(57)【要約】【課題】生産性が高く、信頼性に優れたプラズマディスプレイパネルが得られるプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供する。【解決手段】第１の基板の片面外縁付近に接着剤を塗布して形成した接着剤層を介して第２の基板を貼り合わせることにより希ガスが封入されたセルを形成するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、前記接着剤は、光後硬化性樹脂組成物からなるものであり、前記第２の基板の貼り合わせは、少なくとも、前記第１の基板の片面外縁付近に形成した接着剤層に光を照射して硬化反応を開始させた後、真空装置内で一定時間減圧を行い、前記真空装置内を希ガスに置換した後に行うプラズマディスプレイパネルの製造方法。【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板の片面外縁付近に接着剤を塗布して形成した接着剤層を介して第２の基板を貼り合わせることにより希ガスが封入されたセルを形成するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記接着剤は、光後硬化性樹脂組成物からなるものであり、
前記第２の基板の貼り合わせは、少なくとも、前記第１の基板の片面外縁付近に形成した接着剤層に光を照射して硬化反応を開始させた後、真空装置内で一定時間減圧を行い、前記真空装置内を希ガスに置換した後に行う
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、生産性が高く、信頼性に優れたプラズマディスプレイパネルが得られるプラズマディスプレイパネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰともいう）は、自発光型の表示装置であり、薄型軽量なフラットパネルである。このＰＤＰは、高輝度でコントラストや広視野角を有し、歪がなく応答速度が速く、かつ、大型化が可能である等の特徴を有していることから近年注目を集めている。
【０００３】
このようなＰＤＰには、交流電圧又はパルス電圧で駆動するＡＣ形と、直流電圧で駆動するＤＣ形とが知られており、ＡＣ形ＰＤＰは、電極が誘電体層で被覆されている構造を有し、ＤＣ形ＰＤＰは、電極が放電空間に露出した構造を有する。
例えば、ＡＣ形ＰＤＰの製造方法としては、従来、第１の基板と第２の基板とを封着剤を介して貼り合わせる工程、熱処理によりこれらの基板を封着する工程、排気孔を通して排気管より排気を行う工程、及び、放電ガスを封入する工程を有する方法が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
しかしながら、このような従来のＰＤＰの製造方法では、排気を行う工程において、封着した一対の基板間の空間を充分に排気するには長時間を要し生産性に問題があった。また、大型のＰＤＰを製造する場合、一対の基板間の空間を均一に排気することが困難であるため高品質なＰＤＰを製造し難いという問題があった。
【０００５】
また、従来、一対の基板を封着する封着剤としては、低融点ガラスと分解性樹脂とを含有するものが広く用いられている（例えば、特許文献２参照）。
しかしながら、このような封着剤は、封着工程において高温に加熱することが必要とされるため、製造するＰＤＰにダメージを与えることがあった。
更に、加熱されることで封着剤から不純ガスが発生し、この発生した不純ガスの一対の基板間からの除去が不充分であると、残留した不純ガスが一対の基板間に吸着し、製造するＰＤＰの画質を低下させ信頼性の高いＰＤＰが製造できないといった問題もあった。また、発生した不純ガスを一対の基板間から完全に除去するためには長時間の排気が必要となり生産性悪化の原因となっていた。
【特許文献１】特開２００５−０５６７３２号公報
【特許文献２】特開平８−１６５１４２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、上述した従来技術の現状に鑑み、生産性が高く、信頼性に優れたプラズマディスプレイパネルが得られるプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、第１の基板の片面外縁付近に接着剤を塗布して形成した接着剤層を介して第２の基板を貼り合わせることにより希ガスが封入されたセルを形成するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、前記接着剤は、光後硬化性樹脂組成物からなるものであり、前記第２の基板の貼り合わせは、少なくとも、前記第１の基板の片面外縁付近に形成した接着剤層に光を照射して硬化反応を開始させた後、真空装置内で一定時間減圧を行い、前記真空装置内を希ガスに置換した後に行うプラズマディスプレイパネルの製造方法である。
以下、本発明を詳細に説明する。
【０００８】
本発明は、第１の基板の片面外縁付近に接着剤を塗布して形成した接着剤層を介して第２の基板を貼り合わせることにより希ガスが封入されたセルを形成するプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の製造方法である。
上記第１の基板及び第２の基板は、従来公知のＰＤＰにおける一対の基板と同様の構成をなす基板である。すなわち、上記第１の基板としては、従来公知のＰＤＰに用いられる一対の基板のいずれか一方と同様のものが挙げられ、上記第２の基板は、従来公知のＰＤＰを構成する一対の基板のいずれか他方の基板と同様のものが挙げられる。
【０００９】
本発明のＰＤＰの製造方法において、上記接着剤は、光後硬化性樹脂組成物からなるものである。
本明細書において、「光後硬化性樹脂組成物」とは、光の照射により硬化する前は粘着性を示し、硬化後は、粘着性を示さないものであり、光が照射されてから硬化が完了するまでの時間（可使時間）が１分以上のものをいう。
【００１０】
上記光後硬化性樹脂組成物からなる接着剤を用いることで、生産性が高く、信頼性に優れたプラズマディスプレイパネルを製造することができる。これは、以下に掲げる理由によると考えられる。
光後硬化性樹脂組成物からなる接着剤も硬化時には不純ガスが発生するが、その殆どは含有する重合開始剤の分解に由来するものであるため、第１の基板の片面外縁付近に上記接着剤を塗布して形成した接着剤層に光を照射し、該接着剤層の硬化反応を開始させた直後に発生する。
本発明のＰＤＰの製造方法は、後述するように上記接着剤層に光を照射して硬化反応を開始させたときには、該接着剤層がオープンな状態、すなわち、未だ第２の基板を貼り合わせてセルを形成していない状態にあるため、真空装置内にて減圧を行うことで発生した不純ガスを迅速かつ容易に除去することができる。更に、該真空装置内を希ガスに置換した後に第２の基板の貼り合わせを行うと、形成するセル内に不純ガスは殆ど残留しておらず、しかも、セルに封入した希ガスは均一なものとなる。
このような本発明のＰＤＰの製造方法は、硬化反応開始後直ちに硬化反応が終了する従来の光硬化型接着剤を用いた場合には実現できず、上記光後硬化性樹脂組成物からなる接着剤の光照射による反応開始から硬化反応が完了するまでの時間（可使時間）が、上記第１の基板の片面外縁付近に形成した接着剤層に光を照射してから、上記真空装置内での不純ガスの除去、希ガスへの置換及び第２の基板の貼り合わせを行うまでの時間より長くなるように調整することで実現できる。
【００１１】
上記光後硬化性樹脂組成物としては特に限定されないが、例えば、光硬化性化合物、及び、光カチオン重合開始剤を含有するものが好適に用いられる。
【００１２】
上記光硬化性化合物としては、例えば、分子内に少なくとも１個の光カチオン重合性官能基を有する光カチオン重合性化合物が挙げられる。
このような光カチオン重合性化合物としては、例えば、分子内に少なくとも１個のエポキシ基、オキセタニル基、水酸基、ビニルエーテル基、エピスルフィド基、エチレンイミン基等の光カチオン重合性官能基を有する化合物等が挙げられる。なかでも、光カチオン重合性が高く、少ない光量でも効率的に硬化が進行することから、分子内に少なくとも１個のエポキシ基を有する化合物（以下、エポキシ系化合物ともいう）が好適に用いられる。
上記光カチオン重合性化合物の性状（分子量）としては、特に限定されず、モノマー、オリゴマー、ポリマーのいずれであってもよい。また、上記光硬化性化合物は、単独で用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。
【００１３】
上記エポキシ系化合物としては特に限定されず、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂等のノボラック型エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、異節環状型エポキシ樹脂、多官能性エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂等のアルコール型エポキシ樹脂、臭素化エポキシ樹脂等のハロゲン化エポキシ樹脂、ゴム変性エポキシ樹脂、ウレタン変性エポキシ樹脂、エポキシ化ポリブタジエン、エポキシ化スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、エポキシ基含有ポリエステル樹脂、エポキシ基含有ポリウレタン樹脂、エポキシ基含有アクリル樹脂等が挙げられる。これらのエポキシ系化合物は、単独で用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。
【００１４】
上記エポキシ系化合物の市販品としては特に限定されず、例えば、ジャパンエポキシレジン社製の商品名「エピコート８０６」、「エピコート８２８」、「エピコート１００１」、「エピコート１００２」等の「エピコート」シリーズや、ダイセル化学工業社製の商品名「セロキサイド２０２１」等の「セロキサイド」シリーズ等が挙げられる。
【００１５】
また、上記エポキシ系化合物以外の光カチオン重合性化合物としては特に限定されず、例えば、エポキシド類、環状エーテル類、ビニルエーテル類、ビニルアミン類、不飽和炭化水素類、ラクトン類及び他の環状エステル類、ラクタム類、環状カーボネート類、環状アセタール類、アルデヒド類、環状アミン類、環状スルフィド類、シクロシロキサン類、シクロトリホスファゼン類及び他の光カチオン重合可能な基やモノマー等の少なくとも１個の光カチオン重合可能基を有している光カチオン重合性化合物が挙げられ、なかでも、エポキシドモノマー等の環状エーテルモノマーやビニル有機モノマー等が好適に用いられる。これらの他の光カチオン重合性化合物は、単独で用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。
【００１６】
上記光カチオン重合開始剤としては特に限定されず、例えば、イオン性光酸発生タイプであってもよいし、非イオン性光酸発生タイプであってもよい。なかでも、重合効率が高いことから下記式（１）で表されるようなボロン酸を対アニオンとするボロン酸塩からなる光カチオン重合開始剤が好適に用いられ、具体的には、「Ｐｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒ  ２０７４」（ローディア社製）等の市販品が挙げられる。
【００１７】
【化１】
2008053093.tif 000002
【００１８】
上記イオン性光酸発生タイプの光カチオン重合開始剤としては特に限定されず、例えば、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ハロニウム塩、芳香族スルホニウム塩等のオニウム塩類や、鉄−アレン錯体、チタノセン錯体、合わせガラス用中間膜リールシラノール−アルミニウム錯体等の有機金属錯体類等が挙げられる。これらの光カチオン重合開始剤は、単独で用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【００１９】
上記イオン性光酸発生タイプの光カチオン重合開始剤の具体例としては、例えば、「アデカオプトマーＳＰ１５０」、「アデカオプトマーＳＰ１７０」（いずれも旭電化工業社製）、「ＵＶＥ−１０１４」（ゼネラルエレクトロニクス社製）、「ＣＤ−１０１２」（サートマー社製）、「ＲＤ−２０７４」（ローディア社製）等が挙げられる。
【００２０】
また、上記イオン性光酸発生タイプの光カチオン重合開始剤は、下記一般式（２）又は下記一般式（３）で表されるスルホニウムカチオン部分を有することが好ましい。
【００２１】
【化２】
2008053093.tif 000003
【００２２】
【化３】
2008053093.tif 000004
【００２３】
上記一般式（２）及び一般式（３）中、Ｒ１〜Ｒ６は、互いに同一であってもよいし、異なっていてもよく、それぞれ１価若しくは２価のフェニル基又はナフチル基を表し、これらフェニル基又はナフチル基は、直鎖状又は分枝鎖状Ｃ１〜Ｃ１２アルキル基、直鎖状又は分枝鎖状Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシル基、ハロゲン原子、−ＯＨ基、−ＣＯＯＨ基及び−ＣＯＯ−アルキルエステル基（ここで、アルキル部分は直鎖状又は分枝鎖状Ｃ１〜Ｃ１２残基である）からなる群より選択される少なくとも１個の基で随意に置換されていてもよい。
【００２４】
また、上記イオン性光酸発生タイプの光カチオン重合開始剤は、下記一般式（４）で表されるホウ素中心アニオン部分を有することが好ましい。
【００２５】
【化４】
2008053093.tif 000005
【００２６】
上記一般式（４）中、Ｂは、３価のホウ素を表し、Ｒ７〜Ｒ１０の少なくとも１個は、炭素数６〜３０のハロゲン置換芳香族基を表す。
【００２７】
このように中心アニオンがホウ素であると、光カチオン重合開始剤の酸強度が強くなるため、この光カチオン重合開始剤を用いた接着剤の硬化性が向上し、高いガラス転移温度を有する硬化物を得ることができる。その結果、上記接着剤の透湿性（透湿度）が低下し、製造するＰＤＰの信頼性をより高めることができる。
【００２８】
上記一般式（４）中、Ｒ７〜Ｒ１０の少なくとも１個は、炭素数６〜３０のハロゲン置換芳香族基である。上記芳香族基としては特に限定されず、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等が挙げられる。また、ハロゲン置換基としては特に限定されず、例えば、塩素、フッ素等が挙げられ、なかでも、フッ素が好適に用いられる。上記ハロゲン置換基は、芳香族基の芳香族環に直接結合したハロゲン基であってもよいし、例えば、ハロ−ヒドロカルビル置換基の場合のように他の置換基の一部として導入されたものであってもよく、なかでも、フルオロ−ヒドロカルビル置換基が好ましい。
【００２９】
上記光カチオン重合開始剤において、有用なホウ素中心アニオンとしては特に限定されず、例えば、［３，５−（ＣＦ３）２Ｃ６Ｈ５］４Ｂ−、（Ｃ６Ｆ５）４Ｂ−、（Ｃ６Ｈ４−ｐ−ＣＦ３）４Ｂ−、（Ｃ６Ｈ４−ｍ−ＣＦ３）４Ｂ−、（Ｃ６Ｈ４−ｐ−Ｆ）４Ｂ−、（Ｃ６Ｆ５）３（ＣＨ３）Ｂ−、（Ｃ６Ｆ５）３（ｎ−Ｃ４Ｈ９）Ｂ−、（Ｃ６Ｈ４−ｐ−ＣＨ３）３（Ｃ６Ｆ５）Ｂ−、（Ｃ６Ｆ５）３ＦＢ−、（Ｃ６Ｈ５）３（Ｃ６Ｆ５）Ｂ−、（ＣＨ３）２（Ｃ６Ｈ４−ｐ−ＣＦ３）２Ｂ−、（Ｃ６Ｆ５）３（ｎ−Ｃ１８Ｈ３７Ｏ）Ｂ−等が挙げられる。
【００３０】
上記好ましいホウ素中心アニオンは、一般的に、ホウ素に結合した３個以上のハロゲン置換芳香族基を含有しており、そのハロゲン置換基としては、フッ素が最も好ましい。最も好ましいホウ素中心アニオンとしては特に限定されず、例えば、［３，５−（ＣＦ３）２Ｃ６Ｈ３］４Ｂ−、（Ｃ６Ｆ５）４Ｂ−、（Ｃ６Ｆ５）３（ＣＨ３）Ｂ−、（Ｃ６Ｆ５）３（ｎ−Ｃ４Ｈ９）Ｂ−、（Ｃ６Ｆ５）３ＦＢ−等が挙げられる。
【００３１】
また、有用な他の金属中心又は半金属中心を含有する適当なアニオンも使用可能であり、そのようなアニオンとしては特に限定されず、例えば、［３，５−（ＣＦ３）２Ｃ６Ｈ３］４Ａｌ−、（Ｃ６Ｆ５）４Ａｌ−、（Ｃ６Ｆ５）２Ｆ４Ｐ−、（Ｃ６Ｆ５）Ｆ５Ｓｂ−、（Ｃ６Ｆ５）Ｆ５Ｐ−等が挙げられる。更に、有用であると考えられる他のホウ素中心非求核的塩や、他の金属や半金属を含有している他の有用なアニオン等も使用可能である。
【００３２】
上記光カチオン重合開始剤としては特に限定されないが、上記一般式（４）で表されるホウ素中心アニオン部分の分子量が４００以上であり、かつ、波長３００ｎｍ以上の光を吸収することが好ましく、波長３００〜４００ｎｍの光を吸収することがより好ましい。
【００３３】
上記光カチオン重合開始剤は、上記一般式（２）又は一般式（３）で表されるカチオン部分と、上記一般式（４）で表されるホウ素中心アニオン部分とを有することが好ましく、より好ましくは、上記ホウ素中心アニオン部分の分子量が４００以上であり、かつ、波長３００ｎｍ以上の光、より好ましくは波長３００〜４００ｎｍの光を吸収するものである。なかでも、上記光カチオン重合開始剤を用いた接着剤の硬化進行過程における着色防止効果や硬化物のガラス転移温度上昇効果等に優れることから、下記一般式（５）又は一般式（６）で表される光カチオン重合開始剤であることが好ましい。これらの光カチオン重合開始剤を用いることにより、硬化物の着色を防止することができる。また、上述の光カチオン重合性化合物に対して用いることにより、上記接着剤は、耐光性及び耐湿性に優れたものとなる。
これらの光カチオン重合開始剤は、単独で用いられてもよいし、２種以上が併用されてもよい。
【００３４】
【化５】
2008053093.tif 000006
【００３５】
【化６】
2008053093.tif 000007
【００３６】
上記一般式（５）及び一般式（６）中、Ｘ−は、上記式（１）で表されるアニオンを示し、Ｒ１１〜Ｒ１４は、水素原子、直鎖状又は分枝鎖状Ｃ１〜Ｃ１２アルキル基、直鎖状又は分枝鎖状Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシル基、ハロゲン原子、−ＯＨ基、−ＣＯＯＨ基、及び、−ＣＯＯ−アルキルエステル基（ここで、アルキル部分は直鎖状又は分枝鎖状Ｃ１〜Ｃ１２残基である）を示す。
【００３７】
上記非イオン性光酸発生タイプの光カチオン重合開始剤としては特に限定されず、例えば、ニトロベンジルエステル、スルホン酸誘導体、リン酸エステル、フェノールスルホン酸エステル、ジアゾナフトキノン、Ｎ−ヒドロキシイミドスルホナート等が挙げられる。
【００３８】
上記光カチオン重合開始剤の含有量としては特に限定されず、使用する光カチオン重合性化合物と、所望の可使時間により適宜調整することができるが、上記光カチオン重合性化合物（上記他の光重合性化合物を含有する場合、該他の光重合性化合物を合わせた全量）１００重量部に対して好ましい下限は０．０１重量部、好ましい上限は２０重量部である。０．０１重量部未満であると、光カチオン重合が充分に進行しなかったり、反応が遅くなりすぎたりすることがある。２０重量部を超えると、反応が速くなりすぎて作業性が低下したり、反応が不均一になりやすい。より好ましい下限は０．１重量部、より好ましい上限は５重量部である。
【００３９】
上記光カチオン重合性化合物と、光カチオン重合開始剤の組み合わせ及び配合量によって、所望の可使時間に調整し、光後硬化性を発現させることができるが、可使時間を比較的長時間（例えば、５分以上）に設定したい場合には、更に、硬化遅延剤を含有させることが好ましい。
上記硬化遅延剤は、その添加量により上記接着剤の可使時間を調整することができる。すなわち、本発明のＰＤＰの製造方法では、上記接着剤に添加する硬化遅延剤の量を適宜調整することで、後述する第１の基板の片面外縁付近に形成した接着剤層に光を照射してから、上記真空装置内での不純ガスの除去、希ガスへの置換及び第２の基板の貼り合わせを行うまでの時間より長くなるようにできる。
【００４０】
上記硬化遅延剤としては特に限定されないが、例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリオキシテトラメチレングリコール等のポリアルキレンオキサイド；クラウンエーテル等のエーテル結合を有する化合物が好適である。また、脂肪族水酸基含有化合物及び／又はフッ素系化合物も好適に用いられる。
【００４１】
上記硬化遅延剤のなかでも、クラウンエーテルを用いることが特に好ましい。硬化遅延剤としてクラウンエーテルを用いることにより、硬化遅延剤の添加量に対してＰＤＰの製造に好適な、優れた後硬化性を達成することができる。
【００４２】
また、光カチオン重合開始剤として上述の化学式（１）で表されるアニオン部を有する化合物を用いる場合、上記硬化遅延剤としてクラウンエーテルを用いることがより好ましい。
【００４３】
上記硬化遅延剤としてポリアルキレンオキサイドを用いる場合、上記ポリアルキレンオキサイドの末端としては特に限定されず、水酸基でもよいし、他の化合物によりエーテル化、エステル化されていてもよいし、エポキシ基等の官能基となっていてもよい。なかでも、水酸基、エポキシ基等は上記光重合性化合物と反応するので好適である。
【００４４】
更に、上記ポリアルキレンオキサイドとしては、ポリアルキレンオキサイド付加ビスフェノール誘導体も好適に用いられ、特に末端が水酸基又はエポキシ基を有する化合物がより好適に用いられる。
【００４５】
上記硬化遅延剤は、ポリエチレングリコール及び／又はポリプロピレングリコールを分子内に２つ以上有することが好ましい。
上記硬化遅延剤のなかでも、ポリエチレングリコールを分子内に２つ以上有する硬化遅延剤の市販品としては、例えば、「リカレジンＢＥＯ−６０Ｅ」、「リカレジンＥＯ−２０」（いずれも新日本理化社製）等が挙げられる。
また、ポリプロピレングリコールを分子内に２つ以上有する硬化遅延剤の市販品としては、例えば、「リカレジンＢＰＯ−２０Ｅ」、「リカレジンＰＯ−２０」（いずれも新日本理化社製）等が挙げられる。
【００４６】
上記クラウンエーテルとしては特に限定されず、例えば、１２−クラウン−４、１５−クラウン−５、１８−クラウン−６等が挙げられる。
【００４７】
上記硬化遅延剤の配合量としては特に限定はされないが、上記光カチオン重合性化合物（上記他の光重合性化合物を含有する場合、該他の光重合性化合物を合わせた全量）１００重量部に対して好ましい下限は０．１重量部、好ましい上限は５０重量部である。０．１重量部未満であると、光照射後に充分な可使時間が得られないことがあり、５０重量部を超えると、光カチオン重合が充分に進行しなかったり、反応が遅くなりすぎたりすることがある。より好ましい下限は０．５重量部、より好ましい上限は３０重量部であり、更に好ましい上限は１０重量部である。
【００４８】
また、上記接着剤は、バリア性を高めることを目的として、層状珪酸塩やシリカオリゴマー等を含有することが好ましい。
また、上記接着剤は、光増感剤、無機充填剤、密着性向上剤、補強剤、軟化剤、可塑剤、粘度調整剤等の従来公知の各種添加剤を含有してもよい。
【００４９】
本発明のＰＤＰの製造方法では、上記接着剤を上記第１の基板の片面外縁付近に塗布して接着剤層を形成する。上記接着剤層は、上記第１の基板の片面であって、その外縁に沿って隙間がなく閉じたパターンであることが好ましい。
【００５０】
また、上記接着剤にシリカオリゴマー等の反応時に水が発生する材料を用いた場合、上記接着剤層の内側に水分ゲッター剤を塗布することが好ましい。
【００５１】
上記接着剤層の厚さとしては特に限定されないが、後述する工程を経て製造するＰＤＰの第１の基板と第２の基板との間隔が、一般的なＰＤＰの一対のガラス基板間と同程度となるよう適宜調整することが好ましい。
【００５２】
上記接着剤層を形成する方法としては特に限定されず、例えば、スクリーン印刷、ディスペンサー塗布、フレキソ印刷、グラビア印刷、インクジェット印刷等の方法を用いることができる。
【００５３】
本発明のＰＤＰの製造方法は、上記第１の基板の片面外縁付近に形成した接着剤層を介して第２の基板を貼り合わせることにより希ガスが封入されたセルを形成するが、上記第２の基板の貼り合わせは、少なくとも、上記第１の基板の片面外縁付近に形成した接着剤層に光を照射して硬化反応を開始させた後、真空装置内で一定時間減圧を行い、該真空装置内を希ガスに置換した後に行う。
【００５４】
本発明のＰＤＰの製造方法は、上記第１の基板の片面外縁付近に形成した接着剤層に光を照射することで上記接着剤層を構成する接着剤の硬化反応を開始させる。
上記接着剤層に光を照射する条件としては特に限定されず、上記接着剤の組成、形成した接着剤層の厚さ等を考慮して適宜決定する。
【００５５】
上記光を照射するための光源としては特に限定されず、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、エキシマレーザ、ケミカルランプ、ブラックライトライプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプ、ナトリウムランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、蛍光灯、太陽光、電子線照射装置等が挙げられる。これらの光源は、単独で用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【００５６】
また、これらの光源の使用に際しては、例えば、光カットフィルター等を用いて、熱線や波長３００ｎｍ未満の光を除去することが好ましい。
上記光源の上記光照射を行う接着剤層への照射手段としては、例えば、各種光源の同時照射、時間差をおいての逐次照射、同時照射と逐次照射との組み合わせ照射等が挙げられ、いずれの手段を採ってもよい。
【００５７】
光を照射した上記接着剤層が形成された第１の基板の減圧を一定時間行う真空装置としては特に限定されず、例えば、内部に第１の基板と後述する第２の基板とを貼り合わせる作業が可能な空間を有し、かつ、内部空間のガスを排気して減圧状態にできるとともに、希ガスを内部空間に注入可能な排気孔が設けられた真空チャンバ等の従来公知の装置が挙げられる。
【００５８】
光を照射した上記接着剤層が形成された第１の基板を上記真空装置内で一定時間減圧を行う方法としては、例えば、上記真空チャンバ内に上記第１の基板を搬入し、該真空チャンバ内の排気を行う方法が挙げられる。なお、上記第１の基板の片面外縁付近への接着剤層の形成及び光照射を上記真空装置内で行い、続けて該真空装置による一定時間の減圧を行ってもよい。
【００５９】
上記真空装置内の減圧時の圧力としては、好ましい下限が１×１０−６Ｐａ、好ましい上限が１０Ｐａである。１×１０−６Ｐａ未満であると、真空度を向上させるためにかえって生産性が低下することがあり、１０Ｐａを超えると、接着剤層から発生した不純ガスを充分に除去するのに長時間を要し生産性の低下や、セル中への不純ガスの残留が発生して信頼性の高いＰＤＰを製造できなくなることがある。より好ましい下限は１×１０−５Ｐａ、より好ましい上限は１Ｐａである。
【００６０】
上記減圧の時間としては特に限定されず、上記接着剤の組成、形成した接着剤層厚さ等を考慮して適宜決定される。
【００６１】
上述した通り、接着剤層への光の照射により含有する重合開始剤の分解に由来する不純ガスが光照射直後に発生するが、本発明のＰＤＰの製造方法は、上記真空装置内で一定時間減圧を行うため、発生した不純ガスの殆どは除去され上記第１の基板の接着剤層を形成した面付近に留まることがない。
【００６２】
上記真空装置内を希ガスに置換する方法としては、例えば、上記減圧雰囲気とした真空装置内に希ガスを注入する方法が挙げられ、これにより、上記光を照射した接着剤層を有する第１の基板の周囲は、希ガスで満たされた状態となる。
なお、上記接着剤層の硬化反応の進行により発生する不純ガスは、硬化反応開始直後に発生することから、上記真空装置内を希ガスに置換する際には上述した減圧処理により除去されており殆ど存在していない。
【００６３】
上記希ガスとしては特に限定されず、例えば、ネオンを主成分とする混合ガスやキセノンを主成分とする混合ガス等、ＰＤＰに使用される従来公知のものが挙げられる。
【００６４】
本発明のＰＤＰの製造方法は、上記真空装置内を希ガスに置換した後に、上記第２の基板を、光を照射した接着剤層を介して第１の基板と対向するように貼り合せる。
これにより、上記第１の基板と第２の基板とが接着剤層を介して貼り付けられ希ガスが封入されたセルが作製される。
【発明の効果】
【００６５】
本発明によると、生産性が高く、信頼性に優れたプラズマディスプレイパネルが得られるプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００６６】
以下に実施例を掲げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。
【００６７】
（実施例１）
光カチオン重合性化合物（ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、エピコート８２８、ジャパンエポキシレジン社製）１００重量部、光カチオン重合開始剤（アデカオプトマーＳＰ１７０、旭電化社製）１０重量部、及び、硬化遅延剤（１８−クラウン−６）１重量部を、ホモディスパー型撹拌混合機（ホモディスパーＬ型、特殊機化社製）を用い、撹拌速度３０００ｒｐｍで均一に撹拌混合して、光後硬化性樹脂組成物を調製し、これを接着剤とした。
【００６８】
（評価）
実施例１で調製した接着剤を用いて以下の評価を行った。
【００６９】
（基板の貼り合わせ）
１００ｍｍ×１００ｍｍ×１ｍｍのガラス板を２枚用意し、真空チャンバ内で、一方の基板の片面外縁付近に幅５ｍｍ、厚さ０．２ｍｍの閉じたパターンの接着剤層を形成した。
次に、波長３６５ｎｍの紫外線を２０００ｍＪ／ｃｍ２照射した。
次に、真空チャンバ内を真空排気により１Ｐａに減圧し、８０℃３０分静置した。
その後、他方の基板を接着剤層を介して一方の基板に重ね合わせた。
その結果、実施例１で調製した接着剤を用いた基板は好適に貼り合わせることができた。
【００７０】
（硬化物のアウトガス量測定）
真空チャンバ内に設置した１００ｍｍ×１００ｍｍ×１０ｍｍの容器の底部に実施例１で調製した接着剤３００ｍｇを塗布し、厚さ０．２ｍｍの接着剤層を形成した後、波長３６５ｎｍの紫外線を２０００ｍＪ／ｃｍ２照射した。
次に、容器の上面が開放された状態で真空チャンバ内を真空排気により１Ｐａに減圧し、１０分静置した後、容器の上面を密封した。
その後８０℃、３０分で容器を加熱し、容器内のガスをＧＣ−ＭＳ（日本電子社製ＪＭＳ−Ｋ９）を用いて測定した。その結果、ガス発生量は、トータル接着剤重量比にて８ｐｐｍであった。
【産業上の利用可能性】
【００７１】
本発明によれば、生産性が高く、信頼性に優れたプラズマディスプレイパネルが得られるプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供することができる。