(57)【要約】【課題】ケラレを防止して光学薄膜を精度良く形成することができる蒸着ホルダを提供する。【解決手段】開口部を有する樹脂成形品１０の内壁面の一部をマスキングするマスク２０，２１とを備えている蒸着ホルダにおいて、マスク２０，２１を磁石３１，３２に吸着可能な金属材料で形成するとともに、樹脂成形品１０の上部に補助ホルダ５０を嵌合させる。補助ホルダ５０の内壁側面３３，３４にはマスク２０，２１と対向する位置に磁石３１，３２を配置し、樹脂成形品１０の内壁側面１１，１２にマスク２０とマスク２１とを密着させる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
開口部を有する筐体の内壁面の一部をマスキングするマスクを備えている蒸着ホルダにおいて、
前記マスクを前記筐体の内壁面の一部に密着するように引き寄せる磁石を有する冶具が前記筐体に装着されることを特徴とする蒸着ホルダ。
【請求項２】
開口部を有する筐体と、前記筐体の内壁面の一部をマスキングするマスクを備えている蒸着ホルダにおいて、
前記マスクは、前記筐体の内壁面の一部に密着するように、バネ性のある金属材料で形成されていることを特徴とする蒸着ホルダ。
【請求項３】
前記筐体の内壁面の残部に真空蒸着法、スパッタ蒸着法、イオンプレーティング法又はプラズマ蒸着法によって成膜することを特徴とする請求項１又は２記載の蒸着ホルダ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は蒸着ホルダに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、蒸着ホルダとして図３に示すものが知られていた。
【０００３】
図３は従来例に係る蒸着ホルダの断面を示す概念図である。
【０００４】
この蒸着ホルダはホルダ台板１３０とマスク１２０，１２１とを備えている。樹脂成形品１１０はホルダ台板１３０とマスク１２０，１２１とで構成される蒸着ホルダに載せられている。樹脂成形品１１０の内壁上面１１１に高反射膜等の光学薄膜を形成する際、マスク１２０，１２１で樹脂成形品１１０の内壁面のうちの光学薄膜を形成しない部分（側面）１１２，１１３をマスキングする。
【０００５】
所定の厚みの光学薄膜を精度良く形成するためには、内壁上面１１１の周辺部１１１ａに蒸着すべき物質がマスク１２０，１２１によって遮断され（ケラレ）ないようにマスク１２０，１２１の板厚を薄くする必要がある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、マスク１２０，１２１を薄くすると、マスク１２０，１２１は撓み易くなり、図３に示すようにマスク１２０，１２１と樹脂成形品１１０の内壁側面１１２，１１３との間に隙間ができ易い。マスク１２０，１２１の使用回数が増えるにしたがってこの傾向は顕著となり、内壁上面１１１の周辺部１１１ａに蒸着物質が行き届かず、均一な光学薄膜を形成することができなくなる。
【０００７】
この発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、その課題はケラレを防止して光学薄膜を精度良く形成することができる蒸着ホルダを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するため請求項１記載の発明は、開口部を有する筐体の内壁面の一部をマスキングするマスクを備えている蒸着ホルダにおいて、前記マスクを前記筐体の内壁面の一部に密着するように引き寄せる磁石を有する冶具が前記筐体に装着されることを特徴とする。
【０００９】
請求項２に記載の発明は、開口部を有する筐体と、前記筐体の内壁面の一部をマスキングするマスクを備えている蒸着ホルダにおいて、前記マスクは、前記筐体の内壁面の一部に密着するように、バネ性のある金属材料で形成されていることを特徴とする。
【００１０】
請求項３に記載の発明は、請求項１又は２記載の蒸着ホルダにおいて、前記筐体の内壁面の残部に真空蒸着法、スパッタ蒸着法、イオンプレーティング法又はプラズマ蒸着法によって成膜することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
この発明によれば、ケラレを防止して光学薄膜を精度良く形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
【００１３】
図１はこの発明の第１実施形態に係る蒸着ホルダの断面を示す概念図である。
【００１４】
この蒸着ホルダはマスク２０，２１と補助ホルダ（冶具）５０とを備えている。
【００１５】
箱状の樹脂成形品（筐体）１０はマスク２０，２１が装着されたホルダ台板３０に載置されている。マスク２０，２１の下端部はホルダ台板３０にねじ（図示せず）を用いて固定されている。
【００１６】
マスク２０，２１は樹脂成形品１０の内壁側面（内壁面の一部）１１，１２をマスキングする。マスク２０，２１は後述の磁石３１，３２に吸引可能な金属材料で形成されている。マスク２０，２１の材料としては、例えばＪＩＳ規格のＳＵＳ４３０が使用される。
【００１７】
補助ホルダ５０の断面はほぼＣ字形である。補助ホルダ５０は樹脂成形品１０の上部に嵌合可能である。補助ホルダ５０の内壁側面３３，３４のマスク２０，２１の上端部と対向する位置に、樹脂成形品１０の内壁側面１１，１２にマスク２０，２１を密着するように引き寄せるための磁石３１，３２が固定されている。磁石３１と磁石３２とは同一極性の面が対向するように配置されている。
【００１８】
次に、この実施形態の蒸着ホルダの使用方法を説明する。
【００１９】
まず、マスク２０，２１とホルダ台板３０とからなる基板ホルダに樹脂成形品１０を載置する。
【００２０】
次に、樹脂成形品１０の上部に補助ホルダ５０を嵌合させる。磁石３１と磁石３２とは同一極性の面が対向するように配置されているので、マスク２０とマスク２１とが同一極性に磁化される。その結果、マスク２０とマスク２１との間には斥力が作用し、樹脂成形品１０の内壁側面１１，１２にマスク２０とマスク２１とが密着する。
【００２１】
その後、真空蒸着法、スパッタ蒸着法、イオンプレーティング法又はプラズマ蒸着法によって樹脂成形品１０の内壁上面１３に高反射膜等の光学薄膜（図示せず）を形成する。
【００２２】
この実施形態によれば、樹脂成形品１０の内壁側面１１，１２にマスク２０とマスク２１とが密着するので、樹脂成形品１０の内壁上面１３の周辺部１３ａのケラレが防止されて、樹脂成形品１０の内壁上面１３の周辺部１３ａの膜厚が薄くなることを防止でき、光学薄膜を精度良く形成することができる。
【００２３】
図２はこの発明の第２実施形態に係る蒸着ホルダの断面を示す概念図であり、第１実施形態と共通する部分には同一符号を付してその説明を省略する。
【００２４】
この蒸着ホルダはマスク４０，４１を備えている。
【００２５】
箱状の樹脂成形品１０はマスク４０，４１が装着されたホルダ台板３０に載置されている。マスク４０，４１の下端部はホルダ台板３０にねじ（図示せず）を用いて固定されている。
【００２６】
マスク４０，４１は樹脂成形品１０の内壁側面（内壁面の一部）１１，１２をマスキングする。マスク４０，４１は外方（樹脂成形品１０の内壁側面１１，１２に近づく方向）へ復帰力が働くばね性を有する金属材料で形成されている。マスク４０，４１の材料としては、例えばＪＩＳ規格のＣ１７００（ベリリウム銅）が使用される。
【００２７】
次に、この実施形態に係る蒸着ホルダの使用方法を説明する。
【００２８】
まず、マスク４０，４１とホルダ台板３０とからなる基板ホルダに樹脂成形品１０を載置する。このとき、マスク４０，４１の復帰力が働くようにマスク４０，４１が変形するため、樹脂成形品１０の内壁側面１１，１２にマスク４０，４１が密着する。
【００２９】
その後、真空蒸着法、スパッタ蒸着法、イオンプレーティング法又はプラズマ蒸着法によって樹脂成形品１０の内壁上面１３に高反射膜等の光学薄膜（図示せず）を形成する。
【００３０】
この実施形態によれば、第１実施形態と同様の効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】図１はこの発明の第１実施形態に係る蒸着ホルダの断面を示す概念図である。
【図２】図２はこの発明の第２実施形態に係る蒸着ホルダの断面を示す概念図である。
【図３】図３は従来例に係る蒸着ホルダの断面を示す概念図である。
【符号の説明】
【００３２】
１０：樹脂成形品（筐体）、１１，１２：内壁側面（内壁面の一部）、２０，２１，４０，４１：マスク、３１，３２：磁石、５０：補助ホルダ（冶具）。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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