(57)【要約】【課題】２枚の基板間に液晶を注入した際に発生する基板間ギャップの変化を修正して基板間ギャップの均一化を図ること。【解決手段】本発明は、２枚の基板１ａ、１ｂをシール材２を介して貼り合わせる工程と、シール材２に設けられた注入口２０から２枚の基板１ａ、１ｂの間に液晶Ｌを注入する工程と、液晶Ｌが注入された状態で２枚の基板１ａ、１ｂを外側に引っ張り、２枚の基板１ａ、１ｂを所定の平坦性となるよう合わせる工程と、注入口２０を封止する工程とを備える液晶パネルの製造方法である。【選択図】図７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
２枚の基板をシール材を介して貼り合わせる工程と、
前記シール材に設けられた注入口から前記２枚の基板の間に液晶を注入する工程と、
前記液晶が注入された状態で前記２枚の基板を外側に引っ張り、前記２枚の基板が所定の平坦性となるよう制御する工程と、
前記シール材に設けられた注入口を封止する工程と
を備えることを特徴とする液晶パネルの製造方法。
【請求項２】
前記２枚の基板を外側に引っ張る工程では、真空を利用して基板を吸着する治具を利用する
ことを特徴とする請求項１記載の液晶パネルの製造方法。
【請求項３】
前記２枚の基板を外側に引っ張る工程では、前記２枚の基板の内側と外側との圧力差を利用する
ことを特徴とする請求項１記載の液晶パネルの製造方法。
【請求項４】
前記シール材に設けられた注入口およびその周囲を除いて前記２枚の基板の周辺を密閉することで、前記２枚の基板の内側の圧力よりも外側の圧力を低く制御する
ことを特徴とする請求項３記載の液晶パネルの製造方法。
【請求項５】
２枚の基板をシール材を介して貼り合わせる工程と、
前記シール材に設けられた注入口から前記２枚の基板の間に液晶を注入する工程と、
前記液晶が注入された状態で前記２枚の基板を外側に引っ張り、前記２枚の基板が所定の平坦性となるよう制御しながら前記注入口に封入材を引き込む工程と、
前記封入材を硬化させて前記注入口を封止する工程と
を備えることを特徴とする液晶パネルの製造方法。
【請求項６】
前記２枚の基板を外側に引っ張る工程では、真空を利用して基板を吸着する治具を利用する
ことを特徴とする請求項５記載の液晶パネルの製造方法。
【請求項７】
前記２枚の基板を外側に引っ張る工程では、前記２枚の基板の内側と外側との圧力差を利用する
ことを特徴とする請求項５記載の液晶パネルの製造方法。
【請求項８】
前記シール材に設けられた注入口およびその周囲を除いて前記２枚の基板の周辺を密閉することで、前記２枚の基板の内側の圧力よりも外側の圧力を低く制御する
ことを特徴とする請求項７記載の液晶パネルの製造方法。
【請求項９】
２枚の基板をシール材を介して貼り合わせる工程と、
前記シール材に設けられた注入口から前記２枚の基板の間に液晶を注入する工程と、
前記液晶が注入された状態で前記２枚の基板を外側に引っ張り、前記２枚の基板が第１の平坦性となるよう制御する工程と、
前記注入口に封入材を塗布した後、前記２枚の基板を外側に引っ張り、前記２枚の基板が前記第１の平坦性より平坦度の高い第２の平坦性となるよう制御しながら前記封入材を前記注入口に引き込む工程と、
前記封入材を硬化させて前記シール材の注入口を封止する工程と
を備えることを特徴とする液晶パネルの製造方法。
【請求項１０】
前記２枚の基板を外側に引っ張る工程では、真空を利用して基板を吸着する治具を利用する
ことを特徴とする請求項９記載の液晶パネルの製造方法。
【請求項１１】
前記２枚の基板を外側に引っ張る工程では、前記２枚の基板の内側と外側との圧力差を利用する
ことを特徴とする請求項９記載の液晶パネルの製造方法。
【請求項１２】
前記シール材に設けられた注入口およびその周囲を除いて前記２枚の基板の周辺を密閉することで、前記２枚の基板の内側の圧力よりも外側の圧力を低く制御する
ことを特徴とする請求項１１記載の液晶パネルの製造方法。
【請求項１３】
所定の間隔で貼り合わせられた２枚の基板の外側に取り付けられる治具と、
前記治具を介して前記２枚の基板を外側に引っ張る制御を行う制御部と
を備えることを特徴とする液晶パネルの製造装置。
【請求項１４】
前記治具は、前記２枚の基板の外側に真空吸着によって取り付けられている
ことを特徴とする請求項１３記載の液晶パネルの製造装置。
【請求項１５】
前記治具は、前記２枚の基板の外側との間に隙間を構成して取り付けられており、
前記制御部は、前記治具と前記２枚の基板の外側との間の隙間内の圧力と前記２枚の基板の内側の圧力との差を利用して前記２枚の基板を外側に引っ張る
ことを特徴とする請求項１３記載の液晶パネルの製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、２枚の基板を貼り合わせて間に液晶を注入して封止する液晶パネルの製造方法および液晶パネルの製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、プロジェクションシステムの高精細化、小型化、高輝度化が進むにつれて、そのディスプレイデバイスとして小型高精細が可能であり、なおかつ高い光利用効率が期待できる反射型デバイスが注目され、実用化されている。
【０００３】
これらは、一方に透明電極を形成したガラス基板、もう一方にたとえばC-MOS（Complementary Metal Oxide Semiconductor）半導体回路からなるシリコン基板を駆動素子基板として活用し、これら一対の基板間に液晶を注入したアクティブ型の反射型液晶表示装置である。
【０００４】
シリコン駆動基板の上には、光の反射と液晶への電圧印加をおこなうための画素電極が配置されており、この画素電極は一般にはLSIプロセスで用いられているアルミニウムを主成分とした金属材料で構成される。
【０００５】
これらの素子では、対向電極上に設けられた透明電極と画素電極の間に電圧を加えることで液晶に対して電圧を印加する。このとき、液晶はそれらの電極間の電位差に応じて光学的な特性が変化し、入射した光を変調することでディスプレイデバイスの輝度を制御する。このシリコン反射型液晶表示装置およびこの表示装置を用いたプロジェクションシステムは、年々高輝度、高精細、高画質が求められている。
【０００６】
これらの反射型垂直配向液晶デバイスにおいて、セルギャップ制御は電圧-輝度特性の均一性、同一輝度画面を表示した際の面内均一性など良好な画質性能を得るためには重要である。
【０００７】
通常、液晶パネルのセルギャップを均一に制御するためにボールスペーサを面内に均一に散布して、液晶を注入した後に機械的に面内均一な圧力をかけて、封止材塗布、UV硬化による封止という工程を通じて、そのスペーサの高さで決まるギャップがセルギャップとなるように、スペーサ径、密度を最適化する。
【０００８】
この場合、あくまでスペーサ（材料、プロセス）でセルギャップが決まるため、加圧封止工程では十分マージンを持って加圧を行い、かつ、封止材の十分な引き込みを出来るような工程を設計すればよい。ただし、このようなボールスペーサを散布すれば、液晶の配向性や偏光が乱れるためにコントラストが損なわれるのを筆頭として良好な画質を得られない恐れがある。
【０００９】
また、透過型の液晶パネルの場合はTFT（Thin Film Transistor）基板とブラックマトリックス基板（もしくはカラーフィルター基板）を用いるが、その光の透過しない構造物の上に樹脂を用いてポストスペーサを形成し、そのポストの高さによってセルギャップが規定されるようにポストスペーサの設計を行う。いずれにせよ、従来技術においては液晶セル内に何らかのセルギャップを規定する固体を封入することでセルギャップを制御している。
【００１０】
また、空セルを作成し、注入口から液晶を注入して液晶パネルを作成する工程では、最終的に液晶を封入するためには、紫外線ランプを照射して硬化する封止シール材を用いて封止する。その際に、封止材を注入口表面に塗布するだけでは封止シール材は十分な接着面積が得られないので、パネルの信頼性上問題となる場合がある。この問題を防ぐためには封止シール材を注入口内部に引き込むことで接着面積を確保する必要がある。
【００１１】
封止シール材を注入口に引き込むためには、以下の２つの方法が通常用いられている。
（１）液晶入りセルを機械的に加圧して内圧を高めた時に封止材を塗布し、塗布後圧力を抜けば圧力差によって封止材を引き込み、その後、紫外線を照射して硬化させる（特許文献１参照）。
（２）液晶入りセルを昇温させて液晶の体積変化を利用して内圧を高めてから封止材を塗布し、塗布後温度を降下させれば液晶の温度差による体積収縮を利用して封止材を引き込み、その後UVを照射して硬化させる。
【００１２】
【特許文献１】特許第３５９９６０４号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
従来技術においては、前記のようにボールスペーサを画面全面に散布セルギャップを規定していたが、液晶パネルのうち、特にプロジェクターに使用されるパネルでは特に拡大投影するので配向性の乱れやボールスペーサ自体が顕著に見えるため、画質的に大きな問題となる。また、同様にポストスペーサを使用する場合、透過型液晶パネルの場合は確実に遮光される（光が透過しない）エリアが画面全面に存在するのでそこに配置する限りはスペーサが見えるという問題は発生しないが、液晶の配向性に乱れが生じるという問題は依然残る。その上、反射型液晶パネルにおいては、その特徴である高開口率ゆえに透過型のようにスペーサを隠すところが表示エリア内にないために、どのようなスペーサを利用しても表示エリア内にスペーサが存在する限り、どうしても見える、もしくは画質として影響が残る。したがって、表示エリア内にスペーサを使用しないでセルギャップを制御できることは、液晶パネルの高画質化に大きく貢献するため、大きな課題となっている。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明はこのような課題を解決するために成されたものである。すなわち、本発明は、２枚の基板をシール材を介して貼り合わせる工程と、シール材に設けられた注入口から２枚の基板の間に液晶を注入する工程と、液晶が注入された状態で２枚の基板を外側に引っ張り、２枚の基板が所定の平坦性となるよう制御する工程と、注入口を封止する工程とを備える液晶パネルの製造方法である。
【００１５】
このような本発明では、シール材を介して貼り合わせた２枚の基板の間に液晶を注入した後、２枚の基板を外側に引っ張っているため、液晶の表面張力によって２枚の基板の間隔が引き寄せられている状態を解消して、基板間ギャップを均一にすることができるようになる。
【００１６】
また、本発明は、２枚の基板をシール材を介して貼り合わせる工程と、シール材に設けられた注入口から２枚の基板の間に液晶を注入する工程と、液晶が注入された状態で２枚の基板を外側に引っ張り、２枚の基板が所定の平坦性となるよう制御しながら注入口に封入材を引き込む工程と、封入材を硬化させて注入口を封止する工程とを備える液晶パネルの製造方法である。
【００１７】
このような本発明では、シール材を介して貼り合わせた２枚の基板の間に液晶を注入した後、２枚の基板を外側に引っ張りながら、注入口に封入材を引き込むようにしているため、液晶の表面張力によって２枚の基板の間隔が引き寄せられている状態を解消して、基板間ギャップを均一にするとともに、注入口を封止できるようになる。
【００１８】
また、本発明は、２枚の基板をシール材を介して貼り合わせる工程と、シール材に設けられた注入口から２枚の基板の間に液晶を注入する工程と、液晶が注入された状態で２枚の基板を外側に引っ張り、２枚の基板が第１の平坦性となるよう制御する工程と、注入口に封入材を塗布した後、２枚の基板を外側に引っ張り、２枚の基板が第１の平坦性より平坦度の高い第２の平坦性となるよう制御しながら封入材を注入口に引き込む工程と、封入材を硬化させてシール材の注入口を封止する工程とを備える液晶パネルの製造方法である。
【００１９】
このような本発明では、シール材を介して貼り合わせた２枚の基板の間に液晶を注入した後、２枚の基板を外側に引っ張りながら注入口に封入材を塗布し、その後、さらに基板を引っ張ることで封止材を注入口に引き込んでいるため、液晶の表面張力によって２枚の基板の間隔が引き寄せられている状態を解消して、基板間ギャップを均一にするとともに、注入口に封止材を的確に引き込むことができるようになる。
【００２０】
また、本発明は、所定の間隔で貼り合わせられた２枚の基板の外側に取り付けられる治具と、この治具を介して２枚の基板を外側に引っ張る制御を行う制御部とを備える液晶パネルの製造装置である。
【００２１】
このような本発明では、所定の間隔で２枚の基板を貼り合わせた状態で、この基板を外側に引っ張ることができるため、貼り合わせやその後の工程で２枚の基板の間隔が引き寄せられている状態であっても、基板間ギャップを均一に制御することができるようになる。
【発明の効果】
【００２２】
したがって、本発明によれば、次のような効果がある。すなわち、セルギャップ制御を行った結果、表示エリア内にスペーサが無くても均一なセルギャップを得ることが可能となる。これにより、黒レベルの均一性向上、黒表示の色むらの減少、中間調色むらの減少、中間調輝度むらの減少を図ることができ、高画質な液晶パネル、プロジェクターを提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、本発明の実施の形態を図に基づき説明する。本実施形態に係る液晶パネルの製造方法および液晶パネルの製造装置は、２枚の基板を所定の間隔で貼り合わせ、その間に液晶を注入した際、液晶の表面張力によって２枚の基板間が引き寄せられてしまうことを解消するため、所望のギャップに制御できることを特徴としている。したがって、本実施形態で適用される液晶パネルは、表示エリアにスペーサを配置しないでセルギャップを構成するものに好適である。
【００２４】
表示エリアにスペーサを配置しないで均一な基板間ギャップ（セルギャップ）を得るためには、空セル（２枚の基板を貼り合わせ、液晶が注入されていないもの）作成時、液晶注入時、封止時などいくつかのプロセス段階において制御することが可能であるが、本実施形態においては液晶注入後から注入口の封止プロセスにかけてセルギャップを制御する点に特徴がある。
【００２５】
ここで、液晶パネルにおける表示エリア内（液晶内）にスペーサを配置しない場合、液晶注入を行うことによって液晶の表面張力により２枚の基板（ガラス基板もしくはシリコン基板）が吸い寄せられ、空セルを作成した時よりも狭くなってしまう。この後、さらに従来技術の加圧封止方法を行うと、さらにセルギャップが狭くなってしまう。
【００２６】
これを解決するために、液晶注入後に狭くなった液晶パネルのセルギャップを２枚の基板を外側に引っ張ることにより広げ、２枚の基板について所定の平坦性を確保することで所望のセルギャップまで戻すとともにセルギャップの均一化を図るようにしている。基板を引っ張る方法としては機械的に引っ張る方法とセル内とセル外の圧力を変化させる方法とがある。
【００２７】
また、従来技術でセルギャップが狭くなることを考えると、温度変化もできるだけ避けなければならず、信頼性を確保するためには封止材の注入口への引き込みも正確に行う必要がある。これも上記と同様の機械的に基板を引っ張る方法もしくはセル内とセル外の圧力を変化させる方法で実現することができる。この際に、同時に時間、引っ張り力の制御によりセルギャップ制御も可能である。
【００２８】
さらに、上記の組み合わせで、液晶注入後に機械的に引っ張る方法もしくはセル内とセル外の圧力を変化させる方法にてセルギャップ制御を行い、かつ、封止材塗布後に封止材を所望の量を引き込みながら所望のセルギャップまでの戻し制御を行うことも可能となる。なお、このような観点から、本実施形態における基板の平坦性の確保とは、液晶の注入による液晶の表面張力で２枚の基板が引き寄せられ、各基板に発生する反りを修正してセルギャップ（基板間ギャップ）の均一化を図ることである。
【００２９】
以下、具体的な実施形態を説明する。図１〜図１１は、第１実施形態に係る製造方法を説明する模式図である。先ず、図１に示すように、液晶パネルを構成するための２枚の基板１ａ、１ｂを用意する。ここで、２枚の基板１ａ、１ｂとしてガラス基板（例えば、石英ガラスや無アルカリガラス）を用いる場合には、１枚には例えば高温ポリシリコンTFTを用いた能動素子にて回路を構成しておく。これにより、透過型液晶パネルを製造することができる。また、２枚の基板１ａ、１ｂとして１枚のガラス基板と１枚のシリコン基板とを用いる場合には、シリコン基板上には単結晶シリコンを用いた能動素子にて回路および画素としての反射電極を構成しておく。これにより、反射型液晶パネルを製造することができる。
【００３０】
次に、２枚の基板１ａ、１ｂのうち一方の周縁に沿ってシール材２を塗布する。シール材２としては、例えば、紫外線照射硬化型、熱硬化型もしくは紫外線および熱併用硬化型の樹脂を用いる。そして、このシール材２を介して２枚の基板１ａ、１ｂを重ね合わせ、シール材２の種類に応じて紫外線または熱、もしくは紫外線と熱との両方によってシール材２を硬化させ、図２に示すような空セルを作成する。
【００３１】
図３は空セルの模式断面図である。空セルにおけるシール材２の一部には、シール材２を切り欠いた液晶の注入口２０が設けられている。次に、図４に示すように、注入口２０から液晶Ｌを真空注入もしくは加温注入にて注入する。これにより、液晶Ｌは２枚の基板１ａ、１ｂの隙間に毛細管現象を利用して注入されることになる。
【００３２】
図５は、液晶が注入された状態を示す模式断面図である。空セル時の基板間ギャップは、例えば５μｍ〜１０μｍとなっており、毛細管現象によって２枚の基板１ａ、１ｂ間に液晶Ｌが注入されると液晶Ｌの表面張力によって基板間が引き寄せられる状態となる。本実施形態では、液晶Ｌ内にスペーサを混入させないことから、液晶Ｌの表面張力によって基板間が狭くなる。基板１ａ、１ｂの間隔はシール材２がある周縁から中央部にいくにしたがい狭くなるよう湾曲することになる。
【００３３】
次に、２枚の基板１ａ、１ｂの外側に治具を取り付け、この治具を介して基板１ａ、１ｂを外側に引っ張り、各基板１ａ、１ｂを所定の平坦性となるよう制御する。ここで、２枚の基板１ａ、１ｂを外側に引っ張ることができる装置（本実施形態の液晶パネルの製造装置）としては、図６に示すような真空を利用した治具（真空チャック）を用いるものと、図７に示すようなセル内部と外部との圧力差を利用する治具を用いるものとがある。なお、装置構成については後述する。
【００３４】
２枚の基板１ａ、１ｂを外側に引っ張ることで、図８に示すように基板１ａ、１ｂの湾曲が修正され所望の平坦性を得ることができる。２枚の基板１ａ、１ｂの平坦性が確保されることで、セルギャップの均一化を図ることもできる。
【００３５】
次に、図９に示すように、注入口２０を上にした状態で２枚の基板１ａ、１ｂを外側から加圧、もしくは加温して液晶Ｌを追い出す。図９に示す例では、２枚の基板１ａ、１ｂの外側に加圧治具７１を取り付け、これによって２枚の基板１ａ、１ｂを挟むようにして外圧を加える。そして、図１０に示すように、封入口２０に封止材３を塗布する。封止材３はシール材２と同じ材料を用いる。
【００３６】
その後、図１１に示すように、加圧治具７１による２枚の基板１ａ、１ｂへの加圧を解除する、もしくはセルを降温して、封止材３を封入口２０に引き込む。そして、封止材３に紫外線または熱、もしくは紫外線と熱との両方を与えて封止材３を硬化させる。
【００３７】
このような方法によって、液晶Ｌ内にスペーサが設けられていなくても正確なセルギャップを設定することが可能となる。
【００３８】
図１４は、セルギャップの変化量を示す図で、（ａ）は修正前、（ｂ）は本実施形態による修正後の例である。この図は、基板面内のセルギャップの分布を示す図である。本実施形態を用いることで、液晶注入によって狭くなったセルギャップを修正できていることが分かる。
【００３９】
ここで、（セルギャップの最大値−最小値）/セルギャップの面内平均値をLgapとし、基板サイズ０．６１インチ（横：縦＝１６：９）で厚さが０．７ｍｍの場合、液晶注入後にはLgap＝１５．２％だったものが、本実施形態によって基板を修正し、セルギャップの平坦化を図って封止した場合、Lgap＝６．７％にまで減少している。なお、本実施形態では、Lgapを８％未満に制御することができる。
【００４０】
図１２〜図１３は、第２実施形態に係る製造方法を説明する模式図である。第２実施形態では、２枚の基板の貼り合わせ、液晶の注入までは第１実施形態と同様であるため、その後の工程から説明する。
【００４１】
すなわち、液晶Ｌの注入によって基板１ａ、１ｂが湾曲してセルギャップが狭くなった状態で、図１２に示すよう注入口２０を上にし、２枚の基板１ａ、１ｂの外側に治具６１を取り付けて、この治具６１を介して基板１ａ、１ｂを外側に引っ張り、各基板１ａ、１ｂを所定の平坦性となるよう制御する。なお、この段階での平坦性を第１の平坦性とする。
【００４２】
次に、２枚の基板１ａ、１ｂが第１の平坦性となった状態で、注入口２０に封止材３を塗布する。そして、図１３に示すように、治具６１によって基板１ａ、１ｂを外側に引っ張って、各基板１ａ、１ｂの平坦性を第１の平坦性より高い平坦度となる第２の平坦性に制御するとともに、この際の基板１ａ、１ｂの引っ張りによって封止材３を注入口２０内に引き込むようにする。これにより、基板１ａ、１ｂの平坦性の制御と同時に封止材３を注入口２０に引き込むことができるようになる。
【００４３】
その後、封止材に紫外線または熱、もしくは紫外線と熱との両方を与えて封止材３を硬化させる。なお、第２実施形態では治具６１としてセルの内側と外側との圧力差を利用するものを用いているが、図６に示すような真空チャックタイプの治具を用いてもよい。
【００４４】
また、第２実施形態では、基板１ａ、１ｂを第１の平坦性にして封止材３を塗布した後、第２の平坦性にして封止材３の引き込みを行うようにしたが、基板１ａ、１ｂが湾曲している状態で注入口２０に封止材３を塗布し、基板１ａ、１ｂを外側に引っ張ることで直接第２の平坦性まで制御して封止材３の引き込みを行うようにしてもよい。
【００４５】
次に、本実施形態に係る液晶パネルの製造装置を説明する。先に説明したように、本実施形態の製造装置は２つのタイプがある。先ず、図６に示す真空チャックタイプを説明する。真空チャックタイプの治具を備えた製造装置では、基板１ａ、１ｂの外側の略中央を真空吸着するパッド５１が設けられており、このパッド５１からロッド５２が延出している。なお、パッド５１内の空気を吸引するため、ロッド５２内に空気の吸入通路が設けられている。
【００４６】
また、この製造装置には、パッド５１によって基板１ａ、１ｂを外側から吸着保持した状態で、ロッド５２を介して外側に引っ張るアクチュエータ（図示せず）が設けられており、このアクチュエータを制御部（図示せず）によって制御している。
【００４７】
制御部は、パッド５１の吸着保持の開始や解除、アクチュエータによる引っ張り量の制御を行っており、基板１ａ、１ｂの材質やサイズ、厚さ等によって引っ張り量と平坦性とのデータベースを備えている。このデータベースによって所定の平坦性に制御するための引っ張り量を求めて、アクチュエータを制御している。
【００４８】
次に、図７に示すセル内部と外部との圧力差を利用する治具を用いる製造装置を説明する。この製造装置では、基板１ａ、１ｂの外側に、基板１ａ、１ｂとの間に空間Ｓを構成できる凹型の治具６１を備えており、基板１ａ、１ｂの周縁と接触することで基板１ａ、１ｂのシール材２より内側の領域に空間Ｓを構成できるようになっている。
【００４９】
治具６１には空間Ｓ内の圧力を調整するための吸入通路６２が設けられているとともに、基板１ａ、１ｂと接触する部分には空気の漏れを防ぐパッキンが設けられている。また、この治具６１を基板１ａ、１ｂの外側に取り付けた状態で、密閉された空間Ｓ内の圧力を調整する制御部（図示せず）が設けられている。
【００５０】
制御部は、治具６１と基板１ａ、１ｂとの間に構成される空間Ｓ内の空気の吸入や供給によって圧力の調整を行う。制御部によって上記空間Ｓ内の圧力をセル内部の圧力より低くするよう設定すると、セル内部と外部との圧力差によって基板１ａ、１ｂが外側に引っ張られる状態となる。
【００５１】
制御部は、基板１ａ、１ｂの材質やサイズ、厚さ等によって空間Ｓ内の圧力と基板１ａ、１ｂの平坦性とのデータベースを備えている。このデータベースによって所定の平坦性に制御するための空間Ｓ内の圧力を求めて制御している。
【００５２】
なお、上記の装置以外であっても、２枚の基板１ａ、１ｂを外側に引っ張ることができる構成であれば本実施形態の製造方法を実現することができる。例えば、セルの注入口およびその近傍を除く部分を密閉チャンバ内に配置し、このチャンバ内を減圧することによってセル内とセル外との圧力差を発生させて基板１ａ、１ｂを引っ張るようにしてもよい。
【００５３】
また、本実施形態では、２枚の基板１ａ、１ｂを同時に引っ張る構成を説明したが、各基板１ａ、１ｂを別個に引っ張ることができる構成であって、また一方の基板のみを引っ張ることができる構成であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】第１実施形態を説明する模式図（その１）である。
【図２】第１実施形態を説明する模式図（その２）である。
【図３】第１実施形態を説明する模式図（その３）である。
【図４】第１実施形態を説明する模式図（その４）である。
【図５】第１実施形態を説明する模式図（その５）である。
【図６】第１実施形態を説明する模式図（その６）である。
【図７】第１実施形態を説明する模式図（その７）である。
【図８】第１実施形態を説明する模式図（その８）である。
【図９】第１実施形態を説明する模式図（その９）である。
【図１０】第１実施形態を説明する模式図（その１０）である。
【図１１】第１実施形態を説明する模式図（その１１）である。
【図１２】第２実施形態を説明する模式図（その１）である。
【図１３】第２実施形態を説明する模式図（その２）である。
【図１４】基板の平坦度を比較する図である。
【符号の説明】
【００５５】
１ａ…基板、１ｂ…基板、２…シール材、３…封止材、２０…注入口、５１…パッド、５２…ロッド、６１…治具、６２…吸入通路、Ｌ…液晶、Ｓ…空間
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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