(57)【要約】【課題】液晶注入孔を良好に封止して液晶材料の漏れを抑制すると共に、パネル寸法を精度良く形成する液晶表示装置１０の製造方法及び液晶表示装置１０を提供する。【解決手段】液晶表示装置１０の製造方法は、透明の第１基板の表面に、枠状シール部２０を、その一部が開口２２して第１基板の外側に延びるように形成するステップと、枠状シール部２０を形成した第１基板に、枠状シール部２０を介して透明の第２基板を貼り合わせて貼り合わせ基板を形成するステップと、貼り合わせ基板の枠状シール部２０に囲まれた領域に、開口２２から液晶材料を供給するステップと、液晶材料を供給した貼り合わせ基板の開口２２に、封止材２５を供給して硬化させるステップと、封止材２５が硬化された貼り合わせ基板を、開口２２が形成されたエッジ２４に沿い、且つ、硬化した封止材２５上を通る分断線において分断するステップと、を備える。【選択図】図２
2008070541.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明の第１基板の表面に、枠状シール部を、その一部が開口して該第１基板の外側に延びるように形成するステップと、
上記枠状シール部を形成した第１基板に、該枠状シール部を介して透明の第２基板を貼り合わせて開口を有する貼り合わせ基板を形成するステップと、
上記貼り合わせ基板の上記枠状シール部に囲まれた領域に、上記開口から液晶材料を供給するステップと、
上記液晶材料を供給した貼り合わせ基板の上記開口に、封止材を供給して硬化させるステップと、
上記封止材が硬化された貼り合わせ基板を、上記開口が形成されたエッジに沿い、且つ、該硬化した封止材上を通る分断線において分断するステップと、
を備えた液晶表示装置の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載された液晶表示装置の製造方法において、
上記封止材は紫外線硬化性材料で形成されていると共に、
上記封止材の硬化を紫外光照射により行う液晶表示装置の製造方法。
【請求項３】
請求項１に記載された液晶表示装置の製造方法において、
上記枠状シール部を、それぞれ上記第１基板の所定領域を囲み、且つ、それらの開口が該第１基板の同一エッジ側に向くように複数形成すると共に、
上記貼り合わせ基板を、上記複数の枠状シール部で形成される複数の開口が形成されたエッジに沿い、上記硬化した封止材上を通る分断線において分断するステップと、
を備えた液晶表示装置の製造方法。
【請求項４】
液晶材料と、該液晶材料を囲むように設けられた枠状シール部と、を介して貼り合わされた第１及び第２基板を有する液晶表示装置であって、
上記枠状シール部は、その一部が開口して上記第１及び第２基板のエッジに到達するように形成されており、
上記開口には、封止材が充填されていると共に、該封止材は上記第１及び第２基板のエッジから外側へ突出していない液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置の製造方法及び液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）に用いられる液晶表示パネルは、ＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板とを互いにわずかな間隙をあけて、一部が欠損した枠状のシール材を介して貼り合わせることにより製造される。このような液晶表示パネルは、その枠状のシール材の欠損した部分により、液晶注入孔が構成される。そして、例えば、特許文献１に記載されているように、この液晶注入孔からＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板との間隙に液晶を注入した後に、光硬化性等の封止樹脂等を液晶注入孔に供給して硬化させて、液晶注入孔の封止処理が行われている。
【特許文献１】特開2005-338396号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ここで、従来の一般的な液晶注入孔の封止処理を説明する。従来の一般的な封止処理は、図７に示すように、液晶表示パネル１００の基板間において、その枠状シール部１０１で囲まれた表示領域１０６に液晶注入孔１０２から液晶材料を注入した後、その液晶注入孔１０２に封止材１０３を供給することにより行われている。
【０００４】
しかしながら、このような封止処理によって液晶注入孔１０２を封止すると、液晶表示パネル１００のエッジ１０４から外部へ封止材１０３が突出して形成されてしまう。このように封止材１０３が液晶表示パネル１００のエッジ１０４から外部へ突出すると、液晶モジュール組立時等に、パネルがベゼルに収まらず、組立が困難となる場合がある。
【０００５】
また、このように供給しただけの封止材１０３は、所望の形状に形成されておらず、その封止性能に不良があるものが生じる可能性がある。このような場合、液晶表示パネル１００の液晶注入孔１０２からの液晶漏れを発生させ、表示品位が低下する、という問題が生じる。
【０００６】
本発明は、斯かる諸点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、液晶注入孔を良好に封止して液晶材料の漏れを抑制すると共に、パネル寸法を精度良く形成する液晶表示装置の製造方法及び液晶表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係る液晶表示装置の製造方法は、透明の第１基板の表面に、枠状シール部を、その一部が開口して第１基板の外側に延びるように形成するステップと、枠状シール部を形成した第１基板に、枠状シール部を介して透明の第２基板を貼り合わせて開口を有する貼り合わせ基板を形成するステップと、貼り合わせ基板の枠状シール部に囲まれた領域に、開口から液晶材料を供給するステップと、液晶材料を供給した貼り合わせ基板の開口に、封止材を供給して硬化させるステップと、封止材が硬化された貼り合わせ基板を、開口が形成されたエッジに沿い、且つ、硬化した封止材上を通る分断線において分断するステップと、を備えたことを特徴とする。
【０００８】
このような構成によれば、封止材を液晶注入孔に供給した後、さらに封止材上の分断線でエッジに沿って貼り合わせ基板を分断するため、分断後の開口は封止材が密に充填されており、且つ、エッジから外へ突出することはない。このため、液晶モジュールの組立が容易になる。また、液晶注入孔からの液晶漏れの発生を良好に抑制することができる。
【０００９】
また、本発明に係る液晶表示装置の製造方法は、封止材が紫外線硬化性材料で形成されていると共に、封止材の硬化を紫外光照射により行ってもよい。
【００１０】
液晶注入孔に供給した封止材上でパネルを分断して削除するためには、液晶注入孔をその分、余裕をもって深めに作製しておかなければならないが、上述の構成によれば、パネルのエッジから液晶注入孔の深い部分まで供給された封止材を良好に硬化することができる。
【００１１】
さらに、本発明に係る液晶表示装置の製造方法は、枠状シール部を、それぞれ第１基板の所定領域を囲み、且つ、それらの開口が第１基板の同一エッジ側に向くように複数形成すると共に、貼り合わせ基板を、複数の枠状シール部で形成される複数の開口が形成されたエッジに沿い、硬化した封止材上を通る分断線において分断するステップと、を備えてもよい。
【００１２】
このような構成によれば、複数の表示領域を形成した大判の貼り合わせ基板を、その分断線において一度に分断するため、液晶モジュールの組立が容易で、液晶注入孔からの液晶漏れの発生を良好に抑制することができる液晶表示装置を効率良く作製することができる。
【００１３】
本発明に係る液晶表示装置は、液晶材料と、液晶材料を囲むように設けられた枠状シール部と、を介して貼り合わされた第１及び第２基板を有する液晶表示装置であって、枠状シール部は、その一部が開口して第１及び第２基板のエッジに到達するように形成されており、開口には、封止材が充填されていると共に、封止材は第１及び第２基板のエッジから外側へ突出していないことを特徴とする。
【００１４】
このような構成によれば、液晶注入孔に封止材が充填されていると共に、封止材は第１及び第２基板のエッジから外側へ突出していないため、液晶モジュールの組立が容易になる。また、液晶注入孔からの液晶漏れの発生を良好に抑制することができる。
【発明の効果】
【００１５】
以上説明したように、本発明によれば、液晶注入孔を良好に封止して液晶材料の漏れを抑制すると共に、パネル寸法を精度良く形成する液晶表示装置の製造方法及び液晶表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明の実施形態に係る液晶表示装置及びその製造方法を、図面に基づいて詳細に説明する。尚、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではない。
【００１７】
（液晶表示装置１０の構成）
図１は本発明の実施形態に係る液晶表示装置１０の断面図を表す。
【００１８】
液晶表示装置１０は、液晶表示パネル１２及びバックライト１３等により構成されている。
【００１９】
液晶表示パネル１２は、対向するＴＦＴ（薄膜トランジスタ）基板１４及びＣＦ（カラーフィルタ）基板１５、それらの間に設けられた枠状シール部２０、液晶層２１、及び、スペーサ（不図示）で構成されている。
【００２０】
ＣＦ基板１５は、ガラス等で形成された基板上に赤（Ｒ）、緑（Ｇ）及び青（Ｂ）の３原色からなる色層が形成されている。色層としては、ＲＧＢの組合せ以外に、シアン、マゼンタ、イエローの補色を用いてもよい。
【００２１】
色層上には不図示の対向電極及び配向膜がそれぞれ形成されている。色層は、その外周に、コントラストを得るための縁取りとしてブラックマトリクス（遮光層）が設けられて遮光領域３０が形成されている。
【００２２】
ＴＦＴ基板１４は、ガラス等で形成された基板、基板上に形成されたそれぞれ不図示のゲート電極、ソース電極及びドレイン電極等のＴＦＴ素子、透明絶縁層、画素電極及び配向膜等で構成されている。
【００２３】
枠状シール部２０は、ＣＦ基板１５とＴＦＴ基板１４との間に設けられており、両基板を接着している。枠状シール部２０は、表示領域３１を囲むようにして配置されており、これにより液晶表示セルが形成されている。枠状シール部２０は、ラジカル重合体のメタクリル、アクリル樹脂等の紫外線硬化型の接着剤で構成されている。枠状シール部２０は、その一辺の例えば略中央部が開口２２を形成している。
【００２４】
ここで、図２に枠状シール部２０の開口２２付近の拡大図を示す。枠状シール部２０の開口２２は、液晶表示パネル１２のエッジ２４に到達するように形成されている。枠状シール部２０の開口２２には、ラジカル重合体のメタクリル、アクリル樹脂等の紫外線硬化型の封止材２５が充填されている。この封止材２５は、液晶表示パネル１２のエッジ２４から外側へ突出しておらず、且つ、封止材２５のエッジ２６と液晶表示パネル１２のエッジ２４とが同一ラインを構成している。
【００２５】
バックライト１３は、液晶表示パネル１２のＴＦＴ基板１４側に配置されている。バックライト１３は、光源と、光源から出射された光を受けてその中を伝播させながら液晶表示パネル１２に向けて出射する導光板と、導光板の裏面から出射された光を導光板に向けて反射する反射板（いずれも不図示）とを有している。
【００２６】
（液晶表示装置１０の製造方法）
次に、本発明の実施形態に係る液晶表示装置１０の製造方法の一例について、図を用いて詳細に説明する。本実施形態では、それぞれ、大判の基板上に複数の表示領域を形成した大判のＣＦ基板と大判のＴＦＴ基板を作製し、これらを貼り合わせてから分断し、個別の液晶表示パネルを作製する方法を説明する。
【００２７】
（大判のＣＦ基板３５の製造工程）
まず、ガラス等で形成された基板を用意し、次に、図３に示すように、基板の一端において、所定幅の領域（表示素子非形成領域３６）だけ残し、それ以外の部分における複数領域にそれぞれ表示素子を形成する。
【００２８】
即ち、まず、遮光領域３０となる部分に例えば幅５〜５０μｍ程度のブラックマトリクスをスパッタリング法により形成する。次に、基板上の表示領域３１及び遮光領域３０に赤の顔料が分散された樹脂フィルム（ドライフィルム）を全面にラミネートし、露光、現像及びベーク（熱処理）を行って、第１色層（赤）を形成する。次に、第１色層に重ねて、緑色の顔料が分散された樹脂フィルムを全面にラミネートし、露光、現像及びベーク（熱処理）を行って、第２色層（緑）を形成する。同様に、第３色層（青）を形成する。
【００２９】
尚、色層は、ストライプ配列となるように形成してもよく、デルタ配列であってもよい。また、色層の形成方法は、ドライフィルムをラミネートする代わりに、顔料が分散された感光性樹脂材料をスピン、スリットコートにより全面に塗布してもよい。更に、着色層の各色の形成順序は、特に限定されず、他の順序でもよい。
【００３０】
次に、色層の上層にＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）を蒸着し、不図示の透明電極及び透明誘電体層を形成する。
【００３１】
次に、感光性樹脂等からなるスペーサを透明誘電体層上に形成する。スペーサは、フォトリソグラフィ法により、表示領域３１及び遮光領域３０に同一工程で形成される。
【００３２】
これにより、基板の一端に表示素子非形成領域３６を有し、複数の表示領域３１が設けられた大判のＣＦ基板３５が完成する。
【００３３】
（大判のＴＦＴ基板４０の製造工程）
続いて、ガラス等で形成された基板を用意し、次に、図４に示すように、基板の一端において、所定幅の領域（表示素子非形成領域４１）だけ残し、それ以外の部分における複数領域にそれぞれ表示素子を形成する。
【００３４】
即ち、まず、Ｔａ又はＡｌ／Ｔｉからなるゲート電極をスパッタ法により形成し、パターニングする。
【００３５】
次に、ゲート絶縁膜としてＳｉＮｘ、薄膜として半導体ａ−Ｓｉを形成し、次いで、エッチング保護膜としてＳｉＮｘを形成し、パターン形成を行った後、層間絶縁膜を形成する。
【００３６】
次に、ＩＴＯを真空蒸着して透明電極を形成し、次いで、コンタクトホール、ドレイン電極及びソース電極を形成する。
【００３７】
これにより、基板の一端に表示素子非形成領域４１を有し、複数の表示領域３１が設けられた大判のＴＦＴ基板４０が完成する。
【００３８】
（貼り合わせ基板形成工程）
次に、大判のＴＦＴ基板４０上に枠状シール部２０を形成する。枠状シール部２０は、図４に示すように、大判のＴＦＴ基板４０の複数の表示領域３１をそれぞれ囲むように設け、且つ、各々その一部が開口して大判のＴＦＴ基板４０の表示素子非形成領域４１を通り、大判のＴＦＴ基板４０の外側に延びるように形成する。
【００３９】
次に、枠状シール部２０を形成した大判のＴＦＴ基板４０に、枠状シール部２０を介して大判のＣＦ基板３５を貼り合わせる。このとき、両基板の表示素子非形成領域３６，４１が重なるように貼り合わせる。
【００４０】
次に、紫外光を枠状シール部２０に照射することにより硬化させて大判のＴＦＴ基板４０及び大判のＣＦ基板３５を接着し、複数の表示領域３１を有する貼り合わせ基板を形成する。このとき、枠状シール部２０の開口２２は、液晶注入孔４４を構成している。
【００４１】
次に、複数の表示領域３１を有する貼り合わせ基板を、それぞれの表示領域３１を囲むように形成された枠状シール部２０の外縁で分断し、個別の貼り合わせ基板を作製する。
【００４２】
（液晶注入工程）
次に、分断した貼り合わせ基板の液晶注入孔４４に、真空注入方式により、液晶材料を注入する。これにより、貼り合わせ基板内の枠状シール部２０で囲まれた領域に、液晶材料が充填される。
【００４３】
（液晶注入孔封止工程）
次に、液晶材料を充填した貼り合わせ基板の液晶注入孔４４に、封止材２５を供給する。
【００４４】
このとき、封止材２５は、図５に示すように液晶注入孔４４をすべて満たし、さらに貼り合わせ基板のエッジ５０より外側に盛り上がるように供給する。
【００４５】
次に、供給した封止材２５に紫外光を照射することにより、封止材２５を硬化させる。
【００４６】
（封止材供給基板分断工程）
次に、封止材２５が硬化された貼り合わせ基板を、図５に示すように、液晶注入孔が形成されたエッジ５０に沿い、且つ、硬化した封止材２５上を通る分断線５１において分断する。このようにして形成した貼り合わせ基板は、図２に示すように、その液晶注入孔４４に設けた封止材２５が、分断によって新しく形成された基板のエッジ２４から外側へ突出しておらず、且つ、封止材２５のエッジ２６と基板のエッジ２４とが同一ラインを構成する。
【００４７】
次に、このようにして作製した貼り合わせ基板を用いて液晶表示パネル１２を作製し、さらに、これにバックライト１３等を設けて液晶表示装置１０を完成させる。
【００４８】
また、本発明の液晶表示装置の製造方法に係る他の実施形態として、図６に示すように、複数の枠状シール部２０を形成した大判の貼り合わせ基板を分断せずに、このまま液晶材料を注入し、液晶注入孔４４に封止材２５を供給してから一度に個別の貼り合わせ基板に分断するものであってもよい。この場合、貼り合わせ基板の液晶注入孔４４が形成されたエッジ５０における分断は、そのエッジ５０に沿い、硬化した封止材２５上を通る分断線５１において行う。
【００４９】
尚、上述のように、大判の基板を用いて複数の表示領域３１を有する液晶表示パネル１２を形成し、それを分断して個別の液晶表示パネル１２を作製するものでなくてもよく、一枚のガラス基板で一つの液晶表示パネル１２を個々に作製してもよい。また、大判の基板を用いて複数の表示領域３１をマトリクス状に形成してから、個別の貼り合わせ基板に分断するものであってもよい。
【００５０】
（作用効果）
次に作用効果について説明する。
【００５１】
本発明の実施形態に係る液晶表示装置１０の製造方法は、ＴＦＴ基板４０の表面に、枠状シール部２０を、その一部が開口して基板の外側に延びるように形成するステップと、枠状シール部２０を形成した基板に、枠状シール部２０を介してＣＦ基板３５を貼り合わせて開口２２を有する貼り合わせ基板を形成するステップと、貼り合わせ基板の枠状シール部２０に囲まれた領域に、開口２２から液晶材料を供給するステップと、液晶材料を供給した貼り合わせ基板の開口２２に、封止材２５を供給して硬化させるステップと、封止材２５が硬化された貼り合わせ基板を、開口２２が形成されたエッジ５０に沿い、且つ、硬化した封止材２５上を通る分断線５１において分断するステップと、を備えたことを特徴とする。
【００５２】
このような構成によれば、封止材２５を液晶注入孔に供給した後、さらに封止材２５上の分断線でエッジ５０に沿って貼り合わせ基板を分断するため、分断後の開口２２は封止材２５が密に充填されており、且つ、新たに形成された基板のエッジ２４から外へ突出することはない。このため、液晶モジュールの組立が容易になる。また、液晶注入孔からの液晶漏れの発生を良好に抑制することができる。
【００５３】
また、本発明の実施形態に係る液晶表示装置１０の製造方法は、封止材２５が紫外線硬化性材料で形成されていると共に、封止材２５の硬化を紫外光照射により行うことを特徴とする。
【００５４】
液晶注入孔４４に供給した封止材２５上でパネルを分断して削除するためには、液晶注入孔４４をその分、余裕をもって深めに作製しておかなければならないが、上述の構成によれば、パネルのエッジ２４から液晶注入孔４４の深い部分まで供給された封止材２５を良好に硬化することができる。
【００５５】
さらに、本発明の実施形態に係る液晶表示装置１０の製造方法は、枠状シール部２０を、それぞれＴＦＴ基板の表示領域３１を囲み、且つ、それらの開口２２がＴＦＴ基板の同一エッジ５０側に向くように複数形成すると共に、貼り合わせ基板を、複数の枠状シール部２０で形成される複数の開口２２が形成されたエッジ５０に沿い、硬化した封止材２５上を通る分断線５１において分断するステップと、を備えることを特徴とする。
【００５６】
このような構成によれば、複数の表示領域３１を形成した大判の貼り合わせ基板を、その分断線５１において一度に分断するため、液晶モジュールの組立が容易で、液晶注入孔４４からの液晶漏れの発生を良好に抑制することができる液晶表示装置１０を効率良く作製することができる。
【００５７】
本発明の実施形態に係る液晶表示装置１０は、液晶層２１と、液晶層２１を囲むように設けられた枠状シール部２０と、を介して貼り合わされたＴＦＴ基板１４及びＣＦ基板１５を有する液晶表示装置１０であって、枠状シール部２０は、その一部が開口してＴＦＴ基板１４及びＣＦ基板１５のエッジ２４に到達するように形成されており、開口２２には、封止材２５が充填されていると共に、封止材２５はＴＦＴ基板１４及びＣＦ基板１５のエッジ２４から外側へ突出していないことを特徴とする。
【００５８】
このような構成によれば、液晶注入孔４４に封止材２５が充填されていると共に、封止材２５はＴＦＴ基板１４及びＣＦ基板１５のエッジ２４から外側へ突出していないため、液晶モジュールの組立が容易になる。また、液晶注入孔４４からの液晶漏れの発生を良好に抑制することができる。
【産業上の利用可能性】
【００５９】
以上説明したように、本発明は、液晶表示装置１０の製造方法及び液晶表示装置１０について有用である。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】本発明の実施形態に係る液晶表示装置１０の断面図である。
【図２】枠状シール部２０の開口２２付近の拡大図である。
【図３】大判のＣＦ基板３５の平面図である。
【図４】大判のＴＦＴ基板４０の平面図である。
【図５】液晶注入孔４４に封止材２５を供給した貼り合わせ基板の平面図である。
【図６】本発明の他の実施形態に係る液晶注入孔４４に封止材２５を供給した貼り合わせ基板の平面図である。
【図７】従来の一般的な液晶表示パネルの液晶注入孔１０２付近の拡大図である。
【符号の説明】
【００６１】
１０      液晶表示装置
１２      液晶表示パネル
１４，４０      ＴＦＴ基板
１５，３５      ＣＦ基板
２０      枠状シール部
２１      液晶層
２２      開口
２４，２６，５０      エッジ
２５      封止材
３０      遮光領域
３１      表示領域
３６，４１      表示素子非形成領域
４４      液晶注入孔
５１      分断線
【図１】
2008070541.tif 000003
【図２】
2008070541.tif 000004
【図３】
2008070541.tif 000005
【図４】
2008070541.tif 000006
【図５】
2008070541.tif 000007
【図６】
2008070541.tif 000008
【図７】
2008070541.tif 000009