(57)【要約】【課題】本発明の主な目的は、８つの酸化物層を有する該フィルムの表層の材料が透過可能な導電層であって、１．９〜２．２の高屈折率を有し、酸化物薄フィルムを多量に生産するプロセスにおいて信頼的である透過可能な表面導電層を有する低抵抗光減衰反射防止フィルムを提供する。【解決手段】透過可能な表面導電層を有する低抵抗光減衰反射防止フィルムは、該低抵抗光減衰反射防止フィルムの多層構造がHL(HL)6Hである（Hは高屈折率の材料、Lは低屈折率の材料である）。これは８つの酸化物層を有し、該フィルムの表層の材料が透過可能な導電層で、１．９〜２．２の高屈折率を有する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板の片面に配置され、高屈折率の酸化物からなり、物理的な厚さが２０ｎｍ〜４０ｎｍである第１５層と、
前記第１５層に配置され、低屈折率の金属材料からなり、物理的な厚さが８ｎｍ〜１２ｎｍである第１４層と、
前記第１４層に配置され、高屈折率の酸化物からなり、物理的な厚さが３０ｎｍ〜８０ｎｍである第１３層と、
前記第１３層に配置され、低屈折率の金属材料からなり、物理的な厚さが８ｎｍ〜１２ｎｍである第１２層と、
前記第１２層に配置され、高屈折率の酸化物からなり、物理的な厚さが３０ｎｍ〜８０ｎｍである第１１層と、
前記第１１層に配置され、低屈折率の金属材料からなり、物理的な厚さが８ｎｍ〜１２ｎｍである第１０層と、
前記第１０層に配置され、高屈折率の酸化物からなり、物理的な厚さが３０ｎｍ〜８０ｎｍである第９層と、
前記第９層に配置され、低屈折率の金属材料からなり、物理的な厚さが８ｎｍ〜１２ｎｍである第８層と、
前記第８層に配置され、高屈折率の酸化物からなり、物理的な厚さが３０ｎｍ〜８０ｎｍである第７層と、
前記第７層に配置され、低屈折率の金属材料からなり、物理的な厚さが８ｎｍ〜１２ｎｍである第６層と、
前記第６層に配置され、高屈折率の酸化物からなり、物理的な厚さが３０ｎｍ〜８０ｎｍである第５層と、
前記第５層に配置され、低屈折率の金属材料からなり、物理的な厚さが８ｎｍ〜１２ｎｍである第４層と、
前記第４層に配置され、高屈折率の酸化物からなり、物理的な厚さが３０ｎｍ〜８０ｎｍである第３層と、
前記第３層に配置され、低屈折率の金属材料からなり、物理的な厚さが８ｎｍ〜１２ｎｍである第２層と、
前記第２層に配置され、高屈折率の酸化物からなり、物理的な厚さが２０ｎｍ〜４０ｎｍである第１層と、を含む透過可能な表面導電層を有する低抵抗光減衰反射防止フィルム。
【請求項２】
前記基板はプラスチックフィルムであることを特徴とする請求項１記載の透過可能な表面導電層を有する低抵抗光減衰反射防止フィルム。
【請求項３】
前記基板はガラスであることを特徴とする請求項１記載の透過可能な表面導電層を有する低抵抗光減衰反射防止フィルム。
【請求項４】
前記第１層、第３層、第５層、第７層、第９層、第１１層、及び第１３層は、ZnO:Alからなり、
前記第２層、第４層、第６層、第８層、第１０層、第１２層、及び第１４層は、銀からなり、
前記第１５層は、TiO2からなることを特徴とする請求項１記載の透過可能な表面導電層を有する低抵抗光減衰反射防止フィルム。
【請求項５】
前記第１層、第３層、第５層、第７層、第９層、第１１層、及び第１３層の酸化物の屈折率は、１．９〜２．２であり、
前記第２層、第４層、第６層、第８層、第１０層、第１２層、及び第１４層の金属材料の屈折率は、０．１〜０．５であり、
前記第１５層の酸化物の屈折率は、２．２〜２．４であることを特徴とする請求項１記載の透過可能な表面導電層を有する低抵抗光減衰反射防止フィルム。
【請求項６】
前記第１層、第３層、第５層、第７層、第９層、第１１層、及び第１３層の酸化物は、直流またはパルス直流スパッタリング法で形成され、
前記第２層、第４層、第６層、第８層、第１０層、第１２層、及び第１４層の金属材料は、直流またはパルス直流スパッタリング法で形成され、
前記第１５層の酸化物は、交流スパッタリング法で形成されたことを特徴とする請求項１記載の透過可能な表面導電層を有する低抵抗光減衰反射防止フィルム。
【請求項７】
前記第１層〜第１５層が、同軸またはロール対ロール真空システムの蒸着或いはスパッタリングプロセスで形成されたことを特徴とする請求項１記載の透過可能な表面導電層を有する低抵抗光減衰反射防止フィルム。
【請求項８】
前記フィルムが、プラズマディスプレイまたは液晶ディスプレイの基本フィルムであることを特徴とする請求項１記載の透過可能な表面導電層を有する低抵抗光減衰反射防止フィルム。
【請求項９】
基板と、
前記基板に配置され、高屈折率の酸化物からなる第５層と、
低屈折率の金属材料からなる複数の第４層と、
高屈折率の酸化物からなる複数の第３層と、
低屈折率の金属材料からなる第２層と、
高屈折率の酸化物からなる第１層と、を含み、
前記複数の第４層と複数の第３層とが交互に堆積されるとともに前記第５層に配置され、続いて前記第２層および第１層が順次に配置されたことを特徴とする透過可能な表面導電層を有する低抵抗光減衰反射防止フィルム。
【請求項１０】
前記第５層の物理的な厚さが２０ｎｍ〜４０ｎｍの間、前記第４層の物理的な厚さが８ｎｍ〜１２ｎｍの間、前記第３層の物理的な厚さが３０ｎｍ〜８０ｎｍの間、前記第２層の物理的な厚さが８ｎｍ〜１２ｎｍの間、前記第１層の物理的な厚さが２０ｎｍ〜４０ｎｍの間であることを特徴とする請求項９記載の透過可能な表面導電層を有する低抵抗光減衰反射防止フィルム。
【請求項１１】
前記基板はプラスチックフィルムであることを特徴とする請求項９記載の透過可能な表面導電層を有する低抵抗光減衰反射防止フィルム。
【請求項１２】
前記基板はガラスであることを特徴とする請求項９記載の透過可能な表面導電層を有する低抵抗光減衰反射防止フィルム。
【請求項１３】
前記第１層及び前記複数の第３層がZnO:Alからなり、前記第２層及び前記複数の第４層が銀からなり、前記第１５層がTiO2からなることを特徴とする請求項９記載の透過可能な表面導電層を有する低抵抗光減衰反射防止フィルム。
【請求項１４】
前記第１層及び前記複数の第３層の酸化物の屈折率が、１．９〜２．２であり、前記第２層及び前記複数の第４層の金属材料の屈折率が、０．１〜０．５であり、前記第５層の酸化物の屈折率が、２．２〜２．４であることを特徴とする請求項９記載の透過可能な表面導電層を有する低抵抗光減衰反射防止フィルム。
【請求項１５】
前記第１層及び前記複数の第３層の酸化物が、直流またはパルス直流スパッタリング法で形成され、前記第２層及び前記複数の第４層の金属材料が、直流またはパルス直流スパッタリング法で形成され、前記第５層の酸化物が、交流スパッタリング法で形成されたことを特徴とする請求項９記載の透過可能な表面導電層を有する低抵抗光減衰反射防止フィルム。
【請求項１６】
前記第１層〜第５層が、同軸またはロール対ロール真空システムの蒸着或いはスパッタリングプロセスで形成されたことを特徴とする請求項９記載の透過可能な表面導電層を有する低抵抗光減衰反射防止フィルム。
【請求項１７】
前記フィルムが、プラズマディスプレイまたは液晶ディスプレイの基本フィルムであることを特徴とする請求項９記載の透過可能な表面導電層を有する低抵抗光減衰反射防止フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透過可能な表面導電層を有する低抵抗光減衰反射防止フィルムに係り、特に、高い反射防止特性を有するフィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
通常、液晶ディスプレイまたはプラズマディスプレイのプラスチック基板やガラス基板或いはプラスチックウェブには、反射防止フィルム構造が設置されるため、多くのフィルム構造が掲示されている。
【０００３】
特許文献１において、二酸化セリウムと合成樹脂には良好な粘膜力を兼有する多層の反射防止フィルムを示しており、該多層構造は、CeO2、Al2O3、ZrO2、SiO2、TiO2およびTa2O5を含み、該多層構造の全ての薄膜層は酸化物であり、該多層構造は、３〜５層の薄層を有し、一実施例では、該５層構造の合計厚さが約３５８０Åであり、該多層構造の表層の材料がSiO2であり、低屈折率を有し、波長が５５０ｎｍであると、屈折率が１．４６である。
【０００４】
特許文献２において、反応式スパッタを使用して同軸コータに配置する多層の反射防止フィルムを示しており、該多層構造は、TiO2、SiO2、ZnO、ZrO2、およびTa2O5を含み、該多層構造の全ての薄膜層は酸化物であり、該多層構造は、４〜６層の薄層を有し、一実施例では、該６層構造の合計厚さが約４７００Åであり、該多層構造の表層の材料がSiO2であり、低屈折率を有し、波長が５５０ｎｍであると、屈折率が１．４６である。
【０００５】
特許文献３および４において、新形態の導電性のある光減衰反射防止フィルムを示しており、主に、特定の遷移金属酸化物で組成し、導電性や光減衰、反射防止を有する表面を提供し、該多層構造は、TiN、NbN、SnO2、SiO2、Al2O3およびNb2O5を含み、該多層構造の全ての薄膜層は窒化物および酸化物であり、該多層構造は、３〜４層の薄層を有し、一実施例では、該４層構造の合計厚さが約１６１０Åであり、該４層構造の可視光の透過率が５０％未満であり、該多層構造の表層の材料がSiO2であり、低屈折率を有し、波長が５５０ｎｍであると、屈折率が１．４６である。
【０００６】
特許文献５において、酸化亜鉛を使用して波長が３８０ｎｍ未満の紫外線を防止する多層の反射防止フィルムを示しており、該多層構造は、TiO2、SiO2およびMgF2を含み、該多層構造の全ての薄膜層は酸化物およびフッ化物であり、該多層構造は、４〜６層の薄層を有し、一実施例では、該５層構造の合計厚さが約７３５０Åであり、該多層構造の表層の材料がMgF2であり、低屈折率を有し、波長が５５０ｎｍであると、屈折率が１．３８である。
【０００７】
特許文献６において、光学効果及び高い反射防止効果を有する４層構造を示しており、該多層構造は、高温分解、プラズマCVD、スパッタまたはCVDなどの方式で形成でき、該多層構造は、SiO2、TiO2、Al2O3、ZnS、MgOおよびBi2O3を含み、一実施例では、該４層構造の合計厚さが約２４８０Åであり、該多層構造の表層の材料がSiO2であり、低屈折率を有し、波長が５５０ｎｍであると、屈折率が１．４６である。
【０００８】
特許文献７において、高い反射防止効果をを有する５層のフィルムを示しており、該多層構造が厚さ１ｎｍ、Ni、CrまたはNiCrからなる粘膜層を含み、該４層は、SnO2、ZrO2、ZnO、Ta2O5、NiO、CrO2、TiO2、Sb2O3、In2O3、Al2O3、SiO2、TiN、およびZrNnからなり、一実施例では、該５層構造の合計厚さが約２３３７Åであり、該５層構造の可視光の透過率が３０％未満であり、該多層構造の表層の材料がSiO2であり、低屈折率を有し、波長が５５０ｎｍであると、屈折率が１．４６である。
【０００９】
特許文献８において、導電層を有する光減衰反射防止のフィルムを示しており、該フィルムが４〜５層の多層構造であって、該多層構造の光効果薄膜として光吸収の高屈折率の金属、例えば、Cr、MoおよびWなどを有し、他の３〜４層がTiO2、ITO、Al2O3、SiO2およびTiNであり、一層の金属を該多層構造の光効果薄膜とする以外、該多層構造の主な材料は酸化物および窒化物であり、一実施例では、該５層構造の合計厚さが約１４９５Åであり、該多層構造の可視光の透過率が６０％未満であり、該多層構造の表層の材料がSiO2であり、低屈折率を有し、波長が５５０ｎｍであると、屈折率が１．４６である。
【００１０】
特許文献９において、３層の導電金属酸化物を有する６層の反射防止フィルムを示しており、該多層構造はSiO2、ITO、Nb2O5およびTa2O5を含み、該フィルムは合計厚さが可視光の波長に達する導電金属酸化物を有し、一実施例では、該６層構造の両主層の材料及び厚さが、それぞれ、SiO2、８５４ÅおよびITO、１９７５Åであり、該多層構造の表層の材料がSiO2であり、低屈折率を有し、波長が５５０ｎｍであると、屈折率が１．４６である。
【００１１】
特許文献１０において、温度に敏感な基板（例えば、プラスチック）に用いる４層の反射防止フィルムを示しており、そのうちの１層が直流反応スパッタの金属酸化物であり、基板上に快速的に塗布でき、かつ、多くの熱を該基板に伝導せず、該多層構造はSnO2、SiO2およびITOを含み、一実施例では、該４層構造の両主層の材料及び厚さが、それぞれ、SnO2、７６３ÅおよびSiO2、１９７５Åであり、該多層構造の表層の材料がSiO2であり、低屈折率を有し、波長が５５０ｎｍであると、屈折率が１．４６である。
【００１２】
特許文献１１及び特許文献１２において、反射防止フィルムをプラスチックフィルムに塗布することに用いる改良方法を示しており、該多層薄フィルムはスパッタプロセスでロールフィルムを塗布し、該多層構造はITO、SiO2および薄い潤滑層を含み、溶解可能なフッ素ポリマーであり、一実施例では、該６層構造の合計厚さが約２６３０Åであり、該多層構造の表層の材料がSiO2であり、低屈折率を有し、波長が５５０ｎｍであると、屈折率が１．４６である。
【００１３】
以上のように示されている光学多層構造の表面薄層の材料は、SiO2或いはMgF2であり、低屈折率を有し、波長が５５０ｎｍであると、屈折率がそれぞれ１．４６および１．３８である。
【００１４】
従来の反射防止光学フィルムの多層構造は、ともに、光学フィルムの表層の材料が低屈折率を有し、例えば、SiO2の屈折率が１．４６、或いはMgF2の屈折率が１．３８である通則を利用している。しかしながら、該反射防止フィルムをディスプレイ工業、例えば、静電気防止効果のあるパソコンスクリーン或いは、液晶ディスプレイまたはプラズマディスプレイに用いる低反射ガラスに応用すると、多量生産の過程では、まだ行き詰まりがある。これは、該光学フィルム構造の導電層が絶縁層（例えば、SiO2或いはMgF2）を焼結してなるためである。
【００１５】
反射防止フィルムの基本的な設計規則は、基板表面の第１層に高屈折率のある材料（Hを示す）が配置され、その後、低屈折率のある材料（Lを示す）からなる第２層が配置されるため、従来の反射防止フィルムの多層構造の規則は、HLHLまたはHLHLHLであり、高屈折率（H）の材料がITO、低屈折率（L）の材料がSiO2である場合を例とし、該４層構造がそれぞれGlass/ITO/ SiO2/ITO/ SiO2である。ITOが透明の導電材料であるため、該多層構造のフィルムの導電性が平方毎１００Ω未満であり、かつ、該導電フィルムがグランドに連結すると、電磁干渉（EMI）遮蔽または静電気放電には使用できる。しかしながら、従来の光学多層構造の表面材料はSiO2であり、その厚さが１０００Åであり、該SiO2の材質の特性は、高密度、惰性を有し並びに良好な電気絶縁層である。従来の反射防止フィルムをディスプレイ工業に応用する場合は、外層のSiO2で隔離した該焼結されたITO層に電気的に接触することは困難で、金属をITO層に接触する接地過程では、超音波半田付けプロセスで該SiO2層を破って半田ボールとITO層とが良好な接触を発生させることを確保する必要があり、この製造プロセスは、反射防止フィルムを多量に生産する時の行き詰まりである。
【００１６】
一方、液体の錫および超音波の露出エネルギのため、該超音波半田付けプロセスの微細な汚染物の他、該超音波半田付けプロセスも、バスライン毎の上に非持久性の接触抵抗を発生してしまい、此れは、超音波半田付けプロセスが均一且つ同じ深さで該絶縁層を破って均一な接触抵抗を得ることが保証できないためである。
【００１７】
前記欠点は、従来の電磁干渉防止及び反射防止フィルムの製造プロセスを応用する時の歩留まり及び信頼性を低下させてしまう。
【特許文献１】米国特許４９２１７６０
【特許文献２】米国特許５１０５３１０
【特許文献３】米国特許５０９１２４４
【特許文献４】米国特許５４０７７３３
【特許文献５】米国特許５１４７１２５
【特許文献６】米国特許５１７０２９１
【特許文献７】米国特許５２１６５４２
【特許文献８】米国特許５５４１７７０
【特許文献９】米国特許５３６２５５２
【特許文献１０】米国特許５５７９１６２
【特許文献１１】米国特許５７２８４５６
【特許文献１２】米国特許５７８３０４９
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１８】
本発明の主な目的は、８つの酸化物層を有し、該フィルムの表層の材料が透過可能な導電層であって、並びに１．９〜２．２の高屈折率を有する、透過可能な表面導電層を有する低抵抗光減衰反射防止フィルムを提供することである。
【００１９】
本発明の他の目的は、透過可能な表面導電層を有する低抵抗光減衰反射防止フィルムを提供し、酸化物薄フィルムを多量に生産するプロセスにおいて信頼的であり、該低抵抗光減衰反射防止フィルムが、半導体、光学ヘッド、液晶ディスプレイ、陰極射線管、建築ガラス、タッチセンサ、スクリーンフィルム、プラスチックウェブフィルムなどの工業に応用できる。
【００２０】
本発明の他の目的は、透過可能な表面導電層を有する低抵抗光減衰反射防止フィルムを提供し、該低抵抗光減衰反射防止フィルムの多層構造がHL(HL)6Hであり、８つの酸化物層を有し、該フィルムの表層の材料が透過可能な導電層で、かつ１．９〜２．２の間の高屈折率を有し、該低抵抗光減衰反射防止フィルムの表層の材料は透過可能な表面導電層である。一実施例では、該透過可能な表面導電層の材料はSiO2、ZnO2、In2O3およびITOである。
【００２１】
本発明の他の目的は、透過可能な表面導電層を有する低抵抗光減衰反射防止フィルムを提供し、該低抵抗光減衰反射防止フィルムの表層の材料が透過可能な表面導電層で、該透過可能な表面導電層の光屈折率が０．５％未満で、該低抵抗光減衰反射防止フィルムの抵抗は、平方毎０．５Ω〜０．７Ωであり、その透過率が５５％〜７０％である。
【課題を解決するための手段】
【００２２】
この課題を解決するために、本発明の透過可能な表面導電層を有する低抵抗光減衰反射防止フィルムは、基板と、前記基板の片面に配置され、高屈折率の酸化物からなり、物理的な厚さが２０ｎｍ〜４０ｎｍである第１５層と、前記第１５層に配置され、低屈折率の金属材料からなり、物理的な厚さが８ｎｍ〜１２ｎｍである第１４層と、前記第１４層に配置され、高屈折率の酸化物からなり、物理的な厚さが３０ｎｍ〜８０ｎｍである第１３層と、前記第１３層に配置され、低屈折率の金属材料からなり、物理的な厚さが８ｎｍ〜１２ｎｍである第１２層と、前記第１２層に配置され、高屈折率の酸化物からなり、物理的な厚さが３０ｎｍ〜８０ｎｍである第１１層と、前記第１１層に配置され、低屈折率の金属材料からなり、物理的な厚さが８ｎｍ〜１２ｎｍである第１０層と、前記第１０層に配置され、高屈折率の酸化物からなり、物理的な厚さが３０ｎｍ〜８０ｎｍである第９層と、前記第９層に配置され、低屈折率の金属材料からなり、物理的な厚さが８ｎｍ〜１２ｎｍである第８層と、前記第８層に配置され、高屈折率の酸化物からなり、物理的な厚さが３０ｎｍ〜８０ｎｍである第７層と、前記第７層に配置され、低屈折率の金属材料からなり、物理的な厚さが８ｎｍ〜１２ｎｍである第６層と、前記第６層に配置され、高屈折率の酸化物からなり、物理的な厚さが３０ｎｍ〜８０ｎｍである第５層と、前記第５層に配置され、低屈折率の金属材料からなり、物理的な厚さが８ｎｍ〜１２ｎｍである第４層と、前記第４層に配置され、高屈折率の酸化物からなり、物理的な厚さが３０ｎｍ〜８０ｎｍである第３層と、前記第３層に配置され、低屈折率の金属材料からなり、物理的な厚さが８ｎｍ〜１２ｎｍである第２層と、前記第２層に配置され、高屈折率の酸化物からなり、物理的な厚さが２０ｎｍ〜４０ｎｍである第１層と、を含むものである。
【００２３】
ここで前記第１層、第３層、第５層、第７層、第９層、第１１層、及び第１３層は、ZnO:Alからなり、前記第２層、第４層、第６層、第８層、第１０層、第１２層、及び第１４層は、銀からなり、前記第１５層は、TiO2からなるようにしてもよい。
【００２４】
ここで前記第１層、第３層、第５層、第７層、第９層、第１１層、及び第１３層の酸化物の屈折率は、１．９〜２．２であり、前記第２層、第４層、第６層、第８層、第１０層、第１２層、及び第１４層の金属材料の屈折率は、０．１〜０．５であり、前記第１５層の酸化物の屈折率は、２．２〜２．４としてもよい。
【００２５】
ここで前記第１層、第３層、第５層、第７層、第９層、第１１層、及び第１３層の酸化物は、直流またはパルス直流スパッタリング法で形成され、前記第２層、第４層、第６層、第８層、第１０層、第１２層、及び第１４層の金属材料は、直流またはパルス直流スパッタリング法で形成され、前記第１５層の酸化物は、交流スパッタリング法で形成されるようにしてもよい。
【００２６】
ここで前記第１層〜第１５層が、同軸またはロール対ロール真空システムの蒸着或いはスパッタリングプロセスで形成されるようにしてもよい。
【００２７】
この課題を解決するために、本発明の透過可能な表面導電層を有する低抵抗光減衰反射防止フィルムは、基板と、前記基板に配置され、高屈折率の酸化物からなる第５層と、低屈折率の金属材料からなる複数の第４層と、高屈折率の酸化物からなる複数の第３層と、低屈折率の金属材料からなる第２層と、高屈折率の酸化物からなる第１層と、を含み、前記複数の第４層と複数の第３層とが交互に堆積されるとともに前記第５層に配置され、続いて前記第２層および第１層が順次に配置されたものである。
【００２８】
ここで前記第５層の物理的な厚さが２０ｎｍ〜４０ｎｍの間、前記第４層の物理的な厚さが８ｎｍ〜１２ｎｍの間、前記第３層の物理的な厚さが３０ｎｍ〜８０ｎｍの間、前記第２層の物理的な厚さが８ｎｍ〜１２ｎｍの間、前記第１層の物理的な厚さが２０ｎｍ〜４０ｎｍの間としてもよい。
【００２９】
ここで前記基板はプラスチックフィルムとしてもよい。
【００３０】
ここで前記基板はガラスとしてもよい。
【００３１】
ここで前記第１層及び前記複数の第３層がZnO:Alからなり、前記第２層及び前記複数の第４層が銀からなり、前記第１５層がTiO2からなるようにしてもよい。
【００３２】
ここで前記第１層及び前記複数の第３層の酸化物の屈折率が、１．９〜２．２であり、前記第２層及び前記複数の第４層の金属材料の屈折率が、０．１〜０．５であり、前記第５層の酸化物の屈折率が、２．２〜２．４としてもよい。
【００３３】
ここで前記第１層及び前記複数の第３層の酸化物が、直流またはパルス直流スパッタリング法で形成され、前記第２層及び前記複数の第４層の金属材料が、直流またはパルス直流スパッタリング法で形成され、前記第５層の酸化物が、交流スパッタリング法で形成されるようにしてもよい。
【００３４】
ここで前記第１層〜第５層が、同軸またはロール対ロール真空システムの蒸着或いはスパッタリングプロセスで形成されるようにしてもよい。
【００３５】
ここで前記フィルムが、プラズマディスプレイまたは液晶ディスプレイの基本フィルムとしてもよい。
【発明の効果】
【００３６】
該表面層に良好な導電性があるため、透過可能な表面導電層を有する低抵抗光減衰反射防止フィルムは、接地を実現するプロセスで必要な負担を軽減することができ、並びに多量生産の歩留まりおよび信頼性を向上でき、液晶ディスプレイまたはプラズマディスプレイのガラス基板或いはプラスチック基板に応用できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３７】
本発明に係る特徴及び技術内容をより理解できるように、以下に本発明に関わる詳しい説明及び添付図面を参照するが、それらの添付図面は参考及び説明のみに使われ、本発明の主張範囲を狭義的に限定するものではないことは言うまでもないことである。
【００３８】
本発明の１つの実施の形態は、酸化物を元とする１５層の反射防止フィルムであって、各層毎はｎｍ単位の物理的な厚さまたは光学厚さで記述し、設計可視光の波長は５２０ｎｍである。
【００３９】
図１に示すように、基板１７は、ガラス、プラスチックまたは他の透過可能な材料からなる。該基板１７の片面１６は、該基板１７の観察者に対面する面であり、観察方向は符号１８で表される。第１５層１５は該基板１７の片面１６に接し、第１４層１４は第１５層１５上に配置され、続いて、第１３層１３、第１２層１２、第１１層１１、第１０層１０、第９層９、第８層８、第７層７、第６層６、第５層５、第４層４、第３層３、第２層２、第１層１が堆積される。そのうちでは、第１層１が表面層または最外層と呼ばれ、このようにして、本発明の実施の形態の１５層を有するフィルム構造を構成する。
【００４０】
第１層１または所謂表面層はZnO:Al層で、僅かな可視光しか吸収できず、波長が５２０ｎｍであると、該表面層の屈折率が１．９〜２．２であり、物理的な厚さが２０ｎｍ〜４０ｎｍである。第２層２は銀層であり、僅かな可視光しか吸収できず、波長が５２０ｎｍであると、その屈折率が０．１〜０．５であり、物理的な厚さが８ｎｍ〜１２ｎｍである。第３層３はZnO:Alで、僅かな可視光しか吸収できず、波長が５２０ｎｍであると、該層の屈折率が１．９〜２．２であり、物理的な厚さが３０ｎｍ〜８０ｎｍである。第４層４は銀層であり、僅かな可視光しか吸収できず、波長が５２０ｎｍであると、その屈折率が０．１〜０．５であり、物理的な厚さが８ｎｍ〜１２ｎｍである。第５層５はZnO:Alで、僅かな可視光しか吸収できず、波長が５２０ｎｍであると、該層の屈折率が１．９〜２．２であり、物理的な厚さが３０ｎｍ〜８０ｎｍである。第６層６は銀層であり、僅かな可視光しか吸収できず、波長が５２０ｎｍであると、その屈折率が０．１〜０．５であり、物理的な厚さが８ｎｍ〜１２ｎｍである。第７層７はZnO:Alで、僅かな可視光しか吸収できず、波長が５２０ｎｍであると、該層の屈折率が１．９〜２．２であり、物理的な厚さが３０ｎｍ〜８０ｎｍである。第８層８は銀層であり、僅かな可視光しか吸収できず、波長が５２０ｎｍであると、その屈折率が０．１〜０．５であり、物理的な厚さが８ｎｍ〜１２ｎｍである。第９層９はZnO:Alで、僅かな可視光しか吸収できず、波長が５２０ｎｍであると、該層の屈折率が１．９〜２．２であり、物理的な厚さが３０ｎｍ〜８０ｎｍである。第１０層１０は銀層であり、僅かな可視光しか吸収できず、波長が５２０ｎｍであると、その屈折率が０．１〜０．５であり、物理的な厚さが８ｎｍ〜１２ｎｍである。第１１層１１はZnO:Alで、僅かな可視光しか吸収できず、波長が５２０ｎｍであると、該層の屈折率が１．９〜２．２であり、物理的な厚さが３０ｎｍ〜８０ｎｍである。第１２層１２は銀層であり、僅かな可視光しか吸収できず、波長が５２０ｎｍであると、その屈折率が０．１〜０．５であり、物理的な厚さが８ｎｍ〜１２ｎｍである。第１３層１３はZnO:Alで、僅かな可視光しか吸収できず、波長が５２０ｎｍであると、該層の屈折率が１．９〜２．２であり、物理的な厚さが３０ｎｍ〜８０ｎｍである。第１４層１４は銀からなる薄い金属層であり、僅かな可視光しか吸収できず、波長が５２０ｎｍであると、その屈折率が０．１〜０．５であり、物理的な厚さが８ｎｍ〜１２ｎｍである。第１５層１５はTiO2層で、可視光を吸収できず、波長が５２０ｎｍであると、該層の屈折率が２．２〜２．４であり、物理的な厚さが２０ｎｍ〜４０ｎｍである。
【００４１】
好ましい実施の形態では、第１層１の厚さが３５ｎｍ、第２層２の厚さが１０ｎｍ、第３層３の厚さが７５ｎｍ、第４層４の厚さが１０ｎｍ、第５層５の厚さが５５ｎｍ、第６層６の厚さが１０ｎｍ、第７層７の厚さが５５ｎｍ、第８層８の厚さが１０ｎｍ、第９層９の厚さが５５ｎｍ、第１０層１０の厚さが１０ｎｍ、第１１層１１の厚さが７０ｎｍ、第１２層１２の厚さが１０ｎｍ、第１３層１３の厚さが７０ｎｍ、第１４層１４の厚さが１０ｎｍ、第１５層１５の厚さが３３ｎｍである。
【００４２】
総圧力３m Torr(m＝0.001)で、スパッタリングガスAr及び小分圧水が存在する雰囲気で、直流またはパルス直流マグネトロンスパッタリング法が、ZnO:Alを配置し第１、３、５、７、９、１１及び１３層を形成できる。総圧力４m Torrで、スパッタリングガスArが存在する雰囲気で、直流またはパルス直流マグネトロンスパッタリング法が、銀を配置し第２、４、６、８、１０、１２及び１４層を形成できる。総圧力２m Torrで、ArおよびH2Oを混合したスパッタリングガスが存在する雰囲気で、交流反応式スパッタリング法が、Tiを配置し第１５層のTiO2を形成できる。該マグネトロン陰極と基板との距離が１５cｍであり、且つ加熱装置が使用され、該基板の温度が１００度〜３００度で制御された。
【００４３】
勿論、本発明のフィルム構造が１５層に限られず、HL(HL)nH（ｎ：整数）の設計原理に符合すれば、類似効果を達成できる。例えば、n＝１の場合、５層のフィルム構造となる。その内、第１層はZnO:Al層で、僅かな可視光しか吸収できず、波長が５２０ｎｍであると、該表面層の屈折率が１．９〜２．２であり、物理的な厚さが２０ｎｍ〜４０ｎｍである。第２層は銀層であり、僅かな可視光しか吸収できず、波長が５２０ｎｍであると、その屈折率が０．１〜０．５であり、物理的な厚さが８ｎｍ〜１２ｎｍである。第３層はZnO:Alで、僅かな可視光しか吸収できず、波長が５２０ｎｍであると、該層の屈折率が１．９〜２．２であり、物理的な厚さが３０ｎｍ〜８０ｎｍである。第４層は銀層であり、僅かな可視光しか吸収できず、波長が５２０ｎｍであると、その屈折率が０．１〜０．５であり、物理的な厚さが８ｎｍ〜１２ｎｍである。第５層はZnO:Alで、可視光を吸収せず、波長が５２０ｎｍであると、該層の屈折率が２．２〜２．４であり、物理的な厚さが２０ｎｍ〜４０ｎｍである。n＞１の場合、複数の第４層と複数の第３層があり、それらは交互に堆積されるとともに前記第５層に配置され、続いて前記第２層および第１層が順次に配置される。
【００４４】
図２は、本発明に係るフィルム構造の波長の反射率を示すグラフ図であり、該反射率は百分率で表され、可視光波長４００ｎｍ〜７００ｎｍのスペクトルを示し、図から分かるように、波長４６０ｎｍ〜６００ｎｍの間の反射率が０．５％未満で、HLHLを設計原理としていたフィルム構造より優れる。
【００４５】
ＩＴＯフィルムを経て、該導電表面層の抵抗が０．５〜０．７Ωであり、ガラスフィルムまたはプラスチックフィルムにおいて、可視光波長４００ｎｍ〜７００ｎｍに対して、その反射スペクトルが平坦かつ広い帯域であり、良好な表面導電性のある高導電性、光減衰反射防止フィルムが生じる。また、ロール対ロール配置法を使用して本発明のフィルム構造を配置する時に、その生産コストが低く大量生産に適用できる。
【００４６】
一方、本発明のフィルム構造は、高導電性の特性を有し、プラズマディスプレイの製造に応用される時に、電磁干渉遮蔽、光学視角低反射、高表面硬さ削り防止性、適当な光減衰効果などの利点がある。例えば、本発明のフィルム構造の表面抵抗が平方０．５〜０．７Ωであり、しかも十分な硬さを有することで軍事標準MIL−C−48497の耐削テストを通すことができる。
【００４７】
本発明は、従来のフィルム構造では、透過可能な導電層が絶縁シリカに隔離されている問題が解決できるという効果を達成できる。本発明は、表面材料がZnO:Alで且つ１５層を有するフィルム構造を提供し、その屈折率が１．９〜２．２である。
【００４８】
該反射防止フィルムの表面層は、導電性があるため、簡単な方式で、本発明のフィルムが良好な電気接触を発生でき、本発明のフィルム構造がプラズマディスプレイのスクリーンフィルタに応用できる。
【００４９】
スクリーンフィルタの応用上で、従来使用されている超音波半田付けプロセスによる微細な半田ポット汚染物を発生する接地プロセス法が置き換えられ、反射防止フィルムがスクリーンフィルタに装着された最後の接地プロセスが簡易化され、導電遮断ＩＴＯ層と半田との間に形成された不均一な電気接触の問題が解決され、接地プロセスの歩留まりが向上する。また、該フィルム構造もプラズマディスプレイ及び液晶ディスプレイ工業の基本フィルムに応用できる。
【００５０】
本発明の１５層のフィルム構造は、導電材料でその表面層を構成し、低抵抗機能を有するガラスまたはプラスチックフィルム基板に簡易的且つ経済的に応用できる。
【００５１】
しかし、前記の説明は、単に本発明の好ましい具体的な実施の形態の詳細説明及び図面に過ぎなく、本発明の特許請求の範囲を限定するものではない。本発明の主張する範囲は、下記の特許請求の範囲に基づいており、いずれの当該分野における通常の知識を有する専門家が本発明の分野の中で、適当に変更や修飾などを実施できるが、それらの変形例も本発明の主張範囲内に含まれるべきことは言うまでもないことである。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】本発明に係るフィルム構造を示す図である。
【図２】本発明に係るフィルム構造の波長の反射率を示すグラフ図である。
【符号の説明】
【００５３】
１  第１層
２  第２層
３  第３層
４  第４層
５  第５層
６  第６層
７  第７層
８  第８層
９  第９層
１０第  １０層
１１第  １１層
１２第  １２層
１３第  １３層
１４第  １４層
１５第  １５層
１６  片面
１７  基板
１８  観察の方向
【図１】
2008268569.tif 000003
【図２】
2008268569.tif 000004