(57)【要約】【課題】任意の光学特性を得ることができる重合性モノマー等を提供する。【解決手段】下記一般式(I)で示される、重合性モノマー。2008050440.tif 000028（一般式（I）中、Ｒ1は水素原子または置換基を表し、Ｙ1は酸素原子または−ＮＲ3−（Ｒ3は、水素原子またはアルキル基を表す）を表し、Ａｒ1およびＡｒ2はそれぞれ独立して炭素数１〜１０の芳香環を表し、Ａｒ1およびＡｒ2はそれぞれ置換基を有していてもよい。ｎは1〜３の整数を表す。）【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式(I)で示される、重合性モノマー。
【化１】
2008050440.tif 000025
（一般式（I）中、Ｒ1は水素原子または置換基を表し、Ｙ1は酸素原子または−ＮＲ3−（Ｒ3は、水素原子またはアルキル基を表す）を表し、Ａｒ1およびＡｒ2はそれぞれ独立して炭素数１〜１０の芳香環を表し、Ａｒ1およびＡｒ2はそれぞれ置換基を有していてもよい。ｎは1〜３の整数を表す。）
【請求項２】
前記Ａｒ1が下記一般式（II）で表される芳香環である請求項１に記載の重合性モノマー。
【化２】
2008050440.tif 000026
（一般式（II）中、Ｒ4は置換基を表し、ｍは０〜４の整数を表す。なお、ｍが２〜４の整数である場合、複数あるＲ4はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。）
【請求項３】
前記Ａｒ2が置換基を有していてもよいベンゼン環、フラン環またはナフタレン環である請求項１または２記載の重合性モノマー。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の重合性モノマーを用いて形成された、高分子化合物。
【請求項５】
さらに、下記一般式(III)で表される重合性モノマーを用いた、請求項４に記載の高分子化合物。
【化３】
2008050440.tif 000027
（一般式（III）中、Ｒ5は水素原子または置換基を表し、Ｌ1は単結合または２価の連結基を表し、Ｍはメソゲンを表し、Ｙ2は−ＮＲ6−（Ｒ6はアルキル基または水素原子を表す）または−Ｏ−を表す。）
【請求項６】
請求項４または５に記載の高分子化合物を含有する組成物から形成された、光学異方性フィルム。
【請求項７】
支持体と、該支持体上に設けられた請求項６に記載の光学異方性フィルムを有する光学補償シート。
【請求項８】
前記支持体がセルロース系またはシクロオレフィン系ポリマーである請求項７に記載の光学補償シート。
【請求項９】
偏光子が２枚の保護フィルムにより挟持されてなる偏光板であって、２枚の保護フィルムの少なくとも一方が、請求項６に記載の光学異方性フィルム、または、請求項７若しくは８に記載の光学補償シートである、偏光板。
【請求項１０】
請求項６に記載の光学異方性フィルム、または、請求項７若しくは８に記載の光学補償シートを有する液晶表示装置。
【請求項１１】
請求項７または８記載の光学補償シートの製造方法であって、
（ａ）前記支持体上に請求項４または５に記載の高分子化合物を含有する組成物を塗布する工程と、
（ｂ）前記支持体に対して単一の方向からの偏光照射を行う工程と、を含むことを特徴とする光学補償シートの製造方法。
【請求項１２】
前記（ｂ）において、前記支持体に対し、垂直な方向から偏光照射を行う請求項１１に記載の光学補償シートの製造方法。
【請求項１３】
前記（ｂ）において、前記支持体に対し、斜め方向から偏光照射を行う請求項１１に記載の光学補償シートの製造方法。
【請求項１４】
前記偏光照射に使用する偏光が、ｐ−偏光またはｓ−偏光である請求項１１〜１３のいずれか１項に記載の光学補償シートの製造方法。
【請求項１５】
前記（ｂ）を、前記高分子化合物のガラス転移温度の温度以下で行う、請求項１１〜１４のいずれか１項に記載の光学補償シートの製造方法。
【請求項１６】
前記（ｂ）の後、さらに、
（ｃ）前記支持体および／または前記組成物に対し、加熱処理を行う工程を含む請求項１１〜１５のいずれか１項に記載の光学補償シートの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、重合性モノマー、高分子化合物、光学異方性フィルム、光学補償シート、偏光板および液晶表示装置、および光学補償シートの製造方法に関する。詳しくは、通常作製が困難な光学特性を示す光学異方性フィルムを得ることができる新規な重合性モノマー、高分子化合物、およびそれを用いた光学異方性フィルム、光学補償シート、偏光板、液晶表示装置、および光学補償シートの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ワードプロセッサやノートパソコン、パソコン用モニターなどのＯＡ機器、携帯端末、テレビなどに用いられる画像表示装置としては、Ｃａｔｈｏｄｅ  Ｒａｙ  Ｔｕｂｅ（ＣＲＴ）がこれまで主に使用されてきた。近年、液晶表示装置が、薄型、軽量、かつ消費電力が小さいことからＣＲＴの代わりに広く使用されてきている。液晶表示装置は、液晶セルおよび偏光板を有する。偏光板は、通常、保護フィルムと偏光膜とからなり、ポリビニルアルコールフィルムからなる偏光膜をヨウ素にて染色し、延伸を行い、その両面を保護フィルムにて積層して得られる。また、画像表示装置のコントラスト向上や視野角範囲の拡大を実現するために、光学補償シートや位相差フィルムが、多くの場合に用いられている。そのような光学補償シートや位相差フィルムとしては、屈折率異方性を有する延伸フィルムや液晶性化合物を配向させて重合したフィルムが用いられている。
【０００３】
近年、これらの画像表示装置に用いられる光学補償シートや位相差フィルムに関しては、画像表示装置の視野角特性やコントラストをさらに高めるために、より精密な屈折率異方性の制御が求められている。このような現状において、前記延伸フィルムは、製造時の延伸方向が限定され、かつ精密な屈折率異方性の制御が難しいという問題を有している。一方、液晶性化合物を配向させて重合したフィルムは、一般に配向膜をラビング処理することによって液晶性化合物を配向させているが、製造時のラビング方向が限定されるため、精密な屈折率異方性の制御が難しい。特に、光学異方性層の三方向の屈折率主値がそれぞれ異なる光学補償シートを得ることは特に困難であるという問題を有している。
【０００４】
これに対し、近年、光学異方性層（素子）に光を照射することで光学異方性層（素子）の三方向の屈折率主値を制御する技術が開示されている。例えば、特許文献１には、光学的に一軸性であるディスコティック液晶性化合物を配向させてから偏光を照射するか、あるいは光学的に一軸性である棒状液晶性化合物をコレステリック配向させてから偏光を照射により、フィルム面に平行するＸ軸、Ｙ軸、およびフィルム面法線方向のＺ軸からなる座標系に対して、Ｘ、Ｙ、Ｚの各軸方向の主屈折率をｎｘ、ｎｙ、ｎｚとした場合、主屈折率の関係がｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚである光学異方性層を得る方法が開示されている。また、特許文献２には、側位に置換されたシンナメート基を含む重合可能なメソゲン性または液晶性化合物を含有する、重合性液晶材料に偏光を照射することで、光学異方性層の主屈折率の関係がｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚである光学異方性層を得る方法が開示されている。
【０００５】
さらに、光架橋反応を利用して三次元的な分子配向制御を施し、光学異方性層を得る方法が報告・開示されている。例えば、非特許文献１〜２、特許文献３には、高分子側鎖にアルキレン基よりなるスペーサーを介して光反応性基を有する高分子液晶では、図１に示すように偏光方向に対して平行方向に分子が配列することが示されている。これらの分子配列にしたがうと、垂直方向からの直線偏光照射により、ｎｙとｎｚの値が実質的に等しく、ｎｘがｎｙよりも大きな値を有する屈折率楕円体で表される光学特性を得ることができ、斜めの方向からｐ−偏光を照射することによりフィルム面に平行するＸ軸、Ｙ軸、およびフィルム面法線方向のＺ軸からなる座標系に対して、Ｘ、Ｙ、Ｚの各軸方向の主屈折率をｎｘ、ｎｙ、ｎｚとした場合、ｎｙとｎｚの値が実質的に等しく、ｎｘがｎｙよりも大きな値を有する屈折率楕円体を仮定したとき、該屈折率楕円体が前記Ｘ軸を回転軸として任意の回転角θで回転させてなる屈折率楕円体で表される光学特性を得ることができる。
さらに、特許文献４には２つの直線偏光性の光を斜めから続けて照射することにより、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸方向に主屈折率ｎｘ、ｎｙ、ｎｚとした時にこれらの主屈折率がそれぞれ異なる値を有する２軸性の屈折率楕円体を、Ｘ軸を回転軸としてθ１回転させ、Ｙ軸を回転軸としてθ２回転させた方向に主屈折率ｎｘ´、ｎｙ´、ｎｚ´を有する２軸性の屈折率楕円体からなる光学特性を有する位相差フィルムとその製造方法が開示されている。また、特許文献５には完全偏光成分と非偏光成分からなる紫外線を、完全偏光成分の電界振動方向がガラス基板の傾斜軸に対してある角度を持って回転させて水平面に対し垂直方向から照射し、続いて、基板を裏返し同様に照射することにより、Ｘ軸とＹ軸の成す面をフィルム面内としＺ軸を厚さ方向とした場合に、Ｘ軸方向に主屈折率ｎｘ、Ｙ軸方向に主屈折率ｎｙ、Ｚ軸方向に主屈折率ｎｚを有する第１の屈折率楕円体（ここで第１の屈折率楕円体の主屈折率の関係は、ｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚである）と、第１の屈折率楕円体をＹ軸を回転軸として角度θ１°回転させ、さらにＺ軸を回転軸として角度θ２°回転させた方向に主屈折率ｎｘ´ｎｙ´ｎｚ´を有する第２の屈折率楕円体（ここで第２の屈折率楕円体の主屈折率の関係は、ｎｘ´＞ｎｙ´≧ｎｚ´である）とを併せてなる光学特性を有する位相差フィルムとその製造方法が開示されている。
【０００６】
【特許文献１】特開２００２−６１３８号公報
【特許文献２】特開２００５−１２００９１号公報
【特許文献３】特開平１１−１８９６６５号公報
【特許文献４】特開２００３−３０７６１８号公報
【特許文献５】特開２００３−３０７６１９号公報
【非特許文献１】液晶  第７巻  第４号  ３３２頁  ２００３年
【非特許文献２】Macromol.Chem.Phys., 第２０２巻  ３０８７頁  ２００１年
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上記のような方法を用いても得ることができない光学特性が存在する。特に、１）フィルム面に平行するＸ軸、Ｙ軸、およびフィルム面法線方向のＺ軸からなる座標系に対して、Ｘ、Ｙ、Ｚの各軸方向の主屈折率をｎｘ、ｎｙ、ｎｚとした場合、ｎｘとｎｚの値が実質的に等しく、ｎｙがｎｘよりも小さな値を有する屈折率楕円体で表される光学特性、２）ｎｘとｎｚの値が実質的に等しく、ｎｙがｎｘよりも小さな値を有する屈折率楕円体を仮定したとき、該屈折率楕円体が前記Ｘ軸を回転軸として任意の回転角θで回転させてなる屈折率楕円体で表される光学特性、３）、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙである屈折率楕円体で表される光学特性、すなわち０＜（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）＜１である光学特性、４）ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙである屈折率楕円体を仮定したとき、該屈折率楕円体が前記Ｘ軸を回転軸として任意の回転角θで回転させてなる屈折率楕円体で表される光学特性を得ることは非常に困難であった。
【０００８】
そこで、本発明は、通常作製が困難な光学特性を示す光学異方性フィルム、特に、１）フィルム面に平行するＸ軸、Ｙ軸、およびフィルム面法線方向のＺ軸からなる座標系に対して、Ｘ、Ｙ、Ｚの各軸方向の主屈折率をｎｘ、ｎｙ、ｎｚとした場合、ｎｘとｎｚの値が実質的に等しく、ｎｙがｎｘよりも小さな値を有する屈折率楕円体で表される光学特性、２）ｎｘとｎｚの値が実質的に等しく、ｎｙがｎｘよりも小さな値を有する屈折率楕円体を仮定したとき、該屈折率楕円体が前記Ｘ軸を回転軸として任意の回転角θで回転させてなる屈折率楕円体で表される光学特性、３）、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙである屈折率楕円体で表される光学特性、すなわち０＜（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）＜１である光学特性、４）ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙである屈折率楕円体を仮定したとき、該屈折率楕円体が前記Ｘ軸を回転軸として任意の回転角θで回転させてなる屈折率楕円体で表される光学特性を示す光学異方性フィルム、該異方性フィルムを用いた光学補償シート、およびその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは上記課題のもと、鋭意検討した結果、特定の構造を有する高分子を含有する組成物を用い、光学異方性フィルムを作製することにより、本発明の課題を解決しうることを見出した。
（１）下記一般式(I)で示される、重合性モノマー。
【化１】
2008050440.tif 000002
（一般式（I）中、Ｒ1は水素原子または置換基を表し、Ｙ1は酸素原子または−ＮＲ3−（Ｒ3は、水素原子またはアルキル基を表す）を表し、Ａｒ1およびＡｒ2はそれぞれ独立して炭素数１〜１０の芳香環を表し、Ａｒ1およびＡｒ2はそれぞれ置換基を有していてもよい。ｎは1〜３の整数を表す。）
（２）前記Ａｒ1が下記一般式（II）で表される芳香環である（１）に記載の重合性モノマー。
【化２】
2008050440.tif 000003
（一般式（II）中、Ｒ4は置換基を表し、ｍは０〜４の整数を表す。なお、ｍが２〜４の整数である場合、複数あるＲ4はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。）
（３）前記Ａｒ2が置換基を有していてもよいベンゼン環、フラン環またはナフタレン環である（１）または（２）記載の重合性モノマー。
（４）  （１）〜（３）のいずれか１項に記載の重合性モノマーを用いて形成された、高分子化合物。
（５）さらに、下記一般式(III)で表される重合性モノマーを用いた、（４）に記載の高分子化合物。
【化３】
2008050440.tif 000004
（一般式（III）中、Ｒ5は水素原子または置換基を表し、Ｌ1は単結合または２価の連結基を表し、Ｍはメソゲンを表し、Ｙ2は−ＮＲ6−（Ｒ6はアルキル基または水素原子を表す）または−Ｏ−を表す。）
（６）（４）または（５）に記載の高分子化合物を含有する組成物から形成された、光学異方性フィルム。
（７）  支持体と、該支持体上に設けられた（６）に記載の光学異方性フィルムを有する光学補償シート。
（８）前記支持体がセルロース系またはシクロオレフィン系ポリマーである（７）に記載の光学補償シート。
（９）偏光子が２枚の保護フィルムにより挟持されてなる偏光板であって、２枚の保護フィルムの少なくとも一方が、（６）に記載の光学異方性フィルム、または、（７）若しくは（８）に記載の光学補償シートである、偏光板。
（１０）（６）に記載の光学異方性フィルム、または、（７）若しくは（８）に記載の光学補償シートを有する液晶表示装置。
（１１）（７）または（８）記載の光学補償シートの製造方法であって、（ａ）前記支持体上に（４）または（５）に記載の高分子化合物を含有する組成物を塗布する工程と、（ｂ）前記支持体に対して単一の方向からの偏光照射を行う工程と、を含むことを特徴とする光学補償シートの製造方法。
（１２）前記（ｂ）において、前記支持体に対し、垂直な方向から偏光照射を行う（１１）に記載の光学補償シートの製造方法。
（１３）前記（ｂ）において、前記支持体に対し、斜め方向から偏光照射を行う（１１）に記載の光学補償シートの製造方法。
（１４）前記偏光照射に使用する偏光が、ｐ−偏光またはｓ−偏光である（１１）〜（１３）のいずれか１項に記載の光学補償シートの製造方法。
（１５）前記（ｂ）を、前記高分子化合物のガラス転移温度の温度以下で行う、（１１）〜（１４）のいずれか１項に記載の光学補償シートの製造方法。
（１６）前記（ｂ）の後、さらに、（ｃ）前記支持体および／または前記組成物に対し、加熱処理を行う工程を含む（１１）〜（１５）のいずれか１項に記載の光学補償シートの製造方法。
【発明の効果】
【００１０】
本発明では、通常作製が困難な光学特性を示す光学異方性フィルムを得ることが可能になった。特に、本発明では、光の照射角、照射強度等の照射条件を変えることで、より精密に複雑な屈折率異方性の制御が可能であり、光学補償機能に優れ、かつ、画像表示装置に適用した場合に、視野角拡大に寄与する新規な光学補償シートを提供することが可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下において、本発明の内容について詳細に説明する。尚、本願明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
本発明では、フィルムの面内屈折率が最大となる方向をＸ軸、Ｘ軸に垂直な方向をＹ軸、フィルムの厚さ方向をＺ軸とし、それぞれの軸方向の屈折率をｎｘ、ｎｙ、ｎｚと定義する。
また、実質的にｎｘとｎｚが等しい状態とは、例えば、垂直配向したディスコティック液晶層からなる光学異方性層と同等の光学特性を有する状態をいう。
本明細書において、Ｒｅ(λ)、Ｒｔｈ(λ)は各々、波長λにおける面内のレターデ  ーションおよび厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅ(λ)はKOBRA  21ADHまたは  WR（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて  測定される。
【００１２】
測定されるフィルムが１軸または２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には  、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ(λ)は前記Ｒｅ(λ)を、面内の遅相軸（KOBRA  21ADHまたはWRにより判断  される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向  を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０度まで１０度ステ  ップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その  測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値および入力された膜厚値を基にKO  BRA  21ADHまたはWRが算出する。
【００１３】
上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデ  ーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾  斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、KOBRA  21ADHまたはWRが  算出する。
尚、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の  方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その  値と平均屈折率の仮定値および入力された膜厚値を基に、以下の式（１）および式（２  ）よりＲｔｈを算出することもできる。
【数１】
2008050440.tif 000005
注記：
上記のＲｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値を表す。
式（１）におけるｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘおよびｎｙに直交する方向の屈折率を表す。
【００１４】
Rth＝(（nx+ny)/2 - nz) x d       ---  式（２）
測定されるフィルムが1軸や2軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（optic axis)がないフィルムの場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ(λ)は前記Ｒｅ(λ)を、面内の遅相軸（KOBRA  21ADHまたはWRにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−５０度から＋５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて11点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値および入力された膜厚値を基にKOBRA  21ADHまたはWRが算出する。
【００１５】
上記の測定において、平均屈折率の仮定値は  ポリマーハンドブック（JOHN  WILEY＆SONS，INC）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：  セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、KOBRA  21ADHまたはWRはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ、ｎｙ、ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）がさらに算出される。
【００１６】
本明細書において、「平行」、「直交」とは、厳密な角度±１０°未満の範囲内であることを意味する。この範囲は厳密な角度との誤差は、±５°未満であることが好ましく、±２°未満であることがより好ましい。また、「遅相軸」は、屈折率が最大となる方向を意味する。さらに屈折率の測定波長は特別な記述がない限り、可視光域のλ＝５５０ｎｍでの値である。
【００１７】
以下、本発明の重合性モノマー、高分子、光学異方性フィルム、光学補償シートの作製に用いられる材料および製造方法等について詳細に説明する。
【００１８】
本発明の重合性モノマーは、下記一般式(I)で示されることを特徴とするものである。
【化４】
2008050440.tif 000006
式中、Ｒ1は水素原子または置換基を表し、Ｒ1が置換基を表す場合には、アルキル基、ハロゲン基が好ましい例として挙げることができる。Ｒ1は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、クロロ基がより好ましく、水素原子、メチル基、エチル基、クロロ基がさらに好ましい。
【００１９】
Ｙ1は酸素原子、または−ＮＲ3−（Ｒ3は、水素原子またはアルキル基（好ましくは、炭素数１〜６のアルキル基）を示す。）を表し、酸素原子または−ＮＨ−であることが好ましく、酸素原子であることがより好ましい。
【００２０】
Ａｒ1およびＡｒ2は、それぞれ独立して炭素数１〜１０の芳香環を表し、それぞれ置換基を有していてもよい。Ａｒ1は、ベンゼン環、チオフェン環、フラン環、ナフタレン環が好ましく、ベンゼン環がより好ましい。ベンゼン環の中でも、下記一般式（II）で表されるものが好ましい。
【化５】
2008050440.tif 000007
式中、Ｒ4は置換基を表し、ｍは０〜４の整数を表す。なお、ｍが２〜４の整数である場合、複数あるＲ4はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。ｍは、好ましくは０〜２の整数である。
【００２１】
Ａｒ1が置換基を有する場合、好ましいＲ4で表される置換基としては、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシル基、炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素数１〜６のアルキルカルボニル基、炭素数１〜６のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数１〜６のアルキルカルボニルチオ基、炭素数１〜６のアルキルカルボニルアミノ基、ハロゲン基、シアノ基、ニトロ基、シアノ基等を挙げることができ、より好ましい置換基としてはメチル基、エチル基、メトキシ基、フッ素基、クロロ基、ブロモ基、シアノ基を挙げることができる。
【００２２】
これらの置換基は、他の置換基によって、置換されていても良く、この場合の好ましい置換基も上述と同義である。また、置換基を２つ以上有する場合は、それぞれの置換基は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には置換基同士が互いに結合して環を形成していてもよい。
【００２３】
Ａｒ2は、ベンゼン環、フラン環、ナフタレン環が好ましく、ベンゼン環がより好ましい。Ａｒ2が置換基を有する場合の置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシル基、アルキルチオ基、アルキルカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、アルキルカルボニルチオ基、アルキルカルボニルアミノ基、アルキルオキシカルボニルオキシ基、アルキルオキシカルボニルチオ基、アルキルオキシカルボニルアミノ基、アルキルチオカルボニルオキシ基、アルキルアミノカルボニルアミノ基、アルキルアミノカルボニルオキシ基、ハロゲン基、シアノ基、ニトロ基、アリール基等を挙げることができ、より好ましい置換基としては炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基、炭素数１〜２０のアルキルカルボニル基、炭素数１〜２０のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数１〜２０のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数１〜２０のアルキルオキシカルボニルオキシ基、炭素数１〜２０のアルキルオキシカルボニルチオ基、炭素数１〜２０のアルキルオキシカルボニルアミノ基、炭素数１〜２０のアルキルアミノカルボニルオキシ基、フッ素基、クロロ基、ブロモ基、シアノ基、ニトロ基等を挙げることができる。
これらの置換基は、他の置換基によって、置換されていても良く、この場合の好ましい置換基も上述と同義である。また、置換基を２つ以上有する場合は、それぞれの置換基は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には置換基同士が互いに結合して環を形成していてもよい。
【００２４】
ｎは１〜３の整数を表し、１または２であることが好ましい。
【００２５】
以下に、一般式(I)で表される本発明の重合性モノマーの具体例を挙げるが、本発明は以下の具体例に制限されるものではない。
【００２６】
【化６】
2008050440.tif 000008
【００２７】
本発明の重合性モノマーである一般式（I）の化合物は、既知の合成方法を用い、合成することができる。例えば下記の合成スキーム１に示す方法を例に挙げることができる。
スキーム１
【化７】
2008050440.tif 000009
【００２８】
上記スキーム１において、Ｘ1およびＸ2は離脱基を示す。好ましい離脱基の例としては、ハロゲン原子、メシル基、トシル基等を挙げることができる。その他、Ｒ1、Ｙ1、Ａｒ1およびＡｒ2およびｎは、前記一般式（I）の定義と同義である。
【００２９】
工程１において、式Ｓ−２で示される化合物を溶媒に溶解し、塩基存在下において式Ｓ−１で示される化合物と反応させることにより式Ｓ−３で示される中間体を合成する。溶媒としては、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、ジメチルアセトアミドのようなアミド系溶媒、ジクロロメタン等のハロゲン系溶媒が好適である。塩基は、無機、有機いずれの塩基が採用できるが、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム等の無期塩基が好適である。塩基の使用量は、Ｓ−１に対して０．５〜１０当量の範囲で用いることが好ましく、０．７〜２量の範囲で用いることがさらに好ましい。反応温度は、通常、−１０℃から溶媒の沸点であり、０℃から室温がさらに好ましい。反応温度は、通常、１０分〜１日間であり、好ましくは１時間〜１２時間である。
【００３０】
工程２において、上記で得られた式Ｓ−３で示される化合物を溶媒に溶解し、塩基存在下において式Ｓ−４で示される化合物と反応させることにより目的とする本発明の一般式（４）で示されるモノマーを合成できる。溶媒としては、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、ジメチルアセトアミドのようなアミド系溶媒、ジクロロメタン等のハロゲン系溶媒が好適である。塩基は、無機、有機いずれの塩基が採用できるが、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム等の無期塩基が好適である。塩基の使用量は、Ｓ−３に対して０．５から１０当量の範囲で用いることが好ましく、０．７から２量の範囲で用いることがさらに好ましい。反応温度は、通常、−１０℃から溶媒の沸点であり、０℃から室温がさらに好ましい。反応温度は、通常、１０分から１日間であり、好ましくは１時間から１２時間である。
【００３１】
本発明の高分子化合物は、本発明の重合性モノマーを用いて形成することができる。上記一般式(I)で表される重合性モノマーを１種のみ含むポリマーであってもよいし、２種以上含むポリマーであってもよい。また、上記各繰り返し単位以外の他の繰り返し単位を１種または２種以上有していてもよい。上記以外の繰り返し単位については本発明の趣旨を逸脱しない限り特に制限されない。通常のラジカル重合反応可能なモノマーから誘導される繰り返し単位が好ましい例として挙げられる。
【００３２】
本発明の高分子化合物は、少なくとも１種のメソゲン基を有するモノマーから導かれる繰り返し単位を含んでいることが好ましい。このようなメソゲン基を有するモノマーとして、好ましくは下記一般式（III）で表されるモノマーである。
【００３３】
一般式(III)
【化８】
2008050440.tif 000010
【００３４】
一般式(III)中、Ｒ5は、水素原子または置換基を表し、置換基は、前記一般式(I)のＲ1について例示した置換基群から選ばれる置換基が例示され、好ましい範囲も同様に考えることができる。
上記一般式(III)においてＬ1は、それぞれ、単結合または２価の連結基を表す。Ｌ1が２価の連結基である場合には、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、２価のヘテロ環残基、−ＣＯ−、−ＮＲ7−（Ｒ7は炭素数が１〜６のアルキル基または水素原子）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基であることが好ましい。アルキレン基の炭素数は、１〜１２であることが好ましい。アルケニレン基の炭素数は、２〜１２であることが好ましい。アリーレン基の炭素数は、６〜１０であることが好ましい。アルキレン基、アルケニレン基およびアリーレン基は、可能であれば、置換基（アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、アルコキシ基、アシルオキシ基等）によって置換されていてもよい。
Ｌ1としては単結合、または、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ7−（Ｒ7は炭素数が１〜６のアルキル基または水素原子）、アルキレン基若しくはアリーレン基を含んでいることが好ましく、単結合、または、−Ｏ−、アルキレン基若しくはアリーレン基を含んでいることがより好ましい。
【００３５】
以下にＬ1の具体的な構造を例示するが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。また、下記具体例を２つ以上組み合わせたものも好ましい。
【００３６】
【化９】
2008050440.tif 000011
【００３７】
Ｙ2は−ＮＲ6−または−Ｏ−であり、好ましくは、−ＮＨ−または−Ｏ−を表す。ここで、Ｒ6はアルキル基（好ましくは炭素数１〜６のアルキル基）または水素原子を表す。
【００３８】
一般式(III)中のＭはメソゲンであり、Makromol.Chem.,１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Advanced  Materials  ５巻、１０７頁（１９９３年）などに記載の構造を用いることができる。より好ましくは、下記一般式（IV）にて表されるメソゲン基である。
【００３９】
一般式（IV）
【化１０】
2008050440.tif 000012
（一般式（IV）中、Ｌ2およびＬ3は、それぞれ独立に、単結合または二価の連結基を表し、Ｃｙ1、Ｃｙ2およびＣｙ3は、それぞれ独立に、二価の環状基を表し、ｌは０〜２の整数を表す。ｌが２の場合、２つのＬ3は同じであっても異なっていてもよく、２つのＣｙ2も同じであっても異なっていてもよい。）
【００４０】
一般式（IV)中、Ｌ2またはＬ3は、それぞれ独立に、好ましくは、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＲ8−、二価の鎖状基、二価の環状基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基または単結合である。上記Ｒ8は、炭素数１〜７のアルキル基または水素原子であり、炭素数１〜４のアルキル基または水素原子であることが好ましく、メチル基、エチル基または水素原子であることがより好ましく、水素原子であることがさらに好ましい。
二価の鎖状基は、アルキレン基、アルケニレン基またはアルキニレン基が好ましく、これらは、置換基を有していてもよい。置換基としては、ハロゲン原子が好ましい。アルキレン基またはアルケニレン基が好ましく、無置換のアルキレン基または無置換のアルケニレン基がさらに好ましい。アルキレン基は、分岐を有していてもよい。アルキレン基の炭素数は１〜１２であることが好ましく、２〜１０であることがより好ましく、２〜８であることがさらに好ましい。アルケニレン基は、分岐を有していてもよい。アルケニレン基の炭素数は２〜１２であることが好ましく、２〜１０であることがより好ましく、２〜８であることがさらに好ましい。
【００４１】
アルキニレン基は、分岐を有していてもよい。アルキニレン基の炭素数は２〜１２であることが好ましく、２〜１０であることがより好ましく、２〜８であることがさらに好ましい。
二価の鎖状基の具体例としては、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、２−メチル−テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基、２−ブテニレン基、２−ブチニレン基などが挙げられる。
二価の環状基は、後述するＣｙ1、Ｃｙ2およびＣｙ3と同義であり、好ましい範囲も同様である。
【００４２】
一般式（IV）においてｌは、０または１であることが好ましい。
【００４３】
一般式（IV）において、Ｃｙ1、Ｃｙ2およびＣｙ3は、それぞれ独立に二価の環状基である。環状基に含まれる環は、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがより好ましく、６員環であることがさらに好ましい。環状基に含まれる環は、単環でも縮合環でもよく、単環が好ましい。環状基に含まれる環は、芳香族環、脂肪族環および複素環のいずれでもよい。芳香族環の例には、ベンゼン環およびナフタレン環が含まれる。脂肪族環の例には、シクロヘキサン環が含まれる。複素環の例には、ピリジン環およびピリミジン環が含まれる。ベンゼン環を有する環状基としては、１，４−フェニレン基が好ましい。ナフタレン環を有する環状基としては、ナフタレン−１，５−ジイル基およびナフタレン−２，６−ジイル基が好ましい。シクロヘキサン環を有する環状基としては１，４−シクロへキシレン基であることが好ましい。ピリジン環を有する環状基としてはピリジン−２，５−ジイル基が好ましい。ピリミジン環を有する環状基としては、ピリミジン−２，５−ジイル基が好ましい。
環状基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜５のアルキル基、ハロゲン原子で置換された炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、炭素数１〜５のアルキルチオ基、炭素数２〜６のアシルオキシ基、炭素数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素数２〜６のアルキル基で置換されたカルバモイル基および炭素数が２〜６のアシルアミノ基が含まれる。
【００４４】
以下に、一般式（III）で表される光反応性基を有する繰り返し単位を構成するモノマーの具体例を挙げるが、本発明は以下の具体例に制限されるものではない。
【００４５】
【化１１】
2008050440.tif 000013
【００４６】
【化１２】
2008050440.tif 000014
【００４７】
【化１３】
2008050440.tif 000015
【００４８】
本発明の高分子化合物のうち、好ましいものは前記一般式（I）で表されるモノマーの少なくとも一種から導かれる繰り返し単位と、前記一般式（III）で表されるモノマーの少なくとも一種から導かれる繰り返し単位とを含む共重合体である。該ポリマーを構成するモノマーの内、上記一般式（I）で表されるモノマーの量は該ポリマーを構成するモノマー総モル数の３０モル％以下であるのが好ましく、２０モル％以下であるのがより好ましく、１０モル％以下であるのがさらに好ましい。下限値は特に定めるものではないが、１モル％以上であるのが好ましい。
【００４９】
また、該ポリマーを構成するモノマーの内、上記一般式（III）で表されるモノマーの量は該ポリマーを構成するモノマー総モル数の５０〜９９モル％であるのが好ましい。８０モル％〜９９モル％であるのがより好ましく、９０モル％〜９９モル％であるのがさらに好ましい。
また、本発明における光反応性基を有する高分子化合物は、液晶性を有していなくても有していてもよい。
【００５０】
また、本発明の高分子化合物は、上記一般式（Ｉ）で表される重合性モノマーから導かれる繰り返し単位および上記一般式（ＩＩＩ）で表される重合性モノマーから導かれる繰り返し単位の他、一般的に知られている任意の繰り返し単位を含むことができる。使用する任意の繰り返し単位の種類、および、当該任意の繰り返し単位のモル％は、使用するモノマーの種類もしくは、所望の物性等の条件により、適宜選択することとなる。例えば、当該任意の繰り返し単位の含有量は、ポリマーを構成するモノマー総モル数に対し、好ましくは３０〜１モル％、より好ましくは２０〜１モル％、更に好ましくは１０〜１モル％である。
【００５１】
本発明の高分子化合物の重量平均分子量は１，０００〜１，０００，０００であることが好ましく、１，０００〜５００，０００であることがより好ましく、５，０００〜１００，０００であることがさらに好ましい。上記重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いて、ポリスチレン（ＰＳ）換算の値として測定できる。
【００５２】
本発明の高分子化合物の製造方法は、特に限定されるものではないが、例えば、ビニル基を利用したカチオン重合やラジカル重合、または、アニオン重合などの重合方法を用いることができる。これらの中ではラジカル重合が汎用に利用でき、特に好ましい。ラジカル重合の重合開始剤としては、ラジカル熱重合開始剤やラジカル光重合開始剤などの公知の化合物を使用することができるが、特に、ラジカル熱重合開始剤を使用することが好ましい。ここで、ラジカル熱重合開始剤は、分解温度以上に加熱することにより、ラジカルを発生させる化合物である。このようなラジカル熱重合開始剤としては、例えば、ジアシルパーオキサイド（アセチルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイドなど）、ケトンパーオキサイド（メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイドなど）、ハイドロパーオキサイド（過酸化水素、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイドなど）、ジアルキルパーオキサイド（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ジラウロイルパーオキサイドなど）、パーオキシエステル類（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレートなど）、アゾ系化合物（アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスイソバレロニトリルなど）、過硫酸塩類（過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウムなど）が挙げられる。このようなラジカル熱重合開始剤は、一種を単独で使用することもできるし、二種以上を組み合わせて使用することもできる。
【００５３】
上記ラジカル重合方法は、特に制限されるものではなく、乳化重合法、懸濁重合法、塊状重合法、溶液重合法等の公知の方法により行うことができる。典型的なラジカル重合方法である溶液重合については、さらに具体的に説明する。他の重合方法についても概要は同等であり、その詳細は例えば「高分子化学実験法」高分子学会編（東京化学同人、１９８１年）などに記載されている。
【００５４】
上記溶液重合を行うためには有機溶媒を使用する。これらの有機溶媒は本発明の目的、効果を損なわない範囲で任意に選択可能である。これらの有機溶媒は通常、大気圧下での沸点が５０〜２００℃の範囲内の値を有する有機化合物であり、各構成成分を均一に溶解させる有機溶媒が望ましい。好ましい有機溶媒の例を示すと、イソプロパノール、ブタノール等のアルコール類、ジブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、γ−ブチロラクトン等のエステル類、ジメチルアミド、ジメチルホルムアミド等のアミド類、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類が挙げられる。なお、これらの有機溶媒は、一種単独または二種以上を組み合わせて用いることができる。さらに、モノマーや生成するポリマーの溶解性の観点から上記有機溶媒に水を併用した水混合有機溶媒も適用可能である。
【００５５】
また、溶液重合条件も特に制限されるものではないが、例えば、５０〜２００℃の温度範囲内で１０分〜３０時間加熱することが望ましい。さらに、発生したラジカルが失活しないように、溶液重合中はもちろんのこと、溶液重合開始前にも不活性ガスパージを行うことが望ましい。不活性ガスとしては通常窒素ガスが好適に用いられる。
【００５６】
一般式（I）で表されるモノマーの少なくとも一種から導かれる繰り返し単位を含む高分子化合物を好ましい分子量範囲で得るためには、連鎖移動剤を用いたラジカル重合法が特に有効である。上記連鎖移動剤としては、メルカプタン類（例えば、オクチルメルカプタン、デシルメルカプタン、ドデシルメルカプタン、ｔｅｒｔ−ドデシルメルカプタン、オクタデシルメルカプタン、チオフェノール、ｐ−ノニルチオフェノールなど）、ポリハロゲン化アルキル（例えば、四塩化炭素、クロロホルム、１，１，１−トリクロロエタン、１，１，１−トリブロモオクタンなど）、低活性モノマー類（α−メチルスチレン、α−メチルスチレンダイマーなど）のいずれも用いることができるが、好ましくは炭素数４〜１６のメルカプタン類である。これらの連鎖移動剤の使用量は、連鎖移動剤の活性やモノマーの組み合わせ、重合条件などにより著しく影響され、精密な制御が必要である。好ましくは使用するモノマーの全モル数に対して０．０１ｍｏｌ％〜５０ｍｏｌ％であり、より好ましくは０．０５ｍｏｌ％〜３０ｍｏｌ％であり、さらに好ましくは０．０８ｍｏｌ％〜２５ｍｏｌ％である。これらの連鎖移動剤は、重合過程において重合度を制御するべき対象のモノマーと同時に系内に存在させればよく、その添加方法については特に問わない。モノマーに溶解して添加してもよいし、モノマーと別途に添加することも可能である。
【００５７】
本発明に用いられる光反応性基を有する高分子化合物の具体例を以下に示すが、本発明に用いられる化合物はこれらに限定されるものではない。なお式中の数字は各モノマー成分の質量百分率を示す。Ｍｗは重量平均分子量を表す。
【００５８】
【化１４】
2008050440.tif 000016
【００５９】
【化１５】
2008050440.tif 000017
【００６０】
【化１６】
2008050440.tif 000018
【００６１】
【化１７】
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【００６２】
【化１８】
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【００６３】
【化１９】
2008050440.tif 000021
【００６４】
本発明の光学異方性フィルムは、上記本発明の高分子化合物を含有する組成物から形成される。かかる組成物以外に、必要に応じて種々の添加剤を併用することができる。例えば、可塑剤、界面活性剤等を併用することで、塗工膜の均一性、膜の強度、光反応性基を有する高分子化合物の配向性等を向上することができる。これらの添加量の総量は、光反応性基を有する高分子化合物に対して、３０質量％以下が好ましく、１０質量％以下がより好ましい。
【００６５】
可塑剤としては、従来公知の可塑剤が挙げられる。具体的には、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジイソブチルフタレート、ジオクチルフタレート、オクチルカプリルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジトリデシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジイソデシルフタレート、ジアリールフタレートなどのフタル酸エステル類、ジメチルグリコールフタレート、エチルフタリールエチルグリコレート、メチルフタリールエチルグリコレート、ブチルフタリールブチルグリコレート、トリエチレングリコールジカプリル酸エステルなどのグリコールエステル類、トリクレジルホスフェート、トリフェニルホスフェートなどの燐酸エステル類、ジイソブチルアジペート、ジオクチルアジペート、ジメチルセバケート、ジブチルセバケート、ジオクチルアゼレート、ジブチルマレートなどの脂肪族二塩基酸エステル類、クエン酸トリエチル、グリセリントリアセチルエステル、ラウリン酸ブチルなどが挙げられる。
【００６６】
界面活性剤としては、従来公知のアニオン系、カチオン系、ノニオン系および両性界面活性剤が挙げられる。特にフッ素系化合物が好ましく、パーフルオロアルキルアミンオキサイド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキル基および親水性基含有ポリマー、パーフルオロアルキル基、親水性基および親油性基含有ポリマーなどが挙げられる。
【００６７】
本発明の光学補償シートは、支持体上に上記本発明の光学異方性フィルムを配したことを特徴するものである。ここで、本発明の光学補償シートに使用される支持体について詳述する。
本発明の光学補償シートに用いられる支持体は、ガラスまたは透明なポリマーフィルム等の透明支持体が好ましい。
透明支持体は、光透過率が８０％以上であることが好ましい。ポリマーフィルムを構成するポリマーの例には、セルロースエステル（例えば、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート）、ポリシクロオレフィン（例えば、ノルボルネン系ポリマー）、ポリ（メタ）アクリル酸エステル（例えば、ポリメチルメタクリレート）、ポリカーボネート、ポリエステルおよびポリスルホンが含まれる。
【００６８】
ポリマーとしては、セルロース系またはシクロオレフィン系ポリマーが好ましく、中でもセルロースエステル、ポリシクロオレフィンが好ましい。セルロースエステルとしては、セルロースの低級脂肪酸エステルがさらに好ましい。低級脂肪酸とは、炭素数が６以下の脂肪酸を意味する。特に、炭素数が２〜４のセルロースアシレートが好ましく、セルロースアセテートがより好ましい。セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いてもよい。
セルロースアセテートの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることがさらに好ましい。また、セルロースアセテートは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜１．７であることが好ましく、１．０〜１．６５であることがさらに好ましい。
【００６９】
セルロースアセテートとしては、酢化度が５５．０〜６２．５％であるセルロースアセテートを使用することが好ましく、酢化度が５７．０〜６２．０％であるであるセルロースアセテートを使用することがさらに好ましい。
酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定および計算によって求められる。
【００７０】
ポリシクロオレフィンとしては、ノルボルネン系ポリマー系ポリマーが具体的な挙げられ、例えば、市販の高分子であるアートン（ＪＳＲ製）、ゼオノア（日本ゼオン製）等が挙げられる。る。
【００７１】
支持体は必要に応じて所望の光学異方性を有していてもよい。支持体の吸湿膨張係数は、３０×１０-5／％相対湿度（ＲＨ）以下とすることが好ましく、１５×１０-5／％ＲＨ以下とすることがさらに好ましい。この吸湿膨張係数を調節することで、光学補償シートの光学補償機能を維持したまま、額縁状の透過率上昇（歪みによる光漏れ）を防止することができる。
【００７２】
吸湿膨張係数は、一定温度下において相対湿度を変化させた時の試料の長さの変化量を示す。以下、吸湿膨張係数の測定方法について示す。
作製したポリマーフィルムから幅５ｍｍ、長さ２０ｍｍの試料を切り出し、片方の端を固定して２５℃、２０％ＲＨ（Ｒ0）の雰囲気下にぶら下げる。他方の端に０．５ｇの重りをぶら下げて、１０分間放置し、長さ（Ｌ0）を測定する。
次に、温度は２５℃のまま、湿度を８０％ＲＨ（Ｒ1）にして、長さ（Ｌ1）を測定する。吸湿膨張係数は下式により算出する。測定は同一試料につき１０サンプル行い、平均値を採用する。
吸湿膨張係数［／％ＲＨ］＝｛（Ｌ1−Ｌ0）／Ｌ0｝／（Ｒ1−Ｒ0）
【００７３】
ポリマーフィルムには種々の目的に応じて必要な添加剤が添加できる。添加剤の例としては、例えば、紫外線防止剤、剥離剤、帯電防止剤、劣化防止剤（例えば、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）、赤外吸収剤等が挙げられる。これらの詳細は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、１６〜２２頁、２００１年３月１５日発行  発明協会）に詳細に記載されている素材が好ましく用いられる。これらの添加剤の使用量は、各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されないが、ポリマーフィルム全組成物中、０．００１〜２５質量％の範囲で、適宜、用いられることが好ましい。本発明の支持体の厚さは、１５〜１２０μｍであることが好ましく、３０〜８０μｍがより好ましい。
【００７４】
支持体（ポリマーフィルム）は、必要に応じて表面処理を施すことができる。表面処理には、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理および紫外線照射処理が含まれる。これらについては、詳細が発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、３０〜３２頁、２００１年３月１５日発行、発明協会）に詳細に記載されている。
【００７５】
本発明の光学補償シートは、本発明の光学異方性フィルム層と前記支持体から構成される。該光学異方性層と該支持体の間には、必要に応じて配向層、剥離層、粘着層、別なる光学異方性層などを有していてもよい。
【００７６】
配向層には例えば一般に液晶分野で用いられるような周知の配向膜を採用することができる。具体的な例としては、ラビング配向処理されたポリイミドやポリビニルアルコールなどの配向膜や光配向処理されたアゾベンゼン誘導体、桂皮酸誘導体、あるいはクマリン誘導体などを採用することができる。
【００７７】
剥離層には、周知の剥離剤等を用いることができる。剥離剤には、シリコン系、リン酸エステル系、フッ素系などの剥離剤が挙げられる。
【００７８】
粘着層には、周知の粘着剤等を用いることができる。具体的な例としては、例えばアクリル系、シリコン系、ビニルエーテル系などの粘着剤が挙げられる。粘着剤としては、光学的に透明な粘着剤が好ましい。
【００７９】
別なる光学異方性層には、例えば配向した棒状、あるいは円盤状の液晶化合物の重合体などにより構成される光学異方性層などを挙げることができる。
【００８０】
４．光学異方性フィルム、および光学補償シートの製造方法
本発明の光学補償シートの製造方法は、前記一般式（I）で表される重合性モノマー等を含む組成物をドラム、バンド、あるいは支持体等の上に塗布して光学異方性層となる高分子層を形成し、該高分子層に光を照射することにより光学特性を変化させ、所望の光学特性を得るこというものである。即ち、上記本発明の光学補償シートの製造方法であって、
（ａ）前記支持体上に上記本発明の高分子化合物を含有する組成物を塗布する工程と、（ｂ）前記支持体に対して単一の方向からの偏光照射を行う工程と、を含むことを特徴とするものである。（ｂ）において、前記支持体に対し、垂直な方向から偏光照射を行うことが好ましい。また、（ｂ）において、前記支持体に対し、斜め方向から偏光照射を行うことも好ましい。ここで、前記偏光照射に使用する偏光として、ｐ−偏光またはｓ−偏光を好適に使用することができる。さらに、（ｂ）を、前記高分子化合物のガラス転移温度以下で行うことが好ましい。さらにまた、（ｂ）の後、（ｃ）前記支持体および／または前記組成物に対し、加熱処理を行う工程を含むことが好ましい。これにより、所望の光学特性、例えば、１）フィルム面に平行するＸ軸、Ｙ軸、およびフィルム面法線方向のＺ軸からなる座標系に対して、Ｘ、Ｙ、Ｚの各軸方向の主屈折率をｎｘ、ｎｙ、ｎｚとした場合、ｎｘとｎｚの値が実質的に等しく、ｎｙがｎｘよりも小さな値を有する屈折率楕円体で表される光学特性、２）ｎｘとｎｚの値が実質的に等しく、ｎｙがｎｘよりも小さな値を有する屈折率楕円体を仮定したとき、該屈折率楕円体が前記Ｘ軸を回転軸として任意の回転角θで回転させてなる屈折率楕円体で表される光学特性、３）、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙである屈折率楕円体で表される光学特性、すなわち０＜（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）＜１である光学特性、４）ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙである屈折率楕円体を仮定したとき、該屈折率楕円体が前記Ｘ軸を回転軸として任意の回転角θで回転させてなる屈折率楕円体で表される光学特性、を有する光学異方性フィルム、および光学補償シートを得ることができる。得られた光学異方性フィルムはドラム、バンド、支持体等から剥離して、単独のフィルムとして利用することができる。また、剥離した異方性フィルムを他の支持体に貼合させることにより光学補償シートとして利用してもよく、ドラム、バンド、支持体等から別なる支持体に転写することにより光学補償シートとして利用してもよい。さらに、支持体から剥離せずにそのまま光学補償シートとして利用することもできる。以下、本発明の光学補償シートの製造方法に関し、詳細に説明する。
【００８１】
工程（ａ）では、最初に、本発明の高分子化合物、その他の任意の成分を含む組成物（塗布液）をドラム、バンド、支持体等上へ塗布する。塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例えば、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジン）、炭化水素（例えば、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラクロロエタン）、エステル（例えば、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例えば、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例えば、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。２種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
【００８２】
前記溶剤の添加量は、塗布性を損なわない範囲で最適値が決められるが、固形分濃度が塗布溶剤中で１〜７５％の範囲であることが好ましく、５〜５０％の範囲であることがより好ましい。塗布液の塗布は、公知の方法（例えば、スピンコーティング法、ロールコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。
【００８３】
続いて、塗布物を乾燥させる。乾燥には公知の乾燥法を用いることができる。具体的には、室温乾燥、加温乾燥、送風乾燥、減圧乾燥が挙げられ、またこれらを組み合わせてもよい。
【００８４】
光学異方性層の厚さは、用いる目的、形態、光学特性により最適な膜厚が適用される。光学異方性フィルムとして単体で用いる場合には、０．１〜２００μｍであることが好ましく、１０〜１５０μｍであることがより好ましい。支持体と共に光学補償シートとして用いる場合、０．１〜２００μｍであることが好ましく、０．１〜２０μｍであることがより好ましく、０．５〜１０μｍであることがさらに好ましい。
【００８５】
工程（ｂ）の光照射による光学特性の付与することができる。本発明の光学異方性フィルム、および光学補償シートは、支持体上部または下部より、単一の方向から偏光を照射することにより得ることができる。
【００８６】
例えば、前記一般式（I）で表されるモノマーから導かれる繰り返し単位を含む高分子よりなる高分子層に対し、支持体に対して垂直な方向から偏光を照射すること（図２）、あるいは支持体に対して斜めの方向からｐ−偏光を照射すること（図３）により、フィルム面に平行するＸ軸、Ｙ軸、およびフィルム面法線方向のＺ軸からなる座標系に対して、Ｘ、Ｙ、Ｚの各軸方向の主屈折率をｎｘ、ｎｙ、ｎｚとした場合、ｎｘとｎｚの値が実質的に等しく、ｎｙがｎｘよりも小さな値を有する屈折率楕円体で表される光学特性（図４）、あるいはｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙである屈折率楕円体で表される光学特性（図５）を有する本発明の光学異方性フィルム、および光学補償シートの一形態を得ることができる。
【００８７】
例えば、前記一般式（I）で表されるモノマーから導かれる繰り返し単位を含む高分子よりなる高分子層に対し、支持体に対して斜めの方向からｓ−偏光を照射すること（図６、図７）により、フィルム面に平行するＸ軸、Ｙ軸、およびフィルム面法線方向のＺ軸からなる座標系に対して、Ｘ、Ｙ、Ｚの各軸方向の主屈折率をｎｘ、ｎｙ、ｎｚとした場合、ｎｘとｎｚの値が実質的に等しく、ｎｙがｎｘよりも小さな値を有する屈折率楕円体を仮定したとき、該屈折率楕円体が前記Ｘ軸を回転軸として任意の回転角θで回転させてなる屈折率楕円体で表される光学特性（図８）、あるいはｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙである屈折率楕円体を仮定したとき、該屈折率楕円体が前記Ｘ軸を回転軸として任意の回転角θで回転させてなる屈折率楕円体で表される光学特性（図９）を有する本発明の別なる光学異方性フィルム、および光学補償シートの一形態を得ることができる。
【００８８】
照射する光としてはＸ線、電子線、紫外線、可視光線または赤外線（熱線）が例示され、紫外線が好ましい。紫外線の波長は４００ｎｍ以下であることが好ましく、ピーク波長は２５０ｎｍ〜３６０ｎｍであることがより好ましい。光源としては低圧水銀ランプ、高圧放電ランプ、またはショートアーク放電ランプが好ましく用いられる。
【００８９】
偏光を得る手段としては、偏光板を（例えば、ヨウ素偏光板、二色色素偏光板、ワイヤーグリッド偏光板）用いる方法、プリズム系素子（例えば、グラントムソンプリズム）やブリュースター角を利用した反射型偏光子を用いる方法、あるいは偏光を有するレーザー光源から出射される光を用いる方法が採用できる。また、フィルターや波長変換素子等を用いて必要とする波長の光のみを選択的に照射してもよい。
【００９０】
光照射の照射強度、照射時間、照射温度、および照射時の高分子層の乾燥条件により、得られる光学特性を調節することが可能である。したがって、照射強度、照射時間、照射温度、および照射時の高分子層の乾燥条件は、目的とする光学特性、用いる高分子により、最適な条件が採用される。
【００９１】
光照射の照射強度、照射時間は、用いる高分子により目的とする光学特性に合わせて最適となるように調節することができるが、照射量は、１０ｍＪ／ｃｍ2〜３００００ｍＪ／ｃｍ2が好ましく、２０ｍＪ／ｃｍ2〜６０００ｍＪ／ｃｍ2がより好ましい。
【００９２】
光照射時の温度は、用いる高分子により目的とする光学特性に合わせて最適となるように調節することができるが、用いる高分子のＴｇ以下であることが好ましい。特に、Ｘ、Ｙ、Ｚの各軸方向の主屈折率をｎｘ、ｎｙ、ｎｚとした場合、ｎｘとｎｚの値が実質的に等しく、ｎｙがｎｘよりも小さな値を有する屈折率楕円体で表される光学特性、およびｎｘとｎｚの値が実質的に等しく、ｎｙがｎｘよりも小さな値を有する屈折率楕円体を仮定したとき、該屈折率楕円体が前記Ｘ軸を回転軸として任意の回転角θで回転させてなる屈折率楕円体で表される光学特性を得る目的に対しては、光照射時の温度は、用いる高分子のＴｇ以下であることが好ましく、また室温以下であることが好ましい。
【００９３】
上記で得られた光学異方性フィルムを熱処理することにより、光学特性を調製することができる。加熱温度、加熱時間は、用いる高分子により目的とする光学特性に合わせて最適となるように調節することができるが、加熱を加えることにより、（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）の値を高くすることができる。
【００９４】
上記で得られた光学異方性フィルムをドラム、バンド、支持体等から剥離して本発明の光学異方性フィルムを得ることができる。また、剥離した異方性フィルムを他の支持体に貼合させること、あるいは、ドラム、バンド、支持体等から別なる支持体に転写することにより光学補償シートを得ることができる。さらに、支持体から剥離せずにそのまま光学補償シートとして利用することもできる。
【００９５】
〈光学補償シートの用途〉
本発明の光学補償シートは、例えば、偏光膜と組み合わせて偏光板（楕円偏光板）の用途に供することができる。また、透過型液晶表示装置に、偏光膜と組み合わせて適用することにより、視野角の拡大に寄与する。本発明の偏光板は、偏光子が２枚の保護フィルムにより挟持されてなる偏光板において、２枚の保護フィルムの少なくとも一方に上記本発明の光学異方性フィルム、または光学補償シートを用いることを特徴とするものである。また、本発明の液晶表示装置は、上記本発明の光学異方性フィルム、または、光学補償シートを有することを特徴とすることを特徴するものである。以下に、本発明の光学補償シートを利用した楕円偏光板および液晶表示装置について詳述する。
【００９６】
［楕円偏光板］
上記楕円偏光板は、本発明の光学補償シートと偏光膜とを積層することによって作製することができる。本発明の光学補償シートを利用することにより、液晶表示装置の視野角を拡大しうる楕円偏光板を提供することができる。上記偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造することができる。偏光膜の偏光軸は、フィルムの延伸方向に垂直な方向に相当する。
【００９７】
上記偏光膜は上記光学補償シートの光学異方性層側に積層する。偏光膜の光学補償シートを積層した側と反対側の面に保護膜を形成することが好ましい。保護膜は、光透過率が８０％以上の保護膜（透明保護膜）であるのが好ましい。透明保護膜としては、好ましくはセルロースエステルフィルム、より好ましくはトリアセチルセルロースフィルムが用いられる。セルロースエステルフィルムは、ソルベントキャスト法により形成することが好ましい。保護膜の厚さは、２０〜５００μｍであることが好ましく、５０〜２００μｍであることがさらに好ましい。
【００９８】
［液晶表示装置］
本発明の光学補償シートの利用により、視野角が拡大された液晶表示装置を提供することができる。また、表示ムラのない高品位の画像を表示し得る液晶表示装置を提供することができる。Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ（ＴＮ）モードの液晶セル用光学補償シートとしては、例えば、特開平６−２１４１１６号公報、米国特許第５，５８３，６７９号、同第５，６４６，７０３号の明細書、ドイツ特許公報３９１１６２０Ａ１号公報等の記載に従って利用することができる。また、Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ（ＩＰＳ）モードまたはＦｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ（ＦＬＣ）モードの液晶セル用光学補償シートとしては、特開平１０−５４９８２号公報の記載に従って利用することができる。さらに、Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ（ＯＣＢ）モードまたはＨｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ（ＨＡＮ）モードの液晶セル用光学補償シートとしては、米国特許第５，８０５，２５３号明細書および国際公開ＷＯ９６／３７８０４号パンフレット等の記載に従って利用することができる。さらにまた、Ｓｕｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ（ＳＴＮ）モードの液晶セル用光学補償シートとしては、特開平９−２６５７２号公報の記載に従って利用することができる。そして、Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ（ＶＡ）モードの液晶セル用光学補償シートとしては、特許番号第２８６６３７２号公報の記載に従って利用することができる。
【実施例】
【００９９】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。
【０１００】
[実施例１１]
重合性モノマー（Ａ−１４：桂皮酸  ４−メタアクリロイルオキシフェニルエステル）の合成
１．メタアクリル酸  ４−ヒドロキシフェニルエステルの合成
ヒドロキノン１３４ｇおよびトリエチルアミン５４ｍｌを１．２Ｌのテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に加え、０℃で一時間攪拌し、この混合物に３１．４ｇのメタアクリル酸クロリドをゆっくり滴下し、さらに、０℃で攪拌を３時間継続した。得られた溶液を１Ｌの酢酸エチルと１Ｌの純水を加えて攪拌した。酢酸エチル層を分液し、飽和食塩水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムを濾別し、溶液を濃縮し、これをシリカクロマトグラフィーにて精製することにより３２ｇのメタアクリル酸４−ヒドロキシフェニルエステルを得た。
1H−NMR (CDCl3, δppm) 6.95 (2H, d), 6.75 (2H, d), 6.3 (1H, s), 5,75(1H, s), 5.2(1H, s), 2.05 (3H,s)
【０１０１】
２.桂皮酸  ４−メタアクリロイルオキシフェニルエステルの合成
上記で合成したメタアクリル酸４−ヒドロキシフェニルエステル１４ｇとトリエチルアミン２２ｍｌを２００ｍＬのＴＨＦに加え、０℃で一時間攪拌した。次に、１４．５ｇの桂皮酸クロリドを５０ｍＬのＴＨＦ中に溶解して滴下した。さらに、０℃で攪拌を３時間継続し、得られた溶液を０．５Ｌの酢酸エチルと０．５Ｌの純水を加えて攪拌した。酢酸エチル層を分液し、飽和食塩水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムを濾別し、溶液を濃縮し、これをシリカクロマトグラフィーにて分離し、ヘキサン／酢酸エチルで再結晶することにより１１ｇの桂皮酸４−メタアクリロイルオキシフェニルエステルを得た。
1H−NMR (CDCl3, δppm) 7.9 (2H,d), 7.6 (2H, dd), 7.5 (3H, m), 7.2 (4H, m), 6.6 (1H,d), 6.35 (1H, s), 5,75(1H, s), 2.05 (3H,s)
【０１０２】
[実施例２]
重合性モノマー（４−フェニル桂皮酸  ４−メタアクリロイルオキシフェニルエステル）の合成
上記実施例で合成したメタアクリル酸（４−ヒドロオキシベンゾエル）エステル１４ｇとトリエチルアミン２２ｍｌを２００ｍＬのＴＨＦに加え、０℃で一時間攪拌した。次に、２１ｇの４−フェニル桂皮酸クロリドを５０ｍＬのＴＨＦ中に溶解して滴下した。さらに、０℃で攪拌を３時間継続し、得られた溶液を０．５Ｌの酢酸エチルと０．５Ｌの純水を加えて攪拌した。酢酸エチル層を分液し、飽和食塩水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムを濾別し、溶液を濃縮し、これをシリカクロマトグラフィーにて分離し、酢酸エチルで再結晶することにより１６ｇのメタアクリル酸（４−桂皮酸ベンゾエル）エステルを得た。
1H−NMR (CDCl3, δppm) 7.9 (2H,d), 7.65 (6h, m), 7.5 (2H, m), 7.4 (2H, d), 7.2 (4H, m), 6.65 (1H,d), 6.35 (1H, s), 5,75(1H, s), 2.05 (3H,s) 
【０１０３】
[実施例３]
重合性モノマー（Ａ−１：桂皮酸  ４−アクリロイルオキシフェニルエステル）の合成
１. アクリル酸  ４−ヒドロキシフェニルエステルの合成
ヒドロキノン１３４ｇおよびトリエチルアミン５４ｍｌを１．２ＬのＴＨＦに加え、０℃で一時間攪拌し、この混合物に２７．２ｇアクリル酸クロリドをゆっくり滴下し、さらに、０℃で攪拌を３時間継続した。得られた溶液を１Ｌの酢酸エチルと１Ｌの純水を加えて攪拌した。酢酸エチル層を分液し、飽和食塩水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムを濾別し、溶液を濃縮し、これをシリカクロマトグラフィーにて精製することにより２６ｇのアクリル酸  ４−ヒドロキシフェニルエステルを得た。
1H−NMR (CDCl3, δppm) 7.0 (2H, d), 6.8(2H, d), 6.6 (1H, dd), 6,35(1H, dd), 6.0(1H, d), 5.2(1H, s).
【０１０４】
２. 桂皮酸  ４−アクリロイルオキシフェニルエステルの合成
上記で合成した13gのアクリル酸  ４−ヒドロキシフェニルエステルと22ｍｌのトリエチルアミンを２００ｍＬのＴＨＦに加え，  ０℃で一時間攪拌した。次に、１４．５ｇ桂皮酸クロリドを５０ｍＬのＴＨＦ中に溶解して滴下した。さらに，  ０℃で攪拌を３時間継続し、得られた溶液を０．５Ｌの酢酸エチルと０．５Ｌの純水を加えて攪拌した。酢酸エチル層を分液し、飽和食塩水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムを濾別し、溶液を濃縮し、これをシリカクロマトグラフィーにて分離し，  ヘキサン／酢酸エチルで再結晶することにより１３ｇの桂皮酸  ４−アクリロイルオキシフェニルエステルを得た。分析結果を以下に示す。
1H−NMR (CDCl3, δppm) 7.9(1H, d), 7.6(2H, dd), 7.4(3H, m), 7.2 (4H, m), 6.6 (2H, m), 6,35(1H, dd), 6.0(1H, d).
【０１０５】
[合成例４]
光反応性基を有する重合性モノマー（Ａ−１４）の９部(モル比)とモノマー（Ｍ−１１）１部(モル比)とから、２，２−アゾビスイソブチロニトリルを開始剤(２モル%)、無水N,N-ジメチルアセチルアミドを溶媒として、窒素下、７０℃、１０時間、ラジカル重合を行い、メタノールに再沈して精製することで、本発明の化合物Ｐ−１を合成した。
ＧＰＣにより測定したＰ−１の重量平均分子量は、１８，０００であった。ＤＳＣ測定より、Ｔｇは３８.４℃であった。Ｈ-ＮＭＲ測定による、ｘ/ｙ=５:９５(モル比)であった。
【０１０６】
[合成例５]
Ａ-１の１部(モル比)とＭ-１１の９部(モル比)を上記合成例４と同様に高分子化合物Ｐ-２を合成した。ｘ＝１１、ｙ＝８９、Ｍｗ＝１６８００、Ｔｇ＝３９℃であった。
[合成例６]
化合物P-3〜P-25を上記合成例と同様に合成した。
【０１０７】
［実施例４］
１．１ｍｍの厚さを有するガラス基板を支持体とし、本発明の高分子化合物として上記例示化合物Ｐ−１（ｘ＝５、ｙ＝９５、Ｍｗ＝１８０００、Ｔｇ＝３８．４℃）３ｇを、１０ｇのテトラヒドロフランに溶解して塗布液とし、これを、スピンコーティング法により支持体上に塗布した。室温で１２０秒間乾燥した後、紫外線照射器（ＥＸＥＣＵＲＥ３０００、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯ  ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ社製）より出射される紫外光より出射される光を偏光板を介して直線偏光に変換し、支持体に対して垂直の方向から１００ｍＷ（３６５ｎｍ）の強度で３００秒間照射し、ガラス基板上に光異方性フィルムを有する光学補償シートを作製した。この時の光学異方性層の膜厚は２．０μｍであった。
【０１０８】
［実施例５〜７］
高分子組成物塗布液の調製において、光反応性基を有する高分子Ｐ−１を、Ｐ−２（ｘ＝１１、ｙ＝８９、Ｍｗ＝６８００、Ｔｇ＝３９℃）、Ｐ−３（ｘ＝７、ｙ＝９３、Ｍｗ＝１９４００、Ｔｇ＝４０℃）、あるいはＰ−５（ｘ＝５、ｙ＝９５、Ｍｗ＝１６７００、Ｔｇ＝４０℃）に変更し、他は実施例１と同様にして光学補償シートを作製した。この時の光学異方性層の膜厚は、それぞれ２.０μｍ、３．１μｍ、３．３μｍ、２．０μｍであった。
［実施例８］
１．１ｍｍの厚さを有するガラス基板を支持体とし、光反応性基を有する高分子として上記例示化合物Ｐ−２（ｘ＝１１、ｙ＝８９、Ｍｗ＝６８００、Ｔｇ＝３９℃）３ｇを、１０ｇのテトラヒドロフランに溶解して塗布液とし、これを、スピンコーティング法により支持体上に塗布した。室温で１２０秒間乾燥した後、紫外線照射器（ＥＸＥＣＵＲＥ３０００、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯ  ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ社製）より出射される紫外光より出射される光を偏光板を介して直線偏光に変換し、支持体に対して垂直から４５度傾斜させた方向から１００ｍＷ（３６５ｎｍ）の強度で３００秒間ｐ−偏光を照射し、ガラス基板上に光異方性フィルムを有する光学補償シートを作製した。この時の光学異方性層の膜厚は２．０μｍであった。
［参考例１］
光学異方性層の形成において、光照射を行わなかった以外は、実施例１と同様にして光学補償シートを作製した。この時の光学異方性層の膜厚は２．０μｍであった。
【０１０９】
実施例４〜８、および参考例１において作製した光学補償シートの光学特性をＫＯＢＲＡ  ＷＲ（王子計測機器（株）製）により測定し、その主屈折率ｎｘ、ｎｙ、ｎｚを３次元屈折率計算用ソフトウェアＮ−Ｃａｌｃ（王子計測機器（株）製）により算出した。結果を表１に示す。
【０１１０】
【表１】
2008050440.tif 000022
【０１１１】
本結果より、本発明の光反応性基を有する高分子化合物を用いた場合、支持体に対して垂直の方向から偏光を照射、あるいは垂直の方向から任意の角度の方向よりｐ−偏光を照射することにより、ｎｘとｎｚの値が実質的に等しく、ｎｙがｎｘよりも小さな値を有する屈折率楕円体で表される光学特性が得られることが明らかとなった。さらに、実施例１と参考例１の結果より、紫外線を照射することによって光学異方性層の光学特性が変化し、より大きなレターデーションが発現でき、光照射により所望の光学特性を有する光学補償シートを得ることができた。
【０１１２】
［実施例９］
１．１ｍｍの厚さを有するガラス基板を支持体とし、本発明の高分子化合物として上記例示化合物Ｐ−２（ｘ＝１１、ｙ＝８９、Ｍｗ＝６８００、Ｔｇ＝３９℃）３ｇを１０ｇのテトラヒドロフランに溶解して塗布液とし、これを、スピンコーティング法により支持体上に塗布した。室温で１２０秒間乾燥した後、紫外線照射器（ＥＸＥＣＵＲＥ３０００、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯ  ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ社製）より出射される紫外光より出射される光を偏光板を介して直線偏光に変換し、支持体に対して垂直方向から任意の角度を傾斜させた方向から１００ｍＷ（３６５ｎｍ）の強度で３００秒間ｓ−偏光を照射し、ガラス基板上に光異方性フィルムを有する光学補償シートを作製した。
【０１１３】
作製した光学補償シートの光学特性をＫＯＢＲＡ  ＷＲ（王子計測機器（株）製）により測定し、屈折率楕円体が円盤状であるとしてＫＯＢＲＡ  ＷＲによりβ計算を行い、光学補償シートにおける屈折率楕円体の平均的な傾きを算出した。表２にｓ−偏光の入射角度（垂直入射時を０°とする。）と得られた屈折率楕円体の平均的な傾きの関係を示す。
本結果より、本発明の光反応性基を有する高分子化合物を用いた場合、支持体に対して垂直の方向から任意の角度の方向よりｓ−偏光を照射することにより、フィルム面に平行するＸ軸、Ｙ軸、およびフィルム面法線方向のＺ軸からなる座標系に対して、Ｘ、Ｙ、Ｚの各軸方向の主屈折率をｎｘ、ｎｙ、ｎｚとした場合、ｎｘとｎｚの値が実質的に等しく、ｎｙがｎｘよりも小さな値を有する屈折率楕円体を仮定したとき、該屈折率楕円体が前記Ｘ軸を回転軸として任意の回転角θで回転させてなる屈折率楕円体で表される光学特性を得られることが明らかとなり、光照射により所望の光学特性を有する光学補償シートを得ることができた。
【０１１４】
【表２】
2008050440.tif 000023
【０１１５】
［実施例１０］
実施例５で得られた光学補償シートを５０℃において加熱処理し、加熱時間に対する光学補償シートの光学特性の変化をＫＯＢＲＡ  ＷＲ（王子計測機器（株）製）により測定し、その主屈折率ｎｘ、ｎｙ、ｎｚを３次元屈折率計算用ソフトウェアＮ−Ｃａｌｃ（王子計測機器（株）製）により算出した。結果を表３に示す。本結果より、加熱により、（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）の値を高くすることができることが明らかとなり、熱加熱により所望の光学特性を有する光学補償シートを得ることができた。
【０１１６】
【表３】
2008050440.tif 000024
【０１１７】
［実施例１１］
１．１ｍｍの厚さを有するガラス基板を支持体とし、光反応性基を有する高分子として上記例示化合物Ｐ−２（ｘ＝１１、ｙ＝８９、Ｍｗ＝６８００、Ｔｇ＝３９℃）  ３ｇを１０ｇのテトラヒドロフランに溶解して塗布液とし、これを、スピンコーティング法により支持体上に塗布した。室温で１２０秒間乾燥した後、紫外線照射器（ＥＸＥＣＵＲＥ３０００、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯ  ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ社製）より出射される紫外光より出射される光を偏光板を介して直線偏光に変換し、支持体に対して垂直方向から４５度の角度を傾斜させた方向から１００ｍＷ（３６５ｎｍ）の強度で３００秒間ｓ−偏光を照射し、ガラス基板上に光異方性フィルムを有する光学補償シートを作製した。次に、５０℃において加熱処理を1０分間行った。
作製した光学補償シートの光学特性をＫＯＢＲＡ  ＷＲ（王子計測機器（株）製）により測定し、屈折率楕円体が円盤状であるとしてＫＯＢＲＡ  ＷＲによりβ計算を行い、光学補償シートにおける屈折率楕円体の平均的な傾きを算出し、６６度の値を得た。
本結果より、本発明の光反応性基を有する高分子化合物を用いた場合、支持体に対して垂直の方向から任意の角度の方向よりｓ−偏光を照射することにより、フィルム面に平行するＸ軸、Ｙ軸、およびフィルム面法線方向のＺ軸からなる座標系に対して、Ｘ、Ｙ、Ｚの各軸方向の主屈折率をｎｘ、ｎｙ、ｎｚとした場合、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙである屈折率楕円体を仮定したとき、該屈折率楕円体が前記Ｘ軸を回転軸として任意の回転角θで回転させてなる屈折率楕円体で表される光学特性を得ることができることが明らかとなった。
【０１１８】
［実施例１２］
市販のセルロースアセテートフィルムであるフジタックＴＤ８０ＵＦ（富士写真フイルム（株）製、Ｒｅ＝３ｎｍ、Ｒｔｈ＝５０ｎｍ）を支持体とし、光反応性基を有する高分子として上記例示化合物Ｐ−２（ｘ＝１１、ｙ＝８９、Ｍｗ＝６８００、Ｔｇ＝３９℃）１ｇを１０ｇのメチルエチルケトンに溶解して塗布液とし、これを、ワイヤーバーコーティング法によりガ支持体上に塗布した。室温で１２０秒間乾燥した後、紫外線照射器（ＥＸＥＣＵＲＥ３０００、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯ  ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ社製）より出射される紫外光より出射される光を偏光板を介して直線偏光に変換し、支持体に対して垂直方向から１００ｍＷ（３６５ｎｍ）の強度で３００秒間ｓ−偏光を照射し、セルロースアセテートフィルム上に光異方性フィルムを有する光学補償シートを作製した。
【図面の簡単な説明】
【０１１９】
【図１】従来の光反応性基を有する高分子への偏光照射から得られる光学異方性フィルムの光学特性を示す概念図。
【図２】支持体に対して垂直の方向から本発明の光反応性基を有する高分子に偏光を照射したときの模式図。
【図３】支持体に対して斜めの方向から本発明の光反応性基を有する高分子にｐ−偏光を照射したときの模式図。
【図４】フィルム面に平行するＸ軸、Ｙ軸、およびフィルム面法線方向のＺ軸からなる座標系に対して、Ｘ、Ｙ、Ｚの各軸方向の主屈折率をｎｘ、ｎｙ、ｎｚとした場合、ｎｘとｎｚの値が実質的に等しく、ｎｙがｎｘよりも小さな値を有する屈折率楕円体の説明図。
【図５】フィルム面に平行するＸ軸、Ｙ軸、およびフィルム面法線方向のＺ軸からなる座標系に対して、Ｘ、Ｙ、Ｚの各軸方向の主屈折率をｎｘ、ｎｙ、ｎｚとした場合、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙである屈折率楕円体の説明図。
【図６】支持体に対して斜めの方向から本発明の光反応性基を有する高分子にｓ−偏光を照射したときのＹ軸方向から見た時の模式図。
【図７】支持体に対して斜めの方向から本発明の光反応性基を有する高分子にｓ−偏光を照射したときのＸ軸方向から見た時の模式図。
【図８】フィルム面に平行するＸ軸、Ｙ軸、およびフィルム面法線方向のＺ軸からなる座標系に対して、Ｘ、Ｙ、Ｚの各軸方向の主屈折率をｎｘ、ｎｙ、ｎｚとした場合、ｎｘとｎｚの値が実質的に等しく、ｎｙがｎｘよりも小さな値を有する屈折率楕円体を仮定したとき、該屈折率楕円体が前記Ｘ軸を回転軸として任意の回転角θで回転させてなる屈折率楕円体の説明図。
【図９】フィルム面に平行するＸ軸、Ｙ軸、およびフィルム面法線方向のＺ軸からなる座標系に対して、Ｘ、Ｙ、Ｚの各軸方向の主屈折率をｎｘ、ｎｙ、ｎｚとした場合、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙである屈折率楕円体を仮定したとき、該屈折率楕円体が前記Ｘ軸を回転軸として任意の回転角θで回転させてなる屈折率楕円体の説明図。
【符号の説明】
【０１２０】
１・・・ｐ−偏光
２・・・屈折率楕円体。
３・・・直線偏光
４・・・ｎｘ＝ｎｚ、ｎｘ＞ｎｙ、あるいはｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙである屈折率楕円体
５・・・ｎｘ＝ｎｚ、ｎｘ＞ｎｙである屈折率楕円体
６・・・ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙである屈折率楕円体
７・・・ｓ−偏光
５・・・ｎｘ＝ｎｚ、ｎｘ＞ｎｙである屈折率楕円体をＸ軸を回転軸として任意の回転角θで回転させてなる屈折率楕円体
６・・・ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙである屈折率楕円体をＸ軸を回転軸として任意の回転角θで回転させてなる屈折率楕円体
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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