(57)【要約】【課題】垂直配向型の液晶セルを備え、二軸フィルムにより視角補償がされ、電圧無印加時に深い極角から観察した場合に生じる着色が抑制された液晶表示素子を提供する。【解決手段】液晶表示素子は、第１の偏光層と、第１の偏光層の上方に配置された垂直配向型の液晶セルと、液晶セルの上方に配置され、第１の偏光層に対してクロスニコル配置された第２の偏光層と、第１の偏光層と液晶セルとの間、及び、第２の偏光層と液晶セルとの間の少なくとも一方に配置された負の二軸光学異方性を有する光学補償板とを有し、液晶セルは、相互に対向配置された第１及び第２の基板と、第１及び第２の基板の間に挟まれた液晶層とを含み、第１及び第２の基板の少なくとも一方の、液晶層側の表面の全面にランダムな凹凸が形成されている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の偏光層と、
前記第１の偏光層の上方に配置された垂直配向型の液晶セルと、
前記液晶セルの上方に配置され、前記第１の偏光層に対してクロスニコル配置された第２の偏光層と、
前記第１の偏光層と前記液晶セルとの間、及び、前記第２の偏光層と前記液晶セルとの間の少なくとも一方に配置された負の二軸光学異方性を有する光学補償板と
を有し、
前記液晶セルは、相互に対向配置された第１及び第２の基板と、該第１及び第２の基板の間に挟まれた液晶層とを含み、該第１及び第２の基板の少なくとも一方の、該液晶層側の表面の全面にランダムな凹凸が形成されている液晶表示素子。
【請求項２】
前記第１の基板の前記液晶層側の第１の表面に、前記凹凸が形成されており、前記第２の基板の前記液晶層側の第２の表面は、平面であり、該第１の表面の凹凸の最凸部と最凹部との中央の高さから、該第２の表面までの距離を中心セル厚と定義したとき、該中央の高さから該最凸部までの距離、及び、該中央の高さから該最凹部までの距離が、ともに、該中心セル厚の１０％以上である請求項１に記載の液晶表示素子。
【請求項３】
前記第１の基板の前記液晶層側の第１の表面に、前記凹凸が形成されており、前記第２の基板の前記液晶層側の第２の表面は、平面であり、該第１の表面の凹凸の最凸部と最凹部との高さの差が、０．８μｍ以上である請求項１または２に記載の液晶表示素子。
【請求項４】
前記第１の基板の前記液晶層側の第１の表面、及び、前記第２の基板の前記液晶層側の第２の表面の双方に、前記凹凸が形成されており、該第１の表面の凹凸の最凸部と最凹部との中央の高さから、該第２の表面の凹凸の最凸部と最凹部との中央の高さまでの距離を中心セル厚と定義したとき、該第１及び第２の表面のそれぞれについて、該中央の高さから該最凸部までの距離、及び、該中央の高さから該最凹部までの距離が、ともに、該中心セル厚の５％以上である請求項１に記載の液晶表示素子。
【請求項５】
前記第１の基板の前記液晶層側の第１の表面、及び、前記第２の基板の前記液晶層側の第２の表面の双方に、前記凹凸が形成されており、該第１の表面の凹凸の最凸部と最凹部との高さの差、及び、該第２の表面の凹凸の最凸部と最凹部との高さの差が、ともに、０．４μｍ以上である請求項１または４に記載の液晶表示素子。
【請求項６】
前記第１の基板の前記液晶層側の表面、及び、前記第２の前記液晶層側の表面に、それぞれ、透明電極層及び垂直配向膜が形成されており、前記凹凸の形成された表面上の、透明電極層及び垂直配向膜の積層の厚さは、該凹凸の最凸部と最凹部との高さの差よりも薄い請求項１〜５のいずれか１項に記載の液晶表示素子。
【請求項７】
前記第１の基板の前記液晶層側の上方、及び、前記第２の基板の前記液晶層側の上方に、それぞれ、垂直配向膜が形成されており、前記第１及び第２の基板の一方の基板側の垂直配向膜に、プレティルト角が発現するように配向処理が施され、他方の基板側の垂直配向膜には配向処理が施されていない請求項１〜６のいずれか１項に記載の液晶表示素子。
【請求項８】
前記第１の基板の前記液晶層側の表面に、前記凹凸が形成されており、前記第２の基板の前記液晶層側の表面は、平面であり、該第１の基板の該液晶層側の上方、及び、前記第２の基板の該液晶層側の上方に、それぞれ、垂直配向膜が形成されており、該第２の基板側の垂直配向膜に、プレティルト角が発現するように配向処理が施され、該第１の基板側の垂直配向膜には配向処理が施されていない請求項１〜３のいずれか１項に記載の液晶表示素子。
【請求項９】
前記配向処理は、ラビングまたは紫外線照射による請求項７または８に記載の液晶表示素子。
【請求項１０】
前記第１の基板の前記液晶層側の表面、及び、前記第２の基板の前記液晶層側の表面に、それぞれ、透明電極層が形成されており、両透明電極層に、複数の矩形状または平行四辺形状の開口部が形成されており、平面視上、該第１の基板側の透明電極層上の開口部と、該第２の基板側の透明電極層上の開口部とが、交互に配置されている請求項１〜６のいずれか１項に記載の液晶表示素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示素子に関し、特に、垂直配向型の液晶セルを有し、負の二軸光学異方性を有する光学補償板（二軸フィルム）で視角補償がされた液晶表示素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶セルの液晶層内の液晶分子配向を基板に対して垂直とする「垂直配向」液晶表示素子は、電圧無印加時における黒レベルが非常に良好であり、液晶セルと上側の偏光板との間、及び、液晶セルと下側の偏光板との間の片方または両方に、適切なパラメータを有する負の光学異方性を有する光学補償板を導入することにより、非常に良好な視角特性を有する。
【０００３】
視角補償方法として、負の一軸光学異方性を有する光学補償板（いわゆる（ネガティブ）Ｃプレート）を用いる方法が、特許文献１に開示されている。Ｃプレートは、上側偏光板と、それに近接する液晶セルのガラス基板との間、及び、下側偏光板と、それに近接する液晶セルのガラス基板との間の一方または両方に配置される。この方法により、垂直配向液晶層の光学異方性を相殺して、電圧無印加時における視角特性を解消することが可能である。
【０００４】
液晶セルの上下面に貼合される偏光板はクロスニコル配置されているため、正面観察時においては良好な黒状態が実現できる。しかし、視角を変化させた場合は、特に上下偏光板の吸収軸から４５°方位ずれた方向から観察した場合に、光抜けが観察される。これは、「偏光板の視角特性」が存在するために現れる現象で、これにより視角特性を劣化させてしまうことが知られている。
【０００５】
これを解決する方法として、特許文献１に開示された負の二軸光学異方性を有する光学補償板（二軸フィルム）を用いる方法が提案されている。特許文献２には、特に有効な二軸フィルムのパラメータ例が開示されている。この方法では、上側偏光板と、それに近接する液晶セルのガラス基板との間、または、下側偏光板と、それに近接する液晶セルのガラス基板との間の一方に二軸フィルムを配置する。さらに、特許文献３には、二軸フィルムを上下偏光板と液晶セルのガラス基板との間の両方に配置する方法が開示されている。
【０００６】
二軸フィルムを用いたこれらの技術により、上述のようにＣプレートを用いた場合に問題となった偏光板による視角特性を解消でき、液晶表示素子を偏光板吸収軸から４５°方位で斜めから観察しても、正面観察時とほぼ同等な黒表示が実現可能である。
【０００７】
なお、本願発明者らは、特許文献４において、ラビング処理による均一なモノドメイン配向を実現した垂直配向型液晶表示素子を提案した。当然、この素子にも上記で示した視角補償方法をそのまま適用可能である。
【０００８】
なお、上述のような、二軸フィルムを用いた偏光板の視角特性の改善は、光学補償板の面内リタデーションＲｅと、液晶層で発現する光軸が厚さ方向にある正の一軸光学異方性を示す光学特性を絶妙に組み合わせることにより実現されるものである。光学補償板は、同時に液晶層の視角特性も補償する二重の効果を発揮することが必要となるため、厚さ断面内の（厚さ方向の）リタデーションを自由に設定可能な、負の二軸光学異方性を有する光学補償板（二軸フィルム）が使用される。
【０００９】
【特許文献１】特許２０４７８８０号明細書
【特許文献２】特許３３３０５７４号公報
【特許文献３】特開平１１−１６３１１９号公報
【特許文献４】特開２００５−２３４２５４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、二軸フィルムで視角補償した垂直配向型液晶表示素子において、電圧無印加時に、偏光部材吸収軸から４５°方位で深い極角角度条件で観察すると、青色や紫色に着色した光り抜け状態が観察される場合がある。このような着色を抑制する技術が望まれる。
【００１１】
本発明の一目的は、垂直配向型の液晶セルを備え、二軸フィルムにより視角補償がされ、電圧無印加時に深い極角から観察した場合に生じる着色が抑制された液晶表示素子を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の一観点によれば、第１の偏光層と、前記第１の偏光層の上方に配置された垂直配向型の液晶セルと、前記液晶セルの上方に配置され、前記第１の偏光層に対してクロスニコル配置された第２の偏光層と、前記第１の偏光層と前記液晶セルとの間、及び、前記第２の偏光層と前記液晶セルとの間の少なくとも一方に配置された負の二軸光学異方性を有する光学補償板とを有し、前記液晶セルは、相互に対向配置された第１及び第２の基板と、該第１及び第２の基板の間に挟まれた液晶層とを含み、該第１及び第２の基板の少なくとも一方の、該液晶層側の表面の全面にランダムな凹凸が形成されている液晶表示素子が提供される。
【発明の効果】
【００１３】
垂直配向型の液晶セルを備え、二軸フィルムにより視角補償がされた液晶表示素子において、液晶セルの基板の内面にランダムな凹凸を形成することにより、ランダムな凹凸を形成しない場合に比べて、電圧無印加時に深い極角から観察した場合に生じる着色の無彩色化が図られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明の実施例による液晶表示素子について説明する前に、まず、比較例として、従来技術の液晶表示素子に対して行ったシミュレーション解析について説明する。上述のように、負の二軸光学異方性を有する光学補償板（これを二軸フィルムと呼ぶこととする）を備えた垂直配向型液晶表示素子において、電圧無印加時に、偏光部材吸収軸から４５°方位で深い極角角度条件で観察すると、青色や紫色に着色した光り抜け状態が観察される場合がある。
【００１５】
第１の比較例として、この現象を具体的に把握するためのシミュレーションを行った。さらに、このシミュレーションに対する比較のため、第２の比較例として、特許文献１が開示するような、負の一軸光学異方性を有する光学補償板（これをＣプレートと呼ぶこととする）で視角補償をする場合についてのシミュレーションも行った。
【００１６】
図１１は、第１の比較例の液晶表示素子を概略的に示す分解斜視図である。図１１を参照し、第１の比較例のシミュレーションの条件について説明する。シミュレーションには、シンテック製液晶表示器シミュレータＬＣＤＭＡＳＴＥＲ６．０を用いた。
【００１７】
図１１に示すように、液晶層面内に関する方位を示す座標系が設定されている。偏光板１０１の上に、垂直配向型の液晶セル１１１が配置され、液晶セル１１１の上に、視角補償板付き偏光板１３１が配置されている。偏光板１０１は、偏光層１０２の液晶セル１１１側（上側）に、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）からなる保護フィルムであるＴＡＣフィルム１０３が積層された構造を有する。視角補償板付き偏光板１３１は、偏光層１３３の液晶セル１１１側（下側）に、二軸フィルム１２１が積層された構造を有する。視角補償板付き偏光板１３１には、ＴＡＣフィルムが形成されていない。
【００１８】
下側の偏光層１０２と、上側の偏光層１３３とが、クロスニコル配置されている。下側の偏光層１０２の吸収軸の方位を４５°（４５°−２２５°方向を単に４５°方位と呼んでいる）とし、上側の偏光層１３３の吸収軸の方位を１３５°（１３５°−３１５°方向を単に１３５°方位と呼んでいる）とした。両偏光層の材質として、ポラテクノ製ＳＫＮ１８２４３Ｔを想定した。
【００１９】
液晶セル１１１は、下側ガラス基板１１２と、上側ガラス基板１１８と、両ガラス基板に挟まれた液晶層１１５とを含んで構成される。液晶層１１５として、プレティルト角８９°に設定したモノドメイン配向構造のものを想定し、プレティルト角の方位は、液晶層中央にて９０°とした。液晶層１１５の厚さ断面内のリタデーション（厚さ方向リタデーション）は略３２０ｎｍとした。
【００２０】
二軸フィルム１２１の面内リタデーションＲｅは５５ｎｍとし、厚さ方向リタデーションＲｔｈは２２０ｎｍとした。二軸フィルム１２１の面内遅相軸方位は、最近傍の偏光層である偏光層１３３の吸収軸に直交する４５°に設定した。二軸フィルム１２１の材質として、ノルボルネン系プラスティックフィルムを想定した。
【００２１】
ＴＡＣ層は、一般に、Ｃプレートとして機能することが知られている。偏光板１０１の有するＴＡＣフィルム１０３の厚さ方向リタデーションＲｔｈは、略６０ｎｍとした。
【００２２】
図１２は、第２の比較例の液晶表示素子を概略的に示す分解斜視図である。図１２を参照し、第２の比較例のシミュレーションの条件について説明する。第１の比較例と異なる点について説明する。
【００２３】
上側の偏光板として、第１の比較例では、二軸フィルムを配した視角補償板付き偏光板１３１を用いたが、第２の比較例では、偏光層２３３の液晶層１１１側にＴＡＣフィルム２３２が積層された、通常の偏光板２３１を用いる。そして、偏光板２３１と液晶セル１１１との間に、Ｃプレート２２１が配置されている。Ｃプレート２２１の厚さ方向リタデーションＲｔｈは、１８０ｎｍとした。Ｃプレート２２１の材質として、第１の比較例の二軸フィルム１２１と同様に、ノルボルネン系プラスティックフィルムを想定した。他の条件は、第１の比較例と同様である。
【００２４】
次に、図１３〜図１５を参照して、第１及び第２の比較例のシミュレーション結果について説明する。図１３は、方位０°、極角５０°から観察した場合の、電圧無印加時の分光スペクトルを示す。ここで、表示素子法線方向が極角０°と定義されている。図１３のグラフの横軸がｎｍ単位で表した波長であり、縦軸が％単位で表した透過率である。実線が第１の比較例（二軸フィルム使用の場合）の分光スペクトルであり、破線が第２の比較例（Ｃプレート使用の場合）の分光スペクトルである。
【００２５】
二軸フィルムを用いた場合、約５３０ｎｍ付近でほぼ光透過がない状態が得られているが、そこから短波長側及び長波長側にシフトするにしたがって、光抜けが増加する傾向がある。最大の透過率は、例えば波長４５０ｎｍ〜７００ｎｍの範囲で、０．２％程度に留まる。
【００２６】
一方、Ｃプレートを用いた場合は、二軸フィルムに比べて非常に大きい光抜けが生じているものの、広い範囲でフラットな光抜け状態であることがわかる。例えば波長４５０ｎｍ程度〜波長７００ｎｍ程度の範囲で、透過率は０．７％程度でほぼ一定である。
【００２７】
二軸フィルムを用いた場合、全体的な光抜けの大きさはＣプレートに比べて小さいものの、偏光板の視角特性をすべての波長範囲では完全に解消できず特定波長範囲で光抜けが生じるために、これに対応した着色が観察されることになる。二軸フィルムや液晶層のパラメータ等により、さまざまな色調に着色すると考えられる。また、液晶層または二軸フィルムのパラメータばらつきが色調変化として顕著に現れ、表示ムラの原因になりやすい。
【００２８】
一方、Ｃプレートを用いた場合は、輝度ムラになることは考えられるが、色調変化については、二軸フィルムを用いた場合に比べて大幅に軽減され、各パラメータのマージンが大きい。なお、Ｃプレートを用いた液晶表示素子を、実際に同条件で作製して観察したところ、光抜けは大きいものの、着色する現象は見られなかった。
【００２９】
次に、液晶表示素子左右方位である０°、１８０°方位における視角特性を比較する。
図１４及び図１５は、それぞれ、第１の比較例（二軸フィルム使用の場合）及び第２の比較例（Ｃプレート使用の場合）の液晶表示素子を、０°、１８０°方位について極角５０°から観察した分光スペクトルである。図１４及び図１５で、実線が方位０°の分光スペクトルであり、破線が方位１８０°の分光スペクトルである。図１３と同様、両グラフの横軸がｎｍ単位で表した波長であり、縦軸が％単位で表した透過率である。
【００３０】
二軸フィルムを用いた場合、及び、Ｃプレートを用いた場合の双方で、左右観察時におけるスペクトルに違いが見られる特徴がある。なお、この傾向は、液晶層にプレティルト角を有するモノドメイン垂直配向の場合にのみ見られる現象である。プレティルト角が９０°であれば、０°、１８０°方位の視角特性の差異は生じないが、プレティルト角が９０°より小さくなるほど、この差異（左右の非対称性）が拡大する。
【００３１】
当然、モノドメイン垂直配向型液晶表示素子では、プレティルト角を９０°より小さくしなければ、良好な表示状態は得られない。本願発明者らは、特許文献４（特開２００５−２３４２５４号公報）の「発明を実施するための最良の形態」の欄において、良好な表示特性を得るための液晶層バルクのプレティルト角として、好ましくは８９．５°以下にすることを提案している。このように、プレティルト角は９０°より小さくすることになるので、上述した左右の非対称性は完全には解消することができない。
【００３２】
二軸フィルムを用いた場合、及び、Ｃプレートを用いた場合の双方で、スペクトルに左右の非対称性が観察されるが、以下に説明するように、左右の非対称性が特に問題となるのは、二軸フィルムを用いた場合である。
【００３３】
図１５に示すように、Ｃプレートを用いた場合は、スペクトルが比較的フラットであるので、左右観察での差は輝度の違いのみとなる。しかし、図１４に示すように、二軸フィルムを用いた場合は、最低透過率の得られる波長が左右で異なることから、左右観察において、外観上明らかに色調が異なって見える懸念がある。なお、図１１に示したものと同様な、二軸フィルムを用いた液晶表示素子を実際に作製して観察したところ、左右方向において、色調の違いが明確に観察された。
【００３４】
以上説明したように、二軸プレートを用いた場合は、光抜けの大きさは全体的に抑えられるものの、特定の波長領域のみで光透過がなくなるので、着色が観察される。また、左右観察時に色調の違いも見られる。一方、Ｃプレートを用いた場合は、二軸プレートを用いた場合に比べて、光抜けの大きさは大きいものの、広い波長領域で光透過率がほぼ一定水準となり、着色が抑制される。また、このため、左右観察時の色調の違いも生じにくい。
【００３５】
なお、最近の垂直配向型液晶表示素子の視角特性を補償する光学補償板としては、数値上の視角特性の良好さが優先されているため、輝度の視角特性が良好な二軸フィルムを用いる方法が広く用いられている。二軸フィルムとして、例えば、ＴＡＣ素材をベースに延伸加工したコニカミノルタオプト製の光学フィルムｎ−ＴＡＣや、ノルボルネン系環状オレフィン材料を用いたオプテス製新ゼオノアなどが上市されており、大量に流通している。
【００３６】
これに対し、Ｃプレートと同等な光学特性を有する光学フィルムとして住友化学工業製のＶＡＣフィルム等が上市されているが、市場の流通量は急速に減少してきており、入手が困難になりつつある。
【００３７】
二軸フィルムを用いて、例えばＣプレートを用いる場合に比べて色調の点で遜色のない液晶表示素子を実現することが望まれる。また、光抜けの大きさは、例えばＣプレートを用いる場合よりも抑制できることが望ましい。
【００３８】
次に、第１の実施例の液晶表示素子について説明する。図１（Ａ）は、第１の実施例の液晶表示素子の構成を示す概略断面図である。偏光板１の上に、垂直配向型の液晶セル１１が配置され、液晶セル１１の上に、二軸フィルム２１が配置され、二軸フィルム２１の上に、偏光板３１が配置されている。
【００３９】
偏光板１及び偏光板３１は、それぞれ、偏光層の液晶セル側にＴＡＣフィルムを積層した構造のものである。偏光層２及びＴＡＣフィルム３が偏光板１を構成し、偏光層３３及びＴＡＣフィルム３２が偏光板３１を構成する。
【００４０】
下側ガラス基板１２、下側透明電極１３、下側垂直配向膜１４、液晶層１５、上側垂直配向膜１６、上側透明電極１７、及び、上側ガラス基板１８を含んで、液晶セル１１が構成される。相互に対向する下側ガラス基板１２と上側ガラス基板１８との間に、液晶層１５が挟まれている。
【００４１】
下側ガラス基板１２の内面（液晶層１５側の表面）の全面に亘って、ランダムな凹凸（凹凸の位置の面内分布がランダムな凹凸）が形成されている。下側ガラス基板１２の内面上に、下側透明電極１３が形成され、下側透明電極１３の内面上に（下側ガラス基板１２の液晶層側上方に）、下側垂直配向膜１４が塗布されている。
【００４２】
下側透明電極１３及び下側垂直配向膜１４の積層の膜厚は、下側ガラス基板１２の内面上の凹凸の、最凸部と最凹部との高低差以下であることが好ましい。これにより、凹凸が埋まることなく、下側の基板最表面となる垂直配向膜１４も、下側ガラス基板１２の凹凸形状が反映された構造となる。
【００４３】
上側ガラス基板１８の内面は、平面である。上側ガラス基板１８の内面上に、上側透明電極１７が形成され、上側透明電極１７の内面上に（上側ガラス基板１８の液晶層側上方に）、上側垂直配向膜１６が塗布されている。
【００４４】
上下の垂直配向膜に１４及び１６に、液晶層１５の液晶分子に所望のプレティルト角を付与する配向処理が施されている。例えば、垂直配向膜として、特開２００５−２３４２５４号公報の「発明を実施するための最良の形態」の欄に開示されるような、表面自由エネルギーが３５Ｎ／ｍ〜３９Ｎ／ｍのものを用いて、同欄に開示されるような適切なラビング処理を施すことができる。
【００４５】
また例えば、特許第３０５４０７６号公報が開示するように、垂直配向膜に、偏光または無偏光の紫外線を基板の斜めから照射する処理を行って、プレティルト角を付与してもよい。上下の垂直配向膜で反平行等の条件を与えて、一様なモノドメイン配向を得ることができる。
【００４６】
ガラス基板の片面にランダムな凹凸形状を形成する方法として、ガラス面のつや消し処理、またはフロスト処理として知られる方法を用いることができる。例えば、フッ化水素と塩酸を混合した水溶液にガラスの片面を浸漬して化学的エッチングにより凹凸を得る方法や、ケイ砂等を高圧空気等でガラス面に高圧吹き付けして物理的エッチングを行うサンドブラスト法等が知られている。
【００４７】
また、特開平２−１７２８４４号公報には、ケイ素アルコキシド系コーティング材をガラス基板に塗布後焼成することにより、ケイ素アルコキシドをゲル化させ、微粒子を分散させた状態として、基板表面に凹凸を形成する方法が開示されている。なお、これに限らず、粒径が０．１μｍ〜３μｍ程度のシリカ系微粒子を基板上に分散し、その上にポリシラン系ハードコート材を塗布、焼成することにより、表面の凹凸を形成することも可能である。さらには、この微粒子をポリシラン系ハードコート材に分散させた後に塗布、焼成することにより表面の凹凸を形成することも可能である。
【００４８】
第１の実施例の液晶表示素子に対して、上記比較例と同様に、光学特性を調べるためのシミュレーション解析を行った。
【００４９】
図１１を参照して説明した第１の比較例のシミュレーションモデルにおいて、液晶セルを、下側ガラス基板の内面にランダムな凹凸が形成された第１の実施例の液晶セルに置き換え、上側の偏光板を、視角補償板付き偏光板から通常のＴＡＣフィルム付きの偏光板に置き換え、液晶セルと上側偏光板との間に、二軸フィルムを配置した構造を、第１の実施例のシミュレーションモデルとした。液晶層面内方位を示す座標系も、第１の比較例と同様に設定される。シミュレーションには、上記比較例と同様に、シンテック製液晶表示器シミュレータＬＣＤＭＡＳＴＥＲ６．０を用いた。
【００５０】
下側の偏光層２と、上側の偏光層３３とが、クロスニコル配置されている。下側の偏光層２の吸収軸の方位が４５°であり、上側の偏光層３３の吸収軸の方位が１３５°である。両偏光層の材質として、ポラテクノ製ＳＫＮ１８２４３Ｔが想定されている。
【００５１】
液晶層１５は、上下基板に反平行になるよう一定のプレティルト角を有する配向処理を施したモノドメイン垂直配向とし、液晶層中央分子のプレティルト角の発現方位は９０°とし、プレティルト角は８９°とした。液晶層１５に用いる液晶材料の複屈折異方性Δｎは約０．０９１とした。
【００５２】
二軸フィルム２１の面内リタデーションＲｅは５５ｎｍとし、厚さ方向リタデーションＲｔｈは２２０ｎｍとした。二軸フィルム２１の面内遅相軸方位は、最近傍の偏光層である偏光層３３の吸収軸方位に直交する４５°に設定した。上側及び下側のＴＡＣフィルム３及び３２それぞれの厚さ方向リタデーションＲｔｈは、６８ｎｍとした。
【００５３】
ここで、中心セル厚、及び、最大凹凸距離を定義する。図１（Ａ）に示した液晶セル構造のように、一方の基板表面に凹凸が形成され、対向基板表面は平面である場合、凹凸が形成された基板の凹凸の最凸部と最凹部の中央の高さから、対向基板表面までの距離（液晶層厚）を、中心セル厚と定義する。
【００５４】
最凸部と最凹部の中央の高さを基準として、そこから最凸部までの距離と、最凹部までの距離とが等しくなる。中央の高さから最凸部までの距離を例えば符号付きで正の距離とし、中央の高さから最凹部までの距離を例えば符号付きで負の距離として、両者を合わせて表示したものを、最大凹凸距離と定義する。なお、中央の高さから最凸部までの距離、及び、中央の高さから最凹部までの距離の大きさを、最大凹凸距離の絶対値と呼ぶこととする。
【００５５】
例えば、中央の高さから最凸部までの距離が＋０．５μｍであり、中央の高さから最凹部までの距離が−０．５μｍであるとき、最大凹凸距離は±０．５μｍとなる。なお、この例で、最凸部と最凹部との高さの差は、１μｍとなる。中心セル厚と最大凹凸距離の和として、液晶層内のセル厚分布を表すことができる。
【００５６】
まず、中心セル厚を３．５μｍとし、中心セル厚に対応する厚さ方向リタデーションを略３２０ｎｍとして、シミュレーションを行った。
【００５７】
次に、方位０°、極角５０°にて観察したとき、最大凹凸距離を０μｍから±０．８μｍまで大きくすることに伴って、分光スペクトルがどのように変化するかについて説明する。なお、最大凹凸距離０μｍは、従来の液晶セル構造に対応する。
【００５８】
図２に、分光スペクトルを示す。グラフの横軸がｎｍ単位で表した波長であり、縦軸が％単位で表した透過率である（なお、これは、以下の図４、図６のグラフについても同様である）。曲線Ａ１〜曲線Ａ５が、それぞれ、最大凹凸距離０μｍ、±０．２μｍ、±０．４μｍ、±０．６μｍ、及び±０．８μｍの場合のスペクトルである。
【００５９】
なお、比較として、二軸フィルムの代わりにＣプレート（Ｒｔｈ＝１８０ｎｍのＣプレートと偏光層面にＴＡＣフィルム１枚を配置）を用いた場合の、従来例（図１２に示した構造）のスペクトルも、曲線Ｂ１として、図２に示す。
【００６０】
実施例のスペクトルの形状は、最大凹凸距離に依存せずほぼ相似形であるが、最大凹凸距離が大きくなるにしたがって全体的に透過率が上昇する傾向が見られる。また、短波長側の透過率上昇が、長波長側の透過率上昇よりも大きい傾向が見られる。最大凹凸距離を±０．８μｍに設定しても、Ｃプレートの場合に比べて、広い波長領域におけるフラット性は若干低下していると考えられる。ただし、波長５５０ｎｍ付近の透過率から、輝度透過率は低くできる可能性があると予想できる。
【００６１】
二軸フィルムを用いた実施例のスペクトルの透過率は、最大凹凸距離が大きくなるにしたがって全体的に上昇している。このことから、特定波長領域で光透過がないことに伴って生じていた着色が、最大凹凸距離を大きくすることにより緩和できると考えられる。
【００６２】
次に、方位０°及び１８０°について、極角５０°にて観察したときの、ＣＩＥ１９３１ｘｙ色度の最大凹凸距離依存性について説明する。なお、光源としては標準光源Ｄ６５を想定した。
【００６３】
図３の色度座標に、最大凹凸距離を０μｍから±０．７μｍまで±０．１μｍずつ大きくしていったときの、方位０°及び１８０°の色度を示す。なお、比較として、二軸フィルムの代わりにＣプレートを用いた従来例の、方位０°及び１８０°の色度座標も示す。
【００６４】
最大凹凸距離が０μｍである従来構造の場合は、方位０°と１８０°、すなわち左右方位から観察した場合の色調が大きく異なっていることがわかる。最大凹凸距離が大きくなるにしたがって、方位０°、１８０°とも無彩色に近いある色度座標に向かって移動していく様子が見られ、０°方位と１８０°方位の色度の距離が近づいていく傾向が見られる。
【００６５】
Ｃプレート使用時の色度座標は、方位０°、１８０°でほとんど差がない。二軸フィルム使用の実施例の素子で、最大凹凸距離を大きくしていったときに最終的に向かう色度座標は、Ｃプレート使用時の方位０°、１８０°における色度とは異なっている。しかし、最大凹凸距離を大きくすることにより、外観上の着色状態は大幅に改善され、左右の色調の差も緩和されることは明らかである。
【００６６】
なお、最大凹凸距離が±０．４μｍに達するまで、最大凹凸距離変化に伴う色度変化が大きい。最大凹凸距離±０．４μｍ以上の範囲では、最大凹凸距離変化に伴う色度の変化が小さくなる傾向が見られる。したがって、最大凹凸距離は±０．４μｍ以上とすることが有効であろう。すなわち、中心セル厚に対して±０．４μｍ以上のセル厚差を有するセル厚分布となるようにするのが有効であろう。また、言い換えると、基板表面の凹凸の最凸部と最凹部との高さの差は、０．８μｍ以上とすることが有効であろう。
【００６７】
さらに、セル厚条件を最適条件である３．５μｍとしたＣプレート使用構造の液晶表示素子に近い色度を実現するために、実施例の液晶表示素子で、中心セル厚を最適化する検討を行った。完全に等しい色度とする場合は、中心セル厚を、３．５μｍから略０．６μｍだけ小さくして、２．９μｍとする必要があることがわかった。厚さ方向リタデーションとしては、略５５ｎｍ程度小さくする必要があることがわかった。
【００６８】
図４に、中心セル厚を２．９μｍとし、最大凹凸距離を±０．４μｍとした実施例の液晶表示素子に対する、方位０°、極角５０°での観察時のスペクトルを示す。図４にはまた、図２に示したＣプレート使用素子のスペクトルも示す。曲線Ａ６が、実施例のスペクトルであり、曲線Ｂ２が、Ｃプレート使用素子のスペクトルである。
【００６９】
Ｃプレート使用素子のスペクトルは、波長４５０ｎｍ程度〜７００ｎｍ程度で概ねフラットな形状を示す。一方、実施例のスペクトルも、同様な波長範囲で概ねフラットな形状を示す。このように、二軸フィルム使用の実施例の素子を、色調の点でＣプレート使用素子と遜色のない特性のものとすることができる。
【００７０】
さらに、全体的な透過率の水準は、実施例の素子の方が、Ｃプレート使用素子よりも低い。輝度透過率の点で、実施例の素子の方が優れていることがわかる。実施例の素子では、無彩色化に伴って、透過率が全体的に上昇するものの、上昇幅は抑制されている。
【００７１】
ただし、中心セル厚を薄くしすぎると、電気光学特性における最大透過率が低下する懸念がある。従来構造において最適であるセル厚３．５μｍ、リタデーション略３２０ｎｍから、セル厚２．９μｍ、リタデーション略２７０ｎｍまでの間で、中心セル厚、リタデーションを設定し、最大凹凸距離を±０．４μｍ以上とすれば、電圧無印加時における視角特性を比較的無彩色化できるとともに、正面観察時の電気光学特性を従来素子構造に比べて著しくは低下させないことが可能であろう。これを証明するために、セル厚３．５μｍと２．９μｍとの間である３．２μｍのセル厚では、どのような色度変化が得られるか確認した。
【００７２】
図５は、中心セル厚を３．２μｍとし、方位０°及び１８０°について、極角５０°にて観察したときの、ＣＩＥ１９３１ｘｙ色度の最大凹凸距離依存性を示す色度座標である。
最大凹凸距離を０μｍから±０．５μｍまで大きくしていった。図３と同様に、Ｃプレート使用素子の色度座標も示す。
【００７３】
図３に示した場合と同様に、最大凹凸距離が大きくなるにしたがって、無彩色化が図られ、左右の色調の違いが認識されにくくなる傾向が見られる。最大凹凸距離が±０．５μｍで、Ｃプレート使用の場合に最も近い色調が得られた。
【００７４】
図６に、最大凹凸距離が±０．５μｍの場合における方位０°、極角５０°観察時のスペクトルを示す。図２に示したＣプレート使用素子のスペクトルも示す。曲線Ａ７が、実施例のスペクトルであり、曲線Ｂ３が、Ｃプレート使用素子のスペクトルである。中心セル厚３．２μｍの場合でも、ほぼフラットなスペクトルが得られ、無彩色化が実現していることがわかる。さらに、Ｃプレート使用の場合よりも透過率が大幅に低くなっており、良好なコントラスト特性が得られることがわかる。
【００７５】
なお、液晶セルの上下双方の垂直配向膜に、ラビングまたは紫外線照射により配向処理を施す例について説明したが、配向処理は、少なくとも片側の垂直配向膜に施せばよい。片側の垂直配向膜のみに配向処理が施された場合でも、良好なコントラスト特性で、無彩色化を図ることが可能である。なお、片側の垂直配向膜のみに配向処理を施す場合は、ランダムな凹凸が形成された基板側の垂直配向膜には配向処理を施さず、平らな対向基板側の垂直配向膜に配向処理を施すことが好ましい。
【００７６】
なお、上述のセル構造では、片側のガラス基板にランダムな凹凸が形成されていたが、上下両方のガラス基板にランダムな凹凸を形成してもよい。
【００７７】
図１（Ｂ）は、上下両側のガラス基板にランダムな凹凸を形成した液晶セル１１ａを有する液晶表示素子の概略断面図である。上側のガラス基板１８ａにも、内面にランダムな凹凸が形成されており、その面上に透明電極１７ａが形成され、透明電極１７ａに、垂直配向膜１６ａが塗布されている。他の構成は、図１（Ａ）を参照して説明した液晶表示素子と同様である。
【００７８】
このようなセル構造の液晶表示素子についても、シミュレーション解析を行ったところ、片側の基板に凹凸を形成した場合と同様に、着色を無彩色化し、左右観察時の色調の差を低減しつつ、光透過の全体的な上昇を抑制できることがわかった。
【００７９】
なお、このようなセル構造に対しては、一方の基板の凹凸の最凸部と最凹部の中央の高さから、対向基板の凹凸の最凸部と最凹部の中央の高さまでの距離（液晶層厚）を、中心セル厚と定義する。
【００８０】
このようなセル構造の場合は、中心セル厚に対する±０．４μｍ以上のセル厚差を、上下基板両方の凹凸でまかなえばよい。このため、上下基板それぞれの最大凹凸距離は、片側基板のみに凹凸が形成されている場合の半分となり、±０．２μｍ以上とするのが好ましい。言い換えると、上下基板それぞれについて、凹凸の最凸部と最凹部との高さの差を、０．４μｍ以上とするのが好ましい。
【００８１】
なお、液晶セルの両側の基板に凹凸が形成されている場合においても、少なくとも片側の基板上の垂直配向膜に、配向処理を行えばよい。
【００８２】
なお、上記実施例では、１枚の二軸フィルムを使用したが、二軸フィルムを複数枚使用する構成も可能である。例えば、二軸フィルムを２枚重ねて使用することもできる。図７に、このような構成の液晶表示素子を概略的に示す分解斜視図を示す。液晶セルの上側の基板と、上側の偏光層との間に、２枚の二軸フィルムが配置されている点が、図１（Ａ）を参照して説明した液晶表示素子、または、図１（Ｂ）を参照して説明した液晶表示素子と異なる。なお、液晶セル１１は、片側の基板にランダムな凹凸を有するものであり（図１（Ａ）参照）、液晶セル１１ａは、両側の基板にランダムな凹凸を有するものである（図１（Ｂ）参照）。
【００８３】
この構成で、上側の偏光板３１ｂは、偏光層３３ｂに二軸フィルム２１ｂが積層された視角補償板付き偏光板である。視角補償板付き偏光板３１ｂの偏光層３３ｂの吸収軸方位と二軸フィルム２１ｂの面内遅相軸方位とが平行である。また、液晶セル１１（または１１ａ）側に配置された２枚目の二軸フィルム４１ｂの吸収軸方位が、偏光層３３ｂ側の二軸フィルム２１ｂの吸収軸方位と直交している。
【００８４】
また例えば、液晶セルの両側に二軸フィルムを配置する構成も可能である。図８に、このような構成の液晶表示素子を概略的に示す分解斜視図を示す。この液晶表示素子は、液晶セル１１（または１１ａ）の上側及び下側の偏光板の双方とも、二軸フィルムを用いた視角補償板付き偏光板としたものである。
【００８５】
下側の偏光板１ｃでは、偏光層２ｃの吸収軸方位と二軸フィルム４１ｃの面内遅相軸方位とが直交し、上側の偏光板３１ｃでは、偏光層３３ｃの吸収軸方位と二軸フィルム２１ｃの面内遅相軸方位とが直交している。下側の二軸フィルム４１ｃの面内遅相軸方位と、上側の二軸フィルム２１ｃの面内遅相軸方位とが直交している。なお、上下偏光層の吸収軸方位は、図１（Ａ）等を参照して説明した素子と同様である。
【００８６】
図７及び図８に示したような２枚の二軸フィルムを用いる素子では、各々の二軸フィルムの厚さ方向リタデーションＲｔｈを、１枚の二軸フィルムを用いる素子の二軸フィルムの厚さ方向リタデーションの半分程度に設定すればよい。
【００８７】
なお、上記では、例えばラビングや紫外光照射による配向制御について説明したが、配向制御の他の例として、特開２００４−２５２２９８号公報の「発明の実施の形態」の欄に記載されているような技術もある。この技術では、液晶セルの上下基板それぞれの透明電極に、複数の矩形状または平行四辺形状の開口部（スリット）を一定間隔で設ける。平面視上（表示面内で）、上側透明電極上のスリットと、下側透明電極上のスリットとを一定間隔で交互に配置する。このような構造で斜めの電界を発生させることによっても、液晶分子の配向方向を制御することが可能である。このような構成では、垂直配向膜にラビング等の配向処理を行う必要がない。
【００８８】
次に、第２の実施例の液晶表示素子について説明する。第１の実施例の液晶表示素子は、液晶層の厚さ方向リタデーションとして３２０ｎｍ近辺を想定したものであった。この近辺のリタデーションがあれば、スタティック駆動（アクティブマトリクス駆動）や、〜１／４デューティマルチプレックス駆動にて良好な表示状態が得られると考えられる。
【００８９】
第２の実施例の液晶表示素子は、マルチプレックス駆動において１／８デューティ以上（分母が８以上）の駆動条件に適したものを想定しており、第１の実施例よりも液晶層の厚さ方向リタデーションが大きいものである。
【００９０】
図９は、第２の実施例の液晶表示素子を概略的に示す分解斜視図である。図１（Ａ）に示した第１の実施例の液晶表示素子との構成の違いについて説明する。第１の実施例の素子は、液晶セルと、上側の偏光板との間に、１枚の二軸フィルムが配置されていたが、第２の実施例では、液晶セル１１ｄと上側の偏光板３１との間に、１枚のＣプレート５１と１枚の二軸フィルム２１ｄとが配置されている。
【００９１】
液晶セル１１ｄ側にＣプレート５１が配置され、上側の偏光板３１側に二軸フィルム２１ｄが配置されている。二軸フィルム２１ｄの面内遅相軸方位が、最近傍の偏光層である上側偏光板３１の偏光層３３の吸収軸方位と平行である。Ｃプレート５１の厚さ方向リタデーションＲｔｈは２２０ｎｍである。
【００９２】
液晶セル１１ｄの液晶層中の液晶材料の複屈折異方性Δｎは、略０．１５である。この液晶材料を用い、凹凸がない従来構造の液晶セルの最適セル厚は４μｍである。液晶セル１１ｄは、図１（Ａ）に示した第１の実施例の液晶表示素子と同様に、片側の基板にランダムな凹凸が形成されたものである。液晶セル１１ｄの上下の垂直配向膜の少なくとも一方に配向処理が施され、所望のプレティルト角を有するモノドメイン垂直配向が形成されている。
【００９３】
その他、上下偏光層の吸収軸方位、二軸フィルムのリタデーション等の条件を、図１（Ａ）を参照して説明した第１の実施例と同様にして、第２の実施例の液晶表示素子に対するシミュレーションを行った。なお、中心セル厚及び最大凹凸距離の定義は、第１の実施例と同様である。
【００９４】
図１０は、中心セル厚を４μｍとし、方位０°及び１８０°について、極角５０°にて観察したときの、ＣＩＥ１９３１ｘｙ色度の最大凹凸距離依存性を示す色度座標である。
最大凹凸距離を０μｍから±０．５μｍまで大きくしていった。Ｃプレートのみを使用した従来構造の素子の色度座標も示す。
【００９５】
第１の実施例の場合と同様に、最大凹凸距離が増加するにしたがって、色度座標は無彩色の方向にシフトする傾向があり、左右の色調差が改善していくことが確認できる。従来構造で最適なセル厚４μｍを中心セル厚に設定すると、第１の実施例と同様に、Ｃプレートを用いた従来構造と比べて色度がずれていることがわかる。
【００９６】
本実施例においても、中心セル厚を小さい方にシフトさせることにより、Ｃプレート使用素子の特性に近づくことを確認した。良好な中心セル厚は、略３．４μｍ〜４μｍであり、それに対応する厚さ方向リタデーションは略５１０ｎｍ〜６００ｎｍである。最大凹凸距離は±０．４μｍ以上（リタデーションとしては±６０ｎｍ以上）に設定することが好ましい。なお、第１の実施例と同様に、液晶セルの上下両側の基板に凹凸を形成する構成としてもよい。この場合、最大凹凸距離は上下基板それぞれについて、±０．２μｍ以上とすることが好ましい。
【００９７】
第１及び第２の実施例から、中心セル厚及び最大凹凸距離の最適範囲の共通するところを見出すと、従来構造の最適リタデーションに対応する最適セル厚を基準にした場合、中心セル厚は、その略８０％〜１００％に設定し、最大凹凸距離の絶対値は、その略１０％以上（片側基板のみ凹凸を有する場合）、または、その略５％以上（両側基板双方に凹凸を有する場合の各基板について）に設定することが好ましい。
【００９８】
したがって、最大凹凸距離の絶対値は、中心セル厚の略１０％以上（片側基板のみ凹凸を有する場合）、または、その略５％以上（両側基板双方に凹凸を有する場合の各基板について）に設定することが好ましい。なお、最大凹凸距離の絶対値の上限は、中心セル厚となる。
【００９９】
また、セル基板内面の凹凸の最凸部と最凹部との高さの差は、片側基板のみに凹凸を形成する場合は、０．８μｍ以上とするのが好ましく、両側基板の双方に凹凸を形成する場合は、各基板について０．４μｍ以上とするのが好ましい。なお、凹凸の面内ピッチは、１μｍ〜２０μｍ程度でランダムに分布していることが好ましい（このようなピッチで凹凸が分布した領域が含まれることが好ましい）。
【０１００】
以上、第１及び第２の実施例で説明したように、視角補償手段として少なくとも１枚の二軸フィルムが偏光層と液晶層との間に配置された垂直配向型の液晶表示素子において、液晶セルの少なくとも一方の基板の内面にランダムな凹凸を形成することにより、電圧無印加時、深い視角での観察時に見られる着色の無彩色化を図ることができる。なお、Ｃプレートを使用した場合に比べて、輝度を良好に抑制することも可能である。モノドメイン垂直配向セルを用いた液晶表示素子では、さらに、左右の色調の着色度合いの非対称性を低減する効果も有する。なお、二軸フィルムを液晶セルの片側のみに配置するとき、必要に応じて、液晶セルの上側、下側のどちらに配置することも可能である。
【０１０１】
実施例の技術を適用可能な液晶表示素子としては、例えば、セグメント表示スタティック駆動液晶表示素子、セグメント表示単純マトリクス駆動液晶表示素子、ドットマトリクス表示単純マトリクス駆動表示素子、１つの液晶表示素子内に、セグメント表示スタティック駆動液晶表示素子部分とセグメント表示単純マトリクス駆動液晶表示素子部分とを含む液晶表示素子、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）駆動を含むアクティブマトリクス駆動液晶表示素子、等が挙げられる。
【０１０２】
以上実施例に沿って本発明を説明したが、本発明はこれらに制限されるものではない。例えば、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に自明であろう。
【図面の簡単な説明】
【０１０３】
【図１】図１（Ａ）は、第１の実施例の液晶表示素子の概略断面図であり、図１（Ｂ）は、第１の実施例の一変形例の液晶表示素子の概略断面図である。
【図２】図２は、中心セル厚を３．５μｍとした第１の実施例の液晶表示素子の分光スペクトルである。
【図３】図３は、中心セル厚を３．５μｍとした第１の実施例の液晶表示素子のＣＩＥ１９３１ｘｙ色度を示す色度図である。
【図４】図４は、中心セル厚を２．９μｍとした第１の実施例の液晶表示素子の分光スペクトルである。
【図５】図５は、中心セル厚を３．２μｍとした第１の実施例の液晶表示素子のＣＩＥ１９３１ｘｙ色度を示す色度図である。
【図６】図６は、中心セル厚を３．２μｍとした第１の実施例の液晶表示素子の分光スペクトルである。
【図７】図７は、第１の実施例の他の変形例の液晶表示素子を概略的に示す分解斜視図である。
【図８】図８は、第１の実施例のさらに他の変形例の液晶表示素子を概略的に示す分解斜視図である。
【図９】図９は、第２の実施例の液晶表示素子を概略的に示す分解斜視図である。
【図１０】図１０は、第２の実施例の液晶表示素子のＣＩＥ１９３１ｘｙ色度を示す色度図である。
【図１１】図１１は、第１の比較例の液晶表示素子を概略的に示す分解斜視図である。
【図１２】図１２は、第２の比較例の液晶表示素子を概略的に示す分解斜視図である。
【図１３】図１３は、第１及び第２の比較例の液晶表示素子の分光スペクトルである。
【図１４】図１４は、第１の比較例の液晶表示素子の０°及び１８０°方位から観察した場合の分光スペクトルである。
【図１５】図１５は、第２の比較例の液晶表示素子の０°及び１８０°方位から観察した場合の分光スペクトルである。
【符号の説明】
【０１０４】
１  偏光板
２  偏光層
３  ＴＡＣフィルム
１１  液晶セル
１２  下側ガラス基板
１３  下側透明電極
１４  下側垂直配向膜
１５  液晶層
１６  上側垂直配向膜
１７  上側透明電極
１８  上側ガラス基板
２１  二軸フィルム
３１  偏光板
３２  ＴＡＣフィルム
３３  偏光層
【図１】
2008233412.tif 000003
【図２】
2008233412.tif 000004
【図３】
2008233412.tif 000005
【図４】
2008233412.tif 000006
【図５】
2008233412.tif 000007
【図６】
2008233412.tif 000008
【図７】
2008233412.tif 000009
【図８】
2008233412.tif 000010
【図９】
2008233412.tif 000011
【図１０】
2008233412.tif 000012
【図１１】
2008233412.tif 000013
【図１２】
2008233412.tif 000014
【図１３】
2008233412.tif 000015
【図１４】
2008233412.tif 000016
【図１５】
2008233412.tif 000017
【手続補正書】
【提出日】平成20年4月16日(2008.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
上下の垂直配向膜１４及び１６に、液晶層１５の液晶分子に所望のプレティルト角を付与する配向処理が施されている。例えば、垂直配向膜として、特開２００５−２３４２５４号公報の「発明を実施するための最良の形態」の欄に開示されるような、表面自由エネルギーが３５ｍＮ／ｍ〜３９ｍＮ／ｍのものを用いて、同欄に開示されるような適切なラビング処理を施すことができる。