(57)【要約】【課題】  本発明は、レチクルを収納するレチクルカバー、レチクルカバーを収容するアウターケースおよび露光装置に関し、レチクルのパターン面にゴミが付着することを従来より大幅に低減することを目的とする。【解決手段】  下カバー部材の上面に、前記上面から所定間隔を置いてレチクルのパターン面を対向載置する載置部を配置してなるレチクルカバーにおいて、前記下カバー部材の上面に、前記レチクルの前記パターン面に近接して対向する近接突部を形成してなることを特徴とする。また、前記レチクルのパターン面と前記接近突部との間隔が１０から２００マイクロ・メータの範囲内にあることを特徴とする。【選択図】      図１
2008096652.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下カバー部材の上面に、前記上面から所定間隔を置いてレチクルのパターン面を対向載置する載置部を配置してなるレチクルカバーにおいて、
前記下カバー部材の上面に、前記レチクルの前記パターン面に近接して対向する近接突部を形成してなることを特徴とするレチクルカバー。
【請求項２】
請求項１記載のレチクルカバーにおいて、
前記接近突部と載置部との高さの差が１０から２００マイクロ・メータの範囲内にあることを特徴とするレチクルカバー。
【請求項３】
請求項２に記載のレチクルカバーにおいて、
前記近接突部は、平面状に形成され、前記レチクルの前記パターン面の過半の面積領域にて前記範囲内にあることを特徴とするレチクルカバー。
【請求項４】
請求項１ないし請求項３のいずれか１項記載のレチクルカバーにおいて、
前記レチクルの上面を覆う上カバー部材を有することを特徴とするレチクルカバー。
【請求項５】
請求項１ないし請求項４のいずれか１項記載のレチクルカバーにおいて、
前記載置部は、前記レチクルの前記パターン面の外周となる位置に配置され、
前記近接突部は、前記載置部の内側に形成されていることを特徴とするレチクルカバー。
【請求項６】
下カバー部材の上面に、前記上面から所定間隔を置いてレチクルのパターン面を対向載置する載置部を配置してなるレチクルカバーにおいて、
前記レチクルの前記パターン面の外周部の少なくとも一部は、前記レチクルカバー部材の上面との間で所定間隔を空けて空間を保つことを特徴とするレチクルカバー。
【請求項７】
請求項６記載のレチクルカバーにおいて、
前記上面と前記載置部との高さの差が１０から２００マイクロ・メータの範囲内にあることを特徴とするレチクルカバー。
【請求項８】
請求項６または請求項７に記載のレチクルカバーにおいて、
前記下カバー部材と前記上面の外周部は、上カバー部材と当接することを特徴とするレチクルカバー。
【請求項９】
請求項８に記載のレチクルカバーにおいて、
前記下カバー部材の前記上面と、前記上カバー部材との間には、シール部材を配置したことを特徴とするレチクルカバー。
【請求項１０】
請求項１ないし請求項９のいずれか１項記載のレチクルカバーにおいて、
前記レチクルの前記パターン面に対向して、接触防止ピンを配置したことを特徴とするレチクルカバー。
【請求項１１】
請求項４ないし請求項１０のいずれか１項記載のレチクルカバーにおいて、
前記上カバー部材の内側に着脱可能に板部材を配置し、前記板部材に、前記レチクルを前記載置部側に押圧する複数の板バネを一体形成してなることを特徴とするレチクルカバー。
【請求項１２】
請求項１ないし請求項１１のいずれか１項記載のレチクルカバーを収容して保護するアウターケースにおいて、
前記レチクルカバーを収容する蓋部材とベース部材とを有することを特徴とするアウターケース。
【請求項１３】
請求項１２記載のアウターケースにおいて、
前記ベース部材に、前記レチクルカバーを搬送して前記ベース部材に装填する搬送部材の位置決めを行う位置決め突起を形成してなることを特徴とするアウターケース。
【請求項１４】
請求項１２または請求項１３記載のアウターケースにおいて、
前記蓋部材に、前記レチクルカバーの上面近傍に延在する移動阻止片を配置してなることを特徴とするアウターケース。
【請求項１５】
レチクルをレチクルステージに固定するチャックと、前記レチクルを用いて露光作業を行う投影光学系とを備えた露光装置において、
下カバー部材の上面に、前記上面から所定間隔を置いてレチクルのパターン面を対向載置するための載置部を設け、前記レチクルのパターン面の外周直下に挿入させる落下防止部材を備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項１６】
請求項１５記載の露光装置において、
前記上面と前記載置部との高さの差は１０から２００マイクロ・メータの範囲にあることを特徴とする露光装置。
【請求項１７】
請求項１６記載の露光装置において、
前記落下防止部材は爪状の部材であることを特徴とする露光装置。
【請求項１８】
レチクルをチャックに固定する固定ステップと、
下カバー部材の上面に、前記上面から所定間隔を置いてレチクルのパターン面を対向載置するための載置部を設け、前記レチクルのパターン面の外周直下に落下防止部材を挿入させる挿入ステップと、
前記下カバーを前記レチクルから取り外す取外しステップと、
前記レチクルを用いて露光作業を行う露光ステップと、
を有することを特徴とする露光方法。
【請求項１９】
請求項１８記載の露光方法において、
前記上面と前記載置部との高さの差は１０から２００マイクロ・メータの範囲にあることを特徴とする露光方法。
【請求項２０】
請求項１８に記載の露光方法において、
前記落下防止部材は爪状の部材であることを特徴とする露光方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レチクルを収納するレチクルカバー、レチクルカバーを収容するアウターケースおよび露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、上カバー部材と下カバー部材とからなるレチクルカバー内にレチクルを収容し、レチクルを保護することが行われている。
【特許文献１】特開２００５−１２９９５９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、従来のレチクルカバーでは、下カバー部材に設けられた載置部の上面にレチクルを載置しているため、レチクルの挿脱の繰り返し、あるいは、振動等により、レチクルと載置部との接触部分が擦れて微細なゴミ(汚染物)が発生し易く、レチクルのパターン面にゴミが付着し、露光工程での欠陥を生み易いという問題があった。特にペリクルを使用できないＥＵＶＬ露光用レチクルでは、パターン面にゴミが付着し易いため大きな問題となる。
【０００４】
本発明は、かかる従来の問題を解決するためになされたもので、レチクルのパターン面にゴミが付着することを従来より大幅に低減することができるレチクルカバー、このレチクルカバーを収容するアウターケースおよび露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
第１の発明のレチクルカバーは、下カバー部材の上面に、前記上面から所定間隔を置いてレチクルのパターン面を対向載置する載置部を配置してなるレチクルカバーにおいて、前記下カバー部材の上面に、前記レチクルの前記パターン面に近接して対向する近接突部を形成してなることを特徴とする。
第２の発明のレチクルカバーは、第１の発明のレチクルカバーにおいて、前記レチクルのパターン面と前記接近突部との間隔が１０から２００マイクロ・メータの範囲内にあることを特徴とする。
【０００６】
第３の発明のレチクルカバーは、第２の発明のレチクルカバーにおいて、前記近接突部は、平面状に形成され、前記レチクルの前記パターン面の過半の面積領域にて前記範囲内にあることを特徴とする。
第４の発明のレチクルカバーは、第１ないし第３のいずれか１の発明のレチクルカバーにおいて、前記レチクルの上面を覆う上カバー部材を有することを特徴とする。
【０００７】
第５の発明のレチクルカバーは、第１ないし第４のいずれか１の発明のレチクルカバーにおいて、前記載置部は、前記レチクルの前記パターン面の外周となる位置に配置され、前記近接突部は、前記載置部の内側に形成されていることを特徴とする。
第６の発明のレチクルカバーは、下カバー部材の上面に、前記上面から所定間隔を置いてレチクルのパターン面を対向載置する載置部を配置してなるレチクルカバーにおいて、前記レチクルの前記パターン面の外周部の少なくとも一部は、前記レチクルカバー部材の上面との間で所定間隔を空けて空間を保つことを特徴とする。
【０００８】
第７の発明のレチクルカバーは、第６の発明のレチクルカバーにおいて、前記上面と前記載置部との高さの差が１０から２００マイクロ・メータの範囲内にあることを特徴とする。
第８の発明のレチクルカバーは第６の発明または第７の発明のレチクルカバーにおいて、前記下カバー部材と前記上面の外周部は、上カバー部材と当接することを特徴とする。
【０００９】
第９の発明のレチクルカバーは、第８の発明のレチクルカバーにおいて、前記下カバー部材の前記上面と、前記上カバー部材との間には、シール部材を配置したことを特徴とする。
第１０の発明のレチクルカバーは、第１ないし第９のいずれか１の発明のレチクルカバーにおいて、前記レチクルの前記パターン面に対向して、接触防止ピンを配置したことを特徴とする。
【００１０】
第１１の発明のレチクルカバーは、第４ないし第１０のいずれか１の発明のレチクルカバーにおいて、  前記上カバー部材の内側に着脱可能に板部材を配置し、前記板部材に、前記レチクルを前記載置部側に押圧する複数の板バネを一体形成してなることを特徴とする。
第１２の発明のアウターケースは、第１ないし第１１のいずれか１の発明のレチクルカバーを収容して保護するアウターケースにおいて、前記レチクルカバーを収容する蓋部材とベース部材とを有することを特徴とする。
【００１１】
第１３の発明のアウターケースは、第１２の発明のアウターケースにおいて、前記ベース部材に、前記レチクルカバーを搬送して前記ベース部材に装填する搬送部材の位置決めを行う位置決め突起を形成してなることを特徴とする。
第１４の発明のアウターケースは、第１２または第１３の発明のアウターケースにおいて前記蓋部材に、前記レチクルカバーの上面近傍に延在する移動阻止片を配置してなることを特徴とする。
【００１２】
第１５の発明の露光装置は、レチクルをレチクルステージに固定するチャックと、前記レチクルを用いて露光作業を行う投影光学系とを備えた露光装置において、下カバー部材の上面に、前記上面から所定間隔を置いてレチクルのパターン面を対向載置するための載置部を設け、前記レチクルのパターン面の外周直下に挿入させる落下防止部材を備えたことを特徴とする。
【００１３】
第１６の発明の露光装置は、第１５の発明の露光装置において、前記上面と前記載置部との高さの差は１０から２００マイクロ・メータの範囲にあることを特徴とする。
第１７の発明の露光装置は、第１６の発明の露光装置において、前記落下防止部材は爪状の部材であることを特徴とする。
第１８の発明の露光方法は、レチクルをチャックに固定する固定ステップと、下カバー部材の上面に、前記上面から所定間隔を置いてレチクルのパターン面を対向載置するための載置部を設け、前記レチクルのパターン面の外周直下に落下防止部材を挿入させる挿入ステップと、前記下カバーを前記レチクルから取り外す取外しステップと、前記レチクルを用いて露光作業を行う露光ステップと、を有することを特徴とする。
【００１４】
第１９の発明の露光方法は、第１８の発明の露光方法において、前記上面と前記載置部との高さの差は１０から２００マイクロ・メータの範囲にあることを特徴とする。
第２０の発明の露光方法は、第１８の発明の露光方法において、前記落下防止部材は爪状の部材であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１５】
本発明では、レチクルのパターン面にゴミが付着することを従来より大幅に低減することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明の実施形態を図面を用いて詳細に説明する。
(第１の実施形態)
図１および図２は、本発明のレチクルカバーの実施形態を示している。
レチクルカバー１１は、下カバー部材１３と上カバー部材１５とを有している。下カバー部材１３および上カバー部材１５は、図２に示すように正方形形状とされている。下カバー部材１３と上カバー部材１５との間には、図１に示すようにＥＵＶＬ露光用のレチクル１７が収納される。上カバー部材１５は上面部１５ａと側面部１５ｂを有する断面コ字状とされている。上カバー部材１５の側面部１５ｂの下端は、下カバー部材１３の外周部の上面に載置されている。これによりレチクルカバー１１内にゴミが入り込みにくくなる。この実施形態では、レチクルカバー１１には、クリーンフィルタポッド(ＣＦＰ)が使用されている。
【００１７】
図３および図４は、レチクルカバー１１の下カバー部材１３を示している。下カバー部材１３の上面の四隅には、レチクルカバー１１内に収容されるレチクル１７が大きく移動することを防止するズレ防止ピン１９がそれぞれ１対ずつ配置されている。また、レチクル１７を載置する載置部２１が３箇所配置されている。載置部２１はズレ防止ピン１９より高さを低くされている。載置部２１は、下カバー部材１３の図の右側の隅部のズレ防止ピン１９の内側となる位置に２箇所配置されている。また、下カバー部材１３の図の左側の中央に１箇所配置されている。そして、載置部２１が配置されない下カバー部材１３の図の左側の隅部の２箇所には、ズレ防止ピン１９の内側となる位置にレチクル１７の倒れを防止する接触防止ピン２３が配置されている。この接触防止ピン２３は載置部２１の高さより若干低くされている。これにより、レチクル１７は３箇所の載置部２１にのみ載置される。
【００１８】
３箇所の載置部２１の高さは同一の高さとされている。従って、図１に示すように、３箇所の載置部２１にレチクル１７の露光パターンが形成されるパターン面(下面)１７ａを載置すると、下カバー部材１３の上面１３ａから所定間隔(例えば２ｍｍ)を置いてレチクル１７のパターン面１７ａが位置される。
そして、この実施形態では、下カバー部材１３の上面１３ａには、レチクル１７のパターン面１７ａの近傍に接近して対向する近接突部１３ｂが一体形成されている。この近接突部１３ｂは、図４に示すように載置部２１および接触防止ピン２３の内側に正方形状に形成されている。近接突部１３ｂの上面１３ｃは平面状に形成され、図１に示すようにレチクル１７のパターン面１７ａに沿って所定間隔を置いて延在されている。この所定間隔は、好ましくは１０から２００マイクロ・メータであり、より好ましくは１０から１００マイクロ・メータである。更に好ましくは、１０から５０マイクロ・メータである。近接突部１３ｂの上面１３ｃは、この所定間隔を空けてレチクルパターン面１７ａと対向するが、上面１３ｃの全面が必ず対向する必要があるわけではなく、できるだけ大きな面積が対向する方が望ましい。
【００１９】
上述したレチクルカバー１１は、露光装置に配置される真空雰囲気のＣＦＰオープナ(不図示)内において、上カバー部材１５と下カバー部材１３とが分離される。そして、図５に示すように、分離された下カバー部材１３が、載置部２１にレチクル１７を載置した状態で、搬送アーム２５によりレチクルステージ２７に搬送される。そして、レチクル１７を静電チャック２９の吸着面２９ａに吸着した後に、下カバー部材１３のみがＣＦＰオープナ(不図示)に戻され一連の露光が行われる。そして、一連の露光の終了後に、搬送アーム２５により下カバー部材１３をレチクル１７の下方に搬送し、静電チャック２９からレチクル１７を離脱することにより下カバー部材１３の載置部２１にレチクル１７が載置される。そして、レチクル１７が下カバー部材１３とともにＣＦＰオープナに搬送され、ＣＦＰオープナにおいて下カバー部材１３に上カバー部材１５が装着される。
【００２０】
上述したレチクルカバー１１では、下カバー部材１３の上面１３ａに、レチクル１７のパターン面１７ａの近傍に延在する近接突部１３ｂを一体形成したので、下カバー部材１３の載置部２１にレチクル１７を載置している状態では、レチクル１７のパターン面１７ａが近接突部１３ｂにより微小間隙を置いて覆われる。従って、下カバー部材１３の載置部２１にレチクル１７を載置している状態では、レチクル１７のパターン面１７ａと近接突部１３ｂとの間に微細なゴミ(汚染物)が侵入することが効果的に防止される。これにより、レチクル１７のパターン面１７ａにゴミが付着することを従来より大幅に低減することができる。
(第２の実施形態)
図６は、本発明のレチクルカバー１１の他の実施形態を示している。なお、この実施形態において第１の実施形態と同一の要素には、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
【００２１】
この実施形態では、上カバー部材１５の内側に着脱可能に板部材３１が配置されている。そして、板部材３１には、レチクル１７を載置部２１側に押圧する板バネ３１ａが一体形成されている。
図７は、上カバー部材１５および板部材３１の詳細を示している。
板部材３１は、弾性を有する樹脂あるいは金属により形成されている。そして、板部材３１には、下カバー部材１３の上面１３ａに形成される載置部２１に略対応する位置に、３個の板バネ３１ａが一体形成されている。また、板部材３１の外周には、上カバー部材１５の内側に形成される４箇所の係止突部１５ｃに嵌合する４箇所の切欠部３１ｂが形成されている。そして、板部材３１を図の矢符Ａ方向に曲げた状態で、板部材３１を下カバー部材１５の内側に装填することにより、切欠部３１ｂが係止突部１５ｃに嵌合される。
【００２２】
上カバー部材１５の外周には、ＣＦＰオープナ(不図示)において、上カバー部材１５を下カバー部材１３から分離するための突出部１５ｄが形成されている。また、上カバー部材１５には、レチクルカバー１１内に収容されるレチクル１７を目視するための透明窓１５ｅが形成されている。そして、板部材３１には、透明窓１５ｅに対応する位置に穴部３１ｃが形成されている。上カバー部材１５の側面部１５ｂの下面には、シール部材３３が配置されている。また、上カバー部材１５および下カバー部材１３には、放出アウトガスを低減するための表面コートが施されている。
【００２３】
上述したレチクルカバー１１では、板部材３１に形成される板バネ３１ａにより、レチクルカバー１１内に収容されるレチクル１７を載置部２１側に所定の力で押圧することが可能になる。従って、振動等により、レチクル１７と載置部２１との接触部分が擦れることを低減でき微細なゴミ(汚染物)の発生を低減することができる。
また、上カバー部材１５の内側に着脱可能に板部材３１を配置し、板部材３１に、レチクル１７を載置部２１側に押圧する板バネ３１ａを一体形成したので、板部材３１を上カバー部材１５の内側に装着することにより、上カバー部材１５内に板バネ３１ａを容易，確実に配置することが可能になる。従って、上カバー部材１５に板バネ３１ａを個々に配置する場合に比較して、生産性および組み立て性を大幅に向上することができる。
【００２４】
さらに、上カバー部材１５から板部材３１を容易に離脱することが可能なため、上カバー部材１５から板部材３１を離脱した状態で上カバー部材１５および板部材３１の洗浄を行うことにより、効果的な洗浄を行うことができる。
(第３の実施形態)
図８は、本発明のアウターケースの実施形態を示している。なお、この実施形態において第１または第２の実施形態と同一の要素には、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
【００２５】
この実施形態では、ＥＵＶＬ露光用のレチクル１７を収納するレチクルカバー１１が、アウターケース３５内に収容されている。レチクル１７、レチクルカバー１１およびアウターケース３５は、図９に示すように、上方から見て正方形形状とされている。
アウターケース３５は、図８に示すように蓋部材３７とベース部材３９とを有している。蓋部材３７は上面部３７ａと側面部３７ｂを有する断面コ字状とされている。側面部３７ｂの下部には嵌合部３７ｃが形成され、この嵌合部３７ｃが平板状のベース部材３９の側面に嵌合されている。この実施形態では、アウターケース３５には、スミフ(ＳＭＩＦ)ポッドが使用されている。
【００２６】
図１０および図１１は、アウターケース３５のベース部材３９を示している。ベース部材３９の上面３９ａの四隅には、アウターケース３５内に収容されるレチクルカバー１１の下カバー部材１３が大きく移動することを防止するズレ防止ピン４１がそれぞれ１対ずつ配置されている。また、下カバー部材１３を載置する載置部４３が３箇所配置されている。この載置部４３はズレ防止ピン４１より高さを低くされている。載置部４３は、ベース部材３９の図の右側の隅部のズレ防止ピン４１の内側となる位置に２箇所配置されている。また、ベース部材３９の図の左側の中央に１箇所配置されている。そして、載置部４３が配置されないベース部材３９の図の左側の隅部の２箇所には、ズレ防止ピン４１の内側となる位置に下カバー部材１３の倒れを防止する接触防止ピン４５が配置されている。この接触防止ピン４５は載置部４３の高さより若干低くされている。これにより、下カバー部材１３は３箇所の載置部４３にのみ載置される。
【００２７】
そして、この実施形態では、図８に示すように、アウターケース３５の蓋部材３７の内側には、レチクルカバー１１の上カバー部材１５の上面１５ｆ近傍に延在する移動阻止片１５ｈが形成されている。この移動阻止片１５ｈは、図９に二点差線で示すように、上カバー部材１５の角部の内側となる位置に４箇所形成されている。
この実施形態では、アウターケース３５の蓋部材３７の内側に、レチクルカバー１１の上カバー部材１５の上面１５ｆ近傍に延在する移動阻止片１５ｈを形成したので、誤ってあるいは事故等によりアウターケース３５が上下反転した時に、移動阻止片１５ｈにより上カバー部材１５の移動を阻止することが可能になる。従って、レチクルカバー１１がアウターケース３５内で分離し、レチクル１７に衝撃が作用することがなくなり、レチクル１７を確実に保護することができる。
(第４の実施形態)
図１２は、本発明のアウターケースの他の実施形態を示している。なお、この実施形態において第２または第３の実施形態と同一の要素には、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
【００２８】
この実施形態では、アウターケース３５のベース部材３９のカバー載置部３９ｂの四隅には、レチクルカバー１１の下カバー部材１３を載置する載置部４３が形成されている。また、下カバー部材１３に形成される穴部(図１３に示す)１３ｄに挿入される係止突部４７が形成されている。そして、載置部４３の間に一対の位置決め突起４９が配置されている。
【００２９】
一方、図１３に示すように、レチクルカバー１１を搬送する搬送アーム２５の搬送部材５１には、位置決め突起４９に係合する矩形切欠状の位置決め部５１ａが形成されている。搬送部材５１は、レチクルカバー１１を載置する一対のハンド部５１ｂと、ハンド部５１ｂを支持する支持部５１ｃを有している。支持部５１ｃの内側には矩形状の凹部５１ｄが形成されている。そして、凹部５１ｄの入口の両側となる位置に位置決め部５１ａが形成されている。
【００３０】
上述したアウターケース３５では、大気雰囲気のレチクルキャリヤオープナ(不図示)において、蓋部材３７とベース部材３９とが分離される。そして、ベース部材３９に載置されるレチクルカバー１１がロードロック室(不図示)を介して真空雰囲気の露光装置に搬入され内部のレチクル１７が露光に使用される。
一方、露光に使用されたレチクル１７を収容したレチクルカバー１１は、ロードロック室(不図示)を介して大気雰囲気のレチクルキャリヤオープナ(不図示)に搬送アーム２５により搬送される。そして、図１３に示すように、搬送アーム２５のハンド部５１ｂに載置されたレチクルカバー１１が、ベース部材３９の載置部４３に載置される。そして、この時に、搬送部材５１の位置決め部５１ａが、ベース部材３９の位置決め突起４９に当接し、搬送部材５１の位置決めが正確に行われる。
【００３１】
そして、この状態で、図１４に示すように、搬送部材５１を位置決め突起４９に沿って下方に移動することにより、下カバー部材１３に形成される穴部１３ｄに係止突部４７が挿入され、ベース部材３９の所定の位置にレチクルカバー１１が載置される。そして、この状態から、搬送部材５１が水平方向に移動され、ベース部材３９へのレチクルカバー１１の装填が終了する。
【００３２】
この実施形態では、ベース部材３９に、レチクルカバー１１を搬送してベース部材３９に装填する搬送部材５１の位置決めを行う位置決め突起４９を形成したので、ベース部材３９へのレチクルカバー１１の装填時に、搬送部材５１の位置決め部５１ａがベース部材３９の位置決め突起４９に当接する。従って、搬送部材５１の位置決めを正確に行うことが可能になり、ベース部材３９の所定の位置にレチクルカバー１１を確実に装填することができる。
（第５の実施形態）
図１６は本発明のレチクルケースの落下防止の形態を示している。以下図１６を参照しつつ説明する。静電チャック１１９の両側および奥側（紙面の裏側に対応するが図示せず）に落下防止部材１２０が配置されている。落下防止部材１２０は、静電チャックに印加する電圧が、事故等により印加できなくなった時に、レチクルが落下し破損するのを防止するための部材である。レチクル１２１は、下カバー部材１３に載置された状態で搬送アーム１１５上に載っており、レチクル１２１のパターン面１２１ａの下方には、落下防止部材１２０の爪部１２０ａが配置されている。上述の実施例では、落下防止部材１２０は３本使用しているが、静電チャック１１９の両側に各１本のみを配置するようにしても良い。あるいは各２本を配置するようにしても良い。
【００３３】
搬送アーム１１５を用いて、レチクル１２１の上面１２１ｂが静電チャック１１９の吸着面１１９ａに接触している状態にするまでの、搬送アーム１１５の経路を説明する。先ず、図に描かれている搬送アーム１１５の位置よりも下方の位置（静電チャック１１９から離れた位置）で、搬送アーム１１５上にレチクル１２１を載せた下カバー部材１３を載せる。この状態で搬送アーム１１５を上昇させる。レチクル吸着面１２１ｂが、図の範囲ａ、つまり、静電チャック吸着面１１９ａと落下防止部材１２０の爪部１２０ａの上面までの距離の範囲に入るまで上昇させる。この状態で、搬送アーム１１５を紙面に垂直に移動させて、レチクル１２１が静電チャック１１９直下の位置となるようにする。レチクル１２１が静電チャック１１９直下となれば、その状態で搬送アーム１１５を上方（静電チャックに近づく方向）に動かす。
【００３４】
このようにすると、静電チャック１１９の落下防止部材１２０に干渉することなく、レチクル１２１は落下防止部材１２０の爪部１２０ａの上面と静電チャック吸着面１１９ａとの間の空間に達することができる。この状態で、搬送アーム１１５を上方に移動させると、レチクル１２１の吸着面１２１ｂと静電チャック１１９の吸着面１１９ａは接触する。ここで、静電チャックに電圧を印加すると、レチクル１２１は静電チャック１１９に吸着され、レチクル１２１は、静電チャック１１９に保持される。搬送アーム１１５をそのまま下に下げると、レチクル１２１は静電チャック１１９に吸着されているので、レチクル１２１を残して、下カバー部材１３だけを載せて搬送アーム１１５は移動し、静電チャックの下方に移る。
【００３５】
この際、レチクル１２１の吸着がなんらかの原因によりうまくいかず、レチクル１２１が静電チャック１１９から離脱しても、静電チャック１１９には落下防止部材１２０が配置されているので、レチクル１２１が落下して落下防止部材１２０が受け止め、破損することは免れる。また、停電等で静電チャック１１９の通電が止まった場合でも、落下防止部材１２０が配置されているので、レチクル１２１が落下して破損することは免れる。
【００３６】
レチクル１２１が落下し、落下防止部材１２０により保持された場合、搬送アーム１１５が移動し、レチクル１２１をもとの場所に戻す動作を行い、同時にレチクルが落下したことを示す信号を発して、露光装置の表示装置（図示せず）に表示する。
本実施例においては、落下防止部材１２０は、静電チャック１１９に固定されているが、モータ等で回動自在になるように配置しても構わない。但し、その場合でも、レチクル１２１のパターン面１２１ａと下カバー部材１３の上面１３ａとの間には、落下防止部材１２０の爪部１２０ａが入ることのできる空間が必要となる。
【００３７】
レチクル１２１を静電チャック１１９から離脱させるときには、上述の手順を逆に行えばよい。また、レチクル１２１が静電チャック１１９から離脱し難い場合には、プッシャ１２５でレチクル１２１の吸着面１２１ｂを押しても構わない。確実に静電チャック１１９からレチクル１２１が離脱したかを確認するためには、光電センサ１２７により検出すれば、離脱が確認される。
【００３８】
(露光装置の実施形態)
図１５は、ＥＵＶ光リソグラフィシステムを模式化して示している。なお、この実施形態において第１の実施形態と同一の部材には、同一の符号を付している。この実施形態では、露光の照明光としてＥＵＶ光が用いられる。ＥＵＶ光は０．１〜４００ｎｍの間の波長を持つもので、この実施形態では特に１〜５０ｎｍ程度の波長が好ましい。投影像は像光学系システム１０１を用いたもので、ウエハ１０３上にレチクル１１によるパターンの縮小像を形成するものである。
【００３９】
ウエハ１０３上に照射されるパターンは、レチクルステージ２７の下側に静電チャック２９を介して配置されている反射型のレチクル１７により決められる。この反射型のレチクル１７は、上述した実施形態のレチクルカバー１１により保護された状態で真空ロボットによって搬入および搬出される（真空ロボットの図示は省略する）。また、ウエハ１０３はウエハステージ１０５の上に載せられている。典型的には、露光はステップ・スキャンによりなされる。
【００４０】
露光時の照明光として使用するＥＵＶ光は大気に対する透過性が低いので、ＥＵＶ光が通過する光経路は、適当な真空ポンプ１０７を用いて真空に保たれた真空チャンバ１０６に囲まれている。またＥＵＶ光はレーザプラズマＸ線源によって生成される。レーザプラズマＸ線源はレーザ源１０８（励起光源として作用）とキセノンガス供給装置１０９からなっている。レーザプラズマＸ線源は真空チャンバ１１０によって取り囲まれている。レーザプラズマＸ線源によって生成されたＥＵＶ光は真空チャンバ１１０の窓１１１を通過する。
【００４１】
放物面ミラー１１３は、キセノンガス放出部の近傍に配置されている。放物面ミラー１１３はプラズマによって生成されたＥＵＶ光を集光する。放物面ミラー１１３は集光光学系を構成し、ノズル１１２からのキセノンガスが放出される位置の近傍に焦点位置がくるように配置されている。ＥＵＶ光は放物面ミラー１１３の多層膜で反射し、真空チャンバ１１０の窓１１１を通じて集光ミラー１１４へと達する。集光ミラー１１４は反射型のレチクル１７へとＥＵＶ光を集光、反射させる。ＥＵＶ光は集光ミラー１１４で反射され、レチクル１７の所定の部分を照明する。すなわち、放物面ミラー１１３と集光ミラー１１４はこの装置の照明システムを構成する。
【００４２】
レチクル１７は、ＥＵＶ光を反射する多層膜とパターンを形成するための吸収体パターン層を持っている。レチクル１７でＥＵＶ光が反射されることによりＥＵＶ光は「パターン化」される。パターン化されたＥＵＶ光は投影システム１０１を通じてウエハ１０３に達する。
この実施形態の像光学システム１０１は、凹面第１ミラー１１５ａ、凸面第２ミラー１１５ｂ、凸面第３ミラー１１５ｃ、凹面第４ミラー１１５ｄの４つの反射ミラーからなっている。各ミラー１１５ａ〜１１５ｄにはＥＵＶ光を反射する多層膜が備えられている。
【００４３】
レチクル１７により反射されたＥＵＶ光は第１ミラー１１５ａから第４ミラー１１５ｄまで順次反射されて、レチクル１７パターンの縮小（例えば、１／４、１／５、１／６）された像を形成する。像光学系システム１０１は、像の側（ウエハ１０３の側）でテレセントリックになるようになっている。
レチクル１７は可動のレチクルステージ２７によって少なくともＸ−Ｙ平面内で支持されている。ウエハ１０３は、好ましくはＸ，Ｙ，Ｚ方向に可動なウエハステージ１０５によって支持されている。ウエハ１０３上のダイを露光するときには、ＥＵＶ光が照明システムによりレチクル１７の所定の領域に照射され、レチクル１７とウエハ１０３は像光学系システム１０１に対して像光学システム１０１の縮小率に従った所定の速度で動く。このようにして、レチクルパターンはウエハ１０３上の所定の露光範囲（ダイに対して）に露光される。
【００４４】
露光の際には、ウエハ１０３上のレジストから生じるガスが像光学システム１０１のミラー１１５ａ〜１１５ｄに影響を与えないように、ウエハ１０３はパーティション１１６の後ろに配置されることが望ましい。パーティション１１６は開口１１６ａを持っており、それを通じてＥＵＶ光がミラー１１５ｄからウエハ１０３へと照射される。パーティション１１６内の空間は真空ポンプ１１７により真空排気されている。このように、レジストに照射することにより生じるガス状のゴミがミラー１１５ａ〜１１５ｄあるいはレチクル１７に付着するのを防ぐ。それゆえ、これらの光学性能の悪化を防いでいる。
【００４５】
この実施形態の露光装置では、上述したレチクルカバー１１によりレチクル１７を保護した状態で搬送を行うようにしたので、汚染の少ないレチクル１７を使用して歩留まりの高い製品を得ることができる。
(実施形態の補足事項)
以上、本発明を上述した実施形態によって説明してきたが、本発明の技術的範囲は上述した実施形態に限定されるものではなく、例えば、以下のような形態でも良い。
【００４６】
(１)上述した実施形態では、レチクルカバー１１を上カバー部材１５と下カバー部材１３により構成した例について説明したが、例えば、レチクルのパターン面を覆う下カバー部材のみにより構成するようにしても良い。
(２)上述した実施形態では、レチクル１７のパターン面１７ａの略全体を覆うように近接突部１３ｂを形成した例について説明したが、例えば、パターン面の外周のみを覆うように近接突部を形成しても良い。
【００４７】
(３)上述した実施形態では、ＥＵＶ光を用いた露光装置の例を説明したが、その他、荷電粒子線、ｉ線、ｇ線、ＫｒＦ、ＡｒＦ、Ｆ２等を用いた露光装置にも広く適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】本発明のレチクルカバーの実施形態を示す縦断面図である。
【図２】図１の上面図である。
【図３】図１の下カバー部材を示す側面図である。
【図４】図３の上面図である。
【図５】図１のレチクルをレチクルステージに搬送する状態を示す説明図である。
【図６】本発明のレチクルカバーの他の実施形態を示す縦断面図である。
【図７】図６の上カバー部材および板部材の詳細を示す説明図である。
【図８】本発明のアウターケースの実施形態を示す縦断面図である。
【図９】図８のアウターケースの横断面図である。
【図１０】図８のベース部材を示す側面図である。
【図１１】図１０の上面図である。
【図１２】本発明のアウターケースの他の実施形態を示す説明図である。
【図１３】図１２のベース部材へのレチクルカバーの装填方法を示す説明図である。
【図１４】図１２のベース部材にレチクルカバーを装填した状態を示す説明図である。
【図１５】本発明の露光装置の実施形態を示す説明図である。
【図１６】本発明のレチクルカバーの落下防止の形態を示す縦断面図である。
【符号の説明】
【００４９】
１１…レチクルカバー、１３…下カバー部材、１３ｂ…近接突部、１５…上カバー部材、１７…レチクル、２１…載置部、３１…板部材、３１ａ…板バネ、３７…蓋部材、３９…ベース部材、４９…位置決め突起、５１…搬送部材。
【図１】
2008096652.tif 000003
【図２】
2008096652.tif 000004
【図３】
2008096652.tif 000005
【図４】
2008096652.tif 000006
【図５】
2008096652.tif 000007
【図６】
2008096652.tif 000008
【図７】
2008096652.tif 000009
【図８】
2008096652.tif 000010
【図９】
2008096652.tif 000011
【図１０】
2008096652.tif 000012
【図１１】
2008096652.tif 000013
【図１２】
2008096652.tif 000014
【図１３】
2008096652.tif 000015
【図１４】
2008096652.tif 000016
【図１５】
2008096652.tif 000017
【図１６】
2008096652.tif 000018