(57)【要約】【課題】背面基板や前面基板の熱処理を適切に実施可能な熱処理用セッタを提供する。【解決手段】ＰＤＰの背面基板２や前面基板３の熱処理に利用される熱処理用セッタ５３０を、ベース台５４０と、このベース台５４０の複数箇所に設けられ基板２，３を保持する保持部材５５０と、で構成している。保持部材５５０を、ベース台５４０から保持部５５２までの高さを調整可能に設けている。このため、例えば長期間の使用によりベース台５４０の第１平板５４１や第２平板５４３に反りが生じたとしても、この反りに応じて保持部５５２の高さを調整することにより、基板２，３の反りを抑制した状態で熱処理することができる。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベース台と、
このベース台の複数箇所にそれぞれ配置され、ガラス基板を保持する保持部を有する複数の保持部材と、を具備し、
前記複数の保持部材は、前記ベース台から前記保持部までの高さを調整可能に前記ベース台に取り付けられた
ことを特徴とした熱処理用セッタ。
【請求項２】
請求項１に記載の熱処理用セッタであって、
前記保持部は、前記ガラス基板が載置されることにより前記ガラス基板を保持する
ことを特徴とした熱処理用セッタ。
【請求項３】
請求項２に記載の熱処理用セッタであって、
前記保持部は、耐熱性金属繊維で構成された
ことを特徴とした熱処理用セッタ。
【請求項４】
請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の熱処理用セッタであって、
前記保持部材は、前記ベース台に設けられたねじ溝に螺合されて前記高さを調整可能に取り付けられた
ことを特徴とした熱処理用セッタ。
【請求項５】
請求項４に記載の熱処理用セッタであって、
前記ベース台は、所定間隔を空けて配置された第１平板と第２平板とで構成され、
前記保持部材は、前記第１平板に設けられた
ことを特徴とした熱処理用セッタ。
【請求項６】
請求項５に記載の熱処理用セッタであって、
前記第２平板は、前記ねじ溝のそれぞれに略対向する部分に設けられた調整用孔を備えた
ことを特徴とした熱処理用セッタ。
【請求項７】
請求項１ないし請求項６のいずれかに記載の熱処理用セッタを用い、この熱処理用セッタでガラス基板を保持させて熱処理炉内に搬送し、前記ガラス基板への熱処理を実施する工程を含む
ことを特徴とするディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、熱処理用セッタ、および、ディスプレイパネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、プラズマディスプレイパネル（Plasma Display Panel：ＰＤＰ）の製造に用いられるセッタガラスが知られている（例えば、特許文献１参照）。
この特許文献１に記載のものは、ガラス基板が載置される基板載置領域の外周の複数箇所に、ガラス基板の外周面に接触することでガラス基板の面方向の移動を制限する位置決めピンが設けられた構成が採られている。
【０００３】
【特許文献１】特開２００５−１７４６６９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上述したような特許文献１に記載のような構成では、セッタガラスに当接する状態でガラス基板を載置するため、セッタガラスに反りが発生した場合、このセッタガラスに載置されたガラス基板もそれに倣って反ってしまうおそれがある。
【０００５】
本発明は、上述したような問題点に鑑みて、ガラス基板の熱処理を適切に実施可能な熱処理用セッタ、および、ディスプレイパネルの製造方法を提供することを１つの目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
請求項１に記載の発明は、ベース台と、このベース台の複数箇所にそれぞれ配置され、ガラス基板を保持する保持部を有する複数の保持部材と、を具備し、前記複数の保持部材は、前記ベース台から前記保持部までの高さを調整可能に前記ベース台に取り付けられたことを特徴とした熱処理用セッタである。
【０００７】
請求項７に記載の発明は、請求項１ないし請求項６のいずれかに記載の熱処理用セッタを用い、この熱処理用セッタでガラス基板を保持させて熱処理炉内に搬送し、前記ガラス基板への熱処理を実施する工程を含むことを特徴とするディスプレイパネルの製造方法である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、本発明の一実施形態を図面に基づいて説明する。
なお、本実施形態では、ディスプレイパネルとしてプラズマディスプレイパネルを例示するが、これに限らず、本発明は液晶表示パネルや、有機ＥＬパネル、ＦＥＤ、電気泳動ディスプレイパネルなどのディスプレイパネルに対しても適用可能である。
【０００９】
［プラズマディスプレイパネルの構成］
まず、本発明に係るディスプレイパネルの製造方法で製造されるディスプレイパネルとしてのプラズマディスプレイパネルの構成について説明する。
図１は、本発明の一実施形態に係るディスプレイパネルの製造方法で製造されるプラズマディスプレイパネルの内部構造を示す模式図である。
【００１０】
図１において、１はディスプレイパネルとしてのプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）であり、このＰＤＰ１は、プラズマ放電による発光を利用して画像を表示する。このＰＤＰ１は、放電空間（発光領域）Ｈを介して対向配置されたガラス基板としての背面基板２および前面基板３を備えている。
これら背面基板２および前面基板３は、それぞれの外周縁部に図示しないシールフリットが設けられて封着されており、封着された空間内部は減圧状態とされた上で不活性ガスが充填されている。
【００１１】
背面基板２は、例えばガラス板材などの透明板を略長方形状に形成したものである。この背面基板２の内面には、アドレス電極２１と、アドレス電極保護層２２と、隔壁２３と、蛍光体層（２４Ｒ，２４Ｇ，２４Ｂ）と、などがそれぞれ設けられている。
アドレス電極２１は、例えばアルミニウムなどの導電性材料にて、背面基板２の長手方向（行方向）に直交する方向（列方向）に略沿う直線状に形成され、行方向に一定の間隔を置いて複数本配設されている。
アドレス電極保護層２２は、例えば誘電体ペーストなどにてアドレス電極２１を被覆する状態に形成され、背面基板２の略全面に亘り設けられている。
隔壁２３は、例えば誘電体ペーストなどにて略梯子状に形成され、アドレス電極保護層２２上に積層して設けられている。この隔壁２３により放電空間Ｈが複数に区画され、これにて複数の矩形状の放電セル２３１（単位発光領域）が形成されている。
蛍光体層（２４Ｒ，２４Ｇ，２４Ｂ）は、複数の放電セル２３１内部にそれぞれ順に充填された赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３原色の蛍光体ペースト層である。これら蛍光体層（２４Ｒ，２４Ｇ，２４Ｂ）は、それぞれの放電セル２３１で放電発光した際の紫外光により励起され、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３原色の可視光を発光するようになっている。
【００１２】
前面基板３は、ＰＤＰ１の表示面を構成し、背面基板２と同様に、例えばガラス板材などの透明板を略長方形状に形成したものである。この前面基板３の内面には、表示電極対３１と、ブラックストライプ３２と、誘電体層３３と、保護層３４と、などがそれぞれ設けられている。
表示電極対３１は、前面基板３上において、アドレス電極２１と略直交して列方向に一定の間隔で複数配列されており、それぞれ複数対の透明電極３１１ａ，３１１ｂと、一対のバス電極３１２ａ，３１２ｂとを備えて構成されている。
透明電極３１１ａ，３１１ｂは、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの透明導電膜で略Ｔ字形状に形成されており、所定の放電セル２３１に対応して一対ずつ設けられている。
バス電極３１２ａ，３１２ｂは、例えば銀などの導電性材料にて直線状に形成され、複数対の透明電極３１１ａ，３１１ｂの一端部にそれぞれ積層して設けられている。
ブラックストライプ３２は、例えば黒色無機顔料などにて直線状に形成され、複数の表示電極対３１間にそれぞれ設けられている。
誘電体層３３は、例えば誘電体ペーストなどにて表示電極対３１およびブラックストライプ３２を被覆する状態に形成され、背面基板２の略全面に亘り設けられている。この誘電体層３３上におけるバス電極３１２ａ，３１２ｂに対向する部分には、放電空間Ｈ側に向かって突出した嵩上げ誘電体層３３１が設けられている。この嵩上げ誘電体層３３１により、列方向に互いに隣接する放電セル２３１同士間での誤放電が防止されるようになっている。
保護層３４は、例えばＭｇＯ（酸化マグネシウム）などの透明層であり、誘電体層３３の略全面を被覆する状態に設けられている。
【００１３】
［熱処理装置の構成］
次に、上述した構成のＰＤＰ１の製造に用いる熱処理装置の構成について説明する。
図２は、熱処理装置の概略構成を示す断面図である。図３は、熱処理用セッタの概略構成を示す側面図である。図４は、熱処理用セッタの要部の概略構成を示す断面図である。図５は、熱処理用セッタの概略構成を示す背面図である。
【００１４】
図２において、５００は熱処理装置であり、この熱処理装置５００は、背面基板２や前面基板３に熱処理を適宜施す熱処理工程に利用される。そして、熱処理装置５００は、熱処理炉５１０と、複数の搬送ローラ５２０と、複数の熱処理用セッタ５３０と、などを備えている。
【００１５】
熱処理炉５１０は、基板２，３が内部を通過可能にトンネル状に構築されている。この熱処理炉５１０は、基板２，３が搬入される搬入部５１１と、この搬入部５１１に連続し基板２，３を加熱する加熱室５１２と、この加熱室５１２に連続し基板２，３を搬出する搬出部５１３と、などを備えている。
搬送ローラ５２０は、熱処理炉５１０における基板２，３などの搬送方向に沿って略等間隔で設けられている。この搬送ローラ５２０は、軸を中心に回転し、熱処理炉５１０内において、基板２，３を載置する熱処理用セッタ５３０を搬送する。なお、搬入部５１１および搬出部５１３には、図示しない自動移載装置が設けられている。この自動移載装置は、例えば先端に楔状の爪を有する移載用アームを備え、この移載用アームの爪を基板２，３の下に差し込んで基板２，３を持ち上げて移動させる。
【００１６】
熱処理用セッタ５３０は、図３に示すように、搬送ローラ５２０で搬送されるベース台５４０と、このベース台５４０に設けられ基板２，３の一面を保持する複数の保持部材５５０と、を備えている。
【００１７】
ベース台５４０は、略長方形板状の第１平板５４１と、この第１平板５４１の互いに対向する一対の側縁近傍に設けられた一対のスペーサ５４２と、この一対のスペーサ５４２を介して第１平板５４１と所定間隔を空けて配置された略長方形板状の第２平板５４３と、を備えている。
第１平板５４１は、例えば耐熱ガラスにより構成されている。そして、第１平板５４１には、図４に示すように、保持部材５５０と同数のねじ溝５４１Ａ（図４では１個のねじ溝５４１Ａのみを図示）が穿設されている。これらねじ溝５４１Ａは、第１平板５４１の面内において格子状に配置されている。
第２平板５４３は、例えば耐熱ガラスにより構成されている。この第２平板５４３には、図５に示すように、ねじ溝５４１Ａと同数の調整用孔５４３Ａが開口形成されている。これら調整用孔５４３Ａは、ドライバ６００が挿通可能な例えば丸形状に形成され、第２平板５４３の面内においてねじ溝５４１Ａに略対向する位置に配置されている。なお、図５において、一部の調整用孔５４３Ａのみに符号を付しているが、丸形状で示された全てが調整用孔５４３Ａを表している。
【００１８】
保持部材５５０は、図３および図４に示すように、丸棒状の軸部材５５１と、この軸部材５５１の一端側に設けられた保持部５５２と、を備えている。
軸部材５５１は、例えばＳＵＳ（ステンレス）３１６、ＳＵＳ（ステンレス）３０６、インコネル、ハステロイなどの金属材料から、熱処理炉５１０での加熱温度に応じて選択された材料により構成されている。この軸部材５５１の外周面には、図４に示すように、軸方向略中央から他端にかけて、ねじ溝５４１Ａに螺合されるねじ山５５１Ａが設けられている。また、軸部材５５１の他端面５５１Ｂには、ドライバ６００が係合可能なドライバ係合溝５５１Ｃが設けられている。
保持部５５２は、耐熱性の金属繊維により構成されている。この保持部５５２は、軸部材５５１の一端面５５１Ｄおよび一端側の外周面５５１Ｅを覆う状態で設けられている。
そして、保持部材５５０は、ベース台５４０の第２平板５４３の調整用孔５４３Ａに挿通されたドライバ６００の操作により軸部材５５１が回転されることにより、矢印Ｙの方向に進退する。すなわち、保持部材５５０は、ベース台５４０から保持部５５２までの高さを調整可能に設けられている。
【００１９】
そして、熱処理用セッタ５３０は、ベース台５４０の第２平板５４３が搬送ローラ５２０に当接するとともに、保持部材５５０の保持部５５２に基板２，３が載置されることにより、基板２，３を保持して熱処理炉５１０内を搬送する。すなわち、熱処理用セッタ５３０は、ベース台５４０からの高さを調整可能に設けられた保持部５５２により、基板２，３とベース台５４０との間に適宜隙間Ｓが形成される状態で、基板２，３を搬送する。
【００２０】
［プラズマディスプレイパネルの製造方法］
次に、上述した構成の熱処理装置５００を用いたＰＤＰ１の製造方法について説明する。
【００２１】
まず、背面基板２の製造ラインにおいて、十分に洗浄された透明基板上に、例えばオフセット印刷法や凸版印刷法、凹版印刷法、グラビア印刷法などの各種印刷法、ディスペンサ法、ダイコータ法などを用いて、アドレス電極２１となる導電性ペーストパターンを形成する。そして、この状態の背面基板２に対して、熱処理装置５００を適宜用いて、熱処理を施す熱処理工程を実施して、アドレス電極２１を形成する。この熱処理工程は、乾燥工程や焼成工程などを含むものである。
次に、アドレス電極２１上にガラスペーストを塗布して、このガラスペーストを所定形状に成形する。このような状態の背面基板２に対しても、熱処理装置５００を適宜用いた熱処理工程を実施し、これにてアドレス電極保護層２２および隔壁２３を形成する。
さらに、放電セル２３１内部にスクリーン印刷法などにより赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３原色の蛍光体ペーストを塗布する。そして、この状態の背面基板２に対しても、熱処理装置５００を適宜用いた熱処理工程を実施し、蛍光体層（２４Ｒ，２４Ｇ，２４Ｂ）を形成する。これにて、ＰＤＰ１の背面基板２が完成する。
【００２２】
次に、前面基板３の製造ラインでは、十分に洗浄された透明基板上に透明電極材料層を形成して、例えばフォトリソグラフィ法などにより複数の透明電極３１１ａ，３１１ｂを形成する。
そして、これら透明電極３１１ａ，３１１ｂ上に、例えばオフセット印刷法などにより、バス電極３１２ａ，３１２ｂとなる導電性ペーストの印刷パターンを積層形成した後、これに対して熱処理装置５００を適宜用いた熱処理工程を実施する。これにより、バス電極３１２ａ，３１２ｂが形成される。
さらに、透明電極３１１ａ，３１１ｂおよびバス電極３１２ａ，３１２ｂにて構成される複数の表示電極対３１間に、例えばスクリーン印刷法などにより黒色ペーストのパターンを形成し、これに対して熱処理装置５００を適宜用いた熱処理工程を実施する。これにより、複数のブラックストライプ３２が形成される。
次に、例えばダイコータなどにより表示電極対３１およびブラックストライプ３２を被覆する状態にガラスペーストを塗布した後に、このガラスペーストを所定形状に成形する。これに対しても、熱処理装置５００を適宜用いた熱処理工程を実施し、嵩上げ誘電体層３３１を有した誘電体層３３を形成する。
この後、誘電体層３３の上に例えば蒸着法やスパッタリング法などによりＭｇＯ層を成膜して保護層３４を形成する。これにて、ＰＤＰ１の前面基板３が完成する。
【００２３】
上記のようにして製造した背面基板２および前面基板３に対して封着工程を実施する。この封着工程では、まず背面基板２の外周縁にガラスペーストを設けた後に、所定の位置関係で背面基板２および前面基板３を重ね合わせる。そして、この状態の両基板に対して熱処理工程を実施し、これにて背面基板２および前面基板３間の内部空間をシールフリットにて封着する。
この封着工程の後は、当該内部空間の気体を排気してから、当該内部空間に放電ガスを注入する。これにてＰＤＰ１が完成する。
【００２４】
［プラズマディスプレイパネルの製造方法の作用効果］
上述したように、上記一実施形態では、ＰＤＰ１の基板２，３の熱処理に利用される熱処理用セッタ５３０を、ベース台５４０と、このベース台５４０の複数箇所に設けられ基板２，３を保持する保持部材５５０と、で構成している。そして、保持部材５５０を、ベース台５４０から保持部５５２までの高さを調整可能に設けている。
このため、例えば長期間の使用によりベース台５４０の第１平板５４１や第２平板５４３に反りが生じたとしても、この反りに応じて保持部５５２の高さを調整することにより、基板２，３の反りを抑制した状態で熱処理することができる。
また、第１平板５４１や第２平板５４３に反りが生じたとしても、保持部５５２の高さ調整により継続使用することが可能となる。したがって、第１平板５４１や第２平板５４３の廃棄の必要がなくなり、環境負荷を低減できる。
さらに、保持部５５２の高さ調整により、基板２，３とベース台５４０との間に隙間Ｓが形成される状態で基板２，３を搬送することができる。したがって、この隙間Ｓに移載用アームの爪を位置させることにより、基板２，３の搬入や搬出を容易にできる。
【００２５】
そして、保持部５５２に基板２，３を載置することにより、基板２，３を保持する構成としている。
このため、基板２，３のサイズが、保持部材５５０が配置された範囲よりも大きくなったとしても、基板２，３を保持することができ、汎用性を向上できる。
【００２６】
また、保持部５５２を耐熱性金属繊維で構成している。
このため、保持部５５２を硬度が高い材料により構成する場合と比べて、基板２，３の滑りを抑制できる。さらに、基板２，３の滑りに伴う傷の発生も抑制できる。
【００２７】
そして、保持部材５５０を、ベース台５４０のねじ溝５４１Ａに螺合させることにより、高さを調整可能に設けている。
このため、保持部５５２の高さの微調整を容易にでき、基板２，３の反りをより良好に抑制した状態で熱処理することができる。
【００２８】
さらに、ベース台５４０を、スペーサ５４２を介して所定間隔を空けて配置された第１平板５４１および第２平板５４３により構成している。そして、第１平板５４１に、保持部材５５０を高さ調整可能に設けている。
このため、軸部材５５１の他端面５５１Ｂ側が第１平板５４１から突出する状態で保持部材５５０の高さを調整したとしても、搬送ローラ５２０に接触するおそれを抑制でき、熱処理用セッタ５３０の搬送に影響を及ぼすことがなくなる。したがって、保持部材５５０の高さ調整幅の自由度を、大きくすることができる。
【００２９】
そして、第２平板５４３に、第１平板５４１のねじ溝５４１Ａのそれぞれに対向する位置に調整用孔５４３Ａを設けている。
このため、調整用孔５４３Ａに例えばドライバ６００を挿通させることにより、保持部材５５０の高さを調整することができ、その調整作業を容易にできる。
【００３０】
［実施形態の変形］
なお、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲で以下に示される変形をも含むものである。
【００３１】
すなわち、保持部５５２として、基板２，３の外縁近傍を狭持する構成を適用してもよい。ここで、外縁近傍を狭持する構成としては、側面のみに当接して狭持する構成や、側面および下面に当接して狭持する構成が例示できる。
【００３２】
そして、保持部５５２を耐熱性金属繊維で構成せずに、軸部材５５１の一端面５５１Ｄを保持部として機能させて、基板２，３を載置して保持する構成としてもよい。さらには、保持部５５２を金属繊維以外の耐熱性を有する材料で構成してもよい。
【００３３】
また、保持部材５５０の高さ調整機構として、ねじ溝５４１Ａおよびねじ山５５１Ａの螺合を適用せずに、軸部材５５１を所定位置に固定する構成を適用してもよい。ここで、軸部材５５１を固定する構成としては、機械的に狭持する構成や、ゴムなどの弾性力を用いて狭持する構成が例示できる。
【００３４】
さらに、ベース台５４０を第１平板５４１のみで構成するとともに、第１平板５４１の基板２，３を保持する側の面に突出部分を設け、この突出部分にねじ溝５４１Ａを設ける構成としてもよい。
【００３５】
また、第２平板５４３に調整用孔５４３Ａを設けずに、例えばベース台５４０から第２平板５４３を適宜取り外して、保持部材５５０の高さを調整する構成としてもよい。
【００３６】
そして、第１平板５４１および第２平板５４３のうち少なくともいずれか一方を、耐熱ガラスではなく、金属などの耐熱性を有する他の材料により構成してもよい。また、保持部材５５０を平面視で格子状に設けたが、不規則的に配置してもよい。
【００３７】
その他、本発明の実施の際の具体的な構造および手順は、本発明の目的を達成できる範囲で他の構造などに適宜変更できる。
【００３８】
［実施形態の作用効果］
上述したように、上記実施形態では、ＰＤＰ１の基板２，３の熱処理に利用される熱処理用セッタ５３０を、ベース台５４０と、このベース台５４０の複数箇所に設けられ基板２，３を保持する保持部材５５０と、で構成している。そして、保持部材５５０を、ベース台５４０から保持部５５２までの高さを調整可能に設けている。
このため、例えば長期間の使用によりベース台５４０の第１平板５４１や第２平板５４３に反りが生じたとしても、この反りに応じて保持部材５５０の高さを調整することにより、基板２，３の反りを抑制した状態で熱処理することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明の一実施形態に係るディスプレイパネルの製造方法で製造されるプラズマディスプレイパネルの内部構造を示す模式図である。
【図２】前記一実施形態における熱処理装置の概略構成を示す断面図である。
【図３】前記一実施形態における熱処理用セッタの概略構成を示す側面図である。
【図４】前記一実施形態における熱処理用セッタの要部の概略構成を示す断面図である。
【図５】前記一実施形態における熱処理用セッタの概略構成を示す背面図である。
【符号の説明】
【００４０】
１…ディスプレイパネルとしてのプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）
２…ガラス基板としての背面基板
３…ガラス基板としての前面基板
５１０…熱処理炉
５３０…熱処理用セッタ
５４０…ベース台
５４１…第１平板
５４１Ａ…ねじ溝
５４３…第２平板
５４３Ａ…調整用孔
５５０…保持部材
５５２…保持部
【図１】
2008232463.tif 000003
【図２】
2008232463.tif 000004
【図３】
2008232463.tif 000005
【図４】
2008232463.tif 000006
【図５】
2008232463.tif 000007