(57)【要約】【課題】  本発明にあっては、粒子とバインダマトリックス形成材料と溶媒を含む塗液をウェブ状基材上に機能層を形成する際に、面内で粒子が均一に分散した機能層を形成することを目的とする。【解決手段】  塗液の導電率が１．０×１０−８（１／Ω・ｃｍ）以下であり、且つ、ウェブ状基材の走行方向に対して上流側から順に、帯電若しくは除電手段と、ウェブ状基材の帯電量を測定するための帯電量測定手段と、ウェブ基材上に塗膜を形成するダイヘッドと、ウェブ状基材に塗布された塗膜を乾燥するための乾燥炉が設けられ、ウェブ状基材の帯電量が−１０Ｖ〜＋１０Ｖの範囲内となるように維持し、走行するウェブ状基材に対しダイヘッドのスリットから塗液を吐出することにより、ウェブ状基材上に塗液を塗布し塗膜を形成する工程と、ウェブ状基材上に形成された塗膜を乾燥する工程を備えることを特徴とする光学フィルムの製造方法とする。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面が金属材料からなるコーティングロールに支持され連続走行するウェブ状基材の少なくとも一方の面に、粒子とバインダマトリックス形成材料と溶媒を含む塗液を塗布し、粒子とバインダマトリックスを含む機能層を形成する光学フィルムの製造方法であって、
前記塗液の導電率が１．０×１０−８（１／Ω・ｃｍ）以下であり、且つ、
ウェブ状基材の走行方向に対して上流側から順に、
帯電若しくは除電手段と、
コーティングロールに支持されたウェブ状基材の帯電量を測定するための帯電量測定手段と、
ウェブ状基材の幅方向にスリットを有し該スリットからコーティングロールに支持されたウェブ状基材に塗液を吐出しウェブ基材上に塗膜を形成するダイヘッドと、
ウェブ状基材に塗布された塗膜を乾燥するための乾燥炉が設けられ、
前記帯電若しくは除電装置により前記帯電量測定手段で測定されるコーティングロールに支持された状態でのウェブ状基材の帯電量が−１０Ｖ〜＋１０Ｖの範囲内となるように維持し、走行するウェブ状基材に対しダイヘッドのスリットから塗液を吐出することにより、ウェブ状基材上に塗液を塗布し塗膜を形成する工程と、
ウェブ状基材上に形成された塗膜を乾燥する工程を備えることを特徴とする光学フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記塗液の粘度が１ｍＰａ・ｓ以上６０ｍＰａ・ｓ以下であることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項３】
表面が金属材料からなるコーティングロールに支持され連続走行するウェブ状基材の少なくとも一方の面に、粒子とバインダマトリックス形成材料と溶媒を含む塗液を塗布し、粒子とバインダマトリックスを含む機能層を形成する光学フィルムの製造方法であって、
前記塗液の導電率が１．０×１０−８（１／Ω・ｃｍ）以下であり、且つ、
ウェブ状基材の走行方向に対して上流側から順に、
帯電若しくは除電手段と、
コーティングロールに支持されたウェブ状基材の帯電量を測定するための帯電量測定手段と、
ウェブ状基材の幅方向にスリットを有し該スリットからコーティングロールに支持されたウェブ状基材に塗液を吐出しウェブ基材上に塗膜を形成するダイヘッドと、
ウェブ状基材に塗布された塗膜を乾燥するための乾燥炉が設けられ、
前記帯電若しくは除電装置により前記帯電量測定手段で測定されるコーティングロールに支持された状態でのウェブ状基材の帯電量が−１０Ｖ〜＋１０Ｖの範囲内となるように維持し、走行するウェブ状基材に対しダイヘッドのスリットから塗液を吐出することにより、ウェブ状基材上に塗液を塗布し塗膜を形成する工程と、
ウェブ状基材上に形成された塗膜を乾燥する工程を備えることを特徴とする防眩フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記塗液の粘度が１ｍＰａ・ｓ以上６０ｍＰａ・ｓ以下であることを特徴とする請求項３に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記粒子の平均粒子径が０．５μｍ以上１０μｍ以下であり、防眩層の平均膜厚が２〜２０μｍであることを特徴とする請求項３または請求項４に記載の防眩フィルムの製造方法。
【請求項６】
前記粒子がシリカ粒子であることを特徴とする請求項３乃至５のいずれかに記載の塗布物の製造方法。
【請求項７】
表面が金属材料からなるコーティングロールに支持され連続走行するウェブ状基材の少なくとも一方の面に、粒子とバインダマトリックスと溶媒を含む塗液を塗布し、ウェブ基材上に粒子とバインダマトリックスを含む機能層を形成する光学フィルムの製造装置であって、
ウェブ状基材の走行方向に対して上流側から順に、
帯電若しくは除電手段と、
コーティングロールに支持されたウェブ状基材の帯電量を測定するための帯電量測定手段と、
ウェブ状基材の幅方向にスリットを有し該スリットからコーティングロールに支持されたウェブ状基材に塗液を吐出しウェブ基材上に塗膜を形成するダイヘッドと、
ウェブ状基材に塗布された塗膜を乾燥するための乾燥炉を備え、
該帯電若しくは除電手段が、該帯電量測定装置により測定されるコーティングロールに支持された状態でのウェブ状基材の帯電量を−１０Ｖ〜＋１０Ｖ以下の範囲内とする調整手段を備えることを特徴とする光学フィルムの製造装置。
【請求項８】
表面が金属材料からなるコーティングロールに支持され連続走行するウェブ状基材の少なくとも一方の面に、粒子とバインダマトリックスと溶媒を含む塗液を塗布し、ウェブ基材上に粒子とバインダマトリックスを含む防眩層を形成する光学フィルムの製造装置であって、
ウェブ状基材の走行方向に対して上流側から順に、
帯電若しくは除電手段と、
コーティングロールに支持されたウェブ状基材の帯電量を測定するための帯電量測定手段と、
ウェブ状基材の幅方向にスリットを有し該スリットからコーティングロールに支持されたウェブ状基材に塗液を吐出しウェブ基材上に塗膜を形成するダイヘッドと、
ウェブ状基材に塗布された塗膜を乾燥するための乾燥炉を備え、
該帯電若しくは除電手段が、該帯電量測定装置により測定されるコーティングロールに支持された状態でのウェブ状基材の帯電量を−１０Ｖ〜＋１０Ｖ以下の範囲内とする調整手段を備えることを特徴とする防眩フィルムの製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗液に粒子とバインダマトリックスと溶媒を含み、ウェブ基材上に形成される粒子とバインダマトリックスを含む機能層が高い面ない均一性が求められる光学フィルムの製造方法及び製造装置に関する。さらには、機能層として防眩層を備える防眩フィルムであり、該粒子がバインダマトリックス中に分散することにより防眩層表面に凹凸を形成してなる防眩フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイに代表される各種ディスプレイの表面には、外光の反射によるコントラストの低下や像の映り込みを防止するための機能層が設けられている。機能層には、蒸着法・イオンプレーティング法・スパッタリング法等により成膜した金属・金属酸化物の単層又は積層からなる反射防止層や、塗液を塗布することにより形成されるバインダマトリックス中にフッ素系やシリカ系の低屈折材料を分散させた反射防止層がある。また、外光に入射する光に対して表面の凹凸によって光を散乱させて像の映り込みを防ぐ光学機能層として防眩層がある。防眩層としては、例えば、塗布層表面にエンボス加工を施すことで表面に凹凸を形成した防眩層や粒子とバインダマトリックス形成材料を含む塗液を塗布することにより表面に凹凸を形成した防眩層がある。
【０００３】
反射防止層や防眩層といった機能層は、その機能性ゆえ膜厚の均一性あるいは塗布欠陥の解消が要求されるため、精密な塗工技術が必要になる。例えば、粒子とバインダマトリックス形成材料と溶媒を含む塗液を基材上に塗布し、表面の凹凸による光散乱現象を利用する防眩層を形成するにあっては粒子の分散性が問題となる。例えば、形成される防眩層において粒子の分散が均一でない場合、防眩層の膜厚の面内のばらつきが大きくなり、ムラやスジ状の欠陥として確認される。
【０００４】
粒子とバインダマトリックスと溶媒を含む塗液を用い、面内で粒子が均一に分散させる方法として、塗液における粒子の分散性を向上させる種々の方法が提案されている。例えば、分散粒子の表面修飾に工夫を施す方法（特許文献１）、溶媒中に添加する分散剤に工夫を施す方法（特許文献２）、攪拌方法に工夫を施す方法（特許文献３）等が提案されている。
【特許文献１】特開２００６−２５７３０８号公報
【特許文献２】特開２００２−９５９４９号公報
【特許文献３】特開平１０−３１０４１６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、塗液中の粒子分散を良好にしただけでは、形成される機能層中の粒子配置や粒子の分散状態が均一とならない場合がある。特に、粒子として絶縁材料を用い、導電性を示さない塗液を用いる場合にあっては、塗液状態で粒子の分散状態が良好であったとしても、形成される機能層中において粒子が均一に分散しないという問題があった。特に、粒子とバインダマトリックス形成材料と溶媒を含む塗液から機能層として防眩層を形成しようとした場合にあっては、粒子により防眩層表面に凹凸を形成することから、粒子の分散性が均一とならないときに表面の凹凸の形状が変化し、ウェブ基材の走行方向に沿ったスジ状の欠陥が視認されやすくなるという問題があった。そこで、本発明にあっては、粒子とバインダマトリックス形成材料と溶媒を含む塗液をウェブ状基材上に機能層を形成する際に、面内で粒子が均一に分散した機能層を形成することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために請求項１に係る発明としては、表面が金属材料からなるコーティングロールに支持され連続走行するウェブ状基材の少なくとも一方の面に、粒子とバインダマトリックス形成材料と溶媒を含む塗液を塗布し、粒子とバインダマトリックスを含む機能層を形成する光学フィルムの製造方法であって、前記塗液の導電率が１．０×１０−８（１／Ω・ｃｍ）以下であり、且つ、ウェブ状基材の走行方向に対して上流側から順に、帯電若しくは除電手段と、コーティングロールに支持されたウェブ状基材の帯電量を測定するための帯電量測定手段と、ウェブ状基材の幅方向にスリットを有し該スリットからコーティングロールに支持されたウェブ状基材に塗液を吐出しウェブ基材上に塗膜を形成するダイヘッドと、ウェブ状基材に塗布された塗膜を乾燥するための乾燥炉が設けられ、前記帯電若しくは除電装置により前記帯電量測定手段で測定されるコーティングロールに支持された状態でのウェブ状基材の帯電量が−１０Ｖ〜＋１０Ｖの範囲内となるように維持し、走行するウェブ状基材に対しダイヘッドのスリットから塗液を吐出することにより、ウェブ状基材上に塗液を塗布し塗膜を形成する工程と、ウェブ状基材上に形成された塗膜を乾燥する工程を備えることを特徴とする光学フィルムの製造方法とした。
【０００７】
また、請求項２に係る発明としては、前記塗液の粘度が１ｍＰａ・ｓ以上６０ｍＰａ・ｓ以下であることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルムの製造方法とした。
【０００８】
また、請求項３に係る発明としては、表面が金属材料からなるコーティングロールに支持され連続走行するウェブ状基材の少なくとも一方の面に、粒子とバインダマトリックス形成材料と溶媒を含む塗液を塗布し、粒子とバインダマトリックスを含む機能層を形成する光学フィルムの製造方法であって、前記塗液の導電率が１．０×１０−８（１／Ω・ｃｍ）以下であり、且つ、ウェブ状基材の走行方向に対して上流側から順に、帯電若しくは除電手段と、コーティングロールに支持されたウェブ状基材の帯電量を測定するための帯電量測定手段と、ウェブ状基材の幅方向にスリットを有し該スリットからコーティングロールに支持されたウェブ状基材に塗液を吐出しウェブ基材上に塗膜を形成するダイヘッドと、ウェブ状基材に塗布された塗膜を乾燥するための乾燥炉が設けられ、前記帯電若しくは除電装置により前記帯電量測定手段で測定されるコーティングロールに支持された状態でのウェブ状基材の帯電量が−１０Ｖ〜＋１０Ｖの範囲内となるように維持し、走行するウェブ状基材に対しダイヘッドのスリットから塗液を吐出することにより、ウェブ状基材上に塗液を塗布し塗膜を形成する工程と、ウェブ状基材上に形成された塗膜を乾燥する工程を備えることを特徴とする防眩フィルムの製造方法とした。
【０００９】
また、請求項４に係る発明としては、前記塗液の粘度が１ｍＰａ・ｓ以上６０ｍＰａ・ｓ以下であることを特徴とする請求項３に記載の光学フィルムの製造方法とした。
【００１０】
また、請求項５に係る発明としては、前記粒子の平均粒子径が０．５μｍ以上１０μｍ以下であり、防眩層の平均膜厚が２〜２０μｍであることを特徴とする請求項３または請求項４に記載の防眩フィルムの製造方法とした。
【００１１】
また、請求項６に係る発明としては、前記粒子がシリカ粒子であることを特徴とする請求項３乃至５のいずれかに記載の塗布物の製造方法とした。
【００１２】
また、請求項７に係る発明としては、表面が金属材料からなるコーティングロールに支持され連続走行するウェブ状基材の少なくとも一方の面に、粒子とバインダマトリックスと溶媒を含む塗液を塗布し、ウェブ基材上に粒子とバインダマトリックスを含む機能層を形成する光学フィルムの製造装置であって、ウェブ状基材の走行方向に対して上流側から順に、帯電若しくは除電手段と、コーティングロールに支持されたウェブ状基材の帯電量を測定するための帯電量測定手段と、ウェブ状基材の幅方向にスリットを有し該スリットからコーティングロールに支持されたウェブ状基材に塗液を吐出しウェブ基材上に塗膜を形成するダイヘッドと、ウェブ状基材に塗布された塗膜を乾燥するための乾燥炉を備え、該帯電若しくは除電手段が、該帯電量測定装置により測定されるコーティングロールに支持された状態でのウェブ状基材の帯電量を−１０Ｖ〜＋１０Ｖ以下の範囲内とする調整手段を備えることを特徴とする光学フィルムの製造装置とした。
【００１３】
また、請求項８に係る発明としては、表面が金属材料からなるコーティングロールに支持され連続走行するウェブ状基材の少なくとも一方の面に、粒子とバインダマトリックスと溶媒を含む塗液を塗布し、ウェブ基材上に粒子とバインダマトリックスを含む防眩層を形成する光学フィルムの製造装置であって、ウェブ状基材の走行方向に対して上流側から順に、帯電若しくは除電手段と、コーティングロールに支持されたウェブ状基材の帯電量を測定するための帯電量測定手段と、ウェブ状基材の幅方向にスリットを有し該スリットからコーティングロールに支持されたウェブ状基材に塗液を吐出しウェブ基材上に塗膜を形成するダイヘッドと、ウェブ状基材に塗布された塗膜を乾燥するための乾燥炉を備え、該帯電若しくは除電手段が、該帯電量測定装置により測定されるコーティングロールに支持された状態でのウェブ状基材の帯電量を−１０Ｖ〜＋１０Ｖ以下の範囲内とする調整手段を備えることを特徴とする防眩フィルムの製造装置とした。
【発明の効果】
【００１４】
本発明者らは、導電性を有さない塗液を用いた場合に、塗液を塗布する前のウェブ状基材の帯電状態が粒子配置や分散に強く影響することを発見した。上記構成の光学フィルムの製造方法とすることにより、基材上に面内において粒子が均一に分散された塗膜を備える光学フィルムを製造することができた。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
本発明の光学フィルムについて説明する。
図１に本発明の光学フィルムの説明断面図を示した。本発明の光学フィルム１は基材１１上に機能層１２を備える。機能層１２は、バインダマトリックス１２０と粒子１２１を備え、粒子１２１は機能層中で分散している。本発明において、機能層は、バインダマトリックス中に粒子が分散した構造を有する。本発明において、基材はウェブ状であり、塗布物はロール・ツー・ロール方式で連続して製造される。
【００１６】
本発明の光学フィルムにおける機能層としては、粒子を分散させることにより表面に凹凸形状を備える防眩層や、粒子として低屈折率材料を用いた反射防止層や、粒子として光拡散粒子を用いた光拡散層等を挙げることができる。
【００１７】
機能層として防眩層を備える防眩フィルムや、機能層として反射防止層を備える反射防止フィルムは、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、ＣＲＴディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、表面電界ディスプレイ（ＳＥＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）などのディスプレイの表面に設けられるため、形成される機能層に高い面内均一性が要求される。
【００１８】
中でも基材上に粒子を分散させ表面に凹凸形状を備える防眩層を設けた防眩フィルムにあっては、表面の凹凸形状により外光の映り込みを防止するため、粒子の分散状態が均一でなく形成される表面凹凸の形状が変化した場合に、スジ状の欠陥が確認されやすい。したがって、本発明の製造方法を好適に用いることができる。
【００１９】
次に、本発明の光学フィルムの製造方法および光学フィルムの製造装置について示す。本発明に用いられる粒子とバインダマトリックス形成材料と溶媒を含む塗液の導電率は１．０×１０−８（１／Ω・ｃｍ）以下である。本発明者らは、粒子とバインダマトリックスを含み、導電率が１．０×１０−８（１／Ω・ｃｍ）以下である導電性を示さない塗液を用い、ダイコート法によりウェブ状基材に対し塗液を塗布した際に、ウェブ状基材の塗布面側の表面の帯電により形成される塗膜中の粒子が均一に分散しないという現象を確認し、塗布直前の基材の帯電を所定の範囲内に制御することにより、上記現象が解消されるということを発見した。本発明において、導電率が１．０×１０−８（１／Ω・ｃｍ）を上回るような場合にあっては、ウェブ状基材の帯電によって粒子の分散性が低下し、製造される光学フィルムの機能層においてスジ状のムラが発生するといった現象は発生しない。
【００２０】
図２に本発明の光学フィルム製造装置の説明図を示した。図２を基にして、本発明の光学フィルムの製造方法及び製造装置について説明する。
【００２１】
本発明の光学フィルムはロール・ツー・ロール方式で、連続してウェブ基材上に塗膜が形成される。送り出しロール（図示せず）から送り出されたウェブ状基材１１は、まず、除電手段２１Ａ及び帯電手段２１Ｂを通過する。本発明の製造装置は、除電手段２１Ａ及び帯電手段２１Ｂのうち少なくとも１つを備える。好ましくは、ウェブ基材が複数の帯電手段若しくは除電手段を通過する方が好ましい。
【００２２】
除電手段２１Ａ及び帯電手段２１Ｂとしては、イオン照射方式のものを用いることができる。このとき、正イオンと負イオンのどちらか一方をウェブ状基材の塗布面側に対して照射するものを帯電手段、正イオンと負イオンの両方をウェブ状基材の塗布面側に対して照射するものを除電手段とすることができる。また、除電手段としては、除電ブラシを用いることも可能である。
【００２３】
除電手段２１Ａ及び帯電手段２１Ｂを通過したウェブ状基材１１は、コーティングロール２３において、帯電測定手段２２Ａにより、表面が金属材料からなるコーティングロールに支持された状態でのウェブ状基材表面の帯電量が測定される。このとき、本発明にあっては測定されるウェブ基材の帯電量が−１０Ｖ〜＋１０Ｖの範囲内である必要がある。−１０Ｖ〜＋１０Ｖの範囲を外れる場合にあっては除電手段２１Ａ若しくは帯電手段２１Ｂの出力を変化させ、−１０Ｖ〜＋１０Ｖの範囲内におさめるようにする。好ましくは、製造中に帯電量測定手段２２Ａによる測定結果をフィードバックし、自動で除電手段２１Ａ若しくは帯電手段２１Ｂの出力を変化させる調整機構を有することが好ましい。
【００２４】
本発明にあっては、コーティングロールに接した状態でのウェブ状基材の帯電量を測定する帯電測定手段２２Ａを備えることを特徴とする。すなわち、後述するダイヘッド２５を用いて塗液をウェブ状基材に塗布する直前でのウェブ状基材の表面での帯電量を調節することにより、塗膜中で粒子が均一に分散した塗布物を製造することが可能となる。また、表面が金属材料からなるコーティングロールに接した状態でのウェブ基材の帯電量を測定することにより、ウェブ基材表面の正確な帯電量を測定することが可能となる。
【００２５】
本発明にあっては、コーティングロールに支持されたウェブ状基材の帯電量が−１０Ｖ〜＋１０Ｖの範囲内で維持された状態で、ダイヘッド２５によって塗液が塗布される。ウェブ状基材の帯電量が−１０Ｖ〜＋１０Ｖの範囲を外れた状態でダイヘッドによる塗液の塗布をおこなった場合、ウェブ状基材の帯電により形成される機能層において一部の粒子が凝集することにより、ウェブ状基材の走行方向に沿ってスジ状の欠陥が発生する。
【００２６】
また、好ましくは、ウェブ状基材はコーティングロール２３及びその他のロールには支持されていない箇所に帯電量測定手段２２Ｂをもうひとつ設置することが好ましい。すなわち、除電若しくは帯電手段と、コーティングロールに支持されたウェブ状基材の帯電量を測定する手段の間に、コーティングロール２３及びその他の支持体に支持されていない状態でのウェブ基材の帯電量を測定するための帯電量測定手段２２Ｂを設置することが好ましい。このとき、コーティングロール及びその他の支持体に支持されていない状態でのウェブ基材の帯電量を測定するための帯電量測定手段で測定されるウェブ基材の帯電量は−１０００Ｖ〜＋１０００Ｖの範囲内で維持されることが好ましい。帯電量測定手段を複数設けることにより、形成される塗膜中の粒子の分散状態をより精密に制御することが可能となる。
【００２７】
次に、帯電量が−１０Ｖ〜＋１０Ｖに維持された状態でコーティングロールに支持されたウェブ状基材上に、ダイヘッド２５のスリットから塗液が吐出され、ウェブ基材上に塗液が塗布される。ダイヘッド２５は塗液タンク２６と配管２７によって接続され、送液ポンプ２８によって、塗液タンク２６の塗液がダイヘッド２５内に送液される構造となっている。ダイヘッド２５に送液された塗液はスリット間隙から塗液を吐出し、ウェブ状基材１１上に塗液が塗布される。
【００２８】
本発明において、帯電量測定手段２２Ａによるウェブ状基材の帯電量の測定とダイヘッド２２Ａによるウェブ基材上の塗液の塗布は、ウェブ状基材がコーティングロール２３に支持された状態でおこなわれる。すなわち、ウェブ状基材とコーティングロールが接触している箇所においておこなわれる。
【００２９】
次に、塗液が塗布されたウェブ状基材は乾燥炉２４に導入され、溶媒が除去される。乾燥炉は、送風機構を備えており溶媒は速やかに除去される。また、乾燥炉は加熱機構を有していても構わないし、加熱送風機構を有していても構わない。また、バインダマトリックス形成材料として電離放射線硬化型材料を用いた場合には、乾燥工程後に、電離放射線照射工程が設けられる。電離放射線としては、電子線、紫外線を用いることができる。最後に、機能層が形成されたウェブ状基材は、巻き取りロール（図示せず）により巻き取られる。
【００３０】
本発明に用いられる塗液の粘度は１ｍＰａ・ｓ〜６０ｍＰａ・ｓであることが好ましい。用いられる塗液の粘度が１ｍＰａ・ｓを下回る場合、固形分が低くなりすぎる傾向にあり、面内での均一性の高い膜形成が困難となる場合がある。一方、用いられる塗液の粘度が６０ｍＰａ・ｓを超えるような場合、１０μｍ以下の機能層を形成することが困難となる場合がある。
【００３１】
本発明に用いられるウェブ状基材としては、公知のプラスチックフィルム等を用いることができる。例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ジアセチルセルロース、アセチルセルロースブチレート、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、シクロオレフィンポリマー、ポリイミド、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）等のフィルムを用いることができる。本発明の塗布物を塗膜として防眩層を備える防眩フィルム若しくは反射防止層を備える反射防止フィルムとして液晶表示装置の前面に用いる場合、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムは光学異方性がないため、好ましく用いられる。また、本発明のウェブ状基材としては、予め基材上に単層もしくは複数の層が形成されていても良い。
【００３２】
本発明に用いられる粒子としては、機能層として防眩層を形成する場合にあっては、アクリル粒子、アクリルスチレン粒子、ポリスチレン粒子、ポリカーボネート粒子、メラミン粒子といった有機粒子や、シリカ粒子タルク、各種アルミノケイ酸塩、カオリンクレー、ＭｇＡｌハイドロタルサイト、などの無機粒子から適宜選択される。機能層として反射防止層を形成する場合にあっては、粒子としてフッ化マグネシウム等のフッ素系材料やシリカ系材料等の低屈折率材料をなどから適宜選択される。
【００３３】
本発明の塗液に用いられるバインダマトリックス形成材料としては、例えば、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂などの電離放射線硬化型樹脂や熱硬化型樹脂、熱可塑性樹脂、金属アルコキシドなどを用いることができる。
【００３４】
電離放射線硬化性樹脂としては、多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような多官能性のアクリレート、ジイソシアネートと多価アルコール及びアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタンアクリレート等が挙げられる。またこれらの他にも、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も使用することができる。
【００３５】
電離放射線硬化型樹脂のうち、紫外線硬化型樹脂を用いる場合、光重合開始剤を加える。光重合開始剤は、どのようなものを用いても良いが、用いる樹脂にあったものを用いることが好ましい。
【００３６】
光重合開始剤（ラジカル重合開始剤）としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルメチルケタールなどのベンゾインとそのアルキルエーテル類等が用いられる。光増感剤の使用量は、樹脂に対して０．５〜２０ｗｔ％である。好ましくは１〜５ｗｔ％である。
【００３７】
また、熱硬化型樹脂としては、アクリルポリオールとイソシアネートプレポリマーとからなる熱硬化型ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等があげられる。
【００３８】
熱可塑性樹脂としては、アセチルセルロース、ニトロセルロース、アセチルブチルセルロース、エチルセルロース、メチルセルロース等のセルロース誘導体、酢酸ビニル及びその共重合体、塩化ビニル及びその共重合体、塩化ビニリデン及びその共重合体等のビニル系樹脂、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、アクリル樹脂及びその共重合体、メタクリル樹脂及びその共重合体等のアクリル系樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂、線状ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂等が使用できる。
【００３９】
金属アルコキシドとしては、珪素アルコキシド系の材料を原料とする酸化珪素系マトリックス等を使用することができる。具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランを例示することができ、加水分解、脱水縮合により無機系または有機無機複合系マトリックスとすることができる。
【００４０】
バインダマトリックス形成材料として電離放射線硬化型樹脂を用いるにあっては、塗布工程、乾燥工程の後に紫外線や電子線等の電離放射線照射工程を必要とする。また、バインダマトリックス形成材料として熱硬化型樹脂、金属アルコキシドを用いるにあっては、塗布工程、乾燥工程の後に加熱工程が適宜設けられる。
【００４１】
本発明の塗液に用いられる溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、２−メトキシエタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール等のグリコール類、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチルカルビトール・ブチルカルビトール等のグリコールエーテル類、ヘキサン、ヘプタン・オクタン等の脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、水等が挙げられ、１種、または、２種類以上の混合物として用いてよいが、これらに限定されるものではない。
【００４２】
機能層として防眩層を備える防眩フィルムを製造するにあっては、粒子の平均粒子経として０．５μｍ〜１０μｍであり、且つ、防眩層の平均膜厚は２〜２０μｍであることが好ましい。粒子の平均粒子径が０．５μｍに満たない場合、防眩層表面に凹凸を形成することが困難となる。一方、粒子の平均粒子径が１０μｍを超えるような場合、得られる防眩フィルムの質感が粗くなってしまい、高精細なディスプレイ表面に適さない防眩フィルムとなってしまうことがある。また、防眩層の平均膜厚が２μｍに満たない場合、ディスプレイ表面に設けられるだけの十分な耐擦傷性を得ることができなくなってしまうことがある。一方、防眩層の平均膜厚が２０μｍを超えるような場合、製造される防眩フィルムのカールの度合いが大きくなってしまい、取り扱いが困難となることがある。
【００４３】
また、バインダマトリックス形成材料としては、電離放射線硬化型樹脂を好適に用いることができる。紫外線硬化型樹脂もしくは電子線硬化型樹脂などの電離放射線硬化型樹脂を用いることにより、防眩フィルムをディスプレイ表面に設けた際に十分な表面硬度を備えることができる。また、防眩層に用いられる粒子の屈折率とバインダマトリックスの屈折率との差は０．０２〜０．２０の範囲であることが好ましい。防眩層において粒子とバインダマトリックスの屈折率差を０．０２以上とすることにより、防眩層に入射した光に対して防眩層表面の凹凸による表面散乱だけでなく、粒子とバインダマトリックスの屈折率差による内部散乱を発現させることができる、ただし、両者の屈折率差が０．２０を超えるような場合、防眩フィルムが白化してしまう場合がある。
【００４４】
機能層として防眩層を備える防眩フィルムを製造するにあっては、シリカ粒子を好適に用いることができる。シリカ粒子は汎用性が高いが、反面、凝集しやすく、防眩層の粒子として用いた場合には粒子が不均一に分散することによるムラが発生しやすいという傾向にある。本発明の塗布物の製造方法を用いることにより、塗布物として粒子が均一に分散した防眩フィルムを製造することが出来る。
【実施例】
【００４５】
本発明の実施例について述べる。
（実施例）
バインダマトリックス形成材料として紫外線硬化型樹脂であるアクリルモノマー（ペンタエリズリトールアクリレート）８５重量部、光重合開始剤としてイルガキュア１８４（チバスペシャリティケミカルズ製）５重量部、溶媒としてトルエン１００重量部を混合した中に、平均粒子径５μｍのシリカ粒子１０重量部を分散させた塗液を準備した。固形分濃度５０％、固形分中の粒子濃度を１０％に調整した。このとき、塗液の粘度は５ｍＰａ・ｓであった。また、塗布をおこなうウェブ状基材として膜厚８０μｍのトリアセチルセルロース（以下、ＴＡＣ）フィルムを用意した。
【００４６】
図２に示したような塗布装置を用い、除電手段２１Ａ（春日電機製  高密度除電処理装置  ＨＤＩＳ）と帯電手段２１Ｂ（春日電機製  コロナ表面処理装置  ＡＧＩ）とコーティングロール２３で支持された状態で測定されるＴＡＣフィルムの帯電量測定手段２２Ａ（春日電機製  低電位測定器  ＫＳＤ−０３０３）とコーティングロール及びその他のロールには支持されていない箇所に帯電量測定手段２２Ｂ（春日電機製  静電電位測定器  ＫＳＤ−０１０３）とダイヘッド２５と乾燥炉２４を設置した。また、図示していないが、乾燥炉２４の後に紫外線照射装置を設置した。製造時において、帯電量測定手段２２Ａで測定されるＴＡＣフィルムの帯電量が−１０Ｖ〜＋１０Ｖ、帯電量測定手段２２Ｂで測定されるＴＡＣフィルムの帯電量が−１０００Ｖ〜＋１０００Ｖの範囲となるように、除電手段及び帯電手段をの出力を調整した状態で、塗布工程、乾燥工程、紫外線照射工程の順で防眩フィルムの製造をおこなった。得られた防眩フィルムの防眩層の平均膜厚は５μｍであった。
【００４７】
得られた防眩フィルム中のシリカ粒子分散状況を光学顕微鏡で観察し、シリカ粒子が一様に分散および配置していることを確認した。また、得られた防眩フィルムを目視で確認したところ、ムラ等の欠陥は確認されなかった。５０ｍｍ×５０ｍｍの切り出した防眩フィルムの光沢度を、光沢度計（日本電色工業、ＶＧ２０００）にて１５点、塗布方向および塗布方向に直交する方向で測定したところ、最大値と最小値の差が１以下であった。
【００４８】
（比較例）
実施例と同じ塗布液を用い、ウェブ状基材として実施例と同じＴＡＣフィルムを用いた。実施例に示した塗布装置のうち、除電手段２１Ａ及び帯電手段２１Ｂを作動させずに、その他は実施例と同様にして防眩フィルムの製造をおこなった。製造時において、帯電量測定手段２２Ａで測定されるＴＡＣフィルムの帯電量は−３０Ｖ〜＋３０Ｖの間の値を示し、帯電量測定手段２２Ｂで測定されるＴＡＣフィルムの帯電量は−３０００Ｖ〜＋３０００の値を示した。得られた防眩フィルムの防眩層の平均膜厚は５μｍであった。
【００４９】
得られた防眩フィルム中のシリカ粒子分散状況を光学顕微鏡で観察したところ、シリカ粒子が凝集している様子が確認され、目視により、ウェブ状基材の走行方向と平行方向にスジ状のムラが確認された。５００ｍｍ×５００ｍｍの切り出した防眩フィルムの光沢度を、光沢度計（日本電色工業、ＶＧ２０００）にて１５点、塗布方向および塗布方向に直交する方向で測定したところ、最大値と最小値の差が５以上であった。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】図１は図１に本発明の光学フィルムの説明断面図である。
【図２】図２は本発明の光学フィルム製造装置の説明図である。
【符号の説明】
【００５１】
１        光学フィルム
１１      ウェブ状基材
１２      機能層
１２０    バインダマトリックス
１２１    粒子
２１Ａ    除電手段
２１Ｂ    帯電手段
２２Ａ    帯電量測定手段
２２Ｂ    帯電量測定手段
２３      コーティングロール
２５      ダイヘッド
２６      塗液タンク
２７      配管
２８      送液ポンプ
【図１】
2008268638.tif 000003
【図２】
2008268638.tif 000004