(57)【要約】【課題】フェムト秒レーザー光を使用してもそのメリットを生かすことが出来て、光学系の構成が複雑化せず、被検物の表面の微細な凹凸でも高精度の計測が可能な計測装置を提供すること。【解決手段】光源（レーザー光源１１）からの測定光を被検物へ反射する反射面部（微小ミラー２１２）を有する反射部材（偏向素子２１）と、前記反射部材を前記反射面部と対向する裏面側から支持する支持部（ピボット２４３）と、前記反射部材を回転軸（主走査回転軸４０、副走査回転軸５０）を中心に回転可能に支持する回転部とを有する支持機構２４と、前記反射面部を、前記回転軸を中心に回転駆動する駆動部（駆動回路２６）と、前記測定光が前記被検物で反射した戻り光を受光する受光部（フォトディテクタ１４）とを備え、前記回転軸の近傍の前記反射面部に前記測定光を照射し、前記受光部からの情報に基づいて前記被検物の形状を測定する。【選択図】      図１
2008190883.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源からの測定光を被検物へ反射する反射面部を有する反射部材と、
前記反射部材を前記反射面部と対向する裏面側から支持する支持部と、前記反射部材を回転軸を中心に回転可能に支持する回転部とを有する支持機構と、
前記反射面部を、前記回転軸を中心に回転駆動する駆動部と、
前記測定光が前記被検物で反射した戻り光を受光する受光部と、を備え、
前記回転軸の近傍の前記反射面部に前記測定光を照射し、前記受光部からの情報に基づいて前記被検物の形状を測定することを特徴とする計測装置。
【請求項２】
請求項１に記載の計測装置において、
前記反射部材と前記被検物との間に配置され、前記反射部材からの前記測定光を前記被検物へ反射させる放物面を有し、該放物面の焦点が、前記測定光を反射する前記反射面部の箇所に位置する、放物面ミラーを備えたことを特徴とする計測装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の計測装置において、
前記支持機構は２つの回転軸を有し、該２つの回転軸は互いに直交し、
前記支持部は前記直交する前記２つの回転軸の交点箇所を支持することを特徴とする計測装置。
【請求項４】
請求項３に記載の計測装置において、
前記支持部は円錐形状のピボットで、該ピボットの頂点で前記反射面部の裏面側を回転可能に支持することを特徴とする計測装置。
【請求項５】
請求項３または４に記載の計測装置において、
前記支持機構は、
前記支持部と、
前記反射面部と隙間をあけて配置された第１保持部と、
前記第１保持部と間隔をあけて配置された第２保持部と、
前記２つの回転軸のうち、何れか一方の回転軸を中心に回転するように、前記反射面部を前記第１保持部に連結する第１連結部と、
前記２つの回転軸のうち、他方の回転軸を中心に回転するように、前記第１保持部を前記第２保持部に連結する第２連結部と、
を備えてなることを特徴とする計測装置。
【請求項６】
請求項１ないし５の何れか一項に記載の計測装置において、
前記駆動部は、前記反射面部を回転させる、互いに影響力を及ばさない２つの駆動部材を備えたことを特徴とする計測装置。
【請求項７】
請求項６に記載の計測装置において、
前記２つの駆動部材のうち、何れか一方の駆動部材はクーロン力を利用し、他方の駆動部材はローレンツ力を利用して前記反射面部を回転することを特徴とする計測装置。
【請求項８】
請求項１ないし７の何れか一項に記載の計測装置において、
前記計測光はフェムト秒レーザー光であることを特徴とする計測装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えばフェムト秒レーザー光などを使用して被検物の３次元形状を非接触で計測する計測装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
フェムト秒レーザー光を使用した計測装置として、例えば、フェムト秒レーザー光を二つに分け、一方のレーザー光を参照光とし、他方のレーザー光を拡大光学系によってビーム径を拡大した後、照射光として被検物に照射し、この被検物から反射してくる反射光（戻り光）の位相と参照光の位相とを比較し、両者の位相の位相差を求めて、被検物までの距離を計測する計測装置が提案されている（非特許文献１）。
【０００３】
上記計測装置は、波長安定性が非常に優れていて、高精度の計測が可能となる、フェムト秒レーザー光の特性を生かしたもので、被検物に照射されるレーザー光（照射光）としてはビーム径を拡大したビームを使用している。
【０００４】
【非特許文献１】ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（２００５）Ｎｏ．８Ｐ．１０３〜１０８
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記計測装置を使用して被検物の３次元形状を計測する場合、ビーム径を拡大していることから被検物表面の微細な凹凸を含めて精度良く計測することは非常に困難である。被検物表面の微細な凹凸まで高精度で計測するには、例えばビーム径を縮小したビーム（照射光）を使用することが考えられるが、このとき問題となるのが、照射光を被検物表面に走査させ、該被検物表面から反射してくる反射光（戻り光）を照射光の光路上を通って位相計などを装備した測定部に導く光学系の部分である。この光学系の部分でも、特に、照射光を振って被検物表面に走査させる一方、被検物表面から戻ってくる戻り光を反射させて照射光の光路上に導く反射面部の部分である。
【０００６】
反射面部は被検物に行く照射光や被検物から戻ってきた戻り光が入射・反射を繰り返す箇所であり、反射面部の回転によりこれら参照光の入射箇所と戻り光の反射箇所が異なる（ずれると）と高精度の計測が困難となるおそれがある。
【０００７】
また、照射光を被検物の表面上の上下・左右方向に走査させるには少なくとも２枚の反射面部を必要とし、各反射面部を回転させる必要があり、このため光学系の構成が複雑化し、反射を繰り返す毎に生じる照射光の光路誤差が累積し、高精度の計測が困難になるおそれがある。
【０００８】
このように上記計測装置を被検物の形状測定に転用しようとしても、光学系の構成が原因となって、フェムト秒レーザー光を使用してもそのメリットである高精度の計測が困難となるおそれがある。
【０００９】
本発明は、フェムト秒レーザー光を使用してもそのメリットを生かすことが出来て、光学系の構成が複雑化せず、被検物の表面の微細な凹凸でも高精度の計測が可能な、計測装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成する本発明の請求項１に記載の計測装置は、光源からの測定光を被検物へ反射する反射面部を有する反射部材と、前記反射部材を前記反射面部と対向する裏面側から支持する支持部と、前記反射部材を回転軸を中心に回転可能に支持する回転部とを有する支持機構と、前記反射面部を、前記回転軸を中心に回転駆動する駆動部と、前記測定光が前記被検物で反射した戻り光を受光する受光部と、を備え、前記回転軸の近傍の前記反射面部に前記測定光を照射し、前記受光部からの情報に基づいて前記被検物の形状を測定することを特徴とする。
【００１１】
本発明の請求項２に記載の計測装置は、前記反射部材と前記被検物との間に配置され、前記反射部材からの前記測定光を前記被検物へ反射させる放物面を有し、該放物面の焦点が、前記測定光を反射する前記反射面部の箇所に位置する、放物面ミラーを備えたことを特徴とする。
【００１２】
本発明の請求項３に記載の計測装置は、前記支持機構が２つの回転軸を有し、該２つの回転軸は互いに直交し、前記支持部が前記直交する前記２つの回転軸の交点箇所を支持することを特徴とする。
【００１３】
本発明の請求項４に記載の計測装置は、前記支持部が円錐形状のピボットで、該ピボットの頂点で前記反射面部の裏面側を回転可能に支持することを特徴とする。
【００１４】
本発明の請求項５に記載の計測装置は、前記支持機構が、前記支持部と、前記反射面部と隙間をあけて配置された第１保持部と、前記第１保持部と間隔をあけて配置された第２保持部と、前記２つの回転軸のうち、何れか一方の回転軸を中心に回転するように、前記反射面部を前記第１保持部に連結する第１連結部と、前記２つの回転軸のうち、他方の回転軸を中心に回転するように、前記第１保持部を前記第２保持部に連結する第２連結部とを備えてなることを特徴とする。
【００１５】
本発明の請求項６に記載の計測装置は、前記駆動部が、前記反射部材を回転させる、互いに影響力を及ばさない２つの駆動部材を備えたことを特徴とする。
【００１６】
本発明の請求項７に記載の計測装置は、前記２つの駆動部材のうち、何れか一方の駆動部材がクーロン力を利用し、他方の駆動部材がローレンツ力を利用して前記反射部材を回転することを特徴とする。
【００１７】
本発明の請求項８に記載の計測装置は、前記測定光がフェムト秒レーザー光であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、フェムト秒レーザー光を使用してもそのメリットを生かすことが出来て、光学系の構成が複雑化せず、被検物の表面の微細な凹凸でも高精度の計測が可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明の計測装置の一実施形態について図１乃至図６を参照して説明する。
【００２０】
図１は本発明の計測装置の一実施形態を示す機能ブロック図、図２は図１に示す反射部材とその支持機構の、プローブ光が入射する方向からみた上面図、図３は図２の３−３線に沿う断面図、図４は図２の４−４線に沿う断面図、図５はプローブ光が被検物上を走査する状態を説明する説明図、図６は図１に示す反射部材を駆動する駆動回路のブロック図である。
【００２１】
本実施形態の計測装置には、図1に示すように、測定部１０と走査部２０と演算部３０とが装備される。
【００２２】
測定部１０は、フェムト秒レーザー光を発し、このレーザー光の位相と被検物Ｔから反射光（戻り光）の位相を比較して、その位相差を演算部３０に出力する装置である。
【００２３】
具体的には、測定部１０は、フェムト秒レーザー光を発射するレーザー光源１１と、このレーザー光を基準光（参照光）と測定光（プローブ光）とに分割するビームスプリッタ１２と、フォトディテクタ１３と、フォトディテクタ１４と、位相計１５とを備える。
【００２４】
ビームスプリッタ１２は、レーザー光の一部を反射させる一方、残部を透過させることにより、レーザー光を基準光とプローブ光とに分割する。
【００２５】
フォトディテクタ１３は、ビームスプリッタ１２によって反射された基準光を受光し電気信号に変換する。ビームスプリッタ１２を透過したプローブ光は走査部２０を介して被検物Ｔに照射される。被検物Ｔを反射した戻り光はプローブ光の光路上を逆行して走査部２０を介して測定部１０に入射し、ビームスプリッタ１２によりフォトディテクタ１４側に反射される。フォトディテクタ１４は、この戻り光を受光して電気信号に変換する。
【００２６】
位相計１５は、これらフォトディテクタ１３とフォトディテクタ１４から電気信号（出力）を入力して両者（基準光と戻り光）の位相差（位相データ）を求め、この位相データを演算部３０に出力する。
【００２７】
走査部２０は、プローブ光をプローブ光の進行方向に対して垂直な方向（ＸＹ方向  図５参照）に走査する光学装置である。
【００２８】
具体的には、走査部２０は、プローブ光を被検物Ｔの表面に走査するための反射部材としての偏向素子２１と、この偏向素子２１を回転可能に支持する支持機構２４と、この支持機構２４に回転可能に支持された偏向素子２１を駆動する駆動回路２６と、放物面ミラー２８を備える。
【００２９】
偏向素子２１は、図２ないし図４に示すように、反射面部を有する微小ミラー２１２を備える。微小ミラー２１２（反射面部）は、レーザー光源１１からのプローブ光を反射し、放物面ミラー２８を介して被検物Ｔに照射するミラーである。
【００３０】
支持機構２４は、図２に示す互いに直交する主走査回転軸４０と副走査回転軸５０の２つの回転軸の各回転軸４０，５０を中心に微小ミラー２１２（反射面部）を回転可能に支持するもので、図３及び図４に示すように、中央部分に凹部２４１を有する基部２４２と、凹部２４１の底面に設けられた支持部としての円錐状のピボット２４３と、凹部２４１を閉じるように基部２４２上に配置された基本フレーム２４４とを備える。
【００３１】
基部２４２は、例えばシリコンを主成分とする半導体材料を使用し、フォトリソグラフィなどの加工方法によって図２ないし図４に示すように加工され且つ駆動回路２６の構成部品である集積回路などが形成される。この基部２４２には、その垂直な方向から不図示の永久磁石による外部磁界（図４参照）が印加される。
【００３２】
ピボット２４３は、主走査回転軸４０と副走査回転軸５０との交点位置の真下である凹部２４１の底面の箇所に設けられた、頂点Ｐが若干丸みを帯びた円錐形状の部材である。このピボット２４３の頂点Ｐは、微小ミラー２１２の裏面に当接しており、微小ミラー２１２は、ピボット２４３の頂点Ｐに支えられた状態で回転振動（揺動）する。
【００３３】
基本フレーム２４４は、微小ミラー２１２を囲むように隙間をあけて配置した第１保持部材としての副走査フレーム２４５と、この副走査フレーム２４５を囲むように隙間をあけて配置した第２保持部材としての主走査フレーム２４６と、第１連結部としての一対の主走査ヒンジ２４７と、第２連結部としての一対の副走査ヒンジ２４８とを備え、これら副走査フレーム２４５と、主走査フレーム２４６と、主走査ヒンジ２４７と、副走査ヒンジ２４８が一体に形成される。
【００３４】
また、基本フレーム２４４は、一対の主走査ヒンジ２４６を介して微小ミラー２１２と一体に形成される。この微小ミラー２１２と一体の基本フレーム２４４は、例えば、光の反射率の高いアルミニウムを主成分とする金属（アルミニウム合金）によって形成され、導電性を有する。基本フレーム２４４は、例えばアルミニウム合金からなる金属泊をプレスにより打ち抜き加工するか、あるいはフォトリソグラフィなどの加工方法によって形成される。
【００３５】
微小ミラー２１２は、一対の主走査ヒンジ２４７間を結ぶ直線である主走査回転軸４０を中心として回転振動（揺動）する。
【００３６】
主走査回転軸４０は、ピボット２４３の頂点Ｐを通る。ピボット２４３の頂点Ｐを中心に微小ミラー２１２が回転振動するので、微小ミラー２１２の回転中心は、微小ミラー２１２の回転角度によらず、一点に留まっている。従って、プローブ光が、回転振動している微小ミラー２１２の回転中心（ピボットの頂点Ｐの真上）に当ると、その反射光は微小ミラー２１２の回転中心を頂点とする安定した円錐の範囲に反射されることになる。
【００３７】
微小ミラー２１２は、厚さが約１００μｍ、プローブ光を反射する反射面部２１１の１辺が、レーザー光のビーム径の約２倍の約２ｍｍ四方の大きさで、上述したように光の反射率の高いアルミニウムを主成分とする金属（アルミニウム合金）製である。
【００３８】
微小ミラー２１２は、その質量が非常に小さいので、回転振動（揺動）による振動は殆ど発生せず、振動が放物面ミラー２８や測定部１０には殆ど伝わらない。従って、プローブ光の被検物Ｔを走査する位置（測定点Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３・・・  図５参照）が、主走査方向及び副走査方向に外れることがない。
【００３９】
主走査ヒンジ２４７は、微小ミラー２１２と副走査フレーム２４５とを回転可能に連結する捩り可能なヒンジである。
【００４０】
微小ミラー２１２と対向する基部２４２の凹部２４１の底面には、一対の駆動電極２６１が設けられている。この駆動電極２６１は、交番電圧が印加される電極である。駆動電極２６１に交番電圧が印加されると、駆動電極２６１と微小ミラー２１２との間に働くクーロン力により、主走査ヒンジ２４７が捩られ、微小ミラー２１２は、ピボット２１１に支持された状態で主走査回転軸４０を中心として矢印Ａ１（図３参照）の方向に回転振動（揺動）する。
【００４１】
図３は微小ミラー２１２が回転振動（揺動）している様子を表している。図中、破線が最も大きく振れている微小ミラー２１２の位置を表している。プローブ光が微小ミラー２１２に入射しているときに微小ミラー２１２が矢印Ａ１の方向に回転振動すると、プローブ光は微小ミラー２１２の反射面部２１１で反射して、矢印Ａ２の方向に振動しながら放物面ミラー２８に向かう。微小ミラー２１２が矢印Ａ１の方向に回転振動すると、被検物Ｔに当たった（照射された）プローブ光は、図５に示すように、被検物Ｔ上を主走査方向に移動する。
【００４２】
副走査フレーム２４５は、一対の副走査ヒンジ２４８間を結ぶ直線である副走査回転軸５０を中心として微小ミラー２１２を回転振動（揺動）させる部材である。副走査回転軸５０は、主走査回転軸４０と直交し、主走査回転軸４０と同様にピボット２４３の頂点Ｐを通る。
【００４３】
副走査ヒンジ２４８は、副走査フレーム２４５と主走査フレーム２４６とを回転可能に連結する捩り可能なヒンジである。
【００４４】
副走査フレーム２４５の主走査回転軸４０方向の両端に一対の駆動コイル２６２が設けられている。駆動コイル２６２は交番電流が印加されるコイルである。図２では、駆動コイルと２６２と駆動回路２６（図１参照）とを結ぶ配線は、省略している。駆動コイル２６２に交番電流が印加されると、駆動コイル２６２が発生する駆動磁界と図４に示す外部磁界との間に働くローレンツ力により、副走査ヒンジ２４８が捩られ、副走査フレーム２４５は、副走査回転軸５０を中心として矢印Ａ３の方向に回転振動（揺動）する。
【００４５】
副走査フレーム２４５が矢印Ａ３の方向に回転振動すると、微小ミラー２１２も同様に矢印Ａ３の方向に回転振動する。矢印Ａ１の方向と矢印Ａ３の方向は、互いに直交する方向である。図４は、副走査フレーム２４５によって微小ミラー２１２が回転振動している様子を表している。図中、破線が最も大きく振れている微小ミラー２１２の位置を表している。
【００４６】
このように、互いに相互作用を及ぼさない（相互に影響を与えない）クーロン力とローレンツ力とを主走査方向の駆動力と副走査方向の駆動力とに用いているので、主走査方向の微小ミラー２１２の回転角度と副走査方向の微小ミラー２１２の回転角度とが互いに独立に制御できる。従って、主走査方向と副走査方向の微小ミラー２１２の回転角度が安定する。
【００４７】
プローブ光が微小ミラー２１２に入射しているときに副走査フレーム２４５が矢印Ａ３の方向に回転振動すると、プローブ光は微小ミラー２１２の反射面部２１１で反射して、矢印Ａ４の方向に振動しながら、放物面ミラー２８に向かう。微小ミラー２１２が矢印Ａ３の方向に回転振動すると、被検物Ｔに当たったプローブ光は、図５に示すように、被検物Ｔ上を副走査方向に移動する。
【００４８】
放物面ミラー２８は、図１に示すように、反射部材２１と被検物Ｔとの間の光路上に配置され、微小ミラー２１２からのプローブ光を被検物Ｔへ反射させるもので、その放物反射面の焦点が、プローブ光が照射・反射する反射面部２１１の箇所に位置している。したがって、プローブ光が放物面ミラー２８を介して被検物Ｔに照射され、被検物Ｔで反射した戻り光は、プローブ光の光路を逆行し、放物面ミラー２８によりその焦点である反射面部２１１の入射・反射箇所に入射し、反射されて測定部１０に向かうことになる。すなわち、戻り光はプローブ光の光路上から外れることなく該光路を逆行して測定部１０に入射し、ビームスプリッタ１２を介してフォトディテクタ１４により受光されることになる。
【００４９】
上述した一対の駆動電極２６１と一対の駆動コイル２６２は、駆動回路２６（図１、図６参照）によって駆動される。駆動回路２６は、被検物Ｔ上のプローブ光が主走査と副走査とを行うように、偏向素子２１を回転駆動する一対の駆動電極２６１と一対の駆動コイル２６２とを駆動する回路である。
【００５０】
図６は駆動回路２６の回路ブロック図である。発振回路２６３は、一定周期の信号を主走査回路２５６に出力する回路で、主走査回路２６４は、発振回路２６３の出力信号の１周期を経過するごとに、プローブ光が被検物Ｔの測定点Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４・・・を通り過ぎるような掃引信号（以下、この信号を主走査信号と称す）を、一対の電圧源２６６に出力する回路である。この一対の電圧源２６６は、微小ミラー２１２と一対の駆動電極２６１との間に、主走査信号を増幅した交番電圧を出力する。微小ミラー２１２は、この交番電圧が印加されると、プローブ光が被検物Ｔ上を主走査する角度（図３の矢印Ａ１の方向）に、回転振動する。
【００５１】
また、主走査回路２５６は、１回の主走査の周期に対応する水平同期信号を、副走査回路２６５に出力する。副走査回路２６５は、主走査回路２６４の出力信号が１回の主走査を経過するごとにプローブ光が図５に示す被検物の測定点Ｓ１，Ｓ１１．Ｓ２１・・・を通り過ぎるような掃引信号（以降、この信号を副走査信号と称す）を、一対の電流源２６７に出力する回路である。一対の電流源２６７は、一対の駆動コイル２６２に、副走査信号を増幅した交番電流を出力する。一対の駆動コイル２６２は、この交番電流が印加されると、プローブ光が被検物Ｔ上を副走査する角度（図４の矢印Ａ３の方向）に、回転振動する。
【００５２】
演算部３０は、測定部１０からの位相データと走査部２０からの同期パルスとを入力して、測定点毎に走査部２０から測定点までの距離を演算する回路で、求めた距離データは外部のＣＡＤ／ＣＡＭ装置などに出力する。演算部３０には演算回路３１が設けられている。演算回路３１は、同期パルスから各測定点Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３・・・の主走査方向の位置座標（Ｘ座標）と副走査方向の位置座標（Ｙ座標）とを求め、各測定点のＸ座標とＹ座標に位相データがあらわす各測定点の距離データをＺ座標として対応させる。これにより被検物Ｔの形状を非接触で計測することが出来る。
【００５３】
以上のように構成された本実施形態の計測装置によれば、偏向素子２１によりプローブ光を被検物Ｔ上の主走査方向と副走査方向に走査させることができ、複数の偏向素子を装備しなくても済み、光学系の構成を簡素化することが出来、光学系の複雑化により光路誤差の累積がなく、高精度の計測が可能となる。
【００５４】
また、微小ミラー２１２は、その裏面側の主走査回転軸４０と副走査回転軸５０の交点でピボット２４３の頂点Ｐが当接し、該ピボット２４３よって回転可能に支持されていることから、主走査回転軸４０、副走査回転軸５０を中心とした回転運動の際、その回転角度によらずに、その回転中心がずれることなく常に一点に留まっている。したがって、プローブ光が、回転振動している微小ミラー２１２の回転中心（ピボット２４３の頂点Ｐの真上）に当ると、その反射光は微小ミラー２１２の回転中心を頂点とする安定した円錐の範囲に反射されることになり、高精度の計測が可能となる。
【００５５】
また、放物面ミラー２８は、その放物反射面の焦点を微小ミラー２１２の反射面部２１１上の箇所に設定してあることから、被検物Ｔからの戻り光は常に微小ミラー２１２の反射面部２１１上の決まった箇所に入射して反射されることになり、プローブ光の光路から外れることなく逆行して測定部１０に入射し、フォトディテクタ１４により確実に受光される。そして、このフォトディテクタ１４で電気信号に変換された情報に基づいて被検物Ｔの形状測定を行うので、高精度の計測が可能となる。
【００５６】
また、微小ミラー２１２を回転駆動するのに互いに相互作用を及ぼさないクーロン力とローレンツ力を利用していることから、主走査方向と副走査方向の各方向での微小ミラー２１２の回転角度を独立に制御でき、微小ミラー２１２の回転角度が安定し、高精度の計測が可能となる。
【００５７】
本発明の計測装置は上記実施形態に示すものに限定されるものではない。
【００５８】
例えば、支持機構２４を構成する基本フレーム２４４に微小ミラー２１２を一体に形成した場合を示したが、別個に形成してから互いに連結するようにしてもよい。
【００５９】
また、微小ミラー２１２を光の反射率の高いアルミニウムを主成分とする金属（アルミニウム合金）で形成する代わりに別の金属で形成し、微小ミラー２１２の反射面部となる箇所にアルミニウム合金を蒸着させてもよい。
【００６０】
また、プローブ光としてフェムト秒レーザー光を使用した場合を示したが、他のレーザー光を使用してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００６１】
【図１】本発明の計測装置の一実施形態を示す機能ブロック図である。
【図２】図１に示す反射部材とその支持機構の、プローブ光が入射する方向からみた上面図である。
【図３】図２の３−３線に沿う断面図である。
【図４】図２の４−４線に沿う断面図である。
【図５】プローブ光が被検物上を走査する状態を説明する説明図である。
【図６】図１に示す反射部材を駆動する駆動回路のブロック図である。
【符号の説明】
【００６２】
１０            測定部
１１            レーザー光源
１２            ビームスプリッタ
１３，１４      フォトディテクタ
１５            位相計
２０            走査部
２１            偏向素子
２４            支持機構
２６            駆動回路
３０            演算部
３１            演算回路
４０            主走査回転軸
５０            副走査回転軸
２１２          微小ミラー（反射面部）
２４５          副走査フレーム（第１保持部）
２４６          主走査フレーム（第２保持部）
２４７          主走査ヒンジ（第１連結部）
２４８          副走査ヒンジ（第２連結部）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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