(57)【要約】【課題】セル径分布の均一性に優れ硬度や抵抗のムラが抑えられた導電性ゴムローラをより安価に製造可能な方法、及びこれら優れた特性を持つ電子写真装置用ローラを提供する。【解決手段】導電性芯材上に発泡体ゴム層を有する導電性ゴムローラの製造方法において、エピクロルヒドリンゴム及びアクリロニトリルブタジエンゴムの少なくとも一方とｐ，ｐ’−オキシビスベンゼンスルホニルヒドラジドとを含む発泡体ゴム層形成用材料をマイクロ波加硫炉を用いてマイクロ波照射及び加熱空気によって加熱して加硫する加硫工程を有し、加硫工程において前記炉内で１８０〜２３０℃の加熱空気中で前記材料にマイクロ波照射して前記材料を加熱する際、前記炉内部を通過する時間が０．５〜２．０分間で前記炉排出時温度が１００〜２５０℃に昇温する。基層部がこの方法で製造された導電性ゴムローラである電子写真装置用ローラ。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性芯材上に発泡体ゴム層を有する導電性ゴムローラの製造方法において、
エピクロルヒドリンゴムおよびアクリロニトリルブタジエンゴムの少なくとも一方と、ｐ，ｐ’−オキシビスベンゼンスルホニルヒドラジドとを含む発泡体ゴム層形成用材料を、マイクロ波加硫炉を用いてマイクロ波照射及び加熱空気によって加熱して加硫する加硫工程を有し、
該加硫工程において、マイクロ波加硫炉内で、１８０℃以上２３０℃以下の加熱空気中で該発泡体ゴム層形成用材料にマイクロ波を照射して、該発泡体ゴム層形成用材料を該マイクロ波加硫炉内部を通過する時間が０．５分間以上２．０分間以下でマイクロ波加硫炉排出時の温度が１００℃以上２５０℃以下になるように昇温することを特徴とする導電性ゴムローラの製造方法。
【請求項２】
前記加硫工程で加硫された発泡体ゴム層形成用材料を、熱風炉を用いて１分以上５分以下の間、１５０℃以上２５０℃以下に加熱する工程を有する請求項１記載の方法。
【請求項３】
基層部が、請求項１または２記載の方法により製造された導電性ゴムローラであることを特徴とする電子写真装置用ローラ。
【請求項４】
転写ローラである請求項３に記載の電子写真装置用ローラ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は電子写真複写装置、プリンター、静電記録装置等の画像形成装置において使用することのできる導電性ゴムローラの製造方法に関する。また、感光体等の像担持体に電子写真プロセス、静電記録プロセス等の作像手段で形成担持させたトナー像による可転写画像を紙等の記録媒体、転写材に転写させて画像を形成する電子写真装置に用いられる電子写真装置用ローラに関する。
【背景技術】
【０００２】
複写機、プリンターなど、電子写真方式の画像形成装置の多くに帯電ローラ、転写ローラ、現像ローラ等の導電性ゴムローラが用いられている。特には、発泡体ゴム層を有する導電性ゴムローラが用いられている。これらのゴムローラは、装置の高速化、良画質化に応えるために、感光体との当接により一様なニップ幅を保つことが要求され、発泡セルが緻密かつ均一であることが望まれている。従来のゴムローラの製造方法として、高圧蒸気による加硫缶加硫（特許文献１）、金型を用いた加硫方法（特許文献２）、マイクロ波照射によるＵＨＦ（マイクロ波加硫装置）加硫（特許文献３）が挙げられる。
【０００３】
加硫缶加硫では比較的微細なセルを得ることは容易であるが、加硫チューブの径方向で発泡体のセルが不均一になりやすく、所望のセルを表面に出すために比較的多量の研磨が必要になる。
【０００４】
金型加硫においては発泡ゴムローラ（発泡体ゴム層を有する導電性ゴムローラ）を型内（割型）発泡法で作製する場合、二つの金型の合わせ目が存在する。化学発泡剤を含むゴム組成物をこのような割型を使用して加硫発泡を行った場合、この合わせ目からゴム組成物の漏れ（パーティングライン）が生じ、脱型後の発泡ゴムにはこの影響が現れやすい。その結果、例えば電気抵抗、硬度、セル形状などにおいて、この割型合わせ面で異常が発生しやすい。これらの特性が均質であることが望まれる発泡ゴムローラにおいては、特性の不均質化は避けることが望まれる。さらに段取りに時間が掛かり、且つ金型洗浄を行う必要があるため量を数多く作るのには好適とは言えなかった。
【０００５】
一方、ＵＨＦ加硫では、押し出し直後に連続してマイクロ波を用いて加硫発泡を行うため非常に効率の良い生産が可能である。さらにマイクロ波を用いて連続的に押し出し後の未加硫チューブを均質に加熱するため、均一な抵抗値、硬度、セル径を有する加硫チューブを得やすいと言える。しかし押し出し後のチューブをベルト或いはコロ上で搬送するため、特別な工夫がない限り押し出し後の未加硫チューブは周方向の特定の位置のみがベルト或いはコロと接触した状態で加熱昇温され、加硫、発泡が行われる。このため、チューブの周方向で発泡ムラが生じやすく、この発泡ムラに起因する硬度ムラ、抵抗ムラが大きくなることがあった。特許文献３においては押し出し機から押し出されたチューブを連続加硫中に１／２回転以上回転させることにより、ローラの周方向の加硫密度のばらつきを低減して、物理的に非常に均一で良好な導電性ローラを得ることが開示されている。
【特許文献１】特開平１１−１１４９７８号公報
【特許文献２】特開２００２−１１５７１４号公報
【特許文献３】特開２００２−２２１８５９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献３の方法ではチューブを回転させる機構が別途必要となり、装置のコストが上昇することにより、ローラコストが上昇してしまうことが考えられる。従って、発泡体ゴム層を有する導電性ゴムローラにおいては、ゴム層の発泡状態、抵抗値、硬度が均一であり、かつローコストな製造方法を確立することが望まれている。
【０００７】
本発明の目的は、セル径分布の均一性に優れ、且つ硬度や抵抗のムラが抑えられた導電性ゴムローラを、よりローコストで製造することのできる導電性ゴムローラの製造方法を提供することである。
【０００８】
本発明の別の目的は、セル径分布の均一性に優れ、且つ硬度や抵抗のムラが抑えられた、より安価な電子写真装置用ローラを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明により、導電性芯材上に発泡体ゴム層を有する導電性ゴムローラの製造方法において、
エピクロルヒドリンゴムおよびアクリロニトリルブタジエンゴムの少なくとも一方と、ｐ，ｐ’−オキシビスベンゼンスルホニルヒドラジドとを含む発泡体ゴム層形成用材料を、マイクロ波加硫炉を用いてマイクロ波照射及び加熱空気によって加熱して加硫する加硫工程を有し、
該加硫工程において、マイクロ波加硫炉内で、１８０℃以上２３０℃以下の加熱空気中で該発泡体ゴム層形成用材料にマイクロ波を照射して、該発泡体ゴム層形成用材料を該マイクロ波加硫炉内部を通過する時間が０．５分間以上２．０分間以下でマイクロ波加硫炉排出時の温度が１００℃以上２５０℃以下になるように昇温することを特徴とする導電性ゴムローラの製造方法が提供される。
【００１０】
本発明により、基層部が、上記方法により製造された導電性ゴムローラであることを特徴とする電子写真装置用ローラが提供される。
【発明の効果】
【００１１】
本発明により、セル径分布の均一性に優れ、且つ硬度や抵抗のムラが抑えられた導電性ゴムローラを、よりローコストで製造することのできる導電性ゴムローラの製造方法が提供される。
【００１２】
また本発明により、セル径分布の均一性に優れ、且つ硬度や抵抗のムラが抑えられた、より安価な電子写真装置用ゴムローラが提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
導電性芯材上に発泡体ゴム層を形成するための発泡体ゴム層形成用材料は、ゴム主成分として少なくともアクリロニトリルブタジエンゴム、エピクロルヒドリンゴム、又はその混合物を含む。発泡体ゴム層形成用材料は、更に発泡剤としてｐ，ｐ’−オキシビスベンゼンスルホニルヒドラジドを含む。また、発泡体ゴム層形成用材料にカーボンブラック等の導電材、炭酸カルシウム等の充填材、他の助剤や硫黄、有機過酸化物、トリアジン、ポリアミン等の加硫剤、チウラム系、チアゾール系、グアニジン系、スルフェンアミド系、ジチオカルバミン酸塩系、チオウレア系、またはその数種の混合物の加硫促進剤などを混合することができる。
【００１４】
アクリロニトリルブタジエンゴムは特に限定されるのもではないが、中高ニトリルから低ニトリルのものが好ましく、低ニトリルのものがより好ましい。
【００１５】
エピクロルヒドリンゴムは、エピクロルヒドリン単独重合体、エピクロルヒドリン−エチレンオキサイド共重合体、エピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル共重合体、エピクロルヒドリン−エチレンオキサイド−アリルグリシジルエーテル三元共重合体などのなかから適宜選択して使用することができる。なかでも、抵抗調整が容易であり、硫黄加硫が可能であることから、エピクロルヒドリン−エチレンオキサイド−アリルグリシジルエーテル三元共重合体が好ましい。
【００１６】
発泡体形成用材料は上記材料を適宜選択して混合すればよい。好ましくは低ニトリルアクリロニトリルブタジエンゴム、エピクロルヒドリン−エチレンオキサイド−アリルグリシジルエーテル三元共重合体を主成分とし、カーボンブラック等の充填剤、硫黄、加硫促進剤、ｐ，ｐ’−オキシビスベンゼンスルホニルヒドラジド、他の助剤などを混合したものである。
【００１７】
発泡剤としてアゾジカルボンアミドを用いると、アゾジカルボンアミドの分解生成物としてアンモニアやシアン酸等の物質が生成し、これらの分解生成物が材料中でイオン導電材として作用したり、材料中の極性を変化させたりする場合がある。その結果、経時でローラ抵抗値が上昇してしまう場合があり、特に高温高湿環境（例えば３２．５℃、相対湿度８０％）におけるローラ抵抗値の上昇が大きい場合がある。その他の発泡剤としては、Ｎ，Ｎ’−ジニトロソペンタメチレンテトラミンや炭酸水素ナトリウムが挙げられる。Ｎ，Ｎ’−ジニトロソペンタメチレンテトラミンは分解時に有害なホルムアルデヒドが発生することがあり、またそのもの自体が変異原性を疑われている。炭酸水素ナトリウムは均一な発泡を得難く、ローラ抵抗値の環境変動を悪化させる場合がある。従って、ｐ，ｐ’−オキシビスベンゼンスルホニルヒドラジドを発泡剤として用いることが望ましい。
【００１８】
発泡ムラの発生を抑え、セル径分布をより均一にし、もって導電性ゴムローラに加工した場合の硬度ムラや抵抗ムラを抑え、優れた導電性ゴムローラを得る観点から、マイクロ波加硫炉内の加熱空気温度を１８０℃以上とする。また、搬送部位でのチューブの温度ムラによって抵抗ムラが大きくなりやすくなることを抑える観点から、加熱空気温度を２３０℃以下とする。
【００１９】
発泡体ゴム層形成用材料はマイクロ波加硫炉の投入側から排出側までの間を０．５分間以上２．０分間以下で搬送され、その間にマイクロ波を照射されることとマイクロ波加硫炉内の加熱空気によって１００℃以上２５０℃以下に昇温される。このマイクロ波照射時間が０．５分間よりも短いと、発泡体ゴム層形成用材料を所望の温度昇温するためにマイクロ波出力を高くする必要があり、発泡ムラが生じやすくなってしまうという問題が生じる。さらにはマイクロ波照射時間が０．５分間よりも短いと発泡体ゴム層形成用材料を所望の温度まで昇温できないという問題が生じる。このマイクロ波照射時間が２．０分間より長いと、発泡体ゴム層形成用材料の昇温速度が遅いために、発泡ムラが生じやすくなったり、ラインスピードが遅くなりすぎるために生産性が低下し、ローラコストが上昇してしまうという問題などが生じる。マイクロ波加硫炉内を通過することによってマイクロ波加硫炉排出口で発泡体ゴム層形成用材料は１００℃以上２５０度以下まで昇温される。マイクロ波加硫炉排出口で発泡体ゴム層形成用材料の温度が１００℃未満であると、その後の熱風炉によりさらに加熱しても加硫、発泡反応が不十分になってしまったり、発泡ムラが生じやすくなってしまうという問題などが生じやすくなる。マイクロ波加硫炉排出口で発泡体ゴム層形成用材料の温度が２５０℃を超えると、発泡体ゴム層形成用材料の温度が高いために、アクリロニトリルブタジエンゴムやエピクロルヒドリンゴムの劣化による導電性ゴムローラの電気的、機械的特性低下が懸念される。
【００２０】
以下、本発明の形態について図面を用いて詳細に説明するが、本発明はこれによって限定されるものではない。
【００２１】
図１に本発明により製造することのできる導電性ゴムローラの一形態を示す。この導電性ゴムローラは、導電性芯材６１の外周面に発泡体ゴム層６２を有する。導電性芯材としては、導電性ゴムローラに用いられる公知の導電性芯材を用いることができ、例えば円筒状の金属（芯金）を用いることができる。
【００２２】
図２に、本発明の導電性ゴムローラの製造方法により製造された導電性ゴムローラを画像形成装置に利用した一例を示す。同図に示す画像形成装置は、電子写真方式の、プロセスカートリッジを使用したレーザプリンタであり、同図はその概略構成を示す縦断面図である。また、同図に示す画像形成装置には、転写ローラを有する転写装置が装着されている。本発明の導電性ゴムローラの製造方法により製造された導電性ローラは、この転写ローラとして用いられている。
【００２３】
同図に示す画像形成装置は、像担持体として、ドラム型の電子写真感光体（以下「感光ドラム」という。）１を備えている。感光ドラム１は、接地された円筒アルミニウム基体の外周面に、有機光導電体（ＯＰＣ）からなる感光層を設けたものである。この感光ドラム１は、駆動手段（不図示）により、矢印Ｒ１方向に所定のプロセススピード（周速度）、例えば５０ｍｍ／ｓｅｃで回転駆動される。
【００２４】
感光ドラム１表面は、接触帯電部材としての帯電ローラ２によって均一に帯電される。帯電ローラ２は、感光ドラム１表面に接触配置されており、感光ドラム１の矢印Ｒ１方向の回転に伴って矢印Ｒ２方向に従動回転する。帯電ローラ２には、帯電バイアス印加電源（高圧電源）により振動電圧（交流電圧ＶAC＋直流電圧ＶAC）が印加され、これにより感光ドラム１表面は、例えば−６００Ｖ（暗部電位Ｖｄ）に一様に帯電処理される。帯電後の感光ドラム１表面は、レーザスキャナから出力されてミラーによって反射されたレーザ光３、すなわち、目的の画像情報の時系列電気デジタル画像信号に対応して変調されたレーザ光により走査露光を受ける。これにより、感光ドラム１表面には、目的の画像情報に対応した静電潜像（明電部位Ｖｌは例えば−１５０Ｖ）が形成される。
【００２５】
現像装置４にはトナー５が収容されている。上記静電潜像は、現像装置４の現像スリーブに印加された現像バイアスによって、負に帯電されたトナーが付着され、トナー像として反転現像される。
【００２６】
一方、給紙部Ｐから給搬送された紙等の転写材７が、転写ガイドにガイドされて、感光ドラム１と転写ローラ６との間の転写部（転写ニップ部）Ｔに、感光ドラム１上のトナー像とタイミングを合わせるようにして供給される。転写部Ｔに供給された転写材７は、転写バイアス印加電源により転写ローラ６に印加された転写バイアスによって、表面に感光ドラム１上のトナー像が転写される。このとき、転写材７に転写されないで感光ドラム１表面に残ったトナー（残留トナー）は、クリーニング装置によって除去される。クリーニング装置は残留トナーを除去するクリーニングブレード８と、除去されたトナーを収容する廃トナー容器９を有する。
【００２７】
転写部Ｔを通った転写材７は、感光ドラム１から分離されて定着装置１０へ導入され、ここでトナー像の定着処理を受け、画像形成物（プリント）として画像形成装置本体外部に排出される。
【００２８】
転写ローラ６は、円筒状導電性芯材６１の外周面に発泡体ゴム層６２を有する。
【００２９】
加硫工程で加硫された発泡体ゴム層形成用材料を、さらに熱風炉を用いて加熱することができる。この場合、発泡体ゴム層形成用材料を熱風炉によって１分以上５分以下の間、１５０℃以上２５０℃以下に加熱することが好ましい。マイクロ波加硫炉内での加硫や発泡反応を完結させたり、余分な発泡剤の分解性生物等を除去する観点から１５０℃以上が好ましい。また、ゴム材料の劣化による導電性ゴムローラの電気的もしくは機械的特性の低下を防止する観点から、２５０℃以下が好ましい。
【００３０】
本発明の導電性ゴムローラは、電子写真装置用ローラとして、特には転写ローラなどに好適に利用することができる。
【実施例】
【００３１】
以下、実施例に基づき本発明を詳細に説明するが、本発明はこれによって限定されるものではない。
【００３２】
〔実施例１〕
図３に示す構成を有する、マイクロ波を用いた連続加硫による導電性ゴムローラの製造装置を用いた。この装置は、全長１３ｍで、押出機１１、マイクロ波加硫装置（ＵＨＦ）１２、熱風加硫装置（ＨＡＶ）１３、引取機１４、定尺切断機１５で構成される押出し加硫装置である。
【００３３】
マイクロ波加硫装置（ＵＨＦ）１２は、テフロンでコーティングされたメッシュのベルト、又はテフロン樹脂を被服したコロで上記押出機１１より押出されたゴムチューブを搬送し、熱風加硫装置（ＨＡＶ）１３はテフロン樹脂を被服したコロで搬送を行っている。マイクロ波加硫装置（ＵＨＦ）１２と熱風加硫装置（ＨＡＶ）１３間は、テフロン樹脂を被服したコロで連結されている。
【００３４】
各装置１２、１３、１４の長さは順に、４ｍ、６ｍ、１ｍとなっている。マイクロ波加硫装置（ＵＨＦ）１２と熱風加硫装置（ＨＡＶ）１３間、及び熱風加硫装置（ＨＡＶ）１３と引取機１４間はいずれも０．１〜１．０ｍとなるように設定されている。
【００３５】
発泡体ゴム層形成用材料に使用した資材は以下の通りである。
アクリロニトリルブタジエンゴム［商品名：ニポールＤＮ４０１ＬＬ。日本ゼオン（株）製］。
エピクロルヒドリンゴム［商品名：ゼクロン３１０６。日本ゼオン（株）製］。
ｐ，ｐ’−オキシビスベンゼンスルホニルヒドラジド［商品名：ネオセルボンＮ＃１０００Ｓ。永和化成工業（株）製］。
【００３６】
アクリロニトリルブタジエンゴム８０質量部、エピクロルヒドリンゴム２０質量部、およびｐ，ｐ’−オキシビスベンゼンスルホニルヒドラジド６質量部を、バンバリーミキサーを用い混練した。なお、混練のために、バンバリーミキサー以外にもニーダー等の密閉式混練機を用いることができる。
【００３７】
混練の後、オープンロールとリボン成形分出し機によりリボン状に成形した。
【００３８】
上記リボン状に成形した発泡体ゴム層形成用材料を、上記マイクロ波を用いた連続加硫による電性ゴムローラ製造装置の押出機１１に投入し、チューブ状に押し出した。
【００３９】
押出機１１よりチューブ状に成形され押出されたゴムチューブは、押出機１１より押し出された直後に、炉内温度（マイクロ波加硫炉内の加熱空気温度）を１８０℃以上２３０℃以下としたマイクロ波加硫装置（ＵＨＦ）１２の炉内に搬送される。
【００４０】
本発明では、炉内の加熱空気温度が１８０℃以上２３０℃以下に設定されたマイクロ波加硫炉を用いる。この炉内において、発泡体ゴム層形成用材料にマイクロ波を照射して、発泡体ゴム層形成用材料がマイクロ波加硫炉内部を通過する時間が０．５分間以上２．０分間以下でマイクロ波加硫装置排出時温度が１００℃以上２５０℃以下に加熱する。これによって発泡体ゴム層形成用材料は、加硫、発泡される。本実施例においては、表１の実施例１に示すように、マイクロ波加硫炉内の空気温度を１８０℃とし、その中で上記ゴムチューブを０．５分間かけてマイクロ波加硫炉内を搬送しながらマイクロ波を照射することによってゴムチューブを１００℃に加熱した。マイクロ波の強度は１．０ｋＷとした。
【００４１】
つづいて、このゴムチューブを熱風加硫装置（ＨＡＶ）１３の熱風炉に搬送し、ここで加硫を完了させ、チューブ状の導電性ゴム成形物を作成した。熱風炉による処理は必要に応じて行えばよく、例えば１〜５分間で１５０〜２５０℃加熱を行うことができる。本実施例では、熱風炉における加熱は２．３分間で２００℃とした。
【００４２】
この後、ゴムチューブが巻引取機１４より排出された直後に、ゴムチューブを定尺切断機１５により所望の寸法に切断し、チューブ状の導電性ゴム成形物（発泡体ゴム成形物）を作成した。
【００４３】
ホットメルト接着剤を所望の領域に塗布した直径４〜１０ｍｍの導電性芯材を、上記のようにして得たチューブ状の導電性ゴム成形物の内径部に圧入し、ローラ状の成形体を得た。導電性芯材と導電性ゴム成形物との接着のために、ホットメルト接着剤の他にも加硫接着剤を用いることもできる。
【００４４】
この成形体を、研磨砥石（商品名：ＰＴといし、ＧＣ８０  ＨＨ  ２３  Ｖ４ＰＯ、（株）テイケン社製）を取り付けた研磨機（不図示）にセットし、研磨条件として回転速度５００ＲＰＭ、送り速度５００ｍ／分で外径（直径）が１５ｍｍになるように研磨し、導電性ゴムローラ（導電性発泡ゴムローラ）を作成した。
【００４５】
得られた導電性ゴムローラについて、下に示すようにして硬度ムラ、抵抗ムラ（電気抵抗ムラ）、セル（発泡セル）径分布を評価した。また、マイクロ波照射の際のゴムチューブの温度の測定方法（マイクロ波照射時ゴム温度の測定方法）も下に示す。これらの結果を表１に示す。
【００４６】
（マイクロ波照射時ゴム温度の測定方法）
蛍光温度計（アンリツ社製、商品名：蛍光式光ファイバー温度計ＦＬ−２０００）を使い、押出機より押し出された未加硫のゴムチューブ内部に蛍光温度計の検知部を差し込み、マイクロ波加硫装置（ＵＨＦ）の炉内に未加硫のゴムチューブと共に搬送し、その時の温度を測定する。
【００４７】
（硬度ムラの測定方法）
硬度計（アスカーＣ型、４．９Ｎ荷重）を使い、導電性ゴムローラの長手方向に任意の場所の硬度を周方向に９０°毎４箇所測定し、その最大値と最小値の差を表した。硬度ムラは３以内が好ましい。
【００４８】
（ローラの電気抵抗ムラの測定方法）
導電性ゴムローラをＮ／Ｎ（２３℃、相対湿度５５％）環境下において４８時間放置した。その後、導電性ゴムローラの軸体（導電性芯材）に片側４．９Ｎの荷重が両方に掛かるようにし、外径３０ｍｍのステンレス製のドラムに圧着し、回転させた状態で、軸体とステンレスドラムとの間に２ｋＶの電圧を印加して電気抵抗を測定した。この時の抵抗値の最大値を最小値で除した値を電気抵抗ムラとした。電気抵抗ムラは１．２以下が好ましい。
【００４９】
（セル径分布の確認方法）
チューブを任意の場所で切断し、その断面をビデオマイクロ（キーエンス社製、商品名：デジタルマイクロスコープＶＨ−８０００）にて確認し、外径側のセル径と内径側のセル径の大きさの違いを確認した。このとき外径側のセル径と内径側のセル径に差が無いことが好ましく、差がないものを○、差があるものを×、やや差があるものを△とした。
【００５０】
〔実施例２〜５〕
マイクロ波加硫炉内通過時間、マイクロ波加硫装置の炉内温度（加熱空気温度）およびマイクロ波出力をそれぞれ表１に示すように変更し、マイクロ波加硫炉排出時温度を表１に示す温度とした。これ以外は実施例１と同様にして導電性ゴムローラを作成し、評価した。結果を表１に示す。
【００５１】
〔比較例１〜８〕
マイクロ波加硫炉内通過時間、マイクロ波加硫装置の炉内温度（加熱空気温度）およびマイクロ波出力をそれぞれ表２に示すように変更し、マイクロ波加硫炉排出時温度を表２に示す温度とした。これ以外は実施例１と同様にして導電性ゴムローラを作成し、評価した。結果を表２に示す。
【００５２】
実施例１では０．５分間でゴム温度が１００℃に昇温しており、マイクロ波加硫炉内の温度を１８０℃としている。硬度ムラ、抵抗ムラ、セル径分布ともに良好な結果を得ることができた。
【００５３】
実施例２ではゴム材料を２．０分間で２５０℃に昇温し、マイクロ波加硫炉内の温度が２３０℃であるため、硬度ムラ、抵抗ムラともに良好な値を得ることができ、セル径の分布状態も良好であった。
【００５４】
実施例３では０．７分間でゴム材料を２４０℃に昇温し、その時マイクロ波加硫炉内の温度が２２０℃であるため、良好な結果を得ることができた。
【００５５】
実施例４ではゴム材料を２．０分間で１００℃まで昇温し、その時マイクロ波加硫炉内の温度を２００℃としており、発泡の状態、硬度ムラ、抵抗ムラともに良好な結果を得ることができた。
【００５６】
実施例５では本発明の導電性ゴムローラの製造方法であり、ゴム材料を０．５分間で２５０℃まで昇温し、マイクロ波加硫炉内の温度を２００℃としているため、硬度ムラ、抵抗ムラ、セル径分布ともに良好な結果となった。
【００５７】
比較例１〜３はマイクロ波加硫炉内の温度を１５０℃にした場合である。マイクロ波照射時のゴム温度は十分に高くなっているが、マイクロ波加硫炉内の温度が１５０℃と低すぎるために、加硫チューブのセル径分布が不均一で、硬度ムラ、抵抗ムラともに大きな値となってしまった。
【００５８】
比較例４はマイクロ波加硫炉内の温度は２００℃であるが、０．３分間で２００℃までゴム材料を昇温しており、セル径分布がやや不均一であった。硬度ムラは良好な値であったが、抵抗値ムラは１．４８と大きな値となってしまった。
【００５９】
比較例５はマイクロ波加硫炉内通過時間が２．５分と長いため、硬度ムラ、抵抗ムラが大きく、セル径分布も不均一であった。
【００６０】
比較例６〜８はマイクロ波加硫炉内の温度を２５０℃にした場合であるが、マイクロ波加硫炉内の温度を高くしすぎために硬度ムラは良好な値であるものの、抵抗ムラが大きく、セル径分布もやや不均一であった。
【００６１】
この結果から、本発明によれば、周方向の硬度ムラも小さく、周方向の抵抗ムラも１．２以下になることがわかる。更にセル径分布が均一になることがわかる。
【００６２】
【表１】
2008090236.tif 000002
【００６３】
【表２】
2008090236.tif 000003
【図面の簡単な説明】
【００６４】
【図１】本発明により得られる導電性ゴムローラの一形態を示す模式図である。
【図２】本発明により得られる導電性ゴムローラを用いた画像形成装置（電子写真装置）の例を示す模式的断面図である。
【図３】本発明の導電性ゴムローラの製造方法に用いることのできる加硫成形装置の例を示す模式図である。
【符号の説明】
【００６５】
１…感光ドラム
２…帯電ローラ
３…レーザ光
４…現像装置
５…トナー
６…転写ローラ
７…転写材
８…クリーニングブレード
９…廃トナー容器
１０…定着装置
６１…導電性芯材
６２…発泡体ゴム層
１１…押出機
１２…マイクロ波加硫装置（ＵＨＦ）
１３…熱風加硫装置（ＨＡＶ）
１４…引取機
１５…定尺切断機
【図１】
2008090236.tif 000004
【図２】
2008090236.tif 000005
【図３】
2008090236.tif 000006