(57)【要約】【課題】  光記録媒体の製造工程中または製品（光記録媒体）の保管中に生じる剥離を防止することのできる光記録媒体製造用シートを提供する。【解決手段】  （メタ）アクリル酸エステル共重合体と、ポリカーボネート骨格を有するエネルギー線硬化性樹脂とを必須成分として含有し、所望により脂環式構造を有する（メタ）アクリル酸エステルモノマー等をさらに含有するエネルギー線硬化性層１１を備えた光ディスク製造用シート１とする。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
（メタ）アクリル酸エステル共重合体と、ポリカーボネート骨格を有するエネルギー線硬化性樹脂とを含有するエネルギー線硬化性層を備えたことを特徴とする光記録媒体製造用シート。
【請求項２】
前記（メタ）アクリル酸エステル共重合体は、カルボキシル基を有することを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体製造用シート。
【請求項３】
前記エネルギー線硬化性層は、さらに脂環式構造を有する（メタ）アクリル酸エステルモノマーを含有することを特徴とする請求項１または２のいずれかに記載の光記録媒体製造用シート。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の光記録媒体製造用シートのエネルギー線硬化性層にスタンパーを圧着し、前記エネルギー線硬化性層に対しエネルギー線を照射して前記エネルギー線硬化性層を硬化させてから前記スタンパーを剥離することにより、前記エネルギー線硬化性層に前記スタンパーの凹凸パターンを転写・固定する工程を備えたことを特徴とする光記録媒体の製造方法。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれに記載の光記録媒体製造用シートを使用して製造されたことを特徴とする光記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光記録媒体におけるスタンパー受容層等を形成し光記録媒体を製造することのできる光記録媒体製造用シート、ならびにかかる光記録媒体製造用シートを使用して製造した光記録媒体およびその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
光ディスクを製造する方法として、ドライ光硬化性フィルムをポリカーボネートからなる光ディスク基板にラミネートし、次いでスタンパーをドライ光硬化性フィルムに圧着し、その状態で光を照射して光硬化性フィルムを硬化させた後、光硬化したフィルムとスタンパーとを分離し、光硬化したフィルムのエンボス面に光反射層を形成する方法が知られている（特許文献１）。
【特許文献１】特許第２９５６９８９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
光硬化性フィルムは、光の照射により硬化して接着力が低下し、スタンパーとの分離が可能となるが、同時に光ディスク基板の素材であるポリカーボネートに対する接着力も低下するため、光ディスクの製造工程中に、ポリカーボネート製の光ディスク基板と光硬化後のフィルムとが分離したり、完成した光ディスクが保管の条件によっては層間で剥離してしまうおそれがあった。
【０００４】
本発明は、このような実状に鑑みてなされたものであり、光記録媒体の製造工程中または製品（光記録媒体）の保管中に生じ得る剥離を防止することのできる光記録媒体製造用シートを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記目的を達成するために、第１に本発明は、（メタ）アクリル酸エステル共重合体と、ポリカーボネート骨格を有するエネルギー線硬化性樹脂とを含有するエネルギー線硬化性層を備えたことを特徴とする光記録媒体製造用シートを提供する（請求項１）。
【０００６】
上記発明（請求項１）においては、エネルギー線硬化性層がポリカーボネート骨格を有するエネルギー線硬化性樹脂を含有することにより、ポリカーボネートに対する接着力が高いものとなる。したがって、硬化したエネルギー線硬化性層とスタンパーとを分離するときに、当該エネルギー線硬化性層とポリカーボネート基板・シート・フィルム等のポリカーボネート層とが剥離してしまうことが防止され、また、製品の保管中にエネルギー線硬化性層とポリカーボネート層とが剥離してしまうことが防止される。
【０００７】
なお、本明細書における「光記録媒体」とは、光学的に情報を記録・再生することのできる媒体をいい、主として再生専用型、追記型または書換え型のディスク状の媒体（例えば、ＣＤ、ＣＤ−ＲＯＭ、ＣＤ−Ｒ、ＣＤ−ＲＷ、ＤＶＤ、ＤＶＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ−ＲＷ、ＤＶＤ−ＲＡＭ、ＬＤ、Ｂｌｕ−ｒａｙ  Ｄｉｓｃ、ＨＤ  ＤＶＤ、ＭＯ等；いわゆる光ディスク（光磁気ディスクを含む））が該当するが、必ずしもこれらに限定されるものではない。
【０００８】
上記発明（請求項１）において、前記（メタ）アクリル酸エステル共重合体は、カルボキシル基を有することが好ましい（請求項２）。
【０００９】
上記発明（請求項１，２）において、前記エネルギー線硬化性層は、さらに脂環式構造を有する（メタ）アクリル酸エステルモノマーを含有することが好ましい（請求項３）。
【００１０】
第２に本発明は、上記光記録媒体製造用シート（請求項１〜３）のエネルギー線硬化性層にスタンパーを圧着し、前記エネルギー線硬化性層に対しエネルギー線を照射して前記エネルギー線硬化性層を硬化させてから前記スタンパーを剥離することにより、前記エネルギー線硬化性層に前記スタンパーの凹凸パターンを転写・固定する工程を備えたことを特徴とする光記録媒体の製造方法を提供する（請求項４）。
【００１１】
第３に本発明は、上記光記録媒体製造用シート（請求項１〜３）を使用して製造されたことを特徴とする光記録媒体を提供する（請求項５）。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の光記録媒体製造用シートによれば、光記録媒体の製造工程中または製品の保管中に生じ得る、硬化したエネルギー線硬化性層とポリカーボネート層との剥離を防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明の実施形態について説明する。本実施形態では、光記録媒体として光ディスクを例に挙げて説明する。
〔光ディスク製造用シート〕
図１は本発明の一実施形態に係る光ディスク製造用シートの断面図である。本実施形態に係る光ディスク製造用シート１は、エネルギー線硬化性層１１と、エネルギー線硬化性層１１の両面に積層された剥離シート１２，１２’とからなる。ただし、剥離シート１２，１２’は、光ディスク製造用シート１の使用時に剥離されるものである。
【００１４】
本実施形態におけるエネルギー線硬化性層１１は、光ディスクにおいて、スタンパーに形成されている凹凸パターンが転写され、ピットまたはグルーブ／ランドが構成されるスタンパー受容層を構成することのできる層である。
【００１５】
エネルギー線硬化性層１１は、（メタ）アクリル酸エステル共重合体（Ａ）と、ポリカーボネート骨格を有するエネルギー線硬化性樹脂（Ｂ）とを必須成分として含有する。（メタ）アクリル酸エステル共重合体（Ａ）は、スタンパー受容層として好ましい性質を有しており、スタンパーの凹凸パターンを精密に転写することが可能であるとともに、硬化後にスタンパーから剥離してもスタンパーへの付着物がほとんどない。また、ポリカーボネート骨格を有するエネルギー線硬化性樹脂（Ｂ）は、ポリカーボネート基板・シート・フィルム等のポリカーボネート層に対するエネルギー線硬化性層１１の接着力を向上させることができる。
【００１６】
（メタ）アクリル酸エステル共重合体（Ａ）は、官能基含有モノマーから導かれる構成単位と、（メタ）アクリル酸エステルモノマーまたはその誘導体から導かれる構成単位とからなる。
【００１７】
官能基含有モノマーは、重合性の二重結合と、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、置換アミノ基、エポキシ基等の官能基とを分子内に有するモノマーである。得られる（メタ）アクリル酸エステル共重合体が官能基を有することにより、後述する架橋剤によって（メタ）アクリル酸エステル共重合体を架橋することが可能となる。また、（メタ）アクリル酸エステル共重合体が特にカルボキシル基を有すると、エネルギー線硬化性層１１とエネルギー線硬化性層１１上に形成される金属薄膜（記録・再生のための反射膜等）との接着力が高くなり、得られる光ディスクの強度、耐久性が向上する。
【００１８】
上記のような官能基含有モノマーのさらに具体的な例としては、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート等のヒドロキシル基含有アクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸等のカルボキシル基含有化合物が挙げられ、これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて用いられる。
【００１９】
（メタ）アクリル酸エステルモノマーとしては、シクロアルキル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、アルキル基の炭素数が１〜１８である（メタ）アクリル酸アルキルエステルが用いられる。これらの中でも、特に好ましくはアルキル基の炭素数が１〜１８である（メタ）アクリル酸アルキルエステル、例えばメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート等が用いられる。
【００２０】
（メタ）アクリル酸エステル共重合体は、上記官能基含有モノマーから導かれる構成単位を通常３〜９９質量％、好ましくは５〜４０質量％、特に好ましくは１０〜３０質量％の割合で含有し、（メタ）アクリル酸エステルモノマーまたはその誘導体から導かれる構成単位を通常１〜９７質量％、好ましくは６０〜９５質量％、特に好ましくは７０〜９０質量％の割合で含有してなる。
【００２１】
（メタ）アクリル酸エステル共重合体は、上記のような官能基含有モノマーと、（メタ）アクリル酸エステルモノマーまたはその誘導体とを常法で共重合することにより得られるが、これらモノマーの他にも少量（例えば１０質量％以下、好ましくは５質量％以下）の割合で、蟻酸ビニル、酢酸ビニル、スチレン等が共重合されてもよい。
【００２２】
（メタ）アクリル酸エステル共重合体の質量平均分子量は、１００，０００以上であることが好ましく、特に１５０，０００〜１，５００，０００であることが好ましく、さらに２００，０００〜１，０００，０００であることが好ましい。
【００２３】
また、（メタ）アクリル酸エステル共重合体としては、側鎖にエネルギー線硬化性基を有するものであってもよい。側鎖にエネルギー線硬化性基を有する（メタ）アクリル酸エステル共重合体は、上記官能基含有モノマー単位を有する（メタ）アクリル系共重合体を、その官能基に結合する置換基を有する不飽和基含有化合物と反応させることにより得られる。
【００２４】
不飽和基含有化合物が有する置換基は、（メタ）アクリル酸エステル共重合体が有する官能基含有モノマー単位の官能基の種類に応じて、適宜選択することができる。例えば、官能基がヒドロキシル基、アミノ基または置換アミノ基の場合、置換基としてはイソシアナート基またはエポキシ基が好ましく、官能基がカルボキシル基の場合、置換基としてはイソシアナート基、アジリジニル基、エポキシ基またはオキサゾリン基が好ましく、官能基がエポキシ基の場合、置換基としてはアミノ基、カルボキシル基またはアジリジニル基が好ましい。このような置換基は、不飽和基含有化合物１分子毎に一つずつ含まれている。
【００２５】
不飽和基含有化合物の具体例としては、例えば、メタクリロイルオキシエチルイソシアナート、メタ−イソプロペニル−α，α−ジメチルベンジルイソシアナート、メタクリロイルイソシアナート、アリルイソシアナート；ジイソシアナート化合物またはポリイソシアナート化合物と、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの反応により得られるアクリロイルモノイソシアナート化合物；ジイソシアナート化合物またはポリイソシアナート化合物と、ポリオール化合物と、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの反応により得られるアクリロイルモノイソシアナート化合物；グリシジル（メタ）アクリレート；（メタ）アクリル酸、２−（１−アジリジニル）エチル（メタ）アクリレート、２−ビニル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−２−オキサゾリン等が挙げられる。
【００２６】
側鎖にエネルギー線硬化性基を有する（メタ）アクリル酸エステル共重合体の質量平均分子量は、１００，０００以上であることが好ましく、特に１５０，０００〜１，５００，０００であることが好ましく、さらに２００，０００〜１，０００，０００であることが好ましい。
【００２７】
ポリカーボネート骨格を有するエネルギー線硬化性樹脂（Ｂ）としては、例えば、ポリカーボネート系ウレタン（メタ）アクリレート、ポリカーボネート系ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリカーボネート系ポリアミド（メタ）アクリレート等のポリカーボネート骨格を有する（メタ）アクリレート化合物が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。上記の中でも、ポリカーボネート系ウレタン（メタ）アクリレートを使用することが好ましい。また、ポリカーボネート骨格を有する（メタ）アクリレートの１分子中に含まれる（メタ）アクリロイル基の数は、２〜６個が好ましい。（メタ）アクリロイル基の数が２〜６個であると、スタンパー受容層として用いた場合、転写された凹凸の硬化後の形状安定性が良好であり、かつポリカーボネート層の変形（反り）が発生しにくい。
【００２８】
ポリカーボネート系ウレタン（メタ）アクリレートは、例えば、ポリカーボネートジオールと、ジイソシアナート化合物と、ヒドロキシル基含有（メタ）アクリル酸エステルとを反応させて得たポリカーボネート系ウレタン（メタ）アクリレートを反応させることにより製造することができる。
【００２９】
ポリカーボネート骨格を有するエネルギー線硬化性樹脂（Ｂ）の質量平均分子量は、２００〜３００００であることが好ましく、特に３０００〜２００００であることが好ましい。
【００３０】
ポリカーボネート骨格を有するエネルギー線硬化性樹脂（Ｂ）の（メタ）アクリル酸エステル共重合体（Ａ）に対する配合量は、（メタ）アクリル酸エステル共重合体（Ａ）１００質量部に対して、１〜１００質量部であることが好ましく、特に３〜６０質量部であることが好ましい。ポリカーボネート骨格を有するエネルギー線硬化性樹脂（Ｂ）の配合量が１質量部未満であると、ポリカーボネート層に対するエネルギー線硬化性層１１の接着力向上効果が十分に得られない。一方、ポリカーボネート骨格を有するエネルギー線硬化性樹脂（Ｂ）の配合量が１００質量部を超えると、エネルギー線硬化性層の凝集力が小さくなるため、エネルギー線硬化性層１１が変形することがある。
【００３１】
エネルギー線硬化性層１１においては、上記成分に加えて、適宜他の成分を配合してもよい。他の成分としては、例えば、架橋剤（Ｃ）、エネルギー線重合開始剤（Ｄ）、脂環式構造を有する（メタ）アクリル酸エステルモノマー（Ｅ）、（Ｂ）および（Ｅ）以外のエネルギー線硬化性樹脂（Ｆ）、その他の添加剤（Ｇ）が挙げられる。
【００３２】
架橋剤（Ｃ）としては、（メタ）アクリル酸エステル共重合体（Ａ）等が有する官能基との反応性を有する多官能性化合物を用いることができる。このような多官能性化合物の例としては、イソシアナート化合物、エポキシ化合物、アミン化合物、メラミン化合物、アジリジン化合物、ヒドラジン化合物、アルデヒド化合物、オキサゾリン化合物、金属アルコキシド化合物、金属キレート化合物、金属塩、アンモニウム塩、反応性フェノール樹脂等を挙げることができる。
【００３３】
架橋剤（Ｃ）を使用することにより、エネルギー線硬化性層１１の硬化前および硬化後の強度等を向上させることができる。架橋剤（Ｃ）は、（メタ）アクリル酸エステル共重合体（Ａ）１００質量部に対して０．００１〜３０質量部、特には０.０１〜１５質量部の範囲の量で用いられることが好ましい。
【００３４】
エネルギー線重合開始剤（Ｄ）としては、エネルギー線として紫外線を用いる場合には、光重合開始剤を使用する。光重合開始剤の使用により、重合硬化時間および光線照射量を少なくすることができる。
【００３５】
光重合開始剤としては、具体的には、ベンゾフェノン、アセトフェノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾイン安息香酸、ベンゾイン安息香酸メチル、ベンゾインジメチルケタール、２，４−ジエチルチオキサンソン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンジルジフェニルサルファイド、テトラメチルチウラムモノサルファイド、アゾビスイソブチロニトリル、ベンジル、ジベンジル、ジアセチル、β−クロールアンスラキノン、（２，４，６−トリメチルベンジルジフェニル）フォスフィンオキサイド、２−ベンゾチアゾール−Ｎ，Ｎ−ジエチルジチオカルバメート、オリゴ｛２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−（１−プロペニル）フェニル］プロパノン｝などが挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００３６】
エネルギー線重合開始剤（Ｄ）は、ポリカーボネート骨格を有するエネルギー線硬化性樹脂（Ｂ）と、脂環式構造を有する（メタ）アクリル酸エステルモノマー（Ｅ）との合計量１００質量部に対して０．１〜５０質量部、特には０．５〜３０質量部の範囲の量で用いられることが好ましい。
【００３７】
脂環式構造を有する（メタ）アクリル酸エステルモノマー（Ｅ）は、金属に対する接着性を低下させる作用を有するため、スタンパーがニッケル等の金属からなる場合、エネルギー線硬化性層１１のスタンパーからの剥離性を向上させることができる。
【００３８】
脂環式構造を有する（メタ）アクリル酸エステルモノマー（Ｅ）としては、例えば、トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレート、ジメチロールジシクロデカンジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００３９】
脂環式構造を有する（メタ）アクリル酸エステルモノマー（Ｅ）は、エネルギー線硬化性層１１中、１〜４５質量％配合されることが好ましく、特に５〜３０質量％配合されることが好ましい。
【００４０】
（Ｂ）および（Ｅ）以外のエネルギー線硬化性樹脂（Ｆ）としては、例えば、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、シリコーン（メタ）アクリレート等が挙げられる。かかるエネルギー線硬化性樹脂（Ｆ）は、エネルギー線硬化性層１１中、４５質量％以下の量で配合されることが好ましく、特に１〜３０質量％配合されることが好ましい。
【００４１】
その他の添加剤（Ｇ）としては、例えば、紫外線吸収剤、可塑剤、充填剤、酸化防止剤、粘着付与剤、顔料、染料、カップリング剤等が挙げられる。
【００４２】
エネルギー線硬化性層１１の硬化前の貯蔵弾性率は１×１０３〜１×１０７Ｐａであることが好ましく、特に１×１０４〜５×１０６Ｐａであることが好ましい。
【００４３】
ここで、「硬化前の貯蔵弾性率」の測定温度は、スタンパーと光ディスク製造用シート１とを重ね合わせる（圧着する）作業環境と同じ温度であるものとする。すなわち、スタンパーと光ディスク製造用シート１とを室温で重ね合わせる場合、貯蔵弾性率は、室温下で測定したものであり、スタンパーと光ディスク製造用シート１とを加熱下で重ね合わせる場合、貯蔵弾性率は、加熱温度と同じ温度で測定したものである。
【００４４】
エネルギー線硬化性層１１の硬化前の貯蔵弾性率が上記のような範囲にあると、スタンパーをエネルギー線硬化性層１１に圧着するだけで、スタンパーに形成されている凹凸パターンがエネルギー線硬化性層１１に精密に転写され、光ディスクの製造が極めて簡単になる。
【００４５】
また、エネルギー線硬化性層１１の硬化後の貯蔵弾性率は、１×１０７Ｐａ以上であるのが好ましく、特に、１×１０８〜１×１０１１Ｐａであるのが好ましい。ここで、「硬化後の貯蔵弾性率」の測定温度は、光ディスクの保管環境と同じ温度、すなわち室温であるものとする。
【００４６】
エネルギー線硬化性層１１の硬化後の貯蔵弾性率が上記のような範囲にあると、エネルギー線硬化性層１１に転写されたピットまたはグルーブ／ランドが硬化によって確実に固定され、スタンパーとエネルギー線硬化性層１１とを分離する際に、ピットまたはグルーブ／ランドが破壊されたり、変形したりするおそれがなくなる。
【００４７】
エネルギー線硬化性層１１の厚みは、形成すべきピットまたはグルーブの深さに応じて決定されるが、通常は５〜３０μｍ程度であり、好ましくは１０〜２０μｍ程度である。
【００４８】
エネルギー線硬化性層１１を有する光ディスク製造用シート１の硬化後のポリカーボネートに対する接着力は、１００ｍＮ／２５ｍｍ以上であることが好ましく、特に３００ｍＮ／２５ｍｍ以上であることが好ましい。エネルギー線硬化性層１１がこのような接着力を有すると、光ディスクの製造工程中に、光ディスク製造用シートがポリカーボネート素材から剥離してしまうことを防止することができる。また、光ディスクの長期保管を想定した場合であっても、硬化したエネルギー線硬化性層１１の接着力不足に起因する当該エネルギー線硬化性層１１での界面剥離を防止することができる。本実施形態におけるエネルギー線硬化性層１１は、ポリカーボネート骨格を有するエネルギー線硬化性樹脂（Ｂ）を含有することにより、ポリカーボネートに対して上記接着力を有し得る。
【００４９】
本実施形態に係る光ディスク製造用シート１では、エネルギー線硬化性層１１が圧力によって変形しやすいので、これを防止するために、エネルギー線硬化性層１１の両面に剥離シート１２，１２’が積層されている。剥離シート１２，１２’としては、従来公知のものを使用することができ、例えば、ポリエチレンテレフタレートやポリプロピレンなどの樹脂フィルムをシリコーン系剥離剤等で剥離処理したものを使用することができる。
【００５０】
剥離シート１２は、エネルギー線硬化性層１１に平滑性を付与するために、剥離処理した側（エネルギー線硬化性層１１と接触する側）の表面粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ以下であるのが好ましい。また、剥離シート１２，１２’の厚さは、通常１０〜２００μｍ程度であり、好ましくは２０〜１００μｍ程度である。
【００５１】
なお、剥離シート１２を先に剥離し、剥離シート１２’を後で剥離する場合には、剥離シート１２を軽剥離タイプのものとし、剥離シート１２’を重剥離タイプのものとするのが好ましい。
【００５２】
〔光ディスク製造用シートの製造〕
本実施形態に係る光ディスク製造用シート１を製造するには、まず、エネルギー線硬化性層１１を構成する材料と、所望によりさらに溶媒とを含有するエネルギー線硬化性層１１用の塗布剤を調製する。
【００５３】
そして、エネルギー線硬化性層１１用の塗布剤を一方の剥離シート１２（１２’）の剥離処理面上に塗布し乾燥させてエネルギー線硬化性層１１を形成した後、エネルギー線硬化性層１１の表面に他方の剥離シート１２’（１２）の剥離処理面を貼り合わせる。塗布剤の塗工には、例えば、キスロールコーター、リバースロールコーター、ナイフコーター、ロールナイフコーター、ダイコーター等の塗工機を使用することができる。
【００５４】
〔光ディスクの製造（１）〕
上記光ディスク製造用シート１を使用した光ディスクの製造方法の一例について説明する。図２（ａ）〜（ｈ）は、上記光ディスク製造用シート１を用いた光ディスクの製造方法の一例を示す断面図である。
【００５５】
最初に、図２（ａ）〜（ｂ）に示すように、光ディスク製造用シート１の一方の剥離シート１２（軽剥離タイプ）を剥離除去し、露出したエネルギー線硬化性層１１をスタンパーＳに圧着し、エネルギー線硬化性層１１にスタンパーＳの凹凸パターンを転写する。
【００５６】
スタンパーＳは、ニッケル合金等の金属材料やノルボルネン樹脂等の透明樹脂材料から構成される。なお、図２（ａ）〜（ｅ）に示すスタンパーＳの形状は板状であるが、これに限定されるものではなく、ロール状であってもよい。
【００５７】
次に、図２（ｃ）に示すように、エネルギー線硬化性層１１から他方の剥離シート１２’（重剥離タイプ）を剥離除去し、露出したエネルギー線硬化性層１１にポリカーボネートからなるカバーシート６を積層し、圧着する。このカバーシート６は、光ディスクの受光面を構成するものである。
【００５８】
そして、図２（ｄ）に示すように、エネルギー線硬化性層１１にスタンパーＳを密着させた状態で、エネルギー線照射装置（図２（ｄ）中では一例としてＵＶランプＬ）を使用して、カバーシート６側からエネルギー線硬化性層１１に対してエネルギー線を照射する。これにより、エネルギー線硬化性層１１を構成するエネルギー線硬化性の材料が硬化し、貯蔵弾性率が上昇する。
【００５９】
エネルギー線としては、通常、紫外線、電子線等が用いられる。エネルギー線の照射量は、エネルギー線の種類によって異なるが、例えば紫外線の場合には、光量で１００〜５００mJ/cm２程度が好ましく、電子線の場合には、１０〜１０００krad程度が好ましい。
【００６０】
その後、図２（ｅ）に示すように、スタンパーＳをエネルギー線硬化性層１１から分離する。このとき、エネルギー線硬化性層１１のポリカーボネート（カバーシート６）に対する接着力は高いため、スタンパーＳをエネルギー線硬化性層１１から分離するときに、エネルギー線硬化性層１１がスタンパーＳに引っ張られてカバーシート６から剥離することが防止される。
【００６１】
上記のようにしてエネルギー線硬化性層１１にスタンパーＳの凹凸パターンが転写・固定され、ピットまたはグルーブ／ランドが形成されたら、次に、図２（ｆ）に示すように、スパッタリング等の手段によりエネルギー線硬化性層１１の表面に銀、銀合金、アルミニウム等の金属薄膜からなる半透過反射膜４’を形成する。
【００６２】
ここで、エネルギー線硬化性層１１を構成する材料（（メタ）アクリル酸エステル共重合体（Ａ））にカルボキシル基が存在すると、エネルギー線硬化性層１１と半透過反射膜４’との接着力が高くなり、得られる光ディスクの強度、耐久性等が向上する。
【００６３】
上記カバーシート６、エネルギー線硬化性層１１および半透過反射膜４’からなる積層体とは別に、図２（ｇ）に示すように、ポリカーボネートからなり、所定の凹凸パターンを有する光ディスク基板３を射出成形等の成形法により成形し、その凹凸パターン上に、スパッタリング等の手段により金属薄膜からなる反射膜４を形成する。
【００６４】
最後に、図２（ｈ）に示すように、上記半透過反射膜４’が形成された積層体（カバーシート６＋エネルギー線硬化性層１１＋半透過反射膜４’）と、上記反射膜４が形成された光ディスク基板３とを、半透過反射膜４’および反射膜４が相対向するように、接着剤５を介して接着する。
【００６５】
以上のようにして得られる光ディスクにおいては、硬化したエネルギー線硬化性層１１とカバーシート６とが高い接着力で接着しているため、保管中にエネルギー線硬化性層１１とカバーシート６とが層間剥離することが防止される。
【００６６】
〔光ディスクの製造（２）〕
上記光ディスク製造用シート１を使用した光ディスクの製造方法の他の例について説明する。図３（ａ）〜（ｇ）は、上記光ディスク製造用シート１を用いた光ディスクの製造方法の一例を示す断面図である。
【００６７】
最初に、図３（ａ）に示すように、ポリカーボネートからなり、所定の凹凸パターンを有する光ディスク基板３を射出成形等の成形法により成形し、その凹凸パターン上に、スパッタリング等の手段により金属薄膜からなる反射膜４を形成する。ここで、反射膜４は、光ディスク基板３の周縁部分には形成されないため、光ディスク基板３の周縁部分は、光ディスク基板３の材料であるポリカーボネートが露出している。
【００６８】
図３（ｂ）に示すように、光ディスク製造用シート１の一方の剥離シート１２（軽剥離タイプ）を剥離除去し、露出したエネルギー線硬化性層１１を、上記反射膜４が形成された光ディスク基板３に積層、圧着する。そして、図３（ｃ）に示すように、エネルギー線硬化性層１１上に積層されている他方の剥離シート１２’（重剥離タイプ）を剥離除去し、エネルギー線硬化性層１１を露出させる。
【００６９】
次に、図３（ｄ）に示すように、露出したエネルギー線硬化性層１１の表面に透明のスタンパーＳを圧着し、エネルギー線硬化性層１１にスタンパーＳの凹凸パターンを転写する。この状態で、エネルギー線照射装置（図３（ｄ）中では一例としてＵＶランプＬ）を使用して、スタンパーＳ側からエネルギー線硬化性層１１に対してエネルギー線を照射し、エネルギー線硬化性層１１を硬化させる。
【００７０】
その後、図３（ｅ）に示すように、スタンパーＳをエネルギー線硬化性層１１から分離する。このとき、エネルギー線硬化性層１１のポリカーボネートに対する接着力は高く、エネルギー線硬化性層１１は光ディスク基板３周縁部のポリカーボネート部分に高い接着力で接着しているため、スタンパーＳをエネルギー線硬化性層１１から分離するときに、エネルギー線硬化性層１１がスタンパーＳに引っ張られて光ディスク基板３から剥離することが防止される。
【００７１】
上記のようにしてエネルギー線硬化性層１１にスタンパーＳの凹凸パターンが転写・固定され、ピットまたはグルーブ／ランドが形成されたら、次に、図３（ｆ）に示すように、スパッタリング等の手段によりエネルギー線硬化性層１１の表面に金属薄膜からなる半透過反射膜４’を形成する。
【００７２】
最後に、図３（ｇ）に示すように、上記半透過反射膜４’上に接着剤５を介してカバーシート６を積層し、光ディスクとする。
【００７３】
以上のようにして得られる光ディスクにおいては、硬化したエネルギー線硬化性層１１と光ディスク基板３の周縁部分とが高い接着力で接着しているため、保管中にエネルギー線硬化性層１１と光ディスク基板３とが層間剥離することが防止される。
【００７４】
なお、上記光ディスクの製造方法（１）,（２）はあくまでも一例であり、本実施形態に係る光ディスク製造用シートによる光ディスクの製造方法は、これらの製造方法に限定されるものではない。
【００７５】
以上説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。
【００７６】
例えば、光ディスク製造用シート１における剥離シート１２または剥離シート１２’はなくてもよい。
【実施例】
【００７７】
以下、実施例等により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例等に限定されるものではない。
【００７８】
〔実施例１〕
窒素雰囲気下において、ｎ−ブチルアクリレート８０質量部と、アクリル酸２０質量部と、アゾビスイソブチロニトリル（重合開始剤）０．２質量部とを酢酸エチル中にて６０℃で２４時間反応させて、質量平均分子量が８５万のアクリル酸エステル共重合体溶液（固形分濃度３５質量％）を得た。
【００７９】
得られたアクリル酸エステル共重合体溶液１００質量部に対して、光重合開始剤である１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製，イルガキュア１８４，固形分濃度１００質量％）３．０質量部と、ポリカーボネート系ウレタンアクリレート（根上工業社製，ＵＮ９０００Ｈ，質量平均分子量５０００，１分子中のアクリロイル基の数６個，固形分濃度１００％）７．０質量部と、脂環式構造を有するモノマーであるトリシクロデカンジメタノールアクリレート（共栄社化学社製，ライトアクリレートＤＣＰ−Ａ，固形分濃度１００質量％）１０質量部と、ポリイソシアナート化合物からなる架橋剤（東洋インキ製造社製，オリバインＢＨＳ−８５１５、固形分濃度３５質量％）１．０質量部とを溶解させて、固形分濃度を３５質量％に調整し、エネルギー線硬化性層用の塗布剤とした。
【００８０】
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（厚さ：３８μｍ）の片面に重剥離型のシリコーン樹脂で剥離処理した重剥離型剥離シート（リンテック社製，ＳＰ−ＰＥＴ３８１１，表面粗さ（Ｒａ）：０．０１６μｍ）、およびＰＥＴフィルム（厚さ：３８μｍ）の片面に軽剥離型のシリコーン樹脂で剥離処理した軽剥離型剥離シート（リンテック社製，ＳＰ−ＰＥＴ３８０１，表面粗さ（Ｒａ）：０．０２３μｍ）の２種類の剥離シートを用意した。
【００８１】
上記で得られたエネルギー線硬化性層用の塗布剤をナイフコーターによって重剥離型剥離シートの剥離処理面に塗布して９０℃で１分間乾燥させ、厚さ１０μｍのエネルギー線硬化性層を形成し、そのエネルギー線硬化性層の表面に軽剥離型剥離シートの剥離処理面を貼り合わせ、これを光ディスク製造用シートとした。
【００８２】
〔実施例２〕
ポリカーボネート系ウレタンアクリレートとして、根上工業社製のＵＮ９０００Ｈの代わりに根上工業社製のＵＮ９２００Ａ（質量平均分子量１５０００，１分子中のアクリロイル基の数２個，固形分濃度１００％）を使用した以外は、実施例１と同様にして光ディスク製造用シートを作製した。
【００８３】
〔実施例３〕
ポリカーボネート系ウレタンアクリレートとして、根上工業社製のＵＮ９０００Ｈの代わりに根上工業社製のＵＮ９０００ＰＥＰ（質量平均分子量５０００，1分子中のアクリロイル基の数２個，固形分濃度１００質量％）を使用した以外は、実施例１と同様にして光ディスク製造用シートを作製した。
【００８４】
〔実施例４〕
ポリカーボネート系ウレタンアクリレートとして、根上工業社製のＵＮ９０００Ｈの代わりに日本合成化学社製の紫光ＵＶ−３２１０ＥＡ（質量平均分子量５０００，１分子中のアクリロイル基の数２個，固形分濃度７０質量％）１０質量部を使用した以外は、実施例１と同様にして光ディスク製造用シートを作製した。
【００８５】
〔実施例５〕
ポリカーボネート系ウレタンアクリレートとして、根上工業社製のＵＮ９０００Ｈの代わりに日本合成化学社製の紫光ＵＶ−３２１０ＥＡ（質量平均分子量５０００，１分子中のアクリロイル基の数２個，固形分濃度７０質量％）５質量部を使用し、さらにウレタンアクリレート（日本合成化学社製，紫光ＵＶ−６０２０，固形分濃度７０質量％）５質量部を配合した以外は、実施例１と同様にして光ディスク製造用シートを作製した。
【００８６】
〔実施例６〕
ポリカーボネート系ウレタンアクリレートとして、根上工業社製のＵＮ９０００Ｈの代わりに日本合成化学社製の紫光ＵＶ−３２１０ＥＡ（質量平均分子量５０００，１分子中のアクリロイル基の数２個，固形分濃度７０質量％）２質量部を使用し、さらにウレタンアクリレート（日本合成化学社製，紫光ＵＶ−６０２０，固形分濃度７０質量％）８質量部を配合した以外は、実施例１と同様にして光ディスク製造用シートを作製した。
【００８７】
〔比較例１〕
イソホロンジイソシアナート１００質量部と、ネオペンチルグリコール２３質量部と、ジブチル錫ジラウレート０．０２５質量部とを６０℃で２時間反応させて、ウレタンプレポリマーを得た。得られたウレタンプレポリマーの温度を４０℃に下げ、ジブチル錫ジラウレート０．１５質量部と重合禁止剤としてハイドロキノンモノメチルエーテル０．１質量部とを添加し、２−ヒドロキシエチルアクリレート６０質量部をゆっくり滴下して反応させた。そして、引き続き６０℃で６時間反応させ、ウレタンアクリレート（質量平均分子量９００）を得た。
【００８８】
ポリカーボネート系ウレタンアクリレート（根上工業社製，ＵＮ９０００Ｈ）の代わりに上記ウレタンアクリレートを使用する以外、実施例１と同様にして光ディスク製造用シートを作製した。
【００８９】
〔比較例２〕
イソホロンジイソシアナート１００質量部と、水添ビスフェノールＡ５４質量部と、ジブチル錫ジラウレート０．０２５質量部とを６０℃で２時間反応させて、ウレタンプレポリマーを得た。得られたウレタンプレポリマーの温度を４０℃に下げ、ジブチル錫ジラウレート０．１５質量部と、重合禁止剤としてハイドロキノンモノメチルエーテル０．１質量部とを添加し、２−ヒドロキシエチルアクリレート６０質量部をゆっくり滴下して反応させた。そして、引き続き６０℃で６時間反応させ、ウレタンアクリレート（質量平均分子量１０００）を得た。
【００９０】
ポリカーボネート系ウレタンアクリレート（根上工業社製，ＵＮ９０００Ｈ）の代わりに上記ウレタンアクリレートを使用する以外、実施例１と同様にして光ディスク製造用シートを作製した。
【００９１】
〔試験例〕
（１）接着力の測定
実施例または比較例で作製した光ディスク製造用シートから軽剥離型剥離シートを剥がし、露出したエネルギー線硬化性層をポリカーボネートフィルム（帝人化成社製，ピュアエースＣ１１０，厚さ：８０μｍ）に貼り付けて、幅４５ｍｍ、重さ２ｋｇのゴムロールを１往復させて両者を圧着した。
【００９２】
得られた積層体から重剥離型剥離シートを剥がし、露出したエネルギー線硬化性層に対して、厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレート基材に厚さ２０μｍの粘着剤（リンテック社製，ＰＬシン）が積層された２５ｍｍ幅の接着テープを貼付し、これを接着力測定用試料（硬化前）とした。
【００９３】
また、得られた積層体に対して、紫外線を照射（リンテック社製，Ａｄｗｉｌｌ  ＲＡＤ−２０００ｍ／８を使用。照射条件：照度３１０mW/cm2，光量３００mJ/cm2）して、エネルギー線硬化性層を硬化させた。その後、重剥離型剥離シートを剥がし、硬化したエネルギー線硬化性層に対して、厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレート基材に厚さ２０μｍの粘着剤（リンテック社製，ＰＬシン）が積層された２５ｍｍ幅の接着テープを貼付し、これを接着力測定用試料（硬化後）とした。
【００９４】
上記で得られた接着力測定用試料（硬化前・硬化後）について、ＪＩＳ  Ｚ０２３７に準じてエネルギー線硬化性層のポリカーボネートフィルムに対する接着力（剥離速度３００ｍｍ／ｍｉｎ，剥離角度１８０°）を測定した。結果を表１に示す。なお、全ての試料において、エネルギー線硬化性層とポリカーボネートとの界面で剥離が起きた。
【００９５】
（２）基板からの剥がれ評価
実施例または比較例で作製した光ディスク製造用シートから軽剥離型剥離シートを剥がし、露出したエネルギー線硬化性層を、反射層付き基板に貼り付けて、幅４５ｍｍ、重さ２ｋｇのゴムロールを１往復させて両者を圧着した。反射層付き基板としては、ピットが形成されたポリカーボネート基板（厚さ１．１ｍｍ）を射出成形法により作製し、得られたポリカーボネート基板に、銀合金からなる反射層（厚さ３０ｎｍ）をスパッタリング法により形成したものを使用した。
【００９６】
得られた積層体に対して、紫外線を照射（リンテック社製，Ａｄｗｉｌｌ  ＲＡＤ−２０００ｍ／８を使用。照射条件：照度３１０mW/cm2，光量３００mJ/cm2）して、エネルギー線硬化性層を硬化させた。次に、重剥離型剥離シートを剥がし、高温高湿条件下（８０℃，８５％Ｒｈ）に２４０時間静置した後、室温下（２３℃，５０％Ｒｈ）に１時間静置した。この積層体における硬化したエネルギー線硬化性層の基板からの剥がれの有無を、目視により観察した。結果を表１に示す。
【００９７】
【表１】
2008192200.tif 000003
【００９８】
表１から明らかなように、実施例の光ディスク製造用シートは、比較例の光ディスク製造用シートと比較して、ポリカーボネートに対する接着力が極めて大きい。
【産業上の利用可能性】
【００９９】
本発明は、層間剥離が防止された耐久性の高い光記録媒体を効率良く生産するのに有用である。
【図面の簡単な説明】
【０１００】
【図１】本発明の一実施形態に係る光ディスク製造用シートの断面図である。
【図２】同実施形態に係る光ディスク製造用シートを使用した光ディスク製造方法の一例を示す図である。
【図３】同実施形態に係る光ディスク製造用シートを使用した光ディスク製造方法の他の例を示す図である。
【符号の説明】
【０１０１】
１…光ディスク製造用シート
１１…エネルギー線硬化性層
１２，１２’…剥離シート
３…光ディスク基板
４…反射膜
４’…半透過反射膜
５…接着剤
６…カバーシート
【図１】
2008192200.tif 000004
【図２】
2008192200.tif 000005
【図３】
2008192200.tif 000006