(57)【要約】【課題】スタンパの押圧により形成されたパターンを有し、かかるパターンに沿ってナノホール列を有し、かかるナノホール中に記録層となる強磁性層を埋め込んだ構成の磁気ディスクにおいて、パターンの偏心を救済し、磁気ディスク装置中において、前記パターン中心点を磁気ディスク装置の回動軸に一致させる。【解決手段】磁気ディスク装置は、回転軸を有する回転機構と、前記回転機構に結合されて回転され、同心円状あるいはスパイラル状のパターンに沿って複数のナノホールが離散的に配列し、前記複数のナノホールの各々に強磁性記録層が形成されたディスク状磁気記録媒体と、前記ディスク状磁気記録媒体の表面を走査する磁気ヘッドと、前記磁気ヘッドを駆動するアクチュエータ機構と、を含み、さらに前記ディスク状記録媒体と前記回転機構との間には、前記パターンの中心点を前記回転軸に一致させる補正部材が設けられ、前記ディスク状記録媒体は、前記回転軸に、前記補正部材を介して固定されている。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転軸を有する回転機構と、
前記回転機構に結合されて回転され、同心円状あるいはスパイラル状のパターンに沿って複数のナノホールが離散的に配列し、前記複数のナノホールの各々に強磁性記録層が形成されたディスク状磁気記録媒体と、
前記ディスク状磁気記録媒体の表面を走査する磁気ヘッドと、
前記磁気ヘッドを駆動するアクチュエータ機構と、を含み、
さらに前記ディスク状記録媒体と前記回転機構との間には、前記パターンの中心点を前記回転軸に一致させる偏心補正部材が設けられ、前記ディスク状記録媒体は、前記回転軸に、前記偏心補正部材を介して固定されていることを特徴とする磁気ディスク装置。
【請求項２】
前記ディスク状記録媒体上には、前記パターンの中心を示す第１の位置合わせマーカパターンが形成され、前記補正部材には、前記補正部材には、前記第１の位置合わせマーカパターンに対応する第２の位置合わせマーカパターンが形成されていることを特徴とする請求項１記載の磁気ディスク装置。
【請求項３】
前記ディスク状記録媒体は、その中心部に開口部を有し、前記補正部材は前記開口部に設けられることを特徴とする請求項１または２記載の磁気ディスク装置。
【請求項４】
前記各々の強磁性記録層は、前記ディスク状磁気記録媒体の面に垂直方向の磁化を有し、前記ディスク状磁気記録媒体は、前記複数のナノホールよりも下部に、共通に軟磁性層を有することを特徴とする請求項１〜３のうち、いずれか一項記載の磁気ディスク装置。
【請求項５】
同心円状あるいはスパイラル状のパターンに沿って複数のナノホールが離散的に配列し、前記複数のナノホールの各々に強磁性記録層が形成され、中心部に開口部が形成されたディスク状磁気記録媒体と、
前記開口部に設けられ、前記パターンの中心点に一致した開口部を有する偏心補正部材と、
を含むことを特徴とする磁気ディスク。
【請求項６】
磁気ディスクの製造方法であって、
スタンパに、前記磁気ディスク上に形成されるデータ用パターンに対応するデータ用転写パターンを形成すると同時に、前記データ用転写パターンの中心点に対して定められた所定の関係で、位置合わせ用転写パターンをも形成する工程と、
前記スタンパを使って、中心部に第１の開口部を有するディスク状記録媒体の基板上に形成された金属層に、前記データ用転写パターンに対応してパターン前記データ用パタ―ンを、また同時に前記位置合わせ用転写パターンに対応して位置合わせ用パターンをそれぞれ転写する工程と、
前記データ用転写パターンを転写された前記金属層を陽極酸化し、前記データ用転写パターンに対応してナノホールを形成する工程と、
前記ナノホール中に強磁性層を形成する工程と、
前記第１の開口部に、第２の開口部を有する偏心補正部材を、前記一合わせ用パターンを使って、前記第２の開口部が前記データ用パターンの中心点に一致するように取付ける工程と、
を含むことを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は一般に磁気記録媒体に係り、特にインプリント法によりパターン形成を行う磁気ディスク、かかる磁気ディスクの製造方法、およびかかる磁気ディスクを使った磁気ディスク装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
インプリント法を用いて、ディスク基板上にパターンを転写した後、エッチング法または、陽極酸化法を用いて磁気データパターンを形成しパターンドメディアを作製する方法が提案され、研究・開発が行われている（特許文献１参照）。
【０００３】
インプリント法は、あらかじめ電子線描画機等で形成されたパターンからスタンパ（モールド）を形成し、それを磁気記録媒体基板表面に形成したレジスト等に押圧し、パターンを基板上に転写する方法である。電子線描画法で基板表面にパターンを１ドットずつ形成する方法と比較して、短時間で、低コストに微細パターンの形成が可能であり、高い量産性を実現できる。
【０００４】
このようなパターンドメディアを使って形成された垂直磁気記録媒体は、高密度・高速記録が可能であり、またオーバーライト特性に優れ、均一な特性を有し、特にクロスリードやクロスライト等の問題が生じることがなく、極めて高品質で高密度磁気記録を行うことが可能になる。
【特許文献１】特開２００５−３０５６３４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
図１（Ａ）〜（Ｆ）は、インプリント法によりパターンを形成する垂直磁気記録媒体の作製方法を示す。
【０００６】
図１（Ａ）を参照するに、ガラス基板などのディスク基板１上には軟磁性層１１が形成されており、前記軟磁性層１１上には、例えば９９．９９％以上の高純度Ａｌ層１２が形成されている。前記軟磁性層１１は、基板面に対して垂直方向に磁化容易軸を有するアモルファス磁性層より構成される。
【０００７】
さらに図１（Ａ）の工程では、スパイラル状あるいは同心円状のパターンに対応して凸パターン１３Ａを有するスタンパ１３が、例えばニッケルなどの材料を使って作製されている。
【０００８】
次に図１（Ｂ）の工程において前記スタンパ１３を前記Ａｌ層１２に押圧することにより、前記スタンパ１３のパターンを前記Ａｌ層１２に転写し、その結果、図１（Ｃ）に示すように、前記Ａｌ層１２には、幅が数十ナノメートルの溝部１２Ａが、数十ないし数百ナノメートルの間隔で、スパイラル状あるいは同心円状に形成される。
【０００９】
さらに図１（Ｄ）の工程において図１（Ｃ）のＡｌ層１２は陽極酸化処理を施され、その上部が酸化アルミニウム層１２Ｂに変換されるが、前記酸化アルミニウム層１２Ｂ中には前記溝部１２Ａに対応して選択的に、径が数十ナノメートルのナノポアが一定の間隔で配列した多孔質酸化アルミニウム領域１２Ｃが形成される。
【００１０】
そこで図１（Ｅ）の工程において前記多孔質酸化アルミニウム領域１２Ｃに電解メッキにより、まず軟磁性層１１Ａを、前記ナノポアの下部においてその下の軟磁性層１１に連続するように形成し、さらに前記ナノポア中、前記軟磁性層１１Ａ上に強磁性層１３Ａを形成する。
【００１１】
さらに図１（Ｆ）の工程においてＣＭＰ処理を施すことにより、平坦面を有する垂直磁気記録媒体が得られる。
【００１２】
図２は、このようにして得られたディスク状垂直磁気記録媒体（以下磁気ディスクと記す）１０の平面図を示す。ただし図２の平面図は、実際の磁気ディスクでは前記図１（Ｆ）の構造上に形成される保護膜や潤滑膜などを除去した状態で示してある。
【００１３】
図２を参照するに、前記磁気ディスク１０には前記軟磁性層１１が形成されたディスク状基板１上に陽極酸化アルミニウム層１２Ｂが形成され、前記陽極酸化アルミニウム層１２Ｂ中に同心円状に、前記強磁性層１３Ａが形成されたナノホール列を含む多孔質陽極酸化アルミナ領域１２Ｃよりなるパターン１０Ａが形成されている。
【００１４】
かかる構成の磁気ディスクでは、前記パターン１０Ａは先に図１（Ａ）〜（Ｆ）で説明したようにスタンパ１３を使った押圧工程により形成されるため、磁気ディスク１０を安価に製造することはできるものの、図示の例のようにパターン１０Ａの中心点Ｏが、ディスク状基板の形状中心点Ｏ'に対して偏心しやすい問題を有している。このような磁気ディスクは、前記トラックの中心点Ｏの回りで回転されるべきものであり、ディスク形状の中心点Ｏ'の回りで回転された場合には、パターン１０Ａ、すなわち記録トラックは、ディスクの回転毎に位置が変化してしまう。
【００１５】
従来の磁気ディスク装置では、このようなディスクの偏心は一般に磁気ヘッドの動きを制御するサーボ機構を使って対応されているが、偏心量が大きい場合には、このようなサーボ機構では対応しきれず、磁気ヘッドが磁気ディスク状のトラックに追従できなくなる問題が生じる。特に図１（Ａ）〜（Ｆ）で説明した、スタンパを使って溝部１０Ａを形成された磁気ディスクでは、かかる偏心量が、サーボ機構で対応できる限度を超える可能性があり、磁気ディスクの製造歩留まり低下の原因となっていた。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
一の側面によれば本発明は、回転軸を有する回転機構と、前記回転機構に結合されて回転され、同心円状あるいはスパイラル状のパターンに沿って複数のナノホールが離散的に配列し、前記複数のナノホールの各々に強磁性記録層が形成されたディスク状磁気記録媒体と、前記ディスク状磁気記録媒体の表面を走査する磁気ヘッドと、前記磁気ヘッドを駆動するアクチュエータ機構と、を含み、さらに前記ディスク状記録媒体と前記回転機構との間には、前記パターンの中心点を前記回転軸に一致させる偏心補正部材が設けられ、前記ディスク状記録媒体は、前記回転軸に、前記偏心補正部材を介して固定されていることを特徴とする磁気ディスク装置を提供する。
【００１７】
他の側面によれば本発明は、同心円状あるいはスパイラル状のパターンに沿って複数のナノホールが離散的に配列し、前記複数のナノホールの各々に強磁性記録層が形成され、中心部に開口部が形成されたディスク状磁気記録媒体と、前記開口部に設けられ、前記パターンの中心点に一致した開口部を有する偏心補正部材と、を含むことを特徴とする磁気ディスクを提供する。
【００１８】
他の側面によれば本発明は、磁気ディスクの製造方法であって、スタンパに、前記磁気ディスク上に形成されるデータ用パターンに対応するデータ用転写パターンを形成すると同時に、前記データ用転写パターンの中心点に対して定められた所定の関係で、位置合わせ用転写パターンをも形成する工程と、前記スタンパを使って、中心部に第１の開口部を有するディスク状記録媒体の基板上に形成された金属層に、前記データ用転写パターンに対応してパターン前記データ用パタ―ンを、また同時に前記位置合わせ用転写パターンに対応して位置合わせ用パターンをそれぞれ転写する工程と、前記データ用転写パターンを転写された前記金属層を陽極酸化し、前記データ用転写パターンに対応してナノホールを形成する工程と、前記ナノホール中に強磁性層を形成する工程と、前記第１の開口部に、第２の開口部を有する偏心補正部材を、前記一合わせ用パターンを使って、前記第２の開口部が前記データ用パターンの中心点に一致するように取付ける工程と、を含むことを特徴とする磁気ディスクの製造方法を提供する。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、同心円状あるいはスパイラル状のパターンに沿って複数のナノホールが離散的に配列し、前記複数のナノホールの各々に強磁性記録層が形成され、中心部に開口部が形成されたディスク状磁気記録媒体よりなる磁気ディスクを、スタンパによる押圧プロセスにより、効率的に製造することが可能になる。その際本発明では、磁気ディスクの中心点と前記パターンの中心点とのずれ、すなわち偏心を、補正部材により補正することができ、前記同心円状あるいはスパイラル状のパターンの中心点が、モールドによる押圧工程の際にディスクの中心点からずれた場合でも、これを救済することができ、磁気ディスクの製造歩留まりを大きく向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
［第１の実施形態］
図３（Ａ）は、本発明の一実施形態による磁気ディスク２０の構成を示す平面図、図３（Ｂ）は、前記磁気ディスク２０の一部を拡大して示す図である。
【００２１】
図３（Ａ）を参照するに、前記磁気ディスク２０は前記図２のディスク基板１と同様なディスク基板２１上に構成されており、前記ディスク状基板２１上に形成され同心円状パターン２０Ａをなす多孔質酸化アルミニウム領域中に、図３（Ｂ）に概略的に示すナノホール２０ａよりなるナノホール列が形成され、前記各々のナノホール２０ａ中には、記録層となるＣｏなどの強磁性層が形成されている。図３（Ａ）の例では、前記パターン２０Ａの中心点Ｏは、前記ディスク状基板２１の形状中心点に対して、図２の例と同様に偏心している。
【００２２】
そこで図３（Ａ），（Ｂ）の構成では前記ディスク状基板２１の中心開口部に、磁気ディスク装置において磁気ディスクを回転駆動する回転駆動軸に係合する開口部２０ｈを有する補正部材２０Ｈが、前記開口部２０ｈの中心点が前記パターン２０Ａの中心点Ｏに一致するように固定されている。
【００２３】
そこで、前記磁気ディスク２０を磁気ディスク装置の回転駆動軸に、かかる補正部材を介して結合することにより、前記パターン２０Ａがディスク状基板２１に対して偏心して形成されていても、磁気ディスク２０は前記パターン２０Ａの中心の回りで回動され、あるいは偏心が軽減され、磁気ディスク装置の磁気ヘッドは、サーボ機構による制御により前記パターン２０Ａに追従することが可能となる。
【００２４】
以下、図３（Ａ），（Ｂ）の磁気ディスク２０の製造工程を説明する。
【００２５】
図４（Ａ）〜（Ｄ）は、前記磁気ディスク２０の製造に使われるスタンパ３４の製造工程を示す。
【００２６】
図４（Ａ）を参照するに、ガラス基板などの基体３１上にレジスト膜３２が形成され、これを図４（Ｂ）の工程において電子線描画法により露光し、さらに現像することにより、例えば同心円状あるいはスパイラル状に、前記パターン２０Ａに対応するパターン３４Ａが、同心円状あるいはスパイラル状に形成される。図４（Ｂ）の工程では、同時に前記同心円状あるいはスパイラル状パターン３２Ａの中心点に対して所定の位置関係で、前記レジスト膜に、位置合わせマーカレジストパターン（図示せず）が、露光および現像により形成される。
【００２７】
例えば前記パターン３２Ａは、６３ｎｍピッチで同心円状に形成され、最外周部を、２．５インチハードディスクのデータパターンの最外周部に整合させる。また前記位置合わせ用マーカレジストパターンは、２．５インチハードディスク中心開口部の内径が２０ｍｍであることから、例えば前記中心点から１０．５ｍｍの位置に形成される。
【００２８】
前記パターン３２Ａおよび図示していない位置合わせマーカレジストパターンの形成後、得られたレジストパターンを原版として、図４（Ｃ）の工程においてＮｉなどの金属膜をスパッタしてメッキ下地層３３を形成し、さらに図４（Ｄ）の工程において前記メッキ下地層３３を電極にＮｉの電解メッキを行い、スタンパ３４を形成する。このようにして形成されたスタンパ３４では、表面に前記データパターン２０Ａに対応して凸パターン３４Ａが形成されているのがわかる。また前記スタンパ３４には、前記凸パターン３４の中心点に対して所定の関係で、位置合わせマークパタ―ン３４Ｍ（図５参照）が形成されている。
【００２９】
次に、前記図４（Ｄ）の工程で得られたスタンパ３４を使った、磁気ディスク２０の製造工程を、図５（Ａ）〜５（Ｆ）を参照しながら説明する。
【００３０】
図５（Ａ）を参照するに、最初に２．５インチハードディスク用のディスク状ガラス基板２１に、Ｔａ膜２２を下地層として５ｎｍの膜厚に、スパッタ法により形成し、さらにＮｉＦｅ膜よりなる軟磁性層２３をＳＵＬ層としてスパッタ法により形成する。さらに前記軟磁性層２３上に中間層としてＴａ膜２４を１０ｎｍの膜厚で、スパッタ法により形成し、その上にＡｌ膜２５を、例えば１００ｎｍの膜厚に、スパッタ法により形成する。
【００３１】
前記Ａｌ膜２５上にはＰＭＭＡなどのレジスト膜Ｒがスピンコーターで塗布されており、図６（Ｂ）の工程において前記レジスト膜Ｒに前記スタンパ３４押圧し、１１０℃の温度で加圧することにより、前記レジスト膜Ｒに前記パターン３４Ａの転写を行い、前記パターン３４Ａに相補的にレジストパターンＲＡを形成する。
【００３２】
次に図６（Ｃ）の工程において前記レジストパターンＲＡをマスクに、前記Ａｌ膜２５をリアクティブイオンエッチングにより、約１０ｎｍの深さまでエッチングを行い、前記パターン３４Ａに対応した、同心円状あるいはスパイラル状の溝部２５Ａを形成する。同時に、前記Ａｌ膜２５上には前記位置合わせマークパターン３４Ｍに対応した凹部２１Ｍ（図７）が形成されている。
【００３３】
さらに図６（Ｄ）の工程において前記レジストパターンＲＡを除去した後、前記同心円状あるいはスパイラル状溝部２５Ａに、例えば希釈リン酸浴中、所望のピッチに対応して設定された陽極酸化電圧で、陽極酸化処理を行い、前記Ａｌ膜２５の上部を酸化アルミニウム膜２５Ｂに変換すると同時に、前記溝部２５Ａにおいてナノホール２５Ｃの形成を行う。
【００３４】
より具体的には、前記溝部２５中に形成されるナノホール列中におけるナノホール２５Ｃの繰り返しピッチは
ナノホールピッチ（ｎｍ）＝陽極酸化時の直流電圧（Ｖ）×２．５    （式１）
で規定される。
【００３５】
例えば前記陽極酸化処理は、２５Ｖの陽極酸化電圧で実行される。
【００３６】
さらに図６（Ｄ）の工程において交流メッキ法により、前記ナノホール２５Ｃ中に、例えばＦｅＮｉ合金膜よりなる軟磁性層２６Ａと例えばＣｏ膜よりなる記録層用磁性層２６Ｂを、順次充填する。
【００３７】
さらに図６（Ｆ）の工程において前記酸化アルミニウム膜２５Ｂ上の余分な磁性層を化学機械研磨法により研磨・除去すると同時に、ディスク表面を平坦化し、さらに保護層としてカーボン膜２７を５ｎｍの膜厚に成膜し、さらに潤滑剤（図示せず）を塗布する。
【００３８】
さらに、このようにして得られた磁気ディスクの中心部分において、図７に示すように、図６（Ｃ）の工程で形成された位置合わせマークパターン２１Ｍを露出させ、前記一合わせマークパターン２１Ｍと、前記図３（Ａ）の補正部材２０Ｈの位置合わせマークを整合させ、この状態で前記補正部材２０Ｈを前記基板２１に接着剤で固定する。
【００３９】
このようにして固定された補正部材２０Ｈでは、その中心点１０ｈが前記同心円状あるいはスパイラル状パターン２０Ａの中心点と一致し、そこでかかる補正部材２０Ｈをハブ部材として磁気ディスク装置に装着することにより、磁気ディスクの偏心が補正される。
【００４０】
なお本実施形態において前記記録層２６ＢはＣｏに限定されるものではなく、Ｆｅ，Ｎｉ，ＦｅＣｏ，ＦｅＮｉ，ＣｏＮｉ，ＣｏＮｉＰ，ＦｅＰｔ，ＣｏＰｔ，ＮｉＰｔなどを使うことも可能である。
【００４１】
また本実施形態において前記軟磁性層２６ＡはＮｉＦｅに限定されるものではなく、ＦｅＳｉＡｌ，ＦｅＣ，ＦｅＣｏＢ，ＢｅＣｏＮｉＢ，ＣｏＺｒＮｂなどを使うことも可能である。
［第２の実施形態］
図８（Ａ）は本発明の第７実施例による磁気装置の内部構成を示す平面図であり、図中破線の左側は上部カバーを取り除いた状態を、また右側は多段構成の磁気ディスク組立体１１０の一部を構成する磁気ディスク１１１およびこれに協働するアーム組立体１１２の構成を示す。
【００４２】
図８（Ａ）を参照するに、各々の磁気ディスク１１１は、図示していないモータにより駆動されるハブ１１１ａ上に固定されており、アーム組立体１１２は枢回軸１１２ａ上に枢支されたアーム１１２ｂおよびアーム１１２ｂの自由端上に設けられた磁気ヘッド１１２ｃを含む。さらに、アーム１１２ｂ上の前記磁気ヘッド１１２ｃを担持する自由端と反対側の自由端にはボイスコイルモータ１１３の一部を形成するコイル１１２ｄが、アーム１１２ｂの走査面に平行に巻回されている。また、コイル１１２ｄの上下にはボイスコイルモータ１１３の他の部分を構成する磁石１１３ａ，１１３ｂが形成され、コイル１１２ｄを励起することによりアーム１１２を枢回軸１１２ａの回りで自在に枢回させることが可能である。ボイスコイルモータ１１３は、アーム１１２ｂに担持された磁気ヘッド１１２ｃが磁気ディスク１１１上のシリンダないしトラック１１１ｂに追従するようにサーボ制御される。
【００４３】
図８（Ｂ）は図８（Ａ）の磁気ディスク装置の内部構造を示す斜視図である。
【００４４】
図８（Ｂ）を参照するに、磁気ディスク組立体１００は回転ハブ１１１ａに共通に保持された複数の磁気ディスク１１１1 ，１１１2 ・・・を含み、これに対応してアーム組立体１１２も複数のアームの集合より構成されていることがわかる。各々のアーム１１２ｂは枢回軸１１２ａの回りで枢回自在に保持された共通の回動部材１１２ｅ上に保持されており、部材１１２ｅの回動に伴って一斉に枢回する。勿論、部材１１２ｅの回動はボイスコイルモータ１１３の励起に対応して生じる。また、磁気ディスク装置全体は気密封止された筐体１００Ａ中に収められている。
【００４５】
本発明では前記磁気ディスク１１１1 ，１１１2 ・・・として、先に説明した補正部材２０Ｈを有する磁気ディスク２０を使うことにより、磁気ディスク状の同心円状あるいはスパイラル状の記録パターン中心点の、前記ハブ１１１ａに対する偏心が補正され、非常に高密度の磁気記録再生を、通常のサーボ制御装置を使って容易に行うことが可能になる。
【００４６】
以上、本発明を好ましい実施例について説明したが、本発明はかかる特定の実施例に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載した本発明の要旨内において様々な変形・変更が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】（Ａ）〜（Ｆ）は、本発明の関連技術による磁気ディスクの製造工程を示す図である。
【図２】図１の磁気ディスクにおける問題点を説明する図である。
【図３】（Ａ），（Ｂ）は、本発明の第１の実施形態による磁気ディスクを示す図である。
【図４】（Ａ）〜（Ｄ）は、図３の磁気ディスクの製造に使われるスタンパの製造工程を示す図である。
【図５】は、図３の磁気ディスクの製造に使われるスタンパを示す図である。
【図６】（Ａ）〜（Ｆ）は、図３の磁気ディスクの製造工程を示す図である。
【図７】は、図６（Ａ）〜（Ｆ）の工程により製造された位置合わせマークを有する磁気ディスクを示す図である。
【図８】（Ａ），（Ｂ）は、本発明の第2の実施形態による磁気ディスク装置の構成を示す図である。
【符号の説明】
【００４８】
２０  磁気ディスク
２０Ａ  パターン
２０ａ  ナノホール
２０Ｈ  補正部材
２０ｈ  開口部
２１  基板
２１Ｍ  位置合わせマーク
２２，２４  密着層
２３，２６Ａ  ＳＵＬ
２５  Ａｌ膜
２６Ｂ  強磁性記録層
２７  保護層
３１  基板
３２  レジスト膜
３３  金属膜
３４  スタンパ
３４Ａ  凸部
３４Ｍ  位置合わせマークパターン
１００Ａ  筐体
１１０  磁気ディスク組立体
１１１，１１１1 ，１１１2   磁気ディスク
１１１ａ  駆動ハブ
１１１ｂ  トラック
１１２  アーム組立体
１１２ａ  枢回軸
１１２ｂ  アーム
１１２ｃ  磁気ヘッド
１１２ｄ  コイル
１１２ｅ  回動部材
１１３  ボイスコイルモータ
１１３ａ，１１３ｂ  磁石
【図１】
2008204530.tif 000003
【図２】
2008204530.tif 000004
【図３】
2008204530.tif 000005
【図４】
2008204530.tif 000006
【図５】
2008204530.tif 000007
【図６】
2008204530.tif 000008
【図７】
2008204530.tif 000009
【図８】
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