(57)【要約】【課題】光学特性を向上させることができるクロスプリズムの製造方法を提供する。【解決手段】まず、複数の板状ガラス基板を階段状に積層配置及び仮接着し、所定の角度及び間隔に切断して積層分割体を形成する。次に、積層分割体の片面に赤色光反射膜１３を形成し、それらを更に積層配置及び本接着して、再び積層体を形成する。そのあと、積層体を所定の角度及び間隔で切断し、第３積層分割体４２を形成する。そして、第３積層分割体４２の一方の面に、青色光反射膜１４を形成する。次に、第３積層分割体４２における仮接着された部分を除去し、複数のプリズム柱対５１ａ，５１ｂに分離する。そのあと、第１プリズム柱対５１ａと第２プリズム柱対５１ｂとを本接着により接合する。【選択図】図５
2008158144.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
４つの直角三角柱プリズムを略Ｘ字状に接着して形成されるクロスプリズムの製造方法であって、
二以上の枚数の板状の透明基板を積層配置して仮接着し、前記仮接着された面に半直角な角度で、前記透明基板の積層配置物を二以上の枚数の板状に切断して第１積層分割体と第２積層分割体とを形成する積層分割体形成工程と、
前記第１積層分割体と前記第２積層分割体との片面に波長分離膜甲を成膜する波長分離膜甲形成工程と、
前記波長分離膜甲を成膜後、前記第１積層分割体と前記第２積層分割体とを交互に、且つ前記波長分離膜甲を挟むように積層配置して本接着し、前記本接着された面に垂直な角度で二以上の枚数の板状に切断して第３積層分割体を形成する積層分割体形成工程と、
前記第３積層分割体の片面に波長分離膜乙を形成する波長分離膜乙形成工程と、
前記第３積層分割体の仮接着部分を除去し、前記波長分離膜乙が形成された第１プリズム柱対と、前記波長分離膜乙が形成されていない第２プリズム柱対とに分離する積層分割体分離工程と、
前記第１プリズム柱対と前記第２プリズム柱対とを、略方形となるように、且つ前記波長分離膜乙を挟むように本接着するプリズム柱対接合工程と、
を有することを特徴とするクロスプリズムの製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載のクロスプリズムの製造方法であって、
前記プリズム柱対接合工程のあと、接合されたプリズム柱対をクロスプリズムの長さに切断して前記クロスプリズムを形成するクロスプリズム形成工程を有することを特徴とするクロスプリズムの製造方法。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のクロスプリズムの製造方法であって、
前記プリズム柱対接合工程は、前記第１プリズム柱対に挟持された前記波長分離膜甲の端部と、前記第２プリズム柱対に挟持された前記波長分離膜甲の端部との位置を一致させて、前記第１プリズム柱対と前記第２プリズム柱対とを接合することを特徴とするクロスプリズムの製造方法。
【請求項４】
請求項１に記載のクロスプリズムの製造方法であって、
前記透明基板は、光学ガラスであることを特徴とするクロスプリズムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、クロスプリズムの製造方法に関し、特に、複数の基板を積層して同時に多数のクロスプリズムを製造するクロスプリズムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
上記したクロスプリズムは、例えば、プロジェクタの色光合成光学系など、３つの変調光（例えば、赤色光、青色光、緑色光）を合成させるために用いられる。このクロスプリズムは、４つの直角二等辺三角プリズムが接合されて形成された略Ｘ字状の界面に２種類の波長分離膜が形成された光選択プリズム（ダイクロイックプリズム）である。このクロスプリズムを用いた投射型表示装置では、合成された光をスクリーン上に表示させることができる。
【０００３】
クロスプリズムの製造方法は、例えば、特許文献１に記載されている。それによれば、まず、図７（ａ）に示す工程で、矩形の板状透明基板１１１を階段状（例えば、板状透明基板１１１の接着面に対して４５°）に仮接着し、第１積層体１１２を形成する。次に、図７（ｂ）に示す工程で、第１積層体１１２を、例えば半直角（４５°）の角度で所定の間隔に切断して、第１積層分割体１１３を形成する。次に、図７（ｃ）に示す工程で、第１積層分割体１１３の上下面を研磨加工した後、ある波長を選択して反射する波長分離膜甲１１４を成膜する。
【０００４】
次に、図８（ａ）に示す工程では、第１積層分割体１１３の向きを１８０°変えて積層配置すると共に接着剤を用いて本接着して、第２積層体１２１を形成する。次に、図８（ｂ）に示す工程では、第２積層体１２１を、第１積層分割体１１３の上下となる面１１３ａ，１１３ｂに対して垂直及び所定の間隔に切断して、第２積層分割体１２２を形成する。次に、図８（ｃ）に示す工程では、第２積層分割体１２２の上下面を研磨し、波長分離膜乙１２３を成膜する。
【０００５】
次に、図９（ａ）に示す工程では、仮接着した仮接着面１３１が略方形（クロスプリズムの形状）となるように、第２積層分割体１２２を積層すると共に、接着剤を用いて本接着し第３積層体１３２を形成する。次に、図９（ｂ）に示す工程では、第３積層体１３２を、切断ラインＬ１０１に沿って所定の間隔で平行に切断する。これにより、クロスプリズム１５１を多数含んだ矩形板状のクロスプリズム連結体１４１が形成される。次に、図９（ｃ）に示す工程では、クロスプリズム連結体１４１をホットプレート上に載置して加熱することにより、仮接着した部分を除去する。そして、本接着した部分で接合された４つの直角三角柱プリズム１５２からなるクロスプリズム１５１が分離される。
【０００６】
【特許文献１】特開２００１−３４３５０８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、図８（ｃ）に示す第２積層分割体１２２を形成した段階で、前工程（図７に示す工程など）で切断した際の平行度や研磨加工の精度、接着剤の厚みバラツキなどに起因して、波長分離膜甲１１４のピッチ誤差（累積誤差）が含まれた状態となっている。更に、図９（ａ）に示す工程で、ピッチ誤差が含まれた状態の第２積層分割体１２２を積層して第３積層体１３２を形成するので、図１０（ａ）に示すように、波長分離膜甲１１４の接合部に段差Ｈが生じる。これにより、完成したクロスプリズム１５１ａに光を通過させた際、段差Ｈ付近を通過する光の反射特性や透過特性が変化し、その結果、光が散乱するなど表示するべき画像情報が劣化するという問題がある。
【０００８】
本発明は、光学特性を向上させることができるクロスプリズムの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために、本発明に係るクロスプリズムの製造方法は、４つの直角三角柱プリズムを略Ｘ字状に接着して形成されるクロスプリズムの製造方法であって、二以上の枚数の板状の透明基板を積層配置して仮接着し、前記仮接着面に半直角な角度で、前記透明基板の積層配置物を二以上の枚数の板状に切断して第１積層分割体と第２積層分割体とを形成する積層分割体形成工程と、前記第１積層分割体と前記第２積層分割体との片面に波長分離膜甲を成膜する波長分離膜甲形成工程と、前記波長分離膜甲を成膜後、前記第１積層分割体と前記第２積層分割体とを交互に、且つ前記波長分離膜甲を挟むように積層配置して本接着し、前記本接着面に垂直な角度で二以上の枚数の板状に切断して第３積層分割体を形成する積層分割体形成工程と、前記第３積層分割体の片面に波長分離膜乙を形成する波長分離膜乙形成工程と、前記第３積層分割体の仮接着部分を除去し、前記波長分離膜乙が形成された第１プリズム柱対と、前記波長分離膜乙が形成されていない第２プリズム柱対とに分離する積層分割体分離工程と、前記第１プリズム柱対と前記第２プリズム柱対とを、略方形となるように、且つ前記波長分離膜乙を挟むように本接着するプリズム柱対接合工程と、を有することを特徴とする。
【００１０】
この方法によれば、積層分割体から複数の第１プリズム柱対と複数の第２プリズム柱対とを分離したあと、単数の第１プリズム柱対と単数の第２プリズム柱対とを接合する。従って、複数のプリズム柱対が積層された積層分割体を他の積層分割体と接合してクロスプリズムを製造する従来の方法と比較して、加工された際に蓄積されたピッチ誤差に影響されることなく、第１プリズム柱対と第２プリズム柱対とを精度良く接合することができる。よって、第１プリズム柱対に挟まれた波長分離膜甲の端部と、第２プリズム柱対に挟まれた波長分離膜甲の端部との接合部の段差を少なくすることができる。これにより、接合部の段差が投射する画像情報に及ぼす悪影響を抑えることができる。
【００１１】
本発明に係るクロスプリズムの製造方法では、前記プリズム柱対接合工程のあと、接合されたプリズム柱対をクロスプリズムの長さに切断して前記クロスプリズムを形成するクロスプリズム形成工程を有することを特徴とする。
【００１２】
この方法によれば、プリズム柱対接合工程によって波長分離膜甲の接合部の段差が抑えられたプリズム柱対を、クロスプリズムのサイズに切断するので、波長分離膜甲の段差が抑えられたクロスプリズムを完成させることができる。
【００１３】
本発明に係るクロスプリズムの製造方法では、前記プリズム柱対接合工程は、前記第１プリズム柱対に挟持された前記波長分離膜甲の端部と、前記第２プリズム柱対に挟持された前記波長分離膜甲の端部との位置を一致させて、前記第１プリズム柱対と前記第２プリズム柱対とを接合することを特徴とする。
【００１４】
この方法によれば、波長分離膜甲の端部を合わせて接合するので、クロスプリズムの性能に大きな影響を及ぼす接合段差を少なくすることができ、クロスプリズムの性能を向上させることができる。
【００１５】
本発明に係るクロスプリズムの製造方法では、前記透明基板は、光学ガラスであることを特徴とする。
【００１６】
この方法によれば、光学ガラスを用いてクロスプリズムを形成するので、様々な製造方法（切断角度など）を用いたとしても、光学特性に影響を与えることなくクロスプリズムを製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明を具体化した実施形態について、図面を参照しながら説明する。
【００１８】
図１は、クロスプリズムの構造を示す模式図である。以下、クロスプリズムの構造を、図１を参照しながら説明する。
【００１９】
図１に示すように、クロスプリズム１１は、例えば、プロジェクタの色光合成光学系（例えば、赤色光、緑色光、青色光の合成）などに用いられ、４つの直角三角柱プリズム（以下、「直角プリズム」という。）１２を有する。クロスプリズム１１は、例えば、光学ガラスによって構成されている。クロスプリズム１１は、第１直角プリズム１２ａと、第２直角プリズム１２ｂと、第３直角プリズム１２ｃと、第４直角プリズム１２ｄとを有し、それぞれ高さが等しい直角二等辺三角柱に形成されている。クロスプリズム１１は、直角プリズム１２の直角をなす側面１２ｅが互いに接着剤（図示せず）で接合されて構成される四角柱（直方体または立方体）である。
【００２０】
４つの直角プリズム１２で構成される接合面には、波長分離膜甲としての赤色光反射膜１３（１３ａ，１３ｂ）と、波長分離膜乙としての青色光反射膜１４とが略Ｘ字状に形成されている。第１直角プリズム１２ａと第２直角プリズム１２ｂとの間には、赤色光反射膜１３を構成する赤色光反射膜１３ａが形成されている。第３直角プリズム１２ｃと第４直角プリズム１２ｄとの間には、赤色光反射膜１３を構成する赤色光反射膜１３ｂが形成されている。このように、赤色光反射膜１３と青色光反射膜１４とが略Ｘ字状に形成されていることにより、クロスプリズム１１の一面から、例えば、赤色光（Ｒ）、緑色光（Ｇ）、青色光（Ｂ）が合成された光を出射することが可能となっている。なお、例えば、クロスプリズム１１の一面には、反射防止膜１５が形成されている。
【００２１】
第１直角プリズム１２ａと第３直角プリズム１２ｃとの間、更に、第２直角プリズム１２ｂと第４直角プリズム１２ｄとの間には、青色光反射膜１４が連続して形成されている。つまり、この青色光反射膜１４によって、赤色光反射膜１３ａと赤色光反射膜１３ｂとが分離されている。
【００２２】
分離された赤色光反射膜１３ａと赤色光反射膜１３ｂとは、互いの接合部１６の段差が抑えられることにより、損失があるものの、特性（反射特性、透過特性など）が劣化することが抑えられる。しかしながら、この接合部１６の段差が大きくなることにより特性の劣化が大きくなり、例えば、表示するべき画像情報が劣化するという問題が発生する。
【００２３】
図２〜図６は、クロスプリズムの製造方法を工程順に示す斜視図である。以下、クロスプリズムの製造方法を、図２〜図６を参照しながら説明する。なお、図２〜図６に示す製造方法は、板状の透明基板を多段状に重ねて製造する方法であり、クロスプリズムを一度に多数製造することが可能となっている。
【００２４】
図２（ａ）に示す工程では、光学ガラスからなる矩形のガラス基板２１の上面２２及び下面２２を鏡面研磨加工（ラッピング加工やポリッシュ加工など）する。また、引き続く工程において、複数のガラス基板２１を用いることから、複数のガラス基板２１に鏡面研磨加工を施す。
【００２５】
図２（ｂ）に示す工程では、ガラス基板２１に反射防止膜１５（ＡＲ膜）を形成する。なお、ガラス基板２１への反射防止膜１５の形成は、必要に応じて形成しなくてもよい。ここでは、例えば、完成したクロスプリズム１１における光を通過する面のうち一面のみに反射防止膜１５を形成するものとし、ガラス基板２１の一方の面に反射防止膜１５を形成した第１ガラス基板２１ａと、ガラス基板２１に反射防止膜１５を形成しない第２ガラス基板２１ｂとの２種類を形成する。
【００２６】
図２（ｃ）に示す工程では、第１ガラス基板２１ａを階段状に積層して仮接着する。階段状に積層される第１ガラス基板２１ａは、例えば、第１ガラス基板２１ａの端縁２３を結ぶ仮想平面と第１ガラス基板２１ａの上面又は下面とのなす角度が４５°である。なお、４５°で積層するために、図示しない、水平な板状のベースと、このベースから４５°の傾斜角度で上方に傾斜して固定された傾斜側壁とからなる治具を用いるようにしてもよい。そして、この治具の傾斜側壁に押し当てながら順次第１ガラス基板２１ａを積層させることにより、略平行四辺形状の第１積層体２４となる。
【００２７】
第１ガラス基板２１ａの接着面には、予めパラフィン等の剥離可能な仮接着剤（図示せず）を塗布しておき、互いの第１ガラス基板２１ａを仮接着状態にする。また、上記と同様の方法により、反射防止膜１５が形成されていない第２ガラス基板２１ｂを積層し、第２積層体２５を形成する。なお、パラフィン以外の仮接着剤、例えば、ＵＶ光で仮硬化し温水で除去できる仮接着剤を用いてもよい。
【００２８】
図３（ａ）に示す工程（積層分割体形成工程）では、第１積層体２４と第２積層体２５とを、第１ガラス基板２１ａ（第２ガラス基板２１ｂ）の端縁２３を結ぶ仮想平面と平行（ガラス基板２１の底面に対し半直角４５°）に所定の間隔で切断ラインＬ１１に沿って切断する。切断する方法として、例えば、ワイヤーソー等の切断手段が用いられる。切断ラインＬ１１の間隔は、最終的に製造しようとするクロスプリズム１１の寸法、形状に応じて設定する。以上のような切断によって、図３（ｂ）に示す、第１積層分割体３１及び第２積層分割体３２が形成される。第１積層分割体３１及び第２積層分割体３２は、正面形状が横長の平行四辺形の積層体である。
【００２９】
図３（ｃ）に示す工程では、切断面である第１積層分割体３１の上下面３１ａ及び第２積層分割体３２の上下面３２ａに、鏡面研磨加工を施す。鏡面研磨加工は、上記したような、ラッピング加工やポリッシュ加工などである。なお、前記した加工方法の他に、研削加工を用いてもよい。
【００３０】
図４（ａ）に示す工程（波長分離膜甲形成工程）では、第１積層分割体３１及び第２積層分割体３２に、例えば、赤色光反射膜１３（ＲＤＭ：レッド・ダイクロイック・ミラー）を形成する。赤色光反射膜１３は、例えば、無機物の薄膜が多層に形成された誘電体多層膜である。また、赤色光反射膜１３は、例えば、真空蒸着法やスパッタ法によって形成される。また、赤色光反射膜１３は、例えば、波長６００ｎｍ前後の成分を反射させる反射膜である。まず、第１積層分割体３１の一方の面に赤色光反射膜１３を形成する。次に、第２積層分割体３２の一方の面にも、例えば上記と同様の方法によって、赤色光反射膜１３を形成する。
【００３１】
図４（ｂ）に示す工程では、第１積層分割体３１と第２積層分割体３２とを、交互に積層すると共に本接着して第３積層体４１を形成する。まず、反射防止膜１５が形成された第１積層分割体３１と、反射防止膜１５が形成されていない第２積層分割体３２とを接着剤（図示せず）を用いて接着する。本接着に用いられる接着剤としては、例えば、ＵＶ接着剤が挙げられる。ＵＶ接着剤は、例えば、波長３００ｎｍ〜４００ｎｍに出力特性のある紫外線光源を用いることにより硬化する。また、粘度の低いＵＶ接着剤を用いれば、硬化時間が短くて済み、硬化時の熱の発生も少なくて済む。
【００３２】
まず、赤色光反射膜１３が上面にくるように、第１積層分割体３１と第２積層分割体３２とを交互に配置する。このとき、第１積層分割体３１と第２積層分割体３２との端面が平行にならないように（互いの端面が９０°で交差するように）配置する。接着剤は、第１積層分割体３１又は第２積層分割体３２のどちらか一方に塗布して、貼り合わせ後に硬化させる。そのあと同様の手順で、第１積層分割体３１と第２積層分割体３２とが交互になるように接着する。
【００３３】
図４（ｃ）に示す工程（積層分割体形成工程）では、第３積層体４１を切断して、第３積層分割体４２を形成する。第３積層体４１の切断は、第１積層分割体３１及び第２積層分割体３２の上下面３１ａ，３２ａ（図３（ｃ）参照）と直交する切断ラインＬ１２に沿って切断する。各切断ラインＬ１２は、交差部４３に沿ったラインである。
【００３４】
図５（ａ）に示す工程では、第３積層分割体４２の上下面を鏡面研磨する。鏡面研磨する面としては、各切断ラインＬ１２に沿って切断された切断面である。鏡面研磨加工は、例えば、上記したようなラッピング加工やポリッシュ加工などである。
【００３５】
図５（ｂ）に示す工程（波長分離膜乙形成工程）では、第３積層分割体４２の一方の面に、例えば、青色光反射膜１４（ＢＤＭ：ブルー・ダイクロイック・ミラー）を形成する。青色光反射膜１４は、例えば、赤色光反射膜１３と同様に、無機物の薄膜が多層に形成された誘電体多層膜である。また、青色光反射膜１４は、例えば、真空蒸着法やスパッタ法によって形成される。また、青色光反射膜１４は、例えば、波長４５０ｎｍ前後の成分を反射させる反射膜である。
【００３６】
図５（ｃ）に示す工程（積層分割体分離工程）では、第３積層分割体４２を仮接着した部分を除去して、複数のプリズム柱対５１（５１ａ，５１ｂ）に分離形成する。第３積層分割体４２を分離させることにより、青色光反射膜１４が形成された第１プリズム柱対５１ａと、青色光反射膜１４が形成されていない第２プリズム柱対５１ｂとに分離される。仮接着剤を除去する方法として、例えば、ホットプレート（図示せず）が用いられる。ホットプレート上に、第３積層分割体４２を載置して加熱することにより、仮接着剤が溶解して除去され、第１プリズム柱対５１ａと第２プリズム柱対５１ｂとに分離する。
【００３７】
図６（ａ）に示す工程（プリズム柱対接合工程）では、第１プリズム柱対５１ａと第２プリズム柱対５１ｂとを略方形となるように接合すると共に接着剤を用いて本接着し、クロスプリズム体６１を形成する。本接着に用いられる接着剤としては、上記したように、例えば、ＵＶ接着剤が挙げられる。ＵＶ接着剤は、上記したように、例えば、波長３００ｎｍ〜４００ｎｍに出力特性のある紫外線光源を用いることにより硬化する。接着剤は、第１プリズム柱対５１ａ又は第２プリズム柱対５１ｂのどちらか一方に塗布して、貼り合わせ後に硬化させる。
【００３８】
以上により、第１プリズム柱対５１ａを構成する第１直角プリズム１２ａと第２直角プリズム１２ｂとの間には、赤色光反射膜１３ａが形成される。一方、第２プリズム柱対５１ｂを構成する第３直角プリズム１２ｃと第４直角プリズム１２ｄとの間には、赤色光反射膜１３ｂが形成される。
【００３９】
このように、第１プリズム柱対５１ａに形成された赤色光反射膜１３ａの端部と、第２プリズム柱対５１ｂに形成された赤色光反射膜１３ｂの端部とを接合する前に、図５（ｃ）に示す工程で、第３積層分割体４２を構成する複数のプリズム柱対５１（５１ａ，５１ｂ）を分離させることで、第３積層分割体４２に含まれる赤色光反射膜１３のピッチ誤差（累積誤差）を解消させることができる。その結果、クロスプリズム体６１を形成した際、赤色光反射膜１３ａの端部と、赤色光反射膜１３ｂの端部との接合部に、段差が発生することを抑えることができる。
【００４０】
また、図４（ｃ）に示す工程において、第３積層体４１から第３積層分割体４２に切断する際、正規の切断ラインＬ１２に対し傾斜して切断する場合がある。従来であれば、赤色光反射膜１３の面を合わせるために、第３積層分割体４２を回転させるなどして合わせようとしても、複数のプリズム柱対５１（５１ａ，５１ｂ）がプレート状に接合されているので、角度の調整が困難である。しかしながら、本実施形態では、第３積層分割体４２からプリズム柱対５１（５１ａ，５１ｂ）にそれぞれ分離して、単数の第１プリズム柱対５１ａと単数の第２プリズム柱対５１ｂとを接合するので、切断ラインＬ１２に対し傾斜して切断したとしても、第１プリズム柱対５１ａと第２プリズム柱対５１ｂとの角度の調整をしやすくすることができる。これにより、従来、赤色光反射膜１３ａと赤色光反射膜１３ｂとの膜面の角度精度が３０秒〜１分あったものが、０秒〜３０秒に抑えることができる。
【００４１】
図６（ｂ）に示す工程（クロスプリズム形成工程）では、クロスプリズム体６１を所定の長さに切断する。所定の長さとは、クロスプリズム１１の長さである。
【００４２】
以上の製造方法により、図６（ｃ）に示すような、赤色光反射膜１３ａと赤色光反射膜１３ｂとの段差が抑えられたクロスプリズム１１が完成する。このような製造方法によれば、図５（ｃ）に示す工程において、第３積層分割体４２を仮接着部から分離するので、図６（ａ）に示す工程のように、赤色光反射膜１３ａの端部と赤色光反射膜１３ｂの端部とを合わせてクロスプリズム体６１を形成できる。よって、従来の累積ピッチ誤差を含む状態で接合する方法と比較して、段差Ｈ（図１０（ｂ）参照）を少なくすることができる。本実施形態によれば、３μｍ〜１２μｍあった従来の段差Ｈが、クロスプリズム体６１の手前側や奥側の段差（ズレ）も含め、３μｍ以下に抑えることができる。これにより、スクリーン上に投影する画像を、従来と比較して正規の画像に近づけて表示させることができる。更に、複数のガラス基板２１を多段状に積層して形成する方法を用いれば、一度にたくさんの、更に品質のバラツキが抑えられたクロスプリズムを形成することができる。
【００４３】
以上詳述したように、本実施形態のクロスプリズム１１の製造方法によれば、以下に示す効果が得られる。
【００４４】
（１）本実施形態によれば、第１プリズム柱対５１ａと第２プリズム柱対５１ｂとを接合する前に、図５（ｃ）に示す工程において、複数のプリズム柱対５１（５１ａ，５１ｂ）からなる第３積層分割体４２を分離するので、第３積層分割体４２を形成するまでに蓄積された赤色光反射膜１３のピッチ誤差（赤色光反射膜１３の間隔のバラツキ）を解消させることが可能となる。よって、第６（ａ）に示す工程において、第１プリズム柱対５１ａと第２プリズム柱対５１ｂとを接合する際、赤色光反射膜１３ａと赤色光反射膜１３ｂとを合わせながら接合することができる。これにより、赤色光反射膜１３ａと赤色光反射膜１３ｂとの段差が抑えられた高精度なクロスプリズム１１を形成することができる。その結果、例えば、２つの赤色光反射膜１３（１３ａ，１３ｂ）の接合付近の光の散乱がなくなり、スクリーン上に正規の画像に近い画像を表示させることができる。更に、複数ある第１プリズム柱対５１ａ及び第２プリズム柱対５１ｂの中から、赤色光反射膜１３の位置が揃うものを選択して接合することができるので、歩留まりが向上し生産コストを下げることができる。
【００４５】
（２）本実施形態によれば、クロスプリズム１１をプレート状のガラス基板２１から形成するので、クロスプリズム１１を三角柱の原料を貼りあわせて形成する方法と比較して、かかる費用を抑えることができる。加えて、複数のガラス基板２１を多段状に積層して形成する方法を用いれば、一度にたくさんのクロスプリズム１１を形成することができる。
【００４６】
（３）本実施形態によれば、ガラス基板２１からプレート状の第１積層分割体３１（第２積層分割体３２）や第３積層分割体４２を形成し、これらに研磨加工や赤色光反射膜１３、更に青色光反射膜１４を形成するので、一つずつ加工する方法と比較して、効率良く又品質のバラツキを抑えて加工することができる。
【００４７】
なお、実施形態は上記に限定されず、以下のような形態で実施することもできる。
【００４８】
（変形例１）
上記したように、クロスプリズム１１を構成する直角プリズム１２は、直角二等辺三角形に限定されず、例えば、略直角な角を有する三角柱の形状を有していてもよい。
【００４９】
（変形例２）
上記したように、クロスプリズム１１に形成する波長分離膜は、赤色光反射膜１３や青色光反射膜１４に限定されず、必要な波長分離膜（反射膜）を適宜選定して形成することが望ましい。
【００５０】
（変形例３）
上記したように、赤色光反射膜１３ａと赤色光反射膜１３ｂとを分離する形成方法に代えて、青色光反射膜１４が分離するようにしてもよい。波長分離膜（反射膜）は、分離させたくない膜の優先順位を基に決定することが望ましい。
【００５１】
（変形例５）
上記のように、クロスプリズム１１を３つの光（例えば、赤色光、緑色光、青色光）を合成する色光合成光学系として用いることに限定されず、例えば、光の進行方向を逆にすれば、色光分離光学系として用いることができる。
【００５２】
（変形例６）
上記したように、クロスプリズム１１の１面に反射防止膜１５をつけるために、図２（ｂ）の工程において、第１ガラス基板２１ａの片面に反射防止膜１５を形成することに限定されず、例えば、クロスプリズム１１の４面に反射防止膜１５をつけるために、第１ガラス基板２１ａの両面（第２ガラス基板２１ｂの両面）に反射防止膜１５を形成するようにしてもよい。反射防止膜１５は、製品の仕様に応じて適宜選択して形成する。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】クロスプリズムの構成を模式的に示す斜視図。
【図２】クロスプリズムの製造方法を工程順に示す斜視図。
【図３】クロスプリズムの製造方法を工程順に示す斜視図。
【図４】クロスプリズムの製造方法を工程順に示す斜視図。
【図５】クロスプリズムの製造方法を工程順に示す斜視図。
【図６】クロスプリズムの製造方法を工程順に示す斜視図。
【図７】従来のクロスプリズムの製造方法を工程順に示す断面図。
【図８】従来のクロスプリズムの製造方法を工程順に示す断面図。
【図９】従来のクロスプリズムの製造方法を工程順に示す模式図であり、（ａ）は断面図、（ｂ）は斜視図、（ｃ）は斜視図。
【図１０】従来のクロスプリズムの製造方法を示す断面図。
【符号の説明】
【００５４】
１１…クロスプリズム、１２…直角プリズム、１２ａ…第１直角プリズム、１２ｂ…第２直角プリズム、１２ｃ…第３直角プリズム、１２ｄ…第４直角プリズム、１２ｅ…側面、１３…波長分離膜甲としての赤色光反射膜、１３ａ…赤色光反射膜、１３ｂ…赤色光反射膜、１４…波長分離膜乙としての青色光反射膜、１５…反射防止膜、１６…接合部、２１…透明基板としてのガラス基板、２１ａ…第１ガラス基板、２１ｂ…第２ガラス基板、２２…上下面、２３…端縁、２４…第１積層体、２５…第２積層体、３１…第１積層分割体、３１ａ…上下面、３２…第２積層分割体、３２ａ…上下面、４１…第３積層体、４２…第３積層分割体、４３…交差部、５１…プリズム柱対、５１ａ…第１プリズム柱対、５１ｂ…第２プリズム柱対、６１…クロスプリズム体。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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