(57)【要約】【課題】安価で液晶が良好に駆動する液晶表示装置の提供。【解決手段】液晶表示装置１のカラーフィルタ１３０として、第１の透明基板１０上に、透光領域１９を区画形成する線状の遮光膜からなる突起部１２と、透光領域１９内に定着されたインク５１Ｒ，５１Ｇ，５１Ｂと、当該インク５１Ｒ，５１Ｇ，５１Ｂ及び突起部１２を覆うように塗布成膜された着色領域上平坦化膜１７とを設けた。その表面側に、突起部１２の形状に合わせて金属薄膜１８を形成し、且つ当該金属薄膜１８を覆うように形成され共通電極１１として機能する導電性透明塗布膜を設けた。当該導電性透明塗布膜の透光領域１９に対応する位置に、フィルタ側スリット状開口部２０を設けた。【選択図】図２
2008233451.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板上に、着色領域を区画形成する線状の遮光膜からなる突起部と、前記着色領域内に定着された色素材と、当該色素材及び前記突起部を覆うように前記透明基板の表面側に塗布成膜された着色領域上平坦化膜とを有し、
さらにその表面側に、前記遮光膜からなる突起部の形状に合わせて金属薄膜が形成され、且つ当該金属薄膜を覆うように形成された導電性透明塗布膜を有し、
当該導電性透明塗布膜の前記着色領域に対応する位置にフィルタ側スリット状開口部を有する
ことを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項２】
請求項１に記載のカラーフィルタにおいて、
前記着色領域の下地層には、シリコン酸化膜もしくはシリコン窒化膜、あるいはシリコン酸窒化膜が形成されている
ことを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載のカラーフィルタにおいて、
前記フィルタ側スリット状開口部を有する導電性透明塗布膜上に設けられ、液晶の配向機能を有するフィルタ側液晶配向平坦化膜を有する
ことを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項４】
請求項３に記載のカラーフィルタを備える第１の基板と、前記着色領域に対応する領域に画素電極側スリット状開口部を有する画素電極が形成された第２の基板と、該第２の基板と前記第１の基板との隙間内に充填された垂直配向型液晶層とを有し、
前記遮光膜からなる突起部をブラックマトリックスとして用いるとともに、前記フィルタ側スリット状開口部を有する導電性透明塗布膜を、前記画素電極側スリット状開口部を有する画素電極との間で前記垂直配向型液晶層を駆動するための共通電極として用いる
ことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】
請求項４に記載の液晶表示装置において、
前記フィルタ側スリット状開口部及び前記画素電極側スリット状開口部は、互いに対向しない位置に配置されている
ことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項６】
請求項４または請求項５に記載の液晶表示装置において、
前記カラーフィルタを備える第１の基板上の前記フィルタ側液晶配向平坦化膜の平坦度が平均粗さ１００ｎｍ以下である
ことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項７】
請求項４から請求項６のいずれかに記載の液晶表示装置において、
前記カラーフィルタを備える第１の基板上の着色領域上平坦化膜の平坦度と、前記第２の基板において前記着色領域に対応する領域に形成され液晶の配向機能を有する画素電極側液晶配向平坦化膜の平坦度とが共に平均粗さ１００ｎｍ以下である
ことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項８】
透明基板上に線状の遮光膜からなる複数条の突起部を形成する第１工程と、
該突起部で区画形成された着色領域内にインクジェット法を用いて色素材を注入し乾燥させて該色素材を定着させる第２工程と、
少なくとも前記色素材及び遮光膜を覆うように着色領域上平坦化膜が形成され、前記着色領域上平坦化膜の表面側にインクジェット法を用いて遮光膜上の着色領域上平坦化膜上に金属薄膜とその金属薄膜を覆うように導電性透明塗布液を注入し乾燥させてフィルタ側スリット状開口部を有する導電性透明塗布膜を形成する第３工程と、
前記導電性透明塗布膜上に液晶の配向機能を有するフィルタ側液晶配向平坦化膜を形成する第四工程と、
を有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項９】
請求項８に記載のカラーフィルタの製造方法において、
前記第３工程では、前記導電性透明塗布膜を形成するための前駆体を、少なくとも前記金属薄膜を覆い、且つ、色素材を覆う前記透明基板の表面側にフィルタ側スリット状開口部を有する形状に塗布成膜した後、前記前駆体に化学反応を生じさせて前記フィルタ側スリット状開口部を有する形状に導電性透明塗布膜を形成する
ことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶テレビ、パーソナルコンピュータ、プロジェクタ、ビューファインダなどの機器に用いられるパターンド・バーチカル・アライメント（ＰＶＡ）型カラー液晶表示装置、それに使用可能なカラーフィルタ、及び、このカラーフィルタの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
２枚の透明基板の間に封入した液晶を各透明基板に形成した共通電極と画素電極との間で駆動する液晶表示装置のうち、たとえばアクティブマトリックス型のカラー液晶表示装置では、多結晶シリコン、アモルファスシリコンなどから構成した薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor／以下、ＴＦＴという。）やＭＩＭ（Metal-Insulator-Metal）素子などの非線形素子を介して液晶の駆動を行う。
【０００３】
ここで、本願発明の前提となるカラーの液晶表示装置１では、図１に示すように、液晶５０を封入した２枚の透明基板１０，３０のうち透明基板１０上には、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３色の着色層からなるカラーフィルタ層１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂが設けられている。３色のカラーフィルタ層１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂの間には、色と色の隙間を遮光するためのブラックマトリックス１２０が形成され、カラーフィルタ層１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂ上には共通電極１１となるスパッタ成膜によるＩＴＯ膜が形成されている。そして、カラーフィルタ層１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂ、ブラックマトリックス１２０、共通電極１１などにより、カラーフィルタ１３０が構成されている。一方、透明基板３０上には画素電極３１と、画素電極３１への信号電圧の供給を制御するＴＦＴ３２などの駆動素子が形成されている。
【０００４】
上記液晶表示装置１の構成要素のうち、カラーフィルタ１３０を製造する際には、透明基板１０上に例えばクロムなどの金属からなる遮光膜を形成した後、周知のフォトリソグラフィー技術を用いてこれを格子状にパターニングし、ブラックマトリックス１２０とする。次に、カラーフィルタ層１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂを形成するが、カラーフィルタ層１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂの代表的な形成法としては、染色法、顔料分散法などがある。
染色法は、染色基材となるレジストを塗布、パターニング後、染色液中に浸漬してレジストを染色する方法である。顔料分散法は、予め着色した顔料レジストを塗布、パターニングする方法である。
【０００５】
しかしながら、従来のいずれの方法を用いてカラーフィルタ１３０を製造しても、カラーフィルタ層１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂの形成には、各色分、すなわち３回のフォトリソグラフィー工程が必要であり、ブラックマトリックス１２０の形成も合わせると４回のフォトリソグラフィー工程が必要である。従って、この方法ではカラーフィルタ１３０の製造に多大な手間や時間がかかると同時に、フォトリソグラフィー工程の設備コストが莫大なものとなる。
さらに、液晶表示方法のひとつである、図１０に示すようなＰＶＡ方式の液晶表示装置１Ｑでは、カラーフィルタ層１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂ上の共通電極１１Ｑとなる透明導電膜（ＩＴＯ）や、透明基板３０上の画素電極３１Ｑには、スリット状の開口部（ＩＴＯがない部分）であるフィルタ側スリット状開口部２０Ｑ、画素電極側スリット状開口部３４Ｑが設けられており、これらを形成するために、カラーフィルタ１３０Ｑでは、さらにフォトリソグラフィー工程やエッチング工程が必要となり、設備コストが莫大なものとなるおそれがある。
【０００６】
そこで、インクジェット法を用いてカラーフィルタ層１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂを形成する方法が知られている（例えば、特許文献１参照）。
この特許文献１に記載のようなインクジェット法とは、カラー印刷に広く用いられるインクジェットプリンタをカラーフィルタの製造に応用したものであって、ノズル毎に異なる色のインクを噴出することで３色のカラーフィルタ層１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂの形成が同時に行なえるという利点がある。
【０００７】
また、例えばＰＶＡ方式にインクジェット法を用いる場合、例えば、図１１（Ａ）に示すように基板上に突起部１２Ｐで区画形成された着色領域内に、図１１（Ｂ）に示すように色素材を定着させることによりカラーフィルタ層１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂを形成する。そして、カラーフィルタ層１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂを形成した後、図１１（Ｃ）に示すように、その表面にスパッタ法でＩＴＯ膜などを共通電極１１Ｐとして形成し、図１１（Ｄ）に示すように、フィルタ側スリット状開口部２０Ｐを形成する。
このとき、図１１（Ｂ）に示すように、突起部１２Ｐで区画形成された着色領域内に色素材を定着させてカラーフィルタ層１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂを形成するため、この色素材（インク）をインクジェット法で注入する際に、突起部１２Ｐがダムとして機能する。従って、色素材が着色領域内からはみ出ないので、色にじみのないカラーフィルタを製造できる。また、突起部１２Ｐは遮光性導電膜から構成されているので、そのままブラックマトリックス１２０Ｐとして用いることができる。
【０００８】
【特許文献１】特開平１０−１３３１９４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、上述した特許文献１のような構成では、突起部１２Ｐを色素材に対するダムとして用いる以上、所定の高さが必要であるため、カラーフィルタ層１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂを形成した後、図１１（Ｃ）に示すように、その表面にスパッタ法でＩＴＯ膜などを共通電極１１Ｐとして形成すると、突起部１２Ｐに起因する凹凸がそのまま共通電極１１Ｐの表面に現れてしまうおそれがある。特に、ＰＶＡ方式の場合、これらの凹凸は、垂直配向型液晶の乱れを生じ、かかる液晶の乱れにより光漏れが発生し、コントラストを低下させるおそれがある。
また、カラーフィルタの着色層を形成した後、平坦化膜により凹凸を平坦化することも考えられるが、導電性ブラックマトリックスとの導通が確保されず、塗布法などによるＩＴＯ膜の形成では、表面抵抗が低下し、液晶の駆動時に画素の薄れなどが発生するおそれがある。さらに、スパッタ法によりＩＴＯ膜を成膜する場合、低抵抗の膜が得られるが、エッチングによるＩＴＯ膜の段差は、解消されない。また、この上に、配向膜を形成するが、オフセット印刷などの印刷法では、ＩＴＯ膜の段差は解消されず、光漏れによるコントラストの低下は避けられないものであった。
【００１０】
本発明の目的は、このような点に鑑みて、安価で液晶を良好に駆動させるカラーフィルタ、液晶表示装置、及び、カラーフィルタの製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明に記載のカラーフィルタは、透明基板上に、着色領域を区画形成する線状の遮光膜からなる突起部と、前記着色領域内に定着された色素材と、当該色素材及び前記突起部を覆うように前記透明基板の表面側に塗布成膜された着色領域上平坦化膜とを有し、さらにその表面側に、前記遮光膜からなる突起部の形状に合わせて金属薄膜が形成され、且つ当該金属薄膜を覆うように形成された導電性透明塗布膜を有し、当該導電性透明塗布膜の前記着色領域に対応する位置にフィルタ側スリット状開口部を有することを特徴とする。
【００１２】
この発明によれば、遮光膜からなる突起部を用いることにより、色素材は、隣の着色領域に染み出すことなく着色される。従って、色素材の定着にインクジェット法を用いることができ、カラーフィルタの安価な製造が可能となる。
また、突起部及び色素材を覆うように着色領域上平坦化膜を形成することにより、当該突起部に起因する導電性透明塗布膜の凹凸の発生が抑制され、この凹凸により発生する垂直配向型液晶の乱れが抑制される。従って、垂直配向型液晶の乱れに起因する光漏れによるコントラストの低下が抑えられる。
また、インクジェット方式により形成された導電性透明塗布膜のシート抵抗は、一般的に用いられているスパッタ方式により形成されたＩＴＯ膜のシート抵抗に比べれば、高くなることが知られているが、着色領域上平坦化膜上に突起部の形状に合わせて金属薄膜を形成することにより、突起部及び導電性透明塗布膜の導通が確保され、透明基板全体の抵抗が低減するようになる。これにより、シート抵抗の高い導電性透明塗布膜を共通電極に使用しても問題はなくなる。
また、この導電性透明塗布膜には、フィルタ側スリット状開口部が形成されている。これにより、パターンド・バーチカル・アライメント（ＰＶＡ）方式のカラーフィルタに好適に用いることができる。
【００１３】
また、本発明に記載のカラーフィルタでは、前記着色領域の下地層には、シリコン酸化膜もしくはシリコン窒化膜、あるいはシリコン酸窒化膜が形成されていることが好ましい。
【００１４】
この発明によれば、着色領域及び遮光膜の下地層に、シリコン酸化膜もしくはシリコン窒化膜、あるいはシリコン酸窒化膜が形成されることにより、ガラス成分から拡散してくる、Ｎａイオン、Ｋイオンなどのアルカリ金属イオンの拡散が抑えられ、垂直配向型液晶が安定に動くようになる。また、ガラス基板である透明基板の選択幅を広げることができる。
ここで、透明基板への要求特性としては、プロセス温度に耐えられる耐熱性と、ガラス成分から拡散してくるイオンの制御がある。
本発明のカラーフィルタを製造する際に、遮光膜の形成時にフォトリソグラフィー法を用い、それ以降の色素材の定着、着色領域上平坦化膜の形成、金属薄膜、導電性透明塗布膜の形成にインクジェット法を用い、フィルタ側スリット状開口部の形成に化学反応を用いることが可能となり、透明基板は、３００℃、もしくは２５０℃程度の耐熱性があれば、問題ない。これにより、透明基板として、無アルカリガラス以外にも青板ガラスを使用することも可能となる。
【００１５】
そして、本発明に記載のカラーフィルタでは、前記フィルタ側スリット状開口部を有する導電性透明塗布膜上に設けられ、液晶の配向機能を有するフィルタ側液晶配向平坦化膜を有することが好ましい。
【００１６】
この発明によれば、カラーフィルタの導電性透明塗布膜上に、予めフィルタ側液晶配向平坦化膜を設けることにより、本発明のカラーフィルタを用いた液晶表示装置の製造がより容易になる。
【００１７】
本発明に記載の液晶表示装置は、請求項３に記載のカラーフィルタを備える第１の基板と、前記着色領域に対応する領域に画素電極側スリット状開口部を有する画素電極が形成された第２の基板と、該第２の基板と前記第１の基板との隙間内に充填された垂直配向型液晶層とを有し、前記遮光膜からなる突起部をブラックマトリックスとして用いるとともに、前記フィルタ側スリット状開口部を有する導電性透明塗布膜を、前記画素電極側スリット状開口部を有する画素電極との間で前記垂直配向型液晶層を駆動するための共通電極として用いることを特徴とする。
【００１８】
この発明によれば、アモルファスシリコンＴＦＴやポリシリコンＴＦＴなどでは、素子内に光が入射すると光起電力・光電流を発生し、誤作動の原因になる。そこで、遮光性の突起部をブラックマトリックスとすることにより、第２の基板に設けられるＴＦＴ素子への光の入射を抑えることができる。
また、フィルタ側スリット状開口部及び画素電極側スリット状開口部を形成することにより、垂直配向型液晶に印加される電圧の方向を制御でき、電圧印加時に液晶が倒れる方向を制御できるようになり、液晶表示装置で問題になる視野角によるコントラストの低下や、色変化を抑えることが可能となる。
さらに、着色領域上平坦化膜上に形成された金属薄膜と、この金属薄膜を覆うように形成されたフィルタ側スリット状開口部を有する導電性透明塗布膜を用いることにより、金属薄膜により、基板全体のシート抵抗を低減でき、導電性透明塗布膜を共通電極として作動させることが可能となる。
また、フィルタ側スリット状開口部及び画素電極側スリット状開口部が形成されていることにより、ＰＶＡ方式、アドバスド・スーパー・ビュー（ＡＳＶ）方式などに用いることができる。
【００１９】
また、本発明に記載の液晶表示装置では、前記フィルタ側スリット状開口部及び前記画素電極側スリット状開口部は、互いに対向しない位置に配置されていることが好ましい。
【００２０】
この発明によれば、第１の基板上に形成されたフィルタ側スリット状開口部と、第２の基板に形成された画素電極側スリット状開口部と、が互いに対向しない位置に配置されていることにより、ＰＶＡ方式，ＡＳＶ方式などの液晶駆動方式の液晶表示装置がより安定して作動するようになる。
【００２１】
そして、本発明に記載の液晶表示装置では、前記カラーフィルタを備える第１の基板上の前記フィルタ側液晶配向平坦化膜の平坦度が平均粗さ１００ｎｍ以下であることが好ましい。
【００２２】
この発明によれば、フィルタ側液晶配向平坦化膜の平坦度を平均粗さ１００ｎｍ以下にしているので、共通電極の凹凸に起因する液晶の乱れがより抑えられ、コントラストのより大きな液晶表示装置が得られる。
【００２３】
さらに、本発明に記載の液晶表示装置では、前記カラーフィルタを備える第１の基板上の着色領域上平坦化膜の平坦度と、前記第２の基板において前記着色領域に対応する領域に形成され液晶の配向機能を有する画素電極側液晶配向平坦化膜の平坦度とが共に平均粗さ１００ｎｍ以下であることが好ましい。
【００２４】
この発明によれば、第１の基板上の着色領域上平坦化膜の平坦度と、第２の基板の画素電極側液晶配向平坦化膜の平坦度とを共に平均粗さ１００ｎｍ以下にしているので、共通電極や画素電極の凹凸に起因する液晶の乱れがさらに抑えられ、コントラスのさらに大きな液晶表示装置が得られる。
【００２５】
本発明に記載のカラーフィルタの製造方法は、透明基板上に線状の遮光膜からなる複数条の突起部を形成する第１工程と、該突起部で区画形成された着色領域内にインクジェット法を用いて色素材を注入し乾燥させて該色素材を定着させる第２工程と、少なくとも前記色素材及び遮光膜を覆うように着色領域上平坦化膜が形成され、前記着色領域上平坦化膜の表面側にインクジェット法を用いて遮光膜上の着色領域上平坦化膜上に金属薄膜とその金属薄膜を覆うように導電性透明塗布液を注入し乾燥させてフィルタ側スリット状開口部を有する導電性透明塗布膜を形成する第３工程と、前記導電性透明塗布膜上に液晶の配向機能を有するフィルタ側液晶配向平坦化膜を形成する第四工程と、を有することを特徴とする。
【００２６】
この発明によれば、透明基板上に線状の遮光膜からなる複数条の突起部を形成する第１工程と、該突起部で区画形成された着色領域内にインクジェット法を用いて色素材を注入した後、該色素材を乾燥、定着させる第２工程と、少なくとも色素材及び遮光膜を覆うように透明基板の表面側に着色領域上平坦化膜を形成し、遮光膜上の着色領域上平坦化膜上に金属薄膜を形成し、着色領域にフィルタ側スリット状開口部を有する導電性透明塗布膜を形成する第３工程とを行う。
これにより、カラーフィルタの製造工程から、フォトリソグラフィー工程を省くことができ、設備コストを大幅に低減することができる。
【００２７】
また、本発明に記載のカラーフィルタの製造方法では、前記第３工程では、前記導電性透明塗布膜を形成するための前駆体を、少なくとも前記金属薄膜を覆い、且つ、色素材を覆う前記透明基板の表面側にフィルタ側スリット状開口部を有する形状に塗布成膜した後、前記前駆体に化学反応を生じさせて前記フィルタ側スリット状開口部を有する形状に導電性透明塗布膜を形成することが好ましい。
【００２８】
この発明によれば、第３工程では、導電性透明塗布膜を形成するための前駆体を、少なくとも色素材を覆うように、または色素材及び突起部の双方を覆うように透明基板の表面側に塗布成膜した後、前駆体に熱処理を施す等の化学反応を生じさせることにより、フィルタ側スリット状開口部を有する導電性透明塗布膜を形成することが可能となる。従って、フィルタ側スリット状開口部の形成に、フォトリソグラフィー工程やエッチング工程を用いる必要がなく、設備コストをより大幅に低減することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
以下、図面を参照して、本発明の代表的な実施形態を説明する。
【００３０】
〔液晶表示装置の構成〕
まず、本発明を適用したカラーフィルタを備えた液晶表示装置の構成について説明する。
図２は、本発明を適用したカラーフィルタを備えた液晶表示装置の要部の概略構成を示す断面図である。
なお、上記の図１を適宜参照して説明する。
【００３１】
図１に示す液晶表示装置１は、アクティブマトリックス型のカラー液晶表示装置である。この液晶表示装置１は、溶融石英基板や無アルカリガラス、青板ガラス等からなる第１の透明基板１０及び第２の透明基板３０の間に封入した垂直配向型液晶層である液晶５０を、各透明基板１０，３０に形成した共通電極１１と画素電極３１との間で駆動するタイプのものである。この液晶表示装置１では、第２の透明基板３０上で多結晶シリコン等から構成したＴＦＴ３２を介して、液晶５０の駆動を行う。
【００３２】
このような液晶表示装置１では、図２に示すように、第１の透明基板１０上に下地層としてのシリコン酸化膜１６が形成されている。このシリコン酸化膜１６の表面には、線状にパターニングされた複数条のＰ型ドープト半導体膜（遮光性導電膜）からなる格子状の突起部１２と、これらの突起部１２で区画形成された着色領域としての透光領域１９内に定着された赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３色の色素材としての赤色インク５１Ｒ、緑色インク５１Ｇ、青色インク５１Ｂからなるカラーフィルタ層１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂとが形成されている。
【００３３】
突起部１２を構成する半導体膜は、膜厚が１μｍ以上であって可視光に対して遮光性を有しており、黒く見えることから、３色のカラーフィルタ層１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂの間において、色と色の隙間を遮光するためのブラックマトリックス１２０として用いられる。突起部１２を構成する半導体膜は、可視光を遮光できる膜厚であればよい。但し、本実施形態では、後述するように、カラーフィルタ層１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂを構成するためのインクをインクジェット法により透光領域１９内に注入する際に、突起部１２をインクが透光領域１９から流れ出すのを防止するためのダムとしても利用することから、１μｍ程度から５μｍの厚さに設定してある。
【００３４】
また、第１の透明基板１０の表面側全体には、カラーフィルタ層１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂ及び突起部１２を覆う着色領域上平坦化膜１７が形成されている。さらに、この着色領域上平坦化膜１７上には、ブラックマトリックス１２０の形状に合わせた複数条の金属薄膜１８が形成されている。そして、着色領域上平坦化膜１７及び金属薄膜１８の上には、共通電極１１として用いられるＩＴＯ膜が形成されている。このＩＴＯ膜は、従来と違い、塗布成膜法で形成したスリット状の開口部（導電性塗布膜がない）であるフィルタ側スリット状開口部２０を有する導電性透明塗布膜（塗布ＩＴＯ膜）である。そして、フィルタ側スリット状開口部２０は、透光領域１９、すなわちカラーフィルタ層１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂに対応する位置に設けられている。
【００３５】
また、共通電極１１として用いられるＩＴＯ膜の上には、液晶５０の配向機能を有するフィルタ側液晶配向平坦化膜２１が形成されている。このフィルタ側液晶配向平坦化膜２１及び着色領域上平坦化膜１７は、その平坦度が平均粗さ１００ｎｍ以下、好ましくは５０ｎｍ以下、より好ましくは３０ｎｍ以下となるように形成されている。
そして、シリコン酸化膜１６、カラーフィルタ層１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂ、ブラックマトリックス１２０、着色領域上平坦化膜１７、金属薄膜１８、フィルタ側スリット状開口部２０により、第１の透明基板１０上にカラーフィルタ１３０が構成されている。
【００３６】
第２の透明基板３０上には、第１の透明基板１０の透光領域１９に対応する領域に形成されたＩＴＯ膜からなる画素電極３１と、画素電極３１への信号電圧の供給を制御するＴＦＴ３２（駆動素子）が形成されている。このＴＦＴ３２としては周知の構造のものを用いることができる。従って、ＴＦＴ３２については、その詳細な説明を省略するが、ＴＦＴ３２は、第２の透明基板３０の表面側にシリコン酸化膜からなる下地保護膜３３を形成した後、この下地保護膜３３の表面にアモルファスシリコン膜を形成し、このアモルファスシリコン膜にレーザアニールや急速加熱処理などを施して多結晶化したものなどから構成される。
【００３７】
また、画素電極３１を構成するＩＴＯ膜は、スリット状の開口部である画素電極側スリット状開口部３４を有する導電性透明塗布膜である。この画素電極側スリット状開口部３４は、フィルタ側スリット状開口部２０と互いに対向しない位置に設けられている。
さらに、画素電極３１を構成するＩＴＯ膜の上には、液晶５０の配向機能を有する画素電極側液晶配向平坦化膜３５が形成されている。この画素電極側液晶配向平坦化膜３５は、フィルタ側液晶配向平坦化膜２１及び着色領域上平坦化膜１７と同様に、その平坦度が平均粗さ１００ｎｍ以下、好ましくは５０ｎｍ以下、より好ましくは３０ｎｍ以下となるように形成されている。
【００３８】
〔液晶表示装置の製造方法〕
次に、上述したような構成の液晶表示装置１の製造方法のうち、第１の透明基板１０にカラーフィルタ１３０を形成する工程を、図面を参照して説明する。
図３は、ブラックマトリックス一体型カラーフィルタの製造方法を示す断面図であり、（Ａ）は下地膜形成工程及び突起部形成工程を示し、（Ｂ）は色素材定着工程を示し、（Ｃ）は着色領域上平坦化膜を形成する工程を示し、（Ｄ）は導電性透明塗布膜形成工程を示し、（Ｅ）はフィルタ側液晶配向平坦化膜を形成する工程を示す。図４は、色素材定着工程時にインクを注入した様子を示す斜視図である。図５は、色素材定着工程時にカラーフィルタ層が形成された様子を示す斜視図である。図６は、着色領域上平坦化膜が形成された様子を示す斜視図である。図７は、金属薄膜が形成された様子を示す斜視図である。図８は、導電性透明塗布膜（共通電極）が形成された様子を示す斜視図である。図９は、フィルタ側液晶配向平坦化膜が形成された様子を示す斜視図である。
【００３９】
［下地膜形成工程］
カラーフィルタ１３０を形成する際には、まず、図３（Ａ）に示すように、第１の透明基板１０の表面に、ＰＥＣＶＤ（Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition）法を用いて膜厚が３６００オングストローム程度のシリコン酸化膜１６を形成する。
この際のＰＥＣＶＤの条件は、原料ガスをＳｉＨ4／Ｎ2Ｏとし、平行平板型ＰＥＣＶＤ装置を用い、ＲＦ周波数１３．５６MHz、ＲＦパワー９００W、電極間間隔２４ｍｍ、圧力２００Ｐａ（１．５Ｔｏｒｒを換算した値）、ＳｉＨ4ガス流量２５０ｓｃｃｍ（standard cc/min）、Ｎ2Ｏガス流量７０００ｓｃｃｍ、デポレート１２００オングストローム／分、デポ時間３分とする。
なお、シリコン酸化膜１６の膜厚は２０００オングストローム〜２μｍ程度の範囲とすることができる。また、シリコン酸化膜に換えて、シリコン窒化膜、シリコン酸窒化膜を用いることもできる。これらの絶縁性の透明膜は、下地のガラス基板から拡散してくる金属イオン、特にＮａ、Ｋイオンなどのアルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオンの拡散を抑える効果が高く、よって、石英ガラス、無アルカリガラスに換えて、青板ガラスなど耐熱性の低いガラスを用いることができるようになる。ガラスの耐熱性としては、レジスト工程での熱、及び後述する化学反応を起こさせるための熱に耐性を持てばよい。
【００４０】
［突起部形成工程／第１工程］
次に、シリコン酸化膜１６表面全体に、図３（Ａ）に示すように、ブラックマトリックスとなる黒色のレジスト膜を形成した後、周知のフォトリソグラフィー技術を用いて線状の遮光膜からなる突起部１２を形成する。
線状の遮光膜からなる突起部１２の形成にあたっては、スパッタ法を用いてクロム／酸化クロム膜の多層積層膜や、モリブデン／酸化モリブデンの多層積層、銅／酸化銅の多層積層膜を用いて膜厚０．５μｍ程度の金属・酸化金属多層膜を形成し、ブラックマトリックスとすることもできる。その上に、透明レジストにより突起部を形成し、当該突起部をマスクとして金属・酸化金属多層膜をエッチングにより開口部を設けて着色領域としてもよい。
【００４１】
［色素材定着工程／第２工程］
次に、図４に示すように、突起部１２によって区画形成されている透光領域１９内に赤色インク５１Ｒ、緑色インク５１Ｇ、青色インク５１Ｂをそれぞれ注入する。
この際には、一般のインクジェットプリンタを用いることができるが、図示しないプリンタヘッドに設けられた赤色インク５１Ｒ、緑色インク５１Ｇ、青色インク５１Ｂを排出する各ノズルの間隔は、隣接する透光領域１９の中心間の距離に一致するように調整しておく。
すなわち図４に、突起部１２で区画形成された透光領域１９の平面構造を拡大して示すように、透光領域１９の幅はたとえば８０μｍ〜１１０μｍ程度であり、突起部１２の幅は５μｍ〜２０μｍ程度である。従って、プリンタヘッドの各ノズルの間隔は８５μｍ〜１３０μｍ程度とすればよい。また、使用するインクジェットプリンタの解像度が３６０ｄｐｉ（dot per inch）の場合、インク１ドットの径は７０μｍ〜１００μｍ程度であるから、平面的な寸法だけから見ると、１つの透光領域１９内にインク５１Ｒ，５１Ｇ，５１Ｂを１ドットずつ連続して注入することができる。ここで、インク１ドットの占める体積は通常決まっているが、透光領域１９の平面の外形寸法も液晶表示装置毎に定まっている。従って、インクが多過ぎたり、少な過ぎたりしないように、突起部１２の高さとインクの注入ドットとドット間の寸法を適宜最適条件に設定する。但し、突起部１２からインク５１Ｒ，５１Ｇ，５１Ｂがはみ出ると、カラーフィルタ１３０に色にじみが発生するため、本形態では、突起部１２を数μｍとやや厚めに形成してインク５１Ｒ，５１Ｇ，５１Ｂのはみ出しを防止してある。
ここで用いることのできるインクの種類としては、一般的に用いられている以下の表１に示すようなものが挙げられる。
【００４２】
【表１】
2008233451.tif 000003
【００４３】
この表１に示すように、顔料系インク、染料系インクのいずれを用いてもよいが、インクに色素材として求められる特性としては、カラーフィルタ層１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂとなった時にその機能を満たすことは勿論、インクジェットプリンタに適応できるように、粘度が２０ｃｐｓ以下、表面張力が５００μＮ／ｃｍ（５０ｄｙｎｅ／ｃｍを換算した値）前後の特性を有するか、好ましくは、粘度が１０ｃｐｓ以下、表面張力が３００μＮ／ｃｍ（３０ｄｙｎｅ／ｃｍを換算した値）前後の特性を有する必要がある。なお、表１中の「湿潤剤」、「浸透剤」とは、インクの表面張力を低下させて濡れ性を高めるために含有させるものである。ここに示した薬剤以外に、下記一般式（１）で示されるアクリルアミド系溶剤などが使用できる。
【００４４】
【化１】
2008233451.tif 000004
【００４５】
そして、図４に示すようにインク５１Ｒ，５１Ｇ，５１Ｂの注入を終えた後には、第１の透明基板１０全体をオーブン内で加熱して、インク５１Ｒ，５１Ｇ，５１Ｂを乾燥、定着させる。
その条件としては、空気中雰囲気、温度１１０℃、時間１０分とする。なお、雰囲気は窒素雰囲気でもよく、温度は８０℃〜１４０℃程度、時間は１０分〜１時間程度でよい。この工程を経てインク５１Ｒ，５１Ｇ，５１Ｂが乾燥すると、図３（Ｂ）及び図５に示すように、着色部表面が平坦化した３色のカラーフィルタ層１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂが形成される。
【００４６】
［導電性透明塗布膜形成工程／第３工程］
次に、図３（Ｃ）及び図６に示すように、カラーフィルタ層１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂ及び突起部１２を覆うように第１の透明基板１０の表面側全体に、着色領域上平坦化膜１７を塗布成膜・乾燥して、定着させる。
この工程は、前工程で使用した硬化剤と同質の材料を用いることもできるし、高透明性のレジスト基材を用いることもできる。基材の密着性を考慮して選択すればよく、同質の基材を選択するのがよい。
また、この着色領域上平坦化膜１７上に、金属薄膜１８を形成すること、及び、フィルタ側スリット状開口部２０を有する導電性透明塗布膜（共通電極）１１を形成することを前提に、当該着色領域上平坦化膜１７は、疎水性を有する多孔質膜により形成するほうがよい。このようにすることにより、インクジェットの最小液滴の直径である２０μｍ程度の線幅の線状の金属薄膜１８を形成することができるようになる。
【００４７】
そして、図３（Ｄ）及び図７に示すように、着色領域上平坦化膜１７の表面側に、突起部１２に重畳するように設けられた線状の金属薄膜１８を成膜する。
この金属薄膜１８の成膜にあたっては、各種の液状またはペースト状の塗布材（金属薄膜の前駆体）を用いることができる。これらの塗布材のうち、液状のものであればインクジェット法が好適であり、ペースト状のものであればスクリーン印刷法などを用いることができる。本形態で用いた塗布材は、Ａｇのナノ粒子を水（若しくは有機溶剤）に分散させたインクを用いた。
金属薄膜１８の厚みは、インクジェットのインクに含まれる金属微粒子の含有量や液滴の重ね度合いにより調整することができる。具体的には、５０ｎｍ〜５０００ｎｍ程度、好ましくは１００ｎｍ〜１０００ｎｍ程度とするのがよい。これにより、金属薄膜１８のみの比抵抗を２０μΩｃｍ、好ましくは、１０μΩｃｍ、より好ましくは、５μΩｃｍ以下にすることができる。これらの金属薄膜１８の材料としては、Ａｇ、Ｃｕ、Ｐｄなどが好適に用いられるが、Ａｇが最も好適に使用することができる。
【００４８】
さらに、第１の透明基板１０上に、図３（Ｄ）に示すように、フィルタ側スリット状開口部２０を有する導電性透明塗布膜（共通電極）１１を形成する場合、この塗布成膜にあたっては、図８に示すように、インク状の（透明導電膜の前駆体）を用いることができる。さらに、インクジェット法により形成することにより、フォトリソグラフィー法及びエッチング工程を用いることなく、フィルタ側スリット状開口部２０を有する共通電極１１を形成できる。
本形態で用いた塗布材は、有機インジウムと有機スズとがキシロール中に９７：３の比率で８％配合された液状のもの（たとえば、旭電化工業株式会社製の商品名：アデカＩＴＯ塗布膜／ＩＴＯ−１０３Ｌ）であり、金属薄膜１８を覆い、フィルタ側スリット状開口部２０も形成できる。ここで、インク材としては、有機インジウムと有機スズとの比が９５：５から８５：１５までの範囲にあるものを使用することができる。
また、酸化スズを５〜１５ｗｔ％含有する酸化インジウム（ＩＴＯ）のナノ粒子を、水（若しくは有機溶剤）に分散させたインクを用いて成膜することもできる。この場合のＩＴＯナノ粒子の平均粒径は、５０ｎｍ以下、好ましくは３０ｎｍ以下、より好ましくは２０ｎｍ以下にするのがよい。下限はないが１０ｎｍ以上である。このようにすることにより、低温での化学反応により、導電性に優れた導電性透明塗布膜（共通電極）１１が得られる。
【００４９】
さらに、図３（Ｅ）及び図９に示すように、この第１の透明基板１０の液晶表示装置１の表示部になる部分に、液晶の配向機能を有するフィルタ側液晶配向平坦化膜２１を塗布する。
塗布方法としては、インクジェット法、オフセット印刷、スクリーン印刷などが使用できるが、インクジェット法が好適に使用される。これは、金属薄膜１８、導電性透明塗布膜（共通電極１１）、及びフィルタ側スリット状開口部２０において段差が発生しており、この段差を埋め、平坦化する目的があるからである。この平坦化度は、平均粗さで１００ｎｍ以下、好ましくは５０ｎｍ以下、より好ましくは３０ｎｍである。また、下限はないが１ｎｍ以上である。このようにすることにより、液晶５０の乱れが抑えられ、よってコントラストの大きな液晶表示装置１が得られる。
また、配向機能を有する材料であれば、いかなる材料も使用できるが、透明性の高いポリイミド系樹脂が好適に使用される。これらは、有機用材により溶解され、インクジェット用インクとされる。その場合、そのインクの粘度は室温において５〜３０ｃｐｓ、表面張力は１０〜５０ｍＮ／ｍ以内にする。それ以外では、インクジェット法での塗布が難しくなったり、塗布中に基板がインクを弾いたりする。
また、インクジェット法によりフィルタ側液晶配向平坦化膜２１を形成する場合に、上記のように弾きにより塗布膜にムラが発生する場合には、被塗布面を親水性にする必要がある。その場合、被塗布面を親水性にする方法として、オゾン処理、ＵＶ処理、アーク放電処理、プラズマ処理、などが有効であり、オゾン処理、ＵＶ処理、プラズマ処理がさらに有効である。また、装置的に簡便な方法として、ＵＶ処理中に酸素を付加してオゾン処理する方法が最も有効である。
これは、カラーフィルタ１３０のカラーフィルタ層１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂ、着色領域上平坦化膜１７、金属薄膜１８、導電性透明塗布膜（共通電極）１１、及び液晶５０の配向機能を有するフィルタ側液晶配向平坦化膜２１を形成する場合に有効である。
また、当該液晶５０の配向機能を有するフィルタ側液晶配向平坦化膜２１は、第２の透明基板３０にも画素電極側液晶配向平坦化膜３５として適応することができる。これにより、さらに液晶表示装置１の光漏れを抑えることができ、さらにコントラストを増大させることができる。
【００５０】
〔液晶表示装置の作用効果〕
上述したように、上記実施形態では、カラーフィルタ１３０として、第１の透明基板１０上に、透光領域１９を区画形成する線状の遮光膜からなる突起部１２と、透光領域１９内に定着されたインク５１Ｒ，５１Ｇ，５１Ｂと、当該インク５１Ｒ，５１Ｇ，５１Ｂ及び突起部１２を覆うように塗布成膜された着色領域上平坦化膜１７とを設けている。さらに、その表面側に、突起部１２の形状に合わせて金属薄膜１８を形成し、且つ当該金属薄膜１８を覆うように形成され共通電極１１として機能する導電性透明塗布膜を設けている。そして、当該導電性透明塗布膜の透光領域１９に対応する位置に、フィルタ側スリット状開口部２０を設けている。
このため、遮光膜からなる突起部１２を用いるので、インク５１Ｒ，５１Ｇ，５１Ｂを、隣の透光領域１９に染み出すことなく着色することができ、インク５１Ｒ，５１Ｇ，５１Ｂの定着にインクジェット法を用いることができ、カラーフィルタ１３０を安価に製造できる。
また、突起部１２及びインク５１Ｒ，５１Ｇ，５１Ｂを覆うように着色領域上平坦化膜１７を形成しているので、当該突起部１２に起因する共通電極１１の凹凸の発生を抑制でき、この凹凸により発生する液晶５０の乱れを抑制できる。従って、液晶５０の乱れに起因する光漏れによるコントラストの低下を抑えることができる。
また、着色領域上平坦化膜１７上に突起部１２の形状に合わせて金属薄膜１８を形成しているので、突起部１２及び導電性透明塗布膜の導通が確保され、第１の透明基板１０全体の抵抗を低減できる。よって、シート抵抗の高い導電性透明塗布膜を共通電極１１に使用しても問題はなくなる。
そして、この導電性透明塗布膜にフィルタ側スリット状開口部２０を形成しているので、ＰＶＡ方式のカラーフィルタ１３０に好適に用いることができる。
【００５１】
そして、遮光膜からなる突起部１２及び透光領域１９の下地層として、シリコン酸化膜１６を形成している。
このため、第１の透明基板１０のガラス成分から拡散してくる、Ｎａイオン、Ｋイオンなどのアルカリ金属イオンの拡散を抑えることができ、液晶５０を安定に動かすことができる。また、ガラス基板である第１の透明基板１０の選択幅を広げることができる。
特に本実施形態では、突起部１２の形成時にフォトリソグラフィー法を用い、それ以降のインク５１Ｒ，５１Ｇ，５１Ｂの定着、着色領域上平坦化膜１７の形成、金属薄膜１８、導電性透明塗布膜の形成にインクジェット法を用い、フィルタ側スリット状開口部２０の形成に化学反応を用いているので、第１の透明基板１０は、３００℃、もしくは２５０℃程度の耐熱性があれば、問題ない。従って、第１の透明基板１０として、無アルカリガラス以外にも青板ガラスを使用することもできる。
【００５２】
さらに、フィルタ側スリット状開口部２０を有する導電性透明塗布膜上に、フィルタ側液晶配向平坦化膜２１を設けている。
このため、カラーフィルタ１３０の共通電極１１となる導電性透明塗布膜上に、予めフィルタ側液晶配向平坦化膜２１を設けて製造することにより、カラーフィルタ１３０を用いた液晶表示装置１の製造をより容易にできる。
【００５３】
また、液晶表示装置１を、上記のカラーフィルタ１３０を有する第１の透明基板１０と、透光領域１９に対応する領域に画素電極側スリット状開口部３４を有する画素電極３１が形成された第２の透明基板３０と、液晶５０とで構成している。そして、突起部１２をブラックマトリックス１２０として用いるとともに、フィルタ側スリット状開口部２０を有する導電性透明塗布膜を共通電極１１として用いている。
このため、遮光性の突起部１２をブラックマトリックス１２０とすることにより、ＴＦＴ３２への光の入射を抑えることができる。
また、フィルタ側スリット状開口部２０及び画素電極側スリット状開口部３４を形成しているので、液晶５０に印加される電圧の方向を制御でき、電圧印加時に液晶５０が倒れる方向を制御できるようになる。よって、液晶表示装置１で問題になる視野角によるコントラストの低下や、色変化を抑えることができる。
さらに、金属薄膜１８と、フィルタ側スリット状開口部２０を有する導電性透明塗布膜と、を用いているので、金属薄膜１８により、第１の透明基板１０全体のシート抵抗を低減でき、導電性透明塗布膜を共通電極１１として作動させることができる。
また、フィルタ側スリット状開口部２０及び画素電極側スリット状開口部３４を形成しているので、ＰＶＡ方式、ＡＳＶ方式などに用いることができる。
【００５４】
そして、フィルタ側スリット状開口部２０と、画素電極側スリット状開口部３４と、を互い対向しない位置に配置している。
このため、ＰＶＡ方式，ＡＳＶ方式などの液晶駆動方式の液晶表示装置１をより安定して作動させることができる。
【００５５】
さらに、着色領域上平坦化膜１７の平坦度と、フィルタ側液晶配向平坦化膜２１の平坦度と、画素電極側液晶配向平坦化膜３５の平坦度と、を平均粗さ１００ｎｍ以下にしている。
このため、共通電極１１や画素電極３１の凹凸に起因する液晶５０の乱れをより抑えることができ、コントラストのより大きな液晶表示装置１を得ることができる。
【００５６】
また、カラーフィルタ１３０を製造する際に、第１の透明基板１０上に突起部１２を形成する第１工程と、該突起部１２で区画形成された透光領域１９内にインクジェット法を用いてインク５１Ｒ，５１Ｇ，５１Ｂを注入した後、乾燥、定着させる第２工程と、インク５１Ｒ，５１Ｇ，５１Ｂ及び突起部１２を覆うように着色領域上平坦化膜１７を形成し、この着色領域上平坦化膜１７上に金属薄膜１８を形成し、共通電極１１を構成する導電性透明塗布膜を形成する第３工程とを行う。
このため、カラーフィルタ１３０の製造工程から、フォトリソグラフィー工程を省くことができ、設備コストを大幅に低減することができる。
【００５７】
さらに、第３工程では、導電性透明塗布膜を形成するための前駆体を、突起部１２及びカラーフィルタ層１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂを覆うように塗布成膜した後、前駆体に熱処理を施す等の化学反応を生じさせることにより、フィルタ側スリット状開口部２０を有する共通電極１１を形成している。
このため、フィルタ側スリット状開口部２０の形成に、フォトリソグラフィー工程やエッチング工程を用いる必要がなく、設備コストをより大幅に低減することができる。
【００５８】
〔実施形態の変形例〕
なお、以上に説明した態様は、本発明の一態様を示したものであって、本発明は、前記した実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的及び効果を達成できる範囲内での変形や改良が、本発明の内容に含まれるものであることはいうまでもない。また、本発明を実施する際における具体的な構造及び形状などは、本発明の目的及び効果を達成できる範囲内において、他の構造や形状などとしても問題はない。
【００５９】
すなわち、第１の透明基板１０にシリコン酸化膜１６を設けなくてもよい。このような構成の場合には、第１の透明基板１０として無アルカリガラスを用いることが好ましい。
【００６０】
また、カラーフィルタ１３０をＰＶＡ方式，ＡＳＶ方式以外の液晶表示装置に適用する場合には、フィルタ側スリット状開口部２０と、画素電極側スリット状開口部３４と、を互い対向する位置に配置してもよい。
【００６１】
そして、着色領域上平坦化膜１７と、フィルタ側液晶配向平坦化膜２１と、画素電極側液晶配向平坦化膜３５と、のうち少なくともいずれか１つを、その平坦度が平均粗さ１００ｎｍ以下となるように形成してもよい。
【００６２】
さらに、カラーフィルタ１３０を製造する際にフィルタ側液晶配向平坦化膜２１以外の構成を設け、液晶表示装置１の製造工程において、カラーフィルタ１３０にフィルタ側液晶配向平坦化膜２１を設けてもよい。
【００６３】
その他、本発明の実施における具体的な構造及び形状などは、本発明の目的を達成できる範囲で他の構造等としてもよい。
【産業上の利用可能性】
【００６４】
本発明は、液晶テレビ、パーソナルコンピュータ、プロジェクタ、ビューファインダなどの機器に用いられるパターンド・バーチカル・アライメント（ＰＶＡ）型カラー液晶表示装置、それに使用可能なカラーフィルタ、及び、このカラーフィルタの製造方法に利用できる。
【図面の簡単な説明】
【００６５】
【図１】本発明の前提となる液晶表示装置の要部の概略構成を示す斜視図である。
【図２】本発明の一実施形態に係るカラーフィルタを備えた液晶表示装置の要部の概略構成を示す断面図である。
【図３】前記一実施形態におけるブラックマトリックス一体型カラーフィルタの製造方法を示す断面図であり、（Ａ）は下地膜形成工程及び突起部形成工程を示し、（Ｂ）は色素材定着工程を示し、（Ｃ）は着色領域上平坦化膜を形成する工程を示し、（Ｄ）は導電性透明塗布膜形成工程を示し、（Ｅ）はフィルタ側液晶配向平坦化膜を形成する工程を示す。
【図４】前記一実施形態における色素材定着工程時にインクを注入した様子を示す斜視図である。
【図５】前記一実施形態における色素材定着工程時にカラーフィルタ層が形成された様子を示す斜視図である。
【図６】前記一実施形態における着色領域上平坦化膜が形成された様子を示す斜視図である。
【図７】前記一実施形態における金属薄膜が形成された様子を示す斜視図である。
【図８】前記一実施形態における導電性透明塗布膜（共通電極）が形成された様子を示す斜視図である。
【図９】前記一実施形態におけるフィルタ側液晶配向平坦化膜が形成された様子を示す斜視図である。
【図１０】従来のカラーフィルタを備えた液晶表示装置の要部の概略構成を示す断面図である。
【図１１】他の従来のカラーフィルタの製造方法を示す断面図であり、（Ａ）は突起部形成工程を示し、（Ｂ）は色素材定着工程を示し、（Ｃ）は導電性透明塗布膜（透明電極）形成工程を示し、（Ｄ）はフィルタ側スリット状開口部を形成する工程を示す。
【符号の説明】
【００６６】
１…液晶表示装置
１０…第１の透明基板
１１…共通電極
１２…突起部
１６…シリコン酸化膜
１７…着色領域上平坦化膜
１８…金属薄膜
１９…着色領域としての透光領域
２０…フィルタ側スリット状開口部
２１…フィルタ側液晶配向平坦化膜
３０…第２の透明基板
３１…画素電極
３４…画素電極側スリット状開口部
３５…画素電極側液晶配向平坦化膜
５０…垂直配向型液晶層である液晶
５１Ｒ、５１Ｇ、５１Ｂ…色素材としての赤色インク、緑色インク、青色インク
１２０…ブラックマトリックス
１３０…カラーフィルタ
【図１】
2008233451.tif 000005
【図２】
2008233451.tif 000006
【図３】
2008233451.tif 000007
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2008233451.tif 000011
【図８】
2008233451.tif 000012
【図９】
2008233451.tif 000013
【図１０】
2008233451.tif 000014
【図１１】
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