(57)【要約】【課題】基板上に主たるパターンと当該パターンの位置を規定する基準となる基準パターンとを適正な位置関係で描画することができる描画装置および描画方法を提供する。【解決手段】パターン描画装置１は、光学ヘッド３２の照射位置と各アライメント描画ヘッド４１，４２，４３，４４の照射位置とを共通のキャリブレーションカメラを使用して計測し、アライメント描画ヘッド４１，４２，４３，４４の位置を補正することにより、光学ヘッド３２とアライメント描画ヘッド４１，４２，４３，４４との相対的な位置関係を適正化させる。このため、パターン描画装置１は、光学ヘッド３２による規則性パターンとアライメント描画ヘッド４１，４２，４３，４４によるアライメントマークＡＭ１〜ＡＭ４とを、基板９上に適正な位置関係で記録することができる。【選択図】図１
2008233638.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成された感光材料にパターンを描画する描画装置であって、
基板を保持するステージと、
前記ステージ上に保持された基板の上面に光を照射することにより、所定のパターンを描画する第１光照射手段と、
前記ステージ上に保持された基板の上面に光を照射することにより、前記所定のパターンの位置を規定する基準となる基準パターンを描画する第２光照射手段と、
前記ステージと前記第１光照射手段および前記第２光照射手段とを相対移動させるステージ駆動部と、
前記第１光照射手段と前記第２光照射手段との相対位置のずれ量を検出するずれ量検出手段と、
前記ずれ量検出手段により検出されたずれ量に基づいて、前記第１光照射手段と前記第２光照射手段との相対位置を補正する補正手段と、
を備えることを特徴とする描画装置。
【請求項２】
請求項１に記載の描画装置であって、
前記第１光照射手段および前記第２光照射手段の照射光を撮影するキャリブレーションカメラを更に備え、
前記ずれ量検出手段は、前記キャリブレーションカメラの撮影画像に基づいて前記第１光照射手段と前記第２光照射手段との相対位置のずれ量を検出することを特徴とする描画装置。
【請求項３】
請求項２に記載の描画装置であって、
前記キャリブレーションカメラは、前記ステージに固定設置され、
前記ステージ駆動部は、前記ステージと前記第１光照射手段および前記第２光照射手段とを相対移動させることにより、前記第１光照射手段の照射位置と前記第２光照射手段の照射位置との間で前記キャリブレーションカメラを移動させることを特徴とする描画装置。
【請求項４】
請求項３に記載の描画装置であって、
前記ステージの姿勢を検出する姿勢検出手段を更に備え、
前記ステージ駆動部は、前記姿勢検出手段により検出された情報に基づいて前記ステージの姿勢を補正しつつ、前記ステージを移動させることを特徴とする描画装置。
【請求項５】
請求項３または請求項４に記載の描画装置であって、
前記キャリブレーションカメラは、前記ステージ上に形成されたキャリブレーションマークを介して前記第１光照射手段および前記第２光照射手段を撮影し、
前記ずれ量検出手段は、前記キャリブレーションマークに対する前記第１光照射手段および前記第２光照射手段のずれ量に基づいて前記第１光照射手段と前記第２光照射手段との相対位置のずれ量を検出することを特徴とする描画装置。
【請求項６】
請求項１から請求項５までのいずれかに記載の描画装置であって、
前記第１光照射手段の照射光の位置を所定位置に位置決めする位置決め手段を更に備えることを特徴とする描画装置。
【請求項７】
請求項６に記載の描画装置であって、
前記位置決め手段は、
前記第１光照射手段の照射光を下方から撮像する第１光照射手段用カメラと、
前記第１光照射手段用カメラにより取得された画像に基づいて前記第１光照射手段を調整する調整手段と、
を有することを特徴とする描画装置。
【請求項８】
請求項１から請求項７までのいずれかに記載の描画装置であって、
前記第２光照射手段は複数の描画ヘッドを有し、
前記補正手段は、前記複数の描画ヘッドのそれぞれの位置を補正することを特徴とする描画装置。
【請求項９】
請求項１から請求項８までのいずれかに記載の描画装置であって、
前記第２光照射手段は、前記基準パターンとして、基板のアライメントに使用されるアライメントマークを描画することを特徴とする描画装置。
【請求項１０】
基板上に形成された感光材料に光を照射することにより、基板の表面に所定のパターンと前記所定のパターンの位置を規定する基準となる基準パターンとを描画する描画方法であって、
前記所定のパターンの描画位置と前記基準パターンの描画位置との相対位置のずれ量を検出する第１工程と、
前記ずれ量に基づいて、前記所定のパターンの描画位置と前記基準パターンの描画位置との相対位置を補正する第２工程と、
を備えることを特徴とする描画方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に具備されるカラーフィルタ用基板、液晶表示装置やプラズマ表示装置などのフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）用ガラス基板、半導体基板、プリント基板等の基板上に形成された感光材料に所定のパターンを描画する描画装置および描画方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、基板の製造工程においては、基板の表面に形成された感光材料に光を照射することにより、基板の表面に所定のパターンを描画するパターン描画装置が使用されている。従来のパターン描画装置は、基板を水平姿勢で保持しつつ移動させるステージと、基板の上面に所定パターンの光を照射する光学ヘッドとを備えており、基板を移動させつつ光学ヘッドから光を照射することにより、基板の上面に所定のパターンを描画する構成となっている。
【０００３】
従来のパターン描画装置の構成は、例えば特許文献１に開示されている。
【０００４】
【特許文献１】特開２０００−３２９５２３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、従来のパターン描画装置は、基板上に主たるパターン（フラットパネルディスプレイ用の規則性パターンなど）のみを描画するものであり、これらの主たるパターンの位置を規定する基準となる基準パターン（アライメントマークなど）に合わせて描画を行うものであったため、基準パターン自身を描画する機能は搭載されていなかった。このため、予め他の装置において基板上に基準パターンを描画した上でパターン描画装置に基板をセットし、パターン描画装置は、基板上の基準パターンに対して所定の位置に主たるパターンを描画していた。
【０００６】
このように、従来では、パターン描画装置とは別個に基準パターンを描画するための装置が必要であった。また、パターン描画装置には、基準パターンを検出して基板の姿勢を精密に調整するアライメント機構が必要であった。一方、パターン描画装置において上記のような基準パターンを描画しようとすると、基準パターンを描画するための描画ヘッドと主たるパターンを描画するための描画ヘッドとを適正な位置関係に維持することが技術的に困難であった。
【０００７】
本願発明は、このような事情に鑑みなされたものであり、基板上に主たるパターンと当該パターンの位置を規定する基準となる基準パターンとを適正な位置関係で描画することができる描画装置および描画方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するため、請求項１に係る発明は、基板上に形成された感光材料にパターンを描画する描画装置であって、基板を保持するステージと、前記ステージ上に保持された基板の上面に光を照射することにより、所定のパターンを描画する第１光照射手段と、前記ステージ上に保持された基板の上面に光を照射することにより、前記所定のパターンの位置を規定する基準となる基準パターンを描画する第２光照射手段と、前記ステージと前記第１光照射手段および前記第２光照射手段とを相対移動させるステージ駆動部と、前記第１光照射手段と前記第２光照射手段との相対位置のずれ量を検出するずれ量検出手段と、前記ずれ量検出手段により検出されたずれ量に基づいて、前記第１光照射手段と前記第２光照射手段との相対位置を補正する補正手段と、を備えることを特徴とする。
【０００９】
請求項２に係る発明は、請求項１に記載の描画装置であって、前記第１光照射手段および前記第２光照射手段の照射光を撮影するキャリブレーションカメラを更に備え、前記ずれ量検出手段は、前記キャリブレーションカメラの撮影画像に基づいて前記第１光照射手段と前記第２光照射手段との相対位置のずれ量を検出することを特徴とする。
【００１０】
請求項３に係る発明は、請求項２に記載の描画装置であって、前記キャリブレーションカメラは、前記ステージに固定設置され、前記ステージ駆動部は、前記ステージと前記第１光照射手段および前記第２光照射手段とを相対移動させることにより、前記第１光照射手段の照射位置と前記第２光照射手段の照射位置との間で前記キャリブレーションカメラを移動させることを特徴とする。
【００１１】
請求項４に係る発明は、請求項３に記載の描画装置であって、前記ステージの姿勢を検出する姿勢検出手段を更に備え、前記ステージ駆動部は、前記姿勢検出手段により検出された情報に基づいて前記ステージの姿勢を補正しつつ、前記ステージを移動させることを特徴とする。
【００１２】
請求項５に係る発明は、請求項３または請求項４に記載の描画装置であって、前記キャリブレーションカメラは、前記ステージ上に形成されたキャリブレーションマークを介して前記第１光照射手段および前記第２光照射手段を撮影し、前記ずれ量検出手段は、前記キャリブレーションマークに対する前記第１光照射手段および前記第２光照射手段のずれ量に基づいて前記第１光照射手段と前記第２光照射手段との相対位置のずれ量を検出することを特徴とする。
【００１３】
請求項６に係る発明は、請求項１から請求項５までのいずれかに記載の描画装置であって、前記第１光照射手段の照射光の位置を所定位置に位置決めする位置決め手段を更に備えることを特徴とする。
【００１４】
請求項７に係る発明は、請求項６に記載の描画装置であって、前記位置決め手段は、前記第１光照射手段の照射光を下方から撮像する第１光照射手段用カメラと、前記第１光照射手段用カメラにより取得された画像に基づいて前記第１光照射手段を調整する調整手段と、を有することを特徴とする。
【００１５】
請求項８に係る発明は、請求項１から請求項７までのいずれかに記載の描画装置であって、前記第２光照射手段は複数の描画ヘッドを有し、前記補正手段は、前記複数の描画ヘッドのそれぞれの位置を補正することを特徴とする。
【００１６】
請求項９に係る発明は、請求項１から請求項８までのいずれかに記載の描画装置であって、前記第２光照射手段は、前記基準パターンとして、基板のアライメントに使用されるアライメントマークを描画することを特徴とする。
【００１７】
請求項１０に係る発明は、基板上に形成された感光材料に光を照射することにより、基板の表面に所定のパターンと前記所定のパターンの位置を規定する基準となる基準パターンとを描画する描画方法であって、前記所定のパターンの描画位置と前記基準パターンの描画位置との相対位置のずれ量を検出する第１工程と、前記ずれ量に基づいて、前記所定のパターンの描画位置と前記基準パターンの描画位置との相対位置を補正する第２工程と、を備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１８】
請求項１〜９に記載の発明によれば、描画装置は、第１光照射手段と第２光照射手段との相対位置のずれ量を検出するずれ量検出手段と、ずれ量検出手段により検出されたずれ量に基づいて、第１光照射手段と第２光照射手段との相対位置を補正する補正手段とを備える。このため、所定のパターンと当該パターンの位置を規定する基準となる基準パターンとを適正な位置関係で基板上に描画することができる。
【００１９】
特に、請求項２に記載の発明によれば、描画装置は、第１光照射手段および第２光照射手段の照射光を撮影するキャリブレーションカメラを更に備え、ずれ量検出手段は、キャリブレーションカメラの撮影画像に基づいて第１光照射手段と第２光照射手段との相対位置のずれ量を検出する。このため、共通のキャリブレーションカメラを使用して第１光照射手段と第２光照射手段との相対位置のずれ量を正確に検出することができる。
【００２０】
特に、請求項３に記載の発明によれば、キャリブレーションカメラはステージに固定設置され、ステージ駆動部は、ステージと第１光照射手段および第２光照射手段とを相対移動させることにより、第１光照射手段の照射位置と第２光照射手段の照射位置との間でキャリブレーションカメラを移動させる。このため、描画装置は、キャリブレーションカメラに固有の駆動機構を設けることなく、第１光照射手段の照射位置と第２光照射手段の照射位置との間でキャリブレーションカメラを移動させることができる。
【００２１】
特に、請求項４に記載の発明によれば、描画装置は、ステージの姿勢を検出する姿勢検出手段を更に備え、ステージ駆動部は、姿勢検出手段により検出された情報に基づいてステージの姿勢を補正しつつ、ステージを移動させる。このため、描画装置は、ステージおよびステージに固定設置されたキャリブレーションカメラを正確に移動させることができる。
【００２２】
特に、請求項５に記載の発明によれば、キャリブレーションカメラは、ステージ上に形成されたキャリブレーションマークを介して第１光照射手段および第２光照射手段を撮影し、ずれ量検出手段は、キャリブレーションマークに対する第１光照射手段および第２光照射手段のずれ量に基づいて第１光照射手段と第２光照射手段との相対位置のずれ量を検出する。このため、第１光照射手段と第２光照射手段との相対位置のずれ量を、キャリブレーションマークを基準として容易に検出することができる。
【００２３】
特に、請求項６に記載の発明によれば、描画装置は、第１光照射手段の照射光の位置を所定位置に位置決めする位置決め手段を更に備える。このため、第１光照射手段の照射光の位置を適正に位置決めした上で、第１光照射手段と第２光照射手段との間の相対位置のずれ量を検出および補正することができる。
【００２４】
特に、請求項７に記載の発明によれば、位置決め手段は、第１光照射手段の照射光を下方から撮像する第１光照射手段用カメラと、第１光照射手段用カメラにより取得された画像に基づいて第１光照射手段を調整する調整手段と、を有する。このため、照射光の実測データに基づいて、第１光照射手段の照射光の位置を正確に位置決めすることができる。
【００２５】
特に、請求項８に記載の発明によれば、補正手段は、第２光照射手段の複数の描画ヘッドのそれぞれの位置を補正する。このため、第２光照射手段の複数の描画ヘッドの位置をそれぞれ適正に補正することができる。
【００２６】
特に、請求項９に記載の発明によれば、第２光照射手段は、基準パターンとして、基板のアライメントに使用されるアライメントマークを描画する。このため、後の製造工程において基板のアライメントを正確に行うことができる。
【００２７】
また、請求項１０に記載の発明によれば、描画方法は、所定のパターンの描画位置と基準パターンの描画位置との相対位置のずれ量を検出する第１工程と、検出されたずれ量に基づいて、所定のパターンの描画位置と基準パターンの描画位置との相対位置を補正する第２工程と、を備える。このため、所定のパターンと当該パターンの位置を規定する基準となる基準パターンとを適正な位置関係で基板上に描画することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下、本発明の好適な実施形態について、図面を参照しつつ説明する。なお、以下の説明において参照される各図には、各部材の位置関係や動作方向を明確化するために、共通のＸＹＺ直交座標系が付されている。
【００２９】
＜１．パターン描画装置の構成＞
図１および図２は、本発明の一実施形態に係るパターン描画装置１の構成を示した側面図および上面図である。パターン描画装置１は、液晶表示装置のカラーフィルタを製造する工程において、カラーフィルタ用のガラス基板（以下、単に「基板」という。）９の上面に所定のパターンを描画するための装置である。図１および図２に示したように、パターン描画装置１は、基板９を保持するためのステージ１０と、ステージ１０に連結された駆動部２０と、カラーフィルタ用の規則性パターンを描画するための主ヘッド部３０と、規則性パターンの位置の基準とされるアライメントマークを描画するためのアライメント描画ヘッド４１〜４４とを備えている。
【００３０】
ステージ１０は、平板状の外形を有し、その上面に基板９を水平姿勢に載置して保持するための保持部である。ステージ１０の上面には複数の吸引孔（図示省略）が形成されている。このため、ステージ１０上に基板９を載置したときには、吸引孔の吸引圧により基板９はステージ１０の上面に固定保持される。
【００３１】
ステージ１０の−Ｙ側の２つの角部付近（基板保持エリアの外側）には、それぞれステージ１０を上下に貫通する貫通孔１１，１２が形成されている。図３は、ステージ１０の角部付近に形成された貫通孔１１，１２の拡大上面図である。また、図４は、ステージ１０を図３のＩＶ−ＩＶ線で切断した縦断面図である。図３および図４に示したように、貫通孔１１，１２の上部には、それぞれ透光板１１ａ，１２ａが取り付けられている。透光板１１ａ，１２ａには、それぞれ後述するキャリブレーション処理において位置計測の基準とされるキャリブレーションマークＣＭ１，ＣＭ２が付されている。キャリブレーションマークＣＭ１，ＣＭ２は、遮光材料により透光板１１ａ，１２ａの表面に形成されている。
【００３２】
また、貫通孔１１，１２内部には、それぞれキャリブレーションカメラ１１ｂ，１２ｂが設置されている。キャリブレーションカメラ１１ｂ，１２ｂは、貫通孔１１，１２内に上方を向けて設置されており、それぞれの視野中心に（あるいは、少なくとも視野内に）キャリブレーションマークＣＭ１，ＣＭ２の中心が位置するように調整されている。ステージ１０が移動したときにも、キャリブレーションカメラ１１ｂ，１２ｂとキャリブレーションマークＣＭ１，ＣＭ２との位置関係は一定となっており、変化することはない。
【００３３】
図１および図２に戻り、駆動部２０は、ステージ１０を主走査方向（Ｙ軸方向）、副走査方向（Ｘ軸方向）、および回転方向（Ｚ軸周りの回転方向）に移動させるための機構である。駆動部２０は、ステージ１０を回転させる回転機構２１と、ステージ１０を回転可能に支持する支持プレート２２と、支持プレート２２を副走査方向に移動させる副走査機構２３と、副走査機構２３を介して支持プレート２２を支持するベースプレート２４と、ベースプレート２４を主走査方向に移動させる主走査機構２５と、を有している。
【００３４】
回転機構２１は、ステージ１０の−Ｙ側の端部に取り付けられた移動子と、支持プレート２２の上面に敷設された固定子とにより構成されたリニアモータ２１ａを有している。また、ステージ１０の中央部下面側と支持プレート２２との間には回転軸２１ｂが設けられている。このため、リニアモータ２１ａを動作させると、固定子に沿って移動子がＸ軸方向に移動し、支持プレート２２上の回転軸２１ｂを中心としてステージ１０が所定角度の範囲内で回転する。
【００３５】
副走査機構２３は、支持プレート２２の下面に取り付けられた移動子とベースプレート２４の上面に敷設された固定子とにより構成されたリニアモータ２３ａを有している。また、支持プレート２２とベースプレート２４との間には、副走査方向にのびる一対のガイド部２３ｂが設けられている。このため、リニアモータ２３ａを動作させると、ベースプレート２４上のガイド部２３ｂに沿って支持プレート２２が副走査方向に移動する。
【００３６】
主走査機構２５は、ベースプレート２４の下面に取り付けられた移動子と本装置１の基台６０上に敷設された固定子とにより構成されたリニアモータ２５ａを有している。また、ベースプレート２４と基台６０との間には、主走査方向にのびる一対のガイド部２５ｂが設けられている。このため、リニアモータ２５ａを動作させると、基台６０上のガイド部２５ｂに沿ってベースプレート２４が主走査方向に移動する。
【００３７】
図２に示したように、ステージ１０の−Ｙ側には、ステージ１０の姿勢を検出するための姿勢検出部２６が設けられている。姿勢検出部２６はレーザ測長器２６ａを備えており、複数の測長用レーザ光Ｌをステージ１０の−Ｙ側の側面に照射することにより、レーザ測長器２６ａとステージ１０との距離をレーザ光Ｌごとに測定する。そして、姿勢検出部２６は、測定により取得された複数の距離に基づいて、ステージ１０の姿勢（傾き）を検出する。後述する制御部５０（図８参照）は、姿勢検出部２６から取得された情報に基づいて上記の回転機構２１、副走査機構２３、および主走査機構２５を動作させ、ステージ１０の姿勢を補正しつつステージ１０を移動させる。
【００３８】
図５は、このようなステージ１０の姿勢制御の例を示した図である。ステージ１０を主走査方向に移動させたい場合、仮に補正を行わずに主走査機構２５のみを動作させると、主走査機構２５の機械的誤差によってステージ１０は厳密な主走査方向からずれて移動してしまう（図５の鎖線の状態）。本実施形態の駆動部２０は、上記の姿勢検出部２６によってこのようなステージ１０のずれを検出し、検出された情報に基づいて回転機構２１および副走査機構２３を動作させ、ステージ１０の姿勢を補正しつつステージ１０を正確に主走査方向に移動させる（図５の実線の状態）。
【００３９】
図１および図２に戻り、主ヘッド部３０は、ステージ１０上に保持された基板９に向けてパルス光を照射することにより、基板９の上面にカラーフィルタ用の規則性パターンを描画するための機構である。すなわち、主ヘッド部３０は、図６に示したような基板９上の主描画エリア９ａに、製品の仕様として記録されるべき規則性パターンを描画する。主ヘッド部３０は、ステージ１０および駆動部２０を跨ぐようにして基台６０上に架設されたフレーム３１と、フレーム３１上に副走査方向に沿って等間隔に取り付けられた複数の光学ヘッド３２とを有している。各光学ヘッド３２には、照明光学系３３を介して１つのレーザ発振器３４が接続されている。また、レーザ発振器３４にはレーザ駆動部３５が接続されている。このため、レーザ駆動部３５を動作させると、レーザ発振器３４からパルス光が発振され、発振されたパルス光は照明光学系３３を介して各光学ヘッド３２内に導入される。
【００４０】
各光学ヘッド３２の内部には、照明光学系３３から導入されたパルス光を下方へ向けて出射するための出射部３６と、パルス光を部分的に遮光して所定パターンの光束を形成するためのアパーチャユニット３７と、当該光束を基板９の上面に照射するための投影光学系３８とが設けられている。出射部３６から出射されたパルス光は、アパーチャユニット３７を通過する際に部分的に遮光され、所定パターンの光束として投影光学系３８へ入射する。そして、投影光学系３８を通過したパルス光が基板９の上面に照射されることにより、基板９の上面に塗布された感光材料（カラーレジスト）に規則性パターンが描画される。
【００４１】
複数の光学ヘッド３２は、副走査方向に沿って等間隔に（例えば２００ｍｍ間隔で）配列されている。ステージ１０を主走査方向に移動させつつ、各光学ヘッド３２からパルス光を照射すると、基板９の上面には、所定の露光幅（例えば５０ｍｍ幅）で複数本のパターンが主走査方向に描画される。パターン描画装置１は、１回の主走査方向への描画が終了すると、ステージ１０を副走査方向に露光幅分だけ移動させ、ステージ１０を再び主走査方向に移動させつつ、各光学ヘッド３２からパルス光を照射する。このように、パターン描画装置１は、光学ヘッド３２の露光幅分ずつ基板９を副走査方向にずらしながら、主走査方向へのパターンの描画を所定回数（例えば４回）繰り返すことにより、基板９上の全面にカラーフィルタ用の規則性パターンを形成する。
【００４２】
このパターン描画装置１は、各光学ヘッド３２から照射されるパルス光を撮像するための光学ヘッド用カメラ２７を有している。光学ヘッド用カメラ２７は、ベースプレート２４の＋Ｙ側の端部にブラケット２９を介して取り付けられたガイドレール２８に沿って副走査方向に移動可能となっている。光学ヘッド用カメラ２７を使用するときには、光学ヘッド用カメラ２７が主ヘッド部３０の下方に位置するようにベースプレート２４を位置決めする（図１および図２の状態）。そして、ガイドレール２８に沿って光学ヘッド用カメラ２７を副走査方向に移動させつつ、各光学ヘッド３２から照射されるパルス光を撮像する。なお、ガイドレール２８上で光学ヘッド用カメラ２７を移動させるための駆動機構としては、例えばリニアモータが使用される。
【００４３】
図７は、複数の光学ヘッド３２を下方から（光学ヘッド用カメラ２７側から）見た図である。光学ヘッド用カメラ２７は、各光学ヘッド３２から照射されるパルス光ＰＬを撮像し、光学ヘッド３２内におけるパルス光ＰＬのライン幅、各光学ヘッド３２のピッチ、隣り合う光学ヘッド３２間の距離、各光学ヘッド３２の主走査方向の位置、各パルス光ＰＬの光量等の情報を取得する。そして、取得された情報を後述する制御部５０（図８参照）へ送信する。光学ヘッド用カメラ２７は、例えば、ＣＣＤカメラにより構成することができるが、ＣＣＤカメラと光量センサとを併用した構成であってもよい。
【００４４】
図７に概念的に示したように、各光学ヘッド３２には、各光学ヘッド３２から照射されるパルス光ＰＬの位置を個別に調整するアクチュエータ３９が接続されている。アクチュエータ３９は、例えば、光学ヘッド３２内のアパーチャユニット３７の位置をリニアモータを用いて調整する機構として実現することができる。また、アクチュエータ３９は、アパーチャユニット３７内に上下にセットされた２枚のアパーチャ板を互いにスライド移動させて透光領域の幅を調節することにより、パルス光ＰＬのライン幅を調節することができる。後述する制御部５０（図８参照）は、光学ヘッド用カメラ２７から取得された情報に基づいて各アクチュエータ３９を動作させ、各光学ヘッド３２から照射されるパルス光ＰＬの位置やライン幅を補正する。また、制御部５０は、光学ヘッド用カメラ２７から取得された情報に基づいて投影光学系３８および照明光学系３３を調整し、各光学ヘッド３２から照射されるパルス光ＰＬのピッチおよび光量をそれぞれ補正する。
【００４５】
図１および図２に戻り、アライメント描画ヘッド４１〜４４は、ステージ１０上に保持された基板９に向けてパルス光を照射することにより、基板９の上面にアライメントマークを描画するための機構である。すなわち、アライメント描画ヘッド４１〜４４は、図６に示したような基板９上の主描画エリア９ａの外側において、規則性パターンの位置を規定するための基準となるアライメントパマークＡＭ１〜ＡＭ４を描画する。
【００４６】
各アライメント描画ヘッド４１，４２，４３，４４は、ステージ１０上に基板９が保持された状態において、基板９上のアライメントマークＡＭ１，ＡＭ２，ＡＭ３，ＡＭ４を描画すべき位置のそれぞれのほぼ上方に配置されている。図１に示したように、アライメント描画ヘッド４１，４２，４３，４４は、それぞれ光ファイバ４１ａ，４２ａ，４３ａ，４４ａを介して光源である水銀ランプ４１ｂ，４２ｂ，４３ｂ，４４ｂに接続されている。このため、水銀ランプ４１ｂ，４２ｂ，４３ｂ，４４ｂを点灯させると、各水銀ランプから出射されたパルス光がそれぞれ光ファイバ４１ａ，４２ａ，４３ａ，４４ａを通ってアライメント描画ヘッド４１，４２，４３，４４内に導入される。
【００４７】
また、アライメント描画ヘッド４１，４２，４３，４４の内部には、それぞれ光ファイバ４１ａ，４２ａ，４３ａ，４４ａから導入されたパルス光を部分的に遮光してアライメントマークＡＭ１，ＡＭ２，ＡＭ３，ＡＭ４に応じた光束を形成するためのガラス板４１ｃ，４２ｃ，４３ｃ，４４ｃと、当該光束を基板９の上面に照射するための投影光学系４１ｄ，４２ｄ，４３ｄ，４４ｄとが設けられている。各アライメント描画ヘッド４１，４２，４３，４４内に導入されたパルス光は、ガラス板４１ｃ，４２ｃ，４３ｃ，４４ｃを通過する際に部分的に遮光され、投影光学系４１ｄ，４２ｄ，４３ｄ，４４ｄを介して基板９の上面に照射されることにより、基板９の上面に塗布された感光材料にアライメントマークＡＭ１，ＡＭ２，ＡＭ３，ＡＭ４を描画する。
【００４８】
図２に概念的に示したように、アライメント描画ヘッド４１，４２，４３，４４には、それぞれ駆動機構４１ｅ，４２ｅ，４３ｅ，４４ｅが接続されている。駆動機構４１ｅ，４２ｅ，４３ｅ，４４ｅは、例えば、主走査方向および副走査方向に敷設された駆動軸と駆動モータとを組み合わせた構成により実現され、各アライメント描画ヘッド４１，４２，４３，４４を主走査方向および副走査方向に所定の範囲内で移動させることができる。
【００４９】
また、このパターン描画装置１は、上記の構成に加えて制御部５０を備えている。図８は、パターン描画装置１の上記各部と制御部５０との間の接続構成を示したブロック図である。図８に示したように、制御部５０は、上記のキャリブレーションカメラ１１ｂ，１２ｂ、リニアモータ２１ａ，２３ａ，２５ａ、姿勢検出部２６、光学ヘッド用カメラ２７、照明光学系３３、レーザ駆動部３５、投影光学系３８、アクチュエータ３９、水銀ランプ４１ｂ〜４４ｂ、投影光学系４１ｄ〜４４ｄ、および駆動機構４１ｅ〜４４ｅと電気的に接続されており、これらの動作を制御する。制御部５０は、例えば、ＣＰＵやメモリを有するコンピュータによって構成され、コンピュータにインストールされたプログラムに従ってコンピュータが動作することにより、上記各部の制御を行う。
【００５０】
＜２．キャリブレーション処理＞
続いて、上記構成を有するパターン描画装置１において、光学ヘッド３２とアライメント描画ヘッド４１〜４４との相対位置を調整する処理（キャリブレーション処理）について説明する。キャリブレーション処理は、描画データの変更や経時変化によって、光学ヘッド３２またはアライメント描画ヘッド４１〜４４の描画位置が変化したときに、描画処理に先立って実行される。
【００５１】
図９〜図１１は、パターン描画装置１におけるキャリブレーション処理の流れを示したフローチャートである。また、図１２〜図１８は、キャリブレーション処理の各段階におけるパターン描画装置１の状態を示した図である。パターン描画装置１においてキャリブレーション処理を行うときには、まず、次回の描画処理に使用される描画データに基づいて各光学ヘッド３２のアクチュエータ３９を動作させ、各光学ヘッド３２のパルス光ＰＬの照射位置を、ほぼ所定の位置に位置決めする（ステップＳ１１）。
【００５２】
次に、パターン描画装置１は、主走査機構２５を動作させ、光学ヘッド用カメラ２７が主ヘッド部３０の下方に配置されるように、ベースプレート２４を移動させる。そして、ガイドレール２８に沿って光学ヘッド用カメラ２７を副走査方向に移動させながら、各光学ヘッド３２から照射されるパルス光ＰＬを撮像し、光学ヘッド３２内におけるパルス光ＰＬのライン幅、各光学ヘッド３２のピッチ、隣り合う光学ヘッド３２間の距離、各光学ヘッド３２の主走査方向の位置、各パルス光ＰＬの光量等の情報を取得する（ステップＳ１２，図１２の状態）。
【００５３】
パターン描画装置１は、光学ヘッド用カメラ２７から取得された情報に基づいて各アクチュエータ３９を動作させ、各光学ヘッド３２から照射されるパルス光ＰＬの位置やライン幅を補正する。また、パターン描画装置１は、光学ヘッド用カメラ２７から取得された情報に基づいて投影光学系３８および照明光学系３３を調整し、各光学ヘッド３２から照射されるパルス光ＰＬのピッチおよび光量をそれぞれ補正する（ステップＳ１３）。以上のステップＳ１１〜Ｓ１３により、主ヘッド部３０の各光学ヘッド３２から照射されるパルス光ＰＬの位置、ライン幅、および光量は適正な状態となり、主ヘッド部３０自体の調整が完了する。
【００５４】
続いて、パターン描画装置１は、駆動部２０を動作させ、最も＋Ｘ側に配置された光学ヘッド３２のほぼ直下に透光板１１ａが配置されるように、ステージ１０を移動させる（ステップＳ１４，図１３の状態）。そして、光学ヘッド３２からパルス光ＰＬを照射するとともに、透光板１１ａの下方に配置されたキャリブレーションカメラ１１ｂからキャリブレーションマークＣＭ１およびパルス光ＰＬの投影像を撮影する（ステップＳ１５）。
【００５５】
図１９は、ステップＳ１５におけるキャリブレーションカメラ１１ｂの撮影画像の例を示した図である。キャリブレーションカメラ１１ｂは、Ｘ軸方向およびＹ軸方向のそれぞれについて、撮影画像中のパルス光ＰＬがキャリブレーションマークＣＭ１の中心に対してどれだけずれているかをを計測し、キャリブレーションマークＣＭ１に対するパルス光ＰＬの位置ずれ量（ΔＸ１ａ，ΔＹ１ａ）を取得する。取得された情報は、キャリブレーションカメラ１１ｂから制御部５０へ送信され、後述するステップＳ２７の演算に使用される。
【００５６】
続いて、パターン描画装置１は、駆動部２０を動作させ、最も−Ｘ側に配置された光学ヘッド３２のほぼ直下に透光板１２ａが配置されるように、ステージ１０を移動させる（ステップＳ１６，図１４の状態）。そして、光学ヘッド３２からパルス光ＰＬを照射するとともに、透光板１２ａの下方に配置されたキャリブレーションカメラ１２ｂからキャリブレーションマークＣＭ２およびパルス光ＰＬの投影像を撮影する（ステップＳ１７）。ステップＳ１７では、図１９の例と同じように、Ｘ軸方向およびＹ軸方向のそれぞれについてキャリブレーションマークＣＭ２に対するパルス光ＰＬの位置ずれ量（ΔＸ１ｂ，ΔＹ１ｂ）が取得され、取得された情報がキャリブレーションカメラ１２ｂから制御部５０へ送信される。
【００５７】
続いて、パターン描画装置１は、次回の描画処理に使用される描画データに基づいて駆動機構４１ｅ，４２ｅ，４３ｅ，４４ｅを動作させ、各アライメント描画ヘッド４１，４２，４３，４４をほぼ所定位置に位置決めする（ステップＳ１８）。そして、パターン描画装置１は、駆動部２０を動作させ、アライメント描画ヘッド４１のほぼ直下に透光板１１ａが配置されるように、ステージ１０を移動させる（ステップＳ１９，図１５の状態）。そして、アライメント描画ヘッド４１からパルス光を照射するとともに、透光板１１ａの下方に配置されたキャリブレーションカメラ１１ｂからキャリブレーションマークＣＭ１およびパルス光の投影像を撮影する（ステップＳ２０）。
【００５８】
図２０は、ステップＳ２０におけるキャリブレーションカメラ１１ｂの撮影画像の例を示した図である。キャリブレーションカメラ１１ｂは、Ｘ軸方向およびＹ軸方向のそれぞれについて、撮影画像中のパルス光がキャリブレーションマークＣＭ１の中心に対してどれだけずれているかをを計測し、キャリブレーションマークＣＭ１に対するパルス光の位置ずれ量（ΔＸ２ａ，ΔＹ２ａ）を取得する。取得された情報は、キャリブレーションカメラ１１ｂから制御部５０へ送信され、後述するステップＳ２７の演算に使用される。
【００５９】
続いて、パターン描画装置１は、駆動部２０を動作させ、アライメント描画ヘッド４２のほぼ直下に透光板１１ａが配置されるように、ステージ１０を移動させる（ステップＳ２１，図１６の状態）。そして、アライメント描画ヘッド４２からパルス光を照射するとともに、透光板１１ａの下方に配置されたキャリブレーションカメラ１１ｂからキャリブレーションマークＣＭ１およびパルス光の投影像を撮影する（ステップＳ２２）。ステップＳ２２では、図２０の例と同じように、Ｘ軸方向およびＹ軸方向のそれぞれについてキャリブレーションマークＣＭ１に対するパルス光の位置ずれ量（ΔＸ２ｂ，ΔＹ２ｂ）が取得され、取得された情報がキャリブレーションカメラ１１ｂから制御部５０へ送信される。
【００６０】
続いて、パターン描画装置１は、駆動部２０を動作させ、アライメント描画ヘッド４３のほぼ直下に透光板１２ａが配置されるように、ステージ１０を移動させる（ステップＳ２３，図１７の状態）。そして、アライメント描画ヘッド４３からパルス光を照射するとともに、透光板１２ａの下方に配置されたキャリブレーションカメラ１２ｂからキャリブレーションマークＣＭ２およびパルス光の投影像を撮影する（ステップＳ２４）。ステップＳ２４では、図２０の例と同じように、Ｘ軸方向およびＹ軸方向のそれぞれについてキャリブレーションマークＣＭ２に対するパルス光の位置ずれ量（ΔＸ２ｃ，ΔＹ２ｃ）が取得され、取得された情報がキャリブレーションカメラ１２ｂから制御部５０へ送信される。
【００６１】
更に、パターン描画装置１は、駆動部２０を動作させ、アライメント描画ヘッド４４のほぼ直下に透光板１２ａが配置されるように、ステージ１０を移動させる（ステップＳ２５，図１８の状態）。そして、アライメント描画ヘッド４４からパルス光を照射するとともに、透光板１２ａの下方に配置されたキャリブレーションカメラ１２ｂからキャリブレーションマークＣＭ２およびパルス光の投影像を撮影する（ステップＳ２６）。ステップＳ２６では、図２０の例と同じように、Ｘ軸方向およびＹ軸方向のそれぞれについてキャリブレーションマークＣＭ２に対するパルス光の位置ずれ量（ΔＸ２ｄ，ΔＹ２ｄ）が取得され、取得された情報がキャリブレーションカメラ１２ｂから制御部５０へ送信される。
【００６２】
すなわち、上記のステップＳ１４〜Ｓ２６において、パターン描画装置１は以下の情報（１）〜（６）を取得し、これらの情報を制御部５０に保存する。
【００６３】
（１）最も＋Ｘ側に配置された光学ヘッド３２から照射されるパルス光ＰＬのキャリブレーションマークＣＭ１に対する位置ずれ量（ΔＸ１ａ，ΔＹ１ａ）
（２）最も−Ｘ側に配置された光学ヘッド３２から照射されるパルス光ＰＬのキャリブレーションマークＣＭ２に対する位置ずれ量（ΔＸ１ｂ，ΔＹ１ｂ）
（３）アライメント描画ヘッド４１から照射されるパルス光のキャリブレーションマークＣＭ１に対する位置ずれ量（ΔＸ２ａ，ΔＹ２ａ）
（４）アライメント描画ヘッド４２から照射されるパルス光のキャリブレーションマークＣＭ１に対する位置ずれ量（ΔＸ２ｂ，ΔＹ２ｂ）
（５）アライメント描画ヘッド４３から照射されるパルス光のキャリブレーションマークＣＭ２に対する位置ずれ量（ΔＸ２ｃ，ΔＹ２ｃ）
（６）アライメント描画ヘッド４４から照射されるパルス光のキャリブレーションマークＣＭ２に対する位置ずれ量（ΔＸ２ｄ，ΔＹ２ｄ）
【００６４】
その後、制御部５０は、上記の情報（１）〜（６）に基づいて光学ヘッド３２の照射位置と各アライメント描画ヘッド４１，４２，４３，４４の照射位置との間の相対位置のずれ量を演算する（ステップＳ２７）。すなわち、制御部５０は、上記の情報（１），（３）より、光学ヘッド３２の照射位置とアライメント描画ヘッド４１の照射位置との間の相対位置のずれ量を（ΔＸ２ａ，ΔＹ２ａ）−（ΔＸ１ａ，ΔＹ１ａ）として求める。また、制御部５０は、上記の情報（１），（４）より、光学ヘッド３２の照射位置とアライメント描画ヘッド４２の照射位置との間の相対位置のずれ量を（ΔＸ２ｂ，ΔＹ２ｂ）−（ΔＸ１ａ，ΔＹ１ａ）として求める。また、制御部５０は、上記の情報（２），（５）より、光学ヘッド３２の照射位置とアライメント描画ヘッド４３の照射位置との間の相対位置のずれ量を（ΔＸ２ｃ，ΔＹ２ｃ）−（ΔＸ１ｂ，ΔＹ１ｂ）として求める。更に、制御部５０は、上記の情報（２），（６）より、光学ヘッド３２の照射位置とアライメント描画ヘッド４４の照射位置との間の相対位置のずれ量を（ΔＸ２ｄ，ΔＹ２ｄ）−（ΔＸ１ｂ，ΔＹ１ｂ）として求める。
【００６５】
そして、制御部５０は、これらの相対位置のずれ量をキャンセルするように、駆動機構４１ｅ，４２ｅ，４３ｅ，４４ｅを動作させ、各アライメント描画ヘッド４１，４２，４３，４４の位置を補正する（ステップＳ２８）。これにより、光学ヘッド３２の照射位置と各アライメント描画ヘッド４１，４２，４３，４４の照射位置とが適正な位置関係となり、パターン描画装置１は、アライメントマークＡＭ１〜ＡＭ４と主描画エリア９ａの規則性パターンとを適正な位置関係で描画できる状態となる。
【００６６】
なお、上記のキャリブレーション処理においてステージ１０を移動させるときには、姿勢検出部２６によりステージ１０の姿勢（Ｚ軸周りの傾き）を検出し、姿勢を補正しつつステージ１０を移動させる。このため、ステージ１０は主走査方向および副走査方向に正確に移動し、ステージ１０上のキャリブレーションマークＣＭ１，ＣＭ２は、描画データに基づいて各アライメント描画ヘッド４１，４２，４３，４４の下方位置と光学ヘッド３２の下方位置との間で正確に移動する。
【００６７】
＜３．描画処理＞
続いて、上記のパターン描画装置１において基板９の上面にパターンを描画するときの手順について説明する。
【００６８】
図２１は、パターン描画装置１における描画処理の流れを示したフローチャートである。このパターン描画装置１において描画処理を行うときには、まず、ステージ１０の上面に基板９を載置する（ステップＳ３１）。基板９は、ステージ１０の上面に形成された複数の吸引孔に吸着され、ステージ１０の上面に固定的に保持される。
【００６９】
次に、パターン描画装置１は、駆動部２０を動作させ、基板９の四隅がアライメント描画ヘッド４１〜４４のそれぞれの下方に配置されるように、ステージ１０を移動させる。そして、パターン描画装置１は、水銀ランプ４１ｂ，４２ｂ，４３ｂ，４４ｂを点灯させることにより各アライメント描画ヘッド４１，４２，４３，４４からパルス光を照射し、基板９の上面の四隅にアライメントマークＡＭ１，ＡＭ２，ＡＭ３，ＡＭ４を描画する（ステップＳ３２）。
【００７０】
続いて、パターン描画装置１は、描画データに基づいて駆動部２０を動作させ、主ヘッド部３０の下方に主描画エリア９ａの描画開始位置が配置されるように、基板９を移動させる。そして、パターン描画装置１は、ステージ１０を主走査方向および副走査方向に移動させながら、主ヘッド部３０の複数の光学ヘッド３２からパルス光ＰＬを照射することにより、基板９の上面に規則性パターンを描画する（ステップＳ３３）。すなわち、パターン描画装置１は、光学ヘッド３２の露光幅分ずつ基板９を副走査方向にずらしながら、主走査方向へのパターンの描画を所定回数繰り返し、基板９の主描画エリア９ａ内に規則性パターンを描画する。その後、パターン描画装置１のステージ１０の上面から基板９が搬出され（ステップＳ３４）、１枚の基板９に対する描画処理が終了する。
【００７１】
本実施形態のパターン描画装置１は、上記のキャリブレーション処理において、光学ヘッド３２の照射位置と各アライメント描画ヘッド４１，４２，４３，４４の照射位置とを計測し、アライメント描画ヘッド４１，４２，４３，４４の位置を補正することにより、光学ヘッド３２とアライメント描画ヘッド４１，４２，４３，４４との相対的な位置関係を適正化させている。このため、描画処理の上記ステップＳ３３では、アライメントマークＡＭ１〜ＡＭ４に対して適正な位置に規則性パターンを描画することができる。したがって、アライメントマークＡＭ１〜ＡＭ４と規則性パターンとは、基板９上に適正な位置関係で記録される。
【００７２】
＜４．変形例＞
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上記の例に限定されるものではない。例えば、上記のキャリブレーション処理では、最も＋Ｘ側に配置された光学ヘッド３２のパルス光ＰＬをキャリブレーションカメラ１１ｂにより撮影し（ステップＳ１５）、その後、最も−Ｘ側に配置された光学ヘッド３２のパルス光ＰＬをキャリブレーションカメラ１２ｂにより撮影したが（ステップＳ１７）、これらの撮影動作は必ずしも別個に行われなくてもよい。例えば、最も＋Ｘ側に配置された光学ヘッド３２と最も−Ｘ側に配置された光学ヘッド３２と間の距離と、キャリブレーションカメラ１１ｂ，１２ｂ間の距離とが等しい構成とし、ステップＳ１５の撮影動作とステップＳ１７の撮影動作とを同時に実行するようにしてもよい。
【００７３】
また、上記のパターン描画装置１では、光学ヘッド３２の光源としてレーザ発振器３４が使用されていたが、光学ヘッド３２の光源としてＬＥＤや水銀ランプ等の他の光源が使用されていてもよい。また、上記のパターン描画装置１では、アライメント描画ヘッド４１，４２，４３，４４の光源として水銀ランプ４１ｂ，４２ｂ，４３ｂ，４４ｂが使用されていたが、アライメント描画ヘッド４１，４２，４３，４４の光源としてレーザ発振器やＬＥＤ等の他の光源が使用されていてもよい。また、上記のパターン描画装置１では、光学ヘッド３２とアライメント描画ヘッド４１，４２，４３，４４とが分離配置されていたが、同一のケーシング内に配置されていてもよい。
【００７４】
また、上記のパターン描画装置１では、静止状態の光学ヘッド３２およびアライメント描画ヘッド４１，４２，４３，４４に対してステージ１０を移動させて描画処理を行う構成であったが、静止状態のステージ１０上において光学ヘッド３２およびアライメント描画ヘッド４１，４２，４３，４４を移動させて描画処理を行うようにしてもよい。すなわち、光学ヘッド３２およびアライメント描画ヘッド４１，４２，４３，４４とステージ１０とが相対的に移動する構成であればよい。
【００７５】
また、上記のパターン描画装置１では、光学ヘッド３２およびアライメント描画ヘッド４１，４２，４３，４４は、キャリブレーション処理時にも描画処理時と同等のパルス光を照射していたが、キャリブレーション処理時には特有の照射光を照射するようにしてもよい。例えば、光学ヘッド３２およびアライメント描画ヘッド４１，４２，４３，４４は、キャリブレーション処理時には、キャリブレーションカメラ１１ｂ，１２ｂの撮影に適した光量や照射時間で照射光を照射するようにしてもよい。
【００７６】
また、上記のパターン描画装置１は、４つのアライメント描画ヘッド４１，４２，４３，４４により基板９の四隅にアライメントマークＡＭ１〜ＡＭ４を描画するものであったが、アライメント描画ヘッド４１，４２，４３，４４の数や位置は上記の例に限定されるものではない。例えば、本発明の描画装置は、第２光照射手段として２つのアライメント描画ヘッドを有するものであってもよい。また、アライメント描画ヘッドにより記録されるアライメントマークは、上記のような十字形状以外の形状であってもよい。更に、本発明の「基準パターン」は、基板９のアライメントに使用されるアライメントマークに限らず、規則性パターンとの間で正確な位置関係を要するパターンであればよい。例えば、基板９の後の製造工程において、規則性パターンの検査や測定のための基準点として使用されるマーク等であってもよい。
【００７７】
また、上記のパターン描画装置１は、カラーフィルタ用のガラス基板９を処理対象としていたが、本発明のパターン描画装置およびパターン描画方法は、半導体基板、プリント基板、プラズマ表示装置用ガラス基板等の他の基板を処理対象とするものであってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００７８】
【図１】本発明の一実施形態に係るパターン描画装置の側面図である。
【図２】本発明の一実施形態に係るパターン描画装置の上面図である。
【図３】ステージの角部付近に形成された貫通孔の拡大上面図である。
【図４】ステージを図３のＩＶ−ＩＶ線で切断した縦断面図である。
【図５】ステージの姿勢制御の例を示した図である。
【図６】基板上の主描画エリアおよびアライメントマークの例を示した図である。
【図７】複数の光学ヘッドを下方から見た図である。
【図８】制御部と各部との間の接続構成を示したブロック図である。
【図９】キャリブレーション処理の流れを示したフローチャートである。
【図１０】キャリブレーション処理の流れを示したフローチャートである。
【図１１】キャリブレーション処理の流れを示したフローチャートである。
【図１２】キャリブレーション処理中のパターン描画装置の状態を示した図である。
【図１３】キャリブレーション処理中のパターン描画装置の状態を示した図である。
【図１４】キャリブレーション処理中のパターン描画装置の状態を示した図である。
【図１５】キャリブレーション処理中のパターン描画装置の状態を示した図である。
【図１６】キャリブレーション処理中のパターン描画装置の状態を示した図である。
【図１７】キャリブレーション処理中のパターン描画装置の状態を示した図である。
【図１８】キャリブレーション処理中のパターン描画装置の状態を示した図である。
【図１９】キャリブレーションカメラの撮影画像の例を示した図である。
【図２０】キャリブレーションカメラの撮影画像の例を示した図である。
【図２１】描画処理の流れを示したフローチャートである。
【符号の説明】
【００７９】
１    パターン描画装置
９    基板
１０    ステージ
１１ａ，１２ａ    透光板
１１ｂ，１２ｂ    キャリブレーションカメラ
２０    駆動部
２６    姿勢検出部
２７    光学ヘッド用カメラ
３０    主ヘッド部
３２    光学ヘッド
３９    アクチュエータ
４１，４２，４３，４４    アライメント描画ヘッド
４１ｅ，４２ｅ，４３ｅ，４４ｅ    駆動機構
５０    制御部
９    基板
９ａ    主描画エリア
ＡＭ１，ＡＭ２，ＡＭ３，ＡＭ４    アライメントマーク
ＣＭ１，ＣＭ２    キャリブレーションマーク
ＰＬ    パルス光
【図１】
2008233638.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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