(57)【要約】      （修正有）【課題】高精度で且つ優れた硬化深度を示す電極パターン等の焼成物パターンを形成することができる感光性ペースト組成物を提供する。【解決手段】（Ａ）無機微粒子、（Ｂ）光重合性化合物を含む有機成分、及び（Ｄ）光重合開始剤を含有する感光性ペースト組成物であり、光重合開始剤（Ｄ）として（Ｄ−１）特定の化合物と、（Ｄ−２）下記式（１）で示される化合物および／または下記式（２）で示される化合物とが併用され、化合物（Ｄ−２）の配合率が光重合開始剤（Ｄ）の全質量に対して５０質量％未満である感光性ペースト組成物。2008070661.tif 000006【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）無機微粒子、（Ｂ）有機バインダー、（Ｃ）光重合性モノマー、及び（Ｄ）光重合開始剤を含有する感光性ペースト組成物であって、光重合開始剤（Ｄ）として（Ｄ−１）２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１および／または２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルフォリニル）フェニル］−１−ブタノンと、（Ｄ−２）下記式（１）で示される化合物および／または下記式（２）で示される化合物とが併用され、化合物（Ｄ−２）の配合率が光重合開始剤（Ｄ）の全質量に対して５０質量％未満である感光性ペースト組成物。
【化１】
2008070661.tif 000005
【請求項２】
化合物（Ｄ−１）および化合物（Ｄ−２）の質量比が９５：５〜６０：４０の範囲である請求項１に記載の感光性ペースト組成物。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の感光性ペースト組成物から形成されたプラズマディスプレイパネルの隔壁パターン、誘電体パターン、電極パターン及びブラックマトリックスパターンから選択される焼成物パターン。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと略称する）に詳細な電極パターン、ブラックマトリックスパターン、隔壁パターン及び誘電体パターンを形成するのに有用な感光性ペースト組成物及びそれを用いて形成された焼成物パターンに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ＰＤＰはプラズマ放電による発光を利用して映像や情報の表示を行なう平面ディスプレイでる。このＰＤＰによるカラー表示の原理は、リブ（隔壁）によって離間された前面ガラス基板と背面ガラス基板に形成された対向する両電極間のセル空間（放電空間）内でプラズマ放電を生じさせ、各セル空間内に封入されているＨｅ、Ｘｅ等のガスの放電により発生する紫外線で背面ガラス基板内面に形成された蛍光体を励起し、３原色の可視光を発生させるものである。以下、添付図面を参照しながら簡単に説明する。
【０００３】
図１は、フルカラー表示、３電極構造の面放電方式ＰＤＰの構造例を部分的に示している。前面ガラス基板１の下面には、放電のための透明電極３ａ、３ｂと該透明電極のライン抵抗を下げるためのバス電極４ａ、４ｂとから成る一対の表示電極２ａ、２ｂが所定のピッチで多数列設されている。これらの表示電極２ａ、２ｂの上には、電荷を蓄積するための透明誘電体層５（低融点ガラス）が印刷、焼成によって形成され、その上に保護層（ＭｇＯ）６が蒸着されている。保護層６は、表示電極の保護、放電状態の維持等の役割を有している。一方、背面ガラス基板１１の上には、放電空間を区画するストライプ状のリブ（隔壁）１２と各放電空間内に配されたアドレス電極（データ電極）１３が所定のピッチで多数列設されている。また、各放電空間の内面には、赤（１４ａ）、青（１４ｂ）、緑（１４ｃ）の３色の蛍光体膜が規則的に配され、フルカラー表示においては、前記のように赤、青、緑の３原色の蛍光体膜１４ａ、１４ｂ、１４ｃで１つの画素が構成される。
【０００４】
なお、上記構造のＰＤＰでは、一対の表示電極２ａと２ｂの間に交流のパルス電圧を印加し、同一基板上の電極間で放電させるので、「面放電方式」と呼ばれている。
【０００５】
また、上記構造のＰＤＰでは、放電により発生した紫外線が背面基板１１の蛍光体膜１４ａ、１４ｂ、１４ｃを励起し、発生した可視光を前面基板１の透明電極３ａ、３ｂを透して見る構造となっている（反射型）。
【０００６】
近年、このような構造のＰＤＰにおいては、画質向上のためパターン加工において高密度化、高精細化が要求されている。そこでフォトリソグラフィー法によるパターニングが行なわれてきた。
【０００７】
しかしＰＤＰ用感光性ペーストには光透過性の極めて低い無機材料が多量に含有されるため、露光の際、光硬化深度の不足により焼成時にパターンのよれや線幅収縮、反り等が起こりやすいといった問題があった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、前記したような従来技術が抱える課題を解決するためになされたものであり、高精度で且つ優れた硬化深度を示す電極パターン等の焼成物パターンを形成することができる感光性ペースト組成物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記目的を達成するために、本発明の第一の態様によれば、（Ａ）無機微粒子、（Ｂ）有機バインダー、（Ｃ）光重合性モノマー、及び（Ｄ）光重合開始剤を含有する感光性ペースト組成物であって、光重合開始剤（Ｄ）として（Ｄ−１）２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１および／または２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルフォリニル）フェニル］−１−ブタノンと、（Ｄ−２）下記式（１）で示される化合物および／または下記式（２）で示される化合物とが併用され、化合物（Ｄ−２）の配合率が光重合開始剤（Ｄ）の全質量に対して５０質量％未満である感光性ペースト組成物が提供される。
【化１】
2008070661.tif 000002
【００１０】
本発明の一形態において、化合物（Ｄ−１）および化合物（Ｄ−２）相互の質量比は９５：５〜６０：４０の範囲である。
【００１１】
さらに本発明の他の態様によれば、このような感光性ペースト組成物から形成されたプラズマディスプレイパネルの隔壁パターン、誘電体パターン、電極パターン及びブラックマトリックスパターンから選択される焼成物パターンが提供される。
【００１２】
なお、本発明の感光性ペースト組成物は、ペースト状形態であってもよく、また予めフィルム状に製膜したドライフィルムの形態であってもよい。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の感光性ペースト組成物は、光硬化性や解像性に優れ、優れた光硬化深度を示す。そのため、光硬化むらが生じ難くなる結果、焼成の際の反りや線幅収縮が生じ難くなり、高アスペクト比かつ高精度のパターン加工が可能となる。従って、プラズマディスプレイパネルの作製にあたり、高アスペクト比かつ高精度な焼成物パターンを高歩留まりで生産性良く形成できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明の感光性ペースト組成物の各成分について説明する。  
無機微粒子（Ａ）の内容は、所望の焼成物パターンによって異なる。まず電極パターン形成の場合には、導電性粉末（導電性金属粉又は／及び金属酸化物）が用いられるが、後述するように焼成性を向上させるために適量のガラス微粒子を併用することが好ましく、また黒色電極パターンを形成する場合にはさらに黒色顔料も用いられる。一方、ブラックマトリックスパターンの場合にはガラス微粒子と黒色顔料が用いられ、隔壁パターン及び誘電体パターンの形成にはガラス微粒子が用いられる。
【００１５】
ガラス微粒子としては、ガラス転移点（Ｔｇ）３００〜５００℃、ガラス軟化点（Ｔｓ）４００〜６００℃のもの、例えば酸化鉛、酸化ビスマス、酸化亜鉛または酸化リチウムを主成分とするものが好適に使用できる。また、解像度の点からは、平均粒径１０μｍ以下、好ましくは５μｍ以下のガラス粉末を用いることが好ましい。
【００１６】
前記無機微粒子（Ａ）における黒色顔料は、焼成パターンに黒色が求められる場合に使用され、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ａｌ、Ｒｕ、Ｌａ、Ｓｒ等の１種または２種以上の金属酸化物からなる黒色顔料を添加することができる。顔料としては、平均粒径２μｍ以下、好ましくは０．１μｍ以上１μｍ以下の微粒子を用いることが望ましい。この理由は、平均粒径が２μｍ以下であると、少量の添加でも、密着性等を損なうことなく緻密な焼成皮膜を形成でき、充分な黒色度を得ることができるからである。一方、黒色微粒子の平均粒径が２μｍよりも大きくなると、焼成皮膜の緻密性が悪くなり、黒色度が低下し易い。また、０．１μｍより小さくなると隠ぺい力が低下し透明感が現れることがあるため、０．１μｍ以上であることがより好ましい。
【００１７】
また、黒色顔料はあらかじめスラリーになっているものも利用できる。この場合、スラリーに用いる有機溶剤は任意に選択できるが、ソルベントショックを防ぐためにペースト中に用いられる溶剤と種類を同一にしたほうが望ましい。また、スラリーの濃度は任意に選択できるが、作業性などを考慮すると５０〜８０質量％が好ましい。
【００１８】
前記無機微粒子（Ａ）における導電性金属粉または金属酸化物としては、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、ニッケル（Ｎｉ）、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、スズ（Ｓｎ）、白金（Ｐｔ）、ルテニウム（Ｒｕ）などの単体とその合金の他、酸化スズ（ＳｎＯ２）、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、ＩＴＯ（Indium  Tin  Oxide）、酸化ルテニウム（ＲｕＯ２）などを用いることができる。これらは単独でまたは２種以上の混合粉として用いることができる。
【００１９】
上記導電性金属粉または金属酸化物の形状は、球状、フレーク状、デントライト状など種々のものを用いることができるが、光特性、分散性を考慮すると、球状のものを用いることが好ましい。また、平均粒経としてはライン形状の点から１０μｍ以下のもの、好ましくは５μｍ以下のものを用いることが望ましい。また、導電性金属粉の酸化防止、組成物内での分散性向上、現像性の安定化のため、特にＡｇ、Ｎｉ、Ａｌについては脂肪酸による処理を行うことが好ましい。脂肪酸としてはオレイン酸、リノール酸、リノレン酸、ステアリン酸等が挙げられる。
【００２０】
導電性金属粉または金属酸化物の配合量は、無機微粒子（Ａ）以外のペースト中成分の合計量を１００質量部としたときに５０〜２０００質量部となる割合が適当である。導電性金属粉または金属酸化物の配合量が５０質量部未満の場合、導体回路の線幅収縮や断線が生じやすくなり、一方、２０００質量部を超えて多量に配合すると、光の透過を損ない、組成物の十分な光硬化性が得られ難くなる。さらに焼成後の皮膜の強度、基板への密着性向上のために、前記したようなガラス微粒子を導電性粉末１００質量部当り１〜３０質量部の割合で添加することができる。
【００２１】
次に、有機バインダー（Ｂ）について説明する。有機バインダー（Ｂ）としては、例えばカルボキシル基を有する樹脂が挙げられる。具体的にはそれ自体がエチレン性不飽和二重結合を有するカルボキシル基含有感光性樹脂及びエチレン性不飽和二重結合を有さないカルボキシル基含有樹脂のいずれも使用可能である。好適に使用できる樹脂（オリゴマー及びポリマーのいずれでもよい）としては、以下のようなものが挙げられる。
【００２２】
（１）不飽和カルボン酸と不飽和二重結合を有する化合物を共重合させることによって得られるカルボキシル基含有樹脂；
（２）不飽和カルボン酸とグリシジル（メタ）アクリレートの共重合体のエポキシ基に、１分子中に１つのカルボキシル基を有し、エチレン性不飽和結合を持たない有機酸を反応させ、生成した２級の水酸基に多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有樹脂；
（３）水酸基含有ポリマーに多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有樹脂。
【００２３】
このようなカルボキシル基含有感光性樹脂及びカルボキシル基含有樹脂は、単独で又は混合して用いてもよいが、いずれの場合でもこれらは合計で組成物全量の１０〜８０質量％の割合で配合することが好ましい。これら有機バインダーの配合量が上記範囲よりも少な過ぎる場合、形成する皮膜中の上記樹脂の分布が不均一になり易く、充分な光硬化性及び光硬化深度が得られ難く、選択的露光、現像によるパターニングが困難となる。一方、上記範囲よりも多過ぎると、焼成時のパターンのよれや線幅収縮を生じ易くなるので好ましくない。
【００２４】
また、上記カルボキシル基含有感光性樹脂及びカルボキシル基含有樹脂としては、それぞれ重量平均分子量１，０００〜１００，０００、好ましくは５，０００〜７０，０００、及び酸価５０〜２５０ｍｇＫＯＨ／ｇ、かつ、カルボキシル基含有感光性樹脂の場合、その二重結合当量が３５０〜２，０００、好ましくは４００〜１，５００のものを好適に用いることができる。上記樹脂の分子量が１，０００より低い場合、現像時の皮膜の密着性に悪影響を与える場合があり、一方、１００，０００よりも高い場合、現像不良を生じ易いので好ましくない。また、酸価が５０ｍｇＫＯＨ／ｇより低い場合、アルカリ水溶液に対する溶解性が不充分で現像不良を生じ易く、一方、２５０ｍｇＫＯＨ／ｇより高い場合、現像時に皮膜の密着性の劣化や光硬化部（露光部）の溶解が生じ易くなるので好ましくない。さらに、カルボキシル基含有感光性樹脂の場合、感光性樹脂の二重結合当量が３５０よりも小さいと、焼成時に残渣が残り易くなり、一方、２，０００よりも大きいと、現像時の作業余裕度が狭く、また光硬化時に高露光量を必要とする場合があるので好ましくない。
【００２５】
次いで、光重合性モノマー（Ｃ）について説明する。この光重合性モノマーは、ペーストにおける光硬化性に付与（例えば、エチレン性不飽和二重結合を有さない上記カルボキシル基含有樹脂を用いる場合に有効である）、ペーストの光硬化性促進及び現像性を向上させるために用いる。
【００２６】
この光重合性モノマーとしては、例えば、２−ヒドロキシエチルアクリレート，２−ヒドロキシプロピルアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリウレタンジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキサイド変性トリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート及び上記アクリレートに対応する各メタクリレート類；フタル酸、アジピン酸、マレイン酸、イタコン酸、琥珀酸、トリメリット酸、テレフタル酸等の多塩基酸とヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートとのモノ−、ジ−、トリ−又はそれ以上のポリエステルなどが挙げられるが、特定のものに限定されるものではなく、またこれらを単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。これらの光重合性モノマーの中でも、１分子中に２個以上のアクリロイル基又はメタクリロイル基を有する多官能モノマーが好ましい。
【００２７】
このような光重合性モノマー（Ｃ）の配合割合は、前記有機バインダー（Ｂ）（カルボキシル基含有感光性樹脂及び／又はカルボキシル基含有樹脂）固形分１００質量部当り２０〜１００質量部が適当である。光重合性モノマーの配合割合が上記範囲よりも少ない場合、組成物の充分な光硬化性が得られ難くなり、一方、上記範囲を超えて多量になると、皮膜の深部に比べて表面部の光硬化が早くなるため硬化むらを生じ易くなる。
【００２８】
本発明においては、光重合開始剤（Ｄ）として（Ｄ−１）２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１および／または２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルフォリニル）フェニル］−１−ブタノンと、（Ｄ−２）下記式（１）で示される化合物１，２−オクタンジオン，１−[４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）および／または下記式（２）で示される化合物エタノン，１−[９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル]−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）とが併用され、前記化合物（Ｄ−２）の配合割合は、光重合開始剤（Ｄ）の全質量に対して５０質量％未満である。
【化２】
2008070661.tif 000003
【００２９】
本発明者等は鋭意検討した結果、光重合開始剤として上記化合物（Ｄ−１）及び化合物（Ｄ−２）を併用することが、より高精細な感光性ペーストを得る上で重要であることを有することを見出すと共に、かかる技術的意義を実現するためには化合物（Ｄ−２）の配合割合が光重合開始剤（Ｄ）の全質量に対して５０質量％未満とすることが重要であることもまた見出したものである。すなわち、化合物（Ｄ−２）の配合割合を光重合開始剤（Ｄ）の全質量に対して５０質量％未満とすることにより、深部硬化性と表面硬化性のバランスが好適化され、その結果、低露光量での解像性が向上し、しかもハレーションの抑制効果が得られる。
【００３０】
本発明において光重合開始剤（Ｄ−１）及び（Ｄ−２）の好適な合計配合割合は、前記有機バインダー（カルボキシル基含有感光性樹脂及び／又はカルボキシル基含有樹脂）固形分１００質量部当り１〜３０部が適当である。更に、化合物（Ｄ−１）と化合物（Ｄ−２）相互の配合比率は、９５：５〜６０：４０（質量比）であることが、上述したパターンの高精細化、解像性向上、ハレーション抑制をより効果的に実現するために好ましい。
【００３１】
上記式（１）および式（２）で表わされる化合物は市販されており、例えば各々チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製イルガキュアー  ＯＸＥ  ０１、及びＯＸＥ０２を使用することができる。また、（Ｄ−１）２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、および２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルフォリニル）フェニル］−１−ブタノンも市場で入手可能であり、例えば各々チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製イルガキュアー３６９及びイルガキュアー３７９を使用することができる。
【００３２】
光硬化性樹脂組成物に多量のガラス粉末を配合した場合、得られる組成物の保存安定性が悪く、ゲル化や流動性の低下により塗布作業性が悪くなる傾向がある。従って、本発明の組成物では、組成物の保存安定性向上のため、ガラス粉末の成分である金属あるいは酸化物粉末との錯体化あるいは塩形成などの効果のある化合物を、安定剤として添加することが好ましい。安定剤としては、マロン酸、アジピン酸、ギ酸、酢酸、アセト酢酸、クエン酸、ステアリン酸、マレイン酸、フマル酸、フタル酸等の各種有機酸やリン酸、亜リン酸、次亜リン酸、リン酸メチル、リン酸エチル、リン酸ブチル、リン酸フェニル、亜リン酸エチル、亜リン酸ジフェニル、モノ（２−メタクリロイルオキシエチル）アシッドホスフェート等の各種リン酸化合物（無機リン酸、有機リン酸）、ホウ酸などの酸が挙げられ、単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。このような安定剤は、前記の無機微粒子１００質量部当り０．１〜１０質量部の割合で添加することが好ましい。
【００３３】
感光性組成物に光重合性モノマーを配合した場合、得られる組成物の保存安定性が悪く、ゲル化や流動性の低下により塗布作業性が悪くなる傾向がある。従って、本発明の組成物では、組成物の保存安定性向上のため、光重合性モノマーの熱重合禁止剤を添加することが好ましい。熱重合禁止剤としては、フェノチアジン、ナフトキノン、ヒドロキノン、Ｎ−フェニルナフチルアミン、クロラニール、ピロガロール、ベンゾキノン、ｔ−ブチルカテコールなどが挙げられ、単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。このような安定剤は、前記の有機バインダー（固形分）１００質量部当り０．０１〜１質量部の割合で添加することが好ましい。
【００３４】
本発明においては、組成物を希釈することによりペースト化し、容易に塗布工程を可能とする。次いで乾燥させて造膜し、接触露光を可能とさせるために、適宜の量の有機溶剤を配合することができる。具体的には、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類；トルエン、キシレン、テトラメチルベンゼンなどの芳香族炭化水素類；セロソルブ、メチルセロソルブ、カルビトール、メチルカルビトール、ブチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテルなどのグリコールエーテル類；酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどの酢酸エステル類；エタノール、プロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、テルピネオールなどのアルコール類；オクタン、デカンなどの脂肪族炭化水素；石油エーテル、石油ナフサ、水添石油ナフサ、ソルベントナフサなどの石油系溶剤が挙げられ、これらを単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００３５】
本発明の感光性ペースト組成物は、さらに必要に応じて、シリコーン系、アクリル系等の消泡・レベリング剤、皮膜の密着性向上のためのシランカップリング剤、等の他の添加剤を配合することもできる。さらにまた、必要に応じて、公知慣用の酸化防止剤や、焼成時における基板との結合成分としての金属酸化物、ケイ素酸化物、ホウ素酸化物などの微粒子を添加することもできる。
【００３６】
本発明の感光性ペースト組成物は、予めフィルム状に成膜されている場合には基板上にラミネートすればよいが、ペースト状の場合、スクリーン印刷法、バーコーター、ブレードコーターなど適宜の塗布方法で基板、例えばＰＤＰの前面基板となるガラス基板に塗布し、次いで指触乾燥性を得るために熱風循環式乾燥炉、遠赤外線乾燥炉等で例えば約６０〜１２０℃で５〜４０分程度乾燥させて有機溶剤を蒸発させ、タックフリーの塗膜を得る。その後、選択的露光、現像、焼成を行なって所定のパターンの電極回路を形成する。
【００３７】
露光工程としては、所定の露光パターンを有するネガマスクを用いた接触露光及び非接触露光が可能である。露光光源としては、ハロゲンランプ、高圧水銀灯、レーザー光、メタルハライドランプ、ブラックランプ、無電極ランプなどが使用される。露光量としては５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ２程度が好ましい。
【００３８】
現像工程としてはスプレー法、浸漬法等が用いられる。現像液としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、珪酸ナトリウムなどの金属アルカリ水溶液や、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどのアミン水溶液、特に約１．５質量％以下の濃度の希アルカリ水溶液が好適に用いられるが、組成物中のカルボキシル基含有樹脂のカルボキシル基がケン化され、未硬化部（未露光部）が除去されればよく、上記のような現像液に限定されるものではない。また、現像後に不要な現像液の除去のため、水洗や酸中和を行なうことが好ましい。
【００３９】
焼成工程においては、現像後の基板を空気中又は窒素雰囲気下で約４００〜６００℃の加熱処理を行ない、所望の導体パターンを形成する。なお、この時の昇温速度は、２０℃／分以下に設定することが好ましい。
【実施例】
【００４０】
以下に実施例及び比較例を示して本発明について具体的に説明するが、本発明が下記実施例に限定されるものでないことはもとよりである。なお、「部」及び「％」とあるのは、特に断りがない限り全て質量基準である。
【００４１】
（実施例１）
温度計、攪拌機、滴下ロート、及び還流冷却器を備えたフラスコに、メチルメタクリレートとメタクリル酸を０．８７：０．１３のモル比で仕込み、溶媒としてジプロピレングリコールモノメチルエーテル、触媒としてアゾビスイソブチロニトリルを入れ、窒素雰囲気下、８０℃で２〜６時間攪拌し、有機バインダーＡを得た。この有機バインダーＡは、重量平均分子量が約１０，０００、酸価が７４ｍｇＫＯＨ／ｇ、固形分濃度６０％であった。この有機バインダーＡを用い、以下に示す組成比にて配合し、攪拌機により攪拌後、３本ロールミルにより練肉してペースト化を行なった。練肉条件はサンプル量１ｋｇを室温で３０分である。またガラス粉末としては、Ｂｉ2Ｏ3  ４９％、Ｂ２０３  １４％、ＺｎＯ  １４％、ＳｉＯ２  ６％、ＢａＯ  １７％を粉砕し、ガラス転移点４５８℃、平均粒径１．６μｍとしたものを使用した。
【００４２】
本発明例１；
有機バインダーＡ                                        １７０．０部
トリメチロールプロパントリアクリレート                    ５０．０部
２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］
−１−［４−（４−モルフォリニル）フェニル］−１−ブタノン
５．０部
１，２−オクタンジオン，１−[４−（フェニルチオ）−，
２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）]                          １．０部
ソルベッソ＃２００＊                                    ２０．０部
銀粉                                                  ５００．０部
ガラス粉末                                              ４０．０部
リン酸エステル                                            ５．０部
消泡剤（ＢＹＫ−３５４、ビックケミージャパン）            １．０部。
【００４３】
本発明例２；
有機バインダーＡ                                        １７０．０部
トリメチロールプロパントリアクリレート                    ５０．０部
２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］
−１−［４−（４−モルフォリニル）フェニル］−１−ブタノン
５．０部
エタノン，１−[９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−
９Ｈ−カルバゾール−３−イル]−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）
１．０部
ソルベッソ＃２００＊                                      ２０．０部
銀粉                                                  ５００．０部
ガラス粉末                                              ４０．０部
リン酸エステル                                            ５．０部
消泡剤（ＢＹＫ−３５４、ビックケミージャパン）            １．０部。
【００４４】
本発明例３；
有機バインダーＡ                                        １７０．０部
トリメチロールプロパントリアクリレート                    ５０．０部
２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］
−１−［４−（４−モルフォリニル）フェニル］−１−ブタノン
３．６部
エタノン，１−[９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−
９Ｈ−カルバゾール−３−イル]−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）
２．４部
ソルベッソ＃２００＊                                      ２０．０部
銀粉                                                  ５００．０部
ガラス粉末                                              ４０．０部
リン酸エステル                                            ５．０部
消泡剤（ＢＹＫ−３５４、ビックケミージャパン）            １．０部。
【００４５】
比較組成物例１
有機バインダーＡ                                        １７０．０部
トリメチロールプロパントリメタクリレート                  ５０．０部
２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−
モルフォリノフェニル）ブタノン−１                        ６．０部
ソルベッソ＃２００                                      ２０．０部
銀粉                                                  ５００．０部
ガラス粉末                                              ４０．０部
リン酸エステル                                            １．０部
消泡剤（ＢＹＫ−３５４、ビックケミージャパン）            １．０部。
【００４６】
比較組成物例２
有機バインダーＡ                                        １７０．０部
トリメチロールプロパントリメタクリレート                  ５０．０部
２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］
−１−［４−（４−モルフォリニル）フェニル］−１−ブタノン
６．０部
ソルベッソ＃２００＊                                      ２０．０部
銀粉                                                  ５００．０部
ガラス粉末                                              ４０．０部
リン酸エステル                                              １．０部
消泡剤（ＢＹＫ−３５４、ビックケミージャパン）              １．０部。
【００４７】
比較組成物例３
有機バインダーＡ                                        １７０．０部
トリメチロールプロパントリアクリレート                    ５０．０部
エタノン，１−[９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−
９Ｈ−カルバゾール−３−イル]−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）
６．０部
ソルベッソ＃２００＊                                        ２０．０部
銀粉                                                    ５００．０部
ガラス粉末                                                ４０．０部
リン酸エステル                                              ５．０部
消泡剤（ＢＹＫ−３５４、ビックケミージャパン）              １．０部。
【００４８】
比較組成物例４
有機バインダーＡ                                        １７０．０部
トリメチロールプロパントリアクリレート                    ５０．０部
２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］
−１−［４−（４−モルフォリニル）フェニル］−１−ブタノン
３．０部
エタノン，１−[９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−
９Ｈ−カルバゾール−３−イル]−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）
３．０部
ソルベッソ＃２００＊                                        ２０．０部
銀粉                                                    ５００．０部
ガラス粉末                                                ４０．０部
リン酸エステル                                              ５．０部
消泡剤（ＢＹＫ−３５４、ビックケミージャパン）              １．０部
（＊ソルベッソ＃２００：芳香族炭化水素、エクソンモービル社製）。
【００４９】
このようにして得られた組成物例１〜２及び比較組成物例１〜４の各ペーストについて、現像後のライン形状、解像性（残り）、感度、焼成後のライン形状、焼成残渣を評価した。その評価方法は以下のとおりである。
【００５０】
解像性：
ガラス基板上に、評価用ペーストを３００メッシュのポリエステルスクリーンを用いて全面に塗布し、次いで、熱風循環式乾燥炉にて８０℃で３０分間乾燥して指触乾燥性の良好な皮膜を形成した。その後、光源をメタルハライドランプとし、ライン幅１０〜１００μｍ、スペース幅１００μmのストライプ状のネガマスクをもちいて、組成物上の積算光量が５０〜３００ｍＪ／ｃｍ２となるように露光した後、液温２５℃の０．５ｗｔ％Ｎａ２ＣＯ３水溶液を用いて現像を行い、水洗した。最後に空気雰囲気下にて５℃／分で昇温し、６００℃で５分間焼成して基板を作製した。評価方法は、１０〜１００μｍラインの中で形成した最も細いものを調べた。
【００５１】
ライン形状：
現像後のライン形状については、現像まで終了したパターンのライン（Ｌ／Ｓ＝１００μｍ／３００μｍ）を顕微鏡観察し、ラインに不規則なばらつきがなく、よれ等がないかどうかで評価した。焼成後のライン形状については、焼成まで終了したパターンを顕微鏡観察し、ラインに不規則なばらつきがなく、よれ等がないかどうかで評価した。評価基準は以下の通りである。
【００５２】
◎：不規則なばらつきがなく、欠けやよれ等がない。
【００５３】
○：不規則なばらつきがなく、欠けやよれ等がほとんどない。
【００５４】
△：若干不規則なばらつき、欠けやよれ等がある。
【００５５】
×：不規則なばらつき、欠けやよれ等がある。
【００５６】
ステップタブレットの感度：
感度については、現像後ステップタブレット（コダックNo.２）上の残り段数を読む。
【００５７】
焼成残渣：
焼成まで終了したパターンのライン（Ｌ／Ｓ＝１００μｍ／３００μｍ）を顕微鏡観察し、側面に焼成残渣がないかどうかで評価した。評価基準は以下の通りである。
【００５８】
○：焼成残渣がほとんど無い。
【００５９】
△：焼成残渣が少しある。
【００６０】
×：焼成残渣が多い。
【表１】
2008070661.tif 000004
【００６１】
表１に示す結果から明らかなように、本発明の組成物に係るペーストは、比較組成物のペーストに比べて硬化深度に優れるため、低露光量でも高感度で高精細のパターンを形成できる事がわかった。
【００６２】
（実施例２）保存安定性
実施例１で得られた組成物例１及び２を４０℃で１０日間保存後、実施例１と同様の試験を行った結果、実施例１と同様の良好な結果が得られた。
【図面の簡単な説明】
【００６３】
【図１】面放電方式のＡＣ型ＰＤＰの部分分解斜視図。
【符号の説明】
【００６４】
１  前面ガラス基板
２ａ，２ｂ  表示電極
３ａ，３ｂ  透明電極
４ａ，４ｂ  バス電極
５  透明誘電体層
６  保護層
１０  ブラックパターン
１１  背面ガラス基板
１２  リブ
１３  アドレス電極
１４ａ，１４ｂ，１４ｃ  蛍光体膜
１００  ＰＤＰ用前面基板１００
【図１】
2008070661.tif 000007