(57)【要約】【課題】ピットパターン及びグルーブの形成を容易にするのみならず、露光装置の構成や露光実施前の条件決定、露光中の露光機操作をより簡潔にし、コストアップを抑制することができる光記録媒体用原盤の製造方法、及び光記録媒体用未露光原盤とその製造方法の提供。【解決手段】基盤上の第１エリアに深い凹部を有すると共に、第２エリアに浅い凹部を有する光記録媒体用原盤の製造方法に用いられる光記録媒体用未露光原盤において、前記基盤上に、第一のフォトレジスト層、中間層、及び第１エリアに対応して設けられる高感度フォトレジスト領域と第２エリアに対応して設けられる低感度フォトレジスト領域から成る第二のフォトレジスト層が積層されていることを特徴とする光記録媒体用未露光原盤。【選択図】図３
2008204553.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基盤上の第１エリアに深い凹部を有すると共に、第２エリアに浅い凹部を有する光記録媒体用原盤の製造方法であって、
前記基盤上に、第一のフォトレジスト層、中間層、及び第１エリアに対応して設けられる高感度フォトレジスト領域と第２エリアに対応して設けられる低感度フォトレジスト領域から成る第二のフォトレジスト層を積層した光記録媒体用未露光原盤に対し、露光及び現像を行って、高感度フォトレジスト領域では、露光部において第二のフォトレジスト層を中間層に達するまで除去すると共に、低感度フォトレジスト領域では、露光部において第二のフォトレジスト層を厚さ方向の途中まで除去する第１現像工程と、
第１現像工程の後、第１エリアにおいて露出した中間層をエッチングにより除去して原盤中間体を得る第１中間層除去工程と、
第１中間層除去工程の後、原盤中間体に対して現像を行って、第１エリアでは、露出した第一のフォトレジスト層を除去して深い凹部を形成すると共に、第２エリアでは、第二のフォトレジスト層を厚さ方向の途中から中間層に達するまで除去する第２現像工程と、
第２現像工程の後、第２エリアにおいて露出した中間層をエッチングにより除去して浅い凹部を形成する第２中間層除去工程と、
を有することを特徴とする光記録媒体用原盤の製造方法。
【請求項２】
第二のフォトレジスト層の高感度フォトレジスト領域及び低感度フォトレジスト領域を同心円状に形成することを特徴とする請求項１記載の光記録媒体用原盤の製造方法。
【請求項３】
浅い凹部は、光記録媒体用原盤を用いて成形される光記録媒体の基板のグルーブに相当するものであることを特徴とする請求項１又は２記載の光記録媒体用原盤の製造方法。
【請求項４】
深い凹部は、光記録媒体用原盤を用いて成形される光記録媒体の基板のピットに相当するものであることを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載の光記録媒体用原盤の製造方法。
【請求項５】
第１エリアに対する露光強度と第２エリアに対する露光強度とが、同水準であることを特徴とする請求項１〜４の何れかに記載の光記録媒体用原盤の製造方法。
【請求項６】
第二のフォトレジスト層の高感度フォトレジスト領域の感度が、第一のフォトレジスト層の感度よりも低いことを特徴とする請求項１〜５の何れかに記載の光記録媒体用原盤の製造方法。
【請求項７】
基盤上の第１エリアに深い凹部を有すると共に、第２エリアに浅い凹部を有する光記録媒体用原盤の製造方法に用いられる光記録媒体用未露光原盤において、
前記基盤上に、第一のフォトレジスト層、中間層、及び第１エリアに対応して設けられる高感度フォトレジスト領域と第２エリアに対応して設けられる低感度フォトレジスト領域から成る第二のフォトレジスト層が積層されていることを特徴とする光記録媒体用未露光原盤。
【請求項８】
請求項７に記載の光記録媒体用未露光原盤の製造方法であって、高感度フォトレジスト領域が内周側で低感度フォトレジスト領域が外周側となる同心円状に設けられるように、高感度フォトレジスト材料を、スピンコートにより高感度及び低感度フォトレジスト領域に塗布した後、高感度フォトレジスト領域をマスクした状態で、低感度フォトレジスト材料を、高感度フォトレジスト領域と低感度フォトレジスト領域との境界部に供給しながら、スピンコートにより低感度フォトレジスト領域に上塗りすることにより第二のフォトレジスト層を形成することを特徴とする光記録媒体用未露光原盤の製造方法。
【請求項９】
請求項７に記載の光記録媒体用未露光原盤の製造方法であって、高感度フォトレジスト領域が内周側で低感度フォトレジスト領域が外周側となる同心円状に設けられるように、低感度フォトレジスト材料を、スピンコートにより高感度及び低感度フォトレジスト領域に塗布した後、低感度フォトレジスト領域をマスクした状態で、高感度フォトレジスト材料を、高感度フォトレジスト領域の内周端部に供給しながら、スピンコートにより高感度フォトレジスト領域に上塗りすることにより第二のフォトレジスト層を形成することを特徴とする光記録媒体用未露光原盤の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光記録媒体用未露光原盤、特にハイブリッドディスク用未露光原盤とその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
昨今における情報量の増大により、アプリケーションソフトウェアや音楽、画像（静止画、動画）、各種データなどの大容量の情報は、光記録媒体で配布・販売されるのが一般的となっている。これらの情報を記録する光記録媒体としては、ＣＤやＣＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−ＲＯＭ等の再生専用領域からなる光記録媒体が広く普及しており、何れも記録情報が予めピットとして基板上に形成され、当該成形基板上に反射層と保護層を積層させた構造になっている。
これに対して、記録可能領域を有するＣＤ−Ｒ／ＲＷやＤＶＤ＋Ｒ／ＲＷ、ＤＶＤ−Ｒ／ＲＷ等の記録用光記録媒体も広く普及している。これらの記録用光記録媒体は、全面に時間情報が記録されたグルーブ（案内溝）が形成されており、このグルーブが形成された成形基板上に記録層（ＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ＋Ｒ、ＤＶＤ−Ｒでは有機色素等、ＣＤ−ＲＷ、ＤＶＤ＋ＲＷ、ＤＶＤ−ＲＷでは無機相変化膜）、反射層、保護層を積層させ、光記録装置でピットを書き込むことにより、時間情報とデータが記録される構造を有している。
近年では、再生専用領域と記録可能領域の両方を同一媒体上に有する光記録媒体、いわゆるハイブリッドディスクが実用化されている。この媒体では、再生専用領域として存在する既存の情報の他に、新たな情報を記録可能領域に付加することができる。例えばコンピューターソフトの古いコンテンツを、新しいバージョンにアップグレードさせることができる等、当該光記録媒体の使い勝手を向上させることができる。
【０００３】
ＣＤフォーマットのハイブリッドＣＤ−Ｒ／ＲＷを例にとると、再生専用領域を形成するピットと記録可能領域を形成するグルーブは異なる深さで形成する必要があり、それぞれの深さがλ／４ｎ及びλ／８ｎ（λ：再生波長、ｎ：基盤の屈折率）であることが望ましい。このような光記録媒体を得るためには、光記録媒体原盤におけるフォトレジストのパターン形成において、ピットとグルーブで深さを変える必要がある。
このような光記録媒体用原盤を製造する場合、まずターンテーブルに固定されたガラス基盤を回転させながら、ガラス基盤上にフォトレジスト材料を塗布する。そしてピットパターンとグルーブの潜像の露光は、通常ガラス基盤上に形成されたフォトレジスト層へ、それぞれ高強度と低強度のレーザー光を照射することで行っている。しかしフォトレジスト層が単層のため、ピットの深さはフォトレジスト層膜の厚さとして正確に管理することが可能であるが、グルーブの深さはレーザー光強度やフォトレジストの感度の誤差により変動してしまう。またグルーブ底部の形状がＶ字型となるため、この原盤より作製された光記録媒体の、記録可能領域における記録特性が悪化する。
このような課題を解決するため、例えば、特許文献１では、ガラス基盤の表面上にそれぞれ感度の異なるフォトレジストを回転させながら二回塗布し、第一のフォトレジスト層と第二のフォトレジスト層を積層させて二層化し、上層のフォトレジスト層膜の厚さによりグルーブの深さを管理する方法が提案されている。しかし実際には、第二のフォトレジスト層に使用されるフォトレジスト材料の原液に含まれる溶媒又は原液を希釈するための溶媒により、初めに積層された第一のフォトレジスト層が溶出されるため、上記の方法でフォトレジスト層を積層させることは不可能である。
【０００４】
特許文献２〜３には、前記のようなピット及びグルーブ、二水準の深さを有する光記録媒体用原盤及びその製造方法が述べられている。即ちこの原盤では、図１に示すように、ガラス基盤１上に積層される第一のフォトレジスト層２と第二のフォトレジスト層４の間に、電気抵抗の小さい導電性膜である中間層３を設けている。第１フォトレジスト層２、中間層３、第２フォトレジスト層４の膜の厚さはそれぞれ３００〜２０００Å、３０〜３００Å、３００〜２０００Åである。これはピット露光には第一及び第二のフォトレジスト層２及び４を、グルーブ露光には第二のフォトレジスト層４のみをそれぞれ露光できるように、二水準のレーザー光強度で潜像を行っており、中間層３の膜厚によりピットを露光する露光ビームが中間層３を８５％以上透過するようにしているためである。また第一のフォトレジスト層２の感度が、第二のフォトレジスト層４の感度より大きくなるような層構成の組み合わせとしている。そして、中間層３の熱拡散の効果により、底部の中心部分が盛り上がらないピットパターンの形成が可能となる。加えて第一のフォトレジスト層２が第二のフォトレジスト層４より高感度であることを利用することで、フォトレジストの境界部分に段のないピットパターンを形成することができる。よって二水準のレーザー光強度で潜像することにより、深さの異なるピットパターン及びグルーブを同一盤面上へ形成することができる。
【０００５】
二水準のレーザー光強度で露光された前記の光記録媒体用フォトレジスト原盤（未露光原盤）は、特許文献４に開示されている発明の装置及び方法によって現像することにより、ピットやグルーブが形成される。
図２−１及び図２−２の（ａ）〜（ｅ）に現像によるピット及びグルーブのパターニング手順を示す。レーザー露光された原盤にまずアルカリ溶液を塗布して第二のフォトレジスト層の潜像部分を現像する。二水準のレーザー光強度のうち、強い強度で露光されたピットパターンは現像が中間層まで達し、弱い強度で露光されたグルーブは第二のフォトレジスト層途中まで現像される。次に硝酸を塗布して、ピットパターン露光部の中間層を除去する。このとき、フォトレジスト層は硝酸に不溶のため、グルーブ露光部の形状は変化しない。更に再度アルカリ溶液による現像を行う。これにより、ピット露光部では第二のフォトレジスト層と共に第一のフォトレジスト層の潜像部分にあるフォトレジストが除去され、ピットパターンが形成される。同時にグルーブ露光部は、一回目の現像で除去できなかった第二のフォトレジスト層の残りの潜像部分のフォトレジストを除去する。最後に再度、硝酸を塗布することにより、グルーブ形成部底の中間層が除去され、グルーブが形成される。
一連の工程ではフォトレジスト材料をガラス基盤上に塗布する時と同様に、ターンテーブル上に設置した原盤を回転させながら、スピンコート法により潜像部分のフォトレジスト材料を除去するための現像液、中間層を除去するための酸溶解液、及びリンス液となる純水の吐出を行うので、現像及び中間層除去の内外差が発生せず、それぞれ均一なピット及びグルーブ形状を得ることができる。
【０００６】
【特許文献１】特開平６−１５０３９１号公報
【特許文献２】特許第３４７６６２１号公報
【特許文献３】特許第３４７９４１３号公報
【特許文献４】特開平９−３２０１２４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
前述した光記録媒体用未露光原盤を使用することにより、同一盤面上にピットからなる領域とグルーブからなる領域の両方が形成されている所望の光記録媒体用原盤を得ることはできるが、この光記録媒体用未露光原盤を用いて、深さの異なるピットパターン及びグルーブ（案内溝）を同一盤面上へ形成するには、二水準のレーザー光強度（パワー）で露光することが必要不可欠である。二水準のレーザー光強度で露光するには、一台の露光装置内にレーザー光源又はレーザー光路を二つ設けなければならない。レーザー光源を司るユニットが二台ある場合はもちろん、一台のレーザー光源から光路を分割しても、分割された箇所以降のレーザー光軸は二本になる。このため、レーザー光を増幅又は発振させるための光学素子（Ａ／Ｏ）やレンズを各光軸上に設置しなければならず、露光装置の設備にかかる費用が増大する。また、光源から照射対象である光記録媒体用未露光原盤上までのレーザー光路が複雑な構成となるため、光軸調整や露光装置のメンテナンスが大変難かしくなる。更に、実際の原盤露光前に実施するレーザー光強度の調整は、二水準分のそれぞれで実施しなければならない。よって生産時において段取りに時間を要することとなり、これがコストアップの要因ともなる。
本発明は、このような問題を解決し、ピットパターン及びグルーブの形成を容易にするのみならず、露光装置の構成や露光実施前の条件決定、露光中の露光機操作をより簡潔にし、コストアップを抑制することができる光記録媒体用原盤の製造方法、及び光記録媒体用未露光原盤とその製造方法の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題は、次の１）〜９）の発明によって解決される。
１）  基盤上の第１エリアに深い凹部を有すると共に、第２エリアに浅い凹部を有する光記録媒体用原盤の製造方法であって、
前記基盤上に、第一のフォトレジスト層、中間層、及び第１エリアに対応して設けられる高感度フォトレジスト領域と第２エリアに対応して設けられる低感度フォトレジスト領域から成る第二のフォトレジスト層を積層した光記録媒体用未露光原盤に対し、露光及び現像を行って、高感度フォトレジスト領域では、露光部において第二のフォトレジスト層を中間層に達するまで除去すると共に、低感度フォトレジスト領域では、露光部において第二のフォトレジスト層を厚さ方向の途中まで除去する第１現像工程と、
第１現像工程の後、第１エリアにおいて露出した中間層をエッチングにより除去して原盤中間体を得る第１中間層除去工程と、
第１中間層除去工程の後、原盤中間体に対して現像を行って、第１エリアでは、露出した第一のフォトレジスト層を除去して深い凹部を形成すると共に、第２エリアでは、第二のフォトレジスト層を厚さ方向の途中から中間層に達するまで除去する第２現像工程と、
第２現像工程の後、第２エリアにおいて露出した中間層をエッチングにより除去して浅い凹部を形成する第２中間層除去工程と、
を有することを特徴とする光記録媒体用原盤の製造方法。
２）  第二のフォトレジスト層の高感度フォトレジスト領域及び低感度フォトレジスト領域を同心円状に形成することを特徴とする１）記載の光記録媒体用原盤の製造方法。
３）  浅い凹部は、光記録媒体用原盤を用いて成形される光記録媒体の基板のグルーブに相当するものであることを特徴とする１）又は２）記載の光記録媒体用原盤の製造方法。
４）  深い凹部は、光記録媒体用原盤を用いて成形される光記録媒体の基板のピットに相当するものであることを特徴とする１）〜３）の何れかに記載の光記録媒体用原盤の製造方法。
５）  第１エリアに対する露光強度と第２エリアに対する露光強度とが、同水準であることを特徴とする１）〜４）の何れかに記載の光記録媒体用原盤の製造方法。
６）  第二のフォトレジスト層の高感度フォトレジスト領域の感度が、第一のフォトレジスト層の感度よりも低いことを特徴とする１）〜５）の何れかに記載の光記録媒体用原盤の製造方法。
７）  基盤上の第１エリアに深い凹部を有すると共に、第２エリアに浅い凹部を有する光記録媒体用原盤の製造方法に用いられる光記録媒体用未露光原盤において、
前記基盤上に、第一のフォトレジスト層、中間層、及び第１エリアに対応して設けられる高感度フォトレジスト領域と第２エリアに対応して設けられる低感度フォトレジスト領域から成る第二のフォトレジスト層が積層されていることを特徴とする光記録媒体用未露光原盤。
８）  ７）に記載の光記録媒体用未露光原盤の製造方法であって、高感度フォトレジスト領域が内周側で低感度フォトレジスト領域が外周側となる同心円状に設けられるように、高感度フォトレジスト材料を、スピンコートにより高感度及び低感度フォトレジスト領域に塗布した後、高感度フォトレジスト領域をマスクした状態で、低感度フォトレジスト材料を、高感度フォトレジスト領域と低感度フォトレジスト領域との境界部に供給しながら、スピンコートにより低感度フォトレジスト領域に上塗りすることにより第二のフォトレジスト層を形成することを特徴とする光記録媒体用未露光原盤の製造方法。
９）  ７）に記載の光記録媒体用未露光原盤の製造方法であって、高感度フォトレジスト領域が内周側で低感度フォトレジスト領域が外周側となる同心円状に設けられるように、低感度フォトレジスト材料を、スピンコートにより高感度及び低感度フォトレジスト領域に塗布した後、低感度フォトレジスト領域をマスクした状態で、高感度フォトレジスト材料を、高感度フォトレジスト領域の内周端部に供給しながら、スピンコートにより高感度フォトレジスト領域に上塗りすることにより第二のフォトレジスト層を形成することを特徴とする光記録媒体用未露光原盤の製造方法。
【０００９】
以下、上記本発明について実施の形態を示しつつ詳しく説明する。
まず図３に、本発明に係る光記録媒体用未露光原盤の断面構成図を示す。
ガラス基盤１の上に第一のフォトレジスト層２、中間層３、第二のフォトレジスト層４の順に積層されており、フォトレジスト層中でレーザー光の照射により露光された潜像部分はアルカリ水溶液に可溶となる。第一及び第二のフォトレジスト層で使用されるフォトレジスト材料はポジ型と呼ばれており、感光材料やノボラック樹脂等の固体をアルキル系やアセテート系の溶媒に溶解させた状態となっているのが一般的である。フォトレジスト材料の原液は高粘性・高濃度であるため、光記録媒体用未露光原盤を作製する場合には、通常、原液を前記の溶媒等によって希釈して使用する。第二のフォトレジスト層４は、深い凹部６〔図４（ｅ）参照〕を形成する第１エリアに対応する高感度フォトレジスト領域８と、浅い凹部７〔図４（ｅ）参照〕を形成する第２エリアに対応する低感度フォトレジスト領域９からなる。
【００１０】
図３に示す光記録媒体用未露光原盤の製造プロセスについて説明する。
フォトレジスト層を形成するためのフォトレジスト材料の塗布には、一般的にスピンコート法が用いられる。まず円形のガラス基盤１を研磨、洗浄した後、塗れ性向上のためガラス基盤表面上をシランカップリング剤（密着剤）によるトリメチルシリル化処理により疎水化する。このガラス基盤１をターンテーブルに設置し、ガラス基盤１を回転させながら、スピナー装置のディスペンサにより第一のフォトレジスト材料を滴下する。該フォトレジスト材料が盤面上に行き渡ったら滴下を終了し、ターンテーブルによる回転数を滴下時よりも大きくして、遠心力により余分なフォトレジスト材料をガラス基盤１の外方に飛散させる。この飛散時における振り切り回転数を調整することにより第一のフォトレジスト層２の膜厚を調整することが可能で、通常３００〜２０００Åの厚さになるよう設定する。
次いで、フォトレジスト材料が塗布されたガラス基盤１をオーブンでプリベークして、第一のフォトレジスト層２を形成する。このプリベーク温度は、後述する第二のフォトレジスト層４のプリベーク温度及び露光・現像後のポストベーク温度より高く設定することが好ましい。これは第二のフォトレジスト層４のプリベーク時及び露光・現像後のポストベーク時に、第一のフォトレジスト層２からの溶媒の蒸発によるガスの発生を防ぐためで、ガスが集中する部分の盛り上がりによる欠陥の発生をなくし良好な信号品質を得るためである。また、露光時にフォトレジストの境界部分に段のないピットパターンを形成する（２段ピット形成防止）ため、第一のフォトレジスト層２の感度は、第二のフォトレジスト層４の高感度フォトレジスト層８（後述する）の感度よりも高いことが望ましい。換言すれば、第一のフォトレジスト層２を現像する際に高感度フォトレジスト層８が過度に現像されて段差（２段ピット）が形成されることを防止すべく、高感度フォトレジスト層８の感度は、第一のフォトレジスト層２の感度に比べて低いことが好ましい。
【００１１】
次に、第一のフォトレジスト層２上に導電性膜である中間層３を形成する。この中間層３には電気抵抗の小さいＩｎ２Ｏ３やＩＴＯ（インジウム錫酸化物、Ｉｎ２Ｏ３９５重量％−ＳｎＯ２５重量％）、ＩＺＯ（インジウム亜鉛酸化物）などを使用すると、露光時、熱拡散効果により中間層３の膜質の変化を抑制できるため、ピット底部の中心が盛り上がらない平らなピット形状とすることができる。また中間層３の熱伝導率は４０Ｗ／ｍＫ以上であることが望ましい。中間層３の積層には一般的にスパッタ法が用いられ、膜厚は１０〜３００Åの範囲で設定される。
次に、中間層３上に第二のフォトレジスト層４を形成する。形成方法は第一のフォトレジスト材料を塗布した時と同様で、第一のフォトレジスト層２及び中間層３が形成されたガラス基盤１をターンテーブルに設置し、ガラス基盤１を回転させながらスピナー装置のディスペンサで第二のフォトレジスト材料を滴下する。フォトレジスト材料が盤面上に行き渡ったらフォトレジスト材料の滴下を終了し、ターンテーブルによる回転数を滴下時よりも大きくして、遠心力により余分なフォトレジスト材料をガラス基盤１の外方に飛散させる。この飛散時における回転数を調整することにより第二のフォトレジスト層４の膜厚を調整することが可能で、通常３００〜２０００Åの厚さになるよう設定する。
上記各層を設けたガラス基盤１は、再度オーブンでプリベークすることにより第二のフォトレジスト層４が形成され、第一のフォトレジスト層２、中間層３及び第二のフォトレジスト層４が積層された光記録媒体用未露光原盤が得られ、露光機のレーザー光によるピット及びグルーブ露光が可能な状態となる。
【００１２】
本発明では、前述したように第二のフォトレジスト層４に高感度フォトレジスト領域８及び低感度フォトレジスト領域９を設ける。ここでいう高感度、低感度とは相対的なものであり、後述するように高感度フォトレジスト材料と低感度フォトレジスト材料を組み合わせて、図４−１及び図４−２に示すような工程により、例えばピットパターンとグルーブを形成することができるような感度の差があればよい。
上記高感度及び低感度フォトレジスト領域８、９を、前者が内周側となり後者が外周側となる同心円状に設けると、レーザー露光により同一盤面上にピットパターンからなる領域と、これと深さの異なるグルーブからなる領域を容易に形成できるので好ましい。即ち、第二のフォトレジスト層４中にグルーブを形成する領域に対応する低感度フォトレジスト領域９を設けることにより、ピットパターンが露光されるレーザー光強度でグルーブを露光しても、現像時にグルーブ落ちが生じるのを防止することができる。
【００１３】
低感度フォトレジスト領域９は、例えば図５のように、高感度フォトレジスト材料を塗布した光記録媒体用未露光原盤１０に対し、低感度フォトレジスト領域９の開始半径位置（高感度フォトレジスト領域８と低感度フォトレジスト領域９との境界部）にノズル１１を合致させ、低感度フォトレジスト液を滴下して遠心力により外周方向に行き渡らせればよい。このとき、低感度フォトレジスト液が、滴下開始半径位置より内周側（高感度フォトレジスト領域８側）に飛び跳ねないように、内周側にマスク１２を設置することが望ましい。ここで、低感度フォトレジスト液の原液の溶媒又は原液希釈用の溶媒として、高感度フォトレジスト材料を溶解するものを用いることにより、高感度フォトレジスト領域８のフォトレジスト層が溶出され、その後に、図６（ａ）に示すように低感度フォトレジスト材料からなる新たなフォトレジスト領域が形成される。このとき高感度フォトレジスト領域８と、低感度フォトレジスト領域９の膜厚がほぼ同じとなるようにすることが重要である。
また、上記の方法とは逆に、先に低感度フォトレジスト材料を塗布しておき、低感度フォトレジスト領域８にマスクをして、高感度フォトレジスト領域８の中心部から高感度フォトレジスト材料を塗布してもよい。この場合には、高感度フォトレジスト材料の原液の溶媒又は原液希釈用の溶媒により低感度フォトレジスト材料が溶出されることになる。
なお、本実施形態では、高感度フォトレジスト領域８を最内周に、つまり円状に形成するため、高感度フォトレジスト材料を高感度フォトレジスト領域８の中心部から塗布するが、高感度フォトレジスト領域８の内周側に更に他の領域を設けるべく、高感度フォトレジスト領域８を環状に形成する場合には、高感度フォトレジスト材料を高感度フォトレジスト領域８の内周端部（他の領域との境界部）から塗布するようにする。つまり、特許請求の範囲における「高感度フォトレジスト領域の内周端部」とは、高感度フォトレジスト領域が環状に形成されている場合には、文字通り「高感度フォトレジスト領域の内周端部」を意味するものであるが、本実施形態のように、高感度フォトレジスト領域８が円状に形成されている場合には、「高感度フォトレジスト領域の中心部」を意味するものである。
【００１４】
上記第二のフォトレジスト層４の形成プロセスにおいて、中間層３の膜厚が第一のフォトレジスト層２及び第二のフォトレジスト層４と比較して極端に薄く形成されている場合、特に中間層３の膜厚が５０Å以下である場合には、中間層膜面内に０．０５ｍｍ径程度のピンホールが多数生じることがある。この状態で第二のフォトレジスト材料を塗布すると、フォトレジスト材料がピンホールに浸透することがある。この浸透が第一のフォトレジスト層２に達すると、第一のフォトレジスト層２の界面上で、第二のフォトレジスト材料の溶媒により、第一と第二のフォトレジスト材料が混合するか又は第一のフォトレジスト材料が溶出し、第二のフォトレジスト層４を形成するためのプリベーク中に溶媒が蒸発することに伴いピンホール開口部から膨張、破裂するため、第二のフォトレジスト層４上に０．１５ｍｍ径程度の大きさ、１００〜３００Å程度の高さを持つ欠陥が生じる。このため光記録媒体の再生専用領域や記録後の記録可能領域の欠陥率が悪化し、再生時のエラーが多く発生してしまう原因となる。
これを防止するため、第二のフォトレジスト材料を塗布する際には、フォトレジスト材料の吐出時間を短くするか（１０秒以内）、飛散時の振り切り回転数を高速（３０００ｒｐｍ以上）にするか、吐出位置を原盤の内周端部又は低感度フォトレジスト領域９の開始半径位置とすることが好適である。
【００１５】
また中間層３に対する第二のフォトレジスト層４の密着力は、トリメチルシリル化されたガラス基盤表面上に対する第一のフォトレジスト層２の密着力よりも高い。
低感度フォトレジスト領域９では、図６（ｂ）に示すように、中間層３と接する部分に高感度フォトレジスト材料が一部残留するため、低感度フォトレジスト材料へ完全には切り替わらないが、感度低下の効果は十分に得られる。特に中間層３にＩＺＯ（インジウム亜鉛酸化物）をスパッタ法で積層した場合には、Ｉｎ２Ｏ３やＩＴＯ（インジウム錫酸化物）を積層した場合よりも中間層表面の粒子が小さく表面上の粗さが少ないため、低感度フォトレジスト材料の溶媒により高感度フォトレジスト材料が中間層３から剥離しやすくなる。よって、低感度フォトレジスト領域９に残留する高感度フォトレジスト材料が少なくなるので好ましい。なお、低感度フォトレジスト材料を先に塗布しておく場合には、高感度フォトレジスト領域８に低感度フォトレジスト材料が一部残留することになるが、特に問題はない。
また低感度フォトレジスト領域９にグルーブを露光するとグルーブ形成が容易となるので好ましい。この領域ではレーザー光による潜像箇所の現像速度が低下し、現像が中間層３止まりになり易いため、現像時のグルーブ形成が容易になる。
また高感度フォトレジスト領域８にピットパターンを露光するとピット形成が容易となるので好ましい。この領域では、高感度フォトレジスト材料の感度がそのまま確保されているので、レーザー露光部分の現像が第一のフォトレジスト層２まで達し易く、現像時のピット形成が容易になる。
【００１６】
また、ピットパターンとグルーブを露光するためのレーザー光強度を同水準にすると、露光機の機構や露光前の条件設定、露光中の露光機操作を簡潔にできるので好ましい。
本発明では第二のフォトレジスト層４に高感度及び低感度フォトレジスト領域８、９を設けているので、レーザー光強度がピットパターン露光部とグルーブ露光部で同じであっても、低感度フォトレジスト領域９では第１回目の現像が第一のフォトレジスト層２まで達しにくい。よって露光で使用するレーザー光軸は一本で済むため、露光機の機構を簡素化できる。また露光前のレーザー光強度調整等の条件設定は単軸分のみでよく、条件設定の時間を減らせるためコストダウンとなる。更に、露光中は、同じ光軸上に挿入するピットパターン露光用のＯｎ／Ｏｆｆ信号と、グルーブ露光用のウォブル信号の切り換え操作のみでよく、露光機動作も簡素化できる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、ピットパターン及びグルーブの形成を容易にするのみならず、露光装置の構成や露光実施前の条件決定、露光中の露光機操作をより簡潔にし、コストアップを抑制することができる光記録媒体用原盤の製造方法、光記録媒体用未露光原盤とその製造方法を提供できる。
【実施例】
【００１８】
以下、実施例及び比較例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明は、これらの実施例により限定されるものではない。 
【００１９】
実施例１、比較例１
直径２５０ｍｍの円形ガラス基盤を研磨、洗浄した後、ヘキサメチレンジシラザン（ＨＭＤＳ）によるトリメチルシリル化処理により研磨面を疎水化した。
このガラス基盤をスピナー装置のターンテーブルに設置し、ターンテーブルによりガラス基盤を回転させながら、スピナー装置のディスペンサにより、第一のフォトレジスト材料（東京応化社製ＴＳＭＲ−ＧＰ８０００ＰＬ原液を溶媒により希釈したもの）を滴下した。滴下終了後すぐにターンテーブルの回転数を上げて、盤上に残留する余分なフォトレジスト材料を外方へ飛散させた。
次に、この第一のフォトレジスト材料が塗布されたガラス基盤を、オーブンで１３５℃で３０分間プリベークし、膜厚が１３６０Åの第一のフォトレジスト層２を形成した。
次に、中間層３となるＩＺＯをスパッタ法で厚さ４０Å積層した。
次に、ターンテーブルによりガラス基盤を回転させながら、第二のフォトレジスト層４を形成するための高感度フォトレジスト材料（クラリアント製ＡＺ１５００原液を溶媒により希釈したもの）を滴下した。滴下終了後すぐにターンテーブルの回転数を上げて、盤上に残留する余分なフォトレジスト材料を外方へ飛散させた。
次に、図５に示すようにしてスピンコート法により、使用する露光機レーザー波長に対し、先の高感度フォトレジスト材料よりも感度の低い、低感度フォトレジスト材料（東京応化社製ＴＨＭＲ−ｉＰ３３００ＬＢ）を、半径４０ｍｍから外周側の領域へ塗布した。
比較例１のガラス基盤については、低感度フォトレジスト材料の塗布を行わず、高感度フォトレジスト材料をそのまま残した。
次に、これら実施例１及び比較例１のガラス基盤をオーブンで９０℃で３０分間プリベークし、第二のフォトレジスト層４の膜厚が１６００Å、全層の膜厚合計が３０００Åの光記録媒体用未露光原盤を作製した。
【００２０】
次に、実施例１及び比較例１の光記録媒体用未露光原盤に対し、第１現像工程を行った。即ち、図７に示すような露光装置を用いて、露光用ビーム５（レーザー光）によりトラックピッチ１．６μｍのＣＤフォーマットに従い露光すると共に〔図４（ａ）〕、露光の後、５０％希釈した現像液（東京応化社製ＯＦＰＲ現像液）による現像を行った〔図４（ｂ）〕。露光には波長λ＝４５３ｎｍ、強度３．９ｍＷのレーザー光を使用し、半径位置２２〜４０ｍｍの領域にピットパターンを、半径位置４０〜５９ｍｍの領域にグルーブをそれぞれ順に連続露光し潜像を実施した。この露光及び現像により、高感度フォトレジスト領域８では、露光部において第二のフォトレジスト層４を中間層３に達するまで除去すると共に、低感度フォトレジスト領域９では、露光部において第二のフォトレジスト層４を厚さ方向途中まで、つまり中間層３に達しない位置まで除去した。
次に、第１中間層除去工程を行った。即ち、０．１６％硝酸水溶液により、第１エリアにおいて露出した中間層３を除去（エッチング）し、原盤中間体を得た〔図４（ｃ）〕。
次に、第２現像工程を行った。即ち、原盤中間体に対して再度現像を行った〔図４（ｄ）〕。これにより、第１エリアでは、露出した第一のフォトレジスト層２を除去して深い凹部６（ピットに相当）を形成すると共に、第２エリアでは、第二のフォトレジスト層４を厚さ方向の途中から中間層３に達するまで除去した〔図４（ｄ）〕。
次に、第２中間層除去工程を行った。即ち、原盤中間体に対して再度硝酸水溶液を塗布し、第二エリアにおいて露出した中間層３を除去して浅い凹部７（グルーブに相当）を形成した〔図４（ｅ）〕。
以上のようにして、ピット及びグルーブのパターニングを行い〔図４（ｂ）〜（ｅ）〕、最後に１３０℃で３０分間ポストベークを行って、光記録媒体用原盤上にピット／グルーブ両領域を形成した。
【００２１】
これらの光記録媒体用原盤のピットパターン及びグルーブ露光領域をそれぞれＡＦＭ（原子間力顕微鏡）で観察したところ、ピットパターンについては実施例１、比較例１共に、現像・エッチング工程により第二のフォトレジスト層４、中間層３、第一のフォトレジスト層２が除去され、図８（ａ）に示すような形状のピットが潜像通りに形成されていた。
一方、グルーブについては、比較例１では、現像・エッチング工程により第二のフォトレジスト層４、中間層３と共に第一のフォトレジスト層２が除去され、図８（ａ）に示すようなピットと同じ深さのグルーブが形成されてしまったのに対し、実施例１では、現像・エッチング工程により潜像部分の第二のフォトレジスト層４、及び中間層３のみが除去され、図８（ｂ）に示すようなグルーブが形成できた。即ちピット及びグルーブ露光のレーザー強度が同じでも、低感度フォトレジスト領域９では、現像が第一のフォトレジスト層２へ達せず、所望の深さ及び幅でグルーブが形成できた。
【００２２】
実施例２、比較例２
実施例１と同様のプロセスにより、ガラス基盤上に、第一のフォトレジスト層２（ローム・アンド・ハース社製ＳＰＲ６８０９原液を溶媒により希釈したものから形成）、中間層３（Ｉｎ２Ｏ３で形成）、第二のフォトレジスト層４（東京応化社製ＴＨＭＲ−ｉＰ３３００ＬＢ原液を溶媒により希釈したものから形成）を順次積層した後、第二のフォトレジスト層４の半径位置３５ｍｍから外周側に、低感度フォトレジスト材料（富士フィルムアーチ社製Ｆｈｉ−６３５原液を溶媒により希釈したもの）からなる領域を形成して光記録媒体用未露光原盤を作製した。第一のフォトレジスト層２、中間層３及び第二のフォトレジスト層４の膜厚はそれぞれ１１５０Å、２０Å、３３０Åとし、膜厚の合計は１５００Åとした。
また比較例２として、低感度フォトレジスト材料を塗布しない光記録媒体用未露光原盤を用意した。
これら実施例２及び比較例２の光記録媒体用未露光原盤を、図７に示すような露光装置を用いて、レーザー光によりトラックピッチ０．７４μｍのＤＶＤフォーマットに従い、波長λ＝４１３ｎｍ、強度２．８ｍＷのレーザー光で半径位置２２ｍｍ〜３５ｍｍの領域にピットパターンを、半径位置３５〜５９ｍｍの領域にグルーブをそれぞれ順に露光し潜像を実施した。
その後、実施例１と同様の現像・エッチング工程を経て、最後に１１０℃で４５分間ポストベークを行い、光記録媒体用原盤上にピット／グルーブ両領域を作製した。
【００２３】
これらの光記録媒体用原盤のピットパターン及びグルーブ露光領域をそれぞれＡＦＭ（原子間力顕微鏡）で観察したところ、ピットパターンについては、実施例２、比較例２共に、実施例１と同様、現像・エッチング工程により第二のフォトレジスト層４、中間層３、第一のフォトレジスト層２が除去され、図８（ａ）に示すような形状のピットが潜像通りに形成されていた。
一方、グルーブについては、比較例２では、露光部分の第二のフォトレジスト層４、中間層３と共に第一のフォトレジスト層２まで現像され、図８（ａ）のピットパターンと同様の断面を持つグルーブが形成されてしまったのに対し、実施例２では、現像・エッチング工程により潜像部分の第二のフォトレジスト層４、及び中間層３のみが除去され、図８（ｂ）に示すような底打ちしたグルーブ形状となった。即ち実施例１と同様に、ピット及びグルーブ露光のレーザー強度が同じでも、低感度フォトレジスト領域９では、現像が第一のフォトレジスト層２へ達せず、所望の深さ及び幅でグルーブが形成された。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】従来の光記録媒体用未露光原盤の断面構成図。
【図２−１】従来のピット及びグルーブのパターニング手順を示す図。（ａ）潜像工程、（ｂ）第１現像工程、（ｃ）第１中間層除去工程。
【図２−２】従来のピット及びグルーブのパターニング手順を示す図。（ｄ）第２現像工程、（ｅ）第２中間層除去工程。
【図３】本発明の光記録媒体用未露光原盤の断面構成図。
【図４−１】本発明の場合の、ピット及びグルーブのパターニング手順を示す図。（ａ）潜像工程、（ｂ）第１現像工程、（ｃ）第１中間層除去工程。
【図４−２】本発明の場合の、ピット及びグルーブのパターニング手順を示す図。（ｄ）第２現像工程、（ｅ）第２中間層除去工程。
【図５】低感度フォトレジスト材料をスピンコートする状態を示す図。
【図６】高感度フォトレジスト材料と低感度フォトレジスト材料を順に塗布した後の状態を示す図。（ａ）平面図、（ｂ）断面図。
【図７】光記録媒体用未露光原盤用露光装置の概要を示す図。
【図８】実施例及び比較例におけるピット形状及びグルーブ形状を示す図。（ａ）ピット、（ｂ）グルーブ。
【符号の説明】
【００２５】
１  ガラス基盤
２  第一のフォトレジスト層
３  中間層
４  第二のフォトレジスト層
５  露光用ビーム
６  深い凹部
７  浅い凹部
８  高感度フォトレジスト領域（第１エリアに対応）
９  低感度フォトレジスト領域（第２エリアに対応）
１０  光記録媒体用未露光原盤
１１  ノズル
１２  マスク
【図１】
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【図２−１】
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【図２−２】
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【図３】
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【図４−１】
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【図４−２】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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