(57)【要約】【課題】本発明の目的は、圧電振動片の製造方法において微細な加工を行う方法を提供することにある。【解決手段】圧電体１０の相互に反対を向く第１及び第２の面１２，１４に対して、ウェットエッチングによるフルエッチングを行った後に、ドライエッチングによるハーフエッチングを行う。ウェットエッチングレジスト５０による被覆領域は、基部１６及び基部１６から延びる一対の振動腕１８を形成するための領域を含む。ウェットエッチングレジスト５０からの露出領域は、第１及び第２の面１２，１４に括れた形状が表れるように基部１６に対向方向に一対の切り込み２２を形成するための領域を含む。ドライエッチングレジスト５４からの露出領域は、一対の振動腕１８に溝３６を形成するための領域及び一対の切り込み２２を形成するための領域を含む。【選択図】図８
2008219542.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）圧電体の第１の面及び前記第１の面に対向する第２の面を、それぞれ部分的にウェットエッチングレジストで覆ってウェットエッチングによるフルエッチングを行う工程と、
（ｂ）前記（ａ）工程後に、前記第１及び第２の面を、それぞれ部分的にドライエッチングレジストで覆ってドライエッチングによるハーフエッチングを行う工程と、
を含み、
前記ウェットエッチングレジストによる被覆領域は、基部及び前記基部から延びる一対の振動腕を形成するための領域を含み、
前記ウェットエッチングレジストからの露出領域は、前記基部に一対の切り込みを形成するための領域を含み、
前記ドライエッチングレジストからの露出領域は、前記一対の振動腕に溝を形成するための領域及び前記一対の切り込みを形成するための前記領域を含む圧電振動片の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載された圧電振動片の製造方法において、
前記（ｂ）工程で、前記第１及び第２の面にそれぞれ前記ドライエッチングレジストが付着した状態で前記第１の面に対してハーフエッチングし、その後に、前記第１及び第２の面にそれぞれ前記ドライエッチングレジストが付着した状態で前記第２の面に対してハーフエッチングする圧電振動片の製造方法。
【請求項３】
請求項１に記載された圧電振動片の製造方法において、
前記（ｂ）工程は、
前記第１の面に前記ドライエッチングレジストが付着し、前記第２の面を覆う第２の保護膜が付着した状態で、前記第１の面に対してハーフエッチングし、その後、
前記第１の面の前記ドライエッチングレジスト及び前記第２の面の前記第２の保護膜を除去し、その後、
前記第２の面に前記ドライエッチングレジストが付着し、前記第１の面及び前記第１の面の前記溝を覆う第１の保護膜が付着した状態で、前記第２の面に対してハーフエッチングし、その後、
前記第２の面の前記ドライエッチングレジスト及び前記第１の面の前記第１の保護膜を除去することを含む圧電振動片の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、圧電振動片の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
水晶ウエハをエッチングして２本の振動腕と基部とを有する水晶振動片を製造することが知られている。詳しくは、１つの水晶ウエハを、多数（数百）の音叉型水晶振動片が連結部によって枠と連結された形状にエッチングし、各音叉型水晶振動片を連結部で折り取っていた。エッチングには、コスト及び処理速度の点から有利なウェットエッチングが適用されている。しかしながら、ウェットエッチングでは、エッチングに結晶依存性があるために、エッチングを垂直に進めることができず、微細なエッチングを行えないという問題があった。小型化を目的として振動腕に溝を設けた場合、特許文献１に示されるように溝の断面形状が左右非対称となり、Ｚ方向の振動成分が発生する。そのため、ＣＩ（クリスタルインピーダンス）値が増大すると考えられる。そこで、ウェットエッチングでは歪な形状になりやすい溝はドライエッチングにより形成し、その他の振動片の外形をウェットエッチングにより形成する方法が考案された。
【特許文献１】特開２００６−１２１４１１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
さらに振動片の基部の小型化を目的として、基部に切り込みを設ける方法も考案されている。しかし、切り込みは溝と同様に微細な加工であるため、エッチング工程で結晶依存性の影響を受けやすい。そのため、ウェットエッチングで切り込みを形成すると、左右非対称となり、振動片の振動方向に影響を与える。本発明の目的は、圧電振動片の製造方法において微細な加工を行い、Ｚ方向の振動成分等不要な振動成分を低減する方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
（１）本発明に係る圧電振動片の製造方法は、
（ａ）圧電体の第１の面及び前記第１の面に対向する第２の面を、それぞれ部分的にウェットエッチングレジストで覆ってウェットエッチングによるフルエッチングを行う工程と、
（ｂ）前記（ａ）工程後に、前記第１及び第２の面を、それぞれ部分的にドライエッチングレジストで覆ってドライエッチングによるハーフエッチングを行う工程と、
を含み、
前記ウェットエッチングレジストによる被覆領域は、基部及び前記基部から延びる一対の振動腕を形成するための領域を含み、
前記ウェットエッチングレジストからの露出領域は、前記基部に一対の切り込みを形成するための領域を含み、
前記ドライエッチングレジストからの露出領域は、前記一対の振動腕に溝を形成するための領域及び前記一対の切り込みを形成するための前記領域を含む。本発明によれば、溝の形成をドライエッチングによって行うので精密な加工が可能である。また、切り込みの加工では、ウェットエッチングを行った後にドライエッチングを行うので、全てをウェットエッチングで行うよりも精密に加工することができ、全てをドライエッチングで行うよりも効率的に行うことができる。しかも、切り込みの加工のためのドライエッチングを、溝の加工のためのドライエッチングと同時に行うのでプロセスを増やすことがない。
（２）この圧電振動片の製造方法において、
前記（ｂ）工程で、前記第１及び第２の面にそれぞれ前記ドライエッチングレジストが付着した状態で前記第１の面に対してハーフエッチングし、その後に、前記第１及び第２の面にそれぞれ前記ドライエッチングレジストが付着した状態で前記第２の面に対してハーフエッチングしてもよい。
（３）この圧電振動片の製造方法において、
前記（ｂ）工程は、
前記第１の面に前記ドライエッチングレジストが付着し、前記第２の面を覆う第２の保護膜が付着した状態で、前記第１の面に対してハーフエッチングし、その後、
前記第１の面の前記ドライエッチングレジスト及び前記第２の面の前記第２の保護膜を除去し、その後、
前記第２の面に前記ドライエッチングレジストが付着し、前記第１の面及び前記第１の面の前記溝を覆う第１の保護膜が付着した状態で、前記第２の面に対してハーフエッチングし、その後、
前記第２の面の前記ドライエッチングレジスト及び前記第１の面の前記第１の保護膜を除去することを含んでもよい。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００５】
図１は、本発明の実施の形態に係る製造方法によって製造された圧電振動片を示す平面図である。図２は、図１に示す圧電振動片のII−II線断面拡大図である。図３は、図１に示す圧電振動片のIII−III線断面拡大図である。なお、底面図は平面図と対称に表れる。
【０００６】
圧電振動片（例えば音叉型圧電振動片）は、水晶、タンタル酸リチウム、ニオブ酸リチウム等の圧電材料からなる。圧電振動片を水晶から構成する場合、結晶方位について、圧電振動片の第１及び第２の面（表裏面）１２，１４がＺ軸方向を向く。圧電振動片は、基部１６と、基部１６から延びる一対の振動腕１８と、を含む。
【０００７】
基部１６には、第１及び第２の面１２，１４に括れた形状が表れるように対向方向に一対の切り込み２２が形成されている。基部１６は、一対の切り込み２２を挟んで両側に位置する第１及び第２の部分２４，２６と、一対の切り込み２２の間で第１及び第２の部分２４，２６を接続する接続部２８と、を含む。切り込み２２によって、振動腕１８の振動の伝達が遮断されるので、振動が基部１６や支持腕３８を介して外部に伝わること（振動漏れ）を抑制し、ＣＩ値の上昇を防止することができる。切り込み２２の長さ（深さ）は、基部１６の強度を確保できる範囲で長い（深い）ほど、振動漏れ抑制効果は大きい。一対の切り込み２２の間の幅（接続部２８の幅）は、一対の振動腕１８の対向する側面の間隔よりも小さくしてもよいし大きくしてもよいし、一対の振動腕１８の相互に反対を向く側面の距離よりも小さくしてもよいし大きくしてもよい。
【０００８】
一対の振動腕１８は、基部１６の第１の部分２４から第１及び第２の面１２，１４に平行に延びる。振動腕１８は、相互に反対を向く第１及び第２の面１２，１４と、第１及び第２の面１２，１４を両側で接続する第１及び第２の側面３２，３４と、を有する。圧電振動片を水晶から構成する場合、結晶方位について、第１の側面３２がＸ軸の＋方向を向き、第２の側面３４がＸ軸の−方向を向き、基部１６から＋Ｙ軸に沿って延びるように構成する。
【０００９】
振動腕１８は、基部１６に接続される根本部において、基部１６側に向けて幅を拡げてあり、広い幅で基部１６に接続するので剛性が高くなっている。振動腕１８は、第１及び第２の側面３２，３４の間隔によって定義される幅が、基部１６から先端に向けて細くなっている。このようなテーパを形成することにより、振動腕１８は振動しやすくなっている。ただし、振動腕１８は、先端に近い位置で、幅が先端に向けて太くなるように逆テーパが付けられている。逆テーパを付けることで、先端部分が錘の機能を果たすので、振動周波数を低くすることができる。テーパから逆テーパに反転する位置が溝３６よりも先端近くに位置するように、振動腕１８は形成されている。
【００１０】
振動腕１８には、第１及び第２の面１２，１４に、長手方向に延びる溝３６がそれぞれ形成されている。溝３６によって振動腕１８が動きやすくなって効率的に振動するのでＣＩ値を下げることができる。溝３６は、振動腕１８の長さの５０〜７０％の長さを有する。また、溝３６は、振動腕１８の幅の６０〜９０％の幅を有する。
【００１１】
圧電振動片は、基部１６の第２の部分２６から延びる一対の支持腕３８を有する。一対の支持腕３８は、基部１６から一対の振動腕１８が延びる方向とは交差方向であってそれぞれ相互に反対方向に延び、一対の振動腕１８の延びる方向に屈曲してさらに延びる。屈曲することで、支持腕３８は小型化される。支持腕３８は、図示しないパッケージなどに取り付けられる部分であり、支持腕３８での取り付けによって、振動腕１８及び基部１６は浮いた状態になる。
【００１２】
振動腕１８には、励振電極膜４０が形成されている。図２に示す励振電極膜４０は１層で構成されているが、１００Å以上３００Å以下の厚みを有する下地のＣｒ膜と、Ｃｒ膜上に形成された２００Å以上５００Å以下の厚みを有するＡｕ膜と、を含む多層構造であってもよい。Ｃｒ膜は水晶との密着性が高く、Ａｕ膜は電気抵抗が低く酸化し難いことで知られている。励振電極膜４０は、第１及び第２の面１２，１４にそれぞれ形成された表裏電極膜（複数の表電極膜と複数の裏電極膜）と、第１及び第２の側面３２，３４にそれぞれ形成された第１及び第２の側面電極膜と、溝３６の内面に形成された内面電極膜と、を含む。
【００１３】
励振電極膜４０によって、第１及び第２の励振電極４２，４４が構成される。１つの振動腕１８において、第１及び第２の励振電極４２，４４間に電圧を印加して、振動腕１８の第１及び第２の側面３２，３４を伸縮させることで振動腕１８を振動させる。なお、第１及び第２の励振電極４２，４４は、振動腕１８の７０％までは、長いほどＣＩ値が下がることが分かっている。
【００１４】
第１の励振電極４２は、溝３６の内面に形成された内面電極膜を含む。１つの溝３６に形成された内面電極膜は、表裏電極膜の一方（例えば、表面に形成された溝３６に形成された内面電極膜に対応するのは表電極膜）と連続的に形成されて電気的に接続されている。また、第１及び第２の面１２，１４の一方（例えば表面）の溝３６に形成された内面電極膜並びにこれらに電気的に接続する表裏電極膜の一方（例えば表電極膜）と、第１及び第２の面１２，１４の他方（例えば裏面）の溝３６に形成された内面電極膜並びにこれらに電気的に接続する表裏電極膜の他方（例えば裏電極膜）と、は電気的に接続されている。すなわち、第１及び第２の面１２，１４それぞれに形成された一対の第１の励振電極４２は電気的に接続されている。一方の振動腕１８に形成された一対の第１の励振電極４２は、基部１６上の第１及び第２の面１２，１４それぞれに形成された引き出し電極４６に接続され、これらの引き出し電極４６が、他方の振動腕１８の第１又は第２の側面電極膜に接続されることで電気的に接続される。
【００１５】
第２の励振電極４４は、第１及び第２の側面３２，３４に形成された第１及び第２の側面電極膜を含む。詳しくは、第１の側面電極膜に連続するように表裏電極膜が形成され、同様に、第２の側面電極膜に連続するように他の表裏電極膜が形成されている。また、第１及び第２の側面電極膜は電気的に接続されている。その電気的接続は、振動腕１８の溝３６が形成されていない部分（例えば先端部）において、第１及び第２の面１２，１４の少なくとも一方（あるいは両方）上に形成された接続電極４８によってなされている。
【００１６】
一方の振動腕１８に形成された第１の励振電極４２と、他方の振動腕１８に形成された第２の励振電極４４と、は基部１６上の引き出し電極４６で電気的に接続されている。引き出し電極４６は、第２の励振電極４４が形成される振動腕１８の隣に並ぶ支持腕３８上に至るまで形成されている。引き出し電極４６は、支持腕３８の第１及び第２の面１２，１４（あるいはさらに側面）に形成してもよい。支持腕３８上で、引き出し電極４６を外部との電気的接続部にすることができる。
【００１７】
図４は、本実施の形態に係る圧電振動片の動作を説明する図である。図４に示すように、一方の振動腕１８の第１及び第２の励振電極４２，４４に電圧が印加され、他方の振動腕１８の第１及び第２の励振電極４２，４４に電圧が印加される。ここで、一方の振動腕１８の第１の励振電極４２と他方の振動腕１８の第２の励振電極４４が同じ電位（図４の例では＋電位）となり、一方の振動腕１８の第２の励振電極４４と他方の振動腕１８の第１の励振電極４２が同じ電位（図４の例では−電位）となるように、第１の励振電極４２及び第２の励振電極４４は、クロス配線によって交流電源に接続され、駆動電圧としての交番電圧が印加されるようになっている。印加電圧によって、図４に矢印で示すように電界が発生し、これにより、振動腕１８は、互いに逆相振動となるように（振動腕１８の先端側が互いに接近・離間するように）励振されて屈曲振動する。また、基本モードで振動するように交番電圧が調整されている。
【００１８】
（第１の実施の形態に係る圧電振動片の製造方法）
図５（Ａ）〜図１０（Ｂ）は、本発明の第１の実施の形態に係る圧電振動片の製造方法を説明する図である。なお、各図（Ａ）は図１のII−II線断面に対応する部分を示し、各図（Ｂ）は図１のIII−III線断面に対応する部分を示す。本実施の形態では、水晶等からなる圧電体１０を使用する。圧電体１０は、相互に反対を向く第１及び第２の面１２，１４を有する板材（ウエハ）である。
【００１９】
図５（Ａ）及び図５（Ｂ）に示すように、第１及び第２の面１２，１４を、それぞれ部分的にウェットエッチングレジスト５０で覆う。ウェットエッチングレジスト５０は、パターニングされた金属層（例えばＣｒ膜とその上のＡｕ膜）及び金属層上のパターニングされた樹脂層からなる。金属層を形成し、その上に感光性の樹脂によって樹脂層を形成し、フォトリソグラフィによって樹脂層をパターニングし、パターニングされた樹脂層をマスクとしたエッチング（ドライ・ウェットのどちらでもよいがウェットを適用可能）によって金属層をパターニングする。ウェットエッチングレジスト５０による被覆領域は、基部１６及び基部１６から延びる一対の振動腕１８を形成するための領域を含む。また、ウェットエッチングレジスト５０からの露出領域は、第１及び第２の面１２，１４に括れた形状が表れるように基部１６に対向方向に一対の切り込み２２を形成するための領域を含む。
【００２０】
図６（Ａ）及び図６（Ｂ）に示すように、圧電体１０の第１及び第２の面１２，１４を、ウェットエッチングレジスト５０をマスクとしてウェットエッチングによるフルエッチングを行う。ウェットエッチングによって、低コストで効率的にエッチングを行うことができる。これによって、基部１６及び基部１６から延びる一対の振動腕１８を抜き出すことができる。結晶方位に依存性があるウェットエッチングであっても、エッチング時間やエッチング条件によって、第１及び第２の面１２，１４に対して垂直の側面を形成することができる。ただし、切り込み２２の形成領域がウェットエッチングレジスト５０から露出しているが、図１に示すように、切り込み２２の形状が細長いためにウェットエッチングが進行しにくい。そのため、図６（Ｂ）に示すように、切り込み２２の深さ方向の奥（接続部２８の幅方向の両端部）に凸部５２が形成される。凸部５２は、接続部２８の厚み方向の中央部が、接続部２８の幅方向に突出している。実際の凸部５２は、図６（Ｂ）に示す形状と異なり、不均一な形状になり、そのままでは応力が不均一に集中するため、振動の吸収が不均一になり、好ましくない方向に振動してしまうおそれがある。そこで、本実施の形態では以下の工程を行う。
【００２１】
図７（Ａ）及び図７（Ｂ）に示すように、圧電体１０の第１及び第２の面１２，１４を、それぞれ部分的にドライエッチングレジスト５４で覆う。ドライエッチングレジスト５４として、Ｎｉ膜を使用してもよい。Ｎｉ膜は無電解メッキで形成することができる。ドライエッチングレジスト５４からの露出領域は、一対の振動腕１８に溝３６を形成するための領域及び一対の切り込み２２を形成するための領域を含む。接続部２８の第１及び第２の面１２，１４はドライエッチングレジスト５４にて覆うが、凸部５２は露出させる。
【００２２】
図８（Ａ）及び図８（Ｂ）に示すように、第１の面１２に対してドライエッチングによるハーフエッチングを行う。ハーフエッチングは、ウェットエッチングよりもドライエッチングによって簡単に行うことができる。こうして、振動腕１８の第１の面１２に溝３６を形成する。また、ドライエッチングのみによって溝３６を形成するので、溝３６の底面を第１の面１２に平行な平坦面にすることができる。ドライエッチングは結晶方位に依存しないが、ドライエッチングレジスト５４の開口の間隔が狭いため、図８（Ａ）に示すように、溝３６の内面が傾斜する。ただし、ドライエッチングでは、ウェットエッチングと異なり、溝３６の対向する内面の傾斜が面対称の形状になる。また、ドライエッチングの条件の設定によって、溝３６の内面を第１の面１２に垂直に形成することも可能である。溝３６のエッチングと同時に、接続部２８の凸部５２に対して、第１の面１２からドライエッチングが進行する。凸部５２に対しては、切り込み２２の幅（第１及び第２の部分２４，２６の間隔）は狭いが、切り込み２２の長さ(深さ)がドライエッチングの進行に十分であるため、凸部５２に対するドライエッチングは垂直に進行する。また、同様の理由から、凸部５２に対するドライエッチングが、溝３６を形成するドライエッチングよりも深く進行する。なお、第１及び第２の面１２，１４にそれぞれドライエッチングレジスト５４が付着した状態で第１の面１２に対してハーフエッチングを行う。
【００２３】
図９（Ａ）及び図９（Ｂ）に示すように、第２の面１４に対してもドライエッチングによるハーフエッチングを行う。同時に、接続部２８の凸部５２に対して、第２の面１４からドライエッチングが進行する。こうして、振動腕１８の第１及び第２の面１２，１４に溝３６を形成し、凸部５２をドライエッチングによって無くす。なお、第１及び第２の面１２，１４にそれぞれドライエッチングレジスト５４が付着した状態で第２の面１４に対してハーフエッチングする。
【００２４】
図１０（Ａ）及び図１０（Ｂ）に示すように、ドライエッチングレジスト５４を除去する。そして、図１〜図３に示すように、励振電極膜４０を形成する。
【００２５】
本実施の形態によれば、溝３６の形成をドライエッチングによって行うので精密な加工が可能である。また、切り込み２２の加工では、ウェットエッチングを行った後にドライエッチングを行うので、全てをウェットエッチングで行うよりも精密に加工することができ、全てをドライエッチングで行うよりも効率的に行うことができる。しかも、切り込み２２の加工のためのドライエッチングを、溝３６の加工のためのドライエッチングと同時に行うのでプロセスを増やすことがない。なお、本実施の形態では、ウェットエッチング及びドライエッチングを組み合わせているので、ドライエッチングだけで行うよりも、エッチングガス（例えばＣＦ４）の排出を２０％削減することができる。その他、本実施の形態に係る製造方法は、上述した構成から自明の製造プロセス及び周知のプロセスを含む。さらに、必要に応じて、ドライエッチングの工程を追加してもよい。例えば、ドライエッチングによって、接続部２８に貫通穴（図示せず）を形成するプロセスを追加してもよい。
【００２６】
（第２の実施の形態に係る圧電振動片の製造方法）
図１１（Ａ）〜図１４（Ｂ）は、本発明の第２の実施の形態に係る圧電振動片の製造方法を説明する図である。なお、各図（Ａ）は図１のII−II線断面に対応する部分を示し、各図（Ｂ）は図１のIII−III線断面に対応する部分を示す。本実施の形態では、第１の実施の形態の図７（Ａ）及び図７（Ｂ）を参照して説明した工程の代わりに、図１１（Ａ）及び図１１（Ｂ）に示す工程を行う。すなわち、第１の面１２にドライエッチングレジスト５４を形成し、第２の面１４にはこれを覆うように第２の保護膜５６を形成する。第２の保護膜５６は第２の面１４の全面を覆ってもよい。ただし、すでに、図５（Ａ）〜図６（Ｂ）に示す工程の後であるため、振動腕１８及び基部１６が抜き出されている。
【００２７】
図１２（Ａ）及び図１２（Ｂ）に示すように、第１の面１２にドライエッチングレジスト５４が付着し、第２の面１４（例えばその全面）を覆う第２の保護膜５６が付着した状態で、第１の面１２に対してハーフエッチングする。これにより、第１の面１２に溝３６を形成し、第１の面１２から接続部２８の凸部５２をエッチングすることができる。また、第２の面１４が第２の保護膜５６で覆われているので、第２の面１４がエッチングされるのを防止し、次に行う第２の面１４のエッチングによって、第１及び第２の面１２，１４の均一なエッチングを可能にしている。また、第２の面１４を覆う第２の保護膜５６が、図８（Ａ）に示す第２の面１４のドライエッチングレジスト５４よりも大きいので、冷却効果が大きく、ドライエッチングを効率的に行うことができる。その後、第１の面１２のドライエッチングレジスト５４及び第２の面１４の第２の保護膜５６を除去する。
【００２８】
図１３（Ａ）及び図１３（Ｂ）に示すように、第２の面１４にドライエッチングレジスト５４を形成し、第１の面１２にはこれを覆うように第１の保護膜５８を形成する。第１の保護膜５８は第１の面１２の全面を覆ってもよい。ただし、すでに、図５（Ａ）〜図６（Ｂ）に示す工程の後であるため、振動腕１８及び基部１６が抜き出されている。
【００２９】
図１４（Ａ）及び図１４（Ｂ）に示すように、第２の面１４にドライエッチングレジスト５４が付着し、第１の面１２及び第１の面１２の溝３６を覆う第１の保護膜５８が付着した状態で、第２の面１４に対してハーフエッチングする。これにより、第２の面１４に溝３６を形成し、第２の面１４から接続部２８の凸部５２をエッチングすることができる。また、第１の面１２が第１の保護膜５８で覆われているので、第１の面１２がエッチングされるのを防止し、第１及び第２の面１２，１４の均一なエッチングを可能にしている。また、第１の面１２及び溝３６を覆う第１の保護膜５８が、図９（Ａ）に示す第１の面１２のドライエッチングレジスト５４よりも大きいので、冷却効果が大きく、ドライエッチングを効率的に行うことができる。その後、第２の面１４のドライエッチングレジスト５４及び第１の面１２の第１の保護膜５８を除去する。その他の点について、本実施の形態に係る製造方法には、上述した第１の実施の形態で説明した製造方法を適用することができる。本実施の形態でも、第１の実施の形態と同じ効果を達成することができる。
【００３０】
本発明は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。例えば、本発明は、実施の形態で説明した構成と実質的に同一の構成（例えば、機能、方法及び結果が同一の構成、あるいは目的及び結果が同一の構成）を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】図１は、本発明に係る製造方法によって製造された圧電振動片の実施の形態を示す平面図である。
【図２】図２は、図１に示す圧電振動片のII−II線断面拡大図である。
【図３】図３は、図１に示す圧電振動片のIII−III線断面拡大図である。
【図４】図４は、本実施の形態に係る圧電振動片の動作を説明する図である。
【図５】図５（Ａ）〜図５（Ｂ）は、本発明の第１の実施の形態に係る圧電振動片の製造方法を説明する図である。
【図６】図６（Ａ）〜図６（Ｂ）は、本発明の第１の実施の形態に係る圧電振動片の製造方法を説明する図である。
【図７】図７（Ａ）〜図７（Ｂ）は、本発明の第１の実施の形態に係る圧電振動片の製造方法を説明する図である。
【図８】図８（Ａ）〜図８（Ｂ）は、本発明の第１の実施の形態に係る圧電振動片の製造方法を説明する図である。
【図９】図９（Ａ）〜図９（Ｂ）は、本発明の第１の実施の形態に係る圧電振動片の製造方法を説明する図である。
【図１０】図１０（Ａ）〜図１０（Ｂ）は、本発明の第１の実施の形態に係る圧電振動片の製造方法を説明する図である。
【図１１】図１１（Ａ）〜図１１（Ｂ）は、本発明の第２の実施の形態に係る圧電振動片の製造方法を説明する図である。
【図１２】図１２（Ａ）〜図１２（Ｂ）は、本発明の第２の実施の形態に係る圧電振動片の製造方法を説明する図である。
【図１３】図１３（Ａ）〜図１３（Ｂ）は、本発明の第２の実施の形態に係る圧電振動片の製造方法を説明する図である。
【図１４】図１４（Ａ）〜図１４（Ｂ）は、本発明の第２の実施の形態に係る圧電振動片の製造方法を説明する図である。
【符号の説明】
【００３２】
１０…圧電体、  １２…第１の面、  １４…第２の面、  １６…基部、  １８…振動腕、  ２２…切り込み、  ２４…第１の部分、  ２６…第２の部分、  ２８…接続部、  ３２…第１の側面、  ３４…第２の側面、  ３６…溝、  ３８…支持腕、  ４０…励振電極膜、  ４２…第１の励振電極、  ４４…第２の励振電極、  ４６…引き出し電極、  ４８…接続電極、  ５０…ウェットエッチングレジスト、  ５２…凸部、  ５４…ドライエッチングレジスト、  ５６…第２の保護膜、  ５８…第１の保護膜
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１】
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