(57)【要約】【課題】活性エネルギー線硬化性を有し近赤外線吸収能に優れたハードコート用樹脂組成物の提供。【解決手段】本発明のハードコート用樹脂組成物は透明性及び活性エネルギー線硬化性を有し且つ近赤外線吸収剤を含む。この近赤外線吸収剤はフタロシアニン系化合物又はナフタロシアニン系化合物であって最大吸収波長が８００〜９２０ｎｍである化合物（Ｉ）の一種以上とフタロシアニン系化合物又はナフタロシアニン系化合物であって最大吸収波長が９２０ｎｍを超える化合物（II）の一種以上である。好ましくは化合物（Ｉ）として、最大吸収波長が８００ｎｍ以上８５０ｎｍ未満である化合物（Ｉａ）と最大吸収波長が８５０〜９２０ｎｍである化合物（Ｉｂ）とを含む。好ましくは、化合物（II）として、最大吸収波長が９２０ｎｍを超え９５０ｎｍ未満である化合物（IIａ）と、最大吸収波長が９５０〜１１００ｎｍである化合物（IIｂ）とを含む。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明性及び活性エネルギー線硬化性を有するとともに、近赤外線吸収剤を含み、
上記近赤外線吸収剤として、フタロシアニン系化合物又はナフタロシアニン系化合物であってアセトン中における最大吸収波長が８００ｎｍ以上９２０ｎｍ以下である化合物（Ｉ）の一種以上と、フタロシアニン系化合物又はナフタロシアニン系化合物であってアセトン中における最大吸収波長が９２０ｎｍを超える化合物（II）の一種以上とを含むハードコート用樹脂組成物。           
【請求項２】
上記化合物（Ｉ）として、アセトン中における最大吸収波長が８００ｎｍ以上８５０ｎｍ未満である化合物（Ｉａ）と、アセトン中における最大吸収波長が８５０ｎｍ以上９２０ｎｍ以下である化合物（Ｉｂ）とを含む請求項１に記載のハードコート用樹脂組成物。
【請求項３】
上記化合物（II）として、アセトン中における最大吸収波長が９２０ｎｍを超え９５０ｎｍ未満である化合物（IIａ）と、アセトン中における最大吸収波長が９５０ｎｍ以上１１００ｎｍ以下である化合物（IIｂ）とを含む請求項１又は２に記載のハードコート用樹脂組成物。
【請求項４】
請求項１から３のいずれかに記載のハードコート用樹脂組成物を含み、近赤外線吸収能を有するハードコート材。
【請求項５】
透明基材と、請求項１から３のいずれかに記載のハードコート用樹脂組成物を含むハードコート層とを有するハードコート材。
【請求項６】
上記透明基材は、ガラス、ＰＥＴフィルム、ＴＡＣフィルム、ラクトン構造を有する樹脂フィルム又は電磁波シールドフィルムである請求項５に記載のハードコート材。
【請求項７】
請求項５又は６に記載のハードコート材と、このハードコート材における上記ハードコート層とは屈折率が異なる層とを有する反射防止フィルム。
【請求項８】
請求項５又は６に記載のハードコート材を用いてなる防眩フィルム。
【請求項９】
請求項５又は６に記載のハードコート材、請求項７に記載の反射防止フィルム又は請求項８に記載の防眩フィルムを用いてなる薄型ディスプレ−用光学フィルター。
【請求項１０】
請求項５又は６に記載のハードコート材、請求項７に記載の反射防止フィルム、請求項８に記載の防眩フィルム又は請求項９に記載の光学フィルターを用いてなる薄型ディスプレー。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハードコート用樹脂組成物に関する。更に本発明は、ハードコート用樹脂組成物を用いたハードコート材、反射防止フィルム、防眩フィルム、薄型ディスプレー用光学フィルター及び薄型ディスプレーに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、薄型で大画面とされうる液晶ディスプレーやＰＤＰ（Plasma Display Panel）等の薄型ディスプレーが注目されている。ところが、薄型ディスプレーの冷陰極管やＰＤＰパネルからは近赤外線（８００〜１１００ｎｍ）が発生し、この近赤外線が家電用リモコンの誤作動を誘発することが判明した。そこで、近赤外線の吸収能が高く、可視領域での透明性が高い近赤外線吸収材料が求められている。また、ＣＣＤカメラ等に使用される光半導体素子は近赤外線領域の感度が高いため、近赤外線の除去が必要である。更に、近赤外線吸収材料は、ＣＤ−Ｒ、ＣＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ等の光記録材料にも用いられる。近赤外線吸収材料としては、シアニン系、ポリメチン系、スクアリリウム系、ジイモニウム系などの色素が使用されている。これらの色素のうち、比較的長波長側の近赤外線を吸収する色素としては、ジイモニウム色素が好適に用いられる。また、特開２００４−３０９６５５公報は、短波長側及び長波長側のいずれについても、近赤外線吸収色素としてフタロシアニン系色素を用いた近赤外線フィルターを開示する。
【０００３】
一方、薄型ディスプレー等に用いられる光学フィルターには、通常、反射防止層、防眩層、ハードコート層等が設けられる（例えば、特開２００６−２０１４６３参照）。
【０００４】
通常、近赤外線吸収層とハードコート層とは、それぞれ別々に設けられている。例えば、特開２００４−３０９６５５公報に開示された近赤外線吸収層は、ハードコート層ではない。よって、近赤外線吸収層とハードコート層とを別々に設ける必要が生ずる。
【０００５】
これに対して、特許第３７８８６５２号公報は、ハードコート層が近赤外線吸収剤を含有する近赤外線吸収性樹脂成形品を開示する。
【特許文献１】特開２００４−３０９６５５公報
【特許文献２】特開２００６−２０１４６３公報
【特許文献３】特許第３７８８６５２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ハードコート層は、紫外線照射により硬化される。よって、ハードコート層に近赤外線吸収剤を含有させた場合、近赤外線吸収剤にも紫外線が照射される。
【０００７】
上記特許第３７８８６５２号公報では、ハードコート層に含まれる近赤外線吸収剤として、ジイモニウム色素が用いられている。ところが、このジイモニウム色素は紫外線により変質しやすく、この変質により近赤外線吸収能が大きく低下することが判明した。上記特許第３７８８６５２号公報のようにハードコート層が近赤外線吸収能をも含有する場合、フィルムの削減や工程の省略が達成されうる点で好ましい。しかしながら上記の通り、紫外線による近赤外線吸収能の低下が問題となる。
【０００８】
本発明の目的は、活性エネルギー線硬化性を有するとともに近赤外線吸収能に優れたハードコート用樹脂組成物の提供にある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に係るハードコート用樹脂組成物は、透明性及び活性エネルギー線硬化性を有するとともに、近赤外線吸収剤を含む。このハードコート用樹脂組成物は、近赤外線吸収剤として、フタロシアニン系化合物又はナフタロシアニン系化合物であってアセトン中における最大吸収波長が８００ｎｍ以上９２０ｎｍ以下である化合物（Ｉ）の一種以上と、フタロシアニン系化合物又はナフタロシアニン系化合物であってアセトン中における最大吸収波長が９２０ｎｍを超える化合物（II）の一種以上とを含む。
【００１０】
好ましくは、このハードコート用樹脂組成物は、上記化合物（Ｉ）として、アセトン中における最大吸収波長が８００ｎｍ以上８５０ｎｍ未満である化合物（Ｉａ）と、アセトン中における最大吸収波長が８５０ｎｍ以上９２０ｎｍ以下である化合物（Ｉｂ）とを含む。
【００１１】
好ましくは、このハードコート用樹脂組成物は、上記化合物（II）として、アセトン中における最大吸収波長が９２０ｎｍを超え９５０ｎｍ未満である化合物（IIａ）と、アセトン中における最大吸収波長が９５０ｎｍ以上１１００ｎｍ以下である化合物（IIｂ）とを含む。
【００１２】
本発明のハードコート材は、上記ハードコート用樹脂組成物を含む。このハードコート材は、近赤外線吸収能を有している。好ましいハードコート材は、透明基材と上記ハードコート用樹脂組成物を含むハードコート層とを有している。
【００１３】
上記透明基材としては、ガラス、ＰＥＴフィルム、ＴＡＣフィルム、ラクトン構造を有する樹脂フィルム又は電磁波シールドフィルムが好ましい。ＰＥＴフィルムは、易接着層を有するＰＥＴフィルムでもよい。
【００１４】
本発明に係る反射防止フィルムは、上記ハードコート材と、このハードコート材における上記ハードコート層とは屈折率が異なる層とを有する。
【００１５】
本発明に係る防眩フィルムは、上記ハードコート材を用いてなる。本発明に係る薄型ディスプレ−用光学フィルターは、上記ハードコート材、上記反射防止フィルム又は上記防眩フィルムを用いてなる。本発明に係る薄型ディスプレ−は、上記ハードコート材、上記反射防止フィルム、上記防眩フィルム又は上記光学フィルターを用いてなる。
【発明の効果】
【００１６】
活性エネルギー線硬化性を有するとともに近赤外線吸収能に優れたハードコート用樹脂組成物が提供されうる。また、このハードコート用樹脂組成物を用いてなるハードコート材、反射防止フィルム、薄型ディスプレー用光学フィルター及び薄型ディスプレーにおいては、優れた近赤外線吸収能が達成されるとともに、製造工程の削減及びコスト低減が可能となる。  
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
［ハードコート樹脂成分］
本発明に係るハードコート用樹脂組成物は、透明性及び活性エネルギー線硬化性を有する。更にこのハードコート用樹脂組成物は、近赤外線吸収剤及び基材となる樹脂を含む。
【００１８】
ハードコート用樹脂組成物の基材樹脂（ハードコート樹脂成分）は、透明性及び活性エネルギー線硬化性を有する限り特に限定されない。このハードコート樹脂成分は、活性エネルギー硬化性を有する。即ちこのハードコート樹脂成分は、活性エネルギーの照射によって硬化しうる。なお、活性エネルギー線は特に限定されず、電子線、紫外線、可視光線、赤外線等が例示される。エネルギー量が高く樹脂を硬化させやすい観点から、好ましい活性エネルギー線は紫外線又は電子線であり、より好ましくは紫外線である。
【００１９】
活性エネルギー線硬化性の観点から、好ましいハードコート樹脂成分は、ラジカル重合性樹脂である。このラジカル重合性樹脂は特に限定されず、分子中に２個以上の炭素−炭素二重結合を有するラジカル重合性樹脂が好ましい。より好ましいハードコート樹脂成分は、分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有するラジカル重合性樹脂である。このようなラジカル重合性樹脂の具体例として、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、多価アルコール類の（メタ）アクリル酸エステル、下記式（ａ）で示される化合物等が例示されうる。ただし式（ａ）において、ＲＸは炭素数２〜８のアルキレン基を表し、ＲＹは、水素原子又はメチル基を表し、ｍは正の整数を表す。
【００２０】
【化１】
2008268267.tif 000002
【００２１】
上記エポキシ（メタ）アクリレートとしては、例えば、従来公知の芳香族エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂などと、（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレート等が例示されうる。このエポキシ（メタ）アクリレートとして更に好ましいのは、芳香族エポキシ樹脂の（メタ）アクリレートであり、更に好ましいのは、少なくとも１個の芳香核を有する多価フェノールまたはそのアルキレンオキサイド付加体のポリグリシジルエーテルを、（メタ）アクリル酸と反応させて得られる（メタ）アクリレートである。この（メタ）アクリレートとして、例えば、ビスフェノールＡ又はそのアルキレンオキサイド付加体とエピクロロヒドリンとの反応によって得られるグリシジルエーテルを、（メタ）アクリル酸と反応させて得られる（メタ）アクリレート；エポキシノボラック樹脂と（メタ）アクリル酸を反応させて得られる（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００２２】
上記ウレタン（メタ）アクリレートとして、１種または２種以上の水酸基含有ポリエステルや水酸基含有ポリエーテルに、水酸基含有（メタ）アクリル酸エステルとイソシアネート類を反応させて得られる（メタ）アクリレート；水酸基含有（メタ）アクリル酸エステルとイソシアネート類を反応させて得られる（メタ）アクリレート等が例示できる。
【００２３】
上記水酸基含有ポリエステルとして好ましいものは、１種または２種以上の多価アルコールと、１種または２種以上の多塩基酸との反応によって得られる水酸基含有ポリエステルである。この多価アルコールとして好ましいものとしては、脂肪族多価アルコールであって、例えば１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリブチレングリコール、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトールなどが挙げられる。上記多塩基酸は特に限定されず、例えば、アジピン酸、テレフタル酸、無水フタル酸、トリメリット酸などが好ましいものとして挙げられる。
【００２４】
上記水酸基含有ポリエーテルとして好ましいものは、多価アルコールに１種または２種以上のアルキレンオキサイドを付加することによって得られる水酸基含有ポリエーテルであり、この多価アルコールとしては、前述した多価アルコールと同様のものが例示できる。上記アルキレンオキサイドとしては、例えば、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイドが挙げられる。
【００２５】
水酸基含有（メタ）アクリル酸エステルとして好ましいものは、多価アルコールと（メタ）アクリル酸のエステル化反応によって得られる水酸基含有（メタ）アクリル酸エステルであり、この多価アルコールとしては、前述した多価アルコールと同様のものが例示できる。かかる水酸基含有（メタ）アクリル酸エステルのうち、二価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル化反応によって得られる水酸基含有（メタ）アクリル酸エステルは特に好ましく、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００２６】
上記イソシアネート類は特に限定されず、分子中に少なくとも１個以上のイソシアネート基を持つ化合物であればよい。本発明の効果を得る観点から、好ましいイソシアネート類は、トリレンジイソシアネートや、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートなどの２価のイソシアネート化合物である。
【００２７】
上記ポリエステル（メタ）アクリレートとしては、水酸基含有ポリエステルと（メタ）アクリル酸とを反応させて得られるポリエステル（メタ）アクリレート等を例示することができる。この水酸基含有ポリエステルとして好ましいものは、１種または２種以上の多価アルコールと、少なくとも１種の１塩基酸及び／又は多塩基酸とのエステル化反応によって得られる水酸基含有ポリエステルであり、多価アルコールとしては、前述した多価アルコールと同様のものが例示できる。この１塩基酸はとくに限定されず、例えば、ギ酸、酢酸、酪酸、安息香酸が挙げられる。上記多塩基酸も特に限定されず、例えば、アジピン酸、テレフタル酸、無水フタル酸、トリメリット酸が挙げられる。この多塩基酸は、酸無水物であってもよい。
【００２８】
上記ポリエーテル（メタ）アクリレートとしては、水酸基含有ポリエーテルと、メタ（アクリル）酸とを反応させて得られるポリエーテル（メタ）アクリレート等を例示することができる。この水酸基含有ポリエーテルとして好ましいものは、多価アルコールに１種または２種以上のアルキレンオキサイドを付加することによって得られる水酸基含有ポリエーテルであり、この多価アルコールとしては、前述した多価アルコールと同様のものが例示できる。アルキレンオキサイドとしては、例えば、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイドが挙げられる。
【００２９】
上記アルコール類の（メタ）アクリル酸エステルとしては、分子中に少なくとも２個の水酸基を持つ芳香族または脂肪族アルコール、およびそのアルキレンオキサイド付加体と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレート等を例示することができ、例えば、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ε−カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド付加ビスフェノールＡの（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００３０】
上記式（ａ）で示されるビニル系重合体は、下記式（ｂ）で示される異種重合性単量体を、従来から知られているカチオン重合させることにより製造されうる。また、下記式（ｂ）で示される異種重合性単量体を特開２００６−２４１１８９号明細書に記載された方法でリビンクカチオン重合させることにより容易に製造されうる。このとき、下記式（ｂ）で示される異種重合性単量体は、単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。２種以上が併用される場合、得られる共重合体は、ランダム共重合体、交互共重合体、周期的共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体又はそれらの組み合わせのいずれであってもよい。異種重合性単量体の具体例としては、例えば（メタ）アクリル酸２−ビニロキシエチル、（メタ）アクリル酸３−ビニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸２−ビニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸１−ビニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸１−メチル−２−ビニロキシエチル、（メタ）アクリル酸４−ビニロキシブチル、（メタ）アクリル酸３−ビニロキシブチル、（メタ）アクリル酸２−ビニロキシブチル、（メタ）アクリル酸１−メチル−３−ビニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸２−メチル−３−ビニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸１−メチル−２−ビニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸１，１−ジメチル−２−ビニロキシエチル、（メタ）アクリル酸６−ビニロキシヘキシル、（メタ）アクリル酸４−ビニロキシシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸、４−ビニロキシメチルシクロヘキシルメチル、（メタ）アクリル酸３−ビニロキシメチルシクロヘキシルメチル、（メタ）アクリル酸２−ビニロキシメチルシクロヘキシルメチル、（メタ）アクリル酸４−ビニロキシメチルフェニルメチル、（メタ）アクリル酸３−ビニロキシメチルフェニルメチル、（メタ）アクリル酸２−ビニロキシメチルフェニルメチル、（メタ）アクリル酸２−（２−ビニロキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（２−ビニロキシイソプロポキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（２−ビニロキシエトキシ）プロピル、（メタ）アクリル酸２−（２−ビニロキシイソプロポキシ）プロピル、（メタ）アクリル酸２−（２−ビニロキシエトキシ）イソプロピル、（メタ）アクリル酸２−（２−ビニロキシイソプロポキシ）イソプロピル、（メタ）アクリル酸２−｛２−（２−ビニロキシエトキシ）エトキシ｝エチル、（メタ）アクリル酸２−｛２−（２−ビニロキシイソプロポキシ）エトキシ｝エチル、（メタ）アクリル酸２−｛２−（２−ビニロキシイソプロポキシ）イソプロポキシ｝エチル、（メタ）アクリル酸２−｛２−（２−ビニロキシエトキシ）エトキシ｝プロピル、（メタ）アクリル酸２−｛２−（２−ビニロキシエトキシ）イソプロポキシ｝プロピル、（メタ）アクリル酸２−｛２−（２−ビニロキシイソプロポキシ）エトキシ｝プロピル、（メタ）アクリル酸２−｛２−（２−ビニロキシイソプロポキシ）イソプロポキシ｝プロピル、（メタ）アクリル酸２−｛２−（２−ビニロキシエトキシ）エトキシ｝イソプロピル、（メタ）アクリル酸２−｛２−（２−ビニロキシエトキシ）イソプロポキシ｝イソプロピル、（メタ）アクリル酸２−｛２−（２−ビニロキシイソプロポキシ）エトキシ｝イソプロピル、（メタ）アクリル酸２−｛２−（２−ビニロキシイソプロポキシ）イソプロポキシ｝イソプロピル、（メタ）アクリル酸２−［２−｛２−（２−ビニロキシエトキシ）エトキシ｝エトキシ］エチル、（メタ）アクリル酸２−［２−｛２−（２−ビニロキシイソプロポキシ）エトキシ｝エトキシ］エチル、（メタ）アクリル酸２−（２−［２−｛２−（２−ビニロキシエトキシ）エトキシ｝エトキシ］エトキシ）エチル等が挙げられる。これらの異種重合性単量体のうち、（メタ）アクリル酸２−ビニロキシエチル、（メタ）アクリル酸３−ビニロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ビニロキシプロピル、（メタ）アクリル酸１−メチル−２−ビニロキシエチル、（メタ）アクリル酸４−ビニロキシブチル、（メタ）アクリル酸６−ビニロキシヘキシル、（メタ）アクリル酸４−ビニロキシシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸４−ビニロキシメチルシクロヘキシルメチル、（メタ）アクリル酸２−（２−ビニロキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（２−ビニロキシイソプロポキシ）プロピル、（メタ）アクリル酸２−｛２−（２−ビニロキシエトキシ）エトキシ｝エチル等が挙げられる。
【００３１】
【化２】
2008268267.tif 000003
【００３２】
以上のようなラジカル重合性樹脂は、その１種又は２種以上を所望の性能に応じて配合して使用することができるが、本発明の効果を得る観点から、好ましくは、上記ウレタン（メタ）アクリレートをハードコート樹脂成分全量に対して５質量％以上、より好ましくは１０質量％以上、最も好ましくは１０〜８０質量％とすることがよい。また、より好ましくは上記ウレタン（メタ）アクリレート以外のハードコート樹脂成分が、上記のうちの、２官能を超える多官能（メタ）アクリレートであることがよい。更に好ましくは、上記ウレタン（メタ）アクリレート以外のハードコート樹脂成分が、２価を超える多価アルコールの（メタ）アクリル酸エステルであることがよい。
【００３３】
本発明におけるハードコート樹脂成分は、分子中に２個以上の炭素−炭素二重結合を有するラジカル重合性樹脂を含むのが好ましいが、本発明の目的を逸脱しない範囲内で、所望により、反応性希釈剤などとして、上記以外のエネルギー線硬化性ラジカル重合性樹脂を配合することができる。
【００３４】
［重合開始剤］
本発明のハードコート用樹脂組成物は、重合開始剤を含むのが好ましい。この重合開始剤としては、エネルギー線感受性ラジカル重合開始剤が好ましく、例えば、アセトフェノン系化合物、ベンジル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、チオキサントン系化合物などのケトン系化合物が好適なものとして例示される。
【００３５】
上記アセトフェノン系化合物としては、例えば、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、４'−イソプロピル−２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、２−ヒドロキシメチル−２−メチルプロピオフェノン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ターシャリブチルジクロロアセトフェノン、ｐ−ターシャリブチルトリクロロアセトフェノン、ｐ−アジドベンザルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパノン−１、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等が挙げられる。
【００３６】
上記ベンジル系化合物としては、ベンジル、アニシル等が挙げられる。
【００３７】
ベンゾフェノン系化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、ミヒラーケトン、４，４'−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、４，４'−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４'−メチルジフェニルスルフィドなどが挙げられる。
【００３８】
チオキサントン系化合物としては、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン等が挙げられる。
【００３９】
これらの重合開始剤は、１種あるいは２種以上のものを所望の性能に応じて配合して使用することができる。また、重合開始剤の配合量としては、ハードコート樹脂成分全量に対して、０．０５〜２０質量％、好ましくは０．１〜２０質量％とするのがよい。重合開始剤の配合量が０．０５質量％未満の場合、組成物が十分に硬化しないことがある。逆に、重合開始剤の配合量が２０質量％を越えると、硬化物の物性がさらに向上することはなく、むしろ悪影響を及ぼす上、経済性を損なうことがある。
【００４０】
［溶媒］
本発明のハードコート用樹脂組成物は、溶媒を含んでいてもよい。塗工性を高める観点から、ハードコート用樹脂組成物が塗布される際には、溶媒が用いられるのが好ましい。この溶媒は特に限定されず、メタノール，エタノール，プロパノール，イソプロパノール，ブタノール等のアルコール系溶剤；エチレングリコール，プロピレングリコール，ブチレングリコール，ポリエチレングリコール，ポリプロピレングリコール，ポリオキシエチレンポリオキシプロピレン共重合体等のグリコール系溶剤；前記グリコール系溶剤のモノメチルエーテル，モノエチルエーテル，モノプロピルエーテル，モノイソプロピルエーテル，モノブチルエーテル等のエーテルアルコール系溶剤；前記グリコール系溶剤のジメチルエーテル，ジエチルエーテル，ジプロピルエーテル，ジイソプロピルエーテル，ジブチルエーテル，メチルエチルエーテル，メチルプロピルエーテル，メチルイソプロピルエーテル，メチルブチルエーテル，エチルプロピルエーテル，エチルイソプロピルエーテル，エチルブチルエーテル等のポリエーテル系溶剤；メチルエチルケトン，メチルイソブチルケトン，シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；酢酸メチル，酢酸エチル，酢酸ブチル等のエステル系溶剤等；ヘキサン，ヘプタン，オクタン，シクロペンタン，シクロヘキサン，トルエン，キシレン等の炭化水素系溶剤等が例示される。これらの溶媒は１種で使用されてもよく、２種以上の混合溶媒として使用されてもよい。好ましくは沸点２００℃以下の有機溶媒がよい。溶媒の水分含有量は５質量％以下であることが望ましい。
【００４１】
［単官能重合性化合物］
本発明のハードコート用樹脂組成物は、目的に応じて、適切な単官能重合性化合物をさらに含有しうる。単官能重合性化合物の具体例としては、アクリルアミド、（メタ）アクリロイルモルホリン、７−アミノ−３，７−ジメチルオクチル（メタ）アクリレート、イソブトキシメチル（メタ）アクリレート、イソボルニルオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、エチルジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｔ−オクチル（メタ）アクリルアミド、ジアセトン（メタ）アクリルアミド、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタジエン（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、テトラクロロフェニル（メタ）アクリレート、２−テトラクロロフェノキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、テトラブロモフェニル（メタ）アクリレート、２−テトラブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−トリクロロフェノキシエチル（メタ）アクリレート、トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、２−トリブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ビニルカプロラクタム、Ｎ−ビニルピロリドンフェノキシエチル（メタ）アクリレート、ブロキシエチル（メタ）アクリレート、ペンタクロロフェニル（メタ）アクリレート、ペンタブロモフェニル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、メチルトリエチレンジグリコール（メタ）アクリレート、等が挙げられる。
【００４２】
本発明のハードコート用樹脂組成物は、目的に応じて、（メタ）アクリル系樹脂を含有していてもよい。（メタ）アクリル系樹脂は、（メタ）アクリル酸エステルを単量体として用いて重合された（メタ）アクリル系重合体をいう。（メタ）アクリル系重合体は、１種の（メタ）アクリル酸エステルを単量体として用いて重合されてもよく、２種以上の（メタ）アクリル酸エステルを単量体として用いて重合されてもよく、（メタ）アクリル酸エステルと（メタ）アクリル酸エステルに共重合可能な化合物（以下、「共重合可能な化合物とも記載する）とを単量体として用いて重合されてもよい。単量体として用いられる（メタ）アクリル酸エステルの具体例としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート等の炭素数１〜２０のアルキル（メタ）アクリレート及びその置換体；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート等の水酸基含有（メタ）アクリレート；（メタ）アクリル酸等のカルボキシル基含有（メタ）アクリレート；フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート等のアリール（メタ）アクリレート；メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシプロピル（メタ）アクリレート等のアルコキシアルキル（メタ）アクリレート；エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノールエチレンオキサイド（ＥＯ）付加物（メタ）アクリレート、ノニルフェノールプロピレンオキサイド（ＰＯ）付加物（メタ）アクリレート等の、アルコールのオキシアルキレン付加物の（メタ）アクリレート；シクロヘキシル（メタ）アクリレート等の、シクロアルキル（メタ）アクリレート等が挙げられる。ただし、これらの化合物以外の（メタ）アクリル酸エステルを用いてもよい。上記（メタ）アクリル酸エステルは、単独で使用されてもよいし、２種以上の混合物の形態で使用されてもよい。必要に応じて単量体として用いられる共重合可能な化合物としては、例えば、エチレン性不飽和結合を有する化合物が挙げられる。ここで、エチレン性不飽和結合を有する化合物とは、エチレン（ＣＨ２＝ＣＨ２）の水素原子が置換された化合物を意味する。（メタ）アクリル酸エステルに共重合可能であり、本発明の効果を妨げないのであれば、他の化合物が単量体として用いられてもよい。共重合可能な化合物の他の例としては、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、ビニルナフタレン、ハロゲン化スチレン等の芳香族ビニル単量体；酢酸ビニル等のビニルエステル単量体；塩化ビニル、塩化ビニリデン等のハロゲン化ビニル単量体；（メタ）アクリル���ミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド等のアミド基含有ビニル単量体；（メタ）アクリロニトリル等のニトリル基含有単量体；ビニルエーテル系単量体等が挙げられる。
【００４３】
［添加剤］
本発明のハードコート用樹脂組成物は、目的に応じて、適切な添加剤を含有してもよい。添加剤の具体例としては、レベリング剤、顔料、顔料分散剤、紫外線吸収剤、抗酸化剤、粘性改質剤、耐光安定剤、金属不活性化剤、過酸化物分解剤、充填剤、補強材、可塑剤、潤滑剤、防食剤、防錆剤、乳化剤、鋳型脱型剤、蛍光性増白剤、有機防炎剤、無機防炎剤、滴下防止剤、溶融流改質剤、静電防止剤、すべり付与剤、密着性付与剤、防汚剤、界面活性剤、消泡剤、重合禁止剤、光増感剤、表面改良剤、シランカップリング剤等が挙げられる。なお、紫外線吸収剤を用いる場合、この紫外線吸収剤は、複合微粒子および多官能重合性化合物の重合（硬化）反応を阻害しない程度の量で用いられることはいうまでもない。
【００４４】
本発明のハードコート用樹脂組成物は、任意の適切な有機微粒子又は無機微粒子を含有してもよい。典型的には、これらの有機微粒子又は無機微粒子は、目的に応じた機能（例えば、屈折率調整、導電性、防眩性）を付与するために用いられる。ハードコート用樹脂組成物よりなる層の高屈折率化や導電性付与に有用な微粒子の具体例として、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化スズ、スズドープ酸化インジウム、アンチモンドープ酸化スズ、インジウムドープ酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化アンチモン等が挙げられる。ハードコート用樹脂組成物よりなる層の低屈折率化に有用な微粒子の具体例として、フッ化マグネシウム、シリカ、中空シリカ等が挙げられる。防眩性付与に有用な微粒子の具体例としては、上記の微粒子に加え、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、タルク、カオリン等の無機粒子；シリコン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアミン樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂及びこれらの共重合樹脂等の有機微粒子が挙げられる。これらの微粒子は、単独で用いられても良く、２種以上が組み合わされても良い。
【００４５】
［近赤外線吸収剤］
［フタロシアニン系化合物及びナフタロシアニン系化合物］
本発明に係るハードコート用樹脂組成物は、近赤外線吸収剤として、アセトン中における最大吸収波長が８００ｎｍ以上９２０ｎｍ以下である化合物（Ｉ）と、アセトン中における最大吸収波長が９２０ｎｍを超える化合物（II）とを含む。化合物（Ｉ）は、フタロシアニン系化合物又はナフタロシアニン系化合物である。化合物(II)は、フタロシアニン系化合物又はナフタロシアニン系化合物である。
【００４６】
化合物（Ｉ）は、最大吸収波長が８００〜９２０ｎｍであって、且つ、フタロシアニン系化合物又はナフタロシアニン系化合物であれば、いずれの化合物でもよい。化合物（II）は、最大吸収波長が９２０ｎｍを超え、かつ、フタロシアニン系化合物又はナフタロシアニン系化合物であれば、いずれの化合物でもよい。
【００４７】
化合物（Ｉ）及び化合物（II）としては、下記式（１）で表される化合物が好ましい。
【００４８】
【化３】
2008268267.tif 000004
【００４９】
式（１）中のＡ１〜Ａ１６は、各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ヒドロキシスルホニル基、カルボキシル基、チオール基、総炭素原子数１〜２０個の置換されていてもよいアルキル基、総炭素原子数１〜２０個の置換されていてもよいアルコキシ基、総炭素原子数６〜２０個の置換されていてもよいアリール基、総炭素原子数６〜２０個の置換されていてもよいアリールオキシ基、総炭素原子数７〜２０個の置換されていてもよいアラルキル基、総炭素原子数７〜２０個の置換されていてもよいアラルキルオキシ基、総炭素原子数１〜２０個の置換されていてもよいアルキルチオ基、総炭素原子数６〜２０個の置換されていてもよいアリールチオ基、総炭素原子数７〜２０個の置換されていてもよいアラルキルチオ基、総炭素原子数１〜２０個の置換されていてもよいアルキルスルホニル基、総炭素原子数６〜２０個の置換されていてもよいアリールスルホニル基、総炭素原子数７〜２０個の置換されていてもよいアラルキルスルホニル基、総炭素原子数１〜２０個の置換されていてもよいアシル基、総炭素原子数２〜２０個の置換されていてもよいアルコキシカルボニル基、総炭素原子数７〜２０個の置換されていてもよいアリールオキシカルボニル基、総炭素原子数８〜２０個の置換されていてもよいアラルキルオキシカルボニル基、総炭素原子数２〜２０個の置換されていてもよいアルキルカルボニルオキシ基、総炭素原子数７〜２０個の置換されていてもよいアリールカルボニルオキシ基、総炭素原子数８〜２０個の置換されていてもよいアラルキルカルボニルオキシ基、総炭素原子数２〜２０個の置換されていてもよい複素環基、置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいアミノスルホニル基又は置換されていてもよいアミノカルボニル基を表す。なお、上記アシル基とは、科学技術用語大辞典の第三版（日刊工業新聞社）の第１７頁に記載されているアシル基を意味する。
【００５０】
Ａ１〜Ａ１６は同種若しくは異種のいずれであっても良いし、同種の場合においても同一若しくは異なっていても良く、Ａ１〜Ａ１６の基同士が連結基を介して繋がっていても良い。Ｍ１は２個の水素原子、２価の金属原子、３価又は４価の置換金属原子あるいはオキシ金属を表す。
【００５１】
（基Ａ１〜Ａ１６    がアミノ基、アミノスルホニル基、アミノカルボニル基以外である場合）
以下、基Ａ１〜Ａ１６について詳細に説明する。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。総炭素原子数１〜２０個の置換されていてもよいアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、等の直鎖、分岐又は環状のアルキル基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。総炭素原子数１〜２０個の置換されていてもよいアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、ｉｓｏ−プロピルオキシ基、ｎ−ブチルオキシ基、ｉｓｏ−ブチルオキシ基、ｓｅｃ−ブチルオキシ基、ｔ−ブチルオキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、等の直鎖、分岐又は環状のアルコキシ基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。総炭素原子数６〜２０個の置換されていてもよいアリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。総炭素原子数６〜２０個の置換されていてもよいアリールオキシ基としては、フェノキシ基、ナフトキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。総炭素原子数７〜２０個の置換されていてもよいアラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、ジフェニルメチル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。総炭素原子数７〜２０個の置換されていてもよいアラルキルオキシ基としては、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基、ジフェニルメチルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。総炭素原子数１〜２０個の置換されていてもよいアルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｉｓｏ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｉｓｏ−ブチルチオ基、ｓｅｃ−ブチルチオ基、ｔ−ブチルチオ基、ｎ−ペンチルチオ基、ｎ−ヘキシルチオ基、シクロヘキシルチオ基、ｎ−ヘプチルチオ基、ｎ−オクチルチオ基、２−エチルヘキシルチオ基等の直鎖、分岐又は環状のアルキルチオ基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。総炭素原子数６〜２０個の置換されていてもよいアリールチオ基としては、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。総炭素原子数７〜２０個の置換されていてもよいアラルキルチオ基としては、ベンジルチオ基、フェネチルチオ基、ジフェニルメチルチオ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。総炭素原子数１〜２０個の置換されていてもよいアルキルスルホニル基としては、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｎ−プロピルスルホニル基、ｉｓｏ−プロピルスルホニル基、ｎ−ブチルスルホニル基、ｉｓｏ−ブチルスルホニル基、ｓｅｃ−ブチルスルホニル基、ｔ−ブチルスルホニル基、ｎ−ペンチルスルホニル基、ｎ−ヘキシルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、ｎ−ヘプチルスルホニル基、ｎ−オクチルスルホニル基、２−エチルヘキシルスルホニル基、等の直鎖、分岐又は環状のアルキルスルホニル基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。総炭素原子数６〜２０個の置換されていてもよいアリールスルホニル基としては、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。総炭素原子数７〜２０個の置換されていてもよいアラルキルスルホニル基としては、ベンジルスルホニル基、フェネチルスルホニル基、ジフェニルメチルスルホニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。総炭素原子数１〜２０個の置換されていてもよいアシル基としてはメチルカルボニル基、エチルカルボニル基、ｎ−プロピルカルボニル基、ｉｓｏ−プロピルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、ｉｓｏ−ブチルカルボニル基、ｓｅｃ−ブチルカルボニル基、ｔ−ブチルカルボニル基、ｎ−ペンチルカルボニル基、ｎ−ヘキシルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、ｎ−ヘプチルカルボニル基、ｎ−オクチルカルボニル基、２−エチルヘキシルカルボニル基等の直鎖、分岐又は環状のアルキルカルボニル基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。総炭素原子数７〜２０個の置換されていてもよいアリールカルボニル基としては、ベンジルカルボニル基、フェニルカルボニル基等のアリールカルボニル基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。総炭素原子数７〜２０個の置換されていてもよいアラルキルカルボニル基としては、ベンゾイル基等のアラルキルカルボニル基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。総炭素原子数２〜２０個の置換されていてもよいアルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロピルオキシカルボニル基、ｉｓｏ−プロピルオキシカルボニル基、ｎ−ブチルオキシカルボニル基、ｉｓｏ−ブチルオキシカルボニル基、ｓｅｃ−ブチルオキシカルボニル基、ｔ−ブチルオキシカルボニル基、ｎ−ペンチルオキシカルボニル基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、ｎ−ヘプチルオキシカルボニル基、ｎ−オクチルオキシカルボニル基、２−エチルヘキシルオキシカルボニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。総炭素原子数７〜２０個の置換されていてもよいアリールオキシカルボニル基としては、フェノキシカルボニル、ナフトキシカルボニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。総炭素原子数８〜２０個の置換されていてもよいアラルキルオキシカルボニル基としては、ベンジルオキシカルボニル基、フェネチルオキシカルボニル基、ジフェニルメチルオキシカルボニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。総炭素原子数２〜２０個の置換されていてもよいアルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ｎ−プロピルカルボニルオキシ基、ｉｓｏ−プロピルカルボニルオキシ基、ｎ−ブチルカルボニルオキシ基、ｉｓｏ−ブチルカルボニルオキシ基、ｓｅｃ−ブチルカルボニルオキシ基、ｔ−ブチルカルボニルオキシ基、ｎ−ペンチルカルボニルオキシ基、ｎ−ヘキシルカルボニルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、ｎ−ヘプチルカルボニルオキシ基、３−ヘプチルカルボニルオキシ基、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。総炭素原子数７〜２０個の置換されていてもよいアリールカルボニルオキシ基としては、ベンゾイルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。総炭素原子数８〜２０個の置換されていてもよいアラルキルカルボニルオキシ基としては、ベンジルカルボニルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。総炭素原子数２〜２０個の置換されていてもよい複素環基としては、ピロール基、イミダゾール基、ピペリジン基、モルホリン基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００５２】
式（１）においてＡ１〜Ａ１６で示されるアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アラルキル基、アラルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アラルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アラルキルスルホニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、アリールカルボニルオキシ基、アラルキルカルボニルオキシ基又は複素環基に場合によっては存在する置換基として、例えば、ハロゲン原子、アシル基、アルキル基、フェニル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、アルコキシスルホニル基、アルキルチオ基、カルバモイル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、複素環基などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの置換基は複数個存在していても良く、複数個存在する場合には同種若しくは異種のいずれであっても良く、同種の場合においても同一若しくは異なっていても良い。また、置換基同士が連結基を介して繋がっていてもよい。
【００５３】
（基Ａ１〜Ａ１６    がアミノ基、アミノスルホニル基、アミノカルボニル基の場合）
式（１）中の基Ａ１〜Ａ１６  において、 置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいアミノスルホニル基又は置換されていてもよいアミノカルボニル基への置換基としては、水素原子；メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、２−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基、等の直鎖、分岐又は環状のアルキル基；フェニル基、ナフチル基等のアリール基；ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基；アセチル基、エチルカルボニル基、ｎ−プロピルカルボニル基、ｉｓｏ−プロピルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、ｉｓｏ−ブチルカルボニル基、ｓｅｃ−ブチルカルボニル基、ｔ−ブチルカルボニル基、ｎ−ペンチルカルボニル基、ｎ−ヘキシルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、ｎ−ヘプチルカルボニル基、３−ヘプチルカルボニル基、ｎ−オクチルカルボニル基等の直鎖、分岐又は環状のアルキルカルボニル基；ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基等のアリールカルボニル基；ベンジルカルボニル基等のアラルキルカルボニル基などが挙げられるが、これらに限定されるものではなく、これらの置換基はさらに置換基で置換されていても良い。これらの置換基は存在しなくてもよいし、あるいは、１個または２個の置換基が存在していても良い。置換基が２個存在する場合、お互いが同種若しくは異種のいずれであっても良く、同種の場合においてはお互いが同一であってもよいし異なっていても良い。また、置換基が２個の場合はこれらの置換基同士が連結基を介して繋がっていてもよい。
【００５４】
上記の置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいアミノスルホニル基又は置換されていてもよいアミノカルボニル基への置換基であるアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アラルキルカルボニル基などに更に存在しても良い置換基として、例えば、ハロゲン原子、アシル基、アルキル基、フェニル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、アルコキシスルホニル基、アルキルチオ基、カルバモイル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、複素環基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの置換基は複数個存在していても良く、複数個存在する場合には同種若しくは異種のいずれであっても良く、同種の場合においても同一若しくは異なっていても良い。また、置換基同士が連結基を介して繋がっていてもよい。
【００５５】
また、式（１）においてＭ１で表される２価の金属の例としては、Ｃｕ（ＩＩ）、Ｃｏ（ＩＩ）、Ｚｎ（ＩＩ）、Ｆｅ（ＩＩ）、Ｎｉ（ＩＩ）、Ｒｕ（ＩＩ）、Ｒｈ（ＩＩ）、Ｐｄ（ＩＩ）、Ｐｔ（ＩＩ）、Ｍｎ（ＩＩ）、Ｍｇ（ＩＩ）、Ｔｉ（ＩＩ）、Ｂｅ（ＩＩ）、Ｃａ（ＩＩ）、Ｂａ（ＩＩ）、Ｃｄ（ＩＩ）、Ｈｇ（ＩＩ）、Ｐｂ（ＩＩ）、Ｓｎ（ＩＩ）などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。式（１）においてＭ１で表される３価の置換金属原子の例としては、Ａｌ−Ｆ、Ａｌ−Ｃｌ、Ａｌ−Ｂｒ、Ａｌ−Ｉ、Ｆｅ−Ｃｌ、Ｇａ−Ｆ、Ｇａ−Ｃｌ、Ｇａ−Ｉ、Ｇａ−Ｂｒ、Ｉｎ−Ｆ、Ｉｎ−Ｃｌ、Ｉｎ−Ｂｒ、Ｉｎ−Ｉ、Ｔｌ−Ｆ、Ｔｌ−Ｃｌ、Ｔｌ−Ｂｒ、Ｔｌ−Ｉ、Ａｌ−Ｃ６Ｈ５、Ａｌ−Ｃ６Ｈ４（ＣＨ３）、Ｉｎ−Ｃ６Ｈ５、Ｉｎ−Ｃ６Ｈ４（ＣＨ３）、Ｉｎ−Ｃ６Ｈ５、Ｍｎ（ＯＨ）、Ｍｎ（ＯＣ６Ｈ５）、Ｍｎ〔ＯＳｉ（ＣＨ３）３〕、Ｒｕ−Ｃｌなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。式（１）においてＭ１で表される４価の置換金属原子の例としては、ＣｒＣｌ２、ＳｉＦ２、ＳｉＣｌ２、ＳｉＢｒ２、ＳｉＩ２、ＺｒＣｌ２、ＧｅＦ２、ＧｅＣｌ２、ＧｅＢｒ２、ＧｅＩ２、ＳｎＦ２、ＳｎＣｌ２、ＳｎＢｒ２、ＴｉＦ２、ＴｉＣｌ２、ＴｉＢｒ２、Ｇｅ（ＯＨ）２、Ｍｎ（ＯＨ）２、Ｓｉ（ＯＨ）２、Ｓｎ（ＯＨ）２、Ｚｒ（ＯＨ）２、Ｃｒ（Ｒ１）２、Ｇｅ（Ｒ１）２、Ｓｉ（Ｒ１）２、Ｓｎ（Ｒ１）２、Ｔｉ（Ｒ１）２｛Ｒ１はアルキル基、フェニル基、ナフチル基、およびその誘導体を表す｝、Ｃｒ（ＯＲ２）２、Ｇｅ（ＯＲ２）２、Ｓｉ（ＯＲ２）２、Ｓｎ（ＯＲ２）２、Ｔｉ（ＯＲ２）２、｛Ｒ２はアルキル基、フェニル基、ナフチル基、トリアルキルシリル基、ジアルキルアルコキシシリル基およびそれらの誘導体を表す｝、Ｓｎ（ＳＲ３）２、Ｇｅ（ＳＲ３）２｛Ｒ３はアルキル基、フェニル基、ナフチル基、およびそれらの誘導体を表す｝などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。オキシ金属の例としては、ＶＯ、ＭｎＯ、ＴｉＯなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００５６】
また、化合物（Ｉ）及び化合物（ＩＩ）として使用されるナフタロシアニン系化合物としては下記式（２）で表される化合物が好ましい。
【化４】
2008268267.tif 000005
【００５７】
式（２）中のＢ１〜Ｂ２４は、各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ヒドロキシスルホニル基、カルボキシル基、チオール基、総炭素原子数１〜２０個の置換されていてもよいアルキル基、総炭素原子数１〜２０個の置換されていてもよいアルコキシ基、総炭素原子数６〜２０個の置換されていてもよいアリール基、総炭素原子数６〜２０個の置換されていてもよいアリールオキシ基、総炭素原子数７〜２０個の置換されていてもよいアラルキル基、総炭素原子数７〜２０個の置換されていてもよいアラルキルオキシ基、総炭素原子数１〜２０個の置換されていてもよいアルキルチオ基、総炭素原子数６〜２０個の置換されていてもよいアリールチオ基、総炭素原子数７〜２０個の置換されていてもよいアラルキルチオ基、総炭素原子数１〜２０個の置換されていてもよいアルキルスルホニル基、総炭素原子数６〜２０個の置換されていてもよいアリールスルホニル基、総炭素原子数７〜２０個の置換されていてもよいアラルキルスルホニル基、総炭素原子数１〜２０個の置換されていてもよいアシル基、総炭素原子数２〜２０個の置換されていてもよいアルコキシカルボニル基、総炭素原子数７〜２０個の置換されていてもよいアリールオキシカルボニル基、総炭素原子数８〜２０個の置換されていてもよいアラルキルオキシカルボニル基、総炭素原子数２〜２０個の置換されていてもよいアルキルカルボニルオキシ基、総炭素原子数７〜２０個の置換されていてもよいアリールカルボニルオキシ基、総炭素原子数８〜２０個の置換されていてもよいアラルキルカルボニルオキシ基、総炭素原子数２〜２０個の置換されていてもよい複素環基、置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいアミノスルホニル基又は置換されていてもよいアミノカルボニル基を表す。Ｂ１〜Ｂ２４の基は同種若しくは異種のいずれであっても良く、同種の場合においても同一若しくは異なっていても良く、Ｂ１〜Ｂ２４の基同士が連結基を介して繋がっていても良い。Ｍ２は２個の水素原子、２価の金属原子、３価の置換金属原子、４価の置換金属原子又はオキシ金属を表す。なお、上記アシル基とは、科学技術用語大辞典第三版（日刊工業新聞社）第１７頁に記載されたアシル基を意味する。
【００５８】
（Ｂ１〜Ｂ２４がアミノ基、アミノスルホニル基、アミノカルボニル基以外の基の場合）
以下、式（２）中の基Ｂ１〜Ｂ２４について詳細に説明する。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。総炭素原子数１〜２０個の置換されていてもよいアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、等の直鎖、分岐又は環状のアルキル基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。総炭素原子数１〜２０個の置換されていてもよいアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、ｉｓｏ−プロピルオキシ基、ｎ−ブチルオキシ基、ｉｓｏ−ブチルオキシ基、ｓｅｃ−ブチルオキシ基、ｔ−ブチルオキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、等の直鎖、分岐又は環状のアルコキシ基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。総炭素原子数６〜２０個の置換されていてもよいアリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。総炭素原子数６〜２０個の置換されていてもよいアリールオキシ基としては、フェノキシ基、ナフトキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。総炭素原子数７〜２０個の置換されていてもよいアラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、ジフェニルメチル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。総炭素原子数７〜２０個の置換されていてもよいアラルキルオキシ基としては、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基、ジフェニルメチルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。総炭素原子数１〜２０個の置換されていてもよいアルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｉｓｏ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｉｓｏ−ブチルチオ基、ｓｅｃ−ブチルチオ基、ｔ−ブチルチオ基、ｎ−ペンチルチオ基、ｎ−ヘキシルチオ基、シクロヘキシルチオ基、ｎ−ヘプチルチオ基、ｎ−オクチルチオ基、２−エチルヘキシルチオ基等の直鎖、分岐又は環状のアルキルチオ基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。総炭素原子数６〜２０個の置換されていてもよいアリールチオ基としては、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。総炭素原子数７〜２０個の置換されていてもよいアラルキルチオ基としては、ベンジルチオ基、フェネチルチオ基、ジフェニルメチルチオ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。総炭素原子数１〜２０個の置換されていてもよいアルキルスルホニル基としては、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｎ−プロピルスルホニル基、ｉｓｏ−プロピルスルホニル基、ｎ−ブチルスルホニル基、ｉｓｏ−ブチルスルホニル基、ｓｅｃ−ブチルスルホニル基、ｔ−ブチルスルホニル基、ｎ−ペンチルスルホニル基、ｎ−ヘキシルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、ｎ−ヘプチルスルホニル基、ｎ−オクチルスルホニル基、２−エチルヘキシルスルホニル基、等の直鎖、分岐又は環状のアルキルスルホニル基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。総炭素原子数６〜２０個の置換されていてもよいアリールスルホニル基としては、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。総炭素原子数７〜２０個の置換されていてもよいアラルキルスルホニル基としては、ベンジルスルホニル基、フェネチルスルホニル基、ジフェニルメチルスルホニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。総炭素原子数１〜２０個の置換されていてもよいアシル基としてはメチルカルボニル基、エチルカルボニル基、ｎ−プロピルカルボニル基、ｉｓｏ−プロピルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、ｉｓｏ−ブチルカルボニル基、ｓｅｃ−ブチルカルボニル基、ｔ−ブチルカルボニル基、ｎ−ペンチルカルボニル基、ｎ−ヘキシルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、ｎ−ヘプチルカルボニル基、ｎ−オクチルカルボニル基、２−エチルヘキシルカルボニル基等の直鎖、分岐又は環状のアルキルカルボニル基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。総炭素原子数７〜２０個の置換されていてもよいアリールカルボニル基としては、ベンジルカルボニル基、フェニルカルボニル基等のアリールカルボニル基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。総炭素原子数７〜２０個の置換されていてもよいアラルキルカルボニル基としては、ベンゾイル基等のアラルキルカルボニル基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。総炭素原子数２〜２０個の置換されていてもよいアルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロピルオキシカルボニル基、ｉｓｏ−プロピルオキシカルボニル基、ｎ−ブチルオキシカルボニル基、ｉｓｏ−ブチルオキシカルボニル基、ｓｅｃ−ブチルオキシカルボニル基、ｔ−ブチルオキシカルボニル基、ｎ−ペンチルオキシカルボニル基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、ｎ−ヘプチルオキシカルボニル基、ｎ−オクチルオキシカルボニル基、２−エチルヘキシルオキシカルボニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。総炭素原子数７〜２０個の置換されていてもよいアリールオキシカルボニル基としては、フェノキシカルボニル、ナフトキシカルボニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。総炭素原子数８〜２０個の置換されていてもよいアラルキルオキシカルボニル基としては、ベンジルオキシカルボニル基、フェネチルオキシカルボニル基、ジフェニルメチルオキシカルボニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。総炭素原子数２〜２０個の置換されていてもよいアルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ｎ−プロピルカルボニルオキシ基、ｉｓｏ−プロピルカルボニルオキシ基、ｎ−ブチルカルボニルオキシ基、ｉｓｏ−ブチルカルボニルオキシ基、ｓｅｃ−ブチルカルボニルオキシ基、ｔ−ブチルカルボニルオキシ基、ｎ−ペンチルカルボニルオキシ基、ｎ−ヘキシルカルボニルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、ｎ−ヘプチルカルボニルオキシ基、３−ヘプチルカルボニルオキシ基、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。総炭素原子数７〜２０個の置換されていてもよいアリールカルボニルオキシ基としては、ベンゾイルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。総炭素原子数８〜２０個の置換されていてもよいアラルキルカルボニルオキシ基としては、ベンジルカルボニルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。総炭素原子数２〜２０個の置換されていてもよい複素環基としては、ピロール基、イミダゾール基、ピペリジン基、モルホリン基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００５９】
式（２）中の基Ｂ１〜Ｂ２４のアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アラルキル基、アラルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アラルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アラルキルスルホニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、アリールカルボニルオキシ基、アラルキルカルボニルオキシ基又は複素環基に場合によっては存在する置換基として、例えば、ハロゲン原子、アシル基、アルキル基、フェニル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、アルコキシスルホニル基、アルキルチオ基、カルバモイル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、複素環基などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの置換基は複数個存在していても良く、複数個存在する場合には同種若しくは異種のいずれであっても良く、同種の場合においても同一若しくは異なっていても良い。また、置換基同士が連結基を介して繋がっていてもよい。
【００６０】
（Ｂ１〜Ｂ２４がアミノ基、アミノスルホニル基又はアミノカルボニル基の場合）
上記の置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいアミノスルホニル基又は置換されていてもよいアミノカルボニル基への置換基としては、水素原子；メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、２−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基、等の直鎖、分岐又は環状のアルキル基；フェニル基、ナフチル基等のアリール基；ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基；アセチル基、エチルカルボニル基、ｎ−プロピルカルボニル基、ｉｓｏ−プロピルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、ｉｓｏ−ブチルカルボニル基、ｓｅｃ−ブチルカルボニル基、ｔ−ブチルカルボニル基、ｎ−ペンチルカルボニル基、ｎ−ヘキシルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、ｎ−ヘプチルカルボニル基、３−ヘプチルカルボニル基、ｎ−オクチルカルボニル基等の直鎖、分岐又は環状のアルキルカルボニル基；ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基等のアリールカルボニル基；ベンジルカルボニル基等のアラルキルカルボニル基などが挙げられるが、これらに限定されるものではなく、これらの置換基はさらに置換基で置換されていても良い。これらの置換基は存在しなくともよく、１個または２個存在していても良く、２個存在する場合にはお互いが同種若しくは異種のいずれであっても良く、同種の場合においても同一若しくは異なっていても良い。また、置換基が２個の場合はこれらの置換基同士が連結基を介して繋がっていてもよい。
【００６１】
上記の置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいアミノスルホニル基、置換されていてもよいアミノカルボニル基への置換基であるアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アラルキルカルボニル基などに更に存在しても良い置換基として、例えば、ハロゲン原子、アシル基、アルキル基、フェニル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、アルコキシスルホニル基、アルキルチオ基、カルバモイル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、複素環基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの置換基は複数個存在していても良く、複数個存在する場合には同種若しくは異種のいずれであっても良く、同種の場合においても同一若しくは異なっていても良い。また、置換基同士が連結基を介して繋がっていてもよい。
【００６２】
また、式（２）においてＭ２で表される２価の金属の例としては、Ｃｕ（ＩＩ）、Ｃｏ（ＩＩ）、Ｚｎ（ＩＩ）、Ｆｅ（ＩＩ）、Ｎｉ（ＩＩ）、Ｒｕ（ＩＩ）、Ｒｈ（ＩＩ）、Ｐｄ（ＩＩ）、Ｐｔ（ＩＩ）、Ｍｎ（ＩＩ）、Ｍｇ（ＩＩ）、Ｔｉ（ＩＩ）、Ｂｅ（ＩＩ）、Ｃａ（ＩＩ）、Ｂａ（ＩＩ）、Ｃｄ（ＩＩ）、Ｈｇ（ＩＩ）、Ｐｂ（ＩＩ）、Ｓｎ（ＩＩ）などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。式（２）においてＭ２で表される３価の置換金属原子の例としては、Ａｌ−Ｆ、Ａｌ−Ｃｌ、Ａｌ−Ｂｒ、Ａｌ−Ｉ、Ｆｅ−Ｃｌ、Ｇａ−Ｆ、Ｇａ−Ｃｌ、Ｇａ−Ｉ、Ｇａ−Ｂｒ、Ｉｎ−Ｆ、Ｉｎ−Ｃｌ、Ｉｎ−Ｂｒ、Ｉｎ−Ｉ、Ｔｌ−Ｆ、Ｔｌ−Ｃｌ、Ｔｌ−Ｂｒ、Ｔｌ−Ｉ、Ａｌ−Ｃ６Ｈ５、Ａｌ−Ｃ６Ｈ４（ＣＨ３）、Ｉｎ−Ｃ６Ｈ５、Ｉｎ−Ｃ６Ｈ４（ＣＨ３）、Ｉｎ−Ｃ６Ｈ５、Ｍｎ（ＯＨ）、Ｍｎ（ＯＣ６Ｈ５）、Ｍｎ〔ＯＳｉ（ＣＨ３）３〕、Ｒｕ−Ｃｌなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。式（２）においてＭ２で表される４価の置換金属原子の例としては、ＣｒＣｌ２、ＳｉＦ２、ＳｉＣｌ２、ＳｉＢｒ２、ＳｉＩ２、ＺｒＣｌ２、ＧｅＦ２、ＧｅＣｌ２、ＧｅＢｒ２、ＧｅＩ２、ＳｎＦ２、ＳｎＣｌ２、ＳｎＢｒ２、ＴｉＦ２、ＴｉＣｌ２、ＴｉＢｒ２、Ｇｅ（ＯＨ）２、Ｍｎ（ＯＨ）２、Ｓｉ（ＯＨ）２、Ｓｎ（ＯＨ）２、Ｚｒ（ＯＨ）２、Ｃｒ（Ｒ１）２、Ｇｅ（Ｒ１）２、Ｓｉ（Ｒ１）２、Ｓｎ（Ｒ１）２、Ｔｉ（Ｒ１）２｛Ｒ１はアルキル基、フェニル基、ナフチル基、およびそれらの誘導体を表す｝、Ｃｒ（ＯＲ２）２、Ｇｅ（ＯＲ２）２、Ｓｉ（ＯＲ２）２、Ｓｎ（ＯＲ２）２、Ｔｉ（ＯＲ２）２、｛Ｒ２はアルキル基、フェニル基、ナフチル基、トリアルキルシリル基、ジアルキルアルコキシシリル基およびそれらの誘導体を表す｝、Ｓｎ（ＳＲ３）２、Ｇｅ（ＳＲ３）２｛Ｒ３はアルキル基、フェニル基、ナフチル基、およびそれらの誘導体を表す｝などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。オキシ金属の例としては、ＶＯ、ＭｎＯ、ＴｉＯなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００６３】
さらに、本発明でより好ましく使用される化合物（I）は、下記式（３）で表されるフタロシアニン系化合物である。
【化５】
2008268267.tif 000006
【００６４】
式（３）中Ｚ１〜Ｚ１６は、各々独立して、ハロゲン原子、総炭素原子数１〜２０個の置換されていてもよいアルコキシ基、総炭素原子数６〜２０個の置換されていてもよいアリールオキシ基、総炭素原子数７〜２０個の置換されていてもよいアラルキルオキシ基、総炭素原子数１〜２０個の置換されていてもよいアルキルチオ基、総炭素原子数６〜２０個の置換されていてもよいアリールチオ基、総炭素原子数７〜２０個の置換されていてもよいアラルキルチオ基、総炭素原子数２〜２０個の置換されていてもよい複素環基又は置換されていてもよいアミノ基を表す。基Ｚ１〜Ｚ１６は、同種若しくは異種のいずれであっても良く、同種の場合においても同一若しくは異なっていても良く、基Ｚ１〜Ｚ１６同士が連結基を介して繋がっていても良い。より好ましくは、式（３）中、基Ｚ１〜Ｚ１６のうち少なくとも４個は、各々独立して、総炭素原子数１〜２０個の置換されていてもよいアルコキシ基、総炭素原子数６〜２０個の置換されていてもよいアリールオキシ基、総炭素原子数７〜２０個の置換されていてもよいアラルキルオキシ基、総炭素原子数１〜２０個の置換されていてもよいアルキルチオ基、総炭素原子数６〜２０個の置換されていてもよいアリールチオ基又は総炭素原子数７〜２０個の置換されていてもよいアラルキルチオ基であり、かつ基Ｚ１〜Ｚ１６のうち少なくとも１個は、総炭素原子数２〜２０個の置換されていてもよい複素環基又は置換されていてもよいアミノ基である。また、これらの置換基は同種の場合においても同一若しくは異なっていても良く、置換基同士が連結基を介して繋がっていても良い。
【００６５】
Ｍ３は２個の水素原子、２価の金属原子、３価の置換金属原子、４価の置換金属原子又はオキシ金属を表す。Ｍ３の例としては、上記式（１）のＭ１と同じものが挙げられる。
【００６６】
また、式（３）中のアルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アラルキルチオ基又は複素環基に場合によっては存在する置換基として、例えば、ハロゲン原子、アシル基、アルキル基、フェニル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、アルコキシスルホニル基、アルキルチオ基、カルバモイル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、複素環基などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの置換基は複数個存在していても良く、複数個存在する場合には同種若しくは異種のいずれであっても良く、同種の場合においても同一若しくは異なっていても良い。また、置換基同士が連結基を介して繋がっていてもよい。
【００６７】
式（３）中の置換されていてもよいアミノ基の置換基としては、水素原子；メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、２−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基、等の直鎖、分岐又は環状のアルキル基；フェニル基、ナフチル基等のアリール基；ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基；アセチル基、エチルカルボニル基、ｎ−プロピルカルボニル基、ｉｓｏ−プロピルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、ｉｓｏ−ブチルカルボニル基、ｓｅｃ−ブチルカルボニル基、ｔ−ブチルカルボニル基、ｎ−ペンチルカルボニル基、ｎ−ヘキシルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、ｎ−ヘプチルカルボニル基、３−ヘプチルカルボニル基、ｎ−オクチルカルボニル基等の直鎖、分岐又は環状のアルキルカルボニル基；ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基等のアリールカルボニル基；ベンジルカルボニル基等のアラルキルカルボニル基などが挙げられるが、これらに限定されるものではなく、これらの置換基はさらに置換基で置換されていても良い。これらの置換基は存在しなくともよいし、１個または２個存在していても良く、２個存在する場合にはお互いが同種若しくは異種のいずれであっても良く、同種の場合においても同一若しくは異なっていても良い。また、置換基が２個の場合はこれらの置換基同士が連結基を介して繋がっていてもよい。
【００６８】
上記の置換されていてもよいアミノ基への置換基であるアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アラルキルカルボニル基などに更に存在しても良い置換基として、例えば、ハロゲン原子、アシル基、アルキル基、フェニル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、アルコキシスルホニル基、アルキルチオ基、カルバモイル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、複素環基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの置換基は複数個存在していても良く、複数個存在する場合には同種若しくは異種のいずれであっても良く、同種の場合においても同一若しくは異なっていても良い。また、置換基同士が連結基を介して繋がっていてもよい。
【００６９】
さらに、本発明でより好ましく使用される他の化合物（Ｉ）は、下記式（４）で表されるナフタロシアニン系化合物である。
【００７０】
【化６】
2008268267.tif 000007
【００７１】
式（４）中Ｙ１〜Ｙ２４は、各々独立して、ハロゲン原子、総炭素原子数１〜２０個の置換されていてもよいアルコキシ基、総炭素原子数６〜２０個の置換されていてもよいアリールオキシ基、総炭素原子数７〜２０個の置換されていてもよいアラルキルオキシ基、総炭素原子数１〜２０個の置換されていてもよいアルキルチオ基、総炭素原子数６〜２０個の置換されていてもよいアリールチオ基、総炭素原子数７〜２０個の置換されていてもよいアラルキルチオ基、総炭素原子数２〜２０個の置換されていてもよい複素環基又は置換されていてもよいアミノ基を表す。基Ｙ１〜Ｙ２４は同種若しくは異種のいずれであっても良く、同種の場合においても同一若しくは異なっていても良く、基Ｙ１〜Ｙ２４同士が連結基を介して繋がっていても良い。Ｍ４は２個の水素原子、２価の金属原子、３価の置換金属原子、４価の置換金属原子又はオキシ金属を表す。Ｍ４として、上記式（２）のＭ２と同じものが例示される。
【００７２】
また、式（４）中のアルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アラルキルチオ基又は複素環基に場合によっては存在する置換基として、例えば、ハロゲン原子、アシル基、アルキル基、フェニル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、アルコキシスルホニル基、アルキルチオ基、カルバモイル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、複素環基などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの置換基は複数個存在していても良く、複数個存在する場合には同種若しくは異種のいずれであっても良く、同種の場合においても同一若しくは異なっていても良い。また、置換基同士が連結基を介して繋がっていてもよい。
【００７３】
式（４）中の置換されていてもよいアミノ基の置換基としては、水素原子；メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、２−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基、等の直鎖、分岐又は環状のアルキル基；フェニル基、ナフチル基等のアリール基；ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基；アセチル基、エチルカルボニル基、ｎ−プロピルカルボニル基、ｉｓｏ−プロピルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、ｉｓｏ−ブチルカルボニル基、ｓｅｃ−ブチルカルボニル基、ｔ−ブチルカルボニル基、ｎ−ペンチルカルボニル基、ｎ−ヘキシルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、ｎ−ヘプチルカルボニル基、３−ヘプチルカルボニル基、ｎ−オクチルカルボニル基等の直鎖、分岐又は環状のアルキルカルボニル基；ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基等のアリールカルボニル基；ベンジルカルボニル基等のアラルキルカルボニル基などが挙げられるが、これらに限定されるものではなく、これらアミノ基の置換基はさらに置換基で置換されていても良い。これらアミノ基の置換基は存在しなくとも、あるいは、１個または２個存在していても良く、２個存在する場合にはお互いが同種若しくは異種のいずれであっても良く、同種の場合においても同一若しくは異なっていても良い。また、置換基が２個の場合、これらの置換基同士が連結基を介して繋がっていてもよい。
【００７４】
上記の置換されていてもよいアミノ基への置換基であるアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アラルキルカルボニル基などに更に存在しても良い置換基として、例えば、ハロゲン原子、アシル基、アルキル基、フェニル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、アルコキシスルホニル基、アルキルチオ基、カルバモイル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、複素環基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの置換基は複数個存在していても良く、複数個存在する場合には同種若しくは異種のいずれであっても良く、同種の場合においても同一若しくは異なっていても良い。また、置換基同士が連結基を介して繋がっていてもよい。
【００７５】
化合物（Ｉ）として、８００ｎｍ以上８５０ｎｍ未満に最大吸収波長を有する化合物（Ｉａ）と、８５０ｎｍ以上９２０ｎｍ以下に最大吸収波長を有する化合物（Ｉｂ）とが併用されるのが好ましい。この併用により、可視光透過率が高くなるとともに、近赤外光が効率よく吸収される。
【００７６】
８００ｎｍ以上９２０ｎｍ以下に最大吸収波長を有する化合物が以下に例示される。これらの化合物は、上記した式（３）で示される化合物である。なお、下記の化合物の略称において、Ｐｈはフェニル基を示し、Ｐｃはフタロシアニン核を表し、Ｐｃの直前に記載された原子又は原子団はＭ３を表し、Ｐｃの直後に記載された基はフタロシアニン核のβ位（Ｚ２、Ｚ３、Ｚ６、Ｚ７、Ｚ１０、Ｚ１１、Ｚ１４及びＺ１５の置換位置）のそれぞれに置換する合計８個の置換基を表し、そのβ位に置換する置換基の後に記載された基はフタロシアニン核のα位（Ｚ１、Ｚ４、Ｚ５、Ｚ８、Ｚ９、Ｚ１２、Ｚ１３及びＺ１６の置換位置）のそれぞれに置換する合計８個の置換基を表す。また、λｍａｘは、アセトン中における最大吸収波長を意味する。
【００７７】
なお、本願において、化合物（Ｉ）及び化合物（II）の最大吸収波長（λｍａｘ）は、アセトン中において測定される。具体的には、測定される化合物（Ｉ）又は化合物（II）を所定量のアセトンに溶解させ、不溶分がないことを確認した後、吸光度測定を行う。スペクトルの測定には、ＵＶ−３６００（島津製作所製）が使用される。測定には、石英製であり光路長が１０ｍｍである測定セルが用いられる。
【００７８】
８００ｎｍ以上８５０ｎｍ未満に最大吸収波長を有する化合物（Ｉａ）として、ＣｕＰｃ（２，５−Ｃｌ２ＰｈＯ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４（ＰｈＣＨ２ＮＨ）４（λｍａｘは８０７ｎｍ）、ＶＯＰｃ（２，５−Ｃｌ２ＰｈＯ）８（２，６−Ｂｒ２−４−ＣＨ３ＰｈＯ）４｛Ｐｈ（ＣＨ３）ＣＨＮＨ｝３Ｆ（λｍａｘは８３５ｎｍ）、ＶＯＰｃ（２，５−Ｃｌ２ＰｈＯ）８（２，６−Ｂｒ２−４−ＣＨ３ＰｈＯ）４｛ＰｈＣＨ２ＮＨ｝３Ｆ（λｍａｘは８４０ｎｍ）、ＶＯＰｃ（２，５−Ｃｌ２ＰｈＯ）８（２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ）４｛Ｐｈ（ＣＨ３）ＣＨＮＨ｝３Ｆ（λｍａｘは８２８ｎｍ）、ＶＯＰｃ（２，６−Ｃｌ２ＰｈＯ）８（２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ）４｛Ｐｈ（ＣＨ３）ＣＨＮＨ｝３Ｆ（λｍａｘは８３５ｎｍ）、ＶＯＰｃ（４−ＣＮＰｈＯ）８（２，６−Ｂｒ２−４−ＣＨ３ＰｈＯ）４｛Ｐｈ（ＣＨ３）ＣＨＮＨ｝３Ｆ（λｍａｘは８３６ｎｍ）、ＶＯＰｃ（４−ＣＮＰｈＯ）８（２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ）４｛Ｐｈ（ＣＨ３）ＣＨＮＨ｝３Ｆ（λｍａｘは８３４ｎｍ）等が挙げられる。
【００７９】
また、８５０ｎｍ以上９２０ｎｍ以下に最大吸収波長を有する化合物（Ｉｂ）として、例えばＶＯＰｃ（２，５−Ｃｌ２ＰｈＯ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４（ＰｈＣＨ２ＮＨ）４（λｍａｘは８７０ｎｍ）、ＶＯＰｃ（ＰｈＳ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４（ＰｈＣＨ２ＮＨ）４（λｍａｘは９１６ｎｍ）、ＶＯＰｃ（２，５−Ｃｌ２ＰｈＯ）４（２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ）４｛（Ｃ２Ｈ５）２ＮＣＨ２ＣＨ２ＮＨ｝４（λｍａｘは８９３ｎｍ）、ＣｕＰｃ（ＰｈＳ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛（ＣＨ３（ＣＨ２）４ＣＨ２ＮＨ）｝４（λｍａｘは８７０ｎｍ）、ＶＯＰｃ（２，５−Ｃｌ２ＰｈＳ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ）｝４（λｍａｘは９２０ｎｍ）等が挙げられる。
【００８０】
化合物（Ｉ）の具体例としては、イーエクスカラーＩＲ−１０Ａ、イーエクスカラーＩＲ−１２、イーエクスカラーＩＲ−１４、ＴＸ−ＥＸ−９０６Ｂ及びＴＸ−ＥＸ−８１７（いずれも日本触媒社製）が挙げられる。
【００８１】
上記（Ｉ）として、１種の化合物が単独で用いられてもよいし、フタロシアニン系化合物及び／またはナフタロシアニン系化合物のうちの２種以上を組み合わせて用いられてもよい。
【００８２】
好ましくは、９２０ｎｍを超えて１１００ｎｍ以下の領域に最大吸収波長を有する化合物（II）は、下記式（５）で表されるフタロシアニン誘導体である。
【００８３】
【化７】
2008268267.tif 000008
【００８４】
式（５）中Ｗ１〜Ｗ１６は、各々独立して、ハロゲン原子、総炭素原子数１〜２０個の置換されていてもよいアルコキシ基、総炭素原子数６〜２０個の置換されていてもよいアリールオキシ基、総炭素原子数７〜２０個の置換されていてもよいアラルキルオキシ基、総炭素原子数１〜２０個の置換されていてもよいアルキルチオ基、総炭素原子数６〜２０個の置換されていてもよいアリールチオ基、総炭素原子数７〜２０個の置換されていてもよいアラルキルチオ基、総炭素原子数２〜２０個の置換されていてもよい複素環基又は置換されていてもよいアミノ基を表す。基Ｗ１〜Ｗ１６は同種若しくは異種のいずれであっても良く、同種の場合においても同一若しくは異なっていても良く、基Ｗ１〜Ｗ１６同士が連結基を介して繋がっていても良い。より好ましくは、式（５）中、Ｗ１〜Ｗ１６の基のうち少なくとも４個は、各々独立して、総炭素原子数１〜２０個の置換されていてもよいアルコキシ基、総炭素原子数６〜２０個の置換されていてもよいアリールオキシ基、総炭素原子数７〜２０個の置換されていてもよいアラルキルオキシ基、総炭素原子数１〜２０個の置換されていてもよいアルキルチオ基、総炭素原子数６〜２０個の置換されていてもよいアリールチオ基又は総炭素原子数７〜２０個の置換されていてもよいアラルキルチオ基であり、かつ少なくとも４個は、各々独立して、総炭素原子数２〜２０個の置換されていてもよい複素環基又は置換されていてもよいアミノ基である。これらの置換基は同種の場合においても同一若しくは異なっていても良く、基同士が連結基を介して繋がっていても良い。
【００８５】
Ｍ５は２個の水素原子、２価の金属原子、３価の置換金属原子、４価の置換金属原子又はオキシ金属を表す。Ｍ５として、上記式（１）のＭ１と同じものが例示される。
【００８６】
また、式（５）中のアルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アラルキルチオ基、複素環基に場合によっては存在する置換基として、例えば、ハロゲン原子、アシル基、アルキル基、フェニル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、アルコキシスルホニル基、アルキルチオ基、カルバモイル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、複素環基などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの置換基は複数個存在していても良く、複数個存在する場合には同種若しくは異種のいずれであっても良く、同種の場合においても同一若しくは異なっていても良い。また、置換基同士が連結基を介して繋がっていてもよい。
【００８７】
式（５）中の置換されていてもよいアミノ基の置換基としては、水素原子；メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、２−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基、等の直鎖、分岐又は環状のアルキル基；フェニル基、ナフチル基等のアリール基；ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基；アセチル基、エチルカルボニル基、ｎ−プロピルカルボニル基、ｉｓｏ−プロピルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、ｉｓｏ−ブチルカルボニル基、ｓｅｃ−ブチルカルボニル基、ｔ−ブチルカルボニル基、ｎ−ペンチルカルボニル基、ｎ−ヘキシルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、ｎ−ヘプチルカルボニル基、３−ヘプチルカルボニル基、ｎ−オクチルカルボニル基等の直鎖、分岐又は環状のアルキルカルボニル基；ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基等のアリールカルボニル基；ベンジルカルボニル基等のアラルキルカルボニル基などが挙げられるが、これらに限定されるものではなく、これらアミノ基の置換基はさらに置換基で置換されていても良い。これらアミノ基の置換基は存在しなくとも、あるいは、１個または２個存在していても良く、２個存在する場合にはお互いが同種若しくは異種のいずれであっても良く、同種の場合においても同一若しくは異なっていても良い。また、置換基が２個の場合、これらの置換基同士が連結基を介して繋がっていてもよい。
【００８８】
上記の置換されていてもよいアミノ基への置換基であるアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アラルキルカルボニル基などに更に存在しても良い置換基として、例えば、ハロゲン原子、アシル基、アルキル基、フェニル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、アルコキシスルホニル基、アルキルチオ基、カルバモイル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、複素環基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの置換基は複数個存在していても良く、複数個存在する場合には同種若しくは異種のいずれであっても良く、同種の場合においても同一若しくは異なっていても良い。また、置換基同士が連結基を介して繋がっていてもよい。
【００８９】
さらに、好ましい化合物（II）は、下記式（６）で表されるナフタロシアニン系化合物である。
【００９０】
【化８】
2008268267.tif 000009
【００９１】
式（６）中Ｘ１〜Ｘ２４は、各々独立して、ハロゲン原子、総炭素原子数１〜２０個の置換されていてもよいアルコキシ基、総炭素原子数６〜２０個の置換されていてもよいアリールオキシ基、総炭素原子数７〜２０個の置換されていてもよいアラルキルオキシ基、総炭素原子数１〜２０個の置換されていてもよいアルキルチオ基、総炭素原子数６〜２０個の置換されていてもよいアリールチオ基、総炭素原子数７〜２０個の置換されていてもよいアラルキルチオ基、総炭素原子数２〜２０個の置換されていてもよい複素環基又は置換されていてもよいアミノ基を表す。基Ｘ１〜Ｘ２４は同種若しくは異種のいずれであっても良く、同種の場合においても同一若しくは異なっていても良く、基Ｘ１〜Ｘ２４同士が連結基を介して繋がっていても良い。Ｍ６は２個の水素原子、２価の金属原子、３価の置換金属原子、４価の置換金属原子又はオキシ金属を表す。Ｍ６が金属の場合、Ｍ６として、上記式（１）のＭ１と同じものが例示される。
【００９２】
また、式（６）中のアルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アラルキルチオ基又は複素環基に場合によっては存在する置換基として、例えば、ハロゲン原子、アシル基、アルキル基、フェニル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、アルコキシスルホニル基、アルキルチオ基、カルバモイル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、複素環基などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの置換基は複数個存在していても良く、複数個存在する場合には同種若しくは異種のいずれであっても良く、同種の場合においても同一若しくは異なっていても良い。また、置換基同士が連結基を介して繋がっていてもよい。
【００９３】
式（６）中の置換されていてもよいアミノ基の置換基としては、水素原子；メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、２−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基、等の直鎖、分岐又は環状のアルキル基；フェニル基、ナフチル基等のアリール基；ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基；アセチル基、エチルカルボニル基、ｎ−プロピルカルボニル基、ｉｓｏ−プロピルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、ｉｓｏ−ブチルカルボニル基、ｓｅｃ−ブチルカルボニル基、ｔ−ブチルカルボニル基、ｎ−ペンチルカルボニル基、ｎ−ヘキシルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、ｎ−ヘプチルカルボニル基、３−ヘプチルカルボニル基、ｎ−オクチルカルボニル基等の直鎖、分岐又は環状のアルキルカルボニル基；ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基等のアリールカルボニル基；ベンジルカルボニル基等のアラルキルカルボニル基などが挙げられるが、これらに限定されるものではなく、これらアミノ基の置換基はさらに置換基で置換されていても良い。これらアミノ基の置換基は存在しなくとも、あるいは、１個または２個存在していても良く、２個存在する場合にはお互いが同種若しくは異種のいずれであっても良く、同種の場合においても同一若しくは異なっていても良い。また、置換基が２個の場合は連結基を介して繋がっていてもよい。
【００９４】
上記の置換されていてもよいアミノ基への置換基であるアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アラルキルカルボニル基などに更に存在しても良い置換基として、例えば、ハロゲン原子、アシル基、アルキル基、フェニル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、アルコキシスルホニル基、アルキルチオ基、カルバモイル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、複素環基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの置換基は複数個存在していても良く、複数個存在する場合には同種若しくは異種のいずれであっても良く、同種の場合においても同一若しくは異なっていても良い。また、置換基同士が連結基を介して繋がっていてもよい。
【００９５】
本発明では、化合物（II）として、９２０ｎｍを超え９５０ｎｍ未満に最大吸収波長を有する化合物（IIａ）の１種以上と、９５０ｎｍ以上１１００ｎｍ以下に最大吸収波長を有する化合物（IIｂ）の１種以上とを用いるのが好ましい。これにより、可視光透過率が高くなるとともに、効率よく近赤外光が吸収されうる。
【００９６】
化合物（II）のうち、９２０〜１１００ｎｍに最大吸収波長を有するものが以下に例示される。これらは、上記の式（５）で表される化合物である。なお、下記の化合物の略称において、Ｐｈはフェニル基を示し、Ｐｃはフタロシアニン核を表し、Ｐｃの直前に記載された原子又は原子団はＭ５を表わし、Ｐｃの直後に記載された基はフタロシアニン核のβ位（Ｗ２、Ｗ３、Ｗ６、Ｗ７、Ｗ１０、Ｗ１１、Ｗ１４及びＷ１５の置換位置）に置換する合計８個の置換基を表し、そのβ位に置換する置換基の後に記載された基はフタロシアニン核のα位（Ｗ１、Ｗ４、Ｗ５、Ｗ８、Ｗ９、Ｗ１２、Ｗ１３及びＷ１６の置換位置）に置換する合計８個の置換基を表す。
【００９７】
９２０ｎｍを超え９５０ｎｍ未満に最大吸収波長を有する化合物（IIａ）として、ＶＯＰｃ（ＰｈＳ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛（Ｃ２Ｈ５）２ＮＣＨ２ＣＨ２ＮＨ｝４（λｍａｘは９４１ｎｍ）、ＶＯＰｃ（ＰｈＳ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４［｛ＣＨ３（ＣＨ２）２ＣＨ｝２ＮＣＨ２ＣＨ２ＮＨ］４（λｍａｘは９４４ｎｍ）、下記式（７）で表される化合物（λｍａｘは９２３ｎｍ）、下記式（８）で表される化合物（λｍａｘは９２２ｎｍ）、ＶＯＰｃ（ＰｈＳ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛（ＣＨ３ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３ＮＨ）４）（λｍａｘは９２８ｎｍ）、ＶＯＰｃ（ＰｈＳ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛（ＣＨ３）２ＣＨＯ（ＣＨ２）３ＮＨ｝４（λｍａｘは９３０ｎｍ）、ＶＯＰｃ（ＰｈＳ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛ＣＨ３（ＣＨ２）３Ｏ（ＣＨ２）３ＮＨ｝４（λｍａｘは９３０ｎｍ）、ＶＯＰｃ（ＰｈＳ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３ＮＨ｝４（λｍａｘは９３３ｎｍ）、ＶＯＰｃ（ＰｈＳ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛ＣＨ３（ＣＨ２）５ＮＨ｝４（λｍａｘは９３０ｎｍ）、ＶＯＰｃ（ＰｈＳ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４（λｍａｘは９３９ｎｍ）、ＶＯＰｃ（ＰｈＳ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛ＣＨ３（ＣＨ２）７ＮＨ｝４（λｍａｘは９３１ｎｍ）、ＶＯＰｃ（ＰｈＳ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛ＣＨ３（ＣＨ２）１７ＮＨ｝４）（λｍａｘは９３５ｎｍ）がある。
【００９８】
また、９５０ｎｍ以上１１００ｎｍ未満に最大吸収波長を有する化合物（IIｂ）として、ＶＯＰｃ｛４−（ＣＨ３Ｏ）ＰｈＳ｝８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４（λｍａｘは９６８ｎｍ）、ＶＯＰｃ｛２−（ＣＨ３Ｏ）ＰｈＳ｝８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛（Ｃ２Ｈ５）２ＮＣＨ２ＣＨ２ＮＨ｝４）（λｍａｘは９５０ｎｍ）、ＶＯＰｃ（ＰｈＳ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４［｛（ＣＨ３）２ＣＨ｝２ＮＣＨ２ＣＨ２ＮＨ］４（λｍａｘは９５２ｎｍ）、ＶＯＰｃ(２，５−Ｃｌ２ＰｈＯ)８（ＰｈＣＨ２ＮＨ）８（λｍａｘは１０００ｎｍ）がある。
【００９９】
【化９】
2008268267.tif 000010
【０１００】
【化１０】
2008268267.tif 000011
【０１０１】
活性エネルギー線、特に紫外線による劣化が少なく、紫外線が照射されても近赤外線吸収能が低下しにくい観点から、上記化合物（II）のうち、ＶＯＰｃ｛４−（ＣＨ３Ｏ）ＰｈＳ｝８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４  、ＶＯＰｃ(２，５−Ｃｌ２ＰｈＯ)８（ＰｈＣＨ２ＮＨ）８   等が特に好ましい。
【０１０２】
化合物（II）の具体例としては、ＴＸ−ＥＸ−９１０Ｂ及びＴＸ−ＥＸ−９０２Ｋ（いずれも日本触媒社製）が好ましく挙げられる。
【０１０３】
化合物（II）は、１種の化合物を単独で用いることもできるし、２種以上を組み合わせて用いることもできる。
【０１０４】
なお、耐久性と可視透過率のバランスを損なわない限り、化合物（Ｉ）及び化合物（II）以外の近赤外線吸収剤が併用されてもよい。この併用されうる近赤外線吸収剤として、ジイモニウム系色素、シアニン系色素、ポリメチン系色素、ニッケル錯体系色素、スクアリリウム系色素等の従来使用されている色素が挙げられる。
【０１０５】
本発明において、化合物（Ｉ）及び化合物（II）の製造方法は特に限定されず、例えば、特開平２００４−３０９６５５号公報に記載の方法などの公知の製造方法が用いられうる。
【０１０６】
好ましい化合物（II）は、透過スペクトルの測定において、９２０ｎｍを超える近赤外領域、より好ましくは９２０〜１１００ｎｍの透過率の最低値が５〜６％になるように該化合物（II）の濃度が調整された溶液中において、可視光透過率が６５％以上、好ましくは７０％以上を示し得るものである。
【０１０７】
化合物（Ｉ）及び化合物（II）のハードコート用樹脂組成物への配合割合は特に制限されない。この配合割合は、所望の性質、特に効率のよい近赤外線吸収能、可視光領域における優れた透明性、耐熱性及び耐湿熱性が達成できるように調整されればよい。例えばハードコート用樹脂組成物の乾燥膜厚が１〜２０μｍに設定される場合、好ましい化合物（Ｉ）及び／又は化合物（II）の配合割合は、ハードコート樹脂成分の固形分１００質量部に対して、０．１〜３０質量部、より好ましくは０．５〜２０質量部、最も好ましくは１〜１５質量部である。この配合割合が０．１質量部未満であると優れた近赤外線吸収能が得られにくく、逆に、配合割合が３０質量部を超えた場合、添加量に見合う上記性能の向上が認められず経済的でなく、更に可視領域の透明性が失われる可能性がある。なお、化合物（Ｉ）及び化合物（II）の配合割合は、目的とするハードコート材等における可視および近赤外域の透過率の設定やハードコート用樹脂組成物層の厚みによって変えることができる。
【０１０８】
化合物（Ｉ）と化合物（II）との配合比は限定されず、所望の近赤外線吸収能及び透明性が発揮できるように調整されうるが、好ましい配合比［化合物（Ｉ）：化合物（II）］は、２〜８：８〜２、より好ましくは３〜７：７〜３である。
【０１０９】
［ハードコート材］
本発明に係るハードコート材は、上記ハードコート用樹脂組成物を含み、近赤外線吸収能を有する。このハードコート材は、ハードコート用樹脂組成物のみからなるものであってもよいし、ハードコート用樹脂組成物と基材とを有するものであってもよい。ハードコート材は、例えば、プラスティック光学部品、タッチパネル、フィルム型液晶素子、プラスティック成形体等に用いられうる。ハードコート材に含まれる上記基材として、透明基材が例示される。
【０１１０】
このハードコート材では、ハードコート層自体が近赤外線吸収能をも有するため、ハードコート層と近赤外線吸収層とを別個に設ける必要がない。またハードコート層と近赤外線吸収層とを別個に設ける場合、近赤外線吸収層とハードコート層との間にＰＥＴフィルム等の基材フィルムが必要となるが、本発明ではこの基材フィルムが不要とされうる。
【０１１１】
［透明基材］
本発明に係る好ましいハードコート材は、透明基材を有する。より好ましくは、このハードコート材は、透明基材とハードコート層とを有する。上記透明基材は、限定されない。透明基材として、シート状、フィルム状又は板状の透明基材が用いられうる。透明基材の材質としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル樹脂；トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）；メチルメタクリレート系共重合物などのアクリル樹脂；スチレン樹脂；ポリスルホン樹脂；ポリエーテルスルホン樹脂；ポリカーボネート樹脂；塩化ビニル樹脂；ポリメタクリルイミド樹脂；ガラス等が挙げられる。更に、透明基材の材質として、ラクトン構造を有する化合物が挙げられる。
【０１１２】
透明機材には、易接着処理がされていてもよい。例えばＰＥＴフィルムは、易接着処理が施されたフィルム（易接着ＰＥＴフィルム）であってもよい。易接着処理は、少なくともハードコート層が設けられる側の表面に施されるのが好ましい。易接着処理としては、易接着層を設ける処理、基材表面にコロナ処理を施す処理等が挙げられる。易接着層としては、易接着用樹脂層等が挙げられる。
【０１１３】
特に好ましい透明基材は、ガラス、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム、ラクトン構造を有する樹脂フィルム又は電磁波シールドフィルムである。
【０１１４】
電磁波シールドフィルムは、電磁波を遮蔽しうるフィルムである。電磁波シールドフィルムは、例えば、ディスプレー装置から発生する電磁波による生体や電子機器への悪影響を抑制しうる。電磁波シールドフィルムは、例えば電磁波を遮蔽しうる金属を含む。より好ましい電磁波シールドフィルムは、樹脂フィルムの表面に、電磁波を遮蔽しうる電磁波遮蔽層を有する。この電磁波遮蔽層として、薄膜、金属メッシュ層等が例示される。この薄膜として、銀、銅、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化インジウムスズ、酸化アンチモンスズ等のような金属又は金属酸化物の薄膜が例示される。これらの薄膜は、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、プラズマ化学蒸着法等の公知の方法により作製されうる。金属メッシュ層は、メッシュ状の穴が設けられた金属層である。この金属メッシュ層としては、銅や銀等よりなる金属メッシュ層が例示される。最も典型的な電磁波遮蔽層として、酸化インジウムスズ（ＩＴＯと略記されることもある）の薄膜が挙げられる。他の電磁波遮蔽層として、誘電体層と金属層とを基材上に交互に積層させた積層体、等も好適である。この誘電体層としては、酸化インジウム、酸化亜鉛などの透明な金属酸化物等が好適であり、上記金属層としては、銀あるいは銀−パラジウム合金が一般的である。積層体は、通常、誘電体層よりはじまり３〜１３層程度の間で奇数層となるように積層される。
【０１１５】
電磁波シールドフィルムの具体例として、金属又は金属酸化物を蒸着してなる薄膜導電層が透明性基材上に形成された電磁波シールド材（特開平１−２７８８００号公報又は特開平５−３２３１０１号公報参照）、良導電性繊維を透明基材に埋め込んだ電磁波シールド材（特開平５−３２７２７４号公報又は特開平５−２６９９１２号公報参照）、金属粉末等を含む導電性樹脂を透明基材上に直接印刷してなる電磁波シールド材（特開昭６２−５７２９７号公報又は特開平２−５２４９９号公報参照）、透明基板上に透明樹脂層を形成し、その上に無電解めっき法により銅のメッシュパターンを形成してなる電磁波シールド材（特開平５−２８３８８９号公報参照）等が挙げられる。
【０１１６】
ラクトン構造を有する樹脂フィルムは、ラクトン構造を有する樹脂を基材樹脂として有する。ラクトン構造を有する樹脂として、分子鎖中に水酸基とエステル基とを有する重合体をラクトン環化縮合反応させることによって得られるラクトン環含有重合体が例示される。このラクトン環含有重合体は、透明性、耐熱性、光学特性、機械的特性等に優れる。
【０１１７】
特に好ましいラクトン環含有重合体は、下記一般式（９）で表されるラクトン環構造を有する。
【０１１８】
【化１１】
2008268267.tif 000012
【０１１９】
ただし、上記式（９）において、Ｒａ、Ｒｂ及びＲｃは、それぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２０の有機残基を表す。なお、有機残基は酸素原子を含んでいても良い。
【０１２０】
具体的なラクトン環含有重合体は、例えばメタクリル酸メチルと２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチルとを用いて、特開２００６−９６９６０に記載されている方法により得ることができる。
【０１２１】
［反射防止層］
本発明に係る反射防止フィルムは、反射防止層を有する。反射防止層は、反射防止層は、通常、最外層である。反射防止層は、反射防止フィルムの表面を構成する。
【０１２２】
反射防止層として、（１）高屈折率材料からなる層と低屈折率材料からなる層を交互に積層されてなる層、（２）前記低屈折率材料と高屈折率材料の中間の屈折率を有する中屈折率材料からなる層と高屈折率材料からなる層と低屈折率材料からなる層を順次積層された層、（３）低屈折率材料からなる層単層、等が用いられうる。複数の層よりなる反射防止層の場合、上記「高屈折率」、「中屈折率」及び「低屈折率」は、それぞれ反射防止層中の層同士間での屈折率の大小関係を示す。具体的な反射防止層として、例えば、低屈折率層単層、高屈折率層／低屈折率層の順で積層された２層構造の層、高屈折率層／低屈折率層／高屈折率層／低屈折率層の順で積層された４層構造の層、中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層の順で積層された３層構造の層などが挙げられる。光学設計により、平均反射率が低く、反射防止性能、視認性の優れたものとなるものであれば、いかなる反射防止層も採用されうる。
【０１２３】
反射防止層は、上記ハードコート層を含んでなるのが好ましい。この場合、ハードコート層が、反射防止層としても機能しうる。好ましい反射防止層は、ハードコート層と、このハードコート層とは屈折率の異なる層（以下、屈折率相違層ともいう）とを含む。屈折率相違層は、反射防止層の少なくとも１層を構成しうる。より好ましい反射防止フィルムは、ハードコート層と、ハードコート層の外側に積層され且つハードコート層よりも屈折率が低い低屈折率層とを含む。この場合、ハードコート層からなる高屈折率層と、その外側に積層された低屈折率層とにより、反射防止層が形成される。反射防止層は、ハードコート層とは別に設けられてもよい。
【０１２４】
反射率を低減する観点から、好ましくは、低屈折率層の屈折率は１．５以下とされる。
【０１２５】
上記低屈折率層としては、ＭｇＦ２（屈折率；約１．４）、ＳｉＯ２（屈折率；約１．２〜１．５）、ＬｉＦ（屈折率；約１．４）、３ＮａＦ・ＡｌＦ３（屈折率；約１．４）、Ｎａ３ＡｌＦ６（屈折率；約１．３３）などを用いることができる。また、低屈折率層として、これらＭｇＦ２、ＳｉＯ２等の微粒子を紫外線および電子線硬化型樹脂や珪素アルコキシド系のマトリックスに分散させたものが用いられうるが、これに限定されるものではない。
【０１２６】
低屈折率層の形成方法としては、前記低屈折微粒子を含むマトリックスにより形成する場合、低屈折微粒子を含むマトリックスを、膜厚が、０．０１〜１μｍになるように塗工し、必要に応じて、乾燥処理、紫外線照射処理、電子線照射処理を行う方法が採用されうる。
【０１２７】
低屈折率層の塗工方法としては公知の方法を用いることができ、例えばロッド、ワイヤーバーを用いた方法や、マイクログラビア、グラビア、ダイ、カーテン、リップ、スロットなどの各種コーティング方法を用いることができる。
【０１２８】
また、低屈折率層は、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、イオンプレーディング法、電気めっき法等の方法により形成されてもよい。
【０１２９】
また、高屈折率層には、ＴｉＯ２（屈折率；２．３〜２．７）、Ｙ２Ｏ３（屈折率；１．９）、Ｌａ２Ｏ３（屈折率；２．０）、ＺｒＯ２（屈折率；２．１）、Ａｌ２Ｏ３（屈折率；１．６）、Ｎｂ２Ｏ３（屈折率；１．９〜２．１）、Ｉｎ２Ｏ３（屈折率；１．９〜２．１）、Ｓｎ２Ｏ３（屈折率；１．９〜２．１）、Ｉｎ−Ｓｎ複合酸化物（ＩＴＯ  屈折率；１．９〜２．１）などが用いられうる。高屈折率層として、これらＴｉＯ２、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、ＺｒＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｎｂ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３、Ｓｎ２Ｏ３、Ｉｎ−Ｓｎ複合酸化物等からなる微粒子をマトリックスに分散させたものが例示される。このマトリックスとしては、上記ハードコート樹脂成分の他、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂、珪素アルコキシド系化合物等が挙げられる。これらの微粒子を含有させてなる上記ハードコート用樹脂組成物は、高屈折率層とされうる。
【０１３０】
前記高屈折微粒子を含むマトリックスにより形成する場合、高屈折率層は、高屈折微粒子を含むマトリックスを、膜厚が０．０１〜１μｍになるように塗工し、必要に応じて、乾燥処理、紫外線照射処理、電子線照射処理を行うことにより形成できる。なお、塗工方法としては前記低屈折率層と同様の方法が用いられうる。
【０１３１】
高屈折率層は、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、イオンプレーディング法、電気めっき法等の方法により形成されてもよい。
【０１３２】
中屈折率層として、用いられる低屈折率材料と高屈折率材料との中間の屈折率を有する物質が用いられうる。中屈折率層の形成方法は、前記低屈折率層又は高屈折率層の形成法方法と同様である。
【０１３３】
また、本発明の反射防止フィルムでは、さらに他の機能層が設けられても良い。機能層としては例えば、汚染防止層、帯電防止層、電磁波シールド層、ネオン光補正層などが設けられうる。これらの機能層は公知の材料を用い、公知の方法で形成することができる。また、一つの層で複数の機能を有していても良い。これらの機能層は、本発明に係る防眩フィルムや薄型ディスプレー用光学フィルムにも用いられうる。特にディスプレイ用途に用いた場合、汚染防止層は、反射防止層よりも表面側に設けることが好ましい。
【０１３４】
また、本発明の反射防止フィルムがプラズマディスプレイ用途に用いられる場合、反射防止フィルムには、電磁波シールド層、ネオン光補正層のいずれか一つ以上または全部を設けることが好ましい。これらの層の配置は限定されないが、視認性などを考慮すると、基材に対して反射防止層を設けた側とは反対側に設けることが好ましい。これらの電磁波シールド層又はネオン光補正層は、本発明に係る防眩フィルムや薄型ディスプレー用光学フィルムにも用いられうる。
【０１３５】
［防眩フィルム］
防眩フィルムに係る本発明は、上記ハードコート材を用いてなる。この防眩フィルムは、例えば、微粒子を有する上記ハードコート用樹脂組成物と、透明基材とを有する。微粒子が添加されることにより、ハードコート用樹脂組成物よりなる層（ハードコート層）に防眩性が付与されうる。微粒子が添加されることにより、ハードコート層が防眩層としても機能しうる。ハードコート層とは別に防眩層が設けられてもよい。
【０１３６】
防眩性を付与するための微粒子は特に限定されない。好ましくは、この微粒子は透明性を有する。この微粒子として、有機微粒子又は無機微粒子が用いられうる。好ましい微粒子は、有機微粒子である。有機微粒子は特に限定されず、プラスチックビーズ等が挙げられる。プラスチックビーズの具体例としては、スチレンビーズ（屈折率１．５９）、メラミンビーズ（屈折率１．５７）、アクリルビーズ（屈折率１．４９）アクリル−スチレンビーズ（屈折率１．５４）、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズ等が挙げられる。無機微粒子としては、シリカビーズが例示される。また、特開平１０−３３０４０９号や特開２００４−３０７６４４に開示されている有機無機複合微粒子が用いられてもよい。防眩層の屈折率をより高める観点から、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫及びアンチモンよりなる群から選択される少なくとも一種の金属の酸化物が用いられるのが好ましい。この場合、平均粒径が０．２μｍ以下、好ましくは０．１μｍ以下の無機フィラーが用いられてもよい。
【０１３７】
防眩層には、レベリング剤、紫外線吸収剤、紫外線安定剤、蛍光増白剤、帯電防止剤、指紋付着防止剤等が使用されうる。このレベリング剤として、塗料などの塗膜形成用組成物に一般的に使用されるレベリング剤が用いられうる。
【０１３８】
［薄型ディスプレー用光学フィルター］
本発明に係る薄型ディスプレー用光学フィルターは、上記ハードコート材、上記反射防止フィルム又は上記防眩フィルムを用いてなる。
【０１３９】
本発明のハードコート用樹脂組成物は、光学フィルターに好適である。上記化合物（Ｉ）及び化合物（II）に起因して、この光学フィルターは、近赤外線を効果的に吸収しうる。この光学フィルターでは、可視領域の全光線透過率が４０％以上であるのが好ましく、より好ましくは５０％以上である。この光学フィルターでは、波長８００〜１１００ｎｍの近赤外線の透過率が３０％以下が好ましく、より好ましくは１５％以下である。
【０１４０】
本発明の光学フィルターには、上記ハードコート層の他、色調整層、ガラス等の支持体などが設けられていてもよい。
【０１４１】
光学フィルターの各層の構成は任意に選択されうる。好ましい光学フィルターは、反射防止層又は防眩層が最表層（人側）とされる。各層を張り合わせる際にはコロナ処理、プラズマ処理等の物理的な処理がなされてもよいし、ポリエチレンイミン、オキサゾリン系ポリマー、ポリエステル、セルロース等の公知の高極性ポリマーがアンカーコート剤として用いられてもよい。
【０１４２】
ハードコート層とは別個に電磁波遮蔽層が設けられてもよい。電磁波遮蔽層として、薄膜、金属メッシュ層等が例示される。この薄膜として、銀、銅、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化インジウムスズ、酸化アンチモンスズ等のような金属又は金属酸化物の薄膜が例示される。これらの薄膜は、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、プラズマ化学蒸着法等の公知の方法により作製されうる。金属メッシュ層は、メッシュ状の穴が設けられた金属層である。この金属メッシュ層としては、銅や銀等よりなる金属メッシュ層が例示される。最も典型的な電磁波遮蔽層として、酸化インジウムスズ（ＩＴＯと略記されることもある）の薄膜が挙げられる。他の電磁波遮蔽層として、誘電体層と金属層とを基材上に交互に積層させた積層体、等も好適である。この誘電体層としては、酸化インジウム、酸化亜鉛などの透明な金属酸化物等が好適であり、上記金属層としては、銀あるいは銀−パラジウム合金が一般的である。積層体は、通常、誘電体層よりはじまり３〜１３層程度の間で奇数層となるように積層される。
【０１４３】
本発明の薄型ディスプレー用光学フィルターは、表示装置から離して設置してもよいし、表示装置に直接貼り付けてもよい。表示装置から離して設置する場合、支持体としてガラスが用いられるのが好ましい。表示装置に直接張り合わせる場合にはガラスを使用しない光学フィルターが好ましい。
【０１４４】
［薄型ディスプレー］
本発明に係る薄型ディスプレーは、上記ハードコート材、上記反射防止フィルム、上記防眩フィルム又は上記光学フィルターを用いてなる。表示体に直接、光学フィルターを張り合わせた薄型ディスプレーとされた場合、より鮮明な画質が得られうる。光学フィルターを直接張り合わせる場合、薄型ディスプレーの表示体のガラスが強化ガラスとされるか、または衝撃吸収層を設けた光学フィルターとされるかのいすれかが好ましい。
【０１４５】
本発明の光学フィルターを表示装置に貼り付ける際の粘着剤としては、スチレンブタジエンゴム、ポリイソプレンゴム、ポリイソブチレンゴム、天然ゴム、ネオプレンゴム、クロロプレンゴム、ブチルゴム等のゴム類やポリアクリル酸メチル、ボリアクリル酸エチル、ポリアクリル酸ブチル等のポリアクリル酸アルキルエステル等が挙げられ、これらは単独で用いられてもよいし、さらに粘着付与剤としてピッコライト、ポリベール、ロジンエステル等を添加したものを用いてもよい。また、粘着剤として、特開２００４−２６３０８４号公報で示されているように衝撃吸収能を有する粘着剤を使用することができるが、これに限定されるものではない。
【０１４６】
この粘着剤層の厚みは、通常５〜２０００μｍ、好ましくは１０〜１０００μｍである。粘着剤層の表面に剥離フィルムを設け、この剥離フィルムにより、光学フィルターを薄型ディスプレーの表面に張り付けるまでの間、粘着剤層を保護し、粘着剤層にゴミ等が付着しないようにするのもよい。この場合、フィルターの縁綾部の粘着剤層と剥離フィルムとの間に、粘着剤層を設けない部分を形成したり非粘着性のフィルムを挟む等して非粘着部分を形成し、この非粘着部分を剥離開始部としてもよい。この場合、貼着時の作業がやりやすい。
【０１４７】
衝撃吸収層は表示装置を外部からの衝撃から保護するためのものである。衝撃吸収層は支持体を使用しない光学フィルターで使用するのが好ましい。衝撃吸収材としては特開２００４−２４６３６５号公報または特開２００４−２６４４１６号公報に示されているような、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アクリル系ポリマー、ポリ塩化ビニル、ウレタン系、シリコン系樹脂等が使用できるが、これらに限定されるものではない。  
【実施例】
【０１４８】
以下、実施例によって本発明の効果が明らかにされるが、この実施例の記載に基づいて本発明が限定的に解釈されるべきではない。
【０１４９】
［製造例１］
モノマーとして、メチルメタクリレート３７１．５ｇ、ノルマルブチルアクリレート５９ｇ及びノルマルブチルメタクリレート６９．５ｇを混合し、モノマー混合物１を得た。パーカドックス１２ＸＬ２５（火薬アクゾ社製）６ｇとトルエン１００ｇとを混合し、開始剤溶液１を得た。このモノマー混合物１のうち３５０ｇと、トルエン２２５ｇとをフラスコに入れ、このフラスコに、温度計、攪拌機、窒素ガス導入管、還流冷却機及び滴下漏斗をセットした。１５０ｇのモノマー混合物１と３１．８ｇの開始剤溶液１とを混合して混合液１を得て、この混合液１の全量を上記滴下漏斗に入れた。フラスコ内に窒素ガスを２０ｍｌ／分で流通させながらフラスコを加熱し、フラスコ内の温度を１００℃とした。開始剤溶液１のうち７４．２ｇをフラスコに添加し、重合反応を開始した。開始剤溶液１の添加から１０分後に、上記滴下漏斗内の混合液１の添加を開始し、６０分間かけて全ての混合物１をフラスコ内に添加した。更に、７５ｇのトルエンで滴下漏斗を洗浄し、この洗浄液をフラスコ内に添加した。次に６０分間熟成し、その後希釈溶液としてのトルエン１５０ｇをフラスコ内に添加した。更に６０分間熟成し、その後希釈溶液としてトルエン１５０ｇをフラスコ内に添加した。更に６０分間熟成した。その後、１０８℃まで昇温し、１０８℃で３００分熟成した。更に、希釈溶液１８５．７ｇを添加し、その後室温まで冷却して、樹脂溶液１を得た。樹脂溶液１において、固形分は３２．４質量％であり、Ｔｇは７５℃であり、ポリスチレン換算の重量平均分子量は２２万であった。
【０１５０】
［製造例２］
撹拌棒、温度計、滴下ライン及び窒素／空気混合ガス導入管が取り付けられた４つ口フラスコにトルエン８０ｇを加え、１５℃に冷却した。冷却後、２００ｇのＶＥＥＡを２時間かけてフラスコ内に滴下し、それと同時に、酢酸エチル２７ｇとリンタングステン酸１３．５ｍｇとの混合溶解物２を２時間かけてフラスコ内に滴下して、重合を行った。混合溶解物２の滴下は、その全量を９等分したものを１５分おきに滴下することによりなされた。重合後にトリエチルアミンを加えて反応を停止させた。次いで、エバポレーターで濃縮し、ビニル系重合体（ＰＶＥＥＡ−１）を得た。反応停止後の混合液をガスクロマトグラフィー（ＧＣ）で分析した結果、単量体の反応率は９９．８％であった。また、得られたＰＶＥＥＡ−１の数平均分子量（Ｍｎ）は６，８４０であり、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は２．３８であった。なお、ＶＥＥＡとは、アクリル酸２−（２−ビニロキシエトキシ）エチルである。
【０１５１】
［実施例１］
日本合成化学工業製のウレタンアクリレートであるＵＶ−６３００Ｂと、製造例１で得られた樹脂溶液１と、日本化薬社製のジペンタエリスリトールヘキサアクリレートＤＰＨＡ及びチバ・スペシャリティ社製の光重合性開始剤であるイルガキュア１８４とを用いた。５４．８質量部のＵＶ−６３００Ｂ、１３．７質量部の樹脂溶液１及び２７．４質量部のジペンタエリスリトールヘキサアクリレートＤＰＨＡを混合し、４．１質量部のイルガキュア１８４を添加した。更に、２．０質量部の色素Ａ、１．９質量部の色素Ｂ、１．４質量部の色素Ｃ及び３．４質量部の色素Ｄを添加し、トルエンで固形分が３２質量％となるように希釈して、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物１を得た。なお、色素ＡはＶＯＰｃ（２，５−Ｃｌ２ＰｈＯ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４（ＰｈＣＨ２ＮＨ）４を表し、色素ＢはＣｕＰｃ（２，５−Ｃｌ２ＰｈＯ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４（ＰｈＣＨ２ＮＨ）４  を表し、色素ＣはＶＯＰｃ（ＰｈＳ）８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４（ＰｈＣＨ２ＮＨ）４  を表し、色素ＤはＶＯＰｃ｛４−（ＣＨ３Ｏ）ＰｈＳ｝８｛２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ｝４｛ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）ＣＨ２ＮＨ｝４ を表す。この活性エネルギー線硬化性樹脂組成物１を、バーコーターＮｏ．１２を用いて東洋紡コスモシャインＡ４３００に塗工し、１００℃で２分間乾燥させた。その後、コンベアに塗工物を載置するとともに、この載置された塗工物との最短距離が２００ｍｍである位置に４ｋＷ／ｍ２の高圧水銀灯を固定した。２．９ｍ／分のコンベアースピードで塗工物を移動させつつ、空気雰囲気下で高圧水銀灯により紫外線を照射した。この照射により、硬化皮膜を有するフィルム１を得た。この硬化皮膜は、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物１が硬化してなる。この硬化皮膜の厚さは５μｍであった。
【０１５２】
［実施例２］
６８．５質量部のＡＴ−６００と２７．４質量部のジペンタエリスリトールヘキサアクリレートＤＰＨＡとを混合し、４．１質量部のイルガキュア１８４を添加した。更に、１．６質量部の上記色素Ａ、２．９質量部の上記色素Ｂ、３．２質量部の上記色素Ｄ及び２．０質量部の色素Ｅを添加し、トルエンで固形分が３２質量％となるように希釈して、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物２を得た。なお、ＡＴ−６００は共栄社化学製のウレタンアクリレートであり、色素ＥはＶＯＰｃ（２，５−Ｃｌ２ＰｈＯ）８（２，６−（ＣＨ３）２ＰｈＯ）４｛Ｐｈ（ＣＨ３）ＣＨＮＨ｝３Ｆを表す。この色素Ｅの標記の意味については、前述した通りである。この活性エネルギー線硬化性樹脂組成物２を、バーコーターＮｏ．１２を用いて東洋紡コスモシャインＡ４３００に塗工し、１００℃で２分間乾燥させた。その後、実施例１と同様に紫外線を照射して、硬化皮膜を有するフィルム２を得た。この硬化皮膜は、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物２が硬化してなる。この硬化皮膜の厚さは５μｍであった。
【０１５３】
［実施例３］
製造例２で得られたＰＶＥＥＡ−１を用いた。９５．９質量部のＰＶＥＥＡ−１、４．１質量部のイルガキュア１８４、２質量部の上記色素Ａ、１．９質量部の上記色素Ｂ、１．４質量部の上記色素Ｃ及び３．４質量部の上記色素Ｄを添加し、トルエンで固形分が３２質量％となるように希釈して、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物３を得た。この活性エネルギー線硬化性樹脂組成物３を、バーコーターＮｏ．１２を用いて東洋紡コスモシャインＡ４３００に塗工し、１００℃で２分間乾燥させた。その後、実施例１と同様に紫外線を照射して、硬化皮膜を有するフィルム３を得た。この硬化皮膜は、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物３が硬化してなる。この硬化皮膜の厚さは５μｍであった。
【０１５４】
［比較例１］
６８．５質量部のＵＶ−６３００Ｂと２７．４質量部のジペンタエリスリトールヘキサアクリレートＤＰＨＡとを混合し、４．１質量部のイルガキュア１８４を添加した。更に、４質量部の上記色素Ｅと、５質量部のＩＲＧ−０２２とを添加し、トルエンで固形分が３２質量％となるように希釈して、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物４を得た。なお、ＩＲＧ−０２２は、日本化薬製のジイモニウム色素である。この活性エネルギー線硬化性樹脂組成物４を、バーコーターＮｏ．１２を用いて東洋紡コスモシャインＡ４３００に塗工し、１００℃で２分間乾燥させた。その後、実施例１と同様に紫外線を照射して、硬化皮膜を有するフィルム４を得た。この硬化皮膜は、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物４が硬化してなる。この硬化皮膜の厚さは５μｍであった。
【０１５５】
［評価］
（１）近赤外線吸収能の評価（近赤外線透過率）
ＵＶ−３７００（島津製作所製）を使用して、３５０ｎｍ〜１２５０ｎｍの透過スペクトルを測定した。近赤外線吸収能は、波長８５０ｎｍ及び９５０ｎｍにおける近赤外線の透過率により評価した。この透過率（「ＮＩＲＡ透過率」）が下記の表１で示される。
【０１５６】
（２）濁度の評価
ＮＤＨ２０００（日本電色工業製）を使用して、濁度を測定した。３回測定を行い、平均値を採用した。この平均値が下記の表１で示される。
【０１５７】
（３）耐熱性の評価
試験体を８０℃の恒温恒湿器中に５００時間静置する耐熱試験を行った。この耐熱試験の前及び後において、３５０ｎｍ〜１２５０ｎｍの透過スペクトルを測定した。透過スペクトルの測定には、ＵＶ−３７００（島津製作所製）を用いた。耐熱試験前後の透過スペクトルを比較することにより、波長８５０ｎｍ及び９５０ｎｍにおける透過率変化を評価した。波長８５０ｎｍにおける耐熱試験前後での透過率の変化が、ΔＴ１として下記の表１に示される。波長９５０ｎｍにおける耐熱試験前後での透過率の変化が、ΔＴ２として下記の表１に示される。また、得られた耐熱試験前後の透過スペクトルから、耐熱試験前後の色差ｂ＊１を計算した。ΔＴ１、ΔＴ２及びｂ＊１は、その絶対値が小さいほど良好である。
【０１５８】
（４）耐湿熱性の評価
試験体を６０℃９５％ＲＨの恒温恒湿器中に５００時間静置する耐湿熱試験を行った。この耐湿熱試験の前及び後において、３５０ｎｍ〜１２５０ｎｍの透過スペクトルを測定した。透過スペクトルの測定には、ＵＶ−３７００（島津製作所製）を用いた。耐湿熱試験前後の透過スペクトルを比較することにより、波長８５０ｎｍ及び９５０ｎｍにおける透過率変化を評価した。波長８５０ｎｍにおける耐湿熱試験前後での透過率の変化が、ΔＴ３として下記の表１に示される。波長９５０ｎｍにおける耐湿熱試験前後での透過率の変化が、ΔＴ４として下記の表１に示される。また、得られた耐湿熱試験前後の透過スペクトルから、耐湿熱試験前後の色差ｂ＊２を計算した。ΔＴ３、ΔＴ４及びｂ＊２は、その絶対値が小さいほど良好である。
【０１５９】
（５）鉛筆硬度の評価
ＪＩＳ−Ｋ５４００に準拠して鉛筆引っかき試験を行い、擦り傷による評価を行った。この評価結果が下記の表１で示される。
【０１６０】
なお図１は、実施例１に係るフィルム１の初期スペクトルであり、図２は実施例２に係るフィルム２の初期スペクトルであり、図３は比較例１に係るフィルム４の初期スペクトルである。初期スペクトルは、耐熱試験や耐湿熱試験がなされる前の透過スペクトルである。また図４は、実施例１に係るフィルム１の耐熱試験後のスペクトルであり、図５は実施例２に係るフィルム２の耐熱試験後のスペクトルであり、図６は比較例１に係るフィルム４の耐熱試験後のスペクトルである。
【０１６１】
【表１】
2008268267.tif 000013
【０１６２】
表１に示されるように、実施例は、比較例に比べて評価が高い。この評価結果から、本発明の優位性は明らかである。
【産業上の利用可能性】
【０１６３】
本発明は、あらゆる用途のハードコート用樹脂組成物に適用されうる。更に本発明は、ハードコート材、反射防止フィルム、防眩フィルム、薄型ディスプレー用光学フィルター及び薄型ディスプレーに適用されうる。
【図面の簡単な説明】
【０１６４】
【図１】図１は、実施例１に係るフィルム１の初期スペクトルである。
【図２】図２は、実施例２に係るフィルム２の初期スペクトルである。
【図３】図３は、比較例１に係るフィルム４の初期スペクトルである。
【図４】図４は、実施例１に係るフィルム１の耐熱試験後のスペクトルである。
【図５】図５は、実施例２に係るフィルム２の耐熱試験後のスペクトルである。
【図６】図６は、比較例１に係るフィルム４の耐熱試験後のスペクトルである。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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