(57)【要約】【課題】変形量が増えるに従って画像処理に時間がかかる回転や変倍などの変形処理であっても、処理能力を低く抑えて、画像描画のための露光データを低コストでかつ高タクトで取得できる描画点データ取得方法および装置、描画方法および装置を提供する。【解決手段】予め、複数の異なる変形処理条件に対して、それぞれ原画像データに変形処理を行って取得された変形済画像データを複数組保持しておき、この複数組の変形済画像データの中から、入力される変形処理条件に近い変形処理条件において得られた仮の変形済画像データを１組選び出し、入力変形処理条件と選び出された仮の変形済画像データの変形処理条件との差分に応じて、選び出された仮の変形済画像データに変形処理を行い、描画点データとして変形済画像データを取得することにより、上記課題を解決する。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
原画像データを変形処理して、描画対象上に前記原画像データが担持する画像を描画するために用いられる描画点データとして、変形済画像データを取得する描画点データ取得方法であって、
予め、複数の異なる変形処理条件に対して、それぞれ第１の処理法により前記原画像データに前記変形処理を行って取得された変形済画像データを複数組保持しておき、
この複数組の変形済画像データの中から、入力される変形処理条件に近い変形処理条件において得られた仮の変形済画像データを１組選び出し、
前記入力変形処理条件と前記選び出された仮の変形済画像データの前記変形処理条件との差分に応じて、第２の処理法により、前記選び出された仮の変形済画像データに前記変形処理を行い、前記描画点データとして前記変形済画像データを取得することを特徴とする描画点データ取得方法。
【請求項２】
前記第２の処理法は、
前記選び出された仮の変形済画像データを入力画像データとし、前記変形処理の変形処理条件を前記差分とするとき、
前記取得される変形済画像データの画素データの配置位置を示す画素位置情報を結ぶ変形後ベクトル情報を設定し、
前記設定された変形後ベクトル情報が表わす変形後ベクトル上における前記画素位置情報のうちの一部の前記画素位置情報を取得し、
前記取得された一部の画素位置情報に対してのみ、前記変形処理とは逆の変形処理を示す逆変換演算を施して前記一部の画素位置情報に対応する前記入力画像データ上における逆変換画素位置情報を取得し、
前記取得された逆変換画素位置情報に基づいて前記入力画像データから前記変形後ベクトルに対応する入力画素データを取得し、
前記取得された入力画素データを前記変形後ベクトル上における前記画素位置情報が示す位置の画素データとして取得して、前記変形済画像データを取得する請求項１に記載の描画点データ取得方法。
【請求項３】
前記逆変換画素位置情報を結ぶ、前記入力画像データ上における入力ベクトル情報を設定し、
前記設定された入力ベクトル情報が表わす入力ベクトル上における前記入力画素データを前記入力画像データから取得し、
前記取得された入力画素データを前記変形後ベクトル上における前記画素位置情報が示す位置の画素データとして取得して前記変形済画像データを取得する請求項２に記載の描画点データ取得方法。
【請求項４】
前記逆変換画素位置情報を曲線で結んで前記入力ベクトル情報を設定する請求項３に記載の描画点データ取得方法。
【請求項５】
前記入力ベクトル情報に前記入力画素データを取得するピッチ成分が含まれている、または前記入力ベクトル情報に基づいて前記入力画素データを取得するピッチ成分を設定する請求項３または４に記載の描画点データ取得方法。
【請求項６】
前記第１の処理法は、
前記原画像データを前記入力画像データとし、前記変形処理の変形処理条件を前記複数の異なる変形処理条件の１つであるとするとき、
前記第２の処理法と同様に行うものである請求項２〜５のいずれかに記載の描画点データ取得方法。
【請求項７】
前記描画点データは、２次元空間変調素子を用いて前記画像を描画するために、前記２次元空間変調素子の２次元状に配列された複数の描画点形成領域にマッピングされ、前記複数の描画点形成領域で描画するための描画データの集合からなるフレームデータとして作成される請求項２〜６のいずれかに記載の描画点データ取得方法。
【請求項８】
前記第２の処理法は、
前記選び出された仮の変形済画像データを入力画像データとし、前記変形処理の変形処理条件が前記差分であり、前記描画対象が前記差分だけ変形しているとするとき、
前記描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、前記描画対象に対して相対的に移動させるとともに、この移動に応じて前記描画点を前記描画対象上に順次形成して前記描画対象上に、前記入力画像データが担持する画像を描画するための前記描画点データを取得するに際し、
前記画像の、前記入力画像データ上における前記描画点形成領域の描画点データ軌跡の情報を取得し、
前記取得された描画点データ軌跡情報に基づいて前記描画点データ軌跡に対応した複数の前記描画点データを前記入力画像データから取得する請求項１に記載の描画点データ取得方法。
【請求項９】
前記描画点データ軌跡の情報を取得するステップは、
前記入力画像データが担持する前記画像の描画を行う際の前記描画対象上における前記描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得し、
該取得された描画軌跡情報に基づいて前記画像の、前記入力画像データ上における前記描画点形成領域の描画点データ軌跡の情報を取得するものである請求項８に記載の描画点データ取得方法。
【請求項１０】
前記描画点データ軌跡の情報を取得するステップは、
前記描画対象上の画像空間における前記描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得し、
該取得された描画軌跡情報に基づいて前記画像の、前記入力画像データ上における前記描画点形成領域の描画点データ軌跡の情報を取得するものである請求項８に記載の描画点データ取得方法。
【請求項１１】
前記第１の処理法は、
前記原画像データを前記入力画像データとし、前記変形の変形量を前記複数の異なる変形量の１つであるとするとき、
請求項２〜５のいずれかに記載の前記第２の処理法と同様に行うものである請求項８〜１０のいずれかに記載の描画点データ取得方法。
【請求項１２】
前記第１の処理法は、
前記原画像データを前記入力画像データとし、前記変形の変形量を前記複数の異なる変形量の１つであるとするとき、
前記第２の処理法と同様に行うものである請求項８〜１０のいずれかに記載の描画点データ取得方法。
【請求項１３】
前記描画点データは、２次元空間変調素子を用いて前記画像を描画するために、前記２次元空間変調素子の２次元状に配列された複数の描画点形成領域の各々毎に取得され、前記複数の描画点形成領域に対して２次元的に配列され、
この２次元的に配列された前記描画点データは、転置されて、前記２次元空間変調素子の前記複数の描画素子で描画するために描画データの集合からなるフレームデータとして作成される請求項８〜１２のいずれかに記載の描画点データ取得方法。
【請求項１４】
前記原画像データおよび前記変形済画像データが、圧縮画像データである請求項１〜１３のいずれかに記載の描画点データ取得方法。
【請求項１５】
前記原画像データおよび前記変形済画像データが、２値画像データである請求項１〜１４のいずれかに記載の描画点データ取得方法。
【請求項１６】
請求項１〜１５のいずれかに記載の描画点データ取得方法によって取得された描画点データに基づいて、前記描画対象上に前記原画像データが担持する画像を描画することを特徴とする描画方法。
【請求項１７】
原画像データを変形処理して、描画対象上に前記原画像データが担持する画像を描画するために用いられる描画点データとして、変形済画像データを取得する描画点データ取得装置であって、
予め、複数の異なる変形処理条件に対して、それぞれ第１の処理法により前記原画像データに前記変形処理を行って取得された変形済画像データを複数組保持するデータ保持部と、
この複数組の変形済画像データの中から、入力される変形処理条件に近い変形処理条件において得られた仮の変形済画像データを１組選び出す画像選択部と、
前記入力変形処理条件と前記選び出された仮の変形済画像データの前記変形処理条件との差分に応じて、第２の処理法により、前記選び出された仮の変形済画像データに前記変形処理を行い、前記描画点データとして前記変形済画像データを取得する変形処理部とを有することを特徴とする描画点データ取得装置。
【請求項１８】
前記変形処理部は、前記選び出された仮の変形済画像データを入力画像データとし、前記変形処理の変形処理条件を前記差分とするとき、前記第２の処理法を実施するものであり、
前記取得される変形済画像データの画素データの配置位置を示す画素位置情報を結ぶ変形後ベクトル情報を設定する変形後ベクトル情報設定部と、
前記変形後ベクトル情報設定部によって設定された変形後ベクトル情報が表わす変形後ベクトル上における前記画素位置情報のうちの一部の前記画素位置情報を取得する画素位置情報取得部と、
前記画素位置情報取得部によって取得された一部の画素位置情報に対してのみ、前記変形処理とは逆の変形処理を示す逆変換演算を施して前記一部の画素位置情報に対応する前記入力画像データ上における逆変換画素位置情報を取得する逆変換演算部と、
前記逆変換演算部によって取得された逆変換画素位置情報に基づいて前記入力画像データから前記変形後ベクトルに対応する入力画素データを取得する入力画素データ取得部と、
前記入力画素データ取得部によって取得された入力画素データを前記変形後ベクトル上における前記画素位置情報が示す位置の画素データとして取得して、前記変形済画像データを取得する変形済画像データ取得部とを備える請求項１７記載の描画点データ取得装置。
【請求項１９】
さらに、前記描画点データを、２次元空間変調素子を用いて前記画像を描画するために、前記２次元空間変調素子の２次元状に配列された複数の描画点形成領域に対してマッピングし、前記複数の前記描画点形成領域によって描画するための描画データの集合からなるフレームデータとして作成するフレームデータ作成部を備える請求項１７または１８に記載の描画点データ取得装置。
【請求項２０】
前記変形処理部は、前記選び出された仮の変形済画像データを入力画像データとし、前記変形処理の変形処理条件が前記差分であり、前記描画対象が前記差分だけ変形しているとするとき、前記第２の処理法を実施するものであり、
前記描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、前記描画対象に対して相対的に移動させるとともに、この移動に応じて前記描画点を前記描画対象上に順次形成して前記描画対象上に、前記入力画像データが担持する画像を描画するための前記描画点データを取得するものであり、
前記画像の、前記入力画像データ上における前記描画点形成領域の描画点データ軌跡の情報を取得する描画点データ軌跡情報取得部と、
前記取得された描画点データ軌跡情報に基づいて前記描画点データ軌跡に対応した複数の前記描画点データを前記入力画像データから取得する描画点データ取得部とを備える請求項１７に記載の描画点データ取得装置。
【請求項２１】
さらに、前記描画点データを、２次元空間変調素子を用いて前記画像を描画するために、前記２次元空間変調素子の２次元状に配列された複数の描画点形成領域の各々毎に取得され、前記複数の描画点形成領域に対して２次元的に配列し、この２次元的に配列された前記描画点データを転置して、前記２次元空間変調素子の前記複数の描画素子で描画するために描画データの集合からなるフレームデータとして作成するフレームデータ作成部を備える請求項２０に記載の描画点データ取得装置。
【請求項２２】
請求項１７〜２１のいずれかに記載の描画点データ取得装置と、
前記描画点データ取得装置において取得された描画点データに基づいて、前記描画対象上に前記原画像データが担持する画像を描画する描画部を有することを特徴とする描画装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、原画像データを変形処理して、描画対象上に原画像データが担持する画像を描画するために用いられる描画点データとして、変形済画像データを取得する描画点データ取得方法および装置、ならびに取得された描画点データに基づいて、描画対象上に原画像データが担持する画像を描画する描画方法および装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来より、原画像データを回転、拡大、縮小、自由変形などして画像変形し、変形済画像データを取得する画像変形処理が必要とされ、そのために、種々の画像変形処理方法が提案されている。
【０００３】
このような画像変形処理方法として、たとえば、特許文献１には、複写機やプリンタなどの画像記録装置において、読み込んだ画像や入力された画像（原画像データ）を回転して、例えば、９０°回転して画像（回転済画像データ）を出力するために、予め、画像サイズや回転方向や角度、具体的には、３２×３２ｂｉｔの画像サイズ、９０°半時計方向回転等の画像回転に必要な設定を行っておき、例えば、画像データが２値データであり、原画像データが記録されたＲＡＭ等のメモリから、通常の読み出し方で各画素データを、例えば行（Ｘ）方向に３２ｂｉｔ単位で読み出し、回転済画像データが記録されるＲＡＭ等に、通常の読み出し方で読み出した場合に所望の角度に回転されているように、不連続アドレッシングにより転送して、回転済画像データとして、別の画像メモリに列（Ｙ）方向に３２ｂｉｔ単位で書き込むことにより、通常の読み出し方で回転済画像データの各画素を読み出した場合に９０°に回転されているようにしている（特許文献１の図＊８、図＊９、および段落００４０〜段落００４２参照）。
【０００４】
このため、特許文献１においては、上述した方法では３２×３２ｂｉｔの回転画像を得るためには、上述した３２ｂｉｔ単位のデータ転送を３２回行う必要があり、かつ不連続なアドレスから画像データを転送する必要があるため、画像を回転する処理には時間がかかり、画像回転処理をしない出力処理に比べて出力処理時間に長時間を要するために、画像回転処理を、出力処理を実際に行なうに先立って、特に、他の処理が何も実行されていない処理待ち状態の期間に、予め行っておくことを提案している。
【０００５】
他の画像変形処理方法として、例えば、取得される変形済画像データの各画素データの配置位置を示す各画素位置情報毎の座標値を原画像データの座標系に変換し、つまり、所望の変形とは逆の変形を示す逆変換を上記座標値に施し、その逆変換後の座標値に対応する原画像データ上における原画素データを取得し、その原画素データを上記変形済画像データの画素位置情報の画素データとすることによって変形済画像データを取得する、いわゆるダイレクトマッピング方法が提案されている。
【０００６】
このダイレクトマッピング方法では、たとえば、図２１（Ａ）に示す原画像データを時計周りに回転して図２１（Ｂ）に示す変形済画像データを取得する場合には、取得される変形済画像データの画素データの配置位置を示す画素位置情報（ｘ’,ｙ’）に、反時計周りの回転演算を施して逆変換画素位置情報（ｘ,ｙ）を取得し、その逆変換画素位置情報（ｘ,ｙ）が示す位置にある原画素データを取得し、その原画素データを上記画素位置情報（ｘ’,ｙ’）の画素データとすることによって図２１（Ｂ）に示す変形済画像データを取得することができる。
しかしながら、このようなダイレクトマッピング方法においても、原画素データから変形済画像データを取得する際には、逆変換画素位置情報（ｘ,ｙ）が示す位置にある原画素データを読み出す必要があるため、不連続なアドレスから画像データを読み出すことが必要となり、回転などの画像変形処理には時間がかかるという問題がある。
【０００７】
ところで、プリント配線板（ＰＷＢ）や液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマ表示装置（ＰＤＰ）などのフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）の基板に配線パターンやフィルタパターンなどの所定のパターンを記録する装置として、フォトリソグラフの技術を利用した露光装置が種々提案されている。
このような露光装置においては、例えば、デジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）等の空間光変調素子を利用し、所定のパターンを表す画像データに応じて空間光変調素子により変調された多数の光ビームを走査して、フォトレジストが塗布された基板上に照射することにより、所定のパターンを基板上に形成している。
【０００８】
このようなＤＭＤを用いる露光装置においては、例えば、ＤＭＤを基板上の露光面に対して所定の走査方向に相対的に移動させるとともに、その走査方向への移動に応じてＤＭＤのメモリセルにＤＭＤの多数のマイクロミラーに対応した多数の描画点データからなるフレームデータを入力し、ＤＭＤのマイクロミラーに対応した描画点群を時系列に順次形成することにより所望の画像を露光面に形成する露光装置が提案されている（たとえば特許文献２参照）。
【０００９】
ここで、このような露光装置により形成されるＰＷＢの配線パターンなどは、益々高精細化が進む傾向にあり、たとえば、多層プリント配線板を形成するような場合には、各層の配線パターンの位置合わせを高精度に行う必要がある。また、ＦＰＤのサイズは、益々大型化が進む傾向にあり、大サイズにもかかわらずフィルタパターンの位置合わせは高精度に行う必要がある。
このため、ＤＭＤを用いる露光装置においては、ＤＭＤを所定角度傾斜させて、露光ドッドの高密度化を図り、パターンの高精度化に対応しようとしている。その結果、ＤＭＤのメモリセルに入力するために、ＤＭＤの多数のマイクロミラーに対応した多数の描画点データとするためには、原画像データをそのままではなく、所定角度回転させた回転済画像データとする必要がある。
したがって、このような場合には、例えば、上述したダイレクトマッピング方法を適用することができる。
【００１０】
【特許文献１】特開２００１−２３３７１８号公報
【特許文献２】特開２００４−２８５６１２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、上述したダイレクトマッピング方法を行う際、変形済画像データにおける全ての画素位置情報に上記のような逆変換を施すようにしたのでは、変形済画像データの画素データの数だけ逆変換の演算処理を行わなければならず、長い時間が必要な場合がある。特に、近年取り扱われる画像データの解像度は益々高くなる傾向があり、そのような傾向において上記のような画像変形処理を行っていたのでは、益々処理時間が長くなってしまうという問題がある。
また、従来の画像変形処理方法では、必ず、画像データの転送に不連続アドレッシングが必要となるため、画像の回転処理や変倍処理は、回転角度や変形量が大きいと、アドレッシングが不連続となる箇所が多くなるために時間がかかり、回転角度や変形量にほぼ比例して画像処理の時間が長くなるという問題があった。特に、画像データが圧縮画像データの場合には、上述したように、不連続アドレッシング毎に、圧縮画像データを解凍し、例えば、異なる行の画像データを編集し、編集後の画像データを圧縮する必要があるために、編集箇所が増加すると、画像変形処理に、さらに時間がかかるという問題がある。
【００１２】
このために、特許文献１のように、予め、画像サイズや回転方向や角度等の画像回転に必要な設定を行い、出力処理を実際に行なうに先立って、予め行っておくことが考えられるが、ＤＭＤを用いる露光装置においては、ＤＭＤの傾斜角度は、予め設定できるが、露光装置において、ＤＭＤによって露光される基板は、ＤＭＤと相対的に移動するステージ上に載置されるが、基板をＤＭＤに対して正確に位置合わせして載置することは困難であるし、移動時の相対位置の変動や、移動ステージの変動や、熱処理を受ける基板の場合には、基板自体の変形なども生じるため、予め、これらの変形を全て考慮することはできないので、特許文献１に記載の方法は、適用できないという問題がある。
【００１３】
上述したように、このような従来のＤＭＤを用いる露光装置では、回転処理や変倍処理等の画像変形処理は、時間がかかるため、それを避けるためにコストをかけて画像処理能力を増やす必要がある。
例えば、基板を載置するステージとして、θステージ（回転ステージ）を用いて、ＤＭＤに対して少なくとも傾斜角度に対しては、正確に位置合わせすることができるが、θステージは、露光装置のコストアップを招くという問題がある。
また、時間のかかる回転処理や変倍処理等の画像変形処理をリアルタイムでやるために、
ダイナミックサポートプログラム（ＤＳＰ）で行うことも考えられるが、ＤＳＰの場合だと、ラインバッファの数に制限があるために、処理能力に限界があるという問題がある。
さらに、パーソナルコンピュータ（ＰＣ）などのコンピュータや上述のＤＳＰの処理能力（パワー）を増大させることも考えられるが、パワーアップは、コストアップを招くという問題がある。
【００１４】
本発明は、上記従来技術の問題点に鑑み、回転角度や拡縮倍率などの変形量が増えるに従って、画像処理に時間がかかる回転や変倍などの画像変形処理であっても、画像処理能力を低く抑え、描画対象上に原画像データが担持する画像を描画するために原画像データから、画像描画に用いられる描画点データを取得することを、低コストでかつ高タクトで実現できる描画点データ取得方法および装置を提供することを第１の目的とする。
【００１５】
また、本発明は、上記第１の目的を達成することができる描画点データ取得方法および装置によって取得された描画点データに基づいて、描画対象上に原画像データが担持する画像を描画することを、低コストでかつ高タクトで実現できる描画方法および装置を提供することを第２の目的とする。
さらに、本発明は、回転や変倍などの画像変形処理において、より高速化を図ることができることを他の目的とするものである。
また、本発明は、基板の変形や基板の移動方向のずれなどに影響されることなく、基板上の所望の位置に所望の画像を描画することを他の目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
上記第１の目的を達成するために、本発明の第１の態様は、原画像データを変形処理して、描画対象上に前記原画像データが担持する画像を描画するために用いられる描画点データとして、変形済画像データを取得する描画点データ取得方法であって、予め、複数の異なる変形処理条件に対して、それぞれ第１の処理法により前記原画像データに前記変形処理を行って取得された変形済画像データを複数組保持しておき、この複数組の変形済画像データの中から、入力される変形処理条件に近い変形処理条件において得られた仮の変形済画像データを１組選び出し、前記入力変形処理条件と前記選び出された仮の変形済画像データの前記変形処理条件との差分に応じて、第２の処理法により、前記選び出された仮の変形済画像データに前記変形処理を行い、前記描画点データとして前記変形済画像データを取得することを特徴とする描画点データ取得方法を提供するものである。
【００１７】
ここで、本態様の第１の形態においては、前記第２の処理法は、前記選び出された仮の変形済画像データを入力画像データとし、前記変形処理の変形処理条件を前記差分とするとき、前記取得される変形済画像データの画素データの配置位置を示す画素位置情報を結ぶ変形後ベクトル情報を設定し、前記設定された変形後ベクトル情報が表わす変形後ベクトル上における前記画素位置情報のうちの一部の前記画素位置情報を取得し、前記取得された一部の画素位置情報に対してのみ、前記変形処理とは逆の変形処理を示す逆変換演算を施して前記一部の画素位置情報に対応する前記入力画像データ上における逆変換画素位置情報を取得し、前記取得された逆変換画素位置情報に基づいて前記入力画像データから前記変形後ベクトルに対応する入力画素データを取得し、前記取得された入力画素データを前記変形後ベクトル上における前記画素位置情報が示す位置の画素データとして取得して、前記変形済画像データを取得するのが好ましい。
【００１８】
また、前記逆変換画素位置情報を結ぶ、前記入力画像データ上における入力ベクトル情報を設定し、前記設定された入力ベクトル情報が表わす入力ベクトル上における前記入力画素データを前記入力画像データから取得し、前記取得された入力画素データを前記変形後ベクトル上における前記画素位置情報が示す位置の画素データとして取得して前記変形済画像データを取得するのが好ましい。
また、前記逆変換画素位置情報を曲線で結んで前記入力ベクトル情報を設定するのが好ましい。
また、前記入力ベクトル情報に前記入力画素データを取得するピッチ成分が含まれている、または前記入力ベクトル情報に基づいて前記入力画素データを取得するピッチ成分を設定するのが好ましい。
【００１９】
また、前記第１の処理法は、前記原画像データを前記入力画像データとし、前記変形処理の変形処理条件を前記複数の異なる変形処理条件の１つであるとするとき、前記第２の処理法と同様に行うものであるのが好ましい。
また、前記描画点データは、２次元空間変調素子を用いて前記画像を描画するために、前記２次元空間変調素子の２次元状に配列された複数の描画点形成領域にマッピングされ、前記複数の描画点形成領域で描画するための描画データの集合からなるフレームデータとして作成されるのが好ましい。
【００２０】
また、本態様の第２の形態においては、前記第２の処理法は、前記選び出された仮の変形済画像データを入力画像データとし、前記変形処理の変形処理条件が前記差分であり、前記描画対象が前記差分だけ変形しているとするとき、前記描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、前記描画対象に対して相対的に移動させるとともに、この移動に応じて前記描画点を前記描画対象上に順次形成して前記描画対象上に、前記入力画像データが担持する画像を描画するための前記描画点データを取得するに際し、前記画像の、前記入力画像データ上における前記描画点形成領域の描画点データ軌跡の情報を取得し、前記取得された描画点データ軌跡情報に基づいて前記描画点データ軌跡に対応した複数の前記描画点データを前記入力画像データから取得するのが好ましい。
【００２１】
また、前記描画点データ軌跡の情報を取得するステップは、前記入力画像データが担持する前記画像の描画を行う際の前記描画対象上における前記描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得し、該取得された描画軌跡情報に基づいて前記画像の、前記入力画像データ上における前記描画点形成領域の描画点データ軌跡の情報を取得するものであるのが好ましい。
また、前記描画点データ軌跡の情報を取得するステップは、前記描画対象上の画像空間における前記描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得し、該取得された描画軌跡情報に基づいて前記画像の、前記入力画像データ上における前記描画点形成領域の描画点データ軌跡の情報を取得するものであるのが好ましい。
【００２２】
また、描画対象上の所定位置にある複数の基準マークおよび／または基準部位を検出してその基準マークおよび／または基準部位の位置を示す検出位置情報を取得し、その取得した検出位置情報に基づいて描画軌跡情報を取得するのが好ましい。
また、予め設定された描画対象の所定相対移動方向および／または移動姿勢に対する画像の描画の際の描画対象の実相対移動方向および／または移動姿勢のずれ情報を取得し、その取得したずれ情報に基づいて描画軌跡情報を取得するのが好ましい。
また、予め設定された描画対象の所定相対移動方向および／または移動姿勢に対する画像の描画の際の描画対象の実相対移動方向および／または移動姿勢のずれ情報を取得し、その取得したずれ情報および検出位置情報に基づいて描画軌跡情報を取得するのが好ましい。
また、描画軌跡情報によって表わされる描画軌跡の距離に応じて画像データを構成する
各画素データから取得される描画点データの数を変化させるのが好ましい。
【００２３】
また、予め設定された描画対象の所定相対移動速度に対する画像の描画の際の描画対象の実相対移動速度の変動を示す速度変動情報を取得し、その取得した速度変動情報に基づいて、描画対象の実相対移動速度が相対的に遅い描画対象上の描画領域ほど画像データを構成する各画素データから取得される描画点データの数が多くなるように各画素データから描画点データを取得するのが好ましい。
また、複数の描画点形成領域によって描画を行う際に用いられる描画点データを取得する描画点データ取得方法であって、描画点形成領域毎に描画点データの取得を行うのが好ましい。
【００２４】
また、描画点形成領域を空間光変調素子によって形成されるビームスポットとするのが好ましい。
また、描画点データ軌跡情報に描画点データを取得するピッチ成分が付随するのが好ましい。
また、複数の描画点形成領域を備えたものとし、２つ以上の描画点形成領域毎に１つの描画点データ軌跡情報を取得するのが好ましい。
また、複数の描画点形成領域を２次元状に配列するのが好ましい。
【００２５】
また、前記第１の処理法は、前記原画像データを前記入力画像データとし、前記変形の変形量を前記複数の異なる変形量の１つであるとするとき、本態様の第１の形態における前記第２の処理法と同様に行うものであるのが好ましい。
あるいは、前記第１の処理法は、前記原画像データを前記入力画像データとし、前記変形の変形量を前記複数の異なる変形量の１つであるとするとき、前記第２の処理法と同様に行うものであるのが好ましい。
また、前記描画点データは、２次元空間変調素子を用いて前記画像を描画するために、前記２次元空間変調素子の２次元状に配列された複数の描画点形成領域の各々毎に取得され、前記複数の描画点形成領域に対して２次元的に配列され、この２次元的に配列された前記描画点データは、転置されて、前記２次元空間変調素子の前記複数の描画素子で描画するために描画データの集合からなるフレームデータとして作成されるのが好ましい。
【００２６】
また、本態様においては、前記原画像データおよび前記変形済画像データが、圧縮画像データであるのが好ましい。
また、前記原画像データおよび前記変形済画像データが、２値画像データであるのが好ましい。
【００２７】
上記第２の目的を達成するために、本発明の第２の態様は、本発明の第１の態様の描画点データ取得方法によって取得された描画点データに基づいて、前記描画対象上に前記原画像データが担持する画像を描画することを特徴とする描画方法を提供するものである。
【００２８】
上記第１の目的を達成するために、本発明の第３の態様は、原画像データを変形処理して、描画対象上に前記原画像データが担持する画像を描画するために用いられる描画点データとして、変形済画像データを取得する描画点データ取得装置であって、予め、複数の異なる変形処理条件に対して、それぞれ第１の処理法により前記原画像データに前記変形処理を行って取得された変形済画像データを複数組保持するデータ保持部と、この複数組の変形済画像データの中から、入力される変形処理条件に近い変形処理条件において得られた仮の変形済画像データを１組選び出す画像選択部と、前記入力変形処理条件と前記選び出された仮の変形済画像データの前記変形処理条件との差分に応じて、第２の処理法により、前記選び出された仮の変形済画像データに前記変形処理を行い、前記描画点データとして前記変形済画像データを取得する変形処理部とを有することを特徴とする描画点データ取得装置を提供するものである。
【００２９】
ここで、本態様の第１の形態においては、前記変形処理部は、前記選び出された仮の変形済画像データを入力画像データとし、前記変形処理の変形処理条件を前記差分とするとき、前記第２の処理法を実施するものであり、前記取得される変形済画像データの画素データの配置位置を示す画素位置情報を結ぶ変形後ベクトル情報を設定する変形後ベクトル情報設定部と、前記変形後ベクトル情報設定部によって設定された変形後ベクトル情報が表わす変形後ベクトル上における前記画素位置情報のうちの一部の前記画素位置情報を取得する画素位置情報取得部と、前記画素位置情報取得部によって取得された一部の画素位置情報に対してのみ、前記変形処理とは逆の変形処理を示す逆変換演算を施して前記一部の画素位置情報に対応する前記入力画像データ上における逆変換画素位置情報を取得する逆変換演算部と、前記逆変換演算部によって取得された逆変換画素位置情報に基づいて前記入力画像データから前記変形後ベクトルに対応する入力画素データを取得する入力画素データ取得部と、前記入力画素データ取得部によって取得された入力画素データを前記変形後ベクトル上における前記画素位置情報が示す位置の画素データとして取得して、前記変形済画像データを取得する変形済画像データ取得部とを備えるのが好ましい。
【００３０】
また、本形態においては、さらに、前記描画点データを、２次元空間変調素子を用いて前記画像を描画するために、前記２次元空間変調素子の２次元状に配列された複数の描画点形成領域に対してマッピングし、前記複数の前記描画点形成領域によって描画するための描画データの集合からなるフレームデータとして作成するフレームデータ作成部を備えるのが好ましい。
また、本形態においては、さらに、逆変換画素位置情報を結ぶ、原画像データ上における原ベクトル情報を設定する原ベクトル情報設定部をさらに備えるのが好ましく、原画素データ取得部を、原ベクトル情報設定部により設定された原ベクトル情報が表わす原ベクトル上における原画素データを原画像データから取得するのが好ましい。
また、原ベクトル情報設定部を、逆変換画素位置情報を曲線で結んで原ベクトル情報を設定するのが好ましい。
また、原ベクトル情報に原画素データを取得するピッチ成分を含むまたは原ベクトル情報に基づいて原画素データを取得するピッチ成分を設定するのが好ましい。
【００３１】
また、本態様の第２の形態においては、前記変形処理部は、前記選び出された仮の変形済画像データを入力画像データとし、前記変形処理の変形処理条件が前記差分であり、前記描画対象が前記差分だけ変形しているとするとき、前記第２の処理法を実施するものであり、前記描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、前記描画対象に対して相対的に移動させるとともに、この移動に応じて前記描画点を前記描画対象上に順次形成して前記描画対象上に、前記入力画像データが担持する画像を描画するための前記描画点データを取得するものであり、前記画像の、前記入力画像データ上における前記描画点形成領域の描画点データ軌跡の情報を取得する描画点データ軌跡情報取得部と、前記取得された描画点データ軌跡情報に基づいて前記描画点データ軌跡に対応した複数の前記描画点データを前記入力画像データから取得する描画点データ取得部とを備えるのが好ましい。
【００３２】
また、本形態においては、さらに、前記描画点データを、２次元空間変調素子を用いて前記画像を描画するために、前記２次元空間変調素子の２次元状に配列された複数の描画点形成領域の各々毎に取得され、前記複数の描画点形成領域に対して２次元的に配列し、この２次元的に配列された前記描画点データを転置して、前記２次元空間変調素子の前記複数の描画素子で描画するために描画データの集合からなるフレームデータとして作成するフレームデータ作成部を備えるのが好ましい。
【００３３】
また、本形態においては、さらに、描画対象上の所定位置にある複数の基準マークおよび／または基準部位を検出してその基準マークおよび／または基準部位の位置を示す検出位置情報を取得する位置情報検出部を備えるのが好ましく、また、描画軌跡情報取得部を、位置情報検出部により取得された検出位置情報に基づいて描画軌跡情報を取得するのが好ましい。
また、本形態においては、さらに、予め設定された描画対象の所定相対移動方向および／または移動姿勢に対する画像の描画の際の描画対象の実相対移動方向および／または移動姿勢のずれ情報を取得するずれ情報取得部を備えるのが好ましく、また、描画点軌跡情報取得部を、ずれ情報取得部により取得されたずれ情報に基づいて描画軌跡情報を取得するのが好ましい。
【００３４】
また、本形態においては、さらに、予め設定された描画対象の所定相対移動方向および／または移動姿勢に対する画像の描画の際の描画対象の実相対移動方向および／または移動姿勢のずれ情報を取得するずれ情報取得部を備えるのが好ましく、また、描画点軌跡取得部を、ずれ情報取得部により取得されたずれ情報および位置情報検出部により取得された検出位置情報に基づいて描画軌跡情報を取得するのが好ましい。
また、描画点データ取得部を、描画軌跡情報によって表わされる描画軌跡の距離に応じて画像データを構成する各画素データから取得される描画点データの数を変化のが好ましい。
【００３５】
また、本形態においては、さらに、予め設定された描画対象の所定相対移動速度に対する画像の描画の際の描画対象の実相対移動速度の変動を示す速度変動情報を取得する速度変動情報取得部を備えるのが好ましく、また、描画点データ取得部を、速度変動情報取得部により取得された速度変動情報に基づいて、描画対象の実相対移動速度が相対的に遅い描画対象上の描画領域ほど画像データを構成する各画素データから取得される描画点データの数が多くなるように各画素データから描画点データを取得するのが好ましい。
また、描画点形成領域を複数有するのが好ましく、描画点データ取得部を、描画点形成領域毎に描画点データの取得を行うのが好ましい。
また、描画点形成領域を形成する空間光変調素子を備えるのが好ましい。
また、描画点データ軌跡情報に描画点データを取得するピッチ成分を付随するのが好ましい。
また、複数の描画点形成領域を備えるのが好ましく、描画点データ軌跡情報取得部を、２つ以上の描画点形成領域毎に１つの描画点データ軌跡情報を取得するのが好ましい。
また、複数の描画点形成領域を２次元状に配列するようにするのが好ましい。
【００３６】
上記第２の目的を達成するために、本発明の第４の態様は、本発明の第３の態様の描画点データ取得装置と、前記描画点データ取得装置において取得された描画点データに基づいて、前記描画対象上に前記原画像データが担持する画像を描画する描画部を有することを特徴とする描画装置を提供するものである。
【００３７】
ここで、「ベクトル情報」とは、画素位置情報または逆変換画素位置情報を直線で結ぶものだけでなく曲線で結ぶものもの含むものも挙げることができる。
また、「逆変換演算」としては、たとえば、上記変形が所定の方向への回転である場合にはその所定の方向とは逆方向の回転を示す演算、上記変形が拡大である場合には縮小を示す演算、上記変形が所定の方向へのシフトである場合にはその所定の方向とは逆方向のシフトを示す演算なども挙げることができる。
【００３８】
また、複数の描画点形成領域を２次元状に配列するようにすることができる。ここで、上記「描画点形成領域」とは、基板上に描画点を形成する領域であれば如何なるものによって形成される領域でもよく、たとえば、ＤＭＤのような空間光変調素子の各変調素子によって反射されたビーム光によって形成されるビームスポットでもよいし、光源から発せられたビーム光自体によって形成されるビームスポットでもよいし、もしくはインクジェット方式のプリンタの各ノズルから吐出されたインクが付着する領域としてもよい。
【発明の効果】
【００３９】
本発明の第１および第３の態様の描画点データ取得方法および装置によれば、回転角度や拡縮倍率などの変形量が増えるに従って、画像処理に時間がかかる回転や変倍などの画像変形処理であっても、実際の処理条件（回転角度や拡縮倍率などの変形量）と関係なく、固定の複数条件（回転角度や拡縮倍率などの変形量）で予め画像変形処理した変形済画像を保持しておき、実際の処理条件に近い変形済画像を選択し、選択された変形済画像をとの差分のみを画像変形処理することにより、画像処理能力を低く抑え、描画対象上に原画像データが担持する画像を描画するために原画像データから、画像描画に用いられる描画点データを低コストでかつ高タクトで取得するができる。
また、本発明の第２および第４の態様の描画方法および装置によれば、上記効果を奏する描画点データ取得方法および装置によって取得された描画点データに基づいて、描画対象上に原画像データが担持する画像を低コストでかつ高タクトで描画することができる。
さらに、本発明の各態様の第1の形態によれば、上記効果に加え、回転や変倍などの画像変形処理において、変形済画像データにおける一部の画素位置情報にのみ逆変換演算を施せばよく、従来のように全ての画素位置情報に逆変換演算を施す場合と比較して、より高速に変形済画像データを取得することができる。
【００４０】
また、本発明の各態様の第２の形態によれば、上記効果に加え、基板などの描画対象の変形や描画対象の移動方向のずれなどに影響されることなく、描画対象上の所望の位置に所望の画像を描画することができる。本形態によれば、画像を表わす画像データ上における描画点形成領域の描画点データ軌跡の情報に基づいて描画点データ軌跡に対応した複数の描画点データを画像データから取得するので、例えば、基板に変形や位置ずれが生じたような場合でも、基板等の描画対象上や画像空間上における描画点形成領域の描画軌跡の情報を予め取得し、その描画軌跡情報に基づいて描画点データ軌跡情報を取得することができるので、上記変形や位置ずれに応じた画像を描画対象上に描画することができる。この場合、例えば、多層プリント配線板を形成する際には、各層の配線パターンをその各層の変形に応じて形成することができるので各層の配線パターンの位置合わせを行うことができる。
【００４１】
また、本形態によれば、例えば、描画対象となる基板を所定の走査方向に移動させることによって、基板上を光ビームで走査するようにしたとき、基板の移動方向にずれが生じた場合であっても、その移動方向のずれに応じた描画軌跡の情報を予め取得し、その描画軌跡情報に対応した描画点データを画像データから取得することができるので、上記移動方向のずれに影響されることなく基板上の所望の位置に所望の画像を描画することができる。
また、本形態によれば、画像データを記憶するメモリのアドレスを上記描画点データ軌跡に沿って計算して描画点データを取得するようにすることができるので、上記アドレスの計算を容易に行うことができる。このため、本形態によれば、画像データが圧縮画像データである時に、特に効果的である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４２】
本発明に係る描画点データ取得方法および装置ならびに描画方法および装置を添付の図面に示すを好適実施形態を参照して以下に詳細に説明する。
図１は、本発明の描画方法を実施する本発明の描画装置を適用する露光装置の一実施形態の概略構成を示す斜視図である。図示例の露光装置は、多層プリント配線板の各層の配線パターン等の各種パターンを露光する装置であって、そのパターンを露光するために用いられる露光点データの取得方法に特徴を有するものであるが、まずは、露光装置の概略構成について説明する。
【００４３】
露光装置１０は、図１に示すように、その長手方向がステージ移動方向を向くように配置され、基板１２を表面に吸着して保持する矩形平板状の移動ステージ１４と、ステージ移動方向に延在するように配置され、移動ステージ１４をステージ移動方向に往復移動可能に支持する２本のガイド２０と、その上面にステージ移動方向に沿って延びた２本のガイド２０が設置される厚い板状の設置台１８と、設置台１８を支持する４本の脚部１６と、設置台１８の中央部に移動ステージ１４の移動経路を跨ぐように設けられ、その端部の各々が設置台１８の両側面に固定されるコの字状のゲート２２と、このゲート２２を挟んで一方の側に設けられ、移動ステージ１４上の基板１２に配線パターン等の所定のパターンを露光する露光スキャナ２４と、ゲート２２を挟んで他方の側に設けられ、基板１２の先端および後端と、基板１２に予め設けられている円形状の複数の基準マーク１２ａの位置とを検知するための複数のカメラ２６とを有する。
【００４４】
ここで、基板１２における基準マーク１２ａは、予め設定された基準マーク位置情報に基づいて基板１２上に形成された、たとえば孔である。なお、孔の他にランドやヴィアやエッチングマークを用いてもよい。また、基板１２に形成された所定のパターン、たとえば、露光しようとする層の下層のパターンなどを基準マーク１２ａとして利用するようにしてもよい。また、図１においては、基準マーク１２ａを６個しか図示していないが、実際には多数の基準マーク１２ａが設けられている。
露光スキャナ２４およびカメラ２６は、ゲート２２に各々取り付けられて、移動ステージ１４の移動経路の上方に固定配置されている。なお、スキャナ２４およびカメラ２６は、これらを制御する後述のコントローラ５２（図５参照）に接続されている。
【００４５】
露光スキャナ２４は、図２および図３（Ｂ）に示すように、図示例では、２行５列の略マトリックス状に配列された１０個の露光ヘッド３０（３０Ａ〜３０Ｊ）を備えている。
各露光ヘッド３０の内部には、図４に示すように、入射された光ビームを空間変調する空間光変調素子（ＳＬＭ）であるデジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）３６が設けられている。ＤＭＤ３６は、マイクロミラー３８が直交する方向に２次元状に多数配列されたものであり、そのマイクロミラー３８の列方向が走査方向と所定の設定傾斜角度θをなすように取り付けられている。したがって、各露光ヘッド３０による露光エリア３２は、走査方向に対して傾斜した矩形状のエリアとなる。ステージ１４の移動に伴い、基板１２には露光ヘッド３０ごとに帯状の露光済み領域３４が形成される。なお、各露光ヘッド３０に光ビームを入射する光源については図示省略してあるが、たとえば、レーザ光源などを利用することができる。
【００４６】
露光ヘッド３０の各々に設けられたＤＭＤ３６は、マイクロミラー３８単位でオン／オ
フ制御され、基板１２には、ＤＭＤ３６のマイクロミラー３８の像（ビームスポット）に対応したドットパターン（黒／白）が露光される。前述した帯状の露光済み領域３４は、
図４に示すマイクロミラー３８に対応した２次元配列されたドットによって形成される。二次元配列のドットパターンは、走査方向に対して傾斜されていることで、走査方向に並ぶドットが、走査方向と交差する方向に並ぶドット間を通過するようになっており、高解像度化を図ることができる。なお、傾斜角度の調整のバラツキによって、利用しないドットが存在する場合もあり、たとえば、図４では、斜線としたドットは利用しないドットとなり、このドットに対応するＤＭＤ３６におけるマイクロミラー３８は、常にオフ状態となる。
【００４７】
また、図３（Ａ）および（Ｂ）に示すように、帯状の露光済み領域３４のそれぞれが、隣接する露光済み領域３４と部分的に重なるように、ライン状に配列された各行の露光ヘッド３０の各々は、その配列方向に所定間隔ずらして配置されている。このため、たとえば、１行目の最も左側に位置する露光エリア３２Ａ、露光エリア３２Ａの右隣に位置する露光エリア３２Ｃとの間の露光できない部分は、２行目の最も左側に位置する露光エリア３２Ｂにより露光される。同様に、露光エリア３２Ｂと、露光エリア３２Ｂの右隣に位置する露光エリア３２Ｄとの間の露光できない部分は、露光エリア３２Ｃにより露光される。
【００４８】
次に、露光装置１０の主たる電気的構成について説明する。以下では、画像の変形処理として、回転処理および拡大・縮小等の変倍処理を代表例として説明するが、本発明はこれに限定されず、類似性があれば、自由変形などであっても良いのはもちろんである。
図５に示すように、露光装置１０は、データ作成装置４０からベクトルデータを受け付け、ラスターデータに変換し、予め設定された複数の異なる所定の回転角度、変倍率などの変形量に対して画像変形（回転、変倍）処理された複数組の変形済画像データを作成するデータ入力部４２と、カメラ２６を用いて実際に露光される、移動ステージ１４上の基板１２の変形量（回転角度、変倍率など）を測定する基板変形測定部４４と、データ入力部４２で取得された複数組の変形済画像データを保持し、基板変形測定部４４で測定された変形量（回転角度、変倍率）に最も近い１組の変形済画像データを選び出し、両変形量の差分のみを処理条件として画像変形（回転、変倍）処理して、実際に露光される移動ステージ１４上の基板１２の変形量（回転角度、変倍率など）応じた変形済画像データを露光データ（描画点データ）として作成する露光データ作成部４６と、露光データ作成部４６で作成された露光データに基づいて露光ヘッド３０により基板１２を露光する露光部４８と、移動ステージ１４をステージ移動方向へ移動させる移動機構５０と、この露光装置１０の全体を制御するコントローラ５２とを備える。
【００４９】
この露光装置１０において、データ作成装置４０は、ＣＡＭ（Computer Aided Manufacturing）ステーションを有し、露光すべき配線パターンを表わすベクトルデータをデータ入力装置４２に向けて出力する。
データ入力装置４２は、データ作成装置４０から出力された、露光すべき配線パターンを表わすベクトルデータを受け付け、このベクトルデータをラスターデータ(ビットマップデータ)に変換するベクタ・ラスタ変換部（ラスタイメージプロセッサ：ＲＩＰ）５４と、得られたラスターデータを原画像データとし、予め、所定の回転角度および所定の変倍率を処理条件として、原画像データに所定の回転・変倍処理を行って１組の変形済画像データを取得することを、予め設定された複数の異なる所定の回転角度および複数の異なる所定の変倍率に対して繰り返して、それぞれ複数組の変形済画像データを取得する回転・変倍部５６とを備える。
【００５０】
露光データ作成部４６は、データ入力部４２の回転・変倍部５６で複数の異なる所定の回転角度および複数の異なる所定の変倍率に対して取得された複数組の変形済画像データをそれぞれ受け取って記憶するメモリ部５８と、基板変形測定部４４から出力された、実際に露光される基板１２の変形量（回転角度、変倍率）に最も近い１組の変形済画像データを選び出すと共に、選択された変形済画像の変形量（回転角度、変倍率）と、測定された、実際に露光される基板１２の変形量（回転角度、変倍率）の差分を処理条件として求める画像選択部６０と、画像選択部６０から出力される処理条件（差分）を受け取ると共に、メモリ部５８から出力される、画像選択部６０で選択された変形済画像の１組の変形済画像データを仮の変形済画像データとして受け取り、受け取った差分（処理条件）に応じた所定の画像変形（回転・変倍）処理を、選択された仮の変形済画像データに行って最終の１組の変形済画像データを描画（露光）点データとして取得する回転・変倍部６２と、回転・変倍部６２で取得された描画（露光）点データを露光ヘッド３０のＤＭＤ３２の各マイクロミラー３８に対応するようにマッピングして、ＤＭＤ３２の各マイクロミラー３８によって露光描画するためにＤＭＤ３２の全マイクロミラー３８に与える複数の描画（露光）データの集合からなるフレームデータとして作成するフレームデータ作成部６４とを備える。
【００５１】
基板変形測定部４４は、基板１２上に形成された基準マーク１２ａ、基板１２の先端および後端の画像を撮影するカメラ２６と、カメラ２６により撮影された基準マーク１２ａの画像に基づいて、または、基準マーク１２ａ、基板１２の先端および後端の画像に基づいて、実際に露光に供される基板１２の基準位置およびサイズに対する変形量、すなわち、
基板１２の基準位置に対する回転角度、基板１２の基準サイズに対する拡大率または縮小率などの変倍率を算出する基板変形算出部６６とを備える。
露光部４８は、露光データ作成部４６のフレームデータ作成部６４で作成された、露光ヘッド３０のＤＭＤ３６（全マイクロミラー３８）に与えるフレームデータ（露光データ）に基づいて、露光ヘッド３０のＤＭＤ３６により露光されるよう露光ヘッド３０を制御する露光ヘッド制御部６８と、露光ヘッド制御部６８の制御下で、複数のＤＭＤ３６を持ち、各マイクロミラー３８によりレーザビームなどの露光ビームを変調し、変調された露光ビームにより基板１２に所望のパターンを露光する露光ヘッド３０とを備える。
【００５２】
移動機構５０は、コントローラ５２の制御下で、移動ステージ１４をステージ移動方向へ移動させる。なお、移動機構６０は、移動ステージ１４をガイド２０に沿って往復移動させるものであれば如何なる既知の構成を採用してもよい。
コントローラ５２は、データ入力部４２のベクタ・ラスタ変換部５４、露光部４８の露光ヘッド制御部６８および移動機構５０などに接続され、これらの個々の構成要素を含め、この露光装置１０を構成する要素および露光装置１０全体を制御する。
図５に示す露光装置１０において、データ入力装置４２および露光データ作成部４６は、本発明の描画点データ作成方法を実施する本発明の描画点データ作成装置を構成する。
したがって、図５に示す露光装置１０は、データ入力装置４２および露光データ作成部４６を備える描画点データ作成装置１１と、基板変形測定部４４と、露光部４８と、移動ステージ移動装置５０と、コントローラ５２を有するものということもできる。
なお、図５に示す露光装置１０においては、ベクタ・ラスタ変換部５４において、処理条件（回転角度および変倍率など）をパラメータとして、複数のパラメータに対応する複数組の変形済画像データをデータ作成装置４０から受け付けてラスターデータに変換して、もしくは内部でラスターデータとして作成し、図中点線で示すように、直接、露光データ作成部４６のメモリ部５８に出力し、記憶させるようにしても良い。
また、上記各構成要素の作用については後で詳述する。
【００５３】
図５に示す本発明の露光装置１０（描画点データ取得装置１１）において、データ入力部４２の回転・変倍部５２と、露光部４８の回転・変倍部６２とは、処理条件（回転角度、変倍率）が、予め設定された所定値か、差分かで異なり、元となる入力データがデータ入力部４２のベクタ・ラスタ変換部５４から出力されるラスタデータ（原画像データ）か、露光部４８の画像選択部で選択され、メモリ部５８から読み出された仮の変換済画像データか、によって異なるが、いずれの回転・変倍部５２および６２において実施される画像変形（回転・変倍）処理は、所定の処理条件に従って、所望の画像変形（回転・変倍）処理ができれば、どのような処理手段でも処理法でも良く、処理手段や処理法自体は特に制限的ではないし、回転・変倍部５２および６２おいて実施される画像変形（回転・変倍）処理は、同じ処理手段や同じ処理法であっても良いし、両者で異なっていても良い。
以下の説明では、回転・変倍部５２および６２に同じ処理手段および処理法が用いられるものとして説明する。
【００５４】
ところで、本発明の描画点データ取得装置１１（露光装置１０）の露光部４８の回転・変倍部６２では、処理条件（回転角度、変倍率などの変形量）が差分であるので、回転角度や変倍率などの変形量が小さい。このため、本発明の描画データ取得装置１１においては、回転・変倍部６２に適用される画像変形（回転・変倍）処理として、図２１に示す従来技術のダイレクトマッピング方法を用いたとしても、後述するように、同一ラインにおいて連続的に読み出されるアドレスを長くすることができ、連続アドレッシングを多くすることができ、読み出しアドレスのラインを変更する編集箇所を少なくして、不連続アドレッシングを少なくすることができるので、描画点データの作成を高速化することができる。また、データ入力部４２の回転・変倍部５２では、実際の露光処理などの処理前に、予め行っておくことができるので、変形量が大きく、不連続アドレッシングが多くなっても、時間をかけることができるので、従来技術のダイレクトマッピング方法を適用しても良い。
しかしながら、前述したように、従来技術のダイレクトマッピング方法は、画像変形（回転・変倍）処理としては、時間がかかる方法であるので、本発明者が、本出願人による特許出願（発明の名称「画像処理方法および装置」（識別番号第１０００７３１８４号の筆頭代理人による整理番号「Ｐ２８９０５Ｊ」））明細書に提案している、後述の画像変形処理装置や、本出願人による特願２００５−１０３７８７号の国内優先権主張出願である本出願人による特許出願（発明の名称「描画点データ取得方法および装置並びに描画方法および装置」（識別番号第１０００７３１８４号の筆頭代理人による整理番号「Ｐ５０５４８ＪＫ」））明細書に提案しているビーム追跡法と呼ぶ描画点データ軌跡を用いる描画点データ取得装置を適用するのが好ましい。
【００５５】
図６は、本発明の描画点データ取得方法を実施する描画点データ取得装置に適用される画像変形処理装置の一実施形態のブロック図である。
図６に示す画像変形処理装置７０は、、回転・変倍部５２および６２に用いられる装置であって、取得される変形済画像データの画素データの配置位置を示す画素位置情報を結ぶ変形後ベクトル情報が設定される変形後ベクトル情報設定部７２と、変形後ベクトル情報設定部７２により設定された変形後ベクトル情報が表わす変形後ベクトル上における画素位置情報のうちの一部の画素位置情報を取得する画素位置情報取得部７４と、画素位置情報取得部７４により取得された一部の画素位置情報に対してのみ逆変換演算を施して一部の画素位置情報に対応する入力画像データ上における逆変換画素位置情報を取得する逆変換演算部７６と、逆変換演算部７６により取得された逆変換画素位置情報を結ぶ、入力画像データ上における原ベクトル情報が設定される入力ベクトル情報設定部７８と、入力ベクトル情報設定部７８により設定された入力ベクトル情報が表わす入力ベクトル上における入力画素データを入力画像データから取得する入力画素データ取得部８０と、入力画素データ取得部８０により取得された入力画素データを変形後ベクトル上における画素位置情報が示す位置の画素データとして取得して変形済画像データを取得する変形済画像データ取得部８４と、入力画像データを記憶する入力画像データ記憶部８２とを備えている。
【００５６】
次に、画像変形処理装置７０の作用について説明する。まず、図７（Ａ）に示す入力画像データを時計周りに回転し、図７（Ｂ）に示す変形済画像データを取得する方法について説明する。
まず、図５に示す露光装置１０のデータ入力処理部４２のベクタ・ラスタ変換部５４からラスターデータ（原画像データ）が出力され、または、露光データ作成部４６のメモリ部５８から選択された仮の変形済画像データが出力され、入力画像データとして、図６に示す入力画像データ記憶部８２に記憶される。これとともに、変形後ベクトル情報設定部７２において変形後ベクトル情報が設定される。ここで、変形後ベクトル情報設定部７２には、取得される変形済画像データの各画素位置を示す画素位置情報が設定されている。この画素位置情報としては、たとえば、各画素位置の座標値を設定するようにすればよい。
【００５７】
そして、変形後ベクトル情報設定部７２において、図７（Ｂ）に示すような、左端の画素位置情報と右端の画素位置情報とをそれぞれ水平な直線で結んだ変形後ベクトル情報Ｖ１が設定される。なお、図７（Ｂ）においては、上記左端の画素位置情報と右端の画素位置情報とを斜線で示している。また、本実施形態においては、上記のように左端の画素位置情報と右端の画素位置情報とをそれぞれ水平な直線で結んで変形後ベクトル情報Ｖ１を設定するようにしたが、これに限らず、例えば、直線ではなくスプライン等の曲線で結んで変形後ベクトル情報Ｖ１を設定するようにしてもよいし、必ずしも、左端の画素位置情報と右端の画素位置情報とを結んで変形後ベクトル情報Ｖ１としなくてもよく、要は、予め設定された複数の画素位置情報を直線または曲線で結んだものであれば如何なるものでもよい。ただし、変形済画像データの各画素位置情報が、いずれかの変形後ベクトル情報Ｖ１に属するように設定されているものとする。
【００５８】
そして、上記のように設定された変形後ベクトル情報Ｖ１は、画素位置情報取得部７４に出力される。そして、画素位置情報取得部７４は、入力された変形後ベクトル情報が表わす変形後ベクトル上における画素位置情報のうちの一部の画素位置情報を取得する。本実施形態では、図７（Ｂ）において斜線で示す画素位置情報が、上記一部の画素位置情報として取得される。なお、本実施形態においては、変形後ベクトル情報Ｖ１が表わす変形後ベクトルの両端の画素位置情報を取得するようにしたが、これに限らず、その他の位置の画素位置情報を取得するようにしてもよいし、もっと多数の画素位置情報を取得するようにしてもよい。ただし、変形後ベクトル情報の全ての画素位置情報を取得するものではなく、一部の画素位置情報を取得するものとする。
【００５９】
そして、上記のようにして取得された一部の画素位置情報は、逆変換演算部７６に出力され、逆変換演算部７６において、上記一部の画素位置情報にのみ逆変換演算が施される。本実施形態においては、上述したように入力画像データを時計周りに回転させる変形を行うので、この変形の逆、つまり反時計周りに回転させる逆変換演算が、上記一部の画素位置情報に施される。具体的には、図７（Ｂ）に示す左側の始端の斜線部分の画素位置情報（ｓｘ’，ｓｙ’）および右側の終端の斜線部分の画素位置情報（ｅｘ’，ｅｙ’）に対して、下記式に示す逆変換演算が施されて、図７（Ａ）に示す逆変換画素位置情報（ｓｘ，ｓｙ）および（ｅｘ，ｅｙ）が取得される。ここで、回転角度θは、反時計回りに取るものとする。
ｓｘ ＝ ｓｘ’ｃｏｓθ ＋ｓｙ’ｓｉｎθ
ｓｙ ＝−ｓｘ’ｓｉｎθ ＋ｓｙ’ｃｏｓθ
ｅｘ ＝ ｅｘ’ｃｏｓθ ＋ｅｙ’ｓｉｎθ
ｅｙ ＝−ｅｘ’ｓｉｎθ ＋ｅｙ’ｃｏｓθ
【００６０】
なお、本実施形態においては、入力画像データを時計周りに回転させた変形済画像データを取得するために、逆変換演算として反時計周りの回転を示す演算を行うようにしたが、逆変換演算としてはこれに限らず、変形の方法に応じてその変形の逆を示す演算を適宜選択するようにすればよい。例えば、入力画像データを所定の拡大率で拡大した変形済画像データを取得するためには、上記拡大率に対応した縮小率の縮小演算を逆変換演算とすればよい。具体的には、たとえば、入力画像データを２倍に拡大する場合には、同じベクトル情報に属する画素位置情報同士の距離が１/２になるような縮小演算を逆変換演算として採用するようにすればよい。逆に、入力画像データを所定の縮小率で縮小した変形済画像データを取得するためには、上記縮小率に対応した拡大率の拡大演算を逆変換演算とすればよい。また、たとえば、入力画像データの所定の部分の画素データを所定の方向にシフトさせて変形済画像データを取得するためには、画素位置情報を上記所定の方向とは逆の方向にシフトさせる演算を逆変換演算とすればよい。
【００６１】
そして、図７（Ｂ）の斜線部分の画素位置情報に対応する逆変換画素位置情報が取得され、その取得された逆変換画素位置情報は入力ベクトル情報設定部７８に出力される。そして、入力ベクトル情報設定部７８において、図７（Ａ）に示すように、入力画像データ上における入力ベクトル情報Ｖ２が設定される。具体的には、変形後ベクトル情報が表わす変形後ベクトルの両端に配置する画素位置情報に対応する逆変換画素位置情報が直線により結ばれ、図７（Ａ）に示すような入力ベクトル情報Ｖ２が取得される。なお、本実施形態においては、図７（Ａ）に示すように逆変換画素位置情報を直線で結んで入力ベクトル情報Ｖ２を設定するようにしたが、これに限らず、たとえば、直線ではなくスプライン等の曲線で結んで入力ベクトル情報Ｖ２を設定するようにしてもよい。
【００６２】
そして、その入力ベクトル情報Ｖ２は入力画素データ取得部８０に出力される。そして、入力画素データ取得部８０は、入力された入力ベクトル情報Ｖ２が表わす入力ベクトル上における入力画素データｄを入力画像データから取得する。具体的には、入力画素データ取得部８０は、入力された入力ベクトル情報に基づいて、入力画像データにおけるＭ行目のＮ番目からＬ番目の画素データをどのようなピッチで読み出すかを示す読出情報を設定し、その読出情報に基づいて、入力画像データ部８２に記憶された入力画像データの入力画素データを読み出す。
図８に図７（Ａ）の一部拡大図を示す。たとえば、原ベクトル情報Ｖ２が図８に示すような原ベクトルを表わすものである場合には、３行目の１番目から３番目の入力画素データｄと、２行目の４番目から１０番目までの入力画素データｄと、１行目の１１番目から１２番目までの入力画素データｄとをそれぞれ１画素ピッチで連続的に読み出す読出情報を設定し、その読出情報に基づいて、図８の斜線部分の入力画素データｄを入力画像データから読み出す。すなわち、図８に示す例では、１２画素からなる１行の変形済画像データを取得する際に、入力画素データｄの読出行（位置）の変更が、３行目の３番目から２行目の４番目へと、２行目の１０番目から１行目の１１番目へとの２箇所において不連続となり、不連続アドレッシングとなる編集箇所が２箇所存在することになる。
なお、逆変換画素位置情報の示す位置が入力画像データの外側であり、上記位置に入力画素データが存在しない場合には、その逆変換画素位置情報の示す位置近傍に位置する入力画素データを、上記逆変換画素位置情報に対応する入力画素データとして読み出すようにすればよい。また、読出情報における読出ピッチは必ずしも１画素ピッチに限らず、たとえば、１つの入力画素データを複数回読み出すようにしてもよいし、入力画素データを間引きして読み出すようにしてもよい。そして、上記入力ベクトル情報に上記のような読出ピッチ成分を含めるようにしてもよい。
【００６３】
また、本実施形態においては、逆変換演算部７６において取得された逆変換画素位置情報に基づいて入力ベクトル情報設定部７８において入力ベクトル情報Ｖ２を設定するようにしたが、必ずしも入力ベクトル情報Ｖ２を設定する必要はなく、たとえば、逆変換画素位置情報を直接入力画素データ取得部８０に入力し、入力画素データ取得部８０において、入力された逆変換画素位置情報に基づいて、入力画像データにおけるＭ行目のＮ番目からＬ番目の画素データをどのようなピッチで読み出すかを示す読出情報を設定し、その読出情報に基づいて、入力画像データ部８２に記憶された入力画像データの入力画素データを読み出すようにしてもよい。
【００６４】
そして、上記のようにして入力画素データ取得部８０により読み出された入力画素データは変形済画像データ取得部８４に出力される。そして、変形済画像データ取得部８４は、上記のようにして入力ベクトル情報Ｖ２に基づいて取得された入力画素データｄを、その入力ベクトル情報Ｖ２に対応する変形後ベクトル情報Ｖ１が示す変形後ベクトル上の画素位置情報の画素データとする。入力ベクトル情報Ｖ２に対応する変形後ベクトル情報Ｖ１とは、所定の入力ベクトル情報Ｖ２の逆変換演算前の変形後ベクトル情報Ｖ１である。
そして、上記のようにして各入力ベクトル情報Ｖ２に対応する各変形後ベクトル情報の各画素位置情報の画素データが取得され、全ての変形後ベクトル情報の全ての画素位置情報の画素データが取得されて変形済画像データが取得される。
【００６５】
上記実施形態の画像変形処理装置７０によれば、取得される変形済画像データの画素データの配置位置を示す画素位置情報を結ぶ変形後ベクトル情報Ｖ１を設定し、その設定した変形後ベクトル情報Ｖ１が表わす変形後ベクトル上における画素位置情報のうちの一部の画素位置情報を取得し、その取得した一部の画素位置情報に対してのみ、上記変形とは逆の変形を示す逆変換演算を施して上記一部の画素位置情報に対応する入力画像データ上における逆変換画素位置情報を取得し、その取得した逆変換画素位置情報を結ぶ、入力画像データ上における入力ベクトル情報Ｖ２を設定し、その設定した入力ベクトル情報Ｖ２が表わす入力ベクトル上における入力画素データｄを入力画像データから取得し、その取得した入力画素データｄを変形後ベクトル上における画素位置情報が示す位置の画素データとして取得して変形済画像データを取得するようにしたので、変形済画像データにおける一部の画素位置情報にのみ逆変換演算を施せばよく、従来のように全ての画素位置情報に逆変換演算を施した場合と比較するとより高速に変形済画像データを取得することができる。
【００６６】
なお、上記のように入力画像データを回転させて変形する場合、その回転角度が小さい方がより入力画像データに忠実な回転変形を行うことができ、特に、１度〜２度程度回転させる場合には、入力画像データにより忠実な回転変形を行うことができる。すなわち、回転変形処理の場合、その回転角度が小さければ小さいほど、１つの行において連続的に入力画像データを読み出す画素数が多くなるので、１行分の変形済画像データを取得するために、入力画像データの読出行の切換回数、すなわち、不連続アドレッシングとなる編集箇所を少なくすることができ、回転角度が大きい場合に比べ、より高速に変形済画像データを取得することができる。ここで、入力画像データが圧縮画像データの場合には、編集箇所が少ないほど、データの解凍および圧縮の回数も少なくすることができるので、高速化の効果は大きい。
【００６７】
なお、上記実施形態においては入力画像データを回転させて変形する場合について説明したが、上述したように回転に加えて、変倍も同時に行う場合には、図７（Ａ）に示す画像と図７（Ｂ）に示す画像との間に変倍変形処理が成されているとすると、回転角度をθ（時計回り）、Ｘ方向の変倍率をｍｘ、Ｙ方向の変倍率をｍｙとするとき、図７（Ｂ）に示す両端の斜線部分の画素位置情報（ｓｘ’，ｓｙ’）、（ｅｘ’，ｅｙ’）に対して、下記式に示す逆変換演算が施されて逆変換画素位置情報（ｓｘ，ｓｙ）、（ｅｘ，ｅｙ）が取得される。
ｓｘ ＝ （ｓｘ’ｃｏｓθ ＋ｓｙ’ｓｉｎθ）／ｍｘ
ｓｙ ＝（−ｓｘ’ｓｉｎθ ＋ｓｙ’ｃｏｓθ）／ｍｙ
ｅｘ ＝ （ｅｘ’ｃｏｓθ ＋ｅｙ’ｓｉｎθ）／ｍｘ
ｅｙ ＝（−ｅｘ’ｓｉｎθ ＋ｅｙ’ｃｏｓθ）／ｍｙ
Ｙ方向の変倍では、Ｙ方向の画素数の過不足、すなわち、ライン（行）数（ベクトル情報Ｖ２の数）の過不足は、（ｅｙ’−ｓｙ’−ｅｙ＋ｓｙ）画素（ライン）となるので、この過不足ライン数に応じて、読出ライン（ベクトル情報Ｖ２）を増減すればよい。
また、Ｘ方向の変倍では、Ｘ方向の画素数の過不足は、（ｅｘ’−ｓｘ’−ｅｘ＋ｓｘ）画素となるので、この過不足画素数に応じて、読出画素を増減すればよい。
例えば、図７（Ａ）から図７（Ｂ）への変形変換において得られた１ラインが図９（Ａ）に示される１３画素の並びであり、Ｘ方向の過不足画素数が２画素であるとすると、図９（Ａ）に示すように、５画素目毎に、すなわち５画素目と６画素目との間および１０画素目と１１画素目との間の挿入箇所に、挿入指定箇所のデータ、ここでは、５画素目および１０画素目のデータを複製して導入する。こうして、図９（Ｂ）に示すようなＸ方向に変倍されて、処理が完了した１ラインを得ることができる。図９（Ｂ）に示す１ラインにおいて、斜線で塗りつぶされている箇所が挿入された画素を示す。
【００６８】
また、上述した実施形態のように、回転および変倍に限らず、自由変形する場合に本発明の画像変形処理方法を採用するようにしてもよい。図１０に自由変形の一例を示す。
図１０（Ａ）に示すような入力画像データを自由変形して図１０（Ｂ）に示すような変形済画像データを得る場合には、たとえば、変形後ベクトル情報設定部７２において、図１０（Ｂ）に示す斜線分部の画素位置情報をそれぞれ水平な直線で結んだ変形後ベクトル情報Ｖ１を設定する。そして、画素位置情報取得部７４において、上記変形後ベクトル情報が表わす変形後ベクトル上における画素位置情報のうちの、図１０（Ｂ）に示す斜線部分の画素位置情報を取得し、逆変換演算部７６において、上記一部の画素位置情報にのみ逆変換演算を施して、図１０（Ｂ）の斜線部分の画素位置情報に対応する逆変換画素位置情報を取得する。
【００６９】
そして、上記のようにして取得された逆変換画素位置情報は入力ベクトル情報設定部７８に出力され、入力ベクトル情報設定部７８において、図１０（Ａ）に示すように、入力画像データ上における入力ベクトル情報Ｖ２が設定される。具体的には、変形後ベクトル情報が表わす変形後ベクトル上に配置する４つの画素位置情報に対応する逆変換画素位置情報が直線により結ばれ、図１０（Ａ）に示すような入力ベクトル情報Ｖ２が取得される。そして、入力画素データ取得部８０において、入力された入力ベクトル情報Ｖ２が表わす入力ベクトル上における入力画素データｄを入力画像データから取得する。そして、上記のようにして入力画素データ取得部８０により読み出された入力画素データは変形済画像データ取得部８４に出力される。そして、変形済画像データ取得部８４は、上記のようにして入力ベクトル情報Ｖ２に基づいて取得された入力画素データｄを、その入力ベクトル情報Ｖ２に対応する変形後ベクトル情報Ｖ１が示す変形後ベクトル上の画素位置情報の画素データとする。そして、上記のようにして各入力ベクトル情報Ｖ２に対応する各変形後ベクトル情報の各画素位置情報の画素データが取得され、全ての変形後ベクトル情報の全ての画素位置情報の画素データが取得されて変形済画像データが取得される。
【００７０】
次に、本発明の露光装置１０およびその描画点データ作成装置１１の作用について図面を参照しながら説明する。
まず、図５に示す露光装置１０の描画点データ作成装置１１のデータ入力装置４２において、予め、オフラインで行われるデータ入力処理について説明する。図１１は、図５に示す描画点データ取得装置のデータ入力装置におけるオフラインデータ入力処理のフローの一例を示すフローチャートである。
始めに、データ作成装置４０において、基板１２に露光すべき配線パターンを表すベクトルデータが作成される。
そして、ステップＳ１００において、作成されたベクトルデータは、データ作成装置４０からデータ入力装置４２のベクタ・ラスタ変換部５４に入力される。
データ作成装置４０から入力されたベクトルデータは、ベクタ・ラスタ変換部５４においてラスターデータに変換されて、回転・変倍部５６に出力される（ステップＳ１０２）。
【００７１】
回転・変倍部５６においては、処理条件パラメータとして基板１２の回転角度および変倍率をそれぞれ所定角度および所定変倍率に設定する（ステップＳ１０４およびＳ１０６）。
ここで、例えば、図１１では、回転角度は、−１．０°から１．０°まで、０．５°刻みで５段階に変化させ、変倍率は、０．９から１．１まで、０．０５刻みで５段階に変化させる。なお、処理条件パラメータとして設定される回転角度および変倍率は、これらに限定されず、基板１２および基板に形成されるパターンに応じて、適宜、上下限値、変化させる間隔を設定すれば良い。
まず、回転角度を−１．０°に、変倍率を０．９に設定して（ステップＳ１０４およびＳ１０６）、回転・変倍部５６において画像（入力画像データ）の回転・変倍処理を行い（ステップＳ１０８）、この画像の１組の変形済画像データを取得する。ここで、画像（入力画像データ）の回転・変倍処理は、例えば、上述した図６に示す画像変形処理装置７０で行うことができ、入力画像データから変形済画像データを取得することができる。なお、回転・変倍部５６で行う画像変形処理装置７０による画像の回転・変倍処理における変形済画像データの取得方法については後述する。
こうして取得された１組の変形済画像データは、回転角度−１．０°および変倍率０．９という処理条件と共に、露光データ作成部４６のメモリ部５８に出力され、記憶される（ステップＳ１１０）。
【００７２】
この後、ステップＳ１１２では、変化させるべき変倍率パラメータが残っている場合には、変倍率の設定を変えるために、ステップＳ１１２と共に変倍ループを形成するステップＳ１０６に戻り、この場合は、変倍率の設定を０．９から０．９５に変えて、再び、ステップＳ１０８の画像の回転・変倍処理およびステップＳ１１０の画像（変形済画像データ）・処理条件の出力を行い、実行すべき変倍率パラメータがなくなるまで、スッテプＳ１０６とステップＳ１１２との間の変倍ループを繰り返す。
ここで、実行すべき変倍率パラメータがなくなると、例えば、変倍率を１．１に設定しての、画像の回転・変倍処理および画像・処理条件の出力が終了すると、変倍ループを抜け、ステップＳ１１２から次のステップＳ１１４に移り、ステップＳ１１４では、変化させるべき回転角度パラメータが残っている場合には、回転角度の設定を変えるために、ステップＳ１１４と共に回転ループを形成するステップＳ１０４に戻り、この場合は、回転角度の設定を−１．０°から−０．５°に変えて、再び、ステップＳ１０４〜ステップＳ１１２の変倍ループを繰り返し、画像の回転・変倍処理および画像・処理条件の出力を繰り返すことを行い、実行すべき回転角度パラメータがなくなるまで、スッテプＳ１０４とステップＳ１１４との間の回転ループを繰り返す。
その結果、実行すべき回転角度パラメータがなくなると、例えば、回転角度を１．０°に設定しての、画像の回転・変倍処理および画像・処理条件の出力が終了すると、ステップＳ１１４から変倍ループを抜け、オフラインによるデータ入力処理を終了する。
こうして、この例では、５段階の回転角度と５段階の変倍率との合計２５種類の処理条件の組み合わせに対応する２５組の変形済画像データがメモリ５８に記憶される。
【００７３】
次に、回転・変倍部５６で行われる図１１のステップＳ１０８の画像の回転・変倍処理について、図６に示す画像変形処理装置７０を用いて変形済画像データを取得する場合を代表例に挙げて説明する。なお、図６に示す画像変形処理装置７０の作用については前述しているので、その詳細は省略する。
図１２は、図６に示す画像変形処理装置７０における回転・変倍処理のフローの一例を示すフローチャートである。なお、このフローは、回転・変倍部６２で行われる後述する図１３のステップ１５０の画像の回転・変倍処理に適用可能なことはもちろんである。
上述したように、図１１に示すデータ入力処理のスッテプＳ１０４およびＳ１０６において設定された回転角度および変倍率を含む処理条件が入力され（スッテプＳ１２０）、
入力画像データ（ラスターデータ）が入力され（スッテプＳ１２２）、入力画像データ記憶部８２に記憶される。
こうして入力された回転角度および変倍率に基づいて、変形後ベクトル情報設定部７２において、図７（Ｂ）に示すように、取得される変形済画像データ（ラスターデータ）の表す出力画像（変形後）の左端（開始点）の画素位置情報と右端（終点）の画素位置情報とをそれぞれ水平な直線で結んだ変形後ベクトル情報Ｖ１が、出力画像上に所要ライン（ライン番号：１、２、３、…、Ｎ）だけ設定される。そして、まず、ライン番号１のラインに設定する（スッテプＳ１２４）。
【００７４】
次に、出力画像上の第１ラインの開始点と終点の座標を、図７（Ａ）に示す入力画像データの表す入力画像（変形前）上に座標変換することにより、回転および縦（Ｙ）方向の変倍を行う（ステップＳ１２６）。具体的には、画素位置情報取得部７４において、上記変形後ベクトル情報Ｖ１が表わす変形後ベクトル上における画素位置情報のうちの、上記両端の画素位置情報を取得し、逆変換演算部７６において上記両端の画素位置情報にのみ逆変換演算を施し、上記両端の画素位置情報に対応する逆変換画素位置情報を取得する。逆変換演算については、回転行列を用いた上式による逆変換演算と同様である。
そして、上記のようにして取得された逆変換画素位置情報は入力ベクトル情報設定部７８に出力され、入力ベクトル情報設定部７８において、図７（Ａ）に示すように、入力画像データ上における入力ベクトル情報Ｖ２が設定される。具体的には、変形後ベクトル情報が表わす変形後ベクトル上に配置する両端の画素位置情報に対応する逆変換画素位置情報が直線により結ばれ、図７（Ａ）に示すような入力ベクトル情報Ｖ２が取得される。
【００７５】
入力ベクトル情報設定部７８では、こうして取得された入力ベクトル情報Ｖ２が入力画像上の水平な画素ライン（水平に配列される画素の行）を横切る位置が複数ラインに亘って求められる。すなわち、入力画像上の複数ラインに亘って、各ラインの切り出し位置、図８に示す例では、２行目の画素４、１行目の画素１１の位置を算出する（ステップＳ１２８）。
そして、入力画素データ取得部８０において、入力された入力ベクトル情報Ｖ２が表わす入力ベクトル上における入力画素データを各ラインから切り出して読み出し、順次繋げて、出力画像データの第１ラインを生成する（ステップＳ１３０）。
次に、Ｘ方向の変倍条件に従って、入力ベクトル情報Ｖ２および変形後ベクトル情報Ｖ１から、上述したように、過不足画素数を算出し、過不足画素が存在する場合には、それに応じて画素を加減する（ステップＳ１３２）。こうして、出力画像データとして変形済画像データの第１ラインが取得される。このようにして入力画素データ取得部８０により読み出された入力画素データは変形済画像データ取得部８４に出力される。そして、変形済画像データ取得部８４は、上記のようにして入力ベクトル情報Ｖ２に基づいて取得された入力画素データを、その入力ベクトル情報Ｖ２に対応する変形後ベクトル情報Ｖ１が示す変形後ベクトル上の第１ラインの画素位置情報の画素データとする。
【００７６】
この後、ステップＳ１３４では、取得すべき出力画像上の変形後ベクトル情報Ｖ１が表す処理ラインが残っている場合には、ライン番号の設定を変えるために、ステップＳ１３４と共にライン処理ループを形成するステップＳ１２４に戻り、この場合は、処理ラインの設定を１から２に変えて、再び、ステップＳ１２６からステップＳ１３２までの画像の回転・変倍処理を行って、実行すべき処理ラインがなくなるまで、すなわち、処理ラインがＮになるまで、スッテプＳ１２４とステップＳ１３４との間のライン処理ループを繰り返す。こうして、出力画像上の各ラインの変形済画素データを取得する。
その結果、実行すべき処理ラインがなくなると、例えば、処理ラインをＮに設定しての、画像の回転・変倍処理が終了すると、ステップＳ１３４からライン処理ループを抜け、画像の回転・変倍処理処理を終了する。
こうして、各入力ベクトル情報Ｖ２に対応する各変形後ベクトル情報の各画素位置情報の画素データが取得され、全ての変形後ベクトル情報の全ての画素位置情報の画素データが取得されて１組の変形済画像データが取得される。
【００７７】
このようにして取得された１組の変形済画像データは、データ入力処理部４２の回転・変倍部５６から露光データ作成部４６のメモリ部５８に出力され、記憶される。
ここでは、図１２に示す画像の回転・変倍処理を、データ入力処理部４２の回転・変倍部５６で実行する処理として説明したが、上述したように、図６に示す画像変形処理装置は、露光データ作成部４６の回転・変倍部６２に適用可能であり、処理条件が回転角度および変倍率の各差分であり、入力画像データが選択された変形済画像データである点を除けば、全く同一であるので、図１２に示す画像の回転・変倍処理を回転・変倍部６２において実行することができることは明らかである。したがって、回転・変倍部６２において実行する図１２に示す画像の回転・変倍処理の説明は省略する。
【００７８】
次に、本発明の露光装置１０において行われる露光処理について説明する。
図１３は、露光装置１０におけるオンライン露光処理のフローの一例を示すフローチャートである。
このオンライン露光処理においては、始めに、データ作成装置４０において、基板１２に露光すべき配線パターンを表すベクトルデータが作成され、、描画点データ作成装置１１のデータ入力装置４２のベクタ・ラスタ変換部５４に入力され、ベクタ・ラスタ変換部５４においてラスターデータ（原画像データ）に変換されて、回転・変倍部５６に出力され、複数の処理条件（回転角度、変倍率の組み合わせ）に対して予め複数組の変形済画像データが取得され、露光データ作成部４６のメモリ部５８に記憶されているものとする。
【００７９】
一方、上記のようにしてベクトルデータがベクタ・ラスタ変換部５４に入力されると、露光装置１０全体の動作を制御するコントローラ５２がステージ移動機構５０に制御信号を出力し、移動機構５０は、その制御信号に応じて移動ステージ１４を図１に示す位置からガイド２０に沿って一旦上流側の所定の初期位置まで移動させた後に停止させ、移動ステージ１４上に基板の受け入れを行い、移動ステージ１４上に基板を固定する（ステップＳ１４０）。
次に、このように移動ステージ１４上に基板が固定されると、露光装置１０全体の動作を制御するコントローラ７０が移動機構６０に制御信号を出力し、移動機構６０は、上流側の所定の初期位置から、下流側に向けて所望の速度で移動させる。なお、上記上流側とは、図１における右側、つまりゲート２２に対してスキャナ２４が設置されている側のことであり、上記下流側とは、図１における左側、つまりゲート２２に対してカメラ２６が設置されている側のことである。
【００８０】
そして、上記のようにして移動する移動ステージ１４上の基板１２が複数のカメラ２６の下を通過する際、基板変形測定部４４によるアラインメント測定が行われる。すなわち、これらのカメラ２６により基板１２が撮影され、その撮影画像を表す撮影画像データが基板変形測定部４４の基板変形算出部６６に入力される。基板変形測定部４４（基板変形算出部６６）は、入力された撮影画像データに基づいて基板１２の先後端および基板１２の基準マーク１２ａの位置を示す検出位置情報を取得し、先後端の位置および基準マーク１２ａの位置の検出位置情報から基板の変形量、すなわち、基板変形の回転角度および変倍率を算出する（ステップＳ１４２）。
なお、先後端および基準マーク１２ａの検出位置情報の取得方法については、たとえば、線状のエッジ画像や円形状の画像を抽出することにより取得するようにすればよいが、他の如何なる既知の取得方法を採用してもよい。また、上記先後端および基準マーク１２ａの検出位置情報は、具体的には座標値として取得されるが、その座標値の原点は、たとえば、基板１２の撮影画像データの４つの角のうちの１つの角のみとしてもよいし、撮影画像データにおける予め設定された所定の位置でもよいし、複数の基準マーク１２ａのうちの１つの基準マーク１２ａの位置としてもよい。また、回転角度および変倍率等の変形量の算出方法についても、先端または後端と基準マーク１２ａとの間や、複数の基準マーク１２ａ間の間隔を計測して、あるいは算出して、既知の標準値と比較するなど従来公知の算出方法を用いることができる。
【００８１】
このようにして、基板変形測定部４４で測定・算出された回転角度および変倍率等の基板の変形量は、露光データ作成部４６の画像選択部６０に出力される。
画像選択部６０においては、基板変形測定部４４から出力された回転角度および変倍率等の基板の変形量を受け付け、露光スキャナ２４の露光ヘッド３０で露光するための露光データを作成するために用いる原画像データの画像処理条件として、原画像データを回転・変倍するための回転角度および変倍率が算出される（ステップＳ１４４）。すなわち、図４に示すように、露光ヘッド３０のＤＭＤ３６（マイクロミラー３８の配列）が走査方向に対して傾斜している場合には、この傾斜角度も回転角度として加える必要がある。なお、回転角度および変倍率等の画像処理条件は、基板変形測定部４４の基板変形算出部６６で算出しておいても良い。
次に、画像選択部６０では、メモリ部５８に画像処理条件と共に記憶されている複数組の変形済画像データの中から画像処理条件として算出された回転角度および変倍率に最も近い回転角度および変倍率を持つ１組の変形済画像データが選択される（ステップＳ１４６）。なお、画像選択部６０による１組の変形済画像データの選択は、例えば、画像処理条件をキーとしてメモリ部５８内を検索することにより行うことができる。
さらに、画像選択部６０では、選択された１組の変形済画像データの持つ画像処理条件と、実際に露光される基板１２から測定された画像処理条件との差分処理条件、具体的には、両者についての回転角度および変倍率の各差分が算出される（ステップＳ１４８）。
【００８２】
次に、画像選択部６０から、算出された差分処理条件（回転角度および変倍率の各差分）が、回転・変倍部６２に出力される。一方、メモリ部５８から、画像選択部６０によって選択された１組の変形済画像データも、回転・変倍部６２に出力される。
回転・変倍部６２では、画像選択部６０から出力された差分処理条件（回転角度および変倍率の各差分）およびメモリ部５８から出力された１組の変形済画像データを用いて、画像の回転・変倍処理を行う。
具体的には、回転・変倍部６２では、差分処理条件、すなわち差分回転角度および差分変倍率を処理条件とし、選択された１組の変形済画像データを入力画像データとして、図６に示す画像変形処理装置７０において、図１２に示す画像の回転・変倍処理を行い、変形済画像データを取得し、描画点データ、例えば、露光ヘッド３０のＤＭＤ３６の各マイクロミラー３８に対応する画素データ（ミラーデータ）とすることができる。
【００８３】
このように、回転・変倍部６２で行われる画像の回転・変倍処理では、回転角度や変倍率が最も近いものとの差分であるために、必要とされる回転・変倍処理の回転角度や変倍率を小さく、類似度が高ければ極めて小さくできるので、図１２に示すステップＳ１２８での入力画像上の複数ラインの各々での切り出し位置を少なくする、切り出し位置のあるライン数を少なくすることができるので、入力画像データから画素データを連続的に読み出すことができる１ラインの画素数を多くすることができ、不連続アドレッシングを汚ｋなう必要のある編集箇所を減らすことができる。したがって、入力画像データが圧縮画像データであっても、解凍および圧縮の回数を減らすことができるので、処理の高速化を図ることができる。
また、ここでは、画像変形処理装置７０での図１２に示す画像の回転・変倍処理を行うことにより、入力画像の両端の画素の座標のみを座標変換すれば良いので、従来技術のダイレクトマッピングに比べて、変換処理を高速化することができる。
【００８４】
こうして、ステップＳ１５０の画像の回転・変倍処理で得られた描画点データ（例えば、ミラーデータ）は、回転・変倍部６２からフレームデータ作成部６４に出力される。
フレームデータ作成部６４では、描画点データ（例えば、ミラーデータ）から、露光時に、露光ヘッド３０のＤＭＤ３６の各マイクロミラー３８に与える露光データの集合であるフレームデータが作成される。
こうしてフレームデータ作成部６４で作成されたフレームデータは、露光部４８の露光ヘッド制御部６８に出力される。
一方、移動ステージ１４が、再び上流側に所望の速度で移動させられる。
【００８５】
そして、基板１２の先端がカメラ２６により検出されると（または、センサによって検出されたステージ１４の位置から基板１２の描画領域の位置が特定されると）、露光が開始される。具体的には、露光ヘッド制御部６８から各露光ヘッド３０のＤＭＤ３６に上記フレームデータに基づいた制御信号が出力され、露光ヘッド３０は、入力された制御信号に基づいてＤＭＤ３６のマイクロミラーをオン・オフさせて基板１２を露光する（ステップＳ１５２）。
なお、露光ヘッド制御部６８から各露光ヘッド３０へ制御信号が出力される際には、基板１２に対する各露光ヘッド３０の各位置に対応した制御信号が、移動ステージ１４の移動にともなって順次露光ヘッド制御部６８から各露光ヘッド３０に出力される。
そして、移動ステージ１４の移動にともなって順次各露光ヘッド３０に制御信号が出力されて露光が行われ、基板１２の後端がカメラ１２により検出されると露光が終了する。
露光スキャナ２４の各露光ヘッド３０により基板１２の全面に露光されると、ステージ１４は、上流側に移動して初期位置に戻されて停止すると、露光済の基板１２がステージ１４から排出される（ステップＳ１５４）。
こうして、次に露光すべき基板１２があれば、露光装置１０による露光処理がステップＳ１４０からＳ１５４まで繰り返され、次に露光すべき基板１２がない場合には、露光装置１０による露光処理は終了する。
【００８６】
上記実施形態では、露光装置１０の描画点データ取得装置１１の回転・変倍部５６および６２に、図６に示す画像変形処理装置７０を用いているが、上述したように、図１４に示す露光点データ取得装置９０を用いても良い。
図１４に示す露光点データ取得装置９０は、本発明者が、本出願人による特願２００５−１０３７８７号の国内優先権主張出願である本出願人による特許出願（発明の名称「描画点データ取得方法および装置並びに描画方法および装置」（識別番号第１０００７３１８４号の筆頭代理人による整理番号「Ｐ５０５４８ＪＫ」））明細書に提案しているビーム追跡法と呼ぶ描画点データ軌跡を用いる描画点データ取得装置の一実施例である。
図１４は、本発明の描画点データ取得方法を実施する描画点データ取得装置に適用される露光点データ取得装置の一実施形態のブロック図である。
【００８７】
図１４に示す露光点データ取得装置９０は、回転・変倍部５２および６２に、好ましくは、回転・変倍部６２に用いられる装置であって、カメラ２６により撮影された基準マーク１２ａの画像に基づいて基準マーク１２ａの検出位置情報を取得する検出位置情報取得部９２と、検出位置情報取得部９２により取得された検出位置情報に基づいて、実際の露光の際における基板１２上の画像空間上の露光ヘッド３０のＤＭＤ３６の各マイクロミラー３８の露光軌跡の情報を取得する露光軌跡情報取得部９４と、露光軌跡情報取得部５４により取得された各マイクロミラー３８毎の露光軌跡情報と入力画像データ（ラスターデータ）に基づいて、各マイクロミラー３８毎の露光点データ（描画点データ）を取得する露光点データ取得部９６とを備える。ここで、入力画像データは、図５に示す露光装置１０のデータ入力処理部４２の回転・変倍部５２に適用される場合には、ベクタ・ラスタ変換部５４から出力されたラスターデータ（原画像データ）であり、露光データ作成部４６の回転・変倍部６２に適用される場合には、画像選択部６０によって選択され、メモリ部５８から出力された仮の変形済画像データである。
ここで、検出位置情報取得部５２は、カメラ２６から基準マーク１２ａの検出位置情報を取得するものであるので、露光点データ取得装置９０を回転・変倍部６２に適用する場合には、図５に示す基板変形測定部４４の基板変形算出部６６と兼用し、基準マーク１２ａの検出位置情報を露光データ作成部４６の画像選択部６０を介して回転・変倍部６２に入力するように構成すれば、特に、設けなくとも良い。
【００８８】
次に、露光点データ取得装置９０の作用について説明する。
以下では、露光点データ取得装置９０を回転・変倍部６２に適用する場合について説明するが、上述したように、回転・変倍部５２に適用可能なことは言うまでもない。
ところで、露光点データ取得装置９０は、単独で、露光点データを取得するものではなく、露光装置１０によって露光ヘッド３０のＤＭＤ３６の各マイクロミラー３８の露光軌跡を取得することにより、露光点データを取得できるものであるので、図１および図５に示す露光装置１０の作用も含めて説明する。
なお、以下では、説明の容易さのために、後述する図１６および図１７に示すように、基板１２に、単に、回転変形のみが生じているものとして説明するが、露光点データ取得装置９０を用いて行うビーム追跡法は、拡縮などの変倍、歪みなどの自由変形、移動ステージ１４のステージ移動方向と直交する方向へのずれ、基板１２の移動の速度変動、基板１２の蛇行やヨーイングなどに対してより効果的であるものである。
【００８９】
まず、図５に示す露光装置１０の露光データ作成部４６の画像選択部６０で選択された仮の変形済画像データが、メモリ部５８から、図１４に示す露光点データ取得装置９０の露光点データ取得部５６に出力され、入力画像データとして、露光点データ取得部５６によって一時記憶される。
一方、図１に示す露光装置１０においては、その全体の動作を制御するコントローラ７０が移動機構６０に制御信号を出力し、移動機構６０は、その制御信号に応じて移動ステージ１４を図１に示す位置からガイド２０に沿って一旦上流側の所定の初期位置まで移動させた後、下流側に向けて所望の速度で移動させる。
そして、上記のようにして移動する移動ステージ１４上の基板１２が複数のカメラ２６の下を通過する際、これらのカメラ２６により基板１２が撮影され、その撮影画像を表す撮影画像データが検出位置情報取得部５２に入力される。検出位置情報取得部５２は、入力された撮影画像データに基づいて基板１２の基準マーク１２ａの位置を示す検出位置情報を取得する。本実施形態においては、カメラ２６と検出位置情報取得部５２とにより位置情報検出部が構成されている。
そして、このようにして取得された基準マーク１２ａの検出位置情報は、検出位置情報取得部５２から露光軌跡情報取得部５４に出力される。
【００９０】
そして、露光軌跡情報取得部５４において、入力された検出位置情報に基づいて、実際の露光の際における基板１２上の画像空間上の各マイクロミラー３８毎の露光軌跡の情報が取得される。具体的には、露光軌跡情報取得部５４には、各露光ヘッド３０のＤＭＤ３６の各マイクロミラー３８の像が通過する位置を示す通過位置情報が各マイクロミラー３８毎に予め設定されている。上記通過位置情報は、移動ステージ１４上の基板１２の設置位置に対する、各露光ヘッド３０の設置位置によって予め設定されているものであり、上記基準マーク位置情報および上記検出位置情報と同じ点を原点として、ベクトルまたは複数点の座標値で表わされるものである。図１５に、プレスエ程などを経ていない理想的な形状の基板１２、つまり、歪や変倍などの変形が生じておらず、また、基板１２自体の回転がなく、基準マーク１２ａが予め設定された基準マーク位置情報１２ｂの示す位置に配置している基板１２と、所定のマイクロミラー３８の通過位置情報１２ｃとの関係を示す模式図を示す。
【００９１】
そして、露光軌跡情報取得部５４においては、図１６に示すように、走査方向に直交する方向について隣接する検出位置情報１２ｄを結ぶ直線と各マイクロミラー３８の通過位置情報１２ｃを表わす直線との交点の座標値が求められる。つまり、図１６における×印の点の座標値が求められ、さらに、×印とその×印に上記直交する方向に隣接する各検出位置情報１２ｄとの距離が求められ、上記隣接する検出位置情報１２ｄのうちの一方の検出位置情報１２ｄと×印との距離と、他方の検出位置情報１２ｄと×印との距離との比が求められる。具体的には、図１６におけるａ１：ｂ１、ａ２：ｂ２、ａ３：ｂ３およびａ４：ｂ４が露光軌跡情報として求められる。このようにして求められた比が、回転変形後の基板１２上におけるマイクロミラー３８の露光軌跡を表わしていることになる。ここで、各基準マーク位置情報１２ｂを、下層のパターンの位置を示すものとして捉えた場合、求められた露光軌跡は、実際の露光の際の基板１２上の画像空間上におけるビームの露光軌跡を表わしていることになる。なお、たとえば、通過位置情報１２ｃが、検出位置情報１２ｄで囲まれる範囲外に位置する場合にも、検出位置情報１２ｄと×印との外比が求められる。
なお、回転・変倍部６２に適用する場合には、露光軌跡情報取得部５４においては、カメラ２６の撮影画像データから取得された基準マーク１２ａの検出位置情報をそのまま用いるのではなく、入力画像データである仮の変形済画像データの持つ回転角度（および変倍率）などの変形量を除いた差分、すなわち差分処理条件を用いて、基準マーク１２ａの検出位置情報１２ｄとする必要がある。こうして求められた基準マーク１２ａの検出位置情報１２ｄから求められた基板１２の変形状態が図１６に示されているものとする。
【００９２】
そして、上記のようにして各マイクロミラー３８毎に求められた露光軌跡情報が、露光点データ取得部５６に入力される。
露光点データ取得部５６には、上述したようにラスターデータである入力画像データが一時記憶されている。露光点データ取得部５６は、上記のようにして入力された露光軌跡情報に基づいて、入力画像データから各マイクロミラー３８毎の露光点データを取得する。
具体的には、露光点データ取得部５６に記憶される入力画像データには、図１７に示すように、上記基準マーク位置情報１２ｄが示す位置に対応した位置に配置された入力画像データ基準位置情報１２ｅが付されており、走査方向に直交する方向に隣接する入力画像データ基準位置情報１２ｅを結ぶ直線を、露光軌跡情報の示す比に基づいて分割した点の座標値が求められる。つまり、以下の式を満たすような点の座標値が求められる。なお、図１７には図示されていないが、図１７の各画素は、露光すべき配線パターンを示す画素となっている。
【００９３】
ａ１：ｂ１＝Ａ１：Ｂ１
ａ２：ｂ２＝Ａ２：Ｂ２
ａ３：ｂ３＝Ａ３：Ｂ３
ａ４：ｂ４＝Ａ４：Ｂ４
そして、上記のようにして求められた点を結ぶ線（データ読み出し軌跡またはデータ軌跡）上にある画素データｄが、実際にマイクロミラー３８の露光軌跡情報に対応した露光点データである。したがって、入力画像データ上を上記直線が通過する点の画素データｄが露光点データとして取得される。なお、画素データｄとは入力画像データを構成する最小単位のデータである。図１７の右上の範囲を抽出した拡大図を図１８に示す。具体的には、図１８のハッチングされた部分の画素データが露光点画像データとして取得される。なお、露光軌跡情報の示す比に基づいて分割した点を結んだ直線が、入力画像データ上に存在しない場合には、その直線上の露光点データは０として取得される。
【００９４】
なお、上記のように露光軌跡情報の示す比に基づいて分割した点を直線で結び、その直線上にある画素データを露光点データとして取得するようにしてもよいし、上記点をスプライン補間などによって曲線で結び、その曲線上にある画素データを露光点データとして取得するようにしてもよい。上記のようにスプライン補間などによって曲線で結ぶようにすれば、より基板１２の変形に忠実な露光点データを取得することができる。また、上記スプライン補間などの演算方法に基板１２の材質の特性（たとえば、特定の方向にしか伸縮しないなど）を反映するようにすれば、さらに、より基板１２の変形に忠実な露光点データを取得することができる。
【００９５】
そして、上記と同様にして、各マイクロミラー３８毎について複数の露光点データがそれぞれ取得される。こうして、露光点データ取得装置９０では、各露光ヘッド３０のＤＭＤ３６の複数のマイクロミラー３８についての露光点データが基板１２を露光するのに必要となる量、取得される。すなわち、回転・変倍部６２では、こうして、露光点データ取得装置９０によって、露光点データ（ミラーデータ）をより高速に取得することができる。
こうして、回転・変倍部６２で得られた描画点（露光点）データ（例えば、ミラーデータ）は、回転・変倍部６２からフレームデータ作成部６４に出力され、例えば、後述するように、行列の転置変換を行うことにより、露光時に、露光ヘッド３０のＤＭＤ３６の各マイクロミラー３８に与える露光データの集合であるフレームデータに変換される。
こうしてフレームデータ作成部６４で作成されたフレームデータは、前述したように、露光部４８の露光ヘッド制御部６８に出力され、露光ヘッド３０による基板１２の露光が行われる。
【００９６】
なお、前述したように、露光ヘッド制御部６８から各露光ヘッド３０へ制御信号が出力される際には、基板１２に対する各露光ヘッド３０の各位置に対応した制御信号が、移動ステージ１４の移動にともなって順次露光ヘッド制御部６８から各露光ヘッド３０に出力されるが、このとき、たとえば、図１９に示すように、各マイクロミラー３８毎に取得されたｍ個の露光点データの列の各列から、各露光ヘッド３０の各位置に応じた露光点データを１つずつ順次読み出して各露光ヘッド３０のＤＭＤ３６に出力するようにしてもよいし、図１９に示すように取得された露光点データに９０度回転処理もしくは行列を用いた転置変換などを施し、図２０に示すように、基板１２に対する各露光ヘッド３０の各位置に応じたフレームデータ１〜ｍを生成し、このフレームデータ１〜ｍを各露光ヘッド３０に順次出力するようにしてもよい。
【００９７】
上述したように、露光点データ取得装置９０を回転・変倍部５２に適用する場合には、露光軌跡情報取得部５４においては、カメラ２６の撮影画像データから取得された基準マーク１２ａの検出位置情報として、入力画像データの処理条件である回転角度および変倍率などの変形量を用いて基準マーク１２ａの検出位置情報１２ｄとする必要がある。
また、上述した例では、入力画像データの処理条件である回転角度および変倍率などの変形量や、差分処理条件などの差分回転角度や差分変倍率などの変形量を用いて、露光点データ取得装置９０で露光点データを求めているが、自由変形などのような場合にも、露光点データ取得装置９０を適用することができるのはいうまでもない。
【００９８】
上記露光点データ取得装置を回転・変倍部５２および６２に用いた露光装置１０によれば、基板１２上の所定位置に予め設けられた複数の基準マーク１２ａを検出してその基準マーク１２ａの位置を示す検出位置情報を取得し、その取得した検出位置情報に基づいて各マイクロミラー３８の露光軌跡情報を取得し、その各マイクロミラー３８毎の露光軌跡情報に対応した画素データｄを露光画像データＤから露光点データとして取得するようにしたので、基板１２の変形に応じた露光点データを取得することができ、基板１２の変形に応じた露光画像を基板１２上に露光することができる。したがって、たとえば、多層プリント配線板などにおける各層のパターンを、その各層の露光時の変形に応じて形成することができるので各層のパターンの位置合わせを行うことができる。
【００９９】
なお、上記説明においては、プレス工程などにおいて変形した基板１２に露光する際の露光点データの取得方法について説明したが、変形してない理想的な形状の基板１２に露光する際についても、上記と同様の方法を採用して露光点データを取得することができる。たとえば、各マイクロミラー３８毎に予め設定された上記通過位置情報に対応する、露光画像データ上における露光点データ軌跡の情報を取得し、その取得した露光点データ軌跡情報に基づいて露光点データ軌跡に対応した複数の露光点データを露光画像データから取得するようにしてもよい。
【０１００】
また、上記のように各マイクロミラー３８毎の通過位置情報に基づいて予め露光点データ軌跡情報を露光画像データ上に設定し、その露光点データ軌跡に基づいて露光点データを取得する方法は、たとえば、何も露光画像が露光されていない基板上に最初に露光画像を露光する場合にも採用することができる。また、基板の変形に応じて露光画像データを変形させた場合にも、この方法を採用することができる。この方法を採用した場合、露光画像データを記憶するメモリのアドレスを露光点データ軌跡に沿って計算して露光点データを取得することができ、そのためアドレスの計算を容易に行うことができる。
【０１０１】
さらに、走査方向について基板１２が伸縮している場合には、その伸縮の程度に応じて、入力画像データにおける１つの画素データｄから取得する露光点データの数を変化させるようにしてもよい。基板１２が走査方向にのみ伸縮した場合に限らず、その他の方向にも基板１２が変形している場合においても、基板１２の検出位置情報１２ｄで区切られた領域毎に、マイクロミラー３８の通過位置情報の長さが異なる場合には、上記と同様にその長さに応じて１つの画素データから取得する露光点データの数を変化させるようにしてもよい。上記のように基板１２の伸縮に応じて露光点データの数を変化させるようにすれば、基板１２上の所望の位置に所望の露光画像を露光することができる。
【０１０２】
なお、上述したように、移動ステージ１４のステージ移動方向と直交する方向へのずれ、または、基板１２の回転・変倍に加え、ずれを補正して露光する場合には、露光点データ取得装置９０において、検出位置情報取得部９２の代わりに、または、検出位置情報取得部９２に加えて、ずれ情報を取得するずれ情報取得部を設け、露光軌跡情報取得部９４において、ずれ情報取得部で取得されたずれ情報に基づいて、実際の露光の際における基板１２上の各マイクロミラー３８の露光軌跡の情報を取得すれば良い。
また、上述したように、基板１２の回転・変倍に加え、基板１２の移動の速度変動も補正して露光する場合には、露光点データ取得装置９０において、検出位置情報取得部９２に加えて、基板１２の移動の速度変動情報を取得する速度変動情報取得部を設け、露光軌跡情報取得部９４において、速度変動情報取得部で取得された速度変動情報に基づいて、実際の露光の際における基板１２上の各マイクロミラー３８の露光軌跡の情報を取得すれば良い。
また、露光点データ取得装置９０において、基板１２のずれ情報を取得するずれ情報取得部と、基板１２の移動の速度変動情報を取得する速度変動情報取得部とを設けるものでは、移動ステージ１４の蛇行を補正できるだけでなく、ヨーイングも考慮した補正、つまり基板の移動姿勢を考慮した補正を行うことができる。
【０１０３】
また、上記実施形態では、空間光変調素子としてＤＭＤを備えた露光装置について説明したが、このような反射型空間光変調素子の他に、透過型空間光変調素子を使用することもできる。
また、上記実施形態では、いわゆるフラッドベッドタイプの露光装置を例に挙げたが、感光材料が巻きつけられるドラムを有する、いわゆるアウタードラムタイプ（またはインナードラムタイプ）の露光装置としてもよい。
また、上記実施形態の露光対象である基板１２は、プリント配線基板だけでなく、フラットパネルディスプレイの基板であってもよい。この場合、パターンは、液晶ディスプレイなどのカラーフィルタ、ブラックマトリックス、ＴＦＴなどの半導体回路などを構成するものであってもよい。また、基板１２の形状は、シート状のものであっても、長尺状のもの（フレキシブル基板など）であってもよい。
【０１０４】
また、本実施形態における描画方法および装置は、インクジェット方式などのプリンタにおける描画にも適用することができる。たとえば、インクの吐出による描画点を、本発明と同様に形成することができる。つまり、本発明における描画点形成領域を、インクジェット方式のプリンタの各ノズルから吐出されたインクが付着する領域として考えることができる。
【０１０５】
また、本実施形態における描画軌跡情報は、実際の基板上における描画点形成領域の描画軌跡を用いて描画軌跡情報としてもよいし、実際の基板上における描画点形成領域の描画軌跡を近似したものを描画軌跡情報としてもよいし、実際の基板上における描画点形成領域の描画軌跡を予測したものを描画軌跡情報としてもよい。
また、本実施形態においては、描画軌跡の距離が長いほど描画点データの数を多くし、距離が短いほど描画点データの数を少なくすることによって、描画軌跡情報によって表わされる距離に応じて画像データを構成する各画素データから取得される描画点データの数を変化させるようにしてもよい。
また、本実施形態における画像空間は、基板上に描画すべきまたは描画された画像を基準とした座標空間であってもよい。
なお、上記のように、本実施形態における描画点形成領域の描画軌跡情報は、基板座標空間における描画軌跡と、画像座標空間における描画軌跡の両方でとらえることができる。また、基板座標と画像座標とが異なる場合がある。
【０１０６】
また、上記実施形態においては、２つ以上のマイクロミラー（ビーム）毎に１つの露光点データ軌跡を取得するようにしてもよい。たとえば、マイクロレンズアレイを構成する１つのマイクロレンズによって集光される複数のビーム毎に露光点データ軌跡を求めることができる。
また、各露光点データ軌跡情報に、データ読み出しピッチ情報を付随させるようにしてもよい。この場合、ピッチ情報にサンプリングレート（描画点データを切り替える最小のビーム移動距離（補正がない場合に全ビーム共通）と画像の解像度（画素ピッチ）との比）が含まれていてもよい。また、露光軌跡の長さ補正に伴う露光点データの加減の情報を、ピッチの情報に含ませるようにすることができる。また、露光点データの加減の情報とともに、加減の位置をピッチ情報に含ませるようにし、露光軌跡に付随させるようにしてもよい。また、各露光点データ軌跡情報として、各フレームに対応するデータ読み出しアドレス（ｘ，ｙ）（時系列順の読み出しアドレス）を全て持たせておいてもよい。
【０１０７】
また、画像データ上におけるデータ読み出し軌跡に沿った方向と、メモリ上におけるアドレスの連続方向とを一致させるようにしてもよい。たとえば、図１７の例のように、横方向がアドレスの連続方向となるようにメモリに画像データが格納される場合、ビーム毎に画像データを読み出す処理を高速に行うことができる。なお、メモリとしては、ＤＲＡＭを用いることができるが、格納されたデータがアドレスが連続する方向に順次高速に読み出されうるものであれば如何なるものを使用してもよい。たとえば、ＳＲＡＭ（Ｓｔａｔｉｃ  Ｒａｎｄｏｍ  Ａｃｃｅｓｓ  Ｍｅｍｏｒｙ）などのランダムアクセスでも高速なものを用いることもできるが、この場合、メモリ上のアドレスの連続方向を、露光軌跡に沿った方向に定義し、かつ、その連続方向に沿ってデータの読み出しが行われるようにしてもよい。また、メモリは、アドレスの連続方向に沿ってデータの読み出しが行われるように、予め配線またはプログラムされたものであってもよい。また、アドレスの連続方向を、連続する複数ビット分がまとめて読み出される経路に沿った方向としてもよい。
【図面の簡単な説明】
【０１０８】
【図１】本発明の描画方法を実施する本発明の描画装置を適用する露光装置の一実施形態の概略構成を示す斜視図である。
【図２】図１に示す露光装置の露光スキャナの一実施形態の構成を示す斜視図である。
【図３】（Ａ）は、図２に示す露光スキャナの露光ヘッドによって基板の露光面上に形成される露光済み領域の一例を示す平面図であり、（Ｂ）は、各露光ヘッドによる露光エリアの配列の一例を示す平面図である。
【図４】図１に示す露光装置の露光ヘッドにおけるＤＭＤの配置の一例を示す平面模式図である。
【図５】本発明を適用する露光装置の電気制御系の一実施形態の構成を示すブロック図である。
【図６】本発明の描画点データ取得方法を実施する描画点データ取得装置に適用される画像変形処理装置の一実施形態の概略構成を示すブロック図である。
【図７】（Ａ）および（Ｂ）は、それぞれ図６に示す画像変形処理装置の作用を説明するための説明図である。
【図８】図７（Ａ）の部分拡大図である。
【図９】（Ａ）および（Ｂ）は、それぞれ図６に示す画像変形処理装置の他の作用を説明するための説明図である。
【図１０】（Ａ）および（Ｂ）は、それぞれ図６に示す画像変形処理装置のその他の作用を説明するための図である。
【図１１】図５に示す描画点データ取得装置のデータ入力装置におけるオフラインデータ入力処理のフローの一例を示すフローチャートである。
【図１２】図６に示す画像変形処理装置における回転・変倍処理のフローの一例を示すフローチャートである。
【図１３】図１および図５に示す露光装置におけるオンライン露光処理のフローの一例を示すフローチャートである。
【図１４】本発明の描画点データ取得方法を実施する描画点データ取得装置に適用される露光点データ取得装置の一実施形態の概略構成を示すブロック図である。
【図１５】理想的な形状の基板上における基準マークと所定のマイクロミラーの通過位置情報との関係を示す模式図である。
【図１６】所定のマイクロミラーの露光軌跡情報の取得方法を説明するための説明図である。
【図１７】所定のマイクロミラーの露光軌跡情報に基づいて露光点データを取得する方法を説明するための説明図である。
【図１８】図１７の右上の範囲を抽出した拡大図である。
【図１９】各マイクロミラー毎の露光点データ（ミラーデータ）列を示す図である。
【図２０】各フレームデータを示す図である。
【図２１】従来の画像変形処理方法を説明するための説明図である。
【符号の説明】
【０１０９】
１０    露光装置
１１    描画点データ取得装置
１２    基板
１２ａ    基準マーク
１４    移動ステージ
１８    設置台
２０    ガイド
２２    ゲート
２４    スキャナ
２６    カメラ
３０    露光ヘッド（描画部）
３２    露光エリア
３６    ＤＭＤ
３８    マイクロミラー
４０    データ作成装置
４２    データ入力装置
４４    基板変形測定部
４６    露光データ作成部
４８    露光部
５０    移動ステージ移動機構  
５２    コントローラ
５４    ベクタ・ラスタ変換部
５６    回転・変倍部
５８    メモリ部
６０    画像選択部
６２    回転・変倍部
６４    フレームデータ作成部
６６    基板変形算出部
６８    露光ヘッド制御部
７０    画像変形処理装置
７２    変形後ベクトル設定部
７４    画素位置情報取得部
７６    逆変換演算部
７８    入力ベクトル情報設定部
８０    入力画素データ取得部
８２    入力画像データ記憶部
８４    変形済画像データ取得部
９０    露光点データ取得装置
９２    検出位置情報取得部
９４    露光軌跡情報取得部
９６    露光点データ取得部
ｄ    入力画素データ
Ｖ１    変形後ベクトル情報（変形後ベクトル）
Ｖ２    入力ベクトル情報（入力ベクトル）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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