(57)【要約】【課題】本発明の課題の一つは高精度な位置合わせを行うことにある。【解決手段】リソグラフィ方法は、パターニングデバイスで放射ビームをパターニングすることを含む。パターニングデバイスは少なくとも２つのイメージパターニング部分および少なくとも２つのメトロロジーマークパターニング部分を含む。方法は、投影されたイメージ部分が基板上で相互に実質的に隣接し、集合的に基板上に複合イメージを形成するように、パターニングした放射ビームの少なくとも２つのイメージ部分を基板のターゲット部分に順次投影することを含む。方法は、少なくとも２つのイメージ部分のそれぞれを投影するのと同時に、複合イメージの区域の外側でメトロロジーマークを基板に投影し、少なくとも２つの図部分の相対的位置を求めるためにメトロロジーマークの位置合わせを測定することを含む。【選択図】図２
2008042194.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パターニングデバイスで放射ビームをパターニングすることを含み、パターニングデバイスは、少なくとも２つのイメージパターニング部分および少なくとも２つのメトロロジーマークパターニング部分を備え、さらに、
放射のパターニングしたビームの少なくとも２つのイメージ部分を、前記投影されたイメージ部分が基板上で相互に実質的に隣接し、集合的に基板上に複合イメージを形成するように、基板のターゲット部分に順次投影すること、
少なくとも２つのイメージ部分のそれぞれを投影するのと同時に、メトロロジーマークを複合イメージの区域の外側の基板に投影すること、および、
少なくとも２つのイメージ部分の相対位置を求めるためにメトロロジーマークの位置合わせを測定すること
を含む、リソグラフィ方法。
【請求項２】
メトロロジーマークの前記投影が、複合イメージの区域の外側で基板に配置されたスクライブレーンにメトロロジーマークを投影することを含む、請求項１に記載のリソグラフィ方法。
【請求項３】
前記メトロロジーマークの位置合わせの前記測定が、メトロロジーマークの相対的オフセットを測定することを含む、請求項１に記載のリソグラフィ方法。
【請求項４】
メトロロジーマークの前記投影が、
第一形状の輪郭を備えた第一メトロロジーマークを基板の表面に投影し、
第一形状の輪郭内に第二メトロロジーマークを投影することを含み、これによりメトロロジーマークの位置合わせの測定が、第一メトロロジーマークの中心からの第二メトロロジーマークのオフセットを測定することを含む、請求項２に記載のリソグラフィ方法。
【請求項５】
少なくとも１つのメトロロジーマークが回折格子を備え、前記メトロロジーマークの位置合わせの前記測定が、さらにメトロロジーマークから反射した光同士の干渉を測定することを含む、請求項１に記載のリソグラフィ方法。
【請求項６】
イメージ部分が、第一軸に沿って基板上で相互に実質的に隣接するように配置される、請求項１に記載のリソグラフィ方法。
【請求項７】
イメージ部分がさらに、第一軸とは異なる第二軸に沿って基板上で相互に実質的に隣接するように配置される、請求項６に記載のリソグラフィ方法。
【請求項８】
イメージ部分がイメージブロックおよび周辺ブロックを備え、複合イメージが、周辺ブロックによって囲まれた２つ以上のイメージブロックを備える、請求項１に記載のリソグラフィ方法。
【請求項９】
さらに、各イメージ部分を基板に投影することが、選択されたパターニング部分に関連するパターニング投影ビームの部分のみを基板の表面に投影することを含むように、ブレードシステムで放射ビームの部分を遮蔽することを含む、請求項８に記載のリソグラフィ方法。
【請求項１０】
各メトロロジーマークパターニング部分が、個々のイメージブロックパターニング部分または個々の周辺ブロックパターニング部分に対して固定された空間関係にある、請求項８に記載のリソグラフィ方法。
【請求項１１】
少なくとも１つのイメージブロックが周辺ブロックに隣接しないように、複合イメージが複数のイメージブロックを備える、請求項８に記載のリソグラフィ方法。
【請求項１２】
さらに、
周辺ブロックに隣接していない少なくとも１つのイメージブロック以外の、少なくとも２つのイメージ部分の相対的位置を求め、
前記求めた相対的位置から、少なくとも１つの他のイメージ部分に対して、周辺ブロックに隣接していない少なくとも１つのイメージブロックの推定位置を求めることを含む、請求項１１に記載のリソグラフィ方法。
【請求項１３】
さらに、イメージ部分の求められた位置合わせを使用して、パターニングデバイスを支持する支持構造体、基板を保持する基板テーブルおよび／または投影システムを較正することを含む、請求項１に記載のリソグラフィ方法。
【請求項１４】
請求項１の方法により製造されたデバイス。
【請求項１５】
請求項１の方法により製造されたイメージセンサ。
【請求項１６】
パターニングデバイスで放射ビームをパターニングすること、
複数のイメージ部分を基板のターゲット部分に順次投影することを含み、これにより前記投影されたイメージ部分が、基板上で相互に実質的に隣接して、集合的に基板上に複合イメージを形成し、複合イメージが、他のイメージ部分によって完全に囲まれた少なくとも１つのイメージ部分を備え、さらに、
他のイメージ部分によって完全に囲まれたイメージ部分以外の、少なくとも２つのイメージ部分の相対的位置を求めること、
求められた相対的位置から、少なくとも１つの他のイメージ部分に対して、他のイメージ部分によって完全に囲まれた少なくとも１つのイメージ部分の推定位置を求めること
を含む、リソグラフィ方法。
【請求項１７】
さらに、予想された位置または形状から、囲まれたイメージ部分の位置または形状の求められた偏差を少なくとも部分的に補正するために、基板の位置および／またはパターニングした放射ビームの投影に使用される投影システムを調節することを含む、請求項１６に記載のリソグラフィ方法。
【請求項１８】
リソグラフィ装置のパターニングデバイスであって、
少なくとも２つのイメージパターニング領域と、
少なくとも２つのメトロロジーマークパターニング領域とを備え、
各メトロロジーマークパターニング領域が、個々のイメージ部分パターニング領域に対して固定された空間関係にあり、
イメージパターニング領域が相互から分離されている、パターニングデバイス。
【請求項１９】
イメージパターニング領域が、イメージブロックパターニング部分および１つまたは複数の周辺ブロックパターニング部分を備え、前記メトロロジーマークパターニング部分が、それぞれイメージブロックパターニング部分および各周辺ブロックパターニング部分に関連し、前記パターニング部分が、投影ビームの断面にパターンを与えるような構成であり、これにより基板に投影された複合イメージが、周辺ブロックによって囲まれた２つ以上のイメージブロックを備える、請求項１８に記載のリソグラフィ装置のパターニングデバイス。
【請求項２０】
各イメージブロックパターニング部分が規則的な反復パターンを備える、請求項１９に記載のリソグラフィ装置のパターニングデバイス。
【請求項２１】
各メトロロジーマークパターニング部分が、個々のイメージブロックパターニング部分または個々の周辺ブロックパターニング部分に対して固定した空間関係にある、請求項１９に記載のリソグラフィ装置のパターニングデバイス。
【請求項２２】
パターニングデバイスがマスクである、請求項１８に記載のリソグラフィ装置のパターニングデバイス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
[0001]  本発明は特にリソグラフィ方法およびパターニングデバイスに関する。
【背景技術】
【０００２】
[0002]  リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板に、通常は基板のターゲット部分に適用する機械である。リソグラフィ装置は例えば、集積回路（ＩＣ）の製造に使用可能である。このような場合、代替的にマスクまたはレチクルとも呼ばれるパターニングデバイスを使用して、ＩＣの個々の層上に形成すべき回路パターンを生成することができる。このパターンを、基板（例えばシリコンウェーハ）上のターゲット部分（例えば１つまたは幾つかのダイの一部を備える）に転写することができる。パターンの転写は通常、基板に設けた放射感応性材料（レジスト）の層への結像により行われる。一般的に、１枚の基板は、順次パターニングされる網の目状の互いに近接したターゲット部分を含んでいる。従来のリソグラフィ装置は、パターン全体をターゲット部分に１回で露光することによって各ターゲット部分が照射される、いわゆるステッパと、基板を所定の方向(「スキャン」方向）と平行あるいは逆平行にスキャンしながら、パターンを所定の方向（「スキャン」方向）に放射ビームでスキャンすることにより、各ターゲット部分が照射される、いわゆるスキャナとを具備している。パターンを基板にインプリントすることによっても、パターニングデバイスから基板へとパターンを転写することが可能である。
【０００３】
[0003]  特定の用途では、デバイスの１つの層のために結像される基板の区域が、リソグラフィ装置の投影ビームの最大断面積を超えることがある。このような用途は、電荷結合素子（ＣＣＤ）などの大型イメージセンサ、大型フォトニック素子、および薄膜ヘッドを含む。複合イメージを、投影ビームの最大断面積より小さい基板のターゲット部分へと投影されたイメージ部分から形成することができる。イメージ部分は、パターニングデバイスによって、またはパターニングデバイスへと別個に提供され、基板の表面へと順番に投影される。このような用途では、基板の隣接ターゲット部分へと投影されるイメージ部分は、綿密に位置合わせしなければならない。用途によっては、仕上げたデバイスが働くために、基板の隣接ターゲット部分に投影される隣接イメージ部分の正確な位置合わせが必要不可欠である。２つの隣接イメージ部分が所定の公差帯内で正確に位置合わせされていない場合、これはデバイスが完成し、電気検査にかけた後にしか検出可能でないことがある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
[0004]  明らかにされているのが本明細書であれ、それ以外であれ、先行技術の１つまたは複数の課題を除去するかまたは軽減することが、本発明の目的である。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
[0005]  本発明の態様によれば、リソグラフィ方法が提供される。方法は、パターニングデバイスで放射ビームをパターニングすることを含む。パターニングデバイスは少なくとも２つのイメージパターニング部分、および少なくとも２つのメトロロジーマークパターニング部分を含む。方法は、投影されたイメージ部分が基板上で相互に実質的に隣接し、集合的に基板上に複合イメージを形成するように、放射のパターニングしたビームの少なくとも２つのイメージ部分を基板のターゲット部分に順次投影することも含む。方法はさらに、少なくとも２つのイメージ部分のそれぞれを投影するのと同時に、メトロロジーマークを複合イメージの区域の外側の基板に投影し、少なくとも２つのイメージ部分の相対位置を求めるためにメトロロジーマークの位置合わせを測定することを含む。
【０００６】
[0006]  本発明のさらなる態様によれば、上述した方法により製造されたデバイスが提供される。
【０００７】
[0007]  本発明のさらなる態様によれば、上述した方法により製造されたイメージセンサが提供される。
【０００８】
[0008]    本発明のさらなる態様によれば、放射の投影ビームを提供する照明システム、およびパターニングデバイスを支持する支持構造体を含むリソグラフィ装置が提供される。パターニングデバイスは、投影ビームの断面にパターンを与える働きをする。リソグラフィ装置は、基板を保持する基板テーブル、およびパターニングしたビームを基板のターゲット部分に投影する投影システムも含む。リソグラフィ装置は、少なくとも２つのイメージ部分を基板のターゲット部分に順次投影するような構成である。投影されたイメージ部分は、基板上で実質的に相互に隣接し、集合的に基板上に複合イメージを形成するように配置される。リソグラフィ装置はさらに、少なくとも２つのイメージ部分のそれぞれを投影するのと同時に、メトロロジーマークを複合イメージの区域の外側の基板に投影するような構成である。リソグラフィ装置は、少なくとも２つのイメージ部分の相対的位置を求めるために、その相対的位置合わせを測定できるような構成である。
【０００９】
[0009]  本発明のさらなる態様によれば、リソグラフィ方法が提供される。方法は、パターニングデバイスで放射ビームをパターニングすることと、投影されたイメージ部分が基板上で相互に実質的に隣接し、集合的に基板上に複合イメージを形成するように、複数のイメージ部分を基板のターゲット部分に順次投影することを含む。複合イメージは、他のイメージ部分によって完全に囲まれた少なくとも１つのイメージ部分を含む。方法は、他のイメージ部分によって完全に囲まれたイメージ部分以外の少なくとも２つのイメージ部分の相対的位置を求め、他のイメージ部分によって完全に囲まれた少なくとも１つのイメージ部分の推定位置を求めることも含む。
【００１０】
[00010]  本発明のさらなる態様によれば、放射の投影ビームを提供する照明システム、およびパターニングデバイスを支持する支持構造を含むリソグラフィ装置が提供される。パターニングデバイスは、投影ビームの断面にパターンを与える働きをする。リソグラフィ装置は、基板を保持する基板テーブル、およびパターニングしたビームを基板のターゲット部分に投影する投影システムも含む。リソグラフィ装置は、複数のイメージ部分を基板のターゲット部分に順次投影するような構成である。投影されたイメージ部分は、基板上で相互に実質的に隣接し、集合的に基板上に複合イメージを形成するように配置される。複合イメージは、他のイメージ部分によって完全に囲まれた少なくとも１つのイメージ部分を含む。リソグラフィ装置はさらに、他のイメージ部分によって完全に囲まれたイメージ部分以外の、少なくとも２つのイメージ部分の相対的位置を求め、求められた相対的位置から、少なくとも１つの他のイメージ部分に対する、他のイメージ部分によって完全に囲まれた少なくとも１つのイメージ部分の推定位置を求めることを含むような構成である。
【００１１】
[00011]  本発明のさらなる態様によれば、リソグラフィ装置のパターニングデバイスが提供される。パターニングデバイスは少なくとも２つのイメージパターニング領域、および少なくとも２つのメトロロジーマークパターニング領域を含み、各メトロロジーマークパターニング領域は、個々のイメージ部分パターニング領域に対して固定された空間関係にある。
【００１２】
[00012]  次に、本発明の実施形態を添付の略図を参照しながら、ほんの一例として説明する。図面では対応する参照記号は対応する部品を示している。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
[00020]  本明細書で使用する「放射」および「ビーム」という用語は、イオンビームあるいは電子ビームといったような粒子ビームのみならず、紫外線（ＵＶ）放射（例えば、３６５ｎｍ、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍまたは１２６ｎｍの波長を有する）および極紫外線光（ＥＵＶ）放射（例えば、５ｎｍ〜２０ｎｍの範囲の波長を有する）を含むあらゆるタイプの電磁放射を網羅する。
【００１４】
[00021]  本明細書において使用する「パターニングデバイス」という用語は、基板のターゲット部分にパターンを生成するように、放射ビームの断面にパターンを与えるために使用し得る任意のデバイスを指すものとして広義に解釈されるべきである。ここで、放射ビームに与えられるパターンは、基板のターゲット部分における所望のパターンに正確には対応しないことがある点に留意されたい。一般的に、放射ビームに与えられるパターンは、集積回路などのターゲット部分に生成されるデバイスの特別な機能層に相当する。パターニングデバイスは透過性または反射性でよい。パターニングデバイスの例には、マスク、プログラマブルミラーアレイ、およびプログラマブルＬＣＤパネルがある。マスクはリソグラフィにおいて周知のものであり、これには、バイナリマスク、Alternating位相シフトマスク、減衰型位相シフトマスクのようなマスクタイプ、さらには様々なハイブリッドマスクタイプも含まれる。プログラマブルミラーアレイの一例として、小さなミラーのマトリクス配列を使用し、そのミラーは各々、入射する放射ビームを異なる方向に反射するよう個々に傾斜することができる。傾斜したミラーは、ミラーマトリクスによって反射する放射ビームにパターンを与える。
【００１５】
[00022]  本明細書において使用する「投影システム」という用語は、例えば使用する露光放射、または液浸液の使用や真空の使用などの他の要因に合わせて適宜、例えば屈折光学システム、反射光学システム、反射屈折光学システム、磁気光学システム、電磁気光学システムおよび静電気光学システム、またはその任意の組合せを含む任意のタイプの投影システムを網羅するものとして広義に解釈されるべきである。本明細書において「投影レンズ」という用語を使用した場合、これはさらに一般的な「投影システム」という用語と同義とみなされる。
【００１６】
[00023]  図１は、リソグラフィ装置を概略的に示したものである。この装置は、放射の投影ビームＰＢ（例えばＵＶ放射）を提供する照明システム（イルミネータ）ＩＬと、パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡを支持し、アイテムＰＬに対してパターニングデバイスを正確に位置決めする第一位置決め装置ＰＭに接続された第一支持構造体（例えばマスクテーブル）ＭＴと、基板（例えばレジストコートウェーハ）Ｗを保持し、アイテムＰＬに対して基板を正確に位置決めする第二位置決め装置ＰＷに接続された基板テーブル（例えばウェーハテーブル）ＷＴと、パターニングデバイスＭＡによって放射ビームＰＢに与えられたパターンを基板Ｗのターゲット部分Ｃ（例えば１つまたは複数のダイを含む）に結像する投影システム（例えば屈折投影レンズ）ＰＬからなる。
【００１７】
[00024]  ここに示している本装置は透過タイプである（例えば透過マスクを使用する）。あるいは、装置は反射タイプでもよい（例えば上記で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイを使用する、または反射マスクを使用する）。
【００１８】
[00025]  イルミネータＩＬは放射源ＳＯから放射ビームを受ける。放射源とリソグラフィ装置とは、例えば放射源がエキシマレーザである場合に、それぞれ別々の構成要素であってもよい。このような場合、放射源はリソグラフィ装置の一部を形成すると見なされず、放射ビームは、例えば適切な誘導ミラーおよび／またはビームエクスパンダなどを備えるビームデリバリシステムＢＤの助けにより、放射源ＳＯからイルミネータＩＬへと渡される。他の事例では、例えば放射源が水銀ランプの場合は、放射源がリソグラフィ装置の一体部分であってもよい。放射源ＳＯおよびイルミネータＩＬは、必要に応じてビームデリバリシステムＢＤとともに放射システムと呼ぶことができる。
【００１９】
[00026]  イルミネータＩＬは、放射ビームの角度強度分布を調節するアジャスタＡＭを備えていてもよい。通常、イルミネータの瞳面における強度分布の外側および／または内側半径範囲（一般にそれぞれ、σ-outerおよびσ-innerと呼ばれる）を調節することができる。また、イルミネータＩＬは、インテグレータＩＮおよびコンデンサＣＯなどの他の種々のコンポーネントを備えていてもよい。また、イルミネータは、投影ビームＰＢと呼ばれ、その断面にわたって所望の均一性と強度分布とを有する調整された放射ビームを提供する。
【００２０】
[00027]  放射ビームＰＢは、マスクテーブルＭＴ上に保持されたマスクＭＡに入射する。放射ビームＰＢはマスクＭＡを通り抜けて、基板Ｗのターゲット部分Ｃ上にビームを集束するレンズＰＬを通過する。第二位置決め装置ＰＷおよび位置センサＩＦ（例えば干渉計デバイス）の助けにより、基板テーブルＷＴを、例えば放射ビームＰＢの経路において様々なターゲット部分Ｃに位置決めするように正確に移動できる。同様に、第一位置決め装置ＰＭおよび別の位置センサ（図１には明示されていない）を使用して、例えばマスクライブラリから機械的に検索した後に、またはスキャン中に、放射ビームＰＢの経路に対してマスクＭＡを正確に位置決めすることができる。一般的に、オブジェクトテーブルＭＴおよびＷＴの移動は、位置決め装置ＰＭおよびＰＷの部分を形成するロングストロークモジュール（粗動位置決め）およびショートストロークモジュール（微動位置決め）を用いて実現できる。しかし、ステッパの場合（スキャナとは対照的に）、マスクテーブルＭＴをショートストロークアクチュエータのみに接続するか、固定してもよい。マスクＭＡおよび基板Ｗは、マスクアラインメントマークＭ１、Ｍ２および基板アラインメントマークＰ１、Ｐ２を使用して位置合わせすることができる。
【００２１】
[00028]  図示のリソグラフィ装置は以下の好ましいモードにて使用可能である。
【００２２】
[00029]  １．ステップモードにおいては、マスクテーブルＭＴおよび基板テーブルＷＴは、基本的に静止状態に維持される一方、放射ビームに与えたパターン全体が１回でターゲット部分Ｃに投影される（すなわち１回の静止露光）。次に、別のターゲット部分Ｃを露光できるように、基板テーブルＷＴがＸ方向および／またはＹ方向に移動される。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、１回の静止露光でイメージが形成されるターゲット部分Ｃのサイズが制限される。
【００２３】
[00030]  ２．スキャンモードにおいては、マスクテーブルＭＴおよび基板テーブルＷＴは同期的にスキャンされる一方、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Ｃに投影する（つまり１回の動的露光）。マスクテーブルＭＴに対する基板テーブルＷＴの速度および方向は、投影システムＰＳの拡大（縮小）およびイメージ反転特性によって求めることができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、１回の動的露光におけるターゲット部分の（非スキャン方向における）幅が制限され、スキャン動作の長さによってターゲット部分の（スキャン方向における）高さが決まる。
【００２４】
[00031]  ３．別のモードでは、マスクテーブルＭＴはプログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に静止状態に維持され、基板テーブルＷＴを移動またはスキャンさせながら、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Ｃに投影する。このモードでは、一般にパルス状放射源を使用して、基板テーブルＷＴを移動させる毎に、またはスキャン中に連続する放射パルスの間で、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクなしリソグラフィに容易に利用できる。
【００２５】
[00032]  上述した使用モードの組合せおよび／または変形、または全く異なる使用モードも利用できる。
【００２６】
[00033]  任意の用途で、デバイスの１層に結像する必要がある基板の面積が、リソグラフィ装置の投影ビームの最大断面積を上回る場合は、基板の隣接ターゲット部分へと別個に投影されるイメージ部分から複合イメージを構築することができる。このプロセスを本明細書では「ステッチング」と呼ぶ。このような用途はＣＣＤなどの大型イメージセンサ、大型フォトニック素子、および薄膜ヘッドを含む。このような用途では、一般的に基板の隣接ターゲット部分に投影されるイメージ部分を綿密に位置合わせすることが妥当である。用途によっては、完成したデバイスが働くために、基板の隣接ターゲット部分に投影される隣接イメージ部分の正確な位置合わせが必要不可欠である。大型イメージセンサの作製のような用途では、複合イメージの区域全体が活性区域を備えることがある。その結果、複合イメージにてイメージ部分が相互に直接隣接して配置されると、イメージ部分の位置合わせをチェックするためにメトロロジーマークを含む複合イメージ内の（したがって任意のイメージ部分内の）スペースが制限されるか、利用できない。したがって、従来のステッチングプロセスの欠陥は、イメージ部分の位置合わせを測定できないことがあることである。２つの隣接するイメージ部分が適正に位置合わせされていない場合、これはデバイスが完成し、電気試験にかけた後にしか検出可能でないことがある。このような用途では、デバイスは、多数の層（例えば３０）を結像し、処理した後にしか完成することができない。完成後にしかデバイスを試験できない場合は、最終的に電気試験を不合格になるデバイスで、多大な量の時間および費用が無駄になることがある。別個のイメージ部分を位置合わせする場合に、デバイスの層の若干数が、より高いレベルの精度を必要とすることがある。例えば、金属層を適用するためにデバイスのパターニングに使用される投影済みの層、注入層、およびポリシリコン層は、他の層より高いレベルのステッチング精度を必要とすることがある。
【００２７】
[00034]  本発明の実施形態によれば、複合イメージからなる大きいデバイスが、順次投影されたイメージ部分から形成される。イメージ部分を基板のターゲット部分に投影するのと同時に、複合イメージの区域の外側、例えば複合イメージ区域に隣接するか、それを囲むスクライブレーンで、追加のメトロロジーマークを基板に投影する。スクライブレーンは、各デバイスを隣接デバイスから分離するために使用されることが多い基板の部分である。基板が十分に処理されたら、スクライブレーンに沿って基板を切断し、それによって個々のデバイスを分離することができる。したがって、スクライブレーンの区域は、基板の処理中にメトロロジーマークの投影に使用するために利用可能である。というのは、スクライブレーンの区域は、廃棄される基板を意味するからである。
【００２８】
[00035]  複合イメージの外側で基板にメトロロジーマークを投影すると、イメージ部分の位置合わせ（またはステッチング性能）を測定することができる。これは、デバイスが完成してから電気検査を待つのではなく、デバイスの１つの層を基板に結合するとすぐに位置合わせエラーを検出することができるので望ましい。各層が基板に投影される実時間で、またはその後のオフライン分析中に、位置合わせを測定することができる。
【００２９】
[00036]  本発明の実施形態によるリソグラフィ装置は、少なくとも２つのイメージ部分を基板のターゲット部分に順次投影する。イメージ部分は、基板上で相互に実質的に隣接し、集合的に複合イメージを形成するように配置される。リソグラフィ装置はさらに、少なくとも２つの個々の画イメージ部分それぞれを投影するのと同時に、複合イメージの区域の外側、例えばスクライブレーンで、メトロロジーマークを基板に投影するような構成である。メトロロジーマークの相対的位置を測定すると、イメージ部分の位置合わせ精度を測定することができる。
【００３０】
[00037]  各メトロロジーマークは少なくとも１つのイメージ部分と同時に印刷されるので、メトロロジーマークの位置を測定すると、個々のイメージ部分の位置に関する直接的情報が提供される。したがって、２つのメトロロジーマークの相対的位置の測定は、個々のイメージ部分の相対的位置の測定にそのまま等しい。メトロロジーマークの位置と関連するイメージ部分の位置とのこのような直接的関係は、イメージ部分と各メトロロジーマークが同じパターニングデバイスに含まれ、したがって両方とも同時に投影ビームに与えられるという事実の結果である。メトロロジーマークとイメージ部分が各パターニングデバイス上で正確に位置合わせされている限り、基板への投影時にこの相対的位置合わせが維持される。
【００３１】
[00038]  本発明の特定の実施形態では、複数のイメージ部分および全ての関連するメトロロジーマークが、マスクなどの１つのパターニングデバイスに組み込まれる。例示的マスクについて図３に示し、以下でさらに詳細に検討する。本発明の特定の実施形態によるリソグラフィ装置はさらに、ブレードシステムを備え、これは投影ビームＰＢの経路に配置されて、その時点で投影する必要がないイメージ部分またはメトロロジーマークに関連する投影ビームの部分を遮断し、それが結像されるのを防止するよう移動可能である調節可能なパネルまたはブレードからなる。したがって、ブレードシステムを含むリソグラフィ装置は、柔軟にプログラムすることができ、複合イメージ全体が構築されるにつれ、個々の各露光でメトロロジーマークが基板に適正に結合されるのを保証する。
【００３２】
[00039]  本発明の例示的用途は、ＣＣＤなどの大型イメージセンサに関連する。次に図２を参照すると、これは本発明の実施形態により幾つかのイメージ部分から構築された複合イメージ１を示す。複合イメージ１は、イメージセンサの作製の中間段階で全てのイメージ部分が基板に投影された後に現れたままのイメージセンサの１つの層を表す。２つの別個のタイプのイメージ部分がある。ピクセルブロック２および周辺ブロック３である。
【００３３】
[00040]  ピクセルブロック２は、活性センサの繰り返しパターンからなる。実施形態では、各ピクセルブロック２は同じであり、まとめて連続的ブロックパターンを形成する。図２は、イメージセンサを形成する４つのピクセルブロック２がある構成を示す。任意の数のピクセルブロック２があってよいことが認識される。さらに、図２に示す層を処理した後、図２に示すその層の頂部に投影された多数の他の層があってよいことも認識される。イメージセンサの残りの部分が構築されるからである。
【００３４】
[00041]  周辺ブロック３は通常、ピクセルブロック２を完成したパッケージの外側にあるピンなどの外部構成要素に接続する相互接続部からなる。実施形態では、ピクセルブロック２と周辺ブロック３の両方の区域全体が活性区域を備え、そのためにイメージ部分の位置合わせを測定するために、メトロロジーマークをイメージ部分の区域に入れることが、実際的に不可能ではないまでも厄介になる。図２にはスクライブレーン４も図示され、これは図示のように複合イメージ１の縁部まで、つまり周辺ブロック３の縁部まで上へとまっすぐ延在する。
【００３５】
[00042]  図２はさらにメトロロジーマークを示す。２タイプのメトロロジーマークがある。つまり大ボックス５と小ボックス６である（明快さを期して、図２では全てのメトロロジーマーク５、６にラベルが付いているわけではない）。これは計測学から知られており、ボックスインボックスと呼ばれ、大ボックス５と小ボックス６とが基板へと別個に結像される。メトロロジーマークは、スクライブレーン４内で基板に投影されることが分かる。
【００３６】
[00043]  本発明の実施形態では、各大ボックス５は、その大ボックス５の所望の位置に最も近いピクセルブロック２と同時に、基板へと投影される。各小ボックスは、その小ボックスに最も近い周辺ブロック３と同時に、基板へと投影される。ピクセルブロック２または周辺ブロック３のイメージを与えるために使用されるパターニングデバイスはさらに、ピクセルブロック２または周辺ブロック３から適正な距離に適切なメトロロジーマーク５、６を備える。イメージ部分は、基板へと別個に投影され、したがって隣接するピクセルブロック２および周辺ブロック３が基板に投影されていると、関連するメトロロジーマークが一緒になる。イメージ部分が適正に位置合わせされている場合は、小ボックス６が大ボックス５の中心に現れる。関連する大ボックス５の中心から各小ボックス６のオフセットがあれば、これを測定することができる。イメージ部分（ピクセルおよび周辺ブロック）２、３がメトロロジーマーク５、６と同時に投影されるので、メトロロジーマーク間のオフセットにより、関連する対のイメージ部分の相対的オフセットが直接測定される。大ボックス／小ボックスのメトロロジーマークの各対のオフセットが予め画定された公差帯内にある限り、イメージ部分の位置合わせも同じ公差帯内になる。
【００３７】
[00044]  図２は、図２で軸線ＸおよびＹとして図示された２つの軸線に沿って相互にステッチされたピクセルブロックから複合イメージが形成される本発明の実施形態の例である。しかし、本発明の代替実施形態では、ピクセルブロックは、１本の軸線に沿ってステッチされるだけであり、つまりピクセルブロックが１本の線に沿っていることが分かる。
【００３８】
[00045]  次に図３を参照すると、これは図２に示す複合イメージ１を投影するのに適切なパターニングデバイスを概略的に示す。パターニングデバイスはマスク１０を備えるが、本発明の他の実施形態では、代替形態のパターニングデバイスを使用してよいことが認識される。
【００３９】
[00046]  マスク１０は５つの別個の領域１１〜１５を備え、各領域は隣接領域から分離されている。各領域は、ピクセルブロック１６または４つの異なる周辺ブロック１７〜２０のうち１つのいずれかのパターニング部分を備える。パターニング部分１６〜２０は、パターニング部分毎にピクセルブロックまたは周辺ブロックが基板の表面に投影されるように、パターンを投影ビームに与えるような構成である。周辺ブロックは、最も近いピクセルブロックの側部に対して適正な位置で、基板に投影されるような構成である。さらに、各領域内にメトロロジーマークパターニング部分が含まれる。メトロロジーマークパターニング部分は、大ボックスのメトロロジーマークのパターニング部分２１、または小ボックスのメトロロジーマークのパターニング部分２２を備える。パターニング部分２１は、ピクセルブロックパターニング部分に関連する領域１１内に含まれる。パターニング部分２２は、周辺ブロックパターニング部分１７〜２０に関連する領域１２〜１５内に含まれる。線２３は、周辺ブロックパターニング部分１７〜２０に対するスクライブレーン４の縁部の近似位置を示すが、これは実際には、基板に実際に投影された形体を表さないことが認識される。
【００４０】
[00047]  実施形態では、リソグラフィ装置はさらに、投影ビームの路に配置され、マスク１０の選択された部分から投影ビームを遮断するよう柔軟にプログラムできる可動ブレードを備えるブレードシステムＢＳ（図１参照）を備える。これによって、基板に投影するためにマスク１０の特定の部分を選択することができる。
【００４１】
[00048]  リソグラフィ装置は、各イメージ部分を基板に投影する場合に、マスク１０のどの部分をブレードシステムで遮断するかを決定するような構成である。例えば図２を参照すると、複合イメージ１の右上象限に配置されたピクセルブロック３０を投影したい場合は、右側でピクセルブロック３０より上の大ボックスのメトロロジーマーク５を、同時に基板に投影することができる。ブレードシステムは、ボックス３１内に含まれる部分を除くマスク１０の全体を遮断するように制御される。次に、周辺ブロック３２を投影したい場合は、ボックス３３内に含まれる部分を除くマスク１０の全体に対応するパターニング投影ビームを遮蔽するように制御される。
【００４２】
[00049]  マスク１０の各領域１１〜１５を分離すると、ブレードシステムを使用して所望の領域を単純に選択することができる。
【００４３】
[00050]  メトロロジーマークパターニング部分とイメージ部分パターニング部分の同時に投影される部分は、固定された空間的関係にあることが分かる。例えば、ピクセルブロック３０を投影する場合、パターニングデバイスと基板とが適正に位置合わせされないと、大ボックスのメトロロジーマーク３４は、周辺ブロック３２が基板に投影される（ピクセルブロック３０が基板に投影される前または後でよい）場合に、基板に投影される小ボックスのメトロロジーマーク３５と位置合わせされていない。メトロロジーマーク３４と３５との相対的位置合わせは、従来の手段で測定することができる。
【００４４】
[00051]  図２に戻ると、これは幾つかのイメージ部分から構築される複合イメージ１を示し、ピクセルブロック２と周辺ブロック３が許容可能な精度レベルまで位置合わせされている。小ボックスのメトロロジーマーク６は全て、大ボックスのメトロロジーマーク５のほぼ中心に配置される。
【００４５】
[00052]  次に図４を参照すると、これは１つのピクセルブロック４０が位置合わせ不良である位置合わせエラーを概略的に示す。ピクセルブロック４０は、Ｘ軸とＹ軸の両方に沿って平行移動しており、したがってここでは隣接する周辺ブロックと重なっている。大ボックスのメトロロジーマーク４１〜４４は同様に、その適正な位置から移動して、位置合わせされなくなっている。というのは、ピクセルブロック４０と同時に投影されるからである。しかし、小ボックスのメトロロジーマーク４５〜４８は、周辺ブロック４９、５０と同時に別個に投影されている事実のせいで、予想された位置のままである。その結果、小ボックスのメトロロジーマーク４５〜４８がすでに大ボックスのメトロロジーマーク４１〜４４内の中心に配置されていないので、位置合わせエラーの発生を容易に検出することができる。さらに、各小ボックス４５〜４８から各大ボックス４１〜４４の中心までのオフセットが同じであることが分かる。したがって、各対のメトロロジーマークのオフセットを分析することにより、リソグラフィ装置は、位置合わせエラーが、ピクセルブロック４０の周辺ブロック４９、５０に対するＸ方向およびＹ方向両方での平行移動の結果であることを判断することができる。
【００４６】
[00053]  次に図５を参照すると、これはピクセルブロック４０がその中心位置の周囲で回転し、したがってここでは隣接する周辺ブロック４９、５０に、および隣接するピクセルブロック５１、５２にも部分的に重なっている位置合わせエラーを概略的に示す。大ボックスのメトロロジーマーク４１、４４は同様に、ピクセルブロック４０の中心位置の周囲で回転することにより、その適正な位置から移動して、位置合わせされなくなっている。しかし、この場合も小ボックスのメトロロジーマーク４５〜４８は、予想された位置のままである。以前のように、小ボックスのメトロロジーマーク４５〜４８がすでに大ボックスのメトロロジーマーク４１〜４４内の中心に配置されていないので、位置合わせエラーの発生を容易に検出することができる。しかし、今回は各小ボックス４５〜４８から各大ボックス４１〜４４の中心までのオフセットが異なることが分かる。第一に、大ボックスが回転しており、第二に、それぞれがＸ軸およびＹ軸に沿って異なる量だけ平行移動している。各対のメトロロジーマークのオフセットおよび大ボックスのメトロロジーマーク４１〜４４の回転を分析することにより、リソグラフィ装置は、位置合わせエラーが、ピクセルブロック４０の回転の結果であることを判断することができ、回転の程度および回転の中心も判断する。
【００４７】
[00054]  次に図６を参照すると、これはピクセルブロック４０が拡大され、したがってここでは隣接する周辺ブロック４９、５０と部分的に重なっている位置合わせ不良を概略的に示す。ピクセルブロック４０の左下隅は適正な位置のままであり、拡大はプラスのＸ軸およびＹ軸に沿っている。大ボックスのメトロロジーマーク４１〜４４は同様に拡大されているが、サイズの増加は、その結果として適正な位置からＸ軸およびＹ軸に沿って平行移動しているという事実ほど目立たない。しかし、この場合も小ボックスのメトロロジーマーク４５〜４８は、予想された位置のままである。以前のように、小ボックスのメトロロジーマーク４５〜４８がすでに大ボックスのメトロロジーマーク４１〜４４内の中心に配置されていないので、位置合わせエラーの発生を容易に検出することができる。図５と同様に、各小ボックス４５〜４８から各大ボックス４１〜４４の中心までのオフセットが異なることが分かる。各大ボックスが、Ｘ軸およびＹ軸に沿って異なる量だけ平行移動している。各対のメトロロジーマークのオフセットおよび大ボックスのメトロロジーマーク４１〜４４の拡大を分析することにより、リソグラフィ装置は、位置合わせエラーが、ピクセルブロック４０の拡大の結果であることを判断することができ、拡大の程度も判断する。
【００４８】
[00055]  図４から図６は、１つのピクセルブロックを除く全てのイメージ部分が適正に位置合わせされている例示的状況を概略的に示す。複数のイメージ部分が位置合わせ不良であると、このような位置合わせエラーが１つまたは複数の対のメトロロジーマーク間の相対的オフセットによって検出されることが容易に認識される。
【００４９】
[00056]  周辺マークが位置合わせ不良である場合、例えば周辺マーク５０がマイナスＹ方向に平行移動すべき場合、これは小ボックスのメトロロジーマーク４７、５８が、ピクセルブロック４０と同時に基板へと投影された大ボックスのメトロロジーマーク４３、４４に対してマイナスＹ方向に平行移動しているせいで検出可能になる。隣接するイメージ部分、例えばピクセルブロック４０および周辺ブロック５０が同じ量だけ位置合わせ不良になり、したがってメトロロジーマーク４３、４４、４７、４８が適正な相対的空間関係を維持する可能性は低いことが認識される。これは、ピクセルブロック４０および周辺ブロック５０がリソグラフィ装置によって基板へと別個に投影されるからである。しかし、２つの隣接するイメージ部分が同じ量だけ位置不良である場合でも、一方または他方の対のイメージ部分の位置不良が、別の隣接イメージ部分に対するイメージ部分の位置合わせ不良によって検出可能である可能性が高い。
【００５０】
[00057]  図で示す例は単に例示的であり、他の構成が可能であることが認識される。例えば周辺ブロックに関連するメトロロジーマークの対の方が広い間隔になり、したがって隣接する周辺ブロックに関連するスクライブレーンに投影されるメトロロジーマークと重なり、それと協働する。本発明の範囲は、複合イメージのイメージ区域の外側で基板に投影されるメトロロジーマークの全ての構成を含む。
【００５１】
[00058]  上述したような本発明の実施形態は、複合イメージの部分を形成するイメージ部分の位置合わせエラーを検出するような構成である。リソグラフィ装置が、メトロロジーマークの対の相対的オフセットを比較することにより、位置合わせエラーのタイプを検出し、どの画イメージ部分が位置合わせ不良であるかを検出できる方法について説明してきた。本発明の特定の実施形態では、リソグラフィ装置はさらに、許容不能なほど大きい位置合わせエラーが発生したかを検出するばかりでなく、さらなるエラーを減少させるためにリソグラフィ装置を較正する、例えばパターニングデバイスの位置合わせシステム、基板テーブルの位置合わせシステムおよび／または投影システムを調節するためにも、イメージ部分の位置合わせエラーの測定値を使用するような構成である。これは、位置合わせシステムを使用して作製されたデバイスの全体的な位置合わせ精度を向上させ、さらに、許容不能なほど大きい位置合わせエラーのせいで廃棄しなければならないデバイスの数を減少させるという利点を有する。これは、すぐには許容不能な位置合わせエラーを引き起こさないが、許容不能なエラーを引き起こすまで時間とともに蓄積するようなリソグラフィ装置の構成要素部品のある時間にわたる漸進的運動による位置合わせエラーがあるからである。このような位置合わせエラーの測定および較正システムを、リソグラフィ装置に関連するコンピュータのソフトウェアに実装することができる。
【００５２】
[00059]  次に図７を参照すると、これは本発明のさらなる実施形態により幾つかのイメージ部分から構築された複合イメージ６０を概略的に示す。複合イメージ６０は、図２に示す複合イメージ１に類似しているが、ここでは周辺ブロック３によって囲まれた９個のピクセルブリック２のアレイがある。イメージ部分２、３はスクライブレーン４に囲まれたままであり、ここにメトロロジーマーク５、６が結像される。しかし、図２に示す本発明の実施形態とは異なり、ここには周辺ブロック３に隣接せず、便宜上ブロック６１とも呼ばれる１つのピクセルブロック２がある。その結果、ピクセルブロック６１を基板に投影するのと同時に、大ボックスのメトロロジーマークをスクライブレーン４に投影するのは厄介である。というのは、必要とされるパターニング投影ビームを組み合わせた区域が通常、パターニング投影ビームの最大断面を上回るからである。ピクセルブロック２のアレイの方が大きくなり、したがって周辺ブロックに隣接しないピクセルブロックが多くなることが認識される。隣接ピクセルブロック２に対するピクセルブロック６１の位置合わせ精度を直接測定することが不可能なことがある。しかし、他の全てのイメージ部分２、３の位置合わせ精度を直接測定することは、なお可能である。本発明の実施形態によれば、リソグラフィ装置はさらに、ピクセルブロック６１以外のイメージ部分を投影する際の平均位置合わせ性能を判断するような構成である。平均位置合わせ性能が許容可能な帯内にある場合は、ピクセルブロック６１も適正に位置合わせされる確率を計算することができる。この方法で、ピクセルブロック６１を適正に位置合わせする閾値確率を設定することができ、計算された確率が閾値を超えた場合、ピクセルブロック６１は適正に位置合わせされたとみなされる。デバイスのさらなる層の処理を継続することができる。計算された確率が閾値を超えない場合、ピクセルブロックの位置合わせが不適正であるとみなされる。これで、デバイスの残りのイメージを全部処理するという犠牲を払わずにデバイスを廃棄するか、位置合わせの補正を適用した後に再加工することができる。
【００５３】
[00060]  ピクセルブロック６１が適正に位置合わせされているか否かの判断に加えて、本発明の実施形態は、基板に投影する前にピクセルブロック６１の位置合わせを改善するためにリソグラフィ装置を調節することも含むことができる。例えば、他のピクセルブロックが全て予想された位置に対して同じ方向にわずかにずれていると判断された場合、リソグラフィ装置は（基板テーブルを適切な方向に移動することによって）ピクセルブロック６１に同じ変位を適用することができる。同様に、投影システムの調節がピクセルブロック６１の位置合わせを改善する（例えば拡大の調節）とリソグラフィ装置が判断した場合、この調節は、ピクセルブロックを基板に投影する前に実行することができる。
【００５４】
[00061]  本発明の上記の実施形態は主に、複合イメージを備えるイメージ部分の位置合わせを測定するためにボックスインボックスメトロロジーマークを備えるものとして説明されている。しかし、本発明は、複合イメージの区域外で基板に投影された場合に、任意の種類の知られているメトロロジーマークへと拡大されることが認識される。このような代替タイプのメトロロジーマークは回折格子を含むことができ、これはメトロロジーマークの位置合わせを、したがって関連するイメージ部分の位置合わせを求めるために、回折格子から反射した光から形成された干渉パターンを測定することができる。さらに、本発明の１つの実施形態において、複数の異なるタイプのメトロロジーマークを使用することができる。「メトロロジーマーク」という用語は、マークを任意の特定のタイプに制約したり、マークの使用方法に不当な制約を加えたりするものではない。
【００５５】
[00062]  メトロロジーマークの位置合わせの測定は、基板がまだ所定の位置にある間にリソグラフィ装置自体の内部で実行することができる。これは、リソグラフィ装置の部分を形成し、従来は基板および／またはパターニングデバイスの位置を測定するために使用されている標準的な計測装置を使用することができる。あるいは、例えば１つの層に対して基板をパターニングした後、他の処理ステップを基板に適用している間には、リソグラフィ装置の外側で測定を実行することができる。
【００５６】
[00063]  本発明の上述した実施形態は、デバイスの１つの層にて複合イメージを形成するイメージ部分の位置合わせを測定できるように、複合イメージの区域の外側にメトロロジーマークを形成するリソグラフィ装置および方法を指向する。しかし、第一層の頂部にさらなる層を投影する場合に、同じ技術を使用して位置合わせ精度を測定できることが認識される。例えば、第一層の一部を投影する場合、第一メトロロジーマーク、例えば大ボックスを、複合イメージの外側にあるスクライブ線内に投影することができる。第二層の一部を第一層の同じ部分に投影する場合は、第二メトロロジーマーク、例えば小ボックスを投影することができ、したがって２つの異なる層の部分として投影されるメトロロジーマークの位置合わせを測定し、したがって２つの層のオーバレイ精度を測定することができる。
【００５７】
[00064]  上述した本発明の実施形態では、ピクセルブロックパターニング部分１６、周辺ブロックパターニング部分１７〜２０およびメトロロジーマークパターニング部分２１および２２は、１つのマスクのような１つのパターニングデバイスに配置されているものとして説明されている。しかし、本発明の代替実施形態では、各イメージ部分パターニング部分１６〜２０を、別個のマスクのような別個のパターニングデバイスに配置することができる。別個の各マスクは、１つのマスクについて図３に図示された別個のマスク領域１１〜１５に対応する。別個の各マスクは、マスク領域１１〜１５に図示された関連のメトロロジーマーク２１、２２も含み、したがってイメージ部分毎に別個のマスクを使用しても、各イメージ部分は、基板に投影された場合に引き続き関連するメトロロジーマークに対して固定された空間関係にある。
【００５８】
[00065]  図３に戻ると、これは複合投影イメージを生成するために基板に投影されるイメージ部分およびメトロロジーマークの全てに関連するパターニング部分を備える本発明の実施形態によるパターニングデバイスを示す。本発明の代替実施形態によれば、メトロロジーマーク２１、２２を含む画定された領域１１〜１５があるマスクを備えるマスクテンプレートが提供される。しかし、ピクセルブロックおよび周辺ブロックのパターニング部分１６、１７〜２０は画定されない。このようなテンプレートは、マスクが、領域１１〜１５内にあれば全て、相対的位置合わせをチェックできるような方法で基板に投影できることを保証しながら、ピクセルブロックおよび周辺ブロックのパターニング部分１６、１７〜２０をその後にカスタム化できるようにする所定のメトロロジーマークを有するという点で有利である。
【００５９】
[00066]  本発明のさらなる実施形態は、２つの別個のリソグラフィ装置の相対的位置精度を比較するために使用可能な基準ウェーハを備える。第一層が、上述したように較正されたリソグラフィ装置を使用して、レジストの層で被覆した基板の表面に投影される。基板の表面に投影されたパターンは、少なくとも１つのパターニング部分および少なくとも１つのオフセットメトロロジーマークを備える。パターンを保持するために、この第一層を露光し、処理する（例えばエッチングを含む）。基板をレジストのさらなる層で被覆し、異なるリソグラフィ装置へと移送する。次に、基板に第二層を投影し、これも少なくとも１つのパターニング部分および少なくとも１つのオフセットメトロロジーマークを備える。投影されたイメージの第一層に対するオフセットは、２つのメトロロジーマークの相対的オフセットを測定することによって求めることができる。第二層パターンは、レジストの層を除去することによって除去することができ、したがって他のリソグラフィ装置の相対的位置精度を較正するために、同じ基準ウェーハを使用することができる。この方法で、１つの基準リソグラフィ装置（つまり第一層を基板に投影するために使用されるリソグラフィ装置）に対する位置精度を求めるように、幾つかのリソグラフィ装置を較正することができる。
【００６０】
[00067]  本発明の特定の実施形態について説明してきたが、多くの変形が当業者には直ちに明白であることが理解され、したがって本発明は請求の範囲の精神および範囲によってのみ制限されるものとする。
【図面の簡単な説明】
【００６１】
【図１】[00013]  本発明の実施形態によるリソグラフィ装置を示した図である。
【図２】[00014]  本発明の実施形態により基板に投影される複数のイメージ部分および関連するマークからなる複合イメージを示した図である。
【図３】[00015]  図２の複合イメージのイメージ部分を基板に順次投影するのに適切なパターニングデバイスを示した図である。
【図４】[00016]  イメージ部分の１つが適正な位置から平行移動した場合の図２の複合イメージを示した図である。
【図５】[00017]  イメージ部分の１つが適正な位置の周囲で回転した場合の図２の複合イメージを示した図である。
【図６】[00018]  イメージ部分の１つが適正なサイズより大きく拡大された場合の図２の複合イメージを示した図である。
【図７】[00019]  本発明の代替実施形態による複合イメージを示した図である。
【図１】
2008042194.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
2008042194.tif 000007
【図６】
2008042194.tif 000008
【図７】
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【外国語明細書】
2008042194000001.pdf