(57)【要約】【課題】サーボ情報等を含む磁気パターンが予め形成された磁気パターン転写用マスタを用いて、外部から磁界を印加することにより磁気パターンを磁気記録媒体に転写する磁気パターン転写方法に関し、外部からの印加磁界がそれほど強くなくても、従来よりも高解像度の磁気パターンを磁気記録媒体に転写することを目的とする。【解決手段】磁気記録媒体の周方向に関する磁気パターンのパターン溝部の幅がパターン突起部の幅よりも狭い磁気パターン転写用マスタ3を用いて、磁気パターン転写用マスタの相対的な位置をずらしつつ複数回にわたり磁気記録媒体1の磁性膜1-2への磁気パターンの転写を行い、磁気パターン転写用マスタ上に、磁気パターンを含むパターンブロックを覆う溝部32が形成された補助マスタ30を重ね合わせて配置し、磁気パターンを転写する際に、補助マスタの溝部を介してパターンブロックの部分に磁界を集中させて印加する。【選択図】図２４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気情報を記録するための磁性膜を有する磁気記録媒体に、所定の磁気パターンが予め形成された磁性部分を有する磁気パターン転写用マスタを接近させ、外部から磁界を印加することにより前記磁気パターンを前記磁気記録媒体に転写する磁気パターン転写方法において、
前記磁気記録媒体の周方向に関する前記磁気パターンのパターン溝部の幅が、前記磁気記録媒体の周方向に関する前記磁気パターンのパターン突起部の幅よりも狭い前記磁気パターン転写用マスタを用いて、該磁気パターン転写用マスタの相対的な位置をずらしながら複数回にわたって前記磁気記録媒体の前記磁性膜への前記磁気パターンの転写を行い、
このときに、前記磁気パターン転写用マスタの上に、前記磁気パターンを構成するパターンブロックを覆う溝部が形成された補助マスタを重ね合わせて配置し、前記磁気パターンの転写を行う際に、前記補助マスタの溝部を介して前記パターンブロックの部分に前記磁界を集中させて印加することを特徴とする磁気パターン転写方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、リード・ライトヘッド位置決め用のサーボ情報等を含む磁気パターンが予め形成された磁気パターン転写用マスタを用いて、外部から磁界を印加することにより当該磁気パターンを磁気ディスク等の磁気記録媒体に転写するための磁気パターン転写方法に関する。
【０００２】
一般に、磁気ディスク装置等の情報記憶装置においては、情報（データ）の読み出し動作時および書き込み動作時のリード・ライトヘッドの位置決めを行うために不可欠なサーボ情報を含む磁気パターンを磁気ディスク等の磁気記録媒体に予め書き込んでおくことが必要である。
【０００３】
特に、本発明は、磁気ディスク装置の大容量化および記録密度の上昇に対処するために、リード・ライトヘッドの位置決め用のサーボ情報を含む磁気パターンが予め形成された磁気パターン転写用マスタを磁気記録媒体に接近させ、外部から磁界を印加したときに当該磁気パターンから発生する漏れ磁束を利用して磁気記録媒体の磁性膜を磁化することにより、当該磁気パターンを磁気記録媒体に高精度にて転写するための一手法について言及するものである。
【背景技術】
【０００４】
近年、大容量の磁気ディスク装置等の情報記憶装置が要求されるようになっており、これに伴って、磁気ディスク等の磁気記録媒体における記録密度が年々上昇していく傾向にある。それゆえに、情報（データ）の読み出し動作時および書き込み動作時に磁気記録媒体上でリード・ライトヘッドの位置決めを高精度で行うために、専用の装置を使用して、機械的な精度によって高密度のサーボ情報を含む磁気パターンを作成することが困難になってきた。
【０００５】
また一方で、磁気ディスク装置の製造コストを最小限に抑えるために、上記のような専用の装置を使用せずに高密度のサーボ情報を含む磁気パターンを容易に作成する方法が必要になってきた。これに関連して、従来は、高密度のサーボ情報を含む磁気パターンが予め形成された磁気パターン転写用マスタを用いて、当該磁気パターンを磁気記録媒体に転写する方法が行われている。
【０００６】
ここで、磁気パターンの転写の原理を簡単に説明する。サーボ情報を含む磁気パターンが予め形成された磁気パターン転写用マスタを磁気記録媒体に接近させ、外部から磁界を印加すると、当該磁気パターンのパターン溝部（またはパターン突起部）にて漏れ磁束が発生する。この漏れ磁束による磁界（磁場）によって磁気記録媒体の磁性膜が所定の方向に磁化され、当該磁気パターンのパターン溝部の寸法（すなわち、パターン溝部の幅）にほぼ対応する寸法を有する磁気パターンが磁気記録媒体の磁性膜に転写される。
【０００７】
ここで、参考のため、従来の磁気パターン転写方法の一例である先行技術文献を下記に示す。
【０００８】
【特許文献１】特開２００１−６１７０号公報
【０００９】
なお、この先行技術文献の内容は、後述の「発明を実施するための最良の形態」の部分で、本発明の好適な実施例との対比説明を行う時点で詳細に説明することとする。
【００１０】
しかしながら、前述のように、近年の磁気ディスク装置の大容量化に伴って、磁気記録媒体における記録密度は年々上昇していく傾向にある。それゆえに、より高密度の磁気パターンが要求されるので、磁気記録媒体に転写される磁気パターンの寸法（特に、磁気パターンの幅）がさらに小さくなってくる（例えば、５０ｎｍ（５×１０-8ｍ）以下）。この結果、従来の方法では、磁気記録媒体に転写される磁気パターンと同じ寸法を有する高解像度の磁気パターン転写用マスタを作成することが困難になるという問題が発生する。
【００１１】
また一方で、有限の長さを有する複数の磁気パターンにおいては、当該磁気パターンの端部での漏れ磁束による磁界が弱くなる。それゆえに、当該磁気パターンを磁気記録媒体に転写したときに、磁気パターンの端部の位置における磁性膜の磁化が弱くなってそのばらつきも大きくなる。この結果、磁気記録媒体に転写された各々の磁気パターンの長さが不揃いになるという問題が発生する。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであり、磁気ディスク装置等の情報記憶装置の製造コストを最小限に抑えつつ、サーボ情報等を含む磁気パターンが予め形成された磁気パターン転写用マスタを用いて、従来よりも高密度の磁気パターンを磁気記録媒体に高精度にて転写することが可能な磁気パターン転写方法を提供することを主たる目的とするものである。
【００１３】
さらに、本発明は、有限の長さを有する複数の磁気パターンを磁気記録媒体に転写したときに、各々の磁気パターンの長さが不揃いにならないようにするための磁気パターン転写方法を提供することを他の目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記問題点を解決するために、本発明は、磁気情報を記録するための磁性膜を有する磁気記録媒体に、所定の磁気パターンが予め形成された磁性部分を有する磁気パターン転写用マスタを接近させ、外部から磁界を印加することにより上記磁気パターンを上記磁気記録媒体に転写する場合に、上記磁気記録媒体の上記磁性膜と上記磁気パターン転写用マスタの上記磁性部分との密着性を高めるために、上記磁気記録媒体を製造する工程の途中で、上記磁気記録媒体の上記磁性膜への上記磁気パターンの転写を行う磁気パターン転写方法を提供する。
【００１５】
好ましくは、本発明の磁気パターン転写方法においては、上記磁気記録媒体を製造する工程の途中で、上記磁性膜を形成した後に保護膜を形成する前に、磁性膜形成用のチャンバに連結されている領域にて真空中で上記磁気パターンの転写を行うようになっている。
【００１６】
さらに、好ましくは、本発明の磁気パターン転写方法においては、上記磁気記録媒体を製造する工程の途中で、上記磁性膜を形成した後に保護膜を形成する前に、磁性膜形成用のチャンバに連結されている領域にて不活性ガスの気体中で上記磁気パターンの転写を行うようになっている。
【００１７】
さらに、好ましくは、本発明の磁気パターン転写方法においては、上記磁気記録媒体を製造する工程の途中で、上記磁性膜を形成した後に保護膜の一部を形成してから、磁性膜形成用のチャンバに連結されている領域にて真空中で上記磁気パターンの転写を行い、上記磁気パターンの転写後に、上記保護膜の残りの部分を形成するようになっている。
【００１８】
さらに、好ましくは、本発明の磁気パターン転写方法においては、上記磁気記録媒体を製造する工程の途中で、上記磁性膜を形成した後に保護膜の一部を形成してから、磁性膜形成用のチャンバに連結されている領域にて不活性ガスの気体中で上記磁気パターンの転写を行い、該磁気パターンの転写後に、上記保護膜の残りの部分を形成するようになっている。
【００１９】
さらに、好ましくは、本発明の磁気パターン転写方法においては、上記磁気記録媒体を製造する工程の途中で、上記磁性膜を形成した後に保護膜を形成し、該保護膜の形成後に潤滑剤の層を付加する途中で、磁性膜形成用のチャンバに連結されている領域にて上記潤滑剤の液体中で上記磁気パターンの転写を行うようになっている。
【００２０】
また一方で、本発明は、磁気情報を記録するための磁性膜を有する磁気記録媒体に、所定の磁気パターンが予め形成された磁性部分を有する磁気パターン転写用マスタを接近させ、外部から磁界を印加することにより上記磁気パターンを上記磁気記録媒体に転写する場合に、上記磁気パターンのパターン溝部の幅がパターン突起部の幅よりも狭い上記磁気パターン転写用マスタを用いて、上記磁気パターン転写用マスタの相対的な位置をずらしながら複数回にわたって上記磁気記録媒体の上記磁性膜への上記磁気パターンの転写を行う磁気パターン転写方法を提供する。
【００２１】
好ましくは、本発明の磁気パターン転写方法においては、上記磁気パターンのパターン溝部の幅以下の寸法分だけ上記磁気パターン転写用マスタの相対的な位置をずらしながら、外部から印加される磁界の向きを交互に変えて上記磁気パターンの一部の上書きを行いつつ上記磁気パターンの転写を行うようになっている。
【００２２】
さらに、好ましくは、本発明の磁気パターン転写方法においては、上記磁気記録媒体の周方向および半径方向の少なくとも一つの方向に対して上記磁気パターン転写用マスタの相対的な位置をずらすことにより、上記磁気パターンの転写を行うようになっている。
【００２３】
また一方で、本発明は、磁気情報を記録するための磁性膜を有する磁気記録媒体に、所定の磁気パターンが予め形成された磁性部分を有する磁気パターン転写用マスタを接近させ、外部から磁界を印加することにより上記磁気パターンを上記磁気記録媒体に転写する場合、上記磁気パターン転写用マスタの上記磁気パターンの中で有限の長さを有する磁気パターンの部分が溝により構成されるときに、上記有限の長さを有する磁気パターンの部分の端部の角が丸くなるように上記磁気パターンを形成し、上記磁気記録媒体の上記磁性膜への上記磁気パターンの転写を行う磁気パターン転写方法を提供する。
【００２４】
好ましくは、本発明の磁気パターン転写方法においては、上記磁気パターン転写用マスタの磁性部分上に塗布されたポジ型のレジストを露光した後に、上記有限の長さを有する磁気パターンの部分が溝になるように上記磁性部分のエッチングを行うことによって、上記有限の長さを有する磁気パターンの部分の端部における溝の幅が相対的に狭くなっている磁気パターン転写用マスタを作製するようになっている。
【発明の効果】
【００２５】
要約すれば、本発明では、第１に、磁気記録媒体を製造する工程の途中で、保護膜または潤滑剤の層等を形成する前に磁気記録媒体の磁性膜への磁気パターンの転写を行うようにしているので、磁気記録媒体の磁性膜と磁気パターン転写用マスタの磁気パターンとの距離が従来よりも小さくなり、磁気記録媒体の磁性膜と磁気パターン転写用マスタの磁気パターンとの密着性が高くなる。
【００２６】
これによって、磁気パターン転写用マスタの磁気パターンから発生する漏れ磁束による磁界が比較的強くなり、この磁界を利用して従来よりも高密度の磁気パターンを磁気記録媒体に高精度にて転写することが可能になる。なお、この場合、高価な専用の装置を用いることなく、一般に使用されている磁気パターン転写用マスタを用いて高密度の磁気パターンの転写を行っているので、磁気ディスク装置等の製造コストを最小限に抑えることが可能になる。
【００２７】
さらに、本発明では、第２に、磁気パターンのパターン溝部の幅がパターン突起部の幅よりも狭い磁気パターン転写用マスタを用いているので、パターン溝部の幅とパターン突起部の幅が同程度の従来の磁気パターン転写用マスタよりも磁気パターン転写用マスタの作製が容易になる。このようにして作製された磁気パターン転写用マスタを用いて、上記磁気パターン転写用マスタの相対的な位置をずらしながら複数回にわたって磁気記録媒体の磁性膜への磁気パターンの転写を行うようにしているので、それほど高密度の磁気パターン転写用マスタを使用しなくても、磁気パターン転写用マスタのパターン溝部の幅と同じ寸法であって従来よりも高解像度の磁気パターンを磁気記録媒体に転写することが可能になる。
【００２８】
この場合、磁気パターン転写用マスタのパターン突起部の幅が相対的に大きいために、このパターン突起部から発生する漏れ磁界による磁界が比較的強くなり、この磁界を利用して従来よりも高解像度の磁気パターンの転写が容易に実現され得る。
【００２９】
さらに、本発明では、第３に、磁気パターン転写用マスタの磁気パターンの中で有限の長さを有する複数の磁気パターンが溝により構成される場合、上記複数の磁気パターンの端部の角が丸くなるように当該磁気パターンを形成し、このような磁気パターンが形成された磁気パターン転写用マスタを用いて、磁気記録媒体の磁性膜への磁気パターンの転写を行うようにしている。
【００３０】
これによって、上記複数の磁気パターンの端部における溝の幅が相対的に狭くなり、当該磁気パターンの端部で発生する磁界の強度傾斜が従来よりも急峻になるので、磁気記録媒体の磁性膜に転写された磁気パターンの端部にて磁化されるか磁化されないかの境界線が明確になる。この結果、転写後の磁性膜における各々の磁気パターンの長さが不揃いになるのを回避することができ、有限長の複数の磁気パターンを磁気記録媒体に高精細に転写することが可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
本発明の磁気パターン転写方法の特徴および利点、ならびに上記磁気パターン転写方法によりもたらされる作用効果を明確にするために、ここでは、まず添付図面（図１〜図４）を参照しながら、本発明が適用されない一般的な磁気パターン転写方法について説明する。
【００３２】
図１は磁気記録媒体上に転写される磁気パターンの配置例を示す模式図であり、図２は従来の代表的な磁気パターン転写方法を説明するための模式図である。
【００３３】
ただし、ここでは、一般の磁気ディスク装置に設けられている複数枚の磁気記録媒体 (例えば、複数枚の磁気ディスク）中の一枚の磁気記録媒体１を代表して示す。なお、これ以降、前述した構成要素と同様のものに対しては、同一の参照番号を付して表すこととする。
【００３４】
図１に示すように、一般の磁気ディスク装置において情報（データ）の読み出し動作および書き込み動作を行う場合、アーム８に支持されているリード・ライトヘッド９を磁気記録媒体１上のトラック２の所定の位置に移動させ、当該位置に情報を書き込んだり当該位置に書き込まれている情報を読み出したりしている。このため、通常は、トラック２の所定の位置に対するリード・ライトヘッド９の位置決めを高精度にて行うために必要なサーボ情報を含む磁気パターンＭＰが、磁気記録媒体１に予め書き込まれている。ここで、磁気記録媒体１は、非磁性体の媒体基材１−１と、この媒体基材１−１（図２参照）上に形成される磁性膜１−２（図２参照）とを有している。この磁気記録媒体１の磁性膜１−２において、その内径部から外径部まで同心円状に配置される複数のトラック２に対し、複数のパターンブロックからなる磁気パターンＭＰの領域が扇形状に形成されている。
【００３５】
従来は、磁気ディスク装置の製造コストを最小限に抑えるために、高価な専用の装置を使用せずに高密度のサーボ情報を含む磁気パターンを容易に作成する方法が行われてきた。
【００３６】
より具体的にいえば、従来は、図２に示すように、転写すべき磁気パターンが予め形成された磁性部分４００を有する磁気パターン転写用マスタ３００を使用し、上記磁気パターンを磁気記録媒体１の磁性膜１−２に転写することによって、目的とする磁気パターンＭＰを磁気記録媒体１に予め書き込む方法が行われてきた。ただし、ここでは、磁気パターンの転写に使用される磁気パターン転写用マスタの代表例として、シリコン基板等の非磁性体のマスタ基材（すなわち、マスタ基板）５００と、転写すべき磁気パターンがマスタ基材５００に埋め込まれている磁性部分４００とを有する磁気パターン転写用マスタ３００を用いている。
【００３７】
ここで、図２を参照しながら、従来の代表的な磁気パターン転写方法をさらに詳しく説明する。まず第１に、サーボ情報を含む磁気パターンが予め形成された磁性部分４００を有する磁気パターン転写用マスタ３００を磁気記録媒体１に接近させる。つぎに、磁気パターン転写用マスタ３００の磁性部分４００を覆うように外部から永久磁石ＭＧを配置し、この永久磁石ＭＧのＮ極およびＳ極間で発生する一定の印加磁界ＥＦを磁気パターン転写用マスタ３００に印加する。
【００３８】
この外部からの印加磁界ＥＦによって、磁性部分４００の各々の磁気パターンが上記印加磁界ＥＦと同じ方向（すなわち、磁気パターン転写用マスタ３００および磁気記録媒体１の面に平行な方向）に磁化され、当該磁気パターン内で磁界ＩＦが生じる。このときに、相隣り合う磁気パターン間のパターンギャップ部（すなわち、パターン溝部）ＧＰにて漏れ磁束ＬＦが発生する。この漏れ磁束ＬＰによる磁界（磁場）によって、磁気記録媒体１の磁性膜１−２が外部からの印加磁界ＥＦと同じ方向に磁化され、当該磁気パターンのパターンギャップ部ＧＰにほぼ対応する寸法を有する磁気パターンＭＰが磁気記録媒体１の磁性膜１−２に転写される。
【００３９】
なお、実際には、磁気パターン転写用マスタ３００と磁気記録媒体１との間に隙間が生じており、この隙間によって磁気パターン転写用マスタ３００の磁気パターンの下部に漏れ磁束ＬＦが回り込むために、磁気記録媒体１の磁性膜１−２に転写された磁気パターンＭＰの寸法は、パターンギャップ部ＧＰの寸法よりも少し大きくなっている点に注意すべきである。
【００４０】
図３は一般の磁気記録媒体の概略的な構造を示す正面図であり、図４は通常の磁気記録媒体の製造工程を示す流れ図である。
【００４１】
磁気記録媒体１の記録密度がさらに高くなり、磁気パターン転写用マスタ３００の磁気パターンの寸法がより小さくなると、当該磁気パターンを磁気記録媒体１に転写する際に発生する漏れ磁束ＬＦによる磁界が相対的に弱くなる。また一方で、転写により発生する漏れ磁束ＬＦによる磁界は、磁気パターン転写用マスタ３００に近いほど強いことから、磁気記録媒体１の磁性膜１−２と磁気パターン転写用マスタ３００の磁性部分４００との距離をできる限り縮める必要がある。
【００４２】
しかしながら、通常は、図３に示すように、全ての膜形成プロセスが完成した磁気記録媒体１の表面では、磁性膜１−２上に厚さ１０ｎｍ（１０-8ｍ）前後の保護膜１−３や潤滑剤の層１−４が形成されている。より詳しくいえば、通常の製造工程にて磁気記録媒体１を製造する場合、図４に示すように、第１番目の磁性膜製膜工程（１）において、真空チャンバＣ内で真空蒸着法により非磁性体の媒体基材１−１上に磁性膜１−２を製膜する。つぎに、第２番目の保護膜付加工程（２）において、同じ真空チャンバＣ内で真空蒸着法により、例えばＤＬＣ（Diamond-Like-Carbon ）膜のような保護膜１−３を磁性膜１−２上に形成する。
【００４３】
さらに、第３番目の潤滑剤付加工程（３）において、例えば、フッ素系潤滑剤のような潤滑剤Ｌの液体で満たされた容器Ｖに磁気記録媒体１を浸漬することによって、潤滑剤の層１−４を保護膜１−３上に形成する。このようにして、磁気記録媒体１の全ての膜形成プロセスが完了する（磁気記録媒体完成品（４））。このようにして完成した磁気記録媒体１の磁性膜１−２に対して、磁気パターンの転写が行われる。
【００４４】
図３および図４から明らかなように、通常の磁気記録媒体１の製造工程では、磁性膜１−２上に厚さ１０ｎｍ前後の保護膜１−３や潤滑剤の層１−４が付加されるので、これ以上、磁気記録媒体１の磁性膜１−２と磁気パターン転写用マスタ３００の磁性部分４００との距離を縮めることは困難であった。
【００４５】
これに対し、本発明の磁気パターン転写方法では、後述の第１〜第６の実施例に示すように、磁気記録媒体を製造する工程の途中で、磁気記録媒体の磁性膜への磁気パターンの転写を行うことにより、磁気記録媒体の磁性膜と磁気パターン転写用マスタの磁性部分との距離を縮めることで磁気記録媒体と磁気パターン転写用マスタとの密着性を高めるようにしている。
【００４６】
なお、本発明の磁気パターン転写方法に関連した先行技術として、磁気転写用マスタを用いて磁気ディスクの磁性部に磁化パターンを転写した後に、当該磁気ディスクの表面に潤滑剤の層を形成する方法が、前述の先行技術文献である特開２００１−６１７０号公報（公開日：平成１３年１月１２日）に開示されている。ただし、この先行技術文献では、あくまでも磁気ディスクの表面に異常突起が発生するのを回避することを目的として、磁化パターンが転写された磁気ディスクの表面に潤滑剤の層を塗布する方法を提供するにすぎない。
【００４７】
これに対し、本発明では、上記のとおり、磁気記録媒体と磁気パターン転写用マスタとの距離を縮めることを目的として、磁気記録媒体を製造する工程の途中で、保護膜または潤滑剤の層等を形成する前に磁気記録媒体の磁性膜への磁気パターンの転写を行うようにしている。換言すれば、本発明において磁気パターン転写後に潤滑剤の層を形成することは、磁気記録媒体と磁気パターン転写用マスタとの密着性を高めるための一手段にすぎず、上記の先行技術とは技術思想が異なっている。
【００４８】
以下、添付図面（図５〜図１１）を参照しながら、本発明の第１〜第６の実施例に係る磁気パターン転写方法について詳細に説明する。
【００４９】
図５は本発明の第１の実施例に係る磁気パターン転写方法を説明するための流れ図である。ただし、ここでは、本発明の磁気パターン転写方法に関連した磁気記録媒体１の製造工程を簡略化して示す。
【００５０】
図５に示すように、本発明の第１の実施例では、第１番目の磁性膜製膜工程（１）において、従来の場合と同様に、真空チャンバＣ内で真空蒸着法により非磁性体の媒体基材１−１上に磁性膜１−２を製膜する。つぎに、第２番目の磁気パターン転写工程（２）に示すように、磁性膜１−２の製膜後に保護膜１−３を形成する前に、磁性膜製膜用の真空チャンバＣ内または当該真空チャンバＣに連結されている真空中の領域にて、磁気記録媒体１の磁性膜１−２への磁気パターンの転写が行われる。
【００５１】
ここで、上記の第２番目の磁気パターン転写工程（２）における磁気パターン転写方法をさらに詳しく説明する。まず第１に、磁気パターン転写用マスタ３のシリコン基板等の非磁性体のマスタ基材（すなわち、マスタ基板）５上に磁性層を形成し、この磁性層に対し露光およびエッチングを行ってパターン溝部Ｇを有する磁気パターンを予め形成しておく。つぎに、この磁気パターンが予め形成された磁性部分４を有する磁気パターン転写用マスタ３を磁気記録媒体１に接近させる。さらに、磁気パターン転写用マスタ３の磁性部分４を覆うように外部から永久磁石ＭＧを配置し、この永久磁石ＭＧのＮ極およびＳ極間で発生する一定の印加磁界を磁気パターン転写用マスタ３に印加する。
【００５２】
この外部からの印加磁界によって、磁性部分４の各々の磁気パターンが上記印加磁界と同じ方向（すなわち、磁気パターン転写用マスタ３および磁気記録媒体１の面に平行な方向）に磁化され、当該磁気パターン内で磁界が生じる。このときに、相隣り合う磁気パターン間のパターン溝部Ｇにて漏れ磁束が発生する。この漏れ磁束による磁界によって、磁気記録媒体１の磁性膜１−２が外部からの印加磁界と同じ方向に磁化され、当該磁気パターンのパターン溝部Ｇに対応する寸法を有する磁気パターンが磁気記録媒体１の磁性膜１−２に転写される。
【００５３】
この磁気パターンの転写後に、第３番目の保護膜付加工程（３）に示すように、真空チャンバＣ内で真空蒸着法により保護膜１−３を磁性膜１−２上に形成する。さらに、第４番目の潤滑剤付加工程（４）において、潤滑剤Ｌの液体で満たされた容器Ｖに磁気記録媒体１を浸漬することによって、潤滑剤の層１−４を保護膜１−３上に形成する（図示していない）。このようにして、磁気記録媒体１の製造工程が完了する。
【００５４】
図５の第１の実施例においては、保護膜および潤滑剤の層を付加する前に、磁気記録媒体の磁性膜上に磁気パターンを形成しているので、磁気記録媒体の磁性膜と磁気パターン転写用マスタの磁性部分との距離が従来よりも小さくなって磁気記録媒体と磁気パターン転写用マスタとの密着性が高くなり、高密度の磁気パターンの転写が行える。
【００５５】
さらに、上記の第１の実施例においては、磁気記録媒体と磁気パターン転写用マスタとの密着性が高くなり、磁気パターン転写用マスタと磁気記録媒体との間に隙間がほとんど生じないので、磁気パターン転写用マスタの磁気パターンの下部に漏れ磁束が回り込まなくなる。それゆえに、磁気記録媒体の磁性膜に転写された磁気パターンの寸法は、パターン溝部Ｇの寸法とほぼ同じになる。
【００５６】
また一方で、磁性膜は、一般に鉄等の金属で作製されているので、酸化し易い。したがって、図５の第１の実施例（特に、磁気パターン転写工程（２））のように磁性膜上に保護膜が形成されていない状態では、磁性膜の酸化を防止するために、真空中で磁気パターンの転写を行うことが望ましい。
【００５７】
図６は本発明の第２の実施例に係る磁気パターン転写方法を説明するための流れ図である。ただし、ここでも、本発明の磁気パターン転写方法に関連した磁気記録媒体１の製造工程を簡略化して示す。
【００５８】
図６に示すように、本発明の第２の実施例では、第１番目の磁性膜製膜工程（１）において、従来の場合と同様に、真空チャンバＣ内で真空蒸着法により非磁性体の媒体基材１−１上に磁性膜１−２を製膜する。つぎに、第２番目の磁気パターン転写工程（２）に示すように、磁性膜１−２の製膜後に保護膜１−３を形成する前に、磁性膜製膜用の真空チャンバＣに連結されている不活性ガスの気体中の領域（例えば、不活性ガスの気体で満たされたチャンバＣ′）にて、磁気記録媒体１の磁性膜１−２への磁気パターンの転写が行われる。この磁気パターン転写工程（２）における磁気パターン転写方法は、前述の第１の実施例の場合と実質的に同じなので、ここでは、その詳細な説明を省略する。
【００５９】
この磁気パターンの転写後に、第３番目の保護膜付加工程（３）に示すように、真空チャンバＣ内で真空蒸着法により保護膜１−３を磁性膜１−２上に形成する。さらに、第４番目の潤滑剤付加工程（４）において、潤滑剤Ｌの液体で満たされた容器Ｖに磁気記録媒体１を浸漬することによって、潤滑剤の層１−４を保護膜１−３上に形成する（図示していない）。このようにして、磁気記録媒体１の製造工程が完了する。
【００６０】
図６の第２の実施例においても、前述の第１の実施例の場合と同様に、保護膜および潤滑剤の層を付加する前に、磁気記録媒体の磁性膜上に磁気パターンを転写しているので、磁気記録媒体の磁性膜と磁気パターン転写用マスタの磁性部分との距離が従来よりも小さくなって磁気記録媒体と磁気パターン転写用マスタとの密着性が高くなり、高密度の磁気パターンの転写が行える。
【００６１】
また一方で、磁性膜は、一般に鉄等の金属で作製されているので、酸化し易い。したがって、図６の第２の実施例（特に、磁気パターン転写工程（２））のように磁性膜上に保護膜が形成されていない状態では、磁性膜の酸化を防止するために、不活性ガスの気体で満たされたチャンバＣ′内で磁気パターンの転写を行うことが望ましい。さらに、不活性ガスの気体で満たされたチャンバＣ′内に磁気記録媒体および磁気パターン転写用マスタを配置した後に、このチャンバＣ′から不活性ガスを引いてチャンバＣ′内を真空状態にすることによって、図５の第１の実施例の場合よりも磁気記録媒体と磁気パターン転写用マスタとの密着性を高くすることが可能になる。
【００６２】
図７は本発明の第３の実施例に係る磁気パターン転写方法を説明するための流れ図である。ただし、ここでも、本発明の磁気パターン転写方法に関連した磁気記録媒体１の製造工程を簡略化して示す。
【００６３】
図７に示すように、本発明の第３の実施例では、第１番目の磁性膜製膜工程（１）において、従来の場合と同様に、真空チャンバＣ内で真空蒸着法により非磁性体の媒体基材１−１上に磁性膜１−２を製膜する（図示していない）。つぎに、第２番目の第１の保護膜付加工程（２）に示すように、磁性膜１−２の製膜後に保護膜１−３の一部（例えば、通常の１／２の膜厚の保護膜：図７の第１の保護膜１−３ａ参照）を薄く形成する。
【００６４】
さらに、第３番目の磁気パターン転写工程（３）に示すように、磁性膜製膜用の真空チャンバＣ内または当該真空チャンバＣに連結されている真空中の領域にて、磁気記録媒体１の磁性膜１−２への磁気パターンの転写が行われる。この磁気パターン転写工程（３）における磁気パターン転写方法もまた、前述の第１の実施例の場合と実質的に同じなので、ここでは、その詳細な説明を省略する。ただし、上記第３の実施例では、磁性膜１−２上に保護膜１−３の一部を薄く形成しているので、磁気記録媒体１の磁性膜１−２に磁気パターンを転写する際に、磁性膜１−２の表面が傷つくのを防止することができる。
【００６５】
この磁気パターンの転写後に、第４番目の第２の保護膜付加工程（４）に示すように、真空チャンバＣ内で真空蒸着法により保護膜１−３の残りの部分（図７の第２の保護膜１−３ｂ参照）を第１の保護膜１−３ａ上に形成する。さらに、第５番目の潤滑剤付加工程（５）において、潤滑剤Ｌの液体で満たされた容器Ｖに磁気記録媒体１を浸漬することによって、潤滑剤の層１−４を第２の保護膜１−３ｂ上に形成する（図示していない）。このようにして、磁気記録媒体１の製造工程が完了する。
【００６６】
図７の第３の実施例においては、保護膜の一部および潤滑剤の層を付加する前に、磁気記録媒体の磁性膜上に磁気パターンを転写しているので、磁気記録媒体の磁性膜と磁気パターン転写用マスタの磁性部分との距離が従来よりも小さくなって磁気記録媒体と磁気パターン転写用マスタとの密着性が高まる。
【００６７】
また一方で、磁性膜は、一般に鉄等の金属で作製されているので、酸化し易い。図７の実施例では、磁気パターン転写工程（３）を実行する前に、磁気記録媒体と磁気パターン転写用マスタとの密着性に影響を及ぼさない程度の薄い膜厚の保護膜を磁性膜上に形成することによって、磁気記録媒体と磁気パターン転写用マスタとの密着性を高く保ちながら、磁性膜の酸化を防止すると共に磁性膜の表面が傷つくのを防止することができる。
【００６８】
図８は本発明の第４の実施例に係る磁気パターン転写方法を説明するための流れ図である。ただし、ここでも、本発明の磁気パターン転写方法に関連した磁気記録媒体１の製造工程を簡略化して示す。
【００６９】
図８に示すように、本発明の第４の実施例では、第１番目の磁性膜製膜工程（１）において、従来の場合と同様に、真空チャンバＣ内で真空蒸着法により非磁性体の媒体基材１−１上に磁性膜１−２を製膜する（図示していない）。つぎに、第２番目の第１の保護膜付加工程（２）に示すように、磁性膜１−２の製膜後に保護膜１−３の一部（例えば、通常の１／２の膜厚の保護膜：図８の第１の保護膜１−３ａ参照）を薄く形成する。
【００７０】
さらに、第３番目の磁気パターン転写工程（３）に示すように、磁性膜製膜用の真空チャンバＣに連結されている不活性ガスの気体中の領域（例えば、不活性ガスの液体で満たされたチャンバＣ′）にて、磁気記録媒体１の磁性膜１−２への磁気パターンの転写が行われる。この磁気パターン転写工程（３）における磁気パターン転写方法もまた、前述の第１の実施例の場合と実質的に同じなので、ここでは、その詳細な説明を省略する。ただし、上記第４の実施例では、前述の第３の実施例の場合と同様に、磁性膜１−２上に保護膜１−３の一部を薄く形成しているので、磁気記録媒体１の磁性膜１−２に磁気パターンを転写する際に、磁性膜１−２の表面が傷つくのを防止することができる。
【００７１】
この磁気パターンの転写後に、第４番目の第２の保護膜付加工程（４）に示すように、真空チャンバＣ内で真空蒸着法により保護膜１−３の残りの部分（図７の第２の保護膜１−３ｂ参照）を第１の保護膜１−３ａ上に形成する。さらに、第５番目の潤滑剤付加工程（５）において、潤滑剤Ｌの液体で満たされた容器Ｖに磁気記録媒体１を浸漬することによって、潤滑剤の層１−４を第２の保護膜１−３ｂ上に形成する（図示していない）。このようにして、磁気記録媒体１の全ての膜形成プロセスが完成する。
【００７２】
図８の第４の実施例においては、保護膜の一部および潤滑剤の層を付加する前に、磁気記録媒体の磁性膜上に磁気パターンを転写しているので、磁気記録媒体の磁性膜と磁気パターン転写用マスタの磁性部分との距離が従来よりも小さくなって磁気記録媒体と磁気パターン転写用マスタとの密着性が高まる。
【００７３】
また一方で、磁性膜は、一般に鉄等の金属で作製されているので、酸化し易い。図８の実施例では、磁気パターン転写工程（３）を実行する前に、磁気記録媒体と磁気パターン転写用マスタとの密着性に影響を及ぼさない程度の薄い膜厚の保護膜を磁性膜上に形成することによって、磁気記録媒体と磁気パターン転写用マスタとの密着性を高く保ちながら、磁性膜の酸化を防止すると共に磁性膜の表面が傷つくのを防止することができる。さらに、不活性ガスの気体で満たされたチャンバＣ′内に磁気記録媒体および磁気パターン転写用マスタを配置した後に、このチャンバＣ′から不活性ガスを引いてチャンバＣ′内を真空状態にすることによって、図７の第３の実施例の場合よりも磁気記録媒体と磁気パターン転写用マスタとの密着性を高くすることが可能になる。
【００７４】
図９は本発明の第５の実施例に係る磁気パターン転写方法を説明するための流れ図である。ただし、ここでも、本発明の磁気パターン転写方法に関連した磁気記録媒体１の製造工程を簡略化して示す。
【００７５】
図９に示すように、本発明の第５の実施例では、第１番目の磁性膜製膜工程（１）において、従来の場合と同様に、真空チャンバＣ内で真空蒸着法により非磁性体の媒体基材１−１上に磁性膜１−２を製膜する。つぎに、第２番目の第１の保護膜付加工程（２）に示すように、磁性膜１−２の製膜後に保護膜１−３を形成する。
【００７６】
さらに、第３番目の潤滑剤付加工程および磁気パターン転写工程（３）に示すように、保護膜１−３の形成後に、潤滑剤Ｌの液体で満たされた容器Ｖに磁気記録媒体１を浸漬して潤滑剤の層１−４を形成する。この潤滑剤の層１−４を形成している途中で、磁性膜製膜用の真空チャンバＣに連結されている領域にて、潤滑剤Ｌの液体中で磁気記録媒体１の磁性膜１−２への磁気パターンの転写が行われる。ここでは、潤滑剤の層１−４を形成している途中で、潤滑剤Ｌの液体中で磁気パターンの転写を行うことによって、真空中または不活性ガスの気体中でなくても塵埃やごみ等が磁気記録媒体１の表面に付着するのを回避することができる。上記の潤滑剤付加工程および磁気パターン転写工程（３）における磁気パターン転写方法もまた、前述の第１の実施例の場合と実質的に同じなので、ここでは、その詳細な説明を省略する。
【００７７】
この磁気パターンの転写後に、最終的な厚さの潤滑剤の層１−４を保護膜１−３上に形成する。このようにして、磁気記録媒体１の製造工程が完了する（磁気記録媒体完成品（４））。
【００７８】
図９の第５の実施例においては、潤滑剤の層が磁性膜上に完全に形成されていない段階で、磁気記録媒体の磁性膜上に磁気パターンを転写しているので、磁気記録媒体の磁性膜と磁気パターン転写用マスタの磁性部分との距離が従来よりも小さくなって磁気記録媒体と磁気パターン転写用マスタとの密着性が高まる。
【００７９】
上記の第１〜第６の実施例のいずれにおいても、磁気記録媒体の磁性膜と磁気パターン転写用マスタの磁気パターンとの距離が従来よりも小さくなり、磁気記録媒体の磁性膜と磁気パターン転写用マスタの磁気パターンとの密着性が高くなる。それゆえに、磁気パターン転写用マスタの磁気パターンから発生する漏れ磁束による磁界が比較的強くなり、この磁界を利用して従来よりも高密度の磁気パターンを磁気記録媒体に高精度にて転写することが可能になる。さらに、一般に使用されている磁気パターン転写用マスタを用いて高密度の磁気パターンの転写を行っているので、磁気ディスク装置等の製造コストを最小限に抑えることが可能になる。
【００８０】
図１０は従来の磁気パターン転写方法に使用される磁気パターン転写用マスタの一例を示す平面図であり、図１１は本発明の第６の実施例に係る磁気パターン転写方法を説明するための模式図である。ただし、図１０および図１１のいずれにおいても、磁気パターンの転写に使用される磁気パターン転写用マスタの一部を拡大して示す。
【００８１】
ここでは、図１１の第６の実施例に係る磁気パターン転写方法との比較が容易に行えるように、従来の磁気パターン転写方法に使用される磁気パターン転写用マスタの一例として、凹凸を有する磁気パターンが予め形成された磁性層を有する磁気パターン転写用マスタを呈示している。
【００８２】
以下、図１０の（ａ）および（ｂ）を参照しながら、従来の磁気パターン転写方法に使用される磁気パターン転写用マスタ３００を作製する工程を説明する。第１番目の工程で、真空蒸着法により非磁性体のマスタ基材（すなわち、マスタ基板）５００上に磁性層３５０を形成する。この磁性層３５０上にネガ型のレジストＲＳを塗布して露光すると、磁気パターン転写用マスタ３００の磁性層３５０上にネガパターンが形成される（図１０の（ａ））。第２番目の工程で、ネガ型のレジストＲＳによるネガパターンが磁性層３５０上に形成されている状態で、磁性層３５０のエッチングを行う（図１０の（ｂ））。
【００８３】
このエッチングによって、パターン溝部Ｇ′およびパターン突起部Ｐ′からなる凹凸を有する磁気パターンが形成される。このようにして形成された磁性層３５０の磁気パターンは、ネガ型のレジストＲＳによるネガパターンとは逆の関係になっている。
【００８４】
図１０の（ｂ）のような磁気パターンが形成された従来の磁気パターン転写用マスタ３００では、パターン突起部Ｐ′（パターン凸部）の面積とパターン溝部Ｇ′（パターン凹部）の面積とがほぼ同じになっている。それゆえに、磁気記録媒体の磁性膜に磁気パターンを転写する場合に、上記磁性膜の表面と接触するパターン突起部Ｐ′の表面Ｓ′の面積が相対的に小さくなり、磁気記録媒体と磁気パターン転写用マスタ３００との密着度がそれほど良くならない。
【００８５】
また一方で、本発明の第６の実施例に係る磁気パターン転写方法に使用される磁気パターン転写用マスタ３を作製する場合、図１１に示すように、第１番目の工程で、真空蒸着法により非磁性体のマスタ基材（すなわち、マスタ基板）５上に磁性層４０を形成する。この磁性層４０上にネガ型のレジストＲＳを塗布して露光すると、磁気パターン転写用マスタ３の磁性層４０上にネガパターンが形成される（図１１の（ａ））。第２番目の工程で、ネガ型のレジストＲＳによるネガパターンが磁性層４０上に形成されている状態で、磁性層４０のエッチングを行う（図１１の（ｂ））。このようにして形成された磁性層４０の磁気パターンは、ネガ型のレジストＲＳによるネガパターンとは逆の関係になっている。上記のとおり、本発明の第６の実施例に係る磁気パターン転写方法に使用される磁気パターン転写用マスタ３の作製工程は、従来の場合と概ね同じである。
【００８６】
しかしながら、図１１の（ｂ）のような磁気パターンが形成された磁気パターン転写用マスタ３では、パターン突起部Ｐ（パターン凸部）の面積がパターン溝部Ｇ（パターン凹部）の面積よりも広くなっている。それゆえに、上記の第６の実施例において、磁気記録媒体の磁性膜に磁気パターンを転写する場合に、上記磁性膜の表面と接触するパターン突起部Ｐの表面Ｓの面積が相対的に大きくなり、磁気記録媒体と磁気パターン転写用マスタ３との密着度が良好になる。
【００８７】
さらに、上記の第６の実施例においては、磁気パターン転写用マスタ３の磁性層４０上に上記のような磁気パターンを作製するために、ネガ型のレジストＲＳによるネガパターンが磁性層４０上に形成される。このネガパターンでは、図１１の（ａ）に示すように、レジストＲＳの凸部の面積が凹部の面積よりも狭くなっている。一般に、レジストのパターンに関していえば、凸部の面積と凹部の面積とが同じになっているパターンよりも、凸部または凹部のいずれか一方の面積が他方の面積よりも狭くなっているパターンのほうが作製し易い傾向にある。それゆえに、上記の第６の実施例に使用されるレジストのパターンは、従来のレジストのパターンよりも作製が容易になるという利点も有する。
【００８８】
図１２は従来の磁気パターン転写方法により転写される磁気パターンの一例を示す模式図である。ただし、ここでは、磁気パターンの転写に使用される磁気パターン転写用マスタおよび磁気記録媒体の一部を拡大して示す。さらに、ここでは、図１０に示したような磁気パターン転写用マスタ３００を用いて、磁気記録媒体１の磁性膜１−２に磁気パターンを転写する方法を説明する。
【００８９】
図１２に示す磁気パターン転写方法は、前述の図４の磁気パターン転写方法と基本的に同じである。ただし、この場合、後述の本発明の第７〜第１３の実施例に係る磁気パターン転写方法との比較が容易に行えるようにするために、図１２の従来の磁気パターン転写方法について詳細に説明することとする。
【００９０】
図１２において、まず第１に、パターン溝部Ｇ′およびパターン突起部Ｐ′からなる凹凸を有する磁気パターンが予め形成された磁性部分４００（図１０の磁性層３５０に相当する）を有する磁気パターン転写用マスタ３００を磁気記録媒体１に接近させる。つぎに、磁気パターン転写用マスタ３００の磁性部分４００を覆うように永久磁石（図示していない）を配置し、この永久磁石から発生する一定の印加磁界ＥＦを磁気パターン転写用マスタ３００に印加する。
【００９１】
この外部からの印加磁界ＥＦによって、磁性部分４００の各々の磁気パターンが上記印加磁界ＥＦと同じ方向（すなわち、磁気パターン転写用マスタ３００および磁気記録媒体１の面に平行な方向）に磁化され、当該磁気パターン内で磁界が生じる。このときに、相隣り合う磁気パターン間のパターン溝部Ｇ′にて漏れ磁束が発生する。この漏れ磁束による磁界によって、磁気記録媒体１の媒体基材１−１上の磁性膜１−２が外部からの印加磁界ＥＦと同じ方向に磁化され、当該磁気パターンのパターン溝部Ｇ′にほぼ対応する寸法を有する磁気パターンＭＰが磁気記録媒体１の磁性膜１−２に転写される。
【００９２】
図１２に示すように、従来の磁気パターン転写用マスタ３００では、パターン突起部Ｐ′の寸法（幅）とパターン溝部Ｇ′の寸法（幅）とがほぼ同じになっている。前述のように、近年の磁気ディスク装置の大容量化に伴って、より高密度のサーボ情報を含む磁気パターンが要求されるようになり、磁気記録媒体に転写される磁気パターンのパターン突起部Ｐ′の寸法やパターン溝部Ｇ′の寸法がさらに小さくなってくる（例えば、５０ｎｍ（５×１０-8ｍ）以下）。このため、磁気パターンのパターン溝部Ｇ′にて発生する漏れ磁束による磁界が弱くなってくる。
【００９３】
また一方で、磁気パターンのパターン突起部Ｐ′の寸法が小さくなると、パターン突起部Ｐ′からパターン溝部Ｇ′へ供給される磁界が弱くなるので、パターン溝部Ｇ′にて発生する漏れ磁束による磁界も一層弱くなってくる。
【００９４】
それゆえに、従来の磁気パターン転写方法では、磁気記録媒体に転写される磁気パターンの寸法と同じ寸法を有する高解像度の磁気パターン転写用マスタを作成することが困難になってきた。
【００９５】
これに対し、本発明の磁気パターン転写方法では、転写すべき磁気パターンのパターン溝部の寸法（幅）がパターン突起部の寸法（幅）よりも狭い磁気パターン転写用マスタを用いて、当該磁気パターン転写用マスタの相対的な位置をずらしながら複数回にわたって磁気記録媒体の磁性膜への磁気パターンの転写を行うことにより、それほど高密度の磁気パターン転写用マスタを使用しなくても、磁気パターン転写用マスタのパターン溝部の幅と同じ寸法の従来よりも高解像度の磁気パターンを磁気記録媒体に転写することが可能になる。
【００９６】
前述のように、磁気パターン転写の対象となる磁気記録媒体１は、通常、媒体基材１−１上に磁性膜１−２を製膜した後に、この磁性膜１−２上に保護膜および潤滑剤の層（いずれも、図示していない）を形成することによって製造される。この場合、前述の図５〜図９の実施例のように、磁気記録媒体１を製造する途中で、保護膜または潤滑剤の層を形成する前に磁気記録媒体１の磁性膜１−２への磁気パターンの転写を行う方法を採用しなくても、磁気パターン転写用マスタ３の相対的な位置をずらしながら複数回にわたって磁気記録媒体１の磁性膜１−２への磁気パターンの転写を行うことにより、従来よりも高解像度の磁気パターンを磁気記録媒体に転写することが可能になる点に注意すべきである。
【００９７】
以下、添付図面（図１３〜図２７）を参照しながら、本発明の第７〜第１３の実施例に係る磁気パターン転写方法について詳細に説明する。
【００９８】
図１３は本発明の第７の実施例に係る磁気パターン転写方法を説明するための模式図である。ただし、ここでは、磁気パターンの転写に使用される磁気パターン転写用マスタおよび磁気記録媒体の一部を拡大して示す。
【００９９】
図１３の第７の実施例では、転写すべき磁気パターンのパターン溝部Ｇの寸法（幅）がパターン突起部Ｐの寸法（幅）よりも狭い磁性部分４を有する磁気パターン転写用マスタ３を用いている。それゆえに、図１１の第６の実施例にて説明したように、パターン溝部の寸法（幅）とパターン突起部の寸法（幅）が同程度の従来の磁気パターン転写用マスタ３００（図１２参照）よりも磁気パターン転写用マスタの作製が容易になる。
【０１００】
このようにして作製された磁気パターン転写用マスタ３を用いて１回目の磁気パターンの転写を行う場合、まず第１に、磁気パターン転写用マスタ３を磁気記録媒体１に接近させる。つぎに、磁気パターン転写用マスタ３の磁性部分４を覆うように永久磁石（図示していない）を配置し、この永久磁石から発生する一定の印加磁界ＥＦを磁気パターン転写用マスタ３に印加する。
【０１０１】
この外部からの印加磁界ＥＦによって、磁性部分４の磁気パターンのパターン突起部Ｐが上記印加磁界ＥＦと同じ方向（すなわち、磁気パターン転写用マスタ３および磁気記録媒体１の面に平行な方向）に磁化され、当該パターン突起部Ｐ内で磁界が生じる。このパターン突起部Ｐ内の磁界がパターン溝部Ｇに供給されると、このパターン溝部Ｇにて漏れ磁束が発生する。この漏れ磁束による磁界によって、磁気記録媒体１の媒体基材１−１上の磁性膜１−２が外部からの印加磁界ＥＦと同じ方向に磁化され、当該磁気パターンのパターン溝部Ｇにほぼ対応する寸法を有する磁気パターンＭＰが磁気記録媒体１の磁性膜１−２に転写される。
【０１０２】
さらに、図１３の第７の実施例では、磁気パターン転写用マスタ３の相対的な位置をずらしながら、複数回にわたって上記のような磁気パターンの転写を繰り返し行っている。これによって、従来よりも作製が容易な磁気パターン転写用マスタを使用して、磁気パターン転写用マスタのパターン溝部の幅と同じ寸法の従来よりも高解像度の磁気パターンを磁気記録媒体１に転写することができるようになる。
【０１０３】
ここで使用される磁気パターン転写用マスタ３は、磁気パターンのパターン突起部Ｐの寸法（幅）がパターン溝部Ｇの寸法（幅）よりも大きいので、パターン突起部Ｐからパターン溝部Ｇへ供給される磁界が比較的強くなる。これによって、パターン溝部Ｇにて発生する漏れ磁束による磁界も比較的強くなり、この磁界を利用して従来よりも高解像度の磁気パターンの転写が容易に実現できる。
【０１０４】
図１４は図１３の実施例に係る磁気パターン転写方法の第１の具体例（その１）を示す図であり、図１５は上記実施例に係る磁気パターン転写方法の第１の具体例（その２）を示す図である。ただし、ここでも、磁気パターンの転写に使用される磁気パターン転写用マスタおよび磁気記録媒体の一部を拡大して示す。さらに、ここでは、磁気パターン転写用マスタの相対的な位置をずらしながら、磁気パターンの転写を２回行う場合を想定する。
【０１０５】
図１４および図１５の第１の具体例では、初めに、磁気記録媒体１に対して特定の方向（例えば、外部からの印加磁界ＥＦと反対の方向）に充分大きな磁界を印加し、媒体基材１−１上の磁性膜１−２の全ての部分を初期化しておく（図１４の初期化されている部分ＩＰ参照）。
【０１０６】
さらに、磁気パターンのパターン溝部Ｇの寸法がパターン突起部Ｐの寸法よりも狭い磁気パターン転写用マスタ３を用いて１回目の磁気パターンの転写を行う場合、図１４の１回目の転写（ａ）に示すように、磁気パターン転写用マスタ３を磁気記録媒体１に接近させる。さらに、磁気パターン転写用マスタ３の磁性部分４を覆うように永久磁石（図示していない）を配置し、この永久磁石から発生する一定の印加磁界ＥＦを磁気パターン転写用マスタ３に印加する。
【０１０７】
この外部からの印加磁界ＥＦによって、磁性部分４の磁気パターンのパターン突起部Ｐが上記印加磁界ＥＦと同じ方向に磁化され、当該パターン突起部Ｐ内で磁界が生じる。このパターン突起部Ｐ内の磁界によって、パターン溝部Ｇにて漏れ磁束が発生する。この漏れ磁束による磁界によって、磁気記録媒体１の磁性膜１−２が外部からの印加磁界ＥＦと同じ方向に磁化され、当該磁気パターンのパターン溝部Ｇと同じ寸法を有する磁気パターンＭＰ−１が磁気記録媒体１の磁性膜１−２に転写される。
【０１０８】
さらに、２回目の磁気パターンの転写を行う場合、図１５の２回目の転写（ｂ）に示すように、磁気パターン転写用マスタ３または磁気記録媒体１のいずれか一方の位置をずらしながら同方向の印加磁界ＥＦを印加し、上記のような磁気パターンの転写を繰り返し行う。これによって、１回目の磁気パターンの転写により転写された磁気パターンＭＰ−１と異なる位置に、１回目の磁気パターンの転写の場合と同じ寸法（すなわち、磁気パターン転写用マスタ３のパターン溝部Ｇの寸法）を有する磁気パターンＭＰ−２が磁気記録媒体１の磁性膜１−２に転写される。
【０１０９】
最終的に、１回目および２回目の磁気パターンの転写により転写された磁気パターンＭＰ−１およびＭＰ−２は、磁気パターン転写用マスタ３のパターン溝部Ｇの寸法と同じ寸法を有しており、かつ、同じ方向（例えば、印加磁界ＥＦの方向）に磁化されている。これに対し、相隣り合う１回目の磁気パターンＭＰ−１と２回目の磁気パターンＭＰ−２との間には、初期化によって印加磁界ＥＦと反対の方向に磁化された磁気パターンが形成されている。したがって、この場合、磁気パターン転写用マスク３よりも短いパターン周期を有する磁気パターンが磁気記録媒体１の磁性膜１−２に転写されることになる。
【０１１０】
なお、図１４および図１５では、１回目に転写された磁気パターンＭＰ−１を細いハッチングにより表し、２回目に転写された磁気パターンＭＰ−２を太いハッチングにより表している。
【０１１１】
図１４および図１５の第１の具体例においては、パターン溝部の寸法がパターン突起部の寸法よりも狭い磁気パターン転写用マスタを用いて、磁気パターン転写用マスタまたは磁気記録媒体のいずれか一方の位置をずらしながら磁気パターンの転写を繰り返し行うようにしているので、それほど高密度の磁気パターン転写用マスタを使用しなくても、従来よりもパターン周期が短い高解像度の磁気パターンを磁気記録媒体に転写することができる。
【０１１２】
図１６は図１３の実施例に係る磁気パターン転写方法の第２の具体例（その１）を示す模式図、図１７は上記実施例に係る磁気パターン転写方法の第２の具体例（その２）を示す模式図、そして、図１８は上記実施例に係る磁気パターン転写方法の第２の具体例（その３）を示す模式図である。
【０１１３】
ただし、ここでも、磁気パターンの転写に使用される磁気パターン転写用マスタおよび磁気記録媒体の一部を拡大して示す。さらに、ここでは、磁気パターン転写用マスタの相対的な位置をずらしながら、外部からの磁界の向きを交互に変えて磁気パターンの転写を３回行う場合を想定する。
【０１１４】
図１６〜図１８の第２の具体例では、初めに、磁気記録媒体１に対して特定の方向に比較的大きな磁界を印加し、媒体基材１−１上の磁性膜１−２の全ての部分を初期化しておく。
【０１１５】
さらに、磁気パターンのパターン溝部Ｇの寸法がパターン突起部Ｐの寸法よりも狭い磁気パターン転写用マスタ３を用いて、１回目の磁気パターンの転写を行う場合、図１６の１回目の転写（ａ）に示すように、磁気パターン転写用マスタ３を磁気記録媒体１に接近させる。さらに、磁気パターン転写用マスタ３の磁性部分４を覆うように永久磁石（図示していない）を配置し、この永久磁石から発生する一定の印加磁界ＥＦ（＋）を、磁気パターン転写用マスタ３に対して予め設定された方向（例えば、図１６の矢印の方向）に印加する。
【０１１６】
この外部からの印加磁界ＥＦ（＋）によって、磁性部分４の磁気パターンのパターン突起部Ｐが上記印加磁界ＥＦ（＋）と同じ方向に磁化され、当該パターン突起部Ｐ内で磁界が生じる。このパターン突起部Ｐ内の磁界によって、パターン溝部Ｇにて漏れ磁束が発生する。この漏れ磁束による磁界によって、磁気記録媒体１の磁性膜１−２が外部からの印加磁界ＥＦ（＋）と同じ方向に磁化され、当該磁気パターンのパターン溝部Ｇと同じ寸法を有する磁気パターンＭＰ−１（＋）が磁気記録媒体１の磁性膜１−２に転写される。
【０１１７】
さらに、２回目の磁気パターンの転写を行う場合、図１７の２回目の転写（ｂ）に示すように、パターン溝部Ｇの幅以下の寸法分だけ磁気パターン転写用マスタ３または磁気記録媒体１のいずれか一方の位置をずらす。これと同時に、外部からの印加磁界の方向を変えて、１回目の磁気パターン転写時の印加磁界ＥＦ（＋）と反対方向の印加磁界ＥＦ（−）を印加し、上記のような磁気パターンの転写を繰り返し行う。
【０１１８】
これによって、磁気記録媒体１の磁性膜１−２が外部からの印加磁界ＥＦ（−）と同じ方向（すなわち、印加磁界ＥＦ（＋）と反対方向）に磁化され、磁気パターンＭＰ−１（−）が磁気記録媒体１の磁性膜１−２に転写される。この場合、２回目の磁気パターン転写時の磁気パターンＭＰ−１（−）の磁化の方向は、１回目の磁気パターン転写時の磁気パターンＭＰ−１（＋）の磁化の方向と逆になっているので、２回目の磁気パターン転写時の磁気パターンＭＰ−１（−）が、１回目の磁気パターン転写時の磁気パターンＭＰ−１（＋）の一部に上書きされる。それゆえに、磁気パターンのパターン溝部Ｇの寸法よりも小さい寸法を有する磁気パターンが磁気記録媒体１の磁性膜１−２に転写されることになる。
【０１１９】
さらに、３回目の磁気パターンの転写を行う場合、図１８の３回目の転写（ｃ）に示すように、パターン溝部Ｇの幅以下の寸法分だけ磁気パターン転写用マスタ３または磁気記録媒体１のいずれか一方の位置をずらす。これと同時に、外部からの印加磁界の方向を再び変えて、２回目の磁気パターン転写時の印加磁界ＥＦ（−）と反対方向の印加磁界（すなわち１回目の磁気パターン転写時の印加磁界）ＥＦ（＋）を印加し、上記のような磁気パターンの転写を繰り返し行う。
【０１２０】
これによって、磁気記録媒体１の磁性膜１−２が外部からの印加磁界ＥＦ（＋）と同じ方向に磁化され、磁気パターンＭＰ−３（＋）が磁気記録媒体１の磁性膜１−２に転写される。この場合、３回目の磁気パターン転写時の磁気パターンＭＰ−３（＋）の磁化の方向は、２回目の磁気パターン転写時の磁気パターンＭＰ−２（−）の磁化の方向と逆になっているので、３回目の磁気パターン転写時の磁気パターンＭＰ−３（＋）が、２回目の磁気パターン転写時の磁気パターンＭＰ−２（−）の一部に上書きされる。
【０１２１】
図１８に示すように、１回目〜３回目の磁気パターンの転写により転写された最終的な磁気パターンは、磁気パターン転写用マスタ３のパターン溝部Ｇの寸法よりも小さい寸法を有しており、かつ、前述の図１４および図１５の第１の具体例における磁気パターンの周期よりも短くなっている。なお、図１６〜図１８では、１回目および３回目に転写された磁気パターンＭＰ−１（＋）およびＭＰ−３（＋）を細いハッチングにより表し、２回目に転写された磁気パターンＭＰ−２（−）を、上記磁気パターンＭＰ−１（＋）およびＭＰ−３（＋）とは異なる方向の太いハッチングにより表している。
【０１２２】
図１６〜図１８の第２の具体例においては、磁気パターンのパターン溝部の幅以下の寸法分だけ磁気パターン転写用マスタまたは磁気記録媒体のいずれか一方の相対的な位置をずらしながら、外部からの印加磁界の向きを交互に変えて上記磁気パターンの一部の上書きを行いつつ上記磁気パターンの転写を行うようにしているので、それほど高密度の磁気パターン転写用マスタを使用しなくても、前述の図１４および図１５の第１の具体例よりもパターン周期が短い高解像度の磁気パターンを磁気記録媒体に転写することができる。
【０１２３】
図１９は図１３の実施例に係る磁気パターン転写方法の第３の具体例（その１）を示す模式図であり、図２０は上記実施例に係る磁気パターン転写方法の第３の具体例（その２）を示す模式図である。
【０１２４】
ただし、ここでも、磁気パターンの転写に使用される磁気パターン転写用マスタおよび磁気記録媒体の一部を拡大して示す。さらに、ここでは、一般の磁気ディスク装置に使用される磁気ディスク等の磁気記録媒体１の磁性膜１−２において、その内径部から外径部まで同心円状に配置される複数のトラック（図１参照）に対し、周方向または半径方向に磁気パターンを連続して転写する場合を想定する。
【０１２５】
図１９および図２０の第３の具体例では、初めに、磁気記録媒体１の複数のトラックに対して特定の方向に充分大きな磁界を印加し、各々のトラックにおける媒体基材１−１上の磁性膜１−２の全ての部分を初期化しておく。
【０１２６】
さらに、磁気パターンのパターン溝部Ｇの寸法がパターン突起部Ｐの寸法よりも狭い磁気パターン転写用マスタ３を用いて、複数のトラック中の数トラック毎に１回目の磁気パターンの転写を行う場合、図１９に示すように、磁気パターン転写用マスタ３を磁気記録媒体１の数トラック分の磁性膜１−２に接近させる。さらに、磁気パターン転写用マスタ３の磁性部分４を覆うように永久磁石（図示していない）を配置し、この永久磁石から発生する一定の印加磁界を磁気パターン転写用マスタ３に印加する。
【０１２７】
この外部からの印加磁界によって、磁性部分４の磁気パターンのパターン突起部Ｐが上記印加磁界と同じ方向（例えば、各トラックの接線方向）に磁化され、当該パターン突起部Ｐ内で磁界が生じる。このパターン突起部Ｐ内の磁界によって、パターン溝部Ｇにて漏れ磁束が発生する。この漏れ磁束による磁界によって、磁気記録媒体１の数トラック分の磁性膜１−２が外部からの印加磁界と同じ方向に磁化される。この結果、図１９に示すように、当該磁気パターンのパターン溝部Ｇと同じ寸法を有する磁気パターンＭＰ−１が磁気記録媒体１の数トラック分の磁性膜１−２に転写される。
【０１２８】
さらに、上記の数トラックに対し２回目の磁気パターンの転写を行う場合、特に図１９の下半部の（ａ）（周方向のみにずらして転写）に示すように、磁気記録媒体１の周方向に対して磁気パターン転写用マスタ３または磁気記録媒体１のいずれか一方の位置をずらしながら各トラックの接線方向の印加磁界を印加し、上記のような磁気パターンの転写を繰り返し行う。これによって、磁気記録媒体１の周方向に対して１回目の磁気パターンの転写により転写された磁気パターンＭＰ−１と異なる位置に、１回目の磁気パターンの転写の場合と同じ寸法（すなわち、磁気パターン転写用マスタ３のパターン溝部Ｇの寸法）を有する磁気パターンＭＰ−２が磁気記録媒体１の数トラック分の磁性膜１−２に転写される。
【０１２９】
なお、図１９では、転写された磁気パターンの例ＥＰとして、１回目に転写された数トラック分の磁気パターンＭＰ−１を細いハッチングにより表し、２回目に転写された数トラック分の磁気パターンＭＰ−２を太いハッチングにより表している。
【０１３０】
さらに、磁気パターン転写用マスタ３を用いて、複数のトラック中の他の数トラックに対して１回目の磁気パターンの転写を行う場合、磁気パターン転写用マスタ３を移動させて磁気記録媒体１の他の数トラック分の磁性膜１−２に接近させる。さらに、磁気パターン転写用マスタ３の磁性部分４を覆うように永久磁石を配置し、この永久磁石から発生する一定の印加磁界を磁気パターン転写用マスタ３に印加する。
【０１３１】
この外部からの印加磁界によって、前述の数トラック分の１回目の磁気パターン転写の場合と同様に、当該磁気パターンのパターン溝部Ｇと同じ寸法を有する磁気パターンＭＰ−１が、磁気記録媒体１の他の数トラック分の磁性膜１−２に転写される。
【０１３２】
さらに、上記の他の数トラックに対し２回目の磁気パターンの転写を行う場合、前述の数トラック分の２回目の磁気パターン転写の場合と同様に、磁気記録媒体１の周方向に対して磁気パターン転写用マスタ３または磁気記録媒体１のいずれか一方の位置をずらしながら各トラックの接線方向の印加磁界を印加し、上記のような磁気パターンの転写を繰り返し行う。これによって、１回目の磁気パターンの転写により転写された磁気パターンＭＰ−１と異なる位置に、１回目の磁気パターンの転写の場合と同じ寸法を有する磁気パターンＭＰ−２が磁気記録媒体１の他の数トラック分の磁性膜１−２に転写される。
【０１３３】
このようにして、図１９の第３の具体例では、磁気パターン転写用マスタ３を順次移動させて複数のトラック中の数トラック毎に１回目および２回目の磁気パターンの転写を行うことにより、磁気記録媒体１の周方向に配置されている全てのトラックに対する磁気パターンの転写を連続して行うことができる。
【０１３４】
また一方で、図２０の第３の具体例に示すように、前述の図１９の磁気パターン転写用マスタと同じタイプの磁気パターン転写用マスタ３を用いて、複数のトラック中の数トラック毎に１回目の磁気パターンの転写を行う場合、前述の図１９の場合と同様に、磁気パターン転写用マスタ３を磁気記録媒体１の数トラック分の磁性膜１−２に接近させる。さらに、磁気パターン転写用マスタ３の磁性部分４を覆うように永久磁石を配置し、この永久磁石から発生する一定の印加磁界を磁気パターン転写用マスタ３に印加する。
【０１３５】
この外部からの印加磁界によって、磁性部分４の磁気パターンのパターン突起部Ｐが上記印加磁界と同じ方向（例えば、各トラックの接線方向）に磁化され、当該パターン突起部Ｐ内で磁界が生じる。このパターン突起部Ｐ内の磁界によって、パターン溝部Ｇにて漏れ磁束が発生する。この漏れ磁束による磁界によって、磁気記録媒体１の数トラック分の磁性膜１−２が外部からの印加磁界と同じ方向に磁化される。この結果、図２０に示すように、当該磁気パターンのパターン溝部Ｇと同じ寸法を有する磁気パターンＭＰ−１が磁気記録媒体１の数トラック分の磁性膜１−２に転写される。
【０１３６】
さらに、上記の数トラックに対し２回目の磁気パターンの転写を行う場合、特に図２０の下半部の（ｂ）（半径方向にもずらして転写）に示すように、磁気記録媒体１の周方向および半径方向に対して磁気パターン転写用マスタ３または磁気記録媒体１のいずれか一方の位置をずらしながら各トラックの接線方向の印加磁界を印加し、上記のような磁気パターンの転写を繰り返し行う。これによって、１回目の磁気パターンの転写により転写された磁気パターンＭＰ−１の周方向ばかりでなく半径方向にもずれた位置に、１回目の磁気パターンの転写の場合と同じ寸法（すなわち、磁気パターン転写用マスタ３のパターン溝部Ｇの寸法）を有する磁気パターンＭＰ−２が磁気記録媒体１の数トラック分の磁性膜１−２に転写される。
【０１３７】
なお、図２０では、前述の図１９の場合と同様に、転写された磁気パターンの例ＥＰとして、１回目に転写された数トラック分の磁気パターンＭＰ−１を細いハッチングにより表し、２回目に転写された数トラック分の磁気パターンＭＰ−２を太いハッチングにより表している。
【０１３８】
さらに、磁気パターン転写用マスタ３を用いて、複数のトラック中の他の数トラックに対して１回目の磁気パターンの転写を行う場合、前述の図１９の場合と同様に、磁気パターン転写用マスタ３を移動させて磁気記録媒体１の他の数トラック分の磁性膜１−２に接近させる。さらに、磁気パターン転写用マスタ３の磁性部分４を覆うように永久磁石を配置し、この永久磁石から発生する一定の印加磁界を磁気パターン転写用マスタ３に印加する。
【０１３９】
この外部からの印加磁界によって、前述の数トラック分の１回目の磁気パターン転写の場合と同様に、当該磁気パターンのパターン溝部Ｇと同じ寸法を有する磁気パターンＭＰ−１が、磁気記録媒体１の他の数トラック分の磁性膜１−２に転写される。
【０１４０】
さらに、上記の他の数トラックに対し２回目の磁気パターンの転写を行う場合、前述の数トラック分の２回目の磁気パターン転写の場合と同様に、磁気記録媒体１の周方向および半径方向に対して磁気パターン転写用マスタ３または磁気記録媒体１のいずれか一方の位置をずらしながら各トラックの接線方向の印加磁界を印加し、上記のような磁気パターンの転写を繰り返し行う。これによって、１回目の磁気パターンの転写により転写された磁気パターンＭＰ−１の周方向ばかりでなく半径方向にもずれた位置に、１回目の磁気パターンの転写の場合と同じ寸法を有する磁気パターンＭＰ−２が磁気記録媒体１の他の数トラック分の磁性膜１−２に転写される。
【０１４１】
このようにして、図２０の第３の具体例では、磁気パターン転写用マスタ３を順次移動させて複数のトラック中の数トラック毎に１回目および２回目の磁気パターンの転写を行うことにより、磁気記録媒体１の周方向ばかりでなく半径方向にもずれた位置に配置されている全てのトラックに対する磁気パターンの転写を連続して行うことができる。
【０１４２】
図１９および図２０の第３の具体例においては、パターン溝部の寸法がパターン突起部の寸法よりも狭い磁気パターン転写用マスタを用いて、磁気記録媒体の周方向および半径方向の少なくとも一方の方向に対して磁気パターン転写用マスタまたは磁気記録媒体のいずれか一方の位置をずらしながら、磁気パターンの転写を繰り返し行うようにしているので、数トラックにまたがって形成されるような比較的複雑な形状でかつ高解像度の磁気パターンを磁気記録媒体に効率良く転写することができる。
【０１４３】
図２１は本発明の第８の実施例に係る磁気パターン転写方法を説明するための模式図である。ただし、ここでは、磁気パターンの転写に使用される磁気パターン転写用マスタおよび磁気記録媒体の全体を簡略化して示す。
【０１４４】
例えば図２０にて説明したように、磁気記録媒体１の周方向および半径方向に対して磁気パターン転写用マスタまたは磁気記録媒体のいずれか一方の位置をずらしながら、複数回にわたって磁気パターンの転写を複数回繰り返し行う場合、高解像度の磁気パターンを磁気記録媒体１に転写するために、磁気パターン転写用マスタ３の磁性部分４に対する磁性膜１−１の基準位置からの位置ずれの量を正確に設定しなければならない。
【０１４５】
このため、図２１の第８の実施例では、磁気パターン転写用マスタ３および磁気記録媒体１を回転ステージ（図示していない）に搭載し、この回転ステージを用いて、磁気パターン転写用マスタ３または磁気記録媒体１のいずれか一方を特定の方向（例えば、矢印により表される方向）に微小量ずつ回転させるようにしている。これによって、例えばｎｍ（１０-9ｍ）のオーダーで、磁気パターン転写用マスタ３の磁性部分４に対する磁性膜１−１の基準位置からの位置ずれの量を高精度にて設定することができる。
【０１４６】
図２２は本発明の第９の実施例に係る磁気パターン転写方法を説明するための模式図である。ただし、ここでも、磁気パターンの転写に使用される磁気パターン転写用マスタおよび磁気記録媒体の全体を簡略化して示す。
【０１４７】
この場合も、前述の第８の実施例の場合と同様に、磁気記録媒体１の周方向および半径方向に対して磁気パターン転写用マスタ３または磁気記録媒体のいずれか一方の位置をずらしながら、複数回にわたって磁気パターンの転写を複数回繰り返し行う場合、高解像度の磁気パターンを磁気記録媒体１に転写するために、磁気パターン転写用マスタ３の磁性部分４に対する磁性膜１−２の基準位置からの位置ずれの量を正確に設定しなければならない。
【０１４８】
このため、図２２の第９の実施例では、磁気パターン転写用マスタ３の磁気パターンを構成する複数のパターンブロック４２の各々の近傍に、圧電素子（すなわち、ピエゾ素子）６を予め形成しておく。この圧電素子６の一方の端部と他方の端部との間に一定の電圧を常時印加しておくと、磁気パターン転写用マスタ３の磁気パターンのパターンブロック４２から受ける磁界の変化に応答して、上記圧電素子６の両端部間の電圧が変化する。この電圧の変化によって圧電素子６が伸び縮みし、その寸法が変化する。この圧電素子６の寸法の変化を利用して、磁気パターン転写用マスタ３を特定の方向（例えば、矢印により表される方向）に微小量ずつ回転させるようにしている。
【０１４９】
この圧電素子を用いて、例えばｎｍ（１０-9ｍ）のオーダーで、磁気パターン転写用マスタ３の磁性部分４に対する磁性膜１−１の基準位置からの位置ずれの量を高精度にて設定することができる。
【０１５０】
図２３は本発明の第１０の実施例に係る磁気パターン転写方法を説明するための模式図である。ただし、ここでも、磁気パターンの転写に使用される磁気パターン転写用マスタおよび磁気記録媒体の全体を簡略化して示す。
【０１５１】
この場合も、前述の第８および第９の実施例の場合と同様に、磁気記録媒体１の周方向および半径方向に対して磁気パターン転写用マスタ３または磁気記録媒体１のいずれか一方の位置をずらしながら、複数回にわたって磁気パターンの転写を複数回繰り返し行う場合、高解像度の磁気パターンを磁気記録媒体１に転写するために、磁気パターン転写用マスタ３の磁性部分４に対する磁性膜１−２の基準位置からの位置ずれの量を正確に設定しなければならない。
【０１５２】
このため、図２３の第１０の実施例では、超音波振動素子による超音波振動Ｕを利用して、磁気パターン転写用マスタ３または磁気記録媒体１のいずれか一方を微小量ずつ回転させるようにしている。好ましくは、超音波を供給すると振動する超音波振動素子を磁気パターン転写用マスタ３または磁気記録媒体１のいずれか一方に埋め込んでおき、外部の超音波モータから超音波を供給して超音波振動素子を振動させることにより、磁気パターン転写用マスタ３または磁気記録媒体１のいずれか一方を微小量ずつ回転させるようにしている。
【０１５３】
この超音波振動素子による超音波振動によって、例えばｎｍ（１０-9ｍ）のオーダーで、磁気パターン転写用マスタ３の磁性部分４に対する磁性膜１−１の基準位置からの位置ずれの量を高精度にて設定することができる。
【０１５４】
図２４は本発明の第１１の実施例に係る磁気パターン転写方法を説明するための模式図である。ただし、ここでは、磁気パターンの転写に使用される磁気パターン転写用マスタ、補助マスタおよび磁気記録媒体の一部を拡大して示す。
【０１５５】
図２４の第１１の実施例では、磁気パターンの転写に使用される磁気パターン転写用マスタ３の上に、溝部３２が予め形成された補助マスタ３０を重ね合わせて配置する。この補助マスタ３０は、磁気パターン転写用マスタ３の磁性部分４に予め形成された磁気パターンを構成するパターンブロックを覆うように配置される。
【０１５６】
上記のように補助マスタ３０を配置した状態で、磁気パターン転写用マスタ３を磁気記録媒体１に接近させる。さらに、磁気パターン転写用マスタ３および補助マスタ３０を覆うように永久磁石（図示していない）を配置し、この永久磁石から発生する印加磁界ＥＦを磁気パターン転写用マスタ３および補助マスタ３０に印加する。
【０１５７】
この外部からの印加磁界ＥＦにより、補助マスタ３０の溝部の部分に集中して磁場（磁界）が発生する（図２４の発生磁場ＭＦに対応する）。換言すれば、補助マスタ３０の溝部を介して、磁気パターン転写用マスタ３の磁気パターンのパターンブロックの部分に磁界が集中して印加される。
【０１５８】
これによって、図２４の第１１の実施例では、磁気パターンを磁気記録媒体１の磁性膜１−２に転写する際に、補助マスタ３０の溝部を介して、外部からの印加磁界ＥＦを磁気パターンのパターンブロックの部分に効率良く印加することができる。この結果、磁気記録媒体１の磁性膜１−２の磁気パターンを含む部分ＭＰＰに対しても、外部からの印加磁界ＥＦが効率良く供給されるようになり、外部からの印加磁界ＥＦがそれほど強くなくても、高解像度の磁気パターンＭＰを磁気記録媒体１に転写することができる。
【０１５９】
図２５は本発明の第１２の実施例に係る磁気パターン転写方法（その１）を説明するための模式図であり、図２６は上記実施例に係る磁気パターン転写方法（その２）を説明するための模式図である。ただし、ここでも、磁気パターンの転写に使用される磁気パターン転写用マスタおよび垂直磁気記録媒体の一部を拡大して示す。さらに、ここでは、磁気パターン転写用マスタの相対的な位置をずらしながら、磁気パターンの転写を２回行う場合を想定する。
【０１６０】
これまで述べた実施例では、磁気パターン転写の対象となる磁気記録媒体として、水平磁気記録用の水平磁気記録媒体（通常、単に磁気記録媒体と称する）が用いられてきた。しかしながら、図２５および図２６の第１２の実施例では、垂直磁気記録用の垂直磁気記録媒体１ａに磁気パターンを転写する方法について説明する。
【０１６１】
図２５および図２６の第１２の実施例において、磁気パターン転写の対象となる垂直磁気記録媒体１ａは、前述の水平磁気記録媒体の場合と同様に、非磁性体の媒体基材１−１ａ上に磁性膜１−２ａを製膜した後に、この磁性膜１−２ａ上に保護膜および潤滑剤の層（いずれも、図示していない）を形成することによって製造される。
【０１６２】
上記の第１２の実施例では、このようにして製造された垂直磁気記録媒体１ａに対して特定の方向（例えば、磁性膜１−２ａの面に対して垂直な方向）に充分大きな磁界を印加し、媒体基材１−１ａ上の磁性膜１−２ａの全ての部分を初期化しておく。
【０１６３】
さらに、磁気パターンのパターン突起部Ｐａの寸法がパターン溝部Ｇｂの寸法よりも狭い磁気パターン転写用マスタ３ａを用いて１回目の磁気パターンの転写を行う場合、図２５の１回目の転写（ａ）に示すように、磁気パターン転写用マスタ３ａを垂直磁気記録媒体１ａに接近させる。さらに、磁気パターン転写用マスタ３ａの磁性部分４ａの面と垂直磁気記録媒体１ａの磁性膜１−２ａの面に対して垂直な方向に一定の磁界が供給されるように永久磁石（図示していない）を配置し、この永久磁石から発生する一定の印加磁界ＥＦを磁気パターン転写用マスタ３ａに印加する。
【０１６４】
この外部からの印加磁界ＥＦによって、磁性部分４ａの磁気パターンのパターン突起部Ｐａが上記印加磁界ＥＦと同じ方向（すなわち、磁気パターン転写用マスタ３ａおよび垂直磁気記録媒体１ａの面に垂直な方向）に磁化される。このようにして磁化されたパターン突起部Ｐａからの磁界によって、垂直磁気記録媒体１ａの磁性膜１−２ａが外部からの印加磁界ＥＦと同じ方向に磁化され、当該磁気パターンのパターン突起部Ｐａと同じ寸法を有する磁気パターンＭＰａ−１が垂直磁気記録媒体１ａの磁性膜１−２ａに転写される。
【０１６５】
なお、この場合、磁性部分４ａのパターン突起部Ｐａの磁気パターンが、垂直磁気記録媒体１ａの磁性膜１−２ａに転写される。したがって、垂直磁気記録媒体１ａの磁性膜１−２ａに転写された磁気パターンＭＰａ−１の磁化の方向は、垂直磁気記録媒体１ａの磁性膜１−２ａの面に対して垂直な方向になっている。
【０１６６】
さらに、２回目の磁気パターンの転写を行う場合、図２６の２回目の転写（ｂ）に示すように、磁気パターン転写用マスタ３ａまたは垂直磁気記録媒体１ａのいずれか一方の位置をずらしながら同方向の印加磁界ＥＦを印加し、上記のような磁気パターンの転写を繰り返し行う。これによって、１回目の磁気パターンの転写により転写された磁気パターンＭＰａ−１と異なる位置に、１回目の磁気パターンの転写の場合と同じ寸法（すなわち、磁気パターン転写用マスタ３ａのパターン突起部Ｐａの寸法）を有する磁気パターンＭＰａ−２が垂直磁気記録媒体１ａの磁性膜１−２ａに転写される。
【０１６７】
最終的に、１回目および２回目の磁気パターンの転写により転写された磁気パターンＭＰａ−１およびＭＰａ−２は、磁気パターン転写用マスタ３ａのパターン突起部の寸法と同じ寸法を有しており、かつ、同じ方向（例えば、印加磁界ＥＦの方向）に磁化されている。これに対し、相隣り合う１回目の磁気パターンＭＰａ−１と２回目の磁気パターンＭＰａ−２との間には、初期化によって印加磁界ＥＦと反対の方向に磁化された磁気パターンが形成されている。したがって、この場合、磁気パターン転写用マスク３ａよりも短いパターン周期を有する磁気パターンが垂直磁気記録媒体１ａの磁性膜１−２ａに転写されることになる。
【０１６８】
なお、図２５および図２６では、１回目に転写された磁気パターンＭＰａ−１を細いハッチングにより表し、２回目に転写された磁気パターンＭＰａ−２を太いハッチングにより表している。
【０１６９】
図２５および図２６の第１２の実施例では、転写すべき磁気パターンのパターン突起部Ｐａの寸法（幅）がパターン溝部Ｇｂの寸法（幅）よりも狭い磁性部分４ａを有する磁気パターン転写用マスタ３ａを用いている。それゆえに、前述の図１３の第７の実施例と同様に、パターン溝部の寸法（幅）とパターン突起部の寸法（幅）が同程度の従来の磁気パターン転写用マスタ３００（図１２参照）よりも磁気パターン転写用マスタの作製が容易になる。
【０１７０】
上記の第１２の実施例では、パターン突起部の寸法がパターン溝部の寸法よりも狭い磁気パターン転写用マスタを用いて、磁気パターン転写用マスタまたは垂直磁気記録媒体のいずれか一方の位置をずらしながら磁気パターンの転写を繰り返し行うようにしているので、それほど高密度の磁気パターン転写用マスタを使用しなくても、従来よりもパターン周期が短い高解像度の磁気パターンを垂直磁気記録媒体に転写することができる。
【０１７１】
図２７は本発明の第１３の実施例に係る磁気パターン転写方法を説明するための模式図である。ただし、ここでも、磁気パターンの転写に使用される磁気パターン転写用マスタおよび垂直磁気記録媒体の一部を拡大して示す。さらに、ここでは、説明を簡単にするために、さらに、ここでは、磁気パターン転写用マスタを用いて磁気パターンの転写を一回行う場合を想定する。
【０１７２】
図２７の第１３の実施例において、磁気パターン転写の対象となる垂直磁気記録媒体１を製造する場合、非磁性体の媒体基材１−１上に下地層１−２ｂを製膜し、この下地層１−２ｂ上に磁性膜１−２ａを製膜する。さらに、この磁性膜１−２ａ上に保護膜および潤滑剤の層（いずれも、図示していない）を形成することによって垂直磁気記録媒体１ａの全ての膜形成プロセスが完成する。上記の第１３の実施例では、前述の第１２の実施例の場合と異なり、垂直磁気記録媒体１ａの媒体基材１−１ａと磁性膜１−２ａとの間に、当該磁性膜１−２ａの下地となる下地層１−２ｂが形成されている。
【０１７３】
上記の第１３の実施例では、このようにして製造された垂直磁気記録媒体１ａに対して特定の方向（例えば、磁性膜１−２ａの面に対して垂直の方向）に充分大きな磁界を印加し、媒体基材１−１ａ上の磁性膜１−２ａの全ての部分を初期化しておく。
【０１７４】
さらに、磁気パターンのパターン突起部Ｐａの寸法がパターン溝部Ｇｂの寸法よりも狭い磁気パターン転写用マスタ３ａを用いて磁気パターンの転写を行う場合、図２７に示すように、磁気パターン転写用マスタ３ａを垂直磁気記録媒体１ａに接近させる。さらに、磁気パターン転写用マスタ３ａの磁性部分４ａの面と垂直磁気記録媒体１ａの磁性膜１−２ａの面に対して垂直な方向に一定の磁界が供給されるように永久磁石ＭＧａを配置し、この永久磁石ＭＧａから発生する一定の印加磁界ＥＦを磁気パターン転写用マスタ３ａに印加する。
【０１７５】
換言すれば、上記の第１３の実施例では、磁気パターン転写用マスタ１ａの磁気パターンのパターン突起部Ｐａと、垂直磁気記録媒体１ａの磁性膜１−２ａおよび下地層１−２ｂとによって磁界のループ（磁場のループ）ＭＬが形成されるように、永久磁石ＭＧａ等によって外部から印加磁界ＥＦを供給している。
【０１７６】
この外部からの印加磁界ＥＦによって、磁性部分４ａの磁気パターンのパターン突起部Ｐａが上記印加磁界ＥＦと同じ方向（すなわち、磁気パターン転写用マスタ３ａおよび垂直磁気記録媒体１ａの面に垂直な方向）に磁化される。この磁化されたパターン突起部Ｐからの磁界によって、垂直磁気記録媒体１ａの磁性膜１−２ａが外部からの印加磁界ＥＦと同じ方向に磁化され、当該磁気パターンのパターン突起部Ｐａと同じ寸法を有する磁気パターンＭＰａが垂直磁気記録媒体１ａの磁性膜１−２ａに転写される。
【０１７７】
上記の第１３の実施例では、外部からの印加磁界ＥＦおよび磁場のループＭＬにより、磁性部分４ａのパターン突起部Ｐａを介して垂直磁気記録媒体１ａの磁性膜１−２ａの部分に磁界が集中して印加される。
【０１７８】
これによって、図２７の第１３の実施例では、磁気パターンを垂直磁気記録媒体１の磁性膜１−２に転写する際に、外部からの印加磁界ＥＦを磁性部４ａのパターン突起部Ｐａに効率良く印加することができる。この結果、垂直磁気記録媒体１ａの磁性膜１−２ａに対しても、外部からの印加磁界ＥＦが効率良く供給されるようになり、外部からの印加磁界ＥＦがそれほど強くなくても、高解像度の磁気パターンＭＰａを垂直磁気記録媒体１に転写することができる。
【０１７９】
図２８は有限長の磁気パターンが存在する場合の従来の磁気パターン転写方法を説明するための模式図であり、図２９は図２８の磁気パターン転写方法に関する問題点を説明するための模式図である。
【０１８０】
ただし、図２８においては、磁気パターンの転写に使用される磁気パターン転写用マスタおよび磁気記録媒体の一部を拡大して示す。また一方で、図２９においては、磁気パターンが転送された磁気記録媒体の一部を拡大して示す。さらに、ここでは、水平磁気記録用の磁気記録媒体１に磁気パターンを転写する方法について説明する。
【０１８１】
図２８においても、前述の図１２の場合と同様に、まず第１に、パターン溝部Ｇ′およびパターン突起部Ｐ′からなる凹凸を有する磁気パターン（ＬＰ、ＳＰ）が予め形成された磁性部分４００を有する磁気パターン転写用マスタ３００を磁気記録媒体１に接近させる。ここで、パターン溝部Ｇ′の寸法（幅）とパターン突起部Ｐ′（幅）の寸法はほぼ同じになっている。つぎに、磁気パターン転写用マスタ３００のマスタ基材５００上の磁性部分４００を覆うように永久磁石（図示していない）を配置し、この永久磁石から発生する一定の印加磁界を磁気パターン転写用マスタ３００に印加する。
【０１８２】
この磁気パターン転写用マスタ３００の磁性部分４００の中で、充分に長い磁気パターンＬＰと、有限の長さを有する有限長の磁気パターンＳＰとがパターン突起部Ｐ′により構成される場合、永久磁石からの印加磁界によって、これらの磁気パターンＬＰ、ＳＰのパターン突起部Ｐ′が上記印加磁界と同じ方向（すなわち、磁気パターン転写用マスタ３００および磁気記録媒体１の面に平行な方向）に磁化され、当該磁気パターン内で磁界が生じる。このときに、相隣り合う磁気パターン間のパターン溝部Ｇ′にて漏れ磁束が発生する。この漏れ磁束による磁界によって、磁気記録媒体１の媒体基材１−１上の磁性膜１−２が外部からの印加磁界と同じ方向に磁化され、当該磁気パターンのパターン溝部Ｇ′（またはパターン突起部Ｐ′）にほぼ対応する寸法を有する磁気パターンＭＰが磁気記録媒体１の磁性膜１−２に転写される。
【０１８３】
最終的に、図２９に示すように、充分に長い磁気パターンＬＰと有限の長さを有する有限長の磁気パターンＳＰとが、パターン溝部Ｇ′のギャップ部分で磁気記録媒体１の磁性膜１−２に転写され、転写された長い磁気パターンＭＰＬと、転写された有限長の磁気パターンＭＰＳとが、それぞれ磁性膜１−２に形成される。
【０１８４】
しかしながら、図２８に示すように、特に複数の有限長の磁気パターンＭＰＳがパターン突起部Ｐ′により構成される場合、これらの有限長の磁気パターンＭＰＳにおいては、当該磁気パターンの端の部分ＥＰで発生する漏れ磁束による磁界が弱くなる。このため、有限長の磁気パターンＭＰＳの端の部分で発生する磁場（磁界）の強度傾斜が緩くなる。この磁場の強度傾斜が緩くなると、磁気記録媒体１の磁性膜１−２の磁化のし易さにむらが生じ、磁性膜１−２に転写された各々の有限長の磁気パターンＭＰＳにおける端の部分ＥＰのばらつきが大きくなる。この結果、各々の有限長の磁気パターンＭＰＳの長さが不揃いになる。
【０１８５】
これに対し、本発明の磁気パターン転写方法では、複数の有限長の磁気パターンがパターン溝部により構成される場合、当該磁気パターンの端の部分の角が丸くなるように形成された磁気パターン転写用マスタを用いて、磁気記録媒体の磁性膜への磁気パターンの転写を行うことにより、当該磁気パターンの端の部分におけるパターン溝部の幅が相対的に狭くなるので、転写後の磁性膜における各々の有限長の磁気パターンの長さが不揃いになるのが回避され、複数の有限長の磁気パターンを磁気記録媒体に高精細に転写することが可能になる。
【０１８６】
以下、添付図面（図３０〜図３２）を参照しながら、本発明の第１４および第１５の実施例に係る磁気パターン転写方法について詳細に説明する。
【０１８７】
図３０は本発明の第１４の実施例に係る磁気パターン転写方法（その１）を説明するための模式図であり、図３１は本発明の第１４の実施例に係る磁気パターン転写方法（その２）を説明するための模式図である。
【０１８８】
ただし、図３０においては、磁気パターンの転写に使用される磁気パターン転写用マスタおよび磁気記録媒体の一部を拡大して示す。また一方で、図３１においては、磁気パターンが転送された磁気記録媒体の一部を拡大して示す。さらに、ここでは、水平磁気記録用の磁気記録媒体１に磁気パターンを転写する方法について説明する。
【０１８９】
図３０および図３１の第１４の実施例では、磁気パターン転写用マスタ３ｂの磁性部分４ｂの磁気パターンにおいて、有限の長さを有する複数の有限長の磁気パターンＳＰＰがパターン凹部（溝）４３により構成されている。これらの有限長の磁気パターンＳＰＰにおける端の部分ＥＰのパターン角部４５の面取りを行い、この端の部分ＥＰの角がほぼ丸くなるように当該磁気パターンを形成する。ただし、磁気パターン転写用マスタ３ｂの磁性部分４ｂ′において、充分に長い磁気パターンＬＰは、前述の図２８の場合と同様に、パターン凸部（すなわち、パターン突起部）４４により構成されている。
【０１９０】
図３０において磁気パターンの転写を行う場合、まず第１に、パターン凹部４３およびパターン凸部４４からなる凹凸を有する磁気パターン（ＬＰ、ＳＰＰ）が予め形成された磁性部分４ｂ、４ｂ′を有する磁気パターン転写用マスタ３ｂを磁気記録媒体１に接近させる。ここで、パターン凹部の寸法（幅）とパターン凸部の寸法（幅）はほぼ同じになっているが、前述の図２８の場合と異なり、複数の有限長の磁気パターンＳＰＰが溝状のパターン凹部になっている点に注意すべきである。つぎに、磁気パターン転写用マスタ３ｂの磁性部分４ｂ、４ｂ′を覆うように永久磁石（図示していない）を配置し、この永久磁石から発生する一定の印加磁界を磁気パターン転写用マスタ３ｂに印加する。
【０１９１】
この外部からの印加磁界によって、充分に長い磁気パターンＬＰと、複数の有限長の磁気パターンＳＰＰとが上記印加磁界と同じ方向（すなわち、磁気パターン転写用マスタ３ｂおよび磁気記録媒体１の面に平行な方向）に磁化され、これらの磁気パターンＬＰ、ＳＰＰ内で磁界が生じる。このときに、相隣り合う磁気パターン間のパターン溝部Ｇまたはパターン凹部４３にて漏れ磁束が発生する。この漏れ磁束による磁界によって、磁気記録媒体１の媒体基材１−１上の磁性膜１−２が外部からの印加磁界と同じ方向に磁化され、当該磁気パターンのパターン凹部４３（またはパターン凸部４４）にほぼ対応する寸法を有する磁気パターンが磁気記録媒体１の磁性膜１−２に転写される。
【０１９２】
最終的に、図３１に示すように、充分に長い磁気パターンＬＰと有限の長さを有する有限長の磁気パターンＳＰとが、パターン溝部Ｇまたはパターン凹部４３のギャップ部分で磁気記録媒体１の磁性膜１−２に転写され、転写された長い磁気パターンＭＰＬと、転写された有限長の磁気パターンＭＰＳとが、それぞれ磁性膜１−２に形成される。
【０１９３】
図３０および図３１の第１４の実施例では、前述のように、複数の有限長の磁気パターンＳＰＰがパターン凹部４３により構成されており、当該磁気パターンにおける端の部分ＥＰの角がほぼ丸くなるように当該磁気パターンを形成している。さらに、当該磁気パターンが形成された磁気パターン転写用マスタ３ｂを用いて、磁気記録媒体１の磁性膜１−２への磁気パターンの転写を行うようにしている。
【０１９４】
それゆえに、上記の第１４の実施例では、レジストの露光および磁性層のエッチングにより磁気パターン転写用マスタ３ｂを作製した場合に、複数の有限長の磁気パターンＳＰＰの端部（端の部分ＥＰ）におけるパターン凹部４３のパターン幅部４６の幅Ｗが相対的に狭くなり、当該磁気パターンの端部で発生する磁界の強度傾斜が従来よりも急峻になる。このため、磁気記録媒体１の磁性膜１−２に転写された磁気パターンの端部にて磁化されるか磁化されないかの境界線が明確になる。この結果、転写後の磁性膜１−２における各々の有限長の磁気パターンＳＰＰの長さが揃うようになり、複数の有限長の磁気パターンＳＰＰを磁気記録媒体１に高精細に転写することができる。
【０１９５】
より具体的には、特に有限長の磁気パターン転写方法に使用される磁気パターン転写用マスタ３ｂを作製する場合、第１番目の工程で、シリコン基板等の非磁性体のマスタ基材１−１上に、磁性部分４ｂを含む磁性層を真空蒸着法により形成する。この磁性層上にポジ型のレジストを塗布して露光すると、磁気パターン転写用マスタ３ｂの磁性層上にポジパターンが形成される。第２番目の工程で、ポジ型のレジストによるポジパターンが磁性層上に形成されている状態で、複数の有限長の磁気パターンＳＰＰの部分がパターン凹部４３になるように磁性層のエッチングを行う。このようにして形成された複数の有限長の磁気パターンＳＰＰを含む磁性層の磁気パターンは、ポジ型のレジストによるポジパターンと同じ形状になっている。
【０１９６】
ここで、有限長の磁気パターンＳＰＰの部分の端部におけるパターン凹部４３の幅Ｗは、パターン凹部４３の中央部の幅よりも狭くなっている。それゆえに、当該磁気パターンの端部で発生する磁界の強度傾斜が従来よりも急峻になるので、転写後の磁性膜１−２における各々の有限長の磁気パターンＳＰＰの長さが揃うようになり、複数の有限長の磁気パターンＳＰＰを磁気記録媒体１に高精細に転写することが容易にできるようになる。
【０１９７】
図３２は本発明の第１５の実施例に係る磁気パターン転写方法を説明するための模式図である。ただし、ここでは、磁気パターンの転写に使用される磁気パターン転写用マスタの一部を拡大して示す。さらに、ここでは、水平磁気記録用の磁気記録媒体１に磁気パターンを転写する方法について説明する。
【０１９８】
図３２においては、従来の磁気パターン転写方法に使用される磁気パターン転写用マスタ３００と、本発明の第１５の実施例に係る磁気パターン転写方法に使用される磁気パターン転写用マスタ３ｃとを比較が容易に行えるようにするために、従来技術に関連した磁気パターン転写用マスタ３００と本発明の第１５の実施例に関連した磁気パターン転写用マスタ３ｃとを、それぞれ図３２の上半部（図３２の（ａ））および下半部（図３２の（ｂ））に示す。
【０１９９】
図３２の（ａ）に示すような従来技術に関連した磁気パターン転写用マスタ３００は、前述の図２８の磁気パターン転写用マスタ３００と同じ構成になっている。したがって、ここでは、従来技術に関連した磁気パターン転写用マスタ３００に関する再度の説明を省略することとする。
【０２００】
図３２の（ｂ）に示すような本発明の第１５の実施例に関連した磁気パターン転写用マスタ３ｃにおいては、複数の有限の長さを有する磁気パターンＳＰＰの部分がパターン凹部（溝）４３により構成されると共に、磁気パターンＳＰＰの部分以外の充分に長い磁気パターン（長いポジパターン）ＰＰＬの部分もパターン凹部４７により構成されている。
【０２０１】
換言すれば、従来技術に関連した磁気パターン転写用マスタ３００の長い磁気パターンＬＰのパターン溝部の部分が、本発明の第１５の実施例に係る磁気パターン転写用マスク３ｃのパターン凸部４４に対応しており、従来技術に関連した磁気パターン転写用マスタ３００の長い磁気パターンＬＰのパターン突起部の部分が、上記の第１５の実施例に係る磁気パターン転写用マスタ３ｃのパターン凹部４７に対応している。
【０２０２】
さらに、図３２の（ｂ）に示すような本発明の第１５の実施例に関連した磁気パターン転写用マスタ３ｃにおいては、全ての磁気パターン（ＬＰ、ＳＰＰ）の部分を含むパターンブロックが全体として突起状になるように上記パターンブロック以外の部分を窪ませている。より詳しくいえば、上記パターンブロックの両端部の段差部分の側壁部４９に緩い傾斜をもたせている。
【０２０３】
図３２の（ｂ）から明らかなように、上記の第１５の実施例では、磁気パターン転写用マスタ３ｃの磁気パターンの中でパターン凸部（４４、４８）の面積がパターン凹部（４３、４７）の面積よりも広くなっている。それゆえに、上記の第１５の実施例において、磁気記録媒体１の媒体基材１−１上の磁性膜１−２に磁気パターンを転写する場合に、上記磁性膜１−２の表面と接触するパターン凸部の表面の面積が相対的に大きくなり、磁気記録媒体１と磁気パターン転写用マスタ３ｃとの密着度が良好になる。
【図面の簡単な説明】
【０２０４】
【図１】磁気記録媒体上に転写される磁気パターンの配置例を示す模式図である。
【図２】従来の代表的な磁気パターン転写方法を説明するための模式図である。
【図３】一般の磁気記録媒体の概略的な構造を示す正面図である。
【図４】通常の磁気記録媒体の製造工程を示す流れ図である。
【図５】本発明の第１の実施例に係る磁気パターン転写方法を説明するための流れ図である。
【図６】本発明の第２の実施例に係る磁気パターン転写方法を説明するための流れ図である。
【図７】本発明の第３の実施例に係る磁気パターン転写方法を説明するための流れ図である。
【図８】本発明の第４の実施例に係る磁気パターン転写方法を説明するための流れ図である。
【図９】本発明の第５の実施例に係る磁気パターン転写方法を説明するための流れ図である。
【図１０】従来の磁気パターン転写方法に使用される磁気パターン転写用マスタの一例を示す平面図である。
【図１１】本発明の第６の実施例に係る磁気パターン転写方法を説明するための模式図である。
【図１２】従来の磁気パターン転写方法により転写される磁気パターンの一例を示す模式図である。
【図１３】本発明の第７の実施例に係る磁気パターン転写方法を説明するための模式図である。
【図１４】図１３の実施例に係る磁気パターン転写方法の第１の具体例（その１）を示す模式図である。
【図１５】図１３の実施例に係る磁気パターン転写方法の第１の具体例（その２）を示す模式図である。
【図１６】図１３の実施例に係る磁気パターン転写方法の第２の具体例（その１）を示す模式図である。
【図１７】図１３の実施例に係る磁気パターン転写方法の第２の具体例（その２）を示す模式図である。
【図１８】図１３の実施例に係る磁気パターン転写方法の第２の具体例（その３）を示す模式図である。
【図１９】図１３の実施例に係る磁気パターン転写方法の第３の具体例（その１）を示す模式図である。
【図２０】図１３の実施例に係る磁気パターン転写方法の第３の具体例（その２）を示す模式図である。
【図２１】本発明の第８の実施例に係る磁気パターン転写方法を説明するための模式図である。
【図２２】本発明の第９の実施例に係る磁気パターン転写方法を説明するための模式図である。
【図２３】本発明の第１０の実施例に係る磁気パターン転写方法を説明するための模式図である。
【図２４】本発明の第１１の実施例に係る磁気パターン転写方法を説明するための模式図である。
【図２５】本発明の第１２の実施例に係る磁気パターン転写方法（その１）を説明するための模式図である。
【図２６】本発明の第１２の実施例に係る磁気パターン転写方法（その２）を説明するための模式図である。
【図２７】本発明の第１３の実施例に係る磁気パターン転写方法を説明するための模式図である。
【図２８】有限長の磁気パターンが存在する場合の従来の磁気パターン転写方法を説明するための模式図である。
【図２９】図２８の磁気パターン転写方法に関する問題点を説明するための模式図である。
【図３０】本発明の第１４の実施例に係る磁気パターン転写方法（その１）を説明するための模式図である。
【図３１】本発明の第１４の実施例に係る磁気パターン転写方法（その２）を説明するための模式図である。
【図３２】本発明の第１５の実施例に係る磁気パターン転写方法を説明するための模式図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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