(57)【要約】【課題】支持体の外周上に形成された光硬化性塗膜にパルス光を照射することにより、塗膜中の化合物を分解や変質をさせず、全周にわたり均一な硬度を有する硬化膜を形成することができる電子写真感光体の製造方法の提供。【解決手段】支持体の外周上に光硬化性塗膜を設ける工程、光硬化性塗膜を設けた支持体を回転させながらパルス光を照射して光硬化膜を形成する工程を有する電子写真感光体の製造方法において、該パルス光に照射されてから次のパルス光に照射されるまでの電子写真感光体の回転角（θ）が下記式（１）を満足し、且つ、パルス光に照射されてから次のパルス光に照射されるまでの間隔が０．０１〜０．４秒であることを特徴とする電子写真感光体の製造方法。式（１）  （３６０ｍ−１８０）＜θ＜（１８０＋３６０ｍ）（但し、ｍは０以上の整数を表す）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体の外周上に光硬化性塗膜を設ける工程、光硬化性塗膜を設けた支持体を回転させながらパルス光を照射して光硬化膜を形成する工程を有する電子写真感光体の製造方法において、
該パルス光に照射されてから次のパルス光に照射されるまでの電子写真感光体の回転角（θ）が下記式（１）を満足し、
且つ、パルス光に照射されてから次のパルス光に照射されるまでの間隔が０．０１〜０．４秒であることを特徴とする電子写真感光体の製造方法。
式（１）
（３６０ｍ−１８０）＜θ＜（１８０＋３６０ｍ）
（但し、ｍは０以上の整数を表す）
【請求項２】
前記パルス光の照射に用いる光源が、パルス（フラッシュ）キセノンランプであることを特徴とする請求項１に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項３】
前記パルス光の照射に用いる光源の発光波長が、２５０〜６００ｎｍであることを特徴とする請求項１または２に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項４】
前記パルス光の１パルス当たりの発光時間が、３〜２０μｓｅｃであることを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載の電子写真感光体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子写真画像形成装置において、有機光導電性物質を含有する電荷発生層及び電荷輸送層を有する電子写真感光体が広く用いられている。これら有機物を用いた感光体は可視光から赤外光まで各種の露光光源に対応した材料を開発し易いこと、環境汚染の少ない材料を選択できること、製造コストが安いことなど、無機の感光体（例えばセレン感光体）に対して有利な点が多くある。反面、有機物を用いた感光体は機械的強度が弱く、多数枚プリントした時に感光体表面が摩耗されたり或いは傷が発生したりして耐久性が無機の感光体に対して劣っていた。
【０００３】
有機物を用いた感光体の製造方法としては、支持体上に感光層、或いは感光層の上に保護層を塗布して形成する感光体（以下、単に感光体ともいう）の製造方法が開示されている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００４】
また、感光体表面の摩耗劣化や傷の発生を防止するため、表面層（保護層）を光硬化反応により硬化して作製する方法が開示されている。光硬化反応を行う光源としては水銀灯やキセノン等の紫外光を用いる方法が開示されている（例えば、特許文献２、３参照。）。
【特許文献１】特開平１１−１４９１６４号公報
【特許文献２】特開２００１−１６６５１４号公報
【特許文献３】特開２００１−１２５２９９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ等の光源からの光を照射して光硬化膜を形成する方法では、塗膜中の化合物が分解や変質を起こしたりする問題が有った。
【０００６】
また、パルス光を照射して光硬化膜を形成する方法では、どのようにしてパルス光を照射して光硬化すれば均一な光硬化膜が得られるかの示唆は無く、光硬化膜の硬化程度にむらが発生し問題が有った。
【０００７】
本発明は、支持体の外周上に形成された光硬化性塗膜にパルス光を照射することにより、塗膜中の化合物を分解や変質をさせず、全周にわたり均一な硬度を有する硬化膜を形成することができる電子写真感光体の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
１．
支持体の外周上に光硬化性塗膜を設ける工程、光硬化性塗膜を設けた支持体を回転させながらパルス光を照射して光硬化膜を形成する工程を有する電子写真感光体の製造方法において、
該パルス光に照射されてから次のパルス光に照射されるまでの電子写真感光体の回転角（θ）が下記式（１）を満足し、
且つ、パルス光に照射されてから次のパルス光に照射されるまでの間隔が０．０１〜０．４秒であることを特徴とする電子写真感光体の製造方法。
【０００９】
式（１）
（３６０ｍ−１８０）＜θ＜（１８０＋３６０ｍ）
（但し、ｍは０以上の整数を表す）
２．
前記パルス光の照射に用いる光源が、パルス（フラッシュ）キセノンランプであることを特徴とする前記１に記載の電子写真感光体の製造方法。
【００１０】
３．
前記パルス光の照射に用いる光源の発光波長が、２５０〜６００ｎｍであることを特徴とする前記１または２に記載の電子写真感光体の製造方法。
【００１１】
４．
前記パルス光の１パルス当たりの発光時間が、３〜２０μｓｅｃであることを特徴とする前記１〜３の何れか１項に記載の電子写真感光体の製造方法。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の電子写真感光体の製造方法は、支持体の外周上に形成された光硬化性塗膜にパルス光を照射することにより、塗膜中の化合物を分解や変質をさせず、全周にわたり均一な硬度を有する硬化膜を形成することができる優れた効果を有する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
光硬化性塗膜を設けた支持体を回転させながらパルス光を照射する方法では、パルス光の照射間隔と支持体の回転速度（回転角度）のタイミングにより周方向で照射量が異なり、周方向で光硬化の程度にむらが生ずことがある。
【００１４】
本発明者等は、パルス光を発振する光源を用い、支持体を回転させながら光硬化性塗膜の硬化を行う方法においても、周方向の場所による硬化の程度にむら（硬度差）が生じない光硬化膜の製造方法について検討を行った。
【００１５】
種々検討の結果、光硬化性塗膜を設けた支持体を回転させながらパルス光を照射して硬化膜を形成する工程を有する電子写真感光体の製造方法において、回転する支持体の回転角（θ）と、光硬化性塗膜にパルス光を照射する間隔を特定することにより、支持体の外周に設けた光硬化性塗膜を全周にわたり均一に硬化することができることを見出し本発明に到った。
【００１６】
最近、高出力のパルス光を発振するパルスフラッシュキセノンランプ（以下、単にパルスキセノンランプともいう）が開発されている。
【００１７】
パルスキセノンランプを光硬化性塗膜に照射すると、高圧水銀ランプ、キセノンランプやメタルはライドランプ等の連続的に発光するランプより光硬化反応が進みやすく、且つ塗膜中の化合物を分解や変質が起りにくい。この光硬化膜を電子写真感光体の表面層として適用すると、連続的に発光するランプを用いて光硬化した場合に比較してべた画像濃度むらが無く、画像かぶりも発生しなことが確認できた。
【００１８】
これは、パルス光源の発光が光硬化の重合開始剤に断続的に照射することにより、重合開始剤同士の再結合が発生せず効果的な反応開始が達成でき、必要光量が少なくて済み、過剰照射による感光体中に含まれる化合物（例えば、電荷発生物質、電荷輸送物質）の分解、変質が少なく抑えることができるためと推測している。
【００１９】
以下、本発明について詳細に説明する。
【００２０】
本発明の感光体の製造方法は、光硬化性塗布液を支持体に塗布して光硬化性塗膜を支持体の外周に設ける工程、光硬化性塗膜が設けられた支持体を回転させながらがパルス光を照射して光硬化膜を形成する工程を有する。
【００２１】
本発明においては、パルス光を照射して光硬化膜を形成するとき、支持体の回転角（θ）が下記式を満足し、且つ、光硬化性塗膜にパルス光を照射する間隔を０．０１〜０．４秒に特定することを特徴としている。
【００２２】
式
（３６０ｍ−１８０）＜θ＜（１８０＋３６０ｍ）
（但し、ｍは０以上の整数を表す）
前記式を満足させる方法としては、特に限定されないが、パルス光を照射してから次のパルス光を照射するまでの間隔を読み取り、式１を満足するように支持体の回転角度を制御する方法、或いは、式１を満足するように支持体の回転角度を異動させ、パルス光の照射間隔を制御する方法が好ましく用いられる。
【００２３】
（パルス光）
光硬化膜を形成する工程で用いられるパルス光を発する光源はとして、パルス光の照射間隔を制御でき、且つ光硬化性塗膜を光硬化するのに適したパルスキセノンランプを用いることが好ましい。
【００２４】
この理由は、パルス光を照射して発生したラジカルが失活する前に次のパルス光を照射してラジカルを発生させることにより、効果的に硬化が進むためと推測している。但し、連続光の照射では、下層の感光層の劣化が起こらない程度に光の照射量を減らすと表面の硬化が不十分となり、硬化と電位特性を両立させることができない。
【００２５】
本発明で用いるパルスキセノンランプは、照射間隔が０．０１〜０．４秒に設定できるものを用いる。
【００２６】
パルスキセノンランプの１パルス当たりの発光時間は、３〜２０μｓｅｃのものが好ましい。
【００２７】
パルスキセノンランプの発光波長は、２５０〜６００ｎｍのものが好ましい。
【００２８】
パルス光の光エネルギー強度は、光源から１０ｃｍの距離で３７５ｍｊ／ｃｍ2（５７５ｍｗ／ｃｍ2）のものが好ましく用いられる。
【００２９】
光エネルギー強度は、積算光量計「Ｐｏｗｅｒ  Ｐｕｃｈ（ＥＩＴ社製）」を用い、３２０〜３９０ｎｍの波長域で測定した値である。
【００３０】
図１は、パルスキセノンランプを用いた光照射装置の一例を示す模式図である。
【００３１】
図１において、１は光硬化性塗膜を設けた円筒状の支持体、３はパルスキセノンランプ、４はパルスキセノンランプと支持体との距離を示す。
【００３２】
図１の（ａ）は円筒状の支持体１にパルスキセノンランプ３を照射する光照射装置の模式図、（ｂ）及び（ｃ）は円筒状の支持体１に多数本のパルスキセノンランプ３を用いて照射する光照射装置の模式図を示す。
【００３３】
光硬化性塗膜の光硬化は、光硬化性塗膜を設けた円筒状の支持体１を回転角（θ）で回転させた状態で、距離４の位置に設けたパルスキセノンランプ３から特定の照射間隔のパルス光を照射して行う。
【００３４】
尚、図（ｂ）及び（ｃ）に示すように、多数本のパルスキセノンランプで照射する場合は、個々のパルスキセノンランプの照射間隔と支持体の回転角（θ）の関係を満足していれば良く、少なくとも１本については式（１）の関係を満たす必要がある。好ましくは全てのパルスキセノンランプが式（１）を満足する関係にあることが好ましい。
【００３５】
光硬化性塗膜を光硬化させる光量（ｍｊ／ｃｍ2）は、パルス光強度、距離及び照射時間で制御することが好ましい。
【００３６】
尚、パルス光の照射間隔と支持体の回転角度は、前記式を満足するように制御する。
【００３７】
（光硬化性塗膜）
光硬化性塗膜は、前駆体材料と重合開始剤を有する塗布液を支持体の外周に塗布して設けることができる。
【００３８】
前駆体材料とは、アクリロイルオキシ基（ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯ−）、またはメタクリロイルオキシ基（ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）ＣＯＯ−）を複数有する硬化アクリルモノマーまたはオリゴマーを挙げることができる。
【００３９】
代表的な化合物例として下記構造のものを挙げることができる。
【００４０】
【化１】
2008151905.tif 000002
【００４１】
【化２】
2008151905.tif 000003
【００４２】
【化３】
2008151905.tif 000004
【００４３】
【化４】
2008151905.tif 000005
【００４４】
【化５】
2008151905.tif 000006
【００４５】
前駆体材料としては、ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ウレタンアクリレートオリゴマー、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジアクリレート等が好ましく用いられる。
【００４６】
硬化樹脂の重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン、チオキサントン、ベンゾブチルエーテル、アシロキシムエステル、ジベンゾスロベン、ビスアシルフォスフィンオキサイド等を挙げることができる。
【００４７】
（光硬化膜が形成されたことの確認）
本発明では、光硬化性塗膜が形成された支持体を回転させながら、パルス光を照射して全周にわたり均一な硬度を有する光硬化膜を形成する。
【００４８】
均一な硬度を有する光硬化膜が形成されたかの確認は、その表面のユニバーサル硬度を測定することにより行うことができる。
【００４９】
電子写真感光体（以下、単に感光体ともいう）表面の硬度の測定について具体的に説明する。
【００５０】
光硬化した表面層のユニバーサル硬度の測定は、市販の硬度測定装置を用いて行うことができ、例えば、超微小硬度計「Ｈ−１００Ｖ（フィッシャーインストルメント社製）」を用いて下記条件で測定することができる。
【００５１】
測定条件
測定機：微小硬度計「Ｈ−１００Ｖ（フィッシャーインストルメント社製）」
圧子形状：ビッカース圧子（ａ＝１３６°）
測定環境：２０℃、６０％ＲＨ
最大試験荷重：２ｍＮ
荷重速度：２ｍＮ／１０ｓｅｃ
最大荷重クリープ時間：５秒
除荷速度：２ｍＮ／１０ｓｅｃ
尚、測定は各試料とも軸方向に均等間隔で５点、周方向に１０〜３０点測定し、その値をユニバーサル硬度（ＨＵ）（Ｎ／ｍｍ2）とする。
【００５２】
感光体として用いる光硬化膜のユニバーサル硬度は、光硬化性塗膜を形成するのに用いる前駆体材料と重合開始剤等により異なるが、ユニバーサル硬度で、３００〜３６０Ｎ／ｍｍ2が好ましい。
【００５３】
周方向における場所によるユニバーサル硬度のむらは、試料１本当たりの平均値に対し最大値、最小値の値の差がユニバーサル硬度で２０％以下が好ましい。尚、ユニバーサル硬度のむらは下記式より求めた値である。
【００５４】
ユニバーサル硬度のむら＝（同一軸上の周方向の最大硬度−同一軸上の周方向の最小硬度）／同一軸上の周方向の最大硬度
ユニバーサル硬度のむらが２０％以下と小さいことは、光硬化性塗膜が均一に光重合して硬化膜が形成されたことで、光硬化性塗膜中に未反応の前駆体材料と重合開始剤の残存量が少ないことを意味する。この感光体を用いて画像形成すると、多数枚（例えば、５０００枚）プリントしてた後、高温高湿（例えば、３０℃  ８５％ＲＨ）に一昼夜放置後プリントを行っても、ドット画像のぼけが無い良好な画像が得られる。
【００５５】
理由は、画像形成時に、帯電器から発生する活性ガス（例えば、オゾン）により分解或いは変質しやすい前駆体材料や重合開始剤の量が少ないためと推測している。
【００５６】
次に、光硬化膜を有する感光体の製造方法について詳細に説明する。
【００５７】
《感光体の製造》
光硬化膜を有する感光体の製造方法では、支持体の外周に光硬化性塗膜を設ける工程、光硬化性塗膜が設けられた支持体を回転させながらパルス光を照射して光硬化させる工程を有することを特徴とする。尚、光硬化させる工程で支持体の回転周波数とパルス光の発光周波数が前記式（１）を満足するように制御する。
【００５８】
感光体の層構成は、感光体の最外層となる表面層が光硬化膜で形成される層構成のものである。
【００５９】
図２は、本発明に係る感光体の層構成の一例を示す模式図である。
【００６０】
図２において、１は感光体、１１は支持体、１２は中間層、１３は感光層、１４は電荷発生層、１５は電荷輸送層、１６は保護層、１８は表面層を示す。
【００６１】
図２の（ａ）は支持体１１の外周上に中間層１２を設けその上に感光層１３を設けて作製されたもので、表面層となる感光層が光硬化膜で形成される。（ｂ）は支持体１１の外周上に中間層１２を設けその上に電荷発生層１４、電荷輸送層１５を設けて作製されたもので、表面層となる電荷輸送層が光硬化膜で形成される。（ｃ）は支持体１１の外周上に中間層１２を設けその上に電荷発生層１４、電荷輸送層１５、保護層１６を設けて作製されたもで、表面層となる保護層が光硬化膜で形成される。
【００６２】
本発明に係る感光体は、上記何れの構成でもよいが、これらの中では、支持体の外周に、中間層、電荷発生層、電荷輸送層、光硬化膜で形成される保護層を設けて作製されるものが好ましい。
【００６３】
次に、支持体の外周上に、中間層、電荷発生層、電荷輸送層、光硬化膜で形成される保護層を有する感光体について説明する
（支持体の準備）
本発明に用いられる支持体は、円筒状で、比抵抗が１０3Ωｃｍ以下のものが好ましい。具体例として、切削加工後表面洗浄した円筒状アルミニウムを挙げることができる。
【００６４】
（中間層）
中間層は、バインダー、無機粒子、分散溶媒等から構成される中間層用塗布液を支持体上に塗布、乾燥して形成される。
【００６５】
中間層のバインダーとしては、ポリアミド樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂並びに、これらの樹脂の繰り返し単位の内の２つ以上を含む共重合体樹脂が挙げられる。これら樹脂の中ではポリアミド樹脂が、繰り返し使用に伴う残留電位増加を小さくでき好ましい。
【００６６】
中間層用塗布液を作製する溶媒としては、添加する無機粒子を良好に分散し、ポリアミド樹脂を溶解するものが好ましい。具体的には、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール等の炭素数２〜４のアルコール類が、ポリアミド樹脂の溶解性と塗布性能に優れ好ましい。これらの溶媒は全溶媒中に３０〜１００質量％、好ましくは４０〜１００質量％、さらに５０〜１００質量％が好ましい。前記溶媒と併用し、好ましい効果を得られる助溶媒としては、メタノール、ベンジルアルコール、トルエン、メチレンクロライド、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン等が挙げられる。
【００６７】
中間層の膜厚は、０．２〜４０μｍが好ましく、０．３〜２０μｍがより好ましい。
【００６８】
〈電荷発生層〉
電荷発生層は、電荷発生物質（ＣＧＭ）を含有する。その他の物質としては必要によりバインダー樹脂、その他添加剤を含有しても良い。
【００６９】
電荷発生物質（ＣＧＭ）としては公知の電荷発生物質（ＣＧＭ）を用いることができる。例えばフタロシアニン顔料、アゾ顔料、ペリレン顔料、アズレニウム顔料等を用いることができる。
【００７０】
電荷発生層にＣＧＭの分散媒としてバインダーを用いる場合、バインダーとしては公知の樹脂を用いることができるが、最も好ましい樹脂としてはホルマール樹脂、ブチラール樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン変性ブチラール樹脂、フェノキシ樹脂等が挙げられる。バインダー樹脂と電荷発生物質との割合は、バインダー樹脂１００質量部に対し２０〜６００質量部が好ましい。これらの樹脂を用いることにより、繰り返し使用に伴う残留電位増加を最も小さくできる。電荷発生層の膜厚は０．０１〜２μｍが好ましい。
【００７１】
〈電荷輸送層〉
電荷輸送層は、電荷輸送物質（ＣＴＭ）及びバインダー樹脂から形成される。その他の物質としては必要により酸化防止剤等の添加剤を添加して形成しても良い。電荷輸送層の膜厚は、５〜４０μｍが好ましく、１０〜３０μｍがより好ましい。
【００７２】
電荷輸送物質（ＣＴＭ）としては公知の電荷輸送物質（ＣＴＭ）を用いることができる。例えばトリフェニルアミン誘導体、ヒドラゾン化合物、スチリル化合物、ベンジジン化合物、ブタジエン化合物等を用いることができる。
【００７３】
電荷輸送層（ＣＴＬ）に用いられる樹脂としては、例えばポリスチレン、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコーン樹脂、メラミン樹脂並びに、これらの樹脂の繰り返し単位の内の２つ以上を含む共重合体樹脂。またこれらの絶縁性樹脂の他、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール等の高分子有機半導体が挙げられる。
【００７４】
これらＣＴＬのバインダーとして最も好ましいものはポリカーボネート樹脂である。ポリカーボネート樹脂はＣＴＭの分散性、電子写真特性を良好にすることにおいて、最も好ましい。バインダー樹脂と電荷輸送物質との割合は、バインダー樹脂１００質量部に対し１０〜２００質量部が好ましい。また、電荷輸送層の膜厚は１０〜４０μｍが好ましい。
【００７５】
酸化防止剤としては、公知の化合物を用いることができ、
具体的には「Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０」（日本チバガイギー社製）を挙げることができる。
【００７６】
〈保護層〉
保護層は、上記パルス光の照射により光硬化して形成さる。保護層を形成する樹脂成分としては、前記の前駆体材料と重合開始剤が挙げられる。
【００７７】
さらに保護層は、前駆体材料と重合開始剤の他に、必要に応じ電荷輸送物質、酸化防止剤、電気抵抗調整剤、無機微粒子、有機微粒子を添加して形成することができる。
【００７８】
保護層は、保護層用塗布液を電荷輸送層上にスプレー塗布して光硬化性塗膜を形成し、光硬化性塗膜の流動性が無くなる程度まで１次乾燥した後、パルス光を照射して前駆体材料を硬化して作製する。さらに希釈溶剤等の不要物を除去する目的で２次乾燥を行ってもよい。
【００７９】
保護層用塗布液は、硬化性アクリルモノマーまたはオリゴマーと重合開始剤、無機微粒子、有機微粒子を溶解・分散して作製することができる。
【００８０】
無機微粒子としては、シリカ、アルミナ、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス等の各種金属酸化物、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンをドープした酸化スズ及び酸化ジルコニウムなどを挙げることができる。これらの無機微粒子を１種類もしくは２種類以上混合して用いてもよい。このような無機微粒子の平均粒径は好ましくは０．３μｍ以下、より好ましくは０．１μｍ以下である。
【００８１】
有機微粒子としては、四フッ化エチレン樹脂、三フッ化塩化エチレン樹脂、六フッ化塩化エチレンプロピレン樹脂、フッ化ビニル樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、二フッ化二塩化エチレン樹脂、及びこれらの共重合体を挙げることができる。これらの有機微粒子を１種類もしくは２種類以上混合して用いてもよい。このような有機微粒子の平均粒径は好ましくは０．３μｍ以下、より好ましくは０．１μｍ以下である。
【００８２】
特に、上記のような微粒子を添加する保護層を硬化する場合には、本願のようなＬＥＤ光を用いて硬化することが望ましい。
【００８３】
尚、保護層用塗布液には希釈溶剤を添加することができる。希釈溶剤としては、紫外線硬化アクリルモノマーまたはオリゴマーと重合開始剤を溶解するものであれば特に限定されず、具体的にはｎ−ブチルアルコール、イソプロピルアルコール、エチルアルコール、メチルアルコール、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン等を挙げることができる。
【００８４】
保護層の硬度は、用いる硬化性アクリルモノマーまたはオリゴマーの種類、とその組成比、重合開始剤の種類と量、層の厚さ、パルス光の照射条件、必要に応じ添加する電荷輸送物質、酸化防止剤、電気抵抗調整剤の種類や量等により影響される。保護層の膜厚は、０．２〜５μｍが好ましく、０．３〜４μｍがより好ましい。
【００８５】
（光硬化性塗膜の形成する工程）
尚、光硬化性塗膜の光硬化は、前記図１の（ａ）に示すパルスキセノンランプを用いた光照射装置装置を用い、前記式（１）を満足するよう支持体の回転周波数とパルス光の発光周波数を制御して行われる。
【００８６】
光硬化に要する時間は、前駆材料、光硬化性塗膜が受ける光量等により左右されるが、３０〜１２０ｓｅｃに設定することが好ましい。
【００８７】
本発明に係る電子写真感光体は、電子写真複写機に利用するのみならず、レーザービームプリンター、ＣＲＴプリンター、ＬＥＤプリンター、液晶プリンター及びレーザー製版など電子写真応用分野にも広く用いることができる。
【実施例】
【００８８】
以下に、実施例を挙げて具体的に説明するが、本発明の実施態様はこれらに限定されるものではない。
【００８９】
《感光体の作製》
以下に示す手順で感光体を作製した。
【００９０】
〈感光体１の作製〉
（支持体の準備）
円筒形アルミニウム支持体の表面を切削加工し、洗浄して導電性の支持体を準備した。
【００９１】
（中間層の形成）
下記化合物を混合して混合液を調製した。
【００９２】
バインダー樹脂（Ｎ−１）                                        １質量部
エタノール／ｎ−プロピルアルコール／テトラヒドロフラン（４５：２０：３５容量比）                                                              ２０質量部
表面処理済みＮ型半導性粒子１（※１）                        ４．２質量部
上記で調製した混合液をビーズミルを用い分散し、中間層用塗布液を調製した。分散は、平均粒径０．１〜０．５ｍｍのイットリア含有酸化ジルコニウムを主成分とする球状ビーズ（ニッカトー製ＹＴＺボール）を用い、充填率：８０％、周速設定４ｍ／ｓｅｃ、ミル滞留時間を３時間に設定して行った。同分散液を５μｍのフィルターで濾過した後、該中間層用塗布液を洗浄済みの支持体上に浸漬塗布法で塗布し、乾燥膜厚およそ２μｍの中間層を形成した。
【００９３】
※１（表面処理Ｎ型半導性粒子１）
表面処理Ｎ型半導性粒子１は下記のようにして作製したものである。
【００９４】
メチルハイドロジェンポリシロキサン０．２部をエタノール／ｎ−プロピルアルコール／ＴＨＦ（４５：２０：３５容量比）１０部中に溶解分散し、該混合溶媒中にルチル型酸化チタン（数平均１次粒径３５ｎｍ：アルミナによる５％１次表面処理がされている）３．５部を添加したのち、１時間撹拌し、表面処理（２次処理）を行い溶媒から分離後、加熱乾燥して表面処理済みＮ型半導性粒子１を作製した。
【００９５】
【化６】
2008151905.tif 000007
【００９６】
（電荷発生層の形成）
下記成分を混合し、サンドミル分散機を用いて分散し、電荷発生層用塗布液を調製した。この塗布液を浸漬塗布法で中間層の上に塗布し、乾燥膜厚０．３μｍの電荷発生層を形成した。
【００９７】
Ｙ−チタニルフタロシアニン（Ｃｕ−Ｋα特性Ｘ線によるＸ線回折のスペクトルで、ブラッグ角（２θ±０．２°）２７．３°に最大回折ピークを有するチタニルフタロシン顔料）                                                          ２０質量部
ポリビニルブチラール「ＢＸ−１（積水化学（株）社製）」      １０質量部
メチルエチルケトン                                        ７００質量部
シクロヘキサノン                                          ３００質量部
（電荷輸送層の作製）
下記成分を混合し、溶解して電荷輸送層用塗布液を調製した。この塗布液を前記電荷発生層の上に浸漬塗布法で塗布し、乾燥して膜厚１８μｍの電荷輸送層を形成した。
【００９８】
電荷輸送物質（４，４′−ジメチル−４″−（α−フェニルスチリル）トリフェニルアミン）                                                        ５０質量部
ポリカーボネート樹脂「ユーピロン−Ｚ３００（三菱ガス化学社製）」
１００質量部
酸化防止剤「イルガノックス１０１０（日本チバガイギー社製）」  ８質量部
テトラヒドロフラン／トルエン（体積比８／２）              ７５０質量部
（保護層１の作製）
〔光硬化性塗膜の作製〕
硬化性材料Ａ（ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート）０．３質量部
硬化性材料Ｂ（分子量４５０、２官能のウレタンアクリレート）０．７質量部
１−プロパノール                                          ５．１質量部
メチルイソブチルケトン                                    ２．４質量部
上記組成に、さらに粒径約３００ｎｍのフッ素樹脂微粒子０．６質量部とアナタース型酸化チタン微粒子（粒径約６ｎｍ、表面処理メチル水素シリコーンオイル２０質量％）０．８質量部を加え、超音波ホモジナイザーで１５分間分散して硬化性材料とフッ素樹脂微粒子、酸化チタン微粒子を含有する分散液を作製した。
【００９９】
同分散液に重合開始剤１−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトンを０．０５質量部加え保護層用塗布液とした。
【０１００】
上記保護層用塗布液を前記電荷輸送層の上に浸漬塗布法で塗布した。その後、１００℃で５分間乾燥して「光硬化性塗膜１」を作製した。尚、塗膜の膜厚は３μｍであった。
【０１０１】
〔光硬化性塗膜の光硬化〕
上記で作製した「光硬化性塗膜１」の光硬化を、下記条件で行った。
【０１０２】
照射装置  ：図１の（ａ）に記載の装置
光源      ：パルスキセノンランプ（１パルス当たりの発光時間が６μｓｅｃ）
パルスキセノンランプの照射間隔：０．１ｓｅｃ
光源と光硬化性塗膜の距離：１０ｍｍ
光硬化性塗膜表面の光量  ：３７５ｍｊ／ｃｍ2（３２０〜３９０ｎｍの波長域）
支持体の回転角度：１．２θ
照射時間          ：１．５分間
その後、８０℃で２０分間２次乾燥を行い「感光体１」を作製した。
【０１０３】
硬化して得られた保護層のユニバーサル硬度は、最大硬度３１１Ｎ／ｍｍ2、最低硬度２５８Ｎ／ｍｍ2であった。硬度の差は５３Ｎ／ｍｍ2（硬化むらは１７％）であった。尚、ユニバーサル硬度は超微小硬度計「Ｈ−１００Ｖ（フィッシャーインストルメント社製）」を用い、上記条件で測定して得られた値である。
【０１０４】
〈感光体２の作製〉
感光体１の作製において、支持体の回転角度（θ）を１．２°から４０°に変更した以外は感光体１と同様にして「感光体２」を作製した。
【０１０５】
〈感光体３の作製〉
感光体１の作製において、支持体の回転角度（θ）を１．２°から８５°に変更した以外は感光体１と同様にして「感光体３」を作製した。
【０１０６】
〈感光体４の作製〉
感光体１の作製において、支持体の回転角度（θ）を１．２°から２８０°に変更した以外は感光体１と同様にして「感光体４」を作製した。
【０１０７】
〈感光体５の作製〉
感光体１の作製において、支持体の回転角度（θ）を１．２°から３１０°に変更した以外は感光体１と同様にして「感光体５」を作製した。
【０１０８】
〈感光体６の作製〉
感光体１の作製において、支持体の回転角度（θ）を１．２°から３５８．８°に変更した以外は感光体１と同様にして「感光体６」を作製した。
【０１０９】
〈感光体７の作製〉
感光体１の作製において、パルスキセノンランプの照射間隔を０．１ｓｅｃから０．０１ｓｅｃに変更した以外は感光体１と同様にして「感光体７」を作製した。
【０１１０】
〈感光体８の作製〉
感光体７の作製において、支持体の回転角度（θ）を１．２°から２．７５°に変更した以外は感光体１と同様にして「感光体８」を作製した。
【０１１１】
〈感光体９の作製〉
感光体７の作製において、支持体の回転角度（θ）を１．２°から８７°に変更した以外は感光体１と同様にして「感光体９」を作製した。
【０１１２】
〈感光体１０の作製〉
感光体１の作製において、パルスキセノンランプの照射間隔を０．１ｓｅｃから０．４ｓｅｃに変更、支持体の回転角度（θ）を１．２°から８７°に変更した以外は感光体１と同様にして「感光体１０」を作製した。
【０１１３】
〈感光体１１の作製（比較例）〉
感光体１の作製において、支持体の回転角度（θ）を１．２°から９０°に変更したに変更した以外は感光体１と同様にして「感光体１１」を作製した。
【０１１４】
〈感光体１２の作製（比較例）〉
感光体１の作製において、支持体の回転角度（θ）を１．２°から２７０°に変更したに変更した以外は感光体１と同様にして「感光体７」を作製した。
【０１１５】
〈感光体１３の作製（比較例）〉
感光体７の作製において、支持体の回転角度（θ）を１．２°から９０°に変更した以外は感光体１と同様にして「感光体１３」を作製した。
【０１１６】
〈感光体１４の作製（比較例）〉
感光体１の作製において、パルスキセノンランプの照射間隔を０．１ｓｅｃから０．５ｓｅｃに変更した以外は感光体１と同様にして「感光体１４」を作製した。
【０１１７】
〈感光体１５の作製（比較例）〉
感光体１の作製において、パルスキセノンランプを、水銀灯に変更した以外は感光体１と同様にして「感光体１５」を作製した。
【０１１８】
表１に、光硬化膜の作製条件、光硬化膜のユニバーサル硬度、硬度のむらを示す。
【０１１９】
【表１】
2008151905.tif 000008
【０１２０】
《評価》
表１に記載の感光体を。電子写真画像形成装置「ｍａｇｉｃｏｌｏｒ５４３０（コニカミノルタビジネステクノロジーズ社製）」に装着し、以下の評価項目について評価を行った。尚、評価は、◎、○、△は合格、×は不合格とする。
【０１２１】
（画像濃度の低下）
高温高湿（３０℃、８５％ＲＨ）の環境で、縦方向に２ｃｍ幅のべた画像原稿を連続して５０００枚プリントを行った。
【０１２２】
画像濃度の低下は、プリントして得られた１枚目と５０００枚目の画像濃度の低下で評価した。
【０１２３】
評価基準
◎：１枚目と５０００枚目の濃度差が全くなく良好なレベル
○：１枚目と５０００枚目の濃度差がわずかに見られるが実用上問題とはならないレベル
△：１枚目と５０００枚目の濃度差がやや見られるが実用上問題とはならないレベル
×：１枚目と５０００枚目の濃度差がはっきりと見え実用上問題となるレベル。
【０１２４】
（べた画像濃度むら）
印字率５％の文字原稿を連続５０００枚プリント終了後に、Ａ４サイズのべた黒画像をプリントした。べた画像濃度むらは、プリントして得られたべた黒画像に感光体の周期に起因するむらを目視で観察し、下記基準で評価した。
【０１２５】
評価基準
◎：感光体の周期に起因するべた画像濃度むらが、無く良好
○：感光体の周期に起因するべた画像濃度むらが、かすかに認められるが実用上問題ないレベル
△：感光体の周期に起因するべた画像濃度むらが、やや認められるが実用上問題ないレベル
×：感光体の周期に起因するべた画像濃度むらが、明らかに認められ実用上問題となるレベル。
【０１２６】
（画像ぼけ）
高温高湿（３０℃、８５％ＲＨ）の環境で、印字率５％の文字原稿を５０００枚プリントを行った。その後、プリンターの電源を切り同環境で１２時間放置した。１２時間放置後にプリンターの電源を入れ、濃度０．３のドット画像原稿をＡ４サイズの転写紙（６４ｇｍ2）にプリントした。得られたドット画像をルーペで観察し、ドット画像のぼけの程度を下記基準で評価した。
【０１２７】
評価基準
◎：ドット画像に、ぼけが全く認められない
○：ドット画像に、ぼけがほとんど認められない
△：ドット画像に、ぼけがややあるが、許容範囲のレベルである
×：ドット画像に、ぼけが多く、使用に耐えないレベルである。
【０１２８】
表２に、評価結果を示す。
【０１２９】
【表２】
2008151905.tif 000009
【０１３０】
表２より、本発明に係る「実施例１〜１０」の感光体１〜１０は、感光体表面のユニバーサル硬度差が小さく、画像濃度の低下、べた画像濃度むら及び画像ぼけの何れの評価項目でも問題がないことが判る。一方、「比較例１〜５」の感光体１１〜１５は、感光体表面のユニバーサル硬度差が大きく、評価項目の何れかに問題が有ることが判る。
【図面の簡単な説明】
【０１３１】
【図１】キセノンフラッシュ光を照射する装置の一例を示す模式図である。
【図２】本発明に係る感光体の層構成の一例を示す模式図である。
【符号の説明】
【０１３２】
１  感光体
１１  支持体
１２  中間層
１３  感光層
１４  電荷発生層
１５  電荷輸送層
１６  保護層
１８  表面層
【図１】
2008151905.tif 000010
【図２】
2008151905.tif 000011