(57)【要約】【課題】本発明の目的は、偏光板保護フィルム自身が偏光散乱異方性を有することで、ディスプレイの光学特性、特に輝度が向上でき、生産性及び耐久性に優れた偏光板の保護フィルムの提供、及び、該偏光板保護フィルムを用いた偏光板の提供、及び該偏光板を用いた液晶表示装置の提供にある。【解決手段】セルロースエステルからなる光学的連続相と針状酸化チタンをドメインとして含む偏光板保護フィルムであって、該ドメインがチタンアルコキシドをアルコールと水混合溶媒中で加水分解、縮合して得られるアモルファス針状酸化チタンを加熱処理によって製造された針状酸化チタンであることを特徴とする偏光板保護フィルム。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
セルロースエステルからなる光学的連続相と針状酸化チタンをドメインとして含む偏光板保護フィルムであって、該ドメインがチタンアルコキシドをアルコールと水混合溶媒中で加水分解、縮合して得られるアモルファス針状酸化チタンを加熱処理によって製造された針状酸化チタンであることを特徴とする偏光板保護フィルム。
【請求項２】
前記針状酸化チタンがアスペクト比２０以上かつ短軸径が１５０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の偏光板保護フィルム。
【請求項３】
偏光板保護フィルムの製膜方向を０°としたとき、各々のドメインの長軸方向とのなす角度の絶対値の平均値が２５°以内であることを特徴とする請求項１に記載の偏光板保護フィルム。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の偏光板保護フィルム／二色性物質による光吸収作用を利用した二色性偏光フィルム／偏光板保護フィルムＢの順で一体化された偏光板であって、該二色性偏光フィルムの吸収軸がフィルムの長手方向にあることを特徴とする偏光板。
【請求項５】
請求項４に記載の偏光板を用い、かつ請求項１〜３のいずれか１項に記載の偏光板保護フィルムが光源側に配置されたことを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光散乱異方性を有する偏光板保護フィルム、それを用いた偏光板及び液晶表示装置に関し、より詳しくは輝度向上機能付き偏光板保護フィルムの提供、輝度向上機能と偏光板保護機能が一体化されたフィルムを少なくとも片面に備えた偏光板、及びそれを用いた液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
昨今、液晶テレビに代表されるような液晶表示装置の分野では、バックライトからの光エネルギーをいかに効率よく利用するかが、輝度を高める観点のみならず、消費電力を削減する観点からも、重要な技術課題となってきている。その意味で、通常、二色性偏光フィルムを光が透過する時点で吸収されてしまう５０％（理論値）の部分をいかに効率的に利用出来るかがポイントとなってくる。
【０００３】
このような課題に対し、従来、いくつかの光利用効率を高めた所謂輝度向上フィルムの検討がなされてきた。例えば、特許文献１に開示されているような、屈折率の異なる２層を積層させ薄膜干渉の原理を利用して反射させる軸と、積層でありながら屈折率差がなくそのまま透過する軸とを有することで偏光分離させるフィルムや、特許文献２に開示されているような、コレステリック液晶の円偏光二色性を利用した偏光分離フィルムなどが挙げられる。しかし、これらのフィルムは、いずれも製造難易度が高く、生産性が低いという欠点がある。また、特許文献３には、複屈折を有する光学的連続相中に、ポリマー粒子の分散相を含んでなる偏光散乱異方性を有するフィルムの開示がある。この技術は、先の特許文献１或いは特許文献２の技術と比較すると、若干製造難易度は下がるものの、なお屈折率調整という難易度の高い技術が要求される。加えて、フィルム表面の平滑性が悪いために、二色性偏光フィルムとの一体化が困難という欠点も有しており、液晶表示装置分野における昨今のバックライト側部材数削減ニーズに応えられるものではない。特願２００６−１１１６８０号には、特許文献３の平滑性の悪さを改善し、偏光板保護フィルム機能と輝度向上機能が一体化した技術の開示がなされているが、複屈折を有する光学的連続相中にポリマー粒子の分散相を含有させ偏光散乱異方性を持たせる点で、特許文献３同様、屈折率調整という難易度の高い技術が要求されるという点は残っている。
【０００４】
比較的生産性の高い偏光散乱異方性を有する偏光素子に関する情報として、特許文献４に開示されているような例えば酸化チタンのような散乱粒子を樹脂中に分散させる技術が知られている。しかしながら、特許文献４の実施例通り、特定ＵＶ硬化樹脂中に酸化チタン針状粒子を分散させる方法を追試しても、粒子凝集は十分に改善されず開示されているような輝度向上効果は得られなかった。また、特許文献４には光学的連続相としてのポリマー樹脂に関する記載は全くなく、実用化上重要な課題のひとつと思われるドメイン個々の分散性についての記載もない。更には、ＵＶ硬化樹脂と散乱粒子を使って作製した偏光板保護フィルム／二色性偏光フィルム／セルロースエステル系偏光板保護フィルムの順に積層した偏光板は、透湿度バランスが悪く、湿度環境変動での反りが生じ易く光漏れ等の問題が生じてしまう。
【０００５】
また、特許文献４にはアスペクト比が１以上の散乱粒子を屈折率の異なる支持媒質中に分散配列して異方性散乱素子とする方法が開示されているが、具体的な酸化チタンの製造方法及び配向方法についての言及がなく、実施例で示されている短軸径は０．１３μｍ以上でアスペクト比２０未満であり、高輝度化としては不十分であった。
【特許文献１】特許第３６２１４１５号公報
【特許文献２】特開２００３−２２７９３３号公報
【特許文献３】特表２０００−５０６９９０号公報
【特許文献４】特許第３０９０８９０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従って本発明の目的は、偏光板保護フィルム自身が偏光散乱異方性を有することで、ディスプレイの光学特性、特に輝度が向上でき、生産性及び耐久性に優れた偏光板の保護フィルムの提供、及び、該偏光板保護フィルムを用いた偏光板の提供、及び該偏光板を用いた液晶表示装置の提供にある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の上記目的が、下記の各構成によって達成されることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００８】
１．セルロースエステルからなる光学的連続相と針状酸化チタンをドメインとして含む偏光板保護フィルムであって、該ドメインがチタンアルコキシドをアルコールと水混合溶媒中で加水分解、縮合して得られるアモルファス針状酸化チタンを加熱処理によって製造された針状酸化チタンであることを特徴とする偏光板保護フィルム。
【０００９】
２．前記針状酸化チタンがアスペクト比２０以上かつ短軸径が１５０ｎｍ以下であることを特徴とする前記１に記載の偏光板保護フィルム。
【００１０】
３．偏光板保護フィルムの製膜方向を０°としたとき、各々のドメインの長軸方向とのなす角度の絶対値の平均値が２５°以内であることを特徴とする前記１に記載の偏光板保護フィルム。
【００１１】
４．前記１〜３のいずれか１項に記載の偏光板保護フィルム／二色性物質による光吸収作用を利用した二色性偏光フィルム／偏光板保護フィルムＢの順で一体化された偏光板であって、該二色性偏光フィルムの吸収軸がフィルムの長手方向にあることを特徴とする偏光板。
【００１２】
５．前記４に記載の偏光板を用い、かつ前記１〜３のいずれか１項に記載の偏光板保護フィルムが光源側に配置されたことを特徴とする液晶表示装置。
【発明の効果】
【００１３】
本発明により、偏光板保護フィルム自身が偏光散乱異方性を有することで、ディスプレイの光学特性、特に輝度が向上でき、生産性及び耐久性に優れた偏光板の保護フィルムの提供、及び、該偏光板保護フィルムを用いた偏光板の提供、及び該偏光板を用いた液晶表示装置を提供することが出来る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００１５】
本発明の偏光板保護フィルムは偏光散乱異方性を有し輝度向上機能を有するフィルム（輝度向上フィルムともいう）であり、特表平１１−５０９０１４号公報に開示されているように、光学的連続相の屈折率と光学的異方性を有するドメインの透過軸側の屈折率とを実質的に等しくしたフィルムを形成することにより、所定の偏光を選択的に透過し、他の偏光を選択的に散乱し、散乱光を再利用することにより輝度を向上することが出来るフィルムをいう。しかしながら、偏光散乱異方性を有するフィルムの光の利用率を充分に向上させるには、この他に、光学的連続相は無色透明であり、延伸しやすいことが必要であり、また光学的異方性を有するドメインの透過軸側と遅相軸側の屈折率差が大きいことが必要であるが、これらの要件を具備した材料の選択は極めて困難であった。また、本発明の高アスペクト比かつ短軸径が規定されたドメインにより前記輝度の角度依存性が小さくなることが新たに判明した。
【００１６】
本発明の偏光板保護フィルムは偏光散乱異方性と輝度向上機能を有するフィルムであり、セルロースエステルからなる光学的連続相と針状酸化チタンを光学的異方性を有するドメインとして含む偏光散乱異方性を有する偏光板保護フィルムであって、該ドメインがチタンアルコキシドをアルコールと水混合溶媒中で加水分解、縮合して得られるアモルファス針状酸化チタンを加熱処理によって製造された針状酸化チタンであり、該針状酸化チタンがアスペクト比２０以上かつ短軸径が１５０ｎｍ以下であることを特徴とする。
【００１７】
更に、偏光板保護フィルムの製膜方向を０°としたとき、各々のドメインの長軸方向とのなす角度の絶対値の平均値が２５°以内である偏光板保護フィルムであることが好ましい。
【００１８】
以下、本発明を詳細に説明する。
【００１９】
（光学的連続相）
本発明において、光学的連続相とはポリマーフィルムの各部位の屈折率がほぼ一定で連続している光学相をいい、該屈折率の各部位のばらつきは０．０１未満である相をいう。好ましくは屈折率のばらつきは０．００５以下であり、特に好ましくは０．００１以下である。光学的異方性を有するドメインとは、ドメインの長軸方向とそれに直交する短軸方向で屈折率に差を有する微少領域をいい、その屈折率差は０．０１以上であることが好ましい。
【００２０】
本発明の光学的連続相は、セルロースエステルからなることが特徴であり、本発明でいうセルロースエステルは、炭素数２〜２２程度のカルボン酸エステルであることが好ましく、特にセルロースの低級脂肪酸エステルであることが好ましい。セルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味し、例えば、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートフタレート等や、特開平１０−４５８０４号、同８−２３１７６１号、米国特許第２，３１９，０５２号等に記載されているようなセルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等の混合脂肪酸エステルをいう。
【００２１】
特に本発明で用いられるセルロースエステルは、アセチル基置換度Ｘとプロピオニル基置換度Ｙが下記式（１）及び式（２）を満たすセルロースアセテートプロピオネートであることが特徴である。
式（１）  ２．３≦Ｘ＋Ｙ≦２．８
式（２）  ０．７≦Ｙ≦２．３
これらアシル基置換度は、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に規定の方法に準じて測定することが出来る。
【００２２】
本発明者らの検討によれば、驚くべきことに総アシル基置換度（Ｘ＋Ｙ）、プロピオニル基置換度（Ｙ）を上記範囲にすることにより、フィルム中のドメインの分散性が非常に優れたものになることが見出された。この理由は定かではないが、セルロースアセテートプロピオネートの疎水性／親水性のバランスをある範囲に制御することで、該セルロースアセテートプロピオネートが、製膜過程でのドメインと有機溶剤の親和性を最大限に高める分散剤の働きをするのではないかと推定している。従ってプロピオニル基置換度（Ｙ）が、Ｙ＜０．７でも、Ｙ＞２．３では、ドメインの分散性は劣り、また、別の影響として、Ｙ＞２．３では二色性偏光フィルムとの接着性が劣化するという問題もある。
【００２３】
本発明に係るセルロースエステルの原料のセルロースとしては、特に限定はないが、綿花リンター、木材パルプ、ケナフ等を挙げることが出来る。またそれらから得られたセルロースエステルはそれぞれ単独で、または任意の割合で混合して使用することが出来る。
【００２４】
本発明に係るセルロースエステルは、セルロース原料のアシル化剤が酸無水物（無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸）である場合には、酢酸のような有機酸やメチレンクロライド等の有機溶媒を用い、硫酸のようなプロトン性触媒を用いて反応が行われる。アシル化剤が酸クロライド（ＣＨ3ＣＯＣｌ、Ｃ2Ｈ5ＣＯＣｌ、Ｃ3Ｈ7ＣＯＣｌ）の場合には、触媒としてアミンのような塩基性化合物を用いて反応が行われる。具体的には特開平１０−４５８０４号に記載の方法で合成することが出来る。セルロースエステルはアシル基がセルロース分子の水酸基に反応する。セルロース分子はグルコースユニットが多数連結したものからなっており、グルコースユニットあたり３個の水酸基がある。この３個の水酸基にアシル基が誘導された数を置換度という。例えば、セルローストリアセテートはグルコースユニットの３個の水酸基全てにアセチル基が結合している。
【００２５】
本発明に係るセルロースアセテートプロピオネートの製造法の一例を下記に示すが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００２６】
〈セルロースアセテートプロピオネートの合成例〉
特表平６−５０１０４０号公報の例Ｂを参考にして合成した。
【００２７】
以下のような混合液Ａ〜Ｅを作製した。
【００２８】
Ａ：プロピオン酸：濃硫酸＝５：３（質量比）
Ｂ：酢酸：純水＝３：１（質量比）
Ｃ：酢酸：純水＝１：１（質量比）
Ｄ：酢酸：純水：炭酸マグネシウム＝１２：１１：１（質量比）
Ｅ：純水１４．６ｋｇ中に、炭酸カリウム０．５モル、クエン酸１．０モルを溶解した水溶液
機械式撹拌機を備えた反応容器に、綿花から精製したセルロース１００質量部、酢酸３１７質量部、プロピオン酸６７質量部を添加し、５５℃で３０分間攪拌した。反応容器の温度を３０℃に低下させた後、溶液Ａを２．３質量部添加し、３０分間攪拌した。反応容器の温度を−２０℃に冷却した後、無水酢酸１００質量部及び無水プロピオン酸２５０質量部を添加し、１時間攪拌した。反応容器の温度を１０℃に昇温した後、溶液Ａを４．５質量部添加し、６０℃に昇温して３時間攪拌した。さらに溶液Ｂを５３３質量部添加し、１７時間攪拌した。さらに溶液Ｃを３３３質量部、溶液Ｄを７３０質量部添加し、１５分間攪拌した。不溶物を濾過した後、溶液を攪拌しながら、沈殿物の生成が終了するまで水を添加した後、生成した白色沈殿を濾過した。得られた白色固体は、洗浄液が中性になるまで純水で洗浄した。この湿潤生成物に、溶液Ｅを１．８質量部添加し、次いで真空下７０℃で３時間乾燥し、セルロースアセテートプロピオネートを得た。
【００２９】
得られたセルロースエステルの置換度をＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に基づいて算出すると、アセチル基による置換度が２．０８、プロピオニル基による置換度が０．７２であった。また前記の条件でＧＰＣを測定したところ、Ｍｎが９２０００、Ｍｗが１５６０００、Ｍｗ／Ｍｎは１．７であった。
【００３０】
なお、合成されたセルロースエステルは、精製して低分子量成分を除去したり、未酢化の成分を濾過で取り除くことも好ましく行われる。
【００３１】
本発明に用いられるセルロースエステルの分子量は、重量平均分子量（Ｍｗ）で５００００〜３５００００のものが用いられる。６００００〜３０００００のものが更に好ましく、８００００〜２５００００が特に好ましい。
【００３２】
アセチルセルロースの場合、酢化率を上げようとすれば、酢化反応の時間を延長する必要がある。但し、反応時間を余り長くとると分解が同時に進行し、ポリマー鎖の切断やアセチル基の分解等が起り、好ましくない結果をもたらす。従って、酢化度を上げ、分解をある程度抑えるためには反応時間はある範囲に設定することが必要である。反応時間で規定することは反応条件がさまざまであり、反応装置や設備その他の条件で大きく変わるので適切でない。ポリマーの分解は進むにつれ、分子量分布が広くなっていくので、セルロースエステルの場合にも、分解の度合いは通常用いられる重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）の値で規定出来る。即ちセルローストリアセテートの酢化の過程で、余り長過ぎて分解が進み過ぎることがなく、かつ酢化には十分な時間酢化反応を行わせしめるための反応度合いの一つの指標として重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）の値を用いることが出来る。
【００３３】
本発明で用いられるセルロースエステルは、重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）の比、Ｍｗ／Ｍｎが、前記のように１．４〜３．９であることが好ましく、更に好ましくは１．６〜３．５の範囲である。
【００３４】
セルロースエステルの平均分子量及び分子量分布は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーを用いて公知の方法で測定することが出来る。これを用いて数平均分子量、重量平均分子量を測定する。
【００３５】
測定条件は以下の通りである。
【００３６】
〈ゲルパーミエーションクロマトグラフィー：ＧＰＣによる分子量測定〉
ＧＰＣによる数平均分子量の測定方法は、試料固形分濃度が０．１％となるようにテトラヒドロフランを用いて希釈した。粒子を含むためフィルターを用いて粒子を除去し、カラム温度２５℃で、以下の条件により測定を行った。
【００３７】
カラム；東ソー社ＴＳＫｇｅｌＧ５０００ＨＸＬ−ＴＳＫｇｅｌＧ２０００Ｈ  ＸＬ
溶離液；ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）
ポンプ；Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量    ：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
検出    ；ＲＩ    Ｍｏｄｅｌ    ５０４（ＧＬサイエンス社製）
試料濃度；０．８％
標準試料・校正曲線；標準ポリスチレンＳＴＫ  ｓｔａｎｄａｒｄ  ポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝１００００００〜５００迄の１３サンプルによる校正曲線を使用する。１３サンプルは、ほぼ等間隔にすることが好ましい。
【００３８】
また、セルロースエステルは、セルロースエステル中の微量金属成分によっても影響を受ける。これらは製造工程で使われる水に関係していると考えられるが、不溶性の核となり得るような成分は少ない方が好ましく、鉄、カルシウム、マグネシウム等の金属イオンは、有機の酸性基を含んでいる可能性のあるポリマー分解物等と塩形成することにより不溶物を形成する場合があり、少ないことが好ましい。鉄（Ｆｅ）成分については、１ｐｐｍ以下であることが好ましい。カルシウム（Ｃａ）成分については、地下水や河川の水等に多く含まれ、これが多いと硬水となり、飲料水としても不適当であるが、カルボン酸や、スルホン酸等の酸性成分と、また多くの配位子と配位化合物、即ち錯体を形成しやすく、多くの不溶なカルシウムに由来するスカム（不溶性の澱、濁り）を形成する。
【００３９】
カルシウム（Ｃａ）成分は６０ｐｐｍ以下、好ましくは０〜３０ｐｐｍである。マグネシウム（Ｍｇ）成分については、やはり多過ぎると不溶分を生ずるため、０〜７０ｐｐｍであることが好ましく、特に０〜２０ｐｐｍであることが好ましい。鉄（Ｆｅ）分の含量、カルシウム（Ｃａ）分含量、マグネシウム（Ｍｇ）分含量等の金属成分は、絶乾したセルロースエステルをマイクロダイジェスト湿式分解装置（硫硝酸分解）、アルカリ溶融で前処理を行った後、ＩＣＰ−ＡＥＳ（誘導結合プラズマ発光分光分析装置）を用いて分析を行うことによって求めることが出来る。
【００４０】
（針状酸化チタン）
本発明において、ドメインとは、前述の光学的連続相と同じフィルム中に存在し、かつ、該光学的連続相とは異なる屈折率を有する個々に独立した領域を意味し、針状酸化チタンをドメインとして用いる。
【００４１】
本発明に係わる針状酸化チタンは、アスペクト比２０以上かつ短軸径が１５０ｎｍ以下のものである。
（ここで、アスペクト比とは長軸径／短軸径の値であり、長軸径とはドメイン中の絶対最大長を意味し、短軸径とは絶対最大長に平行な２本の直線で、投影されたドメインの像を挟んだときの２直線間の距離を意味する。但し、投影されたドメインの像が長方形の場合は、長軸径は長辺の長さを、短軸径は短辺の長さを意味する。）
フィルム中のドメインの長軸径／短軸径は、電子顕微鏡によって観察した画像データを用いて求めることが出来る。
【００４２】
例えば、作製したフィルムを透過型電子顕微鏡で２万倍で撮影しその画像をキャノン（株）製のスキャナＣａｎｏＳｃａｎ  ＦＢ  ６３６Ｕを用い３００ｄｐｉ  モノクロ２５６階調で読み込み、読み込んだ画像はエプソンダイレクト（株）製のパソコンであるＥｎｄｅａｖｏｒ  Ｐｒｏ７２０Ｌ（ＣＰＵ；Ａｔｈｌｏｎ−１ＧＨｚ、メモリ；５１２ＭＢ）にインストールした画像処理ソフトＷｉｎＲＯＯＦ  ｖｅｒ３．６０（三谷商事（株）製）に取り込む。取り込んだ画像についてドメインの画像抽出を行い、ドメインの画像抽出後の画面で３００個以上のドメインがあることを確認し、もし抽出が十分でない場合は検出レベルの手動調整を行い、３００個以上のドメインが検出、抽出されるよう調整を行う。このようにして抽出処理した画像データの各々のドメインについて、長軸径／短軸径の測定を行い、ドメイン個数平均のアスペクト比を算出することが出来る。本発明において、複数の構成粒子からなる凝集体は１つのドメインとみなす。また不定形をなすドメインの場合は、ドメインの絶対最大長を長軸径に持ち、ドメイン投影面積と同面積の楕円に変換した上で先述の定義に従い短軸径を求めることとする。
【００４３】
本発明に係る針状酸化チタンのアスペクト比は、後述するようにドメインの配向を高める意味で、２０〜１００の範囲であることが好ましく、より好ましくは２０〜５０の範囲である。
【００４４】
アスペクト比が２０未満のドメインでは、配向が十分高められず、結果として後述の偏光散乱異方性が弱く、十分な輝度向上効果を得ることが出来ない。また、短軸径は１５０ｎｍ以下が好ましく、１００ｎｍ以下がより好ましい。下限は、好ましくは５０ｎｍ以上である。短軸径が５０ｎｍ未満、または１５０ｎｍ超では透過光異方性が劣化し、十分な輝度向上効果を得ることが出来ない。
【００４５】
本発明に係わる針状酸化チタンは結晶がルチル型、アナターゼ型どちらでも構わないが、高屈折率である点、光触媒活性が少ない点でルチル型が好ましい。
【００４６】
本発明に関わる上記の短軸径が小さくアスペクト比の大きい針状酸化チタン粒子は、チタンアルコキシドをアルコールと水混合溶媒中で加水分解、縮合して得られるアモルファス針状酸化チタンを加熱処理によって製造されることを特徴とする。本発明の針状酸化チタン微粒子はアモルファスである。例えば、広角Ｘ線回折の測定より、加熱処理前の針状酸化チタン微粒子は回折ピークが観測されないことから、結晶構造を有しないアモルファスであることが分かる。
【００４７】
本発明の針状酸化チタン微粒子は、チタンアルコキシドを原料とする。
【００４８】
チタンアルコキシドは、
一般式（１）：Ｔｉ（ＯＲ）4
（式中、Ｒは炭素数１〜６のアルキル基を示す）
で表される化合物である。Ｒで示される炭素数１〜６のアルキル基は、直鎖又は分岐鎖であってもよく、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル等が例示される。そのうち、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル等の炭素数１〜４のアルキルが好ましい。より好ましくは、Ｒがエチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、又はｎ−ブチルである。特に好ましくは、Ｒがエチル、イソプロピル、又はｎ−ブチルである。
【００４９】
溶媒に含まれるアルコールは、少なくともメタノールを含有するアルコールである。具体的には、メタノールと炭素数２以上のアルコール群から選ばれる少なくとも１種のアルコールとの混合物である。炭素数２以上のアルコールとしては、直鎖又は分岐鎖の炭素数２〜１０のアルコールが挙げられる。直鎖又は分岐鎖の炭素数２〜１０のアルコールとしては、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、ｎ−ペンチルアルコール、ｎ−ヘキシルアルコール、ヘプチルアルコール、オクチルアルコール、ノニルアルコール、デカノール等の１価アルコール、エチレングリコール、グリセリン、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール等の多価アルコールが例示される。好ましくは、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコール、エチレングリコール等の炭素数２〜４のアルコールが挙げられる。溶媒に含まれるアルコール中のメタノールの含有量は、アルコール全体積に対し９０体積％以上、好ましくは９５体積％以上、より好ましくは９７体積％以上である。
【００５０】
メタノールの含有量が少ないと、針状の微粒子の生成が減少し、球状の微粒子の生成が増加するため好ましくない。特に、針状の酸化チタン結晶を選択的に得ようとする場合は、溶媒としてメタノールのみを用いることが好ましい。
【００５１】
また、本発明に用いられる溶媒には、微量の水が含まれていることが必要である。本反応において必要とされる水の含有量は、例えば、チタンアルコキシド１００質量部に対し、０．００２５〜１０質量部程度、好ましくは０．０１〜８質量部程度、より好ましくは０．０５〜５質量部、特に好ましくは、０．１〜５質量部程度である。無水のアルコール溶媒を用いて密閉かつ無水条件下で反応した場合には、通常、反応はほとんど進行しないか非常に遅くなる。これに対し、水の量が多すぎると加水分解は進行するが、所望の針状酸化チタン微粒子が得られ難い。
【００５２】
本発明の針状酸化チタン微粒子は、上記のチタンアルコキシドを、上記溶媒中に加えて反応させることにより製造される。具体的には、液体状のチタンアルコキシド（Ｉ）を、溶媒中に滴下して一定時間撹拌又は超音波処理することにより、白色の針状酸化チタン微粒子が析出する。溶媒を撹拌又は超音波処理しながら、これにチタンアルコキシド（Ｉ）を滴下するのが好適である。得られる針状酸化チタン微粒子は平均短軸径をほぼ一定に維持しながら、平均長軸径のみが経時的に成長するため、短軸径が小さくアスペクト比の大きい形状となる。また反応時間に応じて、針状酸化チタン微粒子の平均短軸径を固定したままアスペクト比を制御しうると共に、平均短軸径及び平均長軸径ともほぼ均一な、つまり粒度分布が狭い針状酸化チタン微粒子を得ることが可能となる。
【００５３】
上記の反応終了後は、反応混合物を遠心分離にかけた後、得られた針状酸化チタン微粒子を乾燥する。遠心分離の条件は、例えば、５０００〜２００００ｒｐｍ程度、５分以上であればよい。また、乾燥条件は、上記の反応溶媒が除去できる程度であればよく、通常、常圧下又は減圧下（０．００１ＭＰａ以下）６０〜１００℃で、１〜１２時間程度乾燥すればよい。
【００５４】
また、得られる針状酸化チタン微粒子はアモルファスであるため加熱処理することにより結晶性の針状酸化チタン微粒子に変換させる必要がある。加熱処理条件として、例えば、アモルファス針状酸化チタン微粒子を、空気中、４５０〜５５０℃程度で、３０分〜２時間程度加熱処理することにより、準安定型のアナターゼ型構造の結晶を得ることができる。また、アモルファス針状酸化チタン微粒子を、空気中、６００〜９００℃程度で、１〜１２時間程度加熱処理することにより、安定型のルチル型構造の結晶を得ることができる。すなわち、上記反応で得られるアモルファス針状酸化チタン微粒子から、加熱処理条件を選択することにより異なる結晶構造を有する微粒子に導くことができる。
【００５５】
本発明のドメインとして用いる針状酸化チタン粒子は、セルロースエステル樹脂との親和性やフィルム製造過程での有機溶剤との親和性を向上させる目的で種々の表面処理を施しておくことが好ましい。
【００５６】
十分に乾燥させ水分を除去した粒子に対し、脂肪酸系、油脂系、界面活性剤系、ワックス系、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤、カルボン酸系カップリング剤、リン酸系カップリング剤、高分子系等各種改質剤を利用出来る。
【００５７】
また光触媒活性を抑制する目的でシリカやアルミナなどの金属酸化物による被覆処理を施すこともできる。
【００５８】
処理方法は脂肪酸や金属塩、界面活性剤等で表面を被覆させるコーティング法や、粒子表面にカップリング剤を結合させるトポケミカル法、更には、粒子粉砕工程で有機処理剤を添加していくメカノケミカル法や、モノマーを粒子表面上で重合或いはグラフト重合で粒子表面をポリマーでまぶすカプセル法など様々な方法がある。
【００５９】
どのような改質剤を使ってどのような方法で粒子表面を処理するかは、粒子種とセルロースエステル系樹脂の組合せによって若干異なるが、脂肪酸系改質剤を使ったコーティング処理法或いは各種シランカップリング剤によるトポケミカル処理法が一般的には好ましい。
【００６０】
上記表面処理した粒子をセルロースエステル系樹脂中に分散させる方法としては大きく分けて、分散機を使用する方法と混練機を使用する方法の２つがある。
【００６１】
前者は更にメディア分散とメディアレス分散に分けられる。メディア分散としては、ボールミル、サンドミル、ダイノミル等の分散機によるものが挙げられ、メディアレス分散としては、超音波型、遠心型、高圧型等が挙げられる。本発明では、各種ミル分散或いは、混練機を使用した分散が好ましい。混練方法としては、ロータが１本或いは２本の押出機を用い、ホッパから樹脂を投入し、ある程度粘度が低下したところで、サイドから粒子を投入する方法をとることで、粒子の破損を最小限に抑えかつ混練性を高めることが出来る。ミル分散方法としては、ビーズ径を０．１ｍｍ以下のものを使用することで、粒子の破損、再凝集を抑えつつ、分散性に優れたドメインが得られるため、好ましい。
【００６２】
本発明の偏光散乱異方性を有し輝度向上機能を有する偏光板保護フィルムにおいて、該ドメインが０．１体積％以上５体積％以下にすることが好ましい。
【００６３】
図１は、本発明に係るセルロースエステルを主体とした光学的連続相と光学的異方性を有するドメインとを含む偏光散乱異方性を有する偏光板保護フィルムの模式図である。
【００６４】
図１は、セルロースエステルを主体とした光学的連続相１に、光学的異方性を有するドメインが偏光板保護フィルムの長手方向（製膜方向もしくはＭＤ方向）に大凡一定方向に並んでいる状態を示している。光学的連続相（樹脂）の屈折率をｎ１、ドメインの長軸方向の屈折率をｎ２、ドメインの短軸方向の屈折率をｎ３とした時、ｎ１＝ｎ３、ｎ２＜ｎ３である時、ドメインの短軸方向に平行な偏光は透過し、長軸方向に平行な偏光は散乱する。透過した偏光は光吸収型偏光子の透過軸と平行であれば該偏光子を透過することになる。
【００６５】
（偏光散乱異方性）
本発明の偏光板保護フィルムは、偏光散乱異方性を有することを特徴とする。ここで、偏光散乱異方性を有するとは、本発明においては、以下を定義とする。即ち、直線偏光化された入射光を用いて偏光板保護フィルムの全透過光量を測定する際、該入射光電場振動軸と該偏光板保護フィルムの製膜方向の軸とがなす角度θを該偏光板保護フィルム平面内で変化していったときに、全透過光量の最大値と最小値の比（最大値／最小値）が１．２以上であるとき、該偏光板保護フィルムは、偏光散乱異方性を有するとする。
【００６６】
この値を求めるには、例えば日本電色工業株式会社製ＮＤＨ２０００のような曇り度計を用い、測定対象である該偏光板保護フィルムに入射光が当たる手前に、ヨウ素含有ＰＶＡ偏光フィルムなどを挿入して入射光を直線偏光化し、該偏光板保護フィルムを入射光を法線とした状態で回転角度を変化させながら各々の位置での全透過光量を測定、その最大値と最小値を求めることで容易に算出することが出来る。本発明における偏光散乱異方性を有する偏光板保護フィルムの先述測定方法による全透過光量の最大値／最小値比は、１．２以上であり、より輝度向上効果を高める上では１．５以上であることが好ましく、２．０以上であることが更に好ましい。
【００６７】
（配向方法）
本発明において、偏光板保護フィルムの偏光散乱異方性を持たせる手段としては、先述のアスペクト比２０以上のドメインを種々の方法により特定方向に配向させることが有効である。本発明のドメインを配向させる方法としては、例えば、ドメインが均一に分散されたフィルムの場合、これを一方向に延伸する方法がある。また、フィルムを作製する段階では、高アスペクト比の粒子の使用、或いは粒子と樹脂を含む液の粘度やダイス形状の工夫等により、高アスペクト比の粒子にかかるせん断応力を高める方法により、より特定方向への配向性を高めることが出来る。更には、フィルムとして完全に固化する前のある程度流動性がある段階においては、例えば、溶融押出法を用いてフィルムを作製する場合は押出す速度に対しフィルムの巻き取り速度を高める方法や、流動性のあるままで一方向にずり応力を与えた後に固化させる方法などで延伸同様の効果を得ることが出来る。また、ドメインに磁場異方性或いは電場異方性がある場合は、一方向に磁場或いは電場をかけながら支持基体中で固化させる方法なども利用出来る。これら種々の方法を任意に併用することも好ましい。
【００６８】
このような方法で偏光散乱異方性を持たせることにより、偏光度合いを大幅に向上させることが可能だが、液晶ディスプレイでの液晶セルに対しバックライト側にある偏光板を、本発明の偏光板にすることで、所謂輝度向上の効果を発現する。
【００６９】
本発明においては、高アスペクト比の粒子にかかるせん断応力を高める方法、すなわちセルロースエステルからなる光学的連続相と有機溶媒と針状酸化チタン粒子とを含むドープを、ダイスから流延支持体上に流延し、支持体上から剥離したウェブ（フィルム）を乾燥させるプロセスにおいて、ダイスリットを流れるドープの流速が出口側に向かって加速させるよう制御することで、ドープが伸張され、不定形粒子もドープに沿うように配向させることができ好ましい。以下、具体的な方法について説明する。
【００７０】
ダイス入口管内のドープ流速（Ｖ）、ダイスのマニホールド内のドープ流速（Ｖｍ）、その速度比Ｒｖｍ＝Ｖｍ／Ｖを、０．５≦Ｒｖｍ≦２０とすることが好ましい。
【００７１】
ここで、ドープ流速Ｖ、Ｖｍは下式で定義される。
【００７２】
Ｖ＝Ｑ／Ａ
Ｑ［ｍ3／ｈｒ］：ドープ体積流量
Ａ［ｍ2］：ダイス入口の断面積
Ｖｍ＝Ｑ／Ａｍ
Ｑ［ｍ3／ｈｒ］：ドープ体積流量
Ａｍ［ｍ2］：マニホールド内の断面積
Ｒｖｍが０．５未満では不定形粒子の配向が十分得られず、また、Ｒｖｍが２０を超える場合でも、不定形粒子が慣性によって周囲のドープの動きに追従しきれないため、十分な配向が得られない。
【００７３】
以上の観点より、Ｒｖｍは、０．５≦Ｒｖｍ≦２０が好ましく、さらには、０．８≦Ｒｖｍ≦１０が好ましい。
【００７４】
通常、ダイスでは、配管からマニホールドに入ったところで幅手に流路が広がるため、流速が低下し、不定形粒子は流れる方向と垂直方向に向いてしまう傾向になる。ダイスでは、特に幅手の中央ではほぼＴＤ方向に、そこから端部に向かうにつれてややＭＤ方向に向き、所望しているＭＤ配向と幅手均一性が得られないが、本発明の、図２のＡｍをＡ以下になるようにマニホールドの厚み方向の内壁を曲線的に狭めていくようにし、流速を前記の範囲にすることで、不定形粒子をフィルム中でＭＤ方向に高い配向度で並べることができ、輝度向上効果を高めることができる。
【００７５】
また、ダイスリット部分をドープが通過する時間：ｔを０．００５〜５［ｓｅｃ］とすることが好ましい。
【００７６】
ここで、ドープ通過時間：ｔは、下式で定義される
ｔ＝Ｑ／Ｓｖ
Ｑ［ｍ3／ｈｒ］：ドープ体積流量
Ｓｖ［ｍ3］：ダイスリット容積
ｔが０．００５未満では、スリット壁面でのせん断が不十分で不定形粒子は配向できず、また、ｔが５を超えても、不定形粒子の配向効果は頭打ちとなり、逆に、そのような長い時間せん断時間をかけるためには、低速で製膜するか、あるいは非常に長大なスリットが必要となる。前者は、生産性が著しく低下してしまう。また、後者は、ダイスおよびその上流の送液系の圧力が非常に高くなるため、高圧の送液ポンプ、高耐圧の送液配管、ダイスが必要となり、設備コストが上がってしまう。
【００７７】
以上の観点より、ｔは０．００５〜５［ｓｅｃ］が好ましく、さらには、０．０１〜２が好ましい。
【００７８】
このように、ダイスリットの通過時間を制御することにより、輝度向上効果を決める不定形粒子のフィルム中の配向性を高めることができる。
【００７９】
ダイスリット上端部のドープ流速（Ｖｕ）、スリット下端のドープ流速（Ｖｄ）、その流速比Ｖｓ＝Ｖｄ／Ｖｕを１．１≦Ｖｓ≦２０．０とすることが好ましい。
【００８０】
スリットを流れるドープの流速を、このように出口側に向かって加速させるよう制御することで、ドープが伸張され、不定形粒子もドープに沿うように配向させることができる。Ｖｓが１．１未満では、粒子は配向できず、また、２０を超える場合では、不定形粒子が慣性によって周囲のドープの動きに追従しきれないため、配向できない。Ｖｓは、１．１≦Ｖｓ≦２０．０が好ましく、さらには、１．５≦Ｖｓ≦１５．０が好ましい。
【００８１】
また、ダイリップからのドープ押出速度（Ｖ1）、支持体表面の移動速度（Ｖ2）、その速度比Ｒｖｓ＝Ｖ2／Ｖ1が１．０５≦Ｒｖｓ≦２０とすることが好ましい。
【００８２】
ダイから流延支持体上にドープを流延する際、このように流延膜を引き延ばし気味にすることで、ウェット膜中の粒子をＭＤに配向させることができる。Ｒｖの範囲は、１．０５≦Ｒｖｓ≦２０が好ましく、さらには、１．１≦Ｒｖｓ≦６が好ましい。
【００８３】
流延支持体上に膜が流延されてから３０秒以内に下式を満たす条件でウェブを乾燥させる。
【００８４】
３０≦Ｚ≦−５．３９２６Ｔ＋４２１．２
Ｚ：ウェブの任意時点の残留溶剤量［質量％］
Ｚ＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００
Ｍ：ウェブの任意時点での質量
Ｎ：質量Ｍのものを１１０℃で３時間乾燥させたときの質量
Ｔ：膜平均温度［℃］
Ｚが３０％未満では、流延支持体表面への不定形粒子の付着汚れが発生したり、ウェブの剥離性が悪化し、また、−５．３９２６Ｔ＋４２１．２を超える範囲では、不定形粒子の配向は低いものになってしまう。これは、ウェット膜が乾燥してある程度の硬さになるまでに、不定形粒子がブラウン運動や支持体の微弱な振動等で動いて配向が緩和してしまうためと思われる。
【００８５】
（配向角）
従って、本発明に係わる偏光散乱異方性を有する偏光板保護フィルムの、製膜方向と各々のドメインの長軸方向とのなす角度の絶対値（０°〜９０°が取り得る値）の平均値と定義するところの配向角は、偏光散乱異方性を高める意味で、小さい値であることが要求される。ここで、具体的な配向角の求め方としては、透過型電子顕微鏡を用い、フィルム切片の製膜方向の位置決めを行った後、この軸と各ドメイン３００個程度との各々の角度を測定、これらの合計を個数平均して求める方法を採用する。本発明において該偏光散乱異方性を有する偏光板保護フィルムのドメインの配向角は、２５°以内であって、より輝度向上効果を高める上では、１５°以内であること好ましく、５°以内であることが特に好ましい。
【００８６】
これらドメインを含有する偏光板保護フィルムの製造方法としては、少なくともドメインと該ドメインの分散用樹脂とを含有する分散液を予め調製し、ついで該分散液と、セルロースエステルとを溶剤と混合することにより調製したドープを用いて、溶液流延する偏光板保護フィルムの製造方法により得ることが出来る。また、同様にして溶融流延法により偏光板保護フィルムを得ることも可能である。
【００８７】
（有機溶媒）
セルロースエステルを溶解しセルロースエステル溶液またはドープ形成に有用な有機溶媒としては、塩素系有機溶媒と非塩素系有機溶媒がある。塩素系の有機溶媒としてメチレンクロライド（塩化メチレン）を挙げることが出来、セルロースエステル、特にセルローストリアセテートの溶解に適している。昨今の環境問題から非塩素系有機溶媒の使用が検討されている。非塩素系有機溶媒としては、例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−ヘキサフルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、ニトロエタン等を挙げることが出来る。これらの有機溶媒をセルローストリアセテートに対して使用する場合には、常温での溶解方法も使用可能であるが、高温溶解方法、冷却溶解方法、高圧溶解方法等の溶解方法を用いることにより不溶解物を少なくすることが出来るので好ましい。セルローストリアセテート以外のセルロースエステルに対しては、メチレンクロライドを用いることは出来るが、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトンが好ましく使用される。特に酢酸メチルが好ましい。本発明において、上記セルロースエステルに対して良好な溶解性を有する有機溶媒を良溶媒といい、また溶解に主たる効果を示し、その中で大量に使用する有機溶媒を主（有機）溶媒または主たる（有機）溶媒という。
【００８８】
本発明に係るドープには、上記有機溶媒の他に、１〜４０質量％の炭素原子数１〜４のアルコールを含有させることが好ましい。これらはドープを金属支持体に流延後溶媒が蒸発をし始めアルコールの比率が多くなるとドープ膜（ウェブ）がゲル化し、ウェブを丈夫にし金属支持体から剥離することを容易にするゲル化溶媒として用いられたり、これらの割合が少ない時は非塩素系有機溶媒のセルロースエステルの溶解を促進する役割もある。炭素原子数１〜４のアルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノールを挙げることが出来る。これらのうちドープの安定性に優れ、沸点も比較的低く、乾燥性もよいこと等からエタノールが好ましい。これらの有機溶媒は単独ではセルロースエステルに対して溶解性を有していないので貧溶媒という。
【００８９】
ドープ中のセルロースエステルの濃度は１５〜３０質量％、ドープ粘度は１００〜５００Ｐａ・ｓの範囲に調製されることが良好なフィルム面品質を得る上で好ましい。
【００９０】
ドープ中に添加される添加剤としては、可塑剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、染料、微粒子等がある。本発明において、微粒子以外の添加剤についてはセルロースエステル溶液の調製の際に添加してもよいし、微粒子分散液の調製の際に添加してもよい。液晶画像表示装置に使用する偏光板には耐熱耐湿性を付与する可塑剤、酸化防止剤や紫外線吸収剤等を添加することが好ましい。下記に添加剤を説明する。
【００９１】
（可塑剤）
本発明において、セルロースエステル溶液またはドープには、いわゆる可塑剤として知られる化合物を、機械的性質向上、柔軟性を付与、耐吸水性付与、水蒸気透過率低減、リターデーション調整等の目的で添加することが好ましく、例えば、芳香族末端エステルやリン酸エステルやカルボン酸エステルが好ましく用いられる。
【００９２】
リン酸エステルとしては、例えばトリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、フェニルジフェニルホスフェート等を挙げることができる。
【００９３】
本発明では、下記一般式（２）で表される芳香族末端エステル系可塑剤を用いることが好ましい。
【００９４】
一般式（２）  Ｂ−（Ｇ−Ａ）ｎ−Ｇ−Ｂ
（式中、Ｂはベンゼンモノカルボン酸残基、Ｇは炭素数２〜１２のアルキレングリコール残基または炭素数６〜１２のアリールグリコール残基または炭素数が４〜１２のオキシアルキレングリコール残基、Ａは炭素数４〜１２のアルキレンジカルボン酸残基または炭素数６〜１２のアリールジカルボン酸残基を表し、またｎは１以上の整数を表す。）
一般式（２）中、Ｂで示されるベンゼンモノカルボン酸残基とＧで示されるアルキレングリコール残基またはオキシアルキレングリコール残基またはアリールグリコール残基、Ａで示されるアルキレンジカルボン酸残基またはアリールジカルボン酸残基とから構成されるものであり、通常のポリエステル系可塑剤と同様の反応により得られる。
【００９５】
本発明に用いられる芳香族末端エステル系可塑剤のベンゼンモノカルボン酸成分としては、例えば、安息香酸、パラターシャリブチル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パラトルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸等があり、これらはそれぞれ１種または２種以上の混合物として使用することが出来る。
【００９６】
本発明に用いられる芳香族末端エステル系可塑剤の炭素数２〜１２のアルキレングリコール成分としては、エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、２−メチル１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロ−ルペンタン）、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３プロパンジオール（３，３−ジメチロールヘプタン）、３−メチル−１，５−ペンタンジオール１，６−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル１，３−ペンタンジオール、２−エチル１，３−ヘキサンジオール、２−メチル１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１２−オクタデカンジオール等があり、これらのグリコールは、１種または２種以上の混合物として使用される。
【００９７】
また、芳香族末端エステルの炭素数４〜１２のオキシアルキレングリコール成分としては、例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等があり、これらのグリコールは、１種または２種以上の混合物として使用出来る。
【００９８】
また、芳香族末端エステルの炭素数６〜１２のアリールグリコール成分としては、例えば、ハイドロキノン、レゾルシン、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノール等があり、これらのグリコールは、１種または２種以上の混合物として使用出来る。
【００９９】
芳香族末端エステルの炭素数４〜１２のアルキレンジカルボン酸成分としては、例えば、コハク酸、マレイン酸、フマール酸、グルタール酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸等があり、これらは、それぞれ１種または２種以上の混合物として使用される。炭素数６〜１２のアリールジカルボン酸成分としては、フタル酸、テレフタル酸、１，５ナフタレンジカルボン酸、１，４ナフタレンジカルボン酸等がある。
【０１００】
芳香族末端エステル系可塑剤は、数平均分子量が、好ましくは３００〜２０００、より好ましくは５００〜１５００の範囲が好適である。また、その酸価は、０．５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、水酸基価は２５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、より好ましくは酸価０．３ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、水酸基価は１５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下のものが好適である。
【０１０１】
〈芳香族末端エステルの酸価、水酸基価〉
酸価とは、試料１ｇ中に含まれる酸（分子末端に存在するカルボキシル基）を中和するために必要な水酸化カリウムのミリグラム数をいう。酸価及び水酸基価はＪＩＳ  Ｋ００７０（１９９２）に準拠して測定したものである。
【０１０２】
以下、本発明に用いられる芳香族末端エステル系可塑剤の合成例を示すが、本発明はこれに限定されない。
【０１０３】
〈サンプルＮｏ．１（芳香族末端エステルサンプル）〉
反応容器に、フタル酸８２０部（５モル）、１，２−プロピレングリコール６０８部（８モル）、安息香酸６１０部（５モル）及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．３０部を一括して仕込み窒素気流中で攪拌下、還流凝縮器を付して過剰の１価アルコールを還流させながら、酸価が２以下になるまで１３０〜２５０℃で加熱を続け生成する水を連続的に除去した。次いで２００〜２３０℃で６．６５×１０3Ｐａ〜最終的に４×１０2Ｐａ以下の減圧下、留出分を除去し、この後濾過して次の性状を有する芳香族末端エステルを得た。
【０１０４】
粘度（２５℃、ｍＰａ・ｓ）；１９８１５
酸価                      ；０．４
〈サンプルＮｏ．２（芳香族末端エステルサンプル）〉
反応容器に、アジピン酸５００部（３．５モル）、安息香酸３０５部（２．５モル）、ジエチレングリコール５８３部（５．５モル）及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．４５部を用いる以外はサンプルＮｏ．１と全く同様にして次の性状を有する芳香族末端エステルを得た。
【０１０５】
粘度（２５℃、ｍＰａ・ｓ）；９０
酸価                      ；０．０５
〈サンプルＮｏ．３（芳香族末端エステルサンプル）〉
反応容器にフタル酸４１０部（２．５モル）、安息香酸６１０部（５モル）、ジプロピレングリコール７３７部（５．５モル）及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．４０部を用いる以外はサンプルＮｏ．１と全く同様にして次の性状を有する芳香族末端エステル系可塑剤を得た。
【０１０６】
粘度（２５℃、ｍＰａ・ｓ）；４３４００
酸価                      ；０．２
カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステル及びクエン酸エステル等、フタル酸エステルとしては、例えばジメチルフタレート、ジエチルホスフェート、ジオクチルフタレート及びジエチルヘキシルフタレート等、またクエン酸エステルとしてはクエン酸アセチルトリエチル及びクエン酸アセチルトリブチルを挙げることができる。またその他、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバチン酸ジブチル、トリアセチン等も挙げられる。アルキルフタリルアルキルグリコレートもこの目的で好ましく用いられる。アルキルフタリルアルキルグリコレートのアルキルは炭素原子数１〜８のアルキル基である。アルキルフタリルアルキルグリコレートとしてはメチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、プロピルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等を挙げることができ、メチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレートが好ましく用いられる。またこれらアルキルフタリルアルキルグリコレートを２種以上混合して使用してもよい。
【０１０７】
また、多価アルコールエステルも好ましく用いられる。
【０１０８】
本発明において用いられる多価アルコールは、次の一般式（３）で表される。
【０１０９】
一般式（３）  Ｒ１−（ＯＨ）ｎ
ただし、式中、Ｒ１はｎ価の有機基、ｎは２以上の正の整数、ＯＨ基はアルコール性、及び／またはフェノール性水酸基を表す。
【０１１０】
多価アルコールエステル系可塑剤は２価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなる可塑剤であり、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有することが好ましい。好ましくは２〜２０価の脂肪族多価アルコールエステルである。
【０１１１】
好ましい多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ジブチレングリコール、１，２，４−ブタントリオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等を挙げることができる。特に、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールが好ましい。
【０１１２】
多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることができる。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。
【０１１３】
好ましいモノカルボン酸の例としては以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。
【０１１４】
脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を有する脂肪酸を好ましく用いることができる。炭素数は１〜２０であることがさらに好ましく、１〜１０であることが特に好ましい。酢酸を含有させるとセルロースエステルとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。
【０１１５】
好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることができる。
【０１１６】
好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。
【０１１７】
好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタレンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を２個以上有する芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。特に安息香酸が好ましい。
【０１１８】
多価アルコールエステルの分子量は特に制限はないが、３００〜１５００であることが好ましく、３５０〜７５０であることがさらに好ましい。分子量が大きい方が揮発し難くなるため好ましく、また、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。
【０１１９】
多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は１種類でもよいし、２種以上の混合であってもよい。また、多価アルコール中のＯＨ基は、全てエステル化してもよいし、一部をＯＨ基のままで残してもよい。
【０１２０】
これらの化合物は、セルロースエステルに対して１〜３０質量％、好ましくは１〜２０質量％となるように含まれていることが好ましい。また、延伸及び乾燥中のブリードアウト等を抑制させるため、２００℃における蒸気圧が１４００Ｐａ以下の化合物であることが好ましい。
【０１２１】
これらの化合物は、セルロースエステル溶液の調製の際に、セルロースエステルや溶媒と共に添加してもよいし、溶液調製中や調製後に添加してもよい。
【０１２２】
この他の添加剤として、特開２００２−２２９５６号に記載のポリエステル、ポリエステルエーテル、特開２００３−１７１４９９号記載のウレタン樹脂、特開２００２−１４６０４４号記載のロジン及びロジン誘導体、エポキシ樹脂、ケトン樹脂、トルエンスルホンアミド樹脂、特開２００３−９６２３６号記載の多価アルコールとカルボン酸とのエステル、特開２００３−１６５８６８号の一般式（１）記載の化合物、特開２００４−２９２６９６号記載のポリエステル重合体またはポリウレタン重合体等が挙げられる。これらの添加剤は、ドープもしくは微粒子分散液に含有させることが出来る。
【０１２３】
（紫外線吸収剤）
本発明の偏光板保護フィルムには、紫外線吸収剤を含有させることが出来る。使用し得る紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物、トリアジン系化合物等を挙げることが出来るが、着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。また、特開平１０−１８２６２１号、同８−３３７５７４号、特開２００１−７２７８２号記載の紫外線吸収剤、特開平６−１４８４３０号、特開２００２−３１７１５号、同２００２−１６９０２０号、同２００２−４７３５７号、同２００２−３６３４２０号、同２００３−１１３３１７号記載の高分子紫外線吸収剤も好ましく用いられる。紫外線吸収剤としては、偏光子や液晶の劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れており、かつ、液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。
【０１２４】
本発明に有用な紫外線吸収剤の具体例として、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−（３”，４”，５”，６”−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物等を挙げることが出来るが、これらに限定されない。また、市販品として、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１０９、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１７１、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３２６（何れもチバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）を好ましく使用できる。高分子紫外線吸収剤としては、大塚化学社製の反応型紫外線吸収剤ＲＵＶＡ−９３を例として挙げることが出来る。
【０１２５】
ベンゾフェノン系化合物の具体例として、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン、ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）等を挙げることが出来るが、これらに限定されない。
【０１２６】
本発明で好ましく用いられる上記記載の紫外線吸収剤は、透明性が高く、偏光板や液晶素子の劣化を防ぐ効果に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく、不要な着色がより少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特に好ましく用いられる。
【０１２７】
紫外線吸収剤のドープへの添加方法は、ドープ中で紫外線吸収剤を溶解するようなものであれば制限なく使用できるが、本発明においては紫外線吸収剤をメチレンクロライド、酢酸メチル、ジオキソラン等のセルロースエステルに対する良溶媒、または良溶媒と低級脂肪族アルコール（メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等）のような貧溶媒との混合有機溶媒に溶解し紫外線吸収剤溶液としてセルロースエステル溶液に添加してドープとする方法が好ましい。この場合できるだけドープ溶媒組成と紫外線吸収剤溶液の溶媒組成とを同じとするか近づけることが好ましい。紫外線吸収剤の含有量は０．０１〜５質量％、特に０．５〜３質量％である。
【０１２８】
（酸化防止剤）
酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系の化合物が好ましく用いられ、例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２，２−チオ−ジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレイト等が挙げられる。特に２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕が好ましい。また例えば、Ｎ，Ｎ’−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル〕ヒドラジン等のヒドラジン系の金属不活性剤やトリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイト等のリン系加工安定剤を併用してもよい。これらの化合物の添加量は、セルロースエステルに対して質量割合で１ｐｐｍ〜１．０％が好ましく、１０〜１０００ｐｐｍが更に好ましい。
【０１２９】
（マット剤）
本発明では、好ましいドメイン形成材料としての針状で複屈折を有する微粒子の他に、更にマット剤として微粒子を偏光板保護フィルム中に含有させることが出来る。これによって、搬送や巻き取りをしやすくすることが出来る。
【０１３０】
マット剤の粒径は１０ｎｍ〜０．１μｍの１次粒子もしくは２次粒子であるであることが好ましい。１次粒子の針状比は１．１以下の略球状のマット剤が好ましく用いられる。
【０１３１】
微粒子としては、ケイ素を含むものが好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。本発明に好ましい二酸化珪素の微粒子としては、例えば、日本アエロジル（株）製のアエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されているものを挙げることが出来、アエロジル２００Ｖ、Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ２０２、Ｒ８１２を好ましく用いることが出来る。ポリマーの微粒子の例として、シリコーン樹脂、弗素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることが出来る。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１４５、同３１２０及び同２４０（東芝シリコーン（株）製）を挙げることが出来る。
【０１３２】
二酸化珪素の微粒子は、１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／Ｌ以上であるものが好ましい。１次粒子の平均径が５〜１６ｎｍがより好ましく、５〜１２ｎｍが更に好ましい。１次粒子の平均径が小さい方がヘイズが低く好ましい。見かけ比重は９０〜２００ｇ／Ｌ以上が好ましく、１００〜２００ｇ／Ｌ以上がより好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の微粒子分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が発生せず好ましい。
【０１３３】
本発明におけるマット剤の添加量は、偏光板保護フィルム１ｍ2当たり０．０１〜１．０ｇが好ましく、０．０３〜０．３ｇがより好ましく、０．０８〜０．１６ｇが更に好ましい。
【０１３４】
（界面活性剤）
本発明で用いられるドープ或いは微粒子分散液には、界面活性剤を含有することが好ましく、リン酸系、スルフォン酸系、カルボン酸系、ノニオン系、カチオン系等特に限定されない。これらは、例えば特開昭６１−２４３８３７号等に記載されている。界面活性剤の添加量は、セルロースエステルに対して０．００２〜２質量％が好ましく、０．０１〜１質量％がより好ましい。添加量が０．００１質量％未満であれば添加効果を十分に発揮することが出来ず、添加量が２質量％を超えると、析出したり、不溶解物を生じたりすることがある。
【０１３５】
ノニオン系界面活性剤としては、ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレン、ポリグリシジルやソルビタンをノニオン性親水性基とする界面活性剤であり、具体的には、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニールエーテル、ポリオキシエチレンーポリオキシプロピレングリコール、多価アルコール脂肪酸部分エステル、ポリオキシエチレン多価アルコール脂肪酸部分エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリグリセリン脂肪酸エステル、脂肪酸ジエタノールアミド、トリエタノールアミン脂肪酸部分エステルを挙げることが出来る。
【０１３６】
アニオン系界面活性剤としてはカルボン酸塩、硫酸塩、スルフォン酸塩、リン酸エステル塩であり、代表的なものとしては脂肪酸塩、アルキルベンゼンスルフォン酸塩、アルキルナフタレンスルフォン酸塩、アルキルスルフォン酸塩、α−オレフィンスルフォン酸塩、ジアルキルスルフォコハク酸塩、α−スルフォン化脂肪酸塩、Ｎ−メチル−Ｎオレイルタウリン、石油スルフォン酸塩、アルキル硫酸塩、硫酸化油脂、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレンアルキルフェニールエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレンスチレン化フェニールエーテル硫酸塩、アルキルリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸塩、ナフタレンスルフォン酸塩ホルムアルデヒド縮合物等である。
【０１３７】
カチオン系界面活性剤としてはアミン塩、４級アンモニウム塩、ピリジュム塩等を挙げることが出来、第１〜第３脂肪アミン塩、第４級アンモニウム塩（テトラアルキルアンモニウム塩、トリアルキルベンジルアンモニウム塩、アルキルピリジウム塩、アルキルイミダゾリウム塩等）を挙げることが出来る。両性系界面活性剤としてはカルボキシベタイン、スルフォベタイン等であり、Ｎ−トリアルキル−Ｎ−カルボキシメチルアンモニウムベタイン、Ｎ−トリアルキル−Ｎ−スルフォアルキレンアンモニウムベタイン等である。
【０１３８】
フッ素系界面活性剤は、フルオロカーボン鎖を疎水基とする界面活性剤である。フッ素系界面活性剤としては、Ｃ8Ｆ17ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）10−ＯＳＯ3Ｎａ、Ｃ8Ｆ17ＳＯ2Ｎ（Ｃ3Ｈ7）（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）16−Ｈ、Ｃ8Ｆ17ＳＯ2Ｎ（Ｃ3Ｈ7）ＣＨ2ＣＯＯＫ、Ｃ7Ｆ15ＣＯＯＮＨ4、Ｃ8Ｆ17ＳＯ2Ｎ（Ｃ3Ｈ7）（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）4−（ＣＨ2）4−ＳＯ3Ｎａ、Ｃ8Ｆ17ＳＯ2Ｎ（Ｃ3Ｈ7）（ＣＨ2）3−Ｎ+（ＣＨ3）3・Ｉ-、Ｃ8Ｆ17ＳＯ2Ｎ（Ｃ3Ｈ7）ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｎ+（ＣＨ3）2−ＣＨ2ＣＯＯ-、Ｃ8Ｆ17ＣＨ2ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）16−Ｈ、Ｃ8Ｆ17ＣＨ2ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）3−Ｎ+（ＣＨ3）3・Ｉ-、Ｈ（ＣＦ2）8−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＣＨ2ＣＨ（ＳＯ3）ＣＯＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）8−Ｈ、Ｈ（ＣＦ2）6ＣＨ2ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）16−Ｈ、Ｈ（ＣＦ2）8ＣＨ2ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）3−Ｎ+（ＣＨ3）3・Ｉ-、Ｈ（ＣＦ2）8ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＣＨ2ＣＨ（ＳＯ3）ＣＯＯＣＨ2Ｈ2ＣＨ2ＣＨ2Ｃ8Ｆ17、Ｃ9Ｆ17−Ｃ6Ｈ4−ＳＯ2Ｎ（Ｃ3Ｈ7）（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）16−Ｈ、Ｃ9Ｆ17−Ｃ6Ｈ4−ＣＳＯ2Ｎ（Ｃ3Ｈ7）（ＣＨ2）3−Ｎ+（ＣＨ3）3・Ｉ-等が挙げられるが、これらに限定される訳ではない。
【０１３９】
（剥離促進剤）
更に、剥離時の荷重を小さくするための剥離促進剤も、ドープに添加してもよい。それらは、界面活性剤が有効であり、リン酸系，スルフォン酸系，カルボン酸系，ノニオン系，カチオン系等があるが、これらに特に限定されない。これらの剥離促進剤は、例えば特開昭６１−２４３８３７号等に記載されている。特開昭５７−５００８３３号にはポリエトキシル化リン酸エステルが剥離促進剤として開示されている。特開昭６１−６９８４５号には非エステル化ヒドロキシ基が遊離酸の形であるモノまたはジリン酸アルキルエステルをセルロースエステルに添加することにより迅速に剥離できることが開示されている。また、特開平１−２９９８４７号には非エステル化ヒドロキシル基及びプロピレンオキシド鎖を含むリン酸エステル化合物と無機物粒子を添加することにより剥離荷重が低減できることが開示されている。
【０１４０】
また、下記一般式（４）または（５）で表される化合物が含まれていることが好ましい。
【０１４１】
一般式（４）（Ｒ1−Ｂ1−Ｏ）n1−Ｐ（＝Ｏ）−（ＯＭ1）n2
一般式（５）  Ｒ2−Ｂ2−Ｘ
式中、Ｒ1及びＲ2は、それぞれ、炭素数４〜４０の置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基またはアリール基であり；Ｍ1は、アルカリ金属、アンモニア、低級アルキルアミンであり；Ｂ1及びＢ2は、それぞれ、２価の連結基であり；Ｘは、カルボン酸またはその塩、スルフォン酸またはその塩、或いは硫酸エステルまたはその塩であり；ｎ１は、１または２であり；そして、ｎ２は、３−ｎ１である。
【０１４２】
式（４）または（５）で表される少なくとも一種の剥離剤を、セルロースアシレートフィルムが含有することを特徴とする。以下に、これらの剥離剤について記述する。Ｒ1とＲ2の好ましい例としては、炭素数４〜４０の置換、無置換のアルキル基（例えば、ブチル、ヘキシル、オクチル、２−エチルヘキシル、ノニル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、エイコサニル、ドコサニル、ミリシル、等）、炭素数４〜４０の置換、無置換のアルケニル基（例えば、２−ヘキセニル、９−デセニル、オレイル等）、炭素数４〜４０の置換、無置換のアリール基（例えば、フェニル、ナフチル、メチルフェニル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、エチルフェニル、プロピルフェニル、ジイソプロピルフェニル、トリイソプロピルフェニル、ｔ−ブチルフェニル、ジ−ｔ−ブチルフェニル、トリ−ｔ−ブチルフェニル、イソペンチルフェニル、オクチルフェニル、イソオクチルフェニル、イソノニルフェニル、ジイソノニルフェニル、ドデシルフェニル、イソペンタデシルフェニル）である。
【０１４３】
これらの中でも更に好ましいのは、アルキルとしては、ヘキシル、オクチル、２−エチルヘキシル、ノニル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、ドコサニル、アルケニルとしてはオレイル、アリール基としてはフェニル、ナフチル、トリメチルフェニル、ジイソプロピルフェニル、トリイソプロピルフェニル、ジ−ｔ−ブチルフェニル、トリ−ｔ−ブチルフェニル、イソオクチルフェニル、イソノニルフェニル、ジイソノニルフェニル、ドデシルフイソペンタデシルフェニルである。
【０１４４】
次に、Ｂ1、Ｂ2の２価の連結基について記述する。炭素数１〜１０のアルキレン、ポリ（重合度１〜５０）オキシエチレン、ポリ（重合度１〜５０）オキシプロピレン、ポリ（重合度１〜５０）オキシグリセリン、でありこれらの混合したものでもよい。これらで好ましい連結基は、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ポリ（重合度１〜２５）オキシエチレン、ポリ（重合度１〜２５）オキシプロピレン、ポリ（重合度１〜１５）オキシグリセリンである。
【０１４５】
次に、Ｘは、カルボン酸（または塩）、スルフォン酸（または塩）、硫酸エステル（または塩）であるが、特に好ましくはスルフォン酸（または塩）、硫酸エステル（または塩）である。塩としては好ましくはＮａ、Ｋ、アンモニウム、トリメチルアミン及びトリエタノールアミンである。以下に、本発明の好ましい化合物の具体例を記載する。
【０１４６】
ＲＺ−１  Ｃ8Ｈ17Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）−（ＯＨ）2
ＲＺ−２  Ｃ12Ｈ25Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）−（ＯＫ）2
ＲＺ−３  Ｃ12Ｈ25ＯＣＨ2ＣＨ2Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）−（ＯＫ）2
ＲＺ−４  Ｃ15Ｈ31（ＯＣＨ2ＣＨ2）5Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）−（ＯＫ）2
ＲＺ−５  ｛Ｃ12Ｈ25Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）5｝2−Ｐ（＝Ｏ）−ＯＨ
ＲＺ−６  ｛Ｃ18Ｈ35（ＯＣＨ2ＣＨ2）8Ｏ｝2−Ｐ（＝Ｏ）−ＯＮＨ4
ＲＺ−７  （ｔ−Ｃ4Ｈ9）3−Ｃ6Ｈ2−ＯＣＨ2ＣＨ2Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）−（ＯＫ）2
ＲＺ−８  ｉｓｏ−Ｃ9Ｈ19−Ｃ6Ｈ4−Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）5−Ｐ（＝Ｏ）−（ＯＫ）（ＯＨ）
ＲＺ−９  Ｃ12Ｈ25ＳＯ3Ｎａ
ＲＺ−１０  Ｃ12Ｈ25ＯＳ3Ｎａ
ＲＺ−１１  Ｃ17Ｈ33ＣＯＯＨ
ＲＺ−１２  Ｃ17Ｈ33ＣＯＯＨ・Ｎ（ＣＨ2ＣＨ2ＯＨ）3
ＲＺ−１３  ｉｓｏ−Ｃ8Ｈ17−Ｃ6Ｈ4−Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）3−（ＣＨ2）2ＳＯ3Ｎａ
ＲＺ−１４  （ｉｓｏ−Ｃ9Ｈ19）2−Ｃ6Ｈ3−Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）3−（ＣＨ2）4ＳＯ3Ｎａ
ＲＺ−１５  トリイソプロピルナフタレンスルフォン酸ナトリウム
ＲＺ−１６  トリ−ｔ−ブチルナフタレンスルフォン酸ナトリウム
ＲＺ−１７  Ｃ17Ｈ33ＣＯＮ（ＣＨ3）ＣＨ2ＣＨ2ＳＯ3Ｎａ
ＲＺ−１８  Ｃ12Ｈ25−Ｃ6Ｈ4ＳＯ3・ＮＨ4
これらの化合物の使用量は、ドープ中に０．００２〜２質量％で含有することが好ましい。より好ましくは０．００５〜１質量％であり、更に好ましくは０．０１〜０．５質量％である。その添加方法は、特に限定されないがそのまま液体或いは固体のまま、溶解する前に他の素材と共に添加され溶液としてもよいし、予め作製されたセルロースエステル溶液に後から添加してもよい。これらを含有することによって、ドメインの配向がそろいやすくなる。
【０１４７】
（その他の添加剤）
この他、カオリン、タルク、ケイソウ土、石英、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化チタン、アルミナ等の無機微粒子、カルシウム、マグネシウム等のアルカリ土類金属の塩等の熱安定剤を加えてもよい。更に帯電防止剤、難燃剤、滑剤、油剤等も加える場合がある。
【０１４８】
〔流延製膜方法〕
本発明の偏光板保護フィルムの製膜方法は、溶液流延製膜法、溶融流延製膜法のいずれでも構わない。ここで、溶液流延製膜方法について図３を用いて説明する。
【０１４９】
図３は、本発明に係わる溶液流延製膜方法のドープ調製工程、流延工程及び乾燥工程を模式的に示した工程の１例を示した図である。
【０１５０】
（１）セルロースエステル溶液調製工程
本発明では、予め調製されたドメイン形成材料、セルロースエステルと溶媒とを混合してドープが調製される。具体的には、溶解釜に溶媒の一部とドメイン形成材料とを添加混合もしくは分散した後、ここに残りの溶媒とセルロースエステルとを攪拌しながら添加し溶解させることが好ましい。可塑剤等の添加剤は、先に溶解釜に添加していても、後から添加することも出来る。
【０１５１】
或いは、溶解釜中の溶媒にセルロースエステルや可塑剤等の添加剤を攪拌しながら添加し、セルロースエステルの溶解中に更に前記ドメイン形成材料を添加してもよい。もしくは、溶媒とセルロースエステル及び可塑剤等の添加剤とを混合してセルロースエステル溶液を得て、ここに前記溶媒に混合もしくは分散したドメイン形成材料を攪拌しながら添加することも出来る。
【０１５２】
セルロースエステル溶液を調製する方法を更に詳細に説明する。
【０１５３】
前述のセルロースエステルに対する良溶媒を主とする有機溶媒に溶解釜中でセルロースエステルや可塑剤等の添加剤を攪拌しながら溶解する。溶解には、常圧で行う方法、主溶媒の沸点以下で行う方法、主溶媒の沸点以上で加圧して行う高温溶解方法、冷却して溶解する冷却溶解方法、かなりの高圧で行う高圧溶解方法等種々の溶解方法があるが、本発明においては、高温溶解方法が好ましく用いられる。
【０１５４】
溶解釜の中で前記ドメイン形成材料とセルロースエステルと溶媒が混合されて得られたセルロースエステル溶液は、セルロースエステルが溶解した後、ポンプで濾過器に送液して濾過される。
【０１５５】
濾過は、このセルロースエステル溶液をフィルタープレス用の濾紙等の適当な濾材を用いて行うことが好ましい。本発明における濾過材としては、不溶物等を除去するために絶対濾過精度が小さい方が好ましいが、絶対濾過精度が小さ過ぎると濾過材の目詰まりが発生しやすいという問題点があり、絶対濾過精度８μｍ以下の濾材が好ましく、１〜８μｍの範囲の濾材がより好ましく、３〜６μｍの範囲の濾材が更に好ましい。濾紙としては、例えば市販品の安積濾紙（株）のＮｏ．２４４や２７７等を挙げることが出来、好ましく用いられる。
【０１５６】
濾過の濾材の材質は特に制限はなく、通常の濾材を使用することが出来るが、ポリプロピレン、テフロン（登録商標）等のプラスチック製の濾材やステンレス等の金属製の濾材が繊維の脱落等がなく好ましい。濾過は通常の方法で行うことが出来るが、加圧下で、使用有機溶媒の常圧での沸点以上で、かつ有機溶媒が沸騰しない範囲の温度で加熱または保温しながら濾過する方法が、濾過材前後の差圧（以下、濾圧とすることがある）の上昇が小さく、好ましい。好ましい温度範囲は使用有機溶媒に依存はするが、４５〜１２０℃であり、４５〜７０℃がより好ましく、４５〜５５℃の範囲であることが更に好ましい。濾圧は小さい方が好ましく、０．３〜１．６ＭＰａであることが好ましく、０．３〜１．２ＭＰａであることがより好ましく、０．３〜１．０ＭＰａであることが更に好ましい。
【０１５７】
このようにして得られたドープはストックタンクに保管され、脱泡された後流延に用いられる。
【０１５８】
このようにドープ釜中でドメイン形成材料とセルロースエステル溶液とを混合してドープを調製することが好ましい方法として挙げられるが、セルロースエステル溶液とドメイン形成材料の一部もしくは全部をインラインで混合することも出来る。例えば、図３ではインラインでドメイン形成材料を添加する工程の一例を示している。適当な溶媒に混合または分散されたドメイン形成材料溶液は、セルロースエステル溶液（もしくはドープ原液と称する場合がある）と、合流管２０で合流される。合流管２０の直前には、濾過器が配置されており、例えば濾材交換等に伴い経路から発生する、塊や大きな異物を、送液中のドメイン形成材料溶液或いはドープ原液から除去することが出来る。ここでは、耐溶剤性を有する金属製の濾過器が好ましく用いられる。濾材としては、耐久性の観点から金属、特にステンレス鋼が好ましい。目詰まりの観点から６０〜８０％の空孔率を有していることが好ましい。最も好ましくは、絶対濾過精度３０〜６０μｍであって、かつ空孔率６０〜８０％の金属製濾材で濾過することであり、これにより、長期に渡り、確実に粗大な異物を除くことが出来好ましい。絶対濾過精度３０〜６０μｍでかつ空孔率６０〜８０％の金属製濾材としては、例えば、日本精線（株）製ファインポアＮＦシリーズのＮＦ−１０、同ＮＦ−１２、同ＮＦ−１３等を挙げることが出来る。
【０１５９】
（２）インライン添加工程
溶解釜で、予めドメイン形成材料とセルロースエステルと溶媒とを混合してドープを調製する場合は、通常ドメイン形成材料をインライン添加する必要はない。しかしながら、必要に応じて、ドメイン形成材料の全部もしくは一部をインラインで混合することが出来る。図３を用いてインライン添加工程を説明すると、セルロースエステル溶液（ドープ原液と称することがある）及びドメイン形成材料溶液それぞれを送液ポンプ５及び１４により移送し濾過器６及び１５で濾過し、導管８及び１６中を移送し合流管２０で両液を合流させる。合流した両液は導管内を層状で移送するためそのままでは混合しにくい。そこで、両液を合流後、インラインミキサーのような混合機２１で十分に混合しながら次工程に移送する。本発明で使用出来るインラインミキサーとしては、例えば、スタチックミキサーＳＷＪ（東レ静止型管内混合器  Ｈｉ−Ｍｉｘｅｒ、東レエンジニアリング製）が好ましい。
【０１６０】
（２）の工程によって調製されたドープは、ドープ中の固形分濃度は１５質量％以上に調整することが好ましく、特に１８〜３０質量％が好ましい。ドープ中の固形分濃度が高過ぎるとドープの粘度が高くなり過ぎ、流延時にシャークスキン等が生じてフィルム平面性が劣化する場合があるので、３０質量％以下であることが望ましい。
【０１６１】
（３）流延工程
前工程までに調製されたドープを、図２で一例として示したダイス３０に送液し、無限に移送する無端の金属支持体３１、例えばステンレスベルト、或いは回転する金属ドラム等の金属支持体３１上の流延位置に、ダイス３０からドープを流延する工程である。金属支持体３１の表面は鏡面となっている。ダイス３０は口金部分のスリット形状を調整出来、ドメインの配向の制御や膜厚を均一にしやすい。製膜速度を上げるためにダイスを金属支持体３１上に２基以上設け、ドープ量を分割して重層してもよい。
【０１６２】
流延用の金属支持体の表面温度は１０〜５５℃、ドープの温度は２５〜６０℃、更に溶液の温度を支持体の温度と同じまたはそれ以上の温度にすることが好ましく、５℃以上の温度に設定することが更に好ましい。
【０１６３】
溶液温度、支持体温度は、高いほど溶媒の乾燥速度が速く出来るので好ましいが、余り高過ぎると発泡したり、平面性が劣化する場合がある。
【０１６４】
支持体の温度の更に好ましい範囲は、使用する有機溶媒に依存するが、２０〜５５℃、溶液温度の更に好ましい範囲は、３５〜４５℃である。
【０１６５】
（４）溶媒蒸発工程
ウェブ（金属支持体上にドープを流延した以降のドープ膜の呼び方をウェブとする）３２を金属支持体３１上で加熱し金属支持体３１からウェブ３２が剥離可能になるまで溶媒を蒸発させる工程である。溶媒を蒸発させるには、ウェブ３２側から風を吹かせる方法及び／または金属支持体３１の裏面から液体により伝熱させる方法、輻射熱により表裏から伝熱する方法等があるが、裏面液体伝熱の方法が乾燥効率がよく好ましい。またそれらを組み合わせる方法も好ましい。裏面液体伝熱の場合は、ドープ使用有機溶媒の主溶媒または最も低い沸点を有する有機溶媒の沸点以下で加熱するのが好ましい。
【０１６６】
（５）剥離工程
金属支持体３１上で溶媒が蒸発したウェブ３２を、剥離位置３３で剥離する工程である。剥離されたウェブ３２は次工程に送られる。剥離する時点でのウェブ３２の残留溶媒量（後述の式）が余り大き過ぎると剥離し難かったり、逆に金属支持体３１上で充分に乾燥させてから剥離すると、途中でウェブ３２の一部が剥がれたりする。本発明において、薄手のウェブを金属支持体から剥離する際、平面性の劣化やつれがないように行うには、剥離張力として剥離出来る最低張力から１７０Ｎ／ｍ以内の力で剥離することが好ましく、１４０Ｎ／ｍ以内の力がより好ましい。
【０１６７】
製膜速度を上げる方法（残留溶媒量が出来るだけ多いうちに剥離するため製膜速度を上げることが出来る）としてゲル流延法（ゲルキャスティング）がある。それは、ドープ中にセルロースエステルに対する貧溶媒を加えて、ドープ流延後、ゲル化する方法、金属支持体の温度を低めてゲル化する方法等がある。金属支持体３１上でゲル化させ剥離時の膜の強度を上げておくことによって、剥離を早め製膜速度を上げることが出来るのである。金属支持体３１上でのウェブ３２の乾燥が条件の強弱、金属支持体３１の長さ等により５〜１５０質量％の範囲で剥離することが出来るが、残留溶媒量がより多い時点で剥離する場合、ウェブ３２が柔らか過ぎると剥離時平面性を損なったり、剥離張力によるツレや縦スジが発生しやすく、経済速度と品質との兼ね合いで剥離の際の残留溶媒量が決められる。従って、本発明においては、該金属支持体３１上の剥離位置における温度を１０〜４０℃、好ましくは１５〜３０℃とし、かつ該剥離位置におけるウェブ３２の残留溶媒量を１０〜１２０質量％とすることが好ましい。
【０１６８】
製造時の偏光板保護フィルムが良好な平面性を維持するために、金属支持体から剥離する際の残留溶媒量を１０〜１５０質量％とすることが好ましく、より好ましくは７０〜１５０質量％であり、更に好ましくは１００〜１３０質量％である。残留溶剤中に含まれる良溶剤の比率は５０〜９０％が好ましく、更に好ましくは、６０〜９０％であり、特に好ましくは、７０〜８０％である。
【０１６９】
本発明においては、残留溶媒量は下記の式で表すことが出来る。
【０１７０】
残留溶媒量（質量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００
ここで、Ｍはウェブの任意時点での質量で、下記のガスクロマトグラフィーにより測定した質量であり、Ｎは該Ｍを１１０℃で３時間乾燥させた時の質量である。測定はヘッドスペースサンプラーを接続したガスクロマトグラフィーで測定する。本発明では、ヒューレット・パッカード社製ガスクロマトグラフィー５８９０型ＳＥＲＩＳＩＩとヘッドスペースサンプラーＨＰ７６９４型を使用し、以下の測定条件で行った。
【０１７１】
ヘッドスペースサンプラー加熱条件：１２０℃、２０分
ＧＣ導入温度：１５０℃
昇温：４０℃、５分保持→１００℃（８℃／分）
カラム：Ｊ＆Ｗ社製ＤＢ−ＷＡＸ（内径０．３２ｍｍ、長さ３０ｍ）。
【０１７２】
（６）乾燥工程
剥離後、一般には、ウェブ３２を複数のロールに交互に通して搬送するロール乾燥装置３５及びウェブ３２の両端を把持して搬送するテンター装置３４を用いてウェブ３２を乾燥する。図３では、テンター装置３４の後にロール乾燥装置３５が配置されているがこの配置のみに限定されるものではない。乾燥の手段としてはウェブの両面に熱風を吹かせるのが一般的であるが、風の代わりにマイクロウエーブを当てて加熱する手段もある。余り急激な乾燥はでき上がりのフィルムの平面性を損ねやすい。全体を通して、通常乾燥温度は４０〜２５０℃の範囲で行われる。使用する溶媒によって、乾燥温度、乾燥風量及び乾燥時間が異なり、使用溶媒の種類、組合せに応じて乾燥条件を適宜選べばよい。３７はでき上がった偏光板保護フィルムの巻き取りである。偏光板保護フィルムの乾燥工程において、残留溶媒量を０．５質量％以下にすることが好ましく、０．１質量％以下にして巻き取ることがより好ましい。
【０１７３】
本発明に係る偏光板保護フィルムは、ドメイン形成材料を添加したドープを調製後、流延工程によりフィルム製膜されるが、添加したドメイン形成材料を配向させる方法としてはフィルム作製時にフィルムをＴＤまたはＭＤ方向に延伸する方法、或いは流延時にドープの流れを作り、この流れに沿う形でドメイン形成材料を配向させる方法などをとることが可能である。更に電場や磁場などでドメイン形成材料の配向を促進することも可能である。特に本発明では、ドメイン形成材料を配向させる為に少なくともＭＤ方向に延伸する方法を用いることが好ましい。
【０１７４】
（７）延伸工程（テンター工程ともいう）
本発明の偏光板保護フィルムは、延伸によって複屈折性を調整することが出来る。溶液流延法の製造時に溶媒を含む状態で延伸するか、または溶媒が乾燥した状態のフィルムを延伸することが出来る。延伸温度は、フィルムのガラス転移温度−２０℃〜流動する温度以下で行うことが好ましい。ここでフィルムのガラス転移温度は公知の方法で測定することが出来る。延伸は、製膜方向もしくは幅手方向に行うことが出来るが、本発明では少なくとも長手方向に延伸することが好ましい。延伸によって、ドメインは延伸方向に配向する比率を高くすることが出来る。
【０１７５】
延伸工程について更に詳細に説明する。本発明の偏光板保護フィルムを製造する際の延伸倍率は、製膜方向もしくは幅手方向に対して、１．０１〜３倍であり、好ましくは１．５〜３倍である。２軸方向に延伸する場合、高倍率で延伸する側が、１．０１〜３倍であり、好ましくは１．５〜３倍であり、もう一方の方向の延伸倍率は０．８〜１．５倍、好ましくは０．９〜１．２倍に延伸することが出来る。
【０１７６】
これにより、本発明の偏光散乱異方性を有する偏光板保護フィルムを好ましく得ることと共に、平面性の良好な偏光板保護フィルムを得ることが出来る。製膜工程のこれらの幅保持或いは横方向の延伸はテンターによって行うことが好ましく、ピンテンターでもクリップテンターでもよい。
【０１７７】
（８）巻き取り工程
乾燥が終了したウェブをフィルムとして巻き取る工程である。乾燥を終了する残留溶媒量は、０．５質量％以下、好ましくは０．１質量％以下とすることにより寸法安定性の良好なフィルムを得ることが出来る。巻き取り方法は、一般に使用されているワインダーを用いればよく、定トルク法、定テンション法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法等の張力をコントロールする方法があり、それらを使い分ければよい。
【０１７８】
本発明の偏光板保護フィルムの膜厚は、使用目的によって異なるが、液晶表示装置の薄型化の観点から、仕上がりフィルムとして１０〜１５０μｍの範囲が好ましく、更に３０〜１００μｍの範囲がより好ましく、特に４０〜８０μｍの範囲が好ましい。薄過ぎると例えば偏光板用保護フィルムとしての必要な強度が得られない場合がある。厚過ぎると従来の偏光板保護フィルムに対して薄膜化の優位性がなくなる。膜厚の調節には、所望の厚さになるように、ドープ濃度、ポンプの送液量、ダイスの口金のスリット間隙、ダイスの押し出し圧力、金属支持体の速度等をコントロールするのがよい。また、膜厚を均一にする手段として、膜厚検出手段を用いて、プログラムされたフィードバック情報を上記各装置にフィードバックさせて調節するのが好ましい。
【０１７９】
溶液流延製膜法を通しての流延直後からの乾燥までの工程において、乾燥装置内の雰囲気を、空気とするのもよいが、窒素ガスや炭酸ガス等の不活性ガス雰囲気で行ってもよい。
【０１８０】
（偏光板及び液晶表示装置）
次に、本発明の偏光散乱異方性を有する偏光板保護フィルムを液晶表示装置に用いる場合を説明する。
【０１８１】
本発明の偏光散乱異方性を有する偏光板保護フィルムは、これを構成する樹脂がセルロース系樹脂であるために、従来の偏光板製造工程を活用出来る利点があり、特に一般的に用いられているポリビニルアルコール誘導体を延伸して二色性色素を活用した光吸収型の偏光子に対して、本発明に係る偏光板保護フィルムは、水糊等の水溶性の接着材料で直に接着出来ることから薄膜化や生産性において大幅に優れている。
【０１８２】
また、本発明に係る偏光板保護フィルムは、セルロースエステルで構成される偏光板保護フィルムとしての特性を持つことから、輝度向上機能を備えた長尺状のフィルムとしてロール状に偏光板の製造工程に納入することが出来る為、該ロール状のフィルムには、傷やゴミ付着を防止するためのプロテクトシートを用いなくてもよい等の利点もある。
【０１８３】
本発明の偏光板は、偏光散乱異方性を有する偏光板保護フィルム／二色性偏光フィルムを用いた偏光子／偏光板保護フィルムＢの構成をとることが好ましい。
【０１８４】
本発明では、偏光散乱異方性を有する偏光板保護フィルム、偏光子、偏光板保護フィルムＢはいずれも長尺状のフィルムであることが好ましく、各々を貼合するにはロール  トゥ  ロールで行うことが好ましい。
【０１８５】
液晶表示装置に用いる場合、透過型の液晶表示装置には、偏光散乱異方性を有する偏光板保護フィルムが偏光板の中で最もバックライト側に配置されることが好ましい。
【０１８６】
偏光散乱異方性を有する偏光板保護フィルムに対して、偏光子の対向に位置する偏光板保護フィルムＢは、一般的なセルロースアセテート樹脂に代表されるＴＡＣフィルムを用いてもよく、偏光板保護フィルムＢが視野角拡大フィルム或いは位相差フィルムの機能を有する偏光板保護フィルムであってもよい。また、偏光板として用いる場合に、偏光板保護フィルムＢ上に粘着層或いは接着層を介してコントラストや色味に対して表示品質を向上させるための機能フィルムまたは機能層を設置してもよい。
【０１８７】
本発明の偏光板に用いられる偏光板保護フィルムＢは、セルロースエステルフィルムであっても、セルロースエステルフィルム以外の偏光板保護フィルムであってもよい。また、本発明は偏光板保護フィルムＢの特性を問わず、水糊等を用いた偏光板製造の乾燥工程において、本発明の偏光板保護フィルムは透湿性を有していることが好ましく、この場合、偏光板製造時に含まれた水分を乾燥工程で除去出来る利点を有している。
【０１８８】
従って、本発明において、本発明の偏光散乱異方性を有する偏光板保護フィルムの透湿度は５０ｇ／ｍ2／ｄａｙ以上であることが好ましく、１００ｇ／ｍ2／ｄａｙ以上であることが偏光板製造時の乾燥負荷を低減させる点で好ましい。一方、本発明の散乱異方性を有する偏光板保護フィルムの透湿度の上限は１５００ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であることが、偏光子の偏光能を維持する観点で好ましく、より好ましくは１２００ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下である。
【０１８９】
偏光板保護フィルムは、アルカリ液によってアルカリケン化されることで、水に対するぬれ性が増すことになり、これが、前述の水糊として代表されるポリビニルアルコール系の糊で接着出来ることにつながる。本発明の偏光板保護フィルムは、少なくとも片側の面がケン化処理前の水に対する接触角が６０°以上８０°以下、かつケン化処理後の水に対する接触角が１５°以上４０°以下であることが好ましい。
【０１９０】
本発明の偏光板に好ましく用いられる偏光子としては、ポリビニルアルコール系偏光フィルムが挙げられ、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがある。ポリビニルアルコール系フィルムとしては、エチレンで変性された変性ポリビニルアルコール系フィルムが好ましく用いられる。偏光子は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。偏光子の膜厚は５〜４０μｍ、好ましくは５〜３０μｍであり、特に好ましくは５〜２０μｍである。該偏光子の面上に、本発明の偏光板保護フィルムの片面を貼り合わせて偏光板を形成する。
【０１９１】
偏光子は一軸方向（通常は長手方向）に延伸されているため、偏光板を高温高湿の環境下に置くと延伸方向（通常は長手方向）は縮み、延伸に対して直交する方向（通常は幅方向）には伸びる。偏光板保護フィルムの膜厚が薄くなるほど偏光板の伸縮率は大きくなり、特に偏光子の延伸方向の収縮量が大きい。通常、偏光子の延伸方向は偏光板保護フィルムの流延方向（ＭＤ方向）と貼り合わせるため、偏光板保護フィルムを薄膜化する場合は、特に流延方向の伸縮率を抑えることが重要である。本発明の偏光板保護フィルムは寸法安定に優れるため、このような偏光板保護フィルムとして好適に使用される。
【０１９２】
次に、本発明において好ましい偏光板保護フィルムＢについて説明する。
【０１９３】
本発明において好ましい偏光板保護フィルムＢは、本発明に係わる偏光散乱異方性を有する偏光板保護フィルムに対して偏光子を挟んで配置されるもう一方の偏光板保護フィルムである。
【０１９４】
偏光板保護フィルムＢは、特に限定されるものではなく、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリシクロオレフィンフィルム、セロファン、セルロースアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートフタレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルローストリアセテート、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類またはそれらの誘導体からなるフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム（例えば、ＡＲＴＯＮ（ＪＳＲ社製）、ゼオネックス、ゼオノア（日本ゼオン社製））、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルスルフォンフィルム、ポリスルホン系フィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、アクリルフィルム或いはポリアクリレート系フィルム等を挙げることが出来る。
【０１９５】
本発明には、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルローストリアセテートフィルム（ＴＡＣフィルム）等のセルロースエステルフィルム（例えば、コニカミノルタオプト（株）製のコニカミノルタタックＫＣ８ＵＸ２Ｍ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ１２ＵＲ、ＫＣ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＣ８ＵＸ−ＲＨＡ等が好ましく用いられる）、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエステルフィルムまたはポリアクリルフィルムが透明性、機械的性質、光学的異方性がない点等で好ましく、特にセルロースエステルフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルムが好ましく、前記したようにロール  トゥ  ロールで偏光板を作製する観点からは、ケン化適性に優れるセルロースエステルフィルムが最も好ましい。これらの樹脂フィルムは溶融流延法または溶液流延法で製膜されたフィルムであってもよい。
【０１９６】
本発明に用いられる偏光板保護フィルムＢは、下記式により定義されるリタデーション値Ｒｏが０〜３００ｎｍでかつリタデーション値Ｒｔが−６００〜６００ｎｍの範囲にあることが好ましい。また、より好ましい範囲はＲｏ値が０〜１２０ｎｍ、Ｒｔ値が−４００〜４００ｎｍの範囲であり、特に好ましい範囲はＲｏ値が０〜１００ｎｍ及びＲｔ値が−３００〜３００ｎｍの範囲である。
【０１９７】
式（ｉ）  Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（ii）  Ｒｔ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ
式中、ｎｘ、ｎｙ、ｎｚは、２３℃ＲＨ、５９０ｎｍにおける屈折率ｎｘ（フィルムの面内の最大の屈折率、遅相軸方向の屈折率ともいう）、ｎｙ（フィルム面内で遅相軸に直角な方向の屈折率）、ｎｚ（厚み方向におけるフィルムの屈折率）であり、ｄはフィルムの厚み（ｎｍ）である。
【０１９８】
本発明に用いられる偏光板保護フィルムＢを、ＶＡモードの液晶セルを有するＶＡ型液晶表示装置の光学補償フィルムとして用いる場合は、Ｒｏ値を２０〜１５０ｎｍとし、Ｒｔ値を７０〜４００ｎｍとすることが好ましい。Ｒｏ値は、３０〜１００ｎｍであることが更に好ましい。ＶＡ型液晶表示装置に二枚の光学補償フィルムを使用する場合、フィルムのＲｔ値は７０〜２５０ｎｍであることが好ましい。ＶＡ型液晶表示装置に一枚の光学補償フィルムを使用する場合、フィルムのＲｔ値は１５０〜４００ｎｍであることが好ましい。
【０１９９】
本発明に用いられる偏光板保護フィルムＢは、横電界スイッチングモード型（ＩＰＳモード型ともいう）液晶表示装置に用いられる偏光板保護フィルム用としても適しており、その場合、偏光板保護フィルムＢのリターデーション値Ｒｏ、Ｒｔｈが０ｎｍ≦Ｒｏ≦２ｎｍ、かつ−１５ｎｍ≦Ｒｔｈ≦１５ｎｍの範囲にあることが好ましい。更に好ましくは０ｎｍ≦Ｒｏ≦０．５ｎｍ、かつ−５ｎｍ≦Ｒｔｈ≦５ｎｍである。
【０２００】
本発明に用いられる偏光板保護フィルムＢを、横電界スイッチングモード型（ＩＰＳモード型ともいう）液晶表示装置に用いられる偏光板保護フィルムとして用いる場合、偏光板保護フィルムＢは、重量平均分子量が５００以上３００００以下であるアクリルポリマーを含有することが好ましく、中でも分子内に芳香環と親水性基を有しないエチレン性不飽和モノマーＸａと分子内に芳香環を有さず親水性基を有するエチレン性不飽和モノマーＸｂとを共重合して得られた重量平均分子量５０００以上３００００以下のポリマーＸ、より好ましくは、分子内に芳香環と親水性基を有しないエチレン性不飽和モノマーＸａと分子内に芳香環を有さず親水性基を有するエチレン性不飽和モノマーＸｂとを共重合して得られた重量平均分子量５０００以上３００００以下のポリマーＸと、芳香環を有さないエチレン性不飽和モノマーＹａを重合して得られた重量平均分子量５００以上３０００以下のポリマーＹとを含有することが好ましい。
【０２０１】
〈ポリマーＸ、ポリマーＹ〉
本発明に用いられるポリマーＸは分子内に芳香環と親水性基を有しないエチレン性不飽和モノマーＸａと分子内に芳香環を有せず、親水性基を有するエチレン性不飽和モノマーＸｂとを共重合して得られた重量平均分子量５０００以上３００００以下のポリマーである。
【０２０２】
好ましくは、Ｘａは分子内に芳香環と親水性基を有しないアクリルまたはメタクリルモノマー、Ｘｂは分子内に芳香環を有せず親水性基を有するアクリルまたはメタクリルモノマーである。
【０２０３】
本発明に用いられるポリマーＸは、下記一般式（Ｘ）で表される。
【０２０４】
一般式（Ｘ）
−（Ｘａ）ｍ−（Ｘｂ）ｎ−（Ｘｃ）ｐ−
さらに好ましくは、下記一般式（Ｘ−１）で表されるポリマーである。
【０２０５】
一般式（Ｘ−１）
−［ＣＨ2−Ｃ（−Ｒ1）（−ＣＯ2Ｒ2）］ｍ−［ＣＨ2−Ｃ（−Ｒ3）（−ＣＯ2Ｒ4−ＯＨ）−］ｎ−［Ｘｃ］ｐ−
（式中、Ｒ1、Ｒ3は、ＨまたはＣＨ3を表す。Ｒ2は炭素数１〜１２のアルキル基、シクロアルキル基を表す。Ｒ4は−ＣＨ2−、−Ｃ2Ｈ4−または−Ｃ3Ｈ6−を表す。Ｘｃは、Ｘａ、Ｘｂに重合可能なモノマー単位を表す。ｍ、ｎ及びｐは、モル組成比を表す。ただしｍ≠０、ｎ≠０、ｋ≠０、ｍ＋ｎ＋ｐ＝１００である。）
本発明に用いられるポリマーＸを構成するモノマー単位としてのモノマーを下記に挙げるがこれに限定されない。
【０２０６】
Ｘにおいて、親水性基とは、水酸基、エチレンオキシド連鎖を有する基をいう。
【０２０７】
分子内に芳香環と親水性基を有しないエチレン性不飽和モノマーＸａは、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル（ｉ−、ｎ−）、アクリル酸ブチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−、ｔ−）、アクリル酸ペンチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−）、アクリル酸ヘキシル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ヘプチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸オクチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ノニル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ミリスチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸（２−エチルヘキシル）、アクリル酸（ε−カプロラクトン）、アクリル酸（２−ヒドロキシエチル）、アクリル酸（２−エトキシエチル）等、または上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたものを挙げることが出来る。中でも、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル（ｉ−、ｎ−）であることが好ましい。
【０２０８】
分子内に芳香環を有せず、親水性基を有するエチレン性不飽和モノマーＸｂは、水酸基を有するモノマー単位として、アクリル酸またはメタクリル酸エステルが好ましく、例えば、アクリル酸（２−ヒドロキシエチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（３−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（４−ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシブチル）、またはこれらアクリル酸をメタクリル酸に置き換えたものを挙げることが出来、好ましくは、アクリル酸（２−ヒドロキシエチル）及びメタクリル酸（２−ヒドロキシエチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（３−ヒドロキシプロピル）である。
【０２０９】
Ｘｃとしては、Ｘａ、Ｘｂ以外のものでかつ共重合可能なエチレン性不飽和モノマーであれば、特に制限はないが、芳香環を有していないものが好ましい。
【０２１０】
Ｘａ、Ｘｂ及びＸｃのモル組成比ｍ：ｎは９９：１〜６５：３５の範囲が好ましく、更に好ましくは９５：５〜７５：２５の範囲である。Ｘｃのｐは０〜１０である。Ｘｃは複数のモノマー単位であってもよい。
【０２１１】
Ｘａのモル組成比が多いとセルロースエステルとの相溶性が良化するがフィルム厚み方向のリターデーション値Ｒｔｈが大きくなる。Ｘｂのモル組成比が多いと上記相溶性が悪くなるが、Ｒｔｈを低減させる効果が高い。また、Ｘｂのモル組成比が上記範囲を超えると製膜時にヘイズが出る傾向があり、これらの最適化を図りＸａ、Ｘｂのモル組成比を決めることが好ましい。
【０２１２】
ポリマーＸの分子量は重量平均分子量が５０００以上３００００以下であり、更に好ましくは８０００以上２５０００以下である。
【０２１３】
重量平均分子量を５０００以上とすることにより、セルロースエステルフィルムの、高温高湿下における寸法変化が少ない、偏光板保護フィルムとしてカールが少ない等の利点が得られ好ましい。重量平均分子量が３００００を以内とした場合は、セルロースエステルとの相溶性がより向上し、高温高湿下においてのブリードアウト、さらには製膜直後でのヘイズの発生が抑制される。
【０２１４】
本発明に用いられるポリマーＸの重量平均分子量は、公知の分子量調節方法で調整することが出来る。そのような分子量調節方法としては、例えば四塩化炭素、ラウリルメルカプタン、チオグリコール酸オクチル等の連鎖移動剤を添加する方法等が挙げられる。また、重合温度は通常室温から１３０℃、好ましくは５０℃から１００℃で行われるが、この温度または重合反応時間を調整することで可能である。
【０２１５】
重量平均分子量の測定方法は下記方法によることが出来る。
【０２１６】
（重量平均分子量測定方法）
重量平均分子量Ｍｗは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーを用いて測定した。
【０２１７】
測定条件は以下の通りである。
【０２１８】
溶媒：      メチレンクロライド
カラム：    Ｓｈｏｄｅｘ  Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度：  ０．１質量％
検出器：    ＲＩ  Ｍｏｄｅｌ  ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ：    Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量：      １．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線：  標準ポリスチレンＳＴＫ  ｓｔａｎｄａｒｄ  ポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝１００００００〜５００迄の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いる。
【０２１９】
本発明に用いられるポリマーＹは芳香環を有さないエチレン性不飽和モノマーＹａを重合して得られた重量平均分子量５００以上３０００以下のポリマーである。重量平均分子量５００以上ではポリマーの残存モノマーが減少し好ましい。また、３０００以下とすることは、リターデーション値Ｒｔｈ低下性能を維持するために好ましい。Ｙａは、好ましくは芳香環を有さないアクリルまたはメタクリルモノマーである。
【０２２０】
本発明に用いられるポリマーＹは、下記一般式（Ｙ）で表される。
【０２２１】
一般式（Ｙ）
−（Ｙａ）ｋ−（Ｙｂ）ｑ−
さらに好ましくは、下記一般式（Ｙ−１）で表されるポリマーである。
【０２２２】
一般式（Ｙ−１）
−［ＣＨ2−Ｃ（−Ｒ5）（−ＣＯ2Ｒ6）］ｋ−［Ｙｂ］ｑ−
（式中、Ｒ5は、ＨまたはＣＨ3を表す。Ｒ6は炭素数１〜１２のアルキル基またはシクロアルキル基を表す。Ｙｂは、Ｙａと共重合可能なモノマー単位を表す。ｋ及びｑは、モル組成比を表す。ただしｋ≠０、ｋ＋ｑ＝１００である。）
Ｙｂは、Ｙａと共重合可能なエチレン性不飽和モノマーであれば特に制限はない。Ｙｂは複数であってもよい。ｋ＋ｑ＝１００、ｑは好ましくは０〜３０である。
【０２２３】
芳香環を有さないエチレン性不飽和モノマーを重合して得られるポリマーＹを構成するエチレン性不飽和モノマーＹａはアクリル酸エステルとして、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル（ｉ−、ｎ−）、アクリル酸ブチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−、ｔ−）、アクリル酸ペンチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−）、アクリル酸ヘキシル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ヘプチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸オクチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ノニル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ミリスチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸（２−エチルヘキシル）、アクリル酸（ε−カプロラクトン）、アクリル酸（２−ヒドロキシエチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（３−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（４−ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシブチル）、メタクリル酸エステルとして、上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたもの；不飽和酸として、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、クロトン酸、イタコン酸等を挙げることが出来る。
【０２２４】
Ｙｂは、Ｙａと共重合可能なエチレン性不飽和モノマーであれば特に制限はないが、ビニルエステルとして、例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、吉草酸ビニル、ピバリン酸ビニル、カプロン酸ビニル、カプリン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ミリスチン酸ビニル、パルミチン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、シクロヘキサンカルボン酸ビニル、オクチル酸ビニル、メタクリル酸ビニル、クロトン酸ビニル、ソルビン酸ビニル、桂皮酸ビニル等が好ましい。Ｙｂは複数であってもよい。
【０２２５】
ポリマーＸ、Ｙを合成するには、通常の重合では分子量のコントロールが難しく、分子量をあまり大きくしない方法で出来るだけ分子量を揃えることの出来る方法を用いることが望ましい。かかる重合方法としては、クメンペルオキシドやｔ−ブチルヒドロペルオキシドのような過酸化物重合開始剤を使用する方法、重合開始剤を通常の重合より多量に使用する方法、重合開始剤の他にメルカプト化合物や四塩化炭素等の連鎖移動剤を使用する方法、重合開始剤の他にベンゾキノンやジニトロベンゼンのような重合停止剤を使用する方法、更に特開２０００−１２８９１１号または同２０００−３４４８２３号公報にあるような一つのチオール基と２級の水酸基とを有する化合物、或いは、該化合物と有機金属化合物を併用した重合触媒を用いて塊状重合する方法等を挙げることが出来、何れも本発明において好ましく用いられるが、特に、ポリマーＹは、分子中にチオール基と２級の水酸基とを有する化合物を連鎖移動剤として使用する重合方法が好ましい。この場合、ポリマーＹの末端には、重合触媒及び連鎖移動剤に起因する水酸基、チオエーテルを有することとなる。この末端残基により、Ｙとセルロースエステルとの相溶性を調整することが出来る。
【０２２６】
ポリマーＸ及びＹの水酸基価は３０〜１５０［ｍｇＫＯＨ／ｇ］であることが好ましい。
【０２２７】
（水酸基価の測定方法）
この測定は、ＪＩＳ  Ｋ  ００７０（１９９２）に準ずる。この水酸基価は、試料１ｇをアセチル化させたとき、水酸基と結合した酢酸を中和するのに必要とする水酸化カリウムのｍｇ数と定義される。具体的には試料Ｘｇ（約１ｇ）をフラスコに精秤し、これにアセチル化試薬（無水酢酸２０ｍｌにピリジンを加えて４００ｍｌにしたもの）２０ｍｌを正確に加える。フラスコの口に空気冷却管を装着し、９５〜１００℃のグリセリン浴にて加熱する。１時間３０分後、冷却し、空気冷却管から精製水１ｍｌを加え、無水酢酸を酢酸に分解する。次に電位差滴定装置を用いて０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウムエタノール溶液で滴定を行い、得られた滴定曲線の変曲点を終点とする。更に空試験として、試料を入れないで滴定し、滴定曲線の変曲点を求める。水酸基価は、次の式によって算出する。
【０２２８】
水酸基価＝｛（Ｂ−Ｃ）×ｆ×２８．０５／Ｘ｝＋Ｄ
（式中、Ｂは空試験に用いた０．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化カリウムエタノール溶液の量（ｍｌ）、Ｃは滴定に用いた０．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化カリウムエタノール溶液の量（ｍｌ）、ｆは０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウムエタノール溶液のファクター、Ｄは酸価、また、２８．０５は水酸化カリウムの１ｍｏｌ量５６．１１の１／２を表す）
上述のＸポリマーポリマーＹは何れもセルロースエステルとの相溶性に優れ、蒸発や揮発もなく生産性に優れ、偏光板用保護フィルムとしての保留性がよく、透湿度が小さく、寸法安定性に優れている。
【０２２９】
ポリマーＸとポリマーＹのセルロースエステルフィルム中での含有量は、下記式（ｉ）、式（ii）を満足する範囲であることが好ましい。ポリマーＸの含有量をＸｇ（質量％＝ポリマーＸの質量／セルロースエステルの質量×１００）、ポリマーＹの含有量をＹｇ（質量％）とすると、
式（ｉ）  ５≦Ｘｇ＋Ｙｇ≦３５（質量％）
式（ii）  ０．０５≦Ｙｇ／（Ｘｇ＋Ｙｇ）≦０．４
式（ｉ）の好ましい範囲は、１０〜２５質量％である。
【０２３０】
ポリマーＸとポリマーＹは総量として５質量％以上であれば、リターデーション値Ｒｔｈの低減に十分な作用をする。また、総量として３５質量％以下であれば、ポリビニルアルコール系の偏光子との接着性が良好である。
【０２３１】
ポリマーＸとポリマーＹは後述するドープ液を構成する素材として直接添加、溶解するか、もしくはセルロースエステルを溶解する有機溶媒に予め溶解した後ドープ液に添加することが出来る。
【０２３２】
以下、本発明に係る偏光散乱異方性を有する偏光板保護フィルム、及び偏光板保護フィルムＢの物性に関し下記に纏める。
【０２３３】
（偏光板保護フィルムＢの透過率）
ＬＣＤ表示装置の部材としては高い透過率が求められ、上述の添加剤を組み合せて添加し、製造された偏光板保護フィルムＢの５００ｎｍ透過率は、８５〜１００％が好ましく、９０〜１００％が更に好ましく、９２〜１００％が最も好ましい。４００ｎｍ透過率は４０〜１００％が好ましく、５０〜１００％が更に好ましく、６０〜１００％が最も好ましい。また、紫外線吸収性能が求められることがあり、その場合は、３８０ｎｍ透過率は０〜１０％が好ましく、０〜５％が更に好ましく、０〜３％が最も好ましい。
【０２３４】
（偏光板保護フィルムの幅手方向の膜厚分布）
本発明の偏光板保護フィルムは、幅手方向での膜厚分布Ｒ（％）を０≦Ｒ（％）≦５％であることが好ましく、更に好ましくは、０≦Ｒ（％）≦３％であり、特に好ましくは、０≦Ｒ（％）≦１％である。
【０２３５】
（偏光板保護フィルムＢのヘイズ値）
本発明の偏光板保護フィルムＢは、ヘイズ値が、２％以内が好ましく、１．５％がより好ましく、１％以内が最も好ましい。
【０２３６】
（偏光板保護フィルムの弾性率）
弾性率は１．５〜５ＧＰａの範囲が好ましく、更に好ましくは、１．８〜４ＧＰａであり、特に好ましくは、１．９〜３ＧＰａの範囲である。
【０２３７】
また、破断点応力が５０〜２００ＭＰａの範囲であることが好ましく、７０〜１５０ＭＰａの範囲であることが更に好ましく、８０〜１００ＭＰａの範囲であることが最も好ましい。
【０２３８】
２３℃、５５％ＲＨでの破断点伸度が２０〜８０％の範囲であることが好ましく、３０〜６０％の範囲であることが更に好ましく、４０〜５０％の範囲であることが最も好ましい。
【０２３９】
また、吸湿膨張率が−１〜１％の範囲であることが好ましく、−０．５〜０．５％の範囲が更に好ましく、０〜０．２％以下が最も好ましい。
【０２４０】
また、輝点異物が０〜８０個／ｃｍ2であることが好ましく、０〜６０個／ｃｍ2の範囲であることが更に好ましく、０〜３０個／ｃｍ2の範囲であることが最も好ましい。
【０２４１】
（偏光板保護フィルムの中心線平均粗さ（Ｒａ））
偏光板保護フィルムをＬＣＤ用部材として使用する際、フィルムの光漏れを低減するため高い平面性が要求される。中心線平均粗さ（Ｒａ）は、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１に規定された数値であり、測定方法としては、例えば、触針法もしくは光学的方法等が挙げられる。
【０２４２】
本発明の偏光板保護フィルムの中心線平均粗さ（Ｒａ）としては、２０ｎｍ以下が好ましく、更に好ましくは、１０ｎｍ以下であり、特に好ましくは、４ｎｍ以下である。
【０２４３】
〈偏光板〉
本発明の偏光板、それを用いた本発明の液晶表示装置について説明する。
【０２４４】
偏光板は一般的な方法で作製することが出来る。アルカリ鹸化処理した本発明の偏光散乱異方性を有する偏光板保護フィルムは、ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。もう一方の面には、前記偏光板保護フィルムＢを貼合することが好ましい。
【０２４５】
本発明による偏光板は、本発明に係る偏光散乱異方性を有する偏光板保護フィルム／二色性偏光フィルム／偏光板保護フィルムＢの順で一体化された偏光板であって、該二色性偏光フィルムの吸収軸が前記偏光板保護フィルムの長手方向にあることを特徴とする。この構成により、本発明の偏光板保護フィルムは優れた輝度向上フィルムとして機能する。
【０２４６】
偏光板は、更に該偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成することが出来る。プロテクトフィルム及びセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。
【０２４７】
〈液晶表示装置〉
本発明の偏光板を液晶セルの少なくとも一方の面に貼合した液晶表示装置とすることによって、輝度が向上出来、視認性に優れた本発明の液晶表示装置を作製することが出来る。本発明の偏光板保護フィルムは反射型、透過型、半透過型ＬＣＤ或いはＴＮ型、ＳＴＮ型、ＯＣＢ型、ＨＡＮ型、ＶＡ型（ＰＶＡ型、ＭＶＡ型）、ＩＰＳ型等の各種駆動方式のＬＣＤで好ましく用いられる。特に画面が３０型以上の大画面の表示装置では、色むらや波打ちむらが少なく、長時間の鑑賞でも目が疲れないという効果があった。
【０２４８】
液晶表示装置における偏光板の配置位置については、特に限定はなく視認側に配置することも出来るが、散乱偏光板による後方散乱に基づく視認阻害を回避する点などから、液晶パネルの光源側における偏光板として配置することが好ましい。
【０２４９】
図４に本発明に好ましい液晶表示装置の構成例について示すが、これに限定されるものではない。
【０２５０】
本発明の液晶表示装置は、光反射板６４、バックライト６７、導光板６５、光拡散板６６に隣接して、本発明に係る偏光板６０（偏光散乱異方性を有する偏光板保護フィルム６１／二色性物質による光吸収作用を利用した二色性偏光フィルム６２／偏光板保護フィルムＢ６３の構成）、液晶表示パネル６８、視認側偏光板６９の順に積層された構成をとることが好ましい。
【０２５１】
導光板の具体例としては、透明な樹脂板の側面に（冷，熱）陰極管等の線状光源や発光ダイオード、ＥＬ等の光源を配置し、その樹脂板に板内を伝送される光を拡散や反射、回折や干渉等により板の片面側に出射するようにしたものなどが挙げられる。導光板を含む積層偏光板の形成に際しては、光の出射方向を制御するためのプリズムシート等からなるプリズムアレイ層、均一な発光を得るための光拡散板、線状光源からの出射光を導光板の側面に導くための光源ホルダなどの補助手段を導光板の上下面や側面などの所定位置に必要に応じ１層又は２層以上を配置して適宜な組合せ体とすることが出来る。
【０２５２】
液晶表示装置のバックライトは直下式バックライト方式であることが好ましい。具体的な直下式バックライト方式としては、特開２００１−２１５４９７号、特開２００１−３０５５３５号特開２００３−２１５５８５号、特開２００４−２９０９１号、特開２００４−１０２１１９号等に記載のバックライトが有効に用いられる。
【０２５３】
特に、本発明の偏光板を用いた液晶表示装置ではサイズが１５インチ以上で、光源と偏光板の距離を短くした熱の影響が大きい薄型液晶表示装置で有効である。
【０２５４】
〈横電界スイッチングモード型液晶表示装置〉
上記本発明に用いられる偏光板保護フィルムＢを用いた偏光板を市販のＩＰＳ（Ｉｎ  Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード型液晶表示装置に組み込むことによって、視認性に優れ、視野角が拡大された本発明の液晶表示装置を作製することが出来る。
【０２５５】
本発明の横電界スイッチングモードとは、フリンジ電場スイッチング（ＦＦＳ：Ｆｒｉｎｇｅ−Ｆｉｅｌｄ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モードも本発明に含み、ＩＰＳモードと同様に本発明の偏光板を組み込むことが出来、同様の効果をもつ本発明の液晶表示装置を作製することが出来る。本発明に用いられる偏光板保護フィルムＢは、駆動用液晶セルとバックライト側偏光素子の間に設置されることが好ましい。
【実施例】
【０２５６】
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０２５７】
実施例１
《針状酸化チタン粒子Ａの合成》
３０℃、空気雰囲気下にて、撹拌しているメタノール１０００ｍｌとＨ2Ｏ  ０．１ｍｌの混合液に、チタンイソプロポキシド［Ｔｉ（Ｏ−ｉＰｒ）4］  ２０ｍｌを数分かけて滴下し、１２０分間さらに撹拌し続けた。生じた微粒子を遠心分離機にかけて分離・回収後、減圧乾燥を行った。ＳＥＭ観察により、得られた酸化チタン微粒子は平均短軸径５５ｎｍ、平均長軸径１２５０ｎｍ（アスペクト比２２．７）の針状であることを確認した。この粒子はアモルファス状態であり、これを８００℃、１時間加熱処理すると、結晶系はルチル型になることをＸ線回折により確認した。反応温度以外は同様にして表１に示す本発明の針状酸化チタン粒子Ｂ〜Ｅを作製した。
【０２５８】
【表１】
2008076478.tif 000002
【０２５９】
《偏光散乱異方性を有する偏光板保護フィルムの作製》
下記ドープ液１００質量部を、インラインミキサー（東レ静止型管内混合機  Ｈｉ−Ｍｉｘｅｒ、ＳＷＪ）で十分に混合し、次いでベルト流延装置を用い、図２のダイスを使用し、幅２ｍのステンレスバンド支持体に均一に流延した。その際、表２の条件−１で示される、ダイスリットを流れるドープの流速を出口側に向かって加速させる流延条件及び乾燥条件で行った。表中、Ｒｖｍ、ｔ、Ｒｖｓ、Ｚ、Ｔは各々前記配向方法の項で説明した定義による。
【０２６０】
次いで、ステンレスバンド支持体上で、残留溶媒量が１１０％になるまで溶媒を蒸発させ、ステンレスバンド支持体から剥離した。剥離の際に張力をかけて縦（ＭＤ）延伸倍率が１．２倍となるように延伸し、次いで、テンターでウェブ両端部を把持し、幅手（ＴＤ）方向の延伸倍率が１．１倍となるように延伸した。延伸開始時の残留溶媒は３０％であった。延伸後、その幅を維持したまま数秒間保持し、幅方向の張力を緩和させた後幅保持を解放し、更に１２５℃に設定された第３乾燥ゾーンで３０分間搬送させて乾燥を行い、幅１．５ｍ、かつ端部に幅１ｃｍ、高さ８μｍのナーリングを有する膜厚４０μｍ、巻き長３０００ｍの本発明に係る偏光板保護フィルムである偏光板保護フィルム１０１を作製した。
【０２６１】
〈ドープ１０１の組成〉
メチレンクロライド                                            ３００質量部
エタノール                                                      ４０質量部
セルロースエステル（セルロースアセテートプロピオネート；アセチル基置換度１．９、プロピオニル基置換度０．７、総アシル基置換度２．６）          １００質量部
トリメチロールプロパントリベンゾエート                        ５．５質量部
芳香族末端エステル系可塑剤サンプルＮｏ．１                    ５．５質量部
チヌビン１０９（チバスペシャルティケミカルズ（株）製）        １．２質量部
チヌビン１７１（チバスペシャルティケミカルズ（株）製）        ０．８質量部
針状酸化チタン粒子Ａ                                              ２質量部
針状酸化チタン粒子の種類及びドープ流延／乾燥条件を表３に記載のように変更した以外は、偏光板保護フィルム１０１と同様にして、偏光板保護フィルム１０２〜１１６を作製した。比較の偏光板保護フィルム１０６〜１０８、１１４は特許第３０９０８９０号公報の実施例に記載されている本発明外の酸化チタン粒子（石原産業製  ＦＴＬ−１００、２００、３００）を用いた。尚、最終的な膜厚は全て偏光板保護フィルム１０１同様、４０μｍとなるよう、流延時の条件を適宜変更した。
【０２６２】
【表２】
2008076478.tif 000003
【０２６３】
【表３】
2008076478.tif 000004
【０２６４】
《評価》
得られた偏光板保護フィルムについて以下の評価を実施した。
【０２６５】
（配向角の測定）
透過型電子顕微鏡を用い、フィルム切片の製膜方向の位置決めを行った後、この軸と各ドメイン３００個の長軸方向とのなす角度を測定し、該角度の絶対値を合計して個数平均しドメインの配向角（°）を求めた。
【０２６６】
（フィルムの偏光散乱異方性評価）
曇り度計（日本電色工業株式会社製ＮＤＨ２０００）を用い、測定対象である該偏光板保護フィルムに入射光が当たる手前に、ヨウ素含有ＰＶＡ偏光フィルムを挿入して入射光を直線偏光化し、該偏光板保護フィルムを入射光を法線とした状態で回転角度を変化させながら各々の位置での全透過光量を測定した。また、評価に際しては熱の影響を同一に保つため、２３℃５５％に調整された恒温恒湿室内で行った。その最大値と最小値の比を表３に示した。
【０２６７】
（フィルムの輝度角度依存性評価）
視野角特性の評価には上記試料を用いてＥＬＤＩＭ社製ＥＺ−ｃｏｎｔｒａｓｔで白表示時の透過光量を角度を変えて測定し、輝度半値域を評価した。半値域が広いほど角度依存性は小さいことを示す。各試料の半値域を表３に示した。
【０２６８】
表３より、本発明の偏光板保護フィルム１０１〜１０５、１０９〜１１３、１１５、１１６は偏光散乱異方性、輝度角度依存性が優れていることが分かる。
【０２６９】
また、ドープの流延／乾燥条件は、条件−２の方が配向角が小さくドメインの配向が均一になりやすいことが分かった。
【０２７０】
《偏光板保護フィルムＢの作製》
（ＶＡ型液晶用偏光板保護フィルムＢ２０１の作製）
〈微粒子分散液〉
微粒子（アエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル株式会社製））      １１質量部
エタノール                                                      ８９質量部
以上をディゾルバーで５０分間攪拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。
【０２７１】
〈微粒子添加液〉
メチレンクロライドを入れた溶解タンクに下記セルロースエステルを添加し、加熱して完全に溶解させた後、これを安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過した。濾過後のセルロースエステル溶液を充分に攪拌しながら、ここに上記微粒子分散液をゆっくりと添加した。更に、二次粒子の粒径が所定の大きさとなるようにアトライターにて分散を行った。これを日本精線（株）製のファインメットＮＦで濾過し、微粒子添加液を調製した。
【０２７２】
メチレンクロライド                                              ９９質量部
セルロースエステル（セルロースアセテートプロピオネート；アセチル基置換度１．６、プロピオニル基置換度０．８、総アシル基置換度２．４）              ４質量部
微粒子分散液                                                    １１質量部
下記組成の主ドープ液を調製した。まず加圧溶解タンクにメチレンクロライドとエタノールを添加した。溶剤の入った加圧溶解タンクにセルロースエステルを攪拌しながら投入した。これを加熱し、攪拌しながら、完全に溶解し、更に可塑剤及び紫外線吸収剤を添加、溶解させた。これを安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過し、主ドープ液を調製した。
【０２７３】
主ドープ液１００質量部と微粒子添加液５質量部となるように加えて、インラインミキサー（東レ静止型管内混合機  Ｈｉ−Ｍｉｘｅｒ、ＳＷＪ）で十分に混合し、次いでベルト流延装置を用い、幅２ｍのステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体上で、残留溶媒量が１１０％になるまで溶媒を蒸発させ、ステンレスバンド支持体から剥離した。剥離の際に張力をかけて縦（ＭＤ）延伸倍率が１．１倍となるように延伸し、次いで、テンターでウェブ両端部を把持し、幅手（ＴＤ）方向の延伸倍率が１．３倍となるように延伸した。延伸後、その幅を維持したまま数秒間保持し、幅方向の張力を緩和させた後幅保持を解放し、更に１２５℃に設定された第３乾燥ゾーンで３０分間搬送させて乾燥を行い、幅１．５ｍ、かつ端部に幅１ｃｍ、高さ８μｍのナーリングを有する膜厚４０μｍ、巻き長３０００ｍの偏光板保護フィルムＢ２０１を作製した。
【０２７４】
〈ドープ２０１の組成〉
メチレンクロライド                                            ３９０質量部
エタノール                                                      ８０質量部
セルロースエステル（セルロースアセテートプロピオネート；アセチル基置換度１．６、プロピオニル基置換度０．８、総アシル基置換度２．４）          １００質量部
トリメチロールプロパントリベンゾエート                        ５．５質量部
芳香族末端エステル系可塑剤サンプルＮｏ．１                    ５．５質量部
チヌビン１０９（チバスペシャルティケミカルズ（株）製）        １．２質量部
チヌビン１７１（チバスペシャルティケミカルズ（株）製）        ０．８質量部
（ＩＰＳ型液晶用偏光板保護フィルムＢ２０２の作製）
〈ポリマーＸの合成〉
攪拌機、２個の滴下ロート、ガス導入管及び温度計の付いたガラスフラスコに、表４記載の種類及び比率のモノマーＸａ、Ｘｂ混合液４０ｇ、連鎖移動剤のメルカプトプロピオン酸２ｇ及びトルエン３０ｇを仕込み、９０℃に昇温した。その後、一方の滴下ロートから、表４記載の種類及び比率のモノマーＸａ、Ｘｂ混合液６０ｇを３時間かけて滴下すると共に、同時にもう一方のロートからトルエン１４ｇに溶解したアゾビスイソブチロニトリル０．４ｇを３時間かけて滴下した。その後さらに、トルエン５６ｇに溶解したアゾビスイソブチロニトリル０．６ｇを２時間かけて滴下した後、さらに２時間反応を継続させ、ポリマーＸを得た。得られたポリマーＸは常温で固体であった。ポリマーＸの重量平均分子量は下記測定法により表４に示した。
【０２７５】
尚、表４記載の、ＭＭＡ、ＨＥＡはそれぞれ以下の化合物の略称である。
【０２７６】
ＭＭＡ：メタクリル酸メチル
ＨＥＡ：２−ヒドロキシエチルアクリレート
（重量平均分子量測定）
重量平均分子量の測定は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーを用いて測定した。
【０２７７】
測定条件は以下の通りである。
【０２７８】
溶媒：      メチレンクロライド
カラム：    Ｓｈｏｄｅｘ  Ｋ８０６，Ｋ８０５，Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度：  ０．１質量％
検出器：    ＲＩ  Ｍｏｄｅｌ  ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ：    Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量：      １．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線：  標準ポリスチレンＳＴＫ  ｓｔａｎｄａｒｄ  ポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝１００００００〜５００迄の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いる。
【０２７９】
〈ポリマーＹの合成〉
特開２０００−１２８９１１号公報に記載の重合方法により塊状重合を行った。即ち、攪拌機、窒素ガス導入管、温度計、投入口及び環流冷却管を備えたフラスコにモノマーＹａとして、下記メチルアクリレート（ＭＡ）を投入し、窒素ガスを導入してフラスコ内を窒素ガスで置換した下記チオグリセロールを攪拌下添加した。チオグリセロール添加後、内容物の温度を適宜変化させ４時間重合を行い、内容物を室温に戻し、それにベンゾキノン５質量％テトラヒドロフラン溶液を２０質量部添加し、重合を停止させた。内容物をエバポレーターに移し、８０℃で減圧下、テトラヒドロフラン、残存モノマー及び残存チオグリセロールを除去し、表４に記載のポリマーＹを得た。得られたポリマーＹは常温で液体であった。該ポリマーＹの重量平均分子量は上記測定法により表４に示した。
【０２８０】
メチルアクリレート                                            １００質量部
チオグリセロール                                                  ５質量部
【０２８１】
【表４】
2008076478.tif 000005
【０２８２】
〈ドープ２０２の組成〉
（二酸化珪素分散液１）
アエロジル９７２Ｖ（日本アエロジル（株）製）                    １２質量部
（１次粒子の平均径１６ｎｍ、見掛け比重９０ｇ／リットル）
エタノール                                                      ８８質量部
以上をディゾルバーで３０分間撹拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。分散後の液濁度は２００ｐｐｍであった。二酸化珪素分散液に８８質量部のメチレンクロライドを撹拌しながら投入し、ディゾルバーで３０分間撹拌混合し、二酸化珪素分散希釈液１を作製した。
【０２８３】
（ドープ添加液１）
メチレンクロライド                                              ５０質量部
ポリマーＸ                                                      表４記載量
ポリマーＹ                                                      表４記載量
二酸化珪素分散液１                                              １０質量部
チヌビン１０９（チバスペシャルティケミカルズ（株）製）        １．２質量部
チヌビン１７１（チバスペシャルティケミカルズ（株）製）        ０．８質量部
以上について、メチレンクロライドとポリマーＸとポリマーＹを攪拌しながら完全溶解させた後、二酸化珪素分散液１を添加させて攪拌混合させてドープ添加液１を調製した。
【０２８４】
（ドープ２０２の調製）
セルロースエステル（リンター綿から合成されたセルローストリアセテート、アセチル基置換度２．９２）                                              １００質量部
メチレンクロライド                                            ３８０質量部
エタノール                                                      ３０質量部
ドープ添加液１                                              前記作製質量部
以上を密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解し、安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４を使用して濾過し、ドープ２０２を調製した。
【０２８５】
日本精線（株）製のファインメットＮＦで上記ドープ液を濾過し、ベルト流延装置を用い、温度２２℃、２ｍ幅でステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶剤量が１０５％になるまで溶媒を蒸発させ、剥離張力１６２Ｎ／ｍでステンレスバンド支持体上から剥離した。剥離したセルロースエステルのウェブを３５℃で溶媒を蒸発させ、１．６ｍ幅にスリットし、その後、テンターで幅方向に１．１倍に延伸しながら、１３５℃の乾燥温度で乾燥させた。このときテンターで延伸を始めたときの残留溶剤量は１０％であった。テンターで延伸後１３０℃で幅手張力を緩和して幅保持を開放した後、１２０℃、１３０℃の乾燥ゾーンを多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させ、１．５ｍ幅にスリットし、フィルム両端に幅１０ｍｍ高さ７μｍのナーリング加工を施し、初期張力２２０Ｎ／ｍ、終張力１１０Ｎ／ｍで内径６インチコアに巻き取り、偏光板保護フィルムＢ２０２を得た。ステンレスバンド支持体の回転速度とテンターの運転速度から算出されるＭＤ方向の延伸倍率は１．１倍であった。偏光板保護フィルムＢ２０２の残留溶剤量は各々０．１％であり、膜厚は４０μｍ、巻長は３０００ｍであった。
【０２８６】
《偏光板の作製》
上記作製した偏光板保護フィルム１０１〜１１６、偏光板保護フィルムＢ２０１、２０２を用いて、表５記載の偏光板３０１〜３３２を作製した。
【０２８７】
厚さ１２０μｍのポリビニルアルコールフィルムを、沃素１ｋｇ、ホウ酸４ｋｇを含む水溶液１００ｋｇに浸漬し５０℃で６倍に延伸して偏光膜を作った。この偏光膜の両面にアルカリケン化処理を行った上記偏光板保護フィルム１０１〜１２５、偏光板保護フィルムＢ２０１、２０２を、表５の組み合わせで完全ケン化型ポリビニルアルコール５％水溶液を粘着剤として各々貼り合わせた。
【０２８８】
〈アルカリケン化処理〉
ケン化工程    ２Ｎ−ＮａＯＨ      ５０℃  ９０秒
（貼合しにくい場合は７０℃  ９０秒）
水洗工程          水              ３０℃  ４５秒
中を工程      １０質量％ＨＣｌ    ３０℃  ４５秒
水洗工程          水              ３０℃  ４５秒
上記条件でフィルム試料をケン化、水洗、中和、水洗の順に行い、次いで８０℃で乾燥を行った。
【０２８９】
《ＶＡ型液晶表示装置の作製》
ＶＡ型液晶表示装置であるシャープ製３２型テレビＡＱ−３２ＡＤ５の予め貼合されていたバックライト側の偏光板を剥がして、上記作製した偏光板３０１〜３１６をそれぞれ液晶セル（ＶＡ型）のガラス面に貼合し、液晶表示装置３０１〜３１６を作製した。
【０２９０】
その際、偏光板保護フィルムＢ２０１が液晶セル側で、かつ偏光板の貼合の向きは予め貼合されていた偏光板と同一方向に吸収軸が向くように行った。
【０２９１】
《ＩＰＳモード型液晶表示装置》
ＩＰＳモード型液晶表示装置である２３型（株）東芝製液晶テレビＦＡＣＥ  ２３ＬＣ１００を用いて、予め貼合されていたバックライト側の偏光板を剥がして、上記作製した偏光板３１７〜３３２をそれぞれ液晶セル（ＩＰＳ型）のガラス面に貼合し、液晶表示装置３１７〜３３２を作製した。
【０２９２】
その際、偏光板保護フィルムＢ２０２が液晶セル側で、かつ偏光板の貼合の向きは予め貼合されていた偏光板と同一方向に吸収軸が向くように行った。
【０２９３】
以上作製した液晶表示装置３０１〜３３２を用いて、以下の要領で輝度を評価した。
【０２９４】
《液晶表示装置の輝度の評価》
作製した各液晶表示装置の正面輝度を評価した。
【０２９５】
輝度は、分光放射輝度計ＣＳ−１０００（コニカミノルタセンシング社製）で測定した値を輝度（ｃｄ／ｍ2）とした。バックライト側に配置される偏光板保護フィルム１０６を用いた液晶表示装置３０６と３２２の輝度を各々１とし、各液晶表示方式での相対輝度を以下の基準で表した。
【０２９６】
◎：１．２倍以上の正面輝度
○：１．１倍以上かつ１．２倍未満の正面輝度
△：１．０５倍以上かつ１．１倍未満の正面輝度
×：１．０５倍未満
結果を下記表５に示した。
【０２９７】
【表５】
2008076478.tif 000006
【０２９８】
表５の結果から、ＶＡ型液晶表示装置、ＩＰＳ型液晶表示装置ともに本発明の偏光散乱異方性を有する偏光板保護フィルムが貼合された偏光板は優れた輝度向上効果を示していることが分かる。
【図面の簡単な説明】
【０２９９】
【図１】本発明に係るセルロースエステルを主体とした光学的連続相とドメインとを含む偏光散乱異方性を有する偏光板保護フィルムの模式図である。
【図２】ダイス内部のドープ流路を示す模式図である。
【図３】本発明に係わる溶液流延製膜方法のドープ調製工程、流延工程及び乾燥工程を模式的に示した図である。
【図４】本発明に好ましい液晶表示装置の構成を示す概略図である。
【符号の説明】
【０３００】
１、１０  溶解釜
３、６、１２、１５  濾過器
４、１３  ストックタンク
５、１４  送液ポンプ
８、１６  導管
２０  合流管
２１  混合機
３０  ダイス
３１  金属支持体
３２  ウェブ
３３  剥離位置
３４  テンター装置
３５  ロール乾燥装置
６０  偏光板
６１  本発明に係る偏光板保護フィルム
６２  二色性偏光子
６３  偏光板保護フィルムＢ
６４  光反射板
６５  導光板
６６  光拡散板
６７  バックライト
６８  液晶セル
６９  視認側偏光板
【図１】
2008076478.tif 000007
【図２】
2008076478.tif 000008
【図３】
2008076478.tif 000009
【図４】
2008076478.tif 000010