(57)【要約】      （修正有）【課題】使い勝手の向上による高性能化を容易に図ることのできるアキュムレータおよび塗装装置を提供する。【解決手段】塗装装置は、塗料タンクと、塗料を移送するためのポンプと、塗料を循環させるための液体供給路および液体戻し路と、液体供給路を流動する塗料の脈動を吸収するためのアキュムレータ２０と、アキュムレータ２０にガスを供給するためのガス供給路とを設ける。アキュムレータ２０は、カバー体２２にガス吸気弁３３とガス排気弁３４とを設けるとともに、液体の圧力が周期的な変動範囲を超えて変化した場合、この液体の圧力の変化をダイアフラム２３により検知して、液体の圧力の変化によるダイアフラム２３の変位に連動させてガス吸気弁３３あるいはガス排気弁３４を開閉させることでガス室２５の圧力を液体の圧力に合わせて自動調節するように形成する。ガス排気弁３４の下流側に、ガス排気孔９３が設けられている。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
開口が設けられている本体と、前記本体の開口を覆うように前記本体に取着されているカバー体と、前記本体およびカバー体に挟持されているダイアフラムと、前記ダイアフラムのカバー体側に設けられガスが封入されるガス室と、前記ダイアフラムの本体側に設けられ液体が通過可能な液体室とを有しており、少なくとも前記液体室を通過する液体の圧力の周期的な変動を吸収するように形成されているアキュムレータにおいて、
前記カバー体には、前記ガス室に封入するガスを吸気するためのガス吸気弁と、前記ガス室に封入されているガスを排気するためのガス排気弁とが設けられており、
前記液体の圧力が変動範囲を超えて変化した場合、この液体の圧力の変化を前記ダイアフラムにより検知して、液体の圧力の変化による前記ダイアフラムの変位に連動させて前記ガス吸気弁あるいはガス排気弁を開閉させることで前記ガス室の圧力を液体の圧力に合わせて自動調節するように形成されていることを特徴とするアキュムレータ。
【請求項２】
前記ダイアフラムが、前記本体側に配置された円形状の第１ダイアフラムと、前記カバー側に配置された円環状の第２ダイアフラムとを有しており、
前記ガス室には、前記ガス排気弁の開閉を行う弁棒の一端が前記第２ダイアフラムに取り付けられて配設されているとともに、このガス排気弁の弁棒の他端には、前記ガス吸気弁の開閉を行う弁棒が前記排気弁の弁棒の軸方向に沿って移動可能に配設されていることを特徴とする請求項１に記載のアキュムレータ。
【請求項３】
前記ガス排気弁が、ポペット弁であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のアキュムレータ。
【請求項４】
塗料を貯留する塗料タンクと、この塗料タンクに貯留された塗料を移送するためのポンプと、このポンプに接続され塗料を循環させるための液体供給路および液体戻し路と、少なくとも前記液体供給路を流動する塗料の圧力の周期的な変動を吸収するためのアキュムレータと、前記アキュムレータのガス室にガスを供給するためのガス供給路とを有している塗装装置において、
前記アキュムレータが、請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載のアキュムレータであることを特徴とする塗装装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アキュムレータおよび塗装装置に係り、特に、塗料の循環供給に好適なアキュムレータおよび塗装装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、エネルギの蓄積、２次回路の駆動、圧力補償、脈動吸収（圧力の周期的な変動の吸収）、衝撃緩衝などを目的としてアキュムレータが用いられている。このようなアキュムレータとしては、重錘形、ばね形、ダイアフラム形、ゴムチューブ形、ピストン形、プラダ形などの各種のものが知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
このようなアキュムレータのうち、ダイアフラム形のアキュムレータは、一般的に、円盤状や球状などに形成された金属製のシェルと、このシェル内に配設されシェルの内部空間をガス室および液体室との２室に区画するダイアフラムとで構成されており、液体室にガスが侵入することがない、小型・高圧用に適しているなどの特徴を備えている。そして、ダイアフラム形のアキュムレータは、例えば、車両パネルに塗装を行う塗装ラインにおいて、ポンプにより移送される塗料の少なくとも圧力の周期的な変動である脈動を吸収するために用いられている。なお、ダイアフラムとしては、板状のものや袋状のものなどが用いられている。
【０００４】
前記車両の塗装ラインとして用いられる塗装装置は、例えば、塗料を循環させるための液体供給路としての液体供給配管および液体戻し路としての液体戻し配管と、液体供給配管に接続された複数の液圧レギュレータと、これらの液圧レギュレータのそれぞれに接続されるとともに液体戻し配管に接続された塗装ガンとを有している。そして、液体供給配管の基端部には、ポンプにより塗料タンクに貯留された塗料がアキュムレータおよびフィルタをこの順に介して予め設定された所定の圧力で加圧供給されるようになっており、液体供給配管を通過した塗料は、液体供給配管の先端部分に配設された背圧弁を介して塗料タンクに戻されるようになっている。また、各塗装ガンから液体戻し配管に導入された塗料は、液体戻し配管の先端部分に配設された背圧弁を介して塗料タンクに戻されるようになっている。なお、液圧レギュレータと塗装ガンとは、接続配管により接続されて相互間の塗料の流路が確保されている。勿論、塗装ガンは、移動自由に配設されている。また、フィルタは、主として塗料に含まれている異物の除去に用いられるものである。
【０００５】
ところで、近年においては、環境負荷の低減のため塗料の水系化が進められている。この水系の塗料は一般に溶剤系に比較して粘度が高いため、循環に必要なエネルギーが大きく高圧で送り出す必要がある。また、車両パネルに塗装を行う塗装ラインに用いられている塗装装置においては、塗装ガンの総数が数百から千を越えるものがあり、また、塗料循環の配管の総延長が１ｋｍを超える場合もあり、多数の配管を接続して使用するため、これらの配管の中を圧力をかけて塗料を循環させ続けるためには多くのエネルギーを必要としている。
【０００６】
したがって、近年の車両の塗装ラインに用いられる塗装装置においては、塗料を循環させるポンプの圧力がより高圧、例えば、液体供給配管を流動する塗料の圧力である液圧が２ＭＰａ程度とされて用いられる場合がある。
【０００７】
よって、このような塗装装置において、ポンプにより移送される塗料の圧力の周期的な変動である脈動を吸収するダイアフラム形のアキュムレータは、例えば、２ＭＰａ程度に予め設定されている塗料の圧力である液圧に対して０．５Ｈｚ程度の周期で±０．２ＭＰａ程度の圧力変動（脈動）を、±０．０５ＭＰａ程度とすることができるようになっている。勿論、液圧が０．５ＭＰａ程度に設定されている場合には、１Ｈｚ程度の周期で±０．２ＭＰａ程度の脈動を、±０．０２ＭＰａ程度とすることができるようになっている。
【０００８】
【特許文献１】特開平１０−１５９８０３号公報（図１２、図１３）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、従来のダイアフラム形のアキュムレータおよび塗装装置においては、近年の高性能化の要求に応えることができないという問題点があった。
【００１０】
例えば、従来の塗装装置に用いられているダイアフラム形のアキュムレータにおいては、予め液体室を通過する液体（塗料）の圧力である液圧に合わせてガス室の圧力が設定されている。例えば、液圧が０．５ＭＰａに設定されている場合には、ガス室の圧力も０．５ＭＰａに設定されている。
【００１１】
このため、溶剤系の塗料を水系の塗料に変更したときなどの液体室を通過する液圧が変動範囲を超えて変わった場合、例えば、液圧が０．５ＭＰａから２ＭＰａに変わった場合（液圧が上昇した場合）には、ガス室の圧力が０．５ＭＰａとされているために、液体室の圧力がガス室の圧力より高くなるので、ダイアフラムがガス室側に変位してその状態を保持することになる。すると、ダイアフラムには、液圧により、常にダイアフラムをガス室側に変形させ続けようとする余分な力が加わり続けるので、変形の余地が少なくなり、脈動吸収能力の低下に加えダイアフラムに悪影響を与えることになる。
【００１２】
また逆に、液圧が２ＭＰａから０．５ＭＰａに変わった場合（液圧が低下した場合）には、ガス室の圧力が２ＭＰａとされているために、ガス室の圧力が液体室の圧力より高くなるので、ダイアフラムが液体室側に変位してその状態を保持することになる。すると、ダイアフラムには、液圧により、常にダイアフラムを液体室側に変形させ続けようとする余分な力が加わり続けるので、やはり変形の余地が少なくなり、脈動吸収能力の低下に加えダイアフラムに悪影響を与えることになる。
【００１３】
すなわち、液圧の変動範囲を超える変化により、ダイアフラムの予め設定されている位置からの変位が大きくなるとともに、その変位した状態が保持されるので、ダイアフラムの機能と耐久性を保持するうえで好ましくない。
【００１４】
そこで、液圧が変動範囲を超えて変わった場合には、変化した後の液圧に合わせて、詳しくは、液圧とガスの圧力が同一となるようにアキュムレータのガス室の圧力を人手により再設定して、ダイアフラムの位置が予め設定されている位置を保持しうるようにしなければならず、段取りに時間がかかり、使い勝手が悪いという問題点があった。このガス室の圧力の変更は、高圧の圧縮空気や窒素ガスなどの高圧ガスをガス室に供給するとともに、ガス室に封入する高圧ガスの封入量（充填量）を制御することにより行われているのが一般的である。
【００１５】
また、従来のダイアフラム形のアキュムレータにおいては、ガス室に封入したガスの外部への漏洩が判らないため、定期的なメンテナンスが必要であり、労力と経済的な負担が大きいという問題点があった。
【００１６】
さらに、従来のダイアフラム形のアキュムレータにおいては、液体室から液体が無くなった場合には、ガス室の圧力により、ダイアフラムが液体室側に大きく変位するとともに、常にダイアフラムを液体室側に変形させ続けようとする余分な力が加わり続けるので、やはりダイアフラムに悪影響を与えることになる。
【００１７】
したがって、従来のダイアフラム形のアキュムレータを用いた塗装装置においては、塗料の種類を変える場合の段取りやメンテナンスなどに、多大な労力および時間を必要とし、使い勝手が悪いという問題点があった。
【００１８】
そこで、液体室を通過する液体の圧力の周期的な変動が変動範囲を超えて変わった場合、液体室を通過する液体の圧力である液圧に合わせてダイアフラムが予め設定された位置を保持し得るように、ガス室の圧力を液圧に合わせて自動調節することのできる使い勝手のよいアキュムレータおよび塗装装置が求められている。
【００１９】
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、使い勝手の向上による高性能化を容易に図ることのできるアキュムレータおよび塗装装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２０】
前述した目的を達成するため特許請求の範囲の請求項１に記載の本発明のアキュムレータの特徴は、開口が設けられている本体と、前記本体の開口を覆うように前記本体に取着されているカバー体と、前記本体およびカバー体に挟持されているダイアフラムと、前記ダイアフラムのカバー体側に設けられガスが封入されるガス室と、前記ダイアフラムの本体側に設けられ液体が通過可能な液体室とを有しており、少なくとも前記液体室を通過する液体の圧力の周期的な変動を吸収するように形成されているアキュムレータにおいて、前記カバー体には、前記ガス室に封入するガスを吸気するためのガス吸気弁と、前記ガス室に封入されているガスを排気するためのガス排気弁とが設けられており、前記液体の圧力が変動範囲を超えて変化した場合、この液体の圧力の変化を前記ダイアフラムにより検知して、液体の圧力の変化による前記ダイアフラムの変位に連動させて前記ガス吸気弁あるいはガス排気弁を開閉させることで前記ガス室の圧力を液体の圧力に合わせて自動調節するように形成されている点にある。そして、このような構成を採用したことにより、液体室を通過する液体の圧力に合わせてガス室の圧力を自動調節することができるので、液体の圧力が変化してもダイアフラムを予め設定された位置に保持させることができる。
【００２１】
また、特許請求の範囲の請求項２に記載の本発明のアキュムレータの特徴は、請求項１において、前記ダイアフラムが、前記本体側に配置された円形状の第１ダイアフラムと、前記カバー側に配置された円環状の第２ダイアフラムとを有しており、前記ガス室には、前記ガス排気弁の開閉を行う弁棒の一端が前記第２ダイアフラムに取り付けられて配設されているとともに、このガス排気弁の弁棒の他端には、前記ガス吸気弁の開閉を行う弁棒が前記排気弁の弁棒の軸方向に沿って移動可能に配設されている点にある。そして、このような構成を採用したことにより、ガス排気弁およびガス吸気弁のそれぞれの弁棒をダイアフラムの変位に確実かつ容易に連動させることができる。
【００２２】
また、特許請求の範囲の請求項３に記載の本発明のアキュムレータの特徴は、請求項１または請求項２において、前記ガス排気弁が、ポペット弁である点にある。そして、このような構成を採用したことにより、ポペット弁は、弁の開閉にフリクションの発生をともなわないので、長期間に亘り安定した機能を保持させることができる。
【００２３】
また、特許請求の範囲の請求項４に記載の本発明の塗装装置の特徴は、塗料を貯留する塗料タンクと、この塗料タンクに貯留された塗料を移送するためのポンプと、このポンプに接続され塗料を循環させるための液体供給路および液体戻し路と、少なくとも前記液体供給路を流動する塗料の圧力の周期的な変動を吸収するためのアキュムレータと、前記アキュムレータのガス室にガスを供給するためのガス供給路とを有している塗装装置において、前記アキュムレータが、請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載のアキュムレータである点にある。そして、このような構成を採用したことにより、液体供給路を流動させる塗料の液圧に合わせてアキュムレータのガス室の圧力、すなわち、ガス室に封入するガスの圧力を自動的に調整することができるので、液体供給路を流動させるための液圧の異なる塗料の変更を容易に行うことができる。
【発明の効果】
【００２４】
本発明に係るアキュムレータによれば、液体の圧力が変動範囲を超えて変化した場合、この液体の圧力の変化をダイアフラムにより検知して、液体の圧力の変化によるダイアフラムの変位に連動させてガス吸気弁あるいはガス排気弁を開閉させることでガス室の圧力を液体の圧力に合わせて自動調節するように形成されているから、液体の圧力が変動範囲を超えて変化してもダイアフラムを予め設定された位置に保持させることができるなどの優れた効果を奏する。
【００２５】
また、本発明に係る塗装装置によれば、アキュムレータがガス室の圧力を液体の圧力に合わせて自動調節するように形成されているので、液体供給路を流動させるための液圧の異なる塗料の変更を容易に行うことができるなどの優れた効果を奏する。
【００２６】
したがって、本発明のアキュムレータおよび塗装装置によれば、使い勝手の向上による高性能化を容易に図ることができるなどの優れた効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下、本発明を図面に示す実施形態により説明する。
【００２８】
図１は本発明に係る塗装装置の実施形態の全体構成の要部を示す模式図である。
【００２９】
本実施形態の塗装装置は、自動車などの車両パネルに各種の塗料の塗装を塗装ガンにより行うことのできるものを例示している。
【００３０】
図１に示すように、本実施形態の塗装装置１は、塗料を循環させるための液体供給路としての液体供給配管２および液体戻し路としての液体戻し配管３と、液体供給配管２に接続された複数の液圧レギュレータ４（図１に３個のみ図示）と、これらの液圧レギュレータ４のそれぞれに接続されるとともに液体戻し配管３に接続された塗装ガン５（図１に３個のみ図示）とを有している。
【００３１】
前記液体供給配管２の基端部には、ポンプ６により塗料タンク７に貯留された塗料が後に詳しく述べるアキュムレータ２０およびフィルタ８をこの順に介して所定の圧力で加圧供給されるようになっており、液体供給配管２を通過した塗料は、液体供給配管２の先端部分に配設された背圧弁９を介して塗料タンク７に戻されるようになっている。また、各塗装ガン５から液体戻し配管３に導入された塗料は、液体戻し配管３の先端部分に配設された背圧弁１０を介して塗料タンク７に戻されるようになっている。なお、フィルタ８は、主として塗料に含まれている異物の除去に用いられるものである。
【００３２】
前記液圧レギュレータ４としては、調節ばねあるいは外部から供給される圧縮空気により作動圧が調節されたダイアフラムにより、液体の二次側の圧力（吐出圧）を検知して弁を開閉させることで加圧された液体を一定の圧力に減圧することにより液体の吐出する流量を制御することのできるものが用いられている。また、液圧レギュレータ４と塗装ガン５とは、接続配管１１により接続されて相互間の塗料の流路が確保されている。勿論、塗装ガン５は、移動自由に配設されている。
【００３３】
前記アキュムレータ２０は、液体供給配管２に供給、すなわち、ポンプ６により液体供給配管２を加圧されて移送される塗料の少なくとも周期的な圧力の変動である脈動を吸収するためのものであり、本実施形態においてはダイアフラム形のものが用いられている。そのため、アキュムレータ２０は、後述するアキュムレータ２０のガス室２５に封入する高圧のガス、本実施形態においては高圧の圧縮空気を供給するためのガス供給路としてのガス供給配管１２と接続されている。
【００３４】
前記ガス供給配管１２の基端部には、高圧ガスの供給源、本実施形態においては、図示しない空気タンクおよびアフタークーラなどをこの順に介して空気圧縮機１３が接続されている。また、ガス供給配管１２の先端部には、圧縮空気の圧力を昇圧させる増圧器（ブースタ）１４が配設されており、空気圧縮機１３からの圧縮空気の圧力を増圧（昇圧）、例えば、製造工場などで一般的に用いられている空気圧縮機１３による０．５ＭＰａ程度の空気圧をアキュムレータ２０が必要とする２ＭＰａ以上の空気圧に昇圧することができるようになっている。このため、増圧器１４とアキュムレータ２０との間、詳しくは、増圧器１４の図示しない吐出口とアキュムレータ２０の後述するガス供給口８８との間は、ガス用接続配管１５によって接続されている。
【００３５】
なお、増圧器１４の吐出口とアキュムレータ２０のガス供給口８８とを直接接続する構成としてもよい。この場合、ガス用接続配管１５を設ける必要はない。但し、ガスの漏洩を防止するためのＯリングなどのガスケットを増圧器１４の吐出口とアキュムレータ２０のガス供給口８８との接続部分の周囲を囲うように配設することが肝要である。
【００３６】
前記増圧器１４は、増圧弁、ブースタレギュレータなど称されており、ＳＭＣ社製増圧弁（ＶＢＡ）を例示することができる。また、増圧器１４としては、ハンドル操作形のものが一般的に用いられているが、設計コンセプトなどの必要に応じてエアオペレート形のものを用いてもよい。
【００３７】
なお、増圧器１４は、アキュムレータ２０に供給するガスの圧力がアキュムレータ２０が必要とする、すなわちアキュムレータ２０を通過する液体としての塗料の液圧より低い場合に用いられるものであり、窒素ガスや、高圧の圧縮空気などの液圧の最大値より高圧のガスが供給される場合には設ける必要はない。この場合、増圧器１４が配置されない構成となるので、ガス用接続配管１５の先端部をアキュムレータ２０のガス供給口８８に直接接続する構成とされることになる。
【００３８】
その他の構成については、従来の塗装装置と同様とされているので、その詳しい説明については省略する。
【００３９】
ここで本実施形態の塗装装置１に用いられているアキュムレータ２０について詳しく説明する。
【００４０】
図２から図４は本発明に係るアキュムレータの実施形態を示すものであり、図２は脈動の吸収動作を行うことのできる定常状態における要部の断面図、図３は図２の部分拡大図、図４は図２の部分平面図である。
【００４１】
図２に示すように、本実施形態のアキュムレータ２０は、図２の下方に示す平面ほぼ円形状に形成された本体２１と、図２の上方に示す平面ほぼ円形状に形成されたカバー体２２と、本体２１とカバー体２２との間に挟持されたダイアフラム２３とを有しており、全体として中空円盤状に形成されているとともに、その内部空間がダイアフラム２３により、図２の下方に示す本体側に位置する液体室２４と、図２の上方に示すカバー体側に位置するガス室２５との２室に区画されている。
【００４２】
前記本体２１およびカバー体２２の材料としては、鉄鋼、アルミニウム、アルミニウム合金などの金属や、樹脂などを用いることができる。本実施形態の本体２１およびカバー体２２は、アルミニウム合金により形成されている。
【００４３】
前記ダイアフラム２３の材料としては、特に限定されるものではなく、ゴム様弾性体、金属、樹脂などを単独もしくは組み合わせて用いることができる。
【００４４】
本実施形態のダイアフラム２３は、本体側に配置された平面円形の円形状（円盤状）の第１ダイアフラム２３Ａと、カバー側に配置された平面輪形の円環状の第２ダイアフラム２３Ｂとの２枚を２枚重ねにして用いられている。そして、第１ダイアフラム２３Ａは、樹脂、例えば、ふっ素樹脂により円板状に形成されており、第２ダイアフラム２３Ｂは、樹脂、例えば、ポリアミドにより円環状に形成されている。
【００４５】
前記第２ダイアフラム２３Ｂは、その中心部側が上下１対のプレート２６、２７により上下方向から挟持されている。この上下１対のプレート２６、２７のうち図２において第２ダイアフラム２３Ｂの下方に示す一方は、下プレート２６とされ、図２において第２ダイアフラム２３Ｂの上方に示す他方は、上プレート２７とされている。
【００４６】
前記下プレート２６は、第１ダイアフラム２３Ａの上面によって下方から支持されており、その中心部には、図３に詳示するように、図３の上下方向に示す下プレート２６の板厚方向に貫通するねじ孔２８が形成されている。このねじ孔２８には、後述するガス排気弁３４の開閉に用いる弁棒としてのセンターシャフト２９の外周面の下端部に形成された雄ねじ３０の下部が螺合されている。この場合、センターシャフト２９の下端面を下プレート２６の下面とほぼ面一に配置することが、第１ダイアフラム２３Ａを損傷させないという意味で好ましい。また、雄ねじ３０は、上方から上プレート２７の内孔および第２ダイアフラム２３Ｂの内孔をこの順に挿通して下プレート２６のねじ孔２８に螺合されており、雄ねじ３０の上部に螺合されている固定ナット３１の下面をシールワッシャ３２を介して上プレート２７の上面に当接させることで、第２ダイアフラム２３Ｂの中心部側の部分を上下１対のプレート２６、２７の相互間で挟持するように取り付けられている。
【００４７】
したがって、センターシャフト２９は、ダイアフラム２３（符号２３は、第１および第２ダイアフラム２３Ａ、２３Ｂを総称する。）の上下方向の変位に連動して上下方向に変位するように形成されている。勿論、第１および第２ダイアフラム２３Ａ、２３Ｂは、一体となって変位するように形成されている。
【００４８】
また、ガス排気弁３４の開閉を行う弁棒たるセンターシャフト２９は、その一端たる下端が第２ダイアフラム２３Ｂに取り付けられてガス室２５に配設されている。
【００４９】
なお、ダイアフラム２３としては、１枚のみとすることもできる。この場合、液体室２４とガス室２５との相互間における漏洩、詳しくは、液体室２４へのガス室２５からのガスの侵入およびガス室２５への液体室２４からの液体の侵入を確実に防止する構成とすることが肝要である。
【００５０】
また、ダイアフラム２３の変位に連動してセンターシャフト２９を変位させる構成とすることが後述するガス吸気弁３３およびガス排気弁３４のそれぞれの弁の開閉動作をダイアフラム２３の変位に連動させて行ううえで肝要である。
【００５１】
前記センターシャフト２９の外周面には、排気用弁体３５が図３の上下方向に示す軸方向に沿って往復移動自在に装着されている。この排気用弁体３５は、ダイアフラム２３と対向する図３の下方に位置する下部大径部３６と、図３の上方に位置する上部小径部３７とが段部３８により接続された段付き円筒状に形成されている。また、下部大径部３６の端面には、排気用弁体３５の内孔より大径で上部小径部３７の外径サイズより大径とされた下部大径穴３９が形成されており、上部小径部３７の上端面には、排気用弁体３５の内孔より大径の上部小径穴４０が形成されている。そして、段部３８には、図３にハッチングして示す環状に形成されたゴム様弾性体あるいは樹脂などからなるシール体４１が一体に設けられており、このシール体４１が後述する排気用弁座４２に対して接離するように形成されている。
【００５２】
前記排気用弁体３５の下部大径穴３９には、円筒状の圧縮コイルばねにより形成されたリフトばね４３の図３の上方に示す上端部分が収容されており、リフトばね４３の上端は、下部大径穴３９の底面に当接されている。また、リフトばね４３の下端は、シールワッシャ３２の上面の外周近傍に当接されている。このため、リフトばね４３の内径寸法は、固定ナット３１の最大外径寸法より大径に形成されており、リフトばね４３の外径寸法は、シールワッシャ３２の外径寸法および下部大径穴３９の内径寸法のそれぞれより小径に形成されている。
【００５３】
前記リフトばね４３は、定常状態において、上端が排気用弁体３５により上方から支持されており、下端がシールワッシャ３２により下方から支持されて収縮されている。また、リフトばね４３は、定常状態において収縮されて排気用弁体３５を上方に向けて付勢するように形成されている。
【００５４】
前記シールワッシャ３２は、金属などにより環状に形成された基体の一面にガスケットが一体に形成されたものであり、ガスケットが上プレート２７の上面に当接されるようになっている。これにより、ガス室２５に供給されたガスが、第２ダイアフラム２３Ｂと第１ダイアフラム２３Ａとの間、すなわち、第２ダイアフラム２３Ｂと下プレート２６の上面の間、および／または、下プレート２６の下面と第１ダイアフラム２３Ａの間に、ガス溜まりができるのを防止することができるようになっている。
【００５５】
前記排気用弁体３５の上部小径穴４０には、円筒状の圧縮コイルばねにより形成されたシャフトばね４４の下端部が収容されており、このシャフトばね４４の下端は、上部小径穴４０の底面に当接されて下方から支持されている。また、シャフトばね４４の上端は、センターシャフト２９の上端縁から径方向外側に延出された環状のフランジ４５の下面に当接されている。このため、シャフトばね４４の内径寸法は、センターシャフト２９の外径寸法より大径に形成されており、シャフトばね４４の外径寸法は、排気用弁体３５の上部小径部３７の外径寸法より小径に形成されている。また、フランジ４５の外径寸法は、排気用弁体３５の上部小径部３７の内径寸法より大径で、かつ、上部小径部３７の外径寸法より小径に形成されている。
【００５６】
前記シャフトばね４４は、定常状態において、上端がセンターシャフト２９のフランジ４５の下面により上方から支持されており、下端が上部小径穴４０の底面により下方から支持されて収縮されている。また、シャフトばね４４は、定常状態において収縮されて排気用弁体３５を下方に向けて付勢するように形成されている。なお、後述するように、シャフトばね４４の付勢力は、リフトばね４３の付勢力よりも弱く設定されている。
【００５７】
前記センターシャフト２９の上端面には、ほぼ有底円柱状に形成されたロッド収容穴４６が設けられている。このロッド収容穴４６には、後述するガス吸気弁３３のの開閉に用いる弁棒としてのリフトロッド４７のほぼ下半分が図３の上下方向に示す軸方向に移動自在にして収容されている。
【００５８】
前記リフトロッド４７は、図３の上下方向に示す軸方向の中間部分に、ロッド収容穴４６の内径寸法より若干小径に形成された円板状の基部４８と、この基部４８の上端面の中心部から上方に向かって突設された小径円柱状の駆動部４９と、基部４８の下端面の中心部から下方にかって突設された基部４８の外径寸法より小径に形成されるとともに、駆動部４９の外径寸法より大径に形成された円柱状の支持部５０とにより、全体として両端が小径の３段の段付き円柱状に形成されている。また、基部４８および支持部５０のそれぞれの軸方向の長さを加算した寸法は、ロッド収容穴４６の深さ寸法より短く形成されている。そして、リフトロッド４７の基部４８および支持部５０がロッド収容穴４６の内部に収容されている。
【００５９】
前記リフトロッド４７の支持部５０とロッド収容穴４６の内面との相互間には、円筒状の圧縮コイルばねにより形成されたロッドばね５１が配設されている。このロッドばね５１の上端は、基部４８の下面に当接されており、ロッドばね５１の下端は、ロッド収容穴４６の底面に当接されている。このため、ロッドばね５１の内径寸法は、フトロッド４７の支持部５０の外径寸法より大径に形成されており、ロッドばね５１の外径寸法は、ロッド収容穴４６の内径寸法より小径に形成されている。
【００６０】
すなわち、リフトロッド４７は、常時、ロッドばね５１の付勢力により上方に向かって付勢されている。このロッドばね５１の付勢力により、リフトロッド４７は上方へ向かって移動するが、このリフトロッド４７の上方への移動は、ロッド収容穴４６の開口端近傍に装着された止め輪５２の下面に、基部４８の上端を当接させることで規制されている。このため、止め輪５２の下面に基部４８の上端を当接させた状態において、基部４８の下面とロッド収容穴４６の底面との距離よりもリフトロッド４７の自由長が長くなるように設定されている。
【００６１】
したがって、リフトロッド４７は、ロッドばね５１の付勢力により、常時は、上昇端に移動した状態を保持するように構成されている。この時、リフトロッド４７の駆動部４９の先端は、後述するガス吸気用弁体としてのボール体９０の下方において所定の間隔をおいて対向するように形成されている。さらに、リフトロッド４７の支持部５０の下面は、ロッド収容穴４６の底面と所定の間隔をおいて対向するように形成されている。
【００６２】
また、ガス吸気弁３３の開閉を行う弁棒たるリフトロッド４７は、ガス排気弁３４の弁棒としてのセンターシャフト２９の他端たる上端にセンターシャフト２９の軸方向に沿って移動可能にしてガス室２５に配設されている。
【００６３】
図２に戻って、前記本体２１は、ダイアフラム２３の外周縁部分を下方から支持するとともに、ダイアフラム２３の一面側たる下面側、すなわち、ダイアフラム２３の図２の下方に示す本体側に液体室２４を形成するためのものである。
【００６４】
前記本体２１は、全体として上部が開口の逆向きキャップ状に形成された本体用基体部５４と、この本体用基体部５４の下面の中心部に下方に向けて突出するように形成された有底筒状の接続部５５とを一体に形成することにより構成されている。
【００６５】
前記本体用基体部５４の上端には、ダイアフラム２３、詳しくは、第２ダイアフラム２３Ｂの下面の外周縁を下方から支持するための平面ほぼ円環状に形成された下フランジ部５６が形成されている。この下フランジ部５６は、その外径寸法がダイアフラム２３の外径寸法とほぼ同一に形成されており、その上面がダイアフラム２３を下方から支持可能な下支持面５７とされている。
【００６６】
前記下フランジ部５６の外周縁近傍には、板厚方向に貫通する複数、本実施形態においては１８個の固定用ねじ孔５８（図２に２個のみ図示）が隣位する２個の相互間の距離を等しくするように本体用基体部５４の中心から同心円上に等角度分配置されている。
【００６７】
前記下支持面５７とダイアフラム２３との間には、液体室２４に供給された液体としての塗料の外部への漏洩防止を行うためのＯリングなどの第１ガスケット５９が配設されている。
【００６８】
前記接続部５５は、塗料などの脈動の吸収に供する液体を液体室２４に導入するためのものであり、前述した液体供給路としての液体供給配管２の基端部との接続に用いる図２の右側に配置された液体流入孔６０と、図２の左側に配置された液体流出孔６１とを有している。この液体流入孔６０および液体流出孔６１は、接続部５５の外周面の図１の上下方向に示す軸方向の中間部分において、軸方向に対して直交する左右方向にそれぞれの軸心を同軸上にして対向するように配置されている。そして、液体流入孔６０の開口端は液体流入口６０ａとされており、液体流出孔６１の開口端は液体流出口６１ａとされている。また、液体流入孔６０の開口端側には、液体が供給側に向かって逆流するのを防止するための液体用逆止弁６２が配設されている。すなわち、液体室２４への液体の流入部に液体用逆止弁６２が配設されている。
【００６９】
本実施形態の液体用逆止弁６２は、液体流入孔６０に取り付けられたボールガイド６３と、このボールガイド６３の内部に図２の左右方向に移動自在に配置された弁体としての液体用ボール体６４と、この液体用ボール体６４の右側（液体の流入側）に配置された液体用ボール体６４が接離されるほぼ環状の液体用弁座６５とを有している。そして、液体室側に存在する液体が液体流入孔６０に向かって逆方向に流動（逆流）しようとした場合、液体用ボール体６４が液体の逆流にともなって移動して、固定配置された液体用弁座６５に当接して液体用逆止弁６２を閉状態として液体が逆流するのを防止することができるようになっている。
【００７０】
なお、ボールガイド６３としては、液体の流動を阻害せずに液体用ボール体６４を移動させることにできるもの、例えば、液体用ボール体６４の移動経路を規制するために、全体として円筒をなすように間隔をおいて円周上に配列された複数のガイドバーと、液体が順方向に流動している時の液体用ボール体６４の移動位置を規制（液体の逆流時における液体用ボール体６４の移動位置は液体用弁座６５に当接することで規制される）するために、各ガイドバーの左端縁から径方向内側に向けて延出された止片部とを有する構成や、網籠状に形成されたものなどを用いることができる。
【００７１】
また、液体用逆止弁６２は、液体流入孔６０に着脱自在に配設することが、メンテナンス時などにおいて、交換、清掃などを容易に行うことができるという意味で好ましい。
【００７２】
前記接続部５５としては、脈動の吸収に供する液体を液体室２４に導入することができる構成であればよく、従来公知の各種の構成から選択することができる。例えば、接続部５５の底部に、液体流入孔６０を任意の位置に１個のみ設ける構成としてもよい。
【００７３】
前記カバー体２２は、ダイアフラム２３の外周縁部分を上方から支持するとともに、ダイアフラム２３の一面側たる上面側、すなわち、ダイアフラム２３の本体側とは反対の図２の上方に示すカバー体側にガス室２５を形成するためのものである。また、カバー体２２は、本体２１の開口を覆うように本体２１に取着されるものであり、本体２１との間でダイアフラム２３を挟持することができるようになっている。
【００７４】
前記カバー体２２は、下部が開口の全体としてほぼ上下を反転させた皿状に形成されているとともに中心孔が設けられたカバー用基体部６６と、このカバー用基体部６６の中心孔にガス室２５とは反対の外側から装着された全体として段付き円柱状に形成された取付部６７とを有している。
【００７５】
前記カバー用基体部６６の上面は、円環状をなす平坦な平面とされており、下端には、ダイアフラム２３、詳しくは第１ダイアフラム２３Ａの外周縁を上方から支持するための平面ほぼ円環状に形成された上フランジ部６８が形成されている。この上フランジ部６８は、本体２１の下フランジ部５６と同様に、その外径寸法がダイアフラム２３の外径寸法とほぼ同一に形成されており、その下面がダイアフラム２３を上方から支持可能な上支持面６９とされている。
【００７６】
前記上フランジ部６８の外周縁近傍には、板厚方向に貫通する複数、本実施形態においては１８個の固定用貫通孔７０（図２に２個のみ図示）が形成されている。これらの固定用貫通孔７０は、下フランジ部５６の各固定用ねじ孔５８と同様に、隣位する２個の相互間の距離を等しくするようにカバー体２２の中心から同心円上に等角度分配置されている。そして、カバー体２２の上フランジ部６８の固定用貫通孔７０のそれぞれに上方から挿通される六角穴付きボルトなどの固定ねじ７１をダイアフラム２３を介して下フランジ部５６のそれぞれの固定用ねじ孔５８に螺入させることにより、カバー体２２が本体２１に取り付けられているとともに、本体２１およびカバー体２２の間にダイアフラム２３を挟持することができるようになっている。このため、ダイアフラム２３の外周縁近傍には、各固定ねじ７１が挿通される１８個の挿通孔７２が設けられている。
【００７７】
前記上支持面６９とダイアフラム２３との間には、ガス室２５に封入されたガスの外部への漏洩防止を行うためのＯリングなどの第２ガスケット７３が配設されている。
【００７８】
前記ガス室２５は、下部にダイアフラム２３が上下方向に変位した場合においても上プレート２７および下プレート２６のそれぞれを内部に収容することのできるように、上プレート２７の外径寸法より大径の第１収容穴７４を有しており、この第１収容穴７４の図２の上方に示す底面には、排気用弁体３５を内部に収容することのできる排気用弁体３５の外径寸法より大径で、かつ、上プレート２７の外径寸法より小径の中心孔７５が形成されている。
【００７９】
前記第１収容穴７４の底面は、円環状をなす平坦な平面とされており、この底面には、複数、本実施形態においては３個のストッパ７６（図２に１個のみ図示）が六角穴付きボルトなどのストッパ固定ねじ７７により取り付けられている。このストッパ７６は、金属板部７６ａと、この金属板部７６の一面に配置されたゴム様弾性体あるいは樹脂などにより形成された緩衝体７６ｂとを有しており、緩衝体７６ｂが上プレート２７の上面と対向するように配置されている。そして、上プレート２７の上面がストッパ７６の緩衝体７６ｂに当接することで、ダイアフラム２３が上方へ変位したときの最大位置を規制することができるとともに、接触時の衝撃および音を吸収することができるようになっている。また、緩衝体７６ｂの下面には、ストッパ固定ねじ７７の頭部が埋め込まれるざぐり穴が形成されており、ストッパ固定ねじ７７に上プレート２７が接触しないように形成されている。なお、緩衝体７６ｂを金属板部７６に一体に設けるとよい。
【００８０】
前記ストッパ７６としては、上フランジ４５を３点以上で支持することができるように、その数が３個以上であればよいが、複数のストッパ７６を個別に配置するのではなく、円環状の一体ものとしてもよい。
【００８１】
前記取付部６７は、カバー用基体部６６の中心孔７５より大径に形成された円柱状の取付基部７８と、この取付基部７８の下端面の中心部に突設されたカバー用基体部６６の中心孔７５よりわずかに小径とされた円柱状の挿入部７９と、この挿入部７９の下端面の中心部に突設された挿入部７９の外径より小径で排気用弁体３５より大径とされた円柱状の端部小径部８０とにより３段の段付き円筒状に形成されている。そして、カバー用基体部６６の中心孔７５に対して挿入部７９が上方から装着されており、取付基部７８と挿入部７９とを接続する接続段部８１がカバー用基体部６６の上面に当接されている。また、挿入部７９と端部小径部８０とのそれぞれの軸方向の長さを加算した寸法、すなわち、接続段部８１と端部小径部８０の下端とを結ぶ長さ寸法は、中心孔７５の軸方向の長さの１／２程度に形成されている。
【００８２】
前記取付基部７８の外周近傍には、図２の上下方向に示す軸方向に沿って複数、本実施形態においては４個の取付孔８２（図２に１個のみ図示）が隣位する２個の相互間の距離を等しくするように取付部６７の中心から同心円上に等角度分配置されている。そして、これら４個の取付孔８２のそれぞれに挿通される六角穴付きボルトなどの取付ねじ８３の先端部をカバー用基体部６６の上面に螺入させることにより、取付部６７がカバー用基体部６６に固定されている（図２および図４）。さらに、取付孔８２の上端部には、取付ねじ８３の頭部が埋め込まれるざぐり穴が形成されており、取付部６７の上端面に前述した増圧器１４を設置することが容易にできるようになっている。また、カバー用基体部６６の上面と接続段部８１との間には、ガス室２５に供給されたガスの外部への漏洩防止を行うためのＯリングなどの第３ガスケット８４が配設されている。
【００８３】
図３に詳示するように、取付部６７の上面の中心部には、ガス吸気穴８５が形成されており、端部小径部８０の下面の中心部には、排気用弁体３５の上部小径穴４０の上部およびセンターシャフト２９の上部ならびにリフトロッド４７の駆動部４９を収納することのできる有底穴８６が形成されている。そして、ガス吸気穴８５と有底穴８６とは同軸上に形成されており、有底穴８６の底部の中心部には、ガス吸気穴８５と有底穴８６とを連通する小径連通孔８７が形成されている。
【００８４】
前記ガス吸気穴８５の開口端はガス供給口８８とされており、このガス供給口８８には、図１に示すガス供給配管１２の先端が接続されるようになっている。また、ガス吸気穴８５の底部には、小径連通孔８７に接続するロート状に形成されたガス供給用弁座８９が設けられている。
【００８５】
前記ガス吸気穴８５には、ガス供給用弁座８９に対して接離可能とされたガス吸気用弁体としてのボール体９０が収容されており、このボール体９０の上側には、円筒状に形成された圧縮コイルばねからなるボール用ばね９１が収容されている。このボール用ばね９１は、その下端がボール体９０の上部に当接されており、上端は、ガス吸気穴８５の軸方向の中間部分に装着された環状のコイル用止め輪９２の下端面に当接されて上方から支持されている。また、ボール体９０の外径寸法は、小径連通孔８７の内径寸法よりも大きく形成されている。
【００８６】
前記小径連通孔８７の内径寸法は、リフトロッド４７の駆動部４９の外径寸法より大きく形成されており、リフトロッド４７の駆動部４９の先端をボール体９０の下部に当接させることで、ボール体９０をガス供給用弁座８９から強制的に離間させることができるように形成されている。
【００８７】
前記ボール体９０は、常時は、ガス供給配管１２から供給されるガス圧とガス室２５の内部のガス圧との差圧により、ガス供給用弁座８９に当接するように形成されており、ガス供給配管１２から供給されるガスがガス吸気穴８５を介してガス室２５へ流動するのを遮断することができるようになっている。
【００８８】
前記ボール体９０は、ボール用ばね９１の付勢力をもってガス供給用弁座８９に当接するようにして上方から支持されているが、このボール用ばね９１の付勢力は、ボール体９０をガス供給用弁座８９に軽く押し付ける程度の弱いものとされており、アキュムレータ２０の姿勢をガス室２５が上で、液体室２４が下となるように鉛直状態で使用する限りにおいては不必要であるが、アキュムレータ２０の姿勢が傾いた場合においても、ボール体９０をガス供給用弁座８９に確実に着座させるために設けられている。
【００８９】
なお、ボール用ばね９１の形状としては、全体として円錐状をなすコイル状のものであってもよい。
【００９０】
前記ガス吸気穴８５、ガス供給用弁座８９、ボール体９０およびボール用ばね９１により、本実施形態のガス室２５に封入するガスを吸気するためのガス吸気弁３３が構成されている。
【００９１】
図２に戻って、前記取付部６７には、ガス排気孔９３が形成されている。本実施形態のガス排気孔９３は、水平穴９３ａと垂直穴９３ｂとを有している。そして、水平穴９３ａは、取付基部７８の外周面に外部開口端を備え、取付基部７８の径方向中心に向かって直線状に設けられており、垂直穴９３ｂは、端部小径部８０の下端面に内部開口端を備え、取付部６７の軸方向に沿って水平穴９３ａの底部に向かって直線状に設けられている。さらに、水平穴９３ａの底部と垂直穴９３ｂの底部とは連通されている。また、内部開口端は、図３に詳示するように、前述した排気用弁体３５のシール体４１の上面と対向するように配置されており、端部小径部８０の下端面のうちの内部開口端の形成部位の周囲、詳しくは、内部開口端の周囲でシール体４１と対向する領域が排気用弁座４２とされている。
【００９２】
図２に戻って、前記ガス排気孔９３の外部開口端は、ガス室２５の内部に存在するガスを外部に排気するためのガス排気口９４とされている。
【００９３】
前記センターシャフト２９、排気用弁体３５、リフトばね４３、ガス排気孔９３および排気用弁座４２により、本実施形態のガス室２５に封入されているガスを外部に排気するガス排気弁３４が構成されている。
【００９４】
また、本実施形態のガス排気弁３４は、排気用弁体３５、詳しくは、排気用弁体３５のシール体４１が排気用弁座４２から直角方向である図２の上下方向に示す軸方向に沿って移動するポペット弁とされている。
【００９５】
前記取付部６７の端部小径部８０には、有底穴８６の内部とガス室２５との相互間を連通するための内部連通孔９５が形成されており、有底穴８６の内部とガス室２５とが常に同圧となるように形成されている。
【００９６】
ここで、リフトばね４３、シャフトばね４４およびロッドばね５１について説明する。
【００９７】
前記リフトばね４３は、脈動を吸収するアキュムレータ２０の定常状態においては、伸縮されるものである。そのため、ガス圧による脈動の吸収に影響を与えない程度の弱いばねで、かつ、液圧が設定範囲より低下した場合には排気用弁体３５から離間するように自由長が設定され、さらに、自由状態では排気用弁体３５の自重を下方から支持することができるように付勢力、すなわち、ばね定数、ばね荷重などが設定されている。
【００９８】
前記シャフトばね４４は、ダイアフラム２３の下方への変位によりセンターシャフト２９のフランジ４５が排気用弁体３５の上部小径部３７の端面に当接した場合においても密着せず、しかも、リフトばね４３とガス室２５に封入されたガス圧により排気用弁座４２に押し付けられている排気用弁体３５がその状態を保持することができるように、自由長および付勢力、すなわち、ばね定数、ばね荷重などが設定されている。このシャフトばね４４は、ダイアフラム２３の下方への変位によりセンターシャフト２９が排気用弁座４２に当接している排気用弁体３５を、排気用弁座４２から無理やり剥がすように離間させた後に、排気用弁体３５を排気用弁座４２からより遠くに離間するように勢いよく下方に押し下げるためのものである。
【００９９】
前記ロッドばね５１は、リフトロッド４７を上方へ付勢するためのものであり、その付勢力、すなわち、ばね定数、ばね荷重などは、ガス供給用弁座８９に当接しているボール体９０をガス供給用弁座８９から離間させることはできないように弱く設定されている。
【０１００】
その他の構成については、従来のアキュムレータと同様とされているのでその詳しい説明については省略する。
【０１０１】
つぎに、前述した構成からなる本実施形態の作用について説明する。
【０１０２】
図２および図３に示すように、本実施形態のアキュムレータ２０の液体の周期的な圧力変動である脈動の吸収動作を行うことのできる定常状態においては、液体室２４を通過する液体の圧力である液圧に合わせてガス室２５に封入されたガスの圧力であるガス圧が設定されている。例えば、液圧が０．５ＭＰａの場合には、ガス圧が０．５ＭＰａとなるように、ガス室２５に封入されたガス圧が設定されている。このように、液体室２４の圧力とガス室２５の圧力とが同一とされているため、ダイアフラム２３は、予め設定されている位置、本実施形態においては、図２に示すように、アキュムレータ２０の内部空間の上下方向のほぼ中間位置に保持されている。
【０１０３】
なお、ガス供給配管１２には、ガス室２５に封入されたガス圧より高圧のガスが供給されるようになっている。
【０１０４】
前記定常状態においては、図３に示すように、ガス吸気弁３３は、ガス供給配管１２から供給されるガス圧とガス室２５の内部のガス圧との差圧およびボール用ばね９１の収縮により発生する付勢力により、ボール体９０がガス供給用弁座８９に当接されて閉状態を保持している。また、ガス排気弁３４は、リフトばね４３の収縮により発生する付勢力により、排気用弁体３５が上方に移動して、排気用弁体３５のシール体４１が排気用弁座４２に当接されており閉状態を保持している。さらに、センターシャフト２９ばねは、上端がセンターシャフト２９のフランジ４５の下端に当接され、下端が上部小径穴４０の底面に当接されて収縮している。また、リフトロッド４７は、ロッドばね５１の収縮により発生する付勢力によって、ロッド収容穴４６の内部において基部４８の方面が止め輪５２に当接して上昇端に位置しており、リフトロッド４７の上端は、ボール体９０の底面と間隔をおいて対向するように小径連通孔８７の高さ位置と同一、もしくは若干下方に位置している。
【０１０５】
本実施形態のアキュムレータ２０の定常状態における液体の脈動の吸収については、従来と同様であるのでその詳しい説明は省略する。
【０１０６】
つぎに、本実施形態のアキュムレータ２０における液体室２４を通過する液体の圧力が変動範囲を超えて変わった場合の動作について説明する。
【０１０７】
まず、液体室２４を通過する液体の圧力が低下する場合について説明する。
【０１０８】
本実施形態のアキュムレータ２０において、液体室２４を通過する液圧が、例えば、２ＭＰａから０．５ＭＰａに低下した場合（ガス圧は、２ＭＰａ）には、ガス圧が液圧より高くなるので、ガス圧と液圧との差圧によりダイアフラム２３が下方（液圧室側に）に変位（下降）する。
【０１０９】
すなわち、液圧の変化をダイアフラム２３が検知してダイアフラム２３が下降する。
【０１１０】
前記ダイアフラム２３の下降に連動してセンターシャフト２９も下方に移動する。そして、センターシャフト２９は、下降の途中でフランジ４５の下端が排気用弁体３５の上部小径部３７の上端に接触する。この時、排気用弁体３５はガス圧により上方に付勢されているので、ガス排気弁３４は、排気用弁体３５のシール体４１が排気用弁座４２に着座した閉状態を保持している。また、センターシャフト２９の下降により、リフトロッド４７の駆動部４９の上端は、ボール体９０の下方に遠ざかる。
【０１１１】
前記液圧の低下によりダイアフラム２３とともにセンターシャフト２９が下降する途中でセンターシャフト２９のフランジ４５の下端が排気用弁体３５の上部小径部３７の上端に当接した状態の要部を簡略化して図５に示す。なお、図５においては、要部にのみ符号を付してある。
【０１１２】
なお、センターシャフト２９の移動距離がリフトばね４３を収縮させている間隔、すなわち、シールワッシャ３２の上面と下部大径穴３９の底面との距離がリフトばね４３の自由長を超えると、リフトばね４３の上端が排気用弁体３５から離間することになる。ここで、リフトばね４３の上端を下部大径穴３９の底面に保持させる構成とした場合には、リフトばね４３の下端がシールワッシャ３２の上面から離間することになる。
【０１１３】
ついで、ダイアフラム２３とともにセンターシャフト２９がさらに下降すると、フランジ４５の下端が排気用弁体３５を下方へ押し下げて、排気用弁座４２から排気用弁体３５のシール体４１を引き剥がすように離間させてガス排気弁３４が開状態となる。このようにガス排気弁３４が閉状態から開状態となることで、ガス室２５に封入されているガスがガス排気孔９３を通過して外部に排気され、ガス室２５の圧力が低下する。また、排気用弁座４２から排気用弁体３５のシール体４１を離間させると同時に、シャフトばね４４の付勢力により排気用弁体３５が離間しているリフトばね４３の上端に勢いよく移動して排気用弁座４２とシール体４１との間隔が大きくなってガス排気弁３４は大きく開くことになる。その結果、ガス排気弁３４の開状態を確実に保持させることができる。
【０１１４】
前記ガス排気弁３４が開状態となってガス室２５に封入されたガスが外部に排気されるガス排気状態を簡略化して図６に示す。なお、図６においては、要部にのみ符号を付してある。
【０１１５】
ついで、ガス室２５に封入されているガスの排気によりガス室２５の圧力が低下すると、ガス室２５のガス圧と液体室２４の液圧との差が徐々に小さくなり、ダイアフラム２３は、逆方向である上方に向かって変位（上昇）することになる。このダイアフラム２３の上昇にともなってセンターシャフト２９およびリフトばね４３も上昇し、リフトばね４３は、上昇の途中で排気用弁体３５に下方から当接し、その後、排気用弁体３５とともに上昇する。
【０１１６】
前記ダイアフラム２３の上昇にともなう排気用弁体３５の上昇は、ガス室２５のガス圧と液体室２４の液圧とがほぼ同一になるまで継続する。そして、ガス室２５のガス圧と液体室２４の液圧とがほぼ同一になった時点で、排気用弁体３５のシール体４１が排気用弁座４２に当接してガス排気弁３４が開状態から閉状態とされ、ガス排気弁３４からのガスの排気が終了し、図３に示す定常状態に復帰する。
【０１１７】
つぎに、液体室２４を通過する液体の圧力が上昇する場合について説明する。
【０１１８】
本実施形態のアキュムレータ２０において、液体室２４を通過する液体の圧力が、例えば、０．５ＭＰａから２．０ＭＰａに上昇した場合（ガス圧は、０．５ＭＰａ）には、液圧がガス圧より高くなるので、ガス圧と液圧との差圧によりダイアフラム２３が上方（ガス室側）に変位（上昇）する。
【０１１９】
すなわち、液圧の変化をダイアフラム２３が検知してダイアフラム２３が上昇する。
【０１２０】
前記ダイアフラム２３の上昇に連動してセンターシャフト２９も上方に移動する。そして、センターシャフト２９は、上昇の途中で、リフトロッド４７の駆動部４９の上端がガス吸気弁３３のボール体９０の下部に当接する。
【０１２１】
ついで、ダイアフラム２３のさらなる上昇によりセンターシャフト２９もさらに上昇するが、リフトロッド４７は、密着しないように設定されているリフトばね４３が収縮してセンターシャフト２９のロッド収容穴４６の底面にリフトロッド４７の支持部５０の下端面が当接するまでは、リフトロッド４７の駆動部４９の上端がガス吸気弁３３のボール体９０の下部に当接した状態を保持するように移動を停止しており、ガス排気弁３４は閉状態を保持している。
【０１２２】
前記センターシャフト２９のロッド収容穴４６の底面にリフトロッド４７の支持部５０の下端面が当接した状態を簡略化して図７に示す。なお、図７においては、要部にのみ符号を付してある。
【０１２３】
ついで、センターシャフト２９のロッド収容穴４６の底面にリフトロッド４７の支持部５０の下端面が当接した後のダイアフラム２３のさらなる上昇にともなってセンターシャフト２９もさらに上昇する。そして、センターシャフト２９がさらに上昇すると、リフトロッド４７の駆動部４９の上端がガス吸気弁３３のボール体９０の下部に当接してボール体９０を上方へ押し上げる。これにより、ガス供給用弁座８９からボール体９０を引き剥がすように離間させることができるので、ガス吸気弁３３は、ボール体９０がガス吸気用弁座８９から離間して開状態となる。このガス吸気弁３３が閉状態から開状態となることで、ガス供給配管１２から高圧のガスが内部連通孔９５を介してガス室２５に吸気され、ガス室２５に封入されるガスの充填量が増加してガス圧が上昇する。
【０１２４】
前記ガス吸気弁３３が開状態となってガス室２５にガスが吸気されるガス吸気状態を簡略化して図８に示す。なお、図８においては、要部にのみ符号を付してある。
【０１２５】
ついで、ガス室２５へのガスの吸気によりガス室２５に封入されるガスの充填量が増加してガス圧が上昇すると、ガス室２５のガス圧と液体室２４の液圧との差が徐々に小さくなり、ダイアフラム２３は、逆方向である下方に向かって変位（下降）することになる。このダイアフラム２３の下降にともなってセンターシャフト２９およびリフトロッド４７も下降する。この時、センターシャフト２９およびリフトロッド４７は、下降の途中で、センターシャフト２９のロッド収容穴４６の底面からリフトロッド４７の支持部５０の下端面が離間し、その後、リフトロッド４７は、ロッドばね５１の付勢力により基部４８が止め輪５２に当接するように移動を停止する。
【０１２６】
前記リフトロッド４７の移動の停止は、基部４８が止め輪５２に当接して上昇端に達するまで継続され、上昇端に達した後は、センターシャフト２９とともに下降する。
【０１２７】
前記ダイアフラム２３の下降にともなうセンターシャフト２９およびリフトロッド４７の下降は、ガス室２５のガス圧と液体室２４の液圧とがほぼ同一になるまで継続する。そして、ガス室２５のガス圧と液体室２４の液圧とがほぼ同一になる直前で、リフトロッド４７の駆動部４９の上端がボール体９０から離間する。この時、ボール体９０は、ガス供給配管１２から供給されるガスの圧力およびボール用ばね９１の付勢力によりガス供給用弁座８９に当接する。これにより、ガス吸気弁３３が開状態から閉状態とされ、ガス吸気弁３３からのガスの吸気が終了し、図３に示す定常状態に復帰する。
【０１２８】
なお、アキュムレータ２０は、ガス吸気弁３３からのガスの吸気状態において、排気用弁体３５はガス圧により上方に付勢されているので、ガス排気弁３４はガス室２５の圧力が上昇しても閉状態を保持している。
【０１２９】
つぎに、ガス室２５に異常のある場合について説明する。
【０１３０】
まず、ガス室２５にガスが無い場合について説明する。
【０１３１】
本実施形態のアキュムレータ２０において、アキュムレータ２０の設定時にガス室２５にガスを封入するのを忘れた、アキュムレータ２０の設定中にガス供給配管１２からガスが漏れた、ガス室２５からガスが抜けたなどの何らかの理由によりガス室２５にガスが無い場合には、液圧によりダイアフラム２３が上昇することになるが、このダイアフラム２３の上昇は、上プレート２７の上面がガス室２５に設けられたストッパ７６に下方から当接して停止させることができる。その結果、安全性を確保することができるようになっている。
【０１３２】
前記ガス室２５にガスが無いガス異常状態を図９に示す。なお、図９においては、要部にのみ符号を付してある。
【０１３３】
つぎに、ガス室２５に封入したガスが外部に漏れる場合について説明する。
【０１３４】
本実施形態のアキュムレータ２０において、何らかの理由によりガス室２５に封入したガスが外部に漏れると、前述した液体室２４を通過する液体の圧力が上昇する場合と同様に、ダイアフラム２３がガスの漏れ量に比例して上昇し、ガス吸気弁３３が閉状態から開状態となることで、ガス供給配管１２から高圧のガスが内部連通孔９５を介してガス室２５に吸気され、ガス室２５に封入されるガスの充填量が増加してガス圧が上昇する。
【０１３５】
すなわち、ガス室２５に封入したガスが外部に漏れると、ガス吸気弁３３を開状態としてガス室２５にガスを自動的に補充することができる。勿論、ガス室２５にガスを補充したら、ガス吸気弁３３は自動的に閉状態となる。
【０１３６】
このように、本実施形態のアキュムレータ２０によれば、液圧が周期的な変動範囲を超えて変化した場合、この液圧の変化をダイアフラム２３により検知して、液圧の変化によるダイアフラム２３の変位に連動させてガス吸気弁３３およびガス排気弁３４を開閉させることでガス室２５の圧力を液圧に合わせて自動調節することが容易かつ確実にできる。その結果、液圧が変化してもダイアフラム２３を予め設定された位置に保持させることが容易かつ確実にできる。
【０１３７】
したがって、本実施形態のアキュムレータ２０によれば、ダイアフラム２３に悪影響を与えることがない。
【０１３８】
また、本実施形態のアキュムレータ２０によれば、ガス室２５に封入したガスが外部に漏れた場合、液圧に合わせてガス吸気弁３３を介してガス室２５にガスを補充することが容易にかつ確実にできる。
【０１３９】
さらに、本実施形態のアキュムレータ２０によれば、ダイアフラム２３が、本体側に配置された円形状の第１ダイアフラム２３Ａと、カバー側に配置された円環状の第２ダイアフラム２３Ｂとを有しており、ガス室２５には、ガス排気弁３４の開閉を行う弁棒としてのセンターシャフト２９の一端が第２ダイアフラム２３Ｂに取り付けられて配設されているとともに、このセンターシャフト２９の他端には、ガス吸気弁３３の開閉を行う弁棒としてのリフトロッド４７がセンターシャフト２９の軸方向に沿って移動可能に配設されているから、ガス吸気弁３３およびガス排気弁３４のそれぞれの開閉をダイアフラム２３の変位に連動させて行うことが容易かつ確実にできる。
【０１４０】
また、本実施形態のアキュムレータ２０によれば、ガス排気弁３４がポペット弁であるから、ガス排気弁３４の開閉にフリクションの発生をともなうことがないので、長期間に亘り安定した機能を保持させることができる。
【０１４１】
本実施形態の塗装装置１によれば、アキュムレータ２０が液圧が脈動範囲を超えて変化した場合、この液圧の変化をダイアフラム２３により検知して、液圧の変化によるダイアフラム２３の変位に連動させてガス吸気弁３３およびガス排気弁３４を開閉させることでガス室２５の圧力を液圧に合わせて自動調節することが容易かつ確実にできるので、塗料の変更にともなうアキュムレータ２０の再設定などを省くことができる。これにより、例えば、０．５ＭＰａ程度の液圧により移送する溶剤系の塗料と、２．０ＭＰａ程度の液圧により移送する水系の塗料との切り換えを短時間で容易に行うことができることになる。
【０１４２】
また、本実施形態の塗装装置１によれば、アキュムレータ２０のガス室２５に充填したガスが外部へ漏洩した場合には、ガス室２５にガスを自動的に補充することができるので、メンテナンスに必要な労力と経済的な負担を低減することができる。
【０１４３】
したがって、本実施形態のアキュムレータ２０および塗装装置１によれば、使い勝手の向上による高性能化を確実かつ容易に図ることができる。
【０１４４】
なお、本発明のアキュムレータは、塗料だけでなく、各種の液体の脈動の吸収などに用いることができる。
【０１４５】
また、本発明の塗装装置は、車両のパネルだけでなく、各種の製品の塗装に用いることができる。
【０１４６】
また、本発明は、前述した実施形態に限定されるものではなく、必要に応じて種々の変更が可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１４７】
【図１】本発明に係る塗装装置の実施形態の全体構成の要部を示す系統図
【図２】本発明に係るアキュムレータの実施形態の定常状態における要部を示す断面図
【図３】図２の要部の拡大断面図
【図４】図２の要部の平面図
【図５】図２のアキュムレータの液体室を通過する液体の圧力が低下した場合における動作の途中経過におけるセンターシャフトのフランジの下端が排気用弁体の上部小径部の上端に当接した状態の要部を簡略化して示す断面図
【図６】図５に続くアキュムレータの液体室を通過する液体の圧力が低下場合における動作の途中経過におけるガス排気弁が開状態となってガス室に封入されたガスが外部に排気されるガス排気状態を簡略化して示す図５と同様の図
【図７】図２のアキュムレータの液体室を通過する液体の圧力が上昇した場合における動作の途中経過におけるセンターシャフトのロッド収容穴の底面にリフトロッドの支持部の下端面が当接した状態を簡略化して示す図５と同様の図
【図８】図７に続くアキュムレータの液体室を通過する液体の圧力が上昇した場合における動作の途中経過におけるガス吸気弁が開状態となってガス室にガスが吸気されるガス吸気状態を簡略化して示す図５と同様の図
【図９】図２のアキュムレータのガス室にガスが無いガス異常状態を簡略化して示す図５と同様の図
【符号の説明】
【０１４８】
１  塗装装置
２  液体供給配管
３  液体戻し配管
４  液圧レギュレータ
５  塗装ガン
６  ポンプ
７  塗料タンク
１２  ガス供給配管
１３  空気圧縮機
１４  増圧器
２０  アキュムレータ
２１  本体
２２  カバー体
２３  ダイアフラム
２３Ａ  第１ダイアフラム
２３Ｂ  第２ダイアフラム
２４  液体室
２５  ガス室
２９  センターシャフト
３３  ガス吸気弁
３４  ガス排気弁
４７  リフトロッド
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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