(57)【要約】【課題】モアレの発生が無く、高い光透過性と高い導電性（電磁波シールド能）の性能を同時に満たした透明電磁波遮断フィルム、その製造方法、及びそれ用いたプラズマディスプレイパネルを提供することである。【解決手段】支持体上に感光性ハロゲン化銀粒子及びバインダーを含有する層を設けて成る感光材料をメッシュパターン露光後、化学現像処理し、更にめっき処理することにより導電性金属メッシュを形成する工程を経て製造される透明電磁波遮断フィルムにおいて、該導電性金属メッシュの断面形状が特定の関係式を満たすことを特徴とする透明電磁波遮断フィルム。【選択図】図１
2008270405.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に感光性ハロゲン化銀粒子及びバインダーを含有する層を設けて成る感光材料をメッシュパターン露光後、化学現像処理し、更にめっき処理することにより導電性金属メッシュを形成する工程を経て製造される透明電磁波遮断フィルムにおいて、該導電性金属メッシュの断面形状が下記の関係式を満たすことを特徴とする透明電磁波遮断フィルム。
（式）：０．８５≦Ｓ／（ａ×ｂ）≦１．０
ａ：支持体を下にしたときの導電性金属メッシュ断面の底辺の長さ
ｂ：導電性金属メッシュの頂点と底辺を結ぶ距離
Ｓ：導電性金属メッシュの断面積
【請求項２】
前記導電性金属メッシュ断面の底辺の長さａと前記導電性金属メッシュ断面の底辺と頂点を結ぶ距離ｂが下記の関係式を満たすことを特徴とする請求項１に記載の透明電磁波遮断フィルム。
（式）：０．３≦ｂ／ａ≦０．６
【請求項３】
前記導電性金属メッシュ断面の底辺の長さａが８μｍ以上１８μｍ以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の透明電磁波遮断フィルム。
【請求項４】
前記導電性金属メッシュ断面の底辺と頂点を結ぶ距離ｂが２μｍ以上１０μｍ以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の透明電磁波遮断フィルム。
【請求項５】
前記導電性金属メッシュ断面の底辺の長さａと前記導電性金属メッシュ断面の底辺と頂点を結ぶ距離ｂ、及び導電性金属メッシュの断面積Ｓが下記の関係式を満たすことを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の透明電磁波遮断フィルム。
（式）：０．９０≦Ｓ／（ａ×ｂ）≦１．０
【請求項６】
前記化学現像処理後、物理現像処理を行った後にめっき処理をすることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の透明電磁波遮断フィルム。
【請求項７】
前記感光性ハロゲン化銀粒子の塩化銀含有率が５０モル％以上であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の透明電磁波遮断フィルム。
【請求項８】
前記感光性ハロゲン化銀粒子及びバインダーを含有する層のハロゲン化銀粒子の銀／バインダー体積比が０．３以上２．０以下であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の透明電磁波遮断フィルム。
【請求項９】
前記感光性ハロゲン化銀粒子及びバインダーを含有する層のハロゲン化銀粒子の塗布銀量が、銀換算で０．３ｇ／ｍ2以上３．０ｇ／ｍ2以下であることを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の透明電磁波遮断フィルム。
【請求項１０】
前記めっき処理が電解銅めっき処理で、めっき浴の硫酸銅濃度が６０〜１２０ｇ／ｌであることを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載の透明電磁波遮断フィルム。
【請求項１１】
透明電磁波遮断フィルムの製造方法であって、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の透明電磁波遮断フィルムを製造することを特徴とする透明電磁波遮断フィルムの製造方法。
【請求項１２】
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の透明電磁波遮断フィルムを用いたことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、携帯電話、電子レンジ、ＣＲＴ、及びフラットパネルディスプレイなどの電子機器から発生する電磁波を遮断する透明電磁波遮断フィルム、その製造方法、及びそれを用いたフラットパネルディスプレイに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子機器の使用増大のために電磁波障害（Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｍａｇｎｅｔｉｃ  Ｉｎｔｅｒｆｅｒｅｎｃｅ：ＥＭＩ）を低減する必要性が高まっている。ＥＭＩは、電子、電気機器の誤動作、障害の原因になるほか、人体に対しても害を与えることが指摘されている。このため、電子機器では、電磁波放出の強さを規格又は規制内に抑えることが要求されている。
【０００３】
特に、プラズマ表示パネル（ＰＤＰ）は、希ガスをプラズマ状態にして紫外線を放射させこの光線で蛍光体を発光させる原理に基づくために原理的に電磁波を発生する。電磁波遮蔽能は、簡便には表面抵抗値で表すことができ、ＰＤＰ用の透光性電磁波遮蔽材料では、１０Ω／□以下が要求され、ＰＤＰを用いた民生用プラズマテレビにおいては、２Ω／□以下とする必要性が高く、より望ましくは０．２Ω／□以下という極めて高い導電性が要求されている。
【０００４】
上記の問題のうち、特に電磁波防止を解決するために、フォトリソグラフィー法を用いたエッチングメッシュや電着加工メッシュといった、開口部を有する金属メッシュを利用した電磁波遮蔽材料の製造方法がこれまで提案されている（例えば、特許文献１及び２参照。）。しかしながら、これらは製造工程が複雑であり、かつモアレや金属線部の交点が太る交点太りといった欠点が生じていた。
【０００５】
上記問題を解決するため、開口部を有する導電性メッシュを利用して電磁波シールド性と透光性とを両立させる種々の材料・方法が提案されている。その中で、銀塩感光材料を用いて導電性メッシュの細線パターンを安価で大量に提供する透光性電磁波シールド形成方法が提案されている（例えば、特許文献３、４参照。）。
【０００６】
この方法は、感光材料をメッシュパターン状に露光、化学現像処理および定着処理を経て金属銀部を形成した後に、物理現像処理および／またはめっき処理により金属銀部に導電性金属粒子を担持することで導電性メッシュを形成する方法であり、この方法により、高い電磁波シールド性と透明性を有し、さらにモアレの問題も改良できるとしている。しかしながら、多種の画素ピッチのパネルが存在する中で、モアレの問題はまだ十分解決出来ておらず、各画素ピッチのパネルに対しメッシュ線の線幅やピッチ幅をコントロールする必要があった。また、透明性についてもまだ不十分であり、電磁派シールド層とは別に近赤外線の遮蔽層や希ガス励起から発生される輝線カット層を設ける必要がありその分ＰＤＰ前面フィルタ全体としての透過性が劣化する為、電磁波シールド膜として更なる透過率向上が求められていた。モアレ、透過性を改良する為に、メッシュ線の線幅を小さくしたり、ピッチ幅を広げたりすると、電磁波シールド性の低下が起こり、これらの両立にはまだまだ課題があった。
【特許文献１】特開２００３−４６２９３号公報
【特許文献２】特開平１１−２６９８０号公報
【特許文献３】特開２００４−２２１５６４号公報
【特許文献４】特開２００４−２２１５６５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記問題に鑑みなされたものであり、その課題は、モアレの発生が無く、高い光透過性と高い導電性（電磁波シールド能）の性能を同時に満たした透明電磁波遮断フィルム、その製造方法、及びそれ用いたプラズマディスプレイパネルを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、銀塩法での導電性金属メッシュの形状は、フォトリソグラフィー法を用いたエッチングメッシュ法と異なり、めっき法により後から形成されるため蒲鉾型になり易く、これが上述の課題に大きく影響しているという知見を得た。また、導電性金属メッシュの形状をコントロールすることで、これらの課題を解決できることを見出した。すなわち、本発明に係る上記課題は、下記の手段により解決される。
【０００９】
１．支持体上に感光性ハロゲン化銀粒子及びバインダーを含有する層を設けて成る感光材料をメッシュパターン露光後、化学現像処理し、更にめっき処理することにより導電性金属メッシュを形成する工程を経て製造される透明電磁波遮断フィルムにおいて、該導電性金属メッシュの断面形状が下記の関係式を満たすことを特徴とする透明電磁波遮断フィルム。
（式）：０．８５≦Ｓ／（ａ×ｂ）≦１．０
ａ：支持体を下にしたときの導電性金属メッシュ断面の底辺の長さ
ｂ：導電性金属メッシュの頂点と底辺を結ぶ距離
Ｓ：導電性金属メッシュの断面積
２．前記導電性金属メッシュ断面の底辺の長さａと前記導電性金属メッシュ断面の底辺と頂点を結ぶ距離ｂが下記の関係式を満たすことを特徴とする前記１に記載の透明電磁波遮断フィルム。
（式）：０．３≦ｂ／ａ≦０．６
３．前記導電性金属メッシュ断面の底辺の長さａが８μｍ以上１８μｍ以下であることを特徴とする前記１又は２に記載の透明電磁波遮断フィルム。
【００１０】
４．前記導電性金属メッシュ断面の底辺と頂点を結ぶ距離ｂが２μｍ以上１０μｍ以下であることを特徴とする前記１〜３のいずれか一項に記載の透明電磁波遮断フィルム。
【００１１】
５．前記導電性金属メッシュ断面の底辺の長さａと前記導電性金属メッシュ断面の底辺と頂点を結ぶ距離ｂ、及び導電性金属メッシュの断面積Ｓが下記の関係式を満たすことを特徴とする前記１〜４のいずれか一項に記載の透明電磁波遮断フィルム。
（式）：０．９０≦Ｓ／（ａ×ｂ）≦１．０
６．前記化学現像処理後、物理現像処理を行った後にめっき処理をすることを特徴とする前記１〜５のいずれか一項に記載の透明電磁波遮断フィルム。
【００１２】
７．前記感光性ハロゲン化銀粒子の塩化銀含有率が５０モル％以上であることを特徴とする前記１〜６のいずれか一項に記載の透明電磁波遮断フィルム。
【００１３】
８．前記感光性ハロゲン化銀粒子及びバインダーを含有する層のハロゲン化銀粒子の銀／バインダー体積比が０．３以上２．０以下であることを特徴とする前記１〜７のいずれか一項に記載の透明電磁波遮断フィルム。
【００１４】
９．前記感光性ハロゲン化銀粒子及びバインダーを含有する層のハロゲン化銀粒子の塗布銀量が、銀換算で０．３ｇ／ｍ2以上３．０ｇ／ｍ2以下であることを特徴とする前記１〜８のいずれか一項に記載の透明電磁波遮断フィルム。
【００１５】
１０．前記めっき処理が電解銅めっき処理で、めっき浴の硫酸銅濃度が６０〜１２０ｇ／ｌであることを特徴とする前記１〜９のいずれか一項に記載の透明電磁波遮断フィルム。
【００１６】
１１．透明電磁波遮断フィルムの製造方法であって、前記１〜１０のいずれか一項に記載の透明電磁波遮断フィルムを製造することを特徴とする透明電磁波遮断フィルムの製造方法。
【００１７】
１２．前記１〜１０のいずれか一項に記載の透明電磁波遮断フィルムを用いたことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の上記手段により、モアレの発生が無く、高い光透過性と高い導電性（電磁波シールド能）の性能を同時に満たした透明電磁波遮断フィルム、その製造方法、及びそれ用いたプラズマディスプレイパネルを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
本発明の透明電磁波遮断フィルムは、支持体上に感光性ハロゲン化銀及びバインダーを含有する層を設けて成る感光材料をメッシュパターン露光後、化学現像処理し、更にめっき処理することにより導電性金属メッシュを形成する工程を経て製造される透明電磁波遮断フィルムにおいて、該導電性金属メッシュの断面形状が下記の関係式を満たすことを特徴とする。
（式）：０．８５≦Ｓ／（ａ×ｂ）≦１．０
ａ：支持体を下にしたときの導電性金属メッシュ断面の底辺の長さ
ｂ：導電性金属メッシュの頂点と底辺を結ぶ距離
Ｓ：導電性金属メッシュの断面積
なお、導電性金属メッシュの「頂点と底辺を結ぶ距離」とは、頂点と底辺を結ぶ最短の距離、すなわち、頂点から底辺に下ろした垂直線の長さを表す。
【００２０】
上記特徴は、請求項１〜１２に係る発明に共通する技術的特徴である。
【００２１】
以下、本発明とその構成要素等について詳細な説明をする。
【００２２】
〔導電性金属メッシュ断面の形状〕
本発明において、導電性金属メッシュの断面の底辺の長さａ、及び導電性金属メッシュの頂点と底辺を結ぶ距離ｂ、及び導電性金属メッシュの断面積Ｓは、例えば、ＦＩＢ（集束イオンビーム）法による断面加工を行ったのちメッシュ断面部のＳＩＭ画像又はＳＥＭ画像をとり、市販されている画像解析ソフト（例えばニレコ株式会社製ＬＵＺＥＸ、日本ローパー株式会社製Ｉｍａｇｅ−Ｐｒｏ等）により求めることが出来る。メッシュ断面積Ｓの算出方法は使用するソフトの仕様により異なるが、例えばメッシュ断面を輪郭トレースツールで囲い、囲った部分の面積をソフト計算により求める等が挙げられる。
【００２３】
本発明において、導電性金属メッシュは、化学現像処理及び物理現像処理により形成された現像銀、及びめっき処理により生成された銅、ニッル等の金属から成る。導電性金属メッシュの底辺は、支持体を下にしたきの導電性金属部と支持体またはゼラチン下引き層等の金属を有しない部分との境界線の長さである。導電性金属メッシュの頂点と底辺を結ぶ距離は、底辺と頂点の最短距離である。
【００２４】
本発明において、導電性金属メッシュの断面の底辺の長さａ、及び導電性金属メッシュの頂点と底辺を結ぶ距離ｂ、及び導電性金属メッシュの断面積Ｓは、０．８５≦Ｓ／（ａ×ｂ）≦１．０  を満たすものである。好ましくは、０．９０≦Ｓ／（ａ×ｂ）≦１．０である。
【００２５】
このようなメッシュ形状にする為の手段としては、銀塩法では複数の要因が絡みあっており一概に限定することは出来ず、様々な手段をとる事が可能であるが、例えば、感光材料のハロゲン化銀粒子のハロゲン組成、銀／バインダー体積比、物理現像処理、めっき処理組成等の組合せにより達成出来る。本発明において、本発明のめっき形状にする為には、化学現像処理後、物理現像処理を行ったのちにめっき処理をすることが好ましく、また、感光性ハロゲン化銀粒子の塩化銀含有率が５０モル％以上であることが好ましく、また、感光性ハロゲン化銀粒子及びバインダーからなる層のハロゲン化銀粒子の銀／バインダー体積比が０．３以上２．０以下であることが好ましく、また、めっき処理が電解銅めっきで、めっき浴の硫酸銅濃度が６０〜１２０ｇ／ｌであることが好ましい。
【００２６】
また、本発明において、本発明の効果を最大限得る為には、導電性金属メッシュ断面の底辺の長さａと導電性金属メッシュ断面の底辺と頂点を結ぶ距離ｂが０．３≦ｂ／ａ≦０．６の関係式を満たすことが好ましく、また、導電性金属メッシュ断面の底辺の長さａが８μｍ以上１８μｍ以下であることが好ましく、また、導電性金属メッシュ断面の底辺と頂点を結ぶ距離ｂが２μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましい。これらを達成する手段としては幾つかの方法が挙げられるが、例えば、露光時のメッシュ線幅、物理現像液の組成、現像時間、めっき浴の組成、めっき時間等により調整することが出来る。
【００２７】
〔ハロゲン化銀粒子乳剤含有層〕
本発明においては、後述する感光性ハロゲン化銀粒子及びバインダーを含有するハロゲン化銀粒子乳剤含有層が支持体上に設けられるが、ハロゲン化銀粒子乳剤含有層は、この他に、硬膜剤、硬調化剤、活性剤等を含有することができる。
【００２８】
本発明において、感光性ハロゲン化銀粒子乳剤含有層のハロゲン化銀粒子の銀／バインダー体積比は０．３以上２．０以下であることが好ましい。０．５以上１．０以下が更に好ましい形態である。０．３よりも小さいと本発明のメッシュ断面形状を得ることが難しくなり、また２．０より大きいと、バインダーがハロゲン化銀粒子を十分保持することが出来なくなり、ハロゲン化銀粒子の凝集が起こるため好ましくない。
【００２９】
本発明において、感光性ハロゲン化銀粒子乳剤含有層の塗布銀量が、銀換算で０．３ｇ／ｍ2以上３．０ｇ／ｍ2以下であることが好ましい。０．５ｇ／ｍ2以上２．０ｇ／ｍ2以下が更に好ましい形態である。０．３ｇ／ｍ2より小さいと本発明のメッシュ断面形状を得ることが難しくなり、３．０ｇ／ｍ2より大きいとハロゲン化銀粒子のカブリが高くなり透過性が低下する為好ましくない。
【００３０】
〔ハロゲン化銀粒子〕
本発明で用いられるハロゲン化銀粒子の組成は、塩化銀、臭化銀、塩臭化銀、沃臭化銀、塩沃臭化銀、塩沃化銀等任意のハロゲン組成を有するものであってもよいが、本発明の効果を得るには、塩化銀含有率が５０モル％以上であることが好ましく、塩化銀含有率が７０モル％以上であることが更に好ましい。
【００３１】
ハロゲン化銀粒子が現像され金属銀粒子になった後の表面比抵抗を下げ、電磁波を効率的に遮断するためには、現像銀粒子同士の接触面積ができるだけ大きくなる必要がある。そのためには表面積比を高めるためにハロゲン化銀粒子サイズが小さい程よいが、小さすぎる粒子は凝集して大きな塊状になりやすく、その場合接触面積は逆に少なくなってしまうので最適な粒子径が存在する。本発明において、ハロゲン化銀粒子の平均粒子サイズは、立方体換算径で０．０１〜０．５μｍが好ましく、より好ましくは０．０３〜０．３μｍである。なお、ハロゲン化銀粒子の立方体換算径とは、個々の粒子の体積と等しい体積を立方体に換算したときの一辺の長さを表す。ハロゲン化銀粒子の平均粒子サイズは、ハロゲン化銀粒子の調製時の温度、ｐＡｇ、ｐＨ、銀イオン溶液とハロゲン溶液の添加速度、粒子径コントロール剤（例えば、１−フェニル−５−メルカプトテトラゾール、２−メルカプトベンズイミダゾール、ベンズトリアゾール、テトラザインデン化合物類、核酸誘導体類、チオエーテル化合物類等）を適宜組み合わせて制御することができる。
【００３２】
本発明においては、ハロゲン化銀粒子の形状は特に限定されず、例えば、球状、立方体状、平板状（６角平板状、３角形平板状、４角形平板状等）、８面体状、１４面体状等、さまざまな形状であることができる。粒子サイズの分布には特に限定はないが、露光によるパターン形成時に、パターンの輪郭をシャープに再現させ、高い導電性を維持しながら透明性を高めるという観点からは、狭い分布が好ましい。本発明に係る感光材料に用いられるハロゲン化銀粒子の粒径分布は、好ましくは変動係数が０．２２以下、さらに好ましくは０．１５以下の単分散ハロゲン化銀粒子である。ここで変動係数は、粒径分布の広さを表す係数であり、次式によって定義される。
【００３３】
変動係数＝Ｓ／Ｒ
（式中、Ｓは粒径分布の標準偏差、Ｒは平均粒径を表す。）
本発明で用いられるハロゲン化銀粒子は、さらに他の元素を含有していてもよい。例えば、写真乳剤において、硬調な乳剤を得るために用いられる金属イオンをドープすることも有用である。特に鉄イオン、ロジウムイオン、ルテニウムイオンやイリジウムイオン等の第８〜１０族金属イオンは、金属銀像の生成の際に露光部と未露光部の差が明確に生じやすくなるため好ましく用いられる。
【００３４】
これらの金属イオンは、塩や錯塩の形でハロゲン化銀粒子乳剤に添加することができる。ロジウムイオン、イリジウムイオンに代表される遷移金属イオンは、各種の配位子を有する化合物であることもできる。そのような配位子としては、例えば、シアン化物イオンやハロゲンイオン、チオシアナートイオン、ニトロシルイオン、水、水酸化物イオン等を挙げることができる。具体的な化合物の例としては、臭化ロジウム酸カリウムやイリジウム酸カリウム等が挙げられる。
【００３５】
本発明において、ハロゲン化銀粒子に含有される前記金属イオン化合物の含有率は、ハロゲン化銀１モル当たり、１０-10〜１０-2モル／モルＡｇであることが好ましく、１０-9〜１０-3モル／モルＡｇであることがさらに好ましい。
【００３６】
ハロゲン化銀粒子に上述の金属イオンを含有させるためには、該金属化合物をハロゲン化銀粒子の形成前、ハロゲン化銀粒子の形成中、ハロゲン化銀粒子の形成後等、物理熟成中の各工程における任意の場所で添加すればよい。また、添加においては、重金属化合物の溶液を粒子形成工程の全体あるいは一部にわたって連続的に行うことができる。
【００３７】
本発明では、感度を向上させるため、写真乳剤で行われる化学増感を施すことが好ましい。化学増感としては、例えば、金、パラジウム、白金増感等の貴金属増感、無機イオウ、または有機イオウ化合物によるイオウ増感等のカルコゲン増感、塩化錫、ヒドラジン等還元増感等を利用することができる。
【００３８】
また、ハロゲン化銀粒子には分光増感を施すことが好ましい。好ましい分光増感色素としては、シアニン、カルボシアニン、ジカルボシアニン、複合シアニン、ヘミシアニン、スチリル色素、メロシアニン、複合メロシアニン、ホロポーラー色素等を挙げることができ、当業界で用いられている分光増感色素を単用あるいは併用して使用することができる。
【００３９】
特に有用な色素は、シアニン色素、メロシアニン色素、及び複合メロシアニン色素である。これらの色素類には、その塩基性異節環核として、シアニン色素類に通常利用される核の何れをも通用できる。すなわち、ピロリン核、オキサゾリン核、チアゾリン核、ピロール核、オキサゾール核、チアゾール核、セレナゾール核、イミダゾール核、テトラゾール核、ピリジン核及びこれらの核に脂環式炭化水素環が融合した核、及びこれらの核に芳香族炭化水素環が融合した核、即ち、インドレニン核、ベンズインドレニン核、インドール核、ベンズオキサゾール核、ナフトオキサゾール核、ベンゾチアゾール核、ナフトチアゾール核、ベンゾセレナゾール核、ベンズイミダゾール核、キノリン核等である。これらの核は、炭素原子上で置換されてもよい。
【００４０】
メロシアニン色素または複合メロシアニン色素には、ケトメチレン構造を有する核として、ピラゾリン−５−オン核、チオヒダントイン核、２−チオオキサゾリジン−２，４−ジオン核、チアゾリジン−２，４−ジオン核、ローダニン核、チオバルビツール酸核等の５から６員異節環核を適用することができる。
【００４１】
これらの増感色素は単独に用いてもよいが、それらの組み合わせを用いてもよい。増感色素の組み合わせは特に、強色増感の目的でしばしば用いられる。
【００４２】
これらの増感色素をハロゲン化銀粒子乳剤中に含有せしめるには、それらを直接乳剤中に分散してもよいし、あるいは水、メタノール、プロパノール、メチルセロソルブ、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール等の溶媒の単独もしくは混合溶媒に溶解して乳剤へ添加してもよい。また、特公昭４４−２３３８９号、同４４−２７５５５号、同５７−２２０８９号公報等に記載のように、酸または塩基を共存させて水溶液としたり、米国特許第３，８２２，１３５号、同第４，００６，０２５号明細書等に記載のようにドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等の界面活性剤を共存させて水溶液あるいはコロイド分散物としたものを乳剤へ添加してもよい。また、フェノキシエタノール等の実質上水と非混和性の溶媒に溶解した後、水または親水性コロイド分散したものを乳剤に添加してもよい。特開昭５３−１０２７３３号、同５８−１０５１４１号公報に記載のように親水性コロイド中に直接分散させ、その分散物を乳剤に添加してもよい。
【００４３】
〔バインダー〕
本発明に係るハロゲン化銀粒子乳剤含有層において、ハロゲン化銀粒子を均一に分散させ、かつハロゲン化銀粒子を支持体上に担持し、ハロゲン化銀粒子乳剤含有層と支持体の接着性を確保する目的でバインダーを用いる。本発明に用いることができるバインダーには、特に制限がなく、非水溶性ポリマー及び水溶性ポリマーのいずれも用いることができるが、現像性向上の観点からは、水溶性ポリマーを用いることが好ましい。
【００４４】
本発明に係る感光材料には、バインダーとしてゼラチンを用いることが有利であるが、必要に応じてゼラチン誘導体、ゼラチンと他の高分子のグラフトポリマー、ゼラチン以外のタンパク質、糖誘導体、セルロース誘導体、単一あるいは共重合体のごとき合成親水性高分子物質等の親水性コロイドも用いることができる。
【００４５】
〔紫外線吸収剤〕
本発明においては、電磁波遮断フィルムの紫外線による劣化を避けるために紫外線吸収剤を使用することが好ましい。
【００４６】
紫外線吸収剤としては、公知の紫外線吸収剤、例えばサリチル酸系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、Ｓ−トリアジン系化合物、環状イミノエステル系化合物等を好ましく使用することができる。これらの中、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、環状イミノエステル系化合物が好ましい。ポリエステルに配合するものとしては、特に環状イミノエステル系化合物が好ましい。これら紫外線吸収剤の添加層については特に制限はないが、ハロゲン化銀粒子乳剤含有層に用いられるバインダーの紫外線による劣化を防止するという観点から、ハロゲン化銀粒子乳剤含有層への直接添加、あるいはハロゲン化銀粒子乳剤含有層よりも外光に近い方に設けられる態様が好ましい。ハロゲン化銀粒子乳剤含有層あるいは、それに隣接する層に添加する場合は、好ましい紫外線吸収剤としてはベンゾトリアゾール類が挙げられ、例えば特開平１−２５０９４４号公報記載の一般式［III−３］で示される化合物、特開昭６４−６６６４６号公報記載の一般式［III］で示される化合物、特開昭６３−１８７２４０号公報記載のＵＶ−１Ｌ〜ＵＶ−２７Ｌ、特開平４−１６３３号公報記載の一般式［Ｉ］で示される化合物、特開平５−１６５１４４号公報記載の一般式（Ｉ）、（II）で示される化合物などが好ましく用いられる。これらの紫外線吸収剤は、例えばジオクチルフタレート、ジ−ｉ−デシルフタレート、ジブチルフタレート等のフタル酸エステル類、トリクレジルホスフェート、トリオクチルホスフェート等の燐酸エステル類などに代表される高沸点有機溶媒に分散した形で添加する態様が好ましく用いられる。また、これらの紫外線吸収剤を支持体中に直接添加する態様も好ましく用いられ、この場合、例えば特表２００４−５３１６１１号公報に記載されたような態様も好ましく用いることができる。
【００４７】
〔支持体〕
本発明においては、支持体として例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン樹脂系フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルムまたはアクリルフィルム等を用いることができる。また、これらプラスチックフィルム以外に、石英ガラス、ソーダガラス等も用いることが可能である。
【００４８】
中でも、セルローストリアセテートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンを含む）、ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましく用いられる。
【００４９】
本発明においては、透明性、等方性、接着性等の観点から、支持体としてはセルロースエステルフィルムまたはポリエステルフィルムを用いることが特に好ましい。
【００５０】
本発明の電磁波遮断材料をディスプレイの表示画面に用いる場合には、高い透明性が要求されるため、支持体自体の透明性も高いことが望ましい。この場合におけるプラスチックフィルムまたはガラス板の全可視光域の平均透過率は好ましくは８５〜１００％であり、より好ましくは９０〜１００％である。また、本発明では、色調調節剤として前記プラスチックフィルムまたはガラス板を本発明の目的を妨げない程度に着色したものを用いることもできる。
【００５１】
本発明において、可視光域の平均透過率とは、４００〜７００ｎｍまでの可視光領域の透過率を、少なくとも５ｎｍ毎に測定して求めた可視光域の各透過率を積算し、その平均値として求めたものと定義する。
【００５２】
測定においては、測定アパチャーを、前述のメッシュパターンより十分大きくとっておく必要があり、少なくともメッシュの格子面積より１００倍以上大きな面積で測定して求める。
【００５３】
本発明に用いる支持体の厚さには特に制限はないが、透過率の維持及び取り扱い性の観点から、５〜２００μｍであることが好ましく、３０〜１５０μｍであることがさらに好ましい。
【００５４】
〔露光〕
本発明では、後述する現像・補力処理により、導電性パターンを形成するために、感光材料の露光を行う。露光に用いられる光源としては例えば、可視光線、紫外線等の光、電子線、Ｘ線等の放射線等が挙げられるが、紫外線または近赤外線を用いることが好ましい。さらに露光には波長分布を有する光源を利用してもよく、波長分布の狭い光源を用いてもよい。
【００５５】
可視光線は必要に応じてスペクトル領域に発光を示す各種発光体が用いられる。例えば、赤色発光体、緑色発光体、青色発光体のいずれか１種または２種以上が混合されて用いられる。スペクトル領域は、上記の赤色、緑色及び青色に限定されず、黄色、橙色、紫色あるいは赤外領域に発光する蛍光体も用いられる。また、紫外線ランプも好ましく、水銀ランプのｇ線、水銀ランプのｉ線等も利用される。
【００５６】
また、本発明では、露光は種々のレーザービームを用いて行うことができる。例えば、ガスレーザー、発光ダイオード、半導体レーザー、半導体レーザーまたは半導体レーザーを励起光源に用いた固体レーザーと非線形光学結晶を組合わせた第二高調波発光光源（ＳＨＧ）等の単色高密度光を用いた走査露光方式を好ましく用いることができ、さらにＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザー、Ｆ2レーザー等も用いることができる。システムをコンパクトで、迅速なものにするために、露光は、半導体レーザー、半導体レーザーあるいは固体レーザーと非線形光学結晶を組合わせた第二高調波発生光源（ＳＨＧ）を用いて行うことが好ましい。特にコンパクトで、迅速、さらに寿命が長く、安定性が高い装置を設計するためには、露光は半導体レーザーを用いて行うことが好ましい。
【００５７】
レーザー光源としては、具体的には、紫外半導体、青色半導体レーザー、緑色半導体レーザー、赤色半導体レーザー、近赤外レーザー等が好ましく用いられる。
【００５８】
ハロゲン化銀粒子乳剤含有層を画像状に露光する方法は、フォトマスクを利用した面露光で行ってもよいし、レーザービームによる走査露光で行ってもよい。この際、レンズを用いた集光式露光でも反射鏡を用いた反射式露光でもよく、面々接触露光、近接場露光、縮小投影露光、反射投影露光等の露光方式を用いることができる。レーザーの出力は、ハロゲン化銀粒子を感光させるのに適した量であればよいので数十μＷ〜５Ｗ程度でよい。
【００５９】
〔化学現像処理〕
本発明では、感光材料を露光した後、化学現像処理（単に「化学現像」ともいう。）が行われる。化学現像処理は、発色現像主薬を含有しない、いわゆる黒白現像処理であることが好ましい。
【００６０】
化学現像処理液としては、現像主薬としてハイドロキノン、ハイドロキノンスルホン酸ナトリウム、クロルハイドロキノン等のハイドロキノン類の他に、１−フェニル−３−ピラゾリドン、１−フェニル−４，４−ジメチル−３−ピラゾリドン、１−フェニル−４−メチル−４−ヒドロキシメチル−３−ピラゾリドン、１−フェニル−４−メチル−３−ピラゾリドン等のピラゾリドン類及びＮ−メチルパラアミノフェノール硫酸塩等の超加成性現像主薬と併用することができる。また、ハイドロキノンを使用しないでアスコルビン酸やイソアスコルビン酸等レダクトン類化合物を上記超加成性現像主薬と併用することが好ましい。
【００６１】
また、化学現像処理液には保恒剤として亜硫酸ナトリウム塩や亜硫酸カリウム塩、緩衝剤として炭酸ナトリウム塩や炭酸カリウム塩、現像促進剤としてジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジエチルアミノプロパンジオール等を適宜使用できる。
【００６２】
化学現像処理で用いられる現像処理液は、画質を向上させる目的で、画質向上剤を含有することができる。画質向上剤としては、例えば、１−フェニル−５−メルカプトテトラゾール、５−メチルベンゾトリアゾール等の含窒素へテロ環化合物を挙げることができる。
【００６３】
本発明における化学現像処理においては、化学現像後に、未露光部分のハロゲン化銀粒子を除去して安定化させる目的で行われる定着処理を行う。本発明における定着処理は、ハロゲン化銀粒子を用いた写真フィルムや印画紙等で用いられる定着液処方を用いることができる。定着処理で使用する定着液は、定着剤としてチオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸カリウム、チオ硫酸アンモニウム等を使用することができる。定着時の硬膜剤として硫酸アルミウム、硫酸クロミウム等を使用することができる。定着剤の保恒剤としては、化学現像処理液で述べた亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、アスコルビン酸、エリソルビン酸等を使用することができ、その他にクエン酸、蓚酸等を使用することができる。
【００６４】
更に、定着処理後、水洗処理を行うことが好ましい。本発明に使用する水洗水には、防黴剤としてＮ−メチル−イソチアゾール−３−オン、Ｎ−メチル−イソチアゾール−５−クロロ−３−オン、Ｎ−メチル−イソチアゾール−４，５−ジクロロ−３−オン、２−ニトロ−２−ブロム−３−ヒドロキシプロパノール、２−メチル−４−クロロフェノール、過酸化水素等を使用することができる。
【００６５】
〔物理現像処理〕
本発明においては、本発明の効果を得るために、化学現像処理後、物理現像処理（単に「物理現像」ともいう。）を行うことが好ましい。本発明でいう「物理現像処理」とは、化学現像処理により感光性材料中のハロゲン化銀粒子から生成された現像銀以外に、新たに外部から銀イオンを供給し、化学現像処理で生される現像銀を補強するプロセスのことを示す。物理現像処理液から銀イオンを供給するための具体的な方法としては、例えば予め物理現像処理液中に硝酸銀等を溶解しておき銀イオンを溶かしておく方法、あるいは物理現像処理液中に、チオ硫酸ナトリウム、チオシアン酸アンモニウム等のようなハロゲン化銀溶剤を溶解しておき、現像時に未露光部のハロゲン化銀粒子を溶解させ、潜像を有するハロゲン化銀粒子の現像を補力する方法等が挙げられるが、本発明においては、前者であることが好ましい。
【００６６】
〔めっき処理〕
本発明においては、化学現像処理後、あるいは物理現像処理後に、更に導電性を高めるためにめっき処理を行う。
【００６７】
本発明において、めっき処理には従来公知の種々のめっき方法を用いることができ、例えば電解めっき及び無電解めっきを単独、あるいは組み合わせて実施することができ、めっきに用いることができる金属としては、例えば銅、ニッケル、コバルト、すず、銀、金、白金、その他各種合金を用いることができるが、本発明のメッシュ形状、及び効果を達成するためには、電解硫酸銅めっき処理が好ましく、更にめっき浴の硫酸銅濃度が６０〜１２０ｇ／ｌであることが好ましい。
【００６８】
〔酸化処理〕
本発明においては、化学現像処理後、または／及び物理現像処理後、または／及びめっき処理後に酸化処理を行うことが好ましい。酸化処理により、不要な金属成分をイオン化して溶解除去することが可能となり、フィルムの透過率をより高めることが可能となる。
【００６９】
酸化処理に用いる処理液としては、例えばＦｅ（III）イオンを含む水溶液を用いて処理する方法、あるいは過酸化水素、過硫酸塩、過硼酸塩、過燐酸塩、過炭酸塩、過ハロゲン酸塩、次亜ハロゲン酸塩、ハロゲン酸塩、有機過酸化物等の過酸化物を含む水溶液を用いて処理する方法など、従来公知の酸化剤を含有する処理液を用いることができる。酸化処理は、化学現像処理終了後から、めっき処理前の間に行われる態様が、短時間処理で効率的に透過率向上を行うことができるため好ましい態様であり、特に好ましくは、物理現像処理終了後に行う態様である。
【００７０】
〔黒化処理〕
本発明においては、フィルム表面での外光反射を防止するという観点から、めっき処理後、黒化処理を施すことが好ましい。このような黒化処理を施した透明電磁波遮断フィルムを例えばＰＤＰなどのディスプレイに用いた場合、外光反射によるコントラストの低下を軽減できるとともに、非使用時の画面の色調を黒く高品位に保つことができ好ましい。黒化処理の方法としては、特に制限はなく、既知の手法を適宜、単独あるいは組み合わせて用いることができる。例えば導電性パターンの最表面が金属銅から成る場合には、亜塩素酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、リン酸三ナトリウムを含んでなる水溶液に浸漬して酸化処理する方法、あるいはピロリン酸銅、ピロリン酸カリウム、アンモニアを含んで成る水溶液に浸漬し、電解めっき処理を行うことにより、黒化処理する方法、などを好ましく用いることができる。また、導電性パターンの最表層がニッケル−リン合金被膜から成る場合は、塩化銅（II）または硫酸銅（II）、塩化ニッケルまたは硫酸ニッケル、及び塩酸を含有する酸性黒化処理液中に浸漬する方法を好ましく用いることができる。
【００７１】
また、上述の方法以外にも、表面を微粗面化する方法によっても黒化処理が可能であるが、高い導電性を維持するという観点からは、表面の微粗面化よりも、酸化による黒化処理の方法が好ましい。
【００７２】
〔電磁波遮断層の構成〕
本発明においては、高い透光性と高い電磁波遮断性能を付与するために、格子状の細線パターンを露光により描画し、次いで現像処理等を行うことで、導電性のメッシュパターンを形成する。導電性金属部の線幅（＝導電性金属メッシュ断面の底辺の長さ）は、上述の如く、８μｍ以上１８μｍ以下であることが好ましい。また、線間隔は５０μｍ以上であることが好ましい。また、導電性金属部は、アース接続等の目的においては、線幅は２０μｍより広い部分を有していてもよい。
【００７３】
本発明における導電性金属部は、可視光透過率の点から開口率は８５％以上が好ましく、９０％以上がさらに好ましく、９０％以上が最も好ましい。開口率とは、メッシュをなす細線のない部分が全体に占める割合であり、例えば、線幅１０μｍ、ピッチ２００μｍの正方形の格子状メッシュの開口率は９０％である。
【００７４】
本発明においては、支持体を挟んだ両側に各々感光性ハロゲン化銀粒子乳剤層を設け、それぞれに導電性パターンを形成することも好ましく行われる。この場合、各々の面に塗設されるハロゲン化銀粒子乳剤は、分光増感などにより、それぞれ異なる波長に感度を有するような態様が好ましい。表裏面で異なる波長に感度を持たせることにより、各々の面に異なる導電性パターンを作製することが可能となり、例えば表裏面で各々異なる周波数の電磁波に対して選択的に遮蔽効果を有するように導電性パターンを形成することも可能となる。
【００７５】
〔電磁波遮断層以外の機能性層〕
本発明の電磁波遮断フィルムを、例えば、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）用の光学フィルタと組み合わせて使う場合には、ハロゲン化銀粒子層の下に近赤外吸収染料を含む層である近赤外線吸収層を設けることも好ましい。場合によっては近赤外線吸収層を支持体に対して、ハロゲン化銀粒子層のある側の反対側に設けることもできるし、ハロゲン化銀粒子層側と反対側の両方に設けてもよい。ハロゲン化銀を含むハロゲン化銀粒子層と支持体との間に近赤外線吸収層を設けること、あるいは、ハロゲン化銀粒子層からみて支持体の反対側に近赤外線吸収層を設けることができるが、支持体の一方側にすると同時に塗布ができるので前者の方が好ましい。
【００７６】
近赤外線吸収染料の具体例としては、ポリメチン系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、金属錯体系、アミニウム系、イモニウム系、ジイモニウム系、アンスラキノン系、ジチオール金属錯体系、ナフトキノン系、インドールフェノール系、アゾ系、トリアリルメタン系の化合物等が挙げられる。ＰＤＰ用光学フィルタで近赤外線吸収能が要求されるのは、主として熱線吸収や電子機器のノイズ防止である。このためには、最大吸収波長が７５０〜１１００ｎｍである近赤外線吸収能を有する色素が好ましく、金属錯体系、アミニウム系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、ジイモニウム系、スクワリウム化合物系が特に好ましい。
【００７７】
近赤外線吸収染料としては、ジイモニウム化合物は、ＩＲＧ−０２２、ＩＲＧ−０４０（以上、日本化薬株式会社製商品名）、ニッケルジチオール錯体化合物は、ＳＩＲ−１２８、ＳＩＲ−１３０、ＳＩＲ−１３２、ＳＩＲ−１５９、ＳＩＲ−１５２、ＳＩＲ−１６２（以上、三井化学株式会社製商品名）、フタロシアニン系化合物は、ＩＲ−１０，ＩＲ−１２（以上、日本触媒株式会社商品名）等の市販品を利用することができる。
【００７８】
上記近赤外線吸収染料は、メタノール、エタノール及びイソプロパノール等のアルコール溶剤、アセトン、メチルエチルケトン及びメチルブチルケトン等のケトン溶媒、ジメチルスルホオキサイド、ジメチルホルムアミド、ジメチルエーテル、トルエン等有機溶解して使用するか、後述する微粒子化機械で平均粒子径０．０１〜１０μｍの微粒子にして塗布することが好ましく、添加量としては光学濃度が、極大波長で０．０５〜３．０濃度の範囲で使用するのが好ましい。
【００７９】
なお、近赤外線吸収能を有する色素を、色調補正層に含有させる場合、上記の色素のうちいずれか１種類を含有させてもよいし、２種以上を含有させてもよい。
【００８０】
本発明の電磁波遮断材料を、例えば、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）用の光学フィルタと組み合わせて使う場合にはＰＤＰに用いられるネオンガスの輝線発光行による色再現性の低下を防ぐためにこの対策として５９５ｎｍ付近の光を吸収する色素を含有する態様が好ましい。このような特定波長を吸収する色素としては、具体的には例えば、アゾ系、縮合アゾ系、フタロシアニン系、アンスラキノン系、インジゴ系、ペリノン系、ペリレン系、ジオキサジン系、キナクリドン系、メチン系、イソインドリノン系、キノフタロン系、ピロール系、チオインジゴ系、金属錯体系等の周知の有機顔料及び有機染料、無機顔料が挙げられる。これらの中でも、耐候性が良好であることから、フタロシアニン系、アンスラキノン系色素が特に好ましく用いられる。
【００８１】
本発明の電磁波遮断材料を、ディスプレイ画面の保護等を目的として用いる場合には、反射防止層を設けることが好ましい。反射防止層としては、金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物、窒化物、硫化物等の無機物を、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト法等で単層あるいは多層に薄膜積層させる方法、アクリル樹脂、フッ素樹脂等の屈折率の異なる樹脂を単層あるいは多層に薄膜積層させる方法等を用いることができる。
【００８２】
本発明において、前記透明電磁波遮断フィルムにおいて、導電性パターンを有する層に対して該フィルムの支持体を挟んだ反対側に反射防止層を形成する場合には、まず最初に反射防止層を形成した後に、プロテクトフィルムを貼り合わせ、その後導電性パターン層を形成する態様が好ましい。導電性パターンを先に形成した後に反射防止層を形成する場合、反射防止層と支持体の接着性を向上させるために行うプラズマ処理やコロナ処理の効率が低下しやすい傾向にあるため、反射防止層を最初に形成する態様が好ましい。また、反射防止層を先に形成した場合、該層が現像及びめっき処理などにより劣化することを防止するという観点から、予めプロテクトフィルムを貼り合わせた後、導電性パターン層を形成する態様が好ましい。
【００８３】
本発明において用いられるプロテクトフィルムは、一般的に市販されているプロテクトフィルムを用いることができるが、導電性パターン形成のための感光性ハロゲン化銀粒子乳剤層を塗工しやすくするという観点から、フィルムの厚さは１０μｍ以上１００μｍ以下が好ましく、特に好ましくは２０μｍ以上６０μｍ以下である。１０μｍ未満の場合、フィルムの剛性が著しく低下するためプロテクトフィルムの貼合せの作業効率が低下しやすく、また１００μｍより厚い場合、フィルムの巻き取り時に巻き取り皺などの故障が発生しやすくなるためである。
【００８４】
プロテクトフィルムに用いられる粘着剤の種類には特に制限はないが、反射防止フィルムを変質させることなく、また剥離時に反射防止フィルムにダメージを与えないものが好ましく用いられる。このような観点から、アクリル系、またはシリコーン系の粘着剤が好ましく用いられる。また、その粘着力としては、０．０８〜０．６Ｎ／２５ｍｍであるものが好ましく用いられる。
【実施例】
【００８５】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。なお、実施例において「部」あるいは「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量％」を表す。
【００８６】
実施例１
〔ハロゲン化銀粒子乳剤ＥＭ−１の調製〕
反応容器内で下記溶液−Ａを４０℃に保ち、特開昭６２−１６０１２８号公報記載の混合撹拌装置を用いて高速に撹拌しながら、１．８Ｎの臭化カリウムでＥＡｇ＝８５ｍＶに調整した。引き続き、ダブルジェット法を用いて下記溶液−Ｂと下記溶液−Ｃを一定の流量で１９分間かけて添加した。
【００８７】
（溶液−Ａ）
アルカリ処理不活性ゼラチン（平均分子量１０万）                    １８．７ｇ
臭化カリウム                                                      ０．１８ｇ
下記溶液−Ｉ                                                    ５．６６ｍｌ
純水                                                            １８１２ｍｌ
（溶液−Ｂ）
硝酸銀                                                          １６９．９ｇ
純水にて５５５．６ｍｌに仕上げる。
【００８８】
（溶液−Ｃ）
臭化カリウム                                                    １４０．０ｇ
沃化カリウム                                                        ４．０ｇ
下記溶液−II                                                    ２．１０ｍｌ
下記溶液−III                                                   ０．０３ｍｌ
純水にて６６６．７ｍｌに仕上げる。
【００８９】
（溶液−Ｉ）
界面活性剤：ポリイソプロピレンポリエチレンオキシジコハク酸エステルナトリウム塩の１０質量％メタノール溶液
（溶液−II）
六臭化ロジウム錯体の０．０２質量％水溶液
（溶液−III）
ヘキサクロロイリジウム（ＩＶ）酸カリウムの１．０質量％水溶液
上記操作終了後に、常法に従い４０℃にてフロキュレーション法を用いて脱塩及び水洗処理を施し、溶液−Ｄと防バイ剤を加えて６０℃で良く分散し、４０℃にてｐＨを５．９０に調整して、最終的に沃化銀を２モル％含む平均粒子径０．０６μｍ、変動係数１０％の沃臭化銀立方体粒子乳剤を得た。
【００９０】
（溶液−Ｄ）
アルカリ処理不活性ゼラチン（平均分子量１０万）                    １８．５ｇ
純水                                                          １４０．０ｍｌ
上記沃臭化銀立方体粒子乳剤に対し、チオ硫酸ナトリウムをハロゲン化銀１モル当たり２８．３ｍｇ用い６０℃にて６０分間化学増感を行い、化学増感終了後に４−ヒドロキシ−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラザインデン（ＴＡＩ）をハロゲン化銀１モル当たり５００ｍｇ、１−フェニル−５−メルカプトテトラゾールを６０ｍｇ添加して、ハロゲン化銀粒子乳剤ＥＭ−１を得た。
【００９１】
〔ハロゲン化銀粒子乳剤ＥＭ−２の調製〕
反応容器内で下記溶液−Ｅを３４℃に保ち、ＥＭＰ−１の調整と同様な混合撹拌装置を用いて高速に撹拌しながら、硝酸（濃度６％）を用いてｐＨを２．９５に調整した。引き続き、ダブルジェット法を用いて下記溶液−Ｆと下記溶液Ｇを一定の流量で８分６秒間かけて添加した。添加終了後に、炭酸ナトリウム（濃度５％）を用いてｐＨを５．９０に調整し、続いて下記溶液−Ｈと溶液−Ｊを添加した。
【００９２】
（溶液−Ｅ）
アルカリ処理不活性ゼラチン（平均分子量１０万）                    １８．７ｇ
塩化ナトリウム                                                    ０．３１ｇ
下記溶液−IV                                                    １．５９ｍｌ
純水                                                            １２４６ｍｌ
（溶液−Ｆ）
硝酸銀                                                          １６９．９ｇ
硝酸（濃度６％）                                                ５．８９ｍｌ
純水にて３１７．１ｍｌに仕上げる。
【００９３】
（溶液−Ｇ）
アルカリ処理不活性ゼラチン（平均分子量１０万）                    ５．６６ｇ
塩化ナトリウム                                                    ３５．９ｇ
臭化カリウム                                                      ５９．９ｇ
下記溶液−IV                                                    ０．８５ｍｌ
下記溶液−Ｖ                                                    ２．７２ｍｌ
純水にて３１７．１ｍｌに仕上げる。
【００９４】
（溶液−Ｈ）
２−メチル−４ヒドロキシ−１，３，３ａ，７−テトラアザインデン    ０．５６ｇ
純水                                                          １１２．１ｍｌ
（溶液−Ｊ）
アルカリ処理不活性ゼラチン（平均分子量１０万）                    ３．９６ｇ
下記溶液−IV                                                    ０．４０ｍｌ
純水                                                          １２８．５ｍｌ
（溶液−IV）
界面活性剤：ポリイソプロピレンポリエチレンオキシジコハク酸エステルナトリウム塩の１０質量％メタノール溶液
（溶液−Ｖ）
六塩化ロジウム錯体の１０質量％水溶液
上記操作終了後に、常法に従い４０℃にてフロキュレーション法を用いて脱塩及び水洗処理を施し、溶液−Ｋと防バイ剤を加えて６０℃で良く分散し、４０℃にてｐＨを５．９０に調整して、最終的に塩化銀を５５モル％含む平均粒子径０．０９μｍ、変動係数１０％の塩臭化銀立方体粒子乳剤を得た。
【００９５】
（溶液−Ｋ）
アルカリ処理不活性ゼラチン（平均分子量１０万）                    １６．５ｇ
純水                                                          １３９．８ｍｌ
上記塩臭化銀立方体粒子乳剤に対し、チオ硫酸ナトリウムをハロゲン化銀１モル当たり５６．０ｍｇ用い６０℃にて６０分間化学増感を行い、化学増感終了後に４−ヒドロキシ−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラザインデン（ＴＡＩ）をハロゲン化銀１モル当たり５００ｍｇ、１−フェニル−５−メルカプトテトラゾールを１００ｍｇ添加して、ハロゲン化銀粒子乳剤ＥＭ−２を得た。
【００９６】
〔ハロゲン化銀粒子乳剤ＥＭ−３の調製〕
上記ハロゲン化銀粒子乳剤ＥＭ−２の調製において、溶液−Ｇを下記溶液−Ｌに変更した以外は同様にして、塩化銀を９０モル％含む平均粒子径０．０９μｍ、変動係数１０％の塩臭化銀立方体粒子乳剤ＥＭ−３を得た。
【００９７】
（溶液−Ｇ）
アルカリ処理不活性ゼラチン（平均分子量１０万）                    ５．６６ｇ
塩化ナトリウム                                                    ５８．８ｇ
臭化カリウム                                                      １３．３ｇ
下記溶液−IV                                                    ０．８５ｍｌ
下記溶液−Ｖ                                                    ２．７２ｍｌ
純水にて３１７．１ｍｌに仕上げる。
【００９８】
〔感光材料１０１〜１０９の作製〕
下引層を施した厚さ１８０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム支持体上に、前述のように調製したハロゲン化銀粒子乳剤ＥＭ−１〜ＥＭ−３を、表１に示すような銀／ゼラチン（バインダー）体積比、塗布銀量となるように塗布を行った後、乾燥して、感光材料１０１〜１０９を作製した。なお、各々の感光材料の作製においては、硬膜剤（２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−１，３，５−ｓ−トリアジンナトリウム塩）をゼラチン１ｇ当たり５０ｍｇの比率となるようにして添加した。また塗布助剤として、界面活性剤（ＳＵ−２：スルホ琥珀酸ジ（２−エチルヘキシル）・ナトリウム）を添加し、表面張力を調整した。なお、表１において、銀の体積、及び銀量は用いたハロゲン化銀粒子乳剤の量を等モルの銀に換算して求めた。
【００９９】
〔透明電磁波遮断フィルムＳ１０１の作製〕
上述のようにして製造した感光材料１０１に対して、ライン幅が５μｍ、ライン同士の間隔が２４０μｍの格子状のフォトマスクを介して、紫外線ランプを用いて露光を行った後、下記化学現像処理液（ＤＥＶ−１）を用いて２５℃で６０秒間現像処理を行った後、下記定着処理液（ＦＩＸ−１）を用いて２５℃で１２０秒間の定着処理を行い、ついで水洗処理を行った。
（ＤＥＶ−１：化学現像処理液）
純水                                                              ５００ｍｌ
メトール                                                                ２ｇ
無水亜硫酸ナトリウム                                                  ８０ｇ
ハイドロキノン                                                          ４ｇ
ホウ砂                                                                  ４ｇ
チオ硫酸ナトリウム                                                    １０ｇ
臭化カリウム                                                        ０．５ｇ
水を加えて全量を１リットルとする。
【０１００】
（ＦＩＸ−１：定着処理液）
純水                                                              ７５０ｍｌ
チオ硫酸ナトリウム                                                  ２５０ｇ
無水亜硫酸ナトリウム                                                  １５ｇ
氷酢酸                                                              １５ｍｌ
カリミョウバン                                                        １５ｇ
水を加えて全量を１リットルとする。
【０１０１】
続いて、１０％塩酸液に１分間浸漬した後、下記のめっき処理液（ＰＬ−１）を用いて２５℃で電流密度２Ａ／ｄｍ2の条件で１２分間、硫酸銅電気めっき処理を行い、透明電磁波遮断フィルムＳ１０１を作製した。
【０１０２】
（ＰＬ−１：めっき処理液）
硫酸銅・５水和物                                                      ８０ｇ
硫酸                                                                １８０ｇ
塩素                                                              ４０ｐｐｍ
トップルチナ３８０Ｈ（奥野製薬製）                                ５．０ｍｌ
水を加えて全量を１リットルとする。
【０１０３】
〔透明電磁波遮断フィルムＳ１０２の作製〕
前記透明電磁波遮断フィルムＳ１０１の作製において、化学現像−定着−水洗処理後、下記物理現像処理液（ＰＤ−１）を用いて２５℃４８０秒間の物理現像処理を行い、ついで水洗処理を行うこと、及びめき（ＰＬ−１）の時間を１０分にしたこと以外は同様にして透明電磁波遮断フィルムＳ１０２を作製した。
【０１０４】
（ＰＤ−１：物理現像処理液）
純水                                                              ８００ｍｌ
クエン酸                                                            ７．９ｇ
ハイドロキノン                                                      ７．７ｇ
硝酸銀                                                              ０．８ｇ
リン酸水素２ナトリウム                                              １．０ｇ
２８％アンモニア水                                                １．２ｍｌ
〔透明電磁波遮断フィルムＳ１０３の作製〕
前記透明電磁波遮断フィルムＳ１０２の作製において、感光材料１０１を１０２に変更した以外は同様にして透明電磁波遮断フィルムＳ１０３を作製した。
【０１０５】
〔透明電磁波遮断フィルムＳ１０４の作製〕
前記透明電磁波遮断フィルムＳ１０３の作製において、上記めっき処理液（ＰＬ−１）を下記めっき処理液（ＰＬ−２）に変更し２５℃で電流密度５Ａ／ｄｍ2の条件で４分間、硫酸銅電気めっきを行った以外は同様にして、透明電磁波遮断フィルムＳ１０４を作製した。
【０１０６】
（ＰＬ−２：めっき処理液）
硫酸銅・５水和物                                                    ２００ｇ
硫酸                                                                  ７０ｇ
塩素                                                              ２０ｐｐｍ
トップルチナ３８０Ｈ（奥野製薬製）                                ５．０ｍｌ
水を加えて全量を１リットルとする。
【０１０７】
〔透明電磁波遮断フィルムＳ１０５〜Ｓ１１１の作製〕
前記透明電磁波遮断フィルムＳ１０３の作製において、感光材料１０２を１０３〜１０９に変更した以外は同様にして透明電磁波遮断フィルムＳ１０５〜Ｓ１１１を作製した。
【０１０８】
〔透明電磁波遮断フィルムＳ１０１〜Ｓ１１１の評価〕
上記のようにして得られた、導電性金属メッシュ部を有する透明電磁波遮断フィルムＳ１０１〜Ｓ１１１の各々に対して、下記の評価を行った。
【０１０９】
（メッシュ断面形状の測定）
メッシュ線部をＦＩＢ装置ＳＭＩ２０５０（セイコーインスツルメンツ（株）製）を用いてメッシュ断面のＳＩＭ画像を取り、画像解析ソフトＬＵＺＥＸ（ニレコ（株）製）を用いて、メッシュ断面の底辺の長さ、メッシュの頂点と底辺を結ぶ距離、メッシュの断面積を測定した。
【０１１０】
（表面比抵抗の測定）
抵抗率計（ロレスタＧＰ（ＭＣＰ−Ｔ６１０型）：（株）ダイヤインスツルメンツ社製）を用いて表面比抵抗を測定した。
【０１１１】
（透過率の測定）
分光光度計（日立分光光度計Ｕ−３２１０：（株）日立製作所製）を用いて透過率を測定した。
【０１１２】
（モアレ評価）
日立製ＰＤＰテレビ及び松下電器製ＰＤＰテレビの前面に、モアレが最小のバイアス角度で電磁波シールド膜を設置し、目視による官能評価を行った。テレビ画面に正対して観察すると共に、テレビ画面に対して観察位置を例えば斜め等様々な位置に変えて画像表示面の観察を行った。いずれもモアレが顕在化しなかった場合を○、モアレが少し見られるレベルを△、モアレが顕在化したサンプルを×と評価した。
【０１１３】
透明電磁波遮断フィルムの内容と評価結果を表１及び表２に示す。
【０１１４】
【表１】
2008270405.tif 000003
【０１１５】
【表２】
2008270405.tif 000004
【０１１６】
表２から明らかなように、本発明の導電性金属メッシュ形状を満たす試料は、モアレの発生が無く、高い光透過性と高い導電性（電磁波シールド能）の性能を同時に満たしていることが分かる。
【０１１７】
実施例２
〔透明電磁波遮断フィルムＳ２０１〜Ｓ２０６の作製〕
実施例１の透明電磁波遮断フィルムＳ１０５の作製において、めっき（ＰＬ−１）の時間を表２に示す時間変更した以外は同様にして透明電磁波遮断フィルムＳ２０１〜Ｓ２０６を作製した。
【０１１８】
上記のようにして得られた導電性金属メッシュ部を有する透明電磁波遮断フィルムＳ２０１〜Ｓ２０６の各々に対して、実施例１と同様にメッシュ断面形状の測定、表面比抵抗、透過率、モアレの評価を行った。透明電磁波遮断フィルムの内容と評価結果を表３示す。
【０１１９】
【表３】
2008270405.tif 000005
【０１２０】
表３から明らかなように、導電性金属メッシュ断面の底辺の長さａと導電性金属メッシュ断面の底辺と頂点を結ぶ距離ｂが０．３≦ｂ／ａ≦０．５の関係式を満たし、また、導電性金属メッシュ断面の底辺の長さがａが８μｍ以上１８μｍ以下であり、また、導電性金属メッシュ断面の底辺と頂点を結ぶ距離ｂが２μｍ以上１０μｍ以下である試料Ｓ１０５、及びＳ２０２〜Ｓ２０５は、本発明の効果を発揮する上でより好ましい形態であることが分かる。
【図面の簡単な説明】
【０１２１】
【図１】導電性金属メッシュ断面を示す概念図
【符号の説明】
【０１２２】
１  透明電磁波遮断フィルム
２  塗りつぶし部：化学現像処理、物理現像処理で生成される現像銀領域
３  斜線部：めっき処理で担持される金属領域
４  感光性ハロゲン化銀粒子含有層
５  支持体
ａ  底辺の長さ
ｂ  頂点と底辺を結ぶ距離
Ｓ  導電性金属メッシュの断面積
【図１】
2008270405.tif 000006