(57)【要約】【課題】無機現像液を吐出する現像ノズルにおいて、現像液の乾燥による目詰まり等の不具合を抑える。【解決手段】現像ノズル６に、キャニスタータンク１３と現像液供給用バルブ１９とからなる現像液ライン２４と、純水源８Ｂと純水洗浄用バルブ１８Ｂとを含む純水ライン２５Ａとが接続されている。現像ノズル６の待機位置である現像ノズルバス７内にはノズル外部洗浄用ノズル２３が配置され、純水洗浄用バルブ１８Ａとマニホールド２２を介して純水源８Ｂに接続されている。現像終了後に現像ノズルバス７に戻った現像ノズル６に、純水ライン２５Ａからの純水を供給してノズル孔２０から吐出させることにより、現像ノズル６の内面を純水で洗浄するとともに、ノズル外部洗浄用ノズル２３から純水を噴射することにより、現像ノズル６の外面と現像ノズルバス７の内面を純水で洗浄する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象物に対して現像液を吐出する現像ノズルと、前記現像ノズルに前記現像液を供給する現像液ラインと、前記現像ノズルに純水を供給する純水ラインとを有する、現像装置。
【請求項２】
前記対象物を支持するホルダーが収容されているスピンカップと、前記現像ノズルの待機位置に位置する現像ノズルバスと、前記現像ノズルバスの内部において純水を噴射可能なノズル外部洗浄用ノズルとをさらに有し、
前記現像ノズルは、前記スピンカップの上方と前記現像ノズルバス内との間を移動可能であり、
前記現像ノズルと前記ノズル外部洗浄用ノズルには、前記現像ノズルが前記現像ノズルバス内にある時に純水が供給される、請求項１に記載の現像装置。
【請求項３】
前記純水ラインと前記ノズル外部洗浄用ノズルとに純水を供給可能な純水源をさらに有する、請求項２に記載の現像装置。
【請求項４】
前記純水ラインが前記現像ノズルに純水を供給している時に前記現像液ラインを遮断する現像液供給バルブをさらに有する、請求項１から３のいずれか１項に記載の現像装置。
【請求項５】
前記現像液ラインは、無機現像液を前記現像ノズルに供給するものである、請求項１から４のいずれか１項に記載の現像装置。
【請求項６】
現像工程後の現像ノズルを現像ノズルバス内に配置するステップと、
前記現像ノズルバス内に配置された前記現像ノズルに純水を供給して、該現像ノズルのノズル孔から前記純水を吐出させるステップと、
前記現像ノズルバス内に設けられたノズル外部洗浄用ノズルから純水を噴射するステップと、
を含む現像ノズルの洗浄方法。
【請求項７】
前記現像ノズルの前記ノズル孔から前記純水を吐出させるステップと、前記ノズル外部洗浄用ノズルから純水を噴射するステップとを同時に実施する、請求項６に記載の現像ノズルの洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）ヘッドや半導体装置を製造するための現像工程に用いられる現像装置および現像ノズルの洗浄方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ＨＤＤヘッドや半導体装置を製造する際に、例えばレール部等の凹凸形状をフォトリソグラフィ法によって形成するために、部分的にレジストが塗布されたウェハーの表面に露光処理を行った後に、現像ノズルから現像液を吐出して現像する工程が行われている。
【０００３】
図４にこのような従来の現像装置の構成の一例を模式的に示している。この現像装置は、現像液の表面張力を利用してウェハーの表面上に現像液を付着させ、静止して現像を行うパドル方式である。この方式は、現像液の使用量が比較的少なく、また、レジストの残渣や裾引きの発生防止に有効である。
【０００４】
この現像装置は、現像を行う対象物であるウェハー１を支持するウェハーホルダー（ホルダー）２と、ウェハーホルダー２に接続されたスピンモーター３を有している。スピンカップ５の下方に位置するスピンモーター３と、ウェハー１を吸着保持するための真空源４が、ウェハーホルダー２に接続されている。スピンカップ５の底部に設けられた２つの排出口には、ドレインタンク９とミストトラップ１０がそれぞれ接続されており、ミストトラップ１０には、排気ダンパー１１を介して局所排気部１２が接続されている。また、超純水源８Ａが、バルブ１５を介して、スピンカップ５の底部から内部に突出する２つの裏面洗浄用ノズル１７と、スピンカップ５の上方に位置する洗浄用ノズル１６に接続されている。
【０００５】
スピンカップ５の上方に位置することができる現像ノズル６は、先端にノズル孔２０を有し、現像液供給用バルブ１９を介してキャニスタータンク１３に接続されている。こうして、現像液ライン２４が構成されている。キャニスタータンク１３には不活性ガス源１４が接続されている。現像ノズル６がスピンカップ５の上方から退避したときの待機位置には、現像ノズルバス７が設けられている。現像ノズルバス７には廃液口２１が設けられており、廃液口２１にはドレインタンク９Ｂが接続されている。
【０００６】
この従来の現像装置を用いてウェハー１の現像を行う方法を表１に示している。
【０００７】
【表１】
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【０００８】
この方法では、まず、現像ノズル６を待機位置（「原点」とも言う）、すなわち現像ノズルバス７内に収容しておく。その状態で、スピンカップ５内のウェハーホルダー２上にウェハー１をセットし（ステップ１０１）、真空源４によって吸着保持する。現像ノズル６を、図示しない駆動手段によって、待機位置からウェハー１の中心の上方に移動させる（ステップ１０２）。そこで、スピンモーター３によって低速回転でウェハーホルダー２を回転させつつ、不活性ガス源１４から窒素ガス等の不活性ガスをキャニスタータンク１３に供給して加圧し、現像液供給用バルブ１９を開いて、キャニスタータンク１３内の現像液を現像ノズル６に供給する。こうして、ノズル孔２０から現像液の吐出を開始する（ステップ１０３）。その状態で、現像ノズル６をウェハー１の中心の上方から外周の上方へ移動させることによって、現像液をウェハー１の表面全体に付着させる、いわゆる液盛りを行う（ステップ１０４）。なお、現像液の吐出動作（液盛り）中に、現像液を表面張力によって、局所排気部１２による排気の影響を受けることなくウェハー１上に静止保持させておくために、ミストトラップ１０と局所排気部１２の間に位置する排気ダンパー１１によって排気圧力をコントロールしている。
【０００９】
続いて、現像液供給ノズル１９を閉じる、および／または不活性ガス源１４からの窒素ガス等の不活性ガスの供給を停止して、現像ノズル６のノズル孔２０からの現像液の吐出を停止する。そして、ウェハー１の外周の上方に位置する現像ノズル６を、ウェハー１の中心の上方に戻す。それから、ステップ１０３〜１０４を所定回数繰り返すことによって、所望の量の現像液をウェハー１の表面に付着させる。
【００１０】
所定回数の現像液の吐出が完了したら、現像液が付着したウェハー１およびウェハーホルダー２を静止させた状態で数秒から数十秒放置する一方、現像ノズル６を現像ノズルバス７に戻す。そして、スピンモーター３がウェハー１およびウェハーホルダー２を高速回転させて、反応済の現像液および溶解したレジストを遠心力によってウェハー１の表面から除去する。除去された現像液やレジストは、スピンカップ５の内壁面によって受けられ、スピンカップ５の底部の排出口から、ドレイン（排液）としてドレインタンク９Ａに排出される。
【００１１】
それから、超純水源８Ａからバルブ１５を介して供給される超純水を、洗浄用ノズル１６からウェハー１の表面に噴射する。同時に、超純水源８Ａからバルブ１５を介して供給される超純水を、裏面洗浄用ノズル１７からウェハー１の裏面に噴射する。これによって、ウェハー１の表面の現像液と溶解したレジストを洗い流すとともに、ウェハー１の裏面に回り込んだ現像液を洗い流す。そして、超純水によって十分な洗浄が行われたら、スピンモーター３がウェハー１およびウェハーホルダー２を高速回転させて、ウェハー１の表面および裏面の水滴を吹き飛ばして乾燥させる（ステップ１０５）。高速回転するウェハー１はスピンカップ５内に収容されているため、現像液や洗浄用の純水等が外部に飛散して汚染するおそれはない。
【００１２】
以上の工程で現像作業を完了し、ウェハー１をスピンカップ５から搬出する（ステップ１０６）。
【００１３】
現像装置の現像ノズル６から吐出される現像液は、ＴＭＡＨ（水酸化テトラメチルアンモニウム）溶液を主成分とする有機現像液と、金属イオンを含有する無機現像液に大別される。ＨＤＤヘッドを製造する際には、各工程毎に使用可能な現像液は決まっている。例えば、高解像度を求める場合には有機現像液が使用される。一方、ＴＭＡＨは、ＨＤＤヘッドの層間絶縁膜になる酸化アルミニウム（アルミナ）膜に対する溶解速度が非常に大きいため、アルミナ膜が露出した状態における現像工程では、ＴＭＡＨではなく、燐酸ナトリウムやメタケイ酸ナトリウム溶液などの無機現像液が用いられる。
【００１４】
無機現像液を現像ノズル６から吐出した場合、吐出後に現像ノズル６内または現像液ライン２４内に残った現像液が乾燥すると、無機塩結晶が析出する。この無機塩結晶が成長すると、パーティクルを発生させる要因になったり、現像ノズル６のノズル孔２０を結晶で塞いだりする。それによって、現像ノズル６から均一な吐出ができなくなり、ウェハー１の全面への均一かつ適正な液盛りが不可能になる。その結果、ウェハー１の現像むらや未現像部分が存在することによるウェハー１上のレジストパターンの不良を引き起こしてしまう。
【００１５】
現像液は水溶性であるので、現像ノズル６を常に濡れた状態に保つことができれば、現像液が結晶化せず、パーティクルの発生や現像ノズル６の目詰まりが生じないと考えられる。しかし、現像ノズル６を常時濡れた状態にするためには、現像ノズル６の浸漬用の容器が必要であり、現像装置の大掛かりな変更が必要になる。
【００１６】
現像ノズル６内の現像液の乾燥を避けるために、また、空気中の二酸化炭素と中和反応することにより現像液のアルカリ規定度が変化することを避けるために、現像液の吐出動作を、インターバルを設けて繰り返し行う場合がある。この場合、実際のウェハー１への現像液の液盛りを行っていなくても、現像ノズルバス７内で定期的に吐出動作を行う必要があるので、非常に大量の未使用の現像液が廃棄される。また、現像ノズルバス７内に吐出された無機有機材が乾燥して無期塩結晶が析出し、廃液口２１を塞いでしまうおそれがある。そうすると、その後に現像ノズル６から現像ノズルバス７内に吐出された無機現像液が排出されずに現像ノズルバス７内に残り、残った無機現像液が乾燥して無機塩結晶がさらに析出するという悪循環に陥る。その結果、現像ノズルバス７内に無機塩結晶が充満していく。また、インターバル中に現像ノズル６内の現像液が乾燥するので、現像ノズル６内での無機塩結晶の発生を抑えるためには、インターバルの時間をできる限り短くする必要がある。
【００１７】
特許文献１に記載の現像装置では、現像ノズル６の外側に洗浄液を吹き付けるためのリンスノズルや洗浄ノズルが設けられている。そして、現像工程の終了後に現像ノズルに外側から洗浄液を吹き付けるとともに、現像ノズルから現像液を吐出することによって、現像ノズルの内側と外側から洗浄を行う。
【特許文献１】特開２０００−１９５７７３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１８】
特許文献１には、現像ノズルの外側は純水によって洗浄することによって現像液を洗い流すことができ、しかも、現像ノズルから現像液を吐出することによってノズル先端を洗浄することができると記載されている。この方法は、半導体装置の製造等に用いられる有機現像液を吐出する現像ノズルに関しては効果的であると考えられる。
【００１９】
しかし、ノズル孔が小さい現像ノズルや、乾燥時に結晶が発生してしまう無機現像液を吐出する現像ノズルに関しては、この方法では不十分である。すなわち、現像ノズルの内部（空気と接触して乾燥してしまうところ）において、まず無機現像液自体を確実に取り除いてしまわないと、洗浄後に残った無機現像液が短時間の間に乾燥して無機塩結晶が析出し、そこから結晶が成長して行ってしまう。それによって、現像ノズルからの吐出不良が生じて、ウェハーの現像むらや未現像部分によるパターン不良を引き起こしてしまう。現像ノズル内に残った無機現像液に乾燥する時間を与えないように、常に現像液を吐出し続けることも考えられるが、非常に大量の現像液が未使用のまま廃棄されるなどのデメリットが大きいため、現実的ではない。
【００２０】
そこで本発明の目的は、無機現像液を吐出する現像ノズルにおいても、十分に洗浄して、現像液の乾燥による不具合を抑えることができ、しかも、現像液を無駄に大量消費することのない現像装置と、その現像ノズルの洗浄方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２１】
本発明の現像装置は、対象物に対して現像液を吐出する現像ノズルと、現像ノズルに現像液を供給する現像液ラインと、現像ノズルに純水を供給する純水ラインとを有することを特徴とする。この構成によると、現像ノズル内を純水によって洗浄できるため、洗浄後の現像ノズル内に現像液が残ることを防ぎ、結晶の析出を防げる。さらに、未使用時の現像ノズルを常に濡れた状態にしたり、常に、または間欠的に吐出を続けたりする必要はなく、現像液を無駄に大量に消費することもない。この構成は、現像液ラインに併設して純水ラインを付加するだけでよいため、現像装置の大掛かりな改造は必要ない。
【００２２】
対象物を支持するホルダーが収容されているスピンカップと、現像ノズルの待機位置に位置する現像ノズルバスと、現像ノズルバスの内部において純水を噴射可能なノズル外部洗浄用ノズルとをさらに有し、現像ノズルは、スピンカップの上方と現像ノズルバス内との間を移動可能であり、現像ノズルとノズル外部洗浄用ノズルには、現像ノズルが現像ノズルバス内にある時に純水が供給される構成にしてもよい。この場合、待機位置である現像ノズルバス内で現像ノズルの内面および外面、さらに現像ノズルバスの内面を、純水で洗浄して現像液が付着していない状態に保つことできるため、現像ノズルおよび現像ノズルバスが結晶によって目詰まりするおそれがない。現像ノズルの内外および現像ノズルバスの内部に洗浄用の純水が付着していても全く問題はないので、洗浄後の現像ノズルおよび現像ノズルバスは放置しておいて構わない。従って、この現像ノズルは、純水による洗浄を１回行えば、その後の保守（メンテナンス）作業はほとんど不要である
この現像装置が、純水ラインとノズル外部洗浄用ノズルとに純水を供給可能な純水源をさらに有していると、構成が簡単である。
【００２３】
また、純水ラインが現像ノズルに純水を供給している時に現像液ラインを遮断する現像液供給バルブをさらに有すると、使用前の現像液に洗浄用の純水が混入することが防げ、その後の現像処理が適切に行える。
【００２４】
これらの構成は、現像液ラインが、無機現像液を現像ノズルに供給するものである時に、特に効果的である。
【００２５】
本発明の現像ノズルの洗浄方法は、現像工程後の現像ノズルを現像ノズルバス内に配置するステップと、現像ノズルバス内に配置された現像ノズルに純水を供給して現像ノズルのノズル孔から前記純水を吐出させるステップと、現像ノズルバス内に設けられたノズル外部洗浄用ノズルから純水を噴射するステップと、を含む。現像ノズルのノズル孔から純水を吐出させるステップと、ノズル外部洗浄用ノズルから純水を噴射するステップとを同時に実施してもよい。
【発明の効果】
【００２６】
本発明によると、現像ノズル内を純水によって洗浄できるため、洗浄後の現像ノズル内に現像液が残留して乾燥することによる目詰まり等の不具合を回避することができる。その結果、良好な吐出状態を維持することができ、従って、ウェハー等の対象物の全面に均一に現像液を付着させることができ、対象物におけるパターン不良の発生を防止できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。
【００２８】
図１に本発明の現像装置の要部を模式的に示し、図２にその現像ノズルおよび現像ノズルバスの拡大図、図３にその現像ノズルの拡大図を示している。従来の現像装置および現像方法と同一の部分には同一の符号を付与し、説明を一部省略する。
【００２９】
図１に示す現像装置について説明すると、図４に示す従来の現像装置と同様に、スピンカップ５内にウェハー１を支持するウェハーホルダー２が配置され、スピンカップ５の下方のスピンモーター３と真空源４がウェハーホルダー１に接続されている。スピンカップ５の底部の２つの排出口には、ドレインタンク９Ａとミストトラップ１０がそれぞれ接続され、ミストトラップ１０には、排気ダンパー１１を介して局所排気部１２が接続されている。超純水源８Ａが、バルブ１５を介して裏面洗浄用ノズル１７と洗浄用ノズル１６に接続されている。
【００３０】
現像ノズル６は、図示しない駆動手段によって移動可能であり、先端にノズル孔２０を有し、現像液供給用バルブ１９を介してキャニスタータンク１３に接続されている。こうして、現像液ライン２４が構成されている。キャニスタータンク１３には不活性ガス源１４が接続されている。現像ノズル６の待機位置にある現像ノズルバス７には廃液口２１が設けられており、廃液口２１にはドレインタンク９Ｂが接続されている。
【００３１】
そして、本実施形態の現像ノズル６には、純水源８Ｂが接続されている。この純水源８Ｂと純水洗浄用バルブ１８Ｂを含む純水ライン２５Ａは、現像ノズル６の先端部付近で現像液ライン２４と合流している。また、純水源８Ｂは、純水洗浄用バルブ１８Ａおよびマニホールド２２を介して、現像ノズルバス７内に設けられたノズル外部洗浄用ノズル２３にも接続されて、もう１つの純水ライン２５Ｂを構成している。
【００３２】
この現像装置を用いてウェハー１の現像を行い現像ノズルを洗浄する方法を、表２に示している。
【００３３】
【表２】
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【００３４】
まず、現像ノズル６を待機位置（原点）、すなわち現像ノズルバス７内に収容しておき、スピンカップ５内のウェハーホルダー２上にウェハー１をセットする（ステップ１０１）。このとき、真空源４によって、ウェハー１をウェハーホルダー２上に吸着保持する。
【００３５】
現像ノズル６を、図示しない駆動手段によって、待機位置からウェハー１の中心の上方に移動する（ステップ１０２）。そこで、スピンモーター３によって低速回転でウェハーホルダー２を回転させつつ、現像液供給用バルブ１９を開いて、不活性ガス源１４からの窒素ガス等の不活性ガスの圧力によってキャニスタータンク１３内の現像液を現像ノズル６に供給する。こうして、現像液ライン２４から供給された現像液をノズル孔２０から吐出開始する（ステップ１０３）。現像液を吐出しながら現像ノズル６をウェハー１の中心の上方から外周の上方へ移動させることによって、現像液をウェハー１の表面全体に付着させる、いわゆる液盛りを行う（ステップ１０４）。なお、現像液の吐出動作（液盛り）中に、現像液を表面張力によってウェハー１上に静止保持しておくために、局所排気部１２による排気の影響を受けないように、ミストトラップ１０と局所排気部１２の間に位置する排気ダンパー１１によって排気圧力をコントロールしている。
【００３６】
続いて、現像液供給ノズル１９を閉じる、および／または不活性ガス源１４からの窒素ガス等の不活性ガスの供給を停止して、現像ノズル６のノズル孔２０からの現像液の吐出を停止する。そして、ウェハー１の外周の上方に位置する現像ノズル６を、ウェハー１の中心の上方に戻す。それから、ステップ１０３〜１０４を所定回数繰り返すことによって、所望の量の現像液をウェハー１の表面に付着させる。この繰り返し回数、すなわち現像液の吐出の回数は、レジストの膜厚、解像度、現像液の濃度、溶解速度等によって決められる。
【００３７】
所定回数の現像液の吐出が完了したら、現像液が付着したウェハー１およびウェハーホルダー２を静止させた状態で数秒から数十秒放置する一方、現像ノズル６を現像ノズルバス７に退避させる。そして、スピンモーター３がウェハー１およびウェハーホルダー２を高速回転させて、反応済の現像液および溶解したレジストを遠心力によってウェハー１の表面から除去する。除去された現像液やレジストは、スピンカップ５の内壁面によって受けられ、スピンカップ５の底部の排出口から、ドレイン（排液）としてドレインタンク９Ａに排出される。
【００３８】
それから、超純水源８Ａからバルブ１５を介して供給される超純水を、洗浄用ノズル１６からウェハー１の表面に噴射する。同時に、超純水源８Ａからバルブ１５を介して供給される超純水を、裏面洗浄用ノズル１７からウェハー１の裏面に噴射する。これによって、ウェハー１の表面の現像液と溶解したレジストを洗い流すとともに、ウェハー１の裏面に回り込んだ現像液を洗い流す。そして、超純水によって十分な洗浄が行われたら、スピンモーター３がウェハー１およびウェハーホルダー２を高速回転させて、ウェハー１の表面および裏面の水滴を吹き飛ばして乾燥させる（ステップ１０５）。高速回転するウェハー１はスピンカップ５内に収容されているため、現像液や洗浄水が外部に飛散して汚染するおそれはない。
【００３９】
以上の工程で現像作業が終了するため、ウェハー１をスピンカップ５から搬出（ステップ１０６）するとともに、純水ライン２５Ａおよび現像ノズル６の内部の洗浄を実施する（ステップ１０７）。これは、不活性ガスによる加圧によってキャニスタータンク１３から供給された現像液が残っているのを除去するための洗浄である。すなわち、純水洗浄用バルブ１８Ｂを開いて純水源８Ｂから純水ライン２５Ａに純水を供給し、現像ノズル６の内部を通ってノズル孔２０から吐出させることによって、純水ライン２５Ａおよび現像ノズル６の内部を純水により洗浄する。洗浄時間は数秒から数十秒であることが好ましい。なお、現像液供給用バルブ１９は閉じられているので、純水が現像液に混入することはない。
【００４０】
これと同時に、純水洗浄用バルブ１８Ａを開いて純水源８Ｂからマニホールド２２に純水を供給し、さらに、ノズル外部洗浄用ノズル２３から現像ノズルバス７の内面および現像ノズル６の外面に純水を吹き付けて洗浄する（ステップ１０８）。
【００４１】
このように、本実施形態によると、現像ノズル６の待機位置である現像ノズルバス１３内にて、ノズル外部洗浄用ノズル２３から純水を噴射することによって、現像ノズルバス７の内面および現像ノズル６の外面に付着していた現像液やその他の残留物を洗い流すことができる。これと同時に、純水ライン２５Ａおよび現像ノズル６に純水を供給してノズル孔２０から吐出することにより、純水ライン２５Ａ内および現像ノズル６内に残留した現像液やその他の残留物を洗い流すことができる。従って、現像ノズル６の内部およびノズル孔２０における無機塩結晶の析出を抑え、吐出不良を防ぐことができる。その結果、ウェハー１の全面にむらなく一様に現像液を付着させることができ、現像むらや未現像による欠陥のないパターンを形成することができる。
【００４２】
そして、現像ノズル６の外面や現像ノズルバス７の内面に付着した現像液、またはその他の付着物を、純水によって十分に洗い流すことができ、洗い流した排液は、排液口２１からよりドレインタンク９Ｂに排出することができ、排液口２１も純水で洗浄される。従って、排液口２１が無機塩結晶の析出によって塞がれることも防げる。
【００４３】
なお、洗浄後に現像ノズル６に純水が付着していても、純水は目詰まりなどの問題を生じないため、放置していて構わない。従って、現像ノズル６を常に濡れた状態に保つことや、現像ノズル６から常に、または間欠的に液体を吐出し続けることは必要ないので、現像装置の大掛かりな変更や複雑化を必要としない。
【００４４】
本実施形態では、現像液ライン２４の先端付近において純水ライン２５Ａが合流し、現像液ラインと純水ラインの共通の経路が形成されている。現像ノズル６に現像液を供給した後に表面張力によって現像液が残留しやすい現像液ライン２４の先端部は、純水ライン２５Ａから現像ノズル６に向かう純水が通過することによって洗浄される。従って、現像液が現像液ライン２４の先端部に残りにくく、目詰まりは発生しにくい。
【００４５】
表２においては、便宜上、ステップ１０７における現像ノズル６内面の洗浄と、ステップ１０８における現像ノズル６外面および現像ノズルバス７内面の洗浄とを別々に示しているが、実際には、ステップ１０７とステップ１０８は同時に行えばよい。
【００４６】
前記した実施形態では、現像ノズル６から現像液を吐出するために不活性ガスによる加圧を利用しているが、図示しないポンプ等を用いて現像ノズルから現像液を吐出する方法を採用してもよい。また、本発明の主な特徴である純水ライン２５Ａ以外の現像装置の細部については、前記した実施形態に限定されず、様々な設計変更が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】本発明の現像装置の要部を示す模式図である。
【図２】図１に示す現像装置の現像ノズルおよび現像ノズルバスの拡大図である。
【図３】図１，２に示す現像装置の現像ノズルの拡大図である。
【図４】従来の現像装置の一例の要部を示す模式図である。
【符号の説明】
【００４８】
１      ウェハー（対象物）
２      ウェハーホルダー（ホルダー）
３      スピンモーター
４      真空源
５      スピンカップ
６      現像ノズル
７      現像ノズルバス
８Ａ    超純水源
８Ｂ    純水源
９Ａ，９Ｂ      ドレインタンク
１０    ミストトラップ
１１    排気ダンパー
１２    局所排気部
１３    キャニスタータンク
１４    不活性ガス源
１５    バルブ
１６    洗浄用ノズル
１７    裏面洗浄用ノズル
１８Ａ，１８Ｂ      純水洗浄用バルブ
１９    現像液供給用バルブ
２０    ノズル孔
２１    廃液口
２２    マニホールド
２３    ノズル外部洗浄用ノズル
２４    現像液ライン
２５Ａ  純水ライン
２５Ｂ  もう１つの純水ライン
【図１】
2008186983.tif 000005
【図２】
2008186983.tif 000006
【図３】
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【図４】
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