(57)【要約】      （修正有）【課題】位相差性の経時安定性に優れた位相差フィルムを高生産性で製造可能な、位相差フィルムの製造方法を提供する。【解決手段】透明基板を用い、上記透明基板上に屈折率異方性を有する光学異方性材料を含有する位相差層形成用塗工液を塗工することにより、透明基板上に位相差層形成用層が積層された光学積層体を形成する光学積層体形成工程と、上記光学積層体形成工程により形成された光学積層体を延伸することにより、上記位相差層形成用層に位相差性を発現させる延伸処理工程と、を有し、上記透明基板上に上記光学異方性材料を含有する位相差層が積層された位相差フィルムを製造する、位相差フィルムの製造方法であって、上記位相差層形成用層の破断引張伸度と、上記透明基板の破断引張伸度との比（位相差層形成用層の破断引張伸度／透明基板の破断引張伸度）が１〜３０の範囲内であることを特徴とする。【選択図】図１
2008076533.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板を用い、前記透明基板上に屈折率異方性を有する光学異方性材料を含有する位相差層形成用塗工液を塗工することにより、透明基板上に位相差層形成用層が積層された光学積層体を形成する光学積層体形成工程と、
前記光学積層体形成工程により形成された光学積層体を延伸することにより、前記位相差層形成用層に位相差性を発現させる延伸処理工程と、を有し、前記透明基板上に前記光学異方性材料を含有する位相差層が積層された位相差フィルムを製造する、位相差フィルムの製造方法であって、
前記位相差層形成用層の破断引張伸度と、前記透明基板の破断引張伸度との比（位相差層形成用層の破断引張伸度／透明基板の破断引張伸度）が１〜３０の範囲内であることを特徴とする、位相差フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記位相差層形成用層の破断引張伸度が１５０％〜２５０％の範囲内であることを特徴とする、請求項１に記載の位相差フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記透明基板の破断引張伸度が５％〜５０％の範囲内であることを特徴とする、請求項１または請求項２に記載の位相差フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記延伸処理工程における前記光学積層体の延伸倍率が１．０１倍〜２倍の範囲内であることを特徴とする、請求項１から請求項３までのいずれかの請求項に記載の位相差フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置等に用いられる位相差フィルムの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、その省電力、軽量、薄型等といった特徴を有することから、従来のＣ
ＲＴディスプレイに替わり、近年急速に普及している。一般的な液晶表示装置としては、例えば図３に示すように、入射側の偏光板１０２Ａと、出射側の偏光板１０２Ｂと、液晶セル１０４とを有するものを挙げることができる。偏光板１０２Ａおよび１０２Ｂは、所定の振動方向の振動面を有する直線偏光（図中、光の振動方向を矢印で模式的に図示）のみを選択的に透過させるように構成されたものであり、それぞれの振動方向が相互に直角の関係になるようにクロスニコル状態で対向して配置されている。また、液晶セル１０４は画素に対応する多数のセルを含むものであり、偏光板１０２Ａと１０２Ｂとの間に配置されている。
【０００３】
一方、液晶表示装置は上述したような利点を有するが、その特有の問題点として、液晶セルの有する屈折率異方性に起因する視野角依存性の問題点がある。この視野角依存性の問題は、液晶表示装置を正面から見た場合と、斜め方向から見た場合とで、視認される画像の色味やコントラストが変化してしまう問題である。このような視野角特性の問題は、近年の液晶表示装置の大画面化に伴って、さらにその問題の重要性が増している。
【０００４】
このような視野角依存性の問題を改善するため、現在までに様々な技術が開発されており、その代表的な方法として位相差フィルムを用いる方法がある。この位相差フィルムを用いる方法は、図３に示すように所定の光学特性を有する位相差フィルム３０を、液晶セル１０４と偏光板１０２Ｂとの間に配置することにより、視野角依存性の問題を改善する方法である。この方法は位相差フィルム３０を液晶表示装置に組み込むことのみで上記視野角依存性の問題点を改善できることから、簡便に視野角特性に優れた液晶表示装置を得ることが可能な方法として広く用いられるに至っている。
【０００５】
ここで、上記位相差フィルムとしては、例えば、透明基板上に、屈折率異方性を有する光学異方性材料を含有する位相差層が形成された構成を有するものや、延伸フィルムからなるものが一般的に知られている。なかでも、上記光学異方性材料を含有する位相差層が形成された構成を有する位相差フィルムは、位相差性の発現性に優れることから、今日の位相差フィルムの主要な形態となっている。このような構成を有する位相差フィルムについては、例えば特許文献１または特許文献２に、コレステリック規則性の分子構造を有する光学異方性層（複屈折性を示す光学異方性層）が配向膜を有する基材上に形成された位相差フィルムが開示されている。また、特許文献３には、円盤状化合物からなる光学異方性層（複屈折性を示す光学異方性層）が配向膜を有する基材上に形成された位相差フィルムが開示されている。
【０００６】
ところで、上記透明基板上に位相差層が形成された構成を有する位相差フィルムにおいては、通常、上記光学異方性材料が位相差層内において規則的配列することにより所定の位相差性を発現するように設計されている。このため、上記構成を有する位相差フィルムを製造するに際しては、上記位相差層を上記透明基板とともに延伸することにより、上記光学異方性材料を延伸方向に規則的に配列させる方法が用いられることが多い。
しかしながら、このような方法で上記光学異方性材料を配列させた場合、上記位相差層または、上記透明基板のいずれか一方に亀裂が生じてしまったり、さらにはいずれか一方が破断してしまったりする問題点が指摘されている。
また、上記のような延伸方法を用いて作製した位相差フィルムは、位相差性の経時変化量が大きくなる場合があるという問題点も指摘されている。
【０００７】
このようなことから、上記延伸により位相差性を発現させる方法は、簡便に位相差層に位相差性を付与できるという利点を有するものの、必ずしも位相差性の経時安定性に優れた位相差フィルムを高生産性で製造可能なものではなかった。
【０００８】
【特許文献１】特開平３−６７２１９号公報
【特許文献２】特開平４−３２２２２３号公報
【特許文献３】特開平１０−３１２１６６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、透明基板上に光学異方性材料を含有する位相差層が積層された構成を有する位相差フィルムの製造方法であって、位相差性の経時安定性に優れた位相差フィルムを高生産性で製造可能な、位相差フィルムの製造方法を提供することを主目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために、本発明は、透明基板を用い、上記透明基板上に屈折率異方性を有する光学異方性材料を含有する位相差層形成用塗工液を塗工することにより、透明基板上に位相差層形成用層が積層された光学積層体を形成する光学積層体形成工程と、上記光学積層体形成工程により形成された光学積層体を延伸することにより、上記位相差層形成用層に位相差性を発現させる延伸処理工程と、を有し、上記透明基板上に上記光学異方性材料を含有する位相差層が積層された位相差フィルムを製造する、位相差フィルムの製造方法であって、上記位相差層形成用層の破断引張伸度と、上記透明基板の破断引張伸度との比（位相差層形成用層の破断引張伸度／透明基板の破断引張伸度）が１〜３０の範囲内であることを特徴とする位相差フィルムの製造方法を提供する。
【００１１】
本発明によれば、上記光学積層体を構成する位相差層形成用層および透明基板の破断引張伸度の比が上記範囲内であることにより、上記延伸処理工程において上記光学積層体を延伸する際に、上記透明基板または上記位相差層形成用層のいずれか一方に破断や亀裂が生じることを防止できる。このため、本発明によれば高生産性で位相差フィルムを製造することができる。
また本発明によれば、上記光学積層体を構成する位相差層形成用層および透明基板の破断引張伸度の比が上記範囲内であることにより、本発明により製造される位相差フィルムを経時寸法変化が少ないものとすることができる。このため、本発明によれば位相差性の経時安定性に優れる位相差フィルムを製造することができる。
このようなことから、本発明によれば透明基板上に光学異方性材料を含有する位相差層が積層された構成を有し、位相差性の経時安定性に優れた位相差フィルムを高生産性で製造できる。
【００１２】
本発明においては、上記位相差層形成用層の破断引張伸度が１５０％〜２５０％の範囲内であることが好ましい。また、本発明においては、上記透明基板の破断引張伸度が５％〜２５０％の範囲内であることが好ましい。上記位相差層形成用層および上記透明基板の破断引張伸度がそれぞれ上記範囲内であることにより、本発明によって製造される位相差フィルムの用途等に応じて、上記位相差層形成用層に所定の位相差性を付与できるように、上記延伸処理工程における延伸倍率を調整することが容易になるからである。
【００１３】
また本発明においては、上記延伸処理工程における上記光学積層体の延伸倍率が１．０１倍〜２倍の範囲内であることが好ましい。上記延伸倍率がこのような範囲内であることにより、上記延伸処理工程において、上記位相差層形成用層または上記透明基板のいずれか一方に亀裂や破断が生じることをさらに防止できるため、本発明の位相差フィルムの製造方法をより生産性の高いものにできるからである。
【発明の効果】
【００１４】
本発明は、透明基板上に光学異方性材料を含有する位相差層が積層された構成を有し、位相差性の経時安定性に優れた位相差フィルムを、高生産性で製造できるという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の位相差フィルムの製造方法について説明する。
【００１６】
本発明の位相差フィルムの製造方法は、透明基板を用い、上記透明基板上に屈折率異方性を有する光学異方性材料を含有する位相差層形成用塗工液を塗工することにより、透明基板に位相差層形成用層が積層された光学積層体を形成する光学積層体形成工程と、上記光学積層体形成工程により形成された光学積層体を延伸することにより、上記位相差層形成用層に位相差性を発現させる延伸処理工程と、を有し、上記透明基板上に上記光学異方性材料を含有する位相差層が積層された位相差フィルムを製造するものであって、上記位相差層形成用層の破断引張伸度と、上記透明基板の破断引張伸度との比（位相差層形成用層の破断引張伸度／透明基板の破断引張伸度）が１〜３０の範囲内であることを特徴とするものである。
【００１７】
このような本発明の位相差フィルムの製造方法について、図を参照しながら説明する。図１は本発明の位相差フィルムの製造方法の一例を示す概略図である。図１に例示するように、本発明の位相差フィルムの製造方法は、透明基板１を用い（図１（ａ））、上記透明基板１上に屈折率異方性を有する光学異方性材料を含有する位相差層形成用塗工液を塗工することにより、透明基板１上に位相差層形成用層２’が積層された光学積層体１０’を形成する光学積層体形成工程（図１（ｂ））と、上記光学積層体形成工程により形成された光学積層体１０’を延伸することにより、上記位相差層形成用層２’に位相差性を発現させる延伸処理工程（図１（ｃ））と、を有し、上記透明基板１上に上記光学異方性材料を含有する位相差層２が積層された位相差フィルム１０を製造するものである（図１（ｄ））。
このような例において、本発明の位相差フィルムの製造方法は、上記光学積層体１０’における上記位相差層形成用層２’の破断引張伸度と、上記透明基板１の破断引張伸度との比（位相差層形成用層の破断引張伸度／透明基板の破断引張伸度）が１〜３０の範囲内であることを特徴とするものである。
【００１８】
本発明によれば、上記光学積層体を構成する位相差層形成用層および透明基板の破断引張伸度の比が上記範囲内であることにより、上記位相差層形成用層および上記透明基板の破断引張伸度を互いに近いものとすることができる。このため、上記延伸処理工程において上記光学積層体を延伸する際に、上記透明基板または上記位相差層形成用層のいずれか一方に破断や亀裂が生じることを防止できる。このようなことから、本発明によれば高生産性で位相差フィルムを製造することができる。
また本発明によれば、上記光学積層体を構成する位相差層形成用層および透明基板の破断引張伸度の比が上記範囲内であることにより、本発明により製造される位相差フィルムを経時寸法変化が少ないものとすることができる。このため、本発明によれば位相差性の経時安定性に優れる位相差フィルムを製造することができる。
このようなことから、本発明によれば透明基板上に光学異方性材料を含有する位相差層が積層された構成を有し、位相差性の経時安定性に優れた位相差フィルムを高生産性で製造できる。
【００１９】
本発明の位相差フィルムの製造方法は、少なくとも上記光学積層体形成工程と、上記延伸処理工程とを有するものである。
以下、本発明の位相差フィルムの製造方法に用いられる各工程について順に説明する。
【００２０】
１．光学積層体形成工程
まず、本発明に用いられる光学積層体形成工程について説明する。本工程は、透明基板を用い、上記透明基板上に屈折率異方性を有する光学異方性材料を含有する位相差層形成用塗工液を塗工することにより、透明基板に位相差層形成用層が積層された光学積層体であって、上記位相差層形成用層の破断引張伸度と、上記透明基板の破断引張伸度との比（位相差層形成用層の破断引張伸度／透明基板の破断引張伸度）が１〜３０の範囲内である光学積層体を製造する工程である。
以下、このような光学積層体形成工程について詳細に説明する。
【００２１】
（１）光学積層体
まず、本工程において形成される光学積層体について説明する。本工程において形成される光学積層体は、透明基板と、位相差層形成用層とが積層された構成を有するものであり、かつ、上記位相差層形成用層の破断引張伸度と、上記透明基板の破断引張伸度との比（位相差層形成用層の破断引張伸度／透明基板の破断引張伸度）（以下、単に「破断引張伸度比」と称する場合がある。）が１〜３０の範囲内のものである。
【００２２】
本工程において形成される光学積層体の上記破断引張伸度比を上記範囲内とするのは、破断引張伸度比が上記範囲外であると、後述する延伸処理工程において本工程により形成された光学積層体を延伸する際に、上記透明基板または上記位相差層形成用層のいずれか一方に亀裂や破断が生じやすくなってしまうからである。また、上記破断引張伸度比が上記範囲外であると、本発明により製造される位相差フィルムが経時で寸法変化が生じやすいものとなってしまうため、経時での位相差性の変化が大きくなってしまうからである。
【００２３】
本工程において形成される光学積層体の上記破断引張伸度比は１〜３０の範囲内であれば特に限定されるものではなく、後述する延伸処理工程における延伸倍率等に応じて任意に決定すればよい。なかでも本工程において形成される光学積層体は、上記破断引張伸度比が１〜２０の範囲内であることが好ましい。
ここで、上記破断引張伸度比は、例えば、ＪＩＳ−Ｋ−６７８１に準拠し、引張試験機（島津オートグラフ：ＡＧＳ−Ｄ）を用いて上記透明基板および位相差層形成用層の破断引張伸度を測定した後、その測定値から算出することができる。ここで、上記位相差層形成用層の破断引張伸度は、上記光学積層体の破断引張伸度を上記方法によって測定した後、当該測定値から上記透明基板の破断引張伸度の測定値を差し引くことによって求めることができる。
【００２４】
また、本工程により形成される光学積層体は、上記位相差層形成用層の破断引張伸度が１５０％〜２５０％の範囲内であることがましく、なかでも１５０％〜２２０％の範囲内であることが好ましく、特に１５０％〜２００％の範囲内であることが好ましい。
また、本工程により形成される光学積層体は、上記透明基板の破断引張伸度が５％〜５０％の範囲内であること好ましく、なかでも５％〜４５％の範囲内であることが好ましく、特に５％〜４０％の範囲内であることが好ましい。上記位相差層形成用層および上記透明基板の破断引張伸度がそれぞれ上記範囲内であることにより、本発明によって製造される位相差フィルムの用途等に応じて、上記位相差層に所定の位相差性を付与できるように、上記延伸処理工程における延伸倍率を調整することが容易になるからである。
【００２５】
また、本工程により形成される光学積層体は、透明基板上に位相差層形成用層が積層された構成を有するものであるが、上記透明基板上に位相差層形成用層が積層された態様としては、上記透明基板と上記位相差層形成用層とが独立した層として積層された態様であってもよく、または、上記透明基板と位相差層形成用層との間に明確な界面がなく、両者の間において上記光学異方性材料の含有量が連続的に変化するように積層された態様であってもよい。
【００２６】
このような、上記透明基板と上記位相差層形成用層とが積層された態様について図を参照しながら説明する。図２は本工程により形成される光学積層体において、上記透明基板と上記位相差層形成用層とが積層された態様の一例を示す概略図である。図２に例示するように、本工程により形成される光学積層体１０’は、上記透明基板１と上記位相差層形成用層２’とが独立した層として積層された態様であってもよく（図２（ａ））、または、上記透明基板１と位相差層形成用層２’との間に明確な界面がなく、両者の間において上記光学異方性材料の含有量が連続的に変化するように積層された態様であってもよい（図２（ｂ））。
【００２７】
（２）光学積層体の製造方法
次に、本工程において、上記透明基板上に屈折率異方性を有する光学異方性材料を含有する位相差層形成用塗工液を塗工することにより、光学積層体を形成する方法について説明する。
【００２８】
ａ．位相差層形成用塗工液
本工程に用いられる位相差層形成用塗工液は、屈折率異方性を有する光学異方性材料を含有するものであり、通常、上記光学異方性材料が溶媒に溶解されてなるものである。
【００２９】
（光学異方性材料）
本工程に用いられる光学異方性材料としては、屈折率異方性を有し、上記破断引張伸度比を本発明で規定する範囲内にできる位相差層形成用層を形成できるものであれば特に限定されるものではない。このような光学異方性材料としては、重合性官能基を有する重合性光学異方性材料、または、光学異方性高分子材料等を挙げることができる。なかでも本工程においては、上記重合性光学異方性材料を用いることが好ましい。上記重合性光学異方性材料は、上記重合性官能基を介して互いに重合させることにより、位相差層形成用層の破断引張伸度を本発明で規定する範囲にすることが容易になるという利点を有するからである。また、上記重合性光学異方性材料は、例えば、後述する延伸処理工程において、光学異方性材料を延伸方向に配列した後に重合することにより、光学異方性材料を配列した状態で固定化することができるため、経時で光学異方性材料の配列状態が変化することを防止できるという利点も有するからである。
ここで、上記「屈折率異方性」とは、屈折率が光の入射方向によって異なることを意味するものである。
【００３０】
上記重合性光学異方性材料としては、重合性官能基を有し、本発明により製造される位相差フィルムに所望の位相差性を付与できるものであれば特に限定されるものではない。なかでも本工程に好適に用いられる重合性光学異方性材料としては、重合性液晶材料と、ウレタンアクリレートモノマーとを挙げることができる。
ここで、上記重合性液晶材料は屈折率異方性が大きいことから、膜厚が薄い位相差層形成用層であっても、位相差性の発現性に優れた位相差層形成用層を形成することができるという利点を有する。また、上記ウレタンアクリレートモノマーは、レターデーション値の波長依存性が逆分散型を示すウレタン結合部（−Ｏ−ＣＯ−Ｎ＜）を有することから、レターデーション値の波長依存性が逆分散型である位相差層形成用層を形成することができるという利点を有する。
【００３１】
上記重合性液晶材料としては、分子内に３次元架橋可能な重合性官能基を有するものがより好適に用いられる。上記重合性官能基としては、例えば、紫外線、電子線等の電離放射線、或いは熱の作用によって重合する重合性官能基を挙げることができる。これら重合性官能基の代表例としては、ラジカル重合性官能基、或いはカチオン重合性官能基等が挙げられる。さらにラジカル重合性官能基の代表例としては、少なくとも一つの付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が挙げられ、具体例としては、置換基を有するもしくは有さないビニル基、アクリレート基（アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基を包含する総称）等が挙げられる。また、上記カチオン重合性官能基の具体例としては、エポキシ基等が挙げられる。その他、重合性官能基としては、例えば、イソシアネート基、不飽和三重結合等が挙げられる。これらの中でもプロセス上の点から、エチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が好適に用いられる。
【００３２】
また、本工程に用いられる重合性液晶材料が示す液晶相は、特に限定されるものではなく、例えば、ネマチック相、コレステリック相、および、スメクチック相等の液晶相を示す重合性液晶材料のいずれであっても好適に用いることができる。なかでも本工程においては、ネマチック相を示す重合性液晶材料を用いることが好ましい。ネマチック相を示す重合性液晶材料は、他の液晶相を示す重合性液晶材料と比較して規則的に配列させることが容易であるからである。
【００３３】
また、上記ネマチック相を示す重合性液晶材料としては、メソゲン両端にスペーサを有する材料を用いることが好ましい。メソゲン両端にスペーサを有する重合性液晶材料は柔軟性に優れるため、このような重合性液晶材料を用いることにより、本発明により製造される位相差フィルムを透明性に優れたものにできるからである。
【００３４】
このような重合性液晶材料の具体例としては、下記式（１）〜（６）で表される化合物を例示することができる。
【００３５】
【化１】
2008076533.tif 000003
【００３６】
ここで、化学式（１）、（２）、（５）および（６）で示される重合性液晶材料は、Ｄ.Ｊ.Ｂｒｏｅｒら、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．１９０,３２０１−３２１５（１９８９）、またはＤ.Ｊ.Ｂｒｏｅｒら、Ｍａｋｒｏｍｏｌ.Ｃｈｅｍ.１９０,２２５０（１９８９）に開示された方法に従い、あるいはそれに類似して調製することができる。また、化学式（３）および（４）で示される重合性液晶材料の調製は、ＤＥ１９５,０４,２２４に開示されている。
【００３７】
また、末端にアクリレート基を有するネマチック重合性液晶材料の具体例としては、下記化学式（７）〜（１７）に示すものも挙げられる。
【００３８】
【化２】
2008076533.tif 000004
【００３９】
なお、本工程に用いられる重合性液晶材料は、１種類のみであってもよく、または、２種以上であってもよい。例えば、上記重合性液晶材料として、両末端に重合性官能基を１つ以上有する重合性液晶材料と、片末端に重合性官能基を１つ以上有する重合性液晶材料とを混合して用いると、両者の配合比の調整により重合密度（架橋密度）及び光学特性を任意に調整できる点から好ましい。
【００４０】
なお、上記光学異方性材料として、上記重合性液晶材料を用いた場合、本発明により製造される位相差フィルムの位相差層中には、上記重合性液晶材料の重合物が含有されることになる。
【００４１】
本工程に用いられる上記ウレタンアクリレートとしては、ウレタン結合部とアクリロイル基とを有するものであれば特に限定されるものではない。
ここで、上記ウレタンアクリレートモノマーに含まれるアクリロイル基の数は、１つであってもよく、または、複数であってもよい。
また、上記ウレタンアクリレートモノマーに含まれるウレタン結合部の数は、１つであってもよく、または、複数であってもよい。
【００４２】
本工程に用いられるウレタンアクリレートモノマーは、ウレタン結合部と、アクリロイル基との間に、屈折率異方性を備える原子団を有するものであることが好ましい。このようなウレタンアクリレートモノマーが重合してなるウレタンアクリレートは、延伸することにより上記屈折率異方性を備える原子団を一方向に配列させることができるため、位相差性の発現性に優れるからである。
【００４３】
また、上記屈折率異方性を備える原子団を有するウレタンアクリレートモノマーとしては、上記屈折率異方性を備える原子団を構成する元素の原子量の総和が１００〜１０００の範囲内であること好ましく、なかでも２００〜６００の範囲内であることが好ましく、特に４００〜６００の範囲内であることが好ましい。上記原子量の総和が上記範囲よりも少ないと、位相差性の発現に寄与する原子団が少なくなる結果、本発明により製造される位相差フィルムに所望の位相差性を付与することが困難となる可能性があるからである。また、上記範囲より多いと上記ウレタンアクリレートモノマーが重合してなるウレタンアクリレート中に存在するウレタン結合部が少なくなる結果、本発明により製造される位相差フィルムのレターデーション値の波長依存性を所望の型にすることが困難となる可能性があるからである。
【００４４】
上記屈折率異方性を備える原子団の種類としては、本発明により製造される位相差フィルムの用途等に応じて、所望の位相差性を付与できるものであれば特に限定されるものではない。このような屈折率異方性を備える原子団としては、例えば、エステル結合を含むエステル系原子団、エーテル結合を含むエーテル系原子団等を挙げることができる。本工程においては上記のいずれの原子団であっても好適に用いることができるが、なかでもエステル系原子団を用いることが好ましい。上記エステル系原子団を用いることにより、本工程において形成される位相差層形成用層をさらに位相差性の発現性に優れたものにできるからである。また、上記エステル系原子団を有するウレタンアクリレートモノマーは比較的容易に合成することができるため、本発明の位相差フィルムの製造方法の生産性をより向上することができるからである。
【００４５】
本工程に用いられる上記エステル系原子団としては、ラクトンの構成単位を含有するラクトン系原子団、ポリカーボネートの構成単位を含有するポリカーボネート系原子団、および、アジペートの構成単位を含有するアジペート系原子団を挙げることができる。本工程においてはこれらのいずれの原子団であっても好適に用いることができるが、なかでもラクトン系原子団を用いることが好ましい。ラクトン系原子団は屈折率異方性が高く、位相差性の発現性に優れているからである。
【００４６】
さらに、本工程においては、上記ラクトン系原子団のなかでもカプロラクトンの構成単位を含むカプロラクトン変性原子団を用いることが好ましい。カプロラクトン変性原子団は屈折率異方性がより大きいため、位相差層形成用層の位相差の発現性をさらに向上することができるからである。
ここで、上記カプロラクトン変性原子団は、単一のカプロラクトンの構成単位を含むものであってもよく、または、複数のカプロラクトンの構成単位を含むものであってもよい。また、上記カプロラクトン変性原子団が複数のカプロラクトンの構成単位を含むものである場合、当該カプロラクトン変性原子団に含有されるカプロラクトンの構成単位の数は、２〜５の範囲内であることが好ましい。
【００４７】
なお、上記光学異方性材料として、上記ウレタンアクリレートモノマーを用いた場合、本発明により製造される位相差フィルムの位相差層中には、上記ウレタンアクリレートモノマーが重合してなるウレタンアクリレートが含有されることになる。
【００４８】
一方、本工程に用いられる上記光学異方性高分子材料としては、上記重合性液晶材料の重合物等の液晶性樹脂、または、上記ウレタンアクリレートモノマーが重合してなるウレタンアクリレートや、ポリウレタン等のウレタン系樹脂を挙げることができる。
【００４９】
また、本工程に用いられる光学異方性材料としては、上述した材料以外に、炭酸ストロンチウム、ベーマイトアルミナ等の針状結晶や、スメクタイトや雲母等の有機粘土複合体を用いることもできる。
【００５０】
（溶媒）
上記位相差層形成用塗工液に用いられる溶媒としては、上記光学異方性材料等を所望の濃度で溶解できるものであれば特に限定されるものではない。このような溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、ブタノールおよびジアセトンアルコール等のアルコール系溶媒；ベンゼン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、メチルシクロヘキサノン等のケトン系溶媒；テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒；クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化アルキル系溶媒；酢酸メチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル系溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、およびジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒を挙げることができる。なかでも本工程においては、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、および、シクロペンタノンを用いることが好ましい。
【００５１】
なお、本工程に用いられる溶媒は、単一溶媒からなるものであってもよく、複数の溶媒の混合溶媒であってもよい。
【００５２】
（その他）
本工程に用いられる位相差層形成用塗工液は、本発明の目的を損なわない範囲であれば、上記光学異方性材料および溶媒以外の他の化合物が含有されるものであってもよい。このような他の化合物としては、本発明により製造される位相差フィルムの用途等に応じて所望の機能を有する化合物を用いることができる。このような他の化合物としては、例えば、本発明により製造される位相差フィルムにおいて位相差性の発現性に寄与する屈折率異方性を有する化合物を挙げることができる。このような化合物を用いることにより、例えば、上記光学異方性材料のみでは所望の位相差性を発現することが困難である場合に、位相差性を増加させることができるという利点を有する。
【００５３】
本工程に用いられる上記屈折率異方性を有する化合物としては、例えば、液晶化合物や、屈折率異方性を備える無機化合物等を挙げることができる。
【００５４】
また、本工程に用いられる光学異方性材料として重合性光学異方性材料を用いる場合、上記他の化合物として光重合開始剤を用いることが好ましい。本工程に用いられる光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミン）ベンゾフェノン、α−アミノ・アセトフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンズスベロン、メチレンアントロン、４−アジドベンジルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキサノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１，３−ジフェニル−プロパントリオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−３−エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、ミヒラーケトン、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、ｎ−フェニルチオアクリドン、４，４−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホスフィン、カンファーキノン、アデカ社製Ｎ１７１７、四臭化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイン、エオシン、メチレンブルー等の光還元性色素とアスコルビン酸やトリエタノールアミンのような還元剤との組み合わせ等を例示できる。本工程においては、これらの光重合開始剤を１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００５５】
上記光重合開始剤を用いる場合には、光重合開始助剤を併用することが好ましい。このような光重合開始助剤としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン等の３級アミン類や、２−ジメチルアミノエチル安息香酸、４−ジメチルアミド安息香酸エチル等の安息香酸誘導体を例示することができるが、これらに限られるものではない。
【００５６】
なお、本工程に用いられる位相差層形成用塗工液中に含有される光学異方性材料の量は、上記光学異方性材料の種類等に応じて、本発明により製造される位相差フィルムに所望の位相差性を付与できる範囲内で任意に調整することができる。
【００５７】
ｂ．透明基板
次に、本工程に用いられる透明基板について説明する。本工程に用いられる透明基板としては、上記光学異方性材料の種類等に応じて、上記破断引張伸度比を本発明で規定する範囲内にできるものであれば特に限定されるものではない。このような透明基板としては、例えば、セルロース誘導体、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、アモルファスポリオレフィン、変性アクリル系ポリマー、ポリスチレン、エポキシ樹脂、ポリカーボネート、ポリエステル類、および、ノルボルネン系ポリマー等のシクロオレフィン系ポリマー等からなる基板を挙げることができる。なかでも本工程においては、セルロース誘導体、または、シクロオレフィン系樹脂からなる透明基板を用いることが好ましい。上記セルロース誘導体は光学的等方性に優れるため、このようなセルロース誘導体からなる透明基板を用いることにより、本発明により製造される位相差フィルムの光学特性の設計が容易になるという利点を有するからである。また、上記シクロオレフィン系樹脂は、ガスバリア性および耐湿熱性に優れるため、本発明により製造される位相差フィルムを、高温高湿雰囲気下における光学特性の経時安定性に優れたものにできるという利点を有するからである。
【００５８】
上記セルロース誘導体としては、セルロースエステル類を用いることが好ましく、さらに、セルロースエステル類の中では、セルロースアシレート類を用いることが好ましい。セルロースアシレート類は工業的に広く用いられていることから、入手容易性の点において有利だからである。
【００５９】
また、上記セルロースアシレート類としては、炭素数２〜４の低級脂肪酸エステルが好ましい。低級脂肪酸エステルとしては、例えばセルロースアセテートのように、単一の低級脂肪酸エステルのみを含むものでもよく、また、例えばセルロースアセテートブチレートやセルロースアセテートプロピオネートのような複数の脂肪酸エステルを含むものであってもよい。
【００６０】
本工程においては、上記低級脂肪酸エステルの中でもセルロースアセテートを特に好適に用いることができる。セルロースアセテートとしては、平均酢化度が５７．５〜６２．５％（置換度：２．６〜３．０）のトリアセチルセルロースを用いることが最も好ましい。トリアセチルセルロースは光学的等方性に優れるため、本発明により製造される位相差フィルムの光学特性の設計がさらに容易になるからである。また、トリアセチルセルロースは、比較的嵩高い側鎖を有する分子構造を有することから、このようなトリアセチルセルロースからなる透明基板を用いることにより、本発明により製造される位相差フィルムにおいて、透明基板と位相差層との密着性を向上することできるからである。
なお、上記酢化度とは、セルロース単位質量当りの結合酢酸量を意味するものであり、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験方法）におけるアセチル化度の測定および計算により求めることができる。トリアセチルセルロースフィルムを構成するトリアセチルセルロースの酢化度は、フィルム中に含まれる可塑剤等の不純物を除去した後、上記の方法により求めることができる。
【００６１】
一方、上記シクロオレフィン系樹脂は、環状オレフィン（シクロオレフィン）からなるモノマーのユニットを有する樹脂を意味するものであり、上記環状オレフィンからなるモノマーとしては、例えば、ノルボルネンや多環ノルボルネン系モノマー等を挙げることができる。本工程に用いられるシクロオレフィン系樹脂は上記環状オレフィンからなるモノマーの単独重合体であってもよく、または、共重合体であってもよい。
【００６２】
本工程に用いられるシクロオレフィン系樹脂としては、所望の透明性を備える透明基板を得ることができるものであれば特に限定されるものではない。なかでも本工程に用いられるシクロオレフィン系樹脂は、２３℃における飽和吸水率が１質量％以下であるもの好ましく、特に０．１質量％〜０．７質量％の範囲内であるものが好ましい。このようなシクロオレフィン系樹脂を用いることにより、本発明により製造される位相差フィルムを、吸水による光学特性の変化や寸法の変化がより生じにくいものとすることができるからである。
ここで、上記飽和吸水率は、上記吸水率は、ＡＳＴＭＤ５７０に準拠し２３℃の水中で１週間浸漬して増加重量を測定することにより求められる。
【００６３】
また、本工程に用いられるシクロオレフィン系樹脂は、ガラス転移点が１００℃〜２００℃の範囲内であるものが好ましく、なかでも１００℃〜１８０℃の範囲内であるものが好ましく、さらに１００℃〜１５０℃の範囲内であるものが好ましい。このようなシクロオレフィン系樹脂を用いることにより、本発明により製造される位相差フィルムを、耐熱性および加工適性により優れたものにできるからである。
【００６４】
このようなシクロオレフィン系樹脂としては、例えば、下記式（ａ）、または、下記式（ｂ）で表される構成単位を有するものを挙げることができる。
【００６５】
【化３】
2008076533.tif 000005
【００６６】
【化４】
2008076533.tif 000006
【００６７】
ここで、上記式（ａ）において、ｔおよびｕはそれぞれ独立に０または正の整数を表すが、ｔおよびｕが同時に０である場合は除く。また、Ａはエチレン基またはビニレン基を示し、Ｒ１１〜Ｒ１４は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数が１〜３０の炭化水素基、または、−（ＣＨ２）ｎ−ＣＯＯＲ（ｎは０〜５、Ｒは炭素数１〜１２のアルキル基を示す。）を示す。
ここで、上記Ｒ１１またはＲ１２と、Ｒ１３またはＲ１４とは相互に結合して炭素環または複素環を形成してもよい。さらに、上記炭素環または複素環は単環構造であってもよく、または、多環構造であってもよい。
【００６８】
また、上記式（ｂ）において、Ｂはエチレン基またはビニレン基を示す。Ｒ１５〜Ｒ１８は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数が１〜３０の炭化水素基を示す。さらに、Ｒ１５およびＲ１６、または、Ｒ１７およびＲ１８は一体化して２価の炭化水素基を形成してもよい。
【００６９】
本工程に用いられるシクロオレフィン系樹脂からなる透明基板の具体例としては、例えば、Ｔｉｃｏｎａ社製  Ｔｏｐａｓ、ジェイエスアール社製  アートン、日本ゼオン社製  ＺＥＯＮＯＲ、日本ゼオン社製  ＺＥＯＮＥＸ、三井化学社製  アペル等を挙げることができる。
【００７０】
本工程に用いられる透明基板は、可視光領域における透過率が８０％以上であるものが好ましく、９０％以上であるものがより好ましい。可視光領域における透過率がこのよう範囲内であることにより、例えば、本発明により製造される位相差フィルムを液晶表示装置用の光学補償フィルムとして用いた場合に、画像の視認性が低下することを防止できるからである。
ここで、上記透明基板の透過率は、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１（プラスチックー透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。
【００７１】
また、本工程に用いられる透明基板のレターデーション値は、本発明により製造される位相差フィルムに所望のレターデーション値を付与できる範囲内であれば特に限定されるものではない。なかでも本工程に用いられる透明基板は、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値が０ｎｍ〜５０ｎｍの範囲内であるものが好ましく、特に０ｎｍ〜４０ｎｍの範囲内であるものが好ましい。
ここで、上記レターデーション値（Ｒｅ）は、面内における遅相軸方向の屈折率ｎｘと、面内の進相軸方向の屈折率ｎｙと、透明基板の厚みｄ（ｎｍ）とにより、Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄの式で表される値であり、例えば、王子計測機器株式会社製  ＫＯＢＲＡ−ＷＲを用い、平行ニコル回転法によって測定することができる。
【００７２】
また、透明基板の上記レターデーション値の波長依存性としては、逆分散型であってもよく、または、正分散型であってもよく、さらにはフラット型であってもよい。
ここで、一般的に、レターデーション値が長波長側よりも短波長側のほうが小さい波長分散（即ち、レタデーション値が波長の増加関数である）の類型を「逆分散型」と称するが、本発明における「逆分散型」とは、波長４５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ４５０）と、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ５５０）との比（Ｒｅ４５０／Ｒｅ５５０）（以下、単に「Ｒｅ比」と称する場合がある。）が１より小さいことを意味するものとする。
また、一般的にレターデーション値が長波長側よりも短波長側のほうが大きい波長分散（即ち、レターデーション値が波長の減少関数である）の類型を「正分散型」と称するが、本発明における「正分散型」とは、上記Ｒｅ比が１より大きいことを意味するものとする。
さらに、一般的にレターデーション値に波長依存性を有さない波長分散の類型を「フラット型」と称するが、本発明における「フラット型」とは、上記Ｒｅ比がほぼ１であること意味するものとする。
【００７３】
さらに、本工程に用いられる透明基板は、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）が、０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲内であることが好ましく、なかでも０ｎｍ〜６０ｎｍの範囲内であることが好ましい。上記Ｒｔｈがこのような範囲内であることにより、本発明により製造される位相差フィルムを液晶表示装置用の光学補償フィルムとして好適なものにすることができるからである。
ここで、上記厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は、面内における遅相軸方向の屈折率ｎｘと、面内の進相軸方向の屈折率ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚと、透明基板の厚みｄ（ｎｍ）とにより、Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄの式で表される値であり、例えば、王子計測機器(株)製  ＫＯＢＲＡ−ＷＲにより測定することができる。
【００７４】
本工程に用いられる透明基板の構成は、単一の層からなる構成に限られるものではなく、複数の層が積層された構成を有するものであってもよい。
また、複数の層が積層された構成を有する場合は、同一組成の層が積層されたものであってもよく、または、異なる組成を有する複数の層が積層されたものであってもよい。
【００７５】
また、本工程に用いられる透明基板の厚みは、本発明により製造される位相差フィルムの用途等に応じて、必要な自己支持性が得られる範囲内であれば特に限定されるものではない。なかでも本工程に用いられる透明基板の厚みは１０μｍ〜１８８μｍの範囲内であることが好ましく、特に２０μｍ〜１２５μｍの範囲内であることが好ましく、さらには３０μｍ〜１００μｍの範囲内であることが好ましい。透明基板の厚みが上記の範囲よりも薄いと、本発明により製造される位相差フィルムに必要な自己支持性を付与できない場合があるからである。また、厚みが上記の範囲よりも厚いと、例えば、本発明により製造される位相差フィルムを裁断加工する際に、加工屑が増加したり、裁断刃の磨耗が早くなってしまう場合があるからである。
ここで、本工程に用いられる透明基板が複数の層が積層された構成を有するものである場合、上記厚みは各層の厚みの総和を意味するものとする。
【００７６】
ｃ．位相差層形成用塗工液の塗布方法
次に、上記位相差層形成用塗工液を上記透明基板上に塗布する方法について説明する。本工程において上記透明基板上に上記位相差層形成用塗工液を塗工する方法としては、所定量の位相差層形成用塗工液を塗工できる方法であれば特に限定されるものではない。このような塗工方法としては、例えば、グラビアコート法、リバースコート法、ナイフコート法、ディップコート法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、ロールコート法、プリント法、浸漬引き上げ法、カーテンコート法、ダイコート法、キャスティング法、バーコート法、エクストルージョンコート法、Ｅ型塗布方法など挙げることができる。
【００７７】
また、上記位相差層形成用塗工液の塗膜の乾燥方法は、加熱乾燥方法、減圧乾燥方法、ギャップ乾燥方法等、一般的に用いられる乾燥方法を用いることができる。また、本工程に用いられる乾燥方法は、単一の方法に限られず、例えば塗膜中に残留する溶媒量に応じて順次乾燥方式を変化させる等の態様により、複数の乾燥方式を採用してもよい。
【００７８】
ｄ．その他
上記光学異方性材料として上記重合性光学異方性材料を用いた場合、通常、本工程において上記透明基板上に上記位相差層形成用塗工液の塗膜を形成した後、上記重合性官能基を重合する重合処理工程が行われる。上記重合処理としては、上記光学異方性材料が有する重合性官能基の種類に応じて任意に決定すればよい。このような重合処理としては、例えば、紫外線等の活性放射線を照射する処理や、加熱処理等を挙げることができる。
【００７９】
２．延伸処理工程
次に、本発明に用いられる延伸処理工程について説明する。本工程は、上記光学積層体形成工程により形成された光学積層体を延伸することにより、上記位相差層形成用層に位相差性を発現させる工程である。また、本工程は、上記光学積層体を延伸し、上記位相差層形成用層中に含有される光学異方性材料を延伸方向に沿って配列させることにより、上記位相差層形成用層に位相差性を付与する工程であるということもできる。
ここで、本工程により延伸される光学積層体は、上記破断引張伸度比が本発明で規定する範囲内になっているものあるため、本工程において上記位相差層形成用層または上記透明基板のいずれか一方に、亀裂や破断が生じることなく、上記光学積層体を延伸することができる。
なお、本工程において延伸された光学積層体は、上記位相差層形成用層が延伸されて位相差性が付与されることにより、透明基板上に位相差層が積層された構成を有する位相差フィルムとなる。
以下、このような延伸処理工程について詳細に説明する。
【００８０】
本工程において上記光学積層体を延伸する態様としては、本発明により製造される位相差フィルムに所望の位相差性を付与できる範囲内であれば特に限定されるものではない。したがって、本工程における延伸態様は、一軸延伸であってもよく、または、二軸延伸であってもよい。
【００８１】
また、本工程において光学積層体を延伸する延伸倍率としては、本発明により製造される位相差フィルムに所望の位相差性を付与できる範囲内であれば特に限定されるものではない。なかでも本工程における延伸倍率は、１．０１倍〜２倍の範囲内であることが好ましい。上記延伸倍率がこのような範囲内であることにより、本工程において、上記位相差層形成用層または上記透明基板のいずれか一方に亀裂が破断が生じることをさらに防止できるため、本発明の位相差フィルムの製造方法をより生産性の高いものにできるからである。
【００８２】
本工程において、上記位相差層を延伸する方法としては本発明により製造される位相差フィルムに所望の位相差性を付与できる方法であれば特に限定されるものではない。なかでも本工程においては、面内方向における遅相軸方向の屈折率ｎｘと、面内方向における進相軸方向の屈折率ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間に、ｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚの関係が成立するように延伸することが好ましい。このように延伸することにより、本発明により製造される位相差フィルムを液晶表示装置用の視野角補償フィルムとして好適なものにできるからである。
【００８３】
本工程において、上記ｎｘ、ｎｙおよびｎｚにｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚの関係が成立するように位相差層を延伸する態様としては、一軸延伸することにより、上記ｎｘ、ｎｙ、および、ｎｚの間にｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの関係が成立するように延伸する態様（第１態様）と、二軸延伸することにより、上記ｎｘ、ｎｙ、および、ｎｚの間にｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの関係が成立するように延伸する態様（第２態様）と、を挙げることができる。
【００８４】
上記第１態様および上記第２態様において上記位相差層を延伸する方法としては、上記位相差層を所望の延伸倍率に延伸できる方法であれば特に限定されるものではない。このような方法としては、例えば、ロール延伸法、長間隙沿延伸法、テンター延伸法、チューブラー延伸法等を挙げることができる。
【００８５】
なお、本工程においては、通常、上記位相差層が加熱された状態で延伸されるが、このときの加熱温度としては、上記位相差層を所望の倍率で延伸できる範囲内であれば特に限定されない。なかでも本発明においては、通常、ガラス転移温度以上、かつ、融点温度以下とされる。
【００８６】
３．その他の工程
本発明の位相差フィルムの製造方法は、上記位相差層形成工程および上記延伸処理工程以外に他の工程を有するものであってもよい。このような他の工程としては、本発明により製造される位相差フィルムの用途等に応じて、所望の機能を有する位相差フィルムを製造できるものを適宜選択して用いることができる。
【００８７】
また、本発明の位相差フィルムの製造方法が実施される態様としては、上記位相差層形成工程および上記延伸処理工程が実施される態様であれば特に限定されるものではない。このような態様としては、例えば、上記透明基板として長尺に形成されたものを用い、Ｒｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌプロセス（巻取状で供給される帯状フィルムを巻出し、走行させて連続加工し、而かる後に巻取る加工法）により連続的に上記位相差層形成工程および上記延伸処理工程が実施される態様であってもよく、または、所定のサイズ（枚葉）にシート加工された透明基板を用い、当該透明基板を順次移動させながら、上記位相差層形成工程および上記延伸処理工程を実施する態様であってもよい。
【００８８】
４．位相差フィルム
本発明により製造される位相差フィルムは、透明基板と、上記透明基板上に形成され、屈折率異方性を有する光学異方性材料を含有する位相差層とを有するものとなる。
【００８９】
本発明により製造される位相差フィルムのレターデーション値の波長依存性は、正分散型であってもよく、または、逆分散型であってもよく、さらにはフラット型であってもよい。
【００９０】
また、本発明により製造される位相差フィルムのＮｚファクターは特に限定されるものではなく、位相差フィルムの用途に応じて任意に調整することができる。例えば、本発明により製造される位相差フィルムをＩＰＳ方式の液晶表示装置の視野角補償フィルムとして用いる場合、Ｎｚファクターは０．５〜１．０の範囲内であることが好ましく、一方、本発明により製造される位相差フィルムをＶＡ方式の液晶表示装置の視野角補償フィルム（Ａプレート）として用いる場合、Ｎｚファクターは、１．０〜２．０の範囲内であることが好ましい。
ここで、上記Ｎｚファクターは屈折率楕円体の形状を規定するパラメーターであり、面内方向における遅相軸方向の屈折率ｎｘと、面内方向における進相軸方向の屈折率ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとにより、以下の式で表されるものである。
Ｎｚ＝（ｎｘ−ｎｙ）／（ｎｘ−ｎｚ）
【００９１】
さらに、本発明により製造される位相差フィルムを液晶表示装置の視野角補償フィルムとして用いる場合、面内方向における遅相軸方向の屈折率ｎｘと、面内方向における進相軸方向の屈折率ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間に、ｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚの関係が成立することが好ましい。上記ｎｘ、ｎｙおよびｎｚの間にこのような関係が成立することにより、液晶表示装置の視野角補償フィルムとして好適に用いられるものにできるからである。
【００９２】
上記ｎｘ、ｎｙおよびｎｚに上記ｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚの関係が成立する態様としては、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの関係が成立する一軸性の位相差フィルムと、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの関係が成立する二軸性の位相差フィルムとを挙げることができる。
【００９３】
本発明により製造される位相差フィルムが上記一軸性の位相差フィルムである場合は、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション（Ｒｅ）が０ｎｍ＜Ｒｅ５５０＜３００ｎｍの範囲内であることが好ましい。
また、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）が０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲内であることが好ましい。
【００９４】
一方、本発明により製造される位相差フィルムが上記二軸性の位相差フィルムである場合は、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション（Ｒｅ）が０ｎｍ＜Ｒｅ５５０＜３００ｎｍの範囲内であることが好ましい。
また、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）が０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲内であることが好ましい。
【００９５】
なお、本発明により製造される位相差フィルムの形態は、位相差フィルムの用途等に応じて所望の形態とすることができる。したがって、例えば、長尺に形成され、ロール状に巻き取られた形態であってもよく、所定のサイズに切断加工されたシート状の形態であってもよい。
【００９６】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と、実質的に同一の構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなる場合であっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【００９７】
以下に実施例を示し、本発明についてさらに具体的に説明する。
【００９８】
１．実施例１
（１）光学積層体形成工程
光学異方性材料としてカプロラクトン変性ウレタンアクリレートを用い、これをメチルエチルケトンに４０質量％になるように溶解させ、さらに重合開始剤を固形分に対して４質量％加えることにより位相差層形成用塗工液を調整した。
【００９９】
透明基板として、破断引張伸度が３０％であるＴＡＣ（トリアセチルセルロース）フィルムを用い、上記位相差層形成用塗工液を当該ＴＡＣフィルムの表面にバーコーティングにより塗工した。次いで、９０℃で４分間加熱して溶剤を乾燥除去し、塗工面に紫外線を照射して上記光学異方性材料を固定化することにより、上記ＴＡＣフィルム上に厚み６μｍの位相差層形成用層が積層された光学積層体を作製した。
なお、本実施例において形成された位相差層形成用層の破断引張伸度は１６０％であり、上記光学積層体の破断引張伸度比は５．３であった。
【０１００】
（２）延伸処理工程
次に、延伸実験機により上記光学積層体を、延伸倍率が１．３倍になるように１６５℃で加熱しながら面内方向に一軸延伸することにより、位相差フィルムを作製した。このとき、上記光学積層体は、上記位相差層形成用層が上記ＴＡＣフィルムから剥離することなく延伸可能であった。
【０１０１】
２．実施例２
光学異方性材料としてウレタンアクリレートを用いたこと以外は、実施例1と同様にして位相差フィルムを作製した。
その結果、光学積層体は、上記位相差層形成用層が上記ＴＡＣフィルムから剥離することなく延伸可能であった。
なお、本実施例において形成された位相差層形成用層の破断引張伸度は３５０％であり、上記光学積層体の破断引張伸度比は８であった。
【０１０２】
３．実施例３
透明基板として、基材として破断引張伸度が１０％のＰＭＭＡフィルムを用いたこと以外は、実施例１と同様にして位相差フィルムを作製した。
その結果、光学積層体は、上記位相差層形成用層が上記ＰＭＭＡフィルムから剥離することなく延伸可能であった。
なお、本実施例において形成された光学積層体の破断引張伸度比は１６であった。
【０１０３】
４．実施例４
透明基板として、破断引張伸度が１３％のノルボルネン系樹脂フィルム（商品名  アートン  ＪＳＲ社製）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして位相差フィルムを作製した。
その結果、光学積層体は、上記位相差層形成用層が上記ノルボルネン系樹脂フィルムから剥離することなく延伸可能であった。
なお、本実施例において形成された光学積層体の破断引張伸度比は１２．３であった。
【０１０４】
５．比較例１
光学異方性材料としてイソシアヌル酸ＥＯ変性ジアクリレートを用いたこと以外は、実施例１と同様にして位相差フィルムを作製した。
その結果、上記光学積層体を延伸した際に、上記ＴＡＣフィルムと上記位相差層形成用層との界面で剥離が生じた。
なお、比較例において形成された位相差層形成用層の破断引張伸度は２％であり、光学積層体の破断引張伸度比は０．０６であった。
【０１０５】
６．比較例２
光学異方性材料としてウレタンアクリレートを用い、透明基板として破断引張伸度１０％のＰＭＭＡフィルムを用いたこと以外は、実施例１と同様にして位相差フィルムを作製した。
その結果、上記光学積層体を延伸した際に、上記位相差層形成用層にひび割れが生じた。
なお、本実施例において形成された位相差層形成用層の破断引張伸度は３５０％であり、光学積層体の破断引張伸度比は３５であった。
【図面の簡単な説明】
【０１０６】
【図１】本発明の位相差フィルムの製造方法の一例を示す概略図である。
【図２】本発明における光学積層体の一例を示す概略図である。
【図３】一般的な液晶表示装置の一例を示す概略図である。
【符号の説明】
【０１０７】
１  …  透明基板
２  …  位相差層
２’  …  位相差層形成用層
１０  …  位相差フィルム
１０’  …  光学積層体
３０  …  位相差フィルム
１００  …  液晶表示装置
１０２Ａ、１０２Ｂ  …  偏光板
１０４  …  液晶セル
【図１】
2008076533.tif 000007
【図２】
2008076533.tif 000008
【図３】
2008076533.tif 000009