(57)【要約】【課題】温度変動による光量の低下を低減し、高速で安定した高画質な画像形成を行う。【解決手段】光源１０１から射出され、カップリングレンズ１０２，線像形成レンズ１０３，アパーチャ１０４のカップリング光学系によりカップリングした光束が成形される。カップリング後には偏向器１０５で主走査方向に走査され、第１，第２走査レンズ１０６ａ，１０６ｂにより被走査面１０８上に走査線１０９として結像する。像面を主走査方向とは垂直の方向に移動させて画像を形成する。線像形成レンズ１０３の回折光学面には、回折と屈折の両方の効果を合わせて副走査方向に集光作用を有し、また光源１０１として、波長の温度依存性ｄλ／ｄＴが、条件「ｄλ／ｄＴ＜０.１５」に設計された光源を用いる。これにより、波長変動が小さく、回折効率の低下を小さくすることができる。【選択図】図１
2008033251.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カップリング光学系によって光源からの光束を偏向手段に導き、前記偏向手段によって主走査方向に偏向走査し、走査光学系によって被走査面上に結像する光走査装置において、
前記カップリング光学系が回折光学効果を有する回折光学面を少なくとも一面有し、かつ前記光源が、波長の温度依存性ｄλ／ｄＴ（ｎｍ／℃）を線形近似したときに、条件「ｄλ／ｄＴ＜０.１５」を満足することを特徴とする光走査装置。
【請求項２】
前記回折光学面が主走査方向に平行な線対称軸を有する形状であることを特徴とする請求項１記載の光走査装置。
【請求項３】
前記回折光学面が主走査方向に直交する副走査方向にのみ集光作用を持つことを特徴とする請求項２記載の光走査装置。
【請求項４】
前記回折光学面を有する光走査装置の光学系全系において、副走査方向の横倍率βｓと主走査方向の横倍率βｍとが、条件「｜βｓ｜＜｜βｍ｜」を満足することを特徴とする請求項３記載の光走査装置。
【請求項５】
前記回折光学面が主走査方向に平行な線対称軸と、副走査方向に平行な線対称軸とを有する形状であることを特徴とする請求項１記載の光走査装置。
【請求項６】
カップリング光学系によって光源からの光束を偏向手段に導き、前記偏向手段によって主走査方向に偏向走査し、走査光学系によって被走査面上に結像する光走査装置において、
前記走査光学系が回折光学効果を有する回折光学面を少なくとも一面有し、かつ前記光源が、波長の温度依存性ｄλ／ｄＴ（ｎｍ／℃）を線形近似したときに、条件「ｄλ／ｄＴ＜０.１５」を満足することを特徴とする光走査装置。
【請求項７】
前記回折光学面を走査光学系の最も被走査面に近い光学素子に設けたことを特徴とする請求項６記載の光走査装置。
【請求項８】
前記回折光学面を走査光学系の光学素子の最も被走査面に近い面に設けたことを特徴とする請求項７記載の光走査装置。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の光走査装置において、光源が、波長の温度依存性ｄλ／ｄＴ（ｎｍ／℃）を線形近似したときに、条件「０.０２＜ｄλ／ｄＴ＜０.０８」を満足することを特徴とする光走査装置。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか１項に記載の光走査装置において、回折光学面を有する光学素子が、樹脂製光学素子であることを特徴とする光走査装置。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光走査装置において、光源に面発光レーザを用いたことを特徴とする光走査装置。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の光走査装置において、光源が垂直共振器型面発光レーザであり、主走査方向と副走査方向の少なくとも１つの方向について、前記光源の発光点は、発光領域径をＡ、光学系全系の横倍率をβ、ビームスポット径をωとしたときに、（数１）
【数１】
2008033251.tif 000014
を満足することを特徴とする光走査装置。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の光走査装置において、光源が複数の発光点を有することを特徴とする光走査装置。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか１項に記載の光走査装置を有することを特徴とする画像形成装置。
【請求項１５】
前記光走査装置が結像する感光性媒体の被走査面が、条件「π（Ｄｍ×Ｄｓ）／（４×Ｓ）＞Ｐ０／Ｐｅｆｆ、ここで、Ｄｍ：被走査面上光スポットの主走査方向の直径、Ｄｓ：被走査面上光スポットの副走査方向の直径、Ｓ：最小単位の書込画素の面積、Ｐ０：感光性媒体の必要露光エネルギー、Ｐｅｆｆ：走査に用いられた光束１つが被走査面上に到達したときの露光エネルギー」を満足することを特徴とする請求項１４記載の画像形成装置。
【請求項１６】
前記光走査装置が一度の走査によって複数の走査線を形成し、当該画像形成装置の副走査方向における書込密度の逆数Ｗ（μｍ）と、前記光走査装置の形成する光スポットの直径Ｄ（μｍ）が、「Ｗ＜Ｄ」であり、Ｍ回目の走査により複数走査線を形成する領域内に、Ｎ回目の走査で形成される複数の走査線のいずれかを形成するよう設定する（ここで、ＭとＮは互いに異なる自然数）ことを特徴とする請求項１４または１５記載の画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レーザプリンタ，複写機，ファクシミリ装置等に用いられる光走査装置および画像形成装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、レーザプリンタ，複写機等の電子写真方式を用いる画像形成装置の高画質化，高速化，低コスト化の要求が高まってきている。特に高画質化については、温度，湿度等の環境変化に対して、安定した高画質画像形成を行うことが、前述した各機器には求められている。こうした要求に対して、光学素子に多様な機能を持たせる技術が提案されてきており、その１つに回折光学効果の利用がある。回折光学効果が利用される例を以下に述べる。
【０００３】
画質の安定性に関して、光走査装置の持つ特性のうち重要な問題となるものに、温度変化に伴うビームウエスト位置変化（ピント位置変化）がある。装置が環境変化の中に置かれ温度変化が起きると、光学素子の熱膨張や屈折率変化などを引き起こしてビームウエストの位置が被走査面上からずれ、その結果被走査面上の光スポットの大きさが変動する。光スポットが大きくなったり、光スポットサイズがばらついたりすると、画像としては解像度の低下や、粒状性の悪化などの画質劣化となり、安定な画像形成を妨げる。
【０００４】
そこでこれまで、回折効果を有する光学素子によって結像性能の一部を担わせるという光学系が提案されている。温度の変化によって、光学素子、特にプラスチックなど樹脂製のレンズは屈折率変化や熱膨張によってビームウエスト位置変動を起こす。一方、同時に光源の発振波長の変動も起き、この波長変動に対して、回折光学素子は焦点距離の変動を起こすが、その変動の方向は、レンズの焦点距離変化と逆方向になることが知られている。
【０００５】
この性質を利用した技術として、例えば特許文献１には、走査光学系に回折部と屈折部を設け、それぞれのパワーを規定することで、温度変化などの環境変動が起こったとしても、屈折部の温度によるパワー変化と、温度変化によって光源波長が変化したときの回折部のパワー変化により、収差変動であるピント位置変化を相殺して補正し、副走査方向に関してピント位置変化を起こさない光学系が開示されている。
【０００６】
さらに、特許文献２には、副走査方向について光源からの光束を偏向面近傍に集光する光源光学系が、回折光学面を有し、回転対称軸を持たない反射面を有する１つの光学素子からなるレーザ走査装置が開示されている。
【０００７】
また、別の回折効果の利用方法として、前述のような結像作用を持たせることの他に、偏向を目的とするものがある。例えば特許文献３には、液晶偏向素子を用いて光束を回折させ、副走査方向および／または主走査方向に偏向し、光スポットの位置を補正的に調整する光走査装置について開示され、このとき正規な回折光以外に、ゴースト光となり得る他の次数の回折光が発生する問題について、発生したゴースト光を遮断するゴースト光除去手段を有する構成が提案されている。
【特許文献１】特許第３３９７６３８号公報
【特許文献２】特開２００２−２８７０６２号公報
【特許文献３】特開２００３−２４１１３０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、前述の従来技術では、回折光学素子を用いたときに、屈折光学素子には発生しない、回折効率の低下に関する問題が解決されていない。回折光学素子は、光源の波長変動が起きたときに焦点距離が変化するが、波長に感度の高い回折光学素子は同時に回折効率も変化してしまう問題がある。素子の設計波長からずれることで回折効率、つまり光利用効率が低下し、光量の変化による画質の劣化が発生する。また特許文献３にも記載があるように、所望の光走査に関与しない迷光となる他の次数の回折光を発生するためにこれが感光体上に到達すると画質劣化の問題となる。これを防止するために遮蔽部材などを新たに配置する必要が出てくるなどの弊害で、部品点数増加によるコストアップや、装置のレイアウトに与える影響により装置の大型化を招いてしまう。
【０００９】
本発明は、前記従来技術の問題を解決することに指向するものであり、回折効果を用いた光走査装置、例えば温度変化によるビームウエスト位置変化を有効に低減したり、また回折による偏向を行うような光走査装置において、温度変動による光量の低下を低減し、高速で安定した高画質な画像形成を低コストで行える光走査装置および画像形成装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
前記の目的を達成するために、本発明に係る請求項１に記載した光走査装置は、カップリング光学系によって光源からの光束を偏向手段に導き、偏向手段によって主走査方向に偏向走査し、走査光学系によって被走査面上に結像する光走査装置において、カップリング光学系が回折光学効果を有する回折光学面を少なくとも一面有し、かつ光源が、波長の温度依存性ｄλ／ｄＴ（ｎｍ／℃）を線形近似したときに、条件「ｄλ／ｄＴ＜０.１５」を満足することによって、光源の温度変化があったとしても光量の低下を低減でき、劣化の少ない光走査を行うことができる。
【００１１】
また、請求項２〜４に記載した光走査装置は、請求項１の光走査装置において、回折光学面が主走査方向に平行な線対称軸を有する形状であること、さらに回折光学面が主走査方向に直交する副走査方向にのみ集光作用を持つこと、さらに回折光学面を有する光走査装置の光学系全系において、副走査方向の横倍率βｓと主走査方向の横倍率βｍとが、条件「｜βｓ｜＜｜βｍ｜」を満足することによって、副走査方向のビームウエスト位置変動を低減でき、また副走査方向の回折光学面の回折パワーを低減し、製造誤差の影響を受けにくくして、ビームウエスト位置変動を補正できる。
【００１２】
また、請求項５に記載した光走査装置は、請求項１の光走査装置において、回折光学面が主走査方向に平行な線対称軸と、副走査方向に平行な線対称軸とを有する形状であることによって、主走査方向および副走査方向に回折パワーを有し、かつ主走査方向および副走査方向に対してビームウエスト位置変動を補正できる。
【００１３】
また、請求項６に記載した光走査装置は、カップリング光学系によって光源からの光束を偏向手段に導き、偏向手段によって主走査方向に偏向走査し、走査光学系によって被走査面上に結像する光走査装置において、走査光学系が回折光学効果を有する回折光学面を少なくとも一面有し、かつ光源が、波長の温度依存性ｄλ／ｄＴ（ｎｍ／℃）を線形近似したときに、条件「ｄλ／ｄＴ＜０.１５」を満足することによって、光源の温度変化があったとしても光量の低下を低減でき、劣化の少ない光走査を行うことができる。
【００１４】
また、請求項７，８に記載した光走査装置は、請求項６の光走査装置において、回折光学面を走査光学系の最も被走査面に近い光学素子に設けたこと、さらに回折光学面を走査光学系の光学素子の最も被走査面に近い面に設けたことによって、製造誤差の影響を受けることなく回折光学効果による補正ができる。
【００１５】
また、請求項９〜１３に記載した光走査装置は、請求項１〜８のいずれか１項に記載の光走査装置において、光源が、波長の温度依存性ｄλ／ｄＴ（ｎｍ／℃）を線形近似したときに、条件「０.０２＜ｄλ／ｄＴ＜０.０８」を満足すること、さらに回折光学面を有する光学素子が、樹脂製光学素子であること、さらに光源に面発光レーザを用いたこと、さらに光源が垂直共振器型面発光レーザであり、主走査方向と副走査方向の少なくとも１つの方向について、光源の発光点は、発光領域径をＡ、光学系全系の横倍率をβ、ビームスポット径をωとしたときに、（数１）
【００１６】
【数１】
2008033251.tif 000003
を満足すること、さらに光源が複数の発光点を有することによって、回折効率の低下をより低減でき、歩留を低下させることなく安価に製造することができ、光量において不利な垂直共振器型面発光レーザ光源を用いながらもビームスポット径の小径化を行うことが可能となり、高速・高密度な光走査を行うことができる。
【００１７】
また、請求項１４に記載した画像形成装置は、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の光走査装置を有することによって、光量の低下がなく、ビームウエスト位置ずれを低減でき、良好な画像形成を行うことができる。
【００１８】
また、請求項１５，１６に記載した画像形成装置は、請求項１４の画像形成装置において、光走査装置が結像する感光性媒体の被走査面が、条件「π（Ｄｍ×Ｄｓ）／（４×Ｓ）＞Ｐ０／Ｐｅｆｆ、ここで、Ｄｍ：被走査面上光スポットの主走査方向の直径、Ｄｓ：被走査面上光スポットの副走査方向の直径、Ｓ：最小単位の書込画素の面積、Ｐ０：感光性媒体の必要露光エネルギー、Ｐｅｆｆ：走査に用いられた光束１つが被走査面上に到達したときの露光エネルギー」を満足すること、また光走査装置が一度の走査によって複数の走査線を形成し、当該画像形成装置の副走査方向における書込密度の逆数Ｗ（μｍ）と、光走査装置の形成する光スポットの直径Ｄ（μｍ）が、「Ｗ＜Ｄ」であり、Ｍ回目の走査により複数走査線を形成する領域内に、Ｎ回目の走査で形成される複数の走査線のいずれかを形成するよう設定する（ここで、ＭとＮは互いに異なる自然数）ことによって、光源の発光量を適切に設定することができ、光量不足を回避するとともに、装置の省電力化を行うこと、また相反則不軌による濃度のむらを低減し、良好な画像形成を行うことができる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、光源の温度変化があったとしても光量の低下を低減でき、劣化の少ない光走査を行うことができ、また良好な画像形成を行うことができるという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、図面を参照して本発明における実施の形態を詳細に説明する。
【００２１】
(実施形態１）
図１は本発明の実施形態１における光走査装置の光学系全系の概略を示す図である。図１に示すように、光源１０１から複数のレーザビームが射出され、カップリングレンズ１０２，線像形成レンズ１０３，アパーチャ１０４からなるカップリング光学系によってカップリングされ光束が成形される。複数のレーザビームはカップリングされた後に回転多面鏡からなる偏向手段の偏向器１０５によって偏向反射されて主走査方向に走査される。さらに走査光学系である第１，第２走査レンズ１０６ａ，１０６ｂによって像面である被走査面１０８、ここでは感光性の媒体を支持する円柱状の像担持体の上に走査線１０９として結像される。また、像担持体は円柱の軸を中心に回転して、像面を主走査方向とは垂直の方向に移動させ、光走査を行って画像を形成する。図２は、図１に示す第１，第２，第３折り返しミラー１０７ａ，１０７ｂ，１０７ｃを除いた光路図を示す。
【００２２】
ここで、線像形成レンズ１０３に回折光学面を付与することにより、回折と屈折の両方の効果を合わせて副走査方向に集光する作用を持つ、円柱形状が基盤となる線像形成レンズ１０３とすることができる。このときの光源として、本実施形態１では光源１０１における波長の温度依存性ｄλ／ｄＴ（ｎｍ／℃）が、次の条件「ｄλ／ｄＴ＜０.１５」となるように設計された光源を用いる。回折効果を持ったレンズにおいては、ｋ次の回折効率ηｋが近軸領域において（数２）のようになることが知られている。
【００２３】
【数２】
2008033251.tif 000004
ここで、λ0：設計温度での光源波長、λ：温度変化後の光源波長、ｋ：回折次数である。
【００２４】
なお、温度依存性ｄλ／ｄＴ（ｎｍ／℃）は設計温度付近について、温度変化１℃あたりの発振波長の変化率を線形近似したものとする。
【００２５】
光源波長の温度依存性ｄλ／ｄＴを変化させ、設計温度から±２０℃の温度変化が起きたときの回折効率η（数２）の低下率をプロットしたものを図３に示す。図３において、設計波長は６５０ｎｍとして、例えば２５℃で設計した場合、４５℃の環境での光利用効率は、一般的な光走査装置において用いられるような発振波長が約７８０ｎｍの端面発光型半導体レーザ（温度依存性ｄλ／ｄＴ＝０.２２程度）を光源として用いた場合と、温度依存性ｄλ／ｄＴ＝０.１４５の光源を用いた場合とでは、回折効率ηの低下率を約１／２にすることができる。
【００２６】
温度依存性ｄλ／ｄＴ、即ちレーザ発光素子の発振波長の温度変化は、一般的に特殊な構成を持たないレーザにおいてはレーザ媒質の利得スペクトルとレーザの共振器長によって決まるが、現在広く用いられている端面発光型半導体レーザにおいては、温度依存性ｄλ／ｄＴ＝０.２０〜０.２５といった値をとるような設計になっていて、波長変動が大きく、回折効率の低下が起こる。
【００２７】
図３は理論的に正確な回折形状を作成できた場合について変化を示すものであって、実際には回折格子間隔の誤差や回折構造の形状誤差によって、回折効率の低下は図３よりも増大して発生する。そのため、前述した温度依存性の条件「ｄλ／ｄＴ＜０.１５」のように、光源波長の温度依存性を設定した光源を用いることで、有効に回折効率の低下を防ぎ、良好な光走査を行うことができる。
【００２８】
また、近年はフルカラー対応の画像形成装置が求められており、高速な画像形成のために複数の光走査装置，感光体を有するいわゆるタンデム型の画像形成装置が増えている。画像形成装置の内部にいては、一様な温度分布にはならず、そのため、温度による回折効率の変化が大きいと、各感光体上の露光量がばらつくために、所望の画像が得られなくなる不具合が生じる。特に、フルカラー対応の画像形成装置においては、色味が変動して画質劣化に繋がる。このような問題に対して本発明の光走査装置によれば、良好に画像形成することができる。
【００２９】
さらに線像形成レンズ１０３の回折光学面において、主走査方向に平行な線対称軸を有する形状として、回折機能を持たせることで副走査方向に集光する機能を有し、主走査方向に関しては光束には変換を与えないものである。この主走査方向に平行な線対称軸を有する形状とは、回折構造も含めた形状を指しており、特に直線状の回折光学面では、樹脂で成形する場合にはバイト（刃）を直線的に移動させることで、容易に金型を作成することができ、また切削加工の場合においても同様に容易に作成することができ、低コスト化を図ることができる。
【００３０】
本実施形態１における回折光学面を有する素子、例えば図１の線像形成レンズ１０３は、格子構造がフォトエッチングによる階段状の回折格子からなるバイナリー回折光学素子や、表面切削による鋸歯状の回折格子からなるフレネル状の回折光学素子等からなっている。また、回折効果を付与された光学素子であればその他のどの様な構造のものであっても、同様の効果を得ることができ、回折光学面を有する素子の製造方法や構造を限定するものではない。このことは、以下の回折光学面を有する素子に関して全て同様である。
【００３１】
また、図１に示す光走査装置の光学系全系では、主走査方向の横倍率βｍと副走査方向の横倍率βｓとは、条件として（数３）
【００３２】
【数３】
2008033251.tif 000005
となるように設定される。
【００３３】
本実施形態１においては、カップリングレンズ１０２、線像形成レンズ１０３および第１，第２走査レンズ１０６ａ，１０６ｂからなる光学系の主走査方向の焦点距離はそれぞれ、４５ｍｍ、∞（屈折力なし）、２４７ｍｍである。光源１０１からの光束は主走査方向については、カップリングレンズ１０２によって略平行光とされ、偏向器１０５で偏向走査され走査光学系によって被走査面１０８上に結像される。したがって、主走査方向の横倍率の大きさ｜βｍ｜は約５.５倍（｜βｍ｜＝２４７／４５≒５.５）となる。
【００３４】
また、副走査方向については、カップリングレンズ１０２、線像形成レンズ１０３の副走査方向の焦点距離はそれぞれ、４５ｍｍ、１２６ｍｍから横倍率β＝１２６／４５＝２.８、光学系の副走査方向の横倍率はβ＝−０.９６である。したがって、副走査方向の横倍率の大きさ｜βｓ｜は約２.７倍（｜βｓ｜＝２.８×０.９６≒２.７）となり、（数３）の条件を満たす。この効果は以下の如くである。
【００３５】
波長の温度依存性ｄλ／ｄＴを従来よりも小さく（＜０.１５）設定することで、回折効率の低下を防止することができるが、レンズのビームウエスト位置変動補正を回折効果によって所望なだけ得るためには、回折光学面を有する素子のパワーを大きくしなければならなくなる。回折光学面のパワーが大きくなることは即ち、回折構造の微細化を意味する。同一の製造技術によって回折光学面のような微細加工を施した場合は、その構造が微細であるほど誤差の割合は増加し、回折効率が低下してしまい、利用しない次数の回折光が迷光として発生してしまう。
【００３６】
また、従来の光学系は、温度によるビームウエスト位置変動（像面湾曲変動）は、副走査方向において大きく発生する。即ち副走査方向に対しては主走査方向よりも大きい回折効果が必要となる。そのため、副走査方向の横倍率を主走査方向に比べて小さくすることで、副走査方向のビームウエスト位置の変化量を低減し、その結果として、回折光学面を有する素子で必要とされる補正量を低減することにより回折光学面のパワーを低減し、光源波長の温度依存性を「ｄλ／ｄＴ＜０.１５」の条件に設定したとしても、加工技術は従来通りの低コストな方式であっても、回折効率の低下を防ぐことができる。
【００３７】
また、光走査装置の光学系には、ガラスレンズよりも安価に製造できる、樹脂製のレンズを用いる。ガラスレンズと比較して吸湿性が高く、温度による熱膨張や屈折率変化が大きく、かつビームウエスト位置ずれを発生させやすい樹脂製レンズを用いても、回折効果を有効に用いることにより、これを補正することが可能となり、より安価な光走査装置を提供することができる。
【００３８】
また光源１０１としては、面発光レーザ（Ｖertical Ｃavity Ｓurface Ｅmitting Ｌaser：ＶＣＳＥＬ）を用いることができる。面発光レーザは、一度にウェハ上に多数の発光部を製造することができ、検査も複数を同時に行いやすいため、大量生産に適した構造を持つ発光素子である。また、ウェハ内での発振波長ばらつきも小さく、端面発光型ＬＤアレイよりも素子間波長ばらつきが抑えられ、光学的に安定した特性も持つ。さらに、レーザ発振に関与する共振器長が１波長〜数波長程度と非常に小さく、そのため、発振モード間隔が広くとれ、モードホッピングを抑制でき発振波長の温度依存性ｄλ／ｄＴを低減することができるので低く設定しやすい。
【００３９】
面発光レーザ（ＶＣＳＥＬ）は発散角（ＦＷＨＭ）が主走査方向、副走査方向とも８〜１５ｄｅｇ程度と小さくできるため、カップリングレンズを長焦点距離化しても、光量の損失は少ない。焦点距離を長くすることでパワーが小さくなり、温度変動による焦点位置ずれの量も低減できる。このことは、焦点位置ずれ補償を行う回折光学素子のパワーが小さくてよいことを意味し、その結果補償誤差が低減される。このような理由から、面発光レーザと回折光学素子を光走査装置および画像形成装置に同時に用いることは、画質劣化防止に大きな効果がある。
【００４０】
（実施形態２）
図４は本発明の実施形態２における光学系の概略を示す光路図であり、上段に主走査断面形状、下段に副走査断面形状を示している。また、走査レンズの光学面形状の表現式は（数４），(数５)
【００４１】
【数４】
2008033251.tif 000006
【００４２】
【数５】
2008033251.tif 000007
のとおりであり、Ｘは光軸方向の座標（図４で横軸に平行な方向）、Ｙは主走査方向座標（図４で縦軸に平行な方向）を示す。（数４），（数５）において、Ｃｍ0は中央（Ｙ＝０）の主走査方向曲率を示し曲率半径Ｒｍの逆数であり、ａ00，ａ01，ａ02，…は主走査形状の非球面係数である。Ｃs（Ｙ）はＹに関する副走査方向の曲率である。Ｒs０は副走査方向の光軸上の曲率を示し、ｂ01，ｂ02，ｂ03，…は副走査方向の非球面係数である。具体的な数値を（表１）に示す。
【００４３】
【表１】
2008033251.tif 000008
また、図５（ａ），（ｂ）は副走査方向曲率のレンズ高さごとの関数Ｃs（Ｙ）を示しており、図中凡例のＬ１，Ｌ２は第１，第２走査レンズ、Ｒ１，Ｒ２はそれぞれ入射面，射出面を示している。図６（ａ），（ｂ）は第１，第２走査レンズの主走査断面内の形状を示しており、上側が射出面Ｒ２、下側が入射面Ｒ１の形状を示している。縦軸は光軸方向の座標Ｘ、横軸はレンズ高さである。光軸とは、特に断らない限りは、（数４）にてＹ＝０としたときの副走査方向において中央の点を通る軸をいう。
【００４４】
図４に示すように、光源１０１と、カップリングレンズ１０２とアパーチャ１１４と線像形成レンズ１０３からなるカップリング光学系と、偏向器１０５と第１，第２走査レンズ１０６ａ，１０６ｂとからなる走査光学系からなる。走査レンズは２つとも樹脂製であり、回折格子を１つまたは複数の光学面上に形成してもよい。
【００４５】
光源１０１は、発光点を２次元的に配列され、単一素子で複数光束を発生することができる。このような光源は垂直共振器型面発光レーザ（ＶＣＳＥＬ）によって実現される。ＶＳＣＥＬは発振波長の温度変動が小さく、波長の不連続な変化（波長飛び）が原理的に発生しないため、環境変化によっても光学特性が劣化しにくい。
【００４６】
カップリングレンズ１０２および線像形成レンズ１０３はそれぞれガラス製であっても、また低コスト化のために樹脂製であってもよい。樹脂製とした場合には、温度変化による光学特性の劣化を低減するために、回折光学素子としてもよい。
【００４７】
また、本実施形態２において、以下に示す数値の部品を用いた構成が考えられる。
・光源１０１の発振波長は７８０ｎｍである。
・カップリングレンズ１０２は焦点距離４６．０ｍｍで光束を略平行光にする。
・線像形成レンズ１０３は焦点距離１０４．７ｍｍで偏向反射面近傍に副走査方向において光束を結像する。
・アパーチャ１１４は主走査方向および副走査方向について光束を制限し、ビームスポット径を調整する。主走査方向全幅５．６４ｍｍ、副走査方向全幅２．２ｍｍの矩形または楕円。
・偏向器１０５は内接円半径７ｍｍの４面鏡であり、副走査方向に平行な軸の周りに等速回転する。
・第１走査レンズ１０６ａの中心（光軸上）肉厚は１３．５ｍｍ、第２走査レンズ１０６ｂの中心肉厚は３．５ｍｍである。
・偏向器１０５から被走査面１０８までの光路長は２９５．５ｍｍである。
・偏向器１０５の反射点から第１走査レンズ１０６ａの第１面までは４６．３ｍｍ、第２走査レンズ１０６ｂの第１面までは１４９．５ｍｍである。
・光学系全系の副走査方向横倍率は２．２倍、走査光学系のみでは−０．９７倍である。
・書込の幅は±１６１．５ｍｍである。
・ビームスポット径の狙いとしては主走査方向で５２μｍ、副走査方向で５５μｍである。
・第１走査レンズ１０６ａの射出面から第２走査レンズ１０６ｂの入射面までの距離は８９．７ｍｍ、第２走査レンズ１０６ｂの射出面から被走査面１０８までの距離は１４２．５ｍｍである。
【００４８】
以上のような構成をとったときの像面湾曲を図７、副走査横方向倍率偏差を図８に示す。図７に示すように副走査方向について、非常によく像面がそろっており、前記のように肉厚を低減しているにもかかわらずビームスポット径のばらつきが非常に小さくなることが分かる。また図８に示すように横倍率の差は０．５％程度に抑えられ、略一定ということができる。
【００４９】
次に、光学系の横倍率、ＶＣＳＥＬの発光領域径およびビームスポット径の関係について述べる。従来の、カップリングレンズ１０２の焦点距離が２６．８ｍｍの光学系（主走査方向横倍率約８．９倍、副走査方向横倍率４．５倍）におけるビームスポット径を図９（ａ），（ｂ）〜図１２（ａ），（ｂ）に、また本実施形態２の、カップリングレンズ１０２の焦点距離が４７．７ｍｍの光学系（主走査方向横倍率約５．０倍、副走査方向横倍率２．２倍）におけるビームスポット径を図１３（ａ），（ｂ）〜図１６（ａ），（ｂ）に示す。ここで、図９〜図１６において、（ａ）は主走査方向ビームスポット径、（ｂ）は副走査方向ビームスポット径である。
【００５０】
また、図９，図１３は発光領域径が無限小（Ａｍ＝Ａｓ＝０μｍ、Ａｍを主走査方向の径、Ａｓを副走査方向の径とする）のときに相当し、図１０，図１４はＡｍ＝Ａｓ＝２μｍ、図１１，図１５はＡｍ＝Ａｓ＝４μｍ、図１２，図１６はＡｍ＝Ａｓ＝６μｍのときである。これらの光学系でビームスポット径ωの狙い値はωｍ×ωｓ（ωｍ：５２±５，ωｓ：５５±５μｍ）であり、各図中にその境界線を示している（ωｍ：主走査方向ビームスポット径，ωｓ：副走査方向ビームスポット径）。
【００５１】
従来の光学系（図９〜図１２）では、発光領域径が２μｍまではビームの深度が十分確保されており、ビームスポット径ばらつきはあまり大きくならない。しかしＡｍ＝４μｍ以上では、主走査方向において深度は急激に減少し、ばらつきが大きくなりやすい装置となってしまう。一方、本実施形態２の光学系（図１３〜図１６）ではＡｍ＝６μｍまで深度は確保され、ビームスポット径の増加も許容される範囲であり、発光領域径が数μｍ以上あるような光源に対しては低倍率な光学系が必要であることが分かる。ＶＣＳＥＬはこうした光源であるため、本実施形態２のような条件（β×Ａ）／ω0＜０．７を満たすことが望ましい。このことを図１７によって説明する。
【００５２】
図１７には、デフォーカス：０における（β×Ａ）＝０（即ち、発光領域径Ａ＝０）のときと、（β×Ａ）＞０のときとのビームスポット径の差を、図９〜図１６から求めプロットした曲線を示す。この曲線は、（数６）
【００５３】
【数６】
2008033251.tif 000009
で表せる。
【００５４】
ここで、ω0は発光領域径Ａ＝０のときのビームスポット径とし、発光領域径Ａ≠０でのビームスポット径ωとの関係は、（数７）
【００５５】
【数７】
2008033251.tif 000010
となると仮定している。
【００５６】
図１７から、実際の書込光学系におけるビームスポット径増加と、前記仮定とがよく一致していることが分かる。
【００５７】
発光領域径Ａが大きさを持つために発生するビームスポット径の増加率δは、（数８）
【００５８】
【数８】
2008033251.tif 000011
となる。ただし、Ｅ＝βＡ／ω0とおいた。
【００５９】
本実施形態２においては、前述の通り、主走査方向においてＥ＝５．０×４÷５０＝０．４（主走査方向の横倍率β＝約５．０、発光領域径Ａ＝４μｍ、Ａ＝０のときのビームスポット径ω0＝５０（図１３参照））であり、このとき増加率δは（数８）から４％程度に抑えられ、主走査方向のビームスポット径ωｍも５２μｍと殆んど変化しない。副走査方向においてはＥ＝０．１６となるため、さらに変化は小さく、ω0＝５５μｍに対して略変化せず５５μｍのままとなる。
【００６０】
また、前述した従来例では主走査方向の横倍率βは８．９倍であるため、Ｅ＝０．７１２となりωｍ＝５６μｍと１０％より大きい増加となってしまう。また発光領域径Ａを大きく設定してしまうと、例えばＡ＝７μｍとした場合には横倍率β＝５倍で狙いのビームスポット径ω0＝５０μｍの場合、Ｅ＝０．７となりωｍ＝５６μｍになってしまうため、これも高画質化のためには望ましくない。Ｅ＝０．６５（例えばβ＝５，Ａ＝６．５，ω0＝５０）であれば、ω＝５５μｍで略１０％程度の変化に留まるため、画質の劣化が許容範囲になる。
【００６１】
したがって、少なくともＥ＝βＡ／ω0＜０．７であることが望ましく、このとき実際のビームスポット径ωとの関係は（数８）の式により（数９）
【００６２】
【数９】
2008033251.tif 000012
である。
【００６３】
また、ＶＣＳＥＬは１〜２ｍＷ程度の出力しかなく、課題として光出力の向上があるが、これに対して発光領域径Ａが大きい方が有利であることが知られている。マルチモード発振しない領域で径を大きくすることができ、光出力の増加ができたとしても、ビームスポット径が小径化できなければ画質の向上は達成できない。前述したように（数１０）
【００６４】
【数１０】
2008033251.tif 000013
の条件を満たすように設定することで、光量において不利なＶＣＳＥＬ光源を用いながらも、ビームスポット径の小径化を行うことができる。
【００６５】
（実施形態３）
図１８は本発明の実施形態３における光走査装置の光学系全系の概略を示す図である。ここで、前述した実施形態１の図１において説明した構成部材に対応し同等の機能を有するものには同一の符号を付して示す。
【００６６】
本実施形態３と実施形態１との相違点は、回折光学面をカップリングレンズ２０２に採用していることである。このカップリングレンズ２０２に施された回折構造は、主走査方向に平行な線対称軸と、副走査方向に平行な線対称軸とを有する形状である。こうした形状としては、例えば中心を光学系の光軸にとった同心円状の回折格子、あるいは副走査方向に長軸または短軸を有する楕円状の回折格子とすることができる。つまり、主走査方向と副走査方向に回折光学面のパワーを持つことで、両方の方向に対して光束のビームウエスト位置補正を１つの光学素子で行うことができ、装置を低コスト化できる。
【００６７】
また、より高精度にビームウエスト位置補正を行う目的で、カップリングレンズ２０２の他にシリンドリカルレンズ２０３にも回折光学面を設けることも可能である。
【００６８】
(実施形態４）
図１９は本発明の実施形態４における光走査装置の光学系全系の概略を示す図である。ここで、前述した実施形態１の図１において説明した構成部材に対応し同等の機能を有するものには同一の符号を付して示す。
【００６９】
図１９に示すように、光源１０１からの光束をカップリングレンズ１０２，シリンドリカルレンズ３０３，アパーチャ１０４のカップリング光学系によりカップリングする。本実施形態４ではカップリングされて偏向器１０５に入射する光束は、主走査方向に平行光束、副走査方向には偏向器の偏向反射面近傍にて結像し線状の像を形成する。偏向器４０５で偏向された光束は第１走査レンズ１０６ａ，第２走査レンズ３０６ｂからなる走査光学系によって被走査面１０８上に結像される。ここでは感光性の媒体を支持する円柱状の像担持体の上に走査線１０９として結像される。像担持体は円柱の軸を中心に回転し、像面を主走査方向とは垂直の方向に移動させ、光走査を行って画像を形成する。
【００７０】
ここで、走査光学系は回折光学効果を有する回折光学面を少なくとも１つ有し、光源１０１の波長の温度依存性ｄλ／ｄＴ（ｎｍ／℃）は線形近似したときに「ｄλ／ｄＴ＜０.１５」の条件と設定されている。本実施形態４においては、回折光学面は最も被走査面１０９に近い第２走査レンズ３０６ｂが有しており、かつ第２走査レンズ３０６ｂの最も被走査面１０９に近い光学面が回折光学面となっている。
【００７１】
本実施形態４のような走査光学系がレンズ２枚の形態をとる光走査装置の場合、第２走査レンズ３０６ｂ、即ち被走査面１０９に近いレンズに副走査方向のパワーの多くを担わせる構成が一般的であり、第２走査レンズ３０６ｂに回折光学面を設けることにより回折効果と屈折効果を同時に持たせ、ビームウエスト位置変動によるピント位置ずれを効率よく補正することができる。また、被走査面１０８に近いことにより、製造による誤差が拡大されることなく光走査を行うことができる。
【００７２】
また、以上に挙げた実施形態１〜４について光源の波長の温度依存性ｄλ／ｄＴの条件をさらに「０.０２＜ｄλ／ｄＴ＜０.０８」の範囲として設定することができる。この条件の下限値よりも小さくしてしまうと、製造上の条件が難しくなり歩留が低下し、コストアップしてしまうため望ましくない。また、上限値とすることで回折効率の変動による光量変化をさらに低減できる。前述の条件を満たすことで、より効率的に回折効率低下を防止することができ、低コストで光源を製造することが可能となる。
【００７３】
実施形態１〜４において、例えば次のような特性「発振の中心波長：７８０ｎｍ、発光領域径：４μｍ×４μｍ（主走査方向×副走査方向）、光出力：１ｍＷ、放射角：１５°、波長の温度依存性ｄλ／ｄＴ：０.０６２（ｎｍ／℃）、偏光方向：一定」の光源を用いることができる。
【００７４】
また、この光源に複数の発光点を設け、複数ビームによる高速・高密度の書込を行えるようにすることもできる。面発光レーザはその製造方法によって、前述のように複数の発光素子を同時に製造できるため、複数発光点を１つの光源素子として作成しやすく、これによって、複数の発光点を有していても低コストで、１つの光源ユニット内に納めることが可能なため、装置の小型化ができ、高速で高密度な光書込を行うことが可能となる。
【００７５】
(実施形態５）
図２０は本発明の実施形態５における光走査装置を用いた画像形成装置の概略構成を示す図である。
【００７６】
図２０に示すように、画像形成装置によれば、光導電性の感光体４０２ａ〜４０２ｄは図中の矢印に示したように時計回りに略等速回転する。ここで、感光体４０２ａ〜４０２ｄはフルカラー画像を形成するために４つ設けているが、用いる色トナーによって異なるのみで他の構成については同様であるため感光体に係る各部の符号表記の末尾は省略する。
【００７７】
感光体４０２の表面は、帯電手段４０５によって均一に帯電され、感光体４０２上に、光走査装置４０１によって露光走査をされる。この露光によって静電潜像を書込まれた感光体４０２は、現像手段４０３によってトナー画像として可視化され、転写手段４０６によって複数の感光体４０２上に可視化されたトナー画像が１つの画像として形成されるように順次中間転写ベルト４０８上に転写され、重ねられたフルカラー画像を形成する。このフルカラー画像は他の転写手段４０９によってシート状記録媒体Ｓに転写され、定着手段４０７によって定着されることで画像形成を完了し、装置の外へ排出される。
【００７８】
感光体４０２は、転写しきれずに残留したトナーや紙粉をクリーニング手段４０４によって取り除かれる。その後、再び帯電手段４０５によって帯電される。
【００７９】
このような画像形成装置において、光走査装置４０１に前述した光走査装置を用いれば、温度変動によっても光量不足を招くことなく、良好な画像形成を行うことができる。
【００８０】
また、光走査装置に面発光レーザを用いた場合に、前述したように、面発光レーザは波長の温度依存性の小さい光源として回折光学面を有する素子とともに光走査装置を構成するには非常に適しているが、一般的により広く用いられている端面発光型のレーザに比較して光量が小さい。
【００８１】
この光量の不足に対して、波長の温度依存性ｄλ／ｄＴを小さく設定し温度による光量低下を低減するとともに、条件「π（Ｄｍ×Ｄｓ）／（４×Ｓ）＞Ｐ０／Ｐｅｆｆ、ここで、Ｄｍ：被走査面上光スポットの主走査方向の直径、Ｄｓ：被走査面上光スポットの副走査方向の直径、Ｓ：最小単位の書込画素の面積、Ｐ０：感光性媒体の必要露光エネルギー、Ｐｅｆｆ：走査に用いられた光束１つが被走査面上に到達したときの露光エネルギー」を満たすように設定するとよい。
【００８２】
図２１（ａ）に示すように、「π（Ｄｍ×Ｄｓ）／（４×Ｓ）」は１画素と光スポットとの面積の比を示しており、この値が２であれば、光スポットは画素の２倍の面積を有することになる。画素とは、画像形成に用いられる点の最小単位という意味で通常使われるが、ここでは、ある光スポットに隣り合う光スポット群の中心に囲まれる領域という意味とする（図２１（ｂ），（ｃ）参照）。
【００８３】
したがって、例えば画像処理上８つの光スポットを用いて１つの点を形成するなどの設定とした場合には、その点の中には光スポットの中心の画素（図２１（ａ）参照）が８つ含まれるとする。つまり、ここで明らかにしたい条件は光スポットの光量と、光スポットの重なり具合と、感光体露光エネルギーの関係であるので、画素を画像上の一単位には限定しないものである。また、画素の形状は四角形でも三角形でも、その他あらゆる形状であっても、本発明の効果は得られる。
【００８４】
本実施形態５において、画素の面積は、書込密度が主走査方向、副走査方向ともに１２００ｄｐｉとしたとき、面積Ｓ＝４４８μｍ２、Ｐ０＝５ｍＪ／ｍ２、Ｐｅｆｆ＝０.９ｍＪ／ｍ２、ただし、Ｐｅｆｆとは、光源から射出した光ビームがカップリング光学系，偏向器，走査光学系，折り返しミラーなどを経て被走査面（感光体）上に到達したときのエネルギーであり、各光学素子の光利用効率の影響を受けている。また、単位時間あたりの露光エネルギーなので、プリント速度や走査速度にも影響される。
【００８５】
このときに、前述の条件「π（Ｄｍ×Ｄｓ）／（４×Ｓ）＞Ｐ０／Ｐｅｆｆ」から、主，副走査方向の光スポット径の積は「Ｄｍ×Ｄｓ＞３１６９」であり３１６９以上となる。主副とも√３１６９≒５６.３から５６μｍ付近の値の組み合わせで互いの積が３１６９以上となるように設定することで条件に当てはめられる。また現状の書込光学系では、変動が大きくなりやすい副走査方向のビームスポット径深度を深くとるために、主走査方向より副走査方向に大きい光スポットとしており、５５×６０μｍと設定することができる。また、その組み合わせとして、５０×６５，４５×７２，６０×６０のようにすることも可能である。
【００８６】
被走査面上の光スポットにおける主走査方向の直径Ｄｍ＝５５μｍ、副走査方向の直径Ｄｓ＝６０μｍと設定すれば、前記条件を満たし（左辺５.７８、右辺５.６）、光量不足となることなく光走査を行うことができる。また、この条件を満たした上で必要以上に光量を多くとることのないように制御することで、装置の省電力化を行うことができる。
【００８７】
また、複数ビームによって複数の走査線を一度の走査で同時に形成する場合には、画像形成装置における副走査方向の書込密度の逆数Ｗ（μｍ）と、光走査装置の形成する光スポットの直径Ｄ（μｍ）が、「Ｗ＜Ｄ」であり、Ｍ回目の走査により複数走査線の形成される領域内に、Ｎ回目の走査で形成する複数の走査線のいずれかを形成するよう設定することができる。なお、ＭとＮは互いに異なる自然数とする。
【００８８】
この構成の効果は以下の如くである。複数の走査線を同時に光走査する場合、一度の走査のみによって複数の光スポットで露光される部位と、２度以上の走査によって露光される部位ができ、相反則不軌の現象によって濃度に差ができ、濃度むらとなって知覚され画像の劣化となる問題が発生する。相反則不軌とは、感光性媒体の表面において、光スポットが被走査面である感光性媒体上で重なる部位を持つ多重露光が行われる際に、露光の時間間隔が長くなると、多重露光を行った部位の表面電位が光量の総計に比例しないという現象である。一度のみの走査により多重露光された場合には、重なった位置への露光は非常に短い時間に起こるが、複数回の走査にわたって露光される場合は、偏向器の回転速度に対応した時間差をおいて露光され、時間積分した場合には同一露光量であっても、露光を受ける時間間隔が異なるために感光性媒体の物性によって表面の電位が異なり、濃度むらを発生するこの相反則不軌の現象が問題となる。
【００８９】
前述の「Ｗ＜Ｄ」のような条件では、光スポットは多重露光されることになり、また、前述の条件「π（Ｄｍ×Ｄｓ）／（４×Ｓ）＞Ｐ０／Ｐｅｆｆ」を満足する構成においても、この条件が「π（Ｄｍ×Ｄｓ）／（４×Ｓ）＜１」の場合には同様に多重露光となる。このとき、Ｍ回目の走査により複数走査線の形成される領域内に、Ｎ回目の走査で形成される複数の走査線のいずれかを形成するよう設定することで、いわゆる飛越し走査方式を設定することができ、同一走査内での光スポットの重なりをなくし、もしくは低減して、感光体上の各点の露光状態を近づけることができ、濃度むらを減らして良好な画像形成を行うことが可能となる。
【産業上の利用可能性】
【００９０】
本発明に係る光走査装置および画像形成装置は、光源の温度変化があったとしても光量の低下を低減でき、劣化の少ない光走査を行うことができ、また良好な画像形成を行うことができ、レーザプリンタ，複写機，ファクシミリ装置等に用いて有用である。
【図面の簡単な説明】
【００９１】
【図１】本発明の実施形態１における光走査装置の光学系全系の概略を示す図
【図２】本実施形態１における光学系の概略を示す光路図
【図３】±２０℃の温度変化時の光源波長の温度依存性ｄλ／ｄＴと回折効率低下率を示す図
【図４】本発明の実施形態２における光学系の概略を示す光路図
【図５】副走査方向曲率のレンズ高さごとの（ａ）は第１走査レンズ、（ｂ）は第２走査レンズの入射面と射出面の関数Ｃs（Ｙ）を示す図
【図６】主走査断面内での（ａ）は第１走査レンズ、（ｂ）は第２走査レンズの入射面と射出面の形状を示す図
【図７】主走査と副走査の像面湾曲を示す図
【図８】各像高に対する副走査横方向倍率偏差を示す図
【図９】従来の（ａ）は主走査方向、（ｂ）は副走査方向で発光領域径Ａ＝０のビームスポット径を示す図
【図１０】従来の（ａ）は主走査方向、（ｂ）は副走査方向で発光領域径Ａ＝２のビームスポット径を示す図
【図１１】従来の（ａ）は主走査方向、（ｂ）は副走査方向で発光領域径Ａ＝４のビームスポット径を示す図
【図１２】従来の（ａ）は主走査方向、（ｂ）は副走査方向で発光領域径Ａ＝６のビームスポット径を示す図
【図１３】実施形態２の（ａ）は主走査方向、（ｂ）は副走査方向で発光領域径Ａ＝０のビームスポット径を示す図
【図１４】実施形態２の（ａ）は主走査方向、（ｂ）は副走査方向で発光領域径Ａ＝２のビームスポット径を示す図
【図１５】実施形態２の（ａ）は主走査方向、（ｂ）は副走査方向で発光領域径Ａ＝４のビームスポット径を示す図
【図１６】実施形態２の（ａ）は主走査方向、（ｂ）は副走査方向で発光領域径Ａ＝６のビームスポット径を示す図
【図１７】デフォーカス：０におけるビームスポット径の差をプロットした図
【図１８】本発明の実施形態３における光走査装置の光学系全系の概略を示す図
【図１９】本発明の実施形態４における光走査装置の光学系全系の概略を示す図
【図２０】本発明の実施形態５における光走査装置を用いた画像形成装置の概略構成を示す図
【図２１】（ａ），（ｂ），（ｃ）は１画素と光スポットとの関係を示す図
【符号の説明】
【００９２】
１０１  光源
１０２，２０２  カップリングレンズ
１０３  線像形成レンズ
２０３，３０３  シリンドリカルレンズ
１０４，１１４  アパーチャ
１０５  偏向器
１０６ａ  第１走査レンズ
１０６ｂ，３０６ｂ  第２走査レンズ
１０７ａ  第１折り返しミラー
１０７ｂ  第２折り返しミラー
１０７ｃ  第３折り返しミラー
１０８  被走査面
１０９  走査線
１１７  入射ミラー
４０１  光走査装置
４０２，４０２ａ，４０２ｂ，４０２ｃ，４０２ｄ  感光体
４０３  現像手段
４０４  クリーニング手段
４０５  帯電手段
４０６，４０９  転写手段
４０７  定着手段
４０８  中間転写ベルト
【図１】
2008033251.tif 000015
【図２】
2008033251.tif 000016
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
2008033251.tif 000027
【図１４】
2008033251.tif 000028
【図１５】
2008033251.tif 000029
【図１６】
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【図１７】
2008033251.tif 000031
【図１８】
2008033251.tif 000032
【図１９】
2008033251.tif 000033
【図２０】
2008033251.tif 000034
【図２１】
2008033251.tif 000035