(57)【要約】【課題】  本発明は、レチクル、レチクルケース、レチクル保持方法および露光装置に関し、レチクルがレチクルケース側に接触することを効果的に防止、あるいは、接触力を低減することを目的とする。【解決手段】  レチクルおよびレチクルケースに、永久磁石を配置してなることを特徴とする。また、レチクルに配置される永久磁石を、レチクルケースに配置される永久磁石と反発するように配置してなることを特徴とする。【選択図】      図１
2008076679.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
永久磁石を配置してなることを特徴とするレチクル。
【請求項２】
請求項１記載のレチクルにおいて、
前記永久磁石を埋設してなることを特徴とするレチクル。
【請求項３】
請求項１または請求項２記載のレチクルにおいて、
前記永久磁石を、レチクルケースに配置されるケース側永久磁石と反発するように配置してなることを特徴とするレチクル。
【請求項４】
レチクルを収容する収容部を備えたレチクルケースにおいて、
永久磁石を配置してなることを特徴とするレチクルケース。
【請求項５】
請求項４記載のレチクルケースにおいて、
前記永久磁石を、前記レチクルに配置されるレチクル側永久磁石と反発するように配置してなることを特徴とするレチクルケース。
【請求項６】
請求項５記載のレチクルケースにおいて、
前記永久磁石を、前記収容部内に収容されるレチクルに上方への反発力が作用するように配置してなることを特徴とするレチクルケース。
【請求項７】
請求項５または請求項６記載のレチクルケースにおいて、
前記永久磁石を、前記収容部内に収容されるレチクルに水平方向への反発力が作用するように配置してなることを特徴とするレチクルケース。
【請求項８】
請求項４ないし請求項７のいずれか１項記載のレチクルケースにおいて、
前記収容部を、蓋部材とベース部材との間に形成してなることを特徴とするレチクルケース。
【請求項９】
請求項８記載のレチクルケースにおいて、
前記ベース部材は、前記レチクルのパターン面を覆うことを特徴とするレチクルケース。
【請求項１０】
請求項４ないし請求項９のいずれか１項記載のレチクルケースにおいて、
前記永久磁石を埋設してなることを特徴とするレチクルケース。
【請求項１１】
レチクルケース内にレチクルを保持するレチクル保持方法において、
前記レチクルケースに、前記レチクルに配置されるレチクル側永久磁石と反発するように永久磁石を配置し、前記レチクルに反発力を付与した状態で保持することを特徴とするレチクル保持方法。
【請求項１２】
請求項１１記載のレチクル保持方法において、
前記レチクルを、前記レチクルケースに非接触の状態で保持することを特徴とするレチクル保持方法。
【請求項１３】
請求項１ないし請求項３のいずれか１項記載のレチクルまたは請求項４ないし請求項１０のいずれか１項記載のレチクルケースを使用する露光装置において、
前記レチクルまたは前記レチクルケースに配置される永久磁石を検出する磁気センサを有することを特徴とする露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レチクル、レチクルケース、レチクル保持方法および露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、蓋部材とベース部材とからなるレチクルケース内にレチクルを収容し、レチクルを保護することが行われている。
【特許文献１】特開２００５−１２９９５９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、従来のレチクルケースでは、ベース部材に設けられた台座の上面にレチクルを載置しているため、レチクルの挿脱の繰り返し、あるいは、振動等により、レチクルと台座との接触部分が擦れて微細なゴミ(汚染物)が発生し易く、レチクルのパターン面にゴミが付着し、露光工程での欠陥を生み易いという問題があった。特にペリクルを使用できないＥＵＶＬ露光用レチクルでは、パターン面にゴミが付着し易いため大きな問題となる。
【０００４】
本発明は、かかる従来の問題を解決するためになされたもので、レチクルがレチクルケース側に接触することを効果的に防止、あるいは、接触力を低減することができるレチクル、レチクルケースおよびレチクル保持方法を提供することを目的とする。また、このレチクル、レチクルケースを用いた露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
第１の発明のレチクルは、永久磁石を配置してなることを特徴とする。
第２の発明のレチクルは、第１の発明のレチクルにおいて、前記永久磁石を埋設してなることを特徴とする。
第３の発明のレチクルは、第１または第２の発明のレチクルにおいて、前記永久磁石を、レチクルケースに配置されるケース側永久磁石と反発するように配置してなることを特徴とする。
【０００６】
第４の発明のレチクルケースは、レチクルを収容する収容部を備えたレチクルケースにおいて、永久磁石を配置してなることを特徴とする。
第５の発明のレチクルケースは、第４の発明のレチクルケースにおいて、前記永久磁石を、前記レチクルに配置されるレチクル側永久磁石と反発するように配置してなることを特徴とする。
【０００７】
第６の発明のレチクルケースは、第５の発明のレチクルケースにおいて、前記永久磁石を、前記収容部内に収容されるレチクルに上方への反発力が作用するように配置してなることを特徴とする。
第７の発明のレチクルケースは、第５または第６の発明のレチクルケースにおいて、前記永久磁石を、前記収容部内に収容されるレチクルに水平方向への反発力が作用するように配置してなることを特徴とする。
【０００８】
第８の発明のレチクルケースは、第４ないし第７のいずれか１の発明のレチクルケースにおいて、前記収容部を、蓋部材とベース部材との間に形成してなることを特徴とする。
第９の発明のレチクルケースは、第８の発明のレチクルケースにおいて、前記ベース部材は、前記レチクルのパターン面を覆うことを特徴とする。
第１０の発明のレチクルケースは、第４ないし第９のいずれか１の発明のレチクルケースにおいて、前記永久磁石を埋設してなることを特徴とする。
【０００９】
第１１の発明のレチクル保持方法は、レチクルケース内にレチクルを保持するレチクル保持方法において、前記レチクルケースに、前記レチクルに配置されるレチクル側永久磁石と反発するように永久磁石を配置し、前記レチクルに反発力を付与した状態で保持することを特徴とする。
第１２の発明のレチクル保持方法は、第１１の発明のレチクル保持方法において、前記レチクルを、前記レチクルケースに非接触の状態で保持することを特徴とする。
【００１０】
第１３の発明の露光装置は、第１ないし第３のいずれか１の発明のレチクルまたは第４ないし第１０のいずれか１の発明のレチクルケースを使用する露光装置において、前記レチクルまたは前記レチクルケースに配置される永久磁石を検出する磁気センサを有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明では、レチクルがレチクルケース側に接触することを効果的に防止、あるいは、接触力を低減することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明の実施形態を図面を用いて詳細に説明する。
(第１の実施形態)
図１および図２は、本発明のレチクルおよびレチクルケースの第１の実施形態を示している。
この実施形態のレチクル１は、図２に示すように上方から見て正方形形状とされている。レチクル１を収容するレチクルケース３は、図１に示すように蓋部材５とベース部材７とを有している。蓋部材５およびベース部材７は、樹脂、アルミニウム等により形成されている。ベース部材７は、図２に示すように、上方から見て正方形形状とされている。ベース部材７には、レチクル１を収容するための収容部７ａが形成されている。収容部７ａはベース部材７に形成される正方形状の凹部からなる。蓋部材５は、上方から見て正方形形状(図示せず)とされ、外周部がベース部材７の外側に突出されている。
【００１３】
レチクル１は、露光用のパターンが形成されるパターン面１ａを下にして、収容部７ａ内に収容されている。レチクル１のパターン面１ａの４隅には、永久磁石Ｍ１が埋設されている。４個の永久磁石Ｍ１は、露光用のパターンから外れた位置に配置されている。永久磁石Ｍ１は、円柱状をしており中心軸を上下方向に位置されている。レチクル１の上面１ｂには、永久磁石Ｍ１に対応する位置に永久磁石Ｍ２が埋設されている。
【００１４】
レチクル１の４隅の側面１ｃには、角部の両側に永久磁石Ｍ３が埋設されている。永久磁石Ｍ３は、円柱状をしており中心軸を水平方向に位置されている。
ベース部材７の収容部７ａの底面７ｂの４隅には、レチクル１のパターン面１ａに埋設される永久磁石Ｍ１に対向する位置に永久磁石Ｍ４の下部が埋設されている。このように永久磁石Ｍ４を底面７ｂから突出することにより、レチクル１が底面７ｂに接触することを確実に回避することができる。永久磁石Ｍ４は、円柱状をしており中心軸を上下方向に位置されている。永久磁石Ｍ４は、レチクル１のパターン面１ａに埋設される永久磁石Ｍ１に対して反発するような極性を有している。
【００１５】
ベース部材７の収容部７ａの内側面７ｃには、角部の両側にレチクル１の側面１ｃに埋設される永久磁石Ｍ３に対向する位置に永久磁石Ｍ５が埋設されている。永久磁石Ｍ５は、円柱状をしており中心軸を水平方向に位置されている。永久磁石Ｍ５は、レチクル１の側面１ｃに埋設される永久磁石Ｍ３に対して反発するような極性を有している。
蓋部材５の下面５ａには、レチクル１の上面１ｂに埋設される永久磁石Ｍ２に対向する位置に永久磁石Ｍ６が埋設されている。永久磁石Ｍ６は、円柱状をしており中心軸を上下方向に位置されている。永久磁石Ｍ６は、レチクル１の上面１ｂに埋設される永久磁石Ｍ２に対して反発するような極性を有している。
【００１６】
上述した実施形態では、レチクル１のパターン面１ａに永久磁石Ｍ１を配置し、ベース部材７の底面７ｂに永久磁石Ｍ１に反発するように永久磁石Ｍ４を配置したので、ベース部材７の収容部７ａにレチクル１を収容すると、永久磁石Ｍ１、Ｍ４の反発力によりレチクル１が浮き上がり、レチクル１のパターン面１ａが収容部７ａの底面７ｂに接触することを確実に防止することができる。
【００１７】
また、レチクル１の側面１ｃに永久磁石Ｍ３を配置し、ベース部材７の内側面７ｃに永久磁石Ｍ３に反発するように永久磁石Ｍ５を配置したので、ベース部材７の収容部７ａにレチクル１を収容すると、永久磁石Ｍ３、Ｍ５の反発力によりレチクル１の側面１ｃと収容部７ａの内側面７ｃとの間に所定の間隙が形成され、レチクル１の側面１ｃが収容部７ａの内側面７ｃに接触することを確実に防止することができる。
【００１８】
さらに、レチクル１の上面１ｂに永久磁石Ｍ２を配置し、蓋部材５の下面５ａに永久磁石Ｍ２に反発するように永久磁石Ｍ６を配置したので、ベース部材７の収容部７ａにレチクル１を収容した状態で、永久磁石Ｍ２、Ｍ６の反発力より重量のある蓋部材５を被せると、永久磁石Ｍ２、Ｍ６の反発力によりレチクル１の上面１ｂと蓋部材５の下面５ａとの間に所定の間隙が形成され、レチクル１の上面１ｂが蓋部材５の下面５ａに接触することを確実に防止することができる。
【００１９】
従って、レチクル１のレチクルケース３への挿脱の繰り返し、あるいは、振動等により、レチクル１とレチクルケース３との接触により、微細なゴミ(汚染物)が発生することがなくなり、レチクル１のパターン面１ａにゴミが付着し、露光工程での欠陥が生じることを効果的に防止することができる。
(第２の実施形態)
図３および図４は、本発明のレチクル１およびレチクルケース３の第２の実施形態を示している。
【００２０】
この実施形態では、ベース部材７の収容部７ａの底面７ｂの４隅には、突出部７ｄが形成されている。４箇所の突出部７ｄは同一の高さを有している。これ等の突出部７ｄの高さは、レチクル１のパターン面１ａの永久磁石Ｍ１とベース部材７の底面７ｂの永久磁石Ｍ４との反発力によりレチクル１が浮上する高さより多少高い高さを有している。そして、例えば、レチクル１の重量の９割が永久磁石Ｍ１、Ｍ４の反発力により支持され、残りの１割の重量が突出部７ｄにより支持されるように、突出部７ｄの高さが設定されている。
【００２１】
この実施形態では、レチクル１の重量の殆どが永久磁石Ｍ１、Ｍ４の反発力により支持され、残りの重量のみが突出部７ｄに作用するため、レチクル１と突出部７ｄとの接触力を充分に低減することができる。従って、レチクル１のレチクルケース３への挿脱の繰り返し、あるいは、振動等により微細なゴミ(汚染物)が発生することを低減することができる。そして、レチクル１が完全に浮上しないため、ベース部材７の収容部７ａ内にレチクル１を安定して保持することができる。
【００２２】
なお、上述した以外は、第１の実施形態と同様に構成されているため、第１の実施形態と同一の要素には、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
(第３の実施形態)
図５は、本発明の第３の実施形態の露光装置を示している。
この露光装置では、上述した第１の実施形態のレチクル１およびレチクルケース３が使用される。
【００２３】
露光装置は、レチクルステージ１１等が配置される露光チャンバ１３を有している。露光チャンバ１３の一側には、真空ロボット１５が配置されるロボットチャンバ１７が設けられている。ロボットチャンバ１７の片側には、真空レチクルライブラリ１９が設けられ、他側には、レチクルケースオープナ(クリーンフィルタポッドオープナ)２１が設けられている。露光チャンバ１３、ロボットチャンバ１７、真空レチクルライブラリ１９およびレチクルケースオープナ２１は、真空雰囲気とされている。
【００２４】
ロボットチャンバ１７の露光チャンバ１３に対向する位置には、ロードロック室２３が配置されている。ロードロック室２３は、第２のゲートバルブ２５を介してロボットチャンバ１７に連通されている。また、第１のゲートバルブ２７を介して大気中に連通されている。
ロードロック室２３の外側には、第２の大気ロボット２９を介してレチクルキャリアオープナ３１が配置されている。レチクルキャリアオープナ３１の外側には、第１の大気ロボット３３を介して大気レチクルライブラリ３５が配置されている。
【００２５】
上述した露光装置では、大気レチクルライブラリ３５には、図６に示すように、露光に使用されるＥＵＶＬ用のレチクル１が、レチクルキャリア３９およびレチクルケース(クリーンフィルタポッド)３により２重に保護された状態で置かれている。レチクルケース３は減圧雰囲気中においてレチクル１を保護する保護カバーとしての機能を有する。
大気レチクルライブラリ３５に置かれたレチクルキャリア３９は、第１の大気ロボット３３によりレチクルキャリアオープナ３１に搬送される。そして、レチクルキャリアＩＤリーダ４３によりレチクルキャリア３９が識別される。このレチクルキャリアオープナ３１において、レチクルキャリア３９が開かれレチクルケース３が露出される。露出されたレチクルケース３は温度補償ランプ４５により２〜３℃程度昇温される。昇温されたレチクルケース３は第２の大気ロボット２９により、第１のゲートバルブ２７のみが開いた状態のロードロック室２３内に搬送される。なお、レチクルキャリアオープナ３１からロードロック室２３に至る順路は清浄雰囲気とされている。
【００２６】
この実施形態では、ロードロック室２３には、例えばホール素子を用いた磁気センサＳ１が配置されている。磁気センサＳ１は、ロードロック室２３内に置かれたレチクルケース３の４隅となる位置に４個配置されている。磁気センサＳ１は、レチクルケース３に配置される永久磁石Ｍ４の有無を検出して制御ユニット(不図示)に出力する。制御ユニット(不図示)は、磁気センサＳ１からの出力に基づいて、ロードロック室２３内の所定位置にレチクルケース３が存在するか否かを判断する。そして、所定位置に存在していない場合には、通常の動作を停止し異常信号を出力する。
【００２７】
レチクルケース３が所定位置に存在している場合には、第１のゲートバルブ２７および第２のゲートバルブ２５を閉じた状態でレチクルケース３ごと真空引きが行われる。ロードロック室２３内が所定の真空状態になると、第２のゲートバルブ２５のみが開かれ、レチクルケース３が真空ロボット１５により真空レチクルライブラリ１９に搬送される。
この実施形態では、真空ロボット１５の搬送アーム６１には、例えばホール素子を用いた磁気センサＳ２が配置されている。磁気センサＳ２は、搬送アーム６１の二股に分かれたハンド部６１ａの先端となる位置に２個配置されている。磁気センサＳ２は、レチクルケース３に配置される永久磁石Ｍ４の有無を検出して制御ユニット(不図示)に出力する。制御ユニット(不図示)は、磁気センサＳ２からの出力に基づいて、ハンド部６１ａの所定位置にレチクルケース３が存在するか否かを判断する。そして、所定位置に存在していない場合には、通常の動作を停止し異常信号を出力する。一方、レチクルケース３が所定位置に存在している場合には、通常の動作を行う。
【００２８】
真空レチクルライブラリ１９には、例えば５枚程度のレチクル１がレチクルケース３に収容された状態で保存される。レチクル１は温度調整機構(図示せず)により所定の温度に維持される。レチクルケース３に収容された状態のレチクル１は、レチクルＩＤリーダ４７により識別される。識別されたレチクル１は、真空ロボット１５によりレチクルケース３に収容された状態でレチクルケースオープナ２１に搬送される。
【００２９】
レチクルケースオープナ２１では、レチクルケース３が開かれレチクル１が露出される。レチクルケースオープナ２１に搬送されたレチクルケース３は、図７に示すように、レチクルケースステージ４９上に載置される。レチクルケース３は、蓋部材(上カバー部材)５とベース部材(下カバー部材)７とを有している。そして、図８に示すように、レチクルケースステージ４９を下降させることにより、蓋部材５の外周部が支持部材５５の上端の係止部材５７に係止されレチクル１が露出される。
【００３０】
レチクルケースステージ４９の下方には、レチクル１のプリアライメントを行うための基準顕微鏡５９が配置されている。そして、基準顕微鏡５９により、レチクルケースステージ４９に形成される貫通穴４９ａおよびベース部材７に設けられた透明窓(不図示)から透明窓越しに、レチクル１の下面に設けられたプリアライメントマーク(不図示)を検出し、レチクルケースステージ４９を駆動することでプリアライメントが行われる。この時に、レチクル１に設けられたバーコード等のレチクルＩＤをベース部材７の透明窓(不図示)越しに検出することでレチクルＩＤを確認することができる。
【００３１】
プリアライメントの終了したレチクル１は、図９に示すように、レチクルケース３のベース部材７に収容された状態で、真空ロボット１５の搬送アーム６１によりレチクルステージ１１に搬送される。レチクルステージ１１には、静電チャック６３が吸着面６３ａを下向きにして配置されている。そして、搬送アーム６１によりベース部材７を介してレチクル１を静電チャック６３の吸着面６３ａに押圧した状態で、静電チャック６３をオンすることによりレチクル１の上面１ｂが吸着面６３ａにチャックされる。
【００３２】
この実施形態では、レチクルステージ１１の静電チャック６３には、例えばホール素子を用いた磁気センサＳ３が配置されている。磁気センサＳ３は、図５に示すように静電チャック６３の隅部に４個配置されている。磁気センサＳ３は、レチクル１に配置される永久磁石Ｍ２の有無を検出して制御ユニット(不図示)に出力する。制御ユニット(不図示)は、磁気センサＳ３からの出力に基づいて、静電チャック６３の所定位置にレチクル１が存在するか否かを判断する。そして、所定位置に存在していない場合には、通常の動作を停止し異常信号を出力する。一方、レチクル１が所定位置に存在している場合には、通常の動作を行う。
【００３３】
レチクル１のチャック後に、搬送アーム６１はベース部材７をレチクルケースオープナ２１まで搬送し、図８に示したように下降位置にあるレチクルケースステージ４９上にベース部材７を載置する。そして、図１０に示すように、レチクルケースステージ４９を上昇させることでレチクルケース３の蓋部材５とベース部材７とが密着し、蓋部材５とベース部材７の内部が密閉される。閉じられたレチクルケース３は、そのままの状態でレチクルケースオープナ２１内に露光中待機される。なお、レチクルケースオープナ２１とプリアライメント部とが別の場合にはプリアライメント部で待機させても良い。また、真空レチクルライブラリ１９に搬送して待機させても良い。
【００３４】
露光が終了し、レチクルステージ１１のレチクル１の交換を行う際には、図１０に示したような状態で待機していたレチクルケース３の蓋部材５とベース部材７とを、レチクルケースステージ４９を下降させベース部材７を下降することにより分離(図８でレチクル１が無い状態に対応)し、ベース部材７を搬送アーム６１によりレチクル１の交換位置まで搬送する。
【００３５】
そして、静電チャック６３に吸着されているレチクル１にベース部材７を当接した状態(図９参照)で静電チャック６３をオフすることにより、ベース部材７にレチクル１が載置される。この状態で、搬送アーム６１によりレチクル１をレチクルケースオープナ２１に搬送し、図８に示したように下降位置にあるレチクルケースステージ４９上にレチクル１が載置されるベース部材７を載置する。そして、レチクルケースステージ４９を上昇させることでレチクルケース３の蓋部材５とベース部材７とが密着(図７参照)し、レチクルケース３内にレチクル１を保持した状態でレチクルケース３が密閉される。
【００３６】
上述した露光装置では、ロードロック室２３に磁気センサＳ１を配置し、磁気センサＳ１によりレチクルケース３に配置される永久磁石Ｍ４を検出するようにしたので、ロードロック室２３内の所定位置にレチクルケース３が存在するか否かを容易，確実に判断することができる。
また、真空ロボット１５の搬送アーム６１のハンド部６１ａに磁気センサＳ２を配置し、磁気センサＳ２によりレチクルケース３のベース部材７に配置される永久磁石Ｍ４を検出するようにしたので、ハンド部６１ａの所定位置にベース部材７が存在するか否かを容易，確実に判断することができる。
【００３７】
さらに、静電チャック６３に磁気センサＳ３を配置し、磁気センサＳ３によりレチクル１に配置される永久磁石Ｍ２を検出するようにしたので、静電チャック６３の所定位置にレチクル１が存在するか否かを容易，確実に判断することができる。
そして、上述した露光装置では、レチクル１とレチクルケース３とが接触しないように永久磁石Ｍ１〜Ｍ６が配置されたレチクル１およびレチクルケース３を使用するようにしたので、搬送時の振動等によりレチクル１とレチクルケース３とが接触し微細なゴミ(汚染物)が発生することがなくなり、レチクル１のパターン面１ａにゴミが付着し、露光工程での欠陥が生じることを効果的に防止することができる。
(露光装置の実施形態)
図１１は、ＥＵＶ光リソグラフィシステムを模式化して示している。なお、この実施形態において第３の実施形態と同一の部材には、同一の符号を付している。この実施形態では、露光の照明光としてＥＵＶ光が用いられる。ＥＵＶ光は０．１〜４００ｎｍの間の波長を持つもので、この実施形態では特に１〜５０ｎｍ程度の波長が好ましい。投影像は像光学系システム１０１を用いたもので、ウエハ１０３上にレチクル１によるパターンの縮小像を形成するものである。
【００３８】
ウエハ１０３上に照射されるパターンは、レチクルステージ１１の下側に静電チャック６３を介して配置されている反射型のレチクル１により決められる。この反射型のレチクル１は、上述した実施形態のレチクルケース３により保護された状態で真空ロボット１５によって搬入および搬出される。また、ウエハ１０３はウエハステージ１０５の上に載せられている。典型的には、露光はステップ・スキャンによりなされる。
【００３９】
露光時の照明光として使用するＥＵＶ光は大気に対する透過性が低いので、ＥＵＶ光が通過する光経路は、適当な真空ポンプ１０７を用いて真空に保たれた真空チャンバ１０６に囲まれている。またＥＵＶ光はレーザプラズマＸ線源によって生成される。レーザプラズマＸ線源はレーザ源１０８（励起光源として作用）とキセノンガス供給装置１０９からなっている。レーザプラズマＸ線源は真空チャンバ１１０によって取り囲まれている。レーザプラズマＸ線源によって生成されたＥＵＶ光は真空チャンバ１１０の窓１１１を通過する。
【００４０】
放物面ミラー１１３は、キセノンガス放出部の近傍に配置されている。放物面ミラー１１３はプラズマによって生成されたＥＵＶ光を集光する。放物面ミラー１１３は集光光学系を構成し、ノズル１１２からのキセノンガスが放出される位置の近傍に焦点位置がくるように配置されている。ＥＵＶ光は放物面ミラー１１３の多層膜で反射し、真空チャンバ１１０の窓１１１を通じて集光ミラー１１４へと達する。集光ミラー１１４は反射型のレチクル１へとＥＵＶ光を集光、反射させる。ＥＵＶ光は集光ミラー１１４で反射され、レチクル１の所定の部分を照明する。すなわち、放物面ミラー１１３と集光ミラー１１４はこの装置の照明システムを構成する。
【００４１】
レチクル１は、ＥＵＶ光を反射する多層膜とパターンを形成するための吸収体パターン層を持っている。レチクル１でＥＵＶ光が反射されることによりＥＵＶ光は「パターン化」される。パターン化されたＥＵＶ光は投影システム１０１を通じてウエハ１０３に達する。
この実施形態の像光学システム１０１は、凹面第１ミラー１１５ａ、凸面第２ミラー１１５ｂ、凸面第３ミラー１１５ｃ、凹面第４ミラー１１５ｄの４つの反射ミラーからなっている。各ミラー１１５ａ〜１１５ｄにはＥＵＶ光を反射する多層膜が備えられている。
【００４２】
レチクル１により反射されたＥＵＶ光は第１ミラー１１５ａから第４ミラー１１５ｄまで順次反射されて、レチクル１パターンの縮小（例えば、１／４、１／５、１／６）された像を形成する。像光学系システム１０１は、像の側（ウエハ１０３の側）でテレセントリックになるようになっている。
レチクル１は可動のレチクルステージ１１によって少なくともＸ−Ｙ平面内で支持されている。ウエハ１０３は、好ましくはＸ，Ｙ，Ｚ方向に可動なウエハステージ１０５によって支持されている。ウエハ１０３上のダイを露光するときには、ＥＵＶ光が照明システムによりレチクル１の所定の領域に照射され、レチクル１とウエハ１０３は像光学系システム１０１に対して像光学システム１０１の縮小率に従った所定の速度で動く。このようにして、レチクルパターンはウエハ１０３上の所定の露光範囲（ダイに対して）に露光される。
【００４３】
露光の際には、ウエハ１０３上のレジストから生じるガスが像光学システム１０１のミラー１１５ａ〜１１５ｄに影響を与えないように、ウエハ１０３はパーティション１１６の後ろに配置されることが望ましい。パーティション１１６は開口１１６ａを持っており、それを通じてＥＵＶ光がミラー１１５ｄからウエハ１０３へと照射される。パーティション１１６内の空間は真空ポンプ１１７により真空排気されている。このように、レジストに照射することにより生じるガス状のゴミがミラー１１５ａ〜１１５ｄあるいはレチクル１に付着するのを防ぐ。それゆえ、これらの光学性能の悪化を防いでいる。
【００４４】
この実施形態の露光装置では、上述したレチクル１およびレチクルケース３を使用し、レチクル１を保護した状態で搬送を行うようにしたので、汚染の少ないレチクル１を使用して歩留まりの高い製品を得ることができる。
(実施形態の補足事項)
以上、本発明を上述した実施形態によって説明してきたが、本発明の技術的範囲は上述した実施形態に限定されるものではなく、例えば、以下のような形態でも良い。
【００４５】
(１)上述した実施形態では、レチクルケース３を蓋部材５とベース部材７の２つの部材により構成した例について説明したが、例えば、３つ以上の部材により構成しても良い。
(２)上述した実施形態では、ＥＵＶ光を用いた露光装置の例を説明したが、その他、荷電粒子線、ｉ線、ｇ線、ＫｒＦ、ＡｒＦ、Ｆ２等を用いた露光装置にも広く適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】本発明のレチクルおよびレチクルケースの第１の実施形態を示す説明図である。
【図２】図１のレチクルおよびベース部材を示す上面図である。
【図３】本発明のレチクルおよびレチクルケースの第２の実施形態を示す説明図である。
【図４】図３のレチクルおよびベース部材を示す上面図である。
【図５】本発明の露光装置の実施形態を示す説明図である。
【図６】図５のレチクルキャリアを示す説明図である。
【図７】図５のレチクルケースステージの詳細を示す説明図である。
【図８】図７においてレチクルケースからレチクルを露出した状態を示す説明図である。
【図９】図５のレチクルケースステージからレチクルをレチクルステージに搬送する状態を示す説明図である。
【図１０】図５のレチクルケースステージにレチクルケースを待機している状態を示す説明図である。
【図１１】図５の露光装置の詳細を示す説明図である。
【符号の説明】
【００４７】
１…レチクル、１ａ…パターン面、３…レチクルケース、５…蓋部材、７…ベース部材、７ａ…収容部、Ｍ１，Ｍ２，Ｍ３，Ｍ４，Ｍ５，Ｍ６…永久磁石、Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３…磁気センサ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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