(57)【要約】【課題】着色パターンの剥がれが抑制され、表示装置に用いた際、光漏れや異物による表示欠陥の発生を抑制し得るカラーフィルタを提供する。【解決手段】基板上に樹脂ブラックマトリクスと着色パターンとを有するカラーフィルタであって、前記樹脂ブラックマトリクスの膜厚が１．５μｍ以下であり、前記着色パターンが、前記樹脂ブラックマトリクス上に断面が矩形又はテーパー形であるパターン端部を有し、前記パターン端部断面におけるテーパー長Ｌと膜厚ｔとの比〔Ｌ／ｔ〕が１．０以下であることを特徴とするカラーフィルタ。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に樹脂ブラックマトリクスと着色パターンとを有するカラーフィルタであって、
前記樹脂ブラックマトリクスの膜厚が１．５μｍ以下であり、
前記着色パターンが、前記樹脂ブラックマトリクス上に断面が矩形又はテーパー形であるパターン端部を有し、
前記パターン端部断面がテーパー形のときは、該パターン端部断面におけるテーパー長Ｌと膜厚ｔとの比〔Ｌ／ｔ〕が１．０以下であることを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項２】
基板上に膜厚１．５μｍ以下の樹脂ブラックマトリクスを形成する樹脂ブラックマトリクス形成工程と、
（ａ）下記一般式（I）で表される化合物と、（ｂ）重合性化合物と、（ｃ）光重合開始剤と、（ｄ）着色剤と、を含有する着色硬化性組成物を、前記基板の樹脂ブラックマトリクスが形成された側の面に塗布する塗布工程と、
塗布された着色硬化性組成物を８０℃以上でプリベークして着色層を形成するプリベーク工程と、
形成された着色層を１１０ｍＪ以上の露光量で露光する露光工程と、
露光された着色層を現像して着色パターンを形成する現像工程と、
現像して得られた着色パターンをポストベークするポストベーク工程と、
を有し、
前記ポストベーク後の着色パターンは、前記樹脂ブラックマトリクス上に断面が矩形又はテーパー形であるパターン端部を有し、前記パターン端部断面がテーパー形のときは、該パターン端部断面におけるテーパー長Ｌと膜厚ｔとの比〔Ｌ／ｔ〕が１．０以下であることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【化１】
2008268751.tif 000079
〔一般式（I）中、Ｒは、アルキル基、又はアリール基を表し、Ａは、Ｎ＝Ｃ−Ｎと共にヘテロ環を形成する原子団を表す。〕
【請求項３】
基板上に膜厚１．５μｍ以下の樹脂ブラックマトリクスを形成する樹脂ブラックマトリクス形成工程と、
（ｅ）下記一般式（IV）又は下記一般式（V）で表される化合物から選択される少なくとも１種と、（ｂ）重合性化合物と、（ｃ）光重合開始剤と、（ｄ）着色剤と、を含有する着色硬化性組成物を前記基板の樹脂ブラックマトリクスが形成された側の面に塗布する塗布工程と、
塗布された着色硬化性組成物を８０℃以上でプリベークして着色層を形成するプリベーク工程と、
形成された着色層を１１０ｍＪ以上の露光量で露光する露光工程と、
露光された着色層を現像して着色パターンを形成する現像工程と、
現像して得られた着色パターンをポストベークするポストベーク工程と、
を有し、
前記ポストベーク後の着色パターンは、前記樹脂ブラックマトリクス上に断面が矩形又はテーパー形であるパターン端部を有し、前記パターン端部断面がテーパー形のときは、該パターン端部断面におけるテーパー長Ｌと膜厚ｔとの比〔Ｌ／ｔ〕が１．０以下であることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【化２】
2008268751.tif 000080
〔一般式（IV）又は一般式（V）中、Ｒ１及びＲ２は、各々独立に一価の置換基を表し、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、各々独立に水素原子又は一価の置換基を表す。ｎは０〜５の整数を表し、ｎ’は０〜５の整数を表し、ｎ及びｎ’が両方とも０となることはない。ｎが２以上である場合、複数存在するＲ１はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。ｎ’が２以上である場合、複数存在するＲ２はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。〕
【請求項４】
前記露光が、０．０２〜０．０５ＭＰａに減圧された雰囲気下で行われることを特徴とする請求項２又は３に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項５】
請求項１に記載のカラーフィルタまたは請求項２〜４のいずれか１項に記載のカラーフィルタの製造方法により作製されたカラーフィルタを備えた表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
カラーフィルタは表示装置に不可欠な構成部品である。表示装置の中でも液晶ディスプレイは、表示装置としてＣＲＴと比較すると、コンパクトであり、且つ、性能面では同等以上であることから、テレビ画面、パソコン画面、その他の表示装置としてＣＲＴに置き換わりつつある。
【０００３】
カラーフィルタの製造方法としては、開口部（画素部）パターンを有する遮光膜であるブラックマトリクスを形成し、引き続き、いわゆるフォトリソグラフィ法により、前記開口部に赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）等の着色パターンを形成する方法が用いられている。
【０００４】
前記カラーフィルタに関する技術としては、光漏れを防止する観点等から、各色の着色パターンを、前記開口部全面を覆ったうえで、さらに、ブラックマトリクス上に数μｍの重なり部を有するようにパターニングする技術が知られている（例えば、特許文献１〜２参照）。
【０００５】
ここで、従来のカラーフィルタの製造方法を、図４を参照して説明する。
まず、図４（ａ）に示すように、ブラックマトリクス４２が形成された基板１０上に着色硬化性組成物を塗布し、プリベークして着色層４４を形成する。
次に、形成された着色層４４を露光し、現像して、着色パターン４６を形成する。形成された着色パターンは、開口部全面を覆ったうえで、更にブラックマトリクス４２上に重なり部を有するようにパターニングされている。該重なり部における着色パターン端部は、現像後は、図４（ｂ）に示すようにアンダーカット形（「逆テーパー形」ともいう）となっている。
次に、現像して形成された着色パターン４６に、ポストベークと呼ばれる熱処理を施す。前記重なり部における着色パターン端部は、ポストベークにより変形し、一部がブラックマトリクス上に付着し、該ポストベーク後は図４（ｃ）に示すようなテーパー形（「順テーパー形」ともいう）となる。
従来のカラーフィルタは前記製造方法により形成されるため、着色パターン端部がポストベークによる影響で長いテーパー長Ｌを有しており、テーパー長Ｌと膜厚ｔとの比〔Ｌ／ｔ〕が１．０を超えている。
【０００６】
一方、前記ブラックマトリクスに関する技術としては、コストダウンや環境負荷軽減の観点から、クロム等の金属膜を用いる従来の技術に代えて、顔料や金属微粒子を含有する樹脂組成物を用いる技術が知られている（例えば、特許文献３〜４参照）。
【特許文献１】特開平９−２３０１２４号公報
【特許文献２】特開２０００−１１１７２４号公報
【特許文献３】特開２００４−２４００３９号公報
【特許文献４】特開２００５−１７３２２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、図４（ｃ）に示すように、着色パターン端部の断面におけるテーパー長Ｌと膜厚ｔとの比〔Ｌ／ｔ〕が１．０より大きいと、着色パターンの剥がれが生じやすく、また、樹脂ブラックマトリクスの膜厚は、クロム等の金属膜を用いたブラックマトリクスの膜厚に比べて厚いため、ブラシ洗浄等、製造工程におけるダメージが大きい。
【０００８】
従って、基板上に、樹脂ブラックマトリクスと、前記樹脂ブラックマトリクス上にパターン端部を有する着色パターンとを有し、前記着色パターン端部の断面におけるテーパー長Ｌと膜厚ｔとの比〔Ｌ／ｔ〕が１．０より大きいカラーフィルタにおいては、着色パターンの剥がれがより顕著となり、表示装置に用いた際、光漏れや異物による表示欠陥が発生しやすくなる。
【０００９】
本発明は上記に鑑みなされたものであり、着色パターンの剥がれが抑制され、表示装置に用いた際、光漏れや異物による表示欠陥の発生を抑制し得るカラーフィルタを提供すること、該カラーフィルタを高い歩留まりで作製しうる製造方法を提供すること、及び、異物や光漏れによる表示欠陥の発生が抑制された表示装置を提供することを目的とし、該目的を達成することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者は鋭意検討した結果、樹脂ブラックマトリクスの膜厚を特定し、更に、着色パターン端部の断面におけるテーパー長Ｌと膜厚ｔとの比〔Ｌ／ｔ〕を特定することにより、着色パターンの剥がれが少なくなることを見出し、本発明を完成した。
即ち、前記課題を達成するための具体的手段は以下のとおりである。
【００１１】
＜１＞  基板上に樹脂ブラックマトリクスと着色パターンとを有するカラーフィルタであって、前記樹脂ブラックマトリクスの膜厚が１．５μｍ以下であり、前記着色パターンが、前記樹脂ブラックマトリクス上に断面が矩形又はテーパー形であるパターン端部を有し、前記パターン端部断面がテーパー形のときは、該パターン端部断面におけるテーパー長Ｌと膜厚ｔとの比〔Ｌ／ｔ〕が１．０以下であることを特徴とするカラーフィルタである。
【００１２】
＜２＞  基板上に膜厚１．５μｍ以下の樹脂ブラックマトリクスを形成する樹脂ブラックマトリクス形成工程と、（ａ）下記一般式（I）で表される化合物と、（ｂ）重合性化合物と、（ｃ）光重合開始剤と、（ｄ）着色剤と、を含有する着色硬化性組成物を、前記基板の樹脂ブラックマトリクスが形成された側の面に塗布する塗布工程と、塗布された着色硬化性組成物を８０℃以上でプリベークして着色層を形成するプリベーク工程と、形成された着色層を１１０ｍＪ以上の露光量で露光する露光工程と、露光された着色層を現像して着色パターンを形成する現像工程と、現像して得られた着色パターンをポストベークするポストベーク工程と、を有し、前記ポストベーク後の着色パターンは、前記樹脂ブラックマトリクス上に断面が矩形又はテーパー形であるパターン端部を有し、前記パターン端部断面がテーパー形のときは、該パターン端部断面におけるテーパー長Ｌと膜厚ｔとの比〔Ｌ／ｔ〕が１．０以下であることを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
【００１３】
【化１】
2008268751.tif 000002
【００１４】
一般式（I）中、Ｒは、アルキル基、又はアリール基を表し、Ａは、Ｎ＝Ｃ−Ｎと共にヘテロ環を形成する原子団を表す。
【００１５】
＜３＞  基板上に膜厚１．５μｍ以下の樹脂ブラックマトリクスを形成する樹脂ブラックマトリクス形成工程と、（ｅ）下記一般式（IV）又は下記一般式（V）で表される化合物から選択される少なくとも１種と、（ｂ）重合性化合物と、（ｃ）光重合開始剤と、（ｄ）着色剤と、を含有する着色硬化性組成物を前記基板の樹脂ブラックマトリクスが形成された側の面に塗布する塗布工程と、塗布された着色硬化性組成物を８０℃以上でプリベークして着色層を形成するプリベーク工程と、形成された着色層を１１０ｍＪ以上の露光量で露光する露光工程と、露光された着色層を現像して着色パターンを形成する現像工程と、現像して得られた着色パターンをポストベークするポストベーク工程と、を有し、前記ポストベーク後の着色パターンは、前記樹脂ブラックマトリクス上に断面が矩形又はテーパー形であるパターン端部を有し、前記パターン端部断面がテーパー形のときは、該パターン端部断面におけるテーパー長Ｌと膜厚ｔとの比〔Ｌ／ｔ〕が１．０以下であることを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
【００１６】
【化２】
2008268751.tif 000003
【００１７】
一般式（IV）又は一般式（V）中、Ｒ１及びＲ２は、各々独立に一価の置換基を表し、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、各々独立に水素原子又は一価の置換基を表す。ｎは０〜５の整数を表し、ｎ’は０〜５の整数を表し、ｎ及びｎ’が両方とも０となることはない。ｎが２以上である場合、複数存在するＲ１はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。ｎ’が２以上である場合、複数存在するＲ２はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
【００１８】
＜４＞  前記露光が、０．０２〜０．０５ＭＰａに減圧された雰囲気下で行われることを特徴とする＜２＞又は＜３＞に記載のカラーフィルタの製造方法である。
＜５＞  ＜１＞に記載のカラーフィルタまたは＜２＞〜＜４＞のいずれか１つに記載のカラーフィルタの製造方法により作製されたカラーフィルタを備えた表示装置である。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、着色パターンの剥がれが抑制され、表示装置に用いた際、光漏れや異物による表示欠陥の発生を抑制し得るカラーフィルタを提供すること、該カラーフィルタを高い歩留まりで作製しうる製造方法を提供すること、及び、異物や光漏れによる表示欠陥の発生が抑制された表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本発明のカラーフィルタ及びその製造方法、並びに表示装置について詳細に説明する。
≪カラーフィルタ≫
本発明のカラーフィルタは、基板上に樹脂ブラックマトリクスと着色パターンとを有し、前記樹脂ブラックマトリクスの膜厚が１．５μｍ以下であり、前記着色パターンが、前記樹脂ブラックマトリクス上に断面が矩形又はテーパー形であるパターン端部を有し、前記パターン端部断面がテーパー形のときは、該パターン端部断面におけるテーパー長Ｌと膜厚ｔとの比〔Ｌ／ｔ〕が１．０以下となるように構成されたものである。
本発明のカラーフィルタは上記構成としたことにより、着色パターンの剥がれが抑制される。また、本発明のカラーフィルタは表示装置に用いた際、光漏れや異物による表示欠陥の発生を抑制し得る。
本発明のカラーフィルタを作製する方法には、特に限定はないが、後述する本発明のカラーフィルタの製造方法により作製されることが好ましい。
【００２１】
ここで、本発明のカラーフィルタの一例を、図１を参照して説明する。
図１（ａ）は、該カラーフィルタの平面図であり、図１（ｂ）は、図１（ａ）のＡ−Ａ線断面図である。
図１（ａ）〜（ｂ）に示すように、該カラーフィルタにおいては、基板１０上に、画素である開口部（図１（ａ）中の点線部）を複数有する樹脂ブラックマトリクス１２と、着色パターン（赤色（Ｒ）着色パターン２０、緑色（Ｇ）着色パターン１６、及び青色（Ｂ）着色パターン１８）と、が設けられている。そして各着色パターンは、前記開口部全面を覆ったうえで、さらに、樹脂ブラックマトリクス１２上に重なり部を有し、パターン端部が樹脂ブラックマトリクス上にパターン端部を有するようにパターニングされている。
【００２２】
図１（ｂ）における緑色（Ｇ）着色パターン１６のパターン端部の付近を拡大すると、図２のようになる。
本発明におけるパターン端部は、図２に示すように、断面が矩形またはテーパー形であり、該断面がテーパー形のときは、テーパー長Ｌと膜厚ｔとの比〔Ｌ／ｔ〕が１．０以下となっていることが必要である。
前記Ｌ／ｔが１．０を超えると着色パターンの剥がれが発生する場合がある。この原因は定かではないが、前記Ｌ／ｔが１．０を超える場合、着色パターン端部と下地である樹脂ブラックマトリクスとの密着性が悪く、該着色パターン端部を基点とする着色パターンの剥がれが生じやすいことが原因の一つとして推測される。着色パターンの剥がれをさらに抑制する観点からは、前記Ｌ／ｔは０〜０．５が好ましく、０（即ち、パターン端部断面が矩形である状態）が特に好ましい。
【００２３】
ここで、本発明における「着色パターン端部の断面」、「テーパー形」、「テーパー長Ｌ」について、図１〜２を参照して説明する。
前記「着色パターン端部の断面」とは、基板に垂直かつ着色パターンのパターンエッジにも垂直な平面で、着色パターンを切ったときの着色パターン端部の切断面をいう。なお、前記パターンエッジとは、基板の法線方向着色パターン形成面側からみたときの、着色パターンと該着色パターンが形成された下地（例えば、樹脂ブラックマトリクス）との境界線をいう。例えば、図１（ａ）において着色パターンのパターンエッジは、実線の直線で示した線である。
【００２４】
また、着色パターン端部の断面が「テーパー形」であるとは、該断面において着色パターン側面に相当する線と着色パターン下面に相当する線とのなす角の角度が９０°未満である状態をいう。
ここで、着色パターン下面とは、着色パターンの該着色パターンが形成された下地との接触面をいい、着色パターン側面とは、前記着色パターン下面にも着色パターン上面（前記パターン下面と平行な面であって、前記下地と接触しない面）にも該当しない面をいう。例えば、図２においては、着色パターン上面に相当する線は２２で、着色パターン下面に相当する線は２３で、着色パターン側面に相当する線は２４で、着色パターン側面に相当する線と着色パターン下面に相当する線とのなす角の角度はθで表す。
一方で、本発明において着色パターン端部の断面が矩形であるとは、前記角度θが９０°である状態をいい、該断面がアンダーカット形であるとは、前記角度θが９０°より大きいである状態をいう。
【００２５】
なお、着色パターン端部の断面における着色パターン側面に相当する線は、図２のような直線である場合に限られず、参考断面図である図３（ａ）又は（ｂ）に示すように、曲線である場合であってもよい。着色パターン側面に相当する線が曲線である場合、「テーパー形」か「アンダーカット形」かの判断は以下のようにして行う。
まず、前記着色パターン側面に相当する曲線について、該曲線が下地（例えば、図３（ａ）又は（ｂ）における樹脂ブラックマトリクス１２）と接する点を接点として、接線（例えば、図３（ａ）又は（ｂ）における接線ｌ）を引く。該接線と着色パターン下面に相当する線とのなす角（例えば、図３（ａ）又は（ｂ）における角θ）が９０°未満である状態を「テーパー形」とし、該角が９０°より大きい状態を「アンダーカット形」とする。
なお、参考断面図である図３（ａ）又は（ｂ）では、接線ｌや角θを認識しやすくするためにＬ／ｔが１．０を超える場合を示しているが、本発明においてはＬ／ｔは１．０以下であることが必要である。
【００２６】
前記「テーパー長Ｌ」とは、前記着色パターン端部の断面において、着色パターン側面に相当する線を、着色パターン下面に相当する線に平行な軸に投影したときの長さをいう（例えば、図２、図３（ａ）及び図３（ｂ）におけるテーパー長Ｌ）。
【００２７】
以上、本発明のカラーフィルタの一例として、着色パターンの色が３色であり、着色パターンがストライプ配列であり、各着色パターンが互いに重なり部を有しない場合について説明したが、本発明のカラーフィルタは本発明の範囲に含まれる限り、上記一例によって限定されるものではない。
例えば、色の数は１色のみであっても、２色であっても、４色以上であってもよい。また、着色パターンの配列はモザイク配列やデルタ配列等の他の公知の配列であってもよい。また、着色パターンがストライプ配列である場合は、該着色パターンは上記一例のように複数画素について結合したパターンであることには限られず、一画素ごとに独立したパターンであってもよい。また、各着色パターンは樹脂ブラックマトリクス上で重なり部を有していてもよい。
以下、樹脂ブラックマトリクス、基板、その他について説明する。
【００２８】
＜樹脂ブラックマトリクス＞
前記樹脂ブラックマトリクスは、膜厚が１．５μｍ以下である。膜厚が１．５μｍを超えると着色パターンの剥がれが発生する場合がある。着色パターンの剥がれ抑制と高い光学濃度（ＯＤ）との両立の観点からは、前記膜厚は、０．４μｍ〜１．５μｍが好ましく、０．６μｍ〜０．９μｍがより好ましい。
なお、本発明における樹脂ブラックマトリクスの膜厚は、接触式表面粗さ計Ｐ−１０（ＴＥＮＣＯＲ社製）を用いて測定される値である。
樹脂ブラックマトリクスの形態については特に限定はないが、例えば図１中の樹脂ブラックマトリクス１２のように、画素である開口部を複数有する遮光膜である形態、すなわち２以上の画素を仕切る（離隔する）遮光パターンである形態が好適である。
【００２９】
＜基板＞
前記基板としては特に限定はないが、表面に酸化珪素皮膜を有するソーダガラス板、無アルカリガラス板、低膨張ガラス板、もしくは石英ガラス板等の公知のガラス板、又は、プラスチック基板、プラスチックフィルム、もしくはプラスチックシート等を用いることができる。
【００３０】
＜その他＞
本発明のカラーフィルタは上述した要素（樹脂ブラックマトリクス、着色パターン、及び、基板）以外にも、オーバーコート膜、透明電極膜（例えば、ＩＴＯ膜等）、柱状スペーサ、配向制御用突起パターン等の公知の要素を有して構成されていてもよい。
また、前記カラーフィルタにおける着色パターン（着色画素）の色は、前述のとおり、１色であってもよいが、２色以上であることが好ましく、３色以上であることがより好ましい。中でも、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色であることが特に好ましい。
また、本発明のカラーフィルタは、テレビ、パーソナルコンピューター、産業用や医療用等のモニター、液晶プロジェクター、ゲーム機、携帯電話などの携帯端末、デジタルカメラ、カーナビなど、種々の用途の表示装置に適用できる。
【００３１】
≪カラーフィルタの製造方法≫
本発明のカラーフィルタの製造方法の第１の形態は、基板上に膜厚１．５μｍ以下の樹脂ブラックマトリクスを形成する樹脂ブラックマトリクス形成工程と、（ａ）後述の一般式（I）で表される化合物と、（ｂ）重合性化合物と、（ｃ）光重合開始剤と、（ｄ）着色剤と、を含有する着色硬化性組成物を、前記基板の樹脂ブラックマトリクスが形成された側の面に塗布する塗布工程と、塗布された着色硬化性組成物を８０℃以上でプリベークして着色層を形成するプリベーク工程と、形成された着色層を１１０ｍＪ以上の露光量で露光する露光工程と、露光された着色層を現像して着色パターンを形成する現像工程と、現像して得られた着色パターンをポストベークするポストベーク工程と、を有し、前記ポストベーク後の着色パターンは、前記樹脂ブラックマトリクス上に断面が矩形又はテーパー形であるパターン端部を有し、前記パターン端部断面がテーパー形のときは、該パターン端部断面におけるテーパー長Ｌと膜厚ｔとの比〔Ｌ／ｔ〕が１．０以下である形態である。
【００３２】
本発明のカラーフィルタの製造方法の第２の形態は、基板上に膜厚１．５μｍ以下の樹脂ブラックマトリクスを形成する樹脂ブラックマトリクス形成工程と、（ｅ）後述の一般式（IV）又は下記一般式（V）で表される化合物から選択される少なくとも１種と、（ｂ）光重合開始剤と、（ｃ）重合性化合物と、（ｄ）着色剤と、を含有する着色硬化性組成物を、前記基板の樹脂ブラックマトリクスが形成された側の面に塗布する塗布工程と、塗布された着色硬化性組成物を８０℃以上でプリベークして着色層を形成するプリベーク工程と、形成された着色層を１１０ｍＪ以上の露光量で露光する露光工程と、露光された着色層を現像して着色パターンを形成する現像工程と、現像して得られた着色パターンをポストベークするポストベーク工程と、を有し、前記ポストベーク後の着色パターンは、前記樹脂ブラックマトリクス上に断面が矩形又はテーパー形であるパターン端部を有し、前記パターン端部断面がテーパー形のときは、該パターン端部断面におけるテーパー長Ｌと膜厚ｔとの比〔Ｌ／ｔ〕が１．０以下である形態である。
【００３３】
本発明のカラーフィルタの製造方法は、上記第１又は第２の形態に構成することにより、着色パターンの剥がれが抑制されたカラーフィルタを高い歩留まりで作製することができる。
本発明のカラーフィルタの製造方法では、本発明による効果を妨げない範囲で、ポスト露光等の上記以外の工程を設けてもよい。
以下、樹脂ブラックマトリクス形成工程、塗布工程、プリベーク工程、露光工程、現像工程、及びポストベーク工程の各工程、並びにその他の工程について説明し、引き続き、上記第１又は第２の形態における着色硬化性組成物について説明する。着色パターン端部の断面の形状やＬ／ｔの値については前記≪カラーフィルタ≫の項で説明した通りである。
【００３４】
＜樹脂ブラックマトリクス形成工程＞
前記第１又は第２の形態における樹脂ブラックマトリクス形成工程は、（例えば濃色樹脂組成物を用いて）基板上に膜厚１．５μｍ以下の樹脂ブラックマトリクスを形成する工程である。樹脂ブラックマトリクスの膜厚の好ましい範囲については前述の通りである。
【００３５】
基板上に樹脂ブラックマトリクスを形成する方法については特に限定はないが、以下説明するように公知のフォトリソグラフィ法を用いて所望の形状にパターニングする方法が好適である。
すなわち、
（ａ）濃色樹脂組成物を基板上に塗布することにより、又は、仮支持体上に濃色樹脂組成物からなる濃色樹脂組成物層を設けた転写材料を用いて該濃色樹脂組成物層を基板上に転写することにより、基板上に濃色樹脂組成物層を形成する濃色樹脂組成物層形成工程と、（ｂ）基板上に形成された濃色樹脂組成物層を露光する工程と、
（ｃ）露光後の濃色樹脂組成物層を現像する工程と、
を有して構成される方法が好適である。更に必要に応じて、ポスト露光や加熱処理等の他の工程を設けてもよい。
【００３６】
本発明では、濃色樹脂組成物を基板上に塗布することにより該基板上に濃色樹脂組成物層を形成する方法を、単に「塗布法」ということがある。塗布の方法については特に限定はなく、スピン塗布、スリット塗布、スリット＆スピン塗布等の公知の方法を用いることができる。
また、本発明では、前述の転写材料の濃色樹脂組成物層を基板上に転写することにより該基板上に濃色樹脂組成物層を形成する方法を、単に「転写法」ということがある。転写の方法については特に限定はなく、公知の方法を用いることができる。
中でも、形成された濃色樹脂組成物層の層厚均一性の観点やコスト削減の観点から、転写法が好ましい。
【００３７】
（濃色樹脂組成物）
前記濃色樹脂組成物としては特に限定はないが、樹脂ブラックマトリクスの膜厚を１．５μｍ以下に抑える観点からは、単位膜厚あたりの光学濃度（ＯＤ値）が高い濃色樹脂組成物を用いることが好ましい。上記光学濃度の観点からは、濃色樹脂組成物としては、例えば、特開２００４−２４００３９号公報段落番号［００１２］〜［００１６］や、特開２００５−１７３２２号公報［００１７］〜［００５９］に記載のブラックマトリックス作製用着色組成物等、濃色体として金属微粒子を含有する濃色樹脂組成物を好適に用いることができる。
【００３８】
（転写材料）
前記転写材料は、仮支持体上に少なくとも、濃色樹脂組成物を用いて濃色樹脂組成物層を設けたものである。該転写材料を基板に圧着することにより、該基板に濃色樹脂組成物層を転写形成することができる。
転写材料は、特開平５−７２７２４号公報に記載の感光性樹脂転写材料、すなわち一体型となったフイルム（一体型フィルム）の形態に構成されることが好ましい。該一体型フイルムの構成例としては、仮支持体／熱可塑性樹脂層／中間層／濃色樹脂組成物層／保護フイルムを、この順に積層した構成が挙げられる。
仮支持体、熱可塑性樹脂層、中間層、保護フィルムや、転写材料の作製方法については、特開２００５−３８６１号公報の段落番号［００２３］〜［００６６］に記載のものが好適なものとして挙げられる。
【００３９】
＜塗布工程＞
前記第１又は第２の形態における塗布工程は、後述する着色硬化性組成物を、前記基板の樹脂ブラックマトリクスが形成された側の面に塗布する工程である。
塗布の方法としては特に限定はなく、スピン塗布、スリット塗布、スリット＆スピン塗布等の公知の方法を用いることができる。スリット塗布の具体的方法については、例えば、特開２０００−１２６６６４号公報に記載されているスリットコート式塗布方法等が好適である。
前記塗布後であって後述のプリベーク前に、ＶＣＤ（減圧乾燥）等の公知の方法で、塗布された着色硬化性樹脂組成物を乾燥してもよい。
【００４０】
＜プリベーク工程＞
前記第１又は第２の形態におけるプリベーク工程は、塗布された着色硬化性組成物を８０℃以上でプリベーク（熱処理）して着色層を形成する工程である。プリベーク温度が８０℃未満であると、ポストベーク後の着色パターンについて剥がれが発生する。
この原因は定かではないが、原因の一つは以下のように推測される。すなわち、前記プリベーク温度が８０℃未満の場合、後述する現像により形成された着色パターンの端部の断面がアンダーカット形となる。前記現像により形成された着色パターンの端部は後述するポストベークにより変形し、一部がブラックマトリクス上に付着することとなる。このため、着色パターン端部と下地である樹脂ブラックマトリクスとの密着性が悪くなり、該着色パターン端部を基点として着色パターンがはがれやすくなるためと推測される。
プリベークには、ホットプレート、オーブン等の公知の加熱手段を用いることができる。
着色パターンの剥がれをより効果的に抑制する観点等からは、プリベーク温度は８０℃〜１４０℃が好ましく、９０℃〜１２０℃がより好ましい。
中でも、ホットプレート、オーブン等で９０℃〜１２０℃の温度で５０秒〜２００秒処理する形態が好適である。
【００４１】
本発明における着色層の厚み（プリベーク後）は、本発明による効果をより効果的に奏する観点からは、０．３〜５．０μｍが好ましく、０．５〜３．５μｍがより好ましく、１．０〜２．５μｍが特に好ましい。
【００４２】
＜露光工程＞
前記第１又は第２の形態における露光工程は、前記プリベークして形成された着色層を、１１０ｍＪ以上の露光量で露光する工程である。露光量が１１０ｍＪ未満であると、ポストベーク後の着色パターンについて剥がれが発生する。
この原因は定かではないが、原因の一つは以下のように推測される。すなわち、前記露光量が１１０ｍＪ未満の場合、後述する現像により形成された着色パターンの端部の断面がアンダーカット形となる。前記現像により形成された着色パターンの端部は後述するポストベークにより変形し、一部がブラックマトリクス上に付着することとなる。このため、着色パターン端部と下地である樹脂ブラックマトリクスとの密着性が悪くなり、該着色パターン端部を基点として着色パターンがはがれやすくなるためと推測される。
前記露光は、着色パターン等の所定のマスクパターンを介して前記塗布膜に放射線を照射することにより行うことができる。この際に使用される放射線としては、特にｇ線、ｈ線、ｉ線等の紫外線が好ましく用いられる。
着色パターンの剥がれをより効果的に抑制する観点等からは、前記露光量は１１０ｍＪ〜１５０ｍＪが好ましく、１１０ｍＪ〜１２０ｍＪがより好ましい。
【００４３】
また、着色パターンの剥がれをより効果的に抑制する観点からは、前記露光は０．０２〜０．０５ＭＰａに減圧された雰囲気下で行われることが好ましい。
【００４４】
＜現像工程＞
前記第１又は第２の形態における現像工程は、前記露光された着色層を現像して着色パターンを形成する工程である。
前記現像は、前記露光後の非硬化部（ネガ型の場合には非露光部）を現像液（アルカリ水溶液等）により除去することにより行うことができる。
現像液としては、非硬化部の前記塗布膜を溶解し、一方硬化部を溶解しないものであればいかなるものも用いることができる。具体的には種々の有機溶剤の組合せやアルカリ性の水溶液を用いることができる。
現像温度としては２０℃〜３０℃が好ましく、現像時間としては２０〜９０秒が好ましい。
【００４５】
上記アルカリ性の水溶液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、硅酸ナトリウム、メタ硅酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８−ジアザビシクロ−［５，４，０］−７−ウンデセン等のアルカリ性化合物を、濃度が０．００１〜１０質量％、好ましくは０．０１〜１質量％となるように溶解したアルカリ性水溶液が使用される。なお、このようなアルカリ性水溶液からなる現像液を使用した場合には、一般に、現像後、水で洗浄（リンス）する。
【００４６】
前記現像後の着色パターンの形状には特に限定はないが、樹脂ブラックマトリクス上の着色パターン端部の断面が矩形又はテーパー形であり、前記パターン端部断面がテーパー形のときは、該パターン端部断面におけるテーパー長Ｌと膜厚ｔとの比〔Ｌ／ｔ〕が１．０以下となっていることが好ましい。現像後における断面が上記の形態であると、後述するポストベークによる着色パターンの変形量を抑えることができ、該ポストベーク時の変形によってブラックマトリクス上に付着する着色パターンの面積をより少なくすることができ、着色パターンの剥がれをより効果的に抑制できる。
着色パターンの剥がれをさらに抑制する観点からは、現像後における前記Ｌ／ｔは０〜０．５が好ましく、０（即ち、パターン端部断面が矩形である状態）が特に好ましい。
【００４７】
ネガ型の着色硬化性組成物を用いて着色パターンを形成する場合、前記現像後であって後述のポストベーク前には、着色パターンの硬化をより促進させるために、ポスト露光を行ってもよい。
ポスト露光に用いる光源としては、硬化性樹脂層を硬化し得る波長領域の光（例えば、３６５ｎｍ、４０５ｎｍ）を照射できるものであれば適宜選定して用いることができる。
具体的には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。
露光量としては、前記露光を補う露光量であればよく、通常は５０〜５０００ｍＪ／ｃｍ2であり、好ましくは２００〜２０００ｍＪ／ｃｍ2、更に好ましくは５００〜１０００ｍＪ／ｃｍ2である。
【００４８】
＜ポストベーク工程＞
前記第１又は第２の形態におけるポストベーク工程は、前記現像して得られた着色パターンをポストベーク（熱処理）する工程である。
前記ポストベーク後においては、樹脂ブラックマトリクス上の着色パターン端部の断面が矩形又はテーパー形であり、前記パターン端部断面がテーパー形のときは、該パターン端部断面におけるテーパー長Ｌと膜厚ｔとの比〔Ｌ／ｔ〕が１．０以下となっていることが必要である。現像後における断面が上記の形態であると、該ポストベーク後にブラックマトリクス上に付着する着色パターンの面積をより少なくすることができ、着色パターンの剥がれをより効果的に抑制できる。
着色パターンの剥がれをさらに抑制する観点からは、該ポストベーク後における前記Ｌ／ｔは、０〜０．５が好ましく、０（即ち、パターン端部断面が矩形である状態）が特に好ましい。
【００４９】
ポストベークの方法としては、従来公知の種々の方法を用いることができる。すなわち、例えば、複数枚の基板をカセットに収納してコンベクションオーブンで処理する方法、ホットプレートで１枚ずつ処理する方法、赤外線ヒーターで処理する方法、等である。
【００５０】
また、ポストベークの温度としては、着色パターンの剥がれをより効果的に抑制する観点から、１５０〜２８０℃が好ましく、１８０〜２５０℃がより好ましい。加熱時間は、前記ベーク温度によって変動するが、上記観点より、ベーク温度を２３０℃とした場合には、１０〜１２０分が好ましく、３０〜９０分がより好ましい。
【００５１】
＜その他の工程＞
本発明のカラーフィルタの製造方法は、任意の要素（オーバーコート膜、透明電極膜（例えば、ＩＴＯ膜等）、柱状スペーサ、配向制御用突起パターン等）を形成する工程等、その他の工程が設けられていてもよい。
【００５２】
≪着色硬化性組成物≫
前記第１の形態における着色硬化性組成物は、（ａ）後述の一般式（I）で表される化合物と、（ｂ）重合性化合物と、（ｃ）光重合開始剤と、（ｄ）着色剤と、を含有する。
前記第２の形態における着色硬化性組成物は、（ｅ）後述の一般式（IV）又は下記一般式（V）で表される化合物から選択される少なくとも１種と、（ｂ）重合性化合物と、（ｃ）光重合開始剤と、（ｄ）着色剤と、を含有する。
なお、前記第１又は第２の形態は、互いに重複する形態であってもよい。
以下、（ａ）〜（ｅ）の各成分及びその他の成分について説明する。
【００５３】
＜（ａ）一般式（I）で表される化合物＞
前記第１の形態における着色硬化性組成物は、下記一般式（I）で表される化合物を少なくとも１種含有する。また、前記第２の形態における着色硬化性組成物も、下記一般式（I）で表される化合物の少なくとも１種を含有してもよい。
下記一般式（I）で表される化合物（以下、「特定チオール化合物」ともいう）は、共増感剤として作用することができるものである。該特定チオール化合物を含有する着色硬化性組成物を用いて着色パターンを形成することにより、着色パターンの剥がれを効果的に抑制できる。この原因は定かではないが、該特定チオール化合物が、増感剤（増感色素）や開始剤の活性放射線に対する感度を一層向上させる、あるいは酸素による重合性化合物の重合阻害を抑制する等の作用を有するためと考えられる。
【００５４】
【化３】
2008268751.tif 000004
【００５５】
一般式（I）中、Ｒは、アルキル基、又はアリール基を表し、Ａは、Ｎ＝Ｃ−Ｎと共にヘテロ環を形成する原子団を表す。
【００５６】
一般式（I）において、Ｒは、アルキル基、又はアリール基を表す。
前記アルキル基としては、炭素原子数が１から２０までの直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を挙げることができ、炭素原子数１から１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐状、並びに炭素原子数５から１０までの環状のアルキル基がより好ましい。
その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘキシル基、２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、２−ノルボルニル基等を挙げることができる。
【００５７】
前記アリール基としては、単環構造のものに加え、１個から３個のベンゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と５員不飽和環が縮合環を形成したものなどを挙げることができ、具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナブテニル基、フルオレニル基等を挙げることができ、これらの中では、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。
【００５８】
これらのアルキル基やアリール基は、更に置換基を有していてもよく、導入しうる置換基としては、炭素原子数１〜２０の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、炭素原子数２〜２０の直鎖状、分岐状又は環状のアルケニル基、炭素原子数２〜２０のアルキニル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数１〜２０のアシルオキシ基、炭素原子数２〜２０のアルコキシカルボニルオキシ基、炭素原子数７〜２０のアリールオキシカルボニルオキシ基、炭素原子数１〜２０のカルバモイルオキシ基、炭素原子数１〜２０のカルボンアミド基、炭素原子数１〜２０のスルホンアミド基、炭素原子数１〜２０のカルバモイル基、スルファモイル基、炭素原子数１〜２０の置換スルファモイル基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、炭素原子数７〜２０のアリールオキシカルボニル基、炭素原子数２〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素原子数１〜２０のＮ−アシルスルファモイル基、炭素原子数１〜２０のＮ−スルファモイルカルバモイル基、炭素原子数１〜２０のアルキルスルホニル基、炭素原子数６〜２０のアリールスルホニル基、炭素原子数２〜２０のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニルアミノ基、アミノ基、炭素原子数１〜２０の置換アミノ基、炭素原子数１〜２０のイミノ基、炭素原子数３〜２０のアンモニオ基、カルボキシル基、スルホ基、オキシ基、メルカプト基、炭素数１〜２０のアルキルスルフィニル基、炭素原子数６〜２０のアリールスルフィニル基、炭素原子数１〜２０のアルキルチオ基、炭素原子数６〜２０のアリールチオ基、炭素原子数１〜２０のウレイド基、炭素原子数２〜２０のヘテロ環基、炭素原子数１〜２０のアシル基、スルファモイルアミノ基、炭素原子数１〜２の置換スルファモイルアミノ基、炭素原子数２〜２０のシリル基、イソシアネート基、イソシアニド基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、シアノ基、ニトロ基、オニウム基等が挙げられる。
【００５９】
また、一般式（I）において、Ａは、Ｎ＝Ｃ−Ｎと共にヘテロ環を形成する原子団を表す。
この原子団を構成する原子としては、炭素原子、窒素原子、水素原子、硫黄原子、セレン原子等が挙げられる。
なお、ＡとＮ＝Ｃ−Ｎとで形成されるヘテロ環は、更に置換基を有していてもよく、導入しうる置換基としては、上記アルキル基やアリール基に導入可能な置換基と同様のものが挙げられる。
【００６０】
本発明による効果をより効果的に得る観点からは、特定チオール化合物としては、下記一般式（II）又は一般式（III）で表される化合物がより好ましい。
【００６１】
【化４】
2008268751.tif 000005
【００６２】
一般式（II）中、Ｒ１は、アリール基を表し、Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキル基、又はアリール基を表す。
【００６３】
一般式（III）中、Ｒ２は、アルキル基、又はアリール基を表し、Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキル基、又はアリール基を表す。
【００６４】
一般式（II）及び（III）におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が好ましい。
【００６５】
一般式（II）及び（III）におけるアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ドデシルオキシ基、ベンジルオキシ基、アリルオキシ基、フェネチルオキシ基、カルボキシエチルオキシ基、メトキシカルボニルエチルオキシ基、エトキシカルボニルエチルオキシ基、メトキシエトキシ基、フェノキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、モルホリノエトキシ基、モルホリノプロピルオキシ基、アリロキシエトキシエトキシ基、フェノキシ基、トリルオキシ基、キシリルオキシ基、メシチルオキシ基、クメチルオキシ基、メトキシフェニルオキシ基、エトキシフェニルオキシ基、クロロフェニルオキシ基、ブロモフェニルオキシ基、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ナフチルオキシ基等が挙げられる。
【００６６】
一般式（II）及び（III）におけるアルキル基は、一般式（I）のＲで表されるアルキル基と同義であり、その好ましい範囲も同様である。
また、一般式（II）及び（III）におけるアリール基は、一般式（I）のＲで表されるアリール基と同義であり、その好ましい範囲も同様である。
【００６７】
一般式（II）及び（III）における各基は、更に置換基を有していてもよく、その置換基としては、一般式（I）のＲで表されるアルキル基やアリール基に導入可能な置換基として挙げられているものと同様である。
【００６８】
一般式（II）及び（III）中、Ｘは、水素原子であることが、ＰＧＭＥＡ溶解性の観点でより好ましい。
一般式（II）中、Ｒ１は、フェニル基であることが、感度とＰＧＭＥＡ溶解性の観点で最も好ましい。
一般式（III）中、Ｒ２は、メチル基、エチル基、フェニル基、ベンジル基であることが、感度とＰＧＭＥＡ溶解性の観点でより好ましい。
【００６９】
一般式（II）及び（III）の中で、ＰＧＭＥＡ溶解性の観点で、一般式（III）で表される化合物が最も好ましい。
【００７０】
以下、本発明における特定チオール化合物の好ましい具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、本明細書においては、化学式は簡略構造式により記載することもあり、特に元素や置換基の明示がない実線等は、炭化水素基を表す。また、下記具体例において、Ｍｅはメチル基を表す。
【００７１】
【化５】
2008268751.tif 000006
【００７２】
【化６】
2008268751.tif 000007
【００７３】
【化７】
2008268751.tif 000008
【００７４】
これら特定チオール化合物のＰＧＭＥＡ溶媒に対する溶解度は、塗膜均一性の観点から２０ｇ/Ｌ以上であり、より好ましくは２０ｇ/Ｌ以上〜５０ｇ/Ｌ以下であり、更に好ましくは２０ｇ/Ｌ以上〜４０ｇ/Ｌ以下である。
【００７５】
これらの特定チオール化合物は、Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｃｈｅｍ．，３４、２２０３−２２０７（１９６１）に記載の方法で合成することができる。
【００７６】
本発明の着色硬化性組成物において、一般式（I）で表される化合物（特定チオール化合物）は、１種単独で用いても、２種以上を併用してもよく、また、一般式（II）で表される化合物から選択される化合物と、一般式（III）で表される化合物から選択される化合物と、から選択される化合物と、をそれぞれ併用してもよい。
【００７７】
これら特定チオール化合物の含有量は、重合成長速度と連鎖移動とのバランスにより硬化速度を向上し、本発明による効果をより効果的に得る観点から、着色硬化性組成物の全固形分の質量に対し、０．５〜３０質量％の範囲が好ましく、１〜２５質量％の範囲がより好ましく、３〜２０質量％の範囲が更に好ましい。
【００７８】
（溶解度測定方法）
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）溶媒５ｍＬに特定チオール化合物を加え、２５℃で１時間攪拌したときに特定チオール化合物が溶けなくなる直前の量を溶解度とした。
【００７９】
＜他の共増感剤＞
前記第１又は第２の形態における着色硬化性組成物は、前記一般式（I）で表される化合物（特定チオール化合物）以外の他の共増感剤を含有してもよい。本発明において共増感剤は、増感色素や開始剤の活性放射線に対する感度を一層向上させる、あるいは酸素による重合性化合物の重合阻害を抑制する等の作用を有する。
この様な共増感剤の例としては、アミン類、例えばＭ．  Ｒ．  Ｓａｎｄｅｒら著「Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｏｃｉｅｔｙ」第１０巻３１７３頁（１９７２）、特公昭４４−２０１８９号公報、特開昭５１−８２１０２号公報、特開昭５２−１３４６９２号公報、特開昭５９−１３８２０５号公報、特開昭６０−８４３０５号公報、特開昭６２−１８５３７号公報、特開昭６４−３３１０４号公報、Ｒｅｓｅａｒｃｈ  Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ  ３３８２５号記載の化合物等が挙げられ、具体的には、トリエタノールアミン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、ｐ−ホルミルジメチルアニリン、ｐ−メチルチオジメチルアニリン等が挙げられる。
【００８０】
共増感剤の別の例としては、チオール及びスルフィド類、例えば、特開昭５３−７０２号公報、特公昭５５−５００８０６号公報、特開平５−１４２７７２号公報記載のチオール化合物、特開昭５６−７５６４３号公報のジスルフィド化合物等が挙げられ、具体的には、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２−メルカプト−４（３Ｈ）−キナゾリン、β−メルカプトナフタレン等が挙げられる。
【００８１】
また、共増感剤の別の例としては、アミノ酸化合物（例、Ｎ−フェニルグリシン等）、特公昭４８−４２９６５号公報記載の有機金属化合物（例、トリブチル錫アセテート等）、特公昭５５−３４４１４号公報記載の水素供与体、特開平６−３０８７２７号公報記載のイオウ化合物（例、トリチアン等）等が挙げられる。
【００８２】
これら共増感剤の総含有量（特定チオール化合物及びその他共増感剤の総含有量）は、重合成長速度と連鎖移動とのバランスにより硬化速度を向上し、本発明による効果をより効果的に得る観点から、着色硬化性組成物の全固形分の質量に対し、０．２〜３０質量％の範囲が好ましく、０．５〜２５質量％の範囲がより好ましく、１〜２０質量％の範囲が更に好ましい。
【００８３】
＜（ｅ）一般式（IV）で表される化合物、一般式（V）で表される化合物＞
前記第２の形態における着色硬化性組成物は、下記一般式（IV）又は一般式（V）で表される化合物の少なくとも１種を含有する。また、前記第１の形態における着色硬化性組成物も、下記一般式（IV）又は一般式（V）で表される化合物の少なくとも１種を含有してもよい。
下記一般式（IV）又は一般式（V）で表される化合物は増感剤として作用することができるものである。該一般式（IV）又は一般式（V）で表される化合物を含有する着色硬化性組成物を用いて着色パターンを形成することにより、着色パターンの剥がれを効果的に抑制できる。その作用機構は未だ明確ではないが、着色硬化性組成物にこれらの化合物を含有することにより、照射された活性放射線の吸収効率が向上し、組成物の硬化感度が向上するためと考えられる。また、一般式（IV）又は一般式（V）で表される化合物は、活性放射線、特に紫外線を吸収したエネルギー的に高い状態に励起することができるため、重合開始剤へ効率よく電子移動又はエネルギー移動を行い重合開始剤の活性重合開始種を生成して、着色硬化性組成物の硬化反応を高感度化することができるものと考えられる。
なお、以下においては、一般式（IV）又は一般式（V）を、適宜「特定増感剤」と称する場合がある。
【００８４】
【化８】
2008268751.tif 000009
【００８５】
一般式（IV）又は一般式（V）中、Ｒ１及びＲ２は、各々独立に一価の置換基を表し、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、各々独立に水素原子又は一価の置換基を表す。ｎは０〜５の整数を表し、ｎ’は０〜５の整数を表し、ｎ及びｎ’が両方とも０となることはない。ｎが２以上である場合、複数存在するＲ１はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。ｎ’が２以上である場合、複数存在するＲ２はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
【００８６】
ｎが２以上である場合、複数存在するＲ１同士が互いに結合して環を形成してもよい。ｎ’が２以上である場合、複数存在するＲ２同士が互いに結合して環を形成してもよい。
また、Ｒ１及び／又はＲ２は、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６の少なくとも１つと互いに結合して環を形成してもよい。
【００８７】
一般式（IV）又は一般式（V）中、Ｒ１及びＲ２における一価の置換基としては、特に制限は無いが、例えば、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、トリシクロアルキル基を含む）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む）、アルキニル基、アリール基、複素環基（「ヘテロ環基」ともいう。）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基（ジアルキルアミノ基、アルキルアミノ基、ジアリールアミノ基、アリールアミノ基、アニリノ基を含む）、アンモニオ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキル及びアリールスルフィニル基、アルキル及びアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール及びヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、ホスホノ基、シリル基、ヒドラジノ基、ウレイド基、ボロン酸基（−Ｂ（ＯＨ）2）、ホスファト基（−ＯＰＯ（ＯＨ）2）、スルファト基（−ＯＳＯ3Ｈ）、等が挙げられる。
【００８８】
一般式（IV）又は一般式（V）中、ｎが２以上である場合に複数存在するＲ１同士、又は、ｎ’が２以上である場合に複数存在するＲ２同士は、互いに結合して環（芳香族、又は非芳香族の炭化水素環、又は複素環。これらは、さらに組み合わされて多環縮合環）を形成することができる。形成しうる環として具体的には、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、フルオレン環、トリフェニレン環、ナフタセン環、ビフェニル環、ピロール環、フラン環、チオフェン環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、インドリジン環、インドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、イソベンゾフラン環、キノリジン環、キノリン環、フタラジン環、ナフチリジン環、キノキサリン環、キナゾリン環、イソキノリン環、カルバゾール環、フェナントリジン環、アクリジン環、フェナントロリン環、チアントレン環、クロメン環、キサンテン環、フェノキサチイン環、フェノチアジン環、フェナジン環が挙げられる。
【００８９】
一般式（IV）又は一般式（V）中、Ｒ1及びＲ２として好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、トリシクロアルキル基を含む）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む）、アルキニル基、アリール基、シアノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アミノ基（ジアルキルアミノ基、アルキルアミノ基、ジアリールアミノ基、アリールアミノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル若しくはアリールスルホニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルファモイル基、アルキル及びアリールスルホニル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、イミド基、シリル基、又は、ウレイド基、が好ましい。
【００９０】
一般式（IV）又は一般式（V）中、Ｒ１及びＲ２として更に好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、トリシクロアルキル基を含む）、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、又は、アミノ基（ジアルキルアミノ基、アルキルアミノ基、ジアリールアミノ基、アリールアミノ基を含む）である。
【００９１】
一般式（IV）又は一般式（V）中、Ｒ1及びＲ２で表される一価の置換基は、導入可能な場合には、さらに置換基を有していてもよい。
【００９２】
一般式（IV）又は一般式（V）中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、各々独立に水素原子又は一価の置換基を表し、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、互いに結合して環を形成してもよい。また、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、Ｒ１及び／又はＲ２と互いに結合して環を形成してもよい。
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６における一価の置換基としては、特に制限は無いが、例えば、ハロゲン原子、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、トリシクロアルキル基を含む）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む）、アルキニル基、アリール基、複素環基（ヘテロ環基と言ってもよい）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基（アニリノ基を含む）、アンモニオ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキル及びアリールスルフィニル基、アルキル及びアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール及びヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、ホスホノ基、シリル基、ヒドラジノ基、ウレイド基、ボロン酸基（−Ｂ（ＯＨ）2）、ホスファト基（−ＯＰＯ（ＯＨ）2）、スルファト基（−ＯＳＯ3Ｈ）、等が例として挙げられる。
【００９３】
一般式（IV）又は一般式（V）中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、互いに結合して環（芳香族、又は非芳香族の炭化水素環、又は複素環を形成してもよい。これらは、さらに組み合わされて多環縮合環）を形成することができる。
また、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、Ｒ１及び／又はＲ２と互いに結合して環（芳香族、又は非芳香族の炭化水素環、又は複素環。これらは、さらに組み合わされて多環縮合環）を形成することができる。形成しうる環として具体的には、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、フルオレン環、トリフェニレン環、ナフタセン環、ビフェニル環、ピロール環、フラン環、チオフェン環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、インドリジン環、インドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、イソベンゾフラン環、キノリジン環、キノリン環、フタラジン環、ナフチリジン環、キノキサリン環、キナゾリン環、イソキノリン環、カルバゾール環、フェナントリジン環、アクリジン環、フェナントロリン環、チアントレン環、クロメン環、キサンテン環、フェノキサチイン環、フェノチアジン環、フェナジン環）、等が挙げられる。
【００９４】
一般式（IV）又は一般式（V）中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６として好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、トリシクロアルキル基を含む）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む）、アルキニル基、アリール基、シアノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルファモイル基、アルキル若しくはアリールスルホニル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、イミド基、シリル基、又は、ウレイド基である。
【００９５】
一般式（IV）又は一般式（V）中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６として更に好ましくは、水素原子、又は、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、トリシクロアルキル基を含む）である。
【００９６】
一般式（IV）又は一般式（V）中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６で表される一価の置換基は、導入可能な場合には、さらに置換基を有していてもよい。
【００９７】
一般式（IV）で表される化合物としては、Ｒ１が、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、トリシクロアルキル基を含む）、アルコキシ基、アミノ基（ジアルキルアミノ基、アルキルアミノ基、ジアリールアミノ基、アリールアミノ基を含む）、アルキルチオ基、アリールチオ基、Ｒ２が、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、トリシクロアルキル基を含む）、アルコキシ基、アミノ基（ジアルキルアミノ基、アルキルアミノ基、ジアリールアミノ基、アリールアミノ基を含む）、アルキルチオ基、アリールチオ基、であり、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６が水素、アルキル基であり、ｎが０〜３であり、ｎ’が１〜３であることが好ましい。
【００９８】
また、一般式（V）で表される化合物としては、Ｒ１が、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、トリシクロアルキル基を含む）、アルコキシ基、アミノ基（ジアルキルアミノ基、アルキルアミノ基、ジアリールアミノ基、アリールアミノ基を含む）、アルキルチオ基、アリールチオ基、であり、Ｒ２が、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、トリシクロアルキル基を含む）、アルコキシ基、アミノ基（ジアルキルアミノ基、アルキルアミノ基、ジアリールアミノ基、アリールアミノ基を含む）、アルキルチオ基、アリールチオ基、であり、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６が水素、アルキル基であり、ｎが０〜３であり、ｎ’が１〜３であることが好ましい。
【００９９】
一般式（IV）で表される化合物としては、感度及び着色剤を含有する場合における着色性の観点から、下記一般式（IV−１）で表される化合物であることが好ましい。
【０１００】
【化９】
2008268751.tif 000010
【０１０１】
一般式（IV−１）中、Ｒ１及びＲ２は、各々独立に一価の置換基を表す。ｎは０〜５の整数を表し、ｎ’は１〜５の整数を表す。ｎが２以上である場合、複数存在するＲ１はそれぞれ同じであっても異なっていてもよく、ｎ’が２以上である場合、複数存在するＲ２はそれぞれ同じであっても異なっていてもよい。
【０１０２】
一般式（IV−１）において、Ｒ１及びＲ２で表される一価の置換基は、前記一般式（IV）においてＲ１及びＲ２で表される一価の置換基と同義であり、好ましい範囲も同様である。
【０１０３】
一般式（IV）又は一般式（V）で表される化合物としては、波長３６５ｎｍにおけるモル吸光係数εが５００ｍｏｌ−１・Ｌ・ｃｍ−１以上であることが好ましく、波長３６５ｎｍにおけるεが３０００ｍｏｌ−１・Ｌ・ｃｍ−１以上であることがより好ましく、波長３６５ｎｍにおけるεが２００００ｍｏｌ−１・Ｌ・ｃｍ−１以上であることが最も好ましい。各波長でのモル吸光係数εの値が上記範囲であると、光吸収効率の観点から感度向上効果が高く好ましい。
【０１０４】
一般式（IV−１）中、Ｒ１及びＲ２としては、吸収波長の観点からは、前記した一価の置換基の中でも、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアリールアミノ基が好ましい。
更に、Ｒ１及びＲ２としては、アルキルオキシ基（この場合、ｎ及びｎ’が２以上であることがより好ましい）、ジアルキルアミノ基、ジアリールアミノ基が好ましく、ジアリールアミノ基が最も好ましい。
【０１０５】
一般式（IV）又は一般式（V）で表される化合物の好ましい具体例を以下に例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、下記具体例において、Ｍｅはメチル基を、Ｅｔはエチル基を、Ｂｕはブチル基を、ｎ−Ｂｕはｎ−ブチル基を、Ｐｈはフェニル基を表す。
【０１０６】
【化１０】
2008268751.tif 000011
【０１０７】
【化１１】
2008268751.tif 000012
【０１０８】
【化１２】
2008268751.tif 000013
【０１０９】
【化１３】
2008268751.tif 000014
【０１１０】
【化１４】
2008268751.tif 000015
【０１１１】
【化１５】
2008268751.tif 000016
【０１１２】
【化１６】
2008268751.tif 000017
【０１１３】
【化１７】
2008268751.tif 000018
【０１１４】
【化１８】
2008268751.tif 000019
【０１１５】
【化１９】
2008268751.tif 000020
【０１１６】
【化２０】
2008268751.tif 000021
【０１１７】
本発明の着色硬化性組成物において、一般式（IV）又は一般式（V）で表される化合物（特定増感剤）は、１種単独で用いても、２種以上を併用してもよく、また、一般式（IV）で表される化合物から選択される化合物と、一般式（V）で表される化合物から選択される化合物と、から選択される化合物と、をそれぞれ併用してもよい。
【０１１８】
本発明の着色硬化性組成物における特定増感剤の含有量は、本発明による効果をより効果的に得る観点より、着色硬化性組成物の全固形分中、０．１質量％〜２０質量％が好ましく、０．１質量％〜２０質量％がより好ましく、０．２質量％〜２０質量％が更に好ましい。
【０１１９】
（合成例）
以下、一般式（IV）又は一般式（V）で表される化合物（特定増感剤）の合成例について説明するが、本発明は以下の合成例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「％」「部」は質量基準である。
特定増感剤である化合物１〜１８を、以下に示す合成例１〜１８によりそれぞれ合成した。
【０１２０】
〜合成例１〜
３００ｍｌ三口フラスコに４−メトキシベンジルクロリド（０．１９ｍｏｌ，１ｅｑ）、トリフェニルホスフィン（ＰＰｈ３）（０．１９ｍｏｌ，１ｅｑ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）（１００ｍｌ）を加え１４０℃で４時間加熱撹拌した。その後、水に投入しＫＰＦ６（０．２３ｍｏｌ，１．２ｅｑ）を加え、室温で１時間撹拌したところ固体が析出したのでこれをろ過し、さらに水で洗浄し、乾燥させることでホスホニウム塩Ａを得た。収率９４％。
【０１２１】
【化２１】
2008268751.tif 000022
【０１２２】
５００ｍｌ三口フラスコにホスホニウム塩Ａ（３０．８ｍｍｏｌ，１ｅｑ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（１００ｍｌ）を加え氷浴上で撹拌した。そこへ水素化ナトリウム（ＮａＨ）（４６．２ｍｍｏｌ，１．５ｅｑ）／ＴＨＦ（２０ｍｌ）をゆっくりと添加し、添加終了後、氷浴上で１５分間撹拌し、その後室温に戻した。そこへ４−メトキシけい皮酸アルデヒド（３０．８ｍｍｏｌ，１ｅｑ）を加え、４時間加熱還流させた。その後、氷水に投入したところ固体が析出し、ろ過を行い、さらにメタノール洗浄を行うことで化合物１を得た。収率４０％。
【０１２３】
【化２２】
2008268751.tif 000023
【０１２４】
〜合成例２〜
５００ｍｌ三口フラスコに前記ホスホニウム塩Ａ（３７．８ｍｍｏｌ，１ｅｑ）、ＴＨＦ（１００ｍｌ）を加え氷浴上で撹拌した。そこへＮａＨ（５６．７ｍｍｏｌ，１．５ｅｑ）／ＴＨＦ（２０ｍｌ）をゆっくりと加え、添加終了後氷浴上で１５分間撹拌し、その後室温に戻した。そこｔｒａｎｓ−シンナムアルデヒド（３７．８ｍｍｏｌ，１ｅｑ）を加え、４時間加熱還流させた。その後、氷水に投入したところ固体が析出し、ろ過を行い、さらにメタノールで洗浄を行うことで化合物２を得た。収率４５％。
【０１２５】
【化２３】
2008268751.tif 000024
【０１２６】
〜合成例３〜
３００ｍｌ三口フラスコにα−ブロモ−ｐ−キシレン（０．１４ｍｏｌ，１ｅｑ）、トリフェニルホスフィン（０．１４ｍｏｌ，１ｅｑ）、ＮＭＰ（１００ｍｌ）を加え１４０℃で２時間加熱撹拌した（反応溶液中に目的物が晶析した。）。その後、水に投入し、氷浴上で１時間撹拌し、その後ろ過し、さらに水で洗浄し、乾燥させることでホスホニウム塩Ｂを得た。収率８７％。
【０１２７】
【化２４】
2008268751.tif 000025
【０１２８】
５００ｍｌ三口フラスコにホスホニウム塩Ｂ（３７．８ｍｍｏｌ，１ｅｑ）、ＴＨＦ（１００ｍｌ）を加え氷浴上で撹拌した。そこへＮａＨ（５６．７ｍｍｏｌ，１．５ｅｑ）／ＴＨＦ（２０ｍｌ）をゆっくりと加え、添加終了後氷浴上で１５分間撹拌し、その後室温に戻した。そこへｔｒａｎｓ−シンナムアルデヒド（３７．８ｍｍｏｌ，１ｅｑ）を加え、３時間加熱還流させた。その後、氷水に投入したところ固体が析出し、ろ過を行い、さらにメタノールリスラリーを行うことで化合物３を得た。収率６０％。
【０１２９】
【化２５】
2008268751.tif 000026
【０１３０】
〜合成例４〜
５００ｍｌ三口フラスコに前記ホスホニウム塩Ｂ（３４．２ｍｍｏｌ，１ｅｑ）、ＴＨＦ（１００ｍｌ）を加え氷浴上で撹拌した。そこへＮａＨ（５１．３ｍｍｏｌ，１．５ｅｑ）／ＴＨＦ（４０ｍｌ）をゆっくりと加え、添加終了後氷浴上で１５分間撹拌し、その後室温に戻した。そこへα−メチルシンナムアルデヒド（３４．２ｍｍｏｌ，１ｅｑ）を加え、３時間加熱還流させた。その後、氷水に投入したところ固体が析出し、ろ過を行い、さらにメタノールリスラリーを行うことで化合物４を得た。収率４０％。
【０１３１】
【化２６】
2008268751.tif 000027
【０１３２】
〜合成例５〜
５００ｍｌ三口フラスコにＮａＨ（７８．６ｍｍｏｌ，１．５ｅｑ）、ホスホニウム塩Ｃ（５２．４ｍｍｏｌ，１ｅｑ）、ＴＨＦ（１００ｍｌ）を加え氷浴上で撹拌した。そこへスルホニウム塩（５２．４ｍｍｏｌ，１ｅｑ）をゆっくりと加え、添加終了後氷浴上で15分間撹拌し、その後室温に戻した。そこへｔｒａｎｓ−シンナムアルデヒド（５２．４ｍｍｏｌ，１ｅｑ）を加え、３時間加熱還流させた。その後、氷水に投入したところ固体が析出し、ろ過を行い、さらにメタノールリスラリーを行うことで化合物５を得た。収率４０％。
【０１３３】
【化２７】
2008268751.tif 000028
【０１３４】
〜合成例６〜
５００ｍｌ三口フラスコにＮａＨ（７８．６ｍｍｏｌ，１．５ｅｑ）、ホスホニウム塩Ｄ（５２．４ｍｍｏｌ，１ｅｑ）、ＴＨＦ（１００ｍｌ）を加え氷浴上で撹拌した。そこへＮａＨ（５２．４ｍｍｏｌ，１ｅｑ）をゆっくりと加え、添加終了後氷浴上で１５分間撹拌し、その後室温に戻した。そこへｔｒａｎｓ−シンナムアルデヒド（５２．４ｍｍｏｌ，１ｅｑ）を加え、３時間加熱還流させた。その後、氷水に投入したところ固体が析出し、固体をろ過した後、ろ液を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）で精製し化合物６を得た。収率５％。
【０１３５】
【化２８】
2008268751.tif 000029
【０１３６】
〜合成例７〜
化合物５の合成例において、ホスホニウム塩Ｃを下記ホスホニウム塩Ｅに代えた以外は同様な方法で下記化合物７を得た。
【０１３７】
【化２９】
2008268751.tif 000030
【０１３８】
〜合成例８〜
化合物５の合成例において、ホスホニウム塩Ｃを下記ホスホニウム塩Ｆに代えた以外は同様な方法で下記化合物８を得た。
【０１３９】
【化３０】
2008268751.tif 000031
【０１４０】
〜合成例９〜
化合物５の合成例において、ホスホニウム塩Ｃを下記ホスホニウム塩Ｇに代えた以外は同様な方法で下記化合物９を得た。
【０１４１】
【化３１】
2008268751.tif 000032
【０１４２】
〜合成例１０〜
化合物５の合成例において、ホスホニウム塩Ｃを下記ホスホニウム塩Ｈに代えた以外は同様な方法で下記化合物１０を得た。
【０１４３】
【化３２】
2008268751.tif 000033
【０１４４】
〜合成例１１〜
化合物５の合成例おいて、ホスホニウム塩Ｃを下記ホスホニウム塩Ｉに代えた以外は同様な方法で下記化合物１１を得た。
【０１４５】
【化３３】
2008268751.tif 000034
【０１４６】
〜合成例１２〜
化合物５の合成例において、ホスホニウム塩Ｃを下記ホスホニウム塩Ｊに代えた以外は同様な方法で下記化合物１２を得た。
【０１４７】
【化３４】
2008268751.tif 000035
【０１４８】
〜合成例１３〜
化合物５の合成例において、ホスホニウム塩Ｃを下記ホスホニウム塩Ｋに代えた以外は同様な方法で下記化合物１３を得た。
【０１４９】
【化３５】
2008268751.tif 000036
【０１５０】
〜合成例１４〜
５００ｍｌ三口フラスコにホスホニウム塩Ｌ１６．９ｇ（４０．７ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（１００ｍｌ）を加え氷浴上で撹拌した。そこへＳＭ−２８（ＮａＯＭｅの２８ｗ％ＭｅＯＨ溶液）７．４ｇ（３８．４ｍｍｏｌ）をゆっくりと添加し、添加終了後、氷浴上で１５分間撹拌し、その後室温に戻した。そこへｐ−ジフェニルアミノベンズアルデヒド１０ｇ（３６．６ｍｍｏｌ）を加え、２時間加熱還流させた。その後、氷水に投入したところ固体が析出し、ろ過を行い、さらにメタノール洗浄を行うことで化合物１４を得た。収率４０％。
【０１５１】
【化３６】
2008268751.tif 000037
【０１５２】
〜合成例１５〜
化合物１４の合成例において、ｐ−ジフェニルアミノベンズアルデヒドをｐ−ジエチルアミノベンズアルデヒドに代えた以外は同様な方法で下記化合物１５を得た。
【０１５３】
【化３７】
2008268751.tif 000038
【０１５４】
〜合成例１６〜
化合物１４の合成例において、ｐ−ジフェニルアミノベンズアルデヒドを３，４，５−トリメトキシベンズアルデヒドに代えた以外は同様な方法で下記化合物１６を得た。
【０１５５】
【化３８】
2008268751.tif 000039
【０１５６】
〜合成例１７〜
化合物１４の合成例において、ｐ−ジフェニルアミノベンズアルデヒドを４−ジエチルアミノ−２-メトキシベンズアルデヒドに代えた以外は同様な方法で下記化合物１７を得た。
【０１５７】
【化３９】
2008268751.tif 000040
【０１５８】
〜合成例１８〜
化合物１４の合成例において、ｐ−ジフェニルアミノベンズアルデヒドを２、４−ジメトキシベンズアルデヒドに代えた以外は同様な方法で下記化合物１８を得た。
【０１５９】
【化４０】
2008268751.tif 000041
【０１６０】
なお、合成例５〜１３で用いたホスホニウム塩Ｃ〜Ｋの合成は、合成例３に用いたホスホニウム塩Ｂの合成におけるα−ブロモ−ｐ−キシレンをそれぞれ適当な化合物に代えた以外は、ホスホニウム塩Ｂの合成と同様に行った。
【０１６１】
（モル吸光係数の測定）
化合物１〜１８の０．０１ｇ／Ｌの１−メトキシ−２−プロパノール溶液を調製し、Varian製cary-5 uv-vis-NIR SPECTROPHOTMETERSを用いて、吸光度を測定し、３６５ｎｍでのモル吸光係数ε（ｍｏｌ−１・Ｌ・ｃｍ−１）を算出した。
【０１６２】
化合物１〜１８の構造及び３６５ｎｍでのモル吸光係数εを以下に記載する。
【０１６３】
【化４１】
2008268751.tif 000042
【０１６４】
【化４２】
2008268751.tif 000043
【０１６５】
＜他の増感剤＞
前記第１又は第２の形態における着色硬化性組成物には、本発明の効果を損ねない範囲で、ラジカル開始剤のラジカル発生効率の向上、感光波長の長波長化の目的で、特定増感剤以外の他の増感剤（以下、「増感色素」ともいう）を含有していてもよい。
本発明に用いることができる他の増感剤としては、ラジカル開始剤に対し、電子移動機構又はエネルギー移動機構で増感させるものが好ましい。
本発明に用いることができる他の増感剤としては、以下に列挙する化合物類に属しており、且つ３００ｎｍ〜４５０ｎｍの波長領域に吸収波長を有するものが挙げられる。
好ましい他の増感剤の例としては、以下の化合物類に属しており、かつ３３０ｎｍから４５０ｎｍ域に吸収波長を有するものを挙げることができる。
【０１６６】
他の増感剤としては、例えば、多核芳香族類（例えば、フェナントレン、アントラセン、ピレン、ペリレン、トリフェニレン、９，１０−ジアルコキシアントラセン）、キサンテン類（例えば、フルオレッセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンＢ、ローズベンガル）、チオキサントン類（イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、クロロチオキサントン）、シアニン類（例えばチアカルボシアニン、オキサカルボシアニン）、メロシアニン類（例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン）、フタロシアニン類、チアジン類（例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー）、アクリジン類（例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン）、アントラキノン類（例えば、アントラキノン）、スクアリウム類（例えば、スクアリウム）、クマリン類（例えば、７−ジエチルアミノ−４−メチルクマリン）、ケトクマリン、フェノチアジン類、フェナジン類、スチリルベンゼン類、アゾ化合物、ジフェニルメタン、トリフェニルメタン、ジスチリルベンゼン類、カルバゾール類、ポルフィリン、スピロ化合物、キナクリドン、インジゴ、スチリル、ピリリウム化合物、ピロメテン化合物、ピラゾロトリアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、バルビツール酸誘導体、チオバルビツール酸誘導体、アセトフェノン、ベンゾフェノン、チオキサントン、ミヒラーズケトンなどの芳香族ケトン化合物、Ｎ−アリールオキサゾリジノンなどのヘテロ環化合物などが挙げられる。
【０１６７】
より好ましい他の増感剤の例としては、下記一般式（ｅ−１）〜（ｅ−４）で表される化合物が挙げられる。
【０１６８】
【化４３】
2008268751.tif 000044
【０１６９】
（式（ｅ−１）中、Ａ１は硫黄原子またはＮＲ５０を表し、Ｒ５０はアルキル基またはアリール基を表し、Ｌ１は隣接するＡ１及び隣接炭素原子と共同して色素の塩基性核を形成する非金属原子団を表し、Ｒ５１、Ｒ５２はそれぞれ独立に水素原子または一価の非金属原子団を表し、Ｒ５１、Ｒ５２は互いに結合して、色素の酸性核を形成してもよい。Ｗは酸素原子または硫黄原子を表す。）
【０１７０】
【化４４】
2008268751.tif 000045
【０１７１】
（式（ｅ−２）中、Ａｒ１及びＡｒ２はそれぞれ独立にアリール基を表し、−Ｌ２−による結合を介して連結している。ここでＬ２は−Ｏ−または−Ｓ−を表す。また、Ｗは式（ｅ−１）に示したものと同義である。）    
【０１７２】
【化４５】
2008268751.tif 000046
【０１７３】
（式（ｅ−３）中、Ａ2は硫黄原子またはＮＲ59を表し、Ｌ3は隣接するＡ2及び炭素原子と共同して色素の塩基性核を形成する非金属原子団を表し、Ｒ53、Ｒ54、Ｒ55、Ｒ56、Ｒ57及びＲ58はそれぞれ独立に一価の非金属原子団の基を表し、Ｒ59はアルキル基またはアリール基を表す。）
【０１７４】
【化４６】
2008268751.tif 000047
【０１７５】
（式（ｅ−４）中、Ａ3、Ａ4はそれぞれ独立に−Ｓ−または−ＮＲ62−または−ＮＲ63−を表し、Ｒ６２、Ｒ６３はそれぞれ独立に置換若しくは非置換のアルキル基、置換若しくは非置換のアリール基を表し、Ｌ４、Ｌ5、はそれぞれ独立に、隣接するＡ3、Ａ4及び隣接炭素原子と共同して色素の塩基性核を形成する非金属原子団を表し、Ｒ60、Ｒ61はそれぞれ独立に一価の非金属原子団を表し、又は互いに結合して脂肪族性または芳香族性の環を形成することができる。）
【０１７６】
また、下記一般式（VI）で表される化合物も、他の増感剤として好適である。
【０１７７】
【化４７】
2008268751.tif 000048
【０１７８】
一般式（VI）中、Ａは置換基を有してもよい芳香族環又はヘテロ環を表し、Ｘは酸素原子、硫黄原子、又は−Ｎ（Ｒ３）−を表し、Ｙは酸素原子、硫黄原子、又は−Ｎ（Ｒ３）−を表す。Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３は、それぞれ独立に、水素原子又は一価の非金属原子団を表し、Ａ、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３は、それぞれ互いに結合して、脂肪族性又は芳香族性の環を形成してもよい。
【０１７９】
一般式（VI）において、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に、水素原子又は一価の非金属原子団を表す。Ｒ１、Ｒ２及びＲ３が一価の非金属原子を表す場合、置換もしくは非置換のアルキル基、置換もしくは非置換のアリール基、置換もしくは非置換のアルケニル基、置換もしくは非置換の芳香族複素環残基、置換もしくは非置換のアルコキシ基、置換もしくは非置換のアルキルチオ基、ヒドロキシル基、ハロゲン原子であることが好ましい。
【０１８０】
一般式（VI）で表される化合物は、光重合開始剤の分解効率向上の観点から、Ｙは酸素原子、又は−Ｎ（Ｒ３）−が好ましい。Ｒ３は、それぞれ独立に、水素原子又は一価の非金属原子団を表す。更に、Ｙは−Ｎ（Ｒ３）−であることが最も好ましい。
【０１８１】
以下、一般式（VI）で表される化合物の好ましい具体例（ＶＩ１）〜（ＶＩ１２４）を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。また、酸性核と塩基性核を結ぶ２重結合による異性体については明らかでなく、本発明はどちらかの異性体に限定されるものでもない。
【０１８２】
【化４８】
2008268751.tif 000049
【０１８３】
【化４９】
2008268751.tif 000050
【０１８４】
【化５０】
2008268751.tif 000051
【０１８５】
【化５１】
2008268751.tif 000052
【０１８６】
【化５２】
2008268751.tif 000053
【０１８７】
【化５３】
2008268751.tif 000054
【０１８８】
【化５４】
2008268751.tif 000055
【０１８９】
【化５５】
2008268751.tif 000056
【０１９０】
【化５６】
2008268751.tif 000057
【０１９１】
【化５７】
2008268751.tif 000058
【０１９２】
【化５８】
2008268751.tif 000059
【０１９３】
【化５９】
2008268751.tif 000060
【０１９４】
【化６０】
2008268751.tif 000061
【０１９５】
【化６１】
2008268751.tif 000062
【０１９６】
【化６２】
2008268751.tif 000063
【０１９７】
【化６３】
2008268751.tif 000064
【０１９８】
【化６４】
2008268751.tif 000065
【０１９９】
【化６５】
2008268751.tif 000066
【０２００】
前記一般式（VI）で表される化合物に関しては、さらに、着色硬化性組成物の特性を改良するための様々な化学修飾を行うことも可能である。
例えば、当該増感剤と、付加重合性化合物構造（例えば、アクリロイル基やメタクリロイル基）とを、共有結合、イオン結合、水素結合等の方法により結合させることで、露光膜の高強度化や、露光後の膜からの増感色素の不要な析出抑制を行うことができる。
また、当該増感剤と前述する光重合開始剤におけるラジカル発生能を有する部分構造（例えば、ハロゲン化アルキル、オニウム、過酸化物、ビイミダゾール等の還元分解性部位や、ボレート、アミン、トリメチルシリルメチル、カルボキシメチル、カルボニル、イミン等の酸化解裂性部位）との結合により、特に開始系の濃度の低い状態での感光性を著しく高めることができる。
【０２０１】
本発明の着色硬化性組成物において、前記特定増感剤及び前記他の増感剤は、１種単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
【０２０２】
前記特定増感剤及び前記他の増感剤は、着色硬化性組成物における着色剤の濃度が非常に高く、形成される着色パターン（感光層）の光の透過率が極端に低くなる場合、具体的には、増感剤を添加せずに形成した場合の感光層の３６５ｎｍの光の透過率が１０％以下となるような場合に添加することで、その効果が顕著に発揮される。特に、本発明においては前記特定増感剤以外にも一般式（VI）で表される化合物も好ましく、具体的には（VI５６）〜（VI１２２）の化合物がより好ましい。
【０２０３】
また、前記特定増感剤及び前記他の増感剤は、ビイミダゾール系の光重合開始剤と組み合わせて用いることが、開始剤の分解効率が高く、感度が向上するという観点からもっとも好ましい。
【０２０４】
本発明の着色硬化性組成物中における前記特定増感剤及び前記他の増感剤の含有量は、深部への光吸収効率と開始分解効率の観点から、固形分換算で、０．１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜１５質量％がより好ましい。
前記特定増感剤及び前記他の増感剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０２０５】
＜（ｆ）分子内にウレタン、アミド、及びウレアから選択される部分構造を有する化合物＞
前記第１又は第２の形態における着色硬化性組成物は、（ｆ）分子内にウレタン、アミド、及びウレアから選択される部分構造を有する化合物を少なくとも１種含有してもよい。これらの化合物を含有する着色硬化性組成物を用いて着色パターンを形成することにより、着色パターンの剥がれを効果的に抑制できる。
（ｆ）分子内にウレタン、アミド、及びウレアから選択される部分構造を有する化合物としては、分子内にウレタン結合を有する化合物、アミド基を有する化合物、及びウレア結合を有する化合物から選択されるものであればいずれのものでもよいが、パターン形成性の観点及び着色パターンの剥がれをより効果的に抑制する観点からは、分子内にウレタン結合を部分構造として有するものが好ましい。また（ｆ）成分は、含窒素原子複素環をその構造内に有する化合物であることが好ましく、さらに、イソシアヌレートが好ましい。
また、（ｆ）成分が着色硬化性組成物の物性に与える影響を考慮すれば、例えば、現像性の観点からは前記構造に加えて、分子内にアルキレンオキシド基を有することが好ましく、アルキレンオキシド基としては、エチレンオキシド、プロピレンオキシドが好ましく、特にエチレンオキシド基が好ましい。
さらに、組成物の硬化性向上の観点からは、分子内にエチレン性不飽和二重結合基を有することがより好ましい。
なお、本発明において（ｆ）成分として好適に用いられる、エチレン性不飽和結合基を有するウレタン化合物、およびイソシアヌレート化合物の具体例としては、イソシアネート結合を有する化合物と下記一般式（１）で表されるアルコール化合物との反応生成物が好ましく挙げられる。
【０２０６】
【化６６】
2008268751.tif 000067
【０２０７】
前記一般式（１）において、Ｒ１、Ｒ２は各々独立に水素原子、又はアルキル基を表すが、このアルキル基としては、炭素数１〜５のアルキル基が好ましい。Ｒ１、Ｒ２はさらに好ましくは、それぞれ水素原子又はメチル基である。
【０２０８】
Ｒ３は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリル基、アリール基、下記一般式（２）で表される官能基、又は、下記一般式（３）で表される官能基を示す。なかでも、水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、又は、一般式（３）で表される官能基であることが好ましく、さらに好ましくは、メチル基、又は、一般式（３）で表される官能基である。
【０２０９】
【化６７】
2008268751.tif 000068
【０２１０】
上記一般式（２）においてｎは１〜１０の整数を示し、好ましくは、１〜５である。また、一般式（２）及び一般式（３）においてＲ４は水素原子またはアルキル基を示し、アルキル基としては、炭素数１〜５のアルキル基が好ましい。一般式（３）において分子内に複数存在するＲ４は同じものでも互いに異なるものであってもよい。ここでさらに好ましいＲ４としては、水素原子またはメチル基が挙げられる。
【０２１１】
一般式（１）で表されるアルコール化合物としては、以下に例示する化合物（ＭＡ−１）〜（ＭＡ−１２）などが挙げられるが、これに制限されるものではない。
〔アルコール類：例示化合物（ＭＡ−１）〜（ＭＡ−１２）〕
【０２１２】
【化６８】
2008268751.tif 000069
【０２１３】
【化６９】
2008268751.tif 000070
【０２１４】
（ｆ）成分としては、前記例示化合物から選択されるアルコール類と、以下に示すイソシアネート系化合物（ＭＵ−１）〜（ＭＵ−２７）から選択される化合物との反応生成物が好ましい。
イソシアネート結合を有する化合物とアルコール化合物との反応は、例えば、以下の条件で行われる。
イソシアネート化合物とアルコール化合物との仕込量としては、イソシアネート化合物のイソシアネート基モル数とアルコール化合物のヒドロキシ基モル数が等しくなるように調整した。
反応触媒としては、特に制限はないが、好ましくはビスマストリス（２−エチルヘキサノエート）、ジブチル錫ジラウリレート、ジブチル錫アセテート、ジブチル錫ジクロライド、オクチル酸錫などの有機錫（メタ）アクリレート、オクチル酸亜鉛、ナフテン酸亜鉛などの有機亜鉛（メタ）アクリレート、トリエチレンジアミン、トリエチルアミンなどの第三アミン類、１、８− アザビシクロ[５，４，０]ウンデセン−７ などのアミジン骨格を有する（メタ）アクリレートが用いられ、チオールまたはイソシアネート１００重量部に対し、０.０００１〜１０重量部の範囲で加えることができる。
なお、本明細書においては、アクリレート、メタクリレートの双方或いはいずれかを表す場合「（メタ）アクリレート」と表記することがある。
【０２１５】
反応条件としては、通常−５０℃〜１００℃の温度範囲が適用される。−５０℃以上であると、反応の進行をより早くすることができ、１００℃以下であると、副生成物の増加をより抑制し収率をより高くすることができ、より効果的にゲル化を抑制できる。
必要に応じて溶剤により希釈して行う。用いられる溶剤はアルコール、カルボン酸、アミン類などイソシアネートと反応するものを除いて使用することができるが、反応速度、溶解性の点から、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ―ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ―ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）などの極性溶媒、クロロホルムなどの塩素系溶媒、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶媒が好ましく用いられる。また、残留水とイソシアネートとの反応を防止するため脱水溶剤が好適に用いられる。
反応終了後、この反応溶液を減圧下で濃縮した後、シリカゲルカラム（溶離液：酢酸エチル／ｎ−ヘキサン＝１／１）で精製した。クロマトグラフィー、再結晶化、再沈殿によっても精製することができる。
【０２１６】
本発明の好ましい（ｆ）成分であるエチレン性不飽和結合基を有するウレタン化合物、およびイソシアヌレート化合物を生成しうるイソシアネート類ＭＵの具体的化合物を以下に示す。
〔イソシアネート類：例示化合物（ＭＵ−１）〜（ＭＵ−２７）〕
【０２１７】
【化７０】
2008268751.tif 000071
【０２１８】
【化７１】
2008268751.tif 000072
【０２１９】
【化７２】
2008268751.tif 000073
【０２２０】
本発明において（ｆ）成分の他の好ましい例であるエチレン性不飽和結合基を有するウレア化合物としては、アミン化合物とウレタン結合を有する化合物の反応生成物が挙げられる。
イソシアネート結合を有する化合物とアミン化合物との反応は、例えば、以下の条件で行われる。
【０２２１】
（仕込み量）
イソシアネート化合物のイソシアネート基モル数とウレア化合物のウレア基モル数が等しくなるように調整した。触媒としては、特に制限はないが、好ましくはビスマストリス（２−エチルヘキサノエート）、ジブチル錫ジラウリレート、ジブチル錫アセテート、ジブチル錫ジクロライド、オクチル酸錫などの有機錫（メタ）アクリレート、オクチル酸亜鉛、ナフテン酸亜鉛などの有機亜鉛（メタ）アクリレート、トリエチレンジアミン、トリエチルアミンなどの第三アミン類、１、８−ジアザビシクロ[５，４，０]ウンデセン−７などのアミジン骨格を有する（メタ）アクリレートが用いられ、チオールまたはイソシアネート１００重量部に対し、０.０００１〜１０重量部の範囲で加える。
【０２２２】
（触媒、溶剤、反応温度）
通常−２０℃〜８０℃の温度範囲が適用される。好ましくは−１０℃〜５０℃の温度範囲であり、さらに好ましくは、−５℃〜３０℃である。用いられる溶剤はアルコール、カルボン酸、アミン類などイソシアネートと反応するものを除いて使用することができるが、反応速度、溶解性の点から、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ―メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）などの極性溶媒、クロロホルムなどの塩素系溶媒、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶媒が好ましく用いられる。また、残留水とイソシアネートとの反応を防止するため脱水溶剤が好適に用いられる。
反応終了後、この反応溶液を減圧下で濃縮した後、シリカゲルカラム（溶離液：酢酸エチル／ｎ−ヘキサン＝１／１）で精製した。クロマトグラフィー、再結晶化、再沈殿によっても精製することができる。
【０２２３】
このようなウレア化合物の原料となるアミン化合物、ウレタン結合を有する化合物の具体例としては、アミン化合物（Ａ−１）〜（Ａ−１５）とウレタン結合を部分構造として含む化合物（ＭＵ−２８）〜（ＭＵ−３０）が挙げられる。
【０２２４】
【化７３】
2008268751.tif 000074
【０２２５】
【化７４】
2008268751.tif 000075
【０２２６】
本発明において（ｆ）成分の別の好ましい例であるエチレン性不飽和結合基を有するアミド化合物の具体例としては、アミン化合物とハロゲン含有化合物との反応生成物が挙げられる。
反応方法は、アミノ基のモル数と酸ハロゲン基のモル数を等しく仕込み、触媒量から酸ハロゲン化物と等量までの塩基を添加した。塩基性物質の例としては、トリエチルアミンやピリジンなどがあげられる。溶媒は、ＴＨＦやアセトニトリル、ジメチルアセトアミド等が上げられる。反応温度は、−３０℃〜１００℃の範囲が好ましく、さらには−２０℃〜８０℃が好ましい。より好ましくは、−２０℃〜５０℃が好ましい。反応終了後、この反応溶液を減圧下で濃縮した後、シリカゲルカラム（溶離液：酢酸エチル／ｎ−ヘキサン＝１／１）で精製した。クロマトグラフィー、再結晶化、再沈殿によっても精製することができる。
このようなエチレン性不飽和結合基を有するアミド化合物の例としては、前記ウレア化合物の合成に用いたアミン化合物（Ａ−１）〜（Ａ−１５）と、ハロゲン含有化合物との反応生成物が好ましく挙げられる。この合成に用いられるハロゲン含有化合物〔例示化合物（Ｃ−１）〜（Ｃ−３）〕を以下に示す。
【０２２７】
【化７５】
2008268751.tif 000076
【０２２８】
（ｆ）成分は、本発明による効果をより効果的に得る観点から、本発明の着色硬化性組成物の全固形分中、０．３〜５．０質量％含有することが好ましく、さらに好ましくは、０．５〜２．０質量％の範囲である。
また、（ｆ）成分は、後述する（ｂ）重合性化合物１００質量部に対して、２質量部以上２５質量部未満含有されることが好ましく、さらに好ましくは５質量部以上、１０質量部未満である。
【０２２９】
＜（ｂ）重合性化合物＞
前記第１又は第２の形態における着色硬化性組成物は重合性化合物の少なくとも１種を含有する。
該重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも１個、好ましくは２個以上有する化合物から選ばれる。このような化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用いることができる。
これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつ。モノマー及びその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など）や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。
【０２３０】
また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能イソシアネート類或いはエポキシ類との付加反応物、及び単官能若しくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。
また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。
また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
【０２３１】
脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー、イソシアヌール酸ＥＯ変性トリアクリレート等がある。
【０２３２】
メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔ｐ−（メタクリルオキシエトキシ）フェニル〕ジメチルメタン等がある。
【０２３３】
イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、１，４−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。
【０２３４】
その他のエステルの例として、例えば、特公昭５１−４７３３４、特開昭５７−１９６２３１記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭５９−５２４０、特開昭５９−５２４１、特開平２−２２６１４９記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平１−１６５６１３記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。更に、前述のエステルモノマーは混合物としても使用することができる。
【０２３５】
また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭５４−２１７２６記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。
【０２３６】
また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭４８−４１７０８号公報中に記載されている１分子に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式（Ａ）で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた１分子中に２個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。
【０２３７】
ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ4）ＣＯＯＣＨ2ＣＨ（Ｒ5）ＯＨ  ・・・  （Ａ）
（ただし、一般式（Ａ）中、Ｒ4及びＲ5は、Ｈ又はＣＨ3を示す。）
【０２３８】
また、特開昭５１−３７１９３号、特公平２−３２２９３号、特公平２−１６７６５号に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭５８−４９８６０号、特公昭５６−１７６５４号、特公昭６２−３９４１７号、特公昭６２−３９４１８号記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。更に、特開昭６３−２７７６５３号、特開昭６３−２６０９０９号、特開平１−１０５２３８号に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによっては、非常に感光スピードに優れた光重合性組成物を得ることができる。
【０２３９】
その他の例としては、特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９０号、各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭４６−４３９４６号、特公平１−４０３３７号、特公平１−４０３３６号記載の特定の不飽和化合物や、特開平２−２５４９３号記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭６１−２２０４８号記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。更に日本接着協会誌ｖｏｌ．２０、Ｎｏ．７、３００〜３０８ページ（１９８４年）に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。
【０２４０】
これらの付加重合性化合物について、その構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、着色硬化性組成物の最終的な性能設計にあわせて任意に設定できる。例えば、次のような観点から選択される。
感度の点では１分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、２官能以上が好ましい。また、硬化膜の強度を高くするためには、３官能以上のものがよく、更に、異なる官能数・異なる重合性基（例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物）のものを併用することで、感度と強度の両方を調節する方法も有効である。
また、着色硬化性組成物に含有される他の成分（例えば、光重合開始剤、着色剤(顔料、染料）等、バインダーポリマー等）との相溶性、分散性に対しても、付加重合化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、２種以上の併用により相溶性を向上させうることがある。また、基板等との密着性を向上させる目的で特定の構造を選択することもあり得る。
【０２４１】
以上の観点より、ビスフェノールＡジアクリレート、ビスフェノールＡジアクリレートＥＯ変性体、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートＥＯ変性体、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートＥＯ変性体などが好ましいものとして挙げられ、また、市販品としては、ウレタンオリゴマーＵＡＳ−１０、ＵＡＢ−１４０（山陽国策パルプ社製）、ＤＰＨＡ−４０Ｈ（日本化薬社製）、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＡ−３０６Ｉ、ＡＨ−６００、Ｔ−６００、ＡＩ−６００（共栄社製）が好ましい。
【０２４２】
なかでも、ビスフェノールＡジアクリレートＥＯ変性体、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートＥＯ変性体、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートＥＯ変性体などが、市販品としては、ＤＰＨＡ−４０Ｈ（日本化薬社製）、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＡ−３０６Ｉ、ＡＨ−６００、Ｔ−６００、ＡＩ−６００（共栄社製）がより好ましい。
【０２４３】
（ｂ）重合性化合物の含有量は、本発明における着色硬化性組成物の固形分中に、５〜５０質量％であることが好ましく、７〜４０質量％であることがより好ましく、１０〜３５質量％であることが更に好ましい。
【０２４４】
＜（ｃ）光重合開始剤＞
前記第１又は第２の形態における着色硬化性組成物は、光重合開始剤を少なくとも１種含有する。
該光重合開始剤は、光により分解し、前述の重合性化合物の重合を開始、促進する化合物であり、波長３００〜５００ｎｍの領域に吸収を有するものであることが好ましい。また、光重合開始剤は、単独で、又は２種以上を併用して用いることができる。
【０２４５】
光重合開始剤としては、例えば、有機ハロゲン化化合物、オキシジアゾール化合物、カルボニル化合物、ケタール化合物、ベンゾイン化合物、アクリジン化合物、有機過酸化化合物、アゾ化合物、クマリン化合物、アジド化合物、メタロセン化合物、ビイミダゾール系化合物、有機ホウ酸塩化合物、ジスルホン化合物、オキシムエステル化合物、オニウム塩化合物、アシルホスフィン（オキシド）化合物が挙げられる。
【０２４６】
有機ハロゲン化化合物としては、具体的には、若林等、「Ｂｕｌｌ  Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ  Ｊａｐａｎ」４２、２９２４（１９６９）、米国特許第３，９０５，８１５号明細書、特公昭４６−４６０５号、特開昭４８−３６２８１号、特開昭５５−３２０７０号、特開昭６０−２３９７３６号、特開昭６１−１６９８３５号、特開昭６１−１６９８３７号、特開昭６２−５８２４１号、特開昭６２−２１２４０１号、特開昭６３−７０２４３号、特開昭６３−２９８３３９号、Ｍ．Ｐ．Ｈｕｔｔ“Ｊｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ”１（Ｎｏ３），（１９７０）」筆に記載の化合物が挙げられ、特に、トリハロメチル基が置換したオキサゾール化合物、ｓ−トリアジン化合物が挙げられる。
【０２４７】
ｓ−トリアジン化合物として、より好適には、すくなくとも一つのモノ、ジ、又はトリハロゲン置換メチル基がｓ−トリアジン環に結合したｓ−トリアジン誘導体、具体的には、例えば、２，４，６−トリス（モノクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（ジクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２―ｎ−プロピル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（α，α，β−トリクロロエチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３，４−エポキシフェニル）−４、６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−クロロフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔１−（ｐ−メトキシフェニル）−２，４−ブタジエニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−スチリル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ｉ−プロピルオキシスチリル）−４、６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−トリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−ナトキシナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−フェニルチオ−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ベンジルチオ−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（ジブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２−メトキシ−４，６−ビス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン等が挙げられる。
【０２４８】
オキシジアゾール化合物としては、２−トリクロロメチル−５−スチリル−１，３，４−オキソジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（シアノスチリル）−１，３，４−オキソジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（ナフト−１−イル）−１，３，４−オキソジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（４−スチリル）スチリル−１，３，４−オキソジアゾールなどが挙げられる。
【０２４９】
カルボニル化合物としては、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、２−メチルベンゾフェノン、３−メチルベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４−ブロモベンゾフェノン、２−カルボキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α−ヒドロキシ−２−メチルフェニルプロパノン、１−ヒドロキシ−１−メチルエチル−（ｐ−イソプロピルフェニル）ケトン、１−ヒドロキシ−１−（ｐ−ドデシルフェニル）ケトン、２−メチルー（４’−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノ−１−プロパノン、１，１，１−トリクロロメチル−（ｐ−ブチルフェニル）ケトン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−４−モルホリノブチロフェノン等のアセトフェノン誘導体、チオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン誘導体、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジエチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸エステル誘導体等を挙げることができる。
【０２５０】
ケタール化合物としては、ベンジルメチルケタール、ベンジル−β−メトキシエチルエチルアセタールなどを挙げることができる。
【０２５１】
ベンゾイン化合物としてはｍベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインメチルエーテル、メチルｏ−ベンゾイルベンゾエートなどを挙げることができる。
【０２５２】
アクリジン化合物としては、９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９−アクリジニル）ヘプタンなどを挙げることができる。
【０２５３】
有機過酸化化合物としては、例えば、トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、２，２−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）ブタン、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジハイドロパーオキサイド、１，１，３，３−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、２，５−オキサノイルパーオキサイド、過酸化こはく酸、過酸化ベンゾイル、２，４−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジメトキシイソプロピルパーオキシカーボネート、ジ（３−メチル−３−メトキシブチル）パーオキシジカーボネート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシオクタノエート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシラウレート、ターシルカーボネート、３，３’，４，４’−テトラ−（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ−（ｔ−ヘキシルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ−（ｐ−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、カルボニルジ（ｔ−ブチルパーオキシ二水素二フタレート）、カルボニルジ（ｔ−ヘキシルパーオキシ二水素二フタレート）等が挙げられる。
【０２５４】
アゾ化合物としては、例えば、特開平８−１０８６２１号公報に記載のアゾ化合物等を挙げることができる。
【０２５５】
クマリン化合物としては、例えば、３−メチル−５−アミノ−（（ｓ−トリアジン−２−イル）アミノ）−３−フェニルクマリン、３−クロロ−５−ジエチルアミノ−（（ｓ−トリアジン−２−イル）アミノ）−３−フェニルクマリン、３−ブチル−５−ジメチルアミノ−（（ｓ−トリアジン−２−イル）アミノ）−３−フェニルクマリン等を挙げることができる。
【０２５６】
アジド化合物としては、米国特許第２８４８３２８号明細書、米国特許第２８５２３７９号明細書ならびに米国特許第２９４０８５３号明細書に記載の有機アジド化合物、２，６−ビス（４−アジドベンジリデン）−４−エチルシクロヘキサノン（ＢＡＣ−Ｅ）等が挙げられる。
【０２５７】
メタロセン化合物としては、特開昭５９−１５２３９６号公報、特開昭６１−１５１１９７号公報、特開昭６３−４１４８４号公報、特開平２−２４９号公報、特開平２−４７０５号公報、特開平５−８３５８８号公報記載の種々のチタノセン化合物、例えば、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４−ジ−フルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４，６−トリフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４，６−トリフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イル、特開平１−３０４４５３号公報、特開平１−１５２１０９号公報記載の鉄−アレーン錯体等が挙げられる。
【０２５８】
ビイミダゾール系化合物としては、例えば、ヘキサアリールビイミダゾール化合物等が好ましい。
ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特公平６−２９２８５号公報、米国特許第３，４７９，１８５号、同第４，３１１，７８３号、同第４，６２２，２８６号等の各明細書に記載の種々の化合物、具体的には、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−ブロモフェニル））４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｍ−メトキシフェニル）ビイジダゾール、２，２’−ビス（ｏ，ｏ’−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−ニトロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−メチルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−トリフルオロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。
【０２５９】
有機ホウ酸塩化合物としては、例えば、特開昭６２−１４３０４４号、特開昭６２−１５０２４２号、特開平９−１８８６８５号、特開平９−１８８６８６号、特開平９−１８８７１０号、特開２０００−１３１８３７、特開２００２−１０７９１６、特許第２７６４７６９号、特願２０００−３１０８０８号、等の各公報、及び、Ｋｕｎｚ，Ｍａｒｔｉｎ“Ｒａｄ  Ｔｅｃｈ’９８．Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇ  Ａｐｒｉｌ  １９−２２，１９９８，Ｃｈｉｃａｇｏ”等に記載される有機ホウ酸塩、特開平６−１５７６２３号公報、特開平６−１７５５６４号公報、特開平６−１７５５６１号公報に記載の有機ホウ素スルホニウム錯体或いは有機ホウ素オキソスルホニウム錯体、特開平６−１７５５５４号公報、特開平６−１７５５５３号公報に記載の有機ホウ素ヨードニウム錯体、特開平９−１８８７１０号公報に記載の有機ホウ素ホスホニウム錯体、特開平６−３４８０１１号公報、特開平７−１２８７８５号公報、特開平７−１４０５８９号公報、特開平７−３０６５２７号公報、特開平７−２９２０１４号公報等の有機ホウ素遷移金属配位錯体等が具体例として挙げられる。
【０２６０】
ジスルホン化合物としては、特開昭６１−１６６５４４号公報、特願２００１−１３２３１８号明細書等記載される化合物等が挙げられる。
【０２６１】
オキシムエステル化合物としては、Ｊ．Ｃ．Ｓ．  Ｐｅｒｋｉｎ  ＩＩ  （１９７９  ）１６５３−１６６０）、Ｊ．Ｃ．Ｓ．  Ｐｅｒｋｉｎ  ＩＩ  （１９７９）１５６−１６２、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ  ａｎｄ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（１９９５）２０２−２３２、特開２０００−６６３８５号公報記載の化合物、特開２０００−８００６８号公報、特表２００４−５３４７９７号公報記載の化合物等が挙げられる。
【０２６２】
オニウム塩化合物としては、例えば、Ｓ．Ｉ．Ｓｃｈｌｅｓｉｎｇｅｒ，Ｐｈｏｔｏｇｒ．Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．，１８，３８７（１９７４）、Ｔ．Ｓ．Ｂａｌ  ｅｔ  ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ，２１，４２３（１９８０）に記載のジアゾニウム塩、米国特許第４，０６９，０５５号明細書、特開平４−３６５０４９号等に記載のアンモニウム塩、米国特許第４，０６９，０５５号、同４，０６９，０５６号の各明細書に記載のホスホニウム塩、欧州特許第１０４、１４３号、米国特許第３３９，０４９号、同第４１０，２０１号の各明細書、特開平２−１５０８４８号、特開平２−２９６５１４号の各公報に記載のヨードニウム塩などが挙げられる。
【０２６３】
本発明に好適に用いることのできるヨードニウム塩は、ジアリールヨードニウム塩であり、安定性の観点から、アルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基等の電子供与性基で２つ以上置換されていることが好ましい。また、その他の好ましいスルホニウム塩の形態として、トリアリールスルホニウム塩の１つの置換基がクマリン、アントアキノン構造を有し、３００ｎｍ以上に吸収を有するヨードニウム塩などが好ましい。
【０２６４】
本発明に好適に用いることのできるスルホニウム塩としては、欧州特許第３７０，６９３号、同３９０，２１４号、同２３３，５６７号、同２９７，４４３号、同２９７，４４２号、米国特許第４，９３３，３７７号、同１６１，８１１号、同４１０，２０１号、同３３９，０４９号、同４，７６０，０１３号、同４，７３４，４４４号、同２，８３３，８２７号、独国特許第２，９０４，６２６号、同３，６０４，５８０号、同３，６０４，５８１号の各明細書に記載のスルホニウム塩が挙げられ、安定性の感度点から好ましくは電子吸引性基で置換されていることが好ましい。電子吸引性基としては、ハメット値が０より大きいことが好ましい。好ましい電子吸引性基としては、ハロゲン原子、カルボン酸などが挙げられる。
また、その他の好ましいスルホニウム塩としては、トリアリールスルホニウム塩の１つの置換基がクマリン、アントアキノン構造を有し、３００ｎｍ以上に吸収を有するスルホニウム塩が挙げられる。別の好ましいスルホニウム塩としては、トリアリールスルホニウム塩が、アリロキシ基、アリールチオ基を置換基に有する３００ｎｍ以上に吸収を有するスルホニウム塩が挙げられる。
【０２６５】
また、オニウム塩化合物としては、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ  ｅｔ  ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１０（６），１３０７（１９７７）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ  ｅｔ  ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，１７，１０４７（１９７９）に記載のセレノニウム塩、Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎ  ｅｔ  ａｌ，Ｔｅｈ，Ｐｒｏｃ．Ｃｏｎｆ．Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ  ＡＳＩＡ，ｐ４７８  Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃｔ（１９８８）に記載のアルソニウム塩等のオニウム塩等が挙げられる。
【０２６６】
アシルホスフィン（オキシド）化合物としては、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製のイルガキュア８１９、ダロキュア４２６５、ダロキュアＴＰＯなどが挙げられる。
【０２６７】
本発明に用いられる光重合開始剤としては、高感度化の観点から、トリハロメチルトリアジン系化合物、ビイミダゾール系化合物、オキシム系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物が最も好ましく、ビイミダゾール系化合物が最も好ましい。
【０２６８】
本発明の着色硬化性組成物に含有される光重合開始剤の含有量は、本発明による効果をより効果的に得る観点より、着色硬化性組成物の全固形分に対し０．１〜５０質量％であることが好ましく、より好ましくは０．１〜３０質量％、特に好ましくは０．３〜２０質量％である。この範囲で、良好な感度とパターン形成性が得られる。
【０２６９】
また、本発明においては、開始剤の分解効率の観点から、（ｃ）重合開始剤と、前記増感剤（前記特定増感剤と前記他の増感剤との総量）との質量比〔（重合開始剤の質量）／（増感剤の質量）〕が、０．１以上１０以下であることが好ましく、０．３以上５以下であることがより好ましく、０．５以上３以下であることが更に好ましい。
【０２７０】
＜（ｄ）着色剤＞
前記第１又は第２の形態における着色硬化性組成物は、着色剤を少なくとも１種含有する。
着色剤としては特に制限はなく、従来公知の種々の染料や顔料を１種又は２種以上混合して用いることができる。該着色剤としては、耐光性の観点から、顔料であることが好ましい。
【０２７１】
前記顔料としては、従来公知の種々の無機顔料または有機顔料を用いることができる。また、無機顔料であれ有機顔料であれ、高透過率であることが好ましいことを考慮すると、なるべく細かいものの使用が好ましく、ハンドリング性をも考慮すると、上記顔料の平均粒子径は、０．０１μｍ〜０．１μｍが好ましく、０．０１μｍ〜０．０５μｍがより好ましい。また、上記無機顔料としては、金属酸化物、金属錯塩等で示される金属化合物を挙げることができ、具体的には、鉄、コバルト、アルミニウム、カドミウム、鉛、銅、チタン、マグネシウム、クロム、亜鉛、アンチモン等の金属酸化物、および前記金属の複合酸化物を挙げることができる。
【０２７２】
有機顔料としては、例えば、
Ｃ．Ｉ．ピグメント  イエロー  １１，  ２４，  ３１，  ５３，  ８３，  ９３，  ９９，  １０８，  １０９，  １１０，  １３８，  １３９，  １４７，  １５０，  １５１，  １５４，  １５５，  １６７，  １８０，  １８５，  １９９，  ；
Ｃ．Ｉ．ピグメント  オレンジ３６，  ３８，  ４３，  ７１；
Ｃ．Ｉ．ピグメント  レッド８１，  １０５，  １２２，  １４９，  １５０，  １５５，  １７１，  １７５，  １７６，  １７７，  ２０９，  ２２０，  ２２４，  ２４２，  ２５４，  ２５５，  ２６４，  ２７０；
Ｃ．Ｉ．ピグメント  バイオレット  １９，  ２３，  ３２，  ３９；
Ｃ．Ｉ．ピグメント  ブルー  １，  ２，  １５，  １５：１，  １５：３，  １５：６，  １６，  ２２，  ６０，  ６６；
Ｃ．Ｉ．ピグメント  グリーン  ７，  ３６，  ３７；
Ｃ．Ｉ．ピグメント  ブラウン  ２５，  ２８；
Ｃ．Ｉ．ピグメント  ブラック  １，  ７；
カーボンブラック等を挙げることができる。
【０２７３】
本発明では、特に顔料の構造式中に塩基性のＮ原子をもつものを好ましく用いることができる。これら塩基性のＮ原子をもつ顔料は本発明の組成物中で良好な分散性を示す。その原因については十分解明されていないが、感光性重合成分と顔料との親和性の良さが影響しているものと推定される。
【０２７４】
本発明において好ましく用いることができる顔料として、以下のものを挙げることができる。但し本発明は、これらに限定されるものではない。
【０２７５】
Ｃ．Ｉ．ピグメント  イエロー  １１，  ２４，  １０８，  １０９，  １１０，  １３８，  １３９，  １５０，  １５１，  １５４，  １６７，  １８０，  １８５，
Ｃ．Ｉ．ピグメント  オレンジ３６，  ７１，
Ｃ．Ｉ．ピグメント  レッド  １２２，  １５０，  １７１，  １７５，  １７７，  ２０９，  ２２４，  ２４２，  ２５４，  ２５５，  ２６４，
Ｃ．Ｉ．ピグメント  バイオレット  １９，  ２３，  ３２，
Ｃ．Ｉ．ピグメント  ブルー  １５：１，  １５：３，  １５：６，  １６，  ２２，  ６０，  ６６，
Ｃ．Ｉ．ピグメント  ブラック  １
【０２７６】
これら有機顔料は、単独もしくは色純度を上げるため種々組合せて用いることができる。上記組合せの具体例を以下に示す。例えば、赤色パターン用の顔料としては、アントラキノン系顔料、ペリレン系顔料、ジケトピロロピロール系顔料単独またはそれらの少なくとも１種と、ジスアゾ系黄色顔料、イソインドリン系黄色顔料、キノフタロン系黄色顔料またはペリレン系赤色顔料と、の混合物などを用いることができる。例えば、アントラキノン系顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７が挙げられ、ペリレン系顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１５５、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２４が挙げられ、ジケトピロロピロール系顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４が挙げられ、色再現性の点でＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９との混合が好ましい。また、赤色パターン用の顔料における赤色顔料と黄色顔料との質量比は、１００：５〜１００：５０が好ましい。１００：４以下では４００ｎｍから５００ｎｍの光透過率を抑えることが困難で色純度を上げることが出来ない場合がある。また１００：５１以上では主波長が短波長よりになり、ＮＴＳＣ目標色相からのずれが大きくなる場合がある。特に、上記質量比としては、１００：１０〜１００：３０の範囲が最適である。尚、赤色顔料同士の組み合わせの場合は、色度に併せて調整することができる。
【０２７７】
緑色パターン用の顔料としては、ハロゲン化フタロシアニン系顔料を単独で、または、これとジスアゾ系黄色顔料、キノフタロン系黄色顔料、アゾメチン系黄色顔料若しくはイソインドリン系黄色顔料との混合物を用いることができる。例えば、このような例としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７、３６、３７とＣ．Ｉ．ピグメントイエロー８３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１８０またはＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１８５との混合が好ましい。緑色パターン用の顔料における緑顔料と黄色顔料との質量比は、１００：５〜１００：１５０が好ましい。上記質量比が１００：５未満では４００ｎｍ〜４５０ｎｍの光透過率を抑えることが困難となり色純度を上げることが出来ない場合がある。また１００：１５０を越えると主波長が長波長よりになりＮＴＳＣ目標色相からのずれが大きくなる場合がある。上記質量比としては１００：３０〜１００：１２０の範囲が特に好ましい。
【０２７８】
青色パターン用の顔料としては、フタロシアニン系顔料を単独で、若しくはこれとジオキサジン系紫色顔料との混合物を用いることができる。例えばＣ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６とＣ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３との混合物が好ましい。青色パターン用の顔料における青色顔料と紫色顔料との質量比は、１００：０〜１００：３０が好ましく、より好ましくは１００：１０以下である。
【０２７９】
本発明において、着色剤が染料である場合には、組成物中に均一に溶解して着色硬化性組成物を得ることができる。
本発明の着色硬化性組成物に含有される着色剤として使用できる染料は、特に制限はなく、従来カラーフィルタ用として公知の染料が使用できる。例えば、特開昭６４−９０４０３号公報、特開昭６４−９１１０２号公報、特開平１−９４３０１号公報、特開平６−１１６１４号公報、特登２５９２２０７号、米国特許第４，８０８，５０１号明細書、米国特許第５，６６７，９２０号明細書、米国特許第５，０５９，５００号明細書、特開平５−３３３２０７号公報、特開平６−３５１８３号公報、特開平６−５１１１５号公報、特開平６−１９４８２８号公報、特開平８−２１１５９９号公報、特開平４−２４９５４９号公報、特開平１０−１２３３１６号公報、特開平１１−３０２２８３号公報、特開平７−２８６１０７号公報、特開２００１−４８２３号公報、特開平８−１５５２２号公報、特開平８−２９７７１号公報、特開平８−１４６２１５号公報、特開平１１−３４３４３７号公報、特開平８−６２４１６号公報、特開２００２−１４２２０号公報、特開２００２−１４２２１号公報、特開２００２−１４２２２号公報、特開２００２−１４２２３号公報、特開平８−３０２２２４号公報、特開平８−７３７５８号公報、特開平８−１７９１２０号公報、特開平８−１５１５３１号公報等に開示されている色素が使用できる。
【０２８０】
化学構造としては、ピラゾールアゾ系、アニリノアゾ系、トリフェニルメタン系、アントラキノン系、アンスラピリドン系、ベンジリデン系、オキソノール系、ピラゾロトリアゾールアゾ系、ピリドンアゾ系、シアニン系、フェノチアジン系、ピロロピラゾールアゾメチン系、キサテン系、フタロシアニン系、ペンゾピラン系、インジゴ系等の染料が使用できる。
【０２８１】
また、水またはアルカリ現像を行うレジスト系の場合、現像により光未照射部のバインダーおよび／または染料を完全に除去するという観点では、酸性染料および／またはその誘導体が好適に使用できる場合がある。
その他、直接染料、塩基性染料、媒染染料、酸性媒染染料、アゾイック染料、分散染料、油溶染料、食品染料、および／または、これらの誘導体等も有用に使用することができる。
【０２８２】
酸性染料は、スルホン酸やカルボン酸等の酸性基を有するものであれば特に限定されないが、有機溶剤や現像液に対する溶解性、塩基性化合物との塩形成性、吸光度、組成物中の他の成分との相互作用、耐光性、耐熱性等の必要とされる性能の全てを考慮して選択される。
以下に酸性染料の具体例を挙げるが、これらに限定されるものではない。例えば、
ａｃｉｄ  ａｌｉｚａｒｉｎ  ｖｉｏｌｅｔ  Ｎ；ａｃｉｄ  ｂｌａｃｋ  １，２，２４，４８；ａｃｉｄ  ｂｌｕｅ  １，７，９，１５，１８，２３，２５，２７，２９，４０，４５，６２，７０，７４，８０，８３，８６，８７，９０，９２，１０３，１１２，１１３，１２０，１２９，１３８，１４７，１５８，１７１，１８２，１９２，２４３，３２４：１；ａｃｉｄ  ｃｈｒｏｍｅ  ｖｉｏｌｅｔ  Ｋ；ａｃｉｄ  Ｆｕｃｈｓｉｎ；ａｃｉｄ  ｇｒｅｅｎ  １，３，５，９，１６，２５，２７，５０；ａｃｉｄ  ｏｒａｎｇｅ  ６，７，８，１０，１２，５０，５１，５２，５６，６３，７４，９５；ａｃｉｄ  ｒｅｄ  １，４，８，１４，１７，１８，２６，２７，２９，３１，３４，３５，３７，４２，４４，５０，５１，５２，５７，６６，７３，８０，８７，８８，９１，９２，９４，９７，１０３，１１１，１１４，１２９，１３３，１３４，１３８，１４３，１４５，１５０，１５１，１５８，１７６，１８３，１９８，２１１，２１５，２１６，２１７，２４９，２５２，２５７，２６０，２６６，２７４；ａｃｉｄ  ｖｉｏｌｅｔ  ６Ｂ，７，９，１７，１９；ａｃｉｄ  ｙｅｌｌｏｗ  １，３，７，９，１１，１７，２３，２５，２９，３４，３６，４２，５４，７２，７３，７６，７９，９８，９９，１１１，１１２，１１４，１１６，１８４，２４３；Ｆｏｏｄ  Ｙｅｌｌｏｗ  ３；およびこれらの染料の誘導体が挙げられる。
【０２８３】
この中でも酸性染料としては、ａｃｉｄ  ｂｌａｃｋ  ２４；ａｃｉｄ  ｂｌｕｅ  ２３，２５，２９，６２，８０，８６，８７，９２，１３８，１５８，１８２，２４３，３２４：１；ａｃｉｄ  ｏｒａｎｇｅ  ８，５１，５６，６３，７４；ａｃｉｄ  ｒｅｄ  １，４，８，３４，３７，４２，５２，５７，８０，９７，１１４，１４３，１４５，１５１，１８３，２１７；ａｃｉｄ  ｖｉｏｌｅｔ  ７；ａｃｉｄ  ｙｅｌｌｏｗ  １７，２５，２９，３４，４２，７２，７６，９９，１１１，１１２，１１４，１１６，１８４，２４３；ａｃｉｄｇｒｅｅｎ  ２５等の染料およびこれらの染料の誘導体が好ましい。
また、上記以外の、アゾ系、キサンテン系、フタロシアニン系の酸性染料も好ましく、Ｃ．Ｉ．Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｂｌｕｅ  ４４、３８；Ｃ．Ｉ．Ｓｏｌｖｅｎｔ  ｏｒａｎｇｅ  ４５；Ｒｈｏｄａｍｉｎｅ  Ｂ、Ｒｈｏｄａｍｉｎｅ  １１０等の酸性染料およびこれらの染料の誘導体も好ましく用いられる。
【０２８４】
なかでも、（ｄ）着色剤としては、トリアリルメタン系、アントラキノン系、アゾメチン系、ベンジリデン系、オキソノール系、シアニン系、フェノチアジン系、ピロロピラゾールアゾメチン系、キサンテン系、フタロシアニン系、ベンゾピラン系、インジゴ系、ピラゾールアゾ系、アニリノアゾ系、ピラゾロトリアゾールアゾ系、ピリドンアゾ系、アンスラピリドン系から選ばれる着色剤であることが好ましい。
【０２８５】
本発明において使用しうる着色剤は、染料、若しくは、平均粒径ｒ（単位ｎｍ）は、２０≦ｒ≦３００、好ましくは１２５≦ｒ≦２５０、特に好ましくは３０≦ｒ≦２００を満たす顔料が望ましい。このような平均粒径ｒの顔料を用いることにより、高コントラスト比であり、かつ高光透過率の赤色および緑色の画素を得ることができる。ここでいう「平均粒径」とは、顔料の一次粒子（単微結晶）が集合した二次粒子についての平均粒径を意味する。
また、本発明において使用しうる顔料の二次粒子の粒径分布（以下、単に「粒径分布」という。）は、（平均粒径±１００）ｎｍに入る二次粒子が全体の７０質量％以上、好ましくは８０質量％以上であることが望ましい。
【０２８６】
前記した平均粒径および粒径分布を有する顔料は、市販の顔料を、場合により使用される他の顔料（平均粒径は通常、３００ｎｍを越える。）と共に、好ましくは分散剤および溶媒と混合した顔料混合液として、例えばビーズミル、ロールミル等の粉砕機を用いて、粉砕しつつ混合・分散することにより調製することができる。このようにして得られる顔料は、通常、顔料分散液の形態をとる。
【０２８７】
前記第１又は第２の形態における着色硬化性組成物に含有される（ｄ）着色剤の含有量としては、着色硬化性組成物の全固形分中、２５〜９５質量％であることが好ましく、３０〜９０質量％がより好ましく、４０〜８０質量％が更に好ましい。
着色剤の含有量が前記範囲内であれば、カラーフィルタを作製した際により適切な色度を得ることができる。また、着色剤の含有量が前記範囲内であれば、光硬化が充分に進まず膜としての強度が低下する現象や、アルカリ現像の際の現像ラチチュードが狭くなる現象を、より効果的に防止できる。
【０２８８】
＜分散剤＞
前記第１又は第２の形態における着色硬化性組成物が（ｄ）着色剤として顔料を含有する場合、該顔料の分散性を向上させる観点から、分散剤を添加することが好ましい。
【０２８９】
本発明に用いうる分散剤（顔料分散剤）としては、高分子分散剤〔例えば、ポリアミドアミンとその塩、ポリカルボン酸とその塩、高分子量不飽和酸エステル、変性ポリウレタン、変性ポリエステル、変性ポリ（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル系共重合体、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物〕、および、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、アルカノールアミン、顔料誘導体等を挙げることができる。
高分子分散剤は、その構造からさらに直鎖状高分子、末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子に分類することができる。
【０２９０】
高分子分散剤は顔料の表面に吸着し、再凝集を防止する様に作用する。そのため、顔料表面へのアンカー部位を有する末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子が好ましい構造として挙げることができる。一方で、顔料誘導体は顔料表面を改質することで、高分子分散剤の吸着を促進させる効果を有する。
【０２９１】
本発明に用いうる顔料分散剤の具体例としては、ＢＹＫ  Ｃｈｅｍｉｅ社製「Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１０１（ポリアミドアミン燐酸塩）、１０７（カルボン酸エステル）、１１０（酸基を含む共重合物）、１３０（ポリアミド）、１６１、１６２、１６３、１６４、１６５、１６６、１７０（高分子共重合物）」、「ＢＹＫ−Ｐ１０４、Ｐ１０５（高分子量不飽和ポリカルボン酸）、ＥＦＫＡ社製「ＥＦＫＡ４０４７、４０５０、４０１０、４１６５（ポリウレタン系）、ＥＦＫＡ４３３０、４３４０（ブロック共重合体）、４４００、４４０２（変性ポリアクリレート）、５０１０（ポリエステルアミド）、５７６５（高分子量ポリカルボン酸塩）、６２２０（脂肪酸ポリエステル）、６７４５（フタロシアニン誘導体）、６７５０（アゾ顔料誘導体）」、味の素ファンテクノ社製「アジスパーＰＢ８２１、ＰＢ８２２」、共栄社化学社製「フローレンＴＧ−７１０（ウレタンオリゴマー）」、「ポリフローＮｏ．５０Ｅ、Ｎｏ．３００（アクリル系共重合体）」、楠本化成社製「ディスパロンＫＳ−８６０、８７３ＳＮ、８７４、＃２１５０（脂肪族多価カルボン酸）、＃７００４（ポリエーテルエステル）、ＤＡ−７０３−５０、ＤＡ−７０５、ＤＡ−７２５」、花王社製「デモールＲＮ、Ｎ（ナフタレンスルホン酸ホルマリン重縮合物）、ＭＳ、Ｃ、ＳＮ−Ｂ（芳香族スルホン酸ホルマリン重縮合物）」、「ホモゲノールＬ−１８（高分子ポリカルボン酸）」、「エマルゲン９２０、９３０、９３５、９８５（ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル）」、「アセタミン８６（ステアリルアミンアセテート）」、ルーブリゾール社製「ソルスパース５０００（フタロシアニン誘導体）、２２０００（アゾ顔料誘導体）、１３２４０（ポリエステルアミン）、３０００、１７０００、２７０００（末端部に機能部を有する高分子）、２４０００、２８０００、３２０００、３８５００（グラフト型高分子）」、日光ケミカル者製「ニッコールＴ１０６（ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート）、ＭＹＳ−ＩＥＸ（ポリオキシエチレンモノステアレート）」等が挙げられる。
【０２９２】
これらの分散剤は、単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。本発明においては、特に、顔料誘導体と高分子分散剤とを組み合わせて使用することが好ましい。
【０２９３】
本発明における分散剤の含有量としては、顔料に対して、１〜８０質量％であることが好ましく、５〜７０質量％がより好ましく、１０〜６０質量％が更に好ましい。
具体的には、高分子分散剤を用いる場合であれば、その使用量としては、顔料に対して、５〜１００質量％の範囲が好ましく、１０〜８０質量％の範囲がより好ましい。また、顔料誘導体を使用する場合であれば、その使用量としては、顔料に対し１〜３０質量％の範囲にあることが好ましく、３〜２０質量％の範囲にあることがより好ましく、５〜１５質量％の範囲にあることが特に好ましい。
【０２９４】
本発明において、着色剤としての顔料と分散剤とを用いる場合、硬化感度、色濃度の観点から、着色剤及び分散剤の含有量の総和が、着色硬化性組成物を構成する全固形分に対して３０質量％以上９０質量％以下であることが好ましく、４０質量％以上８５質量％以下であることがより好ましく、５０質量％以上８０質量％以下であることがさらに好ましい。
【０２９５】
＜アルカリ可溶性樹脂＞
前記第１または第２の形態における着色硬化性組成物は、皮膜特性向上などの目的で、バインダーポリマーとしてアルカリ可溶性樹脂を少なくとも１種含有してもよい。
アルカリ可溶性樹脂としては線状有機ポリマーを用いることが好ましい。このような「線状有機ポリマー」としては、公知のものを任意に使用できる。好ましくは水現像あるいは弱アルカリ水現像を可能とするために、水あるいは弱アルカリ水に可溶性又は膨潤性である線状有機ポリマーが選択される。線状有機ポリマーは、皮膜形成剤としてだけでなく、水、弱アルカリ水あるいは有機溶剤現像剤としての用途に応じて選択使用される。例えば、水可溶性有機ポリマーを用いると水現像が可能になる。このような線状有機ポリマーとしては、側鎖にカルボン酸基を有するラジカル重合体、例えば特開昭５９−４４６１５号、特公昭５４−３４３２７号、特公昭５８−１２５７７号、特公昭５４−２５９５７号、特開昭５４−９２７２３号、特開昭５９−５３８３６号、特開昭５９−７１０４８号に記載されているもの、すなわち、カルボキシル基を有するモノマーを単独あるいは共重合させた樹脂、酸無水物を有するモノマーを単独あるいは共重合させ酸無水物ユニットを加水分解もしくはハーフエステル化もしくはハーフアミド化させた樹脂、エポキシ樹脂を不飽和モノカルボン酸および酸無水物で変性させたエポキシアクリレート等が挙げられる。カルボキシル基を有するモノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、４−カルボキシルスチレン等があげられ、酸無水物を有するモノマーとしては、無水マレイン酸等が挙げられる。
また同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘導体がある。この他に水酸基を有する重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用である。
【０２９６】
アルカリ可溶性樹脂を共重合体として用いる場合、共重合させる化合物として、先にあげたモノマー以外の他のモノマーを用いることもできる。他のモノマーの例としては、下記（１）〜（１２）の化合物が挙げられる。
【０２９７】
（１）２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、3−ヒドロキシプロピルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、3−ヒドロキシプロピルメタクリレート、４−ヒドロキシブチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エステル類。
（２）アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸2-エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−２−クロロエチル、グリシジルアクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート、ビニルアクリレート、２−フェニルビニルアクリレート、１−プロペニルアクリレート、アリルアクリレート、２−アリロキシエチルアクリレート、プロパルギルアクリレート等のアルキルアクリレート。
【０２９８】
（３）メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−２−クロロエチル、グリシジルメタクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート、ビニルメタクリレート、２−フェニルビニルメタクリレート、１−プロペニルメタクリレート、アリルメタクリレート、２−アリロキシエチルメタクリレート、プロパルギルメタクリレート等のアルキルメタクリレート。
（４）アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−ヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルアクリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド、ビニルアクリルアミド、ビニルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアリルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアリルメタクリルアミド、アリルアクリルアミド、アリルメタクリルアミド等のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド。
【０２９９】
（５）エチルビニルエーテル、２−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル類。
（６）ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類。
（７）スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン、ｐ−アセトキシスチレン等のスチレン類。
（８）メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類。
（９）エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。
【０３００】
（１０）Ｎ−ビニルピロリドン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等。
（１１）マレイミド、Ｎ−アクリロイルアクリルアミド、Ｎ−アセチルメタクリルアミド、Ｎ−プロピオニルメタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−クロロベンゾイル）メタクリルアミド等の不飽和イミド。
（１２）α位にヘテロ原子が結合したメタクリル酸系モノマー。例えば、特願２００１−１１５５９５号明細書、特願２００１−１１５５９８号明細書等に記載されている化合物を挙げる事ができる。
【０３０１】
これらの中で、側鎖にアリル基やビニルエステル基とカルボキシル基を有する（メタ）アクリル樹脂及び特開２０００−１８７３２２号公報、特開２００２−６２６９８号公報に記載されている側鎖に二重結合を有するアルカリ可溶性樹脂や、特開２００１−２４２６１２号公報に記載されている側鎖にアミド基を有するアルカリ可溶性樹脂が膜強度、感度、現像性のバランスに優れており、好適である。
【０３０２】
また、特公平７−１２００４号、特公平７−１２００４１号、特公平７−１２００４２号、特公平８−１２４２４号、特開昭６３−２８７９４４号、特開昭６３−２８７９４７号、特開平１−２７１７４１号、特願平１０−１１６２３２号等に記載される酸基を含有するウレタン系バインダーポリマーや、特開２００２−１０７９１８に記載される酸基と二重結合を側鎖に有するウレタン系バインダーポリマーは、非常に、強度に優れるので、耐刷性・低露光適性の点で有利である。
また、欧州特許９９３９６６、欧州特許１２０４０００、特開２００１−３１８４６３等に記載の酸基を有するアセタール変性ポリビニルアルコール系バインダーポリマーは、膜強度、現像性のバランスに優れており、好適である。
さらにこの他に水溶性線状有機ポリマーとして、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド等が有用である。また硬化皮膜の強度を上げるためにアルコール可溶性ナイロンや２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパンとエピクロロヒドリンのポリエーテル等も有用である。
【０３０３】
前記アルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量としては、好ましくは５、０００以上であり、さらに好ましくは１万〜３０万の範囲であり、数平均分子量については好ましくは１、０００以上であり、さらに好ましくは２、０００〜２５万の範囲である。多分散度（重量平均分子量／数平均分子量）は１以上が好ましく、さらに好ましくは１．１〜１０の範囲である。
これらのポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等いずれでもよい。
アルカリ可溶性樹脂の添加量としては、本発明の着色硬化性組成物の全固形分中、５〜２０質量％の範囲であることが好ましく、５〜１２質量％がより好ましい。
【０３０４】
＜重合禁止剤＞
本発明においては、着色硬化性組成物の製造中あるいは保存中において重合可能なエチレン性不飽和二重結合を有する化合物の不要な熱重合を阻止するために少量の熱重合防止剤を添加することが望ましい。
本発明に用いうる熱重合防止剤としては、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４'−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２'−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられる。
【０３０５】
熱重合防止剤の添加量は、全組成物の質量に対して約０．０１質量％〜約５質量％が好ましい。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で感光層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約０．５質量％〜約１０質量％が好ましい。
【０３０６】
＜密着向上剤＞
本発明においては、基材である硬質表面（基板）との密着性を向上させるために、密着向上剤を添加するのが好ましい。密着向上剤としては、シラン系カップリング剤、チタンカップリング剤等が挙げられる。
【０３０７】
シラン系カップリング剤としては、例えば、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルジメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、γ−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン・塩酸塩、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、アミノシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、γ−アニリノプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、オクタデシルジメチル［３−（トリメトキシシリル）プロピル］アンモニウムクロライド、γ−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン、２−（３,４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、ビスアリルトリメトキシシラン、テトラエトキシシラン、ビス（トリメトキシシリル）ヘキサン、フェニルトリメトキシシラン、Ｎ−（３−アクリロキシ-２−ヒドロキシプロピル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（３−メタクリロキシ-２−ヒドロキシプロピル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、（メタクリロキシメチル）メチルジエトキシシラン、（アクリロキシメチル）メチルジメトキシシラン、等が挙げられる。
中でもγ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、が好ましく、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランが最も好ましい。
【０３０８】
密着向上剤の添加量は、着色硬化性組成物の全固形分中０．５〜３０質％が好ましく、０．７〜２０質％がより好ましい。
【０３０９】
＜その他の添加剤＞
さらに、本発明においては、硬化皮膜の物性を改良するために無機充填剤や、可塑剤、感光層表面のインク着肉性を向上させうる感脂化剤等の公知の添加剤を加えてもよい。
可塑剤としては例えばジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、トリエチレングリコールジカプリレート、ジメチルグリコールフタレート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルアジペート、ジブチルセバケート、トリアセチルグリセリン等があり、結合剤を使用した場合、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物と結合剤との合計質量に対し１０質量％以下添加することができる。
【０３１０】
＜希釈剤＞
本発明の着色硬化性組成物は、カラーフィルタの製造に際し支持体上に塗布する際には、種々の有機溶剤に溶かして使用に供されてもよい。
ここで使用する有機溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、３−メトキシプロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピルアセテート、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチルなどがある。
これらの溶媒は、単独あるいは混合して使用することができる。有機溶剤中の固形分の濃度は、２〜６０質量％であることが好ましい。
【０３１１】
≪表示装置≫
本発明の表示装置は、上述の本発明のカラーフィルタ、または、上述の本発明のカラーフィルタの製造方法により作製されたカラーフィルタを備えて構成される。
このように構成することで、（例えば、製造工程中等において）着色パターンの剥がれを抑制でき、異物や光漏れによる表示欠陥の発生を抑制できる。
【０３１２】
前記表示装置としては、液晶表示装置、プラズマディスプレイ表示装置、ＥＬ表示装置、ＣＲＴ表示装置等が挙げられる。表示装置の定義や各表示装置の説明は例えば「電子ディスプレイデバイス（佐々木  昭夫著、（株）工業調査会  １９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹  順章著、産業図書（株）平成元年発行）」などに記載されている。これらの中でも、液晶表示装置が好ましい。
【０３１３】
前記液晶表示装置は、さらに、ＴＦＴ基板等の対向基板、偏光板、位相差フィルム、バックライト、スペーサ、視野角補償フィルム、反射防止フィルム、光拡散フィルム、防眩フィルムなど、様々な部材から一般的に構成することができる。
これらの部材については、例えば「'９４液晶ディスプレイ周辺材料・ケミカルズの市場」（島  健太郎、（株）シーエムシー、１９９４年発行）、「２００３液晶関連市場の現状と将来展望（下巻）」（表良吉、（株）富士キメラ総研、２００３等発行）に記載されている。
【０３１４】
また、液晶表示装置については、例えば、「次世代液晶ディスプレイ技術」（内田龍男編集、工業調査会、１９９４年発行）に記載されている。本発明の表示装置には、特に制限はなく、例えば前記「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。これらの中でも、特にカラーＴＦＴ方式の液晶表示装置に対して有効である。
【０３１５】
また、カラーＴＦＴ方式の液晶表示装置については、例えば「カラーＴＦＴ液晶ディスプレイ」（共立出版（株）、１９９６年発行）に記載されている。さらに、本発明は、ＩＰＳなどの横電界駆動方式、ＭＶＡなどの画素分割方式などの視野角が拡大された液晶表示装置にも適用できる。これらの方式については、例えば「ＥＬ、ＰＤＰ、ＬＣＤディスプレイ−技術と市場の最新動向−」（東レ・リサーチセンター調査研究部門、ｐ．４３、２００１年発行）に記載されている。
【０３１６】
本発明の液晶表示装置の表示方式としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選定することができる。例えば、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ  Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＭＶＡ（Ｍｕｌｔｉ−ｄｏｍａｉｎ  Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＧＨ（Ｇｕｅｓｔ  Ｈｏｓｔ）、ＦＬＣ（強誘電性液晶）、ＡＦＬＣ（反強誘電性液晶）、ＰＤＬＣ（高分子分散型液晶）などの表示方式に適用可能である。
【実施例】
【０３１７】
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【０３１８】
〔実施例１〕
≪カラーフィルタの作製≫
＜樹脂ブラックマトリクスの形成＞
３００ｍｍ×４００ｍｍ×０．７ｍｍサイズの無アルカリガラス基板（日本電気硝子製ＯＡ−１０）を、ＵＶ洗浄装置で洗浄後、洗浄剤を用いてブラシ洗浄し、更に超純水で超音波洗浄した。この基板を１２０℃３分熱処理して表面状態を安定化させた。そして、この基板を冷却し２３℃に温調した後、温調後の基板上に、先端にスリット状開口部を有する塗布ヘッドを備えたガラス基板用コーター（平田機工（株）製）にて、濃色樹脂組成物（新日鉄化学製Ｖ−２５９ＶＫ）を、スリット塗布して塗布層を形成した。スリット塗布の条件は以下に示したとおりである。
引き続き真空乾燥装置（東京応化工業（株）製）で３０秒間、溶媒の一部を乾燥して前記塗布層の流動性をなくした後、１２０℃で３分間プリベークして濃色樹脂層Ｋ１を得た。
【０３１９】
〜スリット塗布の条件〜
・スリット幅：１００μｍ
・塗布速度：２５０ｍｍ／ｓｅｃ
・基板と塗布ヘッド先端との距離（クリアランス）：２００μｍ
・塗布温度：２３℃
【０３２０】
超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング（株）製）を用いて、濃色樹脂層Ｋ１が形成された基板とマスク（ブラックマトリクス用パターンを有する石英露光マスク）とを垂直に立てた状態で、マスク面と濃色樹脂層Ｋ１との間の距離を２００μｍに設定し、露光量３００ｍＪ／ｃｍ２でパターン露光した。
【０３２１】
次に、純水をシャワーノズルにて噴霧して、濃色樹脂層Ｋ１の表面を均一に湿らせた後、ＫＯＨ系現像液（ＫＯＨ、ノニオン界面活性剤含有、商品名：ＣＤＫ−１、富士フィルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）を１００倍に希釈した液にて２３℃で８０秒間、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像し、パターニング画像を得た。引き続き、基板上のパターニング画像形成面に、超純水を超高圧洗浄ノズルにて９．８ＭＰａの圧力で噴射して残渣除去を行ない、さらに超純水をシャワーノズルで両面から吹き付けて、付着している現像液や濃色樹脂層Ｋ１の溶解物を除去し、エアーナイフにて液切りを行った。その後、前記液切り後の基板に対し２２０℃で３０分間の熱処理を施し、樹脂ブラックマトリクス（樹脂ブラックマトリクス付き基板）を得た。得られた樹脂ブラックマトリクスの膜厚は０．８μｍであった。
【０３２２】
得られた樹脂ブラックマトリクスは、１画素のサイズ（開口パターンのサイズ）が３００×１００μｍである（Ｒ画素、Ｇ画素、及びＢ画素を合わせて１画素としたときの１画素のサイズは３００×３００μｍである）。また、Ｒ画素、Ｇ画素、及びＢ画素を合わせて１画素としたときの画素数は１０２４×７６８画素であり、表示領域は１５インチである。
【０３２３】
＜緑色（Ｇ）着色パターンの形成＞
上記で得られた樹脂ブラックマトリクス付き基板をＵＶ洗浄装置で洗浄後、更に超純水でリンス洗浄した。該樹脂ブラックマトリクス付き基板を１２０℃３分熱処理して表面状態を安定化させた後、冷却し２３℃に温調した。
温調後の基板の樹脂ブラックマトリクスが形成された側の面に、後述の方法で調製した緑色硬化性組成物Ｇ１を、スリット状ノズルを有するガラス基板用コーター（平田機工（株）製）にて、以下の条件でスリット塗布して塗布膜を形成した。引き続き真空乾燥装置（東京応化工業（株）製）で３０秒間、溶媒の一部を乾燥して前記塗布層の流動性をなくした後、９０℃で３分間プリベークして緑色硬化性樹脂層Ｇ１を得た。
【０３２４】
〜スリット塗布の条件〜
・スリット幅：８０μｍ
・塗布速度：２００ｍｍ／ｓｅｃ
・基板と塗布ヘッド先端との距離（クリアランス）：１５０μｍ
・塗布温度：２３℃
【０３２５】
超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング（株）製）を用いて、緑色硬化性樹脂層Ｇ１が形成された基板とマスク（緑色画素用パターンを有する石英露光マスク）とを垂直に立てた状態で、マスク面と緑色硬化性樹脂層Ｇ１との間の距離を２００μｍに設定し、露光量１２０ｍＪ／ｃｍ２でパターン露光した。なお、上記パターン露光は、上記露光機中の雰囲気を０．０４ＭＰａに減圧して行った。
【０３２６】
次に、純水をシャワーノズルにて噴霧して、緑色硬化性樹脂層Ｇ１の表面を均一に湿らせた後、ＫＯＨ系現像液（ＫＯＨ、ノニオン界面活性剤含有、商品名：ＣＤＫ−１、富士フィルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）を１００倍に希釈した液にて２３℃で８０秒間、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像し、パターニング画像を得た。引き続き、基板上のパターニング画像形成面に、超純水を超高圧洗浄ノズルにて９．８ＭＰａの圧力で噴射して残渣除去を行ない、さらに超純水をシャワーノズルで両面から吹き付けて、付着している現像液や緑色硬化性樹脂層Ｇ１の溶解物を除去し、エアーナイフにて液切りを行った。その後、前記液切り後の基板に対し、パターニング画像非形成面側から５００ｍＪ／ｃｍ２の露光量でポスト露光を行った。その後、ポスト露光後のパターニング画像付き基板に、２３０℃で３０分間の熱処理（ポストベーク）を施し、緑色（Ｇ）着色パターンを得た。得られた緑色（Ｇ）着色パターンは、樹脂ブラックマトリクス上にパターン端部を有していた。
以上のようにして、基板上に樹脂ブラックマトリクスと緑色（Ｇ）着色パターンとを有する緑色単色のカラーフィルタ（カラーフィルタ基板）を得た。
【０３２７】
さらに、以下のようにして基板上に樹脂ブラックマトリクス、赤色（Ｒ）着色パターン、緑色（Ｇ）着色パターン、青色（Ｂ）着色パターンを有する３色のカラーフィルタ（カラーフィルタ基板）を作製することもできる。
【０３２８】
＜赤色（Ｒ）着色パターンの形成＞
上記緑色（Ｇ）着色パターンの形成において、緑色硬化性組成物Ｇ１を後述の方法により調製できる赤色硬化性組成物Ｒ１に代え、さらに緑色画素用パターンを有する石英露光マスクを、赤色画素用パターンを有する石英露光マスクに代える以外は、上記緑色（Ｇ）着色パターンの形成と同様の方法により、赤色（Ｒ）着色パターンを形成する。
【０３２９】
＜青色（Ｂ）着色パターンの形成＞
上記緑色（Ｇ）着色パターンの形成において、緑色硬化性組成物Ｇ１を後述の方法により調製できる青色硬化性組成物Ｂ１に代え、さらに緑色画素用パターンを有する石英露光マスクを青色画素用パターンを有する石英露光マスクに代える以外は、上記緑色（Ｇ）着色パターンの形成と同様の方法により、青色（Ｂ）着色パターンを形成する。
【０３３０】
以上により、基板上に樹脂ブラックマトリクス、赤色（Ｒ）着色パターン、緑色（Ｇ）着色パターン、青色（Ｂ）着色パターンを有するＲＧＢ３色のカラーフィルタを得ることができる。
【０３３１】
≪着色硬化性組成物の調製≫
以下、前述の緑色硬化性組成物Ｇ１、赤色硬化性組成物Ｒ１、及び緑色硬化性組成物Ｂ１の調製方法について説明する。
【０３３２】
＜緑色硬化性組成物Ｇ１の調製＞
（顔料分散液Ｇ１の調製）
顔料として、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６とＣ．Ｉ．ピグメントイエロー２１９との３０／７０（質量比）混合物４０質量部、分散剤としてＢＹＫ２００１（Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ  ：ビックケミー（ＢＹＫ）社製、固形分濃度４５．１質量％）１０質量部（固形分換算約４．５１質量部）、および溶媒として３−エトキシプロピオン酸エチル１５０質量部からなる混合液を、ビーズミルにより１５時間混合・分散して、顔料分散液Ｇ１を調製した。
得られた顔料分散液Ｇ１について、顔料の平均粒径を動的光散乱法により測定したところ、２００ｎｍであった。
【０３３３】
（緑色硬化性組成物Ｇ１の調製）
下記組成Ｇ−１の成分を混合して溶解し緑色硬化性組成物Ｇ１を調製した。
〜組成Ｇ−１〜
・顔料分散液Ｇ１                                      ・・・    ６００質量部
・アルカリ可溶性樹脂（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体、ｍｏｌ比：８０／１０／１０、Ｍｗ：１００００）                                                                    ・・・    １９０質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート〔重合性化合物〕                                                                            ・・・      ６０質量部
・２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール〔光重合開始剤〕                  ・・・      ６０質量部
・前記化合物１５〔一般式（IV）又は（V）で表される化合物（特定増感剤）〕                                                              ・・・      ４０質量部
・下記化合物ａ１〔一般式（I）で表される化合物（共増感剤）〕                                                                          ・・・      ４０質量部
・界面活性剤（商品名：テトラニック１５０Ｒ１、ＢＡＳＦ社）                                                                            ・・・        １質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート〔溶媒〕                                                                            ・・・  １０００質量部
・γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン        ・・・        ５質量部
【０３３４】
【化７６】
2008268751.tif 000077
【０３３５】
＜赤色硬化性組成物Ｒ１の調製＞
前記緑色硬化性組成物Ｇ１の調製において、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６とＣ．Ｉ．ピグメントイエロー２１９との３０／７０（質量比）混合物を、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４とＣ．Ｉ．ピグメントレッド１７７との７０／３０（質量比）混合物に代える以外は前記緑色硬化性組成物Ｇ１と同様の方法により、赤色硬化性組成物Ｒ１を調製できる。
【０３３６】
＜青色硬化性組成物Ｂ１の調製＞
前記緑色硬化性組成物Ｇ１の調製において、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６とＣ．Ｉ．ピグメントイエロー２１９との３０／７０（質量比）混合物を、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６とＣ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３との８０／２０（質量比）混合物に代える以外は前記緑色硬化性組成物Ｇ１と同様の方法により、青色硬化性組成物Ｂ１を調製できる。
【０３３７】
≪液晶表示装置の作製≫
上記で説明したＲＧＢ３色のカラーフィルタ基板を用い、評価用の液晶パネルを作製することができる。以下、液晶材を垂直配向させるＶＡモード用の液晶セル（液晶パネル）についてその手順を説明する。
【０３３８】
＜透明電極膜の形成＞
上記で得られたカラーフィルタ基板をＵＶ洗浄装置で洗浄後、更に超純水でリンス洗浄する。リンス洗浄後のカラーフィルタ基板を１２０℃３分熱処理して表面状態を安定化させる。上記基板をＵＬＶＡＣ製真空スパッタ装置でＩＴＯターゲットによりＩＴＯ薄膜を形成する。成膜温度２００℃、Ｏ２／Ａｒ流量比１．２とすることで、面抵抗２０Ω／□以下、透過率９７％（５５０ｎｍ）のＩＴＯ薄膜（透明電極膜）を得ることができる。
【０３３９】
＜対向基板の作製＞
透明ガラス基板（日本電気硝子製ＯＡ−１０）を、ＵＶ洗浄装置で洗浄後、洗浄剤を用いてブラシ洗浄し、更に超純水で超音波洗浄する。該基板を１２０℃３分熱処理して表面状態を安定化させる。次に前記透明電極形成で説明したのと同様の方法で透明導電膜を成膜し、対抗基板を得る。
【０３４０】
＜配向層の形成＞
カラーフィルタ及び対向基板の透明導電膜の上にポリイミド配向層を形成する。配向材はＪＳＲ製ポリイミドＪＡＬＳ２０４を使用し、インクジェット法で画素電極が配置されている領域に選択的に塗布する。塗布後、８０℃の雰囲気で１５ｍｉｎプリベークを行い、さらに２００℃で６０ｍｉｎ焼成を行う。これにより膜厚で約０．５μｍの配向層を得る。
【０３４１】
＜シールパターンの形成＞
対向基板の周囲にシールパターンを形成する。詳細には、スペーサ粒子を１ｗｔ％含有したエポキシ樹脂（日産化学製ストラクトボンドＸＮ−２１Ｓ）をシールディスペンサ装置で表示領域を囲む所定の領域に液晶の注入口に相当する部分を開いた形で印刷する。これを８０℃で３０ｍｉｎ仮焼成する。
【０３４２】
＜スペーサ散布＞
対向基板上のシールパターンで囲まれた表示領域に、乾式スペーサ散布装置を用いて散布する。散布型スペーサ材としては、粒径５μｍのスペーサ材を用いる。
【０３４３】
＜重ね合わせ＞
対向基板とカラーフィルタ基板が正しい位置で重なるようにアライメントしながら重ねあわせ装置で合わせる。その状態で０．０３Ｍｐａの圧力をかけながら、貼り合わされたガラス基板を１８０℃、９０分で熱処理し、シール剤を硬化させ、２枚のガラス基板の積層体を得る。焼成にはバルーンタイプの焼成装置を使用する。
【０３４４】
＜液晶注入＞
このガラス基板積層体に液晶注入装置を使って液晶材を注入する。液晶材はメルク社製ＭＬＣ−６６０８で、これを液晶皿に入れ、基板積層体とともに真空チャンバー内で１０−１Ｐａの真空下で６０ｍｉｎ保持して脱気する。十分真空に引いた後、シールに設けた注入口の部分を液晶に浸すようにした上で大気圧に戻して１８０ｍｉｎ保持して、ガラス基板の間隙に液晶を満たす。その後、注入装置から基板積層体を取り出し、注入口の部分をＵＶ硬化性のエポキシ接着剤を塗布・硬化して液晶セルを得る。
【０３４５】
＜偏光板貼り付け＞
この液晶セルの両面に、（株）サンリッツ製の偏光板ＨＬＣ２−２５１８を吸収軸を直交する配置に貼り付けて液晶パネルを得る。
【０３４６】
以上で説明した液晶パネルは、着色パターンの剥がれが抑制されたカラーフィルタを用いて作製されているため、光漏れや異物による表示欠陥の発生を抑制される。
【０３４７】
≪測定及び評価≫
〜着色パターン端部断面におけるＬ／ｔの測定〜
上記で得られた緑色単色のカラーフィルタ基板の緑色（Ｇ）着色パターンを、基板に垂直かつ緑色（Ｇ）着色パターンのパターンエッジにも垂直な平面で切断し、樹脂ブラックマトリクス上の緑色（Ｇ）パターン端部の断面を、走査型電子顕微鏡にて観察し該断面の写真を撮影した。
撮影された写真に基づき、テーパー長Ｌ及び膜厚ｔを測定し、Ｌ／ｔを求めた。得られた結果を表１に示す。
【０３４８】
〜密着力評価〜
カラーフィルタの着色パターンの剥がれを検証するために密着力評価を行った。密着力評価は、碁盤目状に切れ込み（クロスカット）を入れること等を除き、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−６（１９９９年度版）（クロスカット法）に準じた方法で行った。
具体的にはまず、上記で得られた緑色単色のカラーフィルタ基板の、パターンが形成された面に、密着テープ（ＮＩＴＴＯ製）を貼り付けて密着させた後、該密着テープを該基板から一気に剥がした。前記基板上の密着テープを剥がした箇所を光学顕微鏡で観察し、緑色（Ｇ）着色パターンの剥がれの有無を観察した。
以上の操作を１００回行い、１回でも剥がれが生じた場合を「×」とし、１回も剥がれが生じなかった場合を「○」として評価した。
【０３４９】
〔実施例２〕
実施例１において、樹脂ブラックマトリクスの形成におけるスリット塗布の塗布速度を、２５０ｍｍ／ｓｅｃから１２０ｍｍ／ｓｅｃに変更することにより、樹脂ブラックマトリクスの膜厚を０．８μｍから１．５μｍに変更した以外は実施例１と同様にして緑色単色のカラーフィルタを作製し、得られた緑色（Ｇ）着色パターンについて実施例１と同様にしてＬ／ｔの測定及び密着力評価を行った。得られた結果を表１に示す。
【０３５０】
〔実施例３〕
実施例１において、樹脂ブラックマトリクスの形成を、特開２００５−１７３２２号公報段落番号［００８７］〜［００８９］、［００９９］〜［０１０２］に記載された、感光性転写材料を用いた方法で形成した以外は実施例１と同様にして緑色単色のカラーフィルタを作製し、得られた緑色（Ｇ）着色パターンについて実施例１と同様にしてＬ／ｔの測定及び密着力評価を行った。得られた結果を表１に示す。
ただし、樹脂ブラックマトリクスの膜厚が０．８μｍとなるように、同段落番号［００９９］の感光性遮光層用塗布液の塗布を行った。
【０３５１】
〔比較例１〕
実施例１において、緑色（Ｇ）着色パターン形成の条件を下記表１に示すように変更した以外は実施例１と同様にして緑色単色のカラーフィルタを作製し、得られた緑色（Ｇ）着色パターンについて実施例１と同様にしてＬ／ｔの測定及び密着力評価を行った。得られた結果を表１に示す。
【０３５２】
〔比較例２〕
実施例１において、樹脂ブラックマトリクスの形成におけるスリット塗布の塗布速度を、２５０ｍｍ／ｓｅｃから１２０ｍｍ／ｓｅｃに変更することにより樹脂ブラックマトリクスの膜厚を０．８μｍから１．５μｍに変更し、さらに、緑色（Ｇ）着色パターン形成の条件を下記表１に示すように変更した以外は実施例１と同様にして緑色単色のカラーフィルタを作製し、得られた緑色（Ｇ）着色パターンについて実施例１と同様にしてＬ／ｔの測定及び密着力評価を行った。得られた結果を表１に示す。
【０３５３】
〔比較例３〕
実施例１において、樹脂ブラックマトリクスの形成におけるスリット塗布の塗布速度を、２５０ｍｍ／ｓｅｃから６０ｍｍ／ｓｅｃに変更することにより樹脂ブラックマトリクスの膜厚を０．８μｍから２．３μｍに変更し、さらに、緑色（Ｇ）着色パターン形成の条件を下記表１に示すように変更した以外は実施例１と同様にして緑色単色のカラーフィルタを作製し、得られた緑色（Ｇ）着色パターンについて実施例１と同様にしてＬ／ｔの測定及び密着力評価を行った。得られた結果を表１に示す。
【０３５４】
【表１】
2008268751.tif 000078
【０３５５】
表１に示すように、樹脂ブラックマトリクスの膜厚を１．５μｍ以下とし、Ｌ／ｔを１．０以下とした実施例１〜３では、着色パターンの剥がれが発生しなかった。
【図面の簡単な説明】
【０３５６】
【図１】（ａ）は、本発明のカラーフィルタの一例を示す平面図であり、（ｂ）は、（ａ）のＡ−Ａ線断面図である。
【図２】本発明のカラーフィルタの一例における着色パターン端部を拡大して示す断面図である。
【図３】（ａ）及び（ｂ）は、着色パターン端部の断面において、着色パターン側面に相当する線が曲線である場合を示す参考断面図である。
【図４】（ａ）は、従来のカラーフィルタの製造方法における着色硬化性組成物塗布後の断面図であり、（ｂ）は、前記製造方法における現像後の断面図であり、（ｃ）は、前記製造方法におけるポストベーク後の断面図である。
【符号の説明】
【０３５７】
１０  基板
１２  樹脂ブラックマトリクス
１６  着色パターン（緑色（Ｇ）パターン）
１８  着色パターン（青色（Ｂ）パターン）
２０  着色パターン（赤色（Ｒ）パターン）
２２  着色パターン端部の断面において着色パターン上面に相当する線
２３  着色パターン端部の断面において着色パターン下面に相当する線
２４  着色パターン端部の断面において着色パターン側面に相当する線
４２  ブラックマトリクス
４４  着色層
４６  着色パターン
【図１】
2008268751.tif 000081
【図２】
2008268751.tif 000082
【図３】
2008268751.tif 000083
【図４】
2008268751.tif 000084