(57)【要約】【課題】  洗浄性に優れ、かつ金属（特にアルミニウム等）に対する腐蝕性が低い洗浄剤を提供することである。【解決手段】アルカリ（Ａ）、親水性有機溶剤（Ｂ）及び水（Ｃ）からなり、式（１）を満たす洗浄剤を用いる。2008007660.tif 000010αは３０℃における電導度（ｍＳ／ｃｍ）、βはアルカリ価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）、γは３０℃における動粘度（ｍｍ2／ｓ）、δは水分（重量％）を表す。αは３．０〜１５．０ｍＳ／ｃｍが好ましい。（Ａ）は有機アルカリが好ましい。δは１５〜３２重量％が好ましい。さらに電導度調整剤（Ｄ）を含有することが好ましい。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルカリ（Ａ）、親水性有機溶剤（Ｂ）及び水（Ｃ）からなり、式（１）を満たしてなる洗浄剤。
【数１】
2008007660.tif 000008
αは３０℃における電導度（ｍＳ／ｃｍ）、βはアルカリ価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）、γは３０℃における動粘度（ｍｍ2／ｓ）、δは水分（重量％）を表す。
【請求項２】
３０℃における電導度が、３．０〜１５．０ｍＳ／ｃｍである請求項１記載の洗浄剤。
【請求項３】
アルカリ（Ａ）が有機アルカリである請求項１又は２に記載の洗浄剤。
【請求項４】
親水性有機溶媒（Ｂ）が、式（４）で示される化合物である請求項１〜３のいずれかに記載の洗浄剤。
【化１】
2008007660.tif 000009
Ｒ6は炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数２〜１８のアルケニル基、炭素数６〜２４のアリール基又はアルキルアリール基、Ｒ7は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４のアシル基、Ｃは炭素原子、Ｏは酸素原子、Ｈは水素原子、ｍは１〜１０の整数、ｎは２〜４の整数である。
【請求項５】
水分（δ）が１５〜３２重量％であり、さらにアルカリ金属含量が１０，０００ｐｐｍ以下である請求項１〜４のいずれかに記載の洗浄剤。
【請求項６】
さらに電導度調整剤（Ｄ）を含有してなる請求項１〜５のいずれかに記載の洗浄剤。
【請求項７】
さらにヒドロキシル基含有アミン（Ｅ）を含有してなる請求項１〜６のいずれかに記載の洗浄剤。
【請求項８】
液晶パネルの配向膜剥離用である請求項１〜７のいずれかに記載の洗浄剤。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載の洗浄剤を用いて、超音波洗浄法、シャワー洗浄法、スプレー洗浄法、浸漬洗浄法及び浸漬揺動洗浄法からなる群より選ばれる少なくとも１種で洗浄する工程を含むことを特徴とする電子部品の製造方法。
【請求項１０】
電子部品がアルミニウム製部材を含むガラス基板である請求項９に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、洗浄剤に関する。さらに詳しくは液晶パネルの配向膜の剥離液として好適な洗浄剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子部品用洗浄剤として、ピロリドン、水及びアンモニウム塩（硫酸テトラメチルアンモニウム、硫酸アンモニウム等）からなる洗浄剤が提案されている（特許文献１参照）。また、液晶パネルのポリイミド配向膜剥離用洗浄剤（液晶パネルの製造において、配向膜の塗布、液晶の配向に不具合があった場合、配向膜を剥離して液晶パネルガラス基板を回収するための洗浄剤）として、アルカリ（テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド等）及び親水性有機溶剤（ジエチレングリコールモノメチルエーテル等）からなり電導度を調整した洗浄剤が提案されている（特許文献２参照）。
【０００３】
【特許文献１】特開平６−３０６６６１号公報
【特許文献２】特開２００６−６３２０１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、従来の洗浄剤は、金属（アルミニウム等）に対して腐食性が高いという問題がある。また、液晶パネルの製造において、熱硬化（硬化温度：２２０℃）した配向膜を剥離する場合、従来の洗浄剤は洗浄性が悪い（洗浄に長時間必要）という問題がある。
本発明の目的は、洗浄性に優れ、かつ金属（特にアルミニウム等）に対する腐蝕性が低い洗浄剤を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者は、電導度（α）、アルカリ価（β）、動粘度（γ）及び水分（δ）が一定の関係になると、金属非腐食性及び洗浄性に優れた洗浄剤が得られることことを見いだし｛実施例の欄、図１〜３等を参照｝、本発明に到達した。
本発明の洗浄剤の特徴は、アルカリ（Ａ）、親水性有機溶剤（Ｂ）及び水（Ｃ）からなり、式（１）を満たしてなる点を要旨とする。
【数１】
2008007660.tif 000002
αは３０℃における電導度（ｍＳ／ｃｍ）、βはアルカリ価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）、γは３０℃における動粘度（ｍｍ2／ｓ）、δは水分（重量％）を表す。
【発明の効果】
【０００６】
本発明の洗浄剤は、金属に対する腐蝕性が低く、洗浄性に優れている。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
アルカリ（Ａ）としては、（Ａ１）金属水酸化物、（Ａ２）金属炭酸塩、（Ａ３）金属リン酸塩、（Ａ４）金属ケイ酸塩、（Ａ５）アンモニア、（Ａ６）有機アルカリ及びこれらの混合物等が含まれる。（Ａ１）〜（Ａ６）の具体例としては、公知のアルカリ（たとえば、特開２００４−２７７８号公報、特開２００６−６３２０１号公報）等が挙げられる。
【０００８】
アルカリ（Ａ）として、洗浄性及びリンス性等の観点から、（Ａ１）金属水酸化物｛洗浄性等の観点から、アルカリ金属水酸化物が好ましく、さらに好ましくは水酸化ナトリウム及び水酸化カリウムである。｝及び（Ａ６）有機アルカリが好ましく、さらに好ましくは（Ａ６）、特に好ましくは（Ａ６１）炭素数１〜６のアルキル基を４個有するアンモニウムカチオン、（Ａ６２）炭素数１〜６のアルキル基を３個と炭素数７〜２４の炭化水素基を１個有するアンモニウムカチオン、（Ａ６３）炭素数１〜６のアルキル基を２個と炭素数７〜２４の炭化水素基を２個有するアンモニウムカチオン又は（Ａ６４）炭素数１〜６のアルキル基を１個と炭素数７〜２４の炭化水素基を３個有するアンモニウムカチオンと、ヒドロキシドアニオン（ＯＨ-）との塩、次に好ましくは（Ａ６１）又は（Ａ６２）と、ヒドロキシドアニオンとの塩、次にさらに好ましくは（Ａ６１）とヒドロキシドアニオンとの塩、最も好ましくはテトラメチルアンモニウムカチオン又はテトラエチルアンモニウムカチオンとヒドロキシドアニオンとの塩である。
【０００９】
親水性有機溶剤（Ｂ）は、２０℃において、水１００ｇと有機溶剤３ｇ（１０ｇが好ましく、さらに好ましくは３０ｇ、特に好ましくは１００ｇ）とを混合した際に均一に混合され界面が観察されない有機溶剤を意味する。
親水性有機溶剤（Ｂ）としては、（Ｂ１）グリコールのモノ又はジエーテル、（Ｂ２）多価水酸基含有化合物のモノ−、ジ−、トリ−又はテトラ−アルキルエーテル、（Ｂ３）ピロリドン、（Ｂ４）アミド、（Ｂ５）オキサゾリジノン、（Ｂ６）ニトリル、（Ｂ７）ラクトン、（Ｂ８）ケトン、（Ｂ９）環状エーテル及び（Ｂ１０）スルホキシドが含まれる。
【００１０】
（Ｂ１）グリコールのモノ又はジエーテル、（Ｂ２）多価水酸基含有化合物のモノ−、ジ−、トリ−又はテトラ−アルキルエーテル、（Ｂ３）ピロリドン、（Ｂ４）アミド、（Ｂ５）オキサゾリジノン、（Ｂ６）ニトリル、（Ｂ７）ラクトン、（Ｂ８）ケトン及び（Ｂ９）環状エーテルとしては、公知の化合物（特開２００６−６３２０１号公報等）等が挙げられる。
【００１１】
（Ｂ１０）スルホキシドとしては、ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシド及びスルホラン等が挙げられる。
【００１２】
これらのうち、洗浄性等の観点から、（Ｂ１）グリコールのモノ又はジエーテル、（Ｂ３）ピロリドン、（Ｂ４）アミド、（Ｂ５）オキサゾリジノン、（Ｂ６）ニトリル及び（Ｂ７）スルホキシドが好ましく、さらに好ましくは（Ｂ１）、特に好ましくは式（４）で示される化合物、最も好ましくはジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルである。またこれらは混合物として用いてもよい。
なお、式（４）で示される化合物は、特開２００６−６３２０１号公報に記載されている式（２）で示される化合物と同じである。
【化１】
2008007660.tif 000003
式中、Ｒ6は炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数２〜１８のアルケニル基、炭素数６〜２４のアリール基又はアルキルアリール基、Ｒ7は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４のアシル基、Ｃは炭素原子、Ｏは酸素原子、Ｈは水素原子、ｍは１〜１０（好ましくは１又は２の整数）、ｎは２〜４の整数（好ましくは２又は３）である。
【００１３】
水（Ｃ）としては、水道水、工業用水、地下水、蒸留水、イオン交換水、超純水など特に限定はないが、好ましくはイオン交換水、超純水である。
【００１４】
本発明の洗浄剤は、式（１）を満足し、好ましくは式（２）、さらに好ましくは式（３）を満足する。式を満足すると、洗浄性及び金属非腐食性が良好となる。
【００１５】
【数２】
2008007660.tif 000004
【００１６】
αは３０℃における電導度（ｍＳ／ｃｍ）、βはアルカリ価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）、γは３０℃における動粘度（ｍｍ2／ｓ）、δは水分（重量％）を表す。
【００１７】
上式を満たすと、金属非腐食性及び洗浄性がさらに良好となる。
【００１８】
３０℃における電導度（電気伝導率）（α）は、単位断面積、単位長さあたりの電気抵抗の逆数として表される値であり、ＪＩＳ  Ｋ０１３０−１９９５「電気伝導率測定方法通則」に準拠して測定される。ただし、測定方式は交流２電極方式であり、測定セルの電極の材質は白金であり、測定セル容器の材質はガラスである。また、３０℃における電導度とは、３０℃の測定温度で測定した電導度を意味している｛温度補償（換算）を行って求めた３０℃における電導度ではない｝。
【００１９】
本発明の洗浄剤の３０℃における電導度（α）（ｍＳ／ｃｍ）は、３．０〜１５．０が好ましく、さらに好ましくは３．５〜１４．０、特に好ましくは３．７〜１３．０、最も好ましくは４．０〜１２．０である。この範囲であると、洗浄性及び金属非腐食性がさらに良好となる。
【００２０】
アルカリ価（β）は、ＪＩＳ  Ｋ０４００−１５−１０：１９９８「水質−アルカリ度の測定−」に準拠して測定されるフェノールフタレインアルカリ度｛Ａp；フェノールフタレイン指示薬による終点（ｐＨ８．３）までの滴定法によって測定される値｝を式（５）によって換算される値である。ただし、測定する際には、試料を採取する容器はほうけい酸ガラス製であり試料採取後ただちに測定する。また、測定温度は２５℃であり、測定方法は目視法である。
【００２１】
【数３】
2008007660.tif 000005
【００２２】
ｄは測定試料の２０℃における比重（ＪＩＳ  Ｋ００６１：２００１に準拠して測定した浮ひょう法による値であり、２０℃における試料の密度と２０℃における水の密度との比）である。
【００２３】
３０℃における動粘度（γ）は、液体に作用したずり応力（剪断応力）とずり速度（剪断速度）の比で求められた粘度をその液体の同一状態（温度、圧力）における密度で除した値であり、ＪＩＳ  Ｋ２２８３：２０００「原油及び石油製品−動粘度試験方法及び粘度指数算出方法」に準拠して測定される。ただし、ガラス製毛管式粘度計はウベローデ粘度計を使用する。
【００２４】
本発明の洗浄剤は、３０℃において液状であり、透明又は白濁液状のいずれでもよい。本発明の洗浄剤の３０℃における動粘度（γ）（ｍｍ2／ｓ）は、５〜２０が好ましく、洗浄性及びリンス性等の観点から、さらに好ましくは５〜１７、特に好ましくは５〜１５である。
【００２５】
水分（δ）は、ＪＩＳ  Ｋ００６８：２００１「化学製品の水分測定方法」に準拠して測定される。ただし、測定方法はカールフィッシャー滴定法の容量滴定法である。
【００２６】
アルカリ（Ａ）及び水（Ｃ）の含有量を多くすると、上式の第２項の値は大きくなる傾向にあり、一方、親水性有機溶媒（Ｂ）の含有量を多くすると、小さくなる傾向にある。
【００２７】
アルカリ（Ａ）の含有量（重量％）は、洗浄性及び金属非腐蝕性等の観点から、アルカリ（Ａ）、親水性有機溶媒（Ｂ）及び水（Ｃ）の合計重量に基づき、４．００〜１４．０が好ましく、さらに好ましくは４．５０〜１３．５、特に好ましくは５．００〜１３．０、最も好ましくは５．５０〜１２．５である。
親水性有機溶媒（Ｂ）の含有量（重量％）は、洗浄性及び金属非腐蝕性等の観点から、アルカリ（Ａ）、親水性有機溶媒（Ｂ）及び水（Ｃ）の合計重量に基づき、５４．０〜７１．０が好ましく、さらに好ましくは５５．０〜７０．５、特に好ましくは５６．０〜７０．０、最も好ましくは５７．０〜６９．５である。
水（Ｃ）の含有量（重量％）は、洗浄性及び金属非腐蝕性等の観点から、アルカリ（Ａ）、親水性有機溶媒（Ｂ）及び水（Ｃ）の合計重量に基づき、１５．０〜３２．０が好ましく、さらに好ましくは１６．０〜３１．５、特に好ましくは１７．０〜３１．０、最も好ましくは１８．０〜３０．５である。
これらの範囲であると、さらに上式を満たしやすくなり、金属非腐食性及び洗浄性がさらに良好となる。
【００２８】
上式の第２項は、アルカリ（Ａ）、親水性有機溶媒（Ｂ）及び水の含有量によりコントロールする方法以外に、電導度、アルカリ価、動粘度及び／又は水分の値を以下のように調整すること等によりコントロールできる。
電導度は、アルカリ（Ａ）及び／又は水の含有量を増やす方法、並びに／又は後述する電導度調整剤（Ｃ）を添加する方法等により大きくでき、またアルカリ（Ａ）及び／又は水の含有量を減らす方法、並びに／又は後述する電導度調整剤（Ｃ）を添加する方法等により小さくすることができる。
【００２９】
アルカリ価は、アルカリ（Ａ）の含有量を増やす方法等により大きくでき、またアルカリ（Ａ）の含有量を減らす方法等により小さくすることができる。
【００３０】
動粘度は、アルカリ（Ａ）の含有量を増やす方法、動粘度の大きな親水性有機溶剤（Ｂ）の含有量を増やす方法、並びに／又は動粘度の大きな後述する電導度調整剤（Ｃ）を添加する方法等により大きくでき、またアルカリ（Ａ）の含有量を減らす方法、動粘度の大きな親水性有機溶剤（Ｂ）の含有量を増やす方法、並びに／又は動粘度の小さな後述する電導度調整剤（Ｃ）を添加する方法等により小さくすることができる。
【００３１】
水分は、水の含有量を増やす方法等により大きくでき、また水の含有量を減らす方法等により小さくすることができる。
【００３２】
本発明の洗浄剤には、さらに電導度調整剤（Ｄ）を含有できる。含有すると金属非腐食性及び洗浄性がさらに向上するため好ましい。
電導度調整剤（Ｄ）としては、公知の化合物（特開２００６−６３２０１号公報）等が含まれ、
（Ｄ１）水酸基を有する化合物（ただし前記（Ｂ１）及び（Ｂ２）を除く化合物）
（Ｄ２）カルボキシル基を有する化合物
（Ｄ３）アミノ基含有化合物（ヒドロキシル基含有アミンを除く）
（Ｄ４）アミド基含有化合物｛ただし（Ｂ４）アミドを除く化合物｝
（Ｄ５）アミジン骨格を含有する化合物等が挙げられる。
【００３３】
これらのうち、金属非腐食性等の観点から、（Ｄ１）水酸基を有する化合物、（Ｄ３）アミノ基含有化合物が好ましく、さらに好ましくは（Ｄ１）、特に好ましくは２価のアルコール及び３〜８価の多価アルコール、最も好ましくはエチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ジグリセリン、トリグリセリン、ペンタエリスリトール、ソルビトールである。
【００３４】
電導度調整剤（Ｄ）を含有する場合、この含有量（重量％）は、洗浄性及び金属非腐蝕性等の観点から、アルカリ（Ａ）、親水性有機溶剤（Ｂ）及び水（Ｃ）の合計重量に基づいて、０．０１０〜６６．７が好ましく、さらに好ましくは０．０５０〜４２．９、特に好ましくは０．１０〜３３．３、最も好ましくは０．５０〜２５．０である。
【００３５】
本発明の洗浄剤は、洗浄性等の観点から、さらにヒドロキシル基含有アミン（Ｅ）を含有することが好ましい。
ヒドロキシル基含有アミン（Ｅ）としては、公知の化合物（特開２００４−２７７８号公報、特開２００６−６３２０１号公報記載）等が含まれ、（Ｅ１）アルカノールアミン、（Ｅ２）ヒドロキシルアミン及び（Ｅ３）アミノ基含有化合物（ヒドロキシル基含有アミンを除く）のアルキレンオキサイド付加物（付加モル数１〜７）等が挙げられる。
【００３６】
これらのうちで、洗浄性等の観点から、（Ｅ１）アルカノールアミン及び（Ｅ２）ヒドロキシルアミンが好ましく、さらに好ましくはヒドロキシルメチルアミン、モノエタノールアミン、１−アミノ−２−プロパノール及びヒドロキシルアミン、特に好ましくはモノエタノールアミン及びヒドロキシルアミンである。
また（Ｅ）は２種以上の混合物として用いてもよい。
【００３７】
ヒドロキシル基含有アミン（Ｅ）を含有する場合、この含有量（重量％）は、洗浄性等の観点から、アルカリ（Ａ）、親水性有機溶剤（Ｂ）及び水（Ｃ）の合計重量に基づいて、０．０１０〜４６．２が好ましく、さらに好ましくは０．０５０〜２８．６、特に好ましくは０．１０〜１２．６、最も好ましくは０．５０〜１．２である。
【００３８】
本発明の洗浄剤のアルカリ金属含量は、金属非腐食性等の観点から、１０，０００ｐｐｍ以下が好ましく、さらに好ましくは５，０００ｐｐｍ以下であり、特に好ましくは０〜２，５００ｐｐｍである。なお、アルカリ金属含量は、ＪＩＳ  Ｋ０１２１：１９９３「原子吸光分析通則」に準拠した原子吸光分析法により定量できる。ただし、測定方式はフレーム方式であり、バックグラウンド補正は連続スペクトル光源方式であり、定量は検量線方式である。
【００３９】
本発明の洗浄剤には、さらに必要により、界面活性剤（Ｆ）及び／又はその他の添加剤（Ｇ）を含有させてもよい。
【００４０】
界面活性剤（Ｆ）としては、非イオン界面活性剤（Ｆ１）、アニオン界面活性剤（Ｆ２）、カチオン界面活性剤（Ｆ３）、両性界面活性剤（Ｆ４）及びこれらの混合物が含まれ、公知の界面活性剤（特開２００６−６３２０１号公報）等が使用できる。ただし、（Ｆ１）には、親水性有機溶剤（Ｂ）及び電導度調整剤（Ｄ）は含まれない。また、（Ｆ３）には（Ａ６）有機アルカリは含まれない。
【００４１】
また、アニオン界面活性剤（Ｆ２）、カチオン界面活性剤（Ｆ３）において、これらの塩を形成するカチオンが（Ｄ３）アミノ基含有化合物である場合、アミノ基含有化合物は電導度調整剤（Ｄ）と見なし（Ｄ）の含有量に含むものとする。
【００４２】
界面活性剤（Ｆ）のうち、洗浄性及び金属非腐蝕性等の観点から、非イオン界面活性剤（Ｆ１）及びアニオン界面活性剤（Ｆ２）が好ましく、さらに好ましくは（Ｆ１）である。
界面活性剤（Ｆ）を含有する場合、この含有量（重量％）は、アルカリ（Ａ）、親水性有機溶剤（Ｂ）及び水（Ｃ）の合計重量に基づいて、好ましくは０．０１〜３０、さらに好ましくは１〜２０である。
【００４３】
その他の添加剤（Ｇ）としては、防錆剤、酸化防止剤及び／又は金属イオン封鎖剤（特開２００６−６３２０１号公報等）が使用できる。
その他の添加剤（Ｇ）を含有する場合、この含有量（重量％）は、アルカリ（Ａ）、親水性有機溶剤（Ｂ）及び水（Ｃ）の合計重量に基づいて、防錆剤は好ましくは０〜２０、さらに好ましくは０．５〜１０、酸化防止剤は好ましくは０．０１〜５、さらに好ましくは０．１〜１、金属イオン封鎖剤は好ましくは０．０１〜２０、さらに好ましくは０．５〜１０である。
【００４４】
本発明の洗浄剤のｐＨ（１０重量％水溶液、２５℃）は、洗浄性及び金属非腐蝕性等の観点から、１０．０〜１４．０が好ましく、さらに好ましくは１０．５〜１３．５である。
【００４５】
本発明の洗浄剤は、アルカリ（Ａ）、親水性有機溶剤（Ｂ）及び水（Ｃ）、並びに必要により電導度調整剤（Ｄ）、ヒドロキシル基含有アミン（Ｅ）、界面活性剤（Ｆ）及び／又はその他の添加剤（Ｇ）を常法によって均一混合することによって製造できる。
【００４６】
本発明の洗浄剤が適用できる被洗浄体には特に限定がなく、電子部品、電機部品や建材等が含まれる。
電子部品としては、液晶パネル用ガラス基板（配向膜パターン化の前洗浄、不具合配向膜の剥離洗浄）、シリコンウエハ、プリント配線基板、半導体基板、プラズマディスプレイガラス基板及びサーマルヘッド等が挙げられる。
電機部品としては、エアコン冷却フィン、空気清浄機アルミニウム電極板及び電気カミソリ刃等が挙げられる。
建材としては、窓枠、扉及び扉枠等が挙げられる。
これらの用途のうち、金属非腐食性等の観点から、電子部品の洗浄用として好ましく、さらに好ましくは金属部材（アルミニウム、銅、タングステン等）を一部に含む電子部品又は金属部材製電子部品の洗浄用、特に好ましくは液晶パネル用ガラス基板の洗浄用又はシリコンウエハの洗浄用、最も好ましくは液晶パネル用ガラス基板の洗浄用である。
なお、被洗浄体が金属（好ましくはアルミニウム）製であるか、被洗浄体に金属（好ましくはアルミニウム）を含む場合、本発明の洗浄剤は、発明の効果をさらに発揮することとなる。
また、洗浄の対象物（汚れ）としては、有機物（油分、指紋、樹脂、有機パーティクル等）及び無機物（ガラス粉、セラミック粉、金属粉等）等が挙げられる。
【００４７】
本発明の洗浄剤を用いて、被洗浄体を洗浄する方法としては、公知の方法等が適用でき、超音波洗浄法、シャワー洗浄法、スプレー洗浄法、浸漬洗浄法、浸漬揺動洗浄法及びこれらの組み合わせ等が挙げられる。
本発明の洗浄剤は、必要によりさらに水等で稀釈して使用してもよい。
【００４８】
洗浄温度（℃）に制限はないが、１０〜７０が好ましく、さらに好ましくは１５〜６０である。洗浄時間（分）に制限はないが、０．２〜１２０が好ましく、さらに好ましくは０．５〜３０である。
【実施例】
【００４９】
以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、以下において部は重量部を示す。
【００５０】
実施例１
テトラメチルアンモニウムヒドロキシド５．５６部、ジエチレングリコールモノメチルエーテル７０．００部、ソルビトール１１．１１部、イオン交換水２４．４４部を均一混合して、本発明の洗浄剤（１）を得た。
【００５１】
実施例２〜１３、比較例１〜８
「テトラメチルアンモニウムヒドロキシド５部、ジエチレングリコールモノメチルエーテル６３部、ソルビトール１０部、イオン交換水２２部」を、表１又は表２に記載した「アルカリ、親水性有機溶媒、水、電導度調整剤及びヒドロキシル基含有アミン（それぞれ、対応する使用量）」に変更したこと以外、実施例１と同様にして、実施例２〜１３及び比較例１〜８の洗浄剤（２）〜（２１）を得た。
なお、表中の略号は下記の通りである。
ａ６１：テトラメチルアンモニウムヒドロキシド
ａ６２：テトラエチルアンモニウムヒドロキシド
ｂ１１：ジエチレングリコールモノメチルエーテル
ｂ１２：ジエチレングリコールジエチルエーテル
ｂ７１：ジメチルスホキシド
ｄ１１：プロピレングリコール
ｄ１２：グリセリン
ｄ１３：ソルビトール
ｅ１１：モノエタノールアミン
ｅ２１：ヒドロキシルアミン
【００５２】
実施例及び比較例で得られた洗浄剤（１）〜（２１）について、洗浄性（配向膜剥離性−１、配向膜剥離性−２、ガラス基板洗浄後の接触角）及び金属非腐食性を、以下の方法で評価し、評価結果を表１〜２及び図１〜３に示した。
【００５３】
＜洗浄性＞
１．配向膜剥離性−１
予め真空蒸着法によりＩＴＯ膜（インジウム・スズ酸化膜、膜厚０．１μｍ）が形成されたガラス基板（２５×２５ｍｍ、厚さ０．７５ｍｍ）の上にポリイミド樹脂（ＪＳＲ社製  ＡＬ−２１００４）を塗布し、８０℃の循風乾燥機中で６０分間加熱した後、約２５℃にまで冷却した。さらに、８０℃で６０分間の加熱と約２５℃までの冷却を２回行って、垂直配向ポリイミド膜（膜厚１μｍ）が密着したガラス基板試験片を作成した。
ガラス基板試験片を１００ｍｌの評価試料｛洗浄剤（２５℃）｝に所定時間（１分又は３分）浸漬した後、ガラス基板試験片をステンレス網かごの上に置きイオン交換水で１分間シャワーリンス（水温：２５℃、流量：１Ｌ／ｍｉｎ）し、さらに裏側の面についても同様にリンスした。次に、ガラス基板試験片を７０℃の循風乾燥機中で１０分間加熱乾燥し、ガラス基板を得た。引き続き、同じ評価試料（洗浄剤）を用いて同様の操作を行い、合計１００枚のガラス基板を得た。
ガラス基板のうち、１番目と１００番目に洗浄処理したものを顕微鏡で観察して配向膜剥離性を次の５段階で評価した。
【００５４】
評価基準
５：ガラス基板面に配向膜が全くなし。
４：ガラス基板面に配向膜が痕跡程度残っている。
３：ガラス基板面の一部に配向膜が少し残っている。
２：ガラス基板面の大部分に配向膜が残っている。
１：ガラス基板全面に配向膜が残っている。
【００５５】
２．配向膜剥離性−２
予め真空蒸着法によりＩＴＯ膜（インジウム・スズ酸化膜、膜厚０．１μｍ）が形成されたガラス基板（２５×２５ｍｍ、厚さ０．７５ｍｍ）の上にポリイミド樹脂（ＪＳＲ社製  ＡＬ−２１００４）を塗布し、８０℃の循風乾燥機中で６０分間加熱した後、約２５℃まで冷却した。さらに、２２０℃の循風乾燥機中で１５分間加熱した後、約２５℃に冷却して、垂直配向ポリイミド膜（膜厚１μｍ）が密着したガラス基板試験片を作成した。
ガラス基板試験片を１００ｍｌの評価試料｛洗浄剤（５０℃）｝に所定時間（３分又は５分）浸漬した後、ガラス基板試験片をステンレス網かごの上に置きイオン交換水で１分間シャワーリンス（水温：２５℃、流量：１Ｌ／ｍｉｎ）し、さらに裏側の面についても同様にリンスした。次に、ガラス基板試験片を７０℃の循風乾燥機中で１０分間加熱乾燥し、ガラス基板を得た。引き続き、同じ評価試料（洗浄剤）を用いて同様の操作を行い、合計１００枚のガラス基を得た。
ガラス基板のうち、１番目と１００番目に洗浄処理したものを顕微鏡で観察して配向膜剥離性を次の５段階で評価した。
【００５６】
評価基準
５：ガラス基板面に配向膜が全くなし。
４：ガラス基板面に配向膜が痕跡程度残っている。
３：ガラス基板面の一部に配向膜が少し残っている。
２：ガラス基板面の大部分に配向膜が残っている。
１：ガラス基板全面に配向膜が残っている。
【００５７】
３．ガラス基板洗浄後の接触角
無アルカリガラス基板（コーニング社製「Ｃｏｒｎｉｎｇ１７３７」、大きさ３ｃｍ×５ｃｍ、厚さ０．７ｍｍ）に有機物のモデル汚れであるトリアコンタンを１ｍｇ／ｃｍ2塗布し、ガラス基板試験片を作成した。
評価試料｛洗浄剤１００ｍｌ（２５℃）｝をガラス製ビーカー（２００ｍｌ）にとり、この中にガラス基板試験片を浸漬し、２５℃で１０分間静置した。１０分後、ガラス基板試験片を取り出し、ガラス基板試験片をステンレス網かごの上に置きイオン交換水で１分間シャワーリンス（水温：２５℃、流量：１Ｌ／ｍｉｎ）し、さらに裏側の面についても同様にリンスした。次に、ガラス基板試験片を７０℃の循風乾燥機中で１０分間加熱乾燥してガラス基板を得た。ガラス基板について、全自動接触角計（協和界面科学（株）製、ＰＤ−Ｗ）を用いて、水に対する接触角を測定した（５箇所測定し、平均値を表に示した）。なお、洗浄前のガラス基板の接触角は、７５°であった。
【００５８】
＜金属非腐食性＞
予め真空蒸着法によりアルミニウム薄膜（膜厚０．０３μｍ）が形成されたガラス基板試験片（２５×２５ｍｍ、厚さ０．７５ｍｍ）を１００ｍｌの評価試料｛洗浄剤（５０℃）｝に浸漬静置し、アルミニウム薄膜が溶解し目視で見えなくなるまでの時間を測定して腐蝕時間とした。腐蝕時間が長いほど金属非腐蝕性が良いことを表す。
【００５９】
【表１】
2008007660.tif 000006
【００６０】
【表２】
2008007660.tif 000007
【００６１】
表中、「Ａ値」は、〔１００００×α／｛β×γ×（１００−δ）｝〕の値である。
【００６２】
表１及び表２に示されるように、本発明の洗浄剤（実施例１〜１３）は、比較用の洗浄剤に比較して、垂直配向ポリイミド膜が１〜５分で剥離でき、しかも洗浄後のガラス基板の接触角も低く、基板表面の有機汚れの除去性も良好であった（洗浄性に優れていた）。また、腐蝕時間が１８０分以上と非腐蝕性が非常に良好であった。
【産業上の利用可能性】
【００６３】
本発明の洗浄剤は、金属（特に、アルミニウム）非腐食性に極めて優れ、かつ、油分、指紋、樹脂及びパーティクルを除去する能力にも優れているので、液晶パネル用ガラス基板などの電子部品の洗浄用途だけでなく、電機部品、金属部品および建材などの洗浄用途に適用が可能であり極めて有用性が高い。
【図面の簡単な説明】
【００６４】
【図１】Ａ値〔１００００×α／｛β×γ×（１００−δ）｝〕と、洗浄性（配向膜剥離性−２）との関係を示すグラフである。
【図２】Ａ値〔１００００×α／｛β×γ×（１００−δ）｝〕と、洗浄性（ガラス基板洗浄後の接触角）との関係を示すグラフである。
【図３】Ａ値〔１００００×α／｛β×γ×（１００−δ）｝〕と、金属非腐食性との関係を示すグラフである。
【図１】
2008007660.tif 000011
【図２】
2008007660.tif 000012
【図３】
2008007660.tif 000013