(57)【要約】【課題】像面を有する光学システムで使用するためのパッシブ・デポラライザを提供する。【解決手段】パッシブ・デポラライザは、複屈折材料のモノリシック層を組み込んだパターン化半波長板を含む。モノリシック層は、少なくとも４つの異なる向きを有する速軸を有する複数の領域を含む。したがって、パターン化半波長板に入射される偏光された光ビームは、像面で実質的に無偏光化される。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
像面を有する光学システムで使用するためのパッシブ・デポラライザであって、
入口面および対向する出口面を有するパターン化半波長板を備え、
前記パターン化半波長板は、複屈折材料のモノリシック層を備え、
前記モノリシック層は、それぞれの速軸を有する複数の領域を備え、
前記速軸は、前記入口面に入射される偏光された光ビームが前記像面で実質的に無偏光化されるように、前記入口面に平行な前記モノリシック層の断面内で少なくとも４つの異なる向きを有する、パッシブ・デポラライザ。
【請求項２】
前記パターン化半波長板が、複屈折材料のモノリシック層から成る、請求項１に記載のパッシブ・デポラライザ。
【請求項３】
前記入口面および出口面が、実質的に平面である、請求項１に記載のパッシブ・デポラライザ。
【請求項４】
前記モノリシック層が、それぞれの速軸を有する複数の扇形を備える、請求項１に記載のパッシブ・デポラライザ。
【請求項５】
前記モノリシック層が、それぞれの速軸を有する複数の平行区画を備える、請求項１に記載のパッシブ・デポラライザ。
【請求項６】
前記速軸が、前記入口面に平行な前記モノリシック層の断面内で少なくとも８つの異なる向きを有する、請求項１に記載のパッシブ・デポラライザ。
【請求項７】
前記速軸の向きが、連続的に変化する、請求項１に記載のパッシブ・デポラライザ。
【請求項８】
前記速軸の向きが、規則的パターンで変化する、請求項１に記載のパッシブ・デポラライザ。
【請求項９】
前記速軸の向きが各々、前記断面内の、基準軸に対して０から３６０度の範囲内にある面内角によって特徴付けられ、前記面内角が、前記断面内の位置座標に対して線形に変化する、請求項８に記載のパッシブ・デポラライザ。
【請求項１０】
前記位置座標が、極座標である、請求項９に記載のパッシブ・デポラライザ。
【請求項１１】
前記位置座標が、カルテシアン座標である、請求項９に記載のパッシブ・デポラライザ。
【請求項１２】
複屈折材料の前記モノリシック層が、液晶ポリマーから構成される、請求項１に記載のパッシブ・デポラライザ。
【請求項１３】
前記パターン化半波長板が、光配列層をさらに備える、請求項１２に記載のパッシブ・デポラライザ。
【請求項１４】
前記光配列層が、光重合可能ポリマーから構成される、請求項１３に記載のパッシブ・デポラライザ。
【請求項１５】
前記パターン化半波長板が、紫外光を用いて光配列される、請求項１３に記載のパッシブ・デポラライザ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一般に、デポラライザおよびパターン化波長板に関する。より詳細には、本発明は、パターン化半波長板を含むパッシブ・デポラライザに関する。
【背景技術】
【０００２】
多くの光学素子は、偏光に対して感応性がある。そのような光学素子が光学システム内で使用された場合、偏光感応性が重大な誤差を導入することがある。偏光感応性の望ましくない効果を相殺するため、デポラライザを使用して、偏光を減じること、または偏光のランダム化を試みることができる。
【０００３】
例えば、分光器で使用される典型的な回折格子は、固有の偏光感応性を有し、すなわち、それらの回折効率は、偏光に依存する。波長の広い範囲にわたって動作する場合、分光器は、各々が異なる偏光感応性を有する、多数の異なる格子を使用することがある。入力光が偏光している場合、異なる格子からの出力は異なる。したがって、分光器の挙動も、どの格子が使用されるかに応じて異なり、測定誤差を生じさせる。この問題は、分光器の像面に配置された格子の前方にデポラライザを挿入することによって、最小に抑えることができる。
【０００４】
ＭｃＧｕｉｒｅおよびＣｈｉｐｍａｎによる「Ａｎａｌｙｓｉｓ  ｏｆ  ｓｐａｔｉａｌ  ｐｓｅｕｄｏ−ｄｅｐｏｌａｒｉｚｅｒｓ  ｉｎ  ｉｍａｇｉｎｇ  ｓｙｓｔｅｍｓ」と題する論文（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ，１９９０，Ｖｏｌ．１２，１４７８〜１４８４ページ）で説明されているように、デポラライザは、偏光ビームを、異なる偏光状態の集まりから成る光ビームに変換する。理想的なデポラライザから出てくる光ビームは、時間的および空間的にランダムな偏光状態から成る。しかし、そのような理想的なデポラライザは存在しない。実際のデポラライザは、空間、時間、または波長領域における偏光状態の連続体から成る光ビームを提供する。これらの偏光状態が、光学システムの像面で重ね合わされた場合、偏光スクランブル像（ｐｏｌａｒｉｚａｔｉｏｎ−ｓｃｒａｍｂｌｅｄ  ｉｍａｇｅ）が生じる。そのような光ビームが、像面に配置された偏光アナライザを通過させられて、光パワー・メータに入射する場合、偏光アナライザの向きを変えても、透過パワーに感知し得る変化は検出されない。
【０００５】
光学システムで使用される従来のデポラライザの多くは、波長板（リターダとしても知られる）に基づいている。典型的には複屈折材料の層から成る波長板は、光のビームの２つの直交する偏光成分の間の相対位相を変化させることができる。単軸複屈折材料は、単一の速軸（光軸または異方性軸としても知られる）によって特徴付けられる。速軸に平行な偏光成分は、速軸に垂直な偏光成分よりも速く材料内を進む。言い換えると、平行成分は、より小さな屈折率ｎ１を経験し、垂直成分は、より大きな屈折率ｎ２を経験する。材料の複屈折Δｎは、ｎ２−ｎ１として定義される。
【０００６】
波長板が適切な厚みを有する場合、光ビームの２つの直交する偏光成分の間に、位相シフトが生じ得る。複屈折がΔｎ、厚みがｄの波長板の場合、波長λの光ビームの位相シフトΓは、Γ＝（２πΔｎｄ）／λによって与えられる。
【０００７】
例えば、半波長板の厚みは、半波長（π）または半波長の何倍か（ｍを整数として、（２ｍ＋１）π）の位相シフトを生成するために、ｄ＝λ（２ｍ＋１）／（２Δｎ）のように選択される。直線偏光ビームが半波長板に入射する場合、半波長板を出る光ビームも直線偏光しているが、その偏光状態は、速軸に対して入射ビームの偏光状態の角度の２倍の角度をなす向きに向けられている。したがって、半波長板は、偏光状態「ローテータ」として機能することができる。
【０００８】
従来のデポラライザの１つのタイプは、厚みの比が２：１の、複屈折材料の２つの平行波長板から成る、ライオット・デポラライザ（Ｌｙｏｔ  ｄｅｐｏｌａｒｉｚｅｒ）である。波長板は、それらの速軸が互いに対して４５°をなす向きに向けられて、積み重ねられる。この装置の変形が、例えば、Ｎｏｒｔｏｎ他の米国特許第６６６７８０５号、第７０９９０８１号、および第７１５８２２９号で説明されている。従来のデポラライザの他のタイプは、ウェッジ型波長板を組み込む。ハンル・デポラライザ（Ｈａｎｌｅ  ｄｅｐｏｌａｒｉｚｅｒ）は、少なくとも一方が複屈折材料の２つのウェッジから成る。コルニュ・デポラライザ（Ｃｏｒｎｕ  ｄｅｐｏｌａｒｉｚｅｒ）は、速軸が逆方向に向けられた複屈折材料の２つのウェッジから成る。この装置の変形が、例えば、Ｋｒｅｍｅｎの米国特許第４１９８１２３号、Ｙａｏの米国特許第６４９８８６９号、Ｋａｎｅｋｏ他の米国特許第６７４４５０６号、Ｌｉ他の米国特許第６８１９８１０号および第７０３９２６２号、ならびにＦｉｏｌｋａの米国特許出願第２００７／００１４５０４号で説明されている。
【０００９】
Ｙａｏの米国特許第６４９８８６９号は、複屈折材料の多数の結晶チップから製作されるデポラライザを開示している。チップは４分の１波長板であり、それらの速軸は、平面内でランダムな向きに向けられる。類似の、この場合は偏光ビームを放射状に偏光するための装置が、Ｓｃｈｕｓｔｅｒの米国特許第６１９１８８０号、第６３９２８００号、および第６８８５５０２号に開示されている。Ｓｃｈｕｓｔｅｒの放射ポラライザ（ｒａｄｉａｌ  ｐｏｌａｒｉｚｅｒ）は、複屈折材料の複数の小平面を含む。小平面は半波長板であり、それらの速軸は、平面内に様々なパターンで配置される。
【００１０】
半波長板と半波長板を回転させる手段とを含むアクティブ・デポラライザが、Ｂｕｌｐｉｔｔ他の米国特許第５０２８１３４号で説明されている。
【００１１】
上述した装置のすべては、２つ以上の構成要素を有する。そのような多構成要素装置の製作は、非常にコストがかかり、それらの用途を限定する。製造がより単純で容易なパッシブ・モノリシック・デポラライザが、光学システム用には望ましい。１つの可能性は、パターン化波長板に基づいたデポラライザである。空間的に多様な速軸の向きを有するパターン化波長板は、従来技術において説明されていたが、開示された装置はどれも、デポラライザではない。
【００１２】
電気光学結晶と結晶に電界を印加する手段とを含むアクティブ偏光変換器が、Ｓｅｇｒｅの米国特許第３６１７９３４号で説明されている。この装置では、電界の印加が、結晶を可逆的にパターン化半波長板に変換する。
【００１３】
Ｍａｙの米国特許第５５４８４２７号は、切換可能なホログラフィック装置で使用するための、２つの異なる速軸の向きを有する領域が交替するパターン化半波長板について説明している。液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）用の偏光補償器として使用するためのパターン化波長板が、Ｋｕｒｔｚの米国特許第７０２３５１２号、およびＳｉｌｖｅｒｓｔｅｉｎ他の米国特許第７０６１５６１号に開示されている。これらの装置では、波長板の速軸の向きのパターンは、ＬＣＤのそれと相関する。Ｗｏｏｄｇａｔｅ他の米国特許第６０５５１０３号は、３次元（３Ｄ）ディスプレイ内の偏光変調光学素子として使用するための、２つの異なる速軸の向きを有する互い違いの領域をもつパターン化半波長板を開示している。同様に、Ｇｉｌｌｉａｎ他の米国特許第５８６１９３１号は、３Ｄディスプレイ内の偏光回転光学素子として使用するための、２つの異なる回転方向を有する領域が交替するパターン化波長板を開示している。
【特許文献１】米国特許第６６６７８０５号
【特許文献２】米国特許第７０９９０８１号
【特許文献３】米国特許第７１５８２２９号
【特許文献４】米国特許第４１９８１２３号
【特許文献５】米国特許第６４９８８６９号
【特許文献６】米国特許第６７４４５０６号
【特許文献７】米国特許第６８１９８１０号
【特許文献８】米国特許第７０３９２６２号
【特許文献９】米国特許出願第２００７／００１４５０４号
【特許文献１０】米国特許第６１９１８８０号
【特許文献１１】米国特許第６３９２８００号
【特許文献１２】米国特許第６８８５５０２号
【特許文献１３】米国特許第５０２８１３４号
【特許文献１４】米国特許第３６１７９３４号
【特許文献１５】米国特許第５５４８４２７号
【特許文献１６】米国特許第７０２３５１２号
【特許文献１７】米国特許第７０６１５６１号
【特許文献１８】米国特許第６０５５１０３号
【特許文献１９】米国特許第５８６１９３１号
【非特許文献１】ＭｃＧｕｉｒｅおよびＣｈｉｐｍａｎ、「Ａｎａｌｙｓｉｓ  ｏｆ  ｓｐａｔｉａｌ  ｐｓｅｕｄｏ−ｄｅｐｏｌａｒｉｚｅｒｓ  ｉｎ  ｉｍａｇｉｎｇ  ｓｙｓｔｅｍｓ」、Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ，１９９０，Ｖｏｌ．１２，１４７８〜１４８４ページ
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
本発明の目的は、光学システムにおいて偏光感応性の望ましくない効果を最小に抑えることができるデポラライザを提供することによって、従来技術の短所を克服することである。従来のデポラライザと異なり、本発明のデポラライザは、パッシブであり、モノリシックである。本発明のデポラライザは、偏光された光ビームを光学システムの像面で実質的に無偏光化するように選択された速軸の向きのパターンを有する、半波長板を含む。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
したがって、本発明は、像面を有する光学システムで使用するためのパッシブ・デポラライザに関するものであって、入口面および対向する出口面を有するパターン化半波長板を備え、パターン化半波長板は、複屈折材料のモノリシック層を備え、モノリシック層は、それぞれの速軸を有する複数の領域を備え、速軸は、入口面に入射される偏光された光ビームが像面で実質的に無偏光化されるように、入口面に平行なモノリシック層の断面内で少なくとも４つの異なる向きを有する。
【００１６】
本発明を、本発明の好ましい実施形態を表す添付の図面を参照しながら、より詳細に説明する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
図１を参照すると、本発明は、パターン化半波長板１００を含むデポラライザを提供する。パターン化半波長板１００は、入口面１１０と出口面１２０とを有し、複屈折材料のモノリシック層１３０を含む。好ましくは、パターン化半波長板１００は、複屈折材料のモノリシック層１３０から成ることができ、または入口面１１０もしくは出口面１２０に隣接し得るオプションの光配列（ｐｈｏｔｏ−ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）層１４０を含んでもよい。
【００１８】
パターン化半波長板１００の理想的な厚みｄは、上で説明したように、入射光ビーム１５０の平均波長λとモノリシック層１３０の複屈折材料の複屈折Δｎとに基づいて決定することができる。入射光ビーム１５０は、直線偏光または楕円偏光していてよく、好ましくは、約４００から２０００ｎｍの平均波長を有する。複屈折材料は、好ましくは、約０．０５から０．５の複屈折を有する。モノリシック層１３０の実際の厚みは、好ましくは、（約１０％の範囲内で）理想値に近い。
【００１９】
半波長板１００の入口面１１０と出口面１２０は、好ましくは、実質的に平面である。入力ポート（図示されず）およびオプションの（コリメーティング・レンズなどの）光学素子（図示されず）を介して入口面に入射される偏光された光ビーム１５０は、好ましくは、入口面１１０と垂直である。したがって、半波長板１００を出る光ビーム１６０は、複数の異なる偏光状態から成る。これらの偏光状態が、フォーカシング・レンズ１８０およびオプションの光学素子（図示されず）を介して、光学システムの像面１７０で重ね合わされると、像１９０は、実質的に無偏光化される。
【００２０】
本発明の重要な特徴は、パターン化半波長板１００が、異なる向きを有する速軸を有する複数の領域を含むモノリシック層１３０を組み込むことである。例えば、モノリシック層１３０は、異なる速軸の向きを有する複数の扇形または複数の平行区画を備えることができる。図２に示すように、各速軸の向き２０１は、入口面１１０に平行なモノリシック層１３０の断面内の、基準軸２１０に対して０から３６０°の範囲内にある面内角θによって特徴付けられ、正の角度方向は反時計回りとして定義される。図２に示すモノリシック層１３０は、４つの異なる速軸の向き２０１、２０２、２０３、２０４を有する（各々が扇形の）４つの領域２３１、２３２、２３３、２３４を有する。
【００２１】
速軸は、入口面１１０に平行なモノリシック層１３０の断面内に少なくとも４つの異なる向きを有することが望ましい。好ましくは、速軸は、少なくとも８つの異なる向きを有する。いくつかの例では、速軸は、４８以上もの異なる向きを有することができる。実際には、速軸の向きは、連続的に変化することができる。速軸の向きのそのような連続変化は、望ましくない回折効果を減じるために有利なことがある。
【００２２】
好ましくは、速軸の向きは、規則的パターンで変化する。パターンは、入口面１１０に平行なモノリシック層１３０の断面内の、基準軸に対する面内角の線形変化から生じることができる。図２に示すように、位置座標（ｌｏｃａｔｉｏｎ  ｃｏｏｒｄｉｎａｔｅ）は、極座標、すなわち、半径座標ｒまたは方位角φとしてよく、方位角は、基準軸から反時計回りの角として定義される。例えば、面内角θは、θ＝ａφ＋ｂに基づいて、方位角φと共に線形に変化してよく、ここで、ａは勾配、ｂはφ＝０における面内角である。ａ＝２かつｂ＝０である場合に生成される速軸の向きのパターンを有するモノリシック層１３０の断面が、図３に示されている。４つの異なる速軸の向き３０１、３０２、３０３、３０４を有する（各々が扇形の）８つの異なる領域３３１、３３２、３３３、３３４、３３５、３３６、３３７、３３８が、図示されたモノリシック層１３０に含まれている。
【００２３】
代替として、面内角は、図２に示すように、入口面１１０に平行なモノリシック層１３０の断面内の、カルテシアン座標（Ｃａｒｔｅｓｉａｎ  ｃｏｏｒｄｉｎａｔｅ）、すなわち、ｘまたはｙ座標に対して線形に変化してもよく、ｘ軸は基準軸２１０に等しく、ｘ軸の長さは１に正規化されている。例えば、面内角θは、θ＝ｃｘ＋ｄに基づいて、ｘ座標と共に線形に変化してよく、ここで、ｃは勾配、ｄはｘ＝０における面内角である。ｃ＝３６０°かつｄ＝０である場合に生成される速軸の向きのパターンを有するモノリシック層１３０の断面が、図４に示されている。図示されたモノリシック層１３０は、８つの異なる速軸の向き４０１、４０２、４０３、４０４、４０５、４０６、４０７、４０８を有する（各々が平行区画の）１７の異なる領域４３１、４３２、４３３、４３４、４３５、４３６、４３７、４３８、４３９、４４０、４４１、４４２、４４３、４４４、４４５、４４６、４４７を含んでいる。
【００２４】
もちろん、速軸の向きのその他のパターンも、ａ（好ましくは、ａ≧１）およびｂ、またはｃ（好ましくは、ｃ≧１８０°）およびｄの異なる選択によって生成することができる。その他のパターンは、変数としての位置座標の異なる選択によっても生成することができる。さらに、モノリシック層１３０内の領域の数および異なる速軸の向きの数も、変更されてよい。例えば、速軸の向きは、そのような任意のパターンに従って、モノリシック層１３０内で、事実上、連続的に変化することができる。
【００２５】
入口面１１０に入射した偏光された光ビーム１５０について、ビームの異なる領域は、パターン化半波長板１００内の異なる領域を通過するので、各領域における速軸の向きに応じて、異なる量だけ「回転」された偏光状態を有する。したがって、装置は、偏光された光ビーム１５０を、複数の異なる偏光状態をその断面内に有する光ビーム１６０に変換する、空間デポラライザとして機能する。入射光ビーム１５０が直線偏光されている場合、射出光ビーム１６０は、複数の直線偏光状態から成る。入射光ビーム１５０が楕円偏光されている場合、射出光ビーム１６０は、複数の楕円偏光状態から成る。入射光ビーム１５０が無偏光化されている場合、射出光ビーム１６０も、無偏光化されている。したがって、部分的に偏光された光ビーム１５０も、パターン化半波長板１００によって無偏光化することができる。
【００２６】
パターン化半波長板１００は、例えば、Ｇｉｌｌｉａｎ他の米国特許第５８６１９３１号、Ｗｏｏｄｇａｔｅ他の米国特許第６０５５１０３号、Ｓｉｌｖｅｒｓｔｅｉｎ他の米国特許第７０６１５６１号、およびＳｅｉｂｅｒｌｅ他による「Ｐｈｏｔｏ−Ａｌｉｇｎｅｄ  Ａｎｉｓｏｔｒｏｐｉｃ  Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍｓ」と題する論文（ＳＩＤ  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ  Ｓｙｍｐｏｓｉｕｍ  Ｄｉｇｅｓｔ  ｏｆ  Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ  Ｐａｐｅｒｓ，２００３，Ｖｏｌ．３４，１１６２〜１１６５ページ）に開示されている方法に類似した、紫外（ＵＶ）光を用いる光配列方法を使用して製作することができる。上述した文献はすべて、参照により本明細書に組み込まれる。
【００２７】
そのような方法の第１のステップとして、光配列層１４０が、パターン化半波長板１００の一部として作成される。光重合可能材料が、典型的にはガラス板の基板に適用される。その後、光重合可能材料は、直線偏光ＵＶ光で照射され、その結果として生ずる光配列層１４０内に方向性をもつ配列を提供する。好ましくは、光重合可能材料として光重合可能ポリマーが使用され、その結果として光配列層１４０は光重合可能ポリマーから構成される。第２のステップとして、架橋性材料が、光配列層１４０の面上に適用され、光配列層１４０の方向性をもつ配列に従って配列される。その後、架橋性材料はＵＶ光の照射によって架橋され、パターン化半波長板１００の一部として複屈折材料のモノリシック層１３０を生成する。好ましくは、架橋性材料として液晶プレポリマーが使用され、その結果として生ずる複屈折材料のモノリシック層１３０は液晶ポリマーから構成される。適切な光重合可能プレポリマーおよび液晶プレポリマーは、Ｒｏｌｌｅ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ  Ｌｔｄ．（スイス、アルシュヴィル）から入手可能である。
【００２８】
配列パターンは、光配列層の作成中に直線偏光ＵＶ光の偏光状態をあるパターンで変化させることによって、光配列層１４０内に形成することができる。Ｓｅｉｂｅｒｌｅ他によって説明されるように、そのような配列パターンは、フォトマスク、アライメント・マスタ（ａｌｉｇｎｍｅｎｔ  ｍａｓｔｅｒ）、レーザ走査、または直線偏光ＵＶ光ビームと基板との同期移動を使用することによって、生成することができる。光配列層１４０への架橋性材料の適用と、それに続く架橋の後、その結果として生ずる複屈折材料のモノリシック層１３０は、配列パターンに対応するパターンで変化する向きを有する速軸を有する。
【００２９】
例えば、異なる速軸の向きを有する複数の領域を含むモノリシック層１３０は、適切な数のパターン化フォトマスクを通った直線偏光ＵＶ光での光重合可能材料の一連の照射によって、光配列層１４０から生成することができる。代替として、モノリシック層１３０内における速軸の向きの連続変化は、適切なパターンで基板を移動させながら、スリットを通った直線偏光ＵＶ光で光重合可能材料を照射することによって作成される光配列層１４０を使用することによって、達成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】像面を有する光学システムにおけるパターン化半波長板の側面図を概略的に示す図である。
【図２】速軸の向き、基準軸、および位置座標を定めた、複屈折材料のモノリシック層の断面を概略的に示す図である。
【図３】ａ＝２かつｂ＝０である場合のθ＝ａφ＋ｂに基づいた速軸の向きのパターンを有する、複屈折材料のモノリシック層の断面を概略的に示す図である。
【図４】ｃ＝３６０°かつｄ＝０である場合のθ＝ｃｘ＋ｄに基づいた速軸の向きのパターンを有する、複屈折材料のモノリシック層の断面を概略的に示す図である。
【符号の説明】
【００３１】
１００  パターン化半波長板
１１０  入口面
１２０  出口面
１３０  モノリシック層
１４０  光配列層
１５０  入射光ビーム
１６０  射出光ビーム
１７０  像面
１８０  フォーカシング・レンズ
１９０  像
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【外国語明細書】
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