(57)【要約】【課題】熱可塑性であり、かつ、溶剤可溶性であり、フィルムや塗膜への成形性に優れた、硫酸化糖残基修飾オリゴ糖含有ポリウレタン誘導体及びその簡便かつ安価な製造方法を提供する。【解決手段】単糖、二糖などの糖がスペーサーを介して導入された糖残基修飾オリゴ糖含有ポリウレタンを硫酸化試薬と反応させることで、硫酸化糖残基修飾オリゴ糖含有ポリウレタンが製造される。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式［１］：
【化１】
2008007643.tif 000017
［式中、
Ｒ1は、置換基を有していてもよい炭素数１〜１６の２価の炭化水素基を表し、
Ｒ2は、炭素数２〜１２のオキシアルキレン単位及び置換基を有していてもよい炭素数２〜１２の２価の炭化水素単位から選ばれる同一または異なる単位を合計１〜１００単位含有する２価の基を表し、
Ｒ3は、炭素数２〜４のアルキレン基を表し、
Ｒ4は、単糖または二糖由来の糖残基を表し、
Ｍは水素原子、アルカリ金属原子、アンモニウム基又は有機アミノ基を表し、
ｓは、硫酸含有基で修飾された糖残基Ｒ4の水酸基数を表し、１≦ｓ≦４の範囲の整数を表し、
ＯＬＳは、一級水酸基を２個有するオリゴ糖の骨格を表し、
ｒはオリゴ糖の二級水酸基の総数を表し、
ｐおよびｑはそれぞれ１≦ｐ≦ｒ、０≦ｑ≦ｒ−１の範囲の整数を表し、
ｍ、ｎはそれぞれ繰り返し単位数であり、ｍは０〜１０００、ｎは１〜１０００の整数を表し、ｎ／（ｍ＋ｎ）は０．０１〜１．００の範囲の数である。］
で表される硫酸化糖残基修飾オリゴ糖含有ポリウレタン。
【請求項２】
Ｒ3が、エチレン基である前記請求項１記載の硫酸化糖残基修飾オリゴ糖含有ポリウレタン。
【請求項３】
Ｒ4が、グルコース、マンノース、ラクトースまたはガラクトースである前記請求項１記載の硫酸化糖残基修飾オリゴ糖含有ポリウレタン。
【請求項４】
Ｒ3が、エチレン基であり、かつＲ4が、グルコース、マンノース、ラクトースまたはガラクトースである前記請求項１記載の硫酸化糖残基修飾オリゴ糖含有ポリウレタン。
【請求項５】
下記一般式［２］：
【化２】
2008007643.tif 000018
［式中、
Ｒ1は、置換基を有していてもよい炭素数１〜１６の２価の炭化水素基を表し、
Ｒ2は、炭素数２〜１２のオキシアルキレン単位及び置換基を有していてもよい炭素数２〜１２の２価の炭化水素単位から選ばれる同一または異なる単位を合計１〜１００単位含有する２価の基を表し、
Ｒ3は、炭素数２〜４のアルキレン基を表し、
Ｒ4は、単糖または二糖由来の糖残基を表し、
ＯＬＳは、一級水酸基を２個有するオリゴ糖の骨格を表し、
ｒはオリゴ糖の二級水酸基の総数を表し、
ｐおよびｑはそれぞれ１≦ｐ≦ｒ、０≦ｑ≦ｒ−１の範囲の整数を表し、
ｍ、ｎはそれぞれ繰り返し単位数であり、ｍは０〜１０００、ｎは１〜１０００の整数を表し、ｎ／（ｍ＋ｎ）は０．０１〜１．００の範囲の数である。］
で表される糖残基修飾オリゴ糖含有ポリウレタンを硫酸化試薬と反応させることを特徴とする、下記一般式［１］：
【化３】
2008007643.tif 000019
［式中、
Ｒ1は、置換基を有していてもよい炭素数１〜１６の２価の炭化水素基を表し、
Ｒ2は、炭素数２〜１２のオキシアルキレン単位及び置換基を有していてもよい炭素数２〜１２の２価の炭化水素単位から選ばれる同一または異なる単位を合計１〜１００単位含有する２価の基を表し、
Ｒ3は、炭素数２〜４のアルキレン基を表し、
Ｒ4は、単糖または二糖由来の糖残基を表し、
Ｍは水素原子、アルカリ金属原子、アンモニウム基又は有機アミノ基を表し、
ｓは、硫酸含有基で修飾された糖残基Ｒ4の水酸基数を表し、１≦ｓ≦４の範囲の整数を表し、
ＯＬＳは、一級水酸基を２個有するオリゴ糖の骨格を表し、
ｒはオリゴ糖の二級水酸基の総数を表し、
ｐおよびｑはそれぞれ１≦ｐ≦ｒ、０≦ｑ≦ｒ−１の範囲の整数を表し、
ｍ、ｎはそれぞれ繰り返し単位数であり、ｍは０〜１０００、ｎは１〜１０００の整数を表し、ｎ／（ｍ＋ｎ）は０．０１〜１．００の範囲の数である。］
で表される硫酸化糖残基修飾オリゴ糖含有ポリウレタンの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規な硫酸化糖残基修飾オリゴ糖含有ポリウレタン誘導体およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、糖鎖が多様な生命現象（細胞認識や情報伝達、細胞接着、分化・増殖、ガン化、ウイルス感染、血液凝固、免疫反応など）に深く関わっていることが明らかになり、糖鎖を組み込んだ機能性材料や医薬品の開発研究が活発に行われている（例えば、非特許文献１、非特許文献２、非特許文献３）。
目的の生理機能を発現する糖鎖含有機能性材料を開発するためには、糖鎖の構造と生理活性の相関を分子や官能基レベルで研究し、糖鎖分子を自由自在に修飾したり高分子に導入する技術が求められる。
なかでも、硫酸化糖は、インフルエンザウイルス、エイズウイルス等に対する親和性を有することが知られており、この原理を利用して、ウイルスを捕捉可能な新しい材料及びその製造方法の開発が要望されている。
このような背景のもと、種々の糖鎖含有高分子が報告されてきた。例えば、硫酸化ガラクトース導入ポリアクリレート型（例えば、特許文献１）、硫酸化糖導入ポリエチレン型（例えば、特許文献２）、硫酸化グルコサミン導入ポリエチレン型（例えば、特許文献３）などが知られている。
【特許文献１】特開平１１−３１５０９１号公報
【特許文献２】特表２００４−５２６６９１号公報
【特許文献３】特開２００５−１５４５１号公報
【非特許文献１】糖鎖分子の設計と生理機能、２００１年、学会出版センター
【非特許文献２】生理活性糖鎖研究法、１９９９年、学会出版センター
【非特許文献３】糖質エンジニアリングと製品化技術、１９９３年
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
細胞認識、細胞接着などの生物学的機能は、糖細胞表面の糖鎖集合体（クラスター）とこれと相補的な糖鎖集合体との糖鎖−糖鎖相互作用により発現し、その相互作用の強さは糖密度と相関していることが知られている。上記特許文献に開示されている糖鎖高分子において、硫酸化糖鎖は、繰り返し単位あたり１個を線状にしか導入できないため、これらの高分子を用いてフィルム等を形成した場合、糖鎖クラスターにおける糖鎖密度を高めて糖鎖の生物学的機能（細胞認識、細胞接着など）を十分発現するには、高分子鎖中で、糖鎖が導入された繰り返し単位を増やす必要がある。しかし、これにより骨格高分子の本来のフィルム形成能、機械強度などが低下する恐れがある。
また、糖鎖を側鎖に導入する製造工程が保護・脱保護の操作を必要とするため煩雑で製造コストが高くなる問題点がある。
これら従来技術に対し、本発明の目的は、複数の硫酸化糖鎖が側鎖に導入された繰り返し単位を利用することで、糖鎖クラスターの密度が高められると共に、優れたフィルム形成能を有し、生体適合性、血液適合性が期待される硫酸化糖残基修飾オリゴ糖含有ポリウレタン誘導体、及びその簡便かつ安価な製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者らは、上記問題点に鑑み鋭意検討した結果、１級水酸基を２個有するオリゴ糖、ジイソシアネートおよび必要に応じてジオール化合物の付加重合により、オリゴ糖含有ポリウレタン誘導体を得、これにジカルボン酸無水物を反応させることにより、カルボキシル基修飾オリゴ糖含有ポリウレタン誘導体を得、さらにこれをアミノ糖と反応させることで得られる糖鎖を側鎖に有する糖残基修飾オリゴ糖含有ポリウレタン誘導体を、硫酸化試薬と反応させることにより、硫酸化糖鎖を側鎖に有する糖残基修飾オリゴ糖含有ポリウレタン誘導体を得る事ができることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００５】
すなわち、本発明は次の（１）〜（６）である。
（１）下記一般式［１］：
【０００６】
【化１】
2008007643.tif 000002
【０００７】
［式中、
Ｒ1は、置換基を有していてもよい炭素数１〜１６の２価の炭化水素基を表し、
Ｒ2は、炭素数２〜１２のオキシアルキレン単位及び置換基を有していてもよい炭素数２〜１２の２価の炭化水素単位から選ばれる同一または異なる単位を合計１〜１００単位含有する２価の基を表し、
Ｒ3は、炭素数２〜４のアルキレン基を表し、
Ｒ4は、単糖または二糖由来の糖残基を表し、
Ｍは水素原子、アルカリ金属原子、アンモニウム基又は有機アミノ基を表し、
ｓは、硫酸含有基で修飾された糖残基Ｒ4の水酸基数を表し、１≦ｓ≦４の範囲の整数を表し、
ＯＬＳは、一級水酸基を２個有するオリゴ糖の骨格を表し、
ｒはオリゴ糖の二級水酸基の総数を表し、
ｐおよびｑはそれぞれ１≦ｐ≦ｒ、０≦ｑ≦ｒ−１の範囲の整数を表し、
ｍ、ｎはそれぞれ繰り返し単位数であり、ｍは０〜１０００、ｎは１〜１０００の整数を表し、ｎ／（ｍ＋ｎ）は０．０１〜１．００の範囲の数である。］
で表される硫酸化糖残基修飾オリゴ糖含有ポリウレタン。
（２）Ｒ3が、エチレン基である上記（１）記載の硫酸化糖残基修飾オリゴ糖含有ポリウレタン。
（３）Ｒ4が、グルコース、マンノース、ラクトースまたはガラクトースである上記（１）記載の硫酸化糖残基修飾オリゴ糖含有ポリウレタン。
（４）Ｒ3が、エチレン基であり、かつＲ4が、グルコース、マンノース、ラクトースまたはガラクトースである上記（１）記載の硫酸化糖残基修飾オリゴ糖含有ポリウレタン。
（５）下記一般式［２］：
【０００８】
【化２】
2008007643.tif 000003
【０００９】
［式中、
Ｒ1は、置換基を有していてもよい炭素数１〜１６の２価の炭化水素基を表し、
Ｒ2は、炭素数２〜１２のオキシアルキレン単位及び置換基を有していてもよい炭素数２〜１２の２価の炭化水素単位から選ばれる同一または異なる単位を合計１〜１００単位含有する２価の基を表し、
Ｒ3は、炭素数２〜４のアルキレン基を表し、
Ｒ4は、単糖または二糖由来の糖残基を表し、
ＯＬＳは、一級水酸基を２個有するオリゴ糖の骨格を表し、
ｒはオリゴ糖の二級水酸基の総数を表し、
ｐおよびｑはそれぞれ１≦ｐ≦ｒ、０≦ｑ≦ｒ−１の範囲の整数を表し、
ｍ、ｎはそれぞれ繰り返し単位数であり、ｍは０〜１０００、ｎは１〜１０００の整数を表し、ｎ／（ｍ＋ｎ）は０．０１〜１．００の範囲の数である。］
で表される糖残基修飾オリゴ糖含有ポリウレタンを硫酸化試薬と反応させることを特徴とする、下記一般式［１］：
【００１０】
【化３】
2008007643.tif 000004
【００１１】
［式中、
Ｒ1は、置換基を有していてもよい炭素数１〜１６の２価の炭化水素基を表し、
Ｒ2は、炭素数２〜１２のオキシアルキレン単位及び置換基を有していてもよい炭素数２〜１２の２価の炭化水素単位から選ばれる同一または異なる単位を合計１〜１００単位含有する２価の基を表し、
Ｒ3は、炭素数２〜４のアルキレン基を表し、
Ｒ4は、単糖または二糖由来の糖残基を表し、
Ｍは水素原子、アルカリ金属原子、アンモニウム基又は有機アミノ基を表し、
ｓは、硫酸含有基で修飾された糖残基Ｒ4の水酸基数を表し、１≦ｓ≦４の範囲の整数を表し、
ＯＬＳは、一級水酸基を２個有するオリゴ糖の骨格を表し、
ｒはオリゴ糖の二級水酸基の総数を表し、
ｐおよびｑはそれぞれ１≦ｐ≦ｒ、０≦ｑ≦ｒ−１の範囲の整数を表し、
ｍ、ｎはそれぞれ繰り返し単位数であり、ｍは０〜１０００、ｎは１〜１０００の整数を表し、ｎ／（ｍ＋ｎ）は０．０１〜１．００の範囲の数である。］
で表される硫酸化糖残基修飾オリゴ糖含有ポリウレタンの製造方法。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の硫酸化糖残基修飾オリゴ糖含有ポリウレタンは、熱可塑性でかつ、溶媒可溶性であり、フィルム形成能に優れる。当該フィルムは、オリゴ糖含有ポリウレタンで構成されるため、生体適合性および血液適合性に優れ、さらに、糖鎖クラスター密度が高められていることに加え、オリゴ糖が硫酸化されているため、特定の細胞、蛋白質およびウイルスとの親和性が期待される。そのため、医療や生活用品の分野での高機能性材料として有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下に、本発明を詳細に説明する。
本発明の硫酸化糖残基修飾オリゴ糖含有ポリウレタンは、下記一般式［１］：
【００１４】
【化４】
2008007643.tif 000005
【００１５】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｍ、ｐ、ｑ、ｒ、ｓ、ｍ、ｎおよびＯＬＳは上記で定義した通りである］
で表される硫酸化糖残基修飾オリゴ糖含有ポリウレタンである。
一般式［１］および［２］において、Ｒ１は、置換基を有していてもよい炭素数１〜１６の２価の炭化水素基である。
上記「置換基を有していてもよい炭素数１〜１６の２価の炭化水素基」の「炭素数１〜１６の２価の炭化水素基」としては、
（１）直鎖または分岐鎖の炭素数１〜１６の２価の脂肪族炭化水素基［例、直鎖または分岐鎖の炭素数１〜１６のアルキレン基（例、メチレン、エチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、オクタメチレン、ヘキサデカメチレン等）、直鎖または分岐鎖の炭素数２〜１６のアルケニレン基（例、ビニレン、プロペニレン等）、炭素数３〜１６のシクロアルキレン（例、シクロヘキシレン）等］、および
（２）炭素数６〜１４の２価の芳香族炭化水素基［例、炭素数６〜１４のアリーレン基（例、フェニレン、ナフチレン、ビフェニレン等）等］、ならびに
（３）前記直鎖または分岐鎖の炭素数１〜１６の２価の脂肪族炭化水素基から選ばれる少なくとも１つの基および炭素数６〜１４の２価の芳香族炭化水素基から選ばれる少なくとも１つの基を含み、炭素数の合計が７〜１６の範囲内である炭化水素基（例、式
【００１６】
【化５】
2008007643.tif 000006
【００１７】
で表される基等）
等が挙げられる。
上記「置換基を有していてもよい炭素数１〜１６の２価の炭化水素基」の「置換基」としては、例えば、
（１）炭素数１〜６のアルキル基（例、メチル等）；
（２）炭素数３〜８のシクロアルキル基（例、シクロヘキシル等）；
（３）炭素数６〜１４のアリール基（例、フェニル等）；
等が挙げられる。これらの置換基は、上記「炭素数１〜１６の２価の炭化水素基」の置換可能な位置に、同一または異なって、１〜８個、好ましくは１〜４個置換することができる。
【００１８】
Ｒ１の具体例としては、例えば、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基、ヘキサデカメチレン基、ビニレン基、プロペニレン基、フェニレン基、ナフチレン基、フェニルメチレン基、フェニルエチレン基、ビフェニル基、ビスフェニルメチレン基、ビスフェニルエチレン基、フェニレン基（例、パラフェニレン基）、キシリレン基、テトラメチルキシリレン基、トリレン基、ジシクロヘキシルメチレン基、
式
【００１９】
【化６】
2008007643.tif 000007
【００２０】
で表される基等が挙げられ、ビスフェニルメチレン基、フェニルメチレン基およびヘキサメチレン基が好ましい。
【００２１】
一般式[１]および［２］において、Ｒ２は、炭素数２〜１２のオキシアルキレン基及び置換基を有していてもよい炭素数２〜１２の２価の炭化水素単位から選ばれる同一または異なる単位を合計１〜１００単位含有する２価の基である。
このようなものとしては、例えば、炭素数２〜１２のオキシアルキレンから選ばれる同一または異なる単位を合計１〜１００単位含有する２価の基、置換基を有していてもよい炭素数２〜１２の２価の炭化水素単位から選ばれる同一または異なる単位を合計１〜１００単位含有する２価の基、または炭素数２〜１２のオキシアルキレン単位及び置換基を有していてもよい炭素数２〜１２の２価の炭化水素単位から選ばれる同一または異なる単位を合計１〜１００単位含有する２価の基であってよい。
上記「炭素数２〜１２のオキシアルキレン単位及び置換基を有していてもよい炭素数２〜１２の２価の炭化水素単位から選ばれる同一または異なる単位を合計１〜１００単位含有する２価の基」は、例えば、式−（ＢＯ）ｈ-1−Ｂ−で表される単位および式−（Ｅ）i−で表される単位（式中、Ｂは、少なくとも１種の炭素数２〜１２のアルキレン単位を表し、Ｅは、少なくとも１種の、置換基を有していてもよい炭素数２〜１２の２価の炭化水素単位から選ばれる同一または異なる単位を表し、ｈおよびｉは、それぞれ１≦ｈ≦１００、１≦ｉ≦１００の整数である。）から選ばれる同一または異なる単位を合計１〜１００単位含有する２価の基である。
上記式−（ＢＯ）ｈ-1−Ｂ−で表される単位におけるＢの「炭素数２〜１２のアルキレン基」は直鎖であっても分岐していてもよく、また、当該単位中にＢが複数存在する（２≦ｈ≦１００）場合、Ｂは１種でもよいし、２種以上でもよい。ＢＯの具体的なものとしては、例えば、エチレンオキシ基、プロピレンオキシ基、トリメチレンオキシ基、ブチレンオキシ基、テトラメチレンオキシ基などのアルキレンオキシ基を挙げることができ、式−（ＢＯ）ｈ-1−Ｂ−で表される単位の具体例としては、例えば、式−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−で表される単位等が挙げられる。
上記式−（Ｅ）i−で表される単位において、Ｅで表される「置換基を有していてもよい炭素数２〜１２の２価の炭化水素単位」における２価の炭化水素単位は直鎖であっても分岐していてもよく、また飽和基であっても不飽和基であってもよく、例えば、炭素数２〜１２のアルキレン（例、エチレン、トリメチレン、テトラメチレン、ヘキサメチレン、ノナメチレン等）、炭素数２〜１２のアルケニレン（例、ブタジエニレン、ブテニレン等）等が挙げられる。また、当該「炭素数２〜１２の２価の炭化水素単位」が有していてもよい「置換基」としては、例えば、ハロゲン原子（例、フッ素原子等）、炭素数１〜６のアルキル基（例、メチル等）等が挙げられる。当該単位中にＥが複数存在する（２≦ｉ≦１００）場合、Ｅは１種でも、２種以上でもよい。
このような式−（Ｅ）i−で表される単位の具体的なものとしては、例えば、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基、ノナメチレン基、−ＣＨ２−ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＨ２−基、ブタジエニレン基、水添ブタジエニレン基、水添イソプレンの両鎖端の炭素原子から水素原子を１個ずつ除いて誘導される基等の２価の基などが挙げられる。
【００２２】
また、Ｒ２は、上記式−（ＢＯ）ｈ-1−Ｂ−（式中、Ｂおよびｈは上記のとおりである）で表される単位および／または式−（Ｅ）i−（式中、Ｅおよびｉは上記のとおりである）で表される単位から選ばれる単位に加えて、さらに他の繰り返し単位［例えば、エチレンアジペート基、プロピレンアジペート基、ブチレンアジペート基、ヘキサメチレンアジペート基、ネオペンチルアジペート基などのアルキレンエステル基、ヘキサメチレンカーボネート基などのアルキレンカーボネート基、開環カプロラクトン基、ポリ（ジメチルシロキシ）ジメチルシリル基などの繰り返し単位］を含有していてもよい。
このような単位を含有するＲ２の具体例としては、ポリエチレンアジペートジオール等から両端のＯＨを除いた２価の基、ポリ（ジメチルシロキシ）ジメチルシリル−ｎ−プロピルビスエトキシ基等が挙げられる。
Ｒ２の具体例としては、エチレンオキシ基、プロピレンオキシ基、エチレンアジペート基、プロピレンアジペート基、ヘキサメチレンカーボネート基、開環カプロラクトン基等の繰り返し単位を有する２価の基、トリメチレン基、テトラメチレン基、−ＣＨ２−ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＨ２−基、水添ブタジエニレン基、水添イソプレンの両鎖端の炭素原子から水素原子を１個ずつ除いて誘導される２価の基、ポリジメチルシロキシジメチルシリル−ｎ−プロピルビスエトキシ基等が好ましい。
【００２３】
一般式[１] および[２]におけるＲ3は、炭素数２〜４のアルキレン基である。具体的には、例えば、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基等を挙げる事ができる。これらのうち、エチレン基、トリメチレン基が好ましく、エチレン基がより好ましい。
【００２４】
一般式[１]および[２]におけるＲ4は、単糖または二糖由来の糖残基を表す。糖残基とは、糖から一部の水酸基を除いた残基である。Ｒ4に用いられる単糖または二糖としては、例えば、グルコース、マンノース、ガラクトース、ラクトースなどが挙げられる。
これらのうち、Ｒ4としては、グルコース、マンノースおよびガラクトース由来の糖残基が好ましく、グルコース由来の糖残基がより好ましい。
【００２５】
一般式[１]におけるＭは、水素原子、アルカリ金属原子、アンモニウム基又は有機アミノ基を表し、ｓは、硫酸含有基で修飾された糖残基Ｒ4の水酸基数を表し、１≦ｓ≦４の範囲の整数を表す。
上記Ｍにおけるアルカリ金属原子としては、例えば、ナトリウム原子、カリウム原子、リチウム原子等が挙げられ、好ましくはナトリウム原子、カリウム原子である。
有機アミノ基としては、例えば、炭素数１〜６のアルキル基を１〜３個有するアミノ基〔例、モノＣ１−６アルキルアミノ基（例、モノメチルアミノ基、モノエチルアミノ基、モノプロピルアミノ基、モノブチルアミノ基、モノペンチルアミノ基、モノヘキシルアミノ基）、ジＣ１−６アルキルアミノ基［例、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基（例、ジｎ−プロピルアミノ基、ジｉｓｏ−プロピルアミノ基）、ジブチルアミノ基］、トリＣ１−６アルキルアミノ基（例、トリメチルアミノ基、トリエチルアミノ基）〕、炭素数６〜１４の芳香族アミノ基［例、Ｃ６−１４アラルキルアミノ基（例、ベンジルアミノ基）、Ｃ６−１４芳香族複素環アミノ基（例、ピリジル基）］等が挙げられ、好ましくはジメチルアミノ基、トリメチルアミノ基、トリエチルアミノ基、ピリジル基、ベンジルアミノ基である。
【００２６】
一般式[１] および［２］におけるＯＬＳは、オリゴ糖の骨格を表す。オリゴ糖の骨格とは、オリゴ糖より全ての水酸基部分を除いた残基である。本発明で用いられるオリゴ糖としては一級水酸基を２個有するオリゴ糖であれば特に限定されず、二糖、三糖、四糖のいずれであってもよく、例えば、具体的には、トレハロース、マルトース、ラクトース、セロビオースなどの二糖などが挙げられ、そのなかでも、トレハロース、マルトース、ラクトース等の二糖が価格と反応性の観点から好ましい。一般式[１] および［２］におけるｒは、オリゴ糖の二級水酸基の総数を表し、例えば、ＯＬＳが二糖、三糖の場合は、ｒはそれぞれ６、９となる。
【００２７】
一般式[１]において、ｐは、硫酸化された、二塩基酸とアミノ糖で修飾されたオリゴ糖の二級水酸基（式−Ｏ2Ｃ−Ｒ3−ＣＯ−ＮＨ−Ｒ4−（ＳＯ３Ｍ）ｓで表される基；Ｒ３、Ｒ４およびｓは上記で定義したとおりである）の数を表し、一般式［２］において、ｐは、二塩基酸とアミノ糖で修飾された、オリゴ糖の二級水酸基（式−Ｏ2Ｃ−Ｒ3−ＣＯ−ＮＨ−Ｒ4で表される基；Ｒ３およびＲ４は上記で定義したとおりである）の数を表し、いずれも１≦ｐ≦ｒの範囲の整数である。
一般式[１]および［２］において、ｑは、二塩基酸で修飾されたオリゴ糖の二級水酸基（式ＨＯ2Ｃ−Ｒ3−ＣＯ2−で表される基；Ｒ３は上記で定義したとおりである）の数を表し、０≦ｑ≦ｒ−１の範囲の整数を表す。
【００２８】
一般式[１] および［２］における、ｍ、ｎはそれぞれ繰り返し単位数であり、ｍは０〜１０００、ｎは１〜１０００の整数を表し、ｎ／（ｍ＋ｎ）は０．０１〜１．００の範囲であり、吸水性、ポリマー強度、ポリマー成形性のバランスの観点から好ましくは０．０２〜０．８０の範囲の数である。なお、一般式［１］および［２］における繰り返し単位の配列は規則的であっても不規則的であってもよい。
【００２９】
次に、一般式［１］で表される硫酸化糖残基修飾オリゴ糖含有ポリウレタンおよび一般式［２］で表される糖残基修飾オリゴ糖含有ポリウレタンの製造方法を説明する。
（オリゴ糖含有ポリウレタンの製造方法）
一般式［３］：
【００３０】
【化７】
2008007643.tif 000008
【００３１】
［式中、ＯＬＳおよびｐは上記で定義したとおりである］
で表されるオリゴ糖、および必要に応じて下記一般式［４］：
【００３２】
【化８】
2008007643.tif 000009
【００３３】
［式中、Ｒ２は上記で定義したとおりである］
で表されるジオールを、下記一般式［５］：
【００３４】
【化９】
2008007643.tif 000010
【００３５】
［式中、Ｒ１は上記で定義したとおりである］
で表されるジイソシアネートと反応させることによって、下記一般式［６］：
【００３６】
【化１０】
2008007643.tif 000011
【００３７】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、ｍ、ｎおよびｒは上記で定義したとおりである］
で表されるオリゴ糖含有ポリウレタンを得ることが出来る。
この際、一般式［３］で表されるオリゴ糖を、必要に応じて一般式［４］で表されるジオールとの混合物とし、これを一般式［５］で表されるジイソシアネートと反応させてもよいし（ワンショット法）、あるいは、まず一般式［５］で表されるジイソシアネートを必要に応じて一般式［７］で表されるジオールと共に反応させてプレポリマーとし、ついで一般式［３］で表されるオリゴ糖を反応させてもよいし（プレポリマー法１）、あるいは、まず一般式［３］で表されるオリゴ糖と一般式［５］で表されるジイソシアネートとを反応させてプレポリマーとし、ついで必要に応じて一般式［４］で表されるジオールと反応させてもよい（プレポリマー法２）。
上記反応の際には、一般式［３］で表されるオリゴ糖、一般式［４］で表されるジオールおよび一般式［５］で表されるジイソシアネートは、それぞれ、１種でもよいし、２種以上の混合物でもよい。
【００３８】
本発明に用いられる前記一般式［５］のジイソシアネートは、例えば、テトラメチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、オクタメチレンジイソシアネート、ヘキサデカメチレンジイソシアネート、ビニレンジイソシアネート、プロペニレンジイソシアネート、ナフチレンジイソシアネート、フェニルメタンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、フェニルエタンジイソシアネート、ジフェニルエタンジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート（例、パラフェニレンジイソシアネート）、ビフェニルジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート等が挙げられる。
また一般式［４］で表されるジオールは、一級水酸基を有するジオールであれば特に制限はない。具体的には、例えば、エチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロ−１，６−ヘキサンジオール等の低分子量のジオール；およびポリエチレングリコール、ポリテトラメチレンエーテルグリコール、ポリプロピレングリコール、エチレンオキシド−プロピレンオキシド共重合体、テトラヒドロフラン−エチレンオキシド共重合体、テトラヒドロフラン−プロピレンオキシド共重合体などのポリエーテル系ジオール、ポリエチレンアジペートグリコール、ポリジエチレンアジペートグリコール、ポリプロピレンアジペートグリコール、ポリブチレンアジペートグリコール、ポリヘキサメチレンアジペートグリコール、ポリネオペンチルアジペートグリコール、ポリカプロラクトングリコールなどのポリエステル系ジオール、ポリヘキサメチレンカーボネートグリコールなどのポリカーボネート系ジオール、ポリブタジエングリコール、水添ポリブタジエングリコール、水添ポリイソプレングリコールなどのポリオレフィン系グリコール、ビス（ヒドロキシエトキシ−ｎ−プロピルジメチルシリル）ポリジメチルシロキサンなどのシリコーン系ジオールなどの高分子量のジオールなどを挙げることができる。
【００３９】
上記一般式［６］で表されるポリウレタンを製造する際の溶媒としては、反応物および生成するポリウレタンを溶解し得るものであればよい。具体的には、たとえば、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）等の有機溶媒単独もしくはそれらの混合溶媒が挙げられる。
上記一般式［６］で表されるポリウレタンを製造する際には、例えば、窒素等乾燥不活性ガスを通じながら、一般式［５］のジイソシアネートを含む溶液中に、前記一般式［３］のオリゴ糖、および必要に応じて一般式［４］のジオールを添加する。
上記反応成分の仕込みモル比は、例えば、一般式［５］の化合物：一般式［４］の化合物：一般式［３］の化合物が、３：０．０１〜２．９９：０．０１〜３が好ましく、より好ましくは、３：０．２〜２．５：０．５〜２．８である。
上記反応の反応温度は１０〜１５０℃が好ましく、より好ましくは、２０〜１２０℃で、反応時間は１〜１０時間が好ましく、より好ましくは、２〜６時間である。
反応終了後、一般式［６］で表されるポリウレタンを得ることができる。当該ポリウレタンは、例えば、反応溶液をメタノール、アセトン、水等の単独またはこれらの混合溶媒に投入し、濾過、洗浄、必要に応じて再沈殿精製を繰り返して得られた固体分を室温〜１００℃で１〜２４時間程度減圧乾燥することにより、精製することができる。
【００４０】
（カルボキシル基修飾オリゴ糖含有ポリウレタンの製造方法）
次に、上記一般式［６］で表されるオリゴ糖含有ポリウレタンを、一般式［７］：
【００４１】
【化１１】
2008007643.tif 000012
【００４２】
［式中、Ｒ３は、上記で定義したとおりである］
で表される酸無水物と反応させ、オリゴ糖の二級水酸基の一部あるいは全てを修飾して下記一般式［８］：
【００４３】
【化１２】
2008007643.tif 000013
【００４４】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、ＯＬＳ、ｍ、ｎ、ｑおよびｒは上記で定義したとおりである］
で表されるカルボキシル基修飾オリゴ糖含有ポリウレタンが製造される。
上記反応は、通常、溶媒中で行う。カルボキシル基修飾の際の溶媒としては、反応物および生成するポリウレタンを溶解し得るものであればよい。具体的には、たとえば、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）等の有機溶媒単独もしくはそれらの混合溶媒が挙げられる。
上記一般式［７］で表される酸無水物としては、コハク酸無水物、グルタル酸無水物、アジピン酸無水物等の二塩基酸無水物が好ましく用いられ、コハク酸無水物が最も好ましい。当該酸無水物は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上の混合物として用いてもよい。その使用量は、ポリウレタン中の直鎖オリゴ糖の水酸基を部分的に修飾する場合は、ポリウレタン中のオリゴ糖の二級水酸基数（ｒ）に対して１〜（ｒ−１）倍モルであり、前記水酸基を完全に修飾する場合は、ｒ〜２ｒ倍モル、好ましくは１．２ｒ〜１．５ｒ倍モルである。
【００４５】
上記反応では、必要に応じて、触媒として、４−ジメチルアミノピリジンやイミダゾールを３〜１０モル％使用することが好ましく、より好ましくは５モル％使用する。
上記反応の反応温度は、２０〜１００℃、好ましくは５０〜９０℃であり、反応時間は、１〜２４時間、好ましくは２〜２０時間である。
反応終了後、一般式［８］で表されるカルボキシル基含有オリゴ糖含有ポリウレタンを得ることができる。当該ポリウレタンは、例えば、反応溶液をメタノール、アセトン、水等の単独またはこれらの混合溶媒に投入してポリマーを析出させ、濾過、洗浄、必要に応じて再沈殿精製を繰り返して得られた固体分を室温〜１００℃で１〜２４時間程度減圧乾燥して、精製することができる。
【００４６】
（糖残基修飾オリゴ糖含有ポリウレタンの製造方法）
上記一般式［８］で表されるオリゴ糖含有ポリウレタンに、下記一般式［９］：
【００４７】
【化１３】
2008007643.tif 000014
【００４８】
［式中、Ｒ4は上記で定義したとおりである］で表されるアミノ化糖と反応させることにより、下記一般式［２］：
【００４９】
【化１４】
2008007643.tif 000015
【００５０】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ＯＬＳ、ｍ、ｎ、ｐ、ｑおよびｒは上記で定義したとおりである］
で表される糖残基修飾オリゴ糖含有ポリウレタンが製造される。
一般式［９］で表されるアミノ化糖としては、例えば、グルコースアミン、マンノースアミン、ラクトースアミンが好ましく、これらのうち、グルコースアミン、マンノースアミンがより好ましく、グルコースアミンが価格の点で最も好ましい。また、当該アミノ化糖は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上の混合物として用いてもよい。
上記反応は、通常、溶媒中で行う。溶媒としては、反応物および生成するポリウレタンを溶解し得るものであればよい。具体的には、たとえば、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）等の有機溶媒単独もしくはそれらの混合溶媒が挙げられる。
上記反応は、縮合剤の存在下で行うことが好ましい。縮合剤としては、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カーボジイミド（ＥＤＣ）／Ｎ−ヒドロキシコハク酸イミド（ＮＨＳ）混合物、ジシクロヘキシルカーボジイミド（ＤＣＣ）などが用いられる。ＥＤＣ／ＮＨＳ混合物が最も好ましい。その使用量は、アミノ化糖に対して０．５〜１．５倍モル、好ましくは０．８〜１．２倍モルである。
上記反応の反応温度は、２０〜６０℃、好ましくは３０〜５０℃、および反応時間は、５〜３６時間、好ましくは１０〜２０時間である。
反応終了後、一般式［２］で表される糖残基修飾オリゴ糖含有ポリウレタンを得ることができる。当該ポリウレタンは、例えば、反応溶媒を留去し、濃縮物にメタノールや水等の単独またはこれらの混合溶媒を投入してポリマーを洗浄、濾過、必要に応じて再沈殿精製を繰り返して得られた固体分を室温〜１００℃で１〜２４時間程度減圧乾燥して、精製することができる。
【００５１】
（硫酸化糖残基修飾オリゴ糖含有ポリウレタンの製造方法）
上記一般式［２］で表される糖残基修飾オリゴ糖含有ポリウレタンを、硫酸化試薬と反応させて、本発明の一般式［１］で表される硫酸化糖残基修飾オリゴ糖含有ポリウレタンを得ることができる。
硫酸化試薬としては、例えば、トリメチルアミン三酸化硫黄錯体、トリエチルアミン三酸化硫黄錯体、ジメチルホルムアミド三酸化硫黄錯体、ピリジン三酸化硫黄錯体、クロロスルホン酸などが用いられる。
上記反応は、通常、溶媒中で行う。溶媒としては、通常、ジメチルホルムアミド、ピリジン、ジメチルスルフォキシド（ＤＭＳＯ）などが用いられ、反応温度は、通常０℃〜８０℃、反応時間は、通常５分〜２４時間である。必要に応じ、得られた化合物をイオン交換樹脂（Ｎａ+タイプなど）で処理することにより、Ｍをアルカリ金属原子（例、ナトリウム原子など）などに変換することができる。
【００５２】
本発明の上記一般式［１］で表される硫酸化糖残基修飾オリゴ糖含有ポリウレタンは、優れた生理機能（例、ウイルス、タンパク質等に対する捕捉機能、血液適合性等）を有し、種々の生理機能材料として用いることができる。当該生理機能材料は、例えば、血液と接触する用途、フィルター（例、血液分離フィルター、ウイルス分離フィルター、タンパク質分離フィルター等）等の用途に用いられる。
【実施例】
【００５３】
次に本発明を実施例に基づいて更に詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
重合に使用するモノマー化合物を次のように略称する。
ＯＬＳ＝オリゴ糖骨格
ＴＲＥ＝トレハロース
ＭＤＩ＝ジフェニルメタンジイソシアネート
ＰＰＧ４＝ポリプロピレングリコール（分子量４００）
ＰＰＧ７＝ポリプロピレングリコール（分子量７００）
ＳＵＣ＝コハク酸無水物
ＧｌｕＡ＝グルコースアミン
ＭａｎＡ＝マンノースアミン
Ｐｙ＝ピリジル基
【００５４】
（合成例１）
ＭＤＩ−ＰＰＧ４−ＴＲＥ（モル比２／１／１）ポリウレタンの合成（プレポリマー法１）
メカニカルスターラーを装着した４口フラスコ（窒素ガス置換済み）にジフェニルメタンジイソシアネート(５．８５ｇ) とジメチルアセトアミド(６５ｍｌ)を入れ、攪拌しながら、室温においてポリプロピレングリコール（重量平均分子量４００、４．６８ｇ）を加え、１時間反応させた。次にこの反応液にトレハロース (４．００ｇ)を加え、この温度で４時間反応させた。反応溶液をメタノール／水（体積比１／３）混合溶媒に投入し、生成物を析出させ、濾過し、メタノール／水溶媒で洗浄後、真空乾燥して生成物を得た（収率８１％）。
そのプロトンＮＭＲにより目的物であることを確認した。
プロトンＮＭＲ（溶媒：重ジメチルスルホキシド）
１．０５、１．２０；  ＣＨ３−
３．２０−３．８０；  −Ｏ−ＣＨ−ＣＨ２−Ｏ−、
−ＣＨ２−、−ＣＨ−
３．８６          ；  −ＣＨ２−
４．３０−５．００；  −Ｏ−ＣＨ−Ｏ−、−ＯＨ
７．１６、７．４３；  −Ｃ６Ｈ４−
８．６５、９．６０；  −ＮＨ−ＣＯ−
【００５５】
（合成例２）
ＭＤＩ−ＰＰＧ７−ＴＲＥ（モル比２／１／１）ポリウレタンの合成（プレポリマー法１）
メカニカルスターラーを装着した４口フラスコ（窒素ガス置換済み）にジフェニルメタンジイソシアネート(４．３９ｇ) とジメチルアセトアミド(６５ｍｌ)を入れ、攪拌しながら、室温においてポリプロピレングリコール（重量平均分子量７００、６．１４ｇ）を加え、１時間反応させた。次にこの反応液にトレハロース (３．００ｇ)を加え、この温度で４時間反応させた。反応溶液をメタノール／水（体積比１／３）混合溶媒に投入し、生成物を析出させ、濾過し、メタノール／水溶媒で洗浄後、真空乾燥して生成物を得た（収率８７％）。
そのプロトンＮＭＲにより目的物であることを確認した。
プロトンＮＭＲプロトン（溶媒：重ジメチルスルホキシド）
１．０５、１．２０；  ＣＨ３−
３．２０−３．８０；  −Ｏ−ＣＨ−ＣＨ２−Ｏ−、
−ＣＨ２−、−ＣＨ−
３．８６          ；  −ＣＨ２−
４．３０−５．００；  −Ｏ−ＣＨ−Ｏ−、−ＯＨ
７．１６、７．４３；  −Ｃ６Ｈ４−
８．６５、９．６０；  −ＮＨ−ＣＯ−
【００５６】
（合成例３）
ＭＤＩ−ＰＰＧ７−ＴＲＥ（モル比３／２．５／０．５）ポリウレタンの合成（プレポリマー法１）
メカニカルスターラーを装着した４口フラスコ（窒素ガス置換済み）にメタンジフェニルジイソシアネート(４．３９ｇ）とジメチルアセトアミド(６５ｍｌ)を入れ、撹拌しながら、室温においてポリプロピレングリコール（平均分子量７００、６．１４ｇ）を加え、１時間反応させた。次にこの反応液にトレハロース（１．００ｇ)を加え、この温度で４時間反応させた。反応溶液をメタノール／水（体積比１／３）混合溶媒に投入し、生成物を析出させ、濾過し、メタノール／水溶媒で洗浄後、真空乾燥して生成物を得た（収率８６％）。
そのプロトンＮＭＲにより目的物であることを確認した。
【００５７】
（合成例４）
ＭＤＩ−ＰＰＧ４−ＴＲＥ（モル比２／１／１）−３ＳＵＣポリウレタンの合成
メカニカルスターラーを装着した４口フラスコ（窒素ガス置換済み）に合成例１のポリウレタン(１．００ｇ) とジメチルアセトアミド(２５ｍｌ)を入れ、攪拌しながら、室温においてコハク酸無水物（０．２４ｇ）、４−ジメチルアミノピリジン（０．０２５ｇ）を加えた後、７０℃で５時間反応させた。反応溶液を濃縮後、水(７５ｍｌ)に投入し生成物を析出させ、１Ｍ塩酸を３滴添加し、濾過し、水で洗浄後、真空乾燥して生成物を得た（収率９５％）。
そのプロトンＮＭＲにより目的物であることを確認した。
プロトンＮＭＲ（溶媒：重ジメチルスルホキシド）
１．０５、１．２０；  ＣＨ３−
２．５０−２．６０；  −ＯＣＯ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＯＯ−
３．２０−３．８０；  −Ｏ−ＣＨ−ＣＨ２−Ｏ−、
−ＣＨ２−、−ＣＨ−
３．８６          ；  −ＣＨ２−
４．３０−５．００；  −Ｏ−ＣＨ−Ｏ−、−ＯＨ
７．１６、７．４３；  −Ｃ６Ｈ４−
８．６５、９．６０；  −ＮＨ−ＣＯ−
【００５８】
（合成例５）
ＭＤＩ−ＰＰＧ４−ＴＲＥ（モル比２／１／１）−３ＳＵＣ−１ＭａｎＡポリウレタンの合成
メカニカルスターラーを装着した４口フラスコ（窒素ガス置換済み）に合成例４のポリウレタン（１．００ｇ）とジメチルホルムアミド(３０ｍｌ)を入れ、攪拌しながら、室温において１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カーボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ、０．５７ｇ）、Ｎ−ヒドロキシコハク酸イミド（０．３４ｇ）、トリエチルアミン（０．５９ｇ）を加え溶解させた。次にこの溶液にＤ−マンノースアミン塩酸塩(０．５３ｇ)を加え、この温度で２４時間反応させた。反応溶液を濃縮後、水に投入し、生成物を析出させ、濾過し、水で洗浄後、真空乾燥して生成物を得た（収率９６％）。
そのプロトンＮＭＲにより目的物であることを確認した。
プロトンＮＭＲ（溶媒：重ジメチルスルホキシド）
１．０５、１．２０；  ＣＨ３−
２．５０−２．６０；  −ＯＣＯ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＯＯ−
３．２０−３．８０；  −Ｏ−ＣＨ−ＣＨ２−Ｏ−、
−ＣＨ２−、−ＣＨ−
３．８６          ；  −ＣＨ２−
４．３０−５．００；  −Ｏ−ＣＨ−Ｏ−、−ＯＨ
６．５０          ；  −ＮＨ−ＣＯ−
７．１６、７．４３；  −Ｃ６Ｈ４−
８．６５、９．６０；  −ＮＨ−ＣＯ−
【００５９】
（合成例６）
ＭＤＩ−ＰＰＧ４−ＴＲＥ（モル比２／１／１）−５ＳＵＣポリウレタンの合成
メカニカルスターラーを装着した４口フラスコ（窒素ガス置換済み）に合成例１のポリウレタン(１．００ｇ) をジメチルアセトアミド(２５ｍｌ)に室温において溶解させた。次にこの反応液にジメチルアミノピリジン (０．０２５ｇ)を加え、攪拌しながら、コハク酸無水物（０．９６６ｇ）を加え、７０℃で５時間反応させた。反応溶液を濃縮後、水(７５ｍｌ)に投入し、生成物を析出させ、１Ｍ塩酸(０．２５ｍｌ)を加えた。沈殿を濾過し、水で洗浄後、８０℃で真空乾燥して生成物を得た（収率９１％）。
そのプロトンＮＭＲにより目的物であることを確認した。
【００６０】
（合成例７）
ＭＤＩ−ＰＰＧ４−ＴＲＥ（モル比２／１／１）−５ＳＵＣ−２ＧｌｕＡポリウレタンの合成
メカニカルスターラーを装着した４口フラスコ（窒素ガス置換済み）に合成例５のポリウレタン(１．００ｇ) とジメチルアセトアミド(３５ｍｌ)を入れ、攪拌しながら、室温において１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カーボジイミド塩酸塩（０．８３ｇ）、Ｎ−ヒドロキシコハク酸イミド（０．４９ｇ）を加え、１時間反応させた。次にこの反応液にＤ−グルコースアミン塩酸塩(１．２４ｇ)、トリエチルアミン（１．４５ｇ）を加え、この温度で２４時間反応させた。反応溶液を濃縮後、水に投入し、生成物を析出させ、濾過し、水で洗浄後、真空乾燥して生成物を得た（収率９６％）。
そのプロトンＮＭＲにより目的物であることを確認した。
プロトンＮＭＲプロトン（溶媒：重ジメチルスルホキシド）
１．０５、１．２０；  ＣＨ３−
２．５０−２．６０；  −ＯＣＯ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＯＯ−
３．２０−３．８０；  −Ｏ−ＣＨ−ＣＨ２−Ｏ−、
−ＣＨ２−、−ＣＨ−
３．８６          ；  −ＣＨ２−
４．３０−５．００；  −Ｏ−ＣＨ−Ｏ−、−ＯＨ
６．５０          ；  −ＮＨ−ＣＯ−
７．１６、７．４３；  −Ｃ６Ｈ４−
８．６５、９．６０；  −ＮＨ−ＣＯ−
【００６１】
（合成例８）
ＭＤＩ−ＰＰＧ７−ＴＲＥ（モル比２／１／１）−３ＳＵＣポリウレタンの合成
メカニカルスターラーを装着した４口フラスコ（窒素ガス置換済み）に合成例２のポリウレタン(２．００ｇ) とジメチルアセトアミド(５０ｍｌ)を入れ、攪拌しながら、室温においてコハク酸無水物（０．７９ｇ）、４−ジメチルアミノピリジン（０．０２５ｇ）を加えた後、７０℃で５時間反応させた。反応溶液を濃縮後、水(７５ｍｌ)に投入し生成物を析出させ、１Ｍ塩酸を３滴添加し、濾過し、水で洗浄後、真空乾燥して生成物を得た（収率８４％）。
そのプロトンＮＭＲにより目的物であることを確認した。
【００６２】
（合成例９）
ＭＤＩ−ＰＰＧ７−ＴＲＥ（モル比２／１／１）−３ＳＵＣ−１ＭａｎＡポリウレタンの合成
メカニカルスターラーを装着した４口フラスコ（窒素ガス置換済み）に合成例８のポリウレタン(１．５０ｇ) とジメチルアセトアミド(５０ｍｌ)を入れ、攪拌しながら、室温において１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カーボジイミド塩酸塩（０．４７ｇ）、Ｎ−ヒドロキシコハク酸イミド（０．２８ｇ）、トリエチルアミン（０．６２ｇ）を加え、１時間反応させた。次にこの反応液にＤ−マンノースアミン塩酸塩(０．５３ｇ)を加え、この温度で２４時間反応させた。反応溶液を濃縮後、水に投入し、生成物を析出させ、濾過し、水で洗浄後、真空乾燥して生成物を得た（収率７８％）。
そのプロトンＮＭＲにより目的物であることを確認した。
【００６３】
（合成例１０）
ＭＤＩ−ＰＰＧ７−ＴＲＥ（モル比３／２．５／０．５）−５ＳＵＣポリウレタンの合成
メカニカルスターラーを装着した４口フラスコ（窒素ガス置換済み）に合成例３のポリウレタン(５．００ｇ）とジメチルアセトアミド(１００ｍｌ)を入れ、撹拌しながら、室温においてコハク酸無水物（１．１５ｇ）、４−ジメチルアミノピリジン（０．０３５ｇ）を加えた後、７０℃で５時間反応させた。反応溶液を濃縮後、水(７５ｍｌ)に投入し生成物を析出させ、１Ｍ塩酸を３滴添加し、濾過し、水で洗浄後、真空乾燥して生成物を得た（収率９８％）。
そのプロトンＮＭＲにより目的物であることを確認した。
【００６４】
（合成例１１）
ＭＤＩ−ＰＰＧ７−ＴＲＥ（モル比３／２．５／０．５）−５ＳＵＣ−１ＭａｎＡポリウレタンの合成
メカニカルスターラーを装着した４口フラスコ（窒素ガス置換済み）に合成例１０のポリウレタン(３．００ｇ）とジメチルアセトアミド(１００ｍｌ)を入れ、撹拌しながら、室温において１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カーボジイミド塩酸塩（０．５０ｇ）、Ｎ−ヒドロキシコハク酸イミド（０．３０ｇ）、トリエチルアミン（０．６６ｇ）を加え、１時間反応させた。次にこの反応液にＤ−マンノースアミン塩酸塩(０．２８ｇ)を加え、この温度で２４時間反応させた。反応溶液を濃縮後、水に投入し、生成物を析出させ、濾過し、水で洗浄後、真空乾燥して生成物を得た（収率８５％）。
そのプロトンＮＭＲにより目的物であることを確認した。
【００６５】
（実施例１）
ＭＤＩ−ＰＰＧ４−ＴＲＥ（モル比２／１／１）−３ＳＵＣ−１ＭａｎＡ−（ＳＯ３Ｐｙ）ポリウレタンの合成
メカニカルスターラーを装着した４口フラスコ（窒素ガス置換済み）に合成例５のポリウレタン（０．１００ｇ）とジメチルホルムアミド(１５ｍｌ)を入れ溶解させた。攪拌しながら、室温においてピリジン三酸化硫黄錯体（０．１５ｇ）を加え８時間反応させた。反応溶液を濃縮後、水を投入し、生成物を析出させ、濾過し、水で洗浄後、真空乾燥して生成物を得た。
そのプロトンＮＭＲとＩＲスペクトルにより目的物であることを確認した。
プロトンＮＭＲ（溶媒：重ジメチルスルホキシド）
１．０５、１．２０；  ＣＨ３−
２．５０−２．６０；  −ＯＣＯ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＯＯ−
３．２０−３．８０；  −Ｏ−ＣＨ−ＣＨ２−Ｏ−、
−ＣＨ２−、−ＣＨ−
３．８６          ；  −ＣＨ２−
４．３０−５．００；  −Ｏ−ＣＨ−Ｏ−、−ＯＨ
６．５０          ；  −ＮＨ−ＣＯ−
７．１６、７．４３；  −Ｃ６Ｈ４−
８．１０−９．００；  −Ｃ５Ｈ５Ｎ・Ｈ＋
８．６５、９．６０；  −ＮＨ−ＣＯ−
ＩＲ（ＫＢｒ）：１０４０、１１２０ｃｍ−１（ＳＯ３）
【００６６】
（実施例２）
ＭＤＩ−ＰＰＧ４−ＴＲＥ（モル比２／１／１）−５ＳＵＣ−２ＧｌｕＡ−２（ＳＯ３Ｐｙ）ポリウレタンの合成
メカニカルスターラーを装着した４口フラスコ（窒素ガス置換済み）に合成例７のポリウレタン（１．００ｇ）とジメチルホルムアミド(１５ｍｌ)を入れ溶解させた。攪拌しながら、室温においてピリジン三酸化硫黄錯体（０．３０ｇ）を加え８時間反応させた。反応溶液を濃縮後、水を投入し、生成物を析出させ、濾過し、水で洗浄後、真空乾燥して生成物を得た。
そのプロトンＮＭＲとＩＲスペクトルにより目的物であることを確認した。
【００６７】
（実施例３）
ＭＤＩ−ＰＰＧ７−ＴＲＥ（モル比３／２．５／０．５）−５ＳＵＣ−１ＭａｎＡ（ＳＯ３Ｐｙ）ポリウレタンの合成
メカニカルスターラーを装着した４口フラスコ（窒素ガス置換済み）に合成例１１のポリウレタン（１．００ｇ）とジメチルホルムアミド(５０ｍｌ)を入れ溶解させた。撹拌しながら、室温においてピリジン三酸化硫黄錯体（０．０２７ｇ）を加え８時間反応させた。反応溶液を濃縮後、水を投入し、生成物を析出させ、濾過し、水で洗浄後、真空乾燥して生成物を得た。
そのプロトンＮＭＲとＩＲスペクトルにより目的物であることを確認した。
【００６８】
（実施例４）
ＭＤＩ−ＰＰＧ７−ＴＲＥ（モル比３／２．５／０．５）−５ＳＵＣ−１ＭａｎＡ−２（ＳＯ３Ｐｙ）ポリウレタンの合成
メカニカルスターラーを装着した４口フラスコ（窒素ガス置換済み）に合成例１１のポリウレタン（１．００ｇ）とジメチルホルムアミド(５０ｍｌ)を入れ溶解させた。撹拌しながら、室温においてピリジン三酸化硫黄錯体（０．０５４ｇ）を加え８時間反応させた。反応溶液を濃縮後、水を投入し、生成物を析出させ、濾過し、水で洗浄後、真空乾燥して生成物を得た。
そのプロトンＮＭＲとＩＲスペクトルにより目的物であることを確認した。
【００６９】
（実施例５）
ＭＤＩ−ＰＰＧ７−ＴＲＥ（モル比２／１／１）−３ＳＵＣ−１ＭａｎＡ−（ＳＯ３Ｐｙ）ポリウレタンの合成
メカニカルスターラーを装着した４口フラスコ（窒素ガス置換済み）に合成例８のポリウレタン（１．００ｇ）とジメチルホルムアミド(７０ｍｌ)を入れ溶解させた。攪拌しながら、室温においてピリジン三酸化硫黄錯体（０．０７８ｇ）を加え８時間反応させた。反応溶液を濃縮後、水を投入し、生成物を析出させ、濾過し、水で洗浄後、真空乾燥して生成物を得た。
そのプロトンＮＭＲとＩＲスペクトルにより目的物であることを確認した。
【００７０】
＜各サンプルの評価＞
評価方法
（１）分子量：実施例で製造したポリウレタン誘導体の重量平均分子量（Ｍｗ）は、ＤＭＦ（ジメチルホルムアミド）を展開溶媒として標準ポリエチレン（ＰＥ）を基準に測定した。
（２）軟化点：実施例で製造したポリウレタンの軟化点は、融点測定装置を用いて室温から加熱し（５℃／分）、サンプルが溶解した温度をもって測定した。
（３）溶剤可溶性：実施例で得られた各種ポリウレタン（０．１ｇ）がジメチルアセトアミド（１ｍｌ）に溶解するか否かを調べた。
結果を表１に示す。
【００７１】
【表１】
2008007643.tif 000016
【００７２】
以上の結果から、糖残基修飾オリゴ糖含有ポリウレタンが、熱可塑性と溶剤可溶性を有していることが示された。