(57)【要約】【課題】意匠性に優れた液晶光学素子を提供すること。【解決手段】第１及び第２の透明基板（１１、２２）と、第１及び第２の透明基板の各内面に形成された電極（１２、２２）と、第２の透明基板の内面の外周縁と第１の透明基板の内面との間に形成され、第１及び第２の透明基板の内面を接合しているシール枠（３０）と、第１及び第２の透明基板及びシール枠に囲われた空間に充填された、液晶と硬化物との複合体（１２）とを備える。複合体およびシール枠の可視光透過率は、共に複合体に電圧を印加しない状態において７０％以上である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１及び第２の透明基板と、
前記第１及び第２の透明基板の各内面に形成された電極と、
前記第２の透明基板の内面の外周縁と上記第１の透明基板の内面との間に形成され、前記第１及び第２の透明基板の内面を接合しているシール枠と、
前記第１及び第２の透明基板の内面間の前記シール枠に囲われた空間に、充填された液晶と硬化物との複合体とを備えた液晶光学素子であって、
前記複合体および前記シール枠の可視光透過率は、共に前記複合体に電圧を印加しない状態において７０％以上である液晶光学素子。
【請求項２】
前記シール枠のヘイズ値と前記複合体の透過状態でのヘイズ値との差が、±３％以下であることを特徴とする請求項１に記載の液晶光学素子。
【請求項３】
前記シール枠はポリエン−ポリチオール系重合体からなることを特徴とする請求項１又は２に記載の液晶光学素子。
【請求項４】
前記ポリエン−ポリチオール系重合体は光硬化性であることを特徴とする請求項３に記載の液晶光学素子。
【請求項５】
前記硬化物は光硬化性樹脂であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の液晶光学素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、液晶光学素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶光学素子は、低消費電力、薄型、軽量等の利点を有するため、携帯電話、デジタルカメラ、携帯情報端末、テレビ等の多くの電子機器に広く用いられている。その中で、近年、電界により液晶分子の配列を制御して、光散乱状態を変化させる表示方式の液晶光学素子が提案されている。
【０００３】
特許文献１には、液晶と硬化物との複合体を備えた液晶光学素子（以下、液晶／硬化物複合体素子という）が開示されている。具体的には、液晶と未硬化の硬化性化合物との混合物中の光硬化性化合物を露光して光硬化させ、透過状態と散乱状態の透過率の差を大きくすることにより、コントラストが向上する。この液晶／硬化物複合体素子は、原理的に偏光板を必要としないため、光透過率が高い。また、非電圧印加時に、液晶が基板と垂直に配向して透明状態となり、電圧印加時に、液晶がランダム配向して散乱状態となる。このため、文字や模様を表示できるショーウィンドウ、各種掲示板、自動車のインストルメントパネル等への利用が提案されている。
【０００４】
ここで、一般的な液晶光学素子では、一対の透明基板間であってシール枠に囲われた空間に、液晶が充填されて構成されている。このシール枠は、液晶の漏れ防止、液晶への水分等の浸入抑止、液晶光学素子の角部の欠け防止、一対の基板間の接着保持その他の目的で設けられている。このシール枠は、通常、白色やグレー色といった色味を帯びている。従来、一般的な液晶光学素子では、このシール枠は例えば、外装ケースなどにより隠れており、外部からは見えなかった。
【特許文献１】特開２０００−１１９６５６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
液晶／硬化物複合体素子は、上述の通り、ショーウィンドウ等に用いられるため、サイズが大きい商品、具体的には、１ｍ×１ｍを超えるものも求められている。このような大型液晶光学素子において、例えば、ショーウィンドウの一部の領域のみを液晶表示すればよい場合、液晶表示領域の外周縁部を露出させて用いることが多い。このため、観察者が液晶光学素子の表示情報を見る際、色味を帯びたシール枠も一緒に目にすることになり、外観上の見栄えが悪く、意匠性に劣る。
【０００６】
本発明はこのような問題に鑑みてなされたものであり、意匠性に優れた液晶光学素子を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の態様１にかかる液晶光学素子は、
第１及び第２の透明基板と、
前記第１及び第２の透明基板の各内面に形成された電極と、
前記第２の透明基板の内面の外周縁と上記第１の透明基板の内面との間に形成され、前記第１及び第２の透明基板の内面を接合しているシール枠と、
前記第１及び第２の透明基板及び前記シール枠に囲われた空間に充填された、液晶と硬化物との複合体とを備えた液晶光学素子であって、
前記複合体に電圧を印加しない状態における前記複合体および前記シール枠の可視光透過率が共に７０％以上であるものである。
これにより、液晶光学素子に電圧を印加していない状態において、液晶光学素子全体がその隅々に至るまで透明状態を呈し、意匠性に優れた液晶光学素子を提供することができる。
【０００８】
本発明の態様２にかかる液晶光学素子は、上記発明の態様において、前記シール枠のヘイズ値と前記複合体の透過時のヘイズ値との差が、±３％以下であることを特徴とするものである。これにより、確実に、意匠性に優れた液晶光学素子を提供することができる。
【０００９】
本発明の態様３にかかる液晶光学素子は、上記発明の態様において、前記シール枠はポリエン−ポリチオール系重合体からなることを特徴とするものである。これにより、酸素による重合の阻害を防止することができる。
【００１０】
本発明の態様４にかかる液晶光学素子は、上記発明の態様において、前記ポリエン−ポリチオール系重合体は光硬化性であることを特徴とするものである。これにより、液晶光学素子の生産性を向上できる。
【００１１】
本発明の態様５にかかる液晶光学素子は、上記発明の態様において、前記硬化物は光硬化性樹脂であることを特徴とするものである。これにより、液晶光学素子の表示性能や生産性を向上できる。
【発明の効果】
【００１２】
本発明により、意匠性に優れた液晶光学素子を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
実施の形態．
以下に、本発明の実施の形態について説明する。ただし、本発明が以下の実施の形態に限定される訳ではない。また、説明を明確にするため、以下の記載及び図面は、適宜、簡略化されている。
【００１４】
図１（ａ）は本発明の実施の形態にかかる液晶光学素子１の平面図、図１（ｂ）は図１（ａ）のＸ−Ｘ切断線による断面図、図１（ｃ）は図１（ｂ）の点線円内を拡大した断面図である。図１に示すように、本発明の実施の形態にかかる液晶光学素子１は、第１の透明基板１１、第１の透明電極１２、第２の透明基板２１、第２の透明電極２２、シール材３０、スペーサ４０及び複合体層５０を備えている。
【００１５】
具体的には、液晶光学素子１は、第１の透明基板１１と第２の透明基板２１とが互いに対向し、大きさの異なる第１及び第２の透明基板１１、２１の間で液晶／硬化物の複合体層５０を挟持して構成されている。すなわち、液晶表示による装飾、文字表示等の機能が必要な部分のみに複合体層５０が形成されている。
【００１６】
第１及び第２の透明基板１１、２１は絶縁基板であり、例えば、ガラス基板や、ポリカーボネート、アクリル樹脂などからなる樹脂基板または樹脂フィルム基板等が用いられる。本実施例では、第１の透明基板１１は第２の透明基板２１より面積が大きい。１枚の大きな第１の透明基板１１に対し、複数枚の第２の透明基板２１を備えていてもよい。もちろん、第１及び第２の透明基板１１、２１の面積及び形状が同じであっても良い。
【００１７】
第１の透明基板１１の内面上には、複数の第１の透明電極１２がストライプ状に形成されている。一方、第２の透明基板２１の内面上には、複数の第２の透明電極２２がストライプ状に形成されている。なお。複数の第２の透明電極２２は、複数の第１の透明電極１２に対して略直交して交差するように形成されている。第１及び第２の透明電極１２、２２は、例えば、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）からなる。第１及び第２の透明電極１２、２２のうち、いずれか一方は、Ａｌや誘電体多層膜の反射電極であってもよい。もちろん、電極の形状は直交するストライプ状のものに限られることはなく、特定のマークやキャラクターを表示できるものでも良い。
【００１８】
第１及び第２の透明基板１１、２１に各々形成された第１及び第２の透明電極１２、２２上には配向膜（不図示）が形成されている。配向膜は、複合体層５０内の液晶を所定の方向に配向させるため、液晶と接するように形成されている。ここで、透明基板１１、２１のそれぞれに形成された配向膜のうち、少なくとも一方は、液晶を透明基板１１、２１の内面に垂直に配向させることで、透過状態での透過率を高くすることもできる。また、透明電極と配向膜の間に、素子の電気絶縁性を向上させる目的で金属酸化物などの絶縁薄膜を更に形成しても良い。
【００１９】
シール材３０は、第１及び第２の透明基板１１、２１の間において、第２の透明基板２１の周縁に沿って枠状に形成されている。第１及び第２の透明基板１１、２１は、シール材３０により接合されている。本実施の形態にかかる液晶光学素子は、シール材３０はケースなどにより隠されておらず、外部から見える構成である。従来のシール材は色味を帯びており、外観上の見栄えが悪く、意匠性に劣っていた。他方、本発明にかかるシール材３０は透明性を有する。具体的には、シール材３０の可視光透過率は、７０％以上であるため、当該シール材３０が目立って外観を損ねることがなく、意匠性に優れた液晶光学素子を提供することができる。
【００２０】
また、ここで、シール材３０のヘイズ値と複合体層５０の透過時のヘイズ値との差が、±３％以下であることが好ましい。シール材３０のヘイズ値と複合体層５０の透過時のヘイズ値との差の絶対値が大きいと、シール材３０は目立ってしまう。
【００２１】
シール材３０の材料としては、例えば、ポリエン−ポリチオール系の紫外線硬化樹脂（以下、ＵＶ樹脂という）や熱硬化性樹脂が好ましい。シール材３０は外部に露出した部分を有するため、酸素による重合阻害が問題となるが、ポリエン−ポリチオール系の硬化性化合物は、酸素による重合阻害が生じない。さらに、シール材３０と複合体層５０を構成する硬化物とを共にＵＶ樹脂とすれば、製造工程において、両者を同時に硬化させることができ、生産性向上の観点から好ましい。なお、他の透明性を有する硬化性化合物としては、アクリル系やエポキシ系が考えられる。しかしながら、アクリル系については、上記酸素による重合阻害が生じ、好ましくない。また、エポキシ系については、複合体層５０を構成する硬化物がエポキシ系であるため、製造工程において、硬化前のシール材３０と硬化前の液晶組成物（液晶と硬化性化合物の混合物）とが混合するおそれがあり、好ましくない。
【００２２】
また、第２の透明基板２１上に形成された第２の透明電極２２を外部へ引き出すため、シール材３０内には異方性を有する導電性を付与するために、後述のスペーサ４０に近いサイズの導電性粒子などを分散させている。これにより、第２の透明電極２２は、シール材３０及び第１の透明電極１２を介し、意匠性を損なうことなく、外部に引き出されている。
【００２３】
スペーサ４０は、第１及び第２の透明基板１１、２１とシール材３０に囲われた空間内に、均一に散布されている。スペーサ４０は、セルギャップを制御する。セルギャップすなわちスペーサ４０の直径は２〜５０μｍが好ましく、４〜３０μｍがさらに好ましい。セルギャップが小さすぎるとコントラストが低下し、大き過ぎると駆動電圧が上昇する。スペーサ４０は、例えば、ガラス粒子、シリカ粒子、架橋したアクリル粒子等の硬質な材料からなる。なお、球状でなく、リブ状のスペーサを一方の基板に形成したものでもよい。
【００２４】
複合体層５０は、第１及び第２の透明基板１１、２１とシール材３０に囲われた空間内に封入されている。複合体層５０は、液晶と硬化物との混合物からなる。具体的な構成物質については後で詳述する。液晶は垂直配向し、ドメイン構造を有するため、電圧印加時に散乱する。そのため、散乱表示部と呼ばれる。散乱表示部は、電圧非印加時に透明状態であり、電圧印加時に透過率が変化し、散乱状態となる。したがって、散乱表示部が、電圧により液晶が動作する動作領域となる。
【００２５】
液晶としては、電界駆動型の材料であるネマティック液晶などが用いられる。２種類以上の液晶を組み合わせて用いてもよい。また、電界による表示を目的とする場合、液晶の配向方向を垂直にすることで、透過状態での透過率を高くすることができるため、誘電率異方性が負のものを用いるのが好ましい。ただし、誘電率異方性の極性は、正負どちらでもよい。また、駆動電圧を低減するためには、誘電率異方性が大きい方が好ましい。
【００２６】
本発明の実施の形態に好適な光硬化性樹脂について説明する。本発明の実施の形態にかかる液晶光学素子に用いる複合体層５０は、可視光透過率が７０％以上を呈するものである。また、複合体層５０は、少なくとも次の化学式（１）で示される二官能重合性化合物（Ａ）の一種以上と、化学式（２）で示される二官能重合性化合物（Ｂ）の一種以上と、非重合性の前記液晶とを含むことが好ましい。
【化１】
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【化２】
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【００２７】
二官能重合性化合物（Ａ）は、樹脂中で、剛直性を有する主骨格成分を形成する。一方、二官能重合性化合物（Ｂ）は、樹脂中で、衝撃吸収の役割を果たすことができる柔軟成分を形成する。このような異なる物性の化合物を組み合わせることにより、液晶光学素子１に好適な液晶／硬化物の複合体層５０が得られる。もちろん硬化物を形成する樹脂はこれに限定されるものではない。
【００２８】
二官能重合性化合物（Ａ）について説明する。二官能重合性化合物（Ａ）は化学式（１）を満たす化合物であれば、特に限定されない。
【００２９】
また、化学式（１）で表される二官能重合性化合物（Ａ）が下記条件を満たす化合物であることが好ましい。
Ａ１、Ａ２が、それぞれ独立に、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基またはビニルエーテル基である。
Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３、Ｑ４が、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基または１，４−シクロヘキシレン基である。
【００３０】
Ｘ１、Ｘ２が、それぞれ独立に、単結合、酸素原子またはエステル結合である。
Ｒ１、Ｒ２が、それぞれ独立に、単結合または炭素原子間に一個または複数個のエーテル性酸素原子を有していてもよい直鎖または分枝状炭素数２〜２０のアルキレン基である。
Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３が、それぞれ独立に、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ２−である。
ｐ、ｑが、いずれも０であるかまたは一方が０で他方が１である。
【００３１】
また、化学式（１）で表される二官能重合性化合物（Ａ）が下記条件を満たす化合物であることが好ましい。
Ａ１、Ａ２が、それぞれ独立に、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基である。
Ｑ１、Ｑ２がいずれも置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基であり、Ｑ３、Ｑ４が、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基または１，４−シクロヘキシレン基である。
【００３２】
Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３が、それぞれ独立に、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２−ＣＨ２−または−Ｃ≡Ｃ−である。
ｐ、ｑが、いずれも０であるかまたは一方が０で他方が１である。
また、化学式（１）で表される二官能重合性化合物（Ａ）が下記条件を満たす化合物であることが好ましい。
Ａ１、Ａ２がいずれもアクリロイルオキシ基である。
【００３３】
Ｑ１、Ｑ２がいずれも置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基であり、Ｑ３、Ｑ４が、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基または１，４−シクロヘキシレン基である。
Ｒ１、Ｒ２が、それぞれ独立に、直鎖または分枝状炭素数２〜２０のアルキレン基である。
Ｚ１が、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２−ＣＨ２−または−Ｃ≡Ｃ−であり、Ｚ２、Ｚ３がいずれも単結合である。
ｐ、ｑが、いずれも０であるかまたは一方が０で他方が１である。
【００３４】
本発明の液晶光学素子１で用いる液晶／硬化物の複合体層５０を形成するための、前記二官能重合性化合物（Ａ）の具体例としては、下記化学式（３）の化合物を例示することができる。
【化３】
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【００３５】
二官能重合性化合物（Ａ）は、その性質から液晶性を有する化合物と液晶性を有しない化合物に分けられる。液晶性を有する二官能重合性化合物（Ａ）を混合物の一成分として用いることができる。つまり、液晶性を有しない二官能重合性化合物（Ａ）のみを用いる場合以外に、液晶性を有しない二官能重合性化合物（Ａ）と液晶性を有する二官能重合性化合物（Ａ）を組み合わせて用いることもでき、液晶性を有する二官能重合性化合物（Ａ）を単独で用いることもできる。
【００３６】
次に、二官能重合性化合物（Ｂ）について説明する。二官能重合性化合物（Ｂ）は、化学式（２）を満たすものであれば、特に限定されない。例えば、下記条件を満たす化合物である。
Ａ３、Ａ４が、それぞれ独立に、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基またはビニルエーテル基である。
Ｒ３が、−Ｒ４−または−（Ｒ５−Ｏ）ｎ−Ｒ５−である。
【００３７】
ただし、Ｒ４は炭素数２〜２０の直鎖または分枝状アルキレン基であり、Ｒ５は炭素数２〜８の直鎖または分枝状アルキレン基であり、ｎは１〜１０の整数である。
または、Ｒ４が炭素数２〜２０の直鎖アルキレン基であり、Ｒ５が−（ＣＨ2）ｒ−、−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ3）−、−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ3）−または−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｃ（ＣＨ3）２−であり（ただし、ｒは２〜５の整数）、ｎが１〜６の整数である、化合物である。
【００３８】
二官能重合性化合物（Ｂ）は、単独で用いてもよく、２種類以上組み合わせて用いてもよい。下記化学式（４）に具体例を示す。
【化４】
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【００３９】
二官能重合性化合物（Ｂ）は重合性基Ａ３，Ａ４を有し、重合性基間を連結するＲ３を有する。Ｒ３としては原子間に単結合を有し分子内回転の自由度の高い基を選択する。このように構成することで、重合された高分子の柔軟性を向上させることができる。また、重合相分離の反応性を高めることもできる。
【００４０】
Ａ３，Ａ４間の炭素原子数、エーテル性酸素原子数が多いほど、柔軟性は向上する。一方、液晶との相溶性は原子数が多いほど低下する。そのため、原子数を適切に選択する。また、ＯＤＦ法を採用する場合、揮発性を考慮して、炭素原子数は８以上、好ましくは１１以上とする。エーテル性酸素原子は含まれていても含まれていなくてもよい。エーテル性酸素原子を含んでいる場合は、高分子の柔軟性が向上するので、好ましい。
【００４１】
化学式（Ｂ）の化合物は分子内にＱ１のような基を含まないためＲ３に含まれる炭素原子数を増やすことが比較的容易である。この構造の採用により、高分子の柔軟性が大きく向上する。
重合性モノマーを重合させるためには、重合開始剤を用いることが好ましい。このような重合開始剤としては、公知の重合触媒から適宜選択できる。例えば、光重合相分離法を用いる場合、ベンゾインエーテル系、アセトフェノン系、フォスフィンオキサイド系などの一般的な光重合開始剤を用いることができる。
【００４２】
さらに、コントラスト比や安定性の向上を目的として、種々の化合物を添加することもできる。例えば、コントラストの向上を目的として、アントラキノン系、スチリル系、アゾメチン系、アゾ系等の各種二色性色素を用いることができる。その場合、二色性色素は、基本的に液晶化合物と相溶し、硬化性化合物とは不相溶であることが好ましい。この他に、酸化防止剤、紫外線吸収剤、各種可塑剤の添加も、安定性や耐久性向上の点から好ましい。
【００４３】
次に、上述した液晶光学素子１の動作について説明する。第１及び第２の透明電極１２、２２の間に電圧を印加すると電極間の電界により液晶がランダムに配向して、複合体層５０は散乱状態となる。一方、第１及び第２の透明電極１２、２２の間に電圧を印加していないときは、液晶が配向しているため、複合体層５０は透明状態となる。透明状態の複合体層５０は、液晶光学素子１の背面（反観察面）を観察することができる。このように電圧の印加、非印加により、散乱状態と透明状態が変化するため、所望の画像などを表示することができる。
【００４４】
なお、電圧印加時に透過状態となり、電圧非印加時に散乱状態となる液晶光学素子でもよい。ただし、車両用途などではフェールセーフの観点から、電圧印加時に散乱状態となり、電圧非印加時に透過状態となる液晶光学素子が好ましい。
【００４５】
次に、液晶光学素子１の製造方法について説明する。図２は、本発明の実施の形態にかかる液晶光学素子の製造フローの一例を示す図である。図２に示すように、本製造フローはＳＴ２０１〜ＳＴ２０８までの８ステップからなる。
【００４６】
まず、第１及び第２の透明基板１１、２１の内面上に第１及び第２の透明電極１２、２２を形成するための透明電極膜を、スパッタリング法、真空蒸着法等により形成する（ＳＴ２０１）。透明電極膜としては、上述の通り、ＩＴＯが好適である。この透明電極膜を、例えば、フォトリソグラフィ法によりパターニングして、第１及び第２の透明電極１２、２２を形成する。
【００４７】
次に、第１及び第２の透明基板１１、２１の透明電極を形成した面上に、配向膜（不図示）を形成する（ＳＴ２０２）。配向膜は、複合体層５０内の液晶を所定の方向に配向させるため、液晶と接するように形成する。上述の通り、透明基板１１、２１のそれぞれに形成された配向膜のうち、少なくとも一方を、液晶を透明基板１１、２１の内面に垂直に配向させるように形成する。なお、透明基板１１上の配向膜は透明基板２１と対向する領域のみに形成してもよい。
【００４８】
次に、第１または第２の透明基板１１、２１の内面上に、散布機を用いてスペーサ４０を散布する（ＳＴ２０３）。
【００４９】
次に、第２の透明基板２１の内面上に、当該第２の透明基板２１の周縁に沿って、シール材３０を塗布する（ＳＴ２０４）。なお、第１の透明基板１１の内面上であって、第２の透明基板２１を貼り合わせる位置に、シール材３０を塗布してもよい。また、第１及び第２の透明基板１１、２１の両方に分割して塗布してもよい。
【００５０】
次に、ＯＤＦ法を用いて、第１または第２の透明基板１１、２１の内面に、ネマティック液晶と未硬化の光硬化性化合物の混合物からなる液晶組成物を滴下する（ＳＴ２０５）。このＯＤＦ法は、上述の吸引法と比較して、簡単に、且つ、短時間で、液晶組成物を透明基板１１、２１の間に配置することができる。このＯＤＦ法は、大型液晶光学素子を製造するのに、特に効果的である。ただし、吸引法やその他の方法を用いてもよい。なお、ＯＤＦ法は、液晶滴下法、真空滴下法などとも呼ばれる。
【００５１】
次に、減圧下で、第１及び第２の透明基板１１、２１の間をシール材３０により貼り合わせる（ＳＴ２０６）。具体的には、アライメントマークなどを用いて、第１及び第２の透明基板１１、２１を位置合せした後、第１及び第２の透明基板間１１、２１を接着材３０により貼り合せる。また、２０Ｐａ以下の気圧が好ましく、一般的に真空中ともいえる。
【００５２】
次に、貼り合わされた透明基板１１、２１を減圧下から大気圧下に取り出す（ＳＴ２０７）。セル内外の圧力差により、２枚の透明基板が、スペーサにより保たれるセルギャップまで引き寄せられ、セル内に上記混合物が充満する。
【００５３】
次に、シール材３０及び液晶組成物中の未硬化の光硬化性化合物を紫外線光源などにより露光し、硬化させる（ＳＴ２０８）。露光により、光硬化性化合物が硬化し、液晶／硬化物の複合体層５０が形成される。なお、シール材３０が光硬化性硬化物でない場合、シール材の硬化は別途行う必要がある。
【００５４】
以下に、本発明にかかる実施例を示す。可視光透過率は、大塚電子社製のＳＰＥＣＴＲＯ  ＭＵＬＴＩ  ＣＨＡＮＮＮＥＬ  ＰＨＯＴＯ  ＤＥＴＥＣＴＯＲ  （ＭＣＰＤ−１００００）を用いて測定した。ヘイズ値は、スガ試験機社製の直読ヘーズコンピューター  ＨＧＭ−２を用いて測定した。
【００５５】
[液晶組成物の調整]
負の誘電率異方性を示すネマティック液晶（Ｔｃ＝９８℃、Δｎ＝０．２２０、Δε＝−５．６）に、光硬化性化合物３を全総量に対し２０％となるように添加し、１００℃のホットスターラー上にて加熱攪拌を行い溶解させた。さらに、上記液晶組成物に含まれる光硬化性化合物に対し、約１ｍａｓｓ％の光重合開始剤（ベンゾインイソプロピルエーテル）を添加することにより、液晶組成物（液晶組成物Ａ）を得た。
【００５６】
[シール剤Ａの調整]
トリス-２-ヒドロキシエチルイソシアヌレート-トリス-３-メルカプトプロピオネート（Ｍｗ:５２６）にトリアリルイソシアヌレート（Ｍｗ:２５０）を約２．１等量添加し、更にモノマー重量に対し１ｗｔ％の光重合開始剤（ベンゾインイソプロピルエーテル）を添加した。これらをよく撹拌した後、総重量に対し０．３ｗｔ%のガラススペーサー（Ｇaｐ径:６μｍ）を添加し、更に撹拌を行い、ガラススペーサーを均一に分散させた。これをシール剤Ａとした。
【００５７】
［実施例１］
透明電極としてＩＴＯ薄膜（インジウム錫酸化物）を内面に設けた一対のガラス基板のＩＴＯ電極上に、絶縁層としてＳｉＯ2−ＴｉＯ２系の金属酸化物薄膜（セイミケミカル社製：ＭＩＣ−５５）を約５０ｎｍの厚みに形成する。さらにその上にプレチルト角が９０°となるポリイミド薄膜からなる配向膜を形成する。このガラス基板に直径６μｍの樹脂ビーズからなるスペーサを均一に散布し、さらにそのガラス基板４辺にシール剤Ａを塗布する。第１または第２の透明基板１１、２１の内面にその空間を充填させる量の液晶組成物Ａを滴下する。
【００５８】
さらに減圧下において第１および第２の透明基板１１、２１の間をシール材３０により貼り合わせる（ＳＴ２０６）。次に、貼り合わされた透明基板１１、２１を減圧下から大気圧下に取り出す（ＳＴ２０７）。セル内外の圧力差により、２枚の透明基板が、スペーサにより保たれるセルギャップまで引き寄せられ、セル内に上記混合物が充満する。次に、シール材３０および液晶材料中の未硬化の光硬化性化合物を中心波長が３６５ｎｍで照射強度が３０Ｗ／ｍ２の紫外線をセルの両面から１０分間照射して、硬化性化合物を硬化させたる（ＳＴ２０８）。露光により、光硬化性化合物が硬化し、液晶／硬化物の複合体層５０が形成される。
【００５９】
紫外線照射後、シール部位、セル内部ともに均一な透明状態を呈していた。シール部位の透過率は８５％でヘイズ値は１％以下であった。また、セル内部の透過率は８３．５％でヘイズ値は２．７％であった。
【００６０】
本発明にかかるポリエン-ポリチオール系重合体をシール剤として用いれば、従来のシール剤と異なり、透明度の高い意匠性に優れたシール部位を提供することが出来る。また、酸素による重合の阻害を防止することが出来、前記液晶光学素子と同様に光硬化性であることを特徴とするため生産性を向上できる。
【００６１】
［シール剤Ｂの調整］
ワールドロック：Ｎｏ.７１７（共立化学産業〈株〉製エポキシ系樹脂化合物）に、０．３ｗｔ%のガラススペーサー（Ｇaｐ径:６μｍ）を添加し、撹拌を行い、ガラススペーサーを均一に分散させた。これをシール剤Ｂとした。
【００６２】
［比較例１］
シール部位にシール剤Ｂを使用した以外は[実施例１]と同様の手法で液晶／硬化物の複合体層５０が形成された。
【００６３】
紫外線照射後、シール部位は若干の散乱様態を呈しているのに対し、セル内部は均一な透明状態を呈していた。シール部位の透過率は４２％でヘイズ値は４４％であった。また、セル内部の透過率は８４．０％でヘイズ値は２．４％であった。
【００６４】
［シール剤Ｃの調整］
Ｓｔｒｃｔｂｏｎｄ：Ｓ−４５（三井化学製）に、０．３ｗｔ%のガラススペーサー（Ｇaｐ径:６μｍ）を添加し、撹拌を行い、ガラススペーサーを均一に分散させた。これをシール剤Ｃとした。
【００６５】
［比較例２］
透明電極としてＩＴＯ薄膜（インジウム錫酸化物）を内面に設けた一対のガラス基板のＩＴＯ電極上に、絶縁層としてＳｉＯ2−ＴｉＯ２系の金属酸化物薄膜（セイミケミカル社製：ＭＩＣ−５５）を約５０ｎｍの厚みに形成する。さらにその上にプレチルト角が９０°となるポリイミド薄膜からなる配向膜を形成する。このガラス基板に直径６μｍの樹脂ビーズからなるスペーサを均一に散布し、第１または第２の透明基板１１、２１を得る。この第１または第２の透明基板１１、２１の周縁に沿って、シール材Ｃを塗布する（ＳＴ２０５）。
【００６６】
ここで、用いたシール材Ｃは熱硬化性樹脂等である。次に、上記第１または第２の透明基板１１、２１を貼り合わせ、１６０度の高温槽に１時間静置し熱硬化を行い、セルを得る。このセル内に吸引法を用いて液晶組成物Ａを充填する（ＳＴ２０６）。次に、室温にて、ガラス基板面に中心波長が３６５ｎｍで照射強度が３０Ｗ／ｍ２の紫外線をセルの両面から１０分間照射して、硬化性化合物を硬化させることにより液晶／硬化物の複合体層５０が形成される。
【００６７】
紫外線照射後、硬化部位は白濁を呈しており、その透過率は６％でヘイズ値は８０％であった。また、セル内部の透過率は８３．３％でヘイズ値は２．９％であった。
【図面の簡単な説明】
【００６８】
【図１】本発明の実施の形態にかかる液晶光学素子の構成を模式的に示す図である。
【図２】本発明の実施の形態にかかる液晶光学素子の製造フローの一例を示す図である。
【符号の説明】
【００６９】
１  液晶光学素子
２  透明基板積層装置
１１  第１の透明基板
２１  第２の透明基板
１２  第１の透明電極
２２  第２の透明電極
３０  シール材
４０  スペーサ
５０  複合体層
【図１】
2008310188.tif 000007
【図２】
2008310188.tif 000008