(57)【要約】【課題】１回の露光のみで高解像度及び高精密のＰＤＰ用隔壁パターンが製造できるだけでなく、既存の隔壁に比べて高い反射率を有するＰＤＰ用隔壁が製造できる感光性ペースト組成物、それを利用して製造されたプラズマディスプレイパネルの隔壁、及びそれを備えるプラズマディスプレイパネルを提供する。【解決手段】金属酸化物ゾル及び無機物を含む感光性ペースト組成物において、金属酸化物ゾルの平均光屈折率（Ｎ１）及び無機物の平均光屈折率（Ｎ２）が数式（−０．２≦Ｎ１−Ｎ２≦０．２）を満足することを特徴とする感光性ペースト組成物である。本発明によれば、１回の露光のみで高解像度及び高精密のプラズマディスプレイパネル用の隔壁パターンを製造できるだけでなく、既存の隔壁に比べて高い反射率を有する隔壁を提供できるため、高い輝度を有するプラズマディスプレイパネルを製造できる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属酸化物が有機物に分散されている金属酸化物ゾルと、無機物と含む感光性ペースト組成物において、
前記金属酸化物ゾルの平均光屈折率（Ｎ１）及び前記無機物の平均光屈折率（Ｎ２）は、下記数式１を満足することを特徴とする、感光性ペースト組成物。
−０．２≦Ｎ１−Ｎ２≦０．２  ・・・（数式１）
【請求項２】
前記金属酸化物の金属成分は、Ｓｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｇｅ、Ｙ及びＺｎからなる群から一つ以上が選択されたことを特徴とする、請求項１に記載の感光性ペースト組成物。
【請求項３】
前記金属酸化物ゾルは、前記金属成分のアルコキシドまたはハロゲン化物を加水分解及び縮合反応させることによって製造された金属酸化物前駆体を有機物に分散させたことを特徴とする、請求項１に記載の感光性ペースト組成物。
【請求項４】
前記金属酸化物成分は、１〜６０ｎｍの平均粒径を有することを特徴とする、請求項１に記載の感光性ペースト組成物。
【請求項５】
前記金属酸化物ゾルの平均光屈折率は、１．４〜２．０であることを特徴とする、請求項１に記載の感光性ペースト組成物。
【請求項６】
前記金属酸化物の平均光屈折率は、１．３〜３．０であることを特徴とする、請求項１に記載の感光性ペースト組成物。
【請求項７】
前記金属酸化物ゾルの平均光屈折率（Ｎ１）及び前記無機物の平均光屈折率（Ｎ２）は、下記数式２を満足することを特徴とする、請求項１に記載の感光性ペースト組成物。
−０．１≦Ｎ１−Ｎ２≦０．１  ・・・（数式２）
【請求項８】
前記金属酸化物ゾル中の金属酸化物の含有量は、前記無機物１００体積部に対して３〜３０体積部であることを特徴とする、請求項１に記載の感光性ペースト組成物。
【請求項９】
前記金属酸化物ゾルの金属酸化物の含有量は、前記有機物１００体積部に対して５〜５０体積部であることを特徴とする、請求項１に記載の感光性ペースト組成物。
【請求項１０】
前記無機物は、平均光屈折率（Ｎ２）が１．５〜１．８であることを特徴とする、請求項１に記載の感光性ペースト組成物。
【請求項１１】
前記無機物は、低融点ガラス粉末及び高融点ガラス粉末を含み、前記低融点ガラス粉末及び前記高融点ガラス粉末の軟化温度（ＴＳ）は、それぞれ、下記数式５及び数式６を満足することを特徴とする、請求項１に記載の感光性ペースト組成物。
焼成温度−８０℃＜ＴＳ＜焼成温度  ・・・（数式５）
ＴＳ＞焼成温度＋２０℃  ・・・（数式６）
【請求項１２】
前記低融点ガラス粉末は、平均粒径（Ｄ５０）が２〜５μｍ、最小粒径（Ｄｍｉｎ）が０．１μｍ、最大粒径（Ｄｍａｘ）が２０μｍであることを特徴とする、請求項１１に記載の感光性ペースト組成物。
【請求項１３】
前記低融点ガラス粉末の含有量は、前記無機物１００体積部に対して７０〜１００体積部であることを特徴とする、請求項１１に記載の感光性ペースト組成物。
【請求項１４】
前記低融点ガラス粉末は、ＰｂＯ−Ｂ２Ｏ３系、ＰｂＯ−ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３系、Ｂｉ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３系、Ｂｉ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３系、ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−Ａｌ２Ｏ３系、ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−ＢａＯ系、ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−ＣａＯ系、ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−Ａｌ２Ｏ３系、ＺｎＯ−ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３系、Ｐ２Ｏ５系、ＳｎＯ−Ｐ２Ｏ５系、Ｖ２Ｏ５−Ｐ２Ｏ５系、Ｖ２Ｏ５−Ｍｏ２Ｏ３系及びＶ２Ｏ５−Ｐ２Ｏ５−ＴｅＯ２系からなる群から一つ以上選択されたことを特徴とする、請求項１１に記載の感光性ペースト組成物。
【請求項１５】
前記高融点ガラス粉末は、平均粒径が１〜４μｍ、最小粒径が０．１μｍ、最大粒径が２０μｍであることを特徴とする、請求項１１に記載の感光性ペースト組成物。
【請求項１６】
前記高融点ガラス粉末の含有量は、前記無機物１００体積部に対して０体積部超過、３０体積部以下であることを特徴とする、請求項１１に記載の感光性ペースト組成物。
【請求項１７】
前記高融点ガラス粉末は、ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−ＢａＯ系、ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−ＣａＯ系、ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−ＭｇＯ系、ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−ＣａＯ−ＢａＯ系、ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−ＣａＯ−ＭｇＯ系、ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３−ＢａＯ系、ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３−ＣａＯ系、ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３−ＭｇＯ系、ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３−ＢａＯ−ＣａＯ系及びＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３−ＣａＯ−ＭｇＯ系からなる群から一つ以上選択されたことを特徴とする、請求項１１に記載の感光性ペースト組成物。
【請求項１８】
前記低融点ガラス粉末の平均光屈折率（Ｎ３）と前記高融点ガラス粉末の平均光屈折率（Ｎ４）との差は、下記数式７を満足させることを特徴とする、請求項１１に記載の感光性ペースト組成物。
−０．２≦Ｎ３−Ｎ４≦０．２  ・・・（数式７）
【請求項１９】
前記低融点ガラス粉末の平均光屈折率（Ｎ３）と前記高融点ガラス粉末の平均光屈折率（Ｎ４）との差は、下記数式８を満足させることを特徴とする、請求項１６に記載の感光性ペースト組成物。
−０．１≦Ｎ３−Ｎ４≦０．１  ・・・（数式８）
【請求項２０】
前記有機物は、バインダー、光開始剤及び架橋剤を含むことを特徴とする、請求項１に記載の感光性ペースト組成物。
【請求項２１】
前記バインダーの含有量は、前記有機物１００質量部を基準に３０〜８０質量部であり、前記光開始剤の含有量は、前記有機物１００質量部を基準に１〜２０質量部であり、かつ、前記架橋剤の含有量は、前記有機物１００質量部を基準に１５〜６０質量部であることを特徴とする、請求項２０に記載の感光性ペースト組成物。
【請求項２２】
前記有機物は、添加剤及び溶剤をさらに含むことを特徴とする、請求項２０に記載の感光性ペースト組成物。
【請求項２３】
前記バインダーは、カルボキシル基を有するモノマーと１個以上のエチレン性不飽和モノマーとの共重合反応によって製造されたカルボキシル基を有するアクリル系樹脂であって、前記バインダーの質量平均分子量が５００〜１００，０００であり、酸価が５０〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇであり、
前記カルボキシル基を有するモノマーは、アクリル酸、メタクリル酸、フマル酸、マレイン酸、酢酸ビニル及びこれらの無水物からなる群から一つ以上選択され、
前記エチレン性不飽和モノマーは、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、ｎ−ペンチルアクリレート、アリルアクリレート、フェニルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシトリエチレングリコールアクリレート、シクロへキシルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、２−エチルへキシルアクリレート、グリセロールアクリレート、グリシジルアクリレート、イソボルニルアクリレート、イソデキシルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メトキシエチレングリコールアクリレート、メトキシジエチレングリコールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ステアリルアクリレート、１−ナフチルアクリレート、２−ナフチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、アミノエチルアクリレート及び前記モノアクリレート分子内のアクリレートを一部または全部メタクリレートに変えたもの、スチレン、α−メチルスチレン、α−２−ジメチルスチレン、３−メチルスチレン及び４−メチルスチレンからなる群から一つ以上選択されたことを特徴とする、請求項２０に記載の感光性ペースト組成物。
【請求項２４】
前記バインダーは、セルロース、メチルセルロース、エチルセルロース、ｎ−プロピルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、２−ヒドロキシエチルセルロース、メチル２−ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシブチルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレート、セルロースニトレート、セルロースアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートヒドロゲンフタレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースプロピオネート、（アクリルアミドメチル）セルロースアセテートプロピオネート、（アクリルアミドメチル）セルロースアセテートブチレート、シアノエチレートセルロース、ペクチン酸、キトサン、キチン、カルボキシメチルセルロース、カルボキシメチルセルロースナトリウム塩、カルボキシエチルセルロース及びカルボキシエチルメチルセルロースからなる群から選択された一つ以上の物質をさらに含むことを特徴とする、請求項２２に記載の感光性ペースト組成物。
【請求項２５】
前記光開始剤は、（ｉ）イミダゾール系化合物、（ｉｉ）トリアジン系化合物、（ｉｉｉ）アミノアセトフェノン系化合物、（ｉｖ）ベンゾフェノン及びアセトフェノン系化合物、（ｖ）ベンゾイン系化合物、（ｖｉ）チタノセン系化合物、（ｖｉｉ）オキサジアゾール系化合物、（ｖｉｉｉ）チオキサントン系化合物、（ｉｘ）（ビス）アシルホスフィンオキシド系化合物及び（ｘ）有機ホウ素塩化合物からなる群から選択された一つ以上の化合物であることを特徴とする、請求項２０に記載の感光性ペースト組成物。
【請求項２６】
前記架橋剤は、アクリル酸、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、ｎ−ペンチルアクリレート、アリルアクリレート、フェニルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシトリエチレングリコールアクリレート、シクロへキシルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、２−エチルへキシルアクリレート、グリセロールアクリレート、グリシジルアクリレート、イソボルニルアクリレート、イソデキシルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メトキシエチレングリコールアクリレート、メトキシジエチレングリコールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ステアリルアクリレート、１−ナフチルアクリレート、２−ナフチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、アミノエチルアクリレート及び前記アクリレートを一部または全部メタクリレートに変えたものからなる群から一つ以上選択されたモノアクリレート系架橋剤；１，６−へキサンジオールジアクリレート、１，６−へキサンジオール（エトキシレーテド）ジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート及びテトラエチレングリコールジアクリレート、ビスフェノールＡ（エトキシレーテド）ｎ（ｎは、２〜８）ジアクリレート及びビスフェノールエポキシジアクリレートからなる群から一つ以上選択されたジアクリレート系架橋剤；トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパン（エトキシレーテド）トリアクリレート、グリセリン（プロキシレーテド）トリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート及びトリメチロールプロパン（プロキシレーテド）−３−トリアクリレートからなる群から一つ以上選択されたトリアクリレート系架橋剤；ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、テトラメチロールプロパンテトラアクリレート及びペンタエリスリトールテトラアクリレートからなる群から一つ以上選択されたテトラアクリレート系架橋剤；ペンタアクリレート系架橋剤；ヘキサアクリレート系架橋剤；及び前記多官能アクリレート分子内のアクリレートを一部または全部メタクリレートに置換したものからなる群から一つ以上選択されたことを特徴とする、請求項２０に記載の感光性ペースト組成物。
【請求項２７】
前記添加剤は、重合禁止剤、酸化防止剤、紫外線吸光剤、消泡剤、分散剤、レベリング剤、可塑剤及び揺変剤からなる群から一つ以上選択されたことを特徴とする、請求項２２に記載の感光性ペースト組成物。
【請求項２８】
前記溶剤は、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、テキサノール、テレピン油、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ジプロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、セロソルブアセテート及びブチルセロソルブアセテートからなる群から一つ以上選択されたことを特徴とする、請求項２２に記載の感光性ペースト組成物。
【請求項２９】
請求項１から２８のうち何れか１項に記載の感光性ペースト組成物を利用して製造されたプラズマディスプレイパネルの隔壁。
【請求項３０】
請求項２９に記載のプラズマディスプレイパネルの隔壁を備えるプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光性ペースト組成物、それを利用して製造されたプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ：Ｐｌａｓｍａ  ジｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ）の隔壁、及びそれを備えるＰＤＰに係り、さらに具体的には、１回の露光のみで高解像度及び高精密のＰＤＰ用の隔壁パターンを製造できるだけでなく、既存の隔壁に比べて高い反射率を有する隔壁を提供できる感光性ペースト組成物、それを利用して製造されたＰＤＰの隔壁、及びそれを備えるＰＤＰに関する。
【背景技術】
【０００２】
ＰＤＰの構造において、隔壁は、下板（または、背面基板）に形成される構造物であって、放電空間の確保及び隣接したセル間の電気的・光学的クロストークを防止する役割を行う。このような隔壁は、ＰＤＰの種類によって、形態（ストライプ型または格子型）及び寸法（幅及びピッチ）が多様である。
【０００３】
隔壁は、ＰＤＰ下板にアドレス電極及びその上に誘電体を形成した後、スクリーン印刷法、サンドブラスト法、エッチング法、または感光性法を利用して形成される。
【０００４】
スクリーン印刷法は、パターン化されたマスクを使用して印刷用隔壁ペーストをスクイズを利用して基板に印刷し、これを乾燥させて溶媒を除去した後、再び印刷及び乾燥を数回反復実施して所望の厚さの乾燥された膜を形成し、焼成工程を経て隔壁膜を得る方法である。しかし、この方法は、工程時間が長くかかり、低い解像度及び反復された印刷作業による誤整列によって均一なパターンの隔壁を得難いということが問題点である。
【０００５】
サンドブラスト法は、隔壁ペーストをテーブルコーターを利用して一度に印刷して乾燥させることによって、所望の厚さの膜を形成した後に、耐サンディング性を有するドライフィルムレジストをラミネーションさせ、露光及び現像工程を通じてパターニングする。次いで、このようなドライフィルムレジストパターンをマスクとして使用して、サンディング工程で高圧の微細研磨剤を噴射させて隔壁をパターン化し、残りのドライフィルムレジストを除去した後に、焼成工程を経ることによって隔壁を完成する。しかし、このようなサンドブラスト法もスクリーン印刷法に比べて高い解像度の隔壁形成が可能であるという長所はあるが、工程が複雑であり、研磨剤による衝撃によって電極端子部が損傷されるという短所がある。
【０００６】
エッチング法は、サンドブラスト法と類似した方法であって、サンディング工程の代りに、焼成された膜をエッチング液を使用してパターン化して隔壁を形成する方法であって、高解像度が可能であるという長所はあるが、製造コストが高いという短所を有する。
【０００７】
感光性法は、初期には、特許文献１に紹介されたように、感光性ペーストを印刷及び乾燥して所望の厚さの膜を形成し、フォトマスクが装着された紫外線露光装置を利用して露光した後、再び印刷、乾燥、及び露光工程を２回以上反復実施して所望の厚さを形成した後、現像工程で非露光部を選択的に除去した後に、焼成工程を経て隔壁を製造した。このような感光性法は、スクリーン印刷法に比べて高解像度の隔壁が得られ、サンドブラスト法に比べてドライフィルムレジスト及びサンディング工程を経ないという長所はあるが、工程処理回数が多く、反復工程時の誤整列による問題が発生する恐れがあるという短所があった。
【０００８】
したがって、現在は、特許文献２、３及び４に記載されたように、無機物と有機物との光屈折率差を最小化して、無機物と有機物との界面で露光工程時に照射される光の散乱や反射を最小化して、１回露光で隔壁を形成しようとする方法が開発されており、現在、相当部分が商用化されたと知られている。
【０００９】
【特許文献１】米国特許第５，２０９，６８８号明細書
【特許文献２】米国特許第６，１９７，４８０号明細書
【特許文献３】米国特許第６，５０７，１４８号明細書
【特許文献４】米国特許第６，５７６，３９１号明細書
【特許文献５】特開平１１−１０２６４５号公報
【特許文献６】特開２０００−２９００４０号公報
【特許文献７】特開２００４−３１８１１６号公報
【特許文献８】特開２００２−１２２９８５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかし、前述した特許は、下記のような問題点を有する。
【００１１】
第一に、無機物と有機物との光屈折率差を最小化するためには、一般的に使われる無機物や有機物でない、特殊な範囲の光屈折率値を有する無機物や有機物を使用せねばならないという短所がある。すなわち、一般的にサンドブラスト法やエッチング法に使われる隔壁材料の無機物の光屈折率は、約１．６０〜１．８０であり、有機物の光屈折率は、約１．５０〜１．６０、またはそれ以下であるため、このような材料を使用しては無機物と有機物との光屈折率差を最小化できない。すなわち、無機物の場合、光屈折率が高いため、有機物との光屈折率差を最小化するためには、低い光屈折率を有する物質を開発して使用せねばならず、一方、有機物は、高い光屈折率を有する物質を開発して使用せねばならないという難しさがある。
【００１２】
第二に、有機物の場合、高屈折率を有する物質を使用するために人体に有害な臭素（Ｂｒ）元素が含まれたバインダーを使用せねばならず、また、硫黄（Ｓ）が含まれた高価のモノマーを使用せねばならないという問題点もある。
【００１３】
第三に、サンドブラスト法またはエッチング法では、焼成時に隔壁形状の維持及び隔壁の反射率を向上させるか、または着色のために二酸化チタン、アルミナ、シリカ、酸化ジルコニウム、イットリア、マグネシア、酸化亜鉛、酸化マンガン、酸化鉄、酸化スズ、酸化銅または酸化鉛などの粉末を所定含有量使用するが、前記特許の場合、このような成分の粉末を使用できないという問題がある。これは、前述した成分の粉末は、光屈折率が非常に高く、有機物との光屈折率を最小化させることができず、前記成分の粉末が露光時に照射される紫外線の透過を妨害するため、１回露光によって隔壁が形成できないためである。このような問題点のため、前記特許では、一般的に使われる前記成分の粉末の代りに、光屈折率が低く、かつ紫外線に透明な高融点ガラスを使用しており、結果的に前記特許によって製造された隔壁は、反射率が低い特性を有し、これにより、ＰＤＰの駆動時に発光される可視光線に対する反射率が低下してサンドブラスト法やエッチング法によって形成された隔壁に比べて輝度が低下する根本的な短所がある。したがって、前記短所を補完するために、他の工法で製造される隔壁の幅より狭くして窮極的に塗布される蛍光体の面積を最大化することによって、低下した輝度を補償する方法が適用されている。
【００１４】
最後に、前記特許によって製造される隔壁は、他の工法によって製造される隔壁に比べて表面膜の粗度が高い。これは、１回露光で隔壁を形成するためには、露光時に照射される紫外線が底面まで到達せねばならないが、そのようにするためには、無機物と有機物との光屈折率差を最小化せねばならないこと以外にも、使用する無機物の粒子サイズが、他の工法（サンド法またはエッチング法）に比べて相対的に大きいものを使用せねばならず、それと共に、露光されて硬化された部分の表面は、現像工程で現像液によって若干ずつ擦り剥けつつ、表面が粗くなり、このように粗くなった表面は、焼成後にも焼結程度によって差はあるが、その形態を維持する傾向があるため、結果的に最終隔壁の表面は、他の工法によって製造された隔壁に比べて粗くなるしかない。このように隔壁膜が粗くなれば、可視光線に対する反射効率が低下して、結果的に輝度が低下すること以外に、放電されるセル間のクロストークを誘発することもあり、パネルの破壊強度を落とすか、または上・下板の揺れによるノイズを誘発させる恐れがあるという問題がある。
【００１５】
前記特許に対する問題点のうち、隔壁の反射率を高めるための方案として、特許文献５では、二酸化チタン、アルミナ、酸化ジルコニウム、またはシリカ粉末を所定含有量使用する方案が開示されているが、前記成分を使用する場合、有機物との光屈折率差が大きくなるか、照射される紫外線を透過できないため、露光感度が顕著に低下して、１回露光では所望の形態の隔壁が得られないという問題点がある。
【００１６】
また、特許文献６に開示されたように、５〜８０ｎｍの二酸化チタン、アルミナ、シリカ、酸化ジルコニウム、イットリアを使用するか、または特許文献７に開示されたように、５〜８０ｎｍの二酸化チタン、アルミナ、シリカ、酸化ジルコニウム、イットリア、マグネシア、酸化亜鉛、酸化マンガン、酸化鉄、酸化スズ、酸化銅、または酸化鉛を添加して隔壁の反射率を高めようとする方案も提案されている。これは、露光時に照射される光の波長より非常に小さいサイズの粒子の場合に、光に対して散乱や反射などを起こさず、有機物に対する光屈折率の上昇効果をもたらし、結果的に、低屈折率の無機物と高屈折率の有機物とを使用しなくてもよいという点で、理論的にはある程度の妥当性を内包している。しかし、これも単純に５〜８０ｎｍの前記微粒子成分を添加して混合し、３−ロールミルを通じて製造する場合には、前記微粒子成分がペースト内で単一粒子状に分散されず、前記微粒子同士で固まって塊になることによって、結果的に、特許文献５でと類似した問題点を表した。
【００１７】
一方、特許文献８は、金属酸化物ゾルを含有する感光性ペーストを利用してＰＤＰ隔壁を形成する方法を開示しているが、金属酸化物ゾル成分が有機物の屈折率に影響を与えるという事実を看過し、結果的に、金属酸化物ゾルの屈折率に関係なく、有機物と無機物との屈折率差のみを最小化しようとしたあげく、前記特許文献２、３及び４の問題点をそのまま内包している。
【００１８】
そこで、本発明は、このような問題に鑑みてなされたもので、その目的は、前記従来の技術の問題点を解決して、１回の露光のみで高解像度及び高精密のＰＤＰ用隔壁パターンが製造できるだけでなく、既存の隔壁に比べて高い反射率を有するＰＤＰ用隔壁が製造できる感光性ペースト組成物、それを利用して製造されたＰＤＰの隔壁、及びそれを備えるＰＤＰを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
上記課題を解決するために、本発明のある観点によれば、金属酸化物ゾル及び無機物を含む感光性ペースト組成物において、前記金属酸化物ゾルの平均光屈折率（Ｎ１）及び前記無機物の平均光屈折率（Ｎ２）は、下記数式１を満足することを特徴とする感光性ペースト組成物が提供される。
【００２０】
−０．２≦Ｎ１−Ｎ２≦０．２  ・・・（数式１）
【００２１】
上記課題を解決するために、本発明の他の観点によれば、前記感光性ペースト組成物を利用して製造されたＰＤＰの隔壁が提供される。
【００２２】
上記課題を解決するために、本発明のさらに他の観点によれば、前記隔壁を備えるＰＤＰが提供される。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、１回の露光のみで高解像度及び高精密のＰＤＰ用隔壁パターンを製造できるだけでなく、既存の隔壁に比べて高い反射率を有する隔壁を提供できるために高い輝度を有するＰＤＰを製造できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
【００２５】
本発明による感光性ペースト組成物は、金属酸化物ゾル及び無機物を含み、前記金属酸化物ゾルの平均光屈折率（Ｎ１）及び前記無機物の平均光屈折率（Ｎ２）は、下記数式１を満足させる。
【００２６】
−０．２≦Ｎ１−Ｎ２≦０．２  ・・・（数式１）
【００２７】
本発明による前記感光性ペースト組成物は、従来の通常的な感光性ペースト組成物とは異なり、金属酸化物ゾルを含む。前記金属酸化物ゾルは、数〜数十ｎｍのサイズの金属酸化物が有機物に分散されてゾル状態に存在する物質であって、有機物中に凝集や沈殿のような現象が起きない安定的な状態に分散されており、無機物との混合使用が可能である。このような金属酸化物ゾルを含む感光性ペーストを使用して形成された隔壁は、従来の感光性隔壁に比べて反射率が高く、輝度を上昇させうるだけでなく、焼成工程で隔壁の形状が崩れないように支持する支持体の役割及び隔壁の緻密性を向上させて表面粗度を低下させる役割を行う。
【００２８】
前記金属酸化物ゾルの金属成分としては、これに制限されるものではないが、Ｓｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｇｅ、Ｙ及びＺｎからなる群から選択された１個以上の金属成分が使われうる。前記金属酸化物ゾルは、一般的に、前記金属成分のアルコキシドまたはハロゲン化物を、加水分解及び縮合反応によって金属酸化物前駆体を製造し、製造された金属酸化物前駆体を有機物に分散させることによって製造される。但し、金属酸化物前駆体の製造時に必要に応じて表面改質剤を追加的に導入させることもある。
【００２９】
前記金属酸化物前駆体の製造時に、加水分解反応及び縮合反応の程度によって金属酸化物の平均粒径が決定されるが、本発明に使われる金属酸化物は、１〜６０ｎｍの平均粒径、さらに望ましくは、２〜４０ｎｍの平均粒径、最も望ましくは、４〜２０ｎｍの平均粒径を有する。前記金属酸化物の平均粒径が１ｎｍより小さいものは、製造することも難しいが、有機物内に均一な状態に分散させ難く、平均粒径が６０ｎｍを超えれば、露光時に光を散乱させて、光の透過を阻害する問題が発生する。
【００３０】
前記金属酸化物前駆体の金属酸化物の平均光屈折率は、１．３〜３．０を有することが望ましく、前記金属酸化物前駆体を有機物に分散させて製造された金属酸化物ゾルの平均光屈折率は、１．４〜２．０を有するように製造することが望ましい。前記金属酸化物前駆体及び金属酸化物ゾルの平均光屈折率値が、前記範囲を逸脱すれば、前述した数式１の屈折率範囲を満足させる感光性ペースト組成物を製造し難いという問題点がある。
【００３１】
前記金属酸化物ゾルの平均光屈折率は、溶剤が含まれていない光屈折率であって、前記金属酸化物ゾルの光屈折率は、例えば、次のように測定する。ＢＥＣＫＥ’  ＬＩＮＥ検出法に基づき、前記金属酸化物ゾルを透明フィルムまたはガラス基板にコーティングした後、８０〜１００℃の温度で数〜数十分間乾燥させた後に、光屈折率測定計を利用して測定する。
【００３２】
また、前記金属酸化物前駆体を有機物に分散させて金属酸化物ゾルを製造するのにおいて、金属酸化物の含有量は、有機物１００体積部に対して５〜５０体積部を有するように製造する。金属酸化物の含有量が前記範囲未満である場合、隔壁の反射率の上昇効率が低下し、前記範囲を超える場合、露光時に架橋反応が不十分に起きて所望の隔壁形状が得られなくなる。
【００３３】
前記金属酸化物ゾルを無機物と混合するのにおいて、その混合比率は、２つを考慮して混合する。第一には、金属酸化物ゾル及び無機物の屈折率を考慮せねばならず、具体的には、金属酸化物ゾル及び無機物の屈折率値が前述した数式１の関係を満足せねばならず、さらに望ましくは、下記数式２を満足せねばならず、最も望ましくは、下記数式３を満足せねばならない。
【００３４】
−０．１≦Ｎ１−Ｎ２≦０．１  ・・・（数式２）
【００３５】
−０．０５≦Ｎ１−Ｎ２≦０．０５  ・・・（数式３）
【００３６】
前記式で、Ｎ１及びＮ２は、数式１で定義した通りである。
【００３７】
もし、前記金属酸化物ゾル及び無機物の屈折率間の関係が前記数式１に記載された範囲を逸脱すれば、露光時に照射される光の透過度が低下して１回露光による隔壁を形成できず、その関係が前記数式３に近接するほど露光感度が優秀になり、照射される光の散乱が小さくなることによって、隔壁パターンの直進性も優秀になる。
【００３８】
次いで、前記屈折率条件を満足すること以外にも、感光性ペースト成分中の無機物含有量対比金属酸化物のゾル中の金属酸化物の含有量も考慮して混合比率を決定せねばならない。前記金属酸化物の含有量は、無機物１００体積部に対して３〜３０体積部にすることが望ましく、さらに望ましくは、無機物１００体積部に対して５〜２０体積部にすることであるが、前記金属酸化物の含有量が前記範囲未満である場合、隔壁の反射率の上昇効率が低下し、前記範囲を超える場合、無機物の焼結が正しく起きなくて隔壁の緻密性が低下する。
【００３９】
前記金属酸化物と無機物との平均熱膨張係数（α）は、下記数式４を満足させることが望ましい。
【００４０】
基板の熱膨脹係数×０．９≦α≦基板の熱膨脹係数  ・・・（数式４）
【００４１】
前記金属酸化物と無機物との平均熱膨張係数が前記数式４を逸脱すれば、焼成後基板が反るか、ひいては、破損される問題が発生する。
【００４２】
本発明による感光性ペースト組成物中の無機物は、平均光屈折率が１．５〜１．８を有することが望ましい。無機物の平均光屈折率が前記範囲を逸脱すれば、無機物の光屈折率と金属酸化物のゾルの光屈折率との差が大きくなって、１回露光によって隔壁が形成できない。
【００４３】
前記無機物は、低融点を有するガラス粉末と高融点を有するガラス粉末とで構成されるが、前記無機物のうち、低融点ガラス粉末は、焼成工程時に焼結が起きることによって、緻密な隔壁膜を形成する役割を行い、高融点ガラス粉末は、焼成工程時に隔壁膜が崩れないように形態を維持させる役割を行う。
【００４４】
前記低融点ガラス粉末の粒子形状は、特別に限定されていないが、球形に近いことが望ましいが、これは、球形に近接するほど、充填率及び紫外線透過度においてさらに優秀な特性を有するためである。前記低融点ガラス粉末は、平均粒径（Ｄ５０）が２〜５μｍ、最小粒径（Ｄｍｉｎ）が０．１μｍ、最大粒径（Ｄｍａｘ）が２０μｍであることが望ましい。平均粒径が２μｍ未満であるか、最小粒径が０．１μｍ未満となれば、分散性が低下して印刷特性が劣化し、焼成時に収縮率が大きくて所望の形態の隔壁が得られず、平均粒径が５μｍを超えるか、最大粒径が２０μｍを超えれば、隔壁の緻密性及び隔壁形状の直進性が低下して望ましくない。
【００４５】
前記低融点ガラス粉末の軟化温度（ＴＳ）は、下記数式５を満足することが望ましい。
【００４６】
焼成温度−８０℃＜ＴＳ＜焼成温度  ・・・（数式５）
（焼成温度：ＰＤＰの隔壁の焼成温度）
【００４７】
前記ガラス粉末の軟化温度が（焼成温度−８０）℃未満となれば、焼成時に隔壁形状が崩れ、軟化温度が焼成温度を超えれば、焼結が正しく起きないという問題が発生する。
【００４８】
前記低融点ガラス粉末の含有量は、無機物１００体積部に対して７０体積部〜１００体積部が望ましく、前記範囲未満である場合には、焼成時に焼結が正しく起きないという問題が発生する。
【００４９】
前記低融点ガラス粉末の具体的な例としては、これに制限されていないが、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｓｉ、Ｂ、Ａｌ、Ｂａ、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｐ、Ｖ、Ｍｏ及びＴｅの酸化物を３種以上含む複合酸化物を例として挙げられ、これらのガラス粉末は、単独または２種に混合して使われることもある。前記低融点ガラス粉末のさらに具体的な例としては、ＰｂＯ−Ｂ２Ｏ３系、ＰｂＯ−ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３系、Ｂｉ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３系、Ｂｉ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３系、ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−Ａｌ２Ｏ３系、ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−ＢａＯ系、ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−ＣａＯ系、ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−Ａｌ２Ｏ３系、ＺｎＯ−ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３系、Ｐ２Ｏ５系、ＳｎＯ−Ｐ２Ｏ５系、Ｖ２Ｏ５−Ｐ２Ｏ５系、Ｖ２Ｏ５−Ｍｏ２Ｏ３系及びＶ２Ｏ５−Ｐ２Ｏ５−ＴｅＯ２系からなる群から一つ以上選択されたものが挙げられる。
【００５０】
前記高融点ガラス粉末の粒子形状は、特別に限定されていないが、球形に近いことが望ましいが、これは、球形に近接するほど充填率及び紫外線透過度においてさらに優秀な特性を有するためである。前記高融点ガラス粉末は、平均粒径が１〜４μｍ、最小粒径が０．１μｍ、最大粒径が２０μｍであることが望ましい。平均粒径が１μｍ未満であるか、最小粒径が０．１μｍ未満となれば、露光感度の低下及び焼成時に収縮率が大きくて、所望の形態の隔壁が得られず、平均粒径が５μｍを超えるか、最大粒径が２０μｍを超えれば、隔壁の緻密性及び隔壁形状の直進性が低下して望ましくない。
【００５１】
前記高融点ガラス粉末の軟化温度（ＴＳ）は、下記数式６を満足することが望ましい。
【００５２】
ＴＳ＞焼成温度＋２０℃  ・・・（数式６）
【００５３】
前記高融点ガラス粉末の軟化温度が焼成温度＋２０℃以下となれば、焼成時に隔壁形状が崩れる問題が発生する。
【００５４】
前記高融点ガラス粉末の含有量は、前記無機物１００体積部に対して０体積部超過、３０体積部以下であることが望ましく、前記範囲を超えれば、焼成時に焼結が正しく起きないという問題が発生する。
【００５５】
前記高融点ガラス粉末の具体的な例としては、これに制限されていないが、Ｓｉ、Ｂ、Ａｌ、Ｂａ、Ｚｎ、Ｍａ及びＣａなどの酸化物を３種以上含む複合酸化物を例として挙げられ、これらのガラス粉末は、単独または２種に混合して使われることもある。前記高融点ガラス粉末のさらに具体的な例としては、ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−ＢａＯ系、ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−ＣａＯ系、ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−ＭｇＯ系、ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−ＣａＯ−ＢａＯ系、ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−ＣａＯ−ＭｇＯ系、ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３−ＢａＯ系、ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３−ＣａＯ系、ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３−ＭｇＯ系、ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３−ＢａＯ−ＣａＯ系及びＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３−ＣａＯ−ＭｇＯ系からなる群から一つ以上選択されたものが挙げられる。
【００５６】
前記低融点ガラス粉末と高融点ガラス粉末との平均光屈折率は、前述したように、１．５〜１．８範囲の値を有さねばならず、また、低融点ガラス粉末の屈折率（Ｎ３）と高融点ガラス粉末の屈折率（Ｎ４）との差が下記数式７を満足させねばならず、望ましくは、下記数式８を満足させねばならず、さらに望ましくは、下記数式９を満足させねばならない。
【００５７】
−０．２≦Ｎ３−Ｎ４≦０．２  ・・・（数式７）
【００５８】
−０．１≦Ｎ３−Ｎ４≦０．１  ・・・（数式８）
【００５９】
−０．０５≦Ｎ３−Ｎ４≦０．０５  ・・・（数式９）
【００６０】
前記低融点ガラス粉末と高融点ガラス粉末との光屈折率差が前記数式７の範囲を逸脱すれば、露光時に照射される光の透過度が低下して１回露光による隔壁が形成できないという問題点がある。
【００６１】
本発明による有機物は、バインダー、光開始剤及び架橋剤を含み、ペーストの特性改善のための添加剤及び、粘度調節の必要に応じて溶剤も含むこともある。
【００６２】
前記バインダーの場合、アルカリ現像液に現像が可能でありつつも、構成成分の組成変化による特性調節が容易なカルボキシル基を有するアクリル系樹脂が一般的に使われる。前記カルボキシル基を有するアクリル系樹脂は、アルカリ水溶液に現像させる役割以外に、感光性ペースト中の無機成分の分散性を良好にし、適切な粘度及び弾性を有させる役割も行う。前記カルボキシル基を有するアクリル系樹脂は、カルボキシル基を有するモノマーとエチレン性不飽和基を有するモノマーとの共重合反応によって製造しうる。
【００６３】
カルボキシル基を有するモノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、フマル酸、マレイン酸、酢酸ビニル及びこれらの無水物からなる群から一つ以上選択されたことが望ましく、前記エチレン性不飽和基を有するモノマーとしては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、ｎ−ペンチルアクリレート、アリルアクリレート、フェニルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシトリエチレングリコールアクリレート、シクロへキシルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、２−エチルへキシルアクリレート、グリセロールアクリレート、グリシジルアクリレート、イソボルニルアクリレート、イソデキシルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メトキシエチレングリコールアクリレート、メトキシジエチレングリコールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ステアリルアクリレート、１−ナフチルアクリレート、２−ナフチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、アミノエチルアクリレート及び前記モノアクリレート分子内のアクリレートを一部または全部メタクリレートに変えたもの、またはスチレン、α−メチルスチレン、α−２−ジメチルスチレン、３−メチルスチレン、４−メチルスチレンからなる群から一つ以上選択されたことが望ましい。
【００６４】
また、バインダーとしては、前記共重合体のカルボキシル基とエチレン性不飽和基とを有する化合物を反応させることによって、結果的に共重合体内に架橋反応を起こす成分が付加されたものを利用することもある。前記エチレン性不飽和基を有する化合物としては、塩化アクリロイル、塩化メタクリロイル、塩化アリル、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、３，４−エポキシシクロへキシルメチルアクリレート、３，４−エポキシシクロへキシルメチルメタクリレート、３，４−エポキシシクロへキシルメチルアクリレート、または３，４−エポキシシクロへキシルメチルメタクリレートからなる群から選択されたものが使われうる。
【００６５】
また、バインダーとしては、前記共重合体を単独に使用できるが、膜レベリングや揺変特性の向上を目的としてセルロース、メチルセルロース、エチルセルロース、ｎ−プロピルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、２−ヒドロキシエチルセルロース、メチル２−ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシブチルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレート、セルロースニットレート、セルロースアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートヒドロゲンフタレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースプロピオネート、（アクリルアミドメチル）セルロースアセテートプロピオネート、（アクリルアミドメチル）セルロースアセテートブチレート、シアノエチレートセルロース、ペクチン酸、キトサン、キチン、カルボキシメチルセルロース、カルボキソメチルセルロースナトリウム塩、カルボキシエチルセルロース、及びカルボキシエチルメチルセルロースからなる群から選択された一つ以上の物質を混合して使用することもある。
【００６６】
前記共重合体の質量平均分子量は、５００〜１００，０００ｇ／ｍｏｌであることが望ましく、酸価は、５０〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが望ましい。共重合体の分子量が５００ｇ／ｍｏｌ未満である場合には、ペースト製造時に無機物に対する分散性が低下し、１００，０００ｇ／ｍｏｌを超える場合には、現像時に現像速度が過度に遅いか、または現像されないという問題点があって、望ましくない。また、共重合体の酸価が５０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満である場合には、現像性が劣下し、３００ｍｇＫＯＨ／ｇを超える場合には、露光された部分まで現像されるという問題点があって、望ましくない。
【００６７】
前記バインダーの含有量は、前記有機物１００質量部に対して３０〜８０質量部が望ましく、含有量が前記範囲未満である場合には、ペーストのコーティング性及び分散性が劣下し、前記範囲を超える場合には、露光時に架橋反応が不十分に起きて所望の形状のパターンが得られなくて、望ましくない。
【００６８】
前記光開始剤は、露光装置によって照射される光によってラジカルを生成し、生成されたラジカルは、エチレン性不飽和基を有する前記架橋剤の重合反応を起こすことによって、現像液に対して不溶の状態にする。本発明の光開始剤は、高感度が要求されるため、次のような光開始剤を２個以上選択して混合して使用することが望ましい。このような光開始剤の例としては、これに制限されていないが、（ｉ）イミダゾール系化合物、（ｉｉ）トリアジン系化合物、（ｉｉｉ）アミノアセトフェノン系化合物、（ｉｖ）ベンゾフェノン及びアセトフェノン系化合物、（ｖ）ベンゾイン系化合物、（ｖｉ）チタノセン系化合物、（ｖｉｉ）オキサジアゾール系化合物、（ｖｉｉｉ）チオキサントン系化合物、（ｉｘ）（ビス）アシルホスフィンオキシド系化合物及び（ｘ）有機ホウ素塩化合物の組合物が挙げられる。
【００６９】
前記イミダゾール系化合物としては、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｍ−メトキシフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−メチルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾールが挙げられる。
前記トリアジン系化合物としては、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２−プロピオニル−４、６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ベンゾイル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−クロロフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−４−ビス（４−メトキシフェニル）−６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−クロロスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−アミノフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（３−クロロフェニル）−６−トリクロロメチル−ｓ−トリアジン、２−（４−アミノスチリル）−４，６−ビス（ジクロロメチル）−ｓ−トリアジンが挙げられる。
【００７０】
前記アミノアセトフェノン化合物としては、２−メチル−２−アミノ（４−モルポリノフェニル）エタン−１−オン、２−エチル−２−アミノ（４−モルポリノフェニル）エタン−１−オン、２−プロピル−２−アミノ（４−モルポリノフェニル）エタン−１−オン、２−ブチル−２−アミノ（４−モルポリノフェニル）エタン−１−オン、２−メチル−２−アミノ（４−モルポリノフェニル）プロパン−１−オン、２−メチル−２−アミノ（４−モルポリノフェニル）ブタン−１−オン、２−エチル−２−アミノ（４−モルポリノフェニル）プロパン−１−オン、２−エチル−２−アミノ（４−モルポリノフェニル）ブタン−１−オン、２−メチル−２−メチルアミノ（４−モルポリノフェニル）プロパン−１−オン、２−メチル−２−ジメチルアミノ（４−モルポリノフェニル）プロパン−１−オン、２−メチル−２−ジエチルアミノ（４−モルポリノフェニル）プロパン−１−オンが挙げられる。
【００７１】
前記ベンゾフェノン及びアセトフェノン系化合物としては、ベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、ベンゾイルベンゾ酸、４−フェニルベンゾフェノン、３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルスルフィド、４，４’−ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、（２−アクリロイルオキシエチル）（４−ベンゾイルベンジル）ジメチルアンモニウムブロマイド、４−（３−ジメチルアミノ−２−ヒドロキシプロピル）ベンゾフェノン、（４−ベンゾイルベンジル）トリメチルアンモニウムクロライド、メトクロライドモノハイドレート、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−メチルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、４−ｔｅｒｔ−ブチル−トリクロロアセトフェノンが挙げられる。
【００７２】
前記ベンゾイン系化合物としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテルが挙げられる。
【００７３】
前記チタノセン系化合物としては、ジシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ジクロライド、ジシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ジフェニル、ジシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス（２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル）、ジシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス（２，３，５，６−テトラフルオロフェニル）、ジシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス（２，４，６−トリフルオロフェニル）、ジシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス（２，６−テトラフルオロフェニル）、ジシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス（２，４−ジフルオロフェニル）、ビス（メチルシクロペンタジエニル）−Ｔｉ−ビス（２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル）、ビス（メチルシクロペンタジエニル）−Ｔｉ−ビス（２，３，５，６−テトラフルオロフェニル）、ビス（メチルシクロペンタジエニル）−Ｔｉ−ビス（２，４，６−トリフルオロフェニル）、ビス（メチルシクロペンタジエニル）−Ｔｉ−ビス（２，６−ジフルオロフェニル）、ビス（メチルシクロペンタジエニル）−Ｔｉ−ビス（２，４−ジフルオロフェニル）が挙げられる。
【００７４】
前記オキサジアゾール系化合物としては、２−フェニル−５−トリクロロメチル−１，３，４−オキサジアゾール、２−（ｐ−メチルフェニル）−５−トリクロロメチル−１，３，４−オキサジアゾール、２−（ｐ−メトキシフェニル）−５−トリクロロメチル−１，３，４−オキサジアゾール、２−スチリル−５−トリクロロメチル−１，３，４−オキサジアゾール、２−（ｐ−メトキシスチリル）−５−トリクロロメチル−１，３，４−オキサジアゾール、２−（ｐ−ブトキシスチリル）−５−トリクロロメチル−１，３，４−オキサジアゾールが挙げられる。
【００７５】
前記チオキサントン系化合物としては、チオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン、２−（３−ジメチルアミノ−２−ヒドロキシプロポキシ）−３，４−ジメチル−９Ｈ−チオキサンテン−９−オンメトクロライドが挙げられる。
【００７６】
前記（ビス）アシルホスフィンオキシド系化合物としては、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド；ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキシド、ビス（２，６−ジクロロベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド、ビス（２，６−ジクロロベンゾイル）−２，５−ジメチルフェニルホスフィンオキシド、及びビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシドが挙げられる。
【００７７】
前記有機ホウ素塩化合物は、下記化学式１のような第４級有機ホウ素塩化合物である。
【００７８】
【化１】
2008003599.tif 000003
【００７９】
前記化学式１で、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４は、それぞれ独立的に必要に応じて置換基を有しうるアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シリル基、複素環式基、またはハロゲン原子を表し、Ｚ＋は、任意の陽イオンを表す。
【００８０】
本発明において、有機ホウ素塩化合物は、第４級有機ホウ素陰イオンと陽イオン（Ｚ＋）とで形成される。前記構造式１で、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４は、それぞれ独立的にアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シリル基、複素環式基、またはハロゲン原子を表し、これらの基は、必要に応じて置換基を有していても良い。このような置換基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ドデシル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、アニシル基、ビフェニル基、ジフェニルメチル基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロトキシ基、イソプロトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、メチレンジオキシ基、エチレンジオキシ基、フェノキシ基、ナフトキシ基、ベンジルオキシ基、メチルチオ基、フェニルチオ基、２−フリル基、２−チエニル基、２−プリジル基、及びフッ素基が挙げられる。
【００８１】
前記有機ホウ素塩化合物の第４級有機ホウ素陰イオンの具体的な例としては、ホウ酸メチルトリフェニル、ホウ酸ｎ−ブチルトリフェニル、ホウ酸ｎ−オクチルトリフェニル、ホウ酸ｎ−ドデシルトリフェニル、ホウ酸ｓｅｃ−ブチルトリフェニル、ホウ酸ｔｅｒｔ−ブチルトリフェニル、ホウ酸ベンジルトリフェニル、ホウ酸ｎ−ブチルトリ（ｐ−アニシル）、ホウ酸ｎ−オクチルトリ（ｐ−アニシル）、ホウ酸ｎ−ドデシルトリ（ｐ−アニシル）、ホウ酸ｎ−ブチルトリ（ｐ−トリル）、ホウ酸ｎ−ブチルトリ（ｏ−トリル）、ホウ酸ｎ−ブチルトリ（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）、ホウ酸ｎ−ブチルトリ（４−フルオロ−２−メチルフェニル）、ホウ酸ｎ−ブチルトリ（４−フルオロフェニル）、ホウ酸ｎ−ブチルトリ（１−ナフチル）、ホウ酸エチルトリ（１−ナフチル）、ホウ酸ｎ−ブチルトリ［１−（４−メチルナフチル）］、ホウ酸メチルトリ［１−（４−メチルナフチル）］、ホウ酸トリフェニルシリルトリフェニル、ホウ酸トリメチルシリルトリフェニル、ホウ酸テトラ−ｎ−ブチル、ホウ酸ジ−ｎ−ブチルジフェニル、ホウ酸テトラベンジルが挙げられる。前記第４級有機ホウ素陰イオンのＲ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４で、Ｒ１は、アルキル基、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４は、ナフチル基である構造を有する場合が、化合物の安定性と光反応性との均衡を維持するためにさらに望ましい。
【００８２】
前記有機ホウ素塩化合物の陽イオン（Ｚ＋）の具体的な例としては、テトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム、テトラオクチルアンモニウム、Ｎ−メチルキノリウム、Ｎ−エチルキノリウム、Ｎ−メチルピリジニウム、Ｎ−エチルピリジニウム、テトラメチルホスホニウム、テトラ−ｎ−ブチルホスホニウム、トリメチルスルホニウム、トリフェニルスルホニウム、トリメチルスルホキソニウム、ジフェニルヨードニウム、ジ（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム、リチウム陽イオン、ナトリウム陽イオン、カリウム陽イオンが挙げられる。
【００８３】
前記光開始剤調合物に増減剤を混合して使用すれば、さらに高感度の効果が得られて、増減剤を混合して使用することが望ましい。増減剤としては、光開始剤によって選定するが、前記光開始剤の一部は、他の光開始剤の増減剤の役割も併行することもある。例えば、イミダゾール系光開始剤を使用する場合には、ベンゾフェノン系またはチオキサントン系化合物が光開始剤及び増減剤の役割も行うので、並行して使用すれば良い。前記有機ホウ素塩化合物と併用して使用できる増減剤は、光吸収及び有機ホウ素塩化合物を分解できる役割を行うものならば、何れも良く、このような役割を行う化合物としては、ベンゾフェノン系化合物、チオキサントン系化合物、キノン系化合物、及び陽イオン性染料で選択して使用しうる。ベンゾフェノン系化合物とチオキサントン系化合物とは、前述した化合物のうちから選択して使用すればよく、キノン系化合物としては、キンヒドロン、２，５−ジクロロ−１，４−ベンゾキノン、２，６−ジクロロ−１，４−ベンゾキノン、フェニル−１，４−ベンゾキノン、２−メチル−１，４−ナフトキノン、２，３−ジクロロ−１，４−ナフトキノン、２−ヒドロキシ−１，４−ナフトキノン、５−ヒドロキシ−１，４−ナフトキノン、２−アミノ−３−クロロ−１，４−ナフトキノン、２−クロロ−３−モルポリノ−１，４−ナフトキノン、アントラキノン、２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、２，３−ジメチルアントラキノン、１−クロロアントラキノン、２−クロロアントラキノン、１，４−ジクロロアントラキノン、２−（ヒドロキシメチル）アントラキノン、９，１０−フェナントレンキノンが挙げられ、前記陽イオン性染料は、３００ｎｍないし近赤外線範囲内で最大吸収波長を有するものであって、一般的に、黄色、オレンジ色、赤色、緑色または青色を帯び、具体的な例としては、ベーシックイエロー１１、アストラゾーンオレンジＧ、チオフラビンＴ、オーラミンＯ、インドシアニングリーン、１，１’，３，３，３’，３’−ヘキサメチルインドジカルボシアニンヨード、ＩＲ−７８６パークロレートが挙げられる。
【００８４】
前記光開始剤の含有量は、前記有機物１００質量部に対して、１〜２０質量部が望ましいが、光開始剤の含有量が前記範囲未満である場合には、露光感度が低下するという問題点があり、前記範囲を超える場合には、非露光部まで現像されないという問題が発生して望ましくない。
【００８５】
前記架橋剤としては、モノアクリレート系及び多官能アクリレート系が使われる。モノアクリレートとしては、これに制限されるものではないが、アクリル酸、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、ｎ−ペンチルアクリレート、アリルアクリレート、フェニルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシトリエチレングリコールアクリレート、シクロへキシルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、２−エチルへキシルアクリレート、グリセロールアクリレート、グリシジルアクリレート、イソボルニルアクリレート、イソデキシルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メトキシエチレングリコールアクリレート、メトキシジエチレングリコールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ステアリルアクリレート、１−ナフチルアクリレート、２−ナフチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、アミノエチルアクリレート、または前記モノアクリレート分子内のアクリレートを一部または全部メタクリレートに変えたものがあり、多官能アクリレートとしては、これに制限されるものではないが、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオール（エトキシレーテド）ジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ビスフェノールＡ（エトキシレーテド）ｎ（ｎ＝２ないし８）ジアクリレート、またはビスフェノールエポキシジアクリレートのようなジアクリレート系；トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパン（エトキシレーテド）トリアクリレート、グリセリン（プロキシレーテド）トリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、またはトリメチロールプロパン（プロキシレーテド）−３−トリアクリレートのようなトリアクリレート系；ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、テトラメチロールプロパンテトラアクリレート、またはペンタエリスリトールテトラアクリレートのようなテトラアクリレート系；ジペンタエリトリトールペンタアクリレートのようなペンタアクリレート系；ジペンタエリトリトールヘキサアクリレートのようなヘキサアクリレート系、または前記多官能アクリレート分子内のアクリレートを一部または全部メタクリレートに変えたものがあり、前記モノ及び多官能アクリレートからなる群から一つ以上選択されたことが望ましい。
【００８６】
前記架橋剤の含有量は、有機物１００質量部に対して１５〜６０質量部が望ましいが、架橋剤の含有量が前記範囲未満である場合には、露光感度が低下するという問題点があり、前記範囲を超える場合には、焼成時に隔壁形状の短絡や脱落が発生して望ましくない。
【００８７】
本発明による感光性ペースト組成物は、添加剤をさらに含み、前記添加剤としては、組成物の保存性を向上させる重合禁止剤及び酸化防止剤、解像度を向上させる紫外線吸光剤、組成物内の気泡を減らす消泡剤、分散性を向上させる分散剤、印刷時に膜の平坦性を向上させるレベリング剤、熱分解特性を向上させる可塑剤及び揺変特性を付与する揺変剤が挙げられる。
【００８８】
前記溶剤としては、金属酸化物の分散性を落とさず、バインダー及び光開始剤を溶解させ、架橋剤及びその他の添加剤とよく混合されつつ、沸騰点が１５０℃以上であるものが使われうる。沸騰点が１５０℃未満である場合には、組成物の製造過程、特に３ロールミル工程で揮発される傾向が大きくて問題となり、また、印刷時に溶剤が過度に速く揮発されて印刷状態が不良になるので望ましくない。前記条件を満たせる望ましい溶剤としては、これに制限されるものではないが、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、テキサノール、テルピン油、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ジプロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、セロソルブアセテート及びブチルセロソルブアセテートからなる群から一つ以上選択されたものが使われうる。
前記溶剤の含有量は、特別に限定しないが、印刷またはコーティングに適したペーストの粘度となるように使用せねばならない。
【００８９】
本発明による感光性ペースト組成物は、下記のような方法によって製造されうる。
【００９０】
まず、金属酸化物ゾルを製造する。金属酸化物ゾルは、金属酸化物前駆体を製造した後に有機物に分散させることによって製造される。前記有機物は、バインダー、光開始剤、架橋剤及び添加剤が含まれており、必要時に溶剤も含まれうる。前記有機物は、事前にそれぞれの有機物成分は混合し、十分に攪拌させて均一で透明な溶液で製造されたものである。
【００９１】
前記製造された金属酸化物ゾルは、無機物と混合してペーストとして製造される。
【００９２】
ＰＬＭ（Ｐｌａｎｅｔａｒｙ  Ｍｉｘｅｒ）を利用して混合した後、３ロールミルを数回実施して機械的混合を行う。３ロールミルの作業が終了すれば、ＳＵＳメッシュ＃４００でフィルタリングした後、真空ポンプを利用して脱泡して感光性ペースト組成物を製造する。
【００９３】
本発明は、他の具現例で、前記感光性ペースト組成物を利用して製造されたＰＤＰの隔壁を提供する。
【００９４】
本発明による感光性ペースト組成物を利用してＰＤＰ隔壁を形成する過程は、感光性ペースト組成物をスクリーン印刷やテーブルコーターを利用してアドレス電極及び誘電体が形成されているＰＤＰの下板に塗布し、ドライオーブンまたは赤外線（ＩＲ）オーブンで８０〜１２０℃の温度で５〜６０分間乾燥させて溶剤をほとんど除去した後、乾燥膜上にフォトマスクが装着された紫外線露光装置を利用して所定の光を照射して、紫外線光を受けた部分に架橋反応を起こすことによって現像液に不溶の状態にし、現像工程で純水に希釈されたＮａ２ＣＯ３溶液、ＫＯＨ溶液、ＴＭＡＨ溶液またはモノエタノールアミン溶液のような適当なアルカリ現像液で３０℃内外の温度で現像して未露光の部位を除去してパターンを得て、再び電気炉で５００〜６００℃で５〜６０分間焼成することによって、残存する有機物の除去及び低融点ガラス粉末の焼結を行うことによってパターン化された隔壁を形成しうる。
【００９５】
さらに他の具現例で、本発明は、前記隔壁を備えるＰＤＰを提供する。
【００９６】
図１には、本発明による感光性ペースト組成物を利用して製造された隔壁を備えるＰＤＰの具体的な構造が示されている。
【００９７】
本発明によるＰＤＰは、前方パネル１１０及び後方パネル１２０を備える構造となっている。前記前方パネル１１０は、前面基板１１１、前記前面基板の背面１１１ａに形成されたＹ電極１１２とＸ電極１１３とを備えた維持電極対１１４、前記維持電極対を覆う前方誘電体層１１５、及び前記前方誘電体層を覆う保護膜１１６を備える。前記Ｙ電極１１２及びＸ電極１１３は、それぞれＩＴＯで形成された透明電極１１２ｂ，１１３ｂと、明暗向上のための黒色電極（図示せず）及び導電性を付与する白色電極（図示せず）で構成されるバス電極１１２ａ，１１３ａと、を備える。前記バス電極１１２ａ，１１３ａは、ＰＤＰの左右側に配置された連結ケーブルと連結される。
【００９８】
前記後方パネル１２０は、背面基板１２１、背面基板の前面１２１ａに前記維持電極対と交差するように形成されたアドレス電極１２２、前記アドレス電極を覆う後方誘電体層１２３、前記後方誘電体層上に形成されて発光セル１２６を区画する隔壁１２４、及び前記発光セル内に配置された蛍光体層１２５を備える。前記アドレス電極１２２は、ＰＤＰの上下側に配置された連結ケーブルと連結される。
【実施例】
【００９９】
以下、本発明を実施例を通じてさらに詳細に説明するが、本発明の範囲が下記実施例に限定されるものではない。
【０１００】
＜金属酸化物前駆体の製造＞
（実施例１．タンタル（Ｖ）エトキシドを利用したタンタル酸化物前駆体の製造）
温度計及び攪拌器が装着された反応容器にｎ−ブタノール（ｎ−ＢｕＯＨ）１００ｍｌとジエチレングリコール１００ｍｌとを入れて攪拌しつつ、１．０  Ｎ塩酸（ＨＣｌ）１０ｍｌを徐々に投入させた。約３０分間攪拌した後、タンタルエトキシド１０．０ｇを攪拌状態で徐々に投入させた。以後常温で１２時間攪拌させて加水分解及び縮合反応を完結した後、表面改質剤としてビス（ポリオキシエチレン多環フェニルエーテル）メタクリレート硫酸エステル塩０．１ｇを入れて、再び常温で６時間攪拌させた。ｎ−ブタノール及び純水を真空蒸留法によって除去することによって、ジエチレングリコールを分散媒とするタンタル酸化物前駆体を製造した。
【０１０１】
（実施例２．塩化チタン（ＶＩ）を利用したチタン酸化物前駆体の製造）
温度計及び攪拌器が装着された反応容器にｎ−ブタノール１００ｍｌとトリプロピレングリコール１００ｍｌとを入れて攪拌しつつ、２８％のアンモニア水１０ｍｌを徐々に投入した。約３０分間攪拌した後、塩化チタン１０．０ｇを攪拌状態で徐々に投入した。以後常温で６時間攪拌させて加水分解及び縮合反応を完結した後、ｎ−ブタノール及び純水を真空蒸留法によって除去することによって、トリプロピレングリコールを分散媒とするチタン酸化物前駆体を製造した。
【０１０２】
（実施例３．ジルコニウム（ＶＩ）ｎ−プロポキシドを利用したジルコニウム酸化物前駆体の製造）
温度計及び攪拌器が装着された反応容器にｎ−プロパノール１００ｍｌとジプロピレングリコール１００ｍｌとを入れて攪拌しつつ、１．０  Ｎ塩酸５ｍｌを徐々に投入した。約３０分間攪拌した後、ジルコニウムｎ−プロポキシド１０．０ｇを攪拌状態で徐々に投入した。以後常温で２４時間攪拌させて加水分解及び縮合反応を完結した後、ｎ−プロパノール及び純水を真空蒸留法によって除去することによって、ジプロピレングリコールを分散媒とするジルコニウム酸化物前駆体を製造した。
【０１０３】
（実施例４．テトラエトキシシランを利用したシリコン酸化物前駆体の製造）
温度計及び攪拌器が装着された反応容器にエタノール１００ｍｌとジプロピレングリコール１００ｍｌとを入れて攪拌しつつ、１．０  Ｎ塩酸５ｍｌを徐々に投入した。約３０分間攪拌した後、テトラエトキシシラン１０．０ｇを攪拌状態で徐々に投入した。以後常温で６時間攪拌させて加水分解及び縮合反応を完結した後、エタノール及び純水を真空蒸留法によって除去することによって、ジプロピレングリコールを分散媒とするシリコン酸化物前駆体を製造した。
【０１０４】
（実施例５．アルミニウム（ＩＩＩ）イソプロキシドを利用したアルミニウムゾルの製造）
温度計及び攪拌器が装着された反応容器にイソプロパノール１００ｍｌとトリプロピレングリコール１００ｍｌとを入れて攪拌しつつ、１．０  Ｎ塩酸５ｍｌを徐々に投入させた。約３０分間攪拌した後、アルミニウムイソプロキシド１０．０ｇを攪拌状態で徐々に投入させた。以後常温で６時間攪拌させて加水分解及び縮合反応を完結した後、イソプロパノール及び純水を真空蒸留法によって除去することによって、ジプロピレングリコールを分散媒とするアルミニウム酸化物前駆体を製造した。
【０１０５】
（実施例６．タンタルエトキシドと塩化チタンとを利用したタンタル−チタン酸化物前駆体の製造）
温度計及び攪拌器が装着された反応容器にエタノール１００ｍｌとジエチレングリコール１００ｍｌとを入れて攪拌しつつ、１．０  Ｎ塩酸５ｍｌを徐々に投入した。約３０分間攪拌した後、タンタルエトキシド５．０ｇと塩化チタン５．０ｇとを攪拌状態で徐々に投入した。以後常温で１２時間攪拌させて加水分解及び縮合反応を完結した後に、エタノール及び純水を真空蒸留法によって除去することによって、ジエチレングリコールを分散媒とするタンタルチタン酸化物前駆体を製造した。
【０１０６】
（実施例７．テトラエトキシシランと塩化チタンとを利用したシリコン−チタン酸化物前駆体の製造）
温度計及び攪拌器が装着された反応容器にエタノール１００ｍｌとジエチレングリコール１００ｍｌとを入れて攪拌しつつ、２８％のアンモニア水１０ｍｌを徐々に投入した。約３０分間攪拌した後、テトラエトキシシラン５．０ｇと塩化チタン５．０ｇとを攪拌状態で徐々に投入した。以後常温で６時間攪拌させて加水分解及び縮合反応を完結した後、表面改質剤としてビス（メタクリルオキシエチル）リン酸塩０．１ｇを入れて再び常温で６時間攪拌させた。エタノール及び純水を真空蒸留法によって除去することによって、ジエチレングリコールを分散媒とするシリコン−チタン酸化物前駆体を製造した。
【０１０７】
＜金属酸化物前駆体の物性測定＞
前記実施例１〜７で製造した色々な金属酸化物前駆体の金属酸化物に対する光屈折率、比重及び平均粒径に対する測定結果を下記表１に表した。光屈折率及び比重の測定コストは、２０℃基準であり、平均粒径は、ＰＣＳ（Ｐｈｏｔｏｎ  Ｃｏｒｒｅｌａｔｉｏｎ  Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）を利用して測定した。
【０１０８】
【表１】
2008003599.tif 000004
【０１０９】
＜有機物の製造＞
前記製造した金属酸化物前駆体を有機物に分散させて金属酸化物ゾルの製造に使われる有機物を下記のように製造した。
【０１１０】
（実施例８．有機物１の製造）
バインダー（ポリ（メチルメタクリレート−ｃｏ−ｎ−ブチルメタクリレート−ｃｏ−メチルメタクリル酸）共重合体、重量平均分子量５，０００ｇ／ｍｏｌ、酸価１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ）４７．２重量％、光開始剤（２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルポリノフェニル）−１−ブタノン）３．５重量％、架橋剤（トリメチロールプロパンエトキシレーチドトリアクリレート）４６．８重量％、保存安定剤（ベンゾトリアゾル）２．５重量％ｇの組成を有する有機物１を製造した。
【０１１１】
（実施例９．有機物２の製造）
バインダー（ポリ（スチレン−ｃｏ−メチルメタクリル酸）共重合体、重量平均分子量１２，０００ｇ／ｍｏｌ、酸価２１０ｍｇＫＯＨ／ｇ）４４．１重量％、光開始剤（２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルポリノフェニル）−１−ブタノン）５．５重量％、架橋剤（ビスフェノールＡ変性エポキシジアクリレート）２７．０重量％、保存安定剤（ベンゾトリアゾル）４．４重量％、溶剤（トリプロピレングリコール）１９．０重量％の組成を有する有機物２を製造した。
【０１１２】
＜有機物の物性評価＞
前記実施例８、９で製造した２つの有機物の光屈折率及び比重測定結果を下記表２に表した。
【０１１３】
【表２】
2008003599.tif 000005
【０１１４】
＜金属酸化物ゾルの製造＞
前記実施例１〜７で製造した金属酸化物前駆体を前記実施例８、９で製造した有機物に混合して分散させることによって金属酸化物ゾルを製造した。前記金属酸化物ゾルの製造は、まず攪拌容器に有機物を入れて攪拌する状態で、計算された量ほど金属酸化物前駆体を徐々に投入した後、数時間攪拌して透明な状態の金属酸化物ゾルを製造した。
【０１１５】
（実施例１０．金属酸化物ゾル１の製造）
前記実施例１によるタンタル酸化物前駆体と前記実施例８による有機物１とを２０：８０の体積比（タンタル酸化物前駆体の体積は、タンタル酸化物前駆体のうち、タンタル酸化物のみを基準に計算）で混合した。混合後測定された屈折率は、１．６６であった。
【０１１６】
（実施例１１．金属酸化物ゾル２の製造）
前記実施例２によるチタン酸化物前駆体と前記実施例８による有機物１とを１５：８５の体積比（チタン酸化物前駆体の体積は、チタン酸化物前駆体のうち、チタン酸化物のみを基準に計算）で混合した。混合後測定された屈折率は、１．６５であった。
【０１１７】
（実施例１２．金属酸化物ゾル３の製造）
前記実施例３によるジルコニウム酸化物前駆体と前記実施例９による有機物２とを２０：８０の体積比（ジルコニウム酸化物前駆体の体積は、ジルコニウム酸化物前駆体のうち、ジルコニウム酸化物のみを基準に計算、また有機物２の体積は、溶剤を除外した体積で計算）で混合した。混合後測定された屈折率は、１．６６であった。
【０１１８】
（実施例１３．金属酸化物ゾル４の製造）
前記実施例４によるシリコン酸化物前駆体と前記実施例９による有機物２とを１０：９０の体積比（シリコン酸化物前駆体の体積は、シリコン酸化物前駆体のうち、シリコン酸化物のみを基準に計算、また有機物２の体積は、溶剤を除外した体積で計算）で混合した。混合後測定された屈折率は、１．５４であった。
【０１１９】
（実施例１４．金属酸化物ゾル５の製造）
前記実施例５によるアルミニウム酸化物前駆体と前記実施例９による有機物２とを２０：８０の体積比（アルミニウム酸化物前駆体の体積は、アルミニウム酸化物前駆体のうち、アルミニウム酸化物のみを基準に計算、また有機物２の体積は、溶剤を除外した体積で計算）で混合した。混合後測定された屈折率は、１．６０であった。
【０１２０】
（実施例１５．金属酸化物ゾル６の製造）
前記実施例６によるタンタル−チタン酸化物前駆体と前記実施例８による有機物１とを１５：８５の体積比（タンタル−チタン酸化物前駆体の体積は、タンタル−チタン酸化物前駆体のうち、タンタル−チタン酸化物のみを基準に計算）で混合した。混合後測定された屈折率は、１．６４であった。
【０１２１】
（実施例１６．金属酸化物ゾル７の製造）
前記実施例７によるシリコン−チタン酸化物前駆体と前記実施例９による有機物２とを２０：８０の体積比（シリコン−チタン酸化物前駆体の体積は、シリコン−チタン酸化物前駆体のうち、シリコン−チタン酸化物のみを基準に計算、また有機物２の体積は、溶剤を除外した体積で計算）で混合した。混合後測定された屈折率は、１．６４であった。
【０１２２】
＜感光性ペースト組成物の製造＞
前記実施例１０〜実施例１６で製造された金属酸化物ゾルに、下記のように低融点ガラス粉末及び高融点ガラス粉末を含む無機物を混合することによって、本発明による感光性ペースト組成物を製造した。
【０１２３】
（実施例１７．感光性ペースト組成物１の製造）
前記実施例１０による金属酸化物ゾル４０体積％、低融点ガラス粉末（ＺｎＯ−ＢａＯ−Ｂ２Ｏ３系、無定形、Ｄ５０＝３．２μｍ、屈折率＝１．６８、比重＝３．８６）５５体積％、高融点ガラス粉末（ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−Ａｌ２Ｏ３系、無定形、Ｄ５０＝２．５μｍ、屈折率＝１．６７、比重＝３．６７）５体積％で構成された感光性ペースト組成物１を前記ペースト製造方法によって製造した。
【０１２４】
（実施例１８〜２３．感光性ペースト組成物２〜７の製造）
前記感光性ペースト組成物１の製造で、実施例１０による金属酸化物ゾルの代わりに、実施例１１〜実施例１６による金属酸化物ゾルをそれぞれ利用したことを除いては、同じ条件及び方法で感光性ペースト組成物２〜７をそれぞれ製造した。
【０１２５】
（比較例１．従来の技術による感光性ペースト組成物の製造）
前記実施例９による有機物２４０体積％と低融点ガラス粉末（Ｌｉ２Ｏ−ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３系、無定形、Ｄ５０＝３．２μｍ、屈折率＝１．５６、比重＝２．５６）５５体積％、高融点ガラス粉末（ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−Ａｌ２Ｏ３系、無定形、Ｄ５０＝３．０μｍ、屈折率＝１．５５、比重＝２．５２）５体積％で構成された比較感光性ペースト組成物を前記ペースト製造方法によって製造した。
【０１２６】
＜感光性ペースト組成物の評価及び結果＞
前記実施例１７〜２３及び比較例１で製造した感光性ペースト組成物をそれぞれ６”ガラス基板上にコーターを利用して塗布した後、ドライオーブンに入れて１００℃で３０分間乾燥した。以後、格子（横：線間幅＝４０μｍ（ピッチ＝１６０μｍ）、縦：線間幅＝４０μｍ（ピッチ＝５６０μｍ））パターンを有するフォトマスクが装着された高圧水銀ランプ紫外線露光装置を利用して３００〜１５００ｍＪ／ｃｍ２で照射した。照射されたガラス基板は、３０℃の０．４重量％炭酸ナトリウム水溶液をノズル圧力１．２ｋｇｆ／ｃｍ２で１８０秒間噴射して現像した後、常温の純粋をノズル圧力１．２ｋｇｆ／ｃｍ２で３０秒間噴射して洗浄した。次いで、エアーナイフを利用して乾燥させた後、電気焼成炉に入れて５６０℃で２０分間焼成して隔壁を形成した。次いで、光学顕微鏡及びＳＥＭを利用して、形成された隔壁を評価した。前記評価に対する結果を下記表３に表した。下記表３で、露光量は、最適のパターン結果を表す値を記入し、表面粗度及び表面緻密性は、ＳＥＭで観察した結果であり、このうち、表面緻密性は、隔壁断面を観察して、単位面積のうち、充填されていない空いている空間の面積を計算して、この値を単位面積から除外した値を相対的に表したものである。すなわち、表面緻密性が１００％であれば、空いている空間が全くなくて、緻密に隔壁が形成されているということを意味する。
【０１２７】
【表３】
2008003599.tif 000006
【０１２８】
前記表４の前記結果を見れば、露光感度（最適露光量）は、金属酸化物を含有していない比較ペーストが最も優秀な結果を表した。これは、金属酸化物が入れば、相対的に光反応に関与する有機物の比率が減少するためでもあり、それと共に、金属酸化物が照射する紫外線を吸収する性質があるためでもある。特に、チタン酸化物の場合に、感度がさらに落ちる傾向を表した。実施例２０によるペーストは、露光感度が最も落ちること以外にも、１回露光で形成できる隔壁の高さが４５μｍと非常に低かった。これは、金属酸化物ゾルと無機物との光屈折率差が相対的に大きいことに起因すると考えられる。それと共に、前記表４の結果のように、露光感度が落ちるほど上部幅が広くなり、下部幅が狭くなる結果を示す。これは、金属酸化物ゾルと無機物との屈折率差が大きくなるほど、露光工程で照射される光の透過率は低くなり、一方、反射及び散乱は大きくなるために発生した結果である。金属酸化物を含んでいない比較ペーストの場合に、相対的に露光感度は優秀である一方、表面粗度及び緻密性が劣ることを示している。これは、金属酸化物が焼成工程時、有機物分解後に低融点ガラス粉末の焼結過程で空いている空間を充填する役割を行っていることを表す。
【０１２９】
＜ＰＤＰの製作及び特性評価＞
前記実施例１７〜１９及び比較例１で製造した感光性ペースト組成物をそれぞれ使用して６”パネルを製作した。６”パネルの製作は、パイロットラインで４２”ＨＤ級スペックで製作された。製造されたパネルに対する輝度を評価した結果を下記表４に表した。
【０１３０】
【表４】
2008003599.tif 000007
【０１３１】
前記表４の輝度結果を見れば、本発明の感光性ペースト組成物を使用する場合に、比較例に比べて輝度上昇効果を表すことが分かる。これは、前述したように、金属酸化物ゾルを使用する場合には、隔壁に形成される金属酸化物が可視光線の反射率を高めることによって輝度を上昇させ、それと共に隔壁自体の粗度が低下し、緻密性が優秀になるためであると判断される。
【０１３２】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【産業上の利用可能性】
【０１３３】
本発明は、ＰＤＰ関連の技術分野に適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１３４】
【図１】本発明の一実施形態によるＰＤＰの構造を示す部分切開斜視図である。
【符号の説明】
【０１３５】
１１０    前方パネル
１１１    前面基板
１１２    Ｙ電極
１１３    Ｘ電極
１１４    維持電極対
１１５    前方誘電体層
１１６    保護膜
１２０    後方パネル
１２１，２１０    背面基板
１２２    アドレス電極
１２３    後方誘電体層
１２４，２２０    隔壁
１２５    蛍光体層
１２６    発光セル
２３０    黒色層
【図１】
2008003599.tif 000008