(57)【要約】【課題】光学記録媒体の情報記録層を構成する半透明反射膜及び反射膜において耐候性の向上とコストの低廉化を図ることを目的とする。【解決手段】情報記録層２１及び２２と反射膜１４とを有し、反射膜１４が、１．５〔ａｔｏｍ％〕以上８．２〔ａｔｏｍ％〕以下のＣｕを含有するＡｇＣｕ系合金薄膜から成り、ＡｇＣｕ系合金は、０．１〔ａｔｏｍ％〕以上２．０〔ａｔｏｍ％〕以下のＰｄを含有し、かつＡｌ，Ｔｉ，Ｆｅ，Ｎｉ，Ｍｏ，Ｗのうちの１または２の元素を含有し、この元素の含有合計が、１．０〔ａｔｏｍ％〕以上７．５〔ａｔｏｍ％〕以下とされたＡｇＣｕＰｄ系の４元合金もしくは５元合金のいずれかより成る構成とする。【選択図】図１
2008186580.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
情報記録層と反射膜とを有し、
上記反射膜が、１．５〔ａｔｏｍ％〕以上８．２〔ａｔｏｍ％〕以下のＣｕを含有するＡｇＣｕＰｄ系合金薄膜から成り、
該ＡｇＣｕＰｄ系合金は、０．１〔ａｔｏｍ％〕以上２．０〔ａｔｏｍ％〕以下のＰｄを含有し、かつＡｌ，Ｔｉ，Ｆｅ，Ｎｉ，Ｍｏ，Ｗのうちの、１または２の元素を含有し、該元素の含有合計が、１．０〔ａｔｏｍ％〕以上７．５〔ａｔｏｍ％〕以下とされたＡｇＣｕＰｄ系の４元合金もしくは５元合金のいずれかより成る
光学記録媒体。
【請求項２】
第１の情報記録層と、第２の情報記録層とが積層されて成り、
上記第１の情報記録層には半透明反射膜が形成されて成り、
上記第２の情報記録層には反射膜が形成されて成り、
上記半透明反射膜が、１．５〔ａｔｏｍ％〕以上８．２〔ａｔｏｍ％〕以下のＣｕを含有するＡｇＣｕＰｄ系合金から成り、
上記ＡｇＣｕＰｄ系合金は、０．１〔ａｔｏｍ％〕以上２．０〔ａｔｏｍ％〕以下のＰｄを含有し、かつＡｌ，Ｔｉ，Ｆｅ，Ｎｉ，Ｍｏ，Ｗのうちの、１または２の元素を含有し、該元素の含有合計が、１．０〔ａｔｏｍ％〕以上７．５〔ａｔｏｍ％〕以下とされたＡｇＣｕＰｄ系の４元合金もしくは５元合金のいずれかから成り、
上記第２の情報記録層に対する情報の再生が、上記第１の情報記録層を透過した照射光により行われる
光学記録媒体。
【請求項３】
上記第１の情報記録層は、第１の基板上に形成され、
上記第２の情報記録層は、第２の基板上に形成され、
上記第１の基板と上記第２の基板とが、互いの情報記録を対向させて貼り合わせて成り、
上記第１および第２の情報記録層に対する情報の再生は、第１の基板側からの光照射によって行われる
請求項１又は２記載の光学記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は例えばＣＤ（Compact Disc）、ＣＤ−ＲＯＭ（CD-Read Only Memory）等において、半透明反射膜、反射膜の、より高い耐候性、コストのより低廉化を図った光学記録媒体に係わる。
【背景技術】
【０００２】
オーディオ用、ビデオ用等、各種の情報を記録する光学記録媒体として、ＣＤおよびＣＤ−ＲＯＭ等の再生専用型、光磁気ディスク、相変化ディスク等の書換え型、および有機材料を用いたＣＤ−Ｒ等の追記型等の各種光学記録媒体がある。
これらの光学記録媒体を構成する情報記録層には、データ情報、トラッキングサーボ信号等の記録がなされる位相ピット、プリグルーブ等の微細凹凸が形成される。
【０００３】
一方、近年、光学記録媒体において、情報記録の大容量化の要求が高まっており、例えば第１および第２の情報記録層が積層された２層構造のＤＶＤ（Digital Versatile Disc）の実用化が進んでいる。
【０００４】
図４は、第１の情報記録層２３１および第２の情報記録層２３２が積層された２層構造による光学記録媒体２００の概略断面図を示す。
第１の情報記録層２３１は、第１の基板２０１の射出成形と同時に形成した第１の微細凹凸２１１上に、例えばＡｕ，Ｓｉ，ＡｇＰｄＣｕ，ＡｇＰｄＴｉ等より成る半透明反射膜２２３が成膜されて構成されている。
第２の情報記録層２３２は、第２の基板２０２の射出成形と同時に形成した第２の微細凹凸２２２上に、例えばＡｌ薄膜、Ａｌ合金薄膜等の反射膜２２４が成膜されて構成されている。
【０００５】
そして、これら第１の基板２０１と第２の基板２０２とは、第１の情報記録層２３１および第２の情報記録層２３２を対向させて透明接着剤層２０３を介して貼り合わされて、２層の情報記録層が形成されている。
【０００６】
この構成による光学記録媒体２００においては、その第１および第２の情報記録層２３１および２３２からのそれぞれの情報の再生または記録、あるいはその双方（以下単に再生または記録という）を行うには、そのドライブ装置の簡略化を図り、かつこれらの情報記録層２３１および２３２のそれぞれに対し、短時間にアクセスし、連続的にその記録あるいは再生を行うことができるように、１組の光学ヘッドによって、光学記録媒体２００の同一側、例えば第１の基板２０１側からのレーザ光照射によって行うようにすることが望まれる。
【０００７】
このように、光学記録媒体の同一側から、第１および第２の情報記録層２３１および２３２対して、その記録あるいは再生、またはその双方を行うレーザ光の照射を行う場合、同一光学ヘッドから、第１の情報記録層２３１に対しては、レーザ光Ｌを、図４中の実線で示すように、第１の情報記録層２３１にフォーカシングさせて行い、第２の情報記録層２３２に対しては、レーザ光Ｌを図４中の破線で示すように、第２の情報記録層２３２にフォーカシングさせて行う。
【０００８】
この場合、第１および第２の情報記録層２３１および２３２の双方に関してレーザ光による記録あるいは再生、またはその双方を行うことができるようにするためには、上述したように、レーザ光の入射側の第１の情報記録層２３１には、半透明反射膜２２３が設けられて照射レーザ光の一部を反射してこの第１の情報記録層２３１の記録あるいは再生が行われるようにし、一部を透過させて、第２の情報記録層２３２に向かわせて、この第２の情報記録層２３１の記録あるいは再生が行われるようにする。
【０００９】
尚、第１の情報記録層２３１と第２の情報記録層２３２とは、レーザ光に対して高透過率を有する接着材料からなる透明接着剤層２０３を介して、互いの再生信号が干渉しないような距離を隔てて積層されているものであり、このために、対物レンズのフォーカス位置を各々の情報記録層２３１および２３２に対応した位置に合わせることにより、それぞれの情報を高精度に再生することが可能になる。
【００１０】
このような信号の再生方法を実現する上では、第１の情報記録層２３１の半透明反射膜２２３の膜設計が極めて重要となる。
この半透明反射膜２２３の成膜材料として、上述したように、Ａｕ，Ｓｉ，ＡｇＰｄＣｕ，ＡｇＰｄＴｉが用いられている。
これらは、レーザ光に対する反射率および透過率の観点から半透明反射膜２２３としての光学的特性を満足し、またスパッタリングによって容易に薄膜形成できることから適用されていた。
【００１１】
しかしながら、Ａｕは材料のコスト高を来すという問題があり、Ｓｉは相対的に安価であるが、透明接着剤層２０３を構成する接着材料あるいは基板２０１の材料との接着性に劣り、曲げや反り等の機械的な変形あるいは高湿度下のような厳しい環境下における信頼性が充分に得られないという問題を有する。
【００１２】
さらには、Ｓｉ膜は金属薄膜に比べて、その成膜時のスパッタリング工程におけるスパッタリング処理室内に付着したＳｉが剥離し易く、いわゆるパーティクルが発生しやすく、エラーレートの悪化を来すという問題がある。
【００１３】
また、通常の半透明反射膜に用いられている金属あるいはＳｉ半導体材料等によって半透明反射膜を構成するには、その膜厚は５〔ｎｍ〕〜２５〔ｎｍ〕程度とすることが必要であり、これは例えば通常のコンパクトディスクにおける反射膜の３５〔ｎｍ〕〜６０〔ｎｍ〕に比して薄い。そして、この通常の半透明反射膜に用いられている金属あるいはＳｉ半導体材料等は、長期間保存、更に高温多湿環境下での保存において、基板２０１側からの影響により表面酸化が比較的生じ易いことから、この程度の膜厚では、その反射率変化への影響が大きく耐候性に劣る。
【００１４】
また、この半透明反射膜２２３は、基板２０１側からの影響のみならず、透明接着剤層２０３との接触部からの酸化も問題となり、これによる反射率の変化や再生信号のジッターの劣化が問題となっている。
また、上述した酸化のみならず、高温環境下での放置、いわゆるアニール効果によって、成膜後の膜中の原子が移動し、熱伝導率、あるいは反射率が増加してしまう現象も、組成によっては問題となる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
このような多層構造の光学記録媒体においては、その半透明反射膜の構成に、多くの問題を抱えていて、この耐候性およびコストの低廉化は、多層構造の光学媒体の実用化において、大きな問題となっている。
【００１６】
しかしながら、このような多層構造の光学記録媒体に限らず、情報記録層として各種材料膜を積層成膜する光磁気、相変化、色素系等の記録可能な光学記録媒体に用いられる反射膜においても、反射膜の耐候性は重要であり、反射膜の酸化等による経時変化により、再生信号品質のみならず、記録感度等の記録条件の変化を来すという問題もある。
【００１７】
一方、ＡｇＰｄＣｕ薄膜あるいはＡｇＰｄＴｉ薄膜は、Ａｕ単体に比較してコスト的に安価であり、Ｓｉの場合のような剥離の問題も生じない。
しかしながら、昨今、より高い、記録密度あるいは記録容量が要求され、記録あるいは再生に用いられる照射光として、短波長レーザ光が用いられて面記録密度の向上が図られている。この場合、より高い記録ピットの精度が必要となり、面記録密度が低い場合において許容される程度の僅かな再生信号のジッターの劣化でも、面記録密度の高くなる場合には問題となる。
【００１８】
更に、上述したような情報記録層が２層構造とされたり、さらに２層以上の多層化がなされると、照射光の入射側に位置する各情報記録層における半透明反射膜は、各層の反射率や、透過率関係の選定から、その膜厚は、より薄くされる方向にあり、この半透明反射膜においては、より高い耐候性が要求されてくる。
【００１９】
すなわち、より長期に渡り、より過酷な環境下において反射率変化や、再生信号のジッターの劣化を来すことがない、より高い耐候性が要求される。
そして、更に、よりコストの低廉化の要求も高まっている。
【００２０】
本発明は、光学記録媒体の情報記録層を構成する半透明反射膜、および反射膜、殊に半透明という特殊な特性が要求される半透明反射膜において、その耐候性の向上と同時に、コストの低廉化を図ることができる光学記録媒体を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００２１】
少なくとも情報記録層と反射膜とを有する光学記録媒体にあって、その反射膜が、３．０〔ａｔｏｍ％〕以上６．５〔ａｔｏｍ％〕以下のＣｕを含有するＡｇＣｕ合金薄膜から成る構成とする。
【００２２】
また、少なくとも第１の情報記録層と、第２の情報記録層とが積層されて成る光学記録媒体にあって、その第１の情報記録層には半透明反射膜が形成され、第２の情報記録層には反射膜が形成された構成を有し、その半透明反射膜が、３．０〔ａｔｏｍ％〕以上６．５〔ａｔｏｍ％〕以下のＣｕを含有するＡｇＣｕ合金薄膜から成る構成とする。
この構成において、第２の情報記録層に対する情報の再生は、第１の情報記録層を透過した照射光により行うものである。
【００２３】
また、少なくとも情報記録層と反射膜とを有する光学記録媒体にあって、その反射膜が、２．０〔ａｔｏｍ％〕以上９．０〔ａｔｏｍ％〕以下のＣｕを含有するＡｇＣｕ系合金薄膜から成り、このＡｇＣｕ系合金が、Ａｌ，Ｔｉ，Ｆｅ，Ｎｉ，Ｍｏ，Ｗのうちの、１または２の元素を含有し、この元素の含有合計が、０．５〔ａｔｏｍ％〕以上８．１〔ａｔｏｍ％〕以下とされたＡｇＣｕ系の、３元合金もしくは４元合金のいずれかより成る構成とする。
【００２４】
更に、少なくとも第１の情報記録層と、第２の情報記録層とが積層されて成る光学記録媒体にあって、その第１の情報記録層には半透明反射膜が形成され、第２の情報記録層には反射膜が形成された構成を有し、その半透明反射膜が、２．０〔ａｔｏｍ％〕以上９．０〔ａｔｏｍ％〕以下のＣｕを含有するＡｇＣｕ系合金薄膜から成り、このＡｇＣｕ系合金が、Ａｌ，Ｔｉ，Ｆｅ，Ｎｉ，Ｍｏ，Ｗのうちの、１または２の元素を含有し、この元素の含有合計が、０．５〔ａｔｏｍ％〕以上８．１〔ａｔｏｍ％〕以下とされたＡｇＣｕ系の、３元合金もしくは４元合金のいずれかより成る構成とする。
この構成において、第２の情報記録層に対する情報の再生は、第１の情報記録層を透過した照射光により行うものである。
【００２５】
上記課題を解決するため、本発明による光学記録媒体は、情報記録層と反射膜とを有し、その反射膜が、１．５〔ａｔｏｍ％〕以上９．０〔ａｔｏｍ％〕以下のＣｕを含有するＡｇＣｕ系合金薄膜から成り、このＡｇＣｕ系合金は、０．１〔ａｔｏｍ％〕以上２．０〔ａｔｏｍ％〕以下のＰｄを含有し、かつＡｌ，Ｔｉ，Ｆｅ，Ｎｉ，Ｍｏ，Ｗのうちの、１または２の元素を含有し、この元素の含有合計が、０．５〔ａｔｏｍ％〕以上８．１〔ａｔｏｍ％〕以下とされたＡｇＣｕＰｄ系の、４元合金もしくは５元合金のいずれかより成る構成とする。
【００２６】
また、本発明は、第１の情報記録層と、第２の情報記録層とが積層されて成り、その第１の情報記録層には半透明反射膜が形成されて成り、第２の情報記録層には反射膜が形成されて成り、その半透明反射膜が、１．５〔ａｔｏｍ％〕以上９．０〔ａｔｏｍ％〕以下のＣｕを含有するＡｇＣｕ系合金薄膜から成り、このＡｇＣｕ系合金が、０．１〔ａｔｏｍ％〕以上２．０〔ａｔｏｍ％〕以下のＰｄを含有し、かつＡｌ，Ｔｉ，Ｆｅ，Ｎｉ，Ｍｏ，Ｗのうちの、１または２の元素を含有し、この元素の含有合計が、０．５〔ａｔｏｍ％〕以上８．１〔ａｔｏｍ％〕以下含有する、ＡｇＣｕＰｄ系の、４元合金もしくは５元合金のいずれかより成る構成とする。
この構成において、第２の情報記録層に対する情報の再生は、第１の情報記録層を透過した照射光により行う。
【００２７】
そして、上述した少なくとも第１および第２の情報記録層を有する光学記録媒体において、第１の情報記録層は、第１の基板の上に形成され、第２の情報記録層は、第２の基板上に形成されて、これら第１の基板と第２の基板とが、互いの情報記録層を対向させて貼り合わされた構成とすることができ、これら第１および第２の情報記録層に対する情報の再生は、共に第１の基板側からの光照射によって行われる構成とする。
【００２８】
上述したように、本発明構成においては、反射膜を有する光学記録媒体において、その反射膜を、あるいは反射膜および半透明反射膜を有する光学記録媒体にあっては少なくともその半透明反射膜を、それぞれＡｇＣｕＰｄ系合金による構成としたことによって、より耐候性にすぐれ、しかも廉価な光学記録媒体を得ることができるようにしたものある。
【００２９】
更に、本発明によれば、上述した反射膜、あるいは半透明反射膜、または反射膜および半透明反射膜を構成する、ＡｇＣｕＰｄ系合金において、これら合金を構成するに好適な添加元素の特定と、その含有率の特定とによって、これら反射膜、あるいは半透明反射膜、または反射膜および半透明反射膜の耐候性の向上を図り、例えば高温多湿の条件下における長期保存によっても、光学記録媒体の情報記録層に要求される反射率や透過率等の光学特性、あるいは記録感度の変化を効果的に回避することができるようにしたものである。
【発明の効果】
【００３０】
本発明によれば、より高い耐候性を示し、しかも廉価な従ってコストの低減化が図られた光学記録媒体を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
以下、本発明の光学記録媒体の実施形態について図を参照して説明するが、本発明の光学記録媒体は以下に示す例に限定されるものではない。
図１は、本発明の光学記録媒体１０の概略断面図を示す。
【００３２】
この光学記録媒体１０においては、第１の基板１と第２の基板２とが、これら基板１および２に形成された情報記録層２１および２２を互いに対向させて、透明接着剤層３を介して貼り合わせた構成を有し、第１の情報記録層２１および第２の情報記録層２２が積層された２層構造のＤＶＤフォーマットによる構成とした場合である。
【００３３】
第１および第２の情報記録層２１および２２は、それぞれ記録情報に応じて形成された第１および第２の微細凹凸１１および１２を有し、第１の微細凹凸１１には、記録および／あるいは再生に用いる照射光に対する半透明反射膜１３が被着形成され、第２の微細凹凸２２には、同様の照射光に対する反射膜１４が被着形成されて成る。
【００３４】
第１の基板１は、上述の照射光に対して光透過性を示す例えばポリカーボネート等のプラスチックを用いた射出成形によって作製することができる。この場合、この第１の基板１に形成する第１の情報記録層２１の第１の微細凹凸１１も、この第１の基板１の射出成形と同時に形成することができる。
【００３５】
第２の基板２は、光透過性、不透明等を問わないものの、例えば同様に例えばポリカーボネート等のプラスチックの射出成形によって成形することができ、この第２の基板２の成形と同時に第２の情報記録２を構成する第２の微細凹凸１２を形成することができる。
【００３６】
また、第１の情報記録層２１の第１の微細凹凸１１上には、半透明反射膜１３が成膜される。
この半透明反射膜１３は、上述の照射光例えばレーザ光のうちの一部を反射し、一部を透過することができるように、例えば膜厚１０〔ｎｍ〕〜１５〔ｎｍ〕を有する、ＡｇＣｕ合金、あるいはＡｇＣｕ系合金による薄膜によって形成する。
【００３７】
半透明反射膜１３を構成するＡｇＣｕ合金は、３．０〔ａｔｏｍ％〕以上６．５〔ａｔｏｍ％〕以下のＣｕを含有するＡｇＣｕ合金を適用することができる。
また、半透明反射膜１３は、２．０〔ａｔｏｍ％〕以上９．０〔ａｔｏｍ％〕以下のＣｕを含有するＡｇＣｕ系合金であって、Ａｌ，Ｔｉ，Ｆｅ，Ｎｉ，Ｍｏ，Ｗのうちの、１または２の元素を含有し、この含有合計が、０．５〔ａｔｏｍ％〕以上８．１〔ａｔｏｍ％〕以下である、ＡｇＣｕ系の３元合金または４元合金によって構成し得る。
【００３８】
あるいは、半透明反射膜１３は、１．５〔ａｔｏｍ％〕以上９．０〔ａｔｏｍ％〕以下のＣｕを含有するＡｇＣｕ系合金であって、０．１〔ａｔｏｍ％〕以上２．０〔ａｔｏｍ％〕のＰｄを含有し、Ａｌ，Ｔｉ，Ｆｅ，Ｎｉ，Ｍｏ，Ｗのうちの、少なくとも１または２以上の元素を合計で０．５〔ａｔｏｍ％〕以上８．１〔ａｔｏｍ％〕以下含有する、ＡｇＣｕＰｄ系の４元または５元合金によって構成する。
【００３９】
一方、第２の情報記録層２２は、上述した第２の微細凹凸１２上に、反射膜１４が形成される。
この反射膜１４は、高反射率を有する金属材料、例えばＡｕ、Ａｕを主成分とする合金、例えばＡｇ、もしくはＡｇを主成分とする合金、またはＰｔ、もしくはＰｔを主成分とする合金、あるいはＣｕもしくはＣｕを主成分とする合金等を用いて成膜することもできる。
【００４０】
また、コストの低廉化から、反射膜１４を、Ａｌに、Ｓｉ，Ｔｉ，Ｃｒ等を添加したＡｌ合金によって構成することもできる。
しかしながら、この反射膜１４は、高耐候性と低コスト化から上述した半透明反射膜と同様の材料、組成による上述したＡｇＣｕ合金、ＡｇＣｕ系の３元あるいは４元合金、ＡｇＣｕＰｄ系の４元あるいは５元合金によって形成し、その膜厚を例えば３５〔ｎｍ〕〜６０〔ｎｍ〕に形成することができる。
【００４１】
上述した半透明反射膜１３および反射膜１４は共に、従来公知のスパッタリング法、一般にはマグネトロンスパッタリング法によって成膜することができる。
図１に示す光学記録媒体１０に対する第１の情報記録層２１および第２の情報記録層２２からの信号の再生あるいは記録を行う際には、ドライブ装置の簡略化を図り、かつこれらの情報記録層２１および２２のそれぞれに対し、短時間にアクセスし、連続的にその記録ないし再生を行うことができるように、１組の光学ヘッドによって、光学記録媒体１０の同一面側、図１の構成においては、第１の基板１側からのレーザ光照射によって行う。
【００４２】
光学記録媒体１０の同一面側からのレーザ光照射による再生あるいは記録は、光学ヘッドからの照射光Ｌを、図１中の実線で示すように、第１の情報記録層２１にフォーカシングさせて行い、第２の情報記録層２２に対しては、光学ヘッドからの照射光Ｌを図１中の破線で示すように、第２の情報記録層２２にフォーカシングさせて行う。
【００４３】
次に、本発明の光学記録媒体を、光磁気記録媒体に適用した場合について説明する。
図２は、光磁気記録媒体１００の一例の概略断面図を示す。
光磁気記録媒体１００においては、ポリカーボネート等の光透過性樹脂よりなる基板１０１上に、基板の射出成形と同時に形成したプリグルーブ等の微細凹凸１０２を有し、この微細凹凸１０２上に光磁気記録層１０４が成膜されてなる情報層１０５を有し、情報層１０５上に保護層１０６が形成されてなる構成を有する。
【００４４】
図３に、図２に示した光磁気記録媒体１００の光磁気記録層１０４の積層構造を示した概略断面図を示す。
光磁気記録層１０４は、図３に示す積層構成とすることができる。
【００４５】
この光磁気記録層１０４は、例えば基板１０１上に、例えばＳｉＮｘより成り、４０〔ｎｍ〕程度の膜厚の第１の誘電体層４１と、例えばＴｂＦｅＣｏより成り、１５〔ｎｍ〕程度の膜厚の記録層４２と、後述するＡｇＣｕ系合金より成り、１０〔ｎｍ〕程度の膜厚の半透明の熱調整膜４３と、例えばＳｉＮｘより成り２０〔ｎｍ〕程度の膜厚の第２の誘電体層４４と、後述するＡｇＣｕ系合金より成り、４０〔ｎｍ〕程度の膜厚の反射膜４５とが順次積層形成されて成る構成を有する。
【００４６】
図３における熱調整膜４３および反射膜４５は、前述した半透明反射膜１３および反射膜１４におけると同様に、ＡｇＣｕ合金、あるいはＡｇＣｕ系合金による薄膜によって形成することができる。
ＡｇＣｕ合金は、３．０〔ａｔｏｍ％〕以上６．５〔ａｔｏｍ％〕以下のＣｕを含有するＡｇＣｕ合金を適用することができる。
【００４７】
あるいは、２．０〔ａｔｏｍ％〕以上９．０〔ａｔｏｍ％〕以下のＣｕを含有するＡｇＣｕ系合金であって、Ａｌ，Ｔｉ，Ｆｅ，Ｎｉ，Ｍｏ，Ｗのうちの、１または２の元素を含有し、この含有合計が、０．５〔ａｔｏｍ％〕以上８．１〔ａｔｏｍ％〕以下である、ＡｇＣｕ系の３元合金または４元合金によって構成し得る。
【００４８】
あるいは、１．５〔ａｔｏｍ％〕以上９．０〔ａｔｏｍ％〕以下のＣｕを含有するＡｇＣｕ系合金であって、０．１〔ａｔｏｍ％〕以上２．０〔ａｔｏｍ％〕のＰｄを含有し、Ａｌ，Ｔｉ，Ｆｅ，Ｎｉ，Ｍｏ，Ｗのうちの、少なくとも１または２以上の元素を合計で０．５〔ａｔｏｍ％〕以上８．１〔ａｔｏｍ％〕以下含有する、ＡｇＣｕＰｄ系の４元または５元合金によって構成する。
【００４９】
保護層１０６は、従来公知の紫外線硬化性樹脂をスピンコートし、光硬化することによって形成することができる。
図２に示す光磁気記録媒体１００に対する情報の記録あるいは再生を行う際には、基板１０１側からのレーザ光照射によって行う。
【００５０】
すなわち、光学ヘッドからの照射光Ｌを、図２中の実線で示すように、情報層１０５にフォーカシングさせて行う。
【００５１】
次に、本発明の光学記録媒体の特性の理解のために、本発明による光学記録媒体の実施例を含めて各ディスク構造による試料を作製し、それぞれの特性、すなわち耐候性の測定を行った。
尚、これら試料中において、１枚の基板にのみ情報記録層を形成した構造のディスク（以下単板と称する。）の試料を作製して、その特性を測定した理由は、例えば基板の厚さを０．６〔ｍｍ〕とした場合、２枚の基板間に第１および第２の情報記録層を挟み込んだ貼合わせ構造に比し、全体の剛性が劣ることから、その保存試験による基板の反りの発生が顕著に現れ、例えば半透明反射膜等を構成する合金薄膜と基板との密着力が問題となり、剥離が生じやすく、結果として、厳しい評価を行うことができることにある。
【００５２】
また、それぞれ第１および第２の情報記録層２１および２２に相当する第１および第２の基板１および２に相当する２枚の基板の貼り合わせ構造による光ディスクに関する試料において、その反射膜１４に相当する合金薄膜を、半透明反射膜における合金薄膜とは異なる通常の合金薄膜のＡｌＴｉ材料による構成とした理由は、異質の合金薄膜の貼合わせの方が高湿環境下での劣化が加速され、厳しい評価を行うことができることによる。つまり、この貼合わせ構造の試料において、半透明反射膜と反射膜との双方を、共に、ＡｇＣｕ合金、ＡｇＣｕ合金系、ＡｇＣｕＰｄ系合金によって構成する場合は、これら試料の耐候性は、よりすぐれた耐候性を示すことになる。
すなわち、各試料に基づいて、半透明反射膜の材料特性の考察をより厳しく行った。
【００５３】
〔試料１〕
先ず、厚さ０．６〔ｍｍ〕の基板をポリカーボネートを用いて射出成形によって作製した。
この基板の一主面には、その成形と同時に、トラックピッチ０．７４〔μｍ〕、ピット深さ１１０〔ｎｍ〕、最短ピット長０．４４〔μｍ〕のＥＦＭコードを用いて変調された微細凹凸すなわちピットデータ列を形成した。
このピットデータ列が形成された基板上に、マグネトロンスパッタリング法によって、膜厚を１０〔ｎｍ〕〜１５〔ｎｍ〕のＡｇ１００−ｘＣｕｘ（ｘは、ａｔｏｍ％）より成り、ｘ＝３．０とした半透明反射膜を成膜して第１の情報記録層２１を形成した。
【００５４】
次に、このＡｇＣｕ合金による半透明反射膜上を覆って、保護層を紫外線硬化樹脂のスピンコートおよび硬化処理によって形成した。
【００５５】
〔試料２〕
試料１と同様の構成において、半透明反射膜の組成をｘ＝６．５とした。
【００５６】
〔試料３〕（実施例１）
この試料においては、図１に示した構造に対応するを有し、それぞれ第１および第２の情報記録層２１および２２を有する第１および第２の基板１および２の貼合わせ構造とした場合である。
この場合、試料１における基板と同様の構成による第１の基板１を用意して、この上に、マグネトロンスパッタリング法によって、Ａｇ１００−ｘＣｕｘにおいてｘ＝３．０としたＡｇＣｕ合金薄膜を成膜して、膜厚１０〜１５〔ｎｍ〕の半透明反射膜１３を成膜して第１の情報記録層２１を形成した。
【００５７】
一方、第１の基板１と同様の構成による第２の基板２を作製し、この第２の基板２上に、マグネトロンスパッタリング法によって膜厚５０〔ｎｍ〕のＡｌＴｉ合金薄膜よりなる反射膜１４を成膜して第２の情報記録層２２を形成した。
そして、これら第１の基板１と第２の基板２とを、透明接着剤として紫外線硬化性樹脂を用いて互いの情報記録層２１、２２を対向させて貼り合わせ、貼り合わせ構造の光ディスクを作製した。
【００５８】
因みに、第１の基板１上に成膜したＡｇＣｕ系合金膜の膜厚の選定は、波長６６０〔ｎｍ〕のレーザ光を用い、第２の基板２上の反射膜１４として３５〜６０〔ｎｍ〕の膜厚のＡｌ合金膜、あるいは３０〜６０〔ｎｍ〕の膜厚のＡｇ合金膜を形成した場合に、第１の情報記録層２１の反射率と第２の情報記録層２２の反射率とが、略等しくなるように設定したものである。
【００５９】
〔試料４〕（比較例１）
この試料においては、試料１と同様の構成、および製造方法をとるものの、そのＡｇ１００−ｘＣｕｘ合金薄膜を、ｘ＝２．０とした。
【００６０】
〔試料５〕（比較例２）
この試料においても、試料１と同様の構成、および製造方法をとるものの、そのＡｇ１００−ｘＣｕｘ合金薄膜を、ｘ＝７．０とした。
【００６１】
〔試料６〕（比較例３）
この試料においても、試料１と同様の構成、および製造方法をとるものの、そのＡｇ１００−ｘＣｕｘ合金薄膜を、ｘ＝９．０とした。
【００６２】
〔試料７〕（比較例４）
この試料においても、試料１と同様の構成、および製造方法をとるものの、そのＡｇ１００−ｘＣｕｘ合金薄膜に代えて、第１の基板１上にマグネトロンスパッタリング法によって、膜厚が１０〜１５〔ｎｍ〕のＳｉ膜を成膜して第１の情報記録層２１を形成した。
次に第１の基板１と同様に、第２の基板２上にマグネトロンスパッタリング法によって膜厚５０〔ｎｍ〕のＡｌＴｉ合金薄膜による反射膜１４を成膜して第２の情報記録層２２を形成した。
これら第１および第２の基板１および２を、試料３と同様に透明接着剤としての紫外線硬化性樹脂によって互いの情報記録層２１、２２を対向させて貼り合わせて、貼り合わせ構造の光ディスクを作製した。
【００６３】
〔試料８〕（比較例５）
この試料においては、試料１と同様の構成、および製造方法をとるものの、その半透明反射膜として、膜厚が１０〜１５〔ｎｍ〕のＡｇ膜を成膜した。
【００６４】
上述した各試料１〜８について、高温高湿環境下の保存試験を行い、この試験の前後における、各情報記録層２１、２２の反射率〔％〕、ジッター〔％〕の測定を行い、保存試験の前後での情報記録層の反射率の変化率〔％〕を算出した。
なお、高温高湿環境下の保存試験は、温度８５℃、湿度９０％ＲＨの環境の保存槽内に各試料の光ディスクを１００時間放置させるものとした。
【００６５】
また、ジッター値の測定には、波長６６０〔ｎｍ〕の半導体レーザ、および開口率０．６０の対物レンズを搭載した光学ピックアップを用いた。
各試料１〜８の、半透明反射膜の成膜材料組成（ａｔｏｍ％）と、光ディスク構造と、その保存試験の前後における、各情報記録層２１、２２の反射率〔％〕、ジッター〔％〕、および保存試験の前後での情報記録層の反射率の変化〔％〕を結果を、図６および図７の表１−１および表１−２に示す。
【００６６】
表中、Ｒ１〔％〕は、単板構造および貼り合わせ構造の各試料（光ディスク）の第１の情報記録層２１についての、初期すなわち保存試験前の反射率を示し、Ｒ３〔％〕は、これらの保存試験後の反射率を示す。
また、表中Ｒ２〔％〕は、貼り合わせ構造の試料（光ディスク）の第２の情報記録層２２の初期の反射率を示し、Ｒ４〔％〕は、これらの保存試験後の反射率を示す。
更に、保存試験前後の反射率の変化は、｜Ｒ１−Ｒ３｜〔％〕で示す。
【００６７】
表１（図６および図７）に示すように単板構造の光ディスクの情報記録層および貼り合わせ構造の光ディスクの第１の情報記録層２１に、Ａｇ１００−ｘＣｕｘ（３≦ｘ≦６．５）の薄膜を形成した試料１〜３は、保存試験前後における反射率の変化が１．０〔％〕以下に低減化され、保存試験前後におけるジッターの変化を１〔％〕以下に抑制することができ、この結果から耐候性が良好な光学特性が得られることが分かる。
【００６８】
これに対し試料４〜７（比較例１〜比較例４）は、保存試験前後における反射率の変化が１．０〔％〕を超え、試料８（比較例５）においては、保存試験後のジッター値が大きくなって安定した信号の再生が行えなくなるという問題が生じた。
【００６９】
次に、情報記録層に、２．０〔ａｔｏｍ％〕以上９．０〔ａｔｏｍ％〕以下のＣｕを含有し、Ａｌ，Ｔｉ，Ｆｅ，Ｎｉ，Ｍｏ，Ｗのうちの、１または２の元素を含有し、その含有合計が０．５〔ａｔｏｍ％〕以上８．１〔ａｔｏｍ％〕以下としたＡｇＣｕ（Ａｌ，Ｔｉ，Ｆｅ，Ｎｉ，Ｍｏ，Ｗ）の３元合金あるいは４元合金のいずれかを成膜した試料９〜３９を作製した。
【００７０】
〔試料９〕〜〔試料３１〕
これら試料においては、試料１におけると同様の構成および方法による単板の光ディスク構成としたが、これら試料においては、基板上１上のＡｇＣｕ合金膜代えて、半透明反射膜１３を、膜厚が１０〜１５〔ｎｍ〕のＡｇ１００−ｘ−ｙＣｕｘＡｙ（ＡはＡｌ，Ｔｉ，Ｆｅ，Ｎｉ，Ｍｏ，Ｗのうちの１または２の元素で、ｘ，ｙはそれぞれａｔｏｍ％を示す）とし、２≦ｘ≦９、０．５≦ｙ≦８．１の構成とした。
【００７１】
〔試料３２〕（実施例２）〜〔試料３８〕（実施例８）
試料３と同様の構成および方法をもって、図１で示した第１および第２の情報記録層２１および２２を有する第１および第２の基板１および２の貼り合わせ構造とするものの、この試料３２〜試料３８においては、第１の基板１上の半透明反射膜１３を、膜厚が１０〜１５〔ｎｍ〕のＡｇ１００−ｘ−ｙＣｕｘＡｙ（ＡはＡｌ，Ｔｉ，Ｆｅ，Ｎｉ，Ｍｏ，Ｗのうちの１または２の元素で、ｘ，ｙはそれぞれａｔｏｍ％を示す）とし、２≦ｘ≦９、０．５≦ｙ≦８．１の構成とした。
【００７２】
〔試料３９〕（比較例６）
試料１と同様の構造および方法によるものの、この試料３９においては、その半透明反射膜１３を、Ａｇ１００−ｘ−ｙＣｕｘＡｙ（ＡはＡｌおよびＴｉ）とし、ｘ＝５．４とし、ｙ＝８．５とした。
その他の条件は〔試料１〕と同様にして単板構造の光ディスクのサンプルを作製した。
【００７３】
上述した各試料９〜３９について、その半透明反射膜の成膜材料組成（ａｔｏｍ％）と、光ディスク構造を図８および図１０の表２−１および表３−１として示し、前述したと同様の高温高湿環境下の保存試験を行い、この試験結果を、図９および図１１の表２−２および表３−２に示す。
【００７４】
単板構造の光ディスクの情報記録層および貼り合わせ構造の光ディスクの第１の情報記録層２１に、合金の原子組成をＡｇ１００−ｘ−ｙＣｕｘＡｙ（Ａ＝Ａｌ，Ｔｉ，Ｆｅ，Ｎｉ，Ｍｏ，Ｗのうちの少なくともいずれか）で、２≦ｘ≦９、０．５≦ｙ≦８．１とした、試料９〜試料３８においては、保存試験前後における反射率の変化が１．０〔％〕以下に低減化され、保存試験前後におけるジッターの変化を１〔％〕以下に抑制することができ、特に耐候性が良好な光学特性が得られた。
【００７５】
これに対し、試料３９（比較例６）においては、保存試験前後における反射率の変化が１．０〔％〕を超え、耐候性が劣化した。
【００７６】
次に、情報記録層に、１．５〔ａｔｏｍ％〕以上９．０〔ａｔｏｍ％〕以下のＣｕを含有し、Ａｌ，Ｔｉ，Ｆｅ，Ｎｉ，Ｍｏ，Ｗのうちの、１または２の元素を合計で０．５〔ａｔｏｍ％〕以上８．１〔ａｔｏｍ％〕以下含有し、０．１〔ａｔｏｍ％〕以上２．０〔ａｔｏｍ％〕以下のＰｄを含有する、ＡｇＣｕＰｄ系４元合金または５元合金のいずれかによる半透明反射膜を成膜した試料（光ディスク）を示す。
【００７７】
〔試料４０〕〜〔試料６０〕
試料１と同様の構造および方法による単板構造とするものの、その半透明反射膜１３を、Ａｇ１００−ｘ−ｙ−ｚＰｄｚＣｕｘＡｙ（ＡはＡｌ，Ｔｉ，Ｆｅ，Ｎｉ，Ｍｏ，Ｗの１種であり、ｘ，ｙ，ｚはそれぞれａｔｏｍ％を示す）の、１．５≦ｘ≦９．０、０．５≦ｙ≦８．１、０．１≦ｚ≦２．０とした。
【００７８】
〔試料６１〕（実施例９）〜〔試料６５〕（実施例１３）
試料３（実施例１）と同様の構造および方法によって作製するのの、その半透明反射膜１３を、Ａｇ１００−ｘ−ｙ−ｚＰｄｚＣｕｘＡｙ（ＡはＡｌ，Ｔｉ，Ｆｅ，Ｎｉ，Ｍｏ，Ｗの１種であり、ｘ，ｙ，ｚはそれぞれａｔｏｍ％を示す）の、１．５≦ｘ≦９．０、０．５≦ｙ≦８．１、０．１≦ｚ≦２．０とした。
【００７９】
〔試料６６〕（比較例７）
試料１で説明したと同様の構造および方法によって作製するものの、その半透明反射膜１３を、Ａｇ１００−ｘ−ｙ−ｚＰｄｚＣｕｘＡｙ（ＡはＡｌ）とし、ｘ＝４．０とし、ｙ＝９．０とし、ｚ＝０．９とした。
【００８０】
〔試料６７〕（比較例８）
試料１と同様の構造および方法によって作製するものの、その半透明反射膜１３を、Ａｇ１００−ｘ−ｙ−ｚＰｄｚＣｕｘＡｙとし、ｘ＝１．５、ｙ＝０．０、ｚ＝０．９とした。
【００８１】
〔試料６８〕（比較例９）
試料１と同様の構造および方法によって作製するものの、その半透明反射膜１３を、Ａｇ１００−ｘ−ｙ−ｚＰｄｚＣｕｘＡｙとし、ｘ＝１．５、ｙ＝０．０、ｚ＝０．９とした。
【００８２】
〔試料６９〕（比較例１０）
試料３と同様の構造および方法によって作製するものの、その半透明反射膜１３を、Ａｇ１００−ｘ−ｙ−ｚＰｄｚＣｕｘＡｙとし、ｘ＝１．５、ｙ＝０．０、ｚ＝０．９とした。
【００８３】
〔試料７０〕（比較例１１）
試料３と同様の構造および方法によって作製するものの、その半透明反射膜１３を、Ａｇ１００−ｘ−ｙ−ｚＰｄｚＣｕｘＡｙとし、ｘ＝４．０、ｙ＝０．０、ｚ＝０．９とした。
【００８４】
上述した試料５７〜試料７０の光ディスクについて、その半透明反射膜の成膜材料組成（ａｔｏｍ％）と、光ディスク構造と、前述したと同様の高温高湿環境下の保存試験を行い、この試験結果を、図１４および図１５の表５−１および表５−２に示す。
【００８５】
図１４および図１５の表５−１および表５−２に示すように、単板構造および貼り合わせ構造の第１の情報記録層２１に、合金の原子組成をＡｇ１００−ｘ−ｙ−ｚＰｄｚＣｕｘＡｙとし、ＡがＡｌ，Ｔｉ，Ｆｅ，Ｎｉ，Ｍｏ，Ｗのうちの１または２種の元素とし、１．５≦ｘ≦９．０、０．５≦ｙ≦８．１、０．１≦ｚ≦２．０とした試料４０〜試料６５においては、保存試験前後における反射率の変化が１．０〔％〕以下に低減化され、保存試験前後におけるジッターの変化を１〔％〕以下に抑制することができ、特に耐候性が良好な光学特性が得られた。
【００８６】
これに対して試料６６（比較例７）においては、保存試験後のジッター値が大きくなってしまい、安定した信号の再生が行えなくなるという問題を生じた。
また、試料６７（比較例８）〜試料７０（比較例１１）に示した光ディスクにおいては、保存試験前後における反射率の変化が１．０〔％〕を超え、耐候性が劣化した。
【００８７】
上述したところから明らかなように、本発明によれば、情報記録層に、ＡｇＣｕ合金薄膜、あるいはＡｇＣｕ系合金を適用し、その組成の特定、元素の選定、その含有量の特定によって、情報記録層の耐候性が向上を図られ、高温高湿条件下において長期保存した後における反射率や透過率等の、光学記録媒体の情報記録層に要求される光学特性の変化量が低く抑えられ、ジッターの劣化が効果的に回避されるものであり、また従来の光学記録媒体に比してコストの低減化が図られるものである。
【００８８】
尚、上述した各試料においては、ＲＯＭ（Read Only Memoly）の光ディスクについて例示したが、本発明はこの例に限定されるものではなく、この他、光磁気記録、相変化記録のような書換えが可能な光ディスクについても適用でき、反射膜や熱構造膜として、本発明の情報記録層を構成するＡｇＣｕ合金を適用することによって、耐候性の向上を図り、長時間保存による経時変化による記録感度の変化を低減して安定な記録を行うことができるようになり、ジッターの劣化が効果的に回避することができる。
【００８９】
例えば、本発明を図３に示す光磁気記録媒体１００に適用して、記録感度の変化の測定を行った。
光磁気記録媒体１００は、基板１０１上にＳｉＮｘより成り４０〔ｎｍ〕の膜厚の第１の誘電体層４１、ＴｂＦｅＣｏより成り１５〔ｎｍ〕の膜厚の記録層４２、ＡｇＣｕ系合金より成り１０〔ｎｍ〕程度の膜厚の半透明反射膜による熱調整膜４３、ＳｉＮｘより成り２０〔ｎｍ〕程度の膜厚の第２の誘電体層４４、およびＡｇＣｕ系合金より成り４０〔ｎｍ〕程度の膜厚の反射膜４５が積層形成されて成る構成を有する。
なお、熱調整膜４３および反射膜４５が、ＡｇＰｄ０．９Ｃｕ１．５合金薄膜よりなる光磁気ディスクサンプルと、ＡｇＣｕ０．９Ｔｉ１．７合金薄膜よりなる光磁気ディスクを作製した。
【００９０】
この場合、いわゆる磁界変調記録法を用い、レーザ光の波長を４０５〔ｎｍ〕とし、対物レンズの開口数を０．６０とし、線速度を４．６〔ｍ／ｓ〕の各条件下、トラックピッチを０．８０〔μｍ〕、溝深さ３０〔ｎｍ〕のいわゆるランドグルーブ記録案内溝の設けられた基板１０１上の光磁気記録層１０４に、マーク長さ０．３〔μｍ〕の記録を行い、上述した保存試験前後における記録パワーと再生ＣＮＲの関係を測定した。
【００９１】
この測定結果を図５に示す。図５において、■、および□がＡｇＰｄ０．９Ｃｕ１．５合金薄膜を成膜した光磁気ディスクの保存試験前後における測定結果を示し、●および○をＡｇＣｕ０．９Ｔｉ１．７合金薄膜を成膜した光磁気ディスクの保存試験前後における測定結果を示す。
図５に示すように、ＡｇＰｄ０．９Ｃｕ１．５合金を成膜した光磁気ディスクにおいては、高温高湿条件下における保存試験後の記録パワーは、およそ１０％程度高い方向にシフトした。すなわち、高温高湿条件下に放置されることによって、原子の移動により薄膜の密度が向上し、熱伝導率が高くなり、エネルギー的なロスが大きくなった。
【００９２】
一方、本発明の光学記録媒体の一例に係る光磁気ディスクにおけるＡｇＣｕ０．９Ｔｉ１．７合金を成膜した光磁気ディスクにおいては、高温高湿条件下における保存試験後においては、記録パワーの上昇は見られず、エネルギー的なロスが小さく、膜の特性として極めて耐候性に優れたものであることがわかった。
【００９３】
金属では、一般に、反射率が高い材料ほど熱伝導率が高く、逆に反射率が低いと熱伝導率も低下する。また、熱伝導率が高くなるほど、記録感度が低下し、逆に熱伝導率が低いほど記録感度が向上する。
反射膜の保存試験前後での反射率の変化を測定することによって、記録感度の変化を見積もることができる。ゆえに上記〔表１〕〜〔表５〕中に示した各実施例から、各種組成での記録感度の変化を見積もることが可能である。
【００９４】
本発明によれば、ＡｇＣｕ合金あるいはＡｇＣｕＰｄ合金に、Ａｌ，Ｔｉ，Ｆｅ，Ｎｉ，Ｍｏ，Ｗのうちのいずれかの元素を１種以上含有させることを特徴としているが、このような添加元素のほか、化学的に類似した性質を有する遷移金属であるＶ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｃｏ，Ｙ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｒｕ，Ｔａを含有させることによっても本発明と同様の効果を期待することができる。
【００９５】
尚、本発明の光学記録媒体は、単層、２層の情報記録層を有するものに限定されるものではなく、例えば３層以上の情報記録層が積層された多層構造の光学記録媒体についても、同様に適用することができる。
また、上述した例においては、光学記録媒体を構成する基板を、射出成形により形成したが、本発明は上述の例に限定されず、平滑面を有する板に、２Ｐ（Ｐｈｏｔｏ  ｐｏｌｉｍａｒｉｚａｔｉｏｎ）法によって微細凹凸を形成する場合にも適用できる。
また、上述した例においては、ディスク状、円板状の光学記録媒体の例について説明したが、本発明はこの例に限定されず、カード状、シート状等、各種形状の光学記録媒体についても適用できる。
【図面の簡単な説明】
【００９６】
【図１】本発明の２層の情報記録層を有する光学記録媒体の一例の概略断面図である。
【図２】本発明の光学記録媒体の他の一例の概略断面図である。
【図３】光磁気記録媒体の光磁気記録層部を拡大した概略断面図である。
【図４】従来の光学記録媒体の一例の概略断面図である。
【図５】保存試験前後における記録パワーとＣＮＲの関係を示す図である。
【図６】各種光ディスク構造による試料の構成を列記した表図（表１−１）である。
【図７】図６の各試料についての特性を列記した表図（表１−２）である。
【図８】各種光ディスク構造による試料の構成を列記した表図（表２−１）である。
【図９】図８の各試料についての特性を列記した表図（表２−２）である。
【図１０】各種光ディスク構造による試料の構成を列記した表図（表３−１）である。
【図１１】図１０の各試料についての特性を列記した表図（表３−２）である。
【図１２】各種光ディスク構造による試料の構成を列記した表図（表４−１）である。
【図１３】図１２の各試料についての特性を列記した表図（表４−２）である。
【図１４】各種光ディスク構造による試料の構成を列記した表図（表５−１）である。
【図１５】図１４の各試料についての特性を列記した表図（表５−２）である。
【符号の説明】
【００９７】
１      第１の基板
２      第２の基板
３      透明接着剤層
１０    光学記録媒体
１１    第１の微細凹凸
１２    第２の微細凹凸
１３    半透明反射膜
１４    反射膜
２１    第１の情報記録層
２２    第２の情報記録層
４１    第１の誘電体層
４２    記録層
４３    熱調整膜
４４    第２の誘電体層
４５    反射膜
１００  光学記録媒体
１０１  基板
１０２  微細凹凸
１０４  光磁気記録層
１０５  情報層
１０６  保護膜
２００  光学記録媒体
２０１  第１の基板
２０２  第２の基板
２０３  透明接着剤層
２１１  第１の微細凹凸
２２２  第２の微細凹凸
２２３  半透明反射膜
２２４  反射膜
２３１  第１の情報記録層
２３２  第２の情報記録層
【図１】
2008186580.tif 000003
【図２】
2008186580.tif 000004
【図３】
2008186580.tif 000005
【図４】
2008186580.tif 000006
【図５】
2008186580.tif 000007
【図６】
2008186580.tif 000008
【図７】
2008186580.tif 000009
【図８】
2008186580.tif 000010
【図９】
2008186580.tif 000011
【図１０】
2008186580.tif 000012
【図１１】
2008186580.tif 000013
【図１２】
2008186580.tif 000014
【図１３】
2008186580.tif 000015
【図１４】
2008186580.tif 000016
【図１５】
2008186580.tif 000017