(57)【要約】【課題】  装置の小型化及び軽量化を妨げることなく、外部磁界の影響を受けにくくすることが可能な垂直記録ヘッドを提供する。【解決手段】  再生ヘッドが、磁気記録媒体に対向する浮上面の表層部に配置されて、磁気記録媒体に記録された情報を読み取る。記録ヘッドが、浮上面の表層部に、再生ヘッドと並ぶように配置されて、磁気記録媒体に情報を記録するための磁界を発生する。浮上面を基準にして、再生ヘッド及び記録ヘッドよりも深い位置に、再生ヘッド及び記録ヘッドから間隙を隔てて、磁性材料からなる背面シールド部材が配置されている。【選択図】  図２
2008204500.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気記録媒体に対向する浮上面の表層部に配置されて、該磁気記録媒体に記録された情報を読み取る再生ヘッドと、
前記浮上面の表層部に、前記再生ヘッドと並ぶように配置されて、該磁気記録媒体に情報を記録するための磁界を発生する記録ヘッドと、
前記浮上面を基準にして、前記再生ヘッド及び記録ヘッドよりも深い位置に、該再生ヘッド及び記録ヘッドから間隙を隔てて配置された磁性材料からなる背面シールド部材と
を有する垂直記録ヘッド。
【請求項２】
前記記録ヘッドと前記背面シールド部材との間の最小間隔が、４μｍ以上、かつ８μｍ以下である請求項１に記載の垂直記録ヘッド。
【請求項３】
前記浮上面に直交し、かつ前記再生ヘッドと記録ヘッドとが並ぶ方向に沿った断面において、前記背面シールド部材が、前記記録ヘッドから遠ざかる向きに開いたＵ字状またはコの字状の形状を有する請求項１または２に記載の垂直記録ヘッド。
【請求項４】
前記浮上面に対向する磁気記録媒体のトラック幅方向に関して、前記背面シールド部材の寸法が、前記記録ヘッドの寸法以上である請求項１乃至３のいずれか１項に記載の垂直記録ヘッド。
【請求項５】
前記記録ヘッドは、前記再生ヘッド側から順番に配置された、膜状の第１の補助磁極、主磁極、及び膜状の第２の補助磁極を含み、
前記背面シールド部材は、前記記録ヘッドと再生ヘッドとが並ぶ方向に関して、前記第１の補助磁極と同じ位置に配置された膜状の第１の部材、前記第２の補助磁極と同じ位置に配置された膜状の第２の部材、及び両者を接続する第３の部材を含む請求項１乃至４のいずれか１項に記載の垂直記録ヘッド。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気記録媒体への記録に用いられる垂直記録ヘッドに関し、特に浮遊する外部磁場からの影響を受けにくい垂直記録ヘッドに関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気ディスク等の磁気記録媒体の単位面積当たりの記録容量を増大させるために、トラック幅方向及びビット長方向の双方に関して記録密度を高めることが望ましい。ところが、現状の面内記録方式では、磁気記録媒体の熱揺らぎが原因で、ビット長方向の記録密度をこれ以上高めることが困難になりつつある。この問題を解決する方法として、磁気記録媒体の表面に対して垂直な方向に磁化させる垂直磁気記録方式が有望視されている。
【０００３】
垂直磁気記録方式用の再生ヘッドには、巨大磁気抵抗効果（ＧＭＲ）素子や、再生出力が大きいトンネル磁気抵抗効果（ＴＭＲ）素子等が用いられる。記録媒体には、垂直磁気記録層の下に軟磁性層を配した積層構造が採用される。垂直記録ヘッドとして、書込みシールドを備えた主磁極と補助磁極とを備える単磁極型ヘッドが用いられる。
【０００４】
記録媒体に軟磁性層が設けられているため、１０ｋＯｅを超える記録磁界を発生させることができる。このため、５ｋＯｅを超える大きな保磁力を有する記録層にも記録を行うことが可能である。しかしながら、大きな記録磁界を発生させることができる反面、外部磁界の影響を受けやすいという課題が残されている。
【０００５】
外部に浮遊する磁界が磁気ヘッドに流入し、磁気記録媒体に対向する浮上面に向かう主磁極先端部に集められてしまう。主磁極先端部の幾何学的形状は、磁性材料からなる他の部材に比べて細くされているため、主磁極先端部分に磁束が集中しやすい。集中した磁束により、記録媒体に記録された情報が消去されてしまう現象が指摘されている。
【０００６】
下記の特許文献１〜３に、磁気ヘッドの近傍に軟磁性シールド部材を配置した磁気記憶装置が開示されている。軟磁性シールド部材により、外部から磁気ヘッドに流入する磁束を低減させることができる。
【０００７】
【特許文献１】特開２００３−７７２６６号公報
【特許文献２】特開２００４−４７１１０号公報
【特許文献３】特開２００６−１２７６２７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
磁気ヘッドの近傍に軟磁性シールド部材を配置する方法では、装置の小型化及び軽量化が困難になるとともに、製造コストの上昇にもつながる。また、シールド部材から漏れた磁束が記録ヘッドに再流入することも考えられる。
【０００９】
本発明の目的は、装置の小型化及び軽量化を妨げることなく、外部磁界の影響を受けにくくすることが可能な垂直記録ヘッドを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の一観点によると、
磁気記録媒体に対向する浮上面の表層部に配置されて、該磁気記録媒体に記録された情報を読み取る再生ヘッドと、
前記浮上面の表層部に、前記再生ヘッドと並ぶように配置されて、該磁気記録媒体に情報を記録するための磁界を発生する記録ヘッドと、
前記浮上面を基準にして、前記再生ヘッド及び記録ヘッドよりも深い位置に、該再生ヘッド及び記録ヘッドから間隙を隔てて配置された磁性材料からなる背面シールド部材と
を有する垂直記録ヘッドが提供される。
【発明の効果】
【００１１】
背面シールド部材が、外部に浮遊する磁界の、再生ヘッド及び記録ヘッドへの流入を抑制する。このため、外部磁場の影響を軽減することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
図１に、実施例による磁気ヘッドの、磁気記録媒体に対向する浮上面の正面図を示す。磁気記録媒体の移動方向（トレーリング方向）をｘ軸、磁気記録媒体の回転中心を向く方向（トラック幅方向）をｙ軸、磁気記録媒体の表面の法線方向をｚ軸とするｘｙｚ直交座標系を定義する。
【００１３】
ＡｌＴｉＣ等からなる基板１の上に、再生ヘッド１０が形成され、その上に記録ヘッド２０が形成されている。再生ヘッド１０は、基板１側から、Ａｌ２Ｏ３等の非磁性層２を介して下部シールド層１１、再生素子１２、上部シールド層１３がこの順番に積層された構造を有する。ｙ軸方向に関して、再生素子１２の寸法は、下部シールド層１１及び上部シールド層１３の寸法よりも小さい。下部シールド層１１及び上部シールド層１３は、軟磁性材料、例えば飽和磁束密度が約１．０ＴのＮｉＦｅ（例えば、Ｎｉ８０Ｆｅ２０）等で形成される。再生素子１２として、例えばＧＭＲ素子、ＴＭＲ素子等が用いられる。下部シールド層１１と上部シールド層１３との間には、非磁性材料、例えばＡｌ２Ｏ３等が配置されている。
【００１４】
記録ヘッド２０は、再生ヘッド１０側から順番に配置された第１の補助磁極２１、主磁極２２、書込シールド２３、及び第２の補助磁極２４を含む。第１の補助磁極２１、主磁極２２、及び第２の補助磁極２４は、ｙｚ面に平行な膜状の形状を有する。
【００１５】
第１の補助磁極２１と上部シールド層１３との間に、Ａｌ２Ｏ３等からなる非磁性材料が挿入されている。ｙ軸方向に関して、浮上面に現れている主磁極２２の寸法は、第１の補助磁極２１、書込シールド２３、及び第２の補助磁極２４の寸法よりも小さい。浮上面に露出している主磁極２２の形状は、トレーリング側（磁気記録媒体の移動方向の下流側）が拡がった台形である。第１の補助磁極２１と主磁極２２との間には、後述するコイルを配置するための空間的余裕が確保されている。主磁極２２と書込シールド２３との間には、間隙が確保されている。これら磁性材料の隙間には、Ａｌ２Ｏ３やＲｕ等の非磁性材料が配置されている。書込シールド２３は第２の補助磁極２４に連続している。
【００１６】
第１の補助磁極２１、書込シールド２３、及び第２の補助磁極２４は、下部シールド膜１１と同様の軟磁性材料で形成されている。主磁極２２は、飽和磁束密度が２．０〜２．４Ｔの範囲の軟磁性材料、例えばＣｏＦｅ、ＣｏＮｉＦｅ、またはＦｅＮｉを主成分とする軟磁性材料で形成されている。
【００１７】
図２Ａに、磁気ヘッドのｘｚ面に平行な断面図を示す。図２Ａの左端が、磁気記録媒体に対向する浮上面５に相当する。
【００１８】
基板１の上面のうち、浮上面５に連続する一部の領域上に、Ａｌ２Ｏ３等の非磁性層２を介して下部シールド膜１１、再生素子１２、上部シールド膜１３を含む再生ヘッド１０が配置されている。下部シールド膜１１及び上部シールド膜１３は、再生素子１２よりも、浮上面５からより深い位置まで達している。
【００１９】
再生ヘッド１０の上に、記録ヘッド２０が配置されている。記録ヘッド２０を構成する第１の補助磁極２１、主磁極２２、及び第２の補助磁極２４は、下部シールド膜１１及び上部シールド膜１３とほぼ同じ深さまで達している。書込シールド２３は、第２の補助磁極２４の、浮上面５側の縁から、主磁極２２の先端に向かって延在する。書込シールド２３と主磁極２２との間には、磁界分布を急峻にするための間隙が確保されている。
【００２０】
浮上面から深い位置にある記録ヘッド接続部材２５が、主磁極２２と第２の補助磁極２４との、浮上面５とは反対（背面側）の縁の近傍同士を接続している。記録ヘッド接続部材２５は、下部シールド膜１１等と同じ軟磁性材料で形成されている。ｚ軸に平行な軸を持つヘリカルコイル２６が、主磁極２２に巻きつくように配置されている。ヘリカルコイル２６は、非磁性の導電材料、例えば銅（Ｃｕ）で形成されている。
【００２１】
浮上面５を基準として、再生ヘッド１０及び記録ヘッド２０よりも深い位置に（背面側に）、再生ヘッド１０及び記録ヘッド２０から間隙を隔てて背面シールド部材３０が配置されている。背面シールド部材３０は、第１の部材２１ａ、第２の部材２４ａ、第３の部材２８、第４の部材１１ａ、及び第５の部材１３ａで構成される。これらの部材は、下部シールド膜１１と同様に、軟磁性材料で形成されている。第１の部材２１ａ、第２の部材２４ａ、第４の部材１１ａ、及び第５の部材１３ａは、ｙｚ面に平行な膜状の形状を有する。再生ヘッド１０及び記録ヘッド２０と、背面シールド部材３０との間の間隙内に、Ａｌ２Ｏ３等の非磁性材料からなる間隙充填部材３３が配置されている。
【００２２】
第１の部材２１ａ及び第２の部材２４ａは、ｘ軸方向に関して、それぞれ第１の補助磁極２１及び第２の補助磁極２４と同じ高さに配置されている。第３の部材２８は、第１の部材２１ａと第２の部材２４ａとを、浮上面５側の端部において接続する。背面シールド部材３０は、ｘｚ面に平行な断面内において、記録ヘッド２０から遠ざかる向きに開いたＵ字状またはコの字状の形状を持つ。厳密には、第１の部材２１ａと第５の部材１３ａとの間、及び第５の部材１３ａと第４の部材１１ａとの間に、非磁性材料が配置された間隙が形成されているため、背面シールド部材３０は、幾何学的に分断された複数の軟磁性部材で構成されている。ただし、この間隙は、再生ヘッド１０及び記録ヘッド２０と、背面シールド部材３０との間の間隙と比べて十分狭いため、磁気的に連続した構造物とみなすことができる。
【００２３】
図２Ｂに、磁気ヘッドのｘ軸に平行な視線でみた平面図を示す。第１及び第２の補助磁極２１、２４の平面形状は、ほぼ長方形である。主磁極２２は、浮上面５に連続する部分が背面側の部分よりも狭くなっている。背面側の縁と浮上面５に露出する縁との間に、浮上面５に近づくに従って幅が狭くなっている台形状の領域が配置されている。この台形状の領域が、浮上面５に連続する幅の狭い部分と、背面側の幅の広い部分とを接続する。
【００２４】
第１の部材２１ａ及び第２の部材２４ａのｙ軸方向の幅は、第１の補助磁極２１及び第２の補助磁極２４のｙ軸方向の幅よりも広いか、または同一である。記録ヘッド接続部材２５及び第３の部材２８は、底面が楕円の柱状形状を有する。
【００２５】
図３に、磁気ヘッド及び磁気記録媒体の断面図を示す。磁気記録媒体４０は、非磁性材料からなる基板４１、及びその上に形成された軟磁性材料からなる裏打層４２と垂直磁気記録膜４３とを含む。図１〜図２Ｂに示した磁気ヘッドの浮上面５が、磁気記録媒体４０に、間隙を隔てて対向している。記録時には、主磁極２２、記録ヘッド接続部材２５、第２の補助磁極２４、書込シールド２３、磁気ヘッドと磁気記録媒体との間の間隙、磁気記録膜４３、裏打層４２、磁気記録膜４３、及び磁気ヘッドと磁気記録媒体との間の間隙を経由して閉磁路６０が形成される。主磁極２２から裏打層４２を経由して第１の補助磁極２１に至る磁路も形成される。
【００２６】
コイル２６に電流を流して励磁すると、磁束が主磁極２２の先端に集中することにより、主磁極２２と裏打層４２との間に、垂直方向の大きな磁界が発生する。この磁界により、磁気記録層４３に磁気記録が行われる。記録される磁化状態は、磁気記録媒体４０に対向する浮上面５における主磁極２２の形状によって決まる。特に、磁気記録媒体４０の走行方向の下流側（ｘ軸の正の側）に位置する主磁極２２の縁（トレーリングエッジ）における大きな磁界によって磁気記録が行われる。
【００２７】
図４に、磁気ヘッドの背面側の空間に外部磁場６１が発生している場合の磁束を一例を示す。外部磁場６１は、背面シールド部材３０の第１の部材２１ａ、第２の部材２３ａ、第４の部材１１ａ及び第５の部材１３ａに流入する。その後、第３の部材２８内に流入する。一部の磁束は、主磁極２２、第１の補助磁極２１、第２の補助磁極２４、下部シールド膜１１、上部シールド膜１３等に流入し、記録層４３を厚さ方向に貫通して裏打層４２に至る。磁束の流れを電荷的な考え方でみると、ヘッドに吸い込まれた磁束はＵ字状またはコの字状の形状の背面シールド部材３０で打ち消し合うように作用するため、再生ヘッド１０の下部シールド１１、上部シールド１３、記録ヘッド２０の主磁極２２、第１の補助磁極２１、第２の補助磁極２４等に外部磁場が直接流入する場合に比べて、再生ヘッド１０及び記録ヘッド２０への外部磁場の影響を低減させることができる。
【００２８】
図５に、実施例による磁気ヘッドを搭載した磁気ディスク装置の概略図を示す。ロータリアクチュエータ５４で支持されたサスペンションアーム５３の先端に、ジンバルと呼ばれる支持具でスライダ５２が取り付けられている。スライダ５２の端部に磁気ヘッド５１が取り付けられている。
【００２９】
磁気ヘッド５１は、磁気ディスク５０の表面から微小な高さだけ浮上している。磁気ディスク５０の表面に、同心円状の多数のトラック５５が画定されている。ロータリアクチュエータ５４を駆動してサスペンションアーム５３を旋回させることにより、磁気ヘッド５１を、磁気ディスク５０上の半径方向に関して異なる位置に移動させることができる。
【００３０】
実施例においては、外部磁場の影響を低減させるための背面シールド部材３０が磁気ヘッド５１内に作りこまれている。このため、背面シールド部材３０は、磁気ディスク装置の小型化や軽量化の妨げにならない。
【００３１】
次に、上記実施例による磁気ヘッドの製造方法について説明する。磁気ヘッドの製造工程は、素子形成工程、ウエハ切断工程、ローバー粗研磨工程、浮上面仕上げ研磨工程、浮上面パッド加工工程、ローバー切断工程等で構成される。素子形成工程以外は、公知の製造方法を適用することができる。以下、素子形成工程について説明する。
【００３２】
素子形成工程は、軟磁性材料の堆積、軟磁性材料膜のパターニング、非磁性材料の堆積、非磁性材料膜への凹部形成、凹部内への軟磁性材料の埋込み、凹部内への導電材料の埋込み、平坦化等の繰り返しである。軟磁性材料の堆積及び非磁性材料の堆積は、スパッタリングや鍍金により行うことができる。非磁性材料として樹脂を用いる場合には、液状樹脂の塗布と硬化により非磁性材料膜を形成することができる。軟磁性材料膜のパターニング及び非磁性材料膜への凹部形成は、イオンミリングに行うことができる。凹部内への導電材料の埋込みには、めっき法を用いることができる。再生素子１２の作製には、公知のＧＭＲ素子の作製方法やＴＭＲ素子の作製方法を適用することができる。
【００３３】
図２Ａに示した下部シールド膜１１と第４の部材１１ａ、上部シールド膜１３と第５の部材１３ａ、第１の補助磁極２１と第１の部材２１ａ、第２の補助磁極２４と第２の部材２４ａは、それぞれ、同一工程で堆積された軟磁性材料膜をパターニングすることにより形成される。
【００３４】
次に、図６Ａ〜図８Ｂを参照して、背面シールド部材３０を配置したことの効果を、シミュレーション結果に基づいて説明する。
【００３５】
図６Ａにシミュレーションの対象とした磁気ヘッドの断面図を示す。基本的な構造は、図２Ａに示した磁気ヘッドと同一である。下部シールド膜１１の厚さを２μｍ、上部シールド膜１３の厚さを１μｍ、第１の補助磁極２１の厚さを１μｍ、第２の補助磁極２４の厚さを２μｍとした。書込シールド２３は、主磁極２２側の先端において薄くされ、第２の補助磁極２４に近づくに従って徐々に厚くなる構造とした。
【００３６】
主磁極２２は、浮上面５から深さ２μｍまでの部分の厚さを０．２５μｍ、それよりも深い部分の厚さを０．７５μｍとした。下部シールド膜１１と上部シールド膜１３との間隔、及び上部シールド膜１３と第１の補助磁極２１との間隔は、０．２５μｍとした。第１の補助磁極２１と主磁極２２との間隔は３μｍ、主磁極２２と第２の補助磁極２４との間隔は４μｍとした。
【００３７】
記録ヘッド接続部材２５のｙｚ面に平行な断面は、ｙ軸方向に長い楕円であり、長径を８μｍ、短径を４μｍとした。図２Ａでは、第１の補助磁極２１と主磁極２２とは、磁性材料で接続されていなかったが、シミュレーションの対象とした磁気ヘッドにおいては、第１の補助磁極２１と主磁極２２とを、もう一つの記録ヘッド接続部材２５ａで接続した。記録ヘッド接続部材２５ａのｙｚ面に平行な断面形状は、記録ヘッド接続部材２５の断面形状と同一である。なお、図２Ａでは、記録ヘッド接続部材２５の背面側の縁と、主磁極２２及び第２の補助磁極２４の背面側の縁とのｚ軸方向に関する位置が揃っていたが、図６Ａでは、記録ヘッド接続部材２５及び２５ａの背面側の縁が、主磁極２２及び第２の補助磁極２４の背面側の縁よりも、２μｍだけ浮上面５側に移動している。
【００３８】
浮上面５から記録ヘッド接続部材２５の背面側の縁までの深さは、１２μｍである。浮上面５から、下部シールド膜１１、上部シールド膜１３、第１の補助磁極２１、主磁極２２、及び第２の補助磁極２４の背面側の縁までの深さは１３μｍである。
【００３９】
図６Ａに示した構造では、図２Ａに示した第１の部材２１ａに対応する部材が配置されていない。その代わりに、第３の部材２８が第５の部材１３ａの近傍まで延びている。背面シールド部材３０は、第２の部材２４ａ、第３の部材２８、第４の部材１１ａ、及び第５の部材１３ａで構成される。
【００４０】
第２の部材２４ａ、第４の部材１１ａ及び第５の部材１３ａは、ｘ軸方向に関して、それぞれ第２の補助磁極２４、下部シールド膜１１及び上部シールド膜１３と同じ位置に配置されている。第３の部材２８と第５の部材１３ａとの間の間隔は、０．２５μｍである。第３の部材２８の、ｙｚ面に平行な断面の形状は、ｙ軸方向に長い楕円であり、その長径は８μｍ、短径は４μｍである。
【００４１】
第２の部材２４ａ、第３の部材２８、第４の部材１１ａ、及び第５の部材１３ａの浮上面５側の縁は、ｚ軸方向に関して位置が揃っている。再生ヘッド１０及び記録ヘッド２０と、背面シールド部材３０との間隔は４μｍである。浮上面５から、背面シールド部材３０の背面側の端部までの深さは３７μｍである。再生ヘッド１０、記録ヘッド２０、及び背面シールド部材３０の、トラック幅方向（ｙ軸方向）の寸法は、６０μｍとした。
【００４２】
主磁極２２の飽和磁束密度を２．３Ｔ、その他の強磁性材料からなる部分の飽和磁束密度を１．０Ｔとした。図３に示した磁気記録媒体の裏打層４０の飽和磁束密度を１．１Ｔとした。
【００４３】
図６Ｂに、外部から２００Ｏｅの一様な磁界を与えたときの、裏打層４０に流入する磁束密度分布を示す。図の右端の点２２Ｐが主磁極２２の位置に対応する。すなわち、図６Ｂに示された領域は、対向面５の半分に相当する。領域Ａ１内の磁束密度が１．０〜１．１Ｔであり、領域Ａ２内の磁束密度が０．９〜１．０Ｔであった。領域Ａ１は、ほぼ第１の補助磁極２１に対向する領域である。
【００４４】
図７Ａ及び図７Ｂに、それぞれ背面シールド部材３０を配置しない構成の磁気ヘッドの断面図、及び磁束密度分布のシミュレーション結果を示す。背面シールド部材３０を廃した代わりに、図７Ａに示すように、下部シールド膜１１、上部シールド膜１３、第１の補助磁極２１、及び第２の補助磁極２４が、より深い位置まで延びている。図７Ｂの領域Ａ１及びＡ２は、それぞれ磁束密度が１．０〜１．２Ｔ、及び０．９〜１．０Ｔであった領域を示す。
【００４５】
図６Ｂと図７Ｂとを比較すると、背面シールド部材３０を配置したことにより、磁束密度が１．０Ｔ以上になる領域が縮小していることがわかる。また、背面シールド部材３０を配置したことにより、磁束密度の最大値が、約１．２Ｔから１．１Ｔに低下している。このように、背面シールド部材３０を配置することにより、外部磁場の影響を軽減することが可能になる。
【００４６】
図８Ａに、図６Ａの再生ヘッド１０及び記録ヘッド２０と、背面シールド部材３０との間隔ｄと、浮上面５上の３つの評価点Ａ、Ｂ、Ｃにおける漏洩磁界の強さとの関係を示す。横軸は、間隔ｄを単位「μｍ」で表し、縦軸は漏洩磁界の強さを単位「ｋＯｅ」で表す。
【００４７】
図８Ｂに、評価点Ａ、Ｂ、Ｃの位置を示す。評価点Ａは、主磁極２２の位置に相当する。評価点Ｂ及びＣは、それぞれトラック幅方向に関して第２の補助磁極２４の端部、及び下部シールド膜１１の端部に相当する。間隔ｄが０の位置は、背面シールド部材３０が再生ヘッド１０及び記録ヘッド２０に接触するかまたは連続する構造に相当する。間隔ｄを広くするに従って、漏洩磁界が低下していることがわかる。
【００４８】
間隔ｄを狭くしすぎると、背面シールド部材３０を配置した有意な効果が得られない。背面シールド部材３０を配置することの有意な効果を得るために、間隔ｄを４μｍ以上とすることが好ましい。また、間隔ｄを広げすぎると、各磁性材料内の磁区の安定性が低下してしまう。再生ヘッド１０の下部シールド膜１１及び上部シールド膜１３の磁区構造が乱れると、再生出力が変動してしまう。磁区構造を安定化させるために、間隔ｄを８μｍ以下とすることが好ましい。
【００４９】
図６Ａでは、背面シールド部材３０の、浮上面側の縁が、断面内において直線である場合を示したが、必ずしも直線である必要はなく、浮上面側の面が凹凸を有していてもよい。この場合には、記録ヘッド２０と背面シールド部材３０との最小間隔、及び再生ヘッド１０と背面シールド部材３０との最小間隔が、４μｍ〜８μｍの範囲内になるようにすることが好ましい。
【００５０】
上記実施例では、図２Ａに示したように、背面シールド部材３０を構成する第１の部材２１ａの近傍に、第４の部材１１ａ及び第５の部材１３ａが配置されている。これに対し、第２の部材２４ａの近傍には、第４及び第５の部材１１ａ、１３ａに相当する軟磁性部材が配置されていない。断面がＵ字状の背面シールド部材３０の２本の腕に相当する部分に流入する外部磁場の磁束のバランスを確保するために、第１の部材２１ａを第２の部材２４ａよりも薄くすることが好ましい。第１の部材２１ａと第２の部材２４ａとの材料の飽和磁束密度が異なる場合には、飽和磁束密度の差を考慮して、両者の厚さを決定することが好ましい。
【００５１】
第１の部材２１ａの厚さをｔ１、飽和磁束密度をＢｓ１、第２の部材２４ａの厚さをｔ２、飽和磁束密度をＢｓ２としたとき、ｔ１×Ｂｓ１がｔ２×Ｂｓ２よりも小さくなるように、各部材の厚さ及び材料を選択することが好ましい。
【００５２】
上記実施例では、コイル２６が主磁極２２にヘリカル状に巻きついた構造を有する場合を示したが、図３に示した閉磁路６０と鎖交する他の形状のコイルを用いてもよい。例えば、記録ヘッド接続部材２５にスパイラル状に巻きついた構造のコイルを用いることも可能である。
【００５３】
また、上記実施例では、背面シールド部材３０が、図２Ａに示した断面内においてＵ字状またはコの字状である場合を示したが、必ずしもこのような形状に限定する必要はない。例えば、背面シールド部材３０を、直方体状としてもよいし、シールド機能を持つ形状であれば、どのような形状でもよい。十分なシールド機能を得るために、背面シールド部材３０をｘｙ面へ垂直投影した像が、再生ヘッド１０及び記録ヘッド２０をｘｙ面へ垂直投影した像を内部に含むような大きさ及び形状とすることが好ましい。一例として、トラック幅（ｙ軸）方向に関して、背面シールド部材３０の寸法を、再生ヘッド１０及び記録ヘッド２０の寸法以上とすることが好ましい。
【００５４】
以上実施例に沿って本発明を説明したが、本発明はこれらに制限されるものではない。例えば、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に自明であろう。
【００５５】
上記実施例から、下記の付記に示された発明が導出される。
【００５６】
（付記１）
磁気記録媒体に対向する浮上面の表層部に配置されて、該磁気記録媒体に記録された情報を読み取る再生ヘッドと、
前記浮上面の表層部に、前記再生ヘッドと並ぶように配置されて、該磁気記録媒体に情報を記録するための磁界を発生する記録ヘッドと、
前記浮上面を基準にして、前記再生ヘッド及び記録ヘッドよりも深い位置に、該再生ヘッド及び記録ヘッドから間隙を隔てて配置された磁性材料からなる背面シールド部材と
を有する垂直記録ヘッド。
【００５７】
（付記２）
前記記録ヘッドと前記背面シールド部材との間の最小間隔が、４μｍ以上、かつ８μｍ以下である付記１に記載の垂直記録ヘッド。
【００５８】
（付記３）
前記再生ヘッドと前記背面シールド部材との間の最小間隔が、４μｍ以上、かつ８μｍ以下である付記１または２に記載の垂直記録ヘッド。
【００５９】
（付記４）
前記浮上面に直交し、かつ前記再生ヘッドと記録ヘッドとが並ぶ方向に沿った断面において、前記背面シールド部材が、前記記録ヘッドから遠ざかる向きに開いたＵ字状またはコの字状の形状を有する付記１乃至３のいずれか１項に記載の垂直記録ヘッド。
【００６０】
（付記５）
前記浮上面に対向する磁気記録媒体のトラック幅方向に関して、前記背面シールド部材の寸法が、前記記録ヘッドの寸法以上である付記１乃至４のいずれか１項に記載の垂直記録ヘッド。
【００６１】
（付記６）
前記浮上面に対向する磁気記録媒体のトラック幅方向に関して、前記背面シールド部材の寸法が、前記再生ヘッドの寸法以上である付記１乃至５のいずれか１項に記載の垂直記録ヘッド。
【００６２】
（付記７）
前記記録ヘッドは、前記再生ヘッド側から順番に配置された、膜状の第１の補助磁極、主磁極、及び膜状の第２の補助磁極を含み、
前記背面シールド部材は、前記記録ヘッドと再生ヘッドとが並ぶ方向に関して、前記第１の補助磁極と同じ位置に配置された膜状の第１の部材、前記第２の補助磁極と同じ位置に配置された膜状の第２の部材、及び両者を接続する第３の部材を含む付記１乃至６のいずれか１項に記載の垂直記録ヘッド。
【００６３】
（付記８）
さらに、前記再生ヘッドが、該再生ヘッドと記録ヘッドとが並ぶ方向に順番に配置された膜状の磁性材料からなる下部シールド膜、磁界の強度の変動を電気信号に変換する再生素子、及び膜状の磁性材料からなる上部シールド膜を含み、
前記背面シールド部材は、
前記再生ヘッドと記録ヘッドとが並ぶ方向に関して前記下部シールド膜と同じ位置に配置された第４の部材と、
前記再生ヘッドと記録ヘッドとが並ぶ方向に関して前記上部シールド膜と同じ位置に配置された第５の部材と
を含む付記７に記載の垂直記録ヘッド。
【００６４】
（付記９）
前記第１の部材の厚さをｔ１、飽和磁束密度をＢｓ１、前記第２の部材の厚さをｔ２、飽和磁束密度をＢｓ２としたとき、ｔ１×Ｂｓ１が、ｔ２×Ｂｓ２よりも小さい付記８に記載の垂直記録ヘッド。
【図面の簡単な説明】
【００６５】
【図１】実施例による磁気ヘッドの浮上面の正面図である。
【図２】（２Ａ）は、実施例による磁気ヘッドの断面図であり、（２Ｂ）は、平面図である。
【図３】実施例による磁気ヘッドと磁気記録媒体、及び記録時の磁路を示す断面図である。
【図４】実施例による磁気ヘッドと磁気記録媒体、及び外部磁場の影響を受けている状態の磁路を示す断面図である。
【図５】実施例による磁気ヘッドを搭載した磁気ディスク装置の概略図である。
【図６】（６Ａ）は、シミュレーションの対象とした実施例による磁気ヘッドの断面図であり、（６Ｂ）は、磁気記録媒体の裏打層表面における磁束密度分布を示す線図である。
【図７】（７Ａ）は、シミュレーションの対象とした比較例による磁気ヘッドの断面図であり、（７Ｂ）は、磁気記録媒体の裏打層表面における磁束密度分布を示す線図である。
【図８】（８Ａ）は、実施例による磁気ヘッドの記録ヘッド及び再生ヘッドと、背面シールド部材との間隔ｄと、漏洩磁界の強さとの関係を示すグラフであり、（８Ｂ）は、評価点Ａ、Ｂ、Ｃの位置を示すための浮上面の正面図である。
【符号の説明】
【００６６】
１  基板
２  非磁性層
５  浮上面
１０  再生ヘッド
１１  下部シールド膜
１１ａ  第４の部材
１２  再生素子
１３  上部シールド膜
１３ａ  第５の部材
２０  記録ヘッド
２１  第１の補助磁極
２１ａ  第１の部材
２２  主磁極
２３  書込シールド
２４  第２の補助磁極
２４ａ  第２の部材
２５  記録ヘッド接続部材
２６  コイル
２８  第３の部材
３０  背面シールド部材
３３  間隙充填部材
４０  磁気記録媒体
４１  基板
４２  裏打層
４３  垂直磁気記録層
５０  磁気ディスク
５１  磁気ヘッド
５２  スライダ
５３  サスペンションアーム
５４  ロータリアクチュエータ
５５  トラック
６０  閉磁路
６１  外部磁場
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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