(57)【要約】【課題】画像表示領域よりも外側の外周領域に照射される読み出し光に対してこの外周領域を複屈折がなく良好にマスキングする。【解決手段】半導体基板１１上に、複数のスイッチング素子１２と、絶縁膜１３と、複数の反射画素電極１５と、液晶１６を封入した液晶層１８と、透明電極１９と、第１透明基板２０とを上記順に形成し、この第１透明基板２０上に、一方の面２１ａに反射防止膜２２を成膜し且つ他方の面２１ｂで画像表示領域２３よりも外側の外周領域２４に光学補償材料膜２５と反射膜２６とを順に積層した第２透明基板２２を接着剤２８により接着し、更に、第２透明基板２２の上方に光学補償板３０を取り付けた際に、光学補償材料膜２５は、光学補償板３０による液晶１６への位相差量を相殺するように読み出し光Ｌに対して光学的に補正している。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板上の画像表示領域内に形成された複数の反射画素電極と、
前記複数の反射画素電極に対して所定の間隔を有して対向配置され、前記複数の反射画素電極側に透明電極を有する第１透明基板と、
前記所定の間隔内に液晶が封入された液晶層と、
前記画像表示領域に対応した領域の外周に沿った領域上にあって、且つ、前記透明電極が形成されていない前記第１透明基板側と対向する側に順に積層された光学補償材料膜と反射膜とを有し、両膜を積層した側が接着剤を介して前記第１透明基板に接着される第２透明基板と、
前記第２透明基板の上方に配置され、読み出し光が透過して前記液晶層内に進入した時に生じる光の位相ずれを補正するように位相差量を付与する光学補償板と、を備え、
前記光学補償材料膜は、前記画像表示領域の外周から前記光学補償板を通った前記読み出し光を透過して前記反射膜で反射させた反射光を前記光学補償板から出射させる時に、前記反射光に対して前記光学補償板に付与した前記位相差量を相殺するように光学的に補正することを特徴とする反射型液晶表示素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、読み出し光が入出射する側に光学補償板が取り付けられた反射型液晶表示素子において、画像表示領域と対応する領域よりも外側の外周領域に光学補償材料膜と反射膜とを順に積層して成膜し、外周領域に照射される読み出し光に対してこの外周領域を光学補償材料膜と反射膜とにより良好にマスキングできる反射型液晶表示素子に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
最近、ハイビジョン放送規格やコンピュータ・グラフィクスのＳＸＧＡ規格に代表される高精細映像の表示用ディスプレイ等のように、映像を大画面に表示するための投射型液晶表示装置が盛んに利用されている。
【０００３】
この種の投射型液晶表示装置には、大別すると透過方式を用いた透過型液晶表示素子と、反射方式を用いた反射型液晶表示素子とがあるが、前者の透過型液晶表示素子の場合には、各画素に設けられたＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ：薄膜トランジスタ）の領域が光を透過させる画素の透過領域とならないために開口率が小さくなるという欠点を有していることから、後者の反射型液晶表示素子が注目されている。
【０００４】
上記した反射型液晶表示素子の一例として、スクリーン上に投射された画像表示領域よりも外側の外周領域が、均一でくっきりと鮮明な黒い領域で囲まれ、かつ、該黒い領域と画像表示領域との境界にぼけのない高品質な投射画像を実現できるものがある（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平９−１４６０７５号公報
【０００５】
図４は従来の反射型液晶表示素子を示した縦断面図、
図５は従来の反射型液晶表示素子において、画像表示領域よりも外側の外周領域に例えば着色層等の最低光強度領域を設けた例を示した平面図である。
【０００６】
図４及び図５に示した従来の反射型液晶表示素子１００は、上記した特許文献１（特開平９−１４６０７５号公報）に開示されているものであり、ここでは特許文献１を参照して簡略に説明する。
【０００７】
図４に示した如く、従来の反射型液晶表示素子１００では、半導体基板１０１と、半導体基板１０１上にマトリック状に配置された複数のスイッチング素子１０２と、複数のスイッチング素子１０２を覆うようにして成膜された絶縁膜１０３と、絶縁膜１０３上に形成されて複数のスイッチング素子１０２にアルミ配線１０４によりそれぞれ接続された複数の反射画素電極１０５と、複数の反射画素電極１０５上で所定の間隔Ｋ内に液晶１０６を封入した液晶層１０７と、液晶層１０７上に複数の反射画素電極１０５と対向して設けられた透明電極１０８と、この透明電極１０８を下面に成膜し且つ読み出し光Ｌが入出射する透明基板１０９と、から構成されている。
【０００８】
そして、不図示の投射型液晶表示装置では、上記した反射型液晶表示素子１００を用い、画像信号に応じてスイッチング素子１０２を動作させて、このスイッチング素子１０２と接続した反射画素電極１０５と透明電極１０８との間に電圧をかけることで、透明基板１０９側から入射させた読み出し光Ｌを液晶層１０７内で光変調させ且つ反射画素電極１０５で反射させた後、読み出し光Ｌによる画像光を透明基板１０９側から出射させて不図示の投射レンズを介してスクリーン上に画像を拡大表示するようになっている。
【０００９】
ところで、図５に示した如く、読み出し光Ｌを反射型液晶表示素子１００の透明基板１０９側に照射した時に、画像表示領域１１１ばかりでなく、その画像層表示領域１１１よりも外側の外周領域１１２にも読み出し光Ｌが照射される。
【００１０】
この際、外周領域１１２には、電源供給線、制御信号線等の配線パターンの凹凸や、液晶層１０７の境界線等の反射率の不均一の原因となるものが存在する。その結果、画像層表示領域１１１よりも外側の外周領域１１２で反射された読み出し光Ｌが、スクリーン上に投射され、画像品質を著しく低下させるという問題が生じる。
【００１１】
これを解決するために、図５に示したように、従来の反射型液晶表示素子１００において、画像表示領域１１１よりも外側の外周領域１１２に、この画像表示領域１１１で制御される光強度の最低値以下の均一な光強度を示す、例えば着色層等の最低光強度領域１１３が画像表示領域１１１の外周に沿って矩形枠状に設けられている。
【００１２】
上記した最低光強度領域１１３は、読み出し光Ｌを吸収することができる、例えば、有機顔料、あるいはカーボン、酸化クロム等からなる着色層である。
【００１３】
これにより、不図示の投射型液晶表示装置のスクリーン上に表示された画像表示領域とその周囲領域との境界に、全くボケのない画像を得ることができる旨が開示されている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
ところで、従来の反射型液晶表示素子１００では、前述したように、画像表示領域１１１よりも外側の外周領域１１２に、この画像表示領域１１１で制御される光強度の最低値以下の均一な光強度を示す、例えば着色層等の最低光強度領域１１３が画像表示領域１１１の外周に沿って矩形枠状に設けられているものの、この着色層等の最低光強度領域１１３は読み出し光Ｌを吸収して当該部分の画像を黒色に表示するので熱吸収型であり、これに伴って生じる熱ストレスにより透明基板１０９に複屈折が発生し、偏光状態が変化してしまうことで投射画像に輝度ムラを発生させることがある。
【００１５】
そこで、画像表示領域と対応する領域よりも外側の外周領域に照射される読み出し光に対してこの外周領域を複屈折がなく良好にマスキングできる反射型液晶表示素子が望まれている。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、請求項１記載の発明は、半導体基板上の画像表示領域内に形成された複数の反射画素電極と、
前記複数の反射画素電極に対して所定の間隔を有して対向配置され、前記複数の反射画素電極側に透明電極を有する第１透明基板と、
前記所定の間隔内に液晶が封入された液晶層と、
前記画像表示領域に対応した領域の外周に沿った領域上にあって、且つ、前記透明電極が形成されていない前記第１透明基板側と対向する側に順に積層された光学補償材料膜と反射膜とを有し、両膜を積層した側が接着剤を介して前記第１透明基板に接着される第２透明基板と、
前記第２透明基板の上方に配置され、読み出し光が透過して前記液晶層内に進入した時に生じる光の位相ずれを補正するように位相差量を付与する光学補償板と、を備え、
前記光学補償材料膜は、前記画像表示領域の外周から前記光学補償板を通った前記読み出し光を透過して前記反射膜で反射させた反射光を前記光学補償板から出射させる時に、前記反射光に対して前記光学補償板に付与した前記位相差量を相殺するように光学的に補正することを特徴とする反射型液晶表示素子である。
【発明の効果】
【００１７】
本発明に係る反射型液晶表示素子によると、読み出し光が入出射する側に光学補償板が取り付けられた反射型液晶表示素子において、複数の反射画素電極と液晶層を挟んで対向する透明電極を有する第１透明基板と、第１透明基板の上方に配置された第２透明基板とを接着して基板厚みを確保しながら、読み出し光のうちで画素表示領域よりも外側の外周領域への漏れ光を制御するために第２透明基板側の一方の面と対向する他方の面で画像表示領域と対応した領域の外側を取り囲むように光学補償材料膜と反射膜とを順に成膜することで、第２透明基板に成膜した反射防止膜上の微細な異物に対してデフォーカスさせることができると共に、アパーチャーマスク機能を有した光学補償材料膜及び反射膜が液晶層側に接近した位置に配置されるために十分な遮光効果が期待できる。
【００１８】
また、光学補償板を通過して外周領域に照射される各色光用の読み出し光は、液晶層に入りこむことなく、第２透明基板の他方の面に成膜した光学補償材料膜を通過した後に反射膜で反射されて、光学補償板から出射される時に、外部領域へのアパーチャーマスク機能を反射膜にて形成しているので読み出し光に対して吸収がなく、熱による複屈折が生じにくいために、反射膜で反射された読み出し光は外部領域に対して黒色に表示できる。
【００１９】
更に、光学補償材料膜は、画像表示領域の外周から光学補償板を通った読み出し光を透過して反射膜で反射させた反射光を光学補償板から出射させる時に、反射光に対して光学補償板に付与した位相差量を相殺するように光学的に補正しているので、コントラスを向上させるための光学補償板により画像表示領域よりも外側の外周領域が過剰に補正されることなくなり、外周領域の画像品位を落とさない。これにより、不図示のスクリーン上で外周領域と対応する部位が従来例とは異なって複屈折が生じることなく黒色に表示されるので、スクリーン上では画像表示領域と外周領域との境界にぼけのない高品質な投射画像を実現できると共に、画像表示領域内では光学補償板３０によりコントラストが良好な投射画像を実現できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下に本発明に係る反射型液晶表示素子について図１〜図３を参照して詳細に説明する。
【実施例】
【００２１】
図１（ａ），（ｂ）は本発明に係る反射型液晶表示素子を示した上面図，縦断面図である。
【００２２】
図１（ａ），（ｂ）に示した本発明に係る反射型液晶表示素子１０は、一般的な反射型プロジェクタに適用できるように構成されている。
【００２３】
この反射型液晶表示素子１０において、基台となる半導体基板１１は、単結晶シリコンのようなｐ型Ｓｉ基板（又はｎ型Ｓｉ基板でも良い）を用いており、この半導体基板１１上で寸法Ｈ×寸法Ｖに長方形状に形成した画像表示領域内にＭＯＳＦＥＴ（Ｍｅｔａｌ  Ｏｘｉｄｅ  Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ  Ｆｉｅｌｄ  Ｅｆｆｅｃｔ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｐｒ）による複数のスイッチング素子１２が行方向と列方向とにマトリックス状に設けられている。
【００２４】
また、複数のスイッチング素子１２上に絶縁膜１３が少なくとも１層以上成膜され、且つ、絶縁膜１３上に複数のスイッチング素子１２とアルミ配線１４を介してそれぞれ接続された複数の反射画素電極１５がＡｌ（アルミニウム）などの反射率が高い金属材料を用いて成膜されている。
【００２５】
この際、複数の反射画素電極１５も複数のスイッチング素子１２と対応して行方向と列方向とにマトリックス状に設けられていると共に、一つの反射画素電極１５は一つのスイッチング素子１２と対応して一つの画素ごとに正方形状に区画されている。
【００２６】
また、複数の反射画素電極１５の上方には、不図示の配向膜を介して所定の間隔Ｋ内に液晶１６を封入してシール部材１７によって内部を矩形状に囲んだ液晶層１８が設けられている。
【００２７】
また、液晶層１８上には不図示の配向膜を介して光透過性を有する透明電極１９が複数の反射画素電極１５と対向して設けられており、この透明電極１９は透明な無アルカリガラス基板又は石英基板などを用いた第１透明基板２０の一方の面（下面）に複数の画素に対して共通する共通電極として画素ごとに区画されずにＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ） などにより成膜されている。
【００２８】
従って、複数の反射画素電極１５と、該複数の反射画素電極１５と対向する透明電極１９との間に形成される所定の間隔Ｋはセルギャップと呼称されており、この所定の間隔Ｋ内に液晶１６を封入した液晶層１８が設けられていることになる。
【００２９】
また、透明電極１９を有する第１透明基板２０の上方には、透明な無アルカリガラス基板又は石英基板などを用いた第２透明基板２１が配置されており、この第２透明基板２１は下記する各膜２２，２５，２６を成膜した後に、第１透明基板２０上に透明な接着剤２８により接着されている。この際、第１透明基板２０の一方の面（下面）と対向する他方の面（上面）と、第２透明基板２１の接着面側となる他方の面（下面）２１ｂとの間に、透明な接着剤２８を充填して両基板２０，２１同士を接着している。
【００３０】
上記した第２透明基板２１は、読み出し光Ｌが入出射する一方の面（上面）２１ａに読み出し光Ｌに対して反射を防止する反射防止膜２２が全面に亘って成膜されている共に、一方の面（上面）２１ａと対向して接着面側となる他方の面（下面）２１ｂで寸法Ｈ×寸法Ｖに長方形状に形成した画像表示領域２３と対応する領域よりも外側の外周領域２４に本発明の要部となる光学補償材料膜２５と反射膜２６とが例えば１ｍｍ〜３ｍｍ程度の幅を持って画像表示領域２３の外周に沿って矩形枠状に上記した順に積層して成膜されている。
【００３１】
この際、光学補償材料膜２５は、例えば重合性液晶材料を用いて成膜され、一方、反射膜２６は反射率の高いアルミ合金や銀合金などを用いて成膜されており、これらの光学補償材料膜２５と反射膜２６とにより外周領域２４に照射される読み出し光に対してアパーチャーマスク機能を持たせているが、これについては後で詳述する。
【００３２】
そして、第２透明基板２１の一方の面２１ａに反射防止膜２２を成膜し且つ他方の面２１ｂに光学補償材料膜２５と反射膜２６とをこの順で積層して成膜した後に、第２透明基板２１の他方の面２１ｂ側が第１透明基板２０上に透明な接着剤２８を用いて接着されている。
【００３３】
この際、第１透明基板２０上に第２透明基板２１を接着する理由について説明すると、読み出し光Ｌが入射する側に成膜した反射防止膜２２上に、微細な異物が載ってしまった場合、焦点位置に非常に近いため画像品位を低下させてしまう。
【００３４】
そこで、第１透明基板２０上に反射防止膜２２を仮に成膜した場合に、反射防止膜２２上の微細な異物に対してデフォーカスさせるために第１透明基板２０の厚みを厚くする必要があるものの、第１透明基板２０だけを用いてこの第１透明基板２０の厚みを厚くすると、外周領域２４へのアパーチャーマスク機能を第１透明基板２０の上面側に設けることになるが、この場合に読み出し光Ｌは画像表示領域２３に対して必ずしも平行光で入射されるとは限らないために、読み出し光Ｌの入出角度による漏れ光を抑えることができない。
【００３５】
このため、第１透明基板２０と第２透明基板２１とを接着して基板厚みを確保しながら、読み出し光Ｌに対して反射を防止するための反射防止膜２２と、読み出し光Ｌのうちで画像表示領域２３よりも外側の外周領域２４への漏れ光を制御するためのアパーチャーマスク機能を有した光学補償材料膜２５及び反射膜２６とを第２透明基板２１側に成膜することで、第２透明基板２１に成膜した反射防止膜２２上の微細な異物に対してデフォーカスさせることができると共に、アパーチャーマスク機能を有した光学補償材料膜２５及び反射膜２６が液晶層１８側に接近した位置に配置されるために十分な遮光効果が期待できる。
【００３６】
更に、第２透明基板２１の上方で読み出し光Ｌが入出射する側に光学補償板３０が設けられており、この光学補償板３０は反射型液晶表示素子１０を取り付けた不図示の枠体に支持されている。そして、光学補償板３０から入射した読み出し光Ｌは、第２透明基板２１と第１透明基板２０とを順に通過して液晶層１８内に入り、複数の画素電極１５で反射された読み出し光が画像光として、上記とは逆に光学補償板３０から出射されるようになっている。
【００３７】
ここで、一般的に、反射型液晶表示素子では、斜め方向からの入射光、あるいは液晶１６を一定方向に配向させた時に、その方向を規定する目的でプレチルト角と呼ばれる角度で液晶１６に僅かに電圧がかかったような状況を作り出す際に、読み出し光Ｌによる画像光に対してコントラストを低下させる大きな原因になっている。そこで、これらによる影響を補正し、読み出し光Ｌによる画像光に対してコントラストを向上させるために、本発明に係る反射型液晶表示素子１０では光学補償板３０が読み出し光Ｌの入出射側に取り付けられている。
【００３８】
上記した光学補償板３０は、面方向に位相差を与える位相差板として機能している。
【００３９】
そして、Ｒ(赤)，Ｇ(緑)，Ｂ（青）ごとに３つの反射型液晶表示素子１０で反射型プロジェクタを構成する場合、又は、ＲＧＢフィルタを有する一つの反射型液晶表示素子１０で反射型プロジェクタを構成する場合に、波長が６４０ｎｍ程度のＲ光，波長が５５０ｎｍ程度のＧ光，波長が４５０ｎｍ程度のＢ光と対応した各色光用の読み出し光Ｌが光学補償板３０及び第２透明基板２１並びに第１透明基板２０を順に通過して液晶層１８の液晶１６内に入射したときに、光学補償板３０で各色光用の読み出し光Ｌが液晶１６内に進入した時に生じる光の位相ずれを補正するように位相差量を付与することで、各色光用の読み出し光Ｌに対して液晶１６への光学補償を施している。尚、上記した位相ずれは、読み出し光Ｌの入射角度や液晶１６の配向時のプレチルト角などに起因するものである。
【００４０】
この際、光学補償板３０を通過して外周領域２４に照射される各色光用の読み出し光Ｌも、画素表示領域２３と同じように光学補償板３０でそれぞれ位相差量を違えて光学補償された状態で第２透明基板２１に入射されるので、第２透明基板２１の他方の面２１ｂに成膜した光学補償材料膜２５は、画像表示領域２３の外周から光学補償板３０を通った読み出し光Ｌを透過して反射膜２６で反射させた反射光を光学補償板３０から出射させる時に、反射光に対して光学補償板３０に付与した位相差量を相殺するように光学的に補正している。
【００４１】
ここで、一例として、波長が５５０ｎｍ程度のＧ光用の読み出し光Ｌに対して光学補償板３０でλ／４の位相差を与えることで、この光学補償板３０で液晶層１８内の液晶１６への光学補償をしており、液晶１６の配向によるプレチルトにより生じる位相差量は、一般的なプレチルト角として１０度を設定すると、約２０ｎｍ〜２５ｎｍ程度となる。
【００４２】
これに伴って、第２透明基板２１の他方の面２１ｂに成膜した光学補償材料膜２５では、液晶１６の遅相軸、つまり、偏光軸に対して５〜１０°傾いた軸に対して直交する方向に遅相軸を持たせることで、波長が５５０ｎｍ程度のＧ光用の読み出し光Ｌに対する液晶１６への位相差量（約２０ｎｍ〜２５ｎｍ程）を相殺する逆向きの位相差量（約２０ｎｍ〜２５ｎｍ程）を付与している。
【００４３】
従って、光学補償板３０を通過して外周領域２４に照射される各色光用の読み出し光は、液晶層１８に入りこむことなく、第２透明基板２１の他方の面２１ｂに成膜した光学補償材料膜２５を通過した後に反射膜２６で反射されて、光学補償板３０から出射される時に、外部領域２４へのアパーチャーマスク機能を反射膜２６にて形成しているので各色光用の読み出し光に対して吸収がなく、熱による複屈折が生じにくいために、反射膜２６で反射された各色光用の読み出し光は外部領域２４に対して黒色に表示できる。更に、光学補償板３０を通過して外周領域２４に照射される各色光用の読み出し光は、光学補償材料膜２５で光学補償板３０による液晶１６への位相差量を相殺するように読み出し光に対して光学的に補正しているので、コントラスを向上させるための光学補償板３０により画像表示領域２３よりも外側の外周領域２４が過剰に補正されることなくなり、外周領域２４の画像品位を落とさない。これにより、不図示のスクリーン上で外周領域２４と対応する部位が従来例とは異なって複屈折が生じることなく黒色に表示されるので、スクリーン上では画像表示領域と外周領域との境界にぼけのない高品質な投射画像を実現できると共に、画像表示領域内では光学補償板３０によりコントラストが良好な投射画像を実現できる。
【００４４】
従って、第２透明基板２１の他方の面２１ｂで画像表示領域２３よりも外側に成膜し光学補償材料膜２５と反射膜２６とにより、光学補償板３０を通過し且つ画像表示領域２３よりも外側の外周領域２４に照射される読み出し光Ｌに対して良好にマスキングすることができる。
【００４５】
上記のように構成した本発明に係る反射型液晶表示素子１０の動作について説明すると、
画像信号に応じてスイッチング素子１２を動作させて、このスイッチング素子１２と接続した反射画素電極１５と透明電極１９との間に電圧をかけることで、光学補償板３０側から入射させた読み出し光Ｌのうちで画像表示領域２３内の読み出し光Ｌを第２透明基板２１と第１透明基板２０とを順に通過させた後に液晶層１８内で光変調させ且つ反射画素電極１５で反射させた後、読み出し光Ｌによる画像光を上記とは逆に第１透明基板２０と第２透明基板２１とを順に通過させて光学補償板３０側から出射させて不図示の投射レンズを介してスクリーン上に画像を拡大表示する共に、画像表示領域２３よりも外側の外周領域に照射した読み出し光Ｌを第２透明基板２１の他方の面２１ｂに成膜した光学補償材料膜２５を通過させた後にこの光学補償材料膜２５上に積層した反射膜２６で反射させて光学補償板３０から出射させることで、不図示のスクリーン上では画像表示領域よりも外側の外周領域と対応する部位が複屈折なく、黒色の矩形枠として良好に表示される。
【００４６】
ここで、本発明に係る反射型液晶表示素子１０の製造方法について図２及び図３を用いて説明する。
【００４７】
図２（ａ）〜（ｇ）は本発明に係る反射型液晶表示素子において、第２透明基板側の製造工程を順に示した工程図、
図３（ａ）〜（ｄ）は本発明に係る反射型液晶表示素子において、半導体基板側の第１透明基板上に第２透明基板を接着する工程を順に示した工程図である。
【００４８】
本発明に係る反射型液晶表示素子１０｛図１（ａ），（ｂ）｝の製造工程を説明するにあたって、先に、第２透明基板２１側の製造工程について説明すると、図２（ａ）に示した如く、反射型液晶表示素子１０のサイズを例えば０．７インチに設定した場合、略１３ｍｍ×２３ｍｍの無アルカリガラス基板を用いた第２透明基板２１の上面（但し、この図では下面）２１ａ上に反射防止膜２２を全面に亘って成膜する。
【００４９】
次に、図２（ｂ）に示した如く、第２透明基板２１の下面（但し、この図では上面）２１ｂ上で前記した画像表示領域２３｛図１（ａ）｝と対応する領域よりも外側の外周領域２４｛図１（ａ）｝に重合性液晶材を用いて光学補償材料膜２５を矩形枠状に印刷する。この際、光学補償材料膜２５の膜厚は約１μｍ程度であり、この光学補償材料膜２５を室温（２３°Ｃ〜２５°Ｃ）で約１時間乾燥する。この後、乾燥した光学補償材料膜２５に対し、偏光光を照射できるＵＶ照射装置を用いて、ランプパワー２５０Ｗにて３〜５秒間照射し、光学補償材料膜２５を形成する。
【００５０】
次に、図２（ｃ）に示した如く、第２透明基板２１の他方の面２１ｂに成膜した光学補償材料膜２５上及びこの周囲の第２透明基板２１の他方の面２１ｂ上に、スパッタを用いてアルミニウム薄膜からなる反射膜２６を形成する。この際、反射膜２６が下面になるような開口部を持つ不図示のホルダーに第２透明基板２１を配置し、不図示のスパッタ装置内に導入する。そして、スパッタ装置内を初期真空度が５Ｅ−６Ｔｏｒｒ以下になるまで排気を行い、アルゴンガスをチャンバー内に導入する。このときに、チャンバー内の真空度が３Ｅ−３Ｔｏｒｒ程度になるようにアルゴンガスの流量を調整する必要がある。アルミニウムターゲットには５００Ｗのパワーがかかるように電流値を調整するが、このときの真空度とパワーは成膜ストレスにより膜はがれの発生しない値を設定する必要がある。また、反射率を考慮して、反射膜２６の膜厚は７５０Åが中心値になるように決めた。
【００５１】
次に、図２（ｄ）に示した如く、一般的な半導体プロセスを用い、アルミニウム薄膜からなる反射膜２６上に感光材料のフォトレジスト２７を塗布する。
【００５２】
次に、図２（ｅ）に示した如く、フォトレジスト２７に対して、ベーク〜露光〜現像を行い、上記した光学補償材料膜２５に対応する部分以外を除去する。
【００５３】
次に、図２（ｆ）に示した如く、ドライエッチングを用いてフォトレジスト２７が残っている部分以外の反射膜２６を取り除き、その後に酸素プラズマアッシャーで残ったフォトレジストを灰化させる。
【００５４】
そして、図２（ｇ）に示したように、第２透明基板２１の一方の面２１ａ上に反射防止膜２２が全面に亘って成膜され、且つ、他方の面２１ｂ側で画像表示領域２３｛図１（ａ）｝よりも外側の外周領域２４｛図１（ａ）｝に光学補償材料膜２５と反射膜２６とが積層して矩形枠状に成膜されて、第２透明基板２１の製造工程が終了する。
【００５５】
この後、図３（ａ）に示した如く、半導体基板１１上に、複数のスイッチング素子１２と、絶縁膜１３と、複数の反射画素電極１５と、液晶１６をシール部材１７で封止した液晶層１８と、透明電極１９と、第１透明基板２０とを上記順に形成した半導体基板１１を用意する。
【００５６】
次に、図３（ｂ）に示した如く、半導体基板１１側に設けた第１透明基板２０上の略中央部位に透明な接着剤２８として例えば熱硬化性のシリコン系材料を１０ｍｇ程度滴下する。この際、第１，第２透明基板２０，２１に無アルカリガラス基板又は石英基板などを用いた場合にその屈折率は１．４５〜１．５２程度なので、透明な接着剤２８の可視光領域における屈折率としてはその間に含まれることが望ましい。また、硬化後に接着剤２８の収縮がガラス材料へ及ぼすストレスによる複屈折を避けるために、硬化後に充分に弾性をもち、複屈折を発生させ難い材料を選択することが重要である。
【００５７】
次に、図３（ｃ）に示した如く、半導体基板１１側に設けた第１透明基板２０の上方に、成膜後の第２透明基板２１を用意する。この成膜後の第２透明基板２１は、一方の面２１ａ上に反射防止膜２２が成膜され、且つ、他方の面２１ｂ側で画像表示領域２３｛図１（ａ）｝よりも外側の外周領域２４｛図１（ａ）｝に光学補償材料膜２５と反射膜２６とが積層して矩形枠状に成膜されているものである。そして、第２透明基板２１の他方の面２１ｂに成膜した光学補償材料膜２５と反射膜２６とを、半導体基板１１側に設けた第１透明基板２０上に滴下した透明な接着剤２８と対向させる。
【００５８】
この後、第１透明基板２０の他方の面（上面）と、第２透明基板２１の接着面側となる他方の面（下面）２１ｂとを透明な接着剤２８により接着することで、図３（ｄ）に示したように、本発明に係る反射型液晶表示素子１０が完成する。この際、透明な接着剤２８が均等に広がるように第１，第２透明基板２０，２１の隙間を管理することが大切で、接着剤２８が少なくとも第２透明基板２１に成膜した反射膜２６の内側を完全に覆うことが必要である。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】（ａ），（ｂ）は本発明に係る反射型液晶表示素子を示した上面図，縦断面図である。
【図２】（ａ）〜（ｇ）は本発明に係る反射型液晶表示素子において、第２透明基板側の製造工程を順に示した工程図である。
【図３】（ａ）〜（ｄ）は本発明に係る反射型液晶表示素子において、半導体基板側の第１透明基板上に第２透明基板を接着する工程を順に示した工程図である。
【図４】従来の反射型液晶表示素子を示した縦断面図である。
【図５】従来の反射型液晶表示素子において、画像表示領域よりも外側の周領域に例えば着色層等の最低光強度領域を設けた例を示した平面図である。
【符号の説明】
【００６０】
１０…本発明に係る反射型液晶表示素子、
１１…半導体基板、１２…スイッチング素子、
１３…絶縁膜、１４…アルミ配線、１５…反射画素電極、
１６…液晶、１７…シール部材、１８…液晶層、
１９…透明電極、２０…第１透明基板、
２１…第２透明基板、２１ａ…一方の面（上面）、２１ｂ…他方の面（下面）、
２２…反射防止膜、２３…画像表示領域、２４…外周領域、
２５…光学補償材料膜、２６…反射膜、２７…フォトレジスト、２８…透明な接着剤、
３０…光学補償板、
Ｋ…液晶層の間隔、Ｌ…読み出し光。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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