(57)【要約】      （修正有）【課題】ヘイズが小さい位相差フィルムの製造方法を提供すること。【解決手段】透明基板１上に架橋性官能基を有する架橋性液晶材料と、光反応性基を有する光反応性化合物とを含有する紫外線硬化性組成物を塗工することにより、上記透明基板上に位相差層形成用層２Ａ’を形成する位相差層形成用層形成工程と、上記位相差層形成用層に片面から偏光紫外線を照射し、上記光反応性化合物を反応させることによって上記位相差層形成用層に上記架橋性液晶材料に対する配向性を発現させる配向性付与工程と、上記位相差層形成用層の上記偏光紫外線が照射された面の表面が、上記偏光紫外線が照射された面とは反対側の表面よりも先に上記架橋性液晶材料の結晶−液晶相転移温度に達するように上記位相差層形成用層を加温することを特徴とする位相差フィルムの製造方法。【選択図】図１
2008089894.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板を用い、前記透明基板上に架橋性官能基を有する架橋性液晶材料と、光反応性基を有する光反応性化合物とを含有する紫外線硬化性組成物を塗工することにより、前記透明基板上に位相差層形成用層を形成する位相差層形成用層形成工程と、
前記位相差層形成用層に片面から偏光紫外線を照射し、前記光反応性化合物を反応させることによって前記位相差層形成用層に前記架橋性液晶材料に対する配向性を発現させる配向性付与工程と、
前記位相差層形成用層の前記偏光紫外線が照射された面の表面が、前記偏光紫外線が照射された面とは反対側の表面よりも先に前記架橋性液晶材料の結晶−液晶相転移温度に達するように前記位相差層形成用層を加温することにより、前記架橋性液晶材料を配列させる液晶配列工程と、
前記液晶配列工程により配列された架橋性液晶材料を架橋させる液晶架橋工程と、を有することを特徴とすることを特徴とする、位相差フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記光反応性化合物が、下記式（Ｉ）および（ＩＩ）で表される光反応性基の少なくとも１つを有することを特徴とする、請求項１に記載の位相差フィルムの製造方法。
【化１】
2008089894.tif 000019
（上記式（Ｉ）および（ＩＩ）において、Ａ１、Ａ２，Ａ３は、それぞれ独立に未置換、または任意にフッ素、塩素、シアノ、アルキル、アルコキシ、または、アルキルオキシカルボニルで置換された１，４−フェニレン、４，４’−ビフェニレン、１，４−ナフチレン、２，６−ナフチレン、ピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピペリジン−１,４−ジイル、または、ピペラジン−１,４−ジイルを表す。
Ｒ１は、水素、炭素数１〜４のアルキル、または、炭素数１〜４のアルコキシを表す。
Ｒ２は、水素、炭素数１〜４のアルキル、炭素数１〜４のアルコキシ、炭素数２〜６のアルキルオキシカルボニル、または、シアノを表す。
Ｒ３は水素、未置換または任意のフッ素、塩素で置換された炭素数１〜２０のアルキルを表す。）
【請求項３】
透明基板を用い、前記透明基板上に分子内に液晶性を示す液晶性構造単位および光反応性基を有する光反応性高分子液晶を含有する高分子液晶含有組成物を塗工することにより、前記透明基板上に位相差層形成用層を形成する位相差層形成用層形成工程と、
前記位相差層形成用層に片面から偏光紫外線を照射し、前記光反応性基を反応させることによって前記位相差層形成用層に前記液晶性構造単位に対する配向性を発現させる配向性付与工程と、
前記位相差層形成用層の前記偏光紫外線が照射された面の表面が、前記偏光紫外線が照射された面とは反対側の表面よりも先に前記光反応性高分子液晶のガラス相−液晶相転移温度に達するように前記位相差層形成用層を加温することにより、前記液晶性構造単位を配列させる液晶配列工程と、を有することを特徴とする、位相差フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記液晶配列工程が、前記配向性付与工程において前記偏光紫外線が照射された面側のみから、前記位相差層形成用層を加温するものであることを特徴とする、請求項１から請求項３までのいずれかの請求項に記載の位相差フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記配向性付与工程が、前記位相差層形成用層の前記透明基板とは反対面側から、前記位相差層形成用層に偏光紫外線を照射するものであることを特徴とする、請求項１から請求項４までのいずれかの請求項に記載の位相差フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶表示装置等に用いられる位相差フィルムの製造方法に関するものである。より詳しくは、透明基板と、上記透明基板上に配向膜を介することなく直接形成され、液晶性材料を含有する位相差層とを有する位相差フィルムの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、その省電力、軽量、薄型等といった特徴を有することから、従来のＣＲＴディスプレイに替わり、近年急速に普及している。一般的な液晶表示装置としては、図３に示すように、入射側の偏光板１０２Ａと、出射側の偏光板１０２Ｂと、液晶セル１０１とを有するものを挙げることができる。偏光板１０２Ａおよび１０２Ｂは、所定の振動方向の振動面を有する直線偏光（図中、矢印で模式的に図示）のみを選択的に透過させるように構成されたものであり、それぞれの振動方向が相互に直角の関係になるようにクロスニコル状態で対向して配置されている。また、液晶セル１０１は画素に対応する多数のセルを含むものであり、偏光板１０２Ａと１０２Ｂとの間に配置されている。
【０００３】
液晶表示装置には特有の欠点として視野角特性の問題がある。視野角特性の問題とは、液晶表示装置を正面から見た場合と、斜め方向から見た場合とでコントラストや色味等が変化する問題である。このような問題は、液晶表示装置に用いられる液晶セルが複屈折性を示すことやクロスニコルに配置された２枚の偏光板を有することに起因するものである。
【０００４】
上記視野角特性の問題を改善するため、現在までに様々な技術が開発されている。そして、その代表的な方法の一つに所定の複屈折率を有する位相差フィルムを用いる方法がある。この位相差フィルムを用いる方法は、液晶表示装置における液晶セルと偏光板との間に所定の複屈折率を示す位相差フィルムを配置することによって視野角特性を改善する方法である。このような方法は、液晶セルの種類に応じて複屈折率の異なる位相差フィルムを用いることにより、様々の光学特性を有する液晶セルを用いた液晶表示装置の視野角依存性の問題を改善できる点において有用であり、現在種々の表示方式を採用した液晶表示装置において採用されるに至っている。
【０００５】
上記位相差フィルムとしては、従来、基材と、上記基材上に形成された配向膜と、上記配向膜上に形成され、液晶材料を含有する位相差層とを有するものが広く用いられてきた。このような位相差フィルムは、上記位相差層において上記液晶材料が上記配向膜の配向規制力に従って規則的に配列されていることにより、所望の複屈折率を発現することができるものである。
【０００６】
ところで、近年においては上記位相差フィルムとして上記配向膜を必要としないもの、すなわち、上記基材上に、位相差層が直接形成された構成を有する位相差フィルムが開発されている（特許文献１および特許文献２）。このような配向膜を必要としない位相差フィルムは、従来の配向膜を用いる位相差フィルムでは実現することが困難であった、液晶材料の３次元配向が可能であったり、また、複数の位相差層を積層することが可能であったり、さらには、位相差フィルムの製造工程を簡略化することができるという利点を有する。
【０００７】
しかしながら、特許文献１および特許文献２に開示されているような、化合物を用いて配向膜を必要としない位相差フィルムを作成した場合、従来の配向膜を用いた位相差フィルムに比べて位相差層のヘイズが大きくなってしまう問題点があった。
【０００８】
このようなことから、配向膜を用いない位相差フィルムにおいては、透明性に優れた位相差フィルムを得ることが困難であるという問題点があった。
【０００９】
【特許文献１】特表２００２−５１７６０５号公報
【特許文献２】特開２００２−８２２２４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであり、透明基板と、上記透明基板上に配向膜を介することなく直接形成され、液晶性材料を含有する位相差層とを有する位相差フィルムであって、ヘイズが小さい位相差フィルムを製造可能な位相差フィルムの製造方法を提供することを主目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題を解決するために、本発明は、透明基板を用い、上記透明基板上に架橋性官能基を有する架橋性液晶材料と、光反応性基を有する光反応性化合物とを含有する紫外線硬化性組成物を塗工することにより、上記透明基板上に位相差層形成用層を形成する位相差層形成用層形成工程と、上記位相差層形成用層に片面から偏光紫外線を照射し、上記光反応性化合物を反応させることによって上記位相差層形成用層に上記架橋性液晶材料に対する配向性を発現させる配向性付与工程と、上記位相差層形成用層の上記偏光紫外線が照射された面の表面が、上記偏光紫外線が照射された面とは反対側の表面よりも先に上記架橋性液晶材料の結晶−液晶相転移温度に達するように上記位相差層形成用層を加温することにより、上記架橋性液晶材料を配列させる液晶配列工程と、上記液晶配列工程により配列された架橋性液晶材料を架橋させる液晶架橋工程と、を有することを特徴とする位相差フィルムの製造方法を提供する。
【００１２】
本発明によれば、上記配向性付与工程が、上記位相差層形成用層に片面から偏光紫外線を照射することによって上記位相差層形成用層に上記配向性を付与するものであり、かつ、上記液晶配列工程が上記位相差層形成用層の上記偏光紫外線が照射された面の表面が、上記偏光紫外線が照射された面とは反対側の表面よりも先に上記架橋性液晶材料の結晶−液晶相転移温度に達するように上記位相差層形成用層を加温することによって、上記架橋性液晶材料を配列させるものであることにより、上記液晶配列工程において上記架橋性液晶材料を均一に配列させることができる。このため、本発明によればヘイズが小さい位相差層を有する位相差フィルムを製造することができる。
このようなことから、本発明によれば、透明基板と、上記透明基板上に配向膜を介することなく直接形成され、液晶性材料を含有する位相差層とを有する位相差フィルムであって、ヘイズが小さい位相差フィルムを製造することができる。
【００１３】
本発明においては、上記光反応性化合物が、下記式（Ｉ）および（ＩＩ）で表される光反応性基の少なくとも１つを有することが好ましい。下記式（Ｉ）および（ＩＩ）で表される光反応基を有する光反応性化合物は、上記架橋性液晶材料との相溶性に優れるため、このような光反応性化合物を用いることにより、さらにヘイズが小さい位相差フィルムを製造することが可能になるからである。
【００１４】
【化１】
2008089894.tif 000003
【００１５】
上記式（Ｉ）および（ＩＩ）において、Ａ１、Ａ２，Ａ３は、それぞれ独立に未置換、または任意にフッ素、塩素、シアノ、アルキル、アルコキシ、または、アルキルオキシカルボニルで置換された１，４−フェニレン、４，４’−ビフェニレン、１，４−ナフチレン、２，６−ナフチレン、ピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピペリジン−１,４−ジイル、または、ピペラジン−１,４−ジイルを表す。
Ｒ１は、水素、炭素数１〜４のアルキル、または、炭素数１〜４のアルコキシを表す。
Ｒ２は、水素、炭素数１〜４のアルキル、炭素数１〜４のアルコキシ、炭素数２〜６のアルキルオキシカルボニル、または、シアノを表す。
Ｒ３は水素、未置換または任意のフッ素、塩素で置換された炭素数１〜２０のアルキルを表す。
【００１６】
また本発明は、透明基板を用い、上記透明基板上に分子内に液晶性を示す液晶性構造単位および光反応性基を有する光反応性高分子液晶を含有する紫外線硬化性組成物を塗工することにより、上記透明基板上に位相差層形成用層を形成する位相差層形成用層形成工程と、上記位相差層形成用層に片面から偏光紫外線を照射し、上記光反応性基を反応させることによって上記位相差層形成用層に上記液晶性構造単位に対する配向性を発現させる配向性付与工程と、上記位相差層形成用層の上記偏光紫外線が照射された面の表面が、上記偏光紫外線が照射された面とは反対側の表面よりも先に上記光反応性高分子液晶のガラス相−液晶相転移温度に達するように上記位相差層形成用層を加温することにより、上記液晶性構造単位を配列させる液晶配列工程と、を有することを特徴とする位相差フィルムの製造方法を提供する。
【００１７】
本発明によれば、上記配向性付与工程が、上記位相差層形成用層に片面から偏光紫外線を照射することによって上記位相差層形成用層に上記配向性を付与するものであり、かつ、上記液晶配列工程が上記位相差層形成用層の上記偏光紫外線が照射された面の表面が、上記偏光紫外線が照射された面とは反対側の表面よりも先に上記光反応性高分子液晶のガラス相−液晶相転移温度に達するように上記位相差層形成用層を加温することによって、上記液晶性構造単位を配列させるものであることにより、上記液晶配列工程において上記液晶性構造単位を均一に配列させることができる。このため、本発明によればヘイズが小さい位相差層を有する位相差フィルムを製造することができる。
このようなことから、本発明によれば、透明基板と、上記透明基板上に配向膜を介することなく直接形成され、液晶性材料を含有する位相差層とを有する位相差フィルムであって、ヘイズが小さい位相差フィルムを製造することができる。
【００１８】
本発明においては、上記液晶配列工程が、上記配向性付与工程において上記偏光紫外線が照射された面側のみから、上記位相差層形成用層を加温するものであることが好ましい。これにより、上記液晶配列工程において、上記位相差層形成用層の上記偏光紫外線が照射された面の表面が、上記偏光紫外線が照射された面とは反対側の表面よりも先に上記架橋性液晶材料の結晶−液晶相転移温度、あるいは、上記光反応性高分子液晶のガラス相−液晶相転移温度に達するように上記位相差層形成用層を加温することが容易になるからである。
【００１９】
また、本発明においては、上記配向性付与工程が、上記位相差層形成用層の上記透明基板とは反対面側から、上記位相差層形成用層に偏光紫外線を照射するものであることが好ましい。これにより、上記配向性付与工程において上記位相差層形成用層に均一な配向規制力を付与することが容易になるからである。
【発明の効果】
【００２０】
本発明は、透明基板と、上記透明基板上に配向膜を介することなく直接形成され、液晶性材料を含有する位相差層とを有する位相差フィルムであって、ヘイズが小さい位相差フィルムを製造できるという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明の位相差フィルムの製造方法について説明する。
【００２２】
本発明の位相差フィルムの製造方法は、上記位相差層形成用層形成工程に用いられる位相差層形成用塗工液の組成により、２つの態様に大別することができる。したがって、以下、各態様に分けて本発明の位相差フィルムの製造方法について説明する。
【００２３】
Ａ．第１態様の位相差フィルムの製造方法
まず、第１態様の位相差フィルムの製造方法について説明する。本態様の位相差フィルムの製造方法は、上記位相差層形成用塗工液として、架橋性官能基を有する架橋性液晶材料と、光反応性基を有する光反応性化合物とを含有するものを用いる態様である。
すなわち、本態様の位相差フィルムの製造方法は、透明基板を用い、上記透明基板上に架橋性官能基を有する架橋性液晶材料と、光反応性基を有する光反応性化合物とを含有する紫外線硬化性組成物を塗工することにより、上記透明基板上に位相差層形成用層を形成する位相差層形成用層形成工程と、上記位相差層形成用層に片面から偏光紫外線を照射し、上記光反応性化合物を反応させることによって上記位相差層形成用層に上記架橋性液晶材料に対する配向性を発現させる配向性付与工程と、上記位相差層形成用層の上記偏光紫外線が照射された面の表面が、上記偏光紫外線が照射された面とは反対側の表面よりも先に上記架橋性液晶材料の結晶−液晶相転移温度に達するように上記位相差層形成用層を加温することにより、上記架橋性液晶材料を配列させる液晶配列工程と、上記液晶配列工程により配列された架橋性液晶材料を架橋させる液晶架橋工程と、を有することを特徴とするものである。
【００２４】
このような本態様の位相差フィルムの製造方法について図を参照しながら説明する。図１は本態様の位相差フィルムの製造方法の一例を示す概略図である。図１に例示するように本態様の位相差フィルムの製造方法は、透明基板１を用い（図１（ａ））、上記透明基板１上に架橋性官能基を有する架橋性液晶材料と、光反応性基を有する光反応性化合物とを含有する紫外線硬化性組成物を塗工することにより、上記透明基板１上に位相差層形成用層２Ａ’を形成する位相差層形成用層形成工程（図１（ｂ））と、上記位相差層形成用層２Ａ’に、上記透明基板１とは、反対面（Ａ）側から偏光紫外線を照射し、上記光反応性化合物を反応させることによって、上記位相差層形成用層２Ａ’に上記架橋性液晶材料に対する配向性を発現させる配向性付与工程（図１（ｃ））と、上記位相差層形成用層２Ａ’の上記透明基板１とは反対面側の表面（Ａ）が、上記透明基板１側の表面（Ｂ）よりも先に上記架橋性液晶材料の結晶−液晶相転移温度に達するように上記位相差層形成用層２Ａ’を加温することにより、上記架橋性液晶材料を配列させる液晶配列工程（図１（ｄ））と、上記液晶配列工程により配列された架橋性液晶材料を架橋させる液晶架橋工程（図１（ｅ））と、により、透明基板１上と、上記透明基板１上に直接形成された位相差層２Ａとを有する位相差フィルム１０Ａを製造するものである（図１（ｆ））。
【００２５】
本発明によれば、上記配向性付与工程が、上記位相差層形成用層に片面から偏光紫外線を照射することによって上記位相差層形成用層に上記配向性を付与するものであり、かつ、上記液晶配列工程が、上記位相差層形成用層の上記偏光紫外線が照射された面の表面が、上記偏光紫外線が照射された面とは反対側の表面よりも先に上記架橋性液晶材料の結晶−液晶相転移温度に達するように上記位相差層形成用層を加温することによって、上記架橋性液晶材料を配列させるものであることにより、上記液晶配列工程において上記架橋性液晶材料を均一に配列させることができる。このため、本発明によればヘイズが小さい位相差層を有する位相差フィルムを製造することができる。
【００２６】
ここで、上述したような配向性付与工程および液晶配列工程を有することにより、上記架橋性液晶材料を均一に配列された位相差層を形成できる理由については明らかではないが、次のような理由によるものであると考えられる。
すなわち、上記配向性付与工程は、上記位相差層形成用層に偏光紫外線を照射することにより、上記位相差層形成用層に含有される光反応性化合物を反応させて配向性を付与するものである。ここで、上記光反応性化合物は偏光度の高い偏光紫外線が照射されることによって、より均一な配向規制力を発現できるものであることから、上記配向性付与工程においては、上記偏光紫外線が照射された面の表面が最も均一な配向規制力を発現できる領域となる。
このため、上記液晶配列工程において、上記偏光紫外線が照射された面の表面の方が、その反対側の表面よりも先に上記架橋性液晶材料の結晶−液晶相転移温度に達するように上記位相差層形成用層が加熱されることにより、上記架橋性液晶材料が配列される初期の段階において、上記架橋性液晶材料を均一な配向規制力に従って配列させることが可能となる。
ここで、上記架橋性液晶材料は、ある部分に存在する架橋性液晶材料が配列すると、他の部分に存在する架橋性液晶材料がその配列に沿うように配列する性質を有するものである。このため、上記液晶配列工程において、上記架橋性液晶材料が配列する初期の段階において均一な配列を形成することができると、その後はその均一な配列に沿って他の部分に存在する架橋性液晶材料を、いわば連鎖的に、均一に配列させることが可能となる。
このようなことから、本態様により製造される位相差フィルムは、上記架橋性液晶材料が位相差層の全体に渡って均一な配列を形成したものにできるため、位相差フィルム全体として、ヘイズが小さいものにできると考えられる。
【００２７】
以上のようなことから、本態様によれば、透明基板と、上記透明基板上に配向膜を介することなく直接形成され、液晶性材料を含有する位相差層とを有する位相差フィルムであって、ヘイズが小さい位相差フィルムを製造することができる。
【００２８】
本態様の位相差フィルムの製造方法は、少なくとも上記位相差層形成用層形成工程と、上記配向性付与工程と、上記液晶配列工程と、上記液晶架橋工程とを有するものであり、必要に応じて他の工程を有してもよいものである。
以下、本態様の位相差フィルムの製造方法に用いられる各工程について順に説明する。
【００２９】
１．液晶配列工程
まず、本態様に用いられる液晶配列工程について説明する。本工程は後述する位相差層形成用層形成工程において形成される位相差層形成用層を、後述する配向性付与工程において偏光紫外線が照射された面の表面が、その反対側の表面よりも先に上記架橋性液晶材料の結晶−液晶相転移温度に達するように加温することにより、上記架橋性液晶材料を配列させる工程である。
本態様の位相差フィルムの製造方法は、本工程がこのような方法によって上記架橋性液晶材料を配列させるものであることにより、ヘイズが小さい位相差フィルムを製造することができるのである。
以下、このような液晶配列工程について詳細に説明する。
【００３０】
上述したように、本工程は上記位相差層形成用層を加温することにより、上記架橋性液晶材料を配列させる工程であるが、本工程に用いられる加温方法としては、上記配向性付与工程において偏光紫外線が照射された面の表面が、その反対側の表面よりも先に上記架橋性液晶材料の結晶−液晶相転移温度に達するように上記位相差層形成用層を加温できる方法であれば特に限定されるものではない。このような加温方法としては、上記位相差層形成用層の両面から加温し、上記偏光紫外線が照射された面に対する加温温度を、その反対側の表面に対する加温温度よりも高くする方法と、上記位相差層形成用層を上記偏光紫外線が照射された面側からのみ加温する方法とを挙げることができる。本工程においては、これらのいずれの加温方法であっても好適に用いることができるが、なかでも後者の加温方法を用いることが好ましい。上記位相差層形成用層を上記偏光紫外線が照射された面側からのみ加温する方法を用いることにより、上記偏光紫外線が照射された面の表面が、上記偏光紫外線が照射された面とは反対側の表面よりも先に上記架橋性液晶材料の結晶−液晶相転移温度に達するように上記位相差層形成用層を加温することが容易になるからである。
なお、位相差層形成用層を上記偏光紫外線が照射された面側からのみ加温する方法を用いる場合には、上記偏光紫外線が照射された面の反対側の表面を冷却して反対側の表面の温度上昇を抑制してもよい。
【００３１】
上記位相差層形成用層を偏光紫外線が照射された面側からのみ加温する方法としては、上記偏光紫外線が照射された面を所定の温度に加温できる方法であれば特に限定されるものではない。このような加温方法としては、例えば、上記偏光紫外線が照射された面に温風を吹き付ける方法、上記偏光紫外線が照射された面にホットプレートを近接させる方法、上記偏光紫外線が照射された面の側に赤外線ヒーター又は遠赤外線ヒーターを設置する方法等を挙げることができる。
【００３２】
また、上記位相差層形成用層を偏光紫外線が照射された面側からのみ加温する場合、偏光紫外線が照射された面の加温のための熱源からの熱が反対側の面にまわりこまないように偏光紫外線が照射された面の反対側の面を断熱部材で覆ったり、偏光紫外線が照射された面の反対側の面を冷却してもよい。
【００３３】
本工程において、上記偏光紫外線が照射された面を加温する温度（Ｔｔと称す。）としては、上記架橋性液晶材料の結晶−液晶相転移温度（Ｔｍと称す。）以上であり、かつ、上記架橋性液晶材料の液晶相−等方相転移温度（Ｔｉと称す。）未満の温度であって、上記偏光紫外線が照射された面を、所定の時間内に上記架橋性液晶材料の結晶−液晶相転移温度に達するようにできる温度であれば特に限定されるものではない。このような加温温度は上記架橋性液晶材料の結晶−液晶相転移温度（Ｔｍ）、液晶相−等方相転移温度（Ｔｉ）に応じて適宜決定することができる。なかでも本工程においては、上記加温温度（Ｔｔ）が、（Ｔｍ＋５）（℃）≦Ｔｔ（℃）＜Ｔｉ(℃）の範囲内であることが好ましい。本工程における加温温度（Ｔｔ）が、Ｔｍ（℃）≦Ｔｔ（℃）＜（Ｔｍ＋５）（℃）であることにより、上記偏光紫外線が照射された面を所望の時間内に上記架橋性液晶材料の結晶−液晶相転移温度に加温することが困難となる場合があるからである。
【００３４】
２．配向性付与工程
次に、本工程に用いられる配向性付与工程について説明する。本工程は、後述する位相差層形成用層形成工程により形成される位相差層形成用層に、片面から偏光紫外線を照射し、上記位相差層形成用層に含有される上記光反応性化合物を反応させることによって、上記位相差層形成用層に上記架橋性液晶材料に対する配向性を発現させる工程である。
以下、このような配向性付与工程について詳細に説明する。
【００３５】
本工程は、上記位相差層形成用層の片面から偏光紫外線を照射することによって、上記位相差層形成用層に配向性を付与するものであるが、本工程において上記偏光紫外線を照射する位相差層形成用層の面としては、透明基板側の表面であってもよく、または、上記透明基板側とは反対側の表面であってもよい。なかでも本工程においては、上記位相差層形成用層の上記透明基板とは反対面側の表面から上記位相差層形成用層に偏光紫外線を照射することが好ましい。これは次のような理由によるものである。
すなわち、上記透明基板側の表面に偏光紫外線を照射する場合、上記偏光紫外線は透明基板を通して上記位相差層形成用層に照射されることになる。ここで、偏光紫外線を上記透明基板を通過させると、透明基板によって偏光紫外線が吸収または散乱され、紫外線の強度が低減したり、あるいは、偏光が緩和されてしまい、上記位相差層形成用層に均一な配向性を付与することが困難となる恐れがある。一方、上記透明基板とは反対面側の表面から偏光紫外線を照射する場合はこのようなことがないため、本工程において上記位相差層形成用層に均一な配向規制力を付与することが容易になるからである。
【００３６】
本工程において、上記位相差層形成用層に照射される偏光紫外線としては、波長が、上記光反応性化合物が有する光反応性基の光反応を生じることができ、かつ、上記架橋性液晶材料が有する架橋性官能基の架橋形成反応を生じにくい範囲内のものであれば特に限定されるものではない。このような偏光紫外線は、上記光反応性基および上記架橋性官能基の種類に応じて適宜選択して用いることができる。
【００３７】
本工程において上記位相差層形成用層に偏光紫外線を照射する方法としては、上記位相差層形成用層に所望の振動方向の偏光紫外線を照射できる方法であれば特に限定されるものではない。このような方法としては、通常、上記範囲の波長を有する紫外線を発振する光源を用い、上記光源から発振された無偏光の紫外線を偏光子を通して上記位相差層形成用層に照射する方法が用いられる。
このとき、上記位相差層形成用層に照射される偏光紫外線の振動方向は、上記偏光子の吸収軸の方向を変更することにより変化させることができる。
【００３８】
上記偏光子としては、例えば、グラントムソンプリズム、グランテーラープリズム、二色性色素を含有する偏光フィルム、ブルースタープレート偏光子、ワイヤーグリッド偏光子等を挙げることができる。
【００３９】
また、上記光源としては、超高圧水銀灯、中圧水銀灯、キセノン灯、重水素ランプ、ハロゲンランプ、ＤｅｅｐＵＶランプ、蛍光灯等を挙げることができる。
【００４０】
さらに、本工程において上記位相差層形成用層に偏光紫外線を照射する際には必要に応じて、特定波長の紫外線を遮蔽するＵＶカットフィルターを用いてもよい。このようなＵＶカットフィルターを用いることにより、例えば、上記光反応性化合物の反応が阻害されることを防止したり、または、本工程において上記架橋性液晶材料の架橋形成反応が進行してしまうことを防止できるからである。
【００４１】
本工程に用いられるＵＶカットフィルターとしては、例えば、上記光反応性化合物の反応が阻害されることを防止するために用いられるものとして、ＳＣＨＯＴＴ製ＷＧ２８０を挙げることができる。
また、上記架橋性液晶材料の架橋形成反応が進行してしまうことを防止するために用いられるものとしては、例えば、最大吸収波長が２７０ｎｍ〜３１０ｎｍの光反応性化合物を使用する場合に、３２５ｎｍ〜４００ｎｍの紫外線を遮蔽するＵＶカットフィルター（朝日分光社製：ＳＵ０３２５）を挙げることができる。
【００４２】
本工程において上記位相差層形成用層に偏光紫外線を照射する際の上記位相差層形成用層の温度は、上記架橋性液晶材料の非液晶性温度であることが好ましい。ここで、非液晶性温度は、通常、結晶又はガラス相から液晶相への転移温度未満、および、液晶相−等方相転移温度よりも高い温度を意味するものであるが、本工程においては、上記結晶またはガラス相から液晶相への転移温度未満であることが好ましい。
【００４３】
３．位相差層形成用層形成工程
次に、本態様に用いられる位相差層形成用層形成工程について説明する。本工程は、透明基板を用い、上記透明基板上に架橋性官能基を有する架橋性液晶材料と、光反応性基を有する光反応性化合物とを含有する紫外線硬化性組成物を塗工することにより、上記透明基板上に位相差層形成用層を形成する工程である。
また、本工程により形成される位相差層形成用層は、上述した液晶配列工程、配向性付与工程、および、後述する液晶架橋工程を経て、位相差性を発現する位相差層とされるものである。
以下、このような位相差層形成用層形成工程について詳細に説明する。
【００４４】
（１）紫外線硬化性組成物
まず、本工程に用いられる紫外線硬化性組成物について説明する。本工程に用いられる紫外線硬化性組成物は、架橋性官能基を有する架橋性液晶材料と、光反応基を有する光反応性化合物とを含有するものである。
【００４５】
ａ）光反応性化合物
上記紫外線硬化性組成物に用いられる光反応性化合物としては、特定の波長の紫外線が照射されることにより光化学反応を生じ、本工程により形成される位相差層形成用層に上記架橋性液晶材料に対する配向性を付与できる光反応性基を有するものであれば特に限定されるものではない。本工程に用いられる光反応性化合物が有する光反応性基としては、例えば、シンナメート、クマリン、ベンジリデンフタルイミジン、ベンジリデンアセトフェノン、ジフェニルアセチレン、スチルバゾール、ウラシル、キノリノン、マレインイミド、または、シンナミリデン酢酸誘導体等を挙げることができる。
【００４６】
本工程に用いられる光反応性化合物としては、上記のいずれの光反応性基を有する光反応性化合物であっても好適に用いることができるが、なかでも上記式（Ｉ）または（ＩＩ）で表される光反応性基（以下、上記式（Ｉ）、（ＩＩ）で表される光反応性基をそれぞれ、光反応性基Ｉ、光反応性基ＩＩと称する場合がある。）を少なくとも一つ有する光反応性化合物を用いることが好ましい。光反応性基Ｉまたは光反応性基ＩＩを有する光反応性化合物は、後述する架橋性液晶材料との相溶性に優れるため、このような光反応性化合物を用いることにより、本態様によってさらにヘイズが小さい位相差フィルムを製造することが可能になるからである。
【００４７】
ここで、上記光反応性化合物として、光反応性基Ｉまたは光反応性基ＩＩの少なくとも１つを有するものを用いることにより、さらにヘイズが小さい位相差フィルムを製造することができるのは次のような理由によるものと考えられる。
すなわち、一般的に上記架橋性液晶材料は、芳香族系の環状構造が連結された剛直部と、上記剛直部に結合し、炭素−酸素結合を含む鎖状部とを有する構造を備えるものである。これに対し、上記光反応性基Ｉまたは上記光反応性基ＩＩは、芳香環を少なくとも２個以上連結した構造を有するものであり、上記架橋性液晶材料の剛直部の分子構造との類似性が高い化学構造を有するものである。
このため、上記光反応性化合物として、上記光反応性基Ｉまたは上記光反応性基ＩＩを少なくとも一つ有する光反応性化合物を用いることにより、上記光反応性化合物と、上記架橋性液晶材料との相溶性を向上することができ、その結果として透明性に優れた位相差層形成用層を形成することができるため、さらにヘイズが小さい位相差フィルムを製造することができる。
【００４８】
上記光反応性基Ｉとしては、上記式（Ｉ）で表される構造を有するものであれば特に限定されるものではなく、本態様により製造される位相差フィルムの用途や、後述する架橋性液晶材料の種類等に応じて適宜選択して用いることができる。なかでも本態様においては、クマリンが７位または６位で酸素と結合しているものが好ましい。このような光反応性基Ｉは光反応性が高いからである。
【００４９】
また本態様に用いられる光反応性基Ｉは、上記Ａ１が、未置換または任意にフッ素、塩素、シアノ、アルキルまたはアルコキシで置換された１，４−フェニレンであるものが好ましい。上記Ａ１がこのような構造であることにより、本態様に用いられる光反応性化合物の分子構造を、後述する架橋性液晶材料の分子構造により近似したものにできるため、上記光反応性化合物と上記架橋性液晶材料との相溶性をさらに向上することができる結果、さらにヘイズが小さい位相差フィルムを製造することが可能になるからである。
【００５０】
このような、光反応性基Ｉとしては、例えば、下記式（Ｉ）−１、（Ｉ）−２で表されるものを例示することができる。
【００５１】
【化２】
2008089894.tif 000004
【００５２】
ここで、上記式においてＲ４は、水素、炭素数１〜４のアルキル、または、炭素数１〜４のアルコキシを表す。
また、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立に水素、炭素数１〜４のアルキル、炭素数１〜４のアルコキシ、シアノ、または、炭素数２〜６のアルキルオキシカルボニルを表す。
【００５３】
本態様においては、上記式（Ｉ）−１、および、（Ｉ）−２で表される光反応性基Ｉのいずれであっても好適に用いることができるが、なかでも本態様においては、上記式（Ｉ）−１、（Ｉ）−２中のＲ４が水素またはメチル基であり、かつ、Ｒ５が水素であるものをより好適に用いることができる。このような構造を有する光反応性基Ｉは光反応性が高いからである。
【００５４】
このような光反応性基Ｉの具体例としては、例えば、下記式で表されるものを挙げることができる。
【００５５】
【化３】
2008089894.tif 000005
【００５６】
一方、上記光反応性基ＩＩとしては、上記式（ＩＩ）で表される構造を有するものであれば特に限定されるものではなく、本態様により製造される位相差フィルムの用途や、後述する架橋性液晶材料の種類等に応じて適宜選択して用いることができる。なかでも本態様においては、上記Ａ２およびＡ３がそれぞれ独立に、未置換または任意にフッ素、塩素、シアノ、アルキル、アルコキシ、または、アルキルオキシカルボニルで置換された１，４−フェニレン、４，４’−ビフェニレン、または２，６−ナフチレンであるものを好適に用いることができる。上記Ａ２およびＡ３がこのような構造であることにより、本態様に用いられる光反応性化合物の分子構造を、後述する架橋性液晶材料の分子構造により近似するものにできるため、上記光反応性化合物と上記架橋性液晶材料との相溶性をさらに向上することができる結果、さらにヘイズが小さい位相差フィルムを製造することが可能になるからである。
【００５７】
このような、光反応性基ＩＩとしては、例えば、下記式（ＩＩ）−１、（ＩＩ）−２、および、（ＩＩ）−３で表されるものを例示することができる。
【００５８】
【化４】
2008089894.tif 000006
【００５９】
ここで、上記式においてＲ７は、水素、未置換または任意にフッ素、塩素で置換された炭素数１〜２０のアルキルを表す。
また、Ｒ８、Ｒ９は、それぞれ独立に水素、または、炭素数１〜４の炭素原子を有するアルコキシを表す。Ｒ１０は、水素、炭素数１〜４のアルキル、炭素数１〜４のアルコキシ、炭素数２〜６のアルキルオキシカルボニル、またはシアノを表す。
さらに、ｍは、０または１である。
【００６０】
本態様に用いられる上記光反応性基ＩＩの具体例としては、例えば、下記式で表されるものを挙げることができる。
【００６１】
【化５】
2008089894.tif 000007
【００６２】
本態様に用いられる光反応性化合物としては、上記光反応性基を一つのみ有するものであってもよく、または、複数の光反応性基を有するものであってもよい。なかでも本態様においては、複数の光反応性基を有する光反応性化合物を用いることが好ましい。このような光反応性化合物を用いることにより、上述した配向性付与工程において位相差層形成用層に配向性を付与することが容易になるからである。
【００６３】
なお、上記光反応性化合物として上記式（Ｉ）または（ＩＩ）で表される光反応性基を分子内に複数有する化合物を用いる場合、上記光反応性化合物としては、同一の式で表される同一の光反応性基を複数含有するものであってもよく、同一の式で表され、構造の異なる光反応性基を複数含有するものであってもよく、さらには、異なる式で表される光反応性基を複数含有する態様であってもよい。
【００６４】
また、本態様に用いられる光反応性化合物は液晶性を示すものであってもよく、または、液晶性を示さないものであってもよい。
【００６５】
本態様に用いられる光反応性化合物としては、例えば、下記式で表される低分子化合物（ＩＩＩ）−１〜（ＩＩＩ）−５、および、（ＩＩＩ）−１で表される化合物の重合体を挙げることができる。
【００６６】
【化６】
2008089894.tif 000008
【００６７】
上記式においてＷ１は上記光反応性基を表す。また、Ｒ１１は、水素、または、メチルを表す。さらに、ｎは０〜２０の整数、ｐは０または１を表す。
【００６８】
ここで、上記式（ＩＩＩ）−１で表される化合物の重合体の場合は、単独重合体、共重合体のどちらでもよい。
また、共重合体の場合には、後述する架橋性液晶材料との相溶性を損なわない範囲内であれば（ＩＩＩ）−１で表される化合物以外のモノマーとの共重合体でもよい。
さらに、（ＩＩＩ）−１で表される化合物以外のモノマーとの共重合体の場合、（ＩＩＩ）−１で表される化合物以外のモノマーは液晶性モノマーでも非液晶性モノマーのどちらでもよいが、液晶性モノマーである方が、架橋性液晶材料との相溶性を向上させることができるため好ましい。
【００６９】
本態様においては、上記式（ＩＩＩ）−１〜（ＩＩＩ）−５で表される光反応性化合物および（ＩＩＩ）−１で表される化合物の重合体のいずれであっても好適に用いることができるが、なかでも下記式（ＩＶ）−１〜（ＩＶ）−３で表されるユニットを含む重合体が好適に用いられる。
【００７０】
【化７】
2008089894.tif 000009
【００７１】
ここで、上記式においてＲ１２は、水素またはメチル基を表す。Ｒ１３は、水素、炭素数１〜４のアルキル、炭素数１〜４のアルコキシを表す。Ｒ１４、Ｒ１５はそれぞれ独立して、水素、炭素数１〜４のアルキル、炭素数１〜４のアルコキシ、炭素数２〜６のアルキルオキシカルボニルまたは、シアノを表す。Ｒ１６は、未置換、または、任意にフッ素、塩素で置換された炭素数１〜２０のアルキルを表す。Ｒ１７、Ｒ１８は、それぞれ独立に水素、炭素数１〜４のアルコキシを表す。ｑは、２〜２０の整数を表す。
【００７２】
本態様に用いられる光反応性化合物の具体例としては、例えば、次のような化合物を挙げることができる。
【００７３】
（上記式（Ｉ）で表される光反応性基を有する光反応性化合物）
７−｛［４−（４−アクリロイルオキシ）ブチロキシ]ベンゾイルオキシ}クマリン、７−{[４−（６−アクリロイルオキシ）ヘキシロキシ］ベンゾイルオキシ}クマリン、４−メチル−７−｛[４−（４−アクリロイルオキシ）ブチロキシ]ベンゾイルオキシ}クマリン、４−メチル−７-{[４−（６−アクリロイルオキシ）ヘキシロキシ]ベンゾイルオキシ}クマリン、６-{[４−（６−アクリロイルオキシ）ヘキシロキシ]ベンゾイルオキシ}クマリン、４−メチル−６-{[４−（６−アクリロイルオキシ）ヘキシロキシ]ベンゾイルオキシ}クマリン、ポリ[７-{[４−（６−アクリロイルオキシ）ヘキシロキシ]ベンゾイルオキシ}クマリン]、ポリ[７-{[４−（８−アクリロイルオキシ）オクチロキシ]ベンゾイルオキシ}クマリン]、ポリ[４−メチル−７-{[４−（６−アクリロイルオキシ）ヘキシロキシ]ベンゾイルオキシ}クマリン]、ポリ[４−メチル−７-{[４−（８−アクリロイルオキシ）オクチロキシ]ベンゾイルオキシ}クマリン]、ポリ[７-{[４−（６−メタクリロイルオキシ）ヘキシロキシ]ベンゾイルオキシ}クマリン]、ポリ[７-{[４−（８−メタクリロイルオキシ）オクチロキシ]ベンゾイルオキシ}クマリン]、ポリ[７-{[４−（１１−メタクリロイルオキシ）ウンデシロキシ]ベンゾイルオキシ}クマリン]、ポリ[４−メチル−７-{[４−（６−メタクリロイルオキシ）ヘキシロキシ]ベンゾイルオキシ}クマリン]、ポリ[４−メチル−７-{[４−（８−メタクリロイルオキシ）オクチロキシ]ベンゾイルオキシ}クマリン]、ポリ[４−メチル−７‐{[４−（１１−メタクリロイルオキシ）ウンデシロキシ]ベンゾイルオキシ}クマリン]、ポリ[４−メチル−６‐{[４−（６−メタクリロイルオキシ）ヘキシロキシ]ベンゾイルオキシ}クマリン]、ポリ[４−メチル−６-{[４−（８−メタクリロイルオキシ）オクチロキシ]ベンゾイルオキシ}クマリン]、ポリ[４−メチル−６-{[４−（１１−メタクリロイルオキシ）ウンデシロキシ]ベンゾイルオキシ}クマリン]。
【００７４】
（上記式（ＩＩ）で表される光反応性基を有する光反応性化合物）
１−〔４−〔４−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ブチルオキシカルボニル〕エチレン、１−〔６−〔４−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕エチレン、１−〔４−〔４−〔２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ブチルオキシカルボニル〕エチレン、１−〔６−〔４−〔２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕エチレン、ポリ〔１−〔６−〔４−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕エチレン〕、ポリ〔１−〔８−〔４−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕オクチルオキシカルボニル〕エチレン〕、ポリ〔１−〔１１−〔４−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ウンデシルオキシカルボニル〕エチレン〕、ポリ〔１−〔６−〔４−〔２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕エチレン〕、ポリ〔１−〔８−〔４−〔２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕オクチルオキシカルボニル〕エチレン〕、ポリ〔１−〔１１−〔４−〔２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ウンデシルオキシカルボニル〕エチレン〕、ポリ〔１−〔６−〔４−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕、ポリ〔１−〔８−〔４−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕オクチルオキシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕、ポリ〔１−〔１１−〔４−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ウンデシルオキシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕、ポリ〔１−〔６−〔４−〔４−〔（Ｅ）−２−エトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕、ポリ〔１−〔８−〔４−〔４−〔（Ｅ）−２−プロポキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕オクチルオキシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕、ポリ〔１−〔６−〔４−〔２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕、ポリ〔１−〔８−〔４−〔２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕オクチルオキシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕、ポリ〔１−〔１１−〔４−〔２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ウンデシルオキシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕、ポリ〔１−〔６−〔４−〔２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−エトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕、ポリ〔１−〔８−〔４−〔２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−プロポキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕オクチルオキシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕、ポリ〔１−〔６−〔４−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕ナフタリン−６−イルオキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕、ポリ‐［１‐［１１‐[５‐［４‐［（Ｅ)‐２‐メトキシカルボニルビニル］ベンゾイロキシ］‐２‐［６‐[２‐メトキシ‐(Ｅ)‐４‐(メトキシカルボニルビニル)フェノキシ］オキシヘキシル］ベンゾイロキシ］ウンデシロキシカルボニル]‐１‐メチルエチレン]、ポリ-［１‐［１１‐［５‐［４‐［（Ｅ)‐２‐メトキシカルボニルビニル]ベンゾイルオキシ]‐２‐（４‐プロピルベンゾイルオキシ)ベンゾイルオキシ]ウンデシロキシカルボニル]-1-メチルエチレン]、ポリ-［１‐［１１‐［５‐［４‐[(Ｅ)‐２‐メトキシカルボニルビニル］ベンゾイルオキシ］‐２‐（４‐ペンチルベンゾイルオキシ)ベンゾイルオキシ］ウンデシロキシカルボニル］‐１‐メチルエチレン］、ポリ‐［１‐［８‐［５‐［４‐［(Ｅ)‐２‐メトキシカルボニルビニル］ベンゾイルオキシ]‐２‐（４‐プロピルベンゾイルオキシ)ベンゾイルオキシ]オクチロキシカルボニル］‐１‐メチルエチレン]。
【００７５】
なお、本態様においてはこのような光反応性化合物を１種類のみ用いてもよく、または、複数種類の光反応性化合物を混合して用いてもよい。
【００７６】
ｂ）架橋性液晶材料
次に、上記紫外線硬化性組成物に用いられる架橋性液晶材料について説明する。本態様に用いられる架橋性液晶材料は、架橋性官能基を有するものである。
【００７７】
本態様に用いられる架橋性液晶材料としては、本態様により製造される位相差フィルムに所望の位相差性を付与できるものであれば特に限定されるものではなく、任意の液晶性を備える化合物を用いることができる。なかでも、本態様においては、上記架橋性液晶材料としてネマチック相を示すものを好適に用いることができる。ネマチック液晶は、他の液晶相を示す液晶材料と比較して規則的に配列させることが容易だからである。
【００７８】
本態様に用いられる架橋性液晶材料が有する架橋性官能基としては、分子間架橋を形成することができるものであれば特に限定されるものではない。このような架橋性官能基としては、例えば、紫外線、電子線等の放射線によって架橋を形成する放射線架橋性官能基、熱の作用によって架橋を形成する熱架橋性官能基等を挙げることができる。なかでも本態様においては上記放射線架橋性官能基が好ましく、特に紫外線を照射することにより架橋を形成する紫外線架橋性官能基が好ましい。その理由は次の通りである。
すなわち、上記架橋性液晶材料として上記熱架橋性官能基を用いた場合、例えば、本工程において紫外線硬化性組成物を塗布・乾燥することによって位相差層形成用層を形成する際に、上記乾燥時に上記架橋性液晶材料が架橋されてしまい、結果として形成される位相差フィルムの位相差性を所望の範囲にできない可能性がある。しかしながら、上記紫外線架橋性官能基であればこのような問題が少ないからである。また、紫外線架橋性官能基を用いることにより、上記架橋性液晶材料を架橋する工程を短時間で完了させることができるからである。
【００７９】
上記紫外線架橋性官能基としては、通常、紫外線を照射することにより架橋を形成し、上記架橋性液晶材料のポリマー化合物を得ることが可能な重合性官能基、または、紫外線を照射することにより架橋を形成し、上記架橋性液晶材料の二量体を得ることが可能な二量化官能基が用いられる。
【００８０】
上記重合性官能基としては、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニルエーテル基、オキセタニル基、グリシジル基、脂環式エポキシ基等を挙げることができる。
【００８１】
また、上記二量化官能基としては、例えば、シンナメート、クマリン、カルコン、ベンジリデンフタルイミジン、ベンジリデンアセトフェノン、ジフェニルアセチレン、スチルバゾール、ウラシル、キノリノン、チミン、マレインイミド、シンナミリデン酢酸およびその誘導体等を挙げることができる。
【００８２】
本態様においては上記重合性官能基、または、上記二量化官能基のいずれであっても好適に用いることができるが、なかでも重合性官能基を用いることが好ましい。重合性官能基は光重合開始剤を添加した場合には反応速度が高く、二量化官能基よりも少ない紫外線照射量で耐久性の高い層を形成することができるからである。
【００８３】
また、本態様においては、上記重合性官能基のなかでもアクリロイル基、オキセタニル基を用いることが好ましい。これらの重合性官能基は反応性に優れるからである。さらに、本態様においてはこれらの重合性官能基のなかでもアクリロイル基を用いることが好ましい。アクリロイル基を有する架橋性液晶材料は、工業的に入手可能な種類が多いことから本態様へ適用することが容易だからである。
【００８４】
本態様に用いられる架橋性液晶材料は、上記架橋性官能基を複数有するものであってもよく、または、１つのみを有するものであってもよい。また、本態様においては架橋性官能基を複数有する架橋性液晶材料と、架橋性官能基を１つのみを有する架橋性液晶材料とを混合して用いてもよい。
【００８５】
本態様に用いられる架橋性液晶材料は、少なくとも、−Ａ４−ＣＯ−Ｏ−Ａ５−で表される構造を含むものであることが好ましい。架橋性液晶材料が上記構造を含むものであることにより、上記光反応性化合物との相溶性を向上させることができるからである。
【００８６】
ここで、上記Ａ４、Ａ５は、それぞれ独立に未置換または任意にフッ素、塩素、シアノ、アルキル、またはアルコキシ、またはアルキルオキシカルボニルで置換された１，４−フェニレン、４，４’−ビフェニレン、１，４−ナフチレン、２，６−ナフチレン、ピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピペリジン−１,４−ジイル、または、ピペラジン−１,４−ジイルを表す。
【００８７】
このような構造を有する架橋性液晶材料のうち、上記架橋性官能基を複数有するものとしては、例えば、下記式（１）〜（７）で表される化合物を挙げることができる。
【００８８】
【化８】
2008089894.tif 000010
【００８９】
【化９】
2008089894.tif 000011
【００９０】
また、このような構造を有する架橋性液晶材料のうち上記架橋性官能基を１つのみ有するものとしては、例えば、下記式（８）、（９）で表される化合物を挙げることができる。
【００９１】
【化１０】
2008089894.tif 000012
【００９２】
ここで、上記式（１）〜（９）において、Ｌ１、Ｌ２は、それぞれ独立に−Ｏ−、または、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−を表す。また、Ｂは、下記式（ｉ）〜（ｖｉｉｉ）で表されるメソゲン基を表す。
【００９３】
【化１１】
2008089894.tif 000013
【００９４】
また、Ｒ１９は、それぞれ独立に水素またはメチル基を表す。ｄ〜ｌは、それぞれ独立に２〜１２の整数であるが、より好ましくは４〜１０である。
さらに、Ｌ３、Ｌ４は、それぞれ独立に下記式（ｉｘ）〜（ｘｉｉｉ）のいずれかを表す。
【００９５】
【化１２】
2008089894.tif 000014
【００９６】
また、ｒは、０〜２０の整数を表す。Ｒ２１は、水素、塩素、臭素、ヨウ素、炭素数１〜１０のアルキル基、アルキルオキシカルボニル基、アルコキシ基、シアノ基、または、ニトロ基を表す。
【００９７】
上記以外に、本態様に用いられる架橋性液晶材料の具体例としては、例えば、特開平４−２２７６８４号公報、特開平９−１１１２４０号公報、特開平１０−１８２５５６号公報、特開平１１−５１３０１９号公報、特開２０００−９８１１３号公報、特開２００２−６９４５０号公報、特開２００２−３００４２号公報、特開２００３−９６０６６号公報、および、特開２００４−１２３５９７号公報に記載されているような化合物を挙げることができる。
【００９８】
本態様に用いられる架橋性液晶材料は１種類でもよく、または、２種類以上を混合して用いてもよい。
【００９９】
ｃ）紫外線硬化性組成物
本工程に用いられる紫外線硬化性組成物は、上記光反応性化合物および上記架橋性液晶材料を含有するものであるが、紫外線硬化性組成物中に含有される上記光反応性化合物と、上記架橋性液晶材料との比率としては、本態様により製造される位相差フィルムに所定の位相差性を付与できる範囲であれば特に限定されるものではなく、本態様により製造される位相差フィルムの用途等に応じて適宜決定することができる。なかでも本態様においては、上記架橋性液晶材料１００質量部に対する上記光反応性化合物の含有量が、０．１質量部〜６０質量部の範囲内であることが好ましく、なかでも３質量部〜５０質量部の範囲内であることが好ましく、特に１０質量部〜５０質量部の範囲内であることが好ましい。上記光反応性化合物の含有量が上記範囲よりも少ないと、例えば、本態様により製造される位相差フィルムにおいて上記架橋性液晶材料を規則的に配列させることが困難となる可能性があるからである。また、上記範囲よりも多いと本態様により製造される位相差フィルムに所望の位相差性を付与できない恐れがあるからである。
【０１００】
本工程に用いられる紫外線硬化性組成物は、上記光反応性化合物および上記架橋性液晶材料を含有するものであるが、必要に応じてこれら以外の他の構成を含有するものであってもよい。このような他の構成としては、溶媒、光重合開始剤、重合禁止剤、可塑剤、界面活性剤、および、シランカップリング剤等を挙げることができる。なかでも本態様においては上記他の構成として、光重合開始剤、および、溶媒を用いることが好ましい。上記紫外線硬化性組成物に光重合開始剤が含有されることにより、後述する液晶架橋工程において、上記架橋性液晶材料の架橋形成反応を促進することが可能となるからである。また上記紫外線硬化性組成物に溶媒が含有されることにより、例えば、融点や軟化点が高い架橋性液晶材料や光反応性化合物を含む紫外線硬化性組成物を用いる場合であっても、これを室温で塗工することが容易になるからである。
【０１０１】
上記溶媒としては、上記光反応性化合物および上記架橋性液晶材料を所望の濃度で溶解できるものであれば特に限定されるものではない。このような溶媒としては、例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン等のケトン系溶媒；ベンゼン、トルエン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒；テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒；クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化アルキル系溶媒；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル系溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒；およびジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒等を挙げることができるが、これらに限られるものではない。
【０１０２】
また、本態様に用いられる溶媒は１種類でもよく、または、２種類以上の溶媒の混合溶媒でもよい。
【０１０３】
上記光重合開始剤としては、上記架橋性液晶材料が有する重合性官能基の種類等に応じて適宜選択して用いることができる。なかでも本態様においては、上記重合性官能基として、アクリロイル基、および、メタクリロイル基を有する架橋性液晶材料を用いる場合においては光ラジカル重合開始剤を用いることが好ましく、一方、上記重合性官能基として、ビニルエーテル基、オキセタニル基、グリシジル基、および、脂環式エポキシ基を有する架橋性液晶材料を用いる場合においては、光カチオン重合開始剤を用いることが好ましい。
【０１０４】
上記光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンジル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、ベンジルメチルケタール、ジメチルアミノメチルベンゾエート、２−ｎ−ブトキシエチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、３、３’−ジメチル−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、メチロベンゾイルフォーメート、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノー１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェルニケトン、２−ヒロドキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、１−クロロ−４−プロキシチオキサントン、２−ヒドロキシ−２−メチル−［４−（１−メチルビニル）フェニル］プロパノールオリゴマー等を挙げることができる。
【０１０５】
また、上記光カチオン重合開始剤としては、スルホン酸エステル、イミドスルホネート、ジアルキル−４−ヒドロキシスルホニウム塩、アリールスルホン酸−ｐ−ニトロベンジルエステル、シラノール−アルミニウム錯体、（η６−ベンゼン）（η５−シクロペンタジエニル）鉄（ＩＩ）等を挙げることができる。さらに具体的には、ベンゾイントシレート、２，５−ジニトロベンジルトシレート、Ｎ−トシフタル酸イミド等を挙げることができる。
【０１０６】
さらに、上記光ラジカル重合開始剤および上記光カチオン重合開始剤として用いることが可能な化合物としては、例えば、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ホスホニウム塩、トリアジン化合物、鉄アレーン錯体等を例示することができる。より具体的には、ジフェニルヨードニウム、ジトリルヨードニウム、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム、ビス（ｐ−クロロフェニル）ヨードニウム等のヨードに有無のクロリド；ブロミド、ホウフッ化塩、ヘキサフルオロホスフェート塩、ヘキサフルオロアンチモネート塩等のヨードニウム塩、トリフェニルスルホニウム、４−ｔｅｒｔ−ブチルトリフェニルスルホニウム、トリス（４−メチルフェニル）スルホニウム等のスルホニウムのクロリド、ブロミド、ホウフッ化塩、ヘキサフルオロホスフェート塩、ヘキサフルオロアンチモネート塩等のスルホニウム塩、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−フェニルー４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−メチルー４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン等の２，４，６−置換−１，３，５−トリアジン化合物等を挙げることができる。
【０１０７】
また、上記光重合開始剤を用いる場合には、光重合開始助剤を併用することができる。このような光重合開始助剤としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン等の３級アミン類や、２−ジメチルアミノエチル安息香酸、４−ジメチルアミド安息香酸エチル等の安息香酸誘導体を例示することができるが、これらに限られるものではない。
【０１０８】
上記光重合開始剤を上記紫外線硬化性組成物中に含有させる量としては、上記紫外線硬化性組成物中に含有される架橋性液晶材料の質量に対して０．０１質量％〜２０質量％の範囲内であることが好ましく、なかでも０．１質量％〜１０質量％の範囲内であることが好ましく、特に０．３質量％〜５質量％の範囲内であることが好ましい。光重合開始剤の添加量が上記範囲よりも少ないと、上記架橋性液晶材料を架橋させるのに必要な紫外線照射量が多くなりすぎてしまう可能性があり、また、上記範囲よりも多いと上記光反応性化合物の反応を阻害してしまう恐れがあるからである。
【０１０９】
なお、上記紫外線硬化性組成物が上記溶媒を含有するものである場合、上記紫外線硬化性組成物の固形分濃度としては特に限定されるものではなく、本工程において上記紫外線硬化性組成物を、透明基板上に塗工する塗布方法等に応じて任意の濃度にすることができる。
【０１１０】
（２）透明基板
次に、本工程に用いられる透明基板について説明する。本工程に用いられる透明基板は、透明性を有するものであり、本態様により製造される位相差フィルムにおいて位相差層を支持するものである。
【０１１１】
本工程に用いられる透明基板の透明度は、本態様により製造される位相差フィルムに求める透明性等に応じて任意に決定すればよいが、通常、可視光領域における透過率が８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。透過率が上記範囲であることにより、例えば、本態様により製造される位相差フィルムを液晶表示装置の視野角補償フィルムとして用いた場合に、液晶表示装置の表示輝度が低下することを防止することができるからである。
ここで、透明基板の透過率は、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１（プラスチックー透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。
【０１１２】
本工程に用いられる透明基板は、上記透明性を具備するものであれば、可撓性を有するフレキシブル材でも、ガラス基板等の可撓性のないリジッド材でも用いることもできる。なかでも本工程においてはフレキシブル材を用いることが好ましい。フレキシブル材を用いることにより、本工程をＲｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌプロセス（ロール状に巻き取った透明基板から巻き出された透明基板上に、位相差層形成用層を連続的に形成した後、再度ロール状に巻き取る製造手法）にすることが可能になるため、本態様により高生産性で位相差フィルムを製造することが可能になるからである。
【０１１３】
また、本工程に用いられる透明基板は、光学的等方性基板でもよく、または、位相差性有する基板であってもよい。
ここで上記光学的等方性基板とは、Ｒｅが１０ｎｍ以下であり、かつ、Ｒｔｈが４０ｎｍ以下である透明基板を意味するものとする。なかでも本工程に用いられる光学的等方性基板は、Ｒｅが５ｎｍ以下であること好ましい。また、Ｒｔｈは２０ｎｍ以下であることが好ましい。
【０１１４】
なお、上記ＲｅとＲｔｈそれぞれ下記式で定義される。
Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
Ｒｔｈ＝［｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２｝−ｎｚ］×ｄ
式中、ｎｘは透明基板の面内方向において最も屈折率が高い方向の屈折率、ｎｙは透明基板の面内方向において最も屈折率が低い方向の屈折率、さらに、ｎｚは透明基板の厚み方向の屈折率である。また、ｄは透明基板の厚みである。
【０１１５】
上記光学的等方性基板を構成する材料としては、例えば、セルロース誘導体、ノルボルネン系ポリマー、シクロオレフィン系ポリマー、ポリカーボネート、ポリエステル類などを挙げることができる。なかでも本工程に用いられる光学的等方性基板は、セルロース誘導体またはシクロオレフィン系ポリマーからなるものが好ましい。セルロース誘導体は特に光学的等方性に優れるからである。また、シクロオレフィン系ポリマーは耐久性に優れるからである。
【０１１６】
上記セルロース誘導体としては、セルロースエステルを用いることが好ましく、さらに、セルロースエステル類のなかでも、セルロースアシレート類を用いることが好ましい。セルロースアシレート類は工業的に広く用いられていることから、入手容易性の点において有利だからである。
【０１１７】
また、上記セルロースアシレート類としては、炭素数２〜４の低級脂肪酸エステルが好ましい。このような低級脂肪酸エステルとしては、例えばセルロースアセテートのように、単一の低級脂肪酸エステルのみを含むものでもよく、また、例えばセルロースアセテートブチレートやセルロースアセテートプロピオネートのような複数の脂肪酸エステルを含むものであってもよい。
【０１１８】
本工程においては、上記低級脂肪酸エステルのなかでもセルロースアセテートを特に好適に用いることができる。また、セルロースアセテートとしては、平均酢化度が５７．５〜６２．５％（置換度：２．６〜３．０）のトリアセチルセルロースを用いることが最も好ましい。
ここで、酢化度とは、セルロース単位質量当りの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験方法）におけるアセチル化度の測定および計算により求めることができる。なお、トリアセチルセルロースフィルムを構成するトリアセチルセルロースの酢化度は、フィルム中に含まれる可塑剤等の不純物を除去した後、上記の方法により求めることができる。
【０１１９】
一方、上記シクロオレフィン系ポリマーとは、ノルボルネンや多環ノルボルネン系モノマーのような、環状オレフィン（シクロオレフィン）からなるモノマーのユニットを有するポリマーである。このような、シクロオレフィン系ポリマーは分子設計により、ガラス転移点や吸水率を好ましい範囲に制御でき、良好な耐熱性と適度な吸水性を満たすことができる。
【０１２０】
本工程に用いられるシクロオレフィン系ポリマーは、２３℃における飽和吸水率が１質量％以下であるものが好ましい。このようなシクロオレフィン系ポリマーからなる透明基板は、吸水による光学特性の変化や寸法変化を生じにくいからである。
ここで、上記飽和吸水率はＡＳＴＭＤ５７０に準拠し、２３℃水中で１週間浸漬して増加重量を測定することにより得られる値を意味するものとする。
【０１２１】
また、本工程に用いられるシクロオレフィン系ポリマーは、ガラス転移温度が１００℃〜２００℃の範囲内であるものが好ましい。このようなシクロオレフィン系ポリマーからなる透明基板は、耐熱性と加工適性とに優れるからである。
【０１２２】
本工程に用いられるシクロオレフィン系ポリマーからなる透明基板としては、例えば、ドイツのＴｉｃｏｎａ社から販売されている「Ｔｏｐａｓ」、ジェイエスアール（株）から販売されている「アートン」、日本ゼオン（株）から販売されている「ＺＥＯＮＯＲ」や「ＺＥＯＮＥＸ」、三井化学（株）から販売されている「アペル」などを挙げることができる。
【０１２３】
なお、本工程に用いられる透明基板の構成は、単一の層からなる構成に限られるものではなく、複数の層が積層された構成を有してもよい。
ここで、複数の層が積層された構成を有する場合は、同一組成の層が積層されているものであってもよく、また、異なった組成を有する複数の層が積層されているものであってもよい。
【０１２４】
上記複数の層が積層された構成を有する透明基板としては、上記セルロース誘導体、ノルボルネン系ポリマー、シクロオレフィン系ポリマー、ポリカーボネート、ポリエステル類などで構成される層に紫外線および／または電子線硬化性樹脂が紫外線又は電子線により硬化された層を積層したものが挙げられる。紫外線および／または電子線硬化性樹脂が紫外線または電子線により硬化された層は上記ポリマーから構成される層に含まれる添加剤が位相差層に移動することを抑制する遮蔽層としての役割や、上記ポリマーから構成される層と位相差層との密着性を向上させる役割を果たす。
【０１２５】
上記紫外線硬化性樹脂および電子線硬化性樹脂は、重合可能なビニル基、アリル基、（メタ）アクリロイル基、イソペニル基、エポキシ基、オキセタニル基等の重合性基を二つ以上有するもので、紫外線または電子線の照射により架橋構造または網目構造を形成するものが好ましい。なかでも本工程においては（メタ）アクリロイル基、またはエポキシ基が重合速度、反応性の面から好ましく多官能モノマーまたはオリゴマーが好ましい。このような紫外線硬化性樹脂および電子線硬化性樹脂の例としては、紫外線硬化型のポリオールアクリレート類、エポキシアクリレート類、ウレタンアクリレート類、ポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂が挙げられる。これらは通常公知の光重合開始剤と共に使用される。塗布乾燥後に揮発する溶媒成分を除いた紫外線および／または電子線硬化性樹脂組成物に含まれる光重合開始剤または光増感剤は該組成物の０．５質量％〜５質量％であることが好ましい。
【０１２６】
上記透明基板として位相差性を有する基板を用いる場合、このような透明基板としては、本態様により製造される位相差フィルムに所望の屈折率異方性を付与できるものであれば特に限定されない。なかでも本工程においては、λ／４板としての性質、または、λ／２板としての性質を有する透明基板を用いることが好ましい。
ここで、上記「λ／４板としての性質を有する」とは、通常、透明基板のＲｅが、入射光の波長の１／４の値を示すことを意味するものであるが、本工程に用いられる透明基板としては、波長５５０ｎｍにおけるＲｅが１２０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲内であるものが好ましい。
また、上記「λ／２板としての性質を有する」とは、通常、透明基板のＲｅが、入射光の波長の１／２の値を示すことを意味するものであるが、本工程に用いられる透明基板としては、波長５５０ｎｍにおけるＲｅが２５０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲内であるものが好ましい。
【０１２７】
本工程に用いられる透明基板の厚みは、本態様により製造される位相差フィルムの用途等に応じて、必要な自己支持性を備えることができる範囲内であれば特に限定されない。なかでも本工程においては２５μｍ〜１０００μｍの範囲内であること好ましく、特に３０μｍ〜１００μｍの範囲内であることが好ましい。透明基板の厚みが上記の範囲よりも薄いと、本態様により製造される位相差フィルムに必要な自己支持性を付与することができない場合があるからである。また、厚みが上記の範囲よりも厚いと、例えば、本態様により製造される位相差フィルムを裁断加工する際に、加工屑が増加したり、裁断刃の磨耗が早くなってしまう場合があるからである。
【０１２８】
（３）位相差層形成用層の形成方法
本工程においては、上記紫外線硬化性組成物を上記透明基板上に塗工することによって位相差層形成用層を形成するが、本工程において上記紫外線硬化性組成物を上記透明基板上に塗工する塗布方式としては、上記紫外線硬化性組成物の組成等に応じて、所望の平面性を備える位相差層形成用層を形成できる方法であれば特に限定されるものではない。このような塗布方法としては、例えば、グラビアコート法、リバースコート法、ナイフコート法、ディップコート法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、ロールコート法、プリント法、カーテンコート法、ダイコート法、キャスティング法、バーコート法、エクストルージョンコート法、Ｅ型塗布方法などを例示することができる。
【０１２９】
また、上記紫外線硬化性組成物の塗膜の厚みは、本工程に用いられる紫外線硬化性組成物に含有される架橋性液晶材料の種類等に応じて、本態様により所望の位相差性を発現できる位相差フィルムを製造できる範囲内であれば特に限定されるものではない。なかでも、本工程においては、０．１μｍ〜５０μｍの範囲内であることが好ましく、特に０．５μｍ〜３０μｍの範囲内であることが好ましく、なかでも０．５μｍ〜１０μｍの範囲内であることが好ましい。
【０１３０】
また、上記紫外線硬化性組成物として溶媒を含有するものを用いた場合、上記塗膜の乾燥方法としては、例えば、加熱乾燥方法、減圧乾燥方法、ギャップ乾燥方法等の一般的に用いられる乾燥方法を用いることができる。また、本発明における乾燥方法は、単一の方法に限られず、例えば、残留する溶媒量に応じて順次乾燥方式を変化させる等の態様により複数の乾燥方式を採用してもよい。
【０１３１】
なお、本工程において上記加熱乾燥方法を用いる場合は、上記紫外線硬化性組成物中に含有される架橋性液晶材料の結晶−液晶相転移温度未満の温度で乾燥することが好ましい。
【０１３２】
４．液晶架橋工程
次に、本態様に用いられる液晶架橋工程ついて説明する。本工程は、上記液晶配列工程により配列された架橋性液晶材料を架橋させる工程である。
【０１３３】
本工程において、上記架橋性液晶材料を架橋させる方法としては、上記架橋性液晶材料が有する架橋性官能基の架橋形成反応を生じさせることができる方法であれば特に限定されるものではなく、上記架橋性液晶材料が有する架橋性官能基の種類に応じた方法を適宜選択して用いることができる。このような方法としては、例えば、架橋性液晶材料として、紫外線重合性官能基を有するものが用いられている場合は、上記紫外線重合性官能基の重合反応を生じさせることができる波長の紫外線を、上記位相差層形成用層に照射する方法が用いられる。なお、このような紫外線を照射する方法が用いられる場合、上記架橋性液晶材料を反応させる紫外線は反応性が高いという観点から、通常、非偏光紫外線が用いられる。
【０１３４】
５．位相差フィルム
本態様の位相差フィルムの製造方法によって製造される位相差フィルムは、上記透明基板と、上記透明基板上に形成され、上記架橋性液晶材料の架橋物および上記光反応性化合物の反応物とを含有する位相差層とを有するものとなる。
【０１３５】
上記架橋性液晶材料の架橋物は、上記光反応性化合物の反応物の作用により規則的に配列した状態で存在することになるが、その配列状態としては、本発明の位相差フィルムに所望の光学機能を発現できる配列状態であれば特に限定されるものではない。このような配列状態としては、例えば、透明基板に対してメソゲンが平行となるように、かつ平均配向方向が面内の特定の方向に配向した状態を挙げることができる。この液晶構造はホモジニアス配向構造と称され、このような構造を有することにより、本発明の光学機能フィルムに光学的にＡプレートとしての性質を付与することができる。さらに、メソゲンを透明基板に対して傾斜した方向に配向させることができ、位相差層の特定方向での傾斜角依存性が法線方向に対して非対称とすることもできる。
【０１３６】
なお、本発明の位相差フィルムは配向層を必要としないものであるため、上述したように、従来の配向層を必要とする位相差フィルムでは実現することが困難であった液晶材料の三次元配向を実現することが可能となる。
【０１３７】
このような位相差フィルムは、例えば、液晶表示装置に用いられる光学補償フィルム（例えば、視野角補償フィルム）、楕円偏光板、円偏光板、輝度向上板等として用いることができる。
【０１３８】
Ｂ．第２態様の位相差フィルムの製造方法
次に、第２態様の位相差フィルムの製造方法について説明する。本態様の位相差フィルムの製造方法は、上記位相差層形成用塗工液として、分子内に液晶性を示す液晶性構造単位および光反応性基を有する光反応性高分子液晶を含有するものを用いる態様である。
すなわち、本態様の位相差フィルムの製造方法は、透明基板を用い、上記透明基板上に分子内に液晶性を示す液晶性構造単位および光反応性基を有する光反応性高分子液晶を含有する高分子液晶含有組成物を塗工することにより、上記透明基板上に位相差層形成用層を形成する位相差層形成用層形成工程と、上記位相差層形成用層に片面から偏光紫外線を照射し、上記光反応性基を反応させることによって上記位相差層形成用層に上記液晶性構造単位に対する配向性を発現させる配向性付与工程と、上記位相差層形成用層の上記偏光紫外線が照射された面の表面が、上記偏光紫外線が照射された面とは反対側の表面よりも先に上記光反応性高分子液晶のガラス相−液晶相転移温度に達するように上記位相差層形成用層を加温することにより、上記液晶性構造単位を配列させる液晶配列工程と、を有することを特徴とするものである。
【０１３９】
このような、本態様の位相差フィルムの製造方法について図を参照しながら説明する。図２は、本態様の位相差フィルムの製造方法の一例を示す概略図である。図２に例示するように、本態様の位相差フィルムの製造方法は、透明基板１を用い（図２（ａ））、上記透明基板１上に、分子内に液晶性を示す液晶性構造単位および光反応性基を有する光反応性高分子液晶を含有する高分子液晶含有組成物を塗工することにより、上記透明基板１上に位相差層形成用層２Ｂ’を形成する位相差層形成用層形成工程（図２（ｂ））と、上記位相差層形成用層２Ｂ’に、上記透明基板１とは、反対面（Ａ）側から偏光紫外線を照射し、上記光反応性基を反応させることによって上記位相差層形成用層２Ｂ’に上記液晶性構造単位に対する配向性を発現させる配向性付与工程（図２（ｃ））と、上記位相差層形成用層２Ｂ’の上記透明基板１とは反対面側の表面（Ａ）が、上記透明基板１側の表面（Ｂ）よりも先に上記光反応性高分子液晶のガラス相−液晶相転移温度に達するように上記位相差層形成用層２Ｂ’を加温することにより、上記液晶性構造単位を配列させる液晶配列工程（図２（ｄ））と、により、透明基板１上と、上記透明基板１上に直接形成された位相差層２Ｂとを有する位相差フィルム１０Ｂを製造するものである（図２（ｅ））。
【０１４０】
本態様によれば、上記配向性付与工程が、上記位相差層形成用層に片面から偏光紫外線を照射することによって上記位相差層形成用層に上記配向性を付与するものであり、かつ、上記液晶配列工程が上記位相差層形成用層の上記偏光紫外線が照射された面の表面が、上記偏光紫外線が照射された面とは反対側の表面よりも先に上記光反応性高分子液晶のガラス相−液晶相転移温度に達するように上記位相差層形成用層を加温することによって、上記液晶性構造単位を配列させるものであることにより、上記液晶配列工程において上記液晶性構造単位を均一に配列させることができる。このため、本態様によればヘイズが小さい位相差層を有する位相差フィルムを製造することができる。
【０１４１】
ここで、上述したような配向性付与工程および液晶配列工程により、上記架橋性液晶材料を均一に配列された位相差層を形成できる理由については明らかではないが、上記「Ａ．第１態様の位相差フィルムの製造方法」の項において説明した理由と同様な理由によるものであると考えられる。
すなわち、上記配向性付与工程は、上記位相差層形成用層に偏光紫外線を照射することにより、上記位相差層形成用層中の光反応性高分子液晶が有する光反応性基を反応させて配向性を付与するものである。ここで、上記光反応性基は偏光度の高い偏光紫外線が照射されることによって、より均一な配向規制力を発現できるものであることから、上記配向性付与工程においては、上記偏光紫外線が照射された面の表面が最も均一な配向規制力を発現できる領域となる。
したがって、上記液晶配列工程において、上記偏光紫外線が照射された面の表面の方が、その反対側の表面よりも先に上記光反応性高分子液晶のガラス相−液晶相転移温度に達するように上記位相差層形成用層が加熱されることにより、上記液晶性構造単位が配列される初期の段階において、上記液晶性構造単位を均一な配向規制力に従って配列させることが可能となる。
ここで、上記液晶性構造単位は、ある部分に存在する液晶性構造単位が配列すると、他の部分に存在する液晶性構造単位がその配列に沿うように配列する性質を有するものである。このため、上記液晶配列工程において、上記液晶性構造単位が配列する初期の段階において均一な配列を形成することができると、その後はその均一な配列に沿って他の部分に存在する液晶性構造単位を、いわば連鎖的に、均一に配列させることが可能となる。
このようなことから、本態様により製造される位相差フィルムは、上記液晶性構造単位が位相差層の全体に渡って均一な配列を形成したものにできるため、位相差フィルム全体として、ヘイズが小さいものにできると考えられる。
【０１４２】
以上のようなことから、本態様によれば、透明基板と、上記透明基板上に配向膜を介することなく直接形成され、液晶性材料を含有する位相差層とを有する位相差フィルムであって、ヘイズが小さい位相差フィルムを製造することができる。
【０１４３】
本態様の位相差フィルムの製造方法は、少なくとも上記位相差層形成用層形成工程と、上記配向性付与工程と、上記液晶配列工程とを有するものであり、必要に応じて他の工程を有してもよいものである。
以下、本態様の位相差フィルムの製造方法に用いられる各工程について順に説明する。
【０１４４】
１．液晶配列工程
まず、本態様に用いられる液晶配列工程について説明する。本工程は後述する位相差層形成用層形成工程において形成される位相差層形成用層を、後述する配向性付与工程において偏光紫外線が照射された面の表面が、上記偏光紫外線が照射された面とは反対側の表面よりも先に上記光反応性高分子液晶のガラス相−液晶相転移温度に達するように加温することにより、上記液晶性構造単位を配列させる工程である。
本態様の位相差フィルムの製造方法は、本工程がこのような方法によって上記液晶性構造単位を配列させるものであることにより、ヘイズが小さい位相差フィルムを製造することができるのである。
【０１４５】
上述したように、本工程は上記位相差層形成用層を加温することにより、上記液晶性構造単位を配列させる工程であるが、本工程に用いられる加温方法としては、上記配向性付与工程において偏光紫外線が照射された面の表面が、その反対側の表面よりも先に上記光反応性高分子液晶のガラス相−液晶相転移温度となるように上記位相差層形成用層を加温できる方法であれば特に限定されるものではない。このような加温方法としては、上記「Ａ．第１態様の位相差フィルムの製造方法」の項において説明した方法と同様の方法を用いることができる。
【０１４６】
本工程において、上記偏光紫外線が照射された面を加温する温度（Ｔｔと称す。）としては、上記光反応性高分子液晶のガラス相−液晶相転移温度（Ｔｇと称す。）以上であり、かつ、上記光反応性高分子液晶の光反応した部分の軟化温度未満であって、上記偏光紫外線が照射された面を、所定の時間内に上記光反応性高分子液晶のガラス相−液晶相転移温度にできる温度であれば特に限定されるものではない。このような加温温度は上記光反応性高分子液晶のガラス相−液晶相転移温度に応じて適宜決定することができる。なかでも本工程においては、上記加温温度Ｔｔ（℃）が、（Ｔｇ＋２０）（℃）≦Ｔｔ（℃）の範囲内であることが好ましい。本工程における加温温度Ｔｔ（℃）が、Ｔｔ（℃）＜（Ｔｇ＋２０）（℃）であることにより、上記偏光紫外線が照射された面を所望の時間内に上記光反応性高分子液晶のガラス相−液晶相転移温度に加温することが困難となる場合があるからである。
【０１４７】
２．配向性付与工程
次に、本工程に用いられる配向性付与工程について説明する。本工程は、後述する位相差層形成用層形成工程により形成される位相差層形成用層に、片面から偏光紫外線を照射し、上記位相差層形成用層中の光反応性高分子液晶が有する光反応性基を反応させることによって上記位相差層形成用層に上記液晶性構造単位に対する配向性を付与する工程である。
以下、このような配向性付与工程について詳細に説明する。
【０１４８】
本工程は、上記位相差層形成用層の片面から偏光紫外線を照射することによって、上記位相差層形成用層に配向性を付与するものであるが、本工程において上記偏光紫外線を照射する面としては、位相差層形成用層の透明基板側の表面であってもよく、または、上記透明基板側とは反対側の表面であってもよい。なかでも本工程においては、上記位相差層形成用層の上記透明基板とは反対側の表面から上記位相差層形成用層に偏光紫外線を照射することが好ましい。これは次のような理由によるものである。すなわち、上記透明基板側の表面に偏光紫外線を照射する場合、上記偏光紫外線は透明基板を通して上記位相差層形成用層に照射されることになる。ここで、偏光紫外線が上記透明基板を通過すると、透明基板によって上記偏光紫外線が吸収または散乱され、紫外線の強度が低減したり、あるいは、偏光が緩和されてしまい、上記位相差層形成用層に均一な配向性を付与することが困難となる恐れがある。一方、上記透明基板とは反対側の表面から偏光紫外線を照射する場合は、このようなことがないため、本工程において上記位相差層形成用層に均一な配向規制力を付与することが容易になるからである。
【０１４９】
本工程において、上記位相差層形成用層に照射される偏光紫外線としては、波長が上記光反応性化合物が有する光反応性基の光反応を生じることができる範囲内のものであれば特に限定されるものではない。このような偏光紫外線は、上記光反応性基および上記架橋性官能基の種類に応じて適宜選択して用いることができる。
【０１５０】
本工程において上記位相差層形成用層に偏光紫外線を照射する方法としては、上記位相差層形成用層に所望の振動方向の偏光紫外線を照射できる方法であれば特に限定されるものではない。このような方法としては、上記「Ａ．第１態様の位相差フィルムの製造方法」の項において説明した方法と同様の方法を用いることができる。
【０１５１】
３．位相差層形成用層形成工程
次に、本態様に用いられる位相差層形成用層形成工程について説明する。本工程は、透明基板を用い、上記透明基板上に分子内に液晶性を示す液晶性構造単位および光反応性基を有する光反応性高分子液晶を含有する高分子液晶含有組成物を塗工することにより、上記透明基板上に位相差層形成用層を形成する工程である。
また、本工程により形成される位相差層形成用層は、上述した液晶配列工程、および、配向性付与工程を経て、位相差性を発現する位相差層とされるものである。
以下、このような位相差層形成用層形成工程について詳細に説明する。
【０１５２】
（１）高分子液晶含有組成物
まず、本工程に用いられる高分子液晶含有組成物について説明する。本工程に用いられる高分子液晶含有組成物は、分子内に液晶性を示す液晶性構造単位および光反応性基を有する光反応性高分子液晶を含有するものである。
【０１５３】
本工程に用いられる光反応性高分子液晶が有する光反応性基としては、、特定の波長の紫外線が照射されることによって光化学反応を生じ、本工程により形成される位相差層形成用層に上記液晶性構造単位に対する配向性を付与できるものであれば特に限定されるものではない。このような光反応性基としては、例えば、シンナメート、クマリン、ベンジリデンフタルイミジン、ベンジリデンアセトフェノン、ジフェニルアセチレン、スチルバゾール、ウラシル、キノリノン、マレインイミド、または、シンナミリデン酢酸誘導体等を挙げることができる。
【０１５４】
本工程に用いられる光反応性高分子液晶が有する液晶性構造単位としては、規則的に配列させることによって所望の位相差性を発現できるものであれば特に限定されるものではなく、本態様により製造される位相差フィルムの用途等に応じて、任意の液晶性を備えるものを用いることができる。なかでも、本態様においては、上記液晶性構造単位としてネマチック液晶相を示すものを用いることが好ましい。ネマチック液晶相を示す液晶性構造単位は規則的に配列させることが容易だからである。
【０１５５】
本態様に用いられる光反応性高分子液晶は、上記光反応性基を一つのみ有するものであってもよく、または、複数の光反応性基を有するものであってもよい。
また、本態様に用いられる光反応性高分子液晶は、上記液晶性構造単位を一つのみ有するものであってもよく、または、複数の液晶性構造単位を有するものであってもよい。
【０１５６】
本態様に用いられる光反応性高分子液晶の具体例としては、例えば、下記式で表される主鎖が炭化水素、アクリレート、メタクリレート、マレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、シロキサンなどの構造を有する光反応性高分子液晶等を挙げることができる。
【０１５７】
【化１３】
2008089894.tif 000015
【０１５８】
上記式（Ｖ）−１及び（Ｖ）−２において、ｘ１、ｙ１、ｚ１はｘ１＋ｙ１＋ｚ１＝１、ｘ２、ｙ２はｘ２＋ｙ２＝１、ｓは１〜１２、ｔは１〜１２、ｕは１〜１２、ｖは１〜１２、ｗは１〜１２である。
また、ＸおよびＹはそれぞれ独立して、ｎｏｎｅ、−ＣＯＯ、−ＯＣＯ、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｃ＝Ｃ−、または、−Ｃ６Ｈ４−を表す。
また、Ｗ２、Ｗ３、Ｗ４は、それぞれ独立して−Ｈ、−ＣＮ、ハロゲン基、アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アルケニルオキシ基、シクロヘキシル基、シクロヘキセニル基、下記式（ＶＩ）−１〜（ＶＩ）−８のいずれかで表される構造であり、少なくとも１つは下記式（ＶＩ）−１〜（ＶＩ）−８で表される構造である。
【０１５９】
【化１４】
2008089894.tif 000016
【０１６０】
さらに、Ｒ２２〜Ｒ３２は、それぞれ独立して−Ｈ、−ＣＮ、ハロゲン基、アルキル基またはメトキシ基などのアルキルオキシ基である。
【０１６１】
なお、本態様においてはこのような光反応性高分子液晶を１種類のみ用いてもよく、または、複数種類の光反応性化合物を混合して用いてもよい。
【０１６２】
本工程に用いられる高分子液晶含有組成物は、上記光反応性高分子液晶を含有するものであるが、必要に応じて他の物質を含有するものであってもよい。このような他の物質としては、溶媒、可塑剤、界面活性剤、および、シランカップリング剤等を挙げることができる。なかでも本態様においては上記他の構成として溶媒を用いることが好ましい。溶媒を含有することにより、例えば、融点や軟化点が高い光反応性高分子液晶を含む高分子液晶含有組成物を用いる場合であっても、これを室温で塗工することが容易になるからである。
【０１６３】
上記溶媒としては、上記光反応性高分子液晶を所望の濃度で溶解できるものであれば特に限定されるものではない。このような溶媒としては、上記「Ａ．第１態様の位相差フィルムの製造方法」の項において説明したものを用いることができる。
【０１６４】
なお、上記高分子液晶含有組成物が上記溶媒を含有するものである場合、上記高分子液晶含有組成物の固形分濃度としては特に限定されるものではなく、本工程において上記高分子液晶含有組成物を、透明基板上に塗工する塗布方法等に応じて任意の濃度にすることができる。
【０１６５】
（２）透明基板
次に、本工程に用いられる透明基板について説明する。本工程に用いられる透明基板は、透明性を有するものであり、本態様により製造される位相差フィルムにおいて位相差層を支持するものである。
ここで、本態様に用いられる透明基板については、上記「Ａ．第１態様の位相差フィルムの製造方法」の項において説明したものと同様であるため、ここでの説明は省略する。
【０１６６】
（３）位相差層形成用層の形成方法
本工程は、上記高分子液晶含有組成物を上記透明基板上に塗工することによって位相差層形成用層を形成するものであるが、本工程において上記高分子液晶含有組成物を用いて位相差層形成用層を形成する方法については、上記「Ａ．第１態様の位相差フィルムの製造方法」の項において説明した方法と同様であるため、ここでの説明は省略する。
【０１６７】
４．その他の工程
本態様の位相差フィルムの製造方法は、上記各工程以外の他の工程を有するものであってもよい。このような他の工程としては特に限定されるものではなく、本態様により製造される位相差フィルムに所望の機能を付与できる工程を任意に用いることができる。このような他の工程としては、例えば、上記液晶配列工程後に上記位相差層に紫外線を照射する工程を例示することができる。上記液晶配列工程後に上記位相差層に紫外線を照射することにより、配向性付与工程での偏光紫外線照射では反応していなかった光反応性高分子液晶の光反応性基を反応させ、架橋構造をとらせることにより、位相差層の耐熱性が向上する。
【０１６８】
５．位相差フィルム
本態様の位相差フィルムの製造方法によって製造される位相差フィルムは、上記透明基板と、上記透明基板上に形成され、上記光反応性高分子液晶を含有する位相差層とを有するものとなる。
【０１６９】
このような位相差フィルムは、例えば、液晶表示装置に用いられる光学補償フィルム（例えば、視野角補償フィルム）、楕円偏光板、円偏光板、輝度向上板等として用いることができる。
【０１７０】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【０１７１】
次に、実施例を示すことにより本発明についてさらに具体的に説明する。
【０１７２】
（合成例１）
ポリ〔１−〔６−〔４−〔２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕（下記式Ａ）の合成
【０１７３】
【化１５】
2008089894.tif 000017
【０１７４】
１−〔６−〔４−〔２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕−１−メチルエチレン４．９１質量部、２，２´−アゾビスイソブチロニトリル０．０１８質量部を脱水テトラヒドロフラン２８質量部に溶解した。窒素雰囲気下、６５℃で２５時間加熱した。得られた反応溶液を８００ｍｌのメタノールに滴下し、沈降物をろ過し、減圧乾燥を行った。得られた固体をクロロホルム５質量部に溶解し、その溶液をメタノール１Ｌに滴下し、沈降物をろ過後、減圧乾燥を行った。重量平均分子量１１６０００（ＧＰＣ：溶媒ＴＨＦ、ポリスチレン換算）であるポリ〔１−〔６−〔４−〔２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕３．６質量部が得られた。
【０１７５】
（合成例２）
ポリ[７-{[４−（６−メタクリロイルオキシ）ヘキシロキシ]ベンゾイルオキシ}クマリン]の合成
【０１７６】
Ｃｈｅｍ．Ｍａｔｅｒ．，Ｖｏｌ．１３，Ｎｏ．２，２００１，６９４−７０３に記載の方法と同様に合成し、７-{[４−（６−メタクリロイルオキシ）ヘキシロキシ]ベンゾイルオキシ}クマリンを得た。
７-{[４−（６−メタクリロイルオキシ）ヘキシロキシ]ベンゾイルオキシ}クマリン１．１質量部、２，２´−アゾビスイソブチロニトリル０．０４質量部、メルカプトプロピオン酸０．０６質量部を脱水テトラヒドロフラン７質量部に溶解した。窒素雰囲気下、６５℃で１９時間加熱した。得られた反応溶液をメタノール６００ｍｌに滴下し、沈降物をろ過、メタノールで洗浄後、室温で減圧乾燥を行った。得られた固体にメチルエチルケトン１５ｇを添加、攪拌後、ろ過によりメチルエチルケトンに不溶な部分は除去した。メチルエチルケトン溶液をメタノール８００ｍｌに滴下し、沈降物をろ過、減圧乾燥を行った。重量平均分子量５１００（ＧＰＣ：溶媒ＴＨＦ、ポリスチレン換算）であるポリ[７-{[４−（６−メタクリロイルオキシ）ヘキシロキシ]ベンゾイルオキシ}クマリン]０．２５質量部が得られた。このポリマーは５１℃から７７℃の範囲で液晶性を呈した。
【０１７７】
１．実施例１
（遮蔽層の作製）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴ−３０、日本化薬製）４０質量部、光重合開始剤１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン（商品名  ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）２質量部、メチルエチルケトン２９質量部、トルエン５８質量部からなる溶液を、トリアセチルセルロースフィルム（ＦＴ−Ｔ８０ＵＺ、富士写真フィルム社製）上にバーコートし、８０℃で３分間乾燥後、ＵＶ照射装置（フュージョンＵＶシステムズジャパン（株）製、光源：Ｈバルブ）を用いて窒素雰囲気下７０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して膜厚１μｍの遮蔽層を作製した。
【０１７８】
（紫外線硬化性組成物の調製）
光反応性化合物：ポリ〔１−〔６−〔４−〔２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕（合成例１の化合物）２質量部、架橋性液晶材料：下記式（Ｂ）で表される化合物  ８質量部、光重合開始剤：１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン（商品名ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）０．００４質量部をメチルエチルケトンに溶解し、固形分１０％溶液として、紫外線硬化性組成物を調製した。
【０１７９】
【化１６】
2008089894.tif 000018
【０１８０】
ここで、上記式（Ｂ）におけるａ、ｂはそれぞれ２〜５の整数である。
【０１８１】
（位相差層の形成）
上記紫外線硬化性組成物を上記工程で作製した遮蔽層上にワイヤーバーにて塗工し、３０℃で３分間加熱乾燥し、位相差層形成用層を形成した。
５００ＷのＤｅｅｐＵＶランプによる紫外線照射装置にカットフィルターとしてショット製ＷＧ２８０と朝日分光製ＳＵ０３２５を配置して波長制限し、さらにワイヤーグリッド偏光板を透過させることにより偏光紫外線とした。透明基板であるトリアセチルセルロースとは反対面から、上記位相差層形成用層の膜面に対し垂直方向から偏光紫外線を８ｍＪ／ｃｍ２大気中で照射した。ここでの偏光紫外線照射量は、照射強度と照射時間から算出し、照射強度はセンサーＳ−３１０（測定範囲２８０〜３６０ｎｍ）を用いてＵＶ  ＲＡＤＩＯ  ＭＥＴＥＲ  ＵＶＲ−４００Ａ（アズワン株式会社製）で測定した。、偏光紫外線を照射後、偏光紫外線が照射された面側から温風が当たるように、１００℃に設定したオーブン中に配置し、３分間加熱した。この加熱により液晶を配向させた後、窒素雰囲気下１２０ｍＪ／ｃｍ２非偏光紫外線を照射して塗膜を硬化させた。これにより、配列した液晶が固定化され、位相差フィルムを製造した。この位相差層の膜厚は０．８μｍであった。
【０１８２】
(評価）
このように得られた位相差フィルムについて、自動複屈折測定装置（王子計測機器株式会社製，自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−ＷＲ）を用い、波長５９０ｎｍにおける面内位相差（Ｒｅ）を測定したところ６３ｎｍであった。また、濁度計ＮＤＨ２０００（日本電色工業（株）社製）にてヘイズを測定したところ、１．５％であった。
【０１８３】
２．実施例２
（高分子液晶含有組成物の調製）
光反応性高分子液晶：ポリ[７-{[４−（６−メタクリロイルオキシ）ヘキシロキシ]ベンゾイルオキシ}クマリン]（合成例２の化合物）２質量部をメチルエチルケトンに溶解し、固形分５％溶液として、高分子液晶含有組成物を調製した。
【０１８４】
（位相差層の形成）
上記高分子液晶含有組成物を実施例１と同様の工程で作製した遮蔽層上にワイヤーバーにて塗工し、３０℃で３分間加熱乾燥し、位相差層形成用層を形成した。
５００ＷのＤｅｅｐＵＶランプによる紫外線照射装置にカットフィルターとしてショット製ＷＧ２８０と朝日分光製ＳＵ０３２５を配置して波長制限し、さらにワイヤーグリッド偏光板を透過させることにより偏光紫外線とした。透明基板であるトリアセチルセルロースとは反対面から、上記位相差層形成用層の膜面に対し垂直方向から偏光紫外線を２０ｍＪ／ｃｍ２大気中で照射した。偏光紫外線を照射後、偏光紫外線が照射された面側から温風が当たるように、６５℃に設定したオーブン中に配置し、３分間加熱した。これにより液晶が配列し、位相差フィルムを製造した。この位相差層の膜厚は０．８μｍであった。
【０１８５】
(評価）
このように得られた位相差フィルムの波長５９０ｎｍにおける面内位相差は５０ｎｍ、ヘイズは２％であった。
【０１８６】
３．比較例
偏光紫外線照射後の加熱を、１００℃のホットプレート上にトリアセチルセルロースが接するように３分間置き、偏光紫外線が照射された面とは反対の側から加熱した以外は実施例と同様にしてサンプルを作製した。得られたフィルムの波長５９０ｎｍにおける面内位相差は１５ｎｍ、ヘイズは１８％であった。
【図面の簡単な説明】
【０１８７】
【図１】本発明の第１態様の位相差フィルムの製造方法の一例を示す概略図である。
【図２】本発明の第２態様の位相差フィルムの製造方法の一例を示す概略図である。
【図３】一般的な液晶表示装置の一部を模式的に示す概略図である。
【符号の説明】
【０１８８】
１  …  透明基板
２Ａ，２Ｂ  …  位相差層
２Ａ’，２Ｂ’  …  位相差層形成用層
１０Ａ，１０Ｂ  …  位相差フィルム
１００  …  液晶表示装置
１０１  …  液晶セル
１０２Ａ，１０２Ｂ  …  偏光板
【図１】
2008089894.tif 000020
【図２】
2008089894.tif 000021
【図３】
2008089894.tif 000022