(57)【要約】【課題】リブ形成材料の吐出開始時近傍において形成されるリブの端部の形状の乱れを抑制する。【解決手段】リブ形成装置には、吐出口を有するノズル部、および、容器内に貯溜されるリブ形成材料を加圧することにより吐出口からリブ形成材料を吐出させる材料供給部が設けられ、ノズル部からリブ形成材料が吐出される間に、ノズル部を基板に沿う移動方向に基板に対して相対的かつ連続的に移動することにより、基板上にリブが形成される。リブ形成において、リブ形成材料の吐出開始時に材料供給部により容器内のリブ形成材料に付与される圧力（容器内のエアの大気圧との差圧）が、定常吐出時における定常圧力よりも高くされることにより、リブ形成材料を吐出口から勢いよく吐出して、リブ形成材料の吐出開始時近傍において形成されるリブの端部の形状の乱れを抑制することができる。【選択図】図４
2008053130.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上にリブを形成するリブ形成装置であって、
吐出口を有するノズル部と、
前記ノズル部に接続された容器内に貯溜されるペースト状のリブ形成材料を加圧することにより、前記ノズル部に前記リブ形成材料を供給して前記吐出口から基板上に前記リブ形成材料を吐出させる材料供給部と、
前記ノズル部から前記リブ形成材料が吐出される間に、前記ノズル部を前記基板に沿う移動方向に前記基板に対して相対的かつ連続的に移動することにより、前記基板上にリブを形成する移動機構と、
前記リブ形成材料の吐出開始時に前記材料供給部により前記容器内の前記リブ形成材料に付与される圧力を、前記吐出開始時から所定時間経過後の定常吐出時における定常圧力よりも高くする制御部と、
を備えることを特徴とするリブ形成装置。
【請求項２】
請求項１に記載のリブ形成装置であって、
前記制御部が、前記吐出開始時から前記所定時間の経過時までの間に、前記容器内の前記リブ形成材料に付与される圧力を漸次低減することを特徴とするリブ形成装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載のリブ形成装置であって、
前記吐出開始時に前記容器内の前記リブ形成材料に付与される圧力が、前記定常圧力の１．３倍以上１．７倍以下であることを特徴とするリブ形成装置。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかに記載のリブ形成装置であって、
前記制御部が、前記リブ形成材料の吐出終了前の所定時間の間、前記材料供給部により前記容器内の前記リブ形成材料に付与される圧力を前記定常圧力から変更することを特徴とするリブ形成装置。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかに記載のリブ形成装置であって、
前記基板上に吐出されたリブ形成材料に光を照射する光照射部をさらに備え、
前記リブ形成材料が光硬化性を有することを特徴とするリブ形成装置。
【請求項６】
請求項５に記載のリブ形成装置であって、
前記定常吐出時に、前記光照射部により前記吐出されたリブ形成材料に照射される光の強度が一定とされ、
前記制御部が、少なくとも前記リブ形成材料の前記吐出開始時近傍または吐出終了時近傍において、前記光の強度を変更することを特徴とするリブ形成装置。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれかに記載のリブ形成装置であって、
リブ形成の終了後に前記リブ形成材料の使用量、または、前記容器内の前記リブ形成材料の残量を取得する使用量取得部をさらに備え、
前記制御部が、一のリブ形成における前記吐出開始時の前に、前記一のリブ形成の直前のリブ形成における前記リブ形成材料の使用量に基づいて前記定常圧力を補正することを特徴とするリブ形成装置。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれかに記載のリブ形成装置であって、
前記ノズル部が、前記基板の主面に向かうとともに前記主面に対して傾斜する吐出方向に前記吐出口から前記リブ形成材料を吐出し、前記吐出口の全体または大部分が形成される前記ノズル部の開口面が、その法線が吐出側にて前記基板と交差するように傾斜していることを特徴とするリブ形成装置。
【請求項９】
請求項８に記載のリブ形成装置であって、
前記リブにおいて、前記移動方向に垂直な断面の幅が２００マイクロメートル以下であり、アスペクト比が２以上であることを特徴とするリブ形成装置。
【請求項１０】
基板上にリブを形成するリブ形成装置であって、
吐出口を有するノズル部と、
前記ノズル部に接続された容器内に貯溜されるペースト状のリブ形成材料を加圧することにより、前記ノズル部に前記リブ形成材料を供給して前記吐出口から基板上に前記リブ形成材料を吐出させる材料供給部と、
前記ノズル部から前記リブ形成材料が吐出される間に、前記ノズル部を前記基板に沿う移動方向に前記基板に対して相対的かつ連続的に移動することにより、前記基板上にリブを形成する移動機構と、
前記リブ形成材料の吐出終了前の所定時間の間、前記材料供給部により前記容器内の前記リブ形成材料に付与される圧力を定常吐出時における定常圧力から変更する制御部と、
を備えることを特徴とするリブ形成装置。
【請求項１１】
基板上にリブを形成するリブ形成装置であって、
光硬化性を有するリブ形成材料を吐出口から基板上に吐出するノズル部と、
前記基板上に吐出されたリブ形成材料に光を照射する光照射部と、
前記ノズル部から前記リブ形成材料が吐出される間に、前記ノズル部および前記光照射部を、前記ノズル部を先行させつつ前記基板に沿う移動方向に前記基板に対して相対的かつ連続的に移動することにより、前記基板上にリブを形成する移動機構と、
前記リブ形成材料の定常吐出時に、前記吐出されたリブ形成材料に前記光照射部により照射される光の強度が一定とされ、少なくとも前記リブ形成材料の吐出開始時近傍または吐出終了時近傍において、前記光の強度を変更する制御部と、
を備えることを特徴とするリブ形成装置。
【請求項１２】
基板上にリブを形成するリブ形成方法であって、
ａ）ノズル部に接続された容器内に貯溜されるペースト状のリブ形成材料を加圧することにより、前記ノズル部に前記リブ形成材料を供給して前記ノズル部の吐出口から基板上に前記リブ形成材料を吐出させる工程と、
ｂ）前記ａ）工程に並行して、前記ノズル部を前記基板に沿う移動方向に前記基板に対して相対的かつ連続的に移動することにより、前記基板上にリブを形成する工程と、
を備え、
前記ａ）工程が、前記リブ形成材料の吐出開始時に前記容器内の前記リブ形成材料に付与する圧力を、前記吐出開始時から所定時間経過後の定常吐出時における定常圧力よりも高くする工程を備えることを特徴とするリブ形成方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載のリブ形成方法であって、
前記ａ）工程において、前記吐出開始時から前記所定時間の経過時までの間に、前記容器内の前記リブ形成材料に付与する圧力が漸次低減されることを特徴とするリブ形成方法。
【請求項１４】
請求項１２または１３に記載のリブ形成方法であって、
前記ａ）工程が、前記リブ形成材料の吐出終了前の所定時間の間、前記容器内の前記リブ形成材料に付与する圧力を前記定常圧力から変更する工程をさらに備えることを特徴とするリブ形成方法。
【請求項１５】
請求項１２ないし１４のいずれかに記載のリブ形成方法であって、
ｃ）前記ａ）工程に並行して、前記基板上に吐出されたリブ形成材料に光を照射する工程をさらに備え、
前記リブ形成材料が光硬化性を有し、
前記ｃ）工程において、前記定常吐出時に前記吐出されたリブ形成材料に照射する光の強度が一定とされ、少なくとも前記リブ形成材料の前記吐出開始時近傍または吐出終了時近傍において、前記光の強度が変更されることを特徴とするリブ形成方法。
【請求項１６】
請求項１２ないし１５のいずれかに記載のリブ形成方法であって、
ｄ）前記ｂ）工程の後に、前記リブ形成材料の使用量、または、前記容器内の前記リブ形成材料の残量を取得する工程と、
ｅ）前記ａ）工程へと戻る工程と、
をさらに備え、
前記ｅ）工程の前の前記ａ）工程における前記リブ形成材料の使用量に基づいて、前記ｅ）工程の後の前記ａ）工程における前記定常圧力が補正されることを特徴とするリブ形成方法。
【請求項１７】
基板上にリブを形成するリブ形成方法であって、
ａ）ノズル部に接続された容器内に貯溜されるペースト状のリブ形成材料を加圧することにより、前記ノズル部に前記リブ形成材料を供給して前記ノズル部の吐出口から基板上に前記リブ形成材料を吐出させる工程と、
ｂ）前記ａ）工程に並行して、前記ノズル部を前記基板に沿う移動方向に前記基板に対して相対的かつ連続的に移動することにより、前記基板上にリブを形成する工程と、
を備え、
前記ａ）工程が、前記リブ形成材料の吐出終了前の所定時間の間、前記容器内の前記リブ形成材料に付与する圧力を定常吐出時における定常圧力から変更する工程を備えることを特徴とするリブ形成方法。
【請求項１８】
基板上にリブを形成するリブ形成方法であって、
ａ）光硬化性を有するリブ形成材料をノズル部の吐出口から基板上に吐出する工程と、
ｂ）前記ａ）工程に並行して、前記基板上に吐出されたリブ形成材料に光照射部により光を照射する工程と、
ｃ）前記ａ）工程に並行して、前記ノズル部および前記光照射部を、前記ノズル部を先行させつつ前記基板に沿う移動方向に前記基板に対して相対的かつ連続的に移動することにより、前記基板上にリブを形成する工程と、
を備え、
前記ｂ）工程において、前記リブ形成材料の定常吐出時に、前記吐出されたリブ形成材料に照射される光の強度が一定とされ、少なくとも前記リブ形成材料の吐出開始時近傍または吐出終了時近傍において、前記光の強度が変更されることを特徴とするリブ形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板上にリブを形成する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、プラズマ表示装置等の平面表示装置に用いられるパネルにリブを形成する様々な手法が知られており、微細な吐出口を有するノズル部を走査しつつノズル部からペースト状のリブ形成材料を吐出してガラスの基板上にリブを形成するリブ形成装置も提案されている（例えば、特許文献１参照）。また、近年では、平面表示装置の種類によっては、リブの断面形状の縦横比であるアスペクト比が高いリブが必要とされる場合もある。
【０００３】
なお、特許文献２の段落００３６では、プラズマ表示装置のパネル用の基板上において互いに隣接するリブ間にノズル部から蛍光体ペーストを吐出して蛍光体層を形成する際に、ノズル部と基板との間の距離を小さくして少ない吐出量にて蛍光体ペーストの吐出を開始し、一定時間経過後に当該距離を設定値にして吐出量を予定された量に変更することにより、蛍光体ペーストの塗布を円滑に開始する手法が開示されている。また、特許文献３では、塗布ヘッド内の蛍光体ペーストの残量を測定し、測定値に基づいて蛍光体ペーストの吐出圧を変更する手法が開示されている。
【特許文献１】特開２００２−１８４３０３号公報
【特許文献２】特開平１０−２７５４３号公報
【特許文献３】特開２００４−１４３９３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、リブ形成装置においてノズル部の微細な吐出口からリブ形成材料を吐出させる際に、ノズル部に接続された容器内に貯溜されるリブ形成材料を加圧することが行われる。この場合に、リブ形成材料に付与する圧力を一定にすることにより、リブ形成材料の連続的な吐出時に一定量のリブ形成材料を吐出して一定の断面形状のリブを形成することが可能となるが、実際には、リブ形成材料の高い粘性の影響により吐出開始時近傍において形成されるリブの端部の形状が乱れてしまう。また、基板上に吐出されたリブ形成材料に光を照射してリブ形成材料を硬化させる場合には、吐出開始時近傍または吐出終了時近傍において、定常吐出時と同様に吐出口近傍のリブ形成材料に光を照射すると、リブ形成材料の吐出に不具合が生じる場合がある。さらに、平面表示装置のパネルの設計によっては、リブ形成材料の吐出終了時近傍にて形成されるリブの端部を、リブ形成材料の吐出開始時近傍にて形成されるリブの端部の形状に近似させることが求められる場合もある。
【０００５】
本発明は上記課題に鑑みなされたものであり、リブ形成材料の吐出開始時近傍において形成されるリブの端部の形状の乱れを抑制することを目的とし、リブ形成材料の吐出終了時近傍において形成されるリブの端部の形状を調整することも目的とし、リブ形成材料の吐出開始時近傍、または、リブ形成材料の吐出終了時近傍において基板上に吐出されたリブ形成材料を適切に硬化させることも目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
請求項１に記載の発明は、基板上にリブを形成するリブ形成装置であって、吐出口を有するノズル部と、前記ノズル部に接続された容器内に貯溜されるペースト状のリブ形成材料を加圧することにより、前記ノズル部に前記リブ形成材料を供給して前記吐出口から基板上に前記リブ形成材料を吐出させる材料供給部と、前記ノズル部から前記リブ形成材料が吐出される間に、前記ノズル部を前記基板に沿う移動方向に前記基板に対して相対的かつ連続的に移動することにより、前記基板上にリブを形成する移動機構と、前記リブ形成材料の吐出開始時に前記材料供給部により前記容器内の前記リブ形成材料に付与される圧力を、前記吐出開始時から所定時間経過後の定常吐出時における定常圧力よりも高くする制御部とを備える。
【０００７】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載のリブ形成装置であって、前記制御部が、前記吐出開始時から前記所定時間の経過時までの間に、前記容器内の前記リブ形成材料に付与される圧力を漸次低減する。
【０００８】
請求項３に記載の発明は、請求項１または２に記載のリブ形成装置であって、前記吐出開始時に前記容器内の前記リブ形成材料に付与される圧力が、前記定常圧力の１．３倍以上１．７倍以下である。
【０００９】
請求項４に記載の発明は、請求項１ないし３のいずれかに記載のリブ形成装置であって、前記制御部が、前記リブ形成材料の吐出終了前の所定時間の間、前記材料供給部により前記容器内の前記リブ形成材料に付与される圧力を前記定常圧力から変更する。
【００１０】
請求項５に記載の発明は、請求項１ないし４のいずれかに記載のリブ形成装置であって、前記基板上に吐出されたリブ形成材料に光を照射する光照射部をさらに備え、前記リブ形成材料が光硬化性を有する。
【００１１】
請求項６に記載の発明は、請求項５に記載のリブ形成装置であって、前記定常吐出時に、前記光照射部により前記吐出されたリブ形成材料に照射される光の強度が一定とされ、前記制御部が、少なくとも前記リブ形成材料の前記吐出開始時近傍または吐出終了時近傍において、前記光の強度を変更する。
【００１２】
請求項７に記載の発明は、請求項１ないし６のいずれかに記載のリブ形成装置であって、リブ形成の終了後に前記リブ形成材料の使用量、または、前記容器内の前記リブ形成材料の残量を取得する使用量取得部をさらに備え、前記制御部が、一のリブ形成における前記吐出開始時の前に、前記一のリブ形成の直前のリブ形成における前記リブ形成材料の使用量に基づいて前記定常圧力を補正する。
【００１３】
請求項８に記載の発明は、請求項１ないし７のいずれかに記載のリブ形成装置であって、前記ノズル部が、前記基板の主面に向かうとともに前記主面に対して傾斜する吐出方向に前記吐出口から前記リブ形成材料を吐出し、前記吐出口の全体または大部分が形成される前記ノズル部の開口面が、その法線が吐出側にて前記基板と交差するように傾斜している。
【００１４】
請求項９に記載の発明は、請求項８に記載のリブ形成装置であって、前記リブにおいて、前記移動方向に垂直な断面の幅が２００マイクロメートル以下であり、アスペクト比が２以上である。
【００１５】
請求項１０に記載の発明は、基板上にリブを形成するリブ形成装置であって、吐出口を有するノズル部と、前記ノズル部に接続された容器内に貯溜されるペースト状のリブ形成材料を加圧することにより、前記ノズル部に前記リブ形成材料を供給して前記吐出口から基板上に前記リブ形成材料を吐出させる材料供給部と、前記ノズル部から前記リブ形成材料が吐出される間に、前記ノズル部を前記基板に沿う移動方向に前記基板に対して相対的かつ連続的に移動することにより、前記基板上にリブを形成する移動機構と、前記リブ形成材料の吐出終了前の所定時間の間、前記材料供給部により前記容器内の前記リブ形成材料に付与される圧力を定常吐出時における定常圧力から変更する制御部とを備える。
【００１６】
請求項１１に記載の発明は、基板上にリブを形成するリブ形成装置であって、光硬化性を有するリブ形成材料を吐出口から基板上に吐出するノズル部と、前記基板上に吐出されたリブ形成材料に光を照射する光照射部と、前記ノズル部から前記リブ形成材料が吐出される間に、前記ノズル部および前記光照射部を、前記ノズル部を先行させつつ前記基板に沿う移動方向に前記基板に対して相対的かつ連続的に移動することにより、前記基板上にリブを形成する移動機構と、前記リブ形成材料の定常吐出時に、前記吐出されたリブ形成材料に前記光照射部により照射される光の強度が一定とされ、少なくとも前記リブ形成材料の吐出開始時近傍または吐出終了時近傍において、前記光の強度を変更する制御部とを備える。
【００１７】
請求項１２に記載の発明は、基板上にリブを形成するリブ形成方法であって、ａ）ノズル部に接続された容器内に貯溜されるペースト状のリブ形成材料を加圧することにより、前記ノズル部に前記リブ形成材料を供給して前記ノズル部の吐出口から基板上に前記リブ形成材料を吐出させる工程と、ｂ）前記ａ）工程に並行して、前記ノズル部を前記基板に沿う移動方向に前記基板に対して相対的かつ連続的に移動することにより、前記基板上にリブを形成する工程とを備え、前記ａ）工程が、前記リブ形成材料の吐出開始時に前記容器内の前記リブ形成材料に付与する圧力を、前記吐出開始時から所定時間経過後の定常吐出時における定常圧力よりも高くする工程を備える。
【００１８】
請求項１３に記載の発明は、請求項１２に記載のリブ形成方法であって、前記ａ）工程において、前記吐出開始時から前記所定時間の経過時までの間に、前記容器内の前記リブ形成材料に付与する圧力が漸次低減される。
【００１９】
請求項１４に記載の発明は、請求項１２または１３に記載のリブ形成方法であって、前記ａ）工程が、前記リブ形成材料の吐出終了前の所定時間の間、前記容器内の前記リブ形成材料に付与する圧力を前記定常圧力から変更する工程をさらに備える。
【００２０】
請求項１５に記載の発明は、請求項１２ないし１４のいずれかに記載のリブ形成方法であって、ｃ）前記ａ）工程に並行して、前記基板上に吐出されたリブ形成材料に光を照射する工程をさらに備え、前記リブ形成材料が光硬化性を有し、前記ｃ）工程において、前記定常吐出時に前記吐出されたリブ形成材料に照射する光の強度が一定とされ、少なくとも前記リブ形成材料の前記吐出開始時近傍または吐出終了時近傍において、前記光の強度が変更される。
【００２１】
請求項１６に記載の発明は、請求項１２ないし１５のいずれかに記載のリブ形成方法であって、ｄ）前記ｂ）工程の後に、前記リブ形成材料の使用量、または、前記容器内の前記リブ形成材料の残量を取得する工程と、ｅ）前記ａ）工程へと戻る工程とをさらに備え、前記ｅ）工程の前の前記ａ）工程における前記リブ形成材料の使用量に基づいて、前記ｅ）工程の後の前記ａ）工程における前記定常圧力が補正される。
【００２２】
請求項１７に記載の発明は、基板上にリブを形成するリブ形成方法であって、ａ）ノズル部に接続された容器内に貯溜されるペースト状のリブ形成材料を加圧することにより、前記ノズル部に前記リブ形成材料を供給して前記ノズル部の吐出口から基板上に前記リブ形成材料を吐出させる工程と、ｂ）前記ａ）工程に並行して、前記ノズル部を前記基板に沿う移動方向に前記基板に対して相対的かつ連続的に移動することにより、前記基板上にリブを形成する工程とを備え、前記ａ）工程が、前記リブ形成材料の吐出終了前の所定時間の間、前記容器内の前記リブ形成材料に付与する圧力を定常吐出時における定常圧力から変更する工程を備える。
【００２３】
請求項１８に記載の発明は、基板上にリブを形成するリブ形成方法であって、ａ）光硬化性を有するリブ形成材料をノズル部の吐出口から基板上に吐出する工程と、ｂ）前記ａ）工程に並行して、前記基板上に吐出されたリブ形成材料に光照射部により光を照射する工程と、ｃ）前記ａ）工程に並行して、前記ノズル部および前記光照射部を、前記ノズル部を先行させつつ前記基板に沿う移動方向に前記基板に対して相対的かつ連続的に移動することにより、前記基板上にリブを形成する工程とを備え、前記ｂ）工程において、前記リブ形成材料の定常吐出時に、前記吐出されたリブ形成材料に照射される光の強度が一定とされ、少なくとも前記リブ形成材料の吐出開始時近傍または吐出終了時近傍において、前記光の強度が変更される。
【発明の効果】
【００２４】
請求項１ないし９、並びに、請求項１２ないし１６の発明では、リブ形成材料の吐出開始時近傍において形成されるリブの端部の形状の乱れを抑制することができ、請求項２および１３の発明では、リブ形成材料の吐出開始時近傍において形成されるリブの端部の形状の乱れをさらに抑制することができる。
【００２５】
請求項４、１０、１４および１７の発明では、リブ形成材料の吐出終了時近傍において形成されるリブの端部の形状を調整することができ、請求項５、６、１１、１５および１８の発明では、基板上のリブ形成材料を容易に硬化させることができる。
【００２６】
請求項６、１１、１５および１８の発明では、リブ形成材料の吐出開始時近傍、または、リブ形成材料の吐出終了時近傍において基板上に吐出されたリブ形成材料を適切に硬化させることができ、請求項７および１６の発明では、複数回のリブ形成におけるリブの形状のばらつきを抑制することができ、請求項８の発明では、アスペクト比の高い状態でリブ形成材料を安定して吐出することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
図１はリブ形成装置１の構成を示す図である。リブ形成装置１は、プラズマ表示装置や電界放出表示装置（Field Emission Display）等の平面表示装置用のガラス基板（以下、「基板」という。）９上にリブ（平面表示装置の種類によっては、スペーサとも呼ばれる。）のパターンを形成する装置であり、リブが形成された基板９は他の工程を介して平面表示装置の組立部品であるパネルとなる。なお、図１中において符号４５を付す残量測定部（図１中に破線の矩形にて示す。）については後述する。
【００２８】
リブ形成装置１では、基台１１上にステージ移動機構２が設けられ、ステージ移動機構２により基板９を保持するステージ部２０が図１中に示すＹ方向に移動可能とされる。すなわち、Ｙ方向が基板９の移動方向となっている。ステージ部２０は、基板９の重量を測定する重量測定部２０１を備える。基台１１にはステージ部２０を跨ぐようにしてフレーム１２が固定され、フレーム１２にはヘッド移動機構３を介してヘッド部４が取り付けられる。
【００２９】
ステージ移動機構２は、モータ２１にボールねじ２２が接続され、さらに、ステージ部２０に固定されたナット２３がボールねじ２２に取り付けられた構造となっている。ボールねじ２２の上方にはガイドレール２４が固定され、モータ２１が回転すると、ナット２３とともにステージ部２０がガイドレール２４に沿ってＹ方向に滑らかに移動する（すなわち、ヘッド部４が基板９に対して相対的に主走査する。）。
【００３０】
ヘッド移動機構３はフレーム１２に支持されたモータ３１、モータ３１の回転軸に接続されたボールねじ３２、および、ボールねじ３２に取り付けられたナット３３を有し、モータ３１が回転することによりナット３３が図１中のＸ方向に移動する。ナット３３にはヘッド部４のベース４０が取り付けられ、これにより、ヘッド部４がＸ方向に移動（副走査）可能とされる。ベース４０はフレーム１２に固定されたガイドレール３４に接続され、ガイドレール３４により滑らかに案内される。
【００３１】
ヘッド部４は、基板９上に高粘度のペースト状のリブ形成材料を吐出する吐出部４２、および、基板９に向けて紫外線を出射する光照射部４３を有し、吐出部４２および光照射部４３はベース４０に固定される昇降機構４１の下部に取り付けられる。リブ形成材料は、紫外線により硬化（架橋反応）が開始する光開始剤や、バインダである樹脂、さらには、ガラスの粉体である低軟化点ガラスフリットを含み、絶縁性を有する。吐出部４２の下面には、Ｘ方向に配列された複数の吐出口を有するノズル部４２１が着脱可能に取り付けられる。
【００３２】
ノズル部４２１は供給管４４１を介してリブ形成材料を貯溜するシリンジ状の容器４４２に接続され、容器４４２には高圧のエアを供給するエア供給部４４４がレギュレータ４４３を介して接続される。容器４４２は取り替え可能とされており、リブ形成装置１では容器４４２内のリブ形成材料の残量が所定量以下となると、操作者によりリブ形成材料が充填された別の容器４４２に取り替えられる。後述するリブ形成時には、レギュレータ４４３が容器４４２内のエアの圧力を大気圧よりも高くして容器４４２内に貯溜されるリブ形成材料が加圧される。すなわち、容器４４２内のエアの圧力と大気圧との差の圧力（以下、「エアの差圧」と呼ぶ。）が容器４４２内のリブ形成材料に付与され、これにより、ノズル部４２１にリブ形成材料が供給されてノズル部４２１の吐出口からリブ形成材料が吐出される。このように、リブ形成装置１では、供給管４４１、容器４４２、レギュレータ４４３およびエア供給部４４４によりノズル部４２１にリブ形成材料を供給する材料供給部４４（ディスペンサシステムとも呼ばれる。）が構築される。なお、ノズル部４２１からのリブ形成材料の吐出が行われていない状態では、エアの差圧は０とされる（すなわち、容器４４２内のエアの圧力が大気圧とされ、材料供給部４４による容器４４２内のリブ形成材料の加圧が行われていない。）。
【００３３】
光照射部４３は光ファイバ４３１を介して光源ユニット４３２に接続される。光源ユニット４３２は紫外線を出射する光源４３３（例えば、キセノンランプ）、および、光源４３３からの光を制限する開口絞りであるシャッタ４３４を備える。光源４３３からの光は、シャッタ４３４の開口面積に応じた強度に調整され、光ファイバ４３１により光照射部４３へと導かれる。そして、ノズル部４２１の（−Ｙ）側において光照射部４３から基板９に向かって紫外線が出射され、各吐出口に対応する光のスポットが基板９上に形成される。
【００３４】
図２はノズル部４２１の先端近傍を拡大して示す図である。図２に示すように、ノズル部４２１において各吐出口４２２へと連続する流路４２３（図２では、１つの吐出口４２２および１つの流路４２３のみに符号を付している。）は、ＹＺ平面に平行かつＺ方向に対して傾斜した方向（例えば、４５度だけ傾斜した方向）に伸びている。これにより、基板９の主面９１に向かうとともに主面９１に対して傾斜する吐出方向に吐出口４２２からリブ形成材料８１が吐出される。また、ノズル部４２１の開口面４２４（ノズル部４２１の先端における複数の吐出口４２２を含む面）も、同様にその法線がＹＺ平面に平行かつＺ方向に対して傾斜している。ノズル部４２１の図２中の（−Ｚ）側の部位には、基板９の主面９１に平行な対向面４２５が形成され、リブ形成装置１では、必要に応じて昇降機構４１がノズル部４２１をＺ方向に移動することにより、リブの形成時におけるノズル部４２１の対向面４２５と基板９の主面９１との間の間隙がほぼ一定の微小な幅にて保たれ、ノズル部４２１が常時、基板９の主面９１に近接した状態とされる。
【００３５】
図１に示すように、重量測定部２０１、ステージ移動機構２のモータ２１、レギュレータ４４３、光源ユニット４３２、ヘッド移動機構３のモータ３１、および、ヘッド部４の昇降機構４１は制御部６に接続され、これらの構成が制御部６により制御されることにより、リブ形成装置１による基板９上へのリブの形成が行われる。
【００３６】
次に、リブ形成装置１がリブを形成する動作について説明を行う。図３．Ａおよび図３．Ｂはリブ形成装置１が基板９上にリブを形成する動作の流れを示す図である。図１のリブ形成装置１では、外部の搬送機構により基板９が搬入されてステージ部２０上に載置されると（ステップＳ１１）、ステージ移動機構２およびヘッド移動機構３によりノズル部４２１が基板９上の所定の初期位置の上方に配置される。続いて、ノズル部４２１からのリブ形成材料の吐出が開始されるとともに、エアの差圧の制御が行われる（ステップＳ１２）。また、リブ形成材料の吐出が開始されるのとほぼ同時に、ステージ移動機構２により吐出部４２の下方にてステージ部２０上の基板９が（−Ｙ）方向へと移動して、ノズル部４２１が基板９に対して（＋Ｙ）方向に相対移動を開始する（ステップＳ１３）。
【００３７】
図４は、リブ形成時におけるエアの差圧、および、紫外線の強度と基板９上に形成されるリブの形状との関係を説明するための図である。図４の上段は、ノズル部４２１が基板９上のＹ方向の各位置（正確には、移動する基板９に対するノズル部４２１の相対的な位置）に到達した時点のエアの差圧を示し、図４の中段は、ノズル部４２１が基板９上のＹ方向の各位置に到達した時点の紫外線の強度を示し、図４の下段は、基板９上に形成されるリブのＹ方向の各位置におけるＺ方向の高さを示している（後述の図７において同様）。
【００３８】
リブ形成材料の吐出を開始する際には、図４の上段の左側の部位に示すように、レギュレータ４４３により容器４４２内のエアの差圧が０．７５メガパスカル（ＭＰａ）とされ、容器４４２内に貯溜されるリブ形成材料が加圧される。これにより、容器４４２内のリブ形成材料が急激に押し出されることとなり、リブ形成材料が吐出口４２２から勢いよく吐出され、ノズル部４２１内におけるリブ形成材料の流動性が確保される。実際には、吐出口４２２からのリブ形成材料の吐出に並行して、ノズル部４２１が基板９に沿う（＋Ｙ）方向（図４中の右側）に基板９に対して相対的かつ連続的に移動しており、ノズル部４２１の相対的な移動距離に従ってエアの差圧が、定常圧力である０．５０ＭＰａに向けて漸次低減される。後述するように、定常圧力は基板９上に形成される予定のリブの大部分を形成する際の容器４４２内のエアの差圧であり、実際には、リブ形成材料の吐出開始時のエアの差圧は、定常圧力の１．５倍として設定されている。
【００３９】
詳細には、図４の上段に示すように、ノズル部４２１が初期位置から１ミリメートル（ｍｍ）だけ基板９に対して相対的に移動する間（すなわち、図４中にて符号Ｄ１にて示す基板９上のＹ方向の範囲を通過する間）では、容器４４２内のエアの差圧は０．７５ＭＰａ（定常圧力の１．５倍）とされ、範囲Ｄ１の（＋Ｙ）側の幅１ｍｍの範囲Ｄ２を通過する間では０．６９ＭＰａ（定常圧力の１．３７５倍）とされ、範囲Ｄ２の（＋Ｙ）側の幅１ｍｍの範囲Ｄ３を通過する間では０．６３ＭＰａ（定常圧力の１．２５倍）とされ、範囲Ｄ３の（＋Ｙ）側の幅１ｍｍの範囲Ｄ４を通過する間では０．５６ＭＰａ（定常圧力の１．１２５倍）とされる。これにより、リブ形成材料の吐出開始直後では（すなわち、ノズル部４２１が基板９上の範囲Ｄ１および範囲Ｄ２の前半を通過する際には）、吐出口４２２からの吐出量は漸次増大し、ノズル部４２１が基板９上の範囲Ｄ２の後半から範囲Ｄ４までを通過する際には、ある吐出量にてほぼ一定となる。
【００４０】
一方で、ノズル部４２１が範囲Ｄ１を通過した直後に、制御部６により光源ユニット４３２のシャッタ４３４が所定の面積だけ開放されることにより、ノズル部４２１の基板９に対する相対的な進行方向の後方に配置されている光照射部４３からの紫外線の出射が開始されるとともに、基板９上に吐出されたリブ形成材料に照射される紫外線の強度の制御が行われる（すなわち、照射強度の制御が行われる。）（ステップＳ１４）。実際には、図４の中段に示すように、ノズル部４２１が範囲Ｄ２を通過する間では、光源ユニット４３２における紫外線の最大強度を１００パーセント（％）として、紫外線の強度が１３％とされ、範囲Ｄ３を通過する間では２５％とされ、範囲Ｄ４を通過する間では３８％とされる。
【００４１】
このように、光照射部４３では、ノズル部４２１からのリブ形成材料の吐出開始直後である範囲Ｄ１をノズル部４２１が通過する間では紫外線の出射は行われず、範囲Ｄ２以降ではノズル部４２１の相対的な移動距離に従って紫外線の強度が漸次（段階的に）増大される。これにより、ノズル部４２１からのリブ形成材料の吐出量が比較的少ない期間において（すなわち、ノズル部４２１が基板９上の範囲Ｄ１，Ｄ２を通過する際に）、紫外線を出射しない、または、低強度の紫外線のみを出射することにより、吐出口４２２近傍のリブ形成材料が硬化してノズル部４２１が詰まることを防止することができ、リブ形成材料の吐出量がある程度確保される基板９上の範囲Ｄ３，Ｄ４をノズル部４２１が通過する際には、ある程度の強度の紫外線を出射することにより、吐出直後のリブ形成材料のＺＸ平面に平行な断面形状（後述の図５参照）が、（−Ｙ）側から（＋Ｙ）方向を向いて見た場合の吐出口４２２の形状（以下、「吐出口形状」という。）から崩れる前に迅速に、かつ、容易にリブ形成材料を硬化させることが可能となる。その結果、図４の下段に示すように、基板９上のＹ方向の範囲Ｄ２の後半から範囲Ｄ４において、ほぼ一定の高さＨのリブを形成することが可能となる。
【００４２】
リブ形成材料の吐出開始時から所定時間経過後にノズル部４２１が基板９上の初期位置から（＋Ｙ）側に４ｍｍだけ離れた位置（すなわち、範囲Ｄ４を通過した直後の位置）まで到達すると、リブ形成装置１では、図４の上段に示すように、容器４４２内のエアの差圧が定常圧力である０．５０ＭＰａにて一定に保たれるとともに（ステップＳ１５）、図４の中段に示すように、光照射部４３からの紫外線の強度も定常強度である５０％にて一定に保たれ（ステップＳ１６）、リブ形成材料の定常吐出が行われる。リブ形成材料の定常吐出は、ノズル部４２１が、図４中に符号Ｄ５を付す矢印にて示す基板９上のＹ方向の範囲を通過する間だけ継続される。なお、図４では、図示の都合上、定常吐出時に対応する基板９上の範囲Ｄ５が短く示されており、実際には、範囲Ｄ１から範囲Ｄ４までの距離、並びに、後述の範囲Ｄ６から範囲Ｄ９までの距離よりも十分に長い（図７において同様）。
【００４３】
リブ形成装置１では、図２に示すように、ノズル部４２１の開口面４２４が、その法線が吐出側（（−Ｙ）側）にて基板９の主面９１と交差するように傾斜していることにより、リブのＺＸ平面に平行な各断面では、（−Ｚ）側から（＋Ｚ）側に向かってリブ形成材料を積み重ねるようにしてリブの各部位が形成されることとなる。このように、アスペクト比の高い状態で吐出口４２２からリブ形成材料が安定して吐出されることにより、高アスペクト比のリブが基板９上に形成される。
【００４４】
図５は、形成途上のリブ８のＺＸ平面に平行な断面を示す図である。定常吐出時に形成されるリブ８の断面形状も吐出口形状に近似しており、具体的には、リブ８の断面のＸ方向の幅Ｗは１００マイクロメートル（μｍ）、Ｚ方向の高さＨは２ｍｍとなり（図５では、図示の都合上、縦横比を変更してリブを描いている。）、基板９上にはノズル部４２１における吐出口４２２と同じ個数のリブ８が、Ｘ方向に広範囲に亘って吐出口４２２と同じピッチにて並んでいる。
【００４５】
リブ形成材料の吐出が続けられ、ノズル部４２１が基板９上のリブ形成の終点近傍（正確には、終点から（−Ｙ）側に４ｍｍだけ離れた位置）まで到達すると、基板９上に吐出されたリブ形成材料に照射される紫外線の強度を変更する制御が制御部６により再度行われる（ステップＳ１７）。実際には、図４の中段に示すように、ノズル部４２１が終点から（−Ｙ）側に４ｍｍだけ離れた位置から（＋Ｙ）側に１ｍｍだけ基板９に対して相対的に移動する間（すなわち、図４中にて符号Ｄ６にて示す範囲を通過する間）では、紫外線の強度が３８％とされ、範囲Ｄ６の（＋Ｙ）側の幅１ｍｍの範囲Ｄ７を通過する間では２５％とされ、範囲Ｄ７の（＋Ｙ）側の幅１ｍｍの範囲Ｄ８を通過する間では１３％とされる。
【００４６】
一方で、制御部６により容器４４２内のエアの差圧を変更する制御も行われる（ステップＳ１８）。具体的には、図４の上段に示すように、ノズル部４２１が範囲Ｄ６〜Ｄ８を通過する間では、容器４４２内のエアの差圧は定常吐出時における定常圧力である０．５０ＭＰａに保たれ、ノズル部４２１が範囲Ｄ８の（＋Ｙ）側の幅１ｍｍの範囲Ｄ９内まで相対移動すると、０．０２ＭＰａに変更される。これにより、ノズル部４２１が範囲Ｄ９を通過する間に基板９上に吐出されるリブ形成材料は微少となる。
【００４７】
また、光照射部４３では、ノズル部４２１が範囲Ｄ９内まで相対移動すると、光源ユニット４３２のシャッタ４３４が完全に閉じられ、紫外線の強度が０とされる。すなわち、光照射部４３からの紫外線の出射が停止される（ステップＳ１９）。その結果、ノズル部４２１からのリブ形成材料の吐出量が少ない期間において（すなわち、ノズル部４２１が基板９上の範囲Ｄ９を通過する際に）、吐出口４２２近傍への紫外線の照射により吐出口４２２近傍のリブ形成材料が硬化して、ノズル部４２１が詰まることを防止することができるとともに、図４の下段に示すように、低強度の紫外線のみが出射される範囲Ｄ８の後半から紫外線の出射が停止される範囲Ｄ９にかけてリブの高さを定常吐出時における高さＨから次第に低くして、基板９上の範囲Ｄ８の後半から範囲Ｄ９におけるリブの形状を範囲Ｄ１から範囲Ｄ２の前半におけるリブの形状に近似させることができる（ただし、Ｙ方向に垂直な面に関して互いに対称となっている。）。
【００４８】
そして、ノズル部４２１が基板９上の範囲Ｄ９を通過すると、容器４４２内のエアの差圧を０とすることにより吐出口４２２からのリブ形成材料の吐出が停止され（ステップＳ２０）、ステージ移動機構２による基板９の移動も停止される（ステップＳ２１）。なお、リブ形成装置１では、ヘッド部４をＸ方向に所定の距離だけ移動し、基板９も元の位置へと移動した後、上記ステップＳ１２〜Ｓ２１を繰り返すことにより、Ｘ方向に関して基板９上の全体に亘って多数のリブが形成されてもよい。
【００４９】
以上のようにして、基板９上に複数のリブが形成されると、ステージ部２０の重量測定部２０１では、基板９の重量（または、質量）が測定される。重量測定部２０１にはリブ形成の前の基板９の重量が予め入力されており（リブ形成の直前に重量測定部２０１自身により測定されていてもよい。）、リブ形成前後の重量の差を求めることにより、上記リブ形成動作におけるリブ形成材料の使用量が取得され、制御部６へと入力されて記憶される（ステップＳ２２）。このように、重量測定部２０１はリブ形成材料の使用量を取得する使用量取得部となっている。なお、１回目のリブ形成の直後では、基板９上のリブの形状に問題がないことが目視にて確認され、図３．ＢのステップＳ２３はスキップされる。
【００５０】
リブ形成装置１では、次の処理対象の基板９が存在することが確認されると（ステップＳ２４）、ステップＳ１１へと戻って当該基板９がステージ部２０上に載置され、上記と同様にしてステップＳ１２〜Ｓ２１が繰り返される。このとき、ノズル部４２１が基板９上のＹ方向の各位置に到達した際における容器４４２内のエアの差圧は、図４の上段と同様とされる。すなわち、材料供給部４４により容器４４２内のリブ形成材料に付与される圧力（エアの差圧）が、リブ形成材料の吐出開始時に定常圧力よりも高くされ、吐出開始時から所定時間の経過時までの間に漸次低減され、吐出開始時から所定時間経過後の定常吐出時には定常圧力とされ、リブ形成材料の吐出終了前の所定時間の間に定常圧力から変更される。また、ノズル部４２１が基板９上のＹ方向の各位置に到達した際における紫外線の強度も、図４の中段と同様とされる。すなわち、基板９上に吐出されたリブ形成材料に対して光照射部４３により照射される紫外線の強度は、定常吐出時に定常強度にて一定とされ、リブ形成材料の吐出開始時近傍および吐出終了時近傍にて定常強度以外の強度に変更される。
【００５１】
２回目のリブ形成が終了すると、ステージ部２０の重量測定部２０１にて基板９の重量が測定され、２回目のリブ形成におけるリブ形成材料の使用量が取得されて制御部６へと入力される（ステップＳ２２）。制御部６では、１回目のリブ形成時におけるリブ形成材料の使用量Ｍ１、２回目のリブ形成時におけるリブ形成材料の使用量Ｍ２、および、定常圧力Ｐ１を用いて、定常圧力の補正量ΔＰが数１により求められる。
【００５２】
【数１】
2008053130.tif 000003
【００５３】
そして、次のリブ形成（３回目のリブ形成）にて用いられる定常圧力が（Ｐ１＋ΔＰ）に補正される（ステップＳ２３）。リブ形成装置１では、さらに次の処理対象の基板９が存在することが確認されると（ステップＳ２４）、当該基板９がステージ部２０上に載置され（ステップＳ１１）、上記と同様にしてステップＳ１２〜Ｓ２１が繰り返される。このとき、ステップＳ１２において、リブ形成材料の吐出開始時における容器４４２内のエアの差圧は補正後の定常圧力の１．５倍とされ、ノズル部４２１が基板９上の範囲Ｄ２を通過する間では補正後の定常圧力の１．３７５倍とされ、範囲Ｄ３を通過する間では補正後の定常圧力の１．２５倍とされ、範囲Ｄ４を通過する間では補正後の定常圧力の１．１２５倍とされる。また、ステップＳ１５では、リブ形成材料の定常吐出時における容器４４２内のエアの差圧は補正後の定常圧力とされる。これにより、容器４４２内のリブ形成材料が多い状態で行われた１回目のリブ形成と、容器４４２内のリブ形成材料が減少した状態で行われた２回目のリブ形成との間において、基板９上に形成されるリブの重量に差が生じている（すなわち、リブの断面形状に差が生じている）場合であっても、３回目のリブ形成にて１回目のリブ形成との当該差がさらに大きくなることを防止することができる。
【００５４】
実際には、多数の基板９に対して上記ステップＳ１１〜Ｓ２３が繰り返され（ステップＳ２４）、定常圧力を補正しつつ多数の基板９上にリブが形成される。リブ形成が行われた各基板９は他の工程において焼成され、リブ形成材料中の樹脂分が除去されるとともに、低軟化点ガラスフリットが融着する。そして、適宜、他の必要な工程を経て平面表示装置の組立部品であるパネルが完成する。
【００５５】
なお、図４中における範囲Ｄ１〜Ｄ４，Ｄ６〜Ｄ９は、例えば、リブ形成材料の吐出開始時から容器４４２内のエアの差圧を定常圧力とした場合に基板９上に形成されるリブ（後述の図７の下段参照）において、その高さが一定となるまでの距離（すなわち、表示装置における表示領域に用いることができない非有効部のＹ方向の長さ）を所定の分割数にて分割することにより得られる。また、本実施の形態における材料供給部４４では、容器４４２内のエアの差圧を最大０．９ＭＰａとすることが可能であるため、リブ形成材料の吐出開始時のエアの差圧を定常圧力の１．５倍にするという前提の下では、定常圧力を０．６ＭＰａ以下とする必要があり、この場合に、リブ形成材料の吐出開始時近傍において形成されるリブの端部の非有効部のＹ方向の長さを３ｍｍ以下とすることが可能となる。
【００５６】
以上に説明したように、図１のリブ形成装置１では、吐出口４２２を有するノズル部４２１、容器４４２内に貯溜されるリブ形成材料を加圧することにより吐出口４２２から光硬化性を有するリブ形成材料を吐出させる材料供給部４４、および、基板９上に吐出されたリブ形成材料に紫外線を照射する光照射部４３が設けられ、基本動作として、ノズル部４２１からリブ形成材料が吐出される間に、ステージ移動機構２がノズル部４２１および光照射部４３をノズル部４２１を先行させつつ基板９に沿う移動方向に基板９に対して相対的かつ連続的に移動することにより、基板９上にリブが形成される。
【００５７】
ここで、仮に、リブ形成材料の吐出開始時から容器４４２内のリブ形成材料に定常圧力を付与した場合には、通常、吐出開始時のリブ形成材料の吐出速度が緩やかとなり、吐出されたリブ形成材料が表面張力により膨らみ易くなる。この場合、リブの端部の形状が乱れ、さらには、リブ形成材料が吐出口の周囲に付着して（あるいは、隣接する吐出口から吐出されるリブ形成材料と付着して）ノズル部におけるリブ形成材料の吐出に不具合が生じる場合がある。
【００５８】
これに対し、リブ形成装置１では、リブ形成材料の吐出開始時に材料供給部４４により容器４４２内のリブ形成材料に付与される圧力が定常圧力よりも高くされることにより、リブ形成材料が吐出口４２２から勢いよく吐出される。これにより、リブ形成材料の吐出開始時近傍において形成されるリブの端部の形状の乱れを抑制しつつノズル部４２１からのリブ形成材料の吐出を安定して行うことができ、リブにおける非有効部を短くして（すなわち、有効部を長くして）、表示装置用のパネルを効率よく製造することができる。また、リブ形成材料の吐出終了前の所定時間の間、容器４４２内のリブ形成材料に付与される圧力が定常圧力から変更されることにより、リブ形成材料の吐出開始時近傍にて形成されるリブの端部の形状に合わせて、リブ形成材料の吐出終了時近傍にて形成されるリブの端部の形状を調整することができる。
【００５９】
さらに、リブ形成装置１では、定常吐出時に、光照射部４３からの紫外線の強度が一定とされ、リブ形成材料の吐出開始時近傍において紫外線の強度が０から定常強度に向けて漸次増大するように、また、リブ形成材料の吐出終了時近傍において定常強度から０に向けて漸次低減するように、ノズル部４２１からのリブ形成材料の吐出量に合わせて光源ユニット４３２が制御される。これにより、リブ形成材料の吐出開始時近傍および吐出終了時近傍において吐出口４２２近傍のリブ形成材料が硬化してノズル部４２１が詰まることを防止しつつ、基板９上に吐出された直後のリブ形成材料を適切に硬化させることができる。
【００６０】
ここで、複数回のリブ形成を繰り返す際において、容器４４２内のリブ形成材料の残量が少なくなったり、リブ形成装置１の周囲の温度が変化した場合等に、定常吐出時に一定の定常圧力にてノズル部４２１からのリブ形成材料の吐出を行うと、リブ形成材料の吐出量が多くなって図６．Ａに示すようにリブ９２の断面の幅（基板９側の幅）が図５のリブの幅Ｗよりもαだけ太くなったり、リブ形成材料の吐出量が少なくなって図６．Ｂに示すようにリブ９２の断面の幅が図５のリブの幅Ｗよりもβだけ狭くなったりしてしまう。これに対して、リブ形成装置１では、複数回のリブ形成を繰り返す場合でも、各リブ形成の終了後にリブ形成材料の使用量が取得されるとともに、一のリブ形成におけるリブ形成材料の吐出開始時の前に、このリブ形成の直前のリブ形成におけるリブ形成材料の使用量に基づいて定常圧力が補正される。これにより、複数回のリブ形成におけるリブの形状のばらつきを抑制することが実現される。
【００６１】
また、図１のリブ形成装置１では、破線の矩形にて示す残量測定部４５が重量測定部２０１に代えて設けられ、図３．ＢのステップＳ２２において、残量測定部４５が使用量取得部として容器４４２内のリブ形成材料の残量を取得することにより、各リブ形成時におけるリブ形成材料の使用量が取得されてもよい。この場合においても、複数回のリブ形成におけるリブの形状のばらつきを抑制することが可能となる。
【００６２】
次に、図１のリブ形成装置１の他の動作例について図３．Ａおよび図３．Ｂに準じて説明する。図７は、本動作例のリブ形成時におけるエアの差圧、および、紫外線の強度と基板９上に形成されるリブの形状との関係を説明するための図である。
【００６３】
まず、基板９がステージ部２０上に載置されると（ステップＳ１１）、初期位置に配置されたノズル部４２１からのリブ形成材料の吐出が開始されるとともに（ステップＳ１２）、ノズル部４２１が基板９に対して（＋Ｙ）方向（図７中の右側）に相対移動を開始する（ステップＳ１３）。このとき、図７の上段に示すように、容器４４２内のエアの差圧は、リブ形成材料の吐出開始時から定常圧力である０．５０ＭＰａとされる（すなわち、エアの差圧の制御は行われない。）。したがって、ノズル部４２１からのリブ形成材料の吐出量は少しずつ増大することとなる。
【００６４】
ノズル部４２１が範囲Ｄ１〜Ｄ４（図４の場合と同様に、各範囲Ｄ１〜Ｄ４の幅は１ｍｍとされる。範囲Ｄ６〜Ｄ９において同様。）を通過すると、吐出口４２２よりも上方に配置される光照射部４３からの紫外線の出射が開始される（ステップＳ１４）。このとき、図７の中段に示すように、紫外線の強度は定常強度である５０％にて一定とされる（すなわち、紫外線の強度の制御は行われない。）。既述のように、容器４４２内のエアの差圧および紫外線の強度はそれぞれ定常圧力および定常強度とされているため、図３．ＡにおけるステップＳ１２，Ｓ１４はそれぞれステップＳ１５，Ｓ１６に含まれているものと捉えることができる。図７の下段に示すように、ノズル部４２１が基板９上のＹ方向の範囲Ｄ４を通過後、さらに（＋Ｙ）側に約１ｍｍだけ進んだ位置Ｒ１に到達した後に、基板９上のリブの高さがＨにてほぼ一定となる。
【００６５】
リブ形成材料の吐出が続けられ、ノズル部４２１が基板９上のリブ形成の終点近傍まで到達すると、制御部６により容器４４２内のエアの差圧の変更制御が行われる（ステップＳ１８）。具体的には、図７の上段に示すように、ノズル部４２１が終点から（−Ｙ）側に４ｍｍだけ離れた位置へと到達すると（すなわち、図７中にて符号Ｄ６にて示す範囲内まで相対移動すると）、容器４４２内のエアの差圧は０．０２ＭＰａに変更される。なお、本動作例では、ステップＳ１７における紫外線の強度の制御は行われない。
【００６６】
また、光照射部４３では、ノズル部４２１が範囲Ｄ６内まで相対移動すると、光照射部４３からの紫外線の出射が停止される（ステップＳ１９）。基板９上では、吐出口４２２からのリブ形成材料の吐出量が減少することにより、図７の下段に示すように、（＋Ｙ）方向に向かって基板９上に形成されるリブの高さが次第に低くなる。そして、ノズル部４２１が基板９上の範囲Ｄ９を通過すると、容器４４２内のエアの差圧を０とすることにより吐出口４２２からのリブ形成材料の吐出が停止され（ステップＳ２０）、ステージ移動機構２による基板９の移動も停止される（ステップＳ２１）。また、定常圧力の補正に係る処理が行われ（ステップＳ２２，Ｓ２３）、複数の基板９に対して上記処理ステップＳ１１〜Ｓ２３が繰り返される（ステップＳ２４）。
【００６７】
以上のように、リブ形成材料の吐出開始時において、容器４４２内のリブ形成材料に付与される圧力が定常圧力とされることにより吐出開始時に形成されるリブの端部近傍の高さが端部から離れるに従って漸次高くなる形状となる場合に、リブ形成材料の吐出終了前の所定時間の間、容器４４２内のリブ形成材料に付与する圧力を定常圧力よりも低い圧力に変更することにより、リブ形成材料の吐出終了時近傍にて形成されるリブの端部（立ち下がり部とも呼ばれる。）の形状を、吐出開始時近傍にて形成されるリブの端部（立ち上がり部とも呼ばれる。）の形状に近似させることができる。
【００６８】
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、様々な変形が可能である。
【００６９】
図７を参照して説明したリブ形成の動作例では、リブ形成材料の吐出終了前の所定時間の間に、容器４４２内のリブ形成材料に付与する圧力の定常圧力からの変更のみにより、リブ形成材料の吐出終了時近傍において形成されるリブの端部の形状が調整されるが、リブ形成装置１では、容器４４２内のリブ形成材料に付与する圧力を一定としつつ、リブ形成材料の吐出開始時近傍または吐出終了時近傍における光照射部４３からの紫外線の強度の変更のみにより、リブ形成材料の吐出開始時近傍または吐出終了時近傍において形成されるリブの端部の形状をある程度調整することも可能である。
【００７０】
図４を参照して説明したリブ形成の動作例では、リブ形成材料の粘度が比較的高いため、リブ形成材料の吐出開始時近傍および吐出終了時近傍にて紫外線の強度が定常強度に比べて低く設定されるが、リブ形成材料の粘度が低い場合には、リブ形成材料の吐出開始直後から吐出量が多くなるため、例えば、図４の範囲Ｄ１にて紫外線の強度を１００％とし、範囲Ｄ２にて８８％とし、範囲Ｄ３にて７５％とし、範囲Ｄ４にて６３％とし、範囲Ｄ５の定常吐出時にて５０％とされてもよい。これにより、リブ形成材料の吐出開始直後において、表面張力により膨らみ易い低粘度のリブ形成材料を、高強度の紫外線の照射により吐出口４２２の形状に近似した形状にて硬化させることが可能となる。また、同様に、リブ形成材料の吐出終了時近傍にて紫外線の強度が漸次増大するように光源ユニット４３２が制御されてもよい。以上のように、定常吐出時に、基板９上に吐出されたリブ形成材料に照射される紫外線の強度を一定とし、少なくともリブ形成材料の吐出開始時近傍または吐出終了時近傍にて紫外線の強度を変更することにより、リブ形成材料の吐出開始時近傍、または、吐出終了時近傍において基板９上に吐出された直後のリブ形成材料を適切に硬化させることが可能となる。
【００７１】
また、図４を参照して説明したリブ形成の動作例では、リブ形成材料の吐出開始時に容器４４２内のエアの差圧が定常圧力の１．５倍とされるが、高粘度のリブ形成材料の吐出開始時にある程度の吐出量を確保するという観点では、容器４４２内のリブ形成材料に付与される圧力は定常圧力の１．３倍以上とされることが好ましく、リブ形成材料が必要以上に吐出されることを防止するという観点では、容器４４２内のリブ形成材料に付与される圧力は定常圧力の１．７倍以下とされることが好ましい。さらに、リブ形成材料の吐出開始時近傍におけるエアの差圧は、定常圧力よりも高い一定値とされてもよい。ただし、リブ形成材料の吐出開始時近傍において形成されるリブの端部の形状の乱れをさらに抑制するには、吐出開始時から所定時間の経過までの間に、容器４４２内のリブ形成材料に付与される圧力が漸次低減されることが好ましい。
【００７２】
リブ形成装置１では、リブ形成を繰り返す場合に、例えば、一のリブ形成の前の複数回のリブ形成におけるリブ形成材料の使用量の平均値と、最初のリブ形成におけるリブ形成材料の使用量や、理想的なリブ形成材料の使用量等との差に基づいて、当該一のリブ形成における定常圧力が補正されてもよい。すなわち、一のリブ形成の前のリブ形成におけるリブ形成材料の使用量に基づいて、当該一のリブ形成における定常圧力が補正される。
【００７３】
また、ノズル部４２１において、吐出口の形状は、表示装置の設計に従って必要とされるリブの断面形状（例えば、幅８０μｍ、かつ、高さ５００μｍとされるリブ）に応じて、適宜変更されてよい。ただし、基板９上に形成されるリブの断面のＸ方向の幅が２００μｍ以下（好ましくは、５０μｍ以上）、かつ、アスペクト比が２以上（好ましくは、２５以下）とされる場合には、リブ形成材料の吐出開始時近傍にて形成されるリブの端部の形状が乱れ易くなったり、ノズル部４２１が詰まり易くなるため、本手法は、このようなリブの形成に特に適している。
【００７４】
材料供給部４４において、容器４４２内に貯溜されるリブ形成材料の加圧は、エア以外（例えば、油等）を用いて行われてもよい。
【００７５】
リブ形成装置１では、吐出口４２２の全体が形成されるノズル部４２１の開口面４２４が、その法線が吐出側にて基板９の主面９１と交差するように傾斜していることにより、アスペクト比が高いリブが精度よく形成されるが、図２のノズル部４２１において吐出口４２２の一部を対向面４２５にまで広げて形成して、アスペクト比が高いリブを形成することも可能である。すなわち、吐出口の全体または大部分が形成されるノズル部４２１の開口面が、その法線が吐出側にて基板９と交差するように傾斜していればよい。
【００７６】
上記実施の形態では、リブ形成材料は紫外線の照射により硬化するが、他の波長帯の光の照射により硬化するものであってもよく、この場合、光照射部４３からの出射光の波長帯も適宜変更される。また、リブ形成材料は、低軟化点ガラスフリットを含むものが好ましいが、リブが形成される基板の用途によっては、他の材料を用いることも可能である。
【００７７】
リブ形成装置１では、ステージ部２０上の基板９がノズル部４２１および光照射部４３に対してＹ方向に移動するが、ノズル部４２１および光照射部４３を基板９に対してＹ方向に移動する機構が設けられてもよい。すなわち、リブ形成装置におけるノズル部４２１および光照射部４３の基板９に対するＹ方向への相対的な移動は、いかなる機構にて実現されてもよい。
【００７８】
また、リブ形成装置１において、重量測定部２０１に代えて圧力センサを設けることにより、基板９の重量による圧力を取得して間接的にリブ形成材料の使用量が取得されてもよい。また、リブ形成材料の使用量は操作者が電子天秤等を用いてリブ形成前後における基板９の質量を測定することにより取得されてもよい。
【００７９】
リブ形成装置においてリブが形成される基板は、ガラス以外の材料により形成されるものであってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００８０】
【図１】リブ形成装置の構成を示す図である。
【図２】ノズル部の先端近傍を拡大して示す図である。
【図３．Ａ】基板上にリブを形成する動作の流れを示す図である。
【図３．Ｂ】基板上にリブを形成する動作の流れを示す図である。
【図４】リブ形成時におけるエアの差圧、および、紫外線の強度と基板上に形成されるリブの形状との関係を説明するための図である。
【図５】リブを示す断面図である。
【図６．Ａ】比較例のリブを示す断面図である。
【図６．Ｂ】比較例のリブを示す断面図である。
【図７】他の動作例に係るリブ形成時におけるエアの差圧、および、紫外線の強度と基板上に形成されるリブの形状との関係を説明するための図である。
【符号の説明】
【００８１】
１    リブ形成装置
２    ステージ移動機構
６    制御部
８    リブ
９    基板
４３    光照射部
４４    材料供給部
４５    残量測定部
８１    リブ形成材料
９１    主面
２０１    重量測定部
４２１    ノズル部
４２２    吐出口
４２４    開口面
４４２    容器
Ｓ１２〜Ｓ２４    ステップ
【図１】
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【図２】
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【図３．Ａ】
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【図３．Ｂ】
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【図４】
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【図５】
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【図６．Ａ】
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【図６．Ｂ】
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【図７】
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