(57)【要約】【解決課題】信頼性が高く、運転コストが低い水銀除去方法及び水銀除去システムを提供する。【解決手段】高温空気１８により直接加熱されて気化した気化ＨＣｌを供給する塩化水素気化器１７と、前記気化ＨＣｌを煙道中の注入個所４において、ボイラ１から排出された窒素酸化物、硫黄酸化物および水銀含有排ガス１００に対して注入・供給し、気化ＨＣｌが供給された排ガス中の窒素酸化物を除去する還元脱硝装置５と、脱硝された排ガスを熱交換するエアヒータ６及び熱回収器７と、排ガス中の煤塵を除去する集塵機８と、排ガス中の硫黄酸化物を除去する脱硫装置９と、排ガス温度を上昇させる再加熱器１０と、処理された排ガスを外部へ排出する煙突１１とからなる。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
煙道内の窒素酸化物、硫黄酸化物および水銀を含む排ガスに対し、水銀塩素化剤を供給する工程、固体触媒下の還元脱硝処理工程、アルカリ吸収液を用いた湿式脱硫工程をこの順で行う水銀含有排ガスからの水銀除去方法であって、
前記水銀塩素化剤を供給する工程は、常温常圧で非ガス状である非ガス状水銀塩素化剤を、排ガス煙道中に介装したエアヒータからの高温空気又はボイラ設備からの排ガス由来の高温空気で直接加熱しガス化するステップを含むことを特徴とする水銀含有排ガスからの水銀除去方法。
【請求項２】
請求項１において、
前記高温空気中の煤塵を除塵するステップを含むことを特徴とする水銀含有排ガスからの水銀除去方法。
【請求項３】
請求項１において、
前記高温空気の温度が３００〜４００℃であることを特徴とする水銀含有排ガスからの水銀除去方法。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一つにおいて、
煙道内の脱硫装置の前流でガス状水銀塩素化剤濃度を計測するステップと、
前記ガス状水銀塩素化剤の濃度計測値に基づいて、水銀塩素化剤供給装置において供給すべきガス状水銀塩素化剤の初期濃度を算出するステップと、
算出された前記初期濃度に基づいて、煙道内に供給する非ガス状水銀塩素化剤の量を制御するステップとを含むことを特徴とする水銀含有排ガスからの水銀除去方法。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一つにおいて、
前記非ガス状水銀塩素化剤が、塩化アンモニウム、塩化水素水溶液または液体塩素であることを特徴とする水銀含有ガスからの水銀除去システム。
【請求項６】
煙道内の窒素酸化物、硫黄酸化物および水銀を含む排ガスに対し、水銀塩素化剤を供給する水銀塩素化剤供給装置、窒素酸化物の還元を行う還元脱硝装置、硫黄酸化物を除去する脱硫装置を備えた水銀含有排ガスからの水銀除去システムであって、
前記水銀塩素化剤供給装置は、常温常圧で非ガス状である非ガス状水銀塩素化剤を、排ガス煙道中に介装したエアヒータからの高温空気又はボイラ設備からの排ガス由来の高温空気で直接加熱しガス化し、ガス状水銀塩素化剤を得るガス化装置を備えたことを特徴とする水銀含有排ガスからの水銀除去システム。
【請求項７】
請求項６において、
前記高温空気が３００〜４００℃の温度であることを特徴とする水銀含有排ガスからの水銀除去システム。
【請求項８】
請求項５乃至７のいずれか一つにおいて、
さらに、煙道内の脱硫装置の前流に設置された前記ガス状水銀塩素化剤の濃度計測装置と、
前記ガス状水銀塩素化剤の濃度計測値に基づいて、前記水銀塩素化剤供給装置において供給すべきガス状水銀塩素化剤の初期濃度を算出する算出装置と、
算出された前記初期濃度に基づいて、煙道内に供給する非ガス状水銀塩素化剤の量を制御する制御装置とを備えたことを特徴とする水銀含有排ガスからの水銀除去システム。
【請求項９】
請求項５乃至８のいずれか一つにおいて、
前記非ガス状水銀塩素化剤が、塩化アンモニウム、塩化水素水溶液または液体塩素であることを特徴とする水銀含有ガスからの水銀除去システム。
【請求項１０】
請求項５乃至９のいずれか一つにおいて、
さらに、煙道内の脱硫装置の前流または後流に設置された水銀濃度計測装置と、
前記水銀濃度の計測値に基づいて、前記水銀塩素化剤供給装置において供給すべきガス状水銀塩素化剤の初期濃度を算出する算出装置と、
算出された前記初期濃度に基づいて、煙道内に供給する非ガス状水銀塩素化剤の量を制御する制御装置とを備えたことを特徴とする水銀含有ガスからの水銀除去システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、燃焼装置から排出される排ガス中に含まれる水銀を除去する水銀除去方法及び水銀除去システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
石炭焚き排ガスや重質油を燃焼した際に生じる排ガス中には、煤塵、ＳＯｘ、ＮＯｘのほか、金属水銀が含まれることがある。
近年、ＮＯｘを還元する脱硝装置、および、アルカリ吸収液をＳＯｘ吸収剤とする湿式脱硫装置と組み合わせて、この金属水銀を処理する方法や装置について様々な考案がなされてきた。
【０００３】
排ガス中の金属水銀を処理する方法としては、活性炭やセレンフィルター等の吸着剤による除去方法が知られているが、特殊な吸着除去手段が必要であり、発電所排ガス等の大容量排ガスの処理には適していない。
【０００４】
大容量排ガス中の金属水銀を処理する方法として、煙道中、高温の脱硝装置の前流工程で塩素化剤をガス噴霧し、脱硝触媒上で水銀を酸化（塩素化）させ、水溶性の塩化水銀にしたのち、後流の湿式脱硫装置で吸収させる方法が提案されている（例えば、特許文献１を参照。）。
【０００５】
煙道にガス噴霧する装置および技術は脱硝装置のＮＨ3噴霧装置で実用化されており、塩素化剤のガス噴霧にも同様の手段が採用されうる。しかしながら、塩化水素ガスは腐食性が高いので、必要以上の塩素化剤を添加することは、システム中の煙道や後流装置の腐食原因となり、プラント寿命の低下をもたらすという問題があった。
【０００６】
塩素化剤による装置への腐食破損等の影響を抑え信頼性を向上するため、湿式脱硫後の排ガスについて水銀濃度を水銀モニターで測定し、脱硫後の水銀濃度に基づいて塩素化剤の供給量を調整するシステムが提案されている（例えば、特許文献２参照）。
【０００７】
塩素化剤の供給量調整は、塩素化剤として高純度塩化水素ガスを直接用いれば比較的容易であるが、価格が高く、大容量排ガス処理には経済的でない。
また、塩素化剤を噴霧する場合、脱硝装置の運転温度（３５０〜４２０℃）で直接噴霧可能な材料はなかった。また、ＮａＣｌ等の中性塩スラリーを用いた場合も脱硝手段の運転温度では分解せず、効果を発揮しないだけでなく閉塞のおそれが生じるという問題があった。
【０００８】
【特許文献１】特開平１０−２３０１３７号公報
【特許文献２】特開２００１−１９８４３４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、信頼性が高く、運転コストが低い水銀除去方法及び水銀除去システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上述した課題を解決するための本発明の第１の発明は、煙道内の窒素酸化物、硫黄酸化物および水銀を含む排ガスに対し、水銀塩素化剤を供給する工程、固体触媒下の還元脱硝処理工程、アルカリ吸収液を用いた湿式脱硫工程をこの順で行う水銀含有排ガスからの水銀除去方法であって、前記水銀塩素化剤を供給する工程は、常温常圧で非ガス状である非ガス状水銀塩素化剤を、排ガス煙道中に介装したエアヒータからの高温空気又はボイラ設備からの排ガス由来の高温空気で直接加熱しガス化するステップを含むことを特徴とする水銀含有排ガスからの水銀除去方法にある。
【００１１】
第２の発明は、第１の発明において、前記高温空気中の煤塵を除塵するステップを含むことを特徴とする水銀含有排ガスからの水銀除去方法にある。
【００１２】
第３の発明は、第１の発明において、前記高温空気の温度が３００〜４００℃であることを特徴とする水銀含有排ガスからの水銀除去方法にある。
【００１３】
第４の発明は、第１乃至３のいずれか一つの発明において、煙道内の脱硫装置の前流でガス状水銀塩素化剤濃度を計測するステップと、前記ガス状水銀塩素化剤の濃度計測値に基づいて、水銀塩素化剤供給装置において供給すべきガス状水銀塩素化剤の初期濃度を算出するステップと、算出された前記初期濃度に基づいて、煙道内に供給する非ガス状水銀塩素化剤の量を制御するステップとを含むことを特徴とする水銀含有排ガスからの水銀除去方法にある。
【００１４】
第５の発明は、第１乃至４のいずれか一つの発明において、前記非ガス状水銀塩素化剤が、塩化アンモニウム、塩化水素水溶液または液体塩素であることを特徴とする水銀含有ガスからの水銀除去システムにある。
【００１５】
第６の発明は、煙道内の窒素酸化物、硫黄酸化物および水銀を含む排ガスに対し、水銀塩素化剤を供給する水銀塩素化剤供給装置、窒素酸化物の還元を行う還元脱硝装置、硫黄酸化物を除去する脱硫装置を備えた水銀含有排ガスからの水銀除去システムであって、前記水銀塩素化剤供給装置は、常温常圧で非ガス状である非ガス状水銀塩素化剤を、排ガス煙道中に介装したエアヒータからの高温空気又はボイラ設備からの排ガス由来の高温空気で直接加熱しガス化し、ガス状水銀塩素化剤を得るガス化装置を備えたことを特徴とする水銀含有排ガスからの水銀除去システムにある。
【００１６】
第７の発明は、第６の発明において、前記高温空気が３００〜４００℃の温度であることを特徴とする水銀含有排ガスからの水銀除去システムにある。
【００１７】
第８の発明は、第５乃至７のいずれか一つの発明において、さらに、煙道内の脱硫装置の前流に設置された前記ガス状水銀塩素化剤の濃度計測装置と、前記ガス状水銀塩素化剤の濃度計測値に基づいて、前記水銀塩素化剤供給装置において供給すべきガス状水銀塩素化剤の初期濃度を算出する算出装置と、算出された前記初期濃度に基づいて、煙道内に供給する非ガス状水銀塩素化剤の量を制御する制御装置とを備えたことを特徴とする水銀含有排ガスからの水銀除去システムにある。
【００１８】
第９の発明は、第５乃至８のいずれか一つの発明において、前記非ガス状水銀塩素化剤が、塩化アンモニウム、塩化水素水溶液または液体塩素であることを特徴とする水銀含有ガスからの水銀除去システムにある。
【００１９】
第１０の発明は、第５乃至９のいずれか一つの発明において、さらに、煙道内の脱硫装置の前流または後流に設置された水銀濃度計測装置と、前記水銀濃度の計測値に基づいて、前記水銀塩素化剤供給装置において供給すべきガス状水銀塩素化剤の初期濃度を算出する算出装置と、算出された前記初期濃度に基づいて、煙道内に供給する非ガス状水銀塩素化剤の量を制御する制御装置とを備えたことを特徴とする水銀含有ガスからの水銀除去システムにある。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、熱源として水蒸気を用いることなく非ガス状水銀塩素化剤を直接加熱することができ、熱効率が良好となり、長期の信頼性を有し、運転コストを低減させた排ガス処理システムを得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、この発明につき図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、この実施例によりこの発明が限定されるものではない。また、下記実施例における構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、あるいは実質的に同一のものが含まれる。
【実施例１】
【００２２】
本発明による実施例１に係る水銀含有排ガスからの水銀除去システムについて、図面を参照して説明する。
図１は、本実施例に係る水銀含有排ガスからの水銀除去システムを示す概念図である。ここで、本実施例では、常温常圧で非ガス状である非ガス状水銀塩素化剤としてＨＣｌ水溶液を用いて説明する。
図１に示すように、本実施例に係る水銀含有排ガスからの水銀除去システムは、高温空気１８により直接加熱されて気化した気化ＨＣｌを供給する塩化水素気化器１７と、前記気化ＨＣｌを煙道中の注入個所４において、ボイラ１から排出された窒素酸化物、硫黄酸化物および水銀含有排ガス１００に対して注入・供給し、気化ＨＣｌが供給された排ガス中の窒素酸化物を除去する還元脱硝装置５と、脱硝された排ガスを熱交換するエアヒータ６及び熱回収器７と、排ガス中の煤塵を除去する集塵器８と、排ガス中の硫黄酸化物を除去する脱硫装置９と、排ガス温度を上昇させる再加熱器１０と、処理された排ガスを外部へ排出する煙突１１とから構成されている。また、前記還元脱硝装置５の前流の煙道にはＮＨ3の注入箇所２があり、ＮＨ3タンク３から供給されるＮＨ3によって窒素酸化物の還元を行うようにしている。
【００２３】
本実施例では、前記エアヒータ６からの高温空気１８を第１の高温空気ラインＬ1を介して塩化水素気化器１７に供給している。そして前記塩化水素気化器１７において供給された高温空気１８を用いて溶液タンク１２から供給された塩酸ＨＣｌを直接加熱しガス化するようにしている。ガス化した気化ＨＣｌは注入個所４から排ガス煙道内に供給するようにしている。
【００２４】
このように、本発明では、エアヒータ８からの高温空気１８を用いているので、水蒸気を使用する場合のように間接熱交換器よりも熱効率の向上を図ることができる。
すなわち、高温空気１８を用いることができるので、塩化水素気化器１７において直接熱交換が可能となり、加熱源が直接気化に寄与することとなり、間接熱交換の熱交換ロスがなく、熱効率の大幅な向上を図ることができる。
【００２５】
このように、本発明のシステムによれば、水蒸気を適用できないプラントへの適用が可能となる。また、高温上記、熱交換器、カーボン製気化器、ブロア等の水蒸気による熱交換設備等が不用となり、プラント設置費用の低減を図ることができる。
【００２６】
また、プラント運転時は確実にエアヒータ６から高温空気１８を供給することができるので、メンテナンスが不用となる。
また、エアヒータ８における高温空気１８であるので、ボイラからの排ガス由来の高温空気と異なり、煤塵濃度は腐食成分濃度が低い高温ガスを用いることとなり、長期間に亙って安定して適用することができる。また、必要に応じて煤塵を除去するための除塵機（例えばサイクロンやセラミックフィルタ等）の設置を不要とするようにしてもよい。
【００２７】
本発明の水銀除去システムは、前記一連の排ガス処理システムに、図１に示すように煙道内の脱硫装置９の前流に設置された前記ガス状水銀塩素化剤の水銀濃度計測部１４と、前記ガス状水銀塩素化剤の濃度計測値に基づいて、前記水銀塩素化剤供給装置において供給すべきガス状水銀塩素化剤の初期濃度を算出する算出装置である演算部１５と、算出された前記初期濃度に基づいて、非ガス状水銀塩素化剤タンクから煙道内に供給される非ガス状水銀塩素化剤の量を制御する制御装置１６とを備えたシステムとすることができる。
なお、ガス状／非ガス状水銀塩素化剤については、後述する。
【００２８】
ガス状水銀塩素化剤濃度計測部１３は、ガス状水銀塩素化剤が脱硫装置９でほぼ全量捕集されてしまうので、脱硫装置９よりも前流側で、かつ水銀塩素化剤の注入箇所２より後流であればどこに設置してもよいが、ガス状水銀塩素化剤濃度計測部１３に排ガスをサンプリングする管として細いものを用いた場合、塵等によって配管が詰まりやすいことから、集塵器８の後流側で脱硫装置９の前流側に設置することが好ましい。
【００２９】
本発明の水銀除去システムは、さらに、煙道内の脱硫装置の前流または後流に設置された水銀濃度計測部１４と、前記水銀濃度の計測値に基づいて、前記塩化水素気化器１７から供給すべきガス状水銀塩素化剤（気化ＨＣｌ）の初期濃度を算出する演算部１５と、算出された前記初期濃度に基づいて、煙道内に供給する気化ＨＣｌの量を制御する制御装置１６とを備えたものであることが好適である。
【００３０】
前記水銀濃度計測部１４の設置位置は、（Ｉ）Ｈｇ0、Ｈｇ2+を分別定量可能な濃度計測装置、または、（ＩＩ）ＴｏｔａｌＨｇの濃度計測装置のいずれを用いるかにより異なる。
ここで、本明細書において、前記Ｈｇ0は、蒸発した金属水銀である。
（Ｉ）の装置を用いる場合、還元脱硝装置５の後流側の何れに設置してもよいが、脱硫装置９の出口では脱硫処理での捕集率の影響を受けるため、脱硫装置９の入口より前流側に設置するのが好ましい。より好ましくは、集塵器８での捕集効果も排除できる還元脱硝装置５の出口側に設置する。
（ＩＩ）の装置を用いる場合、集塵器８でいずれの成分も捕集されなかった場合に酸化率の変化で組成比率が変化しても脱硫装置９装置入口では検出できないため、脱硫装置９出口側への設置となる。
ここで、一般にボイラから排出される排ガスの煙道内における排ガス中水銀濃度は、通常、０．１〜５０μｇ／ｍ3Ｎの範囲である。
【００３１】
ガス状水銀塩素化剤の濃度計測装置及び水銀濃度計測装置による計測値に基づいて以下のようにガス状水銀塩素化剤の初期濃度を算出し、制御することができる。
非ガス状水銀塩素化剤の供給量は、脱硝装置での所定の塩化水素ガスまたは塩素ガス中、Ｈｇ0酸化性能に必要なＨＣｌ濃度または必要なＣｌ2濃度となるよう制御する。
（Ｉ）を用いる場合、触媒酸化率と各成分の濃度との関係は以下のとおりとなっており、いずれかの計測値より酸化率が低下した場合にＨｇ0濃度の上昇またはＨｇ2+濃度の低下が検出され、所定の酸化率が得られるように水銀塩素化剤噴霧量を増加させて制御を行う。
【００３２】
【数１】
2008142602.tif 000003
【００３３】
（ＩＩ）の装置を用いる場合、Ｈｇ2+がある一定の捕集率で捕集され、Ｈｇ0が捕集されないとすると水銀の触媒酸化率と脱硫装置出口ＴｏｔａｌＨｇ濃度との関係は以下の通りとなり、触媒酸化率が低下した場合、ＴｏｔａｌＨｇ濃度の増加が検出され、所定の酸化率が得られるように水銀塩素化剤噴霧量を増加させて制御を行う。
【００３４】
【数２】
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【００３５】
なお、脱硫装置９での水銀捕集性能に対して、吸収塔内に蓄積した亜硫酸イオンの作用により、吸収したＨｇ2+がＨｇ0に再還元され、吸収塔より再揮散する現象も報告されているが、例えば特開２００４−３１３８３３号公報に示すような吸収液の酸化還元電位の制御により、抑制可能である。
【００３６】
塩化水素または塩素ガスの濃度計測装置または水銀濃度計測装置による制御はそれぞれ別個に適用することも可能であるが、組み合わせてカスケード制御（どちらか一方を主要制御パラメータとし、他方を補助的パラメータとする）する方法も可能である。
【００３７】
煙道内におけるＨＣｌの初期濃度は、１〜５００ｐｐｍ、好ましくは、１０〜１００ｐｐｍとなるよう噴霧する。また，Ｃｌ2の場合，０．１〜１００ｐｐｍ，好ましくは１〜１０ｐｐｍとなるよう噴霧する。多すぎるとコスト増加で経済性が失われる。
排ガスに供給される水銀塩素化剤のモル濃度（本明細書において、塩化水素または塩素ガスの初期濃度ということがある。）に対するＨｇモル濃度の比［Ｈｇモル濃度／塩化水素または塩素ガスのモル濃度］は、塩化水素ガス、ＮＨ4Ｃｌ粉末等の１価の塩素化物を用いた場合、好ましくは、０．００１以下、より好ましくは、０．０００１以下である。
塩化水素ガスの初期濃度に対するＨｇモル濃度は、前記範囲内であれば経済性の観点で好ましい下限を例えば、０．００００１以上とすることができる。塩素ガスの場合、好ましくは０．０１以下，より好ましくは０．００１以下である。塩素ガスの初期濃度に対するＨｇモル濃度は、前記範囲内であれば経済性の観点で好ましい下限を例えば、０．０００１以上とすることができる。
【００３８】
本発明に係る水銀除去システムは、水銀塩素化剤供給装置として、常温常圧で非ガス状である非ガス状水銀塩素化剤を加熱する加熱装置、または、非ガス状水銀塩素化剤からガス状水銀塩素化剤を得るガス化装置を備えたものである。
本明細書において、常温および常圧は、２５℃、１気圧である。
本明細書において、非ガス状水銀塩素化剤は、固体の塩素化物、塩素化物を生成しうる固体化合物、または塩素化物の蒸気圧が０．１ＭＰａ以下の状態で溶媒に溶解している塩素化物および液体塩素である。非ガス状塩素化物としては、塩化アンモニウム［ＮＨ4Ｃｌ］粉末、次亜塩素酸アンモニウム、亜塩素酸アンモニウム等の固体の塩素化物、塩化水素水溶液［ＨＣｌ水溶液］、亜塩素酸水溶液、過塩素酸水溶液等の溶媒に溶解した塩素化物を採用することができる。
【００３９】
前記加熱装置またはガス化装置は、図１に示すように、還元脱硝装置５の前流に設置され、水銀塩素化剤注入箇所４と接続している。水銀塩素化剤注入箇所４から供給される水銀塩素化剤は、排ガス中の水銀と還元脱硝装置５において反応しＨｇＣｌ2を生成する。
本発明に係る水銀除去システムは、高純度の塩化水素ガスを用いる代わりに安価な非ガス状水銀塩素化剤を用いることにより、運転コストを低減することができたものである。
【００４０】
図２は、本発明の水銀除去システムにおける水銀塩素化剤供給装置の概略図である。
図２に示すように、溶液タンク１２に貯蔵された常温のＨＣｌ水溶液を、溶液供給ポンプＰを用いて塩化水素気化器１７側に供給し、ガス化装置である例えば噴霧空気圧縮器（図示せず）から供給される所定の温度に加熱した圧縮空気２３によってスプレー・気化され、噴霧ノズル２４から噴霧される。前記圧縮空気２３の所定の温度は、通常、５０〜６０℃である。
【００４１】
スプレー・気化させた塩化水素は、高温空気１８により直接加熱され、煙道１０１内の分散器２１から分散される。
すなわち、高温空気１８により直接加熱されることで、所定濃度の塩化水素／水／空気混合ガスに調整することができ、この得られた塩化水素／水／空気混合ガスは、煙道１０１内にＮＨ3噴霧用のものと同等の構成の分散器２１を用いて分散させ、水銀含有排ガス流１００中に均一に噴霧されることとなる。
【実施例２】
【００４２】
図３は、実施例２に係る水銀含有排ガスからの水銀除去システムを示す概念図である。
図３に示すように、本実施例に係る水銀含有排ガスからの水銀除去システムは、ボイラ１から排出された窒素酸化物、硫黄酸化物および水銀含有排ガス１００に対し、水銀塩素化剤である気化ＨＣｌを供給する塩化水素気化器１７と、気化ＨＣｌが供給された排ガス中の窒素酸化物を除去する還元脱硝装置５と、脱硝された排ガスを熱交換するエアヒータ６及び熱回収器７と、排ガス中の煤塵を除去する集塵器８と、排ガス中の硫黄酸化物を除去する脱硫装置９と、排ガス温度を上昇させる再加熱器１０と、処理された排ガスを外部へ排出する煙突１１とから構成されている。
【００４３】
本実施例では、前記ボイラ１からの排ガス１００の一部を抜出し、第２の高温空気ラインＬ2を介して塩化水素気化器１７に供給している。そして前記塩化水素気化器１７において供給された高温空気１８を用いて溶液タンク１２から供給された塩酸ＨＣｌを直接加熱しガス化するようにしている。
【００４４】
このように、本発明では、ボイラ１からの排ガス１００の一部を高温空気１８として用いているので、水蒸気を使用する場合のように間接熱交換器よりも熱効率の向上を図ることができる。
なお、ボイラ１からの排ガス１００においては、煤塵を含有するので、第２の高温空気ラインＬ2には集塵器１９が介装されている。
【００４５】
図４は、本発明の水銀除去システムにおける水銀塩素化剤供給装置の概略図である。
図４に示すように、溶液タンク１２に貯蔵された常温のＨＣｌ水溶液を、溶液供給ポンプＰを用いて塩化水素気化器１７側に供給し、ガス化装置である例えば噴霧空気圧縮器（図示せず）から供給される所定の温度に加熱した圧縮空気２３によってスプレー・気化され、噴霧ノズル２４から噴霧される。前記圧縮空気２３の所定の温度は、通常、５０〜６０℃である。
【００４６】
スプレー・気化させた塩化水素は、第２の高温空気ラインＬ2により供給されるボイラ排ガスの一部の高温空気１８で直接加熱され、煙道１０１内の分散器２１から分散される。
すなわち、ボイラ排ガスの一部の高温空気１８により直接加熱されることで、所定濃度の塩化水素／水／空気混合ガスに調整することができ、この得られた塩化水素／水／空気混合ガスは、煙道１０１内にＮＨ3噴霧用のものと同等の構成の分散器２１を用いて分散させ、水銀含有排ガス流１００中に均一に噴霧されることとなる。
【００４７】
また、ボイラ１からの排ガス１００の一部を用いる代わりに、単独の燃焼炉を別途設置して専用の排ガスを用いることもできる。煤塵の発生がない燃料を用いることで、集塵器１９の設置を無くすことができる。
これにより、ボイラの制御において、その一部を抜出すことによる制御変動を防止することができる。特に、既存のボイラ制御がある場合において、水銀処理装置を後付する場合に、ボイラ制御を変更することがなく、水銀の除去が可能となる。
【００４８】
本発明の水銀除去システムは、火力発電所等の水銀を含有する石炭や重油などの化石燃料を燃焼する装置から排出される排ガスの処理に採用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】実施例１にかかる排ガス処理システムに本発明の水銀除去システムの概略図である。
【図２】実施例１にかかる水銀除去システムにおける水銀塩素化剤供給装置の概略図である。
【図３】実施例２にかかる排ガス処理システムに本発明の水銀除去システムの概略図である。
【図４】実施例２にかかる水銀除去システムにおける水銀塩素化剤供給装置の概略図である。
【符号の説明】
【００５０】
１  ボイラ
２、４  注入箇所
３  ＮＨ3タンク
５  還元脱硝装置
６  エアヒータ
７  熱回収器
８  集塵器
９  脱硫装置
１０  再加熱器
１１  煙突
１２  溶液タンク
１３  ガス状水銀塩素化剤濃度計測部
１４  水銀濃度計測部
１５  演算部
１６  制御装置
１７  塩化水素気化器
１８  高温空気
１９  集塵器
２１  分散器
２２  ブロア
１００  排ガス（水銀含有）
【図１】
2008142602.tif 000005
【図２】
2008142602.tif 000006
【図３】
2008142602.tif 000007
【図４】
2008142602.tif 000008