(57)【要約】【課題】液晶表示パネルの歩留まり向上に貢献することができる配向膜の欠陥修正方法及び製造方法、液晶表示パネルの製造方法及び液晶表示装置の製造方法、並びに、配向膜欠陥修正装置を提供する。【解決手段】液晶表示パネルに設けられる配向膜の欠陥を修正する方法であって、上記欠陥修正方法は、配向膜から欠陥を有する部分を除去部の端が表示に寄与しない領域に位置するように除去する除去工程と、上記除去工程で形成された配向膜の除去部内に上記除去部よりも狭い範囲で修正用材料を塗布する塗布工程とを有する配向膜の欠陥修正方法。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶表示パネルに設けられる配向膜の欠陥を修正する方法であって、
該欠陥修正方法は、配向膜から欠陥を有する部分を除去部の端が表示に寄与しない領域に位置するように除去する除去工程と、
該除去工程で形成された配向膜の除去部内に該除去部よりも狭い範囲で修正用材料を塗布する塗布工程とを有することを特徴とする配向膜の欠陥修正方法。
【請求項２】
前記除去工程は、配向膜から欠陥を有する部分を副画素単位で除去することを特徴とする請求項１記載の配向膜の欠陥修正方法。
【請求項３】
前記除去工程は、テープ研磨法、ウェットエッチング法及びプラズマ処理法からなる群より選択された少なくとも一種の方法を用いて行われることを特徴とする請求項１又は２記載の配向膜の欠陥修正方法。
【請求項４】
前記塗布工程は、該除去工程で形成された配向膜の除去部内に該除去部よりも狭い面積を持つパッドを置き、該パッドを介して修正用材料を塗布することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の配向膜の欠陥修正方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の配向膜の欠陥修正方法を用いることを特徴とする配向膜の製造方法。
【請求項６】
請求項１〜４のいずれかに記載の配向膜の欠陥修正方法を用いることを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【請求項７】
請求項１〜４のいずれかに記載の配向膜の欠陥修正方法を用いることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項８】
液晶表示パネルに設けられる配向膜の欠陥修正に用いられる配向膜欠陥修正装置であって、
該配向膜欠陥修正装置は、配向膜から欠陥を有する部分を除去部の端が表示に寄与しない領域に位置するように除去する除去部材と、
該除去部材によって形成された配向膜の除去部内に該除去部よりも狭い範囲で修正用材料を塗布する塗布部材とを備えることを特徴とする配向膜欠陥修正装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、配向膜の欠陥修正方法及び製造方法等に関する。より詳しくは、液晶表示装置において液晶層内の液晶分子を所定の方向に揃えること等を目的として設けられる配向膜の欠陥修正方法及び製造方法、液晶表示パネルの製造方法及び液晶表示装置の製造方法、並びに、配向膜欠陥修正装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般的に、液晶表示パネルの基本構造は、ガラス等で構成される基板上に電極を形成し、この電極上に配向膜を形成した一対の基板を、シール材を介して貼り合わせ、そのシール材の内側に液晶を封入することで構成される。その中で、配向膜は、基板間に印加される電圧に応じて液晶の配向を制御する役割を担うものであり、液晶表示パネルの表示性能、表示品位、歩留まり及び信頼性を大きく左右する。ゆえに、配向膜の製造工程は、液晶表示パネルの製造工程において最も重要であるといえる。現在、配向膜材料には、大別して、ポリイミドの前駆体であるポリアミック酸の溶液（プレポリマータイプ）と、予め完全にイミド化された可溶性ポリイミドの溶液（ポリマータイプ）との２種類がある。通常、配向膜は、ポリアミック酸又はポリイミドの配向膜材料をフレキソ印刷等で塗布し、焼成することにより形成される。
【０００３】
しかしながら、配向膜材料の塗布時にはじき等が発生することにより、配向膜に膜厚不足（膜面にへこみを生じること）、ピンホール（膜厚ゼロの部分を生じること）、異物混入等の欠陥が生じ、液晶表示パネルの歩留りが充分に得られないことがあった。これに対する対応策として、従来では、配向膜欠陥の発生そのものを防ぐために、特定の構造を有する重合体、並びに、ポリエーテル結合を有するケイ素含有化合物を含有する液晶配向剤を用いることや、塗布時のはじきを防止することができるカラーフィルタの組成が開示されている（例えば、特許文献１及び２参照。）。しかしながら、これらの方法によれば、配向剤やカラーフィルタ材といった材料の濡れ性を改善することにより、歩留り向上が図ることができるものの、プロセス起因によってもたらされる配向膜の欠陥の発生を充分に抑制することができないという点で改善の余地があった。また、配向膜の欠陥が発生した際の対処法を開示するものではない。
【０００４】
一方、微細パターン欠陥を修正する方法として、パターンが欠落した欠損欠陥部に修正液を塗布する塗布工程と、正常なパターン表面より盛り上がった修正液を研磨テープで除去して正常部とほぼ同じに高さにする研磨工程とを含む欠陥修正方法が開示されている（例えば、特許文献３参照。）。また、欠陥部にレーザービームを照射して欠陥部を除去するレーザーカット工程と、欠陥部をレーザービームで除去した位置に修正液を塗布する塗布工程とを含む欠陥修正方法が開示されている（例えば、同文献参照。）。しかしながら、前者の方法を用いて配向膜の欠陥修正を行う場合には、欠陥修正した後、修正液を定着させるために焼成をすることが好ましいものの、焼成後、正常な部分に付着した修正液を研磨テープで除去することは難しく、一方、正常な部分に塗布された修正液を除去しなければ、その部分が黒シミとなって現れることがある点で改善する余地があった。また、後者の方法を用いて、配向膜の欠陥修正を行う場合には、レーザービームを照射して欠陥部を除去する際に、配向膜のみならず、カラーフィルタ基板又はアレイ基板のパターンにまでレーザービームの影響が及んでしまい、別の不良が発生するおそれがあるという点で改善の余地があった。
【特許文献１】特開２００３−４９０６９号公報
【特許文献２】特開２００１−９１７２９号公報
【特許文献３】特開２００６−７２９５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、液晶表示パネルの歩留まり向上に貢献することができる配向膜の欠陥修正方法及び製造方法、液晶表示パネルの製造方法及び液晶表示装置の製造方法、並びに、配向膜欠陥修正装置を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者は、液晶表示パネルに設けられる配向膜の欠陥、特に膜厚不足及びピンホールを修正する方法について種々検討したところ、本焼成工程後に配向膜の欠陥を修正する場合には、ポリアミック酸が完全にイミド化しているため、欠陥部に修正用材料を塗布するのみでは、欠陥部周辺の正常な部分（膜厚が正常かつイミド化している部分）に修正用材料が乗り上げてしまい、上記部分の膜厚が大きくなる結果、上記部分が配向確認において黒染みとして現れることを見いだした。
【０００７】
そこで、配向膜から膜厚不足及びピンホールを有する部分を除去部の端が表示に寄与しない領域に位置するように除去する除去工程を行うことにより、修正用材料を塗布して修正したときに黒染みの原因となりやすい除去部周辺の部分を表示に寄与しない領域内に追いやることができるため、配向膜の欠陥修正による表示品位の低下を抑制することができることを見いだした。また、上記除去工程で形成された配向膜の除去部内に上記除去部よりも狭い範囲で修正用材料を塗布する塗布工程を行うことにより、修正用材料が除去部周辺の部分に乗り上げるのを防ぐことができるとともに、修正用材料を除去部内全体に濡れ広がらせることができるため、均一な膜厚の配向膜が得られることを見いだした。更に、このような配向膜の欠陥修正方法は、膜厚不足及びピンホールに限らず、異物混入等のあらゆる欠陥の修正にも画一的に適用可能であることを見いだし、上記課題をみごとに解決することができることに想到し、本発明に到達したものである。
【０００８】
すなわち、本発明は、液晶表示パネルに設けられる配向膜の欠陥を修正する方法であって、上記欠陥修正方法は、配向膜から欠陥を有する部分を除去部の端が表示に寄与しない領域に位置するように除去する除去工程と、上記除去工程で形成された配向膜の除去部内に上記除去部よりも狭い範囲で修正用材料を塗布する塗布工程とを有する配向膜の欠陥修正方法である。
以下に本発明を詳述する。
【０００９】
本発明の配向膜の欠陥修正方法は、液晶表示パネルに設けられる配向膜の欠陥を修正するものである。配向膜は、液晶層内の液晶分子を所定の方向に揃える機能を有するものであり、通常、一対の基板と、上記一対の基板間に挟まれた液晶層とを有する液晶表示パネルにおいて、両基板の液晶層側の表面に設けられる。配向膜の材料としては、特に限定されないが、機械的強度、耐溶剤性、耐熱性等の観点から、ポリイミドが好適である。配向膜は、通常、ポリアミック酸又はポリイミドの溶液を塗布し、焼成することにより形成される。配向膜の欠陥としては特に限定されないが、代表例として、溶液塗布時の膜厚不足、ピンホール、異物混入等が挙げられる。
【００１０】
上記欠陥修正方法は、配向膜から欠陥を有する部分を除去部の端（エッジ）が表示に寄与しない領域に位置するように除去する除去工程と、上記除去工程で形成された配向膜の除去部内に上記除去部よりも狭い範囲で修正用材料を塗布する塗布工程とを有する。除去工程により、修正用材料を塗布して修正したときに黒染みの原因となりやすい除去部周辺の部分を表示に寄与しない領域内に配置することができるため、配向膜の欠陥修正による表示品位の低下を抑制することができる。また、塗布工程により、修正用材料が除去部周辺の部分に乗り上げるのを防ぎつつ、濡れ広がりを利用して、修正用材料を除去部内全体に塗り広げることができることから、膜厚均一性の高い配向膜を得ることができる。すなわち、本発明の配向膜の欠陥修正方法によれば、製造時に発生した配向膜の欠陥を適切に修正することにより、液晶表示パネルの歩留まりを向上させることができる。
【００１１】
上記除去工程で形成された配向膜の除去部の端は、少なくとも一部が表示に寄与しない領域に位置すればよいが、配向膜の欠陥修正による表示品位の低下を充分に抑制するためには、除去部の端の全体が、表示に寄与しない領域に位置することが好ましい。また、除去部の端は、表示に寄与しない領域のうち、除去部側に位置することが好ましい。これにより、表示に寄与しない領域が狭い場合等であっても、黒染みの原因となりやすい除去部周辺の部分が表示に寄与しない領域の外にはみ出るのを抑制することができる。
【００１２】
本明細書で「表示に寄与しない領域」とは、液晶表示装置において、実質的に表示に対する影響がなく、表示に寄与しないと評価できる領域をいう。このような領域としては、ブラックマトリクス等の遮光部材が設けられた領域、ゲート配線、ソース配線、補助容量配線等の各種配線が設けられた領域、スイッチング素子が設けられた領域等が挙げられる。
【００１３】
上記塗布工程で修正用材料が塗布される範囲の面積は、配向膜の除去部の面積の５０〜９５％であることが好ましい。５０％未満であると、修正用材料が除去部内全体に濡れ広がらず、適切に修正することができないおそれがあり、９５％を超えると、正常な部分に修正用材料が乗り上げたり、過剰塗布となったりして均一な配向膜を形成することができず、別の不良が発生するおそれがある。修正用材料と除去部の底面との接触角は、１０〜７０°であることが好ましい。１０°未満であると、修正用材料が濡れ広がりすぎて充分な膜厚の配向膜が得られないおそれがあり、７０°を超えると、修正用材料が充分に濡れ広がらなかったり、はじかれたりして、適切に修正することができないおそれがある。修正用材料としては、均質な配向膜を形成する観点からは、配向膜の形成に用いたポリアミック酸等の溶液を用いることが好ましい。また、パッドによる修正用材料の塗り広げ、及び、塗り広げた後の修正用材料の濡れ広がりの観点から、修正用材料の固形分濃度は、配向膜の形成に用いたものと同一又はそれより固形分濃度の低いもの（固形分濃度０．２５〜７％）を用いることが好ましい。
【００１４】
なお、配向膜の欠陥修正は、（１）塗布された配向膜を仮焼成する工程（仮焼成工程）と仮焼成された配向膜を本焼成する工程（本焼成工程）との間に行われてもよく、（２）本焼成工程後に行われてもよいが、（２）本焼成工程後に行われることが好ましい。（１）仮焼成工程と本焼成工程との間では、配向膜が完全に硬化していないため、膜厚不足及びピンホールは、修正用材料を塗布（後付け）する等により、容易に修正することができるものの、異物混入は、異物の性質（配向膜への溶解性等）によっては適切に修正することができない場合がある。これに対し、（２）本焼成工程後であれば、配向膜が完全に硬化しているため、膜厚不足、ピンホール、異物混入等を一括して修正することができる。本発明の配向膜の欠陥修正方法は、膜厚不足及びピンホールに限らず、異物混入等のあらゆる欠陥の修正に画一的に適用可能であることから、本焼成工程後に行われる配向膜の欠陥修正に好適に用いることができる。
【００１５】
本明細書で「本焼成工程」とは、配向膜を形成するための溶液として、ポリアミック酸溶液を用いた場合には、仮乾燥したポリアミック酸溶液の塗布膜を、加熱脱水縮合によりイミド化する工程を指す。他方、配向膜を形成するための溶液として、ポリイミドの溶液を用いた場合には、ポリイミド塗布膜中の溶剤を完全除去するための工程を指す。したがって、いずれにせよ、本焼成工程後の配向膜は、完全に硬化した状態である。
【００１６】
本発明の配向膜の欠陥修正方法は、上記除去工程及び塗布工程を構成要素として有するものである限り、その他の構成要素を有していても有していなくてもよく、特に限定されるものではない。
【００１７】
本発明の配向膜の欠陥修正方法の好ましい形態としては、上記除去工程と、上記塗布工程と、上記塗布工程で塗布された修正用材料を焼成（本焼成、又は、仮焼成及び本焼成の両方）する焼成工程とを有する形態等が挙げられる。この形態によれば、配向膜の欠陥除去が可能であり、欠陥を生じずに形成された正常な配向膜とかわらぬ配向膜を形成することができる。なお、配向膜に欠陥があるか否かを確認するための検査工程は、本焼成工程の後、除去工程の前に行われてもよいが、欠陥の発見しやすさの観点から、本焼成工程の前に行われることが好ましく、仮焼成工程の後に行われることがより好ましい。本焼成工程の後、除去工程の前に行うと、配向膜洗浄工程その他の既存の工程で除去することができ、修正しなくてもよい欠陥をも検知するおそれがある。
【００１８】
本発明の配向膜の欠陥修正方法における好ましい形態について以下に詳しく説明する。
上記除去工程は、配向膜から欠陥を有する部分を副画素単位で除去することが好ましい。副画素は、通常、遮光領域で囲まれている。したがって、副画素単位で除去することにより、黒染みの原因となりやすい部分が表示に寄与しない遮光領域内に配置されることから、配向膜の欠陥修正による表示品位の低下をより抑制することができる。
【００１９】
本明細書で「画素（ピクセル）」とは、画面の最小表示単位をいい、「副画素（サブピクセル、絵素）」とは、画素を構成するより細かい単色の点をいう。除去工程で形成される除去部の面積は、副画素１個分であってもよく、副画素複数個分であってもよい。したがって、除去工程で形成される除去部の面積は、画素一個分であってもよく、画素複数個分であってもよい。
【００２０】
上記除去工程は、テープ研磨法、ウェットエッチング法及びプラズマ処理法からなる群より選択された少なくとも一種の方法を用いて行われることが好ましい。これらの方法によれば、局所的に処理することが可能であるため、配向膜から欠陥を有する部分を容易に除去することができる。なお、テープ研磨法を用いた場合には、研磨テープの厚さが薄く均一なため、砥粒切れ刃高さのバラツキが小さくなる結果、良好な仕上げ面が得ることができる。
【００２１】
上記テープ研磨法で用いられる研磨テープとしては、特に限定されず、例えば、ポリエステルフィルムの上に、サブミクロンから数十μｍの粒径の砥粒が接着剤で均一に塗布されたテープ状の研磨工具等が挙げられる。上記ウェットエッチング法で用いられるエッチャントとしては、特に限定されず、例えば、水酸化ナトリウム溶液等のアルカリ性溶液が挙げられる。上記プラズマ処理法で用いられる反応ガスとしては、例えば、オゾン等が挙げられる。なお、アルカリ性溶液によるウェットエッチング法を用いた場合には、カラーフィルタ（ＣＦ）基板において、パターンの一部をも剥離してしまうおそれがあり、また、アルカリ性溶液が正常な部分に付くと、別の不良を起こすおそれがある。また、オゾンプラズマ処理法を用いた場合には、配向膜から欠陥を有する部分のみならず、正常な部分まで除去してしまうおそれがある。したがって、このような不具合を防ぐ観点からは、除去工程は、テープ研磨法を用いて行われることが好ましい。
【００２２】
上記塗布工程は、上記除去工程で形成された配向膜の除去部内に上記除去部よりも狭い面積を持つパッドを置き、上記パッドを介して修正用材料を塗布することが好ましい。これによれば、配向膜の除去部内にディスペンサ等で修正用材料を直接塗布する場合と異なり、修正用材料の跳ねや過剰塗布等がなく、膜厚が均一な配向膜を形成することができる。また、パッドの大きさを調整することにより、修正用材料が塗布される面積を容易に調整することができることから、除去部周辺の部分に修正用材料が乗り上がるのを効果的に防止することができ、広い領域を一度に修正することができ、また、修正用材料の塗布量を容易に調整することができる。
【００２３】
上記修正用材料の塗布方法としては、（１）除去工程で形成された配向膜の除去部内に、あらかじめ修正用材料を染み込ませておいた（浸漬させておいた）パッドを置き、上記パッドに染み込んだ修正用材料を除去部の底面に接触させることで修正用材料を塗布する方法、（２）除去工程で形成された配向膜の除去部内にパッドを置いた後、上記パッドに修正用材料を染み込ませ、上記パッドに染み込んだ修正用材料を除去部の底面に接触させることで修正用材料を塗布する方法等が挙げられるが、（１）の場合、除去部へパッドを移動させる際に修正用材料が正常な部分に垂れることや修正用材料が乾燥するおそれがあることから、（２）が好ましい。なお、パッドを基板の除去部の底面に接触させると、基板を傷つける可能性があるため、修正用材料を塗布する際には、パッドは除去部の底面に接触させないことが好ましい。開口部の底面にパッドを接触させなくても、修正用材料を接触させれば、表面張力等により修正用材料は開口部の底面に転写される。
【００２４】
上記パッドの材料としては特に限定されず、例えば、ＵＶ硬化性樹脂等が挙げられる。また、パッドの面積は、配向膜の除去部の面積の１０〜９５％であることが好ましい。１０％未満であると、修正用材料が除去部の底面全域に行き渡らなかったり、部分的な塗布不足になったりして、充分な膜厚を持った配向膜を得ることができないおそれがあり、９５％を超えると、正常な部分に修正用材料が乗ったり、過剰塗布となったりして、均一な膜厚の配向膜を形成することができないおそれがある。なお、パッドの面積に比例して修正用材料の浸漬量も大きくなり、修正領域を大きくすることができることから、パッドの面積は、除去部の面積に応じて調整されることが好ましく、除去部が広いときには、面積の大きいパッドを用いることが好ましい。更に、パッドの形状としては、例えば、正方形や円形等が挙げられるが、修正用材料を均等に塗布する観点からは、配向膜の除去部と相似形状であることが好ましい。
【００２５】
本発明はまた、上記配向膜の欠陥修正方法を用いる配向膜の製造方法でもある。本発明の配向膜の欠陥修正方法によれば、良好な膜厚均一性を確保しつつ、配向膜の欠陥修正を行うことができることから、配向膜の欠陥修正方法として、本発明の配向膜の欠陥修正方法を配向膜の製造方法に適宜組み込むことにより、均一な膜厚の配向膜を高い歩留りで製造することができる。本発明の配向膜の製造方法の好ましい形態としては、配向膜が形成される基板を洗浄する基板洗浄工程と、基板上に配向膜を塗布する配向膜塗布工程と、塗布された配向膜を仮焼成する仮焼成工程と、仮焼成された配向膜を本焼成する本焼成工程と、（必要に応じて）本焼成された配向膜を配向処理する配向処理工程と、配向処理された配向膜を洗浄する工程とを有する形態等が挙げられる。
【００２６】
本発明は更に、上記配向膜の欠陥修正方法を用いる液晶表示パネル及び液晶表示装置の製造方法でもある。本発明の配向膜の欠陥修正方法によれば、良好な膜厚均一性を確保しつつ、配向膜の欠陥修正を行うことができることから、配向膜の欠陥修正方法として、本発明の配向膜の欠陥修正方法を液晶表示パネル及び液晶表示装置の製造方法に適宜組み込むことにより、高信頼性の液晶表示パネル及び液晶表示装置を高い歩留りで提供することができる。
【００２７】
上記液晶表示パネルの形態としては、一対の基板間に、配向膜を介し液晶層を挟持した形態等が挙げられる。液晶表示装置としては、透過型であってもよく、半透過型であってもよく、反射型であってもよい。透過型液晶表示装置の形態としては、例えば液晶表示パネルの前面側（観察面側）及び背面側の両方に直線偏光板が貼付された形態が挙げられる。半透過型液晶表示装置の形態としては、例えば、液晶表示パネルの前面側及び背面側の両方に円偏光板が貼付された形態が挙げられる。反射型液晶表示装置の形態としては、例えば、液晶表示パネルの前面側にのみ円偏光板が貼付された形態が挙げられる。
【００２８】
本発明はそして、液晶表示パネルに設けられる配向膜の欠陥修正に用いられる配向膜欠陥修正装置であって、上記配向膜欠陥修正装置は、配向膜から欠陥を有する部分を除去部の端が表示に寄与しない領域に位置するように除去する除去部材と、上記除去部材によって形成された配向膜の除去部内に上記除去部よりも狭い範囲で修正用材料を塗布する塗布部材とを備える配向膜欠陥修正装置でもある。このような配向膜欠陥修正装置を用いることにより、表示品位を劣化させない配向膜の欠陥修正を行うことができる。本発明の配向膜欠陥修正装置は、本発明の配向膜の欠陥修正方法に好適である。本発明の配向膜欠陥修正装置は、上記除去部材及び塗布部材を構成要素として備えるものである限り、その他の構成要素を備えていても、備えていなくてもよく、特に限定されない。本発明の配向膜欠陥修正装置の好ましい形態としては、上記除去部材及び塗布部材に加え、上記塗布部材によって塗布された修正用材料を焼成（本焼成、又は、仮焼成及び本焼成の両方）する焼成部材（焼成炉等）を有する形態等が挙げられる。
【発明の効果】
【００２９】
本発明の配向膜の欠陥修正方法によれば、膜厚不足、ピンホール、異物混入等を修正することにより、均一な膜厚を持った配向膜を得ることができることから、液晶表示パネルの歩留まりを向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
以下に実施形態を掲げ、本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこの実施形態のみに限定されるものではない。
【００３１】
（実施形態１）
図１は、実施形態１に係る配向膜の製造方法を示す図である。
本実施形態に係る配向膜の製造工程は、図１に示すように、基板洗浄工程１、配向膜塗布工程２、仮焼成工程３、検査工程４、本焼成工程５、修正工程６（除去工程６Ａ、塗布工程６Ｂ）、配向処理工程７、及び、配向膜洗浄工程８から構成される。
【００３２】
図２（ａ）〜（ｆ）は、配向膜の製造方法の一部を示す平面模式図である。
図３（ａ）〜（ｆ）はそれぞれ、図２（ａ）〜（ｆ）のＡ−Ｂ線における断面模式図である。
以下、図２（ａ）〜（ｆ）及び３（ａ）〜（ｆ）を適宜用いながら、配向膜の製造方法を説明する。
【００３３】
１．基板洗浄工程
まず、液晶表示パネル用の基板５０を用意する。基板５０としては、特に限定されず、薄膜トランジスタアレイ基板、カラーフィルタ基板等が挙げられる。続いて、紫外線オゾン洗浄と純水洗浄とを組み合わせることにより、基板５０の表面（画素電極１２の表面）を洗浄する。これにより、基板５０の表面に付着した汚れやゴミ等を除去し、基板５０の表面を清浄にするとともに、配向膜の塗布性及び付着性を高めることができる。なお、基板洗浄方法は、基板面や、汚染物質の種類に応じて、湿式洗浄と乾式洗浄、又は、物理的洗浄と化学的洗浄とを適宜すればよく、特に限定されるものでない。
【００３４】
２．配向膜塗布工程
次に、フレキソ印刷法等を用いて、基板５０の表面に、ポリアミック酸溶液（ポリイミドの前駆体であるポリアミック酸をＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）に溶解させてなる溶液）を膜厚５０〜１２０ｎｍで印刷する。これによりポリアミック酸溶液の薄膜が形成される。
【００３５】
３．仮焼成（プレベイク）工程
次に、塗布膜へのダスト付着の防止、及び、本焼成前の予備焼成のため、ポリアミック酸溶液の薄膜を８０〜１２０℃で８０〜１８０秒間、乾燥（仮焼成）する。なお、仮焼成の方法としては、特に限定されず、真空乾燥法、ホットプレートを用いる方法等が挙げられる。
【００３６】
４．検査工程
次に、仮焼成されたポリアミック酸溶液の薄膜に欠陥がないか、検査を行う。なお、本実施形態では、この検査工程において、図２（ａ）及び３（ａ）に示すように、ポリアミック酸溶液の薄膜１３にピンホール１４が発見されたものとする。
【００３７】
５．本焼成工程
次に、仮焼成されたポリアミック酸溶液の薄膜１３を１００〜２５０℃で３０〜５０分間、本焼成する。これにより、溶媒が完全に除去されるとともに、ポリアミック酸のイミド化反応が進み、図２（ｂ）及び３（ｂ）に示すように、不溶不融で、耐熱性、耐薬品性及び電気絶縁性に優れたポリイミド膜１５を得ることができる。なお、ピンホール１４はそのまま残っている。本焼成の方法としては、特に限定されず、焼成炉（バッチ炉）を用いる方法等が挙げられる。
【００３８】
６．修正工程
６Ａ．除去工程
次に、図２（ｃ）及び３（ｃ）に示すように、テープ研磨装置を用いて、ポリイミド膜１５から、検査工程で発見されたピンホール１４を有する部分を除去する。この際、図２（ｃ）及び３（ｃ）に示すように、副画素１９の１２個分の面積を除去することにより、形成されたポリイミド膜１５の開口部（除去部）１６の端１６ｅが遮光部材１１によって形成された遮光領域内の開口部１６側に位置するようにする。すなわち、開口部１６周辺の部分１６ｓを遮光領域内に配置する。なお、除去方法としてはこれに限定されず、水酸化ナトリウム溶液等のアルカリ性溶液等をエッチャントとして用いるウェットエッチング法や、オゾン等を用いたプラズマ処理法によっても、所望の部分を容易に除去することができる。
【００３９】
６Ｂ．塗布工程
次に、修正用配向溶液（配向膜塗布工程２で用いたポリアミック酸溶液よりも固形分濃度が小さいポリアミック酸溶液）が入った壷に、開口部１６よりも狭い面積を持ったパッド１７を浸漬させることにより、パッド１７に修正用配向溶液１８を染み込ませる。その後、図２（ｄ）及び３（ｄ）に示すように、除去工程で形成されたポリイミド膜１５の開口部１６内にパッド１７を置き、パッド１７に染み込んだ修正用配向溶液１８を開口部１６の底面１６ｂに接触させることにより、図２（ｅ）及び３（ｅ）に示すように、開口部１６よりも狭い範囲で修正用配向溶液１８を塗布する。塗布後、修正用配向溶液１８は、開口部１６全体に濡れ広がる。その後、修正用配向溶液１８を１００〜２５０℃の炉で５〜４０分焼成することにより、図２（ｆ）及び３（ｆ）に示すように、均一な膜厚を持ったポリイミド膜１５ａを得ることができる。
【００４０】
７．配向処理工程
ポリイミド膜１５ａの形成後、必ずしも配向処理を行う必要はないが、ポリイミド膜１５ａの膜面を回転金属ローラに巻き付けたバフ布で一方向に擦るラビング処理や、ポリイミド膜１５ａに光照射し、表面エネルギーを部分的に変化させる光配向処理等の配向処理を施すことにより、配向処理されたポリイミド膜１５ａを用いて、液晶分子を所定の方向に配向させることができる。
【００４１】
８．配向膜洗浄工程（ラビング後洗浄工程）
最後に、配向処理されたポリイミド膜１５ａの表面に付着しているバフ布からの糸くずやポリイミド膜１５ａからの削れ片等のゴミ及び汚れを除去するために、洗浄する。
以上により、配向膜の製造工程が完了する。
【００４２】
本実施形態によれば、除去工程６Ａにより、図２（ｃ）及び３（ｃ）に示すように、黒染みの原因となりやすい開口部１６周辺の部分１６ｓを遮光領域１１内に追いやることができるため、ポリイミド膜１５の欠陥修正による表示品位の低下を抑制することができる。また、塗布工程６Ｂにより、図２（ｄ）〜（ｆ）及び３（ｄ）〜（ｆ）に示すように、修正用配向溶液１８が開口部１６周辺の部分１６ｓに乗り上げるのを防ぎつつ、濡れ広がりを利用して、修正用配向溶液１８を開口部１６全体に均一に塗布することができることから、膜厚均一性を確保しつつ、ポリイミド膜１５の欠陥を修正することができる。更に、本実施形態によれば、図１に示すように、本焼成工程５の後に、配向膜の欠陥修正を行うことから、仮焼成工程３の前や、仮焼成工程３と本焼成工程５との間に行う場合と違って、硬化した配向膜を修正することとなるため、膜厚不足、ピンホール、異物混入等の欠陥を一括かつ画一的に修正することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】実施形態１に係る配向膜の製造フローを示す模式図である。
【図２】（ａ）〜（ｆ）は、実施形態１に係る配向膜の製造方法を示す平面模式図である。
【図３】（ａ）〜（ｆ）はそれぞれ、図２（ａ）〜（ｆ）のＡ−Ｂ線における断面模式図である。
【符号の説明】
【００４４】
１：基板洗浄工程
２：配向膜塗布工程
３：仮焼成工程
４：検査工程
５：本焼成工程
６：修正工程
６Ａ：除去工程
６Ｂ：塗布工程
７：配向処理工程
８：配向膜洗浄工程
１０：ガラス基板
１１：遮光部材
１２：画素電極
１３：ポリアミック酸溶液の薄膜
１４：ピンホール
１４ｅ：ピンホールの端
１５：ポリイミド膜
１５ａ：修正後のポリイミド膜
１６：ポリイミド膜の開口部（除去部）
１６ｂ：ポリイミド膜の開口部の底面
１６ｅ：ポリイミド膜の開口部の端
１６ｓ：ポリイミド膜の開口部周辺の部分
１７：パッド
１８：修正用配向溶液（修正用材料）
１９：副画素
５０：液晶表示パネル用の基板
【図１】
2008268669.tif 000003
【図２】
2008268669.tif 000004
【図３】
2008268669.tif 000005