(57)【要約】      （修正有）【課題】ＮａＣｌ含有溶液の膜電解の後処理として、アノード側から得られる消耗したＮａＣｌ含有溶液中の還元可能な成分を還元処理する方法を提供する。【解決手段】ＮａＣｌ電解セルのアノード側から得られる次亜塩素酸塩などの還元可能な成分を含むＮａＣｌ含有溶液を、カソード側に導入しカソード電気化学還元に付すことによって処理するか、または、カソード電気化学還元を行う前、あるいは、電気還元を行った後に、過酸化水素で処理することによって、還元可能成分を除去する方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＮａＣｌ電解セルのアノード側から得られるＮａＣｌ含有溶液であって、還元可能成分を含んで成るＮａＣｌ含有溶液を供すること；および
ＮａＣｌ含有溶液をカソード電気化学還元に付すこと
を含んで成る方法。
【請求項２】
ＮａＣｌ含有溶液を過酸化水素で処理することを更に含んで成る、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
ＮａＣｌ含有溶液をカソード電気化学還元に付す前に過酸化水素で処理する、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
ＮａＣｌ含有溶液をカソード電気化学還元に付した後で過酸化水素で処理する、請求項２に記載の方法。
【請求項５】
ＮａＣｌ含有溶液を過酸化水素水溶液で処理することを更に含んで成る、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
ＮａＣｌ含有溶液をカソード電気化学還元に付す前に過酸化水素水溶液で処理する、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
ＮａＣｌ含有溶液をカソード電気化学還元に付した後で過酸化水素水溶液で処理する、請求項５に記載の方法。
【請求項８】
イオン交換膜またはダイヤフラムで分けられたアノード区画とカソード区画とを備えたセルにおいてカソード電気化学還元を行う、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
カソード電気化学還元を定電流で行う、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
カソード電気化学還元を定電位で行う、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
炭素、グラファイト化炭素、グラファイト、および、貴金属もしくは貴金属酸化物でコーティングされたチタンから成る群から選択される材料をそれぞれ含んで成るアノードおよびカソードを用いてカソード電気化学還元を行う、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
アノード区画とカソード区画とを備えた電解セルで行う還元可能成分のカソード電気化学還元に際して、塩素生成、酸素生成、塩化鉄（ＩＩ）の塩化鉄（ＩＩＩ）への酸化およびそれらの組合せから成る群から選択されるアノード反応がアノード区画で生じる、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
内側表面領域および外側の幾何学的表面領域を有し、内側表面領域が外側の幾何学的表面領域よりも大きいカソードを用いて、カソード電気化学還元を行う、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
内側表面領域が外側の幾何学的表面領域の少なくとも２倍となっている、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
カソード区画を備えた電解セルでカソード電気化学還元を行い、ＮａＣｌ含有溶液のカソード区画における滞留時間が１〜３０分である、請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
ＮａＣｌ含有溶液のカソード区画における滞留時間が１〜１０分である、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
カソード電気化学還元を５〜１００Ａ／ｍ２の電流密度で行う、請求項１に記載の方法。
【請求項１８】
カソード電気化学還元を０．０５〜０．５Ａｈ／ｌの電荷導入量にて行い、ＮａＣｌ含有溶液の塩素含有量が約１００ｍｇ／ｌである、請求項１に記載の方法。
【請求項１９】
還元可能成分の少なくとも８０％をカソード電気化学還元によって還元する、請求項１に記載の方法。
【請求項２０】
還元可能成分の少なくとも８０％をカソード電気化学還元の組合せによって還元し、還元されるべき残りの残留成分を硫黄含有還元剤の添加による化学的な還元で処理する、請求項２に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【背景技術】
【０００１】
常套的に膜電解法は、例えば、塩化ナトリウム含有溶液を電解するために使用される（たとえば、ペーター・シュミッティンガー（Ｐｅｔｅｒ Ｓｃｈｍｉｔｔｉｎｇｅｒ）、塩素、ビレリー（Ｗｉｌｅｙ）−ＶＣＨ  ベラグ（Ｖｅｒｌａｇ）、２０００参照）。分割された電解セルをこの場合に使用することができる。分割セルは、アノードを有するアノード区画とカソードを有するカソード区画からなる。アノード区画およびカソード区画はイオン交換膜によって分けることができる。塩化ナトリウム含有溶液（以後ブラインとも呼ぶ）は、常套的に約３００ｇ／ｌの塩化ナトリウム濃度を有し、セルのアノード区画に導入される。アノードではブライン中の塩素イオンを酸化して塩素を得、次いで、残留塩化ナトリウム濃度が約２００ｇ／ｌとなり消耗した塩化ナトリウム含有溶液（ここではアノードブラインとも呼ぶ）とともに、この塩素をセル外に移送できる。
【０００２】
セルから取り出した消耗したＮａＣｌ含有溶液内の塩化ナトリウムを廃棄しなくてもよいように、溶液を固形塩化ナトリウムを用いて再度濃縮することができる。この際に、不純物、たとえば、カルシウム、鉄、アルミニウムまたはマグネシウム化合物または硫酸塩が、添加される塩化ナトリウムを通じてブラインへと入るので、精製を行わねばならない。常套的にはたとえば、鉄およびアルミニウム不純物を沈殿させ次いで濾過することによって除去している。カルシウムおよびマグネシウムイオンは常套的にイオン交換樹脂によって除去される。沈殿／濾過装置およびイオン交換樹脂を塩素および塩素化合物、次亜塩素酸塩および塩素酸塩から保護するために、これらの強力な酸化剤は一般的に除去しなければならない。このような除去を行うためには、まず、塩素含有アノードブラインの塩素／次亜塩素酸塩濃度が、ｐＨを下げた後で例えばスチームを用いたストリッピングによって低減させられる。このようにして、ＮａＣｌ含有溶液の塩素含有量が１００ｐｐｍ未満となるようにしてもよい。さらに、次亜塩素酸塩と加水分解平衡にある残りの残留塩素を除去するために、化学的還元を、常套的にはたとえば、亜硫酸水素ナトリウムを用いて行う。次いで、ＮａＣｌ溶液を固形塩化ナトリウムを用いて濃縮し、沈殿／濾過処理に付し、カルシウムおよびマグネシウムイオンをイオン交換樹脂によって除去し、溶液を再度電解セルのアノード区画に供給する。
【０００３】
化学的な脱塩素のために亜硫酸水素ナトリウムおよび同様の硫黄含有化合物を用いることの不都合は、亜硫酸水素または硫黄含有化合物との化学的還元の反応生成物として、硫酸塩がＮａＣｌ溶液中に生じることである。この硫酸塩は電気化学的に分解することができないので、ＮａＣｌ含有溶液中に硫酸塩が徐々に蓄積してしまう。最新の高性能イオン交換膜は、比較的高濃度の硫酸塩によってダメージを受ける。ブライン中の過剰に高濃度の硫酸塩はアノード上に酸素の形成を引き起こし、電流効率を低下させ、電解法の経済的実行可能性を損なうことになる。アノードのコーティングへのダメージも生じうる。従って、製造者はＮａＣｌ溶液中の硫酸塩濃度について最大限界値を定めている。ブラインをリサイクルするので、ＮａＣｌ溶液の幾分かを、アノード・コーティングおよび膜等へのダメージを防ぐために、除去して廃棄しなければならない。このように、大量の塩化ナトリウムを失い、このことは電解法の経済的実行可能性および環境適合性に負の効果となる。
【０００４】
生成された硫酸塩によるブライン除去を防ぎ又は低減するために、たとえば、ナノ濾過法またはＤＳＲ法を用いることができる。後者は両性樹脂を用いたクロマトグラフ法であって、この方法を用いて硫酸塩をブラインから除去することができる（たとえば、ビンナッカー・クッフラー（ＷＩＮＮＡＣＫＥＲ ＫＵＥＣＨＬＥＲ）、ヘミッシュ・テクニーク・プロゼッセ・ウント・プロデュクテ（Ｃｈｅｍｉｓｃｈｅ Ｔｅｃｈｎｉｋ Ｐｒｏｚｅｓｓｅ ｕｎｄ Ｐｒｏｄｕｋｔｅ）、第５版、ｖｏｌ．３  アノルガニッシェ・グルンドストッフェ（Ａｎｏｒｇａｎｉｓｃｈｅ Ｇｒｕｎｄｓｔｏｆｆｅ）、ツビッシェンプロドゥクテ（Ｚｗｉｓｃｈｅｎｐｒｏｄｕｋｔｅ）（無機一級材料、中間体）、２００５年、４３８ページ参照）。このような方法は、硫酸塩の形成を防ぐことができず、ブラインから硫酸塩を除去するために、追加の方法工程を必要とする点で不都合である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
一般的に、本発明は、ＮａＣｌ電解セルの半分を占めるアノード側セルから生じたＮａＣｌ含有溶液から塩素を除去する方法に関する。ＮａＣｌ含有溶液中に含まれる塩素は、負の極性を有する電極上で電気化学的処理に付される。
【０００６】
本発明の実施の種々の形態では、ＮａＣｌ溶液の後処理法が提供される。かかるＮａＣｌ溶液の後処理法では、周知の方法よりも著しく少量の硫黄含有還元剤の添加で脱塩素処理を行うことができ、または、かかる硫黄含有還元剤を全く使用しなくても脱塩素処理を行うことができる。本発明の種々実施の形態では、当業界で周知の方法よりも大きく改善された脱塩素法が提供される。
【０００７】
本発明者は、アノードブライン（または陽極液ブライン、anolyte brine）を電気化学脱塩素化に付すことによって、「酸性化および／またはスチームによるストリッピングの後に、硫黄含有化合物を用いたアノードブライン中の塩素の化学的還元で塩素を除去する」ということを完全に又は殆ど行わなくてもよいことを見出した。
【０００８】
本発明では、ＮａＣｌ電解のアノード側から得られるＮａＣｌ含有溶液を後処理として還元処理する方法が提供される。かかる本発明の方法は、ＮａＣｌ含有溶液に含まれる還元可能成分をカソード電気化学還元（cathodic electrochemical reduction）によって還元することを特徴としている。
【０００９】
本発明の実施の形態には、ＮａＣｌ電解セルのアノード側から得られる「還元可能成分を含有するＮａＣｌ含有溶液」を供すること、および、ＮａＣｌ含有溶液にカソード電気化学還元を施すことを含んで成る方法が含まれる。
【００１０】
本発明の方法の種々の実施形態で処理できるＮａＣｌ含有溶液は、特に,薄膜法を用いたＮａＣｌ電解（かかるＮａＣｌ電解では、カソード側にガス拡散電極が用いられている）から生じるＮａＣｌ含有溶液、または、ダイヤフラム法から生じるＮａＣｌ含有溶液である。
【００１１】
本発明の方法を用いると、反応生成物がＮａＣｌ含有溶液中へと入ることなく、溶存塩素、依然存在する次亜塩素酸塩、塩素酸塩および他の還元可能な化合物（例えば三塩化窒素）を除去できる。これにより、著しく少量のＮａＣｌ含有溶液だけが処理されたり、あるいは、除去されて廃棄される。本発明の実施形態の方法を用いて行うＮａＣｌ電解は、経済的な実施可能性および環境適合性の点で著しく改善される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
言葉的および／または内容的に明らかに適していない場合以外は、本明細書で用いられる単数形の用語「１つ（ａ）」および「その（ｔｈｅ）」は、「１以上」および「少なくとも１つ」と同義であり互換的に使用される。したがって、例えば本明細書または特許請求の範囲における「材料（ａ ｍａｔｅｒｉａｌ）」という表現は、単一の材料または１以上の材料を意味し得るものである。更に、全ての数値は、特に明記しない限り、「約」という用語を付して解されるべきである。
【００１３】
本発明の好ましい実施形態では、電気化学還元に付す前または電気化学還元に付した後で、ＮａＣｌ含有溶液を過酸化水素（より好ましくは過酸化水素水溶液）を用いて付加的に化学還元処理する。
【００１４】
また、一般的には、アノード・チャンバーから得られる塩素含有アノードブラインには、塩素の他に、次亜塩素酸塩および塩素酸塩が特に存在している。これらの化合物またはイオンは、カソード電位下のカソード上にて、例えば以下の反応式に従って還元することができる。
カソード: ２Ｃｌ２ + ２ｅ− → ２Ｃｌ−
２ＯＣｌ− + ４Ｈ+ + ２ｅ− → Ｃｌ２ + ２Ｈ２Ｏ
２ＣｌＯ３− + ６Ｈ+ + ４ｅ− → Ｃｌ２ + ３Ｈ２Ｏ
【００１５】
対向電極（セルのアノード）では、たとえば、塩素が塩化ナトリウム含有溶液から生成される。また、アノード上では酸素が発生することが考えられたり、塩化鉄（ＩＩ）が酸化されて塩化鉄（ＩＩＩ）が得られることも考えられる。
【００１６】
例えば、一般に市販されている膜（例えば、デュポン（ＤｕＰｏｎｔ ｄｅ Ｎｅｍｏｕｒｓ）製のデュポン（ＤＵＰＯＮＴ）ＮＸ ９８２または３２４）等のイオン交換膜によって電極区画が分けられていてよい。これによって、アノード液とカソード液とそれらに含まれる成分との混合が防止できると共に、個々の電極で生じる気体の混合を防止できる。
【００１７】
ダイヤフラムを用いて電極区画を分けてもよい。例えばダイヤフラムで電極部を分ける場合には、塩素と水素とから成る混合物等の爆発性混合物が形成されないように、電極区画を不活性にしなければならない。
【００１８】
薄膜またはダイヤフラム法では、高電流密度でのカソード反応時、またはセルの定電流操作時においてカソード・チャンバー中の電解液の滞留時間が過剰な場合、水素が形成されることがある。定電流操作とは、電流強度が固定された操作であって、電圧を調節することによって電流強度を維持することを意味している。従って、定電流操作の場合には、電解はほぼ一定電流強度で行われることによって、セル電圧が調節される。この場合、セル内の電解液の滞留時間が長くなりすぎ、カソードで水素が形成されるといった水電解の二次反応が起こり得る。これを防止するために、カソードの表面領域を、例えば３次元カソードを用いることによって大きくしてもよい。３次元カソードには、例えば、グラファイトベッドや炭素不織布（carbon nonwoven）がある。
【００１９】
尚、電解セルを定電位で操作してもよく、すなわち一定セル電圧に相当する一定電位で操作してもよい。一定電位の操作は、十分に低く選択された電位において、水素を形成することなく上述したような化合物を還元できるといった利益を有する。不都合な点は、非常に高い電流密度を選択できないので、長期の滞留時間を必要とするこであり、および／または、表面積の大きいアノードを用いなければならないことである。
【００２０】
塩化ナトリウム含有溶液から塩素をアノード上で生成させる場合、塩素をＮａＣｌ電解の既存の物質サイクルに供給してもよい。また、酸素をアノードで発生させて利用することもできる。
【００２１】
電解セルがダイヤフラムを備える場合であって、ブラインをアノード液として用いて塩素を生成させる場合、カソード液がアノード・チャンバーに入る一方、塩素含有アノード液がカソード・チャンバーに入らないように、カソード・チャンバー内の圧力は、好ましくはアノード・チャンバー内の圧力より高くなければならない。カソード・チャンバー内の圧力がアノード・チャンバー内の圧力より低いと、塩素含有アノード液がカソード液内に入ることになるが、その場合、塩素をカソード液から除去しなければならないので、望ましくない。
【００２２】
使用するアノード材料は、例えば、ＮａＣｌ電解のアノード用の標準的な材料である。例えば、アノード材料は、貴金属または貴金属酸化物を含んだコーティングを備えたチタンである。尚、このような材料はカソード材料としても使用することができる。一般的に、「塩素を含んだ溶液」および「塩化ナトリウムを含んだ溶液」に対して耐性を有する材料を使用してもよい。本明細書にいう「貴金属」とは、特に、オスミウム、イリジウム、白金、ルテニウム、ロジウムおよびパラジウムから成る群から選択される金属である。
【００２３】
カソード材料としては、炭素、グラファイト化炭素（graphitized carbon）および／またはグラファイトを使用することができる。尚、種々の形状を有する電極をグラファイト化炭素および／またはグラファイトから製造することができる。
【００２４】
塩素の大部分が次亜塩素酸塩として存在する場合、電解液のｐＨ値は、好ましくは、十分な材料強度が達成されるように選択してよい。かかる場合、ｐＨ７よりも大きいｐＨ値が好ましい。しかしながら、次亜塩素酸塩として「溶解した形態の塩素」があまり存在しない場合、ｐＨ値は７未満であってもよい。
【００２５】
各々のｐＨ調節はさらなる消費をもたらすので、未処理の塩素含有アノード液を、電気化学的塩素還元のために、ＮａＣｌ電解アノード・チャンバーから直接的にカソード・チャンバーへと導入することが好ましい。
【００２６】
塩素、次亜塩素酸塩、塩素酸塩または三塩化窒素などの非常に低い濃度の化合物を還元する必要があるので、選択されるカソードにおける局所的電流密度が非常に小さいことは有益である。それゆえ、カソードとして表面積の大きい電極を用いてもよい。大きい表面積を有するカソードには、その内側表面領域（または内部の表面積、internal surface area）が外側の幾何学的表面領域（または外部の幾何学的表面積、external geometric surface area）よりも大きいカソードが含まれ、好ましくは内側表面領域が外側の幾何学的表面領域よりも少なくとも２倍大きいカソードが含まれるものと理解されたい。
【００２７】
たとえば、フォーム構造（または発泡構造）を有する金属電極を用いてもよい。例えば、チタンスポンジ、焼結チタン電極、または球体金属、グラファイトまたはフォーム状グラファイト、貴金属でコーティングされたグラファイト、織られた炭素布帛、炭素布、または、炭素不織布からなる金属電極を使用してもよい。
【００２８】
金属電極は、好ましくは、貴金属、貴金属酸化物、貴金属化合物またはそれらの混合物でコーティングされていてよい。同様に、好ましくはグラファイト電極は貴金属、貴金属酸化物、貴金属化合物またはそれらの混合物を含んでいてもよい。
【００２９】
ＮａＣｌ含有溶液の滞留時間は、２Ｈ２Ｏ + ２ｅ− → Ｈ２ + ２ＯＨ−のような水の還元が開始することなく、全ての還元可能化合物ができるだけ還元されるように好ましくは調節される。
【００３０】
カソード区画における滞留時間は、好ましくは約１〜３０分であり、より好ましくは１〜１０分である。
【００３１】
真の表面積に基づいて算出される電流密度は、好ましくは、約５〜１００Ａ／ｍ２である。アノードブラインの塩素含有量が１００ｍｇ／ｌの場合に導入される電荷量は、０．０５〜０．５Ａｈ／ｌ（アノードブライン）に相当する。水素の発生が併発反応（parallel reaction）として起こる場合には、著しく多量の電荷が必要である。
【００３２】
新規の方法のさらに好ましい別の実施形態は、ＮａＣｌ電解アノード・チャンバーで得られるＮａＣｌ含有溶液に過酸化水素を添加して追加処理をする形態である。例えば亜硫酸ナトリウムまたは亜硫酸水素ナトリウムの添加と比べると、過酸化水素を添加することの利点は、化学還元時にＮａＣｌ含有溶液中に硫酸塩が形成されないことである（わずかに水が形成される）。過酸化水素の添加を使用する場合、未反応な塩素、塩素酸塩または次亜塩素酸塩（および／または場合によっては過剰の過酸化水素）は、ＮａＣｌ加水分解の下流に接続されたカソード・チャンバーの電気化学セルにて還元される。過酸化水素の添加量は、「還元されるべき化合物」の酸化還元反応当量になるたけ相当する量が好ましい。たとえば、酸化還元反応当量に対して０．９５部不足していたり、あるいは、１．２部過剰であってもよい。不足する方が好ましい。
【００３３】
塩素含有アノード液に対して過酸化水素を例えばポンプによって供給し、例えばパイプ内のスタティック・ミキサーで混合が生じてもよい。このように処理された溶液は次に電気化学的に還元されることになる。過剰の過酸化水素は好ましくは還元されるので、他の還元可能化合物はそのまま存在している。
【００３４】
本発明の方法の同様に実行可能な好ましい実施形態では、まず、存在する塩素の大部分、即ち、存在する塩素の少なくとも８０％、好ましくは少なくとも９０％、特に好ましくは少なくとも９５％のみを電気化学的に還元し、次に残りの塩素、塩素酸塩および次亜塩素酸塩を、例えば亜硫酸ナトリウムまたは過酸化水素の添加による常套的な化学還元によって処理する。このようにすると、ブラインのバージ量が先行技術よりも著しく低減する。
【００３５】
次に、以下の例示的な実施例を参照することによって本発明を更に詳細に説明する。
【実施例】
【００３６】
塩素、塩素酸塩および次亜塩素酸塩の還元のために以下の実施例で使用した電解セルは、アノードを有するアノード区画と、カソードを有するカソード区画とから構成されている。カソードは、グラファイト層および電流ディストリビューターで形成されている。アノード区画のアノード材料およびカソード区画の電流ディストリビューターの材料は、貴金属酸化物、いわゆるデノラ（Ｄｅｎｏｒａ）製の標準ＤＳＡ（登録商標）コーティングでコーティングされたチタンエキスパンデッド金属から成る。アノードまたは電流ディストリビューターを有するアノード区画またはカソード区画の容積は２３０ｍｌである。
【００３７】
電解液をアノード区画とカソード区画との両方に下側から導入し上側から排出させた。
【００３８】
デュポンから市販されているイオン交換膜デュポン３２４またはナフイオン（Ｎａｆｉｏｎ）９８２によってアノード区画とカソード区画とが分けられている。膜面積は１００ｃｍ２である。
【００３９】
２０４ｇ／ｌのＮａＣｌ濃度を有するＮａＣｌ含有溶液を１．０ｌ／ｈの体積流量でもってアノード区画に導入した。
【００４０】
処理すべきブラインはＮａＣｌ電解のアノード区画から常套的に排出でき、カソード区画へと導入した。組成は次の通りであった。ＮａＣｌ含有量が約２００ｇ／ｌ、ｐＨ値が約４であり、塩素含有量が約４００〜４５０ｍｇ／ｌであった。
【００４１】
かかる実施例では、カソード区画のカソード（２ｍｍの平行直径を有するグラファイトボールのグラファイトベッドから成るカソード）上で水素は発生しなかった。これは、測定によってモニタリングすることから分かった。
（実施例１）
【００４２】
デュポンのナフイオン９８２イオン交換膜を備えた上記セルにおいて、塩素を含有する「ＮａＣｌが消費されるアノードブライン」を、１．０ｌ／ｈの体積流量でＮａＣｌ電解から４２２ｍｇ／ｌの塩素含有量を有するカソード区画へと入れた。カソード区画はグラファイトボールで満たされており、グラファイトボールの体積を差し引いた後のカソード区画の残りの体積は１６０ｍｌであった。カソード区画における「処理すべきブラインの滞留時間」は５．６分であった。電圧は１．７２Ｖであり、電流強度は０．８Ａであった。カソード区画の流出時の塩素濃度は約８９ｍｇ／ｌであった。アノードブラインのｐＨ値はｐＨ４であった。０．４８Ａｈ／ｌ（ブライン）の電荷を導入した。使用したグラファイトボールの全表面積における電流密度は８．５Ａ／ｍ２であった。
（実施例２）
【００４３】
１５２２ｍｇ／ｌ相当の塩素含有量およびｐＨ値１０を有する別のＮａＣｌ電解からの塩素含有アノードブラインを「デュポンのナフイオン３２４イオン交換膜を備えた上記セル」に１．０ｌ／ｈでもって導入した。カソード区画はグラファイトボールで満たされており、グラファイトボールの体積を差し引いた後のカソード区画の残りの体積はちょうど９５ｍｌであった。還元すべきＮａＣｌブラインの滞留時間は５．７分であった。セル電圧は２．３３Ｖであり、電流強度は１．５Ａであった。カソード区画の流出時の塩素濃度は約１１３ｍｇ／ｌであった．使用したグラファイトボールの全表面積における電流密度は９．７Ａ／ｍ２であった。
（実施例３）
【００４４】
４２２ｍｇ／ｌ相当の塩素含有量とｐＨ値４を有するＮａＣｌ電解からの塩素含有アノードブラインを「１．１ｌ／ｈでデュポンのナフイオン９８２イオン交換膜を備えた上記セル」へと導入した。カソード区画はグラファイトボールで満たされており、グラファイトボールの体積を差し引いた後のカソード区画の残りの体積は９５ｍｌであった。カソード区画における「還元すべきブラインの滞留時間」は５．３分であった。セル電圧は１．７２Ｖであり、電流強度は０．８Ａであった。カソード区画の流出時の塩素濃度は１ｍｇ／ｌ未満であった。使用したグラファイトボールの全表面積における電流密度は５．２Ａ／ｍ２であった。
【００４５】
広範な本発明の概念から逸脱することなく、上述の実施形態に対して変更を加えることができることは当業者に明らかであろう。従って、本発明は、開示した特定の実施形態に限定されず、特許請求の範囲で規定されるような本発明の意図および範囲内において変更を行うことができるものである。
【外国語明細書】
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