(57)【要約】【課題】ゴーストの発生を抑えた電子写真感光体、その製造方法、ゴーストの発生を抑えたプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供すること。【解決手段】円筒状支持体と、該円筒状支持体上に電荷発生層及び電荷輸送層と、を有し、前記電荷発生層における電荷発生材料の単位体積あたりの含有率が、前記円筒状支持体の軸方向の中央部から両端部に向けて増大し、前記円筒状支持体の軸方向での前記電荷発生層の膜厚が、平均膜厚に対して９５％以上１０５％以下であることを特徴とする電子写真感光体。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
円筒状支持体と、該円筒状支持体上に電荷発生層及び電荷輸送層と、を有し、
前記電荷発生層における電荷発生材料の単位体積あたりの含有率が、前記円筒状支持体の軸方向の中央部から両端部に向けて増大し、
前記円筒状支持体の軸方向での前記電荷発生層の膜厚が、平均膜厚に対して９５％以上１０５％以下であることを特徴とする電子写真感光体。
【請求項２】
前記中央部から前記両端部に向かって分光吸収比が減少することを特徴とする請求項１に記載の電子写真感光体。
【請求項３】
前記中央部の分光吸収比に対し、前記両端部での分光吸収比が７５％以上９９％以下であることを特徴とする請求項２に記載の電子写真感光体。
【請求項４】
前記電荷発生層の膜厚が、０．１μｍ以上０．５μｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【請求項５】
前記円筒状支持体の軸方向長さに対する有効領域の割合が、９２％以上であることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電させる帯電装置、帯電した前記電子写真感光体に潜像形成する潜像形成装置、前記潜像をトナーにより現像する現像装置、及び現像後の電子写真感光体の表面をクリーニングするクリーニング装置、のうちの少なくとも１つと、を有することを特徴とするプロセスカートリッジ。
【請求項７】
請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、該電子写真感光体を帯電させる帯電装置と、帯電した前記電子写真感光体に潜像形成する潜像形成装置と、前記潜像をトナーにより現像する現像装置と、前記トナー像を記録媒体に転写する転写装置とを有することを特徴とする画像形成装置。
【請求項８】
円筒状支持体上に、電荷発生材料と樹脂との含有比率が異なる２種類以上の電荷発生層塗布液を用いて、前記円筒状支持体の軸方向で前記電荷発生層塗布液の噴射量を制御して、電荷発生層を形成する工程と、
前記電荷発生層上に電荷輸送層を形成する工程と、
を有することを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項９】
前記電荷発生層を形成する工程では、インクジェット方式により、液滴吐出ヘッドから前記電荷発生層塗布液を噴射することを特徴とする請求項８に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項１０】
前記インクジェット方式が、圧電素子を用いる方式であることを特徴とする請求項９に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項１１】
前記電荷発生層塗布液の粘度が、０．８ｍＰａ．ｓ以上２０ｍＰａ．ｓ以下であることを特徴とする請求項９又は請求項１０に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項１２】
前記液滴吐出ヘッドを複数配置することを特徴とする請求項９乃至請求項１１のいずれか１項に記載の電子写真感光体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子写真方式による複写機、プリンタはデジタル化が進み、中でも光記録方式としてレーザーを使用するものが主流となっている。通常レーザー走査書き込み装置により、感光体の軸方向にレーザー光をスポット走査し潜像が書き込まれる。ポリゴンスキャナの低コスト化、小型化によりパーソナル用途にも電子写真方式を用いたレーザービームプリンタが使用されるようになったが、小型プリンタの分野で競合するインクジェット方式のプリンタなどに対抗するにはさらなるコスト低減、小型化が必須である。
【０００３】
上記レーザー走査書き込み装置には収差による光量分布が存在している。この光量分布の補正をシステム側で行うとコストアップとなり特に小型プリンタでは採用できない。
そこで従来から、感光体の軸方向の感度を調整することにより、レーザー走査書き込み装置の光量ムラによる感光体上での電位ムラを補正することが行われている。機能分離型感光体において電荷発生層を厚くすると感度は高くなることが知られており、感光体端部でのレーザー光量不足について、電荷発生層を厚くして感度を高くすることにより補正することが可能である。
【０００４】
例えば、有機感光体の代表的な塗布方式である浸漬塗布法により、電荷発生層端部の膜厚を厚くする試みがなされている（例えば、特許文献１及び特許文献２参照。）。
また、感光膜中の電荷発生材料や電荷輸送材料などの濃度を、画像形成領域の中心部から端部に向かって単調増加させることによって、感度分布を制御する方法が開示されている（例えば、特許文献３参照。）。
【特許文献１】特開昭６１−１５１６６５号公報
【特許文献２】特開平４−１３０４３３号公報
【特許文献３】特開２００２−１７４９１０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の課題は、ゴーストの発生が抑えられた電子写真感光体、その製造方法、ゴーストの発生が抑えられたプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
かかる状況のもと、発明者が鋭意検討した結果、下記手段を採用することにより、本発明の課題を解決しうることを見出した。
【０００７】
請求項１に記載の発明は、円筒状支持体と、該円筒状支持体上に電荷発生層及び電荷輸送層と、を有し、
前記電荷発生層における電荷発生材料の単位体積あたりの含有率が、前記円筒状支持体の軸方向の中央部から両端部に向けて増大し、
前記円筒状支持体の軸方向での前記電荷発生層の膜厚が、平均膜厚に対して９５％以上１０５％以下であることを特徴とする電子写真感光体である。
【０００８】
請求項２に記載の発明は、分光吸収比が、前記中央部から前記両端部に向かって減少することを特徴とする請求項１に記載の電子写真感光体。
【０００９】
請求項３に記載の発明は、前記中央部の分光吸収比に対し、前記両端部での分光吸収比が７５％以上９９％以下であることを特徴とする請求項２に記載の電子写真感光体である。
【００１０】
請求項４に記載の発明は、前記電荷発生層の膜厚が、０．１μｍ以上０．５μｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の電子写真感光体である。
【００１１】
請求項５に記載の発明は、前記円筒状支持体の軸方向長さに対する有効領域領の割合が、９２％以上であることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の電子写真感光体である。
【００１２】
請求項６に記載の発明は、請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、前記電子写真感光体を帯電させる帯電装置、帯電した前記電子写真感光体に潜像形成する潜像形成装置、前記潜像をトナーにより現像する現像装置、及び現像後の電子写真感光体の表面をクリーニングするクリーニング装置、のうちの少なくとも１つと、を有することを特徴とするプロセスカートリッジである。
【００１３】
請求項７に記載の発明は、請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、該電子写真感光体を帯電させる帯電装置と、帯電した前記電子写真感光体に潜像形成する潜像形成装置と、前記潜像をトナーにより現像する現像装置と、前記トナー像を記録媒体に転写する転写装置とを有することを特徴とする画像形成装置である。
【００１４】
請求項８に記載の発明は、円筒状支持体上に、電荷発生材料と樹脂との含有比率が異なる２種類以上の電荷発生層塗布液を用いて、前記円筒状支持体の軸方向で前記電荷発生層塗布液の噴射量を制御して、電荷発生層を形成する工程と、
前記電荷発生層上に電荷輸送層を形成する工程と、
を有することを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の電子写真感光体の製造方法である。
【００１５】
請求項９に記載の発明は、前記電荷発生層を形成する工程では、インクジェット方式により、液滴吐出ヘッドから前記電荷発生層塗布液を噴射することを特徴とする請求項８に記載の電子写真感光体の製造方法である。
【００１６】
請求項１０に記載の発明は、前記インクジェット方式が、圧電素子を用いる方式であることを特徴とする請求項９に記載の電子写真感光体の製造方法である。
【００１７】
請求項１１に記載の発明は、前記電荷発生層塗布液の粘度が０．８ｍＰａ．ｓ以上２０ｍＰａ．ｓ以下であることを特徴とする請求項９又は請求項１０に記載の電子写真感光体の製造方法である。
【００１８】
請求項１２に記載の発明は、前記液滴吐出ヘッドを複数配置することを特徴とする請求項９乃至請求項１１のいずれか１項に記載の電子写真感光体の製造方法である。
【発明の効果】
【００１９】
請求項１に記載の発明によれば、ゴーストの発生が抑えられた電子写真感光体を提供することができる。
【００２０】
請求項２に記載の発明によれば、画像濃度ムラの発生を抑えることができる。
請求項３に記載の発明によれば、感光体画像幅方向の濃度ムラの発生を抑えることができる。
請求項４に記載の発明では、電荷発生層が特定の膜厚範囲内の場合であっても、感度のばらつきを抑えることができる。
請求項５に記載の発明によれば、画像形成装置を小型化できる。
【００２１】
請求項６に記載の発明によれば、本発明を採用しない場合に比べて、ゴーストの発生が抑えられたプロセスカートリッジを得ることができる。
請求項７に記載の発明によれば、本発明を採用しない場合に比べて、ゴーストの発生が抑えられた画像形成装置を得ることができる。
【００２２】
請求項８に記載の発明によれば、本発明を採用しない場合に比べて、ゴーストの発生が抑えられた電子写真感光体を作製することができる。
請求項９に記載の発明によれば、電荷発生層塗布液の噴射量を制御し易い。
請求項１０に記載の発明によれば、廃液量を低減できる。
請求項１１に記載の発明によれば、電荷発生層塗布液の噴射量を制御し易い。
請求項１２に記載の発明によれば、高速塗布が可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
本発明の実施形態における電子写真感光体（以下「感光体」と称する場合がある。）は、円筒状支持体と、該円筒状支持体上に電荷発生層及び電荷輸送層と、を有し、前記電荷発生層における電荷発生材料の単位体積あたりの含有率が、前記円筒状支持体の軸方向の中央部から両端部に向けて増大し、前記円筒状支持体の軸方向での前記電荷発生層の膜厚が、平均膜厚に対して９５％以上１０５％以下である。
【００２４】
また、本発明の実施形態における画像形成装置は、図１に示すように、電子写真感光体１０と、該電子写真感光体１０を帯電させる帯電装置２２と、帯電した電子写真感光体に潜像形成する露光装置と、前記潜像をトナーにより現像する現像装置２５と、前記トナー像を記録媒体に転写する転写装置４０と、を備え、被転写媒体Ｐ上に画像を形成する。
【００２５】
ここで、露光装置として採用した場合のレーザー走査書き込み装置の構成の一例を図１に示す。レーザー走査書き込み装置は、光束（レーザービーム）を発生する半導体レーザー６０と半導体レーザー６０の光軸上に設けられレーザービームをコリメートするコリメートレンズ６２と、レーザービームを走査偏向するポリゴンミラー６４と、ポリゴンミラー６４によって偏向されたレーザービームを集光するｆθレンズ６６と、を有する。
【００２６】
上記レーザー走査書き込み装置においては、画像情報信号に対応してレーザー駆動部６８により半導体レーザー６０を駆動することにより、コリメートレンズ６２によりコリメート処理されたレーザービームを、光源装置がこの画像情報に応じて出射する。このレーザービームは、ポリゴンミラー６４によって偏向される。また、主走査により画像形成を実行するとき、走査開始位置センサ７０で光ビームの位置を検出して、各主走査の同期をとっている。
【００２７】
この偏向されたレーザービームは、ｆθレンズ６６によって集光され、レーザービームの被走査面となる感光体１０上に結像される。
なお、このとき、ｆθレンズ６６は、感光体１０上における走査速度が等速度となるように補正している。これによって、感光体１０上に上記画像情報に対応する潜像が形成される。
【００２８】
レーザービームの光量分布は中心に対してガウシアン分布を有するため、入射光の光軸に対するポリゴンミラーの走査角度が大きくなるに伴い、光量分布が感光体軸方向の感度分布に影響を与え、図２に示すように、感光体軸方向において、中央部でもっとも光量が高く、両端部側へ移動するに従って光量が低下する。
感光体軸方向の光量分布を補正するのに、光学系を調整したり、補正フィルターを挿入したりという方法が採用されているが、露光装置の構成が複雑になり、調整操作も煩雑になる。
【００２９】
ここで、感光体の感度は、電荷発生層に含まれる電荷発生材料の量が多くなると、高くなるので、電荷発生層における電荷発生材料の単位体積あたりの含有率が、円筒状支持体の軸方向における中央部から両端部に向かって増大する感光体を適用することで、煩雑な調整操作や、補正フィルターを挿入することなく、軸方向での光量分布を補正することができる。
しかしながら、この方法で感度補正を行ったときに、軸方向での電荷発生層の膜厚のばらつきが、ゴーストに大きな影響を与えていることが明らかとなった。電荷発生層の膜厚が厚い部分は、ポジゴーストが発生し、薄い部分はネガゴーストになり易い。
この理由は明らかとなっていないが、光電変換に寄与しない樹脂が膜厚方向に分布する結果、電荷発生材料が基板側に偏在しやすく、樹脂は電荷輸送層側に偏在しやすいので、膜厚が厚いと、発生した電荷のトラップサイトとして作用する樹脂の割合が多くなって、ポジゴーストを発生しているのではないかと推測されるが、このメカニズムに限定されることはない。
そこで、本発明の電子写真感光体では、軸方向での前記電荷発生層の膜厚が、平均膜厚に対して９５％以上１０５％以下とする。
【００３０】
なお、本実施形態においてゴーストとは、印字露光した次のサイクルで前サイクルの露光履歴（露光像）が残る現象のことである。印字画像に対して前回の履歴が基準となる画像濃度よりも濃く出る場合をポジゴースト、基準となる画像濃度よりも薄く出る場合をネガゴーストといい、何れの場合も中間調画像上に顕著に現れる。通常ゴーストでは、印字した画像を、基準とする画像と比較する官能評価が行われる。
【００３１】
以下では、まず、電荷発生層及びその製造方法について説明を行い、次に電荷発生層を有する電子写真感光体を説明し、更に、電子写真感光体を備えるプロセスカートリッジ及び画像形成装置の説明を行う。
【００３２】
＜電荷発生層＞
電荷発生層は、電荷発生材料と樹脂とを少なくとも含む。
電荷発生材料は、例えばビスアゾ、トリスアゾなどのアゾ顔料、ジブロモアントアントロンなどの縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、ピロロピロール顔料、フタロシアニン顔料などの有機顔料や三方晶セレン、酸化亜鉛などの無機顔料など公知のものを使用することができるが、特に３８０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の露光波長を用いる場合には、金属及び無金属フタロシアニン顔料、三方晶セレン、ジブロモアントアントロンなどが好ましい。
その中でも、特開平５−２６３００７号公報及び特開平５−２７９５９１号公報に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン、特開平５−９８１８１号公報に開示されたクロロガリウムフタロシアニン、特開平５−１４０４７２号公報及び特開平５−１４０４７３号公報に開示されたジクロロスズフタロシアニン、特開平４−１８９８７３号公報及び特開平５ー４３８１３号公報に開示されたチタニルフタロシアニンが特に好ましい。
【００３３】
樹脂としては、広範な種類の樹脂から選択することができ、好ましい樹脂としては、例えばポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノールＡとフタル酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等をあげることができるが、これらに限定されるものではない。
これらの樹脂は単独あるいは２種以上混合して用いることができる。
また、上記樹脂として、樹脂の機能と電荷発生材料の機能とを兼ね備えるポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシランなどを適用することもできる。
【００３４】
電荷発生材料と樹脂の配合比は（重量比）は１０：１〜１：１０の範囲が好ましい。またこれらを分散させる方法としては、例えばボールミル分散法、アトライター分散法、サンドミル分散法等の通常の方法を用いることができる。
さらにこの分散の際、粒子を０．５μｍ以下、好適には０．３μｍ以下、さらに好適には０．１５μｍ以下の粒子サイズにすることが有効である。またこれらの分散に用いる溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤を単独あるいは２種以上混合して用いることができる。
【００３５】
本実施形態にかかる電荷発生層は、電荷発生材料の単位体積あたりの含有率が、円筒状支持体の軸方向における中央部から両端部に向かって増大する。中心部から両端部に向かって電荷発生材料の単位体積あたりの含有率が増大する傾向にあれば、端部に向かって一時的に含有率が減少している場合であってもよい。
【００３６】
本実施形態において、電荷発生材料の単位体積あたりの含有率とは、光吸収法で測定したものをいう。
本実施形態では、電荷発生層を形成したサンプルに照射光源にハロゲンランプを用い、その光源の光を光ファイバにてサンプルの測定箇所に導き、分光光度計によって波長を１０ｎｍおきに分解して光量データを測定し、その反射光強度を確認する。
可視光領域（４００ｎｍ〜８００ｎｍ）での反射光の最大光強度に対する、７５０ｎｍの波長部分での反射光の光強度を、分光吸収比（＝「７５０ｎｍの波長での光強度」／「可視光領域（４００ｎｍ〜８００ｎｍ）での最大光強度」）として算出する。
【００３７】
図３に、電子写真感光体の吸光スペクトルの一例を示す。図３のスペクトルでは、４７０ｎｍの波長で反射光の最大光強度を示しているので、分光吸収比は、４７０ｎｍの波長で反射光の光強度に対する、７５０ｎｍの波長での反射光の光強度となる。
図３では、電荷発生材料の濃度の異なる塗布液を用いて形成された電荷発生層の吸収スペクトルを示しているが、電荷発生層の濃度が高くなるほど、７５０ｎｍの波長での光強度は高くなるので、分光吸収比は、電荷発生層の濃度が高くなるほど低くなる。本発明では、電荷発生材料の単位体積あたりの含有率を絶対値として求める必要は無いので、分光吸収比の値を参照に、電荷発生材料の単位体積あたりの含有率が軸方向で変化する様子を確認すればよい。つまり、本実施形態では、感光体の分光吸収比（電荷発生層のほか、電荷輸送層など他の層を含んだ状態で測定したときの分光吸収比）が、感光体軸方向の中央部から前記両端部に向かって減少する。
また、電荷発生材料の含有率と分光吸収比とは、上記相関関係を有するため、分光吸収比の相対値として、つまり、円筒状支持体の中央部での分光吸収比に対する、端部での分光吸収比を求める。
【００３８】
ここでいう端部とは、電荷発生層の軸方向末端から２ｍｍ中央部側に移動した位置である。以下、端部の定義は、同義である。当該端部が、円筒状支持体の軸方向末端に近づくほど、感光体において画像を形成し得る領域（有効領域）が広がり、非画像形成部分が少なくなるので、同等の大きさの画像を形成する場合に画像形成装置を小型化できる。なお、有効領域とは、各々の画像形成装置における品質基準を満たし一定の品質の画像が得られる感光体の軸方向での画像長であり、１００％画像濃度で画像形成したときのプリント画像における電荷発生層の軸方向中央部に相当する部分の画像濃度に対する濃度差が０.２５Ｄ以内である領域とする。
【００３９】
下記表１に、一般的な感光体の有効領域を示す。これに対し本発明では、端部でもゴーストの発生が抑えられて有効領域が広がり、円筒状支持体の軸方向長さに対する有効領域領の割合は９２％以上とすることもでき、更には９５％以上とすることも可能である。
【００４０】
【表１】
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【００４１】
図４に、本実施形態の感光体における電荷発生層の濃度勾配のイメージ図を示すが、本発明にかかる電荷発生層は、図４に示す濃度勾配に限定されない。
図４（Ａ）（Ｂ）に示すように、中央部Ｏから端部Ａ１及びＡ２（電荷発生層が形成し始める軸方向末端Ｂから２ｍｍ中央部側に移動した位置）に向けて濃度が高くなる。分光吸収比では、中央部Ｏから端部Ａ１及びＡ２に向けて低くなる。
【００４２】
また、画像形成装置に感光体を設置するときに必要な治具の止め代を設ける観点から、末端Ｂから末端部Ｃまでの領域には、層を形成しない領域Ｑを設けることが好ましい。なお、電荷発生層や電荷輸送層を浸漬塗布で形成する場合には、基材の末端にまで塗膜が形成されるので、止め代の領域に形成された塗膜は拭き取られる。
【００４３】
更に、本発明にかかる電荷発生層の膜厚は、感光体軸方向においてばらつきが少なく、軸方向での前記電荷発生層の膜厚が、平均膜厚に対して９５％以上１０５％以下であり、好適には９７．５％以上１０２．５％以下であり、より好適には９８％以上１０２％以下である。
【００４４】
電荷発生層の膜厚は、電荷発生層の一部を溶かして段差計で測定するか、断面を切ってＳＥＭで観察することにより測定することができる。下記膜厚の数値範囲は、段差計で測定した値とする。
【００４５】
本実施形態で用いる電荷発生層の厚みは、平均で０．１μｍ以上５μｍ以下であることが好ましく、０．２μｍ以上２．０μｍ以下であることがより好ましい。
本実施形態における平均膜厚は、円筒状支持体の軸方向において、一方の端部から他方の端部までを５ｍｍ間隔で、上記方法により測定した膜厚の算術平均値をいう。
一般的に電荷発生層の膜厚は薄くなるほど感度のばらつきが大きくなるが、本実施形態では膜厚の薄い電荷発生層であっても、感度のばらつきを抑えることができる。したがって、電荷発生層の平均膜厚が、０．１μｍ以上０．５μｍ以下という薄膜の電荷発生層であっても、感度のばらつきを実用の範囲内に収めることが可能である。
【００４６】
また、本実施形態の感光体は、軸方向中央部での分光吸収比に対し、端部での分光吸収比が７５％以上９９％以下であることが好ましく、７５％以上９５％以下であることがより好ましく、７５％以上９０％以下であることが更に好ましい。
【００４７】
本実施形態にかかる電荷発生層は、上記で説明した濃度分布を有するため、インクジェット方式により前記電荷発生層の塗膜を形成することが好ましい。浸漬塗布法では塗液濃度の異なる複数の塗液を用意し、塗り重ねなければならない、リングスロットダイ法では供給する塗液の濃度を無段階に制御しながら変えなければならず実用上不可能である。スプレー法では、濃度の異なる２液を別々に噴射することにより可能であるが、噴射流量を変えながら安定に噴射することはきわめて困難である。これらの方法では、膜形成の位置決めを精度よく行なうことができないので、濃度分布を有する膜を形成することは極めて困難である。下記に示すように、電荷発生層の膜厚のばらつきを抑える観点からも、その他の塗布方法に比べてインクジェット方式が適している。
【００４８】
浸漬塗布法では塗布速度を速くすれば塗膜を厚くすることが可能であり、塗布速度制御により感光体軸方向に簡便に膜厚分布を形成できる。しかし、鉛直方向塗布方式であるため、本質的に重力による塗膜の流動、いわゆるダレの問題があり、塗膜上下端部で膜厚差を小さくすることは困難である。また、基材の上端と下端で浸漬時間が異なること、溶剤暴露の時間が異なることなどにより基材の上下で感度差が生じてしまう。
【００４９】
リングスロットダイ法では浸漬塗布法に比べて溶剤暴露の影響は小さいが、鉛直方向塗布方式であることよりダレるという浸漬塗布と共通の課題を有し、塗膜上下端部まで所望の膜厚分布を形成することは不可能であり、上下端部での膜厚の差を少なくすることは困難である。
【００５０】
スプレー法において端部での噴霧液量調整により膜厚分布を形成することは可能であるが、液滴飛翔方向がブロードであること、液滴径分布が広いこと、中心粒径が比較的大きいことより所望の膜厚分布を得ることができない。特に、薄膜化することは極めて困難であり、材料使用効率が悪いことと相まって、大口径の基材など特殊な場合を除いてスプレー法を感光体の製法に採用する例は少ない。
【００５１】
特開平３−１９３１６１号公報などに開示の、ノズルから液流を連続的に流しスパイラル状に成膜する方法では、レベリング性を向上させるために波長を下げると湿潤膜厚が厚くなり同じ濃度の塗布液では薄い膜が得られない。
乾燥後の膜厚を薄くすることを目的に、湿潤膜の固形分濃度を低くすると、スパイラル流が合一した後にレベリングし過ぎてしまったり、塗膜がダレやすい。
【００５２】
これに対し、インクジェット法では液滴を用いて行われ、液滴を用いた汎用成膜技術であるスプレー法と比べて、（１）液滴径が一定であること、（２）液滴の噴射位置精度が高いこと、などのメリットがある。
またインクジェット方式での副次的な効果として、従来の浸漬塗布法に比べて、溶剤蒸気量や塗布液廃棄量を低減することができる。更に、選択的に特定の領域を塗布できることから、浸漬塗布法で必要な下端部の拭き取り工程を必要としない。
【００５３】
インクジェット方式の液滴吐出ヘッドから噴射された液滴は、飛翔中に固形分濃度を高めながら基材に到達する。基材上では液滴同士が合一し液膜となりレベリングし、さらに乾燥固化することにより乾燥塗膜となる。レベリングのしやすさを表す指標Ｌは塗膜の表面張力、湿潤膜厚、粘度、波長の関数となる。もっとも寄与が大きいのが波長であり、着弾時の解像度が高いほどレベリング性は向上する。
よって、液滴径のばらつきが少なく小径の液滴を狙った位置に噴射できるインクジェット法を用いることにより、濃度分布や膜厚分布を精度よく制御した薄膜を形成することができ、レーザー走査書き込み装置の光量分布を忠実に補正することが可能である。
【００５４】
インクジェット方式における噴射方式としては、連続型、間欠型（ピエゾ（圧電素子）、サーマル、静電型など）など一般的な方式が用いられるが、ピエゾを用いた連続型および間欠型が好ましく、薄膜を形成し、廃液量を低減する観点から、ピエゾを用いた間欠型がより好ましい。
【００５５】
以下の図５〜図９は、走査型のインクジェット方式を説明する図であるが、本実施形態にかかる電荷発生層を形成する方法として、これらに限定されることはない。走査型とは、円筒状支持体の軸方向に並行に液滴吐出ヘッドを走査しながら液滴を吐出することにより塗布を行う方式である。
図５は、通常のインクジェットプリンタの液滴吐出ヘッドを用いたインクジェット方式の一例であり、この液滴吐出ヘッドは、長手方向に複数のノズルを有する。図中に液の供給として簡便なシリンジが描かれている。円筒状支持体軸が水平に設置された場合は、通常円筒状支持体を回転させながら塗布が行われる。塗膜の品質に影響を与える噴射の解像度は走査方向とノズル列の角度により決定される。
【００５６】
液滴の噴射の解像度（１インチ内の塗布液の画素数）は、図１１に示すように、液滴が着弾したあとに液滴が拡がって隣接する液滴どうしが接触し、最終的には膜となるように調整することが好ましく、基材側の表面張力や、着弾した時の液滴の広がり方、噴射時の液滴の大きさ、塗布溶剤濃度や塗布溶媒種などに起因した溶剤蒸発速度等を考慮して塗布すればよい。これらの条件は塗布液の材料種および材料組成と被塗布物表面の物性により決まるものであり、調整することが好ましい。
【００５７】
但し、前述したようにピエゾ型のインクジェット液滴吐出ヘッドではそのノズル間距離を短くすることが難しく、解像度を高めることは困難であるため、ノズルの配置の距離を考慮し、ノズルから噴射され着弾した後の液滴が、図１１に示すように隣り合う液滴どうしで接するよう、図１２（Ａ）（Ｂ）のように各液滴吐出ヘッドを感光体の軸に対して傾斜させて設置し、見かけ上の解像度を高めることが好ましい。図１２（Ａ）に示すように、噴射時の液滴の径は点線で示すようにノズル径程度であるが、感光体Ａ表面に着弾した後は実線に示すように拡がって隣り合う液滴と接触し、層を形成する。
【００５８】
この状態で、円筒状支持体を回転させ、ノズルから塗布液を噴射し、図１３に示すように、円筒状支持体の一方の端部から反対側の端部まで液滴吐出ヘッドを水平に移動させる。電荷発生層をより厚くするには、重ね塗りする。
【００５９】
具体的には、円筒状支持体を水平に回転できる装置に装着し、円筒状支持体に液滴が噴射するように、電荷発生層塗布液を充填した液滴吐出ヘッドを配置する。噴射対象が直径の小さい円筒であるため、液滴吐出ヘッドにあるノズルのうち、塗布液を円筒に着弾させないノズルについては、塞いでおくことが廃液量を減らす観点から好ましい。
【００６０】
なお、ここでは円筒型の被塗布基材を示しているが、平面の被塗布基材でも相対的に基材と液滴吐出ヘッドが移動すればよい。
【００６１】
図６は、図５の液滴吐出ヘッドを複数並べマトリクス状にしたときのインクジェット方式の一例である。一度に大量の吐出が可能であり、塗布範囲が広がることより高速塗布が可能となる。また、噴射するノズルを選択したり、ノズルの大きさの異なるものをマトリクス配列したりすることにより噴射量制御が容易になる。
図７は液滴吐出ヘッドが被塗布基材円周を取り囲むように設計されたものである。円周方向に通常一定間隔に吐出用のノズルが形成されている。円筒型液滴吐出ヘッドを使うことにより、周方向での膜厚のムラが少なくなり、螺旋縞の目立たない成膜が可能となる。
図８は、図７の構成を鉛直方向とした場合である。なお、鉛直方向とは、９０°のみを意味するものではなく、９０°から角度を有していてもよい。
図７及び図８では、被塗布基材を回転させることなく成膜できる。但し、回転軸とノズル列とが角度を有することにより見かけ上の解像度を高めるという上述の図１２に示す方法を採用することができない。しかしながら、図９に示すように、円筒型液滴吐出ヘッドの場合は液滴吐出ヘッドの径を大きくすることにより液滴着弾距離が狭まり、基材上での解像度を高くすることが可能である。これにより、ピエゾ型の液滴吐出ヘッドの場合、ノズル間距離を短くすることは製造上困難であるが、円筒型液滴吐出ヘッドであれば高品質の成膜が可能となる。
【００６２】
図１０は、液滴吐出ヘッドが円筒状支持体と同等の又はそれ以上の幅を有し、円筒状支持体軸全長を一度に塗布する場合のインクジェット方式の一例である。円筒状支持体軸が水平に設置された場合は、通常円筒状支持体を回転させながら塗布が行われる。前述したようにピエゾ型のインクジェット液滴吐出ヘッドではそのノズル間距離を短くすることが難しく、高品質成膜を可能とする解像度を得ることができない。解決手段として例えば図１０に示したように、液滴吐出ヘッドを２個以上用意することができる。また単一液滴吐出ヘッドでも、わずかな距離だけ軸方向に走査するようにし、ノズル間を埋めるように吐出すれば連続成膜が可能となる。
【００６３】
上記液滴吐出ヘッドを用いて、基材軸に対して端部で電荷発生材料の濃度分布を有する塗膜を形成する。
図５〜図８に示した走査型では、液滴吐出ヘッドを複数用意し、各々のヘッドから電荷発生材料の濃度が異なる塗液を、単位時間当たりの噴射量を変えながらヘッドを軸方向に走査することにより所望の濃度分布を形成できる。
例えば、電荷発生材料の濃度の高い塗布液１を格納した液滴吐出ヘッド１と、それよりも濃度の低い塗布液２を格納した液滴吐出ヘッド２を用意し、液滴吐出ヘッド１は、端部で単位時間当たりの噴射量が多く、中央部で少なくなるように制御し、他方、液滴吐出ヘッド２は、端部で単位時間当たりの噴射量が少なく、中央部で多くなるように制御することにより、本発明にかかる濃度分布を形成できる。
【００６４】
または市販のプリンタのように停止状態の基材にヘッドを軸方向走査し所望のパターンに塗液を噴射する、その後、ある角度だけ基材を動かし、ヘッドを再度走査・噴射させることにより連続膜を作製することによっても達成できる。
【００６５】
ヘッドとして連続型を用いた場合には、電界による偏向により液滴進行方向を変えることにより基材に到達する塗液量を制御することにより達成できる。塗布されない液滴はガターを通して回収される。
間欠型では、例えば高い濃度を有する塗液を保有するヘッドにて噴射周波数を端部で高くするようにすればよい。またパルスの電圧を高くしたり、時間を長くしたりすることによって噴射量を増やすことができる。またパルスを与えないことにより噴射しないノズルを設け低濃度部を形成することも可能である。
【００６６】
間欠型のインクジェット液滴吐出ヘッドでは、０．８ｍＰａ．ｓ以上２０ｍＰａ．ｓ以下の粘度範囲にある塗布液が適し、より好適には、１ｍＰａ．ｓ以上１０ｍＰａ．ｓ以下の粘度範囲である。
本実施態様において粘度の測定は、２５℃の環境下で、Ｅ型粘度計（東機産業製：ＲＥ５５０Ｌ、標準コーンローター、回転速度６０ｒｐｍ）で測定したときの値をいう。
【００６７】
上記粘度範囲に調整するために、上述の電荷発生材料、樹脂、更には粒子などのその他の添加剤を、溶剤に含有させることが好ましい。溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、３−ヒドロキシ−３−メチル−２ブタノン、ジアセトンアルコール、γケトブタノール、アセトール、ブチルカルビトール、グリセリン、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤を単独あるいは２種以上混合して用いることができる。
【００６８】
溶剤の大気放出を減らす目的で、高濃度の塗布液すなわち粘度の高い塗布液を用いる場合には、塗布液を加圧する連続型のインクジェット液滴吐出ヘッドが適している。しかし間欠型でも市販のバーコードプリンタで採用されている塗布液の加熱手段を液滴吐出ヘッドに設け、噴射部での粘度を下げることにより高粘度材料の使用が可能となる。塗布液の選択範囲が狭まるが、静電方式で間欠型のインクジェット液滴吐出ヘッドは高粘度の塗布液に対応できる。
【００６９】
噴射される液滴径は、１ｐｌ以上６０ｐｌ以下であることが好ましく、１．５ｐｌ以上５５ｐｌ以下であることがより好ましく、２．０ｐｌ以上５０ｐｌ以下であることが更に好ましい。この範囲内の液滴径では、ノズルの詰まりを発生させ難く、また生産性の観点からも好適である。更に、基材到達時の液滴濃度の調整もし易い。
本実施形態において、液滴径とは、オフライン可視化評価にて測定したものとする。噴射タイミングと同期させてＬＥＤを液滴に向けて点灯し、Ｃ Ｃ Ｄカメラにて画像を観察する。
【００７０】
なお、ここでは電荷発生層のみを対象として、インクジェット方式による層の形成方法を説明しているが、電荷輸送層など他層の形成にインクジェット方式を用いてもよい。
【００７１】
＜電子写真感光体＞
図１４は、本実施形態の電子写真用感光体の断面を示す模式図である。
図１４においては円筒状支持体４上に下引き層１が設けられ、その上に電荷発生層２、電荷輸送層３、表面に保護層５が設けられている。本実施形態では、下引き層１及び保護層５は付設しても、しなくてもよい。本実施形態では、感光層６は、上述の電荷発生層２と電荷輸送層３とに機能を分離した構成となっている。ここでいう電荷発生層２２には、上述の電荷発生層を適用する。
次に、電子写真感光体を構成する電荷発生層以外の層について説明する。
【００７２】
（円筒状支持体４）
本実施形態では、基体として、円筒状支持体４を用いる。
円筒状支持体４としては、例えば、アルミニウム、銅、亜鉛、ステンレス、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等の金属又は合金を用いた金属板、金属ドラム、金属ベルト、あるいは、体積抵抗率が１０−５Ω・ｃｍ以下であるポリマー、酸化インジウム等の化合物やアルミニウム、パラジウム、金等の金属又は合金を塗布、蒸着、あるいはラミネートした紙、プラスチックフィルム、ベルト等が挙げられる。
円筒状支持体の体積抵抗率は、１０−５Ω・ｃｍ以下であることが好ましい。
【００７３】
また、レーザー光を照射する際に生じる干渉縞を防止するために、支持体表面は、中心線平均粗さＲａで０．０４μｍ以上０．５μｍ以下となるように粗面化することが好ましい。
【００７４】
粗面化の方法としては、研磨剤を水に懸濁させて支持体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、あるいは、回転する砥石に支持体を圧接し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化などが好ましく、また、支持体表面そのものを粗面化することなく体積抵抗率が１０−５Ω・ｃｍ以下の粉体を樹脂層中に分散させた層を支持体表面上に形成し、該層中に分散させる粒子により粗面化する方法も好ましく用いられる。
なお非干渉光を光源に用いる場合には、干渉縞防止の粗面化は特に必要がない。
【００７５】
粗面化の方法の一つである陽極酸化処理は、アルミニウムを陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することによりアルミニウム表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。更に好適には、陽極酸化膜の微細孔をふさぐ。
陽極酸化膜の膜厚については０．３μｍ以上１５μｍ以下が好適である。
【００７６】
リン酸、クロム酸及びフッ酸などの酸性処理液による処理は以下の様に実施される。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸およびフッ酸の配合割合は、リン酸が、１０質量％以上１１質量％の範囲、クロム酸が３質量％以上５質量％以下の範囲、フッ酸が０．５質量％以上２質量％以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は、１３．５質量％以上１８質量％以下の範囲が好ましい。処理温度は、４２℃以上４８℃以下であることが好適である。
被膜の膜厚については０．３μｍ以上１５μｍ以下が好適である。
【００７７】
ベーマイト処理は、９０℃以上１００℃以下の純水中に５分間以上６０分間浸漬するか、９０℃以上１２０℃以下の加熱水蒸気に５分間以上６０分間以下接触させることにより行うことができる。被膜の膜厚については０．１μｍ以上５μｍ以下が好適である。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩などの皮膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。
【００７８】
（下引き層１）
円筒状支持体上に、又は、円筒状支持体上に形成された層と感光層との間に下引き層１を形成することもできる。特に、中間層である下引き層１を形成することが好ましい。
下引き層１に用いられる材料としては、例えばジルコニウムキレート化合物、ジルコニウムアルコキシド化合物、ジルコニウムカップリング剤などの有機ジルコニウム化合物、チタンキレート化合物、チタンアルコキシド化合物、チタネートカップリング剤などの有機チタン化合物、アルミニウムキレート化合物、アルミニウムカップリング剤などの有機アルミニウム化合物のほか、アンチモンアルコキシド化合物、ゲルマニウムアルコキシド化合物、インジウムアルコキシド化合物、インジウムキレート化合物、マンガンアルコキシド化合物、マンガンキレート化合物、スズアルコキシド化合物、スズキレート化合物、アルミニウムシリコンアルコキシド化合物、アルミニウムチタンアルコキシド化合物、アルミニウムジルコニウムアルコキシド化合物、などの有機金属化合物、とくに有機ジルコニウム化合物、有機チタニル化合物、有機アルミニウム化合物は、好ましく使用される。
また、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス−２−メトキシエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−２−アミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプロプロピルトリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、β−３，４−エポキシシクロヘキシルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤を含有させて使用することができる。
【００７９】
さらに、一般的に下引き層１に用いられる別の構成成分としては例えばポリビニルアルコール、ポリビニルメチルエーテル、ポリ−Ｎ−ビニルイミダゾール、ポリエチレノキシド、エチルセルロース、メチルセルロース、エチレン−アクリル酸共重合体、ポリアミド、ポリイミド、カゼイン、ゼラチン、ポリエチレン、ポリエステル、フェノール樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エポキシ樹脂、ポリビニルピロリドン、ポリビニルピリジン、ポリウレタン、ポリグルタミン酸、ポリアクリル酸等の公知の樹脂を用いることもできる。
これらは混合して用いることができ、その混合割合は、必要に応じて設定することができる。
【００８０】
また、下引き層１中には電子輸送性顔料を混合／分散して使用することもできる。電子輸送性顔料としては、例えば特開昭４７−３０３３０号公報に記載のペリレン顔料、ビスベンズイミダゾールペリレン顔料、多環キノン顔料、インジゴ顔料、キナクリドン顔料等の有機顔料、また、シアノ基、ニトロ基、ニトロソ基、ハロゲン原子等の電子吸引性の置換基を有するビスアゾ顔料やフタロシアニン顔料等の有機顔料、酸化亜鉛、酸化チタン等の無機顔料が上げられる。
これらの顔料の中ではペリレン顔料、ビスベンズイミダゾールペリレン顔料と多環キノン顔料、酸化亜鉛、酸化チタンが、好ましく使用される。
【００８１】
また、これらの顔料の表面は、分散性、電荷輸送性を制御する目的で上記カップリング剤や、樹脂などで表面処理してもよい。電子輸送性顔料は９５質量％以下、好適には９０質量％以下で使用される。
下引き層１の構成成分の混合／分散方法は、ボールミル、ロールミル、サンドミル、アトライター、超音波等をもちいる常法が適用される。混合／分散は有機溶剤中で行われるが、有機溶剤としては、有機金属化合物や樹脂を溶解し、また、電子輸送性顔料を混合／分散したときにゲル化や凝集を起こさないものであれば如何なるものでも使用できる。
例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤を単独あるいは２種以上混合して用いることができる。
【００８２】
下引き層１中には、電気特性の向上や光散乱性の向上などの目的により、各種の有機化合物の粉末もしくは無機化合物の粉末を添加することができる。特に、酸化チタン、酸化亜鉛、亜鉛華、硫化亜鉛、鉛白、リトポン等の白色顔料やアルミナ、炭酸カルシウム、硫酸バリウム等の体質顔料としての無機顔料やテフロン（登録商標）樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子、スチレン樹脂粒子などが有効である。
添加粉末の粒径は体積平均粒子径で０．０１μｍ以上２μｍ以下のものが用いられる。粉末は必要に応じて添加されるが、その添加量は下引き層１の固形分の総質量に対して、質量比で１０質量％以上９０質量％以下であることが好ましく、３０質量％以上８０質量％以下であることがより好ましい。
【００８３】
また、下引き層１中には、電子輸送性物質、電子輸送性顔料等を含有させることも有効である。
【００８４】
更に、下引き層１の厚みは０．０１μｍ以上３０μｍ以下、好適には０．０５μｍ以上２５μｍ以下が好適である。また、下引き層１を形成するための塗布液を調製する際に、粉末状の物質を添加する場合には樹脂成分を溶解した溶液中に添加して分散処理が行われる。
この分散処理方法としては、例えば、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー等の方法を用いることができる。更に、この下引き層１は、円筒状支持体４上に下引き層１を形成するための塗布液を塗布し、乾燥させることにより形成することができる。
このときの塗布方法としては、例えば、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。
【００８５】
（電荷輸送層３）
次に、電荷輸送層３について説明する。
電荷輸送層３としては、公知の技術によって形成されたものを使用できる。それらの電荷輸送層３は、電荷輸送材料と樹脂を含有して形成されるか、あるいは高分子電荷輸送材を含有して形成される。
電荷輸送材料としては、例えばｐ−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物等の電子輸送性化合物、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物などの正孔輸送性化合物があげられる。
これらの電荷輸送材料は単独又は２種以上混合して用いることができるが、これらに限定されるものではない。また、これらの電荷輸送材料は単独あるいは２種以上混合して用いることができるが、以下の構造のものが好ましい。
【００８６】
【化１】
2008076657.tif 000004
【００８７】
式中、Ｒ１４は、水素原子又はメチル基を示す。また、ｎは１又は２を意味する。Ａｒ６及びＡｒ７は置換又は未置換のアリール基あるいは、−Ｃ６Ｈ４−Ｃ（Ｒ１８）＝Ｃ（Ｒ１９）（Ｒ２０）、−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ａｒ）２を表し、置換基としてはハロゲン原子、炭素数が１〜５の範囲のアルキル基、炭素数が１〜５の範囲のアルコキシ基、又は炭素数が１〜３の範囲のアルキル基で置換された置換アミノ基を示す。Ａｒは、置換又は未置換のアリール基を表す。なお、Ｒ１８、Ｒ１９及びＲ２０は、各々独立に、水素原子、置換又は未置換のアルキル基、置換又は未置換のアリール基を表す。
【００８８】
【化２】
2008076657.tif 000005
【００８９】
式中Ｒ１５、Ｒ１５’は同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、を表わす。Ｒ１６、Ｒ１６’、Ｒ１７、Ｒ１７’は同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換又は未置換のアリール基、あるいは、−Ｃ（Ｒ１８）＝Ｃ（Ｒ１９）（Ｒ２０）、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ａｒ）２を表わし、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０は、各々独立に、水素原子、置換又は未置換のアルキル基、置換又は未置換のアリール基を表す。Ａｒは、置換又は未置換のアリール基を表す。ｍ及びｎは、各々独立に、０以上２以下の整数である。
【００９０】
【化３】
2008076657.tif 000006
【００９１】
式中、Ｒ２１は水素原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、置換又は未置換のアリール基、又は、―ＣＨ＝ＣＨ―ＣＨ＝Ｃ（Ａｒ）２を表す。Ａｒは、置換又は未置換のアリール基を表す。Ｒ２２、Ｒ２３は同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換又は未置換のアリール基を表す。
【００９２】
さらに電荷輸送層３に用いる樹脂は、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂や、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン、特開平８−１７６２９３号公報や特開平８−２０８８２０号公報に示されているポリエステル系高分子電荷輸送材など高分子電荷輸送材を用いることもできる。これらの樹脂は単独あるいは２種以上混合して用いることができる。
電荷輸送材料と樹脂との配合比（重量比）は１０：１〜１：５が好ましい。
【００９３】
また、高分子電荷輸送材を単独で用いることもできる。
高分子電荷輸送材としては、例えばポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシランなどの電荷輸送性を有する公知のものを用いることができる。特に、特開平８−１７６２９３号公報や特開平８−２０８８２０号公報に示されているポリエステル系高分子電荷輸送材は、とくに好ましい。高分子電荷輸送材はそれだけでも電荷輸送層３として使用可能であるが、上記樹脂と混合して成膜してもよい。
【００９４】
本実施態様で用いる電荷輸送層３の厚みは、一般的には５μｍ以上５０μｍ以下、好適には１０μｍ以上３０μｍ以下が適当である。
塗布方法としては、例えばブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。
電荷輸送層３を設けるときに用いる溶剤としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、２−ブタノン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロンゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状もしくは直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤を単独あるいは２種以上混合して用いることができる。
【００９５】
また、複写機中で発生するオゾンや酸化性ガス、あるいは光、熱による感光体の劣化を防止する目的で、感光層中に酸化防止剤、光安定剤、熱安定剤等の添加剤を添加することができる。
例えば、酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、パラフェニレンジアミン、アリールアルカン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダノンおよびそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物等があげられる。光安定剤の例としては、ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、ジチオカルバメート、テトラメチルピペリジン等の誘導体があげられる。
また、感度の向上、残留電位の低減、繰り返し使用時の疲労低減等を目的として、少なくとも１種の電子受容性物質を含有させることができる。本実施態様の感光体に使用可能な電子受容物質としては、例えば、無水コハク酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、ｏ−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、クロラニル、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、ピクリン酸、ｏ−ニトロ安息香酸、ｐ−ニトロ安息香酸、フタル酸等をあげることができる。これらのうち、フルオレノン系、キノン系やＣｌ，ＣＮ，ＮＯ２等の電子吸引性置換基を有するベンゼン誘導体が特に好ましい。
【００９６】
（保護層５）
次いで、保護層（最表面を構成する層）５について説明する。
保護層の磨耗、傷などに対する耐性を持たせるため、高強度の保護層を設けることもできる。この高強度表面層としては、樹脂中に、体積抵抗率が１０７Ω・ｃｍ以下の粒子を分散したもの、通常の電荷輸送層材料にフッ素樹脂、アクリル樹脂などの潤滑性粒子を分散させたもの、シリコーンや、アクリルなどのハードコート剤を使用することができるが、架橋構造を有するものが好まく、さらに電荷輸送性材料を含むものがより好ましい。
【００９７】
樹脂としては、熱硬化性、光硬化性（紫外線などを含む。）のいずれであってもよい。
具体的に樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ウレア樹脂、シロキサン樹脂などを挙げることができ、この中で特に好ましいのは電荷輸送性を有するフェノール構造を有する樹脂でノボラック型フェノール樹脂、レゾール型フェノール樹脂、フェノール構造を有するエポキシ樹脂などが好ましく、より好適にはレゾール型フェノール樹脂など少なくともメチロール基を有するフェノール誘導体である。
【００９８】
メチロール基を有するフェノール誘導体は、レゾルシン、ビスフェノールなど、フェノール、クレゾール、キシレノール、パラアルキルフェノール、パラフェニルフェノールなどの水酸基を１個含む置換フェノール類、カテコール、レゾルシノール、ヒドロキノンなどの水酸基を２個含む置換フェノール類、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＺなどのビスフェノール類、ビフェノール類など、フェノール構造を有する化合物とホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド等を、酸あるいはアルカリ触媒下で反応させ、モノメチロールフェノール類、ジメチロールフェノール類、トリメチロールフェノール類のモノマー、及びそれらの混合物、又はそれらをオリゴマー化されたもの、およびモノマーとオリゴマーの混合物である。なお、分子の構造単位の繰り返しが２以上２０以下の比較的大きな分子がオリゴマー、それ以下のものがモノマーである。
【００９９】
このとき用いられる酸触媒としては、硫酸、パラトルエンスルホン酸、リン酸などが用いられ、また、アルカリ触媒として、ＮａＯＨ、ＫＯＨ、Ｃａ（ＯＨ）２等のアルカリ金属及びアルカリ土類金属の水酸化物やアミン系触媒が用いられる。アミン系触媒として、アンモニア、ヘキサメチレンテトラミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリエタノールアミン等あるが、これらに限定されるものではない。塩基性触媒を使用した場合には、酸で中和するか、シリカゲルなどの吸着剤や、イオン交換樹脂などと接触させることが好適である。また、塗布液作製の際に硬化を促進させる触媒を使用してもよい。硬化時も上記の触媒を使用してもよいが、添加量は５質量％以下であることが好ましい。
【０１００】
架橋構造を形成するものとしては種々の材料を用いることができるが、特性上フェノール樹脂、ウレタン樹脂、シロキサン樹脂などが好ましく、特にシロキサン系樹脂、フェノール系樹脂が好ましい。
【０１０１】
電荷輸送材料としては、電荷輸送能を有する物質であれば特に限定されず適用することができ、ヒドラゾン系化合物、ベンジジン系化合物、アミン系化合物、スチルベン系化合物等の電荷輸送能に優れた低分子化合物であってもよいが、電荷輸送材料についても架橋反応が可能な構造であることが好適である。
【０１０２】
架橋反応が可能な電荷輸送物質としては、下記一般式（Ｉ）〜（Ｖ）で示されるものが挙げられ、具体的な構造としては、例えば以下に挙げたものが使用できる。
【０１０３】
一般式（Ｉ）：    Ｆ−（（Ｘ１）ｎ−Ｒ１−Ａ）ｍ
【０１０４】
一般式（Ｉ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を表し、Ｒ１はアルキレン基を表し、ｍは１以上４以下の整数を表す。Ｘ１は酸素又は硫黄を表し、ｎは０又は１を表す。Ａは水酸基、カルボキシル基、又はチオール基を表す。
【０１０５】
一般式（ＩＩ）：    Ｆ−［（Ｘ２）ｎ１−（Ｒ２）ｎ２−（Ｚ２）ｎ３−Ｇ］ｎ４
【０１０６】
一般式（ＩＩ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を表し、Ｘ２は酸素原子又は硫黄原子を表し、Ｒ２はアルキレン基を表し、Ｚ２はアルキレン基、酸素原子、硫黄原子、ＮＨ又はＣＯＯを表し、Ｇはエポキシ基を表し、ｎ１、ｎ２及びｎ３はそれぞれ独立に０又は１を表し、ｎ４は１以上４以下の整数を表す。
【０１０７】
【化４】
2008076657.tif 000007
【０１０８】
一般式（ＩＩＩ）中、Ｆは正孔輸送性を有するｎ５価の有機基を表し、Ｔは２価の基を表し、Ｙは酸素原子又は硫黄原子を表し、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５はそれぞれ独立に水素原子又は１価の有機基を表し、Ｒ６は１価の有機基を表し、ｍ１は０又は１を表し、ｎ５は１以上４以下の整数を表す。但し、Ｒ５とＲ６は互いに結合してＹをヘテロ原子とする複素環を形成してもよい。
【０１０９】
【化５】
2008076657.tif 000008
【０１１０】
一般式（ＩＶ）中、Ｆは正孔輸送性を有するｎ６価の有機基を表し、Ｔ２は２価の基を表し、Ｒ７は１価の有機基を表し、ｍ２は０又は１を表し、ｎ６は１以上４以下の整数を表す。
【０１１１】
【化６】
2008076657.tif 000009
【０１１２】
式（Ｖ）中、Ｆは正孔輸送性を有するｎ７価の有機基を表し、Ｔ３は２価のアルキレン基を表し、Ｒ０は１価の有機基を表し、ｎ７は１以上４以下の整数を表す。
【０１１３】
さらに、保護層５の成膜性、可とう性、潤滑性、接着性を調整するなどの目的から、他のカップリング剤、フッ素化合物と混合して用いてもよい。これら化合物として、各種シランカップリング剤、および市販のシリコーン系ハードコート剤を用いることができる。
シランカップリング剤としては、例えばビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、等を用いることができる。
市販のハードコート剤としては、例えばＫＰ−８５、Ｘ−４０−９７４０、Ｘ−４０−２２３９（以上、信越化学工業社製）、ＡＹ４２−４４０、ＡＹ４２−４４１、ＡＹ４９−２０８（以上、東レダウコーニング社製）等を用いることができる。また、撥水性等の付与のために、（トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチル）トリエトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、３−（ヘプタフルオロイソプロポキシ）プロピルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリエトシキシラン、等の含フッ素化合物を加えてもよい。
シランカップリング剤はいずれの量でも使用できるが、含フッ素化合物の量は、フッ素を含まない化合物に対して質量で０．２５倍以下とすることが望ましい。
【０１１４】
また、アルコールに溶解する樹脂を保護層５に加えることもできる。
アルコール系溶剤に可溶な樹脂としては、例えばポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ブチラールの一部がホルマールやアセトアセタール等で変性された部分アセタール化ポリビニルアセタール樹脂などのポリビニルアセタール樹脂（たとえば積水化学社製エスレックＢ、Ｋ等）、ポリアミド樹脂、セルロ−ス樹脂、ポリビニルフェノール樹脂などがあげられる。特に、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルフェノール樹脂が好ましい。
当該樹脂の重量平均分子量は２，０００以上１００，０００以下が好ましく、５，０００以上５０，０００以下がより好ましい。
また、当該樹脂の添加量は保護層５の全固形分全量を基準として１質量％以上２０質量％以下が好ましく、１質量％以上１５質量％以下がより好ましく、２質量％以上１０質量％以下がさらに好ましい。
【０１１５】
これらの成分を含有する保護層５用塗布液の調製は、無溶媒で行うか、必要に応じてメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサン等のエーテル類等の溶剤を用いて行うことができる。かかる溶剤は１種を単独で又は２種以上を混合して使用可能であるが、好適には沸点が１２０℃以下のものである。溶剤量は調整できる。
【０１１６】
また、上記成分を反応させて塗布液を得るときには、単純に混合、溶解させるだけでもよいが、２０℃以上１００℃以下、好適には、３０℃以上８０℃以下で１０分以上１００時間以下、好適には１時間以上５０時間以下加温してもよい。また、この際に超音波を照射することも好適である。これにより、部分的な反応が進行すると推測され、塗膜性が良好となる。
【０１１７】
保護層５には、酸化防止剤を添加することが好ましい。
酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系あるいはヒンダードアミン系が望ましく、有機イオウ系酸化防止剤、フォスファイト系酸化防止剤、ジチオカルバミン酸塩系酸化防止剤、チオウレア系酸化防止剤、ベンズイミダゾール系酸化防止剤、などの公知の酸化防止剤を用いてもよい。酸化防止剤の添加量としては２０質量％以下が好ましく、１０質量％以下がより好ましい。
【０１１８】
ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、例えば２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，５−ジ−ｔ−ブチルヒドロキノン、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナマイド、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンジルフォスフォネート−ジエチルエステル、２，４−ビス［（オクチルチオ）メチル］−ｏ−クレゾール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，５−ジ−ｔ−アミルヒドロキノン、２−ｔ−ブチル−６−（３−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）等が挙げられる。
【０１１９】
更に、保護層５に各種粒子を添加することもできる。粒子の一例として、ケイ素含有粒子を挙げることができる。ケイ素含有粒子とは、構成元素にケイ素を含む粒子であり、具体的には、コロイダルシリカ及びシリコーン粒子等が挙げられる。
ケイ素含有粒子として用いられるコロイダルシリカは、平均粒径１ｎｍ以上１００ｎｍ以下、好適には１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下のシリカを、酸性もしくはアルカリ性の水分散液、あるいはアルコール、ケトン、エステル等の有機溶媒中に分散させたものから選ばれ、一般に市販されているものを使用することができる。
保護層５中のコロイダルシリカの固形分含有量は、特に限定されるものではないが、製膜性、電気特性、強度の面から、保護層５の全固形分全量を基準として、０．１質量％以上５０質量％以下、好適には０．１質量％以上３０質量％以下の範囲で用いられる。
【０１２０】
ケイ素含有粒子として用いられるシリコーン粒子は、シリコーン樹脂粒子、シリコーンゴム粒子、シリコーン表面処理シリカ粒子から選ばれ、一般に市販されているものを使用することができる。これらのシリコーン粒子は球状で、その平均粒径は好適には１ｎｍ以上５００ｎｍ以下、より好適には１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下である。
保護層５中のシリコーン粒子の含有量は、保護層５の全固形分全量を基準として、好適には０．１質量％以上３０質量％以下、より好適には０．５質量％以上１０質量％以下である。
【０１２１】
また、その他の粒子としては、四フッ化エチレン、三フッ化エチレン、六フッ化プロピレン、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン等のフッ素系粒子や「第８回ポリマー材料フォーラム講演予稿集ｐ８９」に示される、フッ素樹脂と水酸基を有するモノマーを共重合させた樹脂粒子、ＺｎＯ−Ａｌ２Ｏ３、ＳｎＯ２−Ｓｂ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３−ＳｎＯ２、ＺｎＯ２−ＴｉＯ２、ＺｎＯ−ＴｉＯ２、ＭｇＯ−Ａｌ２Ｏ３、ＦｅＯ−ＴｉＯ２、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＭｇＯ等の金属酸化物が挙げられる。
更に、シリコーンオイル等のオイルを添加することもできる。シリコーンオイルとしては、例えば、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、フェニルメチルシロキサン等のシリコーンオイル；アミノ変性ポリシロキサン、エポキシ変性ポリシロキサン、カルボキシル変性ポリシロキサン、カルビノール変性ポリシロキサン、メタクリル変性ポリシロキサン、メルカプト変性ポリシロキサン、フェノール変性ポリシロキサン等の反応性シリコーンオイル；ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン等の環状ジメチルシクロシロキサン類；１，３，５−トリメチル−１．３．５−トリフェニルシクロトリシロキサン、１，３，５，７−テトラメチル−１，３，５，７−テトラフェニルシクロテトラシロキサン、１，３，５，７，９−ペンタメチル−１，３，５，７，９−ペンタフェニルシクロペンタシロキサン等の環状メチルフェニルシクロシロキサン類；ヘキサフェニルシクロトリシロキサン等の環状フェニルシクロシロキサン類；３−（３，３，３−トリフルオロプロピル）メチルシクロトリシロキサン等のフッ素含有シクロシロキサン類；メチルヒドロシロキサン混合物、ペンタメチルシクロペンタシロキサン、フェニルヒドロシクロシロキサン等のヒドロシリル基含有シクロシロキサン類；ペンタビニルペンタメチルシクロペンタシロキサン等のビニル基含有シクロシロキサン類等が挙げられる。これらは単独で用いることも、２種以上を組み合わせて用いることもできる。２種以上を組み合わせて用いる場合は、単に混合しても、固溶体や融着の形にしてもよい。
粒子の平均粒径は保護層５の透明性の点で０．３μｍ以下、特に０．１μｍ以下が好ましい。
【０１２２】
＜画像形成装置＞
図１５は、本発明に係る画像形成装置の好適な一実施形態を示す模式図である。図１５に示す画像形成装置は、画像形成装置本体（図示せず）に、上述した本実施態様の電子写真感光体１０を備えるプロセスカートリッジ２０と、露光装置（潜像形成装置）３０と、転写装置４０と、中間転写体５０とを備える。なお、画像形成装置１００において、露光装置３０はプロセスカートリッジ２０の開口部から電子写真感光体１０に露光可能な位置に配置されており、転写装置４０は中間転写体５０を介して電子写真感光体１０に対向する位置に配置されており、中間転写体５０は電子写真感光体１０に突き当たった状態で接触できるように配置されている。
【０１２３】
プロセスカートリッジ２０は、ケース内に電子写真感光体１０とともに、帯電装置２１、現像装置２５、クリーニング装置２７及び繊維状部材（平ブラシ状）２９を組み合わせて一体化し、画像形成装置本体に取り付けレールにより取り付けられるものである。なお、ケースには、露光のための開口部が設けられている。
【０１２４】
ここで、帯電装置２１は、電子写真感光体１０を接触方式により帯電させるものである。また、現像装置２５は、電子写真感光体１０上の静電潜像を現像してトナー像を形成するものである。
【０１２５】
クリーニング装置２７は、繊維状部材（ロール形状）２７ａやクリーニングブレード（ブレード部材）２７ｂを備える。図１５に示すクリーニング装置２７では、繊維状部材２７ａ及びクリーニングブレード２７ｂが設けられているが、クリーニング装置としてはどちらか一方を備えるものでもよい。繊維状部材２７ａとしては、ロール形状の他に歯ブラシ状としてもよい。また、繊維状部材２７ａは、クリーニング装置本体に固定してもよく、回転可能に支持されていてもよく、さらに感光体軸方向に往復動作可能に支持されていてもよい。
【０１２６】
クリーニング装置２７には、クリーニングブレード、クリーニングブラシで感光体表面の付着物（例えば、放電生成物）を除去することが求められ、繊維状部材２７ａに、金属石鹸、高級アルコール、ワックス、シリコーンオイルなどの潤滑性物質（潤滑成分）１４を接触させ、電子写真感光体表面に潤滑成分を供給することが好適である。
クリーニングブレード２７ｂとしては、通常のゴムブレードが用いられる。
【０１２７】
以上説明したプロセスカートリッジ２０は、画像形成装置本体に対して着脱自在としたものであり、画像形成装置本体とともに画像形成装置を構成するものである。
【０１２８】
露光装置３０としては、帯電した電子写真感光体１０を露光して静電潜像を形成させるものであればよい。また、露光装置３０の光源としては、マルチビーム方式の面発光レーザーを用いることが好ましい。
【０１２９】
転写装置４０としては、電子写真感光体１０上のトナー像を被転写媒体（図１５では被転写媒体として中間転写体５０を示しているが、中間転写体５０の代わりに用紙搬送ベルト（図示せず）を用い、その用紙搬送ベルトに保持された用紙や、中間転写体５０を用いずに、直接転写するための用紙であってもよい。）に転写するものであればよく、例えば、ロール形状の通常使用されるものが使用される。
【０１３０】
中間転写体５０としては、体積抵抗率が１０２Ω・ｃｍ以上１０１１Ω・ｃｍ以下であり、構成成分にポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等を含むベルト状のもの（中間転写ベルト）が使用される。また、中間転写体５０の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いることもできる。
【０１３１】
本実施態様でいう被転写媒体とは、電子写真感光体１０上に形成されたトナー像を転写する媒体であれば特に制限はない。例えば、電子写真感光体１０から直接、紙等に転写する場合は紙等が被転写媒体であり、また、中間転写体５０を用いる場合には中間転写体が被転写媒体になる。
【０１３２】
図１６は、本発明に係る画像形成装置の他の実施形態を示す模式図である。図１６に示す画像形成装置１１０は、電子写真感光体１０が画像形成装置本体に固定され、帯電装置２２、現像装置２５及びクリーニング装置２７がそれぞれカートリッジ化されており、それぞれ帯電カートリッジ、現像カートリッジ、クリーニングカートリッジとして独立して備えられている。なお、帯電装置２２は、コロナ放電方式により帯電させる帯電装置を備えている。
【０１３３】
画像形成装置１１０においては、電子写真感光体１０とそれ以外の各装置が分離されており、帯電装置２２、現像装置２５及びクリーニング装置２７が画像形成装置本体に固定されることなく、例えば引き出し、押しこみによる操作にて脱着可能である。
【０１３４】
本実施態様の電子写真感光体は、カートリッジ化することが不要となる場合がある。したがって、帯電装置２２、現像装置２５又はクリーニング装置２７をそれぞれ本体に固定されることなく、引き出し、押しこみによる操作にて脱着可能な構成とすることで、１プリント当りの部材コストを低減することができる。また、これらの装置のうち２つ以上を一体化したカートリッジとして着脱可能とすることもできる。
【０１３５】
なお、画像形成装置１１０は、帯電装置２２、現像装置２５及びクリーニング装置２７がそれぞれカートリッジ化されている以外は、画像形成装置１００と同様の構成を有している。
【０１３６】
図１７は、本発明に係る画像形成装置の他の実施形態を示す模式図である。画像形成装置１２０は、プロセスカートリッジ２０を４つ搭載したタンデム方式のフルカラー画像形成装置である。画像形成装置１２０では、中間転写体５０上に４つのプロセスカートリッジ２０がそれぞれ並列に配置されており、１色に付き１つの電子写真感光体が使用できる構成となっている。なお、画像形成装置１２０は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置１００と同様の構成を有している。
【実施例】
【０１３７】
以下に、本発明の実施例を説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
【０１３８】
［実施例１］
＜感光体の作製＞
外径３０ｍｍ、長さ２５３ｍｍの円筒状のアルミニウム製基体の外周面をセンタレス研磨装置により研磨し、表面粗さ（十点平均粗さ）Ｒｚ＝０．６μｍのシリンダーを得た。このシリンダーを脱脂処理した後、２質量％水酸化ナトリウム溶液で１分間エッチング処理を施した。その後、中和処理、更に純水洗浄を順に行った。
次に、１０質量％硫酸溶液を用いて、シリンダー表面に陽極酸化膜（電流密度１．０Ａ／ｄｍ２）を形成した。これを水洗した後、１質量％酢酸ニッケル溶液８０℃に２０分間浸漬して封孔処理を行った。更に純水洗浄、乾燥処理を行った。このようにして、外周面に膜厚７μｍの陽極酸化膜を有する円筒状支持体を得た。
次に、Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が、７．４°、１６．６°、２５．５°、２８．３°に強い回折ピークを持つクロロガリウムフタロシアニンと、ポリビニルブチラール（エスレックＢＭ−Ｓ、積水化学社製）との質量比（Ｐ／Ｂ比＝電荷発生材料質量／樹脂質量）を２とし、それに酢酸ｎ−ブチルを固形分濃度が７．５質量％となるように混合したのち、ガラスビーズとともにペイントシェーカーで１時間分散処理して、ガラスビーズを濾過して除去し、粘度が６．２ｍＰａ・ｓの塗布液１−１を得た。
更に、塗布液１−１の作製においてＰ／Ｂ比を１、固形分濃度を５質量％とした以外は、塗布液１−１と同様にして、粘度が５．０ｍＰａ・ｓの塗布液１−２を得た。塗布液１−２の粘度を、上述の方法で測定したところ、５．０ｍＰａ・ｓであった。
【０１３９】
試験用サンプルとして、図１８に示すように、この塗布液１−１と塗布液１−２を、上記の円筒状支持体の外周面上に、円筒状支持体の一方の末端部Ｘ１より１２ｍｍ中心部寄りの位置Ｙ１から、他方の末端部Ｘ２から１２ｍｍ中心部寄りの位置Ｙ２までインクジェット方式により塗布した。
末端部Ｘ１から１２ｍｍの位置を塗り始め位置Ｙ１としたのは、電荷輸送層の膜厚が軸方向にばらつきがない条件下で、感光体の感度を測定するためである。電荷発生層の上に電荷輸送層を形成する場合、電荷輸送層の膜厚は電荷発生層よりも厚いことから塗膜がダレやすく、軸方向端部で膜厚が異なる傾向にある。つまり、電荷発生層の塗布領域Ｙ１〜Ｙ２では、電荷輸送層の膜厚が一定となるよう、Ｘ１〜Ｙ１及びＸ２〜Ｙ２に、電荷発生層を塗布しない領域を広く設けた。
本実施例では、Ｙ１から塗り始めているので、Ｙ１よりも中央部側に２ｍｍ寄った位置が端部Ｚ１となる。しかし、Ｘ１から電荷発生層形成用塗布液を塗布し始めることができ、その場合には、Ｘ１よりも中央部側に２ｍｍ寄った位置が、本発明に係る端部となる。
【０１４０】
塗布液１−１を吐出する液滴吐出ヘッドには、３２個×２列のノズルを有するピエゾ間欠型のＴｒｉｄｅｎｔ社製のＰｉｘｅｌＪｅｔ６４を用い、液滴吐出ヘッドの６４個のノズルのうち、１列の２０個について使用した。
塗布液１−２を吐出する液滴吐出ヘッドには、６４個×１列のノズルを有するピエゾ間欠型のＥＰＳＯＮ社製のＭＪ５１０Ｃを用い、液滴吐出ヘッドの６４個のノズルをすべて使用した。
【０１４１】
塗布液１−１を吐出する液滴吐出ヘッドの傾斜角を７８°とし、塗布液１−２を吐出する液滴吐出ヘッドの傾斜角を８１°とし、各液滴吐出ヘッドと円筒状支持体との距離が１０ｍｍとなるよう液滴吐出ヘッドを設置した。
【０１４２】
円筒状支持体の軸が水平となるように設置され、円筒状支持体を２００ｒｐｍで回転させながら、軸方向への液滴吐出ヘッドの走査速度をいずれも５４０ｍｍ／分として、液滴吐出ヘッドを並べて塗布を行なった。
【０１４３】
図１９（Ａ）に示すように、塗布液１−１を塗出する液滴吐出ヘッドでは、円筒状支持体の端部側では周波数が高く、中心部では周波数が低くなるよう制御して、ノズルからの液滴体積を変えた。塗布液１−１を塗出する液滴吐出ヘッドからの平均液滴体積は、５０ｐｌとした。液滴径は、オフライン可視化評価にて測定した。噴射タイミングと同期させてＬＥＤを液滴に向けて点灯し、Ｃ Ｃ Ｄカメラにて画像を観察した。
一方、図１９（Ａ）に示すように、塗布液１−２を塗出する液滴吐出ヘッドでは、円筒状支持体の端部側では周波数が低く、中心部では周波数が高くなるように制御して、ノズルからの液滴体積を変えた。塗布液１−１を塗出する液滴吐出ヘッドからの平均液滴体積は、８ｐｌとした。
以上の操作後、１００℃で１０分間加熱乾燥し、電荷発生層を得た。
【０１４４】
次に、下記式（Ａ−１）で示されるベンジジン化合物を２．５質量部、下記式（Ｂ−１）で示される構造単位を有する高分子化合物（粘度平均分子量３９，０００）を３質量部、クロロベンゼンを５質量部、テトラヒドロフラン１５質量部を混合し溶解させ、電荷輸送層形成用塗布液を得た。
電荷発生層を形成した円筒状支持体上に、上記電荷輸送層形成用塗布液を浸漬によって塗布した。この浸漬塗布では円筒状支持体の末端部Ｘ１から２ｍｍの位置まで電荷輸送層形成用塗布液に浸漬し、引き上げを開始することで塗布を開始し、円筒状支持体を電荷輸送層形成用塗布液から完全に引き上げることで他方の末端部Ｘ２まで塗布した。その後に、他方の末端部Ｘ２から２ｍｍの位置までの部分を拭き取った後、１２０℃で４０分の加熱を行ない、膜厚２０μｍの電荷輸送層を形成し、感光体−１を作製した。
【０１４５】
【化７】
2008076657.tif 000010
【０１４６】
［実施例２］
実施例１の電荷発生層の作製において、塗布液の固形分濃度及び粘度、並びに液滴吐出ヘッドの設置条件及び塗布条件を表２のように変更した以外は、実施例１と同様にして、感光体−２を作製した。
実施例２における液滴吐出ヘッドの周波数の制御の様子を、図１９（Ａ）に示す。
【０１４７】
［実施例３］
実施例１の電荷発生層の作製において、塗布液の固形分濃度及び粘度、並びに液滴吐出ヘッドの設置条件及び塗布条件を表２のように変更した以外は、実施例１と同様にして、感光体−３を作製した。
実施例３における塗布液３-１の液滴吐出ヘッドの周波数の制御は実施例１における塗布液１-１と同じ周波数条件で実施し、塗布液３-２の液滴吐出ヘッドの周波数の制御は実施例１における塗布液１-２と同じ周波数条件で実施した。その様子を図１９（Ａ）に示す。
【０１４８】
［比較例１］
実施例１では、電荷発生層をインクジェット方式によって作製したが、比較例１では、以下の浸漬塗布法によって作製した以外は実施例１と同様にして、感光体−４を作製した。
なお、比較例１で用いた浸漬塗布装置は、図２１に示す構成であり、塗布液８２（比較例１では、塗布液１−２）を塗布槽８４に入れ、円筒状支持体４を浸漬し引き上げ塗布を行う装置である。比較例１の電荷発生層は実施例１と同様にして得た円筒状支持体を図２１に示すように鉛直方向に配し、実施例１の電荷発生層塗布液に円筒状支持体４をその上端から１２ｍｍの位置まで浸漬して、次いで２２５ｍｍ／分の速度を維持し、引き上げた。塗布速度を図２０（Ａ）に示す。その後、円筒状支持体の塗布における下端側から１２ｍｍまでの領域の塗布膜を拭き取ることで電荷発生層を形成した。
【０１４９】
［比較例２］
比較例１では、速度を維持して円筒状支持体を引き上げたところを、図２０（Ａ）に示す塗布速度で引き上げた以外は、比較例１と同様にして、感光体−５を作製した。
【０１５０】
＜評価＞
（膜厚）
得られた感光体の電荷発生層の膜厚を、生乾きの電荷発生層にへらでかき取り、かき取り部と非かき取り部での段差を測定することにより求めた。段差測定には、東京精密社製、Ｓｕｒｆｃｏｍ１４００ｄを用いた。
測定点は、位置Ｚ１及び位置Ｚ２のそれぞれにおける感光体周方向に等間隔に３点づつ（計６点）、および電荷発生層の感光体軸方向の中央部における感光体周方向に等間隔に３点の総計９点である。
以上の９点の平均値および平均値に対する最大値、最小値の割合（％）を測定した。その結果を表２及び表３に示す。
【０１５１】
（分光吸収比）
得られた感光体の電荷発生層の分光吸収比を、図１８電荷発生層の末端部Ｙ１からＹ２まで軸方向５ｍｍ毎に、円周方向１５°きざみ（すなわち２４点）を測定し平均した値を軸方向の分光吸収比として求めた。その結果を図１９（Ｂ）及び図２０（Ｂ）に示す。
なお、図１９（Ｂ）及び図２０（Ｂ）では、端部Ｚ１〜端部Ｚ２における分光吸収比をプロットした。
【０１５２】
実施例１乃至実施例３では、分光吸収比が最大となる位置は、電荷発生層を塗布し始めた位置Ｙ１から２ｍｍ中央部側に移動した位置であり、これに対し、比較例１では、浸漬塗布において鉛直方向に配した感光体の下側に向かって、膜厚が徐々に増加しており、比較例２では、最大膜厚となる位置は、Ｙ１から８ｍｍの位置であった。
【０１５３】
（感度）
感度として、前記位置Ｚ１から位置Ｚ２の領域のＶＬを測定した。
この領域全面を−７００Ｖに帯電して、３．７ｍＪ／ｍ２の露光を与えた場合の電位を、軸方向５ｍｍ毎で、円周方向９０度の測定点の円周方向平均値を求めた。軸方向での感度分布の結果を、図１９（Ｃ）及び図２０（Ｃ）に示す。
また、位置Ｚ１と位置Ｚ２とでのΔＶＬ１（両末端での感度差）を測定した。その結果を表２及び表３に示す。
【０１５４】
（画像濃度ムラ）
富士ゼロックス社製  ＤＯＣＵＰＲＩＮＴ  Ｃ１６１６で、感光体を上記感光体−１〜５に置き換え、２０℃５０％ＲＨの環境下で、Ａ４の用紙の長辺が図１８のＹ１を通過するように設定し、Ｙ１から２１０ｍｍの範囲（Ａ４用紙全巾に相当）に１００％画像濃度の画像を出力したときの画像を５枚印刷した。得られた画像の５枚目の用紙において、図２２に示すように、Ｚ１上を通過し長辺方向に延びる線（Ｚ１相当線）上における中央付近の任意の３点（Ｚ１ａ，Ｚ１ｂ，Ｚ１ｃ）の画像濃度（ＤＺ１ａ，ＤＺ１ｂ，ＤＺ１ｃ）と、電荷発生層の軸方向中央部を通過し長辺方向に延びる線（電荷発生層の中央部に相当する線）上の中央付近の任意の３点（Ｏａ，Ｏｂ，Ｏｃ）の画像濃度（ＤＯａ，ＤＯｂ，ＤＯｃ）を測定し、画像濃度ムラを評価した。画像濃度は、反射分光濃度計(Ｘ−Ｒｉｔｅ社製  Ｘ−Ｒｉｔｅ９３８)を用い、各々位置での画像濃度の平均値の差（単位：Ｄ）の値、つまり、{（ＤＺ１ａ＋ＤＺ１ｂ＋ＤＺ１ｃ）／３）−（ＤＯａ＋ＤＯｂ＋ＤＯｃ）／３}によって評価した。
その結果を表２に示す。
【０１５５】
（ゴースト）
富士ゼロックス社製  ＤＯＣＵＰＲＩＮＴ  Ｃ１６１６で、感光体を上記感光体−１〜５に置き換え、高温高湿（２０℃、５０％ＲＨ）の環境下で１００枚の画像形成テストを行い、ゴーストを評価した。
ゴーストは、１００％出力画像パターンと「Ｇ」の文字のチャートをプリントし、図２３（Ａ）〜（Ｃ）に示すように、１００％出力画像部分に「Ｇ」の文字の現れ具合を見て以下の通り評価した。
Ａ：良好〜軽微
Ｂ：若干目立つ程度
Ｃ：はっきり確認できる、の基準で判定した。
結果を表２及び表３に示す。
【０１５６】
（有効領域）
上記画像濃度ムラの値が０．２５Ｄ以下の部分を有効領域として、円筒状支持体の軸方向長さに対する有効領域の割合を算出した。なお、この場合有効領域は上記基準を満たさない部分を画像形成に利用できない長さとして差し引く基材から差し引くことにより求めた。結果を表２及び表３に示す。
【０１５７】
【表２】
2008076657.tif 000011
【０１５８】
【表３】
2008076657.tif 000012
【０１５９】
なお、図１９（Ｂ）と図１９（Ｃ）とを比べた場合、分光吸収比の変化に沿って、感度が変化しているのに対して、図２０（Ｂ）と図２０（Ｃ）とを比べた場合には、分光吸収比の変化に従順ではなく、特に、位置１８０ｍｍ〜２４０ｍｍの塗布後半において、膜厚の変化以上に感度が変化していることがわかる。これは、浸漬塗布に起因した溶剤の影響ではないかと思われる。したがって、浸漬塗布法を適用した比較例１及び２では、感度を調節する場合に、膜厚以外の要因も配慮しなければならず、感度を調整するのに煩雑な作業を要すると思われる。
【０１６０】
本発明における実施の態様の他の例を以下に示す。
円筒状支持体上に、電荷発生材料と樹脂との含有比率が異なる２種類以上の電荷発生層塗布液を用いて、前記円筒状支持体の軸方向で前記電荷発生層塗布液の噴射量を制御して、電荷発生層を形成する工程と、
前記電荷発生層上に電荷輸送層を形成する工程と、
を有することを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の電子写真感光体の製造方法において、
（ａ）前記液滴吐出ヘッドを、前記円筒状支持体の外周に配置された円筒型液滴吐出ヘッドとすることで、周方向の膜厚ムラを抑えることができる。
（ｂ）前記液滴吐出ヘッドを、前記円筒状支持体の軸方向長さ以上の幅を有することで、高速塗布が可能となる。
（ｃ）前記液滴吐出ヘッドを、前記電荷発生層塗布液を連続的に加圧する連続型の液滴吐出ヘッドとすることで、粘度の高い電荷発生層塗布液を適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１６１】
【図１】レーザー走査書き込み装置の構成を説明する図である。
【図２】感光体軸方向での光量分布の一例を示すグラフである。
【図３】電子写真感光体の反射光の強度の一例を示す。
【図４】図４（Ａ）及び図４（Ｂ）は電荷発生層における濃度勾配のイメージ図光吸収法による膜厚測定のための検量線の一例である。
【図５】通常のインクジェットプリンタの液滴吐出ヘッドを用いたインクジェット方式の一例を説明する図である。
【図６】図６の液滴吐出ヘッドを複数並べマトリクス状にしたときのインクジェット方式の一例である。
【図７】は円筒状支持体円周を取り囲むように設計された液滴吐出ヘッドによるインクジェット方式の一例である。
【図８】図７の構成を鉛直方向とした場合のインクジェット方式の一例である。
【図９】円筒型液滴吐出ヘッドを説明する図である。
【図１０】液滴吐出ヘッドが円筒状支持体と同等又はそれ以上の幅を有し、円筒状支持体軸全長を一度に塗布するインクジェット方式の一例である。
【図１１】インクジェット方式において、着弾したときの塗布液の液滴の様子を説明する図である。
【図１２】図１２（Ａ）及び図１２（Ｂ）はインクジェット方式において、見かけ上の解像度を向上させる方法を説明する図である。
【図１３】インクジェット方式による電荷発生層の形成方法を説明する図である。
【図１４】本発明の電子写真用感光体の好適な一実施形態における断面を示す模式図である。
【図１５】本発明の画像形成装置の好適な一実施形態を示す模式図である。
【図１６】本発明の画像形成装置の他の実施形態を示す模式図である。
【図１７】本発明の画像形成装置の他の実施形態を示す模式図である。
【図１８】実施例で作製する電荷発生層の形状を説明する図である。
【図１９】（Ａ）は、実施例における液滴吐出ヘッドの走査速度の制御の様子を示すグラフであり、（Ｂ）は、実施例における電荷発生層の分光吸収比分布であり、（Ｃ）は実施例における感度分布である。
【図２０】（Ａ）は、比較例における塗布速度の制御の様子を示すグラフであり、（Ｂ）は、比較例における電荷発生層の分光吸収比分布であり、（Ｃ）は比較例における感度分布である。
【図２１】比較例で電荷発生層の形成に用いた浸漬塗布装置の構成を説明する図である。
【図２２】実施例における画像濃度ムラの測定位置を説明する図である。
【図２３】実施例におけるゴ−ストの評価のためのチャ−トである。
【符号の説明】
【０１６２】
１    下引き層
２    電荷発生層
３    電荷輸送層
４    円筒状支持体
５    保護層
６    感光層
１０  電子写真感光体
２０  プロセスカートリッジ
２１、２２  帯電装置
２５  現像装置
２７  クリーニング装置
３０  露光装置
４０  転写装置
５０  中間転写体
１００、１１０、１２０  画像形成装置
【図１】
2008076657.tif 000013
【図２】
2008076657.tif 000014
【図３】
2008076657.tif 000015
【図４】
2008076657.tif 000016
【図５】
2008076657.tif 000017
【図６】
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【図７】
2008076657.tif 000019
【図８】
2008076657.tif 000020
【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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