(57)【要約】【課題】製造工程を簡略化すると同時に、高精細のパターニングを可能とする有機ＥＬディスプレイの製造方法の提供。【解決手段】透明基板上にｎ種のカラーフィルタ層を形成する工程と；ドライプロセスを用いて（ｎ−１）種の色変換色素を含む色素層を形成する工程と；色素層の上に有機ＥＬ素子を形成する工程と；透明基板側からの色素分解光に色素層を露光して、第ｍ種のカラーフィルタ層に相当する位置に第ｍ種の色変換層を形成する工程とを含み、ｎは２〜６の整数であり、ｍは１〜ｎ−１の整数のそれぞれを表し、ｎ種のカラーフィルタ層のそれぞれは、異なる波長域の光を透過させ、第ｍ種の色変換色素は、第ｍ種のカラーフィルタ層が透過させない光によって分解され、かつ波長分布変換により第ｍ種のカラーフィルタ層が透過する光を放射することを特徴とする有機ＥＬディスプレイの製造方法。【選択図】図１
2008053202.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板上にｎ種のカラーフィルタ層を形成する工程と、
ドライプロセスを用いて、前記ｎ種のカラーフィルタ層上に（ｎ−１）種の色変換色素を含む色素層を形成する工程と、
前記色素層の上に、複数の独立した発光部を有する有機ＥＬ素子を形成する工程であって、該有機ＥＬ素子は、第１電極および第２電極、ならびに第１および第２電極の間に配置される有機ＥＬ層を少なくとも含む工程と、
前記透明基板および前記カラーフィルタ層を通して、色素分解光に対して前記色素層を露光して、第ｍ種のカラーフィルタ層に相当する位置に第ｍ種の色変換層を形成する工程と
を含み、ここで、
ｎは、２〜６の整数であり、
ｍは、１〜ｎ−１の整数のそれぞれを表し、
前記ｎ種のカラーフィルタ層のそれぞれは、異なる波長域の光を透過させ、
第ｍ種の色変換色素は、第ｍ種のカラーフィルタ層が透過させない光によって分解され、
第ｍ種の色変換層は、波長分布変換により第ｍ種のカラーフィルタ層が透過する光を放射する
ことを特徴とする有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項２】
前記色素分解光を露光する工程において、前記複数の独立した発光部にバイアス電圧を印加することを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項３】
前記複数の独立した発光部に順バイアス電圧を印加することを特徴とする請求項２に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項４】
前記複数の独立した発光部の一部のみに順バイアス電圧を印加することを特徴とする請求項２に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項５】
前記色素分解光への露光は複数回にわたって実施され、第ｍ種の色変換色素を分解する波長成分が、前記複数回の露光に用いられる色素分解光のいずれかに含まれていることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項６】
前記複数の独立した発光部に順バイアス電圧を印加して、有機ＥＬディスプレイの発光スペクトルを監視する工程をさらに含み、前記発光スペクトルに基づいて前記色素分解光の光量を制御することを特徴とする請求項２に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項７】
前記複数の独立した発光部に逆バイアス電圧を印加することを特徴とする請求項２に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項８】
前記複数の独立した発光部に順バイアス電圧と逆バイアス電圧とを交互に印加することを特徴とする請求項２に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項９】
前記色素分解光を露光する工程において、前記透明基板を加熱することを特徴とする請求項１から８のいずれかに記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項１０】
透明基板上にｎ種のカラーフィルタ層を形成する工程と、
前記ｎ種のカラーフィルタ層の上に、複数の独立した発光部を有する有機ＥＬ素子を形成する工程であって、該有機ＥＬ素子は、第１電極および第２電極、ならびに第１および第２電極の間に配置される有機ＥＬ層を少なくとも含む工程と、
ドライプロセスを用いて、前記有機ＥＬ素子上に（ｎ−１）種の色変換色素を含む色素層を形成する工程と、
前記色素層上に反射層を形成する工程と、
前記透明基板および前記カラーフィルタ層を通して、色素分解光に対して前記色素層を露光して、第ｍ種のカラーフィルタ層に相当する位置に第ｍ種の色変換層を形成する工程と
を含み、ここで、
ｎは、２〜６の整数であり、
ｍは、１〜ｎ−１の整数のそれぞれを表し、
前記ｎ種のカラーフィルタ層のそれぞれは、異なる波長域の光を透過させ、
第ｍ種の色変換色素は、第ｍ種のカラーフィルタ層が透過させない光によって分解され、
第ｍ種の色変換層は、波長分布変換により第ｍ種のカラーフィルタ層が透過する光を放射する
ことを特徴とする有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項１１】
前記色素分解光を露光する工程において、前記複数の独立した発光部にバイアス電圧を印加することを特徴とする請求項１０に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項１２】
前記複数の独立した発光部に順バイアス電圧を印加することを特徴とする請求項１１に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項１３】
前記複数の独立した発光部の一部のみに順バイアス電圧を印加することを特徴とする請求項１１に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項１４】
前記色素分解光への露光は複数回にわたって実施され、第ｍ種の色変換色素を分解する波長成分が、前記複数回の露光に用いられる色素分解光のいずれかに含まれていることを特徴とする請求項１０に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項１５】
前記複数の独立した発光部に順バイアス電圧を印加して、有機ＥＬディスプレイの発光スペクトルを監視する工程をさらに含み、前記発光スペクトルに基づいて前記色素分解光の光量を制御することを特徴とする請求項１１に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項１６】
前記複数の独立した発光部に逆バイアス電圧を印加することを特徴とする請求項１１に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項１７】
前記複数の独立した発光部に順バイアス電圧と逆バイアス電圧とを交互に印加することを特徴とする請求項１１に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項１８】
前記色素分解光を露光する工程において、前記透明基板を加熱することを特徴とする請求項１０から１７のいずれかに記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項１９】
透明基板上にｎ種のカラーフィルタ層を形成する工程と、
ドライプロセスを用いて、前記ｎ種のカラーフィルタ層上に複数の独立した発光部を有する有機ＥＬ素子を形成する工程であって、該有機ＥＬ素子は、第１電極および第２電極、ならびに第１および第２電極の間に配置され、有機発光層とキャリア移動性色素層とを少なくとも含む有機ＥＬ層を含む工程と、
色素分解光に対して、前記透明基板および前記カラーフィルタ層を通して前記キャリア移動性色素層を露光して、第ｍ種のカラーフィルタ層に相当する位置に第ｍ種のキャリア移動性色変換層を形成する工程と、
を含み、ここで、
前記キャリア移動性色素層は（ｎ−１）種の色変換色素を少なくとも含み、
ｎは、２〜６の整数であり、
ｍは、１〜ｎ−１の整数のそれぞれを表し、
前記ｎ種のカラーフィルタ層のそれぞれは、異なる波長域の光を透過させ、
第ｍ種の色変換色素は、第ｍ種のカラーフィルタ層が透過させない光によって分解され、
第ｍ種のキャリア移動性色変換層は、波長分布変換により第ｍ種のカラーフィルタ層が透過する光を放射する
ことを特徴とする有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項２０】
前記色素分解光を露光する工程において、前記複数の独立した発光部にバイアス電圧を印加することを特徴とする請求項１９に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項２１】
前記複数の独立した発光部に順バイアス電圧を印加することを特徴とする請求項２０に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項２２】
前記複数の独立した発光部の一部のみに順バイアス電圧を印加することを特徴とする請求項２０に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項２３】
前記色素分解光への露光は複数回にわたって実施され、第ｍ種の色変換色素を分解する波長成分が、前記複数回の露光に用いられる色素分解光のいずれかに含まれていることを特徴とする請求項１９に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項２４】
前記複数の独立した発光部に順バイアス電圧を印加して、有機ＥＬディスプレイの発光スペクトルを監視する工程をさらに含み、前記発光スペクトルに基づいて前記色素分解光の光量を制御することを特徴とする請求項２０に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項２５】
前記複数の独立した発光部に逆バイアス電圧を印加することを特徴とする請求項２０に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項２６】
前記複数の独立した発光部に順バイアス電圧と逆バイアス電圧とを交互に印加することを特徴とする請求項２０に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項２７】
前記色素分解光を露光する工程において、前記透明基板を加熱することを特徴とする請求項１９から２６のいずれかに記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項２８】
透明基板上にｎ種のカラーフィルタ層を形成する工程と、
前記カラーフィルタ層上に、樹脂中に分散された（ｎ−１）種の色変換色素を含む色素層を形成する工程と、
前記色素層の上に、複数の独立した発光部を有する有機ＥＬ素子を形成する工程であって、該有機ＥＬ素子は、第１電極および第２電極、ならびに第１および第２電極の間に配置される有機ＥＬ層を少なくとも含む工程と、
前記色素層に対して、前記透明基板および前記カラーフィルタ層を通して色素分解光を露光して、第ｍ種のカラーフィルタ層に相当する位置に第ｍ種の色変換層を形成する工程と
を含み、ここで、
ｎは、２〜６の整数であり、
ｍは、１〜ｎ−１の整数のそれぞれを表し、
前記ｎ種のカラーフィルタ層のそれぞれは、異なる波長域の光を透過させ、
第ｍ種の色変換色素は、第ｍ種のカラーフィルタ層が透過させない光によって分解され、
第ｍ種の色変換層は、波長分布変換により第ｍ種のカラーフィルタ層が透過する光を放射する
ことを特徴とする有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項２９】
前記色素分解光を露光する工程において、前記複数の独立した発光部にバイアス電圧を印加することを特徴とする請求項２８に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項３０】
前記複数の独立した発光部に順バイアス電圧を印加することを特徴とする請求項２９に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項３１】
前記複数の独立した発光部の一部のみに順バイアス電圧を印加することを特徴とする請求項２９に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項３２】
前記色素分解光への露光は複数回にわたって実施され、第ｍ種の色変換色素を分解する波長成分が、前記複数回の露光に用いられる色素分解光のいずれかに含まれていることを特徴とする請求項２８に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項３３】
前記複数の独立した発光部に順バイアス電圧を印加して、有機ＥＬディスプレイの発光スペクトルを監視する工程をさらに含み、前記発光スペクトルに基づいて前記色素分解光の光量を制御することを特徴とする請求項２９に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項３４】
前記複数の独立した発光部に逆バイアス電圧を印加することを特徴とする請求項２９に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項３５】
前記複数の独立した発光部に順バイアス電圧と逆バイアス電圧とを交互に印加することを特徴とする請求項２９に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項３６】
前記色素分解光を露光する工程において、前記透明基板を加熱することを特徴とする請求項２８から３５のいずれかに記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項３７】
透明基板上にｎ種のカラーフィルタ層を形成する工程と、
第２基板の上に、複数の独立した発光部を有する有機ＥＬ素子を形成する工程であって、該有機ＥＬ素子は、第１電極および第２電極、ならびに第１および第２電極の間に配置される有機ＥＬ層を少なくとも含む工程と、
前記有機ＥＬ素子の上に（ｎ−１）種の色変換色素を含む色素層を形成する工程と、
前記カラーフィルタ層と前記色素層とが対向するように、前記透明基板と前記第２基板とを貼り合わせる工程と、
前記透明基板および前記カラーフィルタ層を通して、色素分解光に対して前記色素層を露光して、第ｍ種のカラーフィルタ層に相当する位置に第ｍ種の色変換層を形成する工程と
を含み、ここで、
ｎは、２〜６の整数であり、
ｍは、１〜ｎ−１の整数のそれぞれを表し、
前記ｎ種のカラーフィルタ層のそれぞれは、異なる波長域の光を透過させ、
第ｍ種の色変換色素は、第ｍ種のカラーフィルタ層が透過させない光によって分解され、
第ｍ種の色変換層は、波長分布変換により第ｍ種のカラーフィルタ層が透過する光を放射する
ことを特徴とする有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項３８】
前記色素分解光を露光する工程において、前記複数の独立した発光部にバイアス電圧を印加することを特徴とする請求項３７に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項３９】
前記複数の独立した発光部に順バイアス電圧を印加することを特徴とする請求項３８に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項４０】
前記複数の独立した発光部の一部のみに順バイアス電圧を印加することを特徴とする請求項３８に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項４１】
前記色素分解光への露光は複数回にわたって実施され、第ｍ種の色変換色素を分解する波長成分が、前記複数回の露光に用いられる色素分解光のいずれかに含まれていることを特徴とする請求項３７に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項４２】
前記複数の独立した発光部に順バイアス電圧を印加して、有機ＥＬディスプレイの発光スペクトルを監視する工程をさらに含み、前記発光スペクトルに基づいて前記色素分解光の光量を制御することを特徴とする請求項３８に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項４３】
前記色素分解光を露光する工程において、前記透明基板または前記第２基板の少なくとも一方を加熱することを特徴とする請求項３７から４２のいずれかに記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、多色表示を可能とする有機ＥＬディスプレイの製造方法に関する。該有機ＥＬディスプレイは、イメージセンサー、パーソナルコンピューター、ワードプロセッサー、テレビ、ファクシミリ、オーディオ、ビデオ、カーナビゲーション、電気卓上計算機、電話機、携帯端末機ならびに産業用計測器等の表示などに使用することが可能である。
【背景技術】
【０００２】
近年、ディスプレイのマルチカラー化またはフルカラー化の方法の１例として、近紫外光、青色光、青緑色光または白色光を吸収し、波長分布変換を行って可視光域の光を発光する色変換色素をフィルタに用いる色変換方式が検討されてきている（特許文献１および２参照）。色変換方式を用いる場合、光源の発光色が白色に限定されないため、光源の選択の自由度を高めることが可能となる。たとえば、青色発光の有機ＥＬ発光素子を用い、波長分布変換により緑色および赤色光を得ることができる。したがって、より効率の高い光源を用いることができ、かつ近紫外光ないし可視光のような弱いエネルギー線を用いても、フルカラーの発光型ディスプレイを構築できる可能性が検討されてきている（特許文献３参照）。
【０００３】
カラーディスプレイとしての実用上の重要課題は、精細なカラー表示機能、色再現性を含めた長期的な安定性を有することに加えて、高い色変換効率を有する色変換フィルタを提供することである。しかしながら、色変換効率を高めるために、色変換色素の濃度を上昇させると、いわゆる濃度消光による効率の低下、ならびに経時による色変換色素の分解などが発生するため、色変換色素を含む色変換層の厚さを厚くすることによって所望の色変換効率を得ているのが現状である。色変換色素の濃度消光および分解の防止について、かさ高い置換基を色素母核に導入することが検討されてきている（特許文献４〜６参照）。また、色変換色素の分解防止について、クエンチャーを混合することも検討されている（特許文献７参照）。別の手段として、蒸着法などのドライプロセスを用いて形成される色変換色素膜が検討されている（特許文献８参照）。
【０００４】
【特許文献１】特開平８−２７９３９４号公報
【特許文献２】特開平８−２８６０３３号公報
【特許文献３】特開平９−８０４３４号公報
【特許文献４】特開平１１−２７９４２６号公報
【特許文献５】特開２０００−４４８２４号公報
【特許文献６】特開２００１−１６４２４５号公報
【特許文献７】特開２００２−２３１４５０号公報
【特許文献８】特開平３−１５２８９７号公報
【特許文献９】特開２００４−１１５４４１号公報
【特許文献１０】特開２００３−２１２８７５号公報
【特許文献１１】特開２００３−２３８５１６号公報
【特許文献１２】特開２００３−８１９２４号公報
【特許文献１３】国際公開第２００３／０４８２６８号パンフレット
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
色変換方式によるマルチカラーまたはフルカラーのディスプレイを高精細化する場合、色変換層を高精細にパターニングする必要がある。しかしながら、たとえば、１つのパターンの幅が膜厚より小さくなるようなパターニングを行う場合、パターンの形状再現性または引き続く工程におけるパターンの変形などが問題となってくる。加えて、通常のフォトリソグラフィーによるパターニングを行う場合、塗布工程、マスクの位置合わせを伴う露光工程、現像工程が、各色の色変換層について必要となる。たとえば、フルカラーディスプレイを得る場合には、少なくとも赤色、緑色および青色の色変換層が必要となるので、その製造工程は多くの工程を必要とし、また煩雑なものとなってしまう。さらに、ドライプロセスにて形成される色変換色素膜を色変換層として用いる場合には、パターニング方法としてマスク蒸着法を用いることができる。しかしながら、マスク蒸着法においては、高精度のアライニングを真空中で実施する必要があり、工程難度が高く、かつ適用可能な精細度および基板寸法に限界が存在する。
【０００６】
したがって、本発明においては、製造工程を簡略化すると同時に、高精細のパターニングを可能とする有機ＥＬディスプレイの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の第１の実施形態の有機ＥＬディスプレイの製造方法は：透明基板上にｎ種のカラーフィルタ層を形成する工程と；ドライプロセスを用いて、前記ｎ種のカラーフィルタ層上に（ｎ−１）種の色変換色素を含む色素層を形成する工程と；前記色素層の上に、複数の独立した発光部を有する有機ＥＬ素子を形成する工程であって、該有機ＥＬ素子は、第１電極および第２電極、ならびに第１および第２電極の間に配置される有機ＥＬ層を少なくとも含む工程と；前記透明基板および前記カラーフィルタ層を通して、色素分解光に対して前記色素層を露光して、第ｍ種のカラーフィルタ層に相当する位置に第ｍ種の色変換層を形成する工程とを含み、ここで、ｎは２〜６の整数であり、ｍは１〜ｎ−１の整数のそれぞれを表し、前記ｎ種のカラーフィルタ層のそれぞれは、異なる波長域の光を透過させ、第ｍ種の色変換色素は、第ｍ種のカラーフィルタ層が透過させない光によって分解され、第ｍ種の色変換層は、波長分布変換により第ｍ種のカラーフィルタ層が透過する光を放射することを特徴とする。ここで、色素分解光への露光は複数回にわたって実施されてもよく、この場合には第ｍ種の色変換色素を分解する波長成分が、前記複数回の露光に用いられる色素分解光のいずれかに含まれている。あるいはまた、色素分解光を露光する工程において、前記複数の独立した発光部にバイアス電圧を印加してもよい。ここで、バイアス電圧は、複数の独立した発光部の全てまたは一部に印加される順バイアス電圧であってもよいし、あるいは逆バイアス電圧であってもよい。あるいはまた、順バイアス電圧と逆バイアス電圧とを交互に印加してもよい。さらに、複数の独立した発光部に順バイアス電圧を印加して有機ＥＬディスプレイの発光スペクトルを監視する工程をさらに含み、前記発光スペクトルに基づいて前記色素分解光の光量を制御してもよい。また、色素分解光を露光する工程において、前記透明基板を加熱してもよい。
【０００８】
本発明の第２の実施形態の有機ＥＬディスプレイの製造方法は：透明基板上にｎ種のカラーフィルタ層を形成する工程と；前記ｎ種のカラーフィルタ層の上に、複数の独立した発光部を有する有機ＥＬ素子を形成する工程であって、該有機ＥＬ素子は、第１電極および第２電極、ならびに第１および第２電極の間に配置される有機ＥＬ層を少なくとも含む工程と；ドライプロセスを用いて、前記有機ＥＬ素子上に（ｎ−１）種の色変換色素を含む色素層を形成する工程と；前記色素層上に反射層を形成する工程と；前記透明基板および前記カラーフィルタ層を通して、色素分解光に対して前記色素層を露光して、第ｍ種のカラーフィルタ層に相当する位置に第ｍ種の色変換層を形成する工程とを含み、ここで、ｎは２〜６の整数であり、ｍは１〜ｎ−１の整数のそれぞれを表し、前記ｎ種のカラーフィルタ層のそれぞれは、異なる波長域の光を透過させ、第ｍ種の色変換色素は、第ｍ種のカラーフィルタ層が透過させない光によって分解され、第ｍ種の色変換層は、波長分布変換により第ｍ種のカラーフィルタ層が透過する光を放射することを特徴とする。ここで、色素分解光への露光は複数回にわたって実施されてもよく、この場合には第ｍ種の色変換色素を分解する波長成分が、前記複数回の露光に用いられる色素分解光のいずれかに含まれている。あるいはまた、色素分解光を露光する工程において、前記複数の独立した発光部にバイアス電圧を印加してもよい。ここで、バイアス電圧は、複数の独立した発光部の全てまたは一部に印加される順バイアス電圧であってもよいし、あるいは逆バイアス電圧であってもよい。あるいはまた、順バイアス電圧と逆バイアス電圧とを交互に印加してもよい。さらに、複数の独立した発光部に順バイアス電圧を印加して有機ＥＬディスプレイの発光スペクトルを監視する工程をさらに含み、前記発光スペクトルに基づいて前記色素分解光の光量を制御してもよい。また、色素分解光を露光する工程において、前記透明基板を加熱してもよい。
【０００９】
本発明の第３の実施形態の有機ＥＬディスプレイの製造方法は：透明基板上にｎ種のカラーフィルタ層を形成する工程と；ドライプロセスを用いて、前記ｎ種のカラーフィルタ層上に複数の独立した発光部を有する有機ＥＬ素子を形成する工程であって、該有機ＥＬ素子は、第１電極および第２電極、ならびに第１および第２電極の間に配置され、有機発光層とキャリア移動性色素層とを少なくとも含む有機ＥＬ層を含む工程と；色素分解光に対して、前記透明基板および前記カラーフィルタ層を通して前記キャリア移動性色素層を露光して、第ｍ種のカラーフィルタ層に相当する位置に第ｍ種のキャリア移動性色変換層を形成する工程とを含み、ここで、前記キャリア移動性色素層は（ｎ−１）種の色変換色素を少なくとも含み、ｎは２〜６の整数であり、ｍは１〜ｎ−１の整数のそれぞれを表し、前記ｎ種のカラーフィルタ層のそれぞれは、異なる波長域の光を透過させ、第ｍ種の色変換色素は、第ｍ種のカラーフィルタ層が透過させない光によって分解され、第ｍ種のキャリア移動性色変換層は、波長分布変換により第ｍ種のカラーフィルタ層が透過する光を放射することを特徴とする。ここで、色素分解光への露光は複数回にわたって実施されてもよく、この場合には第ｍ種の色変換色素を分解する波長成分が、前記複数回の露光に用いられる色素分解光のいずれかに含まれている。あるいはまた、色素分解光を露光する工程において、前記複数の独立した発光部にバイアス電圧を印加してもよい。ここで、バイアス電圧は、複数の独立した発光部の全てまたは一部に印加される順バイアス電圧であってもよいし、あるいは逆バイアス電圧であってもよい。あるいはまた、順バイアス電圧と逆バイアス電圧とを交互に印加してもよい。さらに、複数の独立した発光部に順バイアス電圧を印加して有機ＥＬディスプレイの発光スペクトルを監視する工程をさらに含み、前記発光スペクトルに基づいて前記色素分解光の光量を制御してもよい。また、色素分解光を露光する工程において、前記透明基板を加熱してもよい。
【００１０】
本発明の第４の実施形態の有機ＥＬディスプレイの製造方法は：透明基板上にｎ種のカラーフィルタ層を形成する工程と；前記カラーフィルタ層上に、樹脂中に分散された（ｎ−１）種の色変換色素を含む色素層を形成する工程と；前記色素層の上に、複数の独立した発光部を有する有機ＥＬ素子を形成する工程であって、該有機ＥＬ素子は、第１電極および第２電極、ならびに第１および第２電極の間に配置される有機ＥＬ層を少なくとも含む工程と；前記色素層に対して、前記透明基板および前記カラーフィルタ層を通して色素分解光を露光して、第ｍ種のカラーフィルタ層に相当する位置に第ｍ種の色変換層を形成する工程とを含み、ここで、ｎは２〜６の整数であり、ｍは１〜ｎ−１の整数のそれぞれを表し、前記ｎ種のカラーフィルタ層のそれぞれは、異なる波長域の光を透過させ、第ｍ種の色変換色素は、第ｍ種のカラーフィルタ層が透過させない光によって分解され、第ｍ種の色変換層は、波長分布変換により第ｍ種のカラーフィルタ層が透過する光を放射することを特徴とする。ここで、色素分解光への露光は複数回にわたって実施されてもよく、この場合には第ｍ種の色変換色素を分解する波長成分が、前記複数回の露光に用いられる色素分解光のいずれかに含まれている。あるいはまた、色素分解光を露光する工程において、前記複数の独立した発光部にバイアス電圧を印加してもよい。ここで、バイアス電圧は、複数の独立した発光部の全てまたは一部に印加される順バイアス電圧であってもよいし、あるいは逆バイアス電圧であってもよい。あるいはまた、順バイアス電圧と逆バイアス電圧とを交互に印加してもよい。さらに、複数の独立した発光部に順バイアス電圧を印加して有機ＥＬディスプレイの発光スペクトルを監視する工程をさらに含み、前記発光スペクトルに基づいて前記色素分解光の光量を制御してもよい。また、色素分解光を露光する工程において、前記透明基板を加熱してもよい。
【００１１】
本発明の第５の実施形態の有機ＥＬディスプレイの製造方法は：透明基板上にｎ種のカラーフィルタ層を形成する工程と；第２基板の上に、複数の独立した発光部を有する有機ＥＬ素子を形成する工程であって、該有機ＥＬ素子は、第１電極および第２電極、ならびに第１および第２電極の間に配置される有機ＥＬ層を少なくとも含む工程と；前記有機ＥＬ素子の上に（ｎ−１）種の色変換色素を含む色素層を形成する工程と；前記カラーフィルタ層と前記色素層とが対向するように、前記透明基板と前記第２基板とを貼り合わせる工程と；前記透明基板および前記カラーフィルタ層を通して、色素分解光に対して前記色素層を露光して、第ｍ種のカラーフィルタ層に相当する位置に第ｍ種の色変換層を形成する工程とを含み、ここで、ｎは、２〜６の整数であり、ｍは、１〜ｎ−１の整数のそれぞれを表し、前記ｎ種のカラーフィルタ層のそれぞれは、異なる波長域の光を透過させ、第ｍ種の色変換色素は、第ｍ種のカラーフィルタ層が透過させない光によって分解され、第ｍ種の色変換層は、波長分布変換により第ｍ種のカラーフィルタ層が透過する光を放射することを特徴とする。ここで、色素分解光への露光は複数回にわたって実施されてもよく、この場合には第ｍ種の色変換色素を分解する波長成分が、前記複数回の露光に用いられる色素分解光のいずれかに含まれている。あるいはまた、色素分解光を露光する工程において、前記複数の独立した発光部にバイアス電圧を印加してもよい。ここで、バイアス電圧は、複数の独立した発光部の全てまたは一部に印加される順バイアス電圧であってもよいい。さらに、複数の独立した発光部に順バイアス電圧を印加して有機ＥＬディスプレイの発光スペクトルを監視する工程をさらに含み、前記発光スペクトルに基づいて前記色素分解光の光量を制御してもよい。また、色素分解光を露光する工程において、前記透明基板または前記第２基板の少なくとも一方を加熱してもよい。
【発明の効果】
【００１２】
以上の構成を採ることにより、本発明の製造方法によってカラーフィルタ層をマスクとして用い、セルフアライメントによって高精細の色変換層を形成することが可能となる。また、このカラーフィルタ層と色変換層との組み合わせにより、高い色変換効率を有する色変換フィルタが実現できる。本発明によれば、フォトリソグラフィー法あるいはマスク蒸着法によって色変換層のパターニングを行う必要性が排除され、工程の短縮が可能となる。さらに、一体として形成される色素層の一部が色変換層へと変換されるので、色変換層とその周囲の層（透明層など）は一体として形成される。したがって、膜厚に比較して幅が狭い色変換層を形成したとしても、色変換層の変形などを抑制することができる。したがって、本発明の方法によって、マイクロディスプレイ（ビデオカメラのビューファインダーなど）用途に用いられるディスプレイを製造することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本発明の第１の実施形態の有機ＥＬディスプレイの製造方法は、透明基板上にｎ種のカラーフィルタ層を形成する工程と、前記ｎ種のカラーフィルタ層上に（ｎ−１）種の色変換色素を含む色素層を形成する工程と、前記色素層の上に、複数の独立した発光部を有する有機ＥＬ素子を形成する工程であって、該有機ＥＬ素子は、第１および第２電極、ならびに第１および第２電極の間に配置される有機ＥＬ層を少なくとも含む工程と、色素分解光に対して、前記透明基板および前記カラーフィルタ層を通して色素層を露光して、第ｍ種のカラーフィルタ層に相当する位置に第ｍ種の色変換層を形成する工程とを含み、ここで、ｎは２〜６の整数であり、ｍは１〜ｎ−１の整数のそれぞれを表し、前記ｎ種のカラーフィルタ層のそれぞれは、異なる波長域の光を透過させ、第ｍ種の色変換色素は、第ｍ種のカラーフィルタ層が透過させない光によって分解され、第ｍ種の色変換層は、波長分布変換により第ｍ種のカラーフィルタ層２が透過する光を放射することを特徴とする。３種のカラーフィルタ層および２種の色変換色素を用いる場合（ｎ＝３）の例示的構成を図１に示す。図１の構成において、第１電極は透明電極１１であり、第２電極は反射電極１３である。
【００１４】
透明基板１は、可視光（波長４００〜７００ｎｍ）、好ましくは色変換層４によって変換された光に対して透明であることが必要である。また、透明基板１は、カラーフィルタ層２より上の各層および他の必要に応じて設けられる層（後述）の形成に用いられる条件（溶媒、温度等）に耐えるものであるべきであり、さらに寸法安定性に優れていることが好ましい。透明基板１の材料として好ましいものは、ガラス、ならびにポリエチレンテレフタレート、ポリメチルメタクリレート等の樹脂を含む。ホウケイ酸ガラスまたは青板ガラス等が特に好ましいものである。
【００１５】
カラーフィルタ層２は、所望される波長域の光のみを透過させる層である。カラーフィルタ層２は、完成した色変換フィルタにおいては、色変換層４にて波長分布変換されなかった光源からの光を遮断し、また色変換層４にて波長分布変換された光の色純度を向上させることに有効である。本発明においては、２〜６種のカラーフィルタ層２を用いることができる。本発明においては、透過する光の波長域が長波長である順に第１……第ｎのカラーフィルタ層とする。本発明において望ましくは、図１に示されるように、長波長側から順に第１カラーフィルタ層２ａ（赤色）、第２カラーフィルタ層２ｂ（緑色）、および第３カラーフィルタ層２ｃ（青色）が用いられる。本実施形態のカラーフィルタ層２は、以下の工程（ｂ）において、色素層３をパターニングして色変換層４を形成する際のマスクとして機能する。
【００１６】
カラーフィルタ層２は、色素と感光性樹脂とを含む。色素としては、高い耐光性を有する顔料を用いることが好ましい。感光性樹脂は、（１）アクロイル基やメタクロイル基を複数有するアクリル系多官能モノマーおよびオリゴマーと、光重合開始剤とからなる組成物、（２）ボリビニル桂皮酸エステルと増感剤とからなる組成物、および（３）鎖状または環状オレフィンとビスアジドとからなる組成物（ナイトレンが発生して、オレフィンを架橋させる）などを含む。たとえば、市販の液晶用カラーフィルタ材料（富士フイルムエレクトロニクスマテリアル（株）製カラーモザイクなど）を用いてカラーフィルタ層２を形成してもよい。
【００１７】
カラーフィルタ層２は、色素含有量に依存するが、１〜２．５μｍ、好ましくは１〜１．５μｍの厚さを有する。この範囲の膜厚とすることで、高精細なパターニングが可能となり、工程（ｂ）におけるマスクとしても完成時のフィルタとしても充分に機能する透過スペクトルを有することが可能となる。
【００１８】
色素層３は、（ｎ−１）種の色変換色素を含み、ドライプロセスで形成される層である。本実施形態における色変換色素は、入射光の波長分布変換を行って、カラーフィルタ層２が透過させる波長域の光を放射する色素である。図１に示すようにｎ＝３の場合、青色〜青緑色の光の波長分布変換を行って、第１カラーフィルタ層２ａが透過させる波長域の光（赤色光）を放射する第１色変換色素と、第２カラーフィルタ層２ｂが透過させる波長域の光（緑色光）を放射する第２色変換色素とを含む。ここで、第１色変換色素は、第１カラーフィルタ層２ａを透過する波長域の光では分解されず、第１カラーフィルタ層２ａを透過しない領域（通常、より短波長の領域）の光で分解される色素である。また、第２色変換色素は、第２カラーフィルタ層２ｂを透過する波長域の光では分解されず、第２カラーフィルタ層２ｂを透過しない領域（通常、より短波長の領域）の光で分解される色素である。すなわち、第ｍ種（ｍ＝１〜ｎ−１の整数）の色変換色素は、青色〜青緑色の光の波長分布変換を行って、第ｍ種のカラーフィルタ層が透過させる波長域の光を放射し；第ｍ種のカラーフィルタ層を透過する波長域の光では分解されず；および第ｍ種のカラーフィルタ層を透過しない波長域の光で分解される色素である。通常の場合、第ｍ種の色変換色素は、第ｍ種のカラーフィルタ層を透過する波長域よりも短波長の領域の光で分解される。ここで、色変換色素のそれぞれは、光分解される際に着色分解物を生成しないことが重要である。特に、色変換色素の分解物は、該色素による波長分布変換によって得られる波長域に吸収がないことが強く求められる。なぜなら、該波長域の光を吸収してしまうと、光変換効率の低下を招くからである。そして、該波長域の光を吸収しないとしても、着色分解物は得られるディスプレイに不要な着色をもたらすために好ましくない。
【００１９】
青色〜青緑色領域の光を吸収して、赤色光を発する色変換色素（図１の例における第１色変換色素）は、例えばローダミンＢ、ローダミン６Ｇ、ローダミン３Ｂ、ローダミン１０１、ローダミン１１０、スルホローダミン、ベーシックバイオレット１１、ベーシックレッド２などのローダミン系色素、４−ジシアノメチレン−２−メチル−６−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−４Ｈ−ピラン（ＤＣＭ−１、Ｉ）、ＤＣＭ−２（II）、ＤＣＪＴＢ（III）などのシアニン系色素、１−エチル−２−［４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３−ブタジエニル］−ピリジニウムパークロレート（ピリジン１）などのピリジン系色素、オキサジン系色素、４，４−ジフルオロ−１，３，５，７−テトラフェニル−４−ボラ−３ａ，４ａ−ジアザ−ｓ−インダセン（IV）、ナイルレッド（Ｖ）などの赤色発光材料用の色素を含む。
【００２０】
【化１】
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【００２１】
青色〜青緑色領域の光を吸収して、緑色光を発する色変換色素（図１の例における第２色変換色素）としては、例えば３−（２’−ベンゾチアゾリル）−７−ジエチルアミノ−クマリン（クマリン６）、３−（２’−ベンゾイミダゾリル）−７−ジエチルアミノ−クマリン（クマリン７）、３−（２’−Ｎ−メチルベンゾイミダゾリル）−７−ジエチルアミノ−クマリン（クマリン３０）、２，３，５，６−１Ｈ，４Ｈ−テトラヒドロ−８−トリフルオロメチルキノリジン（９，９ａ，１−ｇｈ）クマリン（クマリン１５３）などのクマリン系色素、あるいはクマリン色素系染料であるベーシックイエロー５１、さらにはソルベントイエロー１１、ソルベントイエロー１１６などのナフタルイミド系色素などを含む。
【００２２】
本実施形態の色素層３は、ドライプロセスで形成される。具体的には、カラーフィルタ層２の上に、（ｎ−１）種の色変換色素を蒸着することで色素層３を形成することができる。あるいはまた、蒸着した色変換色素の結着性などの色素層３およびそれから誘導される色変換層４の特性を向上させるために、色変換色素と共に他の材料を共蒸着してもよい。色変換色素と共に共蒸着できる材料としては、たとえば、トリス（８−ヒドロキシキノリナト）アルミニウム（Ａｌｑ３）またはトリス（４−メチル−８−ヒドロキシキノリナト）アルミニウム（Ａｌｍｑ３）のようなアルミニウム錯体、４，４’−ビス（２，２−ジフェニルビニル）ビフェニル（ＤＰＶＢｉ）、２，５−ビス−（５−tert−ブチル−２−ベンゾオキサゾリル）チオフェンなどの材料を挙げることができる。望ましくは、本実施形態の色素層は、（ｎ−１）種の色変換色素のみからなる層、あるいは（ｎ−１）種の色変換色素と１種または複数種の前述の共蒸着材料とからなる層である。
【００２３】
色素層３は、１００ｎｍ〜１μｍ、より好ましくは１５０ｎｍ〜６００ｎｍの範囲内の膜厚を有して、カラーフィルタ層２を覆って形成される。また、本発明の色素層３はドライプロセスである蒸着法を用いて形成され、後述のようにドライプロセスで色変換層４へと変換されるので有機ＥＬ素子の劣化の原因となる水分を包含する恐れがない。
【００２４】
透明電極１１は、波長４００〜８００ｎｍの光に対して好ましくは５０％以上、より好ましくは８５％以上の透過率を有することが好ましい。透明電極１１は、ＩＴＯ（Ｉｎ−Ｓｎ酸化物）、Ｓｎ酸化物、Ｉｎ酸化物、ＩＺＯ（Ｉｎ−Ｚｎ酸化物）、Ｚｎ酸化物、Ｚｎ−Ａｌ酸化物、Ｚｎ−Ｇａ酸化物、またはこれらの酸化物に対してＦ、Ｓｂなどのドーパントを添加した導電性透明金属酸化物を用いて形成することができる。透明電極１１は、蒸着法、スパッタ法または化学気相堆積（ＣＶＤ）法を用いて形成され、好ましくはスパッタ法を用いて形成される。また、後述するように複数の部分電極からなる透明電極１１が必要になる場合には、導電性透明金属酸化物を全面にわたって均一に形成し、その後に所望のパターンを与えるようにエッチングを行って、複数の部分電極からなる透明電極１１を形成してもよい。あるいはまた、所望の形状を与えるマスクを用いて複数の部分電極からなる透明電極１１を形成してもよい。
【００２５】
前述の材料から形成される透明電極１１は、陽極としての使用に適当である。一方、透明電極１１を陰極として用いる場合、有機ＥＬ層１２との界面に陰極バッファ層を設けて、電子注入効率を向上させることが望ましい。陰極バッファ層の材料としては、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、またはＣｓなどのアルカリ金属、Ｂａ、Ｓｒなどのアルカリ土類金属またはそれらを含む合金、希土類金属、あるいはそれら金属のフッ化物などを用いることができるが、それらに限定されるものではない。陰極バッファ層の膜厚は、駆動電圧および透明性等を考慮して適宜選択することができるが、通常の場合には１０ｎｍ以下であることが好ましい。
【００２６】
有機ＥＬ層１２は、少なくとも有機発光層を含み、必要に応じて正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層および／または電子注入層を介在させた構造を有している。あるいはまた、正孔の注入および輸送の両方の機能を有する正孔注入輸送層、電子の注入および輸送の両方の機能を有する電子注入輸送層を用いてもよい。具体的には、有機ＥＬ素子は下記のような層構造からなるものが採用される。
（１）陽極／有機発光層／陰極
（２）陽極／正孔注入層／有機発光層／陰極
（３）陽極／有機発光層／電子注入層／陰極
（４）陽極／正孔注入層／有機発光層／電子注入層／陰極
（５）陽極／正孔輸送層／有機発光層／電子注入層／陰極
（６）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／有機発光層／電子注入層／陰極
（７）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／有機発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
上記の層構成において、陽極および陰極は、それぞれ透明電極１１または反射電極１３のいずれかである。
【００２７】
有機ＥＬ層１２を構成する各層の材料としては、公知のものが使用される。たとえば、青色から青緑色の発光を得るための有機発光層の材料としては、たとえばベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、べンゾオキサゾール系などの蛍光増白剤、金属キレート化オキソニウム化合物、スチリルベンゼン系化合物、芳香族ジメチリディン系化合物などの材料が好ましく使用される。
【００２８】
電子輸送層の材料としては、２−（４−ビフェニル）−５−（ｐ−ｔブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール（ＰＢＤ）のようなオキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、トリアジン誘導体、フェニルキノキサリン類、アルミニウムのキノリノール錯体（たとえばＡｌｑ３）などを用いることができる。電子注入層の材料としては、前述の電子輸送層の材料に加えて、アルカリ金属ないしアルカリ土類金属をドープしたアルミニウムのキノリノール錯体を用いることもできる。
【００２９】
正孔輸送層の材料としては、４，４’−ビス［Ｎ−（３−トリル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル（ＴＰＤ）、４，４’−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル（α−ＮＰＤ）、４，４’，４”−トリス（Ｎ−３−トリル−Ｎ−フェニルアミノ）トリフェニルアミン（ｍ−ＭＴＤＡＴＡ）などのトリアリールアミン系材料を含む公知の材料を用いることができる。正孔注入層の材料としては、フタロシアニン類（銅フタロシアニンなど）またはインダンスレン系化合物などを用いることができる。
【００３０】
反射電極１３は、高反射率の金属、アモルファス合金、微結晶性合金を用いて形成されることが好ましい。高反射率の金属は、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｏ、Ｗ、Ｎｉ、Ｃｒなどを含む。高反射率のアモルファス合金は、ＮｉＰ、ＮｉＢ、ＣｒＰおよびＣｒＢなどを含む。高反射率の微結晶性合金は、ＮｉＡｌなどを含む。反射電極１３を、陰極として用いてもよいし、陽極として用いてもよい。反射電極１３を陰極として用いる場合には、反射電極１３と有機ＥＬ層１２との界面に、前述の陰極バッファ層を設けて有機ＥＬ層１２に対する電子注入の効率を向上させてもよい。あるいはまた、前述の高反射率金属、アモルファス合金または微結晶性合金に対して、仕事関数が小さい材料であるリチウム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、カルシウム、マグネシウム、ストロンチウムなどのアルカリ土類金属を添加して合金化し、電子注入効率を向上させることができる。一方、反射電極１３を陽極として用いる場合には、反射電極１３と有機ＥＬ層１２との界面に、前述の導電性透明金属酸化物の層を設けて有機ＥＬ層１２に対する正孔注入の効率を向上させてもよい。
【００３１】
反射電極１３は、用いる材料に依存して、蒸着（抵抗加熱または電子ビーム加熱）、スパッタ、イオンプレーティング、レーザーアブレーションなどの当該技術において知られている任意の手段を用いて形成することができる。後述するように複数の部分電極からなる反射電極１３が必要になる場合には、所望の形状を与えるマスクを用いて複数の部分電極からなる反射電極１３を形成してもよい。
【００３２】
以下に、３種のカラーフィルタ層２および２種の色変換色素を含む色素層３を用いた場合（ｎ＝３の場合）について、色素分解光５０による色変換層形成を具体的に説明する。
【００３３】
図１（ａ）は、透明基板１の上に、３種のカラーフィルタ層２と、２種の色変換色素（第１および第２色変換色素）を含む色素層３と、透明電極１１、有機ＥＬ層１２および反射電極１３を少なくとも含む、複数の独立した発光部を有する有機ＥＬ素子１０とが形成された状態を示す。
【００３４】
次に、図１（ｂ）に示すように透明基板１の側から色素分解光５０を照射して、色素層３から色変換層４を形成する。本発明においては、特定種のカラーフィルタ層２の位置に合わせて色変換層４を形成するために、色素分解光５０は、色素層３に対して垂直に、したがって透明基板１に対しても垂直に入射すべきである。
【００３５】
第３カラーフィルタ層２ｃは、最も短い波長域の光を透過させるカラーフィルタ層であり、この層を透過した色素分解光５１ｃは第１および第２色変換色素の両方を分解する。したがって、図１（ｃ）に示すように第３カラーフィルタ層２ｃの上には色変換色素を含まない透明層５が形成される。第２カラーフィルタ層２ｂは、中間の波長域の光を透過させるカラーフィルタ層であり、この層を透過した色素分解光５１ｂは第１色変換色素を分解するが、第２色変換色素を分解しない。したがって、図１（ｃ）に示すように第２カラーフィルタ層２ｂの上には第２色変換色素を含む第２色変換層４ｂが形成される。そして、第１カラーフィルタ層２ａは、最も長い波長域の光を透過させるカラーフィルタ層であり、この層を透過した色素分解光５１ａは第１色変換色素も第２色変換色素も分解しない。したがって、図１（ｃ）に示すように第１カラーフィルタ層２ａの上には第１色変換色素（加えて第２色変換色素）を含む第１色変換層４ａが形成される。
【００３６】
また、各カラーフィルタ層の間隙の領域においては、色素分解光５０がそのまま透過するので、第３カラーフィルタ層２ｃの上と同様に、色素層３が分解されて透明層５が形成される。
【００３７】
たとえば、第１〜第３のカラーフィルタ層２のそれぞれが、赤色（２ａ）、緑色（２ｂ）および青色（２ｃ）カラーフィルタ層であり、第１および第２色変換色素がそれぞれ赤色および緑色変換色素である場合、色素分解光５０は、波長５００〜６００ｎｍの成分と波長５００ｎｍ以下の成分とを含む光であることが望ましく、波長５００〜６００ｎｍの成分と波長４５０〜５００ｎｍの成分とを含む光であることがより望ましい。あるいはまた、この場合には、色素分解光５０は、４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの波長成分を含む光（たとえば、白色光）であってもよい。このような波長の光を選択することによって、色素層３の上に形成されている有機ＥＬ素子に対して悪影響を及ぼすことなしに、色素層３を効率よく色変換層４に変換することが可能となる。そして、赤色カラーフィルタ層２ａの上には赤色および緑色変換色素を含む赤色変換層４ａが形成され、緑色カラーフィルタ層２ｂの上には緑色変換色素を含む緑色変換層４ｂが形成される。青色カラーフィルタ層２ｃの上および各カラーフィルタ層の間隙には、透明層５が形成される。このように形成されたカラーフィルタ層２および色変換層４を用いることによって、有機ＥＬ層が発する青色〜青緑色の光の波長分布変換を行ってフルカラー表示が可能な有機ＥＬディスプレイを得ることができる。
【００３８】
露光に用いられる色素分解光５０は、少なくとも第１色変換色素と第２色変換色素とを分解する成分を含む。加えて、色素分解光５０は、有機ＥＬ層１２を構成する材料に作用する波長成分（たとえば、紫外線成分）を含まないことが望ましい。露光に用いられる色素分解光５０は、形成する色変換層によって波長分布変換を行うことを予定する光の強度よりも著しく高い強度を有するべきであり、用いられる色変換色素などに依存するが、入射する透明基板表面において０．０５Ｗ／ｃｍ２以上、好ましくは１Ｗ／ｃｍ２以上の強度を有することが望ましい。露光時間は、色変換色素の所望される分解の程度に依存し、当業者が適宜決定できる事項である。このように高い強度を有する光を用いることによって、所望される区域の色変換色素の分解を行うことが可能となる。
【００３９】
別法として、異なる波長分布を有する複数種の色素分解光を用い、色素分解光を照射する工程を複数回に分割して実施してもよい。この際に、複数種の色素分解光のそれぞれは、色素層３に含まれる色変換色素の少なくとも１種を分解する波長の成分を含む。また、色素層３に含まれる色変換色素のそれぞれについて、該色素を分解する波長成分が、複数種の色素分解光のいずれかに含まれるようにする。複数工程による色素分解光照射工程は、工程の回数そのものは増大するものの、それぞれの照射工程において、より狭い発光波長域およびより高い強度を有する光源を使用することが可能となる。したがって、それぞれの照射工程の時間を短くすること、あるいはそれぞれの色変換色素の分解に最適な照射光量または照射時間を選択することが可能となる。
【００４０】
本発明において用いられる色素分解光の光源としては、前述の波長に関する条件（単一回および複数回照射のそれぞれに関して）を満たすことを条件として、ハロゲンランプ、メタルハライドランプ、白熱ランプ、放電灯、水銀灯、レーザーなど当該技術において知られている任意のものを用いることができる。これらの光源に対して光学フィルターを組み合わせて、所望の波長分布を有する光源として用いてもよい。あるいはまた、前述の光源および／または光学フィルターを、平行光線を得るための光学系（レンズ、反射鏡など）と組み合わせて用いてもよい。
【００４１】
あるいはまた、色素分解光５０を照射すると同時に、有機ＥＬ素子１０に順方向のバイアス電圧（以下、順バイアス電圧と称する）を印加して、有機ＥＬ素子１０を発光させ、色素分解光５０と有機ＥＬ素子１０の発光との相乗作用によって、色素層３中の色変換色素の分解を促進してもよい。本発明における順バイアス電圧は、通常の場合はディスプレイとして用いられる際に印加される電圧と同等の電圧であることが望ましく、一般的には２〜１０Ｖの範囲内である。この範囲内の電圧を用いることによって、有機ＥＬ素子１０の劣化を起こすことなしに、色素層３中の色変換色素の色素分解光による分解を促進して、短時間で効率よく色変換層４を得ることが可能になる。
【００４２】
有機ＥＬ素子１０が、複数の部分からなる透明電極１１および複数の部分からなる反射電極１３を含んで、複数の独立した発光部を有する場合、複数の独立した発光部の全てに順バイアス電圧を印加して発光させてもよい。あるいはまた、複数の独立した発光部の一部のみに順バイアス電圧を印加してもよい。たとえば、図１（ｂ）に示す場合、第１カラーフィルタ層２ａの上の領域においては色変換色素の分解を行わないので、第１カラーフィルタ層２ａに対応する位置の発光部を発光させる必要がなく、順バイアス電圧の印加をしなくてもよい。一方、１種または複数種の色変換色素の分解を促進するべき第２および第３カラーフィルタ層２ｂおよび２ｃに相当する位置の発光部については、順バイアス電圧を印加することが望ましい。
【００４３】
ここで、前述のように複数種の異なる波長分布を有する色素分解光を用いる場合には、それぞれの色素分解光の照射時に、当該分解光によって色変換色素の分解が起こる位置に対応する発光部に対して順バイアス電圧を印加して発光させて、色変換色素の分解（すなわち色変換層の形成）を促進することができる。なお、この場合にも、各色素分解光の照射時に、複数の独立した発光部の全てに順バイアス電圧を印加して発光させてもよい。
【００４４】
さらに、順バイアス電圧の印加によって有機ＥＬ素子１０から色素層３（ないしは色変換層４）、カラーフィルタ層２、および透明基板１を通して放出される光をモニターして、色素分解光の光量を調整し、その照射工程の終了を判定するようにしてもよい。具体的には、順バイアス電圧の印加によって透明基板１から放出される光のスペクトルないし色相を測定し、所望される色変換層４が形成されたかどうかを判定することができる。放出光のスペクトル測定または色相測定は、色素分解光の照射を一時的に中断して実施してもよいし、あるいは色素分解光の照射と同時に実施してもよい。
【００４５】
あるいはまた、有機ＥＬ素子１０に逆方向のバイアス電圧（以下、逆バイアス電圧と称する）を印加して、色素層３中の色変換色素の分解と並行して有機ＥＬ層１２中の微小欠陥の除去を実施してもよい。本発明における逆バイアス電圧は、通常５〜３０Ｖ、好ましくは１０〜２０Ｖの範囲内である。この範囲内の電圧を用いることによって、色素層３から色変換層４への変換と同時に、有機ＥＬ層１２中の微小欠陥を排除することができ、より高いスループットで有機ＥＬディスプレイを製造することが可能になる。
【００４６】
さらに、本発明の色素分解光照射工程において、有機ＥＬ素子１０に順バイアス電圧と逆バイアス電圧とを交互に印加して、前述の色変換色素分解の促進および有機ＥＬ層１２中の微小欠陥の排除の両方を実現してもよい。順バイアス電圧および逆バイアス電圧の電圧は前述の範囲内とすることが望ましい。
【００４７】
加えて、前述の順バイアス電圧印加、順バイアス電圧印加時の放出光のモニター、逆バイアス電圧印加を適切に組み合わせて、一連のサイクルを形成してもよい。たとえば、（１）色素分解光照射・順バイアス電圧印加；（２）色素分解光照射・逆バイアス電圧印加；（３）色素分解光照射中断・順バイアス電圧印加・放出光のスペクトル（または色相）測定のような、３つの段階を含むサイクルを用いて、色素層３から色変換層４への変換、有機ＥＬ層１２中の微小欠陥の排除、および色変換層４への変換の程度の測定を組み合わせて行うことができる。
【００４８】
また、色変換色素の分解反応を促進させる手段として、色素層３を含む積層体の温度を上昇させてもよい。ただし、高すぎる温度を適用した場合には、色素層３全体で色変換色素の熱分解が起こり、色変換層４が形成されなくなる恐れがある。使用する色変換色素の種類に依存して、適正な加熱温度は変化し得る。たとえば、ローダミン系色素またはクマリン系色素を用いた場合、６０℃以上の温度で分解速度に差が認められ、また１６０℃において該色素の熱分解の開始が確認された。本発明の色素分解光照射工程は、一般的には室温において行うことが可能である。しかしながら、好ましくは６０℃以上１００℃以下、より好ましくは７０℃以上９０℃以下で実施することも可能である。色素層３の加熱は、加熱した雰囲気を対流あるいは強制循環させる方法、ないしは赤外線ランプのような輻射熱源を用いる方法を用いて、透明基板１を加熱することにより実施することが可能である。
【００４９】
本発明の第２の実施形態の有機ＥＬディスプレイの製造方法は：透明基板上にｎ種のカラーフィルタ層を形成する工程と；前記カラーフィルタ層上に複数の独立した発光部を有する有機ＥＬ素子を形成する工程であって、該有機ＥＬ素子は、第１電極および第２電極、ならびに第１電極および第２電極の間に配置される有機ＥＬ層を少なくとも含む工程と；ドライプロセスを用いて、前記有機ＥＬ素子上に（ｎ−１）種の色変換色素を含む色素層を形成する工程と；色素層の上に反射層を形成する工程と；色素分解光に対して、透明基板およびカラーフィルタ層を通して色素層を露光して、第ｍ種のカラーフィルタ層に相当する位置に第ｍ種の色変換層を形成する工程とを含み、ここで、ｎは２〜６の整数であり、ｍは１〜ｎ−１の整数のそれぞれを表し、前記ｎ種のカラーフィルタ層のそれぞれは、異なる波長域の光を透過させ、第ｍ種の色変換色素は、第ｍ種のカラーフィルタ層が透過させない光によって分解され、第ｍ種の色変換層は、波長分布変換により第ｍ種のカラーフィルタ層が透過する光を放射することを特徴とする。
【００５０】
第２の実施形態の方法により製造される有機ＥＬディスプレイは、第１電極に加えて、第２電極もまた透明電極である点、色素層３（すなわち色変換層４）を形成する位置、および反射層３１の存在という点で、第１の実施形態の製造方法により得られるディスプレイと異なるものである。図２に、３種のカラーフィルタ層および２種の色変換色素を用いる場合（ｎ＝３）の例示的構成を示す。
【００５１】
本実施形態において、第１電極は第１の実施形態と同様に透明電極（第１透明電極１１ａ）であり、第１の実施形態に記載の透明電極用材料および方法を用いて形成することができる。一方、本実施形態では、第２電極も透明電極（第２透明電極１１ｂ）である。第２透明電極１１ｂは、第１透明電極１１ａと同様の材料を用いて形成することができる。また、第１透明電極１１ａと同様の方法を用いて第２透明電極１１ｂを形成することができるが、第２透明電極１１ｂを複数の部分電極から形成することが望ましい場合には、所望の形状を与えるマスクを用いることが望ましい。
【００５２】
また、色素層３は、有機ＥＬ素子１０の上、具体的には第２透明電極１１ｂの上に設けられる。本実施形態の色素層３は、第１の実施形態に記載の材料および方法を用いて形成することができる。本実施形態の方法により製造される有機ＥＬディスプレイにおいて、有機ＥＬ層１２を発した光の一部がカラーフィルタ層２を通過して外部へと放射され、残りの光は第２電極（第２透明電極１１ｂ）を通過して、色変換層４による波長分布変換を受け、反射層で反射し、そして色変換層４、カラーフィルタ層２などをさらに通過して外部へと放射される。
【００５３】
反射層３１は、有機ＥＬ層１２からの発光の一部および最終的に得られた色変換層４において波長分布変換された光を、透明基板１の側に反射させて、ディスプレイ外部へと放射させるための層である。反射層３１は、高反射率の金属、アモルファス合金、微結晶性合金を用い、蒸着法、スパッタ法などのドライプロセスによって形成されることが好ましい。高反射率の金属は、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｏ、Ｗ、Ｎｉ、Ｃｒなどを含む。高反射率のアモルファス合金は、ＮｉＰ、ＮｉＢ、ＣｒＰおよびＣｒＢなどを含む。高反射率の微結晶性合金は、ＮｉＡｌなどを含む。本実施形態における色素層３、ならびにそれから形成される色変換層４および透明層５が薄膜であるため、反射層３１を介して複数の部分からなる第２透明電極１１ｂ間で短絡を起こすことが考えられる。これを防止するために、反射層３１と色素層３との間、あるいは第２透明電極１１ｂと色素層３との間に、絶縁層（不図示）を設けてもよい。絶縁層は、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＡｌＯｘ、ＡｌＮ、ＳｉＮｘなどの透明絶縁性無機物を用いて形成することができる。
【００５４】
なお、図２の構成においては、ｎ種のカラーフィルタ層２に起因する段差を解消するための平坦化層３２を形成している。平坦化層３２を形成する材料は、優れた光透過性を有すること（波長４００〜８００ｎｍの光に対して好ましくは５０％以上、より好ましくは８５％以上の透過率を有すること）が望ましい。平坦化層３２は、一般的には塗布法（スピンコート、ロールコート、ナイフコートなど）で形成される。その際、適用可能な材料としては、熱可塑性樹脂（アクリル樹脂（メタクリル樹脂を含む）、ポリエステル樹脂（ポリエチレンテレフタレートなど）、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリエーテルスルホン、ポリビニルアルコールおよびその誘導体（ポリビニルブチラールなど）、ポリフェニレンエーテル、ノルボルネン系樹脂、イソブチレン無水マレイン酸共重合樹脂、環状オレフィン系樹脂）、非感光性の熱硬化型樹脂（アルキッド樹脂、芳香族スルホンアミド樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂）、または光硬化型樹脂を用いることができる。
【００５５】
図２（ａ）は、透明基板１の上に、３種のカラーフィルタ層２と、平坦化層３２と、第１透明電極１１ａ、有機ＥＬ層１２および第２透明電極１１ｂを少なくとも含む、複数の独立した発光部を有する有機ＥＬ素子１０と、２種の色変換色素を含む色素層３と、反射層３１とが形成された状態を示す。
【００５６】
次に、図２（ｂ）に示すように透明基板１の側から色素分解光５０を照射して、色素層３から色変換層４を形成する。本発明においては、特定種のカラーフィルタ層２の位置に合わせて色変換層４を形成するために、色素分解光５０は、色素層３に対して垂直に、したがって透明基板１に対しても垂直に入射すべきである。
【００５７】
本実施形態においても、第３カラーフィルタ層２ｃは、最も短い波長域の光を透過させるカラーフィルタ層であり、この層を透過した色素分解光５１ｃは第１および第２色変換色素の両方を分解する。したがって、図２（ｃ）に示すように第３カラーフィルタ層２ｃに相当する位置には、色変換色素を含まない透明層５が形成される。第２カラーフィルタ層２ｂは、中間の波長域の光を透過させるカラーフィルタ層であり、この層を透過した色素分解光５１ｂは第１色変換色素を分解するが、第２色変換色素を分解しない。したがって、図２（ｃ）に示すように第２カラーフィルタ層２ｂに相当する位置には、第２色変換色素を含む第２色変換層４ｂが形成される。そして、第１カラーフィルタ層２ａは、最も長い波長域の光を透過させるカラーフィルタ層であり、この層を透過した色素分解光５１ａは第１色変換色素も第２色変換色素も分解しない。したがって、図２（ｃ）に示すように第１カラーフィルタ層２ａに相当する位置には第１色変換色素（加えて第２色変換色素）を含む第１色変換層４ａが形成される。
【００５８】
色素分解光の波長分布、強度および照射時間は、第１の実施形態の方法と同様のものを使用することができる。また、第１の実施形態と同様に本実施形態においても、異なる波長分布を有する複数の色素分解光を用いて色変換色素の分解を実施してもよい。さらに、色素分解光照射時のバイアス電圧印加（順バイアス電圧および逆バイアス電圧、ならびにそれらを交互に印加することを含む）も第１の実施形態と同様に実施することができる。本実施形態においても、順バイアス電圧印加時の放射光のモニターに基づいて、色素分解光の光量調整、および照射工程の終了判定を行ってもよい。加えて、本実施形態においても、色素分解光照射工程において、色素層３を含む積層体を加熱して、色変換色素の分解を促進してもよい。
【００５９】
本発明の第３の実施形態の有機ＥＬディスプレイの製造方法は：透明基板上にｎ種のカラーフィルタ層を形成する工程と；ドライプロセスを用いて、前記ｎ種のカラーフィルタ層上に複数の発光部を有する有機ＥＬ素子を形成する工程であって、該有機ＥＬ素子は、第１電極および第２電極、ならびに第１および第２電極の間に配置され、有機発光層とキャリア移動性色素層とを少なくとも含む有機ＥＬ層を含む工程と；色素分解光に対して、前記透明基板および前記カラーフィルタ層を通して前記キャリア移動性色素層を露光して、第ｍ種のカラーフィルタ層に相当する位置に第ｍ種のキャリア移動性色変換層を形成する工程とを含み、ここで、キャリア移動性色素層は（ｎ−１）種の色変換色素を少なくとも含み、ｎは２〜６の整数であり、ｍは１〜ｎ−１の整数のそれぞれを表し、前記ｎ種のカラーフィルタ層のそれぞれは、異なる波長域の光を透過させ、第ｍ種の色変換色素は、第ｍ種のカラーフィルタ層が透過させない光によって分解され、第ｍ種のキャリア移動性色変換層は、波長分布変換により第ｍ種のカラーフィルタ層が透過する光を放射することを特徴とする。
【００６０】
本実施形態の製造方法は、色変換層へと変換される色素層を有機ＥＬ素子と別個に形成するのではなく、有機ＥＬ層中にキャリアの移動／注入特性とともに色素層の機能を有する層（キャリア移動性色素層）を導入する点で、第１の実施形態の製造方法とは異なるものである。本実施形態においては、有機ＥＬ層を構成する層のいずれか（有機発光層を除く）に（ｎ−１）種の色変換色素を導入する。
【００６１】
本実施形態において色変換色素が導入される層は、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層または電子注入層のいずれであってもよく、正孔注入層または電子注入層であることが好ましい。本実施形態においては、最初にホスト材料と色変換色素とを含むキャリア移動性色素層が形成され、該層を色素分解光に対して暴露することによって色変換色素を分解して、キャリア移動層およびキャリア移動性色変換層が形成される。
【００６２】
本実施形態のキャリア移動性色素層中に用いられるホスト材料は、色素分解光への露光後に形成されるキャリア移動層およびキャリア移動性色変換層におけるキャリア注入および／または移動の機能を果たす材料である。キャリア移動性色変換層を正孔注入層または正孔輸送層として用いる場合、ＢＡＰＰ、ＢＡＢＰ、ＣｚＰＰ、ＣｚＢＰなどのような高分子量ペリレン系ホール輸送材料を使用することができる（特許文献９参照）。あるいはまた、ホール輸送性を有する蛍光材料である、アリールアミノ基が結合したアザフルオランテン骨格を有するアザ芳香族化合物（特許文献１０参照）、アミノ基と結合したフルオランテン骨格を有する縮合芳香族化合物（特許文献１１参照）、アミノ基を有するトリフェニレン芳香族化合物（特許文献１２参照）、またはアミノ基を有するペリレン系芳香族化合物（特許文献１３参照）を、ホスト材料として用いることもできる。一方、キャリア移動性色変換層を電子注入層または電子輸送層として用いる場合、Ｚｎｓｑ２などをホスト材料として用いることができる。
【００６３】
本実施形態における色変換色素としては、ＤＣＭ−１、ＤＣＭ−２、ＤＣＪＴＢなどのジシアニン系色素；１−エチル−２−（４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３−ブタジエニル）−ピリジウム−パークロレート（ピリジン１）等のピリジン系材料；ローダミン系のキサンテン系材料；オキサジン系材料；クマリン系色素；アクリジン色素；その他の縮合芳香族環材料（ジケトピロロ［３，４−ｃ］ピロール誘導体、チアジアゾールの類縁複素環骨格が縮環したベンゾイミダゾール化合物、ポルフィリン誘導体化合物、キナクリドン系化合物、ビス（アミノスチリル）ナフタレン化合物など）を利用できる。
【００６４】
図３および図４は、３種のカラーフィルタ層２（ａ〜ｃ）および２種の色変換色素（第１および第２色変換色素）を含むキャリア移動性色素層４１を用いた本実施形態の一例を示す。図３（ａ）は、透明基板１の上に、３種のカラーフィルタ層２と、平坦化層３２と、透明電極１１、有機ＥＬ層１２ａおよび反射電極１３を少なくとも含む、複数の独立した発光部を有する有機ＥＬ素子１０とが形成された状態を示す。ここで、有機ＥＬ層１２ａはキャリア移動性色素層を含み、図４（ａ）には正孔注入性色素層４１、正孔輸送層４３、有機発光層４５、電子輸送層４７および電子注入層４９の５つの層からなる有機ＥＬ層１２ａの例を示した。ここで、正孔注入性色素層４１は、２種の色変換色素（第１および第２色変換色素）を含む。
【００６５】
次に、図３（ｂ）に示すように、透明基板１の側から色素分解光５０を照射して、キャリア移動性色素層からキャリア移動性色変換層を形成する。本発明においては、特定種のカラーフィルタ層の位置に合わせてキャリア移動性色変換層を形成するために、色素分解光５０は、透明基板１に対して垂直に入射すべきである。３種のカラーフィルタ層２（ａ〜ｃ）のそれぞれを通った光５１（ａ〜ｃ）がキャリア移動性色素層を含む有機ＥＬ層１２ａに到達して色変換色素の分解を行い、図３（ｃ）に示すように、キャリア移動層および２種のキャリア移動性色変換層を含む有機ＥＬ層１２ｂを形成する。
【００６６】
より詳細には、図４（ｂ）に示すように、この有機ＥＬ層１２ａに、第１〜第３カラーフィルタ層２（ａ〜ｃ）を通過した光５１（ａ〜ｃ）が入射する。第３カラーフィルタ層２ｃは、最も短い波長域の光を透過させるカラーフィルタ層であり、この層を透過した色素分解光５１ｃは第１および第２色変換色素の両方を分解する。したがって、図４（ｃ）に示すように第３カラーフィルタ層２ｃに相当する位置には、色変換色素を含まない正孔注入層４４が形成される。第２カラーフィルタ層２ｂは、中間の波長域の光を透過させるカラーフィルタ層であり、この層を透過した色素分解光５１ｂは第１色変換色素を分解するが、第２色変換色素を分解しない。したがって、図４（ｃ）に示すように第２カラーフィルタ層２ｂに相当する位置には、第２色変換色素を含む第２正孔注入性色変換層４２ｂが形成される。そして、第１カラーフィルタ層２ａは、最も長い波長域の光を透過させるカラーフィルタ層であり、この層を透過した色素分解光５１ａは第１色変換色素も第２色変換色素も分解しない。したがって、図４（ｃ）に示すように第１カラーフィルタ層２ａに相当する位置には第１色変換色素（加えて第２色変換色素）を含む第１正孔注入性色変換層４２ａが形成される。このようにして、２種の正孔注入性色変換層４２（ａ，ｂ）と正孔注入層４４とを含む有機ＥＬ層１２ｂが形成される。
【００６７】
色素分解光の波長分布、強度および照射時間は、第１の実施形態の方法と同様のものを使用することができる。また、第１の実施形態と同様に本実施形態においても、異なる波長分布を有する複数の色素分解光を用いて色変換色素の分解を実施してもよい。さらに、色素分解光照射時のバイアス電圧印加（順バイアス電圧および逆バイアス電圧、ならびにそれらを交互に印加することを含む）も第１の実施形態と同様に実施することができる。本実施形態においても、順バイアス電圧印加時の放射光のモニターに基づいて、色素分解光の光量調整、および照射工程の終了判定を行ってもよい。加えて、本実施形態においても、色素分解光照射工程において、キャリア移動性色素層を含む積層体を加熱して、色変換色素の分解を促進してもよい。
【００６８】
本発明の第４の実施形態の有機ＥＬディスプレイの製造方法は：透明基板上にｎ種のカラーフィルタ層を形成する工程と；前記カラーフィルタ層上に、樹脂中に分散された（ｎ−１）種の色変換色素を含む色素層を形成する工程と；前記色素層の上に、複数の独立した発光部を有する有機ＥＬ素子を形成する工程であって、該有機ＥＬ素子は、第１電極および第２電極、ならびに第１および第２電極の間に配置される有機ＥＬ層を少なくとも含む工程と；前記色素層に対して、前記透明基板および前記カラーフィルタ層を通して色素分解光を露光して、第ｍ種のカラーフィルタ層に相当する位置に第ｍ種の色変換層を形成する工程とを含み、ここで、ｎは、２〜６の整数であり、ｍは、１〜ｎ−１の整数のそれぞれを表し、前記ｎ種のカラーフィルタ層のそれぞれは、異なる波長域の光を透過させ、第ｍ種の色変換色素は、第ｍ種のカラーフィルタ層が透過させない光によって分解され、第ｍ種の色変換層は、波長分布変換により第ｍ種のカラーフィルタ層が透過する光を放射することを特徴とする。
【００６９】
本実施形態の製造方法は、色素層が、蒸着される色変換色素ではなく、樹脂中に分散された色変換色素から形成される点において、第１の実施形態の製造方法とは異なるものである。
【００７０】
色変換色素を分散させる樹脂、いわゆるマトリクス樹脂としては、種々の熱可塑性樹脂を用いることができる。以後の工程に依存するが、マトリクス樹脂は、通常１００℃、好ましくは１５０℃の加熱に対して分解もしくは変形を起こさないことが望ましい。用いることができるマトリクス樹脂は、たとえば、ポリメタクリル酸エステルなどのアクリル樹脂、アルキッド樹脂、芳香族炭化水素樹脂（ポリスチレンなど）、セルロース樹脂、ポリエステル樹脂（ポリエチレンテレフタレートなど）、ポリアミド樹脂（ナイロン類など）、ポリウレタン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂およびこれらの樹脂混合物などを含む。本実施形態における色変換色素としては、第１の実施形態において説明した色変換色素を使用することができる。
【００７１】
本実施形態の色素層（樹脂分散色素層）６３は、（ｎ−１）種の色変換色素とマトリクス樹脂とを適切な溶媒中に分散ないし溶解させた塗布液を、当該技術において知られている任意の方法（スピンコート、ロールコート、ナイフコート、キャスト、スクリーン印刷などを含む）を用いて塗布することによって形成することができる。本実施形態において、用いられるマトリクス樹脂１ｇ当たり０．２マイクロモル以上、好ましくは１〜２０マイクロモル、より好ましくは３〜１５マイクロモルの色変換色素を用いることが好ましい。また、本実施形態の色素層６３は、５μｍ以上、好ましくは７〜１５μｍの膜厚を有する。したがって、色素層から誘導される色変換層もまた前述の範囲内の膜厚を有し、所望の強度の色変換された出力光を得ることが可能となる。
【００７２】
図５は、３種のカラーフィルタ層および２種の色変換色素を用いた本実施形態の一例（ｎ＝３の場合）を示す図である。図５（ａ）においては、透明基板１の上に、３種のカラーフィルタ層２（ａ〜ｃ）と、樹脂中に分散された２種の色変換色素（第１および第２色変換色素）を含む色素層６３と、透明電極１１、有機ＥＬ層１２および反射電極１３を少なくとも含む、複数の独立した発光部を有する有機ＥＬ素子１０とが形成された状態を示す。
【００７３】
次に、図５（ｂ）に示すように透明基板１の側から色素分解光５０を照射して、色素層６３から色変換層６４を形成する。本発明においては、特定種のカラーフィルタ層２の位置に合わせて色変換層６４を形成するために、色素分解光５０は、色素層６３に対して垂直に、したがって透明基板１に対しても垂直に入射すべきである。第３カラーフィルタ層２ｃは、最も短い波長域の光を透過させるカラーフィルタ層であり、この層を透過した色素分解光５１ｃは第１および第２色変換色素の両方を分解する。したがって、図５（ｃ）に示すように第３カラーフィルタ層２ｃに相当する位置には、色変換色素を含まない透明層６５が形成される。第２カラーフィルタ層２ｂは、中間の波長域の光を透過させるカラーフィルタ層であり、この層を透過した色素分解光５１ｂは第１色変換色素を分解するが、第２色変換色素を分解しない。したがって、図５（ｃ）に示すように第２カラーフィルタ層２ｂに相当する位置には、第２色変換色素を含む第２色変換層６４ｂが形成される。そして、第１カラーフィルタ層２ａは、最も長い波長域の光を透過させるカラーフィルタ層であり、この層を透過した色素分解光５１ａは第１色変換色素も第２色変換色素も分解しない。したがって、図５（ｃ）に示すように第１カラーフィルタ層２ａに相当する位置には第１色変換色素（加えて第２色変換色素）を含む第１色変換層６４ａが形成される。
【００７４】
色素分解光の波長分布、強度および照射時間は、第１の実施形態の方法と同様のものを使用することができる。また、第１の実施形態と同様に本実施形態においても、異なる波長分布を有する複数の色素分解光を用いて色変換色素の分解を実施してもよい。さらに、色素分解光照射時のバイアス電圧印加（順バイアス電圧および逆バイアス電圧、ならびにそれらを交互に印加することを含む）も第１の実施形態と同様に実施することができる。本実施形態においても、順バイアス電圧印加時の放射光のモニターに基づいて、色素分解光の光量調整、および照射工程の終了判定を行ってもよい。加えて、本実施形態においても、色素分解光照射工程において、樹脂を含有する色素層６３を含む積層体を加熱して、色変換色素の分解を促進してもよい。
【００７５】
本発明の第５の実施形態の有機ＥＬディスプレイの製造方法は：透明基板上にｎ種のカラーフィルタ層を形成する工程と；第２基板の上に、複数の独立した発光部を有する有機ＥＬ素子を形成する工程であって、該有機ＥＬ素子は、第１電極および第２電極、ならびに第１および第２電極の間に配置される有機ＥＬ層を少なくとも含む工程と；前記有機ＥＬ素子の上に（ｎ−１）種の色変換色素を含む色素層を形成する工程と；前記カラーフィルタ層と前記色素層とが対向するように、前記透明基板と前記第２基板とを貼り合わせる工程と；前記透明基板および前記カラーフィルタ層を通して、色素分解光に対して前記色素層を露光して、第ｍ種のカラーフィルタ層に相当する位置に第ｍ種の色変換層を形成する工程とを含み、ここで、ｎは、２〜６の整数であり、ｍは、１〜ｎ−１の整数のそれぞれを表し、前記ｎ種のカラーフィルタ層のそれぞれは、異なる波長域の光を透過させ、第ｍ種の色変換色素は、第ｍ種のカラーフィルタ層が透過させない光によって分解され、第ｍ種の色変換層は、波長分布変換により第ｍ種のカラーフィルタ層が透過する光を放射することを特徴とする。
【００７６】
本実施形態の方法は、透明基板上にカラーフィルタ層を形成し、透明基板とは異なる第２基板上に有機ＥＬ素子および色素層を形成し、それら基板を貼り合わせて色変換層のセルフアライメント形成前の積層体を得るという点において、第１の実施形態の方法とは異なるものである。図６に、３種のカラーフィルタ層および２種の色変換色素を用いる場合（ｎ＝３）の、貼り合わせる前の透明基板／カラーフィルタ層の積層体（図６(ａ））および第２基板／有機ＥＬ素子／色素層の積層体（図６（ｂ））を示す。カラーフィルタ層の材料としては第１の実施形態に記載の材料を使用することができ、図６（ａ）に示す透明基板／カラーフィルタ層の積層体は、第１の実施形態における方法を用いて作製することができる。図７においては、貼り合わせ後の積層体の色素分解光に対する露光（図７（ａ））、ならびに得られる有機ディスプレイ（図７（ｂ））の例示的構成を示す。図６および図７の構成において、第１電極は反射電極１３であり、第２電極は透明電極１１である。
【００７７】
本実施形態において用いられる第２基板７１は、透明であっても不透明であってもよい。第２基板７１を形成するための透明材料としては、第１の実施形態の透明基板と同様のものを用いることができる。第２基板７１を形成するための不透明材料としては、たとえばシリコンウェーハなどの半導体基板を用いることができる。本実施形態においては、第２基板７１上に複数のスイッチング素子７２を設けて、アクティブマトリクス駆動方式の有機ＥＬ素子を形成することが容易である。複数のスイッチング素子７２としては、ＴＦＴ、ＭＩＭなどの素子を用いることができる。さらに、スイッチング素子７２を第１電極と電気的に接続するための開口部を除いて、平坦化絶縁膜７３を用いて被覆し、その上面を平坦化することができる。スイッチング素子７２および平坦化絶縁膜７３は、当該技術において知られている任意の方法を用いて作製することができる。
【００７８】
次いで、反射電極１３（第１電極）、有機ＥＬ層１２および透明電極１１（第２電極）を積層して、有機ＥＬ素子を形成する。有機ＥＬ素子の各要素は、第１の実施形態と同様の材料および方法にて作製することができる。
【００７９】
ここで、図６（ｂ）に示したように第２基板７１の上に複数のスイッチング素子７２が設けられている場合、反射電極１３は独立した発光部を画定する複数の部分電極から構成され、該部分電極のそれぞれとスイッチング素子７２とを１対１で電気的に接続する。また、任意選択的ではあるが、複数の部分電極から構成される反射電極１３の間隙に絶縁膜７４を形成して、部分電極間の短絡を防止してもよい。絶縁膜７４は、金属酸化物、金属窒化物など当該技術において知られている任意の材料および方法を用いて作製することができる。また、図６（ｂ）に示した構成において、透明電極１１は全面にわたって一体的に形成される共通電極である。
【００８０】
次いで、有機ＥＬ素子の上に色素層３を形成する。本実施形態における色素層３は、第１の実施形態と同様に、（ｎ−１）種の色変換色素を含み、ドライプロセスで形成される層である。
【００８１】
図６（ｂ）に示すように、以上のように形成された色素層３以下の構成要素を覆うパッシベーション層７５を形成してもよい。パッシベーション層７５は、有機ＥＬ層１２および／または色変換層４（色素層３から誘導される）に対する外部環境からの酸素、低分子成分および水分の透過を防止し、それらの層の機能低下を防止することに有効である。パッシベーション層７５は、可視域における透明性が高く（４００〜８００ｎｍの範囲で透過率５０％以上）、電気絶縁性を有し、水分、酸素および低分子成分に対するバリア性を有し、好ましくは鉛筆硬度２Ｈ以上の膜硬度を有する材料で形成される。例えば、ＳｉＯｘ、ＳｉＮｘ、ＳｉＮｘＯｙ、ＡｌＯｘ、ＴｉＯｘ、ＴａＯｘ、ＺｎＯｘ等の無機酸化物、無機窒化物等の材料を使用できる。該パッシベーション層の形成方法としては特に制約はなく、スパッタ法、ＣＶＤ法、真空蒸着法、ディップ法、ゾル−ゲル法等の慣用の手法により形成できる。パッシベーション層７５は、単層であっても、複数の層が積層されたものであってもよい。パッシベーション層７５の膜厚（複数の層の積層物である場合は全膜厚）は、０．１〜１０μｍであることが好ましい。
【００８２】
以上のようにして得られた透明基板／カラーフィルタ層の積層体と第２基板／有機ＥＬ素子／色素層の積層体とを、透明基板１および第２基板７１が最外側となるように、すなわちカラーフィルタ層２と色素層３とが対向するように貼り合わせる（図７（ａ）参照）。貼り合わせは、たとえば、透明基板１または第２基板７１の周縁部に設けられた接着層８０を用いて実施することができる。接着層８０は、紫外線硬化型接着剤を用いて形成することができ、必要に応じてガラスビーズ、シリカビーズなどのようなスペーサ粒子を含んで透明基板１／第２基板７１間の距離を画定するようにしてもよい。
【００８３】
次に、図７（ａ）に示すように、第１の実施形態と同様にして、透明基板１およびカラーフィルタ層２を通して、色素分解光５０を色素層に照射して、色変換層４を形成する。図７（ａ）および（ｂ）の構成は、３種のカラーフィルタ層２および２種の色変換色素を含む色素層３を用いた場合（ｎ＝３の場合）を例示している。最も短い波長域の光を透過させる第３カラーフィルタ層２ｃに相当する位置およびカラーフィルタ層２が設置されていない位置においては、２種の色変換色素がいずれも分解され、透明層５が形成される。中間域の光を透過させる第３カラーフィルタ層２ｂに相当する位置においては、第１色変換色素が分解されて、第２色変換色素を含む第２色変換層４ｂが形成される。そして、最も長い波長域の光を透過させる第１カラーフィルタ層２ａに相当する位置においては、いずれの色変換色素も分解されず、第１色変換色素および第２色変換色素を含む第１色変換層４ａが形成される。たとえば、第１〜第３のカラーフィルタ層２を赤色（２ａ）、緑色（２ｂ）および青色（２ｃ）カラーフィルタ層とし、第１および第２の色変換層４を赤色（４ａ）および緑色（４ｂ）色変換層とすることによって、図７（ｂ）に示すようなフルカラー表示が可能な有機ＥＬディスプレイを得ることができる。
【００８４】
また、本実施形態においても、第１の実施形態と同様に、複数種の色素分解光の複数回に分けた照射、色素分解光の照射の際の順バイアス電圧の印加、および順バイアス電圧の印加時の発光スペクトルに基づく色素分解光の光量制御についても、第１の実施形態と同様に実施することができる。さらに、本実施形態においても、第１の実施形態と同様に、色素分解光の照射の際に色素層３を含む積層体の温度を上昇させることができる。適切な加熱温度は第１の実施形態と同様である。本実施形態においては、透明基板１または第２基板７１のいずれか一方を加熱すること、あるいは両方の基板を加熱することによって色素層３の温度を上昇させることができる。
【００８５】
なお、ｎ種のカラーフィルタ層と色変換層を得るための色素層とを別個の基板に形成する本実施形態をアクティブマトリクス駆動方式の有機ＥＬ素子に関連して説明したが、本実施形態は、パッシブマトリクス駆動方式の有機ＥＬ素子に対しても適用可能である。すなわち、スイッチング素子７２およびそれに付随する部分を省略し、反射電極１３を１方向に延びる複数のストライプ状部分電極から構成し、透明電極１１を該方向と交差する方向に延びる複数のストライプ状部分電極から構成することによって、パッシブマトリクス駆動方式の有機ＥＬディスプレイを製造することが可能である。
【実施例】
【００８６】
［実施例１］
透明ガラス基板（コーニング社製１７３７ガラス）上に、青色フィルタ材料（富士フイルムエレクトロニクスマテリアル（株）製：カラーモザイクＣＢ−７００１）をスピンコート法にて塗布後、フォトリソグラフ法によりパターニングを実施し、線幅０．１ｍｍ、ピッチ０．３３ｍｍ（隣接する２つの線の間隔が０．２３ｍｍである）、膜厚２μｍの、縦方向に延びる複数のストライプ状部分からなる青色カラーフィルタ層を形成した。
【００８７】
青色カラーフィルタ層を形成した基板上に、緑色フィルタ材料（富士フイルムエレクトロニクスマテリアル（株）製：カラーモザイクＣＧ−７００１）をスピンコート法にて塗布後、フォトリソグラフ法によりパターニングを実施し、線幅０．１ｍｍ、ピッチ０．３３ｍｍ、膜厚２μｍの、縦方向に延びる複数のストライプ状部分からなる緑色カラーフィルタ層を形成した。
【００８８】
次に、赤色フィルタ材料（富士フイルムエレクトロニクスマテリアル（株）製：カラーモザイクＣＲ−７００１）をスピンコート法にて塗布後、フォトリソグラフ法によりパターニングを実施し、線幅０．１ｍｍ、ピッチ０．３３ｍｍ、膜厚２μｍの、縦方向に延びる複数のストライプ状部分からなる赤色カラーフィルタ層を形成した。
【００８９】
３種のカラーフィルタ層を形成した基板を真空蒸着装置内に設置し、クマリンおよびＤＣＭ−１を共蒸着して膜厚５００ｎｍの色素層を形成した。この際に、クマリン６の蒸着速度を０．３ｎｍ／ｓ、ＤＣＭ−１の蒸着速度を０．６ｎｍ／ｓとなるように、それぞれの坩堝の加熱温度を制御した。本実施例の色素層において、クマリン６：ＤＣＭ−１のモル比が３：７であった。
【００９０】
色素層を成膜した積層体を対向スパッタ装置へと移動させた。そして、線幅０．１ｍｍ、ピッチ０．１１ｍｍの縦方向に伸びる複数のストライプ状部分からなる膜を与えるマスクを配置し、該マスクを通して膜厚２００ｎｍのインジウム−スズ酸化物（ＩＴＯ）を堆積させ透明電極を得た。
【００９１】
次いで、真空を破ることなしに透明電極を形成した積層体を真空蒸着装置へと移動させ、正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層の４層を順次堆積させて、有機ＥＬ層を得た。それぞれの層は０．１ｎｍ／ｓの蒸着速度で堆積され、正孔注入層として膜厚１００ｎｍの銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）、正孔輸送層として膜厚１０ｎｍのα−ＮＰＤ、発光層として膜厚３０ｎｍのＤＰＶＢｉ、および電子輸送層として膜厚２０ｎｍのＡｌｑ３を用いた。引き続いて、膜厚１．５ｎｍのＬｉを堆積させて、陰極バッファ層を形成した。
【００９２】
さらに、線幅０．１ｍｍ、ピッチ０．１１ｍｍの横方向に伸びる複数のストライプ状部分からなる膜を与えるマスクを配置し、該マスクを通して膜厚２００ｎｍのＣｒＢ膜を堆積させ反射電極を得た。
【００９３】
最後に、反射電極を形成した積層体を乾燥雰囲気（水分濃度１ｐｐｍ以下、酸素濃度１ｐｐｍ以下）に取り出した。その積層体に、四辺に紫外線硬化型接着剤を塗布した封止用ガラス基板を貼り合わせて、封止を行った。
【００９４】
封止を行った積層体に対して、透明ガラス基板の側に配置したカーボンアーク灯（白色光源）から平行光線を得るための光学系を通して、強度１Ｗ／ｃｍ２の色素分解光を照射した。この際に、赤色カラーフィルタ層に対応する位置の色素層ではクマリン６およびＤＣＭ−１いずれの分解も起こらずに、当該位置に赤色変換層が形成された。また、緑色カラーフィルタ層に対応する位置の色素層ではクマリン６の分解は起こらずに、ＤＣＭ−１が分解され、当該位置に緑色変換層が形成された。さらに、青色カラーフィルタ層上方およびカラーフィルタ層が形成されていない位置の色素層ではクマリン６およびＤＣＭ−１の両方が分解され、当該位置に透明層が形成された。
【００９５】
上記の色素分解光照射により得られた有機ＥＬディスプレイにおいて、２種の色変換層は、対応するカラーフィルタ層の位置に設けられており、変形などの故障は認められなかった。
【００９６】
［実施例２］
色素分解光照射時に、透明電極および反射電極を線順次走査して、有機ＥＬ層に対して電圧１０Ｖの順バイアス電圧を印加したことを除いて、実施例１と同様にして有機ＥＬディスプレイを形成した。本実施例においては色素分解光の照射時間を実施例１に比べて３０％短縮することができ、有機ＥＬ層の発光によって色素層中の色変換色素の分解を促進できることが明らかとなった。
【００９７】
［実施例３］
透明電極および反射電極の線順次走査時に、赤色カラーフィルタ層に対応する位置の発光部を発光させないようにしたことを除いて、実施例２と同様にして有機ＥＬディスプレイを形成した。本実施例においても、実施例２と同様に色素分解光の照射時間を実施例１に比べて３０％短縮することができ、有機ＥＬ層の発光によって色素層中の色変換色素を促進できることが明らかとなった。
【００９８】
［実施例４］
色素分解光照射時に、透明電極および反射電極を線順次走査して、有機ＥＬ層に対して電圧２０Ｖの逆バイアス電圧を印加したことを除いて、実施例１と同様にして有機ＥＬディスプレイを形成した。本実施例にて得られた有機ＥＬディスプレイの発光部には微小欠陥が認められず、色素分解光の照射による色変換層の形成と同時に発光部の微小欠陥の排除が可能であることが明らかとなった。
【００９９】
［実施例５］
透明電極および反射電極の線順次走査時に、複数の発光部のそれぞれについて、１０回の順バイアス電圧（１０Ｖ）印加と１０回の逆バイアス電圧（２０Ｖ）印加とを交互に実施したことを除いて、実施例２と同様にして有機ＥＬディスプレイを形成した。本実施例においては、色素分解光の照射時間を実施例１に比べて３０％短縮することができ、有機ＥＬ層の発光によって色素層中の色変換色素を促進できること、および得られた有機ＥＬディスプレイの発光部には微小欠陥が認められず、色素分解光の照射による色変換層の形成と同時に発光部の微小欠陥の排除が可能であることが明らかとなった。
【０１００】
［実施例６］
色素分解光照射時に、積層体を６５℃に加熱したことを除いて、実施例１と同様にして有機ＥＬディスプレイを形成した。本実施例においては色素分解光の照射時間を実施例１に比べて２０％短縮することができ、積層体の加熱によって色素層中の色変換色素を促進できることが明らかとなった。
【０１０１】
［実施例７］
色素分解光照射を、以下のように２段階で実施したことを除いて、実施例１と同様にして有機ＥＬディスプレイを形成した。
【０１０２】
積層体に対して、透明ガラス基板の側に配置したカーボンアーク灯（白色光源）から、波長５００〜６００ｎｍの光を透過させるバンドパスフィルタおよび平行光線を得るための光学系を通して、強度１Ｗ／ｃｍ２の色素分解光を照射した。この際に、緑色カラーフィルタ層および青色カラーフィルタ層上方およびカラーフィルタ層が形成されていない位置の色素層ではＤＣＭ−１が分解された。
【０１０３】
次に、透明ガラス基板の側に配置したカーボンアーク灯（白色光源）から、波長４５０〜５１０ｎｍの光を透過させるバンドパスフィルタおよび平行光線を得るための光学系を通して、強度１Ｗ／ｃｍ２の色素分解光を照射した。この際に、青色カラーフィルタ層上方およびカラーフィルタ層が形成されていない位置の色素層ではクマリン６が分解された。
【０１０４】
以上のように、２段階の色素分解光照射によって、赤色カラーフィルタ層上方の色素層ではクマリン６およびＤＣＭ−１いずれの分解も起こらずに、当該位置に赤色変換層が形成された。また、緑色カラーフィルタ層上方の色素層ではクマリン６の分解は起こらずに、ＤＣＭ−１が分解され、当該位置に緑色変換層が形成された。さらに、青色カラーフィルタ層上方およびカラーフィルタ層が形成されていない位置の色素層ではクマリン６およびＤＣＭ−１の両方が分解され、当該位置に透明層が形成された。
【０１０５】
［実施例８］
実施例１と同様の方法によって、３種のカラーフィルタ層を形成した積層体を得た。次いで、該積層体を対向スパッタ装置へと移動させた。そして、線幅０．１ｍｍ、ピッチ０．１１ｍｍの縦方向に伸びる複数のストライプ状部分からなる膜を与えるマスクを配置し、該マスクを通して膜厚２００ｎｍのＩＴＯ膜を堆積させて第１透明電極を得た。
【０１０６】
次いで、実施例１と同様にして正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層の４層を順次堆積させて、有機ＥＬ層を得た。引き続いて、膜厚１．５ｎｍのＬｉを堆積させて、陰極バッファ層を形成した。
【０１０７】
さらに、陰極バッファ層を形成した積層体を対向スパッタ装置へと移動させ、線幅０．１ｍｍ、ピッチ０．１１ｍｍの横方向に伸びる複数のストライプ状部分からなる膜を与えるマスクを配置し、該マスクを通して膜厚２００ｎｍのＩＴＯ膜を堆積させて第２透明電極を得た。
【０１０８】
そして、第２透明電極を形成した基板を真空蒸着装置内に設置し、クマリンおよびＤＣＭ−１を共蒸着して膜厚５００ｎｍの色素層を形成した。この際に、クマリン６の蒸着速度を０．３ｎｍ／ｓ、ＤＣＭ−１の蒸着速度を０．６ｎｍ／ｓとなるように、それぞれの坩堝の加熱温度を制御した。本実施例の色素層において、クマリン６：ＤＣＭ−１のモル比が３：７であった。さらに、蒸着法を用いて膜厚２００ｎｍのＣｒＢ膜を堆積させ、反射層を得た。
【０１０９】
次いで、反射層を形成した積層体を乾燥雰囲気（水分濃度１ｐｐｍ以下、酸素濃度１ｐｐｍ以下）に取り出した。その積層体に、四辺に紫外線硬化型接着剤を塗布した封止用ガラス基板を貼り合わせて、封止を行った。
【０１１０】
封止を行った積層体に対して、透明ガラス基板の側に配置したカーボンアーク灯（白色光源）から平行光線を得るための光学系を通して、強度１Ｗ／ｃｍ２の色素分解光を照射した。赤色カラーフィルタ層に対応する位置の色素層ではクマリン６およびＤＣＭ−１いずれの分解も起こらずに、当該位置に赤色変換層が形成された。また、緑色カラーフィルタ層に対応する位置の色素層ではクマリン６の分解は起こらずに、ＤＣＭ−１が分解され、当該位置に緑色変換層が形成された。さらに、青色カラーフィルタ層に対応する位置およびカラーフィルタ層が形成されていない位置の色素層ではクマリン６およびＤＣＭ−１の両方が分解され、当該位置に透明層が形成された。
【０１１１】
上記の色素分解光照射により得られた有機ＥＬディスプレイにおいて、２種の色変換層は、対応するカラーフィルタ層の位置に設けられており、変形などの故障は認められなかった。
【０１１２】
［実施例９］
色素分解光照射時に、第１および第２透明電極を線順次走査して、有機ＥＬ層に対して電圧１０Ｖの順バイアス電圧を印加したことを除いて、実施例８と同様にして有機ＥＬディスプレイを形成した。本実施例においては色素分解光の照射時間を実施例８に比べて３０％短縮することができ、有機ＥＬ層の発光によって色素層中の色変換色素を促進できることが明らかとなった。
【０１１３】
［実施例１０］
第１および第２透明電極の線順次走査時に、赤色カラーフィルタ層に対応する位置の発光部を発光させないようにしたことを除いて、実施例９と同様にして有機ＥＬディスプレイを形成した。本実施例においても、実施例９と同様に色素分解光の照射時間を実施例８に比べて３０％短縮することができ、有機ＥＬ層の発光によって色素層中の色変換色素を促進できることが明らかとなった。
【０１１４】
［実施例１１］
色素分解光照射時に、第１および第２透明電極を線順次走査して、有機ＥＬ層に対して電圧２０Ｖの逆バイアス電圧を印加したことを除いて、実施例８と同様にして有機ＥＬディスプレイを形成した。本実施例にて得られた有機ＥＬディスプレイの発光部には微小欠陥が認められず、色素分解光の照射による色変換層の形成と同時に発光部の微小欠陥の排除が可能であることが明らかとなった。
【０１１５】
［実施例１２］
第１および第２透明電極の線順次走査時に、複数の発光部のそれぞれについて、１０回の順バイアス電圧（１０Ｖ）印加と１０回の逆バイアス電圧（２０Ｖ）印加とを交互に実施したことを除いて、実施例９と同様にして有機ＥＬディスプレイを形成した。本実施例においては、色素分解光の照射時間を実施例８に比べて３０％短縮することができ、有機ＥＬ層の発光によって色素層中の色変換色素を促進できること、および得られた有機ＥＬディスプレイの発光部には微小欠陥が認められず、色素分解光の照射による色変換層の形成と同時に発光部の微小欠陥の排除が可能であることが明らかとなった。
【０１１６】
［実施例１３］
色素分解光照射時に、積層体を６５℃に加熱したことを除いて、実施例８と同様にして有機ＥＬディスプレイを形成した。本実施例においては色素分解光の照射時間を実施例８に比べて２０％短縮することができ、積層体の加熱によって色素層中の色変換色素を促進できることが明らかとなった。
【０１１７】
［実施例１４］
色素分解光照射を、以下のように２段階で実施したことを除いて、実施例８と同様にして有機ＥＬディスプレイを形成した。
【０１１８】
積層体に対して、透明ガラス基板の側に配置したカーボンアーク灯（白色光源）から、波長５００〜６００ｎｍの光を透過させるバンドパスフィルタおよび平行光線を得るための光学系を通して、強度１Ｗ／ｃｍ２の色素分解光を照射した。この際に、緑色カラーフィルタ層および青色カラーフィルタ層上方およびカラーフィルタ層が形成されていない位置の色素層ではＤＣＭ−１が分解された。
【０１１９】
次に、透明ガラス基板の側に配置したカーボンアーク灯（白色光源）から、波長４５０〜５１０ｎｍの光を透過させるバンドパスフィルタおよび平行光線を得るための光学系を通して、強度１Ｗ／ｃｍ２の色素分解光を照射した。この際に、青色カラーフィルタ層上方およびカラーフィルタ層が形成されていない位置の色素層ではクマリン６が分解された。
【０１２０】
以上のように、２段階の色素分解光照射によって、赤色カラーフィルタ層上方の色素層ではクマリン６およびＤＣＭ−１いずれの分解も起こらずに、当該位置に赤色変換層が形成された。また、緑色カラーフィルタ層上方の色素層ではクマリン６の分解は起こらずに、ＤＣＭ−１が分解され、当該位置に緑色変換層が形成された。さらに、青色カラーフィルタ層上方およびカラーフィルタ層が形成されていない位置の色素層ではクマリン６およびＤＣＭ−１の両方が分解され、当該位置に透明層が形成された。
【０１２１】
［実施例１５］
実施例１と同様の方法によって、３種のカラーフィルタ層を形成した積層体を得た。次いで、該積層体を対向スパッタ装置へと移動させた。そして、線幅０．１ｍｍ、ピッチ０．１１ｍｍの縦方向に伸びる複数のストライプ状部分からなる膜を与えるマスクを配置し、該マスクを通して膜厚２００ｎｍのＩＴＯ膜を堆積させて透明電極を得た。
【０１２２】
次いで、真空を破ることなしに透明電極を形成した積層体を真空蒸着装置へと移動させ、正孔注入性色素層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層の４層を順次堆積させて、有機ＥＬ層を得た。それぞれの層は０．１ｎｍ／ｓの蒸着速度で堆積され、正孔注入性色素層として膜厚２００ｎｍのＣｚＰＰ：（クマリン６＋ＤＣＭ−１）［９質量％］、正孔輸送層として膜厚１５ｎｍのＴＰＤ、発光層として膜厚３０ｎｍのＤＰＶＢｉ、および電子輸送層として膜厚２０ｎｍのＡｌｑ３を用いた。引き続いて、膜厚１．５ｎｍのＬｉを堆積させて、陰極バッファ層を形成した。正孔注入性色素層の堆積において、ＣｚＰＰと、色変換色素（クマリン６およびＤＣＭ−１の合計）との蒸着速度比を１００：９とした。さらに、クマリン６とＤＣＭ−１との蒸着速度を１：２として、クマリン６：ＤＣＭ−１のモル比を３：７とした。
【０１２３】
さらに、線幅０．１ｍｍ、ピッチ０．１１ｍｍの横方向に伸びる複数のストライプ状部分からなる膜を与えるマスクを配置し、該マスクを通して膜厚２００ｎｍのＣｒＢ膜を堆積させ反射電極を得た。
【０１２４】
次いで、反射電極を形成した積層体を乾燥雰囲気（水分濃度１ｐｐｍ以下、酸素濃度１ｐｐｍ以下）に取り出した。その積層体に、四辺に紫外線硬化型接着剤を塗布した封止用ガラス基板を貼り合わせて、封止を行った。
【０１２５】
封止を行った積層体に対して、透明ガラス基板の側に配置したカーボンアーク灯（白色光源）から平行光線を得るための光学系を通して、強度１Ｗ／ｃｍ２の色素分解光を照射した。赤色カラーフィルタ層に対応する位置の正孔注入性色素層ではクマリン６およびＤＣＭ−１いずれの分解も起こらずに、当該位置に正孔注入性赤色変換層が形成された。また、緑色カラーフィルタ層に対応する位置の正孔注入性色素層ではクマリン６の分解は起こらずに、ＤＣＭ−１が分解され、当該位置に正孔注入性緑色変換層が形成された。さらに、青色カラーフィルタ層に対応する位置およびカラーフィルタ層が形成されていない位置の正孔注入性色素層ではクマリン６およびＤＣＭ−１の両方が分解され、当該位置に正孔注入層が形成された。
【０１２６】
上記の色素分解光照射により得られた有機ＥＬディスプレイにおいて、２種の正孔注入性色変換層は、対応するカラーフィルタ層の位置に設けられており、変形などの故障は認められなかった。
【０１２７】
［実施例１６］
色素分解光照射時に、透明電極および反射電極を線順次走査して、有機ＥＬ層に対して電圧１０Ｖの順バイアス電圧を印加したことを除いて、実施例１５と同様にして有機ＥＬディスプレイを形成した。本実施例においては色素分解光の照射時間を実施例１５に比べて３０％短縮することができ、有機ＥＬ層の発光によって色素層中の色変換色素を促進できることが明らかとなった。
【０１２８】
［実施例１７］
透明電極および反射電極の線順次走査時に、赤色カラーフィルタ層に対応する位置の発光部を発光させないようにしたことを除いて、実施例１６と同様にして有機ＥＬディスプレイを形成した。本実施例においても、実施例１６と同様に色素分解光の照射時間を実施例１５に比べて３０％短縮することができ、有機ＥＬ層の発光によって色素層中の色変換色素を促進できることが明らかとなった。
【０１２９】
［実施例１８］
色素分解光照射時に、透明電極および反射電極を線順次走査して、有機ＥＬ層に対して電圧２０Ｖの逆バイアス電圧を印加したことを除いて、実施例１５と同様にして有機ＥＬディスプレイを形成した。本実施例にて得られた有機ＥＬディスプレイの発光部には微小欠陥が認められず、色素分解光の照射による色変換層の形成と同時に発光部の微小欠陥の排除が可能であることが明らかとなった。
【０１３０】
［実施例１９］
透明電極および反射電極の線順次走査時に、複数の発光部のそれぞれについて、１０回の順バイアス電圧（１０Ｖ）印加と１０回の逆バイアス電圧（２０Ｖ）印加とを交互に実施したことを除いて、実施例１６と同様にして有機ＥＬディスプレイを形成した。本実施例においては、色素分解光の照射時間を実施例１５に比べて３０％短縮することができ、有機ＥＬ層の発光によって色素層中の色変換色素を促進できること、および得られた有機ＥＬディスプレイの発光部には微小欠陥が認められず、色素分解光の照射による色変換層の形成と同時に発光部の微小欠陥の排除が可能であることが明らかとなった。
【０１３１】
［実施例２０］
色素分解光照射時に、積層体を６５℃に加熱したことを除いて、実施例１５と同様にして有機ＥＬディスプレイを形成した。本実施例においては色素分解光の照射時間を実施例１５に比べて２０％短縮することができ、積層体の加熱によって色素層中の色変換色素を促進できることが明らかとなった。
【０１３２】
［実施例２１］
色素分解光照射を、以下のように２段階で実施したことを除いて、実施例１５と同様にして有機ＥＬディスプレイを形成した。
【０１３３】
積層体に対して、透明ガラス基板の側に配置したカーボンアーク灯（白色光源）から、波長５００〜６００ｎｍの光を透過させるバンドパスフィルタおよび平行光線を得るための光学系を通して、強度１Ｗ／ｃｍ２の色素分解光を照射した。この際に、緑色カラーフィルタ層および青色カラーフィルタ層上方およびカラーフィルタ層が形成されていない位置の色素層ではＤＣＭ−１が分解された。
【０１３４】
次に、透明ガラス基板の側に配置したカーボンアーク灯（白色光源）から、波長４５０〜５１０ｎｍの光を透過させるバンドパスフィルタおよび平行光線を得るための光学系を通して、強度１Ｗ／ｃｍ２の色素分解光を照射した。この際に、青色カラーフィルタ層上方およびカラーフィルタ層が形成されていない位置の色素層ではクマリン６が分解された。
【０１３５】
以上のように、２段階の色素分解光照射によって、赤色カラーフィルタ層上方の色素層ではクマリン６およびＤＣＭ−１いずれの分解も起こらずに、当該位置に赤色変換層が形成された。また、緑色カラーフィルタ層上方の色素層ではクマリン６の分解は起こらずに、ＤＣＭ−１が分解され、当該位置に緑色変換層が形成された。さらに、青色カラーフィルタ層上方およびカラーフィルタ層が形成されていない位置の色素層ではクマリン６およびＤＣＭ−１の両方が分解され、当該位置に透明層が形成された。
【０１３６】
［実施例２２］
実施例１と同様の方法によって、３種のカラーフィルタ層を形成した積層体を得た。ＤＣＭ−１（０．６質量部）およびクマリン６（０．３質量部）を、プロピレングリコールモノエチルアセテート溶剤（１２０質量部）に溶解させた蛍光変換色素溶液を調製した。該溶液に対して、１００質量部のＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）を添加して溶解させ、塗布液を得た。この塗布液を、カラーフィルタ層を形成した積層体の上にスピンコート法にて塗布し、加熱乾燥して膜厚７μｍのＰＭＭＡ樹脂を含有する色素層を形成した。ここで、クマリン６：ＤＣＭ−１のモル比は３：７であった。
【０１３７】
次に、該積層体を対向スパッタ装置へと移動させた。そして、線幅０．１ｍｍ、ピッチ０．１１ｍｍの縦方向に伸びる複数のストライプ状部分からなる膜を与えるマスクを配置し、該マスクを通して膜厚２００ｎｍのＩＴＯ膜を堆積させて透明電極を得た。
【０１３８】
次いで、真空を破ることなしに透明電極を形成した積層体を真空蒸着装置へと移動させ、正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層の４層を順次堆積させて、有機ＥＬ層を得た。それぞれの層は０．１ｎｍ／ｓの蒸着速度で堆積され、正孔注入層として膜厚１００ｎｍのＣｕＰｃ、正孔輸送層として膜厚１０ｎｍのα−ＮＰＤ、発光層として膜厚３０ｎｍのＤＰＶＢｉ、および電子輸送層として膜厚２０ｎｍのＡｌｑ３を用いた。引き続いて、膜厚１．５ｎｍのＬｉを堆積させて、陰極バッファ層を形成した。
【０１３９】
さらに、線幅０．１ｍｍ、ピッチ０．１１ｍｍの横方向に伸びる複数のストライプ状部分からなる膜を与えるマスクを配置し、該マスクを通して膜厚２００ｎｍのＣｒＢ膜を堆積させ反射電極を得た。
【０１４０】
最後に、反射電極を形成した積層体を乾燥雰囲気（水分濃度１ｐｐｍ以下、酸素濃度１ｐｐｍ以下）に取り出した。その積層体に、四辺に紫外線硬化型接着剤を塗布した封止用ガラス基板を貼り合わせて、封止を行った。
【０１４１】
封止を行った積層体に対して、透明ガラス基板の側に配置したカーボンアーク灯（白色光源）から平行光線を得るための光学系を通して、強度１Ｗ／ｃｍ２の色素分解光を照射した。赤色カラーフィルタ層に対応する位置の色素層ではクマリン６およびＤＣＭ−１いずれの分解も起こらずに、当該位置に赤色変換層が形成された。また、緑色カラーフィルタ層に対応する位置の色素層ではクマリン６の分解は起こらずに、ＤＣＭ−１が分解され、当該位置に緑色変換層が形成された。さらに、青色カラーフィルタ層に対応する位置およびカラーフィルタ層が形成されていない位置の色素層ではクマリン６およびＤＣＭ−１の両方が分解され、当該位置に透明層が形成された。
【０１４２】
上記の色素分解光照射により得られた有機ＥＬディスプレイにおいて、ＰＭＭＡ樹脂を含有する２種の色変換層のいずれも、対応するカラーフィルタ層の位置に設けられており、変形などの故障は認められなかった。
【０１４３】
［実施例２３］
色素分解光照射時に、透明電極および反射電極を線順次走査して、有機ＥＬ層に対して電圧１０Ｖの順バイアス電圧を印加したことを除いて、実施例２２と同様にして有機ＥＬディスプレイを形成した。本実施例においては色素分解光の照射時間を実施例２２に比べて３０％短縮することができ、有機ＥＬ層の発光によって色素層中の色変換色素を促進できることが明らかとなった。
【０１４４】
［実施例２４］
透明電極および反射電極の線順次走査時に、赤色カラーフィルタ層に対応する位置の発光部を発光させないようにしたことを除いて、実施例２３と同様にして有機ＥＬディスプレイを形成した。本実施例においても、実施例２３と同様に色素分解光の照射時間を実施例２２に比べて３０％短縮することができ、有機ＥＬ層の発光によって色素層中の色変換色素を促進できることが明らかとなった。
【０１４５】
［実施例２５］
色素分解光照射時に、透明電極および反射電極を線順次走査して、有機ＥＬ層に対して電圧２０Ｖの逆バイアス電圧を印加したことを除いて、実施例２２と同様にして有機ＥＬディスプレイを形成した。本実施例にて得られた有機ＥＬディスプレイの発光部には微小欠陥が認められず、色素分解光の照射による色変換層の形成と同時に発光部の微小欠陥の排除が可能であることが明らかとなった。
【０１４６】
［実施例２６］
透明電極および反射電極の線順次走査時に、複数の発光部のそれぞれについて、１０回の順バイアス電圧（１０Ｖ）印加と１０回の逆バイアス電圧（２０Ｖ）印加とを交互に実施したことを除いて、実施例２３と同様にして有機ＥＬディスプレイを形成した。本実施例においては、色素分解光の照射時間を実施例２２に比べて３０％短縮することができ、有機ＥＬ層の発光によって色素層中の色変換色素を促進できること、および得られた有機ＥＬディスプレイの発光部には微小欠陥が認められず、色素分解光の照射による色変換層の形成と同時に発光部の微小欠陥の排除が可能であることが明らかとなった。
【０１４７】
［実施例２７］
色素分解光照射時に、積層体を６５℃に加熱したことを除いて、実施例２２と同様にして有機ＥＬディスプレイを形成した。本実施例においては色素分解光の照射時間を実施例２２に比べて２０％短縮することができ、積層体の加熱によって色素層中の色変換色素を促進できることが明らかとなった。
【０１４８】
［実施例２８］
色素分解光照射を、以下のように２段階で実施したことを除いて、実施例２２と同様にして有機ＥＬディスプレイを形成した。
【０１４９】
積層体に対して、透明ガラス基板の側に配置したカーボンアーク灯（白色光源）から、波長５００〜６００ｎｍの光を透過させるバンドパスフィルタおよび平行光線を得るための光学系を通して、強度１Ｗ／ｃｍ２の色素分解光を照射した。この際に、緑色カラーフィルタ層および青色カラーフィルタ層上方およびカラーフィルタ層が形成されていない位置の色素層ではＤＣＭ−１が分解された。
【０１５０】
次に、透明ガラス基板の側に配置したカーボンアーク灯（白色光源）から、波長４５０〜５１０ｎｍの光を透過させるバンドパスフィルタおよび平行光線を得るための光学系を通して、強度１Ｗ／ｃｍ２の色素分解光を照射した。この際に、青色カラーフィルタ層上方およびカラーフィルタ層が形成されていない位置の色素層ではクマリン６が分解された。
【０１５１】
以上のように、２段階の色素分解光照射によって、赤色カラーフィルタ層上方の色素層ではクマリン６およびＤＣＭ−１いずれの分解も起こらずに、当該位置に赤色変換層が形成された。また、緑色カラーフィルタ層上方の色素層ではクマリン６の分解は起こらずに、ＤＣＭ−１が分解され、当該位置に緑色変換層が形成された。さらに、青色カラーフィルタ層上方およびカラーフィルタ層が形成されていない位置の色素層ではクマリン６およびＤＣＭ−１の両方が分解され、当該位置に透明層が形成された。
【０１５２】
［実施例２９］
透明ガラス基板１（コーニング社製１７３７ガラス）上に青色フィルタ材料（富士フイルムエレクトロニクスマテリアル（株）製：カラーモザイクＣＢ−７００１）をスピンコート法にて塗布後、フォトリソグラフ法によりパターニングを実施し、線幅０．１ｍｍ、ピッチ０．３３ｍｍ（隣接する２つの線の間隔が０．２３ｍｍである）、膜厚２μｍの、縦方向に延びる複数のストライプ状部分からなる青色カラーフィルタ層２ｃを形成した。
【０１５３】
青色カラーフィルタ層を形成した基板上に、緑色フィルタ材料（富士フイルムエレクトロニクスマテリアル（株）製：カラーモザイクＣＧ−７００１）をスピンコート法にて塗布後、フォトリソグラフ法によりパターニングを実施し、線幅０．１ｍｍ、ピッチ０．３３ｍｍ、膜厚２μｍの、縦方向に延びる複数のストライプ状部分からなる緑色カラーフィルタ層２ｂを形成した。
【０１５４】
次に、赤色フィルタ材料（富士フイルムエレクトロニクスマテリアル（株）製：カラーモザイクＣＲ−７００１）をスピンコート法にて塗布後、フォトリソグラフ法によりパターニングを実施し、線幅０．１ｍｍ、ピッチ０．３３ｍｍ、膜厚２μｍの、縦方向に延びる複数のストライプ状部分からなる赤色カラーフィルタ層２ａを形成して、透明基板／カラーフィルタ層積層体を得た。
【０１５５】
次に、スイッチング素子７２としての複数のＴＦＴおよび該ＴＦＴのソース電極部分を開口した平坦化絶縁膜７３をあらかじめ設けたガラス基板７１上に、マスクを用いるスパッタ法にて厚さ５００ｎｍの銀および厚さ１００ｎｍのＩＺＯを積層して、ＴＦＴのそれぞれのソース電極と１対１に接続される複数の部分電極に分割された反射電極１３を形成した。複数の部分電極のそれぞれは縦方向０．３２ｍｍ×横方向０．１２ｍｍの寸法を有し、縦および横の両方向ともに０．０１ｍｍギャップをおいて、マトリクス状に配列された。
【０１５６】
次に、絶縁膜塗液を塗布し、フォトリソグラフ法を用いてパターニングして、格子状の絶縁膜７４を形成した。ここで、絶縁膜７４が、反射電極１３を構成するそれぞれの部分電極の全ての縁から幅０．０１ｍｍの区域を被覆するようにした。
【０１５７】
次いで、絶縁層７４を形成した積層体を抵抗加熱真空蒸着装置内に装着し、反射電極１３の上に正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層の４層を順次堆積させて、有機ＥＬ層１２を得た。正孔注入層として膜厚１００ｎｍのＣｕＰｃ、正孔輸送層として膜厚１０ｎｍのα−ＮＰＤ、発光層として膜厚３０ｎｍのＤＰＶＢｉ、および電子輸送層として膜厚２０ｎｍのＡｌｑ３を用いた。引き続いて、膜厚１０ｎｍのＭｇ／Ａｇ（質量比１０：１）を堆積させて陰極バッファ層を形成し、膜厚１００ｎｍのＩＺＯを堆積させて一体型の透明電極１１を形成した。
【０１５８】
さらに、透明電極１１の上面全体にＣｚＰＰ：（クマリン６＋ＤＣＭ−１）［９質量％］を共蒸着させて、膜厚２００ｎｍの色素層３を形成した。そして、色素層３以下の構造を覆うように、ＳｉＮからなる膜厚１μｍのパッシベーション層７５を形成して、第２基板／有機ＥＬ素子／色素層の積層体を得た。
【０１５９】
以上のようにして形成した透明基板／カラーフィルタ層積層体と第２基板／有機ＥＬ素子／色素層積層体とを、水分濃度１ｐｐｍ、酸素濃度１ｐｐｍに管理されたグローブボックス内に搬入した。透明基板／カラーフィルタ層積層体の外周部に、ディスペンサーロボットを用いて直径２０μｍのビーズを分散させた紫外線硬化型接着剤（スリーボンド社製、商品名３０Ｙ−４３７）を塗布して接着層８０を形成した。カラーフィルタ層と有機ＥＬ素子の発光部（反射電極１３の位置に相当）とのアライメントを行いながら透明基板／カラーフィルタ層積層体と第２基板／有機ＥＬ素子／色素層積層体とを貼り合わせて集成体を形成し、続いてＵＶランプを用いて１００ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を３０秒間にわたって照射して、接着層８０を硬化させて外周部の封止を行った。
【０１６０】
得られた集成体の透明基板１の側に、カーボンアーク灯（白色光源）および平行光線を得るための光学系を配置した。そして、集成体に対して強度１Ｗ／ｃｍ２の色素分解光を照射して、色変換層を含む有機ＥＬディスプレイを形成した。この際に、赤色カラーフィルタ層２ａに相当する位置の色素層３では、クマリン６およびＤＣＭ−１のいずれの分解も進行せず、当該位置に赤色変換層４ａが形成された。また、緑色カラーフィルタ層２ｂに相当する位置の色素層３では、クマリン６は分解されずにＤＣＭ−１が分解され、当該位置に緑色変換層４ｂが形成された。さらに、青色カラーフィルタ層２ｃに相当する位置およびカラーフィルタ層が形成されていない位置の色素層３では、クマリン６およびＤＣＭ−１のいずれもが分解され、当該位置に透明層５が形成された。
【０１６１】
得られた有機ＥＬディスプレイにおいて、２種の色変換層４ａおよび４ｂは、対応するカラーフィルタ層２ａおよび２ｂの位置に設けられており、変形などの故障は認められなかった。
【０１６２】
［実施例３０］
色素分解光照射時に、電圧１０Ｖの順バイアス電圧を印加して各画素を発光させたことを除いて、実施例２９と同様にして有機ＥＬディスプレイを形成した。本実施例においては色素分解光の照射時間を実施例２９に比べて３０％短縮することができ、有機ＥＬ層の発光によって色素層中の色変換色素を促進できることが明らかとなった。
【０１６３】
［実施例３１］
赤色カラーフィルタ層２ａに対応する位置の発光部を発光させないようにしたことを除いて、実施例３０と同様にして有機ＥＬディスプレイを形成した。本実施例においても、実施例３０と同様に色素分解光の照射時間を実施例２９に比べて３０％短縮することができ、有機ＥＬ層の発光によって色素層中の色変換色素を促進できることが明らかとなった。
【０１６４】
［実施例３２］
色素分解光照射時に、積層体を６５℃に加熱したことを除いて、実施例２９と同様にして有機ＥＬディスプレイを形成した。本実施例においては色素分解光の照射時間を実施例２９に比べて２０％短縮することができ、積層体の加熱によって色素層中の色変換色素を促進できることが明らかとなった。
【０１６５】
［実施例３３］
色素分解光照射を、以下のように２段階で実施したことを除いて、実施例２９と同様にして有機ＥＬディスプレイを形成した。
【０１６６】
積層体に対して、透明基板１の側に配置したカーボンアーク灯（白色光源）から、波長５００〜６００ｎｍの光を透過させるバンドパスフィルタおよび平行光線を得るための光学系を通して、強度１Ｗ／ｃｍ２の色素分解光を照射した。この際に、緑色カラーフィルタ層２ｂおよび青色カラーフィルタ層２ｃに相当する位置およびカラーフィルタ層が形成されていない位置の色素層３ではＤＣＭ−１が分解された。
【０１６７】
次に、透明基板１の側に配置したカーボンアーク灯（白色光源）から、波長４５０〜５１０ｎｍの光を透過させるバンドパスフィルタおよび平行光線を得るための光学系を通して、強度１Ｗ／ｃｍ２の色素分解光を照射した。この際に、青色カラーフィルタ層２ｃに相当する位置およびカラーフィルタ層が形成されていない位置の色素層３ではクマリン６が分解された。
【０１６８】
以上のように、２段階の色素分解光照射によって、赤色カラーフィルタ層２ａに相当する位置の色素層３では、クマリン６およびＤＣＭ−１のいずれの分解も進行せず、当該位置に赤色変換層４ａが形成された。また、緑色カラーフィルタ層２ｂに相当する位置の色素層３では、クマリン６は分解されずにＤＣＭ−１が分解され、当該位置に緑色変換層４ｂが形成された。さらに、青色カラーフィルタ層２ｃに相当する位置およびカラーフィルタ層が形成されていない位置の色素層３では、クマリン６およびＤＣＭ−１のいずれもが分解され、当該位置に透明層５が形成された。
【図面の簡単な説明】
【０１６９】
【図１】第１の実施形態の有機ＥＬディスプレイの製造方法を示す概略図であり、（ａ）〜（ｃ）は各段階を示す概略図である。
【図２】第２の実施形態の有機ＥＬディスプレイの製造方法を示す概略図であり、（ａ）〜（ｃ）は各段階を示す概略図である。
【図３】第３の実施形態の有機ＥＬディスプレイの製造方法を示す概略図であり、（ａ）〜（ｃ）は各段階を示す概略図である。
【図４】第３の実施形態の有機ＥＬディスプレイの製造方法における有機ＥＬ層を示す概略図であり、（ａ）〜（ｃ）は各段階を示す概略図である。
【図５】第４の実施形態の有機ＥＬディスプレイの製造方法を示す概略図であり、（ａ）〜（ｃ）は各段階を示す概略図である。
【図６】第５の実施形態の有機ＥＬディスプレイを構成するための積層体を示す概略図であり、（ａ）は透明基板／カラーフィルタ層の積層体を示し、（ｂ）は第２基板／有機ＥＬ素子／色素層の積層体を示す概略図である。
【図７】第５の実施形態の有機ＥＬディスプレイの製造方法を示す概略図であり、（ａ）、（ｂ）は各段階を示す概略図である。
【符号の説明】
【０１７０】
１    透明基板
２（ａ〜ｃ）    カラーフィルタ層
３    色素層
４（ａ，ｂ）    色変換層
５    透明層
１０    有機ＥＬ素子
１１（ａ，ｂ）    透明電極
１２（ａ，ｂ）    有機ＥＬ層
１３    反射電極
３１    反射層
３２    平坦化層
４１    正孔注入性色素層
４２（ａ，ｂ）    正孔注入性色変換層
４３    正孔輸送層
４４    正孔注入層
４５    有機発光層
４７    電子輸送層
４９    電子注入層
５０、５１（ａ〜ｃ）  色素分解光
６３    色素層（樹脂含有）
６４    色変換層（樹脂含有）
７１    第２基板
７２    スイッチング素子
７３    平坦化絶縁層
７４    絶縁膜
７５    パッシベーション層
８０    接着層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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