(57)【要約】【課題】  セルロース  Ｎ−置換カーバメートを含有して形成される光学補償用塗工膜を有する光学補償板であり、液晶表示装置構成部品に対する接着性に優れ、接着操作が簡便な光学補償板を提供することである。【解決手段】  制御された複屈折性を有するフィルムの少なくとも一方の面に、セルロース  Ｎ−置換カーバメートを含有して形成される光学補償用塗工膜を有する光学補償板であり、該光学補償板の少なくとも片面に易接着処理が施されていることを特徴とする光学補償板とすること。【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
制御された複屈折性を有するフィルムの少なくとも一方の面に、セルロース  Ｎ−置換カーバメートを含有して形成される光学補償用塗工膜を有する光学補償板であり、該光学補償板の少なくとも片面に易接着処理が施されていることを特徴とする光学補償板。
【請求項２】
光学補償用塗工膜の面内の屈折率のうち最大のものをｎx、最小のものをｎyとし、厚み方向の屈折率をｎz、膜厚をｄとした時に、以下の数式１を満たすことを特徴とする請求項１記載の光学補償板。
〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ＜０  （数式１）
【請求項３】
前記易接着処理が、コロナ処理、プラズマ処理、フレーム処理、プライマー塗布処理、ケン化処理から選ばれる少なくとも一つであることを特徴とする請求項１記載の光学補償板。
【請求項４】
前記セルロース  Ｎ−置換カーバメートが、セルロースの水酸基の少なくとも一つがＮ−置換カーバメート化されており、かつ、セルロースカーバメートの窒素原子に結合した水素原子の少なくとも一つが下記一般式（１）〜（３）から選ばれる基で置換されており、かつ、複数のＮ−置換基は同一又は異なるものでもよく、下記一般式（１）〜（３）から選ばれる基を有する化合物であることを特徴とする請求項１記載の光学補償板。
【化１】
2008089992.tif 000011
（式中Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5は、同一又は異なるものでもよく、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数７〜２０のアラルキル基、炭素数７〜２０のアラルキルオキシ基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、またはニトロ基を表す。）
【化２】
2008089992.tif 000012
（式中Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12は、同一又は異なるものでもよく、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、またはニトロ基を表す。）
【化３】
2008089992.tif 000013
（式中Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19は、同一又は異なるものでもよく、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、またはニトロ基を表す。）
【請求項５】
請求項１乃至請求項４記載の光学補償板の塗工膜面上に、感圧性接着剤層又は接着剤層を設けたことを特徴とする光学補償板。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５記載の光学補償板を、感圧性接着剤層又は接着剤層を介して偏光子の少なくとも片面に偏光子保護フィルムとして装着したことを特徴とする偏光板。
【請求項７】
請求項１乃至請求項５記載の光学補償板を備えた液晶表示装置。
【請求項８】
請求項６記載の偏光板を備えた液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶セル等による位相差の光学補償を行うための光学補償板に関するものであり、さらに詳しくは、液晶表示装置構成部品に対する接着性に優れ、接着操作が簡便な光学補償板に関するものである。さらには該光学補償板を備えた偏光板及び液晶表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置には液晶セル、偏光板、その他液晶表示装置構成フィルム等の複屈折による位相差を補償して視野角の拡大を図るため、光学補償用の位相差フィルムが使用されている。このような位相差フィルムとして、例えば、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリスチレン、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルホン等のポリマーを溶液流延法、溶液流延後乾燥品の一軸延伸法、溶液流延後乾燥品の二軸延伸法、溶液流延後乾燥品に収縮性フィルムを接着し、加熱延伸後、収縮性フィルムを剥離する方法、押出法、押出品の一軸延伸法、押出品の二軸延伸法、押出品に収縮性フィルムを接着し、加熱延伸後、収縮性フィルムを剥離する方法、カレンダー法等によりフィルム化したものが挙げられる（例えば、特許文献１、特許文献２、特許文献３参照。）。このような位相差フィルムは、適用される液晶セルや偏光板、その他液晶表示装置構成フィルム等に合わせて、ポリカーボネートのような正の固有複屈折値を有する材料からなるフィルムや、ポリスチレンのような負の固有複屈折値を有する材料からなるフィルムが１枚から数枚、各々使い分けられ使用されている。
【０００３】
一方、上記に対し、本発明者等はセルロース  Ｎ−置換カーバメートを含有して形成される光学補償用塗工膜とすることにより、〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ＜０（該塗工膜の面内の屈折率のうち最大のものをｎx、最小のものをｎyとし、厚み方向の屈折率をｎz、膜厚をｄとする。）の特性をもつ光学補償用塗工膜が安価に得られ、その特性を有する光学補償板等の光学素子が製造できることを見出し、提案した。本提案により、前記光学補償板を現行の液晶表示装置構成部材の代わりに用いると、貼り付ける工程数が減り、製造工程が簡略化される。
【０００４】
ところで、このような貼り付け操作を行った後、信頼性試験として高温、高湿下に長時間さらすと、吸湿して接着力が低下することがあり、改善が望まれる。
【特許文献１】特開平３−３３７１９号公報
【特許文献２】特開平１１−２４８９３９号公報
【特許文献３】特開平５−１５７９１１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、セルロース  Ｎ−置換カーバメートを含有して形成される光学補償用塗工膜を有する光学補償板であり、液晶表示装置構成部品に対する接着性に優れ、接着操作が簡便な光学補償板を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
このような課題を解決するために本発明者らは鋭意研究の結果、制御された複屈折性を有するフィルムの少なくとも一方の面に、セルロース  Ｎ−置換カーバメートを含有して形成される光学補償用塗工膜を有する光学補償板であり、該光学補償板の少なくとも片面に易接着処理を施すことにより上記課題が解決されることを見出し、本発明に至った。
【０００７】
すなわち本発明は、
制御された複屈折性を有するフィルムの少なくとも一方の面に、セルロース  Ｎ−置換カーバメートを含有して形成される光学補償用塗工膜を有する光学補償板であり、該光学補償板の少なくとも片面に易接着処理が施されていることを特徴とする光学補償板（請求項１）であり、
光学補償用塗工膜の面内の屈折率のうち最大のものをｎx、最小のものをｎyとし、厚み方向の屈折率をｎz、膜厚をｄとした時に、以下の数式１を満たすことを特徴とする請求項１記載の光学補償板（請求項２）であり、
〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ＜０  （数式１）
前記易接着処理が、コロナ処理、プラズマ処理、フレーム処理、プライマー塗布処理、ケン化処理から選ばれる少なくとも一つであることを特徴とする請求項１記載の光学補償板（請求項３）であり、
前記セルロース  Ｎ−置換カーバメートが、セルロースの水酸基の少なくとも一つがＮ−置換カーバメート化されており、かつ、セルロースカーバメートの窒素原子に結合した水素原子の少なくとも一つが下記一般式（１）〜（３）から選ばれる基で置換されており、かつ、複数のＮ−置換基は同一又は異なるものでもよく、下記一般式（１）〜（３）から選ばれる基を有する化合物であることを特徴とする請求項１記載の光学補償板（請求項４）であり、
【０００８】
【化１】
2008089992.tif 000002
（式中Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5は、同一又は異なるものでもよく、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数７〜２０のアラルキル基、炭素数７〜２０のアラルキルオキシ基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、またはニトロ基を表す。）
【０００９】
【化２】
2008089992.tif 000003
（式中Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12は、同一又は異なるものでもよく、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、またはニトロ基を表す。）
【００１０】
【化３】
2008089992.tif 000004
（式中Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19は、同一又は異なるものでもよく、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、またはニトロ基を表す。）
請求項１乃至請求項４記載の光学補償板の塗工膜面上に、感圧性接着剤層又は接着剤層を設けたことを特徴とする光学補償板（請求項５）であり、
請求項１乃至請求項５記載の光学補償板を、感圧性接着剤層又は接着剤層を介して偏光子の少なくとも片面に偏光子保護フィルムとして装着したことを特徴とする偏光板（請求項６）であり、
請求項１乃至請求項５記載の光学補償板を備えた液晶表示装置（請求項７）であり、
請求項６記載の偏光板を備えた液晶表示装置（請求項８）である。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の光学補償板を用いると、液晶表示装置構成部品に貼り付ける工程数が減り、製造工程が簡略化される同時に、液晶表示装置構成部品に対する接着性に優れ、接着操作が簡便になることから、工業的に極めて有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明を詳細に説明する。本発明は、セルロース  Ｎ−置換カーバメートを含有して形成される光学補償用塗工膜を有することを特徴とする光学補償板である。
【００１３】
本発明の前記セルロース  Ｎ−置換カーバメートは、セルロースの水酸基の少なくとも一つがＮ−置換カーバメート化されており、かつ、セルロースカーバメートの窒素原子に結合した水素原子の少なくとも一つが下記一般式（１）〜（３）から選ばれる基で置換されており、かつ、複数のＮ−置換基は同一又は異なるものでもよく、下記一般式（１）〜（３）から選ばれる基を有することを特徴とするものである。
【００１４】
【化４】
2008089992.tif 000005
（式中Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5は、同一又は異なるものでもよく、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数７〜２０のアラルキル基、炭素数７〜２０のアラルキルオキシ基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、またはニトロ基を表す。）
【００１５】
【化５】
2008089992.tif 000006
（式中Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12は、同一又は異なるものでもよく、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、またはニトロ基を表す。）
【００１６】
【化６】
2008089992.tif 000007
（式中Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19は、同一又は異なるものでもよく、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、またはニトロ基を表す。）
本発明における、セルロース  Ｎ−置換カーバメートは（以下（Ａ）成分と言うことがある）、例えば、各種木材パルプ、綿リンター、綿リント等から得られるセルロースを原料とし、ピリジン、トリエチルアミン等の塩基触媒存在下でイソシアネート系化合物を反応させる既知の方法により製造することができる。また、反応生成物を水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリにより部分加水分解することによって、Ｎ−置換カーバメート化率の制御されたものを製造することもできる。尚、前記の反応時に使用する塩基触媒は溶媒としても使用することができる。その他の溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒を好適に用いることができる。更に、セルロースの溶媒に対する溶解性を向上させるために塩化リチウム等の無機塩を添加することもできる。また、イソシアネート系化合物の例としては、下記一般式（４）〜（６）で表される化合物が挙げられる。
【００１７】
【化７】
2008089992.tif 000008
（式中Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24は、同一又は異なるものでもよく、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数７〜２０のアラルキル基、炭素数７〜２０のアラルキルオキシ基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、またはニトロ基を表す。）
【００１８】
【化８】
2008089992.tif 000009
（式中Ｒ25、Ｒ26、Ｒ27、Ｒ28、Ｒ29、Ｒ30、Ｒ31は、同一又は異なるものでもよく、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、またはニトロ基を表す。）
【００１９】
【化９】
2008089992.tif 000010
（式中Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34、Ｒ35、Ｒ36、Ｒ37、Ｒ38は、同一又は異なるものでもよく、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜２１のアシルオキシ基、ハロゲン原子、またはニトロ基を表す。）
これらのイソシアネート系化合物は、単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００２０】
本発明では、上記イソシアネート系化合物の入手性の観点から、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24が、同一又は異なるものでもよく、水素原子、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数１〜１６のアルコキシ基、炭素数１〜１６のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜１６のアリール基、炭素数６〜１６のアリールオキシ基、炭素数７〜１６のアラルキル基、炭素数７〜１６のアラルキルオキシ基、炭素数１〜１７のアシルオキシ基、ハロゲン原子、またはニトロ基である、一般式（４）で表されるイソシアネート系化合物を反応させ、前記セルロースの水酸基の少なくとも一つがＮ−置換カーバメート化されたセルロース  Ｎ−置換カーバメートを用いることが好ましい。又はＲ25、Ｒ26、Ｒ27、Ｒ28、Ｒ29、Ｒ30、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34、Ｒ35、Ｒ36、Ｒ37、Ｒ38が、同一又は異なるものでもよく、水素原子、炭素数１〜１６のアルキル基、炭素数１〜１６のアルコキシ基、炭素数１〜１６のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜１７のアシルオキシ基、ハロゲン原子、またはニトロ基である、一般式（５）、（６）で表されるイソシアネート系化合物を反応させ、前記セルロースの水酸基の少なくとも一つがＮ−置換カーバメート化されたセルロース  Ｎ−置換カーバメートを用いることが好ましい。Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24が、同一又は異なるものでもよく、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数７〜１２のアラルキル基、炭素数７〜１２のアラルキルオキシ基、炭素数１〜１３のアシルオキシ基、ハロゲン原子、またはニトロ基である、一般式（４）で表されるイソシアネート系化合物を反応させ、前記セルロースの水酸基の少なくとも一つがＮ−置換カーバメート化されたセルロース  Ｎ−置換カーバメートを用いることがより好ましい。又はＲ25、Ｒ26、Ｒ27、Ｒ28、Ｒ29、Ｒ30、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34、Ｒ35、Ｒ36、Ｒ37、Ｒ38が、同一又は異なるものでもよく、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜１３のアシルオキシ基、ハロゲン原子、またはニトロ基である、一般式（５）、（６）で表されるイソシアネート系化合物を反応させ、前記セルロースの水酸基の少なくとも一つがＮ−置換カーバメート化されたセルロース  Ｎ−置換カーバメートを用いることがより好ましい。
【００２１】
一般式（４）〜（６）で表されるイソシアネート系化合物を具体的に例示すると、フェニルイソシアネート、ｏ−トリルイソシアネート、ｍ−トリルイソシアネート、ｐ−トリルイソシアネート、２−エチルフェニルイソシアネート、３−エチルフェニルイソシアネート、４−エチルフェニルイソシアネート、２−プロピルフェニルイソシアネート、３−プロピルフェニルイソシアネート、４−プロピルフェニルイソシアネート、２−ブチルフェニルイソシアネート、３−ブチルフェニルイソシアネート、４−ブチルフェニルイソシアネート、２，３−ジメチルフェニルイソシアネート、２，４−ジメチルフェニルイソシアネート、２，５−ジメチルフェニルイソシアネート、２，６−ジメチルフェニルイソシアネート、３，４−ジメチルフェニルイソシアネート、３，５−ジメチルフェニルイソシアネート、２，３−ジエチルフェニルイソシアネート、２，４−ジエチルフェニルイソシアネート、２，５−ジエチルフェニルイソシアネート、２，６−ジエチルフェニルイソシアネート、３，４−ジエチルフェニルイソシアネート、３，５−ジエチルフェニルイソシアネート、２，４，６−トリメチルフェニルイソシアネート、２−メトキシフェニルイソシアネート、３−メトキシフェニルイソシアネート、４−メトキシフェニルイソシアネート、２−エトキシフェニルイソシアネート、３−エトキシフェニルイソシアネート、４−エトキシフェニルイソシアネート、２−（フルオロメチル）フェニルイソシアネート、３−（フルオロメチル）フェニルイソシアネート、４−（フルオロメチル）フェニルイソシアネート、２−（クロロメチル）フェニルイソシアネート、３−（クロロメチル）フェニルイソシアネート、４−（クロロメチル）フェニルイソシアネート、２−（ブロモメチル）フェニルイソシアネート、３−（ブロモメチル）フェニルイソシアネート、４−（ブロモメチル）フェニルイソシアネート、２−（ヨードメチル）フェニルイソシアネート、３−（ヨードメチル）フェニルイソシアネート、４−（ヨードメチル）フェニルイソシアネート、２−（ジフルオロメチル）フェニルイソシアネート、３−（ジフルオロメチル）フェニルイソシアネート、４−（ジフルオロメチル）フェニルイソシアネート、２−（ジクロロメチル）フェニルイソシアネート、３−（ジクロロメチル）フェニルイソシアネート、４−（ジクロロメチル）フェニルイソシアネート、２−（ジブロモメチル）フェニルイソシアネート、３−（ジブロモメチル）フェニルイソシアネート、４−（ジブロモメチル）フェニルイソシアネート、２−（ジヨードメチル）フェニルイソシアネート、３−（ジヨードメチル）フェニルイソシアネート、４−（ジヨードメチル）フェニルイソシアネート、２−（トリフルオロメチル）フェニルイソシアネート、３−（トリフルオロメチル）フェニルイソシアネート、４−（トリフルオロメチル）フェニルイソシアネート、２−（トリクロロメチル）フェニルイソシアネート、３−（トリクロロメチル）フェニルイソシアネート、４−（トリクロロメチル）フェニルイソシアネート、２−（トリブロモメチル）フェニルイソシアネート、３−（トリブロモメチル）フェニルイソシアネート、４−（トリブロモメチル）フェニルイソシアネート、２−（トリヨードメチル）フェニルイソシアネート、３−（トリヨードメチル）フェニルイソシアネート、４−（トリヨードメチル）フェニルイソシアネート、２−ビフェニリルイソシアネート、３−ビフェニリルイソシアネート、４−ビフェニリルイソシアネート、２−フェノキシフェニルイソシアネート、３−フェノキシフェニルイソシアネート、４−フェノキシフェニルイソシアネート、２’−ベンジルフェニルイソシアネート、３’−ベンジルフェニルイソシアネート、４’−ベンジルフェニルイソシアネート、２−ベンジルオキシフェニルイソシアネート、３−ベンジルオキシフェニルイソシアネート、４−ベンジルオキシフェニルイソシアネート、２−アセトキシフェニルイソシアネート、３−アセトキシフェニルイソシアネート、４−アセトキシフェニルイソシアネート、２−フルオロフェニルイソシアネート、３−フルオロフェニルイソシアネート、４−フルオロフェニルイソシアネート、２−クロロフェニルイソシアネート、３−クロロフェニルイソシアネート、４−クロロフェニルイソシアネート、２−ブロモフェニルイソシアネート、３−ブロモフェニルイソシアネート、４−ブロモフェニルイソシアネート、２−ヨードフェニルイソシアネート、３−ヨードフェニルイソシアネート、４−ヨードフェニルイソシアネート、２，４−ジフルオロフェニルイソシアネート、２，５−ジフルオロフェニルイソシアネート、２，６−ジフルオロフェニルイソシアネート、３，４−ジフルオロフェニルイソシアネート、３，５−ジフルオロフェニルイソシアネート、２，４−ジクロロフェニルイソシアネート、２，５−ジクロロフェニルイソシアネート、２，６−ジクロロフェニルイソシアネート、３，４−ジクロロフェニルイソシアネート、３，５−ジクロロフェニルイソシアネート、２，４−ジブロモフェニルイソシアネート、２，５−ジブロモフェニルイソシアネート、２，６−ジブロモフェニルイソシアネート、３，４−ジブロモフェニルイソシアネート、３，５−ジブロモフェニルイソシアネート、２，４−ジヨードフェニルイソシアネート、２，５−ジヨードフェニルイソシアネート、２，６−ジヨードフェニルイソシアネート、３，４−ジヨードフェニルイソシアネート、３，５−ジヨードフェニルイソシアネート、２，３，４−トリフルオロフェニルイソシアネート、２，３，４−トリクロロフェニルイソシアネート、２，３，４−トリブロモフェニルイソシアネート、２，３，４−トリヨードフェニルイソシアネート、２−フルオロ−５−メチルフェニルイソシアネート、２−フルオロ−６−メチルフェニルイソシアネート、３−フルオロ−２−メチルフェニルイソシアネート、３−フルオロ−４−メチルフェニルイソシアネート、４−フルオロ−２−メチルフェニルイソシアネート、４−フルオロ−３−メチルフェニルイソシアネート、５−フルオロ−２−メチルフェニルイソシアネート、２−クロロ−５−メチルフェニルイソシアネート、２−クロロ−６−メチルフェニルイソシアネート、３−クロロ−２−メチルフェニルイソシアネート、３−クロロ−４−メチルフェニルイソシアネート、４−クロロ−２−メチルフェニルイソシアネート、４−クロロ−３−メチルフェニルイソシアネート、５−クロロ−２−メチルフェニルイソシアネート、２−ブロモ−５−メチルフェニルイソシアネート、２−ブロモ−６−メチルフェニルイソシアネート、３−ブロモ−２−メチルフェニルイソシアネート、３−ブロモ−４−メチルフェニルイソシアネート、４−ブロモ−２−メチルフェニルイソシアネート、４−ブロモ−３−メチルフェニルイソシアネート、５−ブロモ−２−メチルフェニルイソシアネート、２−ヨード−５−メチルフェニルイソシアネート、２−ヨード−６−メチルフェニルイソシアネート、３−ヨード−２−メチルフェニルイソシアネート、３−ヨード−４−メチルフェニルイソシアネート、４−ヨード−２−メチルフェニルイソシアネート、４−ヨード−３−メチルフェニルイソシアネート、５−ヨード−２−メチルフェニルイソシアネート、２−ニトロフェニルイソシアネート、３−ニトロフェニルイソシアネート、４−ニトロフェニルイソシアネート、１−ナフチルイソシアネート、２−ナフチルイソシアネート、１−メチル−２−ナフチルイソシアネート、２−メチル−１−ナフチルイソシアネート、１−メトキシ−２−ナフチルイソシアネート、２−メトキシ−１−ナフチルイソシアネート、１−（トリフルオロメチル）−２−ナフチルイソシアネート、２−（トリフルオロメチル）−１−ナフチルイソシアネート、１−（トリクロロメチル）−２−ナフチルイソシアネート、２−（トリクロロメチル）−１−ナフチルイソシアネート、１−（トリブロモメチル）−２−ナフチルイソシアネート、２−（トリブロモメチル）−１−ナフチルイソシアネート、１−（トリヨードメチル）−２−ナフチルイソシアネート、２−（トリヨードメチル）−１−ナフチルイソシアネート、１−アセトキシ−２−ナフチルイソシアネート、２−アセトキシ−１−ナフチルイソシアネート、１−フルオロ−２−ナフチルイソシアネート、２−フルオロ−１−ナフチルイソシアネート、１−クロロ−２−ナフチルイソシアネート、２−クロロ−１−ナフチルイソシアネート、１−ブロモ−２−ナフチルイソシアネート、２−ブロモ−１−ナフチルイソシアネート、１−ヨード−２−ナフチルイソシアネート、２−ヨード−１−ナフチルイソシアネート、１−ニトロ−２−ナフチルイソシアネート、２−ニトロ−１−ナフチルイソシアネート等が挙げられる。これら及び前記イソシアネート系化合物を反応して得られるセルロース  Ｎ−置換カーバメートは、単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００２２】
また、セルロースはその構成単位であるグルコース残基当たり３個の水酸基を有している。従って、これらの水酸基を置換する場合に、グルコース残基当たりの置換度（以下、ＤＳと称する）は最大３になる。本発明においては、ＤＳの下限は好ましくは０．０５、より好ましくは０．１、さらに好ましくは０．２であり、上限は好ましくは３、より好ましくは２．９５、さらに好ましくは２．９である。ＤＳが０．０５より低いと溶媒に溶け難くなる傾向がある。本発明では、ＤＳが異なるセルロース  Ｎ−置換カーバメートの２種以上を併用してもよく、単独で使用してもよい。
【００２３】
さらに、（Ａ）成分の数平均分子量の下限は好ましくは５０００、より好ましくは８０００、さらに好ましくは１００００であり、上限は好ましくは５０００００、より好ましくは３０００００、さらに好ましくは２０００００である。数平均分子量が５０００より小さいと塗工膜強度が低下する傾向があり、数平均分子量が５０００００より大きいと溶媒（以下（Ｂ）成分と言うことがある）に溶け難くなる傾向がある。なお、当該数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）法により測定した値である。本発明では、数平均分子量が異なるセルロース  Ｎ−置換カーバメートの２種以上を併用してもよく、単独で使用してもよい。
【００２４】
以下、光学補償用塗工膜形成用塗工液（以下、単に塗工液と言うことがある）について説明する。塗工液は、（Ａ）前記セルロース  Ｎ−置換カーバメート、（Ｂ）（Ａ）成分が溶解可能な溶媒、を含有してなる。
【００２５】
（Ｂ）成分の溶媒としては、（Ａ）成分が可溶であれば特に限定されるものではないが、具体的な例としては、ベンゼン、トルエン、ｏ−キシレン、ｍ−キシレン、ｐ−キシレン、エチルベンゼン、イソプロピルベンゼン、ジエチルベンゼンの異性体混合物等の炭化水素系溶媒；メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、２−メチル−１−プロパノール、フルフリルアルコール、ベンジルアルコール等のアルコール系溶媒；エチルエーテル、イソプロピルエーテル、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、テトラヒドロピラン、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒；アセトン、２−ブタノン、４−メチル−２−ペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒；塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、１，１，１−トリクロロエタン、１，１，２−トリクロロエタン、１，１，１，２−テトラクロロエタン、１，１，２，２−テトラクロロエタン、ペンタクロロエタン、ヘキサクロロエタン、１−クロロプロパン、２−クロロプロパン、１，１−ジクロロプロパン、１，２−ジクロロプロパン、１，３−ジクロロプロパン、２，２−ジクロロプロパン、１，２，３−トリクロロプロパン、クロロベンゼン、１，２−ジクロロベンゼン、１，３−ジクロロベンゼン、１，４−ジクロロベンゼン、１，２，３−トリクロロベンゼン、１，２，４−トリクロロベンゼン、１，３，５−トリクロロベンゼン等のハロゲン系溶媒；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチルセロソルブアセテート等のエステル系溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、１−メチル−２−ピロリジノン等のアミド系溶媒；ピロリジン、ピペリジン、ピロール等のアミン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００２６】
溶媒量は、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の総重量に対する（Ａ）成分の割合が下限１重量％、上限７０重量％の範囲で用いるのが好ましく、下限２重量％、上限６０重量％の範囲で用いるのがより好ましく、下限３重量％、上限５０重量％の範囲で用いるのがさらに好ましい。（Ａ）成分の割合が１重量％より小さい場合は塗工膜厚が薄くなり、必要な膜厚が得られ難くなる傾向があり、７０重量％より大きい場合は塗工液の粘度が高くなり、作業性が劣る傾向がある。
【００２７】
次に、塗工膜の特性を改質する目的で添加することが可能な樹脂について説明する。当該添加することが可能な樹脂としては、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリアリレート樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂等が例示されるが、これらは本発明の目的及び効果を損なわない範囲において添加することができる。
【００２８】
次に、塗工膜、塗工液の特性を改質する目的で加えることが可能な添加剤について説明する。添加剤としては、酸化防止剤（例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製ＩＲＧＡＮＯＸ  １０１０、ＩＲＧＡＮＯＸ  １１３５、ＩＲＧＡＮＯＸ  １３３０等のヒンダードフェノール類）、加工安定剤（例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製ＨＰ−１３６、ＩＲＧＡＮＯＸ  Ｅ２０１、ＩＲＧＡＦＯＳ  １６８等）、光安定剤（例えば、三共ライフテック製サノールＬＳ−７６５、サノールＬＳ−７７０等のヒンダードアミン類）、紫外線吸収剤（例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製ＴＩＮＵＶＩＮ  Ｐ、ＴＩＮＵＶＩＮ  ２１３、ＴＩＮＵＶＩＮ  ３２６等のベンゾトリアゾール類）、接着性改良剤（例えば、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等のシランカップリング剤）、シラノール縮合触媒（例えば、川研ファインケミカル製アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）、アルミキレートＭ等のアルミニウムキレート類）、可塑剤（例えば、ジ２−エチルヘキシルフタレート、ジイソブチルアジペート等のエステル類）、界面活性剤（例えば、住友スリーエム製Ｆｌｕｏｒａｄ  ＦＣ−４３０、Ｆｌｕｏｒａｄ  ＦＣ−４４３０等のフッ素系化合物）、帯電防止剤（例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製ＩＲＧＡＳＴＡＴ  Ｐ１８、ＩＲＧＡＳＴＡＴ  Ｐ２２等）等が挙げられ、これらは本発明の目的及び効果を損なわない範囲において添加することができる。
【００２９】
前記塗工液は、例えば上記各成分を溶媒の融点以上、沸点以下の温度で、混合後静置又は攪拌混合等することにより得られる。
【００３０】
次に、光学補償板用の基板について説明する。基板としては、各種のものが使用可能であるが、特に用途から考えると透明であることが好ましい。基板に使用される具体的な化合物の例としては、ビスフェノールＡと塩化カルボニルより重縮合して製造されたポリカーボネート系重合体；ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のポリアクリル酸エステル；アジピン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の２塩基酸とエチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ネオペンチルグリコール等のグリコールとの縮合又はラクトン類の開環重合で得られるポリエステル系重合体；ポリスチレン、ポリ（α−メチルスチレン）等のスチレン系重合体；アクリル酸エステルとスチレンとの共重合体；ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系樹脂、シクロオレフィンポリマー、ポリイソプレンの水素添加物、ポリブタジエンの水素添加物等のポリオレフィン系重合体；トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂；ナイロン６、ナイロン６６等のポリアミド；ポリイミド；ポリアミドイミド；ポリビニルアルコール；ポリ塩化ビニル；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリアリレート；エポキシ樹脂；シリコーン樹脂；国際公開第０１／３７００７号公報に記載される化合物等が挙げられる。基板としては、これらのポリマーを溶液流延法、溶液流延後乾燥品の一軸延伸法、溶液流延後乾燥品の二軸延伸法、溶液流延後乾燥品に収縮性フィルムを接着し、加熱延伸後、収縮性フィルムを剥離する方法、押出法、押出品の一軸延伸法、押出品の二軸延伸法、押出品に収縮性フィルムを接着し、加熱延伸後、収縮性フィルムを剥離する方法、カレンダー法等によりフィルム化し、制御された複屈折性を有するものが挙げられる。制御された複屈折性を有するフィルムとしては、特に、視野角補償の観点から、正の複屈折性を有する材料からなるフィルムを好適に用いることができる。正の複屈折性を有する材料を具体的に例示すると、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ノルボルネン系樹脂、シクロオレフィンポリマー、セルロース系樹脂、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート等が挙げられる。前記基板として例示したフィルムの面内の屈折率のうち最大のものをｎxf、最小のものをｎyfとし、厚み方向の屈折率をｎzf、膜厚をｄf（ｎｍ）とすると、面内位相差は、（ｎxf−ｎyf）×ｄfで表され、複屈折は（ｎxf−ｎyf）×ｄf／ｄfで示される。また、厚み位相差は、〔（ｎxf＋ｎyf）／２−ｎzf〕×ｄfで表され、複屈折は〔（ｎxf＋ｎyf）／２−ｎzf〕×ｄf／ｄfで示される。この時、５９０ｎｍ光による測定において、面内位相差が下限０ｎｍ、上限６００ｎｍになるように制御されていることが好ましく、下限０ｎｍ、上限５００ｎｍになるように制御されていることがより好ましく、下限０ｎｍ、上限４００ｎｍになるように制御されていることがさらに好ましい。面内位相差が６００ｎｍより大きいと、該フィルム面に光学補償用塗工膜を形成させてなる光学補償板の位相差補償効果が低下する傾向にある。また、５９０ｎｍ光による測定において、厚み位相差が下限��１０００ｎｍ、上限１０００ｎｍになるように制御されていることが好ましく、下限−８００ｎｍ、上限８００ｎｍになるように制御されていることがより好ましく、下限−６００ｎｍ、上限６００ｎｍになるように制御されていることがさらに好ましい。厚み位相差が−１０００ｎｍより小さい場合と１０００ｎｍより大きい場合も、該フィルム面に光学補償用塗工膜を形成させてなる光学補償板の位相差補償効果が低下する傾向にある。
【００３１】
次に、光学補償用塗工膜の形成方法について説明する。光学補償用塗工膜は、前記基板の片面又は両面に前記塗工液を塗工して塗工基板とした後、この塗工基板を乾燥することにより基板上に好適に作製できる。塗工方法としては、グラビヤロールコート法、マイヤーバーコート法、ドクターブレードコート法、リバースロールコート法、ディップコート法、エアーナイフコート法、カレンダーコート法、スキーズコート法、キスコート法、バーコート法、スロットダイコート法、スピンコート法等が挙げられる。
【００３２】
乾燥方法としては、前記塗工基板を、例えば空気中又は窒素等の不活性ガス中に放置（風乾）する方法、熱風オーブン、赤外線加熱炉等で加熱乾燥する方法、真空乾燥機等で減圧乾燥する方法等により、あるいはこれらを組み合わせて行うことができる。
【００３３】
乾燥温度条件としては、定温、多段階昇温のいずれも用いることができる。定温の場合、下限−３０℃、上限３００℃の温度範囲が好ましく、下限０℃、上限２８０℃がより好ましく、下限１０℃、上限２６０℃がさらに好ましい。乾燥温度が−３０℃より低いと乾燥時間が長くなる傾向があり、３００℃より高いと塗工膜や基板の熱劣化が生じ易くなる傾向がある。このような定温乾燥を用いることができるが、効果的に乾燥させるためには多段階に温度を上げることが好ましく、経済的観点から１次乾燥、２次乾燥の２段乾燥が特に好ましい。
【００３４】
１次乾燥においては、下限０℃、上限４０℃の温度範囲が好ましく、下限５℃、上限３５℃がより好ましく、下限１０℃、上限３０℃がさらに好ましい。液晶セルや偏光板、その他液晶表示装置構成フィルム等の複屈折による大きな厚み方向の位相差を補償するためには、その厚み方向の位相差の符号と逆であり、〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄで表される厚み位相差の絶対値が大きな光学補償用材料を用いることが有効である。１次乾燥は、（ｎx＋ｎy）／２−ｎzで表される値の絶対値をより大きくするために必要な塗工膜内部構造の基礎形成に必要である。１次乾燥温度が０℃より低いと塗工膜内部構造の基礎形成に必要な乾燥時間が長くなる傾向があり、４０℃より高いと、（ｎx＋ｎy）／２−ｎzで表される値の絶対値をより大きくするために必要な塗工膜内部構造の基礎形成がされ難くなる傾向がある。
【００３５】
２次乾燥においては、下限８０℃、上限３００℃の温度範囲が好ましく、下限９０℃、上限２８０℃がより好ましく、下限１００℃、上限２６０℃がさらに好ましい。２次乾燥は、（ｎx＋ｎy）／２−ｎzで表される値の絶対値をより大きくするために必要な塗工膜内部構造の確立に必要である。２次乾燥温度が８０℃より低いと塗工膜内部構造の確立が不十分になる傾向があり、３００℃より高いと塗工膜や基板の熱劣化が生じ易くなる傾向がある。尚、（ｎx＋ｎy）／２−ｎzで表される値の絶対値が十分に大きい時、確立された塗工膜内部構造は透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）等で塗工膜断面から観察することができる。
【００３６】
さらに、前記塗工液を前記基板に塗工し塗工基板とした後、（Ｂ）成分の蒸気にさらして塗工膜をアニーリングし、更に乾燥することにより光学補償用塗工膜の形成方法とすることもできる。
【００３７】
アニーリングは塗工膜のレベリング性向上、応力緩和等のために行うことが好ましく、例えば面内位相差の低減、面内位相差の振れの低減等に有効である。アニーリングは、（Ｂ）成分の蒸気中に塗工基板の塗工膜を上にして水平に静置して行うことが好ましい。アニーリング時の温度は種々設定できるが、下限−３０℃、上限〔（Ｂ）成分の沸点（℃）〕の範囲が好ましく、下限−１５℃、上限〔（Ｂ）成分の沸点（℃）−５℃〕がより好ましく、下限０℃、上限〔（Ｂ）成分の沸点（℃）−１０℃〕がさらに好ましい。アニーリング時の温度が−３０℃より低いとアニーリング時間が長くなる傾向があり、アニーリング時の温度が（Ｂ）成分の沸点（℃）より高いと塗工膜の基板からの流れ出しが生じ易くなる傾向がある。アニーリング時の圧力は種々設定でき、大気圧、加圧下、又は減圧下で行うことができるが、作業性の点で大気圧が好ましい。
【００３８】
次に、本発明の光学補償板の製造方法について説明する。ここでいう光学補償板は、基板と該基板上に塗工された光学補償用塗工膜からなる。
【００３９】
本発明の光学補償板は、前記基板の片面又は両面に易接着処理を施した後、前記塗工液を前記光学補償用塗工膜の形成方法で説明した塗工方法を用いて塗工後、乾燥、又は同光学補償用塗工膜の形成方法で説明した塗工方法を用いて塗工後、アニーリング、乾燥することにより好適に製造できる。乾燥は、同光学補償用塗工膜の形成方法で説明した乾燥方法、乾燥温度を用いることにより好適に行うことができる。また、易接着処理は前記乾燥後の光学補償板の片面又は両面に行うこともできる。
【００４０】
易接着処理の具体的な例としては、コロナ処理、プラズマ処理、フレーム処理、プライマー塗布処理、ケン化処理等が挙げられ、これらから選ばれる一つ、あるいはこれらを組み合わせて行うことができる。
【００４１】
本発明に用いることができるコロナ処理の条件としては、前記基板又は光学補償板の処理１回当りのエネルギー密度が、下限２０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ2、上限１０００００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ2が好ましく、下限３０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ2、上限５００００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ2がより好ましく、下限４０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ2、上限１００００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ2がさらに好ましい。エネルギー密度が２０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ2より小さいと易接着処理効果が不十分になる傾向があり、エネルギー密度が１０００００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ2より大きいと基板又は光学補償板の劣化が生じる傾向にある。尚、１回の処理で易接着効果が不十分な場合は、複数回処理を行うこともできる。また、コロナ処理は、空気、窒素、酸素、水素、二酸化炭素、アルゴン等又はこれらのうち、２種以上の混合ガス雰囲気中で行うことができる。経済性、安全性の観点からは、空気中又は窒素を送風した空気中で行うことが好ましい。
【００４２】
また、本発明に用いることができるプラズマ処理としては、真空グロー放電、大気圧グロー放電等が挙げられる。真空グロー放電の場合は、プラズマ発生装置内の電極間に前記基板又は光学補償板を置き、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、酸素、水素、二酸化炭素、テトラフルオロメタン、水蒸気等又はこれらのうち、２種以上の混合ガス雰囲気とし、０．００５Ｔｏｒｒから２０Ｔｏｒｒの範囲に保ち、電極間に１ｋＨｚから１００ｋＨｚの範囲の高周波電圧を印加することにより好適に処理を行うことができる。大気圧グロー放電の場合は、プラズマ発生装置内の電極間に前記基板又は光学補償板を置き、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガスに窒素、酸素、水素、二酸化炭素、水蒸気等の反応性ガスを混合し、大気圧近傍で電極間に１ｋＨｚから１００ｋＨｚの範囲の高周波電圧を印加することにより好適に処理を行うことができる。
【００４３】
また、本発明に用いることができるフレーム処理の条件としては、都市ガス、天然ガス、メタンガス、プロパンガス、ブタンガス等の炭化水素系ガスと空気、酸素等の酸化性ガスの混合ガスを燃焼させて火炎を発生させ、内炎の先端から３０ｍｍ以内の火炎に前記基板又は光学補償板を、下限０．００１秒、上限２秒さらすことが好ましく、下限０．００５秒、上限１．５秒さらすことがより好ましく、下限０．０１秒、上限１秒さらすことがさらに好ましい。火炎との接触時間が０．００１秒より短いと易接着処理効果が不十分になる傾向があり、火炎との接触時間が２秒より長いと基板又は光学補償板の劣化が生じる傾向にある。
【００４４】
また、本発明に用いることができるプライマー塗布処理は、イソシアネート系化合物、エポキシ系化合物、接着性改良剤として例示した前記シランカップリング剤、シラノール縮合触媒として例示した前記アルミニウムキレート類等を（Ｂ）成分として例示した溶媒等に溶解したものを、前記光学補償用塗工膜の形成方法で説明した塗工方法を用いて前記基板又は光学補償板に塗工し、同光学補償用塗工膜の形成方法で説明した乾燥方法を用いて乾燥することにより好適に行うことができる。
【００４５】
また、本発明に用いることができるケン化処理は、前記基板又は光学補償板を酸又はアルカリで処理後、アルカリ又は酸で中和し、水洗後、乾燥することにより行うことができるが、実用的な観点からアルカリによる処理が好ましい。水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化カルシウム等のアルカリの水溶液に前記基板又は光学補償板を浸漬して処理する際、アルカリ水溶液の濃度は、下限０．５ｍｏｌ／ｌ、上限３ｍｏｌ／ｌが好ましく、下限０．７５ｍｏｌ／ｌ、上限２．５ｍｏｌ／ｌがより好ましく、下限１ｍｏｌ／ｌ、上限２ｍｏｌ／ｌがさらに好ましい。アルカリ水溶液の濃度が０．５ｍｏｌ／ｌより低いと処理時間が長くなる傾向があり、アルカリ水溶液の濃度が３ｍｏｌ／ｌより高いと基板又は光学補償板のケン化処理が進行し過ぎて劣化が生じる傾向にある。また、アルカリ水溶液の温度は、下限１０℃、上限８０℃が好ましく、下限２０℃、上限７０℃がより好ましく、下限３０℃、上限６０℃がさらに好ましい。アルカリ水溶液の温度が１０℃より低いと処理時間が長くなる傾向があり、アルカリ水溶液の温度が８０℃より高いと基板又は光学補償板のケン化処理が進行し過ぎて劣化が生じる傾向にある。
【００４６】
また、さらに、液晶表示装置構成部品に対する接着操作が簡便な光学補償板とするため、光学補償板の塗工膜面上に、感圧性接着剤層又は接着剤層を設けることもできる。
【００４７】
感圧性接着剤としては、ゴム系感圧性接着剤、アクリル系感圧性接着剤、シリコーン系感圧性接着剤、ウレタン系感圧性接着剤、ビニルアルキルエーテル系感圧性接着剤、ポリビニルアルコール系感圧性接着剤、ポリビニルピロリドン系感圧性接着剤、ポリアクリルアミド系感圧性接着剤、セルロース系感圧性接着剤等が挙げられる。
【００４８】
接着剤としては、ＵＶ硬化型接着剤、エマルジョン型接着剤、一液硬化型接着剤、二液硬化型接着剤等が挙げられる。
【００４９】
次に、光学補償用塗工膜の位相差について説明する。
【００５０】
光学補償用塗工膜は、面内の屈折率のうち最大のものをｎx、最小のものをｎyとし、厚み方向の屈折率をｎz、膜厚をｄとした時に、〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ＜０の特性をもつことが液晶セル等の位相差の光学補償を行う観点から好ましい。特に、前記セルロース  Ｎ−置換カーバメートを（Ｂ）成分として例示した溶媒等に溶解した溶液を用い、溶液キャスト法で製膜した未延伸膜において〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ＜０の関係を満たすセルロース  Ｎ−置換カーバメートを含有して形成した光学補償用塗工膜により前記特性が得られることが好ましい。光学補償用塗工膜の厚みをｄ（ｎｍ）とすると、面内位相差は、（ｎx−ｎy）×ｄで表され、厚み位相差は、〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄで表されるが、面内位相差は５９０ｎｍ光による測定において、下限０ｎｍ、上限３００ｎｍが好ましく、下限０ｎｍ、上限２００ｎｍがより好ましく、下限０ｎｍ、上限１００ｎｍがさらに好ましい。面内位相差が３００ｎｍより大きいと液晶セル等の複屈折による位相差の補償が困難になる傾向がある。また、厚み位相差は５９０ｎｍ光による測定において、下限−１０００ｎｍ、上限−１ｎｍが好ましく、下限−８００ｎｍ、上限−１０ｎｍがより好ましく、下限−６００ｎｍ、上限−２０ｎｍがさらに好ましい。厚み位相差が−１０００ｎｍより小さいと液晶セル等の複屈折による位相差の補償が困難になる傾向がある。
【００５１】
次に、本発明の偏光板について説明する。偏光板としては、本発明の光学補償板を保護フィルムとして偏光子の両面に用いることもできるし、片面に本発明の光学補償板を使用し、反対の面に前記光学補償板用の基板を用いることもできる。本発明の光学補償板を使用する際は、感圧性接着剤層又は接着剤層を介して偏光子に好適に装着できる。また、前記光学補償板用の基板は、例えば、偏光子にポリエステル系接着剤、ポリアクリル系接着剤、エポキシ系接着剤、シアノアクリル系接着剤、ポリウレタン系接着剤等の接着剤を用いて貼り合わせることができる。偏光子の例としては、親水性高分子フィルムにヨウ素及び／又は二色性染料を吸着配向して作製した偏光子、ポリビニルアルコール系フィルムを脱水処理してポリエンを形成させ、配向して作製した偏光子、ポリ塩化ビニルフィルムを脱塩酸処理してポリエンを形成させ、配向して作製したものが挙げられる。偏光子に使用される親水性高分子フィルムとしては、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体のケン化物フィルム等が挙げられる。
【００５２】
なお、片面に本発明の光学補償板を使用し、反対の面に前記光学補償板用の基板を用いた偏光板を作製後、片面又は両面に新たに光学補償用塗工膜を設けることもできる。
【００５３】
次に、本発明の液晶表示装置について説明する。液晶表示装置としては、例えば、光源／導光板／光拡散フィルム／レンズフィルム／輝度向上フィルム／偏光板／液晶セル／偏光板の順に構成された表示装置等が挙げられるが、液晶セルの入射光側及び／又は出射光側に本発明の光学補償板を装着すること及び／又は液晶セルの入射光側及び／又は出射光側の偏光板に本発明の偏光板を装着することにより本発明の液晶表示装置とすることができる。液晶セルの方式としては、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）方式等挙げられる。
【００５４】
なお、本発明の光学補償板は、ＶＡ方式、ＩＰＳ方式、ＯＣＢ方式等の液晶セルを用いた液晶表示装置の視野角拡大用途に使用できる。本発明における光学補償板の光学特性の性能を十分に発揮するためには、ＩＰＳ方式が特に好ましい。また、前記光学補償板は、ビデオ、カメラ、携帯電話、パソコン、テレビ、モニター、自動車のインパネ等の液晶表示装置作製部品等に好適に使用できる。
【実施例】
【００５５】
以下に、本発明をより詳細に説明するために実施例を示すが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。
【００５６】
３次元屈折率〔（ｎx，ｎy，ｎz）又は（ｎxf，ｎyf，ｎzf）〕の算出
王子計測機器製自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−ＷＲを用いて、２５℃下で５９０ｎｍ光による測定を行い、３次元屈折率を算出した。得られた結果から、面内位相差を（ｎx−ｎy）×ｄ又は（ｎxf−ｎyf）×ｄfにより求めた。また、厚み位相差を〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ又は〔（ｎxf＋ｎyf）／２−ｎzf〕×ｄfにより求めた。但し、遅相軸を傾斜中心軸として位相差の測定を行った際、傾斜角の増加とともに位相差が増加した場合は位相差の符号判定を行うために次の方法を併用した。作製した光学補償板上にポリカーボネート製λ／４板を重ね合わせ、λ／４板の配向角が０±１度になるように自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−ＷＲに装着した後、遅相軸を傾斜中心軸とし、２５℃下で５９０ｎｍ光による位相差測定を行った。測定結果が、λ／４板単体の位相差より上昇した場合は傾斜角の増加とともに光学補償板単体の位相差も正の方向に上昇しているとみなし、λ／４板単体の位相差より低下した場合は傾斜角の増加とともに光学補償板単体の位相差も負の方向に低下しているとみなして、先に測定した光学補償板単体の位相差に正負の符号を付与し、３次元屈折率を算出した。得られた結果から、面内位相差を（ｎx−ｎy）×ｄ又は（ｎxf−ｎyf）×ｄfにより求めた。また、厚み位相差を〔（ｎx＋ｎy）／２−ｎz〕×ｄ又は〔（ｎxf＋ｎyf）／２−ｎzf〕×ｄfにより求めた。
【００５７】
（合成例１）セルロース  Ｎ−フェニルカーバメート（１）の合成
冷却管、窒素導入管、攪拌機、温度計を備えた５００ｍｌの４つ口フラスコに、６０℃で７時間真空乾燥したセルロース（旭化成ケミカルズ製アビセルＴＧ−Ｆ２０）１．０ｇを入れ、ピリジン１００ｍｌを加えて懸濁液とした後、さらにフェニルイソシアネート（東京化成工業製）７．７ｇを加えた。窒素を導入し、攪拌しながら１１０℃に昇温した後、７時間反応させた。その後、２５℃まで放冷した後、反応液をエタノール４００ｍｌ中に滴下して沈殿を生成させた。濾別後、得られたポリマーにアセトン３０ｍｌを加えて溶解した後、純水４００ｍｌ中に滴下して沈殿を生じさせた。濾別後水洗し、６０℃で４時間真空乾燥した後、ポリマーをソックスレー抽出器に入れた。メタノールによるソックスレー抽出を２０回行った後、２５℃で４時間真空乾燥することによって、１．９ｇのセルロース  Ｎ−フェニルカーバメート（１）を得た（以下、合成品（１）と呼ぶことがある。）。合成品（１）のＤＳはプロトンＮＭＲ分析の結果、３であった。なお、ＤＳは、セルロース骨格由来のプロトンの化学シフト（３．４〜５．５ｐｐｍ）面積とフェニル基のプロトンの化学シフト（６．７〜７．８ｐｐｍ）面積を比較することによって決定した。
【００５８】
（実施例１）
４０μｍ厚のセルロースアセテートフィルムの片面に、エネルギー密度が８０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ2で２回コロナ処理を行い、易接着処理が施されたセルロースアセテートフィルムを作製した。別途、合成品（１）０．１５ｇに酢酸ブチル０．８５ｇを加え、２５℃下で溶解して光学補償用塗工膜形成用塗工液を作製した。次に、この塗工液をバーコーターを用いて前記コロナ処理を行ったセルロースアセテートフィルム（面内位相差：１ｎｍ，厚み位相差：３０ｎｍ）の未処理面に塗工した後、１２０℃で１分間、空気中で乾燥して光学補償板を作製した。光学補償板全体の厚みを測定し、コロナ処理を行ったセルロースアセテートフィルムの厚みを差し引くことにより、乾燥後の塗工膜厚（ｄ（ｎｍ））を求めた結果、２１０００ｎｍであった。次に、上記によって得られた光学補償板の物性測定を行った結果、面内位相差は５ｎｍ、厚み位相差は−５０ｎｍであった。
【００５９】
（実施例２）
４０μｍ厚のセルロースアセテートフィルムを、２ｍｏｌ／ｌの水酸化ナトリウム水溶液に７０℃で３０秒間浸漬した。その後、０．１ｍｏｌ／ｌの塩酸水溶液で中和し、水洗した後、１００℃の熱風乾燥機で乾燥して両面ケン化処理されたセルロースアセテートフィルムを作製した。次に、実施例１記載の塗工液をバーコーターを用いて両面ケン化処理されたセルロースアセテートフィルム（面内位相差：１ｎｍ，厚み位相差：３０ｎｍ）の片面に塗工した後、１２０℃で１分間、空気中で乾燥して光学補償板を作製した。光学補償板全体の厚みを測定し、両面ケン化処理されたセルロースアセテートフィルムの厚みを差し引くことにより、乾燥後の塗工膜厚（ｄ（ｎｍ））を求めた結果、２００００ｎｍであった。次に、上記によって得られた光学補償板の物性測定を行った結果、面内位相差は５ｎｍ、厚み位相差は−４６ｎｍであった。
【００６０】
（実施例３）
ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を含浸させ、延伸することにより偏光子を作製した。別途、実施例１記載の方法と同様にして、片面にコロナ処理のみがなされた８０μｍ厚のセルロースアセテートフィルムを作製し、コロナ処理面にポリアクリル系接着剤を用いて偏光子の片面に貼り合わせた。さらに、偏光子の反対の面に実施例１で作製した光学補償板を塗工膜面が外側になるようにポリアクリル系接着剤を用いて貼り合わせ、光学補償層を有する偏光板を作製した。作製した偏光板を６０℃，９０％ＲＨの条件下に２００時間さらしたが、貼り合わせ面での剥離は生じなかった。
【００６１】
（実施例４）
ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を含浸させ、延伸することにより偏光子を作製した。別途、実施例２記載の方法と同様にして、両面にケン化処理のみがなされた８０μｍ厚のセルロースアセテートフィルムを作製し、ポリアクリル系接着剤を用いて偏光子の片面に貼り合わせた。さらに、偏光子の反対の面に実施例２で作製した光学補償板を塗工膜面が外側になるようにポリアクリル系接着剤を用いて貼り合わせ、光学補償層を有する偏光板を作製した。作製した偏光板を６０℃，９０％ＲＨの条件下に２００時間さらしたが、貼り合わせ面での剥離は生じなかった。
【００６２】
（実施例５）
実施例２で作製した光学補償板を用意し、塗工膜面上にアクリル系感圧性接着剤層を形成して接着剤層を有する光学補償板を作製した。
【００６３】
（実施例６）
ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を含浸させ、延伸することにより偏光子を作製した。別途、実施例２記載の方法と同様にして、両面にケン化処理のみがなされた８０μｍ厚のセルロースアセテートフィルムを作製し、ポリアクリル系接着剤を用いて偏光子の片面に貼り合わせた。さらに、偏光子の反対の面に実施例５で作製した光学補償板を、感圧性接着剤層を介して圧着によって貼り合わせることにより、容易に光学補償層を有する偏光板が作製できた。
【００６４】
（実施例７）
ＩＰＳ方式の液晶セルを装着した液晶表示装置を用意し、実施例５で作製した光学補償板を液晶セルの出射光側に感圧性接着剤層を介して圧着によって貼り合わせることにより、容易に光学補償のされた表示装置が作製できた。表示画面を観察した結果、正面から見ても斜め方向から見ても色表示が変わることなく、良好な画像が得られた。
【００６５】
（実施例８）
ＩＰＳ方式の液晶セルを装着した液晶表示装置を用意し、出射光側の偏光板をはずして代わりに実施例６で作製した偏光板を塗工膜側が液晶セルの出射光側になるように液晶セルに貼り合わせた表示装置を作製した。表示画面を観察した結果、正面から見ても斜め方向から見ても色表示が変わることなく、良好な画像が得られた。
【００６６】
（比較例１）
ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を含浸させ、延伸することにより偏光子を作製した。別途、実施例２記載の方法と同様にして、両面にケン化処理のみがなされた８０μｍ厚のセルロースアセテートフィルムを作製し、ポリアクリル系接着剤を用いて偏光子の片面に貼り合わせた。さらに、４０μｍ厚の未処理セルロースアセテートフィルムの片面に、実施例１記載の塗工液をバーコーターを用いて塗工した後、１２０℃で１分間、空気中で乾燥して２０９００ｎｍの塗工膜を有する光学補償板を作製後、塗工膜面が外側になるようにポリアクリル系接着剤を用いて貼り合わせ、光学補償層を有する偏光板を作製した。作製した偏光板を６０℃，９０％ＲＨの条件下に２００時間さらした結果、光学補償板と偏光子の貼り合わせ面で剥離が生じた。