(57)【要約】【課題】外周端部での磁気ヘッドの動作を、特にＬＵＬに際して、より安定とする磁気記録媒体の基体として供される情報記録媒体用ガラス基板を提供する。【解決手段】前記情報記録媒体用ガラス基板の径方向で主表面に垂直な断面の同一の主表面側の輪郭線の上で、位置Ｒ１と位置Ｒ１から外周端面への方向に一定間隔離れて位置Ｒ２とを定め、輪郭線は位置Ｒ１から位置Ｒ２の間から基板側に下降し、下降している輪郭線が位置Ｒ２に達すまでの間に、変曲点が１つ有り、位置Ｒ１から変曲点に至る輪郭線に接する第１の接線と主表面の平坦部を基準とする基準平面とが成す最大角度θ１及び変曲点から位置Ｒ２に至る輪郭線に接する第２の接線と第１の接線とが成す最大角度θ２は、条件式を満たし、且つ、位置Ｒ２より外周端面への方向の輪郭線は、基準平面より基板側にあって、基準平面より離れる方向へ伸びて外周端面に至る。【選択図】図１
2008204499.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
平坦部を有する主表面と同心の外周端面と内周端面とを有するドーナツ形状の情報記録媒体用ガラス基板において、
前記情報記録媒体用ガラス基板の径方向で前記主表面に垂直な断面の同一の主表面側の輪郭線の上で、位置Ｒ１と前記位置Ｒ１から前記外周端面への方向に一定間隔離れて位置Ｒ２とを定め、
前記輪郭線は前記位置Ｒ１から前記位置Ｒ２の間から前記情報記録媒体用ガラス基板側に下降し、
下降している前記輪郭線が前記位置Ｒ２に達するまでの間に、変曲点が１つ有り、
前記位置Ｒ１から変曲点に至る前記輪郭線に接する第１の接線と前記主表面の平坦部を基準とする基準平面とが成す最大角度θ１及び前記変曲点から前記位置Ｒ２に至る前記輪郭線に接する第２の接線と前記第１の接線とが成す最大角度θ２は、以下の条件式を満たし、
０°  ＜  θ１  ≦  ５°
θ１×０．５  ≦  θ２  ≦  θ１×２
且つ、前記位置Ｒ２より前記外周端面への方向の輪郭線は、前記基準平面より基板側にあって、前記基準平面より離れる方向へ伸びて前記外周端面に至ることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板。
但し、
位置Ｒ１：情報記録媒体用ガラス基板の中心軸からの距離がＲ×０．９０である位置
位置Ｒ２：情報記録媒体用ガラス基板の中心軸からの距離がＲ×０．９７５である位置
Ｒ：情報記録媒体用ガラス基板の中心軸から外周端面までの距離
最大角度θ１：基準平面から第１の接線の方向に向かう角度（プラス）とする。
最大角度θ２：第１の接線から第２の接線の方向に向かう角度（プラス）とする。
【請求項２】
請求項１に記載の情報記録媒体用ガラス基板の表面に磁性膜を有することを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項３】
ＬＵＬ方式の磁気記録媒体であることを特徴とする請求項２に記載の磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、情報記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、コンピュータ等に用いられる磁気ディスク用基板としては、アルミニウム基板が一般的に用いられてきた。しかし磁気ディスクの小型化・薄板化とともに高記録密度化が図られ、磁気ヘッドの低浮上化とともに磁気ヘッド機構についてもＣＳＳ（Ｃｏｎｔａｃｔ  Ｓｔａｒｔ  Ｓｔｏｐ）方式からＬＵＬ（Ｌｏａｄ  Ｕｎｌｏａｄ）方式に移行しつつある。ＬＵＬ方式では、ＣＳＳ方式に比べ磁気ヘッドの低浮上走行が可能であるため、より高密度記録が可能となり記録の大容量化に対応することができる。ＣＳＳ方式からＬＵＬ方式への移行に伴い、アルミニウム基板に比べ硬度、強度ならびに平坦性に優れたガラス基板の採用が増えつつある。
【０００３】
このＬＵＬ方式の場合、磁気ディスクが停止している時、磁気ヘッドは磁気ディスクの外側に待機して、磁気ディスクが回転した後に、ガイド機構を使って磁気ヘッドがディスクの外側からディスク面上に移動して記録・再生を行う。また、一般にＣＳＳ方式と比較してＬＵＬ方式の磁気ヘッドは低浮上走行である。このため、磁気ディスクの外周端部において、磁気ヘッドの浮上安定性を確保するため、磁気ディスクの外周端部形状をＣＳＳ方式に比べ厳密に規定する必要がある。
【０００４】
このようなＬＵＬ方式に対応可能な磁気ディスク用ガラス基板（以降、基板とも称する。）のグライド領域（記録・再生はしないが磁気ヘッドが浮上走行する領域）の外周端位置から一定間隔離れた記録エリアの最外周端位置までの領域において、以下（１）且つ（２）を定めたものがある。
（１）基板の主表面の平坦部を基準面とし最も高点（スキージャンプ点）の値（スキージャンプ値）を±０．３５μｍ以内する。
（２）グライド領域の外周端位置（ロールオフ点）の値（ロールオフ値）を±０．３５μｍ以内とする。（特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００１−１６７４２７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１に記載の磁気ディスク用ガラス基板における外周端部の形状は、スキージャンプ値及びロールオフ値とこれらの値を持つ領域のみが示されてある。２．５インチ基板（φ６５ｍｍ）の例では、グライド領域の外周端位置を基板の中心から３１．５ｍｍの位置とし、一定間隔離れた記録エリア内の点の位置を２７．１ｍｍの位置としている。この中心から２７．１ｍｍから３１．５ｍｍの範囲において、スキージャンプ値及びロールオフ値を持つ外周端部の形状がどのような形状であるかに関しては規定していない。このため、スキージャンプ値やロールオフ値が同じであっても、これらの値を持つ位置周辺のガラス基板面が、特にＬＵＬ時に磁気ヘッドが安定して走行できない程度に急峻な斜面となっている場合がある。このような磁気ディスク用ガラス基板に磁性膜を設けた磁気ディスクにおいては、磁気ヘッドの浮上安定性が悪くなり、磁気ディスク表面に衝突して磁気ディスク表面を傷つけたり、磁気ヘッド自体が破損したりして、ガラス基板や磁気ヘッドを備えた磁気ディスクドライブ装置が使用不能となることが考えられる。
【０００６】
本発明は、上記の問題を鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、外周端部での磁気ヘッドの動作を、特にＬＵＬに際して、より安定とする磁気記録媒体及び磁気記録媒体の基体として供される情報記録媒体用ガラス基板を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の課題は、以下の構成により解決される。
【０００８】
１．  平坦部を有する主表面と同心の外周端面と内周端面とを有するドーナツ形状の情報記録媒体用ガラス基板において、
前記情報記録媒体用ガラス基板の径方向で前記主表面に垂直な断面の同一の主表面側の輪郭線の上で、位置Ｒ１と前記位置Ｒ１から前記外周端面への方向に一定間隔離れて位置Ｒ２とを定め、
前記輪郭線は前記位置Ｒ１から前記位置Ｒ２の間から前記情報記録媒体用ガラス基板側に下降し、
下降している前記輪郭線が前記位置Ｒ２に達するまでの間に、変曲点が１つ有り、
前記位置Ｒ１から変曲点に至る前記輪郭線に接する第１の接線と前記主表面の平坦部を基準とする基準平面とが成す最大角度θ１及び前記変曲点から前記位置Ｒ２に至る前記輪郭線に接する第２の接線と前記第１の接線とが成す最大角度θ２は、以下の条件式を満たし、
０°  ＜  θ１  ≦  ５°
θ１×０．５  ≦  θ２  ≦  θ１×２
且つ、前記位置Ｒ２より前記外周端面への方向の輪郭線は、前記基準平面より基板側にあって、前記基準平面より離れる方向へ伸びて前記外周端面に至ることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板。
但し、
位置Ｒ１：情報記録媒体用ガラス基板の中心軸からの距離がＲ×０．９０である位置
位置Ｒ２：情報記録媒体用ガラス基板の中心軸からの距離がＲ×０．９７５である位置
Ｒ：情報記録媒体用ガラス基板の中心軸から外周端面までの距離
最大角度θ１：基準平面から第１の接線の方向に向かう角度（プラス）とする。
最大角度θ２：第１の接線から第２の接線の方向に向かう角度（プラス）とする。
【０００９】
２．  １に記載の情報記録媒体用ガラス基板の表面に磁性膜を有することを特徴とする磁気記録媒体。
【００１０】
３．  ＬＵＬ方式の磁気記録媒体であることを特徴とする２に記載の磁気記録媒体。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、情報記録媒体用ガラス基板の位置Ｒ１から位置Ｒ２までの形状を規定することができる。位置Ｒ１から位置Ｒ２の範囲の形状は、基準平面に対する傾斜が±５°以内とする斜面で構成されることになり、急峻な斜面を含まない。また、位置Ｒ２から外周端面の範囲の形状は、基準平面を超えることなく外周端面に至る。よって、磁気ヘッドは、外周端部分で安定して浮上走行することができる。外周端部での磁気ヘッドの安定は特にＬＵＬの際有利である。
【００１２】
従って、磁気ヘッドの特にＬＵＬに際して記録ヘッドの動作をより安定とする磁気記録媒体及び磁気記録媒体の基体として供される記録媒体用ガラス基板を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本発明を図示の実施の形態に基づいて説明するが、本発明は該実施の形態に限らない。
【００１４】
図２は、本発明に係わる情報記録媒体用ガラス基板（以降、ガラス基板とも称する。）１の全体構成を示している。図２に示す様に、ガラス基板１は、中心に孔１３が形成されたドーナツ状の円板形状をしている。１４は外周端面、１５は内周端面、１０ａは表主表面、１０ｂは裏主表面を示している。また、図３は、図２で示したガラス基板１の表主表面１０ａの上に磁性膜２を備えている磁気記録媒体Ｄの一例を示す図である。磁性膜２は裏主表面１０ｂの上にも設けることができる。
【００１５】
図２に示すガラス基板１の中心を通り、表主表面１０ａに垂直な面で切断した断面を考える。この断面において、ガラス基板１における表主表面１０ａ側の外周端部の周辺部分を模式的に拡大して図１に示す。図１に示す形状は、裏主表面１０ｂにおいても、加工上の誤差はあるものの、表主表面１０ａと同様であるため、以降では表主表面側に関して説明し、裏主表面側の説明は省略する。
【００１６】
図１において、ＢＬは表主表面１０ａ側のガラス基板１の輪郭線、ＳＨは主表面１０ａの平坦部を基準とする基準平面、Ｒｔはガラス基板１の中心軸からの距離がＲである外周端面１４の位置、Ｒ１は中心軸からの距離が０．９×Ｒの位置、Ｒ２は中心軸からの距離が０．９７５×Ｒの位置を示している。輪郭線ＢＬは、位置Ｒ１と位置Ｒ２との間から下降している。
【００１７】
２．５インチのガラス基板を例とすると、位置Ｒ１、位置Ｒ２、位置Ｒｔは次の通りとなる。ガラス基板１の中心を０とすると、位置Ｒｔは３２．５ｍｍ（＝Ｒ）、位置Ｒ１は２９．２５ｍｍ、位置Ｒ２は３１．６９ｍｍとなる。特許文献１で示したロールオフを規定している径方向の位置は、上記の通り３１．５ｍｍであるので、位置Ｒ２の方がより少し外周端側となる。
【００１８】
また、Ｈｐは位置Ｒ１と位置Ｒ２との間にある輪郭線ＢＬの変曲点、ＴＬ１は位置Ｒ１から変曲点Ｈｐまでの輪郭線ＢＬに接す第１の接線の一例、ＴＬ２は変曲点Ｈｐから位置Ｒ２までの輪郭線ＢＬに接する第２の接線の一例を示している。
【００１９】
図１において、第１の接線ＴＬ１と基準平面ＳＨとが成す最大角度θ１（図中の矢印が示す、基準平面ＳＨから接線ＴＬ１に向かう方向（時計回り方向）の角度。）は、以下の条件式（１）を満足する。
【００２０】
０°  ＜  θ１  ≦  ５°            （１）
上記条件式（１）が規定する輪郭線ＢＬは、位置Ｒ１から位置Ｒ２の間で基準平面ＳＨと成す最大角度が０°を超えて５°以下の範囲で基準平面ＳＨからガラス基板の厚み方向へ向かって離れる方向へ伸延していく。よって、輪郭線ＢＬが示す主表面は、基準平面に対してガラス基板の厚み方向へ基準面から離れる面をなし、その面の傾斜は０°を超えて５°以下の範囲となって、急峻な面を含まない。また、主平面はガラス基板の反対側へ基準平面を超える凸形状を有さない。よって、磁気ヘッドは、ガラス基板の外周端部分で安定して浮上走行することができる。外周端部での磁気ヘッドの良好な安定は特にＬＵＬの際有利である。
【００２１】
更に、上記の角度範囲内で伸延する輪郭線ＢＬは、位置Ｒ２に到達するまでに変曲点Ｈｐを有している。この変曲点Ｈｐを超えた後は下降角度（ガラス基板の厚み方向に向かう角度）が緩やかになり、場合によっては上昇に転じる。変局点Ｈｐを超えた輪郭線ＢＬにおける第２の接線ＴＬ２と第１の接線ＴＬ１とが成す最大角度θ２（図中の矢印が示す、第１の接線ＴＬ１から第２の接線ＴＬ２に向かう方向（反時計回り方向）の角度。）は、以下の条件式を満足する。
【００２２】
θ１×０．５  ≦  θ２  ≦  θ１×２            （２）
上記条件式（２）が規定する輪郭線ＢＬは、この変曲点Ｈｐ以降の輪郭線ＢＬは、最大角度θ１における第１の接線ＴＬ１と成す最大角度が２．５°以上１０°以下、言い換えると基準平面ＳＨと成す最大角度が−２．５°（下降方向）以上＋５°（上昇方向）以下の範囲となる。よって、輪郭線ＢＬが示す主表面は、基準平面に対する傾斜が−２．５°以上５°以下の範囲とする斜面で構成されることになり、急峻な斜面を含まない。よって、磁気ヘッドは、外周端部分で安定して浮上走行することができる。外周端部での磁気ヘッドの良好な安定は特にＬＵＬの際有利である。
【００２３】
従って上記条件式（１）及び（２）が規定する輪郭線ＢＬは、輪郭線ＢＬと表主表面１０ａを含む基準平面ＳＨと成す最大角度は位置Ｒ１から位置Ｒ２の範囲内で±５°以下となる。上記の形状が形成されたガラス基板を基体として磁性膜を設けた情報記録媒体において、位置Ｒ１から位置Ｒ２において、急峻な斜面がない。従って、外周端部で磁気ヘッドは安定して浮上走行することができ、磁気ヘッドが磁気ディスク表面に衝突して、磁気ディスク表面を傷つけたり、磁気ヘッド自体が破損することがない。外周端部での磁気ヘッドの良好な安定は特にＬＵＬの際有利である。
【００２４】
また、外周端面１４は、後で説明する製造工程において内・外径加工工程、内周及び外周端面加工をしているため、位置Ｒ２から外周端面方向に向かって上向きに最大角度＋５°で上昇する輪郭線ＢＬであっても、基準平面ＳＨを超えることはなく、最終的には、端面加工されている面に収束し外周端面１４に至ることになる。よって、位置Ｒ２から外周端面において、磁気ヘッドがＬＵＬする際に障害となる凸部が存在しない。従って、ＬＵＬに際して、磁気ヘッドは安定して移動することができる。
【００２５】
また、外周端部を急峻な斜面がないことから、ガラス基板を基体とする磁気記録媒体を、例えば７２００ｒｐｍ程度の高速で回転させた場合、外周端部で異常空気流動を発生を抑えることができるため、回転数を安定させ、また磁気ヘッドの移動を安定させることもできる。
【００２６】
上記で説明した外周端部の形状を有するガラス基板を基体とする磁気記録媒体は、ＬＵＬ方式の磁気記録媒体とすることによって最もその効果を得ることができる。
【００２７】
本発明の情報記録媒体用ガラス基板は、磁気記録媒体に限定されるものではなく、光磁気ディスクや光ディスクなどにも用いることができる。
【００２８】
（情報記録媒体用ガラス基板の製造工程）
情報記録媒体用ガラス基板の製造工程に関して説明する。ガラス基板の製造方法の例として、図４に示す製造フローを用いて以下で説明する。
【００２９】
ガラス基板の大きさに限定はない。例えば、外径が２．５インチ、１．８インチ、１インチ、０．８インチなど種々の大きさのガラス基板がある。また、ガラス基板の厚みにも限定はなく、２ｍｍ、１ｍｍ、０．６３ｍｍなど種々の厚みのガラス基板がある。
【００３０】
まず、ガラス素材を溶融し（ガラス溶融工程）、溶融ガラスを下型に流し込み、上型によってプレス成形して円板状のガラス基板前駆体を得る（プレス成形工程）。なお、円板状のガラス基板前駆体は、プレス成形によらず、例えばダウンドロー法やフロート法で形成したシートガラスを研削砥石で切り出して作製してもよい。
【００３１】
ガラス基板の材料としては、イオン交換による化学強化が可能なガラスであれば特に制限はない。例えば、ＳｉＯ2、Ｎａ2Ｏ、ＣａＯを主成分としたソーダライムガラス；ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｒ2Ｏ（Ｒ＝Ｋ、Ｎａ、Ｌｉ）を主成分としたアルミノシリケートガラス；ボロシリケートガラス；Ｌｉ2Ｏ−ＳｉＯ2系ガラス；Ｌｉ2Ｏ−Ａｌ2Ｏ3−ＳｉＯ2系ガラス；Ｒ’Ｏ−Ａｌ2Ｏ3−ＳｉＯ2系ガラス（Ｒ’＝Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ）などを使用することができる。中でも、アルミノシリケートガラスやボロシリケートガラスは、耐衝撃性や耐振動性に優れるため特に好ましい。
【００３２】
プレス成形したガラス基板前駆体は、カッター部にダイヤモンド砥石等を備えたコアドリル等で中心部に孔を開ける（コアリング加工工程）。
【００３３】
次に、ガラス基板の両表面を研磨加工し、ガラス基板の全体形状、すなわちガラス基板の平行度、平坦度および厚みを予備調整する（第１ラッピング工程）。
【００３４】
次に、ガラス基板の外周端面および内周端面を、例えば鼓状のダイヤモンド等の研削砥石により研削することで内・外径加工する（内・外径加工工程）。この内・外径加工により、ガラス基板の外径寸法および真円度、孔の内径寸法、並びにガラス基板と孔との同心度を微調整し、また、ガラス基板の内・外周角部を、例えば、０．１ｍｍから０．２ｍｍ程度の４５°の面取りをする。この後、ガラス基板の内周端面を、研磨液を使用したブラシ研磨により面取り部の角部を曲面とし、また微細なキズ等を除去する（内周端面加工工程）。
【００３５】
次に、ガラス基板の両表面を再び研磨加工して、ガラス基板の平行度、平坦度および厚みを微調整する（第２ラッピング工程）。そして、ガラス基板の外周端面を、研磨液を使用したブラシ研磨により面取り部の角部を曲面とし、また微細なキズ等を除去する（外周端面加工工程）。
【００３６】
コアリング加工以降の第１ラッピング工程から外周端面加工工程までの順序は、図５に示したものに限定されず、状況に応じて適宜変更することができる。例えば、ラッピング工程を一つにして最初に行ない、その後、内・外径加工工程、内周、外周端面加工工程を行っても良い。また、第１ラッピング工程、内・外径加工工程の後、第２ラッピング工程、内周、外周端面加工工程を行っても良い。
【００３７】
外周端面加工工程までの製造工程で、位置Ｒ２から外周端面１４の最終形状がほぼ決まる。また、主表面１０ａの外周端部の位置Ｒ１から位置Ｒ２の範囲の形状は、以降で説明する特に第１ポリシング工程で本発明に係わる所望の形状にすることができる。よって、ここまでの工程で形成する位置Ｒ１から位置Ｒ２の範囲の形状は、特に限定する必要はないが、以降の製造工程で所望の形状にするために大きな負担がかからないような形状とするのが好ましい。また、位置Ｒ２から外周端面１４に至る外周端部の形状は、第１及び第２ポリッシングにより、位置Ｒ１から位置２に渡って形成される形状から外周端面加工により形成された形状に滑らかに連続して続く状態とすることができる。
【００３８】
第１及び第２ラッピング工程にてガラス基板を研磨する研磨機について説明する。研磨機は、両面研磨機と呼ばれる公知の研磨機を使用できる。両面研磨機は、互いに平行になるように上下に配置された円盤状の上定盤と下定盤とを備えており、互いに逆方向に回転する。この上下の定盤の対向するそれぞれの面にガラス基板の主表面を研磨するための複数のダイヤモンドペレットが貼り付けてある。上下の定盤の間には、下定盤の外周に円環状に設けてあるインターナルギアと下定盤の回転軸の周囲に設けてある太陽ギアとに結合して回転する複数のキャリアがある。このキャリアには、複数の穴が設けてあり、この穴にガラス基板をはめ込んで配置する。上下の定盤、インターナルギア及び太陽ギアは別駆動で動作することができる。
【００３９】
研磨機の研磨動作は、上下の定盤が互いに逆方向に回転し、ダイヤモンドペレットを介して定盤に挟まれているキャリアは、複数のガラス基板を保持した状態で、自転しながら定盤の回転中心に対して下定盤と同じ方向に公転する。このような動作している研磨機において、研削液を上定盤とガラス基板及び下定盤とガラス基板との間に供給することでガラス基板の研磨を行うことができる。
【００４０】
この両面研磨機を使用する際、ガラス基板に加わる定盤の加重及び定盤の回転数を所望の研磨状態に応じて適宜調整する。第１及び第２ラッピング工程における加重は、６０ｇ／ｃｍ2から１２０ｇ／ｃｍ2とするのが好ましい。また、定盤の回転数は、１０ｒｐｍから３０ｒｐｍ程度とし、上の定盤の回転数を下の定盤回転数より３０％から４０％程度遅くするのが好ましい。定盤による加重を大きくし、定盤の回転数を速くすると研磨量は多くなるが、加重を大きくしすぎると面粗さが良好とならず、また、回転数が速すぎると平坦度が良好とならない。また加重が小さく定盤の回転数が遅いと研磨量が少なく製造効率が低くなる。
【００４１】
第２ラッピング工程を終えた時点で、大きなうねり、欠け、ひび等の欠陥は除去され、ガラス基板の主表面の面粗さは、Ｒｍａｘが２μｍから４μｍ、Ｒａが０．２μｍから０．４μｍ程度とするのが好ましい。このような面状態にしておくことで、次の化学強化工程を経て第１ポリッシング工程で研磨を効率よく行うことができる。
【００４２】
尚、第１ラッピング工程では、第２ラッピング工程を効率よく行うことができるように大まかに大きなうねり、欠け、ひびを効率よく除去する。このため、第２ラッピングで使用する粗さ＃１３００メッシュから＃１７００メッシュより粗い＃８００メッシュから＃１２００メッシュ程度のダイヤモンドペレットを使用するのが好ましい。第１ラッピング工程が完了した時点での面粗さは、Ｒｍａｘが４μｍから８μｍで、Ｒａが０．４μｍから０．８μｍ程度とするのが好ましい。
【００４３】
ガラス基板の内周、外周の端面は、内周及び外周端面加工工程でブラシ研磨によるポリッシング加工を行う。ブラシは、φ０．２からφ０．３ｍｍ程度のナイロン、ポリプロピレン等を使用するのが好ましい。また、研磨液は、粒径が数μｍ程度の酸化セリウムが好ましい。ブラシ研磨の結果、内周、外周の端面の面粗さは、Ｒｍａｘが０．２μｍから０．４μｍで、Ｒａが０．０２μｍから０．０４μｍ程度とするのが好ましい。内・外径加工工程及び内周及び外周端面加工工程を経たガラス基板の端面の形状は、主表面と端面とが成す角部が取り除かれ、外周端面から０．２ｍｍから０．５ｍｍ程度の位置から主表面よりダレた状態となる。
【００４４】
ここで、Ｒａ（中心線平均粗さ）、Ｒｍａｘ（最大高さ）は、ＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１で規定されている。これらは、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）等により測定することができる。これら規定及び測定方法は、以降で記述されるＲａ、Ｒｍａｘについても同じく適用する。
【００４５】
上記の例では、ガラス基板を研磨する際にダイヤモンドペレットと研削液を用いているが、上下の定盤の研磨面にパッドを貼り付け、研磨液を供給して研磨する方法とすることもできる。研磨剤としては、例えば、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化マンガン、コロイダルシリカ、ダイヤモンドなどが挙げられる。これらを水で分散化してスラリー状として使用する。パッドは硬質パッドと軟質パッドとに分けられるが、必要に応じて適宜選択して用いることができる。硬質パッドとしては、硬質ベロア、ウレタン発泡、ピッチ含有スウェード等を素材とするパッドが挙げられ、軟質パッドとしては、スウェードやベロア等を素材とするパッドが挙げられる。
【００４６】
パッドと研磨剤を使用する研磨方法は、研磨剤の粒度やパッドの種類を変えて、粗研磨から精密研磨まで対応することができる。よって、第１ラッピング工程と第２ラッピング工程で、効率よく大きなうねり、欠け、ひび等を除去し上記の面粗さを得ることができる様に研磨材、研磨材の粒度、パッドを適宜組み合わせて対応することができる。
【００４７】
また、第１及び第２ラッピング工程の後、ガラス基板の表面に残った研磨剤やガラス粉を除去するための洗浄工程を行うことが好ましい。
【００４８】
尚、第１ラッピング工程及び第２ラッピング工程で使用する研磨機は、同一構成ではあるがそれぞれの工程専用に用意された別の研磨機を用いて研磨加工を行うのが好ましい。これは、専用のダイヤモンドペレットを貼り付けているため交換が大掛かりな作業となり、また、研磨条件を再設定する等の煩雑な作業が必要となり、製造効率が低下するためである。
【００４９】
第２ラッピング工程の次に、化学強化液にガラス基板を浸漬してガラス基板に化学強化層を形成する（化学強化工程）。化学強化層を形成することで耐衝撃性、耐振動性及び耐熱性等を向上させることができる。
【００５０】
化学強化工程は、加熱された化学強化処理液にガラス基板を浸漬することによってガラス基板に含まれるリチウムイオン、ナトリウムイオン等のアルカリ金属イオンをそれよりイオン半径の大きなカリウムイオン等のアルカリ金属イオンによって置換するイオン交換法によって行われる。イオン半径の違いによって生じる歪みより、イオン交換された領域に圧縮応力が発生し、ガラス基板の表面が強化される。
【００５１】
化学強化処理液に特に制限はなく、公知の化学強化処理液を用いることができる。通常、カリウムイオンを含む溶融塩又はカリウムイオンとナトリウムイオンをふくむ溶融塩を用いることが一般的である。カリウムイオンやナトリウムイオンを含む溶融塩としては、カリウムやナトリウムの硝酸塩、炭酸塩、硫酸塩やこれらの混合溶融塩が挙げられる。中でも、融点が低く、ガラス基板の変形を防止できるという観点からは、硝酸塩を用いることが好ましい。
【００５２】
化学強化処理液は、上記の成分が融解する温度よりも高温になるよう加熱される。一方、化学強化処理液の加熱温度が高すぎると、ガラス基板の温度が上がりすぎ、ガラス基板の変形を招く恐れがある。このため、化学強化処理液の加熱温度はガラス基板のガラス転移点（Ｔｇ）よりも低い温度が好ましく、ガラス転移点−５０℃よりも低い温度とすることが更に好ましい。
【００５３】
なお、加熱された化学強化処理液に浸漬される際の熱衝撃によるガラス基板の割れや微細なクラックの発生を防止するため、化学強化処理液への浸漬に先立って、予熱槽でガラス基板を所定温度に加熱する予熱工程を有していても良い。
【００５４】
化学強化層の厚みとしては、ガラス基板の強度向上とポリッシング工程の時間の短縮との兼ね合いから、５μｍ〜１５μｍ程度の範囲が好ましい。強化層の厚みがこの範囲の場合、平坦度、機械的強度である耐衝撃性が良好なガラス基板とすることができる。
【００５５】
化学強化工程後の主表面１０ａの外周端部の形状は、化学強化工程前とほとんど変わらず、上記の５μｍ〜１５μｍ程度の化学強化層がガラス基板の表面全体にほぼ一様に載った状態となる。
【００５６】
次に、ポリッシング工程に関して説明する。ポリッシング工程では、ガラス基板の表面を精密に仕上げると伴に主表面の外周端部の形状を本発明の形状を得る様に研磨する。
【００５７】
まず、第１ポリシング工程では、第２ポリッシング工程で最終的に必要とされる面粗さを効率よく得ることができるように、面粗さを向上させるとともに最終的に本発明の形状を効率よく得ることができる研磨を行う。
【００５８】
研磨の方法は、ラッピング工程で使用したダイヤモンドペレットと研削液に代えて、パットと研磨液を使用する以外は第１及び２ラッピング工程で使用した研磨機と同一の構成の研磨機を使用する。
【００５９】
パッドは硬度Ａで８０から９０程度の硬質パッドで例えば発泡ウレタンを使用するのが好ましい。パッドの硬度が研磨による発熱により柔らかくなると研磨面の形状変化が大きくなるため硬質パッドを用いるのが好ましい。研磨材は、粒径が０．６μｍから２．５μｍの酸化セリウム等を水に分散させてスラリー状にして用いるのが好ましい。水と研磨剤との混合比率は、概ね１：９から３：７程度が好ましい。
【００６０】
定盤によるガラス基板への加重は、９０ｇ／ｃｍ2から１１０ｇ／ｃｍ2とするのが好ましい。定盤によるガラス基板への加重は、外周端部の形状に大きく影響する。加重を大きくしていくと、外周端部の内側が下がり外側に向かって上がる傾向を示す。また、加重を小さくしていくと、外周端部は平面に近くなるとともに面ダレが大きくなる傾向を示す。こうした傾向を観察しながら加重を決めることができる。
【００６１】
また、化学強化工程までに得た平坦度を維持し、さらに面粗さを向上させるように定盤の回転数を２５ｒｐｍから５０ｒｐｍとし、上の定盤の回転数を下の定盤回転数より３０％から４０％遅くするのが好ましい。
【００６２】
上記の研磨条件により研磨量を３０μｍから４０μｍとするのが好ましい。３０μｍ未満では、キズや欠陥を十分に除去ができない。また４０μｍを超える場合は、面粗さをＲｍａｘが２ｎｍから６０ｎｍ、Ｒａが２ｎｍから４ｎｍの範囲とすることができるが、必要以上に研磨を行うことになり製造効率が低下する。
【００６３】
第２ポリッシング工程は、第１ポリッシング工程後のガラス基板の表面を更に精密に研磨する工程である。第２ポリッシング工程で使用するパッドは、第１ポリッシング工程で使用するパッドより柔らかい硬度６５から８０（ＡｓｋｅｒーＣ）程度の軟質パッドで、例えば発泡ウレタンやスウェードを使用するのが好ましい。研磨材としては、第１ポリッシング工程と同様の酸化セリウム等を用いることができるが、ガラス基板の表面をより滑らかにするため、粒径がより細かくバラツキが少ない研磨剤を用いるのが好ましい。粒径の平均粒子径が４０ｎｍから７０ｎｍの研磨剤を水に分散させてスラリー状にして研磨液として用い、水と研磨剤との混合比率は、１：９から３：７程度が好ましい。
【００６４】
定盤によるガラス基板への加重は、９０ｇ／ｃｍ2から１１０ｇ／ｃｍ2が好ましい。定盤によるガラス基板への加重は、第１ポリッシング工程と同様に外周端部の形状に大きく影響するが、研磨速度が遅いため第１ポリッシング工程ほど効率的に形状を変化させることはできない。加重の加減による外周端部の形状の変化は、第１ポリッシング工程と同様であり、加重を大きくしていくと、外周端部の内側が下がり外側に向かって上がる傾向を示す。また、加重を小さくしていくと、外周端部は平面に近くなるとともに面ダレが大きくなる傾向を示す。外周端部の形状を得るために、こうした傾向を観察しながら加重を決めることができる。定盤の回転数を１５ｒｐｍから３５ｒｐｍとし、上定盤の回転数を下定盤の回転数より３０％から４０％遅くするのが好ましい。
【００６５】
上記の様に第２ポリッシング工程での研磨条件を調整して本発明の外周端部の形状を得ると伴に、面粗さをＲｍａｘが２ｎｍから６ｎｍ、Ｒａが０．２ｎｍから０．４ｎｍの範囲とすることができる。
【００６６】
研磨量は２μｍから５μｍとするのが好ましい。研磨量をこの範囲とすると、表面に発生した微小な荒れやうねり、これまでの工程で生じた微小な傷痕といった微小な欠陥を効率良く除去することができる。
【００６７】
第１及び第２ポリッシング工程によって、ガラス基板の表面の化学強化された領域が減少する。第１及び第２ポリッシング工程の後のガラス基板の表面に化学強化された領域が残っているか否か、あるいは残っている強化された領域の厚みについては制限はない。
【００６８】
第２ポリッシング工程の終了後、ガラス基板の洗浄及び検査を行ない、情報記録媒体用ガラス基板が完成する。
【００６９】
尚、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法においては、上記以外の種々の工程を有していても良い。例えば、ガラス基板の内部歪みを緩和するためのアニール工程、ガラス基板の強度の信頼性確認のためのヒートショック工程、ガラス基板の表面に残った研磨剤や化学強化処理液等の異物を除去する洗浄工程、種々の検査・評価工程等を有していても良い。
【００７０】
また、第２ポリッシング工程では、第１ポリッシング工程で使用した研磨機をそのまま用いるのではなく、同一構成ではあるがそれぞれの工程専用に用意された別の研磨機を用いて研磨を行うのが好ましい。これは、第１ポリッシング工程で使用した研磨機をそのまま用いると第１ポリッシング工程で残留した研磨剤等により第２ポリッシング工程での研磨精度が低下したり、研磨条件を再設定する等の煩雑な作業が必要となり、製造効率が低下するためである。
【００７１】
次に、情報記録媒体用ガラス基板に設ける磁気記録媒体について説明する。以下、図面に基づき磁気記録媒体について説明する。
【００７２】
図３は磁気記録媒体の一例である磁気ディスクの斜視図である。この磁気ディスクＤは、円形の情報記録媒体用ガラス基板１の表面に磁性膜２を直接形成されている。磁性膜２の形成方法としては従来公知の方法を用いることができ、例えば磁性粒子を分散させた熱硬化性樹脂を基板上にスピンコートして形成する方法や、スパッタリング、無電解めっきにより形成する方法が挙げられる。スピンコート法での膜厚は約０．３μｍ〜１．２μｍ程度、スパッタリング法での膜厚は０．０４μｍ〜０．０８μｍ程度、無電解めっき法での膜厚は０．０５μｍ〜０．１μｍ程度であり、薄膜化および高密度化の観点からはスパッタリング法および無電解めっき法による膜形成が好ましい。
【００７３】
磁性膜に用いる磁性材料としては、特に限定はなく従来公知のものが使用できるが、高い保持力を得るために結晶異方性の高いＣｏを基本とし、残留磁束密度を調整する目的でＮｉやＣｒを加えたＣｏ系合金などが好適である。具体的には、Ｃｏを主成分とするＣｏＰｔ、ＣｏＣｒ、ＣｏＮｉ、ＣｏＮｉＣｒ、ＣｏＣｒＴａ、ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＮｉＰｔや、ＣｏＮｉＣｒＰｔ、ＣｏＮｉＣｒＴａ、ＣｏＣｒＰｔＴａ、ＣｏＣｒＰｔＢ、ＣｏＣｒＰｔＳｉＯなどが挙げられる。磁性膜は、非磁性膜（例えば、Ｃｒ、ＣｒＭｏ、ＣｒＶなど）で分割しノイズの低減を図った多層構成（例えば、ＣｏＰｔＣｒ／ＣｒＭｏ／ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＣｒＰｔＴａ／ＣｒＭｏ／ＣｏＣｒＰｔＴａなど）としてもよい。上記の磁性材料の他、フェライト系、鉄−希土類系や、ＳｉＯ2、ＢＮなどからなる非磁性膜中にＦｅ、Ｃｏ、ＦｅＣｏ、ＣｏＮｉＰｔ等の磁性粒子を分散された構造のグラニュラーなどであってもよい。また、磁性膜は、内面型および垂直型のいずれの記録形式であってもよい。
【００７４】
また、磁気ヘッドの滑りをよくするために磁性膜の表面に潤滑剤を薄くコーティングしてもよい。潤滑剤としては、例えば液体潤滑剤であるパーフロロポリエーテル（ＰＦＰＥ）をフレオン系などの溶媒で希釈したものが挙げられる。
【００７５】
さらに必要により下地層や保護層を設けてもよい。磁気ディスクにおける下地層は磁性膜に応じて選択される。下地層の材料としては、例えば、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ、Ｖ、Ｂ、Ａｌ、Ｎｉなどの非磁性金属から選ばれる少なくとも一種以上の材料が挙げられる。Ｃｏを主成分とする磁性膜の場合には、磁気特性向上等の観点からＣｒ単体やＣｒ合金であることが好ましい。また、下地層は単層とは限らず、同一又は異種の層を積層した複数層構造としても構わない。例えば、Ｃｒ／Ｃｒ、Ｃｒ／ＣｒＭｏ、Ｃｒ／ＣｒＶ、ＮｉＡｌ／Ｃｒ、ＮｉＡｌ／ＣｒＭｏ、ＮｉＡｌ／ＣｒＶ等の多層下地層としてもよい。
【００７６】
磁性膜の摩耗や腐食を防止する保護層としては、例えば、Ｃｒ層、Ｃｒ合金層、カーボン層、水素化カーボン層、ジルコニア層、シリカ層などが挙げられる。これらの保護層は、下地層、磁性膜など共にインライン型スパッタ装置で連続して形成できる。また、これらの保護層は、単層としてもよく、あるいは、同一又は異種の層からなる多層構成としてもよい。なお、上記保護層上に、あるいは上記保護層に替えて、他の保護層を形成してもよい。例えば、上記保護層に替えて、Ｃｒ層の上にテトラアルコキシシランをアルコール系の溶媒で希釈した中に、コロイダルシリカ微粒子を分散して塗布し、さらに焼成して二酸化ケイ素（ＳｉＯ2）層を形成してもよい。
【００７７】
上記の様にして得られる本発明の情報記録媒体用ガラス基板を基体とした磁気記録媒体を用いることで、ＬＵＬ時及び高速回転時の磁気ヘッドの動作を安定にすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００７８】
【図１】情報記録媒体用ガラス基板における表主表面から外周端面に至る部分の形状を模式的に示す拡大して示す図である。
【図２】情報記録媒体用ガラス基板の全体構成を示す図である。
【図３】情報記録媒体用ガラス基板の表主表面の上に磁性膜を備えている磁気記録媒体の例を示す図である。
【図４】情報記録媒体用ガラス基板の製造における工程を説明するフロー図である。
【符号の説明】
【００７９】
１  情報記録媒体用ガラス基板（ガラス基板）
２  磁性膜
１０ａ  表主表面
１０ｂ  裏主表面
１３  孔
１４  外周端面
１５  内周端面
Ｄ  磁気ディスク
Ｒ１、Ｒ２、Ｒｔ  位置
ＢＬ  輪郭線
ＳＨ  基準平面
ＴＬ１  第１の接線
ＴＬ２  第２の接線
Ｈｐ  変曲点
θ１、θ２  最大角度
【図１】
2008204499.tif 000003
【図２】
2008204499.tif 000004
【図３】
2008204499.tif 000005
【図４】
2008204499.tif 000006