(57)【要約】      （修正有）【課題】塗布ムラのない薄型の光学補償シートを安定的に製造可能な方法を提供する。【解決手段】液晶化合物の一種と、下記一般式（１）で表されるモノマーから導かれる繰り返し単位を含むフルオロ脂肪族基含有ポリマーの少なくとも一種とを含有する塗布液を表面に塗布して、光学異方性層を形成する工程を含み、前記塗布液中の溶剤を除く固形分中に含有される非液晶成分の比率が、液晶成分に対して１〜１５質量％である光学補償シートの製造方法である。2008233758.tif 000052【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体と、該支持体上に光学異方性層を有する光学補償シートの製造方法であって、液晶化合物の少なくとも一種と、下記一般式（１）又は（２）で表されるモノマーから選ばれる少なくとも一種から導かれる繰り返し単位を含むフルオロ脂肪族基含有ポリマーの少なくとも一種とを含有する塗布液を表面に塗布して、光学異方性層を形成する工程を含み、前記塗布液中の溶剤を除く固形分中に含有される非液晶成分の比率が、液晶成分に対して１〜１５質量％であることを特徴とする光学補償シートの製造方法：
【化１】
2008233758.tif 000049
一般式（１）中、Ｒ11は水素原子又はメチル基を表し；Ｘは酸素原子、イオウ原子又はＮ（Ｒ12）−を表し；Ｒ12は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表し；Ｚは水素原子又はフッ素原子を表し；ｍは１〜６の整数を表し、−（ＣＨ2）m−中の一つのＣＨ2基もしくは隣接していない２つ以上のＣＨ2基は、酸素原子又は硫黄原子で置換されていてもよく；及びｎは２〜４の整数を表し；
【化２】
2008233758.tif 000050
一般式（２）中、Ａは下記の連結基群Ａから選ばれる２価（ｑ＝１）もしくは３価（ｑ＝２）の連結基、又は、下記の連結基群Ａから選ばれる２つ以上を組み合わせて形成される２価（ｑ＝１）もしくは３価（ｑ＝２）の連結基を表し、また、連結基同士は酸素原子を介して結合してもよく；Ｚ1は水素原子又はフッ素原子を表し；ｐは３〜８の整数、及びｑは１又は２を表し；
（連結基群Ａ）
−ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、−Ｃ6Ｈ4−及びＣ6Ｈ3＜；
但し、連結基群Ａ中の−Ｃ6Ｈ4−及びＣ6Ｈ3＜のベンゼン環上の置換位置は任意の位置でよい。
【請求項２】
前記光学異方性層の膜厚が、０．１〜１．０μｍであることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記塗布液の粘度が、１［ｍＰａ・ｓ］以上２０［ｍＰａ・ｓ］以下であり、及び前記塗布液の固形分濃度が３０質量％以下、５％以上であることを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記塗布液が、溶剤として２５℃における粘度が１［ｍＰａ・ｓ］以上である有機溶剤を含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記フルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される構成単位を含むポリマーが下記一般式（Ａ）で表される構成単位を含むポリマーであることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法：
【化３】
2008233758.tif 000051
一般式（Ａ）中、Ｍｐはポリマー主鎖の一部を構成する３価の基を表し、Ｌは単結合又は２価の連結基を表し、Ｘは置換もしくは無置換の芳香族縮合環官能基を表す。
【請求項６】
前記液晶化合物が、ディスコティック液晶化合物であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の製造方法により得られる光学補償シート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶組成物から形成された光学異方性層を有する光学補償シートの製造方法、及び該方法によって製造された光学補償シートに関する。
【背景技術】
【０００２】
光学補償シートは、画像着色を解消したり、視野角を拡大するために、様々な液晶表示装置で用いられている。従来、各モードの液晶表示装置に用いる光学補償シートとして、液晶組成物の配向を利用して作製された光学補償シートが種々提案されている。この光学補償シートは、例えば、重合性液晶組成物の塗布液を配向膜等の表面に塗布し、所望の配向状態とした後、その状態を重合により固定化することで作製される。しかし、塗布によって、層を均一に形成するのは困難であり、塗布ムラが生じる場合がある。塗布ムラのある光学異方性膜を、液晶表示装置に用いると、塗布ムラが表示ムラとなって現れる。
【０００３】
特許文献１には、厚さが均一で表面にスジが生じにくい光学異方性層を有する光学補償シートとして、透明支持体上の配向膜の上に、液晶化合物を含む液晶組成物を塗布して形成した光学異方性層を有する光学補償シートにおいて、液晶組成物の塗布量（Ｘ）と２５℃における液晶組成物の粘度（Ｙ）とが所定の関係式を満足するように調節することが提案されている。
また、特許文献２には、ムラを生じることなく、色味変化の小さい画像を表示するのに寄与する光学補償シートして、所定のフルオロ脂肪族基含有ポリマーと所定の液晶化合物とを含有する光学異方性層を有する光学補償シートが提案されている。
【特許文献１】特開２００１−１０００３４号公報
【特許文献２】特開２００６−９１７４５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
液晶表示装置に対しては薄型化への要求が強く、液晶セルの光学補償に必要な所望の光学特性を示す光学異方性層を、より薄く、塗布によるムラを生じさせることなく形成することが必要である。塗布量を低下させれば光学異方性層を薄くでき薄型化への要求に応えることができるが、一方で、必然的に、光学異方性層中に含有される液晶性化合物の含有量が少なくなるため、光学補償に必要な光学特性能が得られないという問題がある。
本発明は、良好な光学補償能を有する、塗布ムラのない薄型の光学補償シートを安定的に製造可能な方法を提供することを課題とする。
また、本発明は、良好な光学補償能を有する、塗布ムラのない薄型の光学補償シートを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
前記課題を解決するための手段は以下の通りである。
［１］  支持体と、該支持体上に光学異方性層を有する光学補償シートの製造方法であって、液晶化合物の少なくとも一種と、下記一般式（１）又は（２）で表されるモノマーから選ばれる少なくとも一種から導かれる繰り返し単位を含むフルオロ脂肪族基含有ポリマーの少なくとも一種とを含有する塗布液を表面に塗布して、光学異方性層を形成する工程を含み、前記塗布液中の溶剤を除く固形分中に含有される非液晶成分の比率が、液晶成分に対して１〜１５質量％であることを特徴とする光学補償シートの製造方法：
【化１】
2008233758.tif 000002
一般式（１）中、Ｒ11は水素原子又はメチル基を表し；Ｘは酸素原子、イオウ原子又はＮ（Ｒ12）−を表し；Ｒ12は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表し；Ｚは水素原子又はフッ素原子を表し；ｍは１〜６の整数を表し、−（ＣＨ2）m−中の一つのＣＨ2基もしくは隣接していない２つ以上のＣＨ2基は、酸素原子又は硫黄原子で置換されていてもよく；及びｎは２〜４の整数を表し；
【化２】
2008233758.tif 000003
一般式（２）中、Ａは下記の連結基群Ａから選ばれる２価（ｑ＝１）もしくは３価（ｑ＝２）の連結基、又は、下記の連結基群Ａから選ばれる２つ以上を組み合わせて形成される２価（ｑ＝１）もしくは３価（ｑ＝２）の連結基を表し、また、連結基同士は酸素原子を介して結合してもよく；Ｚ1は水素原子又はフッ素原子を表し；ｐは３〜８の整数、及びｑは１又は２を表し；
（連結基群Ａ）
−ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、−Ｃ6Ｈ4−及びＣ6Ｈ3＜；
但し、連結基群Ａ中の−Ｃ6Ｈ4−及びＣ6Ｈ3＜のベンゼン環上の置換位置は任意の位置でよい。
【０００６】
［２］  前記光学異方性層の膜厚が、０．１〜１．０μｍであることを特徴とする［１］の方法。
［３］  前記塗布液の粘度が、１［ｍＰａ・ｓ］以上２０［ｍＰａ・ｓ］以下であり、及び前記塗布液の固形分濃度が３０質量％以下、５％以上であることを特徴とする［１］又は［２］の方法。
［４］  前記塗布液が、溶剤として２５℃における粘度が１［ｍＰａ・ｓ］以上である有機溶剤を含むことを特徴とする［１］〜［３］のいずれかの方法。
【０００７】
［５］  前記フルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される構成単位を含むポリマーが下記一般式（Ａ）で表される構成単位を含むポリマーであることを特徴とする［１］〜［４］のいずれかの方法：
【化３】
2008233758.tif 000004
一般式（Ａ）中、Ｍｐはポリマー主鎖の一部を構成する３価の基を表し、Ｌは単結合又は２価の連結基を表し、Ｘは置換もしくは無置換の芳香族縮合環官能基を表す。
【０００８】
［６］  前記液晶化合物が、ディスコティック液晶化合物であることを特徴とする［１］〜［５］のいずれかの方法。
［７］  ［１］〜［６］のいずれかの製造方法により得られる光学補償シート。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、良好な光学補償能を有する、塗布ムラのない薄型の光学補償シートを安定的に製造可能な方法を提供することができる。
また、本発明によれば、良好な光学補償能を有する、塗布ムラのない薄型の光学補償シートを提供することができる。
【発明の実施の形態】
【００１０】
以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
本発明は、支持体と、該支持体上に光学異方性層を有する光学補償シートの製造方法であって、液晶化合物の少なくとも一種と、所定のフルオロ脂肪族基含有ポリマーの少なくとも一種とを含有する塗布液を表面に塗布して、光学異方性層を形成する工程を含み、前記塗布液中の溶剤を除く固形分中に含有される非液晶成分の比率が、液晶成分に対して１〜１５質量％であることを特徴とする光学補償シートの製造方法に関する。本発明では、塗布液中に所定のフルオロ脂肪族含有ポリマーを添加するとともに、塗布液中の液晶成分に対する非液晶成分の質量比を１〜１５質量％とすることで、塗布ムラが生じない程度に塗布量を少なくした場合であっても、液晶成分の配向（例えば、ディスコティック液晶のハイブリッド配向）によって発現された所望のレターデーションを示す光学異方性層を効率的に形成できる。
【００１１】
まず、本発明の製造方法に用いられる、光学異方性層形成用塗布液について説明する。
（光学異方性形成用塗布液）
本発明では、光学異方性層の形成に用いる塗布液を調製する際に、前記塗布液中の溶剤を除く固形分中に含有される非液晶成分の比率を、液晶成分に対して最大で１５質量％である。下限値については特に制限されず、本発明の効果が得られる限り、より低下されるのが好ましいが、一般的には、１〜１５質量％であるのが好ましく、１〜７質量％であるのがより好ましい。後述する所定のフルオロ脂肪族含有ポリマーを用いるとともに、非液晶成分と液晶成分との比率を前記範囲とすることで塗布ムラがなく、しかも液晶成分の配向によって発現した十分なレターデーションを示す光学異方性層を形成することができる。
なお、塗布液中に含まれる非液晶成分には、後述する所定のフルオロ脂肪族含有ポリマーが含まれる他、所望により添加される重合開始剤、非液晶性の重合性モノマー、その他、種々の添加剤が含まれる。前記液晶成分は、塗布液中に添加される一種又は二種以上の液晶化合物である。
【００１２】
塗膜を形成するためには、塗布液にはある程度の粘度が必要である。かかる観点からは、前記塗布液の粘度は、１［ｍＰａ・ｓ］以上であるのが好ましく、１〜２０ｍＰａ・ｓであるのがより好ましく、２〜５ｍＰａ・ｓであるのがさらに好ましい。一方、塗布液の粘度が高すぎると、塗布性が低下する場合がある。これらの観点では、塗布液の粘度は、１〜２０ｍＰａ・ｓ以下であるのが好ましく、そのためには、前記塗布液の固形分濃度は、３０質量％以下であるのが好ましく、５〜３０質量％であるのがより好ましく、１５〜３０質量％であるのがさらに好ましい。
前記塗布液の調製に用いられる溶剤が、高粘度有機溶媒であると、固形分濃度及び粘度が前記好ましい範囲である塗布液とできるので好ましい。前記塗布液の調製に用いる有機溶媒としては、２５℃における粘度が１［ｍＰａ・ｓ］以上の有機溶媒が好ましく、粘度が１〜２０ｍＰａ・ｓの有機溶媒がより好ましく、粘度が２〜５ｍＰａ・ｓの有機溶媒がさらに好ましい。二種以上の有機溶媒を用いる場合は、混合溶媒の粘度が前記範囲であるのが好ましい。２５℃における粘度が１ｍＰａ・ｓ以上である有機溶媒の例には、シクロヘキサノン（２．２ｃｐ）、ジアセトンアルコール（２．９ｃｐ）およびプロピレングリコールモノメチルエーテル（１．７５ｃｐ）が含まれる。
なお、従来の光学異方性層形成用の液晶組成物の塗布液の調製には、しばしばメチルエチルケトンが用いられているが、メチルエチルケトンは、比較的低粘度（２５℃における粘度：０．３７ｃｐ）である。
【００１３】
・フルオロ脂肪族含有ポリマー
本発明では、下記一般式（１）及び（２）で表されるモノマーから選ばれる少なくとも一種から導かれる繰り返し単位を含むフルオロ脂肪族含有ポリマー（以下、「フッ素系ポリマー」という場合もある）を塗布液中に添加する。前記フルオロ脂肪族含有ポリマーを添加することにより、塗布液の塗布性が改善され、塗布ムラの軽減が図れる。また、前記フルオロ脂肪族含有ポリマーを添加することにより、液晶化合物の分子の配向、特に空気界面における配向が、促進される。
【００１４】
【化４】
2008233758.tif 000005
【００１５】
一般式（１）中、Ｒ11は水素原子またはメチル基を表し、Ｘは酸素原子、イオウ原子または−Ｎ（Ｒ12）−を表し、Ｘは好ましくは酸素原子である。Ｒ12は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表す。Ｒ12は水素原子又はメチル基であるのが好ましい。Ｚは水素原子またはフッ素原子を表し、好ましくは水素原子である。ｍは１〜６の整数を表し、−（ＣＨ2）m−中の一つのＣＨ2基もしくは隣接していない２つ以上のＣＨ2基は、酸素原子又は硫黄原子で置換されていてもよい。ｍは好ましくは１または２である。ｎは２〜４の整数を表し、好ましくは３または４である。
【００１６】
【化５】
2008233758.tif 000006
【００１７】
一般式（２）中、Ａは下記の連結基群Ａから選ばれる２価（ｑ＝１）もしくは３価（ｑ＝２）の連結基、または、下記の連結基群Ａから選ばれる２つ以上を組み合わせて形成される２価（ｑ＝１）もしくは３価（ｑ＝２）の連結基を表し、また、連結基同士は酸素原子を介して結合してもよく、Ｚ1は水素原子またはフッ素原子を表し、ｐは３〜８の整数、ｑは１または２を表す。
（連結基群Ａ）
−ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、−Ｃ6Ｈ4−および−Ｃ6Ｈ3＜
前記連結基群Ａ中、−Ｃ6Ｈ4−および−Ｃ6Ｈ3＜のベンゼン環上の置換位置は任意の位置でよい。
連結基群Ａ中、−Ｃ6Ｈ4−はフェニレン基を意味し、−Ｃ6Ｈ3＜は、ベンゼン環から３つの水素原子を取り去ってできる基を意図している。従って、「ベンゼン環上の置換位置は任意の位置でよい。」とは、−（ＣＦ2）p−Ｚ1がベンゼン環上のいずれの位置で置換されていてもよいことを意図している。
【００１８】
以下に、本発明に使用可能なフッ素系ポリマーの製造に利用可能な、前記一般式（１）で表されるモノマーの具体例を以下に挙げるが、これらに限定されるものではない。なお、下記モノマーのうち、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−の全部もしくは一部が、−ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−や−ＣＨ2ＣＨ2Ｓ−に置き換わった化合物も、前記一般式（１）で表されるモノマーの具体例含まれる。
【００１９】
【化６】
2008233758.tif 000007
【００２０】
【化７】
2008233758.tif 000008
【００２１】
【化８】
2008233758.tif 000009
【００２２】
【化９】
2008233758.tif 000010
【００２３】
【化１０】
2008233758.tif 000011
【００２４】
【化１１】
2008233758.tif 000012
【００２５】
【化１２】
2008233758.tif 000013
【００２６】
さらに、前記一般式（１）で表されるモノマーから導かれる構成単位の具体例も列挙するが、これらに限定されるものではない。
【００２７】
【化１３】
2008233758.tif 000014
【００２８】
【化１４】
2008233758.tif 000015
【００２９】
また、本発明に使用可能なフッ素系ポリマーの製造に利用可能な、前記一般式（２）で表されるモノマーの具体例を以下に挙げるが、これらに限定されるものではない。
【００３０】
【化１５】
2008233758.tif 000016
【００３１】
前記フッ素系ポリマーは、前記フルオロ脂肪族基を有する繰り返し単位とともに、下記式（Ａ）で表される繰り返し単位の少なくとも一種を含んでいるのが好ましい。
【００３２】
【化１６】
2008233758.tif 000017
一般式（Ａ）中、Ｍｐはポリマー主鎖の一部を構成する３価の基を表し、Ｌは単結合又は２価の連結基を表し、Ｘは置換もしくは無置換の芳香族縮合環官能基を表す。
【００３３】
前記式（Ａ）中、Ｍｐは、３価の基であり、ポリマーの主鎖の一部を構成する。Ｍｐは、好ましくは、炭素原子数２〜２０（置換基の炭素原子数は含まない、以下、Ｍｐ中のものについて同じ）の置換もしくは無置換の長鎖又は分岐のアルキレン基（例えば、エチレン基、プロピレン基、メチルエチレン基、ブチレン基、ヘキシレン基等）、炭素原子数３〜１０の置換もしくは無置換の環状アルキレン基（例えば、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロヘキシレン基等）、置換もしくは無置換のビニレン基、置換もしくは無置換の環状ビニレン基、置換もしくは無置換のフェニレン基、酸素原子を含む基（例えば、エーテル基、アセタール基、エステル基、カルボネート基等を含む基）、窒素原子を含む基（例えば、アミノ基、イミノ基、アミド基、ウレタン基、ウレイド基、イミド基、イミダゾール基、オキサゾール基、ピロール基、アニリド基、マレインイミド基等を含む基）、硫黄原子を含む基（例えば、スルフィド基、スルホン基、チオフェン基等を含む基）、リン原子を含む基（例えば、ホスフィン基、リン酸エステル基等を含む基）、珪素原子を含む基（例えば、シロキサン基等を含む基）の基、及びこれらの基を二つ以上連結して形成される基であって、該基に含まれる水素原子の１つが−Ｌ−Ｘ基によって置換されている基が好ましく、より好ましくは、置換もしくは無置換のエチレン基、置換もしくは無置換のメチルエチレン基、置換もしくは無置換のシクロヘキシレン基、置換もしくは無置換のビニレン基であって、該基に含まれる水素原子の１つが−Ｌ−Ｘ基によって置換されている基であり、さらに好ましくは、置換もしくは無置換のエチレン基、置換もしくは無置換のメチルエチレン基、置換もしくは無置換のビニレン基であって、該基に含まれる水素原子の１つが−Ｌ−Ｘ基によって置換されている基であり、特に好ましくは、置換もしくは無置換のエチレン基、置換もしくは無置換のメチルエチレン基であって、該基に含まれる水素原子の１つが−Ｌ−Ｘ基によって置換されている基であり、具体的には、後述する、Ｍｐ−１及びＭｐ−２が好ましい。
【００３４】
以下に、Ｍｐの好ましい具体例を示すが、Ｍｐはこれに限定されるものではない。また、Ｍｐ中の＊で表される部位はＬと連結する部位を表す。
【００３５】
【化１７】
2008233758.tif 000018
【００３６】
前記一般式（Ａ）中のＬで表される２価の連結基としては、好ましくは、置換もしくは無置換の炭素原子数１〜２０のアルキレン基（例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、イソプロピレン基など）、炭素原子数２〜２０のアルケニレン基（例えば、ビニレン基、ブテン基等）、−Ｏ−、−ＮＲa1−、−Ｓ−、−ＰＲa2−、−Ｓｉ（Ｒa3）（Ｒa4）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲa5−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＲa6−、−ＮＲa7Ｃ（＝Ｏ）ＮＲa8−、−（−Ｏ）2ＣＨ−ならびに、これらを２個以上連結して形成される基から選択される２価の連結基である。
ここで、上記Ｒa1〜Ｒa8は置換可能な置換基を表し、例えば、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基（１以上の環構造を含むモノシクロアルキル基、ビシクロアルキル基等のシクロアルキル基を含む）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む）、アルキニル基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、シリルオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アミノ基（アニリノ基を除く）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基が例として挙げられ、水素原子及びアルキル基が好ましい。
【００３７】
前記一般式（Ａ）中のＬとしてより好ましくは、−Ｏ−、−ＮＲa11−（但し、Ｒa11は水素原子、炭素原子数１〜１０の脂肪族炭化水素基を表す）、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｓ（＝Ｏ）2−、及び、炭素原子数１〜２０の置換もしくは無置換のアルキレン基、ならびに、これらを２個以上連結して形成される基から選択される２価の連結基であり、特に、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ（ＣＨ2）mＯ−、−（ＣＨ2）ｍ−、ならびに、これらを２個以上連結して形成される基から選択される２価の連結基が好ましい。
ここで、ｍは１〜２０の整数を表す。ｍは、Ｘの自由度を適切に調整するために、好ましくは１〜１６、より好ましくは２〜１２、さらに好ましくは２〜６である。Ｘの自由度を適切に調整することにより、配向させる液晶との相互作用が増し、かつ、Ｘの方位をより制御でき、より効果的に平均チルト角度を制御できる。
また、上記連結基を２つ以上連結させて形成される、以下に示すような連結基も好ましい。また、Ｌ中の＊で表される部位はＭｐと連結する部位を表す。下記式中、ｍは１〜２０の整数を表し、上記「ｍ」と同義であり、好ましい範囲も同義である。
【００３８】
【化１８】
2008233758.tif 000019
【００３９】
さらに、一般式（Ａ）中のＭｐが前記Ｍｐ−１又はＭｐ−２を表す場合には、Ｌは、−Ｏ−、−ＮＲa11−（Ｒa11は、水素原子、炭素原子数１〜１０の脂肪族炭化水素基）、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｓ（＝Ｏ）2−、及び、炭素原子数１〜２０の置換もしくは無置換のアルキレン基、ならびに、これらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基であることが好ましく、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、及び、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、ならびに、これらの１以上とアルキレン基との組み合わせからなる２価の連結基から選択される基がより好ましい。例えば、前記Ｌ−１、Ｌ−２、及び、Ｌ−３、Ｌ−６等である。
【００４０】
前記一般式（Ａ）中のＸで表される置換もしくは無置換の芳香族縮合環官能基の環数については特に制限はないが、１〜４個の環が縮合した基であるのが好ましい。環を構成している原子が炭素原子のみである炭化水素系の芳香族縮合環のみならず、ヘテロ原子を環構成原子とするヘテロ環が縮合した芳香族縮合環であってもよい。Ｘは、炭素原子数５〜３０の置換もしくは無置換のインデニル基（メチルインデニル基、メドキシインデニル基、或いはヘテロ原子で置換されたインインデニル基、例え、ベンゾフラニル基、チオナフテニル基、インドールニル基、インダゾールニル基、ベンズイミダゾールニル基、ベンゾトリアゾールニル基、１−ピラゾールピラジニル基等）、炭素原子数６〜３０の置換もしくは無置換のナフチル基（メチルナフチル基、シアノナフチル基、フルオロナフチル基、ブロモナフチル基、或いはヘテロ原子で置換されたナフチル基、例え、キノリル基、イソキノリル基、キナゾリル基、キノキサリル基、６，７−ピリドピリダジニル基、ベンゾテトラジニル基、プテリル基等）、炭素原子数１２〜３０の置換もしくは無置換のフルオレニル基（２，７−ジメチルフルオレニル基、或いはヘテロ原子で置換されたフルオレニル基、例え、カルバゾリル基、ジベンゾフラリル基、ジベンゾチオフェニル基等）、アントリル基（５−メチルアントリル基、或いはヘテロ原子で置換されたアントリル基、例え、キサンテニル基、アクリジニル基、フェナジニル基等）、ピレニル基、ペリレニル基、フェナントレニル基などであるのが好ましい。
【００４１】
前記一般式（Ａ）中、Ｘとしてより好ましくは、炭素原子数５〜３０の置換もしくは無置換のインデニル基、又は、炭素原子数６〜３０の置換もしくは無置換のナフチル基であり、さらに好ましくは、炭素原子数１０〜３０の置換もしくは無置換のナフチル基であり、特に好ましくは炭素原子数１０〜２０置換もしくは無置換のナフチル基である。
【００４２】
特に、Ｌが単結合又は、−Ｏ−、−ＮＲa11−（但し、Ｒa11は水素原子、炭素原子数１〜１０の脂肪族炭化水素基）、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、及び、−Ｓ（＝Ｏ）2−、ならびに、これらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基の場合には、Ｘが置換もしくは無置換のナフチル基を表すことが好ましい。
【００４３】
以下に、一般式（Ａ）として好ましい構成単位の具体例を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００４４】
【化１９】
2008233758.tif 000020
【００４５】
【化２０】
2008233758.tif 000021
【００４６】
【化２１】
2008233758.tif 000022
【００４７】
また、前記フッ素系ポリマーは、前記フルオロ脂肪族基含有モノマー（一般式（１）又は（２）で表されるモノマー）より誘導される構成単位の他、これらの構成単位を形成するモノマーと共重合可能なモノマーより誘導される構成単位を含有してもよい。
共重合可能なモノマーとしては、本発明の趣旨を逸脱しない限り、特に制限はない。好ましいモノマーとしては、例えば、炭化水素系ポリマー（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリマレインイミド、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリルアミド、ポリアクリルアニリド等）、ポリエーテル、ポリエステル、ポリカルボナート、ポリアミド、ポリアミック酸、ポリイミド、ポリウレタン及びポリウレイドを構成するモノマーでなどが、溶媒への溶解度を向上させたり、ポリマーの凝集を防止する観点で好ましく用いることができる。
さらに、主鎖構造が、前記前記フルオロ脂肪族基含有モノマーから誘導される構成単位と、同一となる構成単位が好ましい。
【００４８】
以下に共重合可能な構成単位の具体例を示すが、本発明は以下の具体例によってなんら制限されるものではない。特に、Ｃ−２、Ｃ−３、Ｃ−１０、Ｃ−１１、Ｃ−１２、Ｃ−１９が好ましく、Ｃ−１１、Ｃ−１９がさらに好ましい。
【００４９】
【化２２】
2008233758.tif 000023
【００５０】
【化２３】
2008233758.tif 000024
【００５１】
前記フッ素系ポリマー中の、前記一般式（１）又は（２）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される繰り返し単位の含有率としては、５〜９０質量％が好ましく、１０〜８０％がより好ましい。
また、前記フッ素系ポリマーは、前記一般式（Ａ）で表される繰り返し単位を含有しているのが好ましく、その含有率としては、１〜９０質量％が好ましく、３〜８０質量％がより好ましい。
また、前記フッ素系ポリマーは、上記２種以外の構成単位を含有していてもよいが、その含有率は、６０質量％以下が好ましく、５０質量％以下がより好ましい。
【００５２】
また、前記フッ素系ポリマーは、各構成単位が不規則的に導入されたランダム共重合体であっても、規則的に導入されたブロック共重合体であってもよく、ブロック共重合体である場合の各構成単位は、如何なる導入順序で合成されたものであってもよく、同一の構成成分を２度以上用いてもよい。
また、一般式（１）又は（２）で表されるモノマーから誘導される構成単位は、１種類のみであってもよいし、２種類以上であってもよい。２種類以上の場合、上記含有率は、合計含有率である。
【００５３】
さらに、前記フッ素系ポリマーの分子量範囲は、数平均分子量（Ｍｎ）で、好ましくは１０００〜１００万であり、より好ましくは３０００〜２０万であり、さらに好ましくは５０００〜１０万である。また、本発明で用いるポリマーの分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ、Ｍｗは重量平均分子量）は、１〜４であることが好ましく、１．５〜４であることがより好ましい。
【００５４】
前記フッ素系ポリマーの添加量範囲は、液晶化合物に対して、好ましくは０．０１〜１０質量％であり、より好ましくは、０．１〜５．０質量％であり、さらに好ましくは、０．５〜２．５質量％である。
【００５５】
前記フッ素系ポリマーの好ましい具体例を以下の表１に示す。
【００５６】
【表１】
2008233758.tif 000025
【００５７】
前記フッ素系ポリマーの重合方法は、特に限定されるものではないが、例えば、ビニル基を利用したカチオン重合やラジカル重合、あるいは、アニオン重合等の重合方法を採ることができ、これらの中ではラジカル重合が汎用に利用できる点で特に好ましい。ラジカル重合の重合開始剤としては、ラジカル熱重合開始剤や、ラジカル光重合開始剤等の公知の化合物を使用することができるが、特に、ラジカル熱重合開始剤を使用することが好ましい。ここで、ラジカル熱重合開始剤は、分解温度以上に加熱することにより、ラジカルを発生させる化合物である。このようなラジカル熱重合開始剤としては、例えば、ジアシルパーオキサイド（アセチルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド等）、ケトンパーオキサイド（メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド等）、ハイドロパーオキサイド（過酸化水素、ｔｅｒｔ−ブチルハイドパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド等）、ジアルキルパーオキサイド（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ジラウロイルパーオキサイド等）、パーオキシエステル類（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート等）、アゾ系化合物（アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスイソバレロニトリル等）、過硫酸塩類（過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム等）が挙げられる。このようなラジカル熱重合開始剤は、１種を単独で使用することもできるし、あるいは２種以上を組み合わせて使用することもできる。
【００５８】
ラジカル重合方法は、特に制限されるものでなく、乳化重合法、懸濁重合法、塊状重合法、溶液重合法等を採ることが可能である。典型的なラジカル重合方法である溶液重合についてさらに具体的に説明する。他の重合方法についても概要は同等であり、その詳細は例えば「高分子科学実験法」高分子学会編（東京化学同人、１９８１年）等に記載されている。
【００５９】
溶液重合を行うためには有機溶媒を使用する。これらの有機溶媒は本発明の目的、効果を損なわない範囲で任意に選択可能である。これらの有機溶媒は通常、大気圧下での沸点が５０〜２００℃の範囲内の値を有する有機化合物であり、各構成成分を均一に溶解させる有機化合物が好ましい。好ましい有機溶媒の例を示すと、イソプロパノール、ブタノール等のアルコール類；ジブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、γ−ブチロラクトン等のエステル類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；が挙げられる。なお、これらの有機溶媒は、１種単独または２種以上を組み合わせて用いることが可能である。さらに、モノマーや生成するポリマーの溶解性の観点から上記有機溶媒に水を併用した水混合有機溶媒も適用可能である。
【００６０】
また、溶液重合条件も特に制限されるものではないが、例えば、５０〜２００℃の温度範囲内で、１０分〜３０時間加熱することが好ましい。さらに、発生したラジカルが失活しないように、溶液重合中はもちろんのこと、溶液重合開始前にも、不活性ガスパージを行うことが好ましい。不活性ガスとしては通常窒素ガスが好適に用いられる。
【００６１】
前記フッ素系ポリマーを好ましい分子量範囲で得るためには、連鎖移動剤を用いたラジカル重合法が特に有効である。連鎖移動剤としてはメルカプタン類（例えば、オクチルメルカプタン、デシルメルカプタン、ドデシルメルカプタン、ｔｅｒｔ−ドデシルメルカプタン、オクタデシルメルカプタン、チオフェノール、ｐ−ノニルチオフェノール等）、ポリハロゲン化アルキル（例えば、四塩化炭素、クロロホルム、１，１，１−トリクロロエタン、１，１，１−トリブロモオクタンなど）、低活性モノマー類（α−メチルスチレン、α−メチルスチレンダイマー等）のいずれも用いることができるが、好ましくは炭素数４〜１６のメルカプタン類である。これらの連鎖移動剤の使用量は、連鎖移動剤の活性やモノマーの組み合わせ、重合条件などにより著しく影響され精密な制御が必要であるが、通常は使用するモノマーの全モル数に対して好ましくは０．０１モル％〜５０モル％であり、より好ましくは０．０５モル％〜３０モル％であり、特に好ましくは０．０８モル％〜２５モル％である。これらの連鎖移動剤は、重合過程において重合度を制御するべき対象のモノマーと同時に系内に存在させればよく、その添加方法については特に問わない。モノマーに溶解して添加してもよいし、モノマーと別途に添加することも可能である。
【００６２】
塗布液中における、液晶成分と非液晶成分との比率が前記範囲であることを前提として、前記フッ素系ポリマーの塗布液中の含有量は、固形分濃度で、０．００５〜８質量％であるのが好ましく、０．０１〜５質量％であるのがより好ましく、０．０５〜２．５質量％であるのがさらに好ましい。
【００６３】
・  液晶化合物
本発明に用いられる液晶化合物は特に制限されるものではないが、ディスコティック液晶性を示す化合物（ディスコティック液晶化合物）であることが好ましく、ディスコティックネマチック相を示す化合物であることがより好ましい。
本発明に用いられる液晶化合物としては、一般式（ＤＩ）で表されるものが例示される。下記式（ＤＩ）化合物は、高い複屈折性を示すので好ましい。
【００６４】
・  一般式（ＤＩ）で表される化合物
本発明に用いられる一般式（ＤＩ）表される化合物は、ディスコティック液晶性を示すことが好ましく、特に、ディスコティックネマチック相を示すことが好ましい。
【００６５】
【化２４】
2008233758.tif 000026
【００６６】
一般式（ＤＩ）中、Ｙ11、Ｙ12、Ｙ13は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表す。Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3は、それぞれ独立に単結合又は２価の連結基を表す。Ｈ1、Ｈ2、Ｈ3はそれぞれ独立に、下記一般式（ＤＩ−Ａ）又は下記一般式（ＤＩ−Ｂ）を表す。Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は、それぞれ独立に下記一般式（ＤＩ−Ｒ）を表す。
【００６７】
一般式（ＤＩ）中、Ｙ11、Ｙ12及びＹ13はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表す。Ｙ11、Ｙ12及びＹ13がそれぞれメチンの場合、メチンが有する水素原子は置換基によって置換されていてもよい。メチンが有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子及びシアノ基を挙げることができる。これらの中では、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、ハロゲン原子及びシアノ基がより好ましく、炭素原子数（置換基が有する炭素原子数をいう、以下、ディスコティック液晶化合物が有していてもよい置換基について同じ）１〜１２のアルキル基、炭素原子数１〜１２のアルコキシ基、炭素原子数２〜１２アルコキシカルボニル基、炭素原子数２〜１２アシルオキシ基、ハロゲン原子及びシアノ基がさらに好ましい。
【００６８】
Ｙ11、Ｙ12、Ｙ13は、すべてメチンであることが好ましく、またメチンは無置換であることが好ましい。
【００６９】
一般式（ＤＩ）中、Ｌ1、Ｌ2及びＬ3はそれぞれ独立に、単結合又は２価の連結基である。前記２価の連結基は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ7−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、２価の環状基及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基であることが好ましい。上記Ｒ7は炭素原子数が１〜７のアルキル基又は水素原子であり、炭素原子数１〜４のアルキル基又は水素原子であることがより好ましく、メチル基、エチル基又は水素原子であることがさらに好ましく、水素原子であることが特に好ましい。
【００７０】
Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3で表される２価の環状基は、５員環、６員環又は７員環であることが好ましく、５員環又は６員環であることがより好ましく、６員環であることがさらに好ましい。環状基に含まれる環は、縮合環であってもよい。ただし、縮合環よりも単環であることがより好ましい。また、環状基に含まれる環は、芳香族環、脂肪族環、及び複素環のいずれでもよい。芳香族環の例には、ベンゼン環及びナフタレン環が含まれる。脂肪族環の例には、シクロヘキサン環が含まれる。複素環の例には、ピリジン環及びピリミジン環が含まれる。環状基は、芳香族環及び複素環を含んでいるのが好ましい。
【００７１】
前記２価の環状基のうち、ベンゼン環を有する環状基としては、１，４−フェニレン基が好ましい。ナフタレン環を有する環状基としては、ナフタレン−１，５−ジイル基及びナフタレン−２，６−ジイル基が好ましい。シクロヘキサン環を有する環状基としては１，４−シクロへキシレン基であることが好ましい。ピリジン環を有する環状基としてはピリジン−２，５−ジイル基が好ましい。ピリミジン環を有する環状基としては、ピリミジン−２，５−ジイル基が好ましい。
【００７２】
Ｌ1、Ｌ2又はＬ3で表される前記２価の環状基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素原子数が１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数が２〜１６のアシル基、炭素原子数が１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数が２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数が２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数が２〜１６のアルキル基で置換されたカルバモイル基及び炭素原子数が２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。
【００７３】
Ｌ1、Ｌ2及びＬ3としては、単結合、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−ＣＯ−Ｏ−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−、＊−Ｃ≡Ｃ−、＊−２価の環状基−、＊−Ｏ−ＣＯ−２価の環状基−、＊−ＣＯ−Ｏ−２価の環状基−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−２価の環状基−、＊−Ｃ≡Ｃ−２価の環状基−、＊−２価の環状基−Ｏ−ＣＯ−、＊−２価の環状基−ＣＯ−Ｏ−、＊−２価の環状基−ＣＨ＝ＣＨ−又は＊−２価の環状基−Ｃ≡Ｃ−が好ましい。特に、単結合、＊−ＣＨ＝ＣＨ−、＊−Ｃ≡Ｃ−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−２価の環状基−又は＊−Ｃ≡Ｃ−２価の環状基−がより好ましく、単結合がさらに好ましい。ここで、＊は一般式（Ｉ）中のＹ11、Ｙ12及びＹ13を含む６員環に結合する位置を表す。
【００７４】
一般式（ＤＩ）中、Ｈ1、Ｈ2及びＨ3はそれぞれ独立に、下記一般式（ＤＩ−Ａ）もしくは下記一般式（ＤＩ−Ｂ）を表す。
【００７５】
【化２５】
2008233758.tif 000027
【００７６】
一般式（ＤＩ−Ａ）中、ＹＡ1及びＹＡ2はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表す。ＹＡ1及びＹＡ2は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、双方が窒素原子であることがより好ましい。ＸＡは酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表す。ＸＡは、酸素原子であることが好ましい。＊はＬ1〜Ｌ3と結合する位置を表し、＊＊はＲ1〜Ｒ3と結合する位置を表す。
【００７７】
【化２６】
2008233758.tif 000028
【００７８】
一般式（ＤＩ−Ｂ）中、ＹＢ1及びＹＢ2は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表す。ＹＢ1及びＹＢ2は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、双方が窒素原子であることがより好ましい。ＸＢは酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表す。ＸＢは、酸素原子であることが好ましい。＊はＬ1〜Ｌ3と結合する位置を表し、＊＊はＲ1〜Ｒ3と結合する位置を表す。
【００７９】
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は、それぞれ独立に下記一般式（ＤＩ−Ｒ）を表す。
一般式（ＤＩ−Ｒ）
＊−（−Ｌ21−Ｆ1）n1−Ｌ22−Ｌ23−Ｑ1
【００８０】
一般式（ＤＩ−Ｒ）中、＊は一般式（ＤＩ）中のＨ1、Ｈ2又はＨ3に結合する位置を表す。Ｆ1は少なくとも１種類の環状構造を有する２価の連結基を表す。Ｌ21は単結合又は２価の連結基を表す。Ｌ21が２価の連結基の場合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ7−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基であることが好ましい。上記Ｒ7は炭素原子数が１〜７のアルキル基又は水素原子であり、炭素原子数１〜４のアルキル基又は水素原子であることがより好ましく、メチル基、エチル基又は水素原子であることがさらに好ましく、水素原子であることが特に好ましい。
【００８１】
Ｌ21は単結合、＊＊−Ｏ−ＣＯ−、＊＊−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−ＣＨ＝ＣＨ−又は＊＊−Ｃ≡Ｃ−（ここで、＊＊は一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＬ21の左側を表す）が好ましい。特に、単結合が好ましい。
【００８２】
一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＦ1は少なくとも１種類の環状構造を有する２価の環状連結基を表す。環状構造は、５員環、６員環又は７員環であることが好ましく、５員環又は６員環であることがより好ましく、６員環であることがさらに好ましい。環状構造は、縮合環であってもよい。ただし、縮合環よりも単環であることがより好ましい。また、環状基に含まれる環は、芳香族環、脂肪族環、及び複素環のいずれでもよい。芳香族環の例には、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環が含まれる。脂肪族環の例には、シクロヘキサン環が含まれる。複素環の例には、ピリジン環及びピリミジン環が含まれる。
【００８３】
Ｆ1のうち、ベンゼン環を有するものとしては、１，４−フェニレン基、１，３−フェニレン基が好ましい。ナフタレン環を有するものとしては、ナフタレン−１，４−ジイル基、ナフタレン−１，５−ジイル基、ナフタレン−１，６−ジイル基、ナフタレン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイルナフタレン−２，７−ジイル基が好ましい。シクロヘキサン環を有するものとしては１，４−シクロへキシレン基であることが好ましい。ピリジン環を有するものとしてはピリジン−２，５−ジイル基が好ましい。ピリミジン環を有するものとしては、ピリミジン−２，５−ジイル基が好ましい。Ｆ1は、特に、１，４−フェニレン基、１，３−フェニレンナフタレン−２，６−ジイル基及び１，４−シクロへキシレン基が好ましい。
【００８４】
Ｆ1は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル基で置換されたカルバモイル基及び炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。該置換基は、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲン原子で置換されたアルキル基がより好ましく、特に、ハロゲン原子、炭素原子数１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基が好ましい。
【００８５】
ｎ１は０〜４整数を表す。ｎ１としては、１〜３の整数が好ましく、１又は２が好ましい。なお、ｎ１が０の場合は、式（ＤＩ−Ｒ）中のＬ22が直接、前記一般式（Ｄ１）中のＨ1〜Ｈ3と結合する。ｎ１が２以上の場合、それぞれの−Ｌ21−Ｆ1は同一でも異なっていてもよい。
【００８６】
Ｌ22は、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表す。好ましくは、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−であり、より好ましくは、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−又は−ＣＨ2−である。
ここで、上記のうち水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。他の置換基の例には、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜６のアシル基、炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜６のアルキル基で置換されたカルバモイル基及び炭素原子数２〜６のアシルアミノ基が含まれる。特に、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基が好ましい。
【００８７】
Ｌ23は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−並びにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基である。ここで、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−の水素原子は、他の置換基に置き換えられていてもよい。他の置換基の例には、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜６のアシル基、炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜６のアルキル基で置換されたカルバモイル基及び炭素原子数２〜６のアシルアミノ基が含まれる。特に、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基が好ましい。これらの置換基に置き換えられることにより、前記一般式（ＤＩ）で表される化合物の溶媒に対する溶解性を向上させることができ、容易に、塗布液として本発明の組成物を調製することができる。
【００８８】
Ｌ23は、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−並びにこれらの組み合わせからなる群から選ばれる連結基であることが好ましい。Ｌ23は、炭素原子を１〜２０個含有することが好ましく、炭素原子を２〜１４個を含有することがより好ましい。さらに、Ｌ23は−ＣＨ2−を１〜１６個含有することが好ましく、−ＣＨ2−を２〜１２個含有することがより好ましい。
【００８９】
Ｑ1は重合性基又は水素原子である。一般式（ＤＩ）で表される化合物を、光学補償フィルムのような位相差の大きさが熱により変化しないことを必要とする光学フィルム等の作製に用いる場合には、Ｑ1は重合性基であることが好ましい。重合反応は、付加重合（開環重合を含む）又は縮合重合であることが好ましい。言い換えると、重合性基は、付加重合反応又は縮合重合反応が可能な官能基であることが好ましい。以下に重合性基の例を示す。
【００９０】
【化２７】
2008233758.tif 000029
【００９１】
【化２８】
2008233758.tif 000030
【００９２】
さらに、重合性基は付加重合反応が可能な官能基であることが特に好ましい。そのような重合性基としては、重合性エチレン性不飽和基又は開環重合性基が好ましい。
【００９３】
重合性エチレン性不飽和基の例としては、下記の式（Ｍ−１）〜（Ｍ−６）が挙げられる。
【００９４】
【化２９】
2008233758.tif 000031
【００９５】
式（Ｍ−３）、式（Ｍ−４）中、Ｒは水素原子又はアルキル基を表す。Ｒとしては、水素原子又はメチル基が好ましい。上記（Ｍ−１）〜（Ｍ−６）の中でも、（Ｍ−１）又は（Ｍ−２）が好ましく、（Ｍ−１）がより好ましい。
【００９６】
開環重合性基として好ましいのは、環状エーテル基であり、中でもエポキシ基又はオキセタニル基がより好ましく、エポキシ基が最も好ましい。
【００９７】
また、本発明では、ディスコティック液晶化合物として下記一般式（ＤＩＩ）で表される化合物又は下記一般式（ＤＩＩＩ）で表される化合物を用いることも好ましい。
【００９８】
【化３０】
2008233758.tif 000032
（一般式（ＤＩＩ）中、Ｙ31、Ｙ32、Ｙ33はそれぞれ独立にメチン又は窒素原子を表す。Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33はそれぞれ独立に下記一般式（ＤＩＩ−Ｒ）で表される。）
【００９９】
一般式（ＤＩＩ）中、Ｙ31、Ｙ32、Ｙ33はそれぞれ独立にメチン又は窒素原子を表す。Ｙ31、Ｙ32及びＹ33は各々、一般式（ＤＩ）中のＹ11、Ｙ12及びＹ13の定義とそれぞれ同一であり、好ましい範囲も同義である。
【０１００】
Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33はそれぞれ独立に一般式（ＤＩＩ−Ｒ）で表される。
【０１０１】
【化３１】
2008233758.tif 000033
【０１０２】
一般式（ＤＩＩ−Ｒ）中、Ａ31、Ａ32は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表す。Ａ31及びＡ32としては、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、双方が窒素原子であることがより好ましい。
Ｘ3は酸素原子、硫黄原子、メチレン、又はイミノを表す。Ｘ3としては、酸素原子であることが好ましい。
【０１０３】
一般式（ＤＩＩ−Ｒ）中、Ｆ2は６員環状構造を有する２価の環状連結基を表す。Ｆ2に含まれる６員環は、縮合環であってもよい。ただし、縮合環よりも単環であることがより好ましい。Ｆ2に含まれる６員環は、芳香族環、脂肪族環及び複素環のいずれでもよい。芳香族環の例には、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環及びフェナントレン環が含まれる。脂肪族環の例には、シクロヘキサン環が含まれる。複素環の例には、ピリジン環及びピリミジン環が含まれる。
【０１０４】
２価の環状基のうち、ベンゼン環を有する環状基としては、１，４−フェニレン基及び１，３−フェニレン基が好ましい。ナフタレン環を有する環状基としては、ナフタレン−１，４−ジイル基、ナフタレン−１，５−ジイル基、ナフタレン−１，６−ジイル基、ナフタレン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基及びナフタレン−２，７−ジイル基が好ましい。シクロヘキサン環を有する環状基としては１，４−シクロへキシレン基であることが好ましい。ピリジン環を有する環状基としてはピリジン−２，５−ジイル基が好ましい。ピリミジン環を有する環状基としては、ピリミジン−２，５−ジイル基が好ましい。２価の環状基としては、特に、１，４−フェニレン基、１，３−フェニレン基、ナフタレン−２，６−ジイル基及び１，４−シクロへキシレン基が好ましい。
【０１０５】
Ｆ2は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル基で置換されたカルバモイル基及び炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。２価の環状基の置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基が好ましく、さらに、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲン原子で置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基がより好ましい。
【０１０６】
ｎ３は、１〜３整数を表す。ｎ３としては、１又は２が好ましい。ｎ３が２以上の場合、それぞれのＦ2は同一でも異なっていてもよい。
【０１０７】
Ｌ31は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｌ31の好ましい範囲は、一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＬ22と同一である。
【０１０８】
Ｌ32は−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｌ32の好ましい範囲は、一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＬ23と同一である。
【０１０９】
Ｑ3は重合性基又は水素原子を表し、好ましい範囲は、一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＱ1と同一である。
【０１１０】
次に、一般式（ＤＩＩＩ）で表される化合物の詳細を記す。
【０１１１】
【化３２】
2008233758.tif 000034
【０１１２】
一般式（ＤＩＩＩ）中、Ｙ41、Ｙ42及びＹ43は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表し、Ｙ41、Ｙ42及びＹ43がそれぞれメチンの場合、メチンが有する水素原子は、置換基によって置換されていてもよい。メチンが有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子及びシアノ基を好ましい例として挙げることができる。これらの置換基の中では、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、ハロゲン原子及びシアノ基がさらに好ましく、炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数１〜１２のアルコキシ基、炭素原子数２〜１２のアルコキシカルボニル基、炭素原子数２〜１２のアシルオキシ基、ハロゲン原子及びシアノ基が特に好ましい。
Ｙ41、Ｙ42及びＹ43は、いずれもメチンであることがより好ましく、メチンは無置換であることがより好ましい。
【０１１３】
Ｒ41、Ｒ42及びＲ43は、それぞれ独立に下記一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）、又は下記一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）、又は下記一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）を表す。
波長分散性の小さい位相差板等を作製する場合は、Ｒ41、Ｒ42及びＲ43は、それぞれ、一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）又は一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）で表されるものが好ましく、一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）で表されるものがより好ましい。
【０１１４】
【化３３】
2008233758.tif 000035
【０１１５】
一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）中、Ａ41、Ａ42、Ａ43、Ａ44、Ａ45、Ａ46は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表す。Ａ41及びＡ42は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、双方が窒素原子であることがより好ましい。Ａ43、Ａ44、Ａ45及びＡ46は、少なくとも３つがメチンであることが好ましく、全てメチンであることがより好ましい。Ａ43、Ａ44、Ａ45及びＡ46がそれぞれメチンの場合、メチンが有する水素原子は置換基によって置換されていてもよい。メチンが有する置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル基で置換されたカルバモイル基及び炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲンで置換されたアルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基がさらに好ましい。
Ｘ41は、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し、酸素原子が好ましい。
【０１１６】
【化３４】
2008233758.tif 000036
【０１１７】
一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）中、Ａ51、Ａ52、Ａ53、Ａ54、Ａ55及びＡ56はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表す。Ａ51及びＡ52は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、双方が窒素原子であることがより好ましい。Ａ53、Ａ54、Ａ55及びＡ56は、少なくとも３つがメチンであることが好ましく、全てメチンであることがより好ましい。Ａ53、Ａ54、Ａ55及びＡ56がそれぞれメチンの場合、メチンが有する水素原子は置換基によって置換されていてもよい。メチンが有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル基で置換されたカルバモイル基及び炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲン原子で置換されたアルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基がさらに好ましい。
Ｘ52は、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し、酸素原子が好ましい。
【０１１８】
【化３５】
2008233758.tif 000037
【０１１９】
一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）中、Ａ61、Ａ62、Ａ63、Ａ64、Ａ65及びＡ66はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表す。Ａ61及びＡ62は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、双方が窒素原子であることがより好ましい。Ａ63、Ａ64、Ａ65及びＡ66は、少なくとも３つがメチンであることが好ましく、全てメチンであることがより好ましい。Ａ63、Ａ64、Ａ65及びＡ36がそれぞれメチンの場合、該メチンが有する水素原子は置換基によって置換されていてもよい。メチンが有していてもよい置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル基で置換されたカルバモイル基及び炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲンで置換されたアルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基がさらに好ましい。
Ｘ63は、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し、酸素原子が好ましい。
【０１２０】
一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）中のＬ41、一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）中のＬ51、一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）中のＬ61はそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表す。好ましくは、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−であり、より好ましくは、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−又は−ＣＨ2−である。上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。
このような置換基として、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜６のアシル基、炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜６のアルキルで置換されたカルバモイル基及び炭素原子数２〜６のアシルアミノ基が好ましい例として挙げられ、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基がより好ましい。
【０１２１】
一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）中のＬ42、一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）中のＬ52、一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）中のＬ62はそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基を表す。ここで、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−の水素原子は、置換基で置換されていてもよい。このような置換基として、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜６のアシル基、炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜６のアルキルで置換されたカルバモイル基及び炭素原子数２〜６のアシルアミノ基が好ましい例として挙げられ、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基がより好ましい。
【０１２２】
Ｌ42、Ｌ52及びＬ62はそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基であることが好ましい。Ｌ42、Ｌ52、Ｌ62はそれぞれ独立して、炭素原子を１〜２０個含有することが好ましく、炭素原子を２〜１４個含有することがより好ましい。さらに、Ｌ42、Ｌ52、Ｌ62はそれぞれ独立して、−ＣＨ2−を１〜１６個含有することが好ましく、−ＣＨ2−を２〜１２個含有することがさらに好ましい。
【０１２３】
一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）中のＱ4、一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）中のＱ5及び一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）中のＱ6は、それぞれ独立して、重合性基又は水素原子を表す。これらの好ましい範囲は、一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＱ1と同一である。
【０１２４】
以下に、一般式（ＤＩ）、一般式（ＤＩＩ）及び一般式（ＤＩＩＩ）で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１２５】
【化３６】
2008233758.tif 000038
【０１２６】
【化３７】
2008233758.tif 000039
【０１２７】
【化３８】
2008233758.tif 000040
【０１２８】
【化３９】
2008233758.tif 000041
【０１２９】
以下一般式（ＤＩＩＩ）で表される化合物を示す。
【０１３０】
【化４０】
2008233758.tif 000042
【０１３１】
本発明に用いられる上記一般式（ＤＩ）、一般式（ＤＩＩ）及び一般式（ＤＩＩＩ）で表される化合物の合成は、既知の方法を適用して合成することができる。
【０１３２】
本発明では、液晶化合物として、上記一般式（ＤＩ）、一般式（ＤＩＩ）及び一般式（ＤＩＩＩ）で表される化合物の１種のみを使用してよいし、２種以上を使用してもよい。前記一般式（ＤＩ）〜（ＤＩＩＩ）で表される化合物は、その配向により複屈折性を発現した際に、複屈折性の波長分散性が低いという特徴がある。従って、例えば、該化合物を用いて光学異方性膜等を製造する場合に、可視光域の中間波長であるＧ光について、その光学特性を最適化すれば、Ｒ光及びＢ光についても、ほぼ同様に最適化された光学特性となるので、かかる液晶化合物を用いることで、可視光全域にわたって所望の光学特性を示す光学異方性膜等を容易に製造できる。また、前記一般式（ＤＩ）〜（ＤＩＩＩ）で表される化合物は、低平均チルト角（例えば平均チルト角４０°以下）でハイブリッド配向させるのが困難な化合物であるが、前記ポリマーの存在下で配向させることにより、低平均チルト角で、しかも配向欠陥のない（もしくは軽減された）ハイブリッド配向状態になる。
【０１３３】
さらに、一般式（ＤＩ）、一般式（ＤＩＩ）及び一般式（ＤＩＩＩ）で表される化合物と異なる構造を有する棒状液晶化合物又はディスコティック液晶化合物を用いてもよくさらにこれらを少なくとも一種以上併用してもよい。前記一般式（ＤＩ）、一般式（ＤＩＩ）及び一般式（ＤＩＩＩ）に属さないディスコティック液晶化合物との併用が特に好ましく、さらに下記一般式（Ｔ）で表される液晶化合物との併用がより好ましい。２種類以上のディスコティック液晶化合物を併用することにより、空気界面のチルト角度をより低減させることができ、また平均チルト角度の温度依存性が緩和しやすいという効果が得られる。
【０１３４】
【化４１】
2008233758.tif 000043
【０１３５】
一般式（Ｔ）中、Ｍは二価の連結基であり、それぞれ、同一であっても異なっていてもよい。Ｑ7は重合性基又は水素原子を表し、それぞれ、同一であっても異なっていてもよい。
【０１３６】
前記式において、二価の連結基（Ｍ）は、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。二価の連結基（Ｍ）は、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−及び−Ｓ−からなる群より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた基であることがさらに好ましい。二価の連結基（Ｍ）は、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−ＣＯ−及び−Ｏ−からなる群より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた基であることが最も好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましく、２〜１２であることがより好ましく、６〜１０であることがさらに好ましい。アルキレン基、アルケニレン基及びアリーレン基は、置換基（例えば、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ、アルコキシ基、アシルオキシ基）を有していてもよい。二価の連結基（Ｍ）の例を以下に示す。左側がトリフェニレン円盤状コア（ＴＤ）に結合し、右側が重合性基（Ｑ）に結合する。ＡＬはアルキレン基又はアルケニレン基を意味し、ＡＲはアリーレン基を意味する。
【０１３７】
Ｍ１：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−
Ｍ２：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｍ３：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−
Ｍ４：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｍ５：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−
Ｍ６：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｍ７：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｍ８：−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−
Ｍ９：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−
Ｍ１０：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｍ１１：−Ｏ−ＡＬ−
Ｍ１２：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｍ１３：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｍ１４：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−
Ｍ１５：−Ｏ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−
Ｍ１６：−Ｏ−ＣＯ−ＡＬ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｍ１７：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ−
Ｍ１８：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｍ１９：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−Ｃ
Ｍ２０：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｍ２１：−Ｓ−ＡＬ−
Ｍ２２：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−
Ｍ２３：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｍ２４：−Ｓ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−
Ｍ２５：−Ｓ−ＡＲ−ＡＬ−
【０１３８】
Ｑ7は重合性基又は水素原子を表し、好ましい範囲は、一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＱ1と同義であり、好ましい範囲も同義である。
【０１３９】
以下に、一般式（Ｔ）で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１４０】
【化４２】
2008233758.tif 000044
【０１４１】
本発明に用いられる一般式（Ｔ）で表される化合物の合成は、既知の方法を利用して合成することができる。
【０１４２】
本発明で用いる液晶化合物は、上記一般式（Ｔ）で表される化合物の添加量は、一般式（ＤＩ）、一般式（ＤＩＩ）及び一般式（ＤＩＩＩ）で表される化合物に対して、好ましくは１〜２０質量％であり、より好ましくは、３〜２０質量％であり、さらに好ましくは、５〜１５質量％である。
【０１４３】
前記液晶化合物が発現する液晶相としては、カラムナー相及びディスコティックネマチック相（ＮＤ相）を挙げることができる。これらの液晶相の中では、良好なモノドメイン性を示すディスコティックネマチック相（ＮＤ相）が好ましい。
【０１４４】
前記液晶化合物は、液晶相を２０℃〜３００℃の範囲で発現することが好ましく、４０℃〜２８０℃の範囲で発現することがより好ましく、６０℃〜２５０℃の範囲で発現することがさらに好ましい。ここで２０℃〜３００℃で液晶相を発現するとは、液晶温度範囲が２０℃をまたぐ場合（具体的に例えば、１０℃〜２２℃）や、３００℃をまたぐ場合（具体的に例えば、２９８℃〜３１０℃）も含む。４０℃〜２８０℃と６０℃〜２５０℃に関しても同様である。
【０１４５】
前記光学異方性層を占める、一般式（ＤＩ）で表される化合物又は一般式（ＤＩ）で表される化合物から得られる重合物の割合は、１０〜１００質量％であることが好ましく、３０〜９９質量％であることがさらに好ましく、５０〜９９質量％であることがよりさらに好ましい。
【０１４６】
・  その他の成分
前記塗布液は、上記フッ素系ポリマー及び液晶化合物とともに、所望により他の成分を含有していてもよい。前記塗布液は、硬化膜を形成可能であるのが好ましく、そのためには重合開始剤、及び重合性モノマー（但し、液晶化合物が重合性である場合は、なくてもよい）を含有しているのが好ましい。
前記重合開始剤は、熱重合開始剤であっても光重合開始剤であってもよいが、制御が容易である等の観点から、光重合開始剤が好ましい。光の作用によりラジカルを発生させる光重合開始剤の例としては、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジン及びフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）及びオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）、アセトフェノン系化合物、ベンゾインエーテル系化合物、ベンジル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、チオキサントン系化合物等が好ましい。アセトフェノン系化合物としては、例えば、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシメチル−１−フェニルプロパン−１−オン、４'−イソプロピル−２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオフェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルトリクロロアセトフェノン、ｐ−アジドベンザルアセトフェノン等が挙げられる。ベンジル系化合物としては、例えば、ベンジル、ベンジルジメチルケタール、ベンジル−β−メトキシエチルアセタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等が挙げられる。ベンゾインエーテル系化合物としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイン−ｎ−プロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等が挙げられる。ベンゾフェノン系化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、ミヒラーズケトン、４，４'−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、４，４'−ジクロロベンゾフェノン等が挙げられる。チオキサントン系化合物としては、例えば、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン等が挙げられる。このような芳香族ケトン類からなる感光性ラジカル重合開始剤の中でも、アセトフェノン系化合物及びベンジル系化合物が、硬化特性、保存安定性、臭気等の面で特に好ましい。これらの芳香族ケトン類からなる感光性ラジカル重合開始剤は、１種又は２種以上のものを所望の性能に応じて配合して使用することができる。
また、感度を高める目的で重合開始剤に加えて、増感剤を用いてもよい。増感剤の例には、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、及びチオキサントン等が含まれる。
【０１４７】
光重合開始剤は複数種を組み合わせてもよく、使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがより好ましい。液晶化合物の重合のための光照射は紫外線を用いることが好ましい。
【０１４８】
前記塗布液は、重合性液晶化合物とは別に、非液晶性の重合性モノマーを含有していてもよい。重合性モノマーとしては、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基又はメタクリロイル基を有する化合物が好ましい。なお、重合性の反応性官能基数が２以上の多官能モノマー、例えば、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパンアクリレートを用いると、耐久性が改善されるので好ましい。
前記非液晶性の重合性モノマーは、非液晶性成分であるので、その添加量が、液晶化合物に対して１５質量％を超えることはなく、０〜８質量％程度であるのが好ましい。
【０１４９】
（光学異方性層の形成）
前記塗布液を、例えば、支持体上に形成された配向膜の表面に塗布し、乾燥して溶媒を除去するとともに、液晶化合物の分子を配向させ、その後、重合により硬化させて、光学異方性層を形成することができる。
塗布方法としてはカーテンコーティング法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、印刷コーティング法、スプレーコーティング法、スロットコーティング法、ロールコーティング法、スライドコーテティング法、ブレードコーティング法、グラビアコーティング法、ワイヤーバー法等の公知の塗布方法が挙げられる。
【０１５０】
塗膜を乾燥する際には、加熱してもよい。加熱は２５℃〜１３０℃程度で行なうのが好ましい。塗膜を乾燥して溶媒を除去すると同時に、塗膜中の液晶化合物の分子を配向させて、所望の配向状態を得る。例えば、ディスコティックネマチック相がハイブリッド配向した状態などを得ることができる。ここで、ハイブリッド配向とは、膜厚方向で液晶化合物のチルト角（円盤状液晶化合物の場合は、層面に対する分子の円盤面の傾斜角）が連続的に変化している状態をいう。形成された光学異方性層中の液晶性分子の平均チルト角（ディスコティック液晶では、層面とディスコティック液晶化合物の円盤面方向のなす角）は、１０〜４０°が好ましく、１５〜３５°がより好ましい。
【０１５１】
次に、紫外線照射等によって重合を進行させて、配向状態を固定化し、光学異方性層を形成する。重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜５０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ2〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。
【０１５２】
形成される光学異方性層の厚さについては特に制限されないが、本発明の製造方法は、薄い膜厚の光学異方性層の形成に特に有利であり、具体的には、厚さが１μｍ以下（より好ましく０．２〜１μｍ）の光学異方性層の形成に有利である。但し、厚さが前記範囲の光学異方性層を有する光学補償シートの製造方法に限定されるものではない。
【０１５３】
（配向膜）
前記光学異方性層は、配向膜の表面に塗布するのが好ましい。配向膜を利用すると、所望の光学特性を示す光学異方性層を安定的に形成することができる。配向膜は、ポリマー層の表面をラビング処理する、無機化合物を斜方蒸着する、マイクログルーブを有する層を形成する、あるいはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）によって有機化合物（例えば、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）を累積することにより作製することができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。
【０１５４】
中でも、ポリマー層の表面をラビング処理して形成した配向膜を利用するのが好ましい。配向膜の材料としては、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールが好ましい。重合度が異なるポリビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコールを２種類併用してもよい。ポリビニルアルコールの鹸化度は、７０〜１００％が好ましく、８０〜１００％がさらに好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜５０００であることが好ましい。配向膜の材料とし利用可能な変性ポリビニルアルコール化合物の具体例として、例えば、特開２０００−１５５２１６号公報の段落番号［００２２］〜［０１４５］、特開２００２−６２４２６号公報の段落番号［００１８］〜［００２２］に記載のもの等が挙げられる。
【０１５５】
（支持体）
前記光学異方性層及び前記配向膜は、支持体上に形成していてもよい。該支持体は、透明支持体であるのが好ましい。前記透明支持体は、光学的等方性で、光透過率が８０％以上であるのが好ましい。特に材料の制限はないが、ポリマーフィルムが好ましい。ポリマーの具体例として、セルロースエステル類（例えば、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート）、ノルボルネン系ポリマー、ポリ（メタ）アクリレートエステル類のフィルムなどを挙げることができ、多くの市販のポリマーを好適に用いることが可能である。このうち、光学性能の観点からセルロースエステル類が好ましく、セルロースの低級脂肪酸エステルがさらに好ましい。低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下脂肪酸で、炭素原子数は、２、３、４であることが好ましい。具体的には、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート又はセルロースブチレートが挙げられる。この中でも、セルローストリアセテートが特に好ましい。セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いてもよい。また、従来知られているポリカーボネートやポリスルホンのような複屈折の発現しやすいポリマーであっても国際公開ＷＯ００／２６７０５号パンフレットに記載の分子を修飾することで該発現性を低下させたものを用いることもできる。
【０１５６】
前記支持体として用いるポリマーフィルムの厚さは、５〜５００μｍの範囲が好ましく、２０〜２５０μｍの範囲がより好ましく、３０〜１８０μｍの範囲がさらに好ましく、３０〜１１０μｍの範囲が特に好ましい。
【０１５７】
本発明の製造方法によって製造された光学補償シートは、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−ＰＤａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＤＣ（ＦｅｒｒｏｅＤｅｃｔｒｉｃ  Ｄｉｑｕｉｄ  ＣｒｙｓｔａＤ）、ＯＣＢ（ＯｐｔｉｃａＤＤｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（ＶｅｒｔｉｃａＤＤｙ  ＡＤｉｇｎｅｄ）及びＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  ＡＤｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モードのような様々な表示モードの液晶表示装置に用いることができる。透過型、反射型、及び半透過型液晶表示装置のいずれにも用いることができる。また、偏光膜と組み合わせて（例えば、偏光膜の保護フィルムとして貼り合せて）、楕円偏光板として液晶表示装置に用いてもよい。
【実施例】
【０１５８】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。
【０１５９】
［実施例１］
（ポリマー基材の作製）
下記表に示す組成物をミキシングタンクに投入し、３０℃に加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
【０１６０】
【表２】
2008233758.tif 000045
【０１６１】
【化４３】
2008233758.tif 000046
【０１６２】
得られた内層用ドープ及び外層用ドープを、三層共流延ダイを用いて、０℃に冷却したドラム上に流延した。残留溶剤量が７０質量％のフィルムをドラムから剥ぎ取り、両端をピンテンターにて固定して搬送方向のドロー比を１１０％として搬送しながら８０℃で乾燥させ、残留溶剤量が１０％となったところで、１１０℃で乾燥させた。その後、１４０℃の温度で３０分乾燥し、残留溶剤が０．３質量％のセルロースアセテートフィルム（外層：３μｍ、内層：７４μｍ、外層：３μｍ）を製造した。作製したセルロースアセテートフィルムＦ−１について、光学特性を測定した。
【０１６３】
得られたセルロースアセテートフィルムＦ−１の幅は、１３４０ｍｍであり、厚さは、８０μｍであった。エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、波長５００ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ）を測定したところ、６ｎｍであった。また、波長５００ｎｍにおける厚さ方向のレターデーション値（Ｒｔｈ）を測定したところ、８３ｎｍであった。
作製したフィルムＦ−１を２．０Ｎの水酸化カリウム溶液（２５℃）に２分間浸漬した後、硫酸で中和し、純水で水洗、乾燥した。このフィルムＦ−１の表面エネルギーを接触角法により求めたところ、６３ｍＮ／ｍであった。
【０１６４】
（配向膜の形成）
ケン化処理したフィルムＦ−１の面に、下記の組成の配向膜塗布液を＃１４のワイヤーバーコーターで２４ｍｌ／ｍ2塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥した。その後、形成した配向膜用樹脂層の表面にラビング処理を施して配向膜を作製した。
なお、ラビング処理は、フィルムＦ−１の遅相軸（波長６３２．８ｎｍで測定）と平行な方向に、配向膜にラビング処理を実施した。ラビング処理におけるラビングローラの回転周速を５．０ｍ／秒とし、配向膜用樹脂層に対する押しつけ圧力を９．８×１０-3Ｐａに設定した。
【０１６５】
（配向膜塗布液組成）
下記の変性ポリビニルアルコール                        １０質量部
水                                                  ３７１質量部
メタノール                                          １１９質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤）                        ０．５質量部
【０１６６】
【化４４】
2008233758.tif 000047
【０１６７】
（光学異方性層の形成）
下記の組成物を、２４２Ｋｇのメチルエチルケトンに溶解して塗布液を調製した。
光学異方性層形成用組成物
液晶化合物（１）（例示化合物Ｄ３−１２）                    ９１．０質量部
液晶化合物（２）（例示化合物Ｔ−８）                          ９．０質量部
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート  ９．０質量部
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）
フルオロ脂肪族基含有ポリマー（例示化合物ＡＤ−６）            １．０質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）        ３．０質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）              １．０質量部
【０１６８】
調製した塗布液の２５℃における粘度をＢ型粘度計（ＢＬ型、東京計器（株）製）で測定したところ、２．０ｍＰａ・ｓであった。
調製した塗布液を、♯２．８ワイヤーバーを用いて前記配向膜の表面に塗布した。塗布量は４．８ｍＬ／ｍ2であった。これを金属の枠に貼り付けて、１２０℃の恒温槽中で９０秒間加熱し、液晶化合物の分子を配向させた。次に、８０℃で１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、１分間紫外線照射し液晶化合物の分子を重合させて、光学異方性層を形成した。この様にして、光学補償シート１を得た。
【０１６９】
下記表に示す通り、各成分の組成を代え、及び塗布時の条件を代えた以外は、同様にして光学補償シート２〜８を作製した。なお、下記表中に記載のない成分については、上記組成と同一である。
【０１７０】
作製した光学補償シート１〜８について、以下の評価を行った。
（表面性状評価）
各シートの光学異方性層表面性状を、各シートを偏光板をクロスニコルに重ねた間に挿入した状態で観察した。ムラ評価担当者がそのムラを、ムラ見本に基づいて、５段階に分けてランク付けする方法にて、その厚みムラ及びスジ状のムラを評価した。結果を下記表に示す。３点以上で光学補償シートとしての機能は満足できるが更に高得点であることが好ましい。
【０１７１】
（光学特性の測定）
ガラス板上に、上記と同様の手法で配向膜及び光学異方性層を形成し、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）を用いて波長５５０ｎｍの光で、光学異方性層のレターデーション値Ｒｅ（５５０）を測定したところ４６ｎｍであった。
また、以下に示す方法で傾斜角を測定し、その値が各サンプルとも同等であることを確認の上、レターデーション値Ｒｅ（５５０）を光学異方性層の厚みで割った値（Ｒｅ（５５０）／ｄ）を求めた。結果を下記表に示す。この値が高いほど光学異方性層の厚みを薄層化可能でまた、液晶化合物の使用量を少なく出来る等のメリットがあり好ましい。
【０１７２】
（液晶化合物の傾斜角評価）
液晶化合物を配向させた光学異方性層において、光学異方性層の一方の面におけるチルト角（ディスコティック液晶化合物又は棒状液晶化合物における物理的な対象軸が光学異方性層の界面となす角度をチルト角とする）θ１及び他方の面のチルト角θ２を、直接的にかつ正確に測定することは困難である。そこで本明細書においては、θ１及びθ２は、以下の手法で算出することとする。本手法は本発明の実際の配向状態を正確に表現していないが、光学補償シートの持つ一部の光学特性の相対関係を表す手段として有効である。
本手法では算出を容易にすべく、下記の２点を仮定し、光学異方性層の２つの界面におけるチルト角とする。
１．光学異方性層をディスコティック液晶化合物や棒状液晶化合物を含む層で構成された多層体と仮定する。さらに、それを構成する最小単位の層（ディスコティック液晶化合物又は棒状液晶化合物のチルト角は該層内において一様と仮定）は光学的に一軸と仮定する。
２．各層のチルト角は光学異方性層の厚み方向に沿って一次関数で単調に変化すると仮定する。
具体的には、下記算出法により算出した。
（１）各層のチルト角が光学異方性層の厚み方向に沿って一次関数で単調に変化する面内で、光学異方性層への測定光の入射角を変化させ、３つ以上の測定角でレターデーション値を測定する。測定及び計算を簡便にするためには、光学異方性層に対する法線方向を０°とし、−４０°、０°、＋４０°の３つの測定角でレターデーション値を測定した。
この測定は、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）で行った。なお、ＫＯＢＲＡ−ＷＲ（王子計測器（株）製）、透過型のエリプソメーターＡＥＰ−１００（（株）島津製作所製）、Ｍ１５０及びＭ５２０（日本分光（株）製）、ＡＢＲ１０Ａ（ユニオプト（株）製）で行っても同様の結果が得られる。
（２）上記のモデルにおいて、各層の常光の屈折率をｎｏ、異常光の屈折率をｎｅ（ｎｅは各々すべての層において同じ値、ｎｏも同様とする）、及び多層体全体の厚みをｄとする。さらに各層におけるチルト方向とその層の一軸の光軸方向とは一致するとの仮定の元に、光学異方性層のレターデーション値の角度依存性の計算が測定値に一致するように、光学異方性層の一方の面におけるチルト角θ１及び他方の面のチルト角θ２を変数としてフィッティングを行い、θ１及びθ２を算出する。
ここで、ｎｏ及びｎｅは文献値、カタログ値等の既知の値を用いることができる。値が未知の場合はアッベ屈折計を用いて測定することもできる。光学異方性層の厚みは、光学干渉膜厚計、走査型電子顕微鏡の断面写真等により測定することができる。
この方法で、各光学補償シートの光学異方性層の２つの界面における傾斜角θ１及びθ２を算出した。結果を下記表に示す。
【０１７３】
【表３】
2008233758.tif 000048
【０１７４】
上記表に示した結果から分かるように、非液晶成分の液晶成分に対する比率が１５質量％以下である塗布液を用いて形成した光学異方性層は、光学特性（Ｒｅ／ｄ）の値が０．０４以上と高く好ましい。また、いずれも面状ムラがなく、良好な表面性状の光学異方性層であった。更にいずれも薄層で、液晶のハイブリッド配向により、Ｒｅ（５５０）＝４６ｎｍ程度のレターデーションが得られた。