(57)【要約】【課題】エッチング作業を中断することなく、フィルターの延命を可能にした基板処理装置及び基板処理方法を提供する。【解決手段】この基板処理装置は、基板を処理する薬液１０１が満たされた薬液槽１０２と、薬液槽から薬液を取り出す配管１０３と、一端が切り替えバルブＶ１を介して配管１０３に接続され、他端が互いに接続された分岐路Ｌａ，Ｌｂと、両分岐路の合流部に接続され、分岐路を通過した薬液を薬液槽に戻す配管１０４とを備えており、分岐路Ｌａ，Ｌｂにはフィルター１０６ａ，１０６ｂを介設し、フィルターと分岐路の一端との中間部においては、一方の分岐路から他方の分岐路へのバイパスＢａ，Ｂｂを設けている。【選択図】図１
2008053386.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を処理する薬液が満たされた薬液槽と、
前記薬液槽から薬液を取り出す第１の配管と、
一端が切り替えバルブを介して前記第１の配管に接続され、他端が互いに接続された第２および第３の配管と、
前記第２および第３の配管の他端接続部に接続し、前記薬液を前記薬液槽に戻す第４の配管とを備え、
前記第２および第３の配管にフィルターが介設され、
前記フィルターと前記一端の中間部においては、前記第１の配管から前記第４の配管へ向かう循環方向と逆方向に前記薬液を当該フィルターに流すための配管が接続されていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
基板を処理する薬液が満たされた薬液槽と、
前記薬液槽から薬液を取り出す第１の配管と、
一端が切り替えバルブを介して前記第１の配管に接続され、他端が互いに接続された第２および第３の配管と、
前記第２および第３の配管の他端接続部に接続し、前記薬液を前記薬液槽に戻す第４の配管とを備え、
前記第２および第３の配管にはフィルターが介接され、
前記フィルターと前記一端の中間部においては、前記第２の配管から前記第３の配管方向へ薬液を流すための第１のバイパスと、前記第３の配管から前記第２の配管へ薬液を流すための第２のバイパスとが設けられていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項３】
基板を処理する薬液が満たされた薬液槽と、
前記薬液槽から薬液を取り出す第１の配管と、
一端が切り替えバルブを介して前記第１の配管に接続され、他端が互いに接続された第２および第３の配管と、
前記第２および第３の配管の他端接続部に接続し、前記薬液を前記薬液槽に戻す第４の配管とを備え、
前記第２および第３の配管にはフィルターが介接され、
前記フィルターと前記一端の中間部においては、前記第２の配管から薬液を外部へ排出するための第１の廃液管と、前記第３の配管から薬液を外部へ排出するための第２の廃液管とが設けられていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項４】
前記薬液槽に薬液を補充するための薬液供給槽を備えていることを特徴とする請求項３に記載の基板処理装置。
【請求項５】
請求項２記載の基板処理装置を用いて基板を処理する基板処理方法において、
一方のフィルターを介して薬液を循環させている場合、他方のフィルターには、循環方向と逆方向に薬液を流すことを特徴とする基板処理方法。
【請求項６】
請求項３記載の基板処理装置を用いて基板を処理する基板処理方法において、
一方のフィルターを介して薬液を循環させている場合、他方のフィルターには、循環方向と逆方向に薬液を流し、前記他方のフィルターを通過した薬液を外部へ排出する基板処理方法。
【請求項７】
前記他方のフィルターを通過した薬液の排出を開始してから一定時間が経過すると、その排出を停止し、前記一方のフィルターに対する薬液の循環は継続する請求項６記載の基板処理方法。
【請求項８】
請求項１乃至４のいずれかに記載の基板処理装置を用いた半導体装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、薬液による半導体基板などの基板処理、特にエッチング液を循環させて、フィルターにより、エッチング中の残留物を除去するようにしたウエットエッチング装置とそれを用いた基板処理方法および半導体製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、半導体集積回路の製造工程では、半導体基板上に形成された余分な薄膜などを除去するためにウエットエッチングが広く使用されている。例えば特許文献１には、エッチング液を循環させる循環路に設けたフィルターでエッチング液を濾過するウエットエッチング装置が記載されている。
【０００３】
図８はウエットエッチング装置の概略構成の一例を示す。このウエットエッチング装置において、エッチング液８０１を収容するエッチング槽８０２は、隔壁８０３により分離された内槽８０４と外槽８０５を備えている。内槽８０４と外槽８０５は循環路８０６によって接続されている。その循環路８０６には、ポンプ８０７及びフィルター８０８が設けられている。
【０００４】
外槽８０５のエッチング液８０１は、外槽８０５の底部８０５ａからポンプ８０７により強制的にフィルター８０８に送り込まれ、エッチング液８０１に含まれる固形残留物が除去される。フィルター８０８を通過したエッチング液８０１が内槽８０４まで送り込まれると、内槽８０４のエッチング液８０１が外槽８０５にあふれ出て、循環が継続する。このような循環により、エッチング槽８０２内のエッチング液８０１の清浄度が保たれる。
【０００５】
しかし、残留物や、循環路８０６中で析出した析出物でフィルター８０８が目詰まりすると、その循環が円滑に行えず、エッチング液８０１の清浄度が保てなくなる。このときには、エッチング作業を中断し、フィルター８０８を新しいものに交換する必要があった。
【０００６】
図９はウエットエッチング装置の概略構成について別の例を示す。この装置では、循環路９０１の途中に分岐路９０１ａ，９０１ｂが設けられており、分岐路９０１ａ，９０１のそれぞれにフィルター９０２ａ，９０２ｂが配置されている。各フィルター直上流及び直下流に設けられたバルブ９０３ａ，９０３ｂを開閉することにより、フィルター９０２ａ，９０２ｂの一方を介してエッチング液９０４を循環させることができる。
【０００７】
一方のフィルターを介してエッチング液９０４を循環させているとき、他方のフィルターは循環路から遮断されている。このため、この装置では、エッチング作業を中断せずに、他方のフィルターを交換したり、そのフィルターを正常な状態に再生したりすることができる。
【０００８】
フィルター９０２ａ，９０２ｂを再生するために、この装置は、フィルター９０２ａ，９０２ｂに付着堆積した堆積物を溶解して除去する薬液９０５ａ，９０５ｂをフィルター９０２ａ，９０２ｂに供給する薬液供給路９０６ａ，９０６ｂを有している。
【特許文献１】特開平６−２７５５９７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
上述のようにフィルターを再生するには、エッチング液の循環路とは別に専用の薬液供給路が必要になっていた。さらに、その薬液供給路はフィルター毎に必要とされる。したがって、装置コストやランニングコストが高くなる。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の一態様によれば、基板を処理する薬液が満たされた薬液槽と、前記薬液槽から薬液を取り出す第１の配管と、一端が切り替えバルブを介して前記第１の配管に接続され、他端が互いに接続された第２および第３の配管と、前記第２および第３の配管の他端接続部に接続し、前記薬液を前記薬液槽に戻す第４の配管とを備え、前記第２および第３の配管にフィルターが介設され、前記フィルターと前記一端の中間部においては、前記第１の配管から前記第４の配管へ向かう循環方向と逆方向に前記薬液を当該フィルターに流すための配管が接続されていることを特徴とする基板処理装置を提供する。
【００１１】
本発明の他の態様によれば、基板を処理する薬液が満たされた薬液槽と、前記薬液槽から薬液を取り出す第１の配管と、一端が切り替えバルブを介して前記第１の配管に接続され、他端が互いに接続された第２および第３の配管と、前記第２および第３の配管の他端接続部に接続し、前記薬液を前記薬液槽に戻す第４の配管とを備え、前記第２および第３の配管にはフィルターが介接され、前記フィルターと前記一端の中間部においては、前記第２の配管から前記第３の配管方向へ薬液を流すための第１のバイパスと、前記第３の配管から前記第２の配管へ薬液を流すための第２のバイパスとが設けられていることを特徴とする基板処理装置を提供する。
【００１２】
本発明のさらに他の態様によれば、基板を処理する薬液が満たされた薬液槽と、前記薬液槽から薬液を取り出す第１の配管と、一端が切り替えバルブを介して前記第１の配管に接続され、他端が互いに接続された第２および第３の配管と、前記第２および第３の配管の他端接続部に接続し、前記薬液を前記薬液槽に戻す第４の配管とを備え、前記第２および第３の配管にはフィルターが介接され、前記フィルターと前記一端の中間部においては、前記第２の配管から薬液を外部へ排出するための第１の廃液管と、前記第３の配管から薬液を外部へ排出するための第２の廃液管とが設けられていることを特徴とする基板処理装置を提供する。
【００１３】
本発明のさらに他の態様によれば、上述の基板処理装置を用いた基板処理方法または半導体装置の製造方法を提供する。
【発明の効果】
【００１４】
以上の構成を採用することにより、一方のフィルターを介して薬液を循環させている状態で、他方のフィルターには、第１の配管から第４の配管へ向かう循環方向と逆方向に薬液が流れるため、その薬液により基板を処理する作業を中断することなく、フィルターの再生をすることが可能となる。しかも、フィルター再生のための専用薬液を用いず、基板処理に用いる薬液を用いてフィルターを再生するので、フィルターを複数用いる場合でも、装置コストやランニングコストを低減することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、添付図面を参照して、本発明の各実施の形態について説明する。
（第１の実施の形態）
図１は第１の実施の形態によるウエットエッチング装置の概略構成を示す図である。図１の装置において、エッチング液１０１を収容するエッチング槽１０２よりエッチング槽１０２へ帰還する循環路Ｌを設けている。この循環路Ｌは、エッチング槽１０２からエッチング液を取り出す配管１０３と、エッチング液をエッチング槽１０２に戻す配管１０４とを有している。循環路Ｌの途中である配管１０３の端部には三方向弁Ｖ１が配置されており、その三方向弁Ｖ１により分岐路Ｌａ，Ｌｂを設けている。三方向弁Ｖ１が一端に接続された分岐路Ｌａ，Ｌｂの配管の他端は合流して配管１０４に接続されている。エッチング液の循環路Ｌは、三方向弁Ｖ１により、配管１０３、分岐路Ｌａ、および配管１０４を通じた流路と、配管１０３、分岐路Ｌｂ、および配管１０４を通じた流路とに切り替えられる。
【００１６】
分岐路Ｌａ，Ｌｂには、循環路Ｌの上流側から順に、ポンプ１０５ａ，１０５ｂと、フィルター１０６ａ，１０６ｂと、バルブＶａ２，Ｖｂ２がそれぞれ介設されている。更に、分岐路Ｌａ，Ｌｂは、バイパスＢａ，Ｂｂによって互いに接続されている。バイパスＢａは、分岐路Ｌａにおけるポンプ１０５ａとフィルター１０６ａの中間部と、分岐路Ｌｂにおける三方向弁Ｖ１とポンプ１０５ｂの中間部とを接続する。バイパスＢｂは、分岐路Ｌｂにおけるポンプ１０５ｂとフィルター１０６ｂの中間部と、分岐路Ｌａにおける三方向弁Ｖ１とポンプ１０５ａの中間部とを接続する。
【００１７】
各バイパスＢａ，Ｂｂには、バルブＶａ１，Ｖｂ１と逆止弁１０７ａ，１０７ｂが設けられており、その逆止弁１０７ａ，１０７ｂによってエッチング液の流れを一方向に制限している。すなわち、バルブＶａ１，Ｖｂ１が開いていれば、配管１０３から配管１０４へ向かう循環方向と逆方向にフィルター１０６ａ，１０６ｂを流れたエッチング液がバイパスＢａ，Ｂｂを通り、分岐路Ｌｂ，Ｌａと合流する。
【００１８】
この装置では、エッチング槽１０２を用いて半導体基板のエッチングが行える状態において、フィルター１０６ａ，１０６ｂのいずれかを用いてエッチング液から固形残留物を除去する。図２では、フィルター１０６ｂを用いる場合のエッチング液の流れを示している。この場合、三方向弁Ｖ１を配管１０３から分岐路Ｌｂへ流れるように開き、バルブＶｂ１は閉じ、残りのバルブは開いた状態でポンプ１０５ｂを動作させる。これによってエッチング液は配管１０３から分岐路Ｌｂを通り、ポンプ１０５ｂによって圧送され一方のフィルター１０６ｂを通りエッチング槽１０２にもどる。
【００１９】
この状態で、エッチング槽１０２において多数の半導体基板のエッチング処理を継続的に行っていると、一方のフィルター１０６ｂにエッチング液内の残留物、析出物等が付着堆積して、フィルター１０６ｂが目詰まりをおこす。フィルター１０６ｂが目詰まりを起こすとエッチング液１０１の循環が止まり、エッチング槽１０２内に残留物が滞留する為、この残留物が被エッチング材である半導体基板に付着して、異物となりエッチング不良となる。
【００２０】
これを避けるため、そのとき使用しているフィルターが目詰まりしてエッチング液１０１の循環がとまる前に、エッチング液の濾過に利用するフィルターを他方のフィルターに変更する。特に図示しないが循環路のフィルターの直前に挿入した圧力計は薬液圧力の上昇によってフィルターの目詰まりの進行を確認できる。圧力計が表示・出力する圧力を監視することによって、フィルターの目詰まりでエッチング液１０１の循環がとまる前を特定することができる。バルブの開閉や切替は、その監視信号に基づいて、図示しない制御回路により行うことができる。
【００２１】
図３では、フィルター１０６ａを用いる場合のエッチング液の流れを示している。エッチング液１０１の圧力が予め与えた値になると、三方向弁Ｖ１を配管１０３から分岐路Ｌａへ流れるように開き、バルブＶｂ１を開き、それまで開けていたバルブＶａ１を閉じ、残りのバルブは開いた状態でポンプ１０５ｂを停止させ、ポンプ１０５ａを動作させる。
【００２２】
これによってエッチング液は配管１０３から分岐路Ｌａを通り、ポンプ１０５ａによって圧送され分岐路Ｌａに取り付けられた目詰まりのないフィルター１０６ａを通りエッチング槽１０２にもどる。
【００２３】
またフィルター１０６ａでエッチング液を濾過している間、フィルター１０６ｂは洗浄される。ポンプ１０５ａの圧送により分岐路Ｌａを通過したエッチング液の一部は、配管１０４を通じてエッチング槽１０２へ流れるのではなく、分岐路Ｌｂに入り、フィルター１０６ｂを循環方向と逆方向に流れる。すなわちフィルター１０６ａを通過したエッチング液が、バルブＶｂ２、フィルター１０６ｂ、バルブＶｂ１、逆止弁１０７ｂを通り分岐路Ｌａに合流し、ポンプ１０５ａ方向にいたる流れができる。
【００２４】
このように分岐路Ｌｂから分岐路ＬａへのバイパスＢｂを設けることにより、ポンプ１０５ａを用いて、エッチング液１０１をエッチング槽１０２に対して循環させる流路と、エッチング液１０１がフィルター１０６ｂを循環方向と逆方向に通過する流路が形成される。分岐路Ｌｂのフィルター１０６ｂを循環方向と逆方向にエッチング液が流れることによりフィルター１０６ｂに目詰まりした堆積物を除去し、つまりフィルター１０６ｂの逆洗浄によりフィルター１０６ｂを正常な状態に戻すことが出来る。
【００２５】
以降、このようにしてエッチングを継続し、フィルター１０６ａに目詰まりが生じる前に、最初のようにエッチング液の循環路を分岐路Ｌｂ側に切り替え、フィルター１０６ｂによりエッチング液から固形残留物を除去する。バイパスＢａを設けていることにより、フィルター１０６ｂで残留物を除去している間、フィルター１０６ｂを通過したエッチング液が、循環方向と逆方向にフィルター１０６ａを通過するから、上記動作と同様にしてフィルター１０６ａが正常な状態に戻る。
【００２６】
以上のような第１の実施の形態によればエッチング液１０１の循環路の圧力により、フィルターの逆洗浄を行った。圧力を監視する代わりに、ポンプ１０５ａ、及びポンプ１０５ｂの運転時間を、例えば被処理物の各処理ごとの処理時間、つまりフィルターが目詰まりを起こすまでのフィルター寿命の１％程度の処理時間で定めて、その時間がきたら自動的に循環路を分岐路Ｌａ側か分岐路Ｌｂ側に切り替え、フィルター１０６ａ，１０６ｂを正常な状態に戻すようにしてもよい。
【００２７】
これにより、フィルターに詰まった堆積物の除去を専用薬液による溶解によらず、またウエットエッチング装置をまったく停止させることなくフィルターの切り替えおよび正常作業が行える。そのため、エッチング作業の中断がなく、目詰まりを起こしたフィルターを廃棄するという無駄もなくすことができる。さらにフィルターが複数あっても、フィルターの堆積物を溶解して除去する専用薬液やその供給路が必要ないので、装置コストやランニングコストを抑えることができる。したがって、この基板処理装置を用いることにより、半導体装置の製造を効率的、かつ安価に行うことが可能となる。
【００２８】
またエッチング液が循環路Ｌを流れるときも、バイパスＢａ，Ｂｂを通るときも、いずれかのポンプにより圧送されるため、この配管系でエッチング液は円滑に流れる。さらに２つのポンプを備えているので、一方のポンプに動作不良や故障等があっても、他方のポンプを用いてエッチング液を循環させることが可能である。このため、ポンプの修理や交換等を行うときも、エッチング作業を継続することは可能である。
【００２９】
なお、本実施の形態における薬液循環の方法では、一方のフィルターにトラップされたエッチング薬液中の異物、パーティクルなどは逆洗浄過程で他方のフィルターでふたたびトラップするので、交互のフィルターに対して逆洗浄を繰り返すとトラップされるべき異物、パーティクル量が増加してくる。したがって所定回数逆洗浄を繰り返した後は２本のフィルターを交換しなければならないが、それまでは上記のようにエッチング装置を稼動させたまま自動的にフィルターが逆洗浄されるのでメンテナンス回数を大幅に低減させることが出来る。
(第２の実施の形態)
図４は第２の実施の形態によるウエットエッチング装置の概略構成を示す図である。第１の実施の形態によるウエットエッチング装置と同一要素には同一の符号を付し、その説明を省略する。
【００３０】
本装置において、図１に示した装置と相違するのは循環路Ｌから分岐された各循環路Ｌａ，Ｌｂのそれぞれのポンプ１０５ａ，１０５ｂとフィルター１０６ａ，１０６ｂとの途中に設置された逆止弁１０７ａ，１０７ｂの先に、エッチング液を廃液する廃液槽４０１を設けたことである。図１に示した装置では、循環方向と逆方向にフィルター１０６ａ，１０６ｂにエッチング液１０１を流すためにバイパスＢａ，Ｂｂを用いていたが、本装置では、廃液管４０２ａ，４０２ｂが用いられることになり、バルブＶａ１，Ｖｂ１や、逆止弁１０７ａ，１０７ｂはその廃液管４０２ａ，４０２ｂに設けられている。また本装置は、エッチング槽１０２にエッチング液１０１を補充する薬液供給槽４０３と薬液供給路Ｌ０を設けたことでも、第１の実施の形態によるウエットエッチング装置と異なっている。
【００３１】
この装置も、半導体基板のウエットエッチング中において、フィルター１０６ａ，１０６ｂのいずれかを用いてエッチング液１０１から固形残留物を除去する。図５では、フィルター１０６ｂを用いる場合のエッチング液の流れを示している。この場合、三方向弁Ｖ１を配管１０３から分岐路Ｌｂへ流れるように開き、バルブＶｂ１は閉じ、残りのバルブは開いた状態でポンプ１０５ｂを動作させる。これによってエッチング液は配管１０３から分岐路Ｌｂを通り、ポンプ１０５ｂによって圧送され一方のフィルター１０６ｂを通り、配管１０４を通じてエッチング槽１０２にもどる。
【００３２】
エッチング槽１０２で半導体基板を多数エッチング処理継続すると、一方のフィルター１０６ｂにエッチング液内の残留物、析出物等が付着堆積して、フィルター１０６ｂがついには目詰まりをおこす。フィルター１０６ｂが目詰まりを起こすとエッチング液１０１の循環が止まり、エッチング槽１０２内に残留物が滞留する為、この残留物が被エッチング材に付着して、異物となりエッチング不良となる。
【００３３】
そこで特に図示しないが循環路に挿入した圧力計の圧力を監視することによってフィルターの目詰まりでエッチング液１０１の循環がとまる前に、エッチング液内の残留物を除去するのに利用するフィルターを切り替える。図６では、エッチング液の濾過に利用するフィルターがフィルター１０６ａに切り替えられた場合のエッチング液の流れを示している。この場合、三方向弁Ｖ１を配管１０３から分岐路Ｌａへ流れるように開き、バルブＶｂ１を開き、バルブＶａ１を閉じ、残りのバルブは開いた状態でポンプ１０５ｂを停止させ、ポンプ１０５ａを動作させる。
【００３４】
圧力を監視する代わりに三方向弁Ｖ１を配管１０３から分岐路Ｌａへ流れるように開くのを、被処理物の各処理ごとの処理時間、つまりフィルターが目詰まりを起こすフィルター寿命の１％程度の処理時間が経過した後に行ってもよい。
【００３５】
これによってエッチング液の流路が切り替えられ、エッチング液は配管１０３から分岐路Ｌａを通り、ポンプ１０５ａによって圧送されフィルター１０６ａを通りエッチング槽１０２にもどる。フィルター１０６ａにより、エッチング液内の残留物が除去されることになる。
【００３６】
このようにフィルター１０６ａでエッチング液から固形残留物を除去するとき、フィルター１０６ｂが洗浄される。分岐路Ｌｂを通過したエッチング液の一部は、配管１０４を通じてエッチング槽１０２へ流れるのではなく、分岐路Ｌｂに入り、フィルター１０６ｂを循環方向と逆方向に流れる。すなわちエッチング液が、バルブＶｂ２、フィルター１０６ｂ、バルブＶｂ１、逆止弁１０７ｂ方向に流れ廃液槽４０１に排出される。この分岐路Ｌｂのフィルター１０６ｂの循環方向に対して逆方向に流れる薬液によりフィルター１０６ｂに目詰まりした堆積物を除去し、つまりフィルター１０６ｂの逆洗浄によりフィルター１０６ｂに付着堆積したものを排出してフィルターの能力を元に戻す。
【００３７】
一定時間この状態を維持し、フィルター１０６ｂの能力が元の状態に戻ったらバルブＶｂ１を閉じ、薬液の排出を停止する。薬液は分岐路Ｌａによって循環させてエッチング処理を続行する。フィルター１０６ｂの逆洗浄でフィルター１０６ｂより取り除かれた堆積物により清浄度が低下したエッチング液１０１を分岐路Ｌｂより廃液槽４０１へ排出することでエッチング槽１０２のエッチング液１０１の清浄度が確保される。さらに排出されたエッチング液１０１と同量のエッチング液１０１を薬液供給槽４０３から薬液供給路Ｌ０によりエッチング槽１０２へ補充する。
【００３８】
以降、このようにしてエッチングを継続し、フィルター１０６ａに目詰まりが生じる前に、最初のようにエッチング液の循環路を分岐路Ｌｂ側に切り替え、フィルター１０６ｂによりエッチング液から固形残留物を除去する。図５で説明した状態では、分岐路Ｌａを通過したエッチング液の一部が、配管１０４に入らず、循環方向と逆方向にフィルター１０６ａを流れる。すなわち、バルブＶａ２、フィルター１０６ａ、バルブＶａ１、逆止弁１０７ａの順に流れ廃液槽４０１へ排出される。このときポンプ１０５ａが動作している、していないにかかわらず一方向にしか薬液を流すことができないので分岐路Ｌｂに戻る流れは発生しない。
【００３９】
これにより、上記動作と同様にしてフィルター１０６ａに付着堆積したものを排出してフィルターの能力を元に戻す。フィルターに詰まった堆積物の除去を専用薬液による溶解によらず、ウエットエッチング装置をまったく停止させることなくフィルターの交換および正常作業が行える。そのため、エッチング作業の中断がなく、フィルターを廃棄するという無駄もなくすことができる。
【００４０】
以上の説明は、ウエットエッチング装置を停止することなくフィルターの再生を行うことについて説明したが、フィルター内の濾過部材の目詰まりが進行すると濾過部材表面は薬液の循環圧力により過度の負担がかかり濾過部材が破損する部分が生じる。再生作業を繰り返すことで、ついにはフィルター内の濾過部材の全面にわたって破損する部分が生じると、本来のフィルター能力を失い新しいものと交換する必要が生じる。この時も装置を停止することなく変換できる。
【００４１】
例えば、三方向弁Ｖ１を配管１０３から分岐路Ｌａへ流れるように開き、バルブＶａ１、Ｖｂ２は閉じ、残りのバルブは開いた状態でポンプ１０５ａを動作させる。これによってエッチング液は配管１０３から分岐路Ｌａを通り、ポンプ１０５ａによって圧送されフィルター１０６ａを通りエッチング槽１０２へ循環する。このとき一方の分岐路Ｌｂは薬液の循環がなくフィルター１０６ｂを取り除くことができ、新しいフィルター１０６ｂと交換できる。
【００４２】
フィルター１０６ａを交換するときには、三方向弁Ｖ１を配管１０３から分岐路Ｌｂへ流れるように開き、バルブＶｂ１、Ｖａ２は閉じ、残りのバルブは開いた状態でポンプ１０５ｂを動作させる。これによってエッチング液は配管１０３から分岐路Ｌｂを通り、ポンプ１０５ｂによって圧送され一方のフィルター１０６ｂを通りエッチング槽１０２へ循環する。このとき一方の分岐路Ｌａは薬液の循環がなくフィルター１０６ａを取り除くことができ、新しいフィルター１０６ａと交換できる。
（第３の実施の形態）
図７は第３の実施の形態によるウエットエッチング装置の概略構成を示す図である。第３の実施の形態によるウエットエッチング装置は、第２の実施の形態によるウェットエッチング装置と同様にエッチング液を廃液できるよう、第１の実施の形態によるウエットエッチング装置の一部を変更したものである。各実施の形態によるウエットエッチング装置と同一要素には同一の符号を付し、その説明を省略する。
【００４３】
本実施の形態による装置では、バイパスＢｂの分岐路Ｌａとの接続部と逆止弁１０７ｂとの間に、三方向弁７０１を配置している。バイパスＢｂは、バルブＶｂ１および逆止弁１０７ｂを設けた配管７０２と、一端が三方向弁７０１により配管７０２に接続され、他端が分岐路Ｌａに接続される配管７０３とを備えている。また三方向弁７０１には、配管７０２及び７０３に加え、エッチング液１０１を廃液槽４０１に排出する廃液管７０４が接続されている。三方向弁７０１は、配管７０２から流入したエッチング液１０１の出路を配管７０３か配管７０４に切り替える。すなわち、三方向弁７０１は、配管７０２を流れるエッチング液１０１を分岐路Ｌａに流すか、廃液槽４０１に排出するかを選択するのに用いることができる。
【００４４】
第１の実施の形態によるウエットエッチング装置では、上述のように、一方のフィルターにトラップされたエッチング薬液中の異物、パーティクルなどは逆洗浄過程で他方のフィルターに再びトラップされる。このため、逆洗浄によるフィルターの再生を繰り返すと、フィルターの逆洗浄を行う間隔が序々に短くなる。
【００４５】
そこで、第３の実施の形態によるウエットエッチング装置では、三方向弁Ｖ１の切替回数を計数しておき、その計数が所定回数に達すると、三方向弁７０１の出路を配管７０３から配管７０４に切り替え、エッチング液１０１を廃液槽４０１に排出する。
【００４６】
これにより、それまでにフィルター１０６ｂに堆積していた堆積物は循環系から取り除かれることになるため、フィルターの逆洗浄を行う（三方向弁Ｖ１を切り替える）間隔が短くなるのを抑制することができる。
【００４７】
エッチング液１０１を排出したときには、第２の実施の形態と同様に、同量のエッチング液１０１が薬液供給槽４０３から薬液供給路Ｌ０によりエッチング槽１０２へ補充される。第３の実施の形態によるウエットエッチング装置では、第２の実施の形態と異なり三方向弁７０１の出路が配管７０４に切り替えられたときにのみ、エッチング液１０１が廃液されることになる。
【００４８】
上述の説明では、三方向弁Ｖ１の切替回数によって、三方向弁７０１を制御したが、これに限られるものではない。例えば、三方向弁Ｖ１の切替時期を監視圧力に基づいて定めている場合に、三方向弁Ｖ１の切替間隔が所定期間以下になったとき、三方向弁７０１の出路を配管７０４に切り替えるようにしてもよい。
【００４９】
また本実施の形態によるウエットエッチング装置では、バイパスＢｂに三方向弁を介して廃液管を接続したが、バイパスＢａまたは両方のバイパスに三方向弁を介して廃液管を接続するようにしてもよい。
【００５０】
また第３の実施の形態にように、バイパスを廃液路としても利用するのではなく、バイパスの一方を廃液管に代えてもよい。
【００５１】
本発明は、以上で説明した実施の形態に限定されるものではなく、本発明の効果を奏する範囲において、種々の変形および応用が可能である。例えば、上述の実施の形態では、ウエットエッチングに本発明を利用したが、メッキ処理やその他の基板処理に利用することも可能である。
【産業上の利用可能性】
【００５２】
以上のような構造を有する基板処理装置、および基板処理方法は半導体集積回路製造の分野に限らず、処理薬液を有効に使用することを目的とする分野にも適用することが出来有益である。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】第１の実施の形態によるウエットエッチング装置の概略構成を示す図
【図２】第１の実施の形態によるウエットエッチング装置におけるエッチング液の流れを説明するための図
【図３】第１の実施の形態によるウエットエッチング装置におけるエッチング液の流れを説明するための他の図
【図４】第２の実施の形態によるウエットエッチング装置の概略構成を示す図
【図５】第２の実施の形態によるウエットエッチング装置におけるエッチング液の流れを説明するための図
【図６】第２の実施の形態によるウエットエッチング装置におけるエッチング液の流れを説明するための他の図
【図７】第３の実施の形態によるウエットエッチング装置の概略構成を示す図
【図８】従来のウエットエッチング装置の概略構成の一例を示す図
【図９】従来のウエットエッチング装置の概略構成について別の例を示す図
【符号の説明】
【００５４】
１０１  エッチング液
１０２  エッチング槽
１０３、１０４  循環用配管
１０５ａ，１０５ｂ  ポンプ
１０６ａ，１０６ｂ  フィルター
１０７ａ，１０７ｂ  逆止弁
４０１  廃液槽
４０２ａ，４０２ｂ、７０４  廃液管
４０３  薬液供給槽
７０１  バイパス上の三方向弁
７０２、７０３  バイパス用配管
Ｌ  循環路
Ｌａ，Ｌｂ  分岐路
Ｂａ，Ｂｂ  バイパス
Ｌ０  薬液供給路
Ｖ１  循環路上の三方向弁
Ｖａ１，Ｖａ２，Ｖｂ１，Ｖｂ２  バルブ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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