(57)【要約】【課題】視角および使用環境湿度による色味変化が小さく、表示ムラが発生しにくい液晶表示装置を提供することを目的とする。【解決手段】液晶セルおよびその両側に配置された二枚の偏光板を有する液晶表示装置であって、Ｒｔｈが特定の関係を満たし、６０℃９５％ＲＨ２４時間における透湿度が２００g/m2以上１２００g/m2以下である少なくとも１枚の光学補償フィルムＡ及びＲｅが特定の関係を満たす少なくとも１枚の光学補償フィルムＢを含む液晶表示装置。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶セルおよびその両側に配置された二枚の偏光板を有する液晶表示装置であって、Ｒｔｈが下記式（１）〜（３）の関係を満たし、６０℃９５％ＲＨ２４時間における透湿度が２００g/m2以上１２００g/m2以下である少なくとも１枚の光学補償フィルムＡ及びＲｅが下記式（４）〜（６）の関係を満たす少なくとも１枚の光学補償フィルムＢを含む液晶表示装置。
５０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５４８）＜４００ｎｍ                ・・・式（１）
１＜Ｒｔｈ（４４６）／Ｒｔｈ（５４８）                ・・・式（２）
Ｒｔｈ（６２８）／Ｒｔｈ（５４８）＜１                ・・・式（３）
（式（１）〜（３）中、Ｒｔｈ（４４６）、Ｒｔｈ（５４８）、Ｒｔｈ（６２８）はそれぞれ波長４４６ｎｍ、５４８ｎｍ、６２８ｎｍの光における膜厚方向のレターデーション値（単位ｎｍ）を表す。）
２０ｎｍ＜Ｒｅ（５４８）＜３００ｎｍ                  ・・・式（４）
Ｒｅ（４４６）／Ｒｅ（５４８）＜１                    ・・・式（５）
１＜Ｒｅ（６２８）／Ｒｅ（５４８）                    ・・・式（６）
（式（４）〜（６）中、Ｒｅ（４４６）、Ｒｅ（５４８）、Ｒｅ（６２８）はそれぞれ波長４４６ｎｍ、５４８ｎｍ、６２８ｎｍの光における面内レターデーション値（単位ｎｍ（単位ｎｍ）を表す。）
【請求項２】
前記光学補償フィルムＢが、下記一般式（Ａ）で表される構造を含む樹脂を含有する高分子フィルムである、請求項１に記載の液晶表示装置。
【化１】
2008233689.tif 000041
（一般式（Ａ）中、Ｒ１は、水素原子又は炭素数１〜８の直鎖状、分鎖状若しくは環状のアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、置換基を有していてもよいナフチル基、置換基を有していてもよいアントラニル基、又は置換基を有していてもよいフェナントレニル基を表す。Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜４の直鎖状、分鎖状若しくは環状のアルキル基、炭素数１〜４の直鎖状若しくは分鎖状のアルコキシル基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、ニトロ基、アミノ基、水酸基、シアノ基又はチオール基を表す。ただし、Ｒ２およびＲ３は、同時に水素原子ではない。）
【請求項３】
前記光学補償フィルムＢが、下記一般式（Ｂ）で表される構造を含む樹脂を含有する高分子フィルムである、請求項１または２に記載の液晶表示装置。
【化２】
2008233689.tif 000042
（一般式（Ａ）中、Ｒ１は、水素原子又は炭素数１〜８の直鎖状、分鎖状若しくは環状のアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、置換基を有していてもよいナフチル基、置換基を有していてもよいアントラニル基、又は置換基を有していてもよいフェナントレニル基を表す。Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜４の直鎖状、分鎖状若しくは環状のアルキル基、炭素数１〜４の直鎖状若しくは分鎖状のアルコキシル基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、ニトロ基、アミノ基、水酸基、シアノ基又はチオール基を表す。ただし、Ｒ２およびＲ３は、同時に水素原子ではない。ｌは１以上の整数を表す。）
【請求項４】
前記光学補償フィルムＢが、下記一般式（Ｃ）で表される構造を含む樹脂を含有する高分子フィルムである、請求項１から３のいずれかに記載の液晶表示装置。
【化３】
2008233689.tif 000043
（一般式（Ｃ）中、Ｒ１、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜８の直鎖状、分鎖状若しくは環状のアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、置換基を有していてもよいナフチル基、置換基を有していてもよいアントラニル基、又は置換基を有していてもよいフェナントレニル基を表す。Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜４の直鎖状、分鎖状若しくは環状のアルキル基、炭素数１〜４の直鎖状若しくは分鎖状のアルコキシル基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、ニトロ基、アミノ基、水酸基、シアノ基又はチオール基を示す。ただし、Ｒ２およびＲ３は、同時に水素原子ではない。Ｒ７は、水素原子、炭素数１〜８の直鎖状、分鎖状若しくは環状のアルキル基、ベンジル基、シリル基、リン酸基、アシル基、ベンゾイル基、またはスルホニル基を示す。ｌ、ｍ、およびｎは１以上の整数を表す。）
【請求項５】
前記液晶表示装置の一方の偏光板が前記光学補償フィルムＡを含み、もう一方の偏光板が前記光学補償フィルムＢを含む請求項１から４のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項６】
光学補償フィルムＡを含む偏光板が視認者側、光学補償フィルムＢを含む偏光板がバックライト側に配置されている、請求項１〜５に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
光学補償フィルムＡおよび光学補償フィルムＢのうちの少なくとも１枚が偏光板保護フィルムを兼ねる、請求項１から６に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記液晶セルがＶＡモードである請求項１から７のいずれかに記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に関し、特に視野角特性に優れたＶＡモード液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、消費電力の小さい省スペースの画像表示装置として年々その用途が広がっている。従来、画像の視野角依存性が大きいことが液晶表示装置の大きな欠点であった。しかし、近年では高視野角液晶モードが実用化されており、これによってテレビ等の高品位の画像が要求される市場でも液晶表示装置の需要が急速に拡大しつつある。
ＶＡモード液晶表示装置は他の液晶表示モードに比べて一般にコントラストが高いというメリットがあるが、視角によってコントラストおよび色味の変化が大きいという問題を有していた。
この問題を解決するために様々な光学特性を有する光学補償フィルム及びその組み合わせ方法が提案されている。例えば特許文献１には長波長ほど面内レターデーションが大きい特性を有するポリカーボネートフィルムと短波長ほど厚み方向位相差が大きい特性を有する位相差フィルムを組み合わせて用いることにより、黒表示を鮮明かつ無彩色にする方法が開示されている。しかし、この方法では位相差フィルムと偏光子の間の密着性を確保することが難しく、偏光板保護フィルム上に位相差フィルムを貼りあわせる必要がある。このため、偏光板保護フィルムの有する位相差が障害となり十分な改良効果が得られないという問題を有していた。
これに対して、特許文献２には長波長ほど面内レターデーションが大きい特性を有するポリビニルアルコール系ポリマーフィルムを直接偏光子と貼り合わせた偏光板およびトリアセチルセルロースフィルム上にポリイミド層を塗布した光学補償フィルムを直接偏光子と貼り合わせた偏光板を組み合わせることにより、斜め方向のコントラストが高く、視角による色味変化の小さい液晶表示装置を得る方法が開示されている。
しかし、この方法は使用環境湿度による色味変化が大きいという問題を有しており、さらなる改良が求められていた。
【０００３】
【特許文献１】国際公開第２００３／０３２０６０号パンフレット
【特許文献２】特開２００６−２２０７２６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の目的は、視角および使用環境湿度による色味変化が小さく、表示ムラが発生しにくい液晶表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは鋭意検討した結果、上記課題は以下の手段によって解決されることを見出し、本発明を完結するに至った。
〔１〕
液晶セルおよびその両側に配置された二枚の偏光板を有する液晶表示装置であって、Ｒｔｈが下記式（１）〜（３）の関係を満たし、６０℃９５％ＲＨ２４時間における透湿度が２００g/m2以上１２００g/m2以下である少なくとも１枚の光学補償フィルムＡ及びＲｅが下記式（４）〜（６）の関係を満たす少なくとも１枚の光学補償フィルムＢを含む液晶表示装置。
５０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５４８）＜４００ｎｍ                ・・・式（１）
１＜Ｒｔｈ（４４６）／Ｒｔｈ（５４８）                ・・・式（２）
Ｒｔｈ（６２８）／Ｒｔｈ（５４８）＜１                ・・・式（３）
（式（１）〜（３）中、Ｒｔｈ（４４６）、Ｒｔｈ（５４８）、Ｒｔｈ（６２８）はそれぞれ波長４４６ｎｍ、５４８ｎｍ、６２８ｎｍの光における膜厚方向のレターデーション値（単位ｎｍ）を表す。）
２０ｎｍ＜Ｒｅ（５４８）＜３００ｎｍ                  ・・・式（４）
Ｒｅ（４４６）／Ｒｅ（５４８）＜１                    ・・・式（５）
１＜Ｒｅ（６２８）／Ｒｅ（５４８）                    ・・・式（６）
（式（４）〜（６）中、Ｒｅ（４４６）、Ｒｅ（５４８）、Ｒｅ（６２８）はそれぞれ波長４４６ｎｍ、５４８ｎｍ、６２８ｎｍの光における面内レターデーション値（単位ｎｍ（単位ｎｍ）を表す。）
〔２〕
前記光学補償フィルムＢが、下記一般式（Ａ）で表される構造を含む樹脂を含有する高分子フィルムである、〔１〕に記載の液晶表示装置。
【化１】
2008233689.tif 000002
（一般式（Ａ）中、Ｒ１は、水素原子又は炭素数１〜８の直鎖状、分鎖状若しくは環状のアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、置換基を有していてもよいナフチル基、置換基を有していてもよいアントラニル基、又は置換基を有していてもよいフェナントレニル基を表す。Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜４の直鎖状、分鎖状若しくは環状のアルキル基、炭素数１〜４の直鎖状若しくは分鎖状のアルコキシル基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、ニトロ基、アミノ基、水酸基、シアノ基又はチオール基を表す。ただし、Ｒ２およびＲ３は、同時に水素原子ではない。）
〔３〕
前記光学補償フィルムＢが、下記一般式（Ｂ）で表される構造を含む樹脂を含有する高分子フィルムである、〔１〕または〔２〕に記載の液晶表示装置。
【化２】
2008233689.tif 000003
（一般式（Ａ）中、Ｒ１は、水素原子又は炭素数１〜８の直鎖状、分鎖状若しくは環状のアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、置換基を有していてもよいナフチル基、置換基を有していてもよいアントラニル基、又は置換基を有していてもよいフェナントレニル基を表す。Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜４の直鎖状、分鎖状若しくは環状のアルキル基、炭素数１〜４の直鎖状若しくは分鎖状のアルコキシル基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、ニトロ基、アミノ基、水酸基、シアノ基又はチオール基を表す。ただし、Ｒ２およびＲ３は、同時に水素原子ではない。ｌは１以上の整数を表す。）
〔４〕
前記光学補償フィルムＢが、下記一般式（Ｃ）で表される構造を含む樹脂を含有する高分子フィルムである、〔１〕から〔３〕のいずれかに記載の液晶表示装置。
【化３】
2008233689.tif 000004
（一般式（Ｃ）中、Ｒ１、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜８の直鎖状、分鎖状若しくは環状のアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、置換基を有していてもよいナフチル基、置換基を有していてもよいアントラニル基、又は置換基を有していてもよいフェナントレニル基を表す。Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜４の直鎖状、分鎖状若しくは環状のアルキル基、炭素数１〜４の直鎖状若しくは分鎖状のアルコキシル基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、ニトロ基、アミノ基、水酸基、シアノ基又はチオール基を示す。ただし、Ｒ２およびＲ３は、同時に水素原子ではない。Ｒ７は、水素原子、炭素数１〜８の直鎖状、分鎖状若しくは環状のアルキル基、ベンジル基、シリル基、リン酸基、アシル基、ベンゾイル基、またはスルホニル基を示す。ｌ、ｍ、およびｎは１以上の整数を表す。）
〔５〕
前記液晶表示装置の一方の偏光板が前記光学補償フィルムＡを含み、もう一方の偏光板が前記光学補償フィルムＢを含む〔１〕から〔４〕のいずれかに記載の液晶表示装置。
〔６〕
光学補償フィルムＡを含む偏光板が視認者側、光学補償フィルムＢを含む偏光板がバックライト側に配置されている、〔１〕〜〔５〕に記載の液晶表示装置。
〔７〕
光学補償フィルムＡおよび光学補償フィルムＢのうちの少なくとも１枚が偏光板保護フィルムを兼ねる、〔１〕から〔６〕に記載の液晶表示装置。
〔８〕
前記液晶セルがＶＡモードである〔１〕から〔７〕のいずれかに記載の液晶表示装置。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、視角および使用環境湿度による色味変化が小さく表示ムラが発生しにくい液晶表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
以下において、本発明の内容について詳細に説明する。尚、本願明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
【０００８】
本発明の液晶表示装置は、透湿度が特定の範囲にあり短波長ほどＲｔｈが大きい特性を有する光学補償フィルムＡと、長波長ほどＲｅが大きい特性を有する光学補償フィルムＢを有し、光学補償フィルムＡおよび光学補償フィルムＢがいずれも偏光子として使用されるポリビニルアルコールと十分な密着性が得られる程度に親水的であることに特長がある。
従来、上記のように一定の親水性を有するフィルムは使用環境湿度により光学補償性能が大きく変化することが問題であったが、本発明においては、光学補償フィルムＡの透湿度を特定の範囲に制御することにより、光学補償フィルムＡの環境湿度による光学補償性能変化と光学補償フィルムＢの環境湿度による光学補償能変化を相殺させ、上記のような親水性を有する光学補償フィルムを用いながらも、使用環境湿度による表示性能変化が小さくかつ表示ムラが発生しにくい液晶表示装置を提供するものである。
以下に、光学補償フィルムＡおよびこれを用いた偏光板（以下偏光板Ａと称す）、光学補償フィルムＢおよびこれを用いた偏光板（以下偏光板Ｂと称す）、液晶表示装置の構成、の順に、本発明の液晶表示装置について詳しく説明する。
【０００９】
＜光学補償フィルムＡ＞
［フィルムのレターデーション］
本発明に用いられる光学補償フィルムＡのレターデーションは下記式（１）〜（３）の関係を満たす。
５０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５４８）＜４００ｎｍ                ・・・式（１）
１＜Ｒｔｈ（４４６）／Ｒｔｈ（５４８）                ・・・式（２）
Ｒｔｈ（６２８）／Ｒｔｈ（５４８）＜１                ・・・式（３）
（式（１）〜（３）中、Ｒｔｈ（４４６）、Ｒｔｈ（５４８）、Ｒｔｈ（６２８）はそれぞれ波長４４６ｎｍ、５４８ｎｍ、６２８ｎｍの光における膜厚方向のレターデーション値（単位ｎｍ）を表す。）
式（１）においてＲｔｈ（５４８）は７０ｎｍ〜３５０ｎｍが好ましく、９０ｎｍ〜３００ｎｍがより好ましい。
また、式（２）は１．０３＜Ｒｔｈ（４４６）／Ｒｔｈ（５４８）が好ましく、１．０５＜Ｒｔｈ（４４６）／Ｒｔｈ（５４８）がより好ましい。
また、式（３）はＲｔｈ（６２８）／Ｒｔｈ（５４８）＜０．９９が好ましく、Ｒｔｈ（６２８）／Ｒｔｈ（５４８）＜０．９８がより好ましい。
【００１０】
本明細書において、Ｒｅ(λ)、Ｒｔｈ(λ)は各々、波長λにおける面内のレターデーションおよび厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅ(λ)はＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨまたはＷＲ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。
【００１１】
測定されるフィルムが１軸または２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ(λ)は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨまたはＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨまたはWRが算出する。
【００１２】
上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨまたはＷＲが算出する。
尚、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の数式（１）及び数式（２）よりＲｔｈを算出することもできる。
【００１３】
数式（１）
【００１４】
【数１】
2008233689.tif 000005
【００１５】
上記のＲｅ(θ)は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値をあらわす。
数式（１）におけるｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。ｄはフィルムの膜厚を表す。
【００１６】
数式（２）
【００１７】
【数２】
2008233689.tif 000006
【００１８】
測定されるフィルムが１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ(λ)は前記Ｒｅ(λ)を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨまたはＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−５０度から＋５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨまたはWRが算出する。
【００１９】
上記の測定において、平均屈折率の仮定値は  ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ  ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ,ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：  セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨまたはＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ、ｎｙ、ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。
【００２０】
［フィルムの透湿度］
本発明の光学補償フィルムＡの６０℃９５％ＲＨ２４時間における透湿度は２００ｇ／ｍ２以上１，２００ｇ／ｍ２以下である。好ましくは、４００ｇ／ｍ２以上１，１００ｇ／ｍ２以下であり、より好ましくは６００ｇ／ｍ２以上１，１００ｇ／ｍ２以下である。
透湿度はＪＩＳ  Ｚ  ０２０８に記載の方法に則り、各試料の透湿度を測定し、面積１ｍ２あたり２４時間で蒸発する水分量（ｇ）として算出することができる。
光学補償フィルムＡの透湿度が１，２００ｇ／ｍ２より大きいと使用環境湿度による光学補償フィルムＢの光学補償性能変化が支配的となる。一方、２００ｇ／ｍ２より小さいと光学補償フィルムＡの使用環境湿度による光学補償性能変化が支配的となり、いずれの場合も、使用環境湿度による液晶表示装置の色味変化が大きくなり好ましくない。
光学補償フィルムＡの透湿度を上記範囲に制御することにより、光学補償フィルムＡの性能変化と光学補償フィルムＢの性能変化を相殺させ、使用環境湿度による色味変化が小さい液晶表示装置が得られる。さらに、透湿度を上記範囲に制御することにより、連続点灯時に液晶パネルの反りに起因する表示ムラを抑制できる効果もある。透湿度は後述する透湿度低減剤を用いることにより上記範囲に制御することができる。
【００２１】
[光学補償フィルムＡに使用されるポリマーフィルム]
本発明の光学補償フィルムＡに使用されるポリマーフィルムとしては、偏光子に使用されるポリビニルアルコールと一定の親和性を有するポリマーであれば様々なポリマーフィルムが使用できるが、原材料が安価であることおよび偏光板加工適性の点からセルロースアシレートを主として含むセルロースアシレートフィルムが特に好ましい。
セルロースアシレートを「主として含む」とはフィルム総重量に対してセルロースアシレートが、例えば、７０質量％以上、好ましくは、８０質量％以上含まれていることを示す。本明細書において以下「主として含む」とは同様の意味を表すものとする。
【００２２】
［セルロースアシレート］
次に、本発明に用いることのできるセルロースアシレートについて説明する。
セルロースアシレートの置換度は、セルロースの構成単位（（β）１，４−グリコシド結合しているグルコース）に存在している、３つの水酸基がアシル化されている割合を意味する。置換度（アシル化度）は、セルロースの構成単位質量当りの結合脂肪酸量を測定して算出することができる。測定方法は、「ＡＳＴＭ  Ｄ８１７−９１」に準じて実施する。
【００２３】
本発明におけるセルロースアシレートは、アセチル置換度が２．５０〜３．００であるセルロースアセテートが好ましい。前記アセチル置換度は２．７０〜２．９７がさらに好ましい。
【００２４】
本発明に用いられるセルロースアシレートは、３５０〜８００の質量平均重合度を有することが好ましく、３７０〜６００の質量平均重合度を有することがさらに好ましい。また本発明で用いられるセルロースアシレートは、７０,０００〜２３０,０００の数平均分子量を有することが好ましく、７５,０００〜２３０,０００の数平均分子量を有することがさらに好ましく、７８,０００〜１２０,０００の数平均分子量を有することが最も好ましい。
【００２５】
本発明に用いられるセルロースアシレートは、アシル化剤として酸無水物や酸塩化物を用いて合成できる。前記アシル化剤が酸無水物である場合は、反応溶媒として有機酸（例えば、酢酸）や塩化メチレンが使用される。また、触媒として、硫酸のようなプロトン性触媒を用いることができる。アシル化剤が酸塩化物である場合は、触媒として塩基性化合物を用いることができる。工業的に最も一般的な合成方法では、セルロースをアセチル基および他のアシル基に対応する有機酸（酢酸、プロピオン酸、酪酸）またはそれらの酸無水物（無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸）を含む混合有機酸成分でエステル化してセルロースエステルを合成する。
【００２６】
この方法においては、綿花リンターや木材パルプのようなセルロースは、酢酸のような有機酸で活性化処理した後、硫酸触媒の存在下で、上記のような有機酸成分の混合液を用いてエステル化する場合が多い。有機酸無水物成分は、一般にセルロース中に存在する水酸基の量に対して過剰量で使用する。このエステル化処理では、エステル化反応に加えてセルロース主鎖（（β）１，４−グリコシド結合）の加水分解反応（解重合反応）が進行する。主鎖の加水分解反応が進むとセルロースエステルの重合度が低下し、製造するセルロースエステルフィルムの物性が低下する。そのため、反応温度のような反応条件は、得られるセルロースエステルの重合度や分子量を考慮して決定することが好ましい。
【００２７】
重合度の高い（分子量の大きい）セルロースエステルを得るためには、エステル化反応工程における最高温度を５０℃以下に調節することが重要である。最高温度は、好ましくは３５〜５０℃、さらに好ましくは３７〜４７℃に調節する。反応温度が３５℃以上であれば、エステル化反応が円滑に進行するので好ましい。また、反応温度が５０℃以下であれば、セルロースエステルの重合度が低下するなどの不都合が生じないので好ましい。
【００２８】
エステル化反応の後、温度上昇を抑制しながら反応を停止すると、さらに重合度の低下を抑制でき、高い重合度のセルロースエステルを合成できる。すなわち、反応終了後に反応停止剤（例えば、水、酢酸）を添加すると、エステル化反応に関与しなかった過剰の酸無水物は、加水分解して対応する有機酸を副成する。この加水分解反応は激しい発熱を伴い、反応装置内の温度が上昇する。反応停止剤の添加速度が大きすぎることがなければ、反応装置の冷却能力を超えて急激に発熱して、セルロース主鎖の加水分解反応が著しく進行し、得られるセルロースエステルの重合度が低下するなどの問題が生じることはない。また、エステル化の反応中に触媒の一部はセルロースと結合しており、その大部分は反応停止剤の添加中にセルロースから解離する。このとき反応停止剤の添加速度が大きすぎなければ、触媒が解離するために充分な反応時間が確保され、触媒の一部がセルロースに結合した状態で残るなどの問題は生じにくい。強酸の触媒が一部結合しているセルロースエステルは安定性が非常に悪く、製品の乾燥時の熱などで容易に分解して重合度が低下する。これらの理由により、エステル化反応の後、好ましくは４分以上、さらに好ましくは４〜３０分の時間をかけて反応停止剤を添加して、反応を停止することが望ましい。なお、反応停止剤の添加時間が３０分以下であれば、工業的な生産性の低下などの問題が生じないので好ましい。
【００２９】
反応停止剤としては、一般に酸無水物を分解する水やアルコールが用いられている。ただし、本発明では、各種有機溶媒への溶解性が低いトリエステルを析出させないために、水と有機酸との混合物が、反応停止剤として好ましく用いられる。以上のような条件でエステル化反応を実施すると、質量平均重合度が５００以上である高分子量セルロースエステルを容易に合成することができる。
【００３０】
［波長分散制御剤］
本発明におけるセルロースアシレート等のポリマーフィルムは波長分散制御剤を含有することが好ましい。ここで、「波長分散制御剤」とはフィルムのレターデーションの波長分散を調節する化合物である。
【００３１】
本発明における波長分散制御剤は、２５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長範囲に吸収極大を有するものであることが好ましい。さらに好ましくは、２６０ｎｍ〜３９０ｎｍの波長範囲に吸収極大を有するものである。
本発明において波長分散調節剤の吸収極大は、メチレンクロライド、メタノールまたはテトラヒドロフランに０．０１ｇ/Ｌ〜０．１ｇ/Ｌの濃度で溶解し、（株）島津製作所製の分光光度計UV-3500等を用いて吸収スペクトルを測定することにより求めることができる。
【００３２】
本発明に好ましく用いられる波長分散制御剤の具体例としては、一般式（ＩＩＩ）〜（ＶＩ）で示される化合物が好ましく、一般式（ＩＩＩ）で示される化合物がより好ましい。
【００３３】
【化４】
2008233689.tif 000007
【００３４】
（一般式（ＩＩＩ）中、Ｑ1およびＱ2はそれぞれ芳香族環を表す。Ｘは置換基を表し、Ｙは酸素原子、硫黄原子または窒素原子を表す。ＸＹは水素原子であっても良い。）
【００３５】
Ｑ1およびＱ2の表す芳香族環としてはベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環等を挙げることができ、ベンゼン環が好ましい。
Ｑ1およびＱ2はそれぞれ、上記「ＸＹ」以外の置換基を有していてもよい。
Ｑ1およびＱ2はそれぞれ単環であっても、縮合環であってもよいが、単環が好ましい。Ｘが表す置換基としてはヒドロキシル基、アルコキシ基、アミノ基を挙げることができ、ヒドロキシル基が好ましい。
一般式（ＩＩＩ）で示される化合物は、ベンゾフェノン系化合物であることが好ましい。
【００３６】
【化５】
2008233689.tif 000008
【００３７】
（一般式（ＩＶ）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5はそれぞれ一価の有機基であり、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3の少なくとも１つは総炭素原子数１０〜２０の無置換の分岐または直鎖のアルキル基である。）
【００３８】
【化６】
2008233689.tif 000009
【００３９】
（一般式（Ｖ）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ4およびＲ5はそれぞれ一価の有機基であり、Ｒ6は分岐のアルキル基である。）
【００４０】
一般式（ＶＩ）及び（Ｖ）のＲ4およびＲ5における一価の有機基としてはアルキル基、ハロゲン基、ヒドロキシル基、アミノ基を挙げることができ、ハロゲン基が好ましい。
【００４１】
また、特開２００３−３１５５４９号公報に記載されている、一般式（ＶＩ）で表される化合物も好ましく使用することができる。
【００４２】
【化７】
2008233689.tif 000010
【００４３】
（一般式（ＶＩ）中、Ｒ0およびＲ1はそれぞれ水素原子、炭素原子数１〜２５のアルキル基、炭素原子数７〜９のフェニルアルキル基、無置換または炭素原子数１〜４のアルキル基置換のフェニル基、置換または無置換のオキシカルボニル基、もしくは置換または無置換のアミノカルボニル基を表す。Ｒ2〜Ｒ5およびＲ19〜Ｒ23はそれぞれ水素原子、もしくは炭素原子数２〜２０の置換または無置換のアルキル基を表す。）
【００４４】
一般式（ＩＩＩ）で示される化合物としては、例えば、ベンゾフェノン系化合物が挙げられる、例えば住友化学社製Sumisorbシリーズ等を好ましく用いることができる。
【００４５】
以下に一般式（ＩＶ）〜（ＶＩ）で表される化合物の好ましい具体例を記載するが、本発明に用いることができる化合物はこれらの具体例に限定されるものではない。
２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン、ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）、（２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、（２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール
【００４６】
また、その他にも旭電化、プラスチック用添加剤概要、「アデカスタブ」のカタログにある光安定剤も使用できる。チバ・スペシャル・ケミカルズのチヌビン製品案内にある光安定剤、紫外線吸収剤も使用できる。SHIPROKASEI KAISYAのカタログにあＳＥＥＳＯＲＢ、ＳＥＥＮＯＸ、ＳＥＥＴＥＣなども使用できる。城北化学工業のＵＶ吸収剤、酸化防止剤も使用できる。共同薬品のＶＩＯＳＯＲＢ、吉富製薬の紫外線吸収剤も使用できる。
【００４７】
一般式（ＩＶ）〜（ＶＩ）で表される化合物は公知の方法により製造できる。例えば特公昭４４-２９６２０号記載の方法あるいはこれに準じた方法によって得ることができる。
【００４８】
次に下記一般式（ＶＩＩ）で表される波長分散制御剤について詳しく説明する。
一般式（ＶＩＩ）  Ｑ1−Ｑ2−ＯＨ
（式中、Ｑ1は１，３，５−トリアジン環、Ｑ2は芳香族環を表す。）
一般式（ＶＩＩ）としてさらに好ましくは下記一般式（ＶＩＩ−Ａ）で表される化合物である。
【００４９】
一般式（ＶＩＩ−Ａ）：
【００５０】
【化８】
2008233689.tif 000011
【００５１】
一般式（ＶＩＩ−Ａ）中、Ｒ1 は炭素原子数１〜１８のアルキル基；炭素原子数５〜１２のシクロアルキル基；炭素原子数３〜１８のアルケニル基；フェニル基；フェニル基、ＯＨ、炭素原子数１〜１８のアルコキシ基、炭素原子数５〜１２のシクロアルコキシ基、炭素原子数３〜１８のアルケニルオキシ基、ハロゲン原子、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＯＲ4、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ5、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−Ｒ6、−ＣＯ−ＮＨ2、−ＣＯ−ＮＨＲ7、−ＣＯ−Ｎ（Ｒ7）（Ｒ8）、ＣＮ、ＮＨ2、ＮＨＲ7、−Ｎ（Ｒ7）（Ｒ8）、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ5、フェノキシ基、炭素原子数１〜１８のアルキル基で置換されたフェノキシ基、フェニル−炭素原子数１〜４のアルコキシ基、炭素原子数６〜１５のビシクロアルコキシ基、炭素原子数６〜１５のビシクロアルキルアルコキシ基、炭素原子数６〜１５のビシクロアルケニルアルコキシ基、または炭素原子数６〜１５のトリシクロアルコキシ基で置換された炭素原子数１〜１８のアルキル基；ＯＨ、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数２〜６のアルケニル基または−Ｏ−ＣＯ−Ｒ5 で置換された炭素原子数５〜１２のシクロアルキル基；グリシジル基；−ＣＯ−Ｒ9 または−ＳＯ2 −Ｒ10を表すか；あるいはＲ1 は１以上の酸素原子で中断されたおよび／またはＯＨ、フェノキシ基もしくは炭素原子数７〜１８のアルキルフェノキシ基で置換された炭素原子数３〜５０のアルキル基を表すか；あるいはＲ1は−Ａ；−ＣＨ2−ＣＨ（ＸＡ）−ＣＨ2−Ｏ−Ｒ12；−ＣＲ13Ｒ'13−（ＣＨ2）m−Ｘ−Ａ；−ＣＨ2−ＣＨ（ＯＡ）−Ｒ14；−ＣＨ2−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ2−ＸＡ；
【００５２】
【化９】
2008233689.tif 000012
【００５３】
−ＣＲ15Ｒ'15−Ｃ（＝ＣＨ2）−Ｒ"15；−ＣＲ13Ｒ'13−（ＣＨ2）m−ＣＯ−Ｘ−Ａ；−ＣＲ13Ｒ'13−（ＣＨ2）m−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ15Ｒ'15−Ｃ（＝ＣＨ2）−Ｒ"15または−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ15Ｒ'15−Ｃ（＝ＣＨ2）−Ｒ"15（式中、Ａは−ＣＯ−ＣＲ16＝ＣＨ−Ｒ17を表す。）で表される定義の一つを表し；基Ｒ2は、互いに独立して、炭素原子数６〜１８のアルキル基；炭素原子数２〜６のアルケニル基；フェニル基；炭素原子数７〜１１のフェニルアルキル基；ＣＯＯＲ4；ＣＮ；−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ5；ハロゲン原子；トリフルオロメチル基；−Ｏ−Ｒ3を表し；Ｒ3はＲ1に対して与えられた定義を表し；Ｒ4は炭素原子数１〜１８のアルキル基；炭素原子数３〜１８のアルケニル基；フェニル基；炭素原子数７〜１１のフェニルアルキル基；炭素原子数５〜１２のシクロアルキル基を表すか；あるいはＲ4は１以上の−Ｏ−、−ＮＨ−、−ＮＲ7−、−Ｓ−で中断されたおよびＯＨ、フェノキシ基もしくは炭素原子数７〜１８のアルキルフェノキシ基で置換されていてもよい、炭素原子数３〜５０のアルキル基を表し；Ｒ5はＨ；炭素原子数１〜１８のアルキル基；炭素原子数２〜１８のアルケニル基；炭素原子数５〜１２のシクロアルキル基；フェニル基；炭素原子数７〜１１のフェニルアルキル基；炭素原子数６〜１５のビシクロアルキル基；炭素原子数６〜１５のビシクロアルケニル基；炭素原子数６〜１５のトリシクロアルキル基を表し；Ｒ6はＨ；炭素原子数１〜１８のアルキル基；炭素原子数３〜１８のアルケニル基；フェニル基；炭素原子数７〜１１のフェニルアルキル基；炭素原子数５〜１２のシクロアルキル基を表し；Ｒ7およびＲ8は互いに独立して炭素原子数１〜１２のアルキル基；炭素原子数３〜１２のアルコキシアルキル基；炭素原子数４〜１６のジアルキルアミノアルキル基を表すか；または炭素原子数５〜１２のシクロアルキル基を表し；あるいはＲ7およびＲ8は一緒になって炭素原子数３〜９のアルキレン基、炭素原子数３〜９のオキサアルキレン基または炭素原子数３〜９のアザアルキレン基を表し；Ｒ9は炭素原子数１〜１８のアルキル基；炭素原子数２〜１８のアルケニル基；フェニル基；炭素原子数５〜１２のシクロアルキル基；炭素原子数７〜１１のフェニルアルキル基；炭素原子数６〜１５のビシクロアルキル基；炭素原子数６〜１５のビシクロアルキルアルキル基、炭素原子数６〜１５のビシクロアルケニル基；または炭素原子数６〜１５のトリシクロアルキル基を表し；Ｒ10は炭素原子数１〜１２のアルキル基；フェニル基；ナフチル基；または炭素原子数７〜１４のアルキルフェニル基を表し；基Ｒ11は互いに独立してＨ；炭素原子数１〜１８のアルキル基；炭素原子数３〜６のアルケニル基；フェニル基；炭素原子数７〜１１のフェニルアルキル基；ハロゲン原子；炭素原子数１〜１８のアルコキシ基を表し；Ｒ12は炭素原子数１〜１８のアルキル基；炭素原子数３〜１８のアルケニル基；フェニル基；炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基、炭素原子数３〜８のアルケノキシ基、ハロゲン原子またはトリフルオロメチル基で１〜３回置換されたフェニル基を表すか；または炭素原子数７〜１１のフェニルアルキル基；炭素原子数５〜１２のシクロアルキル基；炭素原子数６〜１��のトリシクロアルキル基；炭素原子数６〜１５のビシクロアルキル基；炭素原子数６〜１５のビシクロアルキルアルキル基；炭素原子数６〜１５のビシクロアルケニルアルキル基；−ＣＯ−Ｒ5を表し；またはＲ12は１以上の−Ｏ−、−ＮＨ−、−ＮＲ7−、−Ｓ−で中断されたおよびＯＨ、フェノキシ基もしくは炭素原子数７〜１８のアルキルフェノキシ基で置換されていてもよい、炭素原子数３〜５０のアルキル基を表し；Ｒ13およびＲ’13は互いに独立してＨ；炭素原子数１〜１８のアルキル基；フェニル基を表し；Ｒ14は炭素原子数１〜１８のアルキル基；炭素原子数３〜１２のアルコキシアルキル基；フェニル基；フェニル−炭素原子数１〜４のアルキル基を表し；Ｒ15、Ｒ’15およびＲ”15は互いに独立してＨまたはＣＨ3を表し；Ｒ16はＨ；−ＣＨ2−ＣＯＯ−Ｒ4；炭素原子数１〜４のアルキル基；またはＣＮを表し；Ｒ17はＨ；−ＣＯＯＲ4；炭素原子数１〜１７のアルキル基；またはフェニル基を表し；Ｘは−ＮＨ−；−ＮＲ7−；−Ｏ−；−ＮＨ−（ＣＨ2）p−ＮＨ−；または−Ｏ−（ＣＨ2）q−ＮＨ−を表し；および指数ｍは数０〜１９の整数を表し；ｎは１〜８の整数を表し；ｐは０〜４の整数を表し；ｑは２、３または４を表す；但し一般式（ＶＩＩ−Ａ）中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ11の少なくとも１つが２個以上の炭素原子を含む、である。
【００５４】
さらに一般式（ＶＩＩ−Ａ）の化合物を説明する。
アルキル基としての基Ｒ1〜Ｒ10、Ｒ12〜Ｒ14、Ｒ16およびＲ17は、それぞれ、枝分かれもしくは枝分かれされたアルキル基であることが好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、第二ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基、２−エチルブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、１−メチルペンチル基、１，３−ジメチルブチル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチルヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル基、１，１，３，３−テトラメチルブチル基、１−メチルヘプチル基、３−メチルヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、１，１，３−トリメチルヘキシル基、１，１，３，３−テトラメチルペンチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、１−メチルウンデシル基、ドデシル基、１，１，３，３，５，５−ヘキサメチルヘキシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基またはオクタデシル基である。
【００５５】
炭素原子数５〜１２のシクロアルキル基としてのＲ1、Ｒ3〜Ｒ9およびＲ12は例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、シクロウンデシル基、シクロドデシル基である。好ましいくはシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基およびシクロドデシル基である。
【００５６】
アルケニル基としてのＲ6、Ｒ9、Ｒ11およびＲ12には、アリル基、イソプロペニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、イソブテニル基、ｎ−ペンタ−２，４−ジエチル基、３−メチル−ブテ−２−エニル基、ｎ−オクテ−２−エニル基、ｎ−ドデセ−２−エニル基、イソ−ドデセニル基、ｎ−ドデセ−２−エニル基およびｎ−オクタデセ−４−エニル基がより好ましい例として含まれる。
【００５７】
置換されたアルキル基、シクロアルキル基またはフェニル基の置換基の数は１または２以上であることが好ましく、結合している炭素原子において（α−位において）または他の炭素原子において置換基を持つことができ；置換基がヘテロ原子によって（例えばアルコキシ基）結合する場合、その置換基の結合位置は好ましくはα−位以外であり、また、置換されたアルキル基の炭素原子数は好ましくは２以上、より好ましくは３以上である。２以上の置換基は好ましくは異なる炭素原子と結合する。
【００５８】
−Ｏ−、−ＮＨ−、−ＮＲ7−、−Ｓ−により中断されたアルキル基はこれらの基の１以上で中断されていてもよく、それぞれの場合一般に一つの結合中に１つの基が挿入されており、およびヘテロ−ヘテロ結合、例えばＯ−Ｏ、Ｓ−Ｓ、ＮＨ−ＮＨ等は生じず；中断されたアルキル基がさらに置換されている場合、置換基は一般にヘテロ原子に対してα位にない。１つの基の中で２以上の−Ｏ−、−ＮＨ−、−ＮＲ7−、−Ｓ−のタイプの中断する基が生じる場合、それらは一般に同一である。
【００５９】
アリール基は、一般に芳香族炭化水素基であり、例えばフェニル基、ビフェニルイル基またはナフチル基であり、好ましくはフェニル基およびビフェニルイル基である。アルアルキルは一般にアリール基、特にフェニル基により置換されたアルキル基であり；従って炭素原子数７〜２０のアルアルキルは、例えば、ベンジル基、α−メチルベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基、フェニルペンチル基およびフェニルヘキシル基を含み；炭素原子数７〜１１のフェニルアルキル基は好ましくはベンジル基、α−メチルベンジル基およびα，α−ジメチルベンジル基である。
【００６０】
アルキルフェニル基およびアルキルフェノキシ基はそれぞれアルキル基で置換されたフェニル基またはフェノキシ基である。
【００６１】
ハロゲン置換基となるハロゲン原子はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子であり、より好ましいものはフッ素原子または塩素原子であり特に塩素原子であることが好ましい。
【００６２】
炭素原子数１〜２０のアルキレン基は例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基等である。ここにアルキル鎖はまた枝分かれでき、例えばイソプロピレン基である。
【００６３】
炭素原子数４〜１２のシクロアルケニル基は、例えば、２−シクロブテニ−２−イル基、２−シクロペンテニ−１−イル基、２，４−シクロペンタジエニ−１−イル基、２−シクロヘキセ−１−イル基、２−シクロヘプテニ−１−イル基、または２−シクロオクテニ−１−イル基である。
【００６４】
炭素原子数６〜１５のビシクロアルキル基は、例えば、ボルニル基、ノルボルニル基、［２．２．２］ビシクロオクチル基である。ボルニル基およびノルボルニル基、特にボルニル基およびノルボルニ−２−イル基が好ましい。
【００６５】
炭素原子数６〜１５のビシクロアルコキシ基は、例えばボルニルオキシ基またはノルボルニ−２−イルオキシ基である。
【００６６】
炭素原子数６〜１５のビシクロアルキル−アルキル基または−アルコキシ基は、ビシクロアルキル基で置換されたアルキル基またはアルコキシ基で、炭素原子の総数が６〜１５であるものであり；具体例はノルボルナン−２−メチル基およびノルボルニル−２−メトキシ基である。
【００６７】
炭素原子数６〜１５のビシクロアルケニル基は、例えば、ノルボルネニル基、ノルボルナジエニル基である。好ましいものは、ノルボルネニル基、特にノルボルネ−５−エン基である。
【００６８】
炭素原子数６〜１５のビシクロアルケニルアルコキシ基は、ビシクロアルケニル基で置換されたアルコキシ基で、炭素原子の総数が６〜１５であるものであり；例えばノルボルネ−５−エン−２−メトキシ基である。
【００６９】
炭素原子数６〜１５のトリシクロアルキル基は、例えば、１−アダマンチル基、２−アダマンチル基である。好ましいものは１−アダマンチル基である。
【００７０】
炭素原子数６〜１５のトリシクロアルコキシ基は、例えば、アダマンチルオキシ基である。炭素原子数３〜１２のヘテロアリール基は、好ましくは、ピリジニル基、ピリミジニル基、トリアジニル基、ピロリル基、フラニル基、チオフェニルまたはキノリニル基である。
【００７１】
一般式（ＶＩＩ−Ａ）で表される化合物はさらに好ましくは、Ｒ1は炭素原子数１〜１８のアルキル基；炭素原子数５〜１２のシクロアルキル基；炭素原子数３〜１２のアルケニル基；フェニル基；フェニル基、ＯＨ、炭素原子数１〜１８のアルコキシ基、炭素原子数５〜１２のシクロアルコキシ基、炭素原子数３〜１８のアルケニルオキシ基、ハロゲン原子、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＯＲ4、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ5、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−Ｒ6、−ＣＯ−ＮＨ2、−ＣＯ−ＮＨＲ7、−ＣＯ−Ｎ（Ｒ7）（Ｒ8）、ＣＮ、ＮＨ2、ＮＨＲ7、−Ｎ（Ｒ7）（Ｒ8）、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ5、フェノキシ基、炭素原子数１〜１８のアルキル基で置換されたフェノキシ基、フェニル−炭素原子数１〜４のアルコキシ基、ボルニルオキシ基、ノルボルニ−２−イルオキシ基、ノルボルニル−２−メトキシ基、ノルボルネ−５−エン−２−メトキシ基、アダマンチルオキシ基で置換された炭素原子数１〜１８のアルキル基；ＯＨ、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数２〜６のアルケニル基および／または−Ｏ−ＣＯ−Ｒ5で置換された炭素原子数５〜１２のシクロアルキル基；グリシジル基；−ＣＯ−Ｒ9または−ＳＯ2−Ｒ10を表すか；あるいはＲ1は１以上の酸素原子で中断されたおよび／またはＯＨ、フェノキシ基もしくは炭素原子数７〜１８のアルキルフェノキシ基で置換された炭素原子数３〜５０のアルキル基を表すか；あるいはＲ1は−Ａ；−ＣＨ2−ＣＨ（ＸＡ）−ＣＨ2−Ｏ−Ｒ12；−ＣＲ13Ｒ'13−（ＣＨ2）m−Ｘ−Ａ；−ＣＨ2−ＣＨ（ＯＡ）−Ｒ14；−ＣＨ2−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ2−ＸＡ；
【００７２】
【化１０】
2008233689.tif 000013
【００７３】
−ＣＲ15Ｒ'15−Ｃ（＝ＣＨ2）−Ｒ"15；−ＣＲ13Ｒ'13−（ＣＨ2）m−ＣＯ−Ｘ−Ａ；−ＣＲ13Ｒ'13−（ＣＨ2）m−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ15Ｒ'15−Ｃ（＝ＣＨ2）−Ｒ"15または−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ15Ｒ'15−Ｃ（＝ＣＨ2）−Ｒ"15（式中、Ａは−ＣＯ−ＣＲ16＝ＣＨ−Ｒ17を表す。）で表される定義の一つを表し；基Ｒ2は炭素原子数６〜１８のアルキル基；炭素原子数２〜６のアルケニル基；フェニル基；−Ｏ−Ｒ3または−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ5を表し；ならびに基Ｒ3は互いに独立してＲ1に対して与えられた定義を表し；Ｒ4は炭素原子数１〜１８のアルキル基；炭素原子数３〜１８のアルケニル基；フェニル基；炭素原子数７〜１１のフェニルアルキル基；炭素原子数５〜１２のシクロアルキル基を表すか；あるいはＲ4は１以上の−Ｏ−、−ＮＨ−、−ＮＲ7−、−Ｓ−で中断されおよびＯＨ、フェノキシ基もしくは炭素原子数７〜１８のアルキルフェノキシ基で置換されていてもよい、炭素原子数３〜５０のアルキル基を表し；Ｒ5はＨ；炭素原子数１〜１８のアルキル基；炭素原子数２〜１８のアルケニル基；炭素原子数５〜１２のシクロアルキル基；フェニル基；炭素原子数７〜１１のフェニルアルキル基；ノルボルニ−２−イル基；ノルボルネ−５−エニ−２−イル基；アダマンチル基を表し；Ｒ6はＨ；炭素原子数１〜１８のアルキル基；炭素原子数３〜１８のアルケニル基；フェニル基；炭素原子数７〜１１のフェニルアルキル基；炭素原子数５〜１２のシクロアルキル基を表し；Ｒ7およびＲ8は互いに独立して炭素原子数１〜１２のアルキル基；炭素原子数３〜１２のアルコキシアルキル基；炭素原子数４〜１６のジアルキルアミノアルキル基を表すか；または炭素原子数５〜１２のシクロアルキル基を表し；あるいはＲ7およびＲ8は一緒になって炭素原子数３〜９のアルキレン基；炭素原子数３〜９のオキサアルキレン基または炭素原子数３〜９のアザアルキレン基を表し；Ｒ9は炭素原子数１〜１８のアルキル基；炭素原子数２〜１８のアルケニル基；フェニル基；炭素原子数５〜１２のシクロアルキル基；炭素原子数７〜１１のフェニルアルキル基；ノルボルニ−２−イル基；ノルボルネ−５−エニ−２−イル基；アダマンチル基を表し；Ｒ10は炭素原子数１〜１２のアルキル基；フェニル基；ナフチル基；または炭素原子数７〜１４のアルキルフェニル基を表し；基Ｒ11は互いに独立してＨ；炭素原子数１〜１８のアルキル基；または炭素原子数７〜１１のフェニルアルキル基を表し；Ｒ12は炭素原子数１〜１８のアルキル基；炭素原子数３〜１８のアルケニル基；フェニル基；炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基、炭素原子数３〜８のアルケノキシ基、ハロゲン原子またはトリフルオロメチル基で１〜３回置換されたフェニル基を表すか；または炭素原子数７〜１１のフェニルアルキル基；炭素原子数５〜１２のシクロアルキル基；１−アダマンチル基；２−アダマンチル基；ノルボルニル基；ノルボルナン−２−メチル−；−ＣＯ−Ｒ5を表し；またはＲ12は１以上の−Ｏ−、−ＮＨ−、−ＮＲ7−、−Ｓ−で中断されたおよびＯＨ、フェノキシ基もしくは炭素原子数７〜１８のアルキルフェノキシ基で置換されていてもよい、炭素原子数３〜５０のアルキル基を表し；Ｒ13およびＲ'13は互いに独立してＨ；炭素原子数１〜１８のアルキル基；フェニル基を表し；Ｒ14は炭素原子数１〜１８のアルキル基；炭素原子数３〜１２のアルコキシアルキル基；フェニル基；フェニル−炭素原子数１〜４のアルキル基を表し；Ｒ15、Ｒ'15およびＲ"15は互いに独立してＨまたはＣＨ3を表し；Ｒ16はＨ；−ＣＨ2−ＣＯＯ−Ｒ4；炭素原子数１〜４のアルキル基；またはＣＮを表し；Ｒ17はＨ；−ＣＯＯＲ4；炭素原子数１〜１７のアルキル基；またはフェニル基を表し；Ｘは−ＮＨ−；−ＮＲ7−；−Ｏ−；−ＮＨ−（ＣＨ2）p−ＮＨ−；または−Ｏ−（ＣＨ2）q−ＮＨ−を表し；および指数ｍは０〜１９の整数を表し；ｎは数１〜８の整数を表し；ｐは０〜４の整数を表し；ｑは２、３または４を表す、である。
【００７４】
一般式（ＶＩＩ）および（ＶＩＩ−Ａ）で表される化合物は公知の方法により製造できる。例えば欧州特許第４３４６０８号公報またはH.BrunettiおよびC.E.Luthi, Helv. Chim.Acta55, 1566(1972) による刊行物に示される方法に従ってまたはそれと同様に、相当するフェノールへのハロトリアジンのフリーデル−クラフツ付加によって、公知の化合物と同様に得ることができる。
【００７５】
次に、一般式（ＶＩＩ）および（ＶＩＩ−Ａ）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明で用いることができる化合物はこれらの具体例に限定されるものではない。
【００７６】
【化１１】
2008233689.tif 000014
【００７７】
【化１２】
2008233689.tif 000015
【００７８】
また、その他にも旭電化、プラスチック用添加剤概要、「アデカスタブ」のカタログにある光安定剤も使用できる。チバ・スペシャル・ケミカルズのチヌビン製品案内にある光安定剤、紫外線吸収剤も使用できる。SHIPROKASEI KAISYAのカタログにあるＳＥＥＳＯＲＢ、ＳＥＥＮＯＸ、ＳＥＥＴＥＣなども使用できる。城北化学工業のＵＶ吸収剤、酸化防止剤も使用することができる。共同薬品のＶＩＯＳＯＲＢ、吉富製薬の紫外線吸収剤も使用することができる。
【００７９】
さらに、本発明における波長分散制御剤としては、特開２００１−１６６１４４号公報および特開２００３−３４４６５５６号公報に記載の円盤状化合物も好ましく用いることができる。
【００８０】
本発明の波長分散制御剤の添加は予めセルロースアシレートの混合溶液を作製するときに添加してもよいが、セルロースアシレートのドープを予め作製し、流延までのいずれかの時点で添加されてもよい。後者の場合、セルロースアシレートを溶剤に溶解させたドープ液と、紫外線吸収剤と少量のセルロースアシレートとを溶解させた溶液をインライン添加、混合を行うためには、例えば、スタチックミキサー（東レエンジニアリング製）、ＳＷＪ（東レ静止型管内混合器  Hi-Mixer）等のインラインミキサー等が好ましく用いられる。後添加する波長分散制御剤には、同時にマット剤を混合しても良いし、そのレターデーション制御剤、可塑剤、劣化防止剤、剥離促進剤等の添加物を混合しても良い。インラインミキサーを用いる場合、高圧下で濃縮溶解することが好ましく、加圧容器の種類は特に問うところではなく、所定の圧力に耐えることができ、加圧下で加熱、撹拌ができればよい。加圧容器はそのほか圧力計、温度計などの計器類を適宜配設する。加圧は窒素ガスなどの不活性気体を圧入する方法や、加熱による溶剤の蒸気圧の上昇によって行ってもよい。加熱は外部から行うことが好ましく、例えばジャケットタイプのものは温度コントロールが容易で好ましい。溶剤を添加しての加熱温度は、使用溶剤の沸点以上で、かつ該溶剤が沸騰しない範囲の温度が好ましく例えば３０〜１５０℃の範囲に設定するのが好適である。又、圧力は設定温度で、溶剤が沸騰しないように調整される。溶解後は冷却しながら容器から取り出すか、または容器からポンプ等で抜き出して熱交換器などで冷却し、これを製膜に供する。このときの冷却温度は常温まで冷却してもよいが、沸点より５〜１０℃低い温度まで冷却し、その温度のままキャスティングを行うほうが、ドープ粘度を低減できるためより好ましい。
【００８１】
また、本発明における波長分散制御剤は、単独あるいは２種類以上混合して用いることができる。本発明における波長分散制御剤の添加量はセルロースアシレート１００質量部に対して、１．０〜２０質量％が好ましく、１．５〜１５質量％がさらに好ましく、２．０〜１０質量％が最も好ましい。
本発明における波長分散制御剤の添加方法は、アルコールやメチレンクロライド、ジオキソランの有機溶媒に波長分散制御剤を溶解してから、セルロースアシレート溶液（ドープ）に添加してもよいし、または直接ドープ組成中に添加してもよい。
【００８２】
［透湿度低減剤］
本発明の光学補償フィルムＡとして好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムは透湿度低減剤を含有することが好ましい。以下に本発明の光学補償フィルムＡで用いられる透湿度低減剤について詳しく説明する。
本発明に用いることのできる透湿度低減剤としては、公知のものを用いることができるが、分子内にヒドロキシル基と親和性の高い官能基と疎水性の高い部分構造を併せ持つものが好ましい。
ヒドロキシル基と親和性の高い官能基としては置換又は未置換のアミノ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、カルボキシル基が好ましく、より好ましくはアミノ基、ヒドロキシ基である。
また、疎水性の高い部分構造はアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル、エチル、ｉｓｏ−プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニルなどが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル、３−ペンチニルなどが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。）などを官能基を有することが好ましい。
本発明に用いることのできる透湿度低減剤としては下記（ＸＩ）〜（ＸＩＶ）で表される化合物が特に好ましい。
以下、一般式（ＸＩ）〜（ＸＩＶ）で表されるそれぞれの化合物について詳細に説明する。
【００８３】
【化１３】
2008233689.tif 000016
【００８４】
一般式（ＸＩ）中、Ｒ１はオルト位および／またはメタ位に置換基を有する芳香族環または複素環を表し、Ｒ２は置換基を有する芳香族環または複素環を表すが、Ｒ１がオルト位および／またはメタ位に置換基を有する芳香族環を表し、Ｒ２が置換基を有する芳香族環を表すとき、双方が同一となることはない。Ｘ１は単結合または−ＮＲ３−を表し、Ｘ２は単結合または−ＮＲ４−を表し、Ｘ３は単結合または−ＮＲ５−を表す。Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は各々独立して、水素原子、置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基を表す。
更に詳しく説明すると、Ｒ１はオルト位および／またはメタ位に置換基を有する芳香族環または複素環を表し、Ｒ２は置換基を有する芳香族環または複素環を表す。Ｒ１およびＲ２がそれぞれ表す芳香族環は、フェニルまたはナフチルであることが好ましく、フェニルであることが特に好ましい。Ｒ１が表す芳香族環はオルト位および／またはメタ位に置換基を少なくとも有し、他の位置にも置換基を有していてもよい。Ｒ２が表す芳香族環はいずれかの置換位置に少なくとも一つの置換基を有する。前記置換基の例には、ハロゲン原子、ヒドロキシル、シアノ、ニトロ、カルボキシル、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルファモイル基、アルキル置換スルファモイル基、アルケニル置換スルファモイル基、アリール置換スルファモイル基、スルオンアミド基、カルバモイル、アルキル置換カルバモイル基、アルケニル置換カルバモイル基、アリール置換カルバモイル基、アミド基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、アリールチオ基およびアシル基が含まれる。
なお、Ｒ１がオルト位および／またはメタ位に置換基を有する芳香族環を表し、Ｒ２が置換基を有する芳香族環を表すとき、双方が同一となることはない。「同一でない」とは、置換基を含めて同一でないことを意味し、例えば、同一の芳香族環であっても置換基が異なる場合、さらに置換基が同一であっても置換位置が異なる場合は、「同一でない」場合に含まれる。
【００８５】
Ｒ１およびＲ２がそれぞれ表す複素環基は、芳香族性を有することが好ましい。芳香族性を有する複素環は、一般に不飽和複素環であり、好ましくは最多の二重結合を有する複素環である。複素環は５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましく、６員環であることが最も好ましい。複素環のヘテロ原子は、窒素原子、硫黄原子または酸素原子であることが好ましく、窒素原子であることが特に好ましい。芳香族性を有する複素環としては、ピリジン環（複素環基としては、２−ピリジルまたは４−ピリジル）が特に好ましい。複素環基は、置換基を有していてもよい。複素環基の置換基の例は、上記アリール部分の置換基の例と同様である。
Ｘ１、Ｘ２およびＸ３がそれぞれ単結合である場合の複素環基は、窒素原子に遊離原子価をもつ複素環基であることが好ましい。窒素原子に遊離原子価をもつ複素環基は、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましく、５員環であることが最も好ましい。複素環基は、複数の窒素原子を有していてもよい。また、複素環基は、窒素原子以外のヘテロ原子（例、Ｏ、Ｓ）を有していてもよい。以下に、窒素原子に遊離原子価をもつ複素環基の例を示す。
【００８６】
【化１４】
2008233689.tif 000017
【００８７】
一般式（ＸＩ）中、Ｘ１は単結合または−ＮＲ３−を表し、Ｘ２は単結合または−ＮＲ4−を表し、Ｘ3は単結合または−ＮＲ５−を表す。Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は各々独立して、水素原子、置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基を表す。Ｒ3、Ｒ４およびＲ５がそれぞれ表すアルキル基は、環状アルキル基であっても鎖状アルキル基であってもよいが、鎖状アルキル基を表すのが好ましく、分岐を有する鎖状アルキル基よりも、直鎖状アルキル基を表すのがより好ましい。アルキル基の炭素原子数は、１〜３０であることが好ましく、１〜２０であることがより好ましく、１〜１０であることがさらに好ましく、１〜８がさらにまた好ましく、１〜６であることが最も好ましい。アルキル基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子、アルコキシ基（例えばメトキシ、エトキシ）およびアシルオキシ基（例、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ）が含まれる。
【００８８】
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５がそれぞれ表すアルケニル基は、環状アルケニル基であっても鎖状アルケニル基であってもよいが、鎖状アルケニル基を表すのが好ましく、分岐を有する鎖状アルケニル基よりも、直鎖状アルケニル基を表すのがより好ましい。アルケニル基の炭素原子数は、２〜３０であることが好ましく、２〜２０であることがより好ましく、２〜１０であることがさらに好ましく、２〜８であることがさらにまた好ましく、２〜６であることが最も好ましい。アルケニル基は置換基を有していてもよい。置換基の例には、前述のアルキル基の置換基と同様である。
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５がそれぞれ表す芳香族環基および複素環基は、Ｒ１およびＲ２がそれぞれ表す芳香族環および複素環と同様であり、好ましい範囲も同様である。芳香族環基および複素環基はさらに置換基を有していてもよく、置換基の例にはＲ１およびＲ２の芳香族環および複素環の置換基と同様である。
【００８９】
【化１５】
2008233689.tif 000018
【００９０】
次に、前記一般式（ＸＩＩ）の化合物について詳しく説明する。
一般式（ＸＩＩ）中、Ｒ６はパラ位に置換基を有する芳香族環または複素環を表し、Ｒ７は置換基を有する芳香族環または複素環を表すが、Ｒ６がパラ位に置換基を有する芳香族環を表し、Ｒ7は置換基を有する芳香族環を表すとき、双方が同一となることはない。Ｘ４は単結合または−ＮＲ１３−を表し、Ｘ５は単結合または−ＮＲ１４−を表し、Ｘ６は単結合または−ＮＲ１５−を表す。Ｒ１３、Ｒ１４およびＲ１５は各々独立して、水素原子、置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基を表す。
【００９１】
Ｒ６およびＲ７がそれぞれ表す芳香族環および複素環については、前記式（ＸＩ）中のＲ１およびＲ２がそれぞれ表す芳香族環および複素環と同義であり、好ましい範囲も同様である。また、置換基についても、Ｒ１およびＲ２がそれぞれ表す芳香族環および複素環有する置換基として例示したものと同様のものが挙げられる。Ｒ６が表す芳香族環はパラ位に置換基を少なくとも有し、他の位置にも置換基を有していてもよい。Ｒ７は任意の位置に置換基を少なくとも一つ有する。なお、Ｒ６がパラ位に置換基を有する芳香族環を表し、Ｒ７は置換基を有する芳香族環を表すとき、双方が同一となることはない。「同一でない」とは、置換基を含めて同一でないことを意味し、例えば、同一の芳香族環であっても置換基が異なる場合、さらに置換基が同一であっても置換位置が異なる場合は、「同一でない」場合に含まれる。
【００９２】
Ｘ４は単結合または−ＮＲ１３−を表し、Ｘ５は単結合または−ＮＲ１４−を表し、Ｘ６は単結合または−ＮＲ１５−を表す。Ｒ１３、Ｒ１４およびＲ１５は各々独立して、水素原子、置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基を表す。Ｒ１３、Ｒ１４およびＲ１５がそれぞれ表す置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基については、前記式（ＸＩ）中のＲ３、Ｒ４およびＲ５がそれぞれ表す各基と同義であり、好ましい範囲も同様である。
【００９３】
【化１６】
2008233689.tif 000019
【００９４】
次に前記一般式（ＸＩＩＩ）の化合物について詳しく説明する。式中、Ｒ８はオルト位および／またはメタ位に置換基を有する芳香族環または複素環を表す。Ｘ７は単結合または−ＮＲ２３−を表し、Ｘ８は単結合または−ＮＲ２４−を表し、Ｘ９は単結合または−ＮＲ２５−を表す。Ｒ２３、Ｒ２４およびＲ２５は各々独立して、水素原子、置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基を表す。
【００９５】
Ｒ８が表す芳香族環および複素環については、前記式（ＸＩ）中のＲ１およびＲ２がそれぞれ表す芳香族環および複素環と同義であり、好ましい範囲も同様である。また、置換基についても、Ｒ１およびＲ２がそれぞれ表す芳香族環および複素環有する置換基として例示したものと同様のものが挙げられる。Ｒ８が表す芳香族環はオルト位および／またはメタ位に少なくとも置換基を有し、他の位置にも置換基を有していてもよい。
【００９６】
Ｘ７は単結合または−ＮＲ２３−を表し、Ｘ８は単結合または−ＮＲ２４−を表し、Ｘ９は単結合または−ＮＲ２５−を表す。Ｒ２３、Ｒ２４およびＲ２５は各々独立して、水素原子、置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基を表す。Ｒ２３、Ｒ２４およびＲ２５がそれぞれ表す置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基については、前記一般式（ＸＩ）中のＲ３、Ｒ４およびＲ５がそれぞれ表す各基と同義であり、好ましい範囲も同様である。
【００９７】
【化１７】
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【００９８】
次に前記一般式（ＸＩＶ）の化合物について詳しく説明する。
式中、Ｒ９、Ｒ１０およびＲ１１はそれぞれ異なる芳香族環または複素環を表す。Ｘ１０は単結合または−ＮＲ３３−を表し、Ｘ１１は単結合または−ＮＲ３４−を表し、Ｘ１２は単結合または−ＮＲ３５−を表す。Ｒ３３、Ｒ３４およびＲ３５は各々独立して、水素原子、置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基を表す。
【００９９】
Ｒ９、Ｒ１０およびＲ１１がそれぞれ表す芳香族環または複素環については、前記式（ＸI）中のＲ１およびＲ２がそれぞれ表す芳香族環および複素環と同義であり、好ましい範囲も同様である。置換基についても、Ｒ１およびＲ２がそれぞれ表す芳香族環および複素環有する置換基として例示したものと同様のものが挙げられる。なお、「異なる芳香族環または複素環」とは、置換基を含めて芳香族環および複素環が同一でないことを意味し、例えば、同一の芳香族環または複素環であっても置換基が異なる場合、さらに置換基が同一であっても置換位置が異なる場合は、「異なる芳香族環または複素環」に含まれる。
【０１００】
Ｘ１０は単結合または−ＮＲ３３−を表し、Ｘ１１は単結合または−ＮＲ３４−を表し、Ｘ１２は単結合または−ＮＲ３５−を表す。Ｒ３３、Ｒ３４およびＲ３５は各々独立して、水素原子、置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基を表す。Ｒ３３、Ｒ３４およびＲ３５がそれぞれ表す置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基については、前記式（ＸＩ）中のＲ３、Ｒ４およびＲ５がそれぞれ表す各基と同義であり、好ましい範囲も同様である。
【０１０１】
以下に本発明に用いることのできる１，３，５−トリアジン環を有する化合物の具体例を示す。
【０１０２】
【化１８】
2008233689.tif 000021
【０１０３】
【化１９】
2008233689.tif 000022
【０１０４】
【化２０】
2008233689.tif 000023
【０１０５】
【化２１】
2008233689.tif 000024
【０１０６】
【化２２】
2008233689.tif 000025
【０１０７】
【化２３】
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【０１０８】
【化２４】
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【０１０９】
【化２５】
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【０１１０】
【化２６】
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【０１１１】
【化２７】
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【０１１２】
【化２８】
2008233689.tif 000031
【０１１３】
【化２９】
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【０１１４】
【化３０】
2008233689.tif 000033
【０１１５】
上記一般式（ＸＩ）〜（ＸＩＶ）で表される透湿度低減剤は波長分散調節剤としての機能も併せ持つことができる。
【０１１６】
本発明に用いることのできる透湿度低減剤の分子量は、２００以上１，０００以下であることが好ましく、３００以上８５０以下が好ましい。この範囲であれば、溶剤への溶解性と製膜時の保留性を両立することができる。本発明の化合物の沸点は、２６０℃以上であることが好ましい。沸点は、市販の測定装置（例えば、ＴＧ／ＤＴＡ１００、セイコー電子工業（株）製）を用いて測定できる。
式（ＸＩ）〜（ＸＩＶ）で表される化合物は、単独あるいは２種類以上混合して用いることができる。本発明においては、式（ＸＩ）〜（ＸＩＶ）で表される化合物の併用も好ましい。本発明に用いることのできる透湿度低減剤の添加量はセルロースアシレート１００質量部に対して、２〜３０質量％が好ましく、３〜２５質量％がさらに好ましい。この範囲で前記化合物を用いることにより、ブリードアウトを生じることなく透水度を低下させることができる。
本発明に用いることのできる透湿度低減剤の添加方法は、アルコールやメチレンクロライド、ジオキソランの有機溶媒に溶解してから、セルロースアシレート溶液（ドープ）に添加するか、または直接ドープ組成中に添加してもよい。
本発明に用いることのできる透湿度低減剤はレターデーション調節剤、可塑剤等の他の機能を併せ持つことができる。
本発明に用いることのできる透湿度低減剤は、アルコールやメチレンクロライド、ジオキソランの有機溶媒に溶解してから、セルロースアシレート溶液（ドープ）に添加するか、または直接ドープ組成中に添加してもよい。
【０１１７】
［光学補償フィルムＡとして用いられるフィルムの製造］
本発明におけるセルロースアシレート等のポリマーフィルムは、ソルベントキャスト法により製造することができる。ソルベントキャスト法では、セルロースアシレート等のポリマーを有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフィルムを製造する。
【０１１８】
前記有機溶媒は、炭素原子数が３〜１２のエーテル、炭素原子数が３〜１２のケトン、炭素原子数が３〜１２のエステルおよび炭素原子数が１〜６のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒を含むことが好ましい。
前記エーテル、ケトンおよびエステルは、環状構造を有していてもよい。また、前記エーテル、ケトンおよびエステルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−およびＣＯＯ−）のいずれかを２つ以上有する化合物も、前記有機溶媒として用いることができる。前記有機溶媒は、アルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。２種類以上の官能基を有する有機溶媒の場合、その炭素原子数はいずれかの官能基を有する溶媒の上述の好ましい炭素原子数範囲内であることが好ましい。
【０１１９】
前記炭素原子数が３〜１２のエーテル類の例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトールが含まれる。
前記炭素原子数が３〜１２のケトン類の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノンおよびメチルシクロヘキサノンが含まれる。
前記炭素原子数が３〜１２のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテートおよびペンチルアセテートが含まれる。
また、２種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノールおよび２−ブトキシエタノールが含まれる。
【０１２０】
炭素原子数が１〜６のハロゲン化炭化水素の炭素原子数は、１または２であることが好ましく、１であることがより好ましい。ハロゲン化炭化水素のハロゲンは、塩素であることが好ましい。ハロゲン化炭化水素の水素原子が、ハロゲンに置換されている割合は、２５〜７５モル％であることが好ましく、３０〜７０モル％であることがより好ましく、３５〜６５モル％であることがさらに好ましく、４０〜６０モル％であることが最も好ましい。メチレンクロリドが、代表的なハロゲン化炭化水素である。
また、２種類以上の有機溶媒を混合して用いてもよい。
【０１２１】
セルロースアシレート等のポリマー溶液（ドープ）は、例えば、０℃以上の温度（常温または高温）で処理することからなる一般的な方法で調製することができる。セルロースアシレート等のポリマー溶液の調製は、通常のソルベントキャスト法におけるドープの調製方法および装置を用いて実施することができる。なお、一般的な方法の場合は、有機溶媒としてハロゲン化炭化水素（特にメチレンクロリド）を用いることが好ましい。
【０１２２】
セルロースアシレート等のポリマー溶液中におけるセルロースアシレート等のポリマーの量は、得られる溶液中に１０〜４０質量％含まれるように調整する。セルロースアシレート等のポリマーの量は、１０〜３０質量％であることがさらに好ましい。有機溶媒（主溶媒）中には、後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。
【０１２３】
セルロースアシレート等のポリマー溶液は、例えば、常温（０〜４０℃）でセルロースアシレート等のポリマーと有機溶媒とを撹拌することにより調製することができる。高濃度の溶液は、加圧および加熱条件下で撹拌してもよい。具体的には、セルロースアシレート等のポリマーと有機溶媒とを加圧容器に入れて密閉し、加圧下で溶媒の常温における沸点以上、且つ溶媒が沸騰しない範囲の温度に加熱しながら撹拌する。加熱温度は、通常は４０℃以上であり、好ましくは６０〜２００℃であり、さらに好ましくは８０〜１１０℃である。
【０１２４】
各成分は予め粗混合してから容器に入れてもよい。また、順次容器に投入してもよい。容器は撹拌できるように構成されている必要がある。窒素ガス等の不活性気体を注入して容器を加圧することができる。また、加熱による溶媒の蒸気圧の上昇を利用してもよい。あるいは、容器を密閉後、各成分を圧力下で添加してもよい。
【０１２５】
加熱する場合、容器の外部より加熱することが好ましい。例えば、ジャケットタイプの加熱装置を用いることができる。また、容器の外部にプレートヒーターを設け、配管して液体を循環させることにより容器全体を加熱することもできる。
【０１２６】
撹拌は、容器内部に撹拌翼を設けて、これを用いて行うことが好ましい。撹拌翼は、容器の壁付近に達する長さのものが好ましい。撹拌翼の末端には、容器の壁の液膜を更新するため、掻取翼を設けることが好ましい。
【０１２７】
容器には、圧力計、温度計等の計器類を設置してもよい。容器内で各成分を溶媒中に溶解する。調製したドープは冷却後容器から取り出すか、あるいは、取り出した後、熱交換器等を用いて冷却する。
【０１２８】
冷却溶解法により、セルロースアシレート等のポリマー溶液を調製することもできる。冷却溶解法では、通常の溶解方法ではセルロースアシレート等のポリマーを溶解させることが困難な有機溶媒中にも、セルロースアシレート等のポリマーを溶解させることができる。なお、通常の溶解方法でセルロースアシレート等のポリマーを溶解できる溶媒であっても、冷却溶解法によると迅速に均一な溶液が得られるとの効果がある。
【０１２９】
冷却溶解法では、最初に室温で有機溶媒中にセルロースアシレート等のポリマーを撹拌しながら徐々に添加する。セルロースアシレート等のポリマーの量は、この混合物中に１０〜４０質量％含まれるように調整することが好ましい。セルロースアシレート等のポリマーの量は、１０〜３０質量％であることがさらに好ましい。さらに、混合物中には後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。
【０１３０】
次に、混合物を、例えば、−１００〜−１０℃（好ましくは−８０〜−１０℃、さらに好ましくは−５０〜−２０℃、最も好ましくは−５０〜−３０℃）に冷却する。冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール浴（−７５℃）や冷却したジエチレングリコール溶液（−３０〜−２０℃）中で実施できる。冷却によりセルロースアシレートと有機溶媒の混合物は固化する。
【０１３１】
冷却速度は、４℃／分以上であることが好ましく、８℃／分以上であることがより好ましく、１２℃／分以上であることがさらに好ましい。冷却速度は、速いほど好ましいが、１００００℃／秒が理論的な上限であり、１０００℃／秒が技術的な上限であり、そして１００℃／秒が実用的な上限である。なお、冷却速度は、冷却を開始する時の温度と最終的な冷却温度との差を、冷却を開始してから最終的な冷却温度に達するまでの時間で割った値である。
【０１３２】
さらに、冷却した混合物を、例えば、０〜２００℃（好ましくは０〜１５０℃、さらに好ましくは０〜１２０℃、最も好ましくは０〜５０℃）に加温すると、有機溶媒中にセルロースアシレート等のポリマーが溶解する。昇温は、室温中に放置するだけでもよく、温浴中で加温してもよい。加温速度は、４℃／分以上であることが好ましく、８℃／分以上であることがさらに好ましく、１２℃／分以上であることが最も好ましい。加温速度は、速いほど好ましいが、１００００℃／秒が理論的な上限であり、１０００℃／秒が技術的な上限であり、そして１００℃／秒が実用的な上限である。なお、加温速度は、加温を開始する時の温度と最終的な加温温度との差を加温を開始してから最終的な加温温度に達するまでの時間で割った値である。
【０１３３】
以上のようにして、均一なセルロースアシレート等のポリマー溶液が得られる。なお、溶解が不充分である場合は冷却、加温の操作を繰り返してもよい。溶解が充分であるかどうかは、目視により溶液の外観を観察するだけで判断することができる。
【０１３４】
冷却溶解法においては、冷却時の結露による水分混入を避けるため、密閉容器を用いることが望ましい。また、冷却加温操作において、冷却時に加圧し、加温時に減圧すると、溶解時間を短縮することができる。加圧および減圧を実施するためには、耐圧性容器を用いることが望ましい。
【０１３５】
なお、セルロースアセテート（酢化度：６０．９％、粘度平均重合度：２９９）を冷却溶解法によりメチルアセテート中に溶解した２０質量％の溶液は、示差走査熱量計（ＤＳＣ）による測定によると、３３℃近傍にゾル状態とゲル状態との疑似相転移点が存在し、この温度以下では均一なゲル状態となる。従って、この溶液は疑似相転移温度以上、好ましくはゲル相転移温度プラス１０℃程度の温度で保することが好ましい。ただし、この疑似相転移温度は、セルロースアセテートの酢化度、粘度平均重合度、溶液濃度や使用する有機溶媒により異なる。
【０１３６】
調製したセルロースアシレート等のポリマー溶液（ドープ）から、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレート等のポリマーフィルムを製造する。ドープにはレターデーション発現剤を添加することが好ましい。ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１８〜３５％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ドープは、表面温度が１０℃以下のドラムまたはバンド上に流延することが好ましい。
【０１３７】
ソルベントキャスト法における乾燥方法については、米国特許第２,３３６,３１０号、同２,３６７,６０３号、同２,４９２,０７８号、同２,４９２,９７７号、同２,４９２,９７８号、同２,６０７,７０４号、同２,７３９,０６９号および同２,７３９,０７０号の各明細書、英国特許第６４０７３１号および同７３６８９２号の各明細書、並びに特公昭４５−４５５４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４号、同６０−２０３４３０号および同６２−１１５０３５号の各公報に記載がある。バンドまたはドラム上での乾燥は空気、窒素などの不活性ガスを送風することにより行なうことができる。
【０１３８】
また、得られたフィルムをドラムまたはバンドから剥ぎ取り、さらに１００℃〜１６０℃まで逐次温度を変えた高温風で乾燥して、残留溶媒を蒸発させることもできる。以上の方法は、特公平５−１７８４４号公報に記載がある。この方法によると、流延から剥ぎ取りまでの時間を短縮することが可能である。この方法を実施するためには、流延時のドラムまたはバンドの表面温度においてドープがゲル化することが必要である。
【０１３９】
調製したセルロースアシレート等のポリマー溶液（ドープ）を用いて２層以上の流延を行いフィルム化することもできる。この場合、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフィルムを作製することが好ましい。ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１０〜４０質量％の範囲となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。
【０１４０】
２層以上の複数のセルロースアシレート等のポリマー液を流延する場合、複数のセルロースアシレート等のポリマー溶液を流延することが可能であり、支持体の進行方向に間隔をおいて設けられた複数の流延口からセルロースアシレート等のポリマーを含む溶液をそれぞれ流延させて積層させながらフィルムを作製してもよい。これらは、例えば、特開昭６１−１５８４１４号、特開平１−１２２４１９号、および特開平１１−１９８２８５号の各公報に記載の方法を用いることができる。また、２つの流延口からセルロースアシレート等のポリマー溶液を流延することによっても、フィルム化することもできる。これは、例えば、特公昭６０−２７５６２号、特開昭６１−９４７２４号、特開昭６１−９４７２４５号、特開昭６１−１０４８１３号、特開昭６１−１５８４１３号、および、特開平６−１３４９３３号の各公報に記載の方法を用いることができる。さらに特開昭５６−１６２６１７号公報に記載の高粘度セルロースアシレート溶液の流れを低粘度のセルロースアシレート等のポリマー溶液で包み込み、その高・低粘度のセルロースアシレート等のポリマー溶液を同時に押し出すセルロースアシレート等のポリマーフィルムの流延方法を用いることもできる。
【０１４１】
また、２個の流延口を用いて、第一の流延口により支持体に成形したフィルムを剥ぎ取り、支持体面に接していた側に第二の流延を行うことにより、フィルムを作製することもできる。例えば、特公昭４４−２０２３５号公報に記載の方法を挙げることができる。
【０１４２】
流延するセルロースアシレート等のポリマー溶液は同一の溶液を用いてもよいし、異なるセルロースアシレート等のポリマー溶液を２種以上用いてもよい。複数のセルロースアシレート等のポリマー層に機能をもたせるために、その機能に応じたセルロースアシレート等のポリマー溶液を、それぞれの流延口から押し出せばよい。さらに本発明におけるセルロースアシレート等のポリマー溶液は、他の機能層（例えば、接着層、染料層、帯電防止層、アンチハレーション層、紫外線吸収層、偏光層など）と同時に流延することもできる。
【０１４３】
従来の単層液では、必要なフィルムの厚さにするためには高濃度で高粘度のセルロースアシレート等のポリマー溶液を押し出すことが必要である。その場合セルロースアシレート等のポリマー溶液の安定性が悪くて固形物が発生し、ブツ故障となったり、平面性が不良となったりして問題となることが多かった。この問題の解決方法として、複数のセルロースアシレート等のポリマー溶液を流延口から流延することにより、高粘度の溶液を同時に支持体上に押し出すことができ、平面性も良化し優れた面状のフィルムが作製できるばかりでなく、濃厚なセルロースアシレート等のポリマー溶液を用いることで乾燥負荷の低減化が達成でき、フィルムの生産スピードを高めることができる。
【０１４４】
セルロースアシレート等のポリマーフィルムには、劣化防止剤（例えば、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン等）を添加してもよい。劣化防止剤については、特開平３−１９９２０１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号の各公報に記載がある。また、前記劣化防止剤の添加量は、調製する溶液（ドープ）の０．０１〜１質量％であることが好ましく、０．０１〜０．２質量％であることがさらに好ましい。添加量が０．０１質量％以上であれば、劣化防止剤の効果が十分に発揮されるので好ましく、添加量が１質量％以下であれば、フィルム表面への劣化防止剤のブリードアウト（滲み出し）などが生じにくいので好ましい。特に好ましい劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、トリベンジルアミン（ＴＢＡ）を挙げることができる。
【０１４５】
これら流延から後乾燥までの工程は、空気雰囲気下でもよいし窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気下でもよい。本発明におけるセルロースアシレート等のポリマーフィルムの製造に用いる巻き取り機は、一般的に使用されているものでよく、定テンション法、定トルク法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法などの巻き取り方法で巻き取ることができる。
【０１４６】
［光学補償フィルムＡの厚み］
本発明の光学補償フィルムＡの厚みは１０μｍ〜２００μｍが好ましく、２０μｍ〜１５０μｍがより好ましく、３０μｍ〜１００μｍがさらに好ましい。
【０１４７】
［鹸化処理］
本発明の光学補償フィルムＡに好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムはアルカリ鹸化処理することによりポリビニルアルコールのような偏光子の材料との密着性を付与し、偏光板の保護フィルムとして用いることができる。
【０１４８】
本発明におけるポリマーフィルムのアルカリ鹸化処理は、フィルム表面をアルカリ溶液に浸漬した後、酸性溶液で中和し、水洗して乾燥するサイクルで行われることが好ましい。前記アルカリ溶液としては、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶液が挙げられ、水酸化イオンの濃度は０．１〜５．０ｍｏｌ／Ｌの範囲にあることが好ましく、０．５〜４．０ｍｏｌ／Ｌの範囲にあることがさらに好ましい。アルカリ溶液温度は、室温〜９０℃の範囲にあることが好ましく、４０〜７０℃の範囲にあることがさらに好ましい。
【０１４９】
＜偏光板＞
本発明に用いられる偏光板は、偏光膜と該偏光膜を狭持する一対の保護膜とからなる偏光板であって、前記保護膜の少なくとも一枚が前記光学補償フィルムＡおよび光学補償フィルムＢの少なくとも一枚を含むことが好ましい。
少なくとも一枚の前記光学補償フィルムＡを含む偏光板を以下「偏光板Ａ」、少なくとも一枚の前記光学補償フィルムＢを含む偏光板を以下「偏光板Ｂ」と称する場合がある。
【０１５０】
［偏光板Ａの作製］
まず、本発明における偏光板Ａは例えば、特開２００６-２２０７２６号や特開２００７−１７９５８号に開示の方法により作製することができる。
【０１５１】
［偏光板Ａの機能化］
本発明における偏光板Ａは、ディスプレイの視認性向上のための反射防止フィルム、輝度向上フィルムや、ハードコート層、前方散乱層、アンチグレア（防眩）層等の機能層を有する光学フィルムと複合した機能化偏光板として好ましく使用される。
【０１５２】
（反射防止フィルム）
本発明における偏光板Ａは反射防止フィルムと組み合わせて使用することができる。反射防止フィルムは、フッ素系ポリマー等の低屈折率素材を単層付与しただけの反射率１．５％程度のフィルム、もしくは薄膜の多層干渉を利用した反射率１％以下のフィルムのいずれも使用できる。本発明では、透明支持体上に低屈折率層、および低屈折率層より高い屈折率を有する少なくとも一層の層（即ち、高屈折率層、中屈折率層）を積層した構成が好ましく使用される。また、日東技報，ｖｏｌ．３８，Ｎｏ．１，Ｍａｙ，２０００，２６頁〜２８頁や特開２００２−３０１７８３号公報などに記載された反射防止フィルムも好ましく使用できる。
各層の屈折率は以下の関係を満足する。
【０１５３】
高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率
反射防止フィルムに用いる透明支持体は、前述の偏光子の保護フィルムに使用する透明ポリマーフィルムを好ましく使用することができる。
【０１５４】
低屈折率層の屈折率は１．２０〜１．５５であることが好ましく、１．３０〜１．５０であることがより好ましい。低屈折率層は、耐擦傷性、防汚性を有する最外層として使用することが好ましい。耐擦傷性向上のため、シリコーン基を含有する含シリコーン化合物や、フッ素を含有する含フッ素化合物等の素材を用い表面への滑り性付与することも好ましく行われる。
【０１５５】
前記含フッ素化合物としては、例えば、特開平９−２２２５０３号公報の段落番号［００１８］〜［００２６］、同１１−３８２０２号公報の段落番号［００１９］〜［００３０］、特開２００１−４０２８４号公報明細書段落番号［００２７］〜［００２８］、特開２０００−２８４１０２号公報等に記載の化合物を好ましく使用することができる。
前記含シリコーン化合物はポリシロキサン構造を有する化合物が好ましいが、反応性シリコーン（例えば、サイラプレーン（チッソ（株）製）や両末端にシラノール基含有のポリシロキサン（特開平１１−２５８４０３号公報等に記載のもの）等を使用することもできる。シランカップリング剤等の有機金属化合物と特定のフッ素含有炭化水素基含有のシランカップリング剤とを触媒共存下に縮合反応で硬化させてもよい（特開昭５８−１４２９５８号公報、同５８−１４７４８３号公報、同５８−１４７４８４号公報、特開平９−１５７５８２号公報、同１１−１０６７０４号公報、特開２０００−１１７９０２号公報、同２００１−４８５９０号公報、同２００２−５３８０４号公報記載の化合物等）。
低屈折率層には、上記以外の添加剤として充填剤（例えば、二酸化珪素（シリカ）、含フッ素粒子（フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム）等の一次粒子平均径が１〜１５０ｎｍの低屈折率無機化合物、特開平１１−３８２０号公報の段落番号［００２０］〜［００３８］に記載の有機微粒子等）、シランカップリング剤、滑り剤、界面活性剤等を含有させることも好ましく行うことができる。
【０１５６】
前記低屈折率層は、気相法（真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等）により形成されても良いが、安価に製造できる点で、塗布法で形成することが好ましい。塗布法としては、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート、マイクログラビア法を好ましく使用することができる。
低屈折率層の膜厚は、３０〜２００ｎｍであることが好ましく、５０〜１５０ｎｍであることがさらに好ましく、６０〜１２０ｎｍであることが最も好ましい。
【０１５７】
中屈折率層および高屈折率層は、平均粒子サイズ１００ｎｍ以下の高屈折率の無機化合物超微粒子をマトリックス用材料に分散した構成とすることが好ましい。高屈折率の無機化合物微粒子としては、屈折率１．６５以上の無機化合物、例えば、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｃｅ、Ｔａ、Ｌａ、Ｉｎ等の酸化物、これらの金属原子を含む複合酸化物等を好ましく使用できる。
このような超微粒子は、粒子表面を表面処理剤で処理したり（シランカップリング剤等：特開平１１−２９５５０３号公報、同１１−１５３７０３号公報、特開２０００−９９０８、アニオン性化合物或は有機金属カップリング剤：特開２００１−３１０４３２号公報等）、高屈折率粒子をコアとしたコアシェル構造としたり（特開２００１−１６６１０４等）、特定の分散剤併用する（例えば、特開平１１−１５３７０３号公報、米国特許第６,２１０,８５８Ｂ１明細書、特開２００２−２７７６０６９号公報等）等の態様で使用することができる。
【０１５８】
前記マトリックス用材料としては、従来公知の熱可塑性樹脂、硬化性樹脂皮膜等を使用できるが、特開２０００−４７００４号公報、同２００１−３１５２４２号公報、同２００１−３１８７１号公報、同２００１−２９６４０１号公報等に記載の多官能性材料や、特開２００１−２９３８１８号公報等に記載の金属アルコキシド組成物から得られる硬化性膜を使用することもできる。
前記高屈折率層の屈折率は、１．７０〜２．２０であることが好ましい。高屈折率層の厚さは、５ｎｍ〜１０μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍであることがさらに好ましい。
前記中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５０〜１．７０であることが好ましい。
【０１５９】
前記反射防止フィルムのヘイズは、５％以下あることが好ましく、３％以下であることがより好ましい。また、膜の強度は、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがより好ましく、３Ｈ以上であることがさらに好ましい。
【０１６０】
（輝度向上フィルム）
本発明における偏光板Ａは、輝度向上フィルムと組み合わせて使用することができる。輝度向上フィルムは、円偏光もしくは直線偏光の分離機能を有しており、偏光板とバックライトとの間に配置され、一方の円偏光もしくは直線偏光をバックライト側に後方反射もしくは後方散乱する。バックライト部からの再反射光は、部分的に偏光状態を変化させ、輝度向上フィルムおよび偏光板に再入射する際、部分的に透過するため、この過程を繰り返すことにより光利用率が向上し、正面輝度が１．４倍程度に向上する。輝度向上フィルムとしては異方性反射方式および異方性散乱方式が知られており、いずれも本発明における偏光板と組み合わせることができる。
【０１６１】
異方性反射方式では、一軸延伸フィルムと未延伸フィルムとを多重に積層して、延伸方向の屈折率差を大きくすることにより反射率ならびに透過率の異方性を有する輝度向上フィルムが知られており、誘電体ミラーの原理を用いた多層膜方式（国際公開第９５／１７６９１号パンフレット、国際公開第９５／１７６９２号パンフレット、国際公開第９５／１７６９９号パンフレットの各明細書記載）やコレステリック液晶方式（欧州特許６０６９４０Ａ２号明細書、特開平８−２７１７３１号公報記載）が知られている。誘電体ミラーの原理を用いた多層方式の輝度向上フィルムとしてはＤＢＥＦ−Ｅ、ＤＢＥＦ−Ｄ、ＤＢＥＦ−Ｍ（いずれも３Ｍ社製）、コレステリック液晶方式の輝度向上フィルムとしてはＮＩＰＯＣＳ（日東電工（株）製）が本発明で好ましく使用される。ＮＩＰＯＣＳについては、日東技報，ｖｏｌ．３８，Ｎｏ．１，Ｍａｙ，２０００，１９頁〜２１頁などを参考にすることができる。
【０１６２】
また、本発明では国際公開第９７／３２２２３号パンフレット、国際公開第９７／３２２２４号パンフレット、国際公開第９７／３２２２５号パンフレット、国際公開第９７／３２２２６号パンフレットの各明細書および特開平９−２７４１０８号、同１１−１７４２３１号の各公報に記載された正の固有複屈折性ポリマーと負の固有複屈折性ポリマーとをブレンドして一軸延伸した異方性散乱方式の輝度向上フィルムと組み合わせて使用することも好ましい。異方性散乱方式輝度向上フィルムとしては、ＤＲＰＦ−Ｈ（３Ｍ社製）が好ましい。
【０１６３】
（他の機能性光学フィルム）
本発明における偏光板Ａは、さらに、ハードコート層、前方散乱層、アンチグレア（防眩）層、ガスバリア層、滑り層、帯電防止層、下塗り層や保護層等を設けた機能性光学フィルムと組み合わせて使用することも好ましい。また、これらの機能層は、前述の反射防止フィルムにおける反射防止層、あるいは光学異方性層等と同一層内で相互に複合して使用することも好ましい。これらの機能層は、偏光子側および偏光子と反対面（より空気側の面）のどちらか片面、もしくは両面に設けて使用できる。
【０１６４】
［ハードコート層］
本発明における偏光板Ａは耐擦傷性等の力学的強度を付与するため、ハードコート層を透明支持体の表面に設けた機能性光学フィルムと組み合わせることが好ましく行われる。ハードコート層を、前述の反射防止フィルムに適用して用いる場合は、特に、透明支持体と高屈折率層の間に設けることが好ましい。
前記ハードコート層は、光および／または熱による硬化性化合物の架橋反応、または、重合反応により形成されることが好ましい。硬化性官能基としては、光重合性官能基が好ましく、又加水分解性官能基含有の有機金属化合物は有機アルコキシシリル化合物が好ましい。ハードコート層の具体的な構成組成物としては、例えば、特開２００２−１４４９１３号公報、同２０００−９９０８号公報、国際公開第００／４６６１７号パンフレット等記載のものを好ましく使用することができる。
ハードコート層の膜厚は、０．２μｍ〜１００μｍであることが好ましい。
ハードコート層の強度は、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。また、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
【０１６５】
ハードコート層を形成する材料は、エチレン性不飽和基を含む化合物、開環重合性基を含む化合物を用いることができ、これらの化合物は単独あるいは組み合わせて用いることができる。エチレン性不飽和基を含む化合物の好ましい例としては、エチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等のポリオールのポリアクリレート類；ビスフェノールＡジグリシジルエーテルのジアクリレート、ヘキサンジオールジグリシジルエーテルのジアクリレート等のエポキシアクリレート類；ポリイソシナネートとヒドロキシエチルアクリレート等の水酸基含有アクリレートの反応によって得られるウレタンアクリレート等を好ましい化合物として挙げることができる。また、市販化合物としては、ＥＢ−６００、ＥＢ−４０、ＥＢ−１４０、ＥＢ−１１５０、ＥＢ−１２９０Ｋ、ＩＲＲ２１４、ＥＢ−２２２０、ＴＭＰＴＡ、ＴＭＰＴＭＡ（以上、ダイセル・ユーシービー（株）製）、ＵＶ−６３００、ＵＶ−１７００Ｂ（以上、日本合成化学工業（株）製）等が挙げられる。
【０１６６】
また、開環重合性基を含む化合物の好ましい例としては、グリシジルエーテル類としてエチレングリコールジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、トリメチロールエタントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセロールトリグリシジルエーテル、トリグリシジルトリスヒドロキシエチルイソシアヌレート、ソルビトールテトラグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシルエーテル、クレゾールノボラック樹脂のポリグリシジルエーテル、フェノールノボラック樹脂のポリグリシジルエーテルなど、脂環式エポキシ類としてセロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド２０８１、エポリードＧＴ−３０１、エポリードＧＴ−４０１、ＥＨＰＥ３１５０ＣＥ（以上、ダイセル化学工業（株）製）、フェノールノボラック樹脂のポリシクロヘキシルエポキシメチルエーテルなど、オキセタン類としてＯＸＴ−１２１、ＯＸＴ−２２１、ＯＸ−ＳＱ、ＰＮＯＸ−１００９（以上、東亞合成（株）製）などが挙げられる。その他にグリシジル（メタ）アクリレートの重合体、或いはグリシジル（メタ）アクリレートと共重合できるモノマーとの共重合体をハードコート層に使用することもできる。
【０１６７】
ハードコート層には、ハードコート層の硬化収縮の低減、基材との密着性の向上、本発明においてハードコート処理物品のカールを低減するため、ケイ素、チタン、ジルコニウム、アルミニウム等の酸化物微粒子やポリエチレン、ポリスチレン、ポリ（メタ）アクリル酸エステル類、ポリジメチルシロキサン等の架橋粒子、ＳＢＲ、ＮＢＲなどの架橋ゴム微粒子等の有機微粒子等の架橋微粒子を添加することも好ましく行われる。これらの架橋微粒子の平均粒子サイズは、１ｎｍ〜２００００ｎｍであることが好ましい。また、架橋微粒子の形状は、球状、棒状、針状、板状など特に制限無く使用できる。微粒子の添加量は硬化後のハードコート層の６０体積％以下であることが好ましく、４０体積％以下がより好ましい。
【０１６８】
上記で記載した無機微粒子を添加する場合、一般にバインダーポリマーとの親和性が悪いため、ケイ素、アルミニウム、チタニウム等の金属を含有し、かつアルコキシド基、カルボン酸基、スルホン酸基、ホスホン酸基等の官能基を有する表面処理剤を用いて表面処理を行うことも好ましく行われる。
【０１６９】
ハードコート層は、熱または活性エネルギー線を用いて硬化することが好ましく、その中でも放射線、ガンマー線、アルファー線、電子線、紫外線等の活性エネルギー線を用いることがより好ましく、安全性、生産性を考えると電子線、紫外線を用いることが特に好ましい。熱で硬化させる場合は、プラスチック自身の耐熱性を考えて、加熱温度は１４０℃以下が好ましく、より好ましくは１００℃以下である。
【０１７０】
［前方散乱層］
前方散乱層は、本発明における偏光板Ａを液晶表示装置に適用した際の、上下左右方向の視野角特性（色相と輝度分布）改良するために使用される。本発明では、前方散乱層は屈折率の異なる微粒子をバインダー分散した構成が好ましく、例えば、前方散乱係数を特定化した特開１１−３８２０８号公報、透明樹脂と微粒子との相対屈折率を特定範囲とした特開２０００−１９９８０９号公報、ヘイズ値を４０％以上と規定した特開２００２−１０７５１２号公報等の構成を使用することができる。また、本発明における偏光板をヘイズの視野角特性を制御するため、住友化学（株）の技術レポート「光機能性フィルム」３１頁〜３９頁に記載された「ルミスティ」と組み合わせて使用することも好ましく行うことができる。
【０１７１】
［アンチグレア層］
アンチグレア（防眩）層は、反射光を散乱させ映り込みを防止するために使用される。アンチグレア機能は、液晶表示装置の最表面（表示側）に凹凸を形成することにより得られる。アンチグレア機能を有する光学フィルムのヘイズは、３〜３０％であることが好ましく、５〜２０％であることがさらに好ましく、７〜２０％であることが最も好ましい。
フィルム表面に凹凸を形成する方法は、例えば、微粒子を添加して膜表面に凹凸を形成する方法（例えば、特開２０００−２７１８７８号公報等）、比較的大きな粒子（粒子サイズ０．０５〜２μｍ）を少量（０．１〜５０質量％）添加して表面凹凸膜を形成する方法（例えば、特開２０００−２８１４１０号公報、同２０００−９５８９３号公報、同２００１−１００００４号公報、同２００１−２８１４０７号公報等）、フィルム表面に物理的に凹凸形状を転写する方法（例えば、エンボス加工方法として、特開昭６３−２７８８３９号公報、特開平１１−１８３７１０号公報、特開２０００−２７５４０１号公報等記載）等を好ましく使用することができる。
【０１７２】
＜光学補償フィルムＢ＞
次に本発明に用いられる光学補償フィルムＢについて詳しく説明する。
［フィルムのレターデーション］
本発明に用いられる光学補償フィルムＢのレターデーションは下記式（４）〜（６）の関係を満たす。
２０ｎｍ＜Ｒｅ（５４８）＜３００ｎｍ                  ・・・式（４）
Ｒｅ（４４６）／Ｒｅ（５４８）＜１                    ・・・式（５）
１＜Ｒｅ（６２８）／Ｒｅ（５４８）                    ・・・式（６）
（式（４）〜（６）中、Ｒｅ（４４６）、Ｒｅ（５４８）、Ｒｅ（６２８）はそれぞれ波長４４６ｎｍ、５４８ｎｍ、６２８ｎｍの光における面内レターデーション値（単位ｎｍ（単位ｎｍ）を表す。）
【０１７３】
式（４）においてＲｅ（５４８）は３０ｎｍ〜２８０ｎｍが好ましく、４０ｎｍ〜２７０ｎｍがより好ましい。
式（５）はＲｅ（４４６）／Ｒｅ（５４８）＜０．９５が好ましく、Ｒｅ（４４６）／Ｒｅ（５４８）＜０．９０より好ましい。
式（６）は１．０２＜Ｒｅ（６２８）／Ｒｅ（５４８）が好ましく、１．０５＜Ｒｅ（６２８）／Ｒｅ（５４８）より好ましい。
【０１７４】
［光学補償フィルムＢで使用されるポリマーフィルム］
本発明の光学補償フィルムＢに使用されるポリマーフィルムとしては、前記式（４）〜（６）を満たす限りにおいて、その材料の選択に制限はないが、偏光子に使用されるポリビニルアルコールとの密着性が確保できるものであればより好ましい。更に好ましくは、下記一般式（Ａ）で表される構造を含む樹脂を含有する高分子フィルムである。特に好ましくは、下記一般式（Ａ）で表される構造を含む樹脂（以下ポリアセタール系樹脂と称する場合がある）を主成分とする高分子フィルムの延伸フィルムである。ここで「主成分とする」とはフィルム総重量に対してポリアセタール系樹脂が、例えば、７０質量％以上、好ましくは、８０質量％以上含まれていることを示す。本明細書において以下「主成分とする」とは同様の意味を表すものとする。
【０１７５】
上記ポリアセタール系樹脂は、例えば、主鎖又は側鎖に水酸基を有する高分子樹脂と、アルデヒドとの縮合反応（アセタール化ともいう）によって得ることができる。なお、本明細書においては、アルデヒドと同じカルボニル化合物のケトンを用いて、アセタール化して得られる反応生成物（ケタールともいう）も、上記ポリアセタール系樹脂に包含する。
【０１７６】
【化３１】
2008233689.tif 000034
【０１７７】
（一般式（Ａ）中、Ｒ１は、水素原子又は炭素数１〜８の直鎖状、分鎖状若しくは環状のアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、置換基を有していてもよいナフチル基、置換基を有していてもよいアントラニル基、又は置換基を有していてもよいフェナントレニル基を表す。Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜４の直鎖状、分鎖状若しくは環状のアルキル基、炭素数１〜４の直鎖状若しくは分鎖状のアルコキシル基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、ニトロ基、アミノ基、水酸基、シアノ基又はチオール基を表す。ただし、Ｒ２およびＲ３は、同時に水素原子ではない。）。
【０１７８】
上記一般式（Ａ）中、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４の置換基は、当該置換基が結合しているベンゼン環の立体配座を制御するために用いられる。より具体的には、上記一般式（Ａ）で表される構造を含むポリビニルアセタール系樹脂を主成分とする高分子フィルムを延伸した際、該置換基は、立体障害により、上記一般式（Ａ）中、２つの酸素原子の間に配座しやすくなると推定される。その結果、上記のベンゼン環の平面構造を、該２つの酸素原子を結ぶ仮想線に対して、略直交に配向させ得る。本発明に用いる光学補償フィルムの波長分散特性は、この該２つの酸素原子を結ぶ仮想線に略直交する方向に配向したベンゼン環の波長分散特性と、主鎖構造の波長分散特性との相互作用によって得られるものと考えられる。
【０１７９】
上記一般式（Ａ）のＲ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、例えば、上記ポリアセタール系樹脂を得る際に、アルコールと反応させるアルデヒド（代表的には、ベンズアルデヒド類）またはケトン（代表的には、アセトフェノン類やベンゾフェノン類）の種類によって適宜、選択され得る。Ｒ１に水素原子を置換する場合は、アルデヒドを用いればよく、水素原子以外の置換基を導入する場合は、ケトンを用いればよい。
【０１８０】
ベンズアルデヒド類の具体例としては、２−メチルベンズアルデヒド、２−クロロベンズアルデヒド、２−ニトロベンズアルデヒド、２−エトキシベンズアルデヒド、２−（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒド、２，４−ジクロロベンズアルデヒド、２，４−ジヒドロキシベンズアルデヒド、２，４−ジスルフォベンザルデヒドナトリウム、ｏ−スルフォベンザルデヒド２ナトリウム、ｐ−ジメチルアミノベンズアルデヒド、２，６−ジメチルベンズアルデヒド、２，６−ジクロロベンズアルデヒド、２，６−ジメトキシベンズアルデヒド、２，４，６−トリメチルベンズアルデヒド（メシトアルデヒド）、２，４，６−トリエチルベンズアルデヒド、２，４，６−トリクロロベンズアルデヒドなどが挙げられる。アセトフェノン類の具体例としては、２−メチルアセトフェノン、２−アミノアセトフェノン、２−クロロアセトフェノン、２−ニトロアセトフェノン、２−ヒドロキシアセトフェノン、２，４−ジメチルアセトフェノン、４´−フェノキシ−２，２−ジクロロアセトフェノン２−ブロモ−４´−クロロアセトフェノンなどが挙げられる。ベンゾフェノン類としては、２−メチルベンゾフェノン、２−アミノベンゾフェノン、２−ヒドロキシベンゾフェノン、４−ニトロベンゾフェノン、２，４´−ジクロロベンゾフェノン、２，４´−ジクロロベンゾフェノン、４，４´−ジクロロベンゾフェノン、４，４´−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−クロロ−４´−ジクロロベンゾフェノンなどが挙げられる。その他、１−ナフトアルデヒド、置換基を有する２−ナフトアルデヒド、９−アントラアルデヒド、置換基を有する９−アントラアルデヒド、アセトナフトン、フルオレン−９−アルデヒド、２，４，７−トリニトロフルオレン−９−オンなどが挙げられる。これらのアルデヒドまたはケトンは、単独で、または２種類以上を組み合わせて用いることもできる。また、上記アルデヒドまたはケトンは、任意の適切な変性を行ってから用いることもできる。
【０１８１】
上記一般式（Ａ）のＲ１として好ましくは、水素原子またはメチル基であり、最も好ましくは水素原子である。上記一般式（Ａ）のＲ２およびＲ３として好ましくは、それぞれ独立に、メチル基、エチル基、ハロゲン原子、およびハロゲン化アルキル基から選ばれる少なくとも１種の置換基であり、最も好ましくはメチル基である。上記一般式（Ａ）のＲ４として好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基、ハロゲン原子、およびハロゲン化アルキル基から選ばれる少なくとも１種の置換基であり、最も好ましくはメチル基である。このような置換基を導入することにより、光学特性に優れた光学補償フィルムが得られ得る。
【０１８２】
さらに好ましくは、本発明における光学補償フィルムＢは、下記一般式（Ｂ）で表される構造を含む樹脂を含有する高分子フィルムである。特に好ましくは、下記一般式（Ｂ）で表される構造を含む樹脂（以下ポリビニルアセタール系樹脂と称する場合がある）を主成分とする高分子フィルムの延伸フィルムである。当該ポリビニルアセタール系樹脂は、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂とアルデヒドまたはケトンとの縮合反応（アセタール化ともいう）によって得ることができる。下記一般式（Ｂ）で表される構造を含むポリビニルアセタール系樹脂を主成分とする高分子フィルムの延伸フィルムであれば、逆波長分散特性を示し、且つ、成形加工性、延伸性に優れる光学補償フィルムＢを得ることができる。
【０１８３】
【化３２】
2008233689.tif 000035
【０１８４】
（一般式（Ｂ）中、Ｒ１は、水素原子又は炭素数１〜８の直鎖状、分鎖状若しくは環状のアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、置換基を有していてもよいナフチル基、置換基を有していてもよいアントラニル基、又は置換基を有していてもよいフェナントレニル基を表す。Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜４の直鎖状、分鎖状若しくは環状のアルキル基、炭素数１〜４の直鎖状若しくは分鎖状のアルコキシル基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、ニトロ基、アミノ基、水酸基、シアノ基又はチオール基を表す。ただし、Ｒ２およびＲ３は、同時に水素原子ではない。ｌは１以上の整数を表す。）。
【０１８５】
上記アセタール化は、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂とアルデヒドまたはケトンを、強無機酸触媒または強有機酸触媒の存在下で反応させる方法である。酸触媒の具体例としては、塩酸、硫酸、リン酸、ｐ−トルエンスルホン酸などが挙げられる。アセタール化の反応温度は、通常、０℃を超え、用いられる溶剤の沸点以下であり、好ましくは１０℃〜１００℃であり、最も好ましくは２０℃〜８０℃である。上記の反応温度であれば、高収率が得られ得る。アセタール化に用いられる溶剤としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコール類、４−ジオキサンなどの環式エーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシドなどの非プロトン性溶剤等が好ましく用いられる。これらの溶剤は、１種類又は２種類以上を混合して用いられる。また、水と上記溶剤を混合して用いてもよい。
【０１８６】
上記ポリビニルアセタール系樹脂の原料となるポリビニルアルコール系樹脂としては、ビニルエステル系モノマーを重合して得られたビニルエステル系重合体をケン化し、ビニルエステル単位をビニルアルコール単位としたものを用いることができる。上記ビニルエステル系モノマーとしては、例えば、ギ酸ビニル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、バレリン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、安息香酸ビニル、ピバリン酸ビニル、バーサティック酸ビニル等が挙げられる。これらのなかでも好ましくは、酢酸ビニルである。
【０１８７】
上記ポリビニルアセタール系樹脂の原料となるポリビニルアルコール系樹脂の平均重合度としては、任意の適切な平均重合度が採用され得る。平均重合度は、好ましくは８００〜３６００であり、さらに好ましくは１０００〜３２００であり、最も好ましくは１５００〜３０００である。なお、ポリビニルアルコール系樹脂の平均重合度は、ＪＩＳ Ｋ ６７２６（：１９９４）に準じた方法によって測定することができる。
【０１８８】
本発明の光学補償フィルムＢに用いられる、ポリビニルアセタール系樹脂のアセタール化度は、好ましくは４０モル％〜９９モル％であり、さらに好ましくは５０モル％〜９５モル％であり、最も好ましくは６０モル％〜９０モル％である。上記の範囲とすることによって、光学特性、成形加工性、延伸性、および位相差値の安定性に優れる光学補償フィルムＢを得ることができる。
【０１８９】
上記アセタール化度とは、アセタール化によりアセタール単位に変換され得る単位の中で、実際にビニルアルコール単位にアセタール化されている単位の割合を示したものである。なお、ポリビニルアルコール系樹脂のアセタール化度は、核磁気共鳴スペクトル（1Ｈ−ＮＭＲ）によって求めることができる。
【０１９０】
更に好ましくは、本発明の光学補償フィルムＢは、下記一般式（Ｃ）で表される構造を含む樹脂を含有する高分子フィルムである。特に好ましくは、下記一般式（Ｃ）で表される構造を含む樹脂（以下ポリビニルアセタール系樹脂と称する場合がある）を主成分とする高分子フィルムの延伸フィルムである。当該ポリビニルアセタール系樹脂は、ポリビニルアルコール系樹脂と、２種類以上のアルデヒド、２種類以上のケトン、または少なくとも１種のアルデヒドと少なくとも１種のケトンを用い、縮合反応（アセタール化ともいう）によって得ることができる。下記一般式（Ｃ）で表される構造を含むポリビニルアセタール系樹脂を主成分とする高分子フィルムの延伸フィルムであれば、逆波長分散特性を示し、成形加工性、延伸性、位相差値の安定性に優れる光学補償フィルムＢを得ることができる。また、延伸配向性にも優れるため、光学補償フィルムＢの厚みを薄くすることができる。
【０１９１】
【化３３】
2008233689.tif 000036
【０１９２】
（一般式（Ｃ）中、Ｒ１、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜８の直鎖状、分鎖状若しくは環状のアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、置換基を有していてもよいナフチル基、置換基を有していてもよいアントラニル基、又は置換基を有していてもよいフェナントレニル基を表す。Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜４の直鎖状、分鎖状若しくは環状のアルキル基、炭素数１〜４の直鎖状若しくは分鎖状のアルコキシル基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、ニトロ基、アミノ基、水酸基、シアノ基又はチオール基を示す。ただし、Ｒ２およびＲ３は、同時に水素原子ではない。Ｒ７は、水素原子、炭素数１〜８の直鎖状、分鎖状若しくは環状のアルキル基、ベンジル基、シリル基、リン酸基、アシル基、ベンゾイル基、またはスルホニル基を示す。ｌ、ｍ、およびｎは１以上の整数を表す。）
【０１９３】
上記一般式（Ｃ）中、Ｒ５およびＲ６置換基は、上記一般式（Ｃ）で表される構造を含むポリアセタール系樹脂を主成分とする高分子フィルムを延伸して得られる光学補償フィルムＢの波長分散特性をより緻密に制御するために用いられる。より具体的には、Ｒ５およびＲ６に置換基を導入することによって、当該高分子フィルムを延伸した際に、当該置換基を延伸方向に対して略平行に配向させ得る。本発明における光学補償フィルムＢの波長分散特性は、前述した２つの酸素原子を結ぶ仮想線に略直交する方向に配向したベンゼン環の波長分散特性と、主鎖構造の波長分散特性と、ここで述べたＲ５およびＲ６に導入される置換基の波長分散特性との相互作用によって得られるものと考えられる。また、該高分子フィルムの成形加工性、延伸性、位相差値の安定性、および延伸配向性をより一層向上させることもできる。
【０１９４】
上記Ｒ５およびＲ６は、例えば、上記ポリビニルアセタール系樹脂を得る際に、アルコールと反応させるアルデヒド（代表的には、ベンズアルデヒド類）またはケトン（代表的には、アセトフェノン類やベンゾフェノン類）の種類によって適宜、選択され得る。アルデヒドおよびケトンの具体例としては、前述のとおりである。
【０１９５】
上記Ｒ５として好ましくは、水素原子またはメチル基であり、最も好ましくは水素原子である。上記Ｒ６として好ましくは、メチル基またはエチル基であり、最も好ましくはエチル基である。このような置換基を導入することにより、成形加工性、延伸性、位相差値の安定性、および延伸配向性に極めて優れた光学補償フィルムＢが得られる。
【０１９６】
上記一般式（Ｃ）中、Ｒ７の置換基は、残存する水酸基を保護（エンドキャップ処理ともいう）することにより吸水率を適切な値に調整し、溶剤に対する樹脂の溶解性、成形加工性、および位相差値の安定性を高めるために用いられる。したがって、得られた位相差フィルムの吸水率や光学特性、また、光学補償フィルムＢが用いられる用途によっては、Ｒ７はエンドキャップ処理されていなくてもよく、水素原子のままでもよい。
【０１９７】
上記Ｒ７は、例えば、水酸基の残存するポリビニルアセタール系樹脂を得た後に、従来公知の、水酸基と反応して置換基を形成するもの（代表的には、保護基）を用いて、エンドキャップ処理することによって得ることができる。上記保護基の具体例としては、ベンジル基、４−メトキシフェニルメチル基、メトキシメチル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、アセチル基、ベンゾイル基、メタンスルホニル基、ビス−４−ニトロフェニルフォスファイトなどが挙げられる。エンドキャップ処理の反応条件としては、水酸基と反応させる置換基の種類によって、適宜、適切な反応条件が採用され得る。例えば、アルキル化、ベンジル基、シリル化、リン酸化、スルホニル化などの反応は、水酸基の残存するポリビニルアセタール系樹脂と目的とする置換基の塩化物とを、４（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジンなどの触媒の存在下、２５℃〜１００℃で１時間〜２０時間攪拌して行うことができる。上記Ｒ７として好ましくは、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、およびｔ−ブチルジメチルシリル基から選ばれる１種のシリル基である。これらの置換基を用いることによって、高温多湿下などの環境においても、高い透明性を保ち、位相差値の安定性に優れた光学補償フィルムＢを得ることができる。
【０１９８】
上記一般式（Ｃ）中、ｌ、ｍ、およびｎの比率は、置換基の種類や目的に応じて、適宜選択され得る。好ましくは、ｌ、ｍ、およびｎの合計を１００（モル％）とした場合に、ｌは５〜３０（モル％）、ｍは２０〜８０（モル％）、ｎは１〜７０（モル％）であり、特に好ましくは、ｌは１０〜２８（モル％）、ｍは３０〜７５（モル％）、ｎは１〜５０（モル％）であり、最も好ましくは、ｌは１５〜２５（モル％）、ｍは４０〜７０（モル％）、ｎは１０〜４０（モル％）である。上記の範囲とすることによって、逆波長分散特性を示し、成形加工性、延伸性、位相差値の安定性、および延伸配向性に極めて優れた光学補償フィルムＢを得ることができる。
【０１９９】
［光学補償フィルムＢの製造方法］
上記熱可塑性樹脂を主成分とする光学補償フィルムＢを得る方法としては、任意の適切な成形加工法が用いられ得る。例えば、圧縮成形法、トランスファー成形法、射出成形法、押出成形法、ブロー成形法、粉末成形法、ＦＲＰ成形法、およびソルベントキャスティング法等から適宜、適切なものが選択され得る。これらの成形加工法のなかでも、特に好ましくは、押出成形法またはソルベントキャスティング法である。得られる高分子フィルムの平滑性を高め、良好な光学均一性（例えば、位相差値が面内にも厚み方向にも均一なフィルム）が得られ得るからである。上記押出成形法は、具体的には、主成分となる樹脂、可塑剤、添加剤等を含む樹脂組成物を加熱溶融し、これを、Ｔダイ等を用いてキャスティングロール等の基材（支持体ともいう）の表面に、薄膜状に押出して、冷却させてフィルムを製造する方法である。上記ソルベントキャスティング法は、具体的には、主成分となる樹脂、可塑剤、添加剤等を含む樹脂組成物を溶剤に溶解した濃厚溶液（ドープ）を脱法し、エンドレスステンレスベルト、回転ドラム表面、高分子フィルム（例えばＰＥＴフィルム）などの基材（支持体ともいう）の表面に均一に薄膜状に流延し、溶剤を蒸発させてフィルムを製造する方法である。
【０２００】
光学補償フィルムＢの成形時に採用される条件は、樹脂の組成や種類、成形加工法によって適宜選択され得る。良好な光学均一性を得るための、成形条件の具体例としては、押出成形法が採用される場合、例えば、樹脂温度は１７０℃〜２５０℃で、引き取りロール（冷却ドラム）の温度は５０℃〜１００℃とし、高温から徐々に冷却させることが好ましい。ソルベントキャスティング法が採用される場合、例えば、用いる溶剤としては、トルエン、酢酸エチル、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホシキド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−メチルピロリドン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンを用いることが好ましく、上記溶剤の乾燥温度としては、５０℃〜１８０℃であり（さらに好ましくは８０℃〜１５０℃であり）、低温から徐々に昇温して乾燥させることが好ましい。
【０２０１】
上記熱可塑性樹脂を主成分とする光学補償フィルムＢには、任意の適切な添加剤をさらに含有し得る。添加剤の具体例としては、可塑剤、熱安定剤、光安定剤、滑剤、抗酸化剤、紫外線吸収剤、難燃剤、着色剤、帯電防止剤、相溶化剤、架橋剤、増粘剤、および位相差調整剤等が挙げられる。使用される添加剤の種類および量は、目的に応じて適宜選択され得る。例えば、上記添加剤の含有量は、高分子フィルムの全固形分１００に対して、好ましくは０．０１（重量比）〜１０（重量比）であり、さらに好ましくは０．０５（重量比）〜８（重量比）であり、最も好ましくは０．１（重量比）〜５（重量比）である。
【０２０２】
本発明の光学補償フィルムＢは、例えば、熱可塑性樹脂を主成分とする高分子フィルムの両面に収縮性フィルムを貼り合せて、ロール延伸機にて縦一軸延伸法で、加熱延伸して得ることができる。当該収縮性フィルムは、加熱延伸時に延伸方向と直交する方向の収縮力を付与し、厚み方向の屈折率（ｎｚ）を高めるために用いられる。上記高分子フィルムの両面に収縮性フィルムを貼り合せる方法としては、特に制限はないが、上記高分子フィルムと上記収縮性フィルムとの間に、アクリル系ポリマーをベースポリマーとするアクリル系粘着剤層を設けて接着する方法が、作業性、経済性に優れる点から好ましい。
【０２０３】
［光学補償フィルムＢの厚み］
上記光学補償フィルムＢの厚みは、目的に応じて、適宜選択され得る。上記光学補償フィルムの厚みの範囲として好ましくは２０μｍ〜２００μｍであり、さらに好ましくは３０μｍ〜１８０μｍである。λ／４板として用いられる場合は、好ましくは４０μｍ〜１４０μｍであり、特に好ましくは６０μｍ〜１２０μｍである。λ／２板として用いられる場合は、好ましくは１３０μｍ〜２３０μｍであり、特に好ましくは１５０μｍ〜２１０μｍである。
【０２０４】
［光学補償フィルムＢのガラス転移温度］
上記熱可塑性樹脂を主成分とする光学補償フィルムＢのガラス転移温度（Ｔｇ）として好ましくは９０℃〜１８５℃であり、さらに好ましくは９０℃〜１５０℃であり、特に好ましくは１００℃〜１４０℃であり、最も好ましくは１１０℃〜１３０℃である。上記ガラス転移温度（Ｔｇ）は、ＪＩＳ Ｋ ７１２１（：１９８７）に準じたＤＳＣ法によって求めることができる。
【０２０５】
＜偏光板Ｂの作製＞
本発明に用いられる偏光板Ｂは、光学補償フィルムの鹸化処理を行わないことを除いて本発明の偏光板Ａと同様の方法により作製することができるが、偏光子と光学補償フィルムＢの間に接着剤層を設けることが特に好ましい。上記接着剤層を形成する接着剤としては、任意の適切な接着剤が採用され得る。好ましくは、透明性、熱安定性、低複屈折性などに優れる材料である。具体例としては、水溶性接着剤、熱可塑性接着剤、ホットメルト接着剤、ゴム系接着剤、熱硬化性接着剤、モノマー反応型接着剤、無機系接着剤、天然物接着剤などが挙げられる。好ましくは、光学透明性に優れ、耐候性や耐熱性に優れるという点で、脂肪族系イソシアネートを主成分とするモノマー反応型接着剤［三井武田ケミカル（株）製 商品名「タケネート６３１」］、または、アセトアセチル基を有する変性ポリビニルアルコールを主成分とする水溶性接着剤［日本合成化学（株）製 商品名「ゴーゼファイマーＺシリーズ」］である。上記接着剤層の厚みは、被着体となる樹脂の種類や、接着力、使用される環境等に応じて、適宜、適切な範囲に決定できる。上記接着剤層の好適な厚みの範囲は、好ましくは０．０１μｍ〜５０μｍであり、さらに好ましくは０．０５μｍ〜２０μｍであり、最も好ましくは０．１μｍ〜１０μｍである。
【０２０６】
上記接着層を形成する方法としては、任意の適切なコータを用いた塗工方式を用いることができる。上記コータの具体例としては、リバースロールコータ、正回転ロールコータ、グラビアコータ、ナイフコータ、ロッドコータ、スロットオリフィスコータ、カーテンコータ、ファウンテンコータ、エアドクタコータ、キスコータ、ディップコータ、ビードコータ、ブレードコータ、キャストコータ、スプレイコータ、スピンコータ、押出コータ、ホットメルトコータ等が挙げられる。これらのなかでも、本発明にはリバースロールコータ、正回転ロールコータ、グラビアコータ、ロッドコータ、スロットオリフィスコータ、カーテンコータ、ファウンテンコータ、スピンコータが好ましく用いられる。上記のコータを用いた塗工方式であれば、薄く、且つ、表面均一性に優れた接着層を形成することができる。
【０２０７】
上記接着層を各構成部材（例えば、偏光子、保護層および位相差フィルム）の表面に積層する方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。具体例としては、ホットメルトラミネーション、ノンソルベントラミネーション、ウエットラミネーション、ドライラミネーション等が挙げられる。本発明において、接着層として接着剤層またはアンカーコート層が採用される場合は、ウエットラミネーションが好ましく、接着層として粘着剤層が採用される場合は、ドライラミネーションが好ましい。
【０２０８】
＜液晶表示装置＞
次に本発明の液晶表示装置について説明する。
本発明の液晶表示装置は、液晶セルおよびその両側に配置された二枚の偏光板を有する液晶表示装置であって、Ｒｔｈが前記式（１）〜（３）の関係を満たし、６０℃９５％ＲＨ２４時間における透湿度が２００g/m2以上１２００g/m2以下である少なくとも１枚の光学補償フィルムＡ及びＲｅが前記式（４）〜（６）の関係を満たす少なくとも１枚の光学補償フィルムＢを含む。
本発明の液晶表示装置の一方の偏光板が前記光学補償フィルムＡを含み、もう一方の偏光板が前記光学補償フィルムＢを含むことが好ましい。このような配置をとることにより、光学補償フィルムＡが感じる温湿度環境と光学補償フィルムＢが感じる温湿度環境を別々に制御でき、両者の光学補償性能変化を相殺させやすくなり、好ましい。
【０２０９】
また、光学補償フィルムＡを含む偏光板が視認者側、光学補償フィルムＢを含む偏光板がバックライト側に配置されていることがより好ましい。このような配置とすることで、光学補償フィルムＡの環境湿度による光学補償性能変化と光学補償フィルムＢの環境湿度による光学補償能変化を相殺させ、上記のような親水性を有する光学補償フィルムを用いながらも、使用環境湿度による表示性能変化が小さくかつ表示ムラが発生しにくい液晶表示装置を提供でき、好ましい。
【０２１０】
更に、本発明の液晶表示装置は、光学補償フィルムＡおよび光学補償フィルムＢのうちの少なくとも１枚を用いた偏光板保護フィルムを有することが好ましい。光学補償フィルムＡおよび光学補償フィルムＢは偏光板保護フィルムを兼ねることもでき、偏光板保護フィルムとして用いることでこれにより偏光板保護フィルムと光学補償フィルムの貼り合わせ工程の省略により生産性が向上し、かつ液晶表示装置を薄型化でき好ましい。
【０２１１】
更に本発明の液晶表示装置について図を用いて説明する。
図１は、本発明の液晶表示装置の例を示す概略図である。図１において、液晶表示装置１０は、液晶層７とこの上下に配置された液晶セル上電極基板５および液晶セル下電極基板８とを有する液晶セル、液晶セルの両側に配置された上側偏光板１および下側偏光板１２からなる。ここでは、視認者側に近い側を上側偏光板とする。液晶セルと各偏光板との間にカラーフィルターを配置してもよい。前記液晶表示装置１０を透過型として使用する場合は、冷陰極あるいは熱陰極蛍光管、あるいは発光ダイオード、フィールドエミッション素子、エレクトロルミネッセント素子を光源とするバックライトを背面に配置する。
【０２１２】
上側偏光板１および下側偏光板１２は、それぞれ２枚の保護フィルムで偏光子を挟むように積層した構成を有している。本発明の液晶表示装置１０は、一方の偏光板の液晶セル側の保護フィルムが上記の式（１）〜（３）の特性を満たす光学補償フィルムＡであり、もう一方の偏光板の液晶セル側保護フィルムが上記の式（４）〜（６）の特性を満たす光学補償フィルムＢであることが好ましい。光学補償フィルムが偏光板保護フィルムを兼ねることにより、偏光板保護フィルムに起因する不要なレターデーションの影響を取り除くことができる。
また、本発明の液晶表示装置においては、視認者に近い上側偏光板１の液晶セル側保護フィルムが、光学補償フィルムＡ、下側偏光板１２の液晶セル側保護フィルムが光学補償フィルムＢとなることが環境湿度による表示性能変化を小さくする点から特に好ましい。
【０２１３】
液晶表示装置１０には、画像直視型、画像投影型や光変調型が含まれる。ＴＦＴやＭＩＭのような３端子または２端子半導体素子を用いたアクティブマトリックス液晶表示装置が本発明は有効である。もちろん時分割駆動と呼ばれるＳＴＮモードに代表されるパッシブマトリックス液晶表示装置でも有効である。
尚、図１中、２は、上側偏光板吸収軸の方向を、６は上基板の配向制御方向を、９は下基板の配向制御方向を、１３は下側偏光板吸収軸の方向をそれぞれ示している。
【０２１４】
（ＶＡモード）
本発明の液晶表示装置の液晶セルはＶＡモードであることが好ましい。以下図１を用いてＶＡモード液晶表示装置について説明する。
ＶＡモードでは上下基板間に誘電異方性が負で、Δｎ＝０．０８１３、Δε＝−４．６程度の液晶をラビング配向により、液晶分子の配向方向を示すダイレクタ、いわゆるチルト角を、約８９°で作製する。図１における液晶層７の厚さｄは３．５μｍに設定してある。ここで厚さｄと屈折率異方性Δｎとの積Δｎｄの大きさにより白表示時の明るさが変化する。このため最大の明るさを得るためには液晶層の厚みを０．２μｍ〜０．５μｍの範囲になるように設定する。
【０２１５】
液晶セルの上側偏光板１の吸収軸２と下側偏光板１２の吸収軸１３は略直交に積層する。液晶セル上電極基板５および液晶セル下電極基板８のそれぞれの配向膜の内側には透明電極（図示せず）が形成されるが、電極に駆動電圧を印加しない非駆動状態では、液晶層７中の液晶分子は、基板面に対して概略垂直に配向し、その結果液晶パネルを通過する光の偏光状態はほとんど変化しない。すなわち、液晶表示装置では、非駆動状態において理想的な黒表示を実現する。これに対し、駆動状態では、液晶分子は基板面に平行な方向に傾斜し、液晶パネルを通過する光はかかる傾斜した液晶分子により偏光状態を変化させる。換言すると、液晶表示装置では、駆動状態において白表示が得られる。なお図１において、符号６および９は、配向制御方向である。
【０２１６】
ここでは上下基板間に電界が印加されるため、電界方向に垂直に液晶分子が応答するような、誘電率異方性が負の液晶材料を使用した。また電極を一方の基板に配置し、電界が基板面に平行の横方向に印加される場合は、液晶材料は正の誘電率異方性を有するものを使用する。
またＶＡモードの液晶表示装置では、ＴＮモードの液晶表示装置で一般的に使われているカイラル剤の添加は、動的応答特性の劣化させるため用いることは少ないが、配向不良を低減するために添加されることもある。
【０２１７】
ＶＡモードの特徴は、高速応答であることと、コントラストが高いことである。しかし、コントラストは正面では高いが、斜め方向では劣化する課題がある。黒表示時に液晶分子は基板面に垂直に配向している。正面から観察すると、液晶分子の複屈折はほとんどないため透過率は低く、高コントラストが得られる。しかし、斜めから観察した場合は液晶分子に複屈折が生じる。さらに上下の偏光板吸収軸の交差角が、正面では９０°の直交であるが、斜めから見た場合は９０°より大きくなる。この２つの要因のために斜め方向では漏れ光が生じ、コントラストが低下する。これを解決するために光学補償シートを配置する。
【０２１８】
また白表示時には液晶分子が傾斜しているが、傾斜方向とその逆方向では、斜めから観察した時の液晶分子の複屈折の大きさが異なり、輝度や色調に差が生じる。これを解決するためには、液晶表示装置の一画素を複数の領域に分割するマルチドメインと呼ばれる構造にする。
【０２１９】
［マルチドメイン］
例えば、ＶＡ方式では液晶分子が電界印加により、一つの画素内で異なる複数の領域に傾斜することで視角特性が平均化される。一画素内で配向を分割するには、電極にスリットを設けたり、突起を設け、電界方向を変えたり電界密度に偏りを持たせる。全方向で均等な視野角を得るにはこの分割数を多くすればよいが、４分割、あるいは８分割以上することでほぼ均等な視野角が得られる。特に８分割時は偏光板吸収軸を任意の角度に設定できるので好ましい。
【０２２０】
また配向分割の領域境界では、液晶分子が応答しずらい。そのためノーマリーブラック表示では黒表示が維持されるため、輝度低下が問題となる。そこで液晶材料にカイラル剤を添加して境界領域を小さくすることが可能である。
【実施例】
【０２２１】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。
【０２２２】
（光学補償フィルムＡ−１の作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、撹拌して各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液Ａ−１を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアシレート溶液Ａ−１組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
アセチル置換度２．９５、平均重合度３３０のセルロースアセテート
１００．０質量部
トリフェニルフォスフェート                      ５．０質量部
ビフェニルフォスフェート                        ２．５質量部
透湿度低減剤（Ｉ−２）                        １０．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）              ４０２．０質量部
メタノール（第２溶媒）                        ６０．０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２２３】
バンド流延機を用いて、上記セルロースアシレート溶液Ａ−１を流延した。残留溶剤含量３０質量％でフィルムをバンドから剥離し、さらに１３０℃の温度雰囲気下３０分間乾燥させて、膜厚は９７μｍであった。
【０２２４】
（光学補償フィルムＡ−２の作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、撹拌して各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液Ａ−２を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアシレート溶液Ａ−２組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
アセチル置換度２．８５、平均重合度３１０のセルロースアセテート
１００．０質量部
トリフェニルフォスフェート                      ５．０質量部
ビフェニルフォスフェート                        ２．５質量部
透湿度低減剤（Ｉ−２）                          ７．０質量部
波長分散調節剤（Ａ）                          ３．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）              ４０２．０質量部
メタノール（第２溶媒）                        ６０．０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２２５】
バンド流延機を用いて、上記セルロースアシレート溶液Ａ−２を流延した。残留溶剤含量３５質量％でフィルムをバンドから剥離し、さらに１３５℃の温度雰囲気下３０分間乾燥させて、膜厚は８１μｍであった。
波長分散調節剤（Ａ）：
【０２２６】
【化３４】
2008233689.tif 000037
【０２２７】
（光学補償フィルムＡ−３の作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、撹拌して各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液Ａ−３を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアシレート溶液Ａ−３組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
アセチル置換度２．８１、平均重合度３２０のセルロースアセテート
１００．０質量部
トリフェニルフォスフェート                    ７．０質量部
ビフェニルフォスフェート                      ３．５質量部
透湿度低減剤（Ｉ−２）                        ７．５質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）            ４０２．０質量部
メタノール（第２溶媒）                      ６０．０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２２８】
バンド流延機を用いて、上記セルロースアシレート溶液Ａ−３を流延した。残留溶剤含量３５質量％でフィルムをバンドから剥離し、さらに１３５℃の温度雰囲気下３０分間乾燥させて、膜厚は７５μｍであった。
【０２２９】
（比較用光学補償フィルムＡ−４の作製）
２，２'−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンおよび２，２'−ビス（トリフルオロメチル）−４，４'−ジアミノビフェニルから合成されたポリイミドを、溶媒にシクロヘキサノンを用い１５質量％で調製した溶液を、８０μｍ厚みのトリアセチルセルロースフィルム上に塗布した。その後１００℃で２０分乾燥処理して光学補償フィルムＡ−４を作製した。
【０２３０】
（比較用光学補償フィルムＡ−５の作製）
特許公報３６４８２４０号記載の方法により、ビスフェノールＡタイプのポリカーボネートフィルムを作製した。
【０２３１】
（光学特性の測定）
“ＷＲ  ＫＯＢＲＡ”（王子計測機器（株））を用いて２５℃６０％相対湿度の環境下で、本発明の光学補償フィルムの４４６ｎｍ、５４８ｎｍ、６２８ｎｍにおけるＲｔｈをそれぞれ測定した。
（透湿度の測定）
ＪＩＳ  Ｚ−０２０８にしたがって、６０℃９５％２４ｈｒの透湿度を測定した。
結果を表１に示す。
【０２３２】
【表１】
2008233689.tif 000038
【０２３３】
（光学補償フィルムＢ−１の作製）
＜樹脂の合成＞
５．０ｇのポリビニルアルコール系樹脂［日本合成化学（株）製 商品名「ＮＨ−１８」（重合度；１８００、ケン化度；９９．０％）］を１０５℃で２時間乾燥させた後、９５ｍｌのジメチルスルホシキド（ＤＭＳＯ）に溶解した。ここに、２．０２ｇの２，４，６−トリメチルベンズアルデヒド（メシトアルデヒド）、および０．４４ｇのｐ−トルエンスルホン酸・１水和物を加えて、４０℃で２時間攪拌した。これに、１３．４１ｇの１，１−ジエトキシエタン（アセタール）を加え、さらに４０℃で２時間攪拌した。その後、１．１８ｇのトリエチルアミンを加え、反応を終了した。得られた反応生成物（ポリマー）を、メタノール溶液に滴下し、再沈殿を行った。このポリマーを沈降させ、上澄み液をデカンテーションで除去した後、さらに、メタノール／水＝１／１（体積／体積）を加えて、該ポリマーを洗浄した。これをろ過して得られたポリマーを乾燥させて、７．５０ｇの白色ポリマーを得た。上記白色ポリマーは、 1 Ｈ−ＮＭＲにより測定したところ、下記式（Ｖ）に示す構造（ｌ：ｍ：ｎ＝２１：５８：２１）のポリビニルアセタール系樹脂であった。
【０２３４】
【化３５】
2008233689.tif 000039
【０２３５】
＜高分子フィルムの作製＞
上記式（Ｖ）に示す構造（ｌ：ｍ：ｎ＝２１：５８：２１）のポリビニルアセタール系樹脂（１７．７重量部）をトルエン（１００重量部）に溶解し、厚み７５μｍのポリエチレンテレフタレート［東レ（株）製 商品名「ルミラーＳ２７−Ｅ」］の表面に、コンマコーターにて均一に塗工し、多室型の空気循環式乾燥オーブン中（誤差±１℃）で、８０℃で２０分間、１２０℃で２０分間、１４０℃で３０分間と低温から徐々に昇温しながら乾燥させて、乾燥後の厚みが９０μｍであり、残留揮発成分量が２％の高分子フィルを作製した。この高分子フィルムの透過率は９０％、吸水率は３％であった。
【０２３６】
＜延伸フィルムの作製＞
上記で得られた高分子フィルムの両側に、二軸延伸ポリプロピレンフィルム[東レ（株）製 商品名「トレファンＥ６０−高収縮タイプ」（厚み６０μｍ）]をアクリル系粘着剤（厚み１５μｍ）を介して貼り合せた。その後、ロール延伸機でフィルムの長手方向を保持して、１４0℃の空気循環式乾燥オーブン内（フィルム裏面から３ｃｍの距離の温度を測定）で、１．６倍に延伸し、位相差フィルムＢ−１を作製した。
【０２３７】
なお、本例で用いた二軸延伸ポリプロピレンフィルムは、１４０℃における収縮率が、ＭＤ方向に６．４％、ＴＤ方向に１２．８％であった。アクリル系粘着剤は、ベースポリマーとして、溶液重合により合成されたイソノニルアクリレート（重量平均分子量＝５５０，０００）を用い、該ポリマー１００重量部に対して、ポリイソシアネート化合物の架橋剤［日本ポリウレタン（株）製 商品名「コロネートＬ」］３重量部、触媒［東京ファインケミカル（株）製 商品名「ＯＬ−１」］１０重量部を混合したものを用いた。
【０２３８】
本発明の光学補償フィルムＢ−１の２５℃６０％ＲＨにおけるレターデーションをＷＲ  ＫＯＢＲＡで測定したところ、Ｒｅ（４４６）が１１２ｎｍ、Ｒｅ（５４８）が１３５ｎｍ、Ｒｅ（６２８）は１４４ｎｍ、Ｒｅ（４４６）／Ｒｅ（５４８）は０．８３、Ｒｅ（６２８）／Ｒｅ（５４８）は１．０７であった。
【０２３９】
（光学補償フィルムＡ−１の鹸化処理）
作製した光学補償フィルムＡ−１を、２．３ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液に、５５℃で３分間浸漬した。室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸を用いて中和した。再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。このようにして、光学補償フィルムＡ−１表面の鹸化処理を行った。
【０２４０】
（光学補償フィルムＡ−２〜Ａ−４の鹸化処理）
前記光学補償フィルムＡ−１と同様にして光学補償フィルムＡ−２〜Ａ−４のセルロースアシレート表面をそれぞれ鹸化した。
【０２４１】
＜偏光板Ａ−１の作製＞
（偏光板保護フィルムの鹸化処理）
市販のセルロースアセテートフィルム（富士写真フイルム（株）製、富士タックＴＤ８０）を１．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液に、５５℃で１分間浸漬した。室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸を用いて中和した。再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。
【０２４２】
（偏光子の作製）
延伸したポリビニルアルコールフィルムに、ヨウ素を吸着させて偏光子を作製し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、上記で鹸化処理した光学補償フィルムＡ−１を偏光子の片側に貼り付けた。偏光子の吸収軸とセルロースアシレートフィルムの遅相軸とは平行になるように配置した。
さらに上記で鹸化処理した市販のセルローストリアセテートフィルムを、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光子の反対側に貼り付けた。このようにして偏光板Ａ−１を作製した。
【０２４３】
＜偏光板Ａ−２〜Ａ−４の作製＞
光学補償フィルムＡ−２〜Ａ−４についても光学補償フィルムＡ−１の場合と同様にして偏光板Ａ−２〜Ａ−４を作製した。
【０２４４】
＜比較用偏光板Ａ−５の作製＞
（光学補償フィルムＡ−５の表面処理）
光学補償フィルムＡ−５の表面に１２Ｗ・分／ｍ2の条件で春日電機（株）製コロナ放電して親水性を付与した。
【０２４５】
（接着剤の調製）
ポリエステル系ウレタン（三井武田ケミカル（株）製、タケラックＸＷ−７４−Ｃ１５４）１０部およびイソシアネート系架橋剤（三井武田ケミカル（株）製、タケネートＷＤ−７２５）１部を、水に溶解し、固形分を２０％に調整した溶液を調製した。これを接着剤として用いた。
【０２４６】
上記で表面処理した光学補償フィルムＡ−５に上記接着剤溶液を塗布した後、実施例７で作製した鹸化処理済みの市販のセルローストリアセテートフィルム（富士写真フイルム（株）製、富士タックＴＤ８０）とを偏光子を挟み込むように貼り合わせ、４０℃のオーブンで７２時間乾燥キュアして、偏光板Ａ−５を作製した。
【０２４７】
＜偏光板Ｂ−１の作製＞
（偏光子の作製）
延伸したポリビニルアルコールフィルムに、ヨウ素を吸着させて偏光子を作製し、アセトアセチル基を有する変性ポリビニルアルコールを主成分とする接着剤層（厚み１μｍ）［日本合成化学（株）製 商品名「ゴーセファイマーＺ２００」］を介し光学補償フィルムＢ−１を偏光子の片側に貼り付けた。偏光子の透過軸と光学補償フィルムＢ−２の遅相軸とは平行になるように配置した。
さらに上記で鹸化処理した市販のセルローストリアセテートフィルムを、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光子の反対側に貼り付けた。このようにして偏光板Ｂ−１を作製した。
【０２４８】
〔実施例〕
（液晶表示装置の作製）
図１において、ＶＡモードの液晶セルに、図１における上側偏光板１として偏光板Ａ−１を、本発明における光学補償フィルムＡ−１が液晶セル側となるように、また、下側偏光板１２には偏光板Ｂ−１を、光学補償フィルムＢ−１が液晶セル側となるように、粘着剤を介して、観察者側およびバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸が上下方向に、そして、バックライト側の偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。このようにして液晶表示装置（イ）を作製した。
さらに、上側偏光板、下側偏光板を下記表２の内容に変更して本発明の液晶表示装置（ロ）〜（ハ）、（ヘ）および比較例の液晶表示装置（ニ）〜（ホ）を作製した。
【０２４９】
（色味視野角の変化）
上記で作製した液晶表示装置（イ）〜（ヘ）について、２５℃１０％ＲＨの環境で２４ｈｒ調湿した液晶表示装置を、２５℃８０％ＲＨの環境に２時間放置する前後の色味変化を目視で評価した。
【０２５０】
（表示ムラの変化）
上記で作製した液晶表示装置（イ）〜（ヘ）を９０℃の環境下に連続５００ｈｒ時間点灯し、ムラの発生の有無を観察し、以下の基準により評価した。
ムラ発生面積が画面全体の１０％未満：小
ムラ発生面積が画面全体の１０％以上：大
結果を表２に示す。
【０２５１】
【表２】
2008233689.tif 000040
【０２５２】
表２の結果から本発明の液晶表示装置（イ）〜（ハ）、（へ）は比較例の液晶表示装置（ニ）および液晶表示装置（ホ）に比較して使用環境湿度による色味変化が小さくかつ長時間連続しても表示ムラが発生しにくく好ましいことが認められた。
【図面の簡単な説明】
【０２５３】
【図１】本発明の液晶表示装置の例を示す概略図である。
【符号の説明】
【０２５４】
１  上側偏光板
２  上側偏光板吸収軸の方向
５  液晶セル上電極基板
６  上基板の配向制御方向
７  液晶層
８  液晶セル下電極基板
９  下基板の配向制御方向
１０  液晶表示装置
１２  下側偏光板
１３  下側偏光板吸収軸の方向
【図１】
2008233689.tif 000044