(57)【要約】【課題】長い稼働寿命、優れた電子的特性を有し、かき傷が無いまたは少ない画像形成部材を提供する。【解決手段】光導電体は、必要に応じた支持基材と、光発生層と、少なくとも１つの電荷輸送成分と少なくとも１つのシラノールとを含む少なくとも１つの電荷輸送層と、を含む。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
必要に応じた支持基材と、
光発生層と、
少なくとも１つの電荷輸送成分と少なくとも１つのシラノールとを含む少なくとも１つの電荷輸送層と、
を含むことを特徴とする光導電体。
【請求項２】
支持基材と、
光発生層と、
少なくとも１つの電荷輸送成分と少なくとも１つのシラノールとを含む少なくとも１つの電荷輸送層と、
を含む光導電体であって、
前記シラノールは、次の式／構造で示されるものから成る群より選ばれ、
【化１】
2008020912.tif 000011
式中、ＲおよびＲ’はそれぞれ、アルキル、アルコキシ、アリール、およびそれらの置換誘導体から成る群より選ばれ、またそれらの混合物である、
ことを特徴とする光導電体。
【請求項３】
請求項２に記載の光導電体であって、
前記シラノールは、イソブチル−多面体オリゴマーシルセスキオキサンシクロヘキセニルジメチルシリルジシラノール、シクロペンチル−多面体オリゴマーシルセスキオキサンジメチルフェニルジシラノール、シクロヘキシル−多面体オリゴマーシルセスキオキサンジメチルビニルジシラノール、シクロペンチル−多面体オリゴマーシルセスキオキサンジメチルビニルジシラノール、イソブチル−多面体オリゴマーシルセスキオキサンジメチルビニルジシラノール、シクロペンチル−多面体オリゴマーシルセスキオキサンジシラノール、イソブチル−多面体オリゴマーシルセスキオキサンジシラノール、イソブチル−多面体オリゴマーシルセスキオキサンエポキシシクロヘキシルジシラノール、シクロペンチル−多面体オリゴマーシルセスキオキサンフルオロ（３）ジシラノール、シクロペンチル−多面体オリゴマーシルセスキオキサンフルオロ（１３）ジシラノール、イソブチル−多面体オリゴマーシルセスキオキサンフルオロ（１３）ジシラノール、シクロヘキシル−多面体オリゴマーシルセスキオキサンメタクリルジシラノール、シクロペンチル−多面体オリゴマーシルセスキオキサンメタクリルジシラノール、イソブチル−多面体オリゴマーシルセスキオキサンメタクリルジシラノール、シクロヘキシル−多面体オリゴマーシルセスキオキサンモノシラノール、シクロペンチル−多面体オリゴマーシルセスキオキサンモノシラノール、イソブチル−多面体オリゴマーシルセスキオキサンモノシラノール、シクロヘキシル−多面体オリゴマーシルセスキオキサンノルボルネニルエチルジシラノール、シクロペンチル−多面体オリゴマーシルセスキオキサンノルボルネニルエチルジシラノール、イソブチル−多面体オリゴマーシルセスキオキサンノルボルネニルエチルジシラノール、シクロヘキシル−多面体オリゴマーシルセスキオキサンＴＭＳジシラノール、イソブチル−多面体オリゴマーシルセスキオキサンＴＭＳジシラノール、シクロヘキシル−多面体オリゴマーシルセスキオキサントリシラノール、シクロペンチル−多面体オリゴマーシルセスキオキサントリシラノール、イソブチル−多面体オリゴマーシルセスキオキサントリシラノール、イソオクチル−多面体オリゴマーシルセスキオキサントリシラノール、およびフェニル−多面体オリゴマーシルセスキオキサントリシラノールから成る群より選ばれ、
前記電荷輸送成分はアリールアミン分子を含み、
前記アリールアミン類は、次の式で示されるものの少なくとも１つより選ばれ、
【化２】
2008020912.tif 000012
式中、Ｘは、アルキル、アルコキシ、アリール、およびハロゲンから成る群より選ばれ、
【化３】
2008020912.tif 000013
式中、ＸおよびＹはそれぞれ、アルキル、アルコキシ、アリール、およびハロゲンから成る群より選ばれる、
ことを特徴とする光導電体。
【請求項４】
請求項２に記載の光導電体であって、
前記光発生層はＶ型ヒドロキシガリウムフタロシアニンを含むことを特徴とする光導電体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本明細書は一般に、積層型の画像形成部材、感光体、光導電体、等に関する。
【背景技術】
【０００２】
その内容を全て本件に引用して援用する特許文献１には、支持基材と、その上の正孔障壁層と、架橋した光発生層と、電荷輸送層とを含み、光発生層が、光発生成分と、塩化ビニルとアリルグリシジルエーテルとヒドロキシとを含むポリマーとを含む光導電性画像形成部材が示されている。
【０００３】
その内容を全て本件に引用して援用する特許文献２には、正孔障壁層と、光発生層と、電荷輸送層とを含み、正孔障壁層が、金属酸化物と、フェノール化合物とフェノール樹脂との混合物とを含み、フェノール化合物が少なくとも２つのフェノール基を含む光導電性画像形成部材が示されている。
【０００４】
積層型感光性画像形成部材は、その内容を全て本件に引用して援用する特許文献３など、多くの米国特許に述べられている。特許文献３には、光発生層とアリールアミン正孔輸送層とを含む画像形成部材が示されている。光発生層成分の例としては、三方晶系セレン、金属フタロシアニン類、バナジルフタロシアニン類、および無金属フタロシアニン類が挙げられる。更に、その内容を全て本件に引用して援用する特許文献４には、電気絶縁性の有機樹脂バインダ中に分散させた、光導電性無機化合物とアミン正孔輸送体との微粒子を含む複合電子写真用光導電性部材が述べられている。
【０００５】
その内容を全て本件に引用して援用する特許文献５には、特有のペリレン−３，４，９，１０−テトラカルボン酸誘導体染料を含む光導電性物質が開示されている。この特許によれば、望ましくは光導電性層を、染料を真空中で蒸着させて形成する。また、この特許では、４００〜６００ｎｍの波長域にスペクトル感度を持つ、ペリレン−３，４，９，１０−テトラカルボン酸ジイミド誘導体を含む二層型感光体を開示している。更に、その内容を全て本件に引用して援用する特許文献６には、クロロインジウムフタロシアニン光発生層を備えた積層型画像形成部材が示されている。その内容を全て本件に引用して援用する特許文献７には、例えば、ペリレンである顔料光発生成分を含む積層型画像形成部材が示されている。前述の特許はいずれも、正孔輸送層として、ポリカーボネートバインダ中に分散させた、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミンなどのアリールアミン成分を開示している。光発生化合物およびアリールアミン電荷輸送体などの上記の成分は、本明細書の画像形成部材についてもその実施の形態で使用することができる。
【０００６】
その内容を全て本件に引用して援用する特許文献８には、特定のポリウレタン類から成る障壁層を備えた光導電性画像形成部材が示されている。
【０００７】
その内容を全て本件に引用して援用する、特許文献９、特許文献１０、および特許文献１１には、例えば、バインダ中に分散させた多数の光散乱粒子から成る正孔障壁層を含む感光体が述べられている。例えば、その内容を全て本件に引用して援用する特許文献１１の実施例１を参照とするならば、これには、ＶＡＲＣＵＭ（登録商標）（オキシケム・カンパニー（OxyChem Company）製）である特定の線状フェノール系バインダ中に分散させた二酸化チタンから成る正孔障壁層が示されている。
【０００８】
その内容を全て本件に引用して援用する特許文献１２には、アルコキシで架橋したガリウムフタロシアニン二量体を現場生成する工程と、二量体を加水分解してヒドロキシガリウムフタロシアニンとする工程と、続いて、ヒドロキシガリウムフタロシアニン生成物をＶ型ヒドロキシガリウムフタロシアニンに変換する工程とを含む、Ｖ型ヒドロキシガリウムフタロシアニンの調製法が示されている。
【０００９】
その内容を全て本件に引用して援用する特許文献１３には、ヒドロキシガリウムフタロシアニンを強酸に溶解してガリウムフタロシアニン前駆物質顔料を加水分解する工程と、次に、得られた溶解顔料を塩基性水系媒体中で再沈殿させる工程と、生成したイオン種を水で洗浄して除く工程と、得られた水とヒドロキシガリウムフタロシアニンとを含む水性スラリーを濃縮してウェットケークとする工程と、有機溶媒との共沸蒸留により前記スラリーから水を除く工程と、前記で得られた顔料スラリーに第２溶媒を追加混合して前記ヒドロキシガリウムフタロシアニン多形を生じさせる工程とを含む、ヒドロキシガリウムフタロシアニン光発生顔料の調製法が示されている。
【００１０】
更に、その内容を全て本件に引用して援用する特許文献１４には、本質的に塩素を含まないＶ型ヒドロキシガリウムフタロシアニンである光発生顔料の調製法が示されている。この方法は、塩化ガリウムを、約１０〜約１００部、望ましくは約１９部の量の溶媒（Ｎ−メチルピロリドンなど）中で、反応させる塩化ガリウム１部当たり約１〜約１０部、望ましくは約４部の量の１，３−ジイミノイソインドレン（ＤＩ３）と反応させて、顔料前駆物質であるＩ型クロロガリウムフタロシアニンを調製する工程と、前記顔料前駆物質のＩ型クロロガリウムフタロシアニンを標準的な方法、例えば、顔料前駆物質を濃硫酸に溶解後、溶媒（水など）または、希アンモニア溶液（例えば約１０〜約１５％）中で再沈殿させる、酸処理によって加水分解する工程と、次に、生成した加水分解顔料であるＩ型ヒドロキシガリウムフタロシアニンを、使用する顔料のヒドロキシガリウムフタロシアニン１重量部当たり約１〜約５０容量部、望ましくは約１５容量部の溶媒（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなど）と共に、直径約１〜５ｍｍの球状ガラスビーズの存在下、室温（約２５℃）で約１２時間〜約１週間、望ましくは約２４時間ボールミルにかけて処理する工程とを含む。
【００１１】
上に掲げた特許の適当な成分および方法を本明細書の実施の形態で用いても良い。
【００１２】
【特許文献１】米国特許第７，０３７，６３１号明細書
【特許文献２】米国特許第６，９１３，８６３号明細書
【特許文献３】米国特許第４，２６５，９９０号明細書
【特許文献４】米国特許第３，１２１，００６号明細書
【特許文献５】米国特許第３，８７１，８８２号明細書
【特許文献６】米国特許第４，５５５，４６３号明細書
【特許文献７】米国特許第４，５８７，１８９号明細書
【特許文献８】米国特許第４，９２１，７６９号明細書
【特許文献９】米国特許第６，２５５，０２７号明細書
【特許文献１０】米国特許第６，１７７，２１９号明細書
【特許文献１１】米国特許第６，１５６，４６８号明細書
【特許文献１２】米国特許第５，５２１，３０６号明細書
【特許文献１３】米国特許第５，４８２，８１１号明細書
【特許文献１４】米国特許第５，４７３，０６４号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
例えば約３００万画像形成サイクル以上の長い稼働寿命、優れた電子的特性、安定した電気的性質、少ない画像ゴースト、低いバックグラウンド、および／または最少の電荷欠損点（ＣＤＳ）、ある種の溶媒蒸気に曝露した場合の電荷輸送層の耐クラッキング性、優れた表面特性、向上した耐摩耗性、多くのトナー組成物との適合性、画像形成部材のかき傷が無い、または少ない、公知のＰＩＤＣ（光誘導放電曲線）を描くことで示されるように、多数の画像形成サイクルに亘ってほぼ一定または変化のない安定したＶｒ（残留電位）などが求められている。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
より詳細には、本明細書は、必要に応じて基材などの支持媒体と、光発生層と、電荷輸送層、特に、複数の電荷輸送層（例えば、第１の電荷輸送層と第２の電荷輸送層）と、必要に応じて接着剤層と、必要に応じて正孔障壁または下引き層と、必要に応じてオーバーコート層とを含み、電荷輸送層の少なくとも１つが、少なくとも１つの電荷輸送成分と、ポリマーまたは樹脂バインダと、シラノールと、必要に応じて酸化防止剤とを含む、多層型で可撓性のベルト状画像形成部材またはデバイスに関する。更に、電荷輸送層の少なくとも１つは、シラノールを含まなくても良く、実施の形態では、光発生層と電荷輸送層の少なくとも１つがシラノールを含んでいる。また、実施の形態において、光発生層がシラノールを含み、電荷輸送層がシラノールを含まないものであっても良い。本件に示す感光体は、実施の形態において、優れた耐摩耗性と長い寿命を持ち、部材表面層における画像形成部材のかき傷が無く、または最小である。このかき傷は、例えば、生成する最終印刷物にかき傷が見えてしまうと、好ましくない印刷欠陥となるおそれがある。更に実施の形態では、本件に開示の画像形成部材は、優れた、また多くの例において低いＶｒ（残留電位）を持ち、また適当ならばＶｒサイクルアップをほぼ防ぐことができ、感度が高く、画像ゴーストが十分に小さく、バックグラウンドが低く、および／または電荷欠損点（ＣＤＳ）が最少であり、トナーの清掃性（cleanability）が好ましい。より詳細には、本件では、実施の形態において、画像形成部材への適当なシラノール類の添加について述べる。このシラノール類は、少なくとも１つの電荷輸送層、光発生層、少なくとも１つの電荷輸送層と光発生層の両方に加えることができる。実施の形態において少なくとも１つとは、例えば、１、１〜約１０、２〜約７、２〜約４、２、などを指す。更に、シラノールは、少なくとも１つの電荷輸送層に加えることができる。つまり、例えば、電荷輸送層溶液に溶解する代わりに、シラノールをドープ剤として電荷輸送層に加えても良い。より詳細には、シラノールを最も上の電荷輸送層に加えることができる。同様に、シラノールを、光発生層を基材に被覆する前にその分散液に加えることができる。
【００１５】
更に本明細書の範囲には、本件に示す感光性デバイスを用いた画像形成および印刷法も含まれる。より詳細には、本件に開示の可撓性ベルトは、一部の機種では１００枚／分以上のコピーが可能な、ゼロックス・コーポレーションのｉＧＥＮ３（登録商標）装置に用いることができる。つまり本明細書には、画像形成法、特に、デジタルおよび／またはカラー印刷などの電子写真画像形成および印刷法が包含される。この画像形成部材は実施の形態において、例えば約４００〜約９００ｎｍ、特に約６５０〜約８５０ｎｍの波長域に感度を持つため、光源としてダイオードレーザを用いることができる。更に、本明細書の画像形成部材は、高解像度カラー電子写真への応用、特に高速カラーコピーおよび印刷法に有用である。
【００１６】
本件に示す多くの長所を備えた画像形成部材を開示する。その長所とは、例えば約３００万画像形成サイクル以上の長い稼働寿命、優れた電子的特性、安定した電気的性質、少ない画像ゴースト、低いバックグラウンド、および／または最少の電荷欠損点（ＣＤＳ）、ある種の溶媒蒸気に曝露した場合の電荷輸送層の耐クラッキング性、優れた表面特性、向上した耐摩耗性、多くのトナー組成物との適合性、画像形成部材のかき傷が無い、または少ない、公知のＰＩＤＣ（光誘導放電曲線）を描くことで示されるように、多数の画像形成サイクルに亘ってほぼ一定または変化のない安定したＶｒ（残留電位）などである。
【００１７】
更に、約７００〜約９００ｎｍの近赤外線に感度を持つ積層型の耐ひっかき性感光性画像形成部材も開示する。
【００１８】
更に、金属酸化物と、フェノール樹脂と、必要に応じてフェノール化合物とを含む、必要に応じた正孔障壁層を備えた可撓性画像形成部材を開示する。フェノール化合物は、少なくとも２つ、より詳細には２〜１０個のフェノール基、あるいは、例えば約５００〜約３，０００の重量平均分子量範囲を持つフェノール樹脂を含む。これによりこの正孔障壁層は、例えば、非常に電子輸送効率が良く、一般に残留電位（Ｖｌｏｗ）の低い好ましい光導電体となる。
【００１９】
また更に、耐摩耗性で耐ひっかき性の１つ以上の層を含む積層型可撓性ベルト感光体を開示する。この部材の表面硬さは、適当なシラノール類の添加によって向上し、主に非常に多数の画像形成サイクルによる光導電体の老化から起こるＶｒサイクルアップが防止できる。また、光発生層を含む積層型可撓性ベルト感光体も開示する。この感光体では、適当なシラノール類を加えることで光発生顔料に疎水性部分を付加する。この画像形成部材は、低いバックグラウンドおよび／または最少のＣＤＳを示し、また、主に非常に多数の画像形成サイクルによる光導電体の老化から起こるＶｒサイクルアップが防止できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
本明細書の態様は以下のとおりである。必要に応じた支持基材と、光発生層と、少なくとも１つの電荷輸送成分と少なくとも１つのシラノールとを含む少なくとも１つの電荷輸送層とを含み、シラノールが、例えばシラノールを含む多面体オリゴマーシルセスキオキサン光導電体である画像形成部材。；必要に応じた基材と、光発生層と、少なくとも１つの電荷輸送成分と少なくとも１つのシラノールとを含む少なくとも１つの電荷輸送層とを含み、シラノールが、次の式／構造で示されるものから成る群より選ばれ、
【化４】
2008020912.tif 000002
式中、ＲおよびＲ’がそれぞれ、アルキル、アルコキシ、アリール、およびそれらの置換誘導体から成る群より選ばれ、またそれらの混合物である光導電体。；順に、基材と、光発生層と、少なくとも１つの電荷輸送成分と少なくとも１つのシラノールとを含む少なくとも１つの電荷輸送層とを含み、シラノールが、本件に示す式／構造で示されるものから成る群より選ばれる光導電体。
【化５】
2008020912.tif 000003
；支持基材と、光発生層と、本件に記載の式で示されるシラノールを少なくとも１つ含む少なくとも２つの電荷輸送層とを含み、シラノール類は、多面体オリゴマーシルセスキオキサン（ＰＯＳＳ）シラノール類とも呼ばれ、
【化６】
2008020912.tif 000004
式中、ＲおよびＲ’はそれぞれ、適当な炭化水素、例えば炭素数１〜約３６の、アルキル、アルコキシ、アリール、およびそれらの置換誘導体から成る群より選ばれ、またそれらの混合物であって、例えば、フェニル、メチル、ビニル、アリル、イソブチル、イソオクチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘキセニル−３−エチル、エポキシシクロヘキシル−４−エチル、フッ素化アルキル（ＣＦ３ＣＨ２ＣＨ２−、ＣＦ３（ＣＦ２）５ＣＨ２ＣＨ２−など）、メタクリロールプロピル（methacrylolpropyl）、ノルボルネニルエチルであり、更に、Ｒ基としては、フェニル、イソブチル、イソオクチル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられ、好ましいＲ’基としては、メチル、ビニル、フッ素化アルキルなどが挙げられる可撓性画像形成部材。；光発生層と少なくとも１つの電荷輸送層とを含み、光発生層は、本件に示すシラノールを少なくとも１つ含み、または、光発生層と少なくとも１つの電荷輸送層の両方が、本件に示すシラノールを少なくとも１つ含み、あるいは、電荷輸送層はシラノールを含まず、このようなシラノールが光発生層に含まれている光導電体。；支持基材と、その上の光発生層と、少なくとも１つの電荷輸送成分と本件に記載の式で示される少なくとも１つのシラノールとを含む少なくとも１つの電荷輸送層とを含み、式中、ＲおよびＲ’はそれぞれ、例えば炭素数１〜約３６の、アルキル、アルコキシ、またはアリール、あるいはそれらの混合物であって、例えば、フェニル、メチル、ビニル、アリル、イソブチル、イソオクチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘキセニル−３−エチル、エポキシシクロヘキシル−４−エチル、フッ素化アルキル（ＣＦ３ＣＨ２ＣＨ２−、ＣＦ３（ＣＦ２）５ＣＨ２ＣＨ２−など）、メタクリロールプロピル、ノルボルネニルエチルである画像形成部材。；基材と、その上の光発生層と、その上の少なくとも１〜約３つの電荷輸送層と、正孔障壁層と、接着剤層とを含み、実施の形態において、接着剤層は、光発生層と正孔障壁層との間に置かれ、電荷輸送層の少なくとも１つと光発生層はシラノールを含み、あるいは、シラノールは光発生層中のみに含まれており、光発生層は、光発生顔料などの光発生成分と樹脂バインダとを含み、少なくとも１つの電荷輸送層は、正孔輸送成分などの少なくとも１つの電荷輸送成分と、樹脂バインダと、酸化防止剤などの公知の添加剤とを含む光導電性部材。
【００２１】
その実施の形態においては、次のものを開示する。支持基材と、その上の光発生層と、電荷輸送層と、オーバーコート電荷輸送層とを含む光導電性画像形成部材。；厚さ約１〜約１０μｍの光発生層と、それぞれの厚さが約５〜約１００μｍの少なくとも１つの輸送層とを備えた光導電性部材。；荷電コンポーネントと、現像コンポーネントと、転写コンポーネントと、定着コンポーネントとを含む電子写真用画像形成装置であって、この装置が、支持基材と、その上の光発生顔料を含む層および１つ以上の電荷輸送層と、その上のオーバーコート電荷輸送層とを含む光導電性画像形成部材を含み、輸送層の厚さが約４０〜約７５μｍである電子写真用画像形成装置。；シラノールまたはその混合物の含有量が約０．１〜約４０重量％または約６〜約２０重量％である部材。；光発生層が、約１０〜約９５重量％の量の光発生顔料を含む部材。；光発生層の厚さが約１〜約４μｍである部材。；光発生層が不活性ポリマーバインダを含んでいる部材。；バインダの含有量が約５０〜約９０重量％であり、全ての層成分の合計が約１００％である部材。；光発生成分が、約３７０〜約９５０ｎｍの波長の光を吸収するヒドロキシガリウムフタロシアニンである部材。；支持基材が金属を含む導電性基材から成る画像形成部材。；導電性基材が、アルミニウム、アルミニウム化ポリエチレンテレフタラート、またはチタン化ポリエチレンテレフタラートである画像形成部材。；光発生樹脂状バインダが、ポリエステル類、ポリビニルブチラール類、ポリカーボネート類、ポリスチレン−ｂ−ポリビニルピリジン、およびポリビニルホルマール類などの公知の適当なポリマー類から成る群より選ばれる画像形成部材。；光発生顔料が無金属フタロシアニンである画像形成部材。；それぞれの電荷輸送層、特に第１および第２層が、次の式で示されるものを含み、
【化７】
2008020912.tif 000005
式中、Ｘが、アルキル、アルコキシ、およびハロゲンから成る群より選ばれ、例えば、メチルおよびクロロ（chloride）である画像形成部材。；アルキルおよびアルコキシが約１〜約１５個の炭素原子を含む画像形成部材。；アルキルが約１〜約５個の炭素原子を含む画像形成部材。；アルキルがメチルである画像形成部材。；電荷輸送層のそれぞれ、または少なくとも１つ、特に第１および第２電荷輸送層が、次の式で示されるものを含み、
【化８】
2008020912.tif 000006
式中、ＸおよびＹがそれぞれ、アルキル、アルコキシ、アリール、ハロゲン、またはそれらの混合物であり、例えば、アルキルおよびアルコキシは約１〜約１５個の炭素原子を含み、アルキルは約１〜約５個の炭素原子を含み、樹脂状バインダが、ポリカーボネート類及びポリスチレンから成る群より選ばれる画像形成部材。；光発生層中に含まれる光発生顔料が、クロロガリウムフタロシアニン、またはガリウムフタロシアニン前駆物質の加水分解により調製したＶ型ヒドロキシガリウムフタロシアニンを含み、この加水分解法が、ヒドロキシガリウムフタロシアニンを強酸中に溶解する工程と、得られた溶解前駆物質を塩基性水系媒体中で再沈殿させる工程と、生成したイオン種を水で洗浄して除く工程と、得られた、水とヒドロキシガリウムフタロシアニンとを含む水性スラリーを濃縮してウェットケークとする工程と、乾燥によりウェットケークから水を除く工程と、得られた乾燥顔料に第２溶媒を追加混合してヒドロキシガリウムフタロシアニンを生じさせる工程と、を含む画像形成部材。；Ｖ型ヒドロキシガリウムフタロシアニンが、Ｘ線回折計による測定で、７．４、９．８、１２．４、１６．２、１７．６、１８．４、２１．９、２３．９、２５．０、２８．１度のブラッグ角（２θ＋／−０．２°）に主ピークを、７．４度に最大ピークを持つ画像形成部材。；光発生層が、基材と電荷輸送層との間に置かれている部材。；電荷輸送層が基材と光発生層との間に置かれ、電荷輸送層の数が２である部材。；光発生層の厚さが約５〜約２５μｍである部材。；光発生成分の量が約０．０５〜約２０重量％であり、光発生顔料が約１０〜約８０重量％のポリマーバインダ中に分散されている部材。；光発生層の厚さが約１〜約１１μｍである部材。；光発生および電荷輸送層成分がポリマーバインダ中に含まれている部材。；バインダの含有量が約５０〜約９０重量％であり、層成分の合計が約１００％であり、光発生樹脂状バインダが、ポリエステル類、ポリビニルブチラール類、ポリカーボネート類、ポリスチレン−ｂ−ポリビニルピリジン、およびポリビニルホルマール類から成る群より選ばれる部材。；光発生成分が、Ｖ型ヒドロキシガリウムフタロシアニンまたはクロロガリウムフタロシアニンであり、電荷輸送層が、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｐ−トリル−［ｐ−ターフェニル］−４，４”−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｍ−トリル−［ｐ−ターフェニル］−４，４”−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｏ−トリル−［ｐ−ターフェニル］−４，４”−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ビス（４−イソプロピルフェニル）−［ｐ−ターフェニル］−４，４”−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ビス（２−エチル−６−メチルフェニル）−［ｐ−ターフェニル］−４，４”−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ビス（２，５−ジメチルフェニル）−［ｐ−ターフェニル］−４，４”−ジアミン、Ｎ，���’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−クロロフェニル）−［ｐ−ターフェニル］−４，４”−ジアミン分子である正孔輸送成分を含み、正孔輸送樹脂状バインダが、ポリカーボネート類とポリスチレンとから成る群より選ばれる画像形成部材。；光発生層が無金属フタロシアニンを含む画像形成部材。；光発生層がアルコキシガリウムフタロシアニンを含む画像形成部材。；基材上のコーティングとして含まれる障壁層と、障壁層上に被覆された接着剤層とを備えた光導電性画像形成部材。；接着剤層と正孔障壁層とを更に含む画像形成部材。；画像形成部材上に静電潜像を生ずる工程と、潜像を現像する工程と、現像した静電画像を適当な被印刷体へ転写および定着する工程とを含むカラー画像形成法。；支持基材と、光発生層と、正孔輸送層と、トップオーバーコート層とを含み、トップオーバーコート層は正孔輸送層と接し、または実施の形態において、光発生層と接し、実施の形態において、複数、例えば２〜約１０、より詳細には２つの電荷輸送層を用いる光導電性画像形成部材。；必要に応じた支持基材と、光発生層と、第１、第２、および第３電荷輸送層とを含む光導電性画像形成部材。
【００２２】
ＰＯＳＳは全て多面体オリゴマーシルセスキオキサンシラノール類を指し、ＰＯＳＳシラノール類の例としては、イソブチル−ＰＯＳＳシクロヘキセニルジメチルシリルジシラノールまたはイソブチル−多面体オリゴマーシルセスキオキサンシクロヘキセニルジメチルシリルジシラノール（Ｃ３８Ｈ８４Ｏ１２Ｓｉ８）、シクロペンチル−ＰＯＳＳジメチルフェニルジシラノール（Ｃ４３Ｈ７６Ｏ１２Ｓｉ８）、シクロヘキシル−ＰＯＳＳジメチルビニルジシラノール（Ｃ４６Ｈ８８Ｏ１２Ｓｉ８）、シクロペンチル−ＰＯＳＳジメチルビニルジシラノール（Ｃ３９Ｈ７４Ｏ１２Ｓｉ８）、イソブチル−ＰＯＳＳジメチルビニルジシラノール（Ｃ３２Ｈ７４Ｏ１２Ｓｉ８）、シクロペンチル−ＰＯＳＳジシラノール（Ｃ４０Ｈ７４Ｏ１３Ｓｉ８）、イソブチル−ＰＯＳＳジシラノール（Ｃ３２Ｈ７４Ｏ１３Ｓｉ８）、イソブチル−ＰＯＳＳエポキシシクロヘキシルジシラノール（Ｃ３８Ｈ８４Ｏ１３Ｓｉ８）、シクロペンチル−ＰＯＳＳフルオロ（３）ジシラノール（Ｃ４０Ｈ７５Ｆ３Ｏ１２Ｓｉ８）、シクロペンチル−ＰＯＳＳフルオロ（１３）ジシラノール（Ｃ４５Ｈ７５Ｆ１３Ｏ１２Ｓｉ８）、イソブチル−ＰＯＳＳフルオロ（１３）ジシラノール（Ｃ３８Ｈ７５Ｆ１３Ｏ１２Ｓｉ８）、シクロヘキシル−ＰＯＳＳメタクリルジシラノール（Ｃ５１Ｈ９６Ｏ１４Ｓｉ８）、シクロペンチル−ＰＯＳＳメタクリルジシラノール（Ｃ４４Ｈ８２Ｏ１４Ｓｉ８）、イソブチル−ＰＯＳＳメタクリルジシラノール（Ｃ３７Ｈ８２Ｏ１４Ｓｉ８）、シクロヘキシル−ＰＯＳＳモノシラノール（Ｃ４２Ｈ７８Ｏ１３Ｓｉ８）、シクロペンチル−ＰＯＳＳモノシラノール（Ｓｃｈｗａｂｉｎｏｌ、Ｃ３５Ｈ６４Ｏ１３Ｓｉ８）、イソブチル−ＰＯＳＳモノシラノール（Ｃ２８Ｈ６４Ｏ１３Ｓｉ８）、シクロヘキシル−ＰＯＳＳノルボルネニルエチルジシラノール（Ｃ５３Ｈ９８Ｏ１２Ｓｉ８）、シクロペンチル−ＰＯＳＳノルボルネニルエチルジシラノール（Ｃ４６Ｈ８４Ｏ１２Ｓｉ８）、イソブチル−ＰＯＳＳノルボルネニルエチルジシラノール（Ｃ３９Ｈ８４Ｏ１２Ｓｉ８）、シクロヘキシル−ＰＯＳＳ  ＴＭＳ  ジシラノール（Ｃ４５Ｈ８８Ｏ１２Ｓｉ８）、イソブチル−ＰＯＳＳ  ＴＭＳ  ジシラノール（Ｃ３１Ｈ７４Ｏ１２Ｓｉ８）、シクロヘキシル−ＰＯＳＳトリシラノール（Ｃ４２Ｈ８０Ｏ１２Ｓｉ７）、シクロペンチル−ＰＯＳＳトリシラノール（Ｃ３５Ｈ６６Ｏ１２Ｓｉ７）、イソブチル−ＰＯＳＳトリシラノール（Ｃ２８Ｈ６６Ｏ１２Ｓｉ７）、イソオクチル−ＰＯＳＳトリシラノール（Ｃ５６Ｈ１２２Ｏ１２Ｓｉ７）、フェニル−ＰＯＳＳトリシラノール（Ｃ４２Ｈ３８Ｏ１２Ｓｉ７）などが挙げられる。これらはいずれも、カリフォルニア州ファウンテンバレー、ハイブリッド・プラスチックス（Hybrid Plastics）より市販されている。実施の形態において、ＰＯＳＳシラノールは、次の式／構造で示される、フェニル−ＰＯＳＳトリシラノールまたはフェニル−多面体オリゴマーシルセスキオキサントリシラノールである。
【化９】
2008020912.tif 000007
ＰＯＳＳシラノールは、約７〜約２０個のケイ素原子、または約７〜約１２個のケイ素原子を含むことができる。ＰＯＳＳシラノールのＭｗは、例えば約７００〜約２，０００または約８００〜約１，３００である。
【００２３】
実施の形態では、ＰＯＳＳを含まないシラノール類を選ぶことができる。このようなシラノール類の例としては、ジメチル（チエン−２−イル）シラノール、トリス（イソプロポキシ）シラノール、トリス（ｔｅｒｔ−ブトキシ）シラノール、トリス（ｔｅｒｔ−ペントキシ）シラノール、トリス（ｏ−トリル）シラノール、トリス（１−ナフチル）シラノール、トリス（２，４，６−トリメチルフェニル）シラノール、トリス（２−メトキシフェニル）シラノール、トリス（４−（ジメチルアミノ）フェニル）シラノール、トリス（４−ビフェニリル）シラノール、トリス（トリメチルシリル）シラノール、ジシクロヘキシルテトラシラノール（Ｃ１２Ｈ２６Ｏ５Ｓｉ２）、それらの混合物などが挙げられる。
【００２４】
本件に示す部材、デバイス、光導電体に用いられるシラノール類は主に、Ｓｉ−ＯＨ置換基を持つために安定で、これらの置換基から水が外れてシロキサン、つまりＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合が形成される。理論によって限定しようとするものではないが、シラノールの阻害（hindered）構造において、ケイ素に結合した他の３つの結合は、少なくとも１週間〜１年以上の長期に亘って安定であると考えられる。シラノール類は、電荷輸送層溶液または分散液、あるいは光発生層溶液または分散液中に、つまり、例えばその中に溶解させて加えることができる。あるいは、シラノール類を電荷輸送および／または光発生層に加えても良い。
【００２５】
シラノール類は様々な適当な量、例えば、全固体の約０．０１〜約５０重量％または約１〜約３０重量％、あるいは約５〜約２０重量％とすることができる。シラノール類は、電荷輸送層溶液および光発生溶液に溶解させることができ、あるいは、生成した電荷輸送層および／または生成した光発生層に単にシラノールを加えても良い。実施の形態においては、光発生層の調製の際に、公知の分散ミル工程でシラノールを加える。
【００２６】
理論によって制限しようとするものではないが、光発生層に関しては、疎水性シラノールが光発生顔料表面にその場（in situ）で結合して光発生顔料に疎水性部分が加わり、シラノールの残りの部分と樹脂バインダとが相互作用することで、分散ミル工程の間に顔料が分散し易くなると考えられる。
【００２７】
基材層の厚さは、経済的な配慮、電気的特性など、多くの要因によって変わるため、この層は相当な厚さ、例えば３，０００μｍ以上、約３００〜約７００μｍ、あるいは最小の厚さとすることができる。実施の形態において、この層の厚さは約７５〜約３００μｍまたは約１００〜約１５０μｍである。
【００２８】
基材は不透明でもほぼ透明でも良く、適当であればどのような材料から成るものでも良い。従って、基材は、無機または有機組成物などの非導電性または導電性材料から成る層を含んでいても良い。非導電性材料としては、この目的に適うことが知られる、ポリエステル類、ポリカーボネート類、ポリアミド類、ポリウレタン類などの、薄いウェブとすると可撓性である様々な樹脂が用いられる。導電性基材は、例えば、アルミニウム、ニッケル、スチール、銅などの適当な金属、または上記のポリマー材料に、炭素、金属粉末などの導電性物質を充填したもの、あるいは有機導電性材料である。電気絶縁性または導電性基材は、エンドレス可撓性ベルト、ウェブ、硬いシリンダ、シートなどの形状とすることができる。基材層の厚さは、所望とする強度や経済的考慮など、多くの要因に応じて変わる。本件の参照とする同時係属中の出願に開示のドラムでは、この層を相当な厚さ、例えば数ｃｍから、１ｍｍ以下の最小の厚さとすることができる。同様に、可撓性ベルトは、相当な厚さ、例えば約２５０μｍから、最終的な電子写真デバイスに悪影響を与えない、約５０μｍ以下の最小の厚さとすることができる。
【００２９】
基材の具体的な例は本件に示したもの、より詳細には、本明細書の画像形成部材に用いられる層であり、このような基材は、不透明またはほぼ透明であって、無機または有機ポリマー材料（例えば、市販のポリマーであるＭＹＬＡＲ（登録商標）、チタンを含むＭＹＬＡＲ（登録商標）など）を含む絶縁材料の層、半導体表面層を備えた有機または無機材料の層（その上に酸化インジウムスズやアルミニウムを配置したものなど）、あるいはアルミニウム、クロム、ニッケル、真鍮などから成る導電性材料を含むことができる。基材は、可撓性、シームレス、または堅牢であって、多くの様々な形状、例えば、板状、円筒形ドラム、スクロール、エンドレス可撓性ベルトなどとすることができる。実施の形態において、基材はシームレス可撓性ベルトの形である。場合により、特に基材が可撓性有機ポリマー材料である場合には、基材の裏側に、例えば市販のＭＡＫＲＯＬＯＮ（登録商標）であるポリカーボネート材料などの、抗カール層を被覆することが好ましい。
【００３０】
実施の形態において、光発生層は数多くの公知の光発生顔料を含み、例えば、約５０重量％のＶ型ヒドロキシガリウムフタロシアニンまたはクロロガリウムフタロシアニンと、約５０重量％の樹脂バインダ（ＶＭＣＨ（ダウ・ケミカル（Dow Chemical）製）などのポリ（塩化ビニル−コ−酢酸ビニル）共重合体など）とから成るものである。一般に、光発生層は、公知の光発生顔料、例えば、金属フタロシアニン類、無金属フタロシアニン類、アルキルヒドロキシルガリウムフタロシアニン類、ヒドロキシガリウムフタロシアニン類、クロロガリウムフタロシアニン類、ペリレン類、特にビス（ベンズイミダゾ）ペリレン、チタニルフタロシアニン類など、より詳細には、バナジルフタロシアニン類、Ｖ型ヒドロキシガリウムフタロシアニン類、および、セレン、セレン合金、三方晶系セレンなどの無機成分を含むことができる。光発生顔料は、電荷輸送層に用いられている樹脂バインダと同じ樹脂バインダ中に分散させても良く、あるいは樹脂バインダを用いなくても良い。一般に、光発生層の厚さは、他の層の厚さ、光発生層に含まれる光発生材料の量など、多くの要因によって変わる。従ってこの層の厚さは、例えば、光発生組成物の含有量が約３０〜約７５容量％である場合には、例えば約０．０５〜約１０μｍ、より詳細には約０．２５〜約２μｍとすることができる。実施の形態におけるこの層の最大厚さは、主に、感光性、電気的性質、および機械的な考慮などの要因に応じて変わる。光発生層バインダ樹脂の含有量は様々な適当な量であって、例えば約１〜約５０重量％、より詳細には約１〜約１０重量％である。樹脂は、数多くの公知のポリマー類、例えば、ポリビニルブチラール、ポリビニルカルバゾール、ポリエステル類、ポリカーボネート類、ポリ塩化ビニル、ポリアクリラート類およびポリメタクリラート類、塩化ビニルと酢酸ビニルとの共重合体、フェノール樹脂、ポリウレタン類、ポリビニルアルコール、ポリアクリロニトリル、ポリスチレンなどから選ばれる。被覆用溶媒は、デバイスの先に被覆した他の層をあまり攪乱せず、また悪影響を及ぼさないものを選ぶことが望ましい。光発生層の被覆用溶媒の例は、ケトン類、アルコール類、芳香族炭化水素類、ハロゲン化脂肪族炭化水素類、シラノール類、アミン類、アミド類、エステル類などである。具体的な溶媒の例は、シクロヘキサノン、アセトン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、ブタノール、アミルアルコール、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、トリクロロエチレン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、酢酸ブチル、酢酸エチル、酢酸メトキシエチルなどである。
【００３１】
光発生層は、真空蒸発または蒸着で形成した、セレン、セレンとヒ素、テルル、ゲルマニウムなどとの合金、水素化無定形ケイ素、ケイ素とゲルマニウム、炭素、酸素、窒素などとの化合物から成る、無定形フィルムから成るものでも良い。更に光発生層は、溶媒被覆法で形成し、塗膜形成ポリマーバインダ中に分散した、結晶性セレンとその合金の無機顔料、ＩＩ〜ＶＩ属化合物、および有機顔料、例えば、キナクリドン類、多環系顔料（ジブロモアントアントロン顔料など）、ペリレンおよびペリノンジアミン類、多核芳香族キノン類、アゾ顔料（ビスアゾ類、トリスアゾ類、およびテトラキスアゾ類を含む）などから成るものでも良い。
【００３２】
例えば、使用するフタロシアニン類の吸収スペクトルと感光性がその中心金属原子によって変わる場合、低コストの半導体レーザダイオード光露光デバイスで露光を行う感光体は、赤外に感度を持つことが好ましい。その例としては、オキシバナジウムフタロシアニン、クロロアルミニウムフタロシアニン、銅フタロシアニン、オキシチタンフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、マグネシウムフタロシアニン、および無金属フタロシアニンが挙げられる。フタロシアニン類には多くの結晶形があり、これは光発生に大きく影響する。
【００３３】
実施の形態において、光発生層用のマトリックスとして使用可能なポリマーバインダ材料の例は、米国特許第３，１２１，００６号に示されている。バインダの例は、熱可塑性および熱硬化性樹脂、例えば、ポリカーボネート類、ポリエステル類、ポリアミド類、ポリウレタン類、ポリスチレン類、ポリアリールシラノール類、ポリアリールスルホン類、ポリブタジエン類、ポリスルホン類、ポリシラノールスルホン類、ポリエチレン類、ポリプロピレン類、ポリイミド類、ポリメチルペンテン類、ポリフェニレンスルフィド類、ポリ酢酸ビニル、ポリシロキサン類、ポリアクリラート類、ポリビニルアセタール類、アミノ樹脂、フェニレンオキシド樹脂、テレフタル酸樹脂、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリスチレンとアクリロニトリルとの共重合体、ポリ塩化ビニル、塩化ビニルと酢酸ビニルとの共重合体、アクリラート共重合体、アルキド樹脂、セルロース系塗膜形成体、ポリアミドイミド、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体、酢酸ビニル−塩化ビニリデン共重合体、スチレン−アルキド樹脂、ポリビニルカルバゾールなどである。これらのポリマーは、ブロック、ランダム、または交互共重合体であっても良い。
【００３４】
光発生組成物または顔料は、樹脂状バインダ組成物中に様々な量で存在する。しかし一般には、約５〜約９０重量％の光発生顔料を、約１０〜約９５重量％の樹脂状バインダ中に分散し、または約２０〜約５０重量％の光発生顔料を、約８０〜約５０重量％の樹脂状バインダ組成物中に分散させる。ある実施の形態では、約５０重量％の光発生顔料を約５０重量％の樹脂状バインダ組成物中に分散させる。
【００３５】
本明細書の実施の形態における光発生層の被覆は、光発生層の最終乾燥厚さが本件に示す値となるよう、スプレー、浸漬、または巻き線棒（wire-bar）法で行うことができ、その厚さは、例えば、約４０〜約１５０℃で約１５〜約９０分間乾燥後で、例えば約０．０１〜約３０μｍとすることができる。より詳細には、例えば約０．１〜約３０μｍまたは約０．５〜約２μｍの厚さの光発生層を、基材上や、基材と電荷輸送層との間の他の表面などに塗布または被覆することができる。必要に応じて、光発生層を塗布する前に電荷障壁層または正孔障壁層を導電性表面に塗布しても良い。所望ならば、電荷障壁または正孔障壁層あるいは界面層と光発生層との間に接着剤層を加えても良い。通常、障壁層上に光発生層を塗布し、光発生層上にひとつの電荷輸送層または複数の電荷輸送層を形成する。この構造では、電荷輸送層の上または下に光発生層がある。
【００３６】
実施の形態において、光導電体には適当な公知の接着剤層を含むことができる。典型的な接着剤層材料としては、例えば、ポリエステル類、ポリウレタン類などが挙げられる。接着剤層の厚さは変えることができ、実施の形態において、例えば約０．０５〜約０．３μｍ（５００〜３，０００オングストローム）である。接着剤層は、スプレー、浸漬コーティング、ロールコーティング、巻き線棒コーティング、グラビアコーティング、バード（Bird）アプリケータコーティングなどにより正孔障壁層上に塗布することができる。塗布したコーティングの乾燥は、例えば、オーブン乾燥、赤外線乾燥、空気乾燥などで行うことができる。
【００３７】
必要に応じた接着剤層は通常、正孔障壁層と光発生層に接し、またはその間に位置している。接着剤層は、コポリエステル類（copolyesters）、ポリアミド類、ポリビニルブチラール、ポリビニルアルコール、ポリウレタン、およびポリアクリロニトリルなど、様々な公知の物質から選ぶことができる。この層の厚さは、例えば約０．００１〜約１μｍまたは約０．１〜約０．５μｍである。必要に応じて、例えば、本明細書の実施の形態において更に好ましい電気的および光学的性質とするため、効果的で適当な量の、例えば約１〜約１０重量％の導電性および非導電性粒子、例えば、酸化亜鉛、二酸化チタン、窒化ケイ素、カーボンブラックなどをこの層に加えても良い。
【００３８】
本明細書の画像形成部材に用いられる、必要に応じた正孔障壁または下引き層は、アミノシラン類、ドープした金属酸化物、ＴｉＳｉ、金属（チタン、クロム、亜鉛、スズなど）酸化物、フェノール化合物とフェノール樹脂との混合物、または２つのフェノール樹脂の混合物、等の公知の正孔障壁成分、また必要に応じてＳｉＯ２などのドープ剤、等、多くの成分を含むことができる。フェノール化合物は一般に少なくとも２つのフェノール基を含むものであって、例えば、ビスフェノールＡ（４，４’−イソプロピリデンジフェノール）、ビスフェノールＥ（４，４’−エチリデンビスフェノール）、ビスフェノールＦ（ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン）、ビスフェノールＭ（４，４’−（１，３−フェニレンジイソプロピリデン）ビスフェノール）、ビスフェノールＰ（４，４’−（１，４−フェニレンジイソプロピリデン）ビスフェノール）、ビスフェノールＳ（４，４’−スルホニルジフェノール）、ビスフェノールＺ（４，４’−シクロヘキシリデンビスフェノール）、ヘキサフルオロビスフェノールＡ（４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフェノール）、レゾルシノール、ヒドロキシキノン（hydroxyquinone）、カテキンなどである。
【００３９】
正孔障壁層は、例えば、約２０〜約８０重量％、より詳細には約５５〜約６５重量％の金属酸化物（例えばＴｉＯ２）などの適当な成分と、約２０〜約７０重量％、より詳細には約２５〜約５０重量％のフェノール樹脂と、約２〜約２０重量％、より詳細には約５〜約１５重量％のフェノール化合物（望ましくは、ビスフェノールＳなど、少なくとも２つのフェノール基を含むもの）と、約２〜約１５重量％、より詳細には約４〜約１０重量％のプライウッド（合板模様：plywood）抑制ドープ剤（ＳｉＯ２など）を含むことができる。フェノール樹脂の例としては、フェノールとｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノールとクレゾールとを用いたホルムアルデヒドポリマー類（ＶＡＲＣＵＭ（登録商標）２９１５９および２９１０１（オキシケム・カンパニー（OxyChem Company）製）、ＤＵＲＩＴＥ（登録商標）９７（ボーデン・ケミカル（Borden Chemical）製）など）、アンモニアとクレゾールとフェノールとを用いたホルムアルデヒドポリマー類（ＶＡＲＣＵＭ（登録商標）２９１１２（オキシケム・カンパニー製）など）、４，４’−（１−メチルエチリデン）ビスフェノールを用いたホルムアルデヒドポリマー類（ＶＡＲＣＵＭ（登録商標）２９１０８および２９１１６（オキシケム・カンパニー製）など）、クレゾールとフェノールとを用いたホルムアルデヒドポリマー類（ＶＡＲＣＵＭ（登録商標）２９４５７（オキシケム・カンパニー製）、ＤＵＲＩＴＥ（登録商標）ＳＤ−４２３Ａ、ＳＤ−４２２Ａ（ボーデン・ケミカル製）など）、または、フェノールとｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノールとを用いたホルムアルデヒドポリマー類（ＤＵＲＩＴＥ（登録商標）ＥＳＤ５５６Ｃ（ボーデン・ケミカル製）など）が挙げられる。
【００４０】
必要に応じて正孔障壁層を基材に塗布しても良い。隣接する光導電層（または電子写真画像形成層）と基材の下引き導電面との間で正孔に対する電子障壁と成り得る、適当かつ一般的な障壁層が用いられる。
【００４１】
電荷輸送層の厚さは一般に約５〜約７５μｍ、より詳細には約１０〜約４０μｍであり、電荷輸送成分および分子としては、アリールアミン類など多くの公知の材料が挙げられる。アリールアミン類としては、次の式で示される分子が挙げられる。
【化１０】
2008020912.tif 000008
式中、Ｘは、アルキル、アルコキシ、アリール、ハロゲン、またはそれらの混合物であり、特にこれらの置換基は、ＣｌおよびＣＨ３から成る群より選ばれる。また、次の式で示される分子が挙げられる。
【化１１】
2008020912.tif 000009
式中、ＸおよびＹはそれぞれ、アルキル、アルコキシ、アリール、ハロゲン、またはそれらの混合物である。
【００４２】
アルキルおよびアルコキシは、例えば１〜約２５個の炭素原子、より詳細には１〜約１２個の炭素原子を含むもの、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、およびそれに対応するアルコキシド類などである。アリールは、６〜約３６個の炭素原子を含むことができ、例えばフェニルなどである。ハロゲンとしては、塩素、臭素、ヨウ素、およびフッ素が挙げられる。置換アルキル類、アルコキシ類、およびアリール類も実施の形態に用いることができる。
【００４３】
電荷輸送層に用いられるバインダ材料の例としては、米国特許第３，１２１，００６号に記載の成分などが挙げられる。
【００４４】
特に第１および第２電荷輸送層に用いられる、電荷輸送分子の例としては、例えば、１−フェニル−３−（４’−ジエチルアミノスチリル）−５−（４”−ジエチルアミノフェニル）ピラゾリンなどのピラゾリン類、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｐ−トリル−［ｐ−ターフェニル］−４，４”−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｍ−トリル−［ｐ−ターフェニル］−４，４”−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｏ−トリル−［ｐ−ターフェニル］−４，４”−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ビス（４−イソプロピルフェニル）−［ｐ−ターフェニル］−４，４”−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ビス（２−エチル−６−メチルフェニル）−［ｐ−ターフェニル］−４，４”−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ビス（２，５−ジメチルフェニル）−［ｐ−ターフェニル］−４，４”−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−クロロフェニル）−［ｐ−ターフェニル］−４，４”−ジアミンなどのアリールアミン類、Ｎ−フェニル−Ｎ−メチル−３−（９−エチル）カルバジルヒドラゾン、４−ジエチルアミノベンズアルデヒド−１，２−ジフェニルヒドラゾンなどのヒドラゾン類、２，５−ビス（４−Ｎ，Ｎ’−ジエチルアミノフェニル）−１，２，４−オキサジアゾールなどのオキサジアゾール類、スチルベン類などが挙げられる。しかし実施の形態では、スループットの高いプリンタなどの装置のサイクルアップを最小とし、または防止するため、電荷輸送層には、ジまたはトリアミノ−トリフェニルメタンは殆ど含まれない（約２％以下）。
【００４５】
各電荷輸送層の厚さは、実施の形態において約５〜約７５μｍであるが、この範囲を超える厚さを実施の形態で用いても良い。電荷輸送層は、正孔輸送層上に置かれた静電電荷が、照射されない状態において、その上に静電潜像を形成して保持できないほどの速度で伝導してしまわない程度に絶縁体でなければならない。一般に、電荷輸送層と光発生層との厚さの比は約２：１〜２００：１、場合によっては４００：１とすることができる。電荷輸送層は可視光または使用する放射域に殆ど吸収を持たないが、電気的に“活性”であって、光発生した正孔を光導電層または光発生層から流入させ、また、それ自体を通してこの正孔を輸送し、活性層表面の表面電荷を選択的に放電する。
【００４６】
使用する連続的な電荷輸送オーバーコート層の厚さは、用いる装置の荷電（バイアス荷電ロール）、清掃（ブレードまたはウェブ）、現像（ブラシ）、転写（バイアス転写ロール）などの摩損性に応じて変わり、約１０μｍまでとすることができる。実施の形態において、各層のこの厚さは約１〜約５μｍである。オーバーコート層被覆用混合物を混合し、その後光発生層に塗布するには、様々な適当かつ一般的な方法が用いられる。典型的な塗布法としては、スプレー、浸漬コーティング、ロールコーティング、巻き線棒コーティングなどが挙げられる。塗布したコーティングの乾燥は、オーブン乾燥、赤外線乾燥、空気乾燥など、適当かつ一般的な手法で行う。本明細書の乾燥オーバーコート層は画像形成の際に正孔を輸送するものであるが、自由キャリヤ濃度が高すぎてはならない。
【００４７】
オーバーコートまたはトップ電荷輸送層は電荷輸送層と同じ成分を含むものでも良いが、電荷輸送小分子と適当な電気的に不活性な樹脂バインダとの重量比は小さく、例えば約０／１００〜約６０／４０または約２０／８０〜約４０／６０である。
【００４８】
例えば、横方向への電荷の移動（ＬＣＭ）の抵抗を高めるよう、電荷輸送層または少なくとも１つの電荷輸送層に必要に応じて加えられる成分または材料の例としては、公知の阻害基を持つ（hindered）フェノール系酸化防止剤、例えば、テトラキスメチレン（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナマート）メタン（ＩＲＧＡＮＯＸ（登録商標）１０１０、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（Ciba Specialty Chemical）製）；公知の阻害基を持つアミン系酸化防止剤、例えば、ＳＡＮＯＬ（登録商標）ＬＳ−２６２６、ＬＳ−７６５、ＬＳ−７７０、およびＬＳ−７４４（三共（株）（SNKYO CO., Ltd.）製）；チオエーテル系酸化防止剤、例えば、ＳＵＭＩＬＩＺＥＲ（登録商標）Ｔｐ−Ｄ（住友化学（株）製）；ホスファイト系酸化防止剤、例えば、ＭＡＲＫ（登録商標）２１１２、ＰＥｐ−８、ＰＥｐ−２４Ｇ、ＰＥｐ−３６、３２９Ｋ、およびＨｐ−１０（旭電化工業（株）製）；その他の分子、例えば、ビス（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）フェニルメタン（ＢＤＥＴＰＭ）、ビス［２−メチル−４−（Ｎ−２−ヒドロキシエチル−Ｎ−エチルアミノフェニル）］フェニルメタン（ＤＨＴＰＭ）などが挙げられる。電荷輸送層の少なくとも１つにおける酸化防止剤の重量比は、約０〜約２０重量％、約１〜約１０重量％、または約３〜約８重量％である。
【実施例】
【００４９】
＜比較例１＞
以下のように画像形成部材を調製した。厚さ３．５ミル（８８．９μｍ）の二軸延伸ポリエチレンナフタラート基材（ＫＡＬＥＤＥＸ（登録商標）２０００）上に厚さ０．０２μｍのチタン層を被覆（コータデバイス）したものを準備し、その上に、グラビアアプリケータを用いて、５０ｇの３−アミノプロピルトリエトキシシランと、４１．２ｇの水と、１５ｇの酢酸と、６８４．８ｇの変性アルコールと、２００ｇのヘプタンとを含む溶液を塗布した。次にこの層を、コータの通風乾燥機中１３５℃で約５分間乾燥した。生成した障壁層の乾燥厚さは５００オングストロームであった。次に、グラビアアプリケータを用いて障壁層上にウェットコーティングを塗布することにより接着剤層を調製した。接着剤層は、テトラヒドロフラン／モノクロロベンゼン／ジクロロメタン（容量比６０：３０：１０）混合物に、溶液の全重量に対して０．２重量％のコポリエステル接着剤（ＡＲＤＥＬ（登録商標）Ｄ１００、豊田通商（Toyota Hsutsu Inc.）製）を加えたものであった。次に接着剤層を、コータの通風乾燥機中１３５℃で約５分間乾燥した。生成した接着剤層の乾燥厚さは２００オングストロームであった。
【００５０】
以下のように光発生層分散液を調製した。０．４５ｇの公知のポリカーボネート（ＬＵＰＩＬＯＮ（登録商標）２００（ＰＣＺ−２００）またはポリカーボネートＺ（登録商標）、重量平均分子量２万、三菱ガス化学（株）製）と、５０ｍｌのテトラヒドロフランとを４オンス（１１８．４ｃｃ）のガラス瓶に入れた。この溶液に、２．４ｇのヒドロキシガリウムフタロシアニン（Ｖ型）と、３００ｇの直径１／８インチ（３．２ｍｍ）のステンレススチール製ショットとを加えた。次にこの混合物を、８時間ボールミルにかけた。続いて、２．２５ｇのＰＣＺ−２００を４６．１ｇのテトラヒドロフランに溶解し、ヒドロキシガリウムフタロシアニン分散液に加えた。次に、このスラリーを１０分間、シェーカにかけた。得られた分散液を、その後バードアプリケータを用いて上記の接着剤界面に塗布し、乾燥前の厚さで０．２５ミル（６．３５μｍ）の光発生層を形成した。後に塗布する接地ストリップ層と適度に電気的接触が持てるよう、障壁層と接着剤層を載せた基材ウェブの片側に沿った幅約１０ｍｍのストリップを、光発生層材料が付かないよう被覆せずに故意に残した。光発生層を、強制換気オーブン中１２０℃で１分間乾燥し、厚さ０．４μｍの乾燥光発生層を形成した。
【００５１】
生成した画像形成部材ウェブに、次に、２つの電荷輸送層を上塗りした。詳細には、光発生層に接して、電荷輸送層（ボトム層）を光発生層に上塗りした。電荷輸送層のボトム層は、重量比１：１で、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミンと、ＭＡＫＲＯＬＯＮ（登録商標）５７０５（約５万〜約１０万の平均分子量を持つ公知のポリカーボネート樹脂、ファルベンファブリケン・バイエル社（Farbenfabriken Bayer A.G.）製）とを褐色ガラス瓶に加えて調製した。得られた混合物を、次に、ジクロロメタンに溶解して１５重量％の固体を含む溶液とした。この溶液を光発生層上に塗布して、乾燥（１２０℃で１分間）し、厚さ１４．５μｍのボトム層コーティングとした。この被覆工程の間の湿度は１５％以下であった。
【００５２】
次に、電荷輸送層のボトム層にトップ層を上塗りした。トップ層の電荷輸送層溶液は、上記のボトム層と同様に調製した。この溶液を電荷輸送層のボトム層上に塗布して、乾燥（１２０℃で１分間）し、厚さ１４．５μｍのコーティングとした。この被覆工程の間の湿度は１５％以下であった。
【００５３】
＜実施例１＞
電荷輸送層のトップ層を、重量比１：１：０．１で、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミンと、ＭＡＫＲＯＬＯＮ（登録商標）５７０５（約５万〜約１０万の重量平均分子量を持つポリカーボネート樹脂、ファルベンファブリケン・バイエル社製）と、フェニル−ＰＯＳＳトリシラノール（ＳＯ１４５８（登録商標）、カリフォルニア州ファウンテンバレー、ハイブリッド・プラスチックス製）とを、褐色ガラス瓶に加えて調製する以外は、比較例１の工程を繰り返して画像形成部材を調製した。得られた混合物をジクロロメタンに溶解して１５重量％の固体を含む溶液とした。
【００５４】
＜実施例２＞
電荷輸送層のトップ層を、重量比１：１：０．２で、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミンと、ＭＡＫＲＯＬＯＮ（登録商標）５７０５（約５万〜約１０万の重量平均分子量を持つポリカーボネート樹脂、ファルベンファブリケン・バイエル社製）と、フェニル−ＰＯＳＳトリシラノール（ＳＯ１４５８（登録商標）、カリフォルニア州ファウンテンバレー、ハイブリッド・プラスチックス製）とを、褐色ガラス瓶に加えて調製する以外は、比較例１の工程を繰り返して画像形成部材を調製した。得られた混合物をジクロロメタンに溶解して１５重量％の固体を含む溶液とした。
【００５５】
＜実施例３＞
電荷輸送層のトップ層を、重量比１：１：０．４で、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミンと、ＭＡＫＲＯＬＯＮ（登録商標）５７０５（約５万〜約１０万の重量平均分子量を持つポリカーボネート樹脂、ファルベンファブリケン・バイエル社製）と、フェニル−ＰＯＳＳトリシラノール（ＳＯ１４５８（登録商標）、カリフォルニア州ファウンテンバレー、ハイブリッド・プラスチックス製）とを、褐色ガラス瓶に加えて調製する以外は、比較例１の工程を繰り返して画像形成部材を調製した。得られた混合物をジクロロメタンに溶解して１５重量％の固体を含む溶液とした。
【００５６】
＜実施例４＞
電荷輸送層のトップ層を、重量比１：１：０．２：０．１で、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミンと、ＭＡＫＲＯＬＯＮ（登録商標）５７０５（約５万〜約１０万の分子量を持つポリカーボネート樹脂、ファルベンファブリケン・バイエル社製）と、シラノール、フェニル−ＰＯＳＳトリシラノール（ＳＯ１４５８（登録商標）、カリフォルニア州ファウンテンバレー、ハイブリッド・プラスチックス製）と、酸化防止剤（ＩＲＧＡＮＯＸ（登録商標）１０１０、テトラキスメチレン（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナマート）メタン、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）とを、褐色ガラス瓶に加えて調製する以外は、比較例１と同様に画像形成部材を調製した。得られた混合物をジクロロメタンに溶解して１５重量％の固体を含む溶液とした。
【００５７】
＜実施例５＞
電荷輸送層のボトム層を、重量比１：１：０．４で、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミンと、ＭＡＫＲＯＬＯＮ（登録商標）５７０５（約５万〜約１０万の重量平均分子量を持つポリカーボネート樹脂、ファルベンファブリケン・バイエル社製）と、シラノール、フェニル−ＰＯＳＳトリシラノール（ＳＯ１４５８（登録商標）、カリフォルニア州ファウンテンバレー、ハイブリッド・プラスチックス製）とを、褐色ガラス瓶に加えて調製する以外は、比較例１の工程を繰り返して画像形成部材を調製した。得られた混合物をジクロロメタンに溶解して１５重量％の固体を含む溶液とした。
【００５８】
＜電気的特性試験＞
上記で調製した感光体デバイス（比較例１、実施例１、２、および３）を、光誘導放電サイクルが得られるよう設定したスキャナで試験し、サイクルと共に光強度を徐々に上げながら、１回の荷電−消去サイクルの次に１回の荷電−露光−消去サイクルを続けて一連の光誘導放電特性曲線を作成し、これより様々な露光強度における感光性と表面電位を求めた。更なる電気的特性は、表面電位を徐々に上げながら一連の電荷−消去サイクルを行い、いくつかの電圧−電荷密度曲線を描いて求めた。スキャナに、様々な表面電位で一定した電圧を印加するよう設定したスコロトロンを取り付けた。一連の中性密度フィルタを用いた調整により露光強度を徐々に上げながら、５００Ｖの表面電位でこのデバイスを試験した。露光光源は、７８０ｎｍの発光ダイオードであった。電子写真の模擬実験は、環境調節した遮光チャンバ中、周囲条件（相対湿度４０％、２２℃）で行った。更にデバイスに、電荷−放電−消去の電気的サイクルを１万回行った。Ｖを同じ電圧とした０サイクルと１万サイクルの両方で、上記で調製した光導電体のそれぞれについて、８個の光誘導放電特性（ＰＩＤＣ）曲線を描いた。その結果を表１にまとめた。
【表１】
2008020912.tif 000010
【００５９】
実施の形態において、公知のＰＩＤＣ曲線を描くことからわかるように、電荷輸送層にシラノールを物理的にドーピングすると、Ｖｒサイクルアップが最小となり、または防止されるなど、光導電性部材の多くの特性が向上することが示された。より詳細には、表１のＶ（３．５エルグ／ｃｍ２）は、露光が３．５エルグ／ｃｍ２（Ｖ）である場合のデバイスの表面電位を表しており、これはＰＩＤＣの特徴を示すために用いられている。シラノールを電荷輸送層に加えると、先に示したようにＶ（３．５エルグ／ｃｍ２）が低下し、サイクルを続けた場合の光導電体のサイクルアップが防止できる。
【００６０】
＜耐ひっかき性試験＞
表面の粗さを示すＲｑは、耐ひっかき性評価のための標準測定基準として、根二乗平均粗さと見なすことができる。表面特性測定器で求める場合、グレード１の耐ひっかき性とは耐ひっかき性が劣り、グレード５の耐ひっかき性とは耐ひっかき性に優れていることを示している。より詳細には、Ｒｑ測定値が０．３μｍ以上であれば、耐ひっかき性はグレード１であり、Ｒｑが０．２〜０．３μｍではグレード２、Ｒｑが０．１５〜０．２μｍではグレード３、Ｒｑが０．１〜０．１５μｍではグレード４、Ｒｑが０．１μｍ以下であれば、耐ひっかき性が最良または優れているグレード５である。
【００６１】
上記で調製した４個の光導電性ベルト（比較例１、実施例１、２、および３）を、幅１インチ（２５．４ｍｍ）、長さ１２インチ（３０４．８ｍｍ）のストリップに切り、トリローラ屈曲装置で屈曲させた。各ベルトに１．１ポンド／インチ（約１９．７ｇ／ｍｍ）の張力をかけた。各ローラの直径は１／８インチ（３．２ｍｍ）であった。ポリウレタン製の“スポットブレード（spots blade）”を、５〜１５度の角度で各ベルトに接するよう置いた。このスポットブレードに、両面テープを用いて、粒径約１００μｍのキャリアビーズを接着した。光導電体を、スポットブレードと接触させて２００回、模擬画像形成サイクルで回転させて、各ベルトの表面にこれらのビーズを衝突させた。次に、ひっかき傷を付けた各領域の表面形態を分析した。
【００６２】
上記のシラノールを電荷輸送層に加えると、耐ひっかき性が約３０〜約５０％向上した。
【００６３】
例えば、耐ひっかき試験後の、シラノールを加えない比較用画像形成部材のＲｑ値は０．３μｍであり、シラノールを加えた画像形成部材のＲｑ値は、シラノールの負荷量に応じて、０．１５〜０．２μｍであった。このように、シラノールを電荷輸送層に加えることで、約３０〜約５０％の耐ひっかき性の向上が実現できた。