(57)【要約】【課題】基板に不均一な反りが発生するのを抑制するとともに、シール領域の幅を制御する。【解決手段】二次元に配列された複数の画素電極が配置された表示領域２を有するアクティブマトリクス基板１１と、画素電極７と対向するように設けられた光透過性電極１３を有する対向基板１０と、アクティブマトリクス基板の表示領域の周囲を囲うように配置され、アクティブマトリクス基板と対向基板とを貼り合わせるシール材１２と、アクティブマトリクス基板と対向基板との間でシール材に囲まれた領域に配された液晶と、を有し、アクティブマトリクス基板のシール材が配置されるシール領域４に、画素電極と同一又は類似した形状の複数のダミー電極６２が配置され、シール領域の内縁の複数のダミー電極は、ダミー電極の幅より細い連結部材８１によって、シール領域の内縁の周方向に沿って連結されている。【選択図】図１
2008151849.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
二次元に配列された複数の画素電極が配置された表示領域を有する第１の基板と、
少なくとも前記画素電極と対向するように設けられた光透過性電極を有する第２の基板と、
前記第１の基板の前記表示領域の周囲を囲うように配置され、前記第１の基板と前記第２の基板とを貼り合わせるシール材と、
前記第１の基板と前記第２の基板との間で前記シール材に囲まれた領域に配された液晶と、を有する液晶表示装置において、
前記第１の基板の前記シール材が配置されるシール領域に、前記画素電極と同一又は類似した形状の複数のダミー電極が配置され、
前記シール領域の内縁の複数の前記ダミー電極は、該ダミー電極の幅より細い連結部材によって、前記シール領域の内縁の周方向に沿って連結されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記シール領域の外縁の複数の前記ダミー電極は、該ダミー電極の幅より細い連結部材によって、前記シール領域の外縁の周方向に沿って連結されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記第１の基板は、前記シール領域と前記表示領域との間に非表示領域を有し、該非表示領域に前記画素電極と同一又は類似した形状の複数の第２のダミー電極を備え、
前記非表示領域の少なくとも外縁の複数の前記第２のダミー電極は、該第２のダミー電極の幅より細い連結部材によって、前記非表示領域の外縁の周方向に沿って連結されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記第１の基板は、前記シール領域の外側にシール外領域を有し、該シール外領域に前記画素電極と同一又は類似した形状の複数の第３のダミー電極を備え、
前記シール外領域の少なくとも内縁の複数の前記第３のダミー電極は、該第３のダミー電極の幅より細い連結部材によって、前記シール外領域の内縁の周方向に沿って連結されていることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記第１の基板は半導体基板であり、前記画素電極は反射電極であることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
複数の前記ダミー電極は、前記ダミー電極より細い連結部材によって、前記シール領域の周方向に垂直な方向に連結されていることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
複数の前記ダミー電極及び複数の前記第２のダミー電極は、前記ダミー電極及び前記第２のダミー電極より細い連結部材によって、前記シール領域の周方向に垂直な方向及び前記非表示領域の外縁の周方向に垂直な方向に連結されていることを特徴とする請求項３に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
複数の前記ダミー電極及び複数の前記第３のダミー電極は、前記ダミー電極及び前記第３のダミー電極より細い連結部材によって、前記シール領域の周方向に垂直な方向及び前記シール外領域の内縁の周方向に垂直な方向に連結されていることを特徴とする請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
請求項１から８のいずれかに記載の連結部材は、前記ダミー電極、前記第２のダミー電極又は前記第３のダミー電極と同一材料からなることを特徴とする請求項１から８のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
請求項１から９のいずれか１項に記載の液晶表示装置と、該液晶表示装置に光を照射する光源と、前記液晶表示装置からの画像光を投射する光学系と、を有する液晶プロジェクター装置。 
【請求項１１】
請求項１０に記載の液晶プロジェクター装置と、該液晶プロジェクター装置からの画像光を背面に投射するスクリーンとを備えたリアプロジェクション装置。 
【請求項１２】
表示領域に二次元に配列された複数の画素電極と、
前記表示領域の周囲を囲うように配置されシール材が配置されるシール領域に設けられた、前記画素電極と同一又は類似した形状の複数のダミー電極とを備え、
前記シール領域の内縁の複数の前記ダミー電極は、該ダミー電極の幅より細い連結部材によって、前記シール領域の内縁の周方向に沿って連結されていることを特徴とするアクティブマトリクス基板。
【請求項１３】
前記シール領域の外縁の複数の前記ダミー電極は、該ダミー電極の幅より細い連結部材によって、前記シール領域の外縁の周方向に沿って連結されていることを特徴とする請求項１２に記載のアクティブマトリクス基板。
【請求項１４】
前記シール領域と前記表示領域との間に非表示領域を有し、該非表示領域に前記画素電極と同一又は類似した形状の複数の第２のダミー電極を備え、
前記非表示領域の少なくとも外縁の複数の前記第２のダミー電極は、該第２のダミー電極の幅より細い連結部材によって、前記非表示領域の外縁の周方向に沿って連結されていることを特徴とする請求項１２又は１３に記載のアクティブマトリクス基板。
【請求項１５】
前記シール領域の外側にシール外領域を有し、該シール外領域に前記画素電極と同一又は類似した形状の複数の第３のダミー電極を備え、
前記シール外領域の少なくとも内縁の複数の前記第３のダミー電極は、該第３のダミー電極の幅より細い連結部材によって、前記シール外領域の内縁の周方向に沿って連結されていることを特徴とする請求項１２から１４のいずれか１項に記載のアクティブマトリクス基板。
【請求項１６】
複数の前記ダミー電極は、前記ダミー電極より細い連結部材によって、前記シール領域の周方向に垂直な方向に連結されていることを特徴とする請求項１２から１５のいずれか１項に記載のアクティブマトリクス基板。
【請求項１７】
複数の前記ダミー電極及び複数の前記第２のダミー電極は、前記ダミー電極及び前記第２のダミー電極より細い連結部材によって、前記シール領域の周方向に垂直な方向及び前記非表示領域の外縁の周方向に垂直な方向に連結されていることを特徴とする請求項１４に記載のアクティブマトリクス基板。
【請求項１８】
複数の前記ダミー電極及び複数の前記第３のダミー電極は、前記ダミー電極及び前記第３のダミー電極より細い連結部材によって、前記シール領域の周方向に垂直な方向及び前記シール外領域の内縁の周方向に垂直な方向に連結されていることを特徴とする請求項１５に記載のアクティブマトリクス基板。
【請求項１９】
請求項１２から１８のいずれかに記載の連結部材は、前記ダミー電極、前記第２のダミー電極又は前記第３のダミー電極と同一材料からなることを特徴とする請求項１２から１８のいずれかに記載のアクティブマトリクス基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アクティブマトリクス基板、それを用いた液晶表示装置、液晶表示装置を含む電子機器、に関する。特に、シール領域にダミー電極を有するアクティブマトリクス基板、それを用いた液晶表示装置、液晶表示装置を含む液晶プロジェクター装置、リアプロジェクション装置等の電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶方式、プラズマ方式等のＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）は、市場における薄型化、高精細化、大画面化の要求に答え広く普及し始めており、有機ＥＬ方式、ＳＥＤ方式等の新方式のＦＰＤも開発段階から量産段階に移行し始めている。特に液晶方式の普及率は他の方式を大きく凌いでいる。
【０００３】
液晶表示装置は、二次元に配列された複数の画素電極が配置された表示領域を有するアクティブマトリクス基板（第１の基板）と、画素電極と対向するように設けられた光透過性電極を有する対向基板（第２の基板）とを有する。さらに、アクティブマトリクス基板の表示領域の周囲に配置され、アクティブマトリクス基板と対向基板とを貼り合わせるシール材と、第１の基板と第２の基板との間でシール材に囲まれた領域に配置された液晶と、を有する。
【０００４】
上記液晶表示装置においては、シール材を基板に塗布し貼り合せる際にシール材がつぶされて広がり基板の端面からはみ出してパネル表面を汚染するという問題があった。この問題に対して、特許文献１ではシール材のにじみ・流れによってシール材がチップの外に流れ出ることを防ぐために、シール領域の外縁に沿ってシール材の流動性を制御しストッパーの役割をするシール制御パターンを設けている。
【０００５】
またこれとは別に、ギャップむらの原因の一つに基板表面の構造的問題がある。シール領域内で基板表面の高さが場所によって不均一な場合、もしくはシール領域と表示領域とで基板表面の高さに差がある場合均一なギャップが出しにくいという問題点があった。特許文献２に記載されているように、表示領域の画素電極形成と同時に同一材料により設けられたダミー電極をシール領域に形成しシール領域と表示領域の基板表面の高さを均一とすることで対処している。
【特許文献１】特開２００５−１４８４７８号公報
【特許文献２】特開２００１−３０５５６６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
液晶の配向制御は、基板表面に形成した配向膜と上下基板間に掛ける電圧とで制御される。従って、配向膜が存在せず電圧も印加しないシール材液晶界面において液晶の配向制御はできず、シール材近傍における配向不良は避けられない。したがって、表示領域はシール領域近傍の配向不良の影響が出ないようにシール領域から離すことが求められる。特許文献１の手法ではシール領域のチップ内部への広がりを抑制することはできず、表示領域とシール領域との間隔を広く取らねばならない。
【０００７】
また、表示領域にスペーサーが存在する場合に、スペーサーの存在する場所では偏光変調ができず、黒表示もしくは白表示の画像の精細さが損なわれる。そのため、シール領域にのみスペーサーを配置して貼り合わせを行うことが求められる場合がある。しかしながら、シール領域にのみスペーサーを配置する構成の場合、ギャップ制御を均一に行うことは必ずしも容易でなく、特許文献２の手法では、基板の反りを抑制することができず、基板の反りが液晶表示装置全面に渡る均一なギャップ形成を阻害する要因となる。
【０００８】
上記のシール領域近傍の配向不良や、基板の反りによるギャップむらは、特に画像を拡大投影して表示する小型の液晶表示装置においては画像に与える影響が大きい。かかる液晶表示装置としては、リアプロジェクション方式のテレビに用いられる、ＬＣＯＳ(Liquid Crystal On Silicon)方式やpoly-Si TFT方式の反射型液晶表示装置や透過型のＴＦＴ液晶方式等の小型液晶表示装置がある。フィールドシーケンシャル方式を使用せずＲＧＢ各色別に表示装置を３枚使用してカラー表示を行う小型の液晶表示装置はカラーブレイク現象が発生せず、特にＬＣＯＳ方式では開口率が高くシームレスな画像を実現できるため、その画質の高さから注目を浴びている。そのような単結晶シリコンウエハなどの半導体基板を用いるＬＣＯＳ方式では、基板の反りによるギャップ制御のむらの影響が特に顕著である。
【０００９】
本発明の目的は、シール領域近傍の配向不良や、基板の反りによるギャップむらを軽減又は無くすことが可能なアクティブマトリクス基板、それを用いた液晶表示装置、液晶表示装置を含む液晶プロジェクター装置、リアプロジェクション装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の液晶表示装置は、二次元に配列された複数の画素電極が配置された表示領域を有する第１の基板と、
少なくとも前記画素電極と対向するように設けられた光透過性電極を有する第２の基板と、
前記第１の基板の前記表示領域の周囲を囲うように配置され、前記第１の基板と前記第２の基板とを貼り合わせるシール材と、
前記第１の基板と前記第２の基板との間で前記シール材に囲まれた領域に配された液晶と、を有する液晶表示装置において、
前記第１の基板の前記シール材が配置されるシール領域に、前記画素電極と同一又は類似した形状の複数のダミー電極が配置され、
前記シール領域の内縁の複数の前記ダミー電極は、該ダミー電極の幅より細い連結部材によって、前記シール領域の内縁の周方向に沿って連結されていることを特徴とする。
【００１１】
本発明の液晶プロジェクター装置、リアプロジェクション装置は本発明の液晶表示装置を用いたものである。
【００１２】
本発明のアクティブマトリクス基板は、表示領域に二次元に配列された複数の画素電極と、
前記表示領域の周囲を囲うように配置されシール材が配置されるシール領域に設けられた、前記画素電極と同一又は類似した形状の複数のダミー電極とを備え、
前記シール領域の内縁の複数の前記ダミー電極は、該ダミー電極の幅より細い連結部材によって、前記シール領域の内縁の周方向に沿って連結されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、反りが極力抑えられた基板、又は貼り合せ時に補正可能な均一な反りに形成された基板を提供することにより、均一なギャップを形成することが可能で色むらが生じにくくなるとともに、貼り合せ時にシール材が広がるのを抑制することができる。その結果、小型化を容易にする、高品質な、アクティブマトリクス基板、液晶表示装置、液晶プロジェクター装置及びリアプロジェクション装置を実現することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明の液晶表示装置の構造について、図面を参照しつつその実施形態を説明する。ただし、かかる実施形態は本発明の一様態を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の範囲内で任意に変更することが可能である。
【００１５】
（第１の実施形態）
図１は本発明の第１の実施形態の液晶表示装置の端部の一部を示す断面図と、その端部のアクティブマトリクス基板の平面図である。
【００１６】
アクティブマトリクス基板（第１の基板となる）１１は、半導体基板上にＭＯＳトランジスタ、蓄積容量等の駆動回路を形成し、その上に、遮光膜、層間絶縁膜を介して画素電極となる反射電極７を形成したＬＣＯＳ（Liquid Crystal On Silicon）チップである。反射電極７はアルミニウム、又はアルミニウム合金等のアルミニウムを主成分とする金属材料を用いることができる。図１では、駆動回路、遮光膜、層間絶縁膜及び反射電極上の保護膜、配向膜等は省略している。
【００１７】
画素電極たる反射電極７は、一辺の長さが１０μｍの正方形形状である。反射電極７は０．４μｍピッチで縦１０５０画素、横１４００画素の二次元に配列されて、ＳＸＧＡ+の解像度に相当する表示領域２が形成される。表示領域２の周辺には常時黒表示させるための電位が供給された非表示領域３にダミー電極６１が配置されており、その周りのシール領域４に電気的にはフロート状態のダミー電極６２が配置されている。シール領域４の外側にはシール外領域５があり、同様に電気的にはフロート状態のダミー電極６３が配置されている。いずれのダミー電極６１，６２，６３も、反射電極７と同じ材質、形状、ピッチで形成されている。
【００１８】
非表示領域やシール外領域と接するシール領域内には、シール領域の周方向に沿って内縁側及び外縁側（非表示領域との境界付近、及びシール外領域との境界付近）にそれぞれダミー電極６２を連結したダミー電極連結パターン８１，８２が設けられている。ダミー電極連結パターンは連結部材となる。ダミー電極連結パターン８１，８２は画素電極形成と同時に同一材料により設けられた幅２．０μｍの配線によって形成される。
【００１９】
アクティブマトリクス基板（第１の基板となる）１１に対向してガラス基板等の光透過性基板である対向基板（第２の基板となる）１０が配され、対向基板１０には反射電極７に対向するようにＩＴＯ等からなる光透過性電極１３が設けられる。アクティブマトリクス基板１１と対向基板１０との間のギャップ（間隔）１７はガラスビーズ等のスペーサー９により保持される。スペーサー９はシール材１２内に設けられる。アクティブマトリクス基板１１と対向基板１０との間には不図示の液晶が配される。こうして液晶表示装置１が構成される。
【００２０】
小型の液晶表示装置における色むらの原因の一つであるギャップむらを防止するためには、特許文献２に記載されているような手法だけでは不充分であり、基板の反りを極力抑え、反りが発生する場合にも均等な反りにする対策が求められる。図２（ａ）に示すような均等な反りの場合、貼り合せ時に均等な力を加えた状態でシール材を固化することで反りを補正し、図２（ｂ）に示すように均等なギャップ１７を形成することができる。しかし、図２（ｃ）のように反りの大きい領域１０６と小さい領域１０７が混在する場合には、図２（ｄ）に示すように貼り合せ時に均等な力を加えた状態でシール材を固化しても反りの残る領域１０８が存在する。反りを極力抑え、反りが発生する場合にも均等な反りにするためには、シール領域だけでなく表示領域以外の基板全面にダミー電極を形成する。この場合、ダミー電極の大きさ（面積）・形状は、表示領域に形成された画素電極の大きさ（面積）・形状と類似したもの、好ましくは一致したものにする。
【００２１】
しかし、図３（ａ）に示すように、シール領域にダミー電極６２が配置されると、ダミー電極とダミー電極の間の電極間ギャップが形成される。そして、図３（ｂ）に示すように、シール塗布・貼り合せ時にシール材がダミー電極間ギャップにうまく充填されないシール塗布不良２０１が発生しやすくなり、図３（ｃ）に示すように、外部からの水分の流入経路２０２になりやすいという問題が生じる。
【００２２】
さらに、小型の液晶表示装置における色むらの原因の一つである配向不良、特にシール材と液晶の界面における配向不良は避けられない。しかし小型の液晶表示装置の場合、極力シール幅を細くしシール材の流れ・にじみを防止しつつシール領域を小型液晶表示装置の最外縁部に配置することで液晶表示装置の更なる小型化を実現することが望ましい。そのためには、特許文献１に記載されているような手法では不充分であり、それに加えて、シール材がチップの内側に広がって表示領域に近づくのを防止するための対策が求められる。
【００２３】
その対策は、図１に示すように、ダミー電極連結パターン８２をシール外領域５と接するシール領域４に形成するだけでなく、非表示領域３と接するシール領域４にダミー電極連結パターン８１を配置することで実現できる。ダミー電極連結パターン８１は貼り合せ時にシール材がチップの内側に広がるのを防止するためのストッパーの役割をする。
【００２４】
ここで、ダミー電極６１，６２，６３の大きさ・形状とダミー電極連結パターン８１，８２の大きさ、形状が、画素電極７と大きく異なる場合、不均一な応力を発生し不均一な反りの原因となる。
【００２５】
本実施形態では、図２（ｄ）で説明した反りを回避するために、チップ上のシール領域４より外側のシール外領域５と、内側の非表示領域３と、シール領域４に、それぞれ画素電極と大きさ・形状が類似、好ましくは一致したダミー電極６３，６１，６２を配する。そして、ダミー電極連結パターン８１，８２は、ダミー電極６２の大きさに対して細く画素電極形成と同時に同一材料により設けられた配線によってシール領域の外縁・内縁に沿って相互に接続された構造にする。こうして、ギャップを精度良く形成するためのダミー電極を兼ねたダミー電極連結パターンを実現できる。このダミー電極連結パターンにより、図４（ａ）に示すように局所的にではあるがダミー電極連結パターン８によりダミー電極間ギャップが無い領域が形成され、図４（ｂ）に示すようにこの部分ではダミー電極連結パターン８により隙間が形成されない。その結果、図４（ｃ）に示すようにシール材１２がダミー電極間ギャップにうまく充填されない不良が発生し、水分流入経路２０２が形成されても、ダミー電極連結パターン８により外部からの水分流入経路遮断領域２０３を形成することが可能となる。
【００２６】
本実施形態では、上記のように、ダミー電極連結パターン８１，８２の幅は、ダミー電極６２の大きさに対して細く形成される。ダミー電極連結パターンの幅がダミー電極の大きさより小さければ、ダミー電極連結パターンの幅がダミー電極の大きさと同一の場合に比べて、ダミー電極連結パターンを設けないダミー電極や画素電極の部分との応力差を低下させることができる。
【００２７】
液晶表示装置のアクティブマトリクス基板の大きさにもよるが、ダミー電極連結パターン８１，８２の幅は、ダミー電極６２の大きさに対して、３０％以下が好ましく、２０％以下がより好ましい。３０％以下では、ソリにより発生する表示領域における表示むらが低減され、ＳＸＧＡクラスの高解像度製品として採用可能なものとなる。さらに２０％以下では、表示むらが更に低減され、ＵＸＧＡクラスの高解像度製品として採用可能なものとなる。ダミー電極連結パターン８１，８２の幅の下限は、製造工程におけるプロセスマージンを考慮して決められ、露光やエッチングが可能な幅、平坦化のプロセスでパターンが変形しない幅に設定される。具体的には０．３μｍ程度がダミー電極連結パターン８１，８２の幅の下限値となる。またダミー電極連結パターン８１，８２の高さは水分流入経路遮断領域２０３を形成する点から、ダミー電極の高さと同じ又は実質的に同一と見なさせる高さであることが望ましい。ただし、ダミー電極連結パターン８１，８２の高さがダミー電極の高さよりも低くても、ダミー電極連結パターンが形成されない場合に比べて、水分流入経路遮断効果を得ることができる。このダミー電極連結パターンの幅の範囲や高さについては後述する各実施形態でも同様に適用されることは勿論である。
【００２８】
このような構造にすることで、基板の反りを抑制し、反りが発生した場合にも貼り合せ時に均一な圧力を印加しながらシール材を硬化させることにより容易に反りを補正することが可能な基板を提供することができる。そして、従来に比べてギャップ精度が３０％向上した高品質な液晶表示装置を実現できた。また、貼り合せ時にシールがダミー電極連結パターンに沿って広がるため、必要最低限のシール幅で形成することが可能となり、従来に比べて面積にして１０％の小型化が実現できた。
【００２９】
（第２の実施形態）
図５は本発明の第２の実施形態の液晶表示装置の端部の一部を示す断面図と、その端部のアクティブマトリクス基板の平面図である。図５において、図１と同一構成部材については同一符号を付し、説明を省略する。
【００３０】
本実施形態は、第１の実施形態と同様に、シール領域の周方向に沿って内縁側及び外縁側にそれぞれダミー電極連結パターン８１，８２が設けられている。そして、さらに、非表示領域３の周方向に沿って外縁側（シール領域との境界付近）に画素電極形成と同時に同一材料により設けられた幅３．０μｍの配線によって、ダミー電極６１を連結したダミー電極連結パターン８３が設けられている。また、シール外領域５の周方向に沿って内縁側（シール領域との境界付近）に画素電極形成と同時に同一材料により設けられた幅３．０μｍの配線によって、ダミー電極６３を連結したダミー電極連結パターン８４が設けられている。
【００３１】
このような構造にすることで、基板の反りを抑制し、反りが発生した場合にも貼り合せ時に均一な圧力を印加しながらシール材を硬化させることにより容易に反りを補正することが可能な基板を提供することができる。そして、従来に比べてギャップ精度が３０％向上した高品質な液晶表示装置を実現できた。また、貼り合せ時にシールがダミー電極連結パターンに沿って広がるため、必要最低限のシール幅で形成することが可能となり、従来に比べて面積にして１０％の小型化が実現できた。また、実施形態１で説明した水分流入経路遮断領域はダミー電極連結パターン８１，８２に加えてダミー電極連結パターン８３，８４を設けることで更に増え、水分流入経路遮断の効果が増大する。
【００３２】
図５では、非表示領域の外縁、シール外領域の内縁に配置したダミー電極連結パターン８３，８４は、それぞれの領域のダミー電極を一列連結したが、特にこの数に限定されるものではなく、任意の列数分（２列以上）連結形成してもよい。
【００３３】
（第３の実施形態）
図６は本発明の第３の実施形態の液晶表示装置の端部の一部を示す断面図と、その端部のアクティブマトリクス基板の平面図である。図６において、図５と同一構成部材については同一符号を付し、説明を省略する。
【００３４】
図６に示す本第３の実施形態は、ガラス基板３１上に薄膜トランジスタによって駆動回路を形成し、その上に、遮光膜、層間絶縁膜を介してITOを主成分とする光透過性電極２７を形成したＴＦＴ液晶チップである。図６では、駆動回路、遮光膜、層間絶縁膜及び透明電極上の保護膜、配向膜等は省略している。
【００３５】
画素電極たる透明電極２７は、一辺の長さが１０μｍの正方形形状である。透明電極２７は０．４μｍピッチで縦１０８０画素、横１９２０画素のマトリクス状に配列されて、１０８０Ｐ（フルＨＤ）の解像度に相当する表示領域が形成される。表示領域の周辺には常時黒表示させるための電位が供給された非表示領域３にダミー電極２６１が配置されており、その周りのシール領域４に電気的にはフロート状態のダミー電極２６２が配置されている。シール領域４の外側にはシール外領域５があり、同様に電気的にはフロート状態のダミー電極２６３が配置されている。いずれのダミー電極も、透明電極２７と同じ材質、形状、ピッチで形成されている。
【００３６】
本実施形態では第２実施形態と異なり、シール領域の周方向にシール領域全域にダミー電極を連結したダミー電極連結パターン２８１，２８２，２８３が設けられている。そして、第２の実施形態と同様に、非表示領域の周方向に沿って外縁側（シール領域との境界付近）にダミー電極２６１を連結したダミー電極連結パターン２８４が設けられている。また、シール外領域の周方向に沿って内縁側（シール領域との境界付近）にダミー電極２６３を連結したダミー電極連結パターン２８５が設けられている。各ダミー電極連結パターン２８１−２８５は、画素電極形成と同時に同一材料により設けられた幅３．０μｍの配線によって形成される。
【００３７】
このような構造によって、基板の反りを抑制し、反りが発生した場合にも貼り合せ時に均一な圧力を印加しながらシール材を硬化させることにより容易に反りを補正することが可能な基板を提供することができる。そして、従来に比べてギャップ精度が３０％向上した高品質な液晶表示装置を実現できた。また、貼り合せ時にシールがダミー電極連結パターンに沿って広がるため、必要最低限のシール幅で形成することが可能となり、従来に比べて面積にして５％の小型化が実現できた。また、ダミー電極連結パターンをシール領域全域に形成したことにより、シール塗布時のアライメントずれに柔軟に対応することが可能となり、シール塗布不良を軽減でき歩留りが２％向上した。
【００３８】
図６では、非表示領域、シール外領域に配置したダミー電極連結パターンは、それぞれの領域のダミー電極を一列連結したが、特にこの数に限定されるものではなく、任意の列数分（２列以上）連結形成してよい。
【００３９】
（第４の実施形態）
図７は本発明の第４の実施形態の液晶表示装置の端部の一部を示す断面図と、その端部のアクティブマトリクス基板の平面図である。図７において、図１と同一構成部材については同一符号を付し、説明を省略する。
【００４０】
画素電極たる反射電極７は、一辺の長さが１０μｍの正方形形状である。反射電極７は０．４μｍピッチで縦１２００画素、横１９２０画素のマトリクス状に配列されて、ＵＸＧＡ・１０８０Ｐ兼用の解像度に相当する表示領域が形成される。第１の実施形態と同様に、表示領域２の周辺には、常時黒表示させるための電位が供給された非表示領域３にダミー電極６１が配置されており、その周りのシール領域４に電気的にはフロート状態のダミー電極６２が配置されている。シール領域４の外側にはシール外領域５があり、同様に電気的にはフロート状態のダミー電極６３が配置されている。いずれのダミー電極６１，６２，６３も、反射電極７と同じ材質、形状、ピッチで形成されている。
【００４１】
シール領域全域、非表示領域のシール領域境界付近（外縁側）、シール外領域のシール領域境界付近（内縁側）には、液晶表示装置の外縁に沿ってそれぞれダミー電極６１、６２、６３を連結したダミー電極連結パターン８３、８１と８６と８２、８４が設けられる。またダミー電極を連結し、さらに液晶表示装置の外縁に垂直にダミー電極６１、６２、６３を連結した、ダミー電極連結パターン８５が設けられる。画素電極形成と同時に同一材料により設けられた幅３．０μｍの配線によって形成される。
【００４２】
このような構造にすることで、基板の反りを抑制し、反りが発生した場合にも貼り合せ時に均一な圧力を印加しながらシール材を硬化させることにより容易に反りを補正することが可能な基板を提供することができる。そして、従来に比べてギャップ精度が３０％向上した高品質な液晶表示装置を実現できた。また、貼り合せ時にシールがダミー電極連結パターンに沿って広がるため、必要最低限のシール幅で形成することが可能となり、従来に比べて面積にして１０％の小型化が実現できた。また、ダミー電極連結パターンをシール領域全域に形成したことにより、シール塗布時のアライメントずれに柔軟に対応することが可能となり、シール塗布不良を軽減でき歩留りが２％向上した。さらに、液晶表示装置の外縁に垂直な配線で複数のダミー電極連結パターン間を接続したことで、シール領域の透湿性が改善されシール描画精度も向上した。
【００４３】
図７では、非表示領域、シール外領域に配置したダミー電極連結パターンは、それぞれの領域に対して外縁側及び内縁側の一列のダミー電極を連結しているが、これは概念をあらわすものであり限定されるものではなく、任意の列のダミー電極を連結してよい。
【００４４】
以上説明した第１から第４の実施形態では、各ダミー電極連結パターンは各ダミー電極と同一の材料で形成すれば、ダミー電極と各ダミー電極連結パターンとを同時に形成することがでできるので好ましい。しかしながら、各ダミー電極連結パターンをダミー電極と別な材質で形成してもよい。また、第１から第４の実施形態では、各ダミー電極連結パターンはダミー電極の中心を連結しているが、図１２に示すように中心を外れて連結させてもよい。
【００４５】
（第５の実施形態）
図８は本実施形態の液晶表示装置のフレキシブルプリント配線板に回路基板を接続した実装形態を示す平面図、図９はフレキシブルプリント配線板を湾曲した状態を示す断面図である。
【００４６】
図８及び図９において、３０１は液晶表示装置、３０２は液晶表示装置の端子取り出し部、３０３はワイヤボンディング、３０４はフレキシブルプリント配線板であり、図１〜図７に示した液晶表示装置と同様な構成である。３０５は回路基板で、３０６、３０７は液晶表示装置を駆動するための制御用のＩＣ、３０８はコネクタである。
【００４７】
図１０を用いて、上述した実施形態１、２又は４の液晶表示装置を用いた液晶プロジェクター装置について説明する。
【００４８】
図１０は液晶プロジェクター装置の一例である。１０１はランプ、１０２はリフレクター、１０３はロッドインテグレーター、１０４はコリメーターレンズ、１０５は偏光変換系、１０６はリレーレンズ、１０７はダイクロイックミラーである。また、１０８は偏光ビームスプリッター、１０９はクロスプリズム、１１０は液晶パネル、１１１は投影レンズ、１１２は全反射ミラーである。１１０の液晶パネルは実施形態１、２又は４の液晶表示装置を用いたものである。
【００４９】
ランプ１０１から出た光束はリフレクター１０２で反射し、インテグレーター１０３の入り口に集光する。このリフレクター１０３は楕円リフレクターであり、発光部及びインテグレーター入り口にその焦点が存在する。インテグレーター１０３に入った光束はインテグレーター内部で0〜数回反射を繰り返し、インテグレーター出口で２次光源像を形成する。２次光源形成法としてはフライアイを用いた方法も有るが、ここでは省略する。２次光源からの光束はコリメーターレンズ１０４を通して、おおむね平行光とされ、偏光変換系の偏光ビームスプリッター１０５に入射する。P波は偏光ビームスプリッター１０５で反射し、λ/2板を通りS波となり、全てがS波となりリレーレンズ１０６に入射する。光束はリレーレンズ１０６により、パネルに集光される。パネルに集光される間に、色分解ダイクロイックミラー１０７、偏光板(不図示)、偏光ビームスプリッター１０８、クロスプリズム１０９等で色分解系が構成され、S波がそれぞれ３枚の液晶パネル１１０に入射する。液晶パネル１１０では液晶シャッターが、映像に合わせて画素ごとに電圧を制御する。液晶の作用によりS波を楕円偏光（もしくは直線偏光）に変調し、偏光ビームスプリッター１０８でP波成分を透過させ、クロスプリズム１０９で色合成した後投影レンズ１１１から投影する形態が一般的である。
【００５０】
本実施形態の液晶プロジェクター装置は、筐体内に設置され、壁や専用スクリーン等に画像光を投射する液晶プロジェクターを構成することができる。
【００５１】
また本実施形態の液晶プロジェクター装置はリアプロジェクションテレビ等のリアプロジェクション装置に用いることができる。図１１に示すように、本実施形態の液晶プロジェクター装置を、反射ミラー２１１、スクリーンとなるフレネルレンズ２１２，レンチキュラーレンズ２１３とともに筐体内に配置する。かかる配置により、リアプロジェクションテレビ等のリアプロジェクション装置を構成することができる。なお、図１１では液晶プロジェクター装置として、投影レンズのみを示し、その他の構成部材は省略している。
【００５２】
図１１に示すように、液晶プロジェクター装置の投影レンズ１１１からの光を反射ミラー２１１で反射させスクリーンの背面に投射し、フレネルレンズ２１２で平行光とし、レンチキュラーレンズ２１３を通して光を広角度に散乱させる。なお、投影レンズ１１１からの光は反射ミラーを介さずスクリーンの背面に投射してもよい。
【００５３】
したがって、本実施形態の液晶プロジェクター装置は、フロントプロジェクション方式、リアプロジェクション方式のいずれにも用いることができる。ここで、フロントプロジェクション方式は壁や専用スクリーン等に画像光を投射する方式、リアプロジェクション方式はスクリーンの背面に画像光を投射してスクリーンの透過光を見る方式をいう。
【００５４】
また、以上説明した各実施形態では対向電極は透明電極であるとして説明したが、対向電極のうち画像表示に影響のない部分は、金属電極等の不透明又は透明電極よりも透過率の低い電極であってもよい。
【００５５】
また、以上説明した各実施形態では反射型液晶表示装置及び反射型液晶表示装置を用いた液晶プロジェクター装置について説明したが、本発明は透過型液晶表示装置及び透過型液晶表示装置を用いた液晶プロジェクター装置についても適用可能である。
【００５６】
さらに、本発明の液晶表示装置は液晶プロジェクター装置、リアプロジェクション装置に限定されるものではない。すなわち、本発明の液晶表示装置は液晶表示装置を用いる各種電子機器、例えば、携帯電話機やモバイルコンピュータ、携帯型デジタル音楽プレーヤ、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ等をはじめとする電子機器のビューファインダ等に用いることができる。
【産業上の利用可能性】
【００５７】
本発明は、電気光学物質として液晶分子を用いた電気光学装置や電子機器に用いられる。例えば、本発明は携帯電話機やモバイルコンピュータ、携帯型デジタル音楽プレーヤ、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ等をはじめとする電子機器のビューファインダ、プロジェクター、リアプロジェクションテレビ等に用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１】本発明の第１の実施形態の液晶表示装置を示す図である。
【図２】基板の反りによる貼り合せ前後の液晶表示装置の反りの概念図である。
【図３】従来のダミー電極間のシール材塗布不良の概念図である。
【図４】本発明のダミー電極間のシール材塗布不良の概念図である。
【図５】本発明の第２の実施形態の液晶表示装置を示す図である。
【図６】本発明の第３の実施形態の液晶表示装置を示す図である。
【図７】本発明の第４の実施形態の液晶表示装置を示す図である。
【図８】本発明の第５の実施形態の液晶表示装置のフレキシブルプリント配線板に回路基板を接続した実装形態を示す平面図である。
【図９】フレキシブルプリント配線板を湾曲した状態を示す断面図である。
【図１０】液晶プロジェクター装置の一例を示す図である。
【図１１】リアプロジェクション装置の一例を示す図である。
【図１２】ダミー電極連結パターンの連結の他の例を示す図である。
【符号の説明】
【００５９】
１  液晶表示装置
２  表示領域
３  非表示領域
４  シール領域
５  シール外領域
６１−６３，２６１−２６３  ダミー電極
７  反射電極（画素電極）
８，８１−８６，２８１−２８５  ダミー電極連結パターン
９  スペーサー
１０  対向基板
１１  アクティブマトリクス基板
１２  シール材
１３  光透過性電極
１７  ギャップ
１０６  反りの大きい領域
１０７  反りの小さい領域
１０８  反りの残る領域
２０１  シール塗布不良
２０２  水分流入経路
２０３  水分流入経路遮断領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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