(57)【要約】      （修正有）【課題】静電チャックからウエハを確実に離脱するウエハ離脱方法、ウエハ離脱装置および露光装置を提供する。【解決手段】ウエハＷの外周部を搬送アーム４３により所定距離Ｈだけ上昇させる。所定距離Ｈは、静電チャック２７に残留している状態のウエハＷが跳ね上がらない距離である。ウエハ検出センサ３５によりウエハＷが静電チャック２７に残留吸着していることが検出された場合には、ウエハＷの中央部を強制離脱手段２９の駆動部３３を駆動し、押圧部材３１を上方に移動する。最大移動量は押圧部材３１の上端が静電チャック２７の吸着面２７ｂから高さＨだけ突出する移動量とされている。【選択図】図７
2008192982.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
静電チャックの上面に吸着されるウエハを、搬送アームにより前記静電チャックから離脱するウエハ離脱方法において、
前記ウエハの外周部を前記搬送アームにより所定距離だけ上昇させた後、前記ウエハの中央部を強制離脱手段により上方に押圧することを特徴とするウエハ離脱方法。
【請求項２】
請求項１記載のウエハ離脱方法において、
前記所定距離は、前記静電チャックに残留吸着している状態の前記ウエハが跳ね上がらない距離であることを特徴とするウエハ離脱方法。
【請求項３】
静電チャックの上面に吸着されるウエハを、搬送アームにより前記静電チャックから離脱するウエハ離脱装置において、
前記ウエハの外周部を前記搬送アームにより所定距離だけ上昇させた後、前記ウエハの中央部を上方に押圧する強制離脱手段を有することを特徴とするウエハ離脱装置。
【請求項４】
請求項３記載のウエハ離脱装置において、
前記ウエハの外周部を前記搬送アームにより所定距離だけ上昇させた状態で前記ウエハが前記静電チャックに残留吸着しているか否かを検出する検出手段を有することを特徴とするウエハ離脱装置。
【請求項５】
請求項３または請求項４記載のウエハ離脱装置において、
前記所定距離は、前記静電チャックに残留吸着している状態の前記ウエハが跳ね上がらない距離であることを特徴とするウエハ離脱装置。
【請求項６】
ウエハを上面に吸着する静電チャックを備えたウエハステージと、
前記ウエハを前記静電チャックに搬送する搬送アームと、
前記ウエハの外周部を前記搬送アームにより所定距離だけ上昇させた後、前記ウエハの中央部を上方に押圧する強制離脱手段と、
を有することを特徴とする露光装置。
【請求項７】
請求項６記載の露光装置において、
前記ウエハステージに配置され、前記ウエハの外周部を前記搬送アームにより所定距離だけ上昇させた状態で前記ウエハが前記静電チャックに残留吸着しているか否かを検出する検出手段を有することを特徴とする露光装置。
【請求項８】
請求項６または請求項７記載の露光装置において、
前記所定距離は、前記静電チャックに残留吸着している状態の前記ウエハが跳ね上がらない距離であることを特徴とする露光装置。
【請求項９】
請求項６ないし請求項８のいずれか１項記載の露光装置において、
前記ウエハステージは、粗動ステージ上に配置される微動テーブルに前記静電チャックを配置してなり、前記粗動ステージに前記強制離脱手段を配置してなることを特徴とする露光装置。
【請求項１０】
請求項９記載の露光装置において、
前記強制離脱手段は、
前記静電チャックの上下方向に形成される貫通穴に挿入される押圧部材と、
前記粗動ステージに配置され前記押圧部材を上下方向に移動する駆動手段と、
を有することを特徴とする露光装置。
【請求項１１】
請求項７ないし請求項１０のいずれか１項記載の露光装置において、
前記検出手段は、前記静電チャックに配置されていることを特徴とする露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、静電チャックからウエハを離脱するためのウエハ離脱方法、ウエハ離脱装置および露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
真空雰囲気中において露光を行うＥＵＶ露光装置、電子線露光装置等の露光装置では、真空吸着チャックを使用できないため、通常、ウエハステージのチャックには静電チャックが用いられている。そして、搬送アームにより静電チャックへのウエハの搬送が行われる。
【特許文献１】特開平１０−５０７９６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、露光を終えたウエハを搬送アームにより静電チャックから搬出する時に、静電チャックの残留吸着力によりチャックからウエハが容易に剥離しない場合があり、このような場合には、搬送アームの力によりウエハが跳ね上がりウエハまたは装置を損傷するおそれがある。
本発明は、かかる従来の問題を解決するためになされたもので、静電チャックからウエハを確実に離脱することができるウエハ離脱方法、ウエハ離脱装置および露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
第１の発明のウエハ離脱方法は、静電チャックの上面に吸着されるウエハを、搬送アームにより前記静電チャックから離脱するウエハ離脱方法において、前記ウエハの外周部を前記搬送アームにより所定距離だけ上昇させた後、前記ウエハの中央部を強制離脱手段により上方に押圧することを特徴とする。
第２の発明のウエハ離脱方法は、第１の発明のウエハ離脱方法において、前記所定距離は、前記静電チャックに残留吸着している状態の前記ウエハが跳ね上がらない距離であることを特徴とする。
【０００５】
第３の発明のウエハ離脱装置は、静電チャックの上面に吸着されるウエハを、搬送アームにより前記静電チャックから離脱するウエハ離脱装置において、前記ウエハの外周部を前記搬送アームにより所定距離だけ上昇させた後、前記ウエハの中央部を上方に押圧する強制離脱手段を有することを特徴とする。
第４の発明のウエハ離脱装置は、第３の発明のウエハ離脱装置において、前記ウエハの外周部を前記搬送アームにより所定距離だけ上昇させた状態で前記ウエハが前記静電チャックに残留吸着しているか否かを検出する検出手段を有することを特徴とする。
【０００６】
第５の発明のウエハ離脱装置は、第３または第４の発明のウエハ離脱装置において、前記所定距離は、前記静電チャックに残留吸着している状態の前記ウエハが跳ね上がらない距離であることを特徴とする。
第６の発明の露光装置は、ウエハを上面に吸着する静電チャックを備えたウエハステージと、前記ウエハを前記静電チャックに搬送する搬送アームと、前記ウエハの外周部を前記搬送アームにより所定距離だけ上昇させた後、前記ウエハの中央部を上方に押圧する強制離脱手段とを有することを特徴とする。
【０００７】
第７の発明の露光装置は、第６の発明の露光装置において、前記ウエハステージに配置され、前記ウエハの外周部を前記搬送アームにより所定距離だけ上昇させた状態で前記ウエハが前記静電チャックに残留吸着しているか否かを検出する検出手段を有することを特徴とする。
第８の発明の露光装置は、第６または第７の発明の露光装置において、前記所定距離は、前記静電チャックに残留吸着している状態の前記ウエハが跳ね上がらない距離であることを特徴とする。
【０００８】
第９の発明の露光装置は、第６ないし第８のいずれか１の発明の露光装置において、前記ウエハステージは、粗動ステージ上に配置される微動テーブルに前記静電チャックを配置してなり、前記粗動ステージに前記強制離脱手段を配置してなることを特徴とする。
第１０の発明の露光装置は、第９の発明の露光装置において、前記強制離脱手段は、前記静電チャックの上下方向に形成される貫通穴に挿入される押圧部材と、前記粗動ステージに配置され前記押圧部材を上下方向に移動する駆動手段とを有することを特徴とする。
【０００９】
第１１の発明の露光装置は、第７ないし第１０のいずれか１の発明の露光装置において、前記検出手段は、前記静電チャックに配置されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明では、静電チャックからウエハを確実に離脱することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明の実施形態を図面を用いて詳細に説明する。
図１および図２は本発明の一実施形態を示している。この実施形態では本発明がＥＵＶ露光装置のウエハステージに適用される。
ウエハステージ１１は、粗動ステージ１３と微動テーブル１５とを有している。
粗動ステージ１３は、本体部１７を案内柱１９により案内され紙面に垂直な方向(Ｘ方向)に移動可能とされている。また、図示しない案内機構により紙面の左右方向(Ｙ方向)に移動可能とされている。粗動ステージ１３のＸ方向およびＹ方向への位置決め精度はμｍ程度の精度とされている。
【００１２】
微動テーブル１５は、粗動ステージ１３の本体部１７の上方に配置されている。微動テーブル１５は、粗動ステージ１３の本体部１７の両側に配置されるＺアクチュエータ２１により支持されている。Ｚアクチュエータ２１は、図２に示すように、三角状に３個(４個以上でも良い)配置されている。Ｚアクチュエータ２１は、エンコーダを内蔵しており微動テーブル１５を図の上下方向(Ｚ方向)に微動可能とされている。
【００１３】
微動テーブル１５は、ＸＹアクチュエータ２３によりＸ方向およびＹ方向に微動可能とされている。ＸＹアクチュエータ２３は、例えばボイスコイルモータからなり微動テーブル１５と粗動ステージ１３との間に３組以上配置されている。微動テーブル１５はＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸を中心にして回転可能とされている。すなわち、微動テーブル１５は６自由度(Ｘ、Ｙ、Ｚ、θｘ、θｙ、θｚ)で駆動可能とされている。微動テーブル１５の位置決め精度はｎｍ程度の精度とされている。
【００１４】
微動テーブル１５の外周には、微動テーブル１５の位置をレーザ光ＬＢにより測定するための移動鏡２５が配置されている。
微動テーブル１５の上面には静電チャック２７が配置されている。静電チャック２７は、ボルト(不図示)等により微動テーブル１５に固定されている。静電チャック２７の上面は、ウエハＷを吸着するための吸着面２７ｂとされている。吸着面２７ｂの内側には電極(不図示)が埋設されており、電極に電圧を印加することにより吸着面２７ｂに静電気が発生しウエハＷが吸着される。
【００１５】
粗動ステージ１３の本体部１７の上面には強制離脱機構２９が配置されている。強制離脱機構２９は押圧部材３１と駆動部３３とを有している。
押圧部材３１はピン状をしており、図２に示すように円形状の静電チャック２７の中心を中心にして三角状に３本配置されている。静電チャック２７には、押圧部材３１に対応する位置に、３箇所の貫通穴２７ｃが上下方向に形成されている。貫通穴２７ｃには押圧部材３１が挿入されている。貫通穴２７ｃの内径は押圧部材３１の外径より十分に大きくされ、微動テーブル１５の微動により静電チャック２７が押圧部材３１に干渉することが防止されている。
【００１６】
駆動部３３は粗動ステージ１３の本体部１７の上面に固定されている。駆動部３３は微動テーブル１５の中央部に形成される貫通穴１５ａ内に突出されている。駆動部３３は押圧部材３１を上下方向に移動する。駆動部３３には押圧部材３１を移動する例えばエアシリンダ(不図示)が配置されている。
静電チャックの貫通穴２７ｃの外側には、貫通穴２７ｄが上下方向に形成されている。貫通穴２７ｄにはウエハ検出センサ３５が配置されている。ウエハ検出センサ３５は、静電チャック２７の吸着面２７ｂにウエハＷが存在するか否かを検出する。なお、ウエハ検出センサ３５に静電容量センサ等のセンサを用いても良い。
【００１７】
図１において符号３７は制御部を示している。制御部３７は、ウエハステージ１１の静電チャック２７にウエハＷを搬送する搬送アーム３９の駆動を制御する。また、静電チャック２７からのウエハＷの離脱時に、ウエハ検出センサ３５からの信号を入力し、静電チャック２７の吸着面２７ｂにウエハＷが存在するか否かを検出する。そして、ウエハＷが存在する場合には、強制離脱機構２９を作動して押圧部材３１によりウエハＷの中央部を上方に押圧する。
【００１８】
図３は、搬送アーム３９の要部を示している。搬送アーム３９の先端には、ウエハＷを載置するエンドエフェクタ４１が形成されている。エンドエフェクタ４１は、本体部４１ａ、載置ピン４３、脱落防止ピン４５を有している。
本体部４１ａは、先端が開口される円弧状に形成されている。本体部４１ａの内径は、ウエハＷの外径より大きくされている。本体部４１ａの中央および先端には、半円状の突出部４１ｂが内側に突出して形成されている。突出部４１ｂには、ウエハＷを載置する載置ピン４３が上方に向けて突出されている。載置ピン４３の外側には、ウエハＷが載置ピン４３から脱落することを防止する脱落防止ピン４５が上方に向けて突出されている。脱落防止ピン４５の高さは、載置ピン４３の高さより例えば１ｍｍ程度大きくされている。
【００１９】
一方、静電チャック２７には、エンドエフェクタ４１の突出部４１ｂに対応する位置に、凹部２７ｅが形成されている。凹部２７ｅは、半円状をしており静電チャック２７の高さ方向に形成されている。凹部２７ｅの径は突出部４１ｂより大径とされている。また、静電チャック２７には、エンドエフェクタ４１の矢印Ａ方向への進入を許容する切欠部２７ｆが形成されている。切欠部２７ｆは静電チャック２７の底面側に水平方向に沿って形成されている。
【００２０】
上述した露光装置では、静電チャック２７へのウエハＷの搬入が以下述べるようにして行われる。
先ず、図４の(ａ)に示すように、ウエハＷの載置されたエンドエフェクタ４１を静電チャック２７の上方に沿って進入させ、静電チャック２７の所定の位置にウエハＷを位置させる。次に、(ｂ)に示すようにエンドエフェクタ４１を切欠部２７ｆまで下降することにより、ウエハＷを静電チャック２７の吸着面２７ｂに載置する。そして、静電チャック２７をオンして吸着面２７ｂにウエハＷを吸着する。また、同時に、(ｃ)に示すようにエンドエフェクタ４１を切欠部２７ｆに沿って退避する。
【００２１】
一方、静電チャック２７からのウエハＷの搬出が以下述べるようにして行われる。
図５は、制御部３７によるウエハＷの搬出動作を示すフローチャートである。
ステップＳ１：エンドエフェクタ４１を進入させる。図６の(ａ)に示すようにエンドエフェクタ４１を、静電チャック２７の切欠部２７ｆに沿って所定の位置まで進入させる。この状態では、静電チャック２７はオフとされている。
【００２２】
ステップＳ２：エンドエフェクタ４１を所定位置まで上昇する。この所定位置は、静電チャック２７に残留吸着している状態のウエハＷが跳ね上がらない位置とされている。図７に示すように、静電チャック２７の残留吸着力によりウエハＷが静電チャック２７の吸着面２７ｂに吸着している場合には、ウエハＷの外周部を載置ピン４３上に載置してエンドエフェクタ４１を上昇するとウエハＷの外周部が弾性変形する。そして、そのまま上昇すると、エンドエフェクタ４１の上昇力が静電チャック２７の残留吸着力を上回った位置でウエハＷが静電チャック２７から急激に離脱しウエハＷが跳ね上がる現象が生じる。そこで、この所定位置は、静電チャック２７に残留吸着している状態のウエハＷが跳ね上がらない位置とされている。すなわち、図７に示すように、載置ピン４３の上面が静電チャック２７の吸着面２７ｂから高さＨだけ突出するような位置とされている。この高さＨは、予め実験により求められており、この位置ではウエハＷの跳ね上がり現象は生じない。
【００２３】
ステップＳ３：ウエハ検出センサ３５からの信号を読み込む。この実施形態でウエハ検出センサ３５として使用される光電センサは、発光部(不図示)と受光部(不図示)とを備えている。そして、発光部からウエハＷに光を照射しウエハＷで反射してきた光を受光部で受光し、その受光量を信号として出力する。
ステップＳ４：ウエハＷが静電チャック２７に残留吸着しているか否かを判断する。図７に示すように、ウエハＷが静電チャック２７に残留吸着している場合には、ウエハＷとウエハ検出センサ３５との距離が小さくなり、光電センサからの信号が所定値より大きくなる。一方、図８に示すように、ウエハＷが静電チャック２７に残留吸着していない場合には、ウエハＷとウエハ検出センサ３５との距離が大きくなり、光電センサからの信号が所定値より小さくなる。従って、ウエハ検出センサ３５からの信号が予め定められた所定値より大きいか否かによりウエハＷが静電チャック２７に残留吸着しているか否かを判断することができる。
【００２４】
ステップＳ５：ステップＳ４においてウエハＷが静電チャック２７に残留吸着している場合には、強制離脱機構２９を作動する。図７に示す状態から強制離脱機構２９の駆動部３３を駆動し、押圧部材３１を上方に移動する。押圧部材３１の上方への最大移動量は、ウエハＷを強制離脱可能な移動量とされている。例えば、押圧部材３１の上端が静電チャック２７の吸着面２７ｂから高さＨだけ突出するような移動量とされている。
【００２５】
駆動部３３による押圧部材３１の押圧力は、微動テーブル１５に過剰な負荷が作用しないような所定値に設定されている。すなわち、高精度の位置決め機構を有する微動テーブル１５は除振機構(不図示)により除振率を高められている。また、微動テーブル１５は、自重キャンセル機構(不図示)によりその重量をキャンセルするように支持されている。従って、微動テーブル１５に過剰な負荷が作用するとこれらの機構が損傷するおそれがある。そこで、押圧部材３１の押圧力を微動テーブル１５に過剰な負荷が作用しないような所定値に設定している。
【００２６】
強制離脱機構２９の駆動部３３を駆動し、押圧部材３１を上方に移動すると、静電チャック２７へのウエハＷの残留吸着力が押圧部材３１の押圧力より小さい場合には、図９に示すように、押圧部材３１の上方への移動によりウエハＷが静電チャック２７の吸着面２７ｂから完全に離脱する。一方、ウエハＷの残留吸着力が押圧部材３１の押圧力より大きい場合には、ウエハＷは静電チャック２７の吸着面２７ｂに吸着された状態を維持する。
【００２７】
ステップＳ６：強制離脱機構２９の押圧部材３１を下方に移動して元の位置に戻す。
ステップＳ７：ウエハＷが静電チャック２７に残留吸着しているか否かを判断する。すなわち、ステップＳ５における強制離脱機構２９の作動後、所定時間経過後に、ウエハＷが静電チャック２７に残留吸着しているか否かを判断する。
ステップＳ８：ステップＳ７においてウエハＷが静電チャック２７に残留吸着していると判断した場合には、搬送アーム３９の駆動を停止する。ステップＳ５における強制離脱機構２９の作動により、通常であれば、図９に示すようにウエハＷが静電チャック２７の吸着面２７ｂから完全に離脱する。また、強制離脱機構２９の作動後、所定時間経過しているため、残留吸着力の低下によりウエハＷが静電チャック２７から離脱することが多い。従って、この時点でウエハＷが静電チャック２７に残留吸着している場合には、異常事態として搬送アーム３９の駆動を停止する。そして、主制御部(不図示)にエラーメッセージを出力する。これにより、微動テーブル１５に無理な負荷が作用することを確実に防止することができる。
【００２８】
ステップＳ９：ステップＳ７においてウエハＷが静電チャック２７に残留吸着していないと判断した場合には、エンドエフェクタ４１を、図６の(ｂ)に示すように上昇する。この上昇位置は、エンドエフェクタ４１を水平に移動しても静電チャック２７に干渉しない位置である。
ステップＳ１０：エンドエフェクタ４１を、図６の(ｃ)に示すように水平方向に移動して退避させる。
【００２９】
上述したステップＳ４において、ウエハＷが静電チャック２７に残留吸着していない場合には、強制離脱機構２９を作動することなく、ステップＳ９の処理に移る。
上述した露光装置では、ウエハＷの外周部を搬送アーム３９により所定距離だけ上昇させた状態でウエハＷが静電チャック２７に残留吸着しているか否かをウエハ検出センサ３５により検出し、残留吸着している場合に、ウエハＷの中央部を強制離脱機構２９により上方に押圧するようにしたので、静電チャック２７からウエハＷを確実に離脱することができる。
【００３０】
また、強制離脱機構２９の押圧部材３１の押圧力を、微動テーブル１５に過剰な負荷が作用しないような所定値に設定したので、微動テーブル１５の除振機構、自重キャンセル機構等が損傷するおそれを低減することができる。
(露光装置の実施形態)
図１０は、上述したＥＵＶ露光装置の全体を模式化して示している。なお、この実施形態において上述した実施形態と同一の要素には、同一の符号を付している。
【００３１】
この実施形態では、露光の照明光としてＥＵＶ光が用いられる。ＥＵＶ光は０．１〜４００ｎｍの間の波長を持つもので、この実施形態では特に１〜５０ｎｍ程度の波長が好ましい。投影系は像光学系システム１０１を用いたもので、ウエハＷ上にレチクル１０３によるパターンの縮小像を形成するものである。
ウエハＷ上に照射されるパターンは、レチクルステージ１０２の下側に静電チャック装置１０４を介して配置されている反射型のレチクル１０３により決められる。この反射型のレチクル１０３は、真空ロボットによって搬入および搬出される（真空ロボットの図示は省略する）。また、ウエハＷはウエハステージ１１の微動テーブル１５上に静電チャック２７を介して配置されている。典型的には、露光はステップ・スキャンによりなされる。
【００３２】
露光時の照明光として使用するＥＵＶ光は大気に対する透過性が低いので、ＥＵＶ光が通過する光経路は、適当な真空ポンプ１０７を用いて真空に保たれた真空チャンバ１０６に囲まれている。またＥＵＶ光はレーザプラズマＸ線源によって生成される。レーザプラズマＸ線源はレーザ源１０８（励起光源として作用）とキセノンガス供給装置１０９からなっている。レーザプラズマＸ線源は真空チャンバ１１０によって取り囲まれている。レーザプラズマＸ線源によって生成されたＥＵＶ光は真空チャンバ１１０の窓１１１を通過する。
【００３３】
放物面ミラー１１３は、キセノンガス放出部の近傍に配置されている。放物面ミラー１１３はプラズマによって生成されたＥＵＶ光を集光する。放物面ミラー１１３は集光光学系を構成し、ノズル１１２からのキセノンガスが放出される位置の近傍に焦点位置がくるように配置されている。ＥＵＶ光は放物面ミラー１１３の多層膜で反射し、真空チャンバ１１０の窓１１１を通じて集光ミラー１１４へと達する。集光ミラー１１４は反射型のレチクル１０３へとＥＵＶ光を集光、反射させる。ＥＵＶ光は集光ミラー１１４で反射され、レチクル１０３の所定の部分を照明する。すなわち、放物面ミラー１１３と集光ミラー１１４はこの装置の照明システムを構成する。
【００３４】
レチクル１０３は、ＥＵＶ光を反射する多層膜とパターンを形成するための吸収体パターン層を持っている。レチクル１０３でＥＵＶ光が反射されることによりＥＵＶ光は「パターン化」される。パターン化されたＥＵＶ光は像光学システム１０１を通じてウエハＷに達する。
この実施形態の像光学システム１０１は、凹面第１ミラー１１５ａ、凸面第２ミラー１１５ｂ、凸面第３ミラー１１５ｃ、凹面第４ミラー１１５ｄの４つの反射ミラーからなっている。各ミラー１１５ａ〜１１５ｄにはＥＵＶ光を反射する多層膜が備えられている。
【００３５】
レチクル１０３により反射されたＥＵＶ光は第１ミラー１１５ａから第４ミラー１１５ｄまで順次反射されて、レチクル１０３のパターンの縮小（例えば、１／４、１／５、１／６）された像を形成する。像光学系システム１０１は、像の側（ウエハＷの側）でテレセントリックになるようになっている。
レチクル１０３は可動のレチクルステージ１０２によって少なくともＸ−Ｙ平面内で支持されている。ウエハＷは、好ましくはＸ，Ｙ，Ｚ方向に可動なウエハステージ１１によって支持されている。ウエハＷ上のダイを露光するときには、ＥＵＶ光が照明システムによりレチクル１０３の所定の領域に照射され、レチクル１０３とウエハＷは像光学系システム１０１に対して像光学システム１０１の縮小率に従った所定の速度で動く。このようにして、レチクル１０３のパターンはウエハＷ上の所定の露光範囲（ダイに対して）に露光される。
【００３６】
露光の際には、ウエハＷ上のレジストから生じるガスが像光学システム１０１のミラー１１５ａ〜１１５ｄに影響を与えないように、ウエハＷはパーティション１１６の後ろに配置されることが望ましい。パーティション１１６は開口１１６ａを持っており、それを通じてＥＵＶ光がミラー１１５ｄからウエハＷへと照射される。パーティション１１６内の空間は真空ポンプ１１７により真空排気されている。このように、レジストに照射することにより生じるガス状のゴミがミラー１１５ａ〜１１５ｄあるいはレチクル１０３に付着するのを防ぐ。それゆえ、これらの光学性能の悪化を防いでいる。
【００３７】
この実施形態の露光装置では、静電チャック２７からウエハＷを確実に離脱することができるため、ウエハの跳ね上がり現象によりウエハＷおよび機器等が損傷することを有効に防止することができる。
(実施形態の補足事項)
以上、本発明を上述した実施形態によって説明してきたが、本発明の技術的範囲は上述した実施形態に限定されるものではなく、例えば、以下のような形態でも良い。
【００３８】
(１)上述した実施形態では、強制離脱機構２９の押圧部材３１の押圧力を、微動テーブル１５に過剰な負荷が作用しないような所定値に設定した例について説明したが、例えば、押圧部材に力センサを設けて、この力センサからの信号により押圧力を測定して強制離脱機構を制御するようにしても良い。
(２)上述した実施形態では、押圧部材３１の外側にウエハ検出センサ３５を配置した例について説明したが、例えば、押圧部材の内側にウエハ検出センサを配置しても良い。
【００３９】
(３)上述した実施形態では、ＥＵＶ露光装置に本発明を適用した例について説明したが、ウエハ検査装置等にも広く適用することができる。
(４)上述した実施形態では、ＥＵＶ露光装置に本発明を適用した例について説明したが、ウエハステージに静電チャックを有する装置全般に広く適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】本発明の露光装置の一実施形態の要部を示す説明図である。
【図２】図１を上方から見た状態を示す説明図である。
【図３】搬送アームのエンドエフェクタおよび静電チャックを示す説明図である。
【図４】静電チャックへのウエハの搬入方法を示す説明図である。
【図５】静電チャックからのウエハの搬出動作を示すフローチャートである。
【図６】静電チャックからのウエハの搬出動作を示す説明図である。
【図７】静電チャックにウエハが残留吸着されている状態を示す説明図である。
【図８】静電チャックにウエハが残留吸着されていない状態を示す説明図である。
【図９】静電チャックからウエハを剥離した状態を示す説明図である。
【図１０】図１の露光装置の全体を示す説明図である。
【符号の説明】
【００４１】
１１…ウエハステージ、１３…粗動ステージ、１５…微動テーブル、２７…静電チャック、２７ｃ…貫通穴、２９…強制離脱機構、３１…押圧部材、３３…駆動部、３５…ウエハ検出センサ、３７…制御部、３９…搬送アーム、Ｗ…ウエハ。
【図１】
2008192982.tif 000003
【図２】
2008192982.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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