(57)【要約】【課題】本発明の目的は、近年の液晶表示装置の急速な大型化にも充分対応可能な光拡散シートおよびバックライトユニットの提供、及び該光拡散シートを環境適性、作業安全性に優れた水系塗工液を用いて作製する光拡散シートの製造方法を提供することにある。【解決手段】バインダー中に光拡散剤を含む光拡散層と、透明な基材とスティッキング防止層とをこの順に備える光拡散シートであって、スティッキング防止層または光拡散層が複数層からなり、最外層以外の層に複数層の合計膜厚より大きい平均粒径を有するマット粒子を含むことを特徴とする光拡散シート。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
バインダー中に光拡散剤を含む光拡散層と、透明な基材とスティッキング防止層とをこの順に備える光拡散シートであって、スティッキング防止層または光拡散層が複数層からなり、最外層以外の層に複数層の合計膜厚より大きい平均粒径を有するマット粒子を含むことを特徴とする光拡散シート。
【請求項２】
前記マット粒子径が複数層の合計膜厚の２倍以上であることを特徴とする請求項１記載の光拡散シート。
【請求項３】
前記マット粒子が球形粒子であることを特徴とする請求項１または２記載の光拡散シート。
【請求項４】
ランプと、このランプの側方に配置されてランプから発せられる光線を表側方向に導く導光板と、この導光板の表側に配置される請求項１〜３のいずれか１項に記載の光拡散シートとを備えたことを特徴とする液晶表示装置用バックライトユニット。
【請求項５】
バインダー中に光拡散剤を含む光拡散層と、透明な基材とスティッキング防止層とをこの順に備える光拡散シートの製造方法であって、スティッキング防止層または光拡散層が複数層からなり、最外層以外の層に複数層の合計膜厚より大きい平均粒径を有するマット粒子を含み、該マット粒子が含まれる層の更に上に設けられる層の塗工方法が非接触型塗工方式であることを特徴とする光拡散シートの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に組み込まれるバックライトユニットに用いられる光拡散シート、光拡散シートの製造方法、及びこの光拡散シートを用いたバックライトユニットに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、液晶層を背面から照らして発光させるバックライト方式が普及し、液晶層の下面側にバックライトユニットが装備されている。かかるバックライトユニット２０は、一般的には図２に示すように、光源としての棒状のランプ２１と、ランプ２１に端部が沿うように配置される方形板状の導光板２２と、導光板２２の表面側に配設される光拡散シート２３と、光拡散シート２３の表面側に配設されるプリズムシート２４とを備えている。（例えば、特許文献１及び２参照。）
このバックライトユニット２０の機能を説明すると、まず、ランプ２１より導光板２２に入射した光線は、導光板２２裏面の反射ドット又は反射シート（図示されず）及び各側面で反射され、導光板２２表面から出射される。導光板２２から出射した光線は光拡散シート２３に入射し、拡散され、光拡散シート２３表面より出射される。その後、光拡散シート２３から出射された光線は、プリズムシート２４に入射し、プリズムシート２４の表面に形成されたプリズム部２４ａによって、略真上方向にピークを示す分布の光線として出射される。このように、ランプ２１から出射された光線が、光拡散シート２３によって拡散され、またプリズムシート２４によって略真上方向にピークを示すように屈折され、更に上方の図示していない液晶層全面を照明するものである。
【０００３】
また図示していないが、上述のプリズムシート２４の集光特性を考慮し、プリズムシート２４の表面側に更に光拡散シートやプリズムシートを配設するバックライトユニットもある。
【０００４】
従来、スティッキング防止層や光拡散層は有機溶媒を主体とする塗工液を塗布・乾燥することにより設けられることが通常であった。しかしながら近年、環境適性向上や作業時の有機溶媒暴露の低減のニーズが高まり、水を主体とする塗工液によりスティッキング防止層や光拡散層を塗設する方法が検討されてきている。
【０００５】
しかしながら、水を主体とする塗工液の場合、蒸発潜熱が大きいことや造膜後の膜中での溶媒拡散性が悪く、水分が残留しやすい等の理由から、生産性を落とさずに有機溶媒を主体とする塗膜並みの膜厚を塗工することが困難であった。ゆえに大きな粒径のマット粒子を用いることが難しく、導光板と接触する位置に配置されて高いスティッキング防止能を要求されるタイプ、所謂下用の光拡散シートについては有機溶剤系並みの性能を有するものは得られていなかった。また近年の液晶表示装置の急速な大型化により、従来より高いレベルのスティッキング防止性が求められてきており、このスティッキング防止性は水系で下用光拡散シートを得る上での課題となっていた。
【特許文献１】特開平７−５３０５号公報
【特許文献２】特開２０００−８９００７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記した課題に鑑みてなされたものであり、光拡散シートでの光拡散層とスティッキング防止層を構成する素材や特性値に関して、本発明者が鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成するに至ったのである。すなわち、本願発明の要旨とするところは、透明な基材シート、この基材シートの一方の面に積層され、かつそのバインダー内にビーズが分散してなる光拡散層、およびこの基材シートの他方の面に積層されたスティッキング防止層を含む光拡散シートにおいて、該スティッキング防止層または光拡散層が複数層からなり、最外層以外の層に複数層の合計膜厚より大きい平均粒径を有するマット粒子を含むことにより達成される。
【０００７】
本発明の光拡散シートによれば、膜厚に対して大きなマット粒子を用いることができ、充分なスティッキング防止性を有する光拡散シートを得ることが可能となり、更に導光板、プリズムシート、光拡散層面等の接触部材をより傷つけにくい光拡散シートを得ることができるようになる。これにより大画面サイズにおいてもスティッキングによる画像ムラを生じず、傷等による画像欠陥の少ないバックライトユニットを得ることができる。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の上記課題は以下の構成により達成される。
【０００９】
１．バインダー中に光拡散剤を含む光拡散層と、透明な基材とスティッキング防止層とをこの順に備える光拡散シートであって、スティッキング防止層または光拡散層が複数層からなり、最外層以外の層に複数層の合計膜厚より大きい平均粒径を有するマット粒子を含むことを特徴とする光拡散シート。
【００１０】
２．前記マット粒子径が複数層の合計膜厚の２倍以上であることを特徴とする前記１記載の光拡散シート。
【００１１】
３．前記マット粒子が球形粒子であることを特徴とする前記１または２記載の光拡散シート。
【００１２】
４．ランプと、このランプの側方に配置されてランプから発せられる光線を表側方向に導く導光板と、この導光板の表側に配置される前記１〜３のいずれか１項に記載の光拡散シートとを備えたことを特徴とする液晶表示装置用バックライトユニット。
【００１３】
５．バインダー中に光拡散剤を含む光拡散層と、透明な基材とスティッキング防止層とをこの順に備える光拡散シートの製造方法であって、スティッキング防止層または光拡散層が複数層からなり、最外層以外の層に複数層の合計膜厚より大きい平均粒径を有するマット粒子を含み、該マット粒子が含まれる層の更に上に設けられる層の塗工方法が非接触型塗工方式であることを特徴とする光拡散シートの製造方法。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の方法によれば、近年の液晶表示装置の急速な大型化にも充分対応可能な光拡散シートおよびバックライトユニットを環境適性、作業安全性に優れた水系塗工液を用いて作製することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００１６】
以下、適宜図面を参照しつつ本発明の実施の形態を詳説する。
【００１７】
図１を参照すれば、一般に、本発明の光拡散シート１は、基材シート２、基材シート２の一方の面（表面）に積層された光拡散層３、基材シート２の他方の面（裏面）に積層されたスティッキング防止層４とから構成されている。
【００１８】
基材シート２は、光線を透過させる必要があるので透明、特に、無色透明の合成樹脂から形成されている。かかる基材シート２に用いられる合成樹脂としては、特に限定されるものではなく、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリオレフィン、セルロースアセテート、耐候性塩化ビニル等が挙げられる。基材シート２の厚みは、特には限定されないが、例えば、約１０μｍ〜約５００μｍ、好ましくは、約３５μｍ〜約２５０μｍとする。
【００１９】
これはすなわち、基材シート２の厚みが上記範囲に満たないと、光拡散層３を形成する樹脂組成物を塗工した際にカールが発生しやすくなってしまい、逆に、基材シート２の厚みが上記範囲を超えると、液晶表示装置の輝度が低下してしまうことがあり、またバックライトユニットの厚みが大きくなって液晶表示装置の薄型化の要求に反することによる。
【００２０】
〔適用〕
本発明は光拡散シートを構成するスティッキング防止層側、光拡散層側のいずれの層に適用しても良いが、スティッキング防止層側に適用することにより、大きな効果が得られる。
【００２１】
［光拡散層］
光拡散層３は、バインダー５およびバインダー５内に分散するビーズ６から構成されている。バインダー５に用いられるポリマーとしては、水溶性または水分散性ポリマーが好ましく用いられ、中でも水分散性ポリマーが特に好ましく用いられる。その具体例を下記に示す。
【００２２】
〔アクリルｌａｔｅｘ〕
本発明に用いられる水分散性アクリルポリマーは、アクリル系モノマー単独で、あるいはアクリル系モノマーとアクリル系モノマーと共重合し得る他のモノマー（以下、コモノマーという。）を用いて製造することができる。アクリル系モノマーとしては、例えばアクリル酸；メタクリル酸；アクリル酸エステル、例えばアルキルアクリレート（例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、フェニルアクリレート、ベンジルアクリレート、フェニルエチルアクリレート等）、ヒドロキシ含有アルキルアクリレート（例えば、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等）；メタクリル酸エステル、例えばアルキルメタクリレート（例えば、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、ｔ−ブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、フェニルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、フェニルエチルメタクリレート等）、ヒドロキシ含有アルキルメタクリレート（例えば、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート等）；アクリルアミド；置換アクリルアミド、例えばＮ−メチルアクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチロールアクリルアミド、Ｎ−メトキシメチルアクリルアミド等；メタクリルアミド；置換メタクリルアミド、例えばＮ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチロールメタクリルアミド、Ｎ−メトキシメチルメタクリルアミド等；アミノ基置換アルキルアクリレート、例えばＮ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリレート；アミノ基置換アルキルメタクリレート、例えばＮ，Ｎ−ジエチルアミノメタクリレート；エポキシ基含有アクリレート、例えばグリシジルアクリレート；エポキシ基含有メタクリレート、例えばグリシジルメタクリレート；アクリル酸の塩、例えばナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩；メタクリル酸の塩、例えばナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩が挙げられる。上述のモノマーは１種もしくは２種以上を併用することができる。
【００２３】
コモノマーとしては、例えばスチレン及びその誘導体；不飽和ジカルボン酸（例えば、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸）；不飽和ジカルボン酸のエステル（例えば、イタコン酸メチル、イタコン酸ジメチル、マレイン酸メチル、マレイン酸ジメチル、フマル酸メチル、フマル酸ジメチル）；不飽和ジカルボン酸の塩（例えば、ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩）；スルホン酸基又はその塩を含有するモノマー（例えば、スチレンスルホン酸、ビニルスルホン酸及びそれらの塩（ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩））；無水マレイン酸、無水イタコン酸等の酸無水物；ビニルイソシアネート；アリルイソシアネート；ビニルメチルエーテル；ビニルエチルエーテル；酢酸ビニルが挙げられる。上述のモノマーは１種もしくは２種以上を併用することができる。
【００２４】
本発明において、最も低いガラス転移温度を示すアクリル系ポリマーラテックスのガラス転移温度（ＴｇL）と最も高いガラス転移温度を示すアクリル系ポリマーラテックスのガラス転移温度（ＴｇH）との差が８０℃を越える場合、即ちＴｇLが低すぎる場合は、塗膜のブロッキング耐性が劣化し、ＴｇHが高すぎる場合は、塗膜の造膜性が劣化する。またＴｇLとＴｇHの差が１０℃に満たない場合は、ポリマーブレンドの効果を失う。
【００２５】
本発明において、ガラス転移温度（Ｔｇ）は、ブランドラップらによる“ポリマーハンドブック”III−１３９頁からIII−１７９頁（１９６６年、ワイリーアンド  サン社版）に記載の方法で求めたものである。コポリマーのＴｇ（コポリマー）は下記の式でも求められる。
【００２６】
Ｔｇ（コポリマー）（°Ｋ）＝ｖ1Ｔｇ1＋ｖ2Ｔｇ2＋・・・＋ｖnＴｇn式中、ｖ1、ｖ2・・・ｖnはコポリマー中のモノマーの質量分率を表し、Ｔｇ1、Ｔｇ2・・・Ｔｇnはコポリマー中の各モノマーから得られるホモポリマーのＴｇ（°Ｋ）を表す。上式に従って計算されたＴｇの精度は、±５℃である。
【００２７】
〔ポリエステルｌａｔｅｘ〕
本発明に用いられる水分散性ポリエステルは、例えば、多価カルボン酸類と多価アルコール類との縮重合により得られる。
【００２８】
多価カルボン酸類としては、ジカルボン酸として、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、オルソフタル酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、ジフェン酸等の芳香族ジカルボン酸、ｐ−オキシ安息香酸、ｐ−（ヒドロキシエトキシ）安息香酸等の芳香族オキシカルボン酸、フェニレンジアクリル酸等の芳香族不飽和多価カルボン酸、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸等の脂肪族ジカルボン酸、フマル酸、マレイン酸、イタコン酸、メサコン酸、シトラコン酸、ヘキサヒドロフタル酸、テトラヒドロフタル酸、脂肪族不飽和多価カルボン酸、および、シクロヘキサンジカルボン酸等の脂環族ジカルボン酸等を、また多価カルボン酸としては他にトリメリット酸、トリメシン酸、ピロメリット酸等の三価以上の多価カルボン酸等を例示できる。
【００２９】
多価アルコール類としては、脂肪族多価アルコール類、脂環族多価アルコール類、芳香族多価アルコール類等を例示できる。
【００３０】
上記脂肪族多価アルコール類としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−プロパンジオール、２，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、ジメチロールヘプタン、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等の脂肪族ジオール類、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエルスリトール等のトリオールおよびテトラオール類等を例示できる。
【００３１】
上記脂環族多価アルコール類としては、１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、スピログリコール、水素化ビスフェノールＡ、水素化ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物およびプロピレンオキサイド付加物、トリシクロデカンジオール、トリシクロデカンジメタノール等を例示できる。
【００３２】
上記芳香族多価アルコール類としては、パラキシレングリコール、メタキシレングリコール、オルトキシレングリコール、１，４−フェニレングリコール、１，４−フェニレングリコールのエチレンオキサイド付加物、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物およびプロピレンオキサイド付加物等を例示できる。更にポリエステルポリオールとして、ε−カプロラクトン等のラクトン類を開環重合して得られる、ラクトン系ポリエステルポリオール類等を例示することができる。
【００３３】
また、本発明の水分散性ポリエステルに使用されるポリエステル樹脂は、ポリエステル高分子末端の極性基の一部を封鎖することを目的に単官能単量体がポリエステルに導入されていてもよい。
【００３４】
上記単官能単量体としては、安息香酸、クロロ安息香酸、ブロモ安息香酸、パラヒドロキシ安息香酸、スルホ安息香酸モノアンモニウム塩、スルホ安息香酸モノナトリウム塩、シクロヘキシルアミノカルボニル安息香酸、ｎ−ドデシルアミノカルボニル安息香酸、ターシャルブチル安息香酸、ナフタレンカルボン酸、４−メチル安息香酸、３−メチル安息香酸、サリチル酸、チオサリチル酸、フェニル酢酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、オクタンカルボン酸、ラウリル酸、ステアリル酸、およびこれらの低級アルキルエステル等のモノカルボン酸類、あるいは脂肪族アルコール、芳香族アルコール、脂環族アルコール等のモノアルコールを用いることができる。
【００３５】
本発明では、これらポリエステル樹脂を１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。組み合わせて用いることで、後述する芳香族炭化水素との相溶性を良好にし、乳化状態を良好にし、ひいては系全体の安定性が向上する。
【００３６】
〔ポリウレタンｌａｔｅｘ〕
本発明に用いられるポリウレタンエマルジョンは、従来公知の方法で製造することができる。例えば、実質的に有機溶剤を含有せず、かつ１分子中に少なくとも２個のイソシアネート基を有するウレタンプレポリマーと水とを特定の乳化機に供給し、該ウレタンプレポリマーを水に連続的に乳化させて０．１〜２．５μｍの平均粒径を有する該ウレタンプレポリマーのエマルジョンを得たのち、連続的に鎖伸張剤を反応させることにより該ウレタンプレポリマーを鎖伸長させる方法等により得ることができ、具体的には特開２００４−２７３２号公報記載の方法等に従って得ることができる。
【００３７】
また、前記ウレタンプレポリマーの数平均分子量は、好ましくは１，０００〜２０，０００の範囲である。
【００３８】
前記ウレタンプレポリマーは、従来公知の方法で製造することができるものであり、例えば、ポリイソシアネート化合物と活性水素含有化合物を反応させる方法が挙げられ、１）有機溶剤を使用せずに、後述のポリイソシアネート化合物と後述のポリオール化合物等とを反応させる方法、２）有機溶剤中で後述のポリイソシアネート化合物と後述のポリオール化合物とを反応させた後、脱溶剤させる方法が挙げられるが、脱溶剤工程が不要である点で、前者の方法が好ましい。
【００３９】
上記反応は、好ましくは２０〜１２０℃の範囲、より好ましくは３０〜１００℃の範囲の温度で、イソシアネート基と活性水素基とを当量比で、好ましくは１．１：１〜３：１、より好ましくは１．２：１〜２：１の比率で、上記ポリイソシアネート化合物と活性水素含有化合物とを反応させるものである。
【００４０】
また、かかる反応の際に、必要に応じて過剰のイソシアネート基にアミノシラン等を反応させ、末端基をアルコキシシリル基等のイソシアネート基以外の反応基としてもよい。
【００４１】
前記ポリイソシアネート化合物としては、例えば、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、２，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、２，２’−ジフェニルメタンジイソシアネート、３，３’−ジメチル−４，４’−ビフェニレンジイソシアネート、３，３’−ジメトキシ−４，４’−ビフェニレンジイソシアネート、３，３’−ジクロロ−４，４’−ビフェニレンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、１，５−テトラヒドロナフタレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート、ドデカメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、１，３−シクロヘキシレンジイソシアネート、１，４−シクロヘキシレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、水素添加キシリレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、４，４’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、３，３’−ジメチル−４，４’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート等が挙げられる。
【００４２】
前記ウレタンプレポリマーを製造する際に使用する活性水素含有化合物としては、比較的高分子量の化合物（以下、高分子量化合物という。）と、比較的低分子量の化合物（以下、低分子量化合物という。）を使用することができる。
【００４３】
上記高分子量化合物の数平均分子量としては３００〜１０，０００の範囲が好ましく、より好ましくは５００〜５，０００の範囲である。また、上記低分子量化合物の数平均分子量としては３００未満のものである。
【００４４】
これらの活性水素含有化合物は単独使用してもよいが、２種以上を併用してもよい。
【００４５】
活性水素含有化合物のうち上記高分子量化合物としては、例えば、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリアセタールポリオール、ポリアクリレートポリオール、ポリエステルアミドポリオール、ポリチオエーテルポリオール、ポリブタジエン系等のポリオレフィンポリオール等が挙げられる。
【００４６】
ポリエステルポリオールとしては、下記グリコール成分と下記酸成分とを脱水縮合反応させて得られるポリエステルポリオールを使用することができる。
【００４７】
上記ポリエステルポリオールを得る際に使用することができるグリコール成分としては、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール（分子量３００〜６，０００）、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ビスヒドロキシエトキシベンゼン、１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ビスフェノールＡ、水素添加ビスフェノールＡ、ハイドロキノン及びそれらのアルキレンオキシド付加体等が挙げられる。
【００４８】
また、上記ポリエステルポリオールを得る際に使用することができる酸成分としては、例えばコハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸、無水マレイン酸、フマル酸、１，３−シクロペンタンジカルボン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸、２，５−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、ナフタル酸、ビフェニルジカルボン酸、１，２−ビス（フェノキシ）エタン−ｐ，ｐ’−ジカルボン酸及びこれらジカルボン酸の無水物あるいはエステル形成性誘導体；ｐ−ヒドロキシ安息香酸、ｐ−（２−ヒドロキシエトキシ）安息香酸及びこれらのヒジロキシカルボン酸のエステル形成性誘導体等が挙げられる。
【００４９】
また、ε−カプロラクトン等の環状エステル化合物の開環重合反応によって得られるポリエステル及びこれらの共重合ポリエステルも使用することができる。
【００５０】
ポリエーテルポリオールとしては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、トリメチレングリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ソルビトール、しょ糖、アコニット糖、トリメリット酸、ヘミメリット酸、燐酸、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリイソプロパノールアミン、ピロガロール、ジヒドロキシ安息香酸、ヒドロキシフタール酸、１，２，３−プロパントリチオール、等の活性水素原子を少なくとも２個有する化合物の１種または２種以上を、例えばエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド、スチレンオキサイド、エピクロルヒドリン、テトラヒドロフラン、シクロヘキシレン等の１種または２種以上に常法により付加重合させた化合物が挙げられる。
【００５１】
ポリカーボネートポリオールとしては、例えば、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール等のグリコールとジフェニルカーボネート、ホスゲンとの反応によって得られる化合物が挙げられる。
【００５２】
活性水素含有化合物のうち上記低分子量化合物は、分子内に少なくとも２個以上の活性水素を含有する数平均分子量が３００未満の化合物であり、例えば上記ポリエステルポリオールの原料として用いたグリコール成分；グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ソルビトール、ペンタエリスリトール等のポリヒドロキシ化合物；エチレンジアミン、１，６−ヘキサメチレンジアミン、ピペラジン、２，５−ジメチルピペラジン、イソホロンジアミン、４，４’−ジシクロヘキシルメタンジアミン、３，３’−ジメチル−４，４’−ジシクロヘキシルメタンジアミン、１，４−シクロヘキサンジアミン、１，２−プロパンジアミン、ヒドラジン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン等のアミン化合物などが挙げられる。
【００５３】
ウレタンプレポリマー中に親水性基を導入するためには、例えば、活性水素含有化合物として、分子内に少なくとも１個以上の活性水素原子を有し、かつ上記の親水性基を含有する化合物を原料として用いればよい。
【００５４】
かかる分子内に少なくとも１個以上の活性水素原子を有し、かつ上記の親水性基を含有する化合物としては、例えば２−オキシエタンスルホン酸、フェノールスルホン酸、スルホ安息香酸、スルホコハク酸、５−スルホイソフタル酸、スルファニル酸、１，３−フェニレンジアミン−４，６−ジスルホン酸、２，４−ジアミノトルエン−５−スルホン酸等のスルホン酸基含有化合物及びこれらの誘導体又はこれらを共重合して得られるポリエステルポリオール；
２，２−ジメチロールプロピオン酸、２，２−ジメチロール酪酸、２，２−ジメチロール吉草酸、ジオキシマレイン酸、２，６−ジオキシ安息香酸、３，４−ジアミノ安息香酸等のカルボン酸含有化合物及びこれらの誘導体又はこれらを共重合して得られるポリエステルポリオール；
メチルジエタノールアミン、ブチルジエタノールアミン、アルキルジイソプロパノールアミン等の３級アミノ基含有化合物及びこれらの誘導体又はこれらを共重合して得られるポリエステルポリオールまたはポリエーテルポリオール；
前記３級アミノ基含有化合物及びこれらの誘導体叉はこれらを共重合して得られるポリエステルポリオールまたはポリエーテルポリオールと、塩化メチル、臭化メチル、ジメチル硫酸、ジエチル硫酸、塩化ベンジル、臭化ベンジル、エチレンクロルヒドリン、エチレンブロムヒドリン、エピクロルヒドリン、ブロムブタン等の４級化剤の反応物；
エチレンオキシドの繰り返し単位を少なくとも３０質量％以上含有し、ポリマー中に少なくとも１個以上の活性水素を含有する分子量３００〜２０，０００のポリオキシエチレングリコール又はポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン共重合体グリコール、ポリオキシエチレン−ポリオキシブチレン共重合体グリコール、ポリオキシエチレン−ポリオキシアルキレン共重合体グリコール又はそのモノアルキルエーテル等のノニオン基含有化合物又はこれらを共重合して得られるポリエステルポリエーテルポリオールが挙げられる。
【００５５】
これらは単独で、もしくは２種以上組み合わせて使用することができる。
【００５６】
ポリウレタンエマルジョンに使用する水は、ウレタンプレポリマーが分子中に親水性基を有する場合は特に乳化剤を含む必要がないが、ウレタンプレポリマーが親水性基を有さない場合は、ウレタンプレポリマーを水中に微分散させ、ポリウレタンエマルジョンの保存安定性を向上させるために、乳化剤を含有していることが必要である。
【００５７】
かかる乳化剤としては、例えばポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン共重合体、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテル、ポリオキシエチレンソルビトールテトラオレエート等のノニオン系乳化剤；
オレイン酸ナトリウム等の脂肪酸塩、アルキル硫酸エステル塩、アルキルベンゼンスルフォン酸塩、アルキルスルホコハク酸塩、ナフタレンスルフォン酸塩、アルカンスルフォネートナトリウム塩、アルキルジフェニルエーテルスルフォン酸ナトリウム塩等のアニオン系乳化剤；
ポリオキシエチレンアルキル硫酸塩、ポリオキシエチレンアルキルフェニル硫酸塩等のノニオンアニオン系乳化剤が挙げられる。
【００５８】
乳化剤の使用量としては、ウレタンプレポリマー１００質量部に対して０．１〜１５質量部の範囲が好ましく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲である。
【００５９】
前記ウレタンプレポリマーは、常温で液状のものか、又は常温で高粘度を有するもの、若しくは固形状であっても融点以上の温度で粘度が２００〜１０，０００ｍＰａ・ｓであるものが、乳化機にて乳化させる際に高い剪断力がかかり易い点、及び作業性の点で好ましい。
【００６０】
前記ポリウレタンエマルジョンの製造法において、必要に応じて、水に水性分散体や安定剤等を添加することができる。かかる水性分散体としては、例えば酢ビ系、エチレン酢ビ系、アクリル系、アクリルスチレン系等のエマルジョン；スチレン・ブタジエン系、アクリロニトリル・ブタジエン系、アクリル・ブタジエン系等のラテックス；ポリエチレン系、ポリオレフィン系等のアイオノマー；ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミド、エポキシ系樹脂等の各種水性分散体を挙げることができる。
【００６１】
光拡散層に本発明を適用しない場合は必ずしも水性塗布液である必要はなく、上記ポリマーの有機溶剤溶解物を用いても良い。
【００６２】
〔架橋剤と官能基〕
本発明に好ましく用いられる架橋処理に利用される熱架橋剤として適用可能な架橋剤および架橋剤と架橋反応可能な官能基の組み合わせは、下記に限定されないが、例えば下記の組み合わせが挙げられる。
【００６３】
架橋剤の反応基としてイソシアネート基およびブロック化されたイソシアネート基を用いる架橋剤に対しては、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メルカプト基等が、反応基としてエポキシ基を用いる架橋剤に対しては、カルボキシル基、アミノ基、メルカプト基等が、オキサゾリン基や多価金属イオンを用いる架橋剤に対してはカルボキシル基が、エチレンイミン系架橋剤に対しては、カルボキシル基、グリシジル基等が用いられる。他にもメラミン化合物架橋剤と水酸基を架橋させる組み合わせ等も利用できる。
【００６４】
また他の架橋処理である光架橋に適用可能な架橋剤とその官能基としては、これに限定されないが、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和二重結合を有する化合物、具体的官能基としてはアクリロイル基やメタクリロイル基を有する化合物を用いることができる。
【００６５】
〔最低造膜温度〕
本発明のバインダーに水分散性ポリマーを用いる場合、その最低造膜温度（ＭＦＴ）は９０℃以下であることが好ましい。最低造膜温度はバインダーとして用いる水分散性ポリマーのエマルジョンを単独で造膜させた際の造膜可能最低温度をさす。最低造膜温度は公知の測定装置、例えば最低成膜温度測定装置（ＳＫＬＨ−１、島川製作所製）等で測定することができる。
【００６６】
最低造膜温度が９０℃より高いと塗布・乾燥工程で充分に分散ポリマー粒子が充分に融着せず、目的の効果を得ることが困難となる。
【００６７】
ただし、架橋剤を用い、架橋剤と架橋反応可能な官能基を前記組み合わせに従って水分散性粒子に含有させた場合はこの限りではない。
【００６８】
［ジメチルシロキサン構造単位］
本発明にはジメチルシロキサン構造単位を有する化合物を用いることが好ましい。ジメチルシロキサン構造単位を有する化合物とは、分子中に下記一般式（１）に示す構造単位を有する化合物をいう。
【００６９】
【化１】
2008268415.tif 000002
【００７０】
式中、ｎは１以上の整数、ｍは０または１以上の整数を示し、Ｘ，Ｙ，Ｚは共有結合を形成可能な原子または原子団であれば特に限定されないが、具体的にはＸとしてはメチル基、水酸基、ＨＯＯＣ−ＣＨ2−、ＣＨ3Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）nＣＨ2−、ＣＨ3Ｏ（ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）Ｏ）nＣＨ2−、ＮＨ2−ＣＨ2−、ＨＯ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）nＣＨ2−、ＨＯ（ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）Ｏ）nＣＨ2−、
【００７１】
【化２】
2008268415.tif 000003
【００７２】
等が挙げられ、Ｙとしては、−Ｈ、−Ｓｉ（ＣＨ3）3、−Ｓｉ（ＣＨ3）2ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）nＣＨ3、−Ｓｉ（ＣＨ3）2ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）Ｏ）nＣＨ3、−Ｓｉ（ＣＨ3）2ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）nＨ、−Ｓｉ（ＣＨ3）2ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）Ｏ）nＨ、−Ｓｉ（ＣＨ3）2−ＣＨ2−ＣＯＯＨ、−Ｓｉ（ＣＨ3）2−ＣＨ2−ＮＨ2、
【００７３】
【化３】
2008268415.tif 000004
【００７４】
等が、Ｚとしては、アルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、−ＣＨ2−（ＣＨ2）2−ＣＦ3、フェニル基、−ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）nＣＨ3、−ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）Ｏ）n−ＣＨ3、−ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）nＨ、−ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）Ｏ）nＨ、−ＣＨ2−ＣＯＯＨ、−ＣＨ2−ＮＨ2、−ＣＨ2−ＮＨＣＯ−ＣＨ2−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n−ＣＨ3、
【００７５】
【化４】
2008268415.tif 000005
【００７６】
等が挙げられる。
【００７７】
水溶性または水分散性ポリマーに混合し、バインダーの一部として用いる場合はＸ，Ｙ，Ｚいずれかの部位にアクリル等のバインダーと親和性が高く、皮膜形成性を有するポリマーを連結した、複合ポリマーを用いることが好ましい。
【００７８】
水溶性または水分散性ポリマーに混合し、非皮膜形成性添加剤として用いる場合にはポリオキシエチレンやポリオキシプロピレン等のポリエーテル変性ジメチルシロキサン化合物を用いることが好ましい。
【００７９】
〔光拡散剤（ビーズ）〕
光拡散層は、バインダーと、このバインダー中に含有する光拡散剤とを備えている。このように光拡散層中に光拡散剤を含有することによって、光拡散層を裏側から表側に透過する光線を均一に拡散させることができる。また、光拡散剤によって光拡散層の表面に微細な凹凸が略均一に形成されている。このように光拡散シート表面に形成される微細な凹凸のレンズ的屈折作用により、光線をより良く拡散させることができる。
【００８０】
光拡散剤は、光線を拡散させる性質を有する粒子であり、無機フィラーと有機フィラーに大別される。無機フィラーとしては、具体的には、シリカ、水酸化アルミニウム、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、硫化バリウム、マグネシウムシリケート、又はこれらの混合物を用いることができる。有機フィラーの具体的な材料としては、アクリル樹脂、アクリロニトリル樹脂、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリアクリロニトリル、ポリアミド等を用いることができる。中でも、透明性が高いアクリル樹脂が好ましく、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）が特に好ましい。
【００８１】
光拡散剤の形状は、特に限定されるものではなく、例えば球状、立方状、針状、棒状、紡錘形状、板状、鱗片状、繊維状などが挙げられ、中でも光拡散性に優れる球状のビーズが好ましい。
【００８２】
光拡散剤の平均粒径の下限としては１μｍ、特に２μｍ、更に５μｍが好ましく、光拡散剤の平均粒径の上限としては５０μｍ、特に２０μｍ、更に１５μｍが好ましい。これは、光拡散剤の平均粒径が上記範囲未満であると、光拡散剤によって形成される光拡散層表面の凹凸が小さくなり、光拡散シートとして必要な光拡散性を満たさないおそれがあり、逆に、光拡散剤の平均粒径が上記範囲を越えると、光拡散シートの厚さが増大し、かつ、均一な拡散が困難になることからである。
【００８３】
光拡散剤の配合量（バインダーの形成材料であるポリマー組成物中の基材ポリマー１００部に対する固形分換算の配合量）の下限としては１０部、特に２０部、更に５０部が好ましく、この配合量の上限としては５００部、特に３００部、更に２００部が好ましい。これは、光拡散剤の配合量が上記範囲未満であると、光拡散性が不十分となってしまい、一方、光拡散剤の配合量が上記範囲を越えると光拡散剤を固定する効果が低下することからである。なお、プリズムシートの表面側に配設される所謂上用光拡散シートの場合、高い光拡散性を必要とされないため、光拡散剤の配合量としては１０部以上４０部以下、特に１０部以上３０部以下が好ましい。
【００８４】
〔スティッキング防止層添加マット剤〕
スティッキング防止層には導光板とのスティッキングを防止するため、スティッキング防止層より突出するマット剤を用いることが好ましい。マット剤としては、前記光拡散剤と同様のものが使用可能となる。形状は光学性能への影響と接触部材への傷つけ防止の点で略球形であることが好ましく、平均粒径は０．３〜１０μｍが好ましい。
【００８５】
本発明をスティッキング防止層に適用する場合、好ましくはスティッキング防止層の合計膜厚の２倍以上の粒子径、更に好ましくは３〜７倍の粒子径を有するマット粒子を選択することにより、本発明の効果が充分に発揮される。
【００８６】
本発明において、マット粒子の粒径分布は以下に述べる顕微鏡写真法で測定されるものとする。
【００８７】
まずマット粒子を金属製網で支持したコロジオン膜上に沈着固定し、電子顕微鏡もしくは光学顕微鏡にて検鏡、写真撮影する。撮影画像を例えば画像解析ソフト（三谷商事（株）製、ＷｉｎＲＯＯＦ、ｖｅｒ３．６０）等により抽出、円相当径を５００個分測定する。得られた粒径測定値の最大値から０の間を対数目盛で５０分割して各粒径の出現頻度を求めることにより算出される。
【００８８】
また、光拡散シート中に存在する粒子の平均粒径は、シート切断面の断面画像の粒子から測定できる。具体的には、粒子の入ったシートを包埋用樹脂に埋め込み、ウルトラミクロトーム（ＲＭＣ社製ＭＴ−７）により厚み１００ｎｍの超薄切片を作製し断面を撮影後、前記と同様に画像解析、算出される。観察に用いるＳＥＭ、ＴＥＭ、光学等の顕微鏡種および撮影倍率はマット粒子の粒径に応じて適宜選択される。
【００８９】
同様に、スティッキング防止層または光拡散層が複数層からなる場合の合計膜厚の測定は上記シート切断面の断面画像をＳＥＭ、ＴＥＭもしくは光学顕微鏡により観察し測定することができる。
【００９０】
同様に、スティッキング防止層または光拡散層が複数層からなる場合の合計膜厚の測定は上記シート切断面の断面画像をＴＥＭもしくは光学顕微鏡により観察し測定することができる。
【００９１】
〔塗布方法〕
本発明のスティッキング防止層、光拡散層は、一般によく知られている塗布方法を用いて塗布乾燥することにより形成することができる。
【００９２】
用いることができる塗布方法としては、例えばディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビヤコート法、あるいは米国特許第２，６８１，２９４号に記載のホッパーを使用するエクストルージョンコート法等が挙げられる。また、必要に応じて米国特許第２，７６１，７９１号、同３，５０８，９４７号、同２，９４１，８９８号及び同３，５２６，５２８号、原崎勇次著「コーティング工学」２５３頁（１９７３年朝倉書店発行）等に記載された２層以上の層を同時に塗布する方法も用いることができる。
【００９３】
ただし本発明を適用した層、すなわちマット粒子を含む層の上に塗設される層の塗布方法は非接触型塗布方式が採用される。すなわち、エアーナイフコート法、カーテンコート法等、コーターと塗工面に隙間が確保されている塗布方法が選択され、ワイヤーバーコート法、グラビヤコート法等、コーター部材が塗工面に接触する可能性のある方式はマット粒子の脱落を生じる可能性があるため用いないことが好ましい。
【００９４】
〔前処理・プライマー〕
本発明の塗布液の塗布に先だって、必要に応じて基材にはプライマー層を設けることができる。
【００９５】
プライマー層を設ける場合、設けない場合のいずれの場合においても基材としてＰＥＴフィルムを用いる場合には、前処理を施すことが好ましい。前処理には、投錨効果によって接着させるいわゆるエッチング溶剤（例えば、フェノール、クレゾール、レゾルシン、抱水クロラール、クロロフェノール等）処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外線処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理、オゾン処理等の表面活性化処理がある。ＰＥＴフィルムにプライマー層を設ける場合、ＰＥＴフィルムの成膜中、延伸前あるいは延伸後に設けることができる。
【００９６】
〔膜厚（乾燥後質量）〕
本発明のスティッキング防止層は乾燥後質量で０．１〜１０ｇ／ｍ2の範囲であることが好ましく、本発明をスティッキング防止層に適用する場合は０．１〜３ｇ／ｍ2の範囲であることが更に好ましい。光拡散層は乾燥後質量で１〜５０ｇ／ｍ2の範囲であることが好ましく、本発明を光拡散層に適用する場合は１〜１０ｇ／ｍ2の範囲であることが更に好ましい。スティッキング防止層、光拡散層には、必要に応じて界面活性剤、帯電防止剤、色度調整用染料、色度調整用顔料、ｐＨ調整剤、防腐剤等を加えてもよい。
【実施例】
【００９７】
以下、実施例に基づき本発明を詳述するが、この実施例の記載に基づいて本発明が限定的に解釈されるものではない。尚、特に断りない限り、実施例における「部」は、「質量部」、％は、質量％を表す。
【００９８】
［比較例１］
比較試料の作製：
（光拡散層）
〈下層〉
厚さ１００μｍ、幅１２００ｍｍの透明ポリエチレンテレフタレートフィルムにコロナ処理を行い、スチレン／ヒドロキシエチルメタクリレート／ｔ−ブチルアクリレート／ｎ−ブチルアクリレート＝２５／２５／２５／２５の共重合比からなる固形分３０％の水性アクリルエマルジョン１００部、下記構造式に示される化合物の固形分２０％メタノール溶液１部、アンモニア０．０１部、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム０．４部をエアーナイフコート法により０．２ｇ／ｍ2（固形分換算）塗工・乾燥し、１４０℃の熱処理を２分間行って光拡散層下層を形成した。
【００９９】
【化５】
2008268415.tif 000006
【０１００】
〈上層〉
シクロアルキル基を有するポリエステルポリオールを基材ポリマーとするバインダー樹脂配合物１００部、平均粒径が２０ｎｍのコロイダルシリカ（扶桑化学工業（株）の「ＰＬ−１」）５０部及び硬化剤（日本ポリウレタン（株）の「コロネートＨＸ」）５部を含むポリマー組成物中に、平均粒径１５μｍのアクリル系樹脂ビーズ（積水化成品工業（株）の「ＭＢＸ−１５」）５０部を混合して塗工液を作製し、この塗工液をロールコート法により下層上に１５ｇ／ｍ2（固形分換算）塗工し、硬化させた。
（スティッキング防止層）
〈下層〉
光拡散層の塗工面とは反対側の面にコロナ処理を行い、スチレン／グリシジルメタクリレート／ｎ−ブチルアクリレート＝２０／４０／４０の共重合比からなる固形分３０％の水性アクリルエマルジョン１００部と酸化スズゾル（セラメースＳ−８、多木化学製、固形分８．３％、屈折率＝１．８）３００部、単斜晶ジルコニアゾル（ＺＲ−４０ＢＬ、日産化学工業性、固形分４０．５％、屈折率＝２．４）３０部、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム０．４部を０．３ｇ／ｍ2（固形分換算）塗工・乾燥した。
【０１０１】
〈上層〉
得られた下層表面にコロナ処理を行い、水分散性ウレタン樹脂（大日本インキ（株）のハイドランＡＰ−４０Ｎ、ＭＦＴ＝３３℃、Ｔｇ＝５０℃）１００部、シリコーン・アクリル複合樹脂分散液（日信化学（株）のシャリーヌＦＥ−２３０Ｎ）４部、水分散性ポリイソシアネート（大日本インキ（株）のバーノックＤＮＷ−５０１０）１５部、平均粒径が２０ｎｍのコロイダルシリカ（扶桑化学工業（株）の「ＰＬ−１」）５０部、平均粒径３μｍの球形ＰＭＭＡ粒子（綜研化学（株）の「ＭＸ−３００」）１０部を混合して塗工液を作製し、この塗工液をエアーナイフコート法により上記下層上に０．６８ｇ／ｍ2（固形分換算）塗工・乾燥、熱硬化させることでスティッキング防止層を積層した光拡散シートを得た。
【０１０２】
塗工・乾燥・熱硬化は巻取りまでの間に連続して行い、熱硬化は接触ロールによる折り返し搬送により、１４０℃の熱処理ゾーンを３分間通過させることにより行った。こうして光拡散シートを作製した。
【０１０３】
［比較例２］
比較例１のスティッキング防止層〈上層〉の平均粒径３μｍ球形ＰＭＭＡ粒子を平均粒径５μｍの球形ＰＭＭＡ粒子（綜研化学（株）の「ＭＸ−５００」）に変更した以外は比較例１と同様にして光拡散シートを得た。
【０１０４】
［比較例３］
比較例１のスティッキング防止層〈上層〉の平均粒径３μｍ球形ＰＭＭＡ粒子１０部を平均粒径５μｍの球形ＰＭＭＡ粒子（綜研化学（株）の「ＭＸ−５００」）３部に変更し、塗工量を２．２７ｇ／ｍ2とした以外は比較例１と同様にして光拡散シートを得た。
【０１０５】
［比較例４］
比較例１のスティッキング防止層〈上層〉の平均粒径３μｍ球形ＰＭＭＡ粒子を平均粒径４．１μｍの不定形シリカ粒子（富士シリシア化学（株）の「サイリシア４３０」）とした以外は比較例１と同様にして光拡散シートを得た。
【０１０６】
［実施例１］
本発明の試料の作製：
比較例１のスティッキング防止層〈下層〉及び〈上層〉を下記とした以外は比較例１と同様にして光拡散シートを作製した。
【０１０７】
（スティッキング防止層）
〈下層〉
光拡散層の塗工面とは反対側の面にコロナ処理を行い、スチレン／グリシジルメタクリレート／ｎ−ブチルアクリレート＝２０／４０／４０の共重合比からなる固形分３０％の水性アクリルエマルジョン１００部と酸化スズゾル（セラメースＳ−８、多木化学製、固形分８．３％、屈折率＝１．８）３００部、単斜晶ジルコニアゾル（ＺＲ−４０ＢＬ、日産化学工業性、固形分４０．５％、屈折率＝２．４）３０部、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム０．４部、平均粒径３μｍの球形ＰＭＭＡ粒子（綜研化学（株）の「ＭＸ−３００」）５０部を０．３ｇ／ｍ2（固形分換算）塗工・乾燥した。
【０１０８】
〈上層〉
得られた下層表面にコロナ処理を行い、水分散性ウレタン樹脂（大日本インキ（株）のハイドランＡＰ−４０Ｎ、ＭＦＴ＝３３℃、Ｔｇ＝５０℃）１００部、シリコーン・アクリル複合樹脂分散液（日信化学（株）のシャリーヌＦＥ−２３０Ｎ）４部、水分散性ポリイソシアネート（大日本インキ（株）のバーノックＤＮＷ−５０１０）１５部、平均粒径が２０ｎｍのコロイダルシリカ（扶桑化学工業（株）の「ＰＬ−１」）５０部を混合して塗工液を作製し、この塗工液をエアーナイフコート法により上記下層上に０．６８ｇ／ｍ2（固形分換算）塗工・乾燥、熱硬化し、他は比較例１と同様にして光拡散シートを得た。
【０１０９】
［実施例２］
本発明の試料の作製：
実施例１のスティッキング防止層〈下層〉の平均粒径３μｍ球形ＰＭＭＡ粒子を平均粒径５μｍの球形ＰＭＭＡ粒子（綜研化学（株）の「ＭＸ−５００」）に変更した以外は実施例１と同様にして光拡散シートを得た。
【０１１０】
［実施例３］
本発明の試料の作製：
実施例１のスティッキング防止層〈下層〉の平均粒径３μｍ球形ＰＭＭＡ粒子を平均粒径５μｍの球形ＰＭＭＡ粒子（綜研化学（株）の「ＭＸ−５００」）に変更し、上層の塗工量を２．２７ｇ／ｍ2とした以外は実施例１と同様にして光拡散シートを得た。
【０１１１】
［実施例４］
実施例１のスティッキング防止層〈下層〉の平均粒径３μｍ球形ＰＭＭＡ粒子を平均粒径４．１μｍの不定形シリカ粒子（富士シリシア化学（株）の「サイリシア４３０」）に変更した以外は実施例１と同様にして光拡散シートを得た。
【０１１２】
《評価》
（スティッキング防止層の合計膜厚、及びマット粒子の平均粒径の測定）
マット粒子の入った光拡散シートを包埋用樹脂に埋め込み、ウルトラミクロトーム（ＲＭＣ社製ＭＴ−７）により厚み１００ｎｍの超薄切片を作製する。この超薄切片の断面を、スティッキング防止層中のマット粒子をＴＥＭ（透過型電子顕微鏡：日本電子製ＪＥＭ−２０００ＦＸ、加速電圧：２００ｋＶ）により倍率１００００倍で観察して、その断面画像をスキャナーにより撮像する。画像解析ソフト（三谷商事（株）製、ＷｉｎＲＯＯＦ、ｖｅｒ３．６０）により、撮像した断面画像中の２×２μｍの視野範囲内に存在する粒子画像を抽出し、抽出した粒子画像の円相当径を演算し、２００個の粒子の円相当径の平均値を求め、これを粒子の平均粒径とした。同様にスティッキング防止層の合計膜厚も超薄切片よりＴＥＭで観察して測定した。
【０１１３】
（光拡散性の評価）
実施例１〜４、比較例１〜４のいずれも光拡散シートとして充分な光拡散性、光透過性を有していた。
【０１１４】
（スティッキング防止性の評価）
３波長蛍光灯下、得られた光拡散シートのスティッキング防止層面をアクリル導光板と合わせて指で加圧し、加圧解放後の干渉縞の消失しやすさからスティッキング防止性を評価した。判断の基準は、加圧解放後ほぼ瞬間的に干渉縞が消失するものを◎、１〜２秒程度で消失するものを○、３〜５秒程度で消失するものを△、５秒以上要するものを×として評価した。
【０１１５】
（マット粒子保持性）
スティッキング防止層表面にポリエステル粘着テープ（日東電工（株）の「Ｎｏ．３１Ｄ」）を貼付・剥離し、顕微鏡により観察された剥離前後のマット粒子数から保持性を評価した。評価は剥離後の粒子数が剥離前の９０％以上を○、７０〜９０％を△、７０％未満を×とした。
【０１１６】
（耐傷性の評価）
評価の方法は２００ｇ／ｃｍ2の荷重をかけて光拡散層とスティッキング防止層を２０ｍｍ／ｓｅｃの速度で１０往復擦り、スティッキング層または光拡散層のいずれかに生じた擦り傷の有無を評価した。評価の判断基準は傷や形状変化が全く認められなかったものを◎、微小に認められるものを○、傷や形状変化が明確に認められるものを×として評価した。
【０１１７】
（生産性評価）
各実施例、比較例について含水量が実施例１と同率となるよう生産スピードを制御したときの時間当たり生産可能量を実施例１の時間当たり生産可能量を「１００」とした相対値で表した。
【０１１８】
【表１】
2008268415.tif 000007
【０１１９】
表１に示したとおり、本発明実施例の光拡散シートにおいては塗工厚を厚くしなくとも比較的大サイズのマット粒子を充分保持することが可能となり、例えばスティッキング防止層に適用した際には生産性を低下させずに充分なスティッキング防止性を有する光拡散シートを得ることが可能となる。
【０１２０】
これにより、光拡散シートをバックライトユニットに組み込んだ場合でも、大画面サイズにおいてもスティッキングによる画像ムラのない、高品質なバックライトユニットを得ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【０１２１】
【図１】本発明の一実施形態に係る光拡散シートを示す模式的断面図
【図２】一般的なバックライトユニットを示す模式的斜視図
【符号の説明】
【０１２２】
１  光拡散シート
２  基材層
３  光拡散層
４  スティッキング防止層
５  バインダー
６  光拡散粒子
７  バインダー
８  光拡散粒子
２０  バックライトユニット
２１  ランプ
２２  導光板
２３  光拡散シート
２４  プリズムシート
２４ａ  プリズム部
【図１】
2008268415.tif 000008
【図２】
2008268415.tif 000009