(57)【要約】  【課題】ガラス基板表面に銀電極を形成した場合に生じる黄変が抑制されたフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の提供。  【解決手段】ガラス基板表面に銀電極が形成された後のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板であって、前記銀電極が形成された側の前記ガラス基板表面から深さ１０μｍまでの表層における平均Ｋ含有量（Ｋ2Ｏ換算での質量百分率表示）が、前記ガラス基板表面から深さ１００μｍ〜１１０μｍまでの内部層における平均Ｋ含有量（Ｋ2Ｏ換算での質量百分率表示）よりも高いことを特徴とするフラットパネルディスプレイ用ガラス基板。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板表面に銀電極が形成された後のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板であって、前記銀電極が形成された側の前記ガラス基板表面から深さ１０μｍまでの表層における平均Ｋ含有量（Ｋ2Ｏ換算での質量百分率表示）が、前記ガラス基板表面から深さ１００μｍ〜１１０μｍまでの内部層における平均Ｋ含有量（Ｋ2Ｏ換算での質量百分率表示）よりも高いことを特徴とするフラットパネルディスプレイ用ガラス基板。
【請求項２】
ガラス基板表面に銀電極が形成されるフラットパネルディスプレイ用ガラス基板であって、前記銀電極が形成される側の前記ガラス基板表面から深さ１０μｍまでの表層における平均Ｋ含有量（Ｋ2Ｏ換算での質量百分率表示）が、前記ガラス基板表面から深さ１００μｍ〜１１０μｍまでの内部層における平均Ｋ含有量（Ｋ2Ｏ換算での質量百分率表示）よりも０．３％以上高いことを特徴とするフラットパネルディスプレイ用ガラス基板。
【請求項３】
前記ガラス基板の代表組成が、酸化物基準の質量百分率表示で実質的に、
ＳｉＯ2                          ５０〜６５％
Ａｌ2Ｏ3                            ２〜１５％
ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ  １０〜３０％
Ｎａ2Ｏ                            ０％超７％以下
Ｋ2Ｏ                              １〜１５％
Ｌｉ2Ｏ                            ０〜１％
Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ＋Ｌｉ2Ｏ            ６〜１５％
ＺｒＯ2                            ０〜６％
である請求項１または２に記載のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかに記載のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板を前面ガラス板として用いたディスプレイパネル。
【請求項５】
ガラス基板表面に銀電極が形成されるフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の製造方法であって、板状に成形した後のガラスリボンを徐冷する工程が、前記ガラスリボンの温度が５００〜６５０℃の状態で、前記銀電極が形成される前記ガラス基板表面に相当する前記ガラスリボン表面にカリウムを含む水溶液を噴霧する工程と、
前記カリウムを含む水溶液を噴霧した後の前記ガラスリボンを、温度３００〜６５０℃で５分間以上保持する工程と、
前記ガラスリボンの徐冷後、前記カリウムを含む水溶液が噴霧された前記ガラスリボン表面を洗浄する工程と、を含むことを特徴とするフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の製造方法。
【請求項６】
前記ガラスリボン表面にカリウムを含む水溶液を噴霧する工程と、前記ガラスリボンを温度３００〜６５０℃で５分間以上保持する工程と、の間に、前記ガラスリボンの前記カリウムを含む水溶液が噴霧された表面に対し裏面側にＳＯ2ガスを吹き付ける工程を含む請求項５に記載のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の製造方法。
【請求項７】
前記カリウムを含む水溶液がリン酸カリウム水溶液である請求項５または６に記載のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の製造方法。
【請求項８】
前記リン酸カリウム水溶液が、Ｋ3ＰＯ4水溶液またはＫ2ＨＰＯ4水溶液である請求項７に記載のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の製造方法。
【請求項９】
前記カリウム水溶液が、融点６５０℃以下のカリウム化合物を含む水溶液である請求項５または６に記載のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の製造方法。
【請求項１０】
前記カリウム水溶液が、ＫＮＯ3水溶液である請求項９に記載のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の製造方法。
【請求項１１】
前記カリウムを含む水溶液の濃度が５〜７０ｗｔ％であり、該カリウムを含む水溶液の噴霧量が４〜４０ｃｃ／ｆｔ2であることを特徴とする請求項５ないし１０のいずれかに記載のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の製造方法。
【請求項１２】
前記ＳＯ2ガスの吹き付け量が０．５〜５．０  ｌ／ｍ2である請求項６ないし１１のいずれかに記載のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板、より具体的には、プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと略す）のように、ディスプレイ用ガラス基板表面に銀電極が形成されるフラットパネルディスプレイ用ガラス基板およびその製造方法、ならびにそれを用いたディスプレイパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年の電子部品の発達に伴い、ＰＤＰ、液晶表示パネル、エレクトロルミネッセンスパネル、蛍光表示パネル、エレクトロクロミック表示パネル、発光ダイオード表示パネル、ガス放電式表示パネル等、多くの種類のフラットパネルディスプレイが開発されている。その中でも、ＰＤＰは薄型かつ大型の平板型カラーディスプレイとして注目を集めている。ＰＤＰにおいては、表示面として使用される前面基板と背面基板の間に多くのセルを有し、そのセル中でプラズマ放電させることにより画像が形成される。このセルは、隔壁で区画形成されており、画像を形成する各画素での表示状態を制御するため、各画素単位に電極が形成されている。
【０００３】
特許文献１の図１に示されるように、ＰＤＰは前面ガラス板１と背面ガラス板２の間に挟まれ、前面ガラス板１と背面ガラス板２は封止材３でシールされている。パネルの前部には前面ガラス板１、透明電極４、バス電極５、透明誘電体６及び保護膜７があり、背面部には背面ガラス板２、アドレス電極８、白色誘電体９、蛍光体１０、隔壁１１がある。紫外線１２は蛍光体１０の作用により可視光１３となるのが一般的である。なお、図面の符号に関する記載は、特許文献１の記載をそのまま使用した。
【０００４】
このＰＤＰの前面ガラス板には、プラズマを放電させるための電極が形成され、電極として細い線状の銀電極が多くの場合使われている。このように銀電極が使われている結果、電極を焼成形成するときに前面ガラス板が黄色に変色するという、いわゆる黄変の問題がある。すなわち、ＰＤＰの前面ガラス板が黄色に変色するため、光の３原色のバランスが損なわれるという問題が発生している。また、その可視光透過率も下がるという問題も併せ持っている。この黄変は、銀イオン（Ａｇ+）がガラス中に存在するＦｅ2+やＳｎ2+等による還元作用でＡｇ0となるコロイド凝縮反応によって生じると考えられている。
【０００５】
上記した前面ガラス板の黄変の解決策として、例えば金属電極が形成される面が研磨されることによって表面に形成された還元性の異質層が除去されてなることを特徴とするフラットパネルディスプレイ基板（例えば、特許文献２参照）、Ｆｅ2Ｏ3の量が２０００ｐｐｍ未満であり、金属電極が銀からなることを特徴とするプラズマディスプレイ装置（例えば、特許文献３参照）が知られている。
しかしながら、特許文献２に記載の方法ではその効果は認められるが、生産したガラス板を研磨しなければならず、その研磨コストは膨大なものである。また、特許文献１および特許文献３に記載の方法は、必ずしも黄変に対して効果があるわけではない。
【０００６】
【特許文献１】特開２００５−５５６６９号公報
【特許文献２】特開平１０−２５５６６９号公報
【特許文献３】特開平１０−３３４８１３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記したように、ＰＤＰを始めとするフラットパネルディスプレイ基板において、基板表面に銀電極を形成した場合、銀電極の周辺のガラスで黄変が発生する問題がある。この対策として、幾つかの技術が公知であるが、産業界の要望にはまだ十分には応えていないものである。
したがって、本発明は、ガラス基板表面に銀電極を形成した場合に生じる黄変が抑制されたフラットパネルディスプレイ用ガラス基板およびその製造方法、ならびにそれを用いたディスプレイパネルを提供することを目的とする。
【０００８】
上記の目的を達成するため、本発明は、ガラス基板表面に銀電極が形成された後のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板であって、前記銀電極が形成された側の前記ガラス基板表面から深さ１０μｍまでの表層における平均Ｋ含有量（Ｋ2Ｏ換算での質量百分率表示）が、前記ガラス基板表面から深さ１００μｍ〜１１０μｍまでの内部層における平均Ｋ含有量（Ｋ2Ｏ換算での質量百分率表示）よりも高いことを特徴とするフラットパネルディスプレイ用ガラス基板を提供する。
【０００９】
また、本発明はガラス基板表面に銀電極が形成されるフラットパネルディスプレイ用ガラス基板であって、前記銀電極が形成される側の前記ガラス基板表面から深さ１０μｍまでの表層における平均Ｋ含有量（Ｋ2Ｏ換算での質量百分率表示）が、前記ガラス基板表面から深さ１００μｍ〜１１０μｍまでの内部層における平均Ｋ含有量（Ｋ2Ｏ換算での質量百分率表示）よりも０．３％以上高いことを特徴とするフラットパネルディスプレイ用ガラス基板を提供する。
【００１０】
本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の代表組成が、酸化物基準の質量百分率表示で実質的に、
ＳｉＯ2                          ５０〜６５％
Ａｌ2Ｏ3                            ２〜１５％
ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ  １０〜３０％
Ｎａ2Ｏ                            ０％超７％以下
Ｋ2Ｏ                              １〜１５％
Ｌｉ2Ｏ                            ０〜１％
Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ＋Ｌｉ2Ｏ            ６〜１５％
ＺｒＯ2                            ０〜６％
であることが好ましい。
【００１１】
また、本発明は、上記したフラットパネルディスプレイ用ガラス基板を前面ガラス板として用いたディスプレイパネルを提供する。
【００１２】
また、本発明は、ガラス基板表面に銀電極が形成されるフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の製造方法であって、板状に成形した後のガラスリボンを徐冷する工程が、前記ガラスリボンの温度が５００〜６５０℃の状態で、前記銀電極が形成される前記ガラス基板表面に相当する前記ガラスリボン表面にカリウムを含む水溶液を噴霧する工程と、
前記カリウムを含む水溶液を噴霧した後の前記ガラスリボンを、温度３００〜６５０℃で５分間以上保持する工程と、
前記ガラスリボンの徐冷後、前記カリウムを含む水溶液が噴霧された前記ガラスリボン表面を洗浄する工程と、を含むことを特徴とするフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の製造方法を提供する。
【００１３】
本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の製造方法は、前記ガラスリボン表面にカリウムを含む水溶液を噴霧する工程と、前記ガラスリボンを温度３００〜６５０℃で５分間以上保持する工程と、の間に、前記ガラスリボンの前記カリウムを含む水溶液が噴霧された表面に対し裏面側にＳＯ2ガスを吹き付ける工程を含むことが好ましい。
【００１４】
本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の製造方法において、前記カリウムを含む水溶液がリン酸カリウム水溶液である好ましい。
前記リン酸カリウム水溶液が、Ｋ3ＰＯ4水溶液またはＫ2ＨＰＯ4水溶液であることがより好ましい。
また、前記カリウム水溶液が、融点６５０℃以下のカリウム化合物を含む水溶液であることが好ましく、該カリウム水溶液が、ＫＮＯ3水溶液であることがより好ましい。
【００１５】
本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の製造方法において、前記カリウムを含む水溶液の濃度が５〜７０ｗｔ％であり、該カリウムを含む水溶液の噴霧量が４〜４０ｃｃ／ｆｔ2であることが好ましい。
【００１６】
本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の製造方法において、前記ＳＯ2ガスの吹き付け量が０．５〜５．０  ｌ／ｍ2であることが好ましい。
【発明の効果】
【００１７】
本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板では、ガラス基板表面に銀電極を形成した場合に生じる黄変がディスプレイ基板としての使用上問題がないレベルまで抑制されている。
本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板は、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板としての性能、特に熱膨張係数７５〜９０×１０-7／℃、及び歪点５６０℃以上を確保し、板ガラスとしての成形性を確保するために好ましい。
本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板を前面ガラス板として用いたディスプレイパネルは、銀電極を形成した際に生じる黄変が抑制されているため、黄変によって生じる光の３原色のバランスが損なわれる問題や、可視光透過率が低下する問題が解消されている。
本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の製造方法は、板状に成形した後のガラスリボンを徐冷する工程でガラス基板表層のナトリウムイオンをカリウムイオンに置換するため、ガラス基板を所定の温度まで加熱し、その後該温度で一定時間保持するための独立した工程を設ける必要がない。このため、生産性、エネルギー効率および歩留まりに優れている。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明についてさらに説明する。
本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板は、フラットパネルディスプレイ基板として使用する際にガラス基板表面に銀電極が形成される。このようなフラットパネルディスプレイの具体例としては、ＰＤＰ等が挙げられる。
【００１９】
本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板は、銀電極が形成される側（したがって、銀電極が形成される前の状態）のガラス基板表層のナトリウムイオン（Ｎａ+）の一部が後述する方法によってカリウムイオン（Ｋ+）に置換されている。この結果、ガラス基板表層における平均Ｋ含有量（Ｋ2Ｏ換算での質量百分率表示）が、該表層よりもガラス基板の内部側におけるＫ含有量（Ｋ2Ｏ換算での質量百分率表示）よりも高くなっている。
ここで、ガラス基板の表層とは、銀電極が形成される側のガラス基板表面から深さ１０μｍまでの部分を指す。一方、ガラス基板表面から深さ１００μｍ〜１１０μｍまでの内部層（以下、単に「ガラス基板の内部層」という。）とは、銀電極が形成される側のガラス基板表面から深さ１００μｍ〜１１０μｍの部分である。
したがって、本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板は、ガラス基板表層における平均Ｋ含有量（Ｋ2Ｏ換算での質量百分率表示）が、ガラス基板の内部層におけるＫ含有量（Ｋ2Ｏ換算での質量百分率表示）よりも高くなっている。
具体的には、ガラス基板表層における平均Ｋ含有量（Ｋ2Ｏ換算での質量百分率表示）が、ガラス基板の内部層における平均Ｋ含有量（Ｋ2Ｏ換算での質量百分率表示）よりも０．３％以上高くなっている。好ましくは０．５％以上である。
ガラス基板の表層および内部層における平均Ｋ含有量（Ｋ2Ｏ換算での質量百分率表示）は、蛍光Ｘ線法を用いて測定することができる。
【００２０】
ガラス基板の黄変は、銀電極の形成時（焼成時）にガラス中に混入した銀イオン（Ａｇ+）が、ガラス中に存在するＦｅ2+やＳｎ2+等による還元作用でＡｇ0となるコロイド凝縮反応によって生じると考えられている。フロート法などの成形方法は、還元雰囲気で実施するため、板状に成形した後のガラス基板表面は還元状態となっている。還元状態となっているガラス基板表面では、ガラス基板表層のナトリウムイオン（Ｎａ+）や水素イオン（Ｈ+）等が銀電極に由来するイオン（Ａｇ+）と容易に置換されて、ガラス中に混入する。
本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板では、ガラス基板表層のナトリウムイオンが、カリウムイオンに置換されている。カリウムイオンはナトリウムイオンよりもイオン半径が大きいため、カリウムイオンから銀イオンを置換することはナトリウムイオンから銀イオンへの置換に比べてはるかに困難である。この結果、銀電極形成時にガラス中に混入する銀イオンの量が減少し、ガラス基板の黄変が抑制されると考えられる。
【００２１】
本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板は、銀電極が形成される側のガラス基板表層のナトリウムイオン（Ｎａ+）が、カリウムイオン（Ｋ+）に置換されているため、Ｋ含有量と、Ｋ含有量およびＮａ含有量の和と、の比（Ｋ／Ｋ＋Ｎａ）が、ガラス基板表層とガラス基板の内部層とで異なっている。より具体的には、ガラス基板表層における平均Ｋ含有量（Ｋ2Ｏ換算での質量百分率表示）と、平均Ｋ含有量（Ｋ2Ｏ換算での質量百分率表示）および平均Ｎａ含有量（Ｎａ2Ｏ換算での質量百分率表示）の和と、の比が、ガラス基板の内部層におけるＫ含有量（Ｋ2Ｏ換算での質量百分率表示）と、Ｋ含有量（Ｋ2Ｏ換算での質量百分率表示）およびＮａ含有量（Ｎａ2Ｏ換算での質量百分率表示）の和と、の比よりも高くなっている。
【００２２】
本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板は、銀電極が形成される側のガラス基板表層のナトリウムイオン（Ｎａ+）が、よりイオン半径が大きいカリウムイオン（Ｋ+）に置換されているため、ガラス基板表層では圧縮応力が発生している。
【００２３】
本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板は、銀電極が形成される側のガラス基板表層のナトリウムイオン（Ｎａ+）の一部がカリウムイオン（Ｋ+）に置換されているため、銀電極形成後においても、ガラス基板表層における平均Ｋ含有量（Ｋ2Ｏ換算での質量百分率表示）が、ガラス基板の内部層におけるＫ含有量（Ｋ2Ｏ換算での質量百分率表示）よりも高くなっている。
【００２４】
本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板は、ガラス板表層における平均Ｋ含有量（Ｋ2Ｏ換算での質量百分率表示）と、ガラス基板の内部側におけるＫ含有量（Ｋ2Ｏ換算での質量百分率表示）と、が上記の関係を満たすことに加えて、その代表組成が酸化物基準の質量百分率表示で実質的に、
ＳｉＯ2                          ５０〜６５％
Ａｌ2Ｏ3                            ２〜１５％
ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ  １０〜３０％
Ｎａ2Ｏ                            ０％超７％以下
Ｋ2Ｏ                              １〜１５％
Ｌｉ2Ｏ                            ０〜１％
Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ＋Ｌｉ2Ｏ            ６〜１５％
ＺｒＯ2                            ０〜６％
であることが好ましい。
フラットパネルディスプレイ用ガラス基板の組成が上記であることは、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板としての性能、特に熱膨張係数７５〜９０×１０-7／℃、及び歪点５６０℃以上を確保し、板ガラスとしての成形性を確保するために好ましい。
【００２５】
本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の好適組成の第１実施形態は、酸化物基準の質量百分率表示で実質的に
ＳｉＯ2                          ５２〜６２％
Ａｌ2Ｏ3                            ５〜１２％
ＭｇＯ                            ０〜４％
ＣａＯ                            ３〜５．５％
ＳｒＯ                            ６〜９％
ＢａＯ                            ０〜１３％
ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ  １７〜２７％
Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ＋Ｌｉ2Ｏ            ７〜１４％
ＺｒＯ2                            ０．２〜６％
ＳＯ3                              ０〜０．６％
である。
フラットパネルディスプレイ用ガラス基板の組成が上記であることにより、ソーダライムガラスと同様の熱膨張係数を有し、大型ＰＤＰの製造に適するよう、高いガラス転移点を有し、フロート法成形に適したガラス基板となる。
【００２６】
上記した好適組成の第一実施形態において、限定の理由は以下の通りである。
【００２７】
ＳｉＯ2は、ガラスの骨格を形成する成分で、その含有量が５２質量％未満では、ガラスの耐熱性が悪くなる。他方、６２質量％超では熱膨張係数が低下する。ＳｉＯ2は５４〜６０質量％の範囲がより好ましい。
【００２８】
Ａｌ2Ｏ3はガラス転移点を上げ、耐熱性を向上させる効果があり、その含有量が５質量％未満ではこの効果があらわれず、他方、１２質量％超ではガラスの熱膨張係数が低くなりすぎる。Ａｌ2Ｏ3は６〜１１質量％の範囲がより好ましい。
【００２９】
ＭｇＯは含有することによりガラスの転移点の向上と熱膨張係数の増大がはかれる。しかし、その含有量が、４質量％超では失透が生成しやすくなる。
【００３０】
ＣａＯはガラスの転移点の向上と熱膨張係数の増大の作用がある。その含有量が３質量％未満ではガラスの熱膨張係数が小さくなりすぎる。他方、５．５質量％超では失透温度が高くなり過ぎるためガラス板への成形が困難になる。特に、失透温度がフロート法の成形温度より高くなるため、フロート法による成形が困難になる。
【００３１】
ＳｒＯはＣａＯと同様にガラスの転移点の向上と熱膨張係数の増大の作用がある。その含有量が６質量％未満ではガラスの熱膨張係数が小さくなりすぎる。他方、９質量％超では失透温度が高くなり過ぎるためガラス板への成形が困難になる。特に、失透温度がフロート法の成形温度より高くなるため、フロート法による成形が困難になる。
【００３２】
ＢａＯはＭｇＯと同様に、含有することによりガラスの転移点の向上と熱膨張係数の増大がはかれる。しかし、その含有量が、１３質量％超では失透が生成しやすくなる。
【００３３】
ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯの合量が１７質量％未満ではガラスの耐熱性が低下し、熱膨張係数が小さくなりすぎる。他方、２７質量％超では失透温度が高くなりすぎる。これらの合量は１８〜２５質量％の範囲がより好ましい。
【００３４】
Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏは、ガラスの熱膨張係数を大きくするために少なくとも一種は必須である。これらの合量が７質量％未満ではガラスの熱膨張係数が小さすぎる。他方、合量が１４質量％超ではガラスの耐熱性が低下する。これらの合量は８〜１３質量％の範囲がより好ましい。
【００３５】
このなかでＫ2Ｏはガラスの熱膨張係数を大きくするため、４質量％以上含まれることが好ましい。一方、これらの成分は過度に添加するとガラスの耐熱性低下の傾向が大きい。かかる観点から、Ｎａ2Ｏは０％超６質量％以下、Ｋ2Ｏは４〜１２質量％、Ｌｉ2Ｏは０〜１質量％の範囲とすることがより好ましい。Ｎａ2Ｏは３〜６質量％であることがより好ましい。
【００３６】
ＺｒＯ2 はガラスの耐熱性及び化学的耐久性の向上のために使用する。０．２質量％未満では添加の効果がなく、好ましくは０．５質量％以上添加する。一方で、その含有量が６質量％超ではガラスの失透温度が高くなりすぎる。
【００３７】
ＳＯ3 含有化合物は清澄剤として用いることができる。しかし、その含有量が０．６質量％超では製造時にガラスが再沸するなどしてガラス中に気泡が残存する。
【００３８】
本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の好適組成の第一実施形態において、より望ましいガラス組成の一例は、酸化物基準の質量百分率表示で実質的に以下の通りである。
ＳｉＯ2                          ５４〜６０％
Ａｌ2Ｏ3                          ６〜１１％
ＭｇＯ                            ０〜４％
ＣａＯ                            ３〜５．５％
ＳｒＯ                            ６〜９％
ＢａＯ                            ０〜１３％
ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ  １８〜２５％
Ｎａ2Ｏ                            ０％超６％以下
Ｌｉ2Ｏ                            ０〜１％
Ｋ2Ｏ                              ４〜１２％
Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ＋Ｌｉ2Ｏ            ８〜１３％
ＺｒＯ2                            ０．５〜６％
ＳＯ3                              ０〜０．６％
【００３９】
本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の好適組成の第二実施形態は、酸化物基準の質量百分率表示で実質的に
ＳｉＯ2                          ５２〜６２％
Ａｌ2Ｏ3                          ５〜１５％
ＭｇＯ                            ０％超５％以下
ＣａＯ                            ３〜１２％
ＳｒＯ                            ９〜１８％
ＢａＯ                            ０〜１３％
ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ  ２５〜３０％
Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ＋Ｌｉ2Ｏ           ６〜１４％
ＺｒＯ2                           ０〜６％
ＳＯ3                             ０〜１％
である。
フラットパネルディスプレイ用ガラス基板の組成が上記であることにより、フラットパネルディスプレイ基板用ガラス、特にＰＤＰ基板用ガラスとしての特性及び品質を確保しつつ、高温粘度を下げることができる。
【００４０】
上記した好適組成の第二実施形態において、限定の理由は以下の通りである。
【００４１】
ＳｉＯ2：ガラスの骨格を形成する成分であり、その含有量が５２％未満だと基板用ガラスの耐熱性が悪化する、ガラスの高温粘度が増加して、基板用ガラス製造時の各工程の温度を下げることができない。他方、６２％超だと基板用ガラスの熱膨張係数が低下する。
ＳｉＯ2の含有量は、５３〜６１％であることがより好ましく、さらに好ましくは５４〜６０％であり、最も好ましくは５５〜５９％である。
【００４２】
Ａｌ2Ｏ3：ガラス転移点を上げ、基板用ガラスの耐熱性を向上させる効果があるが、その含有量が５％未満だとこの効果が少ない。他方、１５％超だと、基板用ガラスの高温粘度が増加し、基板用ガラス製造時の各工程の温度を下げることができない。
Ａｌ2Ｏ3の含有量は、６〜１３％であることがより好ましい。さらに好ましくは６〜１１％であり、最も好ましくは６〜９％である。
【００４３】
ＭｇＯ：ガラス溶解時の粘性を下げ、溶解を促進する作用があるので含有される。しかしその含有量が５％超だとガラスの熱膨張係数が大きくなりすぎる傾向があり、またガラスが失透しやすくなる。
ＭｇＯの含有量は、１〜５％であることがより好ましい。さらに好ましくは２〜５％であり、最も好ましくは２〜４％である。
【００４４】
ＣａＯ：ガラスの転移点の向上と熱膨張係数の増大、およびガラスの高温粘度を下げる効果がある。その含有量が３％未満だとガラスの熱膨張係数が小さくなりすぎる。他方、１２％以上だと熱膨張係数が大きくなりすぎる。
ＣａＯの含有量は、３〜１０％であることがより好ましい。さらに好ましくは３〜８％であり、最も好ましくは３〜６％である。
【００４５】
ＳｒＯ：ＣａＯと同様にガラスの転移点の向上と熱膨張係数の増大、およびガラスの高温粘度を下げる効果がある。その含有量が９％未満だとガラス転移点が低くなりすぎる。他方、１８％超だとガラスの熱膨張係数が大きくなりすぎる。
ＳｒＯの含有量は、１０〜１７％であることがより好ましい。さらに好ましくは１０〜１６％であり、最も好ましくは１０〜１５％である。
【００４６】
ＢａＯ：ガラスの転移点の向上と熱膨張係数の増大、およびガラスの高温粘度を下げる効果があるので含有させうる。しかしその含有量が１３％超だとガラスの熱膨張係数が大きくなりすぎる。
ＢａＯの含有量は、１．５〜６％であることがより好ましい。
【００４７】
ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯの合量が２５％未満ではガラスの高温粘度が上昇しすぎる。他方３０％超では熱膨張係数が大きくなりすぎる。
ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯの合量は２５〜２９％であることが好ましい。より好ましくは２５〜２８％、さらに好ましくは２５〜２７％である。
【００４８】
Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏ：ガラスの熱膨張係数を大きくするためには少なくとも一種は必須である。これらの合量が６％未満ではガラスの熱膨張係数が小さくなりすぎる。他方合量が１４％超ではガラスの耐熱性が低下する。
Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2Ｏ、およびＫ2Ｏの合量は、６〜１２％であることがより好ましい。さらに好ましくは６〜１０％であり、最も好ましくは６〜８％である。
【００４９】
これらの中でＫ2Ｏはガラスの熱膨張係数を大きくするため、１％以上含まれることが好ましい。一方、これらの成分を過度に添加するとガラスの耐熱性低下の傾向が大きい。かかる観点からＬｉ2Ｏは０〜１％、Ｎａ2Ｏは０〜７％、Ｋ2Ｏは１〜６％の範囲とすることが好ましく、Ｌｉ2Ｏは０〜１％、Ｎａ2Ｏは０〜６％、Ｋ2Ｏは１〜５％の範囲とするこがより好ましい。
【００５０】
ＺｒＯ2：ガラスの耐熱性及び化学耐久性の向上のために使用する。その含有量が６％以上ではガラスが失透しやすくなる。好ましくは０〜２％である。
【００５１】
ＳＯ3：通常清澄剤として用いられるものの一部が製造後の基板用ガラス中に残存する。しかし、製造後の基板用ガラスにおける残存量が１％超となるような量をガラス原料に投入した場合、製造時にガラスが再沸するなどしてガラス中に気泡が残存する。
なお、ＳＯ3を清澄剤として使用する場合、ＳＯ3源のガラス原料への投入量は、原料１００％に対してＳＯ3換算で０．１〜５％であることが好ましい。この場合、基板用ガラスの残存量はＳＯ3換算で０．００１％以上１％未満であり、好ましくは０．０１％以上１％未満であり、より好ましくは０．０１〜０．６％である。
【００５２】
本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の好適組成の第二実施形態において、より望ましいガラス組成の一例は、酸化物基準の質量百分率表示で実質的に以下の通りである。
ＳｉＯ2                          ５５〜５９％
Ａｌ2Ｏ3                        ６〜９％
ＭｇＯ                          ２〜５％
ＣａＯ                          ３〜６％
ＳｒＯ                          １０〜１５％
ＢａＯ                          １．５〜６％
ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ  ２５〜２７％
Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ＋Ｌｉ2Ｏ          ６〜１０％
ＺｒＯ2                          ０〜２％
ＳＯ3                            ０．０１〜０．６％
【００５３】
本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板は、製造時の溶解性、清澄性、成形性を改善するため、上記成分以外に、Ｓｂ2Ｏ3、Ｐ2Ｏ5、Ｆ、Ｃｌを合量で２質量％以下含有してもよい。
また、ガラスの化学的耐久性の向上のため、Ｌａ2Ｏ3、ＴｉＯ2、ＳｎＯ2、ＺｎＯを合量で５質量％以下含有してもよい。
さらに、Ｆｅ2Ｏ3、ＣｏＯ、ＮｉＯ、Ｎｄ2Ｏ3等の着色剤を添加してガラスの色調を調整できる。この着色剤の含有量は合量で１質量％以下が好ましい。
【００５４】
さらに、製造時の溶解性を向上するためにＢ2Ｏ3を含有してもよい。ただし、含有量が過剰だと熱膨張係数が低下するので１．５質量％未満とすることが好ましい。
【００５５】
本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板は、後述する実施例に記載の方法で求めた色差ｂ＊値が７以下であることが好ましく、６．５以下であることが好ましく、６以下であることがさらに好ましい。
【００５６】
本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板は、ヘイズが少ないことが好ましく、具体的には、後述する実施例に記載の方法で求めたＣ光源ヘイズ率が５％以下であることが好ましく、４．５％以下であることがより好ましく、４％以下であることがさらに好ましい。
【００５７】
本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板を製造するには、例えばフロート法により所望の厚さに成形されたガラスリボンを所定の温度で、ガラス基板の銀電極を形成する側の表面にカリウムを含む水溶液を噴霧し、その後、所定の温度で所定時間保持すればよい。これにより、ガラスリボン表層のナトリウムイオンの一部がカリウムイオンに置換される。
【００５８】
カリウムを含む水溶液を噴霧する際のガラスリボンの温度は５００〜６５０℃であることが好ましく、その後ガラスリボンを３００〜６５０℃で５分間以上保持することが好ましい。
カリウムを含む水溶液を噴霧する際の温度が５００℃未満であったり、その後保持する際の温度が３００℃未満であったりすると、ガラスリボン表層におけるナトリウムイオンからカリウムイオンへの置換が効果的に行われない。
【００５９】
カリウムを含む水溶液としては、リン酸カリウム水溶液、Ｋ2ＨＢ4Ｏ7水溶液、ＫＮＯ3水溶液等といったカリウム化合物を含む水溶液を使用することができる。
リン酸カリウム水溶液としては、Ｋ3ＰＯ4水溶液またはＫ2ＨＰＯ4水溶液が好ましく、特にＫ3ＰＯ4水溶液が好ましい。
【００６０】
但し、製造されるフラットパネルディスプレイ用ガラス基板でのヘイズを防止するためには、融点６５０℃以下のカリウム化合物を含む水溶液を用いることが好ましい。
上記で例示したカリウムを含む水溶液（カリウム化合物を含む水溶液）はいずれも強塩基性の水溶液であるため、水溶液が噴霧されたガラスリボン表面はエッチング作用を受ける。但し、５００〜６５０℃という高温のガラスリボン表面に水溶液を噴霧すると、水溶液中の水分は直ちに蒸発し、ガラスリボン表面に付着したカリウム化合物によってエッチング作用が進行する。
この際、水溶液の噴霧条件によっては、ガラスリボン表面にカリウム化合物が不均一に分布するおそれがある。カリウム化合物の融点がガラスリボンの温度よりも高い場合、ガラスリボン表面にカリウム化合物が不均一に分布した状態でガラスリボン表面のエッチング作用が起こるため、ガラスリボン表面のエッチング作用にムラが生じ、製造されるフラットパネルディスプレイ用ガラス基板にヘイズを生じるおそれがある。
一方、カリウム化合物の融点がガラスリボンの温度よりも低い場合、ガラスリボン表面にカリウム化合物が不均一に付着したとしても、カリウム化合物がガラスリボン表面で融解することによって、ガラスリボン表面にカリウム化合物が均一に分布するようになる。この結果、ガラスリボン表面のエッチング作用にムラが生じることがなく、製造されるフラットパネルディスプレイ用ガラス基板でヘイズが発生することがない。
【００６１】
以上の点から水溶液に含まれるカリウム化合物の融点は水溶液噴霧時のガラスリボンの温度よりも低いことが好ましく、具体的には、６５０℃以下であることが好ましく、５００℃以下であることがより好ましい。
融点が６５０℃以下のカリウム化合物の具体例としては、ＫＮＯ3（融点３４０℃）、ＫＮＯ2（融点４４０℃）、ＫＣｌＯ4（融点６１０℃）、Ｋ2Ｏ2（融点４９０℃）、ＫＯＨ（融点３８０℃）等が挙げられる。
【００６２】
カリウムを含む水溶液の濃度は、カリウムを含む水溶液の噴霧量との関係で適宜選択することができる。例えば、カリウムを含む水溶液の濃度が低い場合、カリウムを含む水溶液の噴霧量を増加すればよい。但し、カリウムを含む水溶液の噴霧量には、後述する制約があるため、比較的高濃度のカリウムを含む水溶液を使用することが好ましい。具体的には、カリウム水溶液の濃度は５〜７０ｗｔ％であることが好ましい。カリウム水溶液の濃度が５ｗｔ％未満であると、ガラスリボン表層におけるナトリウムイオンからカリウムイオンへの置換効率が低下する。また、カリウム水溶液の濃度が７０ｗｔ％超だと、水溶液を噴霧しにくくなる。Ｋ3ＰＯ4水溶液およびＫ2ＨＢ4Ｏ7水溶液の場合、５〜７０ｗｔ％であることが好ましく、１０〜５５ｗｔ％であることがより好ましく、２０〜５０ｗｔ％であることがさらに好ましく、２０〜４５ｗｔ％であることが特に好ましい。一方、Ｋ3ＮＯ4の場合、Ｋ3ＮＯ4の水に対する溶解度がＫ3ＰＯ4およびＫ2ＨＢ4Ｏ7よりも低いので、５〜５５ｗｔ％であることが好ましく、５〜３０ｗｔ％であることがより好ましく、５〜１５ｗｔ％であることがさらに好ましい。
【００６３】
５００〜６５０℃という高温のガラスリボン表面にカリウムを含む水溶液を噴霧するため、カリウムを含む水溶液の噴霧量が多いと、ガラスリボンの温度が急激に下がりガラスリボンが割れるおそれがある。
カリウムを含む水溶液の噴霧量は４〜４０ｃｃ／ｆｔ2であることが好ましい。
【００６４】
カリウムを含む水溶液の噴霧後、所定温度で所定時間保持したガラスリボンは、室温付近まで徐冷される。
室温付近まで徐冷した後、表面に付着している残留物（カリウム塩やナトリウム塩）を除去するためガラスリボン表面を洗浄し、所望の大きさに切断することにより本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板が得られる。
ガラスリボンの洗浄方法としては、成形後のガラスリボン表面を洗浄する際に通常使用される方法であってよく、例えば、ガラスリボン表面を水でブラシ洗浄できる。
なお、ガラスリボン表面の洗浄は、必ずしもガラスリボンの温度が室温付近まで徐冷された後で実施する必要はないが、高温のガラスリボン表面を洗浄するとガラスリボンが割れるおそれがあるため、ガラスリボン表面の洗浄は、ガラスリボンの温度が室温付近で実施することが好ましい。
【００６５】
上記したガラスリボン表面にカリウムを含む水溶液を噴霧する手順、およびカリウムを含む水溶液を噴霧した後、所定温度で所定時間保持する手順は、ガラス基板製造時に行う徐冷工程の中で実施することが好ましい。なお、ここで言う「徐冷工程」とは、成形後のガラスリボンを徐冷窯内で移動させることによって行われる本来の徐冷工程以外に、後述するガラスリボン表面にカリウムを含む水溶液を噴霧する手順、カリウムを含む水溶液を噴霧した後、ガラスリボンを所定温度で所定時間保持する手順を包含する。以下、本明細書において、本来の徐冷工程のことを「徐冷工程（狭義）」と記載する。
【００６６】
フロート法によって薄板状に成形されたガラスリボンは、徐冷工程（狭義）のため徐冷窯へと搬送される。上記したガラスリボン表面にカリウムを含む水溶液を噴霧する手順は、フロート法によって薄板状に成形されたガラスリボンが徐冷窯へと搬送される間、具体的には、フロートバスから引き出されたガラスリボンが徐冷窯へと搬送される間、に実施することが好ましい。
薄板に成形された状態でフロートバスから引き出されて徐冷窯へと搬送されるガラスリボンの温度は、通常５００〜６５０℃である。したがって、徐冷窯へと搬送されるガラスリボン表面にカリウムを含む水溶液を噴霧した場合、カリウムを含む水溶液を噴霧するためにガラスリボンを所定温度まで加熱する必要がない。
【００６７】
また、フロート法で成形されたガラス基板をフラットパネルディスプレイ基板として使用する場合、通常ガラスリボンのフロートバス内で溶融スズと接しなかった側の表面、すなわち上側表面、に銀電極が形成される。したがって、徐冷窯へと搬送されるガラスリボンにカリウムを含む水溶液を噴霧する場合、単にガラスリボン上方からカリウムを含む水溶液を所定の噴霧量になるように噴霧すればよいことになる。
【００６８】
徐冷窯内を通過するガラスリボンの温度は徐冷により変化していくが、５分間程度３００〜６００℃に保持される。
したがって、カリウムを含む水溶液を噴霧した後のガラスリボンを徐冷工程（狭義）のために徐冷窯内を通過させると、上記したカリウムを含む水溶液を噴霧した後、所定温度で所定時間ガラスリボンを保持する手順が行われることになる。
【００６９】
フロート法の徐冷工程では、ガラスリボン表面、より具体的には、搬送用のローラと接するガラスリボンの下側表面、に傷がつくのを防止するため、ガラスリボンが徐冷窯に入る前にガラスリボンの下側表面にＳＯ2ガスを吹き付ける。ＳＯ2ガスの吹き付けは、ガラスリボンが徐冷窯に入った後も継続して実施する場合もある。また、ガラスリボンが徐冷窯に入った後でＳＯ2ガスの吹き付けを開始する場合もある。
本発明においても、成形法がフロート法である場合、カリウムを含む水溶液を噴霧した後、徐冷窯に運ばれるガラスリボンの下側表面、すなわち、カリウムを含む水溶液を噴霧した表面に対して裏面側、にＳＯ2ガスを吹き付けることが好ましい。このＳＯ2ガスの吹き付けは、ガラスリボンが徐冷窯に入った後も継続して実施してもよく、ガラスリボンが入った後でＳＯ2ガスの吹き付けを開始してもよい。
【００７０】
ＳＯ2ガスの吹き付け量は、０．５〜５．０  ｌ／ｍ2とすることが好ましく、０．５〜３．０  ｌ／ｍ2とすることがより好ましい。ＳＯ2ガスの吹き付け量が０．５  ｌ／ｍ2未満だと、ガラスリボン表面に傷が付くのを防止する効果が十分発揮できないおそれがある。
本発明において、ガラスリボンの下側表面に吹き付けたＳＯ2ガスがガラスリボンの上側表面に回りこむことがあっても、ガラス基板の黄変は抑制される。
【００７１】
徐冷工程（狭義）終了後、上記手順でカリウムを含む水溶液が噴霧されたガラスリボン表面、すなわち、ガラスリボンの上側表面、を洗浄する。ガラスリボンにＳＯ2ガスを吹き付けた場合、ガラスリボンの下側表面も洗浄する。
ガラスリボン表面の洗浄方法は特に限定されず、上記例示した成形後のガラスリボン表面を洗浄する際に通常使用される方法を用いることができる。
洗浄後のガラスリボンを、所望の大きさに切断することにより本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板が得られる。
【００７２】
本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板は、フラットパネルディスプレイの中でも、ガラス基板表面に銀電極が形成されるものとして好適であり、特にＰＤＰ用のガラス基板、特にＰＤＰの前面ガラス板として好適である。
本発明は、上記したフラットパネルディスプレイ用ガラス基板を前面ガラスとして用いたＰＤＰも提供する。
本発明のＰＤＰにおいて、前面ガラス以外の構成は特に限定されず、ＰＤＰの構成として公知のものから適宜選択することができる。
【実施例】
【００７３】
以下、実施例により本発明を詳述するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
［実施例および比較例］
原料として、珪砂、長石、ドロマイト、石灰石、ソーダ灰、アルミナ、炭酸カリウム、炭酸バリウム、ジルコンフラワーを用い、いわゆる一般的なフロートガラスの製造条件に準じて２．８ｍｍの厚さのガラスリボンに成形し、フロートバスから引き出した。その後、徐冷窯に搬送される間にガラスリボン温度６００℃でガラス基板の銀電極を形成する側のガラスリボン表面に濃度４３〜５０ｗｔ％のＫ3ＰＯ4水溶液を８．９ｃｃ／ｆｔ2噴霧し、Ｋ3ＰＯ4水溶液が噴霧された表面に対し裏面側にＳＯ2ガスを２．７  ｌ／ｍ2吹き付けた。その後徐冷窯内で搬送される間に３００〜６００℃内で６分保持し、徐冷後、ガラスリボン両面を洗浄した。一方比較例として実施例と同様で、ただしＫ3ＰＯ4噴霧無しとした。
ガラスの表層と内部層との組成を測定し結果を表１に示す。単位は質量％である。
銀電極が形成される側のガラス表層の組成は、蛍光Ｘ線装置を用いて、ガラス基板表面から０〜１０μｍの深さの平均値として測定した。また、ガラス内部層の組成は、前記ガラス基板表面から１００μｍの深さまでを研磨した後、蛍光Ｘ線装置を用いて、前記ガラス基板表面から１００〜１１０μｍの深さの平均値として測定した。
具体的には、ＪＩＳ−Ｒ３１０１，ＪＩＳ−Ｒ３１０５（Ｚｒ），ＡＳＴＭＣ１６９−９２（Ｂａ）に準じて分析したガラスを標準としてファンダメンタル・パラメータ（ＦＰ）法で測定した。装置はＲＩＸ３０００型（リガク社製）を用いた。管球はＲｈ管球を使用し、管電圧５０ｋＶ、管電流５０ｍＡに設定した。
なお、得られたガラス基板は、熱膨張係数８３×１０-7／℃（５０〜３５０℃）、歪点５７０℃であり、熱膨張係数７５〜９０×１０-7／℃、及び歪点５６０℃以上を確保していた。
＜ｂ＊値の測定＞
上記で得られたフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の表面に銀ペーストを塗布し、５６０℃、１時間焼成した後、可視光透過率を測定した。銀電極下面及びその周辺の黄色着色は、この値からＣ光源のＬ＊ａ＊ｂ＊系色座標の色差ｂ＊値をＪＩＳ−Ｚ８７２９の方法で表し表１に示した。
ガラス表面圧縮応力は、セナルモン法で測定した。
【００７４】
【表１】
2008044834.tif 000002
【００７５】
［実験例］
比較例と同様の手順で作成したガラスリボンから切り出したガラス基板を、Ｋ3ＰＯ4飽和水溶液（５０ｗｔ％）、ＫＮＯ3飽和水溶液（１３ｗｔ％）、または、Ｋ2Ｂ4Ｏ7飽和水溶液（２５ｗｔ％）に室温で浸漬した後、ガラス基板を乾燥してから５６０℃で３０分間加熱処理した（実験例１〜３）。また、ガラス基板をカリウムを含む水溶液に浸漬することなしに５６０℃で３０分間加熱処理したものを実験例４とした。加熱処理後、ガラス基板を室温まで徐冷した。ガラス基板を水洗した後、実施例と同様の手順でガラスの表層と内部層の組成を測定した。その結果、実験例１〜３では、表層における平均Ｋ含有量が内部層における平均Ｋ含有量よりも０．３％以上高かった。一方、実験例４では、表層と、内部層と、で平均Ｋ含有量に実質的に差がなかった。実験例１〜４のガラス基板について、実施例と同様の手順で色差ｂ＊値を測定した。またＣ光の拡散透過率と全光線透過率をダブルビームヘイズメータを用いて測定し、下記式を用いてＣ光源ヘイズ率を求めた。結果を下記表に示す。
ヘイズ率（％）＝拡散透過率／全光線透過率×１００
【表２】
2008044834.tif 000003
ガラス基板をカリウムを含む水溶液に浸漬した後、５６０℃で３０分間加熱処理した実験例１〜３はｂ＊値が低く、ガラス基板表面に銀電極を形成した場合に生じる黄変がディスプレイ基板として使用上問題がないレベルに抑制されていた。また、カリウム化合物として、融点が加熱処理温度よりも低いＫＮＯ3を使用した実験例２では、Ｃ光源ヘイズ率がディスプレイ基板として使用上問題がないレベルに抑えられていた。
本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の製造方法においても同様の結果が得られる。