(57)【要約】【課題】打ち抜きや曲げ加工時に表面保護フィルムが浮いたり剥がれたりせず、かつ表面保護フィルムを剥離する際に反射層が剥離しない、優れた反射率を有する反射シートを提供することにある。【解決手段】酸化チタン、酸化セリウム、酸化ネオジム、酸化イットリウム、酸化ニオブ、酸化ビスマスから選ばれた少なくとも1つを含む金属酸化物層との間の剥離強度が、特定の値を満たす表面保護フィルムを用いることにより、反射層表面の高屈折率層に全く影響することなく、優れた反射率を有する反射シートが得られる【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも高分子フィルム（Ａ）、酸化物を含む下地層（B）、酸化チタン、酸化セリウム、酸化ネオジム、酸化イットリウム、酸化ニオブ、酸化ビスマスから選ばれた少なくとも1つを含む金属酸化物層（Ｃ）、及び該金属酸化物層（Ｃ）上に設けた表面保護フィルム（Ｄ）を有する反射シートの、前記表面保護フィルム（Ｄ）と金属酸化物層（Ｃ）との間の剥離強度が下記４つの式を全て満足することを特徴とする反射シート。
Ｆmax≦０．３０ｋＮ／ｍ
Ｆ30≦０．１０ｋＮ／ｍ
Ｆ0.3≧０．０１ｋＮ／ｍ
Ｆ30＜Ｆ0.3
ここで、Ｆmaxは剥離速度０．０１〜１００ｍ／分における剥離強度の最大値
Ｆ0.3は剥離速度０．３ｍ／分での剥離強度
Ｆ30は剥離速度３０ｍ／分での剥離強度
【請求項２】
請求項１に記載の金属酸化物層（Ｃ）が酸化チタンを含むことを特徴とする反射シート。
【請求項３】
請求項１または２に記載の反射シートと支持板（Ｅ）とを積層してなるリフレクター。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高分子フィルム上に酸化物層を積層して構成する反射シート、及び、その反射シートを用いたリフレクターに関する。さらに詳しくは、製造時に反射面の損傷防止のため表面保護フィルムを貼り合わせた、酸化物層を積層した構成からなる反射シート、及びその反射シートを用いたリフレクターに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年反射層として銀やアルミニウムを用いた反射体が、液晶表示装置のバックライト部のランプリフレクターを中心に用いられている。これらはＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）／銀またはアルミニウム薄膜層／接着層／アルミ板の構成を有するものが一般的である。近年、液晶表示装置の高画素数化に伴い、バックライトの輝度向上が求められている。この要求に対し、例えば、特開２００３−１６８２１号公報には、高分子フィルム上に下地層、銀を主体とする金属層、無機物からなる保護層の３層を順に構成した反射シートを、高分子フィルム側を接着面として、支持板と貼り合わせたリフレクターが提案されている。この反射シートは、波長５５０ｎｍにおける全光線反射率が９０．０％以上であり、この反射シートを液晶表示装置のバックライト部のランプリフレクターに使用することで輝度が向上する。
【０００３】
一方、これらのランプリフレクターを製造する際、打ち抜き、曲げ加工時における反射面の損傷防止のために、表面保護フィルムにより、反射層表面を保護することは必須である。打ち抜きや曲げ加工時に反射層表面から表面保護フィルムが浮いたり剥れたりすることは許されない。しかしながら、酸化物層を表面に有する反射シートに対して、通常の表面保護フィルムを使用した場合、表面保護フィルムを剥離する際に酸化物層も同時に剥離してしまうという重大な問題が発生し、実用上大きな障害となっていた。この課題に対し、特開２００４−５９８３８号公報では、高分子フィルム上に下地層、銀を主体とする金属層、酸化アルミニウムが５重量％以下ドープされた酸化亜鉛、ガリウムが１０重量％以下ドープされた酸化亜鉛、インジウムとスズの酸化物（ＩＴＯ）、珪素酸化物から選ばれた酸化物層の３層を順に構成した反射シートに用いる表面保護フィルムとして、酸性基含有量が、０．０５重量モル濃度以下の粘着剤を使用した表面保護フィルムが提案されている。この表面保護フィルムを使用すると、表面保護フィルムを剥離する際に、酸化アルミニウムが５重量％以下ドープされた酸化亜鉛、ガリウムが１０重量％以下ドープされた酸化亜鉛、インジウムとスズの酸化物（ＩＴＯ）、珪素酸化物からなる酸化物層を同時に剥離することはない。
【０００４】
一方、最近のより一層のバックライト輝度向上要求に対し、例えば、特開２００４−１４５２３９号公報には、高分子フィルム上に、銀を主体とする金属層、低屈折率層と高屈折率層を少なくとも各1層ずつ積層した反射シートが提案されている。この反射シートは、波長５５０ｎｍにおける全光線反射率が９７．０％以上であり、この反射シートを液晶表示装置のバックライト部のランプリフレクターに使用することで輝度が向上する。この最表層が高屈折率層である反射シートでも、表面保護フィルムを剥離する際に高屈折率層が同時に剥離しない表面保護フィルムが必要である。しかしながら、最表層が酸化チタン等の高屈折率層の場合、前記特開２００４−５９８３８号公報に記載の反射シートとは表面保護フィルムとの相互作用が異なるため、前記した表面保護フィルムでは、高屈折率層の剥離を完全には防止することができず、更なる改良を求められていた。
【特許文献１】特開２００３−１６８２１号公報
【特許文献２】特開２００４−５９８３８号公報
【特許文献３】特開２００４−１４５２３９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の課題は、打ち抜きや曲げ加工時に表面保護粘着シートが浮き剥れを起こさず、かつ表面保護フィルムを剥離する際に他の層が剥離しない、優れた反射率を有する反射シートを提供し、かつ同反射シートを用いたリフレクターを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の課題を解決するために、鋭意検討した結果、金属酸化物層からの剥離強度をある条件下に規定した表面保護フィルムを使用することで、上記の課題を解決できることを見出し本発明を完成するに至った。
【０００７】
すなわち本発明は、
少なくとも高分子フィルム（Ａ）に、酸化物を含む下地層（Ｂ）、酸化チタン、酸化セリウム、酸化ネオジム、酸化イットリウム、酸化ニオブ、酸化ビスマスから選ばれた少なくとも１つを含む金属酸化物層（Ｃ）、及び該金属酸化物層(Ｃ)上に設けた表面保護フィルム（Ｄ）を有する反射シートの、前記表面保護フィルム（Ｄ）と金属酸化物層（Ｃ）との間の剥離強度が下記４つの式を全て満足することを特徴とする反射シートである。
【０００８】
（１）Ｆmax≦０．３０ｋＮ／ｍ
（２）Ｆ30≦０．１０ｋＮ／ｍ
（３）Ｆ0.3≧０．０１ｋＮ／ｍ
（４）Ｆ30＜Ｆ0.3
ここで、Ｆmaxは剥離速度０．０１〜１００ｍ／分における剥離強度の最大値
Ｆ0.3は剥離速度０．３ｍ／分での剥離強度
Ｆ30は剥離速度３０ｍ／分での剥離強度
【発明の効果】
【０００９】
本発明の反射シートを用いることで、打ち抜きや曲げ加工時に表面保護フィルムが浮いたり剥がれたりせず、かつ表面保護フィルムを剥離する際に他の層が剥離しない、優れた反射率を有する反射シート、及び、その反射シートを用いたリフレクターを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
高分子フィルム上に、酸化物を含む下地層、さらにその上に無機物からなる薄膜層を積層した積層体において、もっとも弱い剥離界面は、多くの場合、高分子フィルムと酸化物を含む下地層の間である。酸化物を含む下地層を真空蒸着法で作製した場合、０．３０ｋＮ／ｍを超える力がかかると、高分子フィルムから酸化物を含む下地層およびその上に形成した層が剥離してしまう傾向がある。従って、表面保護フィルムと積層体表面の間の剥離強度が１８０度剥離で０．３０ｋＮ／ｍを超えることは好ましくない。本発明の反射シートにおいては、酸化チタン、酸化セリウム、酸化ネオジム、酸化イットリウム、酸化ニオブ、酸化ビスマスから選ばれた少なくとも1つを含む金属酸化物層（Ｃ）と表面保護フィルムの間の剥離強度が１８０度剥離で０．３０ｋＮ／ｍを超えることは好ましくない（上記式（１））。
【００１１】
また、たとえ０．３０ｋＮ／ｍを越えなくても、手作業で表面保護フィルムを剥離する際の一般的な剥離速度である３０ｍ／分における剥離強度が１８０度剥離で０．１０ｋＮ／ｍを越えると、剥離を誘発する微小な欠陥や局部的に表面保護フィルムの粘着力の強い箇所の存在によって、酸化物を含む下地層およびその上に形成した層が剥離する可能性が高くなるため好ましくない（上記式（２））。
【００１２】
一方、表面保護フィルムの粘着力が弱い場合には、打ち抜きや曲げ加工時の力で表面保護フィルムが浮いてしまう。浮いた箇所に異物が浸入したり、後工程での再加工時に反射層表面が直接プレス金型等に触れることで、反射層表面に傷がついたりする。従って、表面保護フィルムが本来の目的である反射層表面を保護するためには、打ち抜きや曲げ加工時の力に対して十分な粘着力を持っていなければならない。打ち抜きや曲げ加工時の力はおおむね剥離速度０．３ｍ／分での剥離強度に相当し、従って、剥離速度０．３ｍ／分での剥離強度が１８０度剥離で０．０１kN／ｍ以上であることが好ましい（上記式（３））。
【００１３】
さらに本発明者らの検討によって理論的根拠は明確ではないが、上記式（１）から（３）を満足していても、剥離速度０．３ｍ／分での剥離強度が剥離速度３０ｍ／分での剥離強度よりも小さい場合には、打ち抜きや曲げ加工時の浮き剥れが起こったり、あるいは表面保護フィルムの剥離時に、高分子フィルム上に形成した層をも剥離してしまうことが明らかになった。従って本発明を完成させるには、上記式（１）から（３）だけでなく、上記式（４）も満足することが必須である。
【００１４】
以上のことから表面保護フィルムの剥離強度としては、剥離速度が低速域では強く、剥離速度が上がるにつれて弱くなることが望ましい。しかしながら、一般的な粘着剤を使用した表面保護フィルムはこれとは正反対の性能を示す傾向にある。すなわち、剥離速度の上昇とともに、剥離強度が上昇するのが一般的である。このような一般的な粘着剤を使用した表面保護フィルムでは、打ち抜きや曲げ加工時に浮きが発生し表面を保護できない上に、加工後に表面保護フィルムを剥離する時に高分子フィルム上に形成した層を強く引き付けて一緒に剥がしてしまうおそれがある。剥離速度が低速域では強く、剥離速度が上がるにつれて弱くなる粘着剤としては、例えば使用する樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）が高めのものが挙げられ、具体的には−１０℃以上のＴｇを持つ樹脂であることが好ましい。また、Ｔｇが−１０℃以下であっても、架橋剤により三次元架橋構造をとったものや、分子量が高く凝集力の強い樹脂を表面保護フィルムの粘着層に使用することで、上記式（１）から（４）を満足することがある。
【００１５】
本発明に好適な表面保護フィルムの粘着層としては上記式（１）から（４）を満足するものであれば特に制限はなく、例えばアクリル系ポリマー、ゴム系ポリマーが使用できる。より具体的なアクリル系ポリマーとしては、例えば２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸等のアクリレートモノマーまたはメタクリレートモノマーを単独または共重合したものが挙げられる。ゴム系ポリマーとしてはイソプレン、ブタジエン、イソブチレン、ブチレン、プロピレン、エチレン、オレフィン系エラストマー等の炭化水素モノマーの単独または共重合したものが挙げられる。さらに前記したポリマーに加えて必要に応じて例えば粘着付与剤、充填剤、安定剤などの種々の配合剤を本発明の効果を損なわない範囲内で添加してもよい。粘着付与剤としては、ロジン系樹脂、エポキシ系樹脂、石油系樹脂等が、充填剤としては、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、シリカ、酸化亜鉛等が、安定剤としては、酸化防止剤、紫外線吸収剤等が挙げられる。ただし、粘着付与剤は剥離速度の高速域での粘着力を上昇させる傾向にあるため、添加量は少ない方が良く、全く使用しない方が好ましい。また、充填剤や安定剤はバックライト輝度低下の原因となる反射表面汚染を引き起こしやすいため、添加量は少ない方が良く、全く使用しない方が好ましい。
ここで、例えば２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートとは、２−エチルヘキシルメタクリレートおよび２−エチルヘキシルアクリレートの両方を指す。
【００１６】
本発明に好適な表面保護フィルムは、上記粘着剤を支持基材上に設けたものであるが、その加工方法は特に限定されるものではない。例えば粘着剤の溶液、加熱溶融液等を支持基材に塗布する方法や、支持基材と同時に溶融成形する方法等が挙げられる。
【００１７】
本発明における表面保護フィルムの支持基材は、特に限定されるものではなく、ポリプロピレン系やポリエチレン系、それらのブレンド系等のポリオレフィン類、ポリ塩化ビニル類やポリエステル類等のプラスチックからなるフィルムや紙や不織布、織布や金属箔等が挙げられる。加工性の良さから、ポリオレフィン類のフィルムが好ましい。
【００１８】
また、支持基材の粘着剤層を設ける面には、必要に応じて例えばコロナ処理や下塗り処理等の表面処理を施すこともできる。さらに支持基材には必要に応じスリップ剤や帯電防止剤、酸化防止剤などを配合することもできる。
【００１９】
本発明における表面保護フィルムは、厚さ５〜３００μｍ、好ましくは１０〜１００μｍの支持基材に、厚さ１〜２００μｍ、好ましくは１〜５０μｍの粘着剤層を設けたものが好ましく用いられるが特に限定されるものではない。
【００２０】
本発明における反射シートにおける高分子フィルム（Ａ）は、材質に特に制限はないが、例えばポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリブチレンテレフタラート（ＰＢＴ）などのポリエステル類、ビスフェノールＡ系ポリカーボネートなどのポリカーボネート類、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン類、セルローストリアセテートなどのセルロース誘導体類、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂、ポリイミド類、ポリアミド類、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン系樹脂、ポリアリレート系樹脂、フッ素系樹脂などの各種プラスチックからなるフィルムが挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるものではなく、ある程度常用耐熱温度が高いものであれば使用できる。
使用される高分子フィルムの厚みは、特に限定されるものではないが、通常は１０〜２００μｍ程度が好ましく用いられる。
【００２１】
本発明の反射シートにおける反射層は高分子フィルム（Ａ）上に形成される少なくとも２層からなるものである。高分子フィルム（Ａ）側からの第１層は酸化物を含む下地層（Ｂ）、第２層は酸化チタン、酸化セリウム、酸化ネオジム、酸化イットリウム、酸化ニオブ、酸化ビスマスから選ばれた少なくとも１つを含む金属酸化物層（Ｃ）である。第１層の酸化物を含む下地層（Ｂ）は、高分子フィルムとの密着性の点から、真空成膜法で作成した酸化物層が好ましい。真空成膜法としては、具体的に例示するとすれば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法などがある。とりわけ、本発明には連続的に成膜するロール・ツー・ロール方式が可能な方法が好ましく用いられ、特にスパッタ法が好ましい。
【００２２】
スパッタ法では、ＤＣマグネトロンスパッタ法、ＲＦマグネトロンスパッタ法、イオンビームスパッタ法、ＥＣＲスパッタ法、コンベンショナルＲＦスパッタ法、コンベンショナルＤＣスパッタ法などを使用しうる。スパッタ法においては、原材料は酸化物の板状のターゲットを用いればよく、スパッタガスには、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノンなどを使用し、場合においては酸素ガスなどの反応性ガスを用いて行うこともある。また、ターゲットとして金属を使用し、スパッタガスに酸素ガスなどの反応性ガスを添加することで、反応性スパッタを行ってもよい。
【００２３】
酸化物を含む下地層（Ｂ）としては、例えば、酸化アルミニウムが５重量％以下ドープされた酸化亜鉛、ガリウムが１０重量％以下ドープされた酸化亜鉛、もしくはインジウムとスズの酸化物（ＩＴＯ）などを用いることが好ましい。
ここで、酸化物を含む下地層（Ｂ）の厚みは、１ｎｍ以上２０ｎｍ以下が好ましく、さらに好ましくは、５ｎｍ以上１０ｎｍ以下である。かかる層の厚みが１ｎｍより薄い場合は、ＰＥＴなどの高分子フィルム（Ａ）との密着性が弱く、また、２０ｎｍより厚くしてもその効果に変化が無い。
【００２４】
第２層の、酸化チタン、酸化セリウム、酸化ネオジム、酸化イットリウム、酸化ニオブ、酸化ビスマスから選ばれた少なくとも1つを含む金属酸化物層（Ｃ）の製法としては真空成膜法に限らず塗布等の湿式法でも構わない。真空成膜法は上記酸化物下地層と同じ方法が使用でき、本発明には連続的に成膜するロール・ツー・ロール方式が好ましく用いられる。塗布法としては高屈折率を有する酸化物を水や有機溶媒に溶解または分散させて塗工後に溶媒を蒸発させて酸化物薄膜層を形成させる方法が挙げられる。塗布方法としては一般的な方法が適用でき、例えばスプレーコーティング法、スピンコート法、ダイコーターやグラビアコーター、ワイヤーバーを用いたコーティング等が挙げられる。
【００２５】
金属酸化物層（Ｃ）としては、特に高屈折率とコストを両立できる酸化チタンがもっとも好ましい。
ここで金属酸化物層（Ｃ）の厚みは、２０ｎｍ以上、１２０ｎｍ以下が好ましい。波長５５０ｎｍの全光線反射率に関しては、より好ましい膜厚は２５ｎｍ以上、９０ｎｍ以下、さらに好ましくは３０ｎｍ以上、８０ｎｍ以下である。ここで、波長４５０ｎｍや６５０ｎｍの光で高反射率が必要とされる場合、波長４５０ｎｍの全光線反射率に関しては、より好ましくは２０ｎｍ以上、８０ｎｍ以下、さらに好ましくは２５ｎｍ以上、６５ｎｍ以下である。また波長６５０ｎｍの全光線反射率に関しては、より好ましくは３０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下、さらに好ましくは４０ｎｍ以上、９５ｎｍ以下である。ここで全光反射率とは、入射光の正反射成分に加え、積分球により拡散反射光も合算した反射率である。全光反射率は、積分球の付属した市販の反射率測定装置で測定することができ、例えば（株）日立ハイテクノロジーズの分光光度計Ｕ−４１００が挙げられる。
【００２６】
本発明の反射層は反射率の点から、第１層の酸化物を含む下地層（Ｂ）と第２層の金属酸化物層（Ｃ）の間にアルミニウムや銀を含む金属層、密着層、低屈折率層を有することが好ましい。
【００２７】
アルミニウムや銀を含む金属層は、金属酸化物層（Ｃ）と同じ製法で成膜でき、真空成膜法、塗布等の湿式法に加え、メッキ法も使用可能である。メッキ法とは、溶液から金属を析出させ膜を形成する方法である。具体例をあげるとすれば、銀鏡反応などがある。本発明には連続的に成膜するロール・ツー・ロール方式が可能な真空成膜法が好ましく用いられる。
【００２８】
アルミニウムまたは銀単体或いは、銀を主体とする金や銅やパラジウムあるいは白金等との合金が好ましく用いられる。また、これらアルミニウム、銀、銀を主体とした合金の純度は１００％であることが好ましいが、その性能に害を及ぼさない程度の、金、銅、ニッケル、鉄、コバルト、タングステン、モリブデン、タンタル、クロム、インジウム、マンガン、チタン、パラジウムなどを不純物として含有してもよい。
ここで金属層の厚みは、７０ｎｍ以上４００ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下、さらに好ましくは１５０ｎｍ以上２５０ｎｍ以下である。かかる層の厚みが７０ｎｍより薄い場合は、十分な金属層の形成が出来ていないため、所望の反射率を得ることが出来ない場合がある。また、４００ｎｍよりも厚くしてもその効果に変化が無い。
【００２９】
低屈折率層は金属酸化物層（Ｃ）と同じ製法で成膜でき、真空成膜法に限らず塗布等の湿式法でも構わない。真空成膜法は上記酸化物を含む下地層（Ｂ）と同じ方式が使用でき、本発明には連続的に成膜するロール・ツー・ロール方式が可能な真空成膜法が好ましく用いられる。塗布法としては低屈折率を有する酸化物やフッ化物を水や有機溶媒に溶解または分散させて塗工後に溶媒を蒸発させて低屈折率薄膜層を形成させる方法が挙げられる。
【００３０】
低屈折率層としては、珪素酸化物、フッ化カルシウム、フッ化ナトリウム化合物、フッ化リチウム、フッ化マグネシウム、フッ化ランタン、フッ化ネオジム、酸化アルミニウム、フッ化セリウム等が好ましく用いられるが、特にこれに限定されるものではない。
ここで、低屈折率層の厚みは、３０ｎｍ以上、１５０ｎｍ以下が好ましい。波長５５０ｎｍの全光線反射率に関して、より好ましい膜厚は３０ｎｍ以上、１２０ｎｍ以下、さらに好ましくは３５ｎｍ以上、１１５ｎｍ以下である。ここで、波長４５０ｎｍや６５０ｎｍの光で高反射率が必要とされる場合、波長４５０ｎｍの全光線反射率に関しては、より好ましくは３０ｎｍ以上、１１０ｎｍ以下、さらに好ましくは３０ｎｍ以上、９５ｎｍ以下である。また波長６５０ｎｍの全光線反射率に関しては、より好ましくは３５ｎｍ以上、１４５ｎｍ以下、さらに好ましくは３５ｎｍ以上、１４０ｎｍ以下である。
【００３１】
低屈折率層と高屈折率層からなる増反射層を積層する場合、低屈折率層／高屈折率層の順になる組合せは一つに限る必要はなく、例えば、低屈折率層／高屈折率層／低屈折率層／高屈折率層、低屈折率層／高屈折率層／低屈折率層／高屈折率層／低屈折率層／高屈折率層、低屈折率層／高屈折率層／低屈折率層／高屈折率層／低屈折率層／高屈折率層を好ましい例として挙げることが出来る。低屈折率層／高屈折率層の組合せ数が多いほど増反射効果が高くバックライトの輝度向上に繋がるが、コストがかかるため２層、または４層程度が現実的である。ここで高屈折率とは、下の層より屈折率が高ければ特に制限はないが、一般的には屈折率が１．７０以上、４．００以下であることが好ましい。また低屈折率とは上の層より屈折率が低ければ特に制限はないが、一般的には屈折率が１．２０以上、１．８０以下であることが好ましい。
【００３２】
表面保護フィルム（Ｄ）と接する高屈折率層が金属酸化物層（Ｃ）となる。金属酸化物層（Ｃ）に含まれる酸化チタン、酸化セリウム、酸化ネオジム、酸化イットリウム、酸化ニオブ、酸化ビスマスはいずれも高屈折率を有する材料である。また、高屈折率層を複数層設ける場合は、表面保護フィルム（Ｄ）と接していない高屈折率層にも、金属酸化物層（Ｃ）に使用した材料を用いてよい。
【００３３】
アルミニウムや銀を含む金属層と低屈折率層の間には密着層を積層することが好ましい。密着層としては、酸化アルミニウムが５重量％以下ドープされた酸化亜鉛や、ガリウムが１０重量％以下ドープされた酸化亜鉛、インジウムとスズの酸化物等からなる層が挙げられる。密着層は酸化物を含む下地層（Ｂ）と同様の方法で成膜でき、本発明には連続的に成膜するロール・ツー・ロール方式が可能な真空成膜法が好ましく用いられる。
ここで密着層の厚みに特に制限はなく、金属層と低屈折率層の間の密着性がよくなる最小量で良く、金属層の表面状態にもよるが一般的には１ｎｍ以上あれば十分効果がある。
【００３４】
前記各層の膜厚の測定方法としては、触針粗さ計、繰り返し反射干渉計、マイクロバランス、水晶振動子法などを用いる方法があり、特に水晶振動子法では成膜中に膜厚が測定可能であるため所望の膜厚を得るのに適している。また、前もって成膜の条件を定めておき、試料基材上に成膜を行い、成膜時間と膜厚の関係を調べた上で、成膜時間により膜厚を制御する方法もある。
【００３５】
このようにして作製された反射シートの、表面保護フィルム（Ｄ）を貼り合せる前の反射率は、少なくとも銀を含む金属層と低屈折率層と高屈折率層を用いた場合、典型的には５５０ｎｍの波長の光に対して９７％以上であり、より詳しくは９８％以上であり、さらに好ましくは９８．５％以上である。アルミニウムを含む金属層と低屈折率層と高屈折率層を用いた場合、典型的には５５０ｎｍの波長の光に対して９１％以上であり、より詳しくは９２％以上であり、さらに好ましくは９３％以上である。ここで反射率とは、最表面の高屈折率層つまり金属酸化物層（Ｃ）側を光入射面とした反射率である。
【００３６】
本発明におけるリフレクターは、本発明の反射シートを接着層を介して支持板（Ｅ）に固定したものである。用いられる接着層は、シリコン系、ポリエステル系、エポキシ系、シアノアクリレート系、アクリル系など一般的な接着剤或いは粘着剤を用いることができる。これらの接着方法として熱硬化型、ホットメルト型、粘着型が、連続生産が可能であるため好ましい。どの接着層を用いた場合でもその厚みは、０．５μｍ〜５０μｍが好ましい。
【００３７】
反射シートと支持板との接着は、一般に、反射シートの高分子フィルム側への接着剤のコーティング、乾燥、ローラーによる支持板とのラミネート、の手順により行われる。接着剤のコーティング方法は、高分子フィルムや接着剤の種類によって多くの方法があるが、広く使用されているのは、グラビアコーター方式、ロールコーター方式、ダイコーター方式等がある。また、セパレーターフィルム上に接着剤層を設けて、反射シートフィルムに転写する方式を用いることもできる。
【００３８】
反射シートと支持板との接着強度は、１８０度剥離で剥離強度を測定して０．３ｋＮ／ｍ以上であることが好ましい。この接着強度に達しない場合には、打ち抜きや、曲げ加工の際、反射シートが支持板から剥離し、変形等を引き起こす可能性があるため好ましくない。
【００３９】
支持板には、アルミニウム、アルミニウム合金、ステンレス鋼、鋼亜鉛合金、鋼等が一般的に使用される。これらの金属にはそれぞれ長所があり、次のように使い分けることができる。アルミニウムは軽量かつ加工性に優れ、また、熱伝導率が高くそれにかかる熱を効果的に大気中に逃がすことができるため、ランプ発光によって反射体が加熱される液晶用バックライトに好適に利用できる。アルミ合金は軽量かつ機械的強度が高い。ステンレス鋼は機械的強度が適度にあり、また耐蝕性に優れている。鋼亜鉛合金すなわち黄銅または真鍮は、機械的強度の高いことに加え、はんだづけが容易なため電気的端子をとり易い。鋼は安価なため、コストを抑える必要がある時に好ましく用いられる。
【００４０】
本発明におけるリフレクターは反射シートを支持板に積層したものを形状加工することにより得られる。形状加工の際には、反射面の損傷防止のために、表面保護フィルムにより反射層表面を保護する必要がある。反射面への表面保護フィルムの貼り合わせは、反射シートの支持板への積層前、反射シートの支持板への積層後、形状加工の直前等何れでもよい。
【実施例】
【００４１】
以下、実施例により本発明を具体的に説明する。
（リフレクターの作製）
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上に、ＤＣマグネトロンスパッタ法で、２％のＡｌ2Ｏ3がドープされた酸化亜鉛（純度９９．９％）をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとして、酸化アルミニウムが２％ドープされた酸化亜鉛を膜厚５ｎｍになるように形成した。
続いて、このシートをスパッタ装置から取り出すことなく、同様にＤＣマグネトロンスパッタ法で、純度９９．９％の銀をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとして銀を膜厚２００ｎｍになるように形成した。続いて、このシートをスパッタ装置から取り出すことなく、２％のＡｌ2Ｏ3がドープされた酸化亜鉛（純度９９．９％）をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとして、酸化アルミニウムが２％ドープされた酸化亜鉛を膜厚２ｎｍになるように形成した。
次にＲＦマグネトロンスパッタ法で、純度９９．９％のＳｉＯ2をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとしてＳｉＯ2を膜厚１００ｎｍになるように形成した。続いて、このシートをスパッタ装置から取り出すことなく、ＴｉＯ2（純度９９．９％）をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとして、ＴｉＯ2を膜厚６０ｎｍになるように形成した。
できた積層体を日立自記分光光度計（株式会社日立製作所製  型式Ｕ―３４００）に１５０φの積分球を設置し、波長５５０ｎｍにおけるＴｉＯ2面を光入射面とした全光線反射率の測定を行ったところ、９９．２％であった。次にこの積層体をホットメルト型接着材（綜研化学株式会社製ＳＫダイン５２７３）を用いて、厚さ０．１ｍｍのステンレス板とを１００℃に加熱したラミネーターロールに圧力０．５ＭＰａで通すことで接着した。
上記支持板に貼り合わせた積層体のＴｉＯ2面に表面保護フィルムを圧力０．２ＭＰａでラミネートした後、室温で3日間静置し、表面保護フィルムを貼り合わせたリフレクターを作成した。
【００４２】
（剥離強度の測定）
上記リフレクターを１０ｍｍ×１００ｍｍに切り出し、株式会社東洋精機製作所製１８０°引っ張り試験機で、下記９条件の剥離速度における剥離強度を測定した。剥離速度条件：０．０１、０．０３、０．１、０．３、１、３、１０、３０、１００ｍ／分
【００４３】
（曲げ加工試験および剥離試験）
上記リフレクターを１０ｍｍ×３０ｍｍに切り出し、ベルメックスインターナショナル（株）製曲げ試験機アーバープレス１番で、表面保護フィルム側が内側になるように９０°曲げを２回行い、１辺１０ｍｍのコの字型に加工した。折り曲げたリフレクターを側面から観察し、表面保護フィルムの浮き有無を目視で判断した。次に、表面保護フィルムを手で剥がし、剥離面反射シートおよび表面保護フィルムの両方を観察し、ＴｉＯ2層の剥離の有無を目視で判断した。
【００４４】
（実施例１）
表面保護フィルムに、日立化成工業株式会社製表面保護フィルム（ヒタレックスＡ-７０４０）を使用した。室温で３日静置した後、最表層であるＴｉＯ2層との剥離強度を測定したところ、剥離速度０．３ｍ／分で０．１０１ｋＮ／ｍ、剥離速度３０ｍ／分で０．０５４ｋＮ／ｍであった。剥離速度０．０１、０．０３、０．１、０．３、１、３、１０、３０、１００ｍ／分の９点でもっとも剥離強度が大きかったのは、１ｍ／分で剥離強度は０．１３３ｋＮ／ｍであった。曲げ加工試験を行っても表面保護フィルムは浮き上がらず反射層表面を保護していた。また曲げ加工試験後に表面保護フィルムを剥離しても、層の剥れは全くなく、反射層の剥離を防止できていた。
【００４５】
（実施例２〜６）
実施例１の表面保護フィルムの代わりに、下記表１に記載の表面保護フィルムを使用した以外は実施例１と同様にして試料を作製し評価した。いずれも曲げ加工試験を行っても表面保護フィルムは浮き上がらず反射層表面を保護していた。また曲げ加工試験後に表面保護フィルムを剥離しても層の剥れは全くなく、反射層の層の剥離を防止できていた。剥離強度は表１にまとめたとおりである。
【００４６】
（比較例１〜３）
実施例１の表面保護フィルムの代わりに、下記表１に記載の表面保護フィルムを使用した以外は実施例１と同様にして試料を作製し評価した。曲げ加工試験後に表面保護フィルムを剥離するとＰＥＴ上の酸化アルミニウムが２％ドープされた酸化亜鉛層からＴｉＯ2層まで全てが剥離され、反射層の剥離を防止できなかった。
【００４７】
（比較例４）
実施例１の表面保護フィルムの代わりに、下記表１に記載の表面保護フィルムを使用した以外は実施例１と同様にして試料を作製し評価した。曲げ加工試験時に表面保護フィルムが浮き、手で触ると簡単に剥れてしまい反射層表面を保護できなかった。
【００４８】
【表１】
2008070685.tif 000002