(57)【要約】【課題】本発明の目的は、広い波長域の入射光に対して色にじみや色むらが少なく、正面輝度を向上できる偏光板保護フィルムの製造方法を提供することにある。【解決手段】基材フィルム上に隣接して積層されてなるＡ層及びＢ層の積層構造を少なくとも１組以上設け、該Ａ層、Ｂ層の屈折率をそれぞれｎ（Ａ）、ｎ（Ｂ）とした時、該屈折率が下記式の関係にあり、Ａ層及びＢ層の界面が凹凸構造を有し、該界面の算術平均粗さ（Ｒａ）が１．５〜２０μｍの範囲であり、Ａ層及びＢ層における該界面に対向するそれぞれの面の算術平均粗さ（Ｒａ）を該界面の算術平均粗さ（Ｒａ）よりも小さくすることを特徴とする偏光板保護フィルムの製造方法。  式（Ｉ）  ０．１≦ｎ（Ａ）−ｎ（Ｂ）≦１．０、式（II）  −０．０１０＜（ｎ（Ａ）６５６−ｎ（Ｂ）６５６）−（ｎ（Ａ）４８６−ｎ（Ｂ）４８６）＜０．０１０（４８６、６５６は入射光の波長（ｎｍ）を表す。）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材フィルム上に隣接して積層されてなるＡ層及びＢ層の積層構造を少なくとも１組以上設け、該Ａ層、Ｂ層の屈折率をそれぞれｎ（Ａ）、ｎ（Ｂ）とした時、ｎ（Ａ）及びｎ（Ｂ）が下記式（Ｉ）及び（II）の関係にあり、Ａ層及びＢ層の該界面が凹凸構造を有し、界面の算術平均粗さ（Ｒａ）が１．５〜２０μｍの範囲であり、Ａ層及びＢ層における該界面に対向するそれぞれの面の算術平均粗さ（Ｒａ）を該界面の算術平均粗さ（Ｒａ）よりも小さくすることを特徴とする偏光板保護フィルムの製造方法。
式（Ｉ）
０．１≦ｎ（Ａ）−ｎ（Ｂ）≦１．０
式（II）
−０．０１０＜（ｎ（Ａ）６５６−ｎ（Ｂ）６５６）−（ｎ（Ａ）４８６−ｎ（Ｂ）４８６）＜０．０１０
（式中、ｎ（Ａ）４８６、ｎ（Ｂ）４８６は４８６ｎｍの入射光に対する２３℃５５％ＲＨで測定した時の屈折率を示す。同様にｎ（Ａ）６５６、ｎ（Ｂ）６５６は、６５６ｎｍの入射光に対する屈折率を示す。）
【請求項２】
前記Ｂ層をＡ層よりも基材フィルム側に設けることを特徴とする請求項１に記載の偏光板保護フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記Ａ層及びＢ層の界面の凹凸構造が、インクジェット法により形成されてなることを特徴とする請求項１または２に記載の偏光板保護フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記Ａ層及びＢ層の界面の凹凸構造が、金型からの転写により形成されてなることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の偏光板保護フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記基材フィルムが、セルロースエステルもしくはシクロオレフィンポリマーからなる透明樹脂フィルムであることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の偏光板保護フィルムの製造方法。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の偏光板保護フィルムの製造方法によって製造されたことを特徴とする偏光板保護フィルム。
【請求項７】
偏光子及びそれを挟んでなる２枚の保護フィルムからなる偏光板において、前記保護フィルムの少なくとも１枚が請求項６に記載の偏光板保護フィルムであり、前記Ｂ層がＡ層よりも偏光子に近い側に配置されていることを特徴とする偏光板。
【請求項８】
偏光板（Ｉ）、液晶セル、偏光板（II）、バックライトユニットがこの順で配置されている液晶表示装置において、偏光板（II）が請求項７に記載の偏光板であり、該偏光板（II）のＡ層がＢ層よりもバックライトユニット側に配置されていることを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光板保護フィルムの製造方法、偏光板保護フィルム、それを用いた偏光板、及び液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、液晶表示装置は更なる輝度向上化、薄型化の要望がある。液晶表示装置の高輝度化はバックライトの光量を上げることにより達成できるが、同時に消費電力の増加、液晶表示装置の大型化という問題を引き起こす。液晶表示装置は、観察者との位置関係から正面から観察した時に輝度が高いことが好ましく、正面から傾いた方向への輝度は相対的に重要性が低くなる。そのため、光の配光方向を制御する目的で、集光型光拡散シート等を用いて光を正面方向へ向ける方法が提案されて実施されている（例えば、特許文献１及び２参照。）。しかしながら、フィルムシートの使用枚数の増加は、シートの光吸収による光量の低下を引き起こすと共に、液晶表示装置の薄型化を阻害する要因となる問題を抱えていた。また、集光型光拡散シートは、その上面に凹凸があり、樹脂と空気の界面の屈折率差により入射光を集光する機能を有しているが、従来から使用されている樹脂では入射光の波長域の違いにより屈折率が変化してしまう（屈折率の波長依存性がある）性質があるため、光拡散シートの色むら及び光拡散シート起因による画像の色にじみを無視することができなくなる。樹脂の屈折率の波長依存性では短波側を補償するだけでは十分ではなく、長波側も補償されなければ、光拡散シートの色むら及び光拡散シート起因による画像の色にじみの問題は解決しない。
【特許文献１】特許３７０４５２３号公報
【特許文献２】特開２００３−１０７２１４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
従って、本発明の目的は、液晶表示装置において広い波長域の入射光に対して色にじみや色むらが少なく、正面輝度を向上させ、液晶表示装置を薄型化させることができる、正面輝度の向上機能を有する偏光板保護フィルムの製造方法、偏光板保護フィルム、それを用いた偏光板、及び液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明の上記課題は以下の構成により達成される。
【０００５】
１．基材フィルム上に隣接して積層されてなるＡ層及びＢ層の積層構造を少なくとも１組以上設け、該Ａ層、Ｂ層の屈折率をそれぞれｎ（Ａ）、ｎ（Ｂ）とした時、ｎ（Ａ）及びｎ（Ｂ）が下記式（Ｉ）及び（II）の関係にあり、Ａ層及びＢ層の該界面が凹凸構造を有し、界面の算術平均粗さ（Ｒａ）が１．５〜２０μｍの範囲であり、Ａ層及びＢ層における該界面に対向するそれぞれの面の算術平均粗さ（Ｒａ）を該界面の算術平均粗さ（Ｒａ）よりも小さくすることを特徴とする偏光板保護フィルムの製造方法。
【０００６】
式（Ｉ）
０．１≦ｎ（Ａ）−ｎ（Ｂ）≦１．０
式（II）
−０．０１０＜（ｎ（Ａ）６５６−ｎ（Ｂ）６５６）−（ｎ（Ａ）４８６−ｎ（Ｂ）４８６）＜０．０１０
（式中、ｎ（Ａ）４８６、ｎ（Ｂ）４８６は４８６ｎｍの入射光に対する２３℃５５％ＲＨで測定した時の屈折率を示す。同様にｎ（Ａ）６５６、ｎ（Ｂ）６５６は、６５６ｎｍの入射光に対する屈折率を示す。）
２．前記Ｂ層をＡ層よりも基材フィルム側に設けることを特徴とする前記１に記載の偏光板保護フィルムの製造方法。
【０００７】
３．前記Ａ層及びＢ層の界面の凹凸構造が、インクジェット法により形成されてなることを特徴とする前記１または２に記載の偏光板保護フィルムの製造方法。
【０００８】
４．前記Ａ層及びＢ層の界面の凹凸構造が、金型からの転写により形成されてなることを特徴とする前記１〜３のいずれか１項に記載の偏光板保護フィルムの製造方法。
【０００９】
５．前記基材フィルムが、セルロースエステルもしくはシクロオレフィンポリマーからなる透明樹脂フィルムであることを特徴とする前記１〜４のいずれか１項に記載の偏光板保護フィルムの製造方法。
【００１０】
６．前記１〜５のいずれか１項に記載の偏光板保護フィルムの製造方法によって製造されたことを特徴とする偏光板保護フィルム。
【００１１】
７．偏光子及びそれを挟んでなる２枚の保護フィルムからなる偏光板において、前記保護フィルムの少なくとも１枚が前記６に記載の偏光板保護フィルムであり、前記Ｂ層がＡ層よりも偏光子に近い側に配置されていることを特徴とする偏光板。
【００１２】
８．偏光板（Ｉ）、液晶セル、偏光板（II）、バックライトユニットがこの順で配置されている液晶表示装置において、偏光板（II）が前記７に記載の偏光板であり、該偏光板（II）のＡ層がＢ層よりもバックライトユニット側に配置されていることを特徴とする液晶表示装置。
【発明の効果】
【００１３】
本発明により、液晶表示装置の色にじみや色むらを低減し、正面輝度を向上させ、低消費電力、液晶表示装置の薄型化を同時に達成する液晶表示装置を提供することができる。
【００１４】
即ち、本発明では、積層する材料の屈折率の波長依存性を制御することにより色にじみを低減し、偏光板保護フィルムに正面輝度の向上機能（以下、集光機能とも表記する）を付与することにより、低消費電力、液晶表示装置の薄型化を同時に達成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００１６】
本発明の偏光板保護フィルムは、基材フィルム上に隣接して積層されてなるＡ層及びＢ層を少なくとも１組以上設けることを特徴とする。隣接するＡ層及びＢ層の組は、２組以上の複数の組を持っていても良い。大まかな傾向として隣接するＡ層及びＢ層の組は、同一の構成であれば組数が多いほど液晶表示装置に組み込んだ際の正面輝度が高まる傾向があり、同時に正面から傾いた方向での輝度は低下する傾向がある。液晶表示装置に必要な正面及び斜め方向の輝度により複数のＡ層及びＢ層の組の数を適宜選択し、積層しても良い。
【００１７】
本発明において、２組以上の隣接するＡ層及びＢ層の組は、必ずしも同一の組成及び形状を持ったＡ層、Ｂ層である必要はない。具体的には、Ａ１層／Ｂ１層／Ａ２層／Ｂ２層のように、異なる組成及び形状の２組のＡ層及びＢ層が存在しても良い。
【００１８】
本発明において、色むらを抑制するためには、波長による光の屈折角を同一にするように、Ａ層及びＢ層の素材を選択することが好ましい。
【００１９】
本発明における隣接されてなるＡ層及びＢ層の屈折率はＡ層の屈折率がＢ層の屈折率より大きく、その差は０．１以上であることが正面輝度を向上させる点で好ましい。他条件が同一であれば、屈折率差が大きいほど正面輝度の上昇度合いは大きい傾向が見られる。また、Ａ層及びＢ層の屈折率差が１．０を超えると、Ａ層の屈折率は必然的に高くなり、膜として硬く脆い性質を持つ傾向があるため、偏光板保護フィルムとして可撓性を維持する観点から、屈折率差が１．０以下であることが好ましく、更に好ましくは０．３以下である。
【００２０】
更に積層する材料の屈折率の波長依存性を制御することが、色にじみや色むらの発生を低減できることから、これらを考慮するとＡ層及びＢ層の屈折率をそれぞれｎ（Ａ）及びｎ（Ｂ）とした時、下記式（Ｉ）及び（II）を満足することが本発明の目的を達成する上で必要である。式（Ｉ）及び（II）を満足するには、後述するＡ層、Ｂ層に用いられる材料（バインダーや粒子等）の構成を調整することで達成することできる。
【００２１】
式（Ｉ）
０．１≦ｎ（Ａ）−ｎ（Ｂ）≦１．０
式（II）
−０．０１０＜（ｎ（Ａ）６５６−ｎ（Ｂ）６５６）−（ｎ（Ａ）４８６−ｎ（Ｂ）４８６）＜０．０１０
（式中、ｎ（Ａ）４８６、ｎ（Ｂ）４８６は４８６ｎｍの入射光に対する２３℃５５％ＲＨで測定した時の屈折率を示す。同様にｎ（Ａ）６５６、ｎ（Ｂ）６５６は、６５６ｎｍの入射光に対する屈折率を示す。）
式（II）はさらに好ましくは、
−０．００７＜（ｎ（Ａ）６５６−ｎ（Ｂ）６５６）−（ｎ（Ａ）４８６−ｎ（Ｂ）４８６）＜０．００７
であり、最も好ましくは
−０．００７＜（ｎ（Ａ）６５６−ｎ（Ｂ）６５６）−（ｎ（Ａ）４８６−ｎ（Ｂ）４８６）＜０．００６
である。
【００２２】
上記屈折率、ｎ（Ａ）４８６、ｎ（Ａ）６５６、ｎ（Ｂ）４８６、ｎ（Ｂ）６５６は、各々アッベの屈折率計や自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）を用いて、２３℃５５％ＲＨの環境下に２４時間放置したフィルムを用いて測定する。
【００２３】
また、屈折率は温度により変化するが、色にじみを低減するためにいかなる温度でも上記の式（II）を満たすことが好ましい。
【００２４】
本発明の偏光板保護フィルムは、隣接するＡ層及びＢ層の界面が凹凸構造を有し、かつ該界面での凹凸の算術平均粗さ（Ｒａ）が１．５から２０μｍの範囲であることを特徴とする。隣接するＡ層及びＢ層の界面の形状が液晶表示装置に組み込んだ際の正面輝度に影響を与えるが、算術平均粗さ（Ｒａ）で１．５μｍ以上とすることにより実用的な輝度向上効果が得られる。また、算術平均粗さ（Ｒａ）を２０μｍ以下とすることにより、液晶表示装置に組み込んだ際に目視でムラが観測できなくなるため、Ａ層及びＢ層の界面において算術平均粗さ（Ｒａ）が１．５μｍから２０μｍの範囲であることが好ましい。上記算術平均粗さ（Ｒａ）は、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１：２００１により定義され、下式によって求められる値をマイクロメートル（μｍ）で表したものをいう。
【００２５】
【数１】
2008268568.tif 000002
【００２６】
算術平均粗さ（Ｒａ）は光干渉式の表面粗さ測定器で測定することが好ましく、例えば光学干渉式表面粗さ計ＲＳＴ／ＰＬＵＳ（ＷＹＫＯ社製）を用いて測定することができる。
【００２７】
本発明においては、Ａ層及びＢ層の界面に対抗する面の算術平均粗さ（Ｒａ）が、隣接するＡ層及びＢ層の界面の算術平均粗さ（Ｒａ）よりも小さいことを特徴とする。Ａ層及びＢ層の界面に対抗する面とは、Ａ層においては隣接するＢ層から離れた面を表し、Ｂ層においては隣接するＡ層から離れた面をそれぞれ表す。Ａ層及びＢ層の界面に対抗するそれぞれの面の算術平均粗さ（Ｒａ）が、Ａ層及びＢ層の界面での算術平均粗さ（Ｒａ）よりも小さいことが正面輝度を上昇させる観点から好ましい。
【００２８】
本発明において、偏光子との接着性を考慮し基材フィルム上にＡ層及びＢ層を設けてもよい。偏光子との接着を考慮すると、正面輝度向上の観点からＢ層がＡ層よりも基材フィルム側であることが好ましい。
【００２９】
本発明において、Ａ層及びＢ層の界面の凹凸構造を制御する手法として様々な手法を用いることができる。一例として、粒子及びバインダーからなるＢ層を塗布し凹凸をもつ表面を形成し、その上にＡ層を塗布する方法、インクジェット法により、基材フィルム上に凹凸構造を形成しＢ層を作成したのち、Ａ層を塗布等により作成する方法や、Ｂ層となる基材フィルムもしくは基材フィルム上に形成されたＢ層前駆層に凹凸を持った金型から形状を転写することによりＢ層を形成し、その上にＡ層を形成する方法等が好ましく用いられる。
【００３０】
《粒子及びバインダーによるＢ層の形成》
本発明に使用されるＢ層の材料としては、可視光域での透過率が高く、低屈折率な素材であることが好ましい。本発明では、特に以下の素材には限定されないが、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、フッ素系樹脂等を好ましく用いることができる。また、低屈折率化のために、波長よりも小さいサイズの低屈折率微粒子などをポリマーに添加することなども好ましく用いられる。
【００３１】
本発明において、粒子及びバインダーからなるＢ層を形成する場合、バインダー及び粒子の屈折率の差が０から０．１の範囲であることが、正面輝度を向上する観点から好ましい。屈折率差が０に近いほど、バインダー及び粒子の界面での光への反射、屈折、散乱等の影響は低減する方向であり、大きくなる程これらの影響は大きくなる。液晶表示装置の輝度のムラを低減する目的で、樹脂及びバインダーを適宜選択し、その屈折率差を０〜０．１の範囲で適宜調整することができる。
【００３２】
本発明において、粒子及びバインダーによりＡ層及びＢ層の界面に凹凸構造を形成する場合、粒子の平均粒径は１μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましい。粒子の平均粒径が１μｍ以上であると、Ａ層及びＢ層の界面での算術平均粗さ（Ｒａ）を大きく制御することが可能であり、平均粒径が１００μｍ以下であると液晶表示装置に本発明のフィルムを組み込んだ際の輝度ムラを抑制することができるため好ましい。
【００３３】
粒子の平均粒径の測定は、例えばＭＡＬＶＥＲＮ  ＩＮＳＴＲＭＥＮＴＳ社のＺＥＴＡＳＩＺＥＲ  １０００ＨＳＡを使用して測定することができる。即ち、エタノール（もしくは分散溶媒）を溶媒とし粒子溶液中の粒子が、固形分で０．０５％になるように希釈し調整した液に超音波洗浄を用いて１分間超音波をかけ、液を均一にした後に上記の機器を用いて２３℃、５５％ＲＨの条件で、平均粒径の測定を行うことができる。
【００３４】
また、別法として粒子の平均粒径は、光学顕微鏡等を用いて２００倍程度の倍率で顕微鏡写真を撮影し、１００個の粒子の円相当径の平均値を求め、これを粒子の平均粒径とすることにより測定することもできる。
【００３５】
本発明に係るＢ層中に含有される粒子としては、例えば、無機または有機の微粒子が用いられる。
【００３６】
無機微粒子としては酸化ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化錫、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、タルク、カオリン、硫酸カルシウム等を挙げることができる。
【００３７】
有機微粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂微粒子、アクリルスチレン系樹脂微粒子、ポリメチルメタクリレート樹脂微粒子、シリコン系樹脂微粒子、ポリスチレン系樹脂微粒子、ポリカーボネート樹脂微粒子、ベンゾグアナミン系樹脂微粒子、メラミン系樹脂微粒子、ポリオレフィン系樹脂微粒子、ポリエステル系樹脂微粒子、ポリアミド系樹脂微粒子、ポリイミド系樹脂微粒子、またはポリ弗化エチレン系樹脂微粒子等を挙げることができる。
【００３８】
本発明では特に、酸化ケイ素微粒子またはポリスチレン系樹脂微粒子であることが好ましい。
【００３９】
本発明に係るＢ層への無機または有機微粒子の含有量は、バインダー１００質量部に対して、０．１質量部〜３０質量部が好ましく、更に好ましくは、０．１質量部〜２０質量部となるように配合することである。より好ましくはバインダー１００質量部に対して１質量部〜１５質量部を用いるのが好ましい。又、異なる平均粒径の微粒子を２種以上用いることも好ましい。
【００４０】
また、本発明に係るＢ層には帯電防止剤を含有させることも好ましく、帯電防止剤としては、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｉｎ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｓｉ、Ｍｇ、Ｂａ、Ｍｏ、Ｗ及びＶからなる群から選択される少なくとも一つの元素を主成分として含有し、かつ、体積抵抗率が１０7Ω・ｃｍ以下であるような導電性材料が好ましい。
【００４１】
前記帯電防止剤としては、上記の元素を有する金属酸化物、複合酸化物等が挙げられる。金属酸化物の例としては、ＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＳｎＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＭｏＯ2、Ｖ2Ｏ5等、或いはこれらの複合酸化物が好ましく、特にＺｎＯ、Ｉｎ2Ｏ3、ＴｉＯ2及びＳｎＯ2が好ましい。異種原子を含む例としては、例えばＺｎＯに対してはＡｌ、Ｉｎ等の添加、ＴｉＯ2に対してはＮｂ、Ｔａ等の添加、またＳｎＯ2に対しては、Ｓｂ、Ｎｂ、ハロゲン元素等の添加が効果的である。これら異種原子の添加量は０．０１〜２５ｍｏｌ％の範囲が好ましいが、０．１〜１５ｍｏｌ％の範囲が特に好ましい。
【００４２】
また、これらの導電性を有するこれら金属酸化物粉体の体積抵抗率は１０7Ω・ｃｍ以下、特に１０5Ω・ｃｍ以下である。
【００４３】
本発明に係るＢ層は、バインダーとして活性エネルギー線照射により硬化する活性エネルギー線硬化樹脂を含有することが好ましい。
【００４４】
活性エネルギー線硬化樹脂とは紫外線や電子線のような活性エネルギー線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂である。活性エネルギー線硬化樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線や電子線以外の活性エネルギー線照射によって硬化する樹脂でもよい。
【００４５】
紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等を挙げることができる。
【００４６】
紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、またはプレポリマーを反応させて得られた生成物に更に２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる。例えば、特開昭５９−１５１１１０号に記載の、ユニディック１７−８０６（大日本インキ（株）製）１００部とコロネートＬ（日本ポリウレタン（株）製）１部との混合物等が好ましく用いられる。
【００４７】
紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂は、一般にポリエステル末端の水酸基やカルボキシル基に２−ヒドロキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、アクリル酸等のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる（例えば、特開昭５９−１５１１１２号）。
【００４８】
紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂は、エポキシ樹脂の末端の水酸基にアクリル酸、アクリル酸クロライド、グリシジルアクリレートのようなモノマーを反応させて得られる。
【００４９】
紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂としては、エチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることができる。
【００５０】
紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシ樹脂の例として、有用に用いられるエポキシ系活性エネルギー線反応性化合物を示す。
【００５１】
（ａ）ビスフェノールＡのグリシジルエーテル（この化合物はエピクロルヒドリンとビスフェノールＡとの反応により、重合度の異なる混合物として得られる）
（ｂ）ビスフェノールＡ等のフェノール性ＯＨを２個有する化合物に、エピクロルヒドリン、エチレンオキサイド及び／またはプロピレンオキサイドを反応させ末端にグリシジルエーテル基を有する化合物
（ｃ）４，４′−メチレンビスフェノールのグリシジルエーテル
（ｄ）ノボラック樹脂またはレゾール樹脂のフェノールフォルムアルデヒド樹脂のエポキシ化合物
（ｅ）脂環式エポキシドを有する化合物、例えば、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）オキザレート、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシ−６−シクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチルピメレート）、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−１−メチルシクロヘキシルメチル−３′，４′−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−１−メチル−シクロヘキシルメチル−３′，４′−エポキシ−１′−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−６−メチル−シクロヘキシルメチル−３′，４′−エポキシ−６′−メチル−１′−シクロヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５′，５′−スピロ−３″，４″−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン
（ｆ）２塩基酸のジグリシジルエーテル、例えば、ジグリシジルオキザレート、ジグリシジルアジペート、ジグリシジルテトラヒドロフタレート、ジグリシジルヘキサヒドロフタレート、ジグリシジルフタレート
（ｇ）グリコールのジグリシジルエーテル、例えば、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、コポリ（エチレングリコール−プロピレングリコール）ジグリシジルエーテル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル
（ｈ）ポリマー酸のグリシジルエステル、例えば、ポリアクリル酸ポリグリシジルエステル、ポリエステルジグリシジルエステル
（ｉ）多価アルコールのグリシジルエーテル、例えば、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールトリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、グルコーストリグリシジルエーテル
（ｊ）２−フルオロアルキル−１，２−ジオールのジグリシジルエーテルとしては、前記低屈折率物質のフッ素含有樹脂のフッ素含有エポキシ化合物に挙げた化合物例と同様のもの
（ｋ）含フッ素アルカン末端ジオールグリシジルエーテルとしては、上記低屈折率物質のフッ素含有樹脂のフッ素含有エポキシ化合物等を挙げることができる。
【００５２】
上記エポキシ化合物の分子量は、平均分子量として２０００以下で、好ましくは１０００以下である。
【００５３】
上記のエポキシ化合物を活性エネルギー線により硬化する場合、より硬度を上げるためには、（ｈ）または（ｉ）の多官能のエポキシ基を有する化合物を混合して用いると効果的である。
【００５４】
エポキシ系活性エネルギー線反応性化合物をカチオン重合させる光重合開始剤または光増感剤は、活性エネルギー線照射によりカチオン重合開始物質を放出することが可能な化合物であり、特に好ましくは、照射によりカチオン重合開始能のあるルイス酸を放出するオニウム塩の一群の複塩である。
【００５５】
活性エネルギー線反応性化合物エポキシ樹脂は、ラジカル重合によるのではなく、カチオン重合により重合、架橋構造または網目構造を形成する。ラジカル重合と異なり反応系中の酸素に影響を受けないため好ましい活性エネルギー線反応性樹脂である。
【００５６】
本発明に有用な活性エネルギー線反応性エポキシ樹脂は、活性エネルギー線照射によりカチオン重合を開始させる物質を放出する光重合開始剤または光増感剤により重合する。光重合開始剤としては、光照射によりカチオン重合を開始させるルイス酸を放出するオニウム塩の複塩の一群が特に好ましい。
【００５７】
かかる代表的なものは下記一般式（ａ）で表される化合物である。
【００５８】
一般式（ａ）
〔（Ｒ1）a（Ｒ2）b（Ｒ3）c（Ｒ4）dＺ〕w+〔ＭｅＸv〕w-
式中、カチオンはオニウムであり、ＺはＳ、Ｓｅ、Ｔｅ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｏ、ハロゲン（例えばＩ、Ｂｒ、Ｃｌ）、またはＮ＝Ｎ（ジアゾ）であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は同一であっても異なっていてもよい有機の基である。ａ、ｂ、ｃ、ｄはそれぞれ０〜３の整数であって、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄはＺの価数に等しい。Ｍｅはハロゲン化物錯体の中心原子である金属または半金属（ｍｅｔａｌｌｏｉｄ）であり、Ｂ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｆｅ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ａｌ、Ｃａ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｃ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏ等である。Ｘはハロゲンであり、ｗはハロゲン化錯体イオンの正味の電荷であり、ｖはハロゲン化錯体イオン中のハロゲン原子の数である。
【００５９】
上記一般式（ａ）の陰イオン〔ＭｅＸv〕w-の具体例としては、テトラフルオロボレート（ＢＦ4-）、テトラフルオロホスフェート（ＰＦ4-）、テトラフルオロアンチモネート（ＳｂＦ4-）、テトラフルオロアルセネート（ＡｓＦ4-）、テトラクロロアンチモネート（ＳｂＣｌ4-）等を挙げることができる。
【００６０】
また、その他の陰イオンとしては過塩素酸イオン（ＣｌＯ4-）、トリフルオロメチル亜硫酸イオン（ＣＦ3ＳＯ3-）、フルオロスルホン酸イオン（ＦＳＯ3-）、トルエンスルホン酸イオン、トリニトロベンゼン酸陰イオン等を挙げることができる。
【００６１】
このようなオニウム塩の中でも特に芳香族オニウム塩をカチオン重合開始剤として使用するのが有効であり、中でも特開昭５０−１５１９９６号、同５０−１５８６８０号等に記載の芳香族ハロニウム塩、特開昭５０−１５１９９７号、同５２−３０８９９号、同５９−５５４２０号、同５５−１２５１０５号等に記載のVIＡ族芳香族オニウム塩、特開昭５６−８４２８号、同５６−１４９４０２号、同５７−１９２４２９号等に記載のオキソスルホキソニウム塩、特公昭４９−１７０４０号等に記載の芳香族ジアゾニウム塩、米国特許第４，１３９，６５５号等に記載のチオピリリュム塩等が好ましい。また、アルミニウム錯体や光分解性けい素化合物系重合開始剤等を挙げることができる。上記カチオン重合開始剤と、ベンゾフェノン、ベンゾインイソプロピルエーテル、チオキサントン等の光増感剤を併用することができる。
【００６２】
また、エポキシアクリレート基を有する活性エネルギー線反応性化合物の場合は、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等の光増感剤を用いることができる。この活性エネルギー線反応性化合物に用いられる光増感剤や光開始剤は、紫外線反応性化合物１００質量部に対して０．１質量部〜１５質量部で光反応を開始するには十分であり、好ましくは１質量部〜１０質量部である。この増感剤は近紫外線領域から可視光線領域に吸収極大のあるものが好ましい。
【００６３】
本発明に有用な活性エネルギー線硬化樹脂組成物において、重合開始剤は、一般的には、活性エネルギー線硬化性エポキシ樹脂（プレポリマー）１００質量部に対して０．１質量部〜１５質量部の使用が好ましく、更に好ましくは、１質量部〜１０質量部の範囲の添加が好ましい。
【００６４】
また、エポキシ樹脂を上記ウレタンアクリレート型樹脂、ポリエーテルアクリレート型樹脂等と併用することもでき、この場合、活性エネルギー線ラジカル重合開始剤と活性エネルギー線カチオン重合開始剤を併用することが好ましい。
【００６５】
また、本発明に係るＢ層には、オキセタン化合物を用いることもできる。用いられるオキセタン化合物は、酸素または硫黄を含む３員環のオキセタン環を有する化合物である。中でも酸素を含むオキセタン環を有する化合物が好ましい。オキセタン環は、ハロゲン原子、ハロアルキル基、アリールアルキル基、アルコキシル基、アリルオキシ基、アセトキシ基で置換されていてもよい。具体的には、３，３−ビス（クロルメチル）オキセタン、３，３−ビス（ヨードメチル）オキセタン、３，３−ビス（メトキシメチル）オキセタン、３，３−ビス（フェノキシメチル）オキセタン、３−メチル−３クロルメチルオキセタン、３，３−ビス（アセトキシメチル）オキセタン、３，３−ビス（フルオロメチル）オキセタン、３，３−ビス（ブロモメチル）オキセタン、３，３−ジメチルオキセタン等が挙げられる。尚、本発明ではモノマー、オリゴマー、ポリマーのいずれであってもよい。
【００６６】
本発明に係るＢ層には、公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂またはゼラチン等の親水性樹脂等のバインダーを上記記載の活性エネルギー線硬化樹脂に混合して使用することができる。これらの樹脂は、その分子中に極性基を持っていることが好ましい。極性基としては、−ＣＯＯＭ、−ＯＨ、−ＮＲ2、−ＮＲ3Ｘ、−ＳＯ3Ｍ、−ＯＳＯ3Ｍ、−ＰＯ3Ｍ2、−ＯＰＯ3Ｍ（ここで、Ｍは水素原子、アルカリ金属またはアンモニウム基を、Ｘはアミン塩を形成する酸を、Ｒは水素原子、アルキル基を表す）等を挙げることができる。
【００６７】
本発明に使用する活性エネルギー線は、紫外線、電子線、γ線等で、化合物を活性化させるエネルギー源であれば制限なく使用できるが、紫外線、電子線が好ましく、特に取り扱いが簡便で高エネルギーが容易に得られるという点で紫外線が好ましい。紫外線反応性化合物を光重合させる紫外線の光源としては、紫外線を発生する光源であれば何れも使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。また、ＡｒＦエキシマレーザ、ＫｒＦエキシマレーザ、エキシマランプまたはシンクロトロン放射光等も用いることができる。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は２０ｍＪ／ｃｍ2以上が好ましく、更に好ましくは、５０ｍＪ／ｃｍ2〜１００００ｍＪ／ｃｍ2であり、特に好ましくは、５０ｍＪ／ｃｍ2〜２０００ｍＪ／ｃｍ2である。
【００６８】
紫外線照射は、複数の層それぞれに対して１層設ける毎に照射してもよいし、積層後照射してもよい。或いはこれらを組み合わせて照射してもよい。生産性の点から、多層を積層後、紫外線を照射することが好ましい。
【００６９】
また、電子線も同様に使用できる。電子線としては、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００ｋｅＶ、好ましくは１００〜３００ｋｅＶのエネルギーを有する電子線を挙げることができる。
【００７０】
Ｂ層の耐熱性を高めるために、光硬化反応を抑制しないような酸化防止剤を選んで用いることができる。例えば、ヒンダードフェノール誘導体、チオプロピオン酸誘導体、ホスファイト誘導体等を挙げることができる。具体的には、例えば、４，４′−チオビス（６−ｔｅｒｔ−３−メチルフェノール）、４，４′−ブチリデンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）メシチレン、ジ−オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジルホスフェート等を挙げることができる。
【００７１】
紫外線硬化性樹脂としては、例えば、アデカオプトマーＫＲ、ＢＹシリーズのＫＲ−４００、ＫＲ−４１０、ＫＲ−５５０、ＫＲ−５６６、ＫＲ−５６７、ＢＹ−３２０Ｂ（以上、旭電化工業（株）製）、コーエイハードのＡ−１０１−ＫＫ、Ａ−１０１−ＷＳ、Ｃ−３０２、Ｃ−４０１−Ｎ、Ｃ−５０１、Ｍ−１０１、Ｍ−１０２、Ｔ−１０２、Ｄ−１０２、ＮＳ−１０１、ＦＴ−１０２Ｑ８、ＭＡＧ−１−Ｐ２０、ＡＧ−１０６、Ｍ−１０１−Ｃ（以上、広栄化学工業（株）製）、セイカビームのＰＨＣ２２１０（Ｓ）、ＰＨＣＸ−９（Ｋ−３）、ＰＨＣ２２１３、ＤＰ−１０、ＤＰ−２０、ＤＰ−３０、Ｐ１０００、Ｐ１１００、Ｐ１２００、Ｐ１３００、Ｐ１４００、Ｐ１５００、Ｐ１６００、ＳＣＲ９００（以上、大日精化工業（株）製）、ＫＲＭ７０３３、ＫＲＭ７０３９、ＫＲＭ７１３０、ＫＲＭ７１３１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９２０１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９２０２（以上、ダイセル・ユーシービー（株））、ＲＣ−５０１５、ＲＣ−５０１６、ＲＣ−５０２０、ＲＣ−５０３１、ＲＣ−５１００、ＲＣ−５１０２、ＲＣ−５１２０、ＲＣ−５１２２、ＲＣ−５１５２、ＲＣ−５１７１、ＲＣ−５１８０、ＲＣ−５１８１（以上、大日本インキ化学工業（株）製）、オーレックスＮｏ．３４０クリヤ（中国塗料（株）製）、サンラッド  Ｈ−６０１（三洋化成工業（株）製）、ＳＰ−１５０９、ＳＰ−１５０７（以上、昭和高分子（株）製）、ＲＣＣ−１５Ｃ（グレース・ジャパン（株）製）、アロニックスＭ−６１００、Ｍ−８０３０、Ｍ−８０６０（以上、東亞合成（株）製）、またはその他の市販のものから適宜選択して利用することができる。
【００７２】
活性エネルギー線硬化樹脂を含む塗布組成物は、固形分濃度は１０質量％〜９５質量％であることが好ましく、塗布方法により適当な濃度が選ばれる。
【００７３】
本発明に係るＢ層には界面活性剤を用いることもでき、シリコン系またはフッ素系界面活性剤が好ましい。
【００７４】
シリコン系界面活性剤としては、疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン界面活性剤が好ましい。
【００７５】
非イオン面活性剤は、水溶液中でイオンに解離する基を有しない系面活性剤を総称していうが、疎水基のほか親水性基として多価アルコール類の水酸基、また、ポリオキシアルキレン鎖（ポリオキシエチレン）等を親水基として有するものである。親水性はアルコール性水酸基の数が多くなるに従って、またポリオキシアルキレン鎖（ポリオキシエチレン鎖）が長くなるに従って強くなる。本発明に係わる非イオン界面活性剤は疎水基としてジメチルポリシロキサンを有することに特徴がある。
【００７６】
疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン界面活性剤を用いると、防眩性ハードコート層や低屈折率層のムラや膜表面の防汚性が向上する。ポリメチルシロキサンからなる疎水基が表面に配向し汚れにくい膜表面を形成するものと考えられる。他の界面活性剤を用いることでは得られない効果である。
【００７７】
これらの非イオン活性剤の具体例としては、例えば、日本ユニカー（株）製、シリコーン界面活性剤  ＳＩＬＷＥＴ  Ｌ−７７、Ｌ−７２０、Ｌ−７００１、Ｌ−７００２、Ｌ−７６０４、Ｙ−７００６、ＦＺ−２１０１、ＦＺ−２１０４、ＦＺ−２１０５、ＦＺ−２１１０、ＦＺ−２１１８、ＦＺ−２１２０、ＦＺ−２１２２、ＦＺ−２１２３、ＦＺ−２１３０、ＦＺ−２１５４、ＦＺ−２１６１、ＦＺ−２１６２、ＦＺ−２１６３、ＦＺ−２１６４、ＦＺ−２１６６、ＦＺ−２１９１等が挙げられる。
【００７８】
また、ＳＵＰＥＲＳＩＬＷＥＴ  ＳＳ−２８０１、ＳＳ−２８０２、ＳＳ−２８０３、ＳＳ−２８０４、ＳＳ−２８０５等が挙げられる。
【００７９】
また、これら、疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン系の界面活性剤の好ましい構造としては、ジメチルポリシロキサン構造部分とポリオキシアルキレン鎖が交互に繰り返し結合した直鎖状のブロックコポリマーであることが好ましい。主鎖骨格の鎖長が長く、直鎖状の構造であることから、優れている。親水基と疎水基が交互に繰り返したブロックコポリマーであることにより、シリカ微粒子の表面を１つの活性剤分子が、複数の箇所で、これを覆うように吸着することができるためと考えられる。
【００８０】
これらの具体例としては、例えば、日本ユニカー（株）製、シリコーン界面活性剤  ＡＢＮ  ＳＩＬＷＥＴ  ＦＺ−２２０３、ＦＺ−２２０７、ＦＺ−２２０８等が挙げられる。
【００８１】
フッ素系界面活性剤としては、疎水基がパーフルオロカーボンチェインをもつ界面活性剤を用いることができる。種類としては、フルオロアルキルカルボン酸、Ｎ−パーフルオロオクタンスルホニルグルタミン酸ジナトリウム、３−（フルオロアルキルオキシ）−１−アルキルスルホン酸ナトリウム、３−（ω−フルオロアルカノイル−Ｎ−エチルアミノ）−１−プロパンスルホン酸ナトリウム、Ｎ−（３−パーフルオロオクタンスルホンアミド）プロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−カルボキシメチレンアンモニウムベタイン、パーフルオロアルキルカルボン酸、パーフルオロオクタンスルホン酸ジエタノールアミド、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、Ｎ−プロピル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）パーフルオロオクタンスルホンアミド、パーフルオロアルキルスルホンアミドプロピルトリメチルアンモニウム塩、パーフルオロアルキル−Ｎ−エチルスルホニルグリシン塩、リン酸ビス（Ｎ−パーフルオロオクチルスルホニル−Ｎ−エチルアミノエチル）等が挙げられる。本発明では非イオン界面活性剤が好ましい。
【００８２】
これらのフッ素系界面活性剤はメガファック、エフトップ、サーフロン、フタージェント、ユニダイン、フローラード、ゾニール等の商品名で市販されている。
【００８３】
好ましい添加量はＢ層の塗布液に含まれる固形分当たり０．０１〜３．０％であり、より好ましくは０．０２〜１．０％である。
【００８４】
他の界面活性剤を併用して用いることもでき、適宜、例えばスルホン酸塩系、硫酸エステル塩系、リン酸エステル塩系等のアニオン界面活性剤、また、ポリオキシエチレン鎖親水基として有するエーテル型、エーテルエステル型等の非イオン界面活性剤等を併用してもよい。
【００８５】
本発明に係るＢを塗設する際の溶媒は、例えば、炭化水素類、アルコール類、ケトン類、エステル類、グリコールエーテル類、その他の溶媒の中から適宜選択し、または混合して使用できる。好ましくは、プロピレングリコールモノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルエーテルまたはプロピレングリコールモノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルエーテルエステルを５質量％以上、更に好ましくは５質量％〜８０質量％以上含有する溶媒が用いられる。
【００８６】
Ｂ層組成物塗布液の塗布方法としては、グラビアコーター、スピナーコーター、ワイヤーバーコーター、ロールコーター、リバースコーター、押出コーター、エアードクターコーター等公知の方法を用いることができる。
【００８７】
本発明に係るＢ層の膜厚は１μｍ〜４０μｍの範囲が好ましく、更に好ましくは、１０μｍ〜３０μｍの範囲である。
【００８８】
Ｂ層組成物は塗布乾燥された後、紫外線や電子線等の活性エネルギー線を照射され硬化処理されることが好ましいが、前記活性エネルギー線の照射時間は０．５秒〜５分が好ましく、紫外線硬化性樹脂の硬化効率、作業効率等から更に好ましくは、３秒〜２分である。
【００８９】
《インクジェット法によるＢ層の形成》
本発明において、Ａ層及びＢ層の界面に凹凸構造を形成する目的でインクジェット法を用いることも好ましく用いられる。この場合、基材フィルム上にインクジェット法により凹凸構造を形成したのち、熱や光等により凹凸構造を固定する方法が好ましい。形状を制御する目的で、インクジェット法により塗布する液滴の大きさを適宜選択することができる。また、基材とインクとの接触角を調整することにより凹凸構造の制御を行うことも好ましく行われる。基材とインクの接触角が大きい素材を選択することにより、高い凹凸構造を作成することが可能となり、また、低く設定することにより凹凸構造を小さい方向に制御することが可能となる。
【００９０】
以下、インクジェット法による凹凸構造の形成について詳細に説明する。
【００９１】
インクジェット法に用いられるインク組成物（以降、簡単にインクともいう）は２５℃における粘度が１０〜５００ｍＰａ・ｓであることが好ましい。より好ましくは粘度が３０〜４００ｍＰａ・ｓである。インク組成物の２５℃における粘度が１０ｍＰａ・ｓ未満では、凹凸構造の形成効果が小さく、一方５００ｍＰａ・ｓより大きいとインク液の供給に問題が生じる。
【００９２】
本発明においては、安定な出射性を得るためにはインク組成物が６０℃において５〜３０ｍＰａ・ｓであることも好ましい。より好ましくはが５〜１５ｍＰ・ｓである。
【００９３】
（重合性化合物、光重合開始剤）
本発明に用いられるインク組成物は少なくとも重合性化合物及び光重合開始剤から構成されることが好ましい。以下、各構成材料について説明する。
【００９４】
重合性化合物は、ラジカル重合性化合物、例えば特開平７−１５９９８３号、特公平７−３１３９９号、特開平８−２２４９８２号、特開平１０−８６３号、特願平７−２３１４４４号等の各号及び特願平７−２３１４４４号に記載されている光重合性組成物を用いた光硬化型材料と、カチオン重合系の光硬化性樹脂が知られており、最近では可視光以上の長波長域に増感された光カチオン重合系の光硬化性樹脂も、例えば特開平６−４３６３３号、特開平８−３２４１３７号等に公開されている。
【００９５】
ラジカル重合性化合物は、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物であり、分子中にラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも１つ有する化合物であればどの様なものでもよく、モノマー、オリゴマー、ポリマー等の化学形態を持つものが含まれる。ラジカル重合性化合物は１種のみ用いてもよく、又目的とする特性を向上するために任意の比率で２種以上を併用してもよい。又、単官能化合物よりも官能基を２つ以上持つ多官能化合物の方がより好ましい。更に好ましくは多官能化合物を２種以上併用して用いることが、反応性、物性などの性能を制御する上で好ましい。
【００９６】
ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物の例としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等の不飽和カルボン酸及びそれらの塩、エステル、ウレタン、アミドや無水物、アクリロニトリル、スチレン、更に種々の不飽和ポリエステル、不飽和ポリエーテル、不飽和ポリアミド、不飽和ウレタン等のラジカル重合性化合物が挙げられる。具体的には、２−エチルヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、カルビトールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ビス（４−アクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、オリゴエステルアクリレート、Ｎ−メチロールアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、エポキシアクリレート等のアクリル酸誘導体、メチルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、アリルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ジメチルアミノメチルメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、２，２−ビス（４−メタクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン等のメタクリル誘導体、その他、アリルグリシジルエーテル、ジアリルフタレート、トリアリルトリメリテート等のアリル化合物の誘導体が挙げられ、更に具体的には、山下晋三編、「架橋剤ハンドブック」、（１９８１年大成社）；加藤清視編、「ＵＶ・ＥＢ硬化ハンドブック（原料編）」（１９８５年、高分子刊行会）；ラドテック研究会編、「ＵＶ・ＥＢ硬化技術の応用と市場」、７９頁、（１９８９年、シーエムシー）；滝山栄一郎著、「ポリエステル樹脂ハンドブック」、（１９８８年、日刊工業新聞社）等に記載の市販品もしくは業界で公知のラジカル重合性乃至架橋性のモノマー、オリゴマー及びポリマーを用いることができる。上記ラジカル重合性化合物の添加量は好ましくは１〜９７質量％であり、より好ましくは３０〜９５質量％である。
【００９７】
ラジカル重合開始剤としては、特公昭５９−１２８１号、特公昭６１−９６２１号、及び特開昭６０−６０１０４号等の各公報記載のトリアジン誘導体、特開昭５９−１５０４号及び特開昭６１−２４３８０７号等の各公報に記載の有機過酸化物、特公昭４３−２３６８４号、特公昭４４−６４１３号、特公昭４４−６４１３号及び特公昭４７−１６０４号等の各公報並びに米国特許第３，５６７，４５３号に記載のジアゾニウム化合物、米国特許第２，８４８，３２８号、同第２，８５２，３７９号及び同２，９４０，８５３号各明細書に記載の有機アジド化合物、特公昭３６−２２０６２号、特公昭３７−１３１０９号、特公昭３８−１８０１５号、特公昭４５−９６１０号等の各公報に記載のオルト−キノンジアジド類、特公昭５５−３９１６２号、特開昭５９−１４０２３号等の各公報及び「マクロモレキュルス（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ）、第１０巻、第１３０７頁（１９７７年）に記載の各種オニウム化合物、特開昭５９−１４２２０５号に記載のアゾ化合物、特開平１−５４４４０号、ヨーロッパ特許第１０９，８５１号、ヨーロッパ特許第１２６，７１２号等の各明細書、「ジャーナル・オブ・イメージング・サイエンス」（Ｊ．Ｉｍａｇ．Ｓｃｉ．）」、第３０巻、第１７４頁（１９８６年）に記載の金属アレン錯体、特願平４−５６８３１号及び特願平４−８９５３５号に記載の（オキソ）スルホニウム有機ホウ素錯体、特開昭６１−１５１１９７号に記載のチタノセン類、「コーディネーション・ケミストリー・レビュー（Ｃｏｏｒｄｉｎａｎｔｉｏｎ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  Ｒｅｖｉｅｗ）」、第８４、第８５巻・第２７７頁（１９８８年）及び特開平２−１８２７０１号に記載のルテニウム等の遷移金属を含有する遷移金属錯体、特開平３−２０９４７７号に記載の２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体、四臭化炭素や特開昭５９−１０７３４４号記載の有機ハロゲン化合物等が挙げられる。これらの重合開始剤はラジカル重合可能なエチレン不飽和結合を有する化合物１００質量部に対して０．０１から１０質量部の範囲で含有されるのが好ましい。
【００９８】
カチオン重合系放射線硬化樹脂としては、カチオン重合により高分子化の起こるタイプ（主にエポキシタイプ）のエポキシタイプの紫外線硬化性プレポリマー、モノマーは、１分子内にエポキシ基を２個以上含有するプレポリマーを挙げることができる。このようなプレポリマーとしては、例えば、脂環式ポリエポキシド類、多塩基酸のポリグリシジルエステル類、多価アルコールのポリグリシジルエーテル類、ポリオキシアルキレングリコールのポリグリシジルエーテル類、芳香族ポリオールのポリグリシジルエーテル類、芳香族ポリオールのポリグリシジルエーテル類の水素添加化合物類、ウレタンポリエポキシ化合物類及びエポキシ化ポリブタジエン類等を挙げることができる。これらのプレポリマーは、その一種を単独で使用することもできるし、又、その二種以上を混合して使用することもできる。
【００９９】
カチオン重合系放射線硬化樹脂の開始剤としては、芳香族オニウム塩を挙げることができる。この芳香族オニウム塩として、周期表第Ｖａ族元素の塩、例えばホスホニウム塩（例えばヘキサフルオロリン酸トリフェニルフェナシルホスホニウムなど）、第VIａ族元素の塩、例えばスルホニウム塩（例えばテトラフルオロホウ酸トリフェニルスルホニウム、ヘキサフルオロリン酸トリフェニルスルホニウム、ヘキサフルオロリン酸トリス（４−チオメトキシフェニル）、スルホニウム及びヘキシサフルオロアンチモン酸トリフェニルスルホニウムなど）、及び第VIIａ族元素の塩、例えばヨードニウム塩（例えば塩化ジフェニルヨードニウムなど）を挙げることができる。
【０１００】
このような芳香族オニウム塩をエポキシ化合物の重合におけるカチオン重合開始剤として使用することは、米国特許第４，０５８，４０１号、同第４，０６９，０５５号、同第４，１０１，５１３号及び同第４，１６１，４７８号に詳述されている。
【０１０１】
好ましいカチオン重合開始剤としては、第VIａ族元素のスルホニウム塩が挙げられる。その中でも、紫外線硬化性と紫外線硬化性の組成物の貯蔵安定性の観点からすると、ヘキサフルオロアンチモン酸トリアリールスホニウムが好ましい。又フォトポリマーハンドブック（フォトポリマー懇話会編  工業調査会発行  １９８９年）の３９〜５６頁に記載の公知の光重合開始剤、特開昭６４−１３１４２号、特開平２−４８０４号に記載されている化合物を任意に用いることが可能である。
【０１０２】
本発明において重合性化合物は、（メタ）アクリル系モノマー或いはプレポリマー、エポキシ系モノマー或いはプレポリマー、ウレタン系モノマー或いはプレポリマー等が好ましく用いられるが、更に好ましくは下記化合物である。
【０１０３】
２−エチルヘキシル−ジグリコールアクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシブチルアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、２−アクリロイロキシエチルフタル酸、メトキシ−ポリエチレングリコールアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、２−アクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシエチルフタル酸、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート、エトキシ化フェニルアクリレート、２−アクリロイロキシエチルコハク酸、ノニルフェノールＥＯ付加物アクリレート、変性グリセリントリアクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルアクリル酸付加物、変性ビスフェノールＡジアクリレート、フェノキシ−ポリエチレングリコールアクリレート、２−アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、ビスフェノールＡのＰＯ付加物ジアクリレート、ビスフェノールＡのＥＯ付加物ジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートトリレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ラクトン変性可撓性アクリレート、ブトキシエチルアクリレート、プロピレングリコールジグリシジルエーテルアクリル酸付加物、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、２−ヒドロキシエチルアクリレート、メトキシジプロピレングリコールアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ステアリルアクリレート、イソアミルアクリレート、イソミリスチルアクリレート、イソステアリルアクリレート等。
【０１０４】
本発明においては、上記化合物群の含有量を２０〜９５質量％、好ましくは５０〜９５質量％、更に好ましくは７０〜９５質量％とする。
【０１０５】
更に感度、滲み、記録媒体との密着性をより改善するためには、上記モノアクリレートと、分子量４００以上、好ましくは５００以上の多官能アクリレートモノマー又は多官能アクリレートオリゴマーを併用することが感度、密着性向上の点で好ましい。更に、単官能、二官能、三官能以上の多官能モノマーを併用することが特に好ましい。安全性を維持しつつ、更に、感度、滲み、記録媒体との密着性をより改善することができる。オリゴマーとしてはエポキシアクリレートオリゴマー、ウレタンアクリレートオリゴマーが特に好ましい。
【０１０６】
硬化するための照射光として電子線、Ｘ線等を用いる場合、開始剤は不要であるが、線源としてＵＶ光、可視光、赤外光を用いる場合は、それぞれの波長に応じたラジカル重合開始剤、開始助剤、増感色素を添加する。これらの量は組成物全体の１〜１０質量部が必要となる。開始剤系は公知の様々な化合物を使用することができるが、上記重合性化合物に溶解するものから選択する。具体的な開始剤としては、キサントン又はチオオキサントン系、ベンゾフェノン系、キノン系、フォスフィンオキシド系が挙げられる。
【０１０７】
本発明に用いられるインク組成物において用いることができる溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、ブタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；ジアセトンアルコール等のケトンアルコール類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール等のグリコール類；エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ジエチルセルソルブ、ジエチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルフォルムアミド、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル等のエステル類；ジメチルエーテル、ジエチルエーテル等のエーテル類、水等が挙げられ、それらを単独または２種以上混合して使用することができる。
【０１０８】
本発明に用いられるインク組成物においては、上記溶媒の中でも沸点が１４０〜２５０℃、２５℃での粘度が１〜１５ｍＰａ・ｓの溶媒が少なくとも１種類以上、６０質量％以上含まれることが好ましい。より好ましくは沸点が１８０〜２３０℃、２５℃での粘度が１〜１０ｍＰａ・ｓの溶媒が少なくとも１種類以上、７０質量％以上含まれることが好ましい。本発明でいう沸点とは、１気圧、即ち１．０１３×１０5Ｎ／ｍ2の圧力下での沸点である。沸点の測定は公知の技術を適用できる他、単体の場合には化学便覧等の文献中に記載の値も参照することができる。
【０１０９】
上記の沸点、粘度を満たす溶媒の中でも、下記の一般式（１）で表される化合物がより好ましく用いられる。
一般式（１）  Ｒ1−Ｏ−（ＣxＨ2x−Ｏ）ｎ−Ｒ2
Ｒ1、Ｒ2：水素原子、アリール基、炭素数１〜６のアルキル基、アルコキシアルキル基、アルキルカルボニル基。炭化水素鎖は直鎖でも分岐していてもよい。但し、Ｒ1、Ｒ2の少なくとも一方は水素原子以外の置換基である。
【０１１０】
ｎ：１〜３の整数
ｘ：２〜４の整数
更に好ましくは、ｘ＝２または３、Ｒ2がアセチル基である化合物である。
【０１１１】
本発明のインク組成物に好ましく用いられる溶媒について、具体的には下記の溶媒が挙げられるが、特にこれらに限定されるものではない。
【０１１２】
【表１】
2008268568.tif 000003
【０１１３】
更に、上記一般式（１）で表される化合物について、具体的には下記の溶媒が挙げられるが、特にこれらに限定されるものではない。
【０１１４】
【表２】
2008268568.tif 000004
【０１１５】
上記の他、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノイソプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノメトキシメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート（別名：酢酸２−（エトキシエトキシ）エチル）、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジアセテート、プロピレングリコールジアセテート（別名：１，２−ジアセトキシプロパン）、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等も、好ましく用いられる。
【０１１６】
これらの溶媒の中から沸点、粘度の異なる溶媒を混合してその比率を適宜変更することで、凹凸構造、パターン形状を制御することもできる。
【０１１７】
また、本発明の凹凸構造を形成するインク組成物には実質的に溶媒を含まなくてもよい。ここで言う実質的に溶媒を含まないとは、インク液滴中に溶媒を全く含まないことを意味すると共に、インク液滴中に３．０％までの溶媒を含む場合も意味している。
【０１１８】
インク組成物の粘度の測定は、ＪＩＳ  Ｚ  ８８０９に規定されている粘度計校正用標準液で検定されたものであれば特に制限はなく、回転式、振動式や細管式の粘度計を用いることができる。粘度計としては、Ｓａｙｂｏｌｔ粘度計、Ｒｅｄｗｏｏｄ粘度計等で測定でき、例えば、トキメック社製、円錐平板型Ｅ型粘度計、東機産業社製のＥ  Ｔｙｐｅ  Ｖｉｓｃｏｍｅｔｅｒ（回転粘度計）、東京計器社製のＢ型粘度計ＢＬ、山一電機社製のＦＶＭ−８０Ａ、Ｎａｍｅｔｏｒｅ工業社製のＶｉｓｃｏｌｉｎｅｒ、山一電機社製のＶＩＳＣＯ  ＭＡＴＥ  ＭＯＤＥＬ  ＶＭ−１Ｇ等を挙げることができる。
【０１１９】
（接触角）
本発明に用いられるインクと透明基材との接触角（θ）は、４５〜７０°であることが本発明の効果を得る上で好ましく、より好ましくは５０〜６０°である。７５°以上や４０°以下では、インク液滴の形状が一定とならないことがある。インクの表面張力を調整するためには、前記シリコーンオイル、変性シリコーンオイル、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤、フッ素系樹脂、フッ素系オリゴマー、フッ素変性シリコーンオイル、フッ素系シランカップリング剤等の活性剤を０質量％以上５質量％以下とすることが好ましい。添加量が多過ぎると、凸高さが低くなり過ぎたり、撥水撥油効果により凹凸構造の上にＡ層を塗布できなくなったりして好ましくない。界面活性剤量は、インク組成、溶媒組成、下地基材の表面エネルギーにも依存するため、添加されることが必須ではない。
【０１２０】
上述した接触角の測定方法を図１に示す。図示しない注射器状の液滴調整器に測定する水溶液試料を入れる。（ａ）に示すように、上下左右に位置を変更可能な図示しない試料台に表面を水平に調整した固体試料を載置し、光学鏡でこの固体試料表面を観察する。光学鏡には回転可能な回転クロスが組み込まれている。固体試料の直上に配置された液滴調整器の針先に液滴を作る。
【０１２１】
次に、（ｂ）に示すように、固体試料の表面を上昇させ、液滴を固体試料表面に触れさせる。その後、（ｃ）に示すように、元の位置まで固体試料を下降させ、針先より液滴を固定試料表面に移行させ、更に、液滴を回転クロスの中心に合わせる。
【０１２２】
そして、（ｄ）に示すように、回転クロスを回転させて液滴と固体試料表面の接線を作り、その角度θを読み取る。このθが接触角である。
【０１２３】
この読み取り方法では個人誤差があるので、液滴が円の一部であるという仮定に基づき、（ｅ）〜（ｇ）に示す接触角の読み取り方法が行われる。
【０１２４】
まず、（ｅ）に示すように、回転クロスを４５°に合わせ、クロスが液滴の両側と左右対称に接するように試料台を調整する。次に、（ｆ）に示すように、試料台を上昇させ、クロスの中心を液滴の頂点に合わせる。そして、（ｇ）に示すように、液滴の頂点と固体試料と液滴の接点を結び、その延長上の角度を測定する。その角度が接触角θの半値θ／２となる。接触角は、ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ（協和界面科学（株）製）を用いて測定した。
【０１２５】
（インクジェットヘッド）
図２は、本発明に好適なインクジェット法に用いられるインクジェットヘッドの一例を示す断面図である。
【０１２６】
図２（ａ）はインクジェットヘッドの断面図であり、図２（ｂ）は図２（ａ）のＡ−Ａ線矢視拡大図である。図中、１１は基板、１２は圧電素子、１３は流路板、１３ａはインク流路、１３ｂは壁部、１４は共通液室構成部材、１４ａは共通液室、１５はインク供給パイプ、１６はノズルプレート、１６ａはノズル、１７は駆動用回路プリント板（ＰＣＢ）、１８はリード部、１９は駆動電極、２０は溝、２１は保護板、２２は流体抵抗、２３、２４は電極、２５は上部隔壁、２６はヒータ、２７はヒータ電源、２８は伝熱部材、３０はインクジェットヘッドである。
【０１２７】
集積化されたインクジェットヘッド３０において、電極２３、２４を有する積層された圧電素子１２は、流路１３ａに対応して、該流路１３ａ方向に溝加工が施され、溝２０と駆動圧電素子１２ｂと非駆動圧電素子１２ａに区分される。溝２０には充填剤が封入されている。溝加工が施された圧電素子１２には、上部隔壁２５を介して流路板１３が接合される。すなわち、前記上部隔壁２５は、非駆動圧電素子１２ａと隣接する流路を隔てる壁部１３ｂとで支持される。駆動圧電素子１２ｂの幅は流路１３ａの幅よりも僅かに狭く、駆動用回路プリント板（ＰＣＢ）上の駆動回路により選択された駆動圧電素子１２ｂはパルス状信号電圧を印加すると、該駆動圧電素子１２ｂは厚み方向に変化し、上部隔壁２５を介して流路１３ａの容積が変化し、その結果ノズルプレート１６のノズル１６ａよりインク液滴を吐出する。
【０１２８】
流路板１３上には、伝熱部材２８を介してヒータ２６がそれぞれ接着されている。伝熱部材２８はノズル面にまわり込んで設けられている。伝熱部材２８は、ヒータ２６からの熱を効率良く流路板１３に伝え、かつ、ヒータ２６からの熱をノズル面近傍に運びノズル面近傍の空気を温めることを目的としており、したがって、熱伝導率の良い材料が用いられる。例えば、アルミニウム、鉄、ニッケル、銅、ステンレス等の金属、或いは、ＳｉＣ、ＢｅＯ、ＡｌＮ等のセラミックス等が好ましい材料として挙げられる。
【０１２９】
圧電素子を駆動すると、流路の長手方向に垂直な方向に変位し、流路の容積が変化し、その容積変化によりノズルからインク液滴となって噴射する。圧電素子には常時流路容積が縮小するように保持する信号を与え、選択された流路に対して流路容積を増大する向きに変位させた後、再び流路の容積が縮小する変位を与えるパルス信号を印加することにより、流路と対応するノズルよりインクがインク液滴となって噴射する。
【０１３０】
図３は、本発明で用いることのできるインクジェットヘッド部、ノズルプレートの一例を示す概略図である。
【０１３１】
図３において、図３の（ａ）はヘッド部の断面図、図３の（ｂ）はノズルプレートの平面図である。図中、１０は基材フィルム、３１はインク液滴、３２はノズル、２９は活性光線照射部である。ノズル３２より噴射したインク液滴３１は基材フィルム１０方向に飛翔して付着する。基材フィルム１０上に着弾したインク液滴は、その上流部に配置されている活性光線照射部より、活性光線を直ちに照射され、硬化する。尚、３５は基材フィルム１０を保持するバックロールである。
【０１３２】
本発明においては、図３の（ｂ）に記載のように、インクジェットヘッド部のノズルは、千鳥状に配置することが好ましく、また、基材フィルム１０の搬送方向に並列に多段に設けることが好ましい。また、インク吐出の際にインクジェットヘッド部に微細な振動を与え、インク滴がランダムに透明基材上に着弾するようにすることが好ましい。これによって、干渉縞の発生を抑制することができる。微細な振動は、高周波電圧、音波、超音波などによって与えることができるが、特にこれらに限定されない。
【０１３３】
本発明に用いられる凹凸構造の形成方法は、多ノズルからインク小液滴を吐出して形成するインクジェット法を用いることが好ましい。図４に、本発明で好ましく用いることのできるインクジェット法の一例を示す。
【０１３４】
図４において、図４の（ａ）は、インクジェットヘッド３０を透明基材フィルム１０の幅手方向に配置し、透明基材フィルム１０を搬送しながらその表面に凹凸構造を形成する方法（ラインヘッド方式）であり、図４の（ｂ）はインクジェットヘッド３０が副走査方向に移動しながらその表面に凹凸構造を形成する方法（フラットヘッド方式）であり、図４の（ｃ）はインクジェットヘッド３０が、透明基材フィルム１０上の幅手方向を走査しながらその表面に凹凸構造を形成する方法（キャプスタン方式）であり、いずれの方式も用いることができるが、本発明においては、生産性の観点からラインヘッド方式が好ましい。尚、図４の（ａ）〜（ｃ）に記載の２９のように、インクとして前述の活性光線硬化型樹脂を用いる場合に使用する活性光線照射部を取り付けることが好ましい。
【０１３５】
また、本発明においては、図４の（ａ）、（ｂ）、（ｃ）の基材フィルムの搬送方向の下流側に、別の活性光線照射部を設けてもよい。
【０１３６】
本発明において、凹凸構造を形成するため、インク液滴の吐出量としては０．１〜２０ｐｌが好ましく、０．５〜１０ｐｌがより好ましく、０．５〜５ｐｌが特に好ましい。また、異なるインクジェットヘッド部からそれぞれ異なる液滴量のインクを吐出してもよく、同じインクジェットヘッド部から液滴量を変えてインクを吐出してもよく、この時の吐出間隔も一定間隔でもランダムであってもよい。
【０１３７】
〈金型型押しによるＢ層の形成〉
Ａ層及びＢ層の界面に凹凸構造を形成する目的で、Ｂ層を金型等により型押しすることも好ましい。Ｂ層は基材フィルムが後述す熱可塑性樹脂フィルムであって、該熱可塑性樹脂フィルムに金型から形状を転写して形成してもよく、または基材フィルム上に形成されたＢ層前駆層に凹凸を持った金型から形状を転写することによりＢ層を形成してもよい。該Ｂ層前駆層に熱可塑性樹脂を用い熱により金型の形状を転写することや、前記活性エネルギー線硬化性樹脂を用いて金型の形状を転写することも好ましく行われる。
【０１３８】
本発明において、熱可塑性樹脂フィルムを再加熱して硬度を低くして型押ししやすい状態で凹凸加工する製造方法と、熱可塑性樹脂フィルムを溶液流延法、溶融流延法によりフィルムを製造する途中のフィルムが軟らかい状態で、そのフィルム表面に型押し部材を押し付けて支持体フィルムを凹凸加工する製造方法と、支持体フィルム上にコーティングするＢ層前駆層等の塗布層が軟らかい状態で、支持体フィムル上のコーティング層の表面に型押し部材を押し付けてコーティング層の表面を凹凸加工する製造方法等が挙げられる。
【０１３９】
本発明の凹凸構造形成に用いられる金型としては、凹凸が細かいもの、粗いものまで、適宜選択して適用でき、模様、マット状、レンチキュラーレンズ状、球面の一部からなる凹部または凸部、プリズム状の凹凸を形成するための鋳型が規則正しくもしくはランダムに配列されたものが使用できる。金型の形状としては、板状、フィルム状、ベルト状の型押し部材でもよい。中でも、ロールまたは無端ベルトであることが好ましい。
【０１４０】
金型の材質は、金属、ステンレス、炭素鋼、アルミニウム合金、チタン合金、セラミック、硬質ゴム、強化プラスチック、石英またはこれらを組み合わせた素材などが使用できるが、強度の点や加工のし易さの点から金型は金属が好ましい。特に洗浄のし易さ、耐久性も重要であり、ステンレス製の金型を使用することが好ましい。また、表面に撥水もしくは撥水加工を施してもよい。金型に所望の凹凸面を形成する方法としてはエッチングによる方法、サンドブラストによる方法、機械的に加工する方法、レーザーを用いる方法または金型等を使用して形成することができる。
【０１４１】
Ｂ層前駆層に用いることのできる熱硬化性樹脂としては、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ビニルエステル樹脂、フェノール樹脂、熱硬化性ポリイミド樹脂、熱硬化性ポリアミドイミドなどを挙げることができる。
【０１４２】
不飽和ポリエステル樹脂としては、例えば、オルソフタル酸系樹脂、イソフタル酸系樹脂、テレフタル酸系樹脂、ビスフェノール系樹脂、プロピレングリコール−マレイン酸系樹脂、ジシクロペンタジエンないしその誘導体を不飽和ポリエステル組成に導入して低分子量化した、或いは被膜形成性のワックスコンパウンドを添加した低スチレン揮発性樹脂、熱可塑性樹脂（ポリ酢酸ビニル樹脂、スチレン・ブタジエン共重合体、ポリスチレン、飽和ポリエステルなど）を添加した低収縮性樹脂、不飽和ポリエステルを直接Ｂｒ2でブロム化する、或いはヘット酸、ジブロムネオペンチルグリコールを共重合するなどした反応性タイプ、塩素化パラフィン、テトラブロムビスフェノール等のハロゲン化物と三酸化アンチモン、燐化合物の組み合わせや水酸化アルミニウムなどを添加剤として用いる添加タイプの難燃性樹脂、ポリウレタンやシリコーンとハイブリッド化、またはＩＰＮ化した強靭性（高強度、高弾性率、高伸び率）の強靭性樹脂等がある。
【０１４３】
エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡ型、ノボラックフェノール型、ビスフェノールＦ型、臭素化ビスフェノールＡ型を含むグリシジルエーテル系エポキシ樹脂、グリシジルアミン系、グリシジルエステル系、環式脂肪系、複素環式エポキシ系を含む特殊エポキシ樹脂等を挙げることができる。
【０１４４】
ビニルエステル樹脂としては、例えば、普通エポキシ樹脂とメタクリル酸等の不飽和一塩基酸とを開環付加反応して得られるオリゴマーをスチレン等のモノマーに溶解した物である。また、分子末端や側鎖にビニル基を持ちビニルモノマーを含有する等の特殊タイプもある。グリシジルエーテル系エポキシ樹脂のビニルエステル樹脂としては、例えば、ビスフェノール系、ノボラック系、臭素化ビスフェノール系等があり、特殊ビニルエステル樹脂としてはビニルエステルウレタン系、イソシアヌル酸ビニル系、側鎖ビニルエステル系等がある。
【０１４５】
フェノール樹脂は、フェノール類とフォルムアルデヒド類を原料として重縮合して得られ、レゾール型とノボラック型がある。
【０１４６】
熱硬化性ポリイミド樹脂としては、例えば、マレイン酸系ポリイミド、例えばポリマレイミドアミン、ポリアミノビスマレイミド、ビスマレイミド・Ｏ，Ｏ′−ジアリルビスフェノール−Ａ樹脂、ビスマレイミド・トリアジン樹脂等、またナジック酸変性ポリイミド、及びアセチレン末端ポリイミド等がある。
【０１４７】
本発明において、支持体フィルム上にコーティングするＢ層前駆層等の表面に金型を押し付けてコーティング層の表面を凹凸加工する場合は、コーティング層を塗布した後、硬化前または硬化中に金型を押し付けて凹凸構造を設けた後、活性エネルギー線の照射や熱により硬化する。
【０１４８】
本発明において、金型等型押し部材ロールの表面温度Ｔ１は、用いる熱可塑性樹脂や活性エネルギー線硬化樹脂の熱変形温度Ｔ２に対してＴ２＋１０℃〜Ｔ２＋５５℃、好ましくはＴ２＋３０℃〜Ｔ２＋５０℃であることが好ましい。尚、熱変形温度Ｔ２とは、ＡＳＴＭＤ−６４８に従って測定した値である。
【０１４９】
《Ａ層の形成》
本発明のＡ層は、上記Ｂ層の凹凸構造を被覆するように形成される。
【０１５０】
更に、Ａ層の屈折率がＢ層の屈折率より大きいことが、正面輝度を向上させる上で好ましく、他条件が同一であれば、屈折率差が大きいほど正面輝度の上昇度合いは大きい傾向が見られる。しかしながら、Ａ層及びＢ層の屈折率差が１．０を超えると、Ａ層の屈折率は必然的に高くなり、膜として硬く脆い性質を持つ傾向があるため、偏光板保護フィルムとして可撓性を維持する観点から、屈折率差が１．０以下であることが好ましい。
【０１５１】
本発明のＡ層に使用される素材は、可視光における透明性が高く、屈折率の高い素材が好ましく、Ｂ層に用いられるバインダーの中から好適な樹脂を選択して用いることができる。例えば、ポリスチレン、ポリイミド、ポリカーボネート、フルオレン系ポリマー、ポリエーテルサルフォン、ポリエーテルイミド、アクリル樹脂などが好適に用いられる。また、一般的にポリマー中に、芳香族環やヨウ素等の元素を含む比率が高いほど、高屈折率なポリマーとなる。
【０１５２】
更に、Ａ層の高屈折率化のため、Ａ層の樹脂にナノサイズの高屈折微粒子などを添加することも好ましく用いられる。特に、屈折率を調整するために金属酸化物微粒子を含むことが好ましい。Ａ層の屈折率を調整する手段は、金属酸化物微粒子の種類、添加量が支配的である為、金属酸化物微粒子の屈折率は１．８０〜２．６０であることが好ましく、１．８５〜２．５０であることが更に好ましい。
【０１５３】
金属酸化物微粒子としては、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ａｓ、Ｚｎ、Ｎｂ、Ｉｎ、Ａｌから選択される金属酸化物微粒子が好ましく、具体的には、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウム、ＩＴＯ（インジウムティンオキサイド）、ＡＴＯ（アンチモンドープティンオキサイド）、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。特に、酸化ジルコニウム、ＩＴＯ、ＡＴＯ等が好ましく用いられる。
【０１５４】
これらの微粒子粉末の平均粒径としては、０．００５〜５μｍが好ましく０．０１〜４μｍであることが特に好ましい。また、粒径の異なる２種以上の微粒子を含有することが好ましい。バインダーと微粒子の割合は、Ａ層中に０．１〜８０質量％であることが好ましく、１０〜８０質量％であることがより好ましく、２０〜７５質量％が最も好ましい。となるように配合することが望ましい。
【０１５５】
上記金属酸化物微粒子は、媒体に分散した分散体の状態で、Ａ層を形成するための塗布液に供される。金属酸化物粒子の分散媒体としては、沸点が６０〜１７０℃の液体を用いることが好ましい。分散溶媒の具体例としては、水、アルコール（例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、ケトンアルコール（例、ジアセトンアルコール）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）が挙げられる。中でも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びブタノールが特に好ましい。
【０１５６】
また金属酸化物微粒子は、分散機を用いて媒体中に分散することができる。分散機の例としては、サンドグラインダーミル（例、ピン付きビーズミル）、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライター及びコロイドミルが挙げられる。サンドグラインダーミル及び高速インペラーミルが特に好ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例としては、ボールミル、三本ロールミル、ニーダー及びエクストルーダーが挙げられる。
【０１５７】
本発明におけるＡ層の屈折率は、正面輝度を向上する上で屈折率が１．５７〜２．００であることが好ましい。また、Ａ層の膜厚は、光学特性、及び十分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から１〜４０μｍが好ましく、１０〜３０μｍがより好ましい。
【０１５８】
Ａ層に含有されるバインダー、及び塗布、硬化の方法は、前記Ｂ層のバインダーと同様な材料及び方法を好ましく用いることができる。
【０１５９】
《基材フィルム》
本発明における基材フィルムは特に限定されるものではないが、製造が容易であること、本発明でいうＡ層もしくはＢ層との密着性が良好であること、光学的に等方性であること、熱可塑性であること等が好ましく、特に透明フィルムであることが好ましい。
【０１６０】
本発明でいう透明とは、可視光の透過率６０％以上であることをさし、好ましくは８０％以上であり、特に好ましくは９０％以上である。
【０１６１】
上記の性質を有していれば特に限定はないが、例えば、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム等のセルロースエステルフィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム，ポリカーボネートフィルム、シクロオレフィン樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルムまたはガラス板等を挙げることができる。
【０１６２】
本発明では可視域での高い透過率の観点でシクロオレフィン樹脂フィルム、セルロースエステルフィルムが好ましく用いられ、セルロースエステルフィルムは、ケン化処理を経てポリビニルアルコール（以下ＰＶＡとも記載する）を接着剤として、ヨウ素吸収型偏光子と容易に接着することができるため好ましく用いられる。
【０１６３】
（セルロースエステルフィルム）
本発明においては、前記偏光板への加工適性の観点からセルロースエステルフィルムを用いることが好ましい。
【０１６４】
セルロースエステルの原料のセルロースとしては、特に限定はないが、綿花リンター、木材パルプ（針葉樹由来、広葉樹由来）、ケナフ等を挙げることができる。またそれらから得られたセルロースエステルはそれぞれ任意の割合で混合使用することができる。これらのセルロースエステルは、アシル化剤が酸無水物（無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸）である場合には、酢酸のような有機酸やメチレンクロライド等の有機溶媒を用い、硫酸のようなプロトン性触媒を用いてセルロース原料と反応させて得る。
【０１６５】
アシル化剤が酸クロライド（ＣＨ3ＣＯＣｌ、Ｃ2Ｈ5ＣＯＣｌ、Ｃ3Ｈ7ＣＯＣｌ）の場合には、触媒としてアミンのような塩基性化合物を用いて反応が行われる。具体的には、特開平１０−４５８０４号に記載の方法等を参考にして合成することができる。また、本発明に用いられるセルロースエステルは各置換度に合わせて上記アシル化剤量を混合して反応させたものであり、セルロースエステルはこれらアシル化剤がセルロース分子の水酸基に反応する。セルロース分子はグルコースユニットが多数連結したものからなっており、グルコースユニットに３個の水酸基がある。この３個の水酸基にアシル基が誘導された数を置換度（モル％）という。例えば、セルローストリアセテートはグルコースユニットの３個の水酸基全てにアセチル基が結合している（実際には２．６〜３．０）。
【０１６６】
本発明に用いられるセルロースエステルは、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートが好ましく、中でもセルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートフタレート、セルロースアセテートプロピオネートが好ましく用いられる。
【０１６７】
中でも、プロピオネート基を置換基として含むセルロースアセテートプロピオネートは耐水性に優れ、偏光板の保護フィルムとして好ましい。
【０１６８】
特にアセチル基の置換度をＸ、プロピオニル基の置換度をＹとした時、ＸとＹが下記の範囲にあるセルロースアセテートプロピオネートが好ましい。
【０１６９】
２．０≦Ｘ＋Ｙ≦２．９
０．１≦Ｙ≦１．８
特に、２．２≦Ｘ＋Ｙ≦２．８
０．３≦Ｙ≦１．２であることが好ましい。
【０１７０】
アシル基の置換度の測定方法はＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６の規定に準じて測定することができる。
【０１７１】
セルロースエステルの数平均分子量は、５００００〜２５００００が、成型した場合の機械的強度が強く、かつ、適度なドープ粘度となり好ましく、さらに好ましくは、８００００〜１５００００である。
【０１７２】
また、重量平均分子量（Ｍｗ）で５００００〜３５００００のものが用いられる。６００００〜３０００００のものが更に好ましく、８００００〜２５００００が特に好ましい。
【０１７３】
セルロースエステルの平均分子量及び分子量分布は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーを用いて公知の方法で測定することができる。これを用いて数平均分子量、重量平均分子量を測定する。
【０１７４】
測定条件は以下の通りである。
【０１７５】
〈ゲルパーミエーションクロマトグラフィー：ＧＰＣによる分子量測定〉
ＧＰＣによる数平均分子量の測定方法は、試料固形分濃度が０．１％となるようにテトラヒドロフランを用いて希釈した。粒子を含むためフィルターを用いて粒子を除去し、カラム温度２５℃で、以下の条件により測定を行った。
【０１７６】
カラム；東ソー社ＴＳＫｇｅｌＧ５０００ＨＸＬ−ＴＳＫｇｅｌＧ２０００Ｈ  ＸＬ
溶離液；ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）
ポンプ；Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量    ：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
検出    ；ＲＩ    Ｍｏｄｅｌ    ５０４（ＧＬサイエンス社製）
試料濃度；０．８％
標準試料・校正曲線；標準ポリスチレンＳＴＫ  ｓｔａｎｄａｒｄ  ポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝１００００００〜５００迄の１３サンプルによる校正曲線を使用する。１３サンプルは、ほぼ等間隔にすることが好ましい。
【０１７７】
本発明に用いられる透明基材フィルムは、下記のような可塑剤を含有するのが好ましい。可塑剤としては、例えば、リン酸エステル系可塑剤、多価アルコールエステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、トリメリット酸エステル系可塑剤、ピロメリット酸系可塑剤、グリコレート系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤、脂肪酸エステル系可塑剤、多価カルボン酸エステル系可塑剤等を好ましく用いることができる。
【０１７８】
中でも、多価アルコールエステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、脂肪酸エステル系可塑剤、グリコレート系可塑剤、多価カルボン酸エステル系可塑剤等が好ましい。特に多価アルコールエステル系可塑剤を用いることが好ましい。
【０１７９】
多価アルコールエステル系可塑剤は２価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなる可塑剤であり、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有することが好ましい。好ましくは２〜２０価の脂肪族多価アルコールエステルである。
【０１８０】
本発明に好ましく用いられる多価アルコールは次の一般式（ｂ）で表される。
【０１８１】
一般式（ｂ）    Ｒ1−（ＯＨ）n
但し、Ｒ1はｎ価の有機基、ｎは２以上の正の整数、ＯＨ基はアルコール性、及び／またはフェノール性水酸基を表す。
【０１８２】
好ましい多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ジブチレングリコール、１，２，４−ブタントリオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等を挙げることができる。特に、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールが好ましい。
【０１８３】
多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることができる。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。
【０１８４】
好ましいモノカルボン酸の例としては以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。
【０１８５】
脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を有する脂肪酸を好ましく用いることができる。炭素数は１〜２０であることが更に好ましく、１〜１０であることが特に好ましい。酢酸を含有させるとセルロースエステルとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。
【０１８６】
好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることができる。
【０１８７】
好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。
【０１８８】
好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基、メトキシ基或いはエトキシ基などのアルコキシ基を１〜３個を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタレンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を２個以上有する芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。特に安息香酸が好ましい。
【０１８９】
多価アルコールエステルの分子量は特に制限はないが、３００〜１５００であることが好ましく、３５０〜７５０であることが更に好ましい。分子量が大きい方が揮発し難くなるため好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。
【０１９０】
多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は１種類でもよいし、２種以上の混合であってもよい。また、多価アルコール中のＯＨ基は、全てエステル化してもよいし、一部をＯＨ基のままで残してもよい。
【０１９１】
以下に、多価アルコールエステルの具体的化合物を例示する。
【０１９２】
【化１】
2008268568.tif 000005
【０１９３】
【化２】
2008268568.tif 000006
【０１９４】
【化３】
2008268568.tif 000007
【０１９５】
【化４】
2008268568.tif 000008
【０１９６】
グリコレート系可塑剤は特に限定されないが、アルキルフタリルアルキルグリコレート類が好ましく用いることができる。アルキルフタリルアルキルグリコレート類としては、例えばメチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等が挙げられる。
【０１９７】
フタル酸エステル系可塑剤としては、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ジオクチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジシクロヘキシルテレフタレート等が挙げられる。
【０１９８】
クエン酸エステル系可塑剤としては、クエン酸アセチルトリメチル、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル等が挙げられる。
【０１９９】
脂肪酸エステル系可塑剤として、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル等が挙げられる。
【０２００】
多価カルボン酸エステル系可塑剤も好ましく用いることができる。具体的には特開２００２−２６５６３９号公報の段落番号［００１５］〜［００２０］記載の多価カルボン酸エステルを可塑剤の一つとして添加することが好ましい。
【０２０１】
また、他の可塑剤としてリン酸エステル系可塑剤を用いることもでき、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等が挙げられる。
【０２０２】
このほか、特開２００３−１２８５９号記載のアクリルポリマーなどを含有させることも好ましい。
【０２０３】
透明基材フィルム中の上記可塑剤の総含有量は、固形分総量に対し、５〜２０質量％が好ましく、６〜１６質量％が更に好ましく、特に好ましくは８〜１３質量％である。また、２種の可塑剤の含有量は各々少なくとも１質量％以上であり、好ましくは各々２質量％以上含有することである。
【０２０４】
多価アルコールエステル系可塑剤は１〜１５質量％含有することが好ましく、特に３〜１１質量％含有することが好ましい。少ないと平面性の劣化が認められ、多過ぎるとブリードアウトがしやすい。多価アルコールエステル系可塑剤とその他の可塑剤との質量比率は１：４〜４：１の範囲であることが好ましく、１：３〜３：１であることが更に好ましい。可塑剤の添加量が多過ぎても、また少な過ぎてもフィルムが変形しやすく好ましくない。
【０２０５】
本発明の透明基材フィルムには、紫外線吸収剤が好ましく用いられる。
【０２０６】
紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。
【０２０７】
本発明に好ましく用いられる紫外線吸収剤の具体例としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物等が挙げられるが、これらに限定されない。
【０２０８】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば下記の紫外線吸収剤を具体例として挙げるが、本発明はこれらに限定されない。
【０２０９】
ＵＶ−１：２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−２：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−３：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−４：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール
ＵＶ−５：２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−６：２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）
ＵＶ−７：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール
ＵＶ−８：２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ１７１、Ｃｉｂａ製）
ＵＶ−９：オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物（ＴＩＮＵＶＩＮ１０９、Ｃｉｂａ製）
また、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては下記の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。
【０２１０】
ＵＶ−１０：２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン
ＵＶ−１１：２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン
ＵＶ−１２：２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン
ＵＶ−１３：ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）
本発明で好ましく用いられる紫外線吸収剤としては、透明性が高く、偏光板や液晶の劣化を防ぐ効果に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく、不要な着色がより少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特に好ましく用いられる。
【０２１１】
また、特開２００１−１８７８２５号に記載されている分配係数が９．２以上の紫外線吸収剤は、長尺フィルムの面品質を向上させ、塗布性にも優れている。特に分配係数が１０．１以上の紫外線吸収剤を用いることが好ましい。
【０２１２】
また、特開平６−１４８４３０号に記載の一般式（１）または一般式（２）、特願２０００−１５６０３９号の一般式（３）、（６）、（７）記載の高分子紫外線吸収剤（または紫外線吸収性ポリマー）も好ましく用いられる。高分子紫外線吸収剤としては、ＰＵＶＡ−３０Ｍ（大塚化学（株）製）等が市販されている。
【０２１３】
また、本発明の透明基材フィルムには滑り性を付与するため、微粒子を用いることができる。
【０２１４】
微粒子としては、無機化合物の例としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子は珪素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。
【０２１５】
微粒子の一次粒子の平均粒子径は５〜５０ｎｍが好ましく、さらに好ましいのは７〜２０ｎｍである。これらは主に粒子径０．０５〜０．３μｍの２次凝集体として含有されることが好ましい。透明基材フィルム中のこれらの微粒子の含有量は０．０５〜１質量％であることが好ましく、特に０．１〜０．５質量％が好ましい。共流延法による多層構成のフィルムの場合は、表面にこの添加量の微粒子を含有することが好ましい。
【０２１６】
二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。
【０２１７】
酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。
【０２１８】
微粒子としてポリマー粒子を用いることもでき、ポリマーの例として、シリコーン樹脂、フッ素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることができる。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１４５、同３１２０及び同２４０（以上東芝シリコーン（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。
【０２１９】
これらの中でもアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖが透明基材フィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数を下げる効果が大きいため特に好ましく用いられる。本発明の透明基材フィルムにおいてはハードコート層を設けるのとは反対面側の動摩擦係数が１．０以下であることが好ましい。
【０２２０】
本発明の透明基材フィルムとして、市販のセルロースエステルフィルムを用いることも好ましく、例えば、コニカミノルタタック  ＫＣ８ＵＸ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ８ＵＣＲ４、ＫＣ８ＵＣＲ５、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ１２ＵＲ、ＫＣ４ＦＲ（コニカミノルタオプト（株）製）等が、製造上、コスト面、透明性、密着性等の観点から好ましく用いられる。これらのフィルムは、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。
【０２２１】
（溶液流延法）
透明基材フィルムの溶液流延法による製膜は、セルロースエステル、及び上記各種添加剤を溶剤に溶解させてドープを調製する工程、ドープをベルト状もしくはドラム状の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体から剥離する工程、延伸または幅保持する工程、さらに乾燥する工程、仕上がったフィルムを巻取る工程により行われる。
【０２２２】
ドープを調製する工程について述べる。ドープ中のセルロースエステルの濃度は、濃度が高い方が金属支持体に流延した後の乾燥負荷が低減できて好ましいが、セルロースエステルの濃度が高過ぎると濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これらを両立する濃度としては、１０〜３５質量％が好ましく、さらに好ましくは、１５〜２５質量％である。
【０２２３】
ドープで用いられる溶剤は、単独で用いても２種以上を併用してもよいが、セルロースエステルの良溶剤と貧溶剤を混合して使用することが生産効率の点で好ましく、良溶剤が多い方がセルロースエステルの溶解性の点で好ましい。良溶剤と貧溶剤の混合比率の好ましい範囲は、良溶剤が７０〜９８質量％であり、貧溶剤が２〜３０質量％である。良溶剤、貧溶剤とは、使用するセルロースエステルを単独で溶解するものを良溶剤、単独で膨潤するかまたは溶解しないものを貧溶剤と定義している。そのため、セルロースエステルのアシル基置換度によっては、良溶剤、貧溶剤が変わり、例えばアセトンを溶剤として用いる時には、セルロースの酢酸エステル（アセチル基置換度２．４）、セルロースアセテートプロピオネートでは良溶剤になり、セルロースの酢酸エステル（アセチル基置換度２．８）では貧溶剤となる。
【０２２４】
本発明に用いられる良溶剤は特に限定されないが、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物やジオキソラン類、アセトン、酢酸メチル、アセト酢酸メチル等が挙げられる。特に好ましくはメチレンクロライドまたは酢酸メチルが挙げられる。
【０２２５】
また、本発明に用いられる貧溶剤は特に限定されないが、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−ブタノール、シクロヘキサン、シクロヘキサノン等が好ましく用いられる。また、ドープ中には水が０．０１〜２質量％含有していることが好ましい。
【０２２６】
上記記載のドープを調製する時の、セルロースエステルの溶解方法としては、一般的な方法を用いることができる。加熱と加圧を組み合わせると常圧における沸点以上に加熱できる。溶剤の常圧での沸点以上でかつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら攪拌溶解すると、ゲルやママコと呼ばれる塊状未溶解物の発生を防止するため好ましい。また、セルロースエステルを貧溶剤と混合して湿潤または膨潤させた後、さらに良溶剤を添加して溶解する方法も好ましく用いられる。
【０２２７】
加圧は窒素ガス等の不活性気体を圧入する方法や、加熱によって溶剤の蒸気圧を上昇させる方法によって行ってもよい。加熱は外部から行うことが好ましく、例えばジャケットタイプのものは温度コントロールが容易で好ましい。
【０２２８】
溶剤を添加しての加熱温度は、高い方がセルロースエステルの溶解性の観点から好ましいが、加熱温度が高過ぎると必要とされる圧力が大きくなり生産性が悪くなる。好ましい加熱温度は４５〜１２０℃であり、６０〜１１０℃がより好ましく、７０℃〜１０５℃がさらに好ましい。また、圧力は設定温度で溶剤が沸騰しないように調整される。
【０２２９】
または冷却溶解法も好ましく用いられ、これによって酢酸メチル等の溶媒にセルロースエステルを溶解させることができる。
【０２３０】
調製されたセルロースエステル溶液を濾紙等の適当な濾過材を用いて濾過する。濾過材としては、不溶物等を除去するために絶対濾過精度が小さい方が好ましいが、絶対濾過精度が小さ過ぎると濾過材の目詰まりが発生しやすいという問題がある。このため絶対濾過精度０．００８ｍｍ以下の濾材が好ましく、０．００１〜０．００８ｍｍの濾材がより好ましく、０．００３〜０．００６ｍｍの濾材がさらに好ましい。
【０２３１】
濾材の材質は特に制限はなく、通常の濾材を使用することができるが、ポリプロピレン、テフロン（登録商標）等のプラスチック製の濾材や、ステンレススティール等の金属製の濾材が繊維の脱落等がなく好ましい。濾過により、原料のセルロースエステルに含まれている不純物、特に輝点異物を除去、低減することが好ましい。
【０２３２】
輝点異物とは、２枚の偏光板をクロスニコル状態にして配置し、その間に透明基材フィルムを置き、一方の偏光板の側から光を当てて、他方の偏光板の側から観察した時に反対側からの光が漏れて見える点（異物）のことであり、径が０．０１ｍｍ以上である輝点数が２００個／ｃｍ2以下であることが好ましい。より好ましくは１００個／ｃｍ2以下であり、さらに好ましくは５０個／ｍ2以下であり、さらに好ましくは０〜１０個／ｃｍ2以下である。また、０．０１ｍｍ以下の輝点も少ない方が好ましい。
【０２３３】
ドープの濾過は通常の方法で行うことができるが、溶剤の常圧での沸点以上で、かつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら濾過する方法が、濾過前後の濾圧の差（差圧という）の上昇が小さく、好ましい。好ましい温度は４５〜１２０℃であり、４５〜７０℃がより好ましく、４５〜５５℃であることがさらに好ましい。
【０２３４】
濾圧は小さい方が好ましい。濾圧は１．６ＭＰａ以下であることが好ましく、１．２ＭＰａ以下であることがより好ましく、１．０ＭＰａ以下であることがさらに好ましい。
【０２３５】
ここで、ドープの流延について説明する。
【０２３６】
流延（キャスト）工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルトもしくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。キャストの幅は１〜４ｍとすることができる。流延工程の金属支持体の表面温度は−５０℃〜溶剤が沸騰して発泡しない温度以下に設定される。温度が高い方がウェブの乾燥速度が速くできるので好ましいが、余り高過ぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。好ましい支持体温度としては０〜１００℃で適宜決定され、５〜３０℃がさらに好ましい。または、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風または冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。温風を用いる場合は溶媒の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。特に、流延から剥離するまでの間で支持体の温度及び乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。
【０２３７】
透明基材フィルムが良好な平面性を示すためには、金属支持体からウェブを剥離する際の残留溶媒量は１０〜１５０質量％が好ましく、さらに好ましくは２０〜４０質量％または６０〜１３０質量％であり、特に好ましくは、２０〜３０質量％または７０〜１２０質量％である。
【０２３８】
本発明においては、残留溶媒量は下記式で定義される。
【０２３９】
残留溶媒量（質量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００
尚、Ｍはウェブまたはフィルムを製造中または製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、ＮはＭを１１５℃で１時間の加熱後の質量である。
【０２４０】
また、透明基材フィルムの乾燥工程においては、ウェブを金属支持体より剥離し、さらに乾燥し、残留溶媒量を１質量％以下にすることが好ましく、さらに好ましくは０．１質量％以下であり、特に好ましくは０〜０．０１質量％以下である。
【０２４１】
フィルム乾燥工程では一般にロール乾燥方式（上下に配置した多数のロールにウェブを交互に通し乾燥させる方式）やテンター方式でウェブを搬送させながら乾燥する方式が採られる。
【０２４２】
本発明の透明基材フィルムは、金属支持体より剥離した直後のウェブの残留溶剤量の多いところで搬送方向に延伸し、さらにウェブの両端をクリップ等で把持するテンター方式で幅方向に延伸を行うことが好ましい。縦方向、横方向ともに好ましい延伸倍率は１．０１〜１．３倍であり、１．０５〜１．１５倍がさらに好ましい。縦方向及び横方向延伸により面積が１．１２〜１．４４倍となっていることが好ましく、１．１５〜１．３２倍となっていることが好ましい。これは縦方向の延伸倍率×横方向の延伸倍率で求めることができる。縦方向と横方向の延伸倍率のいずれかが１．０１倍以上であれば平面性のよいフィルムが得られ好ましい。
【０２４３】
剥離直後に縦方向に延伸するために、剥離張力及びその後の搬送張力によって延伸することが好ましい。例えば剥離張力を２１０Ｎ／ｍ以上で剥離することが好ましく、特に好ましくは２２０〜３００Ｎ／ｍである。
【０２４４】
ウェブを乾燥させる手段は特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等で行うことができるが、簡便さの点で熱風で行うことが好ましい。
【０２４５】
ウェブの乾燥工程における乾燥温度は３０〜２００℃で段階的に高くしていくことが好ましく、５０〜１８０℃の範囲で段階的に高くすることが寸法安定性をよくするためさらに好ましい。
【０２４６】
透明基材フィルムの膜厚は、特に限定はされないが１０〜２００μｍが好ましく用いられる。特に膜厚は１０〜１００μｍであることが特に好ましい。さらに好ましくは２０〜８０μｍである。最も好ましくは３５〜６０μｍである。また、共流延法によって多層構成とした透明基材フィルムも好ましく用いることができる。
【０２４７】
本発明の透明基材フィルムは、幅１ｍ以上であり、幅１．４〜４ｍのものが好ましく用いられる。特に好ましくは１．４〜３ｍである。４ｍを超えると搬送が困難となる。
【０２４８】
（シクロオレフィン樹脂フィルム）
本発明に用いられるシクロオレフィン樹脂は脂環式構造を含有する重合体樹脂からなるものである。
【０２４９】
好ましいシクロオレフィン樹脂は、環状オレフィンを重合または共重合した樹脂である。環状オレフィンとしては、ノルボルネン、ジシクロペンタジエン、テトラシクロドデセン、エチルテトラシクロドデセン、エチリデンテトラシクロドデセン、テトラシクロ〔７．４．０．１１０，１３．０２，７〕トリデカ−２，４，６，１１−テトラエンなどの多環構造の不飽和炭化水素及びその誘導体；シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、３，４−ジメチルシクロペンテン、３−メチルシクロヘキセン、２−（２−メチルブチル）−１−シクロヘキセン、シクロオクテン、３ａ，５，６，７ａ−テトラヒドロ−４，７−メタノ−１Ｈ−インデン、シクロヘプテン、シクロペンタジエン、シクロヘキサジエンなどの単環構造の不飽和炭化水素及びその誘導体等が挙げられる。これら環状オレフィンには置換基として極性基を有していてもよい。極性基としては、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシル基、エポキシ基、グリシジル基、オキシカルボニル基、カルボニル基、アミノ基、エステル基、カルボン酸無水物基などが挙げられ、特に、エステル基、カルボキシル基またはカルボン酸無水物基が好適である。
【０２５０】
好ましいシクロオレフィン樹脂は、環状オレフィン以外の単量体を付加共重合したものであってもよい。付加共重合可能な単量体としては、エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテンなどのエチレンまたはα−オレフィン；１，４−ヘキサジエン、４−メチル−１，４−ヘキサジエン、５−メチル−１，４−ヘキサジエン、１，７−オクタジエンなどのジエン等が挙げられる。
【０２５１】
環状オレフィンは、付加重合反応或いはメタセシス開環重合反応によって得られる。重合は触媒の存在下で行われる。付加重合用触媒として、例えば、バナジウム化合物と有機アルミニウム化合物とからなる重合触媒などが挙げられる。開環重合用触媒として、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金などの金属のハロゲン化物、硝酸塩またはアセチルアセトン化合物と、還元剤とからなる重合触媒；或いは、チタン、バナジウム、ジルコニウム、タングステン、モリブデンなどの金属のハロゲン化物またはアセチルアセトン化合物と、有機アルミニウム化合物とからなる重合触媒などが挙げられる。重合温度、圧力等は特に限定されないが、通常−５０℃〜１００℃の重合温度、０〜４９０Ｎ／ｃｍ2の重合圧力で重合させる。
【０２５２】
本発明に用いるシクロオレフィン樹脂は、環状オレフィンを重合または共重合させた後、水素添加反応させて、分子中の不飽和結合を飽和結合に変えたものであることが好ましい。水素添加反応は、公知の水素化触媒の存在下で、水素を吹き込んで行う。水素化触媒としては、酢酸コバルト／トリエチルアルミニウム、ニッケルアセチルアセトナート／トリイソブチルアルミニウム、チタノセンジクロリド／ｎ−ブチルリチウム、ジルコノセンジクロリド／ｓｅｃ−ブチルリチウム、テトラブトキシチタネート／ジメチルマグネシウムの如き遷移金属化合物／アルキル金属化合物の組み合わせからなる均一系触媒；ニッケル、パラジウム、白金などの不均一系金属触媒；ニッケル／シリカ、ニッケル／けい藻土、ニッケル／アルミナ、パラジウム／カーボン、パラジウム／シリカ、パラジウム／けい藻土、パラジウム／アルミナの如き金属触媒を担体に担持してなる不均一系固体担持触媒などが挙げられる。
【０２５３】
或いは、シクロオレフィン樹脂として、下記のノルボルネン系ポリマーも挙げられる。ノルボルネン系ポリマーは、ノルボルネン骨格を繰り返し単位として有していることが好ましく、その具体例としては、特開昭６２−２５２４０６号公報、特開昭６２−２５２４０７号公報、特開平２−１３３４１３号公報、特開昭６３−１４５３２４号公報、特開昭６３−２６４６２６号公報、特開平１−２４０５１７号公報、特公昭５７−８８１５号公報、特開平５−３９４０３号公報、特開平５−４３６６３号公報、特開平５−４３８３４号公報、特開平５−７０６５５号公報、特開平５−２７９５５４号公報、特開平６−２０６９８５号公報、特開平７−６２０２８号公報、特開平８−１７６４１１号公報、特開平９−２４１４８４号公報等に記載されたものが好ましく利用できるが、これらに限定されるものではない。また、これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０２５４】
本発明においては、前記ノルボルネン系ポリマーの中でも、下記構造式（Ｉ）〜（IV）のいずれかで表される繰り返し単位を有するものが好ましい。
【０２５５】
【化５】
2008268568.tif 000009
【０２５６】
前記構造式（Ｉ）〜（IV）中、Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤは、各々独立して、水素原子または１価の有機基を表す。
【０２５７】
また、前記ノルボルネン系ポリマーの中でも、下記構造式（Ｖ）または（VI）で表される化合物の少なくとも１種と、これと共重合可能な不飽和環状化合物とをメタセシス重合して得られる重合体を水素添加して得られる水添重合体も好ましい。
【０２５８】
【化６】
2008268568.tif 000010
【０２５９】
前記構造式中、Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤは、各々独立して、水素原子または１価の有機基を表す。
【０２６０】
ここで、上記Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤは特に限定されないが、好ましくは水素原子、ハロゲン原子、一価の有機基、または、少なくとも２価の連結基を介して有機基が連結されてもよく、これらは同じであっても異なっていてもよい。また、ＡまたはＢとＣまたはＤは単環または多環構造を形成してもよい。ここで、上記少なくとも２価の連結基とは、酸素原子、イオウ原子、窒素原子に代表されるヘテロ原子を含み、例えばエーテル、エステル、カルボニル、ウレタン、アミド、チオエーテル等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、上記連結基を介し、上記有機基は更に置換されてもよい。
【０２６１】
また、ノルボルネン系モノマーと共重合可能なその他のモノマーとしては、例えば、エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、１−テトラデセン、１−ヘキサデセン、１−オクタデセン、１−エイコセンなどの炭素数２〜２０のα−オレフィン、及びこれらの誘導体；シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロオクテン、３ａ，５，６，７ａ−テトラヒドロ−４，７−メタノ−１Ｈ−インデンなどのシクロオレフィン、及びこれらの誘導体；１、４−ヘキサジエン、４−メチル−１，４−ヘキサジエン、５−メチル−１，４−ヘキサジエン、１，７−オクタジエンなどの非共役ジエン；などが用いられる。これらの中でも、α−オレフィン、特にエチレンが好ましい。
【０２６２】
これらの、ノルボルネン系モノマーと共重合可能なその他のモノマーは、それぞれ単独で、或いは２種以上を組み合わせて使用することができる。ノルボルネン系モノマーとこれと共重合可能なその他のモノマーとを付加共重合する場合は、付加共重合体中のノルボルネン系モノマー由来の構造単位と共重合可能なその他のモノマー由来の構造単位との割合が、質量比で通常３０：７０〜９９：１、好ましくは５０：５０〜９７：３、より好ましくは７０：３０〜９５：５の範囲となるように適宜選択される。
【０２６３】
合成したポリマーの分子鎖中に残留する不飽和結合を水素添加反応により飽和させる場合には、耐光劣化や耐候劣化性などの観点から、水素添加率を９０％以上、好ましくは９５％以上、特に好ましくは９９％以上とする。
【０２６４】
このほか、本発明で用いられるシクロオレフィン樹脂としては、特開平５−２１０８号公報段落番号［００１４］〜［００１９］記載の熱可塑性飽和ノルボルネン系樹脂、特開２００１−２７７４３０号公報段落番号［００１５］〜［００３１］記載の熱可塑性ノルボルネン系ポリマー、特開２００３−１４９０１号公報段落番号［０００８］〜［００４５］記載の熱可塑性ノルボルネン系樹脂、特開２００３−１３９９５０号公報段落番号［００１４］〜［００２８］記載のノルボルネン系樹脂組成物、特開２００３−１６１８３２号公報段落番号［００２９］〜［００３７］記載のノルボルネン系樹脂、特開２００３−１９５２６８号公報段落番号［００２７］〜［００３６］記載のノルボルネン系樹脂、特開２００３−２１１５８９号公報段落番号［０００９］〜［００２３］脂環式構造含有重合体樹脂、特開２００３−２１１５８８号公報段落番号［０００８］〜［００２４］記載のノルボルネン系重合体樹脂若しくはビニル脂環式炭化水素重合体樹脂などが挙げられる。
【０２６５】
具体的には、日本ゼオン（株）製ゼオネックス、ゼオノア、ＪＳＲ（株）製アートン、三井化学（株）製アペル（ＡＰＬ８００８Ｔ、ＡＰＬ６５０９Ｔ、ＡＰＬ６０１３Ｔ、ＡＰＬ５０１４ＤＰ、ＡＰＬ６０１５Ｔ）などが好ましく用いられる。
【０２６６】
本発明で使用されるシクロオレフィン樹脂の分子量は、使用目的に応じて適宜選択されるが、シクロヘキサン溶液（重合体樹脂が溶解しない場合はトルエン溶液）のゲル・パーミエーション・クロマトグラフ法で測定したポリイソプレンまたはポリスチレン換算の重量平均分子量で、通常、５０００〜５０００００、好ましくは８０００〜２０００００、より好ましくは１００００〜１０００００の範囲である時に、成形体の機械的強度、及び成形加工性が高度にバランスされて好適である。
【０２６７】
（酸化防止剤）
また、シクロオレフィン樹脂１００質量部に対して、低揮発性の酸化防止剤を０．０１〜５質量部の割合で配合すると、成形加工時のポリマーの分解や着色を効果的に防止することができる。
【０２６８】
酸化防止剤としては、２０℃における蒸気圧が１０-5Ｐａ以下、特に好ましくは１０-8Ｐａ以下の酸化防止剤が望ましい。蒸気圧が１０-5Ｐａより高い酸化防止剤は、押出成形する場合に発泡したり、また、高温にさらされた時に成形品の表面から酸化防止剤が揮散したりするという問題が起こる。
【０２６９】
本発明で使用できる酸化防止剤としては、例えば、次のようなものを挙げることができ、これらのうちの一種または数種を組み合わせて用いてもよい。
【０２７０】
ヒンタードフェノール系：２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール、４−ヒドロキシメチル−２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−α−メトキシ−ｐ−ジメチル−フェノール、２，４−ジ−ｔ−アミルフェノール、ｔ−ブチル−ｍ−クレゾール、４−ｔ−ブチルフェノール、スチレン化フェノール、３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニソール、２，４−ジメチル−６−ｔ−ブチルフェノール、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルフォスフォネート−ジエチルエステル、４，４′−ビスフェノール、４，４′−ビス−（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、２，２′−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２′−メチレン−ビス−（４−メチル−６−α−メチルシクロヘキシルフェノール）、４，４′−メチレン−ビス−（２−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４′−メチレン−ビス−（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、１，１′−メチレン−ビス−（２，６−ジ−ｔ−ブチルナフトール）、４，４′−ブチリデン−ビス−（２，６−ジ−ｔ−ブチル−メタ−クレゾール）、２，２′−チオ−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、ジ−ｏ−クレゾールスルフィド、２，２′−チオ−ビス−（２−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４′−チオ−ビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４′−チオ−ビス−（２，３−ジ−ｓｅｃ−アミルフェノール）、１，１′−チオ−ビス−（２−ナフトール）、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルエーテル、１，６−ヘキサンジオール−ビス−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２，２−チオ−ジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，２−チオビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド）、ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸エチル）カルシウム、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，３，５−トリメチル−２，４，６，−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレート、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシジェニル）プロピオネート〕等。
【０２７１】
アミノフェノール類：ノルマルブチル−ｐ−アミノフェノール、ノルマルブチロイル−ｐ−アミノフェノール、ノルマルペラゴノイル−ｐ−アミノフェノール、ノルマルラウロイル−ｐ−アミノフェノール、ノルマルステアロイル−ｐ−アミノフェノール、２、６−ジ−ｔ−ブチル−α−ジメチル、アミノ−ｐ−クレゾール等。
【０２７２】
ハイドロキノン系：ハイドロキノン、２，５−ジ−ｔ−ブチルハイドロキノン、２，５−ジ−ｔ−アミルハイドロキノン、ハイドロキノンメチルエーテル、ハイドロキノンモノベンジルエーテル等。
【０２７３】
ホスファイト系トリホスファイト、トリス（３，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンフォスファナイト、２−エチルヘキシルオクチルホスファイト等。
【０２７４】
その他：２−メルカプトベンゾチアゾール亜鉛塩、ジカテコールボレート−ジ−ｏ−トリルグアニジン塩、ニッケル−ジメチルジチオカーバメイト、ニッケル−ペンタメチレンンジチオカルバネート、メルカプトベンズイミダゾール、２−メルカプトベンズイミダゾール亜鉛塩等。
【０２７５】
（ヒンダードアミン系安定剤）
ヒンダードアミン系安定剤を樹脂に添加することで、４００ｎｍといった短波長の光を継続的に照射した場合の白濁や、屈折率の変動等の光学特性変動を高度に抑制することができる。ヒンダードアミン系安定剤の含有量は、樹脂１００質量部に対し、０．０５〜２質量部であることが好ましく、より好ましくは、０．１〜１質量部である。
【０２７６】
また、好ましいヒンダードアミン系安定剤としては、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−オクトキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−ベンジルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ブチルマロネート、ビス（１−アクロイル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ブチルマロネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルデカン）ジオエート、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルメタクリレート、４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−１−［２−（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ）エチル］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、２−メチル−２−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）プロピオンアミド、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート等が挙げられる。
【０２７７】
（帯電防止剤）
本発明に用いられるシクロオレフィン樹脂フィルムは帯電防止剤を含有することが好ましく、樹脂１００質量部に対し、帯電防止剤を０．００１〜２．０質量部含有することが好ましい。
【０２７８】
帯電防止剤としては、特に制限はなく、公知の帯電防止剤を用いることができるが、その中でも、アニオン性帯電防止剤、カチオン性帯電防止剤、非イオン性帯電防止剤、両性イオン性帯電防止剤、高分子帯電防止剤及び導電性微粒子から選ばれる少なくとも１種であることが好ましく、更に好ましくは導電性微粒子であり、特に好ましくは酸化セリウム、酸化インジウム、酸化錫、酸化アンチモン及び酸化シリコンから選ばれる少なくとも１種である。
【０２７９】
アニオン性帯電防止剤としては、例えば、脂肪酸塩類、高級アルコール硫酸エステル塩類、液体脂肪油硫酸エステル塩類、脂肪族アミン及び脂肪属アマイドの硫酸塩類、脂肪属アルコールリン酸エステル塩類、二塩基性脂肪酸エステルのスルホン酸塩類、脂肪族アミドスルホン酸塩類、アルキルアリルスルホン酸塩類、ホルマリン縮合のナフタリンスルホン酸塩類等が挙げられ、カチオン性帯電防止剤としては、例えば、脂肪族アミン塩類、第４級アンモニウム塩類、アルキルピリジニウム塩等が挙げられる。非イオン性帯電防止剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェノールエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルエステル類、ソルビタンアルキルエステル類、ポリオキシエチレンソルビタンアルキルエステル類等が挙げられ、両性イオン性帯電防止剤としては、例えば、イミダゾリン誘導体、ベタイン型高級アルキルアミノ誘導体、硫酸エステル誘導体、リン酸エステル誘導体等が挙げられ、具体的な化合物は、丸茂秀雄著「帯電防止剤  高分子の表面改質」幸書房、増補「プラスチック及びゴム用添加剤実用便覧  ｐ３３３〜ｐ４５５」化学工業社刊、特開平１１−２５６１４３号、特公昭５２−３２５７２号、特開平１０−１５８４８４号等に記載されている。
【０２８０】
好ましい帯電防止剤としては、アニオン性帯電防止剤やカチオン性帯電防止剤といったイオン性高分子化合物を挙げることができる。イオン性高分子化合物としては、特公昭４９−２３８２８号、同４９−２３８２７号、同４７−２８９３７号にみられるようなアニオン性高分子化合物；特公昭５５−７３４号、特開昭５０−５４６７２号、特公昭５９−１４７３５号、同５７−１８１７５号、同５７−１８１７６号、同５７−５６０５９号等にみられるような、主鎖中に解離基をもつアイオネン型ポリマー：特公昭５３−１３２２３号、同５７−１５３７６号、特公昭５３−４５２３１号、同５５−１４５７８３号、同５５−６５９５０号、同５５−６７７４６号、同５７−１１３４２号、同５７−１９７３５号、特公昭５８−５６８５８号、特開昭６１−２７８５３号、同６２−９３４６号にみられるような、側鎖中にカチオン性解離基をもつカチオン性ペンダント型ポリマー、特開平５−２３０１６１号にみられるようなグラフト共重合体等を挙げることができる。
【０２８１】
また、シクロオレフィン樹脂フィルムにおいて特に好ましく用いることのできる導電性微粒子としては、金属酸化物の例としては、ＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＳｎＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＣｅＯ2、Ｓｂ2Ｏ3、ＭｏＯ2、Ｖ2Ｏ5等、或いはこれらの複合酸化物が好ましく、特に、ＣｅＯ2、Ｉｎ2Ｏ3、ＳｎＯ2、Ｓｂ2Ｏ3、及びＳｉＯ2が好ましい。異種原子を含む例としては、例えば、ＺｎＯに対してはＡｌ、Ｉｎ等の添加、ＴｉＯ2に対してはＮｂ、Ｔａ等の添加、またＳｎＯ2に対しては、Ｓｂ、Ｎｂ、ハロゲン元素等の添加が効果的である。これら異種原子の添加量は０．０１〜２５ｍｏｌ％の範囲が好ましいが、０．１〜１５ｍｏｌ％の範囲が特に好ましい。
【０２８２】
該導電性微粒子の平均微粒子径が１００ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは５〜１００ｎｍである。導電性微粒子の平均微粒子径が１００ｎｍ以下であれば、樹脂材料に含有した際に、十分な帯電特性を付与できると共に、樹脂材料の透明性を損なうことがないため好ましい。
【０２８３】
特に好ましい帯電防止剤は、帯電防止性能と添加量の関係から、表面固有抵抗値が１×１０10Ω以下のものが好ましい。表面固有抵抗値は、試料を２３℃、５０％ＲＨの雰囲気で２４時間調湿した後、超絶縁計を用いて、ＡＳＴＭ  Ｄ２５７に準拠し測定する。
【０２８４】
また、本発明において好ましく用いることのできる帯電防止剤は、特開平９−２０３８１０号に記載されているアイオネン導電性ポリマー或いは分子間架橋を有する第４級アンモニウムカチオン導電性ポリマー等である。
【０２８５】
架橋型カチオン性導電性ポリマーの特徴は、得られる分散性粒状ポリマーにあり、微粒子内のカチオン成分を高濃度、高密度にもたせることができるため、優れた導電性を有しているばかりでなく、樹脂との相溶性が良く、高い透明性が選られることにある、更に低相対湿度下においても導電性の劣化は見られない。
【０２８６】
帯電防止に用いられる架橋型のカチオン性導電性ポリマーである分散性粒状ポリマーは一般に約０．０１〜０．３μｍの微粒子サイズ範囲にあり、好ましくは０．０５〜０．１５μｍの範囲の微粒子サイズが用いられる。
【０２８７】
本発明において、上記で説明した各帯電防止剤は、シクロオレフィン樹脂１００質量部に対して、０．００１〜２．０質量部の範囲で添加することが好ましく、帯電防止剤の添加量が０．００１質量部以上、２．０質量部以下である場合、樹脂材料への埃や塵の付着を効果的に抑制でき、樹脂材料の光透過率を所望の値に維持できる。尚、帯電防止剤の添加量は、脂環式構造を有する重合体１００質量部に対して０．００５〜１．０質量部であることが好ましく、０．０１〜０．５質量部が更に好ましい。
【０２８８】
本発明においては、上記帯電防止剤及び一般に防汚のために用いられるフッ素化合物を含有した層を樹脂に設けることによっても同様の効果を得られる。
【０２８９】
また、本発明のシクロオレフィン樹脂フィルムの性能を得るために、帯電防止剤の少なくとも１種を含む層（帯電防止層）をフィルム表面に設けるようにしてもよい。
【０２９０】
帯電防止層は、前述の帯電防止剤を有する混合物を光学素子表面に塗布することにより設けてもよいし、蒸着のような方法によって設けてもよい。尚、帯電防止層の厚さは、５０μｍ以上、３００μｍ以下であることが好ましい。
【０２９１】
（その他の安定剤）
樹脂には、フェノール系安定剤、リン系安定剤、イオウ系安定剤の中から選ばれた１種以上の安定剤を追加して添加してもよい。これら安定剤を適宜選択し、樹脂に添加することで、４００ｎｍといった短波長の光を継続的に照射した場合の白濁や、屈折率の変動等の光学特性変動をより高度に抑制することができる。
【０２９２】
好ましいフェノール系安定剤としては、従来公知のものが使用でき、例えば、２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、２，４−ジ−ｔ−アミル−６−（１−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）エチル）フェニルアクリレート等の特開昭６３−１７９９５３号公報や特開平１−１６８６４３号公報に記載されるアクリレート系化合物；オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２，２′−メチレン−ビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、ペンタエリスリトール−テトラキス（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート）、トリエチレングリコール−ビス（３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート）等のアルキル置換フェノール系化合物；６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−２，４−ビスオクチルチオ−１，３，５−トリアジン、４−ビスオクチルチオ−１，３，５−トリアジン、２−オクチルチオ−４，６−ビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−オキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン等のトリアジン基含有フェノール系化合物；等が挙げられる。
【０２９３】
また、好ましいリン系安定剤としては、一般の樹脂工業で通常使用される物であれば格別な限定はなく、例えば、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（ジノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、１０−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキサイド等のモノホスファイト系化合物；４，４′−ブチリデン−ビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェニル−ジ−トリデシルホスファイト）、４，４′−イソプロピリデン−ビス（フェニル−ジ−アルキル（Ｃ１２〜Ｃ１５）ホスファイト）等のジホスファイト系化合物等が挙げられる。これらの中でも、モノホスファイト系化合物が好ましく、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（ジノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト等が特に好ましい。
【０２９４】
また、好ましいイオウ系安定剤としては、例えば、ジラウリル３，３−チオジプロピオネート、ジミリスチル３，３′−チオジプロピピオネート、ジステアリル３，３−チオジプロピオネート、ラウリルステアリル３，３−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−（β−ラウリル−チオ−プロピオネート）、３，９−ビス（２−ドデシルチオエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン等が挙げられる。
【０２９５】
これらの安定剤の配合量は、本発明の目的を損なわれない範囲で適宜選択されるが、樹脂１００質量部に対して通常０．０１〜２質量部、好ましくは０．０１〜１質量部である。
【０２９６】
（可塑剤）
樹脂としてノルボルネン樹脂を用いる場合には、可塑剤として、アジピン酸ビス（２−エチルヘキシル）、アジピン酸ビス（２−ブトキシエチル）、アゼライン酸ビス（２−エチルヘキシル）、ジプロピレングリコールジベンゾエート、クエン酸トリ−ｎ−ブチル、クエン酸トリ−ｎ−ブチルアセチル、エポキシ化大豆油、２−エチルヘキシルエポキシ化トール油、塩素化パラフィン、リン酸トリ−２−エチルヘキシル、リン酸トリクレジル、リン酸−ｔ−ブチルフェニル、リン酸トリ−２−エチルヘキシルジフェニル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジイソヘキシル、フタル酸ジヘプチル、フタル酸ジノニル、フタル酸ジウンデシル、フタル酸ジ−２−エチルヘキシル、フタル酸ジイソノニル、フタル酸ジイソデシル、フタル酸ジトリデシル、フタル酸ブチルベンジル、フタル酸ジシクロヘキシル、セバシン酸ジ−２−エチルヘキシル、トリメリット酸トリ−２−エチルヘキシル、Ｓａｎｔｉｃｉｚｅｒ  ２７８、Ｐａｒａｐｌｅｘ  Ｇ４０、Ｄｒａｐｅｘ  ３３４Ｆ、Ｐｌａｓｔｏｌｅｉｎ  ９７２０、Ｍｅｓａｍｏｌｌ、ＤＮＯＤＰ−６１０、ＨＢ−４０等の公知のものが適用可能である。可塑剤の選定及び添加量の決定は、樹脂の透過性や環境変化に対する耐性を損なわないことを条件に適宜行われる。
【０２９７】
本発明においては、上記の樹脂に更に他の樹脂を配合することもできる。他の樹脂は、本発明の目的を損なわない範囲内で添加される。
【０２９８】
ここで、樹脂に添加し得る他の樹脂を以下に例示する。
【０２９９】
（１）１個または２個の不飽和結合を有する炭化水素から誘導される重合体で、具体的には、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルブタ−１−エン、ポリ４−メチルペンタ−１−エン、ポリブタ−１−エン及びポリスチレン等のポリオレフィンが挙げられる。尚これらのポリオレフィンは架橋構造を有していてもよい。
【０３００】
（２）ハロゲン含有ビニル重合体で、具体的にはポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリクロロプレン、塩素化ゴム等が挙げられる。
【０３０１】
（３）α，β−不飽和酸とその誘導体から誘導された重合体で、具体的にはポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリアクリルアミド、ポリアクリロニトリル、または前記の重合体を構成するモノマーとの共重合体、例えばアクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合体、アクリロニトリル・スチレン共重合体、アクリロニトリル・スチレン・アクリル酸エステル共重合体等が挙げられる。
【０３０２】
（４）不飽和アルコール及びアミン、または不飽和アルコールのアシル誘導体またはアセタールから誘導される重合体で、具体的にはポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリステアリン酸ビニル、ポリ安息香酸ビニル、ポリマレイン酸ビニル、ポリビニルブチラール、ポリアリルフタレート、ポリアリルメラミン、または前記重合体を構成するモノマーとの共重合体、例えばエチレン・酢酸ビニル共重合体等が挙げられる。
【０３０３】
（５）エポキシドから誘導される重合体で、具体的にはポリエチレンオキシドまたはビスグリシジルエーテルから誘導された重合体等が挙げられる。
【０３０４】
（６）ポリアセタール類で、具体的にはポリオキシメチレン、ポリオキシエチレン、コモノマーとしてエチレンオキシドを含むようなポリオキシメチレン等が挙げられる。
【０３０５】
（７）ポリフェニレンオキシド（８）ポリカーボネート（９）Ｓポリスルフォン（１０）ポリウレタン及び尿素樹脂等が挙げられる。
【０３０６】
（１１）ジアミン及びジカルボン酸及び／またはアミノカルボン酸、または相応するラクタムから誘導されたポリアミド及びコポリアミドで、具体的にはナイロン６、ナイロン６６、ナイロン１１、ナイロン１２等が挙げられる。
【０３０７】
（１２）ジカルボン酸及びジアルコール及び／またはオキシカルボン酸、または相応するラクトンから誘導されたポリエステルで、具体的にはポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ１，４−ジメチロール・シクロヘキサンテレフタレート等が挙げられる。
【０３０８】
（１３）アルデヒドとフェノール、尿素またはメラミンから誘導された架橋構造を有した重合体で、具体的には、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂、尿素・ホルムアルデヒド樹脂、メラミン・ホルムアルデヒド樹脂等が挙げられる。
【０３０９】
（１４）アルキッド樹脂で、具体的にはグリセリン・フタル酸樹脂等が挙げられる。
【０３１０】
（１５）飽和及び不飽和ジカルボン酸と多価アルコールとのコポリエステルから誘導され、架橋剤としてビニル化合物を使用して得られる不飽和ポリエステル樹脂ならびにハロゲン含有改質樹脂等が挙げられる。
【０３１１】
（１６）天然重合体で、具体的にはセルロース、ゴム、蛋白質、或いはそれらの誘導体例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、セルロースエーテル等が挙げられる。
【０３１２】
（１７）軟質重合体、例えば、環状オレフィン成分を含む軟質重合体、α−オレフィン系共重合体、α−オレフィン・ジエン系共重合体、芳香族ビニル系炭化水素・共役ジエン系軟質共重合体、イソブチレンまたはイソブチレン・共役ジエンからなる軟質重合体または共重合体等が挙げられる。
【０３１３】
（１８）側鎖に脂環式環状構造を有する炭化水素系重合体が挙げられる。
【０３１４】
樹脂バインダーと、他の樹脂成分や添加剤等との混合方法としては、それ自体公知の方法が適用できる。例えば各成分を同時に混合する方法等である。
【０３１５】
〈溶融流延法〉
シクロオレフィン樹脂フィルムの成形方法は格別な限定はなく、加熱溶融成形法、溶液流延法のいずれも用いることができる。加熱溶融成形法は、更に詳細に、押し出し成形法、プレス成形法、インフレーション成形法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法などに分類できるが、これらの方法の中でも、機械強度、表面精度等に優れたフィルムを得るためには、押し出し成形法、インフレーション成形法、及びプレス成形法が好ましく、押し出し成形法が最も好ましい。成形条件は、使用目的や成形方法により適宜選択されるが、加熱溶融成形法による場合は、シリンダー温度が、通常１５０〜４００℃、好ましくは２００〜３５０℃、より好ましくは２３０〜３３０℃の範囲で適宜設定される。樹脂温度が過度に低いと流動性が悪化し、フィルムにヒケやひずみを生じ、樹脂温度が過度に高いと樹脂の熱分解によるボイドやシルバーストリークが発生したり、フィルムが黄変したりするなどの成形不良が発生するおそれがある。フィルムの厚みは、通常５〜３００μｍ、好ましくは１０〜２００μｍ、より好ましくは２０〜１００μｍの範囲である。厚みが薄過ぎる場合は、積層時の取り扱いが困難となり、厚過ぎる場合は、積層後の乾燥時間が長くなって生産性が低下する。
【０３１６】
フィルムの幅は１．４ｍ以上が生産性、加工性の点から好ましい。より好ましくは１．４〜４ｍの範囲である。
【０３１７】
シクロオレフィン樹脂フィルムは、その表面の濡れ張力が、好ましくは４０ｍＮ／ｍ以上、より好ましくは５０ｍＮ／ｍ以上、更に好ましくは５５ｍＮ／ｍ以上である。表面の濡れ張力が上記範囲にあると、フィルムと偏光膜との接着強度が向上する。表面の濡れ張力を調整するために、例えば、コロナ放電処理、プラズマ放電処理、オゾンの吹き付け、紫外線照射、火炎処理、化学薬品処理、その他公知の表面処理を施すことができる。
【０３１８】
延伸前のシートは厚さが５０〜５００μｍ程度の厚さが必要であり、厚さムラは小さいほど好ましく、全面において±８％以内、好ましくは±６％以内、より好ましくは±４％以内である。
【０３１９】
上記シクロオレフィン樹脂フィルムは、シートを一軸方向、または二軸方向に延伸することができる。実質的な一軸延伸、例えば、分子の配向に影響のない範囲で延伸した後、分子を配向させるべく一軸方向に延伸する二軸延伸であってもよい。延伸するにはテンター装置等を用いることが好ましい。
【０３２０】
〈偏光板〉
現在液晶表示装置に一般的に使用されている偏光板は、ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素染色した偏光子とこれを両側から挟んで偏光子を保護する役割をもつ２枚の偏光板保護フィルムからなる。本発明の偏光板は、偏光板保護フィルムが請求項１〜６のいずれか１項に記載の偏光板保護フィルムの製造方法によって製造されることを特徴とする偏光板保護フィルムであり、Ｂ層がＡ層よりも偏光子に近い側に配置することが好ましい。本発明の偏光板保護フィルムは、Ｂ層がＡ層よりも偏光子側に配置されることにより、液晶表示装置に組み込んだ際に正面輝度の向上をもたらすことができる。
【０３２１】
本発明では、偏光板（Ｉ）、液晶セル、偏光板（II）、バックライトユニットがこの順で配置されている液晶表示装置において、偏光板（II）が前記請求項８に記載の偏光板であり、前記偏光板（II）のＡ層がＢ層よりもバックライトユニット側に配置することを特徴とする。本発明ではＡ層がバックライトユニットに近い側に配置することが、正面輝度の向上、液晶表示装置のコントラスト向上の二つの観点から好ましい。
【０３２２】
〈液晶表示装置〉
本発明の偏光板保護フィルム及び偏光板を表示装置に組み込むことによって、正面輝度が向上した本発明の液晶表示装置を作製することができる。本発明の偏光板保護フィルムは、透過型、半透過型ＬＣＤ或いはＴＮ型、ＳＴＮ型、ＯＣＢ型、ＨＡＮ型、ＶＡ型（ＭＶＡ型、ＰＶＡ型）、ＩＰＳ型、ＦＦＳ型等の各種駆動方式のＬＣＤで好ましく用いられるが、特にＶＡ型（ＭＶＡ型、ＰＶＡ型）、ＩＰＳ型、ＦＦＳ型等の液晶表示装置で好ましく用いられる。
【０３２３】
図５に本発明の偏光板保護フィルムを用いた偏光板、及びそれを組み込んだ液晶表示装置の構成を示す模式図を、比較例とともに示した。
【実施例】
【０３２４】
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０３２５】
《評価方法》
以下に本発明についての評価方法についてまとめて記載する。
【０３２６】
（輝度測定）
液晶表示装置（ＴＯＳＨＩＢＡ社製  Ｆａｃｅ  ＬＣ１００）のバックライトユニット部分の光源及び拡散板を光源として利用し、拡散板上に本発明の試料を配置して測定を行った。輝度の測定にはＥＬＤＩＭ社製ＥＺ−ｃｏｎｔｒａｓｔを用いて行った。
【０３２７】
（算術平均粗さ（Ｒａ））
算術平均粗さ（Ｒａ）とは、ＪＩＳ−Ｂ０６０１における２次元表面粗さの算術平均粗さ及び十点平均粗さの測定方法に準じて測定した。
【０３２８】
測定機は、光学干渉式表面粗さ計ＲＳＴ／ＰＬＵＳ（ＷＹＫＯ社製）を用いて測定した。
【０３２９】
（屈折率測定）
各試料と同一の素材をフィルム上に成形し、アタゴ社製アッベ屈折率計を用いて、２３℃５５％ＲＨの条件下、測定波長４８６ｎｍ、及び６５６ｎｍでの屈折率を求めた。
【０３３０】
表３に実施例で用いた材料の測定波長４８６ｎｍと６５６ｎｍにおける屈折率一覧を表記する。
【０３３１】
【表３】
2008268568.tif 000011
【０３３２】
（色むら評価）
偏光板保護フィルムの色むらは、試料をハクバ社製ライトビュアーＫＬＶ−５７００の上にサンプルを置き、その上に偏光板を置き、観察者は６０ｃｍ離れ、シート面に対し、−６０度から６０度の傾斜角（観察角）での色むらを観察。観察者５人による色むら確認結果で３人以上に色むらが見られたものを「×」（色むらを確認）とし、２人以下の場合を「○」（色むら無し）とした。
【０３３３】
実施例１
基材としてセルロースエステルフィルム（ＴＡＣ：コニカミノルタオプト社製ＫＣ８ＵＸ−２ＭＷ）を用いた。
【０３３４】
（Ｂ層の形成）
旭硝子株式会社製  プライマーＣＴ−Ｐ１０（１５％溶液）をイソプロピルアルコール／酢酸ブチル溶液で希釈し０．１％とし、基材上に塗布６０℃で１０分乾燥しプライマー層を作製した。
【０３３５】
フッ素系バインダー（旭硝子株式会社製）サイトップ（ＣＴＬ−８０９Ａ）（９％溶液）とシリコーン樹脂系粒子（信越化学工業株式会社製）  ＫＭＰ−６０２（平均粒径３０μｍ）を樹脂質量比１：１０で混合し、超音波振動を加えることにより、粒子を分散した。
【０３３６】
上記分散溶液を前記プライマー処理済み基材上にスピンコート機（ＬＭＳ社製ＶＳ−１００Ｎ）を用いてスピンコート法（３０００ｒｐｍ／ｍｉｎ）により塗布し、Ｂ層を得た。この状態で、Ｂ面の表面粗さを測定し、Ａ層及びＢ層の界面の算術平均粗さを測定した。
【０３３７】
（Ａ層の形成）
こうして形成された凹凸構造部表面に、１００ＫＨＺの高周波電圧でプラズマ放電により表面処理した後、Ｂ層上に下記ドープ液１０１をスピンコート法によりＢ層と同様に塗布しＡ層を形成し、偏光板保護フィルム１を得た。同様の手法で、本発明の偏光板保護フィルム２〜４を作製した。
【０３３８】
〈ドープ１０１の組成〉
メチレンクロライド                                              ３００質量部
エタノール                                                        ４０質量部
セルロースエステル（セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）；アセチル基置換度１．９、プロピオニル基置換度０．７、総アシル基置換度２．６）  １００質量部
トリメチロールプロパントリベンゾエート                          ５．５質量部
エチルフタリルエチルグリコレート                                ５．５質量部
チヌビン１０９（チバスペシャルティケミカルズ（株）製）              １質量部
チヌビン１７１（チバスペシャルティケミカルズ（株）製）              １質量部
また、比較例として、樹脂バインダー比率を変化し偏光板保護フィルム５、６を作製した。さらに、高屈折率チタニア系複合酸化物１を添加した下記ドープ液１０２をスピンコートによりＢ層と同様に塗布しＡ層を形成し、偏光板保護フィルムサンプル７を得た。
【０３３９】
〈ドープ１０２の組成〉
メチレンクロライド                                              ３００質量部
エタノール                                                        ４０質量部
セルロースエステル（セルロースアセテートプロピオネート；アセチル基置換度１．９、プロピオニル基置換度０．７、総アシル基置換度２．６）            １００質量部
高屈折率チタニア系複合酸化物１（触媒化成工業株式会社製：クインタイタニック１）
１０質量部
トリメチロールプロパントリベンゾエート                          ５．５質量部
エチルフタリルエチルグリコレート                                ５．５質量部
チヌビン１０９（チバスペシャルティケミカルズ（株）製）              １質量部
チヌビン１７１（チバスペシャルティケミカルズ（株）製）              １質量部
本発明の偏光板保護フィルム及び比較例の偏光板保護フィルムの特性について、表４にまとめて示す。
【０３４０】
表４中、ＡＢ（Ｒａ）はＡ層及びＢ層の界面で算術平均粗さ、Ａ（Ｒａ）はＡ層におけるＡ層及びＢ層の界面に対向する面の算術平均粗さを表し、Ｂ（Ｒａ）はＢ層におけるＡ層及びＢ層の界面に対向する面の算術平均粗さを表している。
【０３４１】
Ａ（Ｒａ）＜ＡＢ（Ｒａ）の場合は表中に○とし、Ａ（Ｒａ）≧ＡＢ（Ｒａ）の場合は×とした。同様に、Ｂ（Ｒａ）＜ＡＢ（Ｒａ）の場合は表中に○とし、Ｂ（Ｒａ）≧ＡＢ（Ｒａ）の場合は×とした。
【０３４２】
以下、実施例の表中同様の表記を行った。
【０３４３】
輝度測定の結果は、基材として用いたセルロースエステルフィルム（コニカミノルタ社製偏光板保護フィルム（ＫＣ８ＵＸ−２ＭＷ））を拡散板上に配置した場合の輝度を１とした時の正面方向での輝度の上昇率として示した。本発明の偏光板保護フィルムのＡ面側を拡散板側に配置して輝度測定を行った結果、及び色むらの評価結果を表４に示す。
【０３４４】
【表４】
2008268568.tif 000012
【０３４５】
本発明の偏光板保護フィルムは、良好な輝度向上度、色むら特性を達成することができた。
【０３４６】
実施例２
基材としてセルロースエステルフィルム（コニカミノルタ社製ＫＣ８ＵＸ−２ＭＷ）を用い、これに表面凹凸構造を形成するためにプリズム角度９０度・プリズムピッチ５０μｍ・プリズム深さ２５μｍのステンレス製の金型を用いてセルロースエステルフィルムに熱転写（１６０度・３０秒）を行った。これを本発明のＢ層とし、凹凸構造表面上にノルボルネン系樹脂（ＪＳＲ株式会社製、ＡＲＴＯＮ）をスポイトにて滴下し、ワイヤーバーコート法にて塗布し、常温にて３分乾燥後、１００度にて１０分乾燥しＡ層を形成し、偏光板保護フィルム８を作製した。また、基材としてセルロースエステルフィルム（コニカミノルタ社製ＫＣ８ＵＸ−２ＭＷ）にＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）系樹脂を塗布し、金型による熱転写を行い、表面凹凸構造のあるＢ層を形成した。この凹凸構造表面上にポリスチレン系樹脂（ＰＳ）を用いて上記の方法と同様にＡ層を作製し、偏光板保護フィルム１０を作製した。比較例として、同様にして基材及びＢ層としてセルロースエステルフィルム、Ａ層としてセルロースプロピオネート樹脂を用いて偏光板保護フィルム９を作製した。また、基材としてセルロースエステルフィルム（コニカミノルタ社製ＫＣ８ＵＸ−２ＭＷ）に高屈折率チタニア系複合酸化物２を添加した下記ドープ液１０３を塗布し、金型による熱転写を行い、表面凹凸構造のあるＢ層を形成した。この凹凸構造表面上に高屈折率チタニア系複合酸化物１を添加した上記ドープ液１０２を用いて上記の方法と同様にＡ層を作製し、偏光板保護フィルム１０を作製した。
【０３４７】
〈ドープ１０３の組成〉
メチレンクロライド                                              ３００質量部
エタノール                                                        ４０質量部
セルロースエステル（セルロースアセテートプロピオネート；アセチル基置換度１．９、プロピオニル基置換度０．７、総アシル基置換度２．６）            １００質量部
高屈折率チタニア系複合酸化物２（触媒化成工業株式会社製：クインタイタニック２）
１０質量部
トリメチロールプロパントリベンゾエート                          ５．５質量部
エチルフタリルエチルグリコレート                                ５．５質量部
チヌビン１０９（チバスペシャルティケミカルズ（株）製）              １質量部
チヌビン１７１（チバスペシャルティケミカルズ（株）製）              １質量部
比較例として、同様にして基材及びＢ層としてセルロースエステルフィルム、Ａ層としてセルロースプロピオネート樹脂を用いて偏光板保護フィルム１１を作製した。また、基材としてセルロースエステルフィルム、Ｂ層としてノルボルネン系樹脂（ＡＲＴＯＮ）、Ａ層としてポリスチレン系樹脂を用いて偏光板保護フィルム１２を作製した。また、基材としてセルロースエステルフィルム、Ｂ層として高屈折率チタニア系複合酸化物２を添加した上記ドープ液１０３、Ａ層としてポリスチレン系樹脂を用いて偏光板保護フィルム１３を作製した。また、集光度が高いが、色むらのある集光シート（３Ｍ社製、ＢＥＦ）１４を比較とした。
【０３４８】
本発明及び比較例の偏光板保護フィルムの特性及び測定結果について表５にまとめて示す。
【０３４９】
【表５】
2008268568.tif 000013
【０３５０】
本発明の偏光板保護フィルムは、良好な輝度向上度、色むら特性を達成することができた。
【０３５１】
実施例３
フッ素系バインダー（旭硝子株式会社製  サイトップ（ＣＴＬ−８０９Ａ）  ９％溶液）を専用希釈液（旭硝子株式会社製）により希釈し、６ｍＰａ・ｓの粘度に調整し、インクジェット用塗布液とした。セルロースエステルフィルム（コニカミノルタ社製ＫＣ８ＵＸ−２ＭＷ）を基材とし、上記インクジェット塗布液によりＢ層の塗布を行った。
【０３５２】
尚、インクジェット出射装置は、ラインヘッド方式を使用し、ノズル径が３．５μｍのノズルを２５６個有するインクジェットヘッドを１０基準備した。インク供給系は、インク供給タンク、フィルター、ピエゾ型のインクジェットヘッド及び配管から構成されており、インク供給タンクからインクジェットヘッド部までは、断熱及び加温（４０℃）し、出射温度は４０℃、駆動周波数は２０ｋＨｚで行った。また、インク液の粘度は、５ｍＰａ・ｓ未満では吐出の追随性低下が発生し、１２ｍＰａ・ｓを超えると吐出安定性が不良となったため、６ｍＰａ・ｓに調整した。調整は固形分量、溶媒量、溶媒種類を適宜変更することにより調整した。インクジェットによる塗布及び１００度の恒温槽３０分間の熱硬化を３回繰り返し、塗布膜厚が４５μｍ試料を作製した。Ｂ層塗布後、実施例１で用いたＡ層塗布液を用いて、実施例１と同様の手法でＡ層を形成し、偏光板保護フィルム１５を得た。
【０３５３】
同様にしてＡＢ層界面での算術平均粗さを調整するため、Ｂ層塗布時にインクジェットの駆動周波数及び塗布回数の増減による調整を行い、偏光板保護フィルム１６〜２０を得た。
【０３５４】
本発明及び比較例の偏光板保護フィルムの特性及び測定結果について表６にまとめて示す。
【０３５５】
【表６】
2008268568.tif 000014
【０３５６】
本発明の偏光板保護フィルムは、良好な輝度向上度、色むら特性を達成することができた。
【０３５７】
実施例４
株式会社オプテス社製ゼオノアフィルム（ＺＦ−１４）上に実施例１と同様の手法でＢ層を形成した。引き続き、実施例１と同様にＢ層上にＡ層を形成し、偏光板保護フィルム２１〜２６を作製した。
【０３５８】
得られた試料について、表７にまとめて示す。表７から明らかなように、本発明の偏光板保護フィルムは、良好な輝度向上度、色むら特性を達成することができた。
【０３５９】
【表７】
2008268568.tif 000015
【０３６０】
実施例５
基材としてのセルロースエステルフィルム（コニカミノルタ社製ＫＣ８ＵＸ−２ＭＷ）上に実施例１と同様の手法でＢ層を形成した。引き続き、実施例１と同様にＢ層上にＡ層を形成し、偏光板保護フィルム２７〜２９を作製した。また、比較例として、基材としてのセルロースエステルフィルム（コニカミノルタ社製ＫＣ８ＵＸ−２ＭＷ）上に実施例１と同様の手法でＢ層を形成した。引き続き、Ｂ層上にコニカミノルタ社製ワイヤーバーＮｏ．１６およびＮｏ．４０を用いて手引き塗布を行い、Ａ層を形成し、偏光板保護フィルム３０および３１を作製した。また、ガラス板上に実施例１と同様の手法でＢ層を形成し、このＢ層をガラス板から剥がし、これを裏返した面上に、実施例１と同様の手法で再度Ｂ層を積層し、引き続き、実施例１と同様に積層したＢ層上にＡ層を形成し、偏光板保護フィルム３２および３３を作製した。ガラス板上に実施例１と同様の手法でＢ層を形成し、このＢ層をガラス板から剥がし、これを裏返した面上に、引き続き、実施例１と同様に積層したＢ層上にＡ層を形成し、偏光板保護フィルム３４を作製した。ガラス板上に実施例１と同様の手法でＢ層を形成し、このＢ層をガラス板から剥がし、これを裏返した面上に、実施例１と同様の手法で再度Ｂ層を積層し、引き続き、積層したＢ層上にコニカミノルタ社製ワイヤーバーＮｏ．４０を用いて手引き塗布を行い、Ａ層を形成し、偏光板保護フィルム３５を作製した。
【０３６１】
得られた試料について、表８にまとめて示す。表８から明らかなように、本発明の偏光板保護フィルムは、良好な輝度向上度、色むら特性を達成することができた。
【０３６２】
【表８】
2008268568.tif 000016
【０３６３】
実施例６
偏光板保護フィルム１及びセルロースエステルフィルム（コニカミノルタ社製ＫＣ８ＵＸ−２ＭＷ）を保護フィルムとし、ヨウ素染色した延伸ポリビニルアルコール偏光子にポリビニルアルコール水溶液を接着剤として貼合した。尚貼合の際には、本発明の偏光板保護フィルムのＢ層がＡ層よりも偏光子に近い側になるようにして貼合を行い、本発明の偏光板１を作製した。
【０３６４】
（比較サンプルの作製）
上記偏光板保護フィルム１の作製の際、本発明の偏光板保護フィルム１の代わりにセルロースエステルフィルム（コニカミノルタ社製ＫＣ８ＵＸ−２ＭＷ）を偏光板保護フィルムとして用い、比較例偏光板１を作製した。
【０３６５】
得られた本発明の偏光板１及び比較例偏光板１を用いて、液晶表示装置を作製した。
【０３６６】
比較例偏光板１、液晶セル、本発明の偏光板１、バックライトユニットをこの順に配置した。この際、本発明の偏光板１におけるＡ層及びＢ層が設けられた層がバックライト側にくるように、かつ、Ａ層がＢ層よりもバックライトユニット側にくるように配置し、本発明の液晶表示装置１を作製した。
【０３６７】
前記、本発明の液晶表示装置１作製の際に、本発明の偏光板１の代わりに、比較例偏光板１に置き換え同様の手法で比較例液晶表示装置２を作製した。
【０３６８】
液晶表示装置１及び２に関して、その配置を図５に示す。
【０３６９】
本発明の偏光板１を用いた、本発明の液晶表示装置１は、比較例液晶表示装置２の正面輝度を１００％とした時、１１８％と正面輝度の向上が認められた。
【図面の簡単な説明】
【０３７０】
【図１】接触角の測定方法を示す概略図である。
【図２】本発明に好適なインクジェット法に用いられるインクジェットヘッドの一例を示す断面図である。
【図３】本発明で用いることのできるインクジェットヘッド部、ノズルプレートの一例を示す概略図である。
【図４】本発明で好ましく用いることのできるインクジェット法の一例である。
【図５】本発明の偏光板保護フィルムを用いた偏光板、及びそれを組み込んだ液晶表示装置の構成を示す模式図である。
【符号の説明】
【０３７１】
１０  基材フィルム
１１  基板
１２  圧電素子
１３  流路版
１３ａ  インク流路
１３ｂ  壁部
１４  共通液室構成部材
１５  インク供給パイプ
１６  ノズルプレート
１６ａ  ノズル
１７  駆動用回路プリント板
１８  リード部
１９  駆動電極
２０  溝
２１  保護板
２２  流体抵抗
２３、２４  電極
２５  上部隔壁
２６  ヒータ
２７  ヒータ電源
２８  伝熱部材
２９  活性光線照射部
３０  インクジェットヘッド
３１  液滴
３２  ノズル
３５  バックロール
【図１】
2008268568.tif 000017
【図２】
2008268568.tif 000018
【図３】
2008268568.tif 000019
【図４】
2008268568.tif 000020
【図５】
2008268568.tif 000021