(57)【要約】【課題】液晶パネルのセルギャップ形成方法の提供。【解決手段】液晶パネルの底面基板を定位に固定し、少なくとも一つの隔離層の上下に少なくとも一つのＵＶ接着剤層を設け、該隔離層内部に若干の空洞（画素表示領域）を設け、該隔離層を底面基板に対向させ並びに下端のＵＶ接着剤層により底面基板に接着し、更に滴下式注入（Ｏｎｅ  Ｄｒｏｐ  Ｆｉｌｌ）方法或いは真空液晶注入方式により、液晶を隔離層の各空洞に注入し、さらに該隔離層を上端のＵＶ接着剤層により液晶パネルの上面基板に接合し、並びに紫外光を照射加熱して、この上下のＵＶ接着剤層を硬化させて、液晶パネルの底面基板と上面基板をそれぞれ隔離層の底面と上面に結合させ、隔離層により液晶パネルのセルギャップを形成する効果を達成する。【選択図】図４
2008158524.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶パネルのセルギャップ形成方法において、
（Ａ）底面基板及び上面基板を位置決めし、すなわち、底面基板と上面基板を固定位置に輸送し、上面基板を底面基板の上方に位置させるステップ、
（Ｂ）隔離層を定位に移動させ、すなわち、少なくとも一つの隔離層を（Ａ）のステップの底面基板と上面基板の間の位置に移動させ、隔離層内に若干の隔離柱と空洞を設けるステップ、
（Ｃ）隔離層を底面基板に接合し、すなわち（Ｂ）のステップの隔離層の下方を底面基板の上端に接合するステップ、
（Ｄ）液晶を隔離層の空洞中に注入し、すなわち（Ｃ）のステップで底面基板に接合した隔離層の空洞に、液晶注入するステップ、
（Ｅ）隔離層と上面基板を接合し、すなわち（Ｄ）のステップで液晶注入完成した隔離層上端を（Ａ）のステップの上面基板下方に接合し、該底面基板、隔離層と上面基板を結合して一体となすステップ、
（Ｆ）紫外光照射設備により照射加熱し、すなわち、（Ｅ）のステップで完成した底面基板、隔離層及び上面基板の一体の構造に対して、紫外光を照射加熱し、隔離層と該底面基板と上面基板を強固に結合するステップ、
（Ｇ）裁断成型し、すなわち（Ｆ）のステップで紫外光照射完成した底面基板、隔離層及び上面基板を裁断し、厚いセルギャップの液晶パネル製品を形成するステップ、
以上のステップを包含することを特徴とする、液晶パネルのセルギャップ形成方法。
【請求項２】
請求項１記載の液晶パネルのセルギャップ形成方法において、（Ａ）のステップ中の底面基板は、
底部に位置する底層と、
該底層上に結合されたＩＴＯ導電層と、
該ＩＴＯ導電層上に結合された配向層と、
を包含することを特徴とする、液晶パネルのセルギャップ形成方法。
【請求項３】
請求項２記載の液晶パネルのセルギャップ形成方法において、該底層がガラスとされたことを特徴とする、液晶パネルのセルギャップ形成方法。
【請求項４】
請求項２記載の液晶パネルのセルギャップ形成方法において、該底層がフレキシブル基板とされたことを特徴とする、液晶パネルのセルギャップ形成方法。
【請求項５】
請求項１記載の液晶パネルのセルギャップ形成方法において、（Ｂ）のステップ中の隔離層は、
該隔離層内に分布し且つ交錯方式で配置された複数の隔離柱と空洞、
該隔離柱と空洞の下方に結合された下ＵＶ接着剤層、
該下ＵＶ接着剤層に結合されて該下ＵＶ接着剤層を保護する下保護膜、
該隔離柱と空洞の上方に結合された上ＵＶ接着剤層、
該上ＵＶ接着剤層に結合されて該上ＵＶ接着剤層の上面を保護する上保護膜、
を包含することを特徴とする、液晶パネルのセルギャップ形成方法。
【請求項６】
請求項５記載の液晶パネルのセルギャップ形成方法において、該隔離柱がポリテトラフロロエチレンで形成されたことを特徴とする、液晶パネルのセルギャップ形成方法。
【請求項７】
請求項１記載の液晶パネルのセルギャップ形成方法において、（Ａ）のステップの隔離層が帯状とされたことを特徴とする、液晶パネルのセルギャップ形成方法。
【請求項８】
請求項１記載の液晶パネルのセルギャップ形成方法において、（Ａ）のステップの上面基板が、
該上面基板の底面に位置する配向層と、
この配向層上に結合されたＩＴＯ導電層と、
このＩＴＯ導電層上に結合されたガラス基板と、
を包含することを特徴とする、液晶パネルのセルギャップ形成方法。
【請求項９】
請求項１記載の液晶パネルのセルギャップ形成方法において、（Ｄ）のステップの隔離層の空洞への液晶の注入方式は滴下式液晶注入方法であることを特徴とする、液晶パネルのセルギャップ形成方法。
【請求項１０】
請求項１記載の液晶パネルのセルギャップ形成方法において、（Ｂ）のステップの隔離層の数量が二個であることを特徴とする、液晶パネルのセルギャップ形成方法。
【請求項１１】
請求項１０記載の液晶パネルのセルギャップ形成方法において、二つの隔離層の間に両面配向薄膜が結合されたことを特徴とする、液晶パネルのセルギャップ形成方法。
【請求項１２】
請求項１１記載の液晶パネルのセルギャップ形成方法において、該両面配向薄膜が、
透明基板と、
該透明基板の上面にコーティングされ、隔離層に結合される第１配向膜と、
該透明基板の底面にコーティングされ、もう一つの隔離層に結合される第２配向膜と、  を包含したことを特徴とする、液晶パネルのセルギャップ形成方法。
【請求項１３】
請求項１２記載の液晶パネルのセルギャップ形成方法において、該透明基板が異方性ポリマーフィルムとされたことを特徴とする、液晶パネルのセルギャップ形成方法。
【請求項１４】
請求項１２記載の液晶パネルのセルギャップ形成方法において、該第１配向膜の配向角度と第２配向膜の配向角度が９０度異なることを特徴とする、液晶パネルのセルギャップ形成方法。
【請求項１５】
液晶パネルのセルギャップ形成方法において、
（ａ）底面基板及び上面基板を位置決めし、すなわち、底面基板と上面基板を固定位置に輸送し、上面基板を底面基板の上方に位置させるステップ、
（ｂ）隔離層を定位に移動させ、すなわち、帯状の隔離層を（ａ）のステップの底面基板と上面基板の間の位置に移動させ、底面基板と上面基板の間の位置に位置づけ、該隔離層内に若干の隔離柱と空洞を設け、該空洞の一側に注入孔を形成するステップ、
（ｃ）隔離層を底面基板に接合し、すなわち（ｂ）のステップの隔離層の下方を底面基板の上端に接合するステップ、
（ｄ）隔離層と上面基板を接合し、すなわち（ｃ）のステップの隔離層上端を（ａ）のステップの上面基板下方に接合し、該底面基板、隔離層と上面基板を結合して一体となすステップ、
（ｅ）紫外光照射設備により照射加熱し、すなわち、（ｄ）のステップで完成した底面基板、隔離層及び上面基板の一体の構造に対して、紫外光を照射加熱し、隔離層下端の下ＵＶ接着剤層と上端の上ＵＶ接着剤層を加熱硬化させ、該隔離層と該底面基板と上面基板を強固に結合するステップ、
（ｆ）裁断成型し、すなわち（ｅ）のステップで紫外光照射完成した底面基板、隔離層及び上面基板を裁断し、液晶パネルユニットを形成するステップ、
（ｇ）液晶を隔離層の空洞に真空注入し、すなわち（ｆ）のステップで完成した液晶パネルユニットの隔離層の注入孔より空洞に液晶を充填するステップ、
（ｈ）注入孔を密封し、すなわち（ｇ）のステップで液晶の隔離層の空洞への注入を完成した後に、該隔離層の注入孔を密封し、液晶パネル製品を形成するステップ、
を包含することを特徴とする、液晶パネルのセルギャップ形成方法。
【請求項１６】
請求項１５記載の液晶パネルのセルギャップ形成方法において、（ｄ）のステップ中の隔離層が、
該隔離層内に分布する若干の隔離柱と空洞、
該隔離柱と空洞の下方に結合された下ＵＶ接着剤層、
該下ＵＶ接着剤層に結合されて下ＵＶ接着剤層を保護する下保護膜、
該隔離柱と空洞の上方に結合された上ＵＶ接着剤層、
該上ＵＶ接着剤層に結合されて上ＵＶ接着剤層を保護すると共に空洞上端を封鎖する上保護膜、
以上を包含したことを特徴とする、液晶パネルのセルギャップ形成方法。
【請求項１７】
請求項１６記載の液晶パネルのセルギャップ形成方法において、該隔離柱が不規則形状とされたことを特徴とする、液晶パネルのセルギャップ形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は一種の液晶パネルのセルギャップ形成方法に係り、特に液晶パネルの製造に応用され、上下が接着可能な隔離層と液晶パネルの上面基板と底面基板を接着して液晶パネルのセルギャップを形成する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶は広く使用されているディスプレイ製品の材料であり、液晶は電圧を両面電極に印加することにより光を通過−非通過の作用を形成する。通常、周知の液晶層は二つの電極の間の厚さが非常に薄く、例えば、ＴＦＴ型液晶ディスプレイでは、厚さが６から８μｍであり、ＴＮ或いはＳＴＮ型液晶パネルの液晶層とギャップは１０μｍ以下である。ＬＣＯＳマイクロディスプレイの液晶層の平均厚さは３から５μｍ程度である。
【０００３】
周知の比較的厚さの薄い液晶パネルの特性は以下のようである。
１．液晶分子の極めて急速な上昇と下降の反応時間、厚さが比較的薄いセルギャップ及び低電圧駆動の液晶材料、低電圧駆動による更に低い電力消費の達成、及び容易に設計できる電子制御回路
２．比較的高い透過率、厚さが低いセルギャップは比較的高い透過率を形成できる
３．組立が容易である。比較的薄いセルギャップは通常スペーサ粒子を使用することで均一に維持される。セルギャップは広く液晶ディスプレイ産業に採用されている。比較的小さいギャップ粒子は製造工程中で獲得及び掌握しやすい。
【０００４】
ただし、応用領域によっては、厚さが比較的厚い液晶層が必要であるが、駆動の問題に突き当たる。
【０００５】
周知の液晶パネルの生産過程で、ガラス基板の内面に接着剤を滴下し並びに液晶収容部を形成し、更に上端ガラス基板で上端を封じて内部液晶収容構造を形成し、並びにエッジ部分の開口より、減圧器で真空にした後に液晶をこの内部液晶収容構造に注入するか、別に周知の滴下方式で液晶を液晶収容構造中に注入し、並びにスペーサ粒子を混合してセルギャップを形成及び維持する。
【０００６】
もしセルギャップが３０μｍ、５０μｍ、１００μｍにまで増加するか、或いは更に高い時、スペーサ粒子を取得しにくく、且つコストが大幅に増加する。すなわち比較的大きな粒径のスペーサ粒子は無理して解決できても、内部液晶収容構造が厚さが比較的薄い接着内壁を維持並びに形成できず、且つ幅が大幅に増加して小型化要求に符合しなくなり、このような製造工程の状況ではこのような構造を受け入れられない。
【０００７】
先行技術文献としては、例えば特許文献１があり、周知の典型的な液晶パネルの製造方法が開示され、それはスペーサの分布を均一とすることができるだけで、厚いギャップの形成効果を達成できない。
【０００８】
【特許文献１】台湾特許公開公報第２００６１０５８５号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の主要な目的は、一種の液晶パネルのセルギャップ形成方法、特に、隔離層に空洞を形成し、液晶をＯＤＦ方法で注入し、並びに隔離層によりセルギャップを形成する方法を提供することにある。
【００１０】
本発明の更なる目的は、一種の液晶パネルのセルギャップ形成方法、特に、生産の周期を増し、スペーサ粒コストを節約し、並びにセル生産の品質を向上する方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は一種の液晶パネルのセルギャップ形成方法を提供し、それは、
（Ａ）底面基板及び上面基板を位置決めし、すなわち、底面基板と上面基板を固定位置に輸送し、上面基板を底面基板の上方に位置させるステップ、
（Ｂ）隔離層を定位に移動させ、すなわち、少なくとも一つの隔離層を（Ａ）のステップの底面基板と上面基板の間の位置に移動させ、隔離層内に若干の隔離柱と空洞を設けるステップ、
（Ｃ）隔離層を底面基板に接合し、すなわち（Ｂ）のステップの隔離層の下方を底面基板の上端に接合するステップ、
（Ｄ）液晶を隔離層の空洞中に注入し、すなわち（Ｃ）のステップで底面基板に接合した隔離層の空洞に、液晶注入するステップ、
（Ｅ）隔離層と上面基板を接合し、すなわち（Ｄ）のステップで液晶注入完成した隔離層上端を（Ａ）のステップの上面基板下方に接合し、該底面基板、隔離層と上面基板を結合して一体となすステップ、
（Ｆ）紫外光照射設備により照射加熱し、すなわち、（Ｅ）のステップで完成した底面基板、隔離層及び上面基板の一体の構造に対して、紫外光を照射加熱し、隔離層と該底面基板と上面基板を強固に結合するステップ、
（Ｇ）裁断成型し、すなわち（Ｆ）のステップで紫外光照射完成した底面基板、隔離層及び上面基板を裁断し、厚いセルギャップの液晶パネル製品を形成するステップ、
以上のステップを包含する。
【００１２】
本発明はまた、もう一種の液晶パネルのセルギャップ形成方法を提供し、それは、
（ａ）底面基板及び上面基板を位置決めし、すなわち、底面基板と上面基板を固定位置に輸送し、上面基板を底面基板の上方に位置させるステップ、
（ｂ）隔離層を定位に移動させ、すなわち、帯状の隔離層を（ａ）のステップの底面基板と上面基板の間の位置に移動させ、底面基板と上面基板の間の位置に位置づけ、該隔離層内に若干の隔離柱と空洞を設け、該空洞の一側に注入孔を形成するステップ、
（ｃ）隔離層を底面基板に接合し、すなわち（ｂ）のステップの隔離層の下方を底面基板の上端に接合するステップ、
（ｄ）隔離層と上面基板を接合し、すなわち（ｃ）のステップの隔離層上端を（ａ）のステップの上面基板下方に接合し、該底面基板、隔離層と上面基板を結合して一体となすステップ、
（ｅ）紫外光照射設備により照射加熱し、すなわち、（ｄ）のステップで完成した底面基板、隔離層及び上面基板の一体の構造に対して、紫外光を照射加熱し、隔離層下端の下ＵＶ接着剤層と上端の上ＵＶ接着剤層を加熱硬化させ、該隔離層と該底面基板と上面基板を強固に結合するステップ、
（ｆ）裁断成型し、すなわち（ｅ）のステップで紫外光照射完成した底面基板、隔離層及び上面基板を裁断し、液晶パネルユニットを形成するステップ、
（ｇ）液晶を隔離層の空洞に真空注入し、すなわち（ｆ）のステップで完成した液晶パネルユニットの隔離層の注入孔より空洞に液晶を充填するステップ、
（ｈ）注入孔を密封し、すなわち（ｇ）のステップで液晶の隔離層の空洞への注入を完成した後に、該隔離層の注入孔を密封し、液晶パネル製品を形成するステップ、
を包含する。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の液晶パネルのセルギャップ形成方法は、液晶パネルの底面基板を定位に固定し、少なくとも一つの隔離層の上下に少なくとも一つのＵＶ接着剤層を設け、該隔離層内部に若干の空洞（画素表示領域）を設け、該隔離層を底面基板に対向させ並びに下端のＵＶ接着剤層により底面基板に接着し、更に滴下式注入（Ｏｎｅ  Ｄｒｏｐ  Ｆｉｌｌ）方法或いは真空液晶注入方式により、液晶を隔離層の各空洞に注入し、さらに該隔離層を上端のＵＶ接着剤層により液晶パネルの上面基板に接合し、並びに紫外光を照射加熱して、この上下のＵＶ接着剤層を硬化させて、液晶パネルの底面基板と上面基板をそれぞれ隔離層の底面と上面に結合させ、隔離層により液晶パネルのセルギャップを形成する効果を達成する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
図１を参照されたい。本発明の液晶パネルのセルギャップ形成方法は、液晶パネルの底面基板１０を包含し、該底面基板１０は、底層１１、ＩＴＯ導電層１２及び少なくとも一つの配向層１３を包含する。該底層１１は底部に位置し、ガラス或いはその他の透明物質とされ得るほか、フレクシブル基板、例えばポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンスチレン等の材料とされ得る。
【００１５】
ＩＴＯ導電層１２は底層１１上に結合され、該配向層１３はＩＴＯ導電層１２上に結合される。
【００１６】
図２に示されるように、少なくとも一つの隔離層２０は、若干の隔離柱２１、若干の空洞２２、少なくとも一つの下ＵＶ接着剤層２３、下保護膜２４、少なくとも一つの上ＵＶ接着剤層２５、及び上保護膜２６を包含する。該隔離柱２１と空洞２２は隔離層２０内に分布し、且つ該隔離柱２１と空洞２２は交錯するように配置され、該隔離柱２１の材料に制限はないが、本実施例ではポリテトラフロロエチレン或いは液晶と反応しない材料を例とし、且つ該隔離柱２１の高さＨには制限はなく、すなわち、該隔離層２０全体の厚さもまた範囲の制限なく増厚可能であり、該下ＵＶ接着剤層２３は該隔離柱２１と空洞２２の下方に結合され、該下ＵＶ接着剤層２３の表面は該下保護膜２４が接合されて保護され、一旦該下保護膜２４が剥離されれば、該下ＵＶ接着剤層２３が接着性を具備し、該上ＵＶ接着剤層２５は該隔離柱２１と空洞２２の上方に結合され、且つ該上ＵＶ接着剤層２５の表面が該上保護膜２６により保護され、該上保護膜２６は該空洞２２の上面を封鎖するのに用いられ、該上保護膜２６を剥離することにより上ＵＶ接着剤層２５が接着性を有すると共に、空洞２２を露出させる。
【００１７】
上述の下ＵＶ接着剤層２３と上ＵＶ接着剤層２５は下保護膜２４と上保護膜２６を具備するものに限定されるわけではなく、下ＵＶ接着剤層２３が直接隔離柱２１と空洞２２の下方にコーティングされて、上ＵＶ接着剤層２５が直接隔離柱２１と空洞２２の上方にコーティングされる方式も、本発明の範疇に属する。
【００１８】
該隔離層２０の形態に制限はなく、本発明では若干の隔離層２０が隣り合って接続され帯状とされているが（図５）、これが単一素子形態というわけではない。
【００１９】
さらに図３に示されるように、液晶パネルの上面基板３０は、配向層３１、ＩＴＯ導電層３２及びガラス基板３３を包含し、該配向層３１は上面基板３０の底面に位置し、該ＩＴＯ導電層３２は該配向層３１に結合され、該ガラス基板３３は該ＩＴＯ導電層３２に結合される。
【００２０】
図４、５、６、７及び図８に示されるように、本発明の液晶パネルのセルギャップ形成方法は以下の（４０）から（４９）のステップを包含する。
（４０）底面基板及び上面基板を位置決めする。すなわち、図１に示される底面基板１０と上面基板３０を図５に示される固定位置に輸送し、すなわち上面基板３０を底面基板１０の上方に位置させる。
（４１）隔離層を定位に移動させる。すなわち、図２に示される帯状の隔離層２０を（４０）のステップの底面基板１０と上面基板３０の間の位置に移動させ、図５に示されるように底面基板１０の上面基板３０の上方及び上面基板３０の下方の位置に位置させる。
（４２）隔離層を底面基板に接合する。すなわち（４１）のステップの隔離層２０の下保護膜２４を除去し、下ＵＶ接着剤層２３を底面基板１０の上端の配向層１３に接合し、これは図６に示されるとおりである。
（４３）液晶を隔離層の空洞中に注入する。すなわち（４２）のステップで底面基板１０に接合した隔離層２０の上保護膜２６を除去して露出した空洞２２に、滴下式液晶注入方法により液晶を充填する。これは図７のとおりである。
（４４）隔離層と上面基板を接合する。すなわち（４３）のステップで液晶の注入完成した隔離層２０上端の上ＵＶ接着剤層２５を上面基板３０下方の配向層３１に接合し、該底面基板１０、隔離層２０と上面基板３０を結合して図８のような一体の構造となす。
（４５）紫外光照射設備により照射加熱する。すなわち、（４４）のステップで完成した底面基板１０、隔離層２０及び上面基板３０の組合せ構造に対して、紫外光を照射加熱し、隔離層２０下端の下ＵＶ接着剤層２３と上端の上ＵＶ接着剤層２５を加熱し硬化させ、図８のように、隔離層２０と該底面基板１０と上面基板３０を強固に結合する。
（４６）裁断成型。すなわち（４５）のステップで紫外光照射完成して一体に組み合わせた底面基板１０、隔離層２０及び上面基板３０を裁断し、図９に示す本発明の厚いセルギャップの液晶パネル１００製品を形成する。
【００２１】
図１０は本発明の液晶パネルのセルギャップ形成方法の第２実施例を示し、該上面基板３０と底面基板１０の間にあって、底面基板１０に二つの隔離層２０、２０’が結合され、該隔離層２０と上面基板３０の間の結合方式及びもう一つの隔離層２０’と上面基板３０の間の結合方式は、図８及び図９の隔離層２０と底面基板１０及び上面基板３０の結合方式と同じである。
【００２２】
さらに図１１に示されるように、上述の二つの隔離層２０及び２０’の間に両面配向薄膜６０が結合され、該両面配向薄膜６０は透明基板６１、第１配向膜６２及び第２配向膜６３を包含し、該透明基板６１は異方性ポリマーフィルムで構成され、該第１配向膜６２は該透明基板６１の上面にコーティングされ、該第２配向膜６３は透明基板６１の底面にコーティングされ、該第１配向膜６２は該隔離層２０の上ＵＶ接着剤層２５に接合され、該第２配向膜６３はもう一つの隔離層２０’の下ＵＶ接着剤層２３に接合され、該第１配向膜６２と該第２配向膜６３の配向角度に制限はなく、本発明では該第１配向膜６２の配向角度は４５度とされ、第２配向膜６３の配向角度は１４５度とされ、このような直交配向角度設計により、二つの隔離層２０、２０’の間の液晶光学偏光依存性が最も適当な組合せとされ、並びに液晶パネル１００の液晶セルギャップ厚さが増されるが、必要な駆動電圧と対応する反応時間は増加しない。
【００２３】
図１０及び図１１は本発明の液晶パネル１００の液晶セルギャップ形成方法の第２実施例を示す。その形成ステップは図４の（４０）〜（４６）のステップにより達成され、また、フレクシブルな底面基板１０の底層１１が加えられ、液晶パネル１００の外形が改変され、異なる応用場面に符合するものとされ、例えば、球面レンズの液晶レンズヘッド、或いは液晶パネル１００の液晶セルギャップの光学特性、例えば光学焦点距離特性を増すのに符合するものとされる。
【００２４】
図１２及び図１３は本発明の液晶パネルのセルギャップ形成方法の第３実施例を示し、そのうち、隔離層７０が底面基板１０と上面基板３０の間に位置し、該隔離層７０は若干の隔離柱７１、若干の空洞７２、少なくとも一つの下ＵＶ接着剤層７３、下保護膜７４、少なくとも一つの上ＵＶ接着剤層７５、及び上保護膜７６を包含する。該隔離柱７１の形状に制限はないが、図１２及び図１３中では不規則な形状とされ、且つ上述の隔離層２０及びもう一つの隔離層２０’のように円柱形状ではなく、空洞７２は隔離層７０内に分布し、各空洞７２の一側に少なくとも一つの注入孔７２１が形成され、該下ＵＶ接着剤層２３は該隔離柱７１と空洞７２の下方に結合され、該下ＵＶ接着剤層７３の表面は該下保護膜７４が接合されて保護され、一旦該下保護膜７４が剥離されれば、該下ＵＶ接着剤層７３が接着性を具備し、該上ＵＶ接着剤層７５は該隔離柱７１と空洞７２の上方に結合され、且つ該上ＵＶ接着剤層７５の表面が該上保護膜７６により保護され、該上保護膜７６は該空洞７２の上面を封鎖するのに用いられ、該上保護膜７６を剥離することにより上ＵＶ接着剤層７５が接着性を有する。
【００２５】
さらに図１４、１５、及び図１６を参照されたい。図１４は上述の図１２と図１３の本発明の液晶パネルのセルギャップ形成方法の第３実施例のフローチャートであり、（８０）から（８６）のステップを包含する。
（８０）底面基板及び上面基板を位置決めする。すなわち、図１３に示される底面基板１０と上面基板３０を図１３に示される固定位置に輸送し、すなわち上面基板３０を底面基板１０の上方に位置させる。
（８１）隔離層を定位に移動させる。すなわち、図１３に示される帯状の隔離層７０を（８０）のステップの底面基板１０と上面基板３０の間の位置に移動させ、図１３に示されるように底面基板１０の上面基板３０の上方及び上面基板３０の下方の位置に位置させる。
（８２）隔離層を底面基板に接合する。すなわち（８１）のステップの隔離層７０の下保護膜７８を除去し、下ＵＶ接着剤層７３を底面基板１０の上端の配向層１３に接合し、その方法は上述の（４２）のステップと同様である。
（８３）液晶を隔離層の空洞中に注入する。すなわち（８２）のステップで底面基板１０に接合した隔離層７０の上端の上ＵＶ接着剤層７５を上面基板３０の下方の配向層３１に接合し、底面基板１０、隔離層７０及び上面基板３０を図１２のように一体に結合する。
（８４）紫外光照射設備により照射加熱する。すなわち、（８３）のステップで完成した底面基板１０、隔離層７０及び上面基板３０の組合せ構造に対して、紫外光を照射加熱し、隔離層７０下端の下ＵＶ接着剤層７３と上端の上ＵＶ接着剤層７５を加熱し硬化させ、隔離層７０と該底面基板１０と上面基板３０を強固に結合する。
（８５）裁断成型。すなわち（８４）のステップで紫外光照射完成して一体に組み合わせた底面基板１０、隔離層７０及び上面基板３０を裁断し、図１５に示す本発明の厚いセルギャップの液晶パネル１００’製品を形成する。
（８６）液晶を隔離層の空洞に真空注入する。すなわち、周知の真空注入方式により、液晶を（８５）のステップで形成した液晶パネル１００’のユニットの隔離層７０の注入孔７２１に注入し、全体の空洞７２に充填する。
（８７）注入孔を密封する。すなわち、（８６）のステップで隔離層７０の空洞７２に液晶を注入した後、該隔離層７０の注入孔７２１を密封し、図１６のような液晶パネル１００’製品を形成する。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明の第１実施例の底面基板の断面拡大図である。
【図２】本発明の第１実施例の隔離層の断面拡大図である。
【図３】本発明の第１実施例の上面基板の断面拡大図である。
【図４】本発明の第１実施例のフローチャートである。
【図５】本発明の第１実施例の底面基板、隔離層、上面基板の位置決めの立体図である。
【図６】本発明の第１実施例の隔離層を底面基板に接合した状態を示す断面拡大図である。
【図７】本発明の第１実施例の液晶を隔離層の空洞に注入する状態を示す断面拡大図である。
【図８】本発明の第１実施例の底面基板、隔離層、上面基板に紫外光を照射加熱する状態を示す断面拡大図である。
【図９】本発明の第１実施例で形成した液晶パネルの断面拡大図である。
【図１０】本発明の方法で形成した液晶パネルの第２実施例図である。
【図１１】図１０中の両面配向薄膜の立体構造分解図である。
【図１２】本発明の第３実施例の底面基板、隔離層及び上面基板の構造表示図である。
【図１３】本発明の第３実施例の底面基板、隔離層及び上面基板の位置決めを示す立体図である。
【図１４】本発明の方法の第３実施例のフローチャートである。
【図１５】本発明の方法の第３実施例の液晶パネルユニットの構造表示図である。
【図１６】本発明の方法の液晶パネル構造表示図である。
【符号の説明】
【００２７】
１０  底面基板                  １１  底層
１２  ＩＴＯ導電層              １３  配向層
２０  隔離層                    ２１  隔離柱
２２  空洞                      ２３  下ＵＶ接着剤層
２４  下保護膜                  ２５  上ＵＶ接着剤層
２６  上保護膜                  ３０  上面基板
３１  配向層                    ３２  ＩＴＯ導電層
３３  ガラス基板                ４０  底面基板と上面基板の位置決め
４１  隔離層を定位に移動        ４２  隔離層を底面基板に接合
４３  液晶を隔離層の空洞に注入  ４４  隔離層と上面基板を接合
４５  紫外光設備で照射加熱      ４６  裁断成型
５０  紫外光設備                ６０  両面配向薄膜
６１  透明基板                  ６２  第１配向膜
６３  第２配向膜                ７０  隔離層
７１  隔離柱                    ７２  空洞
７２１  注入孔                  ７３  下ＵＶ接着剤層
７４  下保護膜                  ７５  上ＵＶ接着剤層
８０  底面基板と上面基板の位置決め  ８１  隔離層を定位に移動
８２  隔離層を底面基板に接合    ８３  隔離層と上面基板を接合
８４  紫外光設備で照射加熱      ８５  裁断成型
８６  液晶を隔離層の空洞に注入  ８７  注入孔密封
１００’  液晶パネル            Ｈ  高さ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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