(57)【要約】【課題】簡便に行え、測定精度の良好な記録磁界強度分布の測定方法、その測定装置、および磁気ヘッドの製造方法を提供する。【解決手段】最初に、測定対象となる磁気ヘッドおよび再生ヘッドを測定用媒体に浮上させ、位置決めを行う初期設定を行う（Ｓ１０２）、次いで、測定用媒体のレーザ光照射位置Ｌiを設定し（Ｓ１０４）、次いで、レーザ光照射をＯＮし（Ｓ１０６）、磁気ヘッドの記録素子に記録電流を供給して信号記録を行う（Ｓ１０８）。これにより、レーザ光が照射された位置に磁気ヘッドからの記録磁界（漏洩磁界）が印加されて磁気トラックが形成される。次いで、レーザ光照射をＯＦＦし（Ｓ１１０）、再生ヘッドにより磁気トラックの再生出力を測定する（Ｓ１１２）。得られたレーザ光照射位置と再生出力との関係から磁気ヘッドの媒体対向面の構成に対応させた磁界強度分布を求める（Ｓ１１８）。【選択図】図６
2008090905.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録素子を有する磁気ヘッドの記録磁界強度分布の測定方法であって、
前記磁気ヘッドを、記録層を有する測定用媒体上に離隔して配置する第１のステップと、
前記記録素子の媒体対向面に対向する前記記録層の一部の領域を加熱すると共に、前記所定の記録電流を記録素子に供給し、該記録素子から記録磁界を発生させる第２のステップと、
前記一部の領域に形成された磁気トラックの再生出力を測定する第３のステップと、
加熱される前記一部の領域を異ならせて第２のステップと第３のステップとを繰り返す第４のステップと、
前記一部の領域毎に得られた再生出力を記録磁界強度分布に変換する第５のステップとを含み、
前記一部の領域は、記録素子の媒体対向面の一部に対応し、
前記測定用媒体は、加熱により保磁力が低下してなり、
前記第２のステップにおいて、前記一部の領域の加熱は、該一部の領域に磁気ヘッドから印加される記録磁界の強度よりもその保磁力が低くなる温度に設定されることを特徴とする磁気ヘッドの記録磁界強度分布の測定方法。
【請求項２】
前記測定用媒体は、レーザ光を透過する基板と、該基板上に記録層が形成されてなり、
前記レーザ光は、測定用媒体に対して磁気ヘッドとは反対側から該基板を通して照射されてなることを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッドの記録磁界強度分布の測定方法。
【請求項３】
前記第４のステップにおいて、前記磁気ヘッドの位置を固定して、かつ前記レーザ光を照射する位置異ならせることで、前記一部の領域を異ならせることを特徴とする請求項１または２記載の磁気ヘッドの記録磁界強度分布の測定方法。
【請求項４】
前記磁気ヘッドは再生素子をさらに有し、
前記第３のステップの後に、前記一部の領域に所定のレーザパワーのレーザ光をそれぞれ照射しつつ、前記磁気ヘッドの再生素子によって、該一部の領域の他の再生出力を測定する第６のステップと、
前記第５のステップの後に、他の再生出力が最小値となる一部の領域に対応する位置を求めて、その位置を磁気ヘッドの再生素子の位置とする第７のステップと、をさらに備え、
前記第４のステップは、加熱される前記一部の領域を異ならせて第２のステップと第３のステップと第６のステップを行うことを特徴とする請求項１〜３のうち、いずれか一項記載の磁気ヘッドの記録磁界強度分布の測定方法。
【請求項５】
前記第２のステップの加熱された記録層の一部の領域の温度を異ならせて第２および第３のステップを行い、前記第３のステップの後に再生出力が出現し始める温度を求めるステップをさらに備え、
前記第５のステップにおいて、前記測定用媒体の保磁力と温度との関係に基づいて、前記再生出力が出現し始める温度を保磁力に変換し、該保磁力を磁界強度とすることを特徴とする請求項１〜４のうち、いずれか一項記載の磁気ヘッドの記録磁界強度分布の測定方法。
【請求項６】
前記磁気ヘッドの記録素子は、主磁極および補助磁極を有し、
前記測定用媒体が基板と、基板上に形成された軟磁性材料からなる軟磁性裏打層と、該軟磁性裏打層上に形成された垂直磁化膜からなる記録層を有することを特徴とする請求項１〜５のうち、いずれか一項記載の磁気ヘッドの記録磁界強度分布の測定方法。
【請求項７】
記録素子を有する磁気ヘッドの記録磁界強度分布の測定装置であって、
前記磁気ヘッドの位置決め手段と、
基板と、該基板上に記録層を有する測定用媒体と、
前記測定用媒体を加熱すると共に、加熱位置を走査可能な加熱手段と、
前記加熱手段により、記録素子の媒体対向面の一部に対応する記録層の一部の領域を所定の温度に加熱した状態で、前記記録素子により記録磁界を発生させて記録層に磁気的なトラックを形成する記録手段と、
前記トラックの再生出力を測定する再生出力測定手段と、
前記再生出力を記録磁界強度に変換する演算手段と、を備え、
前記測定用媒体は加熱により保磁力が低下してなり、
前記所定の温度は、前記一部の領域に磁気ヘッドから印加される記録磁界の強度よりもその保磁力が低くなる温度であることを特徴とする磁気ヘッドの記録磁界強度分布の測定装置。
【請求項８】
記録素子を有する磁気ヘッドの製造方法であって、
前記磁気ヘッドの検査工程を含み、
前記検査工程は、
前記磁気ヘッドを、記録層を有する測定用媒体上に離隔して配置する第１のステップと、
前記記録素子の媒体対向面に対向する前記記録層の一部の領域を加熱すると共に、前記所定の記録電流を記録素子に供給し、該記録素子から記録磁界を発生させる第２のステップと、
前記一部の領域に形成された磁気トラックの再生出力を測定する第３のステップと、
加熱される前記一部の領域を異ならせて第２のステップと第３のステップとを繰り返す第４のステップと、
前記一部の領域毎に得られた再生出力を記録磁界強度分布に変換する第５のステップと、
前記記録磁界を発生する位置または該位置での記録磁界強度が、所定の範囲内であるか否かを比較して、該範囲内の場合は良品と判定し、範囲外の場合は不良品と判定する第６のステップと、を有し、
前記一部の領域は、記録素子の媒体対向面の一部に対応し、
前記測定用媒体は、加熱により保磁力が低下してなり、
前記第２のステップにおいて、前記一部の領域の加熱は、該一部の領域に磁気ヘッドから印加される記録磁界の強度よりもその保磁力が低くなる温度に設定されることを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
【請求項９】
前記第３のステップにおいて、再生ヘッドの再生素子を前記磁気トラックの位置に一致させる制御を行って再生出力を測定することを特徴とする請求項８記載の磁気ヘッドの製造方法。
【請求項１０】
前記磁気ヘッドは再生素子をさらに有し、
前記第３のステップと第４のステップとの間に、
前記一部の領域に所定のレーザパワーのレーザ光をそれぞれ照射しつつ、前記磁気ヘッドの再生素子によって、該一部の領域の他の再生出力を測定するステップと、
前記第５のステップの後に、他の再生出力が最小値となる一部の領域に対応する位置を求めて、その位置を磁気ヘッドの再生素子の位置とするステップと、
前記第６のステップにおいて、再生素子の位置が所定の範囲内であるか否かを比較して、該範囲内の場合は良品と判定し、範囲外の場合は不良品とさらに判定することを特徴とする請求項８または９記載の磁気ヘッドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気ヘッドの記録磁界強度分布の測定方法、その測定装置、および磁気ヘッドの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気記憶装置の高記録密度化に伴い、磁気記録媒体では信号対雑音比（Ｓ／Ｎ比）の向上や記録された情報の長期安定性の向上が図られている。一方、磁気記録媒体に記録再生を行う磁気ヘッドでも高記録密度化に伴い様々技術革新が図られている。再生素子では、スピンバルブ構造の磁気抵抗効果型（ＭＲ）素子やトンネル磁気抵抗効果型（ＴＭＲ）素子が採用され高出力化および高Ｓ／Ｎ比化が図られている。また、記録素子では、高保磁力の磁気記録媒体に２００ｎｍ以下程度のトラック幅で記録するため、狭い領域に鋭くかつ強い磁界強度の記録磁界の発生が要求される。このような記録素子の設計には記録磁界の強度分布をコンピュータによる磁界計算で支援しながら行っている。
【０００３】
しかし、磁界計算により得られた記録磁界強度分布では所望の分布が得られたとしても、実際に製造した磁気ヘッドでは所望の記録特性が得られない場合がある。例えば、所定のトラックで繰り返し記録を行うと隣接トラックを消磁してしまう、いわゆるオフトラックイレーズが生じる場合がある。また、所望の記録密度において十分な出力やノンリニアトランジッションシフト（ＮＬＴＳ）特性が得られない場合がある。その原因は、磁気ヘッドの加工ばらつきによる異常な磁界発生や、磁気記録媒体の磁化による磁界強度分布の変化等である。これらの場合、磁気ヘッドの記録磁界の実測が必要となる。
【０００４】
磁気ヘッドの記録磁界を直接測定する手法として、電子ビームが記録磁界により偏向する現象を利用する手法が提案されている（例えば、特許文献１参照。）。また、磁気光学効果を示す薄膜を磁界検出素子として、その薄膜を透過した光の偏光角により薄膜に印加された磁界強度を測定する手法が提案されている（例えば、特許文献２参照。）。また、磁気ヘッドにより飽和記録磁界が既知の磁気記録媒体に記録して、記録電流と飽和磁界との関係から磁気ヘッドの記録磁界強度を間接的に測定する手法が提案されている（例えば、特許文献３参照。）。
【特許文献１】特開平３−１３８５８１号公報
【特許文献２】特開２０００−１８０５２２号公報
【特許文献３】特開平５−１２８４４８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記の特許文献１の電子ビームによる手法では、高価で大がかりな設備を必要とするため手軽に使用できず、磁気ヘッドの製造工程に検査用装置として導入するのはコスト面から困難である。また、特許文献３の手法では、磁気ヘッドの記録磁界強度の測定方法が煩雑であり、記録磁界強度を精度良く記録磁界強度分布を求めることが困難であるという問題がある。
【０００６】
そこで、本発明の目的は、新規で有用な磁気ヘッドの記録磁界強度分布の測定方法、その測定装置、および磁気ヘッドの製造方法を提供することである。本発明のより具体的な目的は、簡便に行え、測定精度の良好な記録磁界強度分布の測定方法、その測定装置、および磁気ヘッドの製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一観点によれば、記録素子を有する磁気ヘッドの記録磁界強度分布の測定方法であって、前記磁気ヘッドを、記録層を有する測定用媒体上に離隔して配置する第１のステップと、前記記録素子の媒体対向面に対向する前記記録層の一部の領域を加熱すると共に、前記所定の記録電流を記録素子に供給し、該記録素子から記録磁界を発生させる第２のステップと、前記一部の領域に形成された磁気トラックの再生出力を測定する第３のステップと、加熱される前記一部の領域を異ならせて第２のステップと第３のステップとを繰り返す第４のステップと、前記一部の領域毎に得られた再生出力を記録磁界強度分布に変換する第５のステップとを含み、前記一部の領域は、記録素子の媒体対向面の一部に対応し、前記測定用媒体は、加熱により保磁力が低下してなり、前記第２のステップにおいて、前記一部の領域の加熱は、該一部の領域に磁気ヘッドから印加される記録磁界の強度よりもその保磁力が低くなる温度に設定されることを特徴とする磁気ヘッドの記録磁界強度分布の測定方法が提供される。
【０００８】
本発明によれば、測定対象となる磁気ヘッドの所定の記録電流における最大記録磁界強度よりも室温において高い保磁力を有する測定用媒体を用いる。そして、測定用媒体に、記録素子の媒体対向面の一部に対応する記録層の一部の領域を加熱することで、加熱された記録層の領域がそれ以外の記録層の領域よりも保磁力が低下する。そのため、加熱された上記一部の領域のみが磁気ヘッドからの記録磁界により磁化されて磁気トラックが形成される。その磁気トラックの再生出力を測定し、再生出力を磁界強度に変換することで、記録磁界の磁界強度が検出可能となる。さらに、レーザ光照射位置を変更しつつ多数のレーザ光照射位置に対応する再生出力を測定することで磁気ヘッドの記録磁界強度分布を求めることができる。よって、簡便な方法で磁界強度分布を測定できる。
【０００９】
なお、「記録磁界」は、特に断らない限り、本明細書および特許請求の範囲では、記録素子の磁気ギャップ部付近に発生する記録を担う磁界のみならず、磁気ギャップ付近以外に発生する磁界、いわゆる漏洩磁界をも含むこととする。
【００１０】
本発明の他の観点によれば、記録素子を有する磁気ヘッドの記録磁界強度分布の測定装置であって、前記磁気ヘッドの位置決め手段と、基板と、該基板上に記録層を有する測定用媒体と、前記測定用媒体を加熱すると共に、加熱位置を走査可能な加熱手段と、前記加熱手段により、記録素子の媒体対向面の一部に対応する記録層の一部の領域を所定の温度に加熱した状態で、前記記録素子により記録磁界を発生させて記録層に磁気的なトラックを形成する記録手段と、前記トラックの再生出力を測定する再生出力測定手段と、前記再生出力を記録磁界強度に変換する演算手段と、を備え、前記測定用媒体は加熱により保磁力が低下してなり、前記所定の温度は、前記一部の領域に磁気ヘッドから印加される記録磁界の強度よりもその保磁力が低くなる温度であることを特徴とする磁気ヘッドの記録磁界強度分布の測定装置が提供される。
【００１１】
本発明によれば、上記の磁気ヘッドの記録磁界強度分布の測定方法が行える測定装置を提供できる。
【００１２】
本発明のその他の観点によれば、記録素子を有する磁気ヘッドの製造方法であって、前記磁気ヘッドの検査工程を含み、前記検査工程は、前記磁気ヘッドを、記録層を有する測定用媒体上に離隔して配置する第１のステップと、前記記録素子の媒体対向面に対向する前記記録層の一部の領域を加熱すると共に、前記所定の記録電流を記録素子に供給し、該記録素子から記録磁界を発生させる第２のステップと、前記一部の領域に形成された磁気トラックの再生出力を測定する第３のステップと、加熱される前記一部の領域を異ならせて第２のステップと第３のステップとを繰り返す第４のステップと、前記一部の領域毎に得られた再生出力を記録磁界強度分布に変換する第５のステップと、前記記録磁界を発生する位置または該位置での記録磁界強度が、所定の範囲内であるか否かを比較して、該範囲内の場合は良品と判定し、範囲外の場合は不良品と判定する第６のステップと、を有し、前記一部の領域は、記録素子の媒体対向面の一部に対応し、前記測定用媒体は、加熱により保磁力が低下してなり、前記第２のステップにおいて、前記一部の領域の加熱は、該一部の領域に磁気ヘッドから印加される記録磁界の強度よりもその保磁力が低くなる温度に設定されることを特徴とする磁気ヘッドの製造方法が提供される。
【００１３】
本発明によれば、測定対象の磁気ヘッドを破壊することなく、簡便な方法で磁気ヘッドの記録磁界強度分布を検査可能な磁気ヘッドの製造方法が提供できる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、簡便に行え、測定精度の良好な記録磁界強度分布の測定方法、その測定装置、および磁気ヘッドの製造方法を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下図面を参照しつつ実施の形態を説明する。
【００１６】
（第１の実施の形態）
図１は、本発明の第１の実施の形態に係る磁気ヘッドの磁界強度分布の測定装置の概略構成図である。
【００１７】
図１を参照するに、磁気ヘッドの磁界強度分布の測定装置１０は、測定用媒体５０、磁界強度分布の測定対象となる磁気ヘッド１１、磁気ヘッド１１の位置決め機構１４およびその制御を行う位置決め制御部１３、測定用媒体５０にレーザ光を照射するレーザ光照射部１６およびその制御を行う照射制御部１５、磁気ヘッド１１によって記録されたトラックプロファイルを再生する再生ヘッド６０、再生ヘッド６０の位置決め機構６４およびその制御を行う位置決め制御部６３、磁気ヘッド１１および再生ヘッド６０の記録再生動作を行う記録制御部１９、再生出力測定部２１、測定用媒体５０を回転させる回転駆動部１８、測定装置１０の全体を制御する制御演算部２２およびその入力部２３、メモリ２４、および表示部２５等から構成される。
【００１８】
測定装置１０は、メモリ２４に記憶されたプログラムや入力部２３から入力された命令に従って動作し、磁気ヘッド１１の記録磁界強度分布を測定する。プログラムは後の図６に示すフロー図のステップを実行させるものである。最初に、測定対象である磁気ヘッド１１について説明する。
【００１９】
図２は、磁気ヘッドの斜視図、図３は、図２に示す磁気ヘッドのヘッドスライダの媒体対向面の要部構成図である。図３に示すＸ軸方向を記録素子長手方向、Ｙ軸方向を記録素子幅方向あるいは単に素子幅方向と称する。記録素子長手方向は、通常、記録素子および再生素子の各層の積層方向である。
【００２０】
図２および図３を先の図１と共に参照するに、磁気ヘッド１１は、大略、板状の金属材料からなるサスペンション３１と、サスペンション３１の先端部に係止されたジンバル３２と、ジンバル３２に固定され、記録素子３６および再生素子３８からなる素子部３３を有するヘッドスライダ３４から構成される。また、サスペンション３１には、記録素子３６および再生素子３８と記録再生制御部１９とを電気的に接続し、記録および再生信号が伝送される信号配線３５が設けられている。
【００２１】
サスペンション３１はその基部が、測定装置１０の位置決め機構１４に固定される。ヘッドスライダ３４は、測定用媒体５０の回転により、ヘッドスライダ３４の媒体対向面と測定用媒体５０の表面との間に生じる空気ベアリングにより測定用媒体５０上を浮上する。
【００２２】
図３に示すように、磁気ヘッド１１の素子部３３は、記録素子３６および再生素子３８からなり、再生素子３８は、軟磁性材料からなるシールド層４０ａおよび４０ｂと、シールド層４０ａと４０ｂとに挟まれた感磁部である磁気抵抗効果膜３９からなる。磁気抵抗効果膜３９は、信号磁界を検出し電気信号に変換する。磁気抵抗効果膜３９は、その構造は特に限定されないが、例えば、ＣＩＰ（Ｃｕｒｒｅｎｔ−Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ）型やＣＰＰ（Ｃｕｒｒｅｎｔ−Ｐｅｒｐｅｎｄｉｃｕｌａｒ−ｔｏ−Ｐｌａｎｅ）型のスピンバルブ膜や、ＴＭＲ（強磁性トンネル効果）膜等からなる。なお、本実施の形態では磁気ヘッド１１は再生素子３８が必須ではないが、本実施の形態では、再生素子３８をも有する複合型の磁気ヘッド１１を例に説明する。
【００２３】
記録素子３６は、軟磁性材料、例えば、ＦｅＣｏ合金やＮｉＦｅ合金等からなる下部磁極３６ａおよび上部磁極３６ｂと、下部磁極３６ａと上部磁極３６ｂとに挟まれたアルミナ膜４１からなる記録ギャップ部３７等からなる。下部磁極３６ａと上部磁極３６ｂとは媒体対向面から奥行き方向に配置された軟磁性材料からなるヨークを介して磁気的に接続されている。さらに、ヨークを巻回するように記録コイル（図４に示す符号４３）が設けられている。記録コイル４３に記録電流が供給されることで、下部磁極３６ａおよび上部磁極３６ｂから記録磁界が漏れ出しあるいは吸い込まれ、記録ギャップ部３７表面の測定用媒体５０側に記録磁界が生じる。なお、アルミナ膜４１は、記録ギャップ部３７を形成する他、シールド４０ａの下側や、シールド４０ｂと下部磁極３６ａとの間や、下部磁極３６ａおよび上部磁極３６ｂを覆うように形成されている。
【００２４】
図１に戻り、再生ヘッド６０は、上述した磁気ヘッド１１の再生素子３８と同様の構成を有し、シールド層６１ａおよび６１ｂと、シールド層６１ａおよび６１ｂに挟まれた磁気抵抗効果膜６２を有する。再生ヘッド６０は、磁気抵抗効果膜６２の幅（図３に示す磁気抵抗効果膜３９の素子幅方向の長さ）が、磁気ヘッド１１の記録素子３６の幅よりも小さい方が好ましい。これにより、後述する再生出力の測定において素子幅方向の磁気トラック（図４に示す磁気トラック５３ａ）の再生出力を、より高い位置分解能で測定できる。したがって、磁気ヘッド１１の磁界強度分布をより詳細に測定できる。なお、再生ヘッド６０は記録素子をさらに有する複合ヘッドでもよい。
【００２５】
位置決め機構１４，６４はそれぞれ磁気ヘッド１１および再生ヘッド６０を支持する共に、位置決め制御部１３、６３からの指示に基づいて、径方向位置を制御する。
【００２６】
なお、測定用媒体５０に予めトラックサーボ情報を記録し、磁気ヘッド１１および再生ヘッド６０の位置制御を行ってもよい。磁気ヘッド１１および再生ヘッド６０の各々によって再生されたトラックサーボ情報が記録再生制御部１９を介して制御演算部２２に供給される。そして、制御演算部２２は、トラックサーボ情報に基づいてそれぞれのヘッド１１，６０の位置ずれ補正信号を位置決め制御部１３，６３に送出する。この位置ずれ補正信号に基づいて位置決め制御部１３，６３が磁気ヘッド１１および再生ヘッド６０の位置制御を行う。これにより、磁気ヘッド１１および再生ヘッド６０の位置をより正確に制御でき、高い位置精度でトラック位置決めが可能となる。これにより、より位置精度が良好な磁気トラックの再生出力が得られ、ひいては、磁気ヘッド１１の磁界強度分布の位置精度がより良好となる。
【００２７】
レーザ光照射部１６は、図示を省略するが、例えば、半導体レーザ等の光源、集光レンズ、照射位置の位置決め機構、フォーカスサーボ機構等からなる。レーザ光照射部１６は、照射制御部１５により供給される、レーザ照射位置およびレーザパワーの制御信号に基づいて測定用媒体５０にスポット状のレーザ光を照射する。
【００２８】
照射制御部１５は、照射位置制御部１５ａおよびレーザパワー制御部１５ｂからなる。照射位置制御部１５ａは、レーザ光照射位置、すなわち、測定用媒体５０（図４に示す下地層５２（記録層５３））に形成するレーザスポットの照射位置を設定する。また、レーザパワー制御部１５ｂは、レーザパワーを例えば０．１ｍＷ〜数十ｍＷの範囲で制御する。
【００２９】
また、レーザ光照射部１６は、図１に示すように磁気ヘッド１１に対して測定用媒体５０の反対側（裏面側）に配置され、レーザ光を測定用媒体５０の裏面側から照射する。これにより、後述するように、磁気ヘッド１１の媒体対向面の各部分に対向する測定用媒体５０の記録層（図４に示す記録層５３）の位置に照射可能となる。
【００３０】
記録再生制御部１９は、制御演算部２２の命令に基づいて、所定の記録周波数の記録信号を記録電流に変換し磁気ヘッド１１の記録コイル（図４に示す記録コイル４３）に送出し、磁気ヘッド１１により測定用媒体５０への記録動作を行う。また、記録再生制御部１９は、再生ヘッド６０により得られた再生信号を再生出力測定部２１に送出する。
【００３１】
再生出力測定部２１は、再生信号の波高値を検出してＡ／Ｄ変換を行い、デジタルデータ（再生出力データ）として制御演算部２２に送出する。
【００３２】
制御演算部２２は、例えばパーソナルコンピュータである。制御演算部２２は、再生出力データとこれに対応するレーザ光照射位置の情報、並びにヘッドの位置情報をメモリ２４に記録する。また、制御演算部２２は、再生出力データから磁界強度に変換する演算を行う。さらに、制御演算部２２は、磁気ヘッド１１の磁界強度を、ＲＡＭ、ハードディスク装置、光ディスク装置等のメモリ２４に記録したり、表示部２５に表示したりする。
【００３３】
なお、制御演算部２２は、後の第２の実施の形態では、測定用媒体５０の保磁力と温度との関係（後の図５に示す。）に基づいて、再生出力が出現した温度Ｔａを磁気ヘッドの磁界強度に変換する機能を有する。
【００３４】
次に、測定装置１０を用いて磁気ヘッド１１の磁界強度分布を測定する方法を説明する。最初に測定原理を説明する。
【００３５】
図４は、第１の実施の形態に係る磁気ヘッドの磁界強度分布の測定方法を説明するための図であり、図１に示す測定対象の磁気ヘッド、再生ヘッド、測定用媒体、およびレーザ光照射部の模式的拡大図である。
【００３６】
図４を参照するに、測定用媒体５０は、基板５１、その基板５１上に下地層５２、記録層５３、および、保護膜５４が順次積層されて構成される。
【００３７】
測定用媒体５０は、磁気ヘッド１１の記録磁界の方向（例えば、基板面に平行な方向や垂直な方向や斜め方向）のうち、測定目的の記録磁界の方向に沿って磁化容易軸が配向する記録層を有する磁気記録媒体を選択する。
【００３８】
例えば、測定目的の記録磁界の方向が基板面に平行な場合は、記録層５３の磁化容易軸が基板面に略平行であるいわゆる面内磁気記録媒体を用いる。また、測定目的とする記録磁界の方向が基板面に垂直の場合は、記録層５３の磁化容易軸が基板面に略垂直な磁気記録媒体を用いる。さらに、測定目的となる記録磁界の方向が基板面に斜め方向の場合は、記録層５３の磁化容易軸が基板面に対して０度よりも大きくかつ９０度よりも小さい角度を有するいわゆる斜め配向磁気記録媒体を用いる。第１の実施の形態では、磁気ヘッド１１の基板面に平行な方向の磁界強度（いわゆる水平磁界強度）を測定することとし、測定用媒体５０に面内磁気記録媒体を用いる。
【００３９】
基板５１は、レーザ光を透過する基板であれば特に限定されないが、例えばガラス基板や樹脂基板のような透明基板であることが好ましい。
【００４０】
また、基板５１の表面、あるいは基板５１の表面にさらにＮｉＰ膜等の配向制御膜（不図示）を設け、基板５１の表面あるいは配向制御膜の表面のいずかに記録方向に沿って、線状の凹凸、いわゆるテクスチャを形成してもよい。これにより、記録層５３の磁化容易軸が記録方向に配向し、一軸異方性を有する記録層５３が形成される。その結果、記録層５３の磁化容易軸の揺らぎが小さくなるので、テクスチャを形成しない場合よりも高分解能で磁界強度分布を測定可能になる。なお、配向制御膜を設けた場合は、レーザ光は配向制御膜に照射され、熱伝導により下地層５２を介して記録層５３が加熱される。
【００４１】
下地層５２は、例えば、Ｃｒ、Ｃｒ合金（例えば、ＣｒＭｏ、ＣｒＶ等。）からなる。これにより、下地層５２はＣｏ基合金からなる記録層の磁化容易軸を基板面に平行に配向させられる。
【００４２】
また、記録層５３は、Ｃｏ基合金等の公知の強磁性材料を用いることができるが、磁気異方性の大きなＣｏＰｔ、ＣｏＣｒＰｔ、ＣｏＣｒＰｔ−Ｍ（ＭがＢ、Ｍｏ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｗ、およびＣｕからなる群のうち少なくとも１種である。）等のＣｏおよびＰｔを含む強磁性材料からなることが好ましい。これにより、記録層５３の強磁性材料にＰｔを添加することで保磁力を増加でき、次に説明するように、室温において磁気ヘッド１１の最大記録磁界強度よりも高い保磁力の測定用媒体が容易に得られる。また、記録層５３の結晶粒子を微細化、例えば平均粒子径を１０ｎｍ以下に設定しても、残留磁化の熱安定性が良好であるので、残留磁化が測定中に減少することを抑制できる。
【００４３】
また、記録層５３は、各々強磁性材料からなる２層の磁性層とそれらの間に例えば厚さ０．７ｎｍのＲｕからなる非磁性結合層を有し、２層の磁性層が互いに反強磁性的に結合した構造を有してもよい。このような記録層５３は、残留磁化の熱安定性がいっそう良好であるのでさらに好ましい。
【００４４】
なお、記録層２３には、強磁性材料からなる多数の結晶粒子と、個々結晶粒子を取り囲む非磁性材料（例えばＳｉＯ2）からなる、いわゆるグラニュラー構造の記録層を用いてもよい。この場合も強磁性材料は、磁気異方性の大きく熱安定性が良好な点で、上記のＣｏおよびＰｔを含む強磁性材料からなることが好ましい。なお、この場合は、下地層５２と記録層５３との間にＲｕまたはＲｕを主成分とするＲｕ合金からなる中間層をさらに形成することが好ましい。高記録密度でのジグザグノイズを低減できるので、より微小な領域の再生出力が測定可能となり、再生出力の位置分解能が高まる。
【００４５】
保護膜５４は、カーボン膜や水素化カーボン等の公知の材料を用いることができ、さらに、図示を省略するが保護膜５４上に潤滑層が形成されてもよい。
【００４６】
次に測定原理を説明する。図４を図３と共に参照するに、信号記録時には、測定用媒体５０の表面上に浮上した測定対象の磁気ヘッド１１から記録磁界（および漏洩磁界）が測定用媒体５０に印加される。磁気ヘッド１１の記録ギャップ部３７付近の下部磁極３６ａおよび上部磁極３６ｂから記録磁界が測定用媒体側に発生し、記録層５３に印加される。記録ギャップ部３７付近の記録磁界Ｈ1（太線の矢印で示す。）はその強度が最も大きくなるが、媒体対向面の他の部分からも比較的弱い漏洩磁界Ｈ2（破線の矢印で示す。）が発生する。
【００４７】
さらに信号記録時には、レーザ光照射部１６から測定用媒体５０の裏面から基板５１をレーザ光が透過して下地層５２にレーザスポットＢＳが形成される。下地層５２および記録層５３が加熱され、レーザスポットＢＳの大きさよりも小さい範囲の微小領域ＨＡが所定の温度に上昇する。そのため、微小領域ＨＡでは、室温のときよりも記録層５３の保磁力が低下して、より小さな磁界強度により微小領域ＨＡ中の記録層５３が磁化されるようになる。
【００４８】
加熱された微小領域ＨＡは、測定する方向において、記録素子の寸法よりも小さいことが必要であり、小さいほどよい。そのため、レーザスポットＢＳの大きさは、小さいほどよく、スポット径が、例えば、０．９μｍ以下に範囲に設定されることが好ましく、さらにスポット径は回折限界程度の大きさが特に好ましい。近接場光を用いた場合には特に小さなスポット径とすることができる。  また、レーザスポットＢＳにより加熱された微小領域の温度に特に制限はないが、測定用媒体５０の損傷が起きない程度の温度に設定されるべきである。
【００４９】
図５は、第１の実施の形態の測定原理を説明するための図である。図５は縦軸が測定用媒体の記録層の保磁力を示し、横軸は記録層の温度を示している。
【００５０】
図５を図４と共に参照するに、本発明では、測定用媒体５０は、加熱された温度（図５に示すＴch）における保磁力（図５に示すＨch）は、室温ＴRTにおける保磁力Ｈｃよりも低くなる。測定用媒体５０は、その室温ＴRTにおける保磁力Ｈｃが、磁気ヘッド１１に所定の記録電流を供給した場合に発生する最大記録磁界強度Ｈｈｍよりも高い方が好ましい。
これにより、加熱された微小領域ＨＡのみが記録され、それ以外の領域に最大記録磁界強度Ｈｈｍの記録磁界が印加されても記録層５３は磁化されないからである。もちろん、測定用媒体５０の室温ＴRTにおける保磁力Ｈｃがそれよりも低くてもよい。この場合、加熱記録された微小領域ＨＡからの再生信号が、微小領域ＨＡ以外の領域の再生信号よりも大きくなる程度の室温ＴRTにおける保磁力Ｈｃである必要がある。
測定用媒体５０は、磁気ヘッド１１の最大記録磁界強度Ｈｈｍに応じて、記録層５３の強磁性材料が選択されることが好ましい。さらに、磁気ヘッド１１に流す記録電流の大きさに応じて最大記録磁界強度Ｈｈｍが変化するので、それに合わせて記録層５３の強磁性材料が選択される。
【００５１】
そこで、レーザ光照射により記録層５３の微小領域ＨＡを加熱（温度Ｔch）することで、微小領域ＨＡの保磁力をＨchに低下させる。そのとき、加熱された微小領域ＨＡの保磁力Ｈchよりも大きな磁界（記録磁界Ｈ1あるいは漏洩磁界Ｈ2）が磁気ヘッド１１から印加された場合、微小領域ＨＡが磁化される。磁化された微小領域ＨＡは温度が室温に低下しても磁化Ｍ（白抜き矢印Ｍで示す。）が残り、記録層５３に磁気トラック５３ａが形成される。磁気トラック５３ａはその幅が微小領域の幅と略同等で、かつ測定用媒体５０の移動方向に沿って形成される。ここで形成された磁気トラック５３ａの磁化Ｍは、加熱状態で印加された磁界強度に対応する磁化量を有する。
【００５２】
なお、加熱状態での記録層５３の保磁力Ｈchは、できるだけ低く設定されることが好ましいが、例えば２ｋＯｅ以下に設定されることが好ましい。これにより、漏洩磁界をもれなく検出できる。
【００５３】
磁気トラック５３ａが形成された記録層５３は室温に戻ると保磁力がＨｃに戻るため、その状態で磁気ギャップ部３７付近で記録磁界Ｈ1（最大記録磁界強度Ｈｈｍ）が印加されても、磁気トラック５３ａの磁化Ｍはその影響を受けず残留する。すなわち、測定用媒体５０の移動方向ＲＤの上流側にレーザ光照射位置を設定しても、磁気ギャップ部３７の記録磁界Ｈ1の影響は受けないため、媒体対向面に対応する記録層５３のいかなる位置においても、漏洩磁界（あるいは記録磁界）の強度に応じた磁気トラック５３ａが形成される。そのため、媒体対向面に対応する記録層５３のいかなる位置における磁界強度の測定が可能となる。なお、磁気ヘッド１１にスキュー角をつけて測定位置への記録ギャップ部３７からの磁界を低減することもでき、この場合、室温での保磁力Ｈｃが最大記録磁界強度Ｈｈｍよりも小さくても測定可能である。
【００５４】
そして、磁気トラック５３ａの再生時には、レーザ光照射を停止（ＯＦＦ）して、再生ヘッド６０により記録層５３の磁気トラック５３ａを再生し、再生出力、例えば再生信号波形のピーク値を測定する。これにより磁化Ｍの大きさに応じた再生出力が得られる。後ほど説明するが、この再生出力を磁界強度に変化して、最終的に磁気ヘッド１１の磁界強度分布が得られる。
【００５５】
図６は、第１の実施の形態に係る磁気ヘッドの磁界強度分布の測定方法を示すフロー図である。なお、図６中の図９への分岐およびＳ１３４のステップは本測定法には含まれず、後ほど説明する再生素子の感磁部の位置測定方法で行うものである。
図６を図１および図４と共に参照しつつ、磁気ヘッドの磁界強度分布の測定方法を説明する。
【００５６】
最初に、初期設定を行う（Ｓ１０２）。初期設定では、測定装置１０に測定用媒体５０（消磁済み）の取付けを行い、測定用媒体５０を所定の回転数で回転させ、磁界強度分布の測定対象となる磁気ヘッド１１を測定用媒体５０上に浮上させると共に磁気ヘッド１１の位置決めを行う。また、磁気ヘッド１１に供給する所定の記録電流を設定する。記録電流は、所望の記録電流値および記録周波数が選択される。さらに、再生ヘッド６０を測定用媒体５０上に浮上させ、磁気ヘッド１１の磁界強度分布を求める半径位置に再生ヘッド６０を位置決めする。さらに、レーザ光照射部１６を、基準位置、例えば磁気ギャップ部３７の位置にレーザ光が照射されるように位置決めする。なお、ここで、磁気ヘッドによって測定用媒体５０の記録層を消去してもよい。
【００５７】
なお、磁気ヘッド１１および再生ヘッド６０のスキュー角は例えば０度に設定する。スキュー角は、磁気ヘッド１１の記録素子３６の記録素子長手方向が測定用媒体５０の移動方向（記録方向）となす角度であり、測定用媒体５０の基板面に平行な仮想面の面内における角度である。
【００５８】
また、磁気ヘッド１１は必ずしも測定用媒体５０上に浮上させる必要はなく、測定用媒体５０上に記録可能な距離を離隔して固定等して配置してもよい。これにより、磁気ヘッド１１は、加熱された記録層からの熱伝導が回避され、記録素子３６や再生素子３８の記録再生特性が安定する。
【００５９】
また、磁界強度分布を求める位置はレーザ光照射位置Ｌi（ｉ＝１〜ｎ）である。レーザ光照射位置Ｌiは、測定の目的に応じて適宜選択されるが、例えば、図３に示すＸ1軸上に沿って行う。Ｘ1軸は、磁気ギャップ部３７の中心を通り、かつＸ軸に平行な軸である。
【００６０】
次いで、レーザ光照射位置Ｌi（ｉ＝１）を設定する（Ｓ１０４）。レーザ光照射位置Ｌiは、照射位置制御部１５ａにより照射位置制御部１５ａによって設定される。
【００６１】
次いで、予め設定されたレーザパワーでレーザ光を照射し（Ｓ１０６）、磁気ヘッド１１の記録素子に、予め設定された記録電流を供給して信号記録を行う（Ｓ１０８）。これにより、レーザ照射位置、すなわち、加熱された微小領域ＨＡに磁気ヘッド１１からの記録磁界（漏洩磁界）が印加され記録層５３が磁化される。これにより記録層５３に磁気トラック５３ａが形成される。
【００６２】
次いで、レーザ光の照射を停止し（Ｓ１１０）、信号記録後少なくとも１周した後に再生ヘッド６０により磁気トラック５３ａの再生出力を測定する（Ｓ１１２）。具体的には、再生ヘッド６０を磁気トラック５３ａの半径位置に位置合わせを行って磁気トラック５３ａからの信号磁界を検出する。それにより得られた再生信号を記録再生制御部１９で増幅し、再生出力測定部２１により再生信号の振幅の平均値（再生出力）を求める。レーザ光照射位置Ｌiと再生信号とが１組のデータとなる。なお、再生ヘッド６０を磁気トラック５３ａの半径位置付近で半径位置を微小量ずつ変えながら再生信号の振幅値、いわゆるトラックプロファイルを測定してその最大値を再生出力としてもよい。
【００６３】
次いで、所望の全てのレーザ光照射位置Ｌiでの測定を行ったか否かを判定し（Ｓ１１４）、全てを行っていない場合（Ｓ１１４のＮＯ）は、レーザ光照射位置Ｌiを次のレーザ光照射位置Ｌiにして（Ｓ１１６）、さらに磁気トラック５３ａを消去する（Ｓ１１７）。磁気トラック５３ａの消去は、磁気ヘッド１１によりＡＣ消去またはＤＣ消去により行う。この際、レーザ光を磁気トラック５３ａ（記録層５３）に照射して、記録層５３の温度を上昇させて磁気ヘッドによって、より低い磁界で消去するようにしてもよい。
【００６４】
次いで、Ｓ１０４〜Ｓ１１２の各ステップを行う。全てのレーザ光照射位置Ｌiでの測定を行った場合（ｉ＝ｎ、Ｓ１１４のＹｅｓ）は、得られたレーザ光照射位置と再生出力との関係から磁界強度に変換する（Ｓ１１８）。このステップ（Ｓ１１８）では、まず、レーザ光照射位置Ｌiを、レーザ光照射位置に対向する磁気ヘッド１１の媒体対向面の位置に置換する。これにより、媒体対向面の位置と再生出力との関係が求まる。この関係は、媒体対向面に対応する再生出力のプロファイルであり、例えば後ほど説明する図８Ａおよび図８Ｂに示すプロファイルである。
【００６５】
さらに、このステップ（Ｓ１１８）では、媒体対向面の位置と再生出力との関係において、再生出力を磁界強度に変換する。レーザ光照射位置（再生出力を測定した位置）のうち、少なくとも１カ所の記録磁界強度を別途測定しておく。この測定は、例えば、第２の実施の形態の測定方法、あるいは適用可能な場合は背景技術で説明した電子ビームを用いる特許文献１の方法により測定する。この記録磁界強度とその位置の再生出力との関係から、記録磁界強度と再生出力とが比例するとして、再生出力を磁界強度に変換する。例えば、レーザ光照射位置Ｌiに磁気ギャップ部３７に対応する記録層５３の位置を含めておき、磁気ギャップ部３７において得られた再生出力のピーク値Ｖｐ（ノイズレベルを差し引いた値）と別途測定した磁気ギャップ部３７での最大記録磁界強度Ｈｈｍとの比（＝Ｈｈｍ／Ｖｐ）から、磁界強度と再生出力とが比例するとして再生出力を磁界強度に変換する。これにより、記録層５３の位置における磁気ヘッド１１の記録磁界強度分布が得られる。
【００６６】
この測定方法では、測定対象となる磁気ヘッド１１の所定の記録電流における最大記録磁界強度Ｈｈｍよりも室温において高い保磁力を有する測定用媒体５０を用いる。そして、測定用媒体に微小なレーザスポットのレーザ光を照射して記録層を加熱することで、加熱された記録層の微小領域ＨＡがそれ以外の記録層５３の領域よりも保磁力が低下する。そのため、微小領域のみが磁気ヘッド１１からの記録磁界（漏洩磁界を含む。）により磁化されて磁気トラックが形成される。その磁気トラックから再生ヘッド６０により再生出力を測定し、再生出力を磁界強度に変換することで、記録磁界の磁界強度が検出可能となる。さらに、レーザ光照射位置Ｌiを変更して多数のレーザ光照射位置に対応する再生出力を測定することで磁気ヘッド１１の記録磁界強度分布を求めることができる。よって、簡便な方法で磁界強度分布を測定できる。
【００６７】
また、この測定方法では、磁気ヘッド１１を固定して、レーザ光照射位置を異ならせて測定するので、磁気ヘッド１１の移動に起因する位置ずれ等の誤差を抑止できる。
【００６８】
なお、この測定方法では、再生ヘッド６０によって再生出力を測定したが、磁気ヘッド１１の再生素子３８を用いて再生出力を測定してもよい。この場合は、測定位置（すなわちレーザ光照射位置）によっては磁気ヘッド１１を移動して再生出力を測定しなければならないが、再生ヘッド６０を用いる煩雑さを回避できる。
【００６９】
なお、上述した磁界強度分布の測定方法において、媒体対向面に対応する再生出力分布が得られた段階まで、すなわち、磁界強度に換算する前段階までであっても、本発明の第１の実施の形態に含まれるものである。すなわち、媒体対向面に対応する再生出力のプロファイルの形状から、磁気ヘッド１１の記録磁界強度分布に関する有効な情報が得られるためである。すなわち、媒体対向面に対応する再生出力のプロファイルにより、例えば、磁気ヘッド１１の設計に基づいてシミュレーションして得られた磁界強度分布と、再生出力のプロファイルとを比較することにより、磁気ヘッド１１の設計では意図されていない異常な磁界の漏れ（サブピーク）等を発見できる。
【００７０】
また、上述した磁界強度分布の測定方法において、磁気ヘッド１１のスキュー角を０度に設定したが、０度に限定されるわけではなく、±１０度でもよく、さらに±１０度よりも絶対値が大きい角度に設定してもよい。
【００７１】
次に、第１の実施の形態の実施例として、先の図３に示す構造の磁気ヘッドについて磁界強度分布の測定を行った例を説明する。
【００７２】
図７は、実施例のレーザ光照射位置を説明するための図である。
【００７３】
図７を参照するに、本実施例では面内記録方式の磁気ヘッド、および測定用媒体として記録層の磁化容易軸が面内に配向した面内記録媒体を用いて磁気ヘッドの記録磁界強度分布を測定した。磁気ヘッドの構成は先の図３の構成と同様であり、上部磁極は、０．２５μｍの幅（素子幅方向に沿った長さ）を有する。また、測定用媒体として、ガラス基板上にＣｒ系合金の下地層、および室温での保磁力が５．３ｋＯｅ、下記のレーザ光によって加熱された際の保磁力の温度変化が約２５Ｏｅ／度の測定用媒体を用いた。
【００７４】
またレーザ光照射部として、波長が６５５ｎｍのレーザヘッドを用いた。レーザヘッドにより測定用媒体のガラス基板側からレーザ光を入射させ、下地層５２（記録層５３）に０．９μｍ径のレーザスポットＢＳを形成した。レーザスポットＢＳを形成した位置（レーザ光照射位置）は、磁気ギャップ部中央を原点として、Ｘ1軸に沿って上部磁極３６ｂ側の−２μｍの位置から再生素子３８側の約８．５μｍまでである。また、測定ピッチＰM（レーザ光照射位置のピッチ）を０．１μｍとした。なお、Ｘ1軸は、記録素子長手方向（Ｘ軸方向）に平行でかつ素子幅方向の中心部（記録ギャップ部の中心Ｏ）を通るものである。
【００７５】
実施例の測定方法は、図６のフロー図に示す測定方法と同様である。なお、記録電流は５０ｍＡ、記録周波数は１７６ｋＦＣＩに設定した。この記録電流は、上記の磁気ヘッドを保磁力が４．５ｋＯｅ程度の磁気ディスクの消去時に流す記録電流と略同等である。
【００７６】
図８Ａは、実施例のレーザ光照射位置での再生出力を示す図、図８Ｂは、図８Ａの再生素子付近の再生出力を示す図である。図８Ａおよび図８Ｂの縦軸は再生出力を示し、測定用媒体の略１周に亘って形成されたトラックの平均出力を示す。また、横軸は、図７に示す磁気ギャップ部の中心ＯからＸ1軸に沿った距離であり、距離のマイナス側は記録素子の上部磁極側を示し、プラス側は再生素子側を示す。また、比較のため、レーザ光を照射しない場合の再生出力を破線で示している。
【００７７】
図８Ａおよび図８Ｂを参照するに、レーザ光を照射しない場合は、Ｖ0＝０．３６ｍＶの再生出力が得られているがこれはノイズレベルに相当する。なお、室温での保磁力Ｈｃが最大記録磁界強度Ｈｈｍよりも小さい測定用媒体の場合には記録ギャップ部で記録された信号レベルに相当する。加熱記録された領域の信号はこのレベルよりも強く記録され、Ｖ0よりも大きな再生出力が得られる。一方、レーザ光を照射した場合は０．３６ｍＶよりも再生出力が増加し、記録ギャップ部（距離＝０付近）において再生出力が最大となる。また、記録ギャップ部以外でも再生出力が得られており、記録ギャップ部から再生素子（距離が約３μｍ以上）に向かって次第に減少し、感磁部である磁気抵抗効果膜（距離＝４．４μｍ付近）では、レーザ光を照射しない場合と略同等になっていることが分かる。再生素子では、記録時（記録磁界が発生している時）でも磁気抵抗効果膜に漏洩磁界が影響しない構造になっているので、再生出力がノイズレベルであることと一致している。
【００７８】
また、０．９μｍ径のレーザスポットＢＳで測定ピッチＰMを０．１μｍとしたが、十分な位置分解能を有する再生出力が得られていることが分かる。
【００７９】
さらに、記録ギャップ部（距離＝０付近）の再生出力の最大値Ｖｐ（０．５２ｍＶ）とノイズレベル（０．３６ｍＶ）との差（０．１６ｍＶ）と、別途測定した磁気ギャップ部での最大記録磁界強度Ｈｈｍとの比から、再生出力を磁界強度に変換して磁気ヘッドの磁界強度分布を求めることができる。
【００８０】
次に、第１の実施の形態に係る磁気ヘッドの磁界強度分布の測定方法において、さらに、再生素子の感磁部の位置測定を追加してもよい。この測定では、図１に示す測定装置を引き続いて用いる。また、レーザ光照射位置Ｌiは、上述した実施例のように、Ｘ１軸上の位置に設定され、さらに再生素子の感磁部を含むように設定される。
【００８１】
図９は、再生素子の感磁部の位置測定方法を示すフロー図、図１０は、再生素子の感磁部の位置の測定原理を説明するための図である。図中、先に説明した部分に対応する部分には同一の参照符号を付し、説明を省略する。
【００８２】
図９および図１０を図６と共に参照するに、図６に示す測定方法において、再生出力の測定（Ｓ１１２）の後に、レーザ光照射位置Ｌiをそのままにして、図９のフロー図に示す各ステップを行う。なお、磁気ヘッド１１の再生用レーザパワーＱｋ（ｋ＝１〜ｌ）は、Ｑ１からＱｌへ次第に増加するようにレーザパワーが配列される。
【００８３】
次いで、レーザ光照射部１６により再生用レーザパワーＱｋ（ｋ＝１）のレーザ光をレーザ光照射位置Ｌiに照射（Ｓ１２４）する。次いで、磁気ヘッド１１の再生素子３６により上記トラック（図６のＳ１０８において形成されたトラック）の再生出力を測定する（Ｓ１２６）。
【００８４】
次いで、レーザ光の照射を停止（ＯＦＦ）し（Ｓ１２８）、所望の全ての再生用レーザパワーＱkについて測定を行ったか否かを判定し（Ｓ１３０）、全てを行っていない場合（Ｓ１３０のＮＯ）は、次のレーザパワーＱｋにして（Ｓ１３２）、Ｓ１２２〜Ｓ１３２を行う。
【００８５】
所望の全ての再生用レーザパワーＱｋでの測定を行った場合は（ｋ＝ｌ、Ｓ１３０のＹｅｓ）、図６のＳ１１４のステップに進む。以上のステップ（Ｓ１２２〜Ｓ１３２）により、レーザ光照射位置Ｌi（１箇所）での再生用レーザパワーＱｋと再生出力との関係が得られる。
【００８６】
次いで、図６に示すフロー図に示すように、磁界強度変換（Ｓ１１８）の後に、再生素子の感磁部の位置検出を行う（Ｓ１３４）。この時点では、レーザ光照射位置Ｌiの全て（ｉ＝１〜ｎ）について、再生用レーザパワーＱｋと再生出力との関係が得られている。再生用レーザパワーＱｋ毎にレーザ光照射位置Ｌiに対して再生出力をプロットする。そして、得られた曲線が最小値を示す位置が再生素子３８の感磁部（磁気抵抗効果膜３９）の位置となる。
【００８７】
なお、この測定原理は次のように推察される。図１０を参照するに、測定用媒体５０の記録層５３に形成された磁気トラック５３ａの磁化（残留磁化）Ｍ1は、再生用レーザパワーＱｋのレーザ光により記録層５３が十分に加熱されると、加熱された微小領域ＨＡでは磁化量が減少した磁化Ｍ2となる。したがって、磁化Ｍ2から漏洩する磁界Ｈｍの強度が減少する。そして、測定用媒体５０の移動により磁化Ｍ2を有する記録層５３の領域が微小領域ＨＡを外れると記録層５３の温度が低下し、もとの磁化量の磁化Ｍ1に戻る。この磁化量の変化の速度が高速であるため、磁気抵抗効果膜３９に対向する位置から外れた記録層５３の領域、例えば磁気抵抗効果膜３９よりも測定用媒体５０の移動方向ＲＤの下流（紙面右側）の領域がレーザ光照射部により加熱された場合は、磁化Ｍ１が検出される。また、磁気抵抗効果膜３９よりも測定用媒体５０の移動方向ＲＤの上流（紙面左側）の領域がレーザ光照射部により加熱されると、磁化は一旦磁化Ｍ２に変化するが、磁気抵抗効果膜３９の位置では、温度が低下して磁化Ｍ２から例えば磁化Ｍ１に戻った状態の再生出力が得られる。一方、磁気抵抗効果膜３９に対向する位置付近の記録層５３の領域が加熱されると、磁化Ｍ2に応じた再生出力が磁気抵抗効果膜３９によって検出され、再生出力が低下する。そのため、再生出力が最小値を示すレーザ光照射位置Ｌiに磁気抵抗効果膜３９が位置することになる。
【００８８】
図１１は、再生素子の感磁部の位置の測定例を示す図であり、上述した実施例と同様の構成を用いて、再生素子の感磁部（磁気抵抗効果膜）付近を図７に示すＸ1軸に沿って０．１μｍ毎に測定した例である。縦軸は上記トラックの再生出力を示し、測定用媒体の略１周に亘って測定し、その平均出力を示す。横軸は、図７に示す磁気ギャップ部３７の中心ＯからＸ1軸に沿った距離であり、距離のマイナス側は記録素子の上部磁極側を示し、プラス側は再生素子側を示す。ここでは、再生用レーザパワーＱｋを０．３、０．６、０．８、１、２、および３ｍＷにこの順で設定した。
【００８９】
図１１を図１０と共に参照するに、再生用レーザパワーが小さい場合はレーザ光照射位置に対して略平坦な再生出力が得られているが、再生用レーザパワーを増加するにしたがって、４．５μｍで再生出力が最小値を示している。この最小値を示すレーザ光照射位置の記録層５３に対向する位置に磁気抵抗効果膜３９が位置しており、図７に示す磁気ギャップ部３７の中心Ｏからの磁気抵抗効果膜３９の距離が分かる。図１１の場合は、図７に示す磁気ギャップ部３７の中心Ｏからプラス４．５μｍの位置に磁気抵抗効果膜３９が形成されていることが分かる。このようにして得られた磁気抵抗効果膜３９の位置は、設計上の位置と略一致した。
【００９０】
この再生素子３８の感磁部（磁気抵抗効果膜３９）の位置測定は、磁気的に測定が可能であり、さらに簡便である。なお、再生素子の感磁部（磁気抵抗効果膜３９）の位置測定方法は次に説明する磁気ヘッドが垂直記録用磁気ヘッドである場合も適用できることはいうまでもない。
【００９１】
なお、図９に示す再生素子の感磁部の位置測定方法を図６に示すＳ１１２の後に行う代わりにＳ１１４のＹＥＳの後に行ってもよい。この場合は、再生素子の感磁部（磁気抵抗効果膜）に対向する領域の記録層に予め信号を記録し、次いで、図９に示す再生素子の感磁部の位置測定方法を行い、レーザ照射位置を変えながら記録再生による位置測定方法を繰り返し行い、最終的に図６に示すＳ１３４の再生素子の感磁部の位置検出を行う。
【００９２】
次に、上述した第１の実施の形態に係る磁気ヘッドの磁界強度分布の測定方法において、磁気ヘッドが垂直記録用磁気ヘッドの場合の測定方法を説明する。
【００９３】
図１２は、垂直記録用磁気ヘッドの記録磁界の様子を説明するための図である。図中、先に説明した部分に対応する部分には同一の参照符号を付し、説明を省略する。
【００９４】
図１２を参照するに、垂直記録用の磁気ヘッド７０は、その素子部が記録素子７１および再生素子３８からなる。再生素子３８は、図３および図４に示す再生素子３８と同様の構成を有する。また、記録素子７１は、媒体対向面から垂直磁気記録媒体（測定用媒体８０）に記録磁界を印加する主磁極７１ｂと、その記録磁界を還流させる補助磁極７１ａと、記録コイル４３等からなる。
【００９５】
測定用媒体８０は、基板５１と、基板５１上に軟磁性裏打層５２、記録層８３、保護膜５４等が積層されてなる。軟磁性裏打層８３は、軟磁性材料からなりその面内に磁化容易軸を有する。そのため、記録磁界による磁束は面内方向に通過する。
【００９６】
磁界強度分布の測定時には軟磁性裏打層８３にはレーザ光が照射され加熱されるが、軟磁性裏打層８３は加熱による温度変化の範囲内でその飽和磁化の変化が少ない方が好ましく、さらには略一定（飽和磁化の変化が２０℃の飽和磁化を基準として３％以内）であることが好ましい。これにより、軟磁性裏打層８３の変化が再生出力の変化に与える影響を抑制あるいは回避できるので、磁界強度を高精度に測定できる。
【００９７】
また、軟磁性裏打層は、加熱による温度変化の範囲内で保磁力の変化が少ない方が好ましく、さらには略一定（保磁力の変化が２０℃の保磁力を基準として１０％以内）であることが好ましい。これにより、軟磁性裏打層５２の効果を含めて記録時の磁界の状態をより正確に測定できる。
【００９８】
また、記録層８３は、例えばＣｏＣｒＰｔやＣｏＣｒＰｔ系合金かならなり、膜面に垂直に磁化容易軸が配向している。このため、磁気ヘッド７０の、膜面に垂直方向の磁界強度分布が測定可能となる。
【００９９】
記録素子７１は、記録コイル４３に記録電流が供給されることで、主磁極７１ｂから媒体対向面から測定用媒体側に記録磁界を発生させる。その記録磁界は記録層８３にその膜面に対して垂直に印加され、軟磁性裏打層８２内を介して補助磁極７１ａに還流する。したがって、軟磁性裏打層８２が主磁極７１ｂと共に実質的に記録素子７１の磁極として機能している。すなわち、記録素子７１は、その磁界強度分布が測定用媒体８０と相互に影響し合って形成される。そのため、垂直記録用の磁気ヘッド７０の記録磁界分布を測定するためには、実際の記録再生時と同様の構成で配置する必要がある。そのため、従来の電子線を用いた方法では、垂直記録用の磁気ヘッドの記録磁界強度およびその分布を精度良く測定することは困難であった。これに対して、本発明では実際の記録再生時と同様の構成で磁気ヘッド７０と測定用媒体８０を配置して記録磁界分布を測定するので、記録時の記録磁界分布を測定可能である。
【０１００】
図１３は、垂直記録用磁気ヘッドの磁界強度分布の測定方法を説明するための図である。図中、先に説明した部分に対応する部分には同一の参照符号を付し、説明を省略する。
【０１０１】
図１３を参照するに、信号記録時には、測定用媒体８０の表面上に浮上した測定対象の垂直記録用の磁気ヘッドから記録磁界Ｈ3および漏洩磁界Ｈ5が測定用媒体８０に印加される。記録素子７１の主磁極から記録磁界Ｈ3が測定用媒体８０側に発生し、記録層８３に印加される。主磁極付近の記録磁界Ｈ3（太線の矢印で示す。）が最も大きくなるが、媒体対向面の他の部分からも比較的弱い記録磁界Ｈ5（破線の矢印で示す。）が漏れ出している。
【０１０２】
さらに信号記録時のレーザ光照射部１６の動作およびレーザ光が照射された測定用媒体８０の作用は、図４の説明と同様であるので詳細な説明を省略する。記録層８３はレーザ光が照射された軟磁性層８２を介して加熱され、温度が上昇する。そのため、記録層８３の保磁力は室温のときよりも低下して、より小さな磁界強度により記録層８３が磁化され磁気トラックが形成される。また、垂直記録用磁気ヘッド７０の磁界強度分布の測定方法は、先の図６に示したフロー図と同様であるので、その説明を省略する。
【０１０３】
この測定方法では、垂直記録用の磁気ヘッドの記録時の磁界強度分布を求めることができ、さらに、精度良く磁界強度分布を求めることができる。
【０１０４】
（第２の実施の形態）
本発明の第２の実施の形態に係る磁気ヘッドの磁界強度分布の測定方法は、第１の実施の形態に係る磁気ヘッドの磁界強度分布の測定方法の変形例であり、磁界強度変換を異なる手法で行う以外は第１の実施の形態と同様の測定方法である。また、本実施の形態において用いられる測定装置、磁気ヘッド、および測定原理は、それぞれ、先の図１に示す測定装置、および図２および図３に示す磁気ヘッド、さらに図４および図５の測定原理と同様である。そのため、図１〜図５を参照しつつ、本実施の形態に係る測定方法について説明する。
【０１０５】
図１４は、本発明の第２の実施の形態に係る磁気ヘッドの磁界強度分布の測定方法を示すフロー図である。
【０１０６】
図１４を参照するに、この測定方法では、記録用レーザパワーＰjを異ならせて再生出力を測定する以外は、図６に示す測定方法と略同様である。具体的には、この測定方法では、初期設定（Ｓ１４２）の後、レーザ光照射位置Ｌiの設定（Ｓ１４４）、記録用レーザパワーＰjの設定（Ｓ１４６）、レーザ光照射ＯＮ（Ｓ１４８）、記録素子による信号記録（Ｓ１５０）、レーザ光照射ＯＦＦ（Ｓ１５２）、および再生出力の測定（Ｓ１５４）の各ステップを行う。このうち、Ｓ１４２、Ｓ１４４、Ｓ１４８〜Ｓ１５４は、それぞれ、図６に示すＳ１０２〜Ｓ１１２と同様に行う。記録用レーザパワーＰj（ｊ＝１〜ｍ）は、Ｐ１からＰmへレーザパワーが次第に増加するように配列されている。
【０１０７】
図１５は、再生出力とレーザパワーとの関係図である。図１５の縦軸は図１４のＳ１５４で得られた再生出力を示し、横軸は記録用レーザパワーを示す。
【０１０８】
図１５を図１４と共に参照するに、記録用レーザパワーＰjが増加するにつれて、信号記録時に磁気ヘッドから漏洩する磁界により記録層に形成された磁気トラックの再生出力は零または初期値から増加する。図１４において記録レーザパワーＰjを、ｊ＝１〜ｍに設定して（Ｓ１５８、Ｓ１４６）、磁気トラックを消去（Ｓ１５９）し、磁気トラックを記録後に再生出力を測定する動作（Ｓ１４８〜Ｓ１５４）を繰り返すことで、レーザ光照射位置Ｌi（１箇所）について図１５の関係が得られる。
全ての記録レーザパワーＰjについて再生出力の測定を終わった場合は（Ｓ１５６のＹＥＳ）、図１５の関係により、再生出力が出現し始めるレーザパワーＰａの検出を行う（Ｓ１６０）。この検出は、図１５の関係から、再生出力が出現し始めるレーザパワーＰａを求める。レーザパワーＰａを求める手法は、例えば、再生出力とレーザパワーとを最小二乗法を用いて再生出力が零になるレーザパワーを求める。なお、再生出力が出現したレーザパワーＰａを求める方法はこれに限定されない。
【０１０９】
なお、Ｐ1（最初の記録用レーザパワー）は少なくとも記録層が磁化されないパワーに設定されることが好ましい。これにより、精度良く再生出力が出現し始めたレーザパワーＰａを求められる。
【０１１０】
さらに、このステップ（Ｓ１６０）では、記録用レーザパワーと、記録用レーザパワーにより加熱されたときの記録層の温度との関係によりＰａに対応する再生出力が出現した温度Ｔａを求める。これにより、レーザ光照射位置Ｌiにおける再生出力が出現した温度Ｔａが得られる。
【０１１１】
次いで、レーザ光照射位置Ｌi（ｉ＝２〜ｎ）について同様にしてＴａを求める（Ｓ１４４〜Ｓ１６５）。
【０１１２】
次いで、レーザ光照射位置における再生出力が出現し始めた温度Ｔａを磁界強度に変換する（Ｓ１６６）。この変換は、図５に示す測定用媒体の保磁力と温度との関係に基づいて行う。すなわち、再生出力が出現し始めた温度Ｔａに対応する保磁力を図５の関係により求める。そして、得られた保磁力を磁界強度とする。これにより、各レーザ光照射位置Ｌi（ｉ＝１〜ｎ）における磁界強度が得られ、その結果、磁界強度分布が得られる。
【０１１３】
この方法では、第１の実施の形態と同様の効果が得られる。さらに、この方法では、保磁力と温度との関係を用いているのでより正確に磁界強度変換を行うことができ、高精度の磁界強度分布が得られる。
【０１１４】
なお、第２の実施の形態においても、先の図９に示した再生素子の感磁部の位置測定をさらに行ってもよく、その場合は、図１４に示す再生出力の測定（Ｓ１５４）の後に、図９に示す測定フローを行ってもよい。これにより、再生素子の感磁部の位置を精度良く測定できる。
【０１１５】
（第３の実施の形態）
本発明の第３の実施の形態に係る磁気ヘッドの製造方法は、上述した第１および第２の実施の形態に係る磁気ヘッドの磁界強度分布の測定方法を磁気ヘッドの検査工程に応用したものである。
【０１１６】
磁気ヘッドの製造工程は、ウェハに再生素子および記録素子を形成する素子部形成工程と、ウェハを短冊状に切り出したローバーに浮上面を形成する浮上面形成工程と、ローバーを個々のヘッドスライダに切り出してサスペンションに固定等する組立工程と、検査工程等からなる。
【０１１７】
先の図２を参照するに、磁気ヘッド１１のサスペンション３１とヘッドスライダ３４との組立工程の後に、磁気ヘッド１１の検査工程を行う。検査工程は、所定の記録電流値において記録素子から発生する磁界強度分布が基準となる磁気強度分布の範囲内か否かを判定する。その範囲内である場合は良品として、その範囲外の場合は不良品として取り除く。以下、具体的に検査工程を説明する。
【０１１８】
この検査は、図１に示す第１の実施の形態の測定装置１０を用いる。そして、図６に示すフロー図の一部のステップであるＳ１０２〜Ｓ１１６を行い、得られた再生出力と媒体対向面の位置との関係と、基準となる所定の範囲の再生出力と媒体対向面の位置との関係を比較して、その範囲内であるか否かの判定を行う。その範囲内である場合は良品と判定し、範囲外の場合は不良品と判定する。この検査では磁気ヘッドの良品と不良品とを選別すればよいので磁界強度変換（Ｓ１１８）を行わなくてもよい。
【０１１９】
もちろん、図６のフロー図のステップの全てを行って（但しＳ１３４を除く。）、検査対象の磁気ヘッドの記録磁界強度分布を求め、基準となる磁界強度分布の範囲内か否かを判定してもよい。
【０１２０】
また、他の検査として、図１４のフロー図のステップの全てを行って（但しＳ１３４を除く。）、記録磁界強度分布を求め、基準となる磁界強度分布の範囲内か否かの判定を行って、良品と不良品とを選別してもよい。
【０１２１】
また、上記の検査および他の検査に追加して、図６および図９〜図１１において説明した再生素子の感磁部の位置測定を検査項目として追加してもよい。そして、得られた再生素子の感磁部の位置が所定の範囲内か否かの判定を行って、良品と不良品とを選別してもよい。
【０１２２】
第３の実施の形態の製造方法によれば、磁気ヘッドの磁界分布強度を簡単な方法で間接的あるいは直接的に測定して良品か否かの判定をするので、信頼性の高い磁気ヘッドを製造することができる。
【０１２３】
以上、本発明の好ましい実施の形態について詳述したが、本発明は係る特定の実施の形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の範囲内において、種々の変形・変更が可能である。
【０１２４】
例えば、図１に示す測定装置では再生ヘッド６０を用いてトラックの再生出力を測定したが、この代わりに、探針型素子、例えば、磁気力顕微鏡（ＭＦＭ）を用いてもよい。この場合は再生出力の代わりに測定用媒体の表面の磁界強度を求める。これにより、磁界強度とレーザ光照射位置との関係は、例えば図８Ａに示す再生出力とレーザ光照射位置との関係と同様の関係が得られる。
【０１２５】
なお、以上の説明に関してさらに以下の付記を開示する。
（付記１）
記録素子を有する磁気ヘッドの記録磁界強度分布の測定方法であって、
前記磁気ヘッドを、記録層を有する測定用媒体上に離隔して配置する第１のステップと、
前記記録素子の媒体対向面に対向する前記記録層の一部の領域を加熱すると共に、前記所定の記録電流を記録素子に供給し、該記録素子から記録磁界を発生させる第２のステップと、
前記一部の領域に形成された磁気トラックの再生出力を測定する第３のステップと、
加熱される前記一部の領域を異ならせて第２のステップと第３のステップとを繰り返す第４のステップと、
前記一部の領域毎に得られた再生出力を記録磁界強度分布に変換する第５のステップとを含み、
前記一部の領域は、記録素子の媒体対向面の一部に対応し、
前記測定用媒体は、加熱により保磁力が低下してなり、
前記第２のステップにおいて、前記一部の領域の加熱は、該一部の領域に磁気ヘッドから印加される記録磁界の強度よりもその保磁力が低くなる温度に設定されることを特徴とする磁気ヘッドの記録磁界強度分布の測定方法。
（付記２）
前記第２のステップにおいて、前記一部の領域の加熱が前記レーザ光の照射によることを特徴とする付記１記載の磁気ヘッドの記録磁界強度分布の測定方法。
（付記３）
前記測定用媒体は、レーザ光を透過する基板と、該基板上に記録層が形成されてなり、
前記レーザ光は、測定用媒体に対して磁気ヘッドとは反対側から該基板を通して照射されてなることを特徴とする付記１または２記載の磁気ヘッドの記録磁界強度分布の測定方法。
（付記４）
前記測定用媒体は、加熱されない状態において前記記録素子が所定の記録電流に応じて発生する記録磁界の最大強度よりも高い保磁力を有することを特徴とする付記１〜３のうち、いずれか一項記載の磁気ヘッドの記録磁界強度分布の測定方法。
（付記５）
前記レーザ光のスポット径は、０．９μｍ以下に設定されることを特徴とする付記１〜４のうち、いずれか一項記載の磁気ヘッドの記録磁界強度分布の測定方法。
（付記６）
前記第３のステップは、再生ヘッドの再生素子を前記磁気トラックの位置に一致させる制御を行って再生出力を測定することを特徴とする付記１〜５のうち、いずれか一項記載の磁気ヘッドの記録磁界強度分布の測定方法。
（付記７）
前記第３のステップは、再生素子を前記磁気トラックの幅方向に移動させつつ再生出力のプロファイルを測定し、該プロファイルの最大値を最終的な再生出力とすることを特徴とする付記１〜５のうち、いずれか一項記載の磁気ヘッドの記録磁界強度分布の測定方法。
（付記８）
前記記録素子は、下部磁極と、磁気ギャップ部と、上部磁極とがこの順に配置されてなり、
前記第４のステップにおいて、前記一部の領域が、磁気ギャップ部を通り、下部磁極から上部磁極に亘る範囲に対向する領域に設定されてなることを特徴とする付記１〜７のうち、いずれか一項記載の磁気ヘッドの記録磁界強度分布の測定方法。
（付記９）
前記第４のステップにおいて、前記磁気ヘッドの位置を固定して、かつ前記レーザ光を照射する位置異ならせることで、前記一部の領域を異ならせることを特徴とする付記１〜８のうち、いずれか一項記載の磁気ヘッドの記録磁界強度分布の測定方法。
（付記１０）
前記磁気ヘッドは再生素子をさらに有し、
前記第３のステップの後に、前記一部の領域に所定のレーザパワーのレーザ光をそれぞれ照射しつつ、前記磁気ヘッドの再生素子によって、該一部の領域の他の再生出力を測定する第６のステップと、
前記第５のステップの後に、他の再生出力が最小値となる一部の領域に対応する位置を求めて、その位置を磁気ヘッドの再生素子の位置とする第７のステップと、をさらに備え、
前記第４のステップは、加熱される前記一部の領域を異ならせて第２のステップと第３のステップと第６のステップを行うことを特徴とする付記１〜９のうち、いずれか一項記載の磁気ヘッドの記録磁界強度分布の測定方法。
（付記１１）
前記磁気ヘッドは再生素子をさらに有し、
前記第４のステップの後に、
前記記録素子により、再生素子に対向する領域の記録層に記録する第６のステップと、
前記領域に所定のレーザパワーのレーザ光をそれぞれ照射しつつ、前記磁気ヘッドの再生素子によって、該領域の再生出力を測定する第７のステップと、
前記領域の再生出力が最小値となる領域に対応する位置を求めて、その位置を磁気ヘッドの再生素子の位置とする第８のステップと、をさらに備えることを特徴とする付記１〜９のうち、いずれか一項記載の磁気ヘッドの記録磁界強度分布の測定方法。
（付記１２）
前記所定のレーザパワーは、前記一部の領域の磁化を減少させる温度に加熱するように設定されることを特徴とする付記１０または１１記載の磁気ヘッドの記録磁界強度分布の測定方法。
（付記１３）
前記第２のステップの加熱された記録層の一部の領域の温度を異ならせて第２および第３のステップを行い、前記第３のステップの後に再生出力が出現し始める温度を求めるステップをさらに備え、
前記第５のステップにおいて、前記測定用媒体の保磁力と温度との関係に基づいて、前記再生出力が出現し始める温度を保磁力に変換し、該保磁力を磁界強度とすることを特徴とする付記１〜１１のうち、いずれか一項記載の磁気ヘッドの記録磁界強度分布の測定方法。
（付記１４）
前記測定用媒体は、前記再生出力が出現し始める温度付近で、保磁力と温度とが線形の関係を有することを特徴とする付記１３記載の磁気ヘッドの記録磁界強度分布の測定方法。
（付記１５）
前記磁気ヘッドの記録素子は、主磁極および補助磁極を有し、
前記測定用媒体が基板と、基板上に形成された軟磁性材料からなる軟磁性裏打層と、該軟磁性裏打層上に形成された垂直磁化膜からなる記録層を有することを特徴とする付記１〜１４のうち、いずれか一項記載の磁気ヘッドの記録磁界強度分布の測定方法。
（付記１６）
記録素子を有する磁気ヘッドの記録磁界強度分布の測定装置であって、
前記磁気ヘッドの位置決め手段と、
基板と、該基板上に記録層を有する測定用媒体と、
前記測定用媒体を加熱すると共に、加熱位置を走査可能な加熱手段と、
前記加熱手段により、記録素子の媒体対向面の一部に対応する記録層の一部の領域を所定の温度に加熱した状態で、前記記録素子により記録磁界を発生させて記録層に磁気的なトラックを形成する記録手段と、
前記トラックの再生出力を測定する再生出力測定手段と、
前記再生出力を記録磁界強度に変換する演算手段と、を備え、
前記測定用媒体は加熱により保磁力が低下してなり、
前記所定の温度は、前記一部の領域に磁気ヘッドから印加される記録磁界の強度よりもその保磁力が低くなる温度であることを特徴とする磁気ヘッドの記録磁界強度分布の測定装置。
（付記１７）
前記加熱手段は、レーザ光を測定用媒体に照射するレーザ光照射部と、レーザ光の照射位置を走査可能な照射位置制御部を有することを特徴とする付記１６記載の磁気ヘッドの記録磁界強度分布の測定装置。
（付記１８）
前記レーザ光照射部は、測定用媒体の基板側に配置され、レーザ光を基板を透過させて記録層を加熱することを特徴とする付記１６または１７記載の磁気ヘッドの記録磁界強度分布の測定装置。
（付記１９）
前記レーザ光照射部は、測定用媒体の照射面に０．９μｍ以下のスポット径のレーザスポットを形成することを特徴とする付記１６〜１８のうち、いずれか一項記載の磁気ヘッドの記録磁界強度分布の測定装置。
（付記２０）
前記測定用媒体は、加熱されない状態において前記記録素子が所定の記録電流に応じて発生する記録磁界の最大強度よりも高い保磁力を有することを特徴とする付記１６〜１９のうち、いずれか一項記載の磁気ヘッドの記録磁界強度分布の測定装置。
（付記２１）
記録素子を有する磁気ヘッドの製造方法であって、
前記磁気ヘッドの検査工程を含み、
前記検査工程は、
前記磁気ヘッドを、記録層を有する測定用媒体上に離隔して配置する第１のステップと、
前記記録素子の媒体対向面に対向する前記記録層の一部の領域を加熱すると共に、前記所定の記録電流を記録素子に供給し、該記録素子から記録磁界を発生させる第２のステップと、
前記一部の領域に形成された磁気トラックの再生出力を測定する第３のステップと、
加熱される前記一部の領域を異ならせて第２のステップと第３のステップとを繰り返す第４のステップと、
前記一部の領域毎に得られた再生出力を記録磁界強度分布に変換する第５のステップと、
前記記録磁界を発生する位置または該位置での記録磁界強度が、所定の範囲内であるか否かを比較して、該範囲内の場合は良品と判定し、範囲外の場合は不良品と判定する第６のステップと、を有し、
前記一部の領域は、記録素子の媒体対向面の一部に対応し、
前記測定用媒体は、加熱により保磁力が低下してなり、
前記第２のステップにおいて、前記一部の領域の加熱は、該一部の領域に磁気ヘッドから印加される記録磁界の強度よりもその保磁力が低くなる温度に設定されることを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
（付記２２）
前記第２のステップにおいて、前記一部の領域の加熱が前記レーザ光の照射によることを特徴とする付記１８記載の磁気ヘッドの製造方法。
（付記２３）
前記第３のステップにおいて、再生ヘッドの再生素子を前記磁気トラックの位置に一致させる制御を行って再生出力を測定することを特徴とする付記１８または１９記載の磁気ヘッドの製造方法。
（付記２４）
前記第４のステップにおいて、前記磁気ヘッドの位置を固定して、かつ前記レーザ光を照射する位置異ならせることで前記一部の領域を異ならせることを特徴とする付記１８〜２０のうち、いずれか一項記載の磁気ヘッドの製造方法。
（付記２５）
前記磁気ヘッドは再生素子をさらに有し、
前記第３のステップと第４のステップとの間に、
前記一部の領域に所定のレーザパワーのレーザ光をそれぞれ照射しつつ、前記磁気ヘッドの再生素子によって、該一部の領域の他の再生出力を測定するステップと、
前記第５のステップの後に、他の再生出力が最小値となる一部の領域に対応する位置を求めて、その位置を磁気ヘッドの再生素子の位置とするステップと、
前記第６のステップにおいて、再生素子の位置が所定の範囲内であるか否かを比較して、該範囲内の場合は良品と判定し、範囲外の場合は不良品とさらに判定することを特徴とする付記２１〜２４のうち、いずれか一項記載の磁気ヘッドの製造方法。
【図面の簡単な説明】
【０１２６】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係る磁気ヘッドの磁界強度分布の測定装置の概略構成図である。
【図２】磁気ヘッドの斜視図である。
【図３】図２に示す磁気ヘッドの素子部の媒体対向面の要部構成図である。
【図４】第１の実施の形態に係る磁気ヘッドの磁界強度分布の測定方法を説明するための図である。
【図５】第１の実施の形態の測定原理を説明するための図である。
【図６】第１の実施の形態に係る磁気ヘッドの磁界強度分布の測定方法を示すフロー図である。
【図７】実施例のレーザ光照射位置を説明するための図である。
【図８Ａ】実施例のレーザ光照射位置での再生出力を示す図である。
【図８Ｂ】図８Ａの再生素子付近の再生出力を示す図である。
【図９】再生素子の感磁部の位置測定方法を示すフロー図である。
【図１０】再生素子の感磁部の位置測定原理を説明するための図である。
【図１１】再生素子の感磁部付近の測定例を示す図である。
【図１２】垂直記録用磁気ヘッドの記録磁界の様子を説明するための図である。
【図１３】垂直記録用磁気ヘッドの磁界強度分布の測定方法を説明するための図である。
【図１４】本発明の第２の実施の形態に係る磁気ヘッドの磁界強度分布の測定方法を示すフロー図である。
【図１５】再生出力とレーザパワーとの関係図である。
【符号の説明】
【０１２７】
１０    測定装置
１１，７０    磁気ヘッド
１３，６３    位置決め制御部
１４，６４    位置決め機構
１５ａ    照射位置制御部
１５ｂ    レーザパワー制御部
１６    レーザ光照射部
１９    記録再生制御部
２１    再生出力測定部
２２    制御演算部
３３    素子部
３４，６１    ヘッドスライダ
３６，７１    記録素子
３８，６２    再生素子
４０ａ，４０ｂ，６１ａ，６１ｂ    シールド層
４３    記録コイル
５０，８０    測定用媒体
５１    基板
５２    下地層
５３，８３    記録層
５３ａ，８３ａ    磁気トラック
６０    再生ヘッド
７１ａ    補助磁極
７１ｂ    主磁極
８２    軟磁性裏打ち層
ＢＳ    レーザスポット
ＨＡ    微小領域
【図１】
2008090905.tif 000003
【図２】
2008090905.tif 000004
【図３】
2008090905.tif 000005
【図４】
2008090905.tif 000006
【図５】
2008090905.tif 000007
【図６】
2008090905.tif 000008
【図７】
2008090905.tif 000009
【図８Ａ】
2008090905.tif 000010
【図８Ｂ】
2008090905.tif 000011
【図９】
2008090905.tif 000012
【図１０】
2008090905.tif 000013
【図１１】
2008090905.tif 000014
【図１２】
2008090905.tif 000015
【図１３】
2008090905.tif 000016
【図１４】
2008090905.tif 000017
【図１５】
2008090905.tif 000018