(57)【要約】【課題】下側シャッターを他のユニットと干渉することなく、露光と遮光との範囲の境界部においてマスクに接近して配置でき、且つ、上側シャッターをマスクから退避させた場合に、格納するための大きなスペースを必要としないコンパクトな近接露光装置を提供する。【解決手段】近接露光装置ＰＥでは、露光領域を制限するマスクアパーチャ機構１９は、マスクＭに近接して配置され、露光領域の境界部を含む第１領域Ｓ１を遮光する下側シャッター７０，７１と、下側シャッター７０，７１よりも上方に配置され、第１領域Ｓ１と連続する第２領域Ｓ２を遮光する上側シャッター８０，８１を備え、上側シャッター８０，８１は、上面視における面積が可変である。【選択図】図１
2008020844.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被露光材としての基板を保持する基板保持部と、露光パターンを有するマスクを保持するマスク保持部と、パターン露光用の光を前記マスクを介して前記基板に照射する照射手段と、前記照射手段から前記マスクに照射される前記パターン露光用の光を部分的に遮光して露光領域を制限するマスクアパーチャ機構と、を備え、前記マスクと前記基板とを所定のギャップを持って互いに近接配置した状態で、前記マスクの露光パターンを前記照射手段によって前記基板に露光転写する近接露光装置であって、
前記マスクアパーチャ機構は、前記マスクに近接して配置され、前記露光領域の境界部を含む第１領域を遮光する下側シャッターと、該下側シャッターよりも上方に配置され、前記第１領域と連続する第２領域を遮光する上側シャッターを備え、
前記上側シャッターは、上面視における面積が可変であることを特徴とする近接露光装置。
【請求項２】
前記上側シャッターは、互いにオーバーラップ可能に配置されると共に、互いに独立して移動可能な第１及び第２の平板状シャッターを備えることを特徴とする請求項１に記載の近接露光装置。
【請求項３】
前記マスク保持部は、マスクステージベースに移動可能に支持され、
前記第１の平板状シャッターは、前記マスクステージベースに対して移動可能に配置された第１可動部に取り付けられ、第１駆動機構によって該第１可動部を介して駆動され、
前記第２の平板状シャッターは、前記第１可動部に対して移動可能に配置された第２可動部に取り付けられ、第２駆動機構によって第２可動部を介して駆動されることを特徴とする請求項２に記載の近接露光装置。
【請求項４】
前記第１駆動機構は、モータとボールねじ機構によって構成され、前記第２駆動機構は、エアシリンダによって構成されることを特徴とする請求項３に記載の近接露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特に、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイの基板上にマスクの露光パターンを分割逐次近接露光（プロキシミティ露光）する近接露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近接露光は、表面に感光剤を塗布した透光性の基板（被露光材）を基板ステージ上に保持すると共に、基板をマスクステージのマスク保持枠に保持されたマスクに接近させ、両者を所定のギャップ、例えば、数１０μｍ〜数１００μｍにした状態で両者を静止させ、次いで、マスクの基板から離間する側から照射手段によってパターン露光用の光をマスクに向けて照射することにより、マスクに描かれた露光パターンを基板上に転写するようにしている。
【０００３】
特に、大型基板上にマスクのパターンを露光転写する場合には、基板より小さいマスクを用い、マスクを基板に近接して対向配置した状態で基板ステージをマスクに対してステップ移動させて各ステップ毎にパターン露光光を照射し、これにより、マスクに描かれた複数のパターンを基板上に露光転写する、ステップ式の近接露光方式が用いられる場合がある。
【０００４】
このような露光を行なう近接露光装置においては、マスクステージのマスク保持枠に保持されたマスク上の任意の範囲の露光光を必要に応じて遮光することで露光領域を制限するシャッターを有するマスクアパーチャ機構を備えたものが知られている。このシャッターは、露光と遮光との範囲の境界部を鮮明にするために極力マスクに接近させた位置に設置される。
【０００５】
また、ステップさせない近接露光方式であっても、例えば、１台の近接露光装置で多種類の大きさの基板の露光を行えるようにするため、このようなマスクアパーチャ機構を用いる場合もある。
【０００６】
上記従来の近接露光装置においては、マスクアパーチャ機構による遮光範囲を拡大して種々の大きさの基板に対応するためには、シャッターを大型化する必要があるが、極力マスクに接近配置されたシャッターの上方には、基板（又は基板ステージ）側のアライメントマークとマスク側のアライメントマークとのずれ等を検出するためのアライメントカメラや、基板とマスクとのすき間寸法を測定するギャップセンサ等の他のユニットがマスクに近接配置されているため、遮光シャッターを大型化すると該遮光シャッターがこれらのユニットの検出領域と干渉（覆う）して機能を阻害することになり、この結果、スペース的制約で遮光シャッターの大きさに限界があり、遮光範囲に限界があった。
【０００７】
このため、遮光シャッターを２つに分け、マスクに接近させて配置する帯状の下側シャッターと、マスクから離れて配置する平板状の上側シャッターとで、露光範囲を制限するマスクアパーチャ機構が提案されている（例えば、特許文献１及び２参照）。
【特許文献１】特開２００４−６２０７９号公報
【特許文献２】特開２００５−１４０９３６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、特許文献１及び２に記載のマスクアパーチャ機構では、マスクから離れて配置される上側シャッターは単一の大きな平板によって構成されているため、この上側シャッターをマスクから退避させる場合に、マスクステージベース上に大きなスペースを必要とし、装置が大型化したり、或は、他のユニットと干渉する可能性がある。
【０００９】
また、上記の平板状の遮光シャッターを駆動する場合には、平板が大きいために大きなストロークが必要となり、ボールねじ機構によって位置決めを行なおうとすると、シャッターの駆動に時間がかかる。
【００１０】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、その目的は、下側シャッターを他のユニットと干渉することなく、露光と遮光との範囲の境界部においてマスクに接近して配置でき、且つ、上側シャッターをマスクから退避させた場合に、格納するための大きなスペースを必要としないコンパクトな近接露光装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の上記目的は、以下の構成によって達成される。
（１）  被露光材としての基板を保持する基板保持部と、露光パターンを有するマスクを保持するマスク保持部と、パターン露光用の光を前記マスクを介して前記基板に照射する照射手段と、前記照射手段から前記マスクに照射される前記パターン露光用の光を部分的に遮光して露光領域を制限するマスクアパーチャ機構と、を備え、前記マスクと前記基板とを所定のギャップを持って互いに近接配置した状態で、前記マスクの露光パターンを前記照射手段によって前記基板に露光転写する近接露光装置であって、
前記マスクアパーチャ機構は、前記マスクに近接して配置され、前記露光領域の境界部を含む第１領域を遮光する下側シャッターと、該下側シャッターよりも上方に配置され、前記第１領域と連続する第２領域を遮光する上側シャッターを備え、
前記上側シャッターは、上面視における面積が可変であることを特徴とする近接露光装置。
（２）  前記上側シャッターは、互いにオーバーラップ可能に配置されると共に、互いに独立して移動可能な第１及び第２の平板状シャッターを備えることを特徴とする（１）に記載の近接露光装置。
（３）  前記マスク保持部は、マスクステージベースに移動可能に支持され、
前記第１の平板状シャッターは、前記マスクステージベースに対して移動可能に配置された第１可動部に取り付けられ、第１駆動機構によって該第１可動部を介して駆動され、
前記第２の平板状シャッターは、前記第１可動部に対して移動可能に配置された第２可動部に取り付けられ、第２駆動機構によって第２可動部を介して駆動されることを特徴とする（２）に記載の近接露光装置。
（４）  前記第１駆動機構は、モータとボールねじ機構によって構成され、前記第２駆動機構は、エアシリンダによって構成されることを特徴とする（３）に記載の近接露光装置。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の近接露光装置によれば、露光領域を制限するマスクアパーチャ機構は、マスクに近接して配置され、露光領域の境界部を含む第１領域を遮光する下側シャッターと、下側シャッターよりも上方に配置され、第１領域と連続する第２領域を遮光する上側シャッターを備え、上側シャッターは、上面視における面積が可変であるので、下側シャッターを他のユニットと干渉することなく、露光領域の境界部においてマスクに接近して配置でき、且つ、上側シャッターをマスクから退避させた場合に、格納するための大きなスペースを必要としないコンパクトな構成となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明の一実施形態に係る近接露光装置について、図面を参照して詳細に説明する。
【００１４】
（第１実施形態）
図１は、大型の基板上にマスクの露光パターンを分割して近接露光するステップ式近接露光装置ＰＥを示すものであり、露光パターンを有するマスクＭをｘ、ｙ、θ方向に移動可能に保持するマスクステージ１０と、被露光材としてのガラス基板Ｗをｘ、ｙ、ｚ方向に移動可能に保持する基板ステージ２０と、パターン露光用の光をマスクＭを介して基板Ｗに照射する照射手段である照明光学系４０と、から主に構成されている。
【００１５】
なお、ガラス基板Ｗ（以下、単に「基板Ｗ」と称する。）は、マスクＭに対向配置されており、このマスクＭに描かれた露光パターンを露光転写すべく表面（マスクＭの対向面側）に感光剤が塗布されている。また、本実施形態のマスクＭの寸法は、１４００ｍｍ×１２２０ｍｍであるとする。
【００１６】
説明の便宜上、照明光学系４０から説明すると、照明光学系４０は、紫外線照射用の光源である例えば高圧水銀ランプ４１と、この高圧水銀ランプ４１から照射された光を集光する凹面鏡４２と、この凹面鏡４２の焦点近傍に切替え自在に配置された二種類のオプチカルインテグレータ４３と、光路の向きを変えるための平面ミラー４５，４６及び球面ミラー４７と、この平面ミラー４５とオプチカルインテグレータ４３との間に配置されて照射光路を開閉制御する露光制御用シャッター４４と、を備える。
【００１７】
そして、露光時にその露光制御用シャッター４４が開制御されると、ランプ４１から照射された光が、図１に示す光路Ｌを経てマスクステージ１０に保持されるマスクＭ、ひいては基板ステージ２０に保持される基板Ｗの表面にパターン露光用の光として照射され、マスクＭの露光パターンが基板Ｗ上に露光転写される。
【００１８】
基板ステージ２０は、基板Ｗを保持する基板保持部２１と、基板保持部２１を装置ベース５０に対してｘ、ｙ、ｚ方向に移動する基板移動機構２２と、を備える。
【００１９】
基板保持部２１は、上面に基板Ｗを吸引するための図示しない複数の吸引ノズルが開設されており、図示しない真空吸着機構によって基板Ｗを着脱自在に保持する。
【００２０】
基板移動機構２２は、基板保持部２１の下方に、ｙ軸テーブル２３、ｙ軸送り機構２４、ｘ軸テーブル２５、ｘ軸送り機構２６、及びｚ−チルト調整機構２７を備える。
【００２１】
ｙ軸送り機構２４は、図２に示すように、リニアガイド２８と送り駆動機構２９とを備えて構成され、ｙ軸テーブル２３の裏面に取り付けられたスライダ３０が、転動体（図示せず）を介して装置ベース５０上に延びる２本の案内レール３１に跨架されると共に、モータ３２とボールねじ装置３３とによってｙ軸テーブル２３を案内レール３１に沿って駆動する。
【００２２】
なお、ｘ軸送り機構２６もｙ軸送り機構２４と同様の構成を有し、ｘ軸テーブル２５をｙ軸テーブル２３に対してｘ方向に駆動する。また、ｚ−チルト調整機構２７は、くさび状の移動体３４，３５と送り駆動機構３６とを組み合わせてなる可動くさび機構をｘ方向の一端側に１台、他端側に２台配置することで構成される。なお、送り駆動機構２９，３６は、モータとボールねじ装置とを組み合わせた構成であってもよく、固定子と可動子とを有するリニアモータであってもよい。また、ｚ-チルト調整機構２７の設置数は任意である。
【００２３】
これにより、基板移動機構２２は、基板保持部２１をｘ方向及びｙ方向に送り駆動するとともに、マスクＭと基板Ｗとの間のギャップを微調整するように、基板保持部２１をｚ軸方向に微動且つチルト調整する。
【００２４】
基板保持部２１のｘ方向側部とｙ方向側部にはそれぞれバーミラー６１，６２が取り付けられ、また、装置ベース５０のｙ方向端部とｘ方向端部には、計３台のレーザー干渉計６３，６４，６５が設けられている。これにより、レーザー干渉計６３，６４，６５からレーザー光をバーミラー６１，６２に照射し、バーミラー６２により反射されたレーザー光を受光して、レーザー光とバーミラー６１，６２により反射されたレーザー光との干渉を測定し、基板ステージ２０の位置を検出する。
【００２５】
マスクステージ１０は、中央部に矩形形状の開口１１ａが形成されるマスクベース１１と、マスクステージベース１１の開口１１ａにｘ軸，ｙ軸，θ方向に移動可能に装着され、マスクＭを保持するマスク保持部であるマスク保持枠１２と、マスクステージベース１１の上面に設けられ、マスク保持枠１２をｘ軸，ｙ軸，θ方向に移動させるマスク位置調整機構１３とを備える。
【００２６】
マスクステージベース１１は、基板ステージ側の装置ベース５０上に立設される複数の支柱５１に支持されており、マスクステージベース１１と支柱５１との間に設けられたｚ軸粗動機構５２（図２参照）によりマスクステージベース１１は装置ベース５０に対して昇降可能である。
【００２７】
マスク保持枠１２の下方には、複数の吸引ノズル５３ａが下面に開設されたチャック部５３が取り付けられており、図示しない真空吸着機構によってマスクＭを着脱自在に保持する（図５参照）。
【００２８】
マスク位置調整機構１３は、マスク保持枠１２を駆動する各種シリンダ１３ｘ、１３ｘ、１３ｙ等のアクチュエータと、マスクステージベース１１とマスク保持枠１２との間に設けられたガイド機構５４（図５参照）により、マスク保持枠１２をｘ軸，ｙ軸，θ方向に移動させる。
【００２９】
また、マスク保持枠１２には、その辺部に沿って、マスクＭと基板Ｗとの対向面間のギャップを測定する複数のギャップセンサ１７（本実施形態では、８個）と、マスクＭ側の図示しないアライメントマークと基板Ｗ（又は基板ステージ２０）側の図示しないアライメントマークとを撮像する複数のアライメントカメラ１８（本実施形態では、４個）とが配置されている。なお、ギャップセンサ１７とアライメントカメラ１８は、マスク保持枠１２の辺部に沿って駆動可能に配置されてもよい。
【００３０】
さらに、マスクステージ１０には、照射光学系３０からマスクＭに照射されるパターン露光用の光を部分的に遮光して露光領域を制限するマスクアパーチャ機構１９が設けられている。
【００３１】
ここで、マスクアパーチャ機構１９の具体構成を図３〜図７を参照して説明する。マスクアパーチャ機構１９は、マスクＭに近接して配置され、露光領域の境界部を含む第１領域Ｓ１を遮光する下側シャッター７０，７１と、下側シャッター７０，７１よりも上方に配置され、第１領域Ｓ１と連続する第２領域Ｓ２を遮光する上側シャッター８０，８１とを備える。
【００３２】
図３，図５及び図６に示すように、下側シャッター７０，７１は、ｘ方向とｙ方向に一組ずつ配置されており、それぞれ帯状に形成されている。ｘ方向に移動可能なｘ軸下側シャッター７０は、マスク保持枠１２上に配置されたガイド７２によって両端部を支持されると共に、その中間部がマスクＭに近接するように折り曲げて形成されている。さらに、ｘ軸下側シャッター７０の両端部にはボールねじナット７３が設けられており、モータ７４によってねじ軸７５を回転駆動することで、ボールねじナット７３を介してｘ軸下側シャッター７０をｘ方向に移動する。
【００３３】
なお、ｙ方向に移動可能なｙ軸下側シャッター７１も、ｘ軸下側シャッター７０と同様の構成を有しており、ボールねじ機構によってｙ方向に移動するが、ｙ軸下側シャッター７１の中間部は、ｘ軸下側シャッター７０との干渉を避けるため、ｘ軸下側シャッター７０の中間部と異なる高さとなるように折り曲げ形成されている。
【００３４】
一方、上側シャッター８０、８１も、ｘ方向とｙ方向に一組ずつ配置されている（図３は、片側ずつ図示）。上側シャッター８０、８１は、互いにオーバーラップ可能に配置されると共に、互いに独立して移動可能な第１の平板状シャッター８２，８４及び第２の平板状シャッター８３，８５をそれぞれ備え、上面視における面積が可変となるように構成されている。
【００３５】
ｘ方向に移動可能なｘ軸上側シャッター８０の第１及び第２の平板状シャッター８２，８３と、ｙ方向に移動可能なｙ軸上側シャッター８１の第１及び第２の平板状シャッター８４，８５とは、移動した際に互いに干渉しないように高さを変えて配置されており、ｘ軸上側シャッター８０を駆動するｘ軸アパーチャ駆動部８６とｙ軸上側シャッター８１を駆動するｙ軸アパーチャ駆動部８７も、互いに干渉しないように高さを変えて配置されている。
【００３６】
具体的に、ｘ軸アパーチャ駆動部８６では、図４及び図５に示すように、マスクステージベース１１上に固定された段付き支持台８８の上段に固定テーブル８９が配置される。この固定テーブル８９上には、一対のガイド９０によって移動可能に案内される第１可動テーブル（第１可動部）９１が配置されており、モータ９２に連結されたねじ軸９３を回転することで軸移動する継手ナット９４を介して第１可動テーブル９１を駆動する。
【００３７】
また、第１可動テーブル９１上には、ガイド９５によって移動可能に案内される第２可動テーブル９６が配置され、第１可動テーブル９１上に配置されたエアシリンダ９７のピストンロッド９８の先端と継手９９を介して連結することで、第１可動テーブル９１に対して駆動される。さらに、第１可動テーブル９１上には、第２可動テーブル９６と同じガイド９５によって案内される第３可動テーブル（第２可動部）１００が設けられており、第２可動テーブル９６上に配置されたエアシリンダ１０１のピストンロッド１０２の先端に取り付けられた継手１０３を介して第２可動テーブル９６と連結される。
【００３８】
なお、モータ９２とボールねじ機構を構成するねじ軸９３と継手ナット９４は本発明の第１駆動機構を構成し、エアシリンダ９７，１０１は本発明の第２駆動機構を構成する。
【００３９】
第１の平板状シャッター８２は、第１可動テーブル９１の下面に取り付けられており、第１駆動機構によって第１可動テーブル９１を移動することで可動する。また、第２の平板状シャッター８３は、第３可動テーブル１００上に取り付けられており、第２駆動機構によって第２可動テーブル９６を第１可動テーブル９１に対して移動、及び第３可動テーブル１００を第２可動テーブル９６に対して移動することで可動する。
【００４０】
一方、ｙ軸アパーチャ駆動部８７は、図４及び図６に示すように、支持台８８の中段と固定テーブル８９との間に配置されており、支持台８８の中段に固定テーブル１１０が配置される。この固定テーブル１１０上には、一対のガイド１１１によって移動可能に案内される第１可動テーブル（第１可動部）１１２が配置されており、モータ１１３に連結されたねじ軸１１４を回転することで軸移動する継手ナット１１５を介して第１可動テーブル１１２を駆動する。
【００４１】
また、第１可動テーブル１１２上には、ガイド１１６によって移動可能に案内される第２可動テーブル１１７が配置され、第１可動テーブル１１２上に配置されたエアシリンダ１１８のピストンロッド１１９の先端と継手１２０を介して連結することで、第１可動テーブル１１２に対して駆動される。さらに、第１可動テーブル１１２上には、ガイド１１６と並んで配置されたガイド１２１によって移動可能に案内される第３可動テーブル（第２可動部）１２２が配置され、第２可動テーブル１１７上に配置されたエアシリンダ１２３のピストンロッド１２４の先端と継手１２５を介して連結される。
【００４２】
なお、モータ１１３とボールねじ機構を構成するねじ軸１１４と継手ナット１１５は本発明の第１駆動機構を構成し、エアシリンダ１１８，１２３は本発明の第２駆動機構を構成する。
【００４３】
第１の平板状シャッター８４は、第１可動テーブル１１２上に配置された高さ調整部材１２６を介して、ｘ軸上側シャッター８０の第２の平板状シャッター８３より高くなるように取り付けられており、第１駆動機構によって第１可動テーブル１１２を移動することで可動する。第２の平板状シャッター８５も、第３可動テーブル１２２上に配置された高さ調整部材１２７を介して、第１の平板状シャッター８４より高くなるように取り付けられており、第２駆動機構によって第２可動テーブル１１７を第１可動テーブル１１２に対して移動、及び第３可動テーブル１２２を第２可動テーブル１１７に対して移動することで可動する。
【００４４】
このように構成されるマスクアパーチャ機構１９では、例えば、ｘ方向における露光領域を制限する場合、図７に示すように、ｘ軸下側シャッター７０によって露光領域の境界部を含む第１領域Ｓ１の遮光が行なわれ、ｘ軸上側シャッター８０によって第１領域に連続する第２領域Ｓ２の遮光が行なわれる。このとき、ｘ軸上側シャッター８０の第２の平板状シャッター８３は、ｘ軸下側シャッター７０と若干ｘ軸方向にオーバーラップするように配置されており、光学照射系４０から照射されるパターン露光用の光がコリメーション角により第１領域Ｓ１と第２領域Ｓ２の境界位置で広がった場合にもマスクＭに照射されるのを防止している。
【００４５】
ここで、ｘ軸下側シャッター７０は、露光領域の境界部を含む第１領域Ｓ１においてマスクＭに接近して配置されているが、帯状に形成されているので、ギャップセンサ１７やアライメントカメラ１８等、他のユニットとの干渉を防止することができる。
【００４６】
また、ｘ軸上側シャッター８０は、第１及び第２の平板状シャッター８２，８３で構成されるので、これらシャッター８２，８３を露光領域から退避させた際に重ねて格納することで、これらのシャッター８２，８３が占める領域を第２領域Ｓ２より小さくすることができ、マスクステージベース１１上におけるこれらシャッター８２，８３を格納するためのスペースを小さくできる。
【００４７】
さらに、ｘ軸上側シャッター８０の第１の平板状シャッター８２は、モータ９２とボールねじ機構とで駆動されるので、精密な位置決めが可能で、ｘ軸方向における露光領域を任意に制限することができる。また、第２の平板状シャッター８３は、第１可動テーブル９１上の２つのエアシリンダ９７，１０１によって駆動されるので、進出或は退避位置への高速駆動が可能となり、これにより、第１の平板状シャッター８２より長いストローク動作を高速で行なうことができる。
【００４８】
特に、第２の平板状シャッター８３は２つのエアシリンダ９７，１０１によって駆動されるので、第２の平板状シャッター８３のストロークを長くとることができる。そして、ｘ軸アパーチャ駆動部８６では、第３可動テーブル１００が第２可動テーブル９６と同じく第１可動テーブル９１上のガイド９５に案内されているので、ｘ軸アパーチャ駆動部８６の幅方向及び高さ方向における寸法を抑えることができる。
【００４９】
なお、第１及び第２の平板状シャッター８２，８３は、遮光すべき露光領域の大きさに応じて適宜駆動される。
また、ｙ軸方向における露光領域を制限する場合にも、ｙ軸下側シャッター７１によって露光領域の境界部を含む第１領域Ｓ１の遮光が行なわれ、ｙ軸上側シャッター８１によって第１領域Ｓ１に連続する第２領域Ｓ２の遮光が行なわれ、同様の効果を奏する。但し、ｙ軸アパーチャ駆動部８７では、第３可動テーブル１２２は第２可動テーブル１１７のガイド１１６と並んで配置されたガイド１２１によって案内されており、第３可動テーブル１２２は第２可動テーブル１１７と同じく第１可動テーブル１１０上に配置されているので、ｙ軸アパーチャ駆動部８７の高さ方向における寸法が抑制される。
【００５０】
以上説明したように、本実施形態の近接露光装置によれば、露光領域を制限するマスクアパーチャ機構１９は、マスクＭに近接して配置され、露光領域の境界部を含む第１領域Ｓ１を遮光する下側シャッター７０，７１と、下側シャッター７０，７１よりも上方に配置され、第１領域Ｓ１と連続する第２領域Ｓ２を遮光する上側シャッター８０，８１を備え、上側シャッター８０，８１は、上面視における面積が可変であるので、下側シャッター７０，７１をギャップセンサ１７やアライメントカメラ１８等の他のユニットと干渉することなく、露光領域の境界部においてマスクＭに接近して配置でき、且つ、上側シャッター８０，８１を露光領域から退避させた場合に、格納するための大きなスペースを必要としないコンパクトな構成となる。
【００５１】
また、上側シャッター８０，８１は、互いにオーバーラップ可能に配置されると共に、互いに独立して移動可能な第１及び第２の平板状シャッター８２，８３，８４，８５を備えるので、これら平板状シャッター８２，８３，８４，８５を露光領域から退避させた場合に重ねて格納できるので、格納するための大きなスペースを必要としない。
【００５２】
さらに、マスク保持部１２は、マスクステージベース１１に移動可能に支持され、第１の平板状シャッター８２，８４は、マスクステージベース１１に支持台８８を介して固定された固定テーブル８９，１１０に対して移動可能に配置された第１可動テーブル９１，１１２に取り付けられ、第１駆動機構によって第１可動テーブル９１，１１２を介して駆動され、第２の平板状シャッター８３，８５は、第１可動テーブル９１，１１２に対して移動可能に配置された第３可動テーブル１００，１２２に取り付けられ、第２駆動機構によって第３可動テーブル１００，１２２を介して駆動されるので、マスクステージベース１１上に設けられるｘ軸及びｙ軸アパーチャ駆動部８６，８７の構成をコンパクトに配置することができる。
【００５３】
また、第１駆動機構は、モータ９２，１１３とボールねじ機構によって構成され、第２駆動機構は、エアシリンダ９７，１０１，１１８，１２３によって構成されるので、上側シャッター８０，８１は、露光領域を任意、且つ精密に制限することができ、さらに、高速駆動することができる。
【００５４】
なお、本発明は本実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜変更可能である。
【００５５】
本実施形態では、第２の平板状シャッター８３，８５を２つのエアシリンダを用いて駆動するようにしたが、１つのエアシリンダを用いて駆動するようにしても良い。
【００５６】
本実施形態では、２次元のステップ送りを行なえるステップ式近接露光装置について説明したが、１次元のステップ送りを行なうステップ式近接露光装置や、ステップ送りを行なわない近接露光装置にも適用可能である。
【００５７】
本実施形態では、第２の平板状シャッター８３，８５は、第１の平板状シャッター８２，８４の上方に配置されているが、下方に配置されるように構成してもよく、この場合、第２の平板状シャッター８３，８５とｘ軸，ｙ軸下側シャッター７０、７１との間隔を小さくすることができ、これらのシャッター７０，７１，８３，８５のコリメーション角を考慮したオーバーラップする長さは短くすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１】本発明の一実施形態に係る分割逐次近接露光装置を説明するための一部分解斜視図である。
【図２】図１に示す分割逐次近接露光装置の正面図である。
【図３】本発明に係る近接露光装置のマスクステージのマスクアパーチャー機構を示す上面図である。
【図４】図３のIV拡大図である。
【図５】図３のマスクアパーチャ機構をＶ方向から見た断面図である。
【図６】図３のマスクアパーチャ機構をVI向から見た断面図である。
【図７】本発明のマスクアパーチャ機構の動作を説明するための模式図である。
【符号の説明】
【００５９】
ＰＥ  分割逐次近接露光装置（近接露光装置）
Ｗ  ガラス基板（被露光材）
Ｍ  マスク
１０  マスクステージ
１１  マスクステージベース
１２  マスク保持枠（マスク保持部）
１３  マスク位置調整機構
１７  ギャップセンサ
１８  アライメントカメラ
１９  マスクアパーチャ機構
２０  基板ステージ
２１  基板保持部
２２  基板移動機構
２４  ｙ軸送り機構
２６  ｘ軸送り機構
２７  ｚ−チルト調整機構
４０  照明光学系
５０  装置ベース
５２  ｚ軸移動機構
７０，７１  下側シャッター
８０，８１  上側シャッター
８２，８４  第１の平板状シャッター
８３，８５  第２の平板状シャッター
８６  ｘ軸アパーチャ駆動部
８７  ｙ軸アパーチャ駆動部
９１，１１２  第１可動テーブル（第１可動部）
１００，１２２  第３可動テーブル（第２可動部）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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