(57)【要約】【課題】  フルオロスルホニル基を有する隣接ジオールとヒドロキシル基を有するカルボニル化合物の脱水反応生成物に相当するフルオロスルホニル基及びヒドロキシル基を有する環状アセタール化合物を簡易な操作により酸を含まない製品として高収率で取得しうる方法を提供する。【解決手段】  本発明の環状アセタール化合物の製造法は、フルオロスルホニル基を有する隣接ジオールとヒドロキシル基を有するカルボニル化合物の脱水反応生成物に相当するフルオロスルホニル基及びヒドロキシル基を有する環状アセタール化合物の製造法であって、酸を含む粗環状アセタール化合物を脱水条件下に塩基で処理する工程を含む。ヒドロキシル基を有するカルボニル化合物にはα−ヒドロキシカルボニル化合物が含まれる。【選択図】        なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
フルオロスルホニル基を有する隣接ジオールとヒドロキシル基を有するカルボニル化合物の脱水反応生成物に相当するフルオロスルホニル基及びヒドロキシル基を有する環状アセタール化合物の製造法であって、酸を含む粗環状アセタール化合物を脱水条件下に塩基で処理する工程を含む環状アセタール化合物の製造法。
【請求項２】
酸を含む粗環状アセタール化合物が、フルオロスルホニル基を有する隣接ジオール、フルオロスルホニル基を有するエポキシ化合物及びフルオロスルホニル基を有する１，３−ジオキソラン化合物からなる群より選択された少なくとも１種の化合物とヒドロキシル基を有するカルボニル化合物とを酸触媒の存在下で反応して得られる反応生成物である請求項１記載の環状アセタール化合物の製造法。
【請求項３】
ヒドロキシル基を有するカルボニル化合物がα−ヒドロキシカルボニル化合物である請求項１又は２記載の環状アセタール化合物の製造法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、環状アセタール化合物の製造法、より詳細にはフルオロスルホニル基を有する隣接ジオールとヒドロキシル基を有するカルボニル化合物の脱水反応生成物に相当するフルオロスルホニル基及びヒドロキシル基を有する環状アセタール化合物の製造法に関する。この環状アセタール化合物は、医薬、農薬等の精密化学品の中間原料、機能性高分子のモノマーを得るための中間原料等として有用である。
【背景技術】
【０００２】
フルオロスルホニル基を有する隣接ジオールとヒドロキシル基を有するカルボニル化合物の脱水反応生成物に相当するフルオロスルホニル基及びヒドロキシル基を有する環状アセタール化合物の製造法として、特開２００５−３１４３８８号公報には、（ａ）フルオロスルホニル基を有する隣接ジオールとヒドロキシル基を有するカルボニル化合物とを酸触媒の存在下で反応させる方法（隣接ジオールのアセタール化）、（ｂ）フルオロスルホニル基を有するエポキシ化合物とヒドロキシル基を有するカルボニル化合物とを酸触媒の存在下で反応させる方法（エポキシのアセタール化）、及び（ｃ）フルオロスルホニル基を有する１，３−ジオキソラン化合物とヒドロキシル基を有するカルボニル化合物とを酸触媒の存在下で反応させる方法（アセタール交換）が記載されている。この文献の実施例では、フルオロスルホニル基を有するエポキシ化合物とアセトンとをＢＦ3・Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2）2の存在下で反応させた後、ヒドロキシアセトンを添加し、低沸点成分を抜き出しながら反応させ、得られた反応混合液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄して酸を中和し、ｔ−ブチルメチルエーテルで抽出し、有機層を濃縮してフルオロスルホニル基及びヒドロキシル基を有する環状アセタール化合物を得ている。
【０００３】
【特許文献１】特開２００５−３１４３８８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、上記の方法では、目的化合物であるフルオロスルホニル基及びヒドロキシル基を有する環状アセタール化合物が中和処理時に容易に分解するため、目的化合物を収率良く取得することができないという問題があった。
【０００５】
従って、本発明の目的は、フルオロスルホニル基を有する隣接ジオールとヒドロキシル基を有するカルボニル化合物の脱水反応生成物に相当するフルオロスルホニル基及びヒドロキシル基を有する環状アセタール化合物を簡易な操作により酸を含まない製品として高収率で取得しうる方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討した結果、酸を含む粗環状アセタール化合物を脱水条件下に塩基で処理すると、環状アセタール化合物の分解を顕著に抑制でき、純度の高い環状アセタールを高い収率で取得できることを見出し、本発明を完成した。
【０００７】
すなわち、本発明は、フルオロスルホニル基を有する隣接ジオールとヒドロキシル基を有するカルボニル化合物の脱水反応生成物に相当するフルオロスルホニル基及びヒドロキシル基を有する環状アセタール化合物の製造法であって、酸を含む粗環状アセタール化合物を脱水条件下に塩基で処理する工程を含む環状アセタール化合物の製造法を提供する。
【０００８】
前記酸性化合物を含む粗環状アセタール化合物としては、フルオロスルホニル基を有する隣接ジオール、フルオロスルホニル基を有するエポキシ化合物及びフルオロスルホニル基を有する１，３−ジオキソラン化合物からなる群より選択された少なくとも１種の化合物とヒドロキシル基を有するカルボニル化合物とを酸触媒の存在下で反応して得られる反応生成物が挙げられる。
【０００９】
前記ヒドロキシル基を有するカルボニル化合物にはα−ヒドロキシカルボニル化合物が含まれる。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、中和処理の際の目的化合物の分解を顕著に抑制できるので、酸を含まない純度の高いフルオロスルホニル基及びヒドロキシル基を分子内に有する環状アセタール化合物を高い収率で取得することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
フルオロスルホニル基を有する隣接ジオールとヒドロキシル基を有するカルボニル化合物の脱水反応生成物に相当するフルオロスルホニル基及びヒドロキシル基を有する環状アセタール化合物には、下記式（１）
【化１】
2008120690.tif 000002
（式中、Ａ1、Ａ2は、同一又は異なって、置換基を有していてもよい２価の炭化水素基、又は置換基を有していてもよい２価の炭化水素基の複数個がそれぞれ連結基を介して結合した２価の基を示す。Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子又は置換基を有していてもよい炭化水素基を示す。Ｒ4は水素原子又は置換基を有していてもよい炭化水素基を示す。Ａ1、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3のうち少なくとも２つの基は互いに結合して隣接する１又は２個の炭素原子とともに環を形成していてもよい。また、Ａ2とＲ4は互いに結合して隣接する炭素原子とともに環を形成していてもよい）
で表される化合物が含まれる。
【００１２】
Ａ1、Ａ2における２価の炭化水素基としては、例えば、メチレン、エチリデン、イソプロピリデン、エチレン、プロピレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、オクタメチレン、デカメチレン、ドデカメチレン基等の炭素数１〜２０程度（好ましくは炭素数１〜１０程度）の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基；エテニレン、プロペニレン、ブテニレン基等の炭素数２〜２０程度（好ましくは炭素数２〜１０程度）のアルケニレン基；シクロペンチレン、シクロペンチリデン、シクロヘキシレン、シクロヘキシリデン基等のシクロアルキレン基；アダマンタンジイル、ノルボルナンジイル基等の炭素数４〜１５程度の２価の橋架け環式炭化水素基；フェニレン基、ナフチレン基等の炭素数６〜１５程度のアリーレン基；これらが２以上結合した２価の炭化水素基などが挙げられる。これらの中でも、炭素数１〜１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基が好ましい。
【００１３】
２価の炭化水素基が有していてもよい置換基としては、例えば、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子等）、炭素数１〜８のアルキル基（メチル、エチル基等）、炭素数１〜８のハロアルキル基（トリフルオロメチル基等）、炭素数３〜１５のシクロアルキル基（シクロペンチル、シクロヘキシル基等）、炭素数６〜１５のアリール基（フェニル、ナフチル基等）、ヒドロキシル基、炭素数１〜８のアルコキシ基（メトキシ、エトキシ基等）、炭素数１〜８のハロアルコキシ基（トリフルオロメチルオキシ基等）、カルボキシル基、アルコキシ部分の炭素数が１〜８のアルコキシカルボニル基、炭素数１〜８のアシル基、炭素数１〜８のアシルオキシ基、ニトロ基、シアノ基などが挙げられる。これらの中でも、フッ素原子等のハロゲン原子などが好ましい。
【００１４】
前記連結基としては、例えば、酸素原子（エーテル結合）、イオウ原子（チオエーテル結合）、カルボニル基、チオカルボニル基、−Ｎ（Ｚ）−基、これらが複数個結合した基などが挙げられる。前記Ｚは水素原子又は炭化水素基を示す。該炭化水素基としては、例えば、アルキル基（メチル基、エチル基、イソプロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基等）、アルケニル基（アリル基等の炭素数２〜６のアルケニル基等）、アルキニル基（プロピニル基等の炭素数２〜６のアルキニル基等）、シクロアルキル基（シクロヘキシル基等の３〜８員のシクロアルキル基等）、アリール基（フェニル基等）、アラルキル基（ベンジル基等）などが挙げられる。
【００１５】
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3におけるハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子などが挙げられる。Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4における炭化水素基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等の炭素数１〜８の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基；アリル基等の炭素数２〜８のアルケニル基；プロピニル基等の炭素数２〜８のアルキニル基；シクロペンチル、シクロヘキシル基等の炭素数３〜１５のシクロアルキル基；フェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜１５のアリール基；ベンジル、２−フェニルエチル基等の炭素数７〜１６のアラルキル基などが挙げられる。Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4における炭化水素基が有していてもよい置換基としては、前記Ａ1、Ａ2における２価の炭化水素基が有していてもよい置換基として例示したものなどが挙げられる。
【００１６】
Ａ1、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3のうち少なくとも２つの基が互いに結合して隣接する１又は２個の炭素原子とともに形成する環、Ａ2とＲ4が互いに結合して隣接する炭素原子とともに形成する環としては、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、ノルボルナン環等の３〜１５員程度の脂環式炭素環（シクロアルカン環、橋架け炭素環等）；酸素原子、イオウ原子、窒素原子等のへテロ原子を含む３〜１５員程度の非芳香族性複素環が挙げられる。
【００１７】
Ａ1としては、特に、フッ素原子等のハロゲン原子などの置換基で置換されていてもよい炭素数１〜６の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基、又は該フッ素原子等のハロゲン原子などの置換基で置換されていてもよい炭素数１〜６の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基の２〜４個が酸素原子やイオウ原子などの連結基を介して結合した２価の基であるのが好ましい。Ａ2としては、特に、フッ素原子等のハロゲン原子などの置換基で置換されていてもよいメチレン基又はエチレン基（とりわけメチレン基）であるのが好ましい。
【００１８】
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3としては、それぞれ、水素原子；メチル基、エチル基、プロピル基、トリフルオロメチル基等のフッ素原子等のハロゲン原子などで置換されていてもよい炭素数１〜４のアルキル基が好ましく、水素原子が特に好ましい。Ｒ4としては、メチル基、エチル基、プロピル基、トリフルオロメチル基等のフッ素原子等のハロゲン原子などで置換されていてもよい炭素数１〜４のアルキル基が好ましく、とりわけメチル基が好ましい。
【００１９】
式（１）で表される環状アセタール化合物の代表的な例として、例えば、４−（２−フルオロスルホニルエチル）−２−ヒドロキシメチル−２−メチル−１，３−ジオキソラン（Ａ1＝エチレン基、Ａ2＝メチレン基、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｈ、Ｒ4＝メチル基である化合物）、４−（３−フルオロスルホニルプロピル）−２−ヒドロキシメチル−２−メチル−１，３−ジオキソラン（Ａ1＝トリメチレン基、Ａ2＝メチレン基、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｈ、Ｒ4＝メチル基である化合物）、４−（４−フルオロスルホニルブチル）−２−ヒドロキシメチル−２−メチル−１，３−ジオキソラン（Ａ1＝テトラメチレン基、Ａ2＝メチレン基、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｈ、Ｒ4＝メチル基である化合物）、４−（６−フルオロスルホニルヘキシル）−２−ヒドロキシメチル−２−メチル−１，３−ジオキソラン（Ａ1＝ヘキサメチレン基、Ａ2＝メチレン基、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｈ、Ｒ4＝メチル基である化合物）、４−（１，１，２，２−テトラフルオロ−２−フルオロスルホニルエチルオキシメチル）−２−ヒドロキシメチル−２−メチル−１，３−ジオキソラン（Ａ1＝−ＣＦ2ＣＦ2−Ｏ−ＣＨ2−基、Ａ2＝メチレン基、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｈ、Ｒ4＝メチル基である化合物）などが挙げられる。
【００２０】
式（１）で表される環状アセタール化合物は、（ｉ）下記式（２）で表されるフルオロスルホニル基を有する隣接ジオールと下記式（５）で表されるヒドロキシル基を有するカルボニル化合物とを酸触媒の存在下で反応させるか（隣接ジオールのアセタール化）、（ii）下記式（３）で表されるフルオロスルホニル基を有するエポキシ化合物と下記式（５）で表されるヒドロキシル基を有するカルボニル化合物とを酸触媒の存在下で反応させるか（エポキシのアセタール化）、又は（iii）下記式（４）で表されるフルオロスルホニル基を有する１，３−ジオキソラン化合物と下記式（５）で表されるヒドロキシル基を有するカルボニル化合物とを酸触媒の存在下で反応させる（アセタール交換）ことにより生成する。
【００２１】
【化２】
2008120690.tif 000003
（式中、Ａ1、Ａ2、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は前記に同じ。Ｒ5、Ｒ6は、同一又は異なって、水素原子又は置換基を有していてもよい炭化水素基を示す。Ｒ5とＲ6は互いに結合して隣接する炭素原子とともに環を形成していてもよい）
【００２２】
Ｒ5、Ｒ6における炭化水素基及び該炭化水素基が有していてもよい置換基としては、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3における炭化水素基及び該炭化水素基が有していてもよい置換基として例示したものと同様のものが挙げられる。Ｒ5とＲ6が互いに結合して隣接する炭素原子とともに形成する環としては、シクロペンタン環、シクロヘキサン環等の３〜１５員程度の脂環式炭素環（シクロアルカン環、橋架け炭素環等）；酸素原子、イオウ原子、窒素原子等のへテロ原子を含む３〜１５員程度の非芳香族性複素環が挙げられる。Ｒ5、Ｒ6としては、それぞれ、水素原子；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜４のアルキル基が好ましく、また、Ｒ5とＲ6が互いに結合して隣接する炭素原子とともにシクロペンタン環、シクロヘキサン環等の脂環式炭素環を形成するのも好ましい。特にＲ5、Ｒ6としてはメチル基が好ましい。
【００２３】
前記（ｉ）、（ii）、（iii）の反応で用いる酸触媒としてはプロトン酸及びルイス酸のいずれも使用できる。酸触媒は単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。プロトン酸としては、例えば、硫酸、塩酸、リン酸などの無機酸；ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸などのスルホン酸、トリフルオロ酢酸などのハロカルボン酸などの有機酸；陽イオン交換樹脂（強酸性イオン交換樹脂、超強酸性イオン交換樹脂等）；Ｈ2ＳＯ4−ＳＯ3、ＨＦ−ＳｂＦ5などの超強酸などが挙げられる。ルイス酸としては、例えば、ＢＦ3、ＢＦ3・Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2）2、ＡｌＣｌ3、ＦｅＣｌ3、ＺｎＣｌ2、ＴｉＣｌ4、ＳｎＣｌ2、ＳｎＣｌ4などが挙げられる。
【００２４】
（ｉ）の反応では、酸触媒としてプロトン酸が好ましく用いられ、（ii）の反応では、酸触媒としてルイス酸が好ましく用いられる。
【００２５】
酸触媒の使用量は、反応原料の種類、酸触媒の種類などに応じて適宜選択できるが、一般に、式（２）、（３）又は（４）の化合物に対して、０．００１〜２０重量％、好ましくは０．０５〜１５重量％、さらに好ましくは０．５〜１０重量％程度である。
【００２６】
（ｉ）〜（iii）の各反応において、式（２）、（３）又は（４）の化合物と式（５）の化合物との比率は、反応速度、原料コスト、操作性等を考慮して適宜選択できる。式（２）、（３）又は（４）の化合物と式（５）の化合物を当量で反応させてもよく、何れか一方を過剰量或いは大過剰量用いて反応させてもよい。反応は溶媒の存在下又は非存在下で行われる。溶媒としては反応を阻害しないものであれば特に限定されず、例えば、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の鎖状又は環状エーテル；ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン等の炭化水素；これらの混合溶媒などが挙げられる。後述するように、反応で副生する水等と共沸する溶媒を反応溶媒として用いてもよい。
【００２７】
（ｉ）〜（iii）の各反応における反応温度は、反応原料の種類等によっても異なるが、一般には０〜１５０℃、好ましくは１０〜１００℃、さらに好ましくは２０〜８０℃程度である。反応は、常圧、減圧、加圧下の何れで行ってもよい。反応速度を速くするため、（ｉ）の反応では副生する水を、（iii）の反応では副生するカルボニル化合物（Ｒ5Ｒ6ＣＯ）を蒸留により留去しながら反応を実施してもよい。この場合、副生する水やカルボニル化合物と共沸する溶媒を系内に存在させて反応を行ってもよい。
【００２８】
なお、（iii）の方法において原料として用いる式（４）で表される化合物は、前記（ｉ）又は（ii）の方法に準じて製造することができる。すなわち、（ｉ′）前記式（２）で表されるフルオロスルホニル基を有する隣接ジオールと下記式（６）で表されるカルボニル化合物とを酸触媒の存在下で反応させるか（隣接ジオールのアセタール化）、又は（ii′）前記式（３）で表されるフルオロスルホニル基を有するエポキシ化合物と下記式（６）で表されるカルボニル化合物とを酸触媒の存在下で反応させる（エポキシのアセタール化）ことにより、式（４）で表される化合物を得ることができる。
【００２９】
【化３】
2008120690.tif 000004
（式中、Ｒ5、Ｒ6は前記に同じ）
【００３０】
従って、式（１）で表される環状アセタール化合物を前記（iii）の方法で生成させる場合は、まず式（２）で表されるフルオロスルホニル基を有する隣接ジオール又は式（３）で表されるフルオロスルホニル基を有するエポキシ化合物と式（６）で表されるカルボニル化合物とを酸触媒の存在下で反応させて、式（４）で表されるフルオロスルホニル基を有する１，３−ジオキソラン化合物を生成させ、次いでこの式（４）で表されるフルオロスルホニル基を有する１，３−ジオキソラン化合物と式（５）で表されるヒドロキシル基を有するカルボニル化合物とを酸触媒の存在下で反応させてもよい。この場合、中間生成物である式（４）で表される化合物を単離することなく次工程に供することにより、上記一連の反応をワンポットで実施することが可能である。
【００３１】
式（５）で表されるヒドロキシル基を有するカルボニル化合物としては、ヒドロキシアセトン、１−ヒドロキシエチルメチルケトンなどのα−ヒドロキシカルボニル化合物（特に、α−ヒドロキシケトン化合物）が好ましい。
【００３２】
上記のようにして得られる粗環状アセタール化合物中には触媒として用いた酸が含まれている。純度の高い環状アセタール化合物を得るためには、或いは環状アセタール化合物の保存時若しくは利用時における望ましくない副反応を防止するためには、この酸を除去する必要がある。酸の除去は、通常塩基を用いた中和処理により行われる。本発明の重要な特徴は、このような酸を含む粗環状アセタール化合物の塩基による中和処理を脱水条件下で行う点にある。酸を含む粗環状アセタール化合物をそのまま塩基で処理すると、環状アセタール化合物が分解して単離収率が大幅に低下するが、塩基処理を脱水条件下で行うと、環状アセタール化合物の分解が顕著に抑制され、酸を含まない環状アセタール化合物を高い収率で取得することができる。
【００３３】
塩基処理を脱水条件下で行う具体的方法としては、例えば、脱水剤の存在下で塩基処理を行う方法、系内の水を留去させながら塩基処理を行う方法などが挙げられる。脱水剤としては、例えば、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナトリウム、無水塩化カルシウム等の水を結晶水として取り込む化合物；モレキュラーシーブ（モレキュラーシーブ３Ａ、モレキュラーシーブ４Ａ、モレキュラーシーブ５Ａ、モレキュラーシーブ１３Ｘ等）、シリカゲル、活性アルミナなどの水を物理的に吸着又は吸収する物質などを使用できる。
【００３４】
脱水剤の使用量は、フルオロスルホニル基及びヒドロキシル基を有する環状アセタール化合物［前記式（１）で表される化合物等］１００重量部に対して、例えば５〜２００重量部、好ましくは２０〜１５０重量部程度である。
【００３５】
酸の除去に用いる塩基としては、例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩；炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等のアルカリ土類金属炭酸塩；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物；水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等のアルカリ土類金属水酸化物などのアルカリ金属又はアルカリ土類金属を含む塩基性化合物が挙げられる。これらの中でも炭酸水素ナトリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩が特に好ましい。
【００３６】
塩基の使用量は、反応で用いた酸触媒に対して、例えば０．５〜３当量程度であるが、大過剰量用いることもできる。
【００３７】
塩基による中和処理は、溶媒の存在下又は非存在下で行われる。溶媒としては、酸や塩基に対して比較的安定な溶媒が好ましく、例えば、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の鎖状又は環状エーテル；ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン等の炭化水素；これらの混合溶媒などが挙げられる。塩基による中和処理を行う際の処理温度は、例えば０〜１００℃、好ましくは１０〜５０℃であり、室温で行うのが操作性の点で好ましい。中和処理は、空気雰囲気下で行ってもよいが、窒素等の不活性ガス雰囲気下で行うのが好ましい。
【００３８】
なお、塩基による中和処理には、例えば、式（２）、式（３）又は式（４）で表される化合物と式（５）で表される化合物とを酸触媒の存在下で反応させて得られる反応混合物をそのまま供してもよいが、前記反応混合物から溶媒や未反応原料等を蒸留などにより除去した混合液など、前記反応混合物に適宜な処理を施した混合液を中和処理に供することもできる。
【００３９】
塩基による中和処理の後、必要に応じて、濾過、濃縮、抽出、洗浄、蒸留、晶析、カラムクロマトグラフィー等の分離精製手段、又はこれらの手段の組み合わせにより、酸を含まない高純度の環状アセタール化合物を得ることができる。
【００４０】
こうして得られるフルオロスルホニル基及びヒドロキシル基を有する環状アセタール化合物は、医薬、農薬等の精密化学品の中間原料、機能性高分子のモノマーを得るための中間原料等として使用できる。
【実施例】
【００４１】
以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
【００４２】
製造例１
下記反応工程式に従って、フルオロスルホニル基及びヒドロキシル基を有する環状アセタール化合物を合成した。
【化４】
2008120690.tif 000005
【００４３】
式（７）で表されるエポキシ体（１−フルオロスルホニル−３，４−エポキシブタン）１７４ｇ（１．１３ｍｏｌ）を１４４０ｇのアセトン［式（８）］に溶解させ、ここに、窒素雰囲気下にて、ＢＦ3・Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2）2（ＢＦ3・ジエチルエーテル錯体）８．６ｇ（０．０６ｍｏｌ）を加え、還流条件下、１時間撹拌した。ガスクロマトグラフィーによりエポキシ体が完全に式（９）で表されるアセトン体［４−（２−フルオロスルホニルエチル）−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン］に変換されていることを確認した。約半量のアセトンを減圧留去後、ここに、ヒドロキシアセトン［式（１０）］１３８ｇ（１．８６ｍｏｌ）とクロロホルム３０３０ｇを加え、減圧下、クロロホルムと残りのアセトンとを留去しながら、４０℃で６時間撹拌し、粗反応液３３５ｇを得た。得られた粗反応液をガスクロマトグラフィーにより分析したところ、式（１１）で表される４−（２−フルオロスルホニルエチル）−２−ヒドロキシメチル−２−メチル−１，３−ジオキソランが２４４ｇ（１．０７ｍｏｌ）含まれていることが分かった（収率９５％）。
【００４４】
実施例１
製造例１で得られた粗反応液２４．２ｇ［式（１１）で表される環状アセタール化合物を１７．６ｇ（７７ｍｍｏｌ）含有］を２８７ｇのジクロロメタンに溶解させた。脱水剤として無水硫酸マグネシウム（ＭｇＳＯ4）１３．５ｇ（１１２ｍｍｏｌ）を室温で溶液中に添加して、窒素雰囲気下、２時間撹拌した。その後、中和剤として、炭酸水素ナトリウム（ＮａＨＣＯ3）４．５ｇ（５４ｍｍｏｌ）を加え、このスラリーを室温でさらに１２時間撹拌した。水で湿らせたｐＨ試験紙により、ｐＨ＞７を示したことにより、中和が完了していることを確認した。中和後の混合液をガスクロマトグラフィーで分析したところ、式（１１）で表される環状アセタール化合物が定量的に分析され、分解は起こっていないことを確認した。
【００４５】
比較例１
製造例１で得られた粗反応液２４．２ｇ［前記式（１１）で表される環状アセタール化合物を１７．６ｇ（７７ｍｍｏｌ）含有］を２８７ｇのジクロロメタンに溶解させた。中和剤として、炭酸水素ナトリウム（ＮａＨＣＯ3）４．５ｇ（５４ｍｍｏｌ）を加え、このスラリーを室温でさらに１２時間撹拌した。水で湿らせたｐＨ試験紙により、ｐＨ＞７を示したことにより、中和が完了していることを確認した。中和後の混合液をガスクロマトグラフィーで分析したところ、式（１１）で表される環状アセタール化合物１４．１ｇ（６２ｍｍｏｌ）が定量され、クロマトグラム上、ヒドロキシアセトンのピーク、及び高沸点領域に数種類のピークの増加が見られたことにより、式（１１）で表される環状アセタール化合物の分解が確認された。
【００４６】
実施例２
製造例１と同様の方法によって合成した下記式（１２）
【化５】
2008120690.tif 000006
で表される環状アセタール化合物１９．７ｇ（７７ｍｍｏｌ）を含む粗反応液を２８７ｇのジクロロメタンに溶解させた。脱水剤として無水硫酸マグネシウム（ＭｇＳＯ4）１３．５ｇ（１１２ｍｍｏｌ）を室温で溶液中に添加して、窒素雰囲気下、２時間撹拌した。その後、中和剤として、炭酸水素ナトリウム（ＮａＨＣＯ3）４．５ｇ（５４ｍｍｏｌ）を加え、このスラリーを室温でさらに１２時間撹拌した。水で湿らせたｐＨ試験紙により、ｐＨ＞７を示したことにより、中和が完了していることを確認した。中和後の混合液をガスクロマトグラフィーで分析したところ、式（１２）で表される環状アセタール化合物が定量的に分析され、分解は起こっていないことを確認した。
【００４７】
比較例２
製造例１と同様の方法によって合成した前記式（１２）で表される環状アセタール化合物１９．７ｇ（７７ｍｍｏｌ）を含む粗反応液を２８７ｇのジクロロメタンに溶解させた。中和剤として、炭酸水素ナトリウム（ＮａＨＣＯ3）４．５ｇ（５４ｍｍｏｌ）を加え、このスラリーを室温でさらに１２時間撹拌した。水で湿らせたｐＨ試験紙により、ｐＨ＞７を示したことにより、中和が完了していることを確認した。中和後の混合液をガスクロマトグラフィーで分析したところ、式（１２）で表される環状アセタール化合物１７．３ｇ（６８ｍｍｏｌ）が定量され、クロマトグラム上、ヒドロキシアセトンのピーク、及び高沸点領域に数種類のピークの増加が見られたことにより、式（１２）で表される環状アセタール化合物の分解が確認された。
【００４８】
実施例３
製造例１と同様の方法によって合成した下記式（１３）
【化６】
2008120690.tif 000007
で表される環状アセタール化合物２５．４ｇ（７７ｍｍｏｌ）を含む粗反応液を２８７ｇのジクロロメタンに溶解させた。脱水剤として無水硫酸マグネシウム（ＭｇＳＯ4）１３．５ｇ（１１２ｍｍｏｌ）を室温で溶液中に添加して、窒素雰囲気下、２時間撹拌した。その後、中和剤として、炭酸水素ナトリウム（ＮａＨＣＯ3）４．５ｇ（５４ｍｍｏｌ）を加え、このスラリーを室温でさらに１２時間撹拌した。水で湿らせたｐＨ試験紙により、ｐＨ＞７を示したことにより、中和が完了していることを確認した。中和後の混合液をガスクロマトグラフィーで分析したところ、式（１３）で表される環状アセタール化合物が定量的に分析され、分解は起こっていないことを確認した。
【００４９】
比較例３
製造例１と同様の方法によって合成した前記式（１３）で表される環状アセタール化合物２５．４ｇ（７７ｍｍｏｌ）を含む粗反応液を２８７ｇのジクロロメタンに溶解させた。中和剤として、炭酸水素ナトリウム（ＮａＨＣＯ3）４．５ｇ（５４ｍｍｏｌ）を加え、このスラリーを室温でさらに１２時間撹拌した。水で湿らせたｐＨ試験紙により、ｐＨ＞７を示したことにより、中和が完了していることを確認した。中和後の混合液をガスクロマトグラフィーで分析したところ、式（１３）で表される環状アセタール化合物２４．３ｇ（７４ｍｍｏｌ）が定量され、クロマトグラム上、ヒドロキシアセトンのピーク、及び高沸点領域に数種類のピークの増加が見られたことにより、式（１３）で表される環状アセタール化合物の分解が確認された。