(57)【要約】【課題】液晶表示用スペーサーなどに用いることが可能で、精度よくパターニングでき、高さが均一に揃った微小突起物を可撓性基材上に形成する方法を提供することを目的とする。【解決手段】剥離性を有するガラス基板１１上に硬化性樹脂膜２１を形成し、硬化性樹脂膜２１の一部を除去することにより、微小突起物パターンを形成、可撓性基材３０上の所定の位置にスペーサー４１を配置し、未硬化性樹脂からなる微小突起物パターン２１ａを可撓性基材上３０ａの所定の位置に転写し、剥離性を有するガラス基板を剥離し、硬化性樹脂からなる微小突起物パターンを硬化して、可撓性基材上の所定位置に微小突起物２１ｂを形成し、スペーサー４１を除去する微小突起物の製造方法である。【選択図】図２
2008233478.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可撓性基材上の所定の位置に微小突起物を形成する方法であって、少なくとも
（ａ）剥離性を有するガラス基板上に未硬化性樹脂膜を形成する工程と、
（ｂ）前記未硬化性樹脂膜の一部を除去することにより、剥離性を有するガラス基板上に硬化性樹脂からなる微小突起物パターンを形成する工程と、
（ｃ）前記可撓性基材上の所定の位置にスペーサーを配置する工程と
（ｄ）前記硬化性樹脂からなる微小突起物パターンが形成された剥離性を有するガラス基板と、前記スペーサーが形成された前記可撓性基材とを位置合わせして、重ね合わせる工程と、
（ｅ）加圧して、剥離性を有するガラス基板上の前記硬化性樹脂からなる微小突起パターンを前記可撓性基材上の所定の位置に転写し、前記剥離性を有するガラス基板を剥離する工程と、
（ｆ）前記可撓性基材上の硬化性樹脂からなる微小突起物パターンを硬化して、前記可撓性基材上の所定位置に微小突起物を形成する工程と、
（ｇ）前記スペーサーを除去する工程と、
を具備することを特徴とする微小突起物の製造方法。
【請求項２】
前記スペーサーがガラス又は樹脂からなる球状のスペーサーであることを特徴とする請求項１に記載の微小突起物の製造方法。
【請求項３】
前記スペーサーがインクジェット法にて形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の微小突起物の製造方法。
【請求項４】
前記工程（ｄ）において、前記剥離性を有するガラス基板上に設けられたマークパターンと、前記可撓性基材上に設けられたマークパターンとを一致させることにより、前記微小突起物パターンと、前記所定の位置とを一致させることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の微小突起物の製造方法。
【請求項５】
前記可撓性基材が、液晶表示装置用カラーフィルター基板であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の微小突起物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、可撓性基材上に微小突起物を形成する方法であって、パターニングによる高さを制御した微小構造物の形成に関する技術であり、特に液晶表示装置のスペーサー樹脂柱の形成に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶カラーテレビ等に用いられるパネル部材は、透明電極が設けられたカラーフィルター基板とＴＦＴ等の画素電極が設けられた透明基板とを貼り合わせることによって形成された微小な空間（セル）に液晶層が封止されている。
液晶表示装置用スペーサーは、セルの厚みを規定・制御するために用いられるものである。セルの厚みはそのまま液晶層の厚みとなるため、パネルの一部でセルの厚みが０．１μｍ程度の差異があるだけでその部分の発色や液晶の応答速度が不均一になり、表示ムラやコントラストの低下が発生してしまう。
【０００３】
従来、液晶表示装置用スペーサーの製造方法として、画素電極を設けた基板上に、ガラスや樹脂のスペーサービーズをランダムに散布する方法が用いられてきた。
しかしながら、散布法では、画素パターン上にもビーズが配置されるため、ビーズ周辺の液晶配向不良や光漏れが問題となっている。
【０００４】
これを解決すべく、インクジェット法によってカラーフィルターにおける遮光部であるブラックマトリクス上にスペーサービーズを配置する方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
しかしながら、インクジェット法はインキ滴を小さくすることが困難であることや着弾の精度が２０μｍ程度であることから、カラーフィルターにおける数十〜数百μｍ程度の画素のスペースに配置することは十分可能であるが、線幅が１０μｍ程度のカラーフィルターのブラックマトリクス上に高精細に且つ精密に形成する方法としては問題である。
【０００５】
また、近年においてはブラックマトリクス上にスペーサーを形成する方法として、フォトリソ法により柱状のスペーサーを形成する方法が開示されている（例えば、特許文献２参照）。
この方法によれば前記方法に比べてパターニング精度が高く、従ってブラックマトリクス上に配置することが可能となるが、感光性樹脂層を基板上に形成し、パターン露光、現像等のパターニング処理を行うという工程が必要となるため、製造設備が大掛かりとなり製造コストが高く、また、特に大型パネルにおいては樹脂柱の高さを均一に揃えることが困難であるという問題がある。
【特許文献１】特開平９−１０５９４６号公報
【特許文献２】特開平５−１１２５６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記のような問題を解決するためになされたもので、液晶表示用スペーサーなどに用いることが可能で、精度よくパターニングでき、高さが均一に揃った微小突起物を可撓性基材上に形成する方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に於いて上記問題を解決するために、まず請求項１では、可撓性を有する被印刷基板上の所定の位置に微小突起物を形成する製造方法であって、少なくとも
（ａ）剥離性を有するガラス基板上に未硬化性樹脂膜を形成する工程と、
（ｂ）前記硬化性樹脂膜の一部を除去することにより、剥離性を有するガラス基板上に硬化性樹脂からなる微小突起物パターンを形成する工程と、
（ｃ）前記可撓性基材上の所定の位置にスペーサーを配置する工程と
（ｄ）前記硬化性樹脂からなる微小突起物パターンが形成された剥離性を有するガラス基板と、前記スペーサーが形成された前記可撓性基材とを位置合わせして、重ね合わせる工程と、
（ｅ）加圧して、剥離性を有するガラス基板上の前記硬化性樹脂からなる微小突起物パターンを前記可撓性基材上の所定の位置に転写し、前記剥離性を有するガラス基板を剥離する工程と、
（ｆ）前記可撓性基材上の硬化性樹脂からなる微小突起物パターンを硬化して、前記可撓性基材上の所定位置に微小突起物を形成する工程と、
（ｇ）前記スペーサーを除去する工程と、
を具備することを特徴とする微小突起物の製造方法としたものである。
【０００８】
また、請求項２では、前記スペーサーがガラス又は樹脂からなる球状のスペーサーであることを特徴とする請求項１に記載の微小突起物の製造方法としたものである。
【０００９】
また、請求項３では、前記スペーサーがインクジェット法にて形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の微小突起物の製造方法としたものである。
【００１０】
また、請求項４では、前記工程（ｄ）において、前記剥離性を有するガラス基板上に設けられたマークパターンと、前記可撓性基材上に設けられたマークパターンとを一致させることにより、前記微小突起物パターンと、前記所定の位置とを一致させることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の微小突起物の製造方法
さらにまた、請求項５では、前記可撓性基材が、液晶表示装置用カラーフィルター基板であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の微小突起物の製造方法としたものである。
【００１１】
上記可撓性基材上の所定の位置とは、例えば液晶表示装置用カラーフィルタ基板のスペーサーとして本発明の微小突起物を用いる場合には、カラーフィルター中ブラックマトリクスの直上部である。
上記所定の位置の近傍とは、形成する微小突起物の転写による形成過程において干渉しない程度の十分な距離を持った場所である。例えば、液晶表示装置用カラーフィルター基板においては、ブラックマトリクスに対する開口部であることが望ましい。
上記剥離性を有するガラス基板とは硬化性樹脂膜を容易に剥離することが可能な材料からなる基板を意味する。また硬化性樹脂とは光や熱等により硬化させることのできる樹脂である。
【発明の効果】
【００１２】
請求項１に係る発明によれば、転写法にて、剥離性を有するガラス基板上に形成した硬化性樹脂からなる微小突起物パターンを可撓性基材上の所定の位置に形成することによって、可撓性基材に損傷を与えることなく微小突起物パターンを形成でき、また、微小突起物パターンの高さをスペーサーの粒径によって規定することができるため、微小突起物の高さを均一に揃えることができる。
【００１３】
請求項２に係る発明によれば、ガラス又は樹脂からなる球状のスペーサーを用いることで、可撓性基材上に高さが均一になるようにスペーサーを配置でき、高さの揃った微小突
起物が製造できる。
【００１４】
請求項３に係る発明によれば、インクジェット法を用いてスペーサーを可撓性基材上に配置することによって、可撓性基材上の所定位置に選択的に、かつ正確にスペーサーを配置することができ、高さの揃った微小突起物を転写することができる。
【００１５】
請求項４に係る発明によれば、剥離性を有するガラス基板上に設けられたマークパターンと、可撓性基材上に設けられたマークパターンとを一致させて位置合わせを行うことにより、微小突起物を正確な配置位置に形成することできる。
【００１６】
請求項５に係る発明によれば、可撓性基材として液晶表示装置用カラーフィルターを用いることにより、表示ムラのない、より品質の高い液晶表示装置を製造することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明の実施形態につき図面を参照しながら説明する。
図１（ａ）〜（ｅ）及び図２（ｆ）〜（ｈ）は、本発明の微小突起物の製造方法を一実施例を工程順に示す模式構成部分断面図である。
【００１８】
まず、剥離性を有するガラス基板１１上に未硬化性樹脂膜２１を形成する（図１（ａ）参照）。
ここで、剥離性を有するガラス基板１１とは、ガラス基板の表面に剥離性を付与したもので、ガラス基板上にリコーンオイル、シリコーンワニスで代表される離型剤を塗るか、あるいはシリコーンゴムの薄膜層を形成することで剥離性を付与することができる。
また、同様の効果を得るために、フッ素系樹脂、フッ素系ゴムを用いることもできる。あるいはフッ素樹脂微粉末をシリコーンゴムあるいは、普通のゴムに混ぜて剥離性を付与してもよい。
これらシリコーン系の塗膜は通常ガラス基板との密着が低いが、熱硬化または紫外線硬化性のアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、最表面に設けるシリコーン層に対して、よりガラス基板との接着性の高い樹脂層やシランカップリング剤を、アンカー層としてあらかじめガラス基板上に設け、その上層に設けることもできる。
【００１９】
シリコーンとしては、例えば、ジメチルポリシロキサンの各種分子量のもの、その他メチルハイドロジエンポリシロキサン、メチルフェニルシリコーンオイル、メチル塩素化フェニルシリコーンオイル、あるいはこれらポリシロキサンと有機化合物との共重合体など、変成したものを用いることができる。シリコーンゴムとしては、二液型のジオルガノポリシロキサンと架橋剤としての三官能性以上のシラン、またはシロキサン及び硬化触媒を組み合わせたもの、あるいは一液型ではジオルガノポリシロキサンとアセトンオキシム、各種メトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等の組み合わせや、その他ゴム硬度を調節するためのポリシロキサン等を適宜用いることができる。
【００２０】
また、ガラス基板表面の剥離性付与の他の処理方法として、シランカップリング剤を用いることもできる。シランカップリング剤は、ガラスと反応できるトリメトキシシラン類、トリエトキシシラン類などを用いることができる。シランカップリング剤の一部位は、ビニル基、エポキシ基、アミノ基、メタクリル基、メルカプト基などの有機化合物との反応性基を持つものから選ぶことができ、あるいは、アルキル基やその一部にフッ素原子が置換されたものやシロキサンが結合して、表面エネルギーの小さな表面を形成できる置換基が結合したものを用いることができる。前者の反応性基を有するシランカップリング剤を用いる場合には、シランカップリング剤でガラス表面を処理した後、所定の表面自由エネルギーになるような他のモノマー成分を塗工して、結合させることができる。反応性基を有するシランカップリング剤としては、ビニルメトキシシラン、ビニルエトキシシラン、ｐ−スチリルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシランなどを用いることができ、モノマーとして、スチレン、 エチレングリコールジグリシジルエーテル、トリメチルプロパントリグリシジルエーテル、 ラウリルアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートなどを用いることができる。また、反応性基を有さないシランカップリング剤としてはメチルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキシルトリメトキシシラン、n-オクチルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシランなどを用いることができる。但し、アルキル基に限定されるものではない。
【００２１】
また、剥離性を有するガラス基板１１上へ硬化性樹脂塗膜を形成する方法としては、硬化性樹脂溶液を用いて公知の塗工方法すなわち、スピンコート、ディッピング法、ロールコート、グラビアコート、リバースコート、エアナイフコート、コンマコート、ダイコート、スクリーン印刷法、スプレーコート、グラビアオフセット法等にて塗膜を形成する方法が挙げられる。中でも、ダイコート、キャップコート、ロールコート、アプリケータを用いた塗膜形成方法は、広い範囲の粘度の硬化性樹脂溶液について均一な樹脂膜を形成することができ、さらにその中でも可動する剥離性を有するガラス板上へ連続的に形成する場合は、ダイコートが最も効率的で好適な形成方法である。
【００２２】
剥離性を有するガラス基板１１上へ形成された樹脂塗膜は、予備乾燥して、硬化性樹脂膜２１を形成する。この予備乾燥には自然乾燥、冷風・温風乾燥、マイクロ波、減圧乾燥などを用いることができる。あるいは、紫外線、電子線などの放射線を用いることもできる。この予備乾燥では、前記樹脂膜の粘度またはチキソトロピー性を高めることを目的とするもので、樹脂膜を完全に乾燥させることはしない。
そのため使用する硬化性樹脂溶液の組成によって乾燥状態を調整することが好ましい。このとき形成する予備乾燥状態の硬化性樹脂膜の膜厚は、後述するスペーサーの粒径と等しいか、あるいはそれよりも多少大きい膜厚であることが重要である。このことにより、可撓性基材に転写した際に微小突起物の高さを均一に揃えることができる。
【００２３】
硬化性樹脂溶液としては、公知の光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂を用いることが可能である。例えば、エポキシ系樹脂、ポリスチレン樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アクリル系樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂等を挙げることができ、必要に応じて硬化剤、架橋剤を混合してもよい。また、位置合わせを行う場合、必要に応じて着色することができる。
【００２４】
また、硬化性樹脂溶液に使用する溶媒としては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、メトキシアルコール、エトキシアルコール、メトキシエトキシエタノール、エトキシエトキシエタノール、酢酸エチル、酢酸ブチル、メトキシプロピオン酸メチル、エトキシプロピオン酸エチル、乳酸エチル、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メトキシエチルアセテート、エトキシエチルアセテート、エチルセロソルブアセテート、メトキシエトキシエチルアセテート、エトキシエトキシエチルアセテート、ジエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、テトラヒドロフラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、γ−ブチロラクトン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン等が挙げることができる。
【００２５】
次に、微小突起物パターンに対してネガパターンである凹部５１を有する除去版５０を
用いて不要部を除去し（図１（ｂ）参照）、硬化性樹脂からなる微小突起物パターン２１ａを形成する（図１（ｃ）参照）。
除去版５０としては、公知の樹脂版を用いることができる。例えば、ナイロン、アクリル、シリコーン樹脂、スチレン−ジエン共重合体などからなるもの、或いはエチレン−プロピレン系、ブチル系、ウレタン系ゴムなどのゴム製の版を用いることができる。このような樹脂製の凸版は、すでに凸版印刷やフレキソ印刷用に用いられており、予め作製した型に所定の樹脂を流し込んで版とする、あるいは彫刻によっても作製することができるが、感光性樹脂を用いる方法がより高精度のものを作製できるために好ましい。また、凹部５１の版深は２μｍから３０μｍ程度設けたものを用いることができる。
【００２６】
次に、可撓性基材３０を準備する（図１（ｄ）参照）。
可撓性基材３０は、プラスチック等の可撓性基板３１を加工したものを用いる。ここでは、可撓性基板３１上にブラックマトリクス３２、着色画素３３Ｒ、３３Ｇ、３３Ｒ及び平坦化層３４を形成したカラーフィルタ基板を可撓性基材３０とする。
【００２７】
可撓性基板３１としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルサルフォン、シクロオレフィンポリマー、ポリイミド、ナイロン、アラミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリ塩化ビニル、トリアセチルセルロースなどのフィルム、シートを用いることができる。さらに光透過性の基板を用いることにより、後述するようにパターンの重ね合わせ時にアライメントを容易とすることができ好ましい。
【００２８】
次に、微小突起物の高さを規定するために、可撓性基材３０上の微小突起物を形成する所定の位置近傍にスペーサー４１を配置する（図１（ｅ）参照）。
この工程により、均一な高さを持つ突起物が形成され、また転写時の印圧により突起物の形状が変形してしまうこともない。
【００２９】
スペーサーの配置には、公知のインクジェット装置及びインクジェットヘッドを用いることができる。インクジェットノズルから分散媒に分散させたスペーサーを吐出することにより、可撓性基材３０上の微小突起物を形成する所定の位置の近傍に選択的にスペーサー４１を配置する。インクジェットヘッドのノズル径はインキ滴の吐出性や、スペーサーによるノズル閉塞の防止を考慮すると、限定されるものではないがスペーサーの粒径に対して５倍以上の径であることが望ましい。
上記所定の位置の近傍とは、形成する微小突起物の転写による形成過程において干渉しない程度の十分な距離を持った場所である。例えば、液晶表示装置用カラーフィルター基板においては、ブラックマトリクスに対する開口部であることが望ましい。
上記インキ剥離性ガラス基板とは硬化性樹脂インキ膜を容易に剥離することが可能な材料からなる基板を意味する。
【００３０】
また、スペーサー４１としては、液晶表示装置用スペーサービーズとして公知のスペーサービーズを用いることができる。例えば、無機系成分ではガラス、有機系成分としてはアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ジビニルベンゼン共重合体、ジビニルベンゼン―アクリルエステル共重合体、ジアクリルフタレート共重合体、アリルイソシアヌレート共重合体等が使用可能である。
また、スペーサーの粒径は微小突起物の高さを規定するものであるが、インキ膜の予備乾燥や硬化時にインキ膜の体積収縮が起こるため、予めインキの体積収縮分を計算し、目的の膜厚よりもやや大きいビーズを用いる必要がある。当然ながら、体積収縮の度合いはインキ中における硬化性樹脂の濃度や、分散媒の種類と混合比によって異なる。
【００３１】
スペーサー４１をインクジェット法にて配置する際には適当な分散媒に分散させること
が考えられるが、具体的な分散媒としては、水、エチレングリコール、イソプロピルアルコール等が挙げられ、必要に応じて適宜混合し、揮発性や粘度を調節して用いることができる。また分散媒中のスペーサーの濃度としては、被印刷基板上に吐出した際に、スペーサー同士が凝集したり、重なったりしない範囲に設定する必要がある。
【００３２】
また、本発明におけるスペーサー４１を配置する可撓性基材３０上の所定の位置の近傍は、形成する微小突起物の転写による形成過程において干渉しない程度の十分な距離を持った場所であることが好ましい。液晶表示装置用スペーサーとして微小突起物を用いる場合においては、ブラックマトリクス３２間の開口部であることが望ましい。
【００３３】
次に、硬化樹脂からなる微小突起パターン２１ａが形成された剥離性を有するガラス基板１１とスペーサー４１が形成された可撓性基材３０ａとを位置合わせして重ね合わせした後、ローラー、スキージ、エアー吹きつけ、真空ラミネート等にて、均一に加圧して硬化樹脂からなる微小突起パターン２１ａを可撓性基材３０ａ上の所定位置に転写する（図２（ｆ）参照）。
このとき可撓性基材３０ａと剥離性を有するガラス基板１１との間にスペーサー４１が存在することにより、硬化樹脂からなる微小突起パターン２１ａの高さがスペーサーの粒径によって規定され、よって微小突起物の高さを均一に揃えることが可能となる。
【００３４】
液晶表示装置用スペーサーとして微小突起物を形成する場合には、ブラックマトリクス上に微小突起物パターン２１ａを一致させることが望ましい。位置合わせには、可動性ステージ上に微小突起物パターン２１ａが形成された剥離性を有するガラス基板１１を固定し、上部から可撓性基材３０ａを１００〜２５０μｍ程度に近づけた後、剥離性を有するガラス基板１１上に得られたパターンの一部や位置合わせ用のマークパターンと、可撓性基材３０ａ上のマークパターンを透過画像で認識し、それぞれの基板上のパターンを認識した画像を基に可動性ステージを動作させ転写位置の補正を行うことができる。
【００３５】
また、剥離性を有するガラス基板１１と可撓性基材３０ａの間に顕微鏡カメラを挿入し、それぞれの基板上のパターンを認識した画像を基に位置の補正を行う方法も選択できる。上記顕微鏡カメラは光学顕微鏡、ＣＣＤ（Ｃｈａｒｇｅ  Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｄｅｖｉｃｅ）顕微鏡のどちらであっても良いが、オートフォーカス、電気的に制御可能な手動焦点制御機構のいずれか、もしくはその両方の機能を必要とし、観察の為に外部に設置したモニターや位置補正の為の画像処理装置へのインターフェースを持つものとすることができる。
【００３６】
剥離性を有するガラス基板１１を可撓性基材３０ａより剥離した後、硬化性樹脂からなる微小突起パターン硬化し、硬化樹脂からなる微小突起物２１ｂが形成された可撓性基材３０ｂを作製する（図２（ｇ）参照）。
硬化工程において、硬化性樹脂の性質によって、加熱あるいは光照射等の公知の硬化性樹脂の硬化方法を用いることができる。
【００３７】
上記の工程で可撓性基材上に微小突起物を固定した後、可撓性基材上に残留したスペーサー４１を除去し、可撓性基材上に硬化樹脂からなる微小突起物が形成された可撓性基材３０ｃを作製する（図２（ｈ）参照）。
ここで、スペーサー４１の除去には空気、水等の液体、およびこれらの混合流体吹き付けによる除去を行うことができる。スペーサー除去時の流体吹き付けの圧力は、スペーサーを除去できる十分な圧力を有すれば良く、形成された微小突起物、被印刷基板に損傷等の影響を与えない強さであればよい。よって、０．２〜１．０ＭPａ／ｃｍ2が好適である。
【００３８】
以上の工程により、可撓性基材の所定位置に微小突起物を作製できる。
本発明の製造方法では、可撓性基材上に直接形成しないので、製造工程において可撓性基材を損傷させず、また剥離性を有するガラス基板と可撓性基材との位置合わせにより、所望の位置に硬化樹脂からなる微小突起物を形成することが可能である。
また、微小突起物の高さをスペーサーの粒径によって規定することができるため、高さを均一に揃えることが可能となる。
【実施例１】
【００３９】
以下、本発明の具体的実施例について説明する。
まず、微小突起物を構成する硬化性樹脂溶液を次の要領で調製した。下記の組成の混合物を均一に撹拌混合し、光硬化性樹脂溶液を得た。
〔光硬化性樹脂溶液〕
・スチレン含有アクリル系樹脂（大阪有機化学（株）製、ＰＬＡ１１８）：１７重量部
・スチレン                                                        ：３６重量部
・メタクリル酸（ＭＡＡ）                                          ：１５重量部
・２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）                  ：１２重量部
・メタクリロイルオキシエチルイソシアネート付加２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＭＯＩ−ＨＥＭＡ）                                              ：３７重量部
・モノマー；３官能モノマー  （大阪有機化学（株）製、ＰＥＴ３Ａ）  ：  ４重量部
；６官能モノマー  （大阪有機化学（株）製、ＵＡ−ＤＰＨ）：    ４重量部・光重合開始剤（アセトフェノン系、チバ・スぺシャルティ・ケミカルズ社製、ＩＲＧ３６９）                                                            ：  ２重量部
・溶剤；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート          ：７３重量部
尚、得られた光硬化性樹脂インキ固形分は１５％であった。
【００４０】
次に、スペーサーをインクジェット法にて形成するためのスペーサー分散体を作製した。下記の組成の混合物をソニケーターを用いて撹拌し、スペーサー分散体を得た。
〔スペーサー分散体〕
・液晶表示装置用ビーズスペーサー（早川ゴム（株）製、ハヤビーズＬ−１１Ｓ  ５．２μｍ）                                                            ：  １重量部
・分散媒；純水                                                    ：１０重量部
；イソプロピルアルコール                                  ：１０重量部
；エチレングリコール                                      ：８０重量部
ガラス基板として、無アルカリガラスを２５０ｍｍ角に切り出したものを用い、ドデシルトリメトキシシランの０．５％イソプロピルアルコール溶液をスピンコートした後、１２０℃のホットプレート上で１８０秒間加熱を行い、剥離性を有するガラス基板１１を得た。
【００４１】
また、除去版５０として、２５０ｍｍ角（パターン有効域は２００ｍｍ角）、深さ１０μｍの凹部５１が形成されたナイロン樹脂版を用いた。
除去板５０は、可撓性基材のブラックマトリクスと同ピッチになるように規則的に配置された直径１０μｍ、深さ１０μｍの凹部５１と、４つの角に位置するパターン有効域の外部にアライメントマークを設けた（図１（ｂ）参照）。
【００４２】
また、可撓性基材３０として、１００μｍ厚のポリエチレンナフタレートからなる可撓性基板３１表面にブラックマトリクス３２、着色画素３３R、３３G、３３B及び平坦化層３４を設けた後に透明導電層を積層した、液晶表示装置用カラーフィルター基板を用いた（図１（ｄ）参照）。
【００４３】
上記部材を用いて次のような方法で微小突起物を形成した。
【００４４】
まず、インクジェット法にて上記スペーサー分散体を吐出し、１００℃のホットプレート上で６０秒間乾燥を行って、可撓性基材３０のブラックマトリクス３２間の平坦化層３４上にスペーサー４１を配置した（図１（ｅ）参照）。
尚、吐出した液滴一滴あたりの体積は２５ｐｌであり、液滴中に含まれるビーズスペーサーは１〜４個であった。
【００４５】
次に、剥離性を有するガラス基板１１上に上記光硬化性樹脂溶液をバーコーターにて塗工し、１２０℃のドライオーブンにて３００秒予備乾燥を行い、５．５μｍ厚の未硬化性樹脂膜２１を形成した（図1（ａ）参照）。
【００４６】
次に、上記除去版５０を未硬化性樹脂膜２１が形成された剥離性を有するガラス基板１１に貼り合わせ（図1（ｂ）参照）、ゴムローラーで押し当て加圧した後、除去版５０を剥離することで不要部を取り除き、剥離性を有するガラス基板１１上に未硬化性樹脂からなる微小突起物パターン２１ａを形成した（図1（ｃ）参照）。
【００４７】
次に、上記硬化性樹脂からなる微小突起物パターン２１ａが形成された剥離性を有するガラス基板１１とスペーサー４１が形成された可撓性基材３０ａとを１００μｍの間隔を保持して重ね合わせ、２つのアライメント用カメラで対角上のアライメントマークを確認した後、硬化性樹脂からなる微小突起物パターン２１ａが形成された剥離性を有するガラス基板１１とスペーサー４１が形成された可撓性基材３０ａとを貼り合わせ、ゴムローラーで加圧した後、剥離性を有するガラス基板１１を剥離することで、可撓性基材のブラックマトリクス上に硬化性樹脂からなる微小突起物パターン２１ａを転写した（図２（ｆ）参照）。
【００４８】
次に、可撓性基材のブラックマトリクス上に形成された硬化性樹脂からなる微小突起物パターン２１ａに紫外線を照射して、硬化性樹脂からなる微小突起物パターン２１ａの硬化を行って微小突起物２１ｂを形成した後（図２（ｇ）参照）、スペーサーを０．６ＭＰａ／ｃｍ2の空気吹き付けによって除去し、可撓性基材のブラックマトリクス３２上に微小突起物２１ｂからなる柱状スペーサーを形成した（図２（ｈ）参照）。
【００４９】
本発明の可撓性基材への微小突起物の製造方法によると、可撓性基材上に微小突起物を精密に、且つ高さを均一に揃えて、安価に形成することができ、種々の用途に利用できる。とりわけ、液晶表示装置用スペーサー、マイクロ流路チップの流路形成用樹脂柱の形成に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】（ａ）〜（ｅ）は、本発明の可撓性基材への微小突起物の製造方法の一実施例の工程の一部を示す模式構成部分断面図である。
【図２】（ｆ）〜（ｈ）は、本発明の可撓性基材への微小突起物の製造方法の一実施例の工程の一部を示す模式構成部分断面図である。
【符号の説明】
【００５１】
１１……可撓性基板
２１……未硬化性樹脂膜
２１ａ……未硬化性樹脂からなる微小突起物パターン
２１ｂ……微小突起物
３０……可撓性基材
３０ａ……スペーサーが形成された可撓性基材
３０ｂ……未硬化性樹脂からなる微小突起物パターンが形成された可撓性基材
３０ｃ……微小突起物が形成された可撓性基材
３１……可撓性基板
３２……ブラックマトリクス
３３Ｒ、３３Ｇ、３３Ｂ……着色画素
３４……平坦化層
４１……スペーサー
５０……除去版
５１……凹部
【図１】
2008233478.tif 000003
【図２】
2008233478.tif 000004