(57)【要約】【課題】有機ＥＬ素子の乾燥工程において、各画素で均一な発光をし、かつ非発光箇所や電流リークが発生しない長寿命で高効率な有機ＥＬ素子を迅速に製造する方法および表示装置を提供する。【解決手段】第１電極（２）と、前記第１電極（２）に対向するように設けられた第２電極（７）と、前記第１電極（２）と第２電極（７）との間に少なくとも有機発光層（６）を含む有機発光媒体層を具備した有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、前記有機発光媒体層の少なくとも１層が凸版接触乾燥法により乾燥される製造方法。該方法により製造された有機エレクトロルミネッセンス素子を用いた表示装置。【選択図】図１
2008204807.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１電極と、前記第１電極に対向するように設けられた第２電極と、前記第１電極と第２電極との間に少なくとも有機発光層を含む有機発光媒体層を具備した有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、前記有機発光媒体層の少なくとも１層が凸版接触乾燥法により乾燥されることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項２】
前記有機発光媒体層が、２層以上であることを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項３】
前記有機発光媒体層が架橋型の材料からなる層を含むことを特徴とする請求項１または２に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項４】
前記有機発光媒体層がウエットプロセスによって形成されることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項５】
前記ウエットプロセスが凸版印刷法であることを特徴とする請求項４に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法により製造されたことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項７】
請求項６に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を、表示素子として備えたことを特徴とする表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子の製造方法および表示装置に関する。さらに詳しくは、有機ＥＬ素子の乾燥工程において、各画素で均一な発光をし、かつ非発光箇所や電流リークが発生しない長寿命で高効率な有機ＥＬ素子を迅速に製造する方法および表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機発光デバイスは、陽極としての電極と、陰極としての電極との間に、少なくともエレクトロルミネッセンス現象を呈する有機発光層を挟持してなる構造を有し、電極間に電圧が印加されると、有機発光層に正孔と電子が注入され、この正孔と電子とが有機発光層で再結合することにより、有機発光層が発光する自発光型のデバイスである。
【０００３】
さらに、発光効率を増大させるなどの目的から、陽極と有機発光層との間に正孔注入層、正孔輸送層、および／または、有機発光層と陰極との間に電子輸送層、電子注入層などが適宜選択して設けられている。そして、有機発光層とこれら正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層などを合わせて有機発光媒体層と呼ばれている。
【０００４】
また、発光効率や輝度は各層の膜厚に依存し、１００ｎｍ程度の薄膜にする必要があり、さらに、これをディスプレイパネル化するには高精細にパターニングする必要がある。
【０００５】
有機発光媒体層を形成する材料には、低分子材料と高分子材料が有り、一般に低分子材料は真空蒸着法等により薄膜形成し、パターニングする際には微細パターンのマスクを用いるが、この方法では基板が大型化すればするほどパターニング精度が出にくいという問題がある。また、真空中で成膜するためにスループットが悪いという問題がある。
【０００６】
そこで、最近では高分子材料を溶剤に溶かして塗工液にし、これをウエットプロセスで薄膜形成する方法が試みられるようになってきている。高分子材料の塗液を用いてウエットプロセスで有機発光媒体層を形成する場合の層構成は、陽極側から正孔輸送層、有機発光層と積層する二層構成が一般的である。
【０００７】
さらに劣化という課題に対して、電子ブロック機能を持った第三の機能層を正孔輸送層と発光層の間に挿入することで素子特性を改善するというものがある。電子ブロック層を挿入すると、発光層と電子ブロック層の界面近傍のキャリア密度が増して発光効率が向上する。発光効率の向上は投入電力に対する発光強度の増大を意味するので、同一の光量を得る為に素子を通過する電流量は減少し、その結果寿命特性は改善される。
【０００８】
これら有機発光媒体層は、次層を積層する前に溶媒の除去、膜質の最適化、導伝率の最適化のために乾燥工程を行うのが通常である。特にウエットプロセスでは様々な溶媒を用いるためその乾燥条件や乾燥方法は非常に重要な研究課題となっている。
【０００９】
現在の乾燥には主にホットプレートを用いて基板側から基板全体を乾燥する方法、または真空乾燥機とホットプレートをもちいて減圧下で基板全体を乾燥する方法、オーブン乾燥機のように空気中の対流と輻射熱を用いて基板全体を乾燥させる方法がある。
【００１０】
しかしこれらの乾燥法は全て基板全体を熱するため既に積層されている有機発光媒体層に対しても加熱することになり、例えば既に積層されている有機発光媒体層のガラス転位温度が新たに積層する有機発光媒体層の乾燥温度条件より低い場合、既に積層されている有機発光媒体層の膜質が変化して所望の特性が得られない、逆に乾燥温度を、既に積層されている有機発光媒体層のガラス転位温度以下で新たに積層した有機発光媒体層を乾燥した場合、乾燥が不十分で所望の特性が得られないという問題が生じる。
【００１１】
特に電子ブロック層は架橋型分子であることが多く、乾燥と化学架橋反応両者の目的で一般的に通常の有機発光媒体層より高温の乾燥条件が求められる。
【００１２】
また、ホットプレートのように基板側から基板全体を乾燥する方法は、積層した有機発光媒体層の下層から熱が加わるため、最表面の乾燥が不十分である懸念がある。
【００１３】
また、有機発光媒体層の導伝率も加熱温度と加熱時間により変化するので、既に積層されている有機発光媒体層に新たに熱が加えられると、所望の導伝率が変化してしまう懸念がある。
【００１４】
更に、有機発光媒体層界面の電子状態は非常に複雑で加熱することによって特性に大きく影響する懸念がある。
【００１５】
ところで、有機エレクトロルミネッセンスを用いて、カラーパネル化するために有機発光層は赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のそれぞれの発光色をもつ有機発光材料を用いて塗り分ける必要がある（例えば特許文献１参照）。
【００１６】
有機発光媒体層をウエットプロセスによって成膜する方法は、主にスピンコート、ダイコート、インクジェット、印刷などの手法が用いられる。
【００１７】
上記手法のうち、スピンコート、ダイコートはそれ自身でパターンニングすることができない。インクジェットや印刷はパターニングすることも可能だが、インキ材料、インキ溶媒、粘度に制限があり、安定してパターンニングすることは困難である。特に高精細化が進むほど、隣り合った画素へのインキの混色が顕著になり、正確に安定してパターニングすることはより困難となる。
【００１８】
また、ウエットプロセスに限らずカラーパネルを作製する場合、電極をパターニングする必要があり、パターニングされた電極は端部に電界が集中しリーク電流が生じる問題がある。
【００１９】
そこで、一般的にパターニングを行う場合は、これらの問題を防ぐために凸状の仕切り部材として隔壁パターンを設ける。隔壁パターンはフォトレジストを基板に塗布し、露光・現像等からなる通常のフォトリソグラフィ工程を用いて形成される。
【００２０】
一方、正孔輸送層はパターニングせずに、有機ＥＬディスプレイパネルの画像形成に関わる部分全体に全面塗布いわゆるベタ塗りする方法が一般的で、スピンコート法やダイコート法といったコーティング法を用いて形成されてきた。
【００２１】
これは、正孔輸送層の膜厚は一般に１００ｎｍ以下の薄膜であり、層の横方向へ流れる電流よりも厚み方向へ流れる電流のほうが圧倒的に流れやすく、よって電極がパターニングされていれば、電流の画素の外へのリークは非常に少ないといわれていたためであるが、上記塗布方法では画素毎のパターニングが不要であったとしても、封止のための接着剤が塗布される場所や、ドライバチップの実装場所にも膜が形成されてしまうため、成膜後に正孔輸送層の不要部の拭き取り・除去の工程が必要であり、有機発光層だけでなく正孔輸送層も画素電極上にのみにパターン形成することは工程短縮やコスト削減を狙う上では非常に需要である。
【００２２】
このように有機ＥＬ表示装置を製造する際でも乾燥工程は全て基板全体を熱するため既に積層されている有機発光媒体層に対しても加熱することになり、前述したような問題が生じる。
【００２３】
また表示装置を量産する際、乾燥工程はタクトタイムに大きく影響し生産量の律束になる。
【００２４】
更に有機発光媒体層は複雑にパターン形成する必要があり、隔壁やＴＦＴ電極、各有機発光媒体層における界面や乾燥温度の制約が増える。
【特許文献１】特開平８−２９７２０４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２５】
本発明は、上記の問題点を解決するためになされたものであり、その課題とするところは、有機発光媒体層を形成する有機ＥＬ素子の製造方法において、乾燥工程における全ての有機発光媒体層へのダメージが抑えられ、各画素で均一な発光をし、かつ非発光箇所や電流リークが発生しない長寿命で高効率な有機ＥＬ素子を迅速に製造する方法および表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００２６】
ところで本発明者の検討によれば、有機発光媒体層の乾燥に凸版接触乾燥法を用いることで乾燥工程における全ての有機発光媒体層へのダメージが抑えられ、欠陥やムラのない有機ＥＬ素子の製造方法および表示装置を迅速に提供することが可能となった。
【００２７】
凸版接触乾燥法とは版胴に取り付けた金属凸版を加熱し、版胴を回転させながら基板に版凸部を接触させ加熱乾燥する方法である。
【００２８】
本発明はこのような知見に基づいてなされたものであり、請求項１に記載の発明は、第１電極と、前記第１電極に対向するように設けられた第２電極と、前記第１電極と第２電極との間に少なくとも有機発光層を含む有機発光媒体層を具備した有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、前記有機発光媒体層の少なくとも１層が凸版接触乾燥法により乾燥されることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法である。
請求項２に記載の発明は、前記有機発光媒体層が、２層以上であることを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法である。
請求項３に記載の発明は、前記有機発光媒体層が架橋型の材料からなる層を含むことを特徴とする請求項１または２に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法である。
請求項４に記載の発明は、前記有機発光媒体層がウエットプロセスによって形成されることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法である。
請求項５に記載の発明は、前記ウエットプロセスが凸版印刷法であることを特徴とする請求項４に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法である。
請求項６に記載の発明は、請求項１〜５のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法により製造されたことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子である。
請求項７に記載の発明は、請求項６に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を、表示素子として備えたことを特徴とする表示装置である。
【発明の効果】
【００２９】
本発明によれば、有機発光媒体層の乾燥において、既に成膜してある有機発光媒体層へ熱をかけることなく最表層および最表面を乾燥することを可能とし全ての有機発光媒体層を最適な膜質に保つことができ、各画素で均一な発光をし、かつ非発光箇所や電流リークが発生しない長寿命の有機ＥＬ素子およびこれを用いた表示装置を、簡便で、効率よく、迅速に提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
本発明の一実施形態を、パッシブマトリックスタイプの有機ＥＬディスプレイパネルを作成する場合を例に説明する。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。本発明の有機ＥＬディスプレイパネル断面の模式図を図１に示す。
【００３１】
有機ＥＬディスプレイパネルにおける有機ＥＬ素子は透光性基板１上に形成される。透光性基板１としては、ガラス基板やプラスチック製のフィルムまたはシートを用いることができる。プラスチック製のフィルムを用いれば、巻取りにより高分子ＥＬ素子の製造が可能となり、安価にディスプレイパネルを提供できる。そのプラスチックとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー、ポリアミド、ポリエーテルスルホン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート等を用いることができる。また、これらのフィルムは水蒸気バリア性、酸素バリア性を示す酸化ケイ素といった金属酸化物、窒化ケイ素といった酸化窒化物やポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル、エチレン-酢酸ビニル共重合体鹸化物からなるバリア層が必要に応じて設けられる。
【００３２】
透光性基板の上には陽極としてパターニングされた画素電極２が設けられる。画素電極２の材料としては、ITO（インジウム錫複合酸化物）、IZO（インジウム亜鉛複合酸化物）、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化アルミニウム複合酸化物等の透明電極材料が使用できる。なお、低抵抗であること、耐溶剤性があること、透明性があることなどからITOが好ましい。ITOはスパッタ法により透光性基板上に形成されフォトリソ法によりパターニングされライン状の画素電極２となる。
【００３３】
ライン状の画素電極２を形成後、隣接する画素電極の間に感光性材料を用いて、フォトリソグラフィ法により隔壁３が形成される。さらに詳しくは、感光性樹脂組成物を基板に塗布する工程と、パターン露光、現像して隔壁パターンを形成する工程と、前記隔壁パターンに光照射等を施して親水化させる工程と、を少なくとも有する。
【００３４】
隔壁を形成する感光性材料としてはポジ型レジスト、ネガ型レジストのどちらであってもよく、市販のもので構わないが、絶縁性を有する必要がある。隔壁が十分な絶縁性を有さない場合には隔壁を通じて隣り合う画素電極に電流が流れてしまい表示不良が発生してしまう。具体的にはポリイミド系、アクリル樹脂系、ノボラック樹脂系、フルオレン系といったものが挙げられるがこれに限定するものではない。また、有機ＥＬ素子の表示品位を上げる目的で、光遮光性の材料を感光性材料に含有させても良い。
【００３５】
隔壁３を形成する感光性樹脂はスピンコーター、バーコーター、ロールコーター、ダイコーター、グラビアコーター等の公知の塗布方法を用いて塗布される。
【００３６】
次に、パターン露光、現像して隔壁パターンを形成する工程では、従来公知の露光、現像方法により段形状を有した隔壁部のパターンを形成できる。有機発光媒体層が正孔輸送層、有機発光層の２層系である場合は、２段であることがより好ましいが、この限りではない。
【００３７】
本発明における隔壁３は、厚みが０．５μｍから５．０μｍの範囲にあることが望ましい。また、1段目の厚みは正孔輸送層の膜厚以上、有機発光層の膜厚以下、２段目の厚みは有機発光層の膜厚以上である必要がある。隔壁３を隣接する画素電極間に設けることによって、各画素電極上に印刷された正孔輸送インキの広がりを抑え、また透明導電膜端部からのショート発生を防ぐことが出来る。隔壁が低すぎるとショートの防止効果が得られないことがあり注意が必要である。
【００３８】
隔壁形成後、正孔輸送層４を形成する。本発明では正孔輸送層４を形成する正孔輸送インキとして水系であってｐＨ３以下の正孔輸送インキを用いることが好ましい。溶解タイプでは正孔輸送インキが印刷中に析出する等の問題が発生しやすいためである。
【００３９】
また上記水系の分散型正孔輸送インキは酸性であることが多いが、本発明ではこれを中和等することなく酸性の状態で使うことが好ましい。これは中和によりインキ安定性が悪化する、正孔輸送性が悪化するなどの可能性が生じるためである。また無機アルカリ等での中和はイオン分がコンタミしてしまい寿命等の悪化につながるため避けるべきである。
【００４０】
これらの材料は溶媒に溶解または分散させ、正孔輸送材料インキとなり、ウエットプロセス、とくに凸版印刷法を用いて形成される。なお、形成される正孔輸送層の体積抵抗率は発光効率の点から１ｘ１０６  Ω・ｃｍ以下のものが好ましい。
【００４１】
正孔輸送材料を溶解または分散させる溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール、グリセリン、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピル、水等から構成される混合溶媒などが上げられるが、本発明では水または水に任意の割合で混合可能な溶媒からなることが好ましい。
【００４２】
図２に正孔輸送材料からなる正孔輸送インキを、画素電極、隔壁が形成された被印刷基板上に凸版印刷法によりパターン印刷する際の凸版印刷装置の概略図を示した。本製造装置はインキタンク１０とインキチャンバー１２とアニロックスロール１４と凸部が設けられた版１６がマウントされた版胴１８を有している。インキタンク１０には溶剤で希釈された有機発光インキが収容されており、インキチャンバー１２にはインキタンク１０より正孔輸送インキが送り込まれるようになっている。アニロックスロール１４はインキチャンバー１２のインキ供給部に対して回転可能に支持されている。
【００４３】
アニロックスロール１４の回転に伴い、アニロックスロール表面に供給された正孔輸送インキのインキ層１４ａは均一な膜厚に形成される。このインキ層はアニロックスロールに近接して回転駆動される版胴１８にマウントされた版１６の凸部に転移する。平台２０には、透明電極および隔壁が形成された被印刷基板２４が版１６の凸部による印刷位置にまで図示していない搬送手段によって搬送されるようになっている。そして、版１６の凸部にあるインキは被印刷基板２４に対して印刷され、必要に応じて乾燥工程を経て被印刷基板上に正孔輸送層が形成される。
【００４４】
なお、今回凸版に使用した感光性樹脂凸版は水現像タイプのものを使用した。感光性樹脂版には、露光した樹脂版を現像する際に用いる現像液が有機溶剤である溶剤現像タイプのものと現像液が水である水現像タイプのものがある。溶剤現像タイプのものは水系のインキに耐性を示し、水現像タイプのものは有機溶剤系のインキに耐性を示す傾向があるが、この限りではなく正孔輸送インキに耐性を持ったものであればいずれの樹脂凸版も用いることができる。
【００４５】
上記により隔壁３を形成した基板１を焼成してから次の工程に進む。ここで隔壁３を焼成する条件は２００℃〜２５０℃で１０分〜６０分間加熱であることが好ましい。この焼成において、隔壁が完全に硬化して、有機ＥＬ素子として十分な耐性が得られる。ここで焼成温度が２００℃以下では隔壁焼成条件としては低く、隔壁材料の未硬化などの問題が懸念される。また２５０℃以上では温度が高すぎるために隔壁が熱劣化してしまう危険がある。また時間が１０分以下では短いために焼成不足となるし、６０分以上では生産性が劣るため好ましくない。
【００４６】
上記により焼成した隔壁３形成した基板１に前述の凸版印刷法により正孔輸送インキを印刷して正孔輸送層４を形成する。
【００４７】
ここで正孔輸送層４の焼成方法として凸版接触乾燥法を用いる。図３は平台３０上に置かれた画素電極、隔壁、正孔輸送インキが塗布された被乾燥基板３１上を凸版接触乾燥法によりパターン乾燥する際の凸版印刷乾燥法装置の概略図として示してある。
【００４８】
凸版接触乾燥法は版胴４１に取り付けてある面抵抗体４２に電流を流し金属熱伝導を利用して金属凸版４３を加熱し、版胴４１を回転させながら基板に版凸部を接触させ、所望の位置のみを加熱乾燥する方法である。金属版には熱伝導性の高い銅を用いることが好ましい。この焼成において、正孔輸送層は隔壁に熱を加えることなく焼成することができる。
【００４９】
正孔輸送層４形成後、前述の凸版印刷法により電子ブロックインキを印刷して電子ブロック層５を形成する。電子ブロック層は、陰極から有機発光層６へ注入された電子がそのまま陽極へ通過してしまうことを防ぐため電子をブロックするための層であり、電子ブロック性物質で構成される。
【００５０】
電子ブロック性材料としては、例えばポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）（以下ＰＶＫともいう）、ポリ（パラ−フェニレンビニレン）、カルバゾールビフェニル（以下、ＣＢＰともいう）、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（１−ナフチル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン（以下ＮＰＤともいう）、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン（以下ＴＰＤともいう）、４，４’−ビス（１０−フェノチアジニル）ビフェニルや、２，４，６−トリフェニル−１，３，５−トリアゾール、ポリフルオレン誘導体、トリフェニルアミンとフルオレンの共重合体、などを挙げることができる。
【００５１】
電子ブロック層５形成後、凸版接触乾燥法を用いて乾燥する。この焼成において、電子ブロック層は正孔輸送層に熱を加えることなく焼成することができる。
【００５２】
電子ブロック層５形成後、有機発光層６を形成する。有機発光層６は電流を通すことにより発光する層であり、有機発光層を形成する有機発光材料は、例えば、クマリン系、ペリレン系、ピラン系、アンスロン系、ポルフィレン系、キナクリドン系、Ｎ，Ｎ’−ジアルキル置換キナクリドン系、ナフタルイミド系、Ｎ，Ｎ’―ジアリール置換ピロロピロール系、イリジウム錯体系等の発光性色素をポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾール等の高分子中に分散させたものや、ポリアリーレン系、ポリアリーレンビニレン系やポリフルオレン系の高分子材料が挙げられる。
【００５３】
これらの有機発光材料は溶媒に溶解または安定に分散させ有機発光インキとなる。有機発光材料を溶解または分散する溶媒としては、トルエン、キシレン、アセトン、アニソール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等の単独またはこれらの混合溶媒が挙げられる。中でも、トルエン、キシレン、アニソールといった芳香族有機溶剤が有機発光材料の溶解性の面から好適である。又、有機発光インキには、必要に応じて、酸化防止剤、粘度調整剤、紫外線吸収剤等が添加されても良い。
【００５４】
有機発光層６の形成方法としては、凸版印刷法の他にインクジェット法や凹版オフセット印刷法、凸版反転オフセット印刷法等によりパターン形成することが可能である。なお、の凸版印刷法を用いる場合は、有機発光インキに適した樹脂凸版を使用することが出来、中でも水現像タイプの感光性樹脂凸版が好適である。
【００５５】
有機発光層６形成後、凸版接触乾燥法を用いて乾燥する。この焼成において、有機発光層は電子ブロック層に熱を加えることなく焼成することができる。このように、有機発光媒体層が２層以上であるとき、また有機発光媒体層が架橋型の材料からなる層を含むときに本発明はとくに効果的である。
【００５６】
また、有機発光媒体層は大気中でも窒素雰囲気下でも真空中でも形成することができる。大気中で行った場合は真空度調整の時間を省くことができる。
【００５７】
有機発光層６形成後、陰極層７を画素電極のラインパターンと直交するラインパターンで形成する。陰極層７の材料としては、有機発光層の発光特性に応じたものを使用でき、例えば、リチウム、マグネシウム、カルシウム、イッテルビウム、アルミニウムなどの金属単体やこれらと金、銀などの安定な金属との合金などが挙げられる。また、インジウム、亜鉛、錫などの導電性酸化物を用いることもできる。陰極層の形成方法としてはマスクを用いた真空蒸着法による形成方法が挙げられる。
【００５８】
なお、本発明の有機ＥＬ素子では陽極である画素電極と陰極層の間に陽極層側から正孔輸送層と有機発光層を積層した構成であるが、陽極層と陰極層の間において正孔輸送層、有機発光層以外に正孔ブロック層、電子輸送層、電子注入層といった層を必要に応じ選択した積層構造をとることが出来る。また、これらの層を形成する際には上述の有機発光媒体層と同様の形成方法が使用できる。
【００５９】
凸版接触乾燥法において、金属凸版４３の加熱温度は、各層に使用される成分によって適宜決定されるが、各成分のガラス転移温度より低いことが好ましく、例えば１００℃から２００℃である。また乾燥時間は、例えば１０〜３００秒である。
【００６０】
最後にこれらの有機ＥＬ構成体を、外部の酸素や水分から保護するために、ガラスキャップ８と接着剤９を用いて密閉封止し、有機ＥＬディスプレイパネルを得ることが出来る。また、透光性基板が可撓性を有する場合は封止剤と可撓性フィルムを用いて封止を行っても良い。
【実施例】
【００６１】
以下、本発明を実施例および比較例によりさらに説明するが、本発明は下記例に制限されるものではない。
【００６２】
実施例１
体格１．８インチサイズのガラス基板の上にスパッタ法を用いてＩＴＯ（インジウム-錫酸化物）薄膜を形成し、フォトリソグラフィ法と酸溶液によるエッチングでＩＴＯ膜をパターニングして、画素電極を形成した。画素電極のラインパターンは、線幅１３６μｍ、スペース３０μｍでラインが約３２ｍｍ角の中に１９２ライン形成されるパターンとした。
【００６３】
次に隔壁を以下のように形成した。画素電極を形成したガラス基板上にポジ型感光性ポリイミドを全面スピンコートし、隔壁の高さを１．５μｍとした。全面に塗布した感光性材料に対し、フォトリソグラフィー法により露光、現像を行い画素電極の間にラインパターンを有する隔壁を形成した。この後隔壁を２３０℃、３０分大気中で焼成した。
【００６４】
次に、正孔輸送インキとして８０重量部、超純水２０重量部を混合、調液しインキとした。この正孔輸送インキを用い粘度を測定したところ５．５ｍＰａ・ｓであった。上記のインキを用いて凸版印刷法にて隔壁間に正孔輸送層を形成した。なお、正孔輸送インキの組成は、ポリエチレンジオキシチオフェン：ポリスチレンスルホン酸＝１：２０の３％水分散液である。
【００６５】
正孔輸送層印刷後、ホットプレートを用いて１３０℃、１０分大気中で正孔輸送層の焼成を行い、正孔輸送層を形成した。このときの正孔輸送層の膜厚は５０ｎｍとなった。形成された正孔輸送層に対し、パターニング状態の確認を行った。
【００６６】
次に、電子ブロック材料であるポリフルオレン誘導体を濃度０．４％になるようにトルエンに溶解させた電子ブロックインキを用い、隔壁に挟まれた画素電極の真上にそのラインパターンにあわせて電子ブロック層を凸版印刷法で印刷を行った。
【００６７】
電子ブロック層印刷後、凸版接触乾燥法で電子ブロック層を乾燥させた。乾燥温度は２００℃、回転速度は６０ｍｍ/sで電子ブロック層を形成した。このときの電子ブロック層の膜厚は２０ｎｍとなった。形成された電子ブロック層に対し、パターニング状態の確認を行った。その結果、平坦な膜形状が得られていることを確認した。
【００６８】
次に、有機発光材料であるポリフェニレンビニレン誘導体を濃度１％になるようにトルエンに溶解させた有機発光インキを用い、隔壁に挟まれた画素電極の真上にそのラインパターンにあわせて有機発光層を凸版印刷法で印刷を行った。
【００６９】
有機発光層印刷後、ホットプレートを用いて１３０℃、１０分大気中で有機発光層の焼成を行い、有機発光層を形成した。このときの有機発光層の膜厚は８０ｎｍとなった。形成された有機発光層に対し、パターニング状態の確認を行った。
【００７０】
その上にＣａ、Ａｌからなる陰極層を画素電極のラインパターンと直交するようなラインパターンで抵抗加熱蒸着法によりマスク蒸着して形成した。最後にこれらの有機ＥＬ構成体を、外部の酸素や水分から保護するために、ガラスキャップと接着剤を用いて密閉封止し、有機ＥＬディスプレイパネルを作製した。
【００７１】
本実施の形態に要した製造時間は９０分であった。
【００７２】
また有機ＥＬディスプレイパネルの表示部周辺には各画素電極に接続されている陽極側の取り出し電極と、陰極側の取り出し電極があり、これらを電源に接続することにより、得られた有機ＥＬディスプレイパネルの点灯表示確認を行い、発光状態および発光特性のチェックを行った。
【００７３】
その結果、輝度が６Ｖで１６０ｃｄ／ｍ２、また、初期輝度４００ｃｄ／ｍ２における輝度半減時間は１６００時間の、高発光効率、高発光輝度、長寿命の表示特性を得られた。さらに温度５０℃、湿度９０％の恒温高湿環境で加速試験を行った結果、５０００時間で発光面にダークスポットが発見された。
【００７４】
実施例２
実施例１において、正孔輸送層印刷後、凸版接触乾燥法で正孔輸送層を乾燥させた。乾燥温度は１３０℃、回転速度は１３０ｍｍ/sで正孔輸送層を形成した。このときの正孔輸送層の膜厚は５０ｎｍとなった。形成された正孔輸送層に対し、パターニング状態の確認を行った。その結果、平坦な膜形状が得られていることを確認した。それ以外は実施例１と同様に作製した。
【００７５】
本実施の形態に要した製造時間は７０分であった。
【００７６】
また有機ＥＬディスプレイパネルの表示部周辺には各画素電極に接続されている陽極側の取り出し電極と、陰極側の取り出し電極があり、これらを電源に接続することにより、得られた有機ＥＬディスプレイパネルの点灯表示確認を行い、発光状態および発光特性のチェックを行った。
【００７７】
その結果、輝度が６Ｖで２００ｃｄ／ｍ２、また、初期輝度４００ｃｄ／ｍ２における輝度半減時間は２０００時間の、高発光効率、高発光輝度、長寿命の表示特性を得られた。さらに温度５０℃、湿度９０％の恒温高湿環境で加速試験を行った結果、６０００時間で発光面にダークスポットが発見された。
【００７８】
実施例３
実施例２において、正孔輸送層印刷後、凸版接触乾燥法で有機発光層を乾燥させた。乾燥温度は１３０℃、回転速度は１３０ｍｍ/sで有機発光層を形成した。このとき正孔輸送層膜厚は５０ｎｍとなった。それ以外は実施例２と同様に作製した。
【００７９】
本実施の形態に要した製造時間は６０分であった。
【００８０】
また有機ＥＬディスプレイパネルの表示部周辺には各画素電極に接続されている陽極側の取り出し電極と、陰極側の取り出し電極があり、これらを電源に接続することにより、得られた有機ＥＬディスプレイパネルの点灯表示確認を行い、発光状態および発光特性のチェックを行った。
【００８１】
その結果、輝度が６Ｖで２２０ｃｄ／ｍ２、また、初期輝度４００ｃｄ／ｍ２における輝度半減時間は２５００時間の、高発光効率、高発光輝度、長寿命の表示特性を得られた。さらに温度５０℃、湿度９０％の恒温高湿環境で加速試験を行った結果、７０００時間で発光面にダークスポットが発見された。
【００８２】
比較例１
実施例１において、電子ブロック層印刷後、ホットプレートを用いて２００℃、１０分大気中で電子ブロック層の焼成を行い、電子ブロック層を形成した。このときの正孔輸送層の膜厚は２０ｎｍとなった。形成された正孔輸送層に対し、パターニング状態の確認を行った。
【００８３】
本実施の形態に要した製造時間は１２０分であった。
【００８４】
また有機ＥＬディスプレイパネルの表示部周辺には各画素電極に接続されている陽極側の取り出し電極と、陰極側の取り出し電極があり、これらを電源に接続することにより、得られた有機ＥＬディスプレイパネルの点灯表示確認を行い、発光状態および発光特性のチェックを行った。
【００８５】
その結果、輝度が６Vで１００ｃｄ／ｍ２、また、初期輝度４００ｃｄ／ｍ２における輝度半減時間は１２００時間の、高発光効率、高発光輝度、長寿命の表示特性を得られた。さらに温度５０℃、湿度９０％の恒温高湿環境で加速試験を行った結果、２０００時間で発光面にダークスポットが発見された。
【図面の簡単な説明】
【００８６】
【図１】本発明の実施形態における有機ＥＬディスプレイパネル断面の模式図である。
【図２】本発明の実施形態における凸版印刷装置の概略図である。
【図３】本発明の実施形態における凸版印刷乾燥法装置の概略図である。
【符号の説明】
【００８７】
１：透光性基板
２：画素電極
３：隔壁
４：正孔輸送層
５：電子ブロック層
６：有機発光層
７：陰極層
８：ガラスキャップ
９：接着剤
１０：インキタンク
１２：インキチャンバー
１４：アニロックスロール
１４ａ：インキ層
１６：版
１８：版胴
２０：平台
２４：被印刷基板
３０：平台
３１：被乾燥基板
４１：版胴
４２：面抵抗体
４３：金属凸版
【図１】
2008204807.tif 000003
【図２】
2008204807.tif 000004
【図３】
2008204807.tif 000005