(57)【要約】【課題】精度良く且つ効率的にマルチプローブを描画対象物の表面に平行に配置することができるナノライティング装置における傾き補正装置を提供すること。【解決手段】固定部（６１）、弾性部（６２）、可動部（６３）、駆動部（６４）及び支点部（６５）を有する変位生成部（６）と、レーザ光をマルチプローブの両端に位置するカンチレバーの背面に入射させ、反射されるレーザ光を検出するレーザ照射部とを備え、固定部（６１）がナノライティング装置のＺ軸方向粗動部に固定され、レーザ照射部が可動部（６３）に固定され、マルチプローブがレーザ照射部に固定され、弾性部（６２）の各々が、独立して変位量に応じた復元力を固定部（６１）と可動部（６３）とに加え、駆動部（６４）が、可動部（６３）に力を加え、支点部（６５）の回りに可動部（６３）を所定角度回転させて、マルチプローブの傾きを変化させる。【選択図】図２
2008070168.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のカンチレバーを有するマルチプローブと所定軸方向の粗動部とを装備するナノライティング装置において前記マルチプローブの傾きを調節する傾き補正装置であって、
固定部、可動部、駆動部、前記固定部及び前記可動部を接続する複数の弾性部、並びに、前記固定部及び前記可動部を接続する支点部を有する変位生成部と、
少なくとも一対のレーザ光源、少なくとも一対のレーザ光を検出する検出部、並びに、少なくとも一対の前記レーザ光源から出力されるレーザ光の各々を、前記マルチプローブを構成する複数の前記カンチレバーのうちの、相互に所定距離以上離れて位置する少なくとも２つのカンチレバーの背面に入射させ、前記カンチレバーの背面から反射される前記レーザ光の各々を対応する前記検出部に入射させるレーザ光路変更機構を有するレーザ照射部とを備え、
前記固定部が前記粗動部に固定され、
前記レーザ照射部が前記可動部に固定され、
前記マルチプローブが前記レーザ照射部に固定され、
前記支点部の両側に前記弾性部及び前記駆動部が配置され、
前記弾性部の各々が、独立して変位量に応じた復元力を前記固定部と前記可動部とに加え、
前記駆動部が、前記可動部に力を加え、前記支点部の回りに前記可動部を所定角度回転させることによって、前記マルチプローブの傾きを変化させることを特徴とするナノライティング装置における傾き補正装置。
【請求項２】
前記支点部が、Ｔ字型の第１スリットと、前記第１スリットの縦棒部の両側に配置され、前記縦棒部に平行な垂直部及び前記垂直部に垂直な水平部を有する第２及び第３スリットとを備え、
前記第１〜第３スリットが、同じ方向に延伸していることを特徴とする請求項１に記載のナノライティング装置における傾き補正装置。
【請求項３】
前記変位生成部が、１つの直方体の金属部材をワイヤーカット加工することによって一体に形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載のナノライティング装置における傾き補正装置。
【請求項４】
前記レーザ照射部が、
２つの前記レーザ光源から入射する２つのレーザ光の各々を、同じ方向に平行に出力し、相互に所定距離以上離れて位置する２つの前記カンチレバーの背面の各々に照射する第１光路変更部及び第２光路変更部と、
前記カンチレバーの背面で反射された２本のレーザ光を同じ方向に平行に出力する第３光路変更部と、
前記第３光路変更部から出力された２本のレーザ光を各々の検出部に入力する第４光路変更部及び第５光路変更部とを備えることを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載のナノライティング装置における傾き補正装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ナノライティング装置において、マルチプローブを用いて描画を行う前に、マルチプローブを描画対象物の表面に平行に配置するための傾き補正装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
マイクロテクノロジ、ナノテクノロジの発達により、マイクロメートル又はナノメートルオーダーの寸法の材料を利用したマイクロマシン、ナノマシンの実現が期待されている。そのための技術として、走査型プローブ顕微鏡に関する技術を適用し、カンチレバー型のプローブを用いた描画技術（表面の加工技術）が開発されている。複数のカンチレバーで構成されるマルチプローブを用いた描画技術においては、描画対象物の表面とマルチプローブの複数の先端部との距離を精度良く制御することが重要である。
【０００３】
例えば、下記特許文献１には走査プローブ顕微鏡を用いた微細加工技術において用いられる描画装置が開示されている。描画対象物である基板及び探針（プローブ）間の距離を精度良く制御するために、特許文献１には、カンチレバー列の両端のカンチレバーの位置を、ピエゾ素子で調節し、カンチレバー列全体を基板から所定距離に配置する手段が開示されている。
【０００４】
また、下記特許文献２〜４には、プローブの走査面と記録媒体表面との傾きを補正する機構を有する、走査型顕微鏡を利用した情報処理装置が開示されている。例えば、特許文献２の図１４〜１６には、平面的に配置された複数のプローブ電極を描画対象物に平行に位置調整するチルト機構が開示され、プローブ電極の取り付けには、プローブ電極アタッチメント６２を固定する板ばね７１、積層型圧電素子７２、７３、７４、剛球７５が利用され、３点で平面の位置を調節し、板ばね７１と剛球７５とでプローブ電極アタッチメント６２を固定することが開示されている。また、特許文献４の図１３〜図１６には、３箇所の電極を用いて、記録媒体基板に対するマルチプローブヘッド基板の傾きを調節する機構が開示されている。
【特許文献１】特許第３６４３４８０号明細書
【特許文献２】特開平５−２８５４５号公報
【特許文献３】特開平６−７６３７３号公報
【特許文献４】特開平７−１１０９６９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記したように、マルチプローブを用いた描画、特にナノメートルオーダーの加工を行うナノライティング装置による描画においては、描画対象物とマルチプローブの複数の先端部との距離を精度良く制御することが重要であり、そのためにマルチプローブの先端部を描画対象物の表面に平行に配置することが必要である。上記特許文献１〜４には、マルチプローブを描画対象物の表面に平行に配置する方法が開示されている。しかし、特許文献１〜４の何れにも、そのための機構、即ちマルチプローブの傾き調節機構に関しては具体的に開示されていない。
【０００６】
例えば、特許文献１（図２、７など）には、複数のカンチレバー列の両端のカンチレバーの位置をピエゾ素子を用いて調節すること、及び、カンチレバーの変位を光てこで検出することが開示されているが、マルチプローブの傾斜を精度良く、効率的に補正するための具体的な機構は開示されていない。特許文献２においては図１５、１６に開示されている程度であり、特許文献４においても図１３に開示されている程度である。このように、特許文献１〜４には、マルチプローブの傾斜を精度良く、効率的に調節するための具体的な機構が開示されていない。
【０００７】
本発明の目的は、上記の課題を解決すべく、ナノライティング装置において、マルチプローブを用いて描画を行う前に、精度良く且つ効率的にマルチプローブを描画対象物の表面に平行に配置することができるナノライティング装置における傾き補正装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の目的は、以下の手段によって達成される。
【０００９】
即ち、本発明に係るナノライティング装置における傾き補正装置は、複数のカンチレバーを有するマルチプローブと所定軸方向の粗動部とを装備するナノライティング装置において前記マルチプローブの傾きを調節する傾き補正装置であって、
固定部、可動部、駆動部、前記固定部及び前記可動部を接続する複数の弾性部、並びに、前記固定部及び前記可動部を接続する支点部を有する変位生成部と、
少なくとも一対のレーザ光源、少なくとも一対のレーザ光を検出する検出部、並びに、少なくとも一対の前記レーザ光源から出力されるレーザ光を、前記マルチプローブを構成する複数の前記カンチレバーのうちの、相互に所定距離以上離れて位置する少なくとも２つのカンチレバーの背面に入射させ前記カンチレバーの背面から反射される前記レーザ光の各々を対応する前記検出部に入射させるレーザ光路変更機構を有するレーザ照射部とを備え、
前記固定部が前記粗動部に固定され、
前記レーザ照射部が前記可動部に固定され、
前記マルチプローブが前記レーザ照射部に固定され、
前記支点部の両側に前記弾性部及び前記駆動部が配置され、
前記弾性部の各々が、独立して変位量に応じた復元力を前記固定部と前記可動部とに加え、
前記駆動部が、前記可動部に力を加え、前記支点部の回りに前記可動部を所定角度回転させることによって、前記マルチプローブの傾きを変化させることを特徴としている。
【００１０】
前記支点部は、Ｔ字型の第１スリットと、前記第１スリットの縦棒部の両側に配置され、前記縦棒部に平行な垂直部及び前記垂直部に垂直な水平部を有する第２及び第３スリットとを備え、前記第１〜第３スリットは、同じ方向に延伸していることができる。
【００１１】
前記変位生成部は、１つの直方体の金属部材をワイヤーカット加工することによって一体に形成されていることができる。
【００１２】
前記レーザ照射部は、２つの前記レーザ光源から入射する２つのレーザ光の各々を、同じ方向に平行に出力し、相互に所定距離以上離れて位置する２つの前記カンチレバーの背面の各々に照射する第１光路変更部及び第２光路変更部と、前記カンチレバーの背面で反射された２本のレーザ光を同じ方向に平行に出力する第３光路変更部と、前記第３光路変更部から出力された２本のレーザ光を各々の検出部に入力する第４光路変更部及び第５光路変更部とを備えていることができる。
【発明の効果】
【００１３】
本発明のナノライティング装置における傾き補正装置によれば、一列の描画用プローブ（マルチプローブ）の両端の２つのプローブ（カンチレバー）の先端部を、描画対象の試料面からほぼ等距離に調節することができ、マルチプローブ全体を描画対象物の表面にほぼ平行に配置することができる。
【００１４】
本発明の傾き補正装置は、マルチプローブとレーザ照射部とを一体として変位させることができるので、変位させた後にレーザ光の光路を再度調節する必要が無い。従って、効率的にマルチプローブの傾き補正を行うことができる。
【００１５】
また、本発明の傾き補正装置の変位生成部には、所定の一方向に延伸する複数のスリットを形成して直線状の支点部としているので、支点部の回りにのみ可動部を回転させることができ、可動部が固定部に対して捻れて変位するのを抑制することができるので、精度良く可動部を変位させることができ、従ってマルチプローブを精度良く変位させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明に係る実施の形態を、添付した図面に基づいて説明する。図１は、本発明の実施の形態に係る傾き補正装置を備えたナノライティング装置全体の概略構成を示す斜視図であり、図２及び図３は、本発明の実施の形態に係る傾き補正装置の構成を示す斜視図である。各図に示されている直交軸（ＸＹＺ）は同じ直交軸を表す（図４以降についても同じ）。
【００１７】
図１に示したように、ナノライティング装置は、ベース１と、ベース１に固定された支持部２と、ベース１上に設置され、搭載された物をＸ軸及びＹ軸方向に粗く変位させるＸＹ粗動部３と、ＸＹ粗動部３の上に設置され、搭載された物をＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸方向に微小変位させるＸＹＺ微動部４と、支持部２に固定され、取り付けられた物をＺ軸方向に粗く変位させるＺ粗動部５と、傾き補正装置８とを備えている。本傾き補正装置８は、変位生成部６とレーザ照射部７とから構成されており、変位生成部６及びレーザ照射部７が相互に固定され、変位生成部６がＺ粗動部５に固定されている。従って、傾き補正装置８は、Ｚ粗動部５によって、Ｚ軸方向に粗く変位される。図１では、マルチプローブを用いた表面加工（以下、描画と記す）の対象物である平板状の試料ＳがＸＹＺ微動部４に搭載されている状態を示している。
【００１８】
なお、ＸＹ粗動部３、ＸＹＺ微動部４及びＺ粗動部５には、それぞれの変位量を制御するための制御部（図示せず）を備えており、ＸＹ粗動部３及びＸＹＺ微動部４は、制御部による制御を受けて試料の位置を、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸方向に所定量変位させ、Ｚ粗動部５は、傾き補正装置８をＺ軸方向に変位させる。ナノライティング装置を用いた描画方法、即ち、プローブの位置を制御しながら適宜プローブに電圧を印加し、試料表面を微細に加工する方法は、周知であるので説明を省略する。本発明の傾き補正装置８は、ナノライティング装置による描画の前に、マルチプローブの傾きを補正し、各プローブが均等な力で試料表面に当接されるようにする。これによって、ナノライティング装置による高精度の描画が可能となる。
【００１９】
以下に、傾き補正装置８の構成及び調整方法に関して具体的に説明する。図２は変位生成部６を斜め上方から見た場合の斜視図であり、図３は変位生成部６を側面から見た場合の斜視図である。
【００２０】
変位生成部６は、固定部６１と、４つの弾性部６２と、可動部６３と、駆動部６４とから構成されている。図４は、弾性部６２の形状を示す図であり、左側の図は斜視図であり、右側の図はＸＺ面の断面図である。弾性部６２は、図４に示したように平板が等間隔に折り畳まれた形状をしている。弾性部６２は、対向する固定部６１及び可動部６３の間に配置され、弾性を有して両者を接続し、固定部６１及び可動部６３の間隔の変位量に応じた復元力を発生する。
【００２１】
駆動部６４は、固定部６１に固定されており、可動部６３に力を加えて固定部６１と可動部６３との間隔が大きくなるように変位させる。駆動部６４には、例えば、ピコモータなどの公知のアクチュエータを使用することができる。図１〜３では、駆動部６４を制御するための手段（コントローラ、電源、電気配線など）は省略している。また、図１では、Ｚ粗動部５の上面に貫通孔を形成し、貫通孔を介してＺ粗動部５の上に駆動部６４が突出している状態を示している。
【００２２】
また、固定部６１及び可動部６３は、中央に形成された貫通孔Ｈを挟んだ２つの直線状の支点部６５によっても接続されている。貫通孔Ｈは、後述するレーザ照射部７の内部に配置されたマルチプローブを観測するために利用される。
【００２３】
図５は、支点部６５を示す正面図である。支点部６５は、その長手方向（Ｙ軸方向）に垂直な断面形状（ＸＺ面に平行な断面）が、全体として左右対称なパターンを形成する複数のスリットを有している。即ち、支点部６５は、１つのＴ字型の第１スリットＳＬ１と、第１スリットＳＬ１の縦棒部ＳＬ１ａの両側に、第２スリットＳＬ２及び第３スリットＳＬ３を有している。第２及び第３スリットＳＬ２、ＳＬ３の各々は、第１スリットＳＬ１の縦棒部ＳＬ１ａに平行な部分ＳＬ２ａ、ＳＬ３ａ（以下、垂直部と記す）を有し、第１スリットＳＬ１の縦棒部ＳＬ１ａの下端近傍で、所定の角度で傾斜し（第２及び第３スリットＳＬ２、ＳＬ３のこの部分を傾斜部ＳＬ２ｂ、ＳＬ３ｂと記す）、その後、垂直部ＳＬ２ａ、ＳＬ３ａに垂直な方向に延伸している（第２及び第３スリットＳＬ２、ＳＬ３のこの部分を水平部ＳＬ２ｃ、ＳＬ３ｃと記す）。各スリットＳＬ１〜ＳＬ３の幅は、例えば０．５ｍｍである。また、垂直部ＳＬ２ａ、ＳＬ３ａと傾斜部ＳＬ２ｂ、ＳＬ３ｂとの成す角度αは約１４５度である。
【００２４】
このように、固定部６１及び可動部６３は、４つの弾性部６２及び支点部６５（具体的には、第１スリットＳＬ１の縦棒部ＳＬ１ａと、第２及び第３スリットＳＬ２、ＳＬ３の垂直部ＳＬ２ａ、ＳＬ３ａとの間の部材）を介して接続されている。そして、変位生成部６は、支点部６５の第１〜第３スリットＳＬ１〜ＳＬ３によって形成される支点（実際には図５において楕円形の破線ＳＰで示す領域）の周りに可動部６３を微小角度だけ回転させることができる。このとき、支点ＳＰは、第１〜第３スリットＳＬ１〜ＳＬ３の延伸方向（Ｙ軸方向）に沿って３次元的に形成されているので、変位は第１〜第３スリットＳＬ１〜ＳＬ３の延伸方向（Ｙ軸方向）に垂直な面内で生じ、Ｚ軸回りの回転、即ち、固定部６１と可動部６３とが捻れて変位することを抑制することができる。従って、図２及び図３では、駆動部６４を対称な位置に設けているが、非対称な位置に配置してもよい。
【００２５】
図２〜５に示した変位生成部６の製造方法の一例を示せば、先ず、直方体の一体の金属材料（例えば、Ａｌ７０７５／Ｔ６などのアルミ）を、四方向の側面からエンドミル加工を行い、上下面、中央部及び四隅を残すように切削し、上下面が中央部及び四隅で接続された形状にする。次に、上下面にほぼ垂直に、中央部に所定の大きさの貫通孔Ｈを形成する。その後、中央部の残部に対して、貫通孔Ｈを横断するようにワイヤーカット加工を行って第１〜第３スリットＳＬ１〜ＳＬ３を形成し、四隅の残部に対してワイヤーカット加工を行って弾性部６２を形成する。これによって、変位生成部６は、固定部６１、弾性部６２及び可動部６３が一体に形成することができる。
【００２６】
次に、レーザ照射部７に関して説明する。図６は、レーザ照射部７内部の概略構成の一例を示す斜視図である。図６に示したように、レーザ照射部７は、筐体（図示せず）内に、２つのレーザ光源７１、７１’と、第１及び第２光路変更部７２、７２’と、１つの第３光路変更部７３と、第４及び第５光路変更部７４、７４’と、２つの検出部７５、７５’とを備えて構成されている。ここで、第３光路変更部７３に鏡を用い、それ以外の光路変更部７２、７２’、７４、７４’に三角プリズムを用いている。検出部７５、７５’には、例えばＣＣＤセンサーを用いる。また、一対の各構成部はほぼ面対称な位置に配置されており、図６の例では、対称面がＹＺ面である。図７に、レーザ照射部７内部の一対の構成要素の一方の配置を、図６のＸ軸方向から見た図として示している。図７には、レーザ照射部７の筐体７０の断面図も示している。
【００２７】
マルチプローブＭは、筐体７０の下部面に形成された穴からカンチレバーの一部、少なくとも先端部が突出し、筐体７０の下部面に所定の角度で傾斜するように、所定の機構（図示せず）によって取り付けられている。また、マルチプローブＭは、カンチレバー列の方向が、対称面（ＹＺ面）にほぼ垂直になるように取り付けられている。レーザ照射部７内部には、第１〜第５光路変更部７２〜７４の各々を独立して保持し、レーザ照射部７の筐体７０に対して位置変更可能に固定する機構（図示せず）を備えている。
【００２８】
第１〜第５光路変更部７２〜７４の位置を調節することによって、図６、７に示したように、２つの光源７１、７１’から出力されるレーザ光Ｌの各々は、面対称な光路（一方のレーザ光の進行方向を矢印で示す）を通り、一列にカンチレバーが並んだマルチプローブＭの両端にある２つのカンチレバー先端部の背面に照射され、カンチレバーの背面で反射され（図８参照）、面対称な光路を通り、２つの検出部７５、７５’に入射する。
【００２９】
次に、傾き補正部８によるマルチプローブＭの傾きを調節する方法について説明する。上記したように、マルチプローブＭが取り付けられたレーザ照射部７が変位生成部６に取り付けられ、変位生成部６がナノライティング装置のＺ粗動部５に取り付けられており、ＸＹＺ微動部４には試料Ｓが搭載されているとする。また、この状態では、２つの駆動部６４は駆動されていない。
【００３０】
まず、２つのレーザ光源７１、７１’からレーザ光Ｌを出力し、上記したように第１及び第２光路変更部７２、７２’を介して、レーザ光ＬをマルチプローブＭに導く。そして、２本のレーザ光Ｌの各々が、両端の２つのカンチレバーの先端部に照射され、反射されたレーザ光Ｌが検出部７５、７５’に入射するように、第３〜第５光路変更部７３、７４、７４’の調節機構を調節する。
【００３１】
次に、Ｚ粗動部５によって、マルチプローブＭの両端のカンチレバーの少なくとも一方の先端が試料Ｓの表面に当接するまで傾き補正部８を降下させる。当接したか否かは、検出部７５、７５’によって検知することができる。即ち、マルチプローブＭの両端のカンチレバーの先端が試料Ｓに当接すると、カンチレバーの形状が変化するので、カンチレバーの背面で反射されるレーザ光Ｌの方向が変化し、この変化を検出部７５、７５’で検知することができる。
【００３２】
検出部７５、７５’で何れか一方のカンチプローブが試料Ｓに当接したことが検知され、他方のカンチレバーが当接していない場合、マルチプローブＭが試料Ｓの表面に対して傾斜していることになる。図９は、マルチプローブＭが試料Ｓの表面に対して傾斜しており、右側のカンチレバーの先端のみが試料Ｓの表面に当接した状態を示す。図９では、傾き補正部８の一部のみ示しており、レーザ照射部７は省略している。
【００３３】
この場合、Ｚ粗動部５によって傾き補正装置８を一旦上昇させて当接を解除し、可動部６３の、当接を検知しなかったカンチレバーの側（図９では左側）が下がるように、駆動部６４を制御する。即ち、当接を検知しなかったカンチレバーの側（図９では左側）に配置された駆動部６４によって可動部６３に力を加える。これによって可動部６３の下部面の傾斜が変化し、レーザ照射部７全体も変位し、マルチプローブＭの傾斜が改善される。このとき、マルチプローブＭとレーザ照射部７とは相対位置が変化しないので、第１〜第５光路変更部７２〜７４の調節機構を調節しなくとも、レーザ光Ｌが所定のカンチレバーの背面に照射された状態が維持される。
【００３４】
その後、再び、Ｚ粗動部５によって傾き補正装置８を降下させ、上記と同様にカンチレバーの先端と試料Ｓの表面との当接を検出し、一方の当接を検知した場合、一旦傾き補正装置８を上昇させ、マルチプローブＭの傾斜が改善するように、駆動部６４を制御して可動部６３の下部面を傾斜させる。
【００３５】
これらの処理を繰り返すことによって、マルチプローブＭの両端のカンチレバーがほぼ同時に試料Ｓの表面に当接するように、即ち、マルチプローブＭが試料Ｓの表面にほぼ平行になるように調節することができる。図１０に、マルチプローブＭが試料Ｓの表面に平行になるように調節された状態を示す。図１０では、図９と比較すると、可動部６３が支点部６５の回りに矢印で示した方向に微小回転されたことが分かる。調節が終わった後、マルチプローブＭを用いて、試料Ｓの表面を描画することができる。
【００３６】
上記では、一列にカンチレバーが配列されたマルチプローブの場合を説明したが、これに限定されず、本発明は、２次元平面に複数のカンチレバーが配列されたマルチプローブに適用することもできる。その場合、３つの駆動部を変位生成部に備え、同じ直線上に位置しない少なくとも３つのカンチレバーを対象に３本のレーザ光を照射する３つのレーザ光源と、３つのカンチレバーからの反射レーザ光を検出する３つの検出部とをレーザ照射部に備えるように、傾き補正装置を構成すればよい。そして、ナノライティング装置に傾き補正装置を搭載し、上記と同様にＺ粗動部の上下動及び駆動部の制御を繰り返すことによって、２次元平面にカンチレバーが配列されたマルチプローブを、試料の表面に平行に配置することができる。
【００３７】
また、マルチプローブの両端のカンチレバーを検出対象とする場合を説明したが、これに限定されず、マルチプローブの傾斜を検出可能な、相互に所定距離以上離れて位置する２つのカンチレバーを検出対象にすればよい。
【００３８】
また、レーザ照射部の第１〜第５光路変更部に、三角プリズム及び鏡を組み合わせて使用する場合を説明したが、これに限定されず、入射するレーザ光を殆ど散乱や減衰させることなく、レーザ光の入射方向と異なる所定の方向に、レーザ光を反射することができる手段であればよい。例えば、第１〜第５光路変更部の全てに鏡を用いてもよく、全てにプリズムを用いてもよい。
【００３９】
また、図６、図７に示したレーザ照射部おいて、第１〜第５光路変更部の配置を維持したまま、レーザ光源と検出部の配置を入れ替えてもよい。
【００４０】
また、変位生成部の支点部のスリット形状は図５に示した形状に限定されず、Ｔ字型の第１スリットＳＬ１を有さず、第２及び第３スリットＳＬ２、ＳＬ３のみを有する形状であってもよい。また、傾斜部ＳＬ２ｂ、ＳＬ３ｂが円弧形状であってもよく、さらには、傾斜部ＳＬ２ｂ、ＳＬ３ｂが無く、垂直部ＳＬ２ａ、ＳＬ３ａと水平部ＳＬ２ｃ、ＳＬ３ｃとが直接接続されていてもよい。
【００４１】
また、変位生成部において、支点部を２つの部分に分断する貫通孔は円筒形に限定されず、任意の断面形状の貫通孔であってもよく、支点部を３つ以上の部分に分断するように複数の貫通孔を備えていてもよく、さらには貫通孔を備えていなくてもよい。
【００４２】
また、変位生成部が４つの弾性部を備える場合を説明したが、これに限定されず、支点部の両側にそれぞれ少なくとも１つの弾性部を備えていればよい。
【００４３】
また、変位生成部の製造方法として一体の金属材料からワイヤーカット加工で形成する場合を説明したが、固定部、弾性部、及び可動部を個別に形成した後、それらを接続して製造してもよい。
【００４４】
また、駆動部はピコモータに限定されず、変位生成部の可動部を、固定部に対して精度良く傾斜させることができる手段であればよい。
【００４５】
また、駆動部が、可動部と固定部との距離を大きくするように力を加える場合を説明したが、これに限定されず、駆動部が可動部と固定部との距離を小さくするように力を加えてもよい。
【００４６】
また、上記のナノライティング装置では、鉛直方向をＺ軸として、Ｚ軸粗動部に傾き補正装置を取り付ける場合を説明したが、これに限定されず、傾き補正装置が所定の１軸方向に関する粗動機構に取り付けられればよい。例えば、試料を鉛直方向に設置する場合、試料表面にほぼ垂直な方向（水平方向）に粗動させる機構に傾き補正装置を取り付ければよい。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】本発明の実施の形態に係る傾き補正装置を備えたナノライティング装置全体の概略構成を示す斜視図である。
【図２】本発明の実施の形態に係る傾き補正装置の構成を示す斜視図である。
【図３】本発明の実施の形態に係る傾き補正装置の構成を示す斜視図である。
【図４】弾性部の形状を示す図であり、左側の図は斜視図であり、右側の図はＸＺ面の断面図である。
【図５】支点部を示す正面図である。
【図６】レーザ照射部内部の概略構成の一例を示す斜視図である。
【図７】レーザ照射部内部の一対の構成要素の一方の配置を、Ｘ軸方向から見た図である。
【図８】カンチレバー、試料、レーザ光の位置関係を示す側面図である。
【図９】マルチプローブが試料の表面に対して傾斜し、一方のカンチレバーの先端のみが試料表面に当接した状態を示す傾き補正装置の正面図である。
【図１０】マルチプローブの傾き調節が完了した状態を示す傾き補正装置の正面図である。
【符号の説明】
【００４８】
１    ベース
２    支持部
３    ＸＹ粗動部
４    ＸＹＺ微動部
５    Ｚ粗動部
６    変位生成部
７    レーザ照射部
８    傾き補正装置
６１  固定部
６２  弾性部
６３  可動部
６４  駆動部
６５  支点部
７１、７１’  レーザ光源
７２、７２’  第１、第２光路変更部
７３  第３光路変更部
７４、７４’  第４、第５光路変更部
７５、７５’  検出部
Ｍ    マルチプローブ
Ｓ    試料
ＳＬ１〜ＳＬ３  第１〜第３スリット
ＳＬ１ａ  縦棒部
ＳＬ２ａ、ＳＬ３ａ  垂直部
ＳＬ２ｂ、ＳＬ３ｂ  傾斜部
ＳＬ２ｃ、ＳＬ３ｃ  水平部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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