(57)【要約】【課題】人体の肌にスチームと微小な金属微粒子を供給でき、肌への保水作用に加えて、肌細胞の抗菌作用が得られるスチーム式美容器を提供すること。【解決手段】スチーム発生部とスチーム吐出口との間に設けられるスチーム経路７内に、少なくとも一対の電極１３を備え、電極１３間に電圧を印加して放電することで電極１３から微小な金属微粒子Ｍを放出させるための金属微粒子生成手段３２を設けたスチーム式美容器Ａである。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
スチームを発生させるスチーム発生部と、発生させたスチームを吐出するスチーム吐出口とを有するスチーム式美容器において、前記スチーム発生部とスチーム吐出口との間に設けられるスチーム経路内に、少なくとも一対の電極を備え、電極間に電圧を印加して放電することで電極から微小な金属微粒子を放出させるための金属微粒子生成手段を設けたことを特徴とするスチーム式美容器。
【請求項２】
前記電極は白金を含有することを特徴とする請求項１記載のスチーム式美容器。
【請求項３】
前記電極から放出された金属微粒子に付着して金属微粒子同士の結合を抑制するための抑制剤を設けたことを特徴とする請求項１又は２記載のスチーム式美容器。
【請求項４】
前記抑制剤は、フッ素グリスであることを特徴とする請求項３記載のスチーム式美容器。
【請求項５】
前記抑制剤は、スチーム経路の内面に配設されていることを特徴とする請求項３又は４記載のスチーム式美容器。
【請求項６】
前記抑制剤は、電極又は電極を支持する電極ホルダーのいずれかに配設されていることを特徴とする請求項３又は４記載のスチーム式美容器。
【請求項７】
前記抑制剤を貯留する貯留部を備えていることを特徴とする請求項３乃至６のいずれか一項に記載のスチーム式美容器。
【請求項８】
前記貯留部は、電極又は電極を支持する電極ホルダーの少なくとも一方に設けられることを特徴とする請求項７記載のスチーム式美容器。
【請求項９】
前記電極は、電極ホルダーから取り外し可能となっていることを特徴とする請求項６又は８記載のスチーム式美容器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、顔などの肌表面の手入れを行うスチーム式美容器に関し、詳しくは微細なスチーム粒子と共に微小な金属微粒子を生成してスチーム粒子と金属微粒子とを混合させて肌に当てるようにするためのスチーム式美容器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来のスチーム式美容器として、スチーム経路内で高圧放電を行い、微細なスチーム粒子にしてスチーム吐出口から吐出する形態のものが特許文献１、２において知られている。
【０００３】
従来のスチーム式美容器Ｂは、図１１に示すように、スチーム吐出口１及び給水口２、給水タンク３を有しており、給水口２と給水タンク３の間に給水経路４が設けられ、給水タンク３から供給される水を加熱してスチームを生成するヒータ５が沸騰室６に配設され、給水タンク３と沸騰室６は連通孔９で接続されていると共に、沸騰室６とスチーム吐出口１との間のスチーム経路７内には、放電を発生させる放電部８が設けられている。放電部８は例えば一対の電極を備え、電圧印加ユニットから一方の電極が正極、他方の電極が負極となるように電極間に電圧を印加することにより、電極間に放電が形成されて、微細なスチーム粒子を発生させる仕組みとなっている。なお、スチーム生成のＯＮ／ＯＦＦは、外観上部前面に配置された電源スイッチ１０を操作することにより制御される。電源スイッチ１０、ヒータ５、放電部８、電源コード１２はそれぞれ制御回路１１に接続されている。
【０００４】
このような構成によれば、給水タンク３から提供される水をヒータ５で沸騰させて沸騰室６内にスチームを生成することができ、この生成されたスチームはスチーム経路７に送られ、次いで放電部８で生成された放電に曝されて微細なスチーム粒子になって、スチーム吐出口１から吐出される。
【０００５】
ところが従来は、放電により微細化したスチームを肌に当てることで、肌の保水作用は得られるが、スキンケア効果、例えば肌細胞の抗菌作用などはなかった。
【特許文献１】特開２００５−３４９１３２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は前記の従来の問題点に鑑みて発明したものであって、人体の肌にスチームと微小な金属微粒子を供給でき、肌への保水作用に加えてスキンケア効果、特に肌細胞の抗菌作用が得られるスチーム式美容器を提供することを課題とし、さらに、微小な金属微粒子同士の結合を抑制できるスチーム式美容器を提供することを課題とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記課題を解決するために本発明は、スチームＳを発生させるスチーム発生部３３と、発生させたスチームＳを吐出するスチーム吐出口１とを有するスチーム式美容器において、前記スチーム発生部３３とスチーム吐出口１との間に設けられるスチーム経路７内に、少なくとも一対の電極１３を備え、電極１３間に電圧を印加して放電することで電極１３から微小な金属微粒子Ｍを放出させるための金属微粒子生成手段３２を設けたことを特徴としている。
【０００８】
このような構成とすることで、電極１３間の放電によってスチームＳが微細化されると共に、放電によって電極１３から放出される微小な金属微粒子Ｍが微細なスチーム粒子と混合されてスチーム吐出口１から吐出されることによって、微細なスチーム粒子が肌の保水作用の向上をもたらすと同時に、微小な金属微粒子Ｍが肌内部に浸透することで、肌に対して補酵素の働きをもたせることができ、抗酸化作用による細胞の保護など、スキンケア効果が得られるようになる。
【０００９】
また、前記電極１３は白金を含有するのが好ましく、この場合、肌に良いとされる白金を電極１３に含有させることによって、放電によって肌に良いとされるプラチナ金属微粒子を発生させることができる。
【００１０】
また、前記電極１３から放出された金属微粒子Ｍに付着して金属微粒子Ｍ同士の結合を抑制するための抑制剤２７を設けるのが好ましく、この場合、放電によって電極１３から放出される金属微粒子Ｍに抑制剤２７が付着することで、金属微粒子Ｍ同士の結合が抑制されるようになる。従って、金属微粒子Ｍ同士の結合によるスチーム粒子の凝縮核の個数の増加とサイズの拡大を防止でき、微細なスチーム粒子と微小な金属微粒子とを肌に供給できるようになる。
【００１１】
また、前記抑制剤２７は、フッ素グリスであるのが好ましく、この場合、広い温度範囲で金属微粒子Ｍ同士の結合抑制効果が安定して得られる。
【００１２】
また、前記抑制剤２７は、スチーム経路７の内面に配設されているのが好ましく、この場合、スチーム粒子や金属微粒子Ｍとの接触面積を大きくとることができ、効率的な混合が可能となる。
【００１３】
また、前記抑制剤２７は、電極１３又は電極１３を支持する電極ホルダー１６のいずれかに配設されているのが好ましく、この場合、電極１３近傍に抑制剤２７を配設できるので、電極１３の放電部８近くに抑制剤２７が存在することとなるため、金属微粒子Ｍ同士の結合抑制がより効果的となる。
【００１４】
また、前記抑制剤２７を貯留する貯留部２６を備えるのが好ましく、この場合、抑制剤２７の補充の手間を省略できる。
【００１５】
また、前記貯留部２６は、電極１３又は電極１３を支持する電極ホルダー１６の少なくとも一方に設けられるのが好ましく、この場合、抑制剤２７を放電部８周辺に供給できるため、金属微粒子Ｍ同士の結合抑制がより効果的となる。
【００１６】
また、前記電極１３は、電極ホルダー１６から取り外し可能となっているのが好ましく、この場合、さまざまな種類の金属を電極材料として選択して用いることが簡単になる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明は、スチーム発生部とスチーム吐出口との間のスチーム経路内に金属微粒子生成手段を設けて、電極から微小な金属微粒子を放出させるようにしたので、人体の肌、皮膚に微細なスチーム粒子と微小な金属微粒子とを供給でき、肌への保水作用に加えて肌細胞の抗菌作用などのスキンケア効果が得られるものである。
【００１８】
また本発明は、電極から放出された金属微粒子に付着して金属微粒子同士の結合を抑制するための抑制剤を設けたことにより、金属微粒子同士の結合によるスチーム粒子の凝縮核の個数の増加とサイズの拡大を防止でき、微細なスチーム粒子と微小な金属微粒子とを肌に供給できるものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明を添付図面に示す実施形態に基いて説明する。
【００２０】
図１は、本発明の顔などの肌表面の手入れを行うスチーム式美容器Ａのスチーム経路７に設けられる金属微粒子生成手段３２を説明する断面図であり、図２はスチーム式美容器Ａ全体の断面図を示し、図３、図４はスチーム式美容器Ａの外観図を示している。
【００２１】
スチーム式美容器Ａは、スチームＳを発生させるスチーム発生部３３と、発生させたスチームＳを吐出するスチーム吐出口１とを備えている。図２に示すように、スチーム発生部３３は、給水タンク３から供給される水を加熱するためのヒータ５と、ヒータ５を配設する沸騰室６とで構成されている。給水タンク３は使用者によって着脱自在とされ、給水路３４に通じる貯水部１５に接続されている。
【００２２】
給水路３４は、サブ給水路３６を備えている。サブ給水路３６の一端は貯水部１５に接続され、他端は水を加熱気化させるボイラー３７に接続されている。本例のサブ給水路３６は、貯水部１５及びボイラー３７の垂直下方に位置していると共に両者１５，１７に対してそれぞれシール性をもって接続されている。
【００２３】
前記サブ給水路３６は、固定部材１８によりヒータ５の放熱側（スチーム発生部３３側を加熱側とする）に経路の全長方向が接触固定できるように配置され、このサブ給水路３６の上端は内圧平衡化のため沸騰室６のスチーム出口３８近傍にシール性をもって接続される。このサブ給水路３６はサブ加熱機構Ｃとなり、サブ給水路３６をスチーム出口３８近傍に接続することでスチーム凝縮等による圧力変動が比較的少なくなり内圧平衡をとりやすくしている。
【００２４】
ボイラー３７は、給水路３４と沸騰室６とを結ぶ連通孔２１と、スチーム経路７からの結露水流下に対する復水路２２とを備えている。連通孔２１は、ボイラー内圧安定化及びスチームＳを短時間で発生させるべく、その水の流路を断面積的に小さく設計している。例えば、φ２．５，Ｌ＝１８．０としている。このように給水路３４から沸騰室６への送水量を規制することで、ヒータＷ数に最適な水量のみ加熱することが可能となる。沸騰室６は、連通孔２１を下方へ配置し、スチーム吐出口１ヘ通じるスチーム出口３８を上方へ配置する構成をとる。
【００２５】
ボイラー３７は、スチーム経路７の上流側とシール性をもって接続される。スチーム経路７の上流側には、液体加熱時の突沸を防止するための段違いの突沸防御壁２５が設けられ、これにより加熱による急激な圧力上昇が発生しても突沸を防止できるようにしている。
【００２６】
スチーム経路７は、ノズルＮの回転支点Ｚとなる屈曲弾性体２０を備え、スチーム吐出口１をスチームＳ下流側に備えたノズル内筒２８にシール性をもって接続される。
【００２７】
ノズルＮは、ノズル内筒２８と同軸状に設置したノズル外筒３０を備えた２重壁で構成し、その壁間に空気層Ｈ（例えば厚み５．０ｍｍ）を設ける。なお空気層Ｈの代わりに、２重壁間に図示しない断熱材（例えば発泡ゴム）を充填してもよく、また、断熱材と空気層Ｈとを積層した構成としてもよく、これらの場合は断熱効果をより高めることができる。
【００２８】
一方、制御回路１１には、ヒータ５と、電源ＯＮ／ＯＦＦの切替スイッチ２３と、スチーム経路７に設置したスチームＳを微細化する電極１３，１４と、電源供給用の電源コード１２とが接続される。なお、図２中のＷ１，Ｗ２，Ｗ３，Ｗ４は水（温水）を示す。
【００２９】
次に給水動作を説明する。
【００３０】
本体から給水タンク３を取り外して、給水タンク３内に規定量の水を入れ、タンク蓋３ａで蓋をする。このタンク蓋３ａの外周側にはパッキン３ｂが装着され、給水タンク３とタンク蓋３ａとがパッキン３ｂによってシールされる。また、タンク蓋３ａの中央側には、円錐状パッキン３ｅを取付けた止水ピン３ｃがスライド自在に挿入されていると共に、この止水ピン３ｃにはスプリング３ｄによって常に給水タンク３とは反対方向（図２の下方向）へ荷重が加わるようにしている。よって、給水タンク３が確実に取り付けられるまでは、円錐状パッキン３ｅはタンク蓋３ａの開口部３ｇに押し付けられた状態で保持され、これにより給水タンク３内の水が開口部３ｇから漏れ出すことがなく、シール性が確保される。
【００３１】
ここで給水タンク３の着脱はプッシュ操作で行えるよう本体にラッチ２４を設置しており、給水タンク３の取付け時に、給水タンク３がラッチボタン２４ａを押すことでラッチフック２４ｂが突出して給水タンク３を保持するようになり、また、取外し時は再度給水タンク３がラッチボタン２４ａを押すことでラッチフック２４ｂが引っ込み給水タンク３の保持を解除できる構造となっている。この形態により給水タンク３は着脱しやすくなり、本体外部への水こぼれもなく、確実に規定水量を供給することができることで過剰給水防止にもなり、使用性が向上するものである。
【００３２】
給水タンク３のタンク蓋３ａを下にして給水タンク３を貯水部１５に取付けた時、貯水部１５に設置した突出ピン１５ａによってタンク蓋３ａの止水ピン３ｃが給水タンク３側へ押されて円錐状パッキン３ｅのシールが解除され、給水タンク３内の水が開口部３ｇから貯水部１５へと供給される。貯水部１５に供給された水は給水路３４を通ってサブ給水路３６と、沸騰室６と、復水路２２とにそれぞれ供給される。ここで沸騰室６には連通孔２１を経由して供給される。貯水部１５の溜まり水Ｗ１と、サブ給水路３６の溜まり水Ｗ２と、復水路２２の溜まり水Ｗ３と、沸騰室６の溜まり水Ｗ４は、図２のＬラインで釣り合っている。
【００３３】
次にスチーム式美容器Ａの使用動作例を説明する。
【００３４】
電源スイッチ１０を押して切替スイッチ２３をＯＮにし、ヒータ５と電極１３に電源を供給する。ヒータ５で加熱された沸騰室６の水Ｗ４は、沸騰室６の上部に設けたスチーム出口３８を通ってスチーム経路７を通過するが、このとき電極１３，１４間の放電部８により微細化されて、ノズル内筒２８を通ってスチーム吐出口１から本体外部へ吐出される。
【００３５】
なお、沸騰室６の水Ｗ４はスチーム化によって減水し、Ｗ２とＷ３の水位が共に低下するが、Ｗ２とＷ３、Ｗ４の水面にはスチーム圧がかかっているため大気に開放されたＷ１の水位が低下するまでに、Ｗ２とＷ３、Ｗ４との水位差が大きく生じてしまい、その分だけ給水時の水量が増加し、スチーム圧の安定化を難しくする。しかし、Ｗ１の水位がＸラインを下回った時に、給水タンク３内に空気が入り、給水タンク３内の水が貯水部１５へ供給される。この時、重力によって給水スピードを与えられた勢いのよい水が沸騰室６へ向かうが、ヒータ５で加熱されたＷ２と経路途中で混ざるため、その水温は上昇して沸騰室６へ供給される。これにより沸騰室６及び沸騰室６内の水Ｗ４、ヒータ５の給水による温度低下を最小限に抑えることができ、給水によるボイラー３７内のスチーム圧の低下を最小限に抑え、スチーム吐出口１から吐出されるスチームＳに脈動を発生させることがなく使用者の使用性を低下させることがないものである。また、沸騰室６の水温変動が最小限となるためスチーム発生開始時間の短縮も可能となる。また、連通孔２１の断面積と長さを調整することで沸騰室６へ供給される給水スピードが調整可能となるため更にスチーム圧の低下を抑制できるものである。ここでＷ２の水温は９０〜９８℃にするのが好ましい。また、給水路３４とサブ給水路３６の流路断面積は同等か、或いはサブ給水路３６の方を大きく設計することで、水温混合比率を最適にすることができる。また、Ｗ１とＷ２の経路を垂直下方の接続部Ｇで分離することで、Ｗ１はＷ２の温度の影響を受けにくく、Ｗ１の水温上昇を抑えることができ、使用者に対して安全性が向上する。さらに、給水路３４を沸騰室６の下方に設置することで、常に給水路３４内には水が存在できる形態となり、使用時はボイラー３７からのスチーム逆流を防止できるものである。
【００３６】
また本例では、構造を簡素化して効率的にサブ給水路３６内の水Ｗ２を加熱するために、ヒータ５の放熱側（スチーム発生部３３側を加熱側とする）に接触固定できるよう配置しているが、ヒータ５の加熱側に接触固定させてもよい。なおこの場合はスチーム量の低下を防ぐためサブ給水路３６を加熱する分だけのヒータ５面積の拡大が必要となる。
【００３７】
また、給水路３４とサブ給水路３６の接続部Ｇは沸騰室６に近い方が好ましい。すなわち、沸騰室６と接続部Ｇの間の給水路３４に低温水を存在させないことが前述の効果を得るために必要である。使用中は、スチーム経路７等で発生した結露が自重で下方へ流下し、復水路２２に捕集されてＷ３となる。復水路２２は下方を連通孔２１と接続し、常に沸騰室６へＷ３を供給できる構成とすることでスチーム化効率（使用者の給水量と総スチーム発生量の比）を向上させている。また、ノズルＮは回転支点Ｚで可動可能（本例では上下動）として形成されており、使用者が自分にあったスチーム吐出角度を調整できる。ここでは、ノズルＮのスチーム吐出口１を本体から離れる方向へ延出して形成されている。本例では、使用者の施術部位にスチーム吐出口１を近づけることができるため、狙った部位ヘスチームＳが当てやすく、かつ使用者は本体へ近づく動作が不要となり楽な姿勢での使用が可能となる。また、ノズルＮは伸縮自在として３６０度フレキシブル可動する構成をとれば適用範囲が広がるため、前述効果に加え、更に使用者の使用性が向上するものである。使用後のＷ１とＷ２，Ｗ３の水位は連通孔２１の最下点であるＪラインで平衡し、Ｗ４は全てスチーム化されなくなる。使用後は、貯水部１５が下方となるよう本体を傾け、本体内の浅水を排水口４０から排水する。
【００３８】
次に、本発明の金属微粒子Ｍを生成するための金属微粒子生成手段３２について説明する。
【００３９】
図１に示すスチーム経路７内には、一対の電極１３，１３と、その間に位置する中間電極１４とが配置されており、スチーム経路７外部には前記一対の電極１３に電圧を印加して電極１３と中間電極１４間に放電を発生させる電圧印加ユニットＶが配置されている。これら電極１３，１４と電圧印加ユニットＶとによって、電極１３，１４間の放電を利用して電極１３，１４から金属微粒子Ｍ（金属イオン及び微小な金属微粒子）を放出させるための金属微粒子生成手段３２が構成される。
【００４０】
前記一対の電極１３は、各々の一端がスチーム経路７を形成するために使用される筒状部材３５に固定された電極ホルダー１６によって保持される棒状電極からなる。電極ホルダー１６は、各電極１３が共通の水平軸を持つように支持する。また、電極１３の他端は中間電極１４を介して対面関係にある。
【００４１】
また、中間電極１４は、電極保持パイプ１９（例えば、ＳＵＳ３０４）に着脱可能として同軸状に固定保持される棒状電極であり、中間電極ホルダー１７によって電極保持パイプ１９は直立姿勢に保持されている。ここで、電極保持パイプ１９は、電極１３からの放電を受けない距離まで離隔させて設置する。電極１３も同様に放電に寄与する部分のみ着脱可能として形成してもよい。本例では中間電極１４と電極保持パイプ１９は圧入固定として形成しているが、ネジ式固定やカシメ固定でもよい。中間電極１４の長手軸は電極１３の水平軸に略直交しており、これにより電極１３の各々は中間電極１４の側面に面するように配置されている。なお図１中の１８はＯリングであり、電極ホルダー１６に設けた溝にフィットして、筒状部材３５と電極ホルダー１６との間に耐水シールを付与する働きをする。
【００４２】
電圧印加ユニットＶは、一方の電極１３が正極、他方の電極１３が負極となるように電極１３，１３間に電圧を印加する。この場合、中間電極１４は電気的に浮いた状態（電圧が印加されない状態）として配置する。この構造では、電極１３と中間電極１４との間の距離が、電極１３，１３間距離より小さいので、放電に必要な絶縁破壊電圧が低下し、結果として、電極１３，１３間により低い電圧を印加することにより放電を容易に生成することが可能となる。また、一対の電極１３，１３と中間電極１４との間の２箇所が放電部８となるので、微細なスチーム粒子の単位時間当たりの生成量を増加することができる。尚、電圧印加ユニットＶは、中間電極１４に電圧を印加してもよい。例えば、一対の電極１３が正極、中間電極１４が負極になるように電圧を印加してもよい。ここで、電圧印加ユニットＶによって印加される電圧は、交流もしくは直流を使用できる。放電の種類としては、アーク放電、コロナ放電、沿面放電、グロー放電を利用でき、特に直流のアーク放電をスチーム経路７内に生成することが好ましい。電極１３及び中間電極１４の材料としては、通電性を有していれば特に限定されないが、本例では、中間電極１４をプラチナで形成し、放電によってプラチナ微粒子を発生させ、肌に対して補酵素の働きをもたせることができ、抗酸化作用による細胞の保護効果が得られるなど、より肌に良いスチームＳを提供できる。ここで、電極１３も同様にプラチナで形成してもよく、この場合はプラチナ微粒子濃度が高くなり、更に肌に良いスチームＳを提供可能となる。
【００４３】
また本発明においては、筒状部材３５の内面、及び中間電極１４側に、それぞれ、金属微粒子Ｍ同士の結合を抑制するため抑制剤２７が設けられている。抑制剤２７はその基材が水溶性のものが好ましく、例えばフッ素グリスを使用する。抑制剤２７の塗布量は、商品寿命を考慮し、商品実動時間と基材の溶融量で適値に設計する。また、抑制剤２７は塗布に限定しなくてもよく、抑制剤２７を含む部材を貼付ける方法でもよい。
【００４４】
本例では図１のように、中間電極１４の電極保持パイプ１９に抑制剤２７を浸透させた含浸体２６ａを設置している。図１の例では含浸体２６ａは抑制剤２７を浸透させた不織布で形成し、電極保持パイプ１９に圧入保持固定され、その天面は電極１３に近接させて配置されている。なお含浸体２６ａは電極１３に近接させすぎるとスチームＳの凝縮によって生じた電極１３及び含浸体２６ａ表面の結露で放電がリークし、好適にアーク放電ができなくなるためリークが発生しない最小距離に離隔して設置するのが好ましい。なお、含浸体２６ａは中間電極１４に限られるものではなく、電極１３側に設置してもよいものであり、さらに電極１３及び中間電極１４の両方にそれぞれ設置してもよいものである。
【００４５】
しかして、上記構成によれば、放電によってスチームＳが微細化されると共に、放電によって電極１３又は中間電極１４の少なくとも一方から、微小な金属微粒子Ｍが放出される。この微小な金属微粒子Ｍは微細なスチーム粒子と混合されてスチーム吐出口１から吐出されて人体の肌に当たる。これにより微細なスチーム粒子が肌、皮膚に浸透して肌への保水作用の向上をもたらすと共に、微小な金属微粒子Ｍが肌、皮膚内部に入っていき、肌細胞の抗菌作用などのスキンケア効果が得られるようになる。
【００４６】
しかも、肌に良いとされる白金を中間電極１４（又は電極１３）に含有させることによって、放電によって肌に良いとされるプラチナ金属微粒子が発生するようになる。
【００４７】
ここで、金属微粒子Ｍの肌に対する影響についても、金属微粒子サイズとは略反比例の関係にある。すなわち金属微粒子サイズが大きいと、肌細胞への影響が低下し、小さいと影響が増加する。よって、放電によって金属微粒子Ｍを発生させた時、抑制剤２７によって、金属微粒子サイズを小さいままスチーム粒子と共にスチーム吐出口１から吐出できるため肌への効果（例えば、補酵素）を高く維持できるものとなる。
【００４８】
また本例では、抑制剤２７としてフッ素グリスを設けたので、スチームＳの温度と水分でスチームＳと接触する部分のグリス基材が溶融し、放電部８周辺がスチーム粒子とフッ素粒子とが混合した環境となる。この環境下で放電によって形成された金属微粒子Ｍにはフッ素粒子が付着し、よって、金属微粒子Ｍ同士の結合が抑制されるようになる。ちなみに、抑制剤２７がない場合、金属微粒子Ｍ同士の結合によって、金属微粒子Ｍはスチーム粒子の凝縮核となるため、金属微粒子Ｍ同士の結合が起こると凝縮核の個数が低下し、そのサイズが大きくなることは、スチーム粒子数の低下とスチーム粒径の拡大につながる。これに対して本発明では抑制剤２７によって金属微粒子Ｍ同士の結合が抑制されるため、金属微粒子Ｍの成長抑制効果を高めながら、多数の金属微粒子Ｍをスチーム粒子と混合させた状態でスチーム吐出口１から吐出させることができ、より一層の抗菌作用が得られるものである。
【００４９】
さらに本例では、前記抑制剤２７をスチーム経路７内面及び中間電極１４側にそれぞれ設けているので、スチーム粒子と抑制剤２７との接触、金属微粒子Ｍと抑制剤２７との接触が促進され、効率的な混合が可能となる。また、中間電極１４の放電部８近傍に抑制剤２７を浸透させた含浸体２６ａを設置したので、放電部８の起点部に抑制剤２７が存在することとなるため、金属微粒子Ｍの殆ど全てに抑制剤２７が接触する。つまり、金属微粒子濃度の高い部位で、微細なスチーム粒子が発生すると共に抑制剤２７と結合した微小な金属微粒子Ｍが生成されるため、スチーム粒子と金属微粒子Ｍとの更に効率的な混合が可能となる。
【００５０】
前記実施形態では、抑制剤２７をスチーム経路７の内面に塗布したが、これに限らず、放電部８近傍又は放電部８から所定の範囲内のいずれかに配設してもよい。その一例を図５に示す。図５では抑制剤２７を電極１３と電極ホルダー１６の両方に配設している。なお抑制剤２７を電極１３と電極ホルダー１６のいずれか一方に配設してもよい。
【００５１】
また本例では、電極１３又は中間電極１４の両方又は一方を着脱可能としている。ちなみに、肌に良いとされる金属、例えばプラチナは非常に高価であり、商品コストの低下のためにはその使用体積の減少が必要となる。よって、放電部８のみプラチナで着脱可能として形成することで、使用体積を減少しコスト低下を実現する。また、着脱可能なため、放電部８以外は共通として様々な種類の金属を取付けることが可能であり、よって、電極１３，１４の交換だけで、効率よく様々な金属微粒子Ｍを簡単に生成することが可能となる。また、加工ミスによるメンテナンス再利用が可能であり、部材コストの低減も可能となる。
【００５２】
図６及び図７は、抑制剤２７を電極１３自体に内設した場合の一例を示している。図６の例では、電極１３の放電部８側に圧入固定された略円筒状の抑制剤保持部材２９を電極１３と同軸状に設け、電極１３と抑制剤保持部材２９の間の貯留部２６を構成する環状隙間２６ｂに抑制剤２７を内設したものである。この場合、電極１３からの放電による金属微粒子Ｍの発生と共に抑制剤２７が放電部８周辺に提供されるため、金属微粒子Ｍ同士の結合抑制が更に効率良く効果的になるものである。図７の例では、電極１３の放電部８側の中心軸部に、貯留部２６を構成する略円柱状の空間２６ｃを設け、そこに抑制剤２７を内設したものである。このような構成でも図６の構成と同様な金属微粒子Ｍ同士の結合抑制効果を得ることができる。
【００５３】
図８〜図１０は抑制剤２７を中間電極１４に設ける場合の他例を示している。図８では、中間電極１４を例えば、多孔質プラチナ等の低密度プラチナで形成し、貯留部２６を構成するポーラス部２６ｄにフッ素グリスなどの抑制剤２７を含浸させたものである。この場合、電極１３からの放電により、中間電極１４から金属微粒子Ｍが発生すると共に抑制剤２７が放電部８周辺に提供されるため、金属微粒子Ｍ同士の結合抑制が更に効率良く効果的になるものである。ここで、電極保持パイプ１９も低密度部材で形成し、そのポーラス部２６ｄに抑制剤２７を含浸させてもよく、この場合、前記効果が更に効果的なものになる。
【００５４】
また図９では、電極保持パイプ１９の放電部８側に圧入固定された略円筒状の抑制剤保持部材３１を電極保持パイプ１９と同軸状に設け、電極保持パイプ１９と抑制剤保持部材３１との間の貯留部２６を構成する環状隙間２６ｅに抑制剤２７を設置した構成としても同様の効果を得ることができる。
【００５５】
さらに図１０では、中間電極１４の放電部８側の中心軸部に、貯留部２６を構成する略円柱状の空間２６ｆを設け、そこに抑制剤２７を内設した構成でも同様の効果を得ることができる。
【００５６】
なお、前記図１では抑制剤２７を筒状部材３５の内面及び中間電極１４のみに設けた場合を例示し、図５〜図１０では抑制剤２７を筒状部材３５の内面以外の部位、例えば、電極１３、電極ホルダー１６，１７、電極保持パイプ１９、中間電極１４にそれぞれ設けた場合を例示したが、抑制剤２７の設置は、放電の妨げとならない範囲であればよく、抑制剤２７を図１及び図５のそれぞれに設けてもよいものである。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】本発明の一実施形態のスチーム経路に設けられる金属微粒子生成手段を説明する断面図である。
【図２】同上の金属微粒子生成手段を備えるスチーム式美容器の断面図である。
【図３】同上のスチーム式美容器の外観斜視図である。
【図４】（ａ）〜（ｅ）は同上のスチーム式美容器の側面図、背面図、正面図、平面図、底面図である。
【図５】同上の抑制剤の配置場所の他例を説明する断面図である。
【図６】（ａ）（ｂ）は同上の電極への抑制剤の配置例を説明する側面断面図及び正面断面図である。
【図７】（ａ）（ｂ）は同上の電極への抑制剤の他の配置例を説明する側面断面図及び正面断面図である。
【図８】同上の中間電極への抑制剤の配置例を説明する側面断面図である。
【図９】同上の中間電極への抑制剤の配置の他例を説明する側面断面図である。
【図１０】同上の中間電極への抑制剤の配置の更に他例を説明する側面断面図である。
【図１１】従来のスチーム式美容器の断面図である。
【符号の説明】
【００５８】
Ａ  スチーム式美容器
１  スチーム吐出口
７  スチーム経路
１６  電極ホルダー
２６  貯留部
２７  抑制剤
３２  金属微粒子生成手段
３３  スチーム発生部
Ｍ  金属微粒子
Ｓ  スチーム
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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