(57)【要約】【課題】できる限り研磨時間を短縮しながら光学部品を自動的に研磨できる研磨装置及び研磨装置の制御方法を得る。【解決手段】研磨しようとする光学部品Ｌと同一仕様のデータ取得用光学部品をポリシャで研磨して取得した研磨時間と研磨量の相関関係に関するデータと、被研磨面形状の測定値の設計値からの誤差量と、に基づいて、被研磨面の各位置におけるポリシャの滞留時間を演算し、被研磨面の特定位置の滞留時間に関する修正値に基づいて該特定位置の滞留時間を再演算し、再演算結果を反映した各位置における滞留時間情報に基づいてポリシャを自動走査制御する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学部品の被研磨面に相対回転しながら接触するポリシャを該被研磨面に沿って走査させる、プログラムされたコンピュータによって制御される研磨装置であって、
上記光学部品と同一仕様のデータ取得用光学部品の被研磨面に回転接触する上記ポリシャを走査させることにより、該被研磨面における最も滞留時間が大きい位置の研磨時間と研磨量の相関関係に関するデータを取得する研磨データ取得手段と、
該データと、上記光学部品の被研磨面形状の測定値と設計値との誤差量と、に基づいて、該誤差量を無くすための上記光学部品の被研磨面の各位置における上記ポリシャの滞留時間を演算する滞留時間演算手段と、
上記被研磨面の特定位置の上記滞留時間に関する修正値を入力する修正値入力手段と、
該修正値入力手段によって上記修正値が入力されたときに、該修正値に基づいて該特定位置の滞留時間を再演算する修正値演算手段と、
該修正値演算手段による修正が反映された後の上記各位置における滞留時間情報に基づいて上記ポリシャの走査制御を行うポリシャ走査手段と、
を備えることを特徴とする研磨装置。
【請求項２】
請求項１記載の研磨装置において、
上記滞留時間演算手段が上記各位置における上記滞留時間と同時に上記各位置における必要研磨量を演算し、さらに、
該各位置における上記滞留時間または必要研磨量を表示する表示手段を備える研磨装置。
【請求項３】
請求項１または２記載の研磨装置において、
上記滞留時間演算手段が上記各位置における上記滞留時間と同時に上記各位置における必要研磨量を演算し、さらに、
該各位置における上記必要研磨量に基づいて、上記各位置における必要研磨量をグラフ化した必要研磨量分布グラフに関するデータを生成するグラフデータ生成手段と、
該グラフデータ生成手段が生成した上記データに基づいて、上記必要研磨量分布グラフを表示する表示手段と、を備える研磨装置。
【請求項４】
請求項３記載の研磨装置において、
上記修正値入力手段が、上記表示手段に表示された上記必要研磨量分布グラフの特定領域を該表示手段上で選択する領域選択手段であり、さらに、
選択された上記特定領域に関するデータに基づいて上記修正値を演算する修正値演算手段を備える研磨装置。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか１項記載の研磨装置において、
上記修正値が、上記光学部品の有効光束が透過しない領域の研磨量をゼロにするものである研磨装置。
【請求項６】
光学部品の被研磨面に相対回転しながら接触するポリシャを該被研磨面に沿って走査させる研磨装置のプログラムされたコンピュータによる制御方法であって、
研磨データ取得手段が、上記光学部品と同一仕様のデータ取得用光学部品の被研磨面に回転接触する上記ポリシャを走査させることにより、該被研磨面における最も滞留時間が大きい位置の研磨時間と研磨量の相関関係に関するデータを取得するステップ、
滞留時間演算手段が、この研磨時間と研磨量の相関関係に関するデータと、上記光学部品の被研磨面形状の測定値と設計値との誤差量と、に基づいて、該誤差量を無くすための上記被研磨面の各位置における上記ポリシャの滞留時間を演算するステップ、
修正値入力手段が、上記被研磨面の特定位置の上記滞留時間に関する修正値を入力するステップ、
修正値演算手段が、上記修正値入力手段によって入力された上記被研磨面の特定位置の上記滞留時間に関する修正値に基づいて該特定位置の滞留時間を再演算するステップ、及び
ポリシャ走査手段が、上記修正値演算手段による修正が反映された後の上記各位置における滞留時間情報に基づいて、上記ポリシャの走査制御を行うステップ、
を有することを特徴とする研磨装置の制御方法。
【請求項７】
請求項６記載の研磨装置の制御方法において、
上記滞留時間演算手段が上記各位置における上記滞留時間と同時に上記各位置における必要研磨量を演算するステップ、及び
該各位置における上記滞留時間または必要研磨量を表示手段に表示するステップを有する研磨装置の制御方法。
【請求項８】
請求項６または７記載の研磨装置の制御方法において、
上記滞留時間演算手段が上記各位置における上記滞留時間と同時に上記各位置における必要研磨量を演算するステップ、
グラフデータ生成手段が、該各位置における上記必要研磨量に基づいて、上記各位置における必要研磨量をグラフ化した必要研磨量分布グラフに関するデータを生成するステップ、及び
該グラフデータ生成手段が生成した上記データに基づいて、上記必要研磨量分布グラフを表示手段に表示するステップ、を有する研磨装置の制御方法。
【請求項９】
請求項８記載の研磨装置の制御方法において、
上記修正値入力手段である領域選択手段が、上記表示手段に表示された上記必要研磨量分布グラフの特定領域を該表示手段上で選択するステップ、及び
修正値演算手段が、選択された上記特定領域に関するデータに基づいて上記修正値を演算するステップを有する研磨装置の制御方法。
【請求項１０】
請求項６から９のいずれか１項記載の研磨装置の制御方法において、
上記修正値が、上記光学部品の有効光束が透過しない領域の研磨量をゼロにするものである研磨装置の制御方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、研磨装置及び研磨装置の制御方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
軸線回りに回転する状態でレンズを支持する回転支持手段と、ポリシャをその軸線回りに回転する状態で支持し、このポリシャをレンズの表面（被研磨面）に当てつけながらレンズの径方向に走査することによりレンズの表面を研磨するポリシャ走査手段と、を備える自動研磨装置は従来から知られている。
この研磨装置を用いた研磨方法の概略は以下の通りである。
まず研磨前のレンズの表面形状（外形形状）を形状測定装置で計測する。次いで、ポリシャによりレンズの表面を予備研磨し、予備研磨前後におけるレンズ表面の形状誤差を算出することにより、予備研磨での単位時間当たりの研磨量に関するデータを取得する。さらに、予備研磨後におけるレンズ表面の形状と理想形状との形状誤差である理想形状誤差を算出する。最後に予備研磨での単位時間当たりの研磨量データと理想形状誤差とに基づいてポリシャの走査速度（レンズ各点における研磨量）を演算し、この演算結果に基づいて仕上げ研磨を行う。
【特許文献１】特開２００２−２３３９５２号公報
【特許文献２】特開２００４−３１４２２０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
特許文献１及び特許文献２の発明は自動的に研磨を行うことが可能であるが、予備研磨後のレンズの表面形状と理想形状（設計形状）の間に誤差があると、誤差のある箇所が光学部品のどこの位置であってもその誤差を無くすように研磨してしまうので、研磨作業に必要以上に時間を要していた。
【０００４】
本発明は、できる限り研磨時間を短縮しながら光学部品を自動的に研磨できる研磨装置及び研磨装置の制御方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の研磨装置は、光学部品の被研磨面に相対回転しながら接触するポリシャを該被研磨面に沿って走査させる、プログラムされたコンピュータによって制御される研磨装置であって、上記光学部品と同一仕様のデータ取得用光学部品の被研磨面に回転接触する上記ポリシャを走査させることにより、該被研磨面における最も滞留時間が大きい位置の研磨時間と研磨量の相関関係に関するデータを取得する研磨データ取得手段と、該データと、上記光学部品の被研磨面形状の測定値と設計値との誤差量と、に基づいて、該誤差量を無くすための上記光学部品の被研磨面の各位置における上記ポリシャの滞留時間を演算する滞留時間演算手段と、上記被研磨面の特定位置の上記滞留時間に関する修正値を入力する修正値入力手段と、該修正値入力手段によって上記修正値が入力されたときに、該修正値に基づいて該特定位置の滞留時間を再演算する修正値演算手段と、該修正値演算手段による修正が反映された後の上記各位置における滞留時間情報に基づいて上記ポリシャの走査制御を行うポリシャ走査手段と、を備えることを特徴としている。
【０００６】
上記滞留時間演算手段が上記各位置における上記滞留時間と同時に上記各位置における必要研磨量を演算し、さらに、該各位置における上記滞留時間または必要研磨量を表示する表示手段を備えるのが好ましい。
【０００７】
また、上記滞留時間演算手段が上記各位置における上記滞留時間と同時に上記各位置における必要研磨量を演算し、さらに、該各位置における上記必要研磨量に基づいて、上記各位置における必要研磨量をグラフ化した必要研磨量分布グラフに関するデータを生成するグラフデータ生成手段と、該グラフデータ生成手段が生成した上記データに基づいて、上記必要研磨量分布グラフを表示する表示手段と、を備えてもよい。
この場合はさらに、上記修正値入力手段を、上記表示手段に表示された上記必要研磨量分布グラフの特定領域を該表示手段上で選択する領域選択手段とし、選択された上記特定領域に関するデータに基づいて上記修正値を演算する修正値演算手段を備えるのが好ましい。
【０００８】
上記修正値を、例えば、上記光学部品の有効光束が透過しない領域の研磨量をゼロにするものとしてもよい。このようにすれば、光学部品の光学性能に影響を与えることなく研磨時間の短縮化を図ることが可能である。
【０００９】
本発明の研磨装置の制御方法は、光学部品の被研磨面に相対回転しながら接触するポリシャを該被研磨面に沿って走査させる研磨装置のプログラムされたコンピュータによる制御方法であって、研磨データ取得手段が、上記光学部品と同一仕様のデータ取得用光学部品の被研磨面に回転接触する上記ポリシャを走査させることにより、該被研磨面における最も滞留時間が大きい位置の研磨時間と研磨量の相関関係に関するデータを取得するステップ、滞留時間演算手段が、この研磨時間と研磨量の相関関係に関するデータと、上記光学部品の被研磨面形状の測定値と設計値との誤差量と、に基づいて、該誤差量を無くすための上記被研磨面の各位置における上記ポリシャの滞留時間を演算するステップ、修正値入力手段が、上記被研磨面の特定位置の上記滞留時間に関する修正値を入力するステップ、修正値演算手段が、上記修正値入力手段によって入力された上記被研磨面の特定位置の上記滞留時間に関する修正値に基づいて該特定位置の滞留時間を再演算するステップ、及びポリシャ走査手段が、上記修正値演算手段による修正が反映された後の上記各位置における滞留時間情報に基づいて、上記ポリシャの走査制御を行うステップ、を有することを特徴としている。
【００１０】
上記滞留時間演算手段が上記各位置における上記滞留時間と同時に上記各位置における必要研磨量を演算するステップ、及び該各位置における上記滞留時間または必要研磨量を表示手段に表示するステップを有するのが好ましい。
【００１１】
また、上記滞留時間演算手段が上記各位置における上記滞留時間と同時に上記各位置における必要研磨量を演算するステップ、グラフデータ生成手段が、該各位置における上記必要研磨量に基づいて、上記各位置における必要研磨量をグラフ化した必要研磨量分布グラフに関するデータを生成するステップ、及び該グラフデータ生成手段が生成した上記データに基づいて、上記必要研磨量分布グラフを表示手段に表示するステップ、を有するようにしてもよい。
この場合はさらに、上記修正値入力手段である領域選択手段が、上記表示手段に表示された上記必要研磨量分布グラフの特定領域を該表示手段上で選択するステップ、及び修正値演算手段が、選択された上記特定領域に関するデータに基づいて上記修正値を演算するステップを、有するのが好ましい。
【００１２】
本方法においても、上記修正値を、例えば上記光学部品の有効光束が透過しない領域の研磨量をゼロにするものとしてもよい。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によると、研磨しようとする光学部品の被研磨面形状データと、被研磨面の設計形状データと、研磨しようとする光学部品と同一仕様の光学部品であるデータ取得用光学部品の最もポリシャの滞留時間が大きい位置に関するポリシャの研磨時間と研磨量の相関関係に関するデータと、を利用して、研磨装置が光学部品の被研磨面をポリシャを用いて自動的に研磨する。
しかも、所定の修正値を入力することにより、研磨の必要のない箇所（例えばレンズの有効光束が透過しない領域である周辺部）は研磨しないようにすることが可能なので、研磨をより短時間のうちに実現できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明の一実施形態について添付図面を参照して説明する。
図１に示すように、本実施形態の研磨装置１０は大きな構成要素として、ワーク回転支持装置（ポリシャ走査手段）２０、ポリシャ回転支持装置（ポリシャ走査手段）３０、パソコン（コンピュータ）４０、ディスプレイ５０、キーボード６０、マウス７０及びレンズ形状測定機８０を具備している。
まずは図２及び図３を利用してワーク回転支持装置２０とポリシャ回転支持装置３０の構造を説明する。
ワーク回転支持装置２０及びポリシャ回転支持装置３０は床面に設置されたベース台Ｂの上面に支持してある。ベース台Ｂの上面にはワーク回転支持装置２０の構成要素である揺動モータ２１が固定してある。揺動モータ２１はワーク揺動テーブル２２の右端部（左右方向は図２及び図３を基準にする）の下面を揺動モータ２１を通る鉛直な揺動軸Ａ回りに揺動可能として支持しており、揺動モータ２１の駆動力によってワーク揺動テーブル２２は揺動軸Ａ回りに揺動する。ベース台Ｂの上面の揺動モータ２１の左方には円弧ローラ２３が設けてある。この円弧ローラ２３は揺動軸Ａを中心とした円弧形状であり、ワーク揺動テーブル２２の左端部を摺動自在に支持している。
ワーク揺動テーブル２２の上面には、その長手方向と平行な一対のスライドレール２４が固定してあり、一対のスライドレール２４がスライドテーブル２５をスライド可能に支持している。
スライドテーブル２５の上面にはワークスピンドル２６が支持してある。このワークスピンドル２６はその右端部に、ワークスピンドル２６に対してその軸線回りに回転可能であり、かつ被研磨レンズ（光学部品）Ｌを嵌合保持可能な回転式チャック２７を有している（ワークスピンドル２６及び回転式チャック２７の軸線は水平である）。ワークスピンドル２６の左端面には回転式チャック２７をその軸線回りに回転駆動するためのワークスピンドルモータ２８が固定してある。
【００１５】
ベース台Ｂの上面の揺動モータ２１の右側にはポリシャ回転支持装置３０の構成要素であるポリシャ台３１が固定してある。ポリシャ台３１の上面には、平面視でポリシャ台３１の長手方向と直交する方向に延びる一対のスライドレール３２が固定してある。さらに一対のスライドレール３２がスライドテーブル３３をスライド可能に支持しており、このスライドテーブル３３の上面にポリシャースピンドル３４の下面を固着している。ポリシャースピンドル３４はその左端部に、ポリシャースピンドル３４に対してその軸線回りに回転可能であり、かつポリシャＰの取付軸Ｐ１を嵌合保持可能な回転式チャック３５を有している。ポリシャースピンドル３４の右端面には回転式チャック３５を回転駆動するためのポリシャースピンドルモータ３６が設けてある。回転式チャック３５に保持されるポリシャＰは、取付軸Ｐ１の先端に設けた球形部を研磨布で包んだ公知のものであり、回転式チャック３５に支持するとその軸線はポリシャースピンドル３４及び回転式チャック３５と同軸をなす（水平になる）。ポリシャ台３１の上面には、スライドテーブル３３（ポリシャースピンドル３４）をスライドレール３２に沿ってスライドさせるためのスライドモータ３７が固定してある。
なお、ポリシャースピンドル３４は常に図示を省略した付勢手段によって回転式チャック２７に接近する方向（図２及び図３の左側）に付勢されている。
【００１６】
ワーク回転支持装置２０及びポリシャ回転支持装置３０は、ワーク回転支持装置２０の揺動モータ２１とワークスピンドルモータ２８、及びポリシャ回転支持装置３０のポリシャースピンドルモータ３６とスライドモータ３７を制御するパソコン４０と電気的に接続している。パソコン４０はＣＰＵ（中央処理装置）４１とメモリ４２を内蔵しており、かつディスプレイ５０、キーボード６０及びマウス７０と電気的に接続している。メモリ４２には、研磨しようとする被研磨レンズＬの表面の実際の形状と設計形状との誤差から誤差展開係数を演算する誤差展開用プログラムと、求めた誤差展開係数に基づいて被研磨レンズＬの各位置における誤差を無くすことが可能な必要研磨量及びポリシャＰの滞留時間（ポリシャＰが被研磨面のある特定位置に接触する時間の合計）を同時に演算する自動修正研磨用プラグラムとが予め記憶してある。
パソコン４０はさらにレンズ形状測定機８０と電気的に接続している。このレンズ形状測定機８０は被研磨レンズＬの表面形状を測定する公知のものである。
【００１７】
次に研磨装置１０を用いた被研磨レンズＬの研磨要領について説明する。
まず最初に研磨しようとする被研磨レンズＬをレンズ形状測定機８０にセットし、レンズ形状測定機８０によって被研磨レンズＬの表面（被研磨面）Ｌ１の形状を測定する。さらに、パソコン４０のメモリ４２に研磨しようとする被研磨レンズＬの表面の設計形状に関するデータを記憶させる。
次に、図２及び図３に示すように形状を測定した被研磨レンズＬをワーク回転支持装置２０の回転式チャック２７に保持させ、さらにポリシャ回転支持装置３０の回転式チャック３５にポリシャＰの取付軸Ｐ１を保持させる。次いで、スライドレール２４及びスライドテーブル２５を利用してワークスピンドル２６のスライド位置を調整し、被研磨レンズＬの被研磨面Ｌ１にポリシャＰが接触したら、スライドテーブル２５の位置を固定する。上述のようにポリシャースピンドル３４は常に付勢手段によって回転式チャック２７（被研磨レンズＬ）に接近する方向に付勢されているので、このように被研磨レンズＬとポリシャＰをワーク回転支持装置２０とポリシャ回転支持装置３０にそれぞれセットすると、ポリシャＰが被研磨レンズＬの被研磨面Ｌ１に一定圧力で接触する。
【００１８】
次に、キーボード６０またはマウス７０を利用して上記自動修正研磨用プラグラムをパソコン４０上で起動し、ディスプレイ（表示手段）５０の画面上に図４に示す画面を表示する。ディスプレイ５０の画面上にはポリシャ選択窓ａが表示してあるので、キーボード６０またはマウス７０によりポリシャ選択窓ａから使用するポリシャＰを選択する。さらに、図示は省略してあるが、ディスプレイ５０には被研磨レンズ選択窓が存在するので、キーボード６０またはマウス７０を利用して被研磨レンズ選択窓から、研磨しようとするレンズ（被研磨レンズＬ）を選択する。すると、自動修正研磨用プログラムに予め登録された単一研磨痕形状に関するグラフｂがディスプレイ５０上に表示される。この単一研磨痕形状に関するグラフｂは、研磨しようとする被研磨レンズＬと同一仕様（同一材料）のレンズであるデータ取得用レンズ（データ取得用光学部品。図示略）の被研磨面の中心部におけるポリシャＰの滞留時間を該被研磨面のその他の部分に比べて長くした（中心部の滞留時間を最も長くした）ときの該中心部に関するポリシャＰの滞留時間（研磨時間）と研磨量（研磨深さ及び研磨幅）の相関関係に関する情報を含んでいる（グラフｂの横軸はデータ取得用レンズにおける中心からの距離、縦軸が研磨量。この相関関係に関するデータは研磨装置１０（研磨データ取得手段）を利用することにより得られる）。
【００１９】
次いで、キーボード６０またはマウス７０を利用して図４に示したディスプレイ５０の画面上の測定データ呼込ボタンｃを押す。すると、レンズ形状測定機８０がパソコン４０のメモリ４２に被研磨レンズＬの被研磨面Ｌ１の測定形状に関するデータを送信する。すると、上記誤差展開用プログラムから指令を受けたＣＰＵ４１が、この測定形状に関するデータとメモリ４２に記憶させておいた被研磨レンズＬの被研磨面Ｌ１の設計形状に関するデータとを利用して（測定形状と設計形状の誤差量を利用して）誤差展開係数を演算し、この誤差展開係数をメモリ４２に記憶する。
この後に、ディスプレイ５０の画面上に表示された最適滞留時間分布表示ボタンｄを押すと、上記自動修正研磨用プラグラムの指令を受けたパソコン４０のＣＰＵ（滞留時間演算手段）４１が上記誤差展開係数に基づいて、被研磨面Ｌ１の各位置における測定形状と設計形状の誤差量を無くすために必要な各位置におけるポリシャＰの滞留時間と必要研磨量を同時に演算する。さらにＣＰＵ（グラフデータ生成手段）４１は、この滞留時間及び必要研磨量に基づいてグラフ用データを生成する。さらにＣＰＵ４１は、このグラフ用データに基づいて、図４に示す被研磨レンズＬの被研磨面Ｌ１の各位置における必要研磨量分布を示すグラフｅ及び滞留時間分布を示すグラフｆを生成し、これらのグラフｅ、ｆをディスプレイ５０の画面上に表示させる。
【００２０】
ここで仮にディスプレイ５０の画面上の転送ボタンｇをキーボード６０またはマウス７０を利用して押すと、上記自動修正研磨用プラグラムの指令を受けたパソコン４０のＣＰＵ４１がグラフｅ及びグラフｆが包含する被研磨レンズＬの表面の各位置の滞留時間情報に基づいてワーク回転支持装置２０の揺動モータ２１とワークスピンドルモータ２８及びポリシャ回転支持装置３０のポリシャースピンドルモータ３６とスライドモータ３７を自動的に駆動制御する。すると、ワークスピンドルモータ２８とポリシャースピンドルモータ３６の駆動力により被研磨レンズＬとポリシャＰがそれぞれの軸線回りに（互いに逆向きに）回転する。さらに、揺動モータ２１によってワーク揺動テーブル２２及び被研磨レンズＬを揺動軸Ａ回りに揺動し、さらに、スライドモータ３７の駆動力によってポリシャースピンドル３４及びポリシャＰがスライドレール３２に沿って往復スライドする。すると、被研磨レンズＬとポリシャＰの相対回転運動とポリシャＰの被研磨面Ｌ１に対する径方向のスライド運動による合成運動により、ポリシャＰは被研磨面Ｌ１上を所定の軌跡で走査する（このとき、ワーク揺動テーブル２２の揺動角度及びポリシャＰのスライド位置がどのような状態にあっても、ポリシャＰの特定の位置が被研磨レンズＬの被研磨面Ｌ１に回転接触する）。このようにポリシャＰが所定時間だけ所定の軌跡で被研磨面Ｌ１上を走査すると、被研磨レンズＬの被研磨面Ｌ１の各位置をポリシャＰが演算された滞留時間だけ研磨することになるので、被研磨レンズＬの被研磨面Ｌ１が上記設計形状となる。
【００２１】
しかし本実施形態ではこの時点では転送ボタンｇを押さず、図５（ａ）に示すようにマウス（修正値入力手段。領域選択手段）７０を利用してディスプレイ５０の画面上の必要研磨量分布を示すグラフｅのｅ１で示された領域（被研磨レンズＬの有効光束が透過する領域の範囲外である周辺部に相当する領域）を選択し、さらに図５（ｂ）に示すようにディスプレイ５０の画面上で領域ｅ１部分を削除する（修正値を入力する）。すると、上記自動修正研磨用プログラムの指令を受けたパソコン４０のＣＰＵ（修正値演算手段）４１がこの選択領域の研磨量（滞留時間）の再演算を行い、この選択領域の研磨量（滞留時間）をゼロに設定し直す。この選択領域（周辺領域）は被研磨レンズＬの有効光束が透過しない領域なので、この部分を研磨せずに残しても被研磨レンズＬの光学性能に影響は生じない。
このように必要研磨量及び滞留時間の再演算を行った後にキーボード６０またはマウス７０を利用して転送ボタンｇを押すと、再演算された滞留時間情報（必要研磨量情報）に基づいてポリシャＰが被研磨レンズＬに対して相対回転しながら被研磨面Ｌ１上を被研磨レンズＬの径方向に走査するので、被研磨レンズＬの被研磨面Ｌ１が図５（ｂ）の必要研磨量分布に基づいて研磨される（被研磨レンズＬの周辺部は研磨されない）。
【００２２】
以上説明したように本実施形態によれば、被研磨レンズＬの被研磨面Ｌ１形状をレンズ形状測定機８０で測定すれば、被研磨レンズＬの被研磨面Ｌ１の各位置の研磨量が自動的に演算され、ポリシャＰがその演算結果に基づいて被研磨レンズＬの被研磨面Ｌ１を研磨する。従って、経験の浅い未熟な作業者であっても、被研磨レンズＬが所望の光学性能を発揮するように被研磨面Ｌ１を短時間かつ簡単に研磨できる。
しかも、必要に応じて被研磨レンズＬの光学性能に影響のない周辺部を研磨しないようにできるので、被研磨レンズＬの光学性能を落とすことなくより短時間のうちに研磨作業を実施できる。
【００２３】
なお、本実施形態ではマウス７０を利用してディスプレイ５０の画面上においてグラフｅのｅ１で示された被研磨レンズＬの周辺領域ｅ１を選択したが、被研磨レンズＬのその他の領域（光学性能に与える影響が小さい領域。例えば中央部）を選択してもよい。さらに、選択した領域ｅ１の研磨量をゼロではない値まで減少させて実施してもよい。
また、マウス７０以外の手段、例えばキーボード６０によって領域ｅ１を選択してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明の一実施形態の研磨装置の概要を示すブロック図である。
【図２】ワーク回転支持装置及びポリシャ回転支持装置の側面図である。
【図３】ワーク回転支持装置及びポリシャ回転支持装置の平面図である。
【図４】ディスプレイの画面上に写しだされた操作画面を示す図である。
【図５】（ａ）操作画面における必要研磨量分布グラフのレンズ周辺部ｅ１をマウスで選択した状態を示す図である。（ｂ）操作画面における必要研磨量分布グラフのレンズ周辺部の摩耗量をゼロに設定した後の図である。
【符号の説明】
【００２５】
１０    研磨装置
２０    ワーク回転支持装置（ポリシャ走査手段）
２１    揺動モータ
２２    ワーク揺動テーブル
２３    円弧ローラ
２４    スライドレール
２５    スライドテーブル
２６    ワークスピンドル
２７    回転式チャック
２８    ワークスピンドルモータ
３０    ポリシャ回転支持装置（ポリシャ走査手段）
３１    ポリシャ台
３２    スライドレール
３３    スライドテーブル
３４    ポリシャースピンドル
３５    回転式チャック
３６    ポリシャースピンドルモータ
３７    スライドモータ
４０    パソコン（滞留時間演算手段）（修正値演算手段）（グラフデータ生成手段）
４１    ＣＰＵ
４２    メモリ
５０    ディスプレイ（表示手段）
６０    キーボード
７０    マウス（修正値入力手段。領域選択手段）
８０    レンズ形状測定機（研磨データ取得手段）
Ａ      揺動軸
Ｂ      ベース台
Ｌ      被研磨レンズ（光学部品）
Ｌ１    被研磨面
Ｐ      ポリシャ
Ｐ１    取付軸
【図１】
2008238363.tif 000003
【図２】
2008238363.tif 000004
【図３】
2008238363.tif 000005
【図４】
2008238363.tif 000006
【図５】
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