(57)【要約】      （修正有）【課題】従来よりも処理時間を短縮することが可能なパターンデータの処理システム、パターンデータの処理方法、及びパターンデータの処理プログラムを提供すること。【解決手段】ツール（ソフトウェア）Ａ〜Ｃが格納された記憶部１０２と、演算部１０４とを有し、演算部１０４が、マスクパターンのパターンデータを取得し、マスクパターンを９０度回転してツールAにおいて処理した方が処理時間が短縮されるかどうかを判断し、処理時間が短縮されると判断された場合、マスクパターンを９０度回転してなる回転パターンのパターンデータを生成し、ツールAを利用してパターンデータを処理し、回転パターンを９０度逆回転することにより、マスクパターンの向きを元に戻すことを特徴とするパターンデータの処理システム１００による。【選択図】図２
2008070528.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
(S1)マスクパターンのパターンデータを得るステップと、
(S2)前記マスクパターンを所定の角度回転して処理ソフトウェアにおいて処理した方が、回転しないで処理するよりも処理時間が短縮されるかどうかを判断するステップと、
(S3)前記ステップ(S2)において前記処理時間が短縮されると判断された場合、前記マスクパターンを前記所定の角度回転してなる回転パターンのパターンデータを得るステップと、
(S4)前記回転パターンのパターンデータを、前記処理ソフトウェアにおいて処理するステップと、
(S5)前記ステップ(S4)の後に、前記所定の角度逆回転することにより、前記マスクパターンの向きを元に戻すステップと、
を有することを特徴とするパターンデータの処理方法。
【請求項２】
前記ステップ(S2)は、
(S6)前記ステップ(S1)で得た前記パターンデータに基づき、前記マスクパターンの縦の辺の長さの総和と横の辺の長さの総和のどちらが大きいかを判断するステップと、
(S7)横の辺の長さの総和よりも縦の辺の長さの総和が大きいマスクパターンの前記処理時間と、縦の辺の長さの総和よりも横の辺の長さの総和が大きいマスクパターンの前記処理時間うち、どちらが短いかの情報を参照するステップと、
(S8)前記ステップ(S6)の判断結果と前記ステップ(S7)で参照した前記情報に基づき、前記マスクパターンを所定の角度回転した方が前記処理時間が短縮されるかどうかを判断するステップとを有することを特徴とする請求項１に記載のパターンデータの処理方法。
【請求項３】
前記ステップ(S6)は、
(S9)前記マスクパターンが複数の図形の集合体からなる場合に、前記複数の図形のそれぞれについて縦の辺の長さの和と横の辺の長さの和を求めるステップと、
(S10)前記縦の辺の長さの和を全ての前記図形について足し合わせて縦の辺の合計長を求め、且つ、前記横の辺の長さの和を全ての前記図形について足し合わせて横の辺の合計長を求めるステップと、
(S11)複数の前記図形が共有する縦の辺の長さを、前記縦の辺の合計長から引いて前記縦の辺の総和を求め、且つ、複数の前記図形が共有する横の辺の長さを、前記横の辺の合計長から引いて前記横の辺の総和を求めるステップとを有することを特徴とする請求項２に記載のパターンデータの処理方法。
【請求項４】
前記ステップ(S6)は、
(S12)前記マスクパターンが複数の図形の集合体からなる場合に、該複数の図形を合併するステップと、
(S13)前記合併された前記マスクパターンの縦の辺の長さの総和と横の辺の長さの総和を求めるステップとを有することを特徴とする請求項２に記載のパターンデータの処理方法。
【請求項５】
(S14)前記ステップ(S2)の前に、前記マスクパターンを複数のユニットに分割するステップと、
(S15)前記ステップ(S5)の後に、前記複数のユニットを合成するステップとを更に有し、
各々の前記ユニットに対して前記ステップ(S2)〜(S5)を個別に行うことを特徴とする請求項１に記載のパターンデータの処理方法。
【請求項６】
前記ステップ(S1)における前記パターンデータは、前記マスクパターンの設計データであり、
前記ステップ(S2)における前記処理ソフトウェアは、前記マスクパターンに光近接効果補正を行うソフトウェアであることを特徴とする請求項１に記載のパターンデータの処理方法。
【請求項７】
前記ステップ(S2)における前記処理ソフトウェアは、前記パターンデータのフォーマットの変換をするソフトウェアであることを特徴とする請求項１に記載のパターンデータの処理方法。
【請求項８】
処理ソフトウェアが格納された記憶部と、
演算部とを有し、
前記演算部が、
マスクパターンのパターンデータを取得し、
前記マスクパターンを所定の角度回転して前記処理ソフトウェアにおいて処理した方が、回転しないで処理するよりも処理時間が短縮されるかどうかを判断し、
前記処理時間が短縮されると判断された場合、前記マスクパターンを前記所定の角度回転してなる回転パターンのパターンデータを生成し、
前記回転パターンのパターンデータを、前記処理ソフトウェアを利用して処理し、
前記処理ソフトウェアを利用して処理した後に、前記回転パターンを前記所定の角度逆回転することにより、前記マスクパターンの向きを元に戻すことを特徴とするパターンデータの処理システム。
【請求項９】
前記記憶部には、横の辺の長さの総和よりも縦の辺の長さの総和が大きいマスクパターンを前記処理ソフトウェアで処理する場合の処理時間と、縦の辺の長さの総和よりも横の辺の長さの総和が大きいマスクパターンを前記処理ソフトウェアで処理する場合の処理時間うち、どちらが短いかの情報が格納され、
前記演算部は、前記パターンデータに基づいて前記マスクパターンの縦の辺の長さの総和と横の辺の長さの総和のどちらが大きいかを判断し、該判断の結果と前記情報とに基づいて、前記処理時間が短縮されるかどうかの判断を行うことを特徴とする請求項８に記載のパターンデータの処理システム。
【請求項１０】
(S1)マスクパターンのパターンデータを得るステップと、
(S2)前記マスクパターンを所定の角度回転して処理ソフトウェアにおいて処理した方が、回転しないで処理するよりも処理時間が短縮されるかどうかを判断するステップと、
(S3)前記ステップ(S2)において前記処理時間が短縮されると判断された場合、前記マスクパターンを前記所定の角度回転してなる回転パターンのパターンデータを得るステップと、
(S4)前記回転パターンのパターンデータを、前記処理ソフトウェアにおいて処理するステップと、
(S5)前記ステップ(S4)の後に、前記回転パターンを前記所定の角度逆回転することにより、前記マスクパターンの向きを元に戻すステップと、
をコンピュータに実行させることを特徴とするパターンデータの処理プログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パターンデータの処理システム、パターンデータの処理方法、及びパターンデータの処理プログラムに関する。
【背景技術】
【０００２】
LSI等の半導体装置の製造プロセスにおいては、露光工程においてフォトレジストを露光し、露光により得られたレジストパターンをエッチングのマスクとして使用して、ゲート電極等の微細なデバイスパターンを作成する。
【０００３】
その露光工程では、露光用マスクの表面に形成されたマスクパターンが半導体ウエハに縮小投影されるが、ウエハに投影される像は、光近接効果によりマスクパターンと相似にはならない。そのため、通常は、露光用マスクの設計段階において、OPC(Optical Proximity Correction)と呼ばれる処理をマスクパターンに対して施し、マスクパターンの像がデバイスパターンに一致するようにする。
【０００４】
OPCは、ルールベースOPCとモデルベースOPCとに大別される。いずれのタイプでも、OPCツール（ソフトウェア）がインストールされたワークステーション等にデバイスパターンの設計データを入力することで、そのデバイスパターンの辺に凹凸を付与したものがマスクパターンの設計データとして出力される。
【０００５】
このようにしてマスクパターンの設計データを得た後は、EB(Electron Beam)露光装置を用いて露光用マスクにマスクパターンを描画する工程に移る。
【０００６】
但し、上記の設計データのフォーマットは、EB露光装置内で使用される描画データのフォーマットと異なるため、上記のようにOPCを行った後には、設計データを描画データに変換するフラクチャリングと呼ばれる処理が行われる。
【０００７】
このように、露光用マスクの設計段階においては、OPCやフラクチャリング等の処理が行われるが、近年の半導体装置の高集積化に伴い、これらの処理に要する時間が次第に長期化しつつある。例えば、矩形を発生させてマスクパターンの設計データを得る処理と比較して、OPCでは数倍から数十倍の処理時間が必要であり、典型的には処理時間が数日間にわたってしまう。フラクチャリングでは、OPCほどでは無いにしても、やはり数十時間という処理時間が必要となる。
【０００８】
このようにOPCやフラクチャリングの処理時間が長いと、露光用マスクを設計してから露光用マスクが完成するまでの期間が長引いてしまうという不都合が生じる。
【０００９】
処理時間の短縮のために、新たな設備やソフトウエアライセンス等のリソースを取得することも考えられるが、これでは新たな設備投資によって露光用マスクの開発コストが上昇してしまう。
【００１０】
そのため、既存のリソースを有効活用しながら、露光用マスクの設計段階におけるデータ処理時間を短縮することが望まれている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明の目的は、従来よりも処理時間を短縮することが可能なパターンデータの処理システム、パターンデータの処理方法、及びパターンデータの処理プログラムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の一観点によれば、(S1)マスクパターンのパターンデータを得るステップと、(S2)前記マスクパターンを所定の角度回転して処理ソフトウェアにおいて処理した方が、回転しないで処理するよりも処理時間が短縮されるかどうかを判断するステップと、(S3)前記ステップ(S2)において前記処理時間が短縮されると判断された場合、前記マスクパターンを前記所定の角度回転してなる回転パターンのパターンデータを生成するステップと、(S4)前記回転パターンのパターンデータを、前記処理ソフトウェアにおいて処理するステップと、(S5)前記ステップ(S4)の後に、前記回転パターンを前記所定の角度逆回転することにより、前記マスクパターンの向きを元に戻すステップとを有するパターンデータの処理方法が提供される。
【００１３】
また、本発明の別の観点によれば、処理ソフトウェアが格納された記憶部と、演算部とを有し、前記演算部が、マスクパターンのパターンデータを取得し、前記マスクパターンを所定の角度回転して前記処理ソフトウェアにおいて処理した方が、回転しないで処理するよりも処理時間が短縮されるかどうかを判断し、前記処理時間が短縮されると判断された場合、前記マスクパターンを前記所定の角度回転してなる回転パターンのパターンデータを生成し、前記回転パターンのパターンデータを、前記処理ソフトウェアを利用して処理し、前記処理ソフトウェアを利用して処理した後に、前記回転パターンを前記所定の角度逆回転することにより、前記マスクパターンの向きを元に戻すパターンデータの処理システムが提供される。
【００１４】
そして、本発明の他の観点によれば、(S1)マスクパターンのパターンデータを得るステップと、(S2)前記マスクパターンを所定の角度回転して処理ソフトウェアにおいて処理した方が、回転しないで処理するよりも処理時間が短縮されるかどうかを判断するステップと、(S3)前記ステップ(S2)において前記処理時間が短縮されると判断された場合、前記マスクパターンを前記所定の角度回転してなる回転パターンのパターンデータを生成するステップと、(S4)前記回転パターンのパターンデータを、前記処理ソフトウェアにおいて処理するステップと、(S5)前記ステップ(S4)の後に、前記回転パターンを前記所定の角度逆回転することにより、前記マスクパターンの向きを元に戻すステップとをコンピュータに実行させるパターンデータの処理プログラムが提供される。
【００１５】
次に、本発明の作用について説明する。
【００１６】
本発明によれば、処理ソフトウェアが得意とする方向にマスクパターンを回転させたうえで、そのマスクパターンのパターンデータを処理ソフトウェアにおいて処理するので、従来よりも処理時間を短くすることができる。
【００１７】
処理ソフトウェアとしては、例えば、OPC用のソフトウェアや、フラクチャリング用のソフトウェアがある。
【００１８】
そのうち、OPC用のソフトウェアでは、従来は処理が終了するまでに数日間もの長期を必要とするが、本発明を採用することでその処理時間を短縮することができ、露光用マスクの開発時間を速めることが可能となる。また、フラクチャリング用のソフトウェアでも、本発明により、従来は数十時間であった処理時間を短縮することができる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、処理ソフトウェアが得意とする方向にマスクパターンを回転させてマスクパターンのパターンデータを処理するので、従来よりも処理時間を短縮することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下に、本発明を実施するための最良の形態について、添付図面を参照しながら詳細に説明する。
【００２１】
（１）第１実施形態
本実施形態では、露光用マスクの設計時に、マスクパターンにOPCやフラクチャリング等の処理を施すためのシステムについて説明する。
【００２２】
図１は、本実施形態で使用されるマスクパターンの設計データの構造を模式的に示す図である。
【００２３】
設計データD1は、Figure 1〜Figure Xからなる階層構造を有しており、Topfigure名が与えられる。Topfigure名は、設計データD1が複数個存在する場合に、各データD1を特定するのに使用される。
【００２４】
図２は、本実施形態に係るパターンデータの処理システムの構成図である。
【００２５】
そのシステム１００は、例えばワークステーションであって、設計者が入出力を行うためのキーボード（入出力部）１０１と、モニター１１３と、バス１０３を介してキーボード１０１に接続された制御部１０２とに大別される。なお、制御部１０２には、外部の記録媒体１１２との間でデータの授受を行うためのディスク装置１１１が付属している。
【００２６】
制御部１０２は、CPU(Central Processing Unit)等の演算部１０４と、ハードディスク装置やRAM(Random Access Memory)等の記憶部１０５を有する。そのうち、記憶部１０５は、Data情報データベース１０６、Topfig情報データベース１０７、Layer情報データベース１０８、及びツール情報データベース１０９を有する。
【００２７】
Data情報データベース１０６は、設計データD1が配線層用のデータである等、設計データD1がデバイスのどの層に対応するかの情報を有している。
【００２８】
一方、Topfig情報データベース１０８には設計データD1のTopfigure名が格納され、Layer情報データベース１０８には処理対象のLayerの番号が格納されている。
【００２９】
そして、記憶部１０５には、パターンデータを処理するためのソフトウェアとして、複数のツールA〜Cが格納されている。
【００３０】
本実施形態では、これらのツールA〜CはルールベースOPC用のソフトウェアであって、OPCに必要な補正テーブル１１０が記憶部１０５に格納されている。補正テーブル１１０は、例えば、隣接するマスクパターン同士の間隔と、パターンの補正量との対で構成される。
【００３１】
なお、本発明で使用するOPCはルールベースOPCに限定されず、モデルベースOPCであってもよい。
【００３２】
ところで、本願発明者は、ツールA〜Cによっては、縦の辺が長い図形よりも横の辺が長い図形の方が処理時間が速い等、処理対象の図形に得意・不得意があるがあることを見出した。
【００３３】
そこで、本実施形態では、製品用の設計データに対してOPCを行う前に、複数のツールA〜Cのそれぞれに対し、縦の辺が長い図形と横の辺が長い図形のどちらの処理時間が速いかを調査しておき、その結果をツール情報データベース１０９に情報D2として予め登録しておく。
【００３４】
図３（ａ）、（ｂ）は、その調査に使用されるテストパターン２１、２２の平面図である。
【００３５】
図３（ａ）のテストパターン２１では、各辺に沿ったベクトルの長さの総和が、縦については６０で横については１２となるため、このテストパターン２１は縦の辺が長い図形ということになる。
【００３６】
このように、縦の辺の長さの総和が横の辺の長さの総和よりも大きい図形を、以下では「縦型の図形」と呼ぶことにする。
【００３７】
一方、図３（ｂ）のテストパターン２２では、ベクトルの長さが縦について１２、横について６０となるので、このテストパターン２２は横の辺が長い図形である。
【００３８】
このように、横の辺の長さの総和が縦の辺の長さの総和よりも大きい図形を、以下では「横型の図形」と呼ぶことにする。
【００３９】
上記の調査では、各ツールA〜Cのそれぞれを用いて、テストパターン２１とテストパターン２２のどちらの処理時間が短いかを調べることにより、それぞれのツールA〜Cが、縦型の図形と横型の図形のどちらを得意とするかを決定する。
【００４０】
次に、このシステム１００を用いた設計データの処理方法について説明する。
【００４１】
図４は、露光用マスク１１のチップ領域Rc内に形成されたマスクパターン１０の平面図である。なお、そのチップ領域Rcの輪郭は、半導体ウエハに形成される一つのチップの外周に相当する。
【００４２】
以下の処理フローでは、システム１００において処理対象となるパターンデータとしてこのマスクパターン１０の設計データD1を用いる。そして、ツールA〜Cのうち、対象となる製品に適したツール、例えばツールAを用いてこの設計データD1にOPCが施される。
【００４３】
図５及び図６は、本実施形態に係るパターンデータの処理方法を説明するためのフローチャートである。
【００４４】
これらのフローチャートにおけるステップＳ０〜Ｓ９は、例えば記録媒体１１２にプログラムの形態で記録されており、そのプログラムをシステム１００にインストールすることで、演算部１０４が実行するものである。
【００４５】
最初のステップＳ０では、設計者がData情報データベース１０６を参照して、これから処理を行う設計データD1がデバイスのどの層を対象にしたものかを定義する。更に、Topfig情報データベース１０７を参照してデータD1を特定するためのTopfig名を定義し、Layer情報データベース１０８を参照して処理対象のLayer番号を定義する。
【００４６】
次いで、ステップＳ１に移行し、演算部１０４の制御の下で、記録媒体１１２に記憶された設計データD1をディスク装置１１１において読み取る。
【００４７】
次に、ステップＳ２に移行する。ステップＳ２はサブステップＳ６〜Ｓ８に分けられる。
【００４８】
最初のサブステップＳ６では、ステップＳ１で得た設計データD1に基づき、マスクパターン１０の縦の辺の長さの総和と横の辺の長さの総和のどちらが大きいかを判断し、その判断結果を縦／横比率情報D3として記憶部１０５に格納する。
【００４９】
図７は、この判断の仕方について説明するための平面図である。
【００５０】
図７に示されるように、この判断を行うには、まず、マスクパターン１０の各辺に沿ったベクトルを定義し、個々のベクトルの長さを算出する。ベクトルの長さは、例えば、設計データD1に含まれる頂点の位置座標を参照して、隣接する頂点の位置座標の差の絶対値から求めることができる。
【００５１】
その後に、縦方向のベクトルの長さの総和と、横方向のベクトルの長さの総和を求め、どちらの総和が大きいかを判断する。
【００５２】
この例では、縦方向のベクトルの長さの総和が１０であり、横方向のベクトルの総和が１４である。従って、マスクパターン１０については、縦よりも横の辺の長さの総和が大きい横型の図形であると判断できる。
【００５３】
続いて、図５のステップＳ７に移行する。
【００５４】
ステップＳ７では、ツール情報データベース１０９を参照することにより、ツールAが縦型の図形と横型の図形のどちらについて処理時間が短いかの情報D2を得る。本実施形態では、ツールAは、横型よりも縦型の図形についての処理時間が短いとし、この点が情報D2に含まれているものとする。
【００５５】
次に、ステップＳ８に移行して、ステップＳ６の判断結果（縦／横比率情報D3）とステップＳ７で参照した情報D2に基づき、平面内でマスクパターン１０を９０度回転した方がツールAでの処理時間が短縮されるかどうかを判断する。
【００５６】
この例では、マスクパターン１０が横型の図形であり、ツールAが縦型の図形について処理時間が短いので、短縮される（ＹＥＳ）と判断する。
【００５７】
次に、図６のステップＳ３に移行する。
【００５８】
図８は、ステップＳ３における処理内容を模式的に表す平面図である。ステップＳ３では、同図に示されるように、演算部１０４において、設計データD1を用いてマスクパターン１０を９０度回転してなる回転パターン１４のパターンデータD4を生成する。
【００５９】
市販のOPCソフトウェアやフラクチャリングソフトウェアにはパターンを回転させる機能が備えられているので、この回転作業はその機能を使用して行うことができる。また、同図では、マスクパターン１０を右向きに回転して回転パターン１４を得ているが、左向きに回転して回転パターン１４を得てもよい。
【００６０】
そして、そのパターンデータD4は、補正前データとして記憶部１０５に格納される。
【００６１】
次に、図６のステップＳ４に移行して、補正テーブル１１０を参照しながら、回転パターン１４のパターンデータD4をツールAにおいて処理し、回転パターン１４に対してOPCを施す。
【００６２】
図９は、このようにOPCが施された回転パターン１４の平面図である。OPC後の回転パターン１４のパターンデータD5は、補正後データとして記憶部１０５に格納される。
【００６３】
続いて、図６のステップＳ５に移行し、演算部１０４において、パターンデータD5を用いて回転パターン１４を９０度逆回転することにより、マスクパターン１０の向きを元に戻す。
【００６４】
図１０は、このように逆回転されたマスクパターン１０の平面図である。このマスクパターン１０のパターンデータD6は、補正・逆回転後データとして記憶部１０５（図２参照）に格納される。また、必要に応じて、記録媒体１１２にこのパターンデータD6を保存することもできる。
【００６５】
上記の例では、マスクパターン１０が横型の図形であるため、ステップＳ８において回転する（ＹＥＳ）と判断したが、マスクパターン１０が縦型の図形である場合には、ステップＳ８において回転しない（ＮＯ）と判断し、ステップＳ９に移行する。
【００６６】
そのステップＳ９では、補正テーブル１１０を用いながら、マスクパターン１０の設計データD1に対してOPCが施され、処理後のデータD5が補正後データとして記憶部１０５に格納される。
【００６７】
以上により、本実施形態に係るパターンデータの処理方法の主要ステップが終了したことになる。
【００６８】
本実施形態によれば、ツールAが縦型と横型のどちらの図形に対して処理時間が短いかの情報を予め求めておく。そして、この情報を用いて、ステップＳ３においてツールAが得意とする方向にマスクパターン１０を回転するので、ステップＳ４においてOPCに要する時間を短縮することができる。
【００６９】
また、ツールA〜Cの中には、このようにマスクパターン１０を回転して処理することにより出力データD6のデータ量を減らすことができるため、データ転送時間のようなデータのハンドリング時間を短縮することができると共に、記録媒体１１２において出力データD6が占有する領域を減らすことができる。
【００７０】
しかも、この方法には新たな設備が不要であるため、ワークステーションやOPC用のツール等の既存リソースを有効活用しながら、露光用マスクの設計段階におけるデータ処理時間を短縮することが可能となる。
【００７１】
（２）第２実施形態
第１実施形態の図４の例では、一つのチップ領域Rcに一つのマスクパターン１０しか形成されていないが、実際のデバイスでは、図１１に示すように、複数のマスクパターン１０、１２が一つのチップ領域Rcに形成される。
【００７２】
本実施形態では、各パターン１０、１２を一つの図形と捉え、第１実施形態の図５及び図６のフローに従い、これらのパターン１０、１２に対して一括して処理を行う。
【００７３】
例えば、マスクパターン１２の縦の辺の長さの総和と横の辺の長さの総和はそれぞれ１０と８であるから、パターン１０、１２の全体の縦の辺の長さの総和は２０（＝１０＋１０）、横の辺の長さの総和は２２（＝１４＋８）となる。従って、図５のステップＳ６では、パターン１０、１２が全体として横型の図形であると判断される。
【００７４】
従って、図５のステップＳ８では、マスクパターン１０、１２の両方を一括して９０度回転し、これらのパターン１０、１２をツールAが得意とする縦型の図形にする。
【００７５】
図１２は、このようにパターン１０、１２を回転して得られた回転パターン１４、１６の平面図である。
【００７６】
この後は、第１実施形態と同様に、図６のステップＳ３〜Ｓ５の処理が行われることになる。
【００７７】
以上説明した本実施形態によれば、図１１のように一つのチップ領域Rcに複数のマスクパターン１０、１２が存在する場合でも、各パターン１０、１２を全体として一つの図形と捉えることで、その図形が縦型であるか横型であるかを判断することができる。これにより、各パターン１０、１２の設計データを第１実施形態と同様にして処理することができ、その処理時間を短縮することが可能となる。
【００７８】
（３）第３実施形態
第１実施形態では、図４に示したように、対象となるマスクパターン１０が一体的な図形であった。
【００７９】
しかしながら、設計者の都合により、図１３のようにマスクパターン１０が複数の図形１０ａ〜１０ｃの集合体よりなる場合もある。マスクパターン１０を構成する各図形の形状も設計時によって異なり、図１４のような図形１０ｄ〜１０ｇでマスクパターン１０が構成されることもある。
【００８０】
本実施形態では、このような場合において、図５で説明したステップＳ６を次の各例のように行うことで、マスクパターン１０の設計データに対する処理時間の短縮を図る。
【００８１】
第１例
図１５は、本例におけるステップＳ６の詳細を示すフローチャートである。なお、ステップＳ６以外のステップについては、第１実施形態と同じであるため、以下ではその説明を省略する。
【００８２】
また、図１６は、マスクパターン１０が図１３のような図形に分割される場合において、ステップＳ６の処理内容を説明するための図である。
【００８３】
図１５に示すように、ステップＳ６はサブステップＳ９〜Ｓ１１で構成される。
【００８４】
最初のステップＳ９では、図１６のように、複数の図形１０ａ〜１０ｃのそれぞれについて縦の辺の長さの和と横の辺の長さの和を求める。
【００８５】
この例では、図形１０ａの縦の長さの和は１０で横の長さの和は２である。また、図形１０ｂの縦の長さの和は２で横の長さの和は８である。そして、図形１０ｃの縦の長さの和は２で横の長さの和は４である。
【００８６】
次いで、ステップＳ１０に移行し、縦の辺の長さの和を全ての図形１０ａ〜１０ｃについて足し合わせて縦の辺の合計長を求める。また、これと共に、横の辺の長さの和を全ての図形１０ａ〜１０ｃについて足し合わせて横の辺の合計長を求める。
【００８７】
上記の例では、縦の辺の合計長は１４（＝１０＋２＋２）であり、横の辺の合計長は１４（＝２＋８＋４）である。
【００８８】
続いて、ステップＳ１１に移行し、複数の図形１０ａ〜１０ｃが共有する縦の辺の長さを、ステップＳ１０で求めた縦の辺の合計長から引くことにより、マスクパターン１０の縦の辺の総和を求める。
【００８９】
この例では、図１６においてハッチングで示す縦の辺が複数の図形によって共有されている。共有されている辺は全部で四つあり、そのいずれの長さも１であるから、マスクパターン１０の縦の辺の総和は１０（＝１４−１−１−１−１）となる。
【００９０】
また、これと共に、図形１０ａ〜１０ｃが共有する横の辺の長さを、ステップＳ１０で求めた横の辺の合計長から引くことにより、マスクパターン１０の横の辺の総和を求める。
【００９１】
上記の例では、各図形１０ａ〜１０ｃが共有する横の辺が存在しないので、上記の合計長１４が、そのままマスクパターン１０の横の辺の総和となる。
【００９２】
以上により、本実施形態におけるステップＳ６が終了した。
【００９３】
本実施形態によれば、設計者が図１４のような図形１０ａ〜１０ｃでマスクパターン１０を設計した場合でも、マスクパターン１０の縦の辺の総和と横の辺の総和を求めることができ、図５及び図６のフローに従ってマスクパターン１０の設計データD1に対するOPCを短時間に行うことができる。
【００９４】
なお、図１７のような図形１０ｄ〜１０ｇによりマスクパターン１０が構成される場合も、各図形１０ｄ〜１０ｇのそれぞれについて縦の辺の合計長と横の辺の合計長を算出し、上記のフローに従って処理を行うことにより、マスクパターン１０の縦の辺の総和と横の辺の総和を求めることができる。
【００９５】
第２例
次に、本実施形態の第２例について説明する。
【００９６】
図１８は、本例におけるステップＳ６の詳細を示すフローチャートである。なお、ステップＳ６以外のステップについては、第１実施形態と同じであるため、以下ではその説明を省略する。また、図１９は、本例におけるステップＳ６の処理内容を説明するための平面図である。
【００９７】
図１８に示されるように、ステップＳ６はサブステップＳ１２とサブステップ１３により構成される。
【００９８】
最初のステップＳ１２では、図１４に示したようにマスクパターン１０が複数の図形１０ａ〜１０ｃの集合体からなる場合に、これらの図形１０ａ〜１０ｃの形状データに対してOR演算を行い、各図形１０ａ〜１０ｃを合併する。
【００９９】
このような合併により、マスクパターン１０は、図１９のような一体的な図形となる。
【０１００】
次いで、ステップＳ１３に移行し、合併されたマスクパターン１０の縦の辺の長さの総和と横の辺の長さの総和を求める。総和の求め方は、第１実施形態の図７で説明したのと同じであるため、その説明は省略する。
【０１０１】
以上により、本実施形態におけるステップＳ６が終了する。
【０１０２】
本例では、設計者が各図形１０ａ〜１０ｃに分けてマスクパターン１０を設計したとしても、これらの図形１０ａ〜１０ｃを合併することによりマスクパターン１０を一体的な形状とするので、第１実施形態と同じフローに従ってマスクパターン１０に対してOPCを行うことができ、OPCに必要な時間を短縮することが可能となる。
【０１０３】
（４）第４実施形態
第２実施形態では、図５及び図６のフローに従い、一つのチップ領域Rc内に形成されている全てのマスクパターンに対して一括して処理を行った。
【０１０４】
これに対し、本実施形態では、１チップ内の複数のマスクパターンに対し、以下のように個別に処理を行う。
【０１０５】
図２０は、本実施形態における処理の対象となるマスクパターン１０、１２の平面図である。各マスクパターン１０、１２のデータは、設計データD1の異なるfigureに格納されている。
【０１０６】
図２１は、本実施形態に係る設計データの処理方法のフローチャートである。
【０１０７】
図２１に示されるように、本実施形態は、第１実施形態の各ステップの他にステップＳ１４とステップＳ１５を行うというものであり、これ以外は第１実施形態と同じである。
【０１０８】
まず、第１実施形態に従ってステップＳ０、Ｓ１を行った後、ステップＳ１４に移行する。そのステップＳ１４では、図２２に示すように、マスクパターンを複数のユニットに分割する。この例では、マスクパターン１０がUNIT-Fに分けられ、マスクパターン１２がUNIT-Uに分けられる。
【０１０９】
次いで、UNIT-FとUNIT-Uのそれぞれに対し、第１実施形態のステップＳ２〜Ｓ５、Ｓ９を個別に行う。
【０１１０】
例えば、UNIT-Fに属するマスクパターン１０は、既述のように横型の図形であるから、ステップＳ２においてツールAが得意とする方向に回転すべきと判断され、ステップＳ３において図２３（ａ）のように９０度回転されて回転パターン１４となる。その後、ステップＳ４においてOPCが施された後、ステップＳ５において回転パターン１４が９０度逆回転され、図２３（ｂ）のようなマスクパターン１０とされる。
【０１１１】
一方、UNIT-Uに属するマスクパターン１２（図２２参照）は、縦の辺の長さの総和と横の辺の長さの総和はそれぞれ１０と８であるため、ツールAが得意とする縦型の図形である。従って、ステップＳ２では回転すべきでないと判断され、ステップＳ９においてこのままの状態でOPCが行われて、図２４のような状態となる。
【０１１２】
そして、各ユニットに対してステップＳ５まで終了した後に、ステップＳ１５に移行して、UNIT-FとUNIT-Uとを合成し、図２５のような状態を得る。
【０１１３】
以上により、本実施形態の主要ステップが終了した。
【０１１４】
上記した本実施形態では、マスクパターン１０、１２を複数のユニット（UNIT-F、UNIT-U）に分割し、ツールAが不得意なマスクパターン１０のみに回転処理を行い、マスクパターン１２には回転処理を行わないので、マスクパターン１０、１２の設計データD1を効率的に処理することができる。
【０１１５】
但し、二つのマスクパターン１０、１２が非常に近接しており、片方のパターンのみを回転してOPCを施したのでは、そのパターンを逆回転させて元に戻したときに、両パターン１０、１２が重複する等、OPCが適切になされない場合がある。その場合は、上記のように各パターンを個別に回転するのではなく、両者を一括して回転し、各パターンに対して一括してOPCを施すのが好ましい。
【０１１６】
時間短縮の効果
次に、本実施形態に従って設計データを処理した場合において、処理時間がどの程度短縮されるかについて説明する。
【０１１７】
以下では、図２６のようなマスクパターン３０〜３２をそれぞれUNIT-A〜UNIT-Cに分割した場合を想定する。
【０１１８】
次の表１は、縦と横のそれぞれの辺の長さの総和を各ユニットについて求めたものである。
【０１１９】
【表１】
2008070528.tif 000003
【０１２０】
表１に示されるように、UNIT-Aは横型であり、UNIT-BとUNIT-Cは縦型である。
【０１２１】
ここで、使用するツール、例えばツールBが、横型の図形に対して処理時間が短いとする。その場合、ツールが不得意とする縦型のUNIT-BとUNIT-Cを回転することになる。次の表２は、このように回転した後に、縦と横のそれぞれの辺の長さの総和を各ユニットについて求めたものである。
【０１２２】
【表２】
2008070528.tif 000004
【０１２３】
表２の最下行に示されるように、各ユニットの辺の長さの合計は、不得意な縦の辺が「１４」だけ減って「７６」となり、得意な横の辺が「１４」増えて「１２４」となる。そのため、得意な横の辺の長さが約１．１８倍（＝９０÷７６）増加し、不得意な縦の辺の長さが０．８８７倍（＝１１０÷１２４）増加したことになる。
【０１２４】
従って、回転処理をしない場合に処理時間が１００時間かかっていたとすると、縦の辺の減少分だけを考えても、約８８．７時間（＝０．８８７×１００）で処理を終了することができると推測される。
【０１２５】
なお、上記では、UNIT-BとUNIT-Cの両方に対して回転処理を施したが、このうちのUNIT-Bのみに回転処理をすることも考えられる。
【０１２６】
次の表３は、UNIT-Bのみを回転した場合における、縦と横のそれぞれの辺の長さの総和を各ユニットについて求めたものである。
【０１２７】
【表３】
2008070528.tif 000005
【０１２８】
表３の最下行に示されるように、UNIT-Cだけを回転させただけでは、回転の前後で各ユニットの辺の長さの合計に大きな違いは発生しない。これは、UNIT-Cには、縦と横のそれぞれの辺の総和に大差が無いためである。
【０１２９】
表３の結果より、処理時間を効果的に短縮するには、縦と横のそれぞれの辺の総和に大きな差があるユニットに対して回転処理を施すのが有効であることが分かる。
【０１３０】
（５）第５実施形態
上記した第１〜第４実施形態では、マスクパターンの設計データに対してOPCを施したが、OPCに代えてフラクチャリング処理を行ってもよい。
【０１３１】
その場合、図２に示したシステム１００において、OPC用の補正テーブル１１０は不要となり、ツールA〜Cとしてフラクチャリング用のデータ変換ソフトウェアが使用される。
【０１３２】
図２７は、本実施形態に係るパターンデータの処理方法を説明するためのフローチャートである。なお、ステップＳ３よりも前のステップＳ０〜Ｓ２については、第１実施形態の図５におけるのと同じなので省略する。
【０１３３】
図２７に示されるように、本実施形態が第１実施形態（図６参照）と異なる点は、ステップＳ４とステップＳ９において、OPCに代えてフラクチャリングを行う点である。
【０１３４】
フラクチャリングは、パターンデータのフォーマットを、露光用マスクにマスクパターンを描画するときに使用される電子ビーム露光装置のデータのフォーマットに変換する処理である。
【０１３５】
本実施形態では、そのパターンデータとして、OPCを施す前若しくは施した後のマスクパターンの設計データを採用し、第１実施形態と同様にして、そのパターンデータに対してステップＳ１〜Ｓ５、Ｓ９の処理を施す。
【０１３６】
データのフォーマットとしては、GDS、OASIS、MEBES、JEOL52、HL-700、HL-800、HL-7000、VSB11、及びBEF(Advantest)があり、これらのうちの異なる二つのデータがフラクチャリングにおける入力データ及び出力データとなる。
【０１３７】
そして、ステップＳ３〜Ｓ５、Ｓ９における処理の結果、データD4〜D6がそれぞれフラクチャリング前データ、フラクチャリング後データ、及びフラクチャリング・逆回転データとして記憶部１０５に格納される。
【０１３８】
このようなフラクチャリング処理でも、ステップＳ３においてフラクチャリング用のツールA〜Cが得意とする方向にマスクデータを９０度回転することにより、ステップＳ４においてフラクチャリングに要する時間を短縮することが可能となり、露光用マスクの設計時間を速めることが可能となる。
【０１３９】
以上、本発明の実施形態について詳細に説明したが、本発明は上記の各実施形態に限定されない。
【０１４０】
例えば、第１〜第５実施形態では、縦型の図形と横型の図形について説明したが、斜めの図形に対して、OPCやフラクチャリングのツールが得意とする方向に回転させて処理を行ってもよい。例えば、右に４５度傾いた斜め図形が存在し、使用ツールが横型の図形を得意とする場合、斜め図形を右向きに４５度回転させ、処理後に左向きに４５度回転させて元の向きに戻してもよい。
【０１４１】
以下に、本発明の特徴を付記する。
【０１４２】
（付記１）  処理ソフトウェアが格納された記憶部と、
演算部とを有し、
前記演算部が、
マスクパターンのパターンデータを取得し、
前記マスクパターンを所定の角度回転して前記処理ソフトウェアにおいて処理した方が、回転しないで処理するよりも処理時間が短縮されるかどうかを判断し、
前記処理時間が短縮されると判断された場合、前記マスクパターンを前記所定の角度回転してなる回転パターンのパターンデータを生成し、
前記回転パターンのパターンデータを、前記処理ソフトウェアを利用して処理し、
前記処理ソフトウェアを利用して処理した後に、前記回転パターンを前記所定の角度逆回転することにより、前記マスクパターンの向きを元に戻すことを特徴とするパターンデータの処理システム。
【０１４３】
（付記２）  前記記憶部には、横の辺の長さの総和よりも縦の辺の長さの総和が大きいマスクパターンを前記処理ソフトウェアで処理する場合の処理時間と、縦の辺の長さの総和よりも横の辺の長さの総和が大きいマスクパターンを前記処理ソフトウェアで処理する場合の処理時間うち、どちらが短いかの情報が格納され、
前記演算部は、前記パターンデータに基づいて前記マスクパターンの縦の辺の長さの総和と横の辺の長さの総和のどちらが大きいかを判断し、該判断の結果と前記情報とに基づいて、前記処理時間が短縮されるかどうかの判断を行うことを特徴とする付記１に記載のパターンデータの処理システム。
【０１４４】
（付記３）  前記演算部は、前記マスクパターンの縦の辺の長さの総和と横の辺の長さの総和のどちらが大きいかの判断を、
前記マスクパターンが複数の図形の集合体からなる場合に、前記複数の図形のそれぞれについて縦の辺の長さの和と横の辺の長さの和を求め、
前記縦の辺の長さの和を全ての前記図形について足し合わせて縦の辺の合計長を求め、且つ、前記横の辺の長さの和を全ての前記図形について足し合わせて横の辺の合計長を求め、
複数の前記図形が共有する縦の辺の長さを、前記縦の辺の合計長から引いて前記縦の辺の総和を求め、且つ、複数の前記図形が共有する横の辺の長さを、前記横の辺の合計長から引いて前記横の辺の総和を求めて行うことを特徴とする付記２に記載のパターンデータの処理システム。
【０１４５】
（付記４）  前記演算部は、前記マスクパターンの縦の辺の長さの総和と横の辺の長さの総和のどちらが大きいかの判断を、
前記マスクパターンが複数の図形の集合体からなる場合に、該複数の図形を合併し、
前記合併された前記マスクパターンの縦の辺の長さの総和と横の辺の長さの総和を求めて行うことを特徴とする付記２に記載のパターンデータの処理システム。
【０１４６】
（付記５）  前記演算部は、
前記処理時間が短縮されるかどうかを判断する前に、前記マスクパターンを複数のユニットに分割し、
前記回転パターンのパターンデータを取得するステップ、前記処理ソフトウェアを利用して処理をするステップ、及び前記マスクパターンの向きを元に戻すステップを、各々の前記ユニットに対して個別に行い、
前記マスクパターンの向きを元に戻すステップの後に、前記複数のユニットを合成することを特徴とする付記１に記載のパターンデータの処理システム。
【０１４７】
（付記６）  前記パターンデータは、前記マスクパターンの設計データであり、
前記処理ソフトウェアは、前記マスクパターンに光近接効果補正を行うソフトウェアであることを特徴とする付記１に記載のパターンデータの処理システム。
【０１４８】
（付記７）  前記処理ソフトウェアは、前記パターンデータのフォーマットの変換をするソフトウェアであることを特徴とする付記１に記載のパターンデータの処理システム。
【０１４９】
（付記８）  前記フォーマットの変換は、露光用マスクにマスクパターンを描画するときに使用される電子ビーム露光装置内で用いられるデータのフォーマットへの変換であることを特徴とする付記７に記載のパターンデータの処理システム。
【０１５０】
（付記９）  (S1)マスクパターンのパターンデータを得るステップと、
(S2)前記マスクパターンを所定の角度回転して処理ソフトウェアにおいて処理した方が、回転しないで処理するよりも処理時間が短縮されるかどうかを判断するステップと、
(S3)前記ステップ(S2)において前記処理時間が短縮されると判断された場合、前記マスクパターンを前記所定の角度回転してなる回転パターンのパターンデータを得るステップと、
(S4)前記回転パターンのパターンデータを、前記処理ソフトウェアにおいて処理するステップと、
(S5)前記ステップ(S4)の後に、前記所定の角度逆回転することにより、前記マスクパターンの向きを元に戻すステップと、
を有することを特徴とするパターンデータの処理方法。
【０１５１】
（付記１０）  前記ステップ(S2)は、
(S6)前記ステップ(S1)で得た前記パターンデータに基づき、前記マスクパターンの縦の辺の長さの総和と横の辺の長さの総和のどちらが大きいかを判断するステップと、
(S7)横の辺の長さの総和よりも縦の辺の長さの総和が大きいマスクパターンの前記処理時間と、縦の辺の長さの総和よりも横の辺の長さの総和が大きいマスクパターンの前記処理時間うち、どちらが短いかの情報を参照するステップと、
(S8)前記ステップ(S6)の判断結果と前記ステップ(S7)で参照した前記情報に基づき、前記マスクパターンを所定の角度回転した方が前記処理時間が短縮されるかどうかを判断するステップとを有することを特徴とする付記９に記載のパターンデータの処理方法。
【０１５２】
（付記１１）  前記ステップ(S6)は、
(S9)前記マスクパターンが複数の図形の集合体からなる場合に、前記複数の図形のそれぞれについて縦の辺の長さの和と横の辺の長さの和を求めるステップと、
(S10)前記縦の辺の長さの和を全ての前記図形について足し合わせて縦の辺の合計長を求め、且つ、前記横の辺の長さの和を全ての前記図形について足し合わせて横の辺の合計長を求めるステップと、
(S11)複数の前記図形が共有する縦の辺の長さを、前記縦の辺の合計長から引いて前記縦の辺の総和を求め、且つ、複数の前記図形が共有する横の辺の長さを、前記横の辺の合計長から引いて前記横の辺の総和を求めるステップとを有することを特徴とする付記１０に記載のパターンデータの処理方法。
【０１５３】
（付記１２）  前記ステップ(S6)は、
(S12)前記マスクパターンが複数の図形の集合体からなる場合に、該複数の図形を合併するステップと、
(S13)前記合併された前記マスクパターンの縦の辺の長さの総和と横の辺の長さの総和を求めるステップとを有することを特徴とする付記１０に記載のパターンデータの処理方法。
【０１５４】
（付記１３）  (S14)前記ステップ(S2)の前に、前記マスクパターンを複数のユニットに分割するステップと、
(S15)前記ステップ(S5)の後に、前記複数のユニットを合成するステップとを更に有し、
各々の前記ユニットに対して前記ステップ(S2)〜(S5)を個別に行うことを特徴とする付記９に記載のパターンデータの処理方法。
【０１５５】
（付記１４）  前記ステップ(S1)における前記パターンデータは、前記マスクパターンの設計データであり、
前記ステップ(S2)における前記処理ソフトウェアは、前記マスクパターンに光近接効果補正を行うソフトウェアであることを特徴とする付記９に記載のパターンデータの処理方法。
【０１５６】
（付記１５）  前記ステップ(S2)における前記処理ソフトウェアは、前記パターンデータのフォーマットの変換をするソフトウェアであることを特徴とする付記９に記載のパターンデータの処理方法。
【０１５７】
（付記１６）  (S1)マスクパターンのパターンデータを得るステップと、
(S2)前記マスクパターンを所定の角度回転して処理ソフトウェアにおいて処理した方が、回転しないで処理するよりも処理時間が短縮されるかどうかを判断するステップと、
(S3)前記ステップ(S2)において前記処理時間が短縮されると判断された場合、前記マスクパターンを前記所定の角度回転してなる回転パターンのパターンデータを得るステップと、
(S4)前記回転パターンのパターンデータを、前記処理ソフトウェアにおいて処理するステップと、
(S5)前記ステップ(S4)の後に、前記回転パターンを前記所定の角度逆回転することにより、前記マスクパターンの向きを元に戻すステップと、
をコンピュータに実行させることを特徴とするパターンデータの処理プログラム。
【０１５８】
（付記１７）  前記ステップ(S2)は、
(S6)前記ステップ(S1)で得た前記パターンデータに基づき、前記マスクパターンの縦の辺の長さの総和と横の辺の長さの総和のどちらが大きいかを判断するステップと、
(S7)横の辺の長さの総和よりも縦の辺の長さの総和が大きいマスクパターンの前記処理時間と、縦の辺の長さの総和よりも横の辺の長さの総和が大きいマスクパターンの前記処理時間うち、どちらが短いかの情報を参照するステップと、
(S8)前記ステップ(S6)の判断結果と前記ステップ(S7)で参照した前記情報に基づき、前記マスクパターンを前記所定の角度回転した方が前記処理時間が短縮されるかどうかを判断するステップとを有することを特徴とする付記１６に記載のパターンデータの処理プログラム。
【０１５９】
（付記１８）  前記ステップ(S6)は、
(S9)前記マスクパターンが複数の図形の集合体からなる場合に、前記複数の図形のそれぞれについて縦の辺の長さの和と横の辺の長さの和を求めるステップと、
(S10)前記縦の辺の長さの和を全ての前記図形について足し合わせて縦の辺の合計長を求め、且つ、前記横の辺の長さの和を全ての前記図形について足し合わせて横の辺の合計長を求めるステップと、
(S11)複数の前記図形が共有する縦の辺の長さを、前記縦の辺の合計長から引いて前記縦の辺の総和を求め、且つ、複数の前記図形が共有する横の辺の長さを、前記横の辺の合計長から引いて前記横の辺の総和を求めるステップとを有することを特徴とする付記１７に記載のパターンデータの処理プログラム。
【０１６０】
（付記１９）  前記ステップ(S6)は、
(S12)前記マスクパターンが複数の図形の集合体からなる場合に、該複数の図形を合併するステップと、
(S13)前記合併された前記マスクパターンの縦の辺の長さの総和と横の辺の長さの総和を求めるステップとを有することを特徴とする付記１７に記載のパターンデータの処理プログラム。
【０１６１】
（付記２０）  (S14)前記ステップ(S2)の前に、前記マスクパターンを複数のユニットに分割するステップと、
(S15)前記ステップ(S5)の後に、前記複数のユニットを合成するステップとを更にコンピュータに実行させ、
各々の前記ユニットに対して前記ステップ(S2)〜(S5)を個別に行うことを特徴とする付記１６に記載のパターンデータの処理プログラム。
【図面の簡単な説明】
【０１６２】
【図１】図１は、本発明の各実施形態で使用されるマスクパターンの設計データの構造を模式的に示す図である。
【図２】図２は、本発明の第１実施形態に係るパターンデータの処理システムの構成図である。
【図３】図３は、図３（ａ）、（ｂ）は、本発明の第１実施形態で使用されるテストパターンの平面図である
【図４】図４は、本発明の第１実施形態で使用されるマスクパターンの平面図である。
【図５】図５は、本発明の第１実施形態に係るパターンデータの処理方法を説明するためのフローチャート（その１）である。
【図６】図６は、本発明の第１実施形態に係るパターンデータの処理方法を説明するためのフローチャート（その２）である。
【図７】図７は、本発明の第１実施形態におけるステップＳ６の処理内容を説明するための平面図である。
【図８】図８は、本発明の第１実施形態におけるステップＳ３の処理内容を模式的に表す平面図である。
【図９】図９は、本発明の第１実施形態におけるステップＳ４の処理内容を模式的に表す平面図である。
【図１０】図１０は、本発明の第１実施形態におけるステップＳ５の処理内容を模式的に表す平面図である。
【図１１】図１１は、本発明の第２実施形態で使用されるマスクパターンの平面図である。
【図１２】図１２は、本発明の第２実施形態において、マスクパターンを回転して得られた回転パターンの平面図である。
【図１３】図１３は、本発明の第３実施形態で使用されるマスクパターンの平面図（その１）である。
【図１４】図１４は、本発明の第３実施形態で使用されるマスクパターンの平面図（その２）である。
【図１５】図１５は、本発明の第３実施形態の第１例におけるステップＳ６の詳細を示すフローチャートである。
【図１６】図１６は、本発明の第３実施形態の第１例において、ステップＳ６の処理内容を説明するための図（その１）である。
【図１７】図１７は、本発明の第３実施形態の第１例において、ステップＳ６の処理内容を説明するための図（その２）である。
【図１８】図１８は、本発明の第３実施形態の第２例におけるステップＳ６の詳細を示すフローチャートである。
【図１９】図１９は、本発明の第３実施形態の第２例において、ステップＳ６の処理内容を説明するための図である。
【図２０】図２０は、本発明の第４実施形態で使用されるマスクパターンの平面図である。
【図２１】図２１は、本発明の第４実施形態に係るパターンデータの処理方法を説明するためのフローチャートである。
【図２２】図２２は、本発明の第４実施形態のステップＳ１４の処理内容を説明するための図である。
【図２３】図２３（ａ）は、本発明の第４実施形態におけるステップＳ３の処理内容を説明するための図であり、図２３（ｂ）は、本発明の第４実施形態におけるステップＳ５の処理内容を説明するための図である。
【図２４】図２４は、本発明の第４実施形態におけるステップＳ９の処理内容を説明するための図である。
【図２５】図２５は、本発明の第４実施形態におけるステップＳ１５の処理内容を説明するための図である。
【図２６】図２６は、本発明の第４実施形態において、時間短縮の効果を推測するのに使用したマスクパターンの平面図である。
【図２７】図２７は、本発明の第５実施形態に係るパターンデータの処理方法を説明するためのフローチャートである。
【符号の説明】
【０１６３】
１０、１２、３０〜３２…マスクパターン、１０ａ〜１０ｇ…図形、１１…露光用マスク、２１、２２…テストパターン、１４、１６…回転パターン、１００…パターンデータの処理システム、１０１…キーボード、１０２…制御部、１０３…バス、１０４…演算部、１０５…記憶部、１０６…Data情報データベース、１０７…Topfig情報データベース、１０８…Layer情報データベース、１０９…ツール情報データベース、１１０…補正テーブル、１１１…ディスク装置、１１２…記録媒体、１１３…モニター。
【図１】
2008070528.tif 000006
【図２】
2008070528.tif 000007
【図３】
2008070528.tif 000008
【図４】
2008070528.tif 000009
【図５】
2008070528.tif 000010
【図６】
2008070528.tif 000011
【図７】
2008070528.tif 000012
【図８】
2008070528.tif 000013
【図９】
2008070528.tif 000014
【図１０】
2008070528.tif 000015
【図１１】
2008070528.tif 000016
【図１２】
2008070528.tif 000017
【図１３】
2008070528.tif 000018
【図１４】
2008070528.tif 000019
【図１５】
2008070528.tif 000020
【図１６】
2008070528.tif 000021
【図１７】
2008070528.tif 000022
【図１８】
2008070528.tif 000023
【図１９】
2008070528.tif 000024
【図２０】
2008070528.tif 000025
【図２１】
2008070528.tif 000026
【図２２】
2008070528.tif 000027
【図２３】
2008070528.tif 000028
【図２４】
2008070528.tif 000029
【図２５】
2008070528.tif 000030
【図２６】
2008070528.tif 000031
【図２７】
2008070528.tif 000032