(57)【要約】【課題】液晶セルを正確に光学的に補償し、高いコントラストと黒表示時の視角方向に依存した色ずれを抑制し、且つ、環境湿度の変化に対してＲｅ、Ｒｔｈの変動が十分に小さな偏光板用途の光学補償フィルム、及びそれを用いた偏光板、並びに液晶表示装置の提供。【解決手段】少なくとも、一分子内に複数の水素結合性基を有する化合物Ａと、一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で表される化合物Ｂの少なくともいずれかとを含有することを特徴とする光学補償フィルム等である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも、一分子内に複数の水素結合性基を有する化合物Ａと、下記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）の少なくともいずれかで表される化合物Ｂとを含有することを特徴とする光学補償フィルム。
ただし、下記一般式（Ｉ）において、Ｒ１２は、各々独立に、オルト位、メタ位及びパラ位の少なくともいずれかに置換基を有する芳香族環又は複素環を表す。また、Ｘ１１は、各々独立に、単結合又は−ＮＲ１３−を表す。ここで、Ｒ１３は、各々独立に、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、アリール基又は複素環基を表す。
また、下記一般式（ＩＩ）中、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、及びＲ９は各々独立して、水素原子又は置換基を表す。
また、下記一般式（ＩＩＩ）中、Ｑ７１は含窒素芳香族ヘテロ環、Ｑ７２は芳香族環を表す。
【化１】
2008089855.tif 000043
【化２】
2008089855.tif 000044
【化３】
2008089855.tif 000045
【請求項２】
下記式（１）〜（６）を満たす請求項１に記載の光学補償フィルム。
１０ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜１００ｎｍ・・・・・・・・・・・・・式（１）
１００ｎｍ＜Ｒｔｈ（５５０）＜２００ｎｍ・・・・・・・・・・・式（２）
０．５≦Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．０・・・・・・・・式（３）
１．０≦Ｒｅ（６３０）／Ｒｅ（５５０）≦１．５・・・・・・・・式（４）
１．０≦Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）≦１．５・・・・・・式（５）
０．５≦Ｒｔｈ（６３０）／Ｒｔｈ（５５０）≦１．０・・・・・・式（６）
ただし、上記式（１）〜式（６）中、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍの光に対する前記光学補償フィルムのレターデーション値であり、Ｒｔｈ（λ）は、波長λｎｍの光に対する前記光学補償フィルムの厚さ方向のレターデーション値である。
【請求項３】
化合物Ａが、母核として１〜２個の芳香族環を含有する請求項１から２のいずれかに記載の光学補償フィルム。
【請求項４】
化合物Ａが、下記式（７）を満たす請求項１から３のいずれかに記載の光学補償フィルム。
（一分子内の水素結合性基数／化合物の分子量）＞０．０１・・・・・・・式（７）
【請求項５】
化合物Ａの分子量が、１３０以上５００以下である請求項１から４のいずれかに記載の光学補償フィルム。
【請求項６】
化合物ＢのＣｌｏｇＰ値が、１５以下である請求項１から５のいずれかに記載の光学補償フィルム。
【請求項７】
セルロースアシレートを含む請求項１から６のいずれかに記載の光学補償フィルム。
【請求項８】
セルロースアシレートが、下記式（８）、及び式（９）を満たす請求項７に記載の光学補償フィルム。
２．０≦ＳＡ＋ＳＢ≦３．０・・・・・・・・・・式（８）
０＜ＳＢ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・式（９）
ただし、式（８）、及び式（９）において、ＳＡは、セルロースの水酸基の水素原子を置換しているアセチル基の置換度であり、ＳＢは、セルロースの水酸基の水素原子を置換している炭素原子数３〜２２のアシル基の置換度である。
【請求項９】
ハイブリッド配向したディスコティック化合物層が形成された請求項１〜８に記載の光学補償フィルム。
【請求項１０】
偏光膜の少なくとも片側に請求項１から９のいずれかに記載の光学補償フィルムを有することを特徴とする偏光板。
【請求項１１】
液晶セル、及び請求項１０に記載の偏光板を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１２】
液晶セルが、ＯＣＢ方式、及びＶＡ方式である請求項１１に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学補償フィルム、偏光板、及び液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、液晶セル及び偏光板を有する。前記偏光板は、一般的にセルロースアセテートからなる保護フィルム及び偏光膜を有し、例えば、ポリビニルアルコールフィルムからなる偏光膜をヨウ素にて染色し、延伸を行い、その両面を保護フィルムにて積層して得られる。
透過型液晶表示装置では、偏光板を液晶セルの両側に取り付け、更には一枚以上の光学補償フィルムを配置することもある。
反射型液晶表示装置では、通常、反射板、液晶セル、一枚以上の光学補償フィルム、偏光板の順に配置する。
液晶セルは、液晶性分子、それを封入するための二枚の基板及び液晶性分子に電圧を加えるための電極層からなる。
液晶セルは、液晶性分子の配向状態の違いで、ＯＮ、ＯＦＦ表示を行い、透過及び反射型いずれにも適用できる、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）のような表示モードが提案されている。
【０００３】
前記光学補償フィルムは、画像着色の解消、視野角拡大のために、様々な液晶表示装置で用いられている。この光学補償フィルムとして透明支持体上にディスコティック液晶の配向を固定した光学異方性層を有するフィルムが、特許文献１〜８に開示されている。
【０００４】
また近年、液晶テレビの需要増に伴い、更なる表示品位の向上が望まれる中、大きな課題であった斜めから見た際に生じる色ずれの問題が光学補償フィルムの波長分散を制御することで解決できることがシミュレーションにより明らかにされている。（特許文献９）
【０００５】
一方、偏光膜の両側に用いる前記透明保護や前記光学補償フィルムの透明支持体として広く用いられているセルロースアシレートフィルムは、アシル基種、置換量にもよるが、環境の湿度に依存してＲｅやＲｔｈの絶対値が大きく変動する傾向があり、液晶表示装置に適用された際のパネルの色味や視野角が湿度変化に対して変動する原因の一つとして指摘され、解決が望まれている。
【０００６】
特許文献１〜９に記載の技術において、このような問題を解決する対策は講じられていなかった。
セルロースアシレートの湿度依存性抑制に関して、特許文献１０には、湿式延伸によりＲｅの湿度変化率（２５℃、６０％ＲＨから２５℃、１０％ＲＨでの変化を５０で除した値）が２ｎｍ／％ＲＨ以下（実施例：〜０．１ｎｍ／％ＲＨ）に制御した光学補償フィルムが開示されている。
しかしながら、上記の特性は９０℃の温水、或いは１２０℃の蒸気中で未延伸フィルムの降伏応力をある設定領域に調整することが必須であるため、製造工程が煩雑になり、また、制御も困難である。
また、特許文献１１には、脂肪族多価アルコールエステル等をスタビライザーとして添加することでＲｅ及びＲｔｈの湿度変化率（２３℃、５５％ＲＨにおけるＲｅ又はＲｔｈの値を基準として１５〜８０％ＲＨでの変動幅）を５％未満に制御した高分子フィルムが開示されている。
しかしながら、上記特許文献で効果が明記されている添加剤は単価が高く、フィルムとしてのコストの観点で許容できるものではなかった。
また、セルローストリアセテート（酢化度＝６０．８％）に１２質量％添加したところ、未延伸フイルム（膜厚＝８０μｍ）でのＲｔｈの２５℃、湿度変化（２５℃、６０％ＲＨから２５℃、１０％ＲＨでの変化）が２５ｎｍであることが実験で確認され、湿度依存性の改良効果として不十分であることが明らかになった。
【０００７】
したがって、環境湿度の変化に対してＲｅ、Ｒｔｈの変動が十分に小さく、且つ、製造工程が煩雑でない偏光板用途の透明保護フィルムや光学補償フィルム、及びそれを用いた偏光板、液晶表示装置を得るための技術開発が強く望まれているのが現状である。
【０００８】
【特許文献１】特許第２６４００８３号明細書
【特許文献２】特許第２５８７３９８号明細書
【特許文献３】特許第３１１８１９７号明細書
【特許文献４】国際公開第９６／３７８０４号パンフレット
【特許文献５】国際公開第９６／３１７９３号パンフレット
【特許文献６】特開平１１−３１６３７８号公報
【特許文献７】特開平９−２１９１４号公報
【特許文献８】特開２００５−３７９０４号公報
【特許文献９】特開２００６−５３４２９号公報
【特許文献１０】特開２００３−２１５３３７号公報
【特許文献１１】特開２００５−１０６９２９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、従来における前記問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、液晶セルを正確に光学的に補償し、高いコントラストと黒表示時の視角方向に依存した色ずれを抑制し、且つ、環境湿度の変化に対してＲｅ、及びＲｔｈの変動が十分に小さな偏光板用途の光学補償フィルム、偏光板、及び液晶表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
前記課題を解決するための手段は、以下の通りである。即ち、
＜１＞  少なくとも、一分子内に複数の水素結合性基を有する化合物Ａと、下記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）の少なくともいずれかで表される化合物Ｂとを含有することを特徴とする光学補償フィルムである。
ただし、下記一般式（Ｉ）において、Ｒ１２は、各々独立に、オルト位、メタ位及びパラ位の少なくともいずれかに置換基を有する芳香族環又は複素環を表す。また、Ｘ１１は、各々独立に、単結合又は−ＮＲ１３−を表す。ここで、Ｒ１３は、各々独立に、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、アリール基又は複素環基を表す。
また、下記一般式（ＩＩ）中、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、及びＲ９は各々独立して、水素原子又は置換基を表す。
また、下記一般式（ＩＩＩ）中、Ｑ７１は含窒素芳香族ヘテロ環、Ｑ７２は芳香族環を表す。
【化４】
2008089855.tif 000002
【化５】
2008089855.tif 000003
【化６】
2008089855.tif 000004
＜２＞  下記式（１）〜（６）を満たす前記＜１＞に記載の光学補償フィルムである。
１０ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜１００ｎｍ・・・・・・・・・・・・・式（１）
１００ｎｍ＜Ｒｔｈ（５５０）＜２００ｎｍ・・・・・・・・・・・式（２）
０．５≦Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．０・・・・・・・・式（３）
１．０≦Ｒｅ（６３０）／Ｒｅ（５５０）≦１．５・・・・・・・・式（４）
１．０≦Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）≦１．５・・・・・・式（５）
０．５≦Ｒｔｈ（６３０）／Ｒｔｈ（５５０）≦１．０・・・・・・式（６）
ただし、上記式（１）〜式（６）中、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍの光に対する前記光学補償フィルムのレターデーション値であり、Ｒｔｈ（λ）は、波長λｎｍの光に対する前記光学補償フィルムの厚さ方向のレターデーション値である。
＜３＞  下記式（ｃ）〜下記式（ｄ）を満たす前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の光学補償フィルムである。
ただし、下記式（ｃ）〜下記式（ｄ）において、Ｒｅ（１０％ＲＨ）は、光学補償フィルムを構成する透明支持体を、２５℃１０％湿度環境下で光学特性が十分変化するまで調湿したときの面内方向のレターデーション値であり、Ｒｅ（８０％ＲＨ）は、光学補償フィルムを構成する透明支持体を、２５℃８０％湿度環境下で光学特性が十分変化するまで調湿したときの面内方向のレターデーション値であり、Ｒｔｈ（１０％ＲＨ）は、光学補償フィルムを構成する透明支持体を、２５℃１０％湿度環境下で光学特性が十分変化するまで調湿したときの厚さ方向のレターデーション値であり、、及びＲｔｈ（８０％ＲＨ）は、光学補償フィルムを構成する透明支持体を、２５℃１０％湿度環境下で光学特性が十分変化するまで調湿したときの厚さ方向のレターデーション値である。
０ｎｍ＜Δ（Ｒｅ（１０％ＲＨ）−Ｒｅ（８０％ＲＨ））＜１５ｎｍ・・・・式（ｃ）
０ｎｍ＜Δ（Ｒｔｈ（１０％ＲＨ）−Ｒｔｈ（８０％ＲＨ））＜１５ｎｍ・・・式（ｄ）
＜４＞  化合物Ａが、母核として、１〜２個の芳香族環を含有する前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の光学補償フィルムである。
＜５＞  化合物Ａが、下記式（７）を満たす前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の光学補償フィルムである。
（一分子内の水素結合性基数／化合物の分子量）＞０．０１・・・・・・・式（７）
＜６＞  化合物Ａの分子量が、１３０以上５００以下である前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載の光学補償フィルムである。
＜７＞  化合物ＢのＣｌｏｇＰ値が、１５以下である前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載の光学補償フィルムである。
＜８＞  セルロースアシレートを含む前記＜１＞から＜７＞のいずれかに記載の光学補償フィルムである。
＜９＞  セルロースアシレートが、下記式（８）、及び式（９）を満たす前記＜８＞に記載の光学補償フィルムである。
２．０≦ＳＡ＋ＳＢ≦３．０・・・・・・・・・・式（８）
０＜ＳＢ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・式（９）
ただし、式（８）、及び式（９）において、ＳＡは、セルロースの水酸基の水素原子を置換しているアセチル基の置換度であり、ＳＢは、セルロースの水酸基の水素原子を置換している炭素原子数３〜２２のアシル基の置換度である。
＜１０＞  ハイブリッド配向したディスコティック化合物層が形成された前記＜１＞から＜９＞のいずれかに記載の光学補償フィルムである。
＜１１＞  偏光膜の少なくとも片側に、前記＜１＞から＜１０＞のいずれかに記載の光学補償フィルムを有することを特徴とする偏光板である。
＜１２＞  液晶セル、及び前記＜１１＞に記載の偏光板を有することを特徴とする液晶表示装置である。
＜１３＞  液晶セルが、ＯＣＢ方式、及びＶＡ方式である前記＜１２＞に記載の液晶表示装置である。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によると、液晶セルを正確に光学的に補償し、高いコントラストと黒表示時の視角方向に依存した色ずれを抑制し、且つ、環境湿度の変化に対してＲｅ、Ｒｔｈの変動が十分に小さな偏光板用途の光学補償フィルム、及びそれを用いた偏光板、液晶表示装置を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下に、本発明に係る光学補償フィルム、偏光板、及び液晶表示装置について詳細に説明する。
なお、本実施形態の説明において、「４５゜」、「平行」あるいは「直交」とは、厳密な角度±５゜未満の範囲内であることを意味する。厳密な角度との誤差は、４゜未満であることが好ましく、３゜未満であることがより好ましい。また、角度について、「＋」は時計周り方向を意味し、「−」は反時計周り方向を意味するものとする。また、「遅相軸」は、屈折率が最大となる方向を意味する。また、「可視光領域」とは、３８０〜７８０ｎｍのことをいう。更に、屈折率の測定波長は、特別な記述がない限り、可視光域（λ＝５５０ｎｍ）での値である。
【００１３】
また、本実施形態の説明において「偏光板」とは、特別な記述がない限り、長尺の偏光板、及び液晶装置に組み込まれる大きさに裁断された偏光板の両者を含む意味で用いている。なお、ここでいう「裁断」には「打ち抜き」及び「切り出し」等も含むものとする。
また、本実施形態の説明では、「偏光膜」と「偏光板」とを区別して用いるが、「偏光板」は「偏光膜」の少なくとも片面に該偏光膜を保護する透明保護膜を有する積層体のことを意味するものとする。
【００１４】
また、本実施形態の説明において「分子対称軸」とは、分子が回転対称軸を有する場合は、当該対称軸を指すが、厳密な意味で、分子が回転対称性であることを要求するものではない。
一般的に、円盤状液晶性化合物において、分子対称軸は、円盤面の中心を貫く円盤面に対して垂直な軸と一致し、棒状液晶性化合物において、分子対称軸は、分子の長軸と一致する。
【００１５】
また、本明細書において、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は、各々、波長λにおける面内のレターデーション、及び厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ、又はＷＲ（王子計測機器（株）製）において、波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。
測定されるフィルムが、１軸又は２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）が算出される。
Ｒｔｈ（λ）は、前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ、又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合には、フィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０°まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ、又はＷＲが算出する。
なお、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合には、フィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値、及び入力された膜厚値を基に、以下の式（Ａ）、及び式（Ｂ）よりＲｔｈを算出することもできる。
【００１６】
2008089855.tif 000005
・・・・・・式（Ａ）
【００１７】
なお、上記のＲｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値をあらわす。
また、式（Ａ）におけるｎｘは、面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは、面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚは、ｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。
【００１８】
Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ・・・・・・・・・・・式（Ｂ）
【００１９】
測定されるフィルムが、１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ  ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法により、Ｒｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は、前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ、又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として、フィルム法線方向に対して−５０°から＋５０°まで１０°ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
また、上記の測定において、平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ  ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについては、アッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ又はＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ，ｎｙ，ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。
【００２０】
（光学補償フィルム）
本発明の光学補償フィルムとは、偏光板の透明保護フィルムの片側として用いることができるが、特に積極的に光学補償機能を付与したもの（例えば、Ｒｅ、Ｒｔｈを発現する添加物を含有したり、延伸によりＲｅ、Ｒｔｈを発現させたり、更に光学異方性層を積層したもの）として定義する。
【００２１】
＜透明支持体＞
本発明の光学補償フィルムを構成する透明支持体は、透明樹脂材料（以下、「透明樹脂」という。）と、後述の特定の添加物（化合物Ａ）と、レターデーション制御剤とを含有し、必要に応じて、その他の添加剤が含まれてもよい。
本発明の光学補償フィルムを構成する透明支持体としては、光透過率が８０％以上であるのが好ましい。
【００２２】
＜＜透明樹脂＞＞
前記透明支持体を形成する透明樹脂としては、セルロースアシレート類が挙げられる。また、前記透明樹脂を延伸することによって、光学異方性を得る。
本発明に用いられるセルロースアシレート原料のセルロースとしては、綿花リンター、ケナフ、木材パルプ（広葉樹パルプ、針葉樹パルプ）などがあり、いずれの原料セルロースから得られるセルロースアシレートでも使用でき、場合により、これらを混合して使用してもよい。
本発明においてはセルロースからエステル化してセルロースアシレートを作製するが、特に好ましい前述のセルロースがそのまま利用できる訳ではなく、リンター、ケナフ、パルプを精製して用いられる。
【００２３】
本発明において、セルロースアシレートとは、セルロースの脂肪酸エステルのことである。特にセルロースの低級脂肪酸エステルが更に好ましい。
低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味する。炭素原子数は、２（セルロースアセテート）、３（セルロースプロピオネート）、又は４（セルロースブチレート）であることが好ましい。
セルロースアシレートとしては、セルロースアセテートが好ましく、その例としては、ジアセチルセルロース及びトリアセチルセルロースなどが挙げられる。
また、セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いることも好ましい。
【００２４】
本発明に用いられるセルロースアシレートは、セルロースの水酸基への置換度が下記式（８）〜式（１０）を満足するものが、溶解性の点で好ましい。
ここで、下記式（８）〜式（１０）において、「ＳＡ」は、セルロースの水酸基の水素原子を置換しているアセチル基の置換度を表し、「ＳＢ」は、セルロースの水酸基の水素原子を置換している炭素原子数３〜２２のアシル基の置換度を表す。「ＳＢ」は、炭素原子数３〜６のアシル基が特に好ましい。
【００２５】
２．０≦ＳＡ＋ＳＢ≦３．０・・・・・・・・・・・・式（８）
０＜ＳＢ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・式（９）
０≦ＳＡ＜３．０・・・・・・・・・・・・・・・・・式（１０）
【００２６】
また、一般に、セルロースアシレートの２，３，６の水酸基は、全体の置換度の１／３ずつに均等に分配されるわけではなく、６位水酸基の置換度が小さくなる傾向がある。
本発明では、セルロースアシレートの６位水酸基の置換度が、２，３位に比べて同程度、若しくは、多いほうが好ましい。
全体の置換度に対して６位の水酸基が、３０％以上４０％以下のアシル基で置換されていることが好ましく、３１％以上のアシル基で置換されていることが更に好ましく、３２％以上のアシル基で置換されていることが特に好ましい。
また、６位の水酸基は、アセチル基以外に炭素数３以上のアシル基であるプロピオニル基、ブチロイル基、バレロイル基、ベンゾイル基、アクリロイル基などで置換されていてもよい。なお、各位置の置換度の測定は、ＮＭＲ法などによって求めることができる。
【００２７】
本発明の透明支持体に用いられる透明樹脂としては、特に、アセチル基置換度が２．０〜３．０のセルローストリアセテート、又は、全アシル基置換度が２．０〜２．７、アセチル基置換度が１．０〜２．０、プロピオニル基置換度が０．５〜１．５のセルロースアセテートプロピオネートの何れかがが好ましい。
また、セルロースアシレートの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることが更に好ましい。
また、透明支持体は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法により測定される多分散性指数（Ｍｗ／Ｍｎ）が小さく、分子量分布が狭いことが好ましい。
なお、Ｍｗは質量平均分子量を示し、Ｍｎは数平均分子量を示す。
具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜５．０であることが好ましく、１．０〜３．０であることが更に好ましく、１．０〜１．７であることが最も好ましい。
【００２８】
＜＜化合物Ａ＞＞
本発明の透明支持体には、環境湿度の変化に対するＲｅ、及びＲｔｈの変動を低減するための添加剤（化合物Ａ）が含まれている。
前記化合物Ａとしては、一分子中に少なくとも複数の水素結合性基を有する化合物が好ましく、水素結合性基としては、水酸基、アミノ基、チオール基、カルボン酸基、から選ばれることがより好ましく、水酸基とカルボン酸基から選ばれることが特に好ましい。
また、一分子内に複数の異なる官能基を有することが好ましい。
化合物Ａは、母核として、１〜２個の芳香族環を含有することが好ましく、一分子中に含有する前記官能基の数を、添加剤の分子量で割った値が、０．０１以上であることが好ましい。
これらの特徴は、セルロースアシレート樹脂と水分子とが相互作用（水素結合）する部位に上記化合物Ａが結合（水素結合）し、水分子の脱着による電荷分布の変化を抑制するように作用するためと推定しているが、詳細は不明である。
【００２９】
化合物Ａの具体例としては、下記に示す化合物（Ａ−１）〜（Ａ−１７）が例示できるが、これらに限定するものではない。
【００３０】
【化７】
2008089855.tif 000006
【００３１】
更に、化合物Ａの分子量が、１３０以上５００以下であることが好ましい。分子量が１３０未満では、揮散性が不十分となり、５００以上では溶媒への溶解性、セルロースアシレート樹脂との相溶性が悪化する。
このような条件を満たす化合物Ａの具体例としては、下記に示す化合物（Ａ−１８）〜（Ａ−４２）が例示できるが、これらに限定するものではない。
【００３２】
【化８】
2008089855.tif 000007
【００３３】
【化９】
2008089855.tif 000008
【００３４】
【化１０】
2008089855.tif 000009
【００３５】
【化１１】
2008089855.tif 000010
【００３６】
＜レターデーション制御剤＞
本発明の光学補償フィルムを構成する透明支持体には、上記化合物Ａに加え、レターデーションを制御する添加剤（以下、レターデーション制御剤ということがある。）が含まれる。
該レターデーション制御剤は、波長２５０ｎｍ以上に少なくとも１つの吸収極大を有することが好ましく、２５０以上３６０ｎｍ以下に少なくとも１つの吸収極大を有することがより好ましく、３００以上３５５ｎｍ以下に少なくとも１つの吸収極大を有することが更に好ましい。
【００３７】
また、前記レターデーション制御剤は、少なくとも二つの芳香族環を有する化合物が好ましい。
【００３８】
また、前記レターデーション制御剤は、下記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で表される化合物から選ばれることが好ましい。
【００３９】
【化１２】
2008089855.tif 000011
【００４０】
上記一般式（Ｉ）において、Ｒ１２は、各々独立に、オルト位、メタ位及びパラ位の少なくともいずれかに置換基を有する芳香族環又は複素環を表す。
また、Ｘ１１は、各々独立に、単結合又はＮＲ１３−を表す。ここで、Ｒ１３は、各々独立に、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、アリール基又は複素環基を表す。
【００４１】
Ｒ１２が表す芳香族環は、フェニル又はナフチルであることが好ましく、フェニルであることが特に好ましい。Ｒ１２が表す芳香族環はいずれかの置換位置に少なくとも一つの置換基を有してもよい。前記置換基の例には、ハロゲン原子、ヒドロキシル、シアノ、ニトロ、カルボキシル、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルファモイル基、アルキル置換スルファモイル基、アルケニル置換スルファモイル基、アリール置換スルファモイル基、スルオンアミド基、カルバモイル、アルキル置換カルバモイル基、アルケニル置換カルバモイル基、アリール置換カルバモイル基、アミド基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、アリールチオ基及びアシル基が含まれる。
【００４２】
Ｒ１２が表す複素環基は、芳香族性を有することが好ましい。芳香族性を有する複素環は、一般に不飽和複素環であり、最多の二重結合を有する複素環が好ましい。
複素環は、５員環、６員環又は７員環であることが好ましく、５員環又は６員環であることがより好ましく、６員環であることが更に好ましい。
また、複素環のヘテロ原子は、窒素原子、硫黄原子又は酸素原子であることが好ましく、窒素原子であることがより好ましい。芳香族性を有する複素環としては、ピリジン環（複素環基としては、２−ピリジル又は４−ピリジル）が特に好ましい。複素環基は、置換基を有していてもよい。複素環基の置換基の例は、上記アリール部分の置換基の例と同様である。
Ｘ１１が単結合である場合の複素環基は、窒素原子に遊離原子価をもつ複素環基であることが好ましい。窒素原子に遊離原子価をもつ複素環基は、５員環、６員環又は７員環であることが好ましく、５員環又は６員環であることがより好ましく、５員環であることが更に好ましい。複素環基は、複数の窒素原子を有していてもよい。
また、複素環基は、窒素原子以外のヘテロ原子（例、Ｏ、Ｓ）を有していてもよい。以下に、窒素原子に遊離原子価をもつ複素環基の例を示す。
【００４３】
【化１３】
2008089855.tif 000012
【００４４】
上記一般式（Ｉ）中、Ｘ１１は単結合又はＮＲ１３−を表す。Ｒ１３は独立して、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、アリール基又は複素環基を表す。
Ｒ１３が表すアルキル基は、環状アルキル基であっても鎖状アルキル基であってもよいが、鎖状アルキル基が好ましく、分岐を有する鎖状アルキル基よりも、直鎖状アルキル基がより好ましい。アルキル基の炭素原子数は、１〜３０であることが好ましく、１〜２０であることがより好ましく、１〜１０であることが更に好ましく、１〜８が特に好ましく、１〜６であることが最も好ましい。アルキル基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子、アルコキシ基（例えばメトキシ基、エトキシ基）及びアシルオキシ基（例、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基）が含まれる。
【００４５】
Ｒ１３が表すアルケニル基は、環状アルケニル基であっても鎖状アルケニル基であってもよいが、鎖状アルケニル基を表すのが好ましく、分岐を有する鎖状アルケニル基よりも、直鎖状アルケニル基を表すのがより好ましい。アルケニル基の炭素原子数は、２〜３０であることが好ましく、２〜２０であることがより好ましく、２〜１０であることが更に好ましく、２〜８であることが特に好ましく、２〜６であることが最も好ましい。アルケニル基は置換基を有していてもよい。置換基の例には、前述のアルキル基の置換基と同様である。
Ｒ１３が表す芳香族環基及び複素環基は、Ｒ１２が表す芳香族環及び複素環と同様であり、好ましい範囲も同様である。芳香族環基及び複素環基は更に置換基を有していてもよく、置換基の例にはＲ１２の芳香族環及び複素環の置換基と同様である。
【００４６】
以下に、本発明で使用される一般式（Ｉ）で表されるレターデーション制御剤の具体例を示す。各例示化合物中の同一構造式内に示す複数のＲは、同一の基を意味する。Ｒの定義は具体例番号と共に式の後に示す。
【００４７】
【化１４】
2008089855.tif 000013
【００４８】
Ｉ−（１）フェニル
Ｉ−（２）３−エトキシカルボニルフェニル
Ｉ−（３）３−ブトキシフェニル
Ｉ−（４）ｍ−ビフェニリル
Ｉ−（５）３−フェニルチオフェニル
Ｉ−（６）３−クロロフェニル
Ｉ−（７）３−ベンゾイルフェニル
Ｉ−（８）３−アセトキシフェニル
Ｉ−（９）３−ベンゾイルオキシフェニル
Ｉ−（１０）３−フェノキシカルボニルフェニル
Ｉ−（１１）３−メトキシフェニル
Ｉ−（１２）３−アニリノフェニル
Ｉ−（１３）３−イソブチリルアミノフェニル
Ｉ−（１４）３−フェノキシカルボニルアミノフェニル
Ｉ−（１５）３−（３−エチルウレイド）フェニル
Ｉ−（１６）３−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
Ｉ−（１７）３−メチルフェニル
Ｉ−（１８）３−フェノキシフェニル
Ｉ−（１９）３−ヒドロキシフェニル
【００４９】
Ｉ−（２０）４−エトキシカルボニルフェニル
Ｉ−（２１）４−ブトキシフェニル
Ｉ−（２２）ｐ−ビフェニリル
Ｉ−（２３）４−フェニルチオフェニル
Ｉ−（２４）４−クロロフェニル
Ｉ−（２５）４−ベンゾイルフェニル
Ｉ−（２６）４−アセトキシフェニル
Ｉ−（２７）４−ベンゾイルオキシフェニル
Ｉ−（２８）４−フェノキシカルボニルフェニル
Ｉ−（２９）４−メトキシフェニル
Ｉ−（３０）４−アニリノフェニル
Ｉ−（３１）４−イソブチリルアミノフェニル
Ｉ−（３２）４−フェノキシカルボニルアミノフェニル
Ｉ−（３３）４−（３−エチルウレイド）フェニル
Ｉ−（３４）４−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
Ｉ−（３５）４−メチルフェニル
Ｉ−（３６）４−フェノキシフェニル
Ｉ−（３７）４−ヒドロキシフェニル
【００５０】
Ｉ−（３８）３，４−ジエトキシカルボニルフェニル
Ｉ−（３９）３，４−ジブトキシフェニル
Ｉ−（４０）３，４−ジフェニルフェニル
Ｉ−（４１）３，４−ジフェニルチオフェニル
Ｉ−（４２）３，４−ジクロロフェニル
Ｉ−（４３）３，４−ジベンゾイルフェニル
Ｉ−（４４）３，４−ジアセトキシフェニル
Ｉ−（４５）３，４−ジベンゾイルオキシフェニル
Ｉ−（４６）３，４−ジフェノキシカルボニルフェニル
Ｉ−（４７）３，４−ジメトキシフェニル
Ｉ−（４８）３，４−ジアニリノフェニル
Ｉ−（４９）３，４−ジメチルフェニル
Ｉ−（５０）３，４−ジフェノキシフェニル
Ｉ−（５１）３，４−ジヒドロキシフェニル
Ｉ−（５２）２−ナフチル
【００５１】
Ｉ−（５３）３，４，５−トリエトキシカルボニルフェニル
Ｉ−（５４）３，４，５−トリブトキシフェニル
Ｉ−（５５）３，４，５−トリフェニルフェニル
Ｉ−（５６）３，４，５−トリフェニルチオフェニル
Ｉ−（５７）３，４，５−トリクロロフェニル
Ｉ−（５８）３，４，５−トリベンゾイルフェニル
Ｉ−（５９）３，４，５−トリアセトキシフェニル
Ｉ−（６０）３，４，５−トリベンゾイルオキシフェニル
Ｉ−（６１）３，４，５−トリフェノキシカルボニルフェニル
Ｉ−（６２）３，４，５−トリメトキシフェニル
Ｉ−（６３）３，４，５−トリアニリノフェニル
Ｉ−（６４）３，４，５−トリメチルフェニル
Ｉ−（６５）３，４，５−トリフェノキシフェニル
Ｉ−（６６）３，４，５−トリヒドロキシフェニル
【００５２】
【化１５】
2008089855.tif 000014
【００５３】
Ｉ−（６７）フェニル
Ｉ−（６８）３−エトキシカルボニルフェニル
Ｉ−（６９）３−ブトキシフェニル
Ｉ−（７０）ｍ−ビフェニリル
Ｉ−（７１）３−フェニルチオフェニル
Ｉ−（７２）３−クロロフェニル
Ｉ−（７３）３−ベンゾイルフェニル
Ｉ−（７４）３−アセトキシフェニル
Ｉ−（７５）３−ベンゾイルオキシフェニル
Ｉ−（７６）３−フェノキシカルボニルフェニル
Ｉ−（７７）３−メトキシフェニル
Ｉ−（７８）３−アニリノフェニル
Ｉ−（７９）３−イソブチリルアミノフェニル
Ｉ−（８０）３−フェノキシカルボニルアミノフェニル
Ｉ−（８１）３−（３−エチルウレイド）フェニル
Ｉ−（８２）３−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
Ｉ−（８３）３−メチルフェニル
Ｉ−（８４）３−フェノキシフェニル
Ｉ−（８５）３−ヒドロキシフェニル
【００５４】
Ｉ−（８６）４−エトキシカルボニルフェニル
Ｉ−（８７）４−ブトキシフェニル
Ｉ−（８８）ｐ−ビフェニリル
Ｉ−（８９）４−フェニルチオフェニル
Ｉ−（９０）４−クロロフェニル
Ｉ−（９１）４−ベンゾイルフェニル
Ｉ−（９２）４−アセトキシフェニル
Ｉ−（９３）４−ベンゾイルオキシフェニル
Ｉ−（９４）４−フェノキシカルボニルフェニル
Ｉ−（９５）４−メトキシフェニル
Ｉ−（９６）４−アニリノフェニル
Ｉ−（９７）４−イソブチリルアミノフェニル
Ｉ−（９８）４−フェノキシカルボニルアミノフェニル
Ｉ−（９９）４−（３−エチルウレイド）フェニル
Ｉ−（１００）４−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
Ｉ−（１０１）４−メチルフェニル
Ｉ−（１０２）４−フェノキシフェニル
Ｉ−（１０３）４−ヒドロキシフェニル
【００５５】
Ｉ−（１０４）３，４−ジエトキシカルボニルフェニル
Ｉ−（１０５）３，４−ジブトキシフェニル
Ｉ−（１０６）３，４−ジフェニルフェニル
Ｉ−（１０７）３，４−ジフェニルチオフェニル
Ｉ−（１０８）３，４−ジクロロフェニル
Ｉ−（１０９）３，４−ジベンゾイルフェニル
Ｉ−（１１０）３，４−ジアセトキシフェニル
Ｉ−（１１１）３，４−ジベンゾイルオキシフェニル
Ｉ−（１１２）３，４−ジフェノキシカルボニルフェニル
Ｉ−（１１３）３，４−ジメトキシフェニル
Ｉ−（１１４）３，４−ジアニリノフェニル
Ｉ−（１１５）３，４−ジメチルフェニル
Ｉ−（１１６）３，４−ジフェノキシフェニル
Ｉ−（１１７）３，４−ジヒドロキシフェニル
Ｉ−（１１８）２−ナフチル
【００５６】
Ｉ−（１１９）３，４，５−トリエトキシカルボニルフェニル
Ｉ−（１２０）３，４，５−トリブトキシフェニル
Ｉ−（１２１）３，４，５−トリフェニルフェニル
Ｉ−（１２２）３，４，５−トリフェニルチオフェニル
Ｉ−（１２３）３，４，５−トリクロロフェニル
Ｉ−（１２４）３，４，５−トリベンゾイルフェニル
Ｉ−（１２５）３，４，５−トリアセトキシフェニル
Ｉ−（１２６）３，４，５−トリベンゾイルオキシフェニル
Ｉ−（１２７）３，４，５−トリフェノキシカルボニルフェニル
Ｉ−（１２８）３，４，５−トリメトキシフェニル
Ｉ−（１２９）３，４，５−トリアニリノフェニル
Ｉ−（１３０）３，４，５−トリメチルフェニル
Ｉ−（１３１）３，４，５−トリフェノキシフェニル
Ｉ−（１３２）３，４，５−トリヒドロキシフェニル
【００５７】
【化１６】
2008089855.tif 000015
【００５８】
Ｉ−（１３３）フェニル
Ｉ−（１３４）４−ブチルフェニル
Ｉ−（１３５）４−（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
Ｉ−（１３６）４−（５−ノネニル）フェニル
Ｉ−（１３７）ｐ−ビフェニリル
Ｉ−（１３８）４−エトキシカルボニルフェニル
Ｉ−（１３９）４−ブトキシフェニル
Ｉ−（１４０）４−メチルフェニル
Ｉ−（１４１）４−クロロフェニル
Ｉ−（１４２）４−フェニルチオフェニル
Ｉ−（１４３）４−ベンゾイルフェニル
Ｉ−（１４４）４−アセトキシフェニル
Ｉ−（１４５）４−ベンゾイルオキシフェニル
Ｉ−（１４６）４−フェノキシカルボニルフェニル
Ｉ−（１４７）４−メトキシフェニル
Ｉ−（１４８）４−アニリノフェニル
Ｉ−（１４９）４−イソブチリルアミノフェニル
Ｉ−（１５０）４−フェノキシカルボニルアミノフェニル
Ｉ−（１５１）４−（３−エチルウレイド）フェニル
Ｉ−（１５２）４−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
Ｉ−（１５３）４−フェノキシフェニル
Ｉ−（１５４）４−ヒドロキシフェニル
【００５９】
Ｉ−（１５５）３−ブチルフェニル
Ｉ−（１５６）３−（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
Ｉ−（１５７）３−（５−ノネニル）フェニル
Ｉ−（１５８）ｍ−ビフェニリル
Ｉ−（１５９）３−エトキシカルボニルフェニル
Ｉ−（１６０）３−ブトキシフェニル
Ｉ−（１６１）３−メチルフェニル
Ｉ−（１６２）３−クロロフェニル
Ｉ−（１６３）３−フェニルチオフェニル
Ｉ−（１６４）３−ベンゾイルフェニル
Ｉ−（１６５）３−アセトキシフェニル
Ｉ−（１６６）３−ベンゾイルオキシフェニル
Ｉ−（１６７）３−フェノキシカルボニルフェニル
Ｉ−（１６８）３−メトキシフェニル
Ｉ−（１６９）３−アニリノフェニル
Ｉ−（１７０）３−イソブチリルアミノフェニル
Ｉ−（１７１）３−フェノキシカルボニルアミノフェニル
Ｉ−（１７２）３−（３−エチルウレイド）フェニル
Ｉ−（１７３）３−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
Ｉ−（１７４）３−フェノキシフェニル
Ｉ−（１７５）３−ヒドロキシフェニル
【００６０】
Ｉ−（１７６）２−ブチルフェニル
Ｉ−（１７７）２−（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
Ｉ−（１７８）２−（５−ノネニル）フェニル
Ｉ−（１７９）ｏ−ビフェニリル
Ｉ−（１８０）２−エトキシカルボニルフェニル
Ｉ−（１８１）２−ブトキシフェニル
Ｉ−（１８２）２−メチルフェニル
Ｉ−（１８３）２−クロロフェニル
Ｉ−（１８４）２−フェニルチオフェニル
Ｉ−（１８５）２−ベンゾイルフェニル
Ｉ−（１８６）２−アセトキシフェニル
Ｉ−（１８７）２−ベンゾイルオキシフェニル
Ｉ−（１８８）２−フェノキシカルボニルフェニル
Ｉ−（１８９）２−メトキシフェニル
Ｉ−（１９０）２−アニリノフェニル
Ｉ−（１９１）２−イソブチリルアミノフェニル
Ｉ−（１９２）２−フェノキシカルボニルアミノフェニル
Ｉ−（１９３）２−（３−エチルウレイド）フェニル
Ｉ−（１９４）２−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
Ｉ−（１９５）２−フェノキシフェニル
Ｉ−（１９６）２−ヒドロキシフェニル
【００６１】
Ｉ−（１９７）３，４−ジブチルフェニル
Ｉ−（１９８）３，４−ジ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
Ｉ−（１９９）３，４−ジフェニルフェニル
Ｉ−（２００）３，４−ジエトキシカルボニルフェニル
Ｉ−（２０１）３，４−ジドデシルオキシフェニル
Ｉ−（２０２）３，４−ジメチルフェニル
Ｉ−（２０３）３，４−ジクロロフェニル
Ｉ−（２０４）３，４−ジベンゾイルフェニル
Ｉ−（２０５）３，４−ジアセトキシフェニル
Ｉ−（２０６）３，４−ジメトキシフェニル
Ｉ−（２０７）３，４−ジ−Ｎ−メチルアミノフェニル
Ｉ−（２０８）３，４−ジイソブチリルアミノフェニル
Ｉ−（２０９）３，４−ジフェノキシフェニル
Ｉ−（２１０）３，４−ジヒドロキシフェニル
【００６２】
Ｉ−（２１１）３，５−ジブチルフェニル
Ｉ−（２１２）３，５−ジ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
Ｉ−（２１３）３，５−ジフェニルフェニル
Ｉ−（２１４）３，５−ジエトキシカルボニルフェニル
Ｉ−（２１５）３，５−ジドデシルオキシフェニル
Ｉ−（２１６）３，５−ジメチルフェニル
Ｉ−（２１７）３，５−ジクロロフェニル
Ｉ−（２１８）３，５−ジベンゾイルフェニル
Ｉ−（２１９）３，５−ジアセトキシフェニル
Ｉ−（２２０）３，５−ジメトキシフェニル
Ｉ−（２２１）３，５−ジ−Ｎ−メチルアミノフェニル
Ｉ−（２２２）３，５−ジイソブチリルアミノフェニル
Ｉ−（２２３）３，５−ジフェノキシフェニル
Ｉ−（２２４）３，５−ジヒドロキシフェニル
【００６３】
Ｉ−（２２５）２，４−ジブチルフェニル
Ｉ−（２２６）２，４−ジ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
Ｉ−（２２７）２，４−ジフェニルフェニル
Ｉ−（２２８）２，４−ジエトキシカルボニルフェニル
Ｉ−（２２９）２，４−ジドデシルオキシフェニル
Ｉ−（２３０）２，４−ジメチルフェニル
Ｉ−（２３１）２，４−ジクロロフェニル
Ｉ−（２３２）２，４−ジベンゾイルフェニル
Ｉ−（２３３）２，４−ジアセトキシフェニル
Ｉ−（２３４）２，４−ジメトキシフェニル
Ｉ−（２３５）２，４−ジ−Ｎ−メチルアミノフェニル
Ｉ−（２３６）２，４−ジイソブチリルアミノフェニル
Ｉ−（２３７）２，４−ジフェノキシフェニル
Ｉ−（２３８）２，４−ジヒドロキシフェニル
【００６４】
Ｉ−（２３９）２，３−ジブチルフェニル
Ｉ−（２４０）２，３−ジ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
Ｉ−（２４１）２，３−ジフェニルフェニル
Ｉ−（２４２）２，３−ジエトキシカルボニルフェニル
Ｉ−（２４３）２，３−ジドデシルオキシフェニル
Ｉ−（２４４）２，３−ジメチルフェニル
Ｉ−（２４５）２，３−ジクロロフェニル
Ｉ−（２４６）２，３−ジベンゾイルフェニル
Ｉ−（２４７）２，３−ジアセトキシフェニル
Ｉ−（２４８）２，３−ジメトキシフェニル
Ｉ−（２４９）２，３−ジ−Ｎ−メチルアミノフェニル
Ｉ−（２５０）２，３−ジイソブチリルアミノフェニル
Ｉ−（２５１）２，３−ジフェノキシフェニル
Ｉ−（２５２）２，３−ジヒドロキシフェニル
【００６５】
Ｉ−（２５３）２，６−ジブチルフェニル
Ｉ−（２５４）２，６−ジ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
Ｉ−（２５５）２，６−ジフェニルフェニル
Ｉ−（２５６）２，６−ジエトキシカルボニルフェニル
Ｉ−（２５７）２，６−ジドデシルオキシフェニル
Ｉ−（２５８）２，６−ジメチルフェニル
Ｉ−（２５９）２，６−ジクロロフェニル
Ｉ−（２６０）２，６−ジベンゾイルフェニル
Ｉ−（２６１）２，６−ジアセトキシフェニル
Ｉ−（２６２）２，６−ジメトキシフェニル
Ｉ−（２６３）２，６−ジ−Ｎ−メチルアミノフェニル
Ｉ−（２６４）２，６−ジイソブチリルアミノフェニル
Ｉ−（２６５）２，６−ジフェノキシフェニル
Ｉ−（２６６）２，６−ジヒドロキシフェニル
【００６６】
Ｉ−（２６７）３，４，５−トリブチルフェニル
Ｉ−（２６８）３，４，５−トリ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
Ｉ−（２６９）３，４，５−トリフェニルフェニル
Ｉ−（２７０）３，４，５−トリエトキシカルボニルフェニル
Ｉ−（２７１）３，４，５−トリドデシルオキシフェニル
Ｉ−（２７２）３，４，５−トリメチルフェニル
Ｉ−（２７３）３，４，５−トリクロロフェニル
Ｉ−（２７４）３，４，５−トリベンゾイルフェニル
Ｉ−（２７５）３，４，５−トリアセトキシフェニル
Ｉ−（２７６）３，４，５−トリメトキシフェニル
Ｉ−（２７７）３，４，５−トリ−Ｎ−メチルアミノフェニル
Ｉ−（２７８）３，４，５−トリイソブチリルアミノフェニル
Ｉ−（２７９）３，４，５−トリフェノキシフェニル
Ｉ−（２８０）３，４，５−トリヒドロキシフェニル
【００６７】
Ｉ−（２８１）２，４，６−トリブチルフェニル
Ｉ−（２８２）２，４，６−トリ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
Ｉ−（２８３）２，４，６−トリフェニルフェニル
Ｉ−（２８４）２，４，６−トリエトキシカルボニルフェニル
Ｉ−（２８５）２，４，６−トリドデシルオキシフェニル
Ｉ−（２８６）２，４，６−トリメチルフェニル
Ｉ−（２８７）２，４，６−トリクロロフェニル
Ｉ−（２８８）２，４，６−トリベンゾイルフェニル
Ｉ−（２８９）２，４，６−トリアセトキシフェニル
Ｉ−（２９０）２，４，６−トリメトキシフェニル
Ｉ−（２９１）２，４，６−トリ−Ｎ−メチルアミノフェニル
Ｉ−（２９２）２，４，６−トリイソブチリルアミノフェニル
Ｉ−（２９３）２，４，６−トリフェノキシフェニル
Ｉ−（２９４）２，４，６−トリヒドロキシフェニル
【００６８】
Ｉ−（２９５）ペンタフルオロフェニル
Ｉ−（２９６）ペンタクロロフェニル
Ｉ−（２９７）ペンタメトキシフェニル
Ｉ−（２９８）６−Ｎ−メチルスルファモイル−８−メトキシ−２−ナフチル
Ｉ−（２９９）５−Ｎ−メチルスルファモイル−２−ナフチル
Ｉ−（３００）６−Ｎ−フェニルスルファモイル−２−ナフチル
Ｉ−（３０１）５−エトキシ−７−Ｎ−メチルスルファモイル−２−ナフチル
Ｉ−（３０２）３−メトキシ−２−ナフチル
Ｉ−（３０３）１−エトキシ−２−ナフチル
Ｉ−（３０４）６−Ｎ−フェニルスルファモイル−８−メトキシ−２−ナフチル
Ｉ−（３０５）５−メトキシ−７−Ｎ−フェニルスルファモイル−２−ナフチル
Ｉ−（３０６）１−（４−メチルフェニル）−２−ナフチル
Ｉ−（３０７）６，８−ジ−Ｎ−メチルスルファモイル−２−ナフチル
Ｉ−（３０８）６−Ｎ−２−アセトキシエチルスルファモイル−８−メトキシ−２−ナフチル
Ｉ−（３０９）５−アセトキシ−７−Ｎ−フェニルスルファモイル−２−ナフチル
Ｉ−（３１０）３−ベンゾイルオキシ−２−ナフチル
【００６９】
Ｉ−（３１１）５−アセチルアミノ−１−ナフチル
Ｉ−（３１２）２−メトキシ−１−ナフチル
Ｉ−（３１３）４−フェノキシ−１−ナフチル
Ｉ−（３１４）５−Ｎ−メチルスルファモイル−１−ナフチル
Ｉ−（３１５）３−Ｎ−メチルカルバモイル−４−ヒドロキシ−１−ナフチル
Ｉ−（３１６）５−メトキシ−６−Ｎ−エチルスルファモイル−１−ナフチル
Ｉ−（３１７）７−テトラデシルオキシ−１−ナフチル
Ｉ−（３１８）４−（４−メチルフェノキシ）−１−ナフチル
Ｉ−（３１９）６−Ｎ−メチルスルファモイル−１−ナフチル
Ｉ−（３２０）３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル−４−メトキシ−１−ナフチル
Ｉ−（３２１）５−メトキシ−６−Ｎ−ベンジルスルファモイル−１−ナフチル
Ｉ−（３２２）３，６−ジ−Ｎ−フェニルスルファモイル−１−ナフチル
【００７０】
Ｉ−（３２３）メチル
Ｉ−（３２４）エチル
Ｉ−（３２５）ブチル
Ｉ−（３２６）オクチル
Ｉ−（３２７）ドデシル
Ｉ−（３２８）２−ブトキシ−２−エトキシエチル
Ｉ−（３２９）ベンジル
Ｉ−（３３０）４−メトキシベンジル
【００７１】
【化１７】
2008089855.tif 000016
【００７２】
Ｉ−（３３１）メチル
Ｉ−（３３２）フェニル
Ｉ−（３３３）ブチル
【００７３】
【化１８】
2008089855.tif 000017
【００７４】
以下に、一般式（ＩＩ）で表される化合物について説明する。
【００７５】
【化１９】
2008089855.tif 000018
【００７６】
上記一般式（ＩＩ）中、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、及びＲ９は各々独立して、水素原子又は置換基を表す。
Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、及びＲ９は、各々表される置換基としては、アルキル基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜４０、より好ましくは炭素数０〜３０、特に好ましくは炭素数０〜２０のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる）が含まれる。
【００７７】
また、前記置換基として、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のアルコキシ基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜４０、より好ましくは炭素数６〜３０、特に好ましくは炭素数６〜２０のアリールオキシ基であり、例えば、フェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられる）、アシル基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のアシル基であり、例えば、アセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜４０、より好ましくは炭素数７〜３０、特に好ましくは炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニル基であり、例えば、フェニルオキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアシルオキシ基であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる）が含まれる。
【００７８】
また、前記置換基として、、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアシルアミノ基であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜４０、より好ましくは炭素数７〜３０、特に好ましくは炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニルアミノ基であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のスルホニルアミノ基であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜４０、より好ましくは炭素数０〜３０、特に好ましくは炭素数０〜２０のスルファモイル基であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のカルバモイル基であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）が含まれる。
【００７９】
また、前記置換基として、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のスルホニル基であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のスルフィニル基であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のウレイド基であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のリン酸アミド基であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、１，３，５−トリアジル基などが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）が含まれる。
これらの置換基は、更にこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基が二つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
【００８０】
Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、及びＲ９として各々表される置換基としては、アルキル基、アリール基、置換もしくは無置換のアミノ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、又はハロゲン原子が好ましい。
【００８１】
以下に、一般式（ＩＩ）で表される化合物の具体例を挙げるが、これらに限定されない。
【００８２】
【化２０】
2008089855.tif 000019
【００８３】
【化２１】
2008089855.tif 000020
【００８４】
一般式（ＩＩＩ）で表される化合物について、以下に説明する。
【化２２】
2008089855.tif 000021
なお、上記一般式（ＩＩＩ）中、Ｑ７１は、含窒素芳香族ヘテロ環、Ｑ７２は、芳香族環を表す。
また、上記一般式（ＩＩＩ）において、Ｑ７１は含窒素方向芳香族へテロ環を表し、５〜７員の含窒素芳香族ヘテロ環が好ましく、５〜６員の含窒素芳香族ヘテロ環がより好ましい。
【００８５】
含窒素芳香族ヘテロ環としては、例えば、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、セレナゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、ベンズオキサゾール、ベンゾセレナゾール、チアジアゾール、オキサジアゾール、ナフトチアゾール、ナフトオキサゾール、アザベンズイミダゾール、プリン、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、トリアザインデン、テトラザインデン等などの各環が好ましく、トリアジン及び５員の含窒素芳香族ヘテロ環がより好ましく、具体的には、１，３，５−トリアジン、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、ベンズオキサゾール、チアジアゾール、オキサジアゾールなどの各環が好ましく、１，３，５−トリアジン環及びベンゾトリアゾール環が特に好ましい。
【００８６】
Ｑ７１で表される含窒素芳香族ヘテロ環は、更に置換基を有してもよく、置換基としては、後述する置換基Ｔが適用できる。また、置換基が複数ある場合にはそれぞれが縮環して更に環を形成してもよい。
【００８７】
Ｑ７２は芳香族環を表す。Ｑ７２で表される芳香族環は、芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。芳香族炭化水素環としては、炭素数６〜３０の単環、又は二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環などが挙げられる）が好ましく、炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環がより好ましく、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環が更に好ましく、ベンゼン環が特に好ましい。
【００８８】
芳香族ヘテロ環としては、窒素原子あるいは硫黄原子を含む芳香族ヘテロ環が好ましい。ヘテロ環の具体例としては、例えば、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環としては、ピリジン、トリアジン、キノリンが好ましい。
【００８９】
Ｑ７２で表される芳香族環としては、芳香族炭化水素環が好ましく、ナフタレン環、ベンゼン環がより好ましく、ベンゼン環が特に好ましい。Ｑ７２は、更に置換基を有してもよく、下記の置換基Ｔが好ましい。
置換基Ｔとしては、例えば、アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１２、特に好ましくは１〜８のものであり、例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基など）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１２、特に好ましくは２〜８であり、例えばビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基など）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１２、特に好ましくは２〜８であり、例えばプロパルギル基、３−ペンチニル基など）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは６〜２０、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニル基、ビフェニル基、ナフチル基など）、アミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは０〜１０、特に好ましくは０〜６であり、例えばアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基など）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１２、特に好ましくは１〜８であり、例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基など）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは６〜１６、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基など）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばアセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基など）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基など）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは７〜１６、特に好ましくは７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニル基など）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１０であり、例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基など）などが挙げられる。
【００９０】
また、前記置換基Ｔとして、他には、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１０であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基など）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノ基など）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは７〜１６、特に好ましくは７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノ基など）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基など）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは０〜１６、特に好ましくは０〜１２であり、例えばスルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基など）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基など）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメチルチオ基、エチルチオ基など）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは６〜１６、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニルチオ基など）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメシル基、トシル基などが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基など）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基など）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなど）などが挙げられる。
【００９１】
更に、前記置換基Ｔとして、他には、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子など）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には、例えばイミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基など）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは３〜３０、特に好ましくは３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基など）などが挙げられる。
【００９２】
これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。
【００９３】
一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の具体例を以下に挙げるが、本発明は、下記具体例に何ら限定されるものではない。
【００９４】
【化２３】
2008089855.tif 000022
【００９５】
【化２４】
2008089855.tif 000023
【００９６】
【化２５】
2008089855.tif 000024
【００９７】
【化２６】
2008089855.tif 000025
【００９８】
【表１】
2008089855.tif 000026
【００９９】
本発明に用いるレターデーション制御剤は、一般式（Ｉ）及び一般式（ＩＩ）で表される化合物であることが好ましく、一般式（ＩＩ）で表される化合物を採用することがより好ましい。また、一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）で表される化合物に、一般式（ＩＩＩ）で表される化合物を混合することも好ましく用いられる。
【０１００】
本発明に用いられるレターデーション制御剤（一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で表される化合物）の添加量は、フィルムの基材ポリマーに対してそれぞれ０．１〜３０質量％が好ましく、０．５〜２０質量％がより好ましく、１〜１０質量％が更に好ましい。２種類以上を用いる場合には、その合計量が、上記添加量の範囲を満たしていることが好ましい。
【０１０１】
本発明に用いられるレターデーション制御剤は、液晶性を示すことが好ましい。加熱により液晶性を示す（サーモトロピック液晶性を有する）ことが更に好ましく、１００〜３００℃の温度範囲で液晶性を示すことが好ましい。液晶相は、カラムナー相、ネマチィク相、又はスメクティック相が好ましく、カラムナー相であることがより好ましい。
【０１０２】
［ＣｌｏｇＰ値］
また、本発明で用いられるレターデーション制御剤は、ＣｌｏｇＰ値が１５以下であることが好ましく、１２以下であることがより好ましい。
【０１０３】
ここで、前記ＬｏｇＰ値は、物質の疎水性の程度を表す指標であり、例えば、測定されるオクタノール／水分配係数で表される値である。
ＬｏｇＰ値（ｌｏｇＰｏ／ｗ値）の算出法としては、「２５℃でｎ−オクタノール中での該有機化合物の溶解度」をＳｏとし、「２５℃で純水中での該有機化合物の溶解度」をＳｗとした場合、ｌｏｇＰ＝Ｓｏ／Ｓｗで表される。
なお、これらは、この通りにｎ−オクタノールと水を用いて測定することもできるが、本発明においては、ｌｏｇＰ値推算プログラム（Ｄａｙｌｉｇｈｔ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ  Ｓｙｓｔｅｍｓ社のＰＣ  Ｍｏｄｅｌｓに組み込まれたＣＬＯＧＰプログラム）を使用して分配係数（ＣｌｏｇＰ値）を求めることができる。
【０１０４】
上記ｌｏｇＰ値は、レターデーション制御剤が、ポリマー中で前記化合物Ａと共存するか否かを決める指標であると推定した。
化合物Ａは、一分子内に複数の水素結合性基を有しているため、親水性が高く本発明のレターデーション制御剤に対して小さなｌｏｇＰ値を示す傾向にある。
そこで、本発明者らは、ｌｏｇＰ値が１５以上の前記レターデーション制御剤は、疎水性が高く、フィルム製膜時にブリードアウト（白化）してしまうことを突き止めた。
【０１０５】
前記レターデーション制御剤は、フィルムの基材ポリマーの溶解時に同時に添加してもよいし、溶解後のドープに添加してもよい。特に、スタティックミキサ等を用い、流延直前にドープに紫外線吸収剤溶液を添加する形態が、分光吸収特性を容易に調整することができるので好ましい。
【０１０６】
前記レターデーション制御剤は、前記化合物Ａがレターデーション発現能を有する場合もあり、その場合には両者の添加量を調整することが好ましい。つまり、湿度依存性を改良するために加えた化合物Ａが、その構造によって各々異なるレターデーションを発現するため、光学補償フィルムとして適切なレターデーションを付与するために、レターデーション制御剤の構造及び量を調整する必要がある。
【０１０７】
＜可塑剤＞
透明支持体には、フィルムとしての機械的物性を改良するため、又は乾燥速度を向上するために、従来公知の可塑剤を添加してもよい。
可塑剤としては、例えば、リン酸エステル類、カルボン酸エステル類等が挙げられ、例えば、発明協会公開技報公技番号公技０１−１７４５号のｐ．１６に記載の化合物等が挙げられる。
なお、前記カルボン酸エステル類を構成するカルボン酸としては、脂肪族カルボン酸、オキシカルボン酸（クエン酸、リンゴ酸等）、芳香族カルボン酸（フタル酸等）等が挙げられる。
また、前記可塑剤に適用する他の化合物としては、特開平１１−１２４４４５号公報、及び特開２００１−２４７７１７号公報に記載された、アルカンポリオールとカルボン酸とのエステル化化合物も好ましい。
可塑剤の添加量は、セルロースアシレート１００質量部に対して、０．０５〜２５質量％であることが好ましく、１〜２０質量％であることがより好ましい。
また、上記化合物Ａとの併用によって添加剤の効果を低減させてしまう場合には、可塑剤の添加量を低減することで調整することが好ましい。上記化合物Ａが可塑剤の機能を有する場合も多く、必ずしも上記化合物Ａと別に可塑剤を添加する必要はない。
【０１０８】
＜＜微粒子＞＞
本発明では、フィルムのカール抑制、搬送性、或は耐傷性を良好に保持するために、セルロースアシレート組成物（透明支持体）に微粒子を添加するのが好ましい。
添加する微粒子は、前述の機能を呈する素材であれば特に限定はなく、微粒子のモース硬度が２〜１０であるものが好ましい。
【０１０９】
前記微粒子としては、無機化合物、有機化合物のいずれを用いてもよく、無機化合物の微粒子の好ましい具体例としては、ケイ素を含む化合物、二酸化ケイ素、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化バリウム、酸化ジルコニウム、酸化ストロンチウム、酸化アンチモン、酸化スズ、酸化スズ・アンチモン、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、及びリン酸カルシウム等が挙げられ、これらの中でも、ケイ素を含む無機化合物や酸化ジルコニウムがより好ましく、透明支持体の濁度を低減できるので二酸化ケイ素が更に好ましい。
【０１１０】
また、添加する無機化合物の微粒子として、表面処理された無機微粒子を採用することも、セルロースアシレート中への分散性が良好となり好ましい。
前記無機化合物の微粒子の表面処理の方法としては、例えば、特開昭５４−５７５６２号公報に記載の方法が挙げられる。また、前記無機化合物の微粒子としては、例えば、特開２００１−１５１９３６号公報に記載の無機化合物の微粒子が挙げられる。
【０１１１】
有機化合物の微粒子の好ましい具体例としては、架橋ポリスチレン、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、及びアクリル樹脂等のポリマーが挙げられ、これらの中でも、シリコーン樹脂がより好ましく、シリコーン樹脂の中でも、三次元の網状構造を有するシリコーン樹脂が特に好ましい。
【０１１２】
以上の微粒子の１次平均粒子径（以下、粒径とも称する）としては、０．００１〜１μｍが好ましく、０．００５〜０．４μｍがより好ましく、０．００５〜０．１μｍが更に好ましい。これらの範囲であれば、フィルムとしての機械的な物性を損なうことなく、ヘイズを低く抑え、かつ製膜後のフィルム表面の凹凸を小さくすることができる。
セルロースアシレートに対する微粒子の添加量は、セルロースアシレート１００質量部に対して、微粒子は０．０１〜０．３質量部が好ましく、０．０５〜０．２質量部がより好ましい。
【０１１３】
＜＜他の添加剤＞＞
本発明の透明支持体には、更に、紫外線防止剤、劣化防止剤、剥離剤、帯電防止剤等を添加してもよい。
前記紫外線防止剤としては、例えば、ヒドロキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、及びシアノアクリレート系化合物等が挙げられる。
また、前記劣化防止剤としては、例えば、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、及びヒンダードアミン等の光安定化剤等が挙げられる。
これら紫外線防止剤、劣化防止剤、剥離剤、帯電防止剤等の詳細は、上記発明協会公開技報公技番号公技０１−１７４５号のｐ．１７〜２２に詳細に記載されている素材が好ましく用いられる。
【０１１４】
＜透明支持体の製造方法＞
本発明における透明支持体の製造方法としては、ソルベントキャスト法により、セルロースアシレートフィルムを製造することが好ましく、セルロースアシレートを有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフィルムは製造される。
当該製造方法に用いる有機溶媒としては、従来公知の有機溶媒が挙げられ、例えば、溶解度パラメーター（Ｓｏｌｕｂｉｌｉｔｙ  Ｐａｒａｍｅｔｅｒ）で１７〜２２の範囲のものが好ましい。
ここで、前記溶解度パラメーターδは、下記式（ｘ）で算出することができる。
δ＝（Ｅ／Ｖ）１／２・・・・・・・・・・式（ｘ）
なお、上記式（ｘ）において、Ｅは、凝集エネルギー（モル蒸発エネルギー）を示し、Ｖは、分子容（モル体積）を示す。
また、この溶解度パラメーターについては、例えば、Ｊ．Ｂｒａｎｄｒｕｐ、Ｅ．Ｈなどの「ＰｏｌｙｍｅｒＨａｎｄｂｏｏｋ（４ｔｈ．ｅｄｉｔｉｏｎ）、ＶＩＩ／６７１〜ＶＩＩ／７１４」に記載されている。
【０１１５】
このような有機溶媒の例としては、低級脂肪族炭化水素の塩化物、低級脂肪族アルコール、炭素原子数３から１２までのケトン、炭素原子数３〜１２のエステル、炭素原子数３〜１２のエーテル、炭素原子数５〜８の脂肪族炭化水素類、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素類等が挙げられる。
なお、エーテル、ケトン及びエステルは、環状構造を有していてもよい。
また、エーテル、ケトン及びエステルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−、及びＣＯＯ−）のいずれかを２つ以上有する化合物も、有機溶媒として用いることができる。
なお、前記有機溶媒は、アルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。
２種類以上の官能基を有する有機溶媒の場合、その炭素原子数は、いずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。
具体的には、例えば、前記発明協会公開技報公技番号公技０１−１７４５号のｐ．１２〜１６に詳細に記載されている化合物が挙げられる。
【０１１６】
特に、本発明では、溶媒は２種類以上の有機溶媒を混合して用いることが好ましく、互いに異なる３種類以上の混合溶媒であることが特に好ましい。
この、互いに異なる３種類以上の混合溶媒としては、第１の溶媒は、炭素原子数が３〜４のケトン、及び炭素原子数が３〜４のエステル或いはその混合液であり、第２の溶媒は、炭素原子数が５〜７のケトン類、又はアセト酢酸エステルから選ばれ、第３の溶媒として、沸点が３０〜１７０℃のアルコール、又は沸点が３０〜１７０℃の炭化水素から選ばれることが好ましい。
特に、酢酸エステルを２０〜９０質量％、ケトン類を５〜６０質量％、アルコール類を５〜３０質量％の混合比で用いることがセルロースアシレートの溶解性の点から好ましい。
また、ハロゲン化炭化水素を含まない非ハロゲン系有機溶媒系が特に好ましい。
技術的には、メチレンクロリドのようなハロゲン化炭化水素は問題なく使用できるが、地球環境や作業環境の観点では、有機溶媒はハロゲン化炭化水素を実質的に含まないことが好ましい。
ここで、「実質的に含まない」とは、有機溶媒中のハロゲン化炭化水素の割合が５質量％未満（好ましくは２質量％未満）であることを意味する。また、製造した透明支持体から、メチレンクロリドのようなハロゲン化炭化水素が全く検出されないことが好ましい。
【０１１７】
本発明に使用する有機溶媒は、具体的には、例えば特開２００２−１４６０４３号公報の段落番号〔００２１〕〜〔００２５〕、及び特開２００２−１４６０４５号公報の段落番号〔００１６〕〜〔００２１〕等に記載の有機溶媒の例が挙げられる。
また、本発明に用いるドープには、上記本発明の有機溶媒以外に、フルオロアルコールやメチレンクロライドを本発明の全有機溶媒量の１０質量％以下、より好ましくは、５質量％以下含有させることもフィルムの透明性を向上させたり、溶解性を早めたりする上で好ましい。
該フルオロアルコールとしては、例えば、特開平８−１４３７０９号公報の段落番号［００２０］、特開平１１−６０８０７号公報の段落番号［００３７］等に記載の化合物が挙げられる。これらのフルオロアルコールは一種又は二種以上使用してもよい。
本発明のセルロースアシレート溶液を調製する際に、容器内に窒素ガスなどの不活性ガスを充満させてもよい。
また、セルロースアシレート溶液の製膜直前の粘度は、製膜の際、流延可能な範囲であればよく、通常１０〜２，０００ｐｓ・ｓの範囲に調製されることが好ましく、３０〜４００ｐｓ・ｓがより好ましい。
【０１１８】
本発明のセルロースアシレート溶液（ドープ）の調製については、その溶解方法は特に限定されず、室温溶解法でもよく、冷却溶解法、又は高温溶解方法、更には、これらの組み合わせで実施される。
これらの溶解方法に関しては、例えば特開平５−１６３３０１公報、特開昭６１−１０６６２８公報、特開昭５８−１２７７３７公報、特開平９−９５５４４公報、特開平１０−９５８５４公報、特開平１０−４５９５０公報、特開２０００−５３７８４公報、特開平１１−３２２９４６公報、特開平１１−３２２９４７公報、特開平２−２７６８３０公報、特開２０００−２７３２３９公報、特開平１１−７１４６３公報、特開平０４−２５９５１１公報、特開２０００−２７３１８４公報、特開平１１−３２３０１７公報、及び特開平１１−３０２３８８公報等に記載されたセルロースアシレート溶液の調製法が挙げられる。
また、これらのセルロースアシレートの有機溶媒への溶解方法は、本発明の範囲であれば、適宜これらの技術を適用できる。
更に、セルロースアシレートのドープ溶液は、溶液の濃縮と濾過が通常実施され、同様に前記発明協会公開技報公技番号公技０１−１７４５号に詳細に記載されている。なお、高温度で溶解する場合は、使用する有機溶媒の沸点以上の場合がほとんどであり、その場合は加圧状態で用いられる。
【０１１９】
次に、本発明において、セルロースアシレート溶液を用いた透明支持体の製造方法について説明する。
透明支持体を製造する方法、及び設備は、透明支持体製造に供するドラム方法、又はバンド方法と称される、従来公知の溶液流延製膜方法及び溶液流延製膜装置が用いられる。
ここで、前記バンド法を例として製膜の工程を説明すると、溶解機（釜）から調製されたドープ（セルロースアシレート溶液）を貯蔵釜に一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調製をする。
次に、調製されたドープは、精密濾過により異物を除去することが重要である。具体的には、濾過に用いるフィルターは、ドープ液中の成分が除去されない範囲でできるだけ孔径の小さいものを使うことが好ましい。
また、濾過には絶対濾過精度が０．１〜１００μｍのフィルターが用いられ、更には絶対濾過精度が０．１〜２５μｍであるフィルターを用いることが好ましく用いられる。
ここで、フィルターの厚さは、０．１〜１０ｍｍが好ましく、０．２〜２ｍｍが更に好ましい。その場合、１．４７ＭＰａ以下の濾過圧力で濾過することが好ましく、０．９８ＭＰａ以下の濾過圧力で濾過することがより好ましく、０．２０ＭＰａ以下の濾過圧力で濾過することが更に好ましい。
【０１２０】
また、精密濾過を行うために、フィルターの孔径を順次小さくして濾過を数回行うことも好ましい。
精密濾過を行うための濾材のタイプは、上記性能を有していれば特に限定されないが、例えばフィラメント型、フェルト型、及びメッシュ型が挙げられる。
また、分散物を精密濾過するための濾材の材質は上記性能を有し、かつ塗布液に悪影響を及ばさなければ特に限定はされないが、例えばステンレス、ポリエチレン、ポリプロピレン、及びナイロン等が挙げられる。
【０１２１】
調製したドープを、ドープ排出口から、例えば回転数によって高精度に定量送液できる加圧型定量ギヤポンプを通して加圧型ダイに送り、ドープを加圧型ダイの口金（スリット）からエンドレスに走行している流延部の金属支持体の上に均一に流延し、金属支持体がほぼ一周した剥離点で、生乾きのドープ膜（ウェブとも称する）を金属支持体から剥離する。
得られるウェブの両端を、クリップで挟み、幅保持しながらテンターで搬送して乾燥し、続いて、乾燥装置のロール群で搬送し、乾燥を終了して巻き取り機で所定の長さに巻き取る。なお、テンターとロール群の乾燥装置との組み合わせは、その目的により変わる。
これらの各製造工程（流延（共流延を含む）、金属支持体、乾燥、剥離、延伸などに分類される）については、前記発明協会公開技報公技番号０１−１７４５号のｐ．２５〜３０に詳細に記載された内容が挙げられる。
流延工程では、１種類のセルロースアシレート溶液を単層流延してもよいし、２種類以上のセルロースアシレート溶液を同時、及び／又は逐次共流延してもよい。
【０１２２】
次に、本発明に好ましい延伸方法を具体的に述べる。
本発明のセルロースアシレートフィルムは、偏光板に適用する上で、幅方向に延伸することが好ましい。この延伸方法については、例えば、特開昭６２−１１５０３５号公報、特開平４−１５２１２５号公報、特開平４−２８４２１１号公報、特開平４−２９８３１０号公報、特開平１１−４８２７１号公報などに記載されている。
また、本発明のセルロースアシレートフィルムの延伸は、前述のように、当該フィルムのＴｇ−５０℃〜当該フィルムのＴｇ＋１００℃である、１００〜２５０℃の条件下で実施する。
本発明のセルロースアシレートフィルムの延伸は、一軸延伸でもよく、二軸延伸でもよい。また、目的に応じて延伸工程と収縮させる収縮工程とを含んでいてもよい。
また、本発明のセルロースアシレートフィルムは、乾燥中の処理で延伸することができ、特に溶媒が残存する場合は有効である。例えば、セルロースアシレートフィルムの搬送ローラーの速度を調節して、セルロースアシレートフィルムの剥ぎ取り速度よりもセルロースアシレートフィルムの巻き取り速度の方を速くすると、セルロースアシレートフィルムは延伸される。
また、セルロースアシレートフィルムの巾をテンターで保持しながら搬送して、テンターの巾を徐々に拡げることによってもセルロースアシレートフィルムを延伸できる。
更に、セルロースアシレートフィルムの乾燥後に、延伸機を用いて延伸すること（好ましくはロング延伸機を用いる一軸延伸）もできる。
本発明のセルロースアシレートフィルムの延伸倍率（元の長さに対する延伸による増加分の比率）は、０．５〜３００％であることが好ましく、１〜２００％の延伸がより好ましく、１〜１００％の延伸が更に好ましい。
【０１２３】
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ソルベントキャスト法による製膜工程、及び製膜した当該フィルムを延伸する延伸工程を逐次、もしくは連続して行うことで製造することが好ましく、延伸倍率は１．２倍以上１．８倍以下であることが好ましい。
また、前記延伸工程は、１段で行ってもよく、多段で行ってもよい。多段で行なう場合は各延伸倍率の積が前記範囲（１．２倍以上１．８倍以下）にはいるようにすればよい。
【０１２４】
また、延伸速度は、５〜１，０００％／分であることが好ましく、１０〜５００％／分であることがより好ましい。
更に、前記延伸工程は、ヒートロール、及び／又は放射熱源（ＩＲヒーター等）、温風により行うことが好ましい。また、温度の均一性を高めるために恒温槽を設けてもよい。
ロール延伸で一軸延伸を行う場合、ロール間距離（Ｌ）と、保護フィルムのフィルム幅（Ｗ）との比であるＬ／Ｗが、２．０〜５．０であることが好ましい。
【０１２５】
更に、延伸工程前に予熱工程を設けることが好ましく、延伸工程後に熱処理を行ってもよい。その熱処理温度は、セルロースアセテートフィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）より５０℃低い温度から、前記ガラス転移温度（Ｔｇ）より１００℃高い温度までの間の温度で行うことが好ましく、熱処理時間は１〜３分間であることが好ましい。
また、加熱方法は、ゾーン加熱であっても、赤外線ヒータを用いた部分加熱であってもよく、加熱工程の途中、又は最後にセルロースアセテートフィルムの両端をスリットしてもよい。そして、このとき産出したスリット屑は、回収し、原料として再利用することが好ましい。
【０１２６】
テンターに関しては、特開平１１−０７７７１８号公報において、テンターで幅保持しながらウェブを乾燥させる際に、乾燥ガスの吹き出し方法、吹き出し角度、風速分布、風速、風量、温度差、風量差、上下吹き出し風量比、及び高比熱乾燥ガスの使用等を適度にコントロールすることで、溶液流延法による速度を上げたり、ウェブ幅を広げたりする時の平面性等の品質低下防止を確保するものであることが記載されており、これらの技術を本発明に採用してもよい。
【０１２７】
また、特開平１１−０７７８２２号には、ムラ発生を防ぐために、延伸した熱可塑性樹フィルムを延伸工程後、熱緩和工程において当該フィルムの幅方向に温度勾配を設けて熱処理する技術が記載されており、この技術を前記熱処理工程に採用してもよい。
【０１２８】
また、特開平４−２０４５０３号公報には、ムラ発生を防ぐために、フィルムの溶媒含有率を固形分基準で２〜１０％にして延伸する技術が記載されており、この技術を本発明に採用してもよい。
【０１２９】
また、特開２００２−２４８６８０号公報には、クリップ噛み込み幅の規定によるカールを抑制するために、テンタークリップ噛み込み幅Ｄ≦（３３／（ｌｏｇ延伸率×ｌｏｇ揮発分））で延伸することにより、カールを抑制し、延伸工程後のフィルム搬送を容易にする技術が記載されており、この技術を本発明に採用してもよい。
【０１３０】
また、特開２００２−３３７２２４号公報には、高速軟膜搬送と延伸とを両立させるために、テンター搬送を、前半ピン、後半クリップに切り替える技術が記載されており、この技術を本発明に採用してもよい。
【０１３１】
また、特開２００２−１８７９６０号公報には、視野角特性を簡便に改善でき、且つ視野角を改善することを目的として、セルロースエステルドープ液を流延用支持体に流延し、ついで、流延用支持体から剥離したウェブ（フィルム）を、ウェブ中の残留溶媒量が１００質量％以下、特に、１０〜１００質量％の範囲にある間に少なくとも１方向に１．０〜４．０倍延伸することにより得られる光学的に二軸性を有する発明が記載されている。
この技術の更に好ましい態様として、ウェブ中の残留溶媒量が１００質量％以下、特に１０〜１００質量％の範囲にある間に、少なくとも１方向に１．０〜４．０倍延伸することも記載されている。
また、この技術の他の延伸方法として、複数のロールに周速差をつけ、その間でロール周速差を利用して縦方向に延伸する方法、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を進行方向に広げて縦方向に延伸する方法、同様に横方向に広げて横方向に延伸する方法、あるいは縦横同時に広げて縦横両方向に延伸する方法、これらを組み合わせて用いる方法なども挙げられている。
更に、いわゆるテンター法の場合には、リニアドライブ方式でクリップ部分を駆動すると滑らかな延伸を行うことができ、破断等の危険性が減少できるので好ましいことが示されており、これらの技術を本発明に採用してもよい。
【０１３２】
また、特開２００３−０１４９３３号公報には、添加剤ブリードアウトが少なく、かつ層間の剥離現象もなく、しかも滑り性が良好で透明性に優れた光学補償フィルムを作製するために、樹脂と添加剤と有機溶媒とを含むドープＡと、添加剤を含まないか、又は添加剤の含有量がドープＡより少ない樹脂と添加剤と有機溶媒とを含むドープＢを調製し、ドープＡがコア層、ドープＢが表面層となるように支持体上に共流延して、剥離可能となるまで有機溶媒を蒸発させた後、ウェブを透明支持体から剥離し、更に延伸時の樹脂フィルム中の残留溶媒が３〜５０質量％の範囲で、少なくとも一軸方向に、１．１〜１．３倍延伸する技術が記載されている。
この技術の更に好ましい態様として、ウェブを支持体から剥離し、更に延伸温度が１４０〜２００℃の範囲で少なくとも一軸方向に１．１〜３．０倍延伸すること、樹脂と有機溶媒とを含むドープＡと、樹脂と微粒子と有機溶媒とを含むドープＢを調製し、ドープＡがコア層、ドープＢが表面層となるように透明支持体上に共流延して、剥離可能となるまで有機溶媒を蒸発させた後、ウェブを支持体から剥離し、更に延伸時の樹脂フィルム中の残留溶媒量が３〜５０質量％の範囲で少なくとも一軸方向に１．１〜３．０倍延伸すること、更に延伸温度が１４０〜２００℃の範囲で少なくとも一軸方向に１．１〜３．０倍延伸すること、樹脂と有機溶媒と添加剤を含むドープＡと、添加剤を含まないか添加剤の含有量がドープＡより少ない樹脂と添加剤と有機溶媒とを含むドープＢと、樹脂と微粒子と有機溶媒とを含むドープＣを調製し、ドープＡがコア層、ドープＢが表面層、ドープＣがドープＢとは反対側の表面層となるように支持体上に共流延して、剥離可能となるまで有機溶媒を蒸発させた後、ウェブを支持体から剥離し、更に延伸時の樹脂フィルム中の残留溶媒量が３〜５０質量％の範囲で少なくとも一軸方向に１．１〜３．０倍延伸すること、延伸温度が１４０〜２００℃の範囲で少なくとも一軸方向に１．１〜３．０倍延伸すること、ドープＡ中の添加剤量が樹脂に対して１〜３０質量％、ドープＢ中の添加剤量が樹脂に対して０〜５質量％であり、添加剤が可塑剤、あるいは紫外線吸収剤、あるいはレターデーション制御剤であること、ドープＡ中とドープＢ中の有機溶媒がメチレンクロライド、又は酢酸メチルを全有機溶媒に対して５０質量％以上含有することを利用することが好ましいことが記載されており、これらの技術を本発明に採用してもよい。
【０１３３】
また、特開２００３−０１４９３３号公報には、延伸する方法として、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を横方向に拡げて横方向に延伸するテンターと呼ばれる横延伸機を好ましく用いることができることが記載されている。
また、当該公報には、縦方向に延伸又は収縮させるには、同時二軸延伸機を用いて搬送方向（縦方向）にクリップやピンの搬送方向の間隔を拡げたり、又は縮めることで行うことができることも開示されている。
更に、当該公報には、リニアドライブ方式でクリップ部分を駆動すると滑らかに延伸を行うことができ、破断等の危険性が減少できるので好ましく、また、縦方向に延伸する方法としては、複数のロールに周速差をつけ、その間でロール周速差を利用して縦方向に延伸する方法も用いることができることが示されている。
加えて、当該公報には、これらの延伸方法は複合して用いることもでき、（縦延伸、横延伸、縦延伸）又は（縦延伸、縦延伸）などのように、延伸工程を２段階以上に分けて行ってもよいことが記載されており、これらの技術を本発明に採用してもよい。
【０１３４】
また、特開２００３−００４３７４号公報には、テンター乾燥のウェブの発泡を防止し、離脱性を向上させ、発塵を防止するために、乾燥装置において、乾燥器の熱風がウェブ両縁部に当たらないように、乾燥器の幅がウェブの幅よりも短く形成されている技術が記載されており、この技術を本発明に採用してもよい。
【０１３５】
また、特開２００３−０１９７５７号公報には、テンター乾燥のウェブの発泡を防止し、離脱性を向上させ、発塵を防止するために、テンターの保持部に乾燥風が当らないようウェブ両側端部内側に遮風板を設ける技術が記載されており、この技術を本発明に採用してもよい。
【０１３６】
また、特開２００３−０５３７４９号公報には、搬送、乾燥を安定的に行うために、ピンテンターにより担持されるフィルムの両端部の乾燥後の厚さをＸ（μｍ）とし、フィルムの製品部の乾燥後の平均厚さをＴ（μｍ）としたときに、Ｔ≦６０において、４０≦Ｘ≦２００を満たし、６０＜Ｔ≦１２０において、４０＋（Ｔ−６０）×０．２≦Ｘ≦３００を満たし、１２０＜Ｔにおいて、５２＋（Ｔ−１２０）×０．２≦Ｘ≦４００を満たす技術が記載されており、この技術を本発明に採用してもよい。
【０１３７】
また、特開平２−１８２６５４号公報には、多段式テンターにシワを発生させないために、テンター装置において、多段式テンターの乾燥器内に加熱室と冷却室とを設け、左右のクリップ−チェーンを別々に冷却する技術が記載されており、この技術を本発明に採用してもよい。
【０１３８】
また、特開平９−０７７３１５号公報には、ウェブの破断、シワ、搬送不良を防止するために、ピンテンターのピンにおいて、内側のピン密度を大きく、外側のピン密度を小さくする技術が記載されており、この技術を本発明に採用してもよい。
【０１３９】
また、特開平９−０８５８４６号公報には、テンター内において、ウェブ自体の発泡やウェブが保持手段に付着するのを防止するために、テンター乾燥装置において、ウェブの両側縁部保持ピンを吹出型冷却器でウェブの発泡温度未満に冷却すると共に、ウェブを喰い込ます直前のピンをダクト型冷却器でのドープのゲル化温度＋１５°Ｃ以下に冷却する技術が記載されており、この技術を本発明に採用してもよい。
【０１４０】
また、特開２００３−１０３５４２号公報には、ピンテンターハズレを防止し、異物を良化するために、ピンテンターにおいて、差込構造体を冷却し、差込構造体と接触しているウェブの表面温度がウェブのゲル化温度を超えないようにする溶液製膜方法に関する技術が記載されており、この技術を本発明に採用してもよい。
【０１４１】
また、特開平１１−０７７７１８号公報には、溶液流延法により速度を上げたり、テンターにてウェブの幅を広げたりする時の平面性等の品質低下を防止するために、テンター内でウェブを乾燥する際には、風速を０．５〜２０（４０）ｍ／ｓ、横手方向温度分布を１０％以下、ウェブ上下風量比を０．２〜１とし、乾燥ガス比を３０〜２５０Ｊ／Ｋｍｏｌとする技術が記載されている。更に、テンター内での乾燥において、残留溶媒の量に応じて好ましい乾燥条件が開示されている。
具体的には、ウェブを支持体から剥離した後、ウェブ中の残留溶媒量が４質量％になるまでの間に、吹き出し口からの吹き出す角度がフィルム平面に対して３０〜１５０゜の範囲にし、かつ乾燥ガスの吹き出し延長方向に位置するフィルム表面上での風速分布を風速の上限値を基準にした時、上限値と下限値との差を上限値の２０％以内にして、乾燥ガスを吹き出し、ウェブを乾燥させること、ウェブ中の残留溶媒量が、７０質量％以上で、１３０質量％以下の時には、吹き出し型乾燥機から吹き出される乾燥ガスのウェブ表面上での風速が０．５ｍ／ｓｅｃ以上、２０ｍ／ｓｅｃ以下とすることまた残留溶媒量が７０質量％未満４質量％以上の時には、乾燥ガスの風速が０．５ｍ／ｓｅｃ以上、４０ｍ／ｓｅｃ以下で吹き出される乾燥ガス風により乾燥させ、ウェブの幅手方向の乾燥ガスの温度分布がガス温度の上限値を基準にした時、上限値と下限値との差を上限値の１０％以内とすること、ウェブ中の残留溶媒量が４質量％以上２００質量％以下の時には、搬送されるウェブの上下に位置する吹き出し型乾燥機の吹き出し口から吹き出す乾燥ガスの風量比ｑが０．２≦ｑ≦１とすることが記載されている。
更に、好ましい態様として、乾燥ガスに少なくとも１種の気体を使用し、その平均比熱が３１．０Ｊ／Ｋ・ｍｏｌ以上、２５０Ｊ／Ｋ・ｍｏｌ以下であること、乾燥中の乾燥ガスに含まれる常温で液体の有機化合物の濃度が、５０％以下の飽和蒸気圧の乾燥ガスで乾燥すること、等が開示されており、これらの技術を本発明に採用してもよい。
【０１４２】
また、特開平１１−０７７７１９号公報には、汚染物質の発生によって平面性や塗布が悪化するのを防止するために、ＴＡＣ（セルローストリアセテート）フィルムの製造装置において、テンターのクリップが加熱部分を内蔵している技術が記載されている。
この技術の更に好ましい態様として、テンターのクリップがウェブを解放してから、再びウェブを担持するまでの間に、クリップとウェブの接触部分に発生する異物を除去する装置を設けること、噴射する気体又は液体及びブラシを用いて異物を除去すること、クリップあるいはピンとウェブとの接触時の残留量は１２質量％以上５０質量％以下であること、クリップあるいはピンとのウェブとの接触部の表面温度は６０°以上２００°以下（より好ましくは８０°以上１２０°以下）であること、等が開示されており、この技術を本発明に採用してもよい。
【０１４３】
また、特開平１１−０９０９４３号公報には、平面性を良化し、テンター内での裂けによる品質低下を改良し、生産性を挙げるために、テンタークリップにおいて、テンターの任意の搬送長さＬｔ（ｍ）と、Ｌｔと同じ長さのテンターのクリップがウェブを保持している部分の搬送方向の長さの総和Ｌｔｔ（ｍ）との比Ｌｒ＝Ｌｔｔ／Ｌｔが、１．０≦Ｌｒ≦１．９９とする発明が記載されている。更に好ましい態様として、ウェブを保持する部分が、ウェブ幅方向から見て隙間なく配置する技術が開示されており、この技術を本発明に採用してもよい。
【０１４４】
また、特開平１１−０９０９４４号公報には、テンターにウェブを導入する際、ウェブのたるみに起因する平面性悪化と導入不安定性を良化させるために、プラスティックフィルムの製造装置において、テンター入口前に、ウェブ幅手方向のたるみ抑制装置を有する技術が記載されている。
この技術の更に好ましい態様として、たるみ抑制装置が幅手方向に広がる角度が２〜６０゜の方向範囲で回転する回転ローラーであること、ウェブの上部に吸気装置を有すること、及びウェブの下から送風できる送風機を有すること、等も開示されており、この技術を本発明に採用してもよい。
【０１４５】
また、特開平１１−０９０９４５号公報には、品質の劣化と生産性を阻害するたるみを起こさせないようにすることを目的として、タックの製法において、支持体より剥離したウェブを水平に対して角度を持たせてテンターに導入する技術が記載されており、この技術を本発明に採用してもよい。
【０１４６】
また、特開平２０００−２８９９０３号公報には、安定した物性のフィルムを作るために、剥離され溶媒含有率５０〜１２質量％の時点で、ウェブの巾方向にテンションを与えつつ搬送する搬送装置において、ウェブの幅検知手段とウェブの保持手段と、２つ以上の可変可能な屈曲点を有しウェブの幅検知で検知の信号からウェブ幅を演算し、屈曲点の位置を変更する技術が記載されており、この技術を本発明に採用してもよい。
【０１４７】
また、特開２００３−０３３９３３号公報には、クリッピング性を向上し、ウェブの破断を長期間防止し、品質の優れたフィルムを得るために、テンターの入口寄り部分の左右両側において、ウェブの左右両側縁部の上方及び下方のうちの少なくとも下方にウェブ側縁部カール発生防止用ガイド板を配置し、ガイド板のウェブ対向面が、ウェブの搬送方向に配されたウェブ接触用樹脂部とウェブ接触用金属部とによって構成することが記載されている。
この技術の更に好ましい態様として、ガイド板のウェブ対向面のウェブ接触用樹脂部がウェブ搬送方向の上流側に、ウェブ接触用金属部が同下流側に配置されること、ガイド板のウェブ接触用樹脂部及びウェブ接触用金属部の間の段差（傾斜を含む）が、５００μｍ以内であること、ガイド板のウェブ接触用樹脂部及びウェブ接触用金属部のウェブに接する幅手方向の距離が、それぞれ２〜１５０ｍｍであること、ガイド板のウェブ接触用樹脂部及びウェブ接触用金属部のウェブに接するウェブ搬送方向の距離が、それぞれ５〜１２０ｍｍであること、ガイド板のウェブ接触用樹脂部が、金属製ガイド基板に表面樹脂加工もしくは樹脂塗装により設けられること、ガイド板のウェブ接触用樹脂部が樹脂単体からなっていること、ウェブの左右両側縁部において上方及び下方に配置されたガイド板のウェブ対向面同士の間の距離が、３〜３０ｍｍであること、ウェブの左右両側縁部において上下両ガイド板のウェブ対向面同士の間の距離が、ウェブの幅手方向にかつ内方に向かって幅１００ｍｍ当たり２ｍｍ以上の割合で拡大されていること、ウェブの左右両側縁部において上下両ガイド板がそれぞれ１０〜３００ｍｍの長さを有するものであり、かつ上下両ガイド板がウェブの搬送方向に沿って前後にずれるように配置されていて、上下両ガイド板同士の間のずれの距離が、−２００〜＋２００ｍｍとなっていること、上部ガイド板のウェブ対向面が、樹脂又は金属のみによって構成されていること、ガイド板のウェブ接触用樹脂部がテフロン（登録商標）製であり、ウェブ接触用金属部がステンレス鋼製であること、ガイド板のウェブ対向面又はこれに設けられたウェブ接触用樹脂部及び／又はウェブ接触用金属部の表面粗さが、３μｍ以下なっていること、等が開示されている。
また、ウェブ側縁部カール発生防止用上下ガイド板の設置位置は、支持体の剥離側端部からテンター導入部までの間が好ましく、特にテンター入口寄り部分に設置するのがより好ましいことも記載されており、これらの技術を本発明に採用してもよい。
【０１４８】
また、特開平１１−０４８２７１号公報には、テンター内で乾燥中発生するウェブの切断やムラを防止するために、剥離後、ウェブの溶媒含有率５０〜１２質量％の時点で、幅延伸装置で延伸、乾燥し、またウェブの溶媒含有率が１０質量％以下の時点で加圧装置によってウェブの両面から０．２〜１０ＫＰａの圧力を付与する技術が記載されている。
この技術の更に好ましい態様として、溶媒含有率が４質量％以上の時点で張力付与を終了することや圧力をウェブ（フィルム）両面から加える方法としてニップロールを用いて圧力を加える場合は、ニップロールのペアは１から８組程度が好ましく、加圧する場合の温度は１００〜２００℃が好ましいことも開示されており、この技術を本発明に採用してもよい。
【０１４９】
また、特開２００２−０３６２６６号公報には、厚さ２０〜８５μｍの高品質薄手タックを得るための技術の好ましい態様として、テンターの前後における、ウェブにその搬送方向に沿って作用する張力の差を、８Ｎ／ｍｍ２以下とすること、剥離工程の後、ウェブを予熱する予熱工程と、この予熱工程の後、テンターを用いてウェブを延伸する延伸工程と、この延伸工程の後、ウェブをこの延伸工程での延伸量よりも少ない量だけ緩和させる緩和工程とを具備し、予熱工程及び前記延伸工程における温度Ｔ１を、（フィルムのガラス転移温度Ｔｇ−６０）℃以上とし、かつ、緩和工程における温度Ｔ２を、（Ｔ１−１０）℃以下とすること、延伸工程でのウェブの延伸率を、この延伸工程に入る直前のウェブ幅に対する比率で０〜３０％に、緩和工程でのウェブの延伸率を、−１０〜１０％すること、等が開示されており、この技術を本発明に採用してもよい。
【０１５０】
また、特開２００２−２２５０５４号公報には、乾燥膜厚が１０〜６０μｍの薄型化及び軽量化透湿性の小耐久性に優れることを目的として、剥離後、ウェブの残留溶媒量が１０質量％になるまでの間に、ウェブの両端をクリップで把持して、幅保持による乾燥収縮抑制を行い、及び／又は幅手方向に延伸を行い、下記式で表される面配向度Ｓが、０．０００８〜０．００２０のフィルムを形成すること（下記式中、Ｎｘは、フィルムの面内の最も屈折率が大きい方向の屈折率、ＮｙはＮｘに対して面内で直角な方向の屈折率、Ｎｚはフィルムの膜厚方向の屈折率を指す。）、流延から剥離までの時間を３０〜９０秒とすること、剥離後のウェブを幅手方向及び／又は長手方向に延伸すること、等が開示されており、この技術を本発明に採用してもよい。
【０１５１】
Ｓ＝｛（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２｝−Ｎｚ）
【０１５２】
また、特開２００２−３４１１４４号公報には、光学ムラ抑制のために、レターデーション上昇剤の質量濃度が、フィルム幅方向中央に近づくほど高い光学分布を持つ、延伸工程を有する溶液製膜方法が記載されており、この技術を本発明に採用してもよい。
【０１５３】
また、特開２００３−０７１８６３号公報には、曇りの発生しないフィルムを得るために、巾手方向の延伸倍率は０〜１００％であることが好ましく、偏光板保護フィルムとして用いる場合は、５〜２０％がより好ましく、８〜１５％が更に好ましいことが記載されている。
一方、当該公報には、位相差フィルム（光学補償フィルム）として用いる場合は、１０〜４０％が更に好ましく、２０〜３０％が最も好ましく、延伸倍率によってＲｏをコントロールすることが可能で、延伸倍率が高い方が、でき上がったフィルムの平面性に優れるため好ましいことが開示されている。
更に、テンターを行う場合のフィルムの残留溶媒量は、テンター開始時に２０〜１００質量％であるのが好ましく、かつ、フィルムの残留溶媒量が１０質量％以下になるまでテンターをかけながら乾燥を行うことが好ましく、５質量％以下が更に好ましいことが示されている。
また、テンターを行う場合の乾燥温度は、３０〜１５０℃が好ましく、５０〜１２０℃が更に好ましく、７０〜１００℃が最も好ましく、乾燥温度の低い方が紫外線吸収剤や可塑剤などの蒸散が少なく、工程汚染を低減できるが、一方、乾燥温度の高い方がフィルムの平面性に優れることも開示されており、この技術を本発明に採用してもよい。
【０１５４】
また、特開２００２−２４８６３９号公報には、高温度、高湿度条件での保存時、縦、横の寸法変動を少なくするために、支持体上にセルロースエステル溶液を流延し、連続的に剥離して乾燥させるフィルムの製造方法において、乾燥収縮率が、下記式を満たすように乾燥させる技術が記載されている。
【０１５５】
０≦乾燥収縮率（％）≦０．１×剥離する時の残留溶媒量（％）
【０１５６】
この技術の更に好ましい態様として、剥離後のセルロースエステルフィルムの残留溶媒量が４０〜１００質量％の範囲内にあるとき、テンター搬送でセルロースエステルフィルムの両端部を把持しながら少なくとも残留溶媒量を３０質量％以上減少させること、剥離後のセルロースエステルフィルムのテンター搬送入り口における残留溶媒量が４０〜１００質量％であり、出口における残留溶媒量が４〜２０質量％であること、テンター搬送でセルロースエステルフィルムを搬送する張力がテンター搬送の入り口から出口に向けて増加するようにすること、テンター搬送でセルロースエステルフィルムを搬送する張力と、幅手方向におけるセルロースエステルフィルムの張力とが略等しいこと、等が開示されており、この技術を本発明に採用してもよい。
【０１５７】
また、特開２０００−２３９４０３号公報には、膜厚が薄く、光学的等方性、平面性に優れたフィルムを得るために、剥離時の残留溶媒率Ｘと、テンターに導入する時の残留溶媒率Ｙとの関係を、０．３Ｘ≦Ｙ≦０．９Ｘの範囲として製膜を行うことが開示されており、この技術を本発明に採用してもよい。
【０１５８】
また、特開２００２−２８６９３３号公報には、流延により製膜するフィルムを延伸する方法として、加熱条件下で延伸する方法と溶媒含有条件下で延伸する方法とが挙げられ、加熱条件下で延伸する場合には、樹脂のガラス転移点近傍以下の温度で延伸することが好ましく、一方、流延製膜されたフィルムを溶媒含浸条件下で延伸する場合には、一度乾燥したフィルムを再度溶媒に接触させて溶媒を含浸させて延伸することが可能であることが開示されており、この技術を本発明に採用してもよい。
【０１５９】
流延工程で用いる金属支持体は、その表面が算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０１５μｍ以下で、十点平均粗さ（Ｒｚ）が、０．０５μｍ以下であることが好ましく、算術平均粗さ（Ｒａ）が、０．００１〜０．０１μｍであり、十点平均粗さ（Ｒｚ）が、０．００１〜０．０２μｍであることがより好ましく、（Ｒａ）／（Ｒｚ）比が０．１５以上であることが更に好ましい。
このように、金属支持体の表面粗さを所定の範囲とすることで、製膜後の透明支持体の表面形状を、後述する好ましい範囲内に制御できる。
【０１６０】
更に本発明のセルロースアシレート溶液は、他の機能層（例えば、接着層、染料層、帯電防止層、アンチハレーション層、ＵＶ吸収層、偏光層など）を同時に流延してもよい。
【０１６１】
＜透明支持体の特性＞
＜＜表面の性状＞＞
本発明に用いる透明支持体の表面は、ＪＩＳ  Ｂ０６０１−１９９４に基づく該膜の表面凹凸の算術平均粗さ（Ｒａ）が、０．０００１〜０．０５μｍ、及び最大高さ（Ｒｙ）が、０．０００２〜０．２μｍであることが好ましい。
膜表面の凹と凸の形状は、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により評価することができる。
本発明の透明支持体の表面状態を上記の凹凸の大きさ内とすることで、後述する透明支持体の表面への密着性付与の塗設において、透明支持体の全面が安定して均一に処理され、処理ムラや塗布ムラ等による光学的な欠陥が解消される。
【０１６２】
また、本発明に用いる透明支持体の動摩擦係数は、０．４以下であることが好ましく、０．３以下であることが特に好ましい。動摩擦係数が大きいと搬送ロールとの間で強く擦られる結果透明支持体から発塵しやすくなり、透明支持体上への異物付着が多くなり、光学補償フィルムの点欠陥や塗布スジの頻度が許容値を超えてしまう。
動摩擦係数は、５ｍｍφの鋼球を用いる鋼球法により測定することができる。
【０１６３】
また、本発明に用いる透明支持体の表面抵抗率は、１．２×１０１２Ω／□以下であることが好ましく、１．０×１０１２Ω／□以下であることがより好ましく、０．８×１０１２Ω／□以下であることが特に好ましい。表面抵抗率を本発明の範囲内とすることにより透明支持体や光学補償フィルムへの異物の付着が抑えられ、光学補償フィルムの点欠陥や塗布スジを少なくすることができる。
【０１６４】
＜＜透明支持体の機械的特性＞＞
［引き裂き強度］
透明支持体の引き裂き強度は、３０℃、８５％ＲＨ（相対湿度）において３〜５０ｇであることが好ましい。
【０１６５】
［引掻き強度］
また、引掻き強度は１ｇ以上であることが好ましく、５ｇ以上であることがより好ましく、１０ｇ以上であることが更に好ましい。
これらの範囲において、透明支持体の表面の耐傷性、ハンドリング性が問題なく保持される。
引掻き強度は、円錐頂角が９０度で、先端の半径が０．２５ｍのサファイヤ針を用いて透明支持体表面を引掻き、引掻き跡が目視にて確認できる荷重（ｇ）をもって評価することができる。
【０１６６】
＜＜透明支持体の吸湿膨張係数＞＞
本発明の光学補償フィルムに用いる透明支持体の吸湿膨張係数を３０×１０−５／％ＲＨ以下とすることが好ましい。吸湿膨張係数は、１５×１０−５／％ＲＨ以下とすることが好ましく、１０×１０−５／％ＲＨ以下であることが更に好ましい。
また、吸湿膨張係数は小さい方が好ましいが、通常は、１．０×１０−５／％ＲＨ以上の値である。吸湿膨張係数は、一定温度下において相対湿度を変化させた時の試料の長さの変化量を示す。
この吸湿膨張係数を調節することで、光学補償フィルムの光学補償機能を維持したまま、額縁状の透過率上昇、すなわち歪みによる光漏れを防止することができる。
【０１６７】
ここで、本実施形態における吸湿膨張係数の測定方法について以下に説明する。
まず、作製した透明支持体から幅５ｍｍ、長さ２０ｍｍの試料を切り出し、片方の端を固定して２５℃、２０％ＲＨ（Ｒ０）の雰囲気下にぶら下げた。他方の端に０．５ｇの重りをぶら下げて、１０分間放置し長さ（Ｌ０）を測定した。次に、温度は２５℃のまま、湿度を８０％ＲＨ（Ｒ１）にして、長さ（Ｌ１）を測定した。吸湿膨張係数は、下式により算出した。測定は同一試料につき１０サンプル行い、平均値を採用した。
【０１６８】
吸湿膨張係数［／％ＲＨ］＝｛（Ｌ１−Ｌ０）／Ｌ０｝／（Ｒ１−Ｒ０）
【０１６９】
作製した透明支持体の吸湿による寸度変化を小さくするには、疎水基を有する化合物或は微粒子等を添加することが好ましい。疎水基を有する化合物としては、分子中に脂肪族基や芳香族基のような疎水基を有する可塑剤や劣化防止剤の中で該当する素材が特に好ましく用いられる。これらの化合物の添加量は、調整する溶液（ドープ）に対して０．０１〜１０質量％の範囲にあることが好ましい。
【０１７０】
＜透明支持体の残留溶剤量＞
本発明に用いる透明支持体の残留溶剤量は、１．５％以下とすることでカールを抑制できる。該残留溶剤量が１．０％以下であることがより好ましい。
これは、前述のソルベントキャスト方法による成膜時に残留溶剤量を少なくすることで自由体積が小さくなることが主要な効果要因になるためと思われる。
具体的には、透明支持体に対する残留溶剤量が、０．０１〜１．５質量％の範囲となる条件で乾燥することが好ましく、０．０１〜１．０質量％の範囲となる条件で乾燥することがより好ましい。
本発明において、残留溶剤量とは、対固形分質量に対する揮発分のことで、下記式で表される値とする。なお、下記式において、Ｗは、試料軟膜質量を示し、Ｗ０は、試料軟膜Ｗを１１０℃で、２時間乾燥した後の試料質量を示す。
【０１７１】
残留溶剤量（質量％）＝（（Ｗ−Ｗ０）／Ｗ０）×１００
【０１７２】
＜光学補償フィルムの透湿度＞
ここで、本発明の透明保護フィルム、光学補償フィルムの透湿度は、ＪＩＳ規格ＪＩＳＺ０２０８、Ｂ条件（温度４０℃、湿度９０％ＲＨ）において、１００〜２，０００ｇ／ｍ２・２４ｈである。
従来知見では、１５０ｇ／ｍ２・２４ｈを越えると、透明支持体のＲｅ値、Ｒｔｈ値の湿度依存性の絶対値が０．５ｎｍ／％ＲＨを超える傾向が強くなり、好ましくない、とされていたが、本発明の化合物Ａを含有するセルロースアシレートフィルムは、透湿度は高くても、Ｒｅ値、Ｒｔｈ値の湿度依存性は低く抑制できる。
【０１７３】
透湿度の測定法は、「高分子の物性ＩＩ」（高分子実験講座４  共立出版）ｐ．２８５−２９４：蒸気透過量の測定（質量法、温度計法、蒸気圧法、吸着量法）に記載の方法を適用することができる。
【０１７４】
＜光学補償フィルムの含水量＞
本発明の透明保護フィルム、光学補償フィルムを構成する透明支持体の含水量は、ポリビニルアルコール等の水溶性ポリマーとの接着性を損なわないために、膜厚の寸法に関わらず、３０℃、８５％ＲＨ下で０．３〜１２ｇ／ｍ２であることが好ましい。ここでも、本発明の化合物Ａを含有するセルロースアシレートフィルムは、含有しないフィルムと比較して含水率は高くなるが、湿度依存性は良化する点で従来知見とは異なる。
【０１７５】
＜透明支持体の光学異方性＞
本発明の光学補償フィルムに用いる透明支持体は、光学異方性を示し、その程度を表すＲｅレターデーション値（面内のレターデーション値）、及びＲｔｈレターデーション値（厚さ方向のレターデーション値）は、それぞれ、下記式（ａ）及び（ｂ）で定義される。
なお、下記式（ａ）、及び式（ｂ）中、ｎｘは、前記透明支持体の面内の遅相軸方向の屈折率であり、ｎｙは、前記透明支持体の面内の進相軸方向の屈折率であり、ｎｚは、前記透明支持体の厚み方向の屈折率であり、ｄは、前記透明支持体の厚さである。
【０１７６】
Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ・・・・・・・・・・・・・・・・・式（ａ）
Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ・・・・・・・・・式（ｂ）
【０１７７】
本発明では、透明支持体のＲｅレターデーション値が、４〜２００ｎｍの範囲であることが好ましく、１０〜１００ｎｍの範囲であることがより好ましい。また、Ｒｔｈレターデーション値は５０〜４００ｎｍの範囲であることが好ましく、１００〜２００ｎｍの範囲であることがより好ましい。
なお、透明支持体の複屈折率（Δｎ：ｎｘ−ｎｙ）は、波長５５０ｎｍに対して０．００００２５〜０．００８８であることが好ましく、０．０００３〜０．００５がより好ましい。
また、厚み方向の複屈折率｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝は、波長５５０ｎｍに対して０．０００６〜０．０２であることが好ましく、より好ましくは０．００１〜０．００７である。
【０１７８】
更に、本発明の透明支持体は、下記式（３）〜式（６）を満たすことを特徴とする。
０．５≦Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．０・・・・・・・・・式（３）
１．０≦Ｒｅ（６３０）／Ｒｅ（５５０）≦１．５・・・・・・・・・式（４）
１．０≦Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）≦１．５・・・・・・・式（５）
０．５≦Ｒｔｈ（６３０）／Ｒｔｈ（５５０）≦１．０・・・・・・・式（６）
なお、式（３）は、０．５以上１．０以下の範囲にあることが好ましく、０．５以上０．９以下の範囲にあることがより好ましい。
また、式（４）は、１．０以上１．５以下の範囲にあることが好ましく、１．０以上１．４５以下の範囲にあることがより好ましい。
また、式（５）は、１．０以上１．５以下の範囲にあることが好ましく、１．０以上１．３以下の範囲にあることがより好ましい。
また、式（６）は、０．５以上１．０以下の範囲にあることが好ましく、０．６以上１．０以下の範囲にあることがより好ましい。
ただし、上記式（３）〜式（６）中、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍの光に対する前記光学補償フィルムのレターデーション値であり、Ｒｔｈ（λ）は、波長λｎｍの光に対する前記前記光学補償フィルムの厚さ方向のレターデーション値である。
【０１７９】
更に、本発明の透明支持体は、下記式（ｃ）、式（ｄ）を満たすことを特徴とする。
０ｎｍ＜Δ（Ｒｅ（１０％ＲＨ）−Ｒｅ（８０％ＲＨ））＜１５ｎｍ・・・・式（ｃ）
０ｎｍ＜Δ（Ｒｔｈ（１０％ＲＨ）−Ｒｔｈ（８０％ＲＨ））＜１５ｎｍ・・・式（ｄ）
ただし、上記式（ｃ）〜式（ｄ）中、Ｒｅ（１０％ＲＨ）及びＲｅ（８０％ＲＨ）は、透明支持体をそれぞれ２５℃１０％、及び２５℃８０％湿度環境下で光学特性が十分変化するまで調湿したときのレターデーション値であり、Ｒｔｈ（１０％ＲＨ）、及びＲｔｈ（８０％ＲＨ）は、透明支持体をそれぞれ２５℃１０％及び２５℃８０％湿度環境下で光学特性が十分変化するまで調湿したときの厚さ方向のレターデーション値である。
上記式（ｃ）及び式（ｄ）の範囲は０〜１５ｎｍであることが好ましく、０〜１０ｎｍであることがより好ましく、０〜５ｎｍの範囲であることが更に好ましい。
【０１８０】
特に、ＴＮモードに用いる光学補償フィルムの透明支持体としては、Ｒｅレターデーション値が４〜４０ｎｍ、そして、Ｒｔｈレターデーション値は、５０〜２００ｎｍの範囲であることが好ましく、ＯＣＢ、ＨＡＮ、ＶＡＮ、ホモジニアス配向モード等のＥＣＢモードに用いる光学補償フィルムの透明支持体としては、Ｒｅレターデーション値が、１０〜７０ｎｍ、そして、Ｒｔｈレターデーション値は、７０〜４００ｎｍの範囲であることが好ましい。
また、積極的に光学補償機能を付与しない透明保護フィルム用途の場合には、Ｒｅレターデーション値が０〜４０ｎｍ、そしてＲｔｈレターデーション値は０〜２００ｎｍの範囲であることが好ましい。
【０１８１】
＜透明支持体の密着性付与の方法＞
本発明の光学補償フィルムの透明支持体は、更に液晶性物質からなる光学補償層を配向膜上に配向させて固定化して形成する場合、配向膜を塗布方式で設ける場合には、該透明支持体の表面に密着性を付与し、配向膜用塗布液が均一に塗工されるように表面処理を施すことが好ましい。
表面処理の方法としては、配向膜の下塗り層を設ける方法が挙げられる。
配向膜の下塗り層を設ける方法としては、例えば、特開平７−３３３４３３号公報に記載の下塗り層、或いは、疎水性基と親水性基との両方を含有するゼラチン等の樹脂層を一層のみ塗布する単層法が挙げられる。
その他にも、第１層として高分子フィルムによく密着する層（以下、下塗第１層とする。）を設け、その上に第２層として配向膜とよく密着するゼラチン等の親水性の樹脂層（以下、下塗第２層と略す）を塗布する所謂重層法が挙げられる。この重層法は、例えば、特開平１１−２４８９４０号公報に記載されている。
【０１８２】
＜＜透明支持体の表面処理＞＞
本発明の透明支持体は、薄層フィルムであることから、透明支持体の表面に直接親水化処理を施すことが好ましい。
表面処理としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、紫外線照射処理、オゾン処理、酸処理、アルカリ鹸化処理等が挙げられる。アルカリ鹸化処理がより好ましい。
【０１８３】
［アルカリ鹸化処理］
アルカリ鹸化処理は、アルカリ溶液を透明支持体に浸漬、噴射若しくは塗布することで行い、塗布で鹸化処理することが好ましい。
【０１８４】
−アルカリ溶液−
本発明においてアルカリ鹸化処理に用いるアルカリ溶液は、ｐＨ１１以上であることが好ましく、ｐＨ１２〜１４であることがより好ましい。
アルカリ溶液に用いられるアルカリ剤の例としては、無機アルカリ剤として、水酸化ナトリウム、同カリウム、同リチウム等が挙げられる。
また、有機アルカリ剤としては、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ＤＢＵ（１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］−７−ウンデセン）、ＤＢＮ（１，５−ジアザビシクロ［４，３，０］−５−ノネン）、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、トリエチルブチルアンモニウムヒドロキシドなどが挙げられる。
これらのアルカリ剤は、単独又は二種以上を組み合わせて併用することもでき、一部を例えばハロゲン化したような塩の形態として添加してもよい。
これらのアルカリ剤の中でも、水酸化ナトリウム或は水酸化カリウムが、これらの量を調整することにより広いｐＨ領域でのｐＨ調整が可能となるため好ましい。
また、アルカリ溶液の濃度は、使用するアルカリ剤の種類、反応温度及び反応時間に応じて決定されるが、アルカリ剤の含有量は、アルカリ溶液中の０．１〜５ｍｏｌ／Ｋｇが好ましく、０．５〜３ｍｏｌ／Ｋｇがより好ましい。
【０１８５】
本発明のアルカリ溶液の溶媒は、水及び水溶性有機溶媒の混合溶液を含有することからなることが好ましい。
有機溶媒としては、水と混和可能な有機溶媒であればいずれも用いることができ、沸点が１２０℃以下の有機溶媒が好ましく、沸点が１００℃以下の有機溶媒が特に好ましい。
その中でも好ましい有機溶媒は、無機性／有機性値（Ｉ／Ｏ値）が、０．５以上、かつ溶解度パラメーターが１６〜４０（ｍＪ／ｍ３）の範囲のものが好ましい。
より好ましくは、Ｉ／Ｏ値が、０．６〜１０、且つ溶解度パラメーターが１８〜３１（ｍＪ／ｍ３）である。
Ｉ／Ｏ値がこの範囲よりも無機性が強いか、又は溶解度パラメーターが低いと、アルカリ鹸化速度が低下し、また鹸化度の全面均一性も不満足となる。
一方、Ｉ／Ｏ値が上記範囲よりも有機性が強いか、又は溶解度パラメーターが高いと、鹸化速度は速いが、ヘイズを生じ易く、したがって、全面均一性の点では同様に不満足となる。
【０１８６】
また、有機溶媒、特に、有機性と溶解性の各範囲の有機溶媒を後述する界面活性剤や、相溶化剤等と組み合わせて用いると高い鹸化速度が維持されて、かつ全面に亘る鹸化度の均一性が向上する。
好ましい特性値を有する有機溶媒は、例えば、有機合成化学協会編、「新版溶剤ポケットブック」（（株）オーム社、１９９４年刊）等に記載されている。また、有機溶媒の無機性／有機性値（Ｉ／Ｏ値）については、例えば、甲田善生著「有機概念図」（三共出版社１９８３年刊）ｐ．１〜３１に記載されている。
【０１８７】
具体的には、一価脂肪族アルコール類（メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ペンタノール等）、二価脂肪族アルコール類（エチレングリコール、プロピレングリコール等）、脂環式アルカノール（シクロヘキサノール、メチルシクロヘキサノール、メトキシシクロヘキサノール、シクロヘキシルメタノール、シクロヘキシルエタノール、シクロヘキシルプロパノール等）、フェニルアルカノール（べンジルアルコール、フェニルエタノール、フェニルプロパノール、フェノキシエタノール、メトキシベンジルアルコール、ベンジルオキシエタノール等）、複素環式アルカノール類（フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール等）、グリコール化合物のモノエーテル類（メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、プロピルセルソルブ、ブチルセルソルブ、ヘキシルセルソルブ、メチルカルビトール、エチルカルビトール、プロピルカルビトール、ブチルカルビトール、メトキシトリグリコール、エトキシトリグリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル等）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等）、アミド類（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、１，３ジメチルイミダゾリジノン等）、スルホキシド類（ジメチルスルホキシド等）及びエーテル類（テトラヒドロフラン、ピラン、ジオキサン、トリオキサン、ジメチルセルソルブ、ジエチルセルソルブ、ジプロピルセルソルブ、メチルエチルセルソルブ、ジメチルカルビトール、ジメチルカルビトール、メチルエチルカルビトール等）等が挙げられる。用いる有機溶媒は、単独若しくは２種以上を混合して用いてもよい。
【０１８８】
有機溶媒を単独或いは２種以上を混合する場合の少なくとも一種の有機溶媒は、水への溶解性が大きなものが好ましい。有機溶媒の水の溶解度は、５０質量％以上が好ましく、水と自由に混合するものがより好ましい。これによりアルカリ剤、鹸化処理で副生する脂肪酸の塩、空気中の二酸化炭素を吸収して生じた炭酸の塩等への溶解性が充分なアルカリ溶液を調製できる。
有機溶媒の溶媒中の使用割合は、溶媒の種類、水との混和性（溶解性）、反応温度及び反応時間に応じて決定する。
水と有機溶媒の混合比（質量比）は、３／９７〜８５／１５が好ましく、５／９５〜６０／４０がより好ましく、１５／８５〜４０／６０がさらに好ましい。これらの範囲において、アシレートフィルムの光学特性を損なうことなく容易に、透明支持体の全面が均一に鹸化処理される。
【０１８９】
本発明に用いるアルカリ溶液が含有する有機溶媒として、上記した好ましいＩ／Ｏ値を有する有機溶媒とは異なる有機溶媒（例えば、フッ化アルコール等）を、後述の界面活性剤、相溶化剤の溶解助剤として併用してもよい。その含有量は、使用液の総質量に対して０．１〜５％が好ましい。
【０１９０】
本発明に用いるアルカリ溶液は、界面活性剤を含有することが好ましい。界面活性剤を添加することによって表面張力を下げて塗布を容易にしたり、塗膜の均一性を上げてハジキ故障を防止し、かつ有機溶媒が存在すると起こり易いヘイズを抑止し、さらに鹸化反応が均一に進行する。
その効果は、後述する相溶化剤の共存によって特に顕著となる。
なお、用いられる界面活性剤には特に制限はなく、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、フッ素系界面活性剤等のいずれであってもよい。
【０１９１】
具体的には、例えば、吉田時行著「界面活性剤ハンドブック（新版）」（工学図書、１９８７年刊行）、「界面活性剤の機能創製・素材開発・応用技術」第１編（技術教育出版、２０００年刊行）等記載の公知の化合物が挙げられる。
これらの界面活性剤の中でも、カチオン性界面活性剤としての４級アンモニウム塩類、ノニオン性界面活性剤としての各種のポリアルキレンレングリコール誘導体類、各種のポリエチレンオキサイド付加物類等のポリエチレンオキサイド誘導体類、両性界面活性剤としてのベタイン型化合物類が好ましい。
アルカリ溶液には、ノニオン活性剤とアニオン活性剤、又はノニオン活性剤とカチオン活性剤を共存させて用いることも本発明の効果が高められて好ましい。
【０１９２】
これらの界面活性剤のアルカリ溶液に対する添加量は、０．００１〜１０質量％が好ましく、０．０１〜５質量％がより好ましい。
【０１９３】
本発明に用いられるアルカリ溶液は、相溶化剤を含有させることも好ましい。本発明において、「相溶化剤」とは、温度２５℃において、相溶化剤１００ｇに対して水の溶解度が５０ｇ以上となる親水性化合物をいう。相溶化剤の水の溶解度は、相溶化剤１００ｇに対して、８０ｇ以上であるのが好ましく、１００ｇ以上であるのがより好ましい。また、相溶化剤が液状化合物である場合は、沸点が１００℃以上であるのが好ましく、１２０℃以上であるのがより好ましい。
【０１９４】
相溶化剤は、アルカリ溶液を貯留する浴等の壁面に付着したアルカリ溶液の乾燥を防止し、固着を抑制し、アルカリ溶液を安定に保持させる作用を有する。また、透明支持体の表面にアルカリ溶液を塗布して一定時間保持した後、鹸化処理を停止するまでの間に、塗布されたアルカリ溶液の薄膜が乾燥し、固形物の析出を生じ、水洗工程での固形物の洗い出しを困難にすることを防止する作用を有する。さらには、溶媒となる水と有機溶剤との相分離を防止する。
特に、界面活性剤と有機溶剤と上述した相溶化剤との共存によって、処理された透明支持体は、ヘイズが少なく、かつ、長尺の連続鹸化処理の場合であっても安定して全面均一な鹸化度となる。
【０１９５】
相溶化剤は、上記の条件を満たす材料であれば、特に限定されず、例えば、ポリオール化合物、糖類等のヒドロキシル基、及び／又はアミド基を有する繰り返し単位を含む水溶性重合体が好ましく挙げられる。
ポリオール化合物は、低分子化合物、オリゴマー化合物及び高分子化合物のいずれも用いることができる。ポリオール化合物の具体例を以下に挙げる。
脂肪族ポリオール類としては、例えば、炭素数２〜８のアルカンジオール、及びヒドロキシル基を３個以上含有する炭素数３〜１８のアルカン類が挙げられる。
前記炭素数２〜８のアルカンジオールとしては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、グリセリンモノメチルエーテル、グリセリンモノエチルエーテル、シクロヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタノール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール等が挙げられる。
また、前記ヒドロキシル基を３個以上含有する炭素数３〜１８のアルカン類としては、例えば、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、トリメチロールブタン、ヘキサントリオール、ペンタエリスリトール、ジグリセリン、ジペンタエリスリトール、イノシットール等が挙げられる。
【０１９６】
ポリアルキレンオキシポリオール類としては、上記のような同じアルキレンジオール同士が結合していてもよく、異なるアルキレンジオールが互いに結合していてもよいが、同じアルキレンジオール同士が結合したポリアルキレンポリオールがより好ましい。
いずれの場合でも、結合数は３〜１００であるのが好ましく、３〜５０であるのがより好ましい。具体的には、例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリ（オキシエチレン−オキシプロピレン）が挙げられる。
【０１９７】
糖類としては、例えば、高分子学会高分子実験学編集委員会編「天然高分子」第二章（共立出版（株）、１９８４年刊）、小田良平等編「近代工業化学２２、天然物工業化学ＩＩ」（（株）朝倉書店、１９６７年刊）等に記載されている水溶性化合物が挙げられる。その中でも、遊離のアルデヒド基及びケトン基を持たず、還元性を示さない糖類が好ましい。
前記糖類は、一般に、グルコース、スクロース、還元基同士の結合したトレハロース型少糖類、糖類の還元基と非糖類が結合した配糖体、及び糖類に水素添加して還元した糖アルコールに分類されるが、いずれも本発明に好適に用いることができる。
前記糖類としては、例えば、サッカロース、トレハロース、アルキル配糖体、フェノール配糖体、カラシ油配糖体、Ｄ，Ｌ−アラビット、リビット、キシリット、Ｄ，Ｌ−ソルビット、Ｄ，Ｌ−マンニット、Ｄ，Ｌ−イジット、Ｄ，Ｌ−タリット、ズリシット、アロズルシット、及び還元水あめが挙げられる。これらの糖類は、単独、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１９８】
前記ヒドロキシル基、及び／又はアミド基を有し、繰り返し単位を有する水溶性重合体としては、例えば、天然ガム類（例えば、アラビアガム、グアーガム、トラガンドガム等）、ポリビニルピロリドン、ジヒドキシプロピルアクリレート重合体、セルロース類、又はキトサン類とエポキシ化合物（エチレンオキサイド、又はプロピレンオキサイド）との付加反応体が挙げられる。
それらの中でも、アルキレンポリオール、ポリアルキレンオキシポリオール、糖アルコール等のポリオール化合物が好ましい。
また、相溶化剤の含有量は、アルカリ溶液に対して、０．５〜２５質量％であるのが好ましく、１〜２０質量％であるのがより好ましい。
【０１９９】
本発明に用いられるアルカリ溶液は、その他の添加剤を含有してもよい。その他の添加剤としては、例えば、消泡剤、アルカリ溶液安定化剤、ｐＨ緩衝剤、防腐剤、及び防菌剤等の公知のものが挙げられる。
【０２００】
−アルカリ鹸化方法−
上記のアルカリ溶液を用いた透明支持体の表面処理方法は、従来公知のいずれの方法でもよく、アルカリ溶液に浸漬すること、又はアルカリ溶液を塗布することが好ましく、特に、透明支持体の片面のみをムラ無く均一に鹸化処理する場合は、塗布方式が好ましい。
塗布の方法としては、従来公知の塗布方法が利用でき、例えば、ダイコーター（エクストルージョンコーター、スライドコーター、スリットコーター）、ロールコーター（順転ロールコーター、逆転ロールコーター、グラビアコーター）、ロッドコーター、ブレードコーター等が好ましく利用できる。
【０２０１】
鹸化処理は、処理する透明支持体の変形、処理液の変質等が生じない温度１２０℃を越えない範囲の処理温度で行うことが好ましい。
さらに、当該処理温度は１０〜１００℃の範囲が好ましく、２０〜８０℃がさらに好ましい。
また、鹸化処理の時間は、アルカリ溶液、処理温度により適宜調整して決定するが、１〜６０秒の範囲で行われるのが好ましい。
さらに、透明支持体をその表面が少なくとも１０℃以上の温度で、アルカリ溶液で鹸化処理する工程、透明支持体の温度を少なくとも１０℃以上に維持する工程、そして、アルカリ溶液を透明支持体から洗い落とす工程によりアルカリ鹸化処理を実施することが好ましい。
【０２０２】
透明支持体の表面を、所定の温度にてアルカリ溶液で鹸化する処理には、塗布する前に予め所定の温度に調整する工程、アルカリ液を予め所定の温度に調整しておく工程、或いはこれらを組み合わせた工程等が挙げられる。それらの中でも、塗布する前に予め所定の温度に調整する工程と組み合わせることが好ましい。
鹸化処理の反応工程は、アルカリ溶液の炭酸ガスによる劣化の抑制及び液の長寿命化等から、処理工程を半密閉若しくは密閉構造にする、不活性ガス（窒素ガス、アルゴンガス等）の導入等を行うことが好ましい。
鹸化反応後は、水洗、中和し、水洗等で、透明支持体の表面からアルカリ溶液、及び鹸化処理の反応物とを洗浄し、除去することが好ましい。
【０２０３】
表面処理後の透明支持体の水との接触角は、２０〜５５℃が好ましく、２５〜４５℃がより好ましい。また、表面エネルギーは、５５ｍＮ／ｍ以上であることが好ましく、５５〜７５ｍＮ／ｍであることがより好ましい。
透明支持体の表面エネルギーは、「ぬれの基礎と応用」（リアライズ社、１９８９．１２．１０発行）に記載のように、接触角法、湿潤熱法、及び吸着法により求めることができる。その中でも、接触角法を用いることが好ましい。
この接触角法は、具体的には、表面エネルギーが既知である２種の溶液を透明支持体に滴下し、液滴の表面と透明支持体表面との交点において、液滴に引いた接線と透明支持体表面のなす角で、液滴を含む方の角を接触角と定義し、計算により透明支持体の表面エネルギーを算出する方法である。
【０２０４】
＜配向膜＞
本発明の配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）塗布液を塗布して形成される配向膜が好ましい。配向膜の膜自身の強度、下層或は上層となる光学異方性層との密着性の観点から硬化されたポリマー膜であることが好ましい。配向膜は、その上に設けられる液晶性化合物の配向方向を規定するために設けられる。配向規定の方法としては、従来公知のラビング、磁場或は電場の付与、光照射等の方法が挙げられる。
【０２０５】
本発明に供される配向膜は、液晶セルの表示モードの種類に応じることができる。
ＶＡ、ＯＣＢ、ＨＡＮ等の、液晶セル内の棒状液晶性分子の多くが実質的に垂直に配向している表示モードでは、光学的異方性層の液晶性分子を実質的に水平に配向させる機能を有する。
一方、ＳＴＮ等の、液晶セル内の棒状液晶性分子の多くが実質的に水平に配向している表示モードでは、光学的異方性層の液晶性分子を実質的に垂直に配向させる機能を有する。
また、ＴＮ等の、液晶セル内の棒状液晶性分子の多くが実質的に斜めに配向している表示モードでは、光学的異方性層の液晶性分子を実質的に斜めに配向させる機能を有する。
【０２０６】
本発明の配向膜に使用される具体的なポリマーの種類については、前述した様々な表示モードに対応するディスコティック液晶性分子を用いた光学補償フィルムについての文献に記載がある。
配向膜に使用されるポリマーは、それ自体架橋可能なポリマーあるいは架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができ、これらの組み合わせを複数使用することができる。
前記ポリマーの例として、例えば特開平８−３３８９１３号公報の段落番号［００２２］に記載された化合物が挙げられる。その中でも、水溶性ポリマー（例えば、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール）が好ましく、その中でも、ゼラチン、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールが更に好ましく、更には、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールが最も好ましい。
ポリビニルアルコールの鹸化度は、７０〜１００ｍｏｌ％が好ましく、８０〜１００ｍｏｌ％が更に好ましく、８５〜９５ｍｏｌ％が最も好ましい。また、ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜３，０００であることが好ましい。
【０２０７】
変性ポリビニルアルコールの変性基は、共重合変性、連鎖移動変性、又はブロック重合変性により導入できる。
前記変性基の例としては、親水性基（カルボン酸基、スルホン酸基、ホスホン酸基、アミノ基、アンモニウム基、アミド基、チオール基等）、炭素数１０〜１００個の炭化水素基、フッ素原子置換の炭化水素基、チオエーテル基、重合性基（不飽和重合性基、エポキシ基、アジリニジル基等）、アルコキシシリル基（トリアルコキシ、ジアルコキシ、モノアルコキシ）等が挙げられる。
これらの変性ポリビニルアルコール化合物の具体例として、例えば、特開２０００−５６３１０号公報の段落番号［００７４］、特開２０００−１５５２１６号公報の段落番号［００２２］〜［０１４５］、特開２００２−６２４２６号公報の段落番号［００１８］〜［００２２］に記載のもの等が挙げられる。
【０２０８】
前記配向膜に使用するポリマー（好ましくは水溶性ポリマー、更に好ましくはポリビニルアルコール、又は変性ポリビニルアルコール）の架橋剤の例には、アルデヒド、Ｎ−メチロール化合物、ジオキサン誘導体、カルボキシル基を活性化することにより作用する化合物、活性ビニル化合物、活性ハロゲン化合物、イソオキサゾール及びジアルデヒド澱粉が含まれる。二種類以上の架橋剤を併用してもよい。具体的には、例えば、特開２００２−６２４２６号公報の段落番号［００２３］〜［００２４］記載の化合物等が挙げられる。その中でも、反応活性の高いアルデヒド、特にグルタルアルデヒドが好ましい。
【０２０９】
架橋剤の添加量は、ポリマーに対して０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１５質量％がより好ましい。
また、配向膜に残存する未反応の架橋剤の量は、１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることが更に好ましい。配向膜中に１．０質量％を超える量で架橋剤が残存していると、充分な耐久性が得られない。そのような配向膜を液晶表示装置に使用すると、長期使用、あるいは高温高湿の雰囲気下に長期間放置した場合にレチキュレーションが発生することがある。
配向膜は、基本的に、配向膜形成用組成物である前記ポリマー、架橋剤及び特定のカルボン酸を含む塗布液を透明支持体上に塗布した後、加熱乾燥し（架橋させ）、配向処理することにより形成することができる硬化膜である。
架橋反応は、前記のように、透明支持体上に塗布した後、任意の時期に行なってよい。ポリビニルアルコールのような水溶性ポリマーを、配向膜形成用組成物として用いる場合には、塗布液は消泡作用のある有機溶媒（例、メタノール）と水の混合溶媒とすることが好ましい。その比率は、質量比で水：メタノールが０：１００〜９９：１が好ましく、０：１００〜９１：９であることがより好ましい。これにより、泡の発生が抑えられ、配向膜、更には光学異方性層の層表面の欠陥が著しく減少する。
【０２１０】
配向膜の塗布方法は、スピンコーティング法、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、ダイコーティング法（エクストルージョンコーティング法、スライドコーティング法、スリットコーティング法等）、ロッドコーティング法、又はロールコーティング法が好ましい。特にロッドコーティング法、ダイコーティング法が好ましい。
また、乾燥後の膜厚は、０．１〜１０μｍが好ましい。加熱乾燥は、２０〜１１０℃で行なうことができる。充分な架橋を形成するためには、６０〜１００℃が好ましく、８０〜１００℃が特に好ましい。乾燥時間は１分〜３６時間で行なうことができるが、好ましくは１〜３０分である。
【０２１１】
更に、本発明の配向膜形成用組成物を含有する塗布液を、透明支持体に塗布、乾燥し、配向手段で配向させた後に、光学異方性層用塗布液が塗布されるときに、該配向膜の表面がｐＨ２．０〜６．９の範囲に保持されることが好ましく、ｐＨ２．５〜５．０の範囲に保持されることがより好ましい。
また、該光学異方性層用塗布液を塗布する際に、塗布の幅方向での配向膜表面のｐＨの変動幅△ｐＨが、±０．３０の範囲で行われることが好ましく、前記△ｐＨが、±０．１５の範囲で行われることがより好ましい。
配向膜の表面のｐＨ値の測定方法は、該配向膜を塗設した試料を（温度２５℃／湿度６５％ＲＨ）の環境下に１日静置した後、窒素雰囲気下で純水を１０ｍＬ乗せて速やかにｐＨメーターでｐＨ値を読み取ることによって行う。
本発明の配向膜の表面のｐＨ値を特定とし、かつ塗布幅方向での△ｐＨを制御するには、上記のロッドコーティング方式による塗布により達成される。更には、配向膜の表面の乾燥温度、乾燥風を用いる場合のその風量、風向等を適宜調節することも有効である。
【０２１２】
＜ラビング処理＞
ラビング処理は、配向膜の表面を、紙や布で一定方向に、数回こすることにより実施する。このとき、長さ及び太さが均一な繊維を均一に植毛した布を用いることが好ましい。
本発明においてラビング処理は、上記の布を貼りつけたロールを、配向膜を設けた透明支持体の搬送方向と任意の角度で配置し、布を植毛した毛先が前記配向膜に接触する状態で、透明支持体を１〜１００ｍ／分の速度で送りながら、ロールを、１００〜１００，０００回／分の速度で回転させることで行われる。
また、前記ロールと透明支持体の搬送方向（長手方向）とのなす角度は、任意に調整して行うことができ、当該角度は、４５〜９０°の範囲が好ましく、その調整された角度を±５°の範囲内で制御することが更に好ましい。
【０２１３】
本発明の配向膜のラビング処理において、均一で安定した配向状態にラビングするには温度と湿度を一定に制御して行うことが好ましい。具体的には、当該温度が２０〜２８℃、当該湿度が３５〜６０％ＲＨ未満に制御することが好ましい。特に、当該湿度を３５〜５０％ＲＨで行うことが好ましい態様として挙げられる。
また、配向膜の表面をラビング布でラビング処理する場合、ラビング布と配向膜との摩擦によって静電気が発生し、発生した静電気が配向膜の表面に帯電するため、空気中の浮遊塵埃を前記配向膜の表面に吸着する原因となる。前記配向膜の表面に塵埃が付着すると、前記配向膜による液晶の配向状態が不均一になったり、光学的な点状欠陥等の視認性の悪化が生じる。
【０２１４】
上記静電気に対する対策としては、前記配向膜に帯電する静電気に対して逆極性のイオンを発生するイオンバー、軟Ｘ線の照射等の除電装置を用いて、静電気の除去と、ラビングで生じた微粉や付着した塵埃等を超音波除塵装置により除去とを、前記配向膜に対してラビング処理の前後で行うことが好ましい。この方法は、例えば、特開平７−３３３６１３号公報、及び特開平１１−３０５２３３号公報に記載されている。
更には、長尺ロールを連続して処理する場合において、ラビング布の帯電電位が｜１｜ＫＶを越えないように表面電位を検知して、この帯電量を超えないようにラビング布を除電することが好ましい。ラビング布の帯電電位としては、｜０．５｜ＫＶ以下が好ましく、０〜｜０．２｜ＫＶで行うことがより好ましい。なお、電荷の正負は配向膜とラビング材料との組み合わせにより決まる。
【０２１５】
また、湿式方法として、特開２００１−３８３０６号公報記載されている、ラビングを行ったウェブが走行している状態で、液体、好ましくは配向膜を膨潤させないフロリナート、ヘキサン、トルエン等の溶剤で濡らした弾性体に擦った後、該弾性体で連続的に擦った面に液体、好ましくは前に使用した溶剤を噴射する湿式の除塵処理を行う方法（ラビング後の除塵方法）を適用することも好ましい。
上記の方法により、配向の乱れ及び異物付着等による光学的な欠陥が軽減若しくは解消される。
【０２１６】
＜光学異方性層＞
光学異方性層を有する光学補償フィルムは、ベンド配向、ハイブリッド配向などを示すネマチック液晶からなる液晶セルの複屈折をキャンセルするために好ましく用いられ、構成、原理については、特許第３１１８１９７号明細書などに詳細が示されている。
【０２１７】
光学異方性層を有する光学補償フィルムは、液晶セルに起因する複屈折をキャンセルするため、液晶セル内のネマチック液晶のラビング方向と、光学補償フィルムの、光学異方性層のレターデーションが最小値となる方向をシート面上へ正射影した方向とを平行にすることが好ましい。
【０２１８】
光学異方性層に使用する液晶性化合物としては、棒状液晶性化合物や円盤状液晶性化合物（ディスコティック液晶性化合物とも称する）を用いることができる。
棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。
これら低分子液晶化合物は、重合性基を分子内に有することが好ましい（例えば、特開２０００−３０４９３２号公報段落番号［００１６］等記載）。
以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。
高分子液晶性化合物は、以上のような低分子液晶性化合物に相当する側鎖を有するポリマーである。高分子液晶性化合物を用いた光学補償フィルムについては、特開平５−５３０１６号公報に記載がある。
【０２１９】
液晶性化合物としては、ディスコティック液晶性化合物が好ましい。
更に、ディスコティック液晶性化合物の円盤状構造単位の面が、透明支持体の表面に対して傾き、かつ円盤状構造単位の面と透明支持体の表面とのなす角度が、光学異方性層の深さ方向に変化していることが好ましい。
このような光学異方性層は、透明支持体上に配向膜を設け、その上に液晶性化合物からなる層を積層させ、ディスコティック液晶性化合物を例えば重合させるなどして、液晶性分子の配向を固定することで形成することができる。
【０２２０】
ディスコティック液晶性化合物は、様々な文献に記載されている。例えば、「Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅ  ｅｔ  ａｌ．，Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｒ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，ｖｏｌ．７１，ｐａｇｅ  １１１  （１９８１）」、「日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節（１９９４）」、「Ｂ．Ｋｏｈｎｅ  ｅｔ  ａｌ．，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．，ｐａｇｅ  １７９４  （１９８５）」、及び「Ｊ．Ｚｈａｎｇ  ｅｔ  ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ｖｏｌ．  １１６，ｐａｇｅ  ２６５５  （１９９４）」に記載されている。なお、ディスコティック液晶の重合については、特開平８−２７２８４公報に記載がある。
【０２２１】
ディスコティック液晶性化合物を重合により固定するためには、ディスコティック液晶性化合物の円盤状構造単位に、置換基として重合性基を結合させる必要がある。円盤状構造単位と重合性基は、連結基を介して結合するディスコティック液晶性化合物が好ましく、これにより重合反応においても配向状態を保つことができる。
重合性基は、ラジカル重合性基、又はカチオン重合性基から選ばれる重合性基であることが好ましく、エチレン性不飽和重合性基（アクリロイルオキシ基、メタクロイルオキシ基等）、エポキシ基であることが最も好ましい。このような化合物については、例えば、特開２０００−１５５２１６号公報段落番号［０１５１］〜「０１６８」記載の化合物等が挙げられる。
【０２２２】
二種類以上のディスコティック液晶性化合物を併用してもよい。例えば、上述したような重合性ディスコティック液晶性化合物と非重合性ディスコティック液晶性化合物とを併用することができる。
非重合性ディスコティック液晶性化合物は、重合性ディスコティック液晶性化合物の重合性基を、水素原子、又はアルキル基に変更した化合物であることが好ましい。すなわち、非重合性ディスコティック液晶性化合物としては、例えば特許第２６４００８３号明細書に記載の化合物等が挙げられる。
【０２２３】
＜光学異方性層の他の添加剤＞
光学異方性層には、上記の液晶性化合物と共に、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー等を併用して、塗工膜の均一性、膜の強度、液晶性化合物の配向性等を向上させることができる。これらの添加剤は、液晶性化合物と相溶性を有し、液晶性分子の傾斜角（例えば、ディスコティック液晶性化合物の場合、円盤状構造単位の面の透明支持体の表面からの傾斜角）の変化を与えられるか、あるいは配向を阻害しないことが好ましい。
【０２２４】
重合性モノマーとしては、ラジカル重合性若しくはカチオン重合性の化合物が挙げられる。好ましくは、多官能性ラジカル重合性モノマーであり、上記の重合性基含有の液晶性化合物と共重合性のものが好ましい。例えば、特開２００２−２９６４２３号公報の段落番号［００１８］〜［００２０］に記載のものが挙げられる。上記化合物の添加量は、ディスコティック液晶性分子に対して一般に１〜５０質量％の範囲にあり、５〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。
界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、特にフッ素系化合物が好ましい。具体的には、例えば特開２００１−３３０７２５号公報の段落番号［００２８］〜［００５６］記載の化合物が挙げられる。
【０２２５】
ディスコティック液晶性化合物とともに使用するポリマーは、ディスコティック液晶性分子に傾斜角の変化を与えられることが好ましい。
ポリマーの例としては、セルロースアシレートを挙げることができる。セルロースアシレートの好ましい例としては、特開２０００−１５５２１６号公報の段落番号［０１７８］記載のものが挙げられる。
なお、上記ポリマーの添加量は、液晶性分子の配向を阻害しないように、液晶性分子に対して０．１〜１０質量％の範囲にあることが好ましく、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましい。
また、ディスコティック液晶性化合物のディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度は、７０〜３００℃が好ましく、７０〜１７０℃がより好ましい。
【０２２６】
＜＜光学異方性層の組成＞＞
光学異方性層は、液晶性化合物、更に下記の重合性開始剤や任意の添加剤（例、可塑剤、モノマー、界面活性剤、セルロースアシレート、１，３，５−トリアジン化合物、カイラル剤）を含む塗布液を、配向膜の上に塗布することで形成する。
塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、１，３−ジメチルイミダゾリジノン）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、トルエン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライド及びケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
塗布液の塗布は、公知の方法（例、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、ワイヤーバーコーティング法）により実施できる。
【０２２７】
［液晶性分子の配向状態の固定］
前記液晶性分子は、実質的に均一に配向していることが好ましく、実質的に均一に配向している状態で固定されていることがより好ましく、重合反応により液晶性分子の配向が固定されていることが更に好ましい。重合反応としては、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが挙げられ、これらのうち、光重合反応が好ましい。
【０２２８】
光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号明細書、及び米国特許第２３６７６７０号明細書に記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書に記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書に記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号明細書、及び米国特許第２９５１７５８号明細書に記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書に記載）、アクリジン及びフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、及び米国特許第４２３９８５０号明細書に記載）、及びオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書に記載）が含まれる。
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがより好ましい。
【０２２９】
ディスコティック液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。
照射エネルギーは、２０〜５，０００ｍＪ／ｃｍ２であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ２であることがより好ましい。
また、光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。光照射による光ラジカル重合の場合は空気、又は不活性気体中で行うことができ、ラジカル重合性モノマーの重合の誘導期を短くするか、又は重合率を十分に高める等のためにできるだけ酸素濃度を少なくした雰囲気とすることが好ましい。
【０２３０】
光学異方性層の厚さは、０．５〜１００μｍであることが好ましく、０．５〜３０μｍであることがより好ましく、０．５〜５μｍであることが更に好ましい。但し、液晶セルのモードによっては、高い光学的異方性を得るために、光学的異方性層を厚く（３〜１０μｍ）する場合がある。
【０２３１】
光学的異方性層内での液晶性分子の配向状態は、前述したように、液晶セルの表示モードの種類に応じて決定される。液晶性分子の配向状態は、具体的には、液晶性分子の種類、配向膜の種類及び光学異方性層内の添加剤（例、可塑剤、バインダー、界面活性剤）の使用によって制御される。
【０２３２】
＜光学補償フィルムの遅相軸角度＞
本発明の光学補償フィルムは面内異方性を有し、その光学異方性は透明支持体、又はレターデーション制御剤をあらかじめ添加した透明支持体を延伸する、あるいは透明支持体上に配向膜を塗布し、ラビング後液晶を配向させる等により発現させることができる。
この場合、面内で屈折率の最も大きい方向（遅相軸の方向）と長尺ロール形態の光学補償フィルムの長手方向（搬送方向）とのなす角度（遅相軸角度）は、延伸の角度、あるいはラビングの角度によって０〜９０°まで任意に制御することができる。
また、この遅相軸角度の面内でのばらつきは、遅相軸角度の平均値に対し３°以下であることが好ましく、２°以下であることがより好ましく、１°以下であることが更に好ましい。
延伸により、透明支持体の遅相軸の方向を、透明支持体の搬送方法に対し所望の角度に傾斜させる方法については、特開昭６０−１５７８３１号公報、特開平２−１１３９２０号公報、特開平３−１２４４２６号公報、特開平３−１８２７０１号公報、特開平４−１６４６２６号公報、及び特開２０００−９９１２号公報に記載されている。
【０２３３】
＜光学補償フィルムの表面処理＞
本発明では、光学補償フィルムの偏光膜側の面を表面処理することにより、光学補償フィルムと偏光膜との接着を改善する。表面処理としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、紫外線照射処理、酸処理又はアルカリ鹸化処理を用いる。
コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、紫外線照射処理、酸処理等の処理方法は、例えば、発明協会公開技報公技番号公技０１−１７４５号に記載の内容が挙げられる。本発明は、アルカリ鹸化処理することが好ましく、前述の［透明支持体の表面処理］の［アルカリ鹸化処理］と同様の内容のものが挙げられる。
【０２３４】
（偏光板）
本発明の偏光板は、上述の光学補償フィルムと、該光学補償フィルムを一方の面に設置する偏光膜（偏光子）と、該偏光膜の他方の面に設置される透明保護膜とを有してなる。
【０２３５】
＜透明保護膜＞
偏光板の透明保護膜としては、本発明の光学補償フィルムと、対になるもう一方の透明支持体が用いられる。ここで、保護膜が透明であるとは、光透過率が８０％以上であることを意味する。
透明保護膜としては、一般にセルロースアシレートフィルムが用いられる。
透明保護膜として用いるセルロースアシレートフィルムは、前述した透明支持体の製造方法の説明におけるソルベントキャスト法により形成することが好ましい。透明保護膜の厚さは、１０〜２００μｍであることが好ましく、２０〜１００μｍであることがよりましく、６０〜１００μｍであることが更に好ましい。
【０２３６】
＜偏光膜＞
本発明の偏光板に用いられる偏光膜（偏光子）は、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜などを用いることができる。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造される。
偏光膜としては、いかなる製法の偏光膜をも適用することができる。例えば、ポリビニルアルコール系フィルムを連続的に供給し、その両端を保持手段により保持しつつ張力を付与して延伸する際に、フィルムの一方端の実質保持開始点から実質保持解除点までの保持手段の軌跡Ｌ１と、もう一端の実質保持開始点から実質保持解除点までの保持手段の軌跡Ｌ２が、左右の実質保持解除点の距離Ｗに対し、下記式（ｅ）の関係にあると共に、左右の実質保持開始点を結ぶ直線は、保持工程に導入されるフィルムの中心線と略直交するものとし、左右の実質保持解除点を結ぶ直線は、次工程に送り出されるフィルムの中心線と略直交するようにして延伸したものであってもよい（米国特許出願公開第２００２／８８４０号明細書参照。）
｜Ｌ２−Ｌ１｜＞０．４Ｗ・・・・・・・・・・・式（ｅ）
【０２３７】
偏光膜は、機械的強度が弱く、また、吸湿性を有するなどの特性を持つため保護能を有するフィルム（保護膜）を両側に配置することにより保護して偏光板を得ることができる。
本発明の偏光板用の偏光膜の保護膜としては、前述のとおり本発明の光学補償フィルムとセルローストリアセテートなどを一対にして用いることができる。
【０２３８】
本発明の偏光板に用いられる透明保護膜の遅相軸と、偏光膜の透過軸とのなす角度は、３°以下になるように配置することが好ましく、２°以下になるように配置することがより好ましく、１°以下になるように配置することが更に好ましい。
光学補償フィルムと対になる保護膜としては、他にもハードコート層付基材フィルムや機能性薄膜付フィルムなどを併用することもできる。例えば、その最表面が防汚性及び耐擦傷性を有する反射防止膜を設けてなることも好ましい。反射防止膜は、従来公知のいずれのものも用いることができる。
【０２３９】
特に、上記の透明保護膜の空気側面の上に反射防止膜を設けてなることが好ましい。前記空気側面とは、偏光膜の透明保護膜として、本発明のセルロースアシレート光学補償フィルムを用いた面とは変更膜を挟んで反対側の面であり、視認側の面をいう。これにより、液晶表示装置の描画画像は外光の写り込みや、ギラツキ感の無い鮮明な画像が得られ、好ましい。
【０２４０】
［反射防止膜］
反射防止膜は、防汚性層でもある低屈折率層を透明支持体上に設けてなることが好ましく、低屈折率層、及び低屈折率層より高い屈折率を有する少なくとも一層の層（即ち、高屈折率層、中屈折率層等）とを透明支持体上に設けてなることがより好ましい。
前記反射防止膜の形成方法としては、屈折率の異なる無機化合物（金属酸化物等）の透明薄膜を積層させた多層膜を、化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、金属アルコキシド等の金属化合物のゾルゲル方法で、コロイド状金属酸化物粒子皮膜を形成後に後処理して薄膜を形成する方法が挙げられる。
この後処理としては、紫外線照射やプラズマ処理が挙げられ、前記紫外線照射については、特開平９−１５７８５５号公報に記載された技術を用いることができる。
また、前記プラズマ処理については、特開２００２−３２７３１０号公報に記載された技術を用いることができる。
また、生産性が高い反射防止膜として、無機粒子をマトリックスに分散されてなる薄膜を積層塗布してなる反射防止膜が挙げられる。
更には、上述したような塗布による反射防止膜に最上層表面が微細な凹凸の形状を有することにより防眩性を付与した反射防止膜も挙げられる。
【０２４１】
−塗布型反射防止膜の層構成−
反射防止膜は、前述のとおり、透明支持体上に低屈折率層より高い屈折率を有する少なくとも一層の層（高屈折率層）、及び低屈折率層（最外層）の順序の層構成からなることが好ましい。
低屈折率層より高い屈折率を有する少なくとも一層を二層とする場合には、透明支持体上に中屈折率層、高屈折率層、及び低屈折率層（最外層）の順序の層構成からなることが好ましい。
このような構成の反射防止膜は、「高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率」の関係を満足する屈折率を有するように設計される。なお、各屈折率層の屈折率は相対的なものである。
また、透明支持体と中屈折率層の間に、ハードコート層を設けてもよい。更には、反射防止膜は、中屈折率ハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層からなってもよい。
反射防止膜は、例えば、特開平８−１２２５０４号公報、特開平８−１１０４０１号公報、特開平１０−３００９０２号公報、特開２００２−２４３９０６号公報、特開２０００−１１１７０６号公報等に記載のものが挙げられる。
また、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層としたもの（例、特開平１０−２０６６０３号公報、特開２００２−２４３９０６号公報等）等が挙げられる。
反射防止膜のヘイズ値は、５％以下あることが好ましく、３％以下がより好ましい。また、反射防止膜の強度は、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがより好ましく、３Ｈ以上であることが更に好ましい。
【０２４２】
−反射防止膜に用いる透明支持体−
透明支持体の光透過率は、８０％以上であることが好ましく、８６％以上であることがより好ましい。
また、透明支持体のヘイズ値は、２．０％以下であることが好ましく、１．０％以下であることがより好ましい。更に、透明支持体の屈折率は、１．４〜１．７であることが好ましい。
透明支持体としては、プラスチックフィルムを用いることが好ましい。このプラスチックフィルムの材料の例としては、セルロースアシレート、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等）、ポリスチレン、ポリオレフィン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレート及びポリエーテルケトン等が挙げられる。これらの中でも、偏光板に反射防止膜を設ける場合には、セルロースアシレートフィルムが好ましい。
【０２４３】
−−高屈折率層及び中屈折率層−−
反射防止膜の高い屈折率を有する層は、平均粒径１００ｎｍ以下の高屈折率の無機化合物超微粒子及びマトリックスバインダーを含有する硬化性膜から成ることが好ましい。
高屈折率の無機化合物微粒子としては、屈折率１．６５以上の無機化合物が挙げられ、好ましくは屈折率１．９以上のものが挙げられる。例えば、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｃｅ、Ｔａ、Ｌａ、Ｉｎ等の酸化物、これらの金属原子を含む複合酸化物等が挙げられる。
特に好ましくは、Ｃｏ、Ｚｒ、ＡＬから選ばれる少なくとも１つの元素を含有する二酸化チタンを主成分とする無機微粒子（以降、「特定の酸化物」と称することもある）が挙げられ、特に好ましい元素はＣｏである。
Ｔｉに対する、Ｃｏ、Ａｌ、Ｚｒの総含有量は、Ｔｉに対して０．０５〜３０質量％であることが好ましく、０．１〜１０質量％がより好ましく、０．２〜７質量％が更に好ましく、０．３〜５質量％が特に好ましく、０．５〜３質量％が最も好ましい。
Ｃｏ、Ａｌ、Ｚｒは、二酸化チタンを主成分とする無機微粒子の内部や表面に存在する。Ｃｏ、Ａｌ、Ｚｒが二酸化チタンを主成分とする無機微粒子の内部に存在することがより好ましく、内部と表面の両方に存在することが最も好ましい。これらの特定の金属元素は、酸化物として存在してもよい。
また、他の好ましい無機粒子として、チタン元素と酸化物が屈折率１．９５以上となる金属元素から選ばれる少なくとも１種の金属元素（以下、「Ｍｅｔ」とも略称する）との複合酸化物の粒子で、かつ該複合酸化物は、Ｃｏイオン、Ｚｒイオン、及びＡｌイオンから選ばれる金属イオンの少なくとも１種がドープされてなる無機微粒子（「特定の複酸化物」と称することもある）が挙げられる。
ここで、該酸化物の屈折率が１．９５以上となる金属酸化物の金属元素としては、Ｔａ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｎｄ、Ｓｂ，Ｓｎ、及びＢｉが好ましく、Ｔａ、Ｚｒ、Ｓｎ、及びＢｉが特に好ましい。
複合酸化物にドープされる金属イオンの含有量は、複合酸化物を構成する全金属［Ｔｉ＋Ｍｅｔ］量に対して、２５質量％を越えない範囲で含有することが屈折率維持の観点から好ましく、０．０５〜１０質量％がより好ましく、０．１〜５質量％が更に好ましく、０．３〜３質量％が最も好ましい。
ドープした金属イオンは、金属イオン、金属原子の何れで存在してもよく、複合酸化物の表面から内部まで適宜に存在することが好ましい。表面と内部との両方に存在することがより好ましい。
【０２４４】
上記のような超微粒子とするには、粒子表面を表面処理剤で処理する方法、高屈折率粒子をコアとしたコアシェル構造とする方法、及び、特定の分散剤を併用する方法等が挙げられる。
粒子表面を表面処理剤で処理する方法に挙げられる表面処理剤としては、例えば、特開平１１−２９５５０３号公報、特開平１１−１５３７０３号公報、及び特開２０００−９９０８号公報に記載されたシランカップリング剤等、特開２００１−３１０４３２号公報等に記載されたアニオン性化合物或は有機金属カップリング剤が開示されている。
また、高屈折率粒子をコアとしたコアシェル構造とする方法としては、特開２００１−１６６１０４、及び米国特許公開２００３／０２０２１３７号公報等に記載の技術を用いることができる。
更に、特定の分散剤を併用する方法は、特開平１１−１５３７０３号公報、米国特許第６２１０８５８明細書、及び特開２００２−２７７６０６９号公報等に記載の技術が挙げられる。
【０２４５】
マトリックスを形成する材料としては、従来公知の熱可塑性樹脂、硬化性樹脂皮膜等が挙げられる。
更に、ラジカル重合性、及び／又はカチオン重合性の重合性基を少なくとも２個以上含有の多官能性化合物含有組成物、加水分解性基を含有の有機金属化合物及びその部分縮合体組成物から選ばれる少なくとも１種の組成物が好ましい。例えば、特開２０００−４７００４号公報、特開２００１−３１５２４２号公報、特開２００１−３１８７１号公報、特開２００１−２９６４０１号公報等に記載の化合物が挙げられる。
また、金属アルコキシドの加水分解縮合物から得られるコロイド状金属酸化物と金属アルコキシド組成物から得られる硬化性膜も好ましい。例えば、特開２００１−２９３８１８号公報等に記載されているものが挙げられる。
高屈折率層の屈折率は、１．７０〜２．２０であることが好ましい。高屈折率層の厚さは、５ｎｍ〜１０μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍであることが更に好ましい。
中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５０〜１．７０であることが好ましい。中屈折率層の厚さは、５ｎｍ〜１０μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍであることが更に好ましい。
【０２４６】
−−低屈折率層−−
低屈折率層は、高屈折率層の上に順次積層して成ることが好ましい。低屈折率層の屈折率は、１．２０〜１．５５であることが好ましく、１．３０〜１．５０がより好ましい。
また、低屈折率層は、耐擦傷性、防汚性を有する最外層として構築することが好ましい。耐擦傷性を大きく向上させる手段として表面への滑り性付与が有効で、従来公知のシリコーンの導入、フッ素の導入等から成る薄膜層の手段を適用できる。
【０２４７】
含フッ素化合物の屈折率は、１．３５〜１．５０であることが好ましく、１．３６〜１．４７であることがより好ましい。また、含フッ素化合物は、フッ素原子を３５〜８０質量％の範囲で含む架橋性、若しくは重合性の官能基を含む化合物が好ましい。
例えば、特開平９−２２２５０３号公報の明細書の段落番号［００１８］〜［００２６］、特開平１１−３８２０２号公報の明細書の段落番号［００１９］〜［００３０］、特開２００１−４０２８４号公報の明細書の段落番号［００２７］〜［００２８］、特開２０００−２８４１０２号公報、及び特開２００４−４５４６２号公報の明細書等に記載の化合物が挙げられる。
シリコーン化合物としては、ポリシロキサン構造を有する化合物であり、高分子鎖中に硬化性官能基、あるいは重合性官能基を含有して、膜中で橋かけ構造を有するものが好ましい。例えば、反応性シリコーン（例、サイラプレーン（チッソ（株）製等）、両末端にシラノール基含有のポリシロキサン（特開平１１−２５８４０３号公報等）等が挙げられる。
【０２４８】
架橋又は重合性基を有する含フッ素及び／又はシロキサンのポリマーの架橋又は重合反応は、重合開始剤、増感剤等を含有する最外層を形成するための塗布組成物を塗布と同時又は塗布後に光照射や加熱することにより実施することが好ましい。重合開始剤、増感剤としては、従来公知のものを用いることができる。
【０２４９】
また、シランカップリング剤等の有機金属化合物と特定のフッ素含有炭化水素基含有のシランカップリング剤とを触媒共存下に縮合反応で硬化するゾルゲル硬化膜も好ましい。
例えば、ポリフルオロアルキル基含有シラン化合物又はその部分加水分解縮合物（特開昭５８−１４２９５８号公報、特開昭５８−１４７４８３号公報、特開昭５８−１４７４８４号公報、特開平９−１５７５８２号公報、特開平１１−１０６７０４号公報記載等記載の化合物）、フッ素含有長鎖基であるポリ「パーフルオロアルキルエーテル」基を含有するシリル化合物（特開２０００−１１７９０２号公報、特開２００１−４８５９０号公報、特開２００２−５３８０４号公報記載の化合物等）等が挙げられる。
低屈折率層は、上記以外の添加剤として充填剤（例えば、二酸化珪素（シリカ）、含フッ素粒子（フッ化マグネシウム，フッ化カルシウム，フッ化バリウム）等の一次粒子平均径が１〜１５０ｎｍの低屈折率無機化合物を含有することが好ましい。
特に、上記低屈折率層はその屈折率上昇をより一層少なくするために、中空の無機微粒子を用いることが好ましい。
中空の無機微粒子の屈折率は、１．１７〜１．４０が好ましく、１．１７〜１．３７がより好ましく、１．１７〜１．３５であることが更に好ましい。ここでの屈折率は、粒子全体としての屈折率を表し、中空の無機微粒子を形成している外殻のみの屈折率を表すものではない。
このとき、粒子内の空腔の半径をａ、粒子外殻の半径をｂとすると、下記式（ｆ）で表される空隙率ｗ（％）は以下の通り計算される。
【０２５０】
ｗ＝（４πａ３／３）／（４πｂ３／３）×１００・・・・・・・・・・式（ｆ）
【０２５１】
空隙率は、１０〜６０％が好ましく、２０〜６０％がより好ましく、３０〜６０％が更に好ましい。また、中空粒子の屈折率は、粒子の強度及び該中空粒子を含む低屈折率層の耐擦傷性の観点から、１．１７以上とすることが好ましい。
該低屈折率層中の中空の無機微粒子の平均粒径は、該低屈折率層の厚みの３０％以上、１００％以下であることが好ましく、前記低屈折率層の厚みの３５％以上８０％以下がより好ましく、前記低屈折率層の厚みの４０％以上６０％以下が更に好ましい。
即ち、低屈折率層の厚みが１００ｎｍであれば、無機微粒子の粒径は３０ｎｍ以上１００ｎｍ以下が好ましく、３５ｎｍ以上８０ｎｍ以下がより好ましく、４０ｎｍ以上６０ｎｍ以下が更に好ましい。
なお、これら中空の無機微粒子の屈折率はアッベ屈折率計（アタゴ（株）製）にて測定をおこなうことができる。
【０２５２】
他の添加剤としては、特開平１１−３８２０公報の段落番号［００２０］〜［００３８］に記載の有機微粒子等）、シランカップリング剤、滑り剤、界面活性剤等を含有することができる。
【０２５３】
低屈折率層が、最外層の下層に位置する場合、低屈折率層は気相法（真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等）により形成されてもよい。
安価に製造できる点で、塗布法が好ましい。
低屈折率層の膜厚は、３０〜２００ｎｍであることが好ましく、５０〜１５０ｎｍであることがより好ましく、６０〜１２０ｎｍであることが更に好ましい。
【０２５４】
−反射防止膜の他の層−
反射防止膜には、更に、ハードコート層、前方散乱層、プライマー層、帯電防止層、下塗り層や保護層等を設けてもよい。
【０２５５】
−−ハードコート層−−
ハードコート層は、反射防止膜に物理強度を付与することができ、透明支持体の表面に設けることが好ましい。特に、透明支持体と前記高屈折率層との間にハードコート層を設けることが好ましい。
ハードコート層は、光及び／又は熱の硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。
硬化性官能基としては、光重合性官能基が好ましく、又は加水分解性官能基含有の有機金属化合物は有機アルコキシシリル化合物が好ましい。
これらの化合物の具体例としては、高屈折率層で例示したと同様のものが挙げられる。
ハードコート層の具体的な構成組成物としては、例えば、特開２００２−１４４９１３号公報、特開２０００−９９０８号公報、国際公開ＷＯ００／４６６１７号公報等記載のものが挙げられる。
高屈折率層は、ハードコート層を兼ねることができる。このような場合、高屈折率層で記載した手法を用いて微粒子を微細に分散してハードコート層に含有させて形成することが好ましい。
【０２５６】
ハードコート層は、平均粒径０．２〜１０μｍの粒子を含有させて防眩機能（アンチグレア機能（後述））を付与した防眩層を兼ねることもできる。
ハードコート層の膜厚は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、０．２〜１０μｍであることが好ましく、０．５〜７μｍであることがより好ましい。
ハードコート層の強度は、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがより好ましく、３Ｈ以上であることが更に好ましい。
また、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
【０２５７】
−−前方散乱層−−
前方散乱層は、液晶表示装置に適用した場合に、上下左右方向に視角を傾斜させたときの視野角改良効果を付与することができ、好ましい。上記ハードコート層中に屈折率の異なる微粒子を分散することで、ハードコート機能と兼ねることもできる。
前方散乱層としては、例えば、前方散乱係数を特定化した特開１１−３８２０８号公報、透明樹脂と微粒子の相対屈折率を特定範囲とした特開２０００−１９９８０９号公報、ヘイズ値を４０％以上と規定した特開２００２−１０７５１２号公報等に記載のものが挙げられる。
【０２５８】
［反射防止膜の形成］
反射防止膜の各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート、マイクログラビア法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書）により、塗布により形成することができる。
【０２５９】
−アンチグレア機能−
反射防止膜は、外光を散乱させるアンチグレア機能を有していてもよい。アンチグレア機能は、反射防止膜の表面に凹凸を形成することにより得られる。反射防止膜がアンチグレア機能を有する場合、反射防止膜のヘイズは、３〜５０％であることが好ましく、５〜３０％であることがより好ましく、５〜２０％であることが更に好ましい。
【０２６０】
反射防止膜表面に凹凸を形成する方法は、これらの表面形状を充分に保持できる方法であればいずれの方法でも適用できる。
例えば、低屈折率層中に微粒子を使用して膜表面に凹凸を形成する方法（例えば、特開２０００−２７１８７８号公報等）、低屈折率層の下層（高屈折率層、中屈折率層又はハードコート層）に比較的大きな粒子（粒径０．０５〜２μｍ）を少量（０．１〜５０質量％）添加して表面凹凸膜を形成し、その上にこれらの形状を維持して低屈折率層を設ける方法（例えば、特開２０００−２８１４１０号公報、特開２０００−９５８９３号公報、特開２００１−１００００４号公報、特開２００１−２８１４０７号公報等）、最上層（防汚性層）を塗設後の表面に物理的に凹凸形状を転写する方法（例えば、エンボス加工方法として、特開昭６３−２７８８３９号公報、特開平１１−１８３７１０号公報、特開２０００−２７５４０１号公報等記載）等が挙げられる。
【０２６１】
本発明の反射防止膜を設けた偏光板は、反射防止膜を設けた透明支持体が偏光板の保護フィルムを兼ねることが好ましい。
ここで、透明支持体（好ましくはセルロースアシレートフィルム）の反射防止膜を設けた側とは、反対側のセルロースアシレートフィルム表面を親水化処理して、偏光膜と接着剤で貼りあわせて作製することが好ましい。
該親水化処理としては、上述の［光学補償フィルムの表面処理］と同様のものが挙げられる。
偏光膜の反射防止膜とは、偏光膜を挟んで反対側の面には、前記したとおり、本発明の光学補償フィルムを、保護膜を兼ねたフィルムとして用いる。
ここで、光学補償フィルムの透明支持体の光学異方性層を設けたとは、反対側の表面を親水化処理して、偏光膜と接着剤で貼りあわせて作製することが好ましい。
これにより偏光板の厚みが薄くなり、液晶表示装置の軽量化が可能となり、好ましい。
【０２６２】
（液晶表示装置）
本発明の液晶表示装置は、液晶セル及びその両側に配置された二枚の偏光板を含有することからなる。前記液晶セルは、二枚の電極基板の間に液晶を担持している。
光学補償フィルムは、液晶セルと一方の偏光板との間に、一枚配置するか、あるいは液晶セルと双方の偏光板との間に二枚配置する。
【０２６３】
本発明の液晶表示装置の一例として、ＯＣＢモードの液晶表示装置の構成を図１に示す。図１に示すように、本発明の液晶表示装置は、電圧印加時、すなわち黒表示時に、液晶が基板面に対してベンド配向する液晶層７と、それを挟む基板６及び基板８からなる液晶セルとを有する。
基板６及び基板８は、液晶層側の面に配向処理が施してある。その配向方向（ラビング方向）を矢印ＲＤで示す。なお、裏面の場合は、破線矢印で示してある。偏光膜１，１０１は、液晶セルを挟持するように配置されるとともに、偏光膜１の透過軸２、及び偏光膜１０１の透過軸１０２が、互いに直交に、且つ液晶セルの液晶層のＲＤ方向と４５°の角度をなすように配置される。
偏光膜１（１０１）と、液晶セルとの間には、光学補償フィルム１３Ａ（１１３Ａ）が配設され、光学補償フィルム１３ａ（１１３ａ）は、セルロースアシレートフィルム１３ａ（１１３ａ）と、ディスコティック化合物の分子が、フィルム平面に対する傾斜角が厚さ方向において異なるハイブリッド配向状態に固定化されている光学異方性層５（９）とによって構成されている。セルロースアシレートフィルム１３ａ（１１３ａ）は、その遅相軸４ａ（１０４ａ）が、それぞれに隣接する偏光膜１（１０１）の透過軸２（１０２）の方向と平行に配置されている。
【０２６４】
図１中の液晶セルは、上側基板６、及び下側基板８と、これらに挟持される液晶分子７から形成される液晶層からなる。基板６及び基板８の液晶分子７に接触する表面（以下、「内面」という場合がある）には、配向膜（不図示）が形成されていて、電圧無印加状態、もしくは低印加状態における液晶分子７の配向がプレチルト角をもった平行方向に制御されている。
また、基板６及び基板８の内面には、液晶分子７からなる液晶層に電圧を印加可能な透明電極（不図示）が形成されている。
本発明では、液晶層の厚さｄ（μｍ）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄは、０．１〜１．５μｍとするのが好ましく、０．２〜１．５μｍとするのがより好ましく、０．２〜１．２μｍとするのが更に好ましく、０．６〜０．９μｍとするのが特に好ましい。これらの範囲では、白電圧印加時における白表示輝度が高いことから、明るくコントラストの高い表示装置が得られる。
用いる液晶材料については、特に制限されないが、上下基板６及び基板８間に電界が印加される態様では、電界方向に平行に液晶分子７が応答するような、誘電率異方性が正の液晶材料を使用する。
【０２６５】
例えば、液晶セルを、ＯＣＢモードの液晶セルとする場合は、上側基板６と、下側基板８との間に、誘電異方性が正で、Δｎ＝０．０８、Δε＝５程度のネマチック液晶材料などを用いることができる。
液晶層の厚さｄについては、特に制限されないが、前記範囲の特性の液晶を用いる場合、４μｍ程度に設定することができる。前記厚さｄと、白電圧印加時の屈折率異方性Δｎの積Δｎ・ｄの大きさにより、白表示時の明るさが変化するので、白電圧印加時において十分な明るさを得るためには、無印加状態における液晶層のΔｎ・ｄは、０．６〜１．５μｍの範囲になるように設定するのが好ましい。
【０２６６】
なお、ＯＣＢモードの液晶表示装置では、ＴＮモードの液晶表示装置で一般的に使われているカイラル剤の添加は、動的応答特性の劣化させるため用いることは少ないが、配向不良を低減するために添加されることもある。
また、マルチドメイン構造とする場合には、各ドメイン間の境界領域の液晶分子の配向を調整するのに有利である。
ここで、マルチドメイン構造とは、液晶表示装置の一画素を複数の領域に分割した構造をいう。例えば、ＯＣＢモードにおいて、マルチドメイン構造にすると、輝度や色調の視野角特性が改善されるので好ましい。
具体的には、画素のそれぞれを液晶分子の初期配向状態が互いに異なる２以上（好ましくは４又は８）の領域で構成して平均化することで、視野角に依存した輝度や色調の偏りを低減することができる。
また、それぞれの画素を、電圧印加状態において液晶分子の配向方向が連続的に変化する互いに異なる２以上の領域から構成しても同様の効果が得られる。
【０２６７】
透明支持体１３ａ（１１３ａ）は、光学異方性層５（９）の支持体として機能していてもよいし、偏光膜１（１０１）の保護膜としても機能していてもよいし、その双方の機能を有していてもよい。即ち、偏光膜１（１０１）、透明支持体１３ａ（１１３ａ）、及び光学異方性層５（９）は、一体化された積層体として、液晶表示装置内部に組み込まれていてもよいし、それぞれ単独の部材として組み込まれていてもよい。
また、透明支持体１３ａ（１１３ａ）と、偏光膜１（１０１）との間に、別途、偏光膜用の保護膜が配置された構成であってもよいが、前記保護膜は配置されていないのが好ましい。透明支持体１３ａの遅相軸１４ａと、透明支持体１１３ａの遅相軸１１４ａとは、互いに実質的に平行もしくは直交しているのが好ましい。
透明支持体１３ａの遅相軸１４ａと、透明支持体１１３ａの遅相軸１１４ａとが互いに直交していると、それぞれの透明支持体の複屈折を互いに打ち消すことにより、液晶表示装置に垂直入射した光の光学特性が劣化するのを低減することができる。
また、遅相軸１４ａと、１１４ａとが互いに平行する態様では、液晶層に残留位相差がある場合には、保護膜の複屈折でこの位相差を補償することができる。
【０２６８】
偏光膜１（１０１）の透過軸２（１０２）、透明支持体１３ａ（１１３ａ）の遅相軸方向１４ａ（１１４ａ）、及び液晶分子７の配向方向については、各部材に用いられる材料、表示モード、部材の積層構造等に応じて最適な範囲に調整する。すなわち、偏光膜１の透過軸２と、偏光膜１０１の透過軸１０２とが、互いに実質的に直交しているように配置する。但し、本発明の液晶表示装置は、この構成に限定されるものではない。
【０２６９】
光学異方性層５（９）は、透明支持体１３ａ（１１３ａ）と、液晶セルとの間に配置される。光学異方性層５（９）は、液晶性化合物、例えば、棒状化合物又はディスコティック化合物を含有する組成物から形成された層である。
光学異方性層５（９）において、液晶性化合物の分子は、所定の配向状態に固定されている。
光学異方性層５（９）中の液晶性化合物の分子対称軸の、少なくとも透明支持体１３ａ（１１３ａ）の界面における配向平均方向５ａ（９ａ）と、透明支持体１３ａ（１１３ａ）の面内の遅相軸１４ａ（１１４ａ）とは、略４５°で交差している。かかる関係で配置すると、光学異方性層５（９）が、法線方向からの入射光に対してレターデーションを生じさせて、光漏れを生じさせることがなく、且つ斜め方向からの入射光に対しては本発明の効果を充分に奏することができる。
また、液晶セル側の界面においても、光学異方性層５（９）の分子対称軸の配向平均方向は、透明支持体１３ａ（１１３ａ）の面内の遅相軸１４ａ（１１４ａ）に対して略４５°をなすことが好ましい。
【０２７０】
また、光学異方性層５の液晶性化合物の分子対称軸の偏光膜側（光学異方性層界面側）の配向平均方向５ａは、より近くに位置する偏光膜１の透過軸２と略４５°に配置するのが好ましい。
同様に、光学異方性層９の液晶性化合物の分子対称軸の偏光膜側（光学異方性層界面側）の配向平均方向９ａが、より近くに位置する偏光膜１０１の透過軸１０２と略４５°に配置するのが好ましい。かかる関係で配置すると、光学異方性層５（９）が発生するレターデーションと、液晶層で発生するレターデーションとの和に応じて光スイッチングをすることができ、且つ斜め方向からの入射光に対しては本発明の効果を充分に奏することができる。
【０２７１】
本発明の液晶表示装置は、印加電圧が低い時に明表示、高い時に暗表示であるノーマリーホワイトモードでも、印加電圧が低い時に暗表示、高い時に明表示であるノーマリーブラックモードでも用いることができる。
【０２７２】
本発明の透過型、反射型及び半透過型液晶表示装置の駆動方式については、単純マトリックス方式よりも、アクティブマトリックス方式が好ましく、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）、ＴＦＤ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｄｉｏｄｅ）又はＭＩＭ（Ｍｅｔａｌ  Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ  Ｍｅｔａｌ）を使うことがより好ましい。ＴＦＴについては低温ポリシリコン、又は連続粒界シリコンを使うことがより好ましい。
詳細については、「液晶デバイスハンドブック」日本学術振興会第１４２委員会編、日刊工業新聞社、「液晶  応用編」岡野光治他、培風館、「カラー液晶ディスプレイ」小林俊介他、産業図書、「次世代液晶ディスプレイ技術」内田龍男、工業調査会、「液晶ディスプレイの最先端」液晶若手研究会編、シグマ出版、「液晶：ＬＣＤの基礎と新しい応用」液晶若手研究会編、シグマ出版等に記載されている。
【０２７３】
本発明の液晶表示装置には、例えばＴＮモード、ＳＴＮモード、ＥＣＢモード等、ＥＣＢモードとしては例えばＯＣＢモード、ＨＡＮモード、ＶＡモード、ＭＶＡモード、ホモジニアス配向モード等各種のモードの液晶セルが用いられるが、中でもＴＮモード並びにＯＣＢモード、ＨＡＮモード、ＶＡモード、ＭＶＡモード及びホモジニアス配向モード等のＥＣＢモードの液晶セルが好ましい。液晶セルについては、「’９９ＰＤＰ／ＬＣＤ構成材料・ケミカルスの市場」１９９９年７月３０日、シーエムシー、「ＥＬ，ＰＤＰ，ＬＣＤディスプレイ技術と市場の最新動向−」２００１年３月、東レリサーチセンター等に記載されている。
【０２７４】
各液晶モードにおける光学異方性層の好ましい形態について、以下で説明する。
【０２７５】
＜ＴＮモード液晶表示装置＞
ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。ＴＮモードの黒表示における液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性分子が寝た配向状態にある。
【０２７６】
＜ＯＣＢモード液晶表示装置＞
ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルである。
ベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置は、米国特許４，５８３，８２５号、米国特許５，４１０，４２２号の各明細書に開示されている。
棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）液晶モードとも呼ばれる。
ＯＣＢモードの液晶セルもＴＮモード同様、黒表示においては、液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性分子が寝た配向状態にある。
【０２７７】
＜ＶＡモード液晶表示装置＞
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。
ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ  ｏｆ  ｔｅｃｈ．  Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）及び（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。
【０２７８】
＜その他の液晶表示装置＞
ＥＣＢモード及びＳＴＮモードの液晶表示装置に対しては、上記と同様の考え方で光学的に補償することができる。
【実施例】
【０２７９】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明は下記実施例に何ら限定されるものではない。
【０２８０】
（実施例１）
＜透明支持体の作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルローストリアセテート（トリアセチルセルロース：ＴＡＣ）溶液を調製した。
【０２８１】
［素材・溶剤組成］                                                              
・セルロースアセテート（置換度２．８１）・・・・・・・・・・・・・１００質量部
・ｍ−ヒドロキシ安息香酸・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）・・・・・・・・・・・・・・・・・６３３質量部
・メタノール（第２溶媒）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・９５質量部
・下記構造式（Ａ）に示すレターデーション制御剤・・・・・・・・・・６．５質量部  
【０２８２】
【化３２】
2008089855.tif 000027
【０２８３】
得られたドープを、ガラス板上に流延し、室温で１分間乾燥後、７０℃で６分間乾燥させた。乾燥後の溶剤残留量は２０質量％であった。得られたセルロースアセテートフィルムをガラス板から剥離し、１００℃で１０分間、１４０℃で２０分間乾燥した。乾燥したフィルムを、１７５℃の温度条件下で１３０％に固定端一軸延伸して支持体を作製した。作製したフィルムの膜厚は８０μｍであった。
【０２８４】
＜Ｒｅ及びＲｔｈの測定＞
作製した透明支持体を、２５℃、１０％ＲＨ、及び８０％ＲＨの環境下で２時間調湿した後の光学特性として、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、及び６３０ｎｍにおける前記支持体のＲｅ、及びＲｔｈを、先に述べた方法に従い、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）にて測定した。その測定結果を表３に示す。
【０２８５】
（実施例２）
＜透明支持体の作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルローストリアセテート（トリアセチルセルロース：ＴＡＣ）溶液を調製した。
【０２８６】
［素材・溶剤組成］                                                              
・セルロースアセテート（置換度２．８１）・・・・・・・・・・・・・・１００質量部
・メチレンジサリチル酸・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）・・・・・・・・・・・・・・・・・・６３３質量部
・メタノール（第２溶媒）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・９５質量部
・上記構造式（Ａ）に示すレターデーション制御剤・・・・・・・・・・・６．５質量部
【０２８７】
得られたドープを、ガラス板上に流延し、室温で１分間乾燥後、７０℃で６分間乾燥させた。乾燥後の溶剤残留量は２０質量％であった。
得られたセルロースアセテートフィルムをガラス板から剥離し、１４０℃で３０分間乾燥した。
乾燥したフィルムを、１７５℃の温度条件下で１３０％に自由端一軸延伸して支持体を作製した。作製したフィルムの膜厚は８０μであった。
【０２８８】
また、実施例１と同様にして、Ｒｅ及びＲｔｈの測定を行った。その測定結果を表３に示す。
また、メチレンジサリチル酸は実施例１に記載のｍ−ヒドロキシ安息香酸に対して分子量が高くフィルム乾燥時の揮散性が抑制することができた。
【０２８９】
（実施例３）
＜透明支持体の作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルローストリアセテート（トリアセチルセルロース：ＴＡＣ）溶液を調製した。
【０２９０】
［素材・溶剤組成］                                                              
・セルロースアセテート（置換度２．８１）・・・・・・・・・・・・・１００質量部
・メチレンジサリチル酸・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）・・・・・・・・・・・・・・・・・６１２質量部
・メタノール（第２溶媒）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・９１質量部
・下記構造式（Ｂ）に示すレターデーション制御剤・・・・・・・・・・２．５質量部  
【０２９１】
【化３３】
2008089855.tif 000028
【０２９２】
得られたドープを、ガラス板上に流延し、室温で１分間乾燥後、７０℃で６分間乾燥させた。乾燥後の溶剤残留量は、２０質量％であった。
得られたセルロースアセテートフィルムをガラス板から剥離し、１４０℃で３０分間乾燥した。
乾燥したフィルムを、１８０℃の温度条件下で１６０％に自由端一軸延伸して支持体を作製した。作製したフィルムの膜厚は８０μであった。
また、実施例１と同様にして、Ｒｅ及びＲｔｈの測定を行った。その測定結果を表３に示す。
（実施例４）
＜透明支持体の作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルローストリアセテート（トリアセチルセルロース：ＴＡＣ）溶液を調製した。
【０２９３】
［素材・溶剤組成］                                                              
・セルロースアセテート（置換度２．８１）・・・・・・・・・・・・・１００質量部
・メチレンジサリチル酸・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）・・・・・・・・・・・・・・・・・６２５質量部
・メタノール（第２溶媒）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・９３質量部
・下記構造式（Ｃ）に示すレターデーション制御剤・・・・・・・・・・５．０質量部  
【０２９４】
【化３４】
2008089855.tif 000029
【０２９５】
得られたドープを、実施例３と同様の条件で乾燥後、延伸を行った。作製したフィルムの膜厚は８０μであった。
また、実施例１と同様にして、Ｒｅ及びＲｔｈの測定を行った。その測定結果を表３に示す。
【０２９６】
（実施例５）
＜透明支持体の作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルローストリアセテート（トリアセチルセルロース：ＴＡＣ）溶液を調製した。
【０２９７】
［素材・溶剤組成］                                                              
・セルロースアセテート（置換度２．７１）・・・・・・・・・・・・・・１００質量部
・メチレンジサリチル酸・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）・・・・・・・・・・・・・・・・・・６０４質量部
・メタノール（第２溶媒）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・９０質量部
・上記構造式（Ｂ）に示すレターデーション制御剤・・・・・・・・・・・１．０質量部
【０２９８】
得られたドープを、実施例３と同様の条件で乾燥後、延伸を行った。作製したフィルムの膜厚は８０μであった。
また、実施例１と同様にして、Ｒｅ及びＲｔｈの測定を行った。その測定結果を表３に示す。
【０２９９】
（実施例６）
＜透明支持体の作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルローストリアセテート（トリアセチルセルロース：ＴＡＣ）溶液を調製した。
【０３００】
［素材・溶剤組成］                                                              
・セルロースアセテート（置換度２．９４）・・・・・・・・・・・・・１００質量部
・メチレンジサリチル酸・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）・・・・・・・・・・・・・・・・・６５３質量部
・メタノール（第２溶媒）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・９８質量部
・上記構造式（Ｂ）に示すレターデーション制御剤・・・・・・・・・・・１０質量部  
【０３０１】
得られたドープを、ガラス板上に流延し、室温で１分間乾燥後、７０℃で６分間乾燥させた。乾燥後の溶剤残留量は２０質量％であった。
得られたセルロースアセテートフィルムをガラス板から剥離し、１４０℃で３０分間乾燥した。
乾燥したフィルムを、２００℃の温度条件下で、１６０％に自由端一軸延伸して支持体を作製した。作製したフィルムの膜厚は８０μであった。
また、実施例１と同様にして、Ｒｅ及びＲｔｈの測定を行った。その測定結果を表３に示す。
【０３０２】
（実施例７）
＜透明支持体の作製＞
実施例３におけるメチレンジサリチル酸の代わりに、下記構造式（Ｄ）に示す添加剤を用いた以外は、実施例３と同様にして、セルローストリアセテート（トリアセチルセルロース：ＴＡＣ）溶液を調製した。
【０３０３】
【化３５】
2008089855.tif 000030
【０３０４】
得られたドープを、実施例３と同様の条件で乾燥後、延伸を行った。作製したフィルムの膜厚は８０μであった。
また、実施例１と同様にして、Ｒｅ及びＲｔｈの測定を行った。その測定結果を表３に示す。
【０３０５】
（実施例８）
＜透明支持体の作製＞
実施例３におけるメチレンジサリチル酸の代わりに、下記構造式（Ｅ）に示す添加剤を用いた以外は、実施例３と同様にして、セルローストリアセテート（トリアセチルセルロース：ＴＡＣ）溶液を調製した。
【０３０６】
【化３６】
2008089855.tif 000031
【０３０７】
得られたドープを、実施例３と同様の条件で乾燥後、延伸を行った。作製したフィルムの膜厚は８０μであった。
また、実施例１と同様にして、Ｒｅ及びＲｔｈの測定を行った。その測定結果を表３に示す。
【０３０８】
（実施例９）
＜透明支持体の作製＞
実施例３におけるメチレンジサリチル酸の代わりに、安息香酸を用いた以外は、実施例３と同様にして、セルローストリアセテート（トリアセチルセルロース：ＴＡＣ）溶液を調製した。
【０３０９】
得られたドープを、実施例３と同様の条件で乾燥後、延伸を行った。作製したフィルムの膜厚は８０μであった。
また、実施例１と同様にして、Ｒｅ及びＲｔｈの測定を行った。その測定結果を表３に示す。
【０３１０】
（実施例１０）
＜透明支持体の作製＞
実施例３における構造式（Ｂ）に示すレターデーション制御剤の代わりに、下記構造式（Ｆ）に示す添加剤を用いると共に、実施例３におけるメチレンジサリチル酸の代わりに、ｍ−ヒドロキシ安息香酸を用いた以外は、実施例３と同様にして、セルローストリアセテート（トリアセチルセルロース：ＴＡＣ）溶液を調製した。
【０３１１】
【化３７】
2008089855.tif 000032
【０３１２】
得られたドープを、実施例３と同様の条件で乾燥後、延伸を行った。作製したフィルムの膜厚は８０μであった。
また、実施例１と同様にして、Ｒｅ及びＲｔｈの測定を行った。その測定結果を表３に示す。
【０３１３】
（実施例１１）
＜透明支持体の作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルローストリアセテート（トリアセチルセルロース：ＴＡＣ）溶液を調製した。
［素材・溶剤組成］                                                              
・セルロースプロピオネート（アセチル置換度１．８９  プロピオニル置換度０．６８）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１００質量部
・ｍ−ヒドロキシ安息香酸・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１１質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）・・・・・・・・・・・・・・・・・３９８質量部
・メタノール（第２溶媒）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・５４質量部
・上記構造式（Ｂ）に示すレターデーション制御剤・・・・・・・・・・２．０質量部  
【０３１４】
得られたドープを、ガラス板上に流延し、室温で１分間乾燥後、７０℃で６分間乾燥させた。
得られたセルロースプロピオネートフィルムをガラス板から剥離し、１４０℃で３０分間乾燥した。
乾燥したフィルムを、１３０℃の温度条件下で１３０％に自由端一軸延伸して支持体を作製した。作製したフィルムの膜厚は８０μであった。
また、実施例１と同様にして、Ｒｅ及びＲｔｈの測定を行った。その測定結果を表３に示す。
【０３１５】
（実施例１２）
＜透明支持体の作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルローストリアセテート（トリアセチルセルロース：ＴＡＣ）溶液を調製した。
［素材・溶剤組成］                                                              
・セルロースプロピオネート（アセチル置換度１．５４  プロピオニル置換度０．８４）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１００質量部
・ｍ−ヒドロキシ安息香酸・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１３質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）・・・・・・・・・・・・・・・・・・４０５質量部
・メタノール（第２溶媒）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・５５質量部
・上記構造式（Ｂ）に示すレターデーション制御剤・・・・・・・・・・・２．０質量部
【０３１６】
得られたドープを、ガラス板上に流延し、室温で１分間乾燥後、７０℃で６分間乾燥させた。
得られたセルロースプロピオネートフィルムを、ガラス板から剥離し、１４０℃で３０分間乾燥した。
乾燥したフィルムを、１３０℃の温度条件下で１３０％に自由端一軸延伸して支持体を作製した。作製したフィルムの膜厚は４０μであった。
また、実施例１と同様にして、Ｒｅ及びＲｔｈの測定を行った。その測定結果を表３に示す。
【０３１７】
（実施例１３）
＜透明支持体の作製＞
実施例３における構造式（Ｂ）に示すレターデーション制御剤の代わりに、下記構造式（Ｇ）に示す添加剤を用いた以外は、実施例３と同様にして、セルローストリアセテート（トリアセチルセルロース：ＴＡＣ）溶液を調製した。
【０３１８】
【化３８】
2008089855.tif 000033
【０３１９】
得られたドープを、実施例３と同様の条件で乾燥後、延伸を行った。作製したフィルムの膜厚は８０μであった。
また、実施例１と同様にして、Ｒｅ及びＲｔｈの測定を行った。その測定結果を表３に示す。
【０３２０】
（実施例１４）
＜透明支持体の作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルローストリアセテート（トリアセチルセルロース：ＴＡＣ）溶液を調製した。
［素材・溶剤組成］                                                              
・セルロースアセテート（置換度２．８１）・・・・・・・・・・・・・・１００質量部
・ｍ−ヒドロキシ安息香酸・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）・・・・・・・・・・・・・・・・・・６０９質量部
・メタノール（第２溶媒）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・９１質量部
・上記構造式（Ｂ）に示すレターデーション制御剤・・・・・・・・・・・１．０質量部
・下記構造式（Ｈ）に示すレターデーション制御剤・・・・・・・・・・・１．０質量部
【０３２１】
【化３９】
2008089855.tif 000034
【０３２２】
得られたドープを、ガラス板上に流延し、室温で１分間乾燥後、７０℃で６分間乾燥させた。
乾燥後の溶剤残留量は２０質量％であった。得られたセルロースアセテートフィルムをガラス板から剥離し、１４０℃で３０分間乾燥した。
乾燥したフィルムを、１８０℃の温度条件下で１６０％に自由端一軸延伸して支持体を作製した。作製したフィルムの膜厚は８０μであった。
また、実施例１と同様にして、Ｒｅ及びＲｔｈの測定を行った。その測定結果を表３に示す。
【０３２３】
（実施例１５）
＜透明支持体の作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルローストリアセテート（トリアセチルセルロース：ＴＡＣ）溶液を調製した。
［素材・溶剤組成］                                                              
・セルロースプロピオネート（アセチル置換度１．８９  プロピオニル置換度０．６８）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１００質量部
・ｍ−ヒドロキシ安息香酸・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１１質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）・・・・・・・・・・・・・・・・・・３９２質量部
・メタノール（第２溶媒）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・５４質量部
・上記構造式（Ｂ）に示すレターデーション制御剤・・・・・・・・・・・０．５質量部
【０３２４】
得られたドープを、ガラス板上に流延し、室温で１分間乾燥後、７０℃で６分間乾燥させた。
得られたセルロースプロピオネートフィルムをガラス板から剥離し、１４０℃で３０分間乾燥した。
乾燥したフィルムを、１３０℃の温度条件下で１３０％に自由端一軸延伸して支持体を作製した。作製したフィルムの膜厚は８０μであった。
また、実施例１と同様にして、Ｒｅ及びＲｔｈの測定を行った。その測定結果を表３に示す。
【０３２５】
（比較例１）
＜透明支持体の作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルローストリアセテート（トリアセチルセルロース：ＴＡＣ）溶液を調製した。
［素材・溶剤組成］                                                              
・セルロースアセテート（置換度２．８１）・・・・・・・・・・・・・１００質量部
・トリフェニルホスフェート（可塑剤）・・・・・・・・・・・・・・・６．５質量部
・ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）・・・・・・・・・・・５．２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）・・・・・・・・・・・・・・・・・６４３質量部
・メタノール（第２溶媒）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・９６質量部
・上記構造式（Ａ）に示すレターデーション制御剤・・・・・・・・・・６．５質量部  
【０３２６】
得られたドープを、ガラス板上に流延し、室温で１分間乾燥後、７０℃で６分間乾燥させた。乾燥後の溶剤残留量は２０質量％であった。
得られたセルロースアセテートフィルムを、ガラス板から剥離し、１００℃で１０分間、１４０℃で２０分間乾燥した。
乾燥したフィルムを、１５５℃の温度条件下で１２０％に自由端一軸延伸して、支持体を作製した。作製したフィルムの膜厚は８０μであった。
また、実施例１と同様にして、Ｒｅ及びＲｔｈの測定を行った。その測定結果を表３に示す。
【０３２７】
（比較例２）
＜透明支持体の作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルローストリアセテート（トリアセチルセルロース：ＴＡＣ）溶液を調製した。
［素材・溶剤組成］                                                              
・セルロースアセテート（置換度２．８１）・・・・・・・・・・・・・・１００質量部
・ｍ−ヒドロキシ安息香酸・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）・・・・・・・・・・・・・・・・・・５９８質量部
・メタノール（第２溶媒）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・８９質量部
【０３２８】
得られたドープを、ガラス板上に流延し、室温で１分間乾燥後、７０℃で６分間乾燥させた。乾燥後の溶剤残留量は２０質量％であった。
得られたセルロースアセテートフィルムをガラス板から剥離し、１００℃で１０分間、１４０℃で２０分間乾燥した。
乾燥したフィルムを、１３０℃の温度条件下で１３０％に自由端一軸延伸して支持体を作製した。作製したフィルムの膜厚は８０μであった。
また、実施例１と同様にして、Ｒｅ及びＲｔｈの測定を行った。その測定結果を表３に示す。
【０３２９】
（比較例３）
＜透明支持体の作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルローストリアセテート（トリアセチルセルロース：ＴＡＣ）溶液を調製した。
［素材・溶剤組成］                                                              
・セルロースプロピオネート（アセチル置換度１．８９  プロピオニル置換度０．６８）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１００質量部
・下記構造式（Ｉ）に示す化合物・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・５質量部
・下記構造式（Ｊ）に示す化合物・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・５質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）・・・・・・・・・・・・・・・・・・３９２質量部
・メタノール（第２溶媒）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・５４質量部
・チヌビン１０９（チバスペシャルティケミカルズ（株）製）・・・・・・１．２質量部
・チヌビン１７１（チバスペシャルティケミカルズ（株）製）・・・・・・０．５質量部
・酸化ケイ素微粒子（アエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル株式会社製））・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・０．１質量部
【０３３０】
【化４０】
2008089855.tif 000035
【０３３１】
【化４１】
2008089855.tif 000036
【０３３２】
得られたドープを、ガラス板上に流延し、室温で１分間乾燥後、７０℃で６分間乾燥させた。
得られたセルロースプロピオネートフィルムをガラス板から剥離し、１４０℃で３０分間乾燥した。
乾燥したフィルムを、１３０℃の温度条件下で１３０％に自由端一軸延伸して支持体を作製した。作製したフィルムの膜厚は８０μであった。
また、実施例１と同様にして、Ｒｅ及びＲｔｈの測定を行った。その測定結果を表３に示す。
【０３３３】
＜鹸化処理＞
実施例１〜１５、及び比較例１〜３で作製した透明支持体のバンド面側に、１．０Ｎの水酸化カリウム溶液（溶媒：水／イソプロピルアルコール／プロピレングリコール＝６９．２質量部／１５質量部／１５．８質量部）を１０ｍＬ／ｍ２塗布し、約４０℃の状態で３０秒間保持した後、アルカリ液を掻き取り、純水で水洗し、エアーナイフで水滴を削除した。その後、１００℃で１５秒間乾燥した。
【０３３４】
＜配向膜の作製＞
実施例１〜１３、及び比較例１〜２で作製した透明支持体上に、下記の組成の配向膜塗布液を＃１６のワイヤーバーコーターで２８ｍＬ／ｍ２塗布した。６０℃の温風で６０秒、更に９０℃の温風で１５０秒乾燥し、配向膜を作製した。
【０３３５】
［配向膜塗布液組成］                                                            
・下記構造式（Ｋ）に示す変性ポリビニルアルコール・・・・・・・・・・１０質量部
・水・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・３７１質量部
・メタノール・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１１９質量部
・グルタルアルデヒド（架橋剤）・・・・・・・・・・・・・・・・・・０．５質量部
・クエン酸エステル（三協化学（株）製  ＡＳ３）・・・・・・・・・０．３５質量部  
【０３３６】
【化４２】
2008089855.tif 000037
【０３３７】
２５℃で６０秒間、６０℃の温風で６０秒間、更に９０℃の温風で１５０秒間乾燥した。
乾燥後の配向膜の厚みは、１．１μｍであった。
また、配向膜の表面粗さを、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ：Ａｔｏｍｉｃ  Ｆｏｒｃｅ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ、ＳＰＩ３８００Ｎ、セイコーインスツルメンツ（株）製）にて測定したところ、１．１４７ｎｍであった。
【０３３８】
＜光学異方性層の形成＞
４００．０質量部のメチルエチルケトンに、下記構造式（Ｌ）に示すディスコティック液晶化合物１００質量部、下記構造式（Ｍ）に示す空気界面配向制御剤を０．４質量部、光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）３質量部、増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）１質量部を溶解して塗布液を調製した。
前記配向膜上に、この塗布液を、＃２．０のワイヤーバーで塗布した。これを金属の枠に貼り付けて、１２０℃の恒温槽中で９０秒間加熱し、ディスコティック液晶化合物を配向させた。
次に、８０℃で１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、１分間紫外線照射し、ディスコティック液晶化合物を重合させた。その後、室温まで放冷した。
このようにして、前記支持体上に配向膜を介して光学異方性層を形成して、光学補償フィルムを作製した。
【０３３９】
【化４３】
2008089855.tif 000038
【０３４０】
【化４４】
2008089855.tif 000039
【０３４１】
＜光学異方性層の光学特性の測定＞
配向膜を上記と同様の手法で、ガラス上に作製し、その配向膜上に前記光学異方性層を形成し、エリプソメータＭ−１５０を用いて波長５５０ｎｍの光でＲｅ（５５０）を測定したところ３０ｎｍであった。
また、エリプソメータＭ−１５０を用いて波長４５０ｎｍと６５０ｎｍの光でレターデーション比を測定したところ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（６５０）は１．１５であった。また、光学異方性層の厚みを測定したところ、０．８μｍであった。
【０３４２】
ディスコティック液晶化合物のダイレクターを面内に平行配向させる２μｍのガラスセル中に上記構造式（Ｈ）に示すディスコティック液晶化合物を加熱しながら注入し、２分間放置した。
このセルを、エリプソメータＭ−１５０を用いて波長５５０ｎｍの光で、レターデーション値Ｒｅ＿ｍ（５５０）を測定したところ、２３５ｎｍであった。セルギャップが２μｍであることから、Ｒｅ＿ｍ（５５０）／ｄの値は０．１１８であった。
【０３４３】
（偏光板の作製）
まず、延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。
その後、実施例１〜１３、比較例１〜２で作製した透明支持体上に光学異方性層と塗設した光学補償フィルム、及び鹸化処理後の実施例１４、１５、及び比較例３で作製した透明支持体を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、前記偏光膜の一方の面に貼り付け、前記偏光膜の他方の面には、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、鹸化処理を行った市販のセルローストリアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）を貼り付けた。このようにして、実施例１〜１５、及び比較例１〜３に基づく１８種類の偏光板を作製した。
【０３４４】
＜液晶表示装置での実装評価＞
＜ベンド配向液晶セルの作製＞
ＩＴＯ電極付きのガラス基板に、ポリイミド膜を配向膜として設け、配向膜にラビング処理を行った。得られた二枚のガラス基板をラビング方向が平行となる配置で向かい合わせ、セルギャップを４．７μｍに設定した。セルギャップにΔｎが０．１３９６の液晶性化合物（ＺＬＩ１１３２、メルク社製）を注入し、ベンド配向液晶セルを作製した。
上記のベンド配向型液晶セルを使用した液晶表示装置の上側、下側偏光板に、実施例１〜１３、及び比較例１〜２で作製した光学補償フィルムを用いて作製した偏光板を、光学補償フィルムが液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側及びバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。偏光板の光学異方性層がセル基板に対面し、液晶セルのラビング方向とそれに対面する光学異方性層のラビング方向とが反平行となるように配置した。観察者側の偏光板の透過軸が上下方向に、そして、バックライト側の偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。
液晶セルに５５Ｈｚの矩形波電圧を印加した。白表示２Ｖ、黒表示５Ｖのノーマリーホワイトモードとした。正面における透過率が最も小さくなる電圧すなわち黒電圧を印加し、そのときの方位角１３５°極角６０°と方位角３１５°極角６０°との色ずれΔｘを求め、下記評価基準に基づいて色ずれの評価をした。評価結果を表４に示す。
なお、下記表４において、「色ずれ」とは、方位角１３５°でのΔＣｕ’ｖ’：ｕ’ｖ’（極角６０°）−ｕ’ｖ’（極角０°）と方位角３１５°でのΔＣｕ’ｖ’：ｕ’ｖ’（極角６０°）−ｕ’ｖ’（極角０°）の和である。（ｕ’ｖ’：ＣＩＥＬＡＢ空間における色座標）
また、透過率の比（白表示／黒表示）をコントラスト比として、測定機（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）までの８段階で視野角を測定し、下記評価基準に基づいて視野角の評価を行った。評価結果を表４に示す。
なお、視野角の測定は、前記液晶表示装置を２５℃１０％／６０％／８０％でそれぞれ１週間調湿したものを用いた。
【０３４５】
［色ずれの評価基準］
◎：Δｘが、０．０２未満
〇：Δｘが、０．０２〜０．０４
△：Δｘが、０．０４〜０．０６
×：Δｘが、０．０６以上
【０３４６】
［視野角（コントラスト比が１０以上で黒側の階調反転のない極角範囲）の評価基準］
◎：上下左右で極角８０°以上
〇：上下左右の内、３方向で極角８０°以上
△：上下左右の内、２方向で極角８０°以上
×：上下左右の内、３方向で極角８０°以上
【０３４７】
＜ＶＡ配向液晶セルの作製＞
液晶セルは、基板間のセルギャップを３．６μｍとし、負の誘電率異方性を有する液晶材料（「ＭＬＣ６６０８」、メルク社製）を基板間に滴下注入して封入し、基板間に液晶層を形成して作製した。液晶層のレターデーション（即ち、前記液晶層の厚さｄ（μｍ）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄ）を３００ｎｍとした。なお、液晶材料は垂直配向するように配向させた。
【０３４８】
上記の垂直配向型液晶セルを使用した液晶表示装置の上側、及び下側偏光板に、実施例１４、１５、及び比較例３で作製した光学補償フィルムを用いた偏光板を、該偏光板における光学補償フィルム側が液晶セル側と対向するように粘着剤を介して、観察者側及びバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸が上下方向に、そして、バックライト側の偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。
液晶セルに５５Ｈｚの矩形波電圧を印加した。白表示５Ｖ、黒表示０Ｖのノーマリーブラックモードとした。方位角１３５°極角６０°と方位角３１５°極角６０°との色ずれΔｘを求め、下記評価基準に基づいて色ずれの評価をした。評価結果を表４に示す。
また、透過率の比（白表示／黒表示）をコントラスト比として、測定機（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）までの８段階で視野角を測定し、下記評価基準に基づいて視野角の評価を行った。評価結果を表４に示す。
なお、視野角の測定は、前記液晶表示装置を２５℃１０％／６０％／８０％でそれぞれ１週間調湿したものを用いた。
【０３４９】
【表２】
2008089855.tif 000040
【０３５０】
【表３】
2008089855.tif 000041
【０３５１】
【表４】
2008089855.tif 000042
【０３５２】
上記表３〜４に示した結果から、少なくとも、一分子内に複数の水素結合性基を有する化合物Ａと、上記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で表される化合物Ｂの少なくともいずれかとを含有する実施例１〜１５の光学補償フィルムを用いた液晶表示装置は、比較例１〜３の光学補償フィルムを用いた液晶表示装置に比べて、液晶セルを光学的に補償し、コントラストの改善、及び視角方向に依存したカラーシフトを軽減でき、且つ環境湿度変化に対して表示特性が変化しないことが確認された。
特に、ＶＡモードの液晶セルを採用した実施例１４〜１５の液晶表示装置は、比較例３の液晶表示装置よりも、環境湿度変化に対して表示特性が変化しないことが顕著に示された。
【産業上の利用可能性】
【０３５３】
本発明の光学補償フィルム、及び偏光板は、液晶セルを光学的に補償し、コントラストの改善、及び視角方向に依存したカラーシフトを軽減でき、且つ環境湿度変化に対して表示特性が変化しない液晶表示装置に好適に用いることができる。
本発明の液晶表示装置は、液晶セルを光学的に補償し、コントラストの改善、及び視角方向に依存したカラーシフトを軽減でき、且つ環境湿度変化に対して表示特性が変化しないため、携帯電話、パソコン用モニタ、テレビ、液晶プロジェクタなどに好適に使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【０３５４】
【図１】図１は、本発明の液晶表示装置の構成を説明する概略模式図である。
【符号の説明】
【０３５５】
１        偏光膜
２        透過軸
３ａ    透明支持体
４ａ    面内遅相軸
５        光学異方性層
５ａ      液晶性化合物の分子対称軸の偏光膜側（支持体の界面側）の配向平均方向
６        基板
７        液晶性分子
８        基板
９        光学異方性層
９ａ      液晶性化合物の分子対称軸の偏光膜側（支持体の界面側）の配向平均方向
１０３ａ  透明支持体
１０４ａ  面内遅相軸
１０１    偏光膜
１０２    透過軸
【図１】
2008089855.tif 000046