(57)【要約】【課題】製造及び取り付けの手間を省略化することができ、また、ノズルと基板との間隔のブレをなくし、レールの調整をなくすことができる塗布装置を提供する。【解決手段】塗布装置１は、上面６が中央部に設けられた基板保持領域１１と前記基板保持領域１１の幅方向外側から側縁１０ａまでの位置に設けられた平滑領域１０を備える基板保持ステージ２と、基板保持ステージの幅方向に並んで配置されノズル５を保持する一対の保持部材４を有するスライダ３を備える。保持部材４は、それぞれ、その下端の前記基板保持ステージ側縁外側位置に前記基板保持ステージの側面方向に延在する係合部１３として形成され、前記下端の前記基板保持ステージ側縁内側が前記平滑領域１０に載置されるとともに、前記係合部が側面に沿って配置されることで、スライダ３の前記基板保持ステージ２の幅方向へのずれが防止される。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板を保持する基板保持ステージと、
前記基板保持ステージに保持されたガラス基板の幅寸法よりも長くかつ前記基板保持ステージの幅寸法より短く構成されたノズルと、前記基板保持ステージの幅方向に並んで配置された一対の保持部材を有し、前記ノズルを前記保持部材間に架して前記ステージ上のガラス基板の表面に非接触の状態に保持すると共に前記基板保持ステージの長さ方向に移動可能に構成されたスライダとを備え、
前記基板保持ステージは、その表面が、中央部に設けられた基板保持領域と、前記基板保持領域の幅方向外側から側縁までの位置に設けられた平滑領域を備え、
前記スライダの保持部材は、それぞれ、その下端の前記基板保持ステージ側縁外側位置に前記基板保持ステージの側面方向に延在する係合部を備え、前記下端の前記基板保持ステージ側縁内側が前記平滑領域に載置されるとともに、前記係合部が側面に沿って配置されることで、前記基板保持ステージの幅方向にずれることなく、前記基板保持ステージの長さ方向にスライド可能に構成されていることを特徴とする、塗布装置。
【請求項２】
前記保持部材は、前記平滑領域及び基板保持ステージ側面に対向する２つの面に、エアベアリングを備えることを特徴とする、請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
前記平滑領域は、その表面が、平面度（ＪＩＳ  Ｂ０６０２）が５μｍ以下となるように構成されていることを特徴とする、請求項１又は２に記載の塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス基板などの基板表面に塗布液を塗布するための塗布装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
基板に塗布液を塗布するための装置としては、例えば、特許文献１から４などに開示されている。この塗布装置は、保持台（ステージ）上の所定の位置に吸着保持された基板の表面にノズルを走査させることによって行われる。このノズルの走査は、基板表面にごくわずかな隙間を空けた状態に保持されるノズルを動かす動作であるが、当該走査時にノズルと基板の間隔が変化すると、塗布液の均一な塗布が行えなくなる。したがって、ステージを石定盤（ガントリーステージ）上に重ねてレベル調整が可能に配置し、当該ステージを挟んで両側にノズル走査用のガイドレールを配置した構成を採用していることが多い。
【０００３】
例えば、特許文献１〜４に開示されている装置は、図５Ａのような構成を有する。この装置は、基板を保持するための吸着ステージ５１が石定盤５２上に配置され、シム５６などによって吸着ステージのレベル調整がされている。また、ノズルを揺れ及びズレなく走査するために、石定盤５２の表面両端に断面矩形のガイドレール５３が２本配置されており、当該ガイドレールに係合するスライダ５４を有する。スライダ５４にはノズル５５が設けられており、図示しない駆動手段によってスライダ５４がガイドレール５３に沿って移動することで、ノズル５５が基板表面を走査する。また、スライダ５４とガイドレール５３間の移動をスムーズにするために、図５Ｂに示すように、スライダ５４とガイドレール５３とが対向する３つの面に、それぞれエアベアリング５７が設けられている。
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−６５２９６号公報
【特許文献２】特開２００６−１６７６３９号公報
【特許文献３】特開２００６−４９３８４号公報
【特許文献４】特開２００３−２７５６４８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、このように構成された塗布装置は、以下に示す問題を有する。
【０００６】
上記構成の装置では、ガイドレールが２本あるため、スライダの走行時に２本のガイドレールに互いに食い込んだり離れたりするいわゆるビビリ現象が生じることがあった。このため、この解消にレールの平行度を調整することが必要であり、この調整が非常に精度を要するため、製造時に手間を要するものであった。また、ガイドレールを設置するためには、石定盤にそのためのスペースを設けることが必要であり、装置の大型化を招いていた。
【０００７】
また、基板を保持するためのステージと石定盤とをそれぞれ用意する必要があり、部品点数が多くなる。そして、両者を組み合わせるときに、取り付け位置及びレベル調整について、非常に細かな設定が必要であり、設置工数が多くなる。
【０００８】
さらに、装置の輸送時に、石定盤とステージの間のレベルずれが生じる。そのため、従来の装置では、装置を輸送した後で、使用箇所に取り付けた後、再度のレベル調整を行うことがなされており、装置可動までに必要な手間が増大する。
【０００９】
また、石定盤の上に載置されているステージが重荷重になって、石定盤が撓んだ場合、石定盤の表面に取り付けられているガイドレールにその変形の影響が及ぶことになる。この状態で、ノズルを駆動させた場合、ノズルの走行不良が生じ、塗布工程が不良となりやすくなる。
【００１０】
したがって、本発明が解決しようとする技術的課題は、製造及び取り付けの手間を省略化することができ、スライダをスムーズに走行させることができる小型軽量な塗布装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、上記技術的課題を解決するために、以下の構成の塗布装置を提供する。
【００１２】
本発明の塗布装置は、ガラス基板を保持する基板保持ステージと、
前記基板保持ステージに保持されたガラス基板の幅寸法よりも長く、前記基板保持ステージの幅寸法より短く構成されたノズルと、
前記基板保持ステージの幅方向に並んで配置された一対の保持部材を有し、前記ノズルを前記保持部材間に架して前記ステージ上のガラス基板の表面に非接触の状態に保持すると共に、前記基板保持ステージの長さ方向に移動可能に構成されたスライダとを備え、
前記基板保持ステージは、その表面が、中央部に設けられた基板保持領域と、前記基板保持領域の幅方向外側から側縁までの位置に設けられた平滑領域を備え、
前記スライダの保持部材は、それぞれ、その下端の前記基板保持ステージ側縁外側位置に前記基板保持ステージの側面方向に延在する係合部を備え、前記下端の前記基板保持ステージ側縁内側が前記平滑領域に載置されるとともに、前記係合部が側面に沿って配置されることで、前記基板保持ステージの幅方向にずれることなく、前記基板保持ステージの長さ方向にスライド可能に構成されていることを特徴とする。
【００１３】
前記保持部材は、前記平滑領域及び基板保持ステージ側面に対向する２つの面に、エアベアリングを備えることが好ましい。
【００１４】
上記各構成において、前記平滑領域は、その表面が、平面度（ＪＩＳ  Ｂ０６０２）が５μｍ以下となるように構成されていることが好ましい。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、基板を保持するための部材とスライダをスライドさせるためのガイドが取り付けられるべき部材が、それぞれ、基板保持ステージの基板保持領域と平滑領域及び側縁に相当することとなり、ともに基板保持ステージで構成される。また、スライダの保持部材の下端に係合部を備えることにより断面かぎ型に構成され、当該基板保持ステージの側縁にずれなく係合する。したがって、部品点数の削減、設置工数の削減ができ、併せて、装置輸送時に基板吸着ステージのレベルずれが起こらない。また、従来石定盤の表面に必要であったガイドレールを配置するための領域が、基板保持ステージの側縁を利用することにより、装置の小型化及び軽量化をすることができる。
【００１６】
また、一体型のステージとして構成されていることにより従来の装置で必要であった、石定盤とステージ間のレベル調整が不要となる。よって、平面精度の高いステージが得られる。
【００１７】
さらに、基板保持ステージは、上面にスライダとノズルが配置されるだけであり、うける荷重が少なくたわみ量を小さく抑えることができ、たわみによる走行不良が起きにくく、安定した塗布を行うことができる。
【００１８】
また、従来は、レールが２本であったものが、あたかも１本のレールで構成されたような形状となることで、ビビリ現象を生じないように２本のレールの平行度を調整する手間とそれが発生するおそれがなくなるという効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明の一実施形態に係る塗布装置について、図面を参照しながら説明する。
【００２０】
図１は、本発明の実施形態にかかる塗布装置の構成を示す斜視図である。本実施形態にかかる塗布装置１は、ガラス基板（以下、基板と略記する。）１００を保持する基板保持ステージ２と当該基板保持ステージ２の長手方向に沿ってスライド可能に構成されたスライダ３とを備える。
【００２１】
基板保持ステージ２は、塗布液を塗布するための基板１００よりも大きい面積の上面６を有する直方体形状の部材であり、御影石を研磨して作成される。基板保持ステージ２は図３に示すように、その上面６が中央部分に設けられた基板保持領域１１と、基板保持領域の幅方向外側から側縁１０ａにわたるまでの領域に設けられた平滑領域１０を有している。
【００２２】
基板保持領域１１は、基板１００を保持するための領域であり、表面に設けられた吸引穴１１ａから真空引き吸着により基板１００をしっかりと保持する。基板保持領域１１の幅方向寸法Ｂは、処理対象となる基板の幅方向より大きく構成されている。なお、基板保持領域１１には、複数の基板を並べて配置するように構成されていてもよい。
【００２３】
平滑領域１０は、基板保持領域の外側領域であり、その幅寸法Ａは、およそ１００〜５００ｍｍ程度であることが好ましい。本実施形態では、３００ｍｍである。基板保持領域の寸法をあまりに大きくとると、基板保持ステージ２の寸法が大きくなる、装置が無用に大型化する一方、あまりに小さくすると、後述するスライダ３の移動がスムーズに行いにくくなる。平滑領域１０は、基板保持領域１１よりも平滑にするために平滑研磨がなされている。平滑領域の平滑の程度は、ＪＩＳ  Ｂ０６０２に基づく平面度が５μｍ以下となるように構成されていることが好ましい。
【００２４】
なお、基板保持ステージ２には、図示しないプライミング手段が設けられている。プライミング手段は、たとえば、塗布動作後、ノズル５の吐出口に残った余分な塗布液を拭き取り、吐出口を均一に清浄化するためのものである。プライミング手段は、ノズル５の延在方向に延在する軸を中心として回転駆動するローラなどで構成されており、ノズル５の吐出口を当該ローラの表面に接触させて、ノズル５の清浄化を行う。プライミング手段は、基板保持ステージ２の表面に凹部を設け、該凹部内に搭載されるように構成されることが好ましい。
【００２５】
スライダ３は、基板保持ステージ２の幅方向に並んで配置された一対の保持部材４と、保持部材間に架して設けられるノズル５を備える。ノズル５は、上下方向に移動可能に構成されており、用いる基板の厚み寸法などに応じて、その位置を調整でき、図２に示すように、処理対象である基板１００の幅寸法より長くかつ基板保持ステージ２の幅寸法より短く構成され、その延在方向に塗布液を均一に吐出可能な線状ノズルである。当該ノズル５は、基板１００とは塗布液の種類にもよるが８０から１５０μｍ程度のごくわずかな隙間を空けて配置され、塗布液を吐出しながら基板１００の上を走査することにより、基板１００の表面に塗布液が塗布される。このとき、ノズル５と基板１００との間隔が変化すると、塗布液の塗膜に厚みムラが生じるため、できる限り基板１００の表面に沿って平行度を保って走査させることが、これらの塗布装置一般に求められていることである。
【００２６】
スライダ３の保持部材４は、基板保持ステージ２の上面６の上に載置される。それぞれの保持部材４の下端は、基板保持ステージ側縁外側位置に、基板保持ステージ２の側面に沿って係合部１３が設けられている。当該係合部１３と保持部材４の下面によって、当該保持部材４の下端部分は、断面がかぎ型形状となる。
【００２７】
保持部材４は、その下端のかぎ型形状が基板保持ステージ２の周縁形状と対応するように配置される。すなわち、保持部材４の下端部が基板保持ステージ２の平滑領域１０の上側に位置し、係合部１３が基板保持ステージ２の側面に沿うように位置される。このようにスライダ３を基板保持ステージ２に設けることにより、互いに基板保持ステージ２を挟んで対称に構成された係合部１３によって、スライダ３は側縁１０ａに係合し、基板保持ステージ２の幅方向にずれることが防止される。
【００２８】
また、後述するスライダの移動をよりスムーズにするために、保持部材４と基板保持ステージ２と対向するステージ対向面１４には、図４に示すように、エアベアリング７が設けられている。エアベアリング７は、図示しない高圧空気源から供給された高圧空気を吐出することにより、互いに対向して配置される面をわずかに離間させ、その間に生じる摩擦力を小さくして当該対向面に沿った方向へのスライドを容易にする。すなわち、基板保持ステージ２とスライダ３との移動をスムーズにすることができる。
【００２９】
スライダ３と基板保持ステージ２は、側縁１０ａを挟む２面で対向するように配置されるため、エアベアリング７を設ける面であるステージ対向面１４は２つのみでよい。よって、断面矩形のガイドレールを用いて、スライダを移動させる場合に比較してエアベアリングの個数を少なくすることができる。
【００３０】
スライダ３を基板保持ステージ２の長手方向にスライドさせる推力を与えるために、スライダ３もしくは基板保持ステージ２のいずれかに図示しない駆動装置が設けられている。
【００３１】
上記構成の塗布装置は、基板を保持する基板保持ステージ２に直接スライダ３が設けられているため、装置の構成を簡単にすることができ、装置の小型化及び軽量化を実現することができる。また、スライダ３が載置される基板保持ステージ２上面６は、側縁１０ａの近傍部分が平滑処理された平滑領域１０となっており、スライダ３をスライドさせた場合に基板１００の厚み方向にずれが生じることがない。
【００３２】
また、基板が載置されている面とスライダのスライド面とが同一平面上に配置されていることにより、ノズル５と基板１００との間隔は、基板１００の厚み寸法により一義的に決定することができる。すなわち、基板１００の厚み寸法が決定すれば、スライダと基板との厚みのレベル調整は、ノズルの高さのみを調整すればよく、基板を保持する部材、すなわち、基板保持ステージ２の調整が全く不要である。
【００３３】
また、スライダを案内する面である平滑領域１０を有する部材、すなわち基板保持ステージ２の上には、大型の部材が載置されないため、輸送時にずれが生じるということがなくなり、かつ当該部材（基板保持ステージ２）の撓みも抑えることができ、スライダの走行不良が起きにくい。
【００３４】
また、従来はレールが２本であったものが、あたかも１本のレールで構成されたような形状となるので、ビビリ現象が生じないように２本のレールを調整する手間を要しない。
【００３５】
以上説明したように、本実施形態にかかる塗布装置によれば、製造及び取り付けの手間を省略化することができ、また、スライダをスムーズに走行させることができ小型軽量とすることができる。
【００３６】
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、その他種々の態様で実施可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】本発明の実施形態にかかる塗布装置の基板保持時の構成を示す斜視図である。
【図２】図１の塗布装置の基板保持ステージとスライダとの位置関係を示す概略構成図である。
【図３】図１の塗布装置の基板保持ステージの構成を示す斜視図である。
【図４】図１の塗布装置の保持部材の部分拡大斜視図である。
【図５Ａ】従来の塗布装置の構成を示す概略構成図である。
【図５Ｂ】図５Ａの部分拡大図である。
【符号の説明】
【００３８】
１  塗布装置
２  基板保持ステージ
３  スライダ
４  保持部材
５  ノズル
６  ステージ上面
７  エアベアリング
１０  平滑領域
１０ａ  側縁
１１  基板保持領域
１１ａ  吸引穴
１３  係合部
１４  ステージ対向面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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