(57)【要約】【課題】計測時間を大幅に短縮し、検査のスループット性を向上させることが可能な膜評価装置を提供することを目的とする。【解決手段】被検査物（ウエハ１０）の表面に形成された膜（薄膜）へ平行な光束を照射する照明光学系（２０）と、前記光束の照射によって前記膜の表面及び裏面で反射する反射光束を受光する反射光学系（３０）と、前記反射光学系で受光した前記反射光束の強度分布情報を取得するデータ処理部（４０）と、前記膜の厚さ変動に対して前記反射光束の反射率変化が大きい前記照明光束の波長を選択する波長選択部（波長選択ユニット２２）とを具備する。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検査物の表面に形成された膜へ平行な光束を照射する照明光学系と、
前記光束の照射によって前記膜の表面及び裏面で反射する反射光束を受光する反射光学系と、
前記反射光学系で受光した前記反射光束の強度分布情報を取得するデータ処理部と、
前記膜の厚さ変動に対して前記反射光束の反射率変化が大きい前記照明光束の波長を選択する波長選択部と、を具備してなることを特徴とする膜評価装置。
【請求項２】
請求項１に記載の膜評価装置において、
前記波長選択部は、前記膜の厚さ、前記膜の屈折率及び前記光束の前記膜への入射角に基づいて、前記膜の厚さ変動に対して前記反射光束の反射率変化が大きい前記光束の波長を選択することを特徴とする膜評価装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の膜評価装置において、
前記膜の厚さ変動に対して前記反射光束の反射率変化が大きい前記光束の波長λは、前記膜の表面と裏面で反射した反射光束の光路差が、前記光束の波長λの４分の１の奇数倍間（λ×（１／４〜３／４）、λ×（３／４〜５／４）・・・）となる関係を満たすことを特徴とする膜評価装置。
【請求項４】
請求項１ないし３の何れか一項に記載の膜評価装置において、
前記反射光学系は、前記反射光束を受光する２次元固体撮像素子を備えることを特徴とする膜評価装置。
【請求項５】
請求項１ないし４の何れか一項に記載の膜評価装置において、
前記被検査部の表面に前記照明光学系を介して前記膜に照射する前記光束と同一波長の光束を照射し、前記反射光学系を介して前記被検査部の表面を反射する表面反射光束を受光し、該表面反射光束から前記データ処理部により取得した表面反射光束の強度分布情報に基づいて、前記反射光束の強度分布情報を較正する較正部を装備したことを特徴とする膜評価装置。
【請求項６】
被検査物の表面に形成された膜に光束を照射し、該膜の表面及び裏面で反射する反射光束を受光して、膜の厚さ分布を評価する膜評価方法であって、
前記膜の厚さ変動に対して前記反射光束の反射率変化が大きい前記光束の波長を選択する波長選択工程と、
前記波長選択工程で選択された波長を有する前記膜へ平行な光束を前記膜に照射する照明工程と、
前記光束によって前記膜の表面及び裏面で反射した反射光束を受光する受光工程と、
前記受光工程で受光した前記反射光束の強度分布情報を取得するデータ処理工程と、を具備してなることを特徴とする膜評価方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば半導体ウエハ上に形成された薄膜の厚さの均一性を評価する膜評価装置及び膜評価方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造プロセスでは、半導体ウエハ上にフォトレジスト膜を形成する工程があり、この工程後に形成したフォトレジスト膜の均一性を計測して膜の評価を行う膜評価工程が導入されている。
【０００３】
この膜評価工程では、例えばエリプソ光学原理を使用した薄膜計測装置が提案されている（特許文献１）。
【０００４】
しかし、エリプソ光学原理を使用する計測では、微小領域を計測範囲とすることから、近年大口径化するウエハの表面全体に形成された薄膜の均一性を計測する場合に適用すると、膨大な計測点数を必要として計測に長時間かかり、この長い計測時間の間、計測精度の安定性を維持することが困難である課題が有る。
【０００５】
すなわち、局所的には高精度に薄膜の計測が可能ではあるが、長時間の計測中、計測誤差となりうる変動要因、例えば外部振動ノイズ、温度管理などの制御を複雑にする課題がある。
【０００６】
【特許文献１】特開２００６−７１３８１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、計測時間を大幅に短縮し、検査のスループット性を向上させることが可能な膜評価装置及び膜評価方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成する本発明の請求項１に記載の膜評価装置は、被検査物の表面に形成された膜へ平行な光束を照射する照明光学系と、前記光束の照射によって前記膜の表面及び裏面で反射する反射光束を受光する反射光学系と、前記反射光学系で受光した前記反射光束の強度分布情報を取得するデータ処理部と、前記膜の厚さ変動に対して前記反射光束の反射率変化が大きい前記照明光束の波長を選択する波長選択部と、を具備してなることを特徴とする。
【０００９】
本発明の請求項２に記載の膜評価装置は、前記波長選択部が、前記膜の厚さ、前記膜の屈折率及び前記光束の前記膜への入射角に基づいて、前記膜の厚さ変動に対して前記反射光束の反射率変化が大きい前記光束の波長を選択することを特徴とする。
【００１０】
本発明の請求項３に記載の膜評価装置は、前記膜の厚さ変動に対して前記反射光束の反射率変化が大きい前記光束の波長λが、前記膜の表面と裏面で反射した反射光束の光路差が、前記光束の波長λの４分の１の奇数倍間（λ×（１／４〜３／４）、λ×（３／４〜５／４）・・・）となる関係を満たすことを特徴とする。
【００１１】
本発明の請求項４に記載の膜評価装置は、前記反射光学系が、前記反射光束を受光する２次元固体撮像素子を備えることを特徴とする。
【００１２】
本発明の請求項５に記載の膜評価装置は、前記被検査部の表面に前記照明光学系を介して前記膜に照射する前記光束と同一波長の光束を照射し、前記反射光学系を介して前記被検査部の表面を反射する表面反射光束を受光し、該表面反射光束から前記データ処理部により取得した表面反射光束の強度分布情報に基づいて、前記反射光束の強度分布情報を較正する較正部を装備したことを特徴とする。
【００１３】
本発明の請求項６に記載の膜評価方法は、被検査物の表面に形成された膜に光束を照射し、該膜の表面及び裏面で反射する反射光束を受光して、膜の厚さ分布を評価する膜評価方法であって、前記膜の厚さ変動に対して前記反射光束の反射率変化が大きい前記光束の波長を選択する波長選択工程と、前記波長選択工程で選択された波長を有する前記膜へ平行な光束を前記膜に照射する照明工程と、前記光束によって前記膜の表面及び裏面で反射した反射光束を受光する受光工程と、前記受光工程で受光した前記反射光束の強度分布情報を取得するデータ処理工程と、を具備してなることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、計測時間を大幅に短縮し、検査のスループット性を向上させることが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下本発明の膜評価装置及び膜評価方法の一実施形態について図１乃至図８を参照して説明する。
【００１６】
図１は本発明の膜評価装置の一実施形態を示す装置全体の概略図、図２は図１の装置により評価される膜の表面と裏面で反射する反射光の光路差の説明図、図３は膜の表面と裏面で反射する反射光の干渉効果の説明図である。
【００１７】
図１を参照して本実施形態の膜評価装置全体の構成を説明する前に、図２及び図３を参照してその評価（計測）原理について説明する。
【００１８】
図２に示すように、ウエハ１０の表面にはフォトレジストなどによる薄膜１１が形成されている。この薄膜１１に角度θで入射する照明光束のうち、薄膜１１の表面で入射角θと同じ角度θで反射する膜反射光束ＦＲと、薄膜１１を透過して薄膜１１の裏面で反射して薄膜１１の表面から入射角θと同じ角度θで出て行く膜反射光束ＢＲとの間には、光路ａｂと光路ｂｃの合計分（ａｂ＋ｂｃ）の光路差ｆ（ｔ）がある。
【００１９】
ここで、薄膜１１の厚さ（膜厚）をｔ、薄膜１１の屈折率をｎとすると、光路差ｆ（ｔ）は、光路差ｆ（ｔ）＝２ｎｔ／ｃｏｓ（θ）と表すことが出来る。したがって、薄膜１１への照明光束の入射角θを一定にすれば、薄膜１１の屈折率ｎが変わらないことから、光路差は膜厚ｔによって変化することになる。
【００２０】
膜反射光束ＦＲと膜反射光束ＢＲとの光路差ｆ（ｔ）により生じた膜反射光束ＦＲと膜反射光束ＢＲとの間の位相差（光路差ｆ（ｔ）／波長λ）によって両光束ＦＲとＢＲとの干渉が生じる。薄膜１１の膜厚ｔの変動が生じると、光路差（位相差）が変わり（干渉効果が変わり）、反射光強度変化（反射率変化）が生じる。したがって、反射光（膜反射光束）を撮影したウエハ画像には膜厚変動に対応した輝度変動が撮像される。
【００２１】
ここで、位相差は薄膜１１に照射される照明光束の波長λに依存し（位相差＝光路差ｆ（ｔ）／波長λ）、位相差にしたがって反射光強度変化（反射率変化）を繰り返すことから、同じ膜厚ｔに対して照明光束の波長λを適宜切り替えることにより、最適な膜厚変動モニター感度を設定することが可能となる。
【００２２】
膜厚変動に対して最も大きな反射光強度変化（反射率変化）をする照明光束の波長λである、適正照明波長（最適な膜厚変動モニター感度を生じる波長）については、予め薄膜１１の屈折率ｎ、膜厚ｔから自動選択することが可能である。
【００２３】
また、光路差ｆ（ｔ）が照明光束の波長λのλ×１／４、λ×３／４、λ×５／４、λ×７／４、λ×９／４・・・（波長λの４分の１の奇数倍波形の節）と最も近い、照明光束の波長λを自動選択することで、感度の良い検査条件の設定が可能である。
【００２４】
すなわち、適正照明波長については、光路差ｆ（ｔ）が、照明光束の波長λの４分の１の奇数倍間（λ×（１／４〜３／４）、λ×（３／４〜５／４）・・・）となる関係を満たすようにすることで、自動選択することも可能である。
【００２５】
図３は薄膜１１の表面で反射される干渉光の強度変化を示し、照明光束の波長λの１／４の偶数倍の光路差では強度変化が小さく、波長λの１／４の奇数倍の光路差で強度変化が最も大きいことを示す。
【００２６】
本実施形態の膜評価装置では、照明光束の波長λを切り替えて最適な膜厚変動モニター感度を設定できるようにしてある。すなわち、図１に示すように、薄膜１１（図２参照）が形成されたウエハ１０が載置される検査ステージ１２と、この検査ステージ１２上のウエハ１０の薄膜１１に適正照明波長の照明光束を照射する照明光学系２０と、この照明光学系２０の照明光束の照射によって薄膜１１の表面及び裏面で反射する膜反射光束を受光する反射光学系３０と、この反射光学系３０で受光した膜反射光束の強度分布情報を取得するデータ処理部４０とを備える。
【００２７】
検査ステージ１２は、回転テーブル１３を備えており、不図示のウエハ搬送機構により搬送された、検査対象のウエハ１０が回転テーブル１３上に載置される。検査後は不図示のウエハ搬出装置により検査済みのウエハ１０が回転テーブル１３から搬出され、ウエハ搬送機構により新たな検査対象のウエハ１０が回転テーブル１３上に載置される。
【００２８】
照明光学系２０は、照明光源としての水銀ランプ２１と、この水銀ランプ２１からの光のうち所定の波長の光を選択する波長選択部としての波長選択ユニット２２と、この波長選択ユニット２２により選択された波長の光（照明光束）を凹面鏡２３に導くバンドルファイバ２４とを備える。凹面鏡２３に導かれた照明光束は、その鏡面で反射して平行光束となりウエハ１０に形成された薄膜１１全体を照明する。
【００２９】
波長選択ユニット２２は、その内部に水銀ランプ２１の輝線スペクトルから単一波長のみを透過させる干渉フィルタを複数搭載して構成され、干渉フィルタを選択することで、水銀ランプ２１の輝線スペクトルから、例えばｇ線（４３６ｎｍ）、ｊ線（３１３ｎｍ）のような単一波長（適正照明波長）の照明光束を設定することが出来る。なお、フォトレジストからなる薄膜１１の膜厚の均一性を検査する場合には、フォトレジストが感光しない波長帯域のなかから選択される。
【００３０】
波長選択ユニット２２により、薄膜１１の膜厚変動に対して反射光強度変化（反射率変化）が大きい照明光束の波長λである適正照明波長を選択することによって、僅かな厚さ変動でもこれをデータ処理部４０で画像輝度の変化として捉えことが出来るようになり、膜厚変動モニター感度を向上させることが出来る。
【００３１】
反射光学系３０は、薄膜１１の表面及び裏面で反射する膜反射光束（図２参照）を受光する凹面鏡３１を備える。
【００３２】
なお、照明光学系２０と反射光学系３０は、共にウエハ１０の表面全体を同一条件で計測することから、照明光束や反射光束がその光軸に対して平行となるようにテレセントリック光学系により構成される。
【００３３】
データ処理部４０は、凹面鏡３１により反射した膜反射光束を受光してウエハ像を撮影する、結像レンズと２次元固体撮像素子（ＣＣＤ）からなる撮影光学系４１と、この撮影光学系４１で撮影されたウエハ画像に画像処理を施し、ウエハ１０に形成した薄膜１１の膜厚（輝度）の均一性を計測し、輝度の分散値マップを作成するコンピュータ４２とを備える。
【００３４】
撮影光学系４１は、ウエハ１０の全面を一括視野で捉えうる倍率の結像レンズと、例えば３００ｍｍウエハを撮影する１インチＣＣＤ（１０２４×１０２４画素）の２次元固体撮像素子とが使用され、３００μｍ／画素の画像分解能でウエハ１０の全面を撮影することができる。
【００３５】
撮影光学系４１の出力（ＣＣＤの出力）からこの画像分解能でウエハ１０に形成された薄膜１１全体の厚さの均一性を計測することが出来る。
【００３６】
凹面鏡２３により反射された照明光束のウエハ１０に対する入射角度と、凹面鏡３１により受光される膜反射光束の反射角度は、ウエハ１０の法線に対して同一角度になるように凹面鏡２３と凹面鏡３１が配置されており、凹面鏡３１が正反射光だけを受光するように設定してある。
【００３７】
コンピュータ４２には、撮影光学系４１の出力を画像処理したウエハ画像を表示する表示装置４３が接続され、この表示装置４３により図４（ａ）、（ｃ）に示すウエハ画像や、図４（ｂ）、（ｄ）に示す画像輝度の分散値マップが表示される。
【００３８】
また、コンピュータ４２には、装置毎のくせ、照明むら、撮像素子の感度などに起因するウエハ画像輝度のばらつきが生じないように較正する較正部４４が装備される。
【００３９】
この較正部４４は、薄膜１１が形成されていない状態のウエハ１０（ベアシリコンウエハ）を検査ステージ１２上に載置し、照明光学系２０を介して計測時と同じ波長の照明光束を照射し、その反射光束を反射光学系３０で受光し、撮影して得た較正ウエハ画像データ（薄膜１１が形成されていないウエハ１０の表面反射光束の強度分布情報）を予めコンピュータ４２のメモリ部に保存しておき、コンピュータ４２にウエハ１０上の薄膜１１に照明光束を照射して撮影して得たウエハ画像データ（薄膜１１を反射した膜反射光束の強度分布情報）が入力されたとき、このウエハ画像データを較正処理するものである。
【００４０】
較正処理されたウエハ画像データは、薄膜１１の膜厚（輝度）の均一性を計測する計測処理に使用される。
【００４１】
なお、コンピュータ４２には、各種情報などを入力するためのキーボード４５も接続されている。
【００４２】
図４は、図１の撮影光学系４１により撮影され、較正部４４により補正されたウエハ画像と、更に計測処理を施してウエハ画像の画像位置と画像輝度との関係を表すグラフを示している。
【００４３】
フォトレジストの塗布むらが無く、薄膜１１の膜厚が均一な場合には、同図（ａ）に示すようなウエハ画像が得られる。このウエハ画像を計測処理することにより、同図（ｂ）に示すように、画像位置によって画像輝度が変化しない一直線状のグラフが得られる。
【００４４】
塗布むらが生じて薄膜１１の膜厚に変動がある場合には、例えば同図（ｃ）に示すように、放射状に異常コントラストがあるウエハ画像が得られる。このウエハ画像を計測処理することにより、同図（ｄ）に示すように、ある画像位置で画像輝度が低下するグラフが得られる。
【００４５】
図５は図１の撮影光学系４１により撮影され、較正部４４により補正されたウエハ画像の輝度分布状態を指定の領域に分けて領域内の各画素の輝度値の分散値で表示した、画像輝度の分散値マップを示している。
【００４６】
フォトレジストの塗布むらが無く、薄膜１１の膜厚が均一な場合には、図４（ａ）と同様に、図５（ａ）に示すような画像輝度が均一なウエハ画像が得られる。これを分散値マップで表示すると、同図（ｂ）に示すように各画素の輝度値が一定の分散値マップが得られる。
【００４７】
塗布むらが生じて薄膜１１の膜厚に変動がある場合には、図４（ｃ）と同様に、図５（ｃ）に示すような放射状に異常コントラストはあるウエハ画像が得られる。これを分散値マップで表示すると、同図（ｄ）に示すように、ある領域内の画素の輝度値が他の領域内の画素の輝度値と異なる分散値マップが得られる。
【００４８】
このように画像輝度を分散値マップで表示する他に、撮像されたウエハ画像に欠陥検査画像処理アルゴリズムを介して平坦な輝度分布以外の領域が存在するか否かの欠陥検査を行うことが可能である。
【００４９】
図６は照明光束の波長の最適化をシシミュレーションした一例を示すもので、薄膜１１の屈折率ｎ＝１．４とし、入射角と反射角を共に１５度として、照明波長の異なる２つの照明光束（λ＝５４６ｎｍ、４３６ｎｍ）を照射し、膜厚変化（膜厚ｔ＝２８０ｎｍ〜４２０ｎｍ）に対する反射率強度の変化を計算した場合のグラフを示す。図５の縦軸は反射率を表し、横軸は膜厚を表す。
【００５０】
光学的膜厚（屈折率×幾何膜厚）が３２０ｎｍ付近においては、照明光束の波長λが４３６ｎｍでは膜厚変化に対する反射率変化が少ないのに対し、照明光束の波長λが５４６ｎｍでは膜厚変化に対して反射率変化が大きく、５４６ｎｍの波長λの照明光束を選択することにより高感度で膜厚変動を検出することが可能である。
【００５１】
また、光路差（２ｎｔ／ｃｏｓθ）を波長λで除算して得た位相を比較すると、波長λ５４６ｎｍでは１．２１となるのに対し、波長λ４３６ｎｍでは１．５２となり、波長λ５４６ｎｍの照明光束を使用する方がより高感度であるこということが、演算（光路差／波長）からも予測可能である。
【００５２】
図７は照明光束の波長の最適化をシシミュレーションした他の例を示すもので、薄膜１１の屈折率ｎ＝１．４とし、入射角と反射角を共に１５度として、照明波長の異なる２つの照明光束（λ＝５４６ｎｍ、２４８ｎｍ）を照射し、膜厚変化（膜厚ｔ＝２２０ｎｍ〜３４０ｎｍ）に対する反射率強度の変化を計算した場合のグラフを示す。図６の縦軸は反射率を表し、横軸は膜厚（ｎ×ｔ）を表す。
【００５３】
光学的膜厚（屈折率×幾何膜厚）が３００ｎｍ付近においては、照明光束の波長λが２４８ｎｍでは膜厚変化に対する反射率変化が少ないのに対し、照明光束の波長λが５４６ｎｍでは膜厚変化に対して反射率変化が大きく、５４６ｎｍの波長λの照明光束を選択することにより高感度で膜厚変動を検出することが可能である。
【００５４】
また、光路差（２ｎｔ／ｃｏｓθ）を波長λで除算して得た位相を比較すると、波長λ５４６ｎｍでは１．１４となるのに対し、波長λ２４８ｎｍでは２．５０となり、波長λ５４６ｎｍの照明光束を使用する方がより高感度であるこということが、演算（光路差／波長）からも予測可能である。
【００５５】
図８は本発明の膜評価方法の一実施形態を示すフローチャートで、上述した膜評価装置を使用して実施される。
【００５６】
ステップＳ１００で膜厚変化に対する反射率変化が大きい照明光束の波長λを図５、図６で説明した方法により求め、この波長の照明光束が薄膜１１に照射されるように波長選択ユニット２２の干渉フィルタを選択する。
【００５７】
検査ステージ１２には予め検査対象となる薄膜１１が形成されたウエハ１０を載置しておく。
【００５８】
ステップＳ１０１で選択した波長の照明光束を、照明光学系２０を介して薄膜１１に照射する一方、ステップＳ１０２で反射光学系３０を介して膜反射光束を受光する。
【００５９】
ステップＳ１０３で膜反射光束を撮影光学系４１で撮影し、この撮影光学系４１のＣＣＤの出力をコンピュータ４２により画像処理するなどのデータ処理が行われる。
【００６０】
ステップＳ１０４でデータ処理したウエハ画像を表示装置４３に表示させる。
【００６１】
本実施形態の膜評価装置、方法によれば、ウエハ全面の薄膜均一性の計測を行うのにこれまで膨大な計測点数の検査を必要としていたのを、一瞬の撮像時間と画像処理時間で済むようになり、ウエハ上の薄膜の均一性確認のための検査時間、コストの大幅な削減が可能となり、検査のスループット性を向上させることが可能となる。
【００６２】
本発明は上述した実施態様に限定されるものではなく、フォトレジストからなる薄膜の他に、酸化膜（例えばＳｉＯ２）などの膜厚の均一性を検査するのにも適用することが可能である。
【００６３】
また、波長選択ユニット２２を自動的に波長選択が行えるように構成し、コンピュータ４２に薄膜１１の屈折率ｎ、薄膜１１の膜厚ｔなどの情報をキーボード４５を介して入力し、これら情報に基づいてコンピュータ４２で最適な照明光束の波長λを求め、この波長情報を波長選択ユニット２２に出力するようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００６４】
【図１】本発明の膜評価装置の一実施形態を示す装置全体の概略図である。
【図２】図１の装置により評価される薄膜の表面と裏面で反射する反射光の光路差の説明図である。
【図３】図１の装置により評価される薄膜の表面と裏面で反射する反射光の干渉光強度変化を示す説明図である。
【図４】図１の膜評価装置により撮影されたウエハ画像と画像輝度との関係を示し、図４（ａ）は塗布むらの無い均一ウエハ画像、同図（ｂ）は塗布むらの無い（ａ）に示す画像の画像輝度を画像位置との関係で示すグラフ、同図（ｃ）は塗布むらの有るウエハ画像、同図（ｄ）は塗布むらの有る（ｃ）に示す画像の画像輝度を画像位置との関係で示すグラフである。
【図５】図１の装置により撮影されたウエハ画像とこの画像を分散値マップで表示した画像とを示し、図５（ａ）は塗布むらの無い均一ウエハ画像、同図（ｂ）は塗布むらの無い（ａ）に示す画像を分散値マップで表示した画像、同図（ｃ）は塗布むらの有るウエハ画像、同図（ｄ）は塗布むらの有る（ｃ）に示す画像を分散値マップで表示した画像である。
【図６】照明波長の異なる２つの照明光（λ＝５４６ｎｍ、４３６ｎｍ）を使用して計測した膜厚と反射率との関係を示すグラフである。
【図７】図６と同様に照明波長の異なる２つの照明光（λ＝５４６ｎｍ、２４８ｎｍ）を使用して計測した膜厚と反射率との関係を示すグラフである。
【図８】本発明の膜評価方法の一実施形態を示すフローチャートである。
【符号の説明】
【００６５】
１０          ウエハ
１１          薄膜
２０          照明光学系
２２          波長選択ユニット
２３          凹面鏡
３０          反射光学系
３１          凹面鏡
４０          データ処理ユニット
４１          撮影光学系
４２          コンピュータ
４４          較正部
【図１】
2008139065.tif 000003
【図２】
2008139065.tif 000004
【図３】
2008139065.tif 000005
【図４】
2008139065.tif 000006
【図５】
2008139065.tif 000007
【図６】
2008139065.tif 000008
【図７】
2008139065.tif 000009
【図８】
2008139065.tif 000010