(57)【要約】      （修正有）【課題】不所望なガス分子を効率的に吸着するゲッタ膜を低コストで形成することが可能なゲッタ膜の形成方法および形成装置を提供する。【解決手段】基板上にゲッタ膜２３を形成するゲッタ膜の形成方法であって、所定のパターンで形成された複数の開口５６を有する遮蔽板５４を、基板１１の表面に対向して配置する。遮蔽板上に粉末状の非蒸発型ゲッタ材４１を散布し、散布された粉末状の非蒸発型ゲッタ材を遮蔽板の複数の開口を通して基板の表面上に落下させ、開口に対応した所定のパターンで基板上に堆積する。堆積されたゲッタ材を基板上に固着してゲッタ膜を形成する。【選択図】図７
2008204660.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上にゲッタ膜を形成するゲッタ膜の形成方法であって、
所定のパターンで形成された複数の開口を有する遮蔽板を、前記基板の表面に対向して配置し、
前記遮蔽板上に粉末状の非蒸発型ゲッタ材を散布し、
前記散布された粉末状の非蒸発型ゲッタ材を前記遮蔽板の複数の開口を通して前記基板の表面上に落下させ、上記開口に対応した所定のパターンで上記基板上に堆積し、
前記堆積された非蒸発型ゲッタ材を前記基板上に固着してゲッタ膜を形成する
ゲッタ膜の形成方法。
【請求項２】
前記遮蔽板を前記基板表面に対して隙間を開けて対向配置する請求項１に記載のゲッタ膜の形成方法。
【請求項３】
前記隙間を１０μｍ以上、１００μ以下とする請求項２に記載のゲッタ膜の形成方法。
【請求項４】
前記遮蔽板上に散布された粉末状の非蒸発型ゲッタ材をブラシにより擦って前記開口を通して前記基板上に落下させる請求項１に記載のゲッタ膜の形成方法。
【請求項５】
前記遮蔽板を振動させて、前記遮蔽板上に散布された粉末状の非蒸発型ゲッタ材を前記開口を通して前記基板上に落下させる請求項１に記載のゲッタ膜の形成方法。
【請求項６】
前記非蒸発型ゲッタ材を前記基板上に堆積した後、前記遮蔽板の開口を通して、接着材を前記非蒸発型ゲッタ材上に塗布あるいは滴下し、非蒸発型ゲッタ材を前記基板上に固着する請求項１に記載のゲッタ膜の形成方法。
【請求項７】
前記非蒸発型ゲッタ材を前記基板上に堆積した後、前記遮蔽板を前記基板から外れた位置に移動させ、接着材を前記非蒸発型ゲッタ材上に塗布あるいは滴下し、非蒸発型ゲッタ材を前記基板上に固着する請求項１に記載のゲッタ膜の形成方法。
【請求項８】
前記接着材として、前記非蒸発型ゲッタ材よりも粒径の小さい接着材粒子を用いる請求項６又は７に記載のゲッタ膜の形成方法。
【請求項９】
前記接着材として、シリカコート液を用いる請求項６又は７に記載のゲッタ膜の形成方法。
【請求項１０】
前記粉末状の非蒸発型ゲッタ材と、前記非蒸発型ゲッタ材よりも粒径の小さい接着材粒子とを混合して前記遮蔽板上に散布する請求項１に記載のゲッタ膜の形成方法。
【請求項１１】
基板上にゲッタ膜を形成するゲッタ膜形成装置であって、
所定のパターンで形成された複数の開口を有しているとともに前記基板の表面に対向して配置される遮蔽板と、
粉末状の非蒸発型ゲッタ材を前記遮蔽板上に散布するノズルと、
前記遮蔽板上に散布された非蒸発型ゲッタ材を擦って前記遮蔽板の複数の開口を通して前記基板の表面上に落下させるブラシと、
前記ノズルおよびブラシを前記遮蔽板上に沿って移動させる移動機構と、
を備えたゲッタ膜形成装置。
【請求項１２】
前記ブラシは円筒状に形成され回転自在に設けられ、前記ノズルは、前記ブラシの内側に配置されている請求項１１に記載のゲッタ膜形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、画像表示装置に用いるゲッタ膜の形成方法、およびゲッタ膜の形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、軽量・薄型の画像表示装置として、プラズマ放電の紫外線により蛍光体を発光させるプラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと称する）、電界放出型電子放出素子の電子ビームにより蛍光体を発光させるフィールドエミッションディスプレイ（以下、ＦＥＤと称する）、表面伝導型電子放出素子の電子ビームにより蛍光体を発光させる表面伝導型電子放出ディスプレイ（以下、ＳＥＤと称する）などが開発されている。
【０００３】
例えばＦＥＤは、一般に、所定の隙間を置いて対向配置された前面基板および背面基板を有し、これらの基板は、矩形枠状の側壁を介して周辺部同士を互いに接合することにより真空外囲器を構成している。前面基板の内面には蛍光体スクリーンが形成され、背面基板の内面には蛍光体を励起して発光させる電子放出源として多数の電子放出素子が設けられている。
【０００４】
背面基板および前面基板に加わる大気圧荷重を支えるために、これら基板の間には複数の支持部材が配設されている。背面基板側の電位はほぼアース電位であり、蛍光面にはアノード電圧として例えば１０ｋＶが印加される。蛍光体スクリーンを構成する赤、緑、青の蛍光体に電子放出素子から放出された電子ビームを照射し、蛍光体を発光させることによって画像を表示する。
【０００５】
このようなＦＥＤにおいては、外囲器内部を高い真空度に維持することが重要となる。真空度が低いと、安定した電子放出ができず、画像表示装置の寿命が低下する。また、ＰＤＰでは、外囲器の内部を満たした不活性ガスを高純度に保つことが重要な技術となっている。
【０００６】
長期間にわたって外囲器内部を高い真空度に維持するため、外囲器内部の不所望なガス分子を吸着するゲッタ膜が設けられ重要な役割を果たしている。このようなゲッタ膜として、例えば、ＰＤＰのパネル側辺に隣り合う領域に非蒸発型ゲッタ膜を形成する方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。また、真空チャンバー内に前面基板を投入し、真空チャンバーを排気した後、前面基板の蛍光体スクリーン領域に蒸発型ゲッタ膜を蒸着形成する方法が提案されている（例えば、特許文献２参照）。
【特許文献１】特開平１１−１９１３７８号公報
【特許文献２】特開２００１−２２９８２４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、パネル側辺に隣り合う領域に非蒸発型ゲッタ膜を形成する方法では、ゲッタから離れた領域、例えば画像表示領域の中央部に存在する不所望なガス分子をゲッタ膜に効率良く吸着させることが極めて難しい。そのため、ゲッタ膜から離れた領域の真空度が低くなり、画像表示装置の寿命が低下する。すなわち、外囲器は扁平な形状であるためコンダクタンスが非常に小さく、外囲器内で放出されたガス分子が周辺部のゲッタに吸着される前に電子放出素子を汚染あるいは破壊し、安定した表示動作ができなくなってしまう。
【０００８】
また、真空チャンバー内に前面基板を投入し、真空チャンバーを排気した後、前面基板の蛍光体スクリーン領域に蒸発型ゲッタ層を蒸着形成する方法では、不所望なガスは効率的にゲッタ層に吸着される。そのため、ＦＥＤの外囲器内部は長期間にわたって高い真空度に維持される。しかしながら、この方法では大型の真空処理装置を使用するため、製造コストが高くなり、結果として画像表示装置のコストも高くなる。真空チャンバー内にゲッタ蒸着のための駆動機構を設けなければならないため、装置の信頼性やメンテナンス性が極めて悪くなる。さらに、蛍光面スクリーンの全面にわたってゲッタ膜を蒸着形成するため、輝度が低下するという性能上の問題も生じる。
【０００９】
この発明は以上の点に鑑みなされたもので、その目的は、不所望なガス分子を効率的に吸着するゲッタ膜を低コストで形成することが可能なゲッタ膜の形成方法および形成装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
この発明の態様に係るゲッタ膜の形成方法は、基板上にゲッタ膜を形成するゲッタ膜の形成方法であって、所定のパターンで形成された複数の開口を有する遮蔽板を、前記基板の表面に対向して配置し、前記遮蔽板上に粉末状の非蒸発型ゲッタ材を散布し、前記散布された粉末状の非蒸発型ゲッタ材を前記遮蔽板の複数の開口を通して前記基板の表面上に落下させ、上記開口に対応した所定のパターンで上記基板上に堆積し、前記堆積された非蒸発型ゲッタ材を前記基板上に固着してゲッタ膜を形成する形成方法である。
【００１１】
また、この発明の他の態様に係る基板上にゲッタ膜を形成するゲッタ膜形成装置は、所定のパターンで形成された複数の開口を有しているとともに前記基板の表面に対向して配置される遮蔽板と、粉末状の非蒸発型ゲッタ材を前記遮蔽板上に散布するノズルと、前記遮蔽板上に散布された非蒸発型ゲッタ材を擦って前記遮蔽板の複数の開口を通して前記基板の表面上に落下させるブラシと、前記ノズルおよびブラシを前記遮蔽板上に沿って移動させる移動機構と、を備えている。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の様態によれば、高価な真空装置を用いることなく、不所望なガス分子を効率的に吸着するゲッタ膜を低コストで形成することが可能なゲッタ膜の形成方法および形成装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下図面を参照しながら、この発明の実施形態に係るゲッタ膜の形成方法およびゲッタ膜形成装置について詳細に説明する。始めに、ゲッタ膜を備えた画像表示装置の一例として、表面導電型の電子放出素子を備えたＳＥＤについて説明する。  
図１および図２に示すように、ＳＥＤは、それぞれ矩形状のガラス板からなる前面基板１１、および背面基板１２を備え、これらの基板は所定の間隔で対向配置されている。背面基板１２は、前面基板１１よりも大きな寸法に形成されている。前面基板１１および背面基板１２は、矩形枠状の側壁１３を介して周縁部同士が接合され、内部が真空に維持された偏平な外囲器１０を構成している。側壁１３は、例えば、低融点ガラス、低融点金属等の封着材２５により、前面基板１１の周縁部および背面基板１２の周縁部に封着され、これらの基板同士を接合している。
【００１４】
外囲器１０の内部には、前面基板１１および背面基板１２に加わる大気圧荷重を支えるため、複数の板状の支持部材１４が設けられている。これらの支持部材１４は、外囲器１０の一辺と平行な方向にそれぞれ延在しているとともに、上記一辺と直交する方向に沿って所定の間隔を置いて配置されている。各支持部材１４の長手方向両端部は、それぞれ側壁１３と隙間を置いて対向している。
【００１５】
図２ないし図４に示すように、前面基板１１の内面には、画像表示面として機能する蛍光体スクリーン１６が形成されている。この蛍光体スクリーン１６は、赤、緑、青の蛍光体層Ｒ、Ｇ、Ｂ、およびこれらの蛍光体層間に位置した黒色の遮光層２０を並べて構成されている。３色の蛍光体層Ｒ、Ｇ、Ｂは、前面基板１１の長辺と平行な第１方向に隙間を置いて交互に並んで形成され、同一色の蛍光体層が第１方向と直交する第２方向に隙間を置いて配列されている。蛍光体層Ｒ、Ｇ、Ｂはそれぞれ、赤、緑、青の単色でサブピクセルを構成し、３色のサブピクセルを合わせて一画素を構成している。
【００１６】
蛍光体スクリーン１６の遮光層２０に重ねてマトリクス状の分断層３１が形成されている。蛍光体スクリーン１６上には、アルミニウム膜等からなるメタルバック層１７が形成されている。本実施形態によれば、メタルバック層１７は、分断層３１により縦方向および横方向に分断され、互いに電気的に分離した複数の分断領域を有している。電気的に分断したメタルバック層１７は、蛍光体層Ｒ、Ｇ、Ｂに夫々重なって位置している。
【００１７】
蛍光体スクリーン１６の遮光層２０に重ねて、ここでは、分断層３１に重ねて、非蒸発型のゲッタ膜２３がパターン形成されている。ゲッタ膜２３は、後述するように、非蒸発型ゲッタ材の粉末と接着材とにより形成され、蛍光体スクリーン１６上に所定の面積で配置されている。すなわち、ゲッタ膜２３は、蛍光体層Ｒ、Ｇ、Ｂ上を避けるように分断層３１上に重ねて形成され、互いに電気的に分断された複数の領域を有している。ゲッタ膜２３は、遮光層２０上に重なる領域にだけ設けても良いが、蛍光体層Ｒ、Ｇ、Ｂに重なる領域であっても、対応する電子放出素子１８からの電子ビームが当たらない領域であれば重ねて設けても良い。
【００１８】
ゲッタ膜２３は、外囲器１０内の不要ガスを吸着し、外囲器内を高い真空度に維持する。後述するように、各ゲッタ膜２３は、非蒸発型ゲッタの粉末を接着効果のある材料によって分断層上に膜状に固着して形成されている。
【００１９】
図２に示すように、背面基板１２の内面上には、蛍光体スクリーン１６の蛍光体層Ｒ、Ｇ、Ｂを励起する電子源として、それぞれ電子ビームを放出する多数の表面伝導型の電子放出素子１８が設けられている。これらの電子放出素子１８は、画素毎に対応して複数列および複数行に配列されている。各電子放出素子１８は、図示しない電子放出部、この電子放出部に電圧を印加する一対の素子電極等で構成されている。背面基板１２の内面には、電子放出素子１８に電位を供給する多数本の配線２１がマトリック状に設けられ、その端部は外囲器１０の外部に引出されている。
【００２０】
このようなＳＥＤでは、画像を表示する場合、蛍光体スクリーン１６およびメタルバック層１７にアノード電圧を印加して、電子放出素子１８から放出された電子ビームをアノード電圧により加速して蛍光体スクリーンへ衝突させる。これにより、蛍光体スクリーン１６の蛍光体層Ｒ、Ｇ、Ｂが励起されて発光し、カラー画像を表示する。
【００２１】
次に、ゲッタ膜２３について詳細に説明する。  
図５に示すように、ゲッタ膜２３は、非蒸発型ゲッタの粉末４１、非蒸発型ゲッタの粉末同士および非蒸発型ゲッタの粉末と前面基板、ここでは分断層３１とを固着するための接着材粒子４３を有している。非蒸発型ゲッタとしては、一般に使用されている様々なものを選択することが可能であるが、ＳＥＤに使用する場合には活性化温度が比較的低い種類のものが望ましい。
【００２２】
非蒸発型ゲッタ材として、Ｚｒ、Ｖ、およびＦｅを配合した混合物をアークメルトにより溶解してインゴットを溶製し、このインゴットを粉砕機により平均粒径１０μｍ程度に粉砕して非蒸発型ゲッタの粉末を製造する。非蒸発型ゲッタの粉末の粒径は、３０μｍ以下が望ましい。粒径が大きいと接着力を得にくく、さらに単位重量あたりの吸着効率も悪くなり効率が悪い。
【００２３】
ゲッタ材として、Ｚｒ、Ｖ、およびＦｅに限らず、その他金属材料、有機材料、無機材料などが選択可能である。例えば、非蒸発型ゲッタ材として、Ｔｉ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｗ、Ｍｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｙ等の内、１種類以上の金属または２種類以上の合金を用いても良い。
【００２４】
粉末４１の粒径は使用デバイスの真空特性、例えば到達真空度や放出ガス量などにより定める。本実施形態では、５０％径が１〜１０μｍ、望ましくは１〜５μｍとするのがよい。これ以上粒径が大きいと非蒸発型ゲッタ材粉末の比表面積が小さくなる。そのため、ゲッタのガス吸着速度が小さくなり、ＳＥＤの外囲器１０内部を高い真空度に維持することが困難になる。また、これ以上粒径が小さいと、ゲッタ材粉末４１が室温においても非常に活性な状態となり、取り扱いが難しくなる。
【００２５】
接着材粒子４３は、一般に使用されている様々なものを選択することが可能であるが、非蒸発型ゲッタの粉末４１よりも小さな粒径を有する接着材粒子を用いる。そのような接着材粒子としては金ナノ粒子、銀ナノ粒子、コロイダルシリカのナノ粒子などを用いることができる。接着材粒子４３の粒径が非蒸発型ゲッタの粉末４１の粒径と同等かそれよりも大きい場合、非蒸発型ゲッタの粉末表面の大部分が接着材粒子４３の陰になってしまい、ガス分子がゲッタ材粉末に吸着しにくくなる。
【００２６】
接着材粒子４３によって非蒸発型ゲッタの粉末４１同士を接着し、同時に、非蒸発型ゲッタの粉末と分断層３１とを互いに接着することにより、ゲッタ膜２３が形成される。このような非蒸発型のゲッタ膜２３は、例えば、厚さ１００μｍに形成されている。
【００２７】
次に、上記ゲッタ膜の形成方法および形成装置について説明する。  
初めに形成装置について説明する。図６および図７に示すように、形成装置は、ベース５０を有し、このベース上に基板、つまり、ＳＥＤの前面基板１１を支持するＸ−Ｙテーブル５２が載置されている。Ｘ−Ｙテーブル５２は、前面基板１１の位置調整が可能なように、Ｘ方向およびＹ方向に移動可能に構成されている。
【００２８】
形成装置は、前面基板１１とほぼ同一寸法あるいは前面基板よりも大きな遮蔽板５４を備えている。この遮蔽板５４には多数の開口５６が形成されている。これらの開口５６は、ゲッタ膜の形成位置に合わせて所定のパターンおよび所定の大きさ、形状に形成されている。遮蔽板５４の周縁部には矩形枠状の補強フレーム５７が固定されている。
【００２９】
遮蔽板５４としては、金属板にエッチングやレーザーなどによって複数の開口を空けたものを使っても良いし、スクリーン印刷用の印刷版を用いても良い。スクリーン印刷版は、メッシュサイズを任意に設定することができるため、非蒸発型ゲッタ材の粉末のうち、メッシュサイズよりも大きい粒を篩い分けることが同時に可能となる。また、スクリーン印刷版は、５０インチ級の大型サイズにも対応しているため、金属板よりも対応できるサイズを大きくできる。よって、スクリーン印刷版は、技術的な困難度やコストの面で望ましい。
【００３０】
遮蔽板５４は、ベース５０上に設けられた支持機構５８により支持され、前面基板１１と平行に対向配置されている。遮蔽板５４は、支持機構５８により、前面基板１１に対して位置調整することができる。
【００３１】
また、形成装置は、粉末状の非蒸発型ゲッタ材を遮蔽板５４上に散布するノズル６０と、遮蔽板上に散布された非蒸発型ゲッタ材を擦って遮蔽板の複数の開口５６を通して前面基板１１の表面上に落下させるブラシ６２と、ノズルおよびブラシを遮蔽板上に沿って移動させる移動機構６４と、を備えている。
【００３２】
ブラシ６２は、円錐状あるいは円筒状に形成され、移動機構６４により、遮蔽板５４に対して昇降自在に、かつ、回転自在に支持されている。ブラシ６２は、移動機構６４に支持された図示しない駆動部により、遮蔽板５４と直行する軸の周りで回転される。ブラシ６２としては、絵画用の筆や工業用ブラシ等様々なブラシがあるが、特にブラシの種類は限定しない。本実施形態では、切頭円錐状に植毛された馬毛のブラシを用いている。
【００３３】
ノズル６０は、遮蔽板５４に対して垂直に延びているとともに、ブラシ６２の内側にブラシの回転軸と同軸的に配設されている。ノズル６０は、粉末状の非蒸着型ゲッタ材を収納した図示しないシリンジに接続されている。そして、ノズル６０は、図示しないポンプ等により、ノズルの先端から遮蔽板５４上に粉末状の非蒸着型ゲッタ材を散布する。
【００３４】
ノズル６０は、移動機構６４により、ブラシ６２と共に遮蔽板５４に対して昇降自在に支持されている。更に、ブラシ６２およびノズル６０は、図７に示す位置関係を保った状態で、移動機構６４により遮蔽板５４に対してＸ方向およびＹ方向に移動される。
【００３５】
上記形成装置を用いてゲッタ膜２３を形成する場合、図６および図７に示すように、前面基板１１をその蛍光体スクリーンが上を向いた状態でＸ−Ｙテーブル５２上に載置する。続いて、遮蔽板５４を前面基板１１の蛍光面側に数十μｍの間隔を空けて平行に対向させて配置する。遮蔽板５４は、前面基板１１に密着させることも可能だが、蛍光面を傷つけたり、遮蔽板の開口５６に非蒸発型ゲッタ材の粉末が詰まって、転写不良を起こしたりする可能性があるため、１０μｍ以上１００μｍ以下の間隔を空けて配置する。この間隔は、形成するゲッタ膜２３の膜厚に応じて適宜調整する。
【００３６】
続いて、非蒸着型ゲッタ材の粉末４１と接着材粒子４３とを所望の割合で混合した混合物をシリンジに充填し、ノズル６０から遮蔽板５４上に混合物を散布する。同時に、ブラシ６２を回転させ、散布されたゲッタ材の粉末４１および接着材粒子４３をブラシで巻き込みながら遮蔽板５４の表面を擦る。そして、図６に矢印で示すように、ブラシ６２を回転させながら、かつ、ノズル６０から混合物を散布しながら、これらブラシおよびノズルをＸ方向およびＹ方向に連続的に移動させ、遮蔽板５４の全面を走査する。
【００３７】
これにより、散布された混合物の一部は、遮蔽板５４の開口５６を通り抜け前面基板１１上に堆積していく。徐々に堆積していったゲッタ材の粉末４１および接着材粒子４３は、遮蔽板５４まで積もり、それ以上堆積することは無い。これにより、前面基板１１と遮蔽板５４との間隔により自動的に膜厚が定められる。ただし、間隔が広くなると通過したゲッタ材粉末４１および接着材粒子４３の堆積エッジがぼやけたり、開口幅よりも大きく形成されたりする。そのため、前面基板１１と遮蔽板５４との間隔を広く設定する場合は、開口の周囲にせき止めようのバンク等を設ける。
【００３８】
上記のように、ブラシ６２を回転させながら予め撒かれたゲッタ材粉末４１および接着材粒子４３を擦っていくことで、これらゲッタ材粉末４１および接着材粒子４３を開口５６に対応した所定のパターンで前面基板１１上の所定位置に堆積する。円形のブラシ６２の中心付近にノズル６０を設けた場合、散布されたゲッタの粉末４１が周囲に飛び散りにくく、材料の不要な浪費を防止することができる。
【００３９】
続いて、堆積されたゲッタ材粉末４１および接着材粒子４３を崩さないように、遮蔽板５４を静かに前面基板１１から引き上げ、前面基板から外れた位置に移動させる。次いで、所望のパターンで堆積されたゲッタ材粉末４１および接着材粒子４３を所定の温度で加熱し、ゲッタ材粉末を活性化するとともに、接着材粒子４３によりゲッタ材粉末同士およびゲッタ材粉末と前面基板とを固着する。これにより、前面基板１１の分断層３１上に所望のパターンのゲッタ膜２３が形成される。
【００４０】
以上のように構成されたゲッタ膜の形成方法および形成装置によれば、ゲッタ膜を蛍光体スクリーン全面にわたって所望のパターンで形成することができ、かつ、形成に際して高価な真空チャンバーを用いる必要がなく、低コストでゲッタ膜を形成することができる。不所望なガス分子を効率的に吸着するゲッタ膜を容易にかつ低コストで形成することが可能なゲッタ膜の形成方法および形成装置が得られる。
【００４１】
なお、上述した実施形態では、回転する円筒状のブラシを用いて粉末を擦る構成としたが、ブラシは円筒状に限らず、直線状のブラシを用いてもよい。この場合、予め遮蔽板５４上に散布されたゲッタ材粉末および接着材粒子を、ブラシにより擦って開口５６内に落とし込む方法としてもよい。また、ブラシで擦る代わりに、遮蔽板５４自体に前面基板１１と平行な方向の微振動を与え、散布されたゲッタ材粉末および接着材粒子を開口５６内に落とし込む方法としてもよい。
【００４２】
また、上述した実施形態では、ゲッタ材粉末および接着材粒子の混合物を遮蔽板５４上に散布する構成としたが、非蒸発型ゲッタの粉末４１のみを遮蔽板５４上に散布し、所望のパターンで粉末４１を前面基板上に堆積した後、接着材溶液として、無機のバインダを粉末４１の上に塗布あるいは滴下し、ゲッタの粉末同士および粉末と前面基板とを固着する方法としてもよい。
【００４３】
接着材溶液としては、コロイダルシリカコート液、酸化物微粒子を用いたコロイダルアルミナなどのコロイド溶液、ナトリウム系水ガラス、カリウム系水ガラス、金や銀のナノ粒子溶液等、或いはそれらの混合物を用いることができる。
【００４４】
接着材溶液を塗布あるいは滴下する方法としては、スプレー法、ディスペンス法、あるいは、インクジェット法を用いることができる。作業時間の短縮からスプレー方式が望ましい。ただし、スプレーの吹き出し圧力が強いと、形成された非蒸発型ゲッタの粉末４１が飛び散ってしまうため、適度な吹き出し圧力の調整が必要である。また、非蒸発型ゲッタの粉末は、疎水性であるため、ゲッタ材の粉末は、散布する前に水に漬け、予め親水性にしておく。
【００４５】
また、接着材溶液を塗布あるいは滴下する際、遮蔽板５４の開口５６を通して塗布あるいは滴下する方法と、遮蔽板を前面基板から外れた位置に移動させ、堆積されたゲッタ材の粉末上に直接、塗布あるいは滴下する方法を選択することができる。
【００４６】
例えば、接着材溶液として金や銀のナノ粒子溶液を塗布する場合、蛍光体スクリーンの全面に塗布することができないため、遮蔽板５４を介して塗布する。詳細に述べると、前述した実施形態と同様に、ノズル６０から非蒸発型ゲッタ材の粉末４１を遮蔽板５４上に散布し、ブラシ６２を回転させながら散布された粉末４１を擦っていくことで、粉末４１の一部を開口５６から前面基板１１上に落下させる。この動作を遮蔽板５４の全面に渡って行うことにより、ゲッタ材の粉末４１を開口５６に対応した所定のパターンで前面基板１１上の所定位置に堆積する。
【００４７】
続いて、前面基板１１をホットプレート等により加熱した状態で、例えば、ノズル６０から接着材溶液をディスペンスし、遮蔽板５４の開口５６を通して、堆積された粉末４１に塗布あるいは滴下する。接着材溶液は、インクジェット法あるいはスプレー法により塗布してもよい。図８に示すように、滴下された接着材溶液４５は、濡れ広がった後、乾燥され、非蒸発型ゲッタ材の粉末４１を分断層３１に固着させる。これにより、所定パターンのゲッタ膜２３が形成される。
【００４８】
また、遮蔽板５４を取り除いた状態で接着材溶液を塗布あるいは滴下する場合、ディスペンス法、インクジェット法を用いることができる。この際、接着材溶液として、コロイダルシリカコート液を用いる場合、コロイダルシリカコート液の乾燥後の膜厚は、２０ｎｍ程度であるため、蛍光体スクリーン全面に塗布しても電子ビームは通過できる。そのため、スプレー法を用いてコロイダルシリカコート液をゲッタ材の粉末上に塗布することができる。
【００４９】
以上のように構成された形成方法および形成装置を用いた場合でも、前述した実施形態と同様に、ゲッタ膜を蛍光体スクリーン全面にわたって所望のパターンで形成することができ、かつ、形成に際して高価な真空チャンバーを用いる必要がなく、低コストでゲッタ膜を形成することができる。
【００５０】
この発明は上述した実施の形態に限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。実施の形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよいし、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。
【００５１】
上述した実施形態では、ゲッタ膜の形成対象となる部材として、内面に蛍光体スクリーンを有する前面基板を備えたＳＥＤを例にとって説明したが、この発明はこれに限定されること無く、ＦＥＤ、ＰＤＰ等の他の表示装置に適用することもできる。
【００５２】
各構成要素の寸法、材料等は、上述した実施形態で例示した数値、材料に限定されることなく、必要に応じて種々選択可能である。非蒸発型ゲッタ膜は、蛍光体スクリーン上に限らず、外囲器内に位置した他の構成部材に形成してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】図１は、この発明の実施形態に係るＳＥＤを一部破断して示す斜視図。
【図２】図２は、図１の線Ａ−Ａに沿ったＳＥＤの断面図。
【図３】図３は、前記ＳＥＤの前面基板および蛍光体スクリーンの一部を拡大して示す平面図。
【図４】図４は、図３の線Ｂ−Ｂに沿った前面基板の断面図。
【図５】図５は、前記ＳＥＤの非蒸発型のゲッタ膜を拡大して示す断面図。
【図６】図６は、ゲッタ膜の形成装置を示す平面図。
【図７】図７は、図６の線Ｃ−Ｃに沿って一部を破断して示す前記形成装置の側面図。
【図８】図８は、ゲッタ膜を拡大して示す断面図。
【符号の説明】
【００５４】
１０…外囲器、  １１…前面基板、  １２…背面基板、  １３…側壁、
１４…支持部材、  １６…蛍光体スクリーン、  １７…メタルバック層、
１８…電子放出素子、  Ｒ、Ｇ、Ｂ…蛍光体層、  ２０…遮光層、  ２３…ゲッタ膜、
４１…ゲッタ材の粉末、  ４３…接着材粒子、  ５４…遮蔽板、  ５６…開口、
５８…支持機構、  ６０…ノズル、  ６２…ブラシ、  ６４…移動機構
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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