(57)【要約】【課題】耐熱性が高く、形成されたレリーフパターンが加熱により容易に消滅しないナノプリント用組成物を提供する。また、ナノプリント用組成物におけるレリーフパターンの形成を容易かつ効率的に生産する。【解決手段】ポリアミド酸（Ｂ）とエポキシ樹脂（Ｃ）を含むナノインプリント用組成物により、上記課題を解決する。また、ポリエステル−ポリアミド酸（Ａ１）およびエポキシ樹脂（Ｃ）を含むナノインプリント用組成物により上記課題を解決する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリアミド酸（Ｂ）とエポキシ樹脂（Ｃ）を含むナノインプリント用組成物。
【請求項２】
ポリアミド酸（Ｂ）が下記一般式（１）
【化１】
2008007623.tif 000040
（式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ独立して炭素数２〜１００の有機基である。）
で表される構成単位を有する、請求項１に記載のナノインプリント用組成物。
【請求項３】
ポリアミド酸（Ｂ）が、ジアミンとテトラカルボン酸二無水物とを用いて得られた、請求項１または２に記載のナノインプリント用組成物
【請求項４】
ポリアミド酸（Ｂ）が、４，４'−ジアミノジフェニルスルホン、３，３'−ジアミノジフェニルスルホン、３，４'−ジアミノジフェニルスルホン、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、ビス［３−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］［３−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］［３−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジメチル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパンおよび下記式（ｂ）で表される化合物
【化２】
2008007623.tif 000041
（式中、Ｒ3およびＲ4は独立して炭素数１〜３のアルキルまたはフェニルであり、Ｒ5は独立してメチレン、フェニレンまたはアルキル置換されたフェニレンであり、ｘは独立して１〜６の整数であり、ｙは１〜１００の整数である。）
からなる群から選ばれる１以上のジアミンと、ピロメリット酸二無水物、１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，４，５−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、３，３'，４，４'−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物および３，３'，４，４'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物からなる群から選ばれる１以上のテトラカルボン酸二無水物とを用いて得られた、請求項１に記載のナノインプリント用組成物。
【請求項５】
エポキシ樹脂（Ｃ）が下記式（２２０）〜（２２３）
【化３】
2008007623.tif 000042
で表される化合物からなる群から選ばれる１以上である、請求項１〜３のいずれかに記載のナノインプリント用組成物。
【請求項６】
ポリアミド酸（Ｂ）が１〜５０重量％およびエポキシ樹脂（Ｃ）が１〜５０重量％含まれる、請求項１〜５のいずれかに記載のナノインプリント用組成物。
【請求項７】
４，４'−ジアミノジフェニルスルホン、３，３'−ジアミノジフェニルスルホン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジアミノジフェニルメタン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパンおよび式（ｂ）で表される化合物
【化４】
2008007623.tif 000043
（式中、Ｒ3およびＲ4は独立して炭素数１〜３のアルキルまたはフェニルであり、Ｒ5は独立してメチレン、フェニレンまたはアルキル置換されたフェニレンであり、ｘは独立して１〜６の整数であり、ｙは１〜１００の整数である。）
からなる群から選ばれる１以上のジアミンと、
ピロメリット酸二無水物、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸二無水物、３，３'，４，４'−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物および３，３'，４，４'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物からなる群から選ばれる１以上のテトラカルボン酸二無水物とを反応させて得られたポリアミド酸（Ｂ）を２〜４０重量％、および、下記式（２２０）〜（２２３）
【化５】
2008007623.tif 000044
で表される化合物からなる群から選ばれる１以上のエポキシ樹脂（Ｃ）を２〜４０重量％含むナノインプリント用組成物。
【請求項８】
下記一般式（１）および（２）
【化６】
2008007623.tif 000045
（式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3はそれぞれ独立して炭素数２〜１００の有機基である。）
で表される構成単位を有するポリエステル−ポリアミド酸（Ａ１）および、下記一般式（３）および（２）
【化７】
2008007623.tif 000046
（式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3はそれぞれ独立して炭素数２〜１００の有機基である。）
で表される構成単位を有するポリエステル−ポリイミド（Ａ２）からなる群から選ばれる１以上、ならびに、エポキシ樹脂（Ｃ）を含むナノインプリント用組成物。
【請求項９】
多価ヒドロキシ化合物（ａ１）とジアミン（ａ２）と酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ３）とを用いて得られたポリエステル−ポリアミド酸（Ａ１）およびそのイミド化物であるポリエステル−ポリイミド（Ａ２）からなる群から選ばれる１以上、ならびに、エポキシ樹脂（Ｃ）を含むナノインプリント用組成物。
【請求項１０】
ポリエステル−ポリアミド酸（Ａ１）が、下記一般式（１）および（２）
【化８】
2008007623.tif 000047
（式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3はそれぞれ独立して炭素数２〜１００の有機基である。）
で表される構成単位を有する、請求項９に記載のナノインプリント用組成物。
【請求項１１】
ポリエステル−ポリイミド（Ａ２）が、  下記一般式（３）および（２）
【化９】
2008007623.tif 000048
（式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3はそれぞれ独立して炭素数２〜１００の有機基である。）
で表される構成単位を有する、請求項９または１０に記載のナノインプリント用組成物。
【請求項１２】
酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ３）が、テトラカルボン酸二無水物または酸無水物基を有する重合性モノマーと他の重合性モノマーとの共重合体から選ばれる１つ以上である請求項９〜１１のいずれかに記載のナノインプリント用組成物。
【請求項１３】
酸無水物基を有する重合性モノマーが無水マレイン酸である請求項１２に記載のナノインプリント用組成物。
【請求項１４】
他の重合性モノマーが、スチレン、メチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、Ｎ−シクロヘクシルマレイミドおよびＮ−フェニルマレイミドからなる群から選ばれる１つ以上である請求項１２または１３に記載のナノインプリント用組成物。
【請求項１５】
酸無水物基を有する重合性モノマーと他の重合性モノマーとの共重合体が、スチレン−無水マレイン酸共重合体である、請求項１２に記載のナノインプリント用組成物。
【請求項１６】
多価ヒドロキシ化合物（ａ１）がエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、テトラプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、からなる群から選ばれる１以上であり、
ジアミン（ａ２）が４，４'−ジアミノジフェニルスルホン、３，３'−ジアミノジフェニルスルホン、３，４'−ジアミノジフェニルスルホン、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、ビス［３−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］［３−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］［３−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジメチル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパンおよび下記式（ｂ）
【化１０】
2008007623.tif 000049
（式中、Ｒ3およびＲ4は独立して炭素数１〜３のアルキルまたはフェニルであり、Ｒ5は独立してメチレン、フェニレンまたはアルキル置換されたフェニレンであり、ｘは独立して１〜６の整数であり、ｙは１〜１００の整数である。）
で表される化合物からなる群から選ばれる１以上であり、
酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ３）が、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ピロメリット酸二無水物、１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，４，５−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、３，３'，４，４'−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物および３，３'，４，４'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物からなる群から選ばれる１以上である、請求項９〜１１のいずれかに記載のナノインプリント用組成物。
【請求項１７】
多価ヒドロキシ化合物（ａ１）が１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオールおよび１，６−ヘキサンジオールからなる群から選ばれる１以上であり、ジアミン（ａ２）が３，３'−ジアミノジフェニルスルホン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、および下記式（ｂ）
【化１１】
2008007623.tif 000050
（式中、Ｒ3およびＲ4は独立して炭素数１〜３のアルキルまたはフェニルであり、Ｒ5は独立してメチレン、フェニレンまたはアルキル置換されたフェニレンであり、ｘは独立して１〜６の整数であり、ｙは１〜１００の整数である。）
で表される化合物からなる群から選ばれる１以上であり、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ３）がスチレン−無水マレイン酸共重合体、３，３'，４，４'−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、３，３'，４，４'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物およびブタンテトラカルボン酸二無水物からなる群から選ばれる１以上である、請求項９〜１１に記載のナノインプリント用組成物。
【請求項１８】
ポリエステル−ポリアミド酸（Ａ１）またはポリエステルーポリイミド（Ａ２）が、多価ヒドロキシ化合物（ａ１）のヒドロキシ１モルに対して、ジアミン（ａ２）のアミノを０．１〜１０モル、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ３）の無水物を１〜１０モル反応させて得られる、請求項９〜１７のいずれかに記載のナノインプリント用組成物。
【請求項１９】
エポキシ樹脂（Ｃ）が下記式（２２０）〜（２２３）
【化１２】
2008007623.tif 000051
で表される化合物からなる群から選ばれる１以上である、請求項８〜１８のいずれかに記載のナノインプリント用組成物。
【請求項２０】
ポリエステル−ポリアミド酸（Ａ１）、またはポリエステルーポリイミド（Ａ２）が１〜５０重量％およびエポキシ樹脂（Ｃ）が１〜５０重量％含まれる、請求項８〜１９のいずれかに記載のナノインプリント用組成物。
【請求項２１】
ジエチレングリコール、１，４−ブタンジオール、トリメチロールプロパンからなる群から選ばれる１以上の多価ヒドロキシ化合物（ａ１）と、４，４'−ジアミノジフェニルスルホン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、および式（ｂ）で表される化合物からなる群から選ばれる１以上のジアミン（ａ２）と、スチレンー無水マレイン酸共重合体、ピロメリット酸二無水物、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸二無水物、３，３'，４，４'−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物および３，３'，４，４'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物からなる群から選ばれる１以上の酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ３）とを反応させて得られたポリエステル−ポリアミド酸（Ａ１）、またはポリエステルーポリイミド（Ａ２）を２〜４０重量％、および、下記式（２２０）〜（２２３）
【化１３】
2008007623.tif 000052
で表される化合物からなる群から選ばれる１以上のエポキシ樹脂（Ｃ）を２〜４０重量％含む、ナノインプリント用組成物。
【請求項２２】
さらに、ポリアミド酸（Ｂ）を含む請求項８〜２１のいずれかに記載のナノインプリント用組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ナノインプリント用組成物に関し、具体的には、原盤を圧接することにより基板表面に微細な凹凸パターンを転写するナノインプリント技術に用いられる材料に関する。
【背景技術】
【０００２】
精密な微細加工技術として、ナノインプリントが挙げられるが、このナノインプリントの１つとして熱インプリントという技術がある。熱インプリントは、一般的には、(1)基板上のポリメチルメタクリレート等の熱可塑性樹脂の高分子膜に減圧雰囲気下でモールド（金型）を基板に押し当てる、(2)当該基板をレジストのガラス転移温度以上に加熱する、(3)一定時間経過後、モールドおよび基板を室温まで冷却する、(4)原盤を基板から剥離する、(5)高分子膜にレリーフパターンが形成される、という工程を経てなされる技術である。
しかし、ポリメチルメタクリレート等の熱可塑性樹脂の高分子膜上に形成されたレリーフパターンは加熱により容易に消滅してしまうという問題があった。また、レリーフパターンの形成のために、モールドを押し当てた状態を長時間保持しなければならないという生産性の問題があった。
【特許文献１】特開２００６−１１０９５６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
上記の状況の下、例えば、耐熱性が高く、形成されたレリーフパターンが加熱により容易に消滅しないナノプリント用組成物が求められてきた。また、ナノプリント用組成物におけるレリーフパターンの形成を容易かつ効率的に生産することが求められてきた。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者等は、ナノインプリントに措いて、基板に形成される高分子の熱可塑性樹脂に、ポリアミド酸（ポリエステル−ポリアミド酸を含む）とエポキシ樹脂とを含む組成物を用いることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成した。本発明は以下のようなナノインプリント用組成物等を提供する。
【０００５】
［１］  ポリアミド酸（Ｂ）とエポキシ樹脂（Ｃ）を含むナノインプリント用組成物。
［２］  ポリアミド酸（Ｂ）が下記一般式（１）
【化１４】
2008007623.tif 000002
（式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ独立して炭素数２〜１００の有機基である。）
で表される構成単位を有する、［１］に記載のナノインプリント用組成物。
［３］  ポリアミド酸（Ｂ）が、ジアミンとテトラカルボン酸二無水物とを用いて得られた、［１］または［２］に記載のナノインプリント用組成物
［４］  ポリアミド酸（Ｂ）が、４，４'−ジアミノジフェニルスルホン、３，３'−ジアミノジフェニルスルホン、３，４'−ジアミノジフェニルスルホン、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、ビス［３−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］［３−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］［３−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジメチル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパンおよび下記式（ｂ）で表される化合物
【化１５】
2008007623.tif 000003
（式中、Ｒ3およびＲ4は独立して炭素数１〜３のアルキルまたはフェニルであり、Ｒ5は独立してメチレン、フェニレンまたはアルキル置換されたフェニレンであり、ｘは独立して１〜６の整数であり、ｙは１〜１００の整数である。）
からなる群から選ばれる１以上のジアミンと、ピロメリット酸二無水物、１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，４，５−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、３，３'，４，４'−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物および３，３'，４，４'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物からなる群から選ばれる１以上のテトラカルボン酸二無水物とを用いて得られた、［１］に記載のナノインプリント用組成物。
［５］  エポキシ樹脂（Ｃ）が下記式（２２０）〜（２２３）
【化１６】
2008007623.tif 000004
で表される化合物からなる群から選ばれる１以上である、［１］〜［３］のいずれかに記載のナノインプリント用組成物。
［６］  ポリアミド酸（Ｂ）が１〜５０重量％およびエポキシ樹脂（Ｃ）が１〜５０重量％含まれる、［１］〜［５］のいずれかに記載のナノインプリント用組成物。
［７］  ４，４'−ジアミノジフェニルスルホン、３，３'−ジアミノジフェニルスルホン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジアミノジフェニルメタン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパンおよび式（ｂ）で表される化合物
【化１７】
2008007623.tif 000005
（式中、Ｒ3およびＲ4は独立して炭素数１〜３のアルキルまたはフェニルであり、Ｒ5は独立してメチレン、フェニレンまたはアルキル置換されたフェニレンであり、ｘは独立して１〜６の整数であり、ｙは１〜１００の整数である。）
からなる群から選ばれる１以上のジアミンと、ピロメリット酸二無水物、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸二無水物、３，３'，４，４'−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物および３，３'，４，４'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物からなる群から選ばれる１以上のテトラカルボン酸二無水物とを反応させて得られたポリアミド酸（Ｂ）を２〜４０重量％、および、下記式（２２０）〜（２２３）
【化１８】
2008007623.tif 000006
で表される化合物からなる群から選ばれる１以上のエポキシ樹脂（Ｃ）を２〜４０重量％含むナノインプリント用組成物。
【０００６】
［８］  下記一般式（１）および（２）
【化１９】
2008007623.tif 000007
（式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3はそれぞれ独立して炭素数２〜１００の有機基である。）
で表される構成単位を有するポリエステル−ポリアミド酸（Ａ１）および、下記一般式（３）および（２）
【化２０】
2008007623.tif 000008
（式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3はそれぞれ独立して炭素数２〜１００の有機基である。）
で表される構成単位を有するポリエステル−ポリイミド（Ａ２）からなる群から選ばれる１以上、ならびに、エポキシ樹脂（Ｃ）を含むナノインプリント用組成物。
［９］  多価ヒドロキシ化合物（ａ１）とジアミン（ａ２）と酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ３）とを用いて得られたポリエステル−ポリアミド酸（Ａ１）およびそのイミド化物であるポリエステル−ポリイミド（Ａ２）からなる群から選ばれる１以上、ならびに、エポキシ樹脂（Ｃ）を含むナノインプリント用組成物。
［１０］  ポリエステル−ポリアミド酸（Ａ１）が、下記一般式（１）および（２）
【化２１】
2008007623.tif 000009
（式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3はそれぞれ独立して炭素数２〜１００の有機基である。）
で表される構成単位を有する、［９］に記載のナノインプリント用組成物。
【０００７】
［１１］  ポリエステル−ポリイミド（Ａ２）が、  下記一般式（３）および（２）
【化２２】
2008007623.tif 000010
（式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3はそれぞれ独立して炭素数２〜１００の有機基である。）
で表される構成単位を有する、［９］または［１０］に記載のナノインプリント用組成物。
［１２］  酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ３）が、テトラカルボン酸二無水物または酸無水物基を有する重合性モノマーと他の重合性モノマーとの共重合体から選ばれる１つ以上である［９］〜［１１］のいずれかに記載のナノインプリント用組成物。
［１３］  酸無水物基を有する重合性モノマーが無水マレイン酸である［１２］に記載のナノインプリント用組成物。
［１４］  他の重合性モノマーが、スチレン、メチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、Ｎ−シクロヘクシルマレイミドおよびＮ−フェニルマレイミドからなる群から選ばれる１つ以上である［１２］または［１３］に記載のナノインプリント用組成物。
［１５］  酸無水物基を有する重合性モノマーと他の重合性モノマーとの共重合体が、スチレン−無水マレイン酸共重合体である、［１２］に記載のナノインプリント用組成物。
【０００８】
［１６］  多価ヒドロキシ化合物（ａ１）がエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、テトラプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、からなる群から選ばれる１以上であり、ジアミン（ａ２）が４，４'−ジアミノジフェニルスルホン、３，３'−ジアミノジフェニルスルホン、３，４'−ジアミノジフェニルスルホン、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、ビス［３−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］［３−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］［３−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジメチル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパンおよび下記式（ｂ）
【化２３】
2008007623.tif 000011
（式中、Ｒ3およびＲ4は独立して炭素数１〜３のアルキルまたはフェニルであり、Ｒ5は独立してメチレン、フェニレンまたはアルキル置換されたフェニレンであり、ｘは独立して１〜６の整数であり、ｙは１〜１００の整数である。）
で表される化合物からなる群から選ばれる１以上であり、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ３）が、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ピロメリット酸二無水物、１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，４，５−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、３，３'，４，４'−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物および３，３'，４，４'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物からなる群から選ばれる１以上である、［９］〜［１１］のいずれかに記載のナノインプリント用組成物。
［１７］  多価ヒドロキシ化合物（ａ１）が１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオールおよび１，６−ヘキサンジオールからなる群から選ばれる１以上であり、ジアミン（ａ２）が３，３'−ジアミノジフェニルスルホン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、および下記式（ｂ）
【化２４】
2008007623.tif 000012
（式中、Ｒ3およびＲ4は独立して炭素数１〜３のアルキルまたはフェニルであり、Ｒ5は独立してメチレン、フェニレンまたはアルキル置換されたフェニレンであり、ｘは独立して１〜６の整数であり、ｙは１〜１００の整数である。）
で表される化合物からなる群から選ばれる１以上であり、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ３）がスチレン−無水マレイン酸共重合体、３，３'，４，４'−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、３，３'，４，４'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物およびブタンテトラカルボン酸二無水物からなる群から選ばれる１以上である、［９］〜［１１］に記載のナノインプリント用組成物。
［１８］  ポリエステル−ポリアミド酸（Ａ１）またはポリエステルーポリイミド（Ａ２）が、多価ヒドロキシ化合物（ａ１）のヒドロキシ１モルに対して、ジアミン（ａ２）のアミノを０．１〜１０モル、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ３）の無水物を１〜１０モル反応させて得られる、［９］〜［１７］のいずれかに記載のナノインプリント用組成物。
【０００９】
［１９］  エポキシ樹脂（Ｃ）が下記式（２２０）〜（２２３）
【化２５】
2008007623.tif 000013
で表される化合物からなる群から選ばれる１以上である、［８］〜［１８］のいずれかに記載のナノインプリント用組成物。
【００１０】
［２０］  ポリエステル−ポリアミド酸（Ａ１）、またはポリエステルーポリイミド（Ａ２）が１〜５０重量％およびエポキシ樹脂（Ｃ）が１〜５０重量％含まれる、［８］〜［１９］のいずれかに記載のナノインプリント用組成物。
［２１］  ジエチレングリコール、１，４−ブタンジオール、トリメチロールプロパンからなる群から選ばれる１以上の多価ヒドロキシ化合物（ａ１）と、４，４'−ジアミノジフェニルスルホン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、および式（ｂ）で表される化合物からなる群から選ばれる１以上のジアミン（ａ２）と、スチレンー無水マレイン酸共重合体、ピロメリット酸二無水物、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸二無水物、３，３'，４，４'−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物および３，３'，４，４'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物からなる群から選ばれる１以上の酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ３）とを反応させて得られたポリエステル−ポリアミド酸（Ａ１）、またはポリエステルーポリイミド（Ａ２）を２〜４０重量％、および、下記式（２２０）〜（２２３）
【化２６】
2008007623.tif 000014
で表される化合物からなる群から選ばれる１以上のエポキシ樹脂（Ｃ）を２〜４０重量％含む、ナノインプリント用組成物。
［２２］  さらに、ポリアミド酸（Ｂ）を含む［８］〜［２１］のいずれかに記載のナノインプリント用組成物。
【００１１】
本明細書中、「アルキル置換されたフェニレン」における、「アルキル」は、炭素数２〜１０のアルキルであることが好ましく、炭素数２〜６のアルキルであることが更に好ましい。アルキルの例としては、制限するわけではないが、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ドデカニル等を挙げることができる。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の好ましい態様に係るナノインプリント用組成物は、例えば、耐熱性が高く、形成されたレリーフパターンが加熱により容易に消滅しない高分子膜を提供できる。
本発明の好ましい態様に係るナノインプリント用組成物を用いると、たとえば、モールドの押し付け温度を従来よりも低温でもレリーフパターンが形成される。また、本発明の好ましい態様に係るナノインプリント用組成物を用いると、モールドの押しつけ時間が従来よりも短縮できるため、レリーフパターンを容易かつ効率的に生産できる。さらに、本発明の好ましい態様に係るナノインプリント用組成物は、耐薬品性が高い。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本発明は、ポリアミド酸（Ｂ）とエポキシ樹脂（Ｃ）を含むナノインプリント用組成物を提供する。また、本発明は、ポリエステル−ポリアミド酸（Ａ１）およびそのイミド化物であるポリエステル−ポリイミド（Ａ２）からなる群から選ばれる１以上とエポキシ樹脂（Ｃ）とを含むナノインプリント用組成物を提供する。
【００１４】
１  ポリアミド酸（Ｂ）
ポリアミド酸（Ｂ）が上記式（１）で表される構成単位を有する化合物である。式（１）中のＲ1およびＲ2はそれぞれ独立して炭素数２〜１００の有機基であれば、特に限定されるものではない。
【００１５】
本発明においてナノインプリント用組成物中のポリアミド酸（Ｂ）の濃度は特に限定されないが１〜５０重量％が好ましく、２〜４０重量％がさらに好ましい。これらの濃度範囲であると、ナノインプリント用組成物の粘度が最適となり、各種の塗布方法で均一な膜厚の塗膜を形成できるので好ましい。
【００１６】
ポリアミド酸（Ｂ）は、たとえば、ジアミンと酸無水物基を２つ以上有する化合物とを反応させることにより得られる。
【００１７】
１．１  ポリアミド酸（Ｂ）の合成に用いられるジアミン
本発明において、ポリアミド酸（Ｂ）の合成に用いられるジアミンは特に限定されるものではないが、具体例としては、４，４'−ジアミノジフェニルスルホン、３，３'−ジアミノジフェニルスルホン、３，４'−ジアミノジフェニルスルホン、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、ビス［３−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］［３−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］［３−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、上記式（ｂ）で表される化合物、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジメチル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、ｍ−キシリレンジアミン、ｐ−キシリレンジアミン、２，２’−ジアミノジフェニルプロパン、ベンジジン、１，１−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］シクロヘキサン、１，１−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］−４−メチルシクロヘキサン、ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］メタン、１，１−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］シクロヘキサン、１，１−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］４−メチルシクロヘキサン、  １，１−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］シクロヘキサン、１，１−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］−４−メチルシクロヘキサン、１，１−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］メタンおよび下記式１〜１７２で表される化合物等である。
【化２７】
2008007623.tif 000015
【化２８】
2008007623.tif 000016
【化２９】
2008007623.tif 000017
【化３０】
2008007623.tif 000018
【化３１】
2008007623.tif 000019
【化３２】
2008007623.tif 000020
【化３３】
2008007623.tif 000021
【化３４】
2008007623.tif 000022
【化３５】
2008007623.tif 000023
【化３６】
2008007623.tif 000024
【化３７】
2008007623.tif 000025
【化３８】
2008007623.tif 000026
【化３９】
2008007623.tif 000027
【化４０】
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【化４１】
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【化４２】
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【化４３】
2008007623.tif 000031
【００１８】
これらの中でも４，４'−ジアミノジフェニルスルホン、３，３'−ジアミノジフェニルスルホン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジアミノジフェニルメタン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパンおよび式（ｂ）で表される化合物を用いて合成されたポリアミド酸（Ｂ）を含むナノインプリント用組成物は透明性の良好なレリーフパターンを形成できるため、透明性を必要とするディスプレイ分野に使用する場合は好ましい。
また、これらのジアミンは一種単独でまたは二種以上組み合わせても使用できる。また、本目的を達成するものであれば、これらのジアミンに限定されない。
【００１９】
１．２  ポリアミド酸（Ｂ）の合成に用いられる酸無水物基を２つ以上有する化合物
本発明でポリアミド酸（Ｂ）の合成に用いられる酸無水物基を２つ以上有する化合物の具体例としては、スチレン−無水マレイン酸共重合体、メタクリル酸メチル−無水マレイン酸共重合体等の無水マレイン酸と他のラジカル重合性モノマーとの共重合体、４―(２,５−ジオキソテトラヒドロフラン−３−イル)−１,２,３,４−テトラヒドロナフタレン−１,２−ジカルボン酸無水物、５−（２,５−ジオキソテトラヒドロフリル）−３−メチル−３−シクロヘキセン−１,２−ジカルボン酸無水物、下記式１７３〜２１９で表される化合物等を挙げることができる。
【化４４】
2008007623.tif 000032
【化４５】
2008007623.tif 000033
【化４６】
2008007623.tif 000034
【化４７】
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【化４８】
2008007623.tif 000036
【化４９】
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【化５０】
2008007623.tif 000038
【００２０】
ポリアミド酸（Ｂ）の合成に用いられる上記式（１７３）〜（２１９）で表される
酸無水物基を有する化合物の具体例の中でも、式（１７９）、式（１８０）、式（１８１）、式（１８５）および式（１８９）で表される化合物を用いると、良好なレリーフパターンが形成できるナノプリント用組成物が製造できるので好ましく、また、これらの酸無水物を用いると透明性の高い組成物が製造できるので、ディスプレイ分野での適用に好ましい。
また、上記記載の酸無水物基を有する化合物は一種単独でも、または二種以上組み合わせて使用してもよい。
【００２１】
１．３  ポリアミド酸（Ｂ）に添加される添加剤
本発明で用いられるポリアミド酸（Ｂ）が、分子末端に酸無水物基を有している場合には、必要により、１価アルコールを添加して反応させることができる。１価アルコールを添加されたポリアミド酸（Ｂ）を含むナノインプリント用組成物は、たとえば平坦性が良好となり好ましい。
【００２２】
添加される１価アルコールとしては、メタノール、エタノール、１−プロパノール、イソプロピルアルコール、アリルアルコール、ベンジルアルコール、ヒドロキシエチルメタクリレート、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、フェノール、ボルネオール、マルトール、リナロール、テルピネオール、ジメチルベンジルカルビノール、乳酸エチル、グリシドール、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン等を挙げることができる。
【００２３】
たとえば、得られるナノインプリント用組成物の平坦性の向上するという点から、上記１価アルコールの具体例の中でも、イソプロピルアルコール、アリルアルコール、ベンジルアルコール、ヒドロキシエチルメタクリレート、プロピレングリコールモノエチルエーテル、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタンが好ましく、これらの中でもベンジルアルコールがさらに好ましい。
【００２４】
また、分子末端に酸無水物基を有するポリアミド酸（Ｂ）に、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、４−アミノブチルトリメトキシシラン、４−アミノブチルトリエトキシシラン、４−アミノブチルメチルジエトキシシラン、ｐ−アミノフェニルトリメトキシシラン、ｐ−アミノフェニルトリエトキシシラン、ｐ−アミノフェニルメチルジメトキシシラン、ｐ−アミノフェニルメチルジエトキシシラン、ｍ−アミノフェニルトリメトキシシラン、およびｍ−アミノフェニルメチルジエトキシシラン等のシリコン含有モノアミンを反応させると、たとえば得られた塗膜の耐薬品性が改善されるので好ましい。
また、１価アルコールとシリコン含有モノアミンを同時にポリアミド酸（Ｂ）に添加して反応させることもできる。
【００２５】
１．４  反応条件
ポリアミド酸（Ｂ）は、ジアミンのアミノを１モルに対して、酸無水物基を２つ以上有する化合物の無水物を０．８〜１．２モル反応させて得られることが好ましい。また、ポリアミド酸（Ｂ）は、ジアミンのアミノを１モルに対して、酸無水物基を２つ以上有する化合物の無水物を０．９〜１．１モル反応させて得られることがさらに好ましい。
【００２６】
ポリアミド酸（Ｂ）を得るために用いられる溶剤は、当該化合物が合成できれば特に限定されるものではないが、たとえば、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、シクロヘキサノン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、およびＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、などを挙げることができる。これらの中でもプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピオン酸メチル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテルおよびＮ−メチル−２−ピロリドンを用いることが好ましい。
これらの溶剤は単独でも、２種以上の混合溶剤としても使用できる。また、上記溶剤以外に他の溶剤を混合して用いることもできるが、他の溶剤は３０重量％以下の割合で用いることが好ましい。
【００２７】
溶剤は、ジアミンと酸無水物との合計１００重量部に対し１００重量部以上使用すると、反応がスムーズに進行するので好ましい。反応は４０℃〜２００℃で、０．２〜２０時間反応させるのが好ましい。
ポリアミド酸（Ｂ）にシリコン含有モノアミンを添加して反応させる場合には、ジアミン（ａ２）と酸無水物基との反応が終了した後に、反応液を４０℃以下まで冷却した後、シリコン含有モノアミンを添加し、１０〜４０℃で０．１〜６時間反応させると好ましい。
なお、ポリアミド酸（Ｂ）に１価アルコールを添加して反応させてもよい。
【００２８】
また、反応原料の反応系への添加順序に特に限定されない。すなわち、ジアミン（ａ２）と酸無水物とを同時に反応溶剤に加える、ジアミンを反応溶剤中に溶解させた後に酸無水物を添加する、酸無水物基を反応溶剤中に溶解させた後にジアミンを添加する、などいずれの方法も用いることができる。
【００２９】
２  エポキシ樹脂（Ｃ）
本発明のナノインプリント用組成物は、エポキシ樹脂（Ｃ）を含む。
本発明で用いられるエポキシ樹脂（Ｃ）は、エポキシを有すれば特に限定されないが、オキシランを２つ以上有する化合物が好ましい。
本発明においてナノインプリント用組成物中のエポキシ樹脂の濃度は特に限定されないが、１〜５０重量％が好ましく、２〜４０重量％がさらに好ましい。この濃度範囲であると、ナノインプリント用組成物の耐熱性、耐薬品性、レリーフパターンが良好になりやすい。
【００３０】
エポキシ樹脂（Ｃ）の具体例としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、オキシランを有するモノマーの重合体、およびオキシランを有するモノマーと他のモノマーとの共重合体、などが挙げられる。
【００３１】
エポキシ樹脂（Ｃ）の具体例としては、商品名「エピコート８０７」、「エピコート８１５」、「エピコート８２５」、「エピコート８２７」、上記式（２２３）で表される化合物である「エピコート８２８」、「エピコート１９０Ｐ」、「エピコート１９１Ｐ」（以上、油化シェルエポキシ（株）製）、商品名「エピコート１００４」、「エピコート１２５６」（以上、ジャパンエポキシレジン（株）製）、商品名「アラルダイトＣＹ１７７」、上記式（２２０）で表される化合物である「アラルダイトＣＹ１８４」（日本チバガイギー（株）製）、上記式（２２１）で表される化合物である商品名「セロキサイド２０２１Ｐ」、「ＥＨＰＥ−３１５０」（ダイセル化学工業（株）製）、上記式（２２２）で表される化合物である商品名「テクモアＶＧ３１０１Ｌ」（三井化学（株）製）などを挙げることができる。
これらの中でも、上記式（２２３）で表される化合物である「エピコート８２８」、上記式（２２０）で表される化合物である「アラルダイトＣＹ１８４」（日本チバガイギー（株）製）、上記式（２２１）で表される化合物である商品名「セロキサイド２０２１Ｐ」（ダイセル化学工業（株）製）を用いると、得られるナノインプリント用組成物の透明性が高く、レリーフパターンが良好になるため好ましい。
【００３２】
また、オキシランを有するモノマーの具体例としては、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、及びメチルグリシジル（メタ）アクリレートを挙げることができる。
【００３３】
オキシランを有するモノマーと共重合を行う他のモノマーとの具体例としては、（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ｉｓｏ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、クロルメチルスチレン、（３−エチル−３−オキセタニル）メチル（メタ）アクリレート、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド及びＮ−フェニルマレイミドなどを挙げることができる。
【００３４】
オキシランを有するモノマーの重合体の好ましい具体例としては、ポリグリシジルメタクリレートなどを挙げることができる。また、オキシランを有するモノマーと他のモノマーとの共重合体の好ましい具体例としては、メチルメタクリレート−グリシジルメタクリレート共重合体、ベンジルメタクリレート−グリシジルメタクリレート共重合体、ブチルメタクリレート−グリシジルメタクリレート共重合体、２−ヒドロキシエチルメタクリレート−グリシジルメタクリレート共重合体、（３−エチル−３−オキセタニル）メチルメタクリレート−グリシジルメタクリレート共重合体及びスチレン−グリシジルメタクリレート共重合体を挙げることができる。
【００３５】
３  ポリエステル−ポリアミド酸（Ａ１）
ポリエステル−ポリアミド酸（Ａ１）は、一般式（１）および一般式（２）で表される構成単位を有する化合物である。ポリエステル−ポリアミド酸（Ａ１）の末端には、たとえば、酸無水物基、アミノ若しくはヒドロキシなどが構成される。
【００３６】
式（１）および式（２）中のＲ1、Ｒ2、Ｒ3はそれぞれ炭素数２〜１００の有機基であれば特に限定されるものではない。
【００３７】
本発明のナノインプリント用組成物から得られる膜の耐薬品性は、一般的にポリエステル−ポリアミド酸（Ａ１）が高分子量である程好ましく、溶剤に対する溶解性は、一般的にポリエステル−ポリアミド酸（Ａ１）が低分子量である程好ましい。そこで、本発明のナノインプリント用組成物に含まれるポリエステル−ポリアミド酸（Ａ１）の重量平均分子量は１，０００〜２００，０００であることが好ましく、２，０００〜１５０，０００であることがより好ましい。
【００３８】
本発明においてナノインプリント用組成物中のポリエステル−ポリアミド酸（Ａ１）の濃度は特に限定されないが１〜５０重量％が好ましく、２〜４０重量％がさらに好ましい。これらの濃度範囲であると、ナノインプリント用組成物の粘度が最適となり、各種の塗布方法で均一な膜厚の塗膜を形成できるので好ましい。
【００３９】
本発明で用いられるポリエステル−ポリアミド酸（Ａ１）は、たとえば、多価ヒドロキシ化合物（ａ１）とジアミン（ａ２）と酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ３）とから得られるが、当該製法に限定されるものではない。
このようにして得られたポリエステル−ポリアミド酸（Ａ１）において、上記式（１）と式（２）中のＲ1は酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ３）の残基であり、上記式（１）中のＲ2はジアミン（ａ２）の残基であり、上記式（２）中のＲ3は多価ヒドロキシ化合物（ａ１）の残基である。
【００４０】
以下に、ポリエステル−ポリアミド酸（Ａ１）を得るために用いることができる、多価ヒドロキシ化合物（ａ１）とジアミン（ａ２）と酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ３）を説明する。
【００４１】
３．１  多価ヒドロキシ化合物（ａ１）
本発明でポリエステル−ポリアミド酸（Ａ１）の合成に用いられる多価ヒドロキシ化合物（ａ１）の具体例としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、分子量１，０００以下のポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、テトラプロピレングリコール、分子量１，０００以下のポリプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，２−ペンタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，４−ペンタンジオール、１，２，５−ペンタントリオール、１，２−ヘキサンジオール、１，６−ヘキサンジオール、２，５−ヘキサンジオール、１，２，６−ヘキサントリオール、１，２−ヘプタンジオール、１，７−ヘプタンジオール、１，２，７−ヘプタントリオール、１，２−オクタンジオール、１，８−オクタンジオール、３，６−オクタンジオール、１，２，８−オクタントリオール、１，２−ノナンジオール、１，９−ノナンジオール、１，２，９−ノナントリオール、１，２−デカンジオール、１，１０−デカンジオール、１，２，１０−デカントリオール、１，２−ドデカンジオール、１，１２−ドデカンジオール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、ビスフェノールＡ(商品名)、ビスフェノールＳ（商品名）、ビスフェノールＦ(商品名)、ジエタノールアミン、およびトリエタノールアミン、商品名「ＳＥＯ−２」（日華化学（株）製）、商品名「ＳＫＹ  ＣＨＤＭ」（新日本理化（株）製）、商品名「リカビノールＨＢ」（新日本理化（株）製）、および、下記式（Ａ）の化合物などを挙げることができる。
【化５１】
2008007623.tif 000039
（式中、Ｒ1、Ｒ3はそれぞれ独立に−（ＣＨ2）x−Ｏ−（ＣＨ2）y−であり、ｘ、ｙはそれぞれ独立に１〜１５の整数であり、Ｒ2は炭素数１〜５のアルキルであり、ｍは２〜５０の整数である。）
【００４２】
たとえば、得られるナノインプリント用組成物の透明性の向上するという点から、上記多価ヒドロキシ化合物（ａ１）の具体例の中でも、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、テトラプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトールが好ましく、これらの中でも１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオールおよび１，６−ヘキサンジオールがさらに好ましい。
【００４３】
３．２  ジアミン（ａ２）
本発明でポリエステル−ポリアミド酸（Ａ１）の合成に用いられるジアミン（ａ２）の具体例としては、前述のポリアミド酸（Ｂ）の合成に用いられるジアミンと同様であり、好ましい例も同様である。
【００４４】
３．３  酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ３）
本発明でポリエステル−ポリアミド酸（Ａ１）の合成に用いられる酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ３）の具体例としては、前述のポリアミド酸（Ｂ）の合成に用いられる酸無水物基を２つ以上有する化合物と同様であり、好ましい例も同様である。
【００４５】
３．４  ポリエステル−ポリアミド酸（Ａ１）に添加される添加剤
本発明で用いられるポリエステル−ポリアミド酸（Ａ１）が、分子末端に酸無水物基を有している場合には、必要により、１価アルコールを添加して反応させることができる。１価アルコールを添加されたポリエステル−ポリアミド酸（Ａ１）は、たとえば平坦性が良好となり好ましい。添加される１価アルコールの例は、ポリアミド酸（Ｂ）に添加される１価アルコールの例と同様である。
【００４６】
また、ポリエステル−ポリアミド酸（Ａ１）にシリコン含有モノアミンを添加して反応させると、たとえば得られた塗膜の耐薬品性が改善されるので好ましい。添加される１価アルコールの例は、ポリアミド酸（Ｂ）に添加されるシリコン含有モノアミンの例と同様である。
また、１価アルコールとシリコン含有モノアミンを同時にポリエステル−ポリアミド酸（Ａ１）に添加して反応させることもできる。
【００４７】
３．５  反応条件
ポリエステル−ポリアミド酸（Ａ１）は、多価ヒドロキシ化合物（ａ１）のヒドロキシ１モルに対して、ジアミン（ａ２）のアミノを０．１〜１０モル、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ３）の無水物を１〜１０モル反応させて得られることが好ましい。また、ポリエステル−ポリアミド酸（Ａ１）は、多価ヒドロキシ化合物（ａ１）のヒドロキシ１モルに対して、ジアミン（ａ２）のアミノを０．２〜５モル、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ３）の無水物を１．１〜６モル反応させて得られることがさらに好ましい。
【００４８】
ポリエステル−ポリアミド酸（Ａ１）を得るために用いられる溶剤は、当該化合物が合成できれば特に限定されるものではなく、たとえば、ポリアミド酸（Ｂ）を得るために用いられる溶剤と同様の溶剤を用いることができる。
溶剤は、多価ヒドロキシ化合物（ａ１）とジアミン（ａ２）と酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ３）との合計１００重量部に対し１００重量部以上使用すると、反応がスムーズに進行するので好ましい。反応は４０℃〜２００℃で、０．２〜２０時間反応させるのが好ましい。
ポリエステル−ポリアミド酸（Ａ１）にシリコン含有モノアミンを添加して反応させる場合には、多価ヒドロキシ化合物（ａ１）とジアミン（ａ２）と酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ３）との反応が終了した後に、反応液を４０℃以下まで冷却した後、シリコン含有モノアミンを添加し、１０〜４０℃で０．１〜６時間反応させると好ましい。
【００４９】
また、反応原料の反応系への添加順序に特に限定されない。すなわち、多価ヒドロキシ化合物（ａ１）とジアミン（ａ２）と酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ３）とを同時に反応溶剤に加える、ジアミン（ａ２）と多価ヒドロキシ化合物（ａ１）を反応溶剤中に溶解させた後に酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ３）を添加する、多価ヒドロキシ化合物（ａ１）と酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ３）をあらかじめ反応させて共重合体を合成した後に、その共重合体にジアミン（ａ２）を添加する、ジアミン（ａ２）と酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ３）をあらかじめ反応させて共重合体を合成した後に、その共重合体に多価ヒドロキシ化合物（ａ１）を添加する、などいずれの方法も用いることができる。
【００５０】
３．６  ポリエステル−ポリイミド（Ａ２）
ポリエステル−ポリイミド（Ａ２）は、一般式（３）および一般式（２）で表される構成単位を有する化合物である。ポリエステル−ポリイミド（Ａ２）の末端には、たとえば、酸無水物基、アミノ若しくはヒドロキシなどが構成される。式（３）および式（２）中におけるＲ1とＲ2とＲ3は上述のとおりである。
【００５１】
本発明のナノインプリント用組成物から得られる膜の耐薬品性は、一般的にポリエステル−ポリイミド（Ａ２）が高分子量である程好ましく、溶剤に対する溶解性は、一般的にポリエステル−ポリイミド（Ａ２）が低分子量である程好ましい。そこで、本発明のナノインプリント用組成物に含まれるポリエステル−ポリイミド（Ａ２）の重量平均分子量は１，０００〜２００，０００であることが好ましく、２，０００〜１５０，０００であることがより好ましい。
【００５２】
本発明においてナノインプリント用組成物中のポリエステル−ポリイミド（Ａ２）の濃度は特に限定されないが２〜４０重量％が好ましく、５〜３０重量％がさらに好ましい。これらの濃度範囲であると、ナノインプリント用組成物の粘度が最適となり、各種の塗布方法で均一な膜厚の塗膜を形成できるので好ましい。
【００５３】
本発明で用いられるポリエステル−ポリイミド（Ａ２）は、たとえば、ポリエステル−ポリアミド酸（Ａ１）を例えば２２０℃で２０時間加熱する等によりイミド化することによって得られる。このようにして得られたポリエステル−ポリイミド（Ａ２）において、上記式（２）と式（３）中のＲ1は酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ３）の残基であり、上記式（３）中のＲ2はジアミン（ａ２）の残基であり、上記式（２）中のＲ3は多価ヒドロキシ化合物（ａ１）の残基である。
【００５４】
４  本発明のナノインプリント用組成物に添加される添加剤
本発明のナノインプリント用組成物は、ポリアミド酸（Ｂ）とエポキシ樹脂（Ｃ）を混合させて、または、ポリエステル−ポリアミド酸（Ａ１）とそのイミド化物であるポリエステル−ポリイミド（Ａ２）とからなる群から選ばれる１以上とエポキシ樹脂（Ｃ）とを混合させて得られるが、さらに、目的とする特性によっては、本発明のナノインプリント用組成物は、界面活性剤、帯電防止剤、カップリング剤、トリメリット酸等のエポキシ硬化剤、アミノシリコン化合物、溶剤、その他の添加剤を必要により選択して添加し、それらを均一に混合溶解することにより得ることができる。
【００５５】
（１）界面活性剤
たとえば、塗布性の向上を望むときには、かかる目的に沿った界面活性剤を添加できる。本発明のナノインプリント用組成物に添加される界面活性剤の具体例としては、商品名「Ｂｙｋ−３００」、「Ｂｙｋ−３０６」、「Ｂｙｋ−３３５」、「Ｂｙｋ−３１０」、「Ｂｙｋ−３４１」、「Ｂｙｋ−３４４」、「Ｂｙｋ−３７０」（ビック・ケミー（株）製）などのシリコン系界面活性剤、商品名「Ｂｙｋ−３５４」、「ＢｙＫ−３５８」、「Ｂｙｋ−３６１」（ビック・ケミー（株）製）などのアクリル系界面活性剤、商品名「ＤＦＸ−１８」、「フタージェント２５０」、「フタージェント２５１」（ネオス（株）製）などのフッ素系界面活性剤を挙げることができる。
これらの帯電防止剤は、一種のみを用いてもよく、また、二種以上を混合して用いてもよい。
界面活性剤は、下地基板への濡れ性、平坦性、または塗布性を向上させるために使用するものであり、ナノインプリント用組成物中０．０１〜１重量％添加して用いられることが好ましい。
【００５６】
（２）帯電防止剤
本発明のナノインプリント用組成物に添加される帯電防止剤は、特に限定されるものではなく、通常の帯電防止剤を用いることができる。具体的には、酸化錫、酸化錫・酸化アンチモン複合酸化物、酸化錫・酸化インジウム複合酸化物等の金属酸化物や四級アンモニウム塩等が挙げられる。
これらの帯電防止剤は、一種のみを用いてもよく、また、二種以上を混合して用いてもよい。
帯電防止剤は、帯電を防止するために使用するものであり、ナノインプリント用組成物中０．０１〜１重量％添加して用いられることが好ましい。
【００５７】
（３）カップリング剤
本発明のナノインプリント用組成物に添加されるカップリング剤は、特に限定されるものではなく、通常のカップリング剤を用いることができる。添加されるカップリング剤はシランカップリング剤が好ましく、具体的には、トリアルコキシシラン化合物またはジアルコキシシラン化合物等を挙げることができる。好ましくは、例えば、γ−ビニルプロピルトリメトキシシラン、γ−ビニルプロピルトリエトキシシラン、γ−アクリロイルプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロイルプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アクリロイルプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロイルプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−アミノエチル−γ−イミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−アミノエチル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、 Ｎ−アミノエチル−γ−アミノプロピルトジエトキシシラン、 Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、 Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、 Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、 Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルメチルジエトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン等が例示できる。なかでも、γ−ビニルプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ-メタクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルトリエトキシシランなどが挙げられる。
【００５８】
これらのカップリング剤は、一種のみを用いてもよく、また、二種以上を混合して用いてもよい。
カップリング剤は、ナノインプリント用組成物中０．０１〜３重量％添加して用いられることが好ましい。
【００５９】
（４）エポキシ硬化剤
本発明のナノインプリント用組成物に添加されるエポキシ硬化剤は、特に限定されるものではなく、通常のエポキシ硬化剤を用いることができる。具体的には、有機酸ジヒドラジド化合物、イミダゾール及びその誘導体、ジシアンジアミド、芳香族アミン、多価カルボン酸、多価カルボン酸無水物等が挙げられる。さらに具体的には、ジシアンジアミド等のジシアンジアミド類、アジピン酸ジヒドラジド、１，３−ビス（ヒドラジノカルボエチル）−５−イソプロピルヒダントイン等の有機酸ジヒドラジド、２，４−ジアミノ―６―［２'−エチルイミダゾリル−(１')］−エチルトリアジン、２−フェニルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−５−ヒドロキシメチルイミダゾール等のイミダゾール誘導体、無水フタル酸、無水トリメリット酸、１，２，４−シクロヘキサントリカルボン酸―１，２−無水物等の酸無水物等が挙げられる。これらの中でも透明性が良好なトリメリット酸、１，２，４−シクロヘキサントリカルボン酸―１，２−無水物が好ましい。
【００６０】
これらのエポキシ硬化剤は、一種のみを用いてもよく、また、二種以上を混合して用いてもよい。
エポキシ硬化剤は、ナノインプリント用組成物中０．２〜５重量％添加して用いられることが好ましい。
【００６１】
（５）アミノシリコン化合物
本発明のナノインプリント用組成物においてアミノシリコン化合物を添加することができる。アミノシリコン化合物としては、パラアミノフェニルトリメトキシシラン、パラアミノフェニルトリエトキシシラン、メタアミノフェニルトリメトキシシラン、メタアミノフェニルトリエトキシシラン、アミノプロピルトリメトキシシラン、アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。
これらのアミノシリコン化合物は、一種のみを用いてもよく、また、二種以上を混合して用いてもよい。
アミノシリコン化合物は、基板への密着性を良くするために使用するものであり、ナノインプリント用組成物中０．０５〜２重量％添加して用いられることが好ましい。
【００６２】
（６）溶剤
本発明のナノインプリント用組成物に含まれ得る溶剤は、ポリエステル−ポリアミド酸（Ａ１）、ポリエステル−ポリイミド（Ａ２）、ポリアミド酸（Ｂ）、エポキシ樹脂（Ｃ）などを溶解することができる溶剤であれば特に制限されない。溶剤は、ポリアミド酸、可溶性ポリイミドなどの高分子成分の製造工程や用途面で通常使用されている溶剤を広く含み、使用目的に応じて、適宜選択できる。
【００６３】
これらの溶剤を例示すると以下のとおりである。ポリアミド酸や可溶性ポリイミドに対し親溶剤である非プロトン性極性有機溶剤の例は、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルイミダゾリジノン、Ｎ−メチルカプロラクタム、Ｎ−メチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、ジエチルアセトアミド、γ−ブチロラクトンなどである。
また、塗布性改善などを目的とした他の溶剤の例としては、乳酸アルキル、３−メチル−３−メトキシブタノール、テトラリン、イソホロン、エチレングリコールモノブチルエーテルなどのエチレングリコールモノアルキルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルなどのジエチレングリコールモノアルキルエーテル、エチレングリコールモノアルキルまたはフェニルアセテート、トリエチレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテルなどのプロピレングリコールモノアルキルエーテル、マロン酸ジエチルなどのマロン酸ジアルキル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルなどのジプロピレングリコールモノアルキルエーテル、これらアセテート類などのエステル化合物が挙げられる。これらの溶剤の中でも、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルイミダゾリジノン、γ−ブチロラクトン、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、３−メトキシプロピオン酸メチルなどを特に好ましく用いることができる。
【００６４】
これらの溶剤は、一種のみを用いてもよく、また、二種以上を混合して用いてもよい。また、溶剤は、ナノインプリント用組成物中の固形分濃度が５〜６０重量％となるように添加して用いられることが好ましい。
【００６５】
（７）その他の添加剤
本発明のナノインプリント用組成物は、本発明の特性を損なわない範囲（好ましくはナノインプリント用組成物の２０重量％以内）で、可溶性ポリイミド、ポリエステル、アクリル酸ポリマー、アクリレートポリマー等のポリマー成分と混合して使用することも可能である。
また、本発明のナノインプリント用組成物には、ジカルボン酸もしくはその誘導体とジアミンとの反応生成物であるポリアミドやテトラカルボン酸二無水物、ジカルボン酸もしくはその誘導体とジアミンとの反応生成物であるポリアミドイミド等のポリマー成分を本発明の目的を損なわない範囲で添加することができる。
【００６６】
５  高分子膜の形成
本発明のナノインプリント用組成物を、基板表面に塗布し、ホットプレート、またはオーブンなどでの加熱により溶剤を除去することによって塗膜を形成することができる。加熱条件は各成分の種類および配合割合によって異なるが、通常７０〜１２０℃で、オーブンを用いた場合５〜１５分間、ホットプレートを用いた場合１〜１０分間で塗膜が形成される。塗布は、スピンコート法、ロールコート法、ディッピング法、およびスリットコート法など通常の方法により形成することができる。
【００６７】
塗膜を形成後、ポリアミド酸またはポリエステル−ポリアミド酸のカルボキシと、エポキシ樹脂のオキシランとを反応させるために１２０〜１８０℃、好ましくは１３０〜１５０℃で、オーブンを用いた場合５〜１５分間、ホットプレートを用いた場合２〜１０分間加熱処理することによって高分子膜を得ることができる。
【００６８】
６  ナノインプリント
高分子膜を得るための加熱処理時の温度と同じ温度に温めておいたモールドを塗膜に０．０１〜２ｋｇ／ｃｍ2の圧力で２〜２０分間押し付ける。その後、モールドを塗膜からはがすと塗膜上にレリーフパターンが形成される。
このレリーフパターンを１８０〜２５０℃、好ましくは２００〜２４０℃で、オーブンなら３０〜９０分間、ホットプレートなら５〜３０分間加熱処理することによってイミド化と、ポリアミド酸またはポリエステル−ポリアミド酸のカルボキシと、エポキシ樹脂のオキシランとの反応が進行し、強靭で、耐熱性、耐薬品性、密着性および耐スパッタ性に優れたナノインプリントのレリーフパターンができる。
【実施例】
【００６９】
以下、本発明を実施例および比較例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００７０】
実施例および比較例で用いる、ジアミン、テトラカルボン酸二無水物および溶剤の名称を略号で示す。以降の記述にはこの略号を使用する。
【００７１】
ジアミン
４，４’−ジアミノジフェニルエーテル：ＡＰＥ
３，３'−ジアミノジフェニルスルホン：ＤＤＳ
テトラカルボン酸二無水物
ピロメリット酸二無水物：ＰＭＤＡ
３，３'，４，４'−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物：ＯＤＰＡ
溶剤成分
Ｎ−メチル−２−ピロリドン：ＮＭＰ
γ―ブチロラクトン：ＧＢＬ
ブチルセロソルブ：ＢＣ
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド：ＤＭＦ
【００７２】
［合成例１］ポリアミド酸の合成
温度計、攪拌機、原料投入仕込み口および窒素ガス導入口を備えた１０００ｍｌの四つ口フラスコに、ＰＭＤＡを２１．８１g、ＡＰＥを２０．０２ｇ、脱水精製したＮＭＰを４００ｇ入れ、乾燥窒素気流下２５℃で３０時間攪拌した。この反応液に脱水精製したＮＭＰを３９４．７７ｇ加えて、６０℃で８時間攪拌し、淡黄色で透明なポリアミド酸の５重量％溶液を得た。反応液の粘度は３８ｍＰａ・ｓ（Ｅ型粘度計、２５℃）であった。またＧＰＣで測定した結果、得られたポリアミド酸の重量平均分子量は４１，０００であった。
【００７３】
［合成例２］ポリエステル−ポリアミド酸の合成
温度計、攪拌機、原料投入仕込み口および窒素ガス導入口を備えた５００ｍｌの四つ口フラスコに、ＯＤＰＡを６５．００ｇ、１，４−ブタンジオールを９．４４ｇ、脱水精製したＮＭＰを１１１．６６ｇ入れ、乾燥窒素気流下１３０℃で１時間攪拌した。この反応液を４０℃まで冷却し、ＤＤＳを２６．０１ｇ、脱水精製したＮＭＰを１２２．７２ｇ入れ、乾燥窒素気流下４０℃で２時間攪拌した。最後に脱水精製したＮＭＰを１６７．４２ｇ加えて攪拌し、淡黄色透明なポリエステル−ポリアミド酸の２０％溶液を得た。この溶液の粘度は３１１ｍＰａ・ｓであった。ＧＰＣで測定した重量平均分子量は１４，０００であった。
【００７４】
［実施例１］ナノインプリント用組成物の調製
以下に示す各成分を乾燥窒素気流下室温で混合溶解した。
合成例１のポリアミド酸溶液                      ５．００ｇ
セロキサイド２０２１Ｐ
（ダイセル化学工業（株）製  脂環式エポキシ樹脂）０．５０ｇ
ＢＣ                                            ２．００ｇ
【００７５】
このようにして得られた溶液を、０．２μｍのフッ素樹脂製のメンブレンフィルターでろ過し、ナノインプリント用組成物を得た。
【００７６】
得られたナノインプリント用組成物をガラス基板上にスピンナーにて塗布した。塗布条件は２５００ｒｐｍ、１０秒であった。塗膜後８０℃のホットプレート上で５分間乾燥して膜厚０．２３μｍの塗膜を形成した。この塗膜付きの基板を１５０℃のホットプレートで８分間加熱した。次いで加熱後の基板をインプリント装置（ＳＣＩＶＡ社製Ｘ−２００）にセットし、１５０℃に加熱したモールドを塗膜に０．１０ｋｇ／ｃｍ2の加重を載せて１０分間押し付けた。モールドを８０℃まで冷却してからを塗膜からはがすと、塗膜上にモールドの形状が転写したレリーフパターンが形成された。このレリーフパターンを２２０℃のオーブンで４０分間加熱処理した後、レリーフパターンの形状を２万倍の電子顕微鏡で観察したところ、モールド形状が転写した形を維持しており、熱だれは見られなかった。
また、このレリーフパターン付きガラス基板をＮ−メチル−２−ピロリドン中に４０℃で１０分間浸漬処理した後、レリーフパターンの形状を２万倍の電子顕微鏡で観察したところ、処理前の形状を維持していた。
【００７７】
［実施例２］ナノインプリント用組成物の調製
以下に示す各成分を乾燥窒素気流下室温で混合溶解した。
合成例２のポリエステル−ポリアミド酸溶液        ５．００ｇ
アラルダイトＣＹ１８４
（バンティコ（株）製  脂環式エポキシ樹脂）      ０．５０ｇ
ＧＢＬ                                          ２．００ｇ
ＢＣ                                            ２．００ｇ
【００７８】
このようにして得られた溶液を、０．２μｍのフッ素樹脂製のメンブレンフィルターでろ過し、ナノインプリント用組成物を得た。
【００７９】
得られたナノインプリント用組成物をガラス基板上にスピンナーにて塗布した。塗布条件は２５００ｒｐｍ、１０秒であった。塗膜後８０℃のホットプレート上で５分間乾燥して膜厚０．２８μｍの塗膜を形成した。この塗膜付きの基板を１４０℃のホットプレートで７分間加熱した。次いで加熱後の基板をインプリント装置（ＳＣＩＶＡ社製Ｘ−２００）にセットし、１４０℃に加熱したモールドを塗膜に０．０５ｋｇ／ｃｍ2加重を載せて１０分間押し付けた。モールドを８０℃まで冷却してからを塗膜からはがすと、塗膜上にモールドの形状が転写したレリーフパターンが形成された。このレリーフパターンを２２０℃のオーブンで４０分間加熱処理した。レリーフパターンの形状を２万倍の電子顕微鏡で観察したところ、モールド形状が転写した形を維持しており、熱だれは見られなかった。
また、このレリーフパターン付きガラス基板をＮ−メチル−２−ピロリドン中に４０℃で１０分間浸漬処理した後、レリーフパターンの形状を２万倍の電子顕微鏡で観察したところ、処理前の形状を維持していた。
【００８０】
［比較例１］
以下に示す各成分を乾燥窒素気流下室温で混合溶解した。
合成例１のポリアミド酸溶液                      ５．００ｇ
ＢＣ                                            １．５０ｇ
【００８１】
このようにして得られた溶液を、０．２μｍのフッ素樹脂製のメンブレンフィルターでろ過し、ナノインプリント用組成物を得た。
得られたナノインプリント用組成物をガラス基板上にスピンナーにて塗布した。塗布条件は２５００ｒｐｍ、１０秒であった。塗膜後８０℃のホットプレート上で５分間乾燥して膜厚０．２５μｍの塗膜を形成した。この塗膜付きの基板を実施例１と同様の条件でモールドを押しつけた後に冷却してモールドをはがしたところ、塗膜上にモールドの形状が転写したレリーフパターンが形成された。このレリーフパターンを２２０℃のオーブンで４０分間加熱処理した後、レリーフパターンの形状を２万倍の電子顕微鏡で観察したところ、熱だれによりレリーフパターンは消失していた。
【００８２】
［比較例２］
比較例１で調製したナノインプリント用組成物を、比較例１と同様に、ガラス基板上に塗布して、膜厚０．２５μｍの塗膜を形成した。次いでこの基板をインプリント装置（ＳＣＩＶＡ社製Ｘ−２００）にセットし、２００℃に加熱したモールドを塗膜に０．０５ｋｇ／ｃｍ2加重を載せて６０分間押し付けた。モールドを８０℃まで冷却してからを塗膜からはがすと、塗膜上にモールドの形状が転写したレリーフパターンが形成された。このレリーフパターンを２２０℃のオーブンで４０分間加熱処理した後、レリーフパターンの形状を２万倍の電子顕微鏡で観察したところ、モールド形状が転写した形を維持していた。しかし、このレリーフパターン付きガラス基板をＮ−メチル−２−ピロリドン中に４０℃で１０分間浸漬処理した後、レリーフパターンの形状を２万倍の電子顕微鏡で観察したところ、レリーフパターンの形状が崩れていた。
【産業上の利用可能性】
【００８３】
本発明の活用法として、例えば、ＦＰＤをはじめとする光学デバイス、記録媒体、半導体、電子デバイス、バイオチップ、化学チップの製造プロセスのナノインプリントを挙げることができる。