各吹出し部は、分断ラインに平行に配設されたスリット吹出し口および吹出し口アレイのいずれか一方を、有していることが好ましい。
【００１２】
この構成によれば、分断ラインの延在方向において、供給気体の吹き出しを均一に行なうことができる。なお、これら吹出し口の手前にマニホールド（チャンバ）を設けることが、より好ましい。
【００１３】
これらの場合、吸引部および一対の吹出し部は、単一のノズルブロックに作り込まれていることが、好ましい。
【００１４】
この構成によれば、吸引部廻りおよび一対の吹出し部廻りの構造を単純化することができると共に、吸引部および一対の吹出し部の相互の位置精度を高めることができる。
【００１５】
これらの場合、吸引部と真空吸引手段とを接続する吸引流路と、吸引流路に介設した吸引バルブと、一対の吹出し部と気体供給手段とを接続する気体供給流路と、気体供給流路に介設した供給バルブと、吸引バルブおよび供給バルブを制御する制御手段と、を更に備えることが好ましい。
【００１６】
この構成によれば、吸引バルブを介して吸引部におけるガラスカレットの吸引力（吸引流量）、および供給バルブを介して一対の吹出し部における供給気体の吹出し力（吹出し流量）を、適宜調整することができる。これにより、ガラスカレットの吹上げとガラスカレットの飛散防止とを、効率良く行なうことができる。
【００１７】
この場合、分断ラインの周囲雰囲気中におけるガラスカレットの有無を検出するカレット検出手段を、更に備え、制御手段は、吸引バルブおよび供給バルブの開弁状態から、カレット検出手段が「無」を検出たところで、供給バルブおよび吸引バルブの順でこれらを閉弁することが、好ましい。
【００１８】
この構成によれば、ガラスカレットの回収を確実に行なうことができると共に、ガラスカレット除去動作におけるタクトタイムを極力短縮することができる。
【００１９】
これらの場合、気体供給流路に、除電のために供給気体をイオン化するイオン化手段を、更に備えることが好ましい。
【００２０】
同様に、除電のために分断ラインの周囲雰囲気をイオン化するイオン化手段を、更に備えることが好ましい。
【００２１】
これらの構成によれば、イオン化手段によりガラス基板の静電気を除電することができるため、静電吸着によりガラス基板に付着しているガラスカレットを、簡単に吹き上げて回収（吸引）することができる。なお、イオン化手段として、イオナイザを用いることが好ましい。
【００２２】
これらの場合、一対の吹出し部の両外側に配設され、ガラス基板を覆う整流板を、更に備えることが好ましい。
【００２３】
この構成によれば、一対の吹出し部から吹き出された供給気体を、ガラスカレットと共に吸引部に円滑に流すことができ、ガラスカレットの吹き上げとガラスカレットの飛散防止とを、より一層、効率良く行なうことができる。なお、整流板は、一対の吹出し部から外側に延在する一対のもので構成してもよいし、一対の吹出し部および吸引部が臨む部分を開口とした単一のもので構成してもよい。
【００２４】
本発明のガラスカレットの除去方法は、分断ラインに沿ってガラス基板を分断する際に発生する、ガラスカレットの除去方法であって、分断ラインに沿って配設した吸引部からの気体吸引動作と、分断ラインを中心に線対称位置に配設した一対の吹出し部からの気体吹出し動作と、を同期させ、気体吹出し動作で吹き上げたガラスカレットを気体吸引動作で吸引することを特徴とする。
【００２５】
この構成によれば、吹出し部から吹き出される供給気体は、分断ライン上で相互にぶつかりあうため、ガラスカレットが吹出し部の供給気体に載って飛び散ることがなく、ガラスカレットを吸引部に向かって吹き上げるよう作用する。したがって、一対の吹出し部からの供給気体を比較的強く吹き出させることができ、ガラス基板に付着しているガラスカレットもこれを吹き上げ、吸引部に確実に吸引させることができる。
【００２６】
本発明の基板分断装置は、上記したガラスカレットの除去装置を、備えたことを特徴とする。
【００２７】
この構成によれば、ブレイクやダイシングにより生じたガラスカレットを、確実に回収することができ、ガラスカレットによるガラス基板の損傷を防止することができる。
【００２８】
本発明の他の基板分断装置は、上記したガラスカレットの除去装置を、ガラス基板の上側空間および下側空間に一対、備えたことを特徴とする。
【００２９】
この構成によれば、ブレイクやダイシングにより生じたガラスカレットを、より一層、確実に回収することができる。
【００３０】
この場合、ガラス基板を分断することにより、ガラス基板からＴＦＴ液晶パネルを複数枚取りすることが、好ましい。
【００３１】
この構成によれば、ガラス基板の分断時にガラスカレットを確実に除去することができるため、ガラスカレットのよりＴＦＴ（Thin Film Transistor）液晶パネルが傷つくことがなく、ＴＦＴ液晶パネルの歩留りを向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３２】
以下、添付の図面を参照しながら、本発明の一実施形態に係るガラスカレットの除去装置を適用した、ガラス基板のブレイク装置（基板分断装置）について説明する。このブレイク装置は、ガラス基板である円板状のＯＤＦ（One Drop Filling）マザー基板を、スクライブライン（分断ライン）に沿ってマトリクス状に分割（ブレイク）し、小型のＴＦＴ（Thin Film Transistor）液晶パネルを複数枚取りするものである。
【００３３】
図１に示すように、ＯＤＦマザー基板８０は、液晶を滴下したシール材８３を介して、複数のＴＦＴを半導体技術によりマトリクス状に作りこんだ石英ガラス製の円形のＴＦＴマザー基板８１と、石英ガラス製の円形の対向マザー基板８２と、を貼り合わせて構成されている。一方、スクライブラインＬに沿ってＯＤＦマザー基板８０から分割されたＴＦＴ液晶パネル９０は、シール材８３を介して、ＴＦＴ基板８５と対向基板８６とを貼り合わせた構成を有し、全体として方形に形成されている。そして、ＴＦＴ液晶パネル９０の構成した端子部８７にＦＰＣが接続されるようになっている。
【００３４】
図２に示すように、ブレイク装置１は、４本の支持脚２と、４本の支持脚２上に固定されたメインテーブル３と、メインテーブル３の端部に回動自在に取り付けられたサブテーブル４と、メインテーブル３に対しサブテーブル４を下方に回動させるエアーシリンダ５と、を備えると共に、メインテーブル３とサブテーブル４との境界部分の直上部に配設したガラスカレットの除去装置（以下、「カレット除去装置６」）６と、これら構成装置を統括制御する制御手段７（図３参照）と、を備えている。そして、ＯＤＦマザー基板８０は、スクライブラインＬを上記の境界部分に位置合せして、その被ブレイク側をメインテーブル３上に、ブレイク側をサブテーブル４上にセットされるようになっている。
【００３５】
メインテーブル３はいわゆる吸着テーブルであり、その表面には、後述する真空吸引手段２２に連なる多数の吸引孔（図示省略）が形成されている。同様に、サブテーブル４は吸着テーブルであり、その表面には、真空吸引手段２２に連なる多数の吸引孔（図示省略）が形成されている。ＯＤＦマザー基板８０は、そのスクライブラインＬを両テーブル３，４の境界線に位置合せして吸着セットされ、この状態でエアーシリンダ５により、サブテーブル４を所定の角度下方に回動させることにより、ブレイクされる。実際のブレイク作業では、縦横の一方のスクライブラインＬに沿って、ＯＤＦマザー基板８０を短冊状にブレイクし、この短冊状の各ＯＤＦマザー基板８０からＴＦＴ液晶パネル９０を１つずつブレイクする。
【００３６】
このように、ＯＤＦマザー基板８０を吸着した状態でブレイクするようにしているため、液晶ギャップが狂うことが無く且つＯＤＦマザー基板８０の表裏両面が傷つくことがない。なお、スクライブラインＬは、フェムト秒レーザによるＯＤＦマザー基板（ＴＦＴマザー基板８１および対向マザー基板８２）８０の改質や、物理的な溝形成により、形成されることが好ましい。
【００３７】
図２および図３に示すように、カレット除去装置６は、ＯＤＦマザー基板８０のブレイクにより生ずるガラスカレットＣを吸引・除去するものであり、ガラスカレットＣ混じりの雰囲気を吸引する吸引部１１およびＯＤＦマザー基板８０にエアー（供給気体）を吹き付ける一対の吹出し部１２，１２を作り込んだノズルブロック１０と、発生したガラスカレットＣを検出するカレット検出手段１３と、を備えている。
【００３８】
ノズルブロック１０の吸引部１１は、吸引配管（吸引流路）２１を介して真空吸引手段２２に接続され、各吹出し部１２は、エアー配管（気体供給流路）２４を介してエアー供給手段２５に接続されている。吸引配管２１には、エアーオペレートバルブ等で構成した吸引バルブ２７が介設され、同様にエアー配管２４には、エアーオペレートバルブ等で構成した供給バルブ２８が介設されている。また、吸引配管２１の下流部（真空吸引手段２２の手前）には、吸引したガラスカレットＣを回収するエアーフィルタ３１が介設されている。さらに、エアー配管２４の下流部（分岐部手前）には、供給するエアーをイオン化するイオナイザ（イオン化手段）３２が介設されている。
【００３９】
エアー供給手段２５から供給された圧縮エアーは、イオン化されエアー配管２４を介して両吹出し部１２，１２に流入し、両吹出し部１２，１２の先端からＯＤＦマザー基板８０のスクライブラインＬ近傍に吹き出される。一方、ＯＤＦマザー基板８０上に吹き出されたエアーは、発生したガラスカレットＣと混じり、吸引部１１から吸引配管２１を介してフィルタリングされた後、真空吸引手段２２に排気される。なお、真空吸引手段２２は、工場内の真空設備や真空ポンプ等で構成され、エアー供給手段２５は、工場内の圧縮エアー設備やブロワーやエアーボンベ等で構成されている。
【００４０】
ノズルブロック１０は、断面略逆台形形状のステンレス等で構成されおり、内部に、吸引部１１と一対の吹出し部１２，１２とが一体に形成されている。ノズルブロック１０の長さは、メインテーブル（サブテーブル４）３の幅と略同一となっており、ＯＤＦマザー基板８０における最大長のスクライブラインＬを吸引部１１や吹出し部１２がカバーできるようになっている。そして、吸引部１１は、メインテーブル３とサブテーブル４との境界線の直上部に位置してノズルブロック１０の中央（図示の左右中間位置）に形成され、一対の吹出し部１２，１２は、吸引部１１を挟むようにしてノズルブロック１０の両外側に形成されている。すなわち、吸引部１１は、その中心線がメインテーブル３とサブテーブル４との境界線と略合致する位置に、一対の吹出し部１２，１２は、境界線に対し線対称位置に、それぞれ配設されている。
【００４１】
吸引部１１は、スクライブラインＬに対峙するスリット吸引口３５と、スリット吸引口３５から垂直に延びる内部吸引流路３６から成り、このスリット吸引口３５および内部吸引流路３６は、最大長のスクライブラインＬに対応する長さ（奥行き）を有している。同様に、各吹出し部１２は、スクライブラインＬに対峙するスリット吹出し口３７と、スリット吹出し口３７から斜めに延びる内部吹出し流路３８から成り、このスリット吹出し口３７および内部吹出し流路３８は、最大長のスクライブラインＬに対応する長さ（奥行き）を有している。スリット吸引口３５と一対のスリット吹出し口３７，３７とは、ノズルブロック１０の下端面に開口し、内部吸引流路３６は上下鉛直方向に延在し、一対の内部吹出し流路３８，３８は上下方向に逆「ハ」字状（斜め）に延在している。
【００４２】
したがって、一対のスリット吹出し口３７，３７からのエアーは、ＯＤＦマザー基板８０のスクライブラインＬの手前近傍に向かって吹き出され、ＯＤＦマザー基板８０に当って上方に向かいスリット吸引口３５から吸引される。すなわち、一対のスリット吹出し口３７，３７からのエアーは、ＯＤＦマザー基板８０の表面に当って、ブレイクにより発生したガラスカレットＣをスリット吸引口３５に向かって吹き上げるように作用する。なお、スリット吸引口３５を、複数の吸引口を列設した吸引口アレイで構成してもよい。同様に、各スリット吹出し口３７を、複数の吹出し口を列設した吹出し口アレイで構成してもよい。また、内部吸引流路３６と吸引配管２１との間や、内部吹出し流路３８とエアー配管２４との間にそれぞれマニホールドを設け、吸引エアーおよび吹出しエアーの均一化を図るようにしてもよい。
【００４３】
カレット検出手段１３は、ＯＤＦマザー基板８０の上下に配設した透過型の一対の光センサ４１，４１から成り、各光センサ４１は、ブレイク位置を挟んで対向する発光素子４２と受光素子４３とにより構成されている。発光素子４２および受光素子４３は、上記の制御手段７に接続されており、発光素子４２の検出光が受光素子４３に達しない場合には、ガラスカレットＣの「有」が検出され、発光素子４２の検出光が受光素子４３に達した場合には、ガラスカレットＣの「無」が検出されるようになっている。なお、本実施形態では、透過型の光センサ４１を用いているが、反射型や乱反射型の光センサを用いるようにしてもよい。
【００４４】
ここで、上記の制御手段７によるブレイク装置１の制御方法を簡単に説明する。ＯＤＦマザー基板８０をメインテーブル３およびサブテーブル４に吸着セットした状態で、先ず吸引バルブ２７および供給バルブ２８を開弁すると共に、イオナイザ３２を駆動する。これにより、ＯＤＦマザー基板８０のブレイク位置（スクライブラインＬ廻り）に、両吹出し部１２，１２からエアーが吹き出され、且つ吹き出されエアーが吸引部１１に吸い込まれて、いわゆるエアーのシートサーキットが生じた状態となる。また、このエアー（イオン化エアー）を受けてＯＤＦマザー基板８０が除電された状態となり、且つ発生したガラスカレットＣが除電される。
【００４５】
続いて、エアーシリンダ５が駆動しサブテーブル４を回動させて、ＯＤＦマザー基板８０をブレイクする。ブレイクの瞬間に、ＯＤＦマザー基板８０の分断面からガラスカレットＣが発生し、ガラスカレットＣは、シートサーキットのエアー、およびブレイクにより生じたＯＤＦマザー基板８０の間隙を下側から流れるエアーに載って、吸引部１１に吸い込まれてゆく。一方、ガラスカレットＣの発生により「有」を検出している両光センサ４１，４１は、やがて吸引部１１にガラスカレットＣのほとんどが吸い込まれると、「無」を検出する。そして、両光センサ４１，４１が、いずれも「無」を検出したところで、供給バルブ２８が閉弁されると共にイオナイザ３２の駆動が停止し、最後に吸引バルブ２７が閉弁して、ブレイク動作を終了する。なお、制御手段７は、エアーの吹出し量と吸引量とがバランス（吹出し量より吸引量を十分に多くする）するように、開弁状態の吸引バルブ２７および供給バルブ２８の弁開度を制御している。
【００４６】
このように、吸引部１１の両側にそれぞれ吹出し部１２，１２を配置しているため、両吹出し部１２，１２から吹き出されるエアーは、スクライブラインＬ上で相互にぶつかって上昇する。すなわち、シートサーキットの状態が維持される。これにより、ガラスカレットＣがブレイク位置の外側の飛び散ることがなく、ガラスカレットＣを吸引部１１に確実に吸引させることができる。また、一対の吹出し部１２，１２からのエアーを比較的強く吹き出させることができるため、ＯＤＦマザー基板８０に付着しているガラスカレットＣも吹き上げられ、吸引部１１に確実に吸引させることができる。
【００４７】
次に、図４を参照して、第２実施形態に係るカレット除去装置６につき、第１実施形態と異なる部分について説明する。この実施形態では、ノズルブロック１０の両側に一対の整流板５１，５１が設けられ、且つ整流板５１とＯＤＦマザー基板８０との間隙にイオナイザ（イオン化手段）５２が配設されている。イオナイザ５２は、横向きに配設され、スクライブラインＬ廻りのエアーをイオン化し、ＯＤＦマザー基板８０やガラスカレットＣを除電する。
【００４８】
各整流板５１は、ノズルブロック１０の下端部位置からＯＤＦマザー基板８０に平行に延びており、吸引部１１に向かって流れるエアーに乱れが生じないようにしている。上述のようにエアーの吹出し量より吸引量を十分に多くするように制御しているため、スクライブラインＬ廻りのエアーは全体として、吸引部１１に吸い込まれるが、吹出し部１２のエアーの一部が乱れると、吸引部１１に吸い込まれないガラスカレットＣが生ずる可能性がある。この一対の整流板５１，５１により、ＯＤＦマザー基板８０の上側に接するエアーは、ＯＤＦマザー基板８０の上面を舐めるように円滑に流れ、ガラスカレットＣを伴って吸引部１１に吸い込まれる。なお、一対の整流板５１，５１を、ノズルブロック１０に向かって「ハ」字状に配設してもよい（図５参照）。また、一対の整流板１０，１０に代えて、上記のノズルブロック１０が臨む部分を開口とした単一の整流板を用いるようにしてもよい。
【００４９】
次に、図６を参照して、第３実施形態にかかるカレット除去装置６につき、第１実施形態と異なる部分について説明する。この実施形態では、第１実施形態または第２実施形態のカレット除去装置６の一対を、ＯＤＦマザー基板８０の上側空間および下側空間に配設した構成を有している。但しこの場合には、真空吸引手段２２やエアー供給手段２５は元より、カレット検出手段１３、制御手段７等の共有可能なものは共有することが、好ましい。このようにすれば、発生したガラスカレットＣを漏れなく吸引部に吸引することができる。
【００５０】
なお、ガラス基板によっては、エアーに代えて、窒素等の不活性ガスや二酸化炭素等を適宜用いるようにしてもよい。また、吸引部と一対の吹出し部とを別部材で構成するようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】ＯＤＦマザー基板（ａ）およびＴＦＴ液晶パネル（ｂ）の斜視図である。
【図２】本発明の第１実施形態に係るブレイク装置の全体斜視図である。
【図３】第１実施形態に係るカレット除去装置の模式図である。
【図４】第２実施形態に係るカレット除去装置の模式図である。
【図５】第２実施形態の変形例に係るカレット除去装置の模式図である。
【図６】第３実施形態に係るカレット除去装置の模式図である。
【符号の説明】
【００５２】
１  ブレイク装置、３  メインテーブル、４  サブテーブル、５  エアーシリンダ、６  カレット除去装置、７  制御手段、１０  ノズルブロック、１１  吸引部、１２  吹出し部、１３  カレット検出手段、２１  吸引配管、２２  真空吸引手段、２４  エアー配管、２５  エアー供給手段、２７  吸引バルブ、２８  供給バルブ、３２  イオナイザ、３５  スリット吸引口、３７  スリット吹出し口、４１  光センサ、５１  整流板、５２  イオナイザ、８０  ＯＤＦマザー基板、Ｃ  ガラスカレット、Ｌ  スクライブライン
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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