(57)【要約】【課題】研磨作業時間が作業者の希望時間より長くなることがないように光学部品の研磨作業全体を自動化できる研磨装置及び研磨装置の制御方法を得る。【解決手段】作業者が希望する総研磨時間である希望時間を入力するための入力手段と、滞留時間演算手段が演算した総滞留時間より短い希望時間が入力手段によって入力されたとき、総滞留時間が入力された希望時間となるようにレンズの各位置における滞留時間を再演算する再演算手段と、を備えることを特徴とする研磨装置。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学部品の被研磨面に相対回転しながら接触するポリシャを該被研磨面に沿って走査させる、プログラムされたコンピュータによって制御される研磨装置であって、
上記光学部品と同一仕様のデータ取得用光学部品の被研磨面に回転接触する上記ポリシャを走査させることにより、該被研磨面における最も滞留時間が大きい位置の研磨時間と研磨量の相関関係に関するデータを取得する研磨データ取得手段と、
該データと、上記光学部品の被研磨面形状の測定値と設計値との誤差量と、に基づいて、該誤差量を無くすための上記光学部品の被研磨面の各位置における上記ポリシャの滞留時間を演算する滞留時間演算手段と、
作業者が希望する総研磨時間である希望時間を入力するための入力手段と、
上記滞留時間演算手段が演算した総滞留時間より短い希望時間が上記入力手段によって入力されたとき、総滞留時間が入力された上記希望時間となるように上記各位置における上記滞留時間を再演算する再演算手段と、
上記入力手段によって入力された上記希望時間が上記滞留時間演算手段が演算した総滞留時間より短いときは、上記機再演算手段によって再演算された上記各位置における滞留時間情報に基づいて上記ポリシャの走査制御を行い、上記入力手段によって入力された上記希望時間が上記滞留時間演算手段が演算した総滞留時間より長いときは、上記滞留時間演算手段が演算した上記各位置における滞留時間情報に基づいて上記ポリシャの走査制御を行うポリシャ走査手段と、
を備えることを特徴とする研磨装置。
【請求項２】
請求項１記載の研磨装置において、
上記再演算手段が、上記光学部品の有効光束が透過しない領域である非透過領域の上記滞留時間を優先的に減じ、該非透過領域の減少時間が上記滞留時間演算手段が演算した総研磨時間と上記入力手段によって入力された上記希望時間の差より短いときは上記非透過領域以外の領域の上記滞留時間を減じる研磨装置。
【請求項３】
請求項１または２記載の研磨装置において、
上記滞留時間演算手段が上記各位置における上記滞留時間と同時に上記各位置における必要研磨量を演算し、さらに、
該各位置における上記滞留時間または必要研磨量を表示する表示手段を備える研磨装置。
【請求項４】
光学部品の被研磨面に相対回転しながら接触するポリシャを該被研磨面に沿って走査させる研磨装置のプログラムされたコンピュータによる制御方法であって、
研磨データ取得手段が、上記光学部品と同一仕様のデータ取得用光学部品の被研磨面に回転接触する上記ポリシャを走査させることにより、該被研磨面における最も滞留時間が大きい位置の研磨時間と研磨量の相関関係に関するデータを取得するステップ、
滞留時間演算手段が、この研磨時間と研磨量の相関関係に関するデータと、上記光学部品の被研磨面形状の測定値と設計値との誤差量と、に基づいて、該誤差量を無くすための上記被研磨面の各位置における上記ポリシャの滞留時間を演算するステップ、
入力手段が、作業者が希望する総研磨時間である希望時間を入力するステップ、
再演算手段が、上記滞留時間演算手段が演算した総滞留時間より短い希望時間が上記入力手段によって入力されたとき、総滞留時間が入力された上記希望時間となるように上記各位置における上記滞留時間を再演算するステップ、及び
ポリシャ走査手段が、上記入力手段によって入力された上記希望時間が上記滞留時間演算手段が演算した総滞留時間より短いときは、上記機再演算手段によって再演算された上記各位置における滞留時間情報に基づいて上記ポリシャの走査制御を行い、上記入力手段によって入力された上記希望時間が上記滞留時間演算手段が演算した総滞留時間より長いときは、上記滞留時間演算手段が演算した上記各位置における滞留時間情報に基づいて上記ポリシャの走査制御を行うステップ、
を有することを特徴とする研磨装置の制御方法。
【請求項５】
請求項４記載の研磨装置の制御方法において、
上記再演算手段が再演算するステップが、
上記光学部品の有効光束が透過しない領域である非透過領域の上記滞留時間を優先的に減じ、該非透過領域の減少時間が上記滞留時間演算手段が演算した総研磨時間と上記入力手段によって入力された上記希望時間の差より短いときは上記非透過領域以外の領域の上記滞留時間を減じるステップである研磨装置の制御方法。
【請求項６】
請求項４または５記載の研磨装置の制御方法において、
上記滞留時間演算手段が上記各位置における上記滞留時間と同時に上記各位置における必要研磨量を演算するステップ、及び
該各位置における上記滞留時間または必要研磨量を表示手段に表示するステップを有する研磨装置の制御方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、研磨装置及び研磨装置の制御方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
軸線回りに回転する状態でレンズを支持する回転支持手段と、ポリシャをその軸線回りに回転する状態で支持し、このポリシャをレンズの表面（被研磨面）に当てつけながらレンズの径方向に走査することによりレンズの表面を研磨するポリシャ走査手段と、を備える研磨装置は従来から知られている。
この研磨装置を用いた研磨方法の概略は以下の通りである。
まず研磨前のレンズの表面形状（外形形状）を形状測定装置で計測する。次いで、ポリシャによりレンズの表面を予備研磨し、予備研磨前後におけるレンズ表面の形状誤差を算出することにより、予備研磨での単位時間当たりの研磨量に関するデータを取得する。さらに、予備研磨後におけるレンズ表面の形状と理想形状との形状誤差である理想形状誤差を算出する。最後に予備研磨での単位時間当たりの研磨量データと理想形状誤差とに基づいてポリシャの走査速度（レンズ各点における研磨量）を演算し、この演算結果に基づいて仕上げ研磨を行う。
【特許文献１】特開２００２−２３３９５２号公報
【特許文献２】特開２００４−３１４２２０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
特許文献１及び特許文献２の発明は自動的に研磨を行うことが可能であるが、研磨作業が作業者の希望時間より長時間になることが多かった。もし作業者の希望時間通りに研磨作業を終了できれば理想的である。
【０００４】
本発明は、研磨作業時間が作業者の希望時間より長くなることがないように光学部品の研磨作業全体を自動化できる研磨装置及び研磨装置の制御方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の研磨装置は、光学部品の被研磨面に相対回転しながら接触するポリシャを該被研磨面に沿って走査させる、プログラムされたコンピュータによって制御される研磨装置であって、上記光学部品と同一仕様のデータ取得用光学部品の被研磨面に回転接触する上記ポリシャを走査させることにより、該被研磨面における最も滞留時間が大きい位置の研磨時間と研磨量の相関関係に関するデータを取得する研磨データ取得手段と、該データと、上記光学部品の被研磨面形状の測定値と設計値との誤差量と、に基づいて、該誤差量を無くすための上記光学部品の被研磨面の各位置における上記ポリシャの滞留時間を演算する滞留時間演算手段と、作業者が希望する総研磨時間である希望時間を入力するための入力手段と、上記滞留時間演算手段が演算した総滞留時間より短い希望時間が上記入力手段によって入力されたとき、総滞留時間が入力された上記希望時間となるように上記各位置における上記滞留時間を再演算する再演算手段と、上記入力手段によって入力された上記希望時間が上記滞留時間演算手段が演算した総滞留時間より短いときは、上記機再演算手段によって再演算された上記各位置における滞留時間情報に基づいて上記ポリシャの走査制御を行い、上記入力手段によって入力された上記希望時間が上記滞留時間演算手段が演算した総滞留時間より長いときは、上記滞留時間演算手段が演算した上記各位置における滞留時間情報に基づいて上記ポリシャの走査制御を行うポリシャ走査手段と、を備えることを特徴としている。
【０００６】
上記再演算手段が、上記光学部品の有効光束が透過しない領域である非透過領域の上記滞留時間を優先的に減じ、該非透過領域の減少時間が上記滞留時間演算手段が演算した総研磨時間と上記入力手段によって入力された上記希望時間の差より短いときは上記非透過領域以外の領域の上記滞留時間を減じるのが好ましい。
【０００７】
上記滞留時間演算手段が上記各位置における上記滞留時間と同時に上記各位置における必要研磨量を演算し、さらに、該各位置における上記滞留時間または必要研磨量を表示する表示手段を備えるのが好ましい。
【０００８】
本発明の研磨装置の制御方法は、光学部品の被研磨面に相対回転しながら接触するポリシャを該被研磨面に沿って走査させる研磨装置のプログラムされたコンピュータによる制御方法であって、研磨データ取得手段が、上記光学部品と同一仕様のデータ取得用光学部品の被研磨面に回転接触する上記ポリシャを走査させることにより、該被研磨面における最も滞留時間が大きい位置の研磨時間と研磨量の相関関係に関するデータを取得するステップ、滞留時間演算手段が、この研磨時間と研磨量の相関関係に関するデータと、上記光学部品の被研磨面形状の測定値と設計値との誤差量と、に基づいて、該誤差量を無くすための上記被研磨面の各位置における上記ポリシャの滞留時間を演算するステップ、入力手段が、作業者が希望する総研磨時間である希望時間を入力するステップ、再演算手段が、上記滞留時間演算手段が演算した総滞留時間より短い希望時間が上記入力手段によって入力されたとき、総滞留時間が入力された上記希望時間となるように上記各位置における上記滞留時間を再演算するステップ、及びポリシャ走査手段が、上記入力手段によって入力された上記希望時間が上記滞留時間演算手段が演算した総滞留時間より短いときは、上記機再演算手段によって再演算された上記各位置における滞留時間情報に基づいて上記ポリシャの走査制御を行い、上記入力手段によって入力された上記希望時間が上記滞留時間演算手段が演算した総滞留時間より長いときは、上記滞留時間演算手段が演算した上記各位置における滞留時間情報に基づいて上記ポリシャの走査制御を行うステップ、を有することを特徴としている。
【０００９】
上記再演算手段が再演算するステップが、上記光学部品の有効光束が透過しない領域である非透過領域の上記滞留時間を優先的に減じ、該非透過領域の減少時間が上記滞留時間演算手段が演算した総研磨時間と上記入力手段によって入力された上記希望時間の差より短いときは上記非透過領域以外の領域の上記滞留時間を減じるステップであるのが好ましい。
【００１０】
上記滞留時間演算手段が上記各位置における上記滞留時間と同時に上記各位置における必要研磨量を演算するステップ、及び該各位置における上記滞留時間または必要研磨量を表示手段に表示するステップを有するのが好ましい。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によると、研磨しようとする光学部品の被研磨面形状データと、被研磨面の設計形状データと、研磨しようとする光学部品と同一仕様の光学部品であるデータ取得用光学部品の最もポリシャの滞留時間が大きい位置に関するポリシャの研磨時間と研磨量の相関関係に関するデータと、を利用して、研磨装置が光学部品の被研磨面をポリシャを用いて自動的に研磨する。
しかも、滞留時間演算手段が演算したポリシャの総滞留時間が作業者が入力手段によって入力した希望時間より長い場合は、滞留時間演算手段が演算した総滞留時間が入力された希望時間となるように再演算手段が光学部品の各位置におけるポリシャの滞留時間を再演算するので、研磨作業時間が作業者の希望時間より長くなることがない。
【００１２】
さらに、請求項２または請求項５のように構成すれば、再演算手段が光学部品の非透過領域の研磨時間を優先的に短くするので、滞留時間演算手段が演算した総研磨時間と希望時間の間に大きな差がない限り、研磨された光学部品は滞留時間演算手段が演算した研磨時間通りにポリシャを滞留させた場合と大差ない光学性能を発揮できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明の一実施形態について添付図面を参照して説明する。
図１に示すように、本実施形態の研磨装置１０は大きな構成要素として、ワーク回転支持装置（ポリシャ走査手段）２０、ポリシャ回転支持装置（ポリシャ走査手段）３０、パソコン（コンピュータ）４０、ディスプレイ５０、キーボード６０、マウス７０及びレンズ形状測定機８０を具備している。
まずは図２及び図３を利用してワーク回転支持装置２０とポリシャ回転支持装置３０の構造を説明する。
ワーク回転支持装置２０及びポリシャ回転支持装置３０は床面に設置されたベース台Ｂの上面に支持してある。ベース台Ｂの上面にはワーク回転支持装置２０の構成要素である揺動モータ２１が固定してある。揺動モータ２１はワーク揺動テーブル２２の右端部（左右方向は図２及び図３を基準にする）の下面を揺動モータ２１を通る鉛直な揺動軸Ａ回りに揺動可能として支持しており、揺動モータ２１の駆動力によってワーク揺動テーブル２２は揺動軸Ａ回りに揺動する。ベース台Ｂの上面の揺動モータ２１の左方には円弧ローラ２３が設けてある。この円弧ローラ２３は揺動軸Ａを中心とした円弧形状であり、ワーク揺動テーブル２２の左端部を摺動自在に支持している。
ワーク揺動テーブル２２の上面には、その長手方向と平行な一対のスライドレール２４が固定してあり、一対のスライドレール２４がスライドテーブル２５をスライド可能に支持している。
スライドテーブル２５の上面にはワークスピンドル２６が支持してある。このワークスピンドル２６はその右端部に、ワークスピンドル２６に対してその軸線回りに回転可能であり、かつ被研磨レンズ（光学部品）Ｌを嵌合保持可能な回転式チャック２７を有している（ワークスピンドル２６及び回転式チャック２７の軸線は水平である）。ワークスピンドル２６の左端面には回転式チャック２７をその軸線回りに回転駆動するためのワークスピンドルモータ２８が固定してある。
【００１４】
ベース台Ｂの上面の揺動モータ２１の右側にはポリシャ回転支持装置３０の構成要素であるポリシャ台３１が固定してある。ポリシャ台３１の上面には、平面視でポリシャ台３１の長手方向と直交する方向に延びる一対のスライドレール３２が固定してある。さらに一対のスライドレール３２がスライドテーブル３３をスライド可能に支持しており、このスライドテーブル３３の上面にポリシャースピンドル３４の下面を固着している。ポリシャースピンドル３４はその左端部に、ポリシャースピンドル３４に対してその軸線回りに回転可能であり、かつポリシャＰの取付軸Ｐ１を嵌合保持可能な回転式チャック３５を有している。ポリシャースピンドル３４の右端面には回転式チャック３５を回転駆動するためのポリシャースピンドルモータ３６が設けてある。回転式チャック３５に保持されるポリシャＰは、取付軸Ｐ１の先端に設けた球形部を研磨布で包んだ公知のものであり、回転式チャック３５に支持するとその軸線はポリシャースピンドル３４及び回転式チャック３５と同軸をなす（水平になる）。ポリシャ台３１の上面には、スライドテーブル３３（ポリシャースピンドル３４）をスライドレール３２に沿ってスライドさせるためのスライドモータ３７が固定してある。
なお、ポリシャースピンドル３４は常に図示を省略した付勢手段によって回転式チャック２７に接近する方向（図２及び図３の左側）に付勢されている。
【００１５】
ワーク回転支持装置２０及びポリシャ回転支持装置３０は、ワーク回転支持装置２０の揺動モータ２１とワークスピンドルモータ２８、及びポリシャ回転支持装置３０のポリシャースピンドルモータ３６とスライドモータ３７を制御するパソコン４０と電気的に接続している。パソコン４０はＣＰＵ（中央処理装置）４１とメモリ４２を内蔵しており、かつディスプレイ５０、キーボード６０及びマウス７０と電気的に接続している。メモリ４２には、研磨しようとする被研磨レンズＬの表面の実際の形状と設計形状との誤差から誤差展開係数を演算する誤差展開用プログラムと、求めた誤差展開係数に基づいて被研磨レンズＬの各位置における誤差を無くすことが可能な必要研磨量及びポリシャＰの滞留時間（ポリシャＰが被研磨面のある特定位置に接触する時間の合計）を同時に演算する自動修正研磨用プラグラムとが予め記憶してある。
パソコン４０はさらにレンズ形状測定機８０と電気的に接続している。このレンズ形状測定機８０は被研磨レンズＬの表面形状を測定する公知のものである。
【００１６】
次に研磨装置１０を用いた被研磨レンズＬの研磨要領について説明する。
まず最初に研磨しようとする被研磨レンズＬをレンズ形状測定機８０にセットし、レンズ形状測定機８０によって被研磨レンズＬの表面（被研磨面）Ｌ１の形状を測定する。さらに、パソコン４０のメモリ４２に研磨しようとする被研磨レンズＬの表面の設計形状に関するデータを記憶させる。
次に、図２及び図３に示すように形状を測定した被研磨レンズＬをワーク回転支持装置２０の回転式チャック２７に保持させ、さらにポリシャ回転支持装置３０の回転式チャック３５にポリシャＰの取付軸Ｐ１を保持させる。次いで、スライドレール２４及びスライドテーブル２５を利用してワークスピンドル２６のスライド位置を調整し、被研磨レンズＬの被研磨面Ｌ１にポリシャＰが接触したら、スライドテーブル２５の位置を固定する。上述のようにポリシャースピンドル３４は常に付勢手段によって回転式チャック２７（被研磨レンズＬ）に接近する方向に付勢されているので、このように被研磨レンズＬとポリシャＰをワーク回転支持装置２０とポリシャ回転支持装置３０にそれぞれセットすると、ポリシャＰが被研磨レンズＬの被研磨面Ｌ１に一定圧力で接触する。
【００１７】
次に、キーボード６０またはマウス７０を利用して上記自動修正研磨用プラグラムをパソコン４０上で起動し、ディスプレイ（表示手段）５０の画面上に図４に示す画面を表示する。ディスプレイ５０の画面上にはポリシャ選択窓ａが表示してあるので、キーボード６０またはマウス７０によりポリシャ選択窓ａから使用するポリシャＰを選択する。さらに、図示は省略してあるが、ディスプレイ５０には被研磨レンズ選択窓が存在するので、キーボード６０またはマウス７０を利用して被研磨レンズ選択窓から、研磨しようとするレンズ（被研磨レンズＬ）を選択する。すると、自動修正研磨用プログラムに予め登録された単一研磨痕形状に関するグラフｂがディスプレイ５０上に表示される。この単一研磨痕形状に関するグラフｂは、研磨しようとする被研磨レンズＬと同一仕様（同一材料）のレンズであるデータ取得用レンズ（データ取得用光学部品。図示略）の被研磨面の中心部におけるポリシャＰの滞留時間を該被研磨面のその他の部分に比べて長くした（中心部の滞留時間を最も長くした）ときの該中心部に関するポリシャＰの滞留時間（研磨時間）と研磨量（研磨深さ及び研磨幅）の相関関係に関する情報を含んでいる（グラフｂの横軸はデータ取得用レンズにおける中心からの距離、縦軸が研磨量。この相関関係に関するデータは研磨装置１０（研磨データ取得手段）を利用することにより得られる）。
【００１８】
次いで、キーボード６０またはマウス７０を利用して図４に示したディスプレイ５０の画面上の測定データ呼込ボタンｃを押す。すると、レンズ形状測定機８０がパソコン４０のメモリ４２に被研磨レンズＬの被研磨面Ｌ１の測定形状に関するデータを送信する。すると、上記誤差展開用プログラムから指令を受けたＣＰＵ４１が、この測定形状に関するデータとメモリ４２に記憶させておいた被研磨レンズＬの被研磨面Ｌ１の設計形状に関するデータとを利用して（測定形状と設計形状の誤差量を利用して）誤差展開係数を演算し、この誤差展開係数をメモリ４２に記憶する。
この後に、ディスプレイ５０の画面上に表示された最適滞留時間分布表示ボタンｄを押すと、上記自動修正研磨用プラグラムの指令を受けたパソコン４０のＣＰＵ（滞留時間演算手段）４１が上記誤差展開係数に基づいて、被研磨面Ｌ１の各位置における測定形状と設計形状の誤差量を無くすために必要な各位置におけるポリシャＰの滞留時間と必要研磨量を同時に演算する。さらにＣＰＵ（グラフデータ生成手段）４１は、この滞留時間及び必要研磨量に基づいてグラフ用データを生成する。さらにＣＰＵ４１は、このグラフ用データに基づいて、被研磨レンズＬの被研磨面Ｌ１の各位置における必要研磨量分布を示すグラフｅ（図４及び図５参照）及び滞留時間分布を示すグラフｆ（図４参照）を生成し、これらのグラフｅ、ｆをディスプレイ５０の画面上に表示させると共に、被研磨面Ｌ１の各位置におけるポリシャＰの滞留時間の合計時間である総滞留時間をディスプレイ５０の画面上に表示させる（図４の（Ｔ）を参照）。
【００１９】
次いで、作業者がキーボード（入力手段）６０を利用して作業者が希望する総研磨時間（希望時間）を入力する。すると、上記自動修正研磨用プラグラムの指令を受けたパソコン４０のＣＰＵ（再演算手段）４１が、入力した希望時間が演算された上記総滞留時間より短いか否かを判定する。
ＣＰＵ４１が希望時間が総滞留時間より長いと判定すると、ＣＰＵ４１はディスプレイ５０上にその旨を表示させる（図示略）。この場合、この表示を見た作業者がディスプレイ５０の画面上の転送ボタンｇをキーボード６０またはマウス７０を利用して押すと、上記自動修正研磨用プラグラムの指令を受けたパソコン４０のＣＰＵ４１がグラフｅ及びグラフｆが包含する被研磨レンズＬの表面の各位置の滞留時間情報に基づいてワーク回転支持装置２０の揺動モータ２１とワークスピンドルモータ２８及びポリシャ回転支持装置３０のポリシャースピンドルモータ３６とスライドモータ３７を自動的に駆動制御する。すると、ワークスピンドルモータ２８とポリシャースピンドルモータ３６の駆動力により被研磨レンズＬとポリシャＰがそれぞれの軸線回りに（互いに逆向きに）回転する。さらに、揺動モータ２１によってワーク揺動テーブル２２及び被研磨レンズＬを揺動軸Ａ回りに揺動し、さらに、スライドモータ３７の駆動力によってポリシャースピンドル３４及びポリシャＰがスライドレール３２に沿って往復スライドする。すると、被研磨レンズＬとポリシャＰの相対回転運動とポリシャＰの被研磨面Ｌ１に対する径方向のスライド運動による合成運動により、ポリシャＰは被研磨面Ｌ１上を所定の軌跡で走査する（このとき、ワーク揺動テーブル２２の揺動角度及びポリシャＰのスライド位置がどのような状態にあっても、ポリシャＰの特定の位置が被研磨レンズＬの被研磨面Ｌ１に回転接触する）。このようにポリシャＰが所定時間だけ所定の軌跡で被研磨面Ｌ１上を走査すると、被研磨レンズＬの被研磨面Ｌ１の各位置をポリシャＰが演算された滞留時間だけ研磨することになるので、被研磨レンズＬの被研磨面Ｌ１が上記設計形状となる。
【００２０】
一方、入力した希望時間が総滞留時間より短いとＣＰＵ４１が判定すると、上記自動修正研磨用プラグラムの指令を受けたパソコン４０のＣＰＵ（再演算手段）４１が上記総滞留時間が上記希望時間と合致するように、被研磨レンズＬの被研磨面Ｌ１の各位置におけるポリシャＰの滞留時間を演算し直す。この際、ＣＰＵ４１はまず被研磨レンズＬの周辺領域である非透過領域（図５（ａ）のｅ１で表示した部分。有効光束が透過しない領域。）の各位置における滞留時間を減少させる。そして、非透過領域ｅ１の各位置の滞留時間を減少させるだけで総滞留時間と希望時間の時間差分を確保できる場合は、図５（ｂ）に示すようにこの非透過領域ｅ１部分のみ滞留時間を減少させ（図５（ｂ）では非透過領域ｅ１の滞留時間をゼロにしている）、非透過領域ｅ１の内側領域である有効拘束透過領域の滞留時間は減少させない。一方、非透過領域ｅ１の各位置の滞留時間を減少させるだけでは上記時間差分を確保できない場合は、有効拘束透過領域（中央領域）の滞留時間を減少させることにより総滞留時間を希望時間に合致させる。
このように必要研磨量及び滞留時間の再演算を行った後にキーボード６０またはマウス７０を利用して転送ボタンｇを押すと、再演算された滞留時間情報（必要研磨量情報）に基づいてポリシャＰが被研磨レンズＬに対して相対回転しながら被研磨面Ｌ１上を被研磨レンズＬの径方向に走査するので、被研磨レンズＬの被研磨面Ｌ１が図５（ｂ）の必要研磨量分布に基づいて研磨される。
被研磨レンズＬの非透過領域ｅ１は有効光束が透過しない領域なので、この部分の研磨時間（滞留時間）を減少させたり、あるいは図５（ｂ）のように全く研磨せずに残しても被研磨レンズＬの光学性能に影響は生じない。
また、被研磨レンズＬの非透過領域ｅ１の滞留時間を優先的に減少させているので、仮に被研磨レンズＬの有効拘束透過領域（中央領域）の滞留時間を減少させることになっても、ＣＰＵ４１が演算した当初の総滞留時間に比べて入力した希望時間が極端に短くなければ、有効拘束透過領域の滞留時間の減少分は僅かとなる。従って、この場合も被研磨レンズＬの光学性能には殆ど影響は生じない。
【００２１】
以上説明したように本実施形態によれば、被研磨レンズＬの被研磨面Ｌ１を、光学性能に（殆ど）影響を与えることなく自動的に研磨できるので、経験の浅い未熟な作業者であっても、被研磨レンズＬが所望の光学性能を発揮するように被研磨面Ｌ１を簡単に研磨でき、しかも作業者が望んだ作業時間内に研磨作業を完了できる。
【００２２】
なお、本実施形態ではキーボード６０を利用して希望時間を入力しているが、キーボード６０以外の手段、例えばマウス７０によって希望時間を入力するようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明の一実施形態の研磨装置の概要を示すブロック図である。
【図２】ワーク回転支持装置及びポリシャ回転支持装置の側面図である。
【図３】ワーク回転支持装置及びポリシャ回転支持装置の平面図である。
【図４】ディスプレイの画面上に写しだされた操作画面を示す図である。
【図５】（ａ）操作画面における必要研磨量分布グラフを示す図である。（ｂ）非透過領域ｅ１の研磨量がゼロとなった場合の必要研磨量分布グラフを示す図である。
【符号の説明】
【００２４】
１０    研磨装置
２０    ワーク回転支持装置（ポリシャ走査手段）
２１    揺動モータ
２２    ワーク揺動テーブル
２３    円弧ローラ
２４    スライドレール
２５    スライドテーブル
２６    ワークスピンドル
２７    回転式チャック
２８    ワークスピンドルモータ
３０    ポリシャ回転支持装置（ポリシャ走査手段）
３１    ポリシャ台
３２    スライドレール
３３    スライドテーブル
３４    ポリシャースピンドル
３５    回転式チャック
３６    ポリシャースピンドルモータ
３７    スライドモータ
４０    パソコン（滞留時間演算手段）（再演算手段）（グラフデータ生成手段）
４１    ＣＰＵ
４２    メモリ
５０    ディスプレイ（表示手段）
６０    キーボード（入力手段）
７０    マウス
８０    レンズ形状測定機（研磨データ取得手段）
Ａ      揺動軸
Ｂ      ベース台
Ｌ      被研磨レンズ（光学部品）
Ｌ１    被研磨面
Ｐ      ポリシャ
Ｐ１    取付軸
【図１】
2008238364.tif 000003
【図２】
2008238364.tif 000004
【図３】
2008238364.tif 000005
【図４】
2008238364.tif 000006
【図５】
2008238364.tif 000007