(57)【要約】      （修正有）【課題】優れた除草活性を有する化合物の製造法と製造中間体を提供する。【解決手段】一般式2008088175.tif 000048[式中、Ｒ2は水素原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、Ｒ3は水素原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、Ｑは置換されていてもよいフェニル基を表す。]で示されるカルボン酸エステル誘導体を用いる、ピリダジン−３−オン誘導体の製造法及び一般式で示されるカルボン酸エステル誘導体の製造方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式  化１
【化１】
2008088175.tif 000044
[式中、Ｒ2は水素原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、Ｒ3は水素原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、Ｑは一般式  化２
【化２】
2008088175.tif 000045
［式中、Ｘは水素原子またはハロゲン原子を表し、Ｙはハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基またはトリフルオロメチル基を表し、Ｚ1およびＺ2はそれぞれ酸素原子または硫黄原子を表し、
ｎは０または１を表し、
Ｒ4は水素原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、
Ｒ5はＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル）Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基、シアノＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、（Ｃ１−Ｃ３アルコキシ）（Ｃ１−Ｃ３アルコキシ）Ｃ１−Ｃ３アルキル基、カルボキシＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、｛（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルコキシ｝カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、−ＣＨ2ＣＯＮ（Ｒ12）Ｒ13基、−ＣＨ2ＣＯＯＮ（Ｒ12）Ｒ13基、−ＣＨ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）ＣＯＮ（Ｒ12）Ｒ13基、−ＣＨ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）ＣＯＯＮ（Ｒ12）Ｒ13基（ここで、Ｒ12およびＲ13はそれぞれ独立して水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、シアノＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、（Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、カルボキシＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６アルキル）カルボニルオキシＣ２−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６アルキル）カルボニルアミノＣ２−Ｃ６アルキル基、ヒドロキシＣ２−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいベンジル基、置換されていてもよいフェニル基または｛（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルキル｝カルボニルＣ１−Ｃ６アルキルを表すか、あるいは、Ｒ12とＲ13とでトリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、エチレンオキシエチレンまたはエチレンチオエチレンを表す。）、（Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基またはヒドロキシＣ１−Ｃ６アルキル基を表し、
Ｒ6はＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、シアノ基、カルボキシル基、ヒドロキシＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６アルキル）カルボニルオキシＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル）カルボニルオキシＣ１−Ｃ６アルキル基または（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）カルボニル基を表し、
Ｒ7は水素原子またはＣ１−Ｃ６アルキル基を表し、
Ｒ8はＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、ヒドロキシＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、（Ｃ１−Ｃ３アルコキシ）（Ｃ１−Ｃ３アルコキシ）Ｃ１−Ｃ３アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６アルキル）カルボニルオキシＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、カルボキシ基、カルボキシＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ８アルコキシ）カルボニル基、（Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ）カルボニル基、（Ｃ３−Ｃ１０シクロアルコキシ）カルボニル基、（Ｃ３−Ｃ８アルケニルオキシ）カルボニル基、（Ｃ３−Ｃ８アルキニルオキシ）カルボニル基、（Ｃ１−Ｃ６アルキル）アミノカルボニル基、ジ（Ｃ１−Ｃ６アルキル）アミノカルボニル基、（Ｃ１−Ｃ６アルキル）アミノカルボニルオキシＣ１−Ｃ６アルキル基またはジ（Ｃ１−Ｃ６アルキル）アミノカルボニルオキシＣ１−Ｃ６アルキル基を表し、
Ｂは、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、クロロスルホニル基、ＯＲ1基、ＳＲ1基、ＳＯ2ＯＲ21基、ＣＯＯＲ22基、ＣＲ23＝ＣＲ24ＣＯＯＲ25基またはＣＨ2ＣＨＷＣＯＯＲ25基を表わす。
{ここでＷは水素原子、塩素原子、または、臭素原子を表し、
Ｒ1は水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル基、ベンジル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基、シアノＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、（Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、カルボキシＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ８アルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、｛（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルコキシ｝カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル）（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、−ＣＨ2ＣＯＯＮ（Ｒ12）Ｒ13基、−ＣＨ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）ＣＯＯＮ（Ｒ12）Ｒ13基、−ＣＨ2ＣＯＮ（Ｒ12）Ｒ13基、−ＣＨ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）ＣＯＮ（Ｒ12）Ｒ13基
（ここで、Ｒ12とＲ13は前記と同じ意味を表す。）、
（Ｃ２−Ｃ６アルケニル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
（Ｃ３−Ｃ６アルキニル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
（Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６ハロアルキルチオ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
（Ｃ３−Ｃ６アルケニルチオ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニルチオ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
（Ｃ３−Ｃ６アルキニルチオ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニルチオ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
（Ｃ３−Ｃ８シクロアルキルチオ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロハロアルキルチオ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
（（Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル）Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
ジ（Ｃ１−Ｃ６アルキル）Ｃ＝ＮＯカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
（置換されていてもよいベンジルチオ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（置換されていてもよいフェニルチオ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
ヒドロキシ（Ｃ２−Ｃ６アルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
（Ｃ１−Ｃ６アルキル）カルボニルオキシ（Ｃ２−Ｃ６アルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
（Ｃ１−Ｃ６アルキル）カルボニルアミノ（Ｃ２−Ｃ６アルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
｛（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル｝オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、ヒドロキシＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシカルボニル基、Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキシカルボニル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、Ｃ１−Ｃ６アルキルカルボニル基、
置換されていてもよいベンジルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいフェノキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
置換されていてもよいフリルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいフリル（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
置換されていてもよいチエニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいチエニル（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
置換されていてもよいピロリルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいピロリルオキシ（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
置換されていてもよいイミダゾイルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいイミダゾイル（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
置換されていてもよいピラゾイルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいピラゾイル（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
置換されていてもよいチアゾイルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいチアゾイル（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
置換されていてもよいオキサゾイルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいオキサゾイル（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
置換されていてもよいイソチアゾイルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいイソチアゾイル（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
置換されていてもよいイソキサゾイルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいイソキサゾイル（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
置換されていてもよいピリジルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいピリジル（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
置換されていてもよいピラジニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいピラジニル（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
置換されていてもよいピリミジニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいピリミジニル（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
置換されていてもよいピリダジニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいピリダジニル（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
置換されていてもよいインドリジニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいインドリジニル（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
置換されていてもよいインドリルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいインドリル（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
置換されていてもよいインダゾリルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいインダゾリル（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
置換されていてもよいキノリルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいキノリル（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
置換されていてもよいイソキノリルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、または置換されていてもよいイソキノリル（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基を表すか、
一般式  化３
【化３】
2008088175.tif 000046
{式中、Ｒ14はＣ１−Ｃ５アルキル基を表し、Ｒ15は水素原子、ヒドロキシル基または−Ｏ−ＣＯＲ16で表される基（Ｒ16は、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいベンジル基、またはＣ１−Ｃ６アルコキシ基を表す。）を表す。}
で示される基を表すか、あるいは、一般式  化４
【化４】
2008088175.tif 000047
〈式中、Ｒ17は水素原子、ハロゲン原子またはＣ１−Ｃ６アルキル基を表し、
Ｒ18はＣ３−Ｃ８シクロアルキル基、ベンジル基、炭素鎖にエポキシ基を有するＣ２−Ｃ１０アルキル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル）Ｃ１−Ｃ６アルキル基、
（Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル）Ｃ２−Ｃ６アルケニル基、
同一の炭素原子がＯＲ19およびＯＲ20で置換されたＣ１−Ｃ６アルキル基、
同一の炭素原子がＯＲ19およびＯＲ20で置換されたＣ２−Ｃ６アルケニル基、
同一の炭素原子がＳＲ19およびＳＲ20で置換されたＣ１−Ｃ６アルキル基、
同一の炭素原子がＳＲ19およびＳＲ20で置換されたＣ２−Ｃ６アルケニル基
（ここでＲ19とＲ20はそれぞれ独立してＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基を表すか、Ｒ19とＲ20とで、ハロゲン原子で置換されていてもよいエチレン、ハロゲン原子で置換されていてもよいトリメチレン、ハロゲン原子で置換されていてもよいテトラメチレン、ハロゲン原子で置換されていてもよいペンタメチレンまたはハロゲン原子で置換されていてもよいエチレンオキシエチレンを表す。）、
カルボキシＣ２−Ｃ６アルケニル基、
（Ｃ１−Ｃ８アルコキシ）カルボニルＣ２−Ｃ６アルケニル基、
（Ｃ１−Ｃ８ハロアルコキシ）カルボニルＣ２−Ｃ６アルケニル基、
｛（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルコキシ｝カルボニルＣ２−Ｃ６アルケニル基、または、
（Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキシ）カルボニルＣ２−Ｃ６アルケニル基を表す。〉で示される基を表し、
Ｒ21はＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基またはベンジル基を表し、
Ｒ22は水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル基、ベンジル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基、
シアノＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、（Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、カルボキシＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ８アルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、｛（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルコキシ｝カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６アルキル）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、{（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルキル}カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、−ＣＨ2ＣＯＯＮ（Ｒ26）Ｒ27基、−ＣＨ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）ＣＯＯＮ（Ｒ26）Ｒ27基、−ＣＨ2ＣＯＮ（Ｒ26）Ｒ27基、−ＣＨ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）ＣＯＮ（Ｒ26）Ｒ27基
（ここで、Ｒ26とＲ27はそれぞれ独立して水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、シアノＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、（Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、カルボキシＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基または、｛（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルキル｝カルボニルＣ１−Ｃ６アルキルを表すか、あるいは、Ｒ26とＲ27とでテトラメチレン、ペンタメチレン、またはエチレンオキシエチレンを表す。）、
{（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル}オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、またはヒドロキシＣ１−Ｃ６アルキル基を表し、
Ｒ23およびＲ24は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子またはＣ１−Ｃ６アルキル基を表し、
Ｒ25は水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル基またはＣ３−Ｃ６アルケニル基を表す。}]
で示されるＱ−１、Ｑ−２、Ｑ−３、Ｑ−４またはＱ−５を表す。］で示されるカルボン酸誘導体またはその塩。
【請求項２】
請求項１記載のカルボン酸誘導体またはその塩において、ＱがＱ−１であるカルボン酸誘導体またはその塩。
【請求項３】
請求項２記載のカルボン酸誘導体またはその塩において、Ｂが水素原子、ＯＲ1基またはＳＲ1基（Ｒ1は請求項１と同じ意味を表す。）であるカルボン酸誘導体またはその塩。
【請求項４】
請求項２記載のカルボン酸誘導体またはその塩において、Ｙがハロゲン原子であり、Ｂが水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニル基、ＯＲ1基またはＳＲ1基であり、ここで、そのＲ1が水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル基、ベンジル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基、シアノＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、（Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、カルボキシＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ８アルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、｛（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルコキシ｝カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシカルボニル基、Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキシカルボニル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基またはＣ１−Ｃ６アルキルカルボニル基であるカルボン酸誘導体またはその塩。
【請求項５】
請求項２記載のカルボン酸誘導体またはその塩において、ここで、そのＹがハロゲン原子であり、そのＢがＯＲ1基またはＳＲ1基であり、ここで、そのＲ1が水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、（Ｃ１−Ｃ８アルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基またはカルボキシＣ１−Ｃ６アルキル基であるカルボン酸誘導体またはその塩。
【請求項６】
請求項４に記載のカルボン酸誘導体またはその塩において、ＢがＯＲ1であるカルボン酸誘導体またはその塩。
【請求項７】
請求項５に記載のカルボン酸誘導体またはその塩において、ＢがＯＲ1であるカルボン酸誘導体またはその塩。
【請求項８】
請求項１、２、３、４、５、６または７記載のカルボン酸誘導体。
【請求項９】
塩がアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩またはアミン塩である請求項１、２、３、４、５、６または７記載のカルボン酸誘導体の塩。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カルボン酸誘導体、その製造法及びそれを用いるピリダジン−３−オン誘導体の製造法に関する。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００２】
式  化８
〔化８〕
2008088175.tif 000002
で示されるようなピリダジン−３−オン誘導体は、優れた除草活性を有しており、これらのピリダジン−３−オン誘導体の有利な製造方法の開発が望まれていた。
【課題を解決するための手段】
【０００３】
本発明者は、該ピリダジン−３−オン誘導体の有利な製造法を見いだすべく鋭意検討を重ねた結果、一般式  化９
〔化９〕
2008088175.tif 000003
[式中、Ｒ2は水素原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、Ｒ3は水素原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、Ｑは置換されていてもよいフェニル基を表す。]で示されるカルボン酸誘導体またはその塩が、前記の式  化８で示されるピリダジン-３-オン誘導体等に導けることから、その重要な中間体であることを見出し、本発明に至った。
即ち、本発明は、一般式  化９で示される化合物（以下、本発明化合物−１と記す）、本発明化合物−１の塩（以下、本発明化合物−２と記す）（尚、以下、本発明化合物−１と本発明化合物−２をあわせて、本発明化合物と総称する）、本発明化合物−１の製造法、及び本発明化合物−１から一般式  化１０
〔化１０〕
2008088175.tif 000004
[式中、Ｑ、Ｒ2およびＲ3は前記と同じ意味を表す。]
で示されるピリダジン-３-オン誘導体を製造する製造法を提供する。
【発明の効果】
【０００４】
本発明により、一般式  化１０で示されるピリダジン−３−オン誘導体を簡便に製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００５】
ここで、Ｑで表される置換されていてもよいフェニル基としては、例えば以下の一般式  化１１で示されるＱ−１、Ｑ−２、Ｑ−３、Ｑ−４またはＱ−５基があげられる。
〔化１１〕
2008088175.tif 000005
［式中、Ｘは水素原子またはハロゲン原子を表し、Ｙはハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基またはトリフルオロメチル基を表し、Ｚ1およびＺ2はそれぞれ酸素原子または硫黄原子を表し、
ｎは０または１を表し、
Ｒ4は水素原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、
Ｒ5はＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル）Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基、シアノＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、（Ｃ１−Ｃ３アルコキシ）（Ｃ１−Ｃ３アルコキシ）Ｃ１−Ｃ３アルキル基、カルボキシＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、｛（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルコキシ｝カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、−ＣＨ2ＣＯＮ（Ｒ12）Ｒ13基、−ＣＨ2ＣＯＯＮ（Ｒ12）Ｒ13基、−ＣＨ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）ＣＯＮ（Ｒ12）Ｒ13基、−ＣＨ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）ＣＯＯＮ（Ｒ12）Ｒ13基（ここで、Ｒ12およびＲ13はそれぞれ独立して水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、シアノＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、（Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、カルボキシＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６アルキル）カルボニルオキシＣ２−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６アルキル）カルボニルアミノＣ２−Ｃ６アルキル基、ヒドロキシＣ２−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいベンジル基、置換されていてもよいフェニル基または｛（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルキル｝カルボニルＣ１−Ｃ６アルキルを表すか、あるいは、Ｒ12とＲ13とでトリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、エチレンオキシエチレンまたはエチレンチオエチレンを表す。）、（Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基またはヒドロキシＣ１−Ｃ６アルキル基を表し、
Ｒ6はＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、シアノ基、カルボキシル基、ヒドロキシＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６アルキル）カルボニルオキシＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル）カルボニルオキシＣ１−Ｃ６アルキル基または（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）カルボニル基を表し、
Ｒ7 は水素原子またはＣ１−Ｃ６アルキル基を表し、
Ｒ8はＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、ヒドロキシＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、（Ｃ１−Ｃ３アルコキシ）（Ｃ１−Ｃ３アルコキシ）Ｃ１−Ｃ３アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６アルキル）カルボニルオキシＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、カルボキシ基、カルボキシＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ８アルコキシ）カルボニル基、（Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ）カルボニル基、（Ｃ３−Ｃ１０シクロアルコキシ）カルボニル基、（Ｃ３−Ｃ８アルケニルオキシ）カルボニル基、（Ｃ３−Ｃ８アルキニルオキシ）カルボニル基、（Ｃ１−Ｃ６アルキル）アミノカルボニル基、ジ（Ｃ１−Ｃ６アルキル）アミノカルボニル基、（Ｃ１−Ｃ６アルキル）アミノカルボニルオキシＣ１−Ｃ６アルキル基またはジ（Ｃ１−Ｃ６アルキル）アミノカルボニルオキシＣ１−Ｃ６アルキル基を表し、
Ｂは、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、クロロスルホニル基、ＯＲ1基、ＳＲ1基、ＳＯ2ＯＲ21基、ＣＯＯＲ22基、ＣＲ23＝ＣＲ24ＣＯＯＲ25基またはＣＨ2ＣＨＷＣＯＯＲ25基を表わす。
{ここでＷは水素原子、塩素原子、または、臭素原子を表し、
Ｒ1は水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル基、ベンジル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基、シアノＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、（Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、カルボキシＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ８アルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、｛（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルコキシ｝カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル）（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、−ＣＨ2ＣＯＯＮ（Ｒ12）Ｒ13基、−ＣＨ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）ＣＯＯＮ（Ｒ12）Ｒ13基、−ＣＨ2ＣＯＮ（Ｒ12）Ｒ13基、−ＣＨ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）ＣＯＮ（Ｒ12）Ｒ13基
（ここで、Ｒ12とＲ13は前記と同じ意味を表す。）、
（Ｃ２−Ｃ６アルケニル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
（Ｃ３−Ｃ６アルキニル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
（Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６ハロアルキルチオ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
（Ｃ３−Ｃ６アルケニルチオ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニルチオ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
（Ｃ３−Ｃ６アルキニルチオ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニルチオ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
（Ｃ３−Ｃ８シクロアルキルチオ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロハロアルキルチオ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
（（Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル）Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
ジ（Ｃ１−Ｃ６アルキル）Ｃ＝ＮＯカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
（置換されていてもよいベンジルチオ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（置換されていてもよいフェニルチオ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
ヒドロキシ（Ｃ２−Ｃ６アルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
（Ｃ１−Ｃ６アルキル）カルボニルオキシ（Ｃ２−Ｃ６アルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
（Ｃ１−Ｃ６アルキル）カルボニルアミノ（Ｃ２−Ｃ６アルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
｛（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル｝オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、ヒドロキシＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシカルボニル基、Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキシカルボニル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、Ｃ１−Ｃ６アルキルカルボニル基、
置換されていてもよいベンジルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいフェノキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
置換されていてもよいフリルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいフリル（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
置換されていてもよいチエニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいチエニル（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
置換されていてもよいピロリルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいピロリルオキシ（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
置換されていてもよいイミダゾイルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいイミダゾイル（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
置換されていてもよいピラゾイルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいピラゾイル（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
置換されていてもよいチアゾイルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいチアゾイル（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
置換されていてもよいオキサゾイルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいオキサゾイル（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
置換されていてもよいイソチアゾイルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいイソチアゾイル（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
置換されていてもよいイソキサゾイルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいイソキサゾイル（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
置換されていてもよいピリジルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいピリジル（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
置換されていてもよいピラジニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいピラジニル（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
置換されていてもよいピリミジニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいピリミジニル（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
置換されていてもよいピリダジニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいピリダジニル（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
置換されていてもよいインドリジニルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいインドリジニル（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
置換されていてもよいインドリルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいインドリル（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
置換されていてもよいインダゾリルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいインダゾリル（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
置換されていてもよいキノリルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、置換されていてもよいキノリル（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、
置換されていてもよいイソキノリルオキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、または置換されていてもよいイソキノリル（Ｃ１−Ｃ６アルキル）オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基を表すか、
一般式  化１２
〔化１２〕
2008088175.tif 000006
{式中、Ｒ14はＣ１−Ｃ５アルキル基を表し、Ｒ15は水素原子、ヒドロキシル基または−Ｏ−ＣＯＲ16で表される基（Ｒ16は、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいベンジル基、またはＣ１−Ｃ６アルコキシ基を表す。）を表す。}
で示される基を表すか、あるいは、一般式  化１３
〔化１３〕
2008088175.tif 000007
〈式中、Ｒ17は水素原子、ハロゲン原子またはＣ１−Ｃ６アルキル基を表し、
Ｒ18はＣ３−Ｃ８シクロアルキル基、ベンジル基、炭素鎖にエポキシ基を有するＣ２−Ｃ１０アルキル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル）Ｃ１−Ｃ６アルキル基、
（Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル）Ｃ２−Ｃ６アルケニル基、
同一の炭素原子がＯＲ19およびＯＲ20で置換されたＣ１−Ｃ６アルキル基、
同一の炭素原子がＯＲ19およびＯＲ20で置換されたＣ２−Ｃ６アルケニル基、
同一の炭素原子がＳＲ19およびＳＲ20で置換されたＣ１−Ｃ６アルキル基、
同一の炭素原子がＳＲ19およびＳＲ20で置換されたＣ２−Ｃ６アルケニル基
（ここでＲ19とＲ20はそれぞれ独立してＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基を表すか、Ｒ19とＲ20とで、ハロゲン原子で置換されていてもよいエチレン、ハロゲン原子で置換されていてもよいトリメチレン、ハロゲン原子で置換されていてもよいテトラメチレン、ハロゲン原子で置換されていてもよいペンタメチレンまたはハロゲン原子で置換されていてもよいエチレンオキシエチレンを表す。）、
カルボキシＣ２−Ｃ６アルケニル基、
（Ｃ１−Ｃ８アルコキシ）カルボニルＣ２−Ｃ６アルケニル基、
（Ｃ１−Ｃ８ハロアルコキシ）カルボニルＣ２−Ｃ６アルケニル基、
｛（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルコキシ｝カルボニルＣ２−Ｃ６アルケニル基、または、
（Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキシ）カルボニルＣ２−Ｃ６アルケニル基を表す。〉で示される基を表し、
Ｒ21はＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基またはベンジル基を表し、
Ｒ22は水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル基、ベンジル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基、
シアノＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、（Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、カルボキシＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ８アルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、｛（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルコキシ｝カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６アルキル）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、{（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルキル}カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、−ＣＨ2ＣＯＯＮ（Ｒ26）Ｒ27基、−ＣＨ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）ＣＯＯＮ（Ｒ26）Ｒ27基、−ＣＨ2ＣＯＮ（Ｒ26）Ｒ27基、−ＣＨ（Ｃ１−Ｃ４アルキル）ＣＯＮ（Ｒ26）Ｒ27基
（ここで、Ｒ26とＲ27はそれぞれ独立して水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６アルケニル基、Ｃ３−Ｃ６アルキニル基、シアノＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、（Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基、カルボキシＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、（Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基または、｛（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルキル｝カルボニルＣ１−Ｃ６アルキルを表すか、あるいは、Ｒ26とＲ27とでテトラメチレン、ペンタメチレン、またはエチレンオキシエチレンを表す。）、
{（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル}オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基、またはヒドロキシＣ１−Ｃ６アルキル基を表し、
Ｒ23およびＲ24は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子またはＣ１−Ｃ６アルキル基を表し、
Ｒ25は水素原子、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル基またはＣ３−Ｃ６アルケニル基を表す。}]
【０００６】
本発明化合物において、
ＸおよびＹで示されるハロゲン原子とはフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を意味し、
Ｒ2およびＲ3で示されるＣ１−Ｃ３アルキル基としては、メチル基、エチル基等があげられ、
Ｒ1で示される
Ｃ１−Ｃ６アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、イソブチル基、ブチル基、ｔ−ブチル基（ここで「ｔ」は［第３級］を示す：以下、同じ）、アミル基、イソアミル基、ｔ−アミル基等があげられ、
Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基としては、２−クロロエチル基、２−ブロモエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基等があげられ、
Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等があげられ、
Ｃ３−Ｃ６アルケニル基としては、アリル基、メタリル基、１−メチル−２−プロペニル基、３−ブテニル基、２−ブテニル基、３−メチル−２−ブテニル基、２−メチル−３−ブテニル基等があげられ、
Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基としては、２−クロロ−２−プロペニル基、３，３−ジクロロ−２−プロペニル基等があげられ、
Ｃ３−Ｃ６アルキニル基としては、プロパルギル基、１−メチル−２−プロピニル基、２−ブチニル基、１，１−ジメチル−２−プロピニル基等があげられ、
Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基としては、３−ブロモプロパルギル基等があげられ、
シアノＣ１−Ｃ６アルキニル基としては、シアノメチル基等があげられ、
（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基としては、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシメチル基、エトキシエチル基等があげられ、
（Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基としては、メチルチオメチル基、メチルチオエチル基等があげられ、
カルボキシＣ１−Ｃ６アルキル基としては、カルボキシメチル基、１−カルボキシエチル基、２−カルボキシエチル基等があげられ、
（Ｃ１−Ｃ８アルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、プロポキシカルボニルメチル基、イソプロポキシカルボニルメチル基、ブトキシカルボニルメチル基、イソブトキシカルボニルメチル基、ｔ−ブトキシカルボニルメチル基、アミルオキシカルボニルメチル基、イソアミルオキシカルボニルメチル基、ｔ−アミルオキシカルボニルメチル基、１−メトキシカルボニルエチル基、１−エトキシカルボニルエチル基、１−プロポキシカルボニルエチル基、１−イソプロポキシカルボニルエチル基、１−ブトキシカルボニルエチル基、１−イソブトキシカルボニルエチル基、１−ｔ−ブトキシカルボニルエチル基、１−アミルオキシカルボニルエチル基、１−イソアミルオキシカルボニルエチル基、１−ｔ−ブトキシカルボニルエチル基、１−アミルオキシカルボニルエチル基、１−イソアミルオキシカルボニルエチル基、１−ｔ−アミルオキシカルボニルエチル基等があげられ、
｛（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルコキシ｝カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、メトキシメトキシカルボニルメチル基、メトキシエトキシカルボニルメチル基、１−メトキシエトキシカルボニルエチル基等があげられ、
（Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、シクロブチルオキシカルボニルメチル基、シクロペンチルオキシカルボニルメチル基、シクロヘキシルオキシカルボニルメチル基、１−シクロブチルオキシカルボニルエチル基、１−シクロペンチルオキシカルボニルエチル基、１−シクロヘキシルオキシカルボニルエチル基等があげられ、
Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基またはｔ−ブトキシカルボニル基等があげられ、
Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシカルボニル基としては、２，２，２−トリクロロエチルカルボニル基等があげられ、
Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキシカルボニル基としては、シクロプロピルオキシカルボニル基、シクロブチルオキシカルボニル基等があげられ、
Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシカルボニル基としては、アリルオキシカルボニル基等があげられ、
｛（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル｝オキシカルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、（メトキシカルボニル）メトキシカルボニルメチル基、（エトキシカルボニル）メトキシカルボニルメチル基等があげられ、Ｒ12およびＲ13で示されるＣ１−Ｃ６アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等があげられ、
Ｒ4で示されるＣ１−Ｃ３アルキル基としては、メチル基等があげられ、
Ｒ5で示されるＣ１−Ｃ６アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、イソブチル基、ブチル基、イソアミル基等があげられ、
Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基としては、２−クロロエチル基、２−ブロモエチル基、３−クロロブチル基、３−ブロモブチル基、ジフルオロメチル基等が挙げられ、
（Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル）Ｃ１−Ｃ６アルキル基としては、シクロペンチルメチル基等があげられ、
Ｃ３−Ｃ６アルケニル基としては、アリル基、１−メチル−２−プロペニル基、３−ブテニル基、２−ブテニル基、３−メチル−２−ブテニル基、２−メチル−３−ブテニル基等があげられ、
Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基としては、２−クロロ−２−プロペニル基、３，３−ジクロロ−２−プロペニル基等があげられ、
Ｃ３−Ｃ６アルキニル基としては、プロパルギル基、１−メチル−２−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、１，１−ジメチル−２−プロピニル基等があげられ、
Ｃ３−Ｃ６ハロアルキニル基としては、３−ヨ−ド−２−プロピニル基、３−ブロモ−２−プロピニル基等があげられ、
シアノＣ１−Ｃ６アルキル基としては、シアノメチル基等があげられ、
（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基としては、メトキシメチル基、１−メトキシエチル基、エトキシメチル基等があげられ、
カルボキシＣ１−Ｃ６アルキル基としては、カルボキシメチル基、１−カルボキシエチル基、２−カルボキシエチル基等があげられ、
（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、プロポキシカルボニルメチル基、イソプロポキシカルボニルメチル基、ブトキシカルボニルメチル基、イソブトキシカルボニルメチル基、ｔ−ブトキシカルボニルメチル基、アミルオキシカルボニルメチル基、イソアミルオキシカルボニルメチル基、ｔ−アミルオキシカルボニルメチル基、１−メトキシカルボニルエチル基、１−エトキシカルボニルエチル基、１−プロポキシカルボニルエチル基、１−イソプロポキシカルボニルエチル基、１−ブトキシカルボニルエチル基、１−イソブトキシカルボニルエチル基、１−ｔ−ブトキシカルボニルエチル基、１−アミルオキシカルボニルエチル基、１−イソアミルオキシカルボニルエチル基、１−ｔ−ブトキシカルボニルエチル基等があげられ、
｛（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルコキシ｝カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、メトキシエトキシカルボニルメチル基、１−メトキシメトキシカルボニルエチル基等があげられ、
（Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、シクロブチルオキシカルボニルメチル基、シクロペンチルオキシカルボニルメチル基、シクロヘキシルオキシカルボニルメチル基、１−シクロブチルオキシカルボニルエチル基、１−シクロペンチルオキシカルボニルエチル基、１−シクロヘキシルオキシカルボニルエチル基等があげられ、
ヒドロキシＣ１−Ｃ６アルキル基としてはヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基等があげられ、
Ｒ6で示される、
Ｃ１−Ｃ６アルキル基としてはメチル基、エチル基等があげられ、
Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基としてはブロモメチル基、ジブロモメチル基、トリブロモメチル基、１−ブロモエチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基等があげられ、
ヒドロキシＣ１−Ｃ６アルキル基としてはヒドロキシメチル基等があげられ、
（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基としては、メトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、イソプロポキシメチル基等があげられ、
{（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）Ｃ１−Ｃ６アルコキシ}Ｃ１−Ｃ６アルキル基としては、メトキシメトキシメチル基、メトキシエトキシメチル基、エトキシメトキシメチル基等があげられ、
（Ｃ１−Ｃ６アルキル）カルボニルオキシＣ１−Ｃ６アルキル基としては、アセチルオキシメチル基、エチルカルボニルオキシメチル基、イソプロピルカルボニルオキシメチル基等があげられ、
（Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル）カルボニルオキシＣ１−Ｃ６アルキル基としては、トリフルオロアセチルオキシメチル基、クロロアセチルオキシメチル基、トリクロロアセチルオキシメチル基等があげられ、
（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）カルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、アミルオキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、イソアミルオキシカルボニル基等があげられ、
Ｒ7で示されるＣ１−Ｃ６アルキル基としてはメチル基等があげられ、
Ｒ8で示される、
Ｃ１−Ｃ６アルキル基としてはメチル基、エチル基等があげられ、
Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基としては、クロロメチル基、ブロモメチル基等があげられ、
ヒドルキシＣ１−Ｃ６アルキル基としてはヒドロキシメチル基等があげられ、
（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基としてはメトキシメチル基、エトキシメチル基、イソプロポキシメチル基、ブトキシメチル基、イソブトキシメチル基等があげられ、
（Ｃ１−Ｃ３アルコキシ）（Ｃ１−Ｃ３アルコキシ）Ｃ１−Ｃ３アルキル基としてはメトキシメトキシメチル基、メトキシエトキシメチル基、エトキシメトキシメチル基等があげられ、
（Ｃ１−Ｃ６アルキル）カルボニルオキシＣ１−Ｃ６アルキル基としてはアセチルオキシメチル基、エチルカルボニルオキシメチル基、イソプロピルカルボニルオキシメチル基等があげられ、
（Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては２−クロロエチルカルボニルオキシメチル基等があげられ、
カルボキシＣ１−Ｃ６アルキル基としてはカルボキシメチル基等があげられ、
（Ｃ１−Ｃ８アルコキシ）カルボニル基としてはメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、アミルオキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、イソアミルオキシカルボニル基等があげられ、
（Ｃ１−Ｃ６ハロアルコキシ）カルボニル基としては２−クロロエトキシカルボニル基、２−ブロモエトキシカルボニル基、３−クロロブトキシカルボニル基、１−クロロ−２−プロポキシカルボニル基、１，３−ジクロロ−２−プロポキシカルボニル基、２，２−ジクロロエトキシカルボニル基、２，２，２−トリフルオロエトキシカルボニル基、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基、２，２，２−トリブロモエトキシカルボニル基等があげられ、
（Ｃ３−Ｃ１０シクロアルコキシ）カルボニル基としてはシクロブチルオキシカルボニル基、シクロペンチルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等があげられ、
（Ｃ３−Ｃ８アルケニルオキシ）カルボニル基としてはアリルオキシカルボニル基、３−ブテニルオキシカルボニル基、１−メチル−２−プロペニルオキシカルボニル基等があげられ、
（Ｃ３−Ｃ８アルキニルオキシ）カルボニル基としてはプロパルギルオキシカルボニル基、３−ブチニルオキシカルボニル基、１−メチル−２−プロピニルオキシカルボニル基等があげられ、
（Ｃ１−Ｃ６アルキル）アミノカルボニル基としてはメチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基等があげられ、
ジ（Ｃ１−Ｃ６アルキル）アミノカルボニル基としてはジメチルアミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、ジイソプロピルアミノカルボニル基等があげられ、
（Ｃ１−Ｃ６アルキル）アミノカルボニルオキシＣ１−Ｃ６アルキル基としてはメチルアミノカルボニルオキシメチル基、エチルアミノカルボニルオキシメチル基、プロピルアミノカルボニルオキシメチル基等があげられ、
ジ（Ｃ１−Ｃ６アルキル）アミノカルボニルオキシＣ１−Ｃ６アルキル基としてはジメチルアミノカルボニルオキシメチル基、ジエチルアミノカルボニルオキシメチル基等があげられる。
Ｒ22で示される
Ｃ１−Ｃ６アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、イソブチル基、ブチル基、ｔ−ブチル基、アミル基、イソアミル基、ｔ−アミル基などが挙げられ、
Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基としては、２−クロロエチル基、２−ブロモエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基などが挙げられ、
Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等があげられ、
Ｃ３−Ｃ６アルケニル基としては、アリル基、１−メチル−２−プロペニル基、３−ブテニル基、２−ブテニル基、３−メチル−２−ブテニル基、２−メチル−３−ブテニル基等があげられ、
Ｃ３−Ｃ６ハロアルケニル基としては、２−クロロ−２−プロペニル基、３，３−ジクロロ−２−プロペニル基等があげられ、
Ｃ３−Ｃ６アルキニル基としては、プロパルギル基、１−メチル−２−プロピニル基、２−ブチニル基等があげられ、
Ｃ３−Ｃ6ハロアルキニル基としては、３−ブロモプロパルギル基等があげられ、
シアノＣ１−Ｃ６アルキル基としては、シアノエチル基等があげられ、
（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基としては、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシメチル基、エトキシエチル基等があげられ、
（Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ）Ｃ１−Ｃ４アルキル基としては、メチルチオエチル基等があげられ、
カルボキシＣ１−Ｃ６アルキル基としては、カルボキシメチル基、１−カルボキシエチル基、２−カルボキシエチル基等があげられ、
（Ｃ１−Ｃ８アルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、プロポキシカルボニルメチル基、イソプロポキシカルボニルメチル基、ブトキシカルボニルメチル基、イソブトキシカルボニルメチル基、ｔ−ブトキシカルボニルメチル基、アミルオキシカルボニルメチル基、イソアミルオキシカルボニルメチル基、ｔ−アミルオキシカルボニルメチル基、１−メトキシカルボニルエチル基、１−エトキシカルボニルエチル基、１−プロポキシカルボニルエチル基、１−イソプロポキシカルボニルエチル基、１−ブトキシカルボニルエチル基、１−イソブトキシカルボニルエチル基、１−ｔ−ブトキシカルボニルエチル基、１−アミルオキシカルボニルエチル基、１−イソアミルオキシカルボニルエチル基、１−ｔ−ブトキシカルボニルエチル基、１−アミルオキシカルボニルエチル基、１−イソアミルオキシカルボニルエチル基、１−ｔ−アミルオキシカルボニルエチル基等があげられ、
｛（Ｃ１−Ｃ４アルコキシ）Ｃ１−Ｃ４アルコキシ｝カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、メトキシメトキシカルボニルメチル基、メトキシエトキシカルボニルメチル基、１−メトキシエトキシカルボニルエチル基等があげられ、
（Ｃ３−Ｃ８シクロアルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基としては、シクロブチルオキシカルボニルメチル基、シクロペンチルオキシカルボニルメチル基、シクロヘキシルオキシカルボニルメチル基、１−シクロブチルオキシカルボニルエチル基、１−シクロペンチルオキシカルボニルエチル基、１−シクロヘキシルオキシカルボニルエチル基等があげられる。
Ｒ23およびＲ24で示される
Ｃ１−Ｃ６アルキル基としては、メチル基等があげられ、
ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子等があげられ、
Ｒ25で示される
Ｃ１−Ｃ６アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、イソブチル基、ブチル基、ｔ−ブチル基、アミル基、イソアミル基、ｔ−アミル基等が挙げられ、
Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基としては、２−クロロエチル基、２−ブロモエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基等が挙げられ、
Ｃ３−Ｃ８シクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等があげられ、
Ｃ３−Ｃ６アルケニル基としては、アリル基、１−メチル−２−プロペニル基、３−ブテニル基、２−ブテニル基、３−メチル−２−ブテニル基、２−メチル−３−ブテニル基等があげられる。
Ｒ26およびＲ27で示されるＣ１−Ｃ６アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等があげられる。
また、本発明化合物−２の塩としては、リチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、マグネシウム塩、カルシウム塩、メチルアミン塩、ジメチルアミン塩、トリメチルアミン塩、エチルアミン塩、ジエチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ジイソプロピルエチルアミン塩、トリ−ｎ−プロピルアミン塩、トリ−ｎ−ブチルアミン塩、ピリジン塩、４−ジメチルアミノピリジン塩、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン塩またはＮ，Ｎ−ジエチルアニリン塩等があげられる。
尚、本発明化合物には、二重結合に由来する幾可異性体、不斉炭素に由来する光学異性体及びジアステレオマ−が存在するが、本発明化合物には、これらの異性体及びその混合物も含まれる。
【０００７】
つぎに本発明化合物を製造する方法について説明する。
１）本発明化合物−１の製造法
本発明化合物−１は、一般式  化１４
〔化１４〕
2008088175.tif 000008
[式中ＱおよびＲ3は前記と同じ意味を表す。]
で示されるヒドラゾン化合物と一般式  化１５
〔化１５〕
Ｒ2ＣＨ（ＣＯＯＨ）2
[式中、Ｒ2は前記と同じ意味を表す。]
で示されるマロン酸誘導体とを、塩基の存在下に反応させることにより製造される。（以下、本発明工程１と称す）
本反応の反応条件としては次の本発明工程１−１または本発明工程１−２に示す条件があげられる。
【０００８】
Ｉ）本発明工程１−１
一般式  化１４で示されるヒドラゾン化合物と一般式  化１５で示されるマロン酸誘導体とを、第２級アミン、および、ピリジンまたはキノリンのいずれか１種以上の存在下に反応させる方法
該反応は、通常、ピリジンおよび／またはキノリン中で行われ、反応温度の範囲は、通常４０〜１４０℃であり、好ましくは、６０〜１００℃である。反応時間の範囲は瞬時〜２４時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式  化１４で示されるヒドラゾン化合物１モルに対して、式  化１５で示されるマロン酸誘導体は１〜１０モルであり、第２級アミンは０．１〜５モル、好ましくは０．８〜２モル、より好ましくは１〜２モルである。
第２級アミンとしては、ピペリジン、モルホリン、ピロリジン等の環状アミン類、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン等のジアルキルアミン類等があげられる。また、本反応においては共溶媒として、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、１，１，１−トリクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエ−テル等のエーテル類、アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソプロパノール等のアルコール類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物類あるいはその混合物を使用することも可能である。
【０００９】
ＩＩ）本発明工程１−２
一般式  化１４で示されるヒドラゾン化合物と一般式  化１５で示されるマロン酸誘導体とを、ジアルキルアニリン誘導体、第３級アミン類等の有機塩基等の塩基の存在下の反応させる方法
該反応は、無溶媒または溶媒中で行われ、反応温度の範囲は、通常２０〜２００℃好ましくは４０〜１５０℃である。反応時間の範囲は、通常瞬時〜７２時間である。
反応に供される試剤の量は、一般式  化１４で示されるヒドラゾン化合物１モルに対して、一般式  化１５で示されるマロン酸誘導体の量は、通常１〜１０モルであり、好ましくは１〜２モルであり、塩基の量は、一般式  化１５で示されるマロン酸誘導体１モルに対して通常、１モル〜大過剰量、好ましくは１〜１０モルである。
塩基としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン等のジアルキルアニリン誘導体、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ベンジルジメチルアミン、フェネチルジメチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン等の第３級アミン類等の有機塩基があげられ、好ましくはトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン等のトリアルキルアミン類である。
溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エ−テル等の炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、１，１，１−トリクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テル、メチル−ｔ−ブチルエ−テル等のエ−テル類、ピリジン、キノリン等の含窒素芳香族化合物、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル類、メタノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル、イソプロパノ−ル等のアルコ−ル類、水あるいはそれらの混合物などが挙げられる。
本発明工程１−１および１−２の反応終了後の反応液は、
（ｉ） 反応液をそのまま濃縮する。
（ii） 反応液を塩酸、希硫酸等の鉱酸の水溶液に注加するなどし、これを酸性条件下有機溶媒で抽出した後、有機層を乾燥、濃縮する。
（iii） 反応液を水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の塩基の水溶液に注加した後、アルカリ性条件下有機層を除去し、水層に塩酸、希硫酸等の鉱酸の水溶液を加えて溶液を酸性にした後、水層を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する。
等の後処理を行い、必要ならば、再結晶、カラムクロマトグラフィ−等の操作によって精製することにより、本発明化合物−１を得ることができる。
また、本発明化合物−１は以下に記載の方法により、本発明化合物−２とした後、これを水に溶解させ、該水溶液を有機溶媒で抽出し、水に不溶な不純物を有機層に溶解させ、該有機層を除去し、水層に塩酸、希硫酸等の鉱酸の水溶液を加えて溶液を酸性にした後、水層を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮することにより精製することも可能である。
【００１０】
２）本発明化合物−２の製造法
本発明化合物−２は、本発明化合物−１を塩基と反応することにより製造することができる。本反応に用いられる塩基としては例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、または炭酸カリウム等の無機塩基、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン等のアルキルアミン類、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の置換されていてもよいピリジン類、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン等のジアルキルアニリン類等の有機塩基があげられる。反応の条件としては、例えば、
（ｉ） 本発明化合物−１を無機塩基の水溶液に加えた後、該反応液を有機溶媒で抽出し、有機層を除去した後、水層を濃縮する方法（なお、この場合本発明化合物−１、１モルに対して、無機塩基１当量を用いることが好ましい）。
（ii） 本発明化合物−１を有機溶媒中で有機塩基と反応させた後、該反応液を濃縮することにより製造する方法。
等があげられる。これらの方法で得られた本発明化合物−２は、必要があれば再結晶等により精製することができる。
なお、本発明化合物は通常、ジアステレオマ−の混合物として得られ、これらのジアステレオマ−は、特に分離することなく次の反応の原料として供することができ、また、必要に応じて、さらに精密なクロマトグラフィ−等の分離操作を施した後、各々を次の反応に供することも可能である。
【００１１】
上記、製造法に用いられる一般式  化１５で示されるマロン酸誘導体は、市販のものを用いるか、公知の方法に準じて製造することができる。
また、一般式  化１４で示されるヒドラゾン化合物は、一般式  化１６
〔化１６〕
ＣＦ3Ｃ（＝Ｏ）ＣＶ2Ｒ3
［式中、Ｒ3は前記と同じ意味を表わし、Ｖは、ヨウ素原子、臭素原子、または塩素原子を表わす。］
で示される化合物と水とを塩基の存在下に反応させることにより、一般式  化１７
〔化１７〕
ＣＦ3Ｃ（＝Ｏ）Ｃ（＝Ｏ）Ｒ3
［式中、Ｒ3は前記と同じ意味を表わす］
で示されるカルボニル化合物、又はその水和体、又はアセタ−ル誘導体に導き（以下、反応１と記す）、次いで、これと一般式  化１８
〔化１８〕
Ｑ−ＮＨＮＨ2
[式中、Ｑは前記と同じ意味を表す。]
で示されるヒドラジン誘導体とを反応させる（以下、反応２と記す）ことによって製造することができる。
上記、反応１は、通常、溶媒中で行われ、反応温度の範囲は通常０〜１００℃、反応時間の範囲は通常瞬時から７２時間であり、反応に供される試剤の量は、一般式  化１６で表わされる化合物１モルに対して水および塩基の量は各々２モルの割合が理論量であるが、必要に応じて過剰量を用いることもできる。
塩基としては、有機塩基、無機塩基共に使用することができ、例えば、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等があげられる。
なお、一般式  化１７で示されるカルボニル化合物は、水またはアルコ−ルの存在下に、水和体またはアセタ−ル誘導体として反応させることもできる。
【００１２】
上記、反応２は、通常溶媒中で行われ、反応温度の範囲は通常０〜１００℃、反応時間の範囲は、通常、瞬時〜７２時間である。反応に供される試剤の量は、前記反応１に用いた一般式  化１６で示される化合物１モルに対して一般式  化１８で示されるヒドラジン誘導体は１モルの割合が理論量であるが、必要に応じて、一般式  化１６で示される化合物を過剰量用いることもできる。該ヒドラジン誘導体は、その塩酸塩や硫酸塩等の塩として用いることもできる。
尚、反応１および反応２に用いられる溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エ−テル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テル、メチル−ｔ−ブチルエ−テル等のエ−テル類、メタノ−ル、エタノ−ル、エチレングリコ−ル、イソプロパノ−ルなどのアルコ−ル類、水あるいはそれらの混合物などが挙げられる。
反応終了後の反応液は、必要に応じて水を加えた後、生じた結晶を濾集するか、または、有機溶媒抽出および濃縮等の通常の後処理を行い、必要ならばクロマトグラフィ−、再結晶等の操作によってさらに精製することにより、目的物を単離することができる。
一般式  化１８で示されるヒドラジン誘導体は、一般式  化１９
〔化１９〕
Ｑ−ＮＨ2
[式中、Ｑは前記と同じ意味を表す。]
で示されるアニリン誘導体を酸性条件下、亜硝酸、亜硝酸ナトリウム等でジアゾ化した後、塩化第１スズ等により還元することにより製造することができる。（例えば、オルガニックシンセシスコレクティブボリュウム１、ｐ４４２参照）
一般式  化１９で示されるアニリン誘導体は、例えばヨ−ロッパ特許出願公開明細書ＥＰ−６１７４１−Ａ、米国特許明細書ＵＳＰ４，６７０，０４６、ＵＳＰ４，７７０，６９５、ＵＳＰ４，７０９，０４９、ＵＳＰ４，６４０，７０７、ＵＳＰ４，７２０，２９７、ＵＳＰ５，１６９，４３１、特開昭６３−１５６７８７号公報で公知であるか、または、そこに記載された方法に準じて製造することができる。
【００１３】
一般式  化１４で示されるヒドラゾン化合物において、そのＲ3が水素原子である化合物は、下記スキ−ム  化２０に従って一般式  化１９で示されるアニリン誘導体から製造することもできる。
〔化２０〕
2008088175.tif 000009
[式中、Ｑは前記と同じ意味を表し、Ｒ28はＣ１−Ｃ６アルキル基を表す。]
各工程の反応は例えば下記の通りである。
（１）化合物［Ｉ］から化合物［ＩＩ］を製造する工程
化合物［ＩＩ］は、化合物［Ｉ］を酸性条件下、水中で亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウム等の亜硝酸塩と反応させて、対応するジアゾニウム塩とした後、該ジアゾニウム塩と一般式  化２１
〔化２１〕
ＣＦ3Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ2Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ28
[式中、ＱおよびＲ28は前記と同じ意味を表す。]
で示される化合物とを、酢酸ナトリウム、ピリジン等の塩基の存在下で反応させることにより製造することができる(Tetrahedron,Vol.35,p2013(1979)参照）
（２）化合物〔ＩＩ〕から化合物〔ＩＩＩ〕を製造する工程
化合物〔ＩＩＩ〕は化合物〔ＩＩ〕を通常、溶媒中塩基の存在下で加水分解することにより製造することができる。
反応温度の範囲は通常０〜１００℃であり、反応時間の範囲は通常瞬時〜２４時間である。反応に供される試剤の量は、化合物〔ＩＩ〕１モルに対して、塩基の量は１モルの割合が理論量であるが、必要に応じて変化させる事ができる。塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化リチウム１水和物、水酸化バリウム、水酸化カリウム等の無機塩基があげられる。
用いられる溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エ−テル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テル、メチル−ｔ−ブチルエ−テル等のエ−テル類、メタノ−ル、エタノ−ル、エチレングリコ−ル、イソプロパノ−ルなどのアルコ−ル類、水等あるいはそれらの混合物があげられる。
（３）化合物〔ＩＩＩ〕から化合物〔ＩＶ〕を製造する工程
化合物〔ＩＶ〕は化合物〔ＩＩＩ〕を溶媒中で加熱し、脱炭酸することにより製造することができる。
該反応の温度範囲は、通常５０〜２００℃であり、反応時間の範囲は、通常瞬時〜７２時間である。反応に用いられる溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エ−テル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テル、メチル−ｔ−ブチルエ−テル等のエ−テル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、Ｎ−メチルモルホリン等の第三級アミン類、ピリジン、ピコリン等の含窒素芳香族化合物、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、ギ酸、酢酸、プロピオン酸等の脂肪酸類、メタノ−ル、エタノ−ル、エチレングリコ−ル、イソプロパノ−ルなどのアルコ−ル類、水等あるいはそれらの混合物などが挙げられる。
本反応は、必要に応じて銅等の金属を触媒として用いることもできる。
反応終了後の反応液は、生じた結晶を濾集するか、又は有機溶媒抽出および濃縮等の通常の後処理を行い、必要ならばクロマトグラフィ−、再結晶等の操作によって更に精製することにより、目的物を単離することができる。
なお、化合物〔ＩＶ〕において、ＱがＱ−１を表わし、そのＢがＯＲ1またはＳＲ1であり、Ｒ1がカルボキシＣ１−Ｃ６アルキル基を表すヒドラゾン化合物は、化合物〔ＩＩ〕において、ＢがＯＲ1またはＳＲ1であり、Ｒ1が（Ｃ１−Ｃ８アルコキシ）カルボニルＣ１−Ｃ６アルキル基を表す化合物を経由し、これを、加水分解および脱炭酸することにより製造することもできる。
【００１４】
次に、かかる製造法により得られる本発明化合物を（表１）から(表２２)に、また、本発明反応工程１で用いられる、一般式  化１４で示されるヒドラゾン化合物および一般式  化１５で示されるマロン酸誘導体を、それぞれ、（表２３）および（表２４）に例示するが、本発明はこれらに限られるものではない。尚、各表中のｃはシクロ、ｉはイソを意味し、Ｅｔはエチル基、Ｂｕはブチル基を意味する。
一般式  化２２
〔化２２〕
2008088175.tif 000010
で示される化合物。
【００１５】
【表１】
2008088175.tif 000011
【００１６】
【表２】
2008088175.tif 000012
【００１７】
【表３】
2008088175.tif 000013
【００１８】
【表４】
2008088175.tif 000014
【００１９】
【表５】
2008088175.tif 000015
【００２０】
【表６】
2008088175.tif 000016
【００２１】
【表７】
2008088175.tif 000017
【００２２】
【表８】
2008088175.tif 000018
【００２３】
【表９】
2008088175.tif 000019
【００２４】
【表１０】
2008088175.tif 000020
【００２５】
【表１１】
2008088175.tif 000021
【００２６】
【表１２】
2008088175.tif 000022
【００２７】
【表１３】
2008088175.tif 000023
【００２８】
【表１４】
2008088175.tif 000024
【００２９】
【表１５】
2008088175.tif 000025
【００３０】
【表１６】
2008088175.tif 000026
【００３１】
【表１７】
2008088175.tif 000027
【００３２】
【表１８】
2008088175.tif 000028
【００３３】
【表１９】
2008088175.tif 000029
【００３４】
【表２０】
2008088175.tif 000030
【００３５】
一般式  化２３
〔化２３〕
2008088175.tif 000031
で示される化合物
【００３６】
【表２１】
2008088175.tif 000032
【００３７】
【表２２】
2008088175.tif 000033
【００３８】
一般式  化１４で示されるヒドラゾン化合物。
【００３９】
【表２３】
2008088175.tif 000034
【００４０】
一般式  化１５で示されるマロン酸誘導体
【００４１】
【表２４】
2008088175.tif 000035
【００４２】
次に、本発明化合物−１から一般式  化１０で示されるピリダジン−３−オン誘導体を製造する工程（以下、本発明工程２と称す）について説明する。
本発明工程２は、種々の反応条件下で行うことができ、その中でも代表的な条件として以下の７通りの方法（本発明工程２−１，２−２，２−３，２−４，２−５，２−６，２−７）をあげることができる。
尚、本発明工程２で用いられる原料化合物としては、一般に本発明化合物−１を用いるが、反応条件（たとえば本発明工程２−３、２−４の条件を用いる場合）によっては、本発明化合物−２を用いて反応系内で本発明化合物−１を生成させながら反応を行うこともできる。
【００４３】
１）本発明工程２−１
本発明化合物−１は、これを８０〜２５０℃の反応温度で反応させることにより、一般式  化１０で示されるピリダジン−３−オン誘導体を製造することができる。
該反応は、無溶媒または溶媒中で行われ、反応温度の範囲は通常８０〜２５０℃、好ましくは１２０〜１６０℃である。反応時間の範囲は、瞬時〜７２時間である。
反応に用いられる溶媒としては、ヘプタン、オクタン、リグロイン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素類、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等のハロゲン化炭化水素類、１，４−ジオキサン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テル、メチル−ｔ−ブチルエ−テル等のエ−テル類、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、プロパノ−ル、ブタノ−ル、アミルアルコ−ル、エチレングリコ−ル、ジエチレングリコ−ル等のアルコ−ル類あるいはそれらの混合物などが挙げられる。反応終了後の反応液は、これをそのまま濃縮操作に付すか、または反応液を水に注加し、これを有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮するなどの後処理操作を行ない、必要ならば再結晶、カラムクロマトグラフィ−等の操作によって精製することにより、一般式  化１０で示されるピリダジン−３−オン誘導体を得ることができる。
【００４４】
２）本発明工程２−２
本発明化合物−１は、これに塩基を作用させることにより、一般式  化１０で示されるピリダジン−３−オン誘導体を製造することができる。
反応に用いられる塩基としては、ピリジン、キノリン、イソキノリン、４−ジメチルアミノピリジン、２−ピコリン、３−ピコリン、４−ピコリン、２，３−ルチジン、２，４−ルチジン、２，５−ルチジン、２，６−ルチジン、３，４−ルチジン、３，５−ルチジン、３−クロロピリジン、２−エチル−３−メチルピリジン、５−エチル−２−メチルピリジン等の含窒素芳香族化合物、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン等のジアルキルアニリン誘導体、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ベンジルジメチルアミン、フェネチルジメチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン等の第３級アミン類、等があげられる。好ましい塩基としては、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン等のトリアルキルアミン類またはピリジン、２−ピコリン、３−ピコリン、４−ピコリン、２，３−ルチジン、２，４−ルチジン、２，５−ルチジン、２，６−ルチジン、３，４−ルチジン、３，５−ルチジン、２−エチル−３−メチルピリジン、５−エチル−２−メチルピリジン等のアルキル基で置換されていてもよいピリジン類があげられる。
用いられる塩基の量は、本発明化合物−１、１モルに対して触媒量〜大過剰量であり、好ましくは触媒量〜１０モルである。反応温度の範囲は用いる塩基によって異なるが通常８０〜２５０℃、好ましくは１２０〜１６０℃である。反応時間の範囲は、瞬時〜７２時間である。
該反応は、通常溶媒中または無溶媒で行われ、反応に用いられる溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、リグロイン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等のハロゲン化炭化水素類、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テル、メチル−ｔ−ブチルエ−テル等のエ−テル類、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル、アミルアルコ−ル、エチレングリコ−ル、ジエチレングリコ−ル等のアルコ−ル類あるいはそれらの混合物などが挙げられる。反応終了後の反応液は、これをそのまま濃縮操作に付すか、または反応液を水に注加し、有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮するなどの後処理操作を行ない、必要ならば、再結晶、カラムクロマトグラフィ−等の操作によって精製することにより、一般式  化１０で示されるピリダジン−３−オン誘導体を得ることができる。
尚、本反応工程においてはモレキュラ−シ−ブ等の乾燥剤を用いる等、反応系から水を除きながら反応を行うこともできる。
【００４５】
３）本発明工程２−３
本発明化合物は、これに酸を作用させることにより、一般式  化１０で示されるピリダジン−３−オン誘導体を製造することができる。
反応に用いられる酸としては、酢酸、プロピオン酸、トリメチル酢酸、クロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、フェニル酢酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、イソ吉草酸等の脂肪酸類、安息香酸、４−ニトロ安息香酸、４−クロロ安息香酸、３，５−ジニトロ安息香酸、４−メトキシ安息香酸等の安息香酸類、ｐ−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等のスルホン酸類、等の有機酸類、硫酸、塩酸、リン酸等の無機酸類、アンバ−ライトＣＧ−５０、アンバ−ライトＩＲ−１２０等の酸性型陽イオン交換樹脂等があげられる。用いられる酸の量は、本発明化合物１モルに対して触媒量〜大過剰量であり、好ましくは触媒量〜１０モルである。反応温度の範囲は用いる酸によって異なるが通常５０〜２５０℃である。反応時間の範囲は、瞬時〜７２時間である。
該反応は、無溶媒または溶媒中で行われ、反応に用いられる溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、リグロイン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等のハロゲン化炭化水素類、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テル、メチル−ｔ−ブチルエ−テル等のエ−テル類、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、あるいはそれらの混合物などが挙げられる。
反応終了後の反応液は、これをそのまま濃縮操作に付すか、または反応液を水に注加し、有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮するなどの後処理操作を行ない、必要ならば、再結晶、カラムクロマトグラフィ−等の操作によって精製することにより、一般式  化１０で示されるピリダジン−３−オン誘導体を得ることができる。なお、酸性型陽イオン交換樹脂を用いた場合には、濾過により該イオン交換樹脂を除いてから上記後処理操作を行う。
【００４６】
４）本発明工程２−４
本発明化合物は、これに酸および塩基を作用させることにより、一般式  化１０で示されるピリダジン−３−オン誘導体を製造することができる。
反応に用いられる酸としては、酢酸、プロピオン酸、トリメチル酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、フェニル酢酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、イソ吉草酸等の脂肪酸類、安息香酸、４−ニトロ安息香酸、４−クロロ安息香酸、３，５−ジニトロ安息香酸、４−メトキシ安息香酸等の安息香酸類、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等のスルホン酸類、硫酸、塩酸、リン酸等の無機酸類があげられ、反応に用いられる塩基としては、ピリジン、キノリン、４−ジメチルアミノピリジン、２−ピコリン、３−ピコリン、４−ピコリン、２，３−ルチジン、２，４−ルチジン、２，５−ルチジン、２，６−ルチジン、３，４−ルチジン、３，５−ルチジン、３−クロロピリジン、２−エチル−３−メチルピリジン、５−エチル−２−メチルピリジン等の含窒素芳香族化合物、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン等のジアルキルアニリン誘導体、ピペリジン、ピロリジン、モルホリン、ジエチルアミン等の第２級アミン類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ベンジルジメチルアミン、フェネチルジメチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン等の第３級アミン類、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機塩基類、アンモニア等があげられる。本反応工程では、これらの酸および塩基のいずれの組み合わせでも反応を行うことができるが、好ましい酸と塩基の組み合わせとしては酢酸、プロピオン酸、トリメチル酢酸、クロロ酢酸、トリフルオロ酢酸またはフェニル酢酸等の脂肪酸類もしくは安息香酸、４−ニトロ安息香酸、４−クロロ安息香酸、３，５−ジニトロ安息香酸または４−メトキシ安息香酸等の安息香酸類とピリジン、キノリン、４−ジメチルアミノピリジン、２−ピコリン、３−ピコリン、４−ピコリン、２，３−ルチジン、２，４−ルチジン、２，５−ルチジン、２，６−ルチジン、３，４−ルチジン、３，５−ルチジン、３−クロロピリジン、２−エチル−３−メチルピリジンまたは５−エチル−２−メチルピリジン等の含窒素芳香族化合物もしくはトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ベンジルジメチルアミン、フェネチルジメチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エンまたは１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン等の第３級アミン類の組み合わせがあげられる。用いられる酸の量は、本発明化合物１モルに対して触媒量〜大過剰量である。用いられる塩基の量は、本発明化合物１モルに対して触媒量〜大過剰量である。また、本反応は酸と塩基とから得られる塩を用いて行うこともできる。該塩の具体例としては、上述した好ましい酸と好ましい塩基とから得られる塩、酢酸、プロピオン酸、ピバリン酸(pivalic acid)、トリフルオロ酢酸、フェニル酢酸等の脂肪酸のナトリウム塩、カリウム塩、���ンモニウム塩、安息香酸、４−ニトロ安息香酸、４−クロロ安息香酸、３，５-ジニトロ安息香酸、４−メトキシ安息香酸等の安息香酸類のナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩、さらに、ピリジン、キノリン、４−ジメチルアミノピリジン、２−ピコリン、３−ピコリン、４−ピコリン、２，３-ルチジン、２，４-ルチジン、２，５-ルチジン、２，６-ルチジン、３，４-ルチジン、３，５-ルチジン、３−クロロピリジン、２−エチル−３−メチルピリジン、５−エチル−２−メチルピリジン等の含窒素芳香族化合物やトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ベンジルジメチルアミン、フェネチルジメチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン等の第３級アミンの塩酸塩や硫酸塩、塩化アンモニウム、硫酸アンモニウムなどがあげられる。
反応時間の範囲は、瞬時〜７２時間であり、反応温度の範囲は用いる酸及び塩基によって変わり得るが、通常８０〜２５０℃である。
該反応は、無溶媒または溶媒中で行われ、反応に用いられる溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、リグロイン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等のハロゲン化炭化水素類、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テル、メチル−ｔ−ブチルエ−テル等のエ−テル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル、アミルアルコ−ル、エチレングリコ−ル、ジエチレングリコ−ル等のアルコ−ル類あるいはそれらの混合物などが挙げられる。また、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類を溶媒として用いることもできるが、塩基として第２級アミンを用いる場合においては、こうしたケトン類を溶媒として用いることは好ましくない。
反応終了後の反応液は、これをそのまま濃縮操作に付すか、または反応液を水に注加し、有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮するなどの後処理操作を行ない、必要ならば、再結晶、カラムクロマトグラフィ−等の操作によって精製することにより、一般式  化１０で示されるピリダジン−３−オン誘導体を得ることができる。
尚、本反応においてはモレキュラ−シ−ブ等の乾燥剤を用いる等、反応系から水を除きながら反応を行うこともできる。
【００４７】
５）本発明工程２−５
本発明化合物−１は、これを塩基の存在下、ハロギ酸エステルと反応させることにより、一般式  化１０で示されるピリダジン−３−オン誘導体を製造することができる。
反応に用いられるハロギ酸エステルとしては、クロロギ酸メチル、クロロギ酸エチル、クロロギ酸プロピル、ブロモギ酸メチル等があげられる。
反応に用いられる塩基としては、ピリジン、キノリン、４−ジメチルアミノピリジン、２−ピコリン、３−ピコリン、４−ピコリン、２，３−ルチジン、２，４−ルチジン、２，５−ルチジン、２，６−ルチジン、３，４−ルチジン、３，５−ルチジン、３−クロロピリジン、２−エチル−３−メチルピリジン、５−エチル−２−メチルピリジン等の含窒素芳香族化合物、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン等のジアルキルアニリン誘導体、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ベンジル−ジメチルアミン、フェネチルジメチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン等の第３級アミン類、等の有機塩基があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、本発明化合物−１、１モルに対して、ハロギ酸エステルの量は１〜１０モルであり、塩基の量は１〜２０モルである。反応時間の範囲は、瞬時〜７２時間である。反応温度の範囲は、通常−２０〜１００℃である。
該反応は、無溶媒または溶媒中で行われ、反応に用いられる溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、リグロイン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等のハロゲン化炭化水素類、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テル、メチル−ｔ−ブチルエ−テル等のエ−テル類、あるいはそれらの混合物などが挙げられる。
反応終了後の反応液は、これをそのまま濃縮操作に付すか、または反応液を水に注加し、有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮するなどの後処理操作を行ない、必要ならば、再結晶、カラムクロマトグラフィ−等の操作によって精製することにより、一般式  化１０で示されるピリダジン−３−オン誘導体を得ることができる。
【００４８】
６）本発明工程２−６
本発明化合物−１は、これを塩基の存在下、縮合剤と反応させることにより、一般式  化１０で示されるピリダジン−３−オン誘導体を製造することができる。
反応に用いられる縮合剤としては、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド、１−エチル−３−（３’−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド、ジエチルリン酸シアニド、無水酢酸、塩化アセチル等があげられる。
反応に用いられる塩基としては、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン等の第３級アミン類、等の有機塩基があげられる。反応に用いられる試剤の量は、本発明化合物−１、１モルに対して、縮合剤の量は１〜１０モルであり、塩基の量は１〜２０モルである。
反応時間の範囲は、瞬時〜７２時間であり、反応温度の範囲は、通常−２０〜１５０℃である。
該反応は、無溶媒または溶媒中で行われ、反応に用いられる溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、リグロイン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等のハロゲン化炭化水素類、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テル、メチル−ｔ−ブチルエ−テル等のエ−テル類あるいはそれらの混合物などが挙げられる。
反応終了後の反応液は、これをそのまま濃縮操作に付すか、または反応液を水に注加し、有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮するなどの後処理操作を行ない、必要ならば、再結晶、カラムクロマトグラフィ−等の操作によって精製することにより、一般式  化１０で示されるピリダジン−３−オン誘導体を得ることができる。
【００４９】
７）本発明工程２−７
本発明化合物−１は、これを塩基の存在下、ハロゲン化剤と反応させることにより、一般式  化１０で示されるピリダジン−３−オン誘導体を製造することができる。
反応に用いられるハロゲン化剤としては、塩化チオニル、ホスゲン、塩化オキサリル、三塩化リン、五塩化リン、オキシ塩化リン等があげられる。
反応に用いられる塩基としては、ピリジン、キノリン、４−ジメチルアミノピリジン、２−ピコリン、３−ピコリン、４−ピコリン、２，３−ルチジン、２，４−ルチジン、２，５−ルチジン、２，６−ルチジン、３，４−ルチジン、３，５−ルチジン、３−クロロピリジン、２−エチル−３−メチルピリジン、５−エチル−２−メチルピリジン等の含窒素芳香族化合物、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン等のジアルキルアニリン誘導体、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ベンジル−ジメチルアミン、フェネチルジメチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン等の第３級アミン類、等の有機塩基があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、本発明化合物−１、１モルに対して、ハロゲン化剤の量は１〜１０モルであり、塩基の量は１〜２０モルである。
反応時間の範囲は、瞬時〜７２時間であり、反応温度の範囲は、通常−２０〜１５０℃である。
該反応は、無溶媒または溶媒中で行われ、反応に用いられる溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、リグロイン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、ベンゾトリフルオリド等のハロゲン化炭化水素類、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テル、メチル−ｔ−ブチルエ−テル等のエ−テル類あるいはそれらの混合物などが挙げられる。
さらに、本反応にはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを触媒量添加して反応することもできる。
反応終了後の反応液は、これをそのまま濃縮操作に付すか、または反応液を水に注加し、有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮するなどの後処理操作を行ない、必要ならば、再結晶、カラムクロマトグラフィ−等の操作によって精製することにより、一般式  化１０で示されるピリダジン−３−オン誘導体を得ることができる。
【００５０】
尚、本発明工程２−２及び本発明工程２−４を行う場合は、本反応工程１を行った後、本発明化合物−１を単離することなく、そのまま本発明工程２を行うこともできる。
この場合は、一般式  化１４で示されるヒドラゾン化合物と一般式  化１５で示されるマロン酸誘導体とを、本発明工程１−１または１−２に記載の方法により反応させ本発明化合物−１を生成させた後、
１）引き続き本発明工程２−２に記載の条件により反応を行うか、
２）反応液中に本発明工程２−４において例示した酸を加え、本発明工程２−４  に記載の条件により反応を行う
ことにより、一般式  化１０で示されるピリダジン−３−オン誘導体を得ることができる。
尚、本発明工程２に於いて、その条件によっては、ピリダジン−３−オン環が生成するとともに、ベンゼン環の置換基が変換されたピリダジン−３−オン誘導体が得られることもある。例えば、Ｑが、一般式  化１１において、Ｑ−１であり、ＢがＯＲ1であり、Ｒ1がＣ１−Ｃ６アルキル基である本発明化合物を用い、本発明工程２−３を行うと、一般式  化１０において、ＱがＱ−１でありＢがＯＨであるピリダジン−３−オン誘導体が得られることもある。
【００５１】
本発明工程２により製造することができる化合物の一部を（表２５）に示す。
一般式  化２４
〔化２４〕
2008088175.tif 000036
で示される化合物。
【００５２】
【表２５】
2008088175.tif 000037
【００５３】
一般式  化１０で示されるピリダジン−３−オン誘導体は、優れた除草効力を有し、畑地の茎葉処理および土壌処理において、次に挙げられる問題となる種々の雑草に対して除草効力を有する。
タデ科雑草
ソバカズラ(Polygonum  convolvulus)、サナエタデ(Polygonum  lapathiolium)、アメリカサナエタデ(Polygonum pensylvanicum)、ハルタデ(Polygonum persicaria)、ナガバギシギシ(Rumex crispus)、エゾノギシギシ(Rumex obtusifolius)、イタドリ(Polygonum cuspidatum)
スベリヒユ科雑草
スベリヒユ（Portulaca oleracea)
ナデシコ科雑草
ハコベ(Stellaria media)
アカザ科雑草
シロザ(Chenopodium album)、ホウキギ(Kochia scoparia)
ヒユ科雑草
アオゲイトウ(Amaranthus retroflexus)、ホナガアオゲイトウ(Amaranthus hybridus)
アブラナ科雑草
ワイルドラディッシュ(Raphanus raphanistrum)、ノハラガラシ(Sinapis arvensis)、ナズナ(Capsella bursa−pastoris)
マメ科雑草
アメリカツノクサネム（Sesbania exaltata)、エビスグサ(Cassia obtusifolia)、フロリダベガ−ウィ−ド(Desmodium tortuosum)、シロツメクサ(Trifolium repens)
アオイ科雑草
イチビ(Abutilon theophrasti)、アメリカキンゴジカ(Sida spinosa)
スミレ科雑草
フィ−ルドパンジ−(Viola arvensis)、ワイルドパンジ−(Viola tricolor)
アカネ科雑草
ヤエムグラ(Galium aparine)
ヒルガオ科雑草
アメリカアサガオ(Ipomoea hederacea)、マルバアサガオ(Ipomoea purpurea)、マルバアメリカアサガオ(Ipomoea hederacea var integriuscula)、マメアサガオ(Ipomoea lacunosa)、セイヨウヒルガオ(Convolvulus arvensis)
シソ科雑草
ヒメオドリコソウ (Lamium purpureum)、ホトケノザ(Lamium amplexicaule)
ナス科雑草
シロバナチョウセンアサガオ(Datura stramonium)、イヌホオズキ(Solanum nigrum)
ゴマノハグサ科雑草
オオイヌノフグリ(Veronica persica)、フラサバソウ(Veronica hederaefolia)
キク科雑草
オナモミ(Xanthium pensylvanicum)、野生ヒマワリ(Helianthus annuus)、イヌカミツレ (Matricaria perforata or inodora)、コ−ンマリ−ゴ−ルド (Chrysanthemum segetum)、オロシャギク(Matricaria matricarioides)、ブタクサ(Ambrosia artemisiifolia)、オオブタクサ(Ambrosia trifida)、ヒメムカシヨモギ(Erigeron canadensis)、ヨモギ(Artemisia princeps)、セイタカアワダチソウ(Solidago altissima)
ムラサキ科雑草
ワスレナグサ(Myosotis arvensis)
ガガイモ科雑草
オオトウワタ(Asclepias syriaca)
トウダイグサ科雑草
トウダイグサ(Euphorbia helioscopia)、オオニシキソウ(Euphorbia maculata)
イネ科雑草
イヌビエ(Echinochloa crus−galli)、エノコログサ(Setaria viridis)、アキノエノコログサ(Setaria faberi)、メヒシバ(Digitaria sanguinalis)、オヒシバ(Eleusine indica)、スズメノカタビラ(Poa annua)、ブラックグラス(Alopecurus myosuroides)、カラスムギ(Avena fatua)、セイバンモロコシ(Sorghum halepense)、シバムギ(Agropyron repens)、ウマノチャヒキ(Bromus tectorum)、ギョウギシバ(Cynodon dactylon)、オオクサキビ(Panicum dichotomiflorum)、テキサスパニカム(Panicum texanum)、シャタ−ケ−ン(Sorghum vulgare)
ツユクサ科雑草
ツユクサ(Commelina communis)
トクサ科雑草
スギナ(Equisetum arvense)
カヤツリグサ科雑草
コゴメガヤツリ(Cyperus iria)、ハマスゲ(Cyperus rotundus)、キハマスゲ (Cyperus esculentus)
また、一般式  化１０で示されるピリダジン−３−オン誘導体は、ダイズ、トウモロコシ、コムギ等の不耕起栽培において、問題となる種々の雑草を効果的に除草することができる。
【００５４】
また、一般式  化１０で示されるピリダジン−３−オン誘導体は、水田の湛水処理において、次に挙げられる問題となる種々の雑草に対して除草効力を有する。イネ科雑草
タイヌビエ（Echinochloa oryzicola)
ゴマノハグサ科雑草
アゼナ(Lindernia procumbens)
ミソハギ科雑草
キカシグサ(Rotala indica)、ヒメミソハギ(Ammannia multiflora)
ミゾハコベ科雑草
ミゾハコベ(Elatine triandra) 
カヤツリグサ科雑草
タマガヤツリ(Cyperus difformis)、ホタルイ(Scirpus juncoides)、マツバイ (Eleocharis acicularis)、ミズガヤツリ(Cyperus serotinus)、クログワイ (Eleocharis kuroguwai)
ミズアオイ科雑草
コナギ(Monochoria vaginalis)
オモダカ科雑草
ウリカワ(Sagittaria pygmaea)、オモダカ(Sagittaria trifolia)、ヘラオモダカ(Alisma canaliculatum)
ヒルムシロ科雑草
ヒルムシロ(Potamogeton distinctus)
セリ科雑草
セリ(Oenanthe javanica)
さらに、一般式  化１０で示されるピリダジン−３−オン誘導体は、樹園地、牧草地、芝生地、林業地または水路、運河あるいはその他の非農耕地に発生する広範囲の雑草を除草できる。
また、一般式  化１０で示されるピリダジン−３−オン誘導体は、水路、運河等に発生するホテイアオイ(Eichhornia crassipes)等の水生雑草に除草効力を有する。
さらに、一般式  化１０で示されるピリダジン−３−オン誘導体は、トウモロコシ(Zea mays)、コムギ(Triticum aestivum)、オオムギ(Hordeum vulgare)、イネ(Oryza sativa)、ソルガム(Sorghum bicolor)、ダイズ(Glycine max)、ワタ(Gossypium spp.)、テンサイ(Beta vulgaris)、ピ−ナッツ(Arachis hypogaea)、ヒマワリ(Helianthus annuus)、ナタネ(Brassica napus)等の主要作物、花卉・蔬菜等の園芸作物、移植水稲に対して作物、雑草間の選択性を発揮し得る。
【００５５】
一般式  化１０で示されるピリダジン−３−オン誘導体を除草剤の有効成分として用いるに際しては、通常、固体担体、液体担体、界面活性剤その他の製剤用補助剤と混合して、乳剤、水和剤、懸濁剤、粒剤、濃厚エマルジョン、顆粒水和剤等に製剤して用いる。
これらの製剤には、有効成分として一般式  化１０で示されるピリダジン−３−オン誘導体を重量比で 0.001〜８０％、好ましくは 0.005〜７０％含有する。
固体担体としては、カオリンクレ−、アタパルジャイトクレ−、ベントナイト、酸性白土、パイロフィライト、タルク、珪藻土、方解石等の鉱物質微粉末、クルミ殻粉等の有機物微粉末、尿素等の水溶性有機物微粉末、硫酸アンモニウム等の無機塩微粉末および合成含水酸化珪素の微粉末等が挙げられ、液体担体としては、メチルナフタレン、フェニルキシリルエタン、キシレン等のアルキルベンゼン等の芳香族炭化水素類、イソプロパノ−ル、エチレングリコ−ル、２−エトキシエタノ−ル等のアルコ−ル類、フタル酸ジアルキルエステル等のエステル類、アセトン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン類、マシン油等の鉱物油、大豆油、綿実油等の植物油、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、Ｎ−メチルピロリドン、水等が挙げられる。
乳化、分散、湿展等のために用いられる界面活性剤としては、アルキル硫酸エステル塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリ−ルスルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリ−ルエ−テルリン酸エステル塩等の陰イオン界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエ−テル、ポリオキシエチレンアルキルアリ−ルエ−テル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポリマ−、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル等の非イオン界面活性剤等が挙げられる。
その他の製剤用補助剤としては、リグニンスルホン酸塩、アルギン酸塩、ポリビニルアルコ−ル、アラビアガム、ＣＭＣ（カルボキシメチルセルロ−ス）、ＰＡＰ（酸性リン酸イソプロピル）等が挙げられる。
【００５６】
一般式  化１０で示されるピリダジン−３−オン誘導体は、通常、製剤化して雑草の出芽前または出芽後に土壌処理、茎葉処理または湛水処理する。土壌処理としては、土壌表面処理、土壌混和処理等があげられ、茎葉処理としては、植物体の上方からの処理のほか、作物に付着しないよう雑草に限って処理する局部処理等があげられる。
一般式  化１０で示されるピリダジン−３−オン誘導体を除草剤の有効成分として用いる場合、その処理量は、気象条件、製剤形態、処理時期、処理方法、土壌条件、対象作物、対象雑草等によっても変わり得るが、１ヘクタ−ル当たり通常0.01ｇ〜10000ｇ、好ましくは１ｇ〜8000ｇであり、乳剤、水和剤、懸濁剤、濃厚エマルジョン、顆粒水和剤等は、通常その所定量を１ヘクタ−ル当たり１０リットル〜1000リットルの（必要ならば展着剤等の補助剤を添加した）水で希釈して処理し、粒剤、ある種の懸濁剤は通常なんら希釈することなくそのまま処理する。ここで、必要に応じて用いられる補助剤としては、前記の界面活性剤の他、ポリオキシエチレン樹脂酸（エステル）、リグニンスルホン酸塩、アビエチン酸塩、ジナフチルメタンジスルホン酸塩、クロップオイルコンセントレイト（crop oil concentrate)、大豆油、コ−ン油、綿実油、ヒマワリ油等の植物油等が挙げられる。
【実施例】
【００５７】
以下、実施例をあげて、本発明をさらに詳しく説明するが、本発明は、これらに限定されるものではない。
１）本発明化合物の製造例（本発明工程１）
製造例１−１
窒素気流下、３，３，３−トリフルオロ−２−オキソプロパナ−ル １−（４−クロロ−２−フルオロ−５−ヒドロキシフェニルヒドラゾン）（化合物３−１）３．０８６ｇをピリジン２０ｍｌに溶解した。該溶液にピペリジン１．０７ｍｌとメチルマロン酸２．５６１ｇを加え、８０℃に加熱し１．５時間攪拌した。
反応溶液を室温まで放冷した後、減圧濃縮し、残渣をジエチルエ−テル１００ｍｌで希釈した。この希釈溶液を３規定塩酸２０ｍｌで２回、飽和重曹水３０ｍｌで１回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、減圧濃縮し、残渣をカラムクロマトグラフィ−に付し、一般式  化２２で示される化合物のうち、Ｘ＝Ｆ、Ｙ＝Ｃｌ、Ｂ＝ＯＨ、Ｒ2＝ＣＨ3，Ｒ3＝Ｈ、Ｍ＝Ｈである化合物(本発明化合物１−２)２．１６４ｇを、下記２種の異性体混合物として得た。
異性体Ａ
1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，acetone−ｄ6，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．３４（３Ｈ，ｄ）、３．２０（１Ｈ，ｑ）、７．０８（１Ｈ，ｄ）、７．２２（１Ｈ，ｄ）、７．７２（１Ｈ，ｂｒｓ）、９．６８（１Ｈ，ｂｒｓ）
異性体Ｂ
1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，acetone−ｄ6，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．３５（３Ｈ，ｄ）、３．２０（１Ｈ，ｑ）、７．０８（１Ｈ，ｄ）、７．１９（１Ｈ，ｄ）、７．５２（１Ｈ，ｂｒｓ）、９．５８（１Ｈ，ｂｒｓ）
【００５８】
製造例１−２
窒素気流下、３,３,３−トリフルオロ−２−オキソプロパナ−ル  １−（４−クロロ−２−フルオロ−５−ヒドロキシフェニルヒドラゾン）（化合物３−１）２．００ｇをトルエン７．０ｇに溶解した。該溶液にトリエチルアミン１．７ｇとメチルマロン酸１．１ｇを加え、８０℃に加熱し、２時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷した後、析出した結晶を濾別し、トルエン２．０ｍｌで２回洗浄を行ない、一般式  化２２で示される化合物のうち、Ｘ＝Ｆ、Ｙ＝Ｃｌ、Ｂ＝ＯＨ、Ｒ2＝ＣＨ3、Ｒ3＝Ｈ、Ｍ＝ＨＮ（Ｃ2Ｈ5）3である化合物（本発明化合物１−４２４）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．０−１．４（１２Ｈ，ｍ）、２．６−３．２（７Ｈ，ｍ）、６．８−７．６（３Ｈ，ｍ）９．９−１０．３（１Ｈ，ｍ）
製造例１−３
製造例１−２で得られた、本発明化合物１−４２４に酢酸エチル１００ｍｌと１０％塩酸５０ｍｌを加え、分液操作を行った。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮し、一般式  化２２で示される化合物のうち、Ｘ＝Ｆ、Ｙ＝Ｃｌ、Ｂ＝ＯＨ、Ｒ2＝ＣＨ3、Ｒ3＝Ｈ、Ｍ＝Ｈである化合物（本発明化合物１−２）２．６ｇをを粗生成物として得た。
【００５９】
製造例１−４
窒素気流下、３，３，３−トリフルオロ−２−オキソプロパナ−ル １−（４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプロポキシフェニルヒドラゾン）（化合物３−３）０．５０ｇをピリジン３．０ｍｌに溶解した。該溶液にピペリジン０．１６７ｍｌとメチルマロン酸０．１９９ｇを加え、８０℃に加熱し３．５時間攪拌した。反応溶液を室温にまで放冷した後、減圧濃縮し、残渣をジエチルエ−テル１００ｍｌで希釈した。この希釈溶液を３規定塩酸２０ｍｌで２回、飽和重曹水３０ｍｌで１回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、減圧濃縮し、残渣をカラムクロマトグラフィ−に付し、一般式  化２２で示される化合物のうち、Ｘ＝Ｆ、Ｙ＝Ｃｌ、Ｂ＝ＯＣＨ（ＣＨ3）2、Ｒ2＝ＣＨ3，Ｒ3＝Ｈ、Ｍ＝Ｈである化合物(本発明化合物１−５)０．４６７ｇを、下記２種の異性体混合物として得た。
異性体Ａ
1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．３２（３Ｈ，ｄ）、１．３５（３Ｈ，ｄ）、１．３７（３Ｈ，ｄ）、３．２６（１Ｈ，ｑ）、４．４８（１Ｈ，ｍ）、７．０２−７．１０（２Ｈ，ｍ）、７．２５（１Ｈ，ｂｒｓ）、８．０４（１Ｈ，ｂｒｓ）
異性体Ｂ
1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．３５−１．４３（９Ｈ，ｍ）、３．２２（１Ｈ，ｂｒｑ）、４．４７（１Ｈ，ｍ）、６．９８（１Ｈ，ｄ）、７．０７（１Ｈ，ｄ）、７．１６（１Ｈ，ｂｒｓ）、７．９０（１Ｈ，ｂｒｓ）
製造例１−５
３，３，３−トリフルオロ−２−オキソプロパナ−ル １−（４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプロポキシフェニルヒドラゾン）（化合物３−３）０．２５ｇをエタノ−ル１．０ｇに溶解し、トリエチルアミン０．１５ｇおよびメチルマロン酸０．１８ｇを加え８０℃で３．５時間反応することにより、本発明化合物１−５を収率９５％で得た（液体クロマトグラフィ−を用いた内部標準法により確認）。
【００６０】
製造例１−６
３,３,３−トリフルオロ−２−オキソプロパナ−ル  １−（４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプロポキシフェニルヒドラゾン）（化合物３−３）３．０ｇをトルエン １０．０ ｇに溶解した。この溶液にトリエチルアミン １．４ｇとメチルマロン酸１．６ ｇを加え、８０ ℃に加熱し３．５時間撹拌した。反応溶液を室温にまで放冷した後、析出した結晶を濾別し、一般式  化２２で示される化合物のうち、Ｘ＝Ｆ、Ｙ＝Ｃｌ、Ｂ＝ＯＣＨ（ＣＨ3）2、Ｒ2＝ＣＨ3、Ｒ3＝Ｈ、Ｍ＝ＨＮ（Ｃ2Ｈ5）3である化合物（本発明化合物１−４２７）２．８５ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（２５０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．１−１．５（１８Ｈ，ｍ）、２．６−３．２（７Ｈ，ｍ）、４．４−４．７（１Ｈ，ｍ）、６．１（１Ｈ，ｓ）、６．９−７．２（３Ｈ，ｍ）、７．７（１Ｈ，ｓ）、１０．９（１Ｈ，ｓ）
製造例１−７
窒素気流下、３,３,３−トリフルオロ−２−オキソプロパナ−ル  １−（４−クロロ−２−フルオロ−５−（１−メチル−２−プロピニル）オキシフェニルヒドラゾン）(化合物３−５)０．４２５ｇをトルエン３．０ ｍｌに加えた。この溶液にトリエチルアミン０．２６ ｍｌとメチルマロン酸０．１７９ ｇを加え、８０℃で２時間撹拌した。反応液を室温にまで放冷した後、減圧濃縮を行い、ジエチルエ−テル１００ｍｌで希釈した。この希釈溶液を３規定塩酸２０ｍｌで２回洗浄した。有機層を、飽和重曹水溶液１００ｍｌで１回洗浄した後、有機層を除去し、残渣をカラムクロマトグラフィ−に付し、一般式  化２２で示される化合物のうち、Ｘ＝Ｆ、Ｙ＝Ｃｌ、Ｂ＝ＯＣＨ（ＣＨ3）Ｃ≡ＣＨ、Ｒ2＝ＣＨ3、Ｒ3＝Ｈ、Ｍ＝Ｈである化合物（本発明化合物１−８）の２種の異性体(１４０ｍｇ + ５８ｍｇ)を得た。
異性体１(１４０ｍｇの成分)
1Ｈ−ＮＭＲ（300 MHz, CDCl3, TMS ）δ（ｐｐｍ）： 1.35(brd，3H)、1.69(d，3H)、2.54(s，1H)、3.19(brs，1H)、4.83(brd，1H)、7.07(d，1H)、7.16(brs，1H)、7.28(m，1H)、7.98(brs，1H)
異性体２(５８ｍｇの成分)
1Ｈ−ＮＭＲ（300 MHz, CDCl3, TMS ）δ（ｐｐｍ）：1.34(brd，3H)、1.71(m，3H)、2.54(m， 1H)、3.24(brt，1H)、4.86(brq，1H)、7.07(d ，1H)、7.26(m ，1H)、7.35(brs，1H)、8.09(brd ，1H)
【００６１】
製造例１−８
窒素気流下、３,３,３−トリフルオロ−２−オキソプロパナ−ル  １−（４−クロロ−２−フルオロ−５−（エトキシカルボニル）メトキシフェニルヒドラゾン）（化合物３−８）０．４６６ｇをトルエン５．０ｍｌに加えた。該溶液にトリエチルアミン０．４６ｍｌとメチルマロン酸０．３５６ｇを加え、８０℃に加熱し２時間撹拌した。反応溶液を室温にまで放冷した後、減圧濃縮を行い、ジエチルエ−テル１００ｍｌで希釈した。この希釈溶液を３規定塩酸２０ｍｌで２回洗浄した。有機層を飽和重曹水１００ｍｌで抽出し、水層に、そのｐＨが４になるまで、３規定塩酸を加えた。この水層をジエチルエ−テル１００ｍｌで抽出し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮を行うことにより一般式  化２２で示される化合物のうち、Ｘ＝Ｆ、Ｙ＝Ｃｌ、Ｂ＝ＯＣＨ2ＣＯＯＣ2Ｈ5、Ｒ2＝ＣＨ3、Ｒ3＝Ｈ，Ｍ＝Ｈである化合物(本発明化合物１−１１)0.３３８ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（300 MHz, CDCl3, TMS ）δ（ｐｐｍ）： 1.17(t，3H)、1.23(d ，3H)、3.08(q，1H)、4.16(q，2H)、4.59(s，2H)、6.82(d ，1H)、 6.92(d，1H)、7.13(s ，1H)、 8.22(s，1H)
製造例１−９
窒素気流下、３,３,３−トリフルオロ−２−オキソプロパナ−ル  １−（４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプロポキシフェニルヒドラゾン）（化合物３−３）１．００ｇをトルエン３ｇに溶解した。該溶液にトリエチルアミン ０．４ｇとマロン酸０．４ｇを加え、８０℃に加熱し３．５時間撹拌した。反応溶液を室温にまで放冷した後、減圧濃縮を行い、残渣を酢酸エチル３０ｍｌで希釈した。
この希釈溶液を１０％塩酸２０ｍｌで１回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、減圧濃縮を行い、残渣をカラムクロマトグラフィ−に付し、一般式  化２２で示される化合物のうち、Ｘ＝Ｆ、Ｙ＝Ｃｌ、Ｂ＝ＯＣＨ（ＣＨ3）2、Ｒ2＝Ｈ，Ｒ3＝Ｈ、Ｍ＝Ｈである化合物(本発明化合物１−６５)を０．９ｇ得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（２５０ MHz,CDCl3, TMS ）δ（ｐｐｍ）： 1.３１(ｄ，3H)、 1.3７(d ，3H)、 2.91(d，１H)、3.14(d，１H)、4.30−4．50(m ，1H)、 6．96(d ，1H)、7.04(s ，1H)、 7.06(d ，1H)、7．57(brs，1H)
【００６２】
製造例１−１０
３,３,３−トリフルオロ−２−オキソプロパナ−ル  １−（４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプロポキシフェニルヒドラゾン）（化合物３−３）０．６５ｇ、エチルマロン酸０．５３ｇをトリエチルアミン４．０ｍｌに溶解し、３０分間室温で攪拌したのち、１．５時間加熱還流した。反応溶液を室温にまで放冷した後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−に付し一般式  化２２で示される化合物のうち、Ｘ＝Ｆ、Ｙ＝Ｃｌ、Ｂ＝ＯＣＨ（ＣＨ3）2、Ｒ2＝ＣＨ2ＣＨ3、Ｒ3＝Ｈ、Ｍ＝Ｈである化合物（本発明化合物１−１５３）を粗生成物として得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．０３（３Ｈ，ｔ）、１．３７（６Ｈ，ｄ）、１．８１（２Ｈ，ｍ）、３．０５（１Ｈ，ｍ）、４．４８（１Ｈ，ｍ）、６．９８（１Ｈ，ｄ）、７．０８（１Ｈ，ｄ）、７．１５（１Ｈ，ｓ）７．９０（１Ｈ，ｂｒｓ）
【００６３】
２）本発明化合物からピリダジン−３−オン誘導体の製造例（本発明工程２）
製造例２−１
本発明化合物（１−２）  ０．３１５ｇを窒素気流下、酢酸１．０ｍｌおよびピリジン１．０ｍｌに溶解し１２０℃で８時間攪拌した。反応溶液を室温にまで放冷した後、減圧濃縮し、残渣をジエチルエ−テル１００ｍｌで希釈した。該希釈溶液を３規定塩酸２０ｍｌで２回、飽和重曹水３０ｍｌで１回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、減圧濃縮し、残渣をカラムクロマトグラフィ−に付し、２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−ヒドロキシフェニル）−４−メチル−５−トリフルオロメチルピリダジン−３−オン（化合物５−１）０．２２７ｇを得た。（ｍ．ｐ．１７７．６℃）
【００６４】
製造例２−２
本発明化合物（１−２）０．５０２５ｇをプロピオン酸２．０ｍｌに溶解し、１３０℃で７．５時間加熱し、２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−ヒドロキシフェニル）−４−メチル−５−トリフルオロメチルピリダジン−３−オン（化合物５−１）を収率５４．６％（収率は、ＬＣ−ＥＳ法により算出した。ＬＣ−ＥＳ法；あらかじめ単離した目的物の一定濃度における液体クロマトグラフィー分析による検出強度を測定し、次に反応終了後の反応液を一定濃度に調整した溶液を、同一の条件で液体クロマトグラフィー分析を行い目的物の検出強度を測定する。これらの検出強度を比較することにより、反応液中の目的物の濃度を算出する方法をいう。以下同じ）で得た。
製造例２−３
本発明化合物（１−２）２７．８７ｇをクロロベンゼン５５１．９４ｇに溶解し、５−エチル―２―メチルピリジン４４．１８ｇ、吉草酸１６ｍｌを加え、２４時間加熱還流下、共沸脱水し２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−ヒドロキシフェニル）−４−メチル−５−トリフルオロメチルピリダジン−３−オン（化合物５−１）収率７３．７％（ＬＣ−ＥＳ法）を得た。
【００６５】
製造例２−４
本発明化合物（１−２）２０．９４ｇをトルエン２６．１８ｇに溶解し、５−エチル−２―メチルピリジン １３．３２ｇ、プロピオン酸８．１６ｇを加え、２２．５時間加熱還流下、共沸脱水し２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−ヒドロキシフェニル）−４−メチル−５−トリフルオロメチルピリダジン−３−オン（化合物５−１）収率７４．２％（ＬＣ−ＥＳ法）を得た。
製造例２−５
本発明化合物（１−２）０．１１８２ｇをクロロベンゼン３．０ｇに溶解し、５−エチル−２―メチルピリジン０．０４９８ｇを加え、２１．５時間加熱還流して２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−ヒドロキシフェニル）−４−メチル−５−トリフルオロメチルピリダジン−３−オン（化合物５−１）収率５８．２％（ＬＣ−ＥＳ法）を得た。
【００６６】
製造例２−６
本発明化合物（１−２）０．３４６９ｇをクロロベンゼン５．０ｍｌに溶解し、５−エチル−２―メチルピリジン０．３８ｍｌと触媒量のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを加え、さらに３０℃で塩化チオニル０．１４ｍｌを加え、６０℃で１時間攪拌して２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−ヒドロキシフェニル）−４−メチル−５−トリフルオロメチルピリダジン−３−オン（化合物５−１）収率４５．０％（ＬＣ−ＥＳ法）を得た。
製造例２−７
本発明化合物（１−５）  １．０ｇをキシレン３ｍｌに溶解し、４時間加熱還流した。反応溶液を室温にまで放冷した後、減圧下反応溶液を濃縮し、残渣をカラムクロマトグラフィ−に付し、２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−イソプロポキシフェニル）−４−メチル−５−トリフルオロメチルピリダジン−３−オン（化合物５−２）０．３６ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．３８（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）、２．４３（３Ｈ，ｑ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、４．４７（１Ｈ，ｍ）、６．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ）、７．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．５Ｈｚ）、８．００（１Ｈ，ｓ）
【００６７】
製造例２−８
本発明化合物（１−５）  ０．４６７ｇを窒素気流下、酢酸２．０ｍｌに溶解し１２０℃で１１．５時間攪拌した。反応溶液を室温にまで放冷した後、減圧濃縮し、残渣をジエチルエ−テル１００ｍｌで希釈した。この希釈溶液を飽和重曹水３０ｍｌで１回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、減圧濃縮し、残渣をカラムクロマトグラフィ−に付し、２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−イソプロポキシフェニル）−４−メチル−５−トリフルオロメチルピリダジン−３−オン（化合物５−２）０．３３４ｇを得た。
製造例２−９
本発明化合物（１−５）  ０．５１２ｇをキシレン２．０ｇに溶解し、４−ニトロ安息香酸０．２１５ｇを加え加熱還流下で６時間攪拌し、２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−イソプロポキシフェニル）−４−メチル−５−トリフルオロメチルピリダジン−３−オン（化合物５−２）を収率５６％で得た（液体クロマトグラフィ−を用いた内部標準法により確認）。
製造例２−１０
本発明化合物（１−５）  １５．０ｇをキシレン７５．０ｇに溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸１水和物０．７２ｇを加え８１℃で１５時間攪拌し、２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−イソプロポキシフェニル）−４−メチル−５−トリフルオロメチルピリダジン−３−オン（化合物５−２）を収率４９％で得た（液体クロマトグラフィ−を用いた内部標準法により確認）。
【００６８】
製造例２−１１
本発明化合物（１−５）５．０ｇをキシレン２５ｇに溶解し、トリ−ｎ−ブチルアミン２．３ｇを加えモレキュラ−シ−ブ３Ａで脱水しながら１４５〜１６０℃で２６時間還流させた。反応終了後、反応液を室温まで放冷した後、酢酸エチルと１０％塩酸を加え、分液操作に付した。有機層を乾燥した後、濃縮して得られた残渣をカラムクロマトグラフィ−に付し、２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−イソプロポキシフェニル）−４−メチル−５−トリフルオロメチルピリダジン−３−オン（化合物５−２）３．４ｇを得た。
製造例２−１２
本発明化合物（１−５）１５．０４ｇをキシレン７５．１２ｇに溶解し、トリエチルアミン３．８４ｇを加え、モレキュラ−シブ３Ａを用いて脱水しながら１３２℃で２１時間攪拌し、２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−イソプロポキシフェニル）−４−メチル−５−トリフルオロメチルピリダジン−３−オン（化合物５−２）を収率７１％で得た（液体クロマトグラフィ−を用いた内部標準法により確認）。
【００６９】
製造例２−１３
本発明化合物（１−５）  １４．９９ｇをキシレン７４．９ｇに溶解し、４−ピコリン３．４９ｇを加えディ−ン−スタ−クトラップを用いて、脱水しながら１３１−１３７℃で２６時間攪拌し、２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−イソプロポキシフェニル）−４−メチル−５−トリフルオロメチルピリダジン−３−オン（化合物５−２）を収率８５％で得た（液体クロマトグラフィ−を用いた内部標準法により確認）。
製造例２−１４
本発明化合物（１−５）  ０．２５ｇを室温でキシレン１．０ｇに溶解し、キノリン０．１４ｇを加え４時間加熱還流し、２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−イソプロポキシフェニル）−４−メチル−５−トリフルオロメチルピリダジン−３−オン（化合物５−２）を収率５５％で得た（液体クロマトグラフィ−を用いた内部標準法により確認）。
製造例２−１５
本発明化合物（１−５）  ０．２５ｇを室温でキシレン１．０ｇに溶解し、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン０．０９ｇを加えた後、４時間加熱還流し、２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−イソプロポキシフェニル）−４−メチル−５−トリフルオロメチルピリダジン−３−オン（化合物５−２）を収率６０％で得た（液体クロマトグラフィ−を用いた内部標準法により確認）。
製造例２−１６
本発明化合物（１−５）  １５．０５ｇを酢酸６．０３ｇおよびピリジン２９．４５ｇに溶解し１２７℃で８時間攪拌し、２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−イソプロポキシフェニル）−４−メチル−５−トリフルオロメチルピリダジン−３−オン（化合物５−２）を収率８２％で得た（液体クロマトグラフィ−を用いた内部標準法により確認）。
【００７０】
製造例２−１７
本発明化合物（１−５）  ５．００ｇをキシレン２５ｇに溶解し、プロピオン酸０．９１９ｇおよび４−ピコリン１．１５９ｇを加えモレキュラ−シブ３Ａを用いて脱水しながら１４２℃で１３．５時間攪拌し、２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−イソプロポキシフェニル）−４−メチル−５−トリフルオロメチルピリダジン−３−オン（化合物５−２）を収率９０．１％で得た（液体クロマトグラフィ−を用いた内部標準法により確認）。
製造例２−１８
本発明化合物（１−５）  ５．００１ｇをキシレン２５ｇに溶解し、４−ニトロ安息香酸２．０８４ｇおよび４−ピコリン１．１６０ｇを加えモレキュラ−シブ３Ａを用いて脱水しながら１４８℃で６時間攪拌し、２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−イソプロポキシフェニル）−４−メチル−５−トリフルオロメチルピリダジン−３−オン（化合物５−２）を収率９３．５％で得た（液体クロマトグラフィ−を用いた内部標準法により確認）。
製造例２−１９
本発明化合物（１−５）６．７７ｇをキシレン５９ｇに溶解し、５−エチル−２−メチルピリジン２．４５ｇ、プロピオン酸１．２５ｇおよび炭酸カルシウム０．６８ｇを混合し、１０時間還流加熱下、共沸脱水した。反応終了後室温まで冷却し、反応液を５％塩酸２０ｍｌにあけ酢酸エチルで抽出した。有機層を２０％食塩水２０ｍｌで洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー精製し、２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−イソプロポキシフェニル）−４−メチル−５−トリフルオロメチルピリダジン−３−オン（化合物５−２）４．９１ｇ（８０％）得た。
製造法２−２０
本発明化合物（１−５）  ０．５ｇをテトラヒドロフラン１０ｍｌに溶解し、該溶液にトリエチルアミン０．２５ｇを加え３０℃で１０分間攪拌した。その後、同温度でクロロぎ酸エチル０．２ｇをテトラヒドロフラン３ｍｌに溶解した溶液を２０分かけて滴下した。
滴下終了後、反応溶液を水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮し、残渣をカラムクロマトグラフィ−に付し、２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−イソプロポキシフェニル）−４−メチル−５−トリフルオロメチルピリダジン−３−オン（化合物５−２）０．１９ｇを得た。
【００７１】
製造例２−２１
本発明化合物（１−４２７）  ０．２５ｇをキシレン２．０ｇに溶解し、９時間加熱還流し、２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−イソプロポキシフェニル）−４−メチル−５−トリフルオロメチルピリダジン−３−オン（化合物５−２）を収率２０％で得た（液体クロマトグラフィ−を用いた内部標準法により確認）。
製造例２−２２
本発明化合物（１−８）  0．１９８ｇにピリジン１ｍｌおよび酢酸１ｍｌを加え、１２０℃で５時間攪拌した。反応溶液を室温まで放冷した後、減圧下に濃縮し、残渣をカラムクロマトグラフィ−に付し、２−（４−クロロ−２−フルオロ−５−（（１−メチル−２−プロピニル）オキシ）フェニル）−４−メチル−５−トリフルオロメチルピリダジン−３−オン（化合物５−４）０．０８６ｇを得た。
ｍ．ｐ．１１４．１℃
製造例２−２３
本発明化合物（１−１１）  0.３２１ｇにピリジン１ｍｌおよび酢酸１ｍｌを加え、１２０℃で５時間攪拌した。反応溶液を室温まで放冷した後、減圧下に濃縮し、残渣をカラムクロマトグラフィ−に付し、２−（２−クロロ−４−フルオロ−５−（５−メチル−６−オキソ−４−トリフルオロメチル−１，６−ジヒドロ−１−ピリダジニル）フェノキシ）酢酸エチル（化合物５−６）０．１８９ｇを得た。
ｍ．ｐ．１０２．０℃
【００７２】
製造例２−２４
本発明化合物（１−１５３）０．４３ｇを酢酸２．０ｍｌ、ピリジン１．０ｍｌの混合物を３時間加熱還流した。反応溶液を室温まで放冷した後、酢酸とピリジンを減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−に付し、２−（４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプロポキシフェニル）−４−エチル−５−トリフルオロメチルピリダジン−３−オン（化合物５−９）８４ｍｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．２６（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、１．３８（ｄ，６Ｈ，Ｊ＝６．２Ｈｚ）、２．８６（ｄｑ，２Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１．３Ｈｚ）、４．４９（ｑｑ，１Ｈ，Ｊ＝６．２Ｈｚ，６．２Ｈｚ）、７．００（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、７．２９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．３Ｈｚ）、７．９９（ｓ，１Ｈ）
製造例２−２５
本発明化合物（１−６５）１．０ｇを酢酸４．３５ｇおよびピリジン２．１７ｇに溶解し１２０℃で８．５時間攪拌した。室温まで放冷した後、反応液を希塩酸にあけ酢酸エチルで抽出した。有機層は飽和重曹水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮して粗生成物を得た。この粗生成物をカラムクロマトグラフィ−に付し２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−イソプロポキシフェニル）−５−トリフルオロメチルピリダジン−３−オン（化合物５−１０）０．４７ｇを得た。
ｍ．ｐ．６８．６℃
【００７３】
３）本発明化合物を単離しない方法
製造例３−１
窒素気流下、室温にて３，３，３−トリフルオロ−２−オキソプロパナ−ル １−（４−クロロ−２−フルオロ−５−ヒドロキシフェニルヒドラゾン）（化合物３−１）０．２９５ｇをピリジン２．０ｍｌに溶解した。この溶液にピペリジン０．１１３ｍｌとメチルマロン酸０．２９５ｇを加え、７０℃に加熱し２．５時間攪拌した後、酢酸２．０ｍｌを加え、更に１３０℃にて７時間攪拌を継続した。反応溶液を室温まで放冷した後、減圧濃縮し、残渣をジエチルエ−テル１００ｍｌで希釈した。この希釈溶液を３規定塩酸２０ｍｌで２回、飽和重曹水３０ｍｌで１回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、減圧濃縮し、残渣をカラムクロマトグラフィ−に付し、２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−ヒドロキシフェニル）−４−メチル−５−トリフルオロメチルピリダジン−３−オン（化合物５−１）０．１８４ｇを得た。
製造例３−２
窒素気流下、室温にて３，３，３−トリフルオロ−２−オキソプロパナ−ル  １−（４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプロポキシフェニルヒドラゾン）（化合物３−３）０．３９９ｇをピリジン２．４ｍｌに溶解した。該溶液にピペリジン０．１３３ｍｌとメチルマロン酸０．１５９ｇを加え、７０℃に加熱し３．５時間攪拌した後、酢酸２．４ｍｌを加え、更に１３０℃にて８時間攪拌を継続した。反応溶液を室温まで放冷した後、減圧濃縮し、残渣をジエチルエ−テル１００ｍｌで希釈した。この希釈溶液を３規定塩酸２０ｍｌで２回、飽和重曹水３０ｍｌで１回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、減圧濃縮し、残渣をカラムクロマトグラフィ−に付し、２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−イソプロポキシフェニル）−４−メチル−５−トリフルオロメチルピリダジン−３−オン（化合物５−２）０．２５５ｇを得た。
【００７４】
製造例３−３
３，３，３−トリフルオロ−２−オキソプロパナ−ル １−（４−クロロ−２−フルオロ−５−（カルボキシメトキシ）フェニルヒドラゾン）（化合物３−６）０．６２ｇをピリジン４．６ｍｌに溶解し、その中にメチルマロン酸０．５ｇとピペリジン０．１４ｇを加え、７０℃で３時間攪拌した。その後、酢酸４．６ｍｌを加え、外温１３０℃で１０時間攪拌した。反応終了後、反応液を水に注加し、該溶液をジエチルエ−テルで抽出した。有機層を水及び希塩酸で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、ジエチルエ−テルを留去し、得られた結晶を、ヘキサン：ジエチルエ−テル＝３：１の溶媒で再結晶し、２−（２−フルオロ−４−クロロ−５−（カルボキシメトキシ）フェニル）−４−メチル−５−トリフルオロメチルピリダジン−３−オン（化合物５−１１）０．３４ｇを得た。
製造例３−４
３，３，３−トリフルオロ−２−オキソプロパナ−ル １−（４−クロロフェニルヒドラゾン）（化合物３−１１）０．２５ｇをピリジン２ｍｌに溶解し、該溶液中にメチルマロン酸０．２４ｇとピペリジン０．０９ｇを加え、８０℃で４時間攪拌した。その後、該反応液に酢酸２．０ｍｌを加え、８０℃で６．５時間さらに１２０℃で４時間攪拌した。反応終了後、反応液を水に注加し、これをジエチルエ−テルで抽出した。有機層を水及び希塩酸で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、ジエチルエ−テルを留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−に付し、２−（４−クロロフェニル）−４−メチル−５−トリフルオロメチルピリダジン−３−オン（化合物５−１２）０．１５ｇを得た。
ｍ．ｐ．８０．８℃
【００７５】
次に、本発明工程１で用いる原料化合物の合成法につき、参考例で説明する。
参考例１
酢酸ナトリウム５．３ｇ（53.5mmol）と水約１００ｍｌを混合した溶液に、氷冷下、１，１−ジブロモ−３，３，３−トリフルオロアセトン６．６ ｇ（24.3mmol）を加え、７０℃で２０分間反応させた。次に反応液を室温まで放冷した後、これに２−フルオロ−４−クロロ−５−イソプロポキシフェニルヒドラジン５．８ｇ（21.5mmol）をジエチルエ−テル約２０ｍｌに溶解した溶液を加え、室温で１時間攪拌した。有機層を分離し、これを飽和食塩水１０ｍｌで１回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、ジエチルエ−テルを留去し、３，３，３−トリフルオロ−２−オキソ−プロパナ−ル  １−（４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプロポキシフェニルヒドラゾン）（化合物３−３）６．５ｇ（20.0mmol）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ[ 250MHz、ＣＤＣｌ3、TMS，δ(ppm)]1.39(6H, d, J=6.0Hz)、4.38−4.52(1H, m)、7.15(1H, d, J=10.5Hz) 、7.22(1H, d, J=7.3Hz)、7.43(1H, q, J=1.7Hz)、9.18(1H, brs) 
参考例２
５−アミノ−２−クロロ−４−フルオロフェノ−ル（該化合物はヨ−ロッパ特許出願公開明細書ＥＰ−６１７４１−Ａに記載の方法に準じて製造した）32.3ｇを濃塩酸１５０ｍｌと混合し、５０℃で３０分間攪拌した。該混合液に、亜硝酸ナトリウム１５ｇを水４０ｍｌに溶解した溶液を、０℃で１０分かけて滴下した。０℃で１時間攪拌した後、反応液を−５０℃に冷却し、塩化第１スズ１３２ｇを濃塩酸１３２ｇに溶解した溶液を−５０℃ですばやく滴下し、徐々に室温に戻し、１時間攪拌した。生じた固体を濾集し、減圧下８０℃で乾燥し、２−フルオロ−４−クロロ−５−ヒドロキシフェニルヒドラゾン塩酸塩の粗結晶７５ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ[ＤＭＳＯ−ｄ6，TMS,δ(ppm)] 3〜5(2H,ｂｒ)、6.73(1H, d) 、7.22(1H, d) 、8.20(1H, s) 、9 〜11(2H, brs) 
酢酸ナトリウム４９．２ｇおよび１，１−ジブロモ−３，３，３−トリフルオロアセトン40.5ｇを水400 ｍｌに溶解し、８０〜９０℃で４０分間加熱した。該溶液を０℃に冷却し、上述の方法で得られた２−フルオロ−４−クロロ−５−ヒドロキシフェニルヒドラジン塩酸塩の粗結晶７５ｇを加えた。反応液を室温で７０分間攪拌し、生じた結晶をロ集し、減圧乾燥して、３，３，３−トリフルオロ−２−オキソプロパナ−ル  １−（４−クロロ−２−フルオロ−５−ヒドロキシフェニルヒドラゾン）（化合物３−１）３５．４ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ[ 300MHz、ＣＤＣｌ3、TMS δ(ppm)] 5.49(s, 1H)、7.15(d, J=10.5Hz, 1H) 、7.24(d, J=7.4Hz, 1H)、7.38(q, J=1.8Hz, 1H)、8.75(s, 1H) 
【００７６】
参考例３
下記、スキ−ム化２５に基づく製法
〔化２５〕
2008088175.tif 000038
４，４，４−トリフルオロアセト酢酸エチル２０．１ｇと酢酸ナトリウム２５ｇを水１５０ｍｌに溶解させた溶液に、化合物［Ｉ−１］から誘導されるジアゾニウム塩酸溶液（４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプロポキシアニリン２０．３ｇ、濃塩酸２０ｍｌ、水２０ｍｌおよび亜硝酸ナトリウム７．３ｇから調製）を１０℃以下の温度で滴下した。滴下終了後、１時間室温で攪拌した後、生じた結晶を濾集し、水で洗浄した後、乾燥し、スキ−ム化１６中の化合物［ＩＩ−１］３４ｇを結晶として得た。（収率８５％）
１，４−ジオキサン３０ｍｌと水３ｍｌ中に上記反応で得られた化合物［ＩＩ−１］１５．９ｇと水酸化リチウム１水和物１．７ｇを加え、６時間加熱還流した。反応液を氷水に注加し、希塩酸で中和した後、酢酸エチルで抽出し、有機層を乾燥した後、濃縮した。残渣をヘキサンで洗浄し、化合物［ＩＩＩ−１］１１．３ｇを得た。（収率７６．３％）
上記反応で得られた化合物［ＩＩＩ−１］７．４ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４２ｍｌに溶解し、１００℃に反応液を昇温し、そのまま３０分間保温した。その後室温まで冷却し、反応液を水に注加し、酢酸エチルで抽出した。有機層を希塩酸水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮して、（化合物３−３：スキーム化２５における化合物［ＩＶ−１］）５．９ｇを得た。（収率９０％）
1Ｈ−ＮＭＲ[ 250MHz、ＣＤＣｌ3、TMS 、δ(ppm)] 1.39(6H, d, J=6.0Hz) 、4.38〜4.52(1H, m) 、7.15(1H, d, J=10.5Hz) 、7.22(1H, d, J=7.3Hz)、7.43(1H, q, J=1.7Hz)、9.18(1H, br)
【００７７】
参考例４
下記スキ−ム  化２６に基づく製法
〔化２６〕
2008088175.tif 000039
参考例３の方法に準じて、化合物［Ｉ−２］から化合物［ＩＩ−２］を製造した。
（反応１）１，４−ジオキサン３０ｍｌと水２ｍｌとの混合液に化合物［ＩＩ−２］５．０ｇと水酸化リチウム１水和物０．６７ｇを加え、１．５時間加熱還流した。反応液を氷水に注加し、希塩酸で中和した後、酢酸エチルで抽出した。抽出液を乾燥した後、濃縮した。得られた結晶をヘキサン−ジエチルエ−テル混合溶媒（ヘキサン：ジエチルエ−テル＝２：１）で洗浄して化合物［ＩＩＩ−２］３．３ｇを得た。（収率７３％）
（反応２）  上記（反応１）に準じて得られた化合物［ＩＩＩ−２］３．３ｇをジメチルスルホキシド１０ｍｌに溶解させ、反応液を１００℃に昇温し、そのまま１０分間保温した。その後室温まで冷却し、反応液をそのままシリカゲルカラムクロマトグラフィ−（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝７：１）に付し、化合物［ＩＶ−２］２．５５ｇを得た。（収率９１％）
（反応３）トルエン４０ｍｌ中に、上記（反応１）に準じて得られた化合物［ＩＩＩ−２］５．０ｇ、キノリン０．５ｍｌおよび銅粉０．１ｇを加えた反応溶液を１００℃に昇温し、そのまま２０分間保温した。反応液を室温まで冷却し、そのままシリカゲルカラムクロマトグラフィ−（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝８：１）に付し、（化合物３−１１：スキーム化２６における化合物［ＩＶ−２］）３．６ｇを得た。（収率８６％）
【００７８】
参考例５
下記スキ−ム  化２７に基づく製法
〔化２７〕
2008088175.tif 000040
５−アミノ−２−クロロ−４−フルオロフェノキシ酢酸エチル２４．７ｇを水４０mlに懸濁させて室温で濃塩酸４０mlを滴下し、３０分間攪拌した。この溶液を０℃まで冷却し、亜硝酸ナトリウム７．６ｇを水２０mlに溶解させた溶液を５℃以下で滴下した後、さらに1時間攪拌した。上記操作で得られたジアゾニウム溶液を、４，４，４−トリフルオロアセト酢酸エチル２１ｇ、酢酸ナトリウム５２ｇ、水105 ｍｌからなる水溶液へ、１０℃以下で滴下し、３０分間攪拌した。
その後、析出した結晶をロ取し、その結晶を酢酸エチルに溶解させ、溶媒を硫酸マグネシウムで乾燥させた後減圧濃縮し、得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィ−に付し、化合物［ＩＩ−３］１９．５ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ[ 250MHz、ＣＤＣｌ3、TMS 、δ(ppm)] 1.31(3H, t, J=7.16Hz)、1.42(3H, t,J=7.1Hz) 、4.27(2H, q, J=7.16Hz) 、4.43(2H, q, J=7.12Hz) 、4.72(2H, s) 、7.18(1H, d, J=6.73Hz) 、7.27(1H, d, J=10.0Hz) 
上記反応で得られた化合物［ＩＩ−３］４．４ｇを１，４−ジオキサン２０ｍｌに溶解し、水酸化リチウム１水和物１．２６ｇを加えて３時間還流した。反応終了後、反応液を水にあけ、酢酸エチルで水層を洗浄した。水層に希塩酸を加えて酸性とした後、酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗した後、硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧濃縮して、化合物［ＩＩＩ−３］２．９２ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ[ 250MHz、ＣＤＣｌ3、TMS 、δ(ppm)]4.78(2H, s) 、7.25(1H, d, J=6.42Hz) 、7.35(1H, d, J=9.82Hz) 
上記反応で得られた化合物［ＩＩＩ−３］２．５ｇをピリジン１０ｍｌに溶解し、１００℃で１時間攪拌した。反応終了後、反応液を水にあけ、ジエチルエ−テルで抽出し、有機層を希塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧濃縮し、（化合物３−６：スキーム化２７における化合物［ＩＶ−３］）で示される、３，３，３−トリフルオロ−２−オキソプロパナ−ル１−［４−クロロ−２−フルオロ−５−（カルボキシメトキシ）フェニルヒドラゾン］１．８１ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ[ 250MHz、ＣＤＣｌ3、TMS 、δ(ppm)]4.77(2H, s) 、7.25(1H, d, J=10.1Hz) 、7.30(1H, d, J=6.75Hz) 、7.44(1H, s) 
【００７９】
参考例６
酢酸ナトリウム１．２４９ｇと水１０ｍｌを混合した溶液に、１，１−ジブロモ−３，３，３−トリフルオロアセトン１．３６６ｇを加え、８０℃で３０分攪拌した。この反応溶液を室温まで放冷した後、４−クロロ−２−フルオロ−５−（エトキシカルボニル）メトキシフェニルヒドラジン１．００ｇをジエチルエ−テル１０ｍｌに溶解した溶液を加え、室温で２時間攪拌した。その後、反応液を酢酸エチル１００ｍｌで抽出し、有機層を、飽和重曹水１００ｍｌ、飽和食塩水１００ｍｌで洗浄後、無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥、濃縮して粗生成物を得た。この粗生成物をトルエンから再結晶して３,３,３−トリフルオロ−２−オキソプロパナ−ル  １−（４−クロロ−２−フルオロ−５−（エトキシカルボニル）メトキシフェニルフェニルヒドラゾン）（化合物３−８）１．１５１ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（250 MHz,ＣＤＣｌ3, TMS ）δ（ｐｐｍ）：1.32(t，3H)、4.29(q，2H)、4.71(s，2H)、7.06(d ，1H)、7.20(d ，1H)、7.36(m ，1H)、8.77(brs，1H)
参考例７
酢酸ナトリウム２．８７０ｇと水２０ｍｌを混合した溶液に、１，１−ジブロモ−３，３，３−トリフルオロアセトン３．１３９ｇを加え、８０℃で３０分攪拌した。この反応溶液を室温まで放冷した後、４−クロロ−２−フルオロ−５−（１−メチル−２−プロピニル）オキシフェニルヒドラジン２．０００ｇをジエチルエ−テル１０ｍｌに溶解した溶液を加え、室温で２時間攪拌した。反応終了後、反応液を酢酸エチル１００ｍｌで抽出し、有機層を飽和重曹水１００ｍｌ、飽和食塩水１００ｍｌで順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥、濃縮して粗生成物を得た。この粗生成物をトルエンを用いて再結晶を行ない、３,３,３−トリフルオロ−２−オキソプロパナ−ル  １−（４−クロロ−２−フルオロ−５−（１−メチル−２−プロピニル）オキシフェニルフェニルヒドラゾン）（化合物３−５）２．１２０ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（300 MHz,ＣＤＣｌ3, TMS ）δ（ｐｐｍ）：1.74(d，3H)、2.55(d，1H)、4.83(m， 1H)、7.17(d，1H)、7.39(m，1H)、7.53(d，1H)、8.91(brs，1H)
参考例８
酢酸ナトリウム５．３ｇと水１００ｍｌを混合した溶液に、氷冷下、１，１−ジクロロ−３，３，３−トリフルオロアセトン４．４ ｇを加え、９０℃で３０分間反応させた。次に反応液を室温まで放冷した後、これに２−フルオロ−４−クロロ−５−イソプロポキシフェニルヒドラジン５．８ｇをジエチルエ−テル２０ｍｌに溶解した溶液を加え、室温で１時間攪拌した。有機層を分離し、これを飽和食塩水１０ｍｌで１回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、ジエチルエ−テルを留去し、３，３，３−トリフルオロ−２−オキソプロパナ−ル  １−（４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプロポキシフェニルヒドラゾン）６．５ｇ(化合物３−３)を得た。
【００８０】
参考例９
５−アミノ−２−クロロ−４−フルオロフェノキシ酢酸エチル９．３４０ｇを３６％塩酸３０ｍｌに注加し、２８℃で１時間撹拌した。この懸濁溶液に０℃で亜硝酸ナトリウム２．６４２ｇを水８ｍｌに溶解した溶液を１０分かけて滴下し、さらに０℃で１時間攪拌してジアゾニウム塩溶液を調製した。塩化スズ（ＩＩ）２５．０３４ｇの３６％塩酸２５ｍｌ溶液を０℃に冷却し激しく撹拌している中に調製したジアゾニウム塩溶液を滴下し、さらに０℃〜室温で１時間撹拌した。
反応終了後、反応液に３０％水酸化ナトリウム水溶液を加えｐＨ７に中和した後、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮することにより２−クロロ−４−フルオロ−５−ヒドラジノ−フェノキシ酢酸エチル１．８４０ｇを得た。
【００８１】
次に製剤例を示す。なお、化合物は前記（表２５）に記載の化合物番号で示す。部は重量部である。
製剤例１
化合物５−１〜５−９の各々５０部、リグニンスルホン酸カルシウム３部、ラウリル硫酸ナトリウム２部および合成含水酸化珪素４５部をよく粉砕混合して各々の水和剤を得る。
製剤例２
化合物５−１〜５−９の各々１０部、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエ−テル１４部、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム６部、キシレン３５部およびシクロヘキサノン３５部をよく混合して各々の乳剤を得る。
製剤例３
化合物５−１〜５−９の各々２部、合成含水酸化珪素２部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、ベントナイト３０部およびカオリンクレ−６４部をよく粉砕混合し、水を加えてよく練り合わせた後、造粒乾燥して各々の粒剤を得る。
製剤例４
化合物５−１〜５−９の各々２５部、ポリビニルアルコ−ル１０％水溶液５０部および水２５部を混合し、平均粒径が５マイクロメ−トル以下になるまで湿式粉砕して各々の懸濁剤を得る。
【００８２】
次に、一般式  化１０で示されるピリダジン−３−オン誘導体が除草剤の有効成分として有用であることを試験例で示す。
除草効力および薬害の評価は、調査時の供試植物（雑草および作物）の出芽または生育の状態が無処理のそれと比較して全くないしほとんど違いがないものを「０」とし、供試植物が完全枯死または出芽もしくは生育が完全に抑制されているものを「５」として、０〜５の６段階に区分し、０、１、２、３、４、５で示す。除草効力の評価「４」および「５」は優れた除草効力を意味し、評価「３」以下は不十分な除草効力を意味する。
【００８３】
試験例１  畑地茎葉処理試験
直径１０cm、深さ１０cmの円筒型プラスチックポットに土壌を詰め、マルバアメリカアサガオ、イチビを播種し、温室内で１９日間育成した。その後、製剤例２に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定量を１ヘクタ−ルあたり１０００リットル相当の展着剤を含む水で希釈し、噴霧器で植物体の上方から茎葉部全面に均一に処理した。処理後、１９日間温室内で育成し、除草効力を調査した。その結果を（表２６）に示す。
【００８４】
【表２６】
2008088175.tif 000041
【００８５】
試験例２  畑地土壌表面処理試験
直径１０cm、深さ１０cmの円筒型プラスチックポットに土壌を詰め、マルバアメリカアサガオ、イチビを播種した。製剤例２に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定量を１ヘクタ−ルあたり１０００リットル相当の水で希釈し、噴霧器で土壌表面全面に均一に処理した。処理後、１９日温室内で育成し、除草効力を調査した。その結果を（表２７）に示す。
【００８６】
【表２７】
2008088175.tif 000042
【００８７】
試験例３  水田湛水処理試験
直径９cm、深さ１１cmの円筒型プラスチックポットに土壌を詰め、タイヌビエを播種した。湛水して水田状態にした後、温室内で育成した。７日後に製剤例２に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定量を水で希釈し、１ヘクタ−ルあたり５０リットルを水面に処理した。処理後１９日間温室内で育成し、除草効力を調査した。その結果を（表２８）に示す。
【００８８】
【表２８】
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