(57)【要約】【課題】セルの加熱、冷却時間を短縮し、セル間の温度不均一を減少させ、セルの加熱効率を向上させ、ヒーターの消費電力とコストの低減を図る。【解決手段】液晶注入装置は、液晶２１が注入されるセル３１を載置するカセット３０と液晶２１を収容した液晶皿２０とが配置されるチャンバー１０と、チャンバー１０内に設けられ、カセット３０と液晶皿２０とを接近させる移動機構４０とを備える。チャンバー１０内には、セル３１に対向する第１の位置Ｐ１とセル３１から待避した第２の位置Ｐ２とに移動可能な加熱機構１００を有する。加熱機構１００は、櫛歯状に形成されたヒーター１０１を有する。チャンバー１０内のカセット３０の近傍に温度を検出する熱電対１２０を設置し、熱電対１２０により検出された温度に基づいて加熱機構１００を制御する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶が注入されるセルを載置するカセットと液晶を収容した液晶皿とが配置されるチャンバーと、
前記チャンバー内に設けられ、前記カセットと前記液晶皿とを接近させる移動機構とを備え、
前記チャンバー内に設けられ、前記セルに対向する第１の位置と前記セルから待避した第２の位置とに移動可能な加熱手段を有することを特徴とする液晶注入装置。
【請求項２】
前記加熱手段は、櫛歯状に形成されたヒーターを有することを特徴とする請求項１記載の液晶注入装置。
【請求項３】
前記チャンバー内の前記カセットの近傍に温度を検出するセンサーを設置し、前記センサーにより検出された温度に基づいて前記加熱手段を制御することを特徴とする請求項１又は２記載の液晶注入装置。
【請求項４】
前記ヒーターは、前記カセットに載置された隣接する２つのセル間に挿入可能な厚さのシート状のヒーターで構成されることを特徴とする請求項２又は３記載の液晶注入装置。
【請求項５】
前記シート状のヒーターは、前記カセットに載置されたセルの配列方向に沿って所定間隔で複数配列されることを特徴とする請求項４記載の液晶注入装置。
【請求項６】
前記加熱手段は、前記ヒーターを前記カセットに載置されたセルに対して移動させる移動機構を有することを特徴とする請求項２乃至５のいずれか１項記載の液晶注入装置。
【請求項７】
前記移動機構は、前記チャンバー内で前記ヒーターを直線運動させる直線導入機を有することを特徴とする請求項６記載の液晶注入装置。
【請求項８】
液晶が注入されるセルを載置するカセットと液晶を収容した液晶皿とが配置されるチャンバーと、前記チャンバー内に設けられ、前記カセットと前記液晶皿とを接近させる移動機構とを備えた液晶注入装置で用いる液晶セルの加熱機構であって、
前記チャンバー内に設けられ、前記セルに対向する第１の位置と前記セルから待避した第２の位置とに移動可能な加熱手段を有することを特徴とする加熱機構。
【請求項９】
前記加熱手段は、櫛歯状に形成されたヒーターを有することを特徴とする請求項８記載の加熱機構。
【請求項１０】
前記カセットの近傍に温度を検出するセンサーを設置し、前記センサーにより検出された温度に基づいて前記加熱手段を制御することを特徴とする請求項８又は９記載の加熱機構。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶注入装置及びこれで用いる液晶セルの加熱機構に係り、特に液晶セルの加熱手段を改良した液晶注入装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の液晶注入装置では、液晶が注入される複数枚のセル（「パネル」とも言う）は、約５〜７ｍｍピッチでカセット内のスリットに差し込むようにして積置される。そして、セルとセルとは概ね平行に、先端で約１〜２ｍｍの遊びがある状態で、ほぼ垂直に保持されて、カセットごとに一括して、液晶を収容した液晶皿が充填されるチャンバー内に搬送される。チャンバー内には、セルを加熱するための加熱機構を構成するヒーターが、カセットを囲み、セルに面するように設置されている。セルを加熱する目的は、ａ）脱ガスして不純物除去すること、ｂ）セルを一定の温度に加温コントロールして、液晶の粘度を低下させて、一定速度でセルに液晶を注入することにある。
【０００３】
ここで、従来装置による液晶注入手順に従って、セルの加熱方法について説明する。
【０００４】
１）まず、カセットに複数のセルを入れて、チャンバーに搬送する。
【０００５】
２）次に、不純物除去（脱ガス）のため、加熱と真空排気を行う。この工程では、Ｎ２を導入してチャンバー内を大気圧にし、ヒーターをＯＮにして、セルを約１００℃の温度で約１．５時間の間、加熱する。このとき、チャンバー内の天井に装備されたファンにより、チャンバー内に導入されたＮ２を攪拌し、セルの温度の均一化を図っている。また、温度は、ヒーター付近に設置された熱電対によりモニターされ、加熱機構にフィードバックされている。次に、チャンバー内を真空排気し、さらに約１．５時間の間、セルを加熱し、十分に脱ガスする。
【０００６】
３）その後、セル間の温度を揃えるため、常温（３０℃）まで一旦冷却する。この工程では、ヒーターをＯＦＦにして、Ｎ２を導入（１０００ｌ／ｍｉｎ）し、約３０分冷却する。
【０００７】
４）次に、チャンバー内を再び真空排気する。そして、セルを一定温度（８０±５℃）に加温する。これにより、カセットに積置された複数のセルのうち、周辺部のセルは早く、中央部のセルはゆっくりと温度上昇し、一定温度に加温される。
【０００８】
５）その後、移動機構により液晶皿をカセット側に近接するように上昇させ、その液晶皿にセルの注入孔を漬ける。この状態で、Ｎ２をチャンバー内に導入し大気圧にして、セル内との差圧を利用して、液晶をセル内に注入する。
【特許文献１】特開２００３−２９２７６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、従来装置では、以下のような課題があった。
【００１０】
１）セルの加熱、冷却時間の短縮
従来装置で用いるヒーターは、チャンバー内壁に沿って、カセットの回りに配置されていたので、セルまでの距離が長く、かつ熱容量の大きなチャンバーも温めることになり、セルの脱気やセル内に液晶注入する際、加熱するのに時間がかかる問題があった。特に、近年、携帯電話等、７インチ以下のセルに液晶を注入する装置が増え、注入時間は短いときには、１０分程度になり、ラインバランス上、脱ガスのための加熱時間を短くしたいという要請が増している。また、セルの脱気後、一旦常温に温度を下げる際や、液晶の注入完了後、セルを冷却する際に、セルが冷えるまでに多くの時間を要するという問題があった。
【００１１】
２）セル間の温度不均一の減少
従来装置では、セル脱気時にセル間の温度ばらつきが大きく、セルによっては脱気不良が起こる問題があった。脱気不良（脱気が不十分）が起こると、不純物（気体）がセル内に残ってしまい、液晶が汚染されて、色ムラの原因となる。また、従来装置では、液晶注入時にセル間の温度ばらつきが大きく、各セル間の液晶の注入速度に差ができる。その結果、注入を完了するまでの時間がセルによって異なり、すべてのセルへの液晶注入が完了するまでの時間が、一番温度の低いセルへの液晶注入時間に律速されて長くなる問題があった。さらに、液晶が入りすぎるセルができるために、セルのギャップ幅にバラツキが生じてしまう問題があった。
【００１２】
３）セルの加熱効率を向上させ、ヒーターの消費電力とコストの低減
従来装置は、セルを暖めるのに熱容量の大きなチャンバーも温めることになるなど、セルの加熱効率が低く、ヒーター電力の利用効率も低かった。ヒーター電力の利用効率を高め、ヒーターの消費電力とコストを低減する課題がある。
【００１３】
これに対し、特許文献１（特開２００３−２９２７６号公報）には、チャンバー内に備えられた加熱または冷却用の熱交換手段の少なくともセルに対向する面に複数のフィンを備えた液晶注入装置が開示されている。これにより、すべてのセルへの液晶注入が完了するまでの時間が一番温度の低いセルへの液晶注入に律速される問題と、液晶の注入完了後、セルが冷えるまでに多くの時間を要するという問題とが解決可能とされている。しかしながら、セルの加熱冷却にかかる時間の短縮は十分ではなかった。
【００１４】
本発明の目的は、液晶注入装置に関する上記課題を解決する液晶セルの加熱方法を提供し、セルの加熱、冷却時間を短縮し、セル間の温度不均一を減少させ、セルの加熱効率を向上させ、ヒーターの消費電力とコストの低減を図ることにある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上記目的を達成するため、本発明に係る液晶注入装置は、液晶が注入されるセルを載置するカセットと液晶を収容した液晶皿とが配置されるチャンバーと、前記チャンバー内に設けられ、前記カセットと前記液晶皿とを接近させる移動機構とを備え、前記チャンバー内に設けられ、前記セルに対向する第１の位置と前記セルから待避した第２の位置に移動可能な加熱手段を有することを特徴とする。
【００１６】
前記加熱手段は、櫛歯状に形成されたヒーターであってもよい。
【００１７】
前記チャンバー内の前記カセットの近傍に温度を検出するセンサーを設置し、前記センサーにより検出された温度に基づいて前記加熱手段を制御してもよい。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、セルの加熱、冷却時間を短縮し、セル間の温度不均一を減少させ、セルの加熱効率を向上させ、ヒーターの消費電力とコストの低減を図ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明に係る液晶注入装置及びこれで用いる液晶セルの加熱機構を実施するための最良の形態について、図面を参照して詳細に説明する。
【００２０】
図１に示す液晶注入装置において、チャンバー１０内の底部側には、液晶２１を収容した液晶皿２０が配置される。また、チャンバー１０内の中央部側には、液晶２１が注入される複数枚のセル（パネル）３１を、所定間隔で整列して載置するカセット（ホルダ）３０が搬送される。セル３１の側面部の所定箇所には、後述する図３に示すように、液晶皿２０に収容されている液晶２１を注入可能な注入孔３１ａが設けられている（図３の例では、２個の注入孔３１ａが図示されているが、これに限るものではない）。
【００２１】
液晶皿２０には、液晶皿移動機構４０が設けられる。液晶皿移動機構４０は、チャンバー１０内で液晶皿２０をカセット３０に接近する位置とそこから待避した位置とに移動可能となっている。その一例として、液晶皿移動機構４０は、エアシリンダー４１と、このエアシリンダー４１に接続された直線導入機４２とにより構成される。
【００２２】
エアシリンダー４１は、エアコンプレッサー（非図示）から電磁バルブ（非図示）を介して供給される大気圧により軸４１ａを往復運動させる。チャンバー１０外の電磁バルブの開閉は、図示しない制御盤から予め設定された動作タイミングで供給される開閉制御信号に基づいて自動制御される。エアシリンダー４１の軸４１ａは、直線導入機４２の軸４２ａに連結される。
【００２３】
直線導入機４２は、その軸４２ａがベローズ４２ｂによりチャンバー１０に対して軸シールされ、その軸方向に沿って直線運動可能となっている。軸４２ａの先端側は、チャンバー１０内に配置された液晶皿２０の底側中央部に取り付けられる。これにより、エアシリンダー４１の軸４１ａを往復運動させると、直線導入機４２の軸４２ａが直線運動し、チャンバー１０内で液晶皿２０が上下方向に移動する。
【００２４】
また、チャンバー１０外には、その内部を真空排気するための真空ポンプ５１が真空バルブ５０を介して設けられる。真空バルブ５０の開閉は、チャンバー１０外の図示しない制御盤から予め設定された動作タイミングにより供給される開閉制御信号により自動制御される。
【００２５】
さらに、チャンバー１０外には、その内部を大気圧にするためのＮ２を導入するＮ２源（非図示）がＮ２導入バルブ６０を介して設けられる。Ｎ２導入バルブ６０の開閉は、チャンバー１０外の図示しない制御盤から予め設定された動作タイミングにより供給される開閉制御信号により自動制御される。
【００２６】
さらに、チャンバー１０内に導入されたＮ２を攪拌し、セルの温度の均一化を図るためのファン７０が、チャンバー１０内の所定位置（図１の例では天井側の端部２箇所）に設けられている。ファン７０の設置位置は、図１に限らず他の位置でもよい。また、ファン７０は必須ではなく、必要に応じて設置すればよい。
【００２７】
上記構成に加え、図１に示す液晶注入装置は、加熱機構（加熱手段）１００を有する。加熱機構１００は、チャンバー１０内のカセット３０に載置されたセル３１に対向する第１の位置（対向対置）Ｐ１とセル３１から待避した第２の位置（待避位置）Ｐ２とに移動可能となっている。その一例として、加熱機構１００は、櫛歯状に形成されたヒーター（発熱体）１０１と、このヒーター１０１を支持する支持板（支持部材）１０２と、この支持板に連結されたヒーター移動機構１０３とを有する。
【００２８】
ヒーター移動機構１０３は、支持板１０２と共にヒーター１０１を、カセット３０に載置されたセル３１に対して上下方向に往復可能に移動させるもので、エアシリンダー１１０と、このエアシリンダー１１０に連結された直線導入機１１１とを有する。
【００２９】
エアシリンダー１１０は、エアコンプレッサー（非図示）から電磁バルブ（非図示）を介して供給される大気圧により軸１１０ａを往復運動させる。電磁バルブの開閉は、チャンバー１０外の図示しない制御盤から予め設定された動作タイミングで供給される開閉制御信号に基づいて自動制御される。エアシリンダー１１０の軸１１０ａは、直線導入機１１１の軸１１１ａに連結される。
【００３０】
直線導入機１１１は、その軸１１１ａがベローズ１１１ｂによりチャンバー１０に対して軸シールされ、その軸方向に沿って直線運動可能となっている。軸１１１ａの先端側は、支持板１０２の上側中央部に取り付けられる。これにより、エアシリンダー１１０の軸１１０ａを往復運動させると、直線導入機１１１の軸１１１ａが直線運動し、チャンバー１０内で支持板１０２が上下方向に移動する。
【００３１】
この支持板１０２の上下移動動作をガイドするため、支持板１０２の上側両端部２箇所には、ガイド１１２が設けられる。ガイド１１２は、Ｏリング１１３によりチャンバー１０に対して軸シールされ、この状態でスライドユニット１１４を介してチャンバー１０に対し上下方向にスライド可能となっている。
【００３２】
ヒーター１０１は、カセット３０に載置された狭いセル３１間に挿入可能とするため、隣接する２つのセル３１の間隔より小さい厚さのシート状（面状）の発熱体（以下、シートヒーター）を用いる。シートヒーターの面形状は、本実施形態ではセル３１の形状に合わせて矩形状に形成されるが、本発明はこれに限定されず他の形状（三角形状、五角形状等の多角形状、円形状、楕円形状等）であってもよい。シートヒーターは、セル３１の配列方向に沿って所定間隔で複数配列される。複数のシートヒーターは、第１の位置Ｐ１にあるときに、カセット３０内に整列する複数のセル３１に対して、その配列方向に沿ってセル１枚毎に挟み込み、平行平板型の状態にてセル３１のみを加熱可能となっている。
【００３３】
シートヒーターとしては、セル（ガラス）３１を熱するうえで効率の優れた遠赤外線放熱が必要であり、本実施形態では、これらの特性を兼ね備えたシリコンラバーヒーターもしくはカーボンヒーターを採用する。シートヒーターは、各セルサイズへの汎用性を考え、対象セル３１の最小サイズを基準にセル３１のセンター周辺のポジションを加熱可能なサイズとなっている。
【００３４】
このヒーター１０１は、支持板１０２に支持された状態で、移動機構１０３の上下動作により、チャンバー１０内の上部の第２の位置Ｐ２から、カセット３０内の等間隔ピッチで整列したセル３１に対向する第１の位置Ｐ１に移動する。これにより、セル３１間に平行平板状に非接触で差し込まれる。
【００３５】
また、チャンバー１０内には、カセット３０の近傍に温度を検出するセンサー（温度センサー）として、熱電対１２０が設置される。本実施形態では、熱電対１２０は、ヒーター１０１の端部２箇所及び中央部、カセット付近の空間部の計４箇所に設置される。熱電対１２０の設置個数及び設置位置はこれに限らず、実際に使用する液晶注入装置に応じて適宜変更してもよい。
【００３６】
ヒーター１０１は、それを構成する各シートヒーターのリード線がチャンバー１０外の電力操作器（非図示）を介してヒーター電源（非図示）に並列に接続される。また、熱電対１２０は、チャンバー１０外の図示していない温度調節計（測定器）に接続される。温度調節計は、熱電対１２０により検出された温度検出値と、予め設定された温度設定値との差からヒーター１０１に供給すべき電力量を計算し、その結果を電力操作器に出力する。電力操作器は、その温度調節計からの出力値に応じて、ヒーター１０１を構成する各シートヒーターへの電力供給を個別に制御する。これにより、熱電対１２０により検出された温度検出値が温度設定値となるように、加熱機構１００の出力がフィードバック制御される。
【００３７】
なお、ヒーター１０１の温度制御については、その一例として次のように実施してもよい。まず、予め調整時にヒーター１０１を構成する各シートヒーターに熱電対１２０を個別に設置して、加温時のシートヒーター毎の特性を調べ、その結果をメモリ等の記憶部に記憶しておく。そして、使用時には、記憶部に記憶されたシートヒーター毎の特性を用いて、所定の温度分布（温度設定値）となるように、上記４箇所に設置した熱電対１２０からの温度検出値に基づいて、各シートヒーターへの電力供給をフォードバック制御する。これに限らず、本発明では、チャンバー１０内のカセット３０の近傍に温度を検出するセンサーを設置し、そのセンサーにより検出された温度に基づいて加熱機構１００を制御し得るものであれば、いずれの構成でも採用可能である。
【００３８】
次に、図２及び図３を参照して、本実施形態の加熱機構１００を備えた液晶注入装置による液晶注入手順を説明する。
【００３９】
１）まず、カセット３０に複数のセル３１を入れて、チャンバー１０内に搬送する（図１及び図２（ａ）参照）。
【００４０】
２）次に、不純物除去（脱ガス）のため、加熱と真空排気を行う。この工程では、ヒーター移動機構１０３により、ヒーター１０１を、第２の位置Ｐ２から、セル３１に対向する第１の位置Ｐ１に移動させ（図２（ｂ）の矢印ａ１参照）、電力操作器を介して加熱機構１００の出力をＯＮにする。そして、Ｎ２導入バルブ６０を開状態にして、Ｎ２を導入してチャンバー１０内を大気圧にし、約１．５時間、セル３１を約１００℃まで加熱する。このとき、チャンバー１０の天井に装備したファン７０により、大気を攪拌し、セル３１の温度の均一化を図る。そして、セル３１を加熱しつつ、真空バルブ５０を開状態にして、真空ポンプ５１によりチャンバー１０内を真空にして、さらに約１．５時間十分に脱ガスする。
【００４１】
３）その後、常温（３０℃）まで一旦冷却する。この工程では、電力操作器を介して加熱機構１００の出力をＯＦＦにし、ヒーター移動機構１０３により、ヒーター１０１をセルに対向する第１の位置Ｐ１から第２の位置Ｐ２に退去、移動させる（図２（ａ）参照）。そして、Ｎ２導入バルブ６０を開状態にして、Ｎ２を導入（１０００ｌ／ｍｉｎ）し、約３０分冷却する。
【００４２】
４）次に、真空バルブ５０を開状態にして、真空ポンプ５１によりチャンバー１０内を再び真空排気する。そして、ヒーター移動機構１０３により、再びヒーター１０１を、第２の位置Ｐ２から、セル３１に対向する第１の位置Ｐ１に移動させ（図２（ｂ）参照）、電力操作器を介して加熱機構１００の出力をＯＮにする。
【００４３】
５）そして、ヒーター１０１により、セル３１を予め設定された一定温度（８０±５℃）に加温するように加熱機構１００の出力をコントロールする。このときの温度は、ヒーター１０１付近に設置された熱電対１２０によりモニターされ、前述したように加熱機構１００にフィードバックされている。
【００４４】
６）その後、液晶皿移動機構４０により液晶皿２０を上昇させ（図２（ｂ）の矢印ａ２参照）、その液晶皿２０にセル３１の注入孔３１ａを漬ける（図３参照）。この状態で、Ｎ２導入バルブ６０を開状態にして、Ｎ２をチャンバー１０内に導入し大気圧にして、液晶２１をセル３１内に注入する。
【００４５】
従って、本実施形態によれば、次のような効果が得られる。
【００４６】
１）セル３１に対向して近接して加熱機構１００のヒーター１０１を設けたので、熱伝導だけでなく、熱輻射によっても加熱することができる。真空時には、多くの輻射熱によってセル３１を加熱し、大気圧時には、多くを熱伝導によって加熱する。しかも、セル３１に近接してヒーター１０１を設けたので、Ｎ２導入して大気圧時の熱伝導効率も向上するため、加熱時間を短縮できる。しかも、チャンバー壁をあまり暖めないので冷却時にセル３１を早く冷却できる。また、セル３１を加熱する際のヒーター１０１の電力損失を小さくできるので、消費電力を下げられ、コストダウンが図れる。
【００４７】
２）ヒーター１０１を櫛歯状に形成してセル３１を両面から加熱できるので、早く加熱でき、セル３１を加熱する熱効率の向上が図れる。しかも、チャンバー壁をあまり暖めないのでセルを早く冷却できる。
【００４８】
３）ヒーター１０１として、シリコンラバーヒーター又はカーボンヒーター等を用いたシートヒーターを採用したため、セル３１に近接して均等な距離に挿入でき、セル３１を効率的に均一に加熱できる。セル３１の温度ばらつきが低減される結果、液量注入時間を短縮し、脱気不良からくる液晶の汚染、セル３１のギャップバラツキを減らすことができる。
【００４９】
４）液晶注入装置においては、一旦、冷やすことが必要なので、加熱時は挿入し、冷却時はヒーター１０１をセル３１間から抜いてＮ２ガス導入したりすると冷却時間が短くできる。
【００５０】
また、次のような副次的効果も得られる。
【００５１】
５）使用する液晶注入装置によっては、ファン７０を省略できる。
【００５２】
６）チャンバー１０を水冷するならば、セル３１を冷却するまでの時間を短縮できるし、チャンバー１０が高温に加熱されないので、Ｏリング保護などの目的での水冷は必要でなくなる。このため、使用する液晶注入装置によっては、チャンバー１０の水冷が要らなくなる。その場合、より一層コストダウンが図れる。
【００５３】
なお、上記実施形態では、液晶皿移動機構４０として、エアシリンダー４２を用いた場合を説明しているが、本発明はこれに限定されるものでなく、例えばモータシリンダーや、モータと直線導入機の組み合わせを用いてもよい。また、上記実施形態では、ヒーター駆動機構１０３として、エアシリンダー１１０を用いた場合を説明しているが、本発明はこれに限定されるものでなく、例えばモータシリンダーや、モータと直線導入機の組み合わせを用いてもよい。
【産業上の利用可能性】
【００５４】
本発明は、チャンバー内を真空、大気にする液晶注入装置及びこれに用いる液晶セルの加熱機構のみに限るものではなく、チャンバー内を真空、大気、加圧する液晶注入装置及びこれに用いる液晶セルの加熱機構にも適用できる。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】本発明の実施形態に係る液晶注入装置の全体構成を示す図である。
【図２】本発明の実施形態に係る液晶注入装置で用いる加熱機構、セルを載置したカセット、及び液晶皿の関係を示す斜視図である。
【図３】本発明の実施形態に係る液晶注入装置で用いるセルを載置したカセット及び液晶皿の関係を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００５６】
１０  チャンバー
２０  液晶皿
２１  液晶
３０  カセット（ホルダ）
３１  セル（パネル）
３１ａ  注入孔
４０  液晶皿移動機構
４１  エアシリンダー
４１ａ  軸
４２  直線導入機
４２ａ  軸
４２ｂ  ベローズ
５０  真空バルブ
５１  真空ポンプ
６０  Ｎ２導入バルブ
７０  ファン
１００  加熱機構
１０１  ヒーター
１０２  支持板（支持部材）
１０３  ヒーター移動機構（上下動作機構）
１１０  エアシリンダー
１１０ａ  軸
１１１  直線導入機
１１１ａ  軸
１１１ｂ  ベローズ
１１２  ガイド
１１３  Ｏリング
１１４  スライドユニット
１２０  熱電対
Ｐ１  第１の位置（対向位置）
Ｐ２  第２の位置（待避位置）
【図１】
2008276107.tif 000003
【図２】
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【図３】
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