(57)【要約】【課題】スピンコータの塗布膜の膜厚分布に、ホットプレートの被膜の膜厚分布が加わったガラス基板面内の被膜の膜厚分布の範囲を小さくする液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法、液晶表示装置用カラーフィルタを提供する。【解決手段】ガラス基板５０の温度分布をリフトピン２３の高さにより調整しプリベークすること。温度分布の範囲を０．１℃〜２．０℃の範囲内にし、被膜の膜厚分布を±２％の範囲内にする。リフトピンの高さの差ΔＨが外縁部と中央部で０．２ｍｍ〜１０ｍｍの範囲内にある。リフトピンの高さが、外縁部から中央部に向かって徐々に高くなる。【選択図】図８
2008076723.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板上に少なくとも、樹脂ブラックマトリックス、着色画素、及び付随する層が順次に形成された液晶表示装置用カラーフィルタを製造する際に、フォトレジストの塗布膜はスピンコータを用いて設け、塗布膜のプリベークはガラス基板をホットプレートに接近させた加熱を行って製造する液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法において、前記ガラス基板面内の温度分布をリフトピンの高さにより調整しプリベークすることを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法。
【請求項２】
前記ガラス基板面内の温度分布の範囲を０．１℃〜２．０℃の範囲内に調整し、プリベーク後の被膜の膜厚におけるガラス基板面内の被膜の膜厚分布が±２％の範囲内にあることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法。
【請求項３】
前記リフトピンの高さの差が、ガラス基板の外縁部と中央部で０．２ｍｍ〜１０ｍｍの範囲内にあることを特徴とする請求項１又は請求項２記載の液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法。
【請求項４】
前記リフトピンの高さが、ガラス基板の外縁部から中央部に向かって徐々に高くなっていることを特徴とする請求項１、請求項２、又は請求項３記載の液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法。
【請求項５】
請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法を用いて製造したことを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置用カラーフィルタの製造に関するものであり、特に、スピンコータによる塗布膜の膜厚分布に、ホットプレートによる被膜の膜厚分布が加わったガラス基板面内の被膜の膜厚分布の範囲を小さくする液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示装置において、カラー表示、反射率の低減、コントラストの改善、分光特性制御などの目的にカラーフィルタを用いることは、有用な手段となっている。
この表示装置に用いるカラーフィルタは、多くの場合、カラーフィルタは画素として形成されて使用される。この表示装置に用いるカラーフィルタの画素を形成する方法としては、フォトリソグラフィ法が広く用いられている。
【０００３】
図３は、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの一例を模式的に示した平面図である。また、図４は、図３に示すカラーフィルタのＸ−Ｘ’線における断面図である。
図３、及び図４に示すように、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタは、ガラス基板（５０）上にブラックマトリックス（５１）、着色画素（５２）、透明導電膜（５４）が順次に形成されたものである。
図３、及び図４はカラーフィルタを模式的に示したもので、着色画素（５２）は１２個表されているが、実際のカラーフィルタにおいては、例えば、対角１７インチの画面に数百μｍ程度の着色画素が多数個配列されている。
【０００４】
ブラックマトリックス（５１）は、遮光性を有するマトリックス状のものであり、着色画素（５２）は、例えば、赤色、緑色、青色のフィルタ機能を有するものである。
ブラックマトリックスは、カラーフィルタの着色画素の位置を定め、大きさを均一なものとし、また、表示装置に用いられた際に、好ましくない光を遮蔽し、表示装置の画像をムラのない均一な、且つコントラストを向上させた画像にする機能を有している。
このブラックマトリックス（５１）は、ガラス基板（５０）上に、ブラックマトリックス形成用の黒色ホトレジストを用いてフォトリソグラフィ法によって形成された例であり、樹脂を用いて形成されたブラックマトリックスを樹脂ブラックマトリックス（５１）と称している。
【０００５】
また、着色画素（５２）は、この樹脂ブラックマトリックス（５１）が形成されたガラス基板（５０）上に、例えば、顔料などの色素を分散させたネガ型の着色フォトレジストを用いたフォトリソグラフィ法によって、すなわち、着色フォトレジストの塗布膜へのフォトマスクを介した露光、現像処理によって着色画素として形成されたものである。赤色、緑色、青色の着色画素は順次に形成されている。
【０００６】
また、透明導電膜（５４）の形成は、樹脂ブラックマトリックス、着色画素が形成されたガラス基板上に、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）を用いスパッタ法によって透明導電膜を形成するといった方法がとられている。
【０００７】
樹脂ブラックマトリックスは、例えば、テレビなどのように、高輝度なバックライトを用いた際に、クロムなどの金属をブラックマトリックス（図示せず）として用いたときに起こる液晶表示装置での内部反射を抑制するために、低反射の樹脂ブラックマトリックスが要望される場合、或いは、例えば、ＩＰＳ（Ｉｎ  Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）
方式に用いたときに起こる液晶表示装置での電界の乱れを抑制するために、高絶縁性の樹脂ブラックマトリックスが要望される場合などに採用されていた。しかし、ブラックマトリックスは、クロムなどの金属を用いたブラックマトリックスから、次第に樹脂ブラックマトリックスへと移行が進んでいる。
【０００８】
カラーフィルタを大量に製造する際には、一基の液晶表示装置に対応したカラーフィルタを大サイズのガラス基板に面付けした状態で製造する。例えば、対角１７インチのカラーフィルタを６５０ｍｍ×８５０ｍｍ程度の大サイズのガラス基板に４面付けして製造する。
ガラス基板が大サイズ化するに伴い、ブラックマトリックスの材料としてクロムなどの金属を用い真空装置で薄膜を成膜するブラックマトリックスよりも、黒色ホトレジストを用いてフォトリソグラフィ法によって形成する樹脂ブラックマトリックスの方が価格的に有利なものとなり、次第に樹脂ブラックマトリックスへと移行が進んでいる。また、環境に配慮してクロムなどの金属を用いることを回避する傾向にある。
【０００９】
樹脂ブラックマトリックスは、クロムなどの金属を用いたブラックマトリックスのように、膜厚１００ｎｍ〜２００ｎｍ程度の薄膜では高濃度を得ることはできず、例えば、１．０μｍ〜１．５μｍ程度の厚さにして必要な高濃度を得るようにしている。
樹脂ブラックマトリックスの膜厚が、例えば、１．０μｍ程度と厚くなると、図４に示すように、樹脂ブラックマトリックス（５１）上にその周縁部を重ねて形成された着色画素（５２）は、その周縁部が樹脂ブラックマトリックス（５１）の端部上にて突起（５３）となる。
【００１０】
図３、及び図４に示すカラーフィルタは、液晶表示装置に用いるカラーフィルタとして基本的な機能を備えたものである。液晶表示装置は、このようなカラーフィルタを内蔵することにより、フルカラー表示が実現し、その応用範囲が飛躍的に広がり、液晶カラーＴＶ、ノート型ＰＣなど液晶表示装置を用いた多くの商品が創出された。
【００１１】
多様な液晶表示装置の開発、実用に伴い、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタには、上記基本的な機能に付随して、例えば、１）保護層（オーバーコート層）、２）半透過型液晶表示装置に用いるカラーフィルタにおける透明部、３）透過表示の領域と反射表示の領域を通過する光の位相をそろえるための光路差調整層、４）カラーフィルタの反射表示の領域への光散乱層、５）スペーサー機能を有するフォトスペーサー（突起部）、６）液晶の配向制御を行う配向制御突起、などの種々な機能が付加されるようになった。
【００１２】
図７は、フォトスペーサー（突起部）が付加されたカラーフィルタの一例の断面図である。図７に示すように、この液晶表示装置用カラーフィルタ（７）は、ガラス基板（５０）上に樹脂ブラックマトリックス（５１）、着色画素（５２）、及び透明導電膜（５４）が順次に形成され、樹脂ブラックマトリックス（５１）上方の透明導電膜（５４）上にスペーサー機能を有する突起部としてのフォトスペーサー（５５）が形成されている。
【００１３】
従来の液晶表示装置に於いては、基板間にギャップを形成するために、スペーサーと呼ばれるガラス又は合成樹脂の透明球状体粒子（ビーズ）を散布している。このスペーサーは透明な粒子であることから、画素内に液晶と一諸にスペーサーが入っていると、黒色表示時にスペーサーを介して光がもれてしまい、また、液晶材料が封入されている基板間にスペーサーが存在することによって、スペーサー近傍の液晶分子の配列が乱され、この部分で光もれを生じ、コントラストが低下し表示品質に悪影響を及ぼす、などの問題を有していた。
【００１４】
このような問題を解決する技術として、フォトレジストを用いフォトリソグラフィ法に
より画素間の樹脂ブラックマトリックスの位置にスペーサー機能を有するフォトスペーサー（突起部）を形成する方法が開発、実用された。
この液晶表示装置用カラーフィルタ（７）を用いた液晶表示装置には、フォトスペーサー（５５）が画素内を避けた位置に形成されているので、上記コントラストの改善がみられる。
フォトスペーサー（５５）の高さは、基板間ギャップである２μｍ〜５μｍ程度、形状は、水平断面が対角長（１５×１５μｍ）〜（４０×４０μｍ）程度の角丸の矩形、菱形のものが多く用いられている。
【００１５】
前記、基本的な機能を備えたカラーフィルタ上に付随する層を形成する際には、パターンとして形成されない保護層（オーバーコート層）を除き、いずれの層も前記ブラックマトリックス（５１）、着色画素（５２）と同様に、フォトレジストを用いてのフォトリソグラフィ法によってパターンに形成される。
【００１６】
前記樹脂ブラックマトリックス、着色画素、及び付随する各層をフォトリソグラフィ法によりパターンとして形成する際には、例えば、先ずガラス基板に対して必要に応じた洗浄処理を施し、続いて塗布装置によるフォトレジストの塗布、減圧乾燥装置による予備乾燥処理、プリベーク装置によるプリベーク処理、露光装置によるパターン露光、現像処理ユニットによる現像処理、加熱ユニットによるポストベーク処理が順次に施され、ガラス基板に所定のパターンを形成する。
【００１７】
上記フォトレジストの塗布直後は、フォトレジストの塗布膜は乾燥していないために流動性があり、次工程へガラス基板を搬送した場合には、搬送中に塗布膜の膜厚が変化し易く膜厚にムラを発生させることがある。予備乾燥処理は、この搬送に伴う塗布膜の膜厚の変化を防止するために、塗布膜中の溶剤を減圧下で半ば蒸発させる予備的な乾燥処理である。
次工程のプリベーク処理は、塗布膜中の溶剤を加熱によって蒸発させる本格的な乾燥処理である。塗布膜中の溶剤が残留していると、フォトレジストの感度は著しく低下し、加えてガラス基板への接着力が弱まるので、塗布膜中に溶剤が残留することは好ましいことではない。
【００１８】
図１（ａ）は、プリベーク装置の一例の概略を示す断面図である。図１（ａ）に示すように、プリベーク装置（１０）は、加熱チャンバー（２０）と冷却チャンバー（３０）で構成されている。加熱チャンバー（２０）内には、ホットプレート（２１）を上部に備えたバキューム・テーブル（２２）が設けられており、また、冷却チャンバー（３０）内には、クールプレート（３１）を上部に備えたバキューム・テーブル（３２）が設けられている。
前記予備乾燥処理によって、塗布膜中の溶剤を半ば蒸発させたガラス基板は、加熱チャンバー（２０）内のホットプレート（２１）上に載置され、加熱による乾燥処理が施される。続いて、カラーフィルタ基板は、冷却チャンバー（３０）に搬送され、クールプレート（３１）上に載置され冷却処理が施されて常温に戻される。
【００１９】
図１（ｂ）は、ホットプレート（２１）を上部に備えたバキューム・テーブル（２２）の一例の概略を示す断面図である。図１（ｂ）は、移載用のロボット（図示せず）によって、ガラス基板（５０）がリフトピン（２３）上に受け渡された段階を示したものである。
ガラス基板（５０）は、前工程から移載用のロボットによって、底面を２本のアーム（図示せず）で支えられた状態でホットプレート（２１）上に載置されるが、そのままではホットプレート（２１）上に載置後、アームを退避することができないので、一旦、ホットプレート（２１）の上面から突出した状態でアームと干渉しない位置に設けられた複数のリフトピン（２３）上に受け渡され、その後にアームが退避する。
【００２０】
リフトピン（２３）は、ホットプレート（２１）に対し垂直方向に昇降自在であり、ガラス基板（５０）が受け渡された後に下降し、ホットプレート（２１）上に載置される。リフトピン（２３）が昇降するホットプレート（２１）に設けられた開口（２４）は、リフトピン（２３）が中空部（２５）内まで下降した後に、ガラス基板（５０）とホットプレート（２１）の間の空気を吸引する開口と兼ねている例である。ピンの開口と吸着口は別々にしても良い。ホットプレート（２１）には、ヒーターが内蔵されている。また、バキューム・テーブル（２２）は、中空部（２５）を有し、上部にホットプレート（２１）を備え、下部には排気口（２６）が設けられている。ホットプレート（２１）上のガラス基板（５０）を真空吸着する際には、排気口からの排気により行う。
【００２１】
図２（ａ）〜（ｃ）は、上記加熱チャンバー（２０）を用いたプリベーク処理の加熱動作の一例を説明する断面図である。図２は、図１（ｂ）におけるホットプレート（２１）、リフトピン（２３）、ガラス基板（５０）の一部分を拡大して示したものである。
図２に示すように、ガラス基板（５０）へのプリベーク処理の加熱動作は、温度の急激な変化に伴うカラーフィルタ基板の破壊を回避するために、前工程から搬送されたガラス基板（５０）を直ちにホットプレート（２１）に吸着させての加熱は行わず、例えば、プロキシ加熱とコンタクト加熱の二段階で加熱する動作をする。
【００２２】
図２（ａ）は、ホットプレート（２１）上面とガラス基板（５０）の距離（Ｄ１）が、例えば、４５〜５０ｍｍ程度で、ガラス基板（５０）がリフトピン（２３）上に受け渡された状態である。
先ず、この状態から図２（ｂ）に示す、例えば、１〜２ｍｍ程度の距離（Ｄ２）にまでガラス基板（５０）を下降させ、ホットプレート（２１）上面に接近させたプロキシ加熱を行う。
【００２３】
次に、図２（ｃ）に示すように、リフトピン（２３）を更に下降させ、ガラス基板（５０）をホットプレート（２１）上に載置し、効果的に均一な加熱をするために、ガラス基板（５０）とホットプレート（２１）の間の空気を吸引し、ガラス基板（５０）をホットプレート（２１）に吸着させながらコンタクト加熱を行うといった動作である。
【００２４】
一方、前記フォトレジストの塗布においては、カラーフィルタを製造するガラス基板の大型化に伴い、例えば、５５０ｍｍ×６５０ｍｍ程度の大きさのガラス基板においては、フォトレジストの塗布方法として、スリットコータとスピンコータを併用したコータ（スリット＆スピンコータと呼ばれる）を用いる方法、すなわち、ガラス基板上にフォトレジストをスリットコータで塗布して塗布膜を形成し、塗布膜が形成されたガラス基板をスピンコータで回転し塗布膜を延展させる被膜の形成方法が採用され始めた。
【００２５】
図６（イ）、（ロ）は、スリット＆スピンコータの一例であり、その主要部分を示す側断面図である。図６（イ）はスリットコータの主要部分であり、図６（ロ）はスピンコータの主要部分である。そして、各々が分離したものとなっている。
スリットコータ（６０）は、定盤（６１）、塗布ヘッド（６２）などで構成され、スピンコータ（７０）は、スピナーヘッド（７１）、回転軸（７２）、ハウジング（７３）などで構成されている。
【００２６】
図６（イ）に示すスリットコータ（６０）おいて、塗布液が塗布されたガラス基板（５０）は、搬送装置（図示せず）によりスリットコータの定盤（６１）からスピンコータ（７０）のスピナーヘッド（７１）に移され、スピナーヘッド上に固定される。
図６（ロ）において、スピンコータ（７０）は、ガラス基板（５０）を水平状態にて回転
軸（７２）を曲線矢印方向へ回転させ、ガラス基板（５０）上の塗布膜を延展させ、膜厚を狙いの膜厚にし被膜を形成する。
【００２７】
さて、カラーフィルタを製造する際に、塗布装置として、スピンコータが併用されている、前記スリット＆スピンコータを用い、プリベーク装置として、ホットプレートが採用されているプリベーク装置を用いてフォトレジストの塗布膜を形成しプリベーク処理を施すと、以下に述べる問題が発生する。
【００２８】
１）塗布膜においては、未だパターンが形成されていない、すなわち、ガラス基板の表面が平坦な状態のガラス基板の場合には、前記図６（ロ）に示すスピンコータによる延展後の塗布膜の膜厚分布は、ガラス基板面内で略均一なものとなる。しかし、既にある程度の高さを有するパターンが形成されていて平坦な状態ではないガラス基板の場合には、ガラス基板面内の塗布膜の膜厚分布は、ガラス基板の周縁部に向かって塗布膜の膜厚が徐々に厚くなるといった傾向がある。
【００２９】
図５は、前記図４に示す突起（５３）の近傍を拡大した断面図であるが、図５に示すように、例えば、高さ（Ｔ３）１．３μｍ程度、幅（Ｗ）２０μｍ程度の樹脂ブラックマトリックス（５１）が設けられ、着色画素（５２）の高さ（Ｔ１、Ｔ２）を１．５μｍ程度とするカラーフィルタにおいては、突起（５３）の高さ（段差）（Ｈ）は、前記１．０μｍ程度のものとなっている。
【００３０】
図５に示すカラーフィルタにおいては、その製造過程で樹脂ブラックマトリックス（５１）が設けられたガラス基板（５０）に、第一色目の着色画素（５２）を形成するフォトレジストを塗布すると、既に高さ（Ｔ３）が１．３μｍ程度のパターンが形成されているので、第一色目の塗布膜は周縁部に向かって徐々に厚くなる。
また、同様に、透明導電膜（５４）が設けられたガラス基板（５０）に、前記図７に示すフォトスペーサー（５５）を形成するフォトレジストを塗布すると、既に高さ（Ｈ）が１．０μｍ程度の突起（５３）が形成されているので、フォトスペーサーの塗布膜は周縁部に向かって徐々に厚くなる。
これは、遠心力によるフォトレジストの延展がパターンの高さの抵抗によって影響を受けるためである。
【００３１】
２）プリベーク処理においては、前記図１に示す加熱チャンバー（２０）内でのガラス基板面内の温度差によってプリベークされた塗布膜（被膜）の膜厚が変動する。ガラス基板面内で温度の高い部分はプリベークの進度が大きく、被膜の膜厚の高さは低くなる。また、温度の低い部分はプリベークの進度が小さく、被膜の膜厚の高さは低くなる。ガラス基板面内の被膜の膜厚分布はガラス基板面内の温度分布に準じたものとなる。
【００３２】
つまり、塗布膜が設けられ、プリベークが施されてフォトレジストが被膜として形成された段階で、上記１）ガラス基板面内の塗布膜の膜厚分布に、上記２）ガラス基板面内の被膜の膜厚分布が加わった状態になっている。
具体的には、例えば、前記図２（ｂ）におけるプロキシ加熱において、ホットプレート（２１）の温度が９０℃程度、ホットプレート（２１）の上面とガラス基板（５０）の距離（Ｄ２）が１ｍｍ程度の際に、ガラス基板（５０）の面内の温度分布は７０℃〜８５℃の範囲のものとなっている。
【００３３】
この状態でのプロキシ加熱に引き続く、コンタクト加熱後に得られる被膜の膜厚分布は、フォトスペーサーを形成するための５μｍ厚の塗布膜において、その範囲（バラツキ）が０．１５μｍ程度若しくはそれ以上のものとなる。すなわち、膜厚のバラツキは±３％以上となる。
このような、フォトスペーサーを形成する被膜の膜厚分布の範囲（バラツキ）や、或いは、着色画素を形成する被膜の膜厚分布の範囲（バラツキ）は、液晶表示装置の表示品位に大きな影響を及ぼす。
従って、ガラス基板面内の被膜の膜厚分布は狭い範囲（バラツキ）のものにするようにといった強い要望がある。
【特許文献１】特開平６−１１８６５８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００３４】
本発明は、上記要望を適えるためになされたものであり、ガラス基板上に樹脂ブラックマトリックス、着色画素、及び付随する層を順次に形成する際に、１）スピンコータを用いた場合の、ガラス基板の周縁部に向かって膜厚が徐々に厚くなるといった塗布膜の膜厚分布に、２）ホットプレートを用いた場合の、加熱チャンバー内でのガラス基板の温度差による被膜の膜厚の高低といった被膜の膜厚分布が加わった状態のガラス基板面内の被膜の膜厚分布の範囲（バラツキ）を小さくすることのできる液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法を提供することを課題とするものである。
また、上記液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法を用いて製造した液晶表示装置用カラーフィルタを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００３５】
本発明は、ガラス基板上に少なくとも、樹脂ブラックマトリックス、着色画素、及び付随する層が順次に形成された液晶表示装置用カラーフィルタを製造する際に、フォトレジストの塗布膜はスピンコータを用いて設け、塗布膜のプリベークはガラス基板をホットプレートに接近させた加熱を行って製造する液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法において、前記ガラス基板面内の温度分布をリフトピンの高さにより調整しプリベークすることを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法である。
【００３６】
また、本発明は、上記発明による液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法において、前記ガラス基板面内の温度分布の範囲を０．１℃〜２．０℃の範囲内に調整し、プリベーク後の被膜の膜厚におけるガラス基板面内の被膜の膜厚分布が±２％の範囲内にあることを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法である。
【００３７】
また、本発明は、上記発明による液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法において、前記リフトピンの高さの差が、ガラス基板の外縁部と中央部で０．２ｍｍ〜１０ｍｍの範囲内にあることを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法である。
【００３８】
また、本発明は、上記発明による液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法において、前記リフトピンの高さが、ガラス基板の外縁部から中央部に向かって徐々に高くなっていることを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法である。
【００３９】
また、本発明は、請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法を用いて製造したことを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルタである。
【発明の効果】
【００４０】
本発明は、フォトレジストの塗布膜はスピンコータを用いて設け、塗布膜のプリベークはガラス基板をホットプレートに接近させた加熱を行って製造する液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法において、ガラス基板面内の温度分布をリフトピンの高さにより調整しプリベークするので、スピンコータを用いた場合の塗布膜の膜厚分布に、ホットプレー
トを用いた場合の被膜の膜厚分布が加わった状態のガラス基板面内の被膜の膜厚分布の範囲（バラツキ）を小さくする液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法となる。
【００４１】
また、本発明は、温度分布の範囲を０．１℃〜２．０℃の範囲内に調整するので、プリベーク後の被膜の膜厚５μｍにおけるガラス基板面内の被膜の膜厚分布を０．１μｍの範囲内にすることができる。
また、本発明は、リフトピンの高さの差が、ガラス基板の外縁部と中央部で０．２ｍｍ〜１０ｍｍの範囲内にあり、また、リフトピンの高さが、ガラス基板の外縁部から中央部に向かって徐々に高くなっているので、スピンコータを用いた場合の塗布膜の膜厚分布に良好に対応できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４２】
以下に本発明の実施の形態を詳細に説明する。
本発明は、ガラス基板上に樹脂ブラックマトリックス、着色画素、及び付随する層を順次に形成する際に、１）スピンコータを用いた場合には、その塗布膜の膜厚分布はガラス基板の周縁部に向かって膜厚が徐々に厚くなるといった傾向があることに、２）ホットプレートを用いた場合には、プリベーク後の被膜の膜厚分布は加熱チャンバー内でのガラス基板の温度差に影響を受けた被膜の膜厚の高低になることが加わった状態のガラス基板面内の被膜の膜厚分布の範囲（バラツキ）を小さくするために、加熱チャンバー内ではガラス基板面内で温度の高い部分はプリベークの進度が大きく、被膜の膜厚の高さは低くなること。また、温度の低い部分はプリベークの進度が小さく、被膜の膜厚の高さは低くなること。すなわち、ガラス基板面内の被膜の膜厚分布はガラス基板面内の温度分布に準じたものとなることに着目してなされたものである。
【００４３】
プリベーク後のガラス基板面内の被膜の膜厚分布を精査し、各箇所の膜厚に対応して、各箇所の温度をリフトピンの高さの高低により調整したものである。
これにより、プリベーク後のガラス基板面内の被膜の膜厚分布を良好なものとすることができる。
リフトピンの高さによりガラス基板面内の温度分布の範囲を０．１℃〜２．０℃の範囲内に調整することによって、膜厚５μｍを有するプリベーク後の被膜において、ガラス基板面内の被膜の膜厚分布を０．１μｍの範囲内にすることが可能となる。
この方法により製造したカラーフィルタを用いることにより、液晶表示装置の表示品位を良好なものとすることができる。
【００４４】
図８は、請求項３に係わる発明の一例の説明図である。図８に示すように、例えば、ガラス基板（５０）の外縁部のリフトピンの高さ（Ｈ２）と中央部のリフトピンの高さ（Ｈ１）の差（ΔＨ）を、０．２ｍｍ〜１０ｍｍの範囲内にすると、ガラス基板面内の温度分布の範囲を０．１℃〜２．０℃の範囲内に調整することができる。
【００４５】
また、スピンコータを用いた場合には、その塗布膜の膜厚分布はガラス基板の周縁部に向かって膜厚が徐々に厚くなるといった傾向に対応して、リフトピンの高さは、ガラス基板の外縁部から中央部に向かって徐々に高くなっていることが好ましい。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】（ａ）は、プリベーク装置の一例の概略を示す断面図である。（ｂ）は、ホットプレートを上部に備えたバキューム・テーブルの一例の概略を示す断面図である。
【図２】（ａ）〜（ｃ）は、加熱チャンバーを用いたプリベーク処理の加熱動作の一例を説明する断面図である。
【図３】液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの一例を模式的に示した平面図である。
【図４】図３に示すカラーフィルタのＸ−Ｘ’線における断面図である。
【図５】図４に示す突起の近傍を拡大した断面図である。
【図６】（イ）、（ロ）は、スリット＆スピンコータの一例の主要部分を示す側断面図である。
【図７】フォトスペーサーが付加されたカラーフィルタの一例の断面図である。
【図８】請求項３に係わる発明の一例の説明図である。
【符号の説明】
【００４７】
７・・・液晶表示装置用カラーフィルタ
１０・・・プリベーク装置
２０・・・加熱チャンバー
２１・・・ホットプレート
２２、３２・・・バキューム・テーブル
２３・・・リフトピン
２４・・・開口
２５・・・中空部
２６・・・排気口
３０・・・冷却チャンバー
３１・・・クールプレート
５０・・・ガラス基板
５１・・・樹脂ブラックマトリックス
５２・・・着色画素
５３・・・突起
５４・・・透明導電膜
５５・・・フォトスペーサー
６０・・・スリットコータ
６１・・・定盤
７０・・・スピンコータ
７１・・・スピナーヘッド
７２・・・回転軸
【図１】
2008076723.tif 000003
【図２】
2008076723.tif 000004
【図３】
2008076723.tif 000005
【図４】
2008076723.tif 000006
【図５】
2008076723.tif 000007
【図６】
2008076723.tif 000008
【図７】
2008076723.tif 000009
【図８】
2008076723.tif 000010