(57)【要約】【課題】ペースト状の試料を無駄にすることなく、且つ、簡単に試料の設定が可能な試料塗布用治具を提供する。【解決手段】ＡＴＲ装置の試料塗布用治具１０は、開口部１２ａを有し、所定の厚さを有する板状のマスク１２を含む。マスク１２が測定面２８に降ろされて、マスク１２がＡＴＲ装置のＡＴＲプリズムに当接したとき、開口部１２ａはＡＴＲプリズムの試料塗布面２２ａに位置する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
全反射吸収スペクトル測定装置の試料塗布用治具であって、
開口部を有し、所定の厚さを有する板状のマスクを含み、
前記マスクは、全反射吸収スペクトル測定装置の測定面に当接可能であり、
前記マスクを前記測定面に当接させたとき、前記開口部は、前記全反射吸収スペクトル測定装置の試料塗布面に位置する、試料塗布用治具。
【請求項２】
前記マスクを、前記測定面に当接した第１位置と、前記測定面から離れた第２位置とに位置するように前記マスクを移動させるマスク移動手段を含む、請求項１に記載の試料塗布用治具。
【請求項３】
前記開口部が、前記全反射吸収スペクトル測定装置の試料塗布面に位置するように前記マスクを保持するマスク保持手段を含む、請求項１または２に記載の試料塗布用治具。
【請求項４】
請求項１から３のいずれかに記載の試料塗布用治具を含む、全反射吸収スペクトル測定装置。
【請求項５】
試料塗布面を有する測定面と、
前記試料塗布面に試料を塗布するための試料塗布用治具とを含み、
前記試料塗布用治具は、
開口部を有し、所定の厚さを有する板状のマスクを含み、
前記マスクを前記測定面に当接させたとき、前記開口部は前記試料塗布面に位置する、全反射吸収スペクトル測定装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、試料塗布用治具および全反射吸収スペクトル測定装置に関し、特に、試料設定が容易な試料塗布用治具および全反射吸収スペクトル測定装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、試料分析装置として、全反射吸収（Attenuated Total Reflectance）スペクトル測定装置（以下「ＡＴＲ装置」という）が知られている。ＡＴＲ装置においては、所定の測定面である試料塗布面に試料を設定するために、ＡＴＲプリズムの試料塗布面に試料を密着させる必要があり、試料塗布面に気泡等が入ると正確な測定ができない。そこで、塗布面に適切に試料が密着するようにする方法がたとえば、特開２０００−４６７３３号公報（特許文献１）や、特開平７−２９４４２１号公報（特許文献２）等に開示されている。
【０００３】
特許文献１によれば、試料をその垂直上方から押圧するために、押圧バネを設けている。
【０００４】
特許文献２によれば、試料として固体試料と液体試料とを測定するために、ＡＴＲプリズム面に隣接して設けられた溝を有している。試料塗布面に試料を塗布したのち、その上から押さえ板で試料を押さえている。
【特許文献１】特開２０００−４６７３３号公報（要約）
【特許文献１】特開平７−２９４４２１号公報（要約）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
従来のＡＴＲ装置は上記のように構成されていた。特許文献１においては、大掛かりな機構が必要であり、装置が高価になるという問題があった。また、バネで上から押圧するため、ＡＴＲプリズムの表面に傷をつけたり、ＡＴＲプリズムを破損させるという問題があった。また、試料の塗布や圧力調整などの設定に時間がかかるという問題があった。また、試料塗布面の面積が大きい場合、試料を必要以上に塗布してしまい、試料が無駄になるという問題もあった。
【０００６】
特許文献２においては、特許文献１のように、装置が大掛かりになることは無いが、ペースト状の試料を測定する場合には、押さえ板で試料を押さえたときに、試料がはみ出る恐れがある。この場合、試料が無駄になるとともに、その処理が難しいとか、押さえ板自身に試料が付着するため、その清掃が大変である、という問題があった。
【０００７】
この発明は、上記のような問題点に着目してなされたもので、ペースト状の試料を無駄にすることなく、且つ、迅速で簡単に試料の設定が可能な試料塗布用治具および全反射吸収スペクトル測定装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
この発明に係る、全反射吸収スペクトル測定装置の試料塗布用治具は、開口部を有し、所定の厚さを有する板状のマスクを含む。マスクは、全反射吸収スペクトル測定装置の測定面に当接可能であり、マスクを測定面に当接させたとき、開口部は、全反射吸収スペクトル測定装置の試料塗布面に位置する。
【０００９】
全反射吸収スペクトル測定装置の試料塗布面に開口部が位置するように板状のマスクを設けたため、開口部に試料を塗布するだけで測定に必要最小限の試料を試料塗布面に塗布できる。
【００１０】
その結果、ペースト状の試料を無駄にすることなく、且つ、迅速で簡単に試料の設定が可能な試料塗布用治具を提供できる。
【００１１】
この発明の一つの実施の形態においては、マスクを測定面に当接した第１位置と、測定面から離れた第２位置とに位置するように移動させるマスク移動手段を含む。
【００１２】
この発明の他の実施の形態においては、開口部が、全反射吸収スペクトル測定装置の試料塗布面に位置するように保持する保持手段を含む。
【００１３】
この発明の他の局面によれば、全反射吸収スペクトル測定装置は、上記の試料塗布用治具を含む。
この発明のさらに他の局面によれば、全反射吸収スペクトル測定装置は、試料塗布面を有する測定面と、試料塗布面に試料を塗布するための試料塗布用治具とを含み、試料塗布用治具は、開口部を有し、所定の厚さを有する板状のマスクを含み、マスクを測定面に当接させたとき、開口部は試料塗布面に位置する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、この発明の一実施の形態を、図面を参照して説明する。図１は、この実施の形態に係るＡＴＲ装置の試料塗布用治具を示す斜視図である。図１を参照して、試料塗布用治具１０は、ＡＴＲ装置の試料の測定面２８を覆うように設けられた第１部材１１と第２部材１７とを含む。
【００１５】
第１部材１１および第２部材１７は、ＡＴＲ装置の測定面２８上にねじ１５ａ，１５ｂ等で固定されている。なお、第２部材１７の固定用ねじについては図示を省略している。第２部材１７は、第１部材１１側に突出する突出部１７ａ，１７ｂと、両突出部１７ａ，１７ｂを接続する接続部１７ｃとからなる凹形状を有している。
【００１６】
第１部材１１は、測定面２８に固定される固定部１５と、固定部１５に対して蝶番１６を介して接続されたマスク１２とを含む。マスク１２には開口部１２ａと取っ手１３とが設けられており、取っ手１３を用いてマスク１２を図中矢印で示すように測定面２８に対して上下動させることができる。マスク１２は矩形状をしており、蝶番１６とは反対側の端部１１ａと端部１１ａに隣接する側部１１ｂ，１１ｃを含む。これらの端部１１ａおよび側部１１ｂ，１１ｃは、マスク１２が降ろされて、測定面２８に当接したとき、第２部材１７の凹部にはまりこむ。また、このとき、開口部１２ａは、測定面２８のほぼ中央にある試料塗布面２２ａ上に位置し、ペースト状の試料を塗布する準備が完了する。
【００１７】
このように、蝶番１６は、マスク１２をＡＴＲ装置の測定面２８に対応する第１位置と、測定面２８から離れた第２位置とに位置するようにマスク１２を移動させるマスク移動手段として機能する。なお、これは、蝶番に限らず、２つの位置を移動可能な任意の構成としてもよい。
【００１８】
マスク１２の蝶番１６と接続された部分は、開口部１２ａが形成された部分よりも厚い部材１４で形成されており、両者の間には、段部１１ｄが設けられている。
【００１９】
次に、試料塗布用治具１０とＡＴＲ装置の資料塗布面２２ａとの位置関係について説明する。図２は、図１において、矢印ＩＩ-ＩＩで示す部分の断面図である。なお、図においては、試料塗布面２２ａの近傍のみを示している。
【００２０】
図２を参照して、ＡＴＲ装置２０は、ＡＴＲプリズム２２と、ＡＴＲプリズム２２に赤外光２５を入射するための光源２３と、ＡＴＲプリズム２２からの反射光２６を受ける検出器２４とを含む。ＡＴＲプリズム２２は、その周囲をたとえば、ＳＵＳ（Stainless Used Steel)の板２１ａ，２１ｂで囲まれている。したがって、測定面２８はＡＴＲプリズム２２上の試料塗布面２２ａと、ＳＵＳの板２１ａ，２１ｂの一部とを含む。
【００２１】
また、ＡＴＲプリズム２２の試料塗布面２２ａとマスク１２の開口部１２ａとの寸法は、ほぼ同一、または、開口部１２ａの方が、試料塗布面２２ａの寸法よりも多少大きい寸法を有しているのが好ましい。
【００２２】
ＡＴＲ装置２０においては、分析を行う試料３０をＡＴＲプリズム２２の試料塗布面２２ａに密着させ、光源２３から試料塗布面２２ａに向かって全反射臨界角以上の入射角で赤外線２５を入射させる。この条件下では、赤外線２５は試料塗布面２２ａで全反射するが、わずかに、試料塗布面２２ａを越えて試料に浸透し、試料３０の表面部分により固有の吸収を受ける。この反射された赤外線２６を検出器２４で検出し、この吸収スペクトルを解析することによって試料の解析を行う。なお、検出器２４にはＬＶＦ（Linear Variable Filter)および焦電素子アレイが実装されており、吸収スペクトルが計測可能となっている。分光方法としてはＦＴ-ＩＲ(Fourier Transform Infrared Spectrometer)や分光光度計などを利用してもかまわない。
【００２３】
次に、試料塗布用治具１０の具体的な使用方法について説明する。図３は、試料塗布用治具１０の使用方法を説明するための図であり、試料塗布用治具１０と、ＡＴＲ装置２０の試料塗布面２２ａのみを示している。図３（Ａ）を参照して、まず、ＡＴＲ装置２０の測定面２８に接触するようにマスク１２が降ろされる。この状態で、ペースト状の試料３０として、たとえば、半田ペーストを開口部１２ａの周囲に載置し、試料３０をへら３１で開口部１２ａ内に充填することによって塗布し（図２（Ｂ））、開口部１２ａを越えた部分の試料をへら３１で除去する（図２（Ｃ））。その後、マスク１２を上げると、図２（Ｄ）に示すように、所定の面積および厚さを有する半田ペースト試料３０ａが試料塗布面２２ａ上に形成される。
【００２４】
このように、測定に必要最低限の試料のみを簡単に試料塗布面２２ａ上に得ることができる。その結果、試料を無駄にすることなく、且つ、簡単に試料の設定が可能である。また、大掛かりな装置を用いないので、コストがあがることも無く、ＡＴＲプリズム２２の表面を傷つけたり、ＡＴＲプリズム２２を破損することもない。また、余分な試料はへらで除去できるため、試料塗布用治具１０やＡＴＲ装置２０が汚れにくく、清掃が容易である。
【００２５】
なお、試料の分析は、マスク１２をＡＴＲプリズム２２の試料塗布面２２ａから上げることなく行ってもよい。
【００２６】
また、上記実施の形態においては、ペースト状の試料として、半田ペーストを例に上げて説明したが、これに限らず、ペースト状であれば、接着剤のような樹脂や、ジャム、マヨネーズ、マーガリン等の食品のようなものであってもよい。
【００２７】
また上記実施の形態においては、試料塗布用治具の一端をＡＴＲ装置に固定し、他端が装置から離れるようにマスクを構成した例について説明したが、これに限らず、試料塗布用治具をマスクと、マスクと分離して設けられ、マスクの開口部をＡＴＲプリズムの試料塗布面に位置するように保持する何らかの保持手段とで構成し、測定時にのみ、マスクをＡＴＲプリズムの試料塗布面に保持して試料を塗布するようにしてもよい。
【００２８】
また、上記実施の形態においては、マスク１２の上下動や、試料３０のへら３１による充填や除去は、手動で行うことを想定しているが、これに限らず、マスク１２やへら３１に駆動機構を設け、自動的に行われるようにしてもよい。
【００２９】
以上、図面を参照してこの発明の実施形態を説明したが、この発明は、図示した実施形態のものに限定されない。図示された実施形態に対して、この発明と同一の範囲内において、あるいは均等の範囲内において、種々の修正や変形を加えることが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】この発明の一実施の形態に係る試料塗布用治具を示す斜視図である。
【図２】試料塗布用治具とＡＴＲ装置との位置関係を示す図である。
【図３】試料塗布用治具の使用方法を示す図である。
【符号の説明】
【００３１】
１０  試料塗布用治具、１１  第１部材、１２  マスク、１２ａ  開口部、１５  固定部、１６  蝶番、１７  第２部材、２０  ＡＴＲ装置、２２  ＡＴＲプリズム、２２ａ  試料塗布面、２３  光源、２４  検出器、２８  測定面、３０  試料。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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