(57)【要約】      （修正有）【課題】楕円偏光板の製造に適した方法を提供する。【解決手段】ポリマーフイルムの流延方向に対して一軸延伸またはフィルムの幅方向に対する弱い延伸とを組み合わせたアンバランス二軸延伸する工程、そして棒状液晶性分子から形成され、最大屈折率の方向と層の面との角度が５度以上８５度未満である層、該ポリマーフイルム、偏光膜および透明保護膜をこの順序に積層する工程により楕円偏光板を製造する。該ポリマーフィルムがノルボルネン樹脂フィルムである。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリマーフイルムを一軸延伸またはアンバランス二軸延伸する工程、そして棒状液晶性分子から形成され、最大屈折率の方向と層の面との角度が５度以上８５度未満である層、該ポリマーフイルム、偏光膜および透明保護膜をこの順序に積層する工程により楕円偏光板を製造することを特徴とする楕円偏光板の製造方法。
【請求項２】
ポリマーフイルムがノルボルネン樹脂フイルムである請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
ポリマーフイルムを延伸する工程を、ポリマーフイルムの流延方向に対して一軸延伸することにより実施する請求項１に記載の製造方法。
【請求項４】
ポリマーフイルムを延伸する工程を、ポリマーフイルムの流延方向に対する一軸延伸とフイルムの幅方向に対する弱い延伸とを組み合わせたアンバランス二軸延伸により実施する請求項１に記載の製造方法。
【請求項５】
延伸後のポリマーフイルムが２０乃至５００μｍの厚さを有する請求項１に記載の製造方法。
【請求項６】
棒状液晶性分子の傾斜角が、棒状液晶性分子とポリマーフイルム面との距離に伴って変化している請求項１に記載の製造方法。
【請求項７】
棒状液晶性分子から形成された層が、０．１乃至２０μｍの厚さを有する請求項１に記載の製造方法。
【請求項８】
棒状液晶性分子が重合性基を有し、重合反応により液晶性分子が固定されている請求項１に記載の製造方法。
【請求項９】
配向膜を用いて棒状液晶性分子を配向させてから、棒状液晶性分子から形成された層をポリマーフイルムの上に転写する請求項１に記載の製造方法。
【請求項１０】
ポリマーフイルムを一軸延伸またはアンバランス二軸延伸する工程、そして棒状液晶性分子から形成され、最大屈折率の方向と層の面との角度が５度以上８５度未満である層および該ポリマーフイルムを積層する工程により位相差板を製造することを特徴とする位相差板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、楕円偏光板および位相差板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＴＮ（Twisted Nematic）型液晶表示装置は、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）やＭＩＭ（Metal Insulator Metal）のような能動素子と組み合わせて、最も広く用いられている液晶表示装置である。
ＴＮ型液晶表示装置は、ＴＮ型液晶セルおよび二枚の偏光素子からなる。
液晶セルは、棒状液晶性分子、それを封入するための二枚の基板および棒状液晶性分子に電圧を加えるための電極層からなる。ＴＮ型液晶セルでは、９０゜のねじれ角で棒状液晶性分子を配向させるための配向膜が、二枚の基板に設けられる。
ＴＮ型液晶表示装置の視野角を改善するため、一般に液晶セルと偏光素子との間に光学補償シート（位相差板）が設けられる。偏光素子（偏光膜）と光学補償シートとの積層体は、楕円偏光板として機能する。光学補償シートとしては、延伸複屈折フイルムが従来から使用されている。
【０００３】
延伸複屈折フイルムからなる光学補償シートに代えて、透明支持体上に液晶性分子を含む光学異方性層を有する光学補償シートを使用することが提案されている。光学異方性層は、液晶性分子を配向させ、その配向状態を固定することにより形成する。液晶性分子は、一般に大きな複屈折率を有する。液晶性分子を用いることで、従来の延伸複屈折フイルムでは得ることができない光学的性質を有する光学補償シートを製造することが可能になる。ディスコティック液晶性分子を用いたＴＮ型液晶セル用の光学補償シートについては、特許文献１〜４に記載がある。また、棒状液晶性分子を用いたＴＮ型液晶セル用の光学補償シートについては、特許文献５に記載がある。
【特許文献１】特開平６−２１４１１６号公報
【特許文献２】米国特許５５８３６７９号明細書
【特許文献３】米国特許５６４６７０３号明細書
【特許文献４】ドイツ特許３９１１６２０Ａ１号明細書
【特許文献５】特開平７−３５９２４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の目的は、楕円偏光板の製造に適した方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の目的は、下記（１）〜（９）の楕円偏光板の製造方法および下記（１０）の位相差板の製造方法により達成された。
（１）ポリマーフイルムを一軸延伸またはアンバランス二軸延伸する工程、そして棒状液晶性分子から形成され、最大屈折率の方向と層の面との角度が５度以上８５度未満である層、該ポリマーフイルム、偏光膜および透明保護膜をこの順序に積層する工程により楕円偏光板を製造することを特徴とする楕円偏光板の製造方法。
（２）ポリマーフイルムがノルボルネン樹脂フイルムである（１）に記載の製造方法。
（３）ポリマーフイルムを延伸する工程を、ポリマーフイルムの流延方向に対して一軸延伸することにより実施する（１）に記載の製造方法。
（４）ポリマーフイルムを延伸する工程を、ポリマーフイルムの流延方向に対する一軸延伸とフイルムの幅方向に対する弱い延伸とを組み合わせたアンバランス二軸延伸により実施する（１）に記載の製造方法。
（５）延伸後のポリマーフイルムが２０乃至５００μｍの厚さを有する（１）に記載の製造方法。
（６）棒状液晶性分子の傾斜角が、棒状液晶性分子とポリマーフイルム面との距離に伴って変化している（１）に記載の製造方法。
（７）棒状液晶性分子から形成された層が、０．１乃至２０μｍの厚さを有する（１）に記載の製造方法。
（８）棒状液晶性分子が重合性基を有し、重合反応により液晶性分子が固定されている（１）に記載の製造方法。
（９）配向膜を用いて棒状液晶性分子を配向させてから、棒状液晶性分子から形成された層をポリマーフイルムの上に転写する（１）に記載の製造方法。
（１０）ポリマーフイルムを一軸延伸またはアンバランス二軸延伸する工程、そして棒状液晶性分子から形成され、最大屈折率の方向と層の面との角度が５度以上８５度未満である層および該ポリマーフイルムを積層する工程により位相差板を製造することを特徴とする位相差板の製造方法。
なお、実質的に直交または平行とは、厳密な直交または平行の状態との角度差が±２０゜未満であることを意味する。角度差は、±１６゜未満であることが好ましく、±１２゜未満であることがより好ましく、±８゜未満であることがさらに好ましく、±４゜未満であることが最も好ましい。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
図１は、ＴＮ型液晶表示装置の基本的な構成を示す模式図である。
図１に示すＴＮ型液晶表示装置は、バックライト（ＢＬ）側から順に、透明保護膜（１ａ）、偏光膜（２ａ）、第２光学異方性層（３ａ）、第１光学異方性層（４ａ）、液晶セルの下基板（５ａ）、棒状液晶性分子（６）、液晶セルの上基板（５ｂ）、第１光学異方性層（４ｂ）、第２光学異方性層（３ｂ）、偏光膜（２ｂ）、そして透明保護膜（１ｂ）からなる。
液晶セルの下基板、棒状液晶性分子および液晶セルの上基板（５ａ〜５ｂ）がＴＮ型液晶セルを構成する。
第１光学異方性層および第２光学異方性層（３ａ〜４ａおよび４ｂ〜３ｂ）が光学補償シートを構成する。
透明保護膜、偏光膜、第１光学異方性層および第２光学異方性層（１ａ〜４ａおよび４ｂ〜１ｂ）が楕円偏光板を構成する。
【０００７】
図２は、ＴＮ型液晶表示装置の別の基本的な構成を示す模式図である。
図２に示すＴＮ型液晶表示装置は、バックライト（ＢＬ）側から順に、透明保護膜（１ａ）、偏光膜（２ａ）、第２光学異方性層（３ａ）、第１光学異方性層（４ａ）、液晶セルの下基板（５ａ）、棒状液晶性分子（６）、液晶セルの上基板（５ｂ）、透明保護膜（１ｂ）、偏光膜（２ｂ）、そして透明保護膜（１ｃ）からなる。
液晶セルの下基板、棒状液晶性分子および液晶セルの上基板（５ａ〜５ｂ）がＴＮ型液晶セルを構成する。
第１光学異方性層および第２光学異方性層（３ａ〜４ａ）が光学補償シートを構成する。
透明保護膜、偏光膜、第１光学異方性層および第２光学異方性層（１ａ〜４ａ）が楕円偏光板を構成する。
【０００８】
図３は、ＴＮ型液晶表示装置のさらに別の基本的な構成を示す模式図である。
図３に示すＴＮ型液晶表示装置は、バックライト（ＢＬ）側から順に、透明保護膜（１ａ）、偏光膜（２ａ）、透明保護膜（１ｂ）、液晶セルの下基板（５ａ）、棒状液晶性分子（６）、液晶セルの上基板（５ｂ）、第１光学異方性層（４ｂ）、第２光学異方性層（３ｂ）、偏光膜（２ｂ）、そして透明保護膜（１ｃ）からなる。
液晶セルの下基板、棒状液晶性分子および液晶セルの上基板（５ａ〜５ｂ）がＴＮ型液晶セルを構成する。
第１光学異方性層および第２光学異方性層（４ｂ〜３ｂ）が光学補償シートを構成する。
透明保護膜、偏光膜、第１光学異方性層および第２光学異方性層（４ｂ〜１ｃ）が楕円偏光板を構成する。
図１〜３に示すように、楕円偏光板は、第１光学異方性層、第２光学異方性層、偏光膜、そして透明保護膜が、この順序で積層されていることが好ましい。楕円偏光板は、第２光学異方性層、第１光学異方性層、偏光膜、そして透明保護膜が、この順序で積層されていてもよい。
【０００９】
［第１光学異方性層］
第１光学異方性層は、最大屈折率の方向と層の面との角度が５度以上８５度未満である。
そのような光学異方性層は、斜め配向させた液晶性分子または斜め延伸したポリマーフイルムから形成できる。本発明では、棒状液晶性分子から、第１光学異方性層を形成する。棒状液晶性分子が均一に配向している場合、分子の長軸方向が最大屈折率の方向に相当する。従って、棒状液晶性分子から第１光学異方性層を形成する場合、棒状液晶性分子の平均傾斜角（棒状液晶性分子と層の面との平均角度）を５度以上８５度未満にする。棒状液晶性分子の傾斜角は、棒状液晶性分子と第２光学異方性層面との距離に伴って変化していることが好ましい。
【００１０】
棒状液晶性分子としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。なお、棒状液晶性分子には、金属錯体も含まれる。
棒状液晶性分子については、季刊化学総説第２２巻液晶の化学（１９９４年）日本化学会編の第４章、第７章および第１１章、および液晶デバイスハンドブック日本学術振興会第１４２委員会編の第３章に記載がある。
棒状液晶性分子の複屈折率は、０．００１乃至０．７であることが好ましい。棒状液晶性分子は、重合性基を有することが好ましい。重合性基（Ｑ）の例を以下に示す。
【００１１】
【化１】
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【００１２】
重合性基（Ｑ）は、不飽和重合性基（Ｑ１〜Ｑ７）、エポキシ基（Ｑ８）またはアジリジニル基（Ｑ９）であることが好ましく、不飽和重合性基であることがさらに好ましく、エチレン性不飽和重合性基（Ｑ１〜Ｑ６）であることが最も好ましい。
以下に、重合性棒状液晶性分子の例を示す。
【００１３】
【化２】
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【００１４】
【化３】
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【００１５】
【化４】
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【００１６】
【化５】
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【００１７】
【化６】
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【００１８】
【化７】
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【００１９】
【化８】
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【００２０】
【化９】
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【００２１】
【化１０】
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【００２２】
【化１１】
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【００２３】
【化１２】
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【００２４】
【化１３】
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【００２５】
【化１４】
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【００２６】
二種類以上の棒状液晶性分子を併用してもよい。例えば、重合性棒状液晶性分子と非重合性棒状液晶性分子とを併用することができる。
第１光学異方性層は、棒状液晶性分子あるいは下記の重合性開始剤や任意の添加剤（例、可塑剤、モノマー、界面活性剤、セルロースエステル）を含む液晶組成物（塗布液）を、配向膜の上に塗布することで形成する。
液晶組成物の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
液晶組成物の塗布は、公知の方法（例、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。
【００２７】
棒状液晶性分子は、実質的に均一に配向していることが好ましく、実質的に均一に配向している状態で固定されていることがさらに好ましく、重合反応により液晶性分子が固定されていることが最も好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。光重合反応が好ましい。
光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１乃至２０重量％であることが好ましく、０．５乃至５重量％であることがさらに好ましい。
棒状液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。
照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ２乃至５０Ｊ／ｃｍ２であることが好ましく、１００乃至８００ｍＪ／ｃｍ２であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。
第１光学異方性層の厚さは、０．１乃至２０μｍであることが好ましく、０．５乃至１５μｍであることがさらに好ましく、１乃至１０μｍであることが最も好ましい。
【００２８】
［第２光学異方性層］
第２光学異方性層は、最大屈折率の方向と層の面との角度が０度以上５度未満である光学的に正の一軸性を有する層であることが好ましい。
なお、第１光学異方性層の最大屈折率の方向を層の面に投影した方向と、第２光学異方性層の最大屈折率の方向とは、同一面内で実質的に直交させることが好ましい。
第２光学異方性層は、水平配向させた棒状液晶性分子または水平に延伸したポリマーフイルムから形成できる。延伸ポリマーフイルム、特に一軸延伸したポリマーフイルムから、第２光学異方性層を形成することが好ましい。
本発明では、ポリマーフイルムを一軸延伸またはアンバランス二軸延伸する。
【００２９】
第２光学異方性層を形成するポリマーとしては、セルロースエステル（例、セルロースアセテート）または合成ポリマー（例、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ノルボルネン樹脂）が一般に用いられる。第２光学異方性層では、セルロースエステルフイルム、ポリカーボネートフイルムまたはノルボルネン樹脂フイルムを用いることが好ましく、セルロースエステルフイルムを用いることが特に好ましい。
なお、セルロースエステルフイルムは、一般には、光学等方性が高い（レターデーションが低い）ポリマーフイルムとして知られている。しかし、欧州特許０９１１６５６５６Ａ２号明細書に記載されている（１）レターデーション上昇剤の使用、（２）セルロースアセテートの酢化度の低下、あるいは（３）冷却溶解法によるフイルムの製造により、レターデーションの高い（光学異方性の）セルロースエステルフイルムを得ることができる。
ポリマーフイルムは、ソルベントキャスト法により形成することが好ましい。
【００３０】
形成したポリマーフイルムは、一般に延伸することによって、光学異方性を得る。すなわち、一軸延伸処理により、光学的に正の一軸性を有し、最大屈折率の方向が層面と実質的に平行であるポリマーフイルムを得ることができる。
一軸延伸は、フイルムの縦方向（流延方向）に対して実施することが好ましい。一軸延伸方向に直交する方向（一軸延伸方向がフイルムの流延方向の場合は、フイルムの巾方向）に対しても弱い延伸処理（アンバランス二軸延伸処理）を実施してもよい。
ポリマーフイルムからなる第２光学異方性層の厚さは、２０乃至５００μｍであることが好ましく、５０乃至２００μｍであることがさらに好ましい。
ポリマーフイルムからなる第２光学異方性層とその上に設けられる層（接着層、配向膜あるいは第１光学異方性層）との接着を改善するため、第２光学異方性層に表面処理（例、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理、火炎処理）を実施してもよい。第２光学異方性層の上に、接着層（下塗り層）を設けてもよい。
【００３１】
棒状液晶性分子から第２光学異方性層を形成する場合、透明支持体を用いてその上（またはその上に設けられる配向膜の上に）第２光学異方性層を設けることが好ましい。透明支持体としては、セルロースエステルフイルムが好ましい。
棒状液晶性分子から第２光学異方性層を形成する場合、棒状液晶性分子の平均傾斜角（棒状液晶性分子と層の面との平均角度）を０度以上５度未満にする。平均傾斜角以外の棒状液晶性分子の詳細については、第１光学異方性層と同様である。
棒状液晶性分子から形成する第２光学異方性層の厚さは、０．１乃至２０μｍであることが好ましく、０．５乃至１５μｍであることがさらに好ましく、１乃至１０μｍであることが最も好ましい。
【００３２】
［配向膜］
第１光学異方性層または第２光学異方性層に用いる棒状液晶性分子は、配向膜を用いて配向させる。
配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で、設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。ポリマーのラビング処理により形成する配向膜が特に好ましい。ラビング処理は、ポリマー層の表面を、紙や布で一定方向に、数回こすることにより実施する。
配向膜を構成するポリマーとしては、配向膜の表面エネルギーを低下させないポリマー（通常の配向膜用ポリマー）を用いることが好ましい。
配向膜の厚さは、０．０１乃至５μｍであることが好ましく、０．０５乃至１μｍであることがさらに好ましい。
なお、配向膜を用いて、第１光学異方性層または第２光学異方性層の棒状液晶性分子を配向させてから、光学異方性層を第２光学異方性層または透明支持体の上に転写してもよい。配向状態で固定された棒状液晶性分子は、配向膜がなくても配向状態を維持することができる。
【００３３】
［偏光膜］
偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フイルムを用いて製造する。偏光膜の偏光軸は、フイルムの延伸方向に垂直な方向に相当する。
【００３４】
［透明保護膜］
透明保護膜としては、ポリマーフイルムが用いられる。保護膜が透明であるとは、光透過率が８０％以上であることを意味する。
透明保護膜としては、一般にセルロースエステルフイルム、好ましくはトリアセチルセルロースフイルムが用いられる。セルロースエステルフイルムは、ソルベントキャスト法により形成することが好ましい。
透明保護膜の厚さは、２０乃至５００μｍであることが好ましく、５０乃至２００μｍであることがさらに好ましい。
【００３５】
［液晶表示装置］
本発明は、様々な表示モードの液晶セルに適用できる。ただし、本発明は、ＴＮ（Twisted Nematic）モードの液晶表示装置において特に効果がある。
【実施例】
【００３６】
［実施例１］
（第２光学異方性層の形成）
下記の組成からなるセルロースアセテート溶液を調製し、ドラム流延機を用いて乾燥膜厚が１０５μｍであるセルロースアセテートフイルムを製造した。
【００３７】
────────────────────────────────────
セルロースアセテート溶液組成
────────────────────────────────────
平均酢酸化度６０．９％のセルロースアセテート          ４５質量部
スミソルブＴＭ１６５（住友化学（株）製）                ２．３５質量部
リン酸トリフェニル                                      ２．７５質量部
リン酸ビフェニルジフェニル                              ２．２０質量部
塩化メチレン                                        ２３２．７５質量部
メタノール                                            ４２．５７質量部
ｎ−ブタノール                                          ８．５０質量部
────────────────────────────────────
【００３８】
製造したセルロースアセテートフイルムを実質倍率６０％で延伸して第２光学異方性層を形成した。エリプソメーター（Ｍ１５０、日本分光（株）製）を用いて、波長６３３ｎｍにおけるレターデーションを測定したところ、厚み方向のレターデーション（Ｒth）が８５ｎｍ、面内レターデーション（Ｒｅ）が１００ｎｍであった。
【００３９】
（第１光学異方性層の形成）
第２光学異方性層の片側にゼラチン層を設けた。ゼラチン層の上に、下記の組成からなる塗布液を塗布し、厚さ０．５μｍの配向膜を形成した。
────────────────────────────────────
配向膜塗布液組成
────────────────────────────────────
下記の変性ポリビニルアルコール                          ２質量部
グルタルアルデヒド                                      ０．１質量部
水                                                    ９８質量部
────────────────────────────────────
【００４０】
【化１５】
2008070888.tif 000017
【００４１】
配向膜表面をラビング処理した。配向膜の上に、下記の組成からなる塗布液を塗布し、厚さ１．５μｍの第１光学異方性層を形成した。
【００４２】
────────────────────────────────────
第１光学異方性層塗布液組成
────────────────────────────────────
下記の棒状液晶性分子                                  ３０質量部
塩化メチレン                                          ７０質量部
────────────────────────────────────
【００４３】
【化１６】
2008070888.tif 000018
【００４４】
エリプソメーター（Ｍ１５０、日本分光（株）製）を用いて、波長６３３ｎｍにおけるレターデーション値を測定したところ、厚み方向のレターデーション（Ｒth）が１００ｎｍであった。また、屈折率が最小となる方向と層面との角度は、５０゜であった。
【００４５】
（楕円偏光板の作製）
延伸したポリビニルアルコールフイルムにヨウ素を吸着させて、偏光膜を作製した。
偏光膜の片面と、作製した光学補償シートの第２光学異方性層面とを、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り付けた。第２光学異方性層の最大屈折率の方向と偏光膜の透過軸とは、直交するように配置した。
偏光膜の反対側の面に、厚さ１００μｍのトリアセチルセルロースフイルム（フジタック、富士写真フイルム（株）製）を透明保護膜として、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り付けた。このようにして、楕円偏光板を作製した。
【００４６】
（液晶表示装置の作製）
ＩＴＯ透明電極が設けられたガラス基板の上に、ポリイミド配向膜を設け、ラビング処理を行った。４．５μｍのスペーサーを介して、二枚の基板を配向膜が向き合うように重ねた。二枚の基板は、配向膜のラビング方向が直交するように配置した。基板の間隙に、棒状液晶性分子（ＺＬＩ−４７９２、メルク社製）を注入し、棒状液晶層を形成した。
以上のように作製したＴＮ液晶セルの両側に、作製した楕円偏光板を二枚、光学異方性層が基板と対面するように貼り付けて、液晶表示装置を作製した。配向膜のラビング方向と、それに隣接する液晶セルの配向膜のラビング方向とは、反平行になるように配置した。
作製したＴＮ型液晶表示装置を調べたところ、コントラストが良好で、階調の反転がない良好画像が表示された。
【００４７】
［実施例２］
（第２光学異方性層の形成）
下記の組成からなるノルボルネン樹脂溶液を調製し、バンド流延機を用いて乾燥膜厚が１００μｍであるノルボルネン樹脂を製造した。
【００４８】
────────────────────────────────────
ノルボルネン樹脂溶液組成
────────────────────────────────────
ノルボルネン樹脂（アートン、ＪＳＲ（株）製）          ３０質量部
塩化メチレン                                          ７０質量部
────────────────────────────────────
【００４９】
製造したノルボルネン樹脂フイルムを長手方向に実質倍率３０％で延伸し、さらに幅方向に実質倍率１５％で延伸して、第２光学異方性層を形成した。エリプソメーター（Ｍ１５０、日本分光（株）製）を用いて、波長６３３ｎｍにおけるレターデーション値を測定したところ、厚み方向のレターデーション（Ｒth）が８５ｎｍ、面内レターデーション（Ｒｅ）が１００ｎｍであった。
【００５０】
（第１光学異方性層の形成）
第２光学異方性層の片側をコロナ放電処理し、その上に、実施例１と同様に、配向膜および第１光学異方性層を形成した。光学的性質については、第１表に示す。
【００５１】
（楕円偏光板の作製）
延伸したポリビニルアルコールフイルムにヨウ素を吸着させて、偏光膜を作製した。
偏光膜の片面と、作製した光学補償シートの第２光学異方性層面とを、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り付けた。第２光学異方性層の最大屈折率の方向と偏光膜の透過軸とは、直交するように配置した。
偏光膜の反対側の面に、厚さ１００μｍのトリアセチルセルロースフイルム（フジタック、富士写真フイルム（株）製）を透明保護膜として、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り付けた。このようにして、楕円偏光板を作製した。
【００５２】
（液晶表示装置の作製）
ＩＴＯ透明電極が設けられたガラス基板の上に、ポリイミド配向膜を設け、ラビング処理を行った。４．５μｍのスペーサーを介して、二枚の基板を配向膜が向き合うように重ねた。二枚の基板は、配向膜のラビング方向が直交するように配置した。基板の間隙に、棒状液晶性分子（ＺＬＩ−４７９２、メルク社製）を注入し、棒状液晶層を形成した。
以上のように作製したＴＮ液晶セルの両側に、作製した楕円偏光板を二枚、光学異方性層が基板と対面するように貼り付けて、液晶表示装置を作製した。配向膜のラビング方向と、それに隣接する液晶セルの配向膜のラビング方向とは、反平行になるように配置した。
作製したＴＮ型液晶表示装置を調べたところ、コントラストが良好で、階調の反転がない良好画像が表示された。
【００５３】
［実施例３］
（第２光学異方性層の形成）
市販のポリカーボネートフイルム（帝人（株）製）を長手方向に実質倍率３０％で延伸して、第２光学異方性層を形成した。エリプソメーター（Ｍ１５０、日本分光（株）製）を用いて、波長６３３ｎｍにおけるレターデーション値を測定したところ、厚み方向のレターデーション（Ｒth）が１００ｎｍ、面内レターデーション（Ｒｅ）が１５０ｎｍであった。
【００５４】
（第１光学異方性層の形成）
第２光学異方性層の片側をコロナ放電処理し、その上に、実施例１と同様に、配向膜および第１光学異方性層を形成した。光学的性質については、第１表に示す。
【００５５】
（楕円偏光板の作製）
延伸したポリビニルアルコールフイルムにヨウ素を吸着させて、偏光膜を作製した。
偏光膜の片面と、作製した光学補償シートの第２光学異方性層面とを、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り付けた。第２光学異方性層の最大屈折率の方向と偏光膜の透過軸とは、直交するように配置した。
偏光膜の反対側の面に、厚さ１００μｍのトリアセチルセルロースフイルム（フジタック、富士写真フイルム（株）製）を透明保護膜として、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り付けた。このようにして、楕円偏光板を作製した。
【００５６】
（液晶表示装置の作製）
ＩＴＯ透明電極が設けられたガラス基板の上に、ポリイミド配向膜を設け、ラビング処理を行った。４．５μｍのスペーサーを介して、二枚の基板を配向膜が向き合うように重ねた。二枚の基板は、配向膜のラビング方向が直交するように配置した。基板の間隙に、棒状液晶性分子（ＺＬＩ−４７９２、メルク社製）を注入し、棒状液晶層を形成した。
以上のように作製したＴＮ液晶セルの両側に、作製した楕円偏光板を二枚、光学異方性層が基板と対面するように貼り付けて、液晶表示装置を作製した。配向膜のラビング方向と、それに隣接する液晶セルの配向膜のラビング方向とは、反平行になるように配置した。
作製したＴＮ型液晶表示装置を調べたところ、コントラストが良好で、階調の反転がない良好画像が表示された。
【００５７】
［実施例４］
（第１光学異方性層の形成）
実施例１で作製した第２光学異方性層の片側に、光重合性オリゴマー（ＵＮ９００ＰＥＰ、根上工業（株）製）１質量部、テトラヒドロフラン１９質量部および少量のベンゾフェノンからなる塗布液を塗布し、６０℃で３０分間乾燥した。その上に、棒状ネマティック液晶性分子（ＺＬ１４７８８−１００、メルクジャパン（株）製）を塗布し、５ｋＧの磁場を塗布面の法線方向から、第２光学異方性層の延伸方向と垂直な方向へ７０度傾けた角度で印加しながら紫外線ランプで紫外線を照射して、棒状ネマティック液晶性分子を配向および固定した。
光学的性質については、第１表に示す。
【００５８】
（楕円偏光板の作製）
延伸したポリビニルアルコールフイルムにヨウ素を吸着させて、偏光膜を作製した。
偏光膜の片面と、作製した光学補償シートの第２光学異方性層面とを、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り付けた。第２光学異方性層の最大屈折率の方向と偏光膜の透過軸とは、直交するように配置した。
偏光膜の反対側の面に、厚さ１００μｍのトリアセチルセルロースフイルム（フジタック、富士写真フイルム（株）製）を透明保護膜として、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り付けた。このようにして、楕円偏光板を作製した。
【００５９】
（液晶表示装置の作製）
ＩＴＯ透明電極が設けられたガラス基板の上に、ポリイミド配向膜を設け、ラビング処理を行った。４．５μｍのスペーサーを介して、二枚の基板を配向膜が向き合うように重ねた。二枚の基板は、配向膜のラビング方向が直交するように配置した。基板の間隙に、棒状液晶性分子（ＺＬＩ−４７９２、メルク社製）を注入し、棒状液晶層を形成した。
以上のように作製したＴＮ液晶セルの両側に、作製した楕円偏光板を二枚、光学異方性層が基板と対面するように貼り付けて、液晶表示装置を作製した。配向膜のラビング方向と、それに隣接する液晶セルの配向膜のラビング方向とは、反平行になるように配置した。
作製したＴＮ型液晶表示装置を調べたところ、コントラストが良好で、階調の反転がない良好画像が表示された。
【００６０】
［実施例５］
（第２光学異方性層の形成）
トリアセチルセルロースフイルム（フジタック、富士写真フイルム（株）製）を透明支持体として用いた。
透明支持体の片側にゼラチン層を設けた。ゼラチン層の上に、下記の組成からなる塗布液を塗布し、厚さ０．５μｍの配向膜を形成した。
────────────────────────────────────
配向膜塗布液組成
────────────────────────────────────
変性ポリビニルアルコール（ＭＰ２０３、クラレ（株）製）  ２質量部
グルタルアルデヒド                                      ０．１質量部
水                                                    ９８質量部
────────────────────────────────────
【００６１】
配向膜表面をラビング処理した。配向膜の上に、下記の組成からなる塗布液を塗布し、厚さ１．５μｍの第２光学異方性層を形成した。
【００６２】
────────────────────────────────────
第２光学異方性層塗布液組成
────────────────────────────────────
実施例１の第１光学異方性層で用いた棒状液晶性分子      ３０質量部
塩化メチレン                                          ７０質量部
────────────────────────────────────
【００６３】
エリプソメーター（Ｍ１５０、日本分光（株）製）を用いて、波長６３３ｎｍにおけるレターデーションを測定したところ、厚み方向のレターデーション（Ｒth）が１００ｎｍ、面内レターデーション（Ｒｅ）が１５０ｎｍであった。
【００６４】
（第１光学異方性層の形成）
透明支持体の反対側の面に、実施例１と同様に、ゼラチン層、配向膜および第１光学異方性層を形成した。光学的性質については、第１表に示す。
【００６５】
（楕円偏光板の作製）
延伸したポリビニルアルコールフイルムにヨウ素を吸着させて、偏光膜を作製した。
偏光膜の片面と、作製した光学補償シートの第２光学異方性層面とを、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り付けた。第２光学異方性層の最大屈折率の方向と偏光膜の透過軸とは、直交するように配置した。
偏光膜の反対側の面に、厚さ１００μｍのトリアセチルセルロースフイルム（フジタック、富士写真フイルム（株）製）を透明保護膜として、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り付けた。このようにして、楕円偏光板を作製した。
【００６６】
（液晶表示装置の作製）
ＩＴＯ透明電極が設けられたガラス基板の上に、ポリイミド配向膜を設け、ラビング処理を行った。４．５μｍのスペーサーを介して、二枚の基板を配向膜が向き合うように重ねた。二枚の基板は、配向膜のラビング方向が直交するように配置した。基板の間隙に、棒状液晶性分子（ＺＬＩ−４７９２、メルク社製）を注入し、棒状液晶層を形成した。
以上のように作製したＴＮ液晶セルの両側に、作製した楕円偏光板を二枚、光学異方性層が基板と対面するように貼り付けて、液晶表示装置を作製した。配向膜のラビング方向と、それに隣接する液晶セルの配向膜のラビング方向とは、反平行になるように配置した。
作製したＴＮ型液晶表示装置を調べたところ、コントラストが良好で、階調の反転がない良好画像が表示された。
【００６７】
第１表
────────────────────────────────────
第１光学異方性層の  第２光学異方性層の  第１＋第２積層体の
楕円偏光板  屈折率最大方向角度  屈折率最大方向角度  屈折率最小方向角度
────────────────────────────────────
実施例１        ４５゜                ０゜              ５０゜
実施例２        ４５゜                ０゜              ５０゜
実施例３        ３５゜                ０゜              ６０゜
実施例４        ５５゜                ０゜              ４０゜
実施例５        ２５゜                ０゜              ７０゜
────────────────────────────────────
【００６８】
［実施例６］
（第２光学異方性層の形成）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、からなるセルロースアセテート溶液を調製した。
【００６９】
────────────────────────────────────
セルロースアセテート溶液組成
────────────────────────────────────
酢化度６０．０％のセルロースアセテート              １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤）                      ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）              ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                      ３００質量部
メタノール（第２溶媒）                                ５４質量部
１−ブタノール（第３溶媒）                            １１質量部
────────────────────────────────────
【００７０】
別のミキシングタンクに、下記のレターデーション上昇剤１６質量部、メチレンクロライド８０質量部およびメタノール２０質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液を調製した。
【００７１】
【化１７】
2008070888.tif 000019
【００７２】
セルロースアセテート溶液４７４質量部に、レターデーション上昇剤溶液５６質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。
得られたドープを、バンド流延機を用いて流延した。残留溶媒量が１５重量％のフイルムを、３０℃の条件でテンターを用いて３５％の延伸倍率で横延伸して、セルロースアセテートフイルムを製造した。
製造したセルロースアセテートフイルムからなる第２光学異方性層について、エリプソメーター（Ｍ１５０、日本分光（株）製）を用いて、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値を測定したところ、厚み方向のレターデーション（Ｒth）が１３０ｎｍ、面内レターデーション（Ｒｅ）が１０５ｎｍであった。
第２光学異方性層を、１．５Ｎの水酸化カリウム水溶液に、４０℃で５分間浸漬した後、硫酸で中和し、純水で水洗し、乾燥した。第２光学異方性層の表面エネルギーを接触角法により求めたところ、６８ｍＮ／ｍであった。
【００７３】
（第１光学異方性層の形成）
第２光学異方性層の片側に、下記の組成からなる塗布液を＃１６のワイヤーバーコーターを用いて、２８ｍｌ／ｍ2 塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥した。
【００７４】
────────────────────────────────────
配向膜塗布液組成
────────────────────────────────────
実施例１で用いた変性ポリビニルアルコール              １０質量部
水                                                  ３７１質量部
メタノール                                          １１９質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤）                            ０．５質量部
────────────────────────────────────
【００７５】
第２光学異方性層の遅相軸（波長６３２．８ｎｍで測定）と直交する方向に、配向膜表面をラビング処理した。
配向膜の上に、実施例１で用いた第１光学異方性層塗布液を塗布し、厚さ１．５μｍの第１光学異方性層を形成した。
エリプソメーター（Ｍ１５０、日本分光（株）製）を用いて、波長６３３ｎｍにおけるレターデーションを測定したところ、厚み方向のレターデーション（Ｒth）が１００ｎｍであった。また、屈折率が最小となる方向と層面との角度は、５０゜であった。
【００７６】
（楕円偏光板の作製）
延伸したポリビニルアルコールフイルムにヨウ素を吸着させて、偏光膜を作製した。
偏光膜の片面と、作製した光学補償シートの第２光学異方性層面とを、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り付けた。第２光学異方性層の最大屈折率の方向と偏光膜の透過軸とは、平行になるように配置した。
偏光膜の反対側の面に、厚さ１００μｍのトリアセチルセルロースフイルム（フジタック、富士写真フイルム（株）製）を透明保護膜として、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り付けた。このようにして、楕円偏光板を作製した。
【００７７】
（液晶表示装置の作製）
ＩＴＯ透明電極が設けられたガラス基板の上に、ポリイミド配向膜を設け、ラビング処理を行った。４．５μｍのスペーサーを介して、二枚の基板を配向膜が向き合うように重ねた。二枚の基板は、配向膜のラビング方向が直交するように配置した。基板の間隙に、棒状液晶性分子（ＺＬＩ−４７９２、メルク社製）を注入し、棒状液晶層を形成した。
以上のように作製したＴＮ液晶セルの両側に、作製した楕円偏光板を二枚、光学異方性層が基板と対面するように貼り付けて、液晶表示装置を作製した。配向膜のラビング方向と、それに隣接する液晶セルの配向膜のラビング方向とは、反平行になるように配置した。
作製したＴＮ型液晶表示装置を調べたところ、コントラストが良好で、階調の反転がない良好画像が表示された。
【産業上の利用可能性】
【００７８】
本発明に従うと、コントラストが良好で、階調反転が少ない良好な画像を表示する楕円偏光板を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００７９】
【図１】ＴＮ型液晶表示装置の基本的な構成を示す模式図である。
【図２】ＴＮ型液晶表示装置の別の基本的な構成を示す模式図である。
【図３】ＴＮ型液晶表示装置のさらに別の基本的な構成を示す模式図である。
【符号の説明】
【００８０】
ＢＬ  バックライト
１ａ、１ｂ、１ｃ  透明保護膜
２ａ、２ｂ  偏光膜
３ａ、３ｂ  第２光学異方性層
４ａ、４ｂ  第１光学異方性層
５ａ  液晶セルの下基板
５ｂ  液晶セルの上基板
６  棒状液晶性分子
【図１】
2008070888.tif 000020
【図２】
2008070888.tif 000021
【図３】
2008070888.tif 000022