(57)【要約】【課題】一次元画像に基づいて二次元画像を作成することなく露光位置補正の制御及び露光光の照射のタイミングの制御をすることによって、露光工程の時間短縮を可能とする。【解決手段】搬送方向とほぼ直交する方向に並べられた複数個の受光素子を有する第１の撮像手段４と、搬送方向とほぼ平行に並べられた複数個の受光素子を有する第２の撮像手段５と、フォトマスク１２を搬送方向とほぼ直交する方向に移動してフォトマスク１２による露光位置を補正するアライメント手段６と、第１の撮像手段４によりカラーフィルタ基板９の露光位置補正用の第１の基準位置が検出されると、それに基づいてアライメント手段６の駆動を制御し、第２の撮像手段５によりカラーフィルタ基板９の露光光の照射タイミング抽出用の第２の基準位置が検出されると、それに基づいて露光光の照射タイミングを制御する制御手段８と、を備えたものである。【選択図】図１
2008076709.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一定速度で搬送される被露光体に対してフォトマスクを介して露光光を間欠的に照射し、フォトマスクのマスクパターンを所定位置に露光する露光装置であって、
前記フォトマスクによる露光位置、又は該露光位置よりも前記被露光体の搬送方向手前側の位置を撮像するように配設され、前記搬送方向とほぼ直交する方向に並べられた複数個の受光素子を有する第１の撮像手段と、
前記フォトマスクによる露光位置、又は該露光位置よりも前記被露光体の搬送方向手前側の位置を撮像するように配設され、前記搬送方向とほぼ平行に並べられた複数個の受光素子を有する第２の撮像手段と、
前記被露光体及びフォトマスクを前記搬送方向とほぼ直交する方向に相対移動して該フォトマスクによる露光位置を補正するアライメント手段と、
前記第１の撮像手段により前記被露光体上に予め設けられた露光位置補正用の第１の基準位置が検出されると、それに基づいて前記アライメント手段の駆動を制御し、前記第２の撮像手段により前記被露光体上に予め設けられた露光光の照射タイミング抽出用の第２の基準位置が検出されると、それに基づいて前記露光光の照射タイミングを制御する制御手段と、
を備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記フォトマスクは、複数個のマスクパターンを前記被露光体の搬送方向とほぼ直交する方向に所定間隔で形成したものであることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記フォトマスクは、複数個のマスクパターンを前記被露光体の搬送方向とほぼ直交する方向に所定間隔で並べてマスクパターン列を形成し、該マスクパターン列を前記被露光体の搬送方向に所定間隔で複数列形成したものであることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項４】
前記被露光体は、透明な基板からなることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項５】
前記第１の撮像手段は、前記透明な基板からなる被露光体表面に形成された前記第１の基準位置を該被露光体の裏面側から撮像するように配設されたことを特徴とする請求項４記載の露光装置。
【請求項６】
前記第２の撮像手段は、前記透明な基板からなる被露光体表面に形成された前記第２の基準位置を該被露光体の裏面側から撮像するように配設されたことを特徴とする請求項４又は５記載の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一定速度で搬送される被露光体に対してフォトマスクを介して露光光を間欠的に照射し、フォトマスクのマスクパターンを所定位置に露光する露光装置に関し、詳しくは、露光工程の時間短縮を可能とした露光装置に係るものである。
【背景技術】
【０００２】
従来の露光装置は、光源から露光光を被露光体に対して照射する露光光学系と、該露光光学系に対向して配置され上記被露光体を載置して一定速度で搬送する搬送手段とを備え、上記露光光学系の光路上に介装するマスクの開口部の像を上記被露光体上に露光するもので、上記搬送手段の移動方向にて露光光学系による露光位置の手前側を撮像位置とし、被露光体に予め形成された基準パターンを撮像する撮像手段と、該撮像手段で撮像された基準パターンに予め設定された基準位置を検出し、該基準位置を基準にして露光光学系の露光光の照射タイミングを制御し、被露光体の所定位置にマスクの開口部の像を露光させる制御手段と、を備えていた（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
ここで、上記基準パターンに設定された基準位置は、上記マスクの開口部を被露光体の基準パターンに対して位置合わせするための露光位置補正用の第１の基準位置と露光光の照射タイミングを抽出するための第２の基準位置とを含むものである。この場合、上記第１の基準位置は、被露光体の搬送方向と平行に設定されており、上記第２の基準位置は、被露光体の搬送方向と直交する方向に設定されている。
【特許文献１】特開２００６−１７８９５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、このような従来の露光装置は、被露光体の搬送方向と直交する方向に並べて複数個の受光素子を有するラインＣＣＤからなる撮像手段をただ一つ備えたものであったので、該撮像手段で直交する２方向に設定された上記第１及び第２の基準位置を検出するためには、撮像手段で取得した一次元画像に基づいて二次元画像を作成する必要があった。そのためには、複数のリングバッファーメモリや複数のラインバッファメモリ等が必要となり、制御手段の回路規模が膨大となって装置が高価なものとなるおそれがあった。また、一次元画像に基づいて二次元画像を作成するようにしているので、画像処理に要する時間が長くなり、露光工程の時間が長くなるおそれがあった。
【０００５】
そこで、本発明は、このような問題点に対処し、一次元画像に基づいて二次元画像を作成することなく露光位置補正の制御及び露光光の照射のタイミングの制御をすることによって、露光工程の時間短縮を可能とした露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明による露光装置は、一定速度で搬送される被露光体に対してフォトマスクを介して露光光を間欠的に照射し、前記フォトマスクのマスクパターンを所定位置に露光する露光装置であって、前記フォトマスクによる露光位置、又は該露光位置よりも前記被露光体の搬送方向手前側の位置を撮像するように配設され、前記搬送方向とほぼ直交する方向に並べられた複数個の受光素子を有する第１の撮像手段と、前記フォトマスクによる露光位置、又は該露光位置よりも前記被露光体の搬送方向手前側の位置を撮像するように配設され、前記搬送方向とほぼ平行に並べられた複数個の受光素子を有する第２の撮像手段と、前記被露光体及びフォトマスクを前記搬送方向とほぼ直交する方向に相対移動して該フォトマスクによる露光位置を補正するアライメント手段と、前記第１の撮像手段により前記被露光体上に予め設けられた露光位置補正用の第１の基準位置が検出されると、それに基づいて前記アライメント手段の駆動を制御し、前記第２の撮像手段により前記被露光体上に予め設けられた露光光の照射タイミング抽出用の第２の基準位置が検出されると、それに基づいて前記露光光の照射タイミングを制御する制御手段と、を備えたものである。
【０００７】
このような構成により、フォトマスクによる露光位置、又は該露光位置よりも被露光体の搬送方向手前側の位置を撮像するように配設され、搬送方向とほぼ直交する方向に並べられた複数個の受光素子を有する第１の撮像手段で被露光体上に予め設けられた露光位置補正用の第１の基準位置を検出し、該第１の基準位置が検出されると、それに基づいて制御手段でアライメント手段の駆動を制御し、このアライメント手段で被露光体及びフォトマスクを上記搬送方向とほぼ直交する方向に相対移動して該フォトマスクによる露光位置を補正する。また、フォトマスクによる露光位置、又は該露光位置よりも被露光体の搬送方向手前側の位置を撮像するように配設され、搬送方向とほぼ平行に並べられた複数個の受光素子を有する第２の撮像手段で被露光体上に予め設けられた露光光の照射タイミング抽出用の第２の基準位置を検出し、該第２の基準位置が検出されると、それに基づいて制御手段で露光光の照射タイミングを制御し、一定速度で搬送される被露光体に対してフォトマスクを介して露光光を間欠的に照射して、フォトマスクのマスクパターンを所定位置に露光する。
【０００８】
また、前記フォトマスクは、複数個のマスクパターンを前記被露光体の搬送方向とほぼ直交する方向に所定間隔で形成したものである。これにより、フォトマスクで被露光体の搬送方向とほぼ直交する方向に所定間隔で形成した複数個のマスクパターンを露光する。
【０００９】
さらに、前記フォトマスクは、複数個のマスクパターンを前記被露光体の搬送方向とほぼ直交する方向に所定間隔で並べてマスクパターン列を形成し、該マスクパターン列を前記被露光体の搬送方向に所定間隔で複数列形成したものである。これにより、複数個のマスクパターンを被露光体の搬送方向とほぼ直交する方向に所定間隔で並べて形成されたマスクパターン列を、被露光体の搬送方向に所定間隔で複数列形成したフォトマスクでマスクパターンを多重露光する。
【００１０】
また、前記被露光体は、透明な基板からなるものである。これにより、透明な基板からなる被露光体を一定速度で搬送し、該被露光体に対して露光光を間欠的に照射し、フォトマスクのマスクパターンを所定位置に露光する。
【００１１】
さらに、前記第１の撮像手段は、前記透明な基板からなる被露光体表面に形成された前記第１の基準位置を該被露光体の裏面側から撮像するように配設されたものである。これにより、透明な基板からなる被露光体の裏面側から第１の撮像手段で該被露光体表面に形成された第１の基準位置を撮像する。
【００１２】
そして、前記第２の撮像手段は、前記透明な基板からなる被露光体表面に形成された前記第２の基準位置を該被露光体の裏面側から撮像するように配設されたものである。これにより、透明な基板からなる被露光体の裏面側から第２の撮像手段で該被露光体表面に形成された第２の基準位置を撮像する。
【発明の効果】
【００１３】
請求項１に係る露光装置によれば、第１の撮像手段で露光位置補正用の第１の基準位置を検出し、第２の撮像手段で露光光の照射タイミング抽出用の第２の基準位置を検出するようにしているので、この二つの基準位置を検出するために、従来技術のように取得された一次元画像に基づいて二次元画像を作成することなく露光位置補正の制御及び露光光の照射のタイミングの制御をすることによって、露光工程の時間を短縮することができる。特に、二つの基準位置をそれぞれ個別の撮像手段で検出するようにしているため、画像処理を高速処理することができる。したがって、被露光体の搬送速度を速くして露光工程の時間をより短縮することができる。
【００１４】
また、請求項２に係る発明によれば、被露光体が例えばカラーフィルタ基板であれば、該カラーフィルタ基板の露光対象であるピクセル上のみを露光し、隣り合うピクセル間の部分が露光されないようにすることができる。したがって、二層目以降のカラーレジストの塗布層を比較的平坦化することができ、露光精度をより向上することができる。
【００１５】
さらに、請求項３に係る発明によれば、搬送方向に並んだ複数のマスクパターンにより所定の露光位置に対して多重露光することができる。したがって、被露光体の搬送速度を速くしても露光を確実に実行することができ、露光処理時間を短縮することができる。
【００１６】
そして、請求項４〜６に係る発明によれば、透明な基板からなる被露光体表面に形成された基準位置を裏面側から直接撮像することができ、基準位置の検出が容易になる。したがって、第１の基準位置に基づくアライメント制御及び第２の基準位置に基づく露光光の照射タイミング制御をより正確に行なうことができ、露光精度をより向上することができる。また、この場合、第１及び第２の撮像手段により露光位置と同じ位置を撮像するようにすれば、基準位置の検出から露光までの動作をほぼリアルタイムで実行することができ、露光精度を一層向上することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明の実施形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。図１は本発明による露光装置の実施形態を示す概念図であり、図２は図１のＯ−Ｏ線断面図である。この露光装置は、一定速度で搬送される被露光体に対してフォトマスクを介して露光光を間欠的に照射し、フォトマスクのマスクパターンを所定位置に露光するもので、搬送手段１と、マスクステージ２と、光源３と、第１の撮像手段４と、第２の撮像手段５と、アライメント手段６と、照明手段７と、制御手段８とからなる。以下、被露光体が例えば透明なガラス基板からなるカラーフィルタ基板９である場合について説明する。
【００１８】
上記搬送手段１は、カラーレジストが塗布されたカラーフィルタ基板９を載置して、図１において矢印Ａで示す搬送方向に一定速度で搬送するものであり、例えば、複数のエアステージ１０と、複数の搬送ローラ１１とを備えて構成されている。上記エアステージ１０は、上面に圧縮空気を噴射する多数の噴射口と空気を吸引する多数の吸引口を設けたものであり、上記搬送方向に複数個を所定間隔で配設し、空気の噴射と吸引とをバランスさせてカラーフィルタ基板９を所定量だけ浮上させることができるようになっている。上記複数のエアステージ１０の搬送方向と平行な縁部に沿って複数の搬送ローラ１１が設けられている。この搬送ローラ１１は、カラーフィルタ基板９の縁部を保持して図１に示す矢印Ａ方向に所定速度で搬送するものであり、常時上方に付勢されており、カラーフィルタ基板９の荷重によって所定量だけ下方に沈み込むようになっている。そして、各搬送ローラ１１は、図示省略の搬送用駆動モータによって同期して駆動されるようになっている。
【００１９】
上記搬送手段１の上方には、マスクステージ２が配設されている。このマスクステージ２は、フォトマスク１２を上記搬送手段１によって搬送されるカラーフィルタ基板９の面に近接対向させて、該面に平行に保持するものであり、後述の第１及び第２の撮像手段４，５と共に図２に示す矢印Ｂ，Ｃ方向に移動可能になっている。
【００２０】
上記フォトマスク１２は、図３に示すように、矢印Ａで示す搬送方向とほぼ直交する方向に複数のマスクパターン１３を所定間隔で設けたものであり、図２に示すように、透明なガラス基板１４にクロム等の不透明膜１５を形成し、該不透明膜１５に上記複数のマスクパターン１３となる開口部を形成して作製される。そして、同図に示すように、不透明膜１５を形成した面を下側にして上記マスクステージ２に保持される。なお、図３において、例えば、最も左側に位置するマスクパターン１３の左側縁部がフォトマスク１２のアライメント基準位置Ｍ１として予め設定されている。
【００２１】
上記マスクステージ２の上方には、光源３が設けられている。この光源３は、露光光となる紫外線を放射するものであり、例えば上記露光光を間欠的に放射可能なフラッシュランプ１６と、楕円鏡１７とからなっている。上記フラッシュランプ１６は、例えば、図２に示すように搬送方向とほぼ直交する方向（同図に示す矢印Ｂ，Ｃ方向）に細長い発光管を有しており、長尺のフォトマスク１２に対して効率よく露光光を照射できるようになっている。なお、発光管は、上述のように細長いものに限られない。また、上記楕円鏡１７は、上記フラッシュランプ１６を該楕円鏡１７の第１焦点ｆ１に配置した状態で内包し、フラッシュランプ１６から放射された露光光を第２焦点ｆ２に集光させるようになっている。なお、上記光源３の露光光の放射方向前方には、集光レンズ１８がその前焦点を上記楕円鏡１７の第２焦点ｆ２にほぼ一致させて設けられており、放射する露光光を光軸にほぼ平行な光線束の露光光に変換してフォトマスク１２を照射できるようにしている。
【００２２】
上記マスクステージ２の下側にて、搬送手段１の隣り合うエアステージ１０の間には、上記フォトマスク１２による露光位置を撮像するように第１の撮像手段４が設けられている。この第１の撮像手段４は、カラーフィルタ基板９に予め設けられた露光位置補正用の第１の基準位置（図５に示すＳ１参照）をカラーフィルタ基板９の裏面側から撮像するものであり、露光位置の補正用として機能するものである。そして、図３において、矢印Ａで示す搬送方向とほぼ直交する方向に並べられた複数個の受光素子１９を有しており、そのうちの一つが露光位置の補正量を演算するための基準位置となる第１の基準受光素子１９ｓとして設定され、上記フォトマスク１２のアライメント基準位置Ｍ１に合致されている。
【００２３】
上記第１の撮像手段４の側方にて搬送手段１の中央よりには、上記フォトマスク１２による露光位置を撮像するように第２の撮像手段５が並べて設けられている。この第２の撮像手段５は、カラーフィルタ基板９上に予め設けられた露光光の照射タイミング抽出用の第２の基準位置（図５（ａ）に示すＳ２参照）をカラーフィルタ基板９の裏面側から撮像するものであり、露光光の照射タイミングの制御用として機能するものである。そして、図３において、矢印Ａで示す搬送方向とほぼ平行に並べられた複数個の受光素子２０を有しており、そのうちの一つが露光光の照射タイミングを抽出するための第２の基準受光素子２０ｓとして設定され、上記フォトマスク１２のマスクパターン１３の搬送方向先頭側の縁部１３ａに合致されている。
【００２４】
上記マスクステージ２及び第１の撮像手段４並びに第２の撮像手段５を移動可能にアライメント手段６が設けられている。このアライメント手段６は、図３に示すように、矢印Ｂ，Ｃ方向に上記第１及び第２の撮像手段４，５並びにフォトマスク１２を移動して該フォトマスク１２による露光位置を補正するものであり、フォトマスク１２のアライメント基準位置Ｍ１をカラーフィルタ基板９の第１の基準位置Ｓ１に合致させるようになっている（図５（ｂ）参照）。また、フォトマスク１２の面の中心を軸として上記第１及び第２の撮像手段４，５並びにマスクステージ２を一体的に角度θだけ回動できるようにもなっている。
【００２５】
上記搬送手段１の上方には、照明手段７が設けられている。この照明手段７は、カラーフィルタ基板９に対して可視光の照明光を照射し、上記第１及び第２の撮像手段５によってカラーフィルタ基板９の第１及び第２の基準位置Ｓ１，Ｓ２が撮像できるようにするものである。そして、上記照明手段７から放射された照明光は、上記露光光の光路上に傾けて配置されたハーフミラー２１によって、第１及び第２の撮像手段４，５側に反射されるようになっている。
【００２６】
上記光源３、第１及び第２の撮像手段４，５及びアライメント手段６には、制御手段８が結線されている。この制御手段８は、第１の撮像手段４によりカラーフィルタ基板９上に予め設けられた露光位置補正用の第１の基準位置Ｓ１が検出されると、それに基づいてアライメント手段６の駆動を制御し、第２の撮像手段５によりカラーフィルタ基板９上に予め設けられた露光光の照射タイミング抽出用の第２の基準位置Ｓ２が検出されると、それに基づいて露光光の照射タイミングを制御するものであり、図４に示すように、第１の画像処理部２２、第２の画像処理部２３、光源コントローラ２４、メモリ２５、演算部２６、アライメント手段コントローラ２７、及び制御部２８を備えている。
【００２７】
上記第１の画像処理部２２は、第１の撮像手段４で取得された画像に基づいてカラーフィルタ基板９の第１の基準位置Ｓ１を検出するものであり、上記第１の撮像手段４の受光素子１９の輝度情報から第１の基準位置Ｓ１を検出し、その位置情報を出力するようになっている。
【００２８】
また、上記第２の画像処理部２３は、第２の撮像手段５で取得された画像に基づいてカラーフィルタ基板９の第２の基準位置Ｓ２を検出するものであり、第２の撮像手段５の第２の基準受光素子２０ｓによるオン・オフ出力に基づいて第２の基準位置Ｓ２を検出するようになっている。そして、上記第２の基準位置Ｓ２が検出されると露光光の照射開始の引き金となるトリガー情報を出力するようになっている。
【００２９】
さらに、上記光源コントローラ２４は、上記第１の画像処理部２２から出力されたトリガー情報に基づいて光源３を所定時間点灯するものであり、光源点灯指令を光源３に備えた図示省略の光源駆動部に出力するようになっている。
【００３０】
そして、上記メモリ２５は、上記第１の撮像手段４に設定された第１の基準受光素子１９ｓの位置情報や、演算結果等を記憶するものであり、例えば書き換え可能な半導体メモリである。
【００３１】
また、上記演算部２６は、上記第１の画像処理部２２から入力した第１の基準位置Ｓ１の位置情報と、上記メモリ２５から読み出した上記第１の撮像手段４の第１の基準受光素子１９ｓの位置情報とに基づいて露光位置の補正量を演算するものである。
【００３２】
さらに、上記アライメント手段コントローラ２７は、上記演算部２６で演算された補正量に基づいてアライメント手段６を図２に示す矢印Ｂ，Ｃ方向に移動制御するものである。また、搬送されるカラーフィルタ基板９のヨーイングに追従するように、アライメント手段６を所定角度θだけ回動制御することも可能である。
そして、上記制御部２８は、制御手段８の各構成要素が適切に駆動するように制御手段８の全体を統合して制御するものである。
【００３３】
次に、このように構成された露光装置の動作について説明する。
先ず、カラーフィルタ基板９が図１に示す搬送手段１上に載置されると、エアステージ１０のエアの噴射と吸引とのバランスによってカラーフィルタ基板９は、ステージ上に所定量だけ浮上して保持される。そして、その状態で搬送ローラ１１によって矢印Ａで示す方向に一定の速度で搬送される。
【００３４】
搬送手段１によって搬送されたカラーフィルタ基板９がフォトマスク１２の下側に達すると、図５（ａ）に示すように、第１の撮像手段４によって、カラーフィルタ基板９上に予め設定された第１の基準位置Ｓ１である左端ピクセル２９の左側縁部が撮像される。この画像は、図４に示す第１の画像処理部２２で画像処理され、該画像の輝度情報から第１の基準位置Ｓ１が検出される。そして、上記第１の基準位置Ｓ１の位置情報が第１の画像処理部２２から出力される。
【００３５】
この場合、上記第１の基準位置Ｓ１の位置情報とメモリ２５から読み出された第１の撮像手段４の第１の基準受光素子１９ｓの位置情報とが比較され、演算部２６でそのずれ量が演算される。そして、アライメント手段コントローラ２７によって、この演算されたずれ量が所定値（本実施形態においてはゼロ）となるようにアライメント手段６が駆動され、第１及び第２の撮像手段４，５並びにフォトマスク２１が図２に示す矢印Ｂ，Ｃ方向に移動される。このようにして露光位置補正が実行されて、図５（ａ）に示すように第１の撮像手段４の第１の基準受光素子１９ｓがカラーフィルタ基板９の第１の基準位置Ｓ１に位置合わせされ、同図（ｂ）に示すようにフォトマスク２１のアライメント基準位置Ｍ１がカラーフィルタ基板９の第１の基準位置Ｓ１に位置合わせされる。なお、第１の画像処理部２２において、例えば隣り合うピクセル２９間の部分のように第１の撮像手段４により取得された画像に第１の基準位置Ｓ１が検出されないときには、アライメント手段コントローラ２７から維持信号が出力され、アライメント手段６がその直前のアライメント状態を維持する。
【００３６】
次に、図５（ａ）に示すように、第２の撮像手段５によって、カラーフィルタ基板９上に予め設定された第２の基準位置Ｓ２であるピクセル２９の搬送方向先頭側の縁部が撮像される。この映像は、図４に示す第２の画像処理部２３で画像処理され、上記第２の撮像手段５に予め設定された第２の基準受光素子２０ｓが例えばオフからオンに変化して上記第２の基準位置Ｓ２が検出されると、上記第２の画像処理部２３から光源３を点灯させるトリガー情報が出力される。このとき、フォトマスク１２のマスクパターン１３は、図５（ｂ）に示すように、カラーフィルタ基板９の露光対象のピクセル２９上に正確に位置付けられることになる。
【００３７】
第２の画像処理部２３からトリガー情報が出力されると、それを引き金として図４に示す光源コントローラ２４が駆動され、光源３が所定時間だけ点灯される。これにより、図５（ｂ）に斜線を付して示すようにカラーフィルタ基板９の露光対象のピクセル２９が露光されることになる。
【００３８】
以降、上述の動作を繰り返し実行することにより、図５（ｂ）に斜線を付して示すように、矢印Ａ方向に搬送されるカラーフィルタ基板９の露光対象のピクセル２９上のみを露光することができる。
【００３９】
図６はフォトマスク１２の変形例を示す説明図である。このフォトマスク１２は、複数個のマスクパターン１３をカラーフィルタ基板９の搬送方向とほぼ直交する方向に所定間隔で形成し、且つ上記複数個のマスクパターン１３をカラーフィルタ基板９の搬送方向に所定間隔で複数列（図６においては、一例として２列で示す）形成したものである。これにより、矢印Ａで示す搬送方向に並んだ複数のマスクパターン１３により露光対象のピクセル２９に対して多重露光することができる。したがって、搬送速度を速くしても露光を確実に実行することができ、露光処理時間を短縮することができる。
【００４０】
図７は上記制御手段の他の構成例を示すブロック図である。この制御手段８は、搬送手段１の例えばエンコーダ等からカラーフィルタ基板９の搬送速度情報を入力し、演算部２６において、該速度情報とメモリ２５から読み出したピクセル２９の搬送方向の配列ピッチの設計値とからトリガー情報の出力周期を演算し、該トリガー情報の出力周期に基づいて、制御部２８で第２の画像処理部２３から次のトリガー情報が出力される時刻を推定するようになっている。そして、該推定時刻に出力されたトリガー情報のみを真のトリガー情報と判断して、該真のトリガー情報を光源コントローラ２４に出力するようになっている。これにより、上記推定時刻前に第２の撮像手段５により異物や傷等が撮像され、これを第２の基準位置Ｓ２と誤検知して第２の画像処理部２３からトリガー情報が出力された場合にも、該トリガー情報は真のトリガー情報でなく偽のトリガー情報と判断され、この偽のトリガー情報が光源コントローラ２４に出力されることがない。したがって、露光光の照射タイミングの誤動作を防止することができる。
【００４１】
なお、上記実施形態においては、搬送手段１がエアステージ１０と搬送ローラ１１とにより構成された場合について説明したが、本発明はこれに限られず、搬送手段１は、カラーフィルタ基板９を一定速度で矢印Ａ方向に搬送できるようにしたものであれば如何なる構成であってもよい。
【００４２】
また、上記実施形態においては、第１及び第２の撮像手段４，５が、フォトマスク１２による露光位置を撮像するように配設された場合について説明したが、本発明はこれに限られず、フォトマスク１２による露光位置に対してカラーフィルタ基板９の搬送方向手前側の位置を撮像するように配設してもよい。この場合、露光光の照射は、第２の撮像手段５で第２の基準位置Ｓ２を検出した後、所定時間経過後に行なうことになる。
【００４３】
さらに、上記実施形態においては、第１及び第２の撮像手段４，５が、カラーフィルタ基板９の裏面側から第１及び第２の基準位置Ｓ１，Ｓ２を撮像するように配設された場合について説明したが、本発明はこれに限られず、カラーフィルタ基板９の表面側から撮像するように配設してもよく、または、一方の撮像手段をカラーフィルタ基板９の裏面側に配設し、他方の撮像手段を表面側に配設してもよい。
【００４４】
さらにまた、上記実施形態においては、光源３を間欠的に点灯させる場合について説明したが、本発明はこれに限られず、光源３は常時点灯した状態でシャッターを開閉して露光光を間欠的に照射できるようにしてもよい。
【００４５】
そして、上記実施形態においては、マスクステージ２を搬送手段１に近接配置し、フォトマスク１２とカラーフィルタ基板９とを近接させて近接露光する場合について説明したが、本発明はこれに限られず、マスクステージ２と搬送手段１との間に投影レンズを配設してフォトマスク１２のマスクパターン１３の像をカラーフィルタ基板９上に結像させるようにしてもよい。
【００４６】
以上の説明においては、被露光体がカラーフィルタ基板９の場合について述べたが、本発明はこれに限られず、被露光体は、半導体基板であっても、プリント回路基板等であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】本発明による露光装置の実施形態を示す概念図である。
【図２】図１のＯ−Ｏ線断面図である。
【図３】上記露光装置に使用されるフォトマスクと第１及び第２の撮像手段との配置について示す説明図である。
【図４】上記露光装置の制御手段について示すブロック図である。
【図５】上記露光装置の動作を示す説明図である。
【図６】上記露光装置に使用されるフォトマスクの変形例を示す平面図ある。
【図７】上記露光装置の制御手段の他の構成例を示すブロック図である。
【符号の説明】
【００４８】
１…搬送手段
２…マスクステージ
３…光源
４…第１の撮像手段
５…第２の撮像手段
６…アライメント手段
８…制御手段
９…カラーフィルタ基板（被露光体）
１２…フォトマスク
１３…マスクパターン
１９，２０…受光素子
Ｓ１…第１の基準位置
Ｓ２…第２の基準位置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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