(57)【要約】【課題】  画像表示装置に使用した場合などにおける表示ムラの発生が抑制された光学フィルム等の提供を課題とする。【解決手段】  透明高分子フィルムが用いられてなる透明高分子フィルム層上にポリウレタン系樹脂からなる密着層が形成され、該密着層上に非液晶ポリマーからなる複屈折層が形成された光学フィルムにおいて、面内における輝度の標準偏差が１．３７５以下であることを特徴とする光学フィルムを提供する。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明高分子フィルムが用いられてなる透明高分子フィルム層上にポリウレタン系樹脂からなる密着層が形成され、該密着層上に非液晶ポリマーからなる複屈折層が形成された光学フィルムにおいて、
面内における輝度の標準偏差が１．３７５以下であることを特徴とする光学フィルム。
【請求項２】
前記複屈折層が下記式（１）の条件を満たす請求項１に記載の光学フィルム。
ｎｘ≧ｎｙ＞ｎｚ  ・・・（１）
前記式（１）において、ｎｘ、ｎｙおよびｎｚは、それぞれ、前記複屈折層における、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向およびＺ軸方向の屈折率を示す。
前記Ｘ軸方向は、前記複屈折層の面内方向において最大の屈折率を示す軸方向であり、前記Ｙ軸方向は、前記面内におけるＸ軸方向に対して垂直な軸方向であり、前記Ｚ軸方向はＸ軸方向およびＹ軸方向に垂直な厚み方向を意味する。
【請求項３】
前記密着層の乾燥後の厚みが１００ｎｍ〜１０μｍである請求項１または２に記載の光学フィルム。
【請求項４】
前記非液晶ポリマーが、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミドおよびポリエステルイミドからなる群から選ばれる少なくとも一種のポリマーである請求項１乃至３の何れか１項に記載の光学フィルム。
【請求項５】
前記透明高分子フィルム層が、トリアセチルセルロースフィルム、側鎖にイミド基、フェニル基若しくはニトリル基を有する熱可塑性樹脂を含むフィルム又はノルボルネン系樹脂フィルムで形成されてなる請求項１乃至４の何れか１項に記載の光学フィルム。
【請求項６】
前記複屈折層の複屈折率Δｎ（ａ）および前記透明高分子フィルム層の複屈折率Δｎ（ｂ）が下記式（２）の条件を満たす請求項１乃至５の何れか１項に記載の光学フィルム。
Δｎ（ａ）＞Δｎ（ｂ）×１０  ・・・（２）
【請求項７】
帯状に形成された透明高分子フィルムにポリウレタン系樹脂溶液が連続的に塗布されることにより透明高分子フィルム層上に密着層が形成されており、該密着層の乾燥後の面内厚みは、標準偏差が１０ｎｍ以上であり且つ帯状の透明高分子フィルムの長手方向に平均されて求められる平均値の標準偏差が８ｎｍ以下となるように形成されている請求項１乃至６の何れか１項に記載の光学フィルム。
【請求項８】
前記複屈折層は、非液晶ポリマーの溶媒としてメチルイソブチルケトンが用いられて形成されている請求項１乃至７の何れか１項に記載の光学フィルム。
【請求項９】
透明高分子フィルムにポリウレタン系樹脂溶液を塗布する塗布工程と、該塗布工程によりポリウレタン系樹脂溶液が塗布された透明高分子フィルムを加熱して前記ポリウレタン系樹脂溶液を乾燥させる乾燥工程とを実施して密着層を形成し、該密着層上にさらに非液晶ポリマーを塗布することにより複屈折層を形成する光学フィルムの製造方法であって、  ポリウレタン系樹脂溶液の塗布面に風を当てる風当て工程を、前記塗布工程後、前記乾燥工程前に実施することを特徴とする光学フィルムの製造方法。
【請求項１０】
前記風当て工程が、前記ポリウレタン系樹脂溶液の塗布面に、１５〜３０℃の温度の風を透明高分子フィルムの長手方向に沿って風速０．８〜１．６ｍ／ｓで１５〜６０秒間当てる工程である請求項９記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項１１】
前記風当て工程により、密着層の乾燥後の面内厚みを、標準偏差が１０ｎｍ以上であり且つ帯状の透明高分子フィルムの長手方向に平均されて求められる平均値の標準偏差を８ｎｍ以下にさせる請求項９または１０に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項１２】
前記乾燥工程が、後段側ほど高温となるように段階的に加熱する工程である請求項９乃至１１の何れか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項１３】
前記透明高分子フィルム層上に密着層と複屈折層とを形成した後に、透明高分子フィルムのみを引っ張る延伸処理を施す請求項９乃至１２の何れかに記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項１４】
請求項１乃至８の何れか１項に記載の光学フィルムと偏光子とを含む偏光板。
【請求項１５】
請求項１乃至８の何れか１項に記載の光学フィルム又は請求項１４に記載の偏光板を含む液晶セル。
【請求項１６】
請求項１５に記載の液晶セルを含む液晶表示装置。
【請求項１７】
請求項１乃至８の何れか１項に記載の光学フィルム又は請求項１４に記載の偏光板を含む画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明高分子フィルム層と、非液晶ポリマーから形成された複屈折層とを含む光学フィルム等に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種の光学フィルムとしては、透明高分子フィルム層と、非液晶ポリマーが塗布されることにより該透明高分子フィルム層上に直接積層された非液晶ポリマーからなる複屈折層とを含むものが知られている（下記特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００４−４６０６５号公報
【０００３】
斯かる光学フィルムにおいては、複屈折層の位相差のバラツキが生じたり、液晶表示装置等の画像表示装置に使用した場合に表示ムラが発生したりすることを抑制すべく、透明高分子フィルム層上にポリウレタン系樹脂を含む溶液を塗布して、該密着層上に非液晶ポリマーを含む溶液を塗布することが検討されたりしている。
また、斯かる光学フィルムにおいては、透明高分子フィルム上に平滑性を高めた状態で密着層を形成させることによって表示ムラが発生したりすることを抑制させることが検討されている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記のような光学フィルムにおいても画像表示装置に使用した場合などにおける表示ムラの抑制が十分なされていないという問題を有している。
【０００５】
そこで、本発明は、上記従来の問題点に鑑み、画像表示装置に使用した場合などにおける表示ムラの発生が抑制された面内均一性の高い光学フィルム等の提供を課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、透明高分子フィルムが用いられてなる透明高分子フィルム層上にポリウレタン系樹脂からなる密着層が形成され、該密着層上に非液晶ポリマーからなる複屈折層が形成された光学フィルムにおいて、面内における輝度の標準偏差が１．３７５以下であることを特徴とする光学フィルムを提供する。
なお、この"面内における輝度の標準偏差"とは、後段の実施例において"透過外観"の評価に用いる方法により測定することができる。
また、本発明は、透明高分子フィルムにポリウレタン系樹脂溶液を塗布する塗布工程と、該塗布工程によりポリウレタン系樹脂溶液が塗布された透明高分子フィルムを加熱して前記ポリウレタン系樹脂溶液を乾燥させる乾燥工程とを実施して密着層を形成し、該密着層上にさらに非液晶ポリマーを塗布することにより複屈折層を形成する光学フィルムの製造方法であって、ポリウレタン系樹脂溶液の塗布面に風を当てる風当て工程を、前記塗布工程後、前記乾燥工程前に実施することを特徴とする光学フィルムの製造方法を提供する。
また、本発明は、該光学フィルムと偏光子とを含む偏光板を提供する。
更に、本発明は、該光学フィルム又は該偏光板を含む液晶セルを提供する。
また、本発明は、該液晶セルを含む液晶表示装置を提供する。
更に、本発明は、該光学フィルム又は該偏光板を含む画像表示装置を提供する。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の光学フィルムは、面内における輝度の標準偏差が１．３７５以下とすることを可能にしたことからこの光学フィルムを液晶表示装置等の画像表示装置に使用した場合に表示ムラが発生することを抑制させ得る。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、本発明の実施の形態について詳述する。
本実施形態の光学フィルムは、透明高分子フィルム層上にウレタン系樹脂を含む密着層が形成され且つ該密着層上に非液晶ポリマーを含む複屈折層が形成されたフィルムであり面内における輝度の標準偏差が１．３７５以下のものである。この面内における輝度の標準偏差は、面内における輝度のバラツキを示し、本実施形態においては１．３７５以下のものを例示するが、１．３５５以下であることが好ましい。
その製造では、帯状の透明高分子フィルム上にポリウレタン系樹脂溶液を連続的に直接塗布し乾燥させて密着層を形成し、その上に、非液晶ポリマーを直接塗布して複屈折層を形成することにより、透明高分子フィルム層と密着層と複屈折層とが直接積層された積層フィルムとされてなり、更に、該積層フィルムが積層状態で延伸処理されて構成されている。
【０００９】
前記透明高分子フィルム層は、帯状の透明高分子フィルムにより形成されてなり、該透明高分子フィルムとしては、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性、等方性などに優れるものが好ましく用いられる。該透明高分子フィルムとしては、主成分として、例えばポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ジアセチルセルロースやトリアセチルセルロース等のセルロース系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー、ポリスチレンやアクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー、又は、ポリカーボネート系ポリマー等が用いられてなるフィルムが挙げられる。また、ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロ系ないしはノルボルネン構造を有するポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体の如きポリオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、又は、これらのポリマーのブレンド物などが用いられてなるフィルムが挙げられる。
これらのフィルムの中でも、トリアセチルセルロースフィルム、側鎖にイミド基、フェニル基若しくはニトリル基を有する熱可塑性樹脂により形成されてなるフィルム（以下、「ＨＴフィルム」という場合がある。）又はノルボルネン系樹脂フィルムが好ましい。
ＨＴフィルムとしては、主に側鎖に置換又は非置換のイミド基を有する熱可塑性樹脂により形成されてなるフィルム、主に側鎖に置換又は非置換のフェニル基ならびにニトリル基を有する熱可塑性樹脂により形成されてなるフィルム、又は、主に側鎖に置換又は非置換のイミド基を有する熱可塑性樹脂と側鎖に置換又は非置換のフェニル基ならびにニトリル基を有する熱可塑性樹脂とにより形成されてなるフィルム等を用いることができる。
【００１０】
前記ノルボルネン系樹脂フィルムとは、主成分として、ノルボルネン系モノマーが重合した樹脂が用いられてなるフィルムであり、該ノルボルネン系モノマーとしては、例えば、ノルボルネン、そのアルキル及び／又はアルキリデン置換体、又はこれらのハロゲン等の極性基置換体；ジシクロペンタジエン、２，３−ジヒドロジシクロペンタジエン等；ジメタノオクタヒドロナフタレン、そのアルキル及び／又はアルキリデン置換体、又はこれらのハロゲン等の極性基置換体；シクロペンタジエンの３〜４量体等が挙げられる。
前記ノルボルネンのアルキル及び／又はアルキリデン置換体としては、例えば、５−メチル−２−ノルボルネン、５−ジメチル−２−ノルボルネン、５−エチル−２−ノルボルネン、５−ブチル−２−ノルボルネン、５−エチリデン−２−ノルボルネン等が挙げられる。
前記ジメタノオクタヒドロナフタレン、そのアルキル及び／又はアルキリデン置換体、又はハロゲン等の極性基置換体としては、例えば、６−メチル−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、６−エチル−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、６−エチリデン−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、６−クロロ−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、６−シアノ−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、６−ピリジル−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、６−メトキシカルボニル−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン等が挙げられる。
前記シクロペンタジエンの３〜４量体としては、例えば、４，９：５，８−ジメタノ−３ａ，４，４ａ，５，８，８ａ，９，９ａ−オクタヒドロ−１Ｈ−ベンゾインデン、４，１１：５，１０：６，９−トリメタノ−３ａ，４，４ａ，５，５ａ，６，９，９ａ，１０，１０ａ，１１，１１ａ−ドデカヒドロ−１Ｈ−シクロペンタアントラセン等が挙げられる。
【００１１】
また、透明高分子フィルムとしては、例えば、特開２００５−３１４５３４号公報に記載されたアクリル樹脂フィルム、すなわち、下記構造式（Ａ）で表されるグルタル酸無水物単位を含有するアクリル樹脂を６０〜９０重量％、アクリル弾性体粒子を７〜４０重量％含有するアクリル樹脂フィルムであって、アクリル弾性体粒子の平均粒子径が７０〜３００ｎｍであり、フィルムの破断伸度が１５％以上、高張力下１％変形温度が１００℃以上であることを特徴とするアクリル樹脂フィルムを用いることもできる。
2008003573.tif 000002
（上記式中、Ｒ1、Ｒ2は、同一または相異なる水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を表す。）
【００１２】
前記透明高分子フィルムには、必要に応じて光安定剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、充填剤などの各種添加剤が配合されていてもよい。また、コロナ処理等の公知の表面改質処理が行なわれていてもよい。
前記透明高分子フィルムの厚さは、特に制限されないが、３〜３００μｍが好ましく、特に１０〜１００μｍが好ましい。
【００１３】
前記密着層は、透明高分子フィルム上にポリウレタン系樹脂溶液（溶解液、分散液を含む）を直接塗布し乾燥させることにより、透明高分子フィルム上に形成されてなる。
前記密着層は、ポリウレタン系樹脂溶液が塗布されて形成されることにより、透明高分子フィルム表面上の微細な凹凸やうねりによる位相差値に与える影響が緩和される。
【００１４】
前記ポリウレタン系樹脂としては、ポリエステル系ポリウレタン（変性ポリエステルウレタン、水分散系ポリエステルウレタン、溶剤系ポリエステルウレタン）、ポリエーテル系ウレタン、ポリカーボネート系ウレタン等を挙げることができる。これらのポリウレタン系樹脂は、自己乳化型又は強制乳化型のものであっても良い。これらのポリウレタンの中でもポリエステル系ポリウレタンが好ましい。
これらのポリウレタン系樹脂は、一般的にポリオールとポリイソシアネートとから製造される。
【００１５】
前記ポリオールとしては、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、その他のポリオール等を挙げることができる。
【００１６】
前記ポリエステルポリオールは、脂肪酸とポリオールとの反応物であり、該脂肪酸としては、例えば、リシノール酸、オキシカプロン酸、オキシカプリン酸、オキシウンデカン酸、オキシリノール酸、オキシステアリン酸、オキシヘキサンデセン酸のヒドロキシ含有長鎖脂肪酸等を挙げることができる。脂肪酸と反応するポリオールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサメチレングリコール及びジエチレングリコール等のグリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン及びトリエタノールアミン等の３官能ポリオール、ジグリセリン及びペンタエリスリトール等の４官能ポリオール、ソルビトール等の６官能ポリオール、シュガー等の８官能ポリオール、これらのポリオールに相当するアルキレンオキサイドと脂肪族、脂環族、芳香族アミンとの付加重合物や、該アルキレンオキサイドとポリアミドポリアミンとの付加重合物等を挙げることができる。
【００１７】
前記ポリエーテルポリオールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、４，４'−ジヒドロキシフェニルプロパン、４，４'−ジヒドロキシフェニルメタン等の２価アルコ−ルあるいはグリセリン、１，１，１−トリメチロ−ルプロパン、１，２，５−ヘキサントリオ−ル、ペンタエリスリト−ル等の３価以上の多価アルコ−ルと、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド、α−オレフィンオキサイド等のアルキレンオキサイドとの付加重合物等を挙げることができる。
【００１８】
その他のポリオ−ルとして、主鎖が炭素−炭素よりなるポリオ−ル、例えば、アクリルポリオ−ル、ポリブタジエンポリオ−ル、ポリイソプレンポリオ−ル、水素添加ポリブタジエンポリオ−ル、ＡＮ（アクリロニトリル）やＳＭ（スチレンモノマ−）を前記した炭素−炭素ポリオ−ルにグラフト重合したポリオ−ル、ポリカ−ボネ−トポリオ−ル、ＰＴＭＧ（ポリテトラメチレングリコ−ル）等を挙げることができる。
【００１９】
前記ポリイソシアネ−トとしては、芳香族ポリイソシアネ−ト、脂肪族ポリイソシアネ−ト、脂環式ポリイソシアネ−ト等を挙げることができる。芳香族ポリイソシアネ−トとしては、例えば、ジフェニルメタンジイソシアネ−ト（ＭＤＩ）、ポリメチレンポリフェニレンポリイソシアネ−ト（粗ＭＤＩ）、トリレンジイソシアネ−ト（ＴＤＩ）、ポリトリレンポリイソシアネ−ト（粗ＴＤＩ）、キシレンジイソシアネ−ト（ＸＤＩ）、ナフタレンジイソシアネ−ト（ＮＤＩ）等を挙げることができる。脂肪族ポリイソシアネ−トとしては、ヘキサメチレンジイソシアネ−ト（ＨＤＩ）等を挙げることができる。脂環式ポリイソシアネ−トとしては、イソホロンジイソシアネ−ト（ＩＰＤＩ）等を挙げることができる。この他に、上記ポリイソシアネ−トをカルボジイミドで変性したポリイソシアネ−ト（カルボジイミド変性ポリイソシアネ−ト）、イソシアヌレ−ト変性ポリイソシアネ−ト、ウレタンプレポリマ−（例えばポリオ−ルと過剰のポリイソシアネ−トとの反応生成物であってイソシアネ−ト基を分子末端にもつもの）等を挙げることができる。これらは単独あるいは混合物として使用してもよい。
【００２０】
また、溶液（溶解液、分散液を含む）の溶媒としては、水、各種有機溶媒又はこれらの混合溶媒が挙げられる。有機溶媒としては、メチルエチルケトン、イソプロピルアルコール、トルエン、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、メチルイソブチルケトン等を挙げることができる。
【００２１】
前記ポリウレタン系樹脂を含む溶液に於けるポリウレタン系樹脂の濃度は、適宜決定されるが、基材への塗布性（異物混入、膜厚制御のし易さ）を考慮すると、通常、２〜５０重量％、好ましくは３〜４０重量％が好ましい。２重量％未満であると、溶液粘度が低すぎるため所定の膜厚まで１回で塗布することが困難となり、５０重量％を超えると溶液粘度が高すぎるために、所定の膜厚の形成が困難となる場合がある。
【００２２】
前記密着層の乾燥後の厚みとしては、１００ｎｍ〜１０μｍが好ましく、５００ｎｍ〜２μｍがより好ましく、６５０ｎｍ〜９５０ｎｍがさらに好ましい。厚みが１００ｎｍより小さいと、十分な密着性が得られない虞があり、また、１０μｍよりも大きい場合には、薄型、軽量化という点で問題がある。更に、１０μｍを超えると、密着層それ自体が複屈折性を持つ虞があり、所望の複屈折性を呈する光学フィルムが得られないという虞がある。
【００２３】
また、この密着層は、乾燥後の面内の厚みが所定の状態で不均一に形成されることが好ましい。より詳しくは、この密着層の面内における厚みは、標準偏差が１０ｎｍ以上であり、より好ましくは、１３ｎｍ以上であり、且つ前記厚みが透明高分子フィルムの長手方向に平均されて求められる平均値が面内で標準偏差８ｎｍ以下となるように形成されている。
また、密着層の面内における厚みの標準偏差の上限は、通常、５０ｎｍ、好ましくは、３０ｎｍ以下である。
また、厚みが透明高分子フィルムの長手方向に平均されて求められる平均値の標準偏差の下限は、通常、１ｎｍ、好ましくは、３ｎｍ以上である。
この密着層の面内における厚みの標準偏差が１０ｎｍ以上とされるのは、標準偏差が１０ｎｍ未満、すなわち、標準偏差の小さい平滑な状態の密着層の場合よりも標準偏差が１０ｎｍ以上となるような面内の厚みが不均一な状態で形成されている方が、意外にも密着層の厚みが均一に形成されている場合よりもむしろ良好なる複屈折層が形成されて光学フィルムのムラが抑制されるためである。
さらに、透明高分子フィルムの長手方向に密着層の厚みが平均されて求められる平均値が面内で標準偏差８ｎｍ以下とされるのは、この密着層の厚みの不均一な状態が、透明高分子フィルム長手方向に方向性を有し、前記標準偏差が８ｎｍを超えるような場合、すなわち、透明高分子フィルム長手方向へのスジ状ムラが形成されている場合には、上述のように面内全体の標準偏差が１０ｎｍ以上である場合でも光学フィルムのムラを抑制させることが困難となるためである。
【００２４】
この面内における厚みの標準偏差、ならびに、厚みが透明高分子フィルムの長手方向に平均されて求められる平均値の面内での標準偏差は、光学フィルムを、例えば、約７０ｍｍ×７０ｍｍの領域において密着層の厚みを測定して求めることができる。
より具体的には、透明高分子フィルムの長手方向と幅方向とにそれぞれ１ｍｍごとの碁盤目状に７１個所ずつ（合計５０４１個所）密着層の厚みを測定して求めることができる。
すなわち、面内における密着層の厚みの標準偏差は、５０４１個所における全ての厚みの測定値の標準偏差を計算することにより求めることができる。
また、面内の厚みが透明高分子フィルムの長手方向に平均されて求められる平均値は、透明高分子フィルムの長手方向に一列に並んでいる７１個所の厚みを算術平均することにより求めることができ、この平均値の面内の標準偏差については、同様に７１列分の平均値を求めて、得られた７１個の平均値の標準偏差を計算することにより求めることができる。
【００２５】
前記密着層は、帯状に形成された透明高分子フィルムにポリウレタン系樹脂溶液を連続的に塗布する塗布工程と、該塗布工程によりポリウレタン系樹脂溶液が塗布された透明高分子フィルムを加熱して前記ポリウレタン系樹脂溶液を乾燥させる乾燥工程と、前記塗布工程と前記乾燥工程との間においてポリウレタン系樹脂溶液の塗布面に風を当てる風当て工程とを実施して形成されており、このポリウレタン系樹脂を含有する溶液を前記透明高分子フィルム上に塗布する塗布工程としては、特に限定されず、ロールコート法、ダイコート法、ブレードコート法等の従来周知の方法を採用することができる。
【００２６】
前記乾燥工程においては、上記塗布工程によりポリウレタン系樹脂溶液が塗布された透明高分子フィルムを加熱して前記ポリウレタン系樹脂溶液を乾燥させる。
このときの乾燥温度は、溶媒の種類等に応じて適宜決定することができるが、通常、８０〜２００℃、好ましくは１００〜１５０℃とすることができる。乾燥は一定温度下で行っても良いし段階的に温度を上昇させて行ってもよい。
この乾燥工程としては、後段になるほど高温となるように段階的に加熱することが好ましい。この段階的な加熱は、例えば、複数の加熱炉を後段側ほど高温に設定して配置し、この複数の加熱炉にポリウレタン系樹脂溶液が塗布された透明高分子フィルムを連続的に通過させる方法などを用いることができる。
乾燥時間は、通常、５〜３０分間、好ましくは１０〜２０分間とすることができる。５分未満であると、溶媒が多量に残って製品の信頼性に問題を生じる場合があり、３０分を超えると工業生産性に適しない。
この塗布工程後、乾燥工程前に行う風当て工程は、塗布工程後のポリウレタン系樹脂溶液の塗布面に風を当てて実施する。この塗布工程後、乾燥工程前にポリウレタン系樹脂溶液の塗布面に風を当てることにより、密着層の面内の厚みの状態を調整することができる。
【００２７】
例えば、溶媒としてメチルエチルケトン、トルエン、シクロヘキサノン、酢酸エチルなどが用いられ、ウレタン樹脂が３〜５０重量％程度の濃度となるように前記溶媒に溶解されてなるポリウレタン系樹脂溶液を用いて、５〜３００ｍ／ｍｉｎの移動速度の透明高分子フィルム上に、乾燥後の平均厚みが０．５〜１．０μｍとなるようにこのポリウレタン系樹脂溶液を連続的に塗布する塗布工程を実施した後に、１５〜３０℃の温度の風を透明高分子フィルム長手方向に沿って風速０．８〜１．６ｍ／ｓで１５〜６０秒間当てることにより、乾燥後の密着層の面内における厚みの標準偏差が１０ｎｍ以上であり且つ面内の厚みが透明高分子フィルムの長手方向に平均されて求められる平均値が面内で標準偏差８ｎｍ以下となるように調整させることができる。
上記温度範囲を超えた温度で風当て工程を実施すると密着層の乾燥が進みすぎて、十分な不均一性が得られず、また、上記温度範囲よりも低い温度で風当て工程を実施すると溶液の動きが悪くなるとともに、乾燥工程との温度差が大きくなりすぎて不具合が生じやすくなる。
また、風速についても、上記の範囲外では所望の不均一性が得られにくく、風を当てる時間についても、上記範囲外では所望の不均一性が得られにくい。
上記のような製造方法によって、上記のような面内の厚みが不均一な状態の密着層を形成させることにより、光学フィルムを面内の輝度の標準偏差を１．３５５以下のものとさせ得る。
【００２８】
なお、上記風速は、多点風速計（日本カノマックス社製「ＳＹＳＴＥＭ６２４３」）に球状プローブ（同社製「０９６５−２１」）を用いて塗布面より３ｃｍ上方における透明高分子フィルムの長手方向の風速を測定したものである。
【００２９】
前記複屈折層は、非液晶ポリマーを塗布し乾燥させることにより形成されてなる。
また、前記複屈折層は、通常、下記式（１）の条件を満たすように設定されている。
ｎｘ≧ｎｙ＞ｎｚ  ・・・（１）
前記式（１）において、ｎｘ、ｎｙおよびｎｚは、それぞれ、前記複屈折層における、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向およびＺ軸方向の屈折率を示す。
前記Ｘ軸方向は、前記複屈折層の面内方向において最大の屈折率を示す軸方向であり、前記Ｙ軸方向は、前記面内におけるＸ軸方向に対して垂直な軸方向であり、前記Ｚ軸方向はＸ軸方向およびＹ軸方向に垂直な厚み方向を意味する。
非液晶ポリマーは、液晶性材料とは異なり、塗布の対象となるフィルムの配向性に関係なく、それ自身の性質によりｎｘ＞ｎｚ、ｎｙ＞ｎｚという光学的一軸性を示すものとなりうる。このため、塗布の対象となるフィルム（即ち、透明高分子フィルム上にウレタン密着層が塗布形成されたもの）は、未配向性のものであってもウレタン密着層表面に配向膜が塗布されていたり、配向膜が積層されていることを要ない。また、塗布の対象となるフィルムを加熱しながら延伸又は収縮することにより、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの光学的二軸性を付与できる。
前記複屈折層が上記式（１）の条件を満たす場合、例えば垂直配向（ＶＡ）モードの液晶表示装置に組み込んだ時、斜め方向のコントラストを大幅に向上させるという利点が有る。
尚、ｎｘ、ｎｙ、ｎｚは、自動複屈折計（王子計測機器製  ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ）を用い、測定に用いる波長を５９０ｎｍとし、測定温度を２５℃として測定される。
【００３０】
更に、前記複屈折層は、好ましくは、その複屈折率Δｎ（ａ）が、前記透明高分子フィルム層の複屈折率をΔｎ（ｂ）とした際に、下記式（２）の条件を満たすように設定されている。
Δｎ（ａ）＞Δｎ（ｂ）×１０  ・・・（２）
ここで、Δｎ（ａ）＝ｎｘ（ａ）−ｎｚ（ａ）であり、ｎｘ（ａ）は複屈折層の面内の最大屈折率、ｎｚ（ａ）は複屈折層の厚み方向屈折率を示す。また、Δｎ（ｂ）＝ｎｘ（ｂ）−ｎｚ（ｂ）であり、ｎｘ（ｂ）は透明高分子フィルム層の面内の最大屈折率、ｎｚ（ｂ）は透明高分子フィルム層の厚み方向屈折率を示す。尚、Δｎは、実施例記載の方法により測定されるものである。
前記式（２）の条件を満たす光学フィルムは、画像表示装置に使用した際に於ける表示ムラが極めて少なくなる。即ち、黒表示における虹ムラ等が低減され、視認性が大幅に向上するという利点を有している。
【００３１】
前記非液晶ポリマーとしては、例えば、耐熱性、耐薬品性、透明性に優れ、剛性にも富むことから、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミド、ポリエステルイミドから選ばれる少なくとも一種のポリマーが好ましい。これらのポリマーは、いずれか一種類を単独で使用してもよいし、例えば、ポリエーテルケトンとポリアミドとの混合物のように、異なる官能基を持つ２種以上を混合して使用してもよい。
また、これらのポリマーによれば、その優れた耐熱性、耐薬品性、剛性によって複屈折層を薄肉とすることができることから、光学フィルムは薄肉なものとなりうる。
これらのポリマーの中でも、高透明性、高配向性、高延伸性であることから、ポリイミドが特に好ましい。
前記ポリマーの分子量は、特に制限されないが、例えば重量平均分子量（Ｍｗ）が１,０００〜１,０００,０００の範囲であることが好ましく、より好ましくは２,０００〜５００,０００の範囲である。
【００３２】
前記ポリイミドとしては、例えば、面内配向性が高く、有機溶剤に可溶なポリイミドが好ましい。具体的には、例えば、特表２０００−５１１２９６号公報に開示された、９，９−ビス（アミノアリール）フルオレンと芳香族テトラカルボン酸二無水物との縮合重合生成物を含み、下記化学式（１）に示す繰り返し単位を１つ以上含むポリマーが好ましい。
【００３３】
【化１】
2008003573.tif 000003
【００３４】
前記化学式（１）中、Ｒ3〜Ｒ6は、水素、ハロゲン、フェニル基、１〜４個のハロゲン原子又はＣ1〜10（炭素数１〜１０）のアルキル基で置換されたフェニル基、及びＣ1〜10のアルキル基からなる群からそれぞれ独立に選択される少なくとも一種類の置換基である。好ましくは、Ｒ3〜Ｒ6は、ハロゲン、フェニル基、１〜４個のハロゲン原子又はＣ1〜10のアルキル基で置換されたフェニル基、及びＣ1〜10のアルキル基からなる群からそれぞれ独立に選択される少なくとも一種類の置換基である。
【００３５】
前記化学式（１）中、Ｚは、例えば、Ｃ6〜20の４価芳香族基であり、好ましくは、ピロメリット基、多環式芳香族基、多環式芳香族基の誘導体、又は、下記化学式（２）で表される基である。
【００３６】
【化２】
2008003573.tif 000004
【００３７】
前記化学式（２）中、Ｚ'は、例えば、共有結合、Ｃ（Ｒ7）2基、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ2基、Ｓｉ（Ｃ2Ｈ5）2基、又は、ＮＲ8基であり、複数の場合、それぞれ同一であっても異なっていても良い。
また、Ｗは、１〜１０までの整数を表す。Ｒ7は、それぞれ独立に、水素又はＣ（Ｒ9）3である。Ｒ8は、水素、炭素原子数１〜２０のアルキル基、又はＣ6〜20のアリ−ル基であり、複数の場合、それぞれ同一であっても異なっていても良い。Ｒ9は、それぞれ独立に、水素、フッ素、又は塩素である。
【００３８】
前記多環式芳香族基としては、例えば、ナフタレン、フルオレン、ベンゾフルオレン又はアントラセンから誘導される４価の基を挙げることができる。また、前記多環式芳香族基の置換誘導体としては、例えば、Ｃ1〜10のアルキル基、そのフッ素化誘導体、及びＦやＣｌ等のハロゲンからなる群から選択される少なくとも一つの基で置換された前記多環式芳香族基を挙げることができる。
【００３９】
この他にも、例えば、特表平８−５１１８１２号公報に記載された、繰り返し単位が下記化学式（３）又は（４）で示されるホモポリマーや、繰り返し単位が下記化学式（５）で示されるポリイミド等を挙げることができる。尚、下記化学式（５）のポリイミドは、下記化学式（３）のホモポリマーの好ましい形態である。
【００４０】
【化３】
2008003573.tif 000005
【００４１】
【化４】
2008003573.tif 000006
【００４２】
【化５】
2008003573.tif 000007
【００４３】
前記化学式（３）〜（５）中、Ｇ及びＧ'は、例えば、共有結合、ＣＨ2基、Ｃ（ＣＨ3）2基、Ｃ（ＣＦ3）2基、Ｃ（ＣＸ3）2基（ここで、Ｘは、ハロゲンである。）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ2基、Ｓｉ（ＣＨ2ＣＨ2）2基、及び、Ｎ（ＣＨ3）基からなる群から、それぞれ独立して選択される基を表し、それぞれ同一でも異なってもよい。
【００４４】
前記化学式（３）及び式（５）中、Ｌは、置換基であり、ｄ及びｅは、その置換数を表す。Ｌは、例えば、ハロゲン、Ｃ1〜3のアルキル基、Ｃ1〜3のハロゲン化アルキル基、フェニル基、又は、置換フェニル基であり、複数の場合、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。前記置換フェニル基としては、例えば、ハロゲン、Ｃ1〜3のアルキル基、及びＣ1〜3のハロゲン化アルキル基からなる群から選択される少なくとも一種類の置換基を有する置換フェニル基を挙げることができる。また、前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素を挙げることができる。ｄは、０〜２までの整数であり、ｅは、０〜３までの整数である。
【００４５】
前記化学式（３）〜（５）中、Ｑは置換基であり、ｆはその置換数を表す。Ｑとしては、例えば、水素、ハロゲン、アルキル基、置換アルキル基、ニトロ基、シアノ基、チオアルキル基、アルコキシ基、アリール基、置換アリール基、アルキルエステル基、及び置換アルキルエステル基からなる群から選択される原子又は基であって、Ｑが複数の場合、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素を挙げることができる。前記置換アルキル基としては、例えば、ハロゲン化アルキル基を挙げることができる。
また前記置換アリール基としては、例えば、ハロゲン化アリール基を挙げることができる。ｆは、０〜４までの整数であり、ｇ及びｈは、それぞれ０〜３及び１〜３までの整数である。また、ｇ及びｈは、１より大きいことが好ましい。
【００４６】
前記化学式（４）中、Ｒ10及びＲ11は、水素、ハロゲン、フェニル基、置換フェニル基、アルキル基、及び置換アルキル基からなる群から、それぞれ独立に選択される基である。
その中でも、Ｒ10及びＲ11は、それぞれ独立に、ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
【００４７】
前記化学式（５）中、Ｍ1及びＭ2は、同一であるか又は異なり、例えば、ハロゲン、Ｃ1〜3のアルキル基、Ｃ1〜3のハロゲン化アルキル基、フェニル基、又は、置換フェニル基である。
前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素を挙げることができる。
また、前記置換フェニル基としては、例えば、ハロゲン、Ｃ1〜3のアルキル基、及びＣ1〜3のハロゲン化アルキル基からなる群から選択される少なくとも一種類の置換基を有する置換フェニル基を挙げることができる。
【００４８】
前記化学式（３）に示すポリイミドの具体例としては、例えば、下記化学式（６）で表されるもの等を挙げることができる。
【００４９】
【化６】
2008003573.tif 000008
【００５０】
さらに、前記ポリイミドとしては、例えば、前述のような骨格（繰り返し単位）以外の酸二無水物やジアミンを、適宜共重合させたコポリマーを挙げることができる。
【００５１】
前記酸二無水物としては、例えば、芳香族テトラカルボン酸二無水物を挙げることができる。前記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ピロメリット酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物、２，２'−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等を挙げることができる。
【００５２】
前記ピロメリット酸二無水物としては、例えば、非置換のピロメリット酸二無水物、３，６−ジフェニルピロメリット酸二無水物、３，６−ビス（トリフルオロメチル）ピロメリット酸二無水物、３，６−ジブロモピロメリット酸二無水物、３，６−ジクロロピロメリット酸二無水物等を挙げることができる。前記ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、３，３'，４，４'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，３，３'，４'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２'，３，３'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物等を挙げることができる。前記ナフタレンテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、２，３，６，７−ナフタレン−テトラカルボン酸二無水物、１，２，５，６−ナフタレン−テトラカルボン酸二無水物、２，６−ジクロロ−ナフタレン−１，４，５，８−テトラカルボン酸二無水物等を挙げることができる。前記複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、チオフェン−２，３，４，５−テトラカルボン酸二無水物、ピラジン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物、ピリジン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物等を挙げることができる。前記２，２'−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、２，２'−ジブロモ−４，４'，５，５'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２'−ジクロロ−４，４'，５，５'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２'−ビス（トリフルオロメチル）−４，４'，５，５'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等を挙げることができる。
【００５３】
また、前記芳香族テトラカルボン酸二無水物のその他の例としては、３，３'，４，４'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、ビス（２，５，６−トリフルオロ−３，４−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン二無水物、４，４'−（３，４−ジカルボキシフェニル）２，２−ジフェニルプロパン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物、４，４'−オキシジフタル酸二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホン酸二無水物（３，３'，４，４'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物）、４，４'−［４，４'−イソプロピリデン−ジ（ｐ−フェニレンオキシ）］ビス（フタル酸無水物）、Ｎ，Ｎ−（３，４−ジカルボキシフェニル）−Ｎ−メチルアミン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ジエチルシラン二無水物等を挙げることができる。
【００５４】
これらの中でも、前記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、２，２'−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物が好ましく、より好ましくは、２，２'−ビス（トリハロメチル）−４，４'，５，５'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物であり、さらに好ましくは、２，２'−ビス（トリフルオロメチル）−４，４'，５，５'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物である。
【００５５】
前記ジアミンとしては、例えば、芳香族ジアミンを挙げることができ、具体例としては、ベンゼンジアミン、ジアミノベンゾフェノン、ナフタレンジアミン、複素環式芳香族ジアミン、及びその他の芳香族ジアミンを挙げることができる。
【００５６】
前記ベンゼンジアミンとしては、例えば、ｏ−、ｍ−及びｐ−フェニレンジアミン、２，４−ジアミノトルエン、１，４−ジアミノ−２−メトキシベンゼン、１，４−ジアミノ−２−フェニルベンゼン及び１，３−ジアミノ−４−クロロベンゼンのようなベンゼンジアミンから成る群から選択されるジアミン等を挙げることができる。前記ジアミノベンゾフェノンの例としては、２，２'−ジアミノベンゾフェノン、及び３，３'−ジアミノベンゾフェノン等を挙げることができる。前記ナフタレンジアミンとしては、例えば、１，８−ジアミノナフタレン、及び１，５−ジアミノナフタレン等を挙げることができる。前記複素環式芳香族ジアミンの例としては、２，６−ジアミノピリジン、２，４−ジアミノピリジン、及び２，４−ジアミノ−Ｓ−トリアジン等を挙げることができる。
【００５７】
また、前記芳香族ジアミンとしては、これらの他に、４，４'−ジアミノビフェニル、４，４'−ジアミノジフェニルメタン、４，４'−（９−フルオレニリデン）−ジアニリン、２，２'−ビス（トリフルオロメチル）−４，４'−ジアミノビフェニル、３，３'−ジクロロ−４，４'−ジアミノジフェニルメタン、２，２'−ジクロロ−４，４'−ジアミノビフェニル、２，２'，５，５'−テトラクロロベンジジン、２，２−ビス（４−アミノフェノキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、４，４'−ジアミノジフェニルエ−テル、３，４'−ジアミノジフェニルエーテル、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４'−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル、４，４'−ビス（３−アミノフェノキシ）ビフェニル、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］−１，１，１，３，３，３−へキサフルオロプロパン、４，４'−ジアミノジフェニルチオエーテル、４，４'−ジアミノジフェニルスルホン等を挙げることができる。
【００５８】
前記複屈折層の成膜材料である前記ポリエーテルケトンとしては、例えば、特開２００１−４９１１０号公報に記載された、下記化学式（７）で表されるポリアリールエーテルケトンを挙げることができる。
【００５９】
【化７】
2008003573.tif 000009
【００６０】
前記化学式（７）中、Ｘは、置換基を表し、ｑは、その置換数を表す。Ｘは、例えば、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン化アルキル基、低級アルコキシ基、又は、ハロゲン化アルコキシ基であり、Ｘが複数の場合、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
【００６１】
前記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、臭素原子、塩素原子及びヨウ素原子があげられ、これらの中でも、フッ素原子が好ましい。前記低級アルキル基としては、例えば、Ｃ1〜6の直鎖又は分岐鎖を有する低級アルキル基が好ましく、より好ましくはＣ1〜4の直鎖又は分岐鎖のアルキル基である。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、及び、ｔｅｒｔ−ブチル基が好ましく、特に好ましくは、メチル基及びエチル基である。前記ハロゲン化アルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基等の前記低級アルキル基のハロゲン化物を挙げることができる。前記低級アルコキシ基としては、例えば、Ｃ1〜6の直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基が好ましく、より好ましくはＣ1〜4の直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基である。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、及び、ｔｅｒｔ−ブトキシ基がさらに好ましく、特に好ましくはメトキシ基及びエトキシ基である。前記ハロゲン化アルコキシ基としては、例えば、トリフルオロメトキシ基等の前記低級アルコキシ基のハロゲン化物を挙げることができる。
【００６２】
前記化学式（７）中、ｑは、０〜４までの整数である。前記式（７）においては、ｑ＝０であり、かつ、ベンゼン環の両端に結合したカルボニル基とエーテルの酸素原子とが互いにパラ位に存在することが好ましい。
【００６３】
また、前記化学式（７）中、Ｒ1は、下記化学式（８）で表される基であり、ｍは、０又は１の整数である。
【００６４】
【化８】
2008003573.tif 000010
【００６５】
前記化学式（８）中、Ｘ'は置換基を表し、例えば、前記化学式（７）におけるＸと同様である。前記式（８）において、Ｘ'が複数の場合、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。ｑ'は、前記Ｘ'の置換数を表し、０〜４までの整数であって、ｑ'＝０が好ましい。また、ｐは、０又は１の整数である。
【００６６】
前記化学式（８）中、Ｒ2は、２価の芳香族基を表す。この２価の芳香族基としては、例えば、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基、又は、ナフタレン、ビフェニル、アントラセン、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−テルフェニル、フェナントレン、ジベンゾフラン、ビフェニルエーテル、もしくは、ビフェニルスルホンから誘導される２価の基等を挙げることができる。これらの２価の芳香族基において、芳香族に直接結合している水素が、ハロゲン原子、低級アルキル基又は低級アルコキシ基で置換されてもよい。これらの中でも、前記Ｒ2としては、下記化学式（９）〜（１５）からなる群から選択される芳香族基が好ましい。
【００６７】
【化９】
2008003573.tif 000011
【００６８】
前記化学式（７）中、前記Ｒ1としては、下記化学式（１６）で表される基が好ましく、下記化学式（１６）において、Ｒ2及びｐは前記化学式（８）と同義である。
【００６９】
【化１０】
2008003573.tif 000012
【００７０】
また、前記化学式（７）中、ｎは重合度を表し、例えば、２〜５,０００の範囲であり、好ましくは、５〜５００の範囲である。また、その重合は、同じ構造の繰り返し単位からなるものであってもよく、異なる構造の繰り返し単位からなるものであってもよい。後者の場合には、繰り返し単位の重合形態は、ブロック重合であってもよいし、ランダム重合でもよい。
【００７１】
さらに、前記化学式（７）で示されるポリアリールエーテルケトンの末端は、ｐ−テトラフルオロベンゾイレン基側がフッ素であり、オキシアルキレン基側が水素原子であることが好ましく、このようなポリアリールエーテルケトンは、例えば、下記化学式（１７）で表すことができる。尚、下記化学式において、ｎは前記化学式（７）と同様の重合度を表す。
【００７２】
【化１１】
2008003573.tif 000013
【００７３】
前記化学式（７）で示されるポリアリールエーテルケトンの具体例としては、下記化学式（１８）〜（２１）で表されるもの等があげられ、下記各化学式において、ｎは、前記化学式（７）と同様の重合度を表す。
【００７４】
【化１２】
2008003573.tif 000014
【００７５】
【化１３】
2008003573.tif 000015
【００７６】
【化１４】
2008003573.tif 000016
【００７７】
【化１５】
2008003573.tif 000017
【００７８】
また、これらの他に、前記複屈折層の成膜材料である非液晶ポリマーたるポリアミド又はポリエステルとしては、例えば、特表平１０−５０８０４８号公報に記載されるポリアミドやポリエステルがあげられ、それらの繰り返し単位は、例えば、下記化学式（２２）で表すことができる。
【００７９】
【化１６】
2008003573.tif 000018
【００８０】
前記化学式（２２）中、Ｙは、Ｏ又はＮＨである。また、Ｅは、例えば、共有結合、Ｃ2のアルキレン基、ハロゲン化Ｃ2アルキレン基、ＣＨ2基、Ｃ（ＣＸ3）2基（ここで、Ｘはハロゲン又は水素である。）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ2基、Ｓｉ（Ｒ）2基、及び、Ｎ（Ｒ）基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の基であり、それぞれ同一でもよいし異なってもよい。
前記Ｅにおいて、Ｒは、Ｃ1〜3のアルキル基及びＣ1〜3のハロゲン化アルキル基の少なくとも一種類であり、カルボニル官能基又はＹ基に対してメタ位又はパラ位にある。
【００８１】
また、前記化学式（２２）中、Ａ及びＡ'は、置換基であり、ｔ及びｚは、それぞれの置換数を表す。また、ｐは、０〜３までの整数であり、ｑは、１〜３までの整数であり、ｒは、０〜３までの整数である。
【００８２】
前記Ａは、例えば、水素、ハロゲン、Ｃ1〜3のアルキル基、Ｃ1〜3のハロゲン化アルキル基、ＯＲ（ここで、Ｒは、前記定義のものである。）で表されるアルコキシ基、アリール基、ハロゲン化等による置換アリール基、Ｃ1〜9のアルコキシカルボニル基、Ｃ1〜9のアルキルカルボニルオキシ基、Ｃ1〜12のアリ−ルオキシカルボニル基、Ｃ1〜12のアリ−ルカルボニルオキシ基及びその置換誘導体、Ｃ1〜12のアリ−ルカルバモイル基、並びに、Ｃ1〜12のアリ−ルカルボニルアミノ基及びその置換誘導体からなる群から選択され、複数の場合、それぞれ同一であるか又は異なる。前記Ａ'は、例えば、ハロゲン、Ｃ1〜3のアルキル基、Ｃ1〜3のハロゲン化アルキル基、フェニル基及び置換フェニル基からなる
群から選択され、複数の場合、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。前記置換フェニル基のフェニル環上の置換基としては、例えば、ハロゲン、Ｃ1〜3のアルキル基、Ｃ1〜3のハロゲン化アルキル基及びこれらの組み合わせを挙げることができる。前記ｔは、０〜４までの整数であり、前記ｚは、０〜３までの整数である。
【００８３】
前記化学式（２２）で表されるポリアミド又はポリエステルの繰り返し単位の中でも、下記化学式（２３）で表されるものが好ましい。
【００８４】
【化１７】
2008003573.tif 000019
【００８５】
前記化学式（２３）中、Ａ、Ａ'及びＹは、前記化学式（２２）で定義したものであり、ｖは０〜３の整数、好ましくは、０〜２の整数である。ｘ及びｙは、それぞれ０又は１であるが、共に０であることはない。
【００８６】
また、ポリエステルとしては、繰り返し単位が下記化学式（２４）（２５）で表されるものであってもよい。
【００８７】
【化１８】
2008003573.tif 000020
【００８８】
前記化学式（２４）（２５）中、Ｘ及びＹは、置換基である。該Ｘは、水素、塩素及び臭素からなる群から選択される。また、該Ｙは、下記化学式（２６）（２７）（２８）（２９）からなる群から選択される。
【００８９】
【化１９】
2008003573.tif 000021
【００９０】
更に、ポリエステルとしては、前記化学式（２４）（２５）で表されるポリエステルを組み合わせたコポリマ−であってもよい。
【００９１】
前記複屈折層は、通常、上述の如き非液晶ポリマーを、密着層上に塗布することにより、前記密着層上に形成される。
前記非液晶ポリマーを塗布する方法としては、特に制限されないが、例えば、前記非液晶ポリマーを加熱溶融して塗布する方法や、前記非液晶ポリマーを溶媒に溶解又は分散させた非液晶ポリマーの溶液を塗布する方法が挙げられる。その中でも、作業性に優れることから、非液晶ポリマーの溶液を塗布する方法が好ましい。
【００９２】
前記非液晶ポリマーの溶液におけるポリマー濃度は、特に制限されないが、例えば、塗布が容易な粘度となることから、溶媒１００重量部に対して、例えば、前記非液晶ポリマーが５〜５０重量部であることが好ましく、より好ましくは１０〜４０重量部である。
【００９３】
前記非液晶ポリマーの溶液の溶媒としては、非液晶ポリマー等の形成材料を溶解又は分散させることができれば特に制限されず、非液晶ポリマーの種類に応じて適宜決定される。具体例としては、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、オルソジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類；フェノール、バラクロロフェノール等のフェノール類；ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、１，２−ジメトキシベンゼン等の芳香族炭化水素類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等のケトン系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒；ｔ−ブチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、２−メチル−２，４−ペンタンジオールのようなアルコール系溶媒；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド系溶媒；アセトニトリル、ブチロニトリルのようなニトリル系溶媒；ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフランのようなエーテル系溶媒；あるいは二硫化炭素、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ等が挙げられる。これらの溶媒は、一種類のみを用いてもよいし、二種類以上を併用してもよい。
【００９４】
これらの溶媒の中でも、均一な塗布が可能となる点から、非液晶ポリマーを溶解させる溶媒が好ましい。
更に、非液晶ポリマーを溶解させる溶媒の中でもメチルイソブチルケトンが特に好ましい。
一般に、非液晶ポリマーを溶解させる溶媒は、透明高分子フィルム層を構成する高分子に対しても溶解力が高いため、このような溶媒を用いた場合、溶媒が密着層を浸透して透明高分子フィルム層表面を荒らす（部分的に溶解させる）こととなり、結果的に、積層フィルムに多くの皺やうねりが発生するという問題が生じることとなる。特に、このような問題は、非液晶ポリマーとしてポリイミドを用い、透明高分子フィルムとしてトリアセチルセルロースフィルムを用いた場合に非常に顕著となる。
しかしながら、メチルイソブチルケトンは、非液晶ポリマー（特にポリイミド）に対して溶解力が優れているにもかかわらず、透明高分子フィルム（特に、トリアセチルセルロースフィルム）の表面を荒らすことが殆ど無いため、溶媒として、メチルイソブチルケトンを用いた場合には、皺やうねりが殆ど無く平滑性に優れた積層フィルムを得ることができる。
【００９５】
前記非液晶ポリマーの溶液には、例えば、必要に応じて、さらに、安定剤、可塑剤、金属類等の種々の添加剤が配合されていてもよい。
【００９６】
また、前記非液晶ポリマーの溶液には、例えば、非液晶ポリマーの配向性等が著しく低下しない範囲で、異なる他の樹脂が配合されていてもよい。前記他の樹脂としては、例えば、各種汎用樹脂、エンジニアリングプラスチック、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等が挙げられる。
【００９７】
前記汎用樹脂としては、例えば、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ＡＢＳ樹脂、およびＡＳ樹脂等が挙げられる。前記エンジニアリングプラスチックとしては、例えば、ポリアセテート（ＰＯＭ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアミド（ＰＡ：ナイロン）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、およびポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）等が挙げられる。前記熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリケトン（ＰＫ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリシクロヘキサンジメタノールテレフタレート（ＰＣＴ）、ポリアリレート（ＰＡＲ）、液晶ポリマー（ＬＣＰ）等が挙げられる。前記熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノールノボラック樹脂等が挙げられる。
【００９８】
このように、他の樹脂等を前記ポリマー溶液に配合する場合、その配合量は、例えば、非液晶ポリマーに対して、５０質量％以下であり、好ましくは、３０質量％以下である。
【００９９】
前記非液晶ポリマーの溶液を塗布する方法としては、例えば、スピンコート法、ロールコート法、フローコート法、プリント法、ディップコート法、流延成膜法、バーコート法、グラビア印刷法等が挙げられる。また、塗布に際しては、必要に応じて、ポリマー層の重畳方式も採用できる。
【０１００】
前記非液晶ポリマーの溶液が塗布されたフィルムは、例えば、加熱処理が施されて溶媒が除去される。更に、加熱処理により収縮され、この収縮に伴って、非液晶ポリマーの塗工膜が収縮することにより、非液晶ポリマーの複屈折層が形成される。
前記加熱処理の条件としては、特に制限されず、例えば、透明高分子フィルムの材料、種類等によって適宜決定されるが、通常、加熱温度が２５〜３００℃の範囲であり、好ましくは５０〜２００℃の範囲であり、特に好ましくは６０〜１８０℃の範囲である。
【０１０１】
前記加熱処理後において、前記複屈折層中に残存する溶媒は、その量に比例して光学フィルムの光学特性を経時的に変化させるおそれがあるため、その残存量は、例えば、５％以下が好ましく、より好ましくは２％以下であり、さらに好ましくは０．２％以下である。
【０１０２】
溶媒が除去された光学フィルムは、更に、光学二軸性等、所望の光学特性を付与すべく、延伸処理が施される。
延伸処理の方法は、特に制限されないが、例えば、長手方向に一軸延伸する自由端縦延伸、フィルムの長手方向を固定した状態で、幅方向に一軸延伸する固定端横延伸、長手方向および幅方向の両方に延伸を行う逐次または同時二軸延伸等の方法が挙げられる。
【０１０３】
これらの延伸処理は、例えば、透明高分子フィルと複屈折層（塗工膜）とを共に引っ張ることによって行ってもよいが、例えば、以下の理由から、前記透明高分子フィルムのみを引っ張ることが好ましい。即ち、透明高分子フィルムのみを延伸した場合、この延伸により透明高分子に発生する張力によって、前記塗工膜が間接的に延伸される。そして、塗工膜を延伸するよりも、透明高分子フィルムのみを延伸する方が、通常、均一な延伸となるため、これに伴って、塗工膜も均一に延伸できるためである。このとき、密着層による十分な密着性によって、塗工膜が剥離する虞がなく、また、その作用は明確でないものの、塗工膜に均一に張力が働くために、位相差値のバラツキまでもが低減される。
【０１０４】
延伸の条件としては、特に制限されず、例えば、透明高分子フィルムや非液晶ポリマーの種類等に応じて適宜決定されるが、具体例としては、延伸倍率は、１倍より大きく５倍以下が好ましく、より好ましくは、１倍より大きく４倍以下であり、特に好ましくは１倍より大きく３倍以下であり、延伸処理を行う温度（延伸温度）は、好ましくは８０℃〜１５０℃、より好ましくは９０℃〜１４０℃、特により好ましくは１００℃〜１３０℃である。
【０１０５】
前記複屈折層の延伸前又は延伸後の厚みは、特に限定されるものではないが、通常１〜３０μｍ、好ましくは、２〜２０μｍ、より好ましくは３〜１５μｍである。
【０１０６】
本実施形態に於ける光学フィルムは、透明高分子フィルムがトリアセチルセルロールフィルム又はＨＴフィルムであり且つ複屈折層がポリイミドにより形成されてなるものが好ましい。
ポリウレタン系樹脂は、トリアセチルセルロースフィルム、ＨＴフィルム及びポリイミドにより形成された複屈折層に対して非常に良好な密着性を呈することから、斯かる構成の光学フィルムは、透明高分子フィルム及び複屈折層に対して密着層が非常に強固に密着することとなり、透明高分子フィルムと複屈折層との剥離の虞がより一層少ないものとなる。
【０１０７】
本実施形態の光学フィルムは、偏光子と組み合わせることで偏光板として用いることができる。
前記偏光子としては、特に制限されず、従来の公知の方法により各種フィルムにヨウ素や二色染料等の二色性物質を吸着させて染色し、延伸、架橋、乾燥することにより作製したものを使用できる。
前記二色性物質を吸着させるフィルムとしては、例えばポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系フィルム、部分ホルマール化ＰＶＡフィルム、エチレン・酢酸ビニル供重合体系ケン化フィルム、セルロース系フィルム等の親水性高分子フィルム等が挙げられる。
本実施形態の光学フィルムと前記偏光子とを積層させて偏光板を作製する場合、積層には、例えば接着剤等を使用することができる。前記接着剤等としては、アクリル系・ビニルアルコール系・シリコーン系・ポリエステル系・ポリウレタン系・ポリエーテル系等のポリマー製感圧接着剤やゴム系感圧接着剤を挙げることができる。また、グルタルアルデヒド・メラミン・シュウ酸等のビニルアルコール系ポリマーの水溶性架橋剤等から構成される接着剤も使用できる。
【０１０８】
本実施形態の光学フィルムや該光学フィルムを含む偏光板は、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置、ＰＤＰ等の画像表示装置に於ける光学フィルムや偏光板として好ましく用いることができる。例えば、偏光板を液晶セル基板の片側あるいは両側に配置してなる反射型液晶表示装置や半透過型液晶表示装置、あるいは透過・反射両用型等の液晶表示装置の偏光板として用いることができる。
また、電圧の印加によって発光する有機発光層の表面側に透明電極を備えるとともに、有機発光層の裏面側に金属電極を備えてなる有機エレクトロルミネセンス発光体を含む有機ＥＬ表示装置においては、透明電極の表面側に設ける偏光板として、また、これら透明電極と偏光板との間に設ける位相差フィルムとして用いることもできる。
【実施例】
【０１０９】
以下、実施例及び比較例を挙げて本発明を更に詳述するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。
尚、各実施例及び比較例において、密着層厚みの測定及び光学フィルムの外観評価は、以下の方法で実施した。
【０１１０】
〈密着層の厚みの測定〉
波長７００〜９００ｎｍの光干渉法より計算（大塚電子製、自記分光光度計ＭＣＰＤ−２０００）した。
【０１１１】
〈光学フィルムの外観評価〉
〈外観評価１：官能評価〉
１０００ｍｍ×５００ｍｍの光学フィルムを偏光板（日東電工社製「ＳＥＧ１２２４ＤＵ」）で挟み、目視にて観察し、該観察領域に見られる濃淡の出現数の多さや濃淡自体の強さを判定基準として、濃淡の出現が少なく、弱い濃淡のもの、すなわち、外観が均一に観察される良好なものほど高い点数となるように、０点から７点までの８段階での評点を計４回実施して、その合計得点の平均値を計算により求めた。
このとき、視認側となる偏光板の吸収軸と光学フィルムの遅相軸が平行となり、背面側の偏光板の吸収軸が視認側の偏光板の吸収軸と直交するように配置して評価を行った。
〈外観評価２：透過外観〉
約７０ｍｍ×７０ｍｍの光学フィルムを用いて面内における輝度の標準偏差を測定した。
測定に際しては、上記光学フィルムをＴＤ方向に３５度傾斜させた状態で偏光板（日東電工社製「ＳＥＧ１２２４ＤＵ」）で挟み、写真撮影してビットマップデータを採取し、該ビットマップデータから約１ｍｍピッチで縦７１個所×横７１個所（合計５０４１個所）のピクセルの輝度を測定した。
このとき、視認側となる偏光板の吸収軸が光学フィルムの遅相軸に対して４５度の角度となるように配置し、背面側の偏光板の吸収軸が視認側の偏光板の吸収軸と直交するように配置して評価を行った。
また、写真撮影は、バックライト（電通産業社製「ＨＦ−ＳＬ−Ａ４１４ＬＣＧ」（２１０００ｃｄ））を垂直方向上方に向けて配置し、このバックライトから上方２４０ｍｍの位置に上記のように偏光板で挟持された光学フィルムを配置し、しかも、この偏光板で挟持された光学フィルムを仰角３５度の角度で傾斜した状態で配置し、さらにこの光学フィルムの上方６１０ｍｍの位置にカメラ（浜松ホトニクス社製「Ｃ７７８０−２０」）を取り付けて実施した。なお、レンズは、フジノン社製「ＭＡＦ３５Ｂ」を用いた。
このとき、レンズの下端部と光学フィルムまでの距離は４１０ｍｍであった。
前記ピクセルの輝度としては、ＲＧＢの内のＧ（緑）チャンネルの輝度を測定した。
次いで、この縦７１個所×横７１個所の緑チャンネル輝度データを縦９個所×横９個所の領域による移動平均を行い、移動平均前の輝度データから、移動平均後の輝度データを減じることにより当初の傾斜状態の影響を除外する補正をして輝度バラツキデータとした。
さらに、この輝度バラツキデータの標準偏差を求めて透過外観の評価を実施した。
【０１１２】
（実施例１乃至３、比較例１および２）
帯状に形成された透明高分子フィルムにポリウレタン系樹脂溶液を連続的に塗布することにより、透明高分子フィルム層上に密着層を形成し、該密着層上にさらに非液晶ポリマーを塗布して複屈折層を形成し光学フィルムを作製した。
この光学フィルムの作製においては、帯状に形成された透明高分子フィルム上全面にポリウレタン系樹脂溶液をダイコート法により連続的に塗布し、その後、熱処理して乾燥させて、密着層を形成した。このとき、密着層の乾燥条件を変更することで下記表１に示すような面内の厚みの不均一な状態を形成させつつ約８００ｎｍ厚みの密着層を形成させた。（各実施例、比較例の密着層の厚みを、平均膜厚±５０ｎｍのレンジで表した画像を図１〜５に示す。）
さらにこの密着層の上に非液晶ポリマーをダイコート法により塗布し、熱処理して複屈折層を形成させ、実施例１乃至３、比較例１および２の光学フィルムを作製した。
この各実施例、比較例の光学フィルムは下記の構成材料を用い、密着層は、下記乾燥条件によって透明高分子フィルム層上に形成させた。
＜構成材料＞
１）透明高分子フィルム層：
トリアセチルセルロースフィルム（Δｎ≒０．０００８）を用いた。
２）密着層：
下記ポリウレタン樹脂が５重量％の濃度となるように下記溶媒に溶解されたポリウレタン系樹脂溶液を用いた。
ポリウレタン樹脂：ポリエステル系ポリウレタンである東洋紡社製、商品名「ＶＹＲＯＮ  ＵＲ−１４００」
溶媒：メチルイソブチルケトン
３）複屈折層：
２，２'−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン≒６ＦＤＡおよび２，２'−ビス（トリフルオロメチル）−４，４'−ジアミノビフェニル）≒ＰＦＭＢ≒ＴＦＭＢから合成されたΔｎ≒０．０４となるポリイミドを、溶媒としてメチルイソブチルケトンを用いて溶解した、ポリイミド１０重量％の溶液を用いた。
＜密着層形成条件＞
（実施例１）
ポリウレタン系樹脂溶液を用いて塗布工程を実施した後、透明高分子フィルムに２０℃の風を透明高分子フィルムの長手方向に沿って風速１．２ｍ／ｓで４５秒間風吹き付けて風当て工程を実施した。次いで、上流側から８０℃、１００℃、１１０℃、１２０℃の温度に保持された乾燥炉内を速度２０ｍ／ｓにて通過させて多段階に温度を上昇させて乾燥工程を実施して密着層を形成した。
このとき、多点風速計（日本カノマックス社製「ＳＹＳＴＥＭ６２４３」）に球状プローブ（同社製「０９６５−２１」）を用いて塗布面より３ｃｍ上方における透明高分子フィルムの長手方向の風速を測定したところ表１に示す通りであった。
（実施例２、３、比較例１、２）
風当て工程の条件をポリウレタン系樹脂溶液の塗布面より３ｃｍ上方における透明高分子フィルムの長手方向の風速が表１となるようにした以外は、実施例１と同様に密着層を形成した。
【０１１３】
【表１】
2008003573.tif 000022
※１：密着層を約７０ｍｍ×７０ｍｍの範囲において、透明高分子フィルムの長手方向と幅方向とに１ｍｍごとに５０４１個所（７１個所×７１個所）の厚み測定を行って求められた標準偏差値である。
※２：密着層を約７０ｍｍ×７０ｍｍの範囲において、透明高分子フィルムの長手方向と幅方向とに１ｍｍごとに５０４１個所（７１個所×７１個所）の厚み測定を行って、一旦、透明高分子フィルムの長手方向に並んで測定される７１個の厚みを算術平均して平均値を求め、この平均値を幅方向に７１個求めた場合のこの７１個の平均値の標準偏差である。
【０１１４】
上記実施例１乃至３、比較例１、２の光学フィルムの外観評価結果を下記表２に示す。
【０１１５】
【表２】
2008003573.tif 000023
※３：数値が高い程、良好なる外観であることを表す。
※４：数値が低い程、輝度バラツキが小さく良好なる外観であることを表す。
【０１１６】
表２から、透過外観の評価結果（面内における輝度の標準偏差）が１．３７５以下である場合には、官能評価としても高い得点が得られており、良好なる外観の光学フィルムとなっていることがわかる。しかも、密着層の乾燥後の面内厚みが、標準偏差１０ｎｍ以上であり且つ帯状の透明高分子フィルムの長手方向に平均されて求められる平均値が標準偏差８ｎｍ以下となるように形成されている実施例１、２は、密着層が平滑に形成されている場合（実施例３）に比べて良好な外観の（面内における輝度の標準偏差が１．３５５以下の）光学フィルムとなることもわかる。
また、このような光学フィルムが用いられることにより偏光板、液晶セル、液晶表示装置、画像表示装置も優れたものが得られることがわかる。
【図面の簡単な説明】
【０１１７】
【図１】実施例１の密着層の面内厚みをあらわす画像。
【図２】実施例２の密着層の面内厚みをあらわす画像。
【図３】実施例３の密着層の面内厚みをあらわす画像。
【図４】比較例１の密着層の面内厚みをあらわす画像。
【図５】比較例２の密着層の面内厚みをあらわす画像。
【図１】
2008003573.tif 000024
【図２】
2008003573.tif 000025
【図３】
2008003573.tif 000026
【図４】
2008003573.tif 000027
【図５】
2008003573.tif 000028