(57)【要約】【課題】修正された絵素における光洩れを抑制し、微小欠陥として視認され難いカラーフィルタ基板の修正方法を提供する。【解決手段】混色不良が生じた互いに隣り合う絵素１０ａ・１０ｂにおける混色層２３の一部を、絵素１０ａ・１０ｂに挟まれたＢＭ２１ａと、ＢＭ２１ａに対向し、かつ一方の辺縁のみが絵素１０ａ・１０ｂに隣接するＢＭ２１ｂとのうち、少なくともＢＭ２１ａに隣接して絵素１０ａ・１０ｂ内に残存させると共に、ＢＭ２１ａに隣接して絵素１０ａ・１０ｂ内に残存される混色層２３ａの幅Ｗ１と、ＢＭ２１ｂに隣接して絵素１０ａ・１０ｂ内に残存される混色層２３ｂの幅とが、Ｗ１＞Ｗ２かつＷ２≧０となるように、各絵素１０ａ・１０ｂにおける混色層２３に開口部２５を形成し、該開口部２５に、正常絵素の着色層２とは形状が異なる単色の着色層２４ａ・２４ｂを形成する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数色の着色層を備え、各着色層が、遮光用材料からなる遮光層で区画化されたカラーフィルタ基板における上記着色層のうち、着色不良が生じた不良着色層を修正するカラーフィルタ基板の修正方法であって、
互いに隣り合う複数色の着色層の材料が混合されてなる着色不良が生じた各不良着色層の一部を除去することにより、上記遮光層で区画化された各不良着色層に開口部を形成する不良着色層開口工程と、
上記不良着色層に形成された開口部に、上記着色不良が生じていない正常な着色層とは形状が異なる単色の着色層を形成する着色層復元工程とを備え、
上記着色層開口工程では、
上記不良着色層の一部を、上記遮光層における、上記不良着色層同士に挟まれた第一遮光部と、該第一遮光部に対向し、かつ、一方の辺縁のみが不良着色層に隣接する第二遮光部とのうち、少なくとも第一遮光部に隣接して、上記遮光層によって区画化された領域内に残存させるとともに、
上記遮光層によって区画化された領域内に、上記第一遮光部に隣接して残存される上記不良着色層の幅をＷ１とし、
上記遮光層によって区画化された領域内に、上記第二遮光部に隣接して残存される上記不良着色層の幅をＷ２とすると、
Ｗ１＞Ｗ２であり、かつ、Ｗ２≧０となるように上記開口部を形成することを特徴とするカラーフィルタ基板の修正方法。
【請求項２】
上記Ｗ１を、上記不良着色層が設けられた、互いに隣り合う上記領域同士を区画する第一遮光部の幅以下とすることを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタ基板の修正方法。
【請求項３】
上記Ｗ１を、１μｍ以上とすることを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタ基板の修正方法。
【請求項４】
上記着色層開口工程では、上記着色不良が生じていない正常な着色層の面積に対する、上記不良着色層における開口部の面積が、９０％以上、１００％未満となるように、上記Ｗ１およびＷ２を調整することを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタ基板の修正方法。
【請求項５】
上記不良着色層に形成された開口部に親液処理を行う親液処理工程を含み、
上記親液処理工程では、上記着色層復元工程で上記開口部に形成される単色の着色層の材料に対する上記開口部の表面の接触角が２０°以下となるように親液処理を行うことを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタ基板の修正方法。
【請求項６】
上記各着色層を区画化する遮光層と、上記遮光層によって区画化された領域内に残存された不良着色層とに撥液処理を行う撥液処理工程を含み、
上記撥液処理工程では、上記着色層復元工程で上記開口部に形成される単色の着色層の材料に対する上記遮光層および不良着色層の表面の接触角が５５°〜６０°となるように撥液処理を行うことを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタ基板の修正方法。
【請求項７】
複数色の着色層を備え、各着色層が、遮光用材料からなる遮光層で区画化されたカラーフィルタ基板の製造方法であって、
上記遮光層によって区画化された領域にそれぞれ着色層を形成する着色層形成工程と、
上記着色層のうち、着色不良が生じた不良着色層を検出する不良着色層検出工程と、
上記不良着色層検出工程において検出した、互いに隣り合う複数色の着色層の材料が混合されてなる着色不良が生じた各不良着色層の一部を除去することにより、上記遮光層で区画化された各不良着色層に開口部を形成する不良着色層開口工程と、
上記不良着色層に形成された開口部に、上記着色不良が生じていない正常な着色層とは形状が異なる単色の着色層を形成する着色層復元工程とを備え、
上記着色層開口工程では、
上記不良着色層の一部を、上記遮光層における、上記不良着色層同士に挟まれた第一遮光部と、該第一遮光部に対向し、かつ、一方の辺縁のみが不良着色層に隣接する第二遮光部とのうち、少なくとも第一遮光部に隣接して、上記遮光層によって区画化された領域内に残存させるとともに、
上記遮光層によって区画化された領域内に、上記第一遮光部に隣接して残存される上記不良着色層の幅をＷ１とし、
上記遮光層によって区画化された領域内に、上記第二遮光部に隣接して残存される上記不良着色層の幅をＷ２とすると、
Ｗ１＞Ｗ２であり、かつ、Ｗ２≧０となるように上記開口部を形成することを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項８】
複数色の着色層を備え、各着色層が、遮光用材料からなる遮光層で区画化された領域内にそれぞれ設けられているカラーフィルタ基板であって、
上記遮光層によって区画化された複数の領域のうち、互いに隣り合う少なくとも２つの領域は、それぞれ、互いに隣り合う複数色の着色層の材料が混合されてなる着色不良が生じた不良着色層と、該着色不良層に隣接して設けられ、上記着色不良が生じていない正常な着色層とは形状が異なる単色の着色層とを含み、
上記不良着色層は、該不良着色層が設けられた、互いに隣り合う上記領域同士を区画する第一遮光部と、該第一遮光部に対向し、かつ、一方の辺縁のみが、上記不良着色層が設けられた上記領域に隣接する第二遮光部とのうち、少なくとも第一遮光部に隣接して設けられており、
上記遮光層によって区画化された領域内における、上記第一遮光部に隣接する不良着色層の幅をＷ１とし、
上記遮光層によって区画化された領域内における、上記第二遮光部に隣接する不良着色層の幅をＷ２とすると、
Ｗ１＞Ｗ２であり、かつ、Ｗ２≧０であることを特徴とするカラーフィルタ基板。
【請求項９】
上記遮光層によって区画化された、着色不良が生じていない正常な着色層の面積に対する、上記遮光層によって区画化された、上記不良着色層が設けられた領域における単色の着色層の面積が、９０％以上、１００％未満であることを特徴とする請求項８に記載のカラーフィルタ基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、互いに隣り合う複数色の着色層の材料が混合されてなる着色不良が生じた不良着色層を修正するカラーフィルタ基板の修正方法およびカラーフィルタ基板の製造方法、並びに、上記不良着色層が修正されたカラーフィルタ基板に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、画像を表示するための装置として、液晶表示装置が広く使用されている。この液晶表示装置の製造コストを抑制するために、液晶表示装置の製造コストの中でも大きなコストを占めるカラーフィルタ基板の製造コストを抑制することが要求されている。このカラーフィルタ基板の絵素の着色層は一般的に、染色法、顔料分散法、電着法、印刷法、インクジェット法等の方法により形成されている。しかしながら、上記の方法により絵素の着色層を形成する場合において、例えば、インクジェット法では着弾位置ズレが発生することにより、また、その他の方法においても、例えば、異物等が着色層に混入することにより、隣接する絵素同士のインクが混ざり合う混色不良が発生する場合がある。この混色不良が発生したカラーフィルタは不良品となり、カラーフィルタの歩留りが低下するため、カラーフィルタ基板の製造コストが高騰する原因となっている。
【０００３】
そこで、特許文献１には、上記混色不良が発生した絵素の着色部を着色画素単位でレーザ開口し、開口した箇所をインクジェット法により再度着色することにより上記混色不良が発生した絵素を修正する方法が開示されている。
【０００４】
しかしながら上記技術では、混色絵素の着色層をインクジェット法により再度着色する際に、上記着色層を形成するためのインク同士の混色を充分防止することができず、混色不良が再発する場合がある。
【０００５】
そこで、特許文献２には、上記隣接する絵素同士のインクが混ざり合うことにより生成される混色材を混色絵素のブラックマトリクスの少なくとも内周側に残して上記絵素を開口し、上記ブラックマトリクスの内周側に残した上記混色材に撥液性を付与することにより上記混色絵素の修正を行う方法が開示されている。
【０００６】
特許文献２に記載の方法によると、上記ブラックマトリクスの内周側に残した上記混色材は、複数のインクが混ざることにより生成されたものであるため、単色のインクにより生成された着色層と比較して、上記残膜領域は遮光性を有する。このため上記残膜領域は、ブラックマトリクスの一部として視認される。そして、上記残膜領域に撥液性を付与することにより混色防止壁の一部として活用することができ、混色不良の再発を防止することができる。
【特許文献１】特開２００３−６６２１８号公報（公開日：平成１５年３月５日）
【特許文献２】特開２００６−９８７６０号公報（公開日：平成１８年４月１３日）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら特許文献２は、上記ブラックマトリクスの内周側に混色材を残すに際し、混色不良絵素の外縁の混色材を残して、該混色不良絵素内の混色材を除去するものである。
【０００８】
しかしながら、一般的に、混色不良絵素における混色材は、隣り合う絵素内に配された各々のインクが、各絵素を隔てるブラックマトリクスを越えて混ざり合うことで、混色不良絵素に挟まれたブラックマトリスク近傍における膜厚が厚く、混色不良絵素と正常絵素の挟まれたブラックマトリクス近傍で薄く形成される。
【０００９】
このため、上記特許文献２に示すように、上記混色材の膜厚が薄い領域でも膜厚が厚い領域と同様の幅の混色材を残すと、上記絵素を修正したとしても上記混色材の膜厚が薄い領域から光洩れが発生する可能性が高い。特に、大型テレビ等に使用されるカラーフィルタ基板の絵素等のように絵素サイズが大きくなるにしたがって、上記光洩れ部分は微小欠陥として視認される可能性が高くなる。
【００１０】
本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、修正された絵素における光洩れを抑制し、微小欠陥として視認され難いカラーフィルタ基板の修正方法およびカラーフィルタ基板の製造方法並びにカラーフィルタ基板を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明にかかるカラーフィルタ基板の修正方法は、上記課題を解決するために、複数色の着色層を備え、各着色層が、遮光用材料からなる遮光層で区画化されたカラーフィルタ基板における上記着色層のうち、着色不良が生じた不良着色層を修正するカラーフィルタ基板の修正方法であって、互いに隣り合う複数色の着色層の材料が混合されてなる着色不良が生じた各不良着色層の一部を除去することにより、上記遮光層で区画化された各不良着色層に開口部を形成する不良着色層開口工程と、上記不良着色層に形成された開口部に、上記着色不良が生じていない正常な着色層とは形状が異なる単色の着色層を形成する着色層復元工程とを備え、上記着色層開口工程では、上記不良着色層の一部を、上記遮光層における、上記不良着色層同士に挟まれた第一遮光部と、該第一遮光部に対向し、かつ、一方の辺縁のみが不良着色層に隣接する第二遮光部とのうち、少なくとも第一遮光部に隣接して、上記遮光層によって区画化された領域内に残存させるとともに、上記遮光層によって区画化された領域内に、上記第一遮光部に隣接して残存される上記不良着色層の幅をＷ１とし、上記遮光層によって区画化された領域内に、上記第二遮光部に隣接して残存される上記不良着色層の幅をＷ２とすると、Ｗ１＞Ｗ２であり、かつ、Ｗ２≧０となるように上記開口部を形成することを特徴としている。
【００１２】
また、本発明にかかるカラーフィルタ基板の製造方法は、上記課題を解決するために、複数色の着色層を備え、各着色層が、遮光用材料からなる遮光層で区画化されたカラーフィルタ基板の製造方法であって、上記遮光層によって区画化された領域にそれぞれ着色層を形成する着色層形成工程と、上記着色層のうち、着色不良が生じた不良着色層を検出する不良着色層検出工程と、上記不良着色層検出工程において検出した、互いに隣り合う複数色の着色層の材料が混合されてなる着色不良が生じた各不良着色層の一部を除去することにより、上記遮光層で区画化された各不良着色層に開口部を形成する不良着色層開口工程と、上記不良着色層に形成された開口部に、上記着色不良が生じていない正常な着色層とは形状が異なる単色の着色層を形成する着色層復元工程とを備え、上記着色層開口工程では、上記不良着色層の一部を、上記遮光層における、上記不良着色層同士に挟まれた第一遮光部と、該第一遮光部に対向し、かつ、一方の辺縁のみが不良着色層に隣接する第二遮光部とのうち、少なくとも第一遮光部に隣接して、上記遮光層によって区画化された領域内に残存させるとともに、上記遮光層によって区画化された領域内に、上記第一遮光部に隣接して残存される上記不良着色層の幅をＷ１とし、上記遮光層によって区画化された領域内に、上記第二遮光部に隣接して残存される上記不良着色層の幅をＷ２とすると、Ｗ１＞Ｗ２であり、かつ、Ｗ２≧０となるように上記開口部を形成することを特徴としている。
【００１３】
さらに、本発明にかかるカラーフィルタ基板は、上記課題を解決するために、複数色の着色層を備え、各着色層が、遮光用材料からなる遮光層で区画化された領域内にそれぞれ設けられているカラーフィルタ基板であって、上記遮光層によって区画化された複数の領域のうち、互いに隣り合う少なくとも２つの領域は、それぞれ、互いに隣り合う複数色の着色層の材料が混合されてなる着色不良が生じた不良着色層と、該着色不良層に隣接して設けられ、上記着色不良が生じていない正常な着色層とは形状が異なる単色の着色層とを含み、上記不良着色層は、該不良着色層が設けられた、互いに隣り合う上記領域同士を区画する第一遮光部と、該第一遮光部に対向し、かつ、一方の辺縁のみが、上記不良着色層が設けられた上記領域に隣接する第二遮光部とのうち、少なくとも第一遮光部に隣接して設けられており、上記遮光層によって区画化された領域内における、上記第一遮光部に隣接する不良着色層の幅をＷ１とし、上記遮光層によって区画化された領域内における、上記第二遮光部に隣接する不良着色層の幅をＷ２とすると、Ｗ１＞Ｗ２であり、かつ、Ｗ２≧０であることを特徴としている。
【００１４】
一般的に、混色が生じた着色層は、互いに隣り合う複数色の着色層の材料が、各着色層を区画する遮光層を越えて混ざり合うことで、混色が生じた不良着色層同士に挟まれた上記第一遮光部近傍における膜厚が厚く、該第一遮光部に対向し、かつ、一方の辺縁のみが不良着色層に隣接する第二遮光部近傍で薄く形成される。
【００１５】
このため、上記第二遮光部近傍の不良着色層の残膜幅が太くなると、絵素（画素）が大きくなる大型テレビ（ＴＶ）等において、視認性に影響を与えるおそれがある。
【００１６】
これに対し、上記の各構成によれば、上記遮光層によって区画化された領域内における、上記第一遮光部に隣接する不良着色層の幅Ｗ１と、上記遮光層によって区画化された領域内における、上記第二遮光部に隣接する不良着色層の幅Ｗ２とが、Ｗ１＞Ｗ２、かつ、Ｗ２≧０を満足するように、上記不良着色層を、上記遮光層によって区画化された領域内に残膜させることで、上記不良着色層の残膜領域が、光洩れの微小欠陥として視認される可能性を低減することができる。なお、上記第一遮光部に隣接する不良着色層の膜厚は厚く、光の透過率が低いため、上記第一遮光部に隣接する不良着色層は、上記Ｗ１を大きくしたとしても、上記遮光層の一部であると視認される可能性が高い。したがって、上記不良着色層が視認性に与える影響は少ない。
【００１７】
また、例えば、上記特許文献２では、上記混色絵素に挟まれたブラックマトリクス上の混色材および該ブラックマトリクス近傍の混色材を研磨除去している。しかしながら、上記したように、上記混色絵素に挟まれたブラックマトリクス近傍の混色材は膜厚が厚く、上記混色材を除去する際に発生するダストが多く飛散することから、この飛散したダストが、隣接絵素における、上記混色材を除去することにより形成された開口部等に付着する可能性が高くなる。したがって、上記開口部に修正着色層を形成する際、上記ブラックマトリクスおよび上記ブラックマトリクスの内周側に残した上記混色材に撥液性を付与した場合、上記付着したダストにも撥液性が付与され、白抜け等の着色不良が生じるおそれがある。
【００１８】
これに対し、上記の各構成によれば、上記第一遮光部に隣接する、膜厚が厚い不良着色層を、Ｗ２よりもＷ１が大きくなるように残膜させることで、上記不良着色層の掘削量を低減させることができる。この結果、上記不良着色層の除去に伴うダストの量を低減させることができる。このため、上記の各構成によれば、上記ダストの飛散を大きく抑制することができるので、上記着色層の修正に際し、白抜け等の着色不良が生じることを、抑制もしくは回避することができる。
【００１９】
また、上記したように、上記第一遮光部に隣接して残膜された上記不良着色層は、隣り合う絵素内に配された各々の着色層の材料が、上記第一遮光部を越えて混ざり合うことにより形成されたものであるため、上記第一遮光部と、該第一遮光部に隣接して残膜された不良着色層との境界部における該不良着色層の膜厚は、通常、上記第一遮光部の膜厚よりも厚くなる。このため、上記第一遮光部に隣接して上記不良着色層を残膜させることで、実質的に、バンクの高さが高くなる。
【００２０】
したがって、上記の各構成によれば、上記不良着色層を開口してなる各開口部内に、例えばインクジェット装置等の湿式法を用いて胆力の着色層（修正着色層）を形成する際に、各開口部内に配されたインクが再度混色する可能性が低い。しかも、上記の各構成によれば、上記したように上記第一遮光部に隣接して上記不良着色層が残膜されていることで、この残膜された不良着色層の分だけ余分に、隣り合う不良着色層に形成された開口部の開口端同士が離間されている。したがって、この点からも、上記の各構成によれば、上記修正不良（再混色）が生じる可能性は低い。
【００２１】
また、上記の各構成によれば、上記不良着色層を、例えば、レーザにより除去する場合、上記第一遮光部、および必要に応じて第二遮光部から、それぞれ、Ｗ１、Ｗ２の分だけ離して上記開口部を形成するため、上記レーザの照射装置の誤差等により、上記レーザが、上記第一遮光部、さらには第二遮光部に照射されることがない。したがって、上記遮光層によって区画される領域内に、上記不良着色層が残膜されていない場合と比較して、上記レーザ光の強度を強くしても、上記遮光層を傷つけることがない。
【００２２】
このため、上記の各構成によれば、上記不良着色層を残膜させない場合と比較して上記レーザ光の強度を強くすることができるので、上記不良着色層の除去時に、上記開口部内に残る上記不良着色層の残渣を抑えることができる。したがって、上記各開口部内に、修正用のインクを吐出した際に、該インクを、より良好に、各開口部の表面全体に濡れ広がらせることができるとともに、上記残渣による白抜け不良等の着色不良の発生を抑制することができる。
【００２３】
また、上記の各構成によれば、上記着色不良が存在する着色層全部、つまり、上記遮光層によって区画された、着色不良が存在する領域全部を開口せず、該領域内に、上記不良着色層を残膜させることで、絵素形状に拘らず、開口形状を簡略化させることができる。このため、上記カラーフィルタ基板の修正が該カラーフィルタ基板の製造における生産タクトに与える影響を低減することができる。
【００２４】
本発明において、上記Ｗ１は、上記不良着色層が設けられた、互いに隣り合う上記領域同士を区画する第一遮光部の幅以下とすることが好ましい。また、上記Ｗ１は、１μｍ以上とすることが好ましい。
【００２５】
また、上記遮光層によって区画化された、着色不良が生じていない正常な着色層の面積に対する、上記遮光層によって区画化された、上記不良着色層が設けられた領域における単色の着色層の面積は、９０％以上、１００％未満であることが好ましい。よって、上記着色層開口工程では、上記着色不良が生じていない正常な着色層の面積に対する、上記不良着色層における開口部の面積が、９０％以上、１００％未満となるように、上記Ｗ１およびＷ２を調整することが好ましい。
【００２６】
上記の各構成によれば、修正された着色層における微小欠陥の視認を、より確実に抑制することができる。よって、上記の各構成によれば、上記カラーフィルタ基板が修正されたカラーフィルタ基板であると視認される可能性を低減させることができる。
【００２７】
また、上記カラーフィルタ基板の修正方法は、上記不良着色層に形成された開口部に親液処理を行う親液処理工程を含み、上記親液処理工程では、上記着色層復元工程で上記開口部に形成される単色の着色層の材料に対する上記開口部の表面の接触角が２０°以下となるように親液処理を行うことが好ましい。
【００２８】
上記の構成によれば、上記開口部の表面全体に、上記修正に用いられる着色層の材料を、より確実に濡れ広がらせることができる。このため、上記の構成によれば、修正された着色層における微小欠陥の視認を、より確実に抑制することができる。
【００２９】
また、上記カラーフィルタ基板の修正方法は、上記各着色層を区画化する遮光層と、上記遮光層によって区画化された領域内に残存された不良着色層とに撥液処理を行う撥液処理工程を含み、上記撥液処理工程では、上記着色層復元工程で上記開口部に形成される単色の着色層の材料に対する上記遮光層および不良着色層の表面の接触角が５５°〜６０°となるように撥液処理を行うことが好ましい。
【００３０】
上記の構成によれば、上記着色層復元工程で互いに隣り合う各開口部に形成される着色層の材料が、上記遮光層を跨いで、混色することを確実に防止することができる。
【発明の効果】
【００３１】
本発明にかかるカラーフィルタ基板の修正方法は、以上のように、複数色の着色層を備え、各着色層が、遮光用材料からなる遮光層で区画化されたカラーフィルタ基板における上記着色層のうち、着色不良が生じた不良着色層を修正するカラーフィルタ基板の修正方法であって、互いに隣り合う複数色の着色層の材料が混合されてなる着色不良が生じた各不良着色層の一部を除去することにより、上記遮光層で区画化された各不良着色層に開口部を形成する不良着色層開口工程と、上記不良着色層に形成された開口部に、上記着色不良が生じていない正常な着色層とは形状が異なる単色の着色層を形成する着色層復元工程とを備え、上記着色層開口工程では、上記不良着色層の一部を、上記遮光層における、上記不良着色層同士に挟まれた第一遮光部と、該第一遮光部に対向し、かつ、一方の辺縁のみが不良着色層に隣接する第二遮光部とのうち、少なくとも第一遮光部に隣接して、上記遮光層によって区画化された領域内に残存させるとともに、上記遮光層によって区画化された領域内に、上記第一遮光部に隣接して残存される上記不良着色層の幅をＷ１とし、上記遮光層によって区画化された領域内に、上記第二遮光部に隣接して残存される上記不良着色層の幅をＷ２とすると、Ｗ１＞Ｗ２であり、かつ、Ｗ２≧０となるように上記開口部を形成する方法である。
【００３２】
また、本発明にかかるカラーフィルタ基板の製造方法は、以上のように、複数色の着色層を備え、各着色層が、遮光用材料からなる遮光層で区画化されたカラーフィルタ基板の製造方法であって、上記遮光層によって区画化された領域にそれぞれ着色層を形成する着色層形成工程と、上記着色層のうち、着色不良が生じた不良着色層を検出する不良着色層検出工程と、上記不良着色層検出工程において検出した、互いに隣り合う複数色の着色層の材料が混合されてなる着色不良が生じた各不良着色層の一部を除去することにより、上記遮光層で区画化された各不良着色層に開口部を形成する不良着色層開口工程と、上記不良着色層に形成された開口部に、上記着色不良が生じていない正常な着色層とは形状が異なる単色の着色層を形成する着色層復元工程とを備え、上記着色層開口工程では、上記不良着色層の一部を、上記遮光層における、上記不良着色層同士に挟まれた第一遮光部と、該第一遮光部に対向し、かつ、一方の辺縁のみが不良着色層に隣接する第二遮光部とのうち、少なくとも第一遮光部に隣接して、上記遮光層によって区画化された領域内に残存させるとともに、上記遮光層によって区画化された領域内に、上記第一遮光部に隣接して残存される上記不良着色層の幅をＷ１とし、上記遮光層によって区画化された領域内に、上記第二遮光部に隣接して残存される上記不良着色層の幅をＷ２とすると、Ｗ１＞Ｗ２であり、かつ、Ｗ２≧０となるように上記開口部を形成する方法である。
【００３３】
さらに、本発明にかかるカラーフィルタ基板は、以上のように、複数色の着色層を備え、各着色層が、遮光用材料からなる遮光層で区画化された領域内にそれぞれ設けられているカラーフィルタ基板であって、上記遮光層によって区画化された複数の領域のうち、互いに隣り合う少なくとも２つの領域は、それぞれ、互いに隣り合う複数色の着色層の材料が混合されてなる着色不良が生じた不良着色層と、該着色不良層に隣接して設けられ、上記着色不良が生じていない正常な着色層とは形状が異なる単色の着色層とを含み、上記不良着色層は、該不良着色層が設けられた、互いに隣り合う上記領域同士を区画する第一遮光部と、該第一遮光部に対向し、かつ、一方の辺縁のみが、上記不良着色層が設けられた上記領域に隣接する第二遮光部とのうち、少なくとも第一遮光部に隣接して設けられており、上記遮光層によって区画化された領域内における、上記第一遮光部に隣接する不良着色層の幅をＷ１とし、上記遮光層によって区画化された領域内における、上記第二遮光部に隣接する不良着色層の幅をＷ２とすると、Ｗ１＞Ｗ２であり、かつ、Ｗ２≧０である。
【００３４】
したがって、上記の各構成によれば、上記着色不良が発生した着色層を修正する際に発生するダストの量を抑制し、修正された着色層が光洩れによる微小欠陥として視認され難いカラーフィルタ基板の修正方法およびカラーフィルタ基板の製造方法並びにカラーフィルタ基板を提供することができるという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３５】
本発明の一実施の形態について、図１〜図５に基づいて説明すると以下の通りである。
【００３６】
図１（ａ）は、本実施の形態にかかるカラーフィルタ基板の絵素パターンの概略を表す平面図である。また、図１（ｂ）は、図１（ａ）に示す絵素パターンのＡ−Ａ’線矢視断面図であり、図１（ａ）に示す絵素パターンにおける絵素修正部の断面の概略構成を表している。
【００３７】
図１（ａ）に示すように、上記カラーフィルタ基板１は、製造時に修正された着色層２を含む複数の着色層２（着色膜）が並設された構成を有している。
【００３８】
上記複数の着色層２は、例えば、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の着色層からなり、各着色層２は、それぞれ光が入射されると、入射された光のうち、一部の波長の光を透過させるようになっている。また、各色の着色層２・２間には、遮光用材料からなる遮光層（バンク）としてのＢＭ（ブラックマトリクス）３が形成されている。これにより、各色の着色層２は、それぞれＢＭ３によりその領域が区切られている。
【００３９】
各着色層２は、液晶表示パネル等の表示パネルにおける各絵素（画素）に対応して設けられている。
【００４０】
以下、上記着色層２の形成領域、すなわち、ＢＭ３の開口部３ａ（絵素領域）を「絵素」と称し、修正されていない通常の着色層２を「正常絵素」と称し、修正された着色層２を「修正絵素」と称する場合がある。
【００４１】
図１（ｂ）に示すように、上記カラーフィルタ基板１は、透光性を有する基板２０と、上記着色層２…およびＢＭ３とを備えている。各着色層２およびＢＭ３は、上記基板２０の一方の主面上に設けられている。本実施の形態では、上記基板２０として、ガラスからなる透明基板を用いている。
【００４２】
なお、上記基板２０と各着色層２との間には、着色層２を形成する際に、基板２０に対する、着色層２を形成するための材料の濡れ性を向上させるために、図示しない機能性膜が、必要に応じて形成されていてもよい。上記機能性膜は、例えば、チタン、シリカ等の材料により形成することができる。
【００４３】
また、上記着色層２およびＢＭ３が形成された基板２０上には、必要に応じて、図示しない保護膜および透明導電膜等が形成されていてもよい。
【００４４】
これら着色層２、ＢＭ３、および必要に応じて設けられる上記保護膜並びに透明導電膜等の各層は、一般的なカラーフィルタ基板における対応する各層と同様の材料並びに形成方法にて形成することができる。また、これら各層の層厚並びに寸法等は、絵素の形状や寸法等に応じて適宜設定すればよく、特に限定されるものではない。したがって、ここでは、これら各層の材料および形成方法並びに具体的な層厚や寸法については、説明を省略する。
【００４５】
なお、以下の説明では、各着色層２を、これら着色層２を形成するための材料として各色のインク（色インク）を用いて、例えばインクジェット法により形成する場合を例に挙げて説明する。なお、本実施の形態において、上記各着色層２を、上記したようにインクジェット法で形成する場合には、上記ＢＭ３は、各着色層２が混色することを防止するための壁（バンク）として使用されることが好ましく、撥液性を有していることが好ましい。但し、本実施の形態はこれに限定されるものではなく、ＢＭ３の表面に、撥液性を有するバンクが別途形成されていてもよい。
【００４６】
以下に、正常絵素と修正絵素との相違点について説明する。
【００４７】
〔正常絵素〕
図２（ａ）は、図１（ａ）に示すカラーフィルタ基板１における、正常絵素からなる絵素パターンの要部の概略構成を表す平面図である。また、図２（ｂ）は、図２（ａ）に示す絵素パターンのＢ−Ｂ’線矢視断面図である。
【００４８】
正常に形成された、互いに隣り合う各絵素１０ｃ・１０ｄ（正常絵素）には、図２（ａ）・（ｂ）に示すように、着色層２として、それぞれ異なる色の着色層（以下、説明の便宜上、「着色層２２ａ・２２ｂ」と称する）が形成されており、これら着色層２２ａ・２２ｂのそれぞれの周囲を囲むように、これら着色層２２ａ・２２ｂと隣接してＢＭ３が形成されている。
【００４９】
〔修正絵素〕
修正絵素は、製造時に混色不良が生じた絵素（混色不良絵素）を修正してなる絵素である。なお、説明の便宜上、図１（ａ）に示す絵素パターンにおいては、２つの絵素１０ａ・１０ｂ以外の絵素は、全て正常絵素であるものとする。
【００５０】
図１（ａ）に示す絵素１０ａ・１０ｂ（修正絵素）は、混色層２３ａ・２３ｂ（不良着色層）と、修正（修復）された着色層２としての着色層２４ａ・２４ｂ（修正着色層）とを含んでいる。
【００５１】
混色層２３ａ・２３ｂは、複数の単色インク（本実施の形態では、絵素１０ａ・１０ｂ内に配された各々の色インク）が互いに混ざり合った状態で成膜されてなる混色層２３の一部を上記絵素１０ａ・１０ｂ内に残膜（残存）させてなる膜である。
【００５２】
着色層２４ａ・２４ｂは、それぞれ異なる色の着色層であり、好適には、絵素１０ａ・１０ｂに本来配されるべき色の着色層材料 (すなわち、混色が生じる前に絵素１０ａ・１０ｂにそれぞれ配された単色の色インク)からなっている。
【００５３】
本実施の形態において、互いに隣り合う修正絵素である絵素１０ａ・１０ｂには、図１（ａ）・（ｂ）に示すように、修正（修復）された着色層２として、それぞれ異なる色の着色層２４ａ・２４ｂが形成されており、これら着色層２２ａ・２２ｂのそれぞれの周囲を囲むように、これら着色層２２ａ・２２ｂと部分的に隣接してＢＭ３が形成されている。
【００５４】
正常絵素とは異なり、上記絵素１０ａ・１０ｂにおける、上記着色層２４ａ・２４ｂと、これら絵素１０ａ・１０ｂに挟まれたＢＭ３（以下、説明の便宜上、「ＢＭ２１ａ」（第一遮光部）と記す）との間並びに該ＢＭ２１ａ上には、混色層２３ａが残存している。混色層２３ａは、上記ＢＭ２１ａの周囲に、該ＢＭ２１ａを覆うとともに、該ＢＭ２１ａの延設方向に沿って存在している。
【００５５】
また、着色層２４ａ・２４ｂのそれぞれを介して、ＢＭ２１ａと対向する位置に設けられたＢＭ３（以下、説明の便宜上、「ＢＭ２１ｂ」（第二遮光部）と記す）と、上記着色層２４ａ・２４ｂとの間には、上記ＢＭ２１ｂの延設方向に沿って、混色層２３ｂが残存している。
【００５６】
前記したように、混色層２３ａ・２３ｂは、絵素１０ａ・１０ｂ内に配された各々の色インクが互いに混ざり合って得られたものである。このため、上記混色層２３ａ・２３は、図２（ａ）・（ｂ）で示した単色の色インクにより成膜された着色層２２ａ・２２ｂと比較して、遮光性を有している。したがって、ＢＭ２１ａ・２１ｂに隣接する混色層２３ａ・２３ｂは、ＢＭ２１ａ・２１ｂの一部（擬似遮光層）として視認される。
【００５７】
このように、本実施の形態では、混色不良絵素を開口して修正（修復）する際に、元の絵素形状（すなわち正常絵素の形状）をそっくり再現せず、図１（ａ）・（ｂ）に示すように、混色不良絵素内の混色層２３の一部を、ＢＭ２１ａ・２１ｂの辺縁部に沿って残膜させた状態で混色不良絵素の修正を行っている。このため、本実施の形態にかかるカラーフィルタ基板１における修正絵素は、正常絵素における着色層２とは形状（サイズ）が異なる、修正された単色の着色層２（修正着色層）を有している。
【００５８】
本実施の形態において、混色不良絵素（修正絵素）に挟まれたＢＭ２１ａに隣接する混色層２３ａにおける、混色不良絵素（修正絵素）内の残膜幅は、図１（ｂ）に示すように、ＢＭ２１ａと対向し、かつ、混色不良絵素（修正絵素）と一方の辺縁でのみ対向する他方のＢＭ２１ｂ（例えば、混色不良絵素（修正絵素）と正常絵素とに挟まれたＢＭ）に隣接する混色層２３ｂにおける、混色不良絵素（修正絵素）内の残膜幅と比較して太くなっている。
【００５９】
つまり、上記したように混色不良絵素（修正絵素）の外縁部（ＢＭ２１ａ・２１ｂの辺縁部）に混色層２３の残膜領域が存在する場合、この残膜領域における混色層２３の残膜厚によっては、この残膜領域から光が洩れることがある。
【００６０】
すなわち、混色層２３の残膜領域は、複数の色インクの混色により黒ずんだ色となるが、理想的な黒色ではない。このため、混色層２３の残膜厚が薄いと、光洩れの原因となる可能性がある。このような光洩れは、特に、大型ＴＶ等、絵素サイズが大きくなるにしたがって、微小欠陥として認識される可能性が大きくなる。
【００６１】
図１（ｂ）に示すように、混色不良絵素を修正してなる修正絵素においては、ＢＭ２１ａ近傍の混色層２３ａは、ＢＭ２１ｂ近傍の混色層２３ｂと比較して膜厚が厚い。これは、絵素１０ａ・１０ｂに混色層２３が成膜される際、絵素１０ａ・１０ｂ内に配された各々の色インクがＢＭ２１ａを越えて混ざり合うことで、ＢＭ２１ａ近傍の混色層２３が、絵素１０ａ・１０ｂ内の他の領域における混色層２３の膜厚と比較して厚く形成されるためである。このため、ＢＭ２１ａ近傍では、混色層２３の膜厚が厚いために光の透過率が低くなり、ＢＭ２１ａの一部として感じられるため、視認性に与える影響は小さい。
【００６２】
しかしながら、逆に、ＢＭ２１ｂ近傍の混色層２３ｂは、ＢＭ２１ａ近傍の混色層２３ａと比較して膜厚が薄くなる。このため、混色層２３ｂの残膜幅が太くなると、特に、絵素（画素）が大きくなる大型ＴＶ等において、視認性に影響を与えるおそれがある。
【００６３】
そこで、本実施の形態では、混色不良絵素（修正絵素）側と正常絵素側とで混色層２３の残膜幅を異ならせている。
【００６４】
具体的には、各絵素１０ａ・１０ｂ内における上記混色層２３ａの残膜幅（つまり、各絵素１０ａ・１０ｂ端部（ＢＭ２１ａ端部）から各絵素１０ａ・１０ｂ内に突出する混色層２３ａの幅）をＷ１とし、各絵素１０ａ・１０ｂ内における上記混色層２３ｂの残膜幅（つまり、各絵素１０ａ・１０ｂ端部（ＢＭ２１ｂ端部）から各絵素１０ａ・１０ｂ内に突出する混色層２３ｂの幅）をＷ２とすると、Ｗ１＞Ｗ２となるように混色層２３ａ・２３ｂの残膜幅を設定している。
【００６５】
このように、本実施の形態によれば、混色不良絵素（修正絵素）に隣接する混色不良絵素（修正絵素）において、混色層２３の残膜領域における混色層２３の膜厚（該残膜領域における、混色層２３の最小膜厚；以下、「残膜厚」と記す場合がある）が厚いほど残膜領域の幅（残膜幅）が大きくなるように混色層２３の残膜幅が調整されていること（言い換えれば、上記残膜厚が薄いほど残膜幅が小さくなるように上記混色層２３の残膜幅が調整されていること）で、上記混色層２３の残膜領域における光洩れによる微小欠陥の視認を回避あるいは抑制することができる。なお、上記Ｗ１・Ｗ２の具体的な大きさについては、後で詳述する。
【００６６】
上記したように、本実施の形態によれば、修正された絵素１０ａ・１０ｂ内に、遮光層の一部として視認される混色層２３ａ・２３ｂが存在する。このため、修正された絵素１０ａ・１０ｂの開口率、すなわち、絵素１０ａ・１０ｂ内における透光領域（単色の色インクにより修正された修正着色層形成領域）の割合は、正常絵素である絵素１０ｃ・１０ｄの開口率よりも低い。
【００６７】
本実施の形態において、上記絵素１０ａ・１０ｂの開口率は、正常絵素の開口率の９０％以上、１００％未満であることが好ましい。また、大型ＴＶ用のカラーフィルタ基板のように、絵素が大きくなるにしたがって相対的に混色層２３ａ・２３ｂが形成されている領域も大きくなるため、上記絵素１０ａ・１０ｂの開口率は、正常絵素の開口率の９４％以上、１００％未満であることが、より好ましい。
【００６８】
言い換えると、各絵素１０ａ・１０ｂに占める混色層２３ａ・２３ｂの面積は、１０％未満であることが好ましく６％未満であることが、より好ましい。
【００６９】
これにより、大型ＴＶ用のカラーフィルタ基板のように絵素が大きくなることで相対的に混色層２３ａ・２３ｂの面積が大きくなった場合でも、より確実に混色層２３ａ・２３ｂによる光洩れが視認される可能性を抑制することができるため、より確実に微小欠陥と視認される可能性を小さくすることができる。
【００７０】
次に、主に図３〜図５を用いて、上記カラーフィルタ基板１の製造方法について説明する。
【００７１】
図３は、本実施の形態にかかるカラーフィルタ基板１の主な製造工程を表すフロー図である。
【００７２】
本方法では、先ず、図１に示すＢＭ３が形成された基板２０におけるＢＭ３の開口部３ａ…に、各色の着色層２…を形成した後、上記カラーフィルタ基板１に不良が生じているか否か検査（検査工程）を行い、不良が生じていた場合に、当該不良を除去し修正（修正工程）が行われる。
【００７３】
なお、本実施の形態において、上記ＢＭ３の開口部３ａ…に着色層２…を形成するまでの工程（すなわち、一旦、カラーフィルタ基板１を製造するまでの工程；以下、単に、「着色層形成工程」と記す）は、従来と同様である。したがって、以下の説明においては、上記検査工程並びに修正工程について説明するものとし、上記着色層形成工程については、その説明を省略する。
【００７４】
図３に示すように、着色層形成工程により着色層２…が形成された基板２０（カラーフィルタ基板１）は、次に、検査工程Ｓ１に送品される。
【００７５】
検査工程Ｓ１では、予め決められた規格に沿って上記カラーフィルタ基板１に不良（混色不良）が生じていないか検査（不良着色層検出工程）が行われる。そして、本検査工程Ｓ１で上記カラーフィルタ基板１に混色不良が生じていることが発見された場合、混色不良絵素を含むカラーフィルタ基板１は、上記混色不良絵素に成膜されている混色層２３を除去するために、除去工程Ｓ２（不良着色層開口工程）に送品される。
【００７６】
除去工程Ｓ２では、上記混色層２３がレーザ等により除去される。この際、上記混色不良絵素内に、上記混色層２３の一部を残して上記混色層２３が除去される。これにより、上記混色不良絵素に開口部２５（図５参照）が形成される。上記開口部２５が形成された上記カラーフィルタ基板１は、親液処理工程Ｓ３に送品される。
【００７７】
親液処理工程Ｓ３では、上記カラーフィルタ基板１に対して、例えばアッシング処理等により親液処理が行われる。これにより上記開口部２５は親液性となる。そして、親液処理が行われた上記カラーフィルタ基板１は、撥液処理工程Ｓ４に送品される。
【００７８】
撥液処理工程Ｓ４では、上記カラーフィルタ基板１に対して、例えばＣＦ４を大気圧プラズマ処理することによるＣＦ４プラズマ処理が行われる。これにより、上記混色不良絵素の周囲を囲んでいるＢＭ３および上記混色不良絵素内に残された上記混色層２３の一部が撥液性となる。そして、撥液処理が行われた上記カラーフィルタ基板１は、着色工程Ｓ５（着色層復元工程）に送品される。
【００７９】
着色工程Ｓ５では、上記開口部２５に、修正着色層（着色層２４ａ・２４ｂ）となるインク層が形成されることで、上記開口部２５の着色が行われる。上記インク層が形成されたカラーフィルタ基板１は乾燥工程Ｓ６に送品される。
【００８０】
乾燥工程Ｓ６では、上記開口部２５に配された修正用の色インク（修正インク）からなるインク層の溶媒分を蒸発させることにより、インク固化物からなる修正着色層（着色層２４ａ・２４ｂ）が、上記開口部に形成（成膜）される。
【００８１】
上記各工程により、上記混色不良絵素が修正されたカラーフィルタ基板１を製造することができる。なお、上記不良絵素が修正された上記カラーフィルタ基板１は、必要に応じて、次工程へ送品される。
【００８２】
次に、上記Ｓ１〜Ｓ６の各工程についてより詳細に説明する。まず、上記着色層２…が形成されたカラーフィルタ基板１の検査工程Ｓ１について説明する。
【００８３】
〔検査工程Ｓ１〕
検査工程Ｓ１は、製造されたカラーフィルタ基板１に不良が生じていないか検査を行うための工程である。上記検査では、例えば、各絵素の色度測定、外観検査等、予め決められた検査項目および規格に沿って上記カラーフィルタ基板１の検査が行われる。
【００８４】
本実施の形態によれば、上記検査工程Ｓ１において、ＢＭ３の開口部に形成された着色層２における混色不良の有無が検査される。
【００８５】
図４（ａ）は、本実施の形態にかかるカラーフィルタ基板１における、混色不良絵素の概略構成を示す平面図である。また、図４（ｂ）は、図４（ａ）に示す混色不良絵素のＣ−Ｃ’線矢視断面図である。
【００８６】
図４（ａ）・（ｂ）に示すように、混色不良が発生した絵素１０ａ・１０ｂには、これら絵素１０ａ・１０ｂに挟まれたＢＭ２１ａを越えて、これら絵素１０ａ・１０ｂに渡って成膜された混色層２３が形成されている。なお、本実施の形態において、上記絵素１０ａ・１０ｂ間のＢＭ２１ａに不良はなく、両絵素１０ａ・１０ｂを隔てるように、均一な幅で形成されているものとする。また、本実施の形態では、上記ＢＭ２１ａ・２１ｂは、ＢＭ３がマトリクス状の開口部３ａ…を有するように、同一幅、同一高さで形成されているものとする。
【００８７】
絵素１０ａ・１０ｂ内に配された各々のインク（色インク）がＢＭ２１ａを越えて互いに混ざる原因としては、例えば、上記着色層２を、スピンコート、スリットコート、印刷法等により形成する場合、異物の混入等の影響が挙げられる。また、例えば、上記着色層２をインクジェット法により形成する場合には、絵素１０ａ・１０ｂを囲んでいる上記ＢＭ３の撥インク性の低下、異物の混入等の影響、当該色インクを絵素１０ａ・１０ｂのそれぞれに配する際の着弾位置ズレ、またはサテライトの発生等が挙げられる。
【００８８】
このように混色不良が発生した絵素１０ａ・１０ｂに成膜された混色層２３の膜厚は、図４（ｂ）に示すように、ＢＭ２１ｂ近傍よりもＢＭ２１ａ近傍の方が厚くなっている。また、この混色層２３における光の透過率は、正常絵素における着色層２（着色層２２ａ・２２ｂ）の光の透過率よりも低くなっている。これらの理由については、前記した通りである。
【００８９】
なお、本実施の形態においては、図４（ａ）・（ｂ）に示すように、ＢＭ２１ａ上にも混色層２３が形成されている場合を例に挙げて説明を行うものとするが、必ずしもＢＭ２１ａ上に混色層２３が形成されている必要はない。
【００９０】
本方法は、例えば、混色層２３が成膜される際に、ＢＭ２１ａ上にインク固化物が残存せず、ＢＭ２１ａ上にはじめから混色層２３が存在していないカラーフィルタ基板１の修正並びに製造にも適用することが可能である。
【００９１】
本実施の形態において、本検査工程における検査方法としては、従来と同様の方法を採用することができる。したがって、本検査工程における具体的な検査フロー並びに検査装置については、その説明を省略する。
【００９２】
本検査工程Ｓ１で上記カラーフィルタ基板１に混色不良が生じていることが発見（検出）された場合、該カラーフィルタ基板１を修正するために、前記したように、Ｓ２〜Ｓ６に示す処理が行われる。そこで、次に、本実施形態にかかる上記カラーフィルタ基板１の修正方法について、工程順に沿ってより詳細に説明する。
【００９３】
〔除去工程Ｓ２〕
混色不良が発見されたカラーフィルタ基板１は、前記したように、混色不良絵素における混色層２３の一部を除去して該混色不良絵素内の混色層２３を開口することにより修正が行われる。
【００９４】
図５は、図４（ａ）・（ｂ）に示す各混色不良絵素内の混色層２３が開口されたカラーフィルタ基板１の要部の概略構成を表す断面図である。
【００９５】
除去工程Ｓ２では、図５に示すように、混色不良が発生した絵素１０ａ・１０ｂ内の混色層２３の一部を、ＢＭ２１ａ・２１ｂの辺縁部に残膜させ、残りを選択的に除去することにより、絵素１０ａ・１０ｂのそれぞれに開口部２５が形成される。
【００９６】
なお、本実施の形態では、図１（ａ）に示したように、上記混色層２３の一部を、上記ＢＭ２１ａ・２１ｂの辺縁部に沿って残膜させる場合（特に、上記ＢＭ２１ａ・２１ｂの辺縁形状に沿って残膜させる場合）を例に挙げて説明するものとする。
【００９７】
しかしながら、本実施の形態はこれに限定されるものではなく、上記混色層２３の一部を、上記ＢＭ２１ａ・２１ｂの辺縁部に残膜させるものであればよい。より具体的には、上記混色層２３の一部を、ＢＭ２１ａ・２１ｂの延設方向に沿って該ＢＭ２１ａ・２１ｂに隣接して残膜させるものであればよく、例えば、ＢＭ２１ａ・２１ｂの形状や絵素形状に拘らず、各混色不良絵素内に、直線状の辺縁形状を有する混色層２３ａ・２３ｂを形成することで、略矩形状の開口部２５を形成してもよい。つまり、絵素形状にもよるが、例えば、各絵素における、直線的でない領域や、各絵素における光の透過率を高めるために開口部分を広げるための領域等は、該領域に混色層２３を残膜させることで、上記混色層２３ａ・２３ｂの残膜領域に含めてもよい。これにより、開口部２５の形状を簡素化することができ、本修正方法が製造タクトに与える影響を低減することができる。
【００９８】
ＢＭ２１ａ・２１ｂの辺縁形状や絵素外縁形状が直線形状ではない場合、勿論、これらＢＭ２１ａ・２１ｂの辺縁形状や絵素外縁形状に沿って混色層２３を開口することも可能である。しかしながら、製造タクトや、掘削に使用する装置の掘削精度を考慮すれば、開口部２５の外縁部は、直線形状を有していることが望ましい。特に、掘削に用いられる装置による掘削（運動）は、一般的に、一軸に沿って掘削（運動）する方が、精度が高い。このため、上記したように混色層２３ａ・２３ｂにおける、各々の絵素中心方向の端を直線形状とすることにより、上記混色層２３ａ・２３ｂを絵素１０ａ・１０ｂに精度良く形成することができる。
【００９９】
上記混色層２３を除去（開口）する方法としては、例えば、波長３５５ｎｍのレーザを使用することができるが、波長、レーザ強度、レーザ光の照射時間等は、混色層２３の膜厚や、膜質等により適宜設定することが好ましい。また上記レーザとしては各種レーザを用いることが可能であり、また、レーザ以外の手段により混色層２３を除去することも可能である。上記混色層２３を除去する方法としては、該混色層２３を精度良く、効率的に除去することができれば、特に限定されない。
【０１００】
以下、本実施の形態では、上記混色層２３を除去（開口）する方法として、上記レーザを用いる場合を例に挙げて説明するものとするが、本実施の形態は、これに限定されるものではない。
【０１０１】
上記混色層２３にレーザ光が照射されると、レーザ光が照射された領域の混色層２３は昇華する。これにより、レーザ光が照射された領域の混色層２３は除去され、絵素１０ａ・１０ｂ内に、図５に示すように開口部２５・２５が形成される。
【０１０２】
本実施の形態によれば、このように各絵素１０ａ・１０ｂ内の混色層２３の一部を、ＢＭ２１ａ・２１ｂの辺縁部に残膜させることで、上記混色層２３にレーザ光を照射する際に、該ＢＭ２１ａ・２１ｂの辺縁部に残膜する混色層２３ａ・２３ｂの分だけ上記レーザ光をＢＭ２１ａ・２１ｂから離して照射することになる。
【０１０３】
したがって、レーザ光の照射によりＢＭ２１ａ・２１ｂが傷つけられることが無い。また、上記混色層２３ａ・２３ｂを残膜させない場合と比較してレーザ光の強度を強くすることができるので、上記開口部２５・２５における各開口表面２６に残る残渣を抑えることができる。このため、これら開口表面２６に対して撥液処理を行った場合に、各開口表面２６の残渣に付与される撥液性を抑制することができる。したがって、各開口部２５内に、修正用のインクを吐出した際に、該インクを、より良好に、それぞれの開口表面２６全体に濡れ広がらせることができるとともに、上記残渣による白抜け不良等の着色不良の発生を抑制することができる。
【０１０４】
また、従来から、混色不良等の欠陥が存在する着色層の除去には、一般的にレーザが用いられている。着色層にレーザ光を照射すると、その大部分は昇華するものの、一部はダストとして飛散する。また、レーザ以外の機械的掘削により着色層を除去する場合にも、掘削によって生じたダストが飛散することが考えられる。そして、このように着色層の除去によって発生するダストが隣接絵素、特に隣接絵素における開口部２５内に飛散すると、後の撥液処理によって、上記開口部２５内のこのダストが撥インク化することで、修正絵素の着色不良が起こり易くなるという問題点がある。
【０１０５】
このため、絵素１０ａ・１０ｂ内のＢＭ２１ａ近傍は、互いの絵素１０ａ・１０ｂにおける混色層２３を除去することにより発生する上記ダストの影響を受けやすい。例えば、絵素１０ａであれば、ＢＭ２１ａを介して隣接している絵素１０ｂの混色層２３がレーザ除去されることにより飛散するダストが、絵素１０ａ内のＢＭ２１ａと隣接する領域に付着する可能性が高い。
【０１０６】
しかしながら、上記したように各絵素１０ａ・１０ｂ内に、ＢＭ２１ａ・２１ｂの辺縁部（特にＢＭ２１ａの辺縁部）に混色層２３ａ・２３ｂ（特に混色層２３ａ）を残膜させることで、上記開口部２５・２５を形成する際に飛散するダストが、互いの開口部２５・２５内に付着する可能性を低減することができる。したがって、上記ダストにより、着色工程Ｓ５において着色不良が生じる可能性を低減することができる。
【０１０７】
また、前記したように各絵素１０ａ・１０ｂ内に、ＢＭ２１ａ・２１ｂの形状に拘らず、ＢＭ２１ａ・２１ｂの延設方向に沿って、該ＢＭ２１ａ・２１ｂに隣接する混色層２３ａ・２３ｂを残膜させることで、前記したように、ＢＭ２１ａ・ＢＭ２１ｂの形状に拘らず、簡素化された開口形状を有する開口部２５を形成することができる。つまり、ＢＭ２１ａ・２１ｂのそれぞれの形状に合わせて上記レーザの照射領域を調整する必要がないため、開口部２５の形状を簡素化することが可能である。このため、カラーフィルタ基板１を製造する製造タクトへ与える影響を低減することができる。
【０１０８】
そして、上記混色層２３ａ・２３ｂは後述するように、撥液処理工程Ｓ４にて撥液性が付与されることにより、各開口部２５に修正着色層を形成する際、バンクとして機能させることができる。このため、上記各開口部２５内に、インクジェット装置等の湿式法を用いて修正着色層を形成する際に、各開口部２５内に配されたインクが混色する可能性を著しく小さくすることができる。
【０１０９】
また、上記ＢＭ２１ａに隣接して残膜された混色層２３ａは、前記したように、絵素１０ａ・１０ｂ内に配された各々の色インクがＢＭ２１ａを越えて混ざり合うことにより形成されたものであるため、ＢＭ２１ａと混色層２３ａとの境界部における混色層２３ａの膜厚は、通常、ＢＭ２１ａの膜厚よりも厚い。このため、上記ＢＭ２１ａに隣接して上記混色層２３ａを残膜させることで、実質的に、バンクの高さが高くなる。よって、この点からも、本実施の形態によれば、上記各開口部２５内に、インクジェット装置等の湿式法を用いて修正着色層を形成する際に、各開口部２５内に配されたインクが混色する可能性が小さくなる。
【０１１０】
本実施の形態では、前記したように、Ｗ１と、Ｗ２との関係がＷ１＞Ｗ２となるように上記混色層２３を除去する。これにより、前記したように、混色層２３ａ・２３ｂ（特に膜厚が相対的に薄い混色層２３ｂ）が、光洩れにより微小欠陥として視認される可能性を低減させることができる。
【０１１１】
次に、上記Ｗ１およびＷ２の好適な範囲について説明する。
【０１１２】
本実施の形態において、上記Ｗ１およびＷ２は、Ｗ１＞Ｗ２（Ｗ２≧０）であれば、特に限定されるものではない。すなわち、図１（ａ）・（ｂ）に示すカラーフィルタ基板１では、混色層２３の一部が、ＢＭ２１ａ・２１ｂに隣接して残膜されている（すなわちＷ１＞Ｗ２＞０である）ものとしたが、本実施の形態はこれに限定されるものではなく、上記混色層２３は、その一部が、少なくとも、混色不良絵素に挟まれたＢＭ２１ａに隣接して残膜されていればよい。
【０１１３】
本実施の形態において、Ｗ１の下限としては、上記したように、Ｗ１＞Ｗ２かつＷ１＞０を満足していれば特に限定されるものではないが、１μｍであることが好ましい。
【０１１４】
各絵素１０ａ・１０ｂにおけるＢＭ２１ａ近傍の領域（すなわち、混色不良絵素における、隣接する混色不良絵素近傍の領域）は、それぞれ隣接する絵素１０ａ・１０ｂを開口したときに、該開口により発生したダストの飛散の影響を最も受け易い。このため、上記したようにＢＭ２１ａ近傍に混色層２３の残膜領域を設けることで、各混色不良絵素における開口部２５の開口端と、該混色不良絵素に隣接する隣接絵素（特に、隣接する混色不良絵素）との間の距離を大きくすることができるので、ダストの影響を低減することができる。
【０１１５】
特に、前記したように、絵素１０ａ・１０ｂ内の混色層２３は、一般的に、ＢＭ２１ａに近づくほど、膜厚が厚く形成されている。この理由は前記した通りである。
【０１１６】
このため、上記混色層２３を除去することにより上記絵素１０ａ・１０ｂを開口する際、上記ＢＭ２１ａ近傍の混色層２３を掘削するためには、絵素１０ａ・１０ｂ内の他の領域と比較して混色層２３を多く掘削する必要がある。したがって、混色層２３の開口端がＢＭ２１ａに近づけば近づくほど、除去（掘削）する混色層２３の量が増加し、隣接絵素に多くのダストが飛散する。
【０１１７】
そこで、図４（ａ）・（ｂ）に示すように、混色層２３における、ＢＭ２１ａの辺縁部を覆う、特に膜厚の厚い部分（ＢＭ２１ａ周辺に形成される混色層２３の突部の少なくとも一部、好適には、ＢＭ２１ａの辺縁から少なくとも１μｍ幅の混色層２３）を残膜させることで、混色層２３の掘削量そのものを大きく削減することができるので、飛散する上記ダストを効果的に抑制することができる。また、上記の構成によれば、レーザ光をＢＭ２１ａから離して照射するため、レーザ光の強度を強くして混色層２３の昇華を促すことができる。よって、開口表面２６に残る残渣並びに飛散するダストの量自体も低減することができる。また、レーザーショット精度等により、上記ＢＭ２１ａにレーザ光が照射されると、レーザ光の波長によっては残渣があるために、最終的に修正不良となる可能性がある。したがって、上記Ｗ１は、１μｍ以上とすることが好ましい。
【０１１８】
また、Ｗ１が１μｍ未満の領域は、上記したように混色層２３の膜厚が厚く、光の透過率が低いので、ＢＭ２１ａの一部であるとして視認される可能性が高い。よって、上記開口部２５の開口端（すなわち上記混色層２３ａの辺縁部）を、ＢＭ２１ａから１μｍ離間させて設けたとしても視認性を低下させることは無い。
【０１１９】
また、図５に示すようにＢＭ２１ａの膜厚をＨとし、ＢＭ２１ａの幅（すなわち、絵素１０ａ・１０ｂの離間距離）をＷとすると、上記ＢＭ２１ａを覆う混色層２３ａの幅（すなわち、Ｗ１×２＋Ｗ）はＨの５倍以上とすることが好ましく、各絵素１０ａ・１０ｂにおける上記混色層２３ａの残膜幅Ｗ１が、Ｈの２．５倍以上であることが、より好ましい。混色不良が生じた場合、前記したようにＢＭ２１ａを越えてインクが混ざり合うため、一般的には、図４（ａ）・（ｂ）等に示したように上記ＢＭ２１ａ上にも混色層２３が形成される。このため、Ｈが大きくなるにつれ、上記ＢＭ２１ａ近傍の混色層２３の膜厚も大きくなる。
【０１２０】
本願発明者らが検討した結果、上記ＢＭ２１ａを覆う混色層２３ａの幅（すなわち、開口部２５・２５の離間距離）Ｗ１×２＋Ｗを、ＢＭ２１ａの膜厚Ｈの５倍以上、より好ましくは、各絵素１０ａ・１０ｂにおける混色層２３ａの残膜幅Ｗ１を、上記Ｈの２．５倍以上とすることで、ダストの飛散による再付着を緩和することができ、撥液処理工程Ｓ４におけるダストの撥インク性の発現を防止することができ、着色工程Ｓ５での白抜け不良を効果的に防止することができることが判った。
【０１２１】
一方、図５に示すように上記ＢＭ２１ａの幅をＷとすると、Ｗ１は、Ｗよりも小さく設定することが好ましい。前記したように、混色層２３ａは、もともとＢＭ用の材料として調節されたものでは無いため、ＢＭ２１ａと比較して光を遮光するための性能は劣る。
【０１２２】
また、例えば、緑色の光を透過させる緑色インク膜と、青色の光を透過させる青色インク膜とが混ざることにより混色層２３ａが形成された場合、上記緑色インク膜は、上記青色インク膜と比較して光の透過率が高いため、上記青色インク膜内に形成された上記緑色インク膜により光洩れであると視認される可能性が高くなる。このため、Ｗ１を大きくしすぎると、上記絵素１０ａ・１０ｂを修正しても微小欠陥として視認される可能性が高くなる。
【０１２３】
このため、Ｗ１は、Ｗよりも小さく設定することが好ましい。これにより、上記混色層２３ａにおける光洩れが微少欠陥（微小輝点）として視認される可能性を小さくすることができる。
【０１２４】
本実施の形態において、上記Ｗ２は、前記したように、Ｗ１よりも小さく設定される。この理由は前記した通りである。前記したように、上記Ｗ２は、Ｗ１よりも小さく設定されてさえいれば、特に限定されるものではなく、Ｗ２＝０であってもよい。
【０１２５】
ＢＭ２１ｂと混色層２３との境界部における混色層２３の膜厚は、正常絵素における着色層２の膜厚と比較して薄くなる傾向にある。このため、上記領域に混色層２３ｂを残膜させた場合、前記した各種効果を得ることができるが、上記境界部における混色層２３ｂが、遮光層の一部として視認可能な膜厚（すなわち、遮光層の一部として視認可能な程度に低い光の透過率、さらに言い換えれば、遮光層の一部として視認可能な色度）を有していない場合、該境界部が白抜け不良として認識される可能性がある。このため、上記ＢＭ２１に隣接する混色層２３は、視認性の点からすれば、Ｗ２が０μｍ、もしくは、ＢＭ２１ｂを若干削る程度に除去されていることが望ましい。
【０１２６】
上記Ｗ１およびＷ２は、上記したように、混色層２３の残膜領域における光洩れを防止することができるように、混色層２３の残膜厚あるいはＢＭ３の膜厚が厚いほど残膜幅が大きくなるように、混色層２３の残膜厚あるいはＢＭ３の膜厚（高さ）に応じて調整されていれていればよいが、前記したように、上記絵素１０ａ・１０ｂの開口率が、正常絵素（絵素１０ｃ・１０ｄ）の開口率の９０％以上、１００％未満となるように、調整されていることが好ましい。また、大型ＴＶ用のカラーフィルタ基板のように、絵素が大きくなるにしたがって相対的に混色層２３ａ・２３ｂが形成されている領域も大きくなるため、上記Ｗ１およびＷ２は、上記絵素１０ａ・１０ｂの開口率が、正常絵素の開口率の９４％以上、１００％未満となるようにＷ１およびＷ２が調整されていることがより好ましい。
【０１２７】
言い換えると、上記Ｗ１およびＷ２は、各絵素１０ａ・１０ｂに占める混色層２３ａ・２３ｂの面積が、１０％未満、より好適には６％未満となるように調整されていることが好ましい。
【０１２８】
これにより、大型ＴＶ用のカラーフィルタ基板のように絵素が大きくなることで相対的に混色層２３ａ・２３ｂの面積が大きくなった場合でも、より確実に混色層２３ａ・２３ｂによる光洩れが視認される可能性を抑制することができるため、微小欠陥と視認される可能性を、より確実に小さくすることができる。
【０１２９】
また、混色層２３ａ・２３ｂを完全な黒として計算した各修正絵素と通常絵素との色差ΔＥ＊ａｂは、３以下であることが望ましい。これにより、修正絵素の色度が、通常絵素の色度と同じであると視認されやすく、上記修正絵素が、修正絵素として視認（認識）される可能性を低減することができる。
【０１３０】
このため、上記カラーフィルタ基板１は、上記Ｗ１およびＷ２、さらには、上記混色層２３ａ・２３ｂ間に形成される着色層２４ａ・２４ｂの膜厚が、色差ΔＥ＊ａｂが３以下となるように設定されていることが好ましい。
【０１３１】
なお、上記色差ΔＥ＊ａｂは（Ｌ＊、ａ＊、ｂ＊）表色系においてΔＥ＊ａｂ=〔（ΔＬ*）２＋（Δａ＊）２＋（Δｂ*）２〕１/２で表される。上記色差は、分光光度計を用いた測定により得られる各波長に対する透過率（もしくは反射率）のデータを元にして、ＪＩＳ Ｚ ８７０１の方法に従って色特性を計算することにより算出することができる。分光測定により透過物体の色の三刺激純値Ｘ、Ｙ、Ｚが得られる。色の定量的な差を示す方法として、色立体にはＬ＊ａ＊ｂ＊の三次元座標軸が使用され、Ｌは明度、ａ＊ｂ＊についてはtanθ(ｂ＊／ａ＊)が色相を意味している。ＸＹＺ系とＬ＊ａ＊ｂ＊系の座標変換には、Ｌ＊＝１１６（Ｙ／Ｙｎ）１/３−１６、ａ＊＝５００[(Ｘ／Ｘｎ)１／３−(Ｙ／Ｙｎ)１／３]、ｂ＊＝２００[(Ｙ／Ｙｎ)１／３−(Ｚ／Ｚｎ)１／３]が用いられる。色差は、これらＬ＊ａ＊ｂ＊座標の距離として計算することができる。
【０１３２】
〔親液処理工程Ｓ３〕
親液処理工程Ｓ３は、前記除去工程Ｓ２で混色層２３を除去することで一旦白抜けとした白抜け領域（すなわち、上記開口部２５）が形成されたカラーフィルタ基板１に対して親液処理（親インク化処理）を行うことにより、上記開口部２５の開口表面２６を親液性にするための工程である。本工程では、開口表面２６に残っている混色層２３の残渣を取り除くことにより、上記開口表面２６の濡れ性（表面エネルギー）を高くする。本実施の形態においては、上記親液処理として、大気圧プラズマによるアッシング処理を行う。
【０１３３】
上記親液処理では、上記開口表面２６を、該開口表面２６おける液滴（修正用のインク）に対する接触角が２０°以下となるように親液化（親インク化）することが好ましい。これにより、修正インクが、上記開口表面２６に、確実に濡れ広がる。開口表面２６の上記接触角を２０°以下とするための上記大気圧プラズマによるアッシング処理の条件としては、レジスト換算で１００Å程度のアッシング量とすることが好ましい。これは、アッシング量を増やすことで、絵素１０ａ・１０ｂ内の上記残渣が除去されて上記接触角が小さくなる反面、上記絵素１０ａ・１０ｂの周囲のＢＭ３がダメージを受ける可能性があるためである。
【０１３４】
上記大気圧プラズマによるアッシング処理の条件を上記条件とすることにより、開口表面２６の残渣を良好に除去することができ、開口表面２６の上記接触角を２０°以下とすることができる一方、上記ＢＭ３へのダメージを回避もしくは抑制することができる。
【０１３５】
また、例えば、基板２０上に機能性膜（不図示）が形成されている場合、上記アッシング処理における処理条件としては、上記機能性膜の機能を劣化させないように、上記機能性膜の材料等に応じて、適宜調整することが好ましい。
【０１３６】
〔撥液処理工程Ｓ４〕
撥液処理工程Ｓ４は、上記カラーフィルタ基板１に対して撥液処理を行うことにより、混色層２３ａ・２３ｂ、および上記絵素１０ａ・１０ｂの周囲のＢＭ３を撥液性にするための工程である。本工程では、前記したように、例えば親液処理されたカラーフィルタ基板１における、上記混色層２３ａ・２３ｂ並びに上記ＢＭ３に撥液性を付与することにより、その表面の濡れ性（表面エネルギー）を低下させる。これにより、修正インクを上記開口部２５内にとどめることができる。
【０１３７】
本実施の形態においては、ＣＦ４を用いた大気圧プラズマ処理である、いわゆるＣＦ４プラズマ処理により、上記混色層２３ａ・２３ｂ並びに上記ＢＭ３の撥液処理を行う。
【０１３８】
上記撥液処理では、上記混色層２３ａ・２３ｂ並びに上記ＢＭ３を、その表面における液滴（修正用のインク）に対する接触角が５５°〜６０°の範囲内となるように撥液化（撥インク化）することが好ましい。これにより、修正インクを、混色させることなく開口部２５内に、良好にとどめることができる。
【０１３９】
また、通常、ＢＭと混色層とでは、混色層の方が、インクに対する接触角が低くなる傾向がある。しかも、本実施の形態によれば、上記ＢＭ２１ａに隣接して混色層２３ａが残膜されていることで、図１（ｂ）に示すように、実質的に、バンクの高さが高くなるとともに、残膜された混色層２３ａの分だけ両絵素１０ａ・１０ｂにおける開口部２５・２５同士が離間されている。したがって、本実施の形態によれば、上記各開口部２５内に、インクジェット装置等の湿式法を用いて修正着色層を形成する際に、各開口部２５内に配されたインクが再度混色する可能性が低い。特に、本実施の形態によれば、上記ＢＭ２１ａ上にも混色層２３が残膜されていることで、さらにバンク高さが増している。したがって、上記ＢＭ２１ａに隣接して混色層２３ａが残膜されていない場合と比較して、上記ＣＦ４プラズマ処理の条件を弱くすることができる。このため、開口表面２６の濡れ性の低下を抑制し、上記開口部２５内における修正インクの塗れ広がりを改善することができる。
【０１４０】
また、本実施の形態によれば、前記したように、混色層２３の開口時に隣接絵素に付着するダストの量が低減されている。このため、本撥液処理工程Ｓ４にて上記ダストが撥液処理されたとしても、撥液処理された上記ダストにより発生する不良、例えば、上記ダストにより微小欠陥等が発生する可能性が低減されている。
【０１４１】
なお、本撥液処理工程Ｓ４においても、基板２０上に機能性膜（不図示）が形成されている場合、上記ＣＦ４プラズマ処理における処理条件としては、上記機能性膜の機能を劣化させないように、上記機能性膜の材料等に応じて、適宜調整することが好ましい。
【０１４２】
〔着色工程Ｓ５〕
着色工程Ｓ５は、前記したように、開口部２５に、修正着色層（着色層２４ａ・２４ｂ）を形成するための着色層修復工程である。本実施の形態においては、インクジェット法により、上記着色層２４ａ・２４を形成するためのインク層を、上記開口部２５に形成する。上記着色層２４ａ・２４を形成するための方法として上記したようにインクジェット法を用いることで、上記着色層２４ａ・２４を、開口部２５に精度良く形成することができる。
【０１４３】
上記インク層の形成に用いられる修正インクとしては、染料系材料、顔料系材料等さまざまなインクを使用することが可能であるが、前記したように、上記絵素１０ａ・１０ｂに本来配されるべき色の着色層材料と同じ材料からなるものが好ましい。これにより、上記修正着色層が形成された絵素１０ａ・１０ｂが、修正された絵素であると視認される可能性を低減することができる。
【０１４４】
〔乾燥工程Ｓ６〕
乾燥工程Ｓ６は、開口部２５に形成された上記インク層の溶媒分を蒸発させることにより、インク固化物（すなわち、上記修正インクの固形分）からなる修正着色層を成膜するための修復工程である。
【０１４５】
上記インク層（修正インク）の溶媒分を蒸発させる方法としては、特に限定されず、上記カラーフィルタ基板１を、オーブンやホットプレート等により熱処理（焼成）する方法、減圧処理する方法等が挙げられる。また、上記熱処理と減圧処理とを組み合わせてもよく、上記修正着色層を開口部２５に均一に成膜することができればよい。
【０１４６】
上記したように混色不良絵素が修正されることにより、本実施の形態にかかるカラーフィルタ基板１が製造される。また、上記カラーフィルタ基板１を使用することにより液晶表示装置を製造することができる。
【０１４７】
なお、本実施の形態では、各絵素１０ａ・１０ｂにおける混色層２３ａ・２３ｂの残膜幅が、それぞれＷ１、Ｗ２である（つまり、混色層２３ａ・２３ｂの残膜幅が両絵素１０ａ・１０ｂでそれそれ等しい）場合を例に挙げて説明した。しかしながら、本実施の形態はこれに限定されるものではなく、絵素毎に、混色層２３ａ・２３ｂが、異なる残膜幅を有していてもよい。前記したように、各混色層２３ａ・２３ｂの残膜幅は、混色層２３ａ・２３ｂの残膜厚に応じて設定されることが好ましい。したがって、各絵素１０ａ・１０ｂにおける混色層２３ａ・２３ｂの残膜厚が異なる場合、それそれの残膜領域において光洩れが生じないように、絵素毎に、混色層２３ａ・２３ｂの残膜幅を調整すればよい。勿論、各絵素１０ａ・１０ｂにおける混色層２３ａ・２３ｂの残膜厚が異なる場合であっても、それそれの残膜領域において光洩れが生じなければ、混色層２３ａ・２３ｂの残膜厚は、両絵素１０ａ・１０ｂで同じであってもよい。
【０１４８】
また、本実施の形態では、２つの絵素１０ａ・１０ｂ以外の絵素は、全て正常絵素であり、混色不良絵素（修正絵素）に挟まれたＢＭ２１ａに隣接する混色層２３ａにおける、上記混色不良絵素（修正絵素）内の残膜幅Ｗ１が、混色不良絵素（修正絵素）と正常絵素とに挟まれたＢＭ２１ｂに隣接する混色層２３ｂにおける、上記混色不良絵素（修正絵素）内の残膜幅Ｗ２よりも太くなるように混色不良絵素（修正絵素）を開口する場合を例に挙げて説明した。しかしながら、本実施の形態は、これに限定されるものではなく、混色不良絵素（修正絵素）に挟まれたＢＭに隣接する混色層の上記残膜幅が、混色不良絵素（修正絵素）に挟まれたＢＭと対向し、かつ、混色不良絵素（修正絵素）と一方の辺縁でのみ対向する他方のＢＭに隣接する混色層の上記残膜幅よりも太くなるように混色不良絵素（修正絵素）を開口すればよく、上記ＢＭ２１ｂが、各絵素を囲む最外郭のＢＭ（すなわち、一方の辺縁でのみ絵素と隣接するＢＭ）であってもよい。この場合にも、前記した光洩れによる微小欠陥の視認を回避することができる。
【０１４９】
また、本実施の形態では、２つの絵素１０ａ・１０ｂ以外の絵素は、全て正常絵素である場合を例に挙げて説明したが、本実施の形態は、これに限定されるものではなく、３つ以上の連続した絵素において混色不良が生じている混色不良絵素の修正にも適用することができる。本実施の形態によれば、この場合にも、各混色不良絵素を、混色不良絵素（修正絵素）に挟まれたＢＭに隣接する混色層における、上記混色不良絵素（修正絵素）内の残膜幅が、混色不良絵素（修正絵素）に挟まれたＢＭと対向し、かつ、混色不良絵素（修正絵素）と一方の辺縁でのみ対向する他方のＢＭに隣接する混色層における、上記混色不良絵素（修正絵素）内の残膜幅よりも太くなるように開口すればよい。
【０１５０】
図６は、本実施の形態にかかるカラーフィルタ基板１における、修正絵素の他の例を示す断面図である。
【０１５１】
図６に示すように、例えば、直線状に連続した３つの絵素５１〜５３で混色不良が生じている場合、３つの混色不良絵素（修正絵素）における中央の絵素５２と、その両側の絵素５１・５３との間に形成されたＢＭ３１ｂ・３１ｃ（遮光層）は、何れも、混色不良絵素に挟まれたＢＭであり、ＢＭ３１ｂ・３１ｃに隣接する混色層４１ｂ・４１ｃ（不良着色層）における、各絵素５１〜５３内の残膜厚Ｈ１〜Ｈ３は、絵素５１・５３における、上記ＢＭ３１ｂ・３１ｃに対向するＢＭ３１ａ・３１ｄ（遮光層）に隣接する混色層４１ａ・４１ｄ（不良着色層）における、上記絵素５１・５３内の残膜厚Ｈ４・Ｈ５よりも厚い。したがって、この場合には、混色層４１ｂ・４１ｃにおける、各絵素５１〜５３内の残膜幅Ｗ４・Ｗ５・Ｗ６・Ｗ７が、混色層４１ａ・４１ｄにおける、上記絵素５１・５３内の残膜幅Ｗ３・Ｗ８よりも太くなるように開口すればよい。また、図６に示す例では、３つの混色不良絵素のうち、中央の絵素５２内に残膜する混色層４１ｂ・４１ｃの残膜厚Ｈ１は、その両側の絵素５１・５３内に残膜する混色層４１ｂ・４１ｃの残膜厚Ｈ２・Ｈ３よりも厚くなっている。したがって、図６に示す例では、上記中央の絵素５２内に残膜する混色層４１ｂ・４１ｃの残膜幅Ｗ５・Ｗ６が、両側の絵素５１・５３内に残膜する混色層４１ｂ・４１ｃの残膜幅Ｗ４・Ｗ７よりも太くなるように各絵素５１〜５３を開口することがより望ましい。
【０１５２】
また、本実施得の形態では、上記ＢＭ２１ａ・２１ｂが、ＢＭ３がマトリクス状の開口部３ａ…を有するように、同一幅、同一高さで形成されている場合を例に挙げて説明したが、本実施の形態は、これにのみ限定されるものではない。
【０１５３】
また、本実施の形態では、図１（ａ）・（ｂ）および図６に示したように、各修正絵素が、混色層の一部（混色層の残膜領域）と、修正着色層とからなる場合を例に挙げて説明したが、本実施の形態は、これにのみ限定されるものではない。
【０１５４】
本実施の形態では、混色不良絵素内全体に混色不良が発生した場合を例に挙げて説明したが、本実施の形態にかかるカラーフィルタ基板の製造方法並びにカラーフィルタ基板の修正方法は、混色不良絵素に挟まれたＢＭの近傍にのみ混色不良が発生した場合であっても適用が可能である。
【０１５５】
すなわち、各修正絵素は、混色層の一部と、着色層形成工程において成膜した着色層２の一部と、修正着色層とを有していてもよい。混色不良絵素に挟まれたＢＭに対向し、かつ、一方の辺縁のみが混色不良絵素に隣接するＢＭ、例えば前記ＢＭ２１ｂとの境界部における着色層２に混色不良が生じていない場合、該着色層２を、上記ＢＭ２１ｂに隣接して残膜させることで、前記したようにＷ２＞０とした場合と同様の製造上の利点を得ることができる。
【０１５６】
〔実施例〕
次に、本実施の形態にかかるカラーフィルタ基板１の修正方法について、実施例を挙げて具体的に説明する。しかしながら、本実施の形態は、以下に示す実施例にのみ限定されるものではない。
【０１５７】
本実施例では、絵素１０ａ・１０ｂ内の混色層２３を、ＢＭ２１ａの延設方向に沿って、ＢＭ２１ａに隣接する混色層２３ａを残して開口した。上記混色層２３の開口には、波長３５５ｎｍのレーザを用いた。
【０１５８】
本実施例では、上記ＢＭ２１ａ（ＢＭ３）の膜厚Ｈを２μｍとし、各絵素１０ａ・１０ｂにおける上記混色層２３ａの残膜幅Ｗ１を５μｍ（Ｗ１×２＝１０μｍ）とした。このように、上記ＢＭ２１ａを覆う混色層２３ａの幅Ｗ１×２＋Ｗを、ＢＭ２１ａの膜厚Ｈの５倍以上、より好ましくは、上記したように各絵素１０ａ・１０ｂにおける混色層２３ａの残膜幅Ｗ１を、上記Ｈの２．５倍以上とすることで、ダストの飛散による再付着を緩和することができ、撥液処理工程Ｓ４におけるダストの撥インク性の発現を防止することができ、着色工程Ｓ５での白抜け不良を効果的に防止することができた。
【０１５９】
なお、修正絵素（混色不良絵素）に挟まされていないＢＭ２１ｂに隣接する領域の混色層２３は全て除去した。すなわち混色層２３ｂの残膜幅Ｗ２は０μｍとした。
【０１６０】
次に、上記除去工程Ｓ２で一旦白抜けとした、各絵素１０ａ・１０ｂの白抜け領域（すなわち、上記開口部２５・２５）に対して、前記したように、大気圧プラズマを用いたアッシングにより、各開口部２５の開口表面２６における修正インクに対する接触角が２０°となるように親液処理を行った。
【０１６１】
続いて、上記カラーフィルタ基板１におけるＢＭ３並びに残膜させた混色層２３ａに対して、前記したように大気圧プラズマによるＣＦ４プラズマ処理を行った。その後、上記開口部２５・２５内に、インクジェット法を用いて、インク層を形成し、焼成を行うことにより、上記開口部２５・２５内に、着色層２４ａ・２４ｂを成膜した。
【０１６２】
本実施例によれば、各絵素１０ａ・１０ｂに、上記したように混色層２３ａの残膜領域を設けたことで、混色層２３の掘削に起因するダストが、隣接絵素における開口部２５内に付着することを効果的に低減することができた。このため、撥液処理工程Ｓ４において、上記開口部２５に付着したダストに撥液性（撥インク性）が付与されることによる、開口表面２６での撥インク性の発現を緩和することができ、白抜け不良を起こすことなく、上記開口部２５・２５に着色層２４ａ・２４ｂを形成することができた。
【０１６３】
なお、本発明は上述した実施形態並びに実施例に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、上記実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。
【産業上の利用可能性】
【０１６４】
本発明は、カラーフィルタ基板の修正方法、カラーフィルタ基板の製造方法、およびカラーフィルタ基板に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１６５】
【図１】（ａ）は、本実施の形態にかかるカラーフィルタ基板の絵素パターンの概略を表す平面図であり、（ｂ）は、（ａ）に示す絵素パターンのＡ−Ａ’線矢視断面図である。
【図２】（ａ）は、図１（ａ）に示すカラーフィルタ基板における、正常絵素からなる絵素パターンの要部の概略構成を表す平面図であり、（ｂ）は、（ａ）に示す絵素パターンのＢ−Ｂ’線矢視断面図である。
【図３】本実施の形態にかかるカラーフィルタ基板の主な製造工程を表すフロー図である。
【図４】（ａ）は、本実施の形態にかかるカラーフィルタ基板における、混色不良絵素の概略構成を示す平面図であり、（ｂ）は、（ａ）に示す混色不良絵素のＣ−Ｃ’線矢視断面図である
【図５】図４（ａ）・（ｂ）に示す各混色不良絵素内の混色層が開口されたカラーフィルタ基板の要部の概略構成を表す断面図である。
【図６】本実施の形態にかかるカラーフィルタ基板における、修正絵素の他の例を示す断面図である。
【符号の説明】
【０１６６】
１    カラーフィルタ基板
２０    基板
３    ＢＭ（遮光膜）
３ａ  開口部
１０ａ  絵素
１０ｂ  絵素
１０ｃ  絵素
１０ｄ  絵素
２１ａ  ＢＭ（第一遮光部）
２１ｂ  ＢＭ（第二遮光部）
２２ａ  着色層
２２ｂ  着色層
２３    混色層（不良着色層）
２３ａ  混色層（不良着色層）
２３ｂ  混色層（不良着色層）
２４ａ  着色層（修正着色層）
２４ｂ  着色層（修正着色層）
２５    開口部
２６    開口表面
４１ａ  混色層（不良着色層）
４１ｂ  混色層（不良着色層）
４１ｃ  混色層（不良着色層）
４１ｄ  混色層（不良着色層）
５１    絵素
５２    絵素
５３    絵素
【図１】
2008158109.tif 000003
【図２】
2008158109.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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