(57)【要約】【課題】  ＶＯ２が毒性の強いＶ２Ｏ5に酸化されることが防止されたサーモクロミックガラスを提供する。【解決手段】  二酸化バナジウム膜の表面の保護層として犠牲金属／酸化物の積層体を設け、前記犠牲金属層の最低厚みが前記酸化物層を形成した後でも犠牲金属として存在する厚み、つまり犠牲金属が全部酸化されずに金属のまま残る厚みとした。前記犠牲金属層の厚みとしては、例えば１．０〜１５．０ｎｍが好ましい。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラスを基礎材料とする透明な基体上に、サーモクロミック特性を有する二酸化バナジウム層／犠牲金属層／酸化物層がこの順に積層され、前記犠牲金属層の最低厚みが前記酸化物層を形成した後でも犠牲金属として存在する厚みとしたことを特徴とするサーモクロミックガラス。
【請求項２】
請求項１に記載のサーモクロミックガラスにおいて、前記犠牲金属層が、Ｓｎ、Ｚｎ、ＺｎＡｌ、ＺｎＳｎ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｖ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｆｅのいずれかまたはこれらの合金からなり、また当該犠牲金属の上に形成される酸化物層がＺｎＳｎＯｘ、ＺｎＡｌＯｘ、ＺｎＯ、ＳｎＯ２、ＩＴＯ、ＴｉＯ２、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、ＮｉＯ、Ｆｅ２Ｏ３のいずれかからなることを特徴とするサーモクロミックガラス。  
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載のサーモクロミックガラスにおいて、前記透明基体と二酸化バナジウムとの間に、低放射層及び反射防止層より選ばれる少なくとも１以上の層を有することを特徴とするサーモクロミックガラス。
【請求項４】
請求項１から請求項３の何れかに記載のサーモクロミックガラスにおいて、前記二酸化バナジウム層、犠牲金属層、酸化物層、低放射層及び反射防止層より選ばれる少なくとも１以上の層を、それぞれマグネトロンスパッタリングによって堆積させることを特徴とするサーモクロミックガラス。
【請求項５】
請求項４に記載のサーモクロミックガラスにおいて、二酸化バナジウム層、酸化物層、低放射層及び反射防止層より選ばれる少なくとも１以上の層を、アルゴン及び酸素の存在下において金属ターゲットを反応性スパッタリングさせることにより堆積させることを特徴とするサーモクロミックガラス。
【請求項６】
請求項５に記載のサーモクロミックガラスにおいて、前記二酸化バナジウム層が、金属バナジウムまたは金属バナジウムと他の金属との合金のいずれかのターゲットをアルゴン及び酸素の存在下において反応性スパッタリングさせることにより得られる膜であることを特徴とするサーモクロミックガラス。
【請求項７】
請求項６に記載のサーモクロミックガラスにおいて、前記金属が、Ｗ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｐｔのいずれかの金属もしくはこれらの合金であり、バナジウムに対する原子量比率が０．０５〜１０原子％であることを特徴とするサーモクロミックガラス。
【請求項８】
請求項４に記載のサーモクロミックガラスにおいて、犠牲金属層を、アルゴンの存在下において金属ターゲットをスパッタリングにより堆積させることを特徴とするサーモクロミックガラス。
【請求項９】
ガラス板を互いに離間した状態でこれらのガラス板の周辺を気密にシールしてガラス板間に乾燥空気層を保持するように接着一体化した複層ガラスであって、前記２枚のガラス板のうちの少なくとも１枚が請求項１から請求項８に記載のサーモクロミックガラスであり、このサーモクロミックガラスの被膜面を前記乾燥空気側に面するように配置したことを特徴とするサーモクロミック複層ガラス。
【請求項１０】
請求項９に記載のサーモクロミック複層ガラスにおいて、サーモクロミックガラスに対向するガラスが低放射ガラスであり、かつこの低放射ガラスの一方の表面には熱線遮蔽積層体が形成され、この被膜面を前記乾燥空気側に面するように配置したことを特徴とするサーモクロミック複層ガラス。
【請求項１１】
請求項１０に記載のサーモクロミック複層ガラスにおいて、前記熱線遮蔽積層体が、反射防止層、赤外反射性金属、金属犠牲層、及び反射防止層の連続層よりなる積層体であり、マグネトロンスパッタリングを用いた真空プロセスにより作製されることを特徴とするサーモクロミック複層ガラス。
【請求項１２】
請求項９に記載のサーモクロミック複層ガラスにおける前記熱線遮蔽積層体が、金属又はハロゲン元素がドーピングされた酸化錫とその他の酸化物からなる積層体であり、ＣＶＤプロセスによって作製されることを特徴とするサーモクロミック複層ガラス。
【請求項１３】
請求項１２に記載のサーモクロミック複層ガラスにおいて、前記金属あるいはハロゲン元素が、特にはアンチモン、インジウム、ガリウム、フッ素、塩素のいずれかであることを特徴とするサーモクロミック複層ガラス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はサーモクロミックガラスおよびこのサーモクロミックガラスを組み込んだ複層ガラスに関する。
【背景技術】
【０００２】
遷移金属であるバナジウムの酸化物は多くの形態を取りうることが知られている。例えば二酸化バナジウム（ＶＯ２）は、室温に近い６８℃（３４１Ｋ）付近に金属−絶縁体転移温度を有し、この転移温度より高い温度領域では光の吸収が大きいが転移温度より低温では吸収が減るのでサーモクロミック特性を有する。また転移温度より高い温度領域では導電性を示し低い温度領域では絶縁性を示すことも知られている。また、ＷやＭｏを添加することにより相転移温度が更に低下することも知られている。
【０００３】
上記のサーモクロミック特性を有する二酸化バナジウム（ＶＯ２）がガラス板上に形成されたものがサーモクロミックガラスである。このような特性を持つ二酸化バナジウムがコーティングされたサーモクロミックガラスが、ビルや一般家庭の住居における窓ガラス或いは自動車や電車などの輸送機材に用いられる窓ガラスとして用いられた場合、夏場はガラスが熱せられ高温になることによって二酸化バナジウムが金属相へと変化し、外部からの日射の特に近赤外領域の熱線を効果的に遮り、また冬場には二酸化バナジウムの半導体が有する高い透過率を維持することによって、外部からの日射を積極的に室内へ取り入れる省エネルギー効果が期待される。
【０００４】
二酸化バナジウム（ＶＯ２）をガラス板上に形成する手段として種々の方法が考えられるが、反応性スパッタリングにより二酸化バナジウムのみを作製することは一般的に難易度が高い技術とされている。例えば、特許文献１には、Ｖ２Ｏ５ターゲットをＨｅ雰囲気中でＲＦスパッタすることにより二酸化バナジウムを成膜する技術が提案されており、また特許文献２には、バナジウムを下地膜として、その上にバナジウムターゲットをアルゴンと酸素の雰囲気中でＲＦ反応性スパッタすることにより二酸化バナジウム膜を得る技術が提案されている。
【０００５】
また、サーモクロミックガラスが窓ガラスとして使用される際には可視光領域の透過率はできるだけ高い方が望ましく、例えば特許文献３には、ＩＴＯ、ＺｎＯ系、ＳｎＯ２系等の材料からなる反射防止層を設けることにより可視光領域の反射を抑え、透過率を効果的に高める技術が開示されており、また特許文献４には、最上層にＴｉＯ２の反射防止膜を設け、光触媒及び紫外線カットの機能をも付与した技術が提案されている。さらに特許文献５には、二酸化バナジウムの結晶構造に近いルチル構造を有するＳｎＯ２やＴｉＯ２、又はフッ素をドープした酸化錫透明導電膜を構造テンプレート層として設けることにより、二酸化バナジウム調光層を低い基板温度で成膜することを可能にし、また熱線反射の機能を付与する技術が提案されている。
【０００６】
さらに特許文献６には、スパッタを用いないサーモクロミックフィルム及びサーモクロミックガラスの作製方法として、無機質微粒子中に二酸化バナジウム原子の一部がタングステン及びモリブデンの１種以上の金属ドープバナジウムを置換させ、かつ二酸化バナジウムの価数が４価から劇物である５価に酸化されることを抑制するため、金属ドープバナジウムの表面にテトラエトキシシラン、チタンテトライソプロポキシド、硫酸チタニル、塩化アルミニウムなどを付着させ、加水分解することにより保護層を設けたサーモクロミックフィルムを作製し、これをガラスに貼り付けるまたは複数のガラスの間に挟み込むことによりサーモクロミックガラスを作製する技術が提案されている。
【０００７】
【特許文献１】特開２０００−２７３６１９号公報
【特許文献２】特開２０００−１３７５２１号公報
【特許文献３】特開２００４−４７９５号公報
【特許文献４】特開２００３ー０９４５５１号公報
【特許文献５】特開２００６ー２０６３９８号公報
【特許文献６】特開２００４−３４６２６０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
サーモクロミック特性を持つ二酸化バナジウムがコーティングされたサーモクロミックガラスを、ビルや一般家庭の住居或いは自動車や電車などの輸送機材に用いられる窓ガラスとして用いる場合、安全上の観点から二酸化バナジウムが毒性の強い五酸化バナジウム（Ｖ２Ｏ５）に変化しないように、特許文献６のケースと同様に二酸化バナジウム表面に保護層を設けることが望ましい。
特に、二酸化バナジウム膜をできるだけ効果的に保護し、かつサーモクロミックガラスの特性をできるだけ損なわない保護層を、低コストにて設けることが必要である。しかしながら、マグネトロンスパッタリングによって作製されたサーモクロミックガラスにおいては、保護層を低コストにて設ける技術がまだない。
【０００９】
また可視光領域における高い透過率を実現するため、二酸化バナジウム層の下側及び上側に反射防止層として酸化物膜を設けることが望ましく、特には低コストにて大面積での成膜が可能なＤＣまたはＤＣパルスによるアルゴン及び酸素の存在下における反応性スパッタリングを用いることが望ましい。しかしながら、二酸化バナジウム層の上側に酸化物膜を成膜する際に、二酸化バナジウム層が酸素プラズマに晒されることにより劇物である五酸化バナジウムに酸化されることを抑制する必要があり、従ってここでも二酸化バナジウム表面への保護層が必要である。
【００１０】
また、二酸化バナジウム層の大面積成膜を低コストにて実現させるためには、ＤＣ或いはＤＣパルスによる反応性スパッタリングをできるだけ低温にて放電安定性の高いプロセスで行えることが望ましく、さらにターゲット材料ができるだけ安価で作製が容易であることが望ましい。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、二酸化バナジウム膜の表面の保護層として犠牲金属／酸化物の積層体を設け、前記犠牲金属層の最低厚みが前記酸化物層を形成した後でも犠牲金属として存在する厚み、つまり犠牲金属が全部酸化されずに金属のまま残る厚みとした。前記犠牲金属層の厚みとしては、例えば１．０〜１５．０ｎｍが好ましい。
【００１２】
前記犠牲金属としては、Ｓｎ、Ｚｎ、ＺｎＡｌ、ＺｎＳｎ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｖ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｆｅのいずれかまたはこれらの合金とし、また酸化物をＺｎＳｎＯｘ、ＺｎＡｌＯｘ、ＺｎＯ、ＳｎＯ２、ＩＴＯ、ＴｉＯ２、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、ＮｉＯ、Ｆｅ２Ｏ３のいずれかとすることで、二酸化バナジウムの価数が４価から劇物である５価に酸化されることを効果的に抑制できる。
【００１３】
また本発明は、各層の膜厚を調整し適切な光学設計を行うことによって、高い可視光透過率と好ましい反射色調を満たすサーモクロミックガラス及びサーモクロミック複層ガラスに関するものである。最表面の酸化物層はＤＣ及びＤＣパルスを用いたマグネトロンスパッタリングにて金属ターゲットのアルゴン及び酸素の存在下における反応性スパッタリングプロセスによって成膜され、成膜時に発生する酸素プラズマは二酸化バナジウム層表面の犠牲金属層により効果的に保護され、二酸化バナジウム層のバナジウムの価数が４価から劇物である５価に酸化されることを効果的に抑制する。
【００１４】
また本発明はＤＣ及びＤＣパルスを用いたマグネトロンスパッタリングにて基板温度が２５０〜５５０℃の範囲で、金属バナジウムターゲット或いはバナジウムとＷ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｐｔ等の合金ターゲットの、アルゴン及び酸素の存在下における反応性スパッタリングプロセスによって、相転移現象を示す二酸化バナジウムを、放電安定性の高い条件でコーティングすることが可能である。
【発明の効果】
【００１５】
犠牲金属よりなる薄い金属層を二酸化バナジウム層の直上に保護層として設けることによって、二酸化バナジウム層の上側に酸化物層を酸素プラズマ中で反応性スパッタリングにより成膜した際に、あるいはサーモクロミックガラスを大気中へ放置した際に、ＶＯ２が毒性の強いＶ２Ｏ5に酸化されることを防止し、かつサーモクロミック特性を損なわないサーモクロミックガラスを、低コストでかつ安定性の高いプロセスにて作製することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下にサーモクロミックガラスの構成について示す。
ソーダライムガラス、石英、等のガラスを基礎材料とする透明な基体を適当な大きさに切断し、アルカリ洗浄を行う。
上記透明基体の直上に、サーモクロミック特性を有する二酸化バナジウム層を設ける。この際、低放射性、反射防止、等の機能を付与することを目的とする層が、二酸化バナジウム層の下に挿入されても構わない。
また、上記二酸化バナジウム層の直上に、二酸化バナジウム層の保護を目的とする犠牲金属層を設ける。
上記犠牲金属層の直上に、色調又は反射防止等の光学制御を目的とする酸化物層を設ける。
さらに、上記酸化物層の直上に、光触媒、紫外線カット、熱線反射、等の機能の付与を目的とする層が設けられても構わない。
【００１７】
図１に、サーモクロミック特性を有する二酸化バナジウム層を含むサーモクロミックガラスの基本構成を示す。また、上記構成に多機能が付与されたサーモクロミックガラスの基本構成を図２に示す。望ましい光学特性を獲得するための微妙な膜厚コントロールを可能にするために、全ての層がスパッタリングプロセスによって成膜されることが望ましい。また、金属犠牲層として用いられる材料は、放電安定性が高くしかもできるだけコストが安い材料が望ましく、特にはＺｎＡｌ、Ｔｉ、Ｓｎ、等の材料が望ましい。
【００１８】
サーモクロミック特性を有する二酸化バナジウム層の成膜は、金属バナジウムターゲット（３Ｎ、３インチφ）の反応性スパッタリングにより行った。成膜雰囲気はＡｒ：１００％で放電を開始し、徐々に酸素流量を増加させる手法を用いた。酸素流量と共に放電インピーダンスは遷移領域から酸化物モードへと移行し、ヒステリシス曲線が得られる。バナジウム酸化物はＶイオンが＋２価〜＋５価まで幅広く存在し、放電を酸化物モードまで移行させると、最安定相のＶ２Ｏ５（５価）が生成する。ＶＯ２（４価）はヒステリシスのごく限られた領域で得られるが、この領域では僅かな酸素流量比の変化でインピーダンスが大きく変化するため、高精度なコントロールが可能なマスフローコントローラを用いて、サーモクロミック特性を有するＶＯ２を成膜することが望ましい。
【００１９】
さらに、サーモクロミック特性を有する二酸化バナジウム層の直上に犠牲金属層をスパッタリングにより設ける際、熱による犠牲金属層への影響を最小限にするために、二酸化バナジウム層の成膜時に上昇した基板温度を下げてから成膜を行うことが望ましい。また、犠牲金属層とその直上の酸化物層との整合性を考慮すると、犠牲金属とその直上の酸化物層は、同じ材質の金属ターゲットから成膜されることが望ましい。      
【００２０】
以下、実施例１について説明する。
石英基板をアルカリ洗浄し、上記石英基板をトッキ株式会社製スパッタ成膜装置（型番：ＳＰＭ−３０３）内のターゲットに対向する位置に配置した。基板とターゲット間の距離は約１００ｍｍであり、またターゲットのサイズは直径３インチ（７６．２ｍｍ）であった。同装置においては、ターゲットを最大３個まで装着することが可能であり、また最高温度７００℃まで基板を加熱させることが可能である。上記石英基板直上に、ＥＮＩ製ＤＣパルス電源（型番：ＲＰＧ−５０）を用い、バナジウムターゲットの反応性スパッタリングによりサーモクロミック特性を有する二酸化バナジウム層を４０ｎｍ成膜した。この時の基板温度は５５０℃であった。また上記二酸化バナジウム層の直上へ、同電源を用いてアルミニウムがドープされた亜鉛ターゲットをスパッタリングさせることによって７ｎｍのＺｎＡｌ層を成膜した。この時の基板温度は室温程度であり、前述の二酸化バナジウム層の成膜が終了した後基板を放置させることによって基板温度を低下させた。さらに上記ＺｎＡｌ層の直上へ、同電源を用いてアルミニウムがドープされた亜鉛ターゲットの反応性スパッタリングを酸素雰囲気中にて行うことにより６０ｎｍのＺｎＡｌＯｘ層を連続的に成膜した。表１に各層の成膜条件の詳細を記載する。
【００２１】
【表１】
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【００２２】
以下、比較例１について説明する。
実施例１と全く同様に、ＺｎＡｌ層の厚みのみを４ｎｍに変えて、サーモクロミックガラスを作製した。表１に各層の成膜条件の詳細を記載する。
【００２３】
実施例１及び比較例１の膜構成、及び室温（２５℃）及び高温（１２０℃）における透過率の変化量（波長：５００ｎｍ、１５００ｎｍ、２５００ｎｍの３点）を表２に示す。
【００２４】
【表２】
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【００２５】
また、得られたサーモクロミックガラスの室温（２５℃）及び高温（１２０℃）における透過スペクトルを図３に示す。図３より、ＺｎＡｌ保護層の厚みが７ｎｍではＶＯ２層が十分に保護され、サーモクロミック特性が発現する様子が見られるが、ＺｎＡｌ保護層の厚みが４ｎｍではＶＯ２層が十分に保護されず、サーモクロミック特性が見られなくなることが分かる。これは、ＺｎＡｌ保護層の厚みが４ｎｍのサーモクロミックガラスでは、２９０ｎｍから２５００ｎｍにおけるスペクトルの透過率がＺｎＡｌ保護層の厚みが７ｎｍのサーモクロミックガラスよりも高くなっていることからも示唆されるように、ＶＯ２層／ＺｎＡｌ保護層の上層であるＺｎＡｌＯｘ層を酸素プラズマ中で成膜する際に、ＺｎＡｌ保護層の厚みが４ｎｍではＶＯ２層が十分に保護されず、一部がＶ２Ｏ5に酸化されることによるものと考えられる。
【００２６】
以下、実施例２について説明する。
ソーダライムガラス基板をアルカリ洗浄し、上記ソーダライムガラス基板を同装置内に同様に配置した。上記ソーダライムガラス基板直上に、同電源を用いて酸素雰囲気における錫ターゲットの反応性スパッタリングを行い、６０ｎｍの酸化錫層を成膜した。また上記酸化錫層の直上へ、バナジウムターゲットの反応性スパッタリングによりサーモクロミック特性を有する二酸化バナジウム層を４０ｎｍ成膜した。この時の基板温度は３５０℃であった。また上記二酸化バナジウム層の直上へ、同電源を用いて錫ターゲットをスパッタリングさせることによって８ｎｍのＳｎ層を成膜した。この時の基板温度は室温程度であった。さらに上記Ｓｎ層の直上へ、同電源を用いて錫ターゲットの反応性スパッタリングにより９０ｎｍの酸化錫層を連続的に成膜した。表１に各層の成膜条件の詳細を記載する。
【００２７】
以下、比較例２について説明する。
実施例２と全く同様に、Ｓｎ層の厚みのみを６ｎｍに変えて、サーモクロミックガラスを作製した。表１に各層の成膜条件の詳細を記載する。
【００２８】
実施例２及び比較例２の膜構成、及び室温（２５℃）及び高温（１２０℃）における透過率の変化量（波長：５００ｎｍ、１５００ｎｍ、２５００ｎｍの３点）を表３に示す。
【００２９】
【表３】
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【００３０】
また、得られたサーモクロミックガラスの室温（２５℃）及び高温（１２０℃）における透過スペクトルを図４に示す。図４より、Ｓｎ保護層の厚みが８ｎｍではＶＯ２層が十分に保護され、サーモクロミック特性が発現する様子が見られるが、Ｓｎ保護層の厚みが６ｎｍではＶＯ２層が十分に保護されず、サーモクロミック特性が見られなくなることが分かる。これは、上述の理由と同様に、Ｓｎ保護層の厚みが６ｎｍではＶＯ２層が一部Ｖ２Ｏ5に酸化されることによるものと考えられる。
【００３１】
以下、実施例３について説明する。
ソーダライムガラス基板をアルカリ洗浄し、上記ソーダライムガラス基板を同装置内に同様に配置した。上記ソーダライムガラス基板直上に、同電源を用いて酸素雰囲気における錫ターゲットの反応性スパッタリングを行い、４０ｎｍの酸化錫層を成膜した。また上記酸化錫層の直上へ、バナジウムターゲットの反応性スパッタリングによりサーモクロミック特性を有する二酸化バナジウム層を４０ｎｍ成膜した。この時の基板温度は３５０℃であった。また上記二酸化バナジウム層の直上へ、同電源を用いてチタンターゲットをスパッタリングさせることによって１０ｎｍのＴｉ層を成膜した。この時の基板温度は室温程度であった。さらに上記Ｔｉ層の直上へ、同電源を用いてチタンターゲットの反応性スパッタリングにより２０ｎｍの酸化チタン層を連続的に成膜した。表１に各層の成膜条件の詳細を記載する。
【００３２】
以下、実施例４について説明する。
実施例３と全く同様に、Ｔｉ層の厚みのみを８ｎｍに変えて、サーモクロミックガラスを作製した。表１に各層の成膜条件の詳細を記載する。
【００３３】
以下、実施例５について説明する。
実施例３と全く同様に、Ｔｉ層の厚みのみを６ｎｍに変えて、サーモクロミックガラスを作製した。表１に各層の成膜条件の詳細を記載する。
【００３４】
実施例３から実施例５の膜構成、及び室温（２５℃）及び高温（１２０℃）における透過率の変化量（波長：５００ｎｍ、１５００ｎｍ、２５００ｎｍの３点）を表４に示す。
【００３５】
【表４】
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【００３６】
また、得られたサーモクロミックガラスの室温（２５℃）及び高温（１２０℃）における透過スペクトルを図５に示す。図５より、６ｎｍ、８ｎｍ、１０ｎｍの全てのＴｉ保護層においてサーモクロミック特性が発現する様子が見られるが、Ｔｉの厚みが増加するに従って可視光領域の透過率が減少し、低温時及び高温時の透過率変化も減少する様子が見られることが分かる。
【００３７】
以下、実施例６について説明する。
ソーダライムガラス基板をアルカリ洗浄し、上記ソーダライムガラス基板を同装置内に同様に配置した。上記ソーダライムガラス基板直上に、同電源を用いて酸素雰囲気における錫ターゲットの反応性スパッタリングを行い、５０ｎｍの酸化錫層を成膜した。また上記酸化錫層の直上へ、バナジウムターゲットの反応性スパッタリングによりサーモクロミック特性を有する二酸化バナジウム層を４０ｎｍ成膜した。この時の基板温度は３５０℃であった。また上記二酸化バナジウム層の直上へ、同電源を用いて錫ターゲットをスパッタリングさせることによって８ｎｍのＳｎ層を成膜した。この時の基板温度は室温程度であった。さらに上記Ｓｎ層の直上へ、同電源を用いて錫ターゲットの反応性スパッタリングにより７０ｎｍの酸化チタン層を連続的に成膜した。表１に各層の成膜条件の詳細を記載する。
【００３８】
以下、比較例３について説明する。
実施例６と全く同様に、二酸化バナジウム層より上側に位置する層の成膜を行わず、サーモクロミック特性を有する二酸化バナジウム層を最表面に剥き出しにした状態にてサーモクロミックガラスを作製した。表１に各層の成膜条件の詳細を記載する。
【００３９】
実施例６及び比較例３の膜構成、及び室温（２５℃）及び高温（１２０℃）における透過率の変化量（波長：５００ｎｍ、１５００ｎｍ、２５００ｎｍの３点）を表５に示す。
【００４０】
【表５】
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【００４１】
また、得られたサーモクロミックガラスの室温（２５℃）及び高温（１２０℃）における透過スペクトルを、恒温恒湿試験（３０℃８０％１２０Ｈｒ）の前後にて測定した（図６、図７）。恒温恒湿試験の条件（３０℃８０％１２０Ｈｒ）は、夏場における倉庫での保管、或いはビルや一般家庭の住居における窓ガラスとして長期間利用されたケースを想定し、設定した。
【００４２】
図６及び図７より、恒温恒湿試験（３０℃８０％１２０Ｈｒ）の前後のスペクトル形状から、ＶＯ２層のＳｎ保護層がある実施例６の場合（図６）ではサーモクロミック特性にほとんど劣化が見られないものの、ＶＯ２層のＳｎ保護層がない比較例３の場合（図７）ではサーモクロミック特性に劣化が見られることが分かる。つまり、ＶＯ２層のＳｎ保護層がない場合（図７）では恒温恒湿試験（３０℃８０％１２０Ｈｒ）の前後で劣化が発生し、低温時及び高温時の透過率変化量が明らかに減少するものの、ＶＯ２層のＳｎ保護層がある場合（図６）では恒温恒湿試験（３０℃８０％１２０Ｈｒ）の前後で劣化が発生せず、低温時及び高温時の透過率変化量がほとんど変化しないことが分かる。
【産業上の利用可能性】
【００４３】
二酸化バナジウムがコーティングされたサーモクロミックガラス及びサーモクロミック複層ガラスは、二酸化バナジウムの相転移現象を利用して、夏場はガラスが熱せられ高温になることによって二酸化バナジウムが金属相へと変化し、外部からの日射の特に近赤外領域の熱線を効果的に遮り、また冬場には二酸化バナジウムの半導体が有する高い透過率を維持することによって、外部からの日射を積極的に室内へ取り入れる省エネルギー効果を持ち、特に省エネの必要があるビルや一般家庭の住居における窓ガラス、自動車や電車などの輸送機材に用いられる窓ガラスとして利用される。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】サーモクロミックガラスの基本構成図
【図２】多機能が付与されたサーモクロミックガラスの構成図
【図３】ＶＯ２直上の金属ＺｎＡｌ層の厚みがサーモクロミック特性（高温時及び低温時のスペクトル変化）に及ぼす影響を示すグラフ
【図４】ＶＯ２直上の金属Ｓｎ層の厚みがサーモクロミック特性（高温時及び低温時のスペクトル変化）に及ぼす影響を示すグラフ
【図５】ＶＯ２直上の金属Ｔｉ層の厚みがサーモクロミック特性（高温時及び低温時のスペクトル変化）に及ぼす影響を示すグラフ
【図６】ＶＯ２直上にＳｎ保護層を設けたサーモクロミックガラスの恒温恒湿試験（３０℃８０％１２０Ｈｒ）前後におけるサーモクロミック特性（高温時及び低温時のスペクトル変化）を示すグラフ
【図７】ＶＯ２直上のＳｎ保護層がないサーモクロミックガラスの恒温恒湿試験（３０℃８０％１２０Ｈｒ）前後におけるサーモクロミック特性（高温時及び低温時のスペクトル変化）を示すグラフ
【符号の説明】
【００４５】
１…ガラス基板、２…二酸化バナジウム層、３…犠牲金属層、４…酸化物層、５…低放射層及び反射防止層より選ばれる少なくとも１以上の層、６…多機能層。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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