(57)【要約】【課題】本発明の目的は、照射したレーザ光を再生像の投影に効率良く利用することが可能なホログラム基板、このようなホログラム基板を効率良く製造可能なホログラム基板の製造方法、および、画像投影装置を提供すること。【解決手段】ホログラム基板１は、レーザ光の入射側に設けられた第１の層１１と、レーザ光の出射側に設けられた第２の層１２とで構成され、第１の層１１のレーザ光の出射側の面に、ホログラムパターン１１１を有し、第１の層１１のレーザ光の入射面、および、第２の層１２のレーザ光の出射面に多数の微小の凹凸１１２および１２１を有する。凹凸１１２および１２１の隣接する凸部同士の平均ピッチ、凹凸の幅、および、凹凸の高低差は、レーザ光の波長の３０〜５０％である。また、第１の層１１の屈折率と第２の層１２の屈折率との差の絶対値が０．０５〜０．５である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ光を入射することにより像を形成するホログラム基板であって、
前記レーザ光の入射側に設けられた第１の層と、前記レーザ光の出射側に設けられた第２の層とで構成され、
前記第１の層の前記レーザ光の出射側の面に、前記レーザ光を回折することにより任意の形状の前記像を投影するホログラムパターンを有し、
前記第２の層の前記レーザ光の出射面に多数の微小の凹凸を有し、
前記凹凸の隣接する凸部同士の平均ピッチ、前記凹凸の幅、および、前記凹凸の高低差が前記レーザ光の波長の３０〜５０％であり、
前記第１の層の屈折率と前記第２の層の屈折率との差の絶対値が０．０５〜０．５であることを特徴とするホログラム基板。
【請求項２】
前記第１の層は、前記レーザ光の入射面に、多数の前記微小の凹凸を有している請求項１に記載のホログラム基板。
【請求項３】
前記凹凸が形成された面の表面粗さＲｚ（ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１に規定の十点平均粗さ）は、０．３μｍ以下である請求項１または２に記載のホログラム基板。
【請求項４】
前記凹凸の隣接する凸部同士の平均ピッチ、前記凹凸の幅、および、前記凹凸の高低差は、１００〜４００ｎｍである請求項１ないし３のいずれかに記載のホログラム基板。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかに記載のホログラム基板を製造する製造方法であって、
表面に前記ホログラムパターンに対応した形状を有する第１の型を用意する第１の型用意工程と、
表面に前記凹凸に対応した形状を有する第２の型を用意する第２の型用意工程と、
前記第１の型の表面形状を、主として樹脂材料で構成された樹脂基板に転写し、前記第１の層を形成する第１の層形成工程と、
前記樹脂基板の前記第１の型の形状を転写した側の面に、流動性を有する材料を付与する付与工程と、
流動性を有する前記材料を前記第２の型で押圧した後、流動性を有する前記材料を固化させ、前記第２の層を形成する第２の層形成工程とを有することを特徴とするホログラム基板の製造方法。
【請求項６】
前記第１の層形成工程において、前記樹脂基板の、前記第１の型の表面形状を転写する面とは反対側の面に、前記第２の型の表面形状を転写する請求項５に記載のホログラム基板の製造方法。
【請求項７】
請求項１ないし４のいずれかに記載のホログラム基板を製造する製造方法であって、
基板の一方の面に、複数の開口部を備えたマスクを用いた異方性エッチングを繰り返し施すことにより前記ホログラムパターンを形成し、前記第１の層を形成する第１の層形成工程と、
表面に前記凹凸に対応した形状を有する第２の型を用意する第２の型用意工程と、
前記基板の前記ホログラムパターンを形成した面に、流動性を有する材料を付与する付与工程と、
流動性を有する前記材料を前記第２の型で押圧した後、流動性を有する前記材料を固化させ、前記第２の層を形成する第２の層形成工程とを有することを特徴とするホログラム基板の製造方法。
【請求項８】
第１の層形成工程において、前記基板の前記ホログラムパターンを形成する面とは反対側の面にブラスト加工を施すことにより、前記凹凸を形成する請求項６に記載のホログラム基板の製造方法。
【請求項９】
前記第２の型は、基材の表面にブラスト加工を施すことにより形成する請求項５ないし７のいずれかに記載のホログラム基板の製造方法。
【請求項１０】
前記ブラスト加工は、ウェットブラストである請求項８または９に記載のホログラム基板の製造方法。
【請求項１１】
請求項１ないし４のいずれかに記載のホログラム基板と、
前記ホログラム基板に対してレーザ光を照射するレーザ光源とを備えたことを特徴とする画像投影装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ホログラム基板、ホログラム基板の製造方法、および、画像投影装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
レーザ光を光源として、ホログラムの再生像を投影する画像投影装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。
この画像投影装置は、点光源としてのレーザ光源からホログラムプレート（ホログラム基板）に照射し、点光源のレーザ光をホログラムプレートによって面照明に変換して、ホログラムパターンの再生像を投影するものである。
【０００３】
このような画像投影装置において、入射したレーザ光の光量に対する回折したレーザ光の光量の割合、すなわち、レーザ光の回折効率（利用効率）を向上させるために、種々のホログラムパターンが設計されている。
しかしながら、ホログラムパターンの設計だけでは、十分な回折効率が得られなかった。特に、レーザ光の入射面やホログラムパターンが形成されている面、いわゆる、空気層との界面においてレーザ光が反射してしまい、照射したレーザ光を再生像の投影に効率良く用いるのが困難であった。
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−２３７９９０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、照射したレーザ光を再生像の投影に効率良く利用することが可能なホログラム基板、このようなホログラム基板を効率良く製造可能なホログラム基板の製造方法、および、画像投影装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明のホログラム基板は、レーザ光を入射することにより像を形成するホログラム基板であって、
前記レーザ光の入射側に設けられた第１の層と、前記レーザ光の出射側に設けられた第２の層とで構成され、
前記第１の層の前記レーザ光の出射側の面に、前記レーザ光を回折することにより任意の形状の前記像を投影するホログラムパターンを有し、
前記第２の層の前記レーザ光の出射面に多数の微小の凹凸を有し、
前記凹凸の隣接する凸部同士の平均ピッチ、前記凹凸の幅、および、前記凹凸の高低差が前記レーザ光の波長の３０〜５０％であり、
前記第１の層の屈折率と前記第２の層の屈折率との差の絶対値が０．０５〜０．５であることを特徴とする。
これにより、照射したレーザ光を再生像の投影に効率良く利用することが可能なホログラム基板を提供することができる。
【０００７】
本発明のホログラム基板では、前記第１の層は、前記レーザ光の入射面に、多数の前記微小の凹凸を有していることが好ましい。
これにより、照射したレーザ光を再生像の投影により効率良く利用することが可能なホログラム基板を提供することができる。
本発明のホログラム基板では、前記凹凸が形成された面の表面粗さＲｚ（ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１に規定の十点平均粗さ）は、０．３μｍ以下であることが好ましい。
これにより、照射したレーザ光を再生像の投影により効率良く利用することができる。
【０００８】
本発明のホログラム基板では、前記凹凸の隣接する凸部同士の平均ピッチ、前記凹凸の幅、および、前記凹凸の高低差は、１００〜４００ｎｍであることが好ましい。
これにより、照射したレーザ光を再生像の投影により効率良く利用することができる。
本発明のホログラム基板の製造方法は、本発明のホログラム基板を製造する製造方法であって、
表面に前記ホログラムパターンに対応した形状を有する第１の型を用意する第１の型用意工程と、
表面に前記凹凸に対応した形状を有する第２の型を用意する第２の型用意工程と、
前記第１の型の表面形状を、主として樹脂材料で構成された樹脂基板に転写し、前記第１の層を形成する第１の層形成工程と、
前記樹脂基板の前記第１の型の形状を転写した側の面に、流動性を有する材料を付与する付与工程と、
流動性を有する前記材料を前記第２の型で押圧した後、流動性を有する前記材料を固化させ、前記第２の層を形成する第２の層形成工程とを有することを特徴とする。
これにより、容易かつ簡便にホログラム基板を製造することができる。また、型を用いた場合、量産性に優れるとともに、量産の際に、品質の揃ったホログラム基板を提供することができる。
【０００９】
本発明のホログラム基板の製造方法では、前記第１の層形成工程において、前記樹脂基板の、前記第１の型の表面形状を転写する面とは反対側の面に、前記第２の型の表面形状を転写することが好ましい。
これにより、入射面および出射面の双方に微小の凹凸を備えたホログラム基板を容易かつ簡便に製造することができる。
【００１０】
本発明のホログラム基板の製造方法は、本発明のホログラム基板を製造する製造方法であって、
基板の一方の面に、複数の開口部を備えたマスクを用いた異方性エッチングを繰り返し施すことにより前記ホログラムパターンを形成し、前記第１の層を形成する第１の層形成工程と、
表面に前記凹凸に対応した形状を有する第２の型を用意する第２の型用意工程と、
前記基板の前記ホログラムパターンを形成した面に、流動性を有する材料を付与する付与工程と、
流動性を有する前記材料を前記第２の型で押圧した後、流動性を有する前記材料を固化させ、前記第２の層を形成する第２の層形成工程とを有することを特徴とする。
これにより、容易かつ簡便にホログラム基板を製造することができる。
【００１１】
本発明のホログラム基板の製造方法では、第１の層形成工程において、前記基板の前記ホログラムパターンを形成する面とは反対側の面にブラスト加工を施すことにより、前記凹凸を形成することが好ましい。
これにより、入射面および出射面の双方に微小の凹凸を備えたホログラム基板を容易かつ簡便に製造することができる。
【００１２】
本発明のホログラム基板の製造方法では、前記第２の型は、基材の表面にブラスト加工を施すことにより形成することが好ましい。
これにより、微小の凹凸に対応した形状をより簡便に形成することができる。
本発明のホログラム基板の製造方法では、前記ブラスト加工は、ウェットブラストであることが好ましい。
これにより、微小の凹凸に対応した形状をより簡便に形成することができる。
【００１３】
本発明の画像投影装置は、本発明のホログラム基板と、
前記ホログラム基板に対してレーザ光を照射するレーザ光源とを備えたことを特徴とする。
これにより、照射したレーザ光を再生像の投影に効率良く利用することができ、明るい像を投影可能な画像投影装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明のホログラム基板、ホログラム基板の製造方法、および、画像投影装置の好適な実施形態について、添付図面を参照しつつ詳細に説明する。
図１は、本発明のホログラム基板の一例を模式的に示した縦断面図である。なお、以下の説明では、図１中の右側を「（レーザ光の）入射側」、左側を「（レーザ光の）出射側」と言う。
【００１５】
ホログラム基板１は、例えば、後述する画像投影装置１０を構成する部材として用いられるものであり、図１に示すように、レーザ光の入射側に設けられた第１の層１１と、レーザ光の出射側に設けられた第２の層１２とで構成されている。
第１の層１１は、レーザ光の出射側の面に形成されたホログラムパターン１１１を備えている。
【００１６】
ホログラムパターン１１１は、変換（投影）する再生像に基づいて設計された形状を備えたものであり、入射したレーザ光を回折することにより、任意の形状の再生像に変換する機能を有している。
また、第１の層１１は、図１に示すように、レーザ光の入射側の面、すなわち、ホログラムパターン１１１が形成されている面とは反対側の面に、多数の微小の凹凸１１２が設けられている。
【００１７】
また、第２の層１２は、図１に示すように、レーザ光の出射側の面、すなわち、第１の層１１と接する面とは反対側の面に、多数の微小の凹凸１２１が設けられている。
この多数の微小の凹凸１１２および凹凸１２１は、その凸部同士の平均ピッチ（図中、Ｐで表されるピッチの平均値）、凹凸の幅（図中、Ｗで表される幅）、および、凹凸の高低差（図中、Ｈで表される高低差）が照射するレーザ光の波長の３０〜５０％であるという条件を満たすものである。
【００１８】
このように本実施形態のホログラム基板１は、ホログラム基板１のレーザ光の入射側および出射側のそれぞれの面（いわゆる、空気層との界面）に、上記のような条件を満たす多数の微小の凹凸１１２および１２１を有している点に特徴を有している。これにより、ホログラム基板１のレーザ光の入射面および出射面におけるレーザ光の反射を防止または抑制することができる。その結果、ホログラム基板１のホログラムパターン１１１に入射するレーザ光の光量を多くすることができるため、回折効率を向上させることができる。また、ホログラム基板１の出射面におけるレーザ光の反射を防止または抑制することができ、レーザ光を効率良く出射することができる。
【００１９】
さらに、ホログラム基板１は、第１の層１１の屈折率と第２の層１２の屈折率との差の絶対値が０．０５〜０．５である点にも特徴を有している。このような関係を満足することにより、ホログラムパターン１１１の回折機能を十分に発揮させつつ、ホログラムパターン１１１が設けられている面（いわゆる、第１の層１１と第２の層１２との界面）におけるレーザ光の反射を十分に小さいものとすることができる。
【００２０】
上述したように、本実施形態のホログラム基板１では、各界面におけるレーザ光の反射を効果的に防止・抑制することができるため、照射したレーザ光を再生像の投影に効率良く利用することができる。
このようにホログラム基板１は、入射面および出射面に、凸部同士の平均ピッチ、凹凸の幅、および、凹凸の高低差が照射するレーザ光の波長の３０〜５０％であるという条件を満たす多数の微小の凹凸（凹凸１１２および１２１）を備えた点に特徴を有するものであるが、微小の凹凸（凹凸１１２および１２１）は、その凸部同士の平均ピッチ、凹凸の幅、および、凹凸の高低差が照射するレーザ光の波長の２０〜４０％である条件を満たすのが好ましく、２５〜３５％である条件を満たすのがより好ましい。これにより、レーザ光の入射面および出射面におけるレーザ光の反射をより効果的に防止または抑制できる。これに対して、凸部同士の平均ピッチ、凹凸の幅、および、凹凸の高低差が前記下限値未満であると、レーザ光の入射面および出射面におけるレーザ光の反射を防止または抑制するのが困難となる。一方、凸部同士の平均ピッチ、凹凸の幅、および、凹凸の高低差が前記上限値を超えると、透過率が低下して照射したレーザ光を再生像の投影に効率良く利用することができない。
【００２１】
また、ホログラム基板１は、第１の層の屈折率と第２の層の屈折率との差の絶対値が、０．０５〜０．５であるが、０．２〜０．５であるのが好ましい。これにより、ホログラムパターン１１１の回折機能を十分に発揮させつつ、第１の層１１と第２の層１２との界面におけるレーザ光の反射をより効果的に防止・抑制することができる。これに対して、屈折率の差が前記下限値未満であると、ホログラムパターン１１１の回折機能を十分に発揮させることができない。一方、屈折率の差が前記上限値を超えると、第１の層１１と第２の層１２との界面におけるレーザ光の反射を防止することができない。
【００２２】
凸部同士の平均ピッチ、凹凸の幅、および、凹凸の高低差は、具体的には、１００〜４００ｎｍであるのが好ましく、２００〜３００ｎｍ程度であるのがより好ましい。これにより、レーザ光の入射面および出射面におけるレーザ光の反射をより効果的に防止または抑制することができる。
また、微小の凹凸１１２および１２１が設けられている面の表面粗さＲｚ（ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１に規定の十点平均粗さ）は、０．３μｍ以下であるのが好ましく、０．２〜０．３μｍであるのがより好ましい。これにより、レーザ光の入射面および出射面におけるレーザ光の反射をさらに効果的に防止または抑制することができる。
【００２３】
第１の層１１を構成する材料としては、上記のような屈折率の関係を満足するものであれば、いかなるものを用いてもよく、例えば、公知の樹脂材料、石英ガラス等のガラス材料、サファイア、有機−無機ハイブリッド材料等を用いることができる。
また、第２の層１２を構成する材料としては、上記のような屈折率の関係を満足するものであれば、いかなるものを用いてもよく、例えば、公知の樹脂材料、有機−無機ハイブリッド材料等を用いることができる。
【００２４】
次に、本発明のホログラム基板を備えた画像投影装置について説明する。
図２は、図１に示すホログラム基板を備えた画像投影装置の模式図である。
画像投影装置１０は、前述したホログラム基板１と、ホログラム基板１の光の入射側に配置されたレーザ光源２とを備えている。
以上のように構成された画像投影装置１０では、レーザ光源２から照射されたレーザ光Ｌａは、ホログラム基板１の微小の凹凸１１２が設けられた面側からに入射し、ホログラムパターン１１１によって回折し、再生像に変換される。
画像投影装置１０は、ホログラム基板１（本発明のホログラム基板）を備えているので、従来のものと比較して、照射したレーザ光を再生像の投影に効率良く利用することができ、十分に明るい再生像を投影することができる。
【００２５】
次に、本発明のホログラム基板の製造方法の第１実施形態について説明する。
図３は、本発明のホログラム基板の製造に用いられる第１の型を示す縦断面図、図４は、本発明のホログラム基板の製造に用いられる第２の型を示す縦断面図、図５および図６は、本発明のホログラム基板の製造工程の第１実施形態を示す図である。
本実施形態の製造方法は、表面に前述したホログラムパターン１１１に対応した形状を有する第１の型３を用意する第１の型準備工程と、表面に前述した凹凸１１２および１２１に対応した形状を有する第２の型４を用意する第２の型準備工程と、第１の型３および第２の型４の表面形状を主として樹脂材料で構成された樹脂基板１３に転写する第１の層形成工程と、樹脂基板１３の第１の型３の形状を転写した側の面に、流動性を有する材料（第２の層形成用材料）１４を付与する材料付与工程と、材料１４を第２の型４で押圧した後、材料１４を固化させる第２の層形成工程とを有する。
【００２６】
［第１の型準備工程］
まず、図３に示すような、表面に、前述したホログラムパターン１１１に対応した形状のパターン３１を有する第１の型を用意する。
このような第１の型３を構成する材料としては、特に限定されず、例えば、金属材料、ガラス、樹脂材料等が挙げられる。中でも、金属材料を用いた場合、第１の型３の加工性や取り扱い性がより良好なものとなる。
ホログラムパターン１１１に対応した形状のパターン３１は、例えば、上記のような材料で構成された原盤に対して、所定の開口部を有するマスクを介して異方性エッチングを施す方法や、レーザ加工方法等により形成することができる。
【００２７】
［第２の型準備工程］
一方、図４に示すような、表面に、前述した微小の凹凸１１２および１２１に対応した形状の多数の凹凸４１を有する第２の型４を用意する。
このような第２の型４を構成する材料としては、特に限定されず、例えば、金属材料、ガラス、樹脂材料等が挙げられる。中でも、金属材料を用いた場合、第２の型４の加工性や取り扱い性がより良好なものとなる。
【００２８】
このような第２の型４は、例えば、前述したような材料で構成された原盤に対して、所定の加工を施して凹凸４１を形成することにより製造することができる。
凹凸４１は、例えば、エアブラスト、ウェットブラスト、サンドブラスト等のブラスト加工を施すことにより形成することができる。これにより、より容易に前述した凹凸１１２に対応した形状を形成することができる。
【００２９】
上述した中でも、ウェットブラストによって凹凸４１を形成した場合、より均一に凹凸４１を形成することができる。これにより、より容易に前述した凹凸１１２および１２１に対応した形状を形成することができる。
また、このようなブラスト加工は、複数回行うのが好ましい。これにより、より均一に凹凸４１を形成することができる。
また、ブラスト加工において原盤に対して噴射される微粒子の平均粒径は、１０μｍ以下であるのが好ましく、１〜５μｍであるのがより好ましい。
【００３０】
［第１の層形成工程］
次に、図５（ａ）に示すように、主として樹脂材料で構成された樹脂基板１３を、第１の型３と第２の型４との間に設置する。
次に、第１の型３と第２の型４とを加熱し、図５（ｂ）に示すように、樹脂基板１３をプレスし、第１の型３および第２の型４の形状を樹脂基板１３に転写する。
そして、第１の型３および第２の型４の形状を転写した樹脂基板１３を冷却する。これにより、ホログラムパターン１１１と微小の凹凸１１２とを備えた第１の層１１が形成される（図５（ｂ）参照）。
その後、図５（ｃ）に示すように、第１の型３および第２の型４を除去する。
【００３１】
［材料付与工程］
次に、図６（ｄ）に示すように、形成された第１の層１１のホログラムパターン１１１が設けられた側の面に、流動性を有する材料（第２の層形成用材料）１４（例えば、軟化状態の樹脂材料１４、未重合（未硬化）の樹脂材料１４、軟化状態の有機−無機ハイブリッド材料１４等）を付与する。
【００３２】
［第２の層形成工程］
次に、図６（ｅ）に示すように、材料１４を、第２の型４の微小の凹凸４１が設けられた側の面で押圧する。
その後、材料１４を固化（ただし、硬化（重合）を含む）させることにより、微小の凹凸１２１を備えた第２の層１２が形成される。
【００３３】
その後、第２の型４を除去することにより、図１に示すようなホログラム基板１（本発明のホログラム基板）が得られる。
以上説明したような方法を用いることにより、容易かつ簡便にホログラム基板１を製造することができる。また、型を用いた場合、量産性に優れるとともに、量産の際に、品質の揃ったホログラム基板１を提供することができる。
次に、本発明のホログラム基板の製造方法の第２実施形態について説明する。
図７は、本発明のホログラム基板の製造工程の第２実施形態を示す図である。
【００３４】
［第１の層形成工程］
まず、ガラス材料等で構成された基板１１’を用意する。
次に、図７（ａ）に示すように、基板１１’の一方の面にホログラムパターン１１１を形成する。
このホログラムパターン１１１は、例えば、複数の開口部を備えたマスクを用いた異方性エッチングを繰り返し施すことにより形成することができる。
【００３５】
次に、基板１１’のホログラムパターン１１１を形成した面とは反対側に面に、前述した実施形態で説明したブラスト加工を施すことにより、微小の凹凸１１２を形成する。これにより、図７（ｂ）に示すように、ホログラムパターン１１１と微小の凹凸１１２とを備えた第１の層１１が形成される。
その後、前述した第１実施形態と同様に、材料付与工程および第２の層形成工程を経て、図１に示すようなホログラム基板１が得られる。
【００３６】
以上説明したような方法を用いることにより、容易かつ簡便にホログラム基板１を製造することができる。
以上、本発明のホログラム基板、ホログラム基板の製造方法および画像投影装置について、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。
【００３７】
例えば、本発明のホログラム基板の製造方法では、必要に応じて、任意の目的の工程を追加することもできる。
また、画像投影装置を構成する各部は、同様の機能を発揮し得る任意の構成のものと置換することができる。
また、前述した実施形態では、第１の層の形成において、ホログラムパターンと微小の凹凸とをほぼ同時に形成するものとして説明したが、ホログラムパターンを形成した後に凹凸を形成してもよいし、凹凸を形成した後にホログラムパターンを形成してもよい。
【００３８】
また、前述した実施形態では、ホログラム基板の微小の凹凸に対応する形状をブラスト加工で形成するものとして説明したが、これに限定されず、例えば、エッチング加工や、レーザ加工等を用いて形成するものであってもよい。
また、前述した実施形態では、ホログラム基板が両面に微小の凹凸を有するものとして説明したが、入射面側の微小の凹凸はなくてもよく、例えば、公知のＡＲコート層を設けてもよい。
【実施例】
【００３９】
（実施例１）
以下のように、ホログラム基板を製造した。
まず、形成すべきホログラムパターンに対応する形状のパターンを有する、鏡面ステンレス鋼で構成された第１の型を用意した。
一方、平滑面を有する、鏡面ステンレス鋼で構成された金属基板を用意した。
【００４０】
次に、金属基板の平滑面に、ウェットブラスト加工により、微小の凹凸を形成し、第２の型を形成した。なお、ウェットブラスト加工は、平均粒径５μｍのアルミナを水に分散した分散液を噴射ノズルから圧力０．２ＭＰａで、平滑面全体に均一に噴射することにより行った。このウェットブラスト加工は２回行った。形成された凹凸の凸部同士の平均ピッチは、２５０ｎｍ、凹凸の幅は、２５０ｎｍ、凹凸の高低差は、２５０ｎｍであった。また、微小な凹凸が形成された面の表面粗さＲｚは、０．２５μｍであった。
【００４１】
次に、第１の型と第２の型を用いて、前述した実施形態と同様にして、ポリカーボネート（ＰＣ）（屈折率ｎ１：１．５９）で構成された樹脂基板に熱プレス方式により各型の形状を転写した。
次に、樹脂基板を冷却し、各型を剥離することにより、第１の層が形成された。
次に、第１の層のホログラムパターンが形成されている面に、流動性を有する未重合（未硬化）のアクリル系樹脂（ＰＭＭＡ樹脂（メタクリル樹脂）、屈折率ｎ２：１．４９）を付与した。
【００４２】
次に、第２の型で、前記アクリル系樹脂を押圧した後、第１の層側から紫外線を照射することにより、アクリル系樹脂を硬化させた。これにより、第２の層が形成された。
その後、第２の型を剥離することにより、ホログラム基板を得た。
得られたホログラム基板のレーザ光の入射面および出射面に形成された凹凸の凸部同士の平均ピッチは、２５０ｎｍ、凹凸の幅は、２５０ｎｍ、凹凸の高低差は、２５０ｎｍであった。また、入射面の表面粗さＲｚは、０．２５μｍであった。
【００４３】
（実施例２）
以下のように、ホログラム基板を製造した。
まず、上記実施例１と同様にして第１の型および第２の型を製造した。
次に、第１の型と第２の型を用いて、前述した実施形態と同様にして、フッ素系樹脂（旭硝子社製、商品名「サイトップ」、屈折率ｎ１：１．３４）で構成された樹脂基板に熱プレス方式により各型の形状を転写した。
【００４４】
次に、樹脂基板を冷却し、各型を剥離することにより、第１の層が形成された。
次に、第１の層のホログラムパターンが形成されている面に、流動性を有する未硬化のポリイミド系樹脂（ＯＰＴＭＡＴＥ社製、商品名「Ｃ−ｉｍｉｄ」、屈折率ｎ２：１．６７）を付与した。
次に、第２の型で、このポリイミド系樹脂を押圧した後、加熱することにより、ポリイミド系樹脂を硬化させた。これにより、第２の層が形成された。
その後、第２の型を剥離することにより、ホログラム基板を得た。
得られたホログラム基板のレーザ光の入射面および出射面に形成された凹凸の凸部同士の平均ピッチは、２５０ｎｍ、凹凸の幅は、２５０ｎｍ、凹凸の高低差は、２５０ｎｍであった。また、入射面の表面粗さＲｚは、０．２５μｍであった。
【００４５】
（実施例３）
まず、石英ガラスで形成されたガラス基板を用意した。
次に、このガラス基板の一方の面に、ウェットブラスト加工により、微小の凹凸を形成した。なお、ウェットブラスト加工は、平均粒径５μｍのアルミナを水に分散した分散液を噴射ノズルから圧力０．２ＭＰａで、平滑面全体に均一に噴射することにより行った。このウェットブラスト加工は２回行った。形成された凹凸の凸部同士の平均ピッチは、２５０ｎｍ、凹凸の幅は、２５０ｎｍ、凹凸の高低差は、２５０ｎｍであった。また、微小な凹凸が形成された面の表面粗さＲｚは、０．２５μｍであった。
【００４６】
次に、ガラス基板の他方の面に、所定の開口部を備えたマスクを形成し、異方性エッチングを施すことにより、ホログラムパターンを形成した。
これにより、第１の層が形成された。
一方、上記実施例１と同様にして第２の型を製造した。
次に、上記第２の型を用いて、前述した実施例２と同様にして、第２の層を形成した。
これにより、ホログラム基板を得た。
得られたホログラム基板のレーザ光の入射面および出射面に形成された凹凸の凸部同士の平均ピッチは、２５０ｎｍ、凹凸の幅は、２５０ｎｍ、凹凸の高低差は、２５０ｎｍであった。また、入射面の表面粗さＲｚは、０．２５μｍであった。
【００４７】
（比較例）
第２の型の代わりに微小の凹凸が形成されていない平板を用いて、第１の層を形成し、これをそのままホログラム基板とした以外は、前記実施例１と同様にしてホログラム基板を製造した。すなわち、第２の層を有さず、かつ、入射面および出射面に微小の凹凸が形成されていないホログラム基板を製造した。
前記各実施例および比較例について、第１の層を構成する材料の種類および屈折率、第２の層を構成する材料の種類および屈折率等を表１に示す。
【００４８】
【表１】
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【００４９】
［評価］
実施例および比較例で得られたホログラム基板を用いて、図２に示すような画像投影装置を製造した。なお、レーザ光源としては、波長５５０ｎｍのレーザ光を照射するものを用いた。
実施例および比較例にかかる画像投影装置において、入射したレーザ光の光量Ａと出射したレーザ光の光量Ｂとを測定し、Ａに対するＢの割合、すなわち、レーザ光の利用効率（透過率）を求めた。
この結果を表１に合わせて示す。
表１からわかるように、実施例にかかる画像投影装置は、比較例のものと比較して、照射したレーザ光を再生像の投影に効率良く利用することが可能であることが確認された。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】本発明のホログラム基板を模式的に示した縦断面図である。
【図２】図１に示すホログラム基板を備えた画像投影装置の模式図である。
【図３】本発明のホログラム基板の製造に用いられる第１の型を示す縦断面図である。
【図４】本発明のホログラム基板の製造に用いられる第２の型を示す縦断面図である。
【図５】本発明のホログラム基板の製造工程の第１実施形態を示す図である。
【図６】本発明のホログラム基板の製造工程の第１実施形態を示す図である。
【図７】本発明のホログラム基板の製造工程の第２実施形態を示す図である。
【符号の説明】
【００５１】
１…ホログラム基板  １１…第１の層  １１’…基板  １１１…ホログラムパターン  １１２…凹凸  １２…第２の層  １２１…凹凸  １３…樹脂基板  １４…材料  ２…レーザ光源  ３…第１の型  ３１…パターン  ４…第２の型  ４１…凹凸  １０……画像投影装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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