(57)【要約】【課題】  被処理水が滞留する水滞留領域に水質検出センサが設置された構成の水処理装置において、水質検出センサのセンサ校正を合理的に行うのに有効な技術を提供する。【解決手段】  本発明に係る水処理装置１００では、嫌気濾床槽１３０に水質検出センサ１４０が設置されるとともに、この水質検出センサ１４０は、センサ校正時に排水ポンプが排水を行うことによって、嫌気濾床槽１３０における浸水が解除された浸水解除状態に自動で設定されるように構成されている。【選択図】      図１
2008212807.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理水に対し水処理を行う水処理機構を処理槽に収容する水処理装置であって、
前記水処理機構のうち被処理水が滞留する水滞留領域における水質情報を検出する水質検出センサと、
前記水滞留領域に滞留した被処理水の水位と前記水質検出センサとの間の相対的な高さを可変とすることによって、前記水質検出センサを水中に浸水した浸水状態と、当該浸水状態を解除した浸水解除状態に制御可能な制御手段と、
を備え、
前記水質検出センサは、水質検出時に前記制御手段によって前記浸水状態に制御される一方、センサ校正時に前記処理槽内に閉鎖された状態で前記制御手段によって前記浸水解除状態に制御される構成であることを特徴とする水処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の水処理装置であって、
前記水質検出センサは、前記水滞留領域の所定位置に固定される構成であり、
前記制御手段は、前記水滞留領域における被処理水の流入量ないし流出量を制御することによって、当該水滞留領域に滞留した被処理水の水位を可変とする構成であり、これによって前記水滞留領域に滞留した被処理水の水位と前記水質検出センサとの間の相対的な高さが可変とされることを特徴とする水処理装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の水処理装置であって、
前記水質検出センサに作用する圧力情報を検出する圧力検出部と、
前記水質検出センサのセンサ校正を行う校正処理部と、
を備え、
前記制御手段が前記水質検出センサを前記浸水解除状態に制御したとき、前記圧力検出部によって検出された圧力情報に基づいて、前記水質検出センサに作用する圧力が大気圧に相当する場合に前記校正処理部が作動する構成であることを特徴とする水処理装置。
【請求項４】
請求項３に記載の水処理装置であって、
前記校正処理部によるセンサ校正時に前記圧力検出部によって検出された圧力情報に基づいて、前記水質検出センサに作用する圧力が大気圧に相当する場合にこの水質検出センサにて検出した検出情報のみを、前記校正処理部におけるセンサ校正用データとする構成であることを特徴とする水処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、水処理装置に係り、詳しくは水処理装置において被処理水が滞留する水滞留領域に設置される水質検出センサに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、一般家庭等から排出される生活排水や、産業廃水等の汚水などの被処理水を処理する各種の水処理装置においては、被処理水が滞留する水滞留領域に水質検出センサを設置し、この水質検出センサによって濁度やＳＳといった種々の水質を検出する構成が知られている。ところで、このような水質検出センサにおいては、長期間にわたる使用による経年劣化等によってセンサ検出性能が低下することが懸念されるところ、定期的に水質検出センサのセンサ校正処理を行うのが好ましい。このセンサ校正に関しては、下記特許文献１に記載のように、作業者が水質検出センサ自体を処理槽内から処理槽外へと手動で取り出して、処理槽外の大気中ないし清水中においてセンサ校正処理を行うのが一般的であった。
【特許文献１】特開２００１−５６２９１号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、特許文献１に記載の方法では、現場設置された各水処理装置まで作業者が出向いて水質検出センサのセンサ校正処理を直に行う必要があるため、センサ校正に手間がかかるという問題を抱えている。
そこで、本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、被処理水が滞留する水滞留領域に水質検出センサが設置された構成の水処理装置において、水質検出センサのセンサ校正を合理的に行うのに有効な技術を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
前記課題を解決するために、本発明が構成される。
【０００５】
本発明にかかる水処理装置は、被処理水に対し水処理を行う水処理機構を処理槽に収容する構成の水処理装置であって、水質検出センサ及び制御手段を少なくとも備える。
【０００６】
水質検出センサは、水処理機構のうち被処理水が滞留する水滞留領域における水質情報を検出するセンサとして構成される。ここでいう「水処理機構」は、各種の被処理水に対し所定の水処理を行うための機構であり、典型的に夾雑物や固形物の除去処理を行う部位、被処理水中の有機汚濁物質を好気処理、嫌気処理或いは濾過処理する部位、被処理水中の一時的な貯留や消毒処理を行う部位等を、必要に応じて適宜組み合わせることによって構成される。また、ここでいう「水質情報」には、水の濁度、透視度、ＳＳ（浮遊懸濁物質量）、ＢＯＤ（生物化学的酸素要求量）、ＤＯ（溶存酸素）、ｐＨ、紫外線（ＵＶ）吸光度などの水質に関する情報が広く包含される。
【０００７】
制御手段は、水滞留領域に滞留した被処理水の水位と水質検出センサとの間の相対的な高さを可変とすることによって、水質検出センサを水中に浸水した浸水状態と、当該浸水状態を解除した浸水解除状態に制御可能な手段として構成される。このような構成において、水質検出センサは、水質検出時に制御手段によって水中に浸水した浸水状態に制御される。一方、この水質検出センサは、センサ校正時に処理槽内に閉鎖された状態で制御手段によって浸水が解除された浸水解除状態に制御される。本発明において、この制御手段の具体的な構成に関しては、水滞留領域に滞留した被処理水の水位を変更することによって水質検出センサの浸水状態と浸水解除状態を切り換える第１の構成、水質検出センサを上下方向に駆動して水位に対する上下位置を自動で変更することによって、水質検出センサの浸水状態と浸水解除状態を切り換える第２の構成、前記の第１及び第２の構成を組み合わせた構成などが採用され得る。また、ここでいう水質検出センサのセンサ校正に関しては、大気中或いは清水中において行うセンサ校正処理が包含される。
【０００８】
本発明にかかる水処理装置のこのような構成によれば、センサ校正時に制御手段によって水質検出センサを浸水解除状態に制御して、水質検出センサのセンサ校正を自動で行うことが可能となるため、センサ校正時に作業者が水質検出センサ自体を処理槽内から処理槽外へと直に取り出す必要がなく合理的である。
また、本実施の形態では、水質検出センサは、センサ校正時に処理槽内に閉鎖された状態で浸水解除状態に制御されるため、センサ校正処理が太陽光や外乱光による影響を受けにくくなる。従って、センサ校正処理の精度が高まるうえ、外乱による影響を判定する判定回路等を設ける必要がなく構造が簡素化される。とりわけ、家庭の生活排水を受け入れて処理する家庭用の水処理装置にあっては、保守点検の頻度が工場などに比べて低く（例えば４ヶ月に１回）、水質検出センサが長期間にわたって使用されるところ、次回の保守点検までの間にセンサ校正を適正に行う要請が高い。そこで、本構成のごとく、センサ校正処理が外乱による影響を受けにくい構造が特に効果的とされる。
【０００９】
本発明にかかる更なる形態の水処理装置では、前記の水質検出センサは、水滞留領域の所定位置に固定される構成とされる。また、前記の制御手段は、水滞留領域における被処理水の流入量ないし流出量を制御することによって、当該水滞留領域に滞留した被処理水の水位を可変とする構成であり、これによって水滞留領域に滞留した被処理水の水位と水質検出センサとの間の相対的な高さが可変とされる。ここでいう「被処理水の流入量ないし流出量の制御」に関しては、被処理水の流入ないし流出を停止或いは開始する態様や、被処理水の流入量ないし流出量を変更する態様などによって当該制御が可能とされる。
このような構成によれば、水滞留領域に滞留した被処理水の水位を変更することによって、水滞留領域側に固定状態の水質検出センサの浸水状態と浸水解除状態を切り換えることが可能となるため、水質検出センサを上下方向に駆動する構成に比して構造が簡素化され装置コスト低減効果が得られる。
【００１０】
本発明にかかる更なる形態の水処理装置は、更に圧力検出部及び校正処理部を備える。圧力検出部は、水質検出センサに作用する圧力情報を検出する機能を有する。校正処理部は、水質検出センサのセンサ校正を行う機能を有する。そして、制御手段が水質検出センサを浸水解除状態に制御したとき、圧力検出部によって検出された圧力情報に基づいて、水質検出センサに作用する圧力が大気圧に相当する場合に校正処理部が作動する構成とされる。すなわち、水質検出センサが大気に露出しておりセンサ校正を行うのに好ましい状態であることを確認したうえでセンサ校正を行うようにしている。このような構成によれば、センサ校正処理の信頼性を高めるのに効果的である。
【００１１】
本発明にかかる更なる形態の水処理装置では、前記の校正処理部によるセンサ校正時に圧力検出部によって検出された圧力情報に基づいて、水質検出センサに作用する圧力が大気圧に相当する場合にこの水質検出センサにて検出した検出情報のみを、校正処理部におけるセンサ校正用データとする構成とされる。このような構成によれば、センサ校正用データとして適正な検出情報のみを使用することが可能となるため、センサ校正処理の更なる信頼性向上が図られる。
【発明の効果】
【００１２】
以上のように、本発明によれば、被処理水が滞留する水滞留領域に水質検出センサが設置された構成の水処理装置において、特に水質検出センサを、センサ校正時に処理槽内に閉鎖した状態で浸水解除状態に制御する構成を採用することによって、作業者が水質検出センサ自体を処理槽外へと直に取り出すことなく自動でセンサ校正を行うことができ、これにより水質検出センサのセンサ校正を合理的に行うことが可能となった。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下に、本発明における一実施の形態の水処理装置を図面に基づいて説明する。なお、本実施の形態は、一般家庭等から排出される被処理水の水処理を行う水処理装置（浄化槽）の構築技術について説明するものである。
【００１４】
本発明における「水処理装置」の一実施の形態の水処理装置１００の処理フローが図１に示される。
図１に示すように、本実施の形態の水処理装置１００は、槽状に成形された槽本体１０１の内部に各種の水処理機構を収容している。この槽本体１０１が、本発明における「処理槽」に相当する。大別すると、処理工程の順に対応して上流（図１中の左側）から夾雑物除去槽１１０、嫌気濾床槽１３０、接触ばっ気槽１５０、沈澱槽１７０、消毒槽１９０の各水処理機構が、槽本体１０１に収容される。このような構成の槽本体１０１の内部に流入した排水は、夾雑物除去槽１１０、嫌気濾床槽１３０、接触ばっ気槽１５０、沈澱槽１７０、消毒槽１９０で順次水処理されたのち、槽本体１０１の外部へ放流される。なお、本実施の形態では、各槽において処理される排水および当該排水を処理する処理過程において流れる水を「被処理水」ないし「水」と記載する。
【００１５】
夾雑物除去槽１１０は、槽本体１０１の最上流部に配置されており、流入口（図示省略）を通じて当該夾雑物除去槽１１０に被処理水が流入する構成になっている。この夾雑物除去槽１１０は、被処理水中に含まれる夾雑物を、流入バッフル（図示省略）などの固液分離手段を用いて被処理水から分離する処理を行う槽であり、被処理水の固液分離機能を果たす。この夾雑物除去槽１１０において夾雑物の除去処理がなされたあとの水は、その下流に配置された嫌気濾床槽１３０へと移流する。
【００１６】
嫌気濾床槽１３０は、被処理水中の有機汚濁物質を嫌気処理（還元）する機能を有する処理槽として構成される。典型的には、有機汚濁物質を嫌気処理する嫌気性微生物が付着する所定量の濾材が嫌気濾床に充填された構成を有する。この嫌気処理によってＢＯＤの低減と汚泥物の減量化が図られる。この嫌気濾床槽１３０で処理されたあとの水は、その下流に配置された接触ばっ気槽１５０へと移流する。
【００１７】
接触ばっ気槽１５０は、被処理水中の有機汚濁物質を好気処理（酸化）する機能を有する処理槽として構成される。典型的には、有機汚濁物質を好気処理する好気性微生物が付着する所定量の接触材が充填されるとともに、接触材にブロワ（送風機）から送り込まれる空気が供給される構成を有する。本構成において、接触材に付着した好気性微生物は、ブロワ（送風機）から送り込まれる空気中の酸素の助けによって、被処理水中の有機汚濁物質を好気処理する。この接触ばっ気槽１５０で処理された水は、その一部が移送ポンプなどの移送手段によって夾雑物除去槽１１０に循環水として循環される一方、残りが下流に配置された沈殿槽１７０へと移流する。なお、夾雑物除去槽１１０へと循環される循環水は、典型的には汚泥等の固形分を含む水とされる。
【００１８】
沈殿槽１７０は、接触ばっ気槽１５０から移流した水を一時的に滞留させて、水中の浮遊物質を沈殿・除去する機能を有する処理槽として構成される。この沈殿槽１７０で処理されたあとの水は、その下流に配置された消毒槽１９０へと移流する。
【００１９】
消毒槽１９０は、処理水槽１７０から流入した水を消毒処理する機能を有する処理槽であり、典型的には、消毒処理を行うための消毒剤（固形塩素剤）が充填された薬剤筒（後述する薬剤筒１９１）を備えている。この消毒槽１９０において消毒処理された水は、槽本体１０１の外部へと放流される。
【００２０】
ここで、上記の嫌気濾床槽１３０の具体的な構成に関しては、図２が参照される。この図２には、本実施の形態の嫌気濾床槽１３０の槽内構成が示されている。図２に示すように、本実施の形態の嫌気濾床槽１３０は、濾材１３１ａが充填された嫌気濾床１３１、排水ポンプ１３２、水位検出部１３３及び水質検出センサ１４０を槽内に備える。
【００２１】
排水ポンプ１３２は、嫌気濾床槽１３０で処理されたあとの水を接触ばっ気槽１５０へと移送するべく排水を行うポンプとして構成される。典型的には、エアリフト作用（「空気の流れ作用」ともいう）を利用して排水を行うエアリフト式のポンプや、電動式の水中ポンプなどによって、この排水ポンプ１３２が構成される。また、この排水ポンプ１３２は、後述する「センサ大気校正制御」において、嫌気濾床槽１３０の槽内水位を下げる目的においても使用されるように構成されている。
【００２２】
水位検出部１３３は、嫌気濾床槽１３０の槽内水位を検出する機能を有し、典型的には、槽内水位が低水位（ＬＷＬ）や高水位（ＨＷＬ）になったことを検出する水位センサ、例えばフロート式水位センサなどによって構成される。この水位検出部１３３において検出された水位情報は、後述するセンサ校正システム２００の制御部２１０に出力される。
【００２３】
水質検出センサ１４０は、本発明における「水滞留領域」としての嫌気濾床槽１３０内の水質を検出する機能を有し、典型的には、濁度、透視度、ＳＳ（浮遊懸濁物質量）などを検出する水質検出センサとして構成される。詳細については後述するが、この水質検出センサ１４０は、嫌気濾床槽１３０内の所定位置に固定される構成であり、嫌気濾床槽１３０の水位が高水位（ＨＷＬ）にある場合には、少なくともその検出部分（実質的なセンシング部位）が浸水状態とされる一方、嫌気濾床槽１３０の水位が低水位（ＬＷＬ）に達した場合には、その検出部分が浸水解除状態、すなわち大気露出状態とされるように配設されている。この水質検出センサ１４０が、本発明における「水質検出センサ」に相当する。
【００２４】
ここで、上記水質検出センサ１４０、及びこの水質検出センサ１４０を含めたセンサ校正システム２００のシステムの具体的な構成に関しては、図３が参照される。この図３には、本実施の形態のセンサ校正システム２００のシステム構成が示されている。図３に示すように、本実施の形態のセンサ校正システム２００は、水質検出センサ１４０、排水ポンプ１３２、水位検出部１３３及び制御部２１０を主体として構成される。
【００２５】
本実施の形態の水質検出センサ１４０は、そのセンサハウジング１４０ａ内に、水質検出部１４１、圧力検出部１４５、演算処理部１４６及び表示部１４７を少なくとも収容する構成とされる。水質検出部１４１は、水質検出センサ１４０の各部位のうち、嫌気濾床槽１３０内の被処理水の水質を実質的に検出する部位とされ、いわゆる「透過光方式の水質センサ」として構成される。この水質検出部１４１は、ＬＥＤなどによる投光素子を内装した投光部１４２、受光素子を内装した受光部１４３、これら投光部１４２と受光部１４３との間において、浸水状態においてのみ試料（嫌気濾床槽１３０内の被処理水）が滞留する試料セル部１４４からなる。
【００２６】
投光部１４２から照射され試料セル部１４４を通過した入射光ないし透過光は、受光部１４３の受光素子によりその光強度が電気信号に変換され、演算処理部１４６に出力される。この演算処理部１４６では、受光部１４３の受光素子における電気信号に基づいて吸光度が演算される。この吸光度は、典型的には、試料セル部１４４に試料が存在する場合と存在しない場合で受光部１４３が検出した光強度の比率から求められる。この演算処理部１４６では、演算した吸光度に基づいて、更に濁度などの水質情報が演算され、表示部１４７及び制御部２１０に出力される。例えば水質情報として濁度を検出する場合、予め作成された光強度と濁度との関係を示す検量線を使用し、検出した光強度から濁度が換算される。
【００２７】
圧力検出部１４５は、水質検出センサ１４０に作用する圧力を検出する圧力センサとして構成される。この圧力検出部１４５によって連続的或いは一定時間毎に検出された圧力検出情報は、水質検出センサ１４０によって検出された水質情報と同様に、演算処理部１４６を経由して制御部２１０に出力される。この圧力検出部１４５が、本発明における「圧力検出部」に相当する。なお、圧力検出部１４５は、図３に示すように、水質検出センサ１４０のセンサハウジング１４０ａ内に収容された構成、すなわち水質検出センサ１４０の一構成要素とされてもよいし、或いは水質検出センサ１４０とは別個に構成されるものであってもよい。
【００２８】
制御部２１０は、水質検出センサ１４０の演算処理部１４６から出力された情報と、水位検出部１３３から出力された情報とに基づいて、排水ポンプ１３２を制御する機能を有する。なお、この制御部２１０は、水処理装置１００において排水ポンプ１３２のみの制御にのみ使用されてもよいし、また排水ポンプ１３２に加えて別の機器の制御に使用されてもよい。また、この制御部２１０は、１または複数の水処理装置１００に対して設置される。この場合の制御部２１０の設置箇所は、水処理装置１００自体が設置されている設置箇所の近傍領域であってもよいし、また当該近傍領域にかえて或いは加えて、水処理装置１００から離間して遠隔監視がなされる離間領域であってもよい。
【００２９】
ところで、上記構成の水質検出センサ１４０を長期間にわたって使用した場合、経年劣化等によって、投光部１４２の投光素子における投光量や、受光部１４３の受光素子における受光感度が低下することが懸念される。そこで、定期的に水質検出センサ１４０の校正処理を行い、水質検出を適正に行うのが好ましい。従来、このセンサ校正処理は、作業者が水質検出センサ自体を処理槽内から処理槽外へと手動で取り出して、処理槽外の大気中ないし清水中において行なわれるのが一般的であった。しかしながら、この方法では、作業者が現場設置された各水処理装置まで出向いて水質検出センサのセンサ校正処理を直に行う必要があり、センサ校正に手間がかかるという問題を抱えているところ、これまで合理的な校正処理が望まれていた。そこで、本発明者は、水質検出センサの校正処理の合理化を図るべく、本実施の形態のセンサ校正システム２００を用いた制御を想到したのである。
【００３０】
ここで、水質検出センサ１４０を大気校正するセンサ大気校正制御に関し、図４及び図５を参照しつつ説明する。ここで、図４には、本実施の形態の水質検出センサ１４０のセンサ大気校正制御に関する処理フローが示され、図５には、本実施の形態の水質検出センサ１４０が装着された嫌気濾床槽１３０においてセンサ大気校正時の様子が示される。
【００３１】
図４に示すように、本実施の形態のセンサ大気校正制御は、ステップＳ１０１〜Ｓ１０４が順次遂行されることによって可能となる。この一連のセンサ大気校正制御は、タイマ等の制御により定期的に遂行されてもよいし、或いは特定の操作スイッチなどの手動操作を起点として遂行されてもよい。
【００３２】
まず、ステップＳ１０１では、水質検出センサ１４０のセンサ洗浄を行う。このセンサ洗浄は、水質検出センサ１４０に対し水流を付与する構造、バブリング構造、圧力水を噴射する構造などによって可能となる。このセンサ洗浄は、必要に応じて省略することもできる。
【００３３】
次に、ステップＳ１０２では、制御部２１０が排水ポンプ１３２を制御することによって、嫌気濾床槽１３０内の水を下流の接触ばっ気槽１５０へと排水する排水制御を行う。この排水制御によって、図５に示すように、嫌気濾床槽１３０の槽内水位を低水位（ＬＷＬ）まで低下させることができ、水質検出センサ１４０の水質検出部１４１が大気中に露出した状態が形成される。すなわち、制御部２１０による排水ポンプ１３２によって嫌気濾床槽１３０における被処理水の水位が可変とされ、これによって嫌気濾床槽１３０における被処理水の水位と水質検出センサ１４０との間の相対的な高さが可変とされて、水質検出センサ１４０が水質検出時に浸水状態に設定される一方、センサ校正時に浸水解除状態に設定される。従って、ここでいう排水ポンプ１３２、及びこの排水ポンプ１３２を制御する制御部２１０によって、本発明における「制御手段」が構成される。
【００３４】
次に、ステップＳ１０３によってセンサ大気露出検知を行い、水質検出センサ１４０が大気に確実に露出しており、大気校正を行うのに好ましい状態であるか否かを検知する。具体的には、圧力検出部１４５によって検出された圧力検出情報に基づいて、検出圧力が大気圧に合致している場合に、水質検出センサ１４０が大気に露出していると判定する。また、水位検出部１３３によって検出された水位検出情報に基づいて、嫌気濾床槽１３０の槽内水位が低水位（ＬＷＬ）である場合に、水質検出センサ１４０が大気に露出していると判定する。本実施の形態では、圧力検出部１４５及び水位検出部１３３のうちの少なくとも一方の検出情報を用いて、水質検出センサ１４０が大気に露出しているか否かを判定するのが好ましい。
【００３５】
なお、必要に応じては、このステップＳ１０３の終了時や前述のステップＳ１０２の終了時に、水質検出センサ１４０のセンサ洗浄を行うステップを設ける構成を採用することもできる。この場合、ワイパー部材を用いてセンサ面の拭き洗浄を行うワイパー式洗浄や、エア噴射によるエア式洗浄などを用いてセンサ洗浄を行うのが好ましい。このような構成によれば、排水制御が終了しているにも関わらず、水質検出センサ１４０のセンサ部分に水滴が残留付着している等の理由によってセンサ大気露出が適正に行われないような場合に対応することが可能となる。
【００３６】
ステップＳ１０３において水質検出センサ１４０が大気に露出していると判定した場合には、ステップＳ１０４において、水質検出センサ１４０のセンサ大気校正を行う演算処理部１４６が作動して自動でセンサ大気校正を行う。従って、この演算処理部１４６によって、本発明における「水質検出センサのセンサ校正を行う校正処理部」が構成される。このような構成によれば、水質検出センサ１４０が大気に露出していることを圧力検出部１４５や水位検出部１３３によって検出したうえでセンサ校正を行うため、センサ校正の信頼性が高まる。一方、ステップＳ１０３において水質検出センサ１４０が大気に露出していないと判定した場合には、ステップＳ１０３を継続する。この水質検出センサ１４０のセンサ大気校正は演算処理部１４６において行われる。なお、必要に応じてはステップＳ１０３を省略することもできる。この場合、タイマ等の制御によりステップＳ１０２における排水制御開始から一定時間経過後、自動的にステップＳ１０４へと移行する構成を採用することができる。
【００３７】
ステップＳ１０４では、水質検出センサ１４０が大気に露出している状態で、投光部１４２から照射され試料セル部１４４を通過した入射光ないし透過光が、受光部１４３の受光素子によりその光強度が電気信号に変換される。このとき、試料セル部１４４には被処理水が殆ど存在しないため、大気中におけるこの検出情報がセンサ大気校正用データとして演算処理部１４６に出力される。例えば水質情報として濁度を検出する場合、このときの検出結果に基づいて、濁度ゼロの場合の換算係数が求められて格納され、次回の検出時からはこの新たな換算係数に基づいて実際の濁度が算出される。
【００３８】
なお、本実施の形態では、センサ大気校正時においても圧力検出部１４５による圧力の検出を継続し、この圧力検出部１４５によって検出された圧力情報に基づいて、水質検出センサ１４０に作用する圧力が大気圧に相当する場合にこの水質検出センサ１４０にて検出した検出情報のみを、センサ大気校正用データとするのが好ましい。例えば、センサ大気校正時に不用意に水位が上昇して水質検出センサ１４０が浸水状態となった場合でも、そのときの検出情報はキャンセルして、センサ大気校正用データとして使用しないように構成することができる。このような構成によれば、センサ大気校正用データとして適正な検出情報のみを使用することが可能となるため、センサ大気校正の信頼性向上が図られる。なお必要に応じては、センサ大気校正時においても圧力検出部１４５による圧力の検出を継続する本構成を省略することもできる。
【００３９】
以上のように、本実施の形態の水処理装置１００を用いれば、嫌気濾床槽１３０において水質検出センサ１４０のセンサ大気校正を自動で行うことが可能となる。具体的には、水質検出センサ１４０を水面上に露出させる処理から大気校正処理が完了するまでの一連の処理の全てを、嫌気濾床槽１３０内に水質検出センサ１４０を配設した状態のまま包括的に自動で行うことが可能となる。これにより、センサ校正時に作業者が水質検出センサ１４０自体を処理槽内から処理槽外へと直に取り出す必要がなく合理的である。特に、センサ大気校正時に排水ポンプ１３２を使用して嫌気濾床槽１３０の槽内水位を下げることによって水質検出センサ１４０を大気に露出される構成を用いることで、水質検出センサ１４０を上下方向に駆動する構成に比して構造が簡素化されるため、装置コスト低減効果が得られる。
【００４０】
また、本実施の形態では、マンホール蓋等によって閉鎖された状態の槽本体の内部で大気校正を行うため、センサ校正処理が太陽光や外乱光による影響を受けにくくなる。従って、大気校正処理の精度が高まるうえ、外乱による影響を判定する判定回路等を設ける必要がなく構造が簡素化される。とりわけ、家庭の生活排水を受け入れて処理する家庭用の水処理装置にあっては、保守点検の頻度が工場などに比べて低く（例えば４ヶ月に１回）、水質検出センサ１４０が長期間にわたって使用されるところ、次回の保守点検までの間にセンサ校正を適正に行う要請が高い。そこで、センサ校正処理が外乱による影響を受けにくい本実施の形態の構造が特に効果的とされる。
【００４１】
〔他の実施の形態〕
なお、本発明は上記の実施の形態のみに限定されるものではなく、種々の応用や変形が考えられる。例えば、上記実施の形態を応用した次の各形態を実施することもできる。
【００４２】
上記実施の形態では、水位が変動する処理領域として嫌気濾床槽１３０に装着された水質検出センサ１４０のセンサ大気校正について記載したが、他の処理領域に設置された水質検出センサのセンサ大気校正や、水位が変化しない処理領域に装着された水質検出センサのセンサ大気校正に関しても同様に、本発明を適用可能である。水位が変化しない処理領域として消毒槽１９０に装着された水質検出センサ１９３のセンサ大気校正に関しては、図６及び図７が参照される。ここで、図６には、本実施の形態の水質検出センサ１９３が装着された消毒槽１９０において水質検出時の様子が示され、図７には、本実施の形態の水質検出センサ１９３が装着された消毒槽１９０においてセンサ大気校正時の様子が示されている。
【００４３】
図６に示すように、消毒槽１９０は、被処理水を消毒処理する消毒剤（固形塩素剤）が充填された薬剤筒１９１、排水ポンプ１３２と同様の排水ポンプ１９２、水質検出センサ１４０と同様の水質検出センサ１９３を備える構成とされ、水質検出センサ１９３が消毒槽１９０内の所定位置に固定されている。水質検出センサ１９３は、本発明における「水滞留領域」としての消毒槽１９０内の水質を検出する機能を有する。この水質検出センサ１９３が、本発明における「水質検出センサ」に相当する。排水ポンプ１９２は、通常運転時、すなわち水質検出センサ１９３による水質検出時においては停止される一方、センサ大気校正時に運転されて、消毒槽１９０内の水を強制的に排水する構成とされる。
【００４４】
従って、この消毒槽１９０では、通常運転時においては、放流管１９０ａによって槽内水位が規定されるため槽内水位が変化しない。これに対し、図７に示すように、センサ大気校正時においては、排水ポンプ１９２が運転されて、水質検出センサ１９３が大気に露出する水位になるまでこの排水ポンプ１９２による排水が行われる。すなわち、図４中のステップＳ１０２と同様の処理が遂行される。その後、図４中のステップＳ１０３及びＳ１０４と同様の処理によってセンサ大気校正を自動で遂行することが可能となる。
このような構成によれば、嫌気濾床槽１３０において水質検出センサ１４０のセンサ大気校正を行う場合と同様に、消毒槽１９０において水質検出センサ１９３のセンサ大気校正を自動で行うことが可能となるため合理的である。
【００４５】
また、上記実施の形態では、嫌気濾床槽１３０や消毒槽１９０のような水滞留領域に滞留した被処理水の水位を変更することによって、水質検出センサを水中に浸水した浸水状態と、当該浸水状態を解除した浸水解除状態に制御する場合について記載したが、本発明では、本構成にかえて或いは加えて、水質検出センサ側を上下方向に駆動して水位に対する上下位置を自動で変更することによって、水質検出センサの浸水状態と浸水解除状態を切り換える構成を採用することもできる。また、水滞留領域に滞留した被処理水の水位を変更する構成を採用する場合、上記実施の形態の排出ポンプ１３２，１９２のような手段を用いる構成をはじめ、水滞留領域における被処理水の流入量ないし流出量を制御する構成を適宜用いることが可能である。
【００４６】
また、上記実施の形態では、被処理水の濁度、透視度、ＳＳを検出する水質検出センサにおけるセンサ校正を典型例として記載したが、その他の水質としてＢＯＤ（生物化学的酸素要求量）、ＤＯ（溶存酸素）、ｐＨ、紫外線（ＵＶ）吸光度などの水質に関する情報を検出する水質検出センサに関し、当該水質検出センサにおけるセンサ校正に対し本発明を適用することもできる。
【００４７】
また、上記実施の形態では、夾雑物除去槽１１０、嫌気濾床槽１３０、接触ばっ気槽１５０、沈殿槽１７０、消毒槽１９０の各水処理機構が槽本体１０１に収容される水処理装置１００について記載したが、本発明では、槽本体１０１に収容する水処理機構の組み合わせは、設計仕様などの必要に応じて適宜変更可能である。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】本発明における「水処理装置」の一実施の形態の水処理装置１００の処理フローを示す図である。
【図２】本実施の形態の嫌気濾床槽１３０の槽内構成を示す図である。
【図３】本実施の形態のセンサ校正システム２００のシステム構成を示す図である。
【図４】本実施の形態の水質検出センサ１４０のセンサ大気校正制御に関する処理フローを示す図である。
【図５】本実施の形態の水質検出センサ１４０が装着された嫌気濾床槽１３０においてセンサ大気校正時の様子を示す図である。
【図６】本実施の形態の水質検出センサ１９３が装着された消毒槽１９０において水質検出時の様子を示す図である。
【図７】本実施の形態の水質検出センサ１９３が装着された消毒槽１９０においてセンサ大気校正時の様子を示す図である。
【符号の説明】
【００４９】
１００…水処理装置
１０１…槽本体
１１０…夾雑物除去槽
１３０…嫌気濾床槽
１３１…嫌気濾床
１３１ａ…濾材
１３２…排水ポンプ
１３３…水位検出部
１４０…水質検出センサ
１４０ａ…センサハウジング
１４１…水質検出部
１４２…投光部
１４３…受光部
１４４…試料セル部
１４５…圧力検出部
１４６…演算処理部
１４７…表示部
１５０…接触ばっ気槽
１７０…沈殿槽
１９０…消毒槽
１９０ａ…放流管
１９１…薬剤筒
１９２…排水ポンプ
１９３…水質検出センサ
２００…センサ校正システム
２１０…制御部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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