(57)【要約】【課題】液晶高分子フィルムの製造方法において、得られる液晶高分子フィルムの点状欠陥の発生を抑制すること。【解決手段】長尺の基板フィルムの表面に対してラビング処理を施す工程と、ラビング処理が施された基板フィルムに液晶高分子溶液を塗布する工程等を備える液晶高分子フィルムの製造方法において、液晶高分子溶液を基板フィルムに塗布する工程よりも前に、長尺の基板フィルムを搬送しながら連続的に加熱する工程を備える、製造方法。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
長尺の基板フィルムの表面に対してラビング処理を施す工程と、ラビング処理が施された前記基板フィルムに液晶高分子溶液を塗布する工程と、塗布された液晶高分子溶液から溶剤を除去して液晶高分子フィルムを形成させる工程と、該液晶高分子フィルムを加熱して液晶高分子フィルム中の液晶高分子を配向させる工程と、を備える液晶高分子フィルムの製造方法において、
前記液晶高分子溶液を前記基板フィルムに塗布する工程よりも前に、長尺の前記基板フィルムを搬送しながら連続的に加熱する工程を備える、製造方法。
【請求項２】
前記基板フィルムを加熱する工程が、前記ラビング処理を施す工程の後に設けられる、請求項１記載の製造方法。
【請求項３】
前記基板フィルムを加熱する工程と前記液晶高分子溶液を塗布する工程とが、前記基板フィルムを搬送しながらこの順で連続的に行われる、請求項１又は２記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶高分子フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶高分子が配向した液晶高分子フィルムを備える光学素子は、例えば、液晶表示素子用の色補償板や視野角改良板として用いられる。この液晶高分子フィルムを得る方法として、ラビング処理によって基板フィルムの表面に所定の方向に配向した複数の疵を形成してそこに液晶高分子溶液を塗布し、塗布された液晶高分子溶液から液晶高分子溶液中の溶剤を除去して、残った液晶高分子の層を加熱して液晶高分子を配向させる方法が知られている。形成された液晶高分子フィルムは、例えば、透光性フィルムに転写されて、透光性フィルム及び液晶高分子フィルムが積層された積層構成を有する光学素子として用いられる（例えば、特許文献１。）。
【特許文献１】特開２００４−２０５９８７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかし、ラビング処理を施された基板フィルムを用いた従来の液晶高分子フィルムの製造方法の場合、得られる液晶高分子フィルムにおいて微小な点状欠陥が発生する割合が未だ多く、そのような点状欠陥の更なる抑制が求められていた。
【０００４】
そこで、本発明は、液晶高分子フィルムの製造方法において、得られる液晶高分子フィルムの点状欠陥の発生を抑制することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、基板フィルムの表面に対してラビング処理を施す工程と、ラビング処理が施された基板フィルムに液晶高分子溶液を塗布する工程と、塗布された液晶高分子溶液から溶剤を除去して液晶高分子フィルムを形成させる工程と、液晶高分子フィルムを加熱して液晶高分子フィルム中の液晶高分子を配向させる工程と、を備える液晶高分子フィルムの製造方法において、液晶高分子溶液を基板フィルムに塗布する工程よりも前に、長尺の基板フィルムを搬送しながら連続的に加熱する工程を備える、製造方法である。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、得られる液晶高分子フィルムにおける、点状欠陥の発生が抑制される。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
以下、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。
【０００８】
図１は、表面保護層付き液晶高分子フィルムの一実施形態を示す断面図である。図１に示す表面保護層付き液晶高分子フィルム１００は、液晶高分子フィルム１と、液晶高分子フィルム１の一方面側に設けられた透光性フィルム５と、透光性フィルム５及び液晶高分子フィルム１の間に介在する接着層１０と、液晶高分子フィルム１の他方面側に設けられた表面保護層７と、表面保護層７の液晶高分子フィルム１と反対側の面を覆う保護フィルム９と、を備えている。液晶高分子フィルム１は液晶高分子からなるフィルムである。液晶高分子フィルム１において、液晶高分子は所定の方向に配向した状態で固定されている。表面保護層付き液晶高分子フィルム１００は、通常、保護フィルム９を剥がしてから各種光学製品の製造に用いられる。
【０００９】
表面保護層付き液晶高分子フィルム１００は、例えば、所定の方向に配向した液晶高分子を含む液晶高分子フィルム１を基板フィルム上に形成させる工程と、液晶高分子フィルム１から基板フィルムを剥離する工程と、液晶高分子フィルム１の一方面に透光性フィルム５を接着する工程と、液晶高分子フィルム１の他方面上に表面保護層７を形成させる工程と、表面保護層７の液晶高分子フィルム１と反対側の面に保護フィルム９を付着させる工程と、を備える製造方法により得ることができる。
【００１０】
図２は、液晶高分子フィルムの製造方法の一実施形態を示すフローチャートである。図２に示す実施形態に係る製造方法により、基板フィルム上に液晶高分子フィルム１が形成される。本実施形態に係る製造方法は、基板フィルムの表面に対してラビング処理を施す工程Ｓ１と、ラビング処理された基板フィルムを加熱する工程Ｓ２と、基板フィルムに液晶高分子溶液を塗布する工程Ｓ３と、塗布された液晶高分子溶液から溶剤を除去して液晶高分子フィルムを形成させる工程Ｓ４と、液晶高分子フィルムを加熱して液晶高分子フィルム中の液晶高分子を配向させる工程Ｓ５と、を備える。
【００１１】
図３は、基板フィルムの表面に対してラビング処理を施す工程Ｓ１及び基板フィルムを加熱する工程Ｓ２を模式的に示す工程図である。
【００１２】
工程Ｓ１では、長尺の基板フィルム３が巻かれたロール３０から巻き出された基板フィルム３の表面に回転しているラビングロール４０を擦り付けることにより、基板フィルム３に対してラビング処理が施される。ラビングロール４０の軸方向と基板フィルム３が搬送される方向とのなす角度は、液晶高分子を配向させる方向等に応じて任意に変更が可能である。
【００１３】
基板フィルム３は、一定の長さを有する連続したフィルムであり、工業的にはロール状に巻かれた形態で供給され得るような連続フィルムである。ただし、基板フィルム３は必ずしもロール状に巻かれた形態で供給される必要はなく、例えば折り畳まれたものであってもよい。基板フィルム３の長さは１００００ｍに達する場合もある。
【００１４】
基板フィルム３は高分子材料からなることが好ましいが、銅、ステンレス、鋼等からなる金属箔であってもよい。また、複数の高分子フィルムを積層した積層フィルムであってもよいし、金属箔と高分子フィルムとを組合わせたものであってもよい。
【００１５】
基板フィルム３を構成する高分子材料としては、熱硬化性樹脂及び熱可塑性樹脂のいずれも使用できる。熱硬化性樹脂の例としては、ポリイミド、エポキシ樹脂及びフェノール樹脂が挙げられる。熱可塑性樹脂の例としては、ナイロン等のポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリケトン、ポリエーテルスルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニレンオキサイド、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート等）、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリ（メタ）アクリレート、トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂、及びポリビニルアルコールが挙げられる。これらの基板フィルムは単層フィルムであってもよいし積層フィルムであってもよい。
【００１６】
基板フィルム３は、例えば、ベースフィルム及びベースフィルム上に形成された配向膜を有していてもよい。配向膜の表面にラビング処理が施される。ベースフィルムは上に挙げた高分子材料等からなる高分子フィルムである。配向膜を構成する材料としては高分子化合物が好ましい。例えばポリイミド、アルキル鎖変性系ポリビニルアルコール、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリメチルメタクリレート等によって配向膜が形成される。
【００１７】
ラビングロール４０は、その外周面にラビング材が貼付されたロールである。ラビングロール４０は、ラビング処理のために通常用いられているものから、基板フィルム３の種類等に応じて適宜選択される。ラビング材の表面は、起毛された繊維を設けること等により、基板フィルム３の表面に疵を形成させるための凹凸が形成されている。ラビング材の具体例としては、織布、フェルト、ラバー、刷毛があり、基板フィルム３がプラスチックフィルムである場合、ナイロン、レーヨン、アセテート、綿等の織布が用いられる場合が多い。また、基板フィルム３が金属箔である場合、サンドペーパー、皮革等がラビング材として好適に用いられる。
【００１８】
ラビング処理では、基板フィルム３や配向膜の硬度を勘案して基板フィルム３の搬送速度、ラビングロール４０を基板フィルム３に押し付ける圧力（ラビング圧力）、ラビングロール４０の回転数等を適宜設定して、基板フィルム３を一定方向に擦る。通常、基板フィルム３の搬送速度は０．５〜１００ｍ／分（好ましくは１〜３０ｍ／分）、ラビングロール４０の回転数は周速比で１〜１０００（好ましくは３〜２００）の範囲で設定される。また、ラビング圧力は、ラビング材がわずかに基板フィルム３に接触する程度でよい。具体的には、例えばラビング材が布である場合、毛先の押し込み量が１００〜５０００μｍ（好ましくは１００〜２０００μｍ）程度となるようにラビング圧力が制御される。
【００１９】
工程Ｓ１に続く工程Ｓ２では、ラビング処理の後、基板フィルム３は巻き出された状態のまま加熱部５０を通過する。加熱部５０を通過するときに基板フィルム３は加熱される。加熱部５０においては、基板フィルム３は４０〜３００℃に加熱される。加熱部５０における加熱温度はより好ましくは７０℃以上であり、更に好ましくは１００℃以上である。また、この加熱温度はより好ましくは２５０℃以下である。基板フィルム３が加熱される時間（加熱部５０を通過する時間）は、好ましくは５秒〜１０分である。加熱温度が低い場合や加熱時間が短い場合、点状欠陥を抑制する効果が小さくなる傾向があり、加熱温度が高い場合や加熱時間が長い場合、液晶高分子フィルムに皺が発生し易くなる傾向がある。
【００２０】
加熱部５０は、公知の加熱手段から適宜選択される。例えば、熱風乾燥炉、赤外線ヒーターが加熱部５０として用いられる。熱風乾燥炉の場合、通電された電熱線との接触により加熱された空気をファンで炉内に送り込んで加熱雰囲気を形成する。赤外線ヒーターの場合、電流値及び電圧値によって赤外線照射量が制御された赤外線ランプを用いて基板フィルム３が加熱される。なお、上記の工程Ｓ１および工程Ｓ２は必ずしも連続で行う必要はなく、例えば工程Ｓ１終了後、基板フィルムを巻き取ってフィルムロール形態として、改めて工程Ｓ２を実施してもよい。
【００２１】
工程Ｓ２を経た後、基板フィルム３に液晶高分子溶液が塗布される（工程Ｓ３）。塗布方法は特に限定されず、例えば、ロールコート法、カーテンコート法や、スロットコート法等のダイコート法を採用することができる。
【００２２】
液晶高分子溶液は、液晶高分子フィルム１を構成する液晶高分子、及び液晶高分子が溶解している溶剤を含有する。本実施形態において用いられる液晶高分子は、典型的には、溶融時に液晶状態となるサーモトロピック液晶ポリマーである。この液晶高分子は、液晶状態ではネマチック配向、ねじれネマチックまたはハイブリッドネマチック配向し、液晶転移温度以下の温度領域ではガラス状態となる。得られる液晶高分子フィルムの光学特性などの点から、液晶高分子としては、液晶性ポリエステル等の縮合系液晶性高分子が好適に用いられる。
【００２３】
縮合系液晶性高分子は、カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基、チオール基等の官能基を有するモノマーを縮合させて得られる。縮合系液晶性高分子は、通常、これらの官能基を２個有する二官能性モノマーを適当な方法で縮合して得られる。二官能性モノマーは、芳香族環又はシクロヘキサン環を有するものが好ましい。二官能性モノマーの具体例としては、フェニレンジアミン等のジアミン、ハイドロキノン、２−メチルハイドロキノン、レゾルシノール、カテコール、４−メチルカテコール、４−ｔｅｒｔ−ブチルカテコール及び２，３−ジヒドロキシナフタレン等のジオール、１，４−フェニレンジチオール、１，２−フェニレンジチオール等のジチオール、サリチル酸、３−ヒドロキシ安息香酸、４−ヒドロキシ安息香酸、３−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸、６−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸及び７−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸等のヒドロキシカルボン酸、２−アミノ安息香酸、３−アミノ安息香酸及び４−アミノ安息香酸等のアミノ酸、並びに、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、２，７−ナフタレンジカルボン酸、４，４’−ビフェニルジカルボン酸、４，４’−スチルベンジカルボン酸及び１，４−シクロヘキサンジカルボン酸等のジカルボン酸が挙げられる。これらの中でも、カテコール単位を含有する縮合系液晶性高分子が好ましい。
【００２４】
縮合系液晶性高分子を合成する際に用いるモノマーには、液晶性を破壊しない程度において、上記以外の二官能性モノマーを含めることもできる。例えば、シュウ酸、フマル酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸及びセバシン酸等の脂肪族ジカルボン酸、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、ヘプタンジオール、オクタンジオール、ノナンジオール及びデカンジオール等の脂肪族ジオール、ジアミノエタン、ジアミノプロパン、ジアミノブタン、ジアミノペンタン、ジアミノヘキサン、ジアミノヘプタン、ジアミノオクタン、ジアミノノナン及びジアミノデカン等の脂肪族ジアミン、並びに、ヒドロキシ酢酸、ヒドロキシプロピオン酸、ヒドロキシ酪酸、ヒドロキシ吉草酸、ヒドロキシヘキサン酸、ヒドロキシヘプタン酸、ヒドロキシオクタン酸、ヒドロキシノナン酸及びヒドロキシデカン酸等の脂肪族ヒドロキシカルボン酸などがモノマーとして用いられる。
【００２５】
更に、液晶性高分子の主鎖末端を修飾するために、カルボキシル基、アミノ基、ヒドロキシル基及びチオール基等の官能基を１個又は３個有する一官能性モノマー又は三官能性モノマーを原料モノマー中に添加することもできる。一官能性モノマーの例としては、芳香族カルボン酸、脂肪族カルボン酸、芳香族アミン、脂肪族アミン、フェノール類及び脂肪族アルコールが挙げられる。三官能性モノマーの例としては、トリメリット酸、ジヒドロキシ安息香酸、ヒドロキシベンゼンカルボン酸、ベンゼントリカルボン酸及びピロメリット酸が挙げられる。
【００２６】
これらのモノマーを縮合して縮合系液晶性高分子を得る方法は特に制限されるものではなく、当該分野で公知の如何なる方法も適宜採用することができる。例えば、液晶性ポリエステルの場合、モノマー中のカルボキシル基を酸ハロゲン化物に変換するか又はジシクロヘキシルカルボジイミド等を存在させることによって活性化した上で他のモノマーのヒドロキシル基と反応させる方法、酢酸エステル化されたモノマー中のフェノール性水酸基を酢酸エステル化し、これを他のモノマーのカルボキシル基と反応させる方法、メチルエステルのようなエステル化物に変換されたカルボン酸を他のモノマーのヒドロキシル基と反応させる方法が任意に採用できる。
【００２７】
液晶高分子溶液中の液晶高分子は、好ましくは、１種又は２種以上の縮合系液晶性高分子から構成される。光学活性な液晶性高分子、液晶性ビニルポリマー、液晶性ポリシロキサン、液晶性エポキシ樹脂等の各種液晶性高分子を用いてもよい。また、液晶高分子フィルムから液晶性が失われない範囲で、非液晶性高分子を適宜混合して用いることもできる。液晶性ビニルポリマーは、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基など二重結合を有する液晶性化合物を重合して得られる。液晶性ポリシロキサンはアルコキシシリル基を有する液晶化合物から合成される。
【００２８】
液晶高分子溶液に用いられる溶剤は、液晶高分子が溶解するものから適宜選択される。具体的には、アセトン、メチルエチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンなどのケトン類、ブトキシエチルアルコール、ヘキシルオキシエチルアルコール、メトキシ−２−プロパノール、ベンジルオキシエタノールなどのエーテルアルコール類、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルなどのグリコールエーテル類、酢酸エチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトンなどのエステル類、フェノール、クロロフェノールなどのフェノール類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド類、クロロホルム、テトラクロロエタン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン系などやこれらの混合系が好ましく用いられる。また、配向基板上に均一な塗膜を形成するために、界面活性剤、消泡剤、レベリング剤などを溶液に添加してもよい。
【００２９】
工程Ｓ３の後、塗布された液晶高分子溶液から溶剤を除去して液晶高分子フィルムが形成される（工程Ｓ４）。液晶高分子溶液を加熱することにより、溶剤を除去することができる。なお、工程Ｓ４において溶剤が完全に除去される必要は必ずしもなく、液晶高分子フィルム１中に微量の溶剤が残存していてもよい。また、工程Ｓ４及び工程Ｓ５を明確に分離して行うことなく、両工程を同時又は連続的に行うこともできる。
【００３０】
工程Ｓ５では、形成された液晶高分子フィルムを更に加熱して液晶高分子フィルム中の液晶高分子を配向させ、配向が固定された液晶高分子フィルムを得る。加熱温度は液晶高分子のガラス転移温度を超える温度とされる。ガラス転移温度を超える温度まで加熱することにより、液晶高分子がラビング処理された基板フィルム３表面の疵を反映して配向する。加熱後、ガラス転移温度以下の温度に冷却することによって液晶高分子の配向が固定される。固定後の液晶高分子フィルムは、ネマチック、ねじれネマチックまたはハイブリッドネマチックの液晶相を有する。
【００３１】
工程Ｓ５の後の液晶高分子フィルム１の膜厚は、用途に応じて適宜設定される。例えば、ディスプレー用途などの可視光が重要である分野に用いられる場合、液晶高分子フィルム１の膜厚は好ましくは０．０５μｍ以上、より好ましくは０．１μｍ以上、更に好ましくは０．２μｍ以上である。膜厚が０．０５μｍ未満では精度よく膜厚を調整することが困難となる。また、あまり厚くなると光学素子としての規制力が弱まる。この観点から、液晶高分子フィルム１の膜厚は好ましくは１０００μｍ以下、より好ましくは５００μｍ以下である。
【００３２】
液晶高分子フィルムの製造方法には、工程Ｓ１〜Ｓ４の他に、更に他の工程が必要に応じて設けられていてもよい。追加の工程としては、例えば、基板フィルム表面の異物を除去する工程、基板フィルムの表面を水洗する工程がある。
【００３３】
本実施形態の場合、基板フィルム３を加熱する工程Ｓ２は工程Ｓ１と工程Ｓ３の間に設けられているが、工程Ｓ２が行われる順序は、工程Ｓ３の前であればよく、全ての他の工程の前またはいずれかの工程同士の間に１回又は２回以上の工程Ｓ２が設けられる。点状欠陥の発生をより確実に防止するためには、ラビング処理が施された後の基板フィルムを加熱することが好ましい。ラビング処理の前のみに工程Ｓ２を設けた場合、ラビング処理の工程を通過する間に基板フィルムに点状欠陥の原因物質が付着する可能性がある。同様の観点から、基板フィルムを加熱する工程と液晶高分子溶液を塗布する工程とは、基板フィルムを搬送しながらこの順で連続的に行われることがより好ましい。
【００３４】
基板フィルム３上に配向した液晶高分子フィルム１を形成させた後、液晶高分子フィルム１から基板フィルム３が剥離される。基板フィルム３が剥離された液晶高分子フィルム１は、接着層１０を介して透光性フィルム５に接着される。言い換えると、液晶高分子フィルム１は基板フィルム３から透光性フィルム５に連続的に転写される。
【００３５】
透光性フィルム５は、光学的等方性を有する透明なフィルムが好ましいが、用途や後加工によっては延伸フィルムも使用することができる。透光性フィルム５は、用途に応じた所望の透光性を有するものから適宜選択される。透光性フィルム５は熱可塑性樹脂フィルムであることが好ましい。より具体的には、透光性フィルム５は、ポリエチレンテレフタレート、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、アモルファスポリオレフィン又はトリアセチルセルロースのフィルムであることが好ましい。透光性フィルム５の厚さは好ましくは０．５〜２００μｍ、より好ましくは１〜１００μｍである。
【００３６】
接着層１０は、硬化型の接着剤、好ましくは光硬化型又は電子線硬化型の接着剤から形成される。特に、アクリル系オリゴマーを主成分とする接着剤が好適である。光硬化型又は電子線硬化型の接着剤を用いる場合、例えば、基板フィルム３上に形成された液晶高分子フィルム１及び透光性フィルム５の少なくとも一方に未硬化の接着剤を塗布する工程と、液晶高分子フィルム１及び透光性フィルム５を未硬化の接着剤を介して貼合わせて積層体を得る工程と、該積層体に紫外線又は電子線を照射して接着剤を硬化させる工程と、接着剤の硬化後に基板フィルム３のみを剥離する工程とを経て、液晶高分子フィルム１が基板フィルム３から透光性フィルム５に転写される。なお、前記接着剤に替えて適当な粘着剤を使用することもできる。
【００３７】
接着剤の塗布方法としては、一般に行われている連続フィルムへの塗布手段であるロールコート法、カーテンコート法、スロットコート法などのダイコート法、スプレーコート法などを用いることができ、特に限定されない。塗布される接着剤の厚みは、好ましくは０．５〜２００μｍ、より好ましくは１〜１００μｍである。この厚みが２００μｍを超えると接着剤が貼合端部から滲み出し製品の汚染などを招きやすく好ましくない。また、０．５μｍ未満では接着強度の発現が不十分となりやすく好ましくない。液晶高分子フィルム１と透光性フィルム５の貼合わせは、一般に行われているラミネート手段により行うことができる。
【００３８】
基板フィルム３の剥離は、公知の方法により行うことができる。剥離方法としては、例えば、基板フィルムのみを剥離バーに沿わせて剥離する方法、及び、全体をニップロールとバックロールの間を通し、基板フィルムのみをニップロールに沿わせて搬送することによって剥離する方法が挙げられる。
【００３９】
基板フィルム３が剥離された液晶高分子フィルム１の透光性フィルム５と反対側の面上には、表面保護層７が形成される。表面保護層７は、典型的には、接着層１０と同様に硬化型の接着剤から形成される。光硬化型又は電子線硬化型の接着剤を用いる場合、例えば、液晶高分子フィルム１及び保護フィルム９の少なくとも一方に未硬化の接着剤を塗布する工程と、液晶高分子フィルム１及び保護フィルム９を未硬化の接着剤を介して貼合わせて積層体を得る工程と、該積層体に紫外線又は電子線を照射して接着剤を硬化させる工程とを経て、表面保護層７が形成されるとともに、表面保護層７の高分子液晶フィルム１と反対側の面に保護フィルム９が貼り合わせられる。
【００４０】
保護フィルム９は、表面保護層付き液晶高分子フィルム１００の耐水性、耐熱性、耐衝撃性等を向上させることを主な目的として設けられる。例えば、プラスチックフィルム、ハードコート層などが保護フィルム９として用いられる。保護フィルム９としては、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエーテルスルフォン、アモルファスポリオレフィン、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート又はポリエチレンナフタレートからなるプラスチックフィルムが好適である。保護フィルム９は必要に応じて一軸又は二軸延伸されたものであってもよい。また、保護フィルム９に対して親水化処理、疎水化処理、易剥離性処理等の表面処理を施してもよい。保護フィルム９は単層でもよいし、２種以上のフィルムが積層された積層フィルムであってもよい。保護フィルム９の膜厚は、好ましくは１０〜１００μｍ、より好ましくは１６〜５０μｍである。膜厚がこの範囲外であると、フィルムの搬送性が低下して、長尺の積層体の作製が困難となったり、剥離性が低下したりする傾向がある。
【実施例】
【００４１】
以下、実施例を挙げて本発明についてより具体的に説明する。ただし、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００４２】
実施例１
熱可塑性樹脂製フィルムを基板フィルムとして用いた。長尺の熱可塑性樹脂製フィルムを搬送しながらその両面に粘着ロールを接触させて異物を除去し、ラビング材（経糸、緯糸およびパイル糸からなる３次元織り組織を有するベルベット織布）が取り付けられた外径１５０ｍｍのラビングロールでフィルム表面を擦ることにより、ラビング処理を施した。
【００４３】
ラビング処理後、フィルムを搬送しながら、フィルムを２００℃前後の熱風送風炉内を約５分間で通過させた。次に熱風送風炉内から出てきたフィルムの表面に液晶高分子溶液を塗布した。液晶高分子溶液は、液晶ポリエステルをＮ−メチルピロリドンに溶解したものを用いた。その後、塗布された液晶高分子溶液を加熱して溶剤が実質的に除去された液晶高分子フィルムを形成させ、更にこの液晶高分子フィルムをガラス転移温度を越える温度まで加熱してから室温まで冷却して、ハイブリッドネマチック配向した液晶高分子層を含む液晶高分子塗布配向基板フィルムを得た。ついで、液晶高分子層面にアクリル系オリゴマーを主成分とする紫外線硬化型接着剤を塗布し、該紫外線硬化型接着剤層面にトリアセチルセルロースフィルムを連続的に貼合わせた。次いで紫外線を照射することによって、長尺の熱可塑性樹脂製配向基板フィルム／液晶高分子層／硬化アクリル系接着剤層／トリアセチルセルロースフィルムからなる積層フィルムを製造した。得られた積層体から、熱可塑性樹脂製配向基板フィルムを剥離して液晶高分子層／硬化アクリル系接着剤層／トリアセチルセルロースフィルムからなる積層体を得た。
【００４４】
得られた積層体について、点状欠陥の数を確認したところ、その数は安定的に３個／ｍ以内であった。
【００４５】
実施例２
熱風送風炉内を通過させるかわりに赤外線ヒーター内を８秒間で通過させるように変更した他は実施例１と同様にして液晶高分子フィルムを得た。得られた液晶高分子フィルムの点状欠陥の数は５個／ｍであった。
【００４６】
比較例
基板フィルムを熱風送風炉内で加熱しなかった他は実施例１と同様にして液晶高分子フィルムを得た。得られた液晶高分子フィルムの点状欠陥の数は１０個／ｍであった。
【００４７】
以上の実験結果より、液晶高分子溶液を基板フィルムに塗布する工程よりも前に、長尺の基板フィルムを搬送しながら連続的に加熱する工程を導入したことにより、得られる液晶高分子フィルムにおける点状欠陥の発生が顕著に抑制されることが確認された。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】表面保護層付き液晶高分子液晶フィルムの一実施形態を示す断面図である。
【図２】液晶高分子フィルムの製造方法の一実施形態を示すフローチャートである。
【図３】基板フィルムの表面に対してラビング処理を施す工程及び基板フィルムを加熱する工程を模式的に示す工程図である。
【符号の説明】
【００４９】
１…液晶高分子フィルム、３…基板フィルム、５…透光性フィルム、７…表面保護層、９…保護フィルム、４０…ラビングロール、５０…加熱部、１００…表面保護層付き液晶高分子フィルム。
【図１】
2008233541.tif 000003
【図２】
2008233541.tif 000004
【図３】
2008233541.tif 000005