(57)【要約】【課題】基板を搬送しながらその姿勢を変換して処理を進める際のスループットを向上させる。【解決手段】コンベア１５により傾斜姿勢で搬送されてくる基板Ｓを水平姿勢に変換してロボットＲ２に受け渡す姿勢変換装置３０。この装置３０は、上下に並ぶ第１，第２収容部４０Ａ，４０Ｂをもつ基板収容ユニット４０と、各収容部４０Ａ，４０Ｂの姿勢を変換する機構と、第１収容部４０Ａがコンベア１５に対応する第１ポジションと、第２収容部４０Ｂがコンベア１５に対応する第２ポジションとに亘ってユニット４０を昇降させる機構とを備える。また、収容部４０Ａ，４０Ｂの姿勢変換機構は、ユニット４０が第１ポジションにあるときに第１収容部４０Ａを傾斜姿勢に、第２収容部４０Ｂを水平姿勢に切換え、第２ポジションにあるときに各収容部４０Ａ，４０Ｂを上記と逆の姿勢に切換え、さらにこの切換動作をユニット４０のポジション切換動作中に行う。【選択図】図２
2008053331.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上流側搬送手段と下流側搬送手段との間に介装され、上流側搬送手段により搬送されてくる基板の姿勢を当該姿勢とは異なる搬送姿勢であって下流側搬送手段により搬送するための姿勢に変換する装置であって、
基板の搬送方向に対して並列に並ぶ第１，第２収容部を備えた基板収容手段と、
前記第１、第２収容部の姿勢を、それぞれ上流側搬送手段により搬送されてくる基板の受入れが可能となる第１姿勢と下流側搬送手段に対して基板の搬出が可能となる第２姿勢とに切換える姿勢変換手段と、
前記第１収容部が上流側搬送手段との基板受渡し位置に対応し、かつ第２収容部が下流側搬送手段との基板受渡し位置に対応する第１ポジションとこれらとは逆の位置に各収容部が配置される第２ポジションとに亘って前記基板収容手段を変位させる変位手段と、を備え、
前記姿勢変換手段は、前記基板収容手段が前記第１ポジションにあるときに第１収容部が第１姿勢に、第２収容部が第２姿勢にあるように切換える一方、前記基板収容手段が第２ポジションにあるときに第１収容部が第２姿勢に、第２収容部が第１姿勢にあるように切換えるとともに、この姿勢切換動作を、前記基板収容手段の変位動作中に行う
ことを特徴とする姿勢変換装置。
【請求項２】
請求項１に記載の姿勢変換装置において、
前記基板収容手段は、前記第１、第２収容部を上下方向に並列に備え、
前記変位手段は、前記基板収容手段を昇降変位させる
ことを特徴とする姿勢変換装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の姿勢変換装置において、
前記第１姿勢および第２姿勢は、一方の姿勢が基板を水平に保つ姿勢であり、他方の姿勢が基板を傾斜させる姿勢であって、
前記姿勢変換手段は、基板搬送方向と直交する方向において前記収容部に収容される基板の中央部分に配置され、かつ基板搬送方向と平行に延びる枢軸回りに前記収容部を揺動させることにより前記収容部を前記第１姿勢と第２姿勢とに切換える
ことを特徴とする姿勢変換装置。
【請求項４】
基板を搬送する上流側搬送手段と、この上流側搬送手段により搬送される基板の姿勢とは異なる姿勢で基板を搬送する下流側搬送手段と、これら両搬送手段の間に介装されて上流側搬送手段により搬送されてくる基板の姿勢を下流側搬送手段により搬送するための姿勢に変換する姿勢変換装置と、を備えた基板搬送装置において、
前記姿勢変換装置として、請求項１乃至３の何れかに記載の姿勢変換装置を備えていることを特徴とする基板搬送装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＬＣＤ（液晶表示装置）やＰＤＰ（プラズマディスプレイ）等のＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、プリント基板、半導体基板等の基板処理装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、基板を搬送しながら各種処理液を基板に供給することにより基板に所定の処理を施す基板処理装置が一般に知られており、近年では、処理の迅速化、高品質化を図るために基板の姿勢を水平姿勢から傾斜姿勢へ、あるいはその逆に適宜切換えながら処理を進めるものが普及している。
【０００３】
この種の基板処理装置には、搬送中に基板の姿勢を変換するための装置（姿勢変換装置）が組み込まれるが、例えば特許文献１には、傾斜姿勢の基板をリフトアップピンにより持ち上げて水平に保持し、当該基板をその下側からロボットハンドにより支持して下流側に搬送するものが開示されている。また、特許文献２には、基板を搬送するためのローラコンベアに水平搬送の部分と傾斜搬送の部分とを設けておき、水平搬送の部分のうちその終端部分をシリンダ駆動により姿勢切換え可能に構成しておくことにより、基板を水平姿勢から傾斜姿勢に切換えながら搬送できるようにしたものが開示されている。
【特許文献１】特開２００５−２１７０２０号公報
【特許文献２】特開平１１−８７２１０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところが、特許文献１に開示される装置では、姿勢変換後、基板がロボットハンドにより支持された後も、リフトアップピンが完全に下降するまでは次の基板を当該姿勢変換位置に搬入することができないため、この姿勢変換動作によって基板の処理の進行が律速される傾向がある。特に、大型の基板では姿勢変換時の高低差が大きく、その分、リフトアップピンの昇降に時間を要するため上記の傾向が強く、スループットを向上させる上でのマイナス要因の一つとなっている。特許文献２に開示される装置についても、姿勢変換後の基板が下流側に完全に搬送された後、ローラコンベア（水平搬送の終端部分）が元の状態にリセットされるまでは次の基板を当該終端部分に搬入することができないため、特許文献１のものと事情は同じである。
【０００５】
本発明は、上記の事情に鑑みてなされたものであって、基板を搬送しながらその途中で基板の姿勢を変換して処理を進める基板処理装置のスループットを向上させることを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明の姿勢変換装置は、上流側搬送手段と下流側搬送手段との間に介装され、上流側搬送手段により搬送されてくる基板の姿勢を当該姿勢とは異なる搬送姿勢であって下流側搬送手段により搬送するための姿勢に変換する装置であって、基板の搬送方向に対して並列に並ぶ第１，第２収容部を備えた基板収容手段と、前記第１、第２収容部の姿勢を、それぞれ上流側搬送手段により搬送されてくる基板の受入れが可能となる第１姿勢と下流側搬送手段に対して基板の搬出が可能となる第２姿勢とに切換える姿勢変換手段と、前記第１収容部が上流側搬送手段との基板受渡し位置に対応し、かつ第２収容部が下流側搬送手段との基板受渡し位置に対応する第１ポジションとこれらとは逆の位置に各収容部が配置される第２ポジションとに亘って前記基板収容手段を変位させる変位手段と、を備え、前記姿勢変換手段は、基板収容手段が前記第１ポジションにあるときに第１収容部が第１姿勢に、第２収容部が第２姿勢にあるように切換える一方、基板収容手段が第２ポジションにあるときに第１収容部が第２姿勢に、第２収容部が第１姿勢にあるように切換えるとともに、この姿勢切換動作を、前記基板収容手段の変位動作中に行うものである（請求項１）。
【０００７】
この装置によると、基板収容手段が各ポジションに交互に切換えられるとともにこの切換動作中に各収容部の姿勢が切換えられる。これによって基板収容手段が第１ポジションにあるときには、上流側から搬送されてくる基板を第１収容部に搬入する一方で、この受け入れと並行して第２収容部に先に収容されている基板を当該第２収容部から下流側へと搬出することが可能となり、また同様に、基板収容手段が第２ポジションにあるときには上流側から搬送されてくる基板を第２収容部に搬入する一方で、これと並行して先に第１収容部に収容されている基板を当該第１収容部から下流側へと搬出することが可能となる。つまり、上流側から搬送されてくる基板の姿勢変換装置への搬入と、同装置から下流側への基板の搬出とを並行して行うことが可能となる。
【０００８】
この装置において、前記基板収容手段は第１，第２収容部を水平方向に並列に備えたものであってもよいが、スペース効率（占有面積の削減）の観点からすると、前記基板収容手段は第１、第２収容部を上下方向に並列に備え、変位手段がこの基板収容手段を昇降変位させるものであるのが好適である（請求項２）。
【０００９】
なお、この構成において、前記第１姿勢および第２姿勢のうち一方の姿勢が基板を水平に保つ姿勢であり、他方の姿勢が基板を傾斜させる姿勢である場合には、前記姿勢変換手段は、基板搬送方向と直交する方向において前記収容部に収容される基板の中央部分に配置され、かつ基板搬送方向と平行に延びる枢軸回りに前記収容部を揺動させることにより前記収容部を第１姿勢と第２姿勢とに切換えるものであるのが好適である（請求項３）。
【００１０】
このような姿勢変換手段の構成によると、実施の形態中で説明するように、姿勢変換装置を上下方向にコンパクトに構成することが可能となる。
【００１１】
一方、本発明に係る基板搬送装置は、基板を搬送する上流側搬送手段と、この上流側搬送手段により搬送される基板の姿勢とは異なる姿勢で基板を搬送する下流側搬送手段と、これら両搬送手段の間に介装されて上流側搬送手段により搬送されてくる基板の姿勢を下流側搬送手段により搬送するための姿勢に変換する姿勢変換装置と、を備えた基板搬送装置において、前記姿勢変換装置として、請求項１乃至３の何れかに記載の姿勢変換装置を備えているものである（請求項４）。
【００１２】
このような基板搬送装置によると、上流側から搬送されてくる基板の姿勢変換装置への搬入と、同装置から下流側への基板の搬出とを並行して行うことが可能となるので、姿勢変換装置の部分で基板の搬送が滞るのを回避することが可能となる。
【発明の効果】
【００１３】
本発明に係る姿勢変換装置、およびこの装置が組み込まれる基板搬送装置によると、姿勢変換装置への基板の搬入と、同装置から下流側への基板の搬出とを並行して行うことが可能となるので、姿勢変換を伴う基板の搬送をより円滑に行うことができるようになる。そのため、このような基板搬送装置が組み込まれる基板処理装置等によると、基板の姿勢変換動作により基板の処理の進行が律速されるという不都合を回避することができ、その結果、スループットを向上させることができるようになる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明の実施の形態について図面を用いて説明する。
【００１５】
図１は、本発明に係る姿勢変換装置が組み込まれる基板処理装置（本発明に係る基板搬送装置が適用される基板処理装置）を模式的に示している。
【００１６】
この図に示す基板処理装置１は、矩形のＬＣＤ用ガラス基板Ｓ（以下、単に基板Ｓと称す）を搬送しながらその表面に対して洗浄・レジスト塗布・露光・現像等の処理を連続して順次行うもので、同図に示すようにインデクサ部２、洗浄部４、レジスト塗布部６、露光部８、現像部１０、ベーク部１２等（以下、必要に応じて各処理部４〜１２と称す）を含んでいる。そして、前記インデクサ部２に載置されたカセットＣから取り出した基板を、順次各処理部４〜１２に受け渡しながら所定の処理を施した後、最終的にインデクサ部２の元のカセットＣに収納するように構成されている。
【００１７】
インデクサ部２には、基板Ｓを支持するための平面視Ｕ字型（あるいは櫛形）のアームをもつ水平多関節型のロボットＲ１が配備されており、カセットＣと、洗浄部４およびベーク部１２との間の基板Ｓの搬送（受け渡し）がこのロボットＲ１により行われるようになっている。また、各処理部４〜１２の間にも上記ロボットＲ１と同様の水平多関節型のロボットＲ２〜Ｒ４が配備されており、各処理部４〜１２間での基板Ｓの搬送がこれらロボットＲ２〜Ｒ４により行われるようになっている。
【００１８】
なお、洗浄部４，レジスト塗布部６，現像部１０およびベーク部１２には互いに区画される複数の処理室が設けられており、基板Ｓは、ローラコンベア等によってこれら処理室に亘って搬送されながら所定の処理が施されるようになっている。
【００１９】
図２は、この基板処理装置１のうち本発明が適用される部分である洗浄部４の構成を概略的に示している。
【００２０】
洗浄部４は、インデクサ部２から基板Ｓを受け入れるとともにその姿勢を水平姿勢から傾斜姿勢に変換する基板受入室（図示省略）と、基板Ｓに対して各種洗浄処理を施す複数種類の洗浄室４ａと、洗浄処理後の基板Ｓを乾燥させる乾燥室４ｂと、乾燥処理後の基板Ｓの姿勢を傾斜姿勢から水平姿勢に戻す（変換する）姿勢変換室４ｃとを有している。
【００２１】
基板受入室には、インデクサ部２から搬送されてくる基板Ｓを受け取って洗浄室４ａへと搬送するローラコンベアと、このコンベアの姿勢を切換える切換機構とが配備されている。この切換機構は、図示を省略しているが、基板Ｓを水平姿勢で支持する水平状態と基板Ｓを傾斜姿勢（搬送方向と直交する方向に傾いた姿勢）で支持する傾斜状態とに亘って前記コンベアの姿勢を切換えるように構成されている。つまり、ロボットＲ１により搬送されてくる基板Ｓを水平状態のローラコンベア上に受け入れた後、このローラコンベアを傾斜状態に切換えることにより、基板Ｓを水平姿勢から傾斜姿勢に変換して洗浄部４ａへと搬送するようになっている。
【００２２】
各洗浄室４ａには、基板受入室から搬送されてくる基板Ｓを受け入れて傾斜姿勢で搬送するローラコンベア１４と、このコンベア１４により搬送される基板Ｓに対して所定の洗浄処理を施す洗浄ツールとが設けられている。なお、図示の洗浄室４ａには、前記洗浄ツールとしてスプレー型の液供給ノズル２０がローラコンベア１５を挟んでその上下両側に配備されており、これによって基板Ｓの上面および下面に対して洗浄液を吹き付けて搬送中の基板Ｓを洗浄するように構成されている。なお、洗浄ツールは図示のものに限定されるものではなく、基板サイズや洗浄液の種類等に応じて最適なものが配備される。
【００２３】
乾燥室４ｂには、洗浄室４ａから搬送されてくる基板Ｓを受け入れて傾斜姿勢で搬送するローラコンベア１５と、このローラコンベア１５の上下両側に配備されるエア供給ノズル２１とが設けられており、搬送中の基板Ｓに対して前記エア供給ノズル２１から高圧エアを吹き付けて洗浄液を除去し、これにより基板Ｓを乾燥させるようになっている。
【００２４】
姿勢変換室４ｃには、乾燥室４ｂから搬送されてくる基板Ｓを受け入れ、その姿勢を傾斜姿勢から水平姿勢に戻して下流側のロボットＲ２に受け渡す姿勢変換装置３０が配備されている。この姿勢変換装置３０は、基板Ｓの姿勢を変換する点で前記基板受入室の変換機構と機能的に共通するが、洗浄処理後の基板Ｓをより円滑に次工程に搬送するために次のように構成されている。
【００２５】
図３は、姿勢変換装置３０を示す正面図（図２のIII−III線矢視図）である。この図に示すように、姿勢変換装置３０は、乾燥室４ｂから搬送されてくる基板Ｓを収容するための基板収容ユニット４０（本発明に係る基板収容手段に相当する）を有している。
【００２６】
この基板収容ユニット４０には、上下二段の収容部４０Ａ，４０Ｂ（第１収容部４０Ａ，第２収容部４０Ｂという）が設けられている。これら収容部４０Ａ，４０Ｂは、いずれも複数の搬送ローラ４６が基板搬送方向に並ぶローラコンベアから構成されている。
【００２７】
各収容部４０Ａ，４０Ｂは、その姿勢がそれぞれ切換え可能に構成されており、この姿勢切換に伴い基板Ｓの姿勢を上記のように傾斜姿勢から水平姿勢に変換するようになっている。詳しくは、各収容部４０Ａ，４０Ｂのフレーム４２が基板収容ユニット４０のフレーム３４に対して基板搬送方向と平行に延びる枢軸４４を介して連結されており、これによって基板収容ユニット４０に対して各収容部４０Ａ，４０Ｂが揺動自在に支持されている。そして、基板収容ユニット４０（フレーム３４）にそれぞれ固定されたエアシリンダ４９のロッド先端が各収容部４０Ａ，４０Ｂに連結されている。これらエアシリンダ４９に対するエアの給排切換えに応じて各収容部４０Ａ，４０Ｂがそれぞれ枢軸４４回りに揺動し、傾斜状態（基板Ｓを傾斜姿勢で支持する状態；本発明に係る第１姿勢に相当する）と水平状態（基板Ｓを水平姿勢に支持する状態；本発明に係る第２姿勢に相当する）とに個別に切換えられるようになっている。なお、同図中符号４８は、基板Ｓをその側方から支持するサイド支持ローラである。
【００２８】
基板収容ユニット４０は、装置フレーム３２に対して昇降可能に構成され、モータ３６により駆動されるようになっている。詳しくは、装置フレーム３２に、上下方向に延びる固定レール（図示省略）と、この固定レールと平行に延びてモータ３６により回転駆動されるボールねじ軸３８とが設けられ、前記固定レールに基板収容ユニット４０が昇降自在に装着されるとともに、このユニット４０に設けられる図外のナット部分に前記ボールねじ軸３８が螺合挿入されている。そして、前記モータ３６によりボールねじ軸３８が正逆回転駆動されることにより、前記第１収容部４０Ａが乾燥室４ｂのローラコンベア１５に並び、かつ第２収容部４０ＢがロボットＲ２に対する基板受け渡し可能領域内に配置される第１ポジション（図２中に符号Ｐ１を付して実線で示す位置）と、第２収容部４０Ｂが乾燥室４ｂのローラコンベア１５に並び、かつ第２収容部４０ＢがロボットＲ２に対する基板受け渡し可能領域内に配置される第２ポジション（図２中に符号Ｐ２を付して仮想線で示す位置）とに亘って基板収容ユニット４０が移動するようになっている。
【００２９】
なお、この実施形態では、各収容部４０Ａ，４０Ｂのフレーム４２、枢軸４４およびエアシリンダ４９等が本発明に係る姿勢変換手段に相当し、上記固定レール、ボールねじ軸３８およびモータ３６等が本発明に係る変位手段に相当する。
【００３０】
次に、この基板処理装置１の動作について、主に洗浄部４からレジスト塗布部６への基板Ｓの搬送動作を中心にその作用と共に説明する。
【００３１】
この基板処理装置１では、被処理基板Ｓが収納されたカセットＣがインデクサ部２に載置されることにより処理動作が開始される。まず、ロボットＲ１がカセットＣに対向する位置に移動し、カセットＣに水平姿勢で多段に収納された基板Ｓをアームが取り出す。そして、その基板Ｓを洗浄部４の基板受入室に運んでローラコンベア上に載置する。
【００３２】
このように基板受入室に基板Ｓが搬入されると、切換機構の作動により基板受入室のローラコンベアが水平状態から傾斜状態に切換えられ、これにより基板Ｓの姿勢が水平姿勢から傾斜姿勢に変換される。この姿勢変換が完了すると、ローラコンベアが作動して基板Ｓの搬送が開始され、基板Ｓが傾斜姿勢のまま基板受入室から隣の洗浄室４ａへと搬送され、さらに隣の他の洗浄室４ａを経た後、乾燥室４ｂへと搬送される。これにより洗浄処理と乾燥処理とが基板Ｓに対して順次施されることとなる。
【００３３】
乾燥処理が終了した基板Ｓは、さらに姿勢変換室４ｃへと搬送され、ここで姿勢変換装置３０により傾斜姿勢から元の水平姿勢へと戻される。
【００３４】
詳しく説明すると、まず、姿勢変換室４ｃへの基板Ｓの搬送に先立ち、基板収容ユニット４０が基板Ｓの受入可能な状態にセットされる。具体的には、基板収容ユニット４０が第１ポジション又は第２ポジションの何れかにセットされ（ここでは、第１ポジション（図２の二点鎖線に示すポジション）にセットされるものとして説明を進める）、さらに基板収容ユニット４０の２つの収容部４０Ａ，４０Ｂのうち乾燥室４ｂのローラコンベア１５に並ぶもの（ここでは第１収容部４０Ａ）が傾斜状態にセットされる。また、第２収容部４０Ｂが水平状態にセットされる。
【００３５】
そして、ローラコンベア１５の作動により乾燥室４ｂから姿勢変換室４ｃに基板Ｓが搬送されることにより、前記第１収容部４０Ａに対して基板Ｓが搬入される。この搬入が完了すると、モータ３６の作動により基板収容ユニット４０の位置が前記第１ポジションから第２ポジション（図１の実線に示すポジション）へと切換えられるとともにこのポジション切換動作中に、エアシリンダ４９の作動により第１収容部４０Ａが傾斜状態から水平状態に、第２収容部４０Ｂが水平状態から傾斜状態にそれぞれ切換えられる。これによって第１収容部４０Ａの基板Ｓの姿勢が傾斜姿勢から水平姿勢へと変換される。また、第２収容部４０Ｂが傾斜状態となって前記乾燥室４ｂのローラコンベア１５に並び、次の基板Ｓの受入準備が完了する。
【００３６】
基板収容ユニット４０のポジション切換えが完了すると、洗浄部４とレジスト塗布部６との間に配備されるロボットＲ２により第１収容部４０Ａから基板Ｓが水平姿勢で取り出される。具体的には、図３の一点鎖線に示すように、第１収容部４０Ａの搬送ローラ４６間の隙間にロボットＲ２のアーム５０が挿入され、このアーム５０により基板Ｓが下側から持ち上げられることにより、基板Ｓが姿勢変換装置３０（洗浄部４）から取り出されてこのロボットＲ２により次のレジスト塗布部６へと搬送されることとなる。
【００３７】
なお、このように第１収容部４０Ａにおいて基板Ｓの搬出が行われている間、他方側の第２収容部４０Ｂに対しては、乾燥室４ｂにおいて乾燥処理が終了した後続の基板Ｓが上記と同様にして搬入されることとなる。つまり、姿勢変換室４ｃからの基板Ｓの搬出動作と、姿勢変換室４ｃへの基板Ｓの搬入動作とが並行して行われることとなる。
【００３８】
こうして第１収容部４０Ａからの基板Ｓの搬出、および第２収容部４０Ｂへの後続基板Ｓの搬入が完了すると、基板収容ユニット４０が第２ポジションから第１ポジションへと切換えられるとともに、この切換動作中に各収容部４０Ａ，４０Ｂの姿勢が切換えられ、これにより第２収容部４０Ｂに収容された基板Ｓの姿勢変換と、第２収容部４０Ｂの基板の受入準備が進められる。そして、基板収容ユニット４０が第２ポジションにセットされると、ロボットＲ２による第２収容部４０Ｂからの基板Ｓの取り出しと、第１収容部４０Ａに対する後続基板Ｓの搬入とが並行して行われる。
【００３９】
なお、ロボットＲ２は、一定範囲内で昇降可能に構成されており、各収容部４０Ａ，４０Ｂから基板Ｓを取出す際には、図２に示すように、前記アーム５０を各収容部４０Ａ，４０Ｂに対応した高さ位置、つまり基板収容ユニット４０が第１ポジションにセットされた状態では第１収容部４０Ａに対応する高さ位置に、また第２ポジションにセットされた状態では第２収容部４０Ｂに対応する高さ位置にそれぞれアーム５０を配置する。これにより上記のように変位する両収容部４０Ａ，４０Ｂから支障なく基板Ｓの取り出しを行えるようになっている。
【００４０】
このように第２収容部４０Ｂからの基板Ｓの搬出と、第１収容部４０Ａに対する後続基板Ｓの搬入とが完了すると、以降、上記と同様にして基板収容ユニット４０のポジションが交互に切換えられながら、乾燥室４ｂから搬送されている基板Ｓの姿勢が変換されてレジスト塗布部６へと搬送されることとなる。
【００４１】
以上のようにこの基板処理装置１では、傾斜姿勢で基板Ｓを搬送しながら洗浄部４において洗浄・乾燥処理を実施した後、基板Ｓの姿勢を水平姿勢に変換してからレジスト塗布部６に搬送するようにしているが、上述した通り、この基板処理装置１では、姿勢変換室４ｃ（姿勢変換装置３０）への基板Ｓの搬入（受け入れ）と、姿勢変換室４ｃからレジスト塗布部６への基板Ｓの搬出（受け渡し）とを並行して行うことができるため、姿勢変換を伴う洗浄部４からレジスト塗布部６への基板Ｓの搬送を円滑に行うことができる。
【００４２】
従って、基板の姿勢変換後、姿勢変換装置がリセットされるまでの比較的長い期間、後続の基板Ｓを姿勢変換室に搬入することができない従来のこの種の装置と比較すると、姿勢変換動作により基板Ｓの処理の進行が律速されるという不都合を有効に回避することができ、その結果、基板処理装置１におけるスループットを向上させることができる。
【００４３】
なお、上述した基板処理装置１や、姿勢変換装置３０および同装置３０を含む基板搬送装置は、本発明の実施形態の例示であってその具体的な構成は、本発明の要旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。例えば、以下のような構成を採用することも可能である。
【００４４】
（１）姿勢変換装置３０に対してさらに、図４に示すように基板受渡装置６０を直列に配置してもよい。この基板受渡装置６０は、姿勢変換装置３０において姿勢変換された基板Ｓの高さ位置を、元の高さ位置（乾燥室４ｂから姿勢変換室４ｃへ搬入される際の基板Ｓの高さ位置；以下、基準高さ位置という）に戻してロボットＲ２に受け渡すものである。この基板受渡装置６０は、詳しく図示していないが、上下二段に基板Ｓの収容部７０Ａ，７０Ｂをもつ昇降可能な基板収容ユニット７０を備えており、各収容部７０Ａ，７０Ｂ（第１収容部７０Ａ，第２収容部７０Ｂという）が基板Ｓを水平姿勢でのみ収容する点を除き前記姿勢変換装置３０と同一構成となっている。そして、姿勢変換装置３０の基板収容ユニット４０と一体に基板収容ユニット７０を昇降させることによって、基板収容ユニット４０の各収容部４０Ａ，４０Ｂに収容された姿勢変換後（水平姿勢）の基板Ｓを、対応する収容部７０Ａ，７０Ｂに受け入れてロボットＲ２に受け渡すように構成されている。
【００４５】
具体的な動作について説明すると、まず、姿勢変換装置３０の基板収容ユニット４０が第１ポジションにセットされた状態でその第１収容部４０Ａに基板Ｓが搬入される。次いで、基板収容ユニット４０が第１ポジションから第２ポジションに移動（上昇）することにより基板Ｓが基準高さ位置から持ち上げられるとともに、これに連動して姿勢変換装置６０の基板収容ユニット７０が上昇する。そして、このポジション切換えが完了すると、基板収容ユニット４０の第１収容部４０Ａから基板収容ユニット６０の第１収容部７０Ａへと基板Ｓが搬送され、この搬送が完了すると、姿勢変換装置３０の基板収容ユニット４０が第２ポジションから第１ポジションに移動（下降）するとともに、これに連動して姿勢変換装置６０の基板収容ユニット７０が下降し、これによって基板Ｓが基準高さ位置に戻される。こうしてポジションの切換えが完了すると、基板収容ユニット７０の第１収容部４０Ａに収容されている基板Ｓが基準高さ位置においてロボットＲ２により取り出されることとなる。なお、基板収容ユニット４０の第２収容部４０Ｂに受け入れられる基板Ｓについても、上昇と下降が逆になる以外は上記動作に準じて基準高さ位置に戻される。
【００４６】
このように、基板Ｓを姿勢変換前の高さ位置と同じ高さ位置に戻す構成によれば、ロボットＲ２に対する基板Ｓの受け渡しを一定の高さ位置（すなわち基準高さ位置）で行うことができるので、基板Ｓが収容される収容部４０Ａ，４０Ｂに応じてロボットＲ２の高さを切り換える必要が無くなり、その分、ロボットＲ２の制御負担が軽減される。
【００４７】
（２）実施形態の姿勢変換装置３０は、上記のように収容部４０Ａ，４０Ｂを上下二段に設けた構成となっているが、例えば、図５に示すように左右二列、つまり基板搬送方向と直交する方向に横並びに収容部４０Ａ，４０Ｂを配置し、水平方向に延びる固定レール４５に沿って基板収容ユニット４０を移動させるように構成してもよい。このように水平方向に基板収容ユニット４０を移動させる構成によれば、姿勢変換装置３０を上下方向にコンパクト化できるという利点がある。但し、姿勢変換装置３０のスペース効率（占有床面積の削減）を考慮すれば上記実施形態の構成の方が有利となるため、いずれの構成を採用するかは、基板処理装置１の具体的な構成や設置可能スペースとに基づき決定すればよい。
【００４８】
なお、このような図５に示す構成の場合にも、姿勢変換装置３０による姿勢変換により水平方向にずれた基板Ｓの位置を元の位置（乾燥室４ｂから姿勢変換室４ｃへ搬入される際の基板Ｓの位置）に戻すための上記例（２）に準じた基板受渡装置を並設するようにしてもよい。
【００４９】
（３）実施形態の姿勢変換装置３０では、図３に示すように、各収容部４０Ａ，４０Ｂをそれらの中央部分で揺動可能に支持しているが、例えば、各収容部４０Ａ，４０Ｂをその一端（図３では左端）で揺動可能に支持するように構成してもよい。すなわち、収容部４０Ａ，４０Ｂを水平状態と傾斜状態とに切り換えることができれば、その具体的な構成は実施形態に限定されるものではない。但し、実施形態のように各収容部４０Ａ，４０Ｂをそれらの中央部分（基板Ｓの中央部分）で揺動させる構成によると、同一斜度であっても、上記のように各収容部４０Ａ，４０Ｂをその一端で揺動可能に支持する構成に比べて、支点（枢軸４４）に対する収容部４０Ａ，４０Ｂの上下方向の変位量（高低差）が小さくなる。そのため、その分、エアシリンダ４９の駆動ストロークも短くて済み、姿勢変換装置３０を上下方向にコンパクト化する上では有利となる。
【００５０】
（４）上記実施形態では、ＬＣＤ用ガラス基板Ｓに対して洗浄・レジスト塗布・露光・現像等の処理を連続して施す基板処理装置１のうちその洗浄部４の部分に本発明に係る姿勢変換装置（同装置を含む基板搬送装置）を適用した例について説明したが、勿論、本発明は、洗浄部４以外の各処理部６〜１２についても適用可能である。
【００５１】
また、上記実施形態では、姿勢変換装置に対して基板を搬入する上流側搬送手段としてローラコンベア（ローラコンベア１５）が設けられる一方、姿勢変換装置の基板を搬送する下流側搬送手段として水平多関節型ロボット（ロボットＲ２）が設けられる場合を例に本発明の適用について説明したが、本発明は、上流側搬送手段として水平多関節型ロボットが設けられる一方、下流側搬送手段としてローラコンベアが設けられる場合にも適用可能であり、上流側および下流側の搬送手段の構成によりその適用が制限されるものではない。
【００５２】
また、上記実施形態では、傾斜姿勢で搬送されてくる基板を水平姿勢に変換して下流側へ搬送する場合を例に、本発明の適用について説明したが、本発明は、これとは逆、つまり傾斜姿勢で搬送されてくる基板を水平姿勢に変換して下流側へ搬送する場合にも、勿論、適用可能である。より一般論としては、互いに異なる第１姿勢と第２姿勢との間での姿勢変換を伴う基板の搬送に適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】本発明が適用される基板処理装置を示す平面模式図である。
【図２】洗浄部（洗浄室、乾燥室および姿勢変換室）の構成を示す模式的側面図である。
【図３】洗浄部（姿勢変換室）に設けられる姿勢変換装置の構成を示す正面図（図２のIII−III線矢視図）である。
【図４】姿勢変換室にさらに基板受渡装置を配備した例を示す洗浄部の模式的側面図である。
【図５】姿勢変換装置の別の構成を示す正面図（図３に対応する図）である。
【符号の説明】
【００５４】
１  基板処理装置
２  インデクサ部
４  洗浄部
４ａ  洗浄室
４ｂ  乾燥室
４ｃ  姿勢変換室
６  レジスト塗布部
８  露光部
１０  現像部
１２  ベーク部
３０  姿勢変換装置
４０  基板収容ユニット
４０ａ  第１収容部
４０ｂ  第２収容部
Ｃ  カセット
Ｒ１〜Ｒ４  ロボット
Ｓ  基板
【図１】
2008053331.tif 000003
【図２】
2008053331.tif 000004
【図３】
2008053331.tif 000005
【図４】
2008053331.tif 000006
【図５】
2008053331.tif 000007