(57)【要約】【課題】  流量の変動が起きる、二種以上の流体流を混合するための方法および装置を提供する。【解決手段】  ガス状流体を入口室内で一緒にしそしてその後に、一つ以上の段で繰り返して加速させおよび減速させ、そして加速させた一緒にしたガス状流体の最大の線速度の値を、各々の工程において、ガス状流体質量流量の範囲内に保つ、二種以上の流体流を混合する方法。座を有するボディ; 座内に設置したプラグを有するスピンドルを含み,そして座およびプラグは、同じ複数の円錐形の環を形成する複数の円錐形の表面を有する。スピンドルは、混合作業中に、座内の軸をスピンドル方向に移動させることができる二種以上のガス状または液状流を混合するための装置。【選択図】    図１
2008142710.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体を入口室内で一緒にしそしてその後に、一つ以上の段で繰り返して加速させおよび減速させ、
そして
加速させた一緒にしたガス状流体の最大の線速度の値を、各々の工程において、供給流体の質量流量の範囲内に保つ
ことを特徴とする、二種以上の流動流体を混合する方法。
【請求項２】
流路混合作業中に最も小さい流路の面積を調節することによって、最大の線速度を保つ、請求項１記載の方法
【請求項３】
各々の段において、減速させた一緒にした流体の流れ方向を、一回以上, 好ましくは3 - 5回90°変化させることによって、更なる混合を得る、請求項１記載の方法。
【請求項４】
下記：
ボディ;
座;
プラグを有するスピンドル;
入口室;
座の内部に設置されたプラグ
を含み、
座およびプラグは、同じ複数の円錐形の環を形成する複数の円錐形の表面を有し;
２つの環の間に２つの室を形成しおよび該２つの室の間に孔を開けた流れ接続を有するために、座を造形し;
そして
混合作業中に、スピンドルは、移動させることができるプラグを座内でスピンドル軸方向に移動させることができる
ことを特徴とする、請求項１、２または３記載の二種以上のガス状または液状流体を混合するための装置。
【請求項５】
多孔質媒体を入口室内に設置する、請求項４記載の装置。
【請求項６】
ガス流量と環の横断流れ面積との間の関係が、下記として表され： 
【数１】
2008142710.tif 000005
式中、
Fは、Nm3/秒で表す全ガス流量であり、
DseatおよびDplug は、環内の同じ位置mにおける、座の内直径およびプラグの直径であり、
Pは、ミキサー内のMPaで表す圧力でありそしてPref は、3.0 MPaであり,
T は、ミキサー内のKで表す温度でありそしてTref は、473.15 Kである。
R1 は、1×106〜1×108Nm3/秒/m2の範囲、好ましくは5×106〜2×107 Nm3/秒/m2の範囲であり、
そして
ガス流量と、室の間に孔を開けた接続を形成する横断流れ面積との間の関係が、下記として表される：
【数２】
2008142710.tif 000006
式中、
Fは、Nm3/秒で表す全ガス流量であり、
nは、孔の数であり、
Dholeは、mにおける、室の間の孔の直径であり、
Pは、ミキサー内のMPaで表す圧力でありそしてPref は、3.0 MPaであり,
T は、ミキサー内のKで表す温度でありそしてTref は、473.15 Kであり；および
R2 は、5×105〜1×107 Nm3/秒/m2の範囲、好ましくは1×106〜2×106 Nm3/秒/m2の範囲である、
請求項３〜５のいずれか一に記載の装置。
【請求項７】
スピンドルおよびプラグが、更に、内部液体流路および内部液体流路の出口端部に接続されたスプレーノズルを含む、請求項４〜６のいずれか一に記載の装置。
【請求項８】
- ボディ;
-ボディ内に同軸に設置されたチューブプラグに接続された可動スピンドル; ここで
-チューブプラグは、スピンドルに近接した端部が穿孔されおよび他端が開放しており; および
-供給流体は、穿孔を通ってチューブプラグに入り;
-チューブプラグを囲むノズルを有しおよび実質的にチューブプラグからの空隙がないケージ; ここで
-ケージの高さ - 垂直に設置される場合 - およびチューブプラグの非穿孔部分の高さは、実質的に同じであり;および
・  チューブプラグの非穿孔部分は、上部,中部または下部位置に位置させる時に、ノズルのゼロ, いくらかまたはすべてを遮断することができ; および
- ケージを囲む複数の環状混合機素; ここで
-混合機素は、互いに隔離され;
- ケージおよび混合機素は、端部が閉鎖され,チューブプラグ端部は、開放しており; および
- ケージノズルの全流れ面積は、ミキサーの他のいずれの流路の流れ面積に比べて相当に小さい
を含むことを特徴とする、請求項1, 2または3に記載の二種以上のガス状または液状供給流体を混合するための装置。
【請求項９】
多孔質媒体を穿孔の上流に設置しおよび多孔質媒体をチューブプラグ内に設置する、請求項８記載の装置。
【請求項１０】
供給流体が炭化水素流体, 水蒸気流体およびオキシダント流体である、請求項4, 5, 6, 7,および9のいずれか一に記載の装置。
【請求項１１】
混合流体が接触部分酸化プロセス用の供給流体を形成する、請求項１０記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、二種以上の流体流の完全混合に関する。
【０００２】
本発明は、とりわけ、流量の変動が起きる、二種以上の流動流体を混合するための方法および装置を指向するものである。
【０００３】
本発明は、炭化水素供給材料およびオキシダント供給材料を極めて完全に混合しなければならない、接触部分酸化反応装置において特に有用である。 これは、次の触媒床において最適な反応を得るために重要である。
【背景技術】
【０００４】
流動ミキサーは、当分野で知られており, また、接触部分酸化の前に、炭化水素とオキシダントとを混合するための流動ミキサーも、当分野で知られている。
【０００５】
このために、Schulzer Chemtechは、スタティクミキサーを開発した, これは、インターネット上で入手できるパンフレットに示されている。ミキサーは、内面上にまたはチューブ内に設置された軸上に翼を有するチューブを含みそして翼は、混合, 乱流パターンをひき起こす。
【０００６】
炭化水素をオキシダントと混合するミキサーが知られている（特許文献１）。ミキサーは、２つの同心円チューブを含み; 内側のチューブは、一端が閉鎖されそして小さい孔が備え付けられている。炭化水素は、チューブの間の環状空隙内を流れ, そしてオキシダントは、内側のチューブから孔を通って外に流れ出て、炭化水素と混合される。
【０００７】
天然ガスのような低級アルカンを自熱改質するためのプロセスが知られている（特許文献２）。均質にブレンドするために、ガス状アルカン, スチームおよび酸素含有ガスを均質にブレンドするために、スタティクミキサーが入口経路内に設置されている。 しかし, スタティクミキサーにおける混合の効率およびひき起こされる圧力降下は、スタティクミキサーを通って流れるガスの量によって変わることになる。
【０００８】
ハウジング内で、回転スピンドルによってガスを混合する別のミキサーが知られている（特許文献３）。軸の表面およびハウジングの内面の両方が、ねじ溝の形状である。 これは、ガスを、所定の最大および最小のサイズを有する流れ面積を有する流路内を推し進める。
【０００９】
入口室,エキスパンダおよび出口室を含み,エキスパンダ内にボディを挿入して、円錐形の, 環状流路を作る、ミキサー/拡散器が知られている（特許文献４）。
【００１０】
二種以上のガスまたは液体の完全な混合は、圧力降下を犠牲にさせることはけられない。従来技術の混合手段に共通なのは、流量が作業中に増大する場合に,ひき起こされる圧力降下は、相当に増大することである。そして流れが減少する場合には、混合品質も同様に低下する。
【特許文献１】US patent No. 5,026,946
【特許文献２】US patent No. 5,112,527
【特許文献３】JP 3213132
【特許文献４】US patent No. 6,092,921
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
従って、本発明の目的は、二種以上の流体を完全に, および変動する流量において同等に完全に, しかもミキサーを横切ってひき起こされる圧力降下および混合効率の変動無しに混合するための簡単な混合方法および装置を提供するにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記の目的に従って、本発明は、流体を入口室内で一緒にしそしてその後に、一つ以上の段で繰り返して加速させおよび減速させる、二種以上の流動流体を混合する方法に関する。加速させた一緒にした流体の最大の線速度の値は、各々の工程において、最も小さい流路の面積を調節することによって、供給流体の質量流量の範囲内に保つ。
【００１３】
本発明は、また、二種以上のガス状または液状流を混合するための装置も提供する。装置の一実施態様は、座を有するボディ; 座内に設置したプラグを有するスピンドルを含み,そして座およびプラグは、同じ複数の円錐形の環を形成する複数の円錐形の表面を有する。スピンドルは、混合作業中に、座内の軸をスピンドル方向に移動させることができる。スピンドルおよびプラグは、流路を含んでよい。
【００１４】
本発明の別の実施態様は、二種以上のガス状または液状供給流を混合するための装置を提供しならびにボディおよびボディ内に同軸に設置したチューブプラグに接続された可動スピンドルを含む。スピンドルの近くに、チューブプラグに穿孔し, そしてそれは、他端が開放している。供給流は、穿孔を通ってチューブプラグに入る。ノズルを有するケージがチューブプラグを囲み, 複数の環状混合機素がケージを囲み、そして混合機素は、互いに分離する。ケージおよび混合機素は、端部を閉鎖し,チューブプラグ端部は、開放する。
【００１５】
本発明は、流体の完全な混合を、流量の範囲について一定の圧力降下で確実にする。
【００１６】
ガスおよび/または液体の混合は、すべてのプロセスにおいて行われ, そしてそのような混合の下流に設置された装置の性能は、混合の効率による。
【００１７】
一例は、炭化水素, スチームおよびオキシダント, これらは、空気, 酸素または混合物, すなわち、濃厚空気にすることができるものからの、H2/CO含有合成ガス生産である。原料を混合し、その後に、接触酸化する。 更に, ガス混合物が触媒床に入る前に、酸素と炭化水素との間の反応を避けることが重要である。
【００１８】
触媒床において最適な反応を得るのに、ガス流を完全に混合した後に、触媒床に入れることが極めて重要である。
【００１９】
二種以上のガスまたは液体を混合することの効率的な方法は、丁度一緒に導いた流れを, 多数回および十分な高い最大速度で, 加速および減速させることであり、これは、触媒床の上流の反応を防ぐのに役立つ。加速させた流れを次の室で減速させる場合に、室の中で渦巻がひき起こされる。
【００２０】
この圧力降下は、石油化学プラントにおいて他の配管機素および反応装置内部品によってひき起こされる圧力降下に比べてむしろ高い。
【００２１】
大容量で過大な圧力降下を引き起こさないで, そしてプラントの小容量で混合効率を減少させないで、プラントのすべての容量で完全な混合を得ることが重要である。
【００２２】
本発明は、二種以上の流体を, 繰り返して加速および減速することにより、広い範囲の容量について一定の圧力降下で混合するための方法および装置を提供するにある。これは、ミキサーの加速部分における狭い流路の流れ面積を変えることによって得られる。このようにして、流体の速い線速度、ひき起こされる圧力降下および混合効率が、広い範囲の流量について一定に保たれる。
【００２３】
今、これが、座およびプラグを有するスピンドルを含み,座およびプラグの表面が環および室を形成し, それらを通って流体が流れるミキサーによって得られることを見出した。環は、円錐形であり, これは、スピンドルが上下に移動することを可能にし(垂直に設置する場合)、流れ面積を調節することになる。
【００２４】
座は、室の間に孔を含み, 孔は、室の間の孔を開けた流れ接続になる。これは、室内のガスを、強制的に流れ方向を、特定のデザインに応じて、多数回, 典型的には3 - 5回, 90°変化させる。
【００２５】
スピンドルおよびプラグは、孔を開けることができ, それで液体は、この通路内を流れそしてプラグ上に備えたスプレーノズルを通って外に流れるることができる。
【００２６】
代わりに,可動プラグは、スピンドル端の端部に孔を有しおよび他端が開放したチューブにすることができる。座の代わりに, チューブプラグをケージによって囲み、ケージを水平なガス混合機素によって囲む。機素は、互いに分離し,それによって、供給ガスは、機素およびケージの部分だけを通って流れ、チューブプラグによって遮断されない。
【００２７】
これは、最大線速度を保ちかつそれによって、また、所望の圧力降下および渦巻き形成も一定に保ち, このことは、変動する流量を有する流体を良好に混合するために重要である。
【００２８】
ミキサーは、所定の圧力降下で最良の混合を得, 次いで、所定の圧力降下を一定にたなければならないように設計する。
【００２９】
座とプラグとの間に環状流路を有するガス-ガスミキサーを設計する場合に、流量と環の流れ面積との間の関係は、下記として表される： 
【００３０】
【数１】
2008142710.tif 000003
【００３１】
式中、
Fは、Nm3/秒で表す全ガス流量であり、
DseatおよびDplug は、環内の同じ位置mにおける、座の内直径およびプラグの直径であり、
Pは、ミキサー内のMPaで表す圧力でありそしてPref は、3.0 MPaであり,
T は、ミキサー内のKで表す温度でありそしてTref は、473.15 Kである。
R1 は、1×106〜1×108Nm3/秒/m2の範囲、好ましくは5×106〜2×107 Nm3/秒/m2の範囲でなければならない。
【００３２】
一緒にした供給流量と、座における室の間の孔の横断面積との間の関係は、比R2によって表され、比R2は、下記として表すことができる：
【００３３】
【数２】
2008142710.tif 000004
【００３４】
式中、
Fは、Nm3/秒で表す全ガス流量であり、
nは、孔の数であり、
Dholeは、mにおける、室の間の１つの孔の直径であり、
Pは、ミキサー内のMPaで表す圧力でありそしてPref は、3.0 MPaであり,
T は、ミキサー内のKで表す温度でありそしてTref は、473.15 Kである。
【００３５】
R2 は、5×105〜1×107Nm3/秒/m2の範囲、好ましくは1×106〜2×106 Nm3/秒/m2の範囲でなければならない。
【００３６】
ミキサーは、二種以上の流体の完全な混合が要求されるどこにでも設置することができる。CPO反応装置では、反応装置の入口フランジ内にミキサーを設置するのが簡便である。ミキサーを更に図画によって説明する。
【００３７】
本発明の一実施態様を図1によって示す。 ミキサー1は、座2およびプラグ3を含み; 混合すべき流体は、矢印によって示す通りに２つの環状経路を通って入り、そこから、流体は、入口室に流れ、入口室は、場合により、多孔質媒体4を充填し, そこから、流体は、孔8を通って室9に流れる。混合流体は、出口5を通って出る。流れは、室9に入った後に、流体は、環6の第一を通って流れ、そこで、流れは、プラグ3と座2との間で加速される。流れは、環から高速で流れ出て室7の内の一つに入り, そこで、流れは、減速されおよび方向を、初めに垂直から水平に90°強制変更されて室に入り,そして、次いで、水平から垂直に強制変更されて孔8を通過して室9に入る。室9では、渦巻が形成されて更なる, 完全な混合を生じる。次いで、方向が垂直から水平に変更しおよび次いで、再び垂直に変更して次の環6の中に流れる。それによって, 室7および9において、乱流および適切な混合がひき起こされる。
【００３８】
ミキサーの一実施態様の設置を図2に示す。接触部分酸化,CPO,反応装置の上部入口10にミキサーを設置し、反応装置にボディ11を接続する。ボディ11に、案内12を挿入し、およびプラグ3のスピンドル17は、ボディ11および案内12を通り抜けそしてアクチュエーター13によって上下に移動させることができ、それによって座2とプラグ3との間の流れ面積を変更する。スピンドル17と案内12との間に、内チューブ14を設置する。
【００３９】
オキシダント/スチーム供給材料は、オキシダント入口15を通ってミキサーに入りそしてスピンドル17と内チューブ14との間を流れ, 他方、炭化水素/スチーム供給材料は、炭化水素入口16を通って入りそして内チューブ14と案内12との間を流れる。これらのガスは、ミキサーの加速/減速部分で一緒になって流れ, これの下流で、混合されたガスが出口5を通ってミキサーを出てそしてCPO 反応装置に入る。
【００４０】
作業中のミキサーの動作を図3に示す。CPO反応装置20内に、触媒床21を設置する。混合されたガスは、火炎防止器22を通って触媒床21のCPO反応装置入口内の空隙に流れる。
【００４１】
オキシダント入口パイプに圧力ゲージ23を設置しおよびミキサーの出口に別の圧力ゲージ24を設置する。圧力測定計器25によって, 23および24からの信号を受け、圧力測定計器25は、ミキサーを横切る圧力降下を計算しそしてこの信号を制御装置26に送る。制御装置26は、信号をアクチュエーター13に送ることにより,アクチュエーターがスピンドルを上または下に移動させて環の流れ面積を調節するので、圧力降下を一定に保つ。これは、広い範囲の運転容量で、一定の圧力差および最適な混合を確実にする。
【００４２】
図4に、ミキサーの別の実施態様を示す。これでは,ミキサー1は、ボディ11およびスピンドル17を含み, スピンドル17は, チューブプラグ33に接続される。スピンドル17の近くで、チューブプラグ33 に孔39を備え、チューブプラグ33の他端を開放する。場合により, 孔39の上流でかつチューブプラグ33の内部に、多孔質材料4を設置する。チューブプラグ33を、ケージ34, すなわちノズルを有するチューブによって同軸に囲む。チューブプラグとケージとの間の空隙は、チューブプラグがケージ内を滑動することができる丁度の広さである。ノズルは、螺旋状のパターンのようなあらかじめ決めたパターンで配置することができる。ケージ34の周りに, 水平な, 環状の金網混合機素35を置き,それによって互いと水平に分離する。機素35を、穿孔チューブ36によって囲む。
【００４３】
ケージおよび混合機素は、下部端部を閉鎖し、下部端部では、チューブプラグは、開放している。ケージ34の高さ - 垂直に設置した場合 - およびチューブプラグ33の非穿孔部分の高さは、実質的に同じである。それによって, チューブプラグ33の非穿孔部分は、上部,中部または下部位置に位置させる時に, それぞれ、ノズルのゼロ, いくらかまたはすべてを遮断することができる。
【００４４】
更に,ケージノズルの全面積は、ミキサーの他のいずれの流路の流れ面積に比べて相当に小さい。
【００４５】
オキシダント/スチーム入口流は、入口環32からミキサーに入りおよび炭化水素/スチーム入口流は、周囲の入口環31から入る。 両方の流れは、多孔質材料4の中に流れ, そこから、流れは、入口孔39を通ってチューブプラグ33に入る。ガス流体が混合された後に、混合されたガスは、穿孔チューブ36から出口経路37の中に流れそして出口孔38を通ってミキサー1を出る。
【００４６】
環状ガス流路を有するミキサーの更なる使用および実施態様を図5に示す。この実施態様では、スピンドルおよびプラグ3に流れ経路41の孔を開け、 それによって、液体は、この内部液体流路内を流れることができる。液体流路の出口において、スプレーノズル42をプラグ3に接続し、それで、液体のスプレーを、高い速度で混合ガスの中に導入する。 経路内の液体の例は、液状炭化水素である。
【００４７】
本発明は、二種以上の流動流体を混合するため、特に、流量に相当の変動が生じそして適切な混合が重要である流れについて有用である。
【００４８】
完全な混合が要求される例は、上述したCPOプロセスである。H2/CO合成ガスが、多数のプロセス, それらのいくつかの例は、水素製造, メタノール製造, ホルムアルデヒド製造である、用の供給ガスであるので、このプロセスは、世界中で重要なプロセスである。
【実施例】
【００４９】
本発明の一実施態様を下記に説明する。本発明に従うミキサーは、スピンドルを垂直位置で設置することになるのがしばしばであり, それを下記に採用する。
【００５０】
下記に説明する実施態様は、商業用のCPO反応装置のデザインを立証するための、パイロットプラント用に適したサイズのミキサーである。本発明は、小さいサイズの反応装置およびミキサーにいささかも限定されない。
【００５１】
ミキサーは、高さが40 - 80 mm、好ましくは55 - 65 mmでありおよび外直径が40 - 80 mm、好ましくは55 - 65 mmである。
【００５２】
スピンドルは、長さが 100 - 400 mm、好ましくは200 - 300 mmであり, プラグは、高さが40 - 80 mm、好ましくは55 - 65 mm でありおよび座と一緒になって、環状空隙1 - 5個、好ましくは 2 - 4個を形成する。
【００５３】
環の空隙は、0.25 - 1 mm、好ましくは0.6 - 0.7 mmである。３つの環を有するミキサーにおいて、座の３つ円錐形の部分は、それぞれ最小/最大直径9.3 - 12.3 mm, 12.3 - 14.0 mmおよび14.0 - 18.3 mmを有する
円錐形の表面は、スピンドルの軸と10° - 30°、好ましくは17.4° - 17.6°の角をなす。
【００５４】
環の間の室は、外直径30 - 55 mm、好ましくは35 - 45 mm, および高さ3 - 7 mm、好ましくは4 - 6 mmを有し、および開けた孔接続を形成する孔は、高さ2 - 6 mm、好ましくは3 - 5 mmであり、直径3 - 8 mm、好ましくは5 - 7 mmを有する。
【００５５】
作業中に、スピンドルは、上または下に5 - 10 mm、好ましくは6 - 8 mm移動することができる。
【００５６】
混合すべきガス用の入口は、各々、直径3 - 8 mm、好ましくは5 - 7 mmを有する孔を2 - 9個、好ましくは 3 - 5個含み; および混合ガス用の出口は、各々、直径3 - 8 mm、好ましくは5 - 7 mmを有する孔を2 - 9個、好ましくは5 - 7個含む。
【００５７】
この実施態様は、炭化水素とオキシダントとを混合するために適しており,一緒にしたガス状流は、20 - 650°C、好ましくは190 - 210°Cで、流れ170 - 190 Nm3/h、好ましくは175 - 185 Nm3/hを形成し、分子量2 - 50グラム/モル、好ましくは21 - 23グラム/モルを有し、そして混合は、0.5 - 4.5 Mpa、好ましくは2.9 - 3.1 Mpaで行う。
【００５８】
本発明の別の実施態様は、工業用のサイズのミキサーである。
【００５９】
このミキサーは、高さ400 - 800 mm、好ましくは550 - 650 mmでありおよび外直径は、400 - 800 mm、好ましくは550 - 650 mmである。
【００６０】
スピンドルは、長さが 100 - 700 mm、好ましくは200 - 500 mmであり, プラグは、高さが400 - 800 mm、好ましくは550 - 650 mm でありおよび座と一緒になって、環状空隙1 - 6個、好ましくは 2 - 4個を形成する。
【００６１】
環の空隙は、2.5 - 10 mm、好ましくは5.5 - 7.5 mmである。座の円錐形の部分は、中部直径 50 - 200 mm、好ましくは 95 - 180 mmを有する。
【００６２】
円錐形の表面は、スピンドルの軸と10° - 45°、好ましくは17.4° - 17.6°の角をなす。
【００６３】
環の間の室は、外直径300 - 550 mm、好ましくは350 - 450 mm, および高さ30 - 70 mm、好ましくは40 - 60 mmを有し、および孔は、高さ20 - 60 mm、好ましくは30 - 50 mmであり、直径30 - 80 mm、好ましくは50 - 70 mmを有する。
【００６４】
作業中に、スピンドルは、上または下に10 - 100 mm、好ましくは60 - 80 mm移動することができる。
【００６５】
混合すべきガス用の入口は、各々、直径30 - 90mm、好ましくは50 - 70mmを有する孔を2 - 9個、好ましくは 3 - 5個含み; および混合ガス用の出口は、各々、直径30 - 90mm、好ましくは50 - 70 mmを有する孔を2 - 9個、好ましくは3 - 5個含む。
【００６６】
この実施態様は、炭化水素とオキシダントとを混合するために適しており,一緒にしたガス状流は、20 - 650°C、好ましくは190 - 210°Cで、流れ17000 - 19000 Nm3/h、好ましくは17500 - 18500 Nm3/hを形成し、分子量2 - 50グラム/モル、好ましくは21 - 23グラム/モルを有し、そして混合は、0.5 - 4.5 Mpa、好ましくは2.9 - 3.1 Mpaで行う。
【００６７】
ケージミキサーの一実施態様は、ボディが外直径60 - 65 mm、好ましくは 61 - 63 mmを有し、および混合機素を3 - 8個、好ましくは 4 - 6個設置し、各々は、高さ5 - 15 mm、好ましくは8 - 12 mm, 外直径30 - 40 mm、好ましくは 35 - 37 mm および内直径18 - 22 mm、好ましくは19 - 21 mmを有するミキサーである。機素の内部のケージは、これより、直径18 - 22 mm、好ましくは19 - 21 mmを有しおよび各々の機素に、サイズ1 - 5 mm、好ましくは1 - 3 mmを有するノズルを3 - 10個、好ましくは4 - 8個備え付ける。ノズルを螺旋状のパターンで配置する。スピンドルの近くで、チューブプラグは、孔を有する多数の列を有し, 各々の列は、孔直径3 - 7 mm、好ましくは4 - 6 mmを有する孔4 - 10個、好ましくは6 - 8個を四角なピッチで有する。
【００６８】
チューブプラグの非穿孔部分は、長さ/高さ35 - 75 mm、好ましくは38 - 60 mmを有する。
【００６９】
この実施態様は、0.5 - 4.5 Mpa、好ましくは2.9 - 3.1 MPaおよび20 - 650°C、好ましくは190 - 210°Cにおいて、 分子量2 - 50グラム/モル、好ましくは21 - 23グラム/モルを有する全ガス流れ170 - 190 Nm3/h、好ましくは175 - 185 Nm3/hについて有用である。
【産業上の利用可能性】
【００７０】
本発明は、炭化水素供給材料およびオキシダント供給材料を極めて完全に混合しなければならない、接触部分酸化反応装置において特に有用である。 これは、次の触媒床において最適な反応を得るために重要である。
【図面の簡単な説明】
【００７１】
【図１】本発明の混合手段の一実施態様の断面を示す。
【図２】反応装置の入口に設置した本発明の混合手段の断面を示す。
【図３】供給ガスを、本発明に従って混合しおよび制御する反応装置の略図を示す。
【図４】本発明の混合手段の別の実施態様の断面を示す。
【図５】本発明の混合手段のなお別の実施態様の断面を示す。
【符号の説明】
【００７２】
１    ミキサー
２    座
３    プラグ
４    多孔質媒体
５    出口
６    環  
７、９  室  
８    孔
１０  上部入口
１１  ボディ  
１２  案内  
１３  アクチュエーター
１４  内チューブ
１５  オキシダント入口
１６  炭化水素入
１７  スピンドル  
２０  CPO反応装置  
２１  触媒床
２２  火炎防止装置
２３，２４  圧力ゲージ
２５  圧力測定計器
２６  制御装置
３１  入口環  
３３  チューブプラグ
３５  機素
３６  穿孔チューブ
３７  出口経路
３８  出口孔  
３９  孔
４２  スプレーノズル
【図１】
2008142710.tif 000007
【図２】
2008142710.tif 000008
【図３】
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【図４】
2008142710.tif 000010
【図５】
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