(57)【要約】【課題】  セル内側に位相差層を配した液晶表示パネルで、シール領域における位相差層の、液晶セルを構成する液晶表示パネル用基材のベース基材との密着性を向上させ、光漏れを防止でき、且つ、液晶セルの剛性を改善でき、さらに各パネルの共通欠陥を無くすことが出来るような液晶表示パネルを提供する。また、そのような液晶表示パネル用の表示パネル用基材とその作製方法を提供する。【解決手段】  シート状基材上に、重合性液晶を素材として、素材である重合性液晶を配向させた状態で額縁の内側にもう一つ額縁を有するような構造をしたメタルマスクを用いて重合して硬化させた、異方性を有する異方相の部分と、該素材である重合性液晶を配向していない等方性の状態で重合して硬化させた、等方性を有する等方相の部分とを、その面方向において領域的に分けて配する、位相差制御層が積層されており、該位相差制御層のシール予定領域を少なくとも含む領域には、前記等方相の部分が配されている。【選択図】  図１
2008233873.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インセル型の表示パネルに用いられ、表面に位相差制御層を配した表示パネル用基材であって、
シート状基材上に、重合性液晶を素材として、素材である重合性液晶を配向させた状態で重合して硬化させた、異方性を有する異方相の部分と、該素材である重合性液晶を配向していない等方性の状態で重合して硬化させた、等方性を有する等方相の部分とを、その面方向において領域的に分けて配する、位相差制御層が積層されており、
該位相差制御層のシール予定領域を少なくとも含む領域には、前記等方相の部分が配されていることを特徴とする表示パネル用基材。
【請求項２】
請求項１記載の表示パネル用基材であって、前記等方相の部分がシール予定領域にのみ形成されていることを特徴とする表示パネル用基材。
【請求項３】
請求項１ないし２のいずれか１項に記載の表示パネル用基材であって、前記シート状基材は、そのベース基材上側にカラーフィルタが積層されているものであることを特徴とする表示パネル用基材。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれか１項に記載の表示パネル用基材であって、前記シート基材のベース基材に、ブラックマトリックス層を形成するとともに、少なくとも該ブラックマトリクス層の空間部にカラーフィルタ層を形成し、且つ、該カラーフィルタ層上に前記位相差制御層が積層されてなるものであることを特徴とする表示パネル用基材。
【請求項５】
請求項１〜請求項４のいずれかに記載の表示パネル用基材の作製方法であって、
順に、
（ａ）重合性液晶を含む塗工液をシート状基材上に塗布して塗膜を形成する工程と、
（ｂ）前記塗膜の重合性液晶を配向させて異方性をもたせる工程と、
（ｃ）該異方性をもたせた塗膜に紫外線等の電離放射線を選択的に照射して、電離放射線照射部分のみを前記重合性液晶を重合させて硬化して、
異方相の部分を形成する工程と、
（ｄ）前記異方相の部分を有する塗膜が形成されたシート状基材を加熱して、該塗膜の未硬化の部分を相転移して、等方性にし、その状態で、未硬化部分を重合させて硬化して、等方相の部分を形成する工程とを、
行うことを特徴とする表示パネル用基材の作製方法。
【請求項６】
請求項５記載の表示パネル用基材の作製方法であって、
（ｃ）に示す工程において、額縁形状の外枠の内側に額縁形状の額縁部を形成してなるメタルマスクを用い、該メタルマスクを介して電離放射線を選択的に照射することを特徴とする表示パネル用基材の作製方法。
【請求項７】
表示パネルであって、
請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の表示パネル用基材と、対向基材とが、前記表示パネル用基材のシール予定領域において、シール材を介して一定の間隔を保って貼り合わされ、内部に液晶が密封充填されていることを特徴とする表示パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、位相差制御板および表示パネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、カラー表示の液晶表示パネル（以下、ＬＣＤパネルとも言う）は、その薄型、軽量、省消費電力、フリッカーレスといった利点から、テレビ表示部、携帯端末表示部、パソコンの表示部等に、その市場を急速に拡大してきた。
このような液晶表示パネルには、従来から、位相差を制御するために位相差フィルムが用いられている。
例えば、反射型の液晶表示パネルでは、通常、円偏光を得るために、直線偏光板と１／４λ位相差板とを併用している。
あるいは、テレビ用途に広く用いられている垂直配向モード（ＶＡモードとも言う）の液晶表示パネルでは、その視野角依存性を低減するために、光軸が基板に垂直で、負の複屈折異方性を有する位相差フィルム（負のＣプレートとも言う）と、光軸が基板に水平で、正の複屈折異方性を有する位相差フィルム（正のＡプレートとも言う）とを併せて用いられている。
その他、ディスコティック液晶を用いた視野角補償フィルム等、多くの位相差フィルムが市販されている。
尚、図６（ａ）に示すように、層面Ｓの法線方向にｚ軸、層面Ｓ内に互いに直交する方向にｘ軸とｙ軸をとり、ｘ軸方向、ｙ軸方向、ｚ軸方向の屈折率をそれぞれｎｘ、ｎｙ、ｎｚとし、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの関係にある位相差層（光学補償層とも言う）は、層面Ｓ内に光学的に正の一軸性を有する位相差層で、これを、正のＡプレート、と称す。
また、図６（ｂ）に示すように、ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚの関係にある位相差層（光学補償層）は、層面Ｓの法線方向に光学的に負の一軸性を有する位相差層で、これを、負のＣプレート、と称す。
【０００３】
従来の位相差フィルムは、いずれも、所定の構造を有する２枚の基板を対面させるとともに該２枚の基板間に液晶を封入してなる構造を備える液晶セル（単に、セルということがある）に対して液晶セルの外に貼り付けられて液晶表示装置を構成するもので、異なる位相差フィルム同士、もしくは位相差フィルムと偏光板とを粘着剤を介して貼り合わせるのであるが、各位相差フィルム、偏光板及び粘着剤の屈折率がそれぞれ異なるため、貼り合わせ界面において外光の反射が生じ、表示コントラストの低下を招いている。
【０００４】
最近では、液晶セル内に液晶材料を利用して位相差を制御するための位相差層を設ける試みがなされている（特許文献１）。
例えば、ガラス転移点を有し、ガラス転移温度以下でその液晶構造を凍結することのできる液晶性高分子、もしくは、分子構造中に有する不飽和結合などの反応性基を利用して、液晶状態で３次元架橋させ、液晶構造を凍結することが可能な液晶性モノマーを用いることができ、これらの液晶性材料は、配向機能を有する基材上に塗布することにより適用できる。
このようにして液晶セル内に設けられた位相差層は、従来の液晶セルの外に貼り付ける位相差フィルムの欠点を解消することができる。
【０００５】
【特許文献１】特開１０−４８６２７号公報。
【０００６】
ところで、液晶セル内の位相差層は、液晶セルを構成する２枚のシート状基材（ここでは液晶表示パネル用基材とも言う）のいずれか側に設けられ、典型的にはカラーフィルタを形成したシート状基材の液晶セル側に形成される。
例えば、重合性液晶を用いて構成される位相差層を積層したカラーフィルタを形成した側のシート状基材は、対向基材と組み合わせて、その間に液晶を充填して液晶セルを構成する。このとき、両シート状基材は所定の間隔をあけて向き合い、熱硬化樹脂やＵＶ硬化型樹脂を材料とするシール材を用いてシールされ、シート状基材とシール材にて形成される空間内に液晶が充填されている。
そして、重合性液晶を用いて構成された位相差層は必ずしも剛性が充分でないため、位相差層上もしくはカラーフィルタ層上に両基板間隔と同程度の高さの柱状樹脂硬化物がパターニングされており、液晶セルの間隔を一定に保っている。
しかし、この場合、位相差層とカラーフィルタを形成した側のシート状基材との密着性が充分でないと、位相差層が該シート状基材から剥離し、剥離した部分に配向不良が起こり、光漏れの原因となる他、液晶セル全体の剛性も低下する。
これの防止のため、これまで重合性液晶へのシランカップリング剤の添加や、ガラスのＵＶ洗浄時間の増加など様々な対策が行われている。
しかしながら、このように対策を行っても、位相差層とカラーフィルタを形成した側のシート状基材との密着性を十分にできず、光漏れの面や液晶セル全体の剛性の低下の面で問題となっていた。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
このように、最近、液晶セル内の位相差層を、液晶セルを構成する２枚のシート状基材（表示パネル用基材とも言う）のいずれか側に設け、典型的にはカラーフィルタを形成した板状基板の液晶セル側に形成する形態が採られるようになるにつれ、位相差層とカラーフィルタを形成した側のシート状基材との密着性の不十分さに起因する、位相差層の該シート状基材からの剥離を防止する対策を講じることが重要となる。このために、これまで重合性液晶へのシランカップリング剤の添加や、ガラスのＵＶ洗浄時間の増加など様々な対策が行われたが、いずれも、位相差層とカラーフィルタを形成した側のシート状基材との十分な密着性は得られず、その効果的な対応策が求められていた。
本発明はこれに対応するもので、具体的には、セル内側に位相差層を配した液晶表示パネル（インセル型の表示パネル）で、シール領域における位相差層の、液晶セルを構成する液晶表示パネル用基材のベース基材との密着性を向上させ、光漏れを防止でき、且つ、液晶セルの剛性を改善できる液晶表示パネルを提供しようとするものであり、また、そのような液晶表示パネル用の表示パネル用基材を提供しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の表示パネル用基材は、インセル型の表示パネルに用いられ、表面に位相差制御層を配した表示パネル用基材であって、シート状基材上に、重合性液晶を素材として、素材である重合性液晶を配向させた状態で重合して硬化させた、異方性を有する異方相の部分と、該素材である重合性液晶を配向していない等方性の状態で重合して硬化させた、等方性を有する等方相の部分とを、その面方向において領域的に分けて配する、位相差制御層が積層されており、該位相差制御層のシール予定領域を少なくとも含む領域には、前記等方相の部分が配されていることを特徴とするものである。
そして、上記の表示パネル用基材であって、前記等方相の部分がシール予定領域にのみ形成されていることを特徴とするものである。
そしてまた、上記いずれかの表示パネル用基材であって、前記シート状基材は、そのベース基材上側にカラーフィルタが積層されているものであることを特徴とするものである。
また、上記いずれかの表示パネル用基材であって、前記シート基材のベース基材に、ブラックマトリックス層を形成するとともに、少なくとも該ブラックマトリクス層の空間部にカラーフィルタ層を形成し、且つ、該カラーフィルタ層上に前記位相差制御層が積層されてなるものであることを特徴とする表示パネル用基材である。
尚、ここでは、「シール予定領域」とは、シールする予定の全領域を意味する。
また、ここでは、インセル型の表示パネルにおいては、シール予定領域において、位相差制御層が、シート状基材のベース基板面と直接接することを前提としている。
【０００９】
本発明の表示パネル用基材の作製方法は、請求項１〜請求項４のいずれかに記載の表示パネル用基材の作製方法であって、順に、（ａ）重合性液晶を含む塗工液をシート状基材上に塗布して塗膜を形成する工程と、（ｂ）前記塗膜の重合性液晶を配向させて異方性をもたせる工程と、（ｃ）該異方性をもたせた塗膜に紫外線等の電離放射線を選択的に照射して、電離放射線照射部分のみを前記重合性液晶を重合させて硬化して、異方相の部分を形成する工程と、（ｄ）前記異方相の部分を有する塗膜が形成されたシート状基材を加熱して、該塗膜の未硬化の部分を相転移して、等方性にし、その状態で、未硬化部分を重合させて硬化して、等方相の部分を形成する工程とを、行うことを特徴とするものである。
この表示パネル用基材の作製方法にあっては、（ｃ）に示す工程において、額縁形状の外枠の内側に額縁形状の額縁部を形成してなるメタルマスクを用い、該メタルマスクを介して電離放射線を選択的に照射することが特徴とされてもよい。
【００１０】
本発明の表示パネルは、表示パネルであって、請求項１〜請求項４記載のいずれか１項に記載の表示パネル用基材と、対向基材とが、前記表示パネル用基材のシール予定領域において、シール材を介して一定の間隔を保って貼り合わされ、内部に液晶が密封充填されていることを特徴とするものである。
【００１１】
（作用）
本発明の表示パネル用基材は、このような構成にすることにより、セル内側に位相差層を配した表示パネルで、シール領域における位相差層の、セルを構成する表示パネル用基材のベース基材との密着性を向上させ、光漏れを防止でき、且つ、セルの剛性を改善できる表示パネルを作製するための、表示パネル用基材の提供を可能としている。
具体的には、シート状基材上に、重合性液晶を素材として、素材である重合性液晶を配向させた状態で重合して硬化させた、異方性を有する異方相の部分と、該素材である重合性液晶を配向していない等方性の状態で重合して硬化させた、等方性を有する等方相の部分とを、その面方向において領域的に分けて配する、位相差制御層が積層されており、該位相差制御層のシール予定領域を少なくとも含む領域には、前記等方相の部分が配されていることにより、これを達成している。
詳しくは、位相差制御層のシール予定領域に等方相の部分を配した方が、異方相の部分をシール予定領域に配する場合に比べ、シート状基材のベース基材との密着性が高くなり、シール予定領域における位相差制御層とベース基材との密着性を十分なものとでき、画素領域における光漏れをなくすことを可能としている。
即ち、位相差制御層の異方相の部分で位相差制御機能を正常に発現できるものとしている。
同時にセルの剛性を改善できるものとしている。
【００１２】
画像領域に対応する領域おいては、位相差制御層の位相差制御機能を発現する異方相の部分の領域と位相差制御機能を発現しない等方相の部分の領域とは、その目的に応じて、配される。
例えば、透過型の液晶表示パネル用の表示パネル用基材においては、画像領域全体を異方相の部分とし、半透過半反射型の液晶表示パネル用の表示パネル用基材においては、画像領域において、異方相の部分の領域と等方相の部分の領域とを混在させる。
透過型の液晶表示パネル用の表示パネル用基材としては、典型的には、前記等方相の部分がシール予定領域にのみ形成されている形態が挙げられる。
前記表示パネル用基材のシート状基材としては、ベース基材上にカラーフィルタが積層されている形態のものがある。
特に、表示パネル用基材としては、前記シート基材のベース基材に、ブラックマトリックス層を形成するとともに、少なくとも該ブラックマトリクス層の空間部にカラーフィルタ層を形成し、且つ、該カラーフィルタ層上に前記位相差制御層が積層されてなる形態のものが挙げられる。
【００１３】
本発明の表示パネル用基材の作製方法は、このような構成にすることにより、セル内側に位相差層を配した表示パネルで、シール領域における位相差層の、セルを構成する表示パネル用基材のベース基材との密着性を向上させ、光漏れを防止でき、且つ、セルギャップの精度を改善できる表示パネルを作製するための、表示パネル用基材を作製する方法の提供を可能としている。
【００１４】
また、本発明の表示パネルは、このような構成にすることにより、セル内側に位相差層を搭載した液晶表示パネルで、シール領域における位相差層の、液晶セルを構成する表示パネル用基材のベース基材との密着性を向上させ、光漏れを防止でき、且つ、セルの剛性を改善できる液晶表示パネルの提供を可能としている。
【発明の効果】
【００１５】
本発明は、上記のように、セル内側に位相差層を配した表示パネルで、シール領域における位相差層の、セルを構成する表示パネル用基材のベース基材との密着性を向上させ、光漏れを防止でき、且つ、セルの剛度を改善できる表示パネルの提供、および、そのような液晶表示パネルを作製することができる、液晶表示パネル用基材とその作製方法の提供を可能としている。またその作製方法において、異方相の部分を形成する工程を実施する際、額縁形状の外枠の内側に額縁形状の額縁部を形成してなるメタルマスク、すなわち額縁の内側にもう一つ額縁を有するような構造を有してなるメタルマスクを用いることにより、一般に用いられるフォトマスクを用いる場合におけるよりも、表示パネル上の共通欠陥が解消される効果を有する。すなわち、異方相の部分を形成する工程を実施する際、フォトマスクが用いる場合には、フォトマスク上にゴミがのっていると、そのフォトマスクを用いて得られる製品のほとんど全てにそのゴミの形状がパターニングされる問題があるが、異方相の部分を形成する工程を実施する際にメタルマスクが用いられる場合には、はそのような問題は解消される。さらに、通常、メタルマスクはフォトマスクより廉価であるため、コストダウン効果も有する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
本発明の実施の形態を図に基づいて説明する。
図１は本発明の表示パネル用基材の実施の形態の１例の概略構成図で、図２は本発明の表示パネルの実施の形態の１例の概略構成図で、図３はベース基材を省略して、図２に示す表示パネルを示した分解斜視図で、図４（ａ）〜図４（ｅ）は本発明の表示パネル用基材の作製方法の実施の形態の１例の工程断面図で、図５は位相差制御層の密着強度を評価する手段を説明するための概略図である。
図１〜図３中、１０はシート状基材、１１はベース基材（ここではガラス基板）、１２はブラックマトリクス層、１２ａはブラックマトリクス額縁、１３はカラーフィルタ層、１４は位相差制御層、１４ａは異方相の部分、１４ｂは等方相の部分、１７ａは画像領域、１７ｂはシール領域、２０はシート状基材（対向基材ないし対向基板とも言う）、３０はシール材、４０は駆動液晶、４１は偏光板、４２は駆動液晶、４２ａは横方向の配向状態、４３は正のＣプレート、４４はカラーフィルタ部、４５は正のＡプレート、４６は偏光板、５１はシート状基材、５２は重合性液晶、５３は紫外線等の電離放射線、５４は異方相の部分、５５ａは等方性の未硬化膜、５５は等方相の部分、５６は位相差制御層、６１はベース基材（ここではガラス基材）、６２は位相差制御層、６２ａは剥離した位相差制御層、６３は接着剤、６４はスタッドピンである。
【００１７】
はじめに、本発明の表示パネル用基材の実施の形態の１例を、図１に基づいて説明する。
本例の表示パネル用基材は、インセル型の液晶表示パネルに用いられ、表面に位相差制御層を配した表示パネル用基材であって、透明なベース基材１１上に、ベース基材１１側から順に、ブラックマトリックス層１２、カラーフィルタ層（着色層とも言う）１３を、配したシート状基材１０上に、重合性液晶を素材として、光が入射すると位相差を生じさせる異方性の異方相の部分１４ａと、光が入射しても位相差を生じさせない等方性の等方相の部分１４ｂとを、その面方向において領域的に分けて有する、位相差制御層１４が積層されているものである。ここに「領域的に分け」とは、「所定の領域が特定の部分に対応する領域として区分される」ことを示す。具体的には、位相差制御層１４につき、平面視上、位相差制御層１４の所定の領域が異方相１４ａの部分に対応し、それ以外の領域が等方相１４ｂの部分に対応するように、位相差制御層１４が区分けされることで、位相差制御相１４が、異方相の部分と等方相の部分とに「領域的に分け」られる。
そして、位相差制御層１４は、位相差制御層１４のカラーフィルタ層１３上の部分を異方相の部分１４ａとし、位相差制御層１４のシール予定領域１７ｂを、等方相の部分１４ｂとして、パターニング形成されている。
このようにすることにより、位相差制御層１４の画素領域１７ａは異方相の部分１４ａで、その位相差機能（光に位相差を生じさせる機能）を発現できるものとし、また、位相差制御層１４のシール予定領域１７ｂは等方相の部分１４ｂで、シート状基材１０のベース基材１１との密着性が異方性部分よりも高いため、シール予定領域１７ｂにおいて、シート状基材１０のベース基材１１と位相差制御層１４との密着性を良いものとし、剥離が起きにくくしており、密着性不良に起因する光漏れ、液晶セルの剛性の低下を防止できるものとしている。
尚、本例の表示パネル用基材はカラーフィルタを配しているため、カラーフィルタ基板あるいは着色層形成基板とも言う。
【００１８】
位相差制御層１４は、素材である重合性液晶を硬化させたもので、素材である重合性液晶としては、分子構造中に有する不飽和結合などの反応性基を利用して、液晶状態で３次元架橋させ、液晶構造を凍結する（所定の液晶状態を保持する）ことが可能な重合性液晶モノマーなどの液晶性モノマーを用いるが、材質、形成方法等の詳細については、図４に示す表示パネル用基材の作製方法の説明において述べる。
透明なベース基材１１についても、その詳細については、図４に示す表示パネル用基材の作製方法の説明において述べる。
【００１９】
また、本例では、カラーフィルタ層１３、ブラックマトリクス１２の、全着色層ともに顔料分散法を用いて形成されているが、着色層の形成方法はこれに限定はされない。
着色層は、顔料分散法により形成されたものの他、従来より知られている、染色法、電着法、印刷法、インクジェット法等により各着色パターン層が形成されたものを用いられても良い。
以下に、上記の各々の着色パターン層の形成方法について、簡単に、説明しておく。
顔料分散法は、基板上に顔料を分散した感光性樹脂層を形成し、これをパターニングすることにより単色の着色パターン層を得る工程を、繰り返して、各色の着色パターン層を形成する。
染色法は、ガラス基板上に染色用の材料である水溶性高分子材料を塗布し、これをフォトリソグラフィー工程により所望の形状にパターニングした後、得られたパターンを染色浴に浸漬して着色されたパターンを得る工程を、繰り返して、各色の着色パターン層を形成する。
電着法は、基板上に透明電極をパターニングし、顔料、樹脂、電解液等の入った電着塗装液に浸漬して所定の色を電着する工程を、繰り返して、各色の着色パターン層を形成し、樹脂を熱硬化させるものである。
印刷法は、熱硬化型の樹脂に顔料を分散させ、印刷を繰り返すことにより各色を塗り分けた後、樹脂を熱硬化させることにより、各着色パターン層を形成し、各着色パターン層にてカラーフィルタ層１３やブラックマトリクス１２をなすとともに、各着色パターン層全体として着色層を形成するものである。
インクジェット法は、ノズルないしオリフィス等の開口から着色剤を含む液（以下、インクないしペーストとも言う）を吐出してカラーフィルタ部を形成するものである。すなわち、インクジェット法では、着色剤を含むインクやペーストにて各着色パターン層が形成され、各着色パターン層全体として着色層を形成し、この着色層がカラーフィルタ部をなす。
【００２０】
次に、本例の表示パネル用基材を作製する方法の１例を説明する。
本例の表示パネル用基材を作製する方法は、簡単には、ベース基材１１上にブラックマトリクス層１２、カラーフィルタ層１３をこの順に積層した状態の（図１に示す本例の表示パネル用基材において位相差制御層がない状態の）シート状基材を用意しておき、（ａ）重合性液晶を含む塗工液をシート状基材上に塗布して塗膜を形成する工程と、（ｂ）前記塗膜の重合性液晶を配向させて異方性をもたせる工程と、（ｃ）該異方性をもたせた塗膜に紫外線等の電離放射線を選択的に照射して、電離放射線照射部分のみを前記重合性液晶を重合させて硬化して、異方相の部分を形成する工程と、（ｄ）前記異方相の部分を有する塗膜が形成されたシート状基材を加熱して、該塗膜の未硬化の部分を相転移して、等方性にし、その状態で、未硬化部分を重合させて硬化して、等方相の部分を形成する工程とを、行うものである。なお、電離放射線は、所定の化合物の分子構造中の重合性官能基を励起可能な光線などの電磁波の総称を示すものとし、具体的には、上記の紫外線の他、電子線などを挙げることができる。
以下、本例の表示パネル用基材の作製方法を、図４に基づき、詳しく説明する。
予め、ベース基材上にブラックマトリクス層、カラーフィルタ層をこの順に積層した、図１に示す本例の表示パネル用基材において位相差制御層１４がない状態のシート状基材を用意しておく。
ここでは、ベース基材１１へのブラックマトリクス層１２、カラーフィルタ層１３の全着色層の形成を、顔料分散法を用いて行うが、これには限定されない。
尚、着色層の顔料分散法による形成や他の方法による形成も一般的で、詳細な説明を省く。
【００２１】
なお、本明細書において、「ベース基材上にブラックマトリクス層、カラーフィルタ層をこの順に積層」するとは、「前記シート基材のベース基材に、ブラックマトリックス層を形成するとともに、少なくとも該ブラックマトリクス層の空間部にカラーフィルタ層を形成」することを示し、「ベース基材上にブラックマトリクス層、カラーフィルタ層、位相差制御層をこの順に積層」するとは、「前記シート基材のベース基材に、ブラックマトリックス層を形成するとともに、少なくとも該ブラックマトリクス層の空間部にカラーフィルタ層を形成し、該カラーフィルタ層上に前記位相差制御層が積層される」ことを示すものとする。ここに、ブラックマトリクス層の空間部とは、ブラックマトリクスがベース基材にパターン形成される際に、ブラックマトリクス層の形成パターンに応じて平面視上所定領域に形成される空隙部分であるものとする。
【００２２】
次いで、以下の各工程を順に行う。
各工程を、図４に基づいて、説明する。
（１）異方相の部分５４（図１では異方相の部分１４ａ）の形成工程
先ず、基材上に重合性液晶モノマーなどの液晶材料を含む塗工液を塗布して、塗膜を形成する。（図４（ａ））塗工液には、位相差制御層に要求される異方性に応じて、重合性カイラル剤が転化されてもよい。
塗布法としては、公知の技術を用いることができる。
具体的には、ロールコート法、グラビアコート法、スライドコート法、浸漬法等により、基板上に塗工液を塗布することができる。
【００２３】
次に、シート状基材５１上に形成した塗膜を重合性液晶５２が液晶構造を発現する所定の温度に保持して配向させ、重合性液晶５２に液晶構造を塗膜に発現させた状態（液晶相の状態とも言う）で、塗膜に紫外線等の電離放射線５３を選択的に露光照射して重合性液晶を重合させて硬化させ、異方性の異方相の部分５４を得る。（図４（ｂ）〜図４（ｃ））
この工程により、所望の位置に異方相の部分５４が形成される。
電離放射線が照射されなかった部分については、液晶材料が固化していない状態（液晶相）である。
【００２４】
シート状基材５１上に塗膜を形成したもの（基体という）において、該塗膜に選択的に紫外線等の電離放射線５３を照射する方法としては、所定のパターンにてパターニング形成されたフォトマスクを用い、そのフォトマスクを介して電離放射線を塗膜に照射する方法（フォトリソグラフィー法）が一般的に採用される。この方法は、微細なパターンのパターニングを容易に実施できる方法であることから、液晶表示パネル用基材における画素領域内に異方相の部分５４が微細なパターンにて形成されている場合に好ましく用いられる。
【００２５】
しかし、塗膜に選択に紫外線等の電離放射線５３を照射する方法としては、上記のようなフォトマスクを用いる方法のほか、画素領域内に共通欠陥が観察されない点と廉価である点を鑑みれば、上記フォトリソグラフィー法を実施する際に、フォトマスクに替えてメタルマスクが使用されることが望ましい。
【００２６】
図７（ａ）に示すように、メタルマスク７０は、平面視上、光を通過させることが光透過部７２と、光の通過を遮断する遮光部７２とを有してなり、遮光部７２は、額縁状の外枠７３を有するとともに、その額縁状の外枠７３の中（外枠７３で囲まれた領域の中）に所定形状を有する部分（図７（ａ）の例では、細幅な額縁状の形状に形成された額縁部７４）を更に配してなる。このメタルマスク７０においては、図８に示すように、内側の額縁部７４の形状と領域が、基体７８のシール予定領域７７の形状と領域に対応し、内側の額縁部７４の形状のさらに内側の形状と領域が、基体７８の画素予定領域７６の形状と領域に対応している。また、基体７８の端縁部分に相当する領域は、内側の額縁部７４と外枠７３との間の領域に位置する。
【００２７】
メタルマスク７０の形状としては、理想的には図７（ａ）に示す様に額縁状の外枠７３と内側の額縁部７４とが分離した形状であることが望ましいが、自然科学的にみて額縁状の外枠と内側に額縁部が分離した形状を採ることができないため、図７（ｂ）や（ｃ）に示す様に額縁状の外枠７３と内側の額縁部７４を繋ぐ連結部７５を備えることが必要である。連結部７５は、額縁状の外枠７３と内側の額縁部７４を十分な強度で繋ぐことができるように設けられれば、額縁状の外枠７３と内側の額縁部７４を繋ぐ部分の形成位置、形状や大きさを特に限定されるものではないが、製造工程におけるライン汚染の懸念及びハンドリングの容易さから、なるべく小さい方が望ましい。
【００２８】
液晶を液晶相の状態としたまま塗膜を硬化させる方法としては、三次元架橋方法を用いる場合は、例えば、液晶分子に光重合開始剤を添加して紫外線照射によって硬化させる。
また、塗膜を硬化させる方法としては、電子線を照射して硬化させる方法を用いることもできる。
【００２９】
電離放射線として紫外線を使用する場合は、使用する重合性液晶材料にもよるが、一般に２００ｍＪ／ｃｍ2 程度の露光量が好ましく、露光波長は、２００〜４５０ｎｍ程度が好ましい。
また、電子線により露光する場合は、５０〜５００Ｇｙが好ましい。
【００３０】
（２）等方相の部分５５（図１では異方相の部分１４ｂ）の形成工程
次に、図４（ｃ）に示すように、紫外線等の電離放射線５３が照射されなかった部分、すなわち、重合性液晶５２が硬化していない部分（液晶相）を、等方相に転移する温度（以下、等方相転移温度という）以上に加熱する。
等方相転移温度以上では、未硬化の重合性液晶５２は、等方相に転移し液晶配向がなくなる。
尚、等方相転移温度は、ＤＳＣ等の測定装置によって測定できる。
また、液晶相から等方相への相転移においては、一般に、偏光顕微鏡観察によっても、等方相転移温度を確認できる。
一方、前工程の紫外線等の電離放射線照射により硬化した液晶層部分（異方相の部分）は、重合により液晶分子が固定されているため、等方相転移温度以上に加熱しても、液晶秩序配列が乱れることはない。
【００３１】
次いで、未硬化の状態（図４（ｄ））から、更に、塗膜を加熱して、等方相の状態にある未硬化の重合性液晶５５ａを重合させて硬化させることにより、硬化した等方相の部分５５を得る。
【００３２】
このようにして、シート状基材５１上に塗布した重合性液晶の全部分を硬化させることにより、光が入射すると位相差を生じる硬化した異方相の部分５４と、光が入射しても位相差を生じない等方相の部分５５とが所望の形状にパターニングされてなる位相差制御相５６を有する表示パネル用基材（図４（ｅ））を得る。
【００３３】
図４に示す、本例の表示パネル用基材の作製方法において用いられる各材料について更に説明する。
位相差制御層５６（図１においては、符号１４にて示す層に相当）の形成に用いられる重合性液晶モノマーとしては、例えば特表平１０−５０８８８２号に開示されているようなものを、また、重合性カイラル剤として、例えば特開平７−２５８６３８号に開示されているようなものを使用することができ、より具体的には、重合性液晶モノマーとしては、下記式（１）〜式（１１）に示すようなものを、また、重合性カイラル剤としては、下記式（１２）〜式（１４）に示すようなものを好ましく例示することができる。
【００３４】
【化１】
2008233873.tif 000003
・・・（１）
【００３５】
【化２】
2008233873.tif 000004
・・・（２）
【００３６】
【化３】
2008233873.tif 000005
・・・（３）
【００３７】
【化４】
2008233873.tif 000006
・・・（４）
【００３８】
【化５】
2008233873.tif 000007
・・・（５）
【００３９】
【化６】
2008233873.tif 000008
・・・（６）
【００４０】
【化７】
2008233873.tif 000009
・・・（７）
【００４１】
【化８】
2008233873.tif 000010
・・・（８）
【００４２】
【化９】
2008233873.tif 000011
・・・（９）
【００４３】
【化１０】
2008233873.tif 000012
・・・（１０）
【００４４】
【化１１】
2008233873.tif 000013
・・・（１１）
【００４５】
【化１２】
2008233873.tif 000014
・・・（１２）
【００４６】
【化１３】
2008233873.tif 000015
・・・（１３）
【００４７】
【化１４】
2008233873.tif 000016
・・・（１４）
【００４８】
上記各式の表記において、「式１１」〜「式１４」中のいずれもメチレン基の数（アルキレン基の鎖長）を示すａ〜ｅはいずれも整数であって、まず、ａ、ｂが、各々個別に２〜１２であり、より好ましくは４〜１０、特に好ましくは６〜９であり、ｃ、ｄはいずれも２〜１２であり、より好ましくは４〜１０であり、特に好ましくは６〜９であり、さらにｅは２〜５である。
【００４９】
前記位相差制御層５６（図１においては、符号１４にて示す層に相当）を形成するために用いられる塗工液などの組成物中には、シランカップリング剤が配合されてもよい。
シランカップリング剤としては、アミンのような親水性の官能基を有するものやケチミン構造を有するものが好ましく、また、位相差制御層５６を形成するための組成物を調製する上で、有機溶剤に可溶であることが好ましく、以降に挙げるようなものの中から１種もしくは２種以上用いることができ、その配合量としては、液晶の配向を阻害しない程度の、液晶材料に対して０．００１％〜１０％（質量基準）程度、より好ましくは０．０１％〜５％程度である。
【００５０】
具体的なシランカップリング剤としては、Ｎ−２（アミノエチル）３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン（信越化学工業（株）製、信越シリコーン「ＫＢＭ−６０２」）、Ｎ−２（アミノエチル）３−アミノプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製、信越シリコーン「ＫＢＭ−６０３」）、３−アミノプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製、信越シリコーン「ＫＢＭ−９０３」）、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン（ＧＥ東芝シリコーン（株）製、「ＴＳＬ−８３３１」）、Ｎ−（β−アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン（ＧＥ東芝シリコーン（株）製、「ＴＳＬ−８３４０」）、Ｎ−（β−アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン（ＧＥ東芝シリコーン（株）製、「ＴＳＬ−８３４５」）、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン（ダウ・コーニング社製、「ＳＨ−６０２０」）、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン（ダウ・コーニング社製、「ＳＨ−６０２３」）を挙げることができる。
【００５１】
また、上記のような組成物中には、液晶の配向を損なわない範囲で光重合開始剤を配合することが好ましく、特に紫外線照射によりフリーラジカルを発生するラジカル重合開始剤が好ましい。
光重合開始剤の配合量としては、液晶材料に対して０．０１％〜１５％（質量基準）程度であり、より好ましくは、０．５％〜１０％程度である。
【００５２】
具体的な光重合開始剤としては、ベンジル（ビベンゾイルともいう）、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−ベンゾイルー４´―メチルジフェニルサルファイド、ベンジルメチルケタール、ジメチルアミノメチルベンゾエート、２−ｎ−ブトキシエチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、３，３´−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、メチロベンゾイルフォーメート、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン２，４−ジイソプロピルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン等を挙げることができる。      
【００５３】
ベース基材（図１において、符号１１にて示す）は、ガラス、シリコン、もしくは石英等の無機基材で構成することが好ましいが、次に列挙するような有機基材から構成することもできる。
有機基材としては、ポリメチルメタクリレート等のアクリル、ポリアミド、ポリアセタール、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、トリアセチルセルロース、もしくはシンジオタクティック・ポリスチレン等、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、フッ素樹脂、もしくはポリエーテルニトリル等、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル、ポリシクロヘキセン、もしくはポリノルボルネン系樹脂等、または、ポリサルホン、ポリエーテルサルホン、ポリアリレート、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、もしくは熱可塑性ポリイミド等からなるものを挙げることができるが、一般的なプラスチックからなるものも使用可能である。
ベース基材の厚みには、特に限定は無いが、用途に応じ、例えば、５μｍ〜数ｍｍ程度のものが使用される。
【００５４】
ブラックマトリックス（図１において、符号１２にて示す）は、ここでは、黒色着色剤を含有する塗料タイプの感光性樹脂組成物を用いて、塗布、パターン状露光および現像を行うことにより形成するが、黒色着色剤を含有する樹脂組成物を対象面の一面に適用して、一旦固化させた後、フォトレジストを適用して所定のパターンとしても良い。
ブラックマトリックスの厚みは、０．５μｍ〜２μｍ程度である。
【００５５】
カラーフィルタ層を構成する各色の微細区域の構成は、ブラックマトリックス層の開孔部毎に各色の着色パターン層を設けて形成されるものであってもよいが、便宜的には、帯状に各色の着色パターン層を設けて形成されるものであってよい。
カラーフィルタ層は、着色剤が溶解もしくは分散された、好ましくは微細顔料が分散された樹脂組成物から構成され、その形成は、所定の色に着色したインキ組成物を調製して、色種ごとに、各色の着色パターンに対応するパターンを形成するようにインキ組成物を印刷することによって行なってもよいが、所定の色の着色剤を含有した塗料タイプの感光性樹脂組成物を用いて、フォトリソグラフィー法によって行なうのがより好ましい。カラーフィルタ層の厚みは、１μｍ〜５μｍ程度である。
【００５６】
本発明の表示パネル用基材は、図２に示すようにして、インセル型の表示パネルに用いられる。
図２に示す表示パネルは、上記、図１に示す表示パネル用基材１０と対向基材２０とを、表示パネル用基材のシール領域１７ｂにおいて、シール材３０を介して一定の間隔を保って貼り合わせ、その内部に液晶４０を密封充填してなるインセル型の液晶表示パネルであり、水平配向モード（ＩＰＳモード）の液晶表示パネルである。
本例の表示パネルの構成を分解して示した概略斜視図は、例えば、水平配向モード（ＩＰＳモード）の場合、図３のようになるが、この表示パネルは、図１の位相差制御層１４を正のＣプレート４３として備え、また正のＡプレート４５を備えており、特に、図１に示す本例の表示パネル用基材１０を用いていることにより、位相差制御層１４のシール領域１７ｂにおける密着性を良いものとして、密着性不良に起因する光漏れを効果的に防止できるものとしている。
尚、図２において、各基材には電極部やスイッチング素子部、他がベース基材に配されているが省略して示しており、図３においては、図１に示す表示パネル用基材１０と対向基材２０のベース基材等を省略して示している。
また、図３の偏光板４１、４６の両矢印は吸収軸の方向を示している。
ここで、位相差制御層は正のＣプレートと呼ばれるものである。この位相差制御層では、位相差制御層の層面を図６（ａ）あるいは図６（ｂ）に示すＳ面として、ｎx ＝ｎy ＜ｎz の関係にある位相差制御層の異方相の部分が、Ｓ面の法線方向に光学的に正の一軸性を有する位相差層をなしている。この場合が、位相差制御層が正のＣプレートにあたる場合であると称される。
液晶２２（図３において、符号４０にて示す）としては、公知の、水平配向液晶（ＩＰＳ液晶とも言う）を用いている。
シール材（図２において、符号３０にて示す）は、従前より液晶表示パネルに用いられうるものであればどのようなものでもよく、例えば樹脂を素材とする樹脂シール材が用いられる。
樹脂シール材としては、例えば、ビスフェノールＦ型、ビスフェノールＡ型ジグリシジルエーテル、レゾルシノールジグリシジルエーテル樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、もしくはトリフェノールメタン型エポキシ樹脂、等の１種または２種以上が用いられ、具体的には例えば、三井化学製のシール材ＸＮ−５Ａ等が用いられる。
このシール材は、必要に応じて樹脂シール剤の他の成分を含有してもよい。
他の成分としては、カーボンブラック、樹脂被覆型カーボンブラック、酸化鉄、酸化チタン、アニリンブラック、シアニンブラック等の微粒子、タルク、マイカ等の無機質充填剤、アミノシラン、エポキシシラン等のシランカップリング剤、セロソルブ、カルビトール類等の溶剤、イミダゾール類、トリフェニルホスフィンビシクロウンデセン、トリスジメチルアミノメチルフェノール等の硬化促進剤等を挙げることができる。
他の各部については、図１に示す表示パネル用基材１０の各部の説明に代え、省略する。
【００５７】
ここでは、表示パネル用基材１０を用いた表示パネルとして、インセル型の水平配向モード（ＩＰＳモード）の液晶表示パネルを１例として挙げたが、必ずしもこれに限定はされない。
垂直配向モード（ＶＡモードとも言う）の液晶表示パネルでは、その視野角依存性を低減するために、光軸が基板に垂直で、負の複屈折異方性を有する位相差フィルム（負のＣプレートとも言う）と、光軸が基板に水平で、正の複屈折異方性を有する位相差フィルム（正のＡプレートとも言う）とを併せて用いられているが、例えば、負のＣプレートは、正のＡプレートを構成する組成物にカイラル剤を添加したものにより形成し、また、正のＡプレートの場合は、重合性液晶に配向膜（光配向膜orラビング膜）を配して形成する。
【００５８】
以下、本例の表示パネル用基材１０の実施例を挙げ、また、比較例を挙げて、シール予定領域に等方相の部分１４ｂを配した場合の方が、異方相１４ａの部分を配した場合より、該シール予定領域において位相差制御層とベース基材１１との密着性に優れていることを示す。
【実施例】
【００５９】
実施例１
本例の表示パネル用基材１０において位相差制御層１４を形成していない状態のシート状基材であって、ガラス基材をベース基材１１としその一面上に、ブラックマトリクス層１２、カラーフィルタ層１３を配したシート状基材を、それぞれ、以下のように調製した各色の着色レジストを用いて、フォトリソグラフィー法によりベース基材の一面側に、パターン形成された着色層（着色画素パターンとも言う）を形成することによって、作成した。
【００６０】
（着色レジストの調製）
ブラックマトリクス及び赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）着色画素の着色材料には顔料分散型フォトレジストを用いた。赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）着色画素は、カラーフィルタ層を構成するものである。
顔料分散型フォトレジストは、着色材料として顔料を用い、分散液組成物（顔料、分散剤及び溶剤を含有する）にビーズを加え、分散機で３時間分散させ、その後ビーズを取り除いた分散液とクリアレジスト組成物（ポリマー、モノマー、添加剤、開始剤及び溶剤を含有する）とを混合したものである。
その組成を下記に示す。
尚、分散機としては、ペイントシェーカー（浅田鉄工社製）を用いた。
【００６１】
（ブラックマトリクス用フォトレジスト）
・黒顔料・・・・・１４．０重量部
（大日精化工業（株）製ＴＭブラック♯９５５０）
・分散剤・・・・・１．２重量部
（ビックケミー（株）製Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ１１１）
・ポリマー・・・・・２．８重量部
（昭和高分子（株）製ＶＲ６０）
・モノマー・・・・・３．５重量部
（サートマー（株）製ＳＲ３９９）
・添加剤・・・・・０．７重量部
（綜研化学（株）製Ｌ−２０）
・開始剤・・・・・１．６重量部
（２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１）
・開始剤・・・・・０．３重量部
（４，４´−ジエチルアミノベンゾフェノン）
・開始剤・・・・・０．１重量部
（２，４−ジエチルチオキサントン）
・溶剤・・・・・７５．８重量部
（エチレングリコールモノブチルエーテル）
【００６２】
（赤色（Ｒ）着色画素用フォトレジスト）
・赤顔料・・・・・４．８重量部
（Ｃ．Ｉ．ＰＲ２５４（チバスペシャリティケミカルズ社製クロモフタールＤＰＰ  Ｒｅｄ  ＢＰ））
・黄顔料・・・・・１．２重量部
（Ｃ．Ｉ．ＰＹ１３９（ＢＡＳＦ社製パリオトールイエローＤ１８１９））
・分散剤・・・・・３．０重量部
（ゼネカ（株）製ソルスパース２４０００）
・モノマー・・・・・４．０重量部
（サートマー（株）製ＳＲ３９９）
・ポリマー１・・・・・５．０重量部
・開始剤・・・・・１．４重量部
（チバガイギー社製イルガキュア９０７）
・開始剤・・・・・０．６重量部
（２，２´−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，５，４´，５´−テトラフェニル−１，２´−ビイミダゾール）
・溶剤・・・・・８０．０重量部
（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）
【００６３】
（緑色（Ｇ）着色画素用フォトレジスト）
・緑顔料・・・・・３．７重量部
（Ｃ．Ｉ．ＰＧ７（大日精化製セイカファストグリーン５３１６Ｐ））
・黄顔料・・・・・２．３重量部
（Ｃ．Ｉ．ＰＹ１３９（ＢＡＳＦ社製パリオトールイエローＤ１８１９））
・分散剤・・・・・３．０重量部
（ゼネカ（株）製ソルスパース２４０００）
・モノマー・・・・・４．０重量部
（サートマー（株）製ＳＲ３９９）
・ポリマー１・・・・・５．０重量部
・開始剤・・・・・１．４重量部
（チバガイギー社製イルガキュア９０７）
・開始剤・・・・・０．６重量部
（２，２´−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，５，４´，５´−テトラフェニル−１，２´−ビイミダゾール）
・溶剤・・・・・８０．０重量部
（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）
【００６４】
（青色（Ｂ）着色画素用フォトレジスト）
・青顔料・・・・・４．６重量部
（Ｃ．Ｉ．ＰＢ１５：６（ＢＡＳＦ社製ヘリオゲンブルーＬ６７００Ｆ））
・紫顔料・・・・・１．４重量部
（Ｃ．Ｉ．ＰＶ２３（クラリアント社製フォスタパームＲＬ−ＮＦ））
・顔料誘導体・・・・・０．６重量部
（ゼネカ（株）製ソルスパース１２０００）
・分散剤・・・・・２．４重量部
（ゼネカ（株）製ソルスパース２４０００）
・モノマー・・・・・４．０重量部
（サートマー（株）製ＳＲ３９９）
・ポリマー１・・・・・５．０重量部
・開始剤・・・・・１．４重量部
（チバガイギー社製イルガキュア９０７）
・開始剤・・・・・０．６重量部
（２，２´−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，５，４´，５´−テトラフェニル−１，２´−ビイミダゾール）
・溶剤・・・・・８０．０重量部
（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）
【００６５】
（着色画素パターンの形成）
適当な洗浄処理を施し、清浄としたベース基材１１として低膨張率無アルカリガラス板（コーニング社製１７３７ガラス  １００ｍｍ×１００ｍｍ、厚み０．７ｍｍ）を準備した。
上記着色層を形成するために、前処理により洗浄したベース基材１１となるガラス基材上面に、上述で調製したブラックマトリクス用フォトレジスト（以下、ＢＭ用フォトレジストとも記す）をスピンコート法で１．２μｍの厚さに塗布し、８０℃、３分間の条件でプリベークし、所定のパターンに形成されたマスクを用いて露光（１００ｍＪ／ｃｍ２）し、続いて０．０５％ＫＯＨ水溶液を用いたスプレー現像を５０秒行った後、２３０℃、３０分間ポストベークし、ＢＭ基板を作製した。
次に、赤色（Ｒ）の顔料分散型フォトレジストを上記ＢＭ基板上にスピンコート法で塗布し、９０℃、３分間の条件でプリベークし、所定の着色パターン用フォトマスクを用いて、アライメント露光（１００ｍＪ／ｃｍ２）した。引き続き０．１％ＫＯＨ水溶液を用いたスプレー現像を５０秒行った後、２３０℃、３０分間ポストベークし、ＢＭパターンに対して所定の位置に膜厚１．２μｍの赤色（Ｒ）着色画素パターンを形成した。
続いて、上記赤色（Ｒ）着色画素パターンの形成方法と同様の方法及び条件で、膜厚１．２μｍの緑色（Ｇ）着色画素パターンを形成した。
さらに、上記赤色（Ｒ）着色画素パターンの形成方法と同様の方法及び条件で、膜厚１．２μｍの青色（Ｂ）着色画素パターンを形成した。
以上により、基板上に、ＢＭ、赤色着色画素、緑色着色画素、及び青色着色画素から構成される着色層を形成した。
【００６６】
上記のようにして、ベース基材１１の一面上に、ブラックマトリクス層１２、カラーフィルタ層１３を配したシート状基材を形成した後、該シート状基材の、一面上に、下記組成の塗工液（位相差制御層１４形成用感光性樹脂組成物）をスピンコーターにより塗布し、塗膜を形成した。
＜作製方法および材質＞
（位相差制御層１４形成用感光性樹脂組成物）
・重合性液晶モノマー・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・２２部
（「化１１」で示すネマチック液晶相を示すもの。）
・重合性カイラル剤（「化１４」で示すもの。）・・・・・・・・・１．８部
・光重合開始剤・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１．３部
（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、イルガキュア９０７）
・アミン系シランカップリング剤・・・・・・・・・・・・・・・０．０５部
（ＧＥ東芝シリコーン（株）製、ＴＳＬ−８３３１）
溶剤（クロロベンゼン）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・７５部
【００６７】
次に、前記板基材を８０℃で３分間保持することにより、重合性液晶５２を配向した液晶相の状態にした。
液晶相への相転移は、塗膜が白濁から透明となることで確認した。
その状態で、図７（ｂ）に示すような、額縁状の外枠の内側にもう一つ額縁状の額縁部を形成してなる構造を有するとともに外枠と内側の額縁部とを所定の部分にて連結させた構成を備えるメタルマスクを用い、このメタルマスクを介して紫外線照射装置により紫外線を塗膜に向けて照射した。なお、メタルマスクにおいて内側の額縁部は、その幅寸法を、シール予定区域の領域を覆うことが可能な寸法であるとともに画素領域にまでは入り込まないような寸法にして形成されており、メタルマスクは、内側の額縁部にて塗膜のシール予定区域が遮光されるように配置された。
また、塗膜に向けて照射された紫外線の照射量は、２０ｍＷ／ｃｍ2 ×５秒とした。
これにより、塗膜において、紫外線が照射された部分は３次元架橋して硬化し、遮光された部分はそのまま未硬化の重合性液晶( 異方性) となる。
次いで、塗膜を形成したガラス基材を２３０℃で３０分間保持し未硬化の重合性液晶(
異方性) を等方性に変化させた。
このとき紫外線が照射された部分はすでに配向状態のまま硬化しているので変性しない。
その後、塗膜を形成した板基材を２３０℃で３０分間保持し等方性の部分を熱硬化させて、等方相の部分を得て、異方相の部分と等方相の部分を有する位相差制御層を備えた本発明の表示パネル用基材１０を得た。
【００６８】
得られた表示パネル用基材１０の位相差制御層１４の等方相の部分１４ｂの密着強度を評価する手段として、セバスチャン剥離試験法を採用した。
セバスチャン剥離試験法とは、図５（ａ）に示すように所定の治具を層表面に貼り付けて、上下方向で引張り試験を行って剥がれる時の力を測定する方法である。
具体的には、前記のようにして作製された表示パネル用基材１０（図５（ａ）において、符号６１にて示す）の位相差制御層１４（図５（ａ）において、符号６２にて示す）の等方相の部分１４ｂの表面に、接着剤にて２〜３ｍｍΦのスタッドピン（図５（ｂ）において符号６４）を貼り付けることで、接着剤にて形成される接着層６３を介して位相差制御層６２とスタッドピン６４を接着してなる構造体を得た。このとき、接着剤としては、シール材（ＸＮ−２１−Ｓ：商品名  三井化学社製）３０が用いられた。そして、その構造体を用いてＱＵＡＤ  ＧＲＯＵＰ社製セバスチャンＶ型強度テスター、ロミュラスIV（Ｒｏｍｕｌｕｓ  IV）にて引っ張り試験を行った。
剥離後のスタッドピン６４の剥離状態を目視で判断し、図５（ｃ）のようにベース基材６１と位相差制御層６２との間に剥離が生じた場合を「不良」、図５（ｂ）のように接着剤６３とスタッドピン６４との間で剥離が生じるにとどまる場合を「良好」とし、位相差制御層６２の等方相の部分（図１において、符号１４ｂにて示す）とベース基材６１との密着強度を評価した。
「不良」の割合を剥離率（％）と言う。
【００６９】
評価試験の前処理として、前記位相差制御層６２を配したベース基材６１にスタッドピン６４を、接着層６３をなす接着剤として前記シール材を用いて貼り付けた後、純水を張ったバットに入れ、１２１℃、湿度１００％の条件で２４時間保持した。
その後、空冷及び自然乾燥後、セバスチャン剥離試験を行った。
【００７０】
前記位相差制御層６２を配したベース基材６１のセバスチャン剥離試験結果を以下に示す。
サンプル数は１０であり、そのすべてが「良好」であった。
剥離率０％であった。
【００７１】
比較例１
本例の表示パネル用基材１０の比較例は、シール予定領域を含み全域を異方相の部分としたものである。
実施例１の場合と同様、本例の表示パネル用基材１０において位相差制御層１４を形成していない状態のシート状基材であって、ベース基材１１の一面上に、ブラックマトリクス層１２、カラーフィルタ層１３を配したシート状基材を形成した後、該シート状基材の、一面上に、実施例１の場合と同じ組成の塗工液を同様に塗布し、塗膜を形成し、８０℃、３分保持により重合性液晶を液晶状態にした。
次にメタルマスクを介さずに紫外線を塗膜全面に照射した。
塗膜は液晶状態を保ちながら３次元架橋し、全面的に配向し、塗膜全面が異方相の部分となった。
その後、基材を２３０℃で３０分間保持し、全面が異方相の部分１４ａからなる位相差制御層１４を備えた、比較例用の表示パネル用基材を得た。
【００７２】
得られた比較例用の表示パネル用基材を用いて実施例１と同様の評価を行った。
サンプル数は１０であり、評価が「良好」であるものの数は、２個であった。
剥離率は８０％であった。
剥離したときの力の平均は１５９ｋｇ／ｃｍ2 であった。
【００７３】
尚、位相差制御層の異方相の部分は重合性液晶が配向した状態のまま重合されて硬化し、また、位相差制御層の等方相の部分は重合性液晶が未配向のまま重合されて硬化しているため、シール予定領域に等方相の部分が配された場合には、シール予定領域に異方相の部分が配された場合に比べ、該シール予定領域においてベース基材との官能基が多くなっていることが、位相差制御層のシール予定領域に等方相の部分を配した方が、異方相の部分をシール予定領域に配する場合に比べ、該シール予定領域におけるシート状基材のベース基材との密着性が向上する理由の一つとして考えられる。
【図面の簡単な説明】
【００７４】
【図１】本発明の表示パネル用基材の実施の形態の１例の概略構成図である。
【図２】本発明の表示パネルの実施の形態の１例の概略構成図である。
【図３】ベース基材を省略して、図２に示す液晶表示パネルを示した分解斜視図である。
【図４】図４（ａ）〜図４（ｅ）は本発明の表示パネル用基材の作製方法の実施の形態の１例の工程断面図である。
【図５】位相差制御層の密着強度を評価する方法を説明するための概略図である。
【図６】図６（ａ）は正のＡプレートを示した図で、図６（ｂ）は負のＣプレートを示した図である。
【図７】図７（ａ）はメタルマスクの例において、外枠と額縁部の相対的な配置位置の例を示す平面図である。図７（ｂ）はメタルマスクの一実施例を示す平面図である。図７（ｃ）はメタルマスクの一実施例を示す平面図である。
【図８】シート状基材に塗膜を形成した基体とメタルマスクとの相対的な配置位置を説明するための図である。
【符号の説明】
【００７５】
１０            シート状基材
１１            ベース基材（ここではガラス基板）
１２            ブラックマトリクス層
１２ａ          ブラックマトリクス額縁
１３            カラーフィルタ層
１４            位相差制御層
１４ａ          異方相の部分
１４ｂ          等方相の部分
１７ａ          画像領域
１７ｂ          シール領域
２０            シート状基材（対向基材ないし対向基板とも言う）
３０            シール材
４０            駆動液晶
４１            偏光板
４２            駆動液晶
４２ａ          横方向の配向状態
４３            正のＣプレート
４４            カラーフィルタ部
４５            正のＡプレート
４６            偏光板
５１            シート状基材
５２            重合性液晶
５３            紫外線等の電離放射線
５４            異方相の部分
５５ａ          等方性の未硬化膜
５５            等方相の部分
５６            位相差制御層
６１            ベース基材（ここではガラス基材）
６２            位相差制御層
６２ａ          剥離した位相差制御層
６３            接着剤
６４            スタッドピン
７０            メタルマスク
７１            遮光部
７２            光透過部
７３            外枠
７４            額縁部
７５            連結部
７６            画素予定領域
７７            シール予定領域
７８            基体
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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