(57)【要約】【課題】プラズマディスプレイパネルの画素区画パターンと外光吸収シートの外光吸収パターンの形態が新しく、モアレの発生が無く、外光反射に対するコントラストの低下を抑制して高精細な画像を表示する新構造のプラズマディスプレイ装置を提供する。【解決手段】画像表示領域ＥＳにメッシュ状の画素区画パターン４３が形成されたプラズマディスプレイパネル２と、外光が入射する側の面にメッシュ状又はストライプ状の外光吸収パターン１２が形成された外光吸収シート１とを有し、画素区画パターン４３の配列方向は、画像表示領域ＥＳを構成する各辺に対して所定の傾斜角θで交差する様に形成され、外光吸収パターン１２は、画像表示領域を構成する各辺に対して直角に交差する線群で形成されているプラズマディスプレイ装置１０により、上記課題を解決する。【選択図】図１
2008089816.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像表示領域にメッシュ状の画素区画パターンが形成されたプラズマディスプレイパネルと、観察者側の面にメッシュ状又はストライプ状の外光吸収パターンが形成された外光吸収シートとを有するプラズマディスプレイ装置であって、
前記画素区画パターンの配列方向は、前記画像表示領域を構成する各辺に対して所定の傾斜角で交差する様に形成され、
前記外光吸収パターンは、前記画像表示領域を構成する各辺に対して直角に交差する線群で形成されていることを特徴とするプラズマディスプレイ装置。
【請求項２】
前記外光吸収シートは、透明基材と、該透明基材上に設けられたメッシュ状又はストライプ状の導電層と、該導電層の観察者側の面上に設けられた黒化層とを有する、請求項１に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項３】
前記外光吸収シートは、透明基材と、該透明基材上に設けられた面状の透明導電膜と、観察者側に視認可能な位置に設けられたメッシュ状又はストライプ状の黒化層とを有する、請求項１に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項４】
前記メッシュ状の外光吸収パターンは、開口部の開口幅Ｗと開口部の開口高さＬとがＷ／Ｌ＝１〜１０の範囲から選択される、請求項１〜３のいずれか１項に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項５】
画像表示領域にメッシュ状の画素区画パターンが形成され、該画素区画パターンの配列方向が前記画像表示領域を構成する各辺に対して所定の傾斜角で交差する様に形成されたプラズマディスプレイパネルの前面側に配置される外光吸収シートであって、
観察者側の面にメッシュ状又はストライプ状の外光吸収パターンを有し、該外光吸収パターンが、前記画像表示領域を構成する各辺に対して直角に交差する線群で形成されていることを特徴とする外光吸収シート。
【請求項６】
透明基材と、該透明基材上に設けられたメッシュ状又はストライプ状の導電層と、該導電層の観察者側の面上に設けられた黒化層とを有する、請求項５に記載の外光吸収シート。
【請求項７】
透明基材と、該透明基材上に設けられた面状の透明導電膜と、観察者側に視認可能な位置に設けられたメッシュ状又はストライプ状の黒化層とを有する、請求項５に記載の外光吸収シート。
【請求項８】
前記メッシュ状の外光吸収パターンは、開口部の開口幅Ｗと開口部の開口高さＬとがＷ／Ｌ＝１〜１０の範囲から選択される、請求項５〜７のいずれか１項に記載の外光吸収シート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイ装置及び該装置に設けられる外光吸収シートに関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイ装置は、画像表示領域に微細な画素区画パターンが形成されたプラズマディスプレイパネルを有する高精細な表示装置であり、その奥行きが薄いこと、また軽量であることから、テレビジョン、モニター等の種々の用途に利用されている。
【０００３】
しかし、そうしたプラズマディスプレイパネルの表面（画面）は平面であるため、その表面で、日光や電灯光等の画面に入射する外来の光、即ち外光の反射が起こり、その反射光が画像光と共に観察者の目に入って画像のコントラストが低下し、画像が見え難くなることがある。そのため、プラズマディスプレイパネルの前面側に、メッシュ状の外光吸収パターンが形成された外光吸収シートを形成し、外光反射によるコントラストの低下を抑制することが行われている。
【０００４】
また、プラズマディスプレイ装置においては、発光にプラズマ放電を利用するため、３０ＭＨｚ〜１ＧＨｚ帯域の不要な電磁波が外部に漏洩して他の機器（例えば、遠隔制御機器、情報処理装置等）に影響を与えるおそれがある。そのため、上記のメッシュ状の外光吸収パターンに導電性を付与して、外光吸収シートに電磁波遮蔽機能を付加することが行われている。例えば特許文献１〜４では、電磁波遮蔽を備えた外光吸収シートが提案されている。
【０００５】
図１３は、特許文献４に記載の外光吸収シートの模式的な平面図であり、図１４は、図１３の領域Ａ１の拡大図である。図１３に示す外光吸収シート１１０は、透明な基材シート（図示しない）上に、メッシュ状の導電層パターン１０２と接地用枠部１０１とが形成されたものであり、プラズマディスプレイパネルから漏洩する電磁波で誘起された電荷を接地する電磁波遮蔽機能を有している。さらに、メッシュ状の導電層パターン１０２は、メッシュ状の金属薄膜を黒化処理したものであるので、外光を吸収する機能を有している。
【０００６】
上記の外光吸収シート１１０に形成されたメッシュ状の導電層パターン１０２は、外光吸収シート１１０の枠辺に対して４５°の角度で交差する線群で形成されているが、そうしたメッシュ状の導電層パターン１０２の形状は、プラズマディスプレイパネルの画像表示領域に形成された画素区画パターンとの間でモアレを生じさせないために設計されている。なお、プラズマディスプレイパネルの画像表示領域には画素が縦横に配列しており、その画素を区画形成する画素区画パターンの配列方向は、画像表示領域を構成する各辺に対して直角に交差する線群で形成されている。
【特許文献１】特開平９−１４８７８１号公報（第０００７段落、図２）
【特許文献２】特開平９−１４５９１８号公報（第００１１段落）
【特許文献３】特開平１１−１７７２７２号公報（第０００４、０００８段落）
【特許文献４】特開２０００−２７７９７７号公報（図１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
プラズマディスプレイパネルは、画像表示領域にメッシュ状の画素区画パターンが形成されているが、従来のものは全て、画素区画パターンが画像表示領域を構成する各辺に対して９０°の角度で交差する線群で形成されたものである。しかしながら、画素区画パターンが画像表示領域を構成する各辺に対して所定の傾斜角（例えば４５°）で交差する線群で形成されるプラズマディスプレイパネルに対しては、図１３及び図１４に示す従来の外光吸収シートはモアレが発生するので使用できないという問題が生じる。
【０００８】
また、そうしたプラズマディスプレイパネルに好適な外光吸収シートは現存せず、さらに、外光反射に対するコントラストの低下を抑制して、高精細な画像を表示可能とする外光吸収シートについても現存しない。
【０００９】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、その目的は、プラズマディスプレイパネルの画素区画パターンの形態、及びこれと外光吸収シートの外光吸収パターンとの組合せ形態が新しく、モアレの発生が無く、外光反射に対するコントラストの低下を抑制して高精細な画像を表示する新構造のプラズマディスプレイ装置を提供することにある。
【００１０】
また、本発明の他の目的は、画素区画パターンの配列方向が画像表示領域を構成する各辺に対して所定の傾斜角で交差する線群で形成されるプラズマディスプレイパネルに対して好適で、モアレの発生が無く、外光反射に対するコントラストの低下を抑制して高精細な画像を表示可能とする外光吸収シートを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題を解決するための本発明のプラズマディスプレイ装置は、画像表示領域にメッシュ状の画素区画パターンが形成されたプラズマディスプレイパネルと、観察者側の面にメッシュ状又はストライプ状の外光吸収パターンが形成された外光吸収シートとを有するプラズマディスプレイ装置であって、前記画素区画パターンの配列方向は、前記画像表示領域を構成する各辺に対して所定の傾斜角で交差する様に形成され、前記外光吸収パターンは、前記画像表示領域を構成する各辺に対して直角に交差する線群で形成されていることを特徴とする。
【００１２】
本発明のプラズマディスプレイ装置の好ましい態様として、前記外光吸収シートは、透明基材と、該透明基材上に設けられたメッシュ状又はストライプ状の導電層と、該導電層の観察者側の面上に設けられた黒化層とを有する。
【００１３】
本発明のプラズマディスプレイ装置の好ましい他の態様として、前記外光吸収シートは、透明基材と、該透明基材上に設けられた面状の透明導電膜と、観察者側に視認可能な位置に設けられたメッシュ状又はストライプ状の黒化層とを有する。
【００１４】
本発明のプラズマディスプレイ装置において、前記メッシュ状の外光吸収パターンは、開口部の開口幅Ｗと開口部の開口高さＬとがＷ／Ｌ＝１〜１０の範囲から選択されることが好ましい。
【００１５】
上記課題を解決するための本発明の外光吸収シートは、画像表示領域にメッシュ状の画素区画パターンが形成され、該画素区画パターンの配列方向が前記画像表示領域を構成する各辺に対して所定の傾斜角で交差する様に形成されたプラズマディスプレイパネルの前面側に配置される外光吸収シートであって、観察者側の面にメッシュ状又はストライプ状の外光吸収パターンを有し、該外光吸収パターンが、前記画像表示領域を構成する各辺に対して直角に交差する線群で形成されていることを特徴とする。
【００１６】
本発明の外光吸収シートは、透明基材と、該透明基材上に設けられたメッシュ状又はストライプ状の導電層と、該導電層の観察者側の面上に設けられた黒化層とを有する構成とすることが好ましい。
【００１７】
本発明の外光吸収シートは、透明基材と、該透明基材上に設けられた面状の透明導電膜と、観察者側に視認可能な位置に設けられたメッシュ状又はストライプ状の黒化層とを有する構成とすることが好ましい。
【００１８】
本発明の外光吸収シートにおいて、前記メッシュ状の外光吸収パターンは、開口部の開口幅Ｗと開口部の開口高さＬとがＷ／Ｌ＝１〜１０の範囲から選択されることが好ましい。
【発明の効果】
【００１９】
本発明のプラズマディスプレイ装置によれば、画素区画パターンの配列方向が画像表示領域を構成する各辺に対して所定の傾斜角（例えば４５°）で交差する様に形成される新形態のプラズマディスプレイパネルに対し、外光吸収パターンが前記の画像表示領域を構成する各辺に対して直角で交差する線群で形成される外光吸収シートを組合せ適用するという新規な形態なので、モアレの発生が無く、かつ外光を効果的に吸収して外光反射に対するコントラストの低下を顕著に抑制することができるので、高精細な画像を表示する新構造のプラズマディスプレイ装置を提供することができる。
【００２０】
本発明の外光吸収シートによれば、画素区画パターンの配列方向が画像表示領域を構成する各辺に対して所定の傾斜角（例えば４５°）で交差する様に形成される新形態のプラズマディスプレイパネルに対し、モアレの発生が無く、外光を効果的に吸収して外光反射に対するコントラストの低下を顕著に抑制することができるので、高精細な画像を表示する新構造のプラズマディスプレイ装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
次に、本発明の実施の形態について詳細に説明するが、本発明は以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。
【００２２】
［プラズマディスプレイ装置］
図１は、本発明のプラズマディスプレイ装置の一例を示す模式的断面図である。本発明のプラズマディスプレイ装置１０は、外光吸収シート１とプラズマディスプレイパネル２とにより少なくとも構成されており、詳しくは、外光吸収シート１は、プラズマディスプレイパネル２の前面側（観察者側）であって、プラズマディスプレイパネル２が有する画像表示領域ＥＳに対向するように配置されている。外光吸収シート１とプラズマディスプレイパネル２とは、筐体前部３と筐体後部４とを主な部材とする筐体に装着されている。
【００２３】
図２は、プラズマディスプレイパネルの画素区画パターンの一例を示す模式的な平面図であり、図３は、外光吸収シートの外光吸収パターンの一例を示す模式的な平面図であり、図４は、外光吸収シートの外光吸収パターンの他の一例を示す模式的な平面図である。本発明を構成するプラズマディスプレイパネル２は、図２に示すように、画像表示領域ＥＳにメッシュ状の画素区画パターン４３（画像を構成する画素の周囲を囲繞し区制する輪郭部分。格子状をなす。）が形成されたものであり、その画素区画パターン４３の配列方向は、画像表示領域ＥＳを構成する各辺に対して所定の傾斜角θで交差する。なお、画素区画パターン４３の輪郭部を連ねてなる線群５３も、画像表示領域ＥＳの各辺に対して傾斜角θで交差する。したがって、以下、画素、或いは画素区画パターン４３と画像表示領域ＥＳの各辺に対する傾斜角θを議論する際には、画素、或いは画素区画パターン４３に代わって、かかる線群（例えば、線群５３等）と該各辺との交差角を用いて議論する。一方、本発明を構成する第一の態様である外光吸収シート１は、図３に示すように、観察者側、即ち外光が入射する側（以下、両者同義語として使用する）の面にメッシュ状の外光吸収パターン１２が形成されたものであり、その外光吸収パターン１２は、画像表示領域ＥＳを構成する各辺に対して直角に交差する線群５１で形成されている。また、本発明を構成する第二の態様である外光吸収シート５０は、図４に示すように、外光が入射する側の面にストライプ状の外光吸収パターン２５が形成されたものであり、画像表示領域ＥＳを構成する縦方向の短辺に対して直角に交差する線群５２で形成されている。
【００２４】
かかるプラズマディスプレイパネル１と外光吸収シート２とを組み合わせることにより、画素区画パターン４３から構成される線群５３の方向（画素の配列方向）と、外光吸収パターン１２の線群５１の方向とが重なることがなくなり、モアレの発生が抑制される。同様に、プラズマディスプレイパネル２と外光吸収シート５０とを組み合わせることにより、画素区画パターン４３の線群５３の方向と、外光吸収パターン５０の線群５２の方向とが重なることがなくなり、モアレの発生が抑制される。
【００２５】
［外光吸収シート］
図５は、図３に示す外光吸収シートを拡大して示した分解斜視図である。図５に示すように、外光吸収シート１は、透明基材１１上に外光吸収パターン１２を有する。そして、外光吸収パターン１２は、線群５１からなる。線群５１は、それぞれ幅Ｔ及び高さＨを有する線５５Ａ，５５Ｂ，５５Ｃ，５５Ｄ，及び５５Ｅから構成され、互いに平行な線５５Ａ，５５Ｂ，及び５５Ｃと、互いに平行な線５５Ｄ，５５Ｅとが直交することにより、メッシュ状に形成されている。
【００２６】
線５５Ａ，５５Ｂ，５５Ｃ，５５Ｄ，５５Ｅは、それぞれ幅Ｔを有する。幅Ｔは、通常５μｍ以上、一方、通常１００μｍ以下、好ましくは５０μｍ以下とする。上記範囲とすれば、外光吸収パターン１２の強度、開口率、外光吸収機能のバランスが良好となる。また、線５５Ａ，５５Ｂ，５５Ｃ，５５Ｄ，５５Ｅは、それぞれ高さＨを有する。高さＨは、通常２μｍ以上、１５μｍ以下とする。上記範囲とすれば、外光吸収シート１の製造時においてサイドエッチングの影響を受け難くなり、エッチング加工が行い易くなる。
【００２７】
線５５Ａ，５５Ｂ，及び５５Ｃと、線５５Ｄ，５５Ｅとが互いに直交することによって形成される空間は、開口部１６となっており、外光吸収シート１の光透過性が確保される。開口部１６の間口幅Ｗは、メッシュのピッチＰから、幅Ｔを引いた値（Ｐ−Ｔ）で表され、通常１００μｍ以上、好ましくは１５０μｍ以上、一方、通常３０００μｍ以下する。また、[（Ｐ−Ｔ）×（Ｐ−Ｔ）／（Ｐ×Ｐ）]×１００で定義される開口率（％）は、通常６０％以上、９７％以下とする。開口幅及び開口率を上記範囲とすれば、光透過性、視野角、及び外光吸収機能のバランスが良好となる。さらに、開口部１６の開口幅Ｗと開口部の開口高さＬとの比Ｗ／Ｌを、通常１以上、通常１０以下とする。
【００２８】
線５５Ａ，５５Ｂ，５５Ｃは、外光吸収パターン１２の横方向の線となり、図３に示す画像表示領域に対応する領域１４の縦方向の短辺、ひいては、図２に示す画像表示領域ＥＳの縦方向の短辺に直角に交差する。一方、線５５Ｄ，５５Ｅは、外光吸収パターン１２の縦方向の線となり、図３に示す画像表示領域に対応する領域１４の横方向の長辺、ひいては、図２に示す画像表示領域ＥＳの横方向の長辺に直角に交差する。これにより、線群５１が、画像表示領域ＥＳを構成する各辺に対して直角に交差するようになる。
【００２９】
線群５１は、外光吸収シート１の外光が入射する側（観察者側の面でもある）の面に設けられる。これにより、メッシュ状の線群５１で形成される外光吸収パターン１２が、外光吸収シート１に外光が入射する面の側に設けられることになる。外光吸収パターン１２が外光入射面側に設けられることにより、外光の吸収を効果的に行うことができるようになる。
【００３０】
図６は、図４に示す外光吸収シートを拡大して示した分解斜視図である。図６に示すように、外光吸収シート５０は、透明基材１１上に外光吸収パターン２５を有する。そして、外光吸収パターン２５は、線群５２からなる。線群５２は、それぞれ幅Ｔ及び高さＨを有する線５６Ａ，５６Ｂ，及び５６Ｃから構成され、互いに平行な線５６Ａ，５６Ｂ，５６Ｃがストライプ状に形成されている。線５６Ａ，５６Ｂ，５６Ｃは、外光吸収パターン２５の横方向の線となり、図４に示す画像表示領域に対応する領域１４の縦方向の短辺、ひいては、図２に示す画像表示領域ＥＳの縦方向の短辺に直角に交差する。これにより、線群５２が、画像表示領域ＥＳを構成する短辺に対して直角に交差するようになる。また、線群５２は、外光吸収シート５０の外光が入射する側の面に設けられる。これにより、ストライプ状の線群５２で形成される外光吸収パターン２５が、外光吸収シート５０に外光が入射する面の側に設けられることになる。外光吸収パターン２５が外光入射面側に設けられることにより、外光の吸収を効果的に行うことができるようになる。なお、線５６Ａ，５６Ｂ，５６Ｃの幅Ｔ、高さＨ、間口幅Ｗ、は図５で説明した範囲と同様とすればよい。
【００３１】
図７は、外光吸収シートのさらに他の一例を示す模式的な平面図であり、図８は、図７の外光吸収シートを拡大して示した分解斜視図である。図７及び図８に示す外光吸収シートは、図３及び図５の外光吸収シート１の変形例であり、外光吸収シート６０は、プラズマディスプレイパネル２に入射する外光を吸収するだけでなく、プラズマディスプレイパネル２から漏洩する電磁波をシールドする機能が付与されている。こうした外光吸収シート６０は、図７及び図８に示すように、シート状の透明基材１１と、透明基材１１上に設けられた外光吸収パターン２６と、外光吸収パターン２６の形成領域の周縁に四辺形で設けられた接地用領域１３とで構成されている。
【００３２】
透明基材１１としては、一般的に機械的強度が弱い外光吸収パターン２６を補強するとともに、プラズマディスプレイパネル２の表示画像を視認可能とする良好な透明性を有するものが用いられる。透明基材１１の透明性は高いほどよく、可視光線透過率で８０％以上であることが好ましい。可視光線透過率は、分光光度計等を利用して適宜測定できる。
【００３３】
上記の各種形態において用いられる透明基材１１には、必要に応じて耐熱性等も考慮され、要求特性に応じた材料からなるものが適宜選択して用いられる。透明基材１１としては、ガラス製又は樹脂製の、板状基材、シート状基材、フィルム状基材を挙げることができるが、生産性や軽量等を考慮すれば、樹脂を用いたシート状基材、フィルム状基材が好ましく用いられる。好ましい樹脂材料としては、透明性、耐熱性、コスト等の観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂が用いられ、より好ましくは、ポリエチレンテレフタレートが用いられる。また、樹脂を用いたシート状基材、フィルム状基材の場合、好ましくは、１軸延伸又は２軸延伸した延伸シートが用いられ、より好ましくは２軸延伸した延伸シートが用いられる。
【００３４】
透明基材１１は、単層体、又は２層以上の樹脂層からなる積層体としてもよい。透明基材１１は、必要に応じて、紫外線吸収剤、充填剤、可塑剤、帯電防止剤等の添加剤を含有させてもよいし、透明基材１１の表面には、コロナ放電処理、プラズマ処理、オゾン処理、フレーム処理、プライマー処理、予熱処理、除塵埃処理、蒸着処理、アルカリ処理、等の公知の易接着処理を行ってもよい。
【００３５】
透明基材１１の厚さは、用途に応じたものとすればよく、通常１２μｍ以上、好ましくは５０μｍ以上、一方、通常１０００μｍ以下、好ましくは５００μｍ以下とする。上記範囲とすれば、機械的強度が十分で、反りや弛み、破断等が起こり難い一方で、過剰性能によるコスト高となることも抑制し易くなり、帯状で供給して加工することが容易で、且つ外光吸収シート６０の薄型化も図り易くなる。
【００３６】
外光吸収パターン２６は、図７に示すように、メッシュ状の線群５４から形成され、プラズマディスプレイパネル２の画像表示領域ＥＳに対応する領域１４を全て覆うことが可能な寸法及び形状を有する。そして、外光吸収パターン２６は、図８に示すように、透明基材１１上に設けられたメッシュ状の導電層２０と、導電層２０上（より詳しくは、導電層２０の観察者側の面上）に設けられた黒化層１９とから構成されている。なお、導電層２０は、図４及び図６に示すようなストライプ状として形成してもよい。
【００３７】
導電層２０は、外光吸収パターン２６に導電性を付与し、外光吸収シート６０の電磁波シールド機能を確保するために用いられる。導電層２０の材料としては、例えば、銅、アルミニウム、ニッケル、鉄、金、銀、ステンレス、タングステン、クロム、及びチタン等の金属、又はそれらの金属の合金等を挙げることができる。これら材料は、電磁波のシールドが可能となる良好な導電性を有する。上記材料のうち、好ましくは銅を用いる。銅は高い導電性を有し、メッシュ加工も容易となり、また低コストとなる利点がある。導電層２０は、単層であっても、多層であってもよい。導電層２０の厚さは、通常２μｍ以上、１５μｍ以下とする。上記範囲とすれば、表面抵抗を低減して電磁波のシールド機能が向上するので、外光吸収パターン２６の線群５４の幅を細くし易くなる。
【００３８】
黒化層１９は、外光の吸収を行うために用いられるものである。導電層２０により外光吸収パターン２６の導電性が確保されるので、黒化層１９への導電性の付与は任意である。このため、黒化層１９の材料としては、例えば、黒色を有する金属酸化物、黒色を有する金属硫化物、黒色インキ・顔料を含有する樹脂等を挙げることができる。黒化層１９に導電性を付与する場合には、例えば、上記の黒色顔料に黒鉛等の導電性を有する顔料を用いればよい。黒化層１９の厚さは、通常、０．１μｍ以上、１μｍ以下とする。
【００３９】
黒化層１９は、外光吸収機能を確保する観点から、黒濃度を０．６以上とすることが好ましい。黒濃度の測定方法は、ＣＯＬＯＲ ＣＯＮＴＲＯＬ ＳＹＳＴＥＭのＧＲＥＴＡＧ ＳＰＭ１００−１１（株式会社キモト製）を用いて、観察視野角１０度、観察光源Ｄ５０、照明タイプとして濃度標準ＡＮＳＩＴに設定し、白色キャリブレイション後に、試験片を測定すればよい。また、黒化層１９は、光線反射率を５％以下とすることが好ましい。光線反射率は、ＪＩＳ−Ｋ７１０５に準拠して、ヘイズメーターＨＭ１５０（村上色彩社製）を用いて測定する。さらに、光線反射率の測定に換えて、色差計により反射のＹ値で表わしてもよい。黒化層１９のＹ値は、１０以下が好ましい。なお、ここでいう黒化層１９は、必ずしも完全な黒、即ち低明度無彩色である必要は無く、外光を十分に吸収し画像コントラスト向上に十分寄与し得るものであれば良く、黒色以外に、褐色、臙脂色、紺色、深緑色等の低明度有彩色であっても良い。又、低明度無彩色と低明度有彩色とを包括して暗色とも呼ぶ。
【００４０】
接地用領域１３は、図７に示すように、導電性が付与された外光吸収パターン２６のアースをとり易くするために設けられる。接地用領域１３は、外光吸収パターン２６と同じ層構成を有し、平板状に形成されている。図７では、接地用領域１３は、画像表示領域に対応する領域１４より外側の領域に形成されている。これは、外光吸収パターン２６が画像表示領域に対応する領域１４と同じ大きさだからであるが、外光吸収パターン２６は、画像表示領域に対応する領域１４より大きくしてもよい。この場合、画像表示領域に対応する領域１４より外側の領域は、外光吸収パターン２６及び接地用領域１３で形成されることになる。また、図７では、接地用領域１３は、外光吸収パターン２６の外側に額縁状に設けられているが、外光吸収パターン２６の周囲の一部に設けるようにしてもよい。例えば、接地用領域１３を外光吸収シート６０の、三辺、二辺、又は一辺のみに設けるようにしてもよい。なお、接地用領域１３は、接地抵抗を少なくする為に、メッシュ等の開口部を形成しないことが好ましいが、接地特性に支障が無い範囲でメッシュ等の開口部を設けてもよい。
【００４１】
図９は、外光吸収シートのさらに他の一例の模式的な分解斜視図である。図９に示す外光吸収シート３０は、図７及び図８の外光吸収シート６０の変形例であり、図８に示す導電層２０の代わりに、透明導電膜２３を透明基材１１上に面状に設けることによって、プラズマディスプレイパネル２から漏洩する電磁波をシールドする機能が付与されている。こうした外光吸収シート３０は、透明基材１１と、透明基材１１上に設けられた面状の透明導電膜２３と、透明導電膜２３上に設けられたメッシュ状の外光吸収パターン２２から構成される。そして、外光吸収パターン２２を形成する線群５７は、メッシュ状の黒化層１９Ｄから構成される。外光吸収シート３０は、透明導電膜２３を有すること、及び外光吸収パターン２２に導電層を用いないこと以外は、図７及び図８に示す外光吸収シート６０と同様とすればよい。なお、透明基材、透明導電膜、及び黒化層を構成要素とする外光吸收シートの積層構造（積層順序）としては、黒化層が観察者側に視認可能な位置にあればよい。したがって、図９に例示の、透明基材１１／透明導電膜２３／黒化層１９Ｄ、以外に、黒化層／透明基材／透明導電膜、透明基材／黒化層／透明導電膜等の積層順序も可能である。
【００４２】
透明導電膜２３は、電磁波シールド機能を確保しつつ、プラズマディスプレイパネルの表示を視認可能とする良好な透明性を有する。透明導電膜２３の透明性は高いほどよいが、好ましくは可視光線透過率で、通常６０％以上、より好ましくは８０％以上とすることである。可視光線透過率は、分光光度計等を利用して適宜測定すればよい。透明導電膜２３の材料としては、例えば、Ａｇ（銀）、Ｓｎ（錫）、Ｐｔ（白金）、ＩＴＯ、酸化錫インジウム、及びＡＴＯ（アンチモンドープ酸化錫）等を挙げることができる。上記材料は、導電性が高いので透明性を確保するために薄膜とした場合においても良好な導電性の確保が可能となる。透明導電膜２３の厚さは、材料によって最適値は異なるが、通常、０．０１μｍ以上、１μｍ以下とする。上記範囲とすれば、透明性と導電性とのバランスが取り易くなる。
【００４３】
外光吸収パターン２２は、導電性を付与する必要がないので、外光吸収のための黒化層１９Ｄから構成する。黒化層１９Ｄは、図８で説明した黒化層１９と同様とすればよい。なお、黒化層１９Ｄは、図４及び図６に示すようなストライプ状として形成してもよい。
【００４４】
図１０は、外光吸収シートのさらに他の一例の模式的な断面図である。具体的には、図１０に示す外光吸収シート１Ａは、図７及び図８に示す外光吸収シート６０の変形例であり、導電層２０及び黒化層１９の２層構造の外光吸収パターン２６を、５層構造の外光吸収パターン１２Ａに変更したものである。こうした外光吸収シート１Ａは、透明基材１１上に、接着剤層１７を介して積層体２４Ａが接着されており、メッシュ状の積層体２４Ａが外光吸収パターン１２Ａを形成する。そして、積層体２４Ａは、防錆層１８Ａ、黒化層１９Ａ、導電層２０Ａ、黒化層１９Ｂ、及び防錆層１８Ｂの５層構造となっている。
【００４５】
導電層２０Ａ、黒化層１９Ａ，１９Ｂは、図８で説明した導電層２０及び黒化層１９と同様とすればよい。
【００４６】
防錆層１８Ａ、１８Ｂは、防錆機能と黒化層１９Ａ，１９Ｂの脱落や変形を抑制するために用いられるものである。外光が入射する側に設けられる防錆層１８Ｂは、黒化層１９Ｂとともに外光を吸収する機能を有する。一方、透明基材１１の側に設けられる防錆層１８Ａは、プラズマディスプレイパネルから発生する迷光を抑制する機能を有する。防錆層１８Ａ、１８Ｂの材料としては、例えば、ニッケル、亜鉛、銅の酸化物、クロメート処理層を用いることが好ましい。防錆層１８Ａ、１８Ｂの厚さは、通常０．００１μｍ以上、通常１μｍ以下、好ましくは０．１μｍ以下である。
【００４７】
外光吸収シート１Ａの製造方法について説明する。外光吸収シート１Ａは、防錆層／黒化層／導電層／黒化層／防錆層の層構成を有する５層構造の箔状の薄板を、接着剤層１７を介して透明基材１１上に接着した後にフォトリソグラフィー法でメッシュ状として積層体２４Ａを形成することによって製造される。
【００４８】
上記の５層構造の箔状の薄板は、箔状の導電層の両面に黒化処理を行って黒化層を形成した後に、防錆処理を行い黒化層の上に防錆層を形成することによって製造される。黒化処理は、例えば、スチーム処理、濃硝酸による薬品処理、カソーディック電着等を用いて導電層の表面を処理することによって行う。これにより黒化層を導電層の表面に形成できる。この他、黒化層は、印刷により形成することもできる。黒化処理として印刷を用いる場合、黒色顔料等を樹脂に分散させたインキを、例えば、シルクスクリーン印刷、フレキソ印刷、クラビア印刷、オフセット印刷等を用いて箔状の導電層上に印刷する。シルクスクリーン印刷及びフレキソ印刷は、細線の再現性、十分な塗工量を確保し易いという利点がある。線幅、細線再現性、塗工量等の要求性能に応じて、クラビア印刷やオフセット印刷を用いてもよい。黒化処理に次いで行われる防錆処理は、公知のメッキ法を用い、導電層の両面に形成された２層の黒化層上に防錆層をそれぞれ形成する。
【００４９】
黒化処理及び防錆処理を経て製造された上記の５層構造の箔状の薄板を、接着剤層１７を介して透明基材１１上に貼り付ける。接着剤層１７に用いる接着剤としては、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂等を挙げることができる。これら接着剤のうち、好ましくは、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂が用いられ、より好ましくは熱硬化性樹脂が用いられる。これら接着剤は、接着強度が高く、エッチング加工時のエッチング液での着色や劣化が少なく、加工適性にも優れる傾向にある。熱硬化性樹脂としては、例えば、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂を使用することができる。好ましくは、ウレタン樹脂が用いられ、より好ましくは、２液反応硬化型のウレタン樹脂が用いられる。また、これら接着剤とともに、希釈剤、可塑剤、酸化防止剤、充填剤、着色剤、紫外線吸収剤や粘着付与剤等の添加剤を用いてもよい。接着剤層１７の厚さは、乾燥時の厚さで通常１μｍ以上、３０μｍ以下とされる。また、接着剤層の屈折率は、１．４５以上、１．７０以下のものを用いることが好ましい。これは透明基材１１の屈折率と接着剤層１７の屈折率との差を、０．１２程度以下と近い値になるようにして、層間の界面における可視光線の反射を抑制して可視光線透過率の低下を抑制するとともに、層間の界面が粗面の場合、この界面での乱反射によりヘイズ（曇価）の上昇を抑制するためである。
【００５０】
接着剤層１７による接着の後に、フォトリソグラフィー法により上記の５層構造の箔状の薄板をメッシュ状なるように加工して、防錆層１８Ａ／黒化層１９Ａ／導電層２０Ａ／黒化層１９Ｂ／防錆層１８Ｂを有する積層体２４Ａを得る。フォトリソグラフィー法は、レジスト塗布、マスキング、エッチング、レジスト剥離の各工程を有する。フォトリソグラフィー法は、公知の方法を適宜用いればよい。
【００５１】
図１１は、外光吸収シートのさらに他の一例の模式的な断面図である。具体的には、図１１に示す外光吸収シート１Ｂは、図７及び図８に示す外光吸収シート６０の変形例であり、導電層２０及び黒化層１９の２層構造の外光吸収パターン２６を、４層構造の外光吸収パターン１２Ｂに変更したものである。こうした外光吸収シート１Ｂは、透明基材１１上に積層体２４Ｂが積層されており、メッシュ状の積層体２４Ｂが外光吸収パターン１２Ｂを形成する。そして、積層体２４Ｂは、導電処理層２１、導電層２０Ｂ、黒化層１９Ｃ、及び防錆層１８Ｃの４層構造となっている。
【００５２】
導電処理層２１は、透明基材１１が絶縁性であることを考慮し、導電層２０Ｂの電解メッキを行うために用いられるものである。導電処理層２１の材料としては、例えば、金、銀、銅、鉄、ニッケル、及びクロム等の金属、これらの金属の合金（例えば、ニッケル−クロム合金）、又は酸化スズ、ＩＴＯ、及びＡＴＯ等の透明な金属酸化物等を挙げることができる。導電性処理層２１は、単層であっても、又は、ニッケル−クロム合金と銅層との積層等の多層であってもよい。導電処理層２１の厚さは、０．００１μｍ以上、１μｍ以下とすることが好ましい。上記範囲であれば、電解メッキ時に必要な導電性を確保し易くなる。
【００５３】
導電層２０Ｂは、外光吸収パターン１２Ｂに導電性を付与し、外光吸収シート１の電磁波シールド機能を確保するために用いられる。導電層２０Ｂの材料としては、例えば、金、銀、銅、鉄、ニッケル、及びクロム等の金属、又はそれらの金属の合金等を挙げることができる。これら材料は、電磁波のシールドが可能となる良好な導電性を有する。上記材料のうち、好ましくは、銅又は銅合金を用いる。銅又は銅合金を用いることにより、電解メッキを容易に行い易い。導電層２０Ｂは、単層であっても、多層であってもよい。導電層２０Ｂの厚さは、通常５μｍ以上、１５μｍ以下とする。上記範囲とすれば、表面抵抗を低減して電磁波のシールド機能が向上するので、外光吸収パターン１２Ｂの幅Ｔを細くし易くなる。
【００５４】
黒化層１９Ｃは、図８で説明した黒化層１９と同様とすればよい。また、防錆層１８Ｃは、図１０で説明した防錆層１８Ａ、１８Ｂと同様とすればよい。
【００５５】
外光吸収シート１Ｂの製造方法について説明する。まず、透明基材１１上にスパッタリング等により導電処理層を形成する。次いで、この導電処理層上に電解メッキにより導電層を形成し、さらに導電層の上に黒化層及び防錆層をこの順に形成する。このようにして設けられた、導電処理層／導電層／黒化層／防錆層を、フォトリソグラフィー法でメッシュ状として積層体２４Ｂを形成する。導電処理層のスパッタリング、導電層の電解メッキについては、公知の方法を適宜用いればよい。また、黒化処理による黒化層の形成、防錆処理による防錆層の形成、フォトリソグラフィー法については、図８及び図１０で説明した黒化処理、防錆処理、及びフォトリソグラフィー法を適宜用いて行えばよい。
【００５６】
なお、図１０、１１で説明した、外光吸収シート１Ａ、１Ｂの製造方法以外に、本発明の外光吸収シートを製造する方法として以下の２つの方法を用いることもできる。まず、透明基材に導電インキをパターン状に印刷して導電インキ層を形成し、この導電性インキ層の上へ金属メッキ、黒化処理をする方法を挙げることができる（例えば、特開２０００−１３０８８号公報を参照）。また、透明基材に、導電インキ又は化学メッキ触媒含有感光性塗布液を全面に塗布して塗布層を形成し、この塗布層をフォトリソグラフィー法でメッシュ状とした後に、このメッシュの上へ金属メッキ、黒化処理する方法を挙げることができる（例えば、住友大阪セメント株式会社新材料事業部新規材料研究所新材料研究グループ、“光解像性化学メッキ触媒”、［ｏｎｌｉｎｅ］、掲載年月日記載なし、住友大阪セメント株式会社、［平成１５年１月７日検索］、インターネット〈URL:http://www.socnb.com/product/hproduct/display.html〉を参照）。
【００５７】
以上、図３、図５、図７、図８、図９、図１０、及び図１１に示した外光吸収パターン１２，２６，２２，１２Ａ，及び１２Ｂは、画像表示領域ＥＳを構成する各辺に対して直角に交差するメッシュ状の線群で形成されている。これによって、外光吸収シート１，６０，３０，１Ａ，１Ｂの外光吸収機能の向上による、プラズマディスプレイ装置１０の表示コントラストの向上も期待できる。
【００５８】
外光吸収パターンは、従来は、図１３、１４に示すように、外光吸収シート１１０の長辺又は短辺に対して鋭角を形成するように傾けて設けられていた。これにより、メッシュ状の導電層パターン１０２のメッシュと、プラズマディスプレイパネルの画素を区画する画素区画パターン（図１３には図示してない。）とが同じ方向で重ならなくなるために、モアレの発生や映像が見難くなることが防止できる。しかし、外光を吸収してコントラストをより高くするという要請に応えるためには、上記の様な斜めに傾けたメッシュ状の導電層パターン１０２では不十分となり易い。なぜなら、プラズマディスプレイ装置に入射する外光のほとんどは、同装置の上方から入射するので、メッシュ状の導電層パターン１０２のような斜めに傾いたメッシュ形状では、上方から入射する外光に対してメッシュ状の導電層パターン１０２が形成する陰の面積が小さく、外光吸収が不十分となり易いからである。特に、斜め上方からの光が入射した場合には上記現象は顕著となる。
【００５９】
これに対して、本発明のように、メッシュ状の外光吸収パターン１２，２６，２２，１２Ａ，及び１２Ｂを、画像表示領域ＥＳを構成する各辺に対して直角に交差する線群で形成すれば、例えば、図５の線５５Ａ、５５Ｂ、５５Ｃの様な線群は、画面（画像表示領域ＥＳ）の前面に於いて水平方向に配列する様に位置する。その結果、建築物の窓の庇と同様な機能を発現し、上方や斜め上方からプラズマディスプレイ装置１０に入射する外光に対してメッシュが形成する陰の面積が大きくなり、外光吸収がより効率的に行われ易くなる。
【００６０】
上記説明した外光吸収機能の向上効果は、図４及び図６に示したストライプ状の外光吸収パターン２５を用いる場合においても期待できる。すなわち、外光吸収パターン２５は、ストライプ状の線群５２を画像表示領域ＥＳの水平方向に平行となるように配列させている。このため、メッシュ状の場合の水平方向の線群と同様に、上方や斜め上方からプラズマディスプレイ装置１０に入射する外光に対してメッシュが形成する陰の面積を確保できるので、上記外光吸収の効果が期待できる。さらに、画像の観察者（視聴者）は水平方向左右に広がった角度範囲から観察するため、垂直方向に配列する線群を持たないストライプ状の外光吸収パターン２５はプラズマディスプレイ装置１０の視野角が広がるという効果も期待できる。
【００６１】
なお、以上説明した外光吸収シートにおいては、透明基材の外光入射面の側に外光吸収パターンを形成しているが、メッシュ状又はストライプ状の外光吸収パターンは、透明基材の外光入射面とは反対側の面、すなわちプラズマディスプレイパネルに対向する側の面にさらに設けてもよい。これにより、いわゆるルーバやブラインドの様な斜入射光線の遮蔽效果を奏するため、外光吸収機能のさらなる向上が期待できる。
【００６２】
［機能層］
外光吸収シートには、必要に応じ、更に、各種の機能を奏する機能層を設けてもよい。機能層としては、例えば近赤外線吸収層、ネオン光吸収層、紫外線吸収層、反射防止層、ハードコート層、防汚層、及び防眩層等を挙げることができる。こうした機能層は、外光吸収シート上に直接設けてもよいし、機能層を有するシートを外光吸収シート上に接着剤を介して積層してもよい。なお、それぞれの層の厚さはそれぞれの機能層毎に適当な厚さが設定される。また、複数の機能層を併用する場合には、任意に積層させてもよい。
【００６３】
近赤外線吸収層は、通常、プラズマディスプレイパネルから放射される近赤外線を吸収するために設けることができる。近赤外線吸収層を設けることにより、プラズマディスプレイ装置の近くで使用されるリモートコントロール装置の誤作動等を防止することができる。近赤外線吸収層は、例えば、ジインモニウム系化合物、フタロシアニン系化合物等の近赤外線吸収剤をバインダ樹脂中に添加した塗料を、外光吸收シート上に塗工したり、又は透明基材上にかかる近赤外線吸收塗料を塗工したものを外光吸収シート上に接着剤で接着することにより設けることができる。
【００６４】
ネオン光吸収層は、通常、プラズマディスプレイパネルから放射されるネオン光を吸収するために設けることができる。ネオン原子の発光スペクトル帯域は波長５５０〜６４０ｎｍであるので、ネオン光吸収層は、通常、少なくとも５５０〜６４０ｎｍの波長領域内に吸収極大を有する色素をバインダ樹脂に分散させた層とすることが好ましく、中心波長５９０ｎｍにおける光線透過率が５０％以下になるように含有量等を調整することがより好ましい。
【００６５】
紫外線吸収層は、外光としてプラズマディスプレイパネルに入射する紫外線を吸収して、プラズマディスプレイパネルを構成する材料の紫外線劣化を防ぐために設けることができる。また、上記のような有機系の近赤外線吸收剤を含有する近赤外線吸收層を設ける場合には、この近赤外線吸収剤は紫外線により劣化し易いため、紫外線吸收層を近赤外線吸收層より外側に積層することが好ましい。紫外線吸収層は、通常、紫外線吸収剤をバインダ樹脂に分散させた層を外光吸収シート上に設ける、又は紫外線吸収層を有するシートを外光吸収シート上に貼り合わせて設けることができる。
【００６６】
反射防止層（ＡＲ（Anti Reflection）層）は、通常、光干渉で反射光を抑制するために設けることができる。反射防止層としては、通常、低屈折率層が最表面に位置する様にして低屈性率層と高屈折率層とを交互に積層した多層構成からなるものが好ましく用いられる。
【００６７】
ハードコート層（ＨＣ（Hard Coat）層）は、通常、機能層の表面を保護するために設けることができる。ハードコート層は、通常、電離放射線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂等で形成される。
【００６８】
防眩層（ＡＧ（Anti Glare）層）は、光拡散によって外光の鏡面反射を低減し、ギラツキを防止するために設けることができる。防眩層は、通常、透明樹脂バインダ中にこれと屈折率の異なるシリカ等の無機フィラーを分散させた層として、又は透明樹脂層表面にエンボス加工等で光拡散性の微小な凹凸を賦形したものとして形成することができる。
【００６９】
防汚層は、通常、外光吸収シートに付着する汚れを防止するために設けることができる。防汚層は、撥水性や撥油性を有する層であり、通常、シロキサン系化合物や、フッ素化アルキルシリル化合物等が用いられる。
【００７０】
［プラズマディスプレイパネル］
プラズマディスプレイパネル２は、図２に示すように、画素区画パターン４３により、画像表示領域ＥＳに画素の配列方向が傾斜して区画形成されている。画素区画パターン４３は線群５３からなる。線群５３は、それぞれ所定の幅及び高さを有する複数の線から構成され、この複数の線が網目状に直交することにより、メッシュ状に形成されている。そして、線群５３（画素の配列方向でもあるが）を構成する上記複数の線は、画像表示領域ＥＳを構成する各辺に対して傾斜角θで交差している。ここで、上記の傾斜角θは、０°＜θ＜９０°、より好ましくは、１５°＜θ＜７５°に設定する。
【００７１】
図１２は、プラズマパネルディスプレイパネルの一例の内部構造を示す模式的な分解斜視図である。図１２は、図２とともに、交流（ＡＣ）型プラズマディスプレイパネルの一例を示している。図２、１２に示すように、プラズマディスプレイパネル２は、一対の前面板３１と背面板３２とからなる。前面板３１と背面板３２は、互いに平行にかつ対向して設置されており、前面板３１と背面板３２との重なり合う一定の領域に画像表示領域ＥＳが設けられている。
【００７２】
画像形成領域ＥＳは、図２に示すように、長方形となっている。画像表示領域ＥＳが長方形とは、画像表示領域ＥＳを平面視したときに、四つの内角が全て直角である四辺形となっていることをいう。但し、画像表示領域ＥＳは完全な長方形である必要はなく、例えば、四つの内角は直角から若干のずれを持ってもよいし、また、四辺形の四つの角は丸みを帯びる等の形状としてもよい。
【００７３】
前面板３１と背面板３２は、図１２に示すように、背面板３２上に互いに平行に設けられたリブ３３により、一定の間隔に保持されるようになっている。なお、図１２では、理解を助けるために、前面板３１と背面板３２とは実際より離した状態で示してある。
【００７４】
前面板３１は、ガラス基板３４、放電維持電極３５、バス電極３６、誘電体層３７、及び保護層３８から構成される。具体的には、ガラス基板３４の背面には、透明電極よりなる放電維持電極３５と金属電極よりなるバス電極３６とで構成される複合電極Ｙが互いに平行に形成され、これを覆って誘電体層３７が形成されている。誘電体層３７上には保護層３８が形成されている。
【００７５】
ガラス基板３４は、前面板３１の基材として用いられるものであり、蛍光体層４０Ｒ、４０Ｇ、４０Ｂでの発光が透過することとなる。このため、機械的強度や透過性等を考慮し、ガラス基板３４の厚さは、通常、１ｍｍ以上、１０ｍｍ以下とする。
【００７６】
放電維持電極３５は、プラズマ放電を行って蛍光体４０Ｒ、４０Ｇ、４０Ｂを発光させるための真空紫外光を生成するために用いられるものであり、透明電極として形成される。放電維持電極３５の材料としては、例えば、酸化スズ、ＩＴＯ等を挙げることができる。放電維持電極３５の厚さは、通常、１μｍ以上、１００μｍ以下とされる。
【００７７】
バス電極３６は、放電維持電極３５において印加電圧を発光点に効率よく印加させるために用いられるものであり、放電維持電極３５上に設けられる金属電極である。バス電極３６の材料としては、例えば、銀、銅、アルミニウム等を挙げることができる。バス電極３６の厚さは、通常、１μｍ以上、１０μｍ以下とされる。
【００７８】
誘電体層３７は、放電維持電極３５及びバス電極３６の保護のために用いられるものである。誘電体層３７の材料としては、通常、酸化鉛や酸化亜鉛を主成分とする低融点のガラスを挙げることができる。誘電体層３７の厚さは、通常、５μｍ以上、１０μｍ以下とされる。
【００７９】
保護層３８は、プラズマディスプレイパネル２において電荷を蓄積するために用いるものである。保護層３８の材料としては、例えば、ＭｇＯ等を挙げることができる。ＭｇＯは、２次電子放出効率が高く、対スパッタ性に優れる性質を有する。保護層３８の厚さは、通常、０．０１μｍ以上、１μｍ以下とされる。
【００８０】
背面板３２は、ガラス基板３９、アドレス電極Ａ、誘電体層４１、リブ３３、及び蛍光体層４０Ｒ、４０Ｇ、４０Ｂから構成される。具体的には、ガラス基板３９の前面には、上記複合電極Ｙと直行するように、複数のアドレス電極Ａが互いに平行に形成されており、これを覆って誘電体層４１が形成されている。アドレス電極Ａは、リブ３３と平行かつリブ３３の間に位置するように一定間隔をもって配列されている。そして、リブ３３の壁面と誘電体層４１とを覆うようにして蛍光体層４０Ｒ、４０Ｇ、４０Ｂが形成されている。
【００８１】
ガラス基板３９は、プラズマディスプレイパネル２全体の基材となる。このため、機械的強度と重量とのバランスから、ガラス基板３９の厚さは、通常、１ｍｍ以上、１０ｍｍ以下とする。
【００８２】
アドレス電極Ａは、データ書き込み動作時に電圧を印加して、各サブピクセルの壁電荷を制御することで、各サブピクセルの発光を制御するために用いられるものである。材料としては、例えば、クロム、銀、銅、アルミニウム等を挙げることができる。アドレス電極Ａの厚さは、通常１μｍ以上、１０μｍ以下とされる。
【００８３】
誘電体層４１は、アドレス電極Ａの保護のために用いられるものである。誘電体層４１の材料としては、通常、酸化鉛や酸化亜鉛を主成分とする低融点のガラスを挙げることができる。誘電体層４１の厚さは、通常、５μｍ以上、１０μｍ以下とされる。
【００８４】
リブ３３は、放電空間を区画するために用いられるものである。区画された各放電空間をセル又は単位発光領域という。隣接するリブ３３の間に設けられた蛍光体層４０Ｒ、４０Ｇ、４０Ｂは、放電により生じた紫外線により発光する。したがって、リブ３３は、セル間の干渉を防ぐために用いられる。また、リブ３３は、前面板３１と背面板３２との間隔を一定に保つために設けられる。このため、放電空間をできるだけ大きくして高輝度の発光を得るため、壁面が垂直に切り立ち、幅が狭く高さの高いリブ３３を形成することが好ましい。特に、高精細のディスプレイでは高さ１２０μｍに対して幅を、通常３０μｍ以上、５０μｍ以下の高アスペクト比のリブ３３を設けることが好ましい。以上の特性を考慮し、リブ３３の材料は、通常、ガラスを主成分とする。
【００８５】
蛍光体層４０Ｒ、４０Ｇ、４０Ｂは、カラー表示のためのＲｅｄ（Ｒ）、Ｇｒｅｅｎ（Ｇ）、Ｂｌｕｅ（Ｂ）の３色の蛍光体である。蛍光体としては、従来より知られているものを用いればよい。赤色蛍光体としては、例えば、（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ3 に所定量のＥｕを添加したもの（「（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ3 ：Ｅｕ」と表す。以下同様）、ＹＯ3 ：Ｅｕ、ＹＶＯ4 ：Ｅｕ等を挙げることができる。緑色蛍光体としては、例えば、Ｚｎ2 ＧｅＯ2 ：Ｍｎ、Ｚｎ2 ＳｉＯ4 ：Ｍｎ、ＢａＡｌ12Ｏ19：Ｍｎ、ＬａＰＯ4：Ｔｂ、（Ｂａ，Ｓｒ，Ｍｇ）Ｏ・α−Ａｌ2 Ｏ3：Ｍｎ等を挙げることができる。青色蛍光体としては、例えば、Ｓｒ5 （ＰＯ4 ）3 Ｃｌ：Ｅｕ、ＢａＭｇＡｌ14Ｏ23：Ｅｕ、ＢａＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕ等を挙げることができる。
【００８６】
蛍光体層４０Ｒ、４０Ｇ、４０Ｂはサブピクセルであり、これら３つのサブピクセル間に設けられるリブ３３、及び前面板３１の隣り合う２つの複合電極Ｙで１画素を形成する。したがって、リブ３３が、画素区画パターン４３を構成する一方の線群となり、複合電極Ｙのうちバス電極３６が、画素区画パターン４３を構成するもう一方の線群となる。そして、リブ３３及びバス電極３６が直交することによって、メッシュ状の画素区画パターン４３が形成される。
【００８７】
リブ３３及びバス電極３６は、図２、１２に示すように、画像表示領域ＥＳの長辺又は短辺に対して一定の角度θだけ傾けるようにして設けられている。これにより、リブ３３及びバス電極３６と、このリブ３３及びバス電極３６が交わる画像表示領域ＥＳの辺とがそれぞれ鋭角θを形成することになる。θの大きさは、１５°より大きく、７５°より小さい範囲とする。この範囲にすることにより、外光吸収シートに設けられたメッシュ状又はストライプ状の外光吸収パターンとの干渉によるモアレの発生を抑制できるようになる。
【００８８】
プラズマディスプレイパネル２の動作について説明する。プラズマディスプレイパネル２は、ＡＣ型のプラズマディスプレイパネルであり、面放電型である。具体的には、隣り合う複合電極Ｙ間に交流電圧を印加して放電させる構造である。この場合、交流をかけているために電界の向きは周波数に対応して変化する。そして、この放電により生じる紫外線により蛍光体４０Ｒ、４０Ｇ、４０Ｂを発光させ、前面板３１を通過する光を観察者が視認するようになっている。なお、直流（ＤＣ）型のプラズマディスプレイパネルにあっては、電極は誘電体層で被覆されていない構造を有する点でＡＣ型のプラズマディスプレイパネルと異なるが、その放電効果は同じである。
【００８９】
次に、プラズマディスプレイパネル２の製造方法について説明する。図１２に示すプラズマディスプレイパネル２は、通常、保護層３８及びリブ３３が向かい合うようにして、前面板３１と背面板３２とを張り合わせ、リブ３３に囲まれた空間部に、Ｈｅ−Ｘｅ（１．１％）ペニングガスを封入することによって製造される。
【００９０】
背面板３２の製造は、通常、以下のようにして行われる。
【００９１】
アドレス電極Ａが、まず、ガラス基板３９上に一定間隔で形成される。アドレス電極Ａは、通常、真空蒸着法、スパッタリング法、メッキ法、厚膜法等によって、ガラス基板３９上に電極材料の膜を形成し、これをフォトリソグラフィー法によってパターニングする方法、又は、厚膜ペーストを用いたスクリーン印刷法が用いられる。このとき、画像表示領域ＥＳの各辺と一定の傾斜角θを形成するように、アドレス電極Ａはガラス基板３９上に斜めに形成される。
【００９２】
誘電体層４１は、上記のようにして形成されたアドレス電極Ａを覆うようにして形成される。誘電体層４１は、通常、スクリーン印刷によって形成される。
【００９３】
リブ３３は、誘電体層４１上に、ガラス基板３９上に斜めに形成したアドレス電極と平行になるように形成する。リブ３３は、通常、スクリーン印刷によりパターン形成する方法、又は、サブトラクティブ法を用いて形成される。
【００９４】
蛍光体層４０Ｒ、４０Ｇ、４０Ｂは、通常、リブ３３の間に赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各色用の蛍光体ペーストを選択的に充填した後、乾燥させてから焼成することで形成される。蛍光体ペーストの充填は、通常、スクリーン印刷法やフォトリソグラフィー法を用いる。スクリーン印刷法では、蛍光体ペーストをスクリーン印刷でリブ３３間に選択的に充填して乾燥させる工程を数回繰り返し、その後焼成して蛍光体層４０Ｒ、４０Ｇ、４０Ｂを形成する。スクリーン印刷の回数は、蛍光体層４０Ｒ、４０Ｇ、４０Ｂの厚さにもよるが、通常３回程度繰り返して行われる。一方、フォトリソグラフィー法は、感光性の蛍光体ペーストを塗布し、露光、現像し、乾燥させる工程を数回繰り返し、その後焼成して蛍光体層４０Ｒ、４０Ｇ、４０Ｂを形成する。露光、現像し、乾燥させる工程の回数は、蛍光体層４０Ｒ、４０Ｇ、４０Ｂの厚さにもよるが、通常３回程度繰り返して行われる。
【００９５】
蛍光体層４０Ｒ、４０Ｇ、４０Ｂの形成方法としては、上記以外に、インクジェットノズルの先端から蛍光体ペーストを噴射するインクジェット法や、吐出孔を有するペースト塗布用ノズルを使用し、塗布ノズル内に圧力を印加して、蛍光体ペーストをリブ間に充填するようにしたディスペンス法による塗布方法も用いることができる。さらに、ディスペンス法は、塗布ノズルのペースト吐出口近傍に設けた電極と、被塗布物である誘電体層４１との間に電圧を印加しながらペーストを塗布する電界ジェット法を用いることもできる。
【００９６】
一方、前面板３１の製造は、通常、以下のようにして行われる。
【００９７】
放電維持電極３５が、まず、ガラス基板３４上に一定間隔で形成される。放電維持電極３５は、通常、フォトリソグラフィー法により形成される。このとき、画像表示領域ＥＳの各辺と一定の傾斜角θを形成するように、透明電極３６はガラス基板３９上に斜めに形成される。
【００９８】
バス電極３６は、上記のようにして形成された放電維持電極３５上に沿って形成される。バス電極３６は、通常、スクリーン印刷により形成される。
【００９９】
誘電体層３７は、ガラス基板３４上に形成された放電維持電極３５及びバス電極３６の全面を覆うように形成される。誘電体層３７は、通常、スクリーン印刷により形成される。
【０１００】
保護層３８は、誘電体層３７上に、通常、スパッタリングによって形成される。
【０１０１】
以上のようにして得られた前面板３１及び背面板３２を上記の通り貼り合わせることでプラズマディスプレイパネル２が製造される。なお、プラズマディスプレイパネルの製造方法としては、上記説明したものの他、特許第３６４９３０９号、特開２００４−１７９１７０号公報、特開２００５−１５８３４８号公報に記載された製造方法も適宜用いることができる。
【０１０２】
［プラズマディスプレイ装置の製造］
上述した外光吸収シート１，１Ａ，１Ｂ，３０，５０，６０（以下、外光吸収シート１と略記する。）とプラズマディスプレイパネル２は、筐体前部３と筐体後部４とを主な部材とする筐体に装着され、本発明のプラズマディスプレイ装置１０が形成される。具体的には、図１に示すように、外光吸収シート１の周縁部に取り付け金具７を設置した後、この取り付け金具７をネジ６で筺体前部３の取付ボス５に締付ける。これにより、外光吸収シート１が筐体前部３に取り付けられる。次に、プラズマディスプレイパネル２を、取付ボス８を介してネジ９により筺体後部４に固定する。そして、プラズマディスプレイパネル２の周縁部を取り付け金具７に押し当てて、取り付け金具７を外光吸収シート１に強く接触させるようにして、筐体前部３に筺体後部４を取り付ける。なお、図１には図示していないが、プラズマディスプレイ装置１０の駆動のための制御基板、配線等の各部材も、従来公知の方法で取り付ければよい。
【０１０３】
プラズマディスプレイ装置１０においては、取付ボス５、筺体前部３の内面、筺体後部４の内面及び取付ボス８等は表面に導電処理加工が行われている。これにより、外光吸収シート１をプラズマディスプレイパネル２の背面の金属部（アース）に接続し、プラズマディスプレイパネル２より放射される電磁波により外光吸収シート１に誘起される電荷をアースに導通することができるようになる。
【図面の簡単な説明】
【０１０４】
【図１】本発明のプラズマディスプレイ装置の一例を示す模式的断面図である。
【図２】プラズマディスプレイパネルの画素区画パターンの一例を示す模式的な平面図である。
【図３】外光吸収シートの外光吸収パターンの一例を示す模式的な平面図である。
【図４】外光吸収シートの外光吸収パターンの他の一例を示す模式的な平面図である。
【図５】図３に示す外光吸収シートを拡大して示した分解斜視図である。
【図６】図４に示す外光吸収シートを拡大して示した分解斜視図である。
【図７】外光吸収シートのさらに他の一例を示す模式的な平面図である。
【図８】図７の外光吸収シートを拡大して示した分解斜視図である。
【図９】外光吸収シートのさらに他の一例の模式的な分解斜視図である。
【図１０】外光吸収シートのさらに他の一例の模式的な断面図である。
【図１１】外光吸収シートのさらに他の一例の模式的な断面図である。
【図１２】プラズマパネルディスプレイパネルの一例の内部構造を示す模式的な分解斜視図である。
【図１３】特許文献４に記載の外光吸収シートの模式的な平面図である。
【図１４】図９の領域Ａ１の拡大図である。
【符号の説明】
【０１０５】
１、１Ａ、１Ｂ、３０、５０、６０  外光吸収シート
２  プラズマディスプレイパネル
３  筐体前部
４  筐体後部
５、８  取付ボス
６、９  ネジ
７  取り付け金具
１０  プラズマディスプレイ装置
１１  透明基材
１２、１２Ａ、１２Ｂ、２２、２５、２６  外光吸収パターン
１３  接地用領域
１４  画像表示領域に対応する領域
１６  開口部
１７  接着剤層
１８Ａ、１８Ｂ、１８Ｃ  防錆層
１９、１９Ａ、１９Ｂ、１９Ｃ、１９Ｄ  黒化層
２０、２０Ａ、２０Ｂ  導電層
２１  導電処理層
２３  透明導電膜
２４Ａ、２４Ｂ  積層体
３１  前面板
３２  背面板
３３  リブ
３４、３９  ガラス基板
３５  放電維持電極
３６  バス電極
３７、４１  誘電体層
３８  保護層
４０Ｒ、４０Ｇ、４０Ｂ  蛍光体層
４３  画素区画パターン
５１、５２、５３、５４、５７  線群
５５Ａ、５５Ｂ、５５Ｃ、５５Ｄ、５５Ｅ、５６Ａ、５６Ｂ、５６Ｃ  線
１０１  接地用枠部
１０２  メッシュ状の導電層パターン
１１０  外光吸収シート
Ａ  アドレス電極
Ｙ  複合電極
ＥＳ  画像表示領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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