(57)【要約】【課題】  耐擦傷性などの機械特性に優れ、高温環境下での耐久性に優れた反射防止フィルムおよびこれを有する偏光板を提供する。【解決手段】  透明基材フィルムの少なくとも一方の面上に、少なくともハードコート層と反射防止層とを順次積層してなる反射防止フィルムであって、ハードコート層と接する面とは反対側の反射防止層表面の算術平均粗さＲａが１．５ｎｍ以上３．０ｎｍ以下である。また、反射防止層が、屈折率の異なる光学薄膜層を複数積層してなり、０．５Ｐａ以上２．０Ｐａ以下の圧力雰囲気下においてスパッタリング法を用いて形成する。【選択図】  図１
2008268328.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材フィルムの少なくとも一方の面上に、少なくともハードコート層と反射防止層とを順次積層してなる反射防止フィルムであって、
前記ハードコート層と接する面とは反対側の反射防止層表面の算術平均粗さＲａが１．５ｎｍ以上３．０ｎｍ以下であることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項２】
前記反射防止層が、屈折率の異なる光学薄膜層を複数積層してなることを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
前記反射防止層が、スパッタリング法を用いて形成されたことを特徴とする請求項１または２に記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
前記反射防止層の成膜時の圧力が０．５Ｐａ以上２．０Ｐａ以下であることを特徴とする請求項３に記載の反射防止フィルム。
【請求項５】
前記反射防止層を形成する前に、前記ハードコート層を設けた透明基材フィルムにアルカリ鹸化処理を施すことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項６】
前記反射防止層を形成する前に、前記ハードコート層表面に低温プラズマ表面処理を施すことを特徴とする請求項１〜５に記載の反射防止フィルム。
【請求項７】
前記ハードコート層と反射防止層との間に、金属、または、２種類以上の金属からなる合金、または、金属化合物、または、それらの混合物よりなり、１層以上からなるプライマー層を設けたことを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項８】
請求項５に記載のアルカリ鹸化処理を施した後、または、請求項６に記載の低温プラズマ表面処理を施した後の前記透明基材フィルムと接する面とは反対側のハードコート層表面の算術平均粗さＲａ、および、請求項７に記載のプライマー層を形成した後の前記ハードコート層と接する面とは反対側のプライマー層表面の算術平均粗さＲａが、
請求項５に記載のアルカリ鹸化処理、および、請求項６に記載の低温プラズマ表面処理を施す前であり、かつ、請求項７に記載のプライマー層を形成する前の、前記透明基材フィルムと接する面とは反対側であり未処理であるハードコート層表面の算術平均粗さＲａよりも、
０．２ｎｍ以上４．５ｎｍ以下大きいことを特徴とする請求項５〜７のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項９】
前記反射防止層の上に、防汚層を設けたことを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項１０】
前記透明基材フィルムが、トリアセチルセルロースフィルムであることを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項１１】
温度４０℃、相対湿度９０％ＲＨにおける水蒸気透過度が、２０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以上であることを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれかに記載の反射防止フィルムを有することを特徴とする偏光板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高密度で機械強度が強く、更に偏光板保護フィルムの加水分解等の劣化の少ない高耐久性の反射防止フィルムおよびこれを用いた偏光板に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＬＣＤやＣＲＴ、プラズマデイスプレイパネル等の光学表示装置においては、太陽光や蛍光灯等の外光の写り込みを防止する反射防止フィルムが使用されることが多い。最近では、屋内での使用のみではなく、デジカメや携帯電話、デジタルビデオカメラ等のモバイル機器やカーナビゲーションの普及により、屋外での使用も増えてきている。
【０００３】
外光の写り込みが大きい屋外の使用においては、限りなくゼロに近い反射率を有する反射防止フィルムすなわちＡＲフィルムが求められている。一般的に、ＡＲフィルムは、数ｎｍレベルの薄膜の多層成膜が可能なドライコーティング技術が用いられる。中でも、スパッタリング法は、蒸着法やイオンプレーティング法、ＣＶＤ法などの他のドライコーティング方法に比べて、膜厚均一性が高く、ピンホール等の欠陥が少ないため、より視認性に優れた薄膜の形成が可能である。また、緻密な膜の形成が可能であることから、機械特性に非常に優れた薄膜の形成が可能である。
【０００４】
一方、ＬＣＤ用途では、偏光板の保護フィルムに積層した構成の反射防止層が多く使用されている。近年、偏光板、あるいは、反射防止フィルムは、車載や屋外環境などでの使用の増加に伴い、より高い要求耐久性能が求められている。一般的に、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムが、その吸湿性の高さから、偏光板の保護フィルムとして使用される。しかし、高温あるいは高温高湿の過酷条件下においては、ＴＡＣフィルムの加水分解を起こしてしまうことから、耐久性に欠けることが問題となっている。
【０００５】
そこで、様々な水蒸気バリア性を付与した反射防止層が開発されており、特許文献１の特開２００４−５３７９７号公報によれば、基材の半分以下のバリア性を有した反射防止層を形成している。特許文献２の特開平１０−１０３１７号公報によれば、プラスチックフィルムの片面に３００〜１０００ｇ／ｍ２／ｄａｙの光線透過性無機薄膜層を、もう片面に０〜１０ｇ／ｍ２／ｄａｙのバリア性薄膜層を形成している。
【０００６】
一方、現在の屋外環境下での使用頻度の上昇により、特に車載用途などでは、１００℃近い極めて高い温度での耐久性が要求されている。このとき、水蒸気バリア性が高すぎると、外部からの水分の浸入はほとんどないものの、特に、高温環境化においては、偏光板やＴＡＣフィルムそのものから発生した水分が膜中に滞ることから、むしろ耐久性に欠けるという問題がわかってきた。そのため、内部発生した水蒸気の外部への透過性が適度に高い反射防止フィルムの開発が望まれている。
【特許文献１】特開２００４−５３７９７号公報
【特許文献２】特開平１０−１０３１７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記の通り、スパッタリング法においては、膜厚の均一制御性に優れ、ピンホール等の欠陥が少ないため、視認性が高く、生産段階においては収率が高い利点を有する。更に、非常に緻密な膜を形成できるため、耐擦傷性等の機械特性に優れた反射防止層の形成が可能であるという大きな利点を有する。
一方で、このスパッタリング成膜で形成した薄膜は、その膜の高密度性から、他の成膜方法に比べて、水蒸気のバリア性能が高いという特徴を持つ。
【０００８】
従って、本発明は、緻密かつ耐擦傷性機械特性が強く、さらに透湿度が高く、高湿熱耐久性の高い反射防止フィルムを形成することを課題とした。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
請求項１記載の発明は、透明基材フィルムの少なくとも一方の面上に、少なくともハードコート層と反射防止層とを順次積層してなる反射防止フィルムであって、
前記ハードコート層と接する面とは反対側の反射防止層表面の算術平均粗さＲａが１．５ｎｍ以上３．０ｎｍ以下であることを特徴とする反射防止フィルムである。
【００１０】
請求項２記載の発明は、前記反射防止層が、屈折率の異なる光学薄膜層を複数積層してなることを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルムである。
【００１１】
請求項３記載の発明は、前記反射防止層が、スパッタリング法を用いて形成されたことを特徴とする請求項１または２に記載の反射防止フィルムである。
【００１２】
請求項４記載の発明は、前記反射防止層の成膜時の圧力が０．５Ｐａ以上２．０Ｐａ以下であることを特徴とする請求項３に記載の反射防止フィルムである。
【００１３】
請求項５記載の発明は、前記反射防止層を形成する前に、前記ハードコート層を設けた透明基材フィルムにアルカリ鹸化処理を施すことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の反射防止フィルムである。
【００１４】
請求項６記載の発明は、前記反射防止層を形成する前に、前記ハードコート層表面に低温プラズマ表面処理を施すことを特徴とする請求項１〜５に記載の反射防止フィルムである。
【００１５】
請求項７記載の発明は、前記ハードコート層と反射防止層との間に、金属、または、２種類以上の金属からなる合金、または、金属化合物、または、それらの混合物よりなり、１層以上からなるプライマー層を設けたことを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の反射防止フィルムである。
【００１６】
請求項８記載の発明は、請求項５に記載のアルカリ鹸化処理を施した後、または、請求項６に記載の低温プラズマ表面処理を施した後の前記透明基材フィルムと接する面とは反対側のハードコート層表面の算術平均粗さＲａ、および、請求項７に記載のプライマー層を形成した後の前記ハードコート層と接する面とは反対側のプライマー層表面の算術平均粗さＲａが、
請求項５に記載のアルカリ鹸化処理、および、請求項６に記載の低温プラズマ表面処理を施す前であり、かつ、請求項７に記載のプライマー層を形成する前の、前記透明基材フィルムと接する面とは反対側であり未処理であるハードコート層表面の算術平均粗さＲａよりも、
０．２ｎｍ以上４．５ｎｍ以下大きいことを特徴とする請求項５〜７のいずれかに記載の反射防止フィルムである。
【００１７】
請求項９記載の発明は、前記反射防止層の上に、防汚層を設けたことを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の反射防止フィルムである。
【００１８】
請求項１０記載の発明は、前記透明基材フィルムが、トリアセチルセルロースフィルムであることを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の反射防止フィルムである。
【００１９】
請求項１１記載の発明は、温度４０℃、相対湿度９０％ＲＨにおける水蒸気透過度が、２０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以上であることを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載の反射防止フィルムである。
【００２０】
請求項１２記載の発明は、請求項１〜１１のいずれかに記載の反射防止フィルムを有することを特徴とする偏光板である。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、耐擦傷性などの機械特性に優れ、高温環境下での耐久性に優れた反射防止フィルムおよびこれを有する偏光板を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、本発明の実施の形態について説明する。図１は、本発明の反射防止フィルムの一実施形態を示した断面図である。
図１において、本発明の反射防止フィルム１００は、透明基材フィルム１上に、ハードコート層２、プライマー層３、反射防止層４が順次積層されている。さらに反射防止層４上に防汚層５が積層されている。
【００２３】
本発明における透明基材フィルム１としては、偏光子を吸着させたポリビニルアルコールフィルムの表面保護層となる基材を適用する。透明基材フィルム１としては、本発明の効果を奏すれば、材料に制限はないが、トリアセチルセルロースなどのセルロースアセテート系樹脂は特に保護性能が高く、好適に用いられる。更に、これらを使用する場合、その酢化度は問わない。透明基材フィルム１の厚さは、目的の用途に応じて、適宜選択すればよく、通常２５μｍ以上３００μｍ以下程度のものを使用する。また、透明基材フィルム１は、可塑剤や紫外線吸収剤、劣化防止剤等の添加物が含まれてもいてもよい。
【００２４】
透明基材フィルム１上に、反射防止層４の機械強度を十分に発揮させるためのハードコート層２を設ける。本発明におけるハードコート層２としては、電離線や紫外線硬化型の樹脂、あるいは、熱硬化性樹脂が使用され、紫外線硬化型のアクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル酸エステル類、メタクリルアミド等のアクリル系樹脂や有機珪素系樹脂やポリシロキサン樹脂が最適である。これらの材料の中には、硬化性を向上させるために、重合開始剤を添加してもよい。ハードコート層２の厚みとしては、物理膜厚０．５μｍ以上、好ましくは、３μｍ以上２０μｍ以下である。また、ハードコート層２には、平均粒子０．０１μｍ以上３μｍ以下の透明微粒子を分散させて、防眩処理を施しても良い。
【００２５】
透明基材フィルム１にハードコート層２を積層した後、アルカリ鹸化処理が施されることが好ましい。特に、透明基材フィルム１にトリアセチルセルロースフィルムを用いた場合、トリアセチルセルロースフィルムはエステル基を加水分解するため、水酸基を付与するアルカリ鹸化処理を施すことが好ましく、これにより、後工程であるポリビニルアルコール層１０との貼り合わせにおける密着性が著しく向上する（図２参照）。また、アルカリ鹸化処理は液中の処理であるため、侵食・浸透性が高く、ハードコート層２においても、その後積層する層との密着性が向上する。
【００２６】
また、アルカリ鹸化工程の後、透明基材フィルム１と接する面とは反対側のハードコート層２に表面処理を施しても良い。このとき、表面処理方法としては、コロナ放電処理や電子ビーム処理、火炎処理、グロー放電処理、大気圧プラズマ処理等の処理が挙げられるが、本発明では、低温プラズマ表面処理を施すことが特に好ましい。低温プラズマ表面処理を施すことで、より親水性を向上させることができ、かつ、適度にハードコート層２表面を荒らすことにより、ハードコート層２上に積層する薄膜との密着性をより向上させることができる。
【００２７】
この後、ハードコート層２に、プライマー層３を設けてもよい。プライマー層３の材料としては、例えば、シリコン、ニッケル、クロム、錫、金、銀、白金、亜鉛、チタン、タングステン、ジルコニウム、パラジウム等の金属、または、これら金属の２種類以上からなる合金、または、これらの酸化物、弗化物、硫化物、窒化物などが挙げられ、これは混合物であってもよい。また、プライマー層３は２層以上の構成であってもよい。
【００２８】
プライマー層３は、密着性を向上させるために用いる。その厚みは、透明基材フィルム１の透明性を損なわない程度あればよく、好ましくは、物理膜厚で、１ｎｍ以上１０ｎｍ以下程度である。
これらのプライマー層は、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、蒸着法、イオンプレーティング法、化学蒸着（ＣＶＤ）法などのドライコーティング方法を用いることが好ましい。スパッタリング法が特に好ましい。
【００２９】
アルカリ鹸化処理を施した後、または、低温プラズマ表面処理を施した後の透明基材フィルム１と接する面とは反対側のハードコート層２表面の算術平均粗さＲａ、および、プライマー層３を形成した後のハードコート層２と接する面とは反対側のプライマー層３表面の算術平均粗さＲａが、アルカリ鹸化処理、および、低温プラズマ表面処理を施す前であり、かつ、プライマー層３を形成する前の、透明基材フィルム１と接する面とは反対側であり未処理であるハードコート層２表面の算術平均粗さＲａよりも、０．２ｎｍ以上４．５ｎｍ以下大きいことが好ましい。未処理であるハードコート層２表面よりも算術平均粗さＲａが０．２ｎｍ以上４．５ｎｍ以下大きくなるように微小な凹凸を形成することにより、その後に積層する反射防止層４との密着性が向上し、機械特性強度も向上する。
【００３０】
反射防止層４としては、波長５５０ｎｍにおける光の屈折率が１．６未満でかつ波長５５０ｎｍにおける光の消衰係数が０．５以下の低屈折率透明薄膜層単層からなるものや、波長５５０ｎｍにおける光の屈折率が１．９以上の高屈折率透明薄膜層、光の屈折率１．６未満の低屈折率透明薄膜層、光の屈折率１．６〜１．９程度の中屈折率透明薄膜層などの屈折率の異なる光学薄膜を積層した複数層からなるものなどが挙げられる。複数層からなる反射防止層は反射率がきわめて低く、反射防止性能が高いため好ましい。複数層からなる反射防止層４としては、基材側より順番に、高屈折率透明薄膜層、低屈折率透明薄膜層、高屈折率透明薄膜層、低屈折率透明薄膜層とを積層した構成のものが挙げられる。
【００３１】
高屈折率透明薄膜層の材料としては、インジウム、錫、チタン、シリコン、亜鉛、ジルコニウム、ニオブ、マグネシウム、ビスマス、セリウム、タンタル、アルミニウム、ゲルマニウム、カリウム、アンチモン、ネオジウム、ランタン、トリウム、ハフニウム等の金属、あるいは、これら金属の２種類以上からなる合金、これらの酸化物、弗化物、硫化物、窒化物などが挙げられる。具体的には、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化セリウム等が挙げられるがこれに限られるものではない。また、複数積層する場合、必ずしも同じ材料を選択する必要はなく、目的にあわせて、適宜選択すればよい。
【００３２】
低屈折率透明薄膜層の材料としては、例えば、酸化シリコン、窒化チタン、弗化マグネシウム、弗化バリウム、弗化カルシウム、弗化ハフニウム、弗化ランタン等の材料が、挙げられるがこれに限られるものでなく、更に、複数積層する場合、必ずしも同じ材料を選択する必要なく、目的にあわせて、適宜選択すればよい。
【００３３】
中間屈折率透明薄膜層としては、例えば、酸化アルミニウム、弗化セリウムなどが挙げられる。
【００３４】
これらの光学薄膜層からなる反射防止層４は、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、蒸着法、イオンプレーティング法、化学蒸着（ＣＶＤ）法などのドライコーティング方法で形成できる。膜厚均一性が高く、ピンホール等の欠陥が少ないため、視認性に優れ、緻密であり、耐擦傷性などの機械特性に優れた薄膜の形成が可能であるスパッタリング法を用いることが好ましい。中でも、より高い成膜速度と高い放電安定性により高生産性を得ることができることから、中周波領域の電圧印加により成膜を行うデュアル・マグネトロン・スパッタリング（ＤＭＳ）法が最適である。
【００３５】
本発明における反射防止層４表面の算術平均粗さＲａは、１．５ｎｍ以上３．０ｎｍ以下である。算術平均粗さＲａの値が、１．５ｎｍ未満であると、膜の密度が高いため、反射防止層４自体の水蒸気透過度が低くなりすぎ、図２に示すように、その後の工程で偏光板を形成した時、偏光膜１０や透明基材フィルム１（ＴＡＣフィルム）そのものから発生した水分が膜中に滞ってしまうため、耐熱、耐湿熱などの耐久性試験で十分な性能を得ることができない。逆に、算術平均粗さＲａの値を３．０ｎｍより大きくとすると、十分な耐擦傷性や密着性などの機械特性を得ることができない。
【００３６】
また、反射防止層４表面の算術平均粗さＲａの値を、１．５ｎｍ以上３．０ｎｍ以下にする方法としては、成膜方法の選定などを挙げることができるが、特にスパッタリング法であれば、成膜圧力を適正化すればよく、容易に実現することができる。スパッタリング法による適正な成膜圧力は、０．５Ｐａ以上２．０Ｐａ以下である。成膜圧力が０．５Ｐａ以上２．０Ｐａ以下の範囲であれば、スパッタリング特有の機械特性を有したままで、ポーラスな膜を作成することができ、高耐久性能を有した反射防止層４の作成が可能である。
【００３７】
必要に応じて、反射防止層４の上、最表面層に防汚層５を設けても良い。防汚層５は、反応性官能基と結合している珪素原子を２つ以上有するフッ素含有珪素化合物から得られた層である。本発明における反応性官能基とは、反射防止層４の最上層と反応し、結合しうる基を意味する。また、フッ素含有珪素化合物の反応性官能基同士を反応させることにより形成される層である。これにより、表面に汚れが付きにくく、更に、汚れが付いた場合でも拭き取り性能を上げることができる。
【００３８】
また、反射防止層４の上に防汚層５を設けた場合、防汚層５表面の算術平均粗さＲａは１．０ｎｍ以上３．５ｎｍ以下であることが好ましい。これによると、反射防止層４表面を平滑化することで、反射防止性能と拭き取り性能をより向上させることができる。
【００３９】
ところで、これらの反射防止フィルムの水蒸気透過量は、基材や機能層の材質、厚み、更には温湿度の影響を受けて変化する。透湿率の温度依存性は以下に示すアレニウス式で表される。
Ｐ＝Ｐ０ｅ−Ｅ／ＲＴ
Ｐ：透湿率（単位厚さ、単位水蒸気圧差あたりの水蒸気透過速度）
Ｐ０：絶対零度の透湿率
Ｅ：透湿率の活性化エネルギー
Ｒ：気体定数
Ｔ：絶対温度
【００４０】
偏光板の表面保護膜として汎用されているトリアセチルセルロースフィルムの場合、厚さ１００μｍの水蒸気透過速度は温度２５℃相対湿度９０％で１２０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以上１６０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下、温度４０℃相対湿度９０％で３８０ｇ／ｍ２／ｄａｙとなる。このトリアセチルセルロースフィルム上に、様々な層を積層することで、水蒸気はフィルムを透過しにくくなる。特に、優れた機械特性を有し、緻密な膜を積層してなる反射防止層の水蒸気透過速度は、ほぼゼロに近く、優れた水蒸気バリア性能を示す。
【００４１】
複数の無機化合物を積層させてなる反射防止層４では、少なくともどれか１層が優れた水蒸気バリア性を有するものであると、その反射防止層４を有する反射防止フィルム全体の水蒸気バリア性能が高くなる。水蒸気バリア性能が高すぎるために、反射防止フィルム内部の水分が外部への逃げ道をなくし、反射防止フィルム内部に滞り、耐久性を低下させる一要因となることから、反射防止フィルム全体の水蒸気透過速度を適度に速めるように性能を改善する必要がある。
【００４２】
すなわち、本発明においては、反射防止層４の水蒸気透過度を調整するとともに、未処理であるハードコート層２表面の算術平均粗さＲａよりも０．２ｎｍ以上４．５ｎｍ以下大きくなるように微小な凹凸を形成することによって、スパッタリング法の大きな利点である緻密な膜の形成が可能な特徴を有したまま、緻密な膜ゆえの特徴であった低い透湿性を改善し、適度な透湿性かつ密着性が良い高耐久性能を有した反射防止層４の形成が可能である。
【００４３】
本発明の反射防止フィルムは、適度な透湿性を保持し、かつ、良好な密着性を有するために、温度４０℃、相対湿度９０％ＲＨにおける水蒸気透過度が、２０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以上であることが好ましく、４０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以上２５０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることがさらに好ましい。
【００４４】
次に、図２を参照して、この反射防止フィルム１００を有する偏光板１０１について説明する。図２は、本発明の反射防止フィルム１００を有する偏光板１０１の一実施形態を示した断面図である。この偏光板１０１は、反射防止フィルム１００と、ヨウ素により染色したポリビニルアルコールフィルム１０、反対面の透明基材フィルム１と同じ材質の透明基材フィルム１、をこの順に積層し、貼り合わせることにより作成することができる。なお、反射防止フィルム１００以外の層構成については、これに限らず、公知の技術を採用できる。
【実施例】
【００４５】
以下、本発明を実施例および比較例によりさらに説明するが、本発明は下記実施例に限定されるものではない。
【００４６】
［実施例１］
図２に示すように、透明基材フィルム１に厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースを用い、紫外線硬化型アクリル系樹脂を塗布し、乾燥・紫外線硬化させて５μｍのハードコート層２を設けた後、未処理であるハードコート層２表面の算術平均粗さＲａを測定した。その後、４０℃の１．５Ｎ−ＮａＯＨ溶液にフィルムを２分間浸漬し、水洗し乾燥させた。
【００４７】
鹸化処理を施したハードコート層２上に、グロープラズマ処理を施し、プライマー層３として、ＳｉＯ層を、電力２．０ｋＷ、アルゴンガス流量１５０ｓｃｃｍの条件で、光学膜厚６ｎｍ成膜した後、処理後のハードコート層２表面の算術平均粗さＲａを測定した。
【００４８】
その後、反射防止層４として、成膜順に、ＴｉＯ２／ＳｉＯ２／ＴｉＯ２／ＳｉＯ２の４層設けた。ＴｉＯ２の成膜は、電力２．５ｋＷ、アルゴンガス流量１５０ｓｃｃｍ、酸素ガス流量３０ｓｃｃｍ、ＳｉＯ２の成膜は、電力２．０ｋＷ、アルゴンガス流量１５０ｓｃｃｍ、酸素ガス流量２０ｓｃｃｍ、それぞれ成膜中の真空層内の圧力は、０．８Ｐａで行った。
【００４９】
反射防止層４各層の光学膜厚は、光学式の膜厚モニターにより、光量値を監視し、反射防止層４の光学膜厚がそれぞれ６０ｎｍ／４４ｎｍ／１０５ｎｍ／１４５ｎｍとなるように成膜時間を設定した。
その後、反射防止層４表面の算術平均粗さＲａを測定した。
【００５０】
このように、作成した反射防止フィルム１００の裏面に、図２に示すように、ヨウ素により染色した厚さ２５μｍのポリビニルアルコールフィルム１０、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロース１を貼り合わせ、反射防止機能付きの偏光板１０１を作成した。
【００５１】
［実施例２］
反射防止層４の成膜圧力を１．２Ｐａとした以外は、実施例１と同様の条件にて反射防止機能付きの偏光板１０１を形成した。
【００５２】
［比較例１］
反射防止層の成膜圧力を０．２Ｐａとした以外は、実施例１と同様の条件にて反射防止機能付きの偏光板を形成した。
【００５３】
［比較例２］
反射防止層の成膜圧力を２．５Ｐａとした以外は、実施例１と同様の条件にて反射防止機能付きの偏光板を形成した。
【００５４】
［比較例３］
トリアセチルセルロースフィルムにハードコート層を設けた後、反射防止層は設けずに、偏光板と貼り合わせた。
【００５５】
［評価］
実施例、比較例で得られたサンプルを以下の方法で評価した。結果は表１に示す。
【００５６】
（１）スチールウール擦傷試験
スチールウール＃００００を擦傷試験機に固定し、５００ｇｆの荷重をかけて、１０往復の擦傷試験を各サンプルの反射防止層に対して行い、サンプルの磨耗状態（傷本数）を目視で観測した。
【００５７】
（２）耐熱性試験
実施例および比較例で作成した偏光板を、粘着フィルムを介して、ガラスに貼り付け、温度９５℃、相対湿度５％のドライ環境の条件下に設定した恒温恒湿槽内に保持し、耐久性の評価を行った。セルロースフィルムの加水分解などの劣化の有無を、目視にて及び酢酸臭の確認及び赤外分光測定におけるカルボニル基の吸収スペクトルの変化により判断した。
【００５８】
（３）耐湿熱性試験
実施例および比較例で作成した偏光板を、粘着フィルムを介して、ガラスに貼り付け、温度６０℃、相対湿度９５％のドライ環境の条件下に設定した恒温恒湿槽内に保持し、耐久性の評価を行った。セルロースフィルムの加水分解などの劣化の有無を、目視にて及び酢酸臭の確認及び赤外分光測定におけるカルボニル基の吸収スペクトルの変化により判断した。
【００５９】
（４）水蒸気透過速度
それぞれ、偏光膜を貼り付ける前の、反射防止層において、温度４０℃、相対湿度９０％Ｒｈの環境下における、水蒸気透過速度を測定した。水蒸気透過速度の測定は、ＪＩＳ  Ｚ０２０８に順ずる方法を用いて測定した。
【００６０】
（５）算術平均粗さ測定
反射防止層の算術平均粗さ測定は、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）  Ｎａｎｏｓｃｏｐｅ３ａ（Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｉｎｓｔｕｒｍｅｎｔｓ社）を用いてＪＩＳ  Ｂ  ０６０１に順ずる方法を用いて行った。測定エリアは、１μｍ×１μｍとした。
【００６１】
【表１】
2008268328.tif 000003
【００６２】
実施例１、２で作成した反射防止フィルムを備えた偏光板においては、耐擦傷性が良好なことから、密着性が良く、さらに、耐熱性および耐湿熱性において、１０００時間以上偏光板や偏光板の保護フィルムに変質のない優れた耐久性を有しており、本発明の効果が確認できる。一方、比較例１では、耐擦傷性は優れているものの、耐熱性および耐湿熱性にて、それぞれ１２０時間、７５０時間でＴＡＣフィルムの加水分解が発生した。また、比較例２では、逆に耐熱性および耐湿熱性は優れているものの、耐擦傷性が悪いことが確認できる。また、比較例３では、密着性は優れているものの、耐熱性、耐湿熱性、水蒸気バリア性が悪いことが確認できる。
【図面の簡単な説明】
【００６３】
【図１】本発明により作成された反射防止フィルムの構成を示す図である。
【図２】本発明により作成された反射防止層を有した偏光板を示す図である。
【符号の説明】
【００６４】
１      透明基材フィルム
２      ハードコート層
３      プライマー層
４      反射防止層
５      防汚層
１０    偏光膜（ポリビニルアルコール）
１００  本発明により作成された反射防止フィルム
１０１  本発明により作成された反射防止層を有する偏光板
【図１】
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【図２】
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