(57)【要約】      （修正有）【課題】走査デバイスがパルスビームに対し、同期精度を向上できる露光装置を提供する。【解決手段】露光装置は、照明光学系と、パターニング用デバイスと、基板テーブルと、投影光学系を備える。照明光学系は、ある第１振動数で動作する放射源から受けた放射ビームを調整する。パターニング用デバイスは、ビームにパターンを与える。基板テーブルは、基板を支持するとともに、ある走査速度で基板を走査する。投影光学系は、反射素子と、複数のフレクシュアとを含む走査デバイス（ＳＳＭ）を有する。複数のフレクシュアは、反射素子が回転軸周りで共振することを可能にするように構成されている。走査デバイスは、パターン付きビームが基板の目標領域をスキャンするように構成されている。走査デバイスの共振振動数は、第１振動数と実質的に同じ値であり、かつ走査速度と同期している。【選択図】図５
2008003608.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ある第１振動数で動作する放射源から受けた放射ビームを調整する照明光学系と、
前記ビームにパターンを与えるパターニング用デバイスと、
基板を支持するとともに、ある走査速度で基板を走査する基板テーブルと、
反射素子と、複数のフレクシュアとを含む走査デバイスを有する投影光学系であって、前記複数のフレクシュアは、前記反射素子が回転軸周りで共振できるように構成されており、前記走査デバイスは、パターン付きビームを基板の目標領域上に走査するように構成されている投影光学系と、
を備え、
前記走査デバイスの共振振動数は、前記第１振動数と実質的に同じ値であり、かつ前記走査速度と同期していることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記複数のフレクシュアは、各フレクシュアの中心面を通る軸が前記走査デバイスの回転軸と交差するように並べられており、前記回転軸は、前記走査デバイスの反射面に位置していることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記複数のフレクシュアは、鋼鉄、合金鋼、ベリリウム、ベリリウム合金、チタン、またはチタン合金で形成されていることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項４】
前記放射ビームは、前記反射素子に対して、略３０°から６０°の角度で入射することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項５】
前記反射素子は、細長い反射面を備えることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項６】
前記走査デバイスは、前記反射素子を第２振動数で前記回転軸周りで共振させるように構成された駆動システムをさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項７】
前記駆動システムは、
前記反射素子の両端に結合された第１および第２の磁石と、
相補的に位置された、交流信号を受ける第１および第２のコイルと、
を備えることを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
【請求項８】
前記複数のフレクシュアは、複数の曲線状または弓状のフレクシュアを備えており、前記複数のフレクシュアのそれぞれの中心面を通る軸は、前記反射素子の回転軸で実質的に交差することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項９】
前記走査デバイスは、反対向きに向けられた第１および第２の反射素子を有し、その各々がそれぞれが回転軸の１つを有しており、選択された反射素子の１つが、光学システム上にパターン付きビームをスキャンするために用いられることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記走査デバイスは、第１および第２の電磁石の組を有する駆動システムであって、それぞれの回転軸周りで前記第１および第２の反射素子を共振させるために、前記第１および第２の電磁石の組が交互に電圧を印加される駆動システムをさらに備えることを特徴とする請求項９に記載の露光装置。
【請求項１１】
前記走査デバイスの共振により生じた振動が実質的に除去されるように、前記走査デバイスは、アイソレーションマス・フレクシュアによって前記投影光学系に結合されていることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項１２】
前記反射素子に直接的に駆動力が印加されないように、前記走査デバイスは、一端が前記アイソレーションマスに結合され、他端が前記投影光学系に結合されたアクチュエータによって間接的に共振を励起され、これにより実質的に歪みが除去されることを特徴とする請求項１１に記載の露光装置。
【請求項１３】
前記反射素子および前記複数のフレクシュアは、モノリシック構造を備えることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項１４】
前記投影光学系は、光学系をさらに備えており、
前記走査デバイスは、前記光学系にパターン付きビームを走査するように構成されており、
前記光学系は、パターン付きビームを基板の目標領域に投影するよう構成されていることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項１５】
（ａ）ある第１振動数で放射ビームを発生させる工程と、
（ｂ）基板ステージを用いて、ある走査速度で基板を走査する工程と、
（ｃ）前記放射ビームをパターニングする工程と、
（ｄ）反射素子に結合されたフレクシュアを用いることにより、実質的に前記第１振動数で回転軸周りで走査ミラーの反射素子を共振させる工程と、
（ｅ）パターン付きビームが基板の目標部分に導かれるように、前記走査ミラーの走査を前記第１振動数と前記走査速度の両方に同期させる工程と、
を備えることを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項１６】
前記（ｄ）の工程は、前記回転軸と交わるフレクシュアの中心面を通る軸を有する直線状のフレクシュアを用いる工程を備えることを特徴とする請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記ステップ（ｄ）の工程は、前記回転軸で交わるフレクシュアの中心面を通る軸を有する曲線状または弓状のフレクシュアを用いる工程を備えることを特徴とする請求項１５に記載の方法。
【請求項１８】
基板の目標部分にパターン付きビームを投影するのに投影光学素子が利用されるように、前記工程（ｅ）の前に、パターン付き放射ビームは前記走査ミラーを用いることによって投影光学素子を走査されることを特徴とする請求項１５に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置およびデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
露光装置は、所望のパターンを基板または基板の一部に転写する機械である。露光装置はたとえばフラットパネルディスプレイや集積回路（ＩＣ）、微細構造を有する他のデバイスの製造に用いられる。通常はたとえばマスクまたはレチクルと称されるパターニング用デバイスを使用して、フラットパネルディスプレイ（または他のデバイス）の各層に対応した回路パターンを形成する。このパターンは、基板に塗布された照射感応材料（たとえばレジスト）層への像形成により基板（たとえばガラスプレート）の全体または一部に転写される。
【０００３】
パターニング手段を使用して、回路パターンではなく、たとえばカラーフィルタのパターンやドットのマトリックス状配列などの他のパターンを形成する場合もある。マスクに代えて、パターニング用デバイスは、それぞれ個別に制御可能である素子の配列（以下「個別制御可能素子アレイ」という場合もある）を備えるパターニングアレイを備えてもよい。このような方式では、マスクを使用する方式に比べて迅速かつ低コストにパターンを変更することができる。
【０００４】
フラットパネルディスプレイの基板は、通常長方形である。この種の基板を露光するための露光装置は、長方形基板の幅全体またはその一部（たとえば全幅の半分）をカバーする露光空間を有するように設計される。この露光空間の最下部で基板が走査されるとともに、マスク又はレチクルが基板の走査に同期してビームに対して走査される。このようにして基板にパターンが転写される。露光空間が基板の幅全体をカバーする場合には、１回の走査で露光が完了する。露光空間がたとえば基板の幅の半分をカバーする場合には、１回目の露光後に横方向に基板を移動させ、通常は基板の残りを露光するための走査をもう一度行う。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
一般的に、放射源がジッターを有する場合、パルスビームが所望の瞬間の前または後に発生する可能性がある。これにより、パターニング用デバイスと相互作用するパルスビームから形成されたパターン付き光ビームが、所望の目標部分の前または後ろで基板にパターンを形成してしまう。パルスビームの振動数と基板の走査速度の両方と同期する同期走査ミラーＳＳＭは、こうしたジッターを補償するために一般的に用いられてきた。同期走査ミラーを用いることによって、パターン付きビームを、走査基板テーブルにより支持された走査基板上の所望の目標位置に導くことができる。しかしながら、マスクレスリソグラフィにおいては、同期走査ミラーは、高い周波数（たとえば、６ｋＨｚ）で走査を行わねばならず、走査運動は純粋な回転運動でなければならず（小振幅、プラスマイナス１．２ｍｒａｄ）、回転軸は同期走査ミラーＳＳＭのアクティブ面に位置していなければならない。また、同期走査ミラーＳＳＭは、優れた光学的特性（すなわち、非常に平坦、約０．５ｎｍのオーダの平坦度）でなければならない。これは、同期走査ミラーＳＳＭにかなりの厚みを有することを要求し、結果として大質量となる。
【０００６】
従来の同期走査ミラーＳＳＭは、一般的に、小さいミラー歪みで純粋な回転の走査運動を行うことができなかった。力学的に、低い固有振動数の不要なモードの不可避な存在（たとえば、特定のシステムが振動する振動数の一つ）は、純粋な、歪みのない回転の実現を不可能にする。有効な１次モードよりも２倍高い固有振動数を有する２次モードは、面外トランスレーションとミラー歪みを引き起こす。さらに、製造可能性の観点からは、回転軸が同期走査ミラーＳＳＭの反射面上に位置するという要求は、反射面が別個の部品である場合を除き、研磨のために反射面にアクセスすることを困難なものとしている。別個の反射面とした場合、歪みを発生させず、かつ非常に高い走査周波数よりも低いモードを発生させずに反射面を取り付けることは、解決不可能な譲歩を与えることになる。
【０００７】
従って、より効果的な同期走査ミラーＳＳＭを可能とするシステムおよび方法が必要とされている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一実施形態では、照明光学系と、パターニング用デバイスと、基板テーブルと、投影光学系を備えた露光装置が提供される。照明光学系は、ある第１振動数で動作する放射源からの放射ビームを調整する。パターニング用デバイスは、ビームにパターンを与える。基板テーブルは、基板を支持するとともに、ある走査速度で基板を走査する。投影光学系は、反射素子と、複数のフレクシュア（ｆｌｅｘｕｒｅ）とを含む走査デバイスを有する。複数のフレクシュアは、反射素子が回転軸周りで共振することを可能にするように構成されている。走査デバイスは、パターン付きビームが基板の目標領域をスキャンするように構成されている。走査デバイスの共振振動数は、第１振動数と実質的に等しく、かつ走査速度と同期している。
【０００９】
本発明の別の実施形態では、以下の工程を含んだ方法が提供される。放射ビームは、ある第１振動数で発生される。基板は、基板ステージを用いて、ある走査速度で走査される。放射ビームは、パターンを付与される。走査ミラーの反射素子は、反射素子に結合されたフレクシュアを用いることにより、実質的に前記第１振動数で回転軸周りで共振される。パターン付きビームが基板の目標部分に導かれるように、走査ミラーの走査は、第１振動数と走査速度の両方に同期される。
【００１０】
本発明の更なる実施形態や特徴、効果は、本発明のさまざまな実施形態の構成及び作用とともに添付の図面を参照して以下に詳細に説明される。
【００１１】
添付の図面は、ここに組み込まれ、本明細書の一部を構成しているが、明細書と共に本発明を説明し、さらに、本発明の原理を説明し、当業者が本発明を利用するのに役立つものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本明細書は、本発明の特徴を組み込んだ一つ以上の実施形態を開示している。開示された実施形態は、単に本発明の例示に過ぎない。本発明の範囲は、開示された実施形態に限られない。本発明は、この文書に添付された特許請求の範囲によって定義される。
【００１３】
本明細書において「一実施形態」、「実施形態の一実施例」とは、説明した実施形態が特定のフィーチャ、構造、または特徴を含んでいてもよいことを表すが、すべての実施形態がその特定のフィーチャ、構造、または特徴を必ずしも含んでいるわけではない。さらにまた、上記のフレーズは必ずしも同じ実施形態を指すものではない。さらに、特定のフィーチャ、構造、または特徴を一実施形態に関して説明するとき、明示的に説明しようがしまいが、他の実施形態に関してそのような特定のフィーチャ、構造、または特徴を作用させることは、当業者の知識の範囲内であるとして理解すべきである。
【００１４】
本発明の実施形態は、ハードウェア、ファームウェア、ソフトウェア、またはそれらの組み合わせで実現されてもよい。本発明の実施形態は、また、一つ以上のプロセッサにより読み込まれ、実行されるコンピュータ読み取り可能媒体に記憶されたインストラクションとして実現されてもよい。コンピュータ読み取り可能媒体は、機械により読み取り可能な形式の情報を記憶または伝送するメカニズムを含んでもよい（たとえば、コンピュータデバイス）。たとえば、コンピュータ読み取り可能媒体は、読み出し専用メモリ（ＲＯＭ）；ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）；磁気ディスク記憶媒体；光記憶媒体；フラッシュメモリ装置；電気的、光学的、音響的またはその他の形式の伝搬信号などである。さらに、ファームウェア、ソフトウェア、ルーチン、インストラクションは、特定の動作を実行できるものとして、ここで説明されてもよい。しかしながら、このような説明は、単に便宜上のためだけであり、このような動作は、実際は、ファームウェア、ソフトウェア、ルーチン、インストラクションなどを実行するコンピュータデバイス、プロセッサ、コントローラ、その他のデバイスによって生じるものであると理解すべきである。
【００１５】
図１は、本発明の一実施形態に係る露光装置を模式的に示す図である。この装置は、照明光学系ＩＬ、パターニング用デバイスＰＤ、基板テーブルＷＴ、及び投影光学系ＰＳを備える。照明光学系（照明器）ＩＬは放射ビームＢ（たとえばＵＶ放射）を調整するよう構成されている。
【００１６】
基板テーブルＷＴは、基板（たとえばレジストが塗布された基板）Ｗを支持するよう構成されており、あるパラメータに従って基板を正確に位置決めする位置決め装置ＰＷに接続されている。
【００１７】
投影光学系（たとえば屈折投影レンズ光学系）ＰＳは、個別制御可能素子アレイにより変調された放射ビームを基板Ｗの（たとえば１つ又は複数のダイからなる）目標部分Ｃに投影するよう構成されている。本明細書では投影光学系または投影系という用語は、使用される露光光、あるいは液浸露光用液体や真空の利用などの他の要因に関して適切とされるいかなる投影光学系をも包含するよう広く解釈されるべきである。投影光学系にはたとえば屈折光学系、反射光学系、反射屈折光学系、磁気的光学系、電磁気的光学系、静電的光学系、またはこれらの任意の組み合わせなどが含まれる。以下では「投影レンズ」という用語は、より一般的な用語である投影光学系または投影系という用語と同義に用いられ得る。
【００１８】
投影光学系ＰＳは、たとえば、下記において説明する同期走査ミラー（ｓｙｎｃｈｒｏｎｏｕｓ  ｓｃａｎｎｉｎｇ  ｍｉｒｒｏｒ）ＳＳＭなどの動的要素を含んでもよい。同期走査ミラーＳＳＭは、機能するために、すなわち、同期走査ミラーの共振振動数を制御するために、放射源ＳＯから周波数信号Ｆを要求することができ、基板テーブルＷＴから速度信号ＳＶをスキャンすることができる。
【００１９】
照明光学系は、屈折光学素子、反射光学素子、磁気的光学素子、電磁気的光学素子、静電的光学素子、あるいは他の種類の光学素子などの各種の光学素子、またはこれらの組合せを含み、放射ビームの向きや形状、あるいは他の特性を制御するためのものである。
【００２０】
パターニング用デバイスＰＤ（たとえばレチクル、マスク、または個別制御可能素子アレイ）はビームを変調する。普通は個別制御可能素子アレイは投影光学系ＰＳに対して位置が固定されるが、あるパラメータに従って正確に位置決めする位置決め装置に接続されていてもよい。
【００２１】
本明細書において「パターニング用デバイス」または「コントラストデバイス」なる用語は、たとえば基板の目標部分にパターンを生成する等、放射ビーム断面を変調するのに用い得るいかなるデバイスをも示すよう広く解釈されるべきである。これらのデバイスは静的なパターニング用デバイス（たとえばマスクやレチクル）であってもよいし、動的なパターニング用デバイス（たとえばプログラム可能な素子の配列）であってもよい。簡単のために本説明のほとんどは動的パターニング用デバイスの観点でなされているが、本発明の範囲を逸脱することなく静的パターニング用デバイスを用いることも可能であるものと理解されたい。
【００２２】
放射ビームに付与されるパターンは、パターンが位相シフトフィーチャあるいはいわゆるアシストフィーチャをたとえば含む場合には基板の目標部分に所望されるパターンと厳密に一致していなくてもよい。また、基板に最終的に形成されるパターンは、個別制御可能素子アレイ上に形成されるパターンにどの時点においても一致しないようになっていてもよい。このような事態は、基板の各部に形成される最終的なパターンが所定時間または所定回数の露光の重ね合わせにより形成され、かつこの所定の露光中に個別制御可能素子アレイ上のパターン及び／またはアレイと基板との相対位置が変化する場合に起こりうる。
【００２３】
通常、基板の目標部分に生成されるパターンは、その目標部分に生成されるデバイスたとえば集積回路やフラットパネルディスプレイの特定の機能層に対応する（たとえばフラットパネルディスプレイのカラーフィルタ層や薄膜トランジスタ層）。パターニング用デバイスの例としては、レチクル、プログラマブルミラーアレイ、レーザダイオードアレイ、ＬＥＤアレイ、グレーティングライトバルブ、及びＬＣＤアレイなどがある。
【００２４】
電子的手段（たとえばコンピュータ）によりパターンをプログラム可能であるパターニング用デバイスは、たとえば複数のプログラム可能な素子を含むパターニング用デバイス（たとえば１つ前の文章に挙げたものではレチクルを除くすべてのものが該当する）であり、本明細書では総称して「コントラストデバイス」と呼ぶこととする。パターニング用デバイスは少なくとも１０個、少なくとも１００個、少なくとも１，０００個、少なくとも１０，０００個、少なくとも１００，０００個、少なくとも１，０００，０００個、または少なくとも１０，０００，０００個のプログラム可能な素子を備えてもよい。
【００２５】
プログラマブルミラーアレイは、粘弾性制御層と反射表面とを有するマトリックス状のアドレス指定可能な表面を備えてもよい。この装置の基本的な原理はたとえば、反射表面のうちアドレス指定されている区域が入射光を回折光として反射する一方、アドレス指定されていない区域が入射光を非回折光として反射するというものである。適当な空間フィルタを用いることにより、反射光ビームから非回折光を取り除いて回折光だけを基板に到達させるようにすることができる。このようにして、マトリックス状のアドレス指定可能表面にアドレス指定により形成されるパターンに従ってビームにパターンが付与される。
【００２６】
なお代替例として、フィルタにより回折光を取り除いて基板に非回折光を到達させるようにしてもよい。
【００２７】
同様にして回折光学ＭＥＭＳ（微小電気機械システム）デバイスを用いることもできる。一例としては、回折光学ＭＥＭＳデバイスは、入射光を回折光として反射する回折格子を形成するよう変形される複数の反射性のリボン状部位を備える。
【００２８】
プログラマブルミラーアレイの他の例においては、マトリックス状の微小ミラーの配列が用いられる。各微小ミラーは局所的に電界を適宜付与されることによりまたは圧電駆動手段を使用することにより各々が独立に軸周りに傾斜しうる。繰り返しになるが、ミラーはマトリックス状にアドレス指定可能に構成されており、アドレス指定されたミラーは入射する放射ビームをアドレス指定されていないミラーとは異なる方向に反射する。このようにしてマトリックス状のアドレス指定可能なミラーにより形成されるパターンに従って反射ビームにパターンが付与されうる。必要とされるマトリックス状アドレス指定は、適宜の電子的手段を使用して実行することができる。
【００２９】
パターニング用デバイスＰＤの他の例はプログラム可能なＬＣＤアレイである。
【００３０】
露光装置は１つ以上のコントラストデバイスを備えてもよい。たとえば、露光装置は、複数の個別制御可能素子アレイを有し、それぞれの素子が互いに独立に制御されるものであってもよい。この構成においては、個別制御可能素子アレイのうちのいくつかのアレイまたはすべてのアレイが少なくとも１つの照明光学系（または照明光学系の一部）を共有していてもよい。斯かるアレイは当該アレイ用の支持構造及び／または投影光学系（または投影光学系の一部）を共有していてもよい。
【００３１】
一実施例としては、図１に示される実施形態のように、基板Ｗは実質的に円形状である。基板Ｗは周縁部にノッチ及び／または平坦部を有していてもよい。他の実施例としては、基板はたとえば長方形などの多角形形状でもよい。
【００３２】
基板の形状が実質的に円形の場合、基板の直径は少なくとも２５ｍｍ、少なくとも５０ｍｍ、少なくとも７５ｍｍ、少なくとも１００ｍｍ、少なくとも１２５ｍｍ、少なくとも１５０ｍｍ、少なくとも１７５ｍｍ、少なくとも２００ｍｍ、少なくとも２５０ｍｍ、または少なくとも３００ｍｍである。あるいは、基板の直径は長くても５００ｍｍ、長くても４００ｍｍ、長くても３５０ｍｍ、長くても３００ｍｍ、長くても２５０ｍｍ、長くても２００ｍｍ、長くても１５０ｍｍ、長くても１００ｍｍ、または長くても７５ｍｍである。
【００３３】
基板がたとえば長方形などの多角形の場合、基板の少なくとも１辺の長さ、またはたとえば少なくとも２辺または少なくとも３辺の長さが、少なくとも５ｃｍ、少なくとも２５ｃｍ、少なくとも５０ｃｍ、少なくとも１００ｃｍ、少なくとも１５０ｃｍ、少なくとも２００ｃｍ、または少なくとも２５０ｃｍである。
【００３４】
基板の少なくとも１辺の長さは、長くても１０００ｃｍ、長くても７５０ｃｍ、長くても５００ｃｍ、長くても３５０ｃｍ、長くても２５０ｃｍ、長くても１５０ｃｍ、または長くても７５ｃｍである。
【００３５】
一実施例においては、基板Ｗはウエハであり、たとえば半導体ウエハである。ウエハの材料は、Ｓｉ（ケイ素）、ＳｉＧｅ（シリコンゲルマニウム）、ＳｉＧｅＣ（シリコンゲルマニウムカーボン）、ＳｉＣ(炭化ケイ素)、Ｇｅ（ゲルマニウム）、ＧａＡｓ(ガリウムヒ素)、ＩｎＰ（インジウムリン）、ＩｎＡｓ（インジウムヒ素）から成るグループから選択される。一実施例ではウエハはＩＩＩ−Ｖ族化合物半導体ウエハである。一実施例ではウエハはシリコンウエハである。一実施例では基板はセラミック基板である。一実施例では基板はガラス基板である。一実施例では基板はプラスチック基板である。一実施例では基板は（ヒトの裸眼で）透明である。一実施例では基板は有色である。一実施例では基板は無色である。
【００３６】
この基板の厚さは、基板材料及び／または基板寸法に応じてある程度変更される。基板の厚さは、少なくとも５０μｍ、少なくとも１００μｍ、少なくとも２００μｍ、少なくとも３００μｍ、少なくとも４００μｍ、少なくとも５００μｍ、または少なくとも６００μｍである。あるいは、基板の厚さは、厚くても５０００μｍ、たとえば厚くても３５００μｍ、厚くても２５００μｍ、厚くても１７５０μｍ、厚くても１２５０μｍ、厚くても１０００μｍ、厚くても８００μｍ、厚くても６００μｍ、厚くても５００μｍ、厚くても４００μｍ、または厚くても３００μｍである。
【００３７】
基板は露光前または露光後においてたとえばトラック（典型的にはレジスト層を基板に塗布し、露光後のレジストを現像する装置）、計測装置、及び／または検査装置により処理されてもよい。一実施例ではレジスト層が基板に設けられる。
【００３８】
投影系は、個別制御可能素子アレイにおけるパターンが基板上にコヒーレントに形成されるように当該パターンの像を形成する。これに代えて投影系は二次光源の像を形成してもよく、この場合個別制御可能素子アレイの各素子はシャッタとして動作してもよい。この場合には投影系は、たとえば二次光源を形成し基板上にスポット状に像形成するために、たとえばマイクロレンズアレイ（ｍｉｃｒｏ  ｌｅｎｓ  ａｒｒａｙ、ＭＬＡとして知られている）やフレネルレンズアレイなどの合焦用素子のアレイを含んでもよい。合焦用素子のアレイ（たとえばＭＬＡ）は少なくとも１０個、少なくとも１００個、少なくとも１，０００個、少なくとも１０，０００個、少なくとも１００，０００個、または少なくとも１，０００，０００個の合焦用素子を備えてもよい。
【００３９】
パターニング用デバイスにおける個別制御可能素子の数と合焦用素子のアレイにおける合焦用素子の数とは等しいか、あるいは、パターニング用デバイスにおける個別制御可能素子の数が合焦用素子のアレイにおける合焦用素子の数よりも多い。合焦用素子のアレイにおける１つ以上（たとえばたいていは各アレイにつき１０００以上）の合焦用素子は、個別制御可能素子アレイにおける１つ以上（たとえば２つ以上、または３つ以上、５つ以上、１０以上、２０以上、２５以上、３５以上、または５０以上）の個別制御可能素子に光学的に連関していてもよい。
【００４０】
ＭＬＡは、少なくとも基板に近づく方向及び遠ざかる方向にたとえば１以上のアクチュエータを用いて移動可能である。基板に近づく方向及び遠ざかる方向にＭＬＡを移動させることができる場合には、基板を動かすことなくたとえば焦点合わせをすることが可能となる。
【００４１】
図１及び図２に示されるように本装置は反射型（たとえば反射型の個別制御可能素子アレイを用いる）である。透過型（たとえば透過型の個別制御可能素子アレイを用いる）の装置を代替的に用いてもよい。
【００４２】
露光装置は２つ以上（２つの場合にはデュアルステージと呼ばれる）の基板テーブルを備えてもよい。このような多重ステージ型の装置においては、追加されたテーブルは並行して使用されるか、あるいは１以上のテーブルで露光が行われている間に１以上の他のテーブルで準備工程が実行されるようにしてもよい。
【００４３】
露光装置は、基板の少なくとも一部が「液浸露光用の液体」で覆われるものであってもよい。この液体は比較的高い屈折率を有するたとえば水などの液体であり、投影系と基板との間の空隙を満たす。液浸露光用の液体は、たとえばパターニング用デバイスと投影系との間などの露光装置の他の空間に適用されるものであってもよい。液浸技術は投影系の開口数を増大させる技術として周知である。本明細書では「液浸」という用語は、基板等の構造体が液体に完全に浸されているということを意味するのではなく、露光の際に投影系と基板との間に液体が存在するということを意味するに過ぎない。
【００４４】
図１に示されるように照明器ＩＬは放射源ＳＯから放射ビームを受け取る。放射源により、少なくとも５ｎｍ、少なくとも１０ｎｍ、少なくとも１１−１３ｎｍ、少なくとも５０ｎｍ、少なくとも１００ｎｍ、少なくとも１５０ｎｍ、少なくとも１７５ｎｍ、少なくとも２００ｎｍ、少なくとも２５０ｎｍ、少なくとも２７５ｎｍ、少なくとも３００ｎｍ、少なくとも３２５ｎｍ、少なくとも３５０ｎｍ、または少なくとも３６０ｎｍの波長を有する放射が供される。あるいは、放射源ＳＯにより供される放射は、長くても４５０ｎｍ、長くても４２５ｎｍ、長くても３７５ｎｍ、長くても３６０ｎｍ、長くても３２５ｎｍ、長くても２７５ｎｍ、長くても２５０ｎｍ、長くても２２５ｎｍ、長くても２００ｎｍ、または長くても１７５ｎｍの波長を有する。この放射は、４３６ｎｍ、４０５ｎｍ、３６５ｎｍ、３５５ｎｍ、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍ、及び／または１２６ｎｍの波長を含んでもよい。
【００４５】
たとえば光源がエキシマレーザである場合には、光源と露光装置とは別体であってもよい。この場合、光源は露光装置の一部を構成しているとはみなされなく、放射ビームは光源ＳＯから照明器ＩＬへとビーム搬送系ＢＤを介して受け渡される。ビーム搬送系ＢＤはたとえば適当な方向変更用ミラー及び／またはビームエキスパンダを含んで構成される。あるいは光源が水銀ランプである場合には、光源は露光装置に一体に構成されていてもよい。光源ＳＯと照明器ＩＬとは、またビーム搬送系ＢＤが必要とされる場合にはこれも合わせて、放射系と総称される。
【００４６】
照明器ＩＬは放射ビームの角強度分布を調整するためのアジャスタＡＤを備えてもよい。一般にはアジャスタＡＤにより、照明器の瞳面における強度分布の少なくとも半径方向外径及び／または内径（通常それぞれ「シグマ−アウタ（σ−ｏｕｔｅｒ）」、「シグマ−インナ（σ−ｉｎｎｅｒ）」と呼ばれる）が調整される。加えて照明器ＩＬは、インテグレータＩＮ及びコンデンサＣＯなどの他の要素を備えてもよい。照明器はビーム断面における所望の均一性及び強度分布を得るべく放射ビームを調整するために用いられる。照明器ＩＬ及び追加の関連構成要素は放射ビームを複数の分割ビームに分割するように構成されていてもよい。たとえば各分割ビームが個別制御可能素子アレイにおける１つまたは複数の個別制御可能素子に対応するように構成してもよい。放射ビームを分割ビームに分割するのにたとえば二次元の回折格子を用いてもよい。本明細書においては「放射ビーム」という用語は、放射ビームがこれらの複数の分割ビームを含むという状況も包含するが、これに限定されないものとする。
【００４７】
放射ビームＢは、パターニング用デバイスＰＤ（たとえば、個別制御可能素子アレイ）に入射して、当該パターニング用デバイスにより変調される。放射ビームはパターニング用デバイスＰＤにより反射され、投影系ＰＳを通過する。投影系ＰＳはビームを基板Ｗの目標部分Ｃに合焦させる。位置決め装置ＰＷと位置センサＩＦ（たとえば、干渉計、リニアエンコーダ、静電容量センサなど）により基板テーブルＷＴは正確に移動され、たとえば放射ビームＢの経路に異なる複数の目標部分Ｃをそれぞれ位置決めするように移動される。また、個別制御可能素子アレイ用の位置決め手段が設けられ、たとえば走査中にビームＢの経路に対してパターニング用デバイスＰＤの位置を正確に補正するために用いられてもよい。
【００４８】
一実施例においては、ロングストロークモジュール（粗い位置決め用）及びショートストロークモジュール（精細な位置決め用）により基板テーブルＷＴの移動を実現する。ロングストロークモジュール及びショートストロークモジュールは図１には明示されていない。一実施例では基板テーブルＷＴを移動させるためのショートストロークモジュールを省略してもよい。個別制御可能素子アレイを位置決めするためにも同様のシステムを用いることができる。必要な相対運動を実現するために、対象物テーブル及び／または個別制御可能素子アレイの位置を固定する一方、放射ビームＢを代替的にまたは追加的に移動可能としてもよいということも理解されよう。この構成は装置の大きさを小さくするのに役立ち得る。たとえばフラットパネルディスプレイの製造に適用可能な更なる代替例として、基板テーブルＷＴ及び投影系ＰＳを固定し、基板Ｗを基板テーブルＷＴに対して移動させるように構成してもよい。たとえば基板テーブルＷＴは、実質的に一定の速度で基板Ｗを走査させるための機構を備えてもよい。
【００４９】
図１に示されるように放射ビームＢはビームスプリッタＢＳによりパターニング用デバイスＰＤに向けられるようにしてもよい。このビームスプリッタＢＳは、放射ビームがまずビームスプリッタＢＳにより反射されてパターニング用デバイスＰＤに入射するように構成される。ビームスプリッタを使わずに放射ビームをパターニング用デバイスに入射させるようにすることもできる。放射ビームは０度から９０度の間の角度でパターニング用デバイスに入射する。またはたとえば５度から８５度の間、１５度から７５度の間、２５度から６５度の間、または３５度から５５度の間の角度であってもよい（図１には９０度の例が示されている）。パターニング用デバイスＰＤは放射ビームＢを変調し、再度ビームスプリッタＢＳに向かって戻るように放射ビームＢを反射する。ビームスプリッタＢＳは変調されたビームを投影系ＰＳへと伝達する。しかしながら放射ビームＢをパターニング用デバイスＰＤに入射させ、そのまま更に投影系ＰＳに入射させるという代替的な構成も可能であることも理解されよう。特に透過型のパターニング用デバイスが用いられる場合には図１に示される構成は必要とはされない。
【００５０】
図示の装置はいくつかのモードで使用することができる。
【００５１】
１．ステップモードにおいては、放射ビームに付与されたパターンの全体が１回の照射で目標部分Ｃに投影される間、個別制御可能素子アレイ及び基板は実質的に静止状態とされる（すなわち１回の静的な露光）。そして基板テーブルＷＴがＸ方向及び／またはＹ方向に移動されて、異なる目標部分Ｃが露光される。ステップモードでは露光フィールドの最大サイズによって、１回の静的露光で結像される目標部分Ｃの寸法が制限されることになる。
【００５２】
２．スキャンモードにおいては、放射ビームに付与されたパターンが目標部分Ｃに投影される間、個別制御可能素子アレイ及び基板は同期して走査される（すなわち１回の動的な露光）。個別制御可能素子アレイに対する基板の速度及び方向は、投影系ＰＳの拡大（縮小）特性及び像反転特性により定められる。スキャンモードでは露光フィールドの最大サイズが１回の動的露光での目標部分Ｃの（非走査方向の）幅を制限し、走査移動距離が目標部分の（走査方向の）長さを決定する。
【００５３】
３．パルスモードにおいては、個別制御可能素子アレイは実質的に静止状態とされ、パルス放射源により基板Ｗの目標部分Ｃにパターンの全体が投影される。基板テーブルＷＴが実質的に一定の速度で移動して、ビームＢは基板上を線状に走査させられる。個別制御可能素子アレイ上のパターンは放射系からのパルス間に必要に応じて更新される。パルス照射のタイミングは、基板上の複数の目標部分Ｃが連続して露光されるように調整される。その結果、基板上の１つの短冊状領域にパターンが完全に露光されるようビームＢにより基板Wが走査されることになる。この短冊状領域の露光を順次繰り返すことにより基板Ｗは完全に露光される。
【００５４】
４．連続スキャンモードは基本的にパルスモードと同様である。異なるのは、変調された放射ビームＢに対して基板Ｗが実質的に等速で走査され、ビームＢが基板Ｗ上を走査し露光しているときに個別制御可能素子アレイ上のパターンが更新されることである。個別制御可能素子アレイのパターンの更新に同期させるようにした、実質的に一定の放射源またはパルス放射源を用いることができる。
【００５５】
５．ピクセルグリッド結像モードでは、基板Ｗに形成されるパターンはスポット状の露光を連続的に行うことにより実現される。このモードは図２の露光装置を使用して実現することができる。このスポット状の露光はスポット発生器により形成され、スポット発生器はパターニング用デバイスＰＤに適切に方向付けられて配置されている。スポット状の露光はそれぞれ実質的に同形状である。基板Ｗ上には露光スポットにより最終的に実質的に格子が描かれる。一実施例では、このスポットの寸法は最終的に基板上に描かれる格子のピッチよりも大きいが、毎回の露光時に露光スポットが形成する格子の大きさよりもかなり小さい。転写されるスポットの強度を変化させることによりパターンが形成される。露光照射の合間に各スポットの強度分布が変更される。
【００５６】
上記で記載したモードを組み合わせて動作させてもよいし、モードに変更を加えて動作させてもよく、さらに全く別のモードで使用してもよい。
【００５７】
リソグラフィでは基板上のレジスト層にパターンが露光される。そしてレジストが現像される。続いて追加の処理工程が基板に施される。基板の各部分へのこれらの追加の処理工程の作用は、レジストへの露光の程度によって異なる。特にこの処理は、所与の線量閾値を超える照射量を受けた基板の部位が示す反応と、その閾値以下の照射量を受けた部位が示す反応とが異なるように調整されている。たとえば、エッチング工程においては上記の閾値を超える照射量を受けた基板上の区域は、レジスト層が現像されることによりエッチングから保護される。一方、この閾値以下の照射量を受けたレジストは露光後の現像工程で除去され、基板のその区域はエッチングから保護されない。このため、所望のパターンにエッチングがなされる。特に、パターニング用デバイス内の個別制御可能素子は、パターン図形内部となる基板上の区域での露光中の照射量が線量閾値を超えるように実質的に高強度であるように設定される。基板の他の領域は、ゼロまたはかなり低い放射強度を受けるように対応の個別制御可能素子が設定されることにより、線量閾値以下の放射を受ける。
【００５８】
実際には、パターン図形端部での照射量は所与の最大線量からゼロへと急激に変化するわけではない。この照射量は、たとえ図形の境界部分の一方の側への放射強度が最大となり、かつその図形境界部分の他方の側への放射強度が最小となるように個別制御可能素子が設定されていたとしても急激には変化しない。回折の影響により、照射量の大きさは移行領域を介して低下するからである。パターン図形の境界位置は最終的にレジストの現像により形成される。その境界位置は、照射された線量が閾値を下回る位置によって定められる。この移行領域での線量低下のプロファイル、ひいてはパターン図形の境界の正確な位置は、当該図形境界上または近傍に位置する基板上の各点に放射を与える個別制御可能素子の設定により、より正確に制御できるであろう。これは、強度レベルの最大値または最小値を制御するだけではなく、当該最大値及び最小値の間の強度レベルにも制御することによっても可能となるであろう。これは通常「グレイスケーリング」と呼ばれる。
【００５９】
グレイスケーリングによれば、個別制御可能素子により基板に２値の放射強度（つまり最大値と最小値）だけが与えられるリソグラフィーシステムよりも、パターン図形の境界位置の制御性を向上させることができる。少なくとも３種類、少なくとも４種類の放射強度、少なくとも８種類の放射強度、少なくとも１６種類の放射強度、少なくとも３２種類の放射強度、少なくとも６４種類の放射強度、少なくとも１２８種類の放射強度、または少なくとも２５６種類の放射強度が基板に投影されてもよい。
【００６０】
グレイスケーリングは上述の目的に加えてまたは上述の目的に代えて使用されてもよい。たとえば、照射された線量レベルに応じて基板の各領域が２種以上の反応を可能とするように、露光後の基板への処理が調整されていてもよい。たとえば、第１の線量閾値以下の放射を受けた基板の部位では第１の種類の反応が生じ、第１の線量閾値以上で第２の線量閾値以下の放射を受けた基板の部位では第２の種類の反応が生じ、第２の線量閾値以上の放射を受けた基板の部位では第３の種類の反応が生じるようにしてもよい。したがって、グレイスケーリングは、基板上での線量のプロファイルが２以上の望ましい線量レベルを有するようにするのに用いることができる。この線量プロファイルは少なくとも２つの所望の線量レベル、少なくとも３つの所望の線量レベル、少なくとも４つの所望の線量レベル、少なくとも６つの所望の線量レベル、または少なくとも８つの所望の線量レベルを有してもよい。
【００６１】
線量プロファイルの制御は、上述のように基板上の各点が受ける放射強度を単に制御するという方法以外の方法によっても可能である。たとえば、基板上の各点が受ける照射量は、各点への露光時間を代替的にまたは追加的に制御することによっても制御することができる。他の例として、基板上の各点は、連続的な複数の露光により放射を受けてもよい。このような連続的複数露光から一部の露光を選択して用いることにより代替的にまたは追加的に各点が受ける照射量を制御することが可能となる。
【００６２】
基板上に要求されるパターンを形成するために、露光処理中の各段階でパターニング用デバイスの各個別制御可能素子を必要な状態に設定する必要がある。よって、この必要状態を表す制御信号が各個別制御可能素子に伝達されなければならない。一実施例では、露光装置はこの制御信号を生成する制御部を含む。基板に形成されるべきパターンは、たとえばＧＤＳＩＩなどのベクトルで規定されるフォーマットで露光装置に供給されうる。デザイン情報を各個別制御可能素子用の制御信号に変換するために、制御部は、１つ以上のデータ処理装置を含む。各データ処理装置は、パターンを表すデータストリームに処理を施すように構成されている。データ処理装置は「データパス」とも総称される。
【００６３】
このデータパス及びデータ処理装置は、次に示す機能の１つ以上を実行するように構成されていてもよい。その機能とは、ベクトルベースのデザイン情報をビットマップのパターンデータに変換すること、ビットマップのパターンデータを必要とされる線量マップ（つまり基板上で必要とされる線量のプロファイル）に変換すること、必要とされる線量マップを各個別制御可能素子用の必要放射強度値に変換すること、及び、各個別制御可能素子用の必要放射強度値を対応する制御信号に変換することである。
【００６４】
図２は、本発明に係る露光装置の一例を示す図である。この実施例はたとえばフラットパネルディスプレイの製造に用いることができる。図１に示される構成要素に対応するものには図２においても同じ参照符号を付している。また、基板やコントラストデバイス、ＭＬＡ、放射ビームなどについてののさまざまな構成例などを含む上述のさまざまな変形例は同様に適用可能である。
【００６５】
図２に示されるように、投影系ＰＳは、２つのレンズＬ１、Ｌ２を備えるビームエキスパンダを含む。第１のレンズＬ１は、変調された放射ビームＢを受け、開口絞りＡＳの開口部で合焦させる。開口部には他のレンズＡＬを設けてもよい。そして放射ビームＢは発散し、第２のレンズＬ２（たとえばフィールドレンズ）により合焦させられる。
【００６６】
投影系ＰＳは、拡大された変調放射ビームＢを受けるように構成されているレンズアレイＭＬＡをさらに備える。変調放射ビームＢの異なる部分はそれぞれレンズアレイＭＬＡの異なるレンズＭＬを通過する。
この変調放射ビームＢの異なる部分はそれぞれ、パターニング用デバイスＰＤの１つ以上の個別制御可能素子に対応している。各レンズは変調放射ビームＢの各部分を基板Ｗ上の点に合焦させる。このようにして基板Ｗ上に照射スポットＳの配列が露光される。図示されているレンズアレイには８つのレンズ１４が示されているだけであるが、レンズアレイは数千のレンズを含んでもよい（パターニング用デバイスＰＤとして用いられる個別制御可能素子アレイについても同様である）。
【００６７】
図３は、本発明の一実施形態に係り、図２のシステムを用いて基板Ｗ上にどのようにパターンが生成されるのかを模式的に示す図である。図中の黒丸は、投影系ＰＳのレンズアレイＭＬＡによって基板に投影されるスポットＳの配列を示す。基板は、基板上での露光が進むにつれて投影系に対してＹ方向に移動する。図中の白丸は、基板上で既に露光されている露光スポットＳＥを示す。図示されるように投影系ＰＳのレンズアレイＭＬＡによって基板に投影された各スポットは基板上に露光スポット列Ｒを形成する。各スポットＳＥの露光により形成される露光スポット列Ｒがすべて合わさって、基板にパターンが完全に形成される。上述のようにこのような方式はよく「ピクセルグリッド結像」と称される。
【００６８】
照射スポットＳの配列が基板Ｗに対して角度θをなして配置されている様子が示されている（基板Ｗの端部はそれぞれＸ方向及びＹ方向に平行である）。これは、基板が走査方向（Ｙ方向）に移動するときに、各照射スポットが基板の異なる領域を通過するようにするためである。これにより、照射スポット１５の配列により基板の全領域がカバーされることになる。角度θは大きくても２０°、大きくても１０°、大きくても５°、大きくても３°、大きくても１°、大きくても０．５°、大きくても０．２５°、大きくても０．１０°、大きくても０．０５°、または大きくても０．０１°であってよい。あるいは、角度θは小さくても０．００１°である。
【００６９】
図４は、本発明の一実施形態において、どのようにしてフラットパネルディスプレイの基板Ｗ全体が複数の光学エンジンを用いて１回の走査で露光されるのかを模式的に示す図である。この例では照射スポットＳの配列ＳＡが８つの光学エンジン（図示せず）により形成される。光学エンジンはチェス盤のように２つの列Ｒ１、Ｒ２に配置されている。照射スポットの配列の端部が隣接の照射スポット配列の端部に（走査方向であるＹ方向において）少し重なるように形成される。一実施例では光学エンジンは少なくとも３列、たとえば４列または５列に配列される。このようにして、照射の帯が基板Ｗの幅を横切って延び、１回の走査で基板全体の露光が実現されることとなる。光学エンジンの数は適宜変更してもよい。一実施例では、光学エンジンの数は少なくとも１個、少なくとも２個、少なくとも４個、少なくとも８個、少なくとも１０個、少なくとも１２個、少なくとも１４個、または少なくとも１７個である。あるいは、光学エンジンの数は４０個未満、３０個未満または２０個未満である。
【００７０】
各光学エンジンは、上述の照明系ＩＬ、パターニング用デバイスＰＤ、及び投影系ＰＳを別個に備えてもよい。あるいは２個以上の光学エンジンが１以上の照明系、パターニング用デバイス、及び投影系の少なくとも一部を共有してもよい。
【００７１】
典型的な露光システム
図５は、同期走査ミラーＳＳＭを有する投影光学系ＰＳにパターン付きビームＰＢを導く反射型のパターニング用デバイスＰＤを示す。同じように、図６は、同期走査ミラーＳＳＭを有する投影光学系ＰＳにパターン付きビームを導く透過型のパターニング用デバイスＰＤを示す。両方の実施形態において、投影光学系ＰＳは、同期走査ミラーＳＳＭと、オプションの非点収差補正光学素子ＡＲと、少なくとも１つの投影光学素子（プロジェクションオプティック）ＰＯを備える。作動中、特定の瞬間の走査角に応じて、パターン付きビームＰＢは、同期走査ミラーＳＳＭを用いることによって非点収差補正光学素子ＡＲの異なる位置に走査される（破線で図示）。この非点収差補正光学素子ＡＲ上の入射位置は、パターン付きビームＰＢが投影光学素子ＰＯ上の何処に導かれ、そして次に、パターン付きビームＰＢが投影光学系ＰＳのどこから出射されるかを制御する（破線で図示）。さらに、パターン付きビームＰＢが投影光学系ＰＳの何処から出射されるかは、少なくとも部分的に、走査方向Ｄ（または反対方向）に走査している基板Ｗの走査位置（たとえば、走査速度ＳＶ）を知ることに基づいている。このようにして、パターン付きビームＰＢは、所望の目標位置Ｃで基板Ｗと相互作用することができる。
【００７２】
具体的には示していないが、同期走査ミラーＳＳＭは、下記に述べるように、投影光学系ＰＳのハウジングに連結、若しくは取り付けられている。
【００７３】
図５および図６に示すシステムにおいて、同期走査ミラーＳＳＭは、共振ミラーである。放射源ＳＯにより出射された短パルスを受けている間に、同期走査ミラーＳＳＭの瞬間角速度は、固定基準座標系で測定された投影像の速度が同じ固定基準座標系で測定された基板テーブルＷＴの速度と一致するように選択される。言い換えると、瞬間角速度は、移動する基板Ｗに対する投影像の速度がゼロとなるように、選択される。共振同期走査ミラーＳＳＭにおいて、ミラーの角偏向は正弦波状に変化し、位相は、偏向がゼロのときにほんのわずかの放射パルス（無視できるジッター）が同期走査ミラーＳＳＭに当たるように制御される。ゼロ偏向において角速度は最大であり、振動時間の振幅は角振動数と等しい。従って、ジッターが振動の周期に対して小さいとき（たとえば、６ｋＨｚで約５０ｎｓｅｃのジッターの場合、周期は約１６６マイクロ秒であり、この条件を満たしている）、振動の振幅を制御し、２πで割った角振動数を放射源ＳＯのパルス周波数に一致させることにより、出射された放射線を、正確な位置で基板Ｗに当てることができる。
【００７４】
上述したように、放射源ＳＯがジッターを有する場合、パルスビームが所望の瞬間の前または後に発生する可能性がある。これにより、パターン付き光ビームＰＢ（パターニング用デバイスＰＤと相互作用したパルスビームＢから形成される）が所望の目標位置Ｃの前または後ろで基板Ｗに到達してしまう可能性がある。しかしながら、本発明の実施形態に係る同期走査ミラーＳＳＭを用いることにより、放射源ＳＯでジッターが発生したときであっても、パターン付きビームＰＢは、走査基板テーブルＷＴにより支持される走査基板Ｗ状の所望の位置に導かれる。これは、同期走査ミラーＳＳＭと放射源ＳＯとの間の同期と、同期走査ミラーＳＳＭと基板テーブルＷＴ間の同期を維持することに基づいて達成される。これについては、下記においてさらに詳細に説明する。また、本明細書で説明するように、投影光学系ＰＳに外乱を生じさせることなく、同期させることができる。
【００７５】
さらに、高次の収差が基板ステージＷＴの不正確な移動によって測定される場合、これらの収差は、たとえば走査速度信号ＳＶとして、同期走査ミラーＳＳＭにフィードフォワードすることができる。基板ステージＷＴの実際の移動と同期することによって、同期走査ミラーＳＳＭは、これらの不正確を補償または補正でき、基板Ｗ上の所望の目標位置Ｃにパターンがプリントされることを可能とする。
【００７６】
図５は、放射ビームＢの入射角および反射角が角度αである反射型のパターニング用デバイスＰＤを示している。角度αは、約３０°であってよく、パターン付きビームＰＢを形成している。パターン付きビームＰＢは、投影光学系ＰＳの同期走査ミラーＳＳＭに対する入射角および反射角が角度βとなるように方向付けられる。角度βは、約３０°であってよい。一実施例では、パターン付きビームＰＢが投影光学系ＰＳの投影光学素子ＰＯ上に受光される前に、同期走査ミラーＳＳＭは、非点収差補正光学素子ＡＲに対する入射角および反射角が角度γとなるようにパターン付きビームＰＢを方向付ける。この角度γは、３０°であってよい。
【００７７】
図６は、パターン付きビームＰＢを形成するために放射ビームＢを変調する透過型のパターニング用デバイスＰＤを示している。たとえば、放射ビームは、パターニング用デバイスＰＤのパターニング面に対して垂直に入射される。パターン付きビームＰＢは、投影光学系ＰＳの同期走査ミラーＳＳＭに対する入射角および反射角が、角度βとなるように方向付けられる。この角度βは、約３０°であってよい。一実施例では、パターン付きビームＰＢが投影光学系ＰＳの投影光学素子ＰＯ上に受光される前に、同期走査ミラーＳＳＭは、非点収差補正光学素子ＡＲに対する入射角および反射角が角度γとなるようにパターン付きビームＰＢを方向付ける。この角度γは、約３０°であってよい。
【００７８】
図５および図６のシステムでは、等しくない反射角もまた用いることができ、および／または他の入射角および反射角も用いることができ、そのような別の手段もすべて本発明の範囲内と意図されることを理解されたい。
【００７９】
典型的な同期走査ミラーＳＳＭ  実施例１
図７は、同期走査ミラーＳＳＭ７の斜視図である。図８は、同期走査ミラーＳＳＭ７の側面図である。図９は、同期走査ミラーＳＳＭ７の上面図である。図１０は、同期走査ミラーＳＳＭ７の動作を説明するための斜視図である。同期走査ミラーＳＳＭ７は、反射素子７０２（たとえば、鏡面）と、複数のフレクシュア７０６−１から７０６−ｎ（たとえば、直線状または刃のようなフレクシュア）（ｎは、１より大きい整数であってよく、下記で説明する実施例では、ｎは９とする）。この構成において、フレクシュア７０６−１から７０６−ｎの長手方向の軸７０８−１から７０８−ｎの交点は、同期走査ミラーＳＳＭ７の回転軸Ｘに位置する。これは、反射素子７０２の表面７２０上である。言い換えると、フレクシュア７０６は、フレクシュア７０６のそれぞれの中心面が、反射素子７０２の回転軸Ｘに相当する共通の直線で交差するように配置される。反射素子７０２は、細長く、または楕円形として示されているが、当業者にとって知られるように、パターン付きビームＰＢ（図示せず）の形状、またはその他のパラメータに基づいて様々な形状を用いることが可能である。
【００８０】
フレクシュア７０６−１から７０６−ｎは、既知の剛性を有することができるが、名前が示すように、屈曲を許容する。フレクシュア７０６および反射素子７０２は、同種の材料、たとえば、鋼鉄、合金鋼、チタン、ベリリウムなどから形成されてもよく、または異なる材料から形成されてもよい。フレクシュア７０６を形成する材料は、小さい密度で高い剛性値を有し、材料は長い耐用年数を有することが望ましい。剛性は、フレクシュア７０６の厚みの三乗に反比例して変化することが知られている。フレクシュア７０６は、すべてが同じ厚みと長さを有することができるが、これは必要とされるものではない。それぞれのフレクシュア７０６の厚みと長さのトレランスのバリエーションは、用いられるフレクシュア７０６の数に反比例する。合成されたすべてのフレクシュア７０６の全体的な剛性は、反射素子７０２の慣性モーメントと併せて、同期走査ミラーＳＳＭ７の共振振動数を決定する。このように、個々のフレクシュア７０６は、さまざまな厚みを有することができる。ここでは９つのフレクシュア７０６が示されているが、いくつでも用いることが可能である。しかし、２つより多いことが望ましい。下記に説明するように、より高次の共振モードが無視できるように、より多くのフレクシュア７０６を用いることが望ましい。
【００８１】
図１１および図１２は、それぞれ、アイソレーションマス１１１０と駆動システム１２１２に結合された同期走査ミラーＳＳＭ７の斜視図と側面図である。さまざまな実施例において、ベース７０４は、アイソレーションマス１１１０の上面１１１３により形成することができ、またはアイソレーションマス１１１０の上面１１１３に連結することもできる。アイソレーションマス１１１０は、フレクシュア１１１６によって投影光学系ＰＳの表面１１１４に連結される。
【００８２】
同期走査ミラーＳＳＭ７が不安定になったとき、アイソレーションマス１１１０は、反力（たとえば、振動）を弱めまたは除去するために用いることができる。この反力は、同期走査ミラーＳＳＭ７の共振により、投影光学系ＰＳに外乱を与える可能性がある。同期走査ミラーＳＳＭ７の走査により生じた反力または振動が実質的に除去されなかった場合、これらは、投影光学系ＰＳの内部における望ましくない光学素子の移動につながる可能性がある。アイソレーションマス１１１０の共振振動数は、フレクシュア１１１６によって、同期走査ミラーＳＳＭ７の共振振動数よりも低いオーダとすることができる。この場合、アイソレーションマス１１１０は、機械的なローパスフィルタを構成する。たとえば、アイソレーションマス１１１０が１００Ｈｚで共振し、同期走査ミラーＳＳＭ７が６ｋＨｚで共振した場合、アイソレーションマス１１１０は、同期走査ミラーＳＳＭ７の共振を弱める。これにより、投影光学系ＰＳは、同期走査ミラーＳＳＭ７の共振から受ける振動または反力の量を大幅に減らすことができる。あるいは、図１１−１４のアイソレーションマスにフォースアクチュエータと加速時計を接続することにより、投影光学系ＰＳに伝達される振動をさらに減衰させることができる。これは、動的なアイソレーションシステムを構成し、このシステムでは、アクチュエータは、検出したアイソレーションマスの振動と位相をずらす力を与える。
【００８３】
図１２に示すように、駆動システム１２１２は、第１のアクチュエータ１２１４Ａと１２１４Ｂのセットと、第２のアクチュエータ１２１６Ａと１２１６Ｂのセットを含む動作システムを含むことができる。駆動システム１２１２は、コイルと磁石、リニアー、その他の当業者にとって明らかなタイプであってよいが、これらに限定されない。作動力により、アクチュエータ要素１２１６Ａと１２１６Ｂの一方が交互に、アクチュエータ要素１２１４Ａと１２１４Ｂにより引きつけられる（引かれる）または押し戻される（押される）。これは、順々に、同期走査ミラーＳＳＭ７を回転軸Ｘ周りで移動させる。たとえば、これは、放射源ＳＯ（図示せず；図１および２を参照）のパルス振動数と一致させるために、１秒間に６０００回、すなわち６ｋＨｚで発生することができる。
【００８４】
たとえば、コイルと磁石のシステムでは、駆動コイル１２１４（１２１４Ａおよび１２１４Ｂ）は、アイソレーションマス１１１０に埋め込むか結合することができ、駆動磁石１２１６（１２１６Ａおよび１２１６Ｂ）は、同期走査ミラーＳＳＭ７に埋め込むか結合することができる。または、その逆も同様である。
【００８５】
あるいは、ベース１１１４に結合されたコイルは、（コイル１２１４と磁石１２１６の代わりに）マス１１１０に接続された磁石に作用することができる。このコイルは、同期走査ミラーＳＳＭの共振振動数で駆動され、マス１１１０の小振幅の振動運動を生じさせる。この運動は、より大きな振幅で同期走査ミラーＳＳＭの共振を励起する。この同期走査ミラーＳＳＭを駆動する間接的な方法は、ミラー表面近傍のどこかに力を印加する必要がないので、実質的にミラー歪みの原因を除去している。間接的な駆動システムとの関連で、マス１１１０は（アイソレーションマスよりもむしろ）リアクションマスと称される。
【００８６】
あるいは、圧電駆動システム、マグノレストリクティブ（ｍａｇｎｏｒｅｓｔｒｉｃｔｉｖｅ）駆動システム、またはその他の構成の駆動システムが本発明の範囲から逸脱することなく使用することができる。たとえば、フレクシュア７０６は、圧電材料で形成されてもよく、これは、所望の振動数で共振するために膨張したり収縮したりすることを可能とする。
【００８７】
完全に反射素子７０２の後ろにフレクシュア７０６を配置することにより、モノリシック構造であるにもかかわらず、研磨のために、反射素子７０２の前面にアクセスすることができる。
【００８８】
多数の薄いフレクシュア７０６を用いることは、高次の固有モードから所望の固有モードを動的に分離することを可能とする（たとえば、不要なモードの固有振動数をより高くさせ、その結果、このモードが駆動振動数に対して応答しなくなる）。駆動振動数に対する高次モードの固有振動数の比が十倍増加すると、高次の不要なモードの応答は百分の一に減少する。システムは、第１の不要な高次モードが駆動振動数の少なくとも３倍以上高い固有振動数を有するように、設計されてもよい。このフレクシュア構造では、所望の固有モードは、基本（最も低い振動数の）固有モードである。次の固有モードは、面内の回転に比較的害がなく、その振動数は、基本振動数の約３倍である。走査軸Ｘに直交する軸についての面外の回転は、さらに高次のモードであり、基本振動数の約４倍の固有振動数である。同期走査ミラーＳＳＭ７が、基本振動数（６ｋＨｚ）またはその近傍の振動数の正弦波のトルクまたは力入力により駆動されるとき、それらのさらに高い固有振動数により、所望の走査モードの大きな増幅と全てのその他のモードの大きな減衰が存在する。これは、走査軸Ｘに関して、かなりの程度まで近似した所望の純粋な回転運動を生じる。
【００８９】
少しの厚いフレクシュアに代えて多くの薄いフレクシュア７０６を用いることにより、所望の走査モードにおいて、フレクシュア７０６は、両端が堅く拘束された梁（ビーム）と同じように大部分が曲がることができる。この梁のような振る舞いにおいて、曲げ剛性はフレクシュアの厚みの３倍に比例して増加することが知られている。直交する、高次の不要な面外モードにおいて、フレクシュア７０６は、大部分が軸方向の張力圧縮部材として機能する。フレクシュア７０６の片面が伸張している間にもう片面は収縮し、これは周期を通じて交互に繰り返される。この振る舞いにおいて、軸方向の剛性は、フレクシュア７０６の厚みに対して直線的に増加することが知られている。たとえば、それぞれのフレクシュア７０６の厚みを１／２に減少させ、フレクシュア７０６の数を８倍に増加させることにより、基本モードの固有振動数（梁に似たフレクシュアの振る舞いにより支配される）は同じままである。不要な高次モードの固有振動数（軸方向の張力圧縮フレクシュアの振る舞いに支配される）は、４倍に増加する。
【００９０】
多くのフレクシュア７０６を用いるその他の理由は、共振時にミラーに印加される動的力の総量は、どれだけのフレクシュア７０６が用いられるかにかかわらず同じであるが、それぞれのフレクシュア７０６により印加される力の量は、およそ、全動的力をフレクシュア７０６の数で割ったものとなる、ということである。それゆえ、多くのフレクシュア７０６が用いられるとき、それぞれのフレクシュア７０６により印加される力は非常に小さく、全体の力は非常に均一に分配され、ミラーの歪みを大いに減少させる傾向にある。
【００９１】
図１３および図１４は、それぞれ、図１１および図１２に示したものと同様の同期走査ミラーＳＳＭ７の、追加的なアイソレーションマス１３１８を含んだ一実施形態の斜視図と側面図を示している。これは、追加的なアイソレーションマス（若しくは、システムの駆動方式に応じてリアクションマス）１３１８は、投影光学系ＰＳ（図示せず）における反力や振動をさらに低減または除去するために用いられる（または、共振時における同期走査ミラーＳＳＭの運動の所定の振幅を励起するために必要とされる基礎運動（グラウンドモーション）の振幅を減らすために用いられる）。
【００９２】
一実施例において、ベースプレート７０４と、フレクシュア７０６と、反射素子７０２は、１つの金属ブロックから形成することができる。この実施例において、反射素子７０２が厚くても、このフレクシュアデザインの剛性は、６ｋＨｚでの共振動作、または所望であればさらに高い共振動作を可能とする。たとえば、ワイアＥＤＭ（ｗｉｒｅ−Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌ  Ｄｉｓｃｈａｒｇｅ  Ｍａｃｈｉｎｉｎｇ）プロセスを用いることにより１つの金属ブロックから製造すれば、要求される厳しいトレランスを手頃な価格でもたらすことができる。また、モノリシック構造とすることにより、内部減衰が最小化される。これは、同期走査ミラーＳＳＭ７を駆動するのに必要とされるパワーを最小化する。さらに、異種材料の取り付け（たとえば、ガラスミラー７０２を金属のベースプレート７０４に取り付ける）に伴う問題は回避される。異種材料間の熱膨張が異なるために、取付方式は、ミラーを歪ませないようにパーツ間の十分な整合性を必要とする。
【００９３】
実施例２
図１５および図１６は、それぞれ、同期走査ミラーＳＳＭ１５の別の実施形態の上面図と斜視図である。図１７は、図１５および図１６の同期走査ミラーＳＳＭ１５の動作を説明するための図である。同期走査ミラーＳＳＭ１５は、第１および第２の反射素子１５０２Ａおよび１５０２Ｂを含み、反射面１５２０Ａおよび１５２０Ｂ（図１６参照）をそれぞれ有しており、フレクシュア１５０６−１から１５０６−ｎ（たとえば、弓状若しくは曲線状のフレクシュア）により互いに結合されている。実質的に直線状のフレクシュア７０６とは対称的に、フレクシュア１５０６は曲線状のフレクシュアである。さらにまた、上述の同期走査ミラーＳＳＭ７と同様に、同期走査ミラーＳＳＭ１５はフレクシュア１５０６の端部がそれぞれのミラー１５０２Ａと１５０２Ｂの回転軸Ｘの方向を向くように設計されている。回転軸Ｘは、アクティブ面１５２０Ａおよび１５２０Ｂの平面内に位置する。
【００９４】
同期走査ミラーＳＳＭ１５は、投影光学系ＰＳ（図示せず）に、孔部１５２２Ａおよび１５２２Ｂを通って伸びる機械的な結合装置（図示せず；図１８を参照）により結合される。図１７に示されるように、孔部１５２２Ａおよび１５２２Ｂは、ノード軸３および４を通って伸びている。ノード軸３および４は、基本モードにおいて動きを示さない軸である。基本モードとは、下記において説明する同期走査ミラーＳＳＭ１５の走査モードである。この実施例では、反射素子１５０２の１つだけが、入射してくるパターン付きビームの走査に用いられ、一方、他方の反射素子１５０２は下記に説明するようにバランスのために用いられている。このカウンターバランスを用いることにより、この実施例ではアイソレーションマスは必要とされない。
【００９５】
図１８は、同期走査ミラーＳＳＭ１５のための、それぞれ円筒型およびフラット型の空気ベアリング組立体１８２２および１８２４と、駆動システム１８１２（１８１２Ａから１８１２Ｄ）を示している。円筒型の空気ベアリング組立体１８２４Ａおよび１８２４Ｂは、それぞれ孔部１５２２Ａおよび１５２２Ｂを通ってそれぞれフラット型の空気ベアリング若しくはプレート１８２６Ａおよび１８２６Ｂに連結される。この２つの平面的な空気ベアリング１８２６Ａおよび１８２６Ｂ並びに２つの円筒型の空気ベアリング組立体１８２４Ａおよび１８２４Ｂは、大きな剛体運動を抑制し、かつ基本モード以外の振動モードを抑制するために用いられる。
【００９６】
駆動システム１８１２では、４つの電磁アクチュエータ１８１２Ａ〜１８１２Ｄの対向する斜めの組は、以下に説明するように、交互に同期走査ミラーＳＳＭ１５を引っ張るために用いられる。たとえば、アクチュエータ１８１２Ａと１８１２Ｃの第１組が引っ張り、そして第１組と１８０°位相がずれてアクチュエータ１８１２Ｂと１８１２Ｄの第２組が引っ張ることができる。これは、同期走査ミラーＳＳＭ１５を刺激して、反射素子１５０２Ａおよび１５０２Ｂのそれぞれの面１５２０Ａおよび１５２０Ｂ上のそれぞれの回転軸Ｘ周りで共振させる。引っ張るのではなく押すアクチュエータでも同じことができること、そして、力が２倍になれば対向したアクチュエータの１組のみで十分であることは、本明細書を読んだ当業者はすぐに理解するであろう。すべてのこれらの別の手段は、本発明の範囲内であると意図されている。
【００９７】
一実施例では、反射素子１５０２Ａの反射面１５２０Ａは、入射するパターン付きビームＰＢ（図示せず）を走査するために用いられる。その一方で、カウンターバランスの反射素子１５２０Ｂの反射面１５２０Ｂは、共振デバイスの位置と位相を測定するセンサ（たとえば、キャパシタンスゲージ）のターゲットとして用いられる。
【００９８】
上述したように、その他の駆動システムもまた用いることができることは、本明細書を読んで理解した当業者にとって明らかであることを理解されたい。
【００９９】
一実施例では、バランス同期走査ミラーＳＳＭ１５のその基本（最小）共振モードにおける動特性により、同期走査ミラーＳＳＭ１５が鋼鉄で形成されていると仮定した場合、基本モードの固有振動数を６ｋＨｚよりも若干高くすることができる。しかしながら、上述したように、他の材料もまた用いることが可能である。このモードでは、同期走査ミラーＳＳＭ１５の歪みは、完全に面内（ｉｎ−ｐｌａｎｅ）である。たとえば、これは図１７に示されている。図１７に示された同期走査ミラーＳＳＭ１５は、完全にフリー（非拘束）であり、５つのノード軸を示している（各ポイントの変位が元来ゼロであるライン）。ノード軸１および２は、平面１５２０Ａおよび１５２０Ｂのそれぞれの所望の回転軸Ｘと一致している。ノード軸５は、マスの中心を通っており、同期走査ミラーＳＳＭ１５が動的にバランスが取れる条件を満足している。ノード軸３および４は、それぞれ孔部１５２２Ａおよび１５２２Ｂの中心線と一致している。同期走査ミラーＳＳＭ１５が、マスの中心を通る水平および垂直中心面に対して対称であるとき、ノード１および２は、水平中心面上に位置し、ノード３および４は、垂直中心面上に位置する。
【０１００】
また、対称性を保ちながら各フレクシュア１５０６の曲率を調整することにより、垂直中心面からのノード軸１および２の距離を、これらのノード軸がそれぞれミラー面１５２０Ａおよび１５２０Ｂ上に位置するまで調整できる。
【０１０１】
また、対称性を保ちながら水平中心面までの孔部１５２２Ａおよび１５２２Ｂの距離を調整することにより、ノード軸３および４が、それぞれ孔部１５２２Ａおよび１５２２Ｂの中心線と一致するようにできる。
【０１０２】
内側のフレクシュア１５０６−２から１５０６−８は、このモードの固有振動数を上げて、面外剛性に貢献するために用いられてもよい。また、内側のフレクシュア１５０６−２から１５０６−８は、動的負荷をより均等に分配することにより、反射素子１５０２Ａおよび１５０２Ｂの背部のストレスを引く状態に保つのに貢献してもよい。これにより、反射素子１５０２Ａおよび１５０２Ｂの平坦度を向上することができる。
【０１０３】
実施例において高圧の空気が平面空気ベアリング１８２６Ａと１８２６Ｂとの間に導入されたとき、同期走査ミラーＳＳＭ１５の両側の平坦面に薄いが空気膜が発生される。空気ベアリング組立体１８２６Ａおよび１８２６Ｂの使用は、ａ）高い有効剛性と、ｂ）不要なモードを減衰させる効果的な手段の提供とを可能とする。空気ベアリング組立体１８２６Ａおよび１８２６Ｂで発生する減衰現象は、一般に「スクイーズフィルムダンピング」と呼ばれており、これは、空気膜の厚みの三乗に反比例して変化することができる。
【０１０４】
それぞれの円筒型の空気ベアリング組立体１８２４Ａおよび１８２４Ｂは、組立体１８２４Ａおよび１８２４Ｂが孔部１５２２Ａおよび１５２２Ｂと平行になるようにして、プレート１８２６Ａおよび１８２６Ｂのそれぞれの両端に結合されている。これは、現場でエポキシ樹脂で接着するか、またはフレクシュアを用いてプレート上の表面に取り付けるモーメント解放シャフト（図示せず）を用意することにより、達成することができる。
【０１０５】
ベアリング組立体１８２４Ａおよび１８２４Ｂにおける小孔（図示せず）は、組立体１８２４Ａおよび１８２４Ｂとの間に高圧の空気を導入するために用いてもよい。この高圧の空気は、組立体１８２４Ａおよび１８２４Ｂとの間に薄い空気膜をつくる。孔部１５２２Ａおよび１５２２Ｂのそれぞれは、円筒型の静圧空気ベアリングを形成する。
【０１０６】
同期走査ミラーＳＳＭ１５の基本モードを励起するために、対角線上で対向した電磁アクチュエータ１８１２の２組（たとえば、１８１２Ａ／１８１２Ｃのアクチュエータの組と、１８１２Ｂ／１８１２Ｄのアクチュエータの組）を用いることができる。各組は、一致して駆動される２つのアクチュエータを備える。同期走査ミラーＳＳＭ１５がたとえば鋼鉄などの磁気材料で形成されている場合、アクチュエータ１８１２は、たとえば、リラクタンスアクチュエータ、電磁石などであってよく、外側のフレクシュア１５０６−１および１５０６−ｎにけん引力を及ぼす。対角線上で対向した組は、互いに対して１８０°位相がずれて駆動される。同期走査ミラーＳＳＭ１５を励起するのに用いられる大きさが等しく方向が反対の力の組は相殺されるので、支持構造に与えられる正味の反力は存在しない（すなわち、投影光学系ＰＳに伝達される機械的な振動はない）。
【０１０７】
金属のモノリシックブロックで形成され、空気により摩擦のない状態で支持された同期走査ミラーＳＳＭ１５は、高いＱ値（たとえば、減衰係数）を有するので、ミラー面１５２０Ａおよび１５２０Ｂの小さい角偏向（１．２ミリラジアン）を達成するためには、比較的小さい駆動力で十分である。一実施例では、同期走査ミラーＳＳＭ１５は、ワイアＥＤＭプロセスを用いて単一の金属ブロックから製造されるが、これは、要求される厳しいトレランスを手頃な価格でもたらすことができる。また、モノリシックとすることによって、内部減衰が最小化され、これは、同期走査ミラーＳＳＭ１５を駆動するのに必要とされるパワーを最小化する。
【０１０８】
完全にミラー１５０２Ａおよび１５０２Ｂの裏側にフレクシュア１５０６を配置することにより、研磨のためにミラー１５０２Ａおよび１５０２Ｂの前面にアクセスすることができる。
【０１０９】
また、同期走査ミラーＳＳＭ１５の動的なバランスと、投影光学系ＰＳに伝達される、結果的にゼロとなる正味の駆動力とが、この同期走査ミラーＳＳＭの好ましい構成を作り出す。
【０１１０】
典型的なオペレーション
図１９は、方法１９００を表すフローチャートを示す。たとえば、方法１９００は、図１−１８を用いて上述したシステムの一つを用いて実現することができる。ステップ１９０２では、放射ビームがある第１振動数で生成される。ステップ１９０４では、基板ステージを用いて、ある走査速度で基板が走査される。ステップ１９０６では、放射ビームにパターンが付与される。ステップ１９０８では、走査ミラーの反射素子は、反射素子に結合されたフレクシュアを用いることにより、回転軸周りで実質的に第１振動数で共振される。オプショナルステップ１９１０では、パターン付き放射ビームは、走査ミラーを用いることにより投影光学素子上に走査される。ステップ１９１２では、走査ミラーの走査が、パターン付きビームが基板の目標部分に導かれるように、第１振動数と走査速度の両方に同期される。
【０１１１】
本説明においては露光装置の用途を特定の装置（例えば集積回路やフラットパネルディスプレイ）の製造としているが、ここでの露光装置は他の用途にも適用することが可能であるものと理解されたい。他の用途としては、集積回路や光集積回路システム、磁区メモリ用ガイダンスおよび検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッド、微小電気機械素子（ＭＥＭＳ）、ＬＥＤなどの製造に用いることが可能であり、これらに限られない。また、例えばフラットパネルディスプレイに関しては、本発明に係る装置は、例えば薄膜トランジスタ層及び／またはカラーフィルター層などのさまざまな層の製造に用いることができる。
【０１１２】
ここでは特に光学的なリソグラフィーを本発明に係る実施形態に適用したものを例として説明しているが、本発明は例えばインプリントリソグラフィーなど文脈が許す限り他にも適用可能であり、光学的なリソグラフィーに限られるものではない。インプリントリソグラフィーでは、パターニング用デバイスのトポグラフィーが基板に生成されるパターンを決める。パターニング用デバイスのトポグラフィーが基板に塗布されているレジスト層に押し付けられ、電磁放射や熱、圧力、あるいはこれらの組み合わせによってレジストが硬化される。レジストが硬化されてから、パターニング用デバイスは、パターンが生成されたレジストから外されて外部に移動される。
【０１１３】
結語
本発明の種々の実施例を上に記載したが、それらはあくまでも例示であって、それらに限定されるものではない。本発明の精神と範囲に反することなく種々に変更することができるということは、関連技術の当業者には明らかなことである。本発明の範囲と精神は上記で述べた例示に限定されるものではなく、請求項とその均等物によってのみ定義されるものである。
【０１１４】
「課題を解決する手段」及び「要約書」の項ではなく「発明の詳細な説明」の項が請求項を解釈するのに使用されるように意図されている。「課題を解決する手段」及び「要約書」の欄は本発明者が考えた本発明の実施例の１つ以上を示すものであるが、すべてを説明するものではない。よって、本発明及び請求項をいかなる形にも限定するものではない。
【図面の簡単な説明】
【０１１５】
【図１】本発明の各実施形態に係る露光装置を示す図である。
【図２】本発明の各実施形態に係る露光装置を示す図である。
【図３】図２に示される本発明の一実施形態により基板にパターンを転写する１つのモードを示す図である。
【図４】本発明の一実施形態に係る光学エンジンの配置を示す図である。
【図５】同期走査ミラーＳＳＭを有する投影光学系にパターン付きビームを導く反射型のパターニング用デバイスを示す図である。
【図６】同期走査ミラーＳＳＭを有する投影光学系にパターン付きビームを導く透過型のパターニング用デバイスを示す図である。
【図７】同期走査ミラーＳＳＭの斜視図である。
【図８】同期走査ミラーＳＳＭの側面図である。
【図９】同期走査ミラーＳＳＭの上面図である。
【図１０】同期走査ミラーＳＳＭの動作を説明するための斜視図である。
【図１１】アイソレーションマスと駆動システムに結合された同期走査ミラーＳＳＭの斜視図である。
【図１２】アイソレーションマスと駆動システムに結合された同期走査ミラーＳＳＭの側面図である。
【図１３】追加的なアイソレーションマスを含んだ図１１および図１２の同期走査ミラーＳＳＭの構成の斜視図である。
【図１４】追加的なアイソレーションマスを含んだ図１１および図１２の同期走査ミラーＳＳＭの構成の側面図である。
【図１５】同期走査ミラーＳＳＭの別の実施形態の上面図である。
【図１６】同期走査ミラーＳＳＭの別の実施形態の斜視図である。
【図１７】図１５および図１６の同期走査ミラーＳＳＭの動作を説明するための図である。
【図１８】図１５、１６および１７の同期走査ミラーＳＳＭのための、組立体と駆動システムを示す図である。
【図１９】本発明に係る方法を表すフローチャートを示す図である。
【符号の説明】
【０１１６】
７０２、１５０２  反射素子、  ７０４  ベースプレート、  ７０６、１１１６、１５０６  フレクシュア、  １１１０、１３１８  アイソレーションマス、  １２１２  駆動システム、  １８１２  電磁アクチュエータ、  １８２２  空気ベアリング組立体、１８２６  平面空気ベアリング組立体、  Ｂ  放射ビーム、  Ｃ  目標部分、  ＩＬ  照明光学系、  ＰＤ  パターニング用デバイス、  ＰＳ  投影光学系、  ＳＯ  放射源、  Ｗ  基板、  ＷＴ  基板テーブル。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【外国語明細書】
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