(57)【要約】【課題】黒表示において斜め方向から見た時の光の漏れや色味変化を改善できる位相差フィルム等を提供する。【解決手段】支持体及び少なくとも１層の光学異方性層を有する位相差フィルムであって、前記支持体の正面レターデーションＲｅと厚さ方向のレターデーションＲｔｈが下記式［１］を満たし、前記支持体の波長分散性が下記式［２］を満たし、前記支持体はセルロースアシレートフィルムからなり、前記位相差フィルムの正面レターデーションＲｅと厚さ方向のレターデーションＲｔｈが下記式［３］を満たし、かつ、前記位相差フィルムの波長分散性が下記式［４］を満たす、位相差フィルム。［１］０≦Ｒｅ（６３０）≦１０かつ｜Ｒｔｈ（６３０）｜≦２５［２］｜Ｒｅ（４００）−Ｒｅ（７００）｜≦１０かつ｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜≦３５［３］０≦Ｒｅ（５５０）≦１０かつ１００≦Ｒｔｈ（５５０）≦３００［４］１．０４≦Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）≦１．３０［式中、Ｒｅ（λ）は、Ｒｅ（λ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄで表され、波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）を表す。Ｒｔｈ（λ）はＲｔｈ（λ）＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄで表され、波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）を表す。また、ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率であり、ｎｙはフィルム面内の進相軸方向の屈折率であり、ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率であり、ｄはフィルムの厚さ（ｎｍ）である。］【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体及び少なくとも１層の光学異方性層を有する位相差フィルムであって、
前記支持体の正面レターデーションＲｅと厚さ方向のレターデーションＲｔｈが下記式［１］を満たし、
前記支持体の波長分散性が下記式［２］を満たし、
前記支持体はセルロースアシレートフィルムからなり、
前記位相差フィルムの正面レターデーションＲｅと厚さ方向のレターデーションＲｔｈが下記式［３］を満たし、かつ、
前記位相差フィルムの波長分散性が下記式［４］を満たす、位相差フィルム。
［１］０≦Ｒｅ（６３０）≦１０かつ｜Ｒｔｈ（６３０）｜≦２５
［２］｜Ｒｅ（４００）−Ｒｅ（７００）｜≦１０かつ｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜≦３５
［３］０≦Ｒｅ（５５０）≦１０かつ１００≦Ｒｔｈ（５５０）≦３００
［４］１．０４≦Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）≦１．３０
［式中、Ｒｅ（λ）は、Ｒｅ（λ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄで表され、波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）を表す。Ｒｔｈ（λ）はＲｔｈ（λ）＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄで表され、波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）を表す。また、ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率であり、ｎｙはフィルム面内の進相軸方向の屈折率であり、ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率であり、ｄはフィルムの厚さ（ｎｍ）である。］
【請求項２】
前記位相差フィルムの波長分散性が下記式［５］を満たす、請求項１に記載の位相差フィルム。
［５］１．０６≦Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）≦１．３０
【請求項３】
前記光学異方性層の少なくとも１層は、ホメオトロピック配向した重合性の円盤状液晶性化合物を含む、請求項１又は２に記載の位相差フィルム。
【請求項４】
前記光学異方性層の少なくとも１層は、コレステリック配向した重合性の棒状液晶性化合物を含む、請求項１又は２に記載の位相差フィルム。
【請求項５】
前記光学異方性層の少なくとも１層は、高分子ポリマー、又は、前記支持体に積層後にさらに延伸した高分子ポリマーから成る、請求項１又は２に記載の位相差フィルム。
【請求項６】
前記光学異方性層の少なくとも１層が、含フッ素界面活性剤を含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載の位相差フィルム。
【請求項７】
前記支持体が、アシル置換度２．８５〜３．００のセルロースアシレートに、Ｒｅ（λ）及び／又はＲｔｈ（λ）を低下させる化合物の少なくとも１種を、前記セルロースアシレートに対して０．０１〜３０質量％の割合で添加して得られたものである、請求項１〜６のいずれか１項に記載の位相差フィルム。
【請求項８】
前記支持体の膜厚が１０〜１２０μｍである、請求項１〜７のいずれか１項に記載の位相差フィルム。
【請求項９】
偏光膜と、該偏光膜の両面に設けられた保護フィルムを有し、該保護フィルムの少なくとも一方が請求項１〜８のいずれか１項に記載の位相差フィルムである偏光板。
【請求項１０】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の位相差フィルムと、第二の位相差フィルムとを有し、前記第二の位相差フィルムの正面レターデーション及び厚さ方向のレターデーションが下記式［６］を満たし、かつ、第二の位相差フィルムの波長分散が下記式［７］を満たす、偏光板。
［６］７０≦Ｒｅ（５５０）≦１８０かつ３０≦Ｒｔｈ（５５０）≦１４０
［７］０．７≦Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．０
【請求項１１】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の位相差フィルム、又は、請求項９又は１０に記載の偏光板を含む液晶表示装置。
【請求項１２】
互いの吸収軸が直交している二枚の偏光板と、該二枚の偏光板の間に設けられた液晶セルとを有し、前記液晶セルは、一対の基板及び該一対の基板間に挟持される液晶分子からなる液晶層を有し、かつ、外部電界が印加されていない非駆動状態において、前記液晶分子が前記一対の基板に対して略垂直な方向に配向しており、さらに、請求項１〜８のいずれか１項に記載の位相差フィルムを含むか、前記偏光板が請求項９又は１０に記載の偏光板である、液晶表示装置。
【請求項１３】
前記液晶表示装置が、さらに第二の位相差フィルムを有し、該第二の位相差フィルムは高分子延伸フィルムからなり、正面レターデーション及び厚さ方向のレターデーションが下記式［６］を満たす、請求項１１又は１２に記載の液晶表示装置。
［６］７０≦Ｒｅ（５５０）≦１８０かつ３０≦Ｒｔｈ（５５０）≦１４０
【請求項１４】
前記液晶表示装置が、さらに第二の位相差フィルムを有し、該第二の位相差フィルムの波長分散が、下記式［７］を満たす、請求項１１〜１３のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
［７］０．７≦Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．０
【請求項１５】
前記液晶表示装置が、さらに第二の位相差フィルムを有し、該第二の位相差フィルムが、セルロースアシレートフィルム、ノルボルネン系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリエステル系フィルム及びポリサルフォン系フィルムのいずれかからなる、請求項１１〜１４のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１６】
前記液晶表示装置が、さらに第二の位相差フィルムを有し、該第二の位相差フィルムが、前記偏光膜の吸収軸が直交する配置で、偏光膜の一方に直接積層された、請求項１１〜１５のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は位相差フィルム、偏光板及び液晶表示装置の技術分野に関し、特に垂直配向型液晶表示装置等に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、通常、液晶セル及び偏光板を有する。前記偏光板は保護フィルム及び偏光膜を有する。そして、偏光板は、例えば、ポリビニルアルコールフィルムからなる偏光膜をヨウ素にて染色し、延伸を行い、その両面に保護フィルムを積層して得られる。透過型液晶表示装置では、この偏光板を液晶セルの両側に取り付け、さらには一枚以上の光学補償シートを配置することもある。反射型液晶表示装置では、反射板、液晶セル、一枚以上の光学補償シート、偏光板の順に配置する。液晶セルは、液晶分子、それを封入するための二枚の基板及び液晶分子に電圧を加えるための電極層からなる。液晶セルは、液晶分子の配向状態の違いで、ＯＮ、ＯＦＦ表示を行い、透過及び反射型いずれにも適用できる、ＴＮ（Twisted Nematic）、ＩＰＳ（In−Plane Switching）、ＯＣＢ（Optically Compensatory Bend）、ＶＡ（Vertically Aligned）、ＥＣＢ（Electrically Controlled Birefringence）のような表示モードが提案されている。
【０００３】
この様な液晶表示装置の中でも、高い表示品位が必要な用途については、正の誘電率異方性を有するネマチック液晶分子を用い、薄膜トランジスタにより駆動する９０度ねじれネマチック型液晶表示装置（以下、ＴＮモードという）が主に用いられている。しかしながら、ＴＮモードは正面から見た場合には優れた表示特性を有するものの、斜め方向から見た場合にコントラストが低下したり、階調表示で明るさが逆転する階調反転等が起こることにより表示特性が悪くなるという視野角特性を有しており、この改良が強く要望されている。
【０００４】
近年、この視野角特性を改良する液晶表示装置の方式として、負の誘電率異方性を有するネマチック液晶分子を用い、電圧を印加しない状態で液晶分子の長軸を基板に略垂直な方向に配向させ、これを薄膜トランジスタにより駆動する垂直配向ネマチック型液晶表示装置（以下、ＶＡモードという）が提案されている（特許文献１参照）。このＶＡモードは、正面から見た場合の表示特性がＴＮモードと同様に優れているのみならず、視野角補償用位相差フィルムを適用することで広い視野角特性を発現する。ＶＡモードでは、フィルム面に垂直な方向に光学軸を有する負の一軸性位相差フィルムを２枚、液晶セルの上下に用いることでより広い視野角特性を得ることができ、この液晶表示装置にさらに面内のレターデーション値が５０ｎｍである正の屈折率異方性を有する一軸配向性位相差フィルムを用いることで、さらにより広い視野角特性を実現できることも知られている（非特許文献１参照）。
【０００５】
しかしながら、位相差フィルムの枚数を増やすと生産コストの上昇を伴い、また、多数のフィルムを貼り合わせるために歩留まりの低下を引き起こしやすい。さらに、複数のフィルムを用いるために厚さが増し、表示装置の薄形化に不利となる場合もある。また、延伸フィルムの積層には粘着層を用いるため、温湿度変化により粘着層が収縮してフィルム間の剥離や反りといった不良が発生することがある。
【０００６】
これらを改善する方法として、位相差フィルムの枚数を減らす方法（特許文献２参照）やコレステリック液晶層を用いる方法（特許文献３参照）が開示されている。しかしながら、これらの方法でも、少なくとも複数のフィルムを貼り合わせる必要があり、液晶表示装置の薄層化、生産コスト低減という点では不十分であった。
【０００７】
また、上記課題を改善する目的で、円盤状液晶性化合物を用いる方法（特許文献４参照）が提案されている。しかし、該特許文献４に記載の方法では長尺の支持体に連続的に光学異方性層を形成することが困難であり、生産性が劣っていた。さらに、この問題を解決した方法が特許文献５に開示されている（特許文献５参照）。しかし、該特許文献５に記載の方法も、必要な光学特性（特に、Ｒｔｈ値）を得るためには塗布膜厚が厚くなるため、塗布ムラ等の問題が発生していた。
さらには、屈折率異方性の絶対値が特定の範囲にある光学異方性層を採用することにより、塗布ムラを改善する方法が特許文献６に開示されている。
しかしながら、以上の方法は、液晶ディスプレイの表示特性を満足できるレベルでは無かった。
【特許文献１】特開平２−１７６６２５号公報
【特許文献２】特開平１１−９５２０８号公報
【特許文献３】特開平１１−９５２０８号公報
【特許文献４】特開平１１−３５２３２８号公報
【特許文献５】特開２０００−３０４９３１号公報
【特許文献６】特開２００５−１２８０５０号公報
【非特許文献１】ＳＩＤ ９７ ＤＩＧＥＳＴ ８４５頁〜８４８頁
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の課題は、液晶セルが正確に光学的に補償され、かつ、貼りあわせるフィルムの枚数を少なくしても対応可能な、すなわち、薄層化が可能な液晶表示装置に使用する位相差フィルム及び液晶表示装置を提供することである。
特に、ＶＡモードの液晶表示装置に使用するものを提供し、該液晶表示装置の黒表示において斜め方向から見た時の光の漏れや色味変化を改善することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
かかる課題の下、発明者が鋭意検討した結果、従来の支持体と光学異方性層を組み合わせた位相差フィルムでは、いずれも光学異方性層の特性に注目しているものであるが、上記課題は、支持体の光学特性については充分と言えない点にもあり、その為に、該位相差フィルムを用いた液晶表示装置の表示特性は満足できるレベルに到達していなかったことを見出した。
具体的には、下記手段により、上記課題を解決した。
（１）支持体及び少なくとも１層の光学異方性層を有する位相差フィルムであって、前記支持体の正面レターデーションＲｅと厚さ方向のレターデーションＲｔｈが下記式［１］を満たし、前記支持体の波長分散性が下記式［２］を満たし、前記支持体はセルロースアシレートフィルムからなり、前記位相差フィルムの正面レターデーションＲｅと厚さ方向のレターデーションＲｔｈが下記式［３］を満たし、かつ、前記位相差フィルムの波長分散性が下記式［４］を満たす、位相差フィルム。
［１］０≦Ｒｅ（６３０）≦１０かつ｜Ｒｔｈ（６３０）｜≦２５
［２］｜Ｒｅ（４００）−Ｒｅ（７００）｜≦１０かつ｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜≦３５
［３］０≦Ｒｅ（５５０）≦１０かつ１００≦Ｒｔｈ（５５０）≦３００
［４］１．０４≦Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）≦１．３０
［式中、Ｒｅ（λ）は、Ｒｅ（λ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄで表され、波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）を表す。Ｒｔｈ（λ）はＲｔｈ（λ）＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄで表され、波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）を表す。また、ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率であり、ｎｙはフィルム面内の進相軸方向の屈折率であり、ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率であり、ｄはフィルムの厚さ（ｎｍ）である。］
（２）前記位相差フィルムの波長分散性が下記式［５］を満たす、（１）に記載の位相差フィルム。
［５］１．０６≦Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）≦１．３０
（３）前記光学異方性層の少なくとも１層は、ホメオトロピック配向した重合性の円盤状液晶性化合物を含む、（１）又は（２）に記載の位相差フィルム。
（４）前記光学異方性層の少なくとも１層は、コレステリック配向した重合性の棒状液晶性化合物を含む、（１）又は（２）に記載の位相差フィルム。
（５）前記光学異方性層の少なくとも１層は、高分子ポリマー、又は、前記支持体に積層後にさらに延伸した高分子ポリマーから成る、（１）又は（２）に記載の位相差フィルム。
（６）前記光学異方性層の少なくとも１層が、含フッ素界面活性剤を含む、（１）〜（５）のいずれか１項に記載の位相差フィルム。
（７）前記支持体が、アシル置換度２．８５〜３．００のセルロースアシレートに、Ｒｅ（λ）及び／又はＲｔｈ（λ）を低下させる化合物の少なくとも１種を、前記セルロースアシレートに対して０．０１〜３０質量％の割合で添加して得られたものである、（１）〜（６）のいずれか１項に記載の位相差フィルム。
（８）前記支持体の膜厚が１０〜１２０μｍである、（１）〜（７）のいずれか１項に記載の位相差フィルム。
（９）偏光膜と、該偏光膜の両面に設けられた保護フィルムを有し、該保護フィルムの少なくとも一方が（１）〜（８）のいずれか１項に記載の位相差フィルムである偏光板。
（１０）（１）〜（８）のいずれか１項に記載の位相差フィルムと、第二の位相差フィルムとを有し、前記第二の位相差フィルムの正面レターデーション及び厚さ方向のレターデーションが下記式［６］を満たし、かつ、第二の位相差フィルムの波長分散が下記式［７］を満たす、偏光板。
［６］７０≦Ｒｅ（５５０）≦１８０かつ３０≦Ｒｔｈ（５５０）≦１４０
［７］０．７≦Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．０
（１１）（１）〜（８）のいずれか１項に記載の位相差フィルム、又は、（９）又は（１０）に記載の偏光板を含む液晶表示装置。
（１２）互いの吸収軸が直交している二枚の偏光板と、該二枚の偏光板の間に設けられた液晶セルとを有し、前記液晶セルは、一対の基板及び該一対の基板間に挟持される液晶分子からなる液晶層を有し、かつ、外部電界が印加されていない非駆動状態において、前記液晶分子が前記一対の基板に対して略垂直な方向に配向しており、さらに、（１）〜（８）のいずれか１項に記載の位相差フィルムを含むか、前記偏光板が（９）又は（１０）に記載の偏光板である、液晶表示装置。
（１３）前記液晶表示装置が、さらに第二の位相差フィルムを有し、該第二の位相差フィルムは高分子延伸フィルムからなり、正面レターデーション及び厚さ方向のレターデーションが下記式［６］を満たす、（１１）又は（１２）に記載の液晶表示装置。
［６］７０≦Ｒｅ（５５０）≦１８０かつ３０≦Ｒｔｈ（５５０）≦１４０
（１４）前記液晶表示装置が、さらに第二の位相差フィルムを有し、該第二の位相差フィルムの波長分散が、下記式［７］を満たす、（１１）〜（１３）のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
［７］０．７≦Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．０
（１５）前記液晶表示装置が、さらに第二の位相差フィルムを有し、該第二の位相差フィルムが、セルロースアシレートフィルム、ノルボルネン系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリエステル系フィルム及びポリサルフォン系フィルムのいずれかからなる、（１１）〜（１４）のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
（１６）前記液晶表示装置が、さらに第二の位相差フィルムを有し、該第二の位相差フィルムが、前記偏光膜の吸収軸が直交する配置で、偏光膜の一方に直接積層された、（１１）〜（１５）のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【発明の効果】
【００１０】
本発明により、一体型の偏光板を作製することが可能になり、本発明の位相差フィルムを利用することにより、従来の液晶表示装置と同じ構成で、液晶セルを光学的に補償することが可能になった。
特に、本発明の液晶表示装置の黒表示における斜めの漏れ光と色味変化を高度なレベルで両立することが可能になった。
また、従来の液晶表示装置では、光学補償シートを組み込むために、複数の位相差フィルムと偏光板の角度を厳密に調整しながら積層する工程が必要であった。しかしながら、本発明ではかかる工程を経なくてもよく、長尺の支持体に連続的に光学異方性層を形成することが可能となり、さらに塗布時のムラ等の問題のない光学異方性層の形成が可能となった。
【発明の実施の形態】
【００１１】
以下において、本願発明の内容について詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
また、本明細書におけるアルキル基等の「置換基」は、特に述べない限り、さらに、置換基を有していてもよいし、有していなくてもよい。
【００１２】
本明細書において、角度について「実質的に」とは、厳密な角度との誤差が±５°未満の範囲内であることを意味する。さらに、厳密な角度との誤差は、４°未満であることが好ましく、３°未満であることがより好ましい。また、屈折率の測定波長は特別な記述がない限り、可視光域のλ＝５５０ｎｍでの値である。なお、本明細書において、「可視光」とは、波長が４００ｎｍ〜７００ｎｍの光ことをいう。
【００１３】
本発明でいうＲｅ（λ）とは、波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）であり、下記式で表される。
Ｒｅ（λ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
（式中、ｎｘはフィルム面内における遅相軸方向の屈折率であり、ｎｙはフィルム面内の進相軸方向の屈折率であり、ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率であり、ｄはフィルムの厚さ（ｎｍ）である。）
【００１４】
また、本発明でいうＲｔｈ（λ）とは、波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）であり、下記式で表される。
Ｒｔｈ＝（(ｎｘ＋ｎｙ)／２−ｎｚ）×ｄ
（式中、ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率であり、ｎｙはフィルム面内の進相軸方向の屈折率であり、ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率であり、ｄはフィルムの厚さ（ｎｍ）である。）
【００１５】
［液晶表示装置］
まず、図１及び２を用いて、本発明の液晶表示装置の一態様について説明する。図１は本発明の液晶表示装置の、図２は本発明で使用可能な偏光板の構成の一例の模式図を示したものである。図１では、電界効果型液晶素子として負の誘電異方性を有するネマチック液晶を用いてアクティブ駆動を行った例である。
【００１６】
図１において、液晶表示装置は、液晶セル及び液晶セルの両側に配置された一対の偏光板（上側偏光板１及び下側偏光板１４）を有する。上側偏光板１と液晶セルとの間には、第二の位相差フィルム３が、下側偏光板１４と液晶セルとの間には、第一の位相差フィルム１０が配置されている。また、液晶セルは、上電極基板５と下電極基板８と、これらに挟持される液晶分子７とからなる。液晶分子７は、電極基板の対向面に施された配向制御方向（上基板配向制御方向６及び下基板配向制御方向９）によって、外部電界が印加されていない非駆動状態において、前記基板に対して略垂直な方向に配向するように制御されている。また、上側偏光板１と下側偏光板１４は、その吸収軸と吸収軸とが概略直交するように積層されている。ここで、図１中、２は上側偏光板吸収軸の方向を、１５は下側偏光板吸収軸の方向をそれぞれ表す。さらに、第二の位相差フィルムの遅相軸の方向４は、上側偏光板の吸収軸の方向２と直交するように設けられている。
【００１７】
図２に示す様に、偏光板は、保護フィルム１０１及び１０５に挟持される偏光膜１０３からなる。偏光板は、例えば、ポリビニルアルコールフィルムからなる偏光膜をヨウ素にて染色し、延伸を行うことによって偏光膜を得、その両面に保護フィルム１０１及び１０５を積層して作製することができる。積層の際には、一対の保護フィルムと偏光膜の合計３枚のフィルムを、ロールtoロールで貼り合わせると、生産性の点で好ましい。また、ロールtoロールの積層では、図２に示す様に、保護フィルムの遅相軸の方向１０２及び１０６と、偏光膜の吸収軸の方向１０４とが平行となる様に容易に積層でき、偏光板の寸法変化やカールの発生が起こりにくく、機械的安定性が高い偏光板となるので好ましい。また、３枚のフィルムからなる少なくとも２つの軸、例えば、一方の保護フィルムの遅相軸と偏光膜吸収軸、あるいは２枚の保護フィルムの遅相軸などが実質的に平行であれば同じ効果が得られる。
【００１８】
図１において、第二の位相差フィルム３は、光学的に一軸又は二軸の光学異方性層によって構成され、特に制限はないが、セルロースアシレート、ノルボルネン系高分子、ポリカーボネート系高分子、ポリアリレート系高分子、ポリエステル系高分子又はポリサルフォン又は、それらポリマーの２種又は３種以上を混合したポリマーなどがあげられる。就中、複屈折特性の制御性や透明性、耐熱性に優れるものが好ましい。また、第二の位相差フィルム３は、第一の位相差フィルム１０との組合せにもよるが、表示特性の点から、Ｒｅの絶対値が波長に応じて大きくなる、いわゆる逆波長分散性の一軸性であることがさらに好ましい。一方、第一の位相差フィルム１０は、光学的に負の屈折率異方性を持ち、Ｒｔｈの絶対値が波長に応じて小さくなる、いわゆる順波長分散で、Ｒｅが−１０〜１０ｎｍであることが好ましい。これら、第二の位相差フィルム３及び第一の位相差フィルム１０は、液晶セルの画像着色を解消し、及び視野角の拡大に寄与する。
【００１９】
図１中、上側を観察者側とすると、図１には、第二の位相差フィルム３は、観察者側の上側偏光板１と観察者側液晶セル用基板である、液晶セル上電極基板５との間に、第一の位相差フィルム１０は、背面側の下側偏光板１４と背面側液晶セル用基板である、液晶セル下電極基板８との間に配置した構成を示したが、第二の位相差フィルム３と第一の位相差フィルム１０が入れ替わった構成であってもよいし、また、第二の位相差フィルム３と第一の位相差フィルム１０の双方が、上側偏光板１と液晶セル上電極基板５との間に配置されていてもよいし、又は下側偏光板１４と液晶セル下電極基板８との間に配置されていてもよい。かかる態様では、第一の位相差フィルム１０が、第二の位相差フィルム３の支持体を兼ねていてもよい。
【００２０】
位相差フィルムは、偏光板と一体型となっていてもよく、例えば、図１では、第二の位相差フィルム３が、上側偏光板１と一体となっていてもよい。この場合、上側偏光板１と一体化した状態で液晶表示装置内に組み込むことができる。例えば、第二の位相差フィルムの支持体を、偏光膜の一方の側の保護フィルムとして機能させてもよく、保護フィルム、偏光膜、第二位相差フィルムの順序で積層した一体型偏光板とするのが好ましい。前記一体型偏光板を液晶表示装置内に組み込む場合は、装置の外側（液晶セルから遠い側）から、保護フィルム、偏光膜、第二の位相差フィルム３の順序になるように組み込むのが好ましい。
【００２１】
第一の位相差フィルム１０は、支持体及び光学異方性層を有する本発明の位相差フィルムである。本発明の位相差フィルムは、上記第二の位相差フィルム３と同様に、下側偏光板１４と一体化した一体型偏光板として液晶表示装置内に組み込むことができる。第一の位相差フィルムの光学異方性層が液晶性化合物からなる態様では、光学異方性層と反対側の支持体面を偏光膜に貼り合せて、下側偏光板１４の一方の保護フィルムが第一の位相差フィルム１０の支持体を兼ねていてもよい。かかる態様では、保護フィルム、偏光膜、第一の位相差フィルム１０の順序で積層した一体型偏光板とし、該一体型偏光板を、外側（液晶セルから遠い側）から、保護フィルム、偏光膜、第一の位相差フィルム１０の順序になるように液晶表示装置内に組み込むのが好ましい。
【００２２】
本発明の液晶表示装置は、上記構成に限定されず、他の部材を含んでいてもよい。例えば、液晶セルと偏光膜との間にカラーフィルターを配置してもよい。また、透過型液晶表示装置の態様では、冷あるいは熱陰極蛍光管、発光ダイオード、エレクトロルミネッセント素子を光源とするバックライトを背面に配置することができる。一方、反射型液晶表示装置の態様では、偏光板は観察側に１枚配置したのみでよく、液晶セルの背面あるいは液晶セルの下側基板の内面に反射膜を設置する。もちろん前記光源を用いたフロントライトを液晶セル観察側に設けることも可能である。さらに、表示装置の１画素内に、透過部と反射部を設けた半透過型も可能である。
【００２３】
本発明の液晶表示装置の種類については特に限定されず、画像直視型、画像投影型及び光変調型のいずれの液晶表示装置も含まれる。ＴＦＴやＭＩＭのような３端子又は２端子半導体素子を用いたアクティブマトリクス液晶表示装置が本発明では特に有効である。もちろん時分割駆動と呼ばれるＳｕｐｅｒ−Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ型（ＳＴＮ型）に代表されるパッシブマトリクス液晶表示装置でも有効である。
【００２４】
［ＶＡモード液晶セル］
本発明において、液晶セルはＶｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄモード（ＶＡモード）であるのが好ましい。ＶＡモードの液晶セルは、外部電界が印加されていない非駆動状態において、液晶分子が液晶セルの基板に対して略垂直な方向に配向している。このような液晶セルは、例えば、対向面がラビング処理された上下電極基板の間に誘電異方性が負の液晶分子を封入してなる。
より具体的には、Δｎ＝０．０８１３、及びΔε＝−４．６程度の液晶分子を用い、液晶分子の配向方向を示すダイレクタ、いわゆるチルト角が約８９°の液晶セルを作製することができる。この時、液晶層の厚さｄは、例えば、３．５μｍにすることができる。液晶層の厚さｄ（ｎｍ）と、屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄの大きさにより白表示時の明るさが変化する。最大の明るさを得るためには、液晶層の厚さｄは２〜５μｍ（２０００〜５０００ｎｍ）の範囲であるのが好ましく、Δｎは、０．０６０〜０．０８５の範囲であるのが好ましい。
【００２５】
ここで、屈折率異方性Δｎは、
Δｎ＝Ｒｔｈ／膜厚（ｎｍ）
で表される。
【００２６】
液晶セル上電極基板５及び液晶セル下電極基板８の内側には、透明電極（図示せず）が形成されるが、電極に駆動電圧を印加しない非駆動状態では、液晶層中の液晶分子７は、基板面に対して概略垂直に配向し、その結果液晶パネルを通過する光の偏光状態はほとんど変化しない。上記した様に、液晶セルの上側偏光板吸収軸の方向２と下側偏光板の吸収軸の方向１５とは概略直交になっているので、光は偏光板を通過しない。すなわち、図１の液晶表示装置では、非駆動状態において理想的な黒表示を実現する。これに対し、駆動状態では、液晶分子は基板面に平行な方向に傾斜し、液晶パネルを通過する光はかかる傾斜した液晶分子により偏光状態を変化させ、偏光板を通過する。
【００２７】
図１では上下基板間に電界が印加されるため、電界方向に垂直に液晶分子が応答するような、誘電率異方性が負の液晶材料を使用した例を示した。また電極を一方の基板に配置し、電界が基板面に平行の横方向に印加される場合は、液晶材料は正の誘電率異方性を有するものを使用することができる。なお、ＶＡモードの液晶表示装置では、ＴｗｉｓｔｅｄＮｅｍａｔｉｃモード（ＴＮモード）の液晶表示装置で一般的に使われているカイラル剤の添加は、動的応答特性を劣化させるため用いることは少ないが、配向不良を低減するために添加されることもある。
【００２８】
ＶＡモードの特徴は、高速応答であること及びコントラストが高いことである。しかし、コントラストは、正面では高いが斜め方向では低下するという課題がある。黒表示時に液晶分子は基板面に垂直に配向している。正面から観察すると、液晶分子の複屈折はほとんどないため透過率は低く、高コントラストが得られる。しかし、斜めから観察した場合は液晶分子に複屈折が生じる。さらに上下の偏光板吸収軸の交差角が、正面では９０°の直交であるが、斜めから見た場合は９０°より大きくなる。この２つの要因のために斜め方向では漏れ光が生じやすくなり、コントラストが低下する傾向にある。本発明では、これを解決するために、光学異方性層３及び１０を少なくとも一層ずつ配置することができる。
【００２９】
ＶＡモードでは、白表示時には液晶分子が傾斜しているが、傾斜方向とその逆方向では、斜めから観察した時の液晶分子の複屈折の大きさが異なり、輝度や色調に差が生じる。これを解決するためには、液晶セルをマルチドメインにするのが好ましい。マルチドメインとは、一つの画素中に、配向状態の異なる複数の領域を形成した構造をいう。例えば、マルチドメイン方式のＶＡモードの液晶セルでは、一つの画素中に、電界印加時の液晶分子の傾斜角が互いに異なる複数の領域が存在する。マルチドメイン方式のＶＡモード液晶セルでは、電界印加による液晶分子の傾斜角を画素ごとに平均化することができ、そのことによって、視角特性を平均化することができる。一画素内で配向を分割するには、電極にスリットを設けたり、突起を設け、電界方向を変えたり電界密度に偏りを持たせる。全方向に均等な視野角を得るには、この分割数を多くすればよい。
【００３０】
また配向分割の領域境界では、液晶分子が応答しづらい。そのためノーマリーブラック表示では黒表示が維持されるため、輝度低下が問題となる。液晶材料にカイラル剤を添加することは、境界領域を小さくするのに寄与する。
【００３１】
以下、本発明の液晶表示装置に用いられる位相差フィルムについて、詳細に説明する。
本発明において、光学異方性層は、液晶表示装置の画像着色を解消し、及び視野角の拡大に寄与する。また、光学異方性層の支持体が偏光板の保護フィルムを兼ねることによって、又は光学異方性層が偏光板の保護フィルムを兼ねることによって、液晶表示装置の構成部材を減少させることができる。すなわち、かかる態様にすることにより液晶表示装置の薄型化にも寄与する。
【００３２】
本発明では、Ｒｅ及びＲｔｈの絶対値が小さいセルロースアシレートフィルムと光学異方性層を組合せた第一の位相差フィルム（本発明の位相差フィルム）により、液晶表示装置の光学特性を大幅に向上させることができる。具体的には、支持体の正面レターデーションと厚さ方向のレターデーションＲｔｈが下記式［１］を満たし、且つ前記支持体の波長分散性が下記式［２］を満たすように高度に光学特性を制御したセルロースアシレートフィルムを使用する。さらに光学異方性層と組み合わせることにより、本発明の位相差フィルム全体としては、正面レターデーションＲｅと厚さ方向のレターデーションＲｔｈが下記式［３］を満たし、且つ波長分散性が下記式［４］を満たす位相差フィルムとなる。
［１］０≦Ｒｅ（６３０）≦１０かつ｜Ｒｔｈ（６３０）｜≦２５
［２］｜Ｒｅ（４００）−Ｒｅ（７００）｜≦１０かつ｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜≦３５
［３］０≦Ｒｅ（５５０）≦１０かつ１００≦Ｒｔｈ（５５０）≦３００
［４］１．０４≦Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）≦１．３０
【００３３】
本発明の位相差フィルムの正面レターデーションＲｅ（５５０）は、好ましくは８ｎｍ以下であり、より好ましくは５ｎｍ以下であり、さらに好ましくは３ｎｍ以下である。また、位相差フィルムの厚さ方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）は、好ましくは１２０〜２８０ｎｍであり、より好ましくは１４０〜２６０ｎｍ以下であり、さらに好ましくは１６０〜２４０ｎｍ以下である。また、位相差フィルムの波長分散性は、好ましくは１．０６〜１．３０であり、より好ましくは１．０８〜１．２８以下であり、さらに好ましくは１．１０〜１．２６ｎｍ以下である。
【００３４】
本明細書において、Ｒｅ(λ)はKOBRA 21ADH又はWR（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。Ｒｔｈ(λ)は前記Ｒｅ(λ)を、面内の遅相軸（KOBRA 21ADH又はWRにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にKOBRA 21ADH又はWRが算出する。尚、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の式（１）及び上記よりＲｔｈを算出することもできる。ここで平均屈折率の仮定値は  ポリマーハンドブック（JOHN  WILEY＆SONS，INC）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：  セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、KOBRA 21ADH又はWRはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。
【００３５】
【数１】
2008033285.tif 000002
注記：上記のRe(θ)は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値を表す。
また、Ｒｔｈの符号は面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋２０°傾斜した方向から波長５５０ｎｍの光を入射させて測定したレターデーションがＲｅを超える場合を正とし、Ｒｅを下回る場合を負とする。但し、｜Ｒｔｈ／Ｒｅ｜が９以上の試料では、回転自由台座付きの偏光顕微鏡を用いて、面内の進相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した状態で、偏光板の検板を用いて決定できる試料の遅相軸がフィルム平面に平行にある場合を正とし、また遅相軸がフィルムの厚み方向にある場合を負とする。
【００３６】
［第一の位相差フィルムの支持体］
本発明の位相差フィルムの支持体は、セルロースアシレートが用いられる。セルロースアシレートは、可視光領域に吸収が無く、光透過率が８０％以上であり、複屈折性に基づくレターデーションが小さい観点から好ましい。さらに、偏光膜に直接貼り合せて偏光板と一体型にできることや、偏光膜の耐久性の観点からもセルロースアシレートフィルムが好ましい。
【００３７】
具体的に、本発明で用いる光学的異方性（Ｒｅ、Ｒｔｈ）が小さいセルロースアシレートフィルムは、該セルロースアシレートフィルム（支持体）の正面レターデーションＲｅと厚さ方向のレターデーションＲｔｈが式［１］を満たし、かつ、波長分散性が式［２］を満たすものである。
式［１］は、好ましくは、０≦Ｒｅ（６３０）≦５かつ｜Ｒｔｈ｜≦２０ｎｍであり、さらに好ましくは、０≦Ｒｅ（６３０）≦２かつ｜Ｒｔｈ｜≦１５ｎｍである。
式［２］は、好ましくは、｜Ｒｅ（４００）−Ｒｅ（７００）｜≦５かつ｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜≦２５であり、より好ましくは、｜Ｒｅ（４００）−Ｒｅ（７００）｜≦３かつ｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜≦１５である。
【００３８】
本発明で用いる支持体は、例えば、下記の方法により作製可能である。
【００３９】
［セルロースアシレート原料綿］
本発明に用いられるセルロースアシレート原料のセルロースとしては、綿花リンタや木材パルプ（広葉樹パルプ、針葉樹パルプ）などがあり、何れの原料セルロースから得られるセルロースアシレートでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。これらの原料セルロースについての詳細な記載は、例えばプラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂（丸澤、宇田著、日刊工業新聞社、１９７０年発行）や発明協会公開技報２００１−１７４５（７頁〜８頁）に記載のセルロースを用いることができ、本発明で用いるセルロースアシレートフィルムに対してはいずれの方法も好ましく採用できる。
【００４０】
[セルロースアシレート置換度] 
次に上述のセルロースを原料に製造される本発明のセルロースアシレートについて記載する。本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートはセルロースの水酸基がアシル化されたもので、その置換基は、例えば、アシル基の炭素原子数２〜２２のアセチル基のものを用いることができる。本発明で用いるセルロースアシレートにおいて、セルロースの水酸基への置換度については特に限定されないが、セルロースの水酸基に置換する酢酸及び／又は炭素原子数３〜２２の脂肪酸の結合度を測定し、計算によって置換度を得ることができる。測定方法としては、ＡＳＴＭのＤ−８１７−９１に準じて実施することができる。
【００４１】
上述のように本発明のセルロースアシレートにおいて、セルロースの水酸基への置換度については特に限定されないが、セルロースの水酸基へのアシル置換度が２．８５〜３．００であることが好ましい。さらに、置換度が２．８７〜３．００であることが好ましく、２．９０〜３．００であることがより好ましい。
【００４２】
セルロースの水酸基に置換する酢酸及び／又は炭素原子数３〜２２の脂肪酸のうち、炭素原子数２〜２２のアシル基としては、特に限定されず、脂肪族基でもアリル基でもよく１種類でも２種類以上の混合物でもよい。このような脂肪族基としては、セルロースのアルキルカルボニルエステル基、アルケニルカルボニルエステル基、芳香族カルボニルエステル基、芳香族アルキルカルボニルエステル基などが挙げられる。これらの基は、さらに置換基で置換されていてもよい。
具体的には、アシル基としては、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、へプタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基、イソブタノイル基、ｔｅｒｔ−ブタノイル基、シクロヘキサンカルボニル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基が好ましく、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ドデカノイル基、オクタデカノイル基、ｔｅｒｔ−ブタノイル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基がより好ましく、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基がさらに好ましい。
【００４３】
特に、上述のセルロースの水酸基に置換するアシル置換基のうちで、実質的にアセチル基／プロピオニル基／ブタノイル基の少なくとも２種類からなる場合においては、その全置換度が２.５０〜３．００の場合にセルロースアシレートフィルムの光学異方性をより効果的に低下できる。アシル置換度は２．６０〜３．００であることが好ましく、２．６５〜３．００であることがより好ましい。
【００４４】
[セルロースアシレートフィルムの光学的異方性を低下させる化合物の構造的特徴] 
本発明で用いるセルロースアシレートフィルムには、光学的異方性を低下させる化合物を含めてもよい。フィルム中のセルロースアシレートが面内及び膜厚方向に配向するのを抑制する化合物を用いて光学的異方性を十分に低下させ、ＲｅがゼロかつＲｔｈがゼロに近くなるようにした。このためには光学的異方性を低下させる化合物はセルロースアシレートに十分に相溶し、化合物自身が棒状の構造や平面性の構造を持たないことが有利である。具体的には芳香族基のような平面性の官能基を複数持っている場合、それらの官能基を同一平面ではなく、非平面に持つような構造が有利である。
【００４５】
（ＬｏｇＰ値）
本発明のセルロースアシレートフィルムを作製するにあたっては、上述のようにフィルム中のセルロースアシレートが面内及び膜厚方向に配向するのを抑制して光学異方性を低下させる化合物のうち、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）が０〜７である化合物が好ましい。ｌｏｇＰ値が７を超える化合物は、セルロースアシレートとの相溶性に乏しく、フィルムの白濁や粉吹きを生じやすい。また、ｌｏｇＰ値が０よりも小さな化合物は親水性が高いために、セルロースアシレートフィルムの耐水性を悪化させる場合がある。ｌｏｇＰ値としてさらに好ましい範囲は１〜６であり、特に好ましい範囲は１．５〜５である。
オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）の測定は、ＪＩＳ日本工業規格Ｚ７２６０−１０７（２０００）に記載のフラスコ浸とう法により実施することができる。また、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）は実測に代わって、計算化学的手法あるいは経験的方法により見積もることも可能である。計算方法としては、Crippen's fragmentation法（J.Chem.Inf.Comput.Sci.,27,21(1987).）、Viswanadhan's fragmentation法（J.Chem.Inf.Comput.Sci.,29,163(1989).）、Broto's fragmentation法（Eur.J.Med.Chem.− Chim.Theor.,19,71(1984).）などが好ましく用いられるが、Crippen's fragmentation法（J.Chem.Inf.Comput.Sci.,27,21(1987).）がより好ましい。ある化合物のｌｏｇＰの値が測定方法あるいは計算方法により異なる場合に、該化合物が本発明の範囲内であるかどうかは、Crippen's fragmentation法により判断することが好ましい。
【００４６】
[光学的異方性を低下する化合物の物性] 
光学異方性を低下させる化合物は、芳香族基を含有してもよいし、含有しなくてもよい。また光学異方性を低下させる化合物は、分子量が１５０〜３０００であることが好ましく、１７０〜２０００であることがより好ましく、２００〜１０００であることがさらに好ましい。これらの分子量の範囲であれば、特定のモノマー構造であってもよいし、そのモノマーユニットが複数結合したオリゴマー構造、ポリマー構造でもよい。
光学異方性を低下させる化合物は、好ましくは、２５℃で液体であるか、融点が２５〜２５０℃の固体であり、さらに好ましくは、２５℃で液体であるか、融点が２５〜２００℃の固体である。また光学異方性を低下させる化合物は、セルロースアシレートフィルムの作製の際の、ドープ流延、乾燥の過程で揮散しない化合物であることが好ましい。
光学異方性を低下させる化合物の添加量は、セルロースアシレートの０．０１〜３０質量％であることが好ましく、１〜２５質量％であることがより好ましく、５〜２０質量％であることがさらに好ましい。
光学異方性を低下させる化合物は、１種類のみ用いても、２種以上化合物を任意の比で混合して用いてもよい。
光学異方性を低下させる化合物を添加する時期はドープ作製工程中の何れであってもよく、ドープ調製工程の最後に行ってもよい。
【００４７】
光学異方性を低下させる化合物は、少なくとも一方の側の表面から全膜厚の１０％までの部分における該化合物の平均含有率が、該セルロースアシレートフィルムの中央部における該化合物の平均含有率の８０〜９９％であることが好ましい。本発明の化合物の存在量は、例えば、特開平８−５７８７９号公報に記載の赤外吸収スペクトルを用いる方法などにより表面及び中心部の化合物量を測定して求めることができる。
【００４８】
以下に本発明で好ましく用いられる、セルロースアシレートフィルムの光学的異方性を低下させる化合物の具体例としては、下記一般式（１３）、（１８）、（１９）のいずれかで表される化合物が挙げられるが、本発明はこれら化合物に限定されない。
【００４９】
【化１】
2008033285.tif 000003
［一般式（１３）において、Ｒ1はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ2及びＲ3は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。ただしＲ1、Ｒ2及びＲ3の炭素原子数の総和は１０以上である。］
【００５０】
【化２】
2008033285.tif 000004
［一般式（１８）において、Ｒ1はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ2及びＲ3はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。］
【００５１】
【化３】
2008033285.tif 000005
［一般式（１９）において、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6はそれぞれ独立にアルキル基又はアリール基を表す。］
【００５２】
一般式（１３）の化合物について説明する。
上記一般式（１３）において、Ｒ1はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ2及びＲ3は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。また、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3の炭素原子数の総和が１０以上であることが特に好ましい。Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は置換されていてもよく、置換基としてはフッ素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基及びスルホンアミド基が好ましく、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基及びスルホンアミド基がより好ましい。また、アルキル基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素原子数１〜２５のものが好ましく、６〜２５のものがより好ましく、６〜２０のものがさらに好ましい（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、アミル基、イソアミル基、ｔｅｒｔ−アミル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ビシクロオクチル基、ノニル基、アダマンチル基、デシル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、ジデシル基）。アリール基としては炭素原子数が６〜３０のものが好ましく、６〜２４のものがより好ましい（例えば、フェニル基、ビフェニル基、テルフェニル基、ナフチル基、ビナフチル基、トリフェニルフェニル基）。
一般式（１３）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体
例に限定されるものではない。
【００５３】
式中、Ｐｒiはイソプロピル基を表す。
【００５４】
【化４】
2008033285.tif 000006
【００５５】
【化５】
2008033285.tif 000007
【００５６】
【化６】
2008033285.tif 000008
【００５７】
以下に、一般式（１８）又は一般式（１９）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。なお、一般式（１８）又は一般式（１９）で表される化合物において、アルキル基及びアリール基の具体例は一般式（１３）と同じである。
【００５８】
【化７】
2008033285.tif 000009
【００５９】
【化８】
2008033285.tif 000010
【００６０】
【化９】
2008033285.tif 000011
【００６１】
【化１０】
2008033285.tif 000012
【００６２】
【化１１】
2008033285.tif 000013
【００６３】
【化１２】
2008033285.tif 000014
【００６４】
【化１３】
2008033285.tif 000015
【００６５】
【化１４】
2008033285.tif 000016
【００６６】
【化１５】
2008033285.tif 000017
【００６７】
【化１６】
2008033285.tif 000018
【００６８】
その他の光学異方性を低下させる化合物の好ましい例としては、下記一般式（１）で表される化合物が挙げられる。
【００６９】
【化１７】
2008033285.tif 000019
【００７０】
上記一般式（１）において、Ｒ1は水素原子、置換若しくは無置換の脂肪族アシル基又は置換若しくは無置換の芳香族アシル基を表す。水素原子又は脂肪族アシル基であることがより好ましい。脂肪族アシル基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよい。脂肪族アシル基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましく、１〜８であることがより好ましく、１〜４であることが最も好ましい。芳香族アシル基は、芳香族炭化水素アシル基でも芳香族ヘテロ環アシル基でもよく、より好ましくは芳香族炭化水素アシル基である。芳香族炭化水素アシル基としては、炭素原子数が６〜２４のものが好ましく、６〜１２のものがさらに好ましい。脂肪族アシル基及び芳香族アシル基が有していてもよい置換基としては後述の置換基Ｔが挙げられる。
【００７１】
Ｒ2、Ｒ3及びＲ4はそれぞれ、水素原子、置換若しくは無置換の脂肪族基、又は置換若しくは無置換の芳香族基を表し、脂肪族基がより好ましい。脂肪族基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよく、分岐又は環状であることがより好ましく、環状であることが特に好ましい。脂肪族基の炭素原子数は、５〜２４であることが好ましく、５〜１５であることがより好ましく、５〜１２であることが最も好ましい。芳香族基は、芳香族炭化水素基でも芳香族ヘテロ環基でもよく、より好ましくは芳香族炭化水素基である。芳香族炭化水素基としては、炭素原子数が６〜２４のものが好ましく、６〜１２のものがさらに好ましい。脂肪族基及び芳香族基が有していてもよい置換基としては後述の置換基Ｔが挙げられる。
【００７２】
以下に前述の置換若しくは無置換の脂肪族基についてさらに説明する。脂肪族基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素原子数１〜２５のものが好ましく、５〜２４であることが好ましく、５〜１５であることがより好ましく、５〜１２であることが最も好ましい。脂肪族基の具体例には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、アミル基、イソアミル基、ｔｅｒｔ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ビシクロオクチル基、アダマンチル基、ｎ−デシル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、ジデシル基が含まれる。
【００７３】
以下に前述の置換若しくは無置換の芳香族基についてさらに説明する。芳香族基は芳香族炭化水素基でも芳香族ヘテロ環基でもよく、より好ましくは芳香族炭化水素基である。芳香族炭化水素基としては、炭素原子数が６〜２４のものが好ましく、６〜１２のものがさらに好ましい。芳香族炭化水素基が有する環の具体例には、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、ビフェニル、ターフェニルなどが含まれる。芳香族炭化水素基としては、ベンゼン、ナフタレン、ビフェニルが特に好ましい。芳香族ヘテロ環基としては、酸素原子、窒素原子あるいは硫黄原子のうち少なくとも１つを含むものが好ましい。ヘテロ環の具体例には、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンが含まれる。芳香族ヘテロ環基としては、ピリジン、トリアジン、キノリンが特に好ましい。
【００７４】
また、以下に前述の置換基Ｔについて説明する。
置換基Ｔ：
アルキル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１２、特に好ましくは１〜８のものであり、例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル、シクロヘキシル基などが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１２、特に好ましくは２〜８であり、例えばビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１２、特に好ましくは２〜８であり、例えばプロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素原子数６〜３０、より好ましくは６〜２０、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニル基、ビフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。）、アミノ基（好ましくは炭素原子数０〜２０、より好ましくは０〜１０、特に好ましくは０〜６であり、例えばアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１２、特に好ましくは１〜８であり、例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素原子数６〜２０、より好ましくは６〜１６、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばアセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素原子数７〜２０、より好ましくは７〜１６、特に好ましくは７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニル基などが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１０であり、例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１０であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素原子数７〜２０、より好ましくは７〜１６、特に好ましくは７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素原子数０〜２０、より好ましくは０〜１６、特に好ましくは０〜１２であり、例えばスルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素原子数６〜２０、より好ましくは６〜１６、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニルチオ基などが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメシル基、トシル基などが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素原子数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる。）、及びシリル基（好ましくは、炭素原子数３〜４０、より好ましくは３〜３０、特に好ましくは３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）。
これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。
【００７５】
前記一般式（１）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
【００７６】
【化１８】
2008033285.tif 000020
【００７７】
【化１９】
2008033285.tif 000021
【００７８】
【化２０】
2008033285.tif 000022
【００７９】
［波長分散調整剤］
セルロースアシレートフィルムには、波長分散を低下させる化合物（以下「波長分散調整剤」ともいう）を添加してもよい。本発明で用いるセルロースアシレートフィルムのＲｔｈの波長分散を良化させるためには、下記式（ｉｖ）で表されるＲｔｈの波長分散ΔＲｔｈ＝｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜を低下させる化合物を、下記式（ｖ）、（ｖｉ）をみたす範囲で少なくとも一種含有することが好ましい。
（ｉｖ）ΔＲｔｈ＝｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜
（ｖ）（ΔＲｔｈ（Ｂ）−ΔＲｔｈ（０））／Ｂ≦−２．０
（ｖｉ）０．０１≦Ｂ≦３０
上記式（ｖ）、（ｖｉ）は、
（ｖ）（ΔＲｔｈ（Ｂ）−ΔＲｔｈ（０））／Ｂ≦−３．０
（ｖｉ）０．０５≦Ｂ≦２５
であることがより好ましく
（ｖ）（ΔＲｔｈ（Ｂ）−ΔＲｔｈ（０））／Ｂ≦−４．０
（ｖｉ）０．１≦Ｂ≦２０
であることがさらに好ましい。
上記の波長分散調整剤は、通常、２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持ち、例えば、セルロースアシレート固形分に対して０．０１〜３０質量％を用いることによって、セルロースアシレートフィルムのＲｅ、Ｒｔｈの波長分散を調整することができる。
【００８０】
本発明で用いるセルロースアシレートフィルムのＲｅ、Ｒｔｈの値は一般に短波長側よりも長波長側が大きい波長分散特性となる傾向にある。したがって、通常、相対的に小さい短波長側のＲｅ、Ｒｔｈを大きくすることによって波長分散を平滑にすることが要求される。一方、２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持つ化合物は短波長側よりも長波長側の吸光度が大きい波長分散特性を持つ。よって、２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持つ化合物をセルロースアシレートフィルム内部で等方的に存在させると、化合物自身の複屈折性、ひいてはＲｅ、Ｒｔｈの波長分散は吸光度の波長分散と同様に短波長側が大きくなる傾向にある。
【００８１】
該２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持ち、化合物自身のＲｅ、Ｒｔｈの波長分散が、短波長側が大きいと想定される化合物を用いることによって、セルロースアシレートフィルムのＲｅ、Ｒｔｈの波長分散を調整することができる。このためには波長分散を調整する化合物はセルロースアシレートに十分均一に相溶することが要求される。このような化合物の紫外領域の吸収帯範囲は２００〜４００ｎｍが好ましいが、２２０〜３９５ｎｍがより好ましく、２４０〜３９０ｎｍがさらに好ましい。
【００８２】
また、近年テレビやノートパソコン、モバイル型携帯端末などの液晶表示装置ではより少ない電力で輝度を高めるに、液晶表示装置に用いられる光学部材の透過率が優れたものが要求されている。その点においては、２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持ち、フィルムの｜Ｒｅ（４００）−Ｒｅ（７００）｜及び｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜を低下させる化合物をセルロースアシレートフィルムに添加する場合、分光透過率が優れていることが要求される。本発明のセルロースアシレートフィルムにおいては、波長３８０ｎｍにおける分光透過率が４５％〜９５％であり、かつ波長３５０ｎｍにおける分光透過率が１０％以下であることが好ましい。
【００８３】
上述のような、本発明で好ましく用いられる波長分散調整剤は揮散性の観点から分子量が２５０〜１０００であることが好ましい。より好ましくは２６０〜８００であり、さらに好ましくは２７０〜８００であり、特に好ましくは３００〜８００である。波長分散調整剤は、モノマー、及び、該モノマーが連結したオリゴマー又はポリマーのいずれでもよい。
【００８４】
本発明で用いることができる波長分散調整剤は、セルロースアシレートフィルムを作製する際のドープ流延、乾燥の過程で揮散しないことが好ましい。
【００８５】
（波長分散調整剤の添加量）
本発明で用いることができる波長分散調整剤の添加量は、セルロースアシレートの０．０１〜３０質量％であることが好ましく、０．１〜２０質量％であることがより好ましく、０．２〜１０質量％であることがさらに好ましい。
【００８６】
（波長分散調整剤の添加の方法）
本発明で用いることができる波長分散調整剤は、１種類のみを用いても、２種以上を任意の比で混合して用いてもよい。
また、波長分散調整剤を添加する時期は、本発明のセルロースアシレートフィルムを製膜するためのドープ作製工程中の何れかに行うのが好ましく、また、ドープ調製工程の最後に行ってもよい。
【００８７】
本発明に好ましく用いられる波長分散調整剤の具体例としては、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノ基を含む化合物、オキシベンゾフェノン系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられるが、本発明はこれら化合物だけに限定されるものではない。
【００８８】
ベンゾトリアゾール系化合物としては一般式（１０１）で示されるものが好ましく用いられる。
【００８９】
一般式（１０１）  Ｑ1−Ｑ2−ＯＨ
（式中、Ｑ1は含窒素芳香族ヘテロ環を、Ｑ2は芳香族環を表す。）
【００９０】
Ｑ1は含窒素方向芳香族へテロ環を表し、好ましくは５員環〜７員環の含窒素芳香族ヘ
テロ環であり、より好ましくは５員環又は６員環の含窒素芳香族ヘテロ環であり、例えば、イミダゾール環、ピラゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、セレナゾール環、ベンゾトリアゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンズオキサゾール環、ベンゾセレナゾール環、チアジアゾール環、オキサジアゾール環、ナフトチアゾール環、ナフトオキサゾール環、アザベンズイミダゾール環、プリン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、トリアジン環、トリアザインデン環、テトラザインデン環等が挙げられ、さらに好ましくは、５員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、具体的にはイミダゾール環、ピラゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、ベンゾトリアゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンズオキサゾール環、チアジアゾール環、オキサジアゾール環が挙げられ、特に好ましくは、ベンゾトリアゾール環である。
Ｑ1で表される含窒素芳香族ヘテロ環はさらに置換基を有してもよく、置換基としては
後述の置換基Ｔが適用できる。また、置換基が複数ある場合にはそれぞれが縮環してさらに環を形成してもよい。
【００９１】
Ｑ2で表される芳香族環は芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、さらに他の環と縮合環を形成してもよい。
芳香族炭化水素環として好ましくは、炭素原子数６〜３０の単環又は二環の芳香族炭化水素環（ベンゼン環、ナフタレン環等）であり、より好ましくは炭素原子数６〜２０の芳香族炭化水素環であり、さらに好ましくは炭素原子数６〜１２の芳香族炭化水素環であり、特に好ましくはベンゼン環である。
芳香族ヘテロ環としては、窒素原子又は硫黄原子を含む芳香族ヘテロ環が好ましい。ヘテロ環の具体例としては、チオフェン環、イミダゾール環、ピラゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、トリアゾール環、トリアジン環、インドール環、インダゾール環、プリン環、チアゾリン環、チアゾール環、チアジアゾール環、オキサゾリン環、オキサゾール環、オキサジアゾール環、キノリン環、イソキノリン環、フタラジン環、ナフチリジン環、キノキサリン環、キナゾリン環、シンノリン環、プテリジン環、アクリジン環、フェナントロリン環、フェナジン環、テトラゾール環、ベンズイミダゾール環、ベンズオキサゾール環、ベンズチアゾール環、ベンゾトリアゾール環、テトラザインデン環が挙げられる。芳香族ヘテロ環の具体例としては、ピリジン環、トリアジン環、キノリン環が挙げられる。
Ｑ2で表される芳香族環として好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくはナフタレン環又はベンゼン環であり、さらに好ましくはベンゼン環である。Ｑ2はさらに置換基を有してもよく、後述の置換基Ｔが好ましい。
置換基Ｔとしては、例えば、アルキル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは炭素原子数１〜１２、特に好ましくは炭素原子数１〜８であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは炭素原子数２〜１２、特に好ましくは炭素原子数２〜８であり、例えばビニル、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは炭素原子数２〜１２、特に好ましくは炭素原子数２〜８であり、例えばプロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素原子数６〜３０、より好ましくは炭素原子数６〜２０、特に好ましくは炭素原子数６〜１２であり、例えばフェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。）、アミノ基（好ましくは炭素原子数０〜２０、より好ましくは炭素原子数０〜１０、特に好ましくは炭素原子数０〜６であり、例えばアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは炭素原子数１〜１２、特に好ましくは炭素原子数１〜８であり、例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素原子数６〜２０、より好ましくは炭素原子数６〜１６、特に好ましくは炭素原子数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは炭素原子数１〜１６、特に好ましくは炭素原子数１〜１２であり、例えばアセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは炭素原子数２〜１６、特に好ましくは炭素原子数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素原子数７〜２０、より好ましくは炭素原子数７〜１６、特に好ましくは炭素原子数７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニル基などが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは炭素原子数２〜１６、特に好ましくは炭素原子数２〜１０であり、例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは炭素原子数２〜１６、特に好ましくは炭素原子数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは炭素原子数２〜１６、特に好ましくは炭素原子数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素原子数７〜２０、より好ましくは炭素原子数７〜１６、特に好ましくは炭素原子数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは炭素原子数１〜１６、特に好ましくは炭素原子数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素原子数０〜２０、より好ましくは炭素原子数０〜１６、特に好ましくは炭素原子数０〜１２であり、例えばスルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは炭素原子数１〜１６、特に好ましくは炭素原子数１〜１２であり、例えばカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは炭素原子数１〜１６、特に好ましくは炭素原子数１〜１２であり、例えばメチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素原子数６〜２０、より好ましくは炭素原子数６〜１６、特に好ましくは炭素原子数６〜１２であり、例えばフェニルチオ基などが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは炭素原子数１〜１６、特に好ましくは炭素原子数１〜１２であり、例えばメシル基、トシル基などが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは炭素原子数１〜１６、特に好ましくは炭素原子数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは炭素原子数１〜１６、特に好ましくは炭素原子数１〜１２であり、例えばウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは炭素原子数１〜１６、特に好ましくは炭素原子数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素原子数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる。）、シリル基（好ましくは、炭素原子数３〜４０、より好ましくは炭素原子数３〜３０、特に好ましくは、炭素原子数３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）などが挙げられる。これらの置換基はさらに置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。
【００９２】
一般式（１０１）として好ましくは下記一般式（１０１−Ａ）で表される化合物である。
【００９３】
【化２１】
2008033285.tif 000023
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、及びＲ8はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を表す。）
【００９４】
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、及びＲ8はそれぞれ独立に水素原子又は
置換基を表し、置換基としては上述の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基はさらに別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。
Ｒ1及びＲ3として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、さらに好ましくは水素原子、炭素原子数１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは炭素原子数１〜１２のアルキル基（好ましくは炭素原子数４〜１２）である。
【００９５】
Ｒ2、及びＲ4として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、さらに好ましくは水素原子、炭素原子数１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。
【００９６】
Ｒ5及びＲ8として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、さらに好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。
【００９７】
Ｒ6及びＲ7として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、さらに好ましくは水素原子、ハロゲン原子であり、特に好ましくは水素原子、塩素原子である。
【００９８】
一般式（１０１）としてより好ましくは下記一般式（１０１−Ｂ）で表される化合物である。
【００９９】
【化２２】
2008033285.tif 000024
（式中、Ｒ1、Ｒ3、Ｒ6及びＲ7は一般式（１０１−Ａ）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。）
【０１００】
以下に一般式（１０１）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。
【０１０１】
【化２３】
2008033285.tif 000025
【０１０２】
【化２４】
2008033285.tif 000026
【０１０３】
以上、例にあげたベンゾトリアゾール系化合物の中でも、分子量が３２０以下のものを含まないセルロースアシレートフィルムを用いた場合、得られる位相差フィルムの保留性の点で有利であることが確認された。
【０１０４】
また本発明で用いることができる波長分散調整剤のひとつであるベンゾフェノン系化合物としては一般式（１０２）で示されるものが好ましく用いられる。
【０１０５】
【化２５】
2008033285.tif 000027
（式中、Ｑ1及びＱ2はそれぞれ独立に芳香族環を表す。ＸはＮＲ（Ｒは水素原子又は置換基を表す。）、酸素原子又は硫黄原子を表す。）
【０１０６】
Ｑ1及びＱ2で表される芳香族環は芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、さらに他の環と縮合環を形成してもよい。
Ｑ1及びＱ2で表される芳香族炭化水素環として好ましくは炭素原子数６〜３０の単環又は二環の芳香族炭化水素環（例えば、ベンゼン環、ナフタレン環などが挙げられる。）であり、より好ましくは炭素原子数６〜２０の芳香族炭化水素環、さらに好ましくは炭素原子数６〜１２の芳香族炭化水素環である。さらに好ましくはベンゼン環である。
Ｑ1及びＱ2で表される芳香族ヘテロ環として好ましくは酸素原子、窒素原子あるいは硫黄原子のどれかひとつを少なくとも１つ含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、フラン環、ピロール環、チオフェン環、イミダゾール環、ピラゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、トリアゾール環、トリアジン環、インドール環、インダゾール環、プリン環、チアゾリン環、チアゾール環、チアジアゾール環、オキサゾリン環、オキサゾール環、オキサジアゾール環、キノリン環、イソキノリン環、フタラジン環、ナフチリジン環、キノキサリン環、キナゾリン環、シンノリン環、プテリジン環、アクリジン環、フェナントロリン環、フェナジン環、テトラゾール環、ベンズイミダゾール環、ベンズオキサゾール環、ベンズチアゾール環、ベンゾトリアゾール環、テトラザインデン環などが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン環、トリアジン環、キノリン環である。
Ｑ1及びＱ2で表される芳香族環として好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくは炭素原子数６〜１０の芳香族炭化水素環であり、さらに好ましくはベンゼン環である。
【０１０７】
Ｑ1及びＱ2はさらに置換基を有してもよく、前述の置換基Ｔが好ましいが、置換基にカルボン酸やスルホン酸、４級アンモニウム塩を含むことはない。また、可能な場合には置換基同士が連結して環構造を形成してもよい。
【０１０８】
ＸはＮＲ（Ｒは水素原子又は置換基を表す。置換基としては上述の置換基Ｔが適用できる。）、酸素原子又は硫黄原子を表し、ＮＲ（Ｒとして好ましくはアシル基、スルホニル基であり、これらの置換基はさらに置換してもよい。）、又は酸素原子が好ましく、酸素原子がさらに好ましい。
【０１０９】
一般式（１０２）として好ましくは下記一般式（１０２−Ａ）で表される化合物である。
【０１１０】
【化２６】
2008033285.tif 000028
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を表す。）
【０１１１】
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、及びＲ9はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を表し、置換基としては前述の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基はさらに別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。
【０１１２】
Ｒ1、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ8及びＲ9として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、さらに好ましくは水素原子、炭素原子数１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。
【０１１３】
Ｒ2として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数０〜２０のアミノ基、炭素原子数１〜１２のアルコキシ基、炭素原子数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、さらに好ましくは炭素原子数１〜２０のアルコキシ基であり、特に好ましくは炭素原子数１〜１２のアルコキシ基である。
【０１１４】
Ｒ7として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数０〜２０のアミノ基、炭素原子数１〜１２のアルコキシ基、炭素原子数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、さらに好ましくは水素原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基（好ましくは炭素原子数１〜１２、より好ましくは炭素原子数１〜８、さらに好ましくはメチル基）であり、特に好ましくはメチル基、水素原子である。
【０１１５】
一般式（１０２）としてより好ましくは下記一般式（１０２−Ｂ）で表される化合物である。
【０１１６】
【化２７】
2008033285.tif 000029
（式中、Ｒ10は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基を表す。）
【０１１７】
Ｒ10は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基を表し、これらの基が有する置換基としては前述の置換基Ｔが好ましい。
Ｒ10として好ましくはアルキル基であり、より好ましくは炭素原子数５〜２０のアルキル基であり、さらに好ましくは炭素原子数５〜１２のアルキル基（ｎ−ヘキシル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ベンジル基、などが挙げられる。）であり、特に好ましくは、炭素原子数６〜１２のアルキル基（２−エチルヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ベンジル基）である。
【０１１８】
一般式（１０２）で表される化合物は特開平１１−１２２１９号公報に記載の公知の方法により合成できる。
以下に一般式（１０２）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。
【０１１９】
【化２８】
2008033285.tif 000030
【０１２０】
【化２９】
2008033285.tif 000031
【０１２１】
【化３０】
2008033285.tif 000032
【０１２２】
また本発明に用いることのできる波長分散調整剤のひとつであるシアノ基を含む化合物としては一般式（１０３）で示されるものが好ましく用いられる。
【０１２３】
【化３１】
2008033285.tif 000033
（式中、Ｑ1及びＱ2はそれぞれ独立に芳香族環を表す。Ｘ1及びＸ2は水素原子又は置換基を表し、少なくともどちらか１つはシアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環を表す。）
Ｑ1及びＱ2で表される芳香族環は芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、さらに他の環と縮合環を形成してもよい。
芳香族炭化水素環として好ましくは炭素原子数６〜３０の単環又は二環の芳香族炭化水素環（例えば、ベンゼン環、ナフタレン環等）であり、より好ましくは炭素原子数６〜２０の芳香族炭化水素環、さらに好ましくは炭素原子数６〜１２の芳香族炭化水素環であり、特に好ましくはベンゼン環である。
【０１２４】
芳香族ヘテロ環として好ましくは窒素原子又は硫黄原子を含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、チオフェン環、イミダゾール環、ピラゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、トリアゾール環、トリアジン環、インドール環、インダゾール環、プリン環、チアゾリン環、チアゾール環、チアジアゾール環、オキサゾリン環、オキサゾール環、オキサジアゾール環、キノリン環、イソキノリン環、フタラジン環、ナフチリジン環、キノキサリン環、キナゾリン環、シンノリン環、プテリジン環、アクリジン環、フェナントロリン環、フェナジン環、テトラゾール環、ベンズイミダゾール環、ベンズオキサゾール環、ベンズチアゾール環、ベンゾトリアゾール環、テトラザインデン環などが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン環、トリアジン環、キノリン環である。
【０１２５】
Ｑ1及びＱ2で表される芳香族環として好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくはベンゼン環である。
Ｑ1及びＱ2はさらに置換基を有してもよく、上述の置換基Ｔが好ましい。
【０１２６】
Ｘ1及びＸ2は水素原子又は置換基を表し、少なくともどちらか１つはシアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環を表す。Ｘ1及びＸ2で表される置換基は前述の置換基Ｔを適用することができる。また、Ｘ1及びＸ2はで表される置換基はさらに他の置換基によって置換されてもよく、Ｘ1及びＸ2はそれぞれが縮環して環構造を形成してもよい。
【０１２７】
Ｘ1及びＸ2として好ましくは、水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、ニトロ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、さらに好ましくはシアノ基、カルボニル基であり、特に好ましくはシアノ基、アルコキシカルボニル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ（Ｒは：炭素原子数１〜２０アルキル基、炭素原子数６〜１２のアリール基及びこれらを組み合せたもの）である。
【０１２８】
一般式（１０３）として好ましくは下記一般式（１０３−Ａ）で表される化合物である。
【０１２９】
【化３２】
2008033285.tif 000034
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を表す。Ｘ1及びＸ2は一般式（１０３）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。）
【０１３０】
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を表し、置換基としては前述の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基はさらに別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。
【０１３１】
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ9及びＲ10として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、さらに好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。
【０１３２】
Ｒ3及びＲ8として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数０〜２０のアミノ基、炭素原子数１〜１２のアルコキシ基、炭素原子数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、さらに好ましくは水素原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数１〜１２アルコキシ基であり、特に好ましくは水素原子である。
【０１３３】
一般式（１０３）としてより好ましくは下記一般式（１０３−Ｂ）で表される化合物である。
【０１３４】
【化３３】
2008033285.tif 000035
（式中、Ｒ3及びＲ8は一般式（１０３−Ａ）におけるそれらと同義であり、また、好ましい範囲も同様である。Ｘ3は水素原子又は置換基を表す。）
Ｘ3は水素原子又は置換基を表し、置換基としては前述の置換基Ｔが適用でき、また、可能な場合はさらに他の置換基で置換されてもよい。Ｘ3として好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、ニトロ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、さらに好ましくはシアノ基、カルボニル基であり、特に好ましくはシアノ基、アルコキシカルボニル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ（Ｒは：炭素原子数１〜２０アルキル基、炭素原子数６〜１２のアリール基及びこれらを組み合せたもの）である。
【０１３５】
一般式（１０３）としてさらに好ましくは一般式（１０３−Ｃ）で表される化合物である。
【０１３６】
【化３４】
2008033285.tif 000036
（式中、Ｒ3及びＲ8は一般式（１０３−Ａ）におけるそれらと同義であり、また、好ましい範囲も同様である。Ｒ21は炭素原子数１〜２０のアルキル基を表す。）
【０１３７】
Ｒ21として好ましくはＲ3及びＲ8が両方水素の場合には、炭素原子数２〜１２のアルキル基であり、より好ましくは炭素原子数４〜１２のアルキル基であり、さらに好ましくは、炭素原子数６〜１２のアルキル基であり、特に好ましくは、ｎ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、２−エチルへキシル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基であり、最も好ましくは２−エチルへキシル基である。
【０１３８】
Ｒ21として好ましくはＲ3及びＲ8が水素以外の場合には、一般式（１０３−Ｃ）で表される化合物の分子量が３００以上になり、かつ炭素原子数２０以下の炭素原子数のアルキル基が好ましい。
【０１３９】
一般式（１０３）で表される化合物はＪｏｕｎａｌ  ｏｆ  Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ  ６３巻  ３４５２頁（１９４１）記載の方法によって合成できる。
【０１４０】
以下に一般式（１０３）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。
【０１４１】
【化３５】
2008033285.tif 000037
【０１４２】
【化３６】
2008033285.tif 000038
【０１４３】
【化３７】
2008033285.tif 000039
【０１４４】
［第一の位相差フィルムの光学異方性層］
本発明の位相差フィルムは、位相差フィルム全体として、正面レターデーションＲｅと厚さ方向のレターデーションＲｔｈが下記式［３］を満たし、且つ波長分散性が下記式［４］を満たすことが必要である。
［３］０≦Ｒｅ（５５０）≦１０かつ１００≦Ｒｔｈ（５５０）≦３００
［４］１．０４≦Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）≦１．３０
【０１４５】
本発明の位相差フィルムの光学異方性層は、前記光学特性を有する限り、基本的にその材料及び形態については特に制限されない。例えば、ポリマーフィルム（好ましくは、複屈折ポリマーフィルムからなる位相差膜）、支持体上に高分子化合物を形成後に加熱延伸した膜、及び支持体上に低分子若しくは高分子液晶性化合物を塗布又は転写することによって形成された位相差層を有する位相差膜など、いずれも使用することができる。また、それぞれを積層して使用することもできる。
【０１４６】
例えば、低分子液晶性化合物としては、ホメオトロピック配向した重合性の円盤状液晶性化合物が好ましい。
【０１４７】
本発明において、円盤状液晶性化合物を含む光学異方性層は、円盤状液晶性化合物及び後述する一般式（Ｉ）、（ＩＩ）、又は（ＩＩＩ）で表される化合物の少なくとも一種を含有することが好ましい。
【０１４８】
円盤状液晶性化合物は、後述する一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で表される化合物の少なくとも一種を併用することによって、ポリマーフィルム面に対して実質的に水平に配向させることができる。ここで、実質的に水平とは、円盤状液晶性化合物の円盤面と光学異方性層の面との平均角度（平均傾斜角）が０°〜１０°の範囲内であることを意味する。
円盤状液晶性化合物は、様々な文献（C. Destrade et al., Mol. Crysr. Liq. Cryst., vol. 71, page 111 (1981) ；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、
第５章、第一０章第二節(1994)；B. Kohne et al., Angew. Chem. Soc. Chem. Comm., page 1794 (1985)；J. Zhang et al., J. Am.Chem. Soc., vol. 116, page 2655 (1994)）に記載されているものを広く採用することができる。円盤状液晶性化合物の重合については、例えば、特開平８−２７２８４号公報に記載の方法を採用できる。
【０１４９】
円盤状液晶性化合物は、重合により固定可能なように、重合性基を有するのが好ましい。例えば、円盤状液晶性化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させた構造が考えられる。また、円盤状コアと重合性基との間に連結基を有する構造がより好ましい。連結基を有する構造を採用すると、重合反応において配向状態を保つことがより容易になる。重合性基を有する円盤状液晶性化合物は、下記一般式（ＶＩ）で表わされる化合物が好ましい。
一般式（ＶＩ）
Ｄ（−Ｌ−Ｐ）n
（一般式（ＶＩ）中、Ｄは円盤状コアであり、Ｌは二価の連結基であり、Ｐは重合性基であり、ｎは４〜１２の整数である。）
【０１５０】
前記式（ＶＩ）中の円盤状コア（Ｄ）、二価の連結基（Ｌ）及び重合性基（Ｐ）は、例えば、特開２００１−４８３７号公報に記載の（Ｄ１）〜（Ｄ１５）、（Ｌ１）〜（Ｌ２５）、（Ｐ１）〜（Ｐ１８）をそれぞれ、用いることができる。具体的には以下に示すＴＥ−８が挙げられる。
【０１５１】
【化３８】
2008033285.tif 000040
【０１５２】
重合性基を有する円盤状液晶性化合物の場合も、上述と同様に実質的に水平配向させる。この場合の円盤状液晶性化合物の具体例としては、国際公開ＷＯ０１／８８５７４Ａ１号パンフレットの５８頁６行〜６５頁８行に記載されているものも好ましく採用することができる。
【０１５３】
［含フッ素界面活性剤］
本発明の位相差フィルムの光学異方性層には、前記液晶性化合物を配向させ為、又は光学特性を面内で均一にする為に、少なくとも一種の含フッ素界面活性剤を含むことが好ましい。含フッ素界面活性剤は、低分子化合物でも高分子化合物でもよく、例えば、低分子化合物については、特開２００５−１２８０５０号公報に例示の化合物が好ましい。
【０１５４】
高分子化合物としては、下記一般式（１）で表される繰り返し単位を含むフルオロ脂肪族含有ポリマーを含有しているのが好ましい。
【０１５５】
【化３９】
2008033285.tif 000041
【０１５６】
一般式（１）中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）、又は後述する−Ｌ−Ｑで表される基であり、好ましくは水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、塩素原子、−Ｌ−Ｑで表される基であり、より好ましくは水素原子、炭素数１〜４のアルキル基であり、特に好ましいのは水素原子、炭素数１又は２のアルキル基である。該アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基等が挙げられる。該アルキル基は、適当な置換基を有していてもよい。該置換基としては、ハロゲン原子、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシル基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシル基、ヒドロキシル基、アシルオキシ基、アミノ基、アルコキシカルボニル基、アシルアミノ基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホニル基、スルファモイル基、スルホンアミド基、スルホリル基、カルボキシル基などが挙げられる。
なお、アルキル基の炭素数は、置換基の炭素原子を含まない。以下、他の基の炭素数についても同様である。
【０１５７】
Ｌは、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ4−、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−ＰＯ（ＯＲ5）−、アルキレン基、アリーレン基又はこれらを組み合わせて形成される２価の連結基を表す。ここでＲ4は、水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。Ｒ5はアルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。
Ｌとしては、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ4−、−Ｓ−、−ＳＯ2−、アルキレン基、又はアリーレン基を含むことが好ましく、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＲ4−、アルキレン基、又はアリーレン基を含んでいることが特に好ましい。
Ｌが、アルキレン基を含む場合、アルキレン基の炭素数は、好ましくは１〜１０、より好ましくは１〜８、特に好ましくは１〜６である。特に好ましいアルキレン基の具体例として、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラブチレン基、ヘキサメチレン基等が挙げられる。
Ｌが、アリーレン基を含む場合、アリーレン基の炭素数は、好ましくは６〜２４、より好ましくは６〜１８、特に好ましくは６〜１２である。特に好ましいアリーレン基の具体例として、フェニレン基、ナフタレン基等が挙げられる。
Ｌが、アルキレン基とアリーレン基を組み合わせて得られる２価の連結基（即ちアラルキレン基）を含む場合、アラルキレン基の炭素数は、好ましくは７〜３４、より好ましくは７〜２６、特に好ましくは７〜１６である。特に好ましいアラルキレン基の具体例として、フェニレンメチレン基、フェニレンエチレン基、メチレンフェニレン基等が挙げられる。
Ｌとして挙げられた基は、適当な置換基を有していてもよい。このような置換基としては先にＲ1〜Ｒ3における置換基として挙げた置換基と同様なものを挙げることができる。以下にＬの具体的構造を例示するが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
【０１５８】
【化４０】
2008033285.tif 000042
【０１５９】
【化４１】
2008033285.tif 000043
【０１６０】
Ｑは水素結合性を有する極性基であれば得に制限はない。好ましくは水酸基、カルボキシル基、カルボキシル基の塩（例えばリチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩（例えばアンモニウム、テトラメチルアンモニウム、トリメチル−２−ヒドロキシエチルアンモニウム、テトラブチルアンモニウム、トリメチルベンジルアンモニウム、ジメチルフェニルアンモニウムなど）、ピリジニウム塩など）、カルボン酸のアミド基（Ｎ無置換体、Ｎ−モノ低級アルキル置換体又はＮ−ジ低級アルキル置換体、例えば−ＣＯＮＨ2、−ＣＯＮＨＣＨ3、−ＣＯＮ（ＣＨ3）2、など）、スルホ基、スルホ基の塩（塩を形成するカチオンの例は上記カルボキシル基に記載のものと同じ）、スルホンアミド基（Ｎ無置換体、Ｎ−モノ低級アルキル置換体又はＮ−ジ低級アルキル置換体、例えば−ＳＯ2ＮＨ2、−ＳＯ2ＮＨＣＨ3、−ＳＯ2Ｎ（ＣＨ3）2など）、ホスホ基、ホスホ基の塩（塩を形成するカチオンの例は上記カルボキシル基に記載のものと同じ）、ホスホンアミド（Ｎ無置換体又はＮ−モノ低級アルキル置換体、例えば−ＯＰ（＝Ｏ）（ＮＨ2）2、−ＯＰ（＝Ｏ）（ＮＨＣＨ3）2など）、ウレイド基（−ＮＨＣＯＮＨ2）、Ｎ位が無置換又はモノ置換されたアミノ基（−ＮＨ2、−ＮＨＣＨ3）などである（ここで低級アルキル基はメチル基又はエチル基を表す）。より好ましくは水酸基、カルボキシル基、スルホ基、ホスホ基であり、特に好ましいのは水酸基又はカルボキシル基である。
【０１６１】
ポリマー中に含まれる上記繰り返し単位は、１種単独でも構わないし、２種以上の繰り返し単位が同時に存在していてもよい。カルボン酸を有する繰り返し単位やアクリルアミド基を有する繰り返し単位が特に好ましい。
【０１６２】
また前記フルオロ脂肪族含有ポリマーは、フルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される繰り返し単位を１種又は２種以上有していてもよい。好ましくは、特開２００６−１２６７６８号公報の一般式（Ｉ）又は一般式（II）で記載されているフルオロ脂肪族基含有モノマーを含むことが好ましい。具体的には、特開２００６−１２６７６８号公報の［００３３］〜［００４４］に記載のモノマー群から選ばれるモノマーから誘導される繰り返し単位を１種含有していてもよいし、２種以上含有していてもよい。
【０１６３】
さらに、前記フルオロ脂肪族含有ポリマーは上記以外の他の繰り返し単位を含んでいてもよい。前記他の繰り返し単位については特に制限されず、通常のラジカル重合反応可能なモノマーから誘導される繰り返し単位が好ましい例として挙げられる。前記フルオロ脂肪族含有ポリマーは、特開２００４−４６０３８号公報の［００２６］〜［００３３］に記載のモノマー群から選ばれるモノマーから誘導される繰り返し単位を１種含有していてもよいし、２種以上含有していてもよい。
【０１６４】
また、前記フルオロ脂肪族含有ポリマーは、特開２００４−３３３８５２号公報に記載されている一般式[２]で表されるモノマーから誘導される繰り返し単位を含んでいてもよい。
【０１６５】
なお、前記フルオロ脂肪族含有ポリマーは、液晶性化合物の配向状態を固定化するために置換基として重合性基を有するものでもよい。
【０１６６】
本発明に用いられる前記フルオロ脂肪族含有ポリマー中、フルオロ脂肪族基を有するモノマーの重合単位は、該フッ素ポリマーを構成する全重合単位に基づいて、２５〜９９質量％であることが好ましい。より好ましい割合はフルオロ脂肪族基の構造によって異なり、特開２００６−１２６７６８号公報の一般式(Ｉ)で表されるモノマーの重合単位は、該フッ素ポリマーを構成する全重合単位に基づいて５０〜９９質量％であることが好ましく、６０〜９７質量％であることがより好ましく、７０〜９５質量％であることがさらに好ましい。特開２００６−１２６７６８号公報の一般式(II)で表されるモノマーの重合単位は、該フッ素ポリマーを構成する全重合単位に基づいて２５〜８０質量％であることが好ましく、３０〜７０質量％であることがより好ましく、３５〜６５質量％であることがさらに好ましい。また、一つのポリマー中に２種類以上のフルオロ脂肪族基含有モノマーが含まれていてもよく、一般式(Ｉ)で表されるモノマーと一般式(II)で表されるモノマーがそれぞれ一種以上同時に含まれていてもよい。
【０１６７】
本発明に用いられる前記フルオロ脂肪族含有ポリマーの好ましい質量平均分子量は、２，０００〜１００，０００であり、より好ましくは３，０００〜８０，０００であり、さらに好ましくは４，０００〜６０，０００である。ここで、質量平均分子量及び分子量は、ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ４０００ＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ２０００ＨｘＬ（何れも東ソー（株）製の商品名）のカラムを使用したＧＰＣ分析装置により、溶媒ＴＨＦ、示差屈折計検出によるポリスチレン換算で表した分子量である。
【０１６８】
本発明に用いられる前記フルオロ脂肪族含有ポリマーは、公知慣用の方法で製造することができる。例えば、フッ素系モノマー、水素結合性基を有するモノマー等を含む有機溶媒中に、汎用のラジカル重合開始剤を添加し、重合させることにより製造できる。また、場合によりその他の付加重合性不飽和化合物を、さらに添加して上記と同じ方法にて製造することができる。各モノマーの重合性に応じ、反応容器にモノマーと開始剤を滴下しながら重合する滴下重合法なども、均一な組成のポリマーを得るために有効である。より具体的には、特開２００４−４６０３８号公報の［００３５］〜［００４１］に記載の方法を用いることが好ましい。
【０１６９】
［液晶性化合物の配向状態の固定化］
本発明の位相差フィルムの光学異方性層を、液晶性化合物から形成する場合は、配向させた液晶性化合物を、配向状態を維持して固定化することが好ましい。固定化は、液晶性化合物に導入した重合性基の重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれるが、光重合反応がより好ましい。光重合開始剤としては、例えば、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書に記載のもの）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書に記載のもの）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書に記載のもの）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書に記載のもの）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書に記載のもの）、アクリジン化合物及びフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書に記載のもの）及びオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書に記載のもの）を採用することができる。
【０１７０】
光重合開始剤の使用量は、光学異方性層塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがより好ましい。液晶性化合物の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜５０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。光学異方性層の厚さは、０．１〜１０μｍであることが好ましく、０．５〜５μｍであることがより好ましい。
【０１７１】
光学異方性層は、液晶性化合物及び上記の重合開始剤や他の添加剤を含む光学異方性層塗布液を、配向膜の上に塗布して形成するのが好ましい。光学異方性層塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒としては、例えば、アミド（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例えば、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジン）、炭化水素（例えば、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例えば、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例えば、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例えば、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例えば、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）を採用することができる。この中でも、アルキルハライド及びケトンが好ましい。さらに、二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。塗布液の塗布は、公知の方法（例えば、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）を広く採用することができる。
【０１７２】
［配向膜］
液晶性化合物を配向させるために、配向膜を用いることが好ましい。さらに電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により配向機能が生じる配向膜も知られている。配向膜に使用するポリマーの種類は、液晶性化合物の配向（特に平均傾斜角）に応じて決定することができる。例えば、液晶性化合物を水平に配向させるためには配向膜の表面エネルギーを低下させないポリマー（通常の配向用ポリマー）を用いる。具体的なポリマーの種類については液晶セル又は光学補償シートについての公知の文献に記載されている事項を広く採用することができる。特に、ラビング処理の方向に対して直交する方向に液晶性化合物を配向する場合には、例えば、特開２００２−６２４２７号公報に記載の変性ポリビニルアルコール、特開２００２−９８８３６号公報に記載のアクリル酸系コポリマー、特開２００２−２６８０６８号公報に記載のポリイミド、ポリアミック酸を好ましく用いることができる。いずれの配向膜においても、液晶性化合物と支持体の密着性をよりよくする目的で、重合性基を有することが好ましい。重合性基は、側鎖に重合性基を有する繰り返し単位を導入するか、あるいは、環状基の置換基として導入することができる。界面で液晶性化合物と化学結合を形成する配向膜を用いることがより好ましく、かかる配向膜としては、例えば、特開平９−１５２５０９号公報に記載されているものが採用できる。
【０１７３】
配向膜の厚さは０．０１〜５μｍであることが好ましく、０．０５〜２μｍであることがさらに好ましい。なお、配向膜を用いて液晶性化合物を配向させてから、その配向状態のまま液晶性化合物を固定して光学異方性層を形成し、光学異方性層のみをポリマーフィルム（又は支持体）上に転写してもよい。
【０１７４】
また他の光学異方性層の好ましい例としては、三次元架橋が可能な反射波長が紫外線領域にあるツイスト配向した重合性のカイラルネマチック（コレステリック）液晶層に用いられる液晶モノマー分子（重合性液晶分子）が挙げられる。例えば、特開平７−２５８６３８号公報や特表平１０−５０８８８２号公報で開示されているような液晶性モノマーとキラル化合物の混合物がある。このような重合性液晶材料の一例としては、次の化合物Ｋに包含されるような化合物や、下記の化合物Ａ〜化合物Ｊの化合物の２種類以上を混合して使用することができる。なお、化合物Ｋで示される液晶性モノマーの場合、Ｘは２〜５の整数であることが好ましい。
【０１７５】
また、カイラル剤としては、例えば化合物Ｌ〜化合物Ｎに示されるようなカイラル剤を用いることができる。なお、化合物Ｌ、化合物Ｍで示されるカイラル剤の場合、Ｘは２〜１２の整数であることが望ましく、また、化合物Ｎで示されるカイラル剤の場合、Ｘが２〜５の整数であることが望ましい。
【０１７６】
【化４２】
2008033285.tif 000044
【０１７７】
【化４３】
2008033285.tif 000045
【０１７８】
【化４４】
2008033285.tif 000046
【０１７９】
【化４５】
2008033285.tif 000047
【０１８０】
【化４６】
2008033285.tif 000048
【０１８１】
【化４７】
2008033285.tif 000049
【０１８２】
【化４８】
2008033285.tif 000050
【０１８３】
【化４９】
2008033285.tif 000051
【０１８４】
【化５０】
2008033285.tif 000052
【０１８５】
【化５１】
2008033285.tif 000053
【０１８６】
【化５２】
2008033285.tif 000054
【０１８７】
【化５３】
2008033285.tif 000055
【０１８８】
【化５４】
2008033285.tif 000056
【０１８９】
【化５５】
2008033285.tif 000057
【０１９０】
さらに他の光学異方性層の好ましい例としては、成膜後にフィルム面の法線方向に対する面内方向の屈折率が大きくなる各種ポリマー材料、ポリマーを与え得る重合可能な低分子化合物等が挙げられる。具体的には特開平２０００−１９０３８５号公報で開示されている材料が使用可能である。例えば、少なくとも１種類以上の芳香族環を有するポリアミド、ポリイミド、ポリアミック酸、ポリエステルあるいはポリエステルアミド等の各種のポリマー、又はこれらのポリマーを与えうる重合可能な低分子化合物を挙げることができる。これらは単独で用いてもよいし、混合して用いてもよい。
また、上記ポリマーフィルム等を成膜後にさらにフィルムを延伸して、面内の光学異方性を大きくするような工程を加えたフィルムを採用することもできる。延伸処理には逐次方式や同時方式等による二軸延伸方式、自由端方式や固定端方式等の一軸延伸方式などの適宜な方式の１種又は２種以上を適用することができる。Ｒｔｈを効果的に発現させる観点から、二軸延伸方式が好ましい。
【０１９１】
前記ポリアミドとしては、例えば下記式（１）で表わされる重合単位を含むポリマーが挙げられる。
【０１９２】
【化５６】
2008033285.tif 000058
【０１９３】
式中Ｘ及びＲ1は、任意の残基であって、少なくとも一方が芳香環を含む基である。
【０１９４】
前記Ｘは、下記のいずれかで表されることが好ましい。ここで、Ｍｅはメチル基である。
【０１９５】
【化５７】
2008033285.tif 000059
【０１９６】
Ｒ1は、下記のいずれかで表されることが好ましい。
【化５８】
2008033285.tif 000060
【０１９７】
【化５９】
2008033285.tif 000061
但し、上記式中ｒは２〜１２の数を示し、ｓは１〜５００の数を示し、ｔは０〜５００の数を示す。
【０１９８】
前記ポリイミドとしては、例えば下記式（６）で示されるポリマー：
【化６０】
2008033285.tif 000062
（式中ｍは平均重合度である。またＹは、
【化６１】
2008033285.tif 000063
【０１９９】
等の基を示し、Ｒ2は、
【化６２】
2008033285.tif 000064
等を表す。
前記ポリアミック酸としては、例えば下記式（１０）〜（１２）で示されるポリマーを挙げることができる。
【０２００】
【化６３】
2008033285.tif 000065
（式中ｎは２〜４００の数を示す。）
なお、前記ポリアミック酸を用いる場合、溶液塗布、乾燥した後、熱処理によりイミド化することが好ましい。
【０２０１】
［第二の位相差フィルム］
本発明の液晶表示装置では、上記第一位相差フィルムと第二位相差フィルムを有することが好ましい。ここで、第二の位相差フィルムの正面レターデーション及び厚さ方向のレターデーションが下記式［６］を満たし、及び／又は、第二の位相差フィルムの波長分散が、下記式［７］を満たすことが好ましい。
［６］７０≦Ｒｅ（５５０）≦１８０かつ３０≦Ｒｔｈ（５５０）≦１４０
［７］０．７≦Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．０
本発明で用いることができる第二の位相差フィルムは、光学的に一軸でも二軸性でもよい。また、本発明で用いることができる第二の位相差フィルムは、高分子が好ましいが希望するフィルムの諸特性が得られるものであれば特に制約はない。採用する高分子としては、均一な二軸配向が達成できるものであれば特に制限はないが、例えば、ノルボルネン系高分子、ポリカーボネート系高分子、ポリアリレート系高分子、ポリエステル系高分子、ポリサルフォン等の芳香族系高分子、トリアセチルセルロース等、溶液流延法や押出し成形方式等で製膜できるものが挙げられる。二軸性の光学異方性層は、押出し成形方式や流延製膜方式等の適宜な方式で製造したフィルムを、例えば、ロールによる縦延伸方式、テンターによる横延伸方式や二軸延伸方式などにより、延伸処理することにより形成することができる。
【０２０２】
本発明で用いることができる第二の位相差フィルムのＲｅの値は、好ましくは８０〜１７０ｎｍであり、より好ましくは９０〜１６０ｎｍである。また、Ｒｔｈの値は、好ましくは４０〜１２０ｎｍであり、より好ましくは５０〜１００ｎｍである。
また、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）で表される波長分散性は、好ましくは０．７３〜０．９５であり、より好ましくは０．７５〜０．９０である。
【０２０３】
前記のロールによる縦延伸方式では加熱ロールを用いる方法や雰囲気を加熱する方法、それらを併用する方法等の加熱方法を採ることができる。また、テンターによる二軸延伸方式では全テンター方式による同時二軸延伸方法や、ロール・テンター法による逐次二軸延伸方法等の方法を採ることができる。また、配向ムラや位相差ムラの少ないものが好ましい。その厚さは、位相差等により適宜に決定しうるが、一般には薄型化の点より１〜３００μｍが好ましく、１０〜２００μｍがより好ましく、２０〜１５０μｍがさらに好ましい。
【０２０４】
上記光学異方性層に採用するノルボルネン系高分子としては、ノルボルネン及びその誘導体、テトラシクロドデセン及びその誘導体、ジシクロペンタジエン及びその誘導体、メタノテトラヒドロフルオレン及びその誘導体などのノルボルネン系モノマーを主成分とするモノマーの重合体を挙げることができる。例えば、ノルボルネン系モノマーの開環重合体、ノルボルネン系モノマーとこれと開環共重合可能なその他のモノマーとの開環共重合体、ノルボルネン系モノマーの付加重合体、ノルボルネン系モノマーとこれと共重合可能なその他のモノマーとの付加共重合体、及びこれらの水素添加物などが挙げられる。これらの中でも、耐熱性、機械的強度等の観点から、ノルボルネン系モノマーの開環重合体水素化物が最も好ましい。ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィンの重合体又は環状共役ジエンの重合体の分子量は、使用目的に応じて適宜選択される。例を挙げると、シクロヘキサン溶液（重合体樹脂が溶解しない場合はトルエン溶液）のゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーで測定したポリイソプレン又はポリスチレン換算の重量平均分子量で、好ましくは５，０００〜５００，０００、より好ましくは８，０００〜２００，０００、さらに好ましくは１０，０００〜１００，０００の範囲である。このような平均分子量であるときに、得られる光学異方性層のフィルムの機械的強度や成形加工性が高度にバランスされて好適である。
【０２０５】
上記光学異方性層に採用するポリカーボネート系高分子としては、ポリカーボネート及びその他のポリマーとの混合物が挙げられる。
【０２０６】
上記光学異方性層に採用するポリアリレート系高分子としては、ポリオキシベンゾエート等及びその他のポリマーとの混合物が挙げられる。
【０２０７】
上記光学異方性層に採用するポリエステル系高分子としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリフェニレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレン−２．６−ナフタレート等及びその他のポリマーとの混合物が挙げられる。
【０２０８】
上記光学異方性層に採用するポリサルフォン等の芳香族系高分子としては、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリアリルサルフォン等及びその他のポリマーとの混合物が挙げられる。
【０２０９】
本発明の光学異方性層で採用する高分子のガラス転移温度Ｔｇは、使用目的に応じて適宜定められる。当該樹脂のガラス移転温度は、好ましくは７０℃以上、より好ましくは８０℃〜２５０℃、さらに好ましくは９０℃〜２００℃の範囲である。この範囲の樹脂を採用すると、耐熱性と成形加工性とが高度にバランスされ好適である。
【０２１０】
本発明の第二の位相差フィルムとして、最も好ましい例としては、特開２０００−１３７１１６号公報、特開２００２−１４２３４号公報、特開２００２−４８９１９号公報、国際公開ＷＯ００／２６７０５号パンフレット、特開平２−１２０８０４号公報等で開示されているようなレターデーションが逆波長分散特性を持つ延伸高分子フィルム又は複合延伸フィルムが使用可能である。代表的には、液晶を含有させてフィルム化して延伸して作製したフルオレン骨格を有するポリカーボネートフィルム、フィルム化して延伸して作製したセルロースアセテートフィルム、正波長分散特性の芳香族ポリエステルポリマーと逆波長分散特性の芳香族ポリエステルポリマーとの混合物をフィルム化して延伸して作製したフィルム、異なる波長分散特性の高分子を形成するモノマー単位を含む共重合体からなる高分子をフィルム化して延伸して作製したフィルム、波長分散特性の異なる２枚の延伸フィルムを積層した複合フィルム等がある。
【０２１１】
樹脂をシート又はフィルム状に成形する方法は、例えば、加熱溶融成形法、溶液流延法のいずれも用いることができる。加熱溶融成形法は、さらに詳細に、押出成形法、プレス成形法、インフレーション成形法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法などに分類できるが、これらの方法の中でも、機械的強度、表面精度等に優れたフィルムを得るためには、押出成形法、インフレーション成形法、及びプレス成形法が好ましく、押出成形法が最も好ましい。成形条件は、使用目的や成形方法により適宜選択されるが、加熱溶融成形法による場合は、シリンダー温度が、好ましくは１００〜４００℃、より好ましくは１５０〜３５０℃の範囲で適宜設定される。上記シート又はフィルムの厚みは、好ましくは１０〜３００μｍであり、より好ましくは３０〜２００μｍである。
【０２１２】
上記シート又はフィルムの延伸は、上記光学異方性層で採用する高分子のガラス転移温度をＴｇとするとき、好ましくは（Ｔｇ−３０）℃〜（Ｔｇ＋６０）℃の温度範囲、より好ましくは（Ｔｇ−１０）℃〜（Ｔｇ＋５０）℃の温度で、少なくとも一方向に、好ましくは１．０１〜２倍の延伸倍率で行う。延伸方向は、シートが押出成形で得られたものである場合には、樹脂の機械的流れ方向（押出方向）であることが好ましい。また、延伸方法は自由収縮一軸延伸法、幅固定一軸延伸法、二軸延伸法などが好ましい。
【０２１３】
ここで、延伸の具体的な方法の一例をあげる。
（１）シートを、一定温度に加熱されたロール（加熱ロール）に通して所望の温度に調整する。
（２）次いで、温度を調整したシートを、回転速度の比較的遅い第一ロールから回転速度のより速い第二ロールの順に通過させることにより延伸する。第一ロールの回転速度と第二ロールの回転速度の速度比を制御することにより延伸倍率を１〜４倍の範囲で調整することができる。なお、加熱ロール、第一ロール、及び第二ロールの間に、赤外線ヒータなどを設置して、シートの温度を一定に保持するのが好ましい。
（３）延伸されたフィルムを、冷却ロールに通して冷却する。
（４）冷却された延伸フィルムを巻き取りロールで巻き取って回収する。巻取りによるフィルム同士のブロッキングを防止する目的で、延伸フィルムと同程度の幅のマスキングフィルムを重ねて一緒に巻き取ってもよいし、延伸フィルムの少なくとも一方の端、好ましくは両方の端に、弱い粘着力の幅細のテープ等を貼り付けながら一緒に巻き取ってもよい。
上記方法の工程（１）で、加熱ロールを通過させるシートは、その温度が加熱ロールよりも高い状態、すなわち押出機等によって成形された直後の状態のものであってもよい。また、高い延伸倍率にすることができることから、加熱ロールよりも低い温度のもの、室温（例えば、２５〜３０℃）のものであってもよい。好ましくは、室温のものである。このように低い温度のシートは、シートを成形した後に、一旦冷却し、ロールに巻き取り回収することによって得ることができる。また、延伸速度は、好ましくは５〜１０００ｍｍ／秒、より好ましくは１０〜７５０ｍｍ／秒である。延伸速度が上記範囲にあると、延伸制御が容易となり、さらに表面精度やレターデーションの面内バラツキをより小さくすることが可能となる。
【０２１４】
［偏光膜］
次に、本発明の液晶表示装置に用いられる偏光膜について、詳細に説明する。本発明で採用する偏光膜は、特に制限されず、公知のものを広く採用することができる。例えば、ポリビニルアルコールや部分ホルマール化ポリビニルアルコール、エチレン・酢酸ビニル共重合体部分ケン化物等の親水性ポリマーからなるフィルムに、ヨウ素及び／又はアゾ系やアントラキノン系、テトラジン系等の二色性染料などからなる二色性物質を吸着させて、延伸配向処理したもの等を用いることができる。本発明では、特開２００２−１３１５４８号公報に記載の延伸方法を用いることが好ましく、特に、偏光膜の吸収軸が長手方向に対して実質的に直交する、幅方向一軸延伸型テンター延伸機を用いることが好ましい。
【０２１５】
偏光膜は、その両面が保護フィルムによって保護された偏光板として用いられる。本発明の位相差フィルムは、後述するとおり、偏光膜の保護フィルムとして好ましく用いられる。
保護フィルムとして、本発明の位相差フィルム以外保護フィルムを用いる場合、該保護フィルムの種類は特に限定されず、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースプロピオネート等のセルロースエステル類、ポリカーボネート、ポリオレフィン、ポリスチレン、ポリエステル等を用いることができる。保護フィルムは、通常、ロール形態で供給され、長尺の偏光膜に対して、長手方向が一致するようにして連続して貼り合わされることが好ましい。ここで、保護フィルムの配向軸（遅相軸）はいずれの方向であってもよいが、操作上の簡便性から、保護フィルムの配向軸は、長手方向に平行であることが好ましい。また、保護フィルムの遅相軸（配向軸）と偏光膜の吸収軸（延伸軸）の角度も特に限定的でなく、偏光板の目的に応じて適宜設定できる。
【０２１６】
保護フィルムとして、本発明の位相差フィルム以外保護フィルムを用いる場合、保護フィルムのＲｅ値は、例えば６３２．８ｎｍにおいて１０ｎｍ以下が好ましく、５ｎｍ以下がさらに好ましい。このような低レターデーションの観点から、保護フィルムとして使用するポリマーはセルローストリアセテート、ゼオネックス、ゼオノア（共に日本ゼオン（株）製）、ＡＲＴＯＮ（ＪＳＲ（株）製）のようなポリオレフィン類が好ましく用いられる。その他、例えば特開平８−１１０４０２号公報又は特開平１１−２９３１１６号公報に記載されているような非複屈折性光学樹脂材料が挙げられる。なお、保護フィルムにセルロースアセテートを用いる場合には、環境の温湿度によるレターデーション変化を小さくおさえる目的から、Ｒｅ、Ｒｔｈは１０ｎｍ未満であることが好ましく、さらに２ｎｍ以下であることが好ましい。
【０２１７】
本発明では、薄型化等を目的に、偏光膜の保護フィルムのうち一方が、光学異方性層の支持体を兼ねていてもよいし、また光学異方性層そのものであってもよい。光学異方性層と偏光膜は、光学軸のズレ防止やゴミなどの異物の侵入防止などの点から、固着処理されていることが好ましい。その固着積層には例えば透明接着層を介した接着方式などの適宜な方式を適用することができる。その接着剤等の種類について特に限定はなく、構成部材の光学特性の変化防止などの点から、接着処理時の硬化や乾燥の際に高温のプロセスを要しないものが好ましく、長時間の硬化処理や乾燥時間を要しないものが望ましい。このような観点から、親水性ポリマー系接着剤や粘着層が好ましく用いられる。
【０２１８】
前記粘着層の形成には、例えばアクリル系重合体やシリコーン系ポリマー、ポリエステルやポリウレタン、ポリエーテルや合成ゴムなどの適宜なポリマーを用いてなる透明粘着剤を用いることができる。このうち、光学的透明性や粘着特性、耐候性などの点よりアクリル系粘着剤が好ましい。なお粘着層は、液晶セル等の被着体への接着を目的に偏光板の片面又は両面に必要に応じて設けることもできる。その場合、粘着層が表面に露出するときにはそれを実用に供するまでの間、セパレータ等を仮着して粘着層表面の汚染等を防止することが好ましい。
【０２１９】
偏光膜の片面又は両面に、上記の保護フィルムに準じた耐水性等の各種目的の保護フィルム、表面反射の防止等を目的とした反射防止層又は／及び防眩処理層などの適宜な機能層を形成した偏光板を用いてもよい。前記反射防止層は、例えばフッ素系ポリマーのコート層や多層金属蒸着膜等の光干渉性の膜などとして適宜に形成することができる。また防眩処理層も例えば微粒子含有の樹脂塗工層やエンボス加工、サンドブラスト加工やエッチング加工等の適宜な方式で表面に微細凹凸構造を付与するなどにより表面反射光が拡散する適宜な方式で形成することができる。
【０２２０】
なお前記の微粒子には、例えば平均粒子サイズが０．５〜２０μｍのシリカや酸化カルシウム、アルミナやチタニア、ジルコニアや酸化錫、酸化インジウムや酸化カドミウム、酸化アンチモン等の導電性のこともある無機系微粒子や、ポリメチルメタクリレートやポリウレタの如き適宜なポリマーからなる架橋又は未架橋の有機系微粒子などの適宜なものを１種又は２種以上用いうる。また上記した接着層ないし粘着層は、斯かる微粒子を含有して光拡散性を示すものであってもよい。
【０２２１】
［偏光板の光学性能］
本発明の偏光板は、保護フィルム及び偏光膜、必要に応じて支持体等を含む。本発明の偏光板の光学的性質及び耐久性（短期、長期での保存性）は、市販のスーパーハイコントラスト品（例えば、株式会社サンリッツ社製ＨＬＣ２−５６１８等）と同等以上の性能を有することが好ましい。具体的には、可視光透過率が４２．５％以上で、偏光度（｛（Ｔｐ−Ｔｃ）／（Ｔｐ＋Ｔｃ）｝1/2 ≧ ０．９９９５（ただし、Ｔｐは平行透過率、Ｔｃは直交透過率）であり、温度６０℃、湿度９０％ＲＨ雰囲気下に５００時間及び８０℃、ドライ雰囲気下に５００時間放置した場合のその前後における光透過率の変化率が絶対値に基づいて３％以下、さらには１％以下、偏光度の変化率は絶対値に基づいて１％以下、さらには０．１％以下であることが好ましい。
【実施例】
【０２２２】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。
【０２２３】
［実施例１］
＜液晶セルの作製＞
（垂直配向液晶セルの作製）
ポリビニルアルコール３質量％水溶液に、オクタデシルジメチルアンモニウムクロライド（カップリング剤）を１質量％添加した。これを、ＩＴＯ電極付きのガラス基板上にスピンコートし、１６０℃で熱処理した後、ラビング処理を施して、垂直配向膜を形成した。ラビング処理は、２枚のガラス基板において反対方向となるように実施した。セルギャップ（ｄ）が約５．０μｍとなるように２枚のガラス基板を向かい合わせた。セルギャップに、エステル系とエタン系を主成分とする液晶性化合物（Δｎ：０．０６）を注入し、垂直配向液晶セルを作製した。Δｎとｄとの積は３００ｎｍであった。
【０２２４】
＜支持体１の作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液Ａを調製した。
セルロースアセテート溶液Ａの組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
アセチル置換度２．９４のセルロースアセテート      １００．０質量部
メチレンクロライド（第一溶媒）                    ４０２．０質量部
メタノール（第二溶媒）                              ６０．０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２２５】
（マット剤溶液の調製）
平均粒子サイズ１６ｎｍのシリカ粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ  Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）を２０質量部、メタノール８０質量部を３０分間よく攪拌混合してシリカ粒子分散液とした。この分散液を下記の組成物とともに分散機に投入し、さらに３０分以上攪拌して各成分を溶解し、マット剤溶液を調製した。
マット剤溶液組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
平均粒子サイズ１６ｎｍのシリカ粒子分散液          １０．０質量部
メチレンクロライド（第一溶媒）                    ７６．３質量部
メタノール（第二溶媒）                              ３．４質量部
セルロースアセテート溶液Ａ                        １０．３質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２２６】
（添加剤溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、添加剤溶液を調製した。
添加剤溶液組成
――――――――――――――――――――――――――――――
下記のレターデーション低下剤            ４９．３質量部
下記の波長分散調整剤                      ４．９質量部
メチレンクロライド（第一溶媒）          ５８．４質量部
メタノール（第二溶媒）                    ８．７質量部
セルロースアセテート溶液Ａ              １２．８質量部
――――――――――――――――――――――――――――――
【０２２７】
【化６４】
2008033285.tif 000066
【０２２８】
【化６５】
2008033285.tif 000067
【０２２９】
（セルロースアセテートフィルムの作製）
上記セルロースアセテート溶液Ａを９４．６質量部、マット剤溶液を１．３質量部、添加剤溶液  ４．１質量部それぞれを濾過後に混合し、バンド流延機を用いて流延した。上記組成でレターデーション低下剤及び波長分散調整剤のセルロースアセテートに対する質量比はそれぞれ１２％、１．２％であった。残留溶剤量３０％でフィルムをバンドから剥離し、１４０℃で４０分間乾燥させ、厚さ８０μｍの長尺状のセルロースアセテートフィルムを製造した。得られたフィルムの面内レターデーション（Ｒｅ）は１ｎｍ、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は３ｎｍであった。
また、｜Ｒｅ（４００）−Ｒｅ（７００）｜は  ４ｎｍであり、｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜は１２ｎｍであった。
【０２３０】
＜支持体２の作製＞
支持体１と同様にして、流延膜厚を調整して、厚さ３５μｍの長尺状のセルロースアセテートフィルムを製造した。得られたフィルムの面内レターデーション（Ｒｅ）は０ｎｍ、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は０ｎｍであった。
また、｜Ｒｅ（４００）−Ｒｅ（７００）｜は２ｎｍであり、｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜は６ｎｍであった。
【０２３１】
＜支持体３の作製＞
支持体３を下記記載の方法により作製した。
（ポリマー１の作製）
下記組成物を四つ口フラスコ（投入口、温度計、環流冷却管、窒素導入口、攪拌機を装着）に投入し、徐々に８０℃まで昇温し、攪拌しながら５時間重合を行い、重合終了後ポリマー溶液を多量のメタノールに投入して沈殿させ、さらにメタノールで洗浄し、精製して乾燥し重量平均分子量３，０００（ＧＰＣにて測定）のポリマー１を得た。
メチルアクリレート                     １０質量部
２−ヒドロキシエチルアクリレート       １質量部
アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ） １質量部
トルエン                             ３０質量部
【０２３２】
（支持体３の製膜）
下記ドープ組成物を加圧密閉容器に投入し、７０℃まで加熱しして容器内圧力を１気圧以上とし、撹拌しながらセルロースエステルを完全に溶解させた。ドープ温度を３５℃まで下げて一晩静置し、このドープを安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過した後、さらに一晩静置し脱泡した。次いで日本精線（株）製のファインメットＮＭ（絶対濾過精度１００μｍ）、ファインポアＮＦ（絶対濾過精度５０μｍ、１５μｍ、５μｍの順に順次濾過精度を上げて使用）を使用して濾過圧力１．０×１０6Ｐａで濾過し製膜に供した。膜厚は４０μｍであった。
得られたフィルムの面内レターデーション（Ｒｅ）は０．６ｎｍ、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は−２．９ｎｍであった。
また、｜Ｒｅ（４００）−Ｒｅ（７００）｜は３ｎｍであり、｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜は１５ｎｍであった。
【０２３３】
〈ドープ組成物〉
セルローストリアセテート（置換度２．８３）  １００質量部
上記合成のポリマー１                          １５質量部
下記ＵＶ剤（１）                            ０．８質量部
下記ＵＶ剤（２）                            ０．２質量部
メチレンクロライド                          ４７５質量部
エタノール                                    ５０質量部
【０２３４】
【化６６】
2008033285.tif 000068
【０２３５】
【化６７】
2008033285.tif 000069
【０２３６】
＜支持体４の作製＞
支持体１のレターデーション低下剤を、前述の化合物Ａ−１に置き換えた以外は、支持体１と同様にして支持体４を作製した。
得られたフィルムの面内レターデーション（Ｒｅ）は０ｎｍ、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は２ｎｍであった。
また、｜Ｒｅ（４００）−Ｒｅ（７００）｜は３ｎｍであり、｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜は１０ｎｍであった。
【０２３７】
＜第一の位相差フィルム１の作製＞
支持体１の表面をケン化後、このフィルム上に下記の組成の配向膜塗布液をワイヤーバーコーターで２０ｍｌ／ｍ2塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥し、膜を形成した。次に、形成した膜にフィルムの遅相軸方向と平行の方向にラビング処理を施して配向膜を形成した。
配向膜塗布液の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の変性ポリビニルアルコール                  １０質量部
水                                            ３７１質量部
メタノール                                    １１９質量部
グルタルアルデヒド                            ０．５質量部
化合物Ｂ                                      ０．２質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２３８】
【化６８】
2008033285.tif 000070
【０２３９】
【化６９】
2008033285.tif 000071
【０２４０】
次に、下記の組成の光学異方性層塗布液を、ワイヤーバーで硬化後の厚さ方向のＲｔｈが２００ｎｍとなるように塗布した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の円盤状液晶性化合物                                      １．８ｇ
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                          ０．２ｇ
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）      ０．０６ｇ
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）            ０．０２ｇ
含フッ素ポリマー（下記の化合物Ａ）                          ０．０１ｇ
メチルエチルケトン                                            ３．９ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
これを金属の枠に貼り付けて、１２５℃の恒温槽中で３分間加熱し、円盤状液晶性化合物を配向させた。次に、１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、３０秒間ＵＶ照射し円盤状液晶性化合物を架橋した。ＵＶ硬化時の温度を８０℃として、位相差膜を得た。光学異方性層の厚さは、２．８μｍであった。その後、室温まで放冷した。このようにして、位相差フィルム１を製作した。位相差フィルム１の光学特性を表１に示す。
【０２４１】
【化７０】
2008033285.tif 000072
【０２４２】
【化７１】
2008033285.tif 000073
【０２４３】
＜第一の位相差フィルム２〜５の作製＞
次に、光学異方性層塗布液の塗布量を変更した以外は、第一の位相差フィルム１と同様にして、第一の位相差フィルム２〜５を作製した。得られた第一位相差フィルムの光学異方性層の厚さは、順に３．５μｍ、２．１μｍ、０．７μｍ、４．９μｍであった。作製した位相差フィルムの光学特性は、表１に示す。
【０２４４】
＜第一の位相差フィルム６の作製＞
次に、支持体２を使用した以外は、第一の位相差フィルム１と同様にして、第一の位相差フィルム６を作製した。作製した位相差フィルムの光学特性は、表１に示す。
【０２４５】
＜第一の位相差フィルム７の作製＞
次に、支持体３を使用した以外は、第一の位相差フィルム１と同様にして、第一の位相差フィルム７を作製した。作製した位相差フィルムの光学特性は、表１に示す。
【０２４６】
＜第一の位相差フィルム８の作製＞
次に、支持体として市販のセルロースアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士フイルム（株）製）を使用した以外は、第一の位相差フィルム３と同様にして、第一の位相差フィルム７を作製した。
ここで用いた支持体の光学特性は、面内レターデーション（Ｒｅ）は３ｎｍ、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は４５ｎｍであった。
また、｜Ｒｅ（４００）−Ｒｅ（７００）｜は５ｎｍであり、｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜は１３ｎｍであった。作製した位相差フィルムの光学特性は、表１に示す。
【０２４７】
＜第一の位相差フィルム９の作製＞
次に、下記の組成の光学異方性層塗布液を用いた以外は、第一の位相差フィルム１と同様にして、第一の位相差フィルム９を作製した。作製した位相差フィルムの光学特性は、表１に示す。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の円盤状液晶性化合物                            １．８ｇ
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                ０．２ｇ
光重合開始剤（下記の化合物Ｂ）                      ０．０４ｇ
含フッ素ポリマー（化合物Ａ）                        ０．０１ｇ
メチルエチルケトン                                  ３．９ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２４８】
【化７２】
2008033285.tif 000074
【０２４９】
【化７３】
2008033285.tif 000075
【０２５０】
＜第一の位相差フィルム１０の作製＞
次に、塗布液の塗布量を変更した以外は、第一の位相差フィルム９と同様にして、第一の位相差フィルム１０を作製した。作製した位相差フィルムの光学特性は、表１に示す。
【０２５１】
＜第一の位相差フィルム１１の作製＞
両端に重合可能なアクリレート基を有すると共に、中央部のメソゲンと上記アクリレートの間にスペーサを有する棒状液晶性化合物を７５質量部、光重合開始剤（Chiba Speciality Chemicals製、イルガキュアＩｒｇ１８４）を１質量部、溶剤としてのメチルエチルケトン２５質量部を混合し、さらにカイラル剤として両末端に重合可能なアクリレート基を有するカイラル剤を１０質量部加えて光学異方性層塗布液を調製した。
【０２５２】
【化７４】
2008033285.tif 000076
【０２５３】
【化７５】
2008033285.tif 000077
ここで、ｘは４である。
調製した上記光学異方性層塗布液を、第一の位相差フィルムと同様に、支持体１に鹸化処理、配向膜の塗設、さらにラビング処理した配向膜面に塗布、乾燥、ＵＶ硬化させ、カイラルネマチック（コレステリック）液晶層（光学異方性層）を得た。得られた光学異方性層の厚さは、（４．２）μｍであった。液晶層の螺旋ピッチは１８０ｎｍであり、反射波長は２８０ｎｍであった。作製した位相差フィルムの光学特性は、表１に示す。
【０２５４】
＜第一の位相差フィルム１２の作製＞
次に、支持体３を使用した以外は、第一の位相差フィルム１１と同様にして、第一の位相差フィルム１２を作製した。作製した位相差フィルムの光学特性は、表１に示す。
【０２５５】
＜第一の位相差フィルム１３の作製＞
次に、支持体として市販のセルロースアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士フイルム（株）製）を使用した以外は、第一の位相差フィルム１１と同様にして、第一の位相差フィルム１３を作製した。作製した位相差フィルムの光学特性は、表１に示す。
【０２５６】
＜第一の位相差フィルム１４の作製＞
次に、支持体１を使用し、光学異方性層として市販のセルロースアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士フイルム（株）製）を３枚粘着剤で貼り合せた積層フィルムを作製し、支持体と積層フィルムを粘着剤で貼り合せて、第一の位相差フィルム１４を作製した。作製した位相差フィルムの光学特性は、表１に示す。
【０２５７】
＜第一の位相差フィルム１５の作製＞
次に、支持体４を使用した以外は、第一の位相差フィルム１と同様にして、第一の位相差フィルム１５を作製した。作製した位相差フィルムの光学特性は、表１に示す。
【０２５８】
＜下側偏光板の作製＞
上記の第一の位相差フィルム１〜１５とフジタックＴＤ８０ＵＦを、偏光膜の両面にポリビニルアルコール系接着剤を用いてロールtoロールで貼り付け、一体型偏光板を作製した。各フィルムの積層角度は表示装置を上から見た時の左右の方向を基準（０°）にすると、図２に示すように、偏光膜吸収軸１０４（図１では１５）の軸角度は９０°、保護フィルム遅相軸１０２及び１０６の角度は９０°に設定した。作製した下側偏光板を、光学異方性層（図１では１０）が上側液晶セル基板（図１では８）に接するように、液晶表示装置に組み込んだ。
【０２５９】
＜上側偏光板の作製＞
保護フィルム（図２では１０５）として、市販のセルロースアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士フイルム（株）製、Ｒｅ値が３ｎｍ、Ｒｔｈ値が５０ｎｍ）を用いた。また、上側偏光板（図１では１）と上側液晶セル基板（図１では５）との間に、延伸フィルムからなる一軸の位相差フィルムとしてポリカーボネートフィルム（商品名：ピュアエースＷＲ（帝人（株））１枚配置した。このとき、位相差フィルムの面内の遅相軸が上側偏光板の透過軸と一致するように構成した。
ポリカーボネートフィルムの光学特性は、Ｒｅが１５５ｎｍ、Ｒｔｈが７８ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝０．８であった。
【０２６０】
＜液晶表示装置の表示特性の評価＞
以上のようにして作製した液晶表示装置において、装置正面からの方位角方向４５度、極角方向６０度における黒表示時の光漏れ及び正面からの色味変化を目視により以下の基準で評価した。
【０２６１】
（光漏れの判定基準）
Ａ：光漏れを感じない
Ｂ：微かに光漏れする
Ｃ：弱く光漏れする
Ｄ：強く光漏れする
【０２６２】
（色味変化の判定基準）
Ａ：着色を感じない
Ｂ：微かに着色する
Ｃ：弱く着色する
Ｄ：強く着色する
【０２６３】
表１に、各位相差フィルムの光学特性、及び表示特性評価結果を示す。
【０２６４】
【表１】
2008033285.tif 000078
【０２６５】
表１の評価結果より、支持体のレターデーションを小さくし、光学異方性層との組み合わせにより、位相差フィルムの光学特性を所望の値にすることにより、ＶＡ液晶表示装置の黒表示における斜めの漏れ光と色味変化を高度なレベルで両立することが成された。
さらに、本発明の液晶表示装置は、表示品位のみならず、視野角が著しく改善された。
【図面の簡単な説明】
【０２６６】
【図１】本発明の液晶表示装置の一例を示す概略図である。
【図２】本発明に使用可能な偏光板の一例を示す概略図である。
【符号の説明】
【０２６７】
１  上側偏光板
２  上側偏光板吸収軸の方向
３  第二の位相差フィルム
４  第二の位相差フィルム遅相軸の方向
５  液晶セル上電極基板
６  上基板配向制御方向
７  液晶分子
８  液晶セル下電極基板
９  下基板配向制御方向
１０  第一の位相差フィルム
１４  下側偏光板
１５  下側偏光板吸収軸の方向
１０１  偏光板保護フィルム
１０２  偏光板保護フィルム遅相軸の方向
１０３  偏光板偏光膜
１０４  偏光膜吸収軸の方向
１０５  偏光板保護フィルム
１０６  偏光板保護フィルム遅相軸の方向
【図１】
2008033285.tif 000079
【図２】
2008033285.tif 000080