(57)【要約】【課題】カラーフィルターに起因する液晶層の配向不良を可及的に抑制する。【解決手段】複数の開口領域が形成されたブラックマトリクス６と、各開口領域に設けられた着色層７Ｒとを備えたカラーフィルター基板であって、ブラックマトリクス６は、各開口領域の少なくとも一辺において、着色層７Ｒの周端に一致する一致部Ｍと、着色層７Ｒの周端から離間する離間部Ｐ、及び着色層７Ｒの周端に重畳する重畳部Ｌの少なくとも一方とを備えている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の開口領域が設けられたブラックマトリクスと、
上記各開口領域に設けられた着色層とを備えたカラーフィルター基板であって、
上記ブラックマトリクスは、上記各開口領域の少なくとも一辺において、上記着色層の周端に一致する一致部と、該周端から離間する離間部、及び該周端に重畳する重畳部の少なくとも一方とを備えていることを特徴とするカラーフィルター基板。
【請求項２】
請求項１に記載されたカラーフィルター基板において、
上記ブラックマトリクスは、上記各開口領域が矩形状に設けられ、
上記着色層の少なくとも一辺は、上記一致部と、上記離間部及び重畳部の少なくとも一方とを構成するための複数の線状部を有し、該各線状部が段状に配置されていることを特徴とするカラーフィルター基板。
【請求項３】
請求項１に記載されたカラーフィルター基板において、
上記着色層は、矩形状に設けられ、
上記ブラックマトリクスは、上記各開口領域の少なくとも一辺が、上記一致部と、上記離間部及び重畳部の少なくとも一方とを構成するための複数の線状部を有し、該各線状部が段状に配置されていることを特徴とするカラーフィルター基板。
【請求項４】
請求項１に記載されたカラーフィルター基板において、
上記ブラックマトリクスは、遮光性を有する樹脂により構成されていることを特徴とするカラーフィルター基板。
【請求項５】
複数の開口領域が設けられたブラックマトリクスと、
上記各開口領域に設けられた着色層とを備えたカラーフィルター基板を製造する方法であって、
透明基板に遮光膜を成膜して、該遮光膜をパターニングすることにより、上記ブラックマトリクスを形成するブラックマトリクス形成工程と、
上記ブラックマトリクス形成工程で形成されたブラックマトリクスの各開口領域を覆うように透明着色膜を成膜して、該透明着色膜をパターニングすることにより、各周端の少なくとも一辺が複数の線状部を有し、該各線状部が段状に配置されると共に、該複数の線状部の少なくとも一つが上記ブラックマトリクスの内周端に一致するように、上記着色層を形成する着色層形成工程とを備えることを特徴とするカラーフィルター基板の製造方法。
【請求項６】
複数の開口領域が設けられたブラックマトリクスと、
上記各開口領域に設けられた着色層とを備えたカラーフィルター基板を製造する方法であって、
透明基板に遮光膜を成膜して、該遮光膜をパターニングすることにより、上記各開口領域の少なくとも一辺が複数の線状部を有し、該各線状部が段状に配置されるように、上記ブラックマトリクスを形成するブラックマトリクス形成工程と、
上記ブラックマトリクス形成工程で形成されたブラックマトリクスの各開口領域を覆うように透明着色膜を成膜して、該透明着色膜をパターニングすることにより、各周端が上記各開口領域に形成された複数の線状部の少なくとも一つに一致するように、上記着色層を形成する着色層形成工程とを備えることを特徴とするカラーフィルター基板の製造方法。
【請求項７】
互いに対向して配置された一対の基板と、
上記一対の基板の間に設けられた液晶層とを備えた液晶表示パネルであって、
上記一方の基板は、複数の開口領域が設けられたブラックマトリクスと、該各開口領域に設けられた着色層とを備え、
上記ブラックマトリクスは、上記各開口領域の少なくとも一辺において、上記着色層の周端に一致する一致部と、該周端から離間する離間部、及び該周端に重畳する重畳部の少なくとも一方とを備えていることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項８】
請求項７に記載された液晶表示パネルにおいて、
上記他方の基板には、上記ブラックマトリクスの各開口領域における上記一致部を含む辺に重畳するように表示用配線が設けられていることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項９】
請求項７に記載された液晶表示パネルにおいて、
上記一方の基板には、上記ブラックマトリクスの各開口領域における上記一致部を含む辺に重畳するように表示用配線が設けられていることを特徴とする液晶表示パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラーフィルター基板、その製造方法、及び液晶表示パネルに関し、特に、樹脂製のカラーフィルターを有するカラーフィルター基板及び液晶表示パネルに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般的な液晶表示パネルは、例えば、マトリクス状に設けられた複数の画素電極を有するアクティブマトリクス基板と、そのアクティブマトリクス基板に対向して配置され、共通電極及びカラーフィルターを有する対向基板と、それらの両基板の間に設けられた液晶層とを備えている。
【０００３】
対向基板を構成するカラーフィルターは、アクティブマトリクス基板の各画素電極に対応して例えばストライプ配列された赤（Ｒ）・緑（Ｇ）・青（Ｂ）の着色層と、各着色層の間に設けられたブラックマトリクスとを備えている。
【０００４】
例えば、特許文献１には、着色遮光性樹脂を用いたブラックマトリクスと、上記着色層に対応する着色透明樹脂を用いたカラーフィルター層とを備えたカラーフィルターにおいて、カラーフィルター層のパターン外形が、ブラックマトリクスの開口部周縁より内側にあり、且つブラックマトリクスのパターン最上部輪郭と、カラーフィルター層のパターン外形形状との間隙の幅が１μｍ〜５μｍの範囲となるカラーフィルター及びその製造方法が開示されている。そして、これによれば、適切に着色画素部とブラックマトリクスとの境界が最小化され、且つ大きな突起も生じないカラーフィルター表面が得られる、と記載されている。
【特許文献１】特開２００１−３３６１３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、カラーフィルターを構成するブラックマトリクスとして、黒色に着色した遮光性を有する樹脂を用いる場合には、その遮光性を確保するために、例えば、０．１μｍ程度の金属クロムなどの薄膜を用いた場合よりも、その膜厚が、例えば、１μｍ程度に厚くなってしまう。そのため、絶縁基板上に複数の開口領域を有する樹脂製のブラックマトリクスを形成した後に、その各開口領域に着色層を形成する際には、アライメントずれなどの製造工程におけるバラツキにより、ブラックマトリクスの内周端に着色層の周端が乗り上げてしまうおそれがある。そうなると、カラーフィルターの表面に凸部が形成されるので、その凸部によって、カラーフィルター基板の表面に接触する液晶層の配向が不安定になる液晶層の配向不良、及び液晶層を挟持するアクティブマトリクス基板及びカラーフィルター基板の間隔が部分的に広がるセル厚不良などの不具合が発生してしまう。
【０００６】
ここで、図２０に示すように、特許文献１に記載された技術を用いて、ブラックマトリクス１０６の内周端と着色層１０７の周端との間に間隙Ｃ（例えば、１μｍ〜５μｍ）を設けた場合には、着色層１０７の乗り上げ部分による突起が確かに形成されなくなるものの、ブラックマトリクス１０６の内周端と着色層１０７の周端との間隙Ｃが形成する全周に亘る段差（凹部）によって、各着色層１０７が構成する画素では、液晶層の配向不良が全周に亘って発生することになるので、画素単位で液晶層の配向不良が発生するおそれがある。
【０００７】
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、カラーフィルターに起因する液晶層の配向不良を可及的に抑制することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明は、ブラックマトリクスが、その各開口領域の少なくとも一辺において、着色層の周端に一致する一致部と、その周端から離間する離間部、及びその周端に重畳する重畳部の少なくとも一方とを備えるようにしたものである。
【０００９】
具体的に本発明に係るカラーフィルター基板は、複数の開口領域が設けられたブラックマトリクスと、上記各開口領域に設けられた着色層とを備えたカラーフィルター基板であって、上記ブラックマトリクスは、上記各開口領域の少なくとも一辺において、上記着色層の周端に一致する一致部と、該周端から離間する離間部、及び該周端に重畳する重畳部の少なくとも一方とを備えていることを特徴とする。
【００１０】
上記の構成によれば、ブラックマトリクスが、その各開口領域の少なくとも一辺において、着色層の周端に一致する一致部と、その周端から離間する離間部、及びその周端に重畳する重畳部の少なくとも一方とを備えているので、ブラックマトリクスの各開口領域又は着色層により構成される各画素において、着色層の周端とブラックマトリクスの内周端とが少なくとも一致部で一致することになる。ここで、一致部では、着色層の周端とブラックマトリクスの内周端とが乗り上げや間隙のない理想的な仕上がり状態になり、基板表面の凹凸が小さくなっているので、その基板表面に接触する液晶層の配向が正常な状態にある。そのため、各画素において、液晶層が正常に配向する領域を有していることになり、画素単位で発生する液晶層の配向不良が抑制されるので、カラーフィルターに起因する液晶層の配向不良が可及的に抑制される。
【００１１】
上記ブラックマトリクスは、上記各開口領域が矩形状に設けられ、上記着色層の少なくとも一辺は、上記一致部と、上記離間部及び重畳部の少なくとも一方とを構成するための複数の線状部を有し、該各線状部が段状に配置されていてもよい。
【００１２】
上記の構成によれば、ブラックマトリクスの各開口領域が矩形状に設けられ、着色層の少なくとも一辺が段状に配置された複数の線状部を有しているので、ブラックマトリクスの内周端と、着色層の周端の一辺における各線状部との位置関係により、ブラックマトリクスの内周端が着色層の周端に一致する一致部と、ブラックマトリクスの内周端が着色層の周端から離間する離間部、及びブラックマトリクスの内周端が着色層の周端に重畳する重畳部の少なくとも一方とが具体的に構成される。
【００１３】
上記着色層は、矩形状に設けられ、上記ブラックマトリクスは、上記各開口領域の少なくとも一辺が、上記一致部と、上記離間部及び重畳部の少なくとも一方とを構成するための複数の線状部を有し、該各線状部が段状に配置されていてもよい。
【００１４】
上記の構成によれば、着色層が矩形状に設けられ、ブラックマトリクスの各開口領域の少なくとも一辺が段状に配置された複数の線状部を有しているので、着色層の周端と、ブラックマトリクスの内周端の一辺における各線状部との位置関係により、ブラックマトリクスの内周端が着色層の周端に一致する一致部と、ブラックマトリクスの内周端が着色層の周端から離間する離間部、及びブラックマトリクスの内周端が着色層の周端に重畳する重畳部の少なくとも一方とが具体的に構成される。
【００１５】
上記ブラックマトリクスは、遮光性を有する樹脂により構成されていてもよい。
【００１６】
上記の構成によれば、遮光性を確保するために、ブラックマトリクスの膜厚が厚くなる。そして、ブラックマトリクスの各開口領域に着色層が設けられたカラーフィルター基板では、その表面がブラックマトリクスの膜厚に起因して凹凸に形成され、その凹凸に形成された領域で液晶層の配向不良が発生し易くなるので、本発明の作用効果が有効に奏される。
【００１７】
また、本発明に係るカラーフィルター基板の製造方法は、複数の開口領域が設けられたブラックマトリクスと、上記各開口領域に設けられた着色層とを備えたカラーフィルター基板を製造する方法であって、透明基板に遮光膜を成膜して、該遮光膜をパターニングすることにより、上記ブラックマトリクスを形成するブラックマトリクス形成工程と、上記ブラックマトリクス形成工程で形成されたブラックマトリクスの各開口領域を覆うように透明着色膜を成膜して、該透明着色膜をパターニングすることにより、各周端の少なくとも一辺が複数の線状部を有し、該各線状部が段状に配置されると共に、該複数の線状部の少なくとも一つが上記ブラックマトリクスの内周端に一致するように、上記着色層を形成する着色層形成工程とを備えることを特徴とする。
【００１８】
上記の方法によれば、ブラックマトリクス形成工程において、複数の開口領域を有するブラックマトリクスを形成し、着色層形成工程において、各周端の少なくとも一辺が段状に配置された複数の線状部を有し、それらの線状部の少なくとも一つがブラックマトリクス形成工程で形成されたブラックマトリクスの内周端に一致するように、着色層を形成するので、ブラックマトリクスの内周端と、着色層の周端の一辺における各線状部との位置合わせにより、ブラックマトリクスの内周端が着色層の周端に一致する一致部と、ブラックマトリクスの内周端が着色層の周端から離間する離間部、及びブラックマトリクスの内周端が着色層の周端に重畳する重畳部の少なくとも一方とが構成される。そのため、製造されたカラーフィルター基板では、ブラックマトリクスが、その各開口領域の少なくとも一辺において、一致部と、離間部及び重畳部の少なくとも一方とを備えることになるので、ブラックマトリクスの各開口領域又は着色層により構成される各画素において、着色層の周端とブラックマトリクスの内周端とが少なくとも一致部で一致することになる。ここで、一致部では、着色層の周端とブラックマトリクスの内周端とが乗り上げや間隙のない理想的な仕上がり状態になり、基板表面の凹凸が小さくなるので、その基板表面に接触する液晶層の配向が正常な状態にある。これにより、各画素において、液晶層が正常に配向する領域を有することになり、画素単位で発生する液晶層の配向不良が抑制されるので、カラーフィルターに起因する液晶層の配向不良が可及的に抑制される。
【００１９】
また、本発明に係るカラーフィルター基板の製造方法は、複数の開口領域が設けられたブラックマトリクスと、上記各開口領域に設けられた着色層とを備えたカラーフィルター基板を製造する方法であって、透明基板に遮光膜を成膜して、該遮光膜をパターニングすることにより、上記各開口領域の少なくとも一辺が複数の線状部を有し、該各線状部が段状に配置されるように、上記ブラックマトリクスを形成するブラックマトリクス形成工程と、上記ブラックマトリクス形成工程で形成されたブラックマトリクスの各開口領域を覆うように透明着色膜を成膜して、該透明着色膜をパターニングすることにより、各周端が上記各開口領域に形成された複数の線状部の少なくとも一つに一致するように、上記着色層を形成する着色層形成工程とを備えることを特徴とする。
【００２０】
上記の方法によれば、ブラックマトリクス形成工程において、各開口領域の少なくとも一辺が、段状に配置された複数の線状部を有するようにブラックマトリクスを形成し、着色層形成工程において、各周端がブラックマトリクス形成工程で形成されたブラックマトリクスの各開口領域の一辺における複数の線状部の少なくとも一つに一致するように着色層を形成するので、ブラックマトリクスの内周端の一辺における各線状部と、着色層の周端との位置合わせにより、ブラックマトリクスの内周端が着色層の周端に一致する一致部と、ブラックマトリクスの内周端が着色層の周端から離間する離間部、及びブラックマトリクスの内周端が着色層の周端に重畳する重畳部の少なくとも一方とが構成される。そのため、製造されたカラーフィルター基板では、ブラックマトリクスが、その各開口領域の少なくとも一辺において、一致部と、離間部及び重畳部の少なくとも一方とを備えることになるので、ブラックマトリクスの各開口領域又は着色層により構成される各画素において、着色層の周端とブラックマトリクスの内周端とが少なくとも一致部で一致することになる。ここで、一致部では、着色層の周端とブラックマトリクスの内周端とが乗り上げや間隙のない理想的な仕上がり状態になり、基板表面の凹凸が小さくなるので、その基板表面に接触する液晶層の配向が正常な状態にある。これにより、各画素において、液晶層が正常に配向する領域を有することになり、画素単位で発生する液晶層の配向不良が抑制されるので、カラーフィルターに起因する液晶層の配向不良が可及的に抑制される。
【００２１】
また、本発明に係る液晶表示パネルは、互いに対向して配置された一対の基板と、上記一対の基板の間に設けられた液晶層とを備えた液晶表示パネルであって、上記一方の基板は、複数の開口領域が設けられたブラックマトリクスと、該各開口領域に設けられた着色層とを備え、上記ブラックマトリクスは、上記各開口領域の少なくとも一辺において、上記着色層の周端に一致する一致部と、該周端から離間する離間部、及び該周端に重畳する重畳部の少なくとも一方とを備えていることを特徴とする。
【００２２】
上記の構成によれば、ブラックマトリクスが、その各開口領域の少なくとも一辺において、着色層の周端に一致する一致部と、その周端から離間する離間部、及びその周端に重畳する重畳部の少なくとも一方とを備えているので、ブラックマトリクスの各開口領域又は着色層により構成される各画素において、着色層の周端とブラックマトリクスの内周端とが少なくとも一致部で一致することになる。ここで、一致部では、着色層の周端とブラックマトリクスの内周端とが乗り上げや間隙のない理想的な仕上がり状態になり、一方の基板における表面の凹凸が小さくなっているので、一方の基板と他方の基板との間に設けられた液晶層の配向が正常な状態にある。そのため、各画素において、液晶層が正常に配向する領域を有していることになり、画素単位で発生する液晶層の配向不良が抑制されるので、液晶表示パネルにおいて、カラーフィルターに起因する液晶層の配向不良が可及的に抑制される。
【００２３】
上記他方の基板には、上記ブラックマトリクスの各開口領域における上記一致部を含む辺に重畳するように表示用配線が設けられていてもよい。
【００２４】
上記の構成によれば、ブラックマトリクスの各開口領域における一致部を含む辺において、着色層の周端から離間して一方の基板表面に凹部を形成する離間部、及び着色層の周端に重畳して一方の基板表面に凸部を形成する重畳部の少なくとも一方を有しているので、その凹部や凸部によって、液晶層の配向不良が発生し易くなるものの、その凹部や凸部に起因して液晶層の配向不良が発生し易い領域に他方の基板に設けられた表示用配線が重畳して、その領域が表示に直接寄与しなくなっているので、表示品位の低下が抑制される。
【００２５】
上記一方の基板には、上記ブラックマトリクスの各開口領域における上記一致部を含む辺に重畳するように表示用配線が設けられていてもよい。
【００２６】
上記の構成によれば、ブラックマトリクスの各開口領域における一致部を含む辺において、着色層の周端から離間して一方の基板表面に凹部を形成する離間部、及び着色層の周端に重畳して一方の基板表面に凸部を形成する重畳部の少なくとも一方を有しているので、その凹部や凸部によって、液晶層の配向不良が発生し易くなるものの、その凹部や凸部に起因して液晶層の配向不良が発生し易い領域に一方の基板に設けられた表示用配線が重畳して、その領域が表示に直接寄与しなくなっているので、表示品位の低下が抑制される。
【発明の効果】
【００２７】
本発明によれば、ブラックマトリクスが、その各開口領域の少なくとも一辺において、着色層の周端に一致する一致部と、その周端から離間する離間部、及びその周端に重畳する重畳部の少なくとも一方とを備えているので、カラーフィルターに起因する液晶層の配向不良を可及的に抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、本発明は、以下の各実施形態に限定されるものではない。
【００２９】
《発明の実施形態１》
図１〜図６は、本発明に係るカラーフィルター基板、その製造方法、及び液晶表示パネルの実施形態１を示している。
【００３０】
図１は、本実施形態の液晶表示パネル５０ａの平面図であり、図２〜図５は、図１中の各断面箇所を示す線（II−II線、III−III線、IV−IV線及びV−V線）に沿った断面図である。
【００３１】
液晶表示パネル５０ａは、図１〜図５に示すように、互いに対向して配置された一対の基板として設けられたアクティブマトリクス基板２０ａ及び対向基板３０ａと、それらの両基板２０ａ及び３０ａの間に設けられた液晶層４０とを備えている。
【００３２】
アクティブマトリクス基板２０ａは、図１に示すように、マトリクス状に設けられた複数の画素電極４ａと、各画素電極４ａの間（図中横方向）に延びるように設けられた複数のゲート線１ａと、各画素電極４ａの間（図中縦方向）に延びるように設けられた複数のソース線２と、各画素電極４ａ毎にそれぞれ設けられた複数の薄膜トランジスタ（以下、「ＴＦＴ」と省略する）３と、各ゲート線１ａの間に延びるように設けられた容量線１ｂとを備えている。
【００３３】
ＴＦＴ３は、図４に示すように、透明基板１０ａ上に設けられたゲート電極（１ａ）と、ゲート電極（１ａ）を覆うように設けられたゲート絶縁膜１１と、ゲート絶縁膜１１上でゲート電極（１ａ）に対応する位置に島状に設けられた半導体層１２と、その半導体層１２上で互いに対峙するように設けられたソース電極２ａ及びドレイン電極２ｂとを備えている。ここで、図１に示すように、上記ゲート電極（１ａ）は、ゲート線１ａの一部であり、ソース電極２ａは、ソース線２の側方にＬ字状に突出した部分である。また、ドレイン電極２ｂは、第１層間絶縁膜１３及び第２層間絶縁膜１４の積層膜に形成されたコンタクトホールを介して画素電極４ａに接続されていると共に、ゲート絶縁膜１１を介して容量線１ｂに重畳することにより補助容量を構成している。
【００３４】
対向基板３０ａは、図１〜図５に示すように、透明基板１０ｂ、透明基板１０ｂ上に設けられたブラックマトリクス６と、ブラックマトリクス６の各開口領域Ａ（図６（ｂ）参照）に着色層としてそれぞれ設けられた赤色層７Ｒ、青色層７Ｂ及び緑色層７Ｇとを含むカラーフィルターＦ、並びにカラーフィルターＦを覆うように設けられた共通電極８ａを備えたカラーフィルター基板である。
【００３５】
赤色層７Ｒ、青色層７Ｂ及び緑色層７Ｇは、図１に示すように、略矩形状にそれぞれ形成され、その周端の各一辺（図中下辺）が、段状に配置された複数の線状部Ｓを有している。
【００３６】
ブラックマトリクス６の各開口領域Ａは、図１に示すように、矩形状に形成され、その下辺が各着色層（７Ｒ、７Ｂ及び７Ｇ）の周端から離間する離間部Ｐ、各着色層（７Ｒ、７Ｂ及び７Ｇ）の周端に一致する一致部Ｍ、並びに各着色層（７Ｒ、７Ｂ及び７Ｇ）の周端に重畳する重畳部Ｌを有している。本実施形態では、具体的に図１に示すように、各着色層（７Ｒ、７Ｂ及び７Ｇ）の下辺における左側の二つの線状部Ｓがブラックマトリクス６の内周端の下辺から離間し（図３中の離間部Ｐ参照）、また、各着色層（７Ｒ、７Ｂ及び７Ｇ）の下辺における中央の一つの線状部Ｓがブラックマトリクス６の内周端の下辺に一致し（図４中の一致部Ｍ参照）、さらに、各着色層（７Ｒ、７Ｂ及び７Ｇ）の下辺における右側の二つの線状部Ｓがブラックマトリクス６の内周端の下辺に重畳している（図５中の重畳部Ｌ参照）。ここで、ブラックマトリクス６の各開口領域Ａは、例えば、縦２００μｍ×横９０μｍであり、各着色層（７Ｒ、７Ｂ及び７Ｇ）は、例えば、縦１９５μｍ〜２０５μｍ×横１００μｍである。また、各線状部Ｓは、その長さが、例えば、２０μｍであり、その段差が、例えば、２．５μｍである。
【００３７】
また、アクティブマトリクス基板２０ａの各容量線１ｂは、対向基板３０ａのブラックマトリクス６の各開口領域Ａにおける一致部Ｍを含む下辺に重畳するように配置されている。
【００３８】
液晶層４０は、電気光学特性を有するネマチック液晶（液晶材料）などにより構成されている。
【００３９】
上記構成の液晶表示パネル５０ａでは、各画素電極４ａなどにより構成される各画素において、ゲート線１ａからゲート信号がゲート電極（１ａ）に送られて、ＴＦＴ３がオン状態になったときに、ソース線２からソース信号がソース電極２ａに送られることにより、半導体層１２及びドレイン電極２ｂを介して、画素電極４ａに所定の電荷が書き込まれる。このとき、液晶表示パネル５０ａでは、アクティブマトリクス基板２０ａの各画素電極４ａと、対向基板３０ａの共通電極８ａとの間において電位差が生じ、液晶層４０に所定の電圧が印加される。そして、液晶表示パネル５０ａでは、液晶層４０に印加された電圧の大きさによって液晶層４０の配向状態を変えることにより、液晶層４０の光透過率を調整して画像が表示される。
【００４０】
次に、本実施形態の液晶表示パネル５０ａを製造する方法について説明する。本実施形態の製造方法は、アクティブマトリクス基板作製工程、対向基板作製工程及びパネル作製工程を備えている。
【００４１】
＜アクティブマトリクス基板作製工程＞
まず、ガラス基板などの透明基板１０ａ上の基板全体に、例えば、アルミニウムを含む金属膜（厚さ５０ｎｍ〜５００ｎｍ程度）をスパッタリング法により成膜し、その後、フォトリソグラフィによりパターニングして、ゲート線（ゲート電極）１ａ及び容量線１ｂを形成する。
【００４２】
続いて、ゲート線（ゲート電極）１ａ及び容量線１ｂが形成された基板全体に、プラズマＣＶＤ法により窒化シリコン膜（厚さ１００ｎｍ〜５００ｎｍ程度）などを成膜し、ゲート絶縁膜１１を形成する。
【００４３】
さらに、ゲート絶縁膜１１が形成された基板全体に、プラズマＣＶＤ法により真性アモルファスシリコン膜（厚さ５０ｎｍ〜２００ｎｍ程度）と、リンなどがドープされたｎ＋アモルファスシリコン膜（厚さ５０ｎｍ〜１００ｎｍ程度）とを連続して成膜した後に、フォトリソグラフィによりゲート電極（１ａ）上に島状にパターニングして、真性アモルファスシリコン層とｎ＋アモルファスシリコン層とにより構成された半導体層１２を形成する。
【００４４】
ここで、半導体層１２は、上記のようにアモルファスシリコン膜から形成させてもよいが、ポリシリコン膜を成膜させてもよく、また、アモルファスシリコン膜及びポリシリコン膜にレーザーアニール処理を行って結晶性を向上させてもよい。
【００４５】
続いて、半導体層１２が形成されたゲート絶縁膜１１上の基板全体に、例えば、アルミニウムを含む金属膜（厚さ５０ｎｍ〜５００ｎｍ程度）をスパッタリング法により成膜した後に、フォトリソグラフィによりパターニングして、ソース線２、ソース電極２ａ及びドレイン電極２ｂを形成する。
【００４６】
さらに、ソース電極２ａ及びドレイン電極２ｂをマスクとして半導体層１２のｎ＋アモルファスシリコン層をエッチング除去して、チャネル部を設けることにより、ＴＦＴ３を形成する。
【００４７】
その後、ＴＦＴ３が形成された基板全体に、プラズマＣＶＤ法を用いて、窒化シリコン膜（厚さ１００ｎｍ〜３００ｎｍ程度）などを成膜した後に、スピンコーティング法によりアクリル系樹脂膜（厚さ１０００ｎｍ〜５０００ｎｍ程度）などを成膜して、第１層間絶縁膜１３及び第２層間絶縁膜１４を順に形成する。
【００４８】
続いて、第１層間絶縁膜１３及び第２層間絶縁膜１４の積層膜におけるドレイン電極２ｂに重畳する領域の一部をエッチング除去して、コンタクトホールを形成する。
【００４９】
さらに、コンタクトホールが形成された第２層間絶縁膜１４上の基板全体に、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）膜などの透明導電膜（厚さ１００ｎｍ〜２００ｎｍ程度）をスパッタリング法により成膜した後に、フォトリソグラフィによりパターニングして、画素電極４ａを形成する。
【００５０】
最後に、画素電極４ａが形成された基板全体に、印刷法によりポリイミド系樹脂を塗布した後に、ラビング処理を行って配向膜（不図示）を形成する。
【００５１】
以上のようにして、本実施形態のアクティブマトリクス基板２０ａを作製することができる。
【００５２】
＜対向基板作製工程＞
ここで、対向基板作製工程については、図６を用いて説明する。なお、図６は、図１中のVI−VI線に沿った対向基板３０ａの製造工程の一部を示す断面図である。
【００５３】
まず、ガラス基板などの透明基板１０ｂ上に、図６（ａ）に示すように、黒色の顔料を含有する感光性樹脂（厚さ１μｍ程度）をスピンコーティング法により成膜して遮光膜６ｆを形成する。
【００５４】
続いて、図６（ｂ）に示すように、遮光膜６ｆをフォトリソグラフィによりパターニングして、複数の開口領域Ａがマトリクス状に設けられたブラックマトリクス６を形成する（ブラックマトリクス形成工程）。
【００５５】
さらに、ブラックマトリクス６が形成された基板全体に、図６（ｃ）に示すように、例えば、赤色の顔料を含有する感光性樹脂（厚さ１μｍ程度）をスピンコーティング法により成膜して、透明着色膜７Ｒｆを形成する。
【００５６】
その後、図６（ｄ）に示すように、透明着色膜７Ｒｆをフォトリソグラフィによりパターニングして、赤色層７Ｒを形成する（着色層形成工程）。さらに、緑色（Ｇ）及び青色（Ｂ）についても、赤色層７Ｒと同様な工程を行って、緑色層７Ｇ及び青色層７Ｂをそれぞれ設けることにより、カラーフィルターＦを形成する。
【００５７】
ここで、カラーフィルターＦを構成する各着色層（７Ｒ、７Ｇ及び７Ｒ）の周端の一辺（図１中の下辺）は、各線状部Ｓによって段状に形成されるので、それらの複数の線状部Ｓの一つをブラックマトリクス６の各内周端（開口領域Ａの下辺）に容易に一致させることができる。これにより、ブラックマトリクス６の各開口領域Ａの下辺において、各着色層（７Ｒ、７Ｇ及び７Ｒ）の周端（下辺）に一致する一致部Ｍを確実に構成させることができる。
【００５８】
さらに、カラーフィルターＦが形成された基板に、ＩＴＯ膜などの透明導電膜（厚さ１００ｎｍ程度）をマスクを用いたスパッタリング法により成膜して、共通電極８ａを形成する。
【００５９】
最後に、共通電極８ａが形成された基板全体に、印刷法によりポリイミド系樹脂を塗布した後に、ラビング処理を行って配向膜（不図示）を形成する。
【００６０】
以上のようにして、本実施形態の対向基板３０ａを作製することができる。
【００６１】
＜パネル作製工程＞
まず、アクティブマトリクス基板２０ａ及び対向基板３０ａのうちの一方の基板にスクリーン印刷により、熱硬化性のエポキシ樹脂などからなるシール材を液晶注入口の部分を欠いた枠状パターンに塗布し、他方の基板に液晶層４０の厚さに相当する直径を持ち、樹脂などからなる球状のスペーサーを散布する。
【００６２】
続いて、アクティブマトリクス基板２０ａと対向基板３０ａとを貼り合わせた後に、シール材を硬化させることにより、空セルを形成する。
【００６３】
最後に、空セルを構成するアクティブマトリクス基板２０ａ及び対向基板３０ａの間に、真空注入法により液晶材料を注入した後に、液晶注入口をＵＶ硬化樹脂などにより封止して、液晶層４０を形成する。
【００６４】
以上のようにして、本実施形態の液晶表示装置５０ａを製造することができる。
【００６５】
以上説明したように、本実施形態のカラーフィルター基板（対向基板３０ａ）、その製造方法、及び液晶表示パネル５０ａによれば、ブラックマトリクス形成工程において、複数の開口領域Ａを有するブラックマトリクス６を形成し、着色層形成工程において、各周端の下辺が、段状に配置された複数の線状部Ｓを有し、それらの線状部Ｓの一つがブラックマトリクス形成工程で形成されたブラックマトリクス６の各内周端の下辺に一致するように、各着色層（７Ｒ、７Ｇ及び７Ｂ）を形成するので、ブラックマトリクス６の内周端の下辺と、着色層（７Ｒ、７Ｇ及び７Ｂ）の周端の下辺における各線状部Ｓとの位置合わせにより、ブラックマトリクス６の各内周端が着色層（７Ｒ、７Ｇ及び７Ｂ）の周端に一致する一致部Ｍ、ブラックマトリクス６の各内周端が着色層（７Ｒ、７Ｇ及び７Ｂ）の周端から離間する離間部Ｐ、及びブラックマトリクス６の各内周端が着色層（７Ｒ、７Ｇ及び７Ｂ）の周端に重畳する重畳部Ｌがそれぞれ構成される。そのため、製造されたカラーフィルター基板（対向基板３０ａ）では、ブラックマトリクス６が、その各開口領域Ａの下辺において、一致部Ｍ、離間部Ｐ及び重畳部Ｌを備えることになるので、ブラックマトリクス６の各開口領域Ａ又は着色層（７Ｒ、７Ｇ及び７Ｂ）により構成される各画素において、着色層（７Ｒ、７Ｇ及び７Ｂ）の周端とブラックマトリクス６の内周端とが少なくとも一致部Ｍで一致することになる。ここで、一致部Ｍでは、着色層（７Ｒ、７Ｇ及び７Ｂ）の周端とブラックマトリクス６の内周端とが乗り上げや間隙のない理想的な仕上がり状態になり、対向基板３０ａ表面の凹凸が小さくなるので、その対向基板３０ａ表面に接触する液晶層４０の配向が正常な状態にある。これにより、各画素において、液晶層４０が正常に配向する領域を有することになり、画素単位で発生する液晶層４０の配向不良を抑制することができるので、カラーフィルターＦに起因する液晶層４０の配向不良を可及的に抑制することができる。
【００６６】
また、本実施形態によれば、ブラックマトリクス６の各開口領域Ａにおける一致部Ｍを含む下辺において、着色層（７Ｒ、７Ｇ及び７Ｂ）の周端から離間して対向基板３０ａ表面に凹部を形成する離間部Ｐ、及び着色層（７Ｒ、７Ｇ及び７Ｂ）の周端に重畳して対向基板３０ａ表面に凸部を形成する重畳部Ｌを有しているので、その凹部や凸部によって、液晶層４０の配向不良が発生し易くなるものの、その凹部や凸部に起因して液晶層４０の配向不良が発生し易い領域にアクティブマトリクス基板２０ａに設けられた容量線１ｂが重畳して、その領域が表示に直接寄与しなくなっているので、表示品位の低下を抑制することができる。
【００６７】
《発明の実施形態２》
図７〜図１１は、本発明に係るカラーフィルター基板、その製造方法、及び液晶表示パネルの実施形態２を示している。ここで、上記実施形態１では、カラーフィルターが対向基板に形成されていたが、本実施形態では、カラーフィルターがアクティブマトリクス基板に形成されたカラーフィルターオンアレイ構造を例示している。なお、以下の各実施形態において、図１〜図６と同じ部分については、同じ符号を付して、その詳細な説明を省略する。
【００６８】
図７は、本実施形態の液晶表示パネル５０ｂを構成するアクティブマトリクス基板２０ｂの平面図であり、図８〜図１１は、図７中の各断面箇所を示す線（VIII−VIII線、IX−IX線、X−X線及びXI−XI線）に沿った液晶表示パネル５０ｂの断面図である。
【００６９】
液晶表示パネル５０ｂは、図８〜図１１に示すように、互いに対向して配置された一対の基板として設けられたアクティブマトリクス基板２０ｂ及び対向基板３０ｂと、それらの両基板２０ｂ及び３０ｂの間に設けられた液晶層４０とを備えている。
【００７０】
アクティブマトリクス基板２０ｂは、図７に示すように、マトリクス状に設けられた複数の画素電極４ｂと、各画素電極４ｂの間（図中横方向）に延びるように設けられた複数のゲート線１ａと、各画素電極４ｂの間（図中縦方向）に延びるように設けられた複数のソース線２と、各画素電極４ｂ毎にそれぞれ設けられた複数のＴＦＴ３と、各ゲート線１ａの間に延びるように設けられた容量線１ｂと、各ゲート線１ａ、ソース線２、ＴＦＴ３、及び容量線１ｂの下側の一部を覆うように設けられたブラックマトリクス１５、並びにブラックマトリクス１５の各開口領域Ａに着色層として各画素電極４ｂに重畳するようにそれぞれ設けられた赤色層１６Ｒ、青色層１６Ｂ及び緑色層１６Ｇを含むカラーフィルターＦと備えたカラーフィルター基板である。
【００７１】
ＴＦＴ３は、図１０に示すように、透明基板１０ａ上に設けられたゲート電極（１ａ）と、ゲート電極（１ａ）を覆うように設けられたゲート絶縁膜１１と、ゲート絶縁膜１１上でゲート電極（１ａ）に対応する位置に島状に設けられた半導体層１２と、その半導体層１２上で互いに対峙するように設けられたソース電極２ａ及びドレイン電極２ｂとを備えている。ここで、ドレイン電極２ｂは、第１層間絶縁膜１３及びブラックマトリクス１５の積層膜に形成されたコンタクトホールを介して画素電極４ｂに接続されていると共に、ゲート絶縁膜１１を介して容量線１ｂに重畳することにより補助容量を構成している。
【００７２】
赤色層１６Ｒ、青色層１６Ｂ及び緑色層１６Ｇは、図７に示すように、略矩形状にそれぞれ形成され、その周端の各一辺（図中下辺）が、段状に配置された複数の線状部Ｓを有している。
【００７３】
ブラックマトリクス１５の各開口領域Ａは、図７に示すように、矩形状に形成され、その下辺が各着色層（１６Ｒ、１６Ｇ及び１６Ｂ）の周端から離間する離間部Ｐ、各着色層（１６Ｒ、１６Ｇ及び１６Ｂ）の周端に一致する一致部Ｍ、及び各着色層（１６Ｒ、１６Ｇ及び１６Ｂ）の周端に重畳する重畳部Ｌを有している。本実施形態では、具体的に図７に示すように、各着色層（１６Ｒ、１６Ｇ及び１６Ｂ）の下辺における左側の二つの線状部Ｓがブラックマトリクス１５の内周端の下辺から離間し（図９中の離間部Ｐ参照）、各着色層（１６Ｒ、１６Ｇ及び１６Ｂ）の下辺における中央の一つの線状部Ｓがブラックマトリクス１５の内周端の下辺に一致し（図１０中の一致部Ｍ参照）、各着色層（１６Ｒ、１６Ｇ及び１６Ｂ）の下辺における右側の二つの線状部Ｓがブラックマトリクス１５の内周端の下辺に重畳している（図１１中の重畳部Ｌ参照）。
【００７４】
各容量線１ｂは、ブラックマトリクス１５の各開口領域Ａにおける一致部Ｍを含む下辺に重畳するように配置されている。
【００７５】
対向基板３０ｂは、図８〜図１１に示すように、透明基板１０ｂと、透明基板１０ｂ上に設けられた共通電極８ｂとを備えている。
【００７６】
上記構成の液晶表示パネル５０ｂでは、各画素電極４ｂなどにより構成される各画素において、ゲート線１ａからゲート信号がゲート電極（１ａ）に送られて、ＴＦＴ３がオン状態になったときに、ソース線２からソース信号がソース電極２ａに送られることにより、半導体層１２及びドレイン電極２ｂを介して、画素電極４ｂに所定の電荷が書き込まれる。このとき、液晶表示パネル５０ｂでは、アクティブマトリクス基板２０ｂの各画素電極４ｂと、対向基板３０ｂの共通電極８ｂとの間において電位差が生じ、液晶層４０に所定の電圧が印加される。そして、液晶表示パネル５０ｂでは、液晶層４０に印加された電圧の大きさによって液晶層４０の配向状態を変えることにより、液晶層４０の光透過率を調整して画像が表示される。
【００７７】
次に、本実施形態の液晶表示パネル５０ｂを製造する方法について説明する。本実施形態の製造方法は、アクティブマトリクス基板作製工程、対向基板作製工程及びパネル作製工程を備えている。
【００７８】
＜アクティブマトリクス基板作製工程＞
ここで、本実施形態のアクティブマトリクス基板作製工程では、上記実施形態１と同様に、第１層間絶縁膜１３を成膜した後に、以下に続く各工程を行うことになる。
【００７９】
上記実施形態１の第１層間絶縁膜１３が成膜された基板全体に、黒色の顔料を含有する感光性樹脂（厚さ１μｍ程度）をスピンコーティング法により成膜した後に、フォトリソグラフィによりパターニングして、複数の開口領域Ａがマトリクス状に設けられたブラックマトリクス１５を形成する（ブラックマトリクス形成工程）。
【００８０】
続いて、ブラックマトリクス１５が形成された基板全体に、例えば、赤色の顔料を含有する感光性樹脂（厚さ１μｍ程度）をスピンコーティング法により成膜した後に、フォトリソグラフィによりパターニングして、赤色層１６Ｒを形成する（着色層形成工程）。さらに、緑色（Ｇ）及び青色（Ｂ）についても、赤色層１６Ｒと同様な工程を行って、緑色層１６Ｇ及び青色層１６Ｂをそれぞれ設けることにより、カラーフィルターＦを形成する。
【００８１】
ここで、カラーフィルターＦを構成する各着色層（１６Ｒ、１６Ｇ及び１６Ｂ）の周端の一辺（図７中の下辺）は、各線状部Ｓによって段状に形成されるので、それらの複数の線状部Ｓの一つをブラックマトリクス１５の各内周端（開口領域Ａの下辺）に容易に一致させることができる。これにより、ブラックマトリクス１５の各開口領域Ａの下辺において、各着色層（１６Ｒ、１６Ｇ及び１６Ｂ）の周端（下辺）に一致する一致部Ｍを確実に構成させることができる。
【００８２】
その後、カラーフィルターＦにおけるドレイン電極２ｂに重畳する領域の一部をエッチング除去して、コンタクトホールを形成する。
【００８３】
さらに、コンタクトホールが形成されたカラーフィルターＦ上の基板全体に、ＩＴＯ膜などの透明導電膜（厚さ１００ｎｍ〜２００ｎｍ程度）をスパッタリング法により成膜した後に、フォトリソグラフィによりパターニングして、画素電極４ｂを形成する。
【００８４】
最後に、画素電極４ｂが形成された基板全体に、印刷法によりポリイミド系樹脂を塗布した後に、ラビング処理を行って配向膜（不図示）を形成する。
【００８５】
以上のようにして、本実施形態のアクティブマトリクス基板２０ｂを作製することができる。
【００８６】
＜対向基板作製工程＞
まず、ガラス基板などの透明基板１０ｂ上に、ＩＴＯ膜などの透明導電膜（厚さ１００ｎｍ程度）をマスクを用いたスパッタリング法により成膜して、共通電極８ｂを形成する。
【００８７】
さらに、共通電極８ｂが形成された基板全体に、印刷法によりポリイミド系樹脂を塗布した後に、ラビング処理を行って配向膜（不図示）を形成する。
【００８８】
以上のようにして、本実施形態の対向基板３０ｂを作製することができる。
【００８９】
＜パネル作製工程＞
まず、アクティブマトリクス基板２０ｂ及び対向基板３０ｂのうちの一方の基板にスクリーン印刷により、熱硬化性のエポキシ樹脂などからなるシール材を液晶注入口の部分を欠いた枠状パターンに塗布し、他方の基板に液晶層４０の厚さに相当する直径を持ち、樹脂などからなる球状のスペーサーを散布する。
【００９０】
続いて、アクティブマトリクス基板２０ｂと対向基板３０ｂとを貼り合わせた後に、シール材を硬化させることにより、空セルを形成する。
【００９１】
最後に、空セルを構成するアクティブマトリクス基板２０ｂ及び対向基板３０ｂの間に、真空注入法により液晶材料を注入した後に、液晶注入口をＵＶ硬化樹脂などにより封止して、液晶層４０を形成する。
【００９２】
以上のようにして、本実施形態の液晶表示装置５０ｂを製造することができる。
【００９３】
以上説明したように、本実施形態のカラーフィルター基板（アクティブマトリクス基板２０ｂ）、その製造方法、及び液晶表示パネル５０ｂによれば、ブラックマトリクス１５の各開口領域Ａにおける一致部Ｍを含む下辺において、着色層（１６Ｒ、１６Ｇ及び１６Ｂ）の周端から離間してアクティブマトリクス基板２０ｂ表面に凹部を形成する離間部、並びに着色層（１６Ｒ、１６Ｇ及び１６Ｂ）の周端に重畳してアクティブマトリクス基板２０ｂ表面に凸部を形成する重畳部Ｌを有しているので、その凹部や凸部によって、液晶層４０の配向不良が発生し易くなるものの、その凹部や凸部に起因して液晶層４０の配向不良が発生し易い領域にアクティブマトリクス基板２０ｂに設けられた容量線１ｂが重畳して、その領域が表示に直接寄与しなくなっているので、表示品位の低下を抑制することができる。
【００９４】
《発明の実施形態３》
図１２〜図１５は、本発明に係るカラーフィルター基板、その製造方法、及び液晶表示パネルの実施形態３を示している。ここで、上記実施形態１及び２では、着色層の周端の下辺が、段状に配置された複数の線状部を有していたが、本実施形態では、着色層の周端の上辺及び下辺が、段状に配置された複数の線状部をそれぞれ有している。
【００９５】
図１２は、本実施形態のカラーフィルター基板及び液晶表示パネルを構成するカラーフィルターＦの平面図であり、図１３〜図１５は、図１２中の各断面箇所を示す線（XIII−XIII線、XIV−XIV線及びXV−XV線）に沿ったカラーフィルターＦの断面図である。
【００９６】
本実施形態のカラーフィルターＦは、図１２に示すように、矩形状の開口領域Ａが設けられたブラックマトリクス６ａと、その開口領域Ａに略矩形状に設けられた着色層７ａとを備えている。
【００９７】
着色層７ａは、図１２に示すように、その上辺及び下辺が、段状に配置された複数の線状部Ｓをそれぞれ有している。
【００９８】
ブラックマトリクス６ａの開口領域Ａは、図１２に示すように、その上辺及び下辺が着色層７ａの周端から離間する離間部Ｐ、着色層７ａの周端に一致する一致部Ｍ、及び着色層７ａの周端に重畳する重畳部Ｌをそれぞれ有している。具体的には、図１２に示すように、着色層７ａの上辺及び下辺における左側の線状部Ｓがブラックマトリクス６ａの内周端における上辺及び下辺からそれぞれ離間し（図１３中の離間部Ｐ参照）、着色層７ａの上辺及び下辺における中央の線状部Ｓがブラックマトリクス６ａの内周端における上辺及び下辺にそれぞれ一致し（図１４中の一致部Ｍ参照）、着色層７ａの上辺及び下辺における右側の線状部Ｓがブラックマトリクス６ａの内周端における上辺及び下辺にそれぞれ重畳している（図１５中の重畳部Ｌ参照）。
【００９９】
本実施形態のカラーフィルターＦは、上記実施形態１及び２において、着色層のパターン形状を変更すれば、製造することができるので、その製造方法の説明を省略する。
【０１００】
本実施形態のカラーフィルターＦによれば、ブラックマトリクス６ａの内周端における上辺及び下辺の２辺において、着色層７ａの周端に一致する一致部Ｍ、着色層７ａの周端から離間する離間部Ｐ、及び着色層７ａの周端に重畳する重畳部Ｌがそれぞれ構成されているので、着色層７ａの上辺及び下辺に配置された複数の線状部Ｓの一つをブラックマトリクス６ａの内周端により確実に一致させることができる。
【０１０１】
《発明の実施形態４》
図１６〜図１９は、本発明に係るカラーフィルター基板、その製造方法、及び液晶表示パネルの実施形態４を示している。ここで、上記実施形態１〜３では、ブラックマトリクスの開口領域が矩形状に形成され、且つ着色層の周端の一部が段状に形成されていたが、本実施形態では、着色層が矩形状に形成され、且つブラックマトリクスの内周端の一部が段状に形成されている。
【０１０２】
図１６は、本実施形態のカラーフィルター基板及び液晶表示パネルを構成するカラーフィルターＦの平面図であり、図１７〜図１９は、図１７中の各断面箇所を示す線（XVII−XVII線、XVIII−XVIII線及びXIX−XIX線）に沿ったカラーフィルターＦの断面図である。
【０１０３】
本実施形態のカラーフィルターＦは、図１６に示すように、略矩形状の開口領域Ａが設けられたブラックマトリクス６ｂと、その開口領域Ａに矩形状に設けられた着色層７ｂとを備えている。
【０１０４】
ブラックマトリクス６ｂの開口領域Ａは、図１６に示すように、その上辺及び下辺が、段状に配置された複数の線状部Ｓを有している。
【０１０５】
また、ブラックマトリクス６ｂの開口領域Ａは、その上辺及び下辺が着色層７ｂの周端から離間する離間部Ｐ、着色層７ｂの周端に一致する一致部Ｍ、及び着色層７ｂの周端に重畳する重畳部Ｌを有している。具体的には、図１６に示すように、ブラックマトリクス６ｂの内周端の上辺及び下辺における右側の線状部Ｓが着色層７ｂの周端における上辺及び下辺からそれぞれ離間し（図１９中の離間部Ｐ参照）、ブラックマトリクス６ｂの内周端の上辺及び下辺における中央の線状部Ｓが着色層７ｂの周端における上辺及び下辺にそれぞれ一致し（図１８中の一致部Ｍ参照）、ブラックマトリクス６ｂの内周端の上辺及び下辺における左側の線状部Ｓが着色層７ｂの周端における上辺及び下辺にそれぞれ重畳している（図１７中の重畳部Ｌ参照）。
【０１０６】
本実施形態のカラーフィルターＦは、上記実施形態１及び２において、ブラックマトリクス及び着色層のパターン形状を変更すれば、製造することができるので、その製造方法の説明を省略する。
【０１０７】
本実施形態のカラーフィルターＦによれば、ブラックマトリクス形成工程において、各開口領域Ａの上辺及び下辺が、段状に配置された複数の線状部Ｓを有するようにブラックマトリクス６ｂを形成し、着色層形成工程において、各周端がブラックマトリクス形成工程で形成されたブラックマトリクス６ｂの各開口領域Ａの上辺及び下辺における複数の線状部Ｓの一つに一致するように着色層７ｂを形成するので、ブラックマトリクス６ｂの内周端の上辺及び下辺における各線状部Ｓと、着色層７ｂの周端における上辺及び下辺との位置合わせにより、ブラックマトリクス６ｂの内周端が着色層７ｂの周端に一致する一致部Ｍ、ブラックマトリクス６ｂの内周端が着色層７ｂの周端から離間する離間部Ｐ、及びブラックマトリクス６ｂの内周端が着色層７ｂの周端に重畳する重畳部Ｌが構成される。そのため、製造されたカラーフィルター基板では、ブラックマトリクス６ｂが、その各開口領域Ａの上辺及び下辺において、一致部Ｍ、離間部Ｐ及び重畳部Ｌを備えることになるので、ブラックマトリクス６ｂの各開口領域Ａ又は着色層７ｂにより構成される各画素において、着色層７ｂの周端とブラックマトリクス６ｂの内周端とが少なくとも一致部Ｍで一致することになる。ここで、一致部Ｍでは、着色層７ｂの周端とブラックマトリクス６ｂの内周端とが乗り上げや間隙のない理想的な仕上がり状態になり、基板表面の凹凸が小さくなるので、その基板表面に接触する液晶層４０の配向が正常な状態にある。これにより、各画素において、液晶層４０が正常に配向する領域を有することになり、画素単位で発生する液晶層４０の配向不良を抑制することができるので、カラーフィルターＦに起因する液晶層４０の配向不良を可及的に抑制することができる。
【０１０８】
なお、上記各実施形態では、ブラックマトリクスの内周端、又は着色層の周端の一辺及び二辺において、線状部Ｓを形成したが、本発明は、ブラックマトリクスの内周端、又は着色層の周端の三辺及び四辺において線状部Ｓを形成してもよい。
【０１０９】
また、上記各実施形態では、ブラックマトリクスの内周端、又は着色層の周端の一辺における線状部Ｓの個数が三個又は五個であったが、本発明は、これに限定されず、二個以上の複数であればよく、さらに、ブラックマトリクスの内周端、又は着色層の周端の辺が、無数個の線状部Ｓを有することに相当する斜めの線状に形成されていてもよい。
【０１１０】
また、上記各実施形態では、ブラックマトリクスの内周端、又は着色層の周端における各辺の長さ方向に沿って、順に段が低くなる（高段、中段及び低段）又は高くなる連続な段形状を例示したが、中段、高段及び低段というように、段が不連続に配置していてもよい。
【０１１１】
また、上記各実施形態では、ブラックマトリクスの内周端、又は着色層の周端における各辺の段形状の段差量がほぼ均等配分であったが、本発明は、カラーフィルターの仕様に合わせて、任意に段形状を設定してもよい。
【０１１２】
また、上記各実施形態では、ブラックマトリクスの各開口領域のおける一致部Ｍを含む辺に、容量線１ｂを重畳させたが、本発明は、ゲート線１ａやソース線２などのその他の表示用配線を重畳させてもよい。
【０１１３】
なお、上記各実施形態では、基板上にブラックマトリクスを形成した後に、各着色層を形成する製造方法を例示したが、本発明は、基板上に各着色層を形成した後に、ブラックマトリクスを形成する製造方法にも適用することができる。
【産業上の利用可能性】
【０１１４】
以上説明したように、本発明は、カラーフィルターに起因する液晶層の配向不良を可及抑制することができるので、樹脂製のカラーフィルターを有するカラーフィルター基板及び液晶表示パネルについて有用である。
【図面の簡単な説明】
【０１１５】
【図１】実施形態１に係る液晶表示パネル５０ａを示す平面図である。
【図２】図１中のII−II線に沿った液晶表示パネル５０ａの断面図である。
【図３】図１中のIII−III線に沿った液晶表示パネル５０ａの断面図である。
【図４】図１中のIV−IV線に沿った液晶表示パネル５０ａの断面図である。
【図５】図１中のV−V線に沿った液晶表示パネル５０ａの断面図である。
【図６】図１中のVI−VI線に沿った対向基板３０ａの製造工程の一部を示す断面図である。
【図７】実施形態２に係る液晶表示パネルを構成するアクティブマトリクス基板２０ｂを示す平面図である。
【図８】図７中のVIII−VIII線に沿った液晶表示パネル５０ｂの断面図である。
【図９】図７中のIX−IX線に沿った液晶表示パネル５０ｂの断面図である。
【図１０】図７中のX−X線に沿った液晶表示パネル５０ｂの断面図である。
【図１１】図７中のXI−XI線に沿った液晶表示パネル５０ｂの断面図である。
【図１２】実施形態３に係る液晶表示パネルを構成するカラーフィルターＦを示す平面図である。
【図１３】図１２中のXIII−XIII線に沿ったカラーフィルターＦの断面図である。
【図１４】図１２中のXIV−XIV線に沿ったカラーフィルターＦの断面図である。
【図１５】図１２中のXV−XV線に沿ったカラーフィルターＦの断面図である。
【図１６】実施形態４に係る液晶表示パネルを構成するカラーフィルターＦを示す平面図である。
【図１７】図１６中のXVII−XVII線に沿ったカラーフィルターＦの断面図である。
【図１８】図１６中のXVIII−XVIII線に沿ったカラーフィルターＦの断面図である。
【図１９】図１６中のXIX−XIX線に沿ったカラーフィルターＦの断面図である。
【図２０】従来のカラーフィルターの平面図である。
【符号の説明】
【０１１６】
Ａ        開口領域
Ｆ        カラーフィルター
Ｌ        重畳部
Ｍ        一致部
Ｐ        離間部
Ｓ        線状部
１ｂ      容量線（表示用配線）
６，６ａ，６ｂ，１５    ブラックマトリクス
６ｆ      遮光膜
７ａ，７ｂ        着色層
７Ｒ，１６Ｒ      赤色層（着色層）
７Ｇ，１６Ｇ      緑色層（着色層）
７Ｂ，１６Ｂ      青色層（着色層）
７Ｒｆ    透明着色膜
１０，１０ａ，１０ｂ    ガラス基板（透明基板）
２０ｂ    アクティブマトリクス基板（カラーフィルター基板）
３０ａ    対向基板（カラーフィルター基板）
５０ａ，５０ｂ    液晶表示パネル
【図１】
2008268545.tif 000003
【図２】
2008268545.tif 000004
【図３】
2008268545.tif 000005
【図４】
2008268545.tif 000006
【図５】
2008268545.tif 000007
【図６】
2008268545.tif 000008
【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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